(57)【要約】【課題】殺菌剤溶液が空気中において菌と気液接触して殺菌を行なう空気清浄装置を提供する。【解決手段】除菌対象空気５１が上流側から下流側に流れる通気路５２を有するハウジング５０と、前記通気路５２を流れる除菌対象空気に殺菌剤溶液を噴霧する噴霧装置５３と、前記通気路５２から降下する殺菌剤溶液を受け止める循環槽５４と、循環槽５４の殺菌剤溶液を噴霧装置に供給する循環系５５と、循環槽５４と循環系５５と噴霧装置５３と通気路５２とで形成される殺菌剤溶液の巡廻系に殺菌剤用液の原液として微酸性電解水を供給する薬剤供給装置５６と、殺菌剤溶液を希釈する希釈水を供給する希釈水系５７１を備える。【選択図】図１
2013226373.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
除菌対象空気が上流側から下流側に流れる通気路を有するハウジングと、前記通気路を流れる除菌対象空気に殺菌剤溶液を噴霧する噴霧装置と、前記通気路から降下する殺菌剤溶液を受け止める循環槽と、循環槽の殺菌剤溶液を噴霧装置に供給する循環系と、前記循環槽と前記循環系と前記噴霧装置と前記通気路とで形成される殺菌剤溶液の巡廻系に殺菌剤用液の原液として微酸性電解水を供給する薬剤供給装置と、殺菌剤溶液を希釈する希釈水を供給する希釈水系を備えることを特徴とする空気清浄装置。
【請求項２】
殺菌剤溶液は、有効塩素濃度が０．１−１０ｍｇ／Ｌであることを特徴とする請求項１に記載の空気清浄装置。
【請求項３】
噴霧装置から噴霧された殺菌剤溶液が循環槽および循環系を通って噴霧装置に再帰するまでの循環時間は、殺菌剤溶液中に存在する次亜塩素酸で殺菌するのに要する必要接触時間を満たすことを特徴とする請求項１または２に記載の空気清浄装置。
【請求項４】
殺菌剤溶液は、ｐＨ５−７．５であることを特徴とする請求項３に記載の空気清浄装置。
【請求項５】
噴霧装置は、飽和効率８０％以上を満たすように、通気路中の除菌対象空気に対して殺菌剤溶液を噴霧することを特徴とする請求項１から４の何れか１項に記載の空気清浄装置。
【請求項６】
通気路中に除菌対象空気の空気流を横切って配置され、噴霧装置から噴霧された殺菌剤溶液を受け止めるメディアを備え、噴霧装置は、通気路中の雰囲気において除菌対象空気の重量Ｇに対する殺菌剤溶液の重量Ｌの比Ｌ／Ｇが０．３以下を満たすように、通気路中の除菌対象空気に対して殺菌剤溶液を噴霧することを特徴とする請求項５に記載の空気清浄装置。
【請求項７】
希釈水系は、循環槽または循環系に希釈水を供給し、薬剤供給装置は、循環槽内の殺菌剤溶液の流れ方向において希釈水の供給位置よりも上流側の位置に未使用領域を形成し、噴霧装置は希釈水で薄められて濃度の低くなった殺菌剤溶液を噴霧することを特徴とする請求項１〜６の何れか１項に記載の空気清浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、除菌、消臭、除塵、ガス除去の機能を備える空気清浄装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、例えば図８に示すような除菌装置が知られている。これは、空気１の流れ方向において上流側に除菌エレメント２を配置し、その下流側にエリミネータ３を配置して、除菌エレメント２に電解次亜水を滴下するものである。電解次亜水は、電解槽４に水道水５と食塩水６を供給し、電解槽４の電解電極７に通電して電気分解により発生させており、電解槽４で発生した電解次亜水をポンプ８で除菌エレメント２に供給している。
【０００３】
除菌エレメント２とエリミネータ３の下方には貯水槽９が配置してあり、滴下供給された電解次亜水を回収して電解槽４へ戻している。
特許文献１に記載された除菌脱臭空調システムは、空気を循環させる送風機と、温湿度調整を行う冷却および加熱コイルと、殺菌水を空気と接触させる水膜を形成する除菌脱臭エレメントと、殺菌水を供給するための殺菌水生成装置とを備え、殺菌水生成装置によって生成された殺菌水を除菌脱臭エレメントに供給するものである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−２２７６２２
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１の除菌脱臭空調システムでは、常に新しい殺菌水を噴霧や滴下により除菌脱臭エレメントに供給しているため、常に強力な除菌能力を維持することができるが、殺菌水をワンパスで使用しているため、殺菌水の使用量が多くなるという欠点を有している。
【０００６】
上述した図８に示す電解次亜水を使用する除菌装置では、電解次亜水がｐＨ８−９で次亜塩素酸イオン（ＣＬＯ−）が主成分となり、次亜塩素（ＨＣＬＯ）が少なくなるために、殺菌速度が遅くて菌が完全に除菌されないまま、再び空気との気液接触に供される可能性がある。
【０００７】
このため、貯水槽９で回収した電解次亜水を電解槽４で再度電気分解して殺菌能力を再生することが必要となり、常時、電解槽４と食塩水６の供給とを稼働させておく必要がある。
【０００８】
本発明は上記した課題を解決するものであり、殺菌剤溶液が空気中において菌と気液接触して殺菌を行なう空気清浄装置を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために、本発明の空気清浄装置は、除菌対象空気が上流側から下流側に流れる通気路を有するハウジングと、前記通気路を流れる除菌対象空気に殺菌剤溶液を噴霧する噴霧装置と、前記通気路から降下する殺菌剤溶液を受け止める循環槽と、循環槽の殺菌剤溶液を噴霧装置に供給する循環系と、前記循環槽と前記循環系と前記噴霧装置と前記通気路とで形成される殺菌剤溶液の巡廻系に殺菌剤用液の原液として微酸性電解水を供給する薬剤供給装置と、殺菌剤溶液を希釈する希釈水を供給する希釈水系を備えることを特徴とする。
【００１０】
本発明の空気清浄装置において、殺菌剤溶液は、有効塩素濃度が０．１−１０ｍｇ／Ｌであることを特徴とする。
本発明の空気清浄装置において、噴霧装置から噴霧された殺菌剤溶液が循環槽および循環系を通って噴霧装置に再帰するまでの循環時間は、殺菌剤溶液中に存在する次亜塩素酸で殺菌するのに要する必要接触時間を満たすことを特徴とする。
【００１１】
本発明の空気清浄装置において、殺菌剤溶液は、ｐＨ５−７．５であることを特徴とする。
本発明の空気清浄装置において、噴霧装置は、飽和効率８０％以上を満たすように、通気路中の除菌対象空気に対して殺菌剤溶液を噴霧することを特徴とする。
【００１２】
本発明の空気清浄装置において、通気路中に除菌対象空気の空気流を横切って配置され、噴霧装置から噴霧された殺菌剤溶液を受け止めるメディアを備え、噴霧装置は、通気路中の雰囲気において除菌対象空気の重量Ｇに対する殺菌剤溶液の重量Ｌの比Ｌ／Ｇが０．３以下を満たすように、通気路中の除菌対象空気に対して殺菌剤溶液を噴霧することを特徴とする。
【００１３】
本発明の空気清浄装置において、希釈水系は、循環槽または循環系に希釈水を供給し、薬剤供給装置は、循環槽内の殺菌剤溶液の流れ方向において希釈水の供給位置よりも上流側の位置に未使用領域を形成し、噴霧装置は希釈水で薄められて濃度の低くなった殺菌剤溶液を噴霧することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
以上のように本発明によれば、殺菌剤溶液の原液として微酸性電解水を循環槽と循環系と噴霧装置と通気路とで形成される殺菌剤溶液の巡廻系に供給し、除菌対象空気に直接に噴霧することで、微酸性電解水の主成分である次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の殺菌力の強さ、反応性の高さを利用して空気中の菌を除菌することができる。殺菌剤溶液を除菌エレメントに滴下するのではなく、空気中に直接に噴霧するので、空気中の浮遊菌や塵埃を殺菌剤溶液中に取り込むことができ、除菌に加えて除塵も実現できる。
【００１５】
また、微酸性電解水の主成分である次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）は殺菌作用が高く、殺菌力が回復するまでの再生時間が短い。このため、微酸性電解水を原液とする殺菌剤溶液を使用し、噴霧した殺菌剤溶液を循環槽で受け止め、循環槽で殺菌力が再生した殺菌剤溶液を再度噴霧して再利用することで、噴霧量に相当する量の殺菌剤溶液を常時に巡廻系の外部から噴霧装置に供給せずとも殺菌剤溶液の噴霧を連続して行なうことができ、巡廻系に供給する殺菌剤溶液の原液や希釈水の使用量を低減することができるとともに、殺菌剤溶液自体の使用量を低減することができる。
【００１６】
この殺菌剤溶液は、その有効塩素濃度が０．１ｍｇ／Ｌ以上であれば殺菌力を有するが、高濃度で噴霧すると塩素由来の臭気が発生するため、有効塩素濃度は０．１−１０ｍｇ／Ｌの低濃度とすることが好ましい。
【００１７】
また、噴霧された殺菌剤溶液が再び噴霧されるまでの循環時間が、殺菌剤溶液中に存在する次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）で殺菌するのに要する必要接触時間を満たすことで、噴霧する殺菌剤溶液が低濃度であっても気液接触により捕捉した菌を確実に殺菌することが可能であり、捕捉した菌が殺菌剤溶液の噴霧に伴って再飛散することがなくなり、安全性のより高い空気を供給できる。しかも、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）は反応速度（殺菌速度）が速いので、殺菌剤溶液の巡回系内に滞留させる時間を短くできる。この結果、循環槽の容量を小さくして省スペース化を図れる。
【００１８】
また、殺菌剤溶液はｐＨ５−７．５であれば殺菌剤溶液中に占める次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の存在比率が高くなるので、その次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）による殺菌力が高くなり、殺菌に要する必要接触時間も短くすることができる。
【００１９】
飽和効率を８０％以上とすると、通気路を通過する除菌対象空気と殺菌剤溶液との接触効率が高まり、除菌対象空気中に含まれている浮遊菌や塵埃の除去効率が高くなる。また、メディアを配置することで、メディアが噴霧された殺菌剤溶液を捕捉し、メディアでの水膜効果によりさらに水と空気との接触効率を高め、上流側での噴霧による気液接触との相乗効果で高飽和効率加湿を実現するので、少ない噴霧量で飽和効率を８０％以上とすることができ、浮遊菌や塵埃の除去効率を高めることができる。
【００２０】
また、除菌対象空気の重量Ｇに対する殺菌剤溶液Ｌの重量の比Ｌ／Ｇが０．３以下を満たすことで、ポンプ動力を低く抑えて省エネルギー化を図れるとともに、殺菌剤溶液の原液の供給量も低減できる。
【００２１】
また、希釈水系は、循環槽または循環系に希釈水を供給し、薬剤供給装置は、循環槽内の殺菌剤溶液の流れ方向において希釈水の供給位置よりも上流側の位置に未使用領域を形成するので、循環槽の殺菌剤溶液の原液が投入される部位に未使用で殺菌剤溶液の濃度の高い未使用液領域が形成される。そのため、噴霧により空気中の菌を取り込み、循環槽に流れ込んだ殺菌剤溶液が未使用液領域を通過する。よって、噴霧によって捕捉した菌を殺菌剤溶液が噴霧される前に確実に殺菌することが可能であり、捕捉した菌が殺菌剤溶液の噴霧に伴って再飛散することがなくなり、安全性のより高い空気を供給できる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の実施の形態における空気清浄装置を示す模式図
【図２】本発明の他の実施の形態における要部を示す模式図
【図３】本発明の他の実施の形態における要部を示す模式図
【図４】本発明の他の実施の形態における要部を示す模式図
【図５】有効塩素濃度と大腸菌群を９９％殺菌するのに要する時間との関係を示すグラフ図
【図６】有効塩素残留率とｐＨの関係を示すグラフ図
【図７】本発明の他の実施の形態における空気清浄装置を示す模式図
【図８】従来の構成を示す模式図
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図１に示すように、空気清浄装置は、ハウジング５０が除菌対象空気５１が上流側から下流側に流れる通気路５２を形成しており、ハウジング５０の内部には除菌対象空気５１の流れ方向において上流側から下流側へ順次に、プレフィルター５０１、エリミネータ５０２、噴霧装置５３、メディア５０３、ミストセパレータ５０４、中性能フィルタ５０５が配置してある。噴霧装置５３は通気路５２を流れる除菌対象空気に殺菌剤溶液を噴霧するもので、除菌対象空気５１の流れ方向の下流側に向けた複数の噴霧ノズル５３１を備えている。
【００２４】
噴霧装置５３の下流側に配置したメディア５０３は、液体保持量が高いほど良く、例えば、ポリ塩化ビニルデン系繊維やステンレスの線材等の材料からなる繊維を、空隙率を高くして規則的に編みこんだり、不規則に密集させて、１０〜５０ｍｍ程度の厚みを有するマット状にしたものである。
【００２５】
噴霧装置５３およびメディア５０３の下方には循環槽５４が設けてあり、循環槽５４は通気路５２から降下する殺菌剤溶液およびメディア５０３から落下する殺菌剤溶液を受け止めるものである。循環槽５４と噴霧装置５３の間には循環系５５が配設してあり、循環系５５は循環ポンプ５５１を有して循環槽５４の殺菌剤溶液を噴霧装置５３に供給するものである。
【００２６】
噴霧装置５３とハウジング５０の通気路５２と循環槽５４と循環系５５とで殺菌剤溶液の巡廻系が形成されている。
この巡廻系の中の循環槽５４に殺菌剤溶液の原液である微酸性電解水を供給する薬剤供給装置５６は、微酸性電解水を生成する電解槽をなす生成装置５６１と、生成装置５６１に薬品搬入容器５６２から原料薬液の塩酸水を供給する開閉バルブ５６３ｄを介装した原料供給系５６３と、生成装置５６１に希釈用の水を供給する減圧弁５６４を介装した給水系５６５と、循環槽５４と生成装置５６１の間に配置する中継槽５６６と、生成装置５６１から微酸性電解水を中継槽５６６に供給する供給ポンプ５６７を介装した薬剤供給系５６８と、中継槽５６６から循環槽５４へ微酸性電解水を供給する中継ポンプ５６９を介装した中継系５７０を備えている。
【００２７】
微酸性電解水は、「微酸性次亜塩素酸水」の名称で食品添加物の殺菌剤に指定された電解水である。この微酸性次亜塩素酸水の定義は、「食品、添加物等の規格基準（昭和３４年１２月２８日厚生省告示第３７０号）」および「平成２４年０４月２６日厚生労働省告示第３４５号」によれば、塩酸又は塩酸に塩化ナトリウム水溶液を加えて適切な濃度に調整した水溶液を無隔膜電解槽（隔膜で隔てられていない陽極及び陰極で構成されたものをいう。）内で電解して得られる水溶液であって、主な有効成分が次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）であり、ｐＨ５．０−６．５、有効塩素濃度１０−８０ｍｇ／ｋｇである。
【００２８】
次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）は塩素ガスが水に溶解することにより生成し、図６に示すように、水のｐＨにより次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）と次亜塩素酸イオン（ＣＬＯ−）の存在比が変化するものであり、微酸性電解水のｐＨ領域ではＨＣＬＯが圧倒的に多くなる。ＨＣＬＯとＣＬＯ−はどちらも殺菌力を有するが、ＨＣＬＯが圧倒的に強い。
【００２９】
給水系５６５から分岐した希釈水系５７１が循環槽５４に連通しており、希釈水系５７１は分岐点から下流側の位置に希釈水制御バルブ５７２および流量調整弁５７３を順次に介装している。さらに、希釈水制御バルブ５７２の上流側において給水系５６５から分岐した希釈水初期給水系５７４が流量調整弁５７３の下流側で希釈水系５７１に連通しており、希釈水初期給水系５７４に初期給水制御バルブ５７５を介装している。
【００３０】
また、薬剤供給系５６８から供給ポンプ５６７の下流側で分岐した薬剤初期供給系５７６が循環槽５４に連通しており、薬剤初期供給系５７６に薬剤制御バルブ５７７を介装している。
【００３１】
循環槽５４は内部がストレーナ５４１によって一次領域５４２と二次領域５４３に仕切られており、循環槽５４の二次領域には循環系５５および中継系５７０と薬剤初期供給系５７６が連通している。一次領域５４２は噴霧装置５３およびメディア５０３の下方に位置して希釈水系５７１が連通しており、一次領域５４２の一側の上部にはオーバーフロー管５４６が連通し、底部には排水バルブ５４４を介して排水系５４５が連通している。
【００３２】
以下、上記した構成の作用を説明する。
（薬剤生成）
薬剤供給装置５６は、開閉バルブ５６３ｄを開放した状態で原料供給系５６３を通して薬品搬入容器５６２から原料薬液の塩酸水を生成装置５６１に供給するとともに、給水系５６５から生成装置５６１に減圧弁５６４を介して希釈用の水を供給し、生成装置５６１において２−２１％塩酸水を被電解液とする。
【００３３】
そして、生成装置５６１において被電解液を電解して微酸性電解水を生成し、１０−３０ｍｇ／Ｌの微酸性電解水を供給ポンプ５６７により薬剤供給系５６８を通して中継槽５６６に供給し、さらに中継ポンプ５６９により中継系５７０を介して中継槽５６６から循環槽５４へ微酸性電解水を供給する。
（薬剤供給初期時）
運転初期時等において循環槽５４に殺菌剤溶液を満たす場合に、薬剤供給装置５６は、初期給水制御バルブ５７５を開放して希釈水初期給水系５７４を通して希釈水を循環槽５４に供給するとともに、薬剤制御バルブ５７７を開放して供給ポンプ５６７により薬剤初期供給系５７６を通して微酸性電解水を循環槽５４に供給し、循環槽５４の殺菌剤溶液の有効塩素濃度を０．１−１０ｍｇ／Ｌに調整する。
【００３４】
このため、殺菌剤溶液の水張りに要する時間を短縮できるとともに、有効塩素濃度の調整を容易に行なえる。殺菌剤溶液は高濃度で噴霧すると塩素由来の臭気が発生するので、殺菌剤溶液の濃度は、微酸性電解水を希釈して有効塩素濃度を０．１−１０ｍｇ／Ｌとすることが好ましいが、臭気は人によって感じ方が異なるため、場合によっては低濃度、例えば０．１−５ｍｇ／Ｌ、あるいは０．１−３ｍｇ／Ｌ、あるいは０．１−１ｍｇ／Ｌとすることがより好ましい。
（運転時）
薬剤供給装置５６は、中継槽５６６から循環槽５４へ微酸性電解水を供給しつつ、希釈水制御バルブ５７２を開放する状態で流量調整弁５７３を通して希釈水を循環槽５４に供給し、循環槽５４の殺菌剤溶液の有効塩素濃度を０．１−１０ｍｇ／Ｌに維持する。
【００３５】
この状態で、ハウジング５０の通気路５２を上流側から下流側に流れる除菌対象空気５１に、噴霧装置５３の噴霧ノズル５３１から循環槽５４で濃度調整された殺菌剤溶液を噴霧する。
【００３６】
この噴霧において噴霧装置５３は、飽和効率８０％以上を満たすように、通気路５２の除菌対象空気５１に対して殺菌剤溶液を噴霧することが好ましい。この飽和効率は、殺菌剤溶液を噴霧した後の除菌対象空気５１の相対湿度Ｈ１と除菌対象空気５１の流入時の相対湿度Ｈ０との差を分子とし、飽和相対湿度（１００％）Ｈ２と除菌対象空気５１の流入時の相対湿度Ｈ０との差を分母として定義される。この飽和効率８０％以上を満たすことで、通気路５２を通過する除菌対象空気５１と殺菌剤溶液との接触効率が高まり、除菌対象空気５１に含まれている浮遊菌や塵埃の除去効率が高くなるので、浮遊菌の確実な除菌を実現できる。
【００３７】
また、噴霧装置５３は、通気路５２の雰囲気中において除菌対象空気５１の重量Ｇに対する殺菌剤溶液の重量Ｌの比Ｌ／Ｇが０．３以下を満たすように、通気路５２の除菌対象空気５１に対して殺菌剤溶液を噴霧することが好ましい。除菌対象空気５１の重量Ｇに対する殺菌剤溶液の重量Ｌの比Ｌ／Ｇが０．３以下を満たすことで、ポンプ動力を低く抑えて省エネルギー化を図れる。また、少ない噴霧量で除菌、除塵が行えるので、殺菌剤溶液の消費量も少なくなり、殺菌剤溶液の原液の供給量も低減することができる。
【００３８】
このように、微酸性電解水を原液とする殺菌剤溶液を除菌対象空気５１に直接に噴霧することで、微酸性電解水の主成分である次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）の殺菌力の強さ、反応性の高さを利用して空気中の菌を除菌することができる。殺菌剤溶液を除菌エレメントに滴下するのではなく、空気中に高い飽和率で殺菌剤溶液を噴霧するので、空気中の浮遊菌や塵埃を殺菌剤溶液中に取り込むことができ、除菌に加えて除塵も実現できる。
【００３９】
噴霧装置５３から噴霧した殺菌剤溶液は、一部が通気路５２から循環槽５４に降下し、他のものがメディア５０３に達して後にメディア５０３を伝って循環槽５４に流れる。循環槽５４は通気路５２から降下する殺菌剤溶液およびメディア５０３から流れ落ちる殺菌剤溶液を受け止める。
【００４０】
噴霧された殺菌剤溶液は循環槽を経由して再度噴霧水として使用するので、循環槽５４へ供給する殺菌剤溶液の原液および希釈水の量は、空気の加湿による減少分と循環槽５４からのオーバーフロー流出分だけでよく、殺菌剤溶液の使用量を低減することができる。
【００４１】
メディア５０３を通過した殺菌後の空気は、ミストセパレータ５０４および中性能フィルタ５０５を通過してファン装置（図示省略）により室内へ供給される。ミストセパレータ５０４は、メディア５０３を通過してきた微細なミストを捕捉し、中性能フィルタ５０５へのミスト付着を防止するものである。
【００４２】
循環槽５４の一次領域５４２に流入した殺菌剤溶液はストレーナ５４１を通過して二次領域５４３に流れ、二次領域５４３から循環ポンプ５５１により循環系５５を通して噴霧装置５３に供給される。
【００４３】
そして、二次領域５４３の殺菌剤溶液は循環ポンプ５５１により循環系５５を通して噴霧装置５３に供給される。
本実施の形態では、生成装置５６１と循環槽５４の間に中継槽５６６を設けているので、中間槽５６６に微酸性次亜塩素酸水を貯溜することで、生成装置５６１を断続運転することができ、電極の過熱を防止して生成装置５６１の温度上昇を抑えられるので、冷却装置などの付帯設備が不要となる。
【００４４】
また、中継槽５６６がバッファーの役割を果たすことで生成装置５６１の供給能力と噴霧の実施に必要な噴霧水量との差を埋めることができ、異なる噴霧水量を１台の生成装置５６１で実現することができる。
【００４５】
さらに、中継槽５６６に加えて循環槽５４に水道水を供給可能な希釈水系５７１を有することで、循環槽５４に供給する殺菌剤溶液の原液である微酸性電解水と水道水の比率および量を任意に設定できる。このため、空気条件やユーザーの要求水準に応じて運転条件や処理性能を任意に設定することができる。
【００４６】
中継槽５６６には空気清浄装置の外部に連通する脱気ライン５６６ａを設けているので、装置内が塩素雰囲気になることを防止でき、塩素による装置内の腐食を抑えることができる。
【００４７】
本実施の形態の空気清浄装置では、噴霧ノズル５３１から噴霧された殺菌剤溶液が循環槽５４および循環系５５を通して再び噴霧装置５３で噴霧されるまでの循環時間ｈは、有効塩素濃度０．１ｍｇ／Ｌ以上の殺菌剤溶液中に存在する次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）で殺菌するのに要する必要接触時間、ここでは１．５分以上を満たしており、低濃度の殺菌剤溶液であっても気液接触により捕捉した菌を確実に殺菌することが可能である。
【００４８】
この循環時間ｈは次式で定義する。
循環槽５４の容量／循環水量（噴霧水量）＝循環時間ｈ＞必要接触時間
このように捕捉した菌を確実に殺菌することで、殺菌剤溶液の噴霧に伴って菌が再飛散することがなくなり、安全性のより高い空気を供給できる。
【００４９】
しかも、殺菌剤溶液の原液として微酸性電解水を使用しており、微酸性電解水は反応速度（殺菌速度）が速く、殺菌力の再生時間も短いので、殺菌剤溶液の巡廻系内に滞留させる時間を短くできる。この結果、循環槽５４の容量を小さくして省スペース化を図れる。
【００５０】
メディア５０３を配置することで、メディア５０３が噴霧された殺菌剤溶液を捕捉し、メディア５０３を流下する殺菌剤溶液の水膜効果によりさらに水と空気との接触効率を高めることができる。このため、除菌対象空気５１の重量Ｇに対する殺菌剤溶液の重量Ｌの比Ｌ／Ｇを０．３以下としても飽和効率を８０％以上とすることができ、浮遊菌や塵埃の除去効率を高めることができる。しかしながら、本発明においてメディア５０３は必須のものではない。
【００５１】
循環槽５４に蓄積された塵埃等は、装置停止時あるいは一定の期間毎に排水系５４５の排水バルブ５４４を開放して、装置外に排出される。
（実施例）
以下に、本発明の有効性を示す実施例を説明する。図５は、有効塩素濃度と大腸菌群を９９％殺菌するのに要する時間との関係を示すものである。図５において、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）を主成分とする微酸性電解水は有効塩素濃度０．１ｍｇ／Ｌにおいて１．５分で９９％の殺菌を達成し、その殺菌力を回復できる。しかしながら、次亜塩素酸イオン（ＣＬＯ−）を主成分とする電解次亜水は有効塩素濃度０．１ｍｇ／Ｌにおいて９９％の殺菌を達成するのに１２０分を要する。
【００５２】
図６に示すように、殺菌剤溶液は、そのｐＨにより次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）と次亜塩素酸イオン（ＣＬＯ−）の存在比が変化する。微酸性電解水を原液とした殺菌剤溶液はｐＨ５であれば有効塩素のほぼ１００％が次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）となるので、この殺菌剤溶液で殺菌するのに要する必要接触時間は有効塩素濃度０．１ｍｇ／Ｌで１．５分以上となる。しかし、希釈水として水道水を使用する場合は、殺菌剤溶液のｐＨが高くなる傾向があるので、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）による殺菌効力を高めるためには、次亜塩素酸（ＨＣＬＯ）存在比率が５０％以上となるｐＨ７．５以下であることが望ましい。この場合、ｐＨ５の場合と同等の殺菌効力を持たせるためには、有効塩素濃度を０．２ｍｇ／Ｌ以上とするか、有効塩素濃度０．１ｍｇ／Ｌで必要接触時間を３分以上とすればよい。
【００５３】
以下に、空気清浄装置の設計例を説明する。
設計条件として、風量：１０，０００ｍ３／ｈ、Ｌ／Ｇ：０．１５、循環水量３０Ｌ／分、有効塩素濃度０．１ｍｇ／Ｌとする。
【００５４】
微酸性電解水（ＨＣＬＯが主成分）の場合、必要滞留時間（循環時間）：１．５分／１サイクル、循環槽容量：５１Ｌ、槽サイズ（有効）４００Ｗ×８５０Ｗ×１５０Ｈｍｍとなる。
【００５５】
電解次亜水（ＣＬＯ−が主成分）の場合、必要滞留時間（循環時間）：１２０分／１サイクル、循環槽容量：３，１２０Ｌ、槽サイズ（有効）１２００Ｗ×２６００Ｗ×１５０Ｈｍｍとなる。
【００５６】
よって、微酸性電解水の使用により、装置の大幅な小型化を実現できる。
本実施の形態では、中継槽５６６の微酸性電解水を中継ポンプ５６９で循環槽５４に供給する例を説明したが、図２に示すように、中継槽５６６の水頭を利用して滴下用バルブ５７８で微酸性電解水の適量を循環槽５４に滴下することも可能である。また、図３(ａ)に示すように、循環系５５の循環ポンプ５５１の下流側に中継ポンプ５６９で微酸性電解水を注入して循環槽５４に供給することも可能である。
【００５７】
さらに、図３(ｂ)に示すように、循環系５５の循環ポンプ５５１の上流側にエゼクターを利用して微酸性電解水を吹き込んで循環槽５４に供給することも可能である。
また、図４に示すように、微酸性電解水をメディア５０３の上流側に直接に吹き込んで循環槽５４に供給することも可能である。
【００５８】
また、図７に示すように、循環槽５４内の殺菌剤溶液の流れ方向に対して下流側（循環ポンプ５５１の接続側）に希釈水系５７１からの希釈水を供給し、希釈水の供給位置よりも上流側（メディア５０３側）に薬剤供給装置５６からの殺菌剤溶液の原液を供給することも可能である。
【００５９】
この場合、殺菌剤溶液の原液が流入する循環槽５４の上流側に殺菌剤溶液の濃度の高い未使用液領域が形成されるので、循環槽５４内での殺菌効果を高めることができる。
循環槽５４内を流れる殺菌剤溶液は下流側で希釈され、濃度が低くなった殺菌剤溶液が噴霧装置５３から噴霧される。噴霧装置５３から噴霧した噴霧水は、通気路５２から降下あるいはメディア５０３を伝って再び循環槽５４に流入する。
【００６０】
空気中に含まれる浮遊菌や塵埃は、噴霧水あるいはメディア５０３に形成される水膜によって捕捉され、噴霧水とともに循環槽５４に流入し、循環槽５４内で殺菌剤溶液の原液が供給される位置に形成される殺菌剤溶液の濃度が高い未使用液領域あるいはそこから流れていく殺菌力の高い領域を通過するので、噴霧水との気液接触により捕捉した菌を噴霧の前に確実に殺菌される。よって、捕捉した菌が殺菌剤溶液の噴霧に伴って再飛散することがなくなり、安全性のより高い空気を供給できる。
【００６１】
また、殺菌剤溶液の濃度が薄められた状態で噴霧されるので、空気中への殺菌成分の飛散や臭気の発生を抑制することができる。噴霧水の殺菌剤溶液の濃度は低いため、空気中での殺菌効果は低下するが、噴霧とメディア５０３によって飽和状態に近い状態に高められた噴霧水によって空気中の浮遊菌や塵埃を捕捉し、噴霧水とともに循環槽５４へ流入させることができるため、循環槽５４内で確実に殺菌することができる。さらに、噴霧量を大きくすることができるので、噴霧による除菌、除塵効果を高めることができる。
【００６２】
殺菌剤溶液の原液を供給する位置は、循環槽５４に流入した菌体をできるだけ早くに未使用の殺菌剤溶液と接触させ、接触時間を長くするためにも、メディア５０３の下方近傍かその上流側が好ましい。その後、殺菌剤溶液は循環槽５４内を時間をかけて流れていくので、殺菌力を回復させた後に噴霧させることができる。
【００６３】
（その他の実施例）
上記実施例では、希釈水系５７１は循環槽５４に希釈水を供給する構成を示したが、循環槽５４の殺菌剤溶液を噴霧装置５３に供給する循環系循環系５５に希釈水を供給する構成であってもよい。あるいは、薬剤供給装置５６が供給する殺菌剤溶液の原液と希釈水系５７１が供給する稀釈水とを混合した後に、噴霧装置５３とハウジング５０の通気路５２と循環槽５４と循環系５５とで形成される殺菌剤溶液の巡廻系に供給するように構成してあってもよい。
【００６４】
上記実施例では、メディアは噴霧装置の下流側に配置したが、メディアを噴霧装置の上流側に配置し、噴霧装置は上流側のメディアに達するように噴霧水を噴霧するものであってもよい。また、通気路が上下方向に形成され、その通気路内において噴霧装置とメディアが上下方向に配置してあってもよい。
【符号の説明】
【００６５】
５０    ハウジング
５１    除菌対象空気
５２    通気路
５３    噴霧装置
５４    循環槽
５５    循環系
５６    薬剤供給装置
５０１    プレフィルター
５０２    エリミネータ
５０３    メディア
５０４    ミストセパレータ
５０５    中性能フィルタ
５３１    噴霧ノズル
５４１    ストレーナ
５４２    一次領域
５４３    二次領域
５４４    排水バルブ
５４５    排水系
５４６    オーバーフロー管
５５１    循環ポンプ
５６１    生成装置
５６２    薬品搬入容器
５６３ａ  開閉バルブ
５６３    原料供給系
５６４    減圧弁
５６５    給水系
５６６    中継槽
５６７    供給ポンプ
５６８    薬剤供給系
５６９    中継ポンプ
５７０    中継系
５７１    希釈水系
５７２    希釈水制御バルブ
５７３    流量調整弁
５７４    希釈水初期給水系
５７５    初期給水制御バルブ
５７６    薬剤初期供給系
５７７    薬剤制御バルブ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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