(57)【要約】【課題】パッシブ方式による３次元画像表示に適用するパターン位相差フィルム等の光学フィルムに関して、これらの光学フィルムの生産に使用する賦型用の製造用金型を安定かつ精度良く作製できるようにする。【解決手段】母材４０の表面に下地層４１を作製する下地層作製工程と、下地層４１の表面に下地層の凹凸形状（４１Ａ）を作製する下地層の処理工程と、下地層４１の上に、賦型処理に供する凹凸形状を備える賦型処理層を作製する賦型処理層の作製工程とを備える。【選択図】図３
2013218099.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
製造用金型を作製する製造用金型の作製工程と、
前記製造用金型を使用した賦型処理により光学フィルムを作製する光学フィルムの作製工程とを備え、
前記製造用金型の作製工程は、
母材の表面に下地層を作製する下地層作製工程と、
前記下地層の表面に下地層の凹凸形状を作製する下地層の処理工程と、
前記下地層の上に、前記賦型処理に供する凹凸形状を備える賦型処理層を作製する賦型処理層の作製工程とを備える
光学フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記賦型処理層の作製工程は、
前記下地層の上に、前記光学フィルムの配向膜に対応するライン状の凹凸形状を備えた材料層を作製することにより、前記賦型処理に供する凹凸形状を作製し、
前記下地層の処理工程は、
前記光学フィルムの配向膜に対応するライン状の凹凸形状の延長方向と同一の方向に延長するライン状の凹凸形状により、前記下地層の凹凸形状を作製する
請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記光学フィルムの作製工程は、
前記製造用金型を使用した賦型処理により、前記光学フィルムの基材の表面に前記配向膜を作製する配向膜作製工程と、
前記配向膜の表面に、前記配向膜による配向規制力により透過光に位相差を与える位相差層を作製する位相差層作製工程とを備える
請求項２に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記賦型処理層の作製工程は、
陽極酸化処理とエッチング処理とにより、前記下地層の上に作製したアルミニウム層に、可視光領域の光の波長よりも短い周期で凹部を形成して前記賦型処理に供する凹凸形状を作製する
請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項５】
光学フィルムの賦型処理に使用する光学フィルムの製造用金型において、
母材と、
前記母材の表面に設けられた下地層と、
前記下地層の表面に設けられて、前記賦型処理に供する凹凸形状を備える賦型処理層とを備え、
前記下地層は、
前記賦型処理層側面に、下地層の凹凸形状が設けられた
光学フィルムの製造用金型。
【請求項６】
前記賦型処理に供する凹凸形状が、前記光学フィルムの配向膜に対応するライン状の凹凸形状であり、
前記光学フィルムの配向膜に対応するライン状の凹凸形状の延長方向と同一の方向に延長するライン状の凹凸形状により、前記下地層の凹凸形状が作製された
請求項５に記載の光学フィルムの製造用金型。
【請求項７】
前記賦型処理に供する凹凸形状が、
可視光領域の光の波長よりも短い周期で設けられた凹部による凹凸形状である
請求項５に記載の光学フィルムの製造用金型。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パッシブ方式による３次元画像表示に適用するパターン位相差フィルム、モスアイ方式による反射防止フィルム等の光学フィルムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、フラットパネルディスプレイ等は、各種の光学フィルムを使用している。またこの種の光学フィルムの中には、例えばパターン位相差フィルム、モスアイ方式の反射防止フィルムのように、紫外線硬化性樹脂等の賦型用樹脂を使用して、賦型用金型に形成された微細な凹凸形状を賦型して作製されるものがある。
【０００３】
すなわちパターン位相差フィルムは、パッシブ方式の３次元画像表示に適用される光学フィルムである。パッシブ方式では、画像表示パネルの垂直方向に連続する画素を、順次交互に、右目用及び左目用に割り当て、それぞれ右目用及び左目用の画像データで駆動する。これによりパッシブ方式では、右目用の映像と左目用の映像とを同時に表示する。なおこれにより画像表示パネルの画面は、短辺が垂直方向で長辺が水平方向となる帯状の領域により、右目用の映像を表示する領域と左目用の映像を表示する領域とに交互に区分される。
【０００４】
パターン位相差フィルムは、この右目用及び左目用の画素からの直線偏光による出射光を、右目用及び左目用で回転方向の異なる円偏光に変換して出射する。これによりパターン位相差フィルムは、対応する偏光フィルタを備えてなるめがねを装着するだけで、右目用の映像と左目用の映像とをそれぞれ選択的に視聴者の右目及び左目に提供することができるように、画像表示パネルからの出射光に対応する位相差を与える。
【０００５】
パターン位相差フィルムは、透明フィルムによる基材の表面に、配向規制力を制御した配向膜が作製され、さらに液晶材料が塗布される。パターン位相差フィルムは、この液晶材料が配向膜の配向規制力によりパターンニングされて硬化され、これによりこの液晶材料層により、画像表示パネルからの出射光に対応する位相差を与える。この配向膜は、例えば特許文献１、２に記載のように種々の作製手法があり、そのうちの１つが、賦型用金型の表面に形成された微細な凹凸形状を紫外線硬化性樹脂等による賦型用樹脂層に賦型して作製する方法である。
【０００６】
またモスアイ方式の反射防止フィルムは、凹凸の周期が可視光の最短波長３８０ｎｍ以下に制御された微細な凹凸形状を表面に形成することによって反射防止を図るものである（特許文献３〜８参照）。この方式の反射防止フィルムは、フィルムの厚み方向に屈折率を連続的に変化させることにより、屈折率の不連続界面を消失させ、外来光の反射を防止する。
【０００７】
このモスアイ方式の反射防止フィルムは、賦型用金型の表面に形成された微細な凹凸形状を賦型用樹脂により透明フィルムによる基材の表面に転写して作製することができる。なおここで賦型用樹脂は、例えば紫外線硬化性樹脂である。
【０００８】
ところでこの種の光学フィルムの生産に使用する賦型用金型は、安定かつ精度良く作製できることが求められるものの、従来の賦型用金型は実用上未だ不十分な問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００５−４９８６５号公報
【特許文献２】特開２０１０−１５２２９６号公報
【特許文献３】特表２００１−５１７３１９号公報
【特許文献４】特開２００４−２０５９９０号公報
【特許文献５】特開２００４−２８７２３８号公報
【特許文献６】特開２００１−２７２５０５号公報
【特許文献７】特開２００２−２８６９０６号公報
【特許文献８】国際公開第２００６／０５９６８６号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、光学フィルムの生産に使用する賦型用の製造用金型に関して、従来に比して安定かつ精度良く作製することができる光学フィルムの製造方法及び光学フィルムの製造用金型を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、下地層を介して賦型処理に係る賦型処理層を作製するようにして、下地層の表面に微細な凹凸を作製して賦型処理層の密着強度を増大させる、との着想に至り、本発明を完成するに至った。
【００１２】
（１）  製造用金型を作製する製造用金型の作製工程と、
前記製造用金型を使用した賦型処理により光学フィルムを作製する光学フィルムの作製工程とを備え、
前記製造用金型の作製工程は、
母材の表面に下地層を作製する下地層作製工程と、
前記下地層の表面に下地層の凹凸形状を作製する下地層の処理工程と、
前記下地層の上に、前記賦型処理に供する凹凸形状を備える賦型処理層を作製する賦型処理層の作製工程とを備える。
【００１３】
（１）によれば、下地層により賦型処理層の密着強度を増大させるようにして、さらに下地層の表面に作製された下地層の凹凸形状により一段と賦型処理層の密着力を増大させることができる。これにより賦型処理層、及び賦型処理層を構成する各種材料層について、局所的な剥離を有効に回避することができ、賦型用の製造用金型を安定かつ精度良く作製することができる。
【００１４】
（２）  （１）において、
前記賦型処理層の作製工程は、
前記下地層の上に、前記光学フィルムの配向膜に対応するライン状の凹凸形状を備えた材料層を作製することにより、前記賦型処理に供する凹凸形状を作製し、
前記下地層の処理工程は、
前記光学フィルムの配向膜に対応するライン状の凹凸形状の延長方向と同一の方向に延長するライン状の凹凸形状により、前記下地層の凹凸形状を作製する。
【００１５】
（２）によれば、ラビング処理、研磨処理等によるライン状の凹凸形状により配向膜の作製に供する賦型処理層を構成する場合に、これらのライン状の凹凸形状による配向には影響を与えないようにして、密着力を増大させることができる。
【００１６】
（３）  （２）において、
前記光学フィルムの作製工程は、
前記製造用金型を使用した賦型処理により、前記光学フィルムの基材の表面に前記配向膜を作製する配向膜作製工程と、
前記配向膜の表面に、前記配向膜による配向規制力により透過光に位相差を与える位相差層を作製する位相差層作製工程とを備える。
【００１７】
（３）によれば、より具体的に、パターン位相差フィルムの製造用金型等に適用することができる。
【００１８】
（４）  （１）において、
前記賦型処理層の作製工程は、
陽極酸化処理とエッチング処理とにより、前記下地層の上に作製したアルミニウム層に、可視光領域の光の波長よりも短い周期で凹部を形成して前記賦型処理に供する凹凸形状を作製する。
【００１９】
（４）によれば、より具体的に、凹凸の周期が可視光領域の光の波長以下に制御された微細な凹凸形状を表面に形成することによって反射防止を図る反射防止フィルムに適用することができる。
【００２０】
（５）  光学フィルムの賦型処理に使用する光学フィルムの製造用金型において、
母材と、
前記母材の表面に設けられた下地層と、
前記下地層の表面に設けられて、前記賦型処理に供する凹凸形状を備える賦型処理層とを備え、
前記下地層は、
前記賦型処理層側面に、下地層の凹凸形状が設けられる。
【００２１】
（５）によれば、下地層により賦型処理層の密着強度を増大させるようにして、さらに下地層の表面に作製された下地層の凹凸形状により一段と賦型処理層の密着力を増大させることができる。これにより賦型処理層、及び賦型処理層作製過程における賦型処理層の材料層について、局所的な剥離を有効に回避することができ、賦型用の製造用金型を安定かつ精度良く作製することができる。
【００２２】
（６）  （５）において前記賦型処理に供する凹凸形状が、前記光学フィルムの配向膜に対応するライン状の凹凸形状であり、
前記光学フィルムの配向膜に対応するライン状の凹凸形状の延長方向と同一の方向に延長するライン状の凹凸形状により、前記下地層の凹凸形状が作製される。
【００２３】
（６）によれば、ラビング処理、研磨処理等によるライン状の凹凸形状により配向膜の作製に供する賦型処理層を構成する場合に、これらのライン状の凹凸形状による配向には影響を与えないようにして、密着力を増大させることができる。
【００２４】
（７）  （５）において、
前記賦型処理に供する凹凸形状が、
可視光領域の光の波長よりも短い周期で設けられた凹部による凹凸形状である。
【００２５】
（７）によれば、より具体的に、凹凸の周期が可視光領域の光の波長以下に制御された微細な凹凸形状を表面に形成することによって反射防止を図る反射防止フィルムに適用することができる。
【発明の効果】
【００２６】
従来に比して安定かつ精度良くパターン位相差フィルム等の光学フィルムの製造用金型を作製することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明の第１実施形態に係るパターン位相差フィルムを示す図である。
【図２】図１のパターン位相差フィルムの製造工程を示すフローチャートである。
【図３】図２の製造工程で使用するロール版の作製工程を示す図である。
【図４】図３の続きを示す図である。
【図５】図４の続きを示す図である。
【図６】本発明の第２実施形態に係る位相差板を示す図である。
【図７】図６の位相差板の生産に使用するロール版の製造工程を示す図である。
【図８】本発明の第３実施形態に係る反射防止フィルムを示す図である。
【図９】図８の反射防止フィルムの製造工程を示す図である。
【図１０】図９の製造工程で使用するロール版の作製工程を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。
【００２９】
〔第１実施形態〕
図１は、本発明の第１実施形態に係る画像表示装置に適用されるパターン位相差フィルムを示す図である。この第１実施形態に係る画像表示装置は、垂直方向（図１においては左右方向に対応する方向である）に連続する液晶表示パネルの画素が、順次交互に、右目用の映像を表示する右目用画素、左目用の映像を表示する左目用画素に振り分けられて、それぞれ右目用及び左目用の画像データで駆動される。これにより画像表示装置は、右目用の映像を表示する帯状の領域と左目用の映像を表示する帯状の領域とに表示画面が交互に区分され、右目用の画像と左目用の画像とを同時に表示する。この画像表示装置は、この液晶表示パネルのパネル面に、この図１に示すパターン位相差フィルム１が配置され、このパターン位相差フィルム１により右目用及び左目用の画素からの出射光にそれぞれ対応する位相差を与える。これによりこの画像表示装置は、パッシブ方式により所望の立体画像を表示する。
【００３０】
ここでパターン位相差フィルム１は、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）等の透明フィルムからなる基材２の一方の面上に、配向膜３、位相差層４が順次作製される。パターン位相差フィルム１は、位相差層４が屈折率異方性を保持した状態で固化（硬化）された液晶材料により形成され、この液晶材料の配向を配向膜３の配向規制力によりパターンニングする。なおこの液晶分子の配向を図１では細長い楕円により誇張して示す。このパターンニングにより、パターン位相差フィルム１は、液晶表示パネルにおける画素の割り当てに対応して、一定の幅により、右目用の領域Ａと左目用の領域Ｂとが順次交互に帯状に形成され、右目用及び左目用の画素からの出射光にそれぞれ対応する位相差を与える。
【００３１】
パターン位相差フィルム１は、基材２の表面に、微細な凹凸形状の賦型に供する樹脂である賦型用樹脂が塗付され、この賦型用樹脂の賦型処理により凹凸形状が作製される。この実施形態では、この賦型用樹脂に紫外線硬化性樹脂が適用され、これによりこの工程１０では、基材２の表面に紫外線硬化性樹脂５が塗布された後、この紫外線硬化性樹脂５の表面に微小な凹凸形状が形成され、この微小な凹凸形状により配向膜３が形成される。パターン位相差フィルム１は、後述する賦型用金型の表面に作製された微小な凹凸形状を転写して、配向膜３に係る微小な凹凸形状が作製され、この凹凸形状による配向規制力により位相差層４をパターンニングする。このため配向膜３は、右目用及び左目用の帯状領域Ａ及びＢにそれぞれ対応する帯状の領域が順次交互に形成され、それぞれ微小な凹凸形状が作製される。ここでこの微小な凹凸形状は、一方向に延長するライン状（線）の凹凸形状により形成され、この一方向に延長する方向が右目用領域Ａと左目用領域Ｂとで９０度異なる方向となるように、かつ各領域の延長方向（水平方向であり、図１に於いては右上と左下とを結ぶ方向）に対して４５度傾くように形成される。なおこの各領域の延長方向に対する傾きにあっては、基材２のリタデーションが無視できない程度に大きい場合には、リタデーション値に応じて、適宜、増減される。パターン位相差フィルム１は、この図１に示す基本構成に加えて、粘着層、セパレータフィルム、反射防止フィルム等が必要に応じて設けられる。なお紫外線硬化樹脂としては、アクリレート系、メタクリレート系、エポキシ系等の単量体、プレポリマー、或いはこれらの混合物にベンゾフェノン、芳香族ヨードニウム等の光重合開始剤を添加したものを適用することができる。
【００３２】
〔パターン位相差フィルム製造工程〕
図２は、このパターン位相差フィルム１の製造工程を示す略線図である。この製造工程１０は、基材２がロールにより提供され、この基材２を供給リール１１から供給する。製造工程１０は、ダイ１２によりこの基材２に紫外線硬化樹脂の塗布液を塗布する。この製造工程１０において、ロール版２０は、パターン位相差フィルム１の配向膜３に係る凹凸形状が周側面に形成された円筒形状の賦型用金型である。製造工程１０は、紫外線硬化樹脂が塗布された基材２を加圧ローラ１４によりロール版２０の周側面に押圧し、高圧水銀燈からなる紫外線照射装置１５による紫外線の照射により紫外線硬化樹脂を硬化させる。これにより製造工程１０は、ロール版２０の周側面に形成された凹凸形状を基材２に転写する。その後、剥離ローラ１６によりロール版２０から基材２を剥離し、ダイ１９により液晶材料を塗布する。またその後、紫外線照射装置１７による紫外線の照射により液晶材料を硬化させた後、巻き取りリール１８に巻き取る。パターン位相差フィルム１は、この巻き取りリール１８に巻き取ったシート材に、必要に応じて粘着層、反射防止層等を形成した後、所望の大きさに切断して作製される。これによりパターン位相差フィルム１は、ロールにより提供される基材２を連続して処理して効率良く大量生産される。
【００３３】
〔ロール版製造工程〕
図３〜図５は、パターン位相差フィルムの製造用金型であるロール版２０の製造工程を示す図である。なおこの図３〜図５において、パターン位相差フィルム１の領域Ａ、Ｂに対応する領域を、それぞれ符号ＡＲＡ、ＡＲＢにより示す。この製造工程では、母材４０の周側面を切削により平滑化した後、下地層４１が作製される（図３（ａ））。ここで母材４０は、ロール版２０の外形形状に対応する円筒形状の金属材料である。母材４０は、加工のしやすさや寸法安定性などから金属材料であることが好ましく、ニッケル、クロム、ステンレス、銅などであることがより好ましい。なおこの実施形態において、母材４０は、銅が適用される。
【００３４】
下地層４１は、上層に設けられる賦型処理に供する凹凸形状が作製された層（以下、賦型処理層と呼ぶ）について、母材４０に対する密着力を強化するために設けられる。この実施形態では、下地層４１は、無電解メッキにより、リンをドープしたニッケル層により膜厚５００ｎｍで作製される。
【００３５】
続いてこの工程は、図３（ｂ）に示すように、下地層４１の表面に微細な凹凸形状によるアンカー膜４１Ａが作製される。ここでアンカー膜４１Ａは、下地層４１に対する賦型処理層の密着力を強化するために設けられる。ここで賦型処理層は、無機材料を適用でき、金属材料、無機酸化物、無機窒化物、無機炭化物などの各種材料を広く適用することができるものの、加工のしやすさなどから、クロム、チタン、ニッケル、タングステン、ステンレス系金属材料、アルミ、ＳｉＯ２、ＳｉＯｘ、Ａｌ２Ｏ３、Ｃｒ２Ｏ３、ＴｉＯ２、Ｓｉ３Ｎ４、ＡｌＮ、ＴｉＮ、ＳｉＯｘＮｙ、ＳｉＣ、ＷＣ、ＤＬＣなどから選択される。
【００３６】
なお後述するようにこの実施形態では賦型処理層がニッケルにより作製されることから、ニッケルによる下地層４１を介して銅による母材４０に賦型処理層を配置すれば、直接、母材４０の表面に賦型処理層を設ける場合に比して、賦型処理層の密着力を向上することができる。しかしながら下地層４１を設けるようにしても、このロール版２０の製造工程において、下地層４１から賦型処理層が局所的に剥離する場合があり、この場合、安定かつ精度良くロール版２０を作製することが困難になる。具体的に、高い精度により領域Ａ及びＢに対応する領域ＡＲＡ及びＡＲＢを作製することが困難になり、これによりパターン位相差フィルムの精度が著しく劣化することになる。しかしながら下地層４１の表面に微細な凹凸形状によるアンカー膜４１Ａを設ける場合には、さらに一段と賦型処理層の密着力が向上することにより、賦型処理層の局所的な剥離を格段的に低減することができ、これにより従来に比して安定かつ精度良くロール版２０を作製することができる。
【００３７】
より具体的にこの実施形態では、ラビング布を使用したラビング処理により、下地層４１の表面、全面に微小なライン状凹凸形状を作製し、これによりアンカー膜４１Ａを作製する。またこのラビング処理におけるラビング方向を、直後のラビング処理（図４（ｄ））におけるラビング方向と同一の方向により実施する。なお図３〜図５では、便宜上、ラビングロールＲによりラビング処理を示す。これによりアンカー膜４１Ａにおけるライン状凹凸形状の延長方向を、直後のラビング処理によるライン状凹凸形状の延長方向と一致させる。これらによりこの実施形態では、微小な凹凸形状の賦型に供する賦型用金型において、下地層の表面に凹凸形状を作製して密着力を強化する場合にあって、この下地層表面の凹凸形状が、賦型処理層により作製される配向膜３による配向能に影響を与えないようにする。
【００３８】
続いてこの工程は、図３（ｃ）に示すように、アンカー膜４１Ａの表面に、第１の無機材料層を作製する。この実施形態では、この第１の無機材料層４２にニッケル層が適用され、スパッタリングにより膜厚１００ｎｍのニッケル層を作製する。続いてこの工程は、図４（ｄ）に示すように、第１の凹凸形状作製工程において、この第１の無機材料層４２の全面に微小なライン状凹凸形状による第１凹凸領域４３を形成する。第１凹凸領域４３は、母材４０の周側面に、配向膜３の右目用領域又は左目用領域の凹凸形状に対応する微小な凹凸形状を作製して形成される。具体的に、この実施形態では、ラビング布を使用したラビング処理によりこの凹凸形状が作製される。
【００３９】
続いてロール版２０は、マスク作製工程において、レジスト材料により、右目用領域Ａに対応する領域ＡＲＡを被覆し、かつ左目用領域Ｂに対応する領域ＡＲＢを露出させたマスクが作製される（図４（ｅ））。すなわちこの工程では、ポジ型のレジスト剤を全面に塗布した後、露光、現像処理することにより、左目用領域Ｂに対応する領域ＡＲＢを露出させたマスクが作製される。なおレジスト材料としては特に限定されるものではなく、ネガ型レジスト材料を適用しても良い。また塗布方法、露光方法にあっても種々の手法を広く適用することができる
【００４０】
続いて図５（ｆ）に示すように、薄膜作製工程において、全面に、第２の無機材料層４５が作製される。この実施形態では、スパッタリングにより膜厚１００ｎｍのニッケル層を作製し、これによりこの第２の無機材料層４５にニッケル層が適用される。
【００４１】
続いて図５（ｇ）に示すように、第２の凹凸形状作製工程において、第１凹凸領域４３と異なる方向（この実施形態では第１凹凸領域４３のラビング方向とは９０度の角度をなす方向である）に全面をラビング処理し、第２無機材料層（ニッケル層）４５の表面に凹凸形状を作製する。その後、製造工程は、図５（ｈ）に示すように、続くレジスト除去工程において、レジスト層４４を、その上層の第２無機材料層４５と共に除去し、これにより２回の凹凸形状作製処理により配向膜３の領域Ａ及びＢに対応する凹凸形状を作製する。
【００４２】
これらによりこのロール版２０では、ニッケル層４２、４５の表面に形成されたライン状凹凸形状が賦型処理により賦型されて配向膜３を作製することになり、このニッケル層４２、４５により賦型処理に供する凹凸形状が作製された賦型処理層が構成されることになる。また下地層４１を設けることによりこの賦型処理層の母材４０への密着力が強化され、さらにアンカー膜４１Ａを設けることにより一段と賦型処理層の密着力を強化して母材４０からの剥離が防止される。
【００４３】
以上の構成によれば、賦型処理に供する凹凸形状が作製された賦型処理層を、下地層を介して母材に作製して賦型用金型を作製するようにして、この下地層の表面に凹凸形状を作製してアンカー膜を作製することにより、このアンカー膜により一段と賦型処理層の密着強度を増大させることができる。これにより金型製造工程における賦型処理層の局所的な剥離を防止することができ、これにより安定かつ精度良く製造用金型を作製することができる。従ってパターン位相差フィルムの製造工程では、高い歩留まりにより精度の高い製品を量産することができる。また賦型処理層の剥離を防止できることにより、製造用金型の寿命も延ばすことができ、さらには信頼性の向上により生産工程の管理を簡略化することができる。
【００４４】
またこのアンカー膜をラビング処理により作製するようにして、ラビング方向であるライン状凹凸形状の延長方向を、賦型に供する直近のライン状凹凸形状の延長方向と同一の方向に設定することにより、アンカー膜の作製による配向膜の機能の低下を有効に回避することができる。すなわち賦型に供するライン状の凹凸形状については、第１の無機材料層４２を成膜して作製するものの、この第１の無機材料層４２の表面にはその下層のアンカー膜の凹凸形状が少なからず現れることになる。その結果、パターン位相差フィルムの配向膜にあっては、この第１の無機材料層にラビング処理により作製された本来の凹凸形状に加えて、アンカー膜の凹凸形状が賦型されることになる。これによりこの２つの凹凸形状の延長方向が異なっている場合には、配向規制力を損なう恐れがあり、その結果、位相差層における液晶材料の配向も損なわれ恐れがある。しかしながらこの実施形態によれば、このように第１の無機材料層に作製する本来の凹凸形状に加えて、アンカー膜の凹凸形状が賦型される場合にあっても、配向膜による配向規制力を損なわないようにすることができ、これらにより高品質によりパターン位相差フィルムを製造することができる。
【００４５】
〔第２実施形態〕
この実施形態に係る画像表示装置は、液晶表示パネルのパネル面に順次偏光板、１／２波長板、１／４波長板を配置し、液晶表示パネルの視野角特性を改善する。図６は、このパネル面に配置する１／４波長板を示す斜視図である。なお１／２波長板は、後述する位相差層の厚み、遅相軸の方向が異なる点を除いて、この図６に示す１／４波長板と同一に構成されることにより、以下においては、詳細な説明は省略する。
【００４６】
ここで１／４波長板５１は、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）等の透明フィルムからなる基材５２の一方の面上に、配向膜５３、位相差層５４が順次作製される。１／４波長板５１は、パターン位相差フィルム１と同様に、位相差層５４が屈折率異方性を保持した状態で固化（硬化）された液晶材料により形成され、この液晶材料の配向を配向膜５３の配向規制力によりパターンニングし、これにより透過光に対応する位相差を与える。また１／４波長板５１は、パターン位相差フィルム１と同様の紫外線硬化性樹脂５５の表面形状により配向膜５３が作製され、この配向膜５３は、全面が、一様に垂直方向に対して斜め４５度の方向に延長するライン状凹凸形状により作製される。
【００４７】
１／４波長板５１は、専用の製造用金型であるロール版を使用して、図２について上述したパターン位相差フィルム１の製造工程と同一の工程で生産される。これにより１／４波長板５１及び１／２波長板は、効率良く大量生産される。
【００４８】
図７は、１／４波長板５１の製造に使用するロール版の製造工程を示す図である。この製造工程では、母材６０の周側面を切削により平滑化した後、下地層６１が作製される（図７（ａ））。ここで母材６０は、ロール版の外形形状に対応する円筒形状の金属材料であり、パターン位相差フィルム１について上述したと同様に各種の金属材料等を広く適用することができるものの、この実施形態では、銅が適用される。また下地層６１は、無電解メッキにより、リンをドープしたニッケル層が膜厚５００ｎｍで作製される。
【００４９】
続いてこの工程は、図７（ｂ）に示すように、ラビング処理により、下地層６１の表面に微細な凹凸形状によるアンカー膜６１Ａが作製される。これらによりこの実施形態では、下地層により賦型処理層の密着強度を向上して、アンカー膜６１Ａによりこの密着力をさらに増大させる。またこのとき後述する賦型処理層におけるラビング処理の方向と同一の方向によりラビング処理してアンカー膜６１Ａの凹凸形状を作製することにより、賦型処理層により作製される配向膜５３による配向能に影響を与えないようにする。
【００５０】
続いてこの工程は、図７（ｃ）に示すように、アンカー膜６１Ａの表面に、無機材料層を作製する。この実施形態では、この無機材料層６２にニッケル層が適用され、スパッタリングにより膜厚１００ｎｍのニッケル層を作製する。続いてこの工程は、図７（ｄ）に示すように、この無機材料層６２の全面に微小なライン状凹凸形状を形成する。なおこの実施形態では、液晶表示パネルのパネル面に配置される偏光板の透過軸と、１／２波長板、１／４波長板の遅相軸はそれぞれ時計回りに75゜、15゜となるような角度を成す方向である。これによりこの実施形態では無機材料層６２が賦型処理層に該当することになる。
【００５１】
この実施形態では、１／２位相差板、１／４位相差板に本発明を適用して、賦型処理層が１方向にラビング処理された金属層である場合でも、第１実施形態と同一の効果を確保することができる。
【００５２】
〔第３実施形態〕
図８は、本発明の第３実施形態に係る光学フィルムである反射防止フィルムを示す図である。反射防止フィルム７１は、透明フィルムによる基材７２に凹凸膜７３を配置して作製される。ここで基材７２は、例えばＴＡＣ（Triacetylcellulose）、アクリル、ＰＥＴ（Polyethylene  terephthalate）、ＰＣ（Polycarbonate）等の各種透明フィルムを適用することができる。反射防止フィルム７１は、反射防止フィルム製造用金型を使用して、基材７２の表面に、賦型用樹脂７４により微細な凹凸形状を作製して凹凸膜７３が作製成される。反射防止フィルム７１は、この凹凸膜７３により、凹凸の周期が可視光領域の光の波長以下に制御された微細な凹凸形状が作製され、これにより厚み方向に徐々に屈折率が変化するように作製され、モスアイ構造の原理により広い波長範囲で入射光の反射を防止する。なおここで賦型用樹脂７４には、紫外線硬化性樹脂が適用される。
【００５３】
図９は、この反射防止フィルム７１の製造工程を示す図である。この製造工程８０は、樹脂供給工程において、ダイ８２により基材７２に紫外線硬化性樹脂７４を塗布する。なお紫外線硬化性樹脂７４の塗布については、ダイ８２による場合に限らず、各種の手法を適用することができる。続いてこの製造工程８０は、加圧ローラ８４により、反射防止フィルム製造金型であるロール版８３の周側面に基材２を加圧押圧し、これにより基材７２に紫外線硬化性樹脂７４を密着させると共に、ロール版８３の周側面に作製された微細な凹部に紫外線硬化性樹脂７４を充分に充填させる。この製造工程は、この状態で、紫外線の照射により紫外線硬化性樹脂７４を硬化させ、これにより凹凸膜７３を作製する。この製造工程は、続いて剥離ローラ８５を介してロール版８３から基材７２を剥離する。製造工程８０は、必要に応じてこの基材７２に粘着層等を作製した後、所望の大きさに切断して反射防止フィルム７１が作製される。これにより反射防止フィルム７１は、ロール材による長尺の基材７２に、反射防止フィルム製造用金型であるロール版８３の周側面に作製された微細形状を順次賦型して、効率良く量産される。
【００５４】
図１０は、反射防止フィルム７１の製造に使用するロール版の製造工程を示す図である。この製造工程では、母材９０の周側面を切削により平滑化した後、下地層９１が作製される（図１０（ａ））。ここで母材９０は、ロール版の外形形状に対応する円筒形状の金属材料であり、ロール版に求められる特性を満足する限りにおいて、銅、ステンレス等、種々の金属材料を広く適用することができる。下地層９１は、例えばクロム、酸化チタン、リンをドープしたニッケルなどを適用することができるものの、最上層に作製されるアルミニウム層との間で密着力を増大させることが可能な種々の金属材料を適用することができる。なおガルバニック反応を抑制するための絶縁層等の中間層を介在させてもよい。
【００５５】
続いてこの工程は、図１０（ｂ）に示すように、ラビング処理により、下地層９１の表面に微細な凹凸形状によるアンカー膜９１Ａを作製し、図１０（ｃ）に示すように、アンカー膜９１Ａの表面に、純度の高いアルミニウム層９２を作製する。この工程は、続いて陽極酸化工程とエッチング工程とを交互に繰り返すことにより、アルミニウム層９２に微細穴を作製すると共に、この微細穴の穴径を拡大しながら微細穴を掘り進み、深さ方向に徐々に穴径が小さくなるように微細穴を作製する。これにより図１２（ｄ）に示すように、この工程は、可視光領域の光の波長以下の周期により微細穴による凹部が繰り返された凹凸形状による賦型処理層をこのアルミニウム層により作製し、反射防止フィルム作製用のロール版を作製する。
【００５６】
この実施形態によれば、モスアイ構造に係る反射防止フィルムに本発明を適用して、上述の実施形態と同一の効果を得ることができる。
【００５７】
〔他の実施形態〕
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態を種々に組み合わせ、さらには上述の実施形態の構成を種々に変更することができる。
【００５８】
すなわち上述の実施形態では、ラビング処理によりアンカー膜の凹凸形状を作製する場合、さらにはラビング処理により配向膜に係る凹凸形状を作製する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、何れかの処理に研磨処理を適用するようにしてもよい。
【００５９】
また上述の実施形態では、賦型用樹脂に紫外線硬化性樹脂を適用する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、紫外線硬化性樹脂以外の各種賦型用樹脂を適用する場合、さらには加熱等により軟化させた基材を押し付けて賦型する場合等にも広く適用することができる。
【００６０】
また上述の実施形態では、パターン位相差フィルム、位相差板、反射防止フィルムに本発明を適用する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、これら以外の賦型処理により作製する各種の光学フィルムの生産に広く適用することができる。
【００６１】
また上述の実施形態では、ロール版により各種光学フィルムを生産する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、平板により生産する場合にも広く適用することができる。
【符号の説明】
【００６２】
１  パターン位相差フィルム
２、５２  基材
３、５３  配向膜
４、５４  位相差層
５、５５  紫外線硬化性樹脂
１０、８０  製造工程
１１  供給リール
１２、１９、８２  ダイ
１４、８４  加圧ローラ
１５、１７  紫外線照射装置
１６、８５  剥離ローラ
１８  リール
２０、８３  ロール版
４０、６０、９０  母材
４１、６１、９１  下地層
４１Ａ、６１Ａ、９１Ａ  アンカー膜
４２、４５、６２  無機材料層
４３  第１凹凸領域
４４  レジスト層
５１  １／４波長板
７１  反射防止フィルム
９２  アルミニウム層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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