(57)【要約】【課題】本発明の目的は、耐擦傷性が良好で、かつ、赤外線抑制性と可視光透過性を示す赤外線抑制フィルムを提供することにある。【解決手段】本発明に係る赤外線抑制フィルムは、基材と、該基材上に形成され、高分子化合物および無機化合物粒子を含む密着層と、該密着層上に形成され、高分子化合物および赤外線吸収性を示す無機化合物粒子を含み、鉛筆硬度がＨ以上である赤外線吸収層と、を備え、可視光透過性を示すことを特徴とする。【選択図】図１
2013169713.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、
該基材上に形成され、高分子化合物および無機化合物粒子を含む密着層と、
該密着層上に形成され、高分子化合物および赤外線吸収性を示す無機化合物粒子を含み、鉛筆硬度がＨ以上である赤外線吸収層と、
を備え、可視光透過性を示すことを特徴とする赤外線抑制フィルム。
【請求項２】
二以上の密着層を含み、一の密着層に含まれる無機化合物粒子の屈折率と、該一の密着層に接している他の密着層に含まれる無機化合物粒子の屈折率とが異なることを特徴とする請求項１に記載の赤外線抑制フィルム。
【請求項３】
該赤外線吸収層に含まれる無機化合物粒子の屈折率と、該赤外線吸収層に接している密着層に含まれる無機化合物粒子の屈折率とが異なることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の赤外線抑制フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、赤外線抑制フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
可視光透過性を示す赤外線抑制フィルムは、赤外線の透過を抑制して室内温度の上昇を防ぐ目的で、建物や乗り物（例えば、自動車、電車、バス、航空機、船舶など）の窓ガラスに貼着されて使用されるほか、農業ハウス用としても使用され、特に、夏場の冷房に費やすエネルギーの削減に有効である。赤外線抑制フィルムは、通常、長期間にわたって使用されるため、耐擦傷性などの耐久性に優れたものが求められている。
【０００３】
そこで、例えば、特許文献１には、透明フィルム基材の一面上にハードコート層が形成され、他面上に粘着剤層が形成され、該粘着剤層上に剥離層が形成されている熱線遮蔽フィルムが提案されている。そのハードコート層には、アンチモン含有酸化スズ微粒子またはインジウム含有酸化スズ微粒子が含有されており、このハードコート層が熱線遮蔽層を兼ねていると提案されている。
【０００４】
また、例えば、特許文献２には、赤外線吸収剤を含み、少なくとも３Ｈの鉛筆硬度を有する機能層を含む日射防止フィルムが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平８−２８１８６０号公報
【特許文献２】特表２００８‐５２２２２８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
赤外線抑制フィルムの耐擦傷性を向上させるためには、例えば、最表面の層に無機化合物や架橋させた高分子化合物などの比較的硬い材料を使用することによって、赤外線抑制フィルムの表面硬度を上げることが一般的になされている。
【０００７】
もっとも、一般的に、比較的硬い材料が用いられた層は基材との密着性が低いことが多いので、基材と該層との間に、高分子化合物が用いられた密着層を形成することが望ましい。しかし、高分子化合物のみで密着層を形成すると、赤外線抑制フィルムの耐擦傷性が低下してしまうというという問題が生じた。
【０００８】
本発明は、上記した課題を解決するためになされたものであって、その目的は、耐擦傷性が良好で、かつ、赤外線抑制性と可視光透過性を示す赤外線抑制フィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記した課題を解決するための本発明に係る赤外線抑制フィルムは、基材と、該基材上に形成され、高分子化合物および無機化合物粒子を含む密着層と、該密着層上に形成され、高分子化合物および赤外線吸収性を示す無機化合物粒子を含み、鉛筆硬度がＨ以上である赤外線吸収層と、を備え、可視光透過性を示すことを特徴とする。
【００１０】
また、上記した本発明に係る赤外線抑制フィルムにて、二以上の密着層を含み、一の密着層に含まれる無機化合物粒子の屈折率と、該一の密着層に接している他の密着層に含まれる無機化合物粒子の屈折率とが異なることが好ましい。赤外線抑制性をより高めることができるためである。
【００１１】
また、上記した本発明に係る赤外線抑制フィルムにて、該赤外線吸収層に含まれる無機化合物粒子の屈折率と、該赤外線吸収層に接している密着層に含まれる無機化合物粒子の屈折率とが異なることが好ましい。赤外線抑制性をより高めることができるためである。
【発明の効果】
【００１２】
本発明に係る赤外線抑制フィルムによれば、耐擦傷性が良好で、かつ、赤外線抑制性と可視光透過性を示す赤外線抑制フィルムを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明に係る赤外線抑制フィルムの一例を示す断面図。
【図２】本発明に係る赤外線抑制フィルムの別の一例を示す断面図。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
下記に、本発明に係る赤外線抑制フィルムについて詳しく説明する。
【００１５】
本発明に係る赤外線抑制フィルム４０は、図１に示すように、基材１０と、基材１０上に形成された密着層２０と、密着層２０上に形成された赤外線吸収層３０とを備え、可視光透過性を示すものである。密着層２０は、高分子化合物および無機化合物粒子を含むものである。赤外線吸収層３０は、高分子化合物および赤外線吸収性を示す無機化合物粒子を含み、鉛筆硬度がＨ以上であるものである。
【００１６】
本発明に係る赤外線抑制フィルム４０は、赤外線吸収層３０が赤外線吸収性を示す無機化合物粒子を含むので、赤外線抑制性を示す。さらに、本発明に係る赤外線抑制フィルム４０は、赤外線吸収層３０の鉛筆硬度がＨ以上であり、かつ密着層２０が無機化合物粒子を含むので、耐擦傷性が良好になる。
【００１７】
密着層２０が無機化合物粒子を含むことで耐擦傷性が良好になるのは、下記の作用によるものと推測される。すなわち、密着層を高分子化合物のみで形成した場合には、赤外線抑制フィルム４０の表面が先の硬いもので擦られたときに、その押圧によって内部の密着層が変形して内部にまで先が食い込みやすくなり、傷が付きやすくなると推測される。それに対して、密着層２０が無機化合物粒子を含むことで、押圧で内部の密着層が変形することが妨げられ、先は内部に食い込まずに表面で滑るので、傷が付き難くなったと推測される。
【００１８】
本発明に係る赤外線抑制フィルム４０は、該赤外線吸収層３０に含まれる無機化合物粒子の屈折率と、該赤外線吸収層に接している密着層２０に含まれる無機化合物粒子の屈折率とが異なることが好ましい。赤外線吸収層３０の屈折率と密着層２０の屈折率とが異なることで、赤外線吸収層３０と密着層２０との界面で赤外線反射性を示すようにすることができるので、赤外線抑制性をより高めることができる。これは、赤外線吸収層３０に含まれる無機化合物粒子を赤外線吸収性だけでなく赤外線反射性にも寄与させ、また、密着層２０に含まれる無機化合物粒子を耐擦傷性だけでなく赤外線反射性にも寄与させるものである。なお、このとき、赤外線反射性は、赤外線が屈折率の高い層から屈折率の低い層に入射された場合に得られるので、赤外線吸収層３０の屈折率が密着層２０の屈折率よりも高いときは、赤外線吸収層３０側から赤外線が入射されるように赤外線抑制フィルム４０を配置し、密着層２０の屈折率が赤外線吸収層３０の屈折率よりも高いときは、基材１０側から赤外線が入射されるように赤外線抑制フィルム４０を配置すればよい。
【００１９】
本発明に係る赤外線抑制フィルム４１は、図２に示すように、二以上の密着層２１、２２を含み、一の密着層２１に含まれる無機化合物粒子の屈折率と、該一の密着層に接している他の密着層２２に含まれる無機化合物粒子の屈折率とが異なることが好ましい。密着層２１の屈折率と密着層２２の屈折率とが異なることで、密着層２１と密着層２２との界面で赤外線反射性を示すようにすることができるので、赤外線抑制性をより高めることができる。これは、密着層２１、２２に含まれる無機化合物粒子を耐擦傷性だけでなく赤外線反射性にも寄与させるものである。なお、赤外線反射性は、赤外線が屈折率の高い層から屈折率の低い層に入射された場合に起こるので、密着層２２の屈折率が密着層２１の屈折率の屈折率よりも高いときは、赤外線吸収層３０側から赤外線が入射されるように赤外線抑制フィルム４１を配置し、密着層２１の屈折率が密着層２２の屈折率よりも高いときは、基材１０側から赤外線が入射されるように赤外線抑制フィルム４１を配置すればよい。
【００２０】
下記に、本発明に係る赤外線抑制フィルムの各構成について詳しく説明する。
【００２１】
＜基材＞
基材は、仕様または用途に応じて適宜選定されるものであり、特に制限はない。基材の材料としては、例えば、ガラスや高分子化合物を好適に用いることができる。高分子化合物としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル；ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン；ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、アセチルセルロースブチレートなどのセルロース；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどの塩化ビニル；ポリビニルアルコール；エチレン−酢酸ビニル共重合体などのビニル系共重合体；ポリスチレン；ポリカーボネート；ポリメチルペンテン；ポリスルホン；ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルイミドなどのポリエーテル；ポリイミド；フッ素高分子化合物；ポリアミド；アクリル高分子化合物；ノルボルネン高分子化合物；シクロオレフィン高分子化合物、などが挙げられる。これらの中でも、強度、可視光透過性および製造コストの観点から、ポリエチレンテレフタレートが好ましい。
【００２２】
基材は、その表面に設けられる層との密着性を向上させる目的で、所望により片面または両面に、表面酸化法や表面凹凸化法等により表面処理を施すことができる。表面酸化法としては、例えばコロナ放電処理、火炎処理、熱風処理、オゾン処理、紫外線照射処理、プラズマ照射処理、クロム酸処理などが挙げられ、表面凹凸化法としては、サンドブラスト法、溶剤処理法などが挙げられる。これらの表面処理法は、基材の種類に応じて適宜選ばれるが、一般にはコロナ放電処理法が好ましく用いられる。
【００２３】
基材の厚さは、仕様または用途に応じて適宜選定され、特に制限はない。通常、１０μｍ〜３００μｍ、好ましくは３０μｍ〜２００μｍ、より好ましくは５０μｍ〜２００μｍである。
【００２４】
＜密着層＞
密着層は、高分子化合物および無機化合物粒子を含むものであれば特に制限はない。高分子化合物は、基材と赤外線吸収層との間の密着性を向上させ、かつ密着層に含まれる無機化合物粒子を保持するために含有されるものである。また、無機化合物粒子は、赤外線抑制フィルムの耐擦傷性を良好にするために含有されるものである。
【００２５】
密着層の厚さは、仕様または用途に応じて適宜選定され、特に制限はない。通常、１０ｎｍ〜１００μｍ、好ましくは、１００ｎｍ〜１μｍである。密着層の厚さが小さすぎると、密着性が不十分になるおそれがあり、密着層の厚さが大きすぎると、可視光透過性が不十分になるおそれがあるからである。
【００２６】
（高分子化合物）
密着層に含まれる高分子化合物は、特に制限はなく、有機合成高分子化合物でも天然有機高分子化合物でもよい。有機合成高分子化合物の例として、例えば、ポリエステル、ポリウレタン、アクリル、メタクリル、ポリイミド、ポリアミド、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリオレフィン、ポリシクロオレフィン、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリエーテル、ポリアセタール、セルロース、これらの共重合体が挙げられ、アクリル高分子化合物やメタクリル高分子化合物が可視光透過性の観点から好ましい。また、天然有機高分子化合物の例として、ゼラチン、寒天、カラギナン、キサンタンガム、アラビアガム、グアガムが挙げられる。
【００２７】
密着層に含まれる高分子化合物は、無機化合物で変性された高分子化合物であってもよい。高分子化合物が無機化合物で変性された部位を有することで、無機化合物粒子と高分子化合物の親和性が向上して、無機化合物粒子を良好に保持することができるからである。さらに、密着層の屈折率を無機化合物粒子で調整する場合に、高分子化合物が密着層の屈折率に与える影響を減らすことができるからである。無機化合物による変性の例としては、シリコーン変性などのケイ素化合物変性、スズ化合物変性、チタン化合物変性、アルミニウム化合物変性などが挙げられる。無機化合物で変性された高分子化合物は、無機化合物と高分子化合物とのグラフト重合体でもよいし、無機化合物と高分子化合物との共重合体でもよい。特に、シリコーンアクリル高分子化合物が無機化合物との親和性と可視光透過性の観点から好ましい。
【００２８】
高分子化合物の質量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算の値で５，０００〜１，０００，０００の範囲であることが好ましい。高分子化合物の密着層中の含有量は、２０質量％〜８０質量％であることが好ましく、４０質量％〜６０質量％であることがより好ましい。高分子化合物の含有量が少なすぎると、基材と赤外線吸収層との間の密着性が不十分になるおそれがあり、高分子化合物の含有量が多すぎると、無機化合物粒子の含有量が減って、耐擦傷性が不十分になるおそれがあるからである。
【００２９】
（無機化合物粒子）
密着層に含まれる無機化合物粒子は、特に制限はない。粒子径が小さい多数の無機化合物粒子が密着層に分散されることで、可視光透過性が示される。無機化合物粒子としては、金属や半金属、またはそれらの酸化物、リン酸化物、窒化物、炭化物、ハロゲン化物などが挙げられる。無機化合物粒子の粒子径は、特に制限はなく、可視光透過性や耐擦傷性の観点より適宜選定されるが、通常、１ｎｍ〜１μｍの範囲、好ましくは５ｎｍ〜１００ｎｍの範囲である。無機化合物粒子の密着層中の含有量は、２０質量％〜８０質量％であることが好ましく、４０質量％〜６０質量％であることがより好ましい。無機化合物粒子の含有量が少なすぎると、耐擦傷性が不十分になるおそれがあり、無機化合物粒子の含有量が多すぎると、高分子化合物の含有量が減って、基材と赤外線吸収層との間の密着性が不十分になるおそれがあるからである。
【００３０】
無機化合物粒子で密着層の屈折率を調整する場合には、屈折率が高い密着層の調整に用いる無機化合物として、例えば、酸化チタン、酸化鉛、酸化鉄、酸化タングステン、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化ビスマス、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、これらの複合化合物、これらに他の元素がドープされた化合物が挙げられ、酸化チタン、酸化スズが特に好ましい。
また、屈折率が低い密着層の調整に用いる無機化合物として、例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、フッ化ナトリウム、フッ化マグネシウム、フッ化リチウム、フッ化カルシウム、これらの複合化合物、これらに他の元素がドープされた化合物が挙げられ、酸化ケイ素、酸化アルミニウムが特に好ましい。
【００３１】
無機化合物粒子は、多種多様な分散液が市販されており、これらの市販品を適宜用いるのが簡便であり好ましい。市販品としては、例えば、日本アエロジル株式会社製のＡＥＲＯＤＩＳＰシリーズ、日産化学工業株式会社製のサンコロイドシリーズ、日揮触媒化成株式会社製のオプトレイクシリーズ、デュポン社製のルドックスシリーズなどを挙げることができる。
【００３２】
（添加剤）
密着層には、さらに必要に応じて、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤などの各種添加剤を含有させることができる。
【００３３】
＜赤外線吸収層＞
赤外線吸収層は、高分子化合物および赤外線吸収性を示す無機化合物粒子を含み、鉛筆硬度がＨ以上であるものであれば特に制限はない。高分子化合物は、赤外線吸収層に含まれる無機化合物粒子を保持するために含有されるものである。また、無機化合物粒子は、赤外線吸収性を付与するために含有されるものである。赤外線吸収層の鉛筆硬度をＨ以上にすることで、赤外線抑制フィルムの耐擦傷性を良好にすることができる。
【００３４】
赤外線吸収層の厚さは、仕様または用途に応じて適宜選定され、特に制限はない。通常、１０ｎｍ〜１００μｍ、好ましくは、１００ｎｍ〜１０μｍで、より好ましくは、１μｍ〜１０μｍである。赤外線吸収層の厚さが小さすぎると、赤外線吸収性が不十分になるおそれがあり、赤外線吸収層の厚さが大きすぎると、可視光透過性が低下するおそれがあるからである。
【００３５】
（高分子化合物）
赤外線吸収層に含まれる高分子化合物は、鉛筆硬度をＨ以上とする赤外線吸収層が得られるものであれば、特に制限はなく、上記した密着層に含まれる高分子化合物として挙げたものを用いることができる。赤外線吸収層の鉛筆硬度をＨ以上にするためには、高分子化合物は、三次元網目構造を有することが好ましい。可視光透過性および高鉛筆硬度の観点から、三次元網目構造を有するアクリル高分子化合物やメタクリル高分子化合物が特に好ましい。高分子化合物の赤外線吸収層中の含有量は、２０質量％〜８０質量％であることが好ましく、５０質量％〜８０質量％であることがより好ましい。高分子化合物の含有量が少なすぎると、無機化合物粒子を十分に保持できなくなるおそれがあり、高分子化合物の含有量が多すぎると、無機化合物粒子の含有量が減って、赤外線吸収性が不十分になるおそれがあるからである。
【００３６】
（無機化合物粒子）
赤外線吸収層に含まれる無機化合物粒子は、赤外線吸収性を示し、かつ鉛筆硬度をＨ以上とする赤外線吸収層が得られるものであれば、特に制限はない。粒子径が小さい多数の無機化合物粒子が赤外線吸収層に分散されることで、可視光透過性が示される。赤外線吸収性を示す無機化合物粒子に用いられる無機化合物としては、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）リンドープ酸化スズ（ＰＴＯ）、フッ素ドープ酸化スズ（ＦＴＯ）、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムなどなどの導電性金属酸化物粒子；金、銀、白金、銅などの金属；窒化珪素などの導電性金属窒化物粒子、などを挙げることができ、可視光透過性の観点より、導電性金属酸化物粒子が好ましい。無機化合物粒子の粒子径は、特に制限はなく、赤外線吸収性、可視光透過性や耐擦傷性の観点より適宜選定されるが、通常、１ｎｍ〜１μｍの範囲、好ましくは５ｎｍ〜１００ｎｍの範囲である。無機化合物粒子の赤外線吸収層中の含有量は、２０質量％〜８０質量％であることが好ましく、２０質量％〜５０質量％であることがより好ましい。無機化合物粒子の含有量が少なすぎると、赤外線吸収性が不十分になるおそれがあり、無機化合物粒子の含有量が多すぎると、高分子化合物によって十分に保持できなくなるおそれがあるからである。
【００３７】
（添加剤）
密着層には、さらに必要に応じて、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤などの各種添加剤を含有させることができる。
【００３８】
＜その他の層＞
赤外線抑制フィルムには、密着層や赤外線吸収層の他に、任意の機能層が形成されていてもよい。該機能層としては、例えば、粘着性を示す粘着層、離型性を示す離型層、紫外線吸収性を示す紫外線吸収層、などが挙げられる。
【００３９】
＜赤外線抑制フィルム＞
赤外線抑制フィルムは、上記した基材、上記した密着層、および上記した赤外線吸収層を少なくとも一つずつ備え、可視光透過性を示すものである。該赤外線抑制フィルムによれば、耐擦傷性が良好で、かつ、赤外線抑制性と可視光透過性を示す赤外線抑制フィルムを得ることができる。
【００４０】
赤外線抑制フィルムが可視光透過性を示すには、通常は、基材、密着層、および赤外線吸収層が可視光透過性を示すことを要する。なお、可視光透過性は、可視光（波長：３６０ｎｍ〜８３０ｎｍ）を５０％以上、好ましくは７０％以上、より好ましくは８０％以上、特に好ましくは９０％以上透過するものをいう。赤外線抑制フィルムは、透明、半透明のいずれであってもよく、また、着色されていてもよいし、無着色のものでもよい。
【００４１】
赤外線抑制フィルムでは、赤外線吸収層の屈折率と該赤外線吸収層に接している密着層の屈折率とが異なるようにすることが好ましい。また、赤外線抑制フィルムでは、二以上の密着層を含み、一の密着層の屈折率と、該一の密着層に接している他の密着層の屈折率とが異なるようにすることが好ましい。前者では赤外線吸収層と密着層との界面で赤外線反射性を示すようにすることができ、後者では密着層と密着層との界面で赤外線反射性を示すようにすることができるので、赤外線抑制性をより高めることができるからである。
【００４２】
赤外線抑制フィルムでは、積層された各層のうち三以上連続した層で屈折率の高低が繰り返されている、つまり各層の相対的な屈折率が「高−低−高．．．」または「低−高−低．．．」となる関係にあることが好ましい。赤外線吸収層側から赤外線が入射されても基材側から赤外線が入射されても赤外線反射性を示す赤外線抑制フィルムが得られるからである。層数が増すにしたがって赤外線反射性は向上するが、逆に可視光透過性は低下するため、使用用途に合わせて、適当な層数を選択するのがよく、赤外線抑制フィルムに含まれる赤外線吸収層と密着層との総数は、３〜１２の範囲が好ましく、５〜１０の範囲がより好ましい。
【００４３】
赤外線抑制フィルムで赤外線反射性を示すようにする場合、赤外線反射性および可視光透過性の観点から、赤外線反射性に寄与する層どうしの屈折率差が０．１〜０．４の範囲であることが好ましい。屈折率差が０．１よりも小さいときは赤外線反射性が不十分になるおそれがあり、０．４よりも大きいときは干渉縞が発生するおそれがあるからである。なお、屈折率は、波長５８９ｎｍで測定した屈折率で評価する。
【００４４】
層の屈折率の調整は、赤外線吸収層や密着層に含有させる無機化合物粒子の種類や含有量を適宜選択することでおこなうことが、簡便であるため好ましい。なお、層の屈折率や、層どうしの屈折率差が全て同じ値である必要はない。
【００４５】
赤外線抑制フィルムで赤外線反射性を示すようにする場合、赤外線反射性に寄与する層の厚みは、２００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲であることが好ましい。
【００４６】
＜製造方法＞
本発明に係る赤外線抑制フィルムの製造方法は、特に制限はないが、下記に、本発明に係る赤外線抑制フィルムの製造方法の一例について詳しく説明する。
【００４７】
赤外線抑制フィルムの製造方法は、例えば、基材の準備工程、密着層の形成工程、赤外線吸収層の形成工程を備える、可視光透過性を示す赤外線抑制フィルムを製造する方法である。なお、密着層を形成する工程と赤外線吸収層を形成する工程は、下記の同時多層形成法によって同時に行ってもよい。基材の準備工程は、基材を準備する工程である。密着層の形成工程は、基材の準備工程で準備された基材上に、高分子化合物および無機化合物粒子を含む密着層を形成する工程である。赤外線吸収層の形成工程は、密着層の形成工程で形成された密着層上に高分子化合物および赤外線吸収性を示す無機化合物粒子を含み、鉛筆硬度がＨ以上である赤外線吸収層を形成する工程である。
【００４８】
（基材の準備工程）
基材の準備工程は、上記した基材を準備する工程である。基材は、市販品を用いてもよいし、適宜作製してもよい。
【００４９】
（密着層の形成工程）
密着層の形成工程は、例えば、上記した高分子化合物、上記した無機化合物粒子、および必要に応じて溶剤を含有させた塗布液を準備し、該塗布液を基材上に塗布した後、固化することで、基材上に高分子化合物および無機化合物粒子を含む密着層を形成する工程である。
【００５０】
塗布液で必要に応じて用いられる溶剤は、高分子化合物や無機化合物粒子を溶解させたり分散させたりできるものを公知の溶剤から適宜選択して用いることができる。塗布液の塗布法としては、ダイ塗布法、グラビア塗布法、スクリーン塗布法などの公知の塗布法を適宜選択して用いることができる。塗布液の固化法としては、乾燥、冷却、硬化などの公知の方法を適宜選択して用いることができる。
【００５１】
赤外線抑制フィルムが複数の密着層を含む場合、密着層を形成する工程では、いわゆる同時多層形成法を用いてもよいし、逐次多層形成法を用いてもよい。
【００５２】
同時多層形成法は、複数の塗布液を準備し、該複数の塗布液からそれぞれ塗布液層を複数形成させた後、これらの複数の塗布液層を積み重ねて、積み重ねられた複数の塗布液層を基材に同時に塗布した後、固化することで、複数の密着層を基材上に形成する方法である。同時多層形成法では、積み重ねられた塗布液層を同時に基材に塗布した後で固化するので、固化後の層に塗布液を塗布したときに塗布液が層を溶かしてしまう問題が起こらない。そのため、層どうしの界面が明確に形成されやすいので、赤外線抑制フィルムで赤外線反射性を示すようにする場合に、好適に用いることができる。
【００５３】
同時多層形成法では、一の塗布液層に含有させた成分と反応して難溶性生成物が生じる成分を、積み重ねたときに該一の塗布液層に接することになる他の塗布液層に含有させておくことが好ましい。これらの塗布液層を積み重ねた時に、難溶性生成物が生じてこれらの塗布液層どうしが混合することが妨げられ、安定的に層どうしの界面を明確に形成させることができるからである。難溶性生成物が生じる成分の組み合わせとしては、例えば、有機チタン化合物とポリビニルアルコールが挙げられる。
【００５４】
同時多層形成法では、冷却するとゲル化するゲル化成分を塗布液に含有させておくことが好ましい。塗布液層を積み重ねた後速やかに冷却することで、ゲル化成分を含有させた塗布液層の流動性が低下して塗布液層どうしが混合することが妨げられ、安定的に層どうしの界面を明確に形成させることができるからである。ゲル化成分としては、例えば、ゼラチン、寒天、カラギナン、キサンタンガム、アラビアガム、グアガムが挙げられる。
【００５５】
逐次多層形成法は、一の密着層を塗布し固化して形成した後、該一の密着層上に次の密着層を塗布し固化して形成することを繰り返すことで、複数の密着層を基材上に形成する方法である。
【００５６】
（赤外線吸収層の形成工程）
赤外線吸収層の形成工程は、例えば、上記した高分子化合物、上記した赤外線吸収性を示す無機化合物粒子、および必要に応じて溶剤を含有させた塗布液を準備し、該塗布液を密着層上に塗布した後、固化することで、基材上に高分子化合物および赤外線吸収性を示す無機化合物粒子を含み、鉛筆硬度がＨ以上である赤外線吸収層を形成する工程である。
【００５７】
塗布液で必要に応じて用いられる溶剤、塗布液の塗布法、および塗布液の固化法は、上記した密着層の形成工程と同様に公知のものを適宜選択して用いることができる。
【００５８】
三次元網目構造を有する高分子化合物を赤外線吸収層に用いる場合には、塗布液には、上記した高分子化合物に代えて、反応性の官能基を有するモノマー、オリゴマー、ポリマーなど、および必要に応じて架橋剤や触媒などを含有させる。該塗布液を塗布した後、該モノマー、オリゴマー、ポリマーなどを熱、光、電子線などで反応させることで、三次元網目構造を有する上記した高分子化合物を得ることができる。
【実施例】
【００５９】
本発明に係る赤外線抑制フィルムについて、実施例によりさらに具体的に説明する。
【００６０】
（測定方法）
屈折率は、屈折率計（株式会社溝尻光学工業所製の「ＤＶＡ−３６Ｌ型」）を用いて測定し、波長５８９ｎｍで測定した結果とした。なお、複数の層が積層されている状態での各層の屈折率の測定は、その積層体を構成する各層の分光反射と透過スペクトルとを得た後、光干渉式反射分光膜厚計（例えば大塚電子株式会社製の「ＦＥ−３０００ＹＩＴ」）を用いて測定することができる。各層の分光反射と透過スペクトルは、各層の成分分析を行って各層を特定することによって準備できる。
【００６１】
可視光透過率は、ＪＩＳ  Ｒ３１０６（１９９８）に準拠して測定した。可視光は、赤外線抑制フィルムの基材とは反対側から照射した。可視光透過率が大きいほど、可視光透過性に優れる。一方、赤外線透過率（日射透過率）は、ＪＩＳ  Ｒ３１０６（１９９８）に準拠して測定した。赤外線は、赤外線抑制フィルムの光透過性基材とは反対側から照射した。赤外線透過率が小さいほど、赤外線抑制性に優れる。
【００６２】
密着性は、旧ＪＩＳ  Ｋ  ５４００の碁盤目試験方法に準拠して測定した。具体的には、赤外線抑制フィルムに碁盤目の切れ込みを１００マス（１マス＝１ｍｍ×１ｍｍ）入れた後、密着試験用テープを碁盤目へ貼り付け、そして剥がし、残留したマスの数を確認して層間の密着性を測定した。１００マス中、９５マス以上が残留していれば、層間の密着性に非常に優れていると言える。
【００６３】
鉛筆硬度は、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４（１９９９）に準拠して測定した。鉛筆の芯を赤外線抑制フィルムの表面に対して角度４５度、加重７５０ｇで押し付けて動かし、傷付きの有無により評価した。鉛筆の芯の硬さは、柔らかい方から硬い方に向って６Ｂ〜ＨＢ〜６Ｈで示され、より硬い鉛筆の芯で引っかいたときであっても傷付きがないほど、鉛筆硬度に優れる。
【００６４】
耐擦傷性は、上記した鉛筆硬度の評価に準拠して、赤外線抑制フィルムの表面に対してＨの鉛筆の芯を角度４５度、様々な加重で押し付けて動かし、傷付きの有無により評価した。より大きい荷重で引っかいたときであっても傷付きがないほど、耐擦傷性に優れると判断した。
【００６５】
（実施例１）
基材として、厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム「コスモシャイン（登録商標）Ａ４１００」（東洋紡績株式会社製）を準備し、その片面にコロナ処理をおこなった。
【００６６】
下記の組成の密着層形成用の塗布液Ａを調整した。
酸化チタン粒子の水分散液                                      ：６０重量部
「ＡＥＲＯＤＩＳＰ（登録商標）−Ｗ７４０」
（日本アエロジル株式会社製、固形分４０％）
シリコーンアクリル高分子化合物の水分散液                      ：１２０重量部
「シャリーヌ（登録商標）ＦＥ−２３０Ｎ」
（日信化学工業株式会社製、固形分１０％）
ゼラチン                                                      ：１２重量部
「アルカリ処理牛由来ゼラチンタイプＢ」
（新田ゼラチン株式会社、固形分１００％）
有機チタン化合物                                              ：３重量部
「オルガチックス（登録商標）ТＣ−３１０」
（マツモトファインケミカル株式会社製、固形分４２％）
イオン交換水                                                  ：６００重量部
【００６７】
塗布液Ａを厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム「コスモシャイン（登録商標）Ａ４１００」（東洋紡績株式会社製）上にワイヤーバーを用いて塗布した後、１２０℃のオーブン中で３分間乾燥させて厚さ３μｍの層を形成し、この層の屈折率を測定したところ、屈折率は１．６であった。
【００６８】
下記の組成の密着層形成用の塗布液Ｂを調整した。
酸化ケイ素粒子の水分散液                                      ：６０重量部
「ルドックス（登録商標）ＨＳ―４０」
（デュポン社製、固形分４０％）
シリコーンアクリル高分子化合物の水分散液                      ：１２０重量部
「シャリーヌ（登録商標）ＦＥ−２３０Ｎ」
（日信化学工業株式会社製、固形分１０％）
ゼラチン                                                      ：６重量部
「アルカリ処理牛由来ゼラチンタイプＢ」
（新田ゼラチン株式会社、固形分１００％）
ポリビニルアルコール                                          ：６重量部
「ゴーセノール（登録商標）ＫＬ−０３」
（日本合成化学工業株式会社製、固形分１００％）
イオン交換水                                                  ：６００重量部
【００６９】
塗布液Ｂを厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム「コスモシャイン（登録商標）Ａ４１００」（東洋紡績株式会社製）上にワイヤーバーを用いて塗布した後、１２０℃のオーブン中で３分間乾燥させて厚さ３μｍの層を形成し、この層の屈折率を測定したところ、屈折率は１．４であった。
【００７０】
調整された塗布液Ａおよび塗布液Ｂは、４０℃の恒温水槽中でメカニカルスターラーにて加温撹拌し、温度を下げないよう注意しながら、５μｍメッシュのフィルター「ミニザルト  １７５９４Ｋ」（株式会社ハイテック製）に通して異物を除去した。
【００７１】
４０℃に加温した、塗布液Ｂ、塗布液Ａ、塗布液Ｂ、塗布液Ａ、塗布液Ｂ、塗布液Ａ、および塗布液Ｂを、スライドコーターを用いてこの順番で基材のコロナ処理面側に同時塗布した後、５度の冷却および８０℃の乾燥をおこなうことで、基材上に７つの密着層を形成した。７つの密着層の総厚みは２．０μｍであった。
【００７２】
アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）粒子３０重量部、紫外線硬化性のアクリルポリマー３０重量部、水系溶剤４０重量部、光重合開始剤を適量含有させた塗布液Ｃ（住友大阪セメント株式会社製、ＡＳＨＣ−１０１）を準備した。
【００７３】
塗布液Ｃを厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム「コスモシャイン（登録商標）Ａ４１００」（東洋紡績株式会社製）上にワイヤーバーを用いて塗布した後、１２０℃のオーブン中で３分間乾燥させて厚さ３μｍの層を形成した。さらに、窒素雰囲気下で紫外線照射装置により露光量１００ｍＪ／平方センチメートルの紫外線を表面に照射した後、この
層の屈折率を測定したところ、屈折率は１．６であった。
【００７４】
塗布液Ｃを、ワイヤーバーを用いて上記で形成させた密着層上に塗布した後、１２０℃のオーブン中で３分間乾燥させて厚さ３μｍの層を形成した。さらに、窒素雰囲気下で紫外線照射装置により露光量１００ｍＪ／平方センチメートルの紫外線を表面に照射することで、密着層上
に赤外線吸収層を形成した。
これにより、実施例１に係る赤外線抑制フィルムを得た。
【００７５】
（比較例１）
塗布液Ａに酸化チタン粒子の水分散液を用いなかったこと、および塗布液Ｂに酸化ケイ素粒子の水分散液を用いなかったこと以外は、実施例１と同様にして、比較例１に係る赤外線抑制フィルムを得た。
（評価）
【００７６】
実施例１に係る赤外線抑制フィルムは、可視光透過率７３％、赤外線透過率５８％、密着性１００マス中の１００が残留、鉛筆硬度がＨ以上であった。これに対して、比較例１に係る赤外線抑制フィルムは、可視光透過率７６％、赤外線透過率５６％、密着性１００マス中の１００が残留、鉛筆硬度がＨ以上であった。耐擦傷性は、加重を段階的に増加させて評価したときに、比較例１に係る赤外線抑制フィルムの方が、実施例１に係る赤外線抑制フィルムよりも先に傷が付き始めたので、実施例１に係る赤外線抑制フィルムの方が、比較例１に係る赤外線抑制フィルムよりも耐擦傷性が良好である。
【符号の説明】
【００７７】
１０：基材
２０、２１、２２：密着層
３０：赤外線吸収層
４０、４１：赤外線抑制フィルム
【図１】
2013169713.tif 000003
【図２】
2013169713.tif 000004