(57)【要約】【課題】効率よくラビング部材を洗浄することが可能なラビング部材の洗浄方法、及びラビング部材の洗浄装置を提供する。【解決手段】ラビング布４５を備えたラビング部材４２の洗浄方法は、吸水部材５２に純水５３を含ませる工程と、ロール状のラビング布４５を回転させる工程と、回転するラビング布４５の表面に、吸水部材５２を押し当てることによってラビング布４５に付着した汚染物質を除去する工程と、を有する。【選択図】図６
2013003228.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ラビング布を備えたラビング部材の洗浄方法であって、
吸水部材に純水を含ませる吸水工程と、
ロール状の前記ラビング布を回転させる回転工程と、
回転する前記ラビング布の表面に、前記吸水部材を押し当てることによって前記ラビング布に付着した汚染物質を除去する洗浄工程と、
を有することを特徴とするラビング部材の洗浄方法。
【請求項２】
請求項１に記載のラビング部材の洗浄方法であって、
前記回転工程は、前記ラビング布を構成する起毛層の起毛方向に対して逆らわない方向に前記ラビング布を回転させることを特徴とするラビング部材の洗浄方法。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載のラビング部材の洗浄方法であって、
前記吸水工程は、加温された前記純水を前記吸水部材に含ませることを特徴とするラビング部材の洗浄方法。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載のラビング部材の洗浄方法であって、
前記洗浄工程の後、前記ラビング布を回転させながら乾燥させる乾燥工程を有することを特徴とするラビング部材の洗浄方法。
【請求項５】
ラビング布を有するラビング部材を洗浄するラビング部材の洗浄装置であって、
前記ラビング布をロール状に保持すると共に、前記ラビング布を回転させるローラーと、
前記ローラーと接触可能に設けられた吸水部材と、
を備え、
前記吸水部材に純水を含ませた状態で、回転する前記ラビング部材と前記吸水部材とを接触させることを特徴とするラビング部材の洗浄装置。
【請求項６】
請求項５に記載のラビング部材の洗浄装置であって、
前記吸水部材と前記ラビング部材とを接触させたときに、前記ラビング部材を構成する起毛層の起毛方向に対して逆らわない方向に前記ラビング部材を回転させることを特徴とするラビング部材の洗浄装置。
【請求項７】
請求項５又は請求項６に記載のラビング部材の洗浄装置であって、
前記純水を加温する加温部を備えていることを特徴とするラビング部材の洗浄装置。
【請求項８】
請求項５乃至請求項７のいずれか一項に記載のラビング部材の洗浄装置であって、
前記ラビング布を乾燥させる乾燥部を備えていることを特徴とするラビング部材の洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ラビング処理に用いるラビング部材の洗浄方法、及びラビング部材の洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶プロジェクター等の投射型表示装置に搭載される光変調手段や、携帯電話等に搭載される直視型表示装置として用いられる液晶装置は、互いに対向する一対の基板を有し、この両基板間に液晶層が挟持されている。又、両基板には液晶層に対して電圧を印加するための電極が各々形成されている。
【０００３】
この一対の基板の対向面には、それぞれ、電圧無印加時において液晶層を構成する液晶分子を所定の配向状態とするための配向膜が形成されている。この配向膜は、例えば、ポリイミド樹脂等の配向性高分子からなり、その表面、すなわち、液晶層との界面にはラビング処理が予め施されている。
【０００４】
ラビング処理は、ラビングクロス材等のラビング布を回転ドラムに巻回してなるラビングローラーを回転させながら、配向膜表面上をラビング方向に摺動させることで、ラビング布の起毛部先端で配向膜の表面に細かな溝を形成するものである。配向膜表面をラビング処理することで、液晶分子を上記ラビング方向に配向させることができる。
【０００５】
しかし、ラビング布の製造段階において汚染物質が付着していたり、ラビング処理によってラビング布に汚染物質が付着している場合があり、この状態でラビング処理を行うと、適正なラビング処理ができずに配向膜の特性が低下するという問題がある。そこで、例えば、特許文献１に記載のように、ラビングローラーを液溜に溜めた純水に浸して（純水をかけて）ラビング布を洗浄する方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平５−３４１２８７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、ラビング布を純水に浸して洗浄すると、ラビング布が大量の純水を含み、ラビング布を乾燥させるのに時間がかかるという課題がある。また、大量の純水を用いることにより、ラビング布を構成する起毛層が切れやすくなる場合がある。更に、ラビング布を回転ドラムに巻回し接着部材によって接着するが、接着部材が純水との接触により劣化して接着強度が弱くなるという課題がある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。
【０００９】
［適用例１］本適用例に係るラビング部材の洗浄方法は、ラビング布を備えたラビング部材の洗浄方法であって、吸水部材に純水を含ませる吸水工程と、ロール状の前記ラビング布を回転させる回転工程と、回転する前記ラビング布の表面に、前記吸水部材を押し当てることによって前記ラビング布に付着した汚染物質を除去する洗浄工程と、を有することを特徴とする。
【００１０】
この方法によれば、回転するラビング布の表面に吸水部材を押し当てるので、ラビング処理に使用される毛先の部分を吸水部材で洗浄することができる。よって、毛先に付着する汚染物質を必要最低限の純水で除去することが可能となり、ラビング布全体に純水をかけて洗浄する従来の方法と比較して、ラビング布を短時間で乾燥させることができる。また、毛先に純水を接触させて洗浄するので、例えば、ラビングローラーの周囲に接着部材を用いてラビング布が接着されていたとしても、接着部材まで純水が到達しにくいため、接着強度が弱くなることを防ぐことができる。更に、ラビング布を回転させて洗浄を行うので、短時間で効率よく洗浄することができる。
【００１１】
［適用例２］上記適用例に係るラビング部材の洗浄方法において、前記回転工程は、前記ラビング布を構成する起毛層の起毛方向に対して逆らわない方向に前記ラビング布を回転させることが好ましい。
【００１２】
この方法によれば、起毛層の起毛方向に対して逆らわない方向にラビング布を回転させるので、起毛層に無理な力が加わることを抑えることが可能となり、起毛方向を維持した状態で汚染物質の洗浄を行うことができる。
【００１３】
［適用例３］上記適用例に係るラビング部材の洗浄方法において、前記吸水工程は、加温された前記純水を前記吸水部材に含ませることが好ましい。
【００１４】
この方法によれば、加温された純水を吸水部材に供給するので、ラビング布に付着した汚染物質を洗浄しやすくすることできる。更に、濡れたラビング布から純水を蒸発させやすくすることが可能となり、早くラビング布を乾燥させることができる。
【００１５】
［適用例４］上記適用例に係るラビング部材の洗浄方法において、前記洗浄工程の後、前記ラビング布を回転させながら乾燥させる乾燥工程を有することが好ましい。
【００１６】
この方法によれば、洗浄後に濡れたラビング布を回転させた状態で乾燥させるので、回転させずに乾燥させる場合と比較して、早く乾燥させることができる。
【００１７】
［適用例５］本適用例に係るラビング部材の洗浄装置は、ラビング布を有するラビング部材を洗浄するラビング部材の洗浄装置であって、前記ラビング布をロール状に保持すると共に、前記ラビング布を回転させるローラーと、前記ローラーと接触可能に設けられた吸水部材と、を備え、前記吸水部材に純水を含ませた状態で、回転する前記ラビング部材と前記吸水部材とを接触させることを特徴とする。
【００１８】
この構成によれば、ローラーによって回転させたラビング布に、純水を含ませた吸水部材を接触させるので、ラビング処理に使用される毛先の部分を吸水部材で洗浄することができる。よって、毛先に付着する汚染物質を必要最低限の純水で除去することが可能となり、ラビング布全体に純水をかけて洗浄する従来の方法と比較して、ラビング布を短時間で乾燥させることができる。また、毛先に純水を接触させて洗浄するので、例えば、ラビング布がラビングローラーに接着部材で接着されていたとしても、接着部材まで純水が到達しないため、接着強度が弱くなることを防ぐことができる。更に、ラビング布を回転させて洗浄を行うので、短時間で効率よく全体を洗浄することができる。
【００１９】
［適用例６］上記適用例に係るラビング部材の洗浄装置において、前記吸水部材と前記ラビング部材とを接触させたときに、前記ラビング部材を構成する起毛層の起毛方向に対して逆らわない方向に前記ラビング部材を回転させることが好ましい。
【００２０】
この構成によれば、起毛層の起毛方向に対して逆らわない方向にラビング布を回転させるので、起毛層に無理な力が加わることを抑えることが可能となり、起毛方向を維持した状態で汚染物質の洗浄を行うことができる。
【００２１】
［適用例７］上記適用例に係るラビング部材の洗浄装置において、前記純水を加温する加温部を備えていることが好ましい。
【００２２】
この構成によれば、加温部によって純水を加温してから吸水部材に供給するので、ラビング布に付着した汚染物質を洗浄しやすくすることできる。更に、濡れたラビング布から純水を蒸発させやすくすることが可能となり、早くラビング布を乾燥させることができる。
【００２３】
［適用例８］上記適用例に係るラビング部材の洗浄装置において、前記ラビング布を乾燥させる乾燥部を備えていることが好ましい。
【００２４】
この構成によれば、洗浄後に濡れたラビング布を乾燥部によって乾燥させるので、乾燥部を用いない場合と比較して、早く乾燥させることができる。更に、ラビング布を回転させた状態で乾燥部を用いて乾燥させることにより、回転させずに乾燥させる場合と比較して、早く乾燥させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】液晶装置を構成する液晶装置の構造を示す模式平面図。
【図２】図１に示す液晶装置のＡ−Ａ'線に沿う模式断面図。
【図３】ラビング装置及びラビング処理の方法を説明する模式断面図。
【図４】ラビング部材の構造を示す模式斜視図。
【図５】図４に示すラビング部材のＢ−Ｂ'線に沿う模式断面図。
【図６】ラビング部材の洗浄方法を示す模式斜視図。
【図７】図６に示すラビング部材の洗浄方法のＣ−Ｃ'線に沿う模式断面図。
【図８】ラビング部材の洗浄装置の構造を示す模式図。
【図９】ラビング部材の洗浄装置の変形例の構造を示す模式図。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下、本発明を具体化した実施形態について図面に従って説明する。なお、使用する図面は、説明する部分が認識可能な状態となるように、適宜拡大または縮小して表示している。本実施形態では、投射型映像装置である液晶プロジェクターにおいてライトバルブとして用いられるＴＦＴ（Thin Film Transistor）アクティブマトリクス駆動方式の液晶装置を例に挙げて説明する。
【００２７】
＜液晶装置の構成＞
図１は、液晶装置を構成する液晶装置の構造を示す模式平面図である。図２は、図１に示す液晶装置のＡ−Ａ'線に沿う模式断面図である。以下、液晶装置の構造を、図１及び図２を参照しながら説明する。なお、図１及び図２は、フレキシブル配線基板の図示を省略している。
【００２８】
図１及び図２に示すように、液晶装置１０は、例えば、薄膜トランジスター（以下、「ＴＦＴ（Thin Film Transistor）素子」と称する。）を画素のスイッチング素子として用いたＴＦＴアクティブマトリクス方式の液晶装置である。液晶装置１０は、一対の基板を構成する素子基板１２と対向基板１３とが、平面視略矩形枠状のシール材１４を介して貼り合わされている。
【００２９】
素子基板１２及び対向基板１３は、例えば、石英などの透光性材料によって構成されている。液晶装置１０は、シール材１４に囲まれた領域内に液晶層１５が封入された構成になっている。なお、シール材１４には液晶を注入するための液晶注入口１６が設けられ、液晶注入口１６は封止材１７により封止されている。
【００３０】
液晶層１５としては、例えば、正の誘電率異方性を有する液晶材料が用いられる。液晶装置１０は、シール材１４の内周近傍に沿って遮光性材料からなる平面視矩形枠状の額縁遮光膜１８が対向基板１３に形成されており、この額縁遮光膜１８の内側の領域が表示領域１９となっている。
【００３１】
額縁遮光膜１８は、例えば、遮光性材料であるアルミ（Ａｌ）で形成されており、対向基板１３側の表示領域１９の外周を区画するように設けられている。
【００３２】
表示領域１９内には、画素領域２１がマトリクス状に設けられている。画素領域２１は、表示領域１９の最小表示単位となる１画素を構成している。シール材１４の外側の領域には、データ線駆動回路２２及び接続端子３３が素子基板１２の一辺（図２における下側）に沿って形成されている。接続端子３３には、外部と接続するためのフレキシブル配線基板２００が電気的に接続されている。
【００３３】
また、シール材１４の内側の領域には、この一辺に隣接する二辺に沿って走査線駆動回路２４がそれぞれ形成されている。素子基板１２の残る一辺（図２における上側）には、検査回路２５が形成されている。対向基板１３側に形成された額縁遮光膜１８は、例えば、素子基板１２上に形成された走査線駆動回路２４及び検査回路２５に対向する位置（平面的に重なる位置）に形成されている。
【００３４】
一方、対向基板１３の各角部（例えば、シール材１４のコーナー部の４箇所）には、素子基板１２と対向基板１３との間の電気的導通をとるための、上下導通端子２６が配設されている。
【００３５】
また、図２に示すように、素子基板１２の液晶層１５側には、複数の画素電極２７が形成されており、これら画素電極２７を覆うように第１配向膜２８が形成されている。画素電極２７は、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明導電材料からなる導電膜である。
【００３６】
一方、対向基板１３の液晶層１５側には、格子状の遮光膜（ＢＭ：ブラックマトリクス）（図示せず）が形成され、その上に平面ベタ状の共通電極３１が形成されている。そして、共通電極３１上には、第２配向膜３２が形成されている。共通電極３１は、ＩＴＯ等の透明導電材料からなる導電膜である。
【００３７】
液晶装置１０は透過型であって、素子基板１２及び対向基板１３における光の入射側と出射側とにそれぞれ偏光板（図示せず）等が配置されて用いられる。なお、液晶装置１０の構成は、これに限定されず、反射型や半透過型の構成であってもよい。以下、第１配向膜２８及び第２配向膜３２に配向処理を施すためのラビング部材４２について説明する。
【００３８】
図３は、ラビング部材を備えたラビング装置及びラビング処理の方法を説明する模式断面図である。以下、ラビング装置及びラビング処理の方法を、図３を参照しながら説明する。
【００３９】
図３に示すように、ラビング装置４１は、図示しない基台に固定されたラビング部材４２と、ラビング処理時に基板１０ａを載置して基台の平面上を移動するステージ４３と、このステージ４３に載置された基板１０ａがラビング部材４２に当接するようステージ４３を平面上で移動させる、図示しないガイドとを備えている。
【００４０】
ラビング部材４２は、回転ドラム４４と、回転ドラム４４にロール状に巻回されたラビング布４５と、を有して構成されている。回転ドラム４４は、図示しない軸受けによって基台の平面上に回転自在に支持されている。また、回転ドラム４４は、モーター等の駆動源によって回転駆動されるようになっている。ラビング処理は、回転ドラム４４を中心に一方向に回転しながら基板１０ａの表面に形成された第１配向膜２８に圧接して細かい溝を形成する。
【００４１】
＜ラビング部材の構造＞
図４は、ラビング部材の構造を示す模式斜視図である。図５は、図４に示すラビング部材のＢ−Ｂ'線に沿う模式断面図である。以下、ラビング部材の構造を、図４及び図５を参照しながら説明する。
【００４２】
図４及び図５に示すように、ラビング部材４２は、例えば、金属で構成された円柱状の回転ドラム４４と、回転ドラム４４の周囲に配設された基材が弾性材で形成された接着テープ４６と、接着テープ４６の周りに配設されたラビング布４５とを有して構成されている。
【００４３】
ラビング布４５は、例えば、格子状に編んだキュプラ繊維等の地糸にレーヨン等の有機高分子を織り上げることにより構成される起毛層４５ａを備えている。具体的には、ラビング布４５は、その表面がレーヨン等の繊維が起毛された起毛層４５ａを有している。起毛高さは、例えば、１．７ｍｍ程度である。また、ラビング布４５は、上記した接着テープ４６を介して回転ドラム４４に貼着されている。以下、ラビング部材４２（ラビング布４５）の洗浄方法を説明する。
【００４４】
＜ラビング部材の洗浄方法＞
図６は、ラビング部材の洗浄方法を示す模式斜視図である。図７は、図６に示すラビング部材の洗浄方法のＣ−Ｃ'線に沿う模式断面図である。以下、ラビング部材の洗浄方法を、図６及び図７を参照しながら説明する。
【００４５】
まず、図６及び図７に示すように、ローラー５１に、ラビング部材４２を嵌める。ローラー５１は、ラビング部材４２と嵌合可能に設けられていると共に、ラビング部材４２の長さより長い円柱状に形成されている。
【００４６】
次に、図示しない一対の軸受けにローラー５１を固定する。そして、ローラー５１に接続された、図示しないモーターを用いてローラー５１を回転させる。ラビング部材４２は、ローラー５１に追従して回転する。回転させる方向としては、ラビング布４５の起毛層４５ａの起毛方向に逆らわない方向である。また、ローラー５１の回転数は、例えば、１００ｒｐｍである。
【００４７】
次に、吸水部材５２に純水５３を含ませる（吸水工程）。吸水部材５２としては、例えば、防塵用の不織布（ワイピングクロス）などが挙げられる。そして、純水５３を含んだ吸水部材５２を、回転するラビング布４５に接触させ、ラビング布４５に付着する汚染物質をふき取る。汚染物質としては、例えば、水溶性の物質である。
【００４８】
具体的には、ラビング布４５を回転させ、ラビング布４５に吸水部材５２を押し当てながら、吸水部材５２を水平方向（ローラー５１の長手方向）に、例えば、２往復程度スライド移動させる（回転工程、洗浄工程）。なお、スライド移動させる回数は、２往復程度であることに限定されず、ラビング布４５に付着した汚染物質が洗浄できる程度に行うことが望ましい。
【００４９】
ラビング布４５（ローラー５１）の回転方向を、ラビング布４５の起毛層４５ａ（有機高分子）の起毛方向に逆らわない方向に回転させるので、起毛方向を変えることなく、起毛状態を維持することができる。起毛方向を崩してしまった場合、例えば、配向膜への配向処理が適切に行われないことが考えられる。
【００５０】
次に、ラビング布４５を乾燥させる（乾燥工程）。このとき、ラビング布４５を回転させた状態で乾燥させることが好ましい。また、ラビング布４５の乾燥時間を早めるために、室温環境下より高温の環境下で乾燥させることが好ましい。更に、乾燥時間を早めるために、ラビング布４５の近傍に吸引機構を設けて水分を吸引することが好ましい。
【００５１】
吸水部材５２を用いて、ラビング布４５に付着する汚染物質を拭き取って洗浄することにより、従来のような、ラビング布４５を大量の純水５３を用いて洗浄する場合と比較して、ラビング処理に必要最小限の部分（起毛層４５ａ（有機高分子）の表面に近い部分）を洗浄することが可能となる。よって、ラビング処理においても悪影響を及ぼすことなく、洗浄後のラビング布４５を乾燥させる時間を短時間で行うことができる。
【００５２】
また、吸水部材５２を用いてラビング布４５に接触させるため（具体的には、ラビング布４５の先端部分と接触することになるので）、ラビング布４５と回転ドラム４４とを固定する接着テープ４６に、純水５３が接触することを抑えることが可能となり、接着テープ４６の接着強度が低下することを防ぐことができる。
【００５３】
＜ラビング部材の洗浄装置＞
図８は、ラビング部材の洗浄装置の構造を示す模式図である。以下、ラビング部材の洗浄装置の構造を、図８を参照しながら説明する。
【００５４】
図８に示すように、洗浄装置６１は、基台６２に固定された一対の第１軸受け６３と、第１軸受け６３に回転自在に支持されたローラー５１と、ローラー５１に嵌められたラビング部材４２と接触可能に配置された吸水機構６４と、を備えている。
【００５５】
ローラー５１は、図示しないモーターと接続されており、時計方向又は反時計方向に回転自在に設けられている。ラビング部材４２には、上記したように、回転ドラム４４の周囲にラビング布４５が巻回されている。ローラー５１の回転方向は、上記したように、ラビング布４５の起毛層４５ａの起毛方向に逆らわない方向である。
【００５６】
吸水機構６４は、２つの回転ローラー６５ａ，６５ｂと、回転ローラー６５ａ，６５ｂを回転自在に支持する一対の第２軸受け６６及び一対の第３軸受け６７と、２つの回転ローラー６５ａ，６５ｂに跨って巻かれた吸水部材６８と、を備えている。なお、第２軸受け６６及び第３軸受け６７は、他の軸受けと同様に基台６２に固定されている。
【００５７】
吸水部材６８は、例えば、ベルト状に連続して繋がっており、吸水部材６８の内側に配置された２つの回転ローラー６５ａ，６５ｂによって、楕円状に引っ張られた状態が維持されている。吸水部材６８は、例えば、上記したように、防塵用の不織布（ワイピングクロス）などである。回転ローラー６５ａ，６５ｂは、図示しないモーターと接続されており、吸水部材６８を所望の方向に回転させることが可能となっている。
【００５８】
吸水部材６８は、ラビング布４５の幅より広い幅を有しており、ラビング布４５の幅方向に亘って同時に接触することが可能となっている。よって、２つの回転ローラー６５ａ，６５ｂは、吸水部材６８を支持することが可能な長さの円柱状に形成されている。
【００５９】
ラビング布４５と接触する手前の吸水部材６８の近傍には、吸水部材６８に加温された純水５３を供給する加温部としてのスチーム７１が配置されている。具体的には、純水を熱して蒸気を吸水部材６８に吹き付ける。加温された純水５３を供給することにより、ラビング布４５に付着した汚染物質を除去しやすくできると共に、濡れたラビング布４５を早く乾燥（水分を蒸発）させることができる。
【００６０】
また、吸水部材６８と接触した後のラビング布４５の近傍には、濡れたラビング布４５を乾燥させるための乾燥部としてのバキューム７２が設けられている。具体的には、真空ポンプを用いて水分を吸引する。濡れたラビング布４５をバキューム７２で吸引することにより、水分を除去することが可能となり、ラビング布４５を早く乾燥させることができる。
【００６１】
吸水機構６４は、１回の洗浄処理において吸水部材６８が１周するように駆動する。これによれば、回転するラビング布４５と、吸水部材６８の新しい部分とが接触するようになるので、ラビング布４５に付着した汚染物質を除去することができる。
【００６２】
なお、吸水部材６８が１周するように駆動させることに限定されず、吸水部材６８を２周、又はそれ以上回転させるようにしてもよい。これによれば、吸水部材６８からラビング布４５に汚染物質が再付着することが抑えられていれば、ラビング布４５に付着する汚染物質をより除去することができる。
【００６３】
このように、洗浄装置６１の吸水機構６４を用いてラビング布４５を洗浄することにより、ラビング布４５に対して一定の押圧をかけることが可能となり、安定した状態でラビング布４５に付着した汚染物質を洗浄することができる。
【００６４】
以上詳述したように、本実施形態のラビング部材４２の洗浄方法、及びラビング部材４２の洗浄装置６１によれば、以下に示す効果が得られる。
【００６５】
（１）本実施形態のラビング部材４２の洗浄方法によれば、回転するラビング布４５の表面に吸水部材５２を押し当てるので、ラビング処理に使用される毛先の部分を吸水部材５２によって洗浄することができる。よって、毛先（起毛層４５ａの毛先）に付着する汚染物質を必要最低限の純水５３の量で除去することが可能となり、ラビング布４５全体に純水をかけて洗浄する従来の方法と比較して、ラビング布４５を短時間で乾燥させることができる。また、毛先に純水５３を接触させて洗浄するので、例えば、回転ドラム４４の周囲に接着テープ４６を用いてラビング布４５が接着されていたとしても、接着テープ４６まで純水５３が到達しにくいため、接着強度が弱くなることを防ぐことができる。更に、ラビング布４５を回転させて洗浄を行うので、短時間で効率よく洗浄することができる。
【００６６】
（２）本実施形態のラビング部材４２の洗浄方法によれば、起毛層の起毛方向に対して逆らわない方向にラビング布４５を回転させるので、起毛層に無理な力が加わることを抑えることが可能となり、起毛方向を維持した状態で汚染物質の洗浄を行うことができる。
【００６７】
（３）本実施形態のラビング部材４２の洗浄装置６１によれば、ローラー５１によって回転させたラビング部材４２に、純水５３を含ませた吸水部材６８を接触させるので、ラビング処理に使用される起毛層４５ａの毛先の部分を、一定の押圧によって吸水部材６８により洗浄することができる。よって、毛先に付着する汚染物質を必要最低限の純水５３で除去することが可能となり、ラビング布全体に純水をかけて洗浄する従来の方法と比較して、ラビング布４５を短時間で乾燥させることができる。また、毛先に純水５３を接触させて洗浄するので、例えば、ラビング布４５が回転ドラム４４に接着テープ４６で接着されていたとしても、接着テープ４６まで純水５３が到達しにくいため、接着強度が弱くなることを防ぐことができる。更に、ラビング布４５を回転させて洗浄を行うので、短時間で効率よく全体を洗浄することができる。
【００６８】
（４）本実施形態のラビング部材４２の洗浄装置６１によれば、スチーム７１によって純水５３を加温してから吸水部材６８に供給するので、ラビング布４５に付着した汚染物質を洗浄しやすくすることできる。更に、濡れたラビング布４５から純水５３を蒸発させやすくすることが可能となり、早くラビング布４５を乾燥させることができる。
【００６９】
（４）本実施形態のラビング部材４２の洗浄装置６１によれば、洗浄後に濡れたラビング布４５をバキューム７２によって乾燥させるので、バキューム７２を用いない場合と比較して、早く乾燥させることができる。更に、ラビング布４５を回転させた状態でバキューム７２を用いて乾燥させることにより、回転させずに乾燥させる場合と比較して、早く乾燥させることができる。
【００７０】
なお、実施形態は上記に限定されず、以下のような形態で実施することもできる。
【００７１】
（変形例１）
上記したように、ベルト状に連続して繋がった吸水部材６８を用いることに限定されず、例えば、図９に示すような吸水機構１６４の吸水部材１６８を用いるようにしてもよい。図９は、ラビング部材の洗浄装置の変形例の構造を示す模式図である。
【００７２】
図９に示すように、変形例の吸水機構１６４は、洗浄処理前の吸水部材１６８がロール状に巻き取られており、更に洗浄処理後の吸水部材１６８が巻き取られて回収されるようになっている。つまり、洗浄処理において、常に新しい吸水部材１６８を供給することが可能となっている。これによれば、同じ吸水部材を繰り返し使用する場合と比較して、ラビング布４５に汚染物質が再付着することを防ぐことができ、確実にラビング布に付着した汚染物質を洗浄することができる。
【００７３】
また、ラビング部材４２に対して吸水部材６８，１６８を連続的に送るようにしてもよいし、あるタイミング毎に停止させたり送ったりするようにしてもよい。
【００７４】
（変形例２）
上記したように、スチーム７１で湿らせることに限定されず、予め純水５３（加温された純水など）に浸した吸水部材を搬送して接触させるようにしてもよい。これによれば、吸水部材に必要以上の純水を吸水させないので、吸水部材６８からラビング布４５に大量の純水を供給することなく洗浄することができる。よって、ラビング布４５を早く乾燥させることができると共に、ラビング布４５と回転ドラム４４とを接着する接着テープ４６の接着強度を弱めることを防ぐことができる。
【００７５】
（変形例３）
上記したように、ラビング部材４２を基台６２の上面に対して水平方向と平行になるように配置して洗浄することに限定されず、基台６２の上面に対して垂直方向に立てるように（ラビング部材４２の長軸方向が鉛直方向になるように）配置して洗浄するようにしてもよい。このとき、吸水部材６８，１６８の配置をラビング部材４２の配置に合わせて設置するようにする。
【００７６】
（変形例４）
上記したように、吸水部材６８，１６８の材料は、防塵用の不織布（ワイピングクロス）に限定されず、例えば、吸水性を有し、塵などが発生しにくく帯電しにくい材料であればよい。
【符号の説明】
【００７７】
１０…液晶装置、１０ａ…基板、１２…素子基板、１３…対向基板、１４…シール材、１５…液晶層、１６…液晶注入口、１７…封止材、１８…額縁遮光膜、１９…表示領域、２１…画素領域、２２…データ線駆動回路、２４…走査線駆動回路、２５…検査回路、２６…上下導通端子、２７…画素電極、２８…第１配向膜、３１…共通電極、３２…第２配向膜、３３…接続端子、４１…ラビング装置、４２…ラビング部材、４３…ステージ、４４…回転ドラム、４５…ラビング布、４５ａ…起毛層（有機高分子）、４６…接着テープ、５１…ローラー、５２，６８，１６８…吸水部材、５３…純水、６１…洗浄装置、６２…基台、６３…第１軸受け、６４，１６４…吸水機構、６５ａ，６５ｂ…回転ローラー、６６…第２軸受け、６７…第３軸受け、７１…加温部としてのスチーム、７２…バキューム、２００…フレキシブル配線基板。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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