(57)【要約】【課題】低コストで高品質のマルチモード光ファイバ用の母材を製造することができる光ファイバ母材の製造方法を提供する。【解決手段】グレーデッドインデックス形の屈折率分布を有するコア部１１の外側に、屈折率が純石英よりも低く、かつコア部１１の半径を超えない厚さのトレンチ層１３を備える光ファイバ母材Ｇの製造方法であって、コア部１１となるガラス微粒子をＶＡＤ法で堆積させた後に脱水及び焼結して透明なコアガラス体Ｇ２を製造し、コアガラス体Ｇ２を延伸してコアガラスロッドＧ３とし、コアガラスロッドＧ３の外側にフッ素を含むガスを用いてＯＶＤ法でガラス微粒子を堆積させた後に脱水及び焼結する、または、コアガラスロッドＧ３の外側にＯＶＤ法でガラス微粒子を堆積させた後にフッ素を含むガスで脱水及び焼結することにより、トレンチ層１３を含む透明ガラス体Ｇ４とし、透明ガラス体Ｇ４の外周部にクラッド層１４を形成する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
放物線状の屈折率分布を有するコア部の外側に、屈折率が純石英よりも低く、かつ前記コア部の半径を超えない厚さのトレンチ層を備える光ファイバ母材の製造方法であって、
前記コア部となるガラス微粒子をＶＡＤ法で堆積させた後に脱水及び焼結して透明なコアガラス体を製造するコアガラス体製造工程と、
前記コアガラス体を延伸してコアガラスロッドとする延伸工程と、
前記コアガラスロッドの外側にフッ素を含むガスを用いてＯＶＤ法でガラス微粒子を堆積させた後に脱水及び焼結する、または、前記コアガラスロッドの外側にＯＶＤ法でガラス微粒子を堆積させた後にフッ素を含むガスで脱水及び焼結することにより、トレンチ層を含む透明ガラス体とするトレンチ層形成工程と、
前記透明ガラス体の外周部にクラッド層を形成するクラッド層形成工程と、
を含むことを特徴とする光ファイバ母材の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の光ファイバ母材の製造方法であって、
前記トレンチ層形成工程における前記ガラス微粒子の堆積時に前記コアガラスロッドの重量を測定し、前記測定された重量が所定重量となった際に前記ガラス微粒子の堆積を終了することを特徴とする光ファイバ母材の製造方法。
【請求項３】
請求項１または２に記載の光ファイバ母材の製造方法であって、
前記トレンチ層形成工程における前記ガラス微粒子の堆積時に、前記コアガラスロッドの長手方向各位置での外径を常時測定し、その測定結果に基づいて、長手方向にわたってガラス微粒子が均一に堆積するように、ガラス微粒子を生成するバーナへのガラス原料ガス供給量を制御することを特徴とする光ファイバ母材の製造方法。
【請求項４】
請求項１から３の何れか一項に記載の光ファイバ母材の製造方法であって、
前記コアガラス体製造工程で、放物線状の屈折率分布を有する部分の外周に、実効的に添加剤を含まない所定厚の純石英の薄層を形成しておくことを特徴とする光ファイバ母材の製造方法。
【請求項５】
請求項１から４の何れか一項に記載の光ファイバ母材の製造方法であって、
前記トレンチ層形成工程における堆積させたガラス微粒子の嵩密度を０．２ｇ／ｃｍ３以上０．５ｇ／ｃｍ３以下とすることを特徴とする光ファイバ母材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光ファイバの母材となる光ファイバ母材の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
データセンター内の接続、ＬＡＮ接続あるいは車載ケーブル等に使用される光ファイバとして、曲げに強いマルチモード光ファイバ（ＭＭＦ）が用いられている。
このようなマルチモード光ファイバには、第１の半径およびプロファイル・アルファを有するコア領域と、第１の半径から第２の半径まで半径方向に延在する内側クラッドと、第２の半径から第３の半径まで半径方向に延在するトレンチと、第４の半径まで延在する外側クラッドとを備え、コア領域の最大屈折率、内側クラッドの屈折率、トレンチの屈折率、外側クラッドの屈折率が特定の値を有するものがある（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
また、外側光学クラッドで取り巻かれた光学コアを含むマルチモード光ファイバであって、光学コアが、アルファインデックス形屈折率分布を呈する中心コアと、中心コアの周縁にあって、外側光学クラッドに対する屈折率差を持つディプレスト・トレンチと、を含み、中心コアの直径が５０±３μｍの値を持ち、また、ディプレスト・トレンチの幅が０．５μｍ〜２μｍであり、さらに、外側光学クラッドに対するディプレスト・トレンチの屈折率差が−４×１０−３〜−１×１０−３であるようなマルチモード光ファイバも知られている（例えば、特許文献２参照）。
【０００４】
さらに、クラッド部より高屈折率のコア部と、その周囲のクラッド部と、コア部を囲むように設けられクラッド部より低屈折率のトレンチ層とを有し、コア部は、クラッド部より高屈折率の材料からなる中央の第１コアと、第１コアの周りに、屈折率が第１コアと異なり、かつクラッド部より高屈折率の材料からなる第２コアとからなるマルチモード光ファイバも知られている（例えば、特許文献３参照）。
【０００５】
また、勾配屈折率ガラスコア、およびコアを取り囲み、コアと接触したクラッドであって、クラッドが、コアを取り囲む屈折率の減少した環状部分を有し、屈折率の減少した環状部分が、複数の孔を有するガラスを含むものであるクラッド、を備えたマルチモード光ファイバも知られている（例えば、特許文献４参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１０−７２６４７号公報
【特許文献２】特開２０１１−８２４８号公報
【特許文献３】特開２００６−７８５４３号公報
【特許文献４】特表２０１０−５１５９４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上記のようなマルチモード光ファイバ用の光ファイバ母材を製造する方法としては、中心のグレーデッドコアからトレンチ層までをＰＣＶＤ法またはＭＣＶＤ法（内付け法）で合成する方法がある。この方法は、例えば、トレンチ層となる屈折率を有するガラス管の内側に、徐々に屈折率が高くなるように、ゲルマニウム等の添加量を増やしてガラスを内付けしていくことにより、ガラス管の内側に、屈折率分布が放物線形状となるグレーデッドインデックス（ＧＩ）形のコアとなる部分を形成する。この方法では、内付けしても最後には中心孔が残るので、外側から加熱して中心孔を収縮させることにより、中心孔を埋めて中実化（コラプス）する。
【０００８】
ところが、このような内付け法による製造方法では、内付けするガラス管の径をあまり大きくできないため、光ファイバ母材のサイズを大きくすることができない。そのため、一つの光ファイバ母材を線引きして光ファイバを製造すると、通常の光ファイバ母材から線引きした場合よりも短い１００ｋｍ〜２００ｋｍ程度の換算長の光ファイバしか製造できず、製造コストが嵩んでしまう。
【０００９】
また、マルチモード光ファイバ用の光ファイバ母材の他の製造方法として、ＯＶＤ法でグレーデッドインデックス形のコア部からトレンチ層までを合成する方法がある。この方法では、まず、バーナにガラス原料ガスとともにＧｅＣｌ４を供給してガラス微粒子を堆積させ、グレーデッドインデックス形のコア部のガラス微粒子堆積体を作製し、その周囲にトレンチ部となるガラス微粒子を堆積させる。
【００１０】
ところで、トレンチ層を形成するためには、高濃度でフッ素を添加する必要があるが、ガラス微粒子堆積時にトレンチ層に局所的にフッ素を添加することは極めて困難であった。また、コア部とトレンチ層のガラス微粒子を堆積した後、脱水焼結時にフッ素を含むガス雰囲気にしてフッ素を添加しようとすると、グレーデッドインデックス形としたコア部で、屈折率を上げるＧｅＯ２と屈折率を下げるフッ素の共添加となって互いに相殺し、レイリー散乱損失が上がって伝送損失が増加してしまうとともに、フッ素とゲルマニウムの拡散により、コア部とトレンチ層との界面の屈折率プロファイルがぼやけてしまい、意図した屈折率分布からずれてしまう。また、グレーデッドインデックス形のコア部からトレンチ層の全域にフッ素を添加しなければならず、製造コストが嵩んでしまう。
【００１１】
本発明の目的は、低コストで高品質のマルチモード光ファイバ用の母材を製造することができる光ファイバ母材の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記課題を解決することのできる本発明の光ファイバ母材の製造方法は、放物線状の屈折率分布を有するコア部の外側に、屈折率が純石英よりも低く、かつ前記コア部の半径を超えない厚さのトレンチ層を備える光ファイバ母材の製造方法であって、
前記コア部となるガラス微粒子をＶＡＤ法で堆積させた後に脱水及び焼結して透明なコアガラス体を製造するコアガラス体製造工程と、
前記コアガラス体を延伸してコアガラスロッドとする延伸工程と、
前記コアガラスロッドの外側にフッ素を含むガスを用いてＯＶＤ法でガラス微粒子を堆積させた後に脱水及び焼結する、または、前記コアガラスロッドの外側にＯＶＤ法でガラス微粒子を堆積させた後にフッ素を含むガスで脱水及び焼結することにより、トレンチ層を含む透明ガラス体とするトレンチ層形成工程と、
前記透明ガラス体の外周部にクラッド層を形成するクラッド層形成工程と、
を含むことを特徴とする。
【００１３】
本発明の光ファイバ母材の製造方法において、前記トレンチ層形成工程における前記ガラス微粒子の堆積時に前記コアガラスロッドの重量を測定し、前記測定された重量が所定重量となった際に前記ガラス微粒子の堆積を終了することが好ましい。
【００１４】
本発明の光ファイバ母材の製造方法において、前記トレンチ層形成工程における前記ガラス微粒子の堆積時に、前記コアガラスロッドの長手方向各位置での外径を常時測定し、その測定結果に基づいて、長手方向にわたってガラス微粒子が均一に堆積するように、ガラス微粒子を生成するバーナへのガラス原料ガス供給量を制御することが好ましい。
【００１５】
本発明の光ファイバ母材の製造方法において、前記コアガラス体製造工程で、放物線状の屈折率分布を有する部分の外周に、実効的に添加剤を含まない所定厚の純石英の薄層を形成しておくことが好ましい。
【００１６】
本発明の光ファイバ母材の製造方法において、前記トレンチ層形成工程における堆積させたガラス微粒子の嵩密度を０．２ｇ／ｃｍ３以上０．５ｇ／ｃｍ３以下とすることが好ましい。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、コア部となるガラス微粒子をＶＡＤ法で堆積した後に脱水及び焼結して、透明なコアガラス体を製造し、このコアガラス体を延伸させてコアガラスロッドとし、その後、ＯＶＤ法によってトレンチ層を容易に形成することができる。つまり、本発明によれば、光ファイバとした際にレイリー散乱損失が上がって伝送損失が増加することなく、意図した屈折率分布となる高品質な光ファイバ母材を、製造コストを極力抑えつつ容易に製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本実施形態に係る光ファイバ母材の製造方法で製造する光ファイバ母材の構造及び屈折率分布を説明する図である。
【図２】ＶＡＤ法によってガラス微粒子を堆積させる装置を示す概略構成図である。
【図３】ＯＶＤ法によってガラス微粒子を堆積させる装置を示す概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、本発明に係る光ファイバ母材の製造方法の実施の形態の例を、図面を参照して説明する。
通信用の光ファイバとして、複数のモードを伝搬させるマルチモード光ファイバ（ＭＭＦ）が用いられている。マルチモード光ファイバの主な屈折率分布の種別は、ステップインデックス（ＳＩ）形と、グレーデッドインデックス（ＧＩ）形との２種類がある。
本実施形態の光ファイバ母材の製造方法では、上記のグレーデッドインデックスタイプのマルチモード光ファイバとなる光ファイバ母材を製造する。
【００２０】
図１に示すように、光ファイバ母材Ｇは、コア部１１を有している。このコア部１１は、その中心部が最も高い屈折率を有し、半径方向の外側に向かって次第に低屈折率になるグレーデッドインデックス形（放物線状）の屈折率分布を持っており、伝送する光信号の広がり（モード分散）を抑える構造となっている。また、このコア部１１には、その外周部分に薄層１２が設けられている。この薄層１２は、実効的に添加剤を含まない純石英からなるものであり、所定厚に形成されている。
【００２１】
また、コア部１１の外側には、屈折率が純石英よりも低く、かつコア部１１の半径を超えない厚さのトレンチ層１３を備えている。このトレンチ層１３を設けることにより、光ファイバとした際に、コア部１１から外部への光の漏れが防がれ、曲げによる伝送損失も抑えられる。このトレンチ層１３の外周側は、純石英からなるクラッド層１４とされている。
【００２２】
上記の光ファイバ母材Ｇの一例を示すと、薄層１２及びクラッド層１４を構成する純石英の屈折率を基準とする比屈折率ΔＮが、コア部１１は＋０．９７％以上＋１．３０％以下であり、トレンチ層１３は−０．６０％以上−０．２５％以下である。また、光ファイバ母材Ｇの直径をＲとしたときに、コア部１１の直径は０．４０Ｒ以上０．６４Ｒ以下、薄層１２の厚さは０．００８Ｒ以上０．０２４Ｒ以下、トレンチ層１３の厚さは０．０２Ｒ以上０．１０Ｒ以下とされている。
【００２３】
上記のトレンチ層１３の厚さは、コア部１１の半径の１０％から３０％程度の範囲に相当する。このトレンチ層１３の厚さがコア部１１の半径の１０％に満たないと、光の漏れ防止や曲げ時における伝送損失の抑制効果が十分に得られなくなり、また、トレンチ層１３の厚さがコア部１１の半径の４０％を超えると、開口数（ＮＡ）が大きくなりすぎてしまう。
なお、薄層１２の厚さは０．００８Ｒ以上０．０２４Ｒ以下とされているが、これは、光ファイバ母材Ｇを線引きして光ファイバとしたときに、厚さが１μｍ以上３μｍ以下となるように設定されている。
【００２４】
次に、上記構成の光ファイバ母材Ｇを製造する場合について説明する。
（コアガラス体製造工程）
まず、コアガラス体となるガラス微粒子堆積体Ｇ１をＶＡＤ法で形成する。具体的には、図２に示すように、支持装置２１に支持されて軸回りに回転する出発材２２に対して、反応容器２３内で斜め下方からバーナ２４の火炎を吹き付ける。このバーナ２４には、ガラス原料ガス（ＳｉＣｌ４，ＧｅＣｌ４）、燃焼ガス（Ｈ２）及び助燃ガス（Ｏ２）が供給される。そして、このバーナ２４から酸水素火炎による加水分解反応によって合成されるガラス微粒子を出発材２２に吹き付けながら軸方向へ移動させる。これにより、出発材２２に、ガラス微粒子を堆積させ、ガラス微粒子堆積体Ｇ１を製造する。このとき、バーナ２４の中心部の温度を高くすることにより、ＧｅＯ２の濃度分布を制御し、グレーデッドインデックス形の屈折率分布とする。
【００２５】
また、このガラス微粒子堆積体Ｇ１におけるグレーデッドインデックス形の屈折率分布を有する部分の外周に、薄層１２となる実効的にゲルマニウムやフッ素等の添加剤を含まない所定厚の純石英の層を形成しておく。なお、この薄層１２となる純石英層は、ＶＡＤ法またはＯＶＤ法によって形成する。
その後、このガラス微粒子堆積体Ｇ１を、約１６時間程度の時間をかけて脱水及び焼結して透明化し、直径５０ｍｍ〜６０ｍｍ程度のコアガラス体Ｇ２とする。
【００２６】
（延伸工程）
コアガラス体Ｇ２を加熱して軟化させながら張力をかけることで軸方向に延伸し、直径２０ｍｍ〜４０ｍｍ程度のコアガラスロッドＧ３とする。
【００２７】
（トレンチ層形成工程）
コアガラスロッドＧ３の外側にＯＶＤ法でトレンチ層１３を形成し、このコアガラスロッドＧ３を、トレンチ層１３を有する透明ガラス体Ｇ４とする。具体的には、図３に示すように、上下の支持装置３１に支持されて軸回りに回転するコアガラスロッドＧ３に対して、反応容器３３内で複数のバーナ３４の火炎を吹き付ける。これらのバーナ３４には、ガラス原料ガス（ＳｉＣｌ４）、燃焼ガス（Ｈ２）及び助燃ガス（Ｏ２）が供給される。そして、これらのバーナ３４から加水分解反応によって合成されるガラス微粒子をコアガラスロッドＧ３に吹き付けながら、バーナ３４に対してコアガラスロッドＧ３を軸方向へ相対的に往復移動させる。これにより、コアガラスロッドＧ３の周囲に、ガラス微粒子を層状に堆積させる。そして、ガラス微粒子の堆積後、脱水及び焼結して透明化させ、コアガラスロッドＧ３の外周にトレンチ層１３が形成された透明ガラス体Ｇ４とする。
【００２８】
なお、このトレンチ層形成工程において、ガラス微粒子を堆積する時、または脱水及び焼結する時に、トレンチ層１３にフッ素を添加する。
ガラス微粒子を堆積する時にフッ素を添加するには、バーナ３４へ供給するガラス原料ガスに四フッ化炭素（ＣＦ４）ガスなどを添加する。
【００２９】
なお、フッ素を添加してガラス微粒子を堆積することは可能であるが、トレンチの機能を実現する程度に低屈折率とされたトレンチ層１３を得るには、高濃度でフッ素を添加する必要があり、高濃度でフッ素を添加するのは一般的に難しい。したがって、このトレンチ層１３を形成する方法として、コアガラスロッドＧ３の外側にＯＶＤ法により純石英からなるガラス微粒子を堆積させた後に、フッ素を含むガスで脱水及び焼結して形成する方法を用いる方が好ましい。この場合、反応容器３３内に四フッ化ケイ素（ＳｉＦ４）、六フッ化硫黄（ＳＦ６）あるいは四フッ化炭素（ＣＦ４）うち何れかのガスを導入する。例えば、添加するガスが四フッ化ケイ素（ＳｉＦ４）ガスである場合、反応容器３３内の雰囲気を５％〜１５％程度のＳｉＦ４ガス濃度とするのが好ましい。
【００３０】
このトレンチ層１３を形成して透明ガラス体Ｇ４を製造する工程では、コアガラスロッドＧ３に堆積させたガラス微粒子の嵩密度が０．２ｇ／ｃｍ３以上０．５ｇ／ｃｍ３以下となるように、ガラス微粒子を堆積させる。バーナ３４に供給する燃焼ガス等の流量を調整することで火炎の温度等を調整し、ガラス微粒子が堆積した部分の嵩密度を調整することが可能である。堆積したガラス微粒子の嵩密度を０．２ｇ／ｃｍ３以上０．５ｇ／ｃｍ３以下とすれば、嵩密度が低すぎることによる割れ等の発生を抑制して取り扱い性を向上させることができ、また、嵩密度が高すぎることによってフッ素の添加量が不足するような不具合をなくすことができる。
【００３１】
また、このトレンチ層１３を形成して透明ガラス体Ｇ４を製造する工程では、ガラス微粒子の堆積時に重量を測定し、トレンチ層１３の重量がロット間で同じになるように制御する。
トレンチ層１３を形成する前のコアガラスロッドＧ３の重量や長さや直径と、ガラス微粒子の堆積時に増加した分の重量から、トレンチ層１３となるガラス微粒子の堆積量を推定できる。具体的には、コアガラスロッドＧ３を支持する支持装置３１にロードセル等の重量計を設けておき、この重量計の測定結果が、予め定めた所定重量となった際に、ガラス微粒子の堆積を終了する。
このように、コアガラスロッドＧ３の重量を監視してガラス微粒子の堆積の終了タイミングを決定することにより、ロット間でのガラス微粒子堆積量の安定性を図ることができる。
【００３２】
また、このトレンチ層１３を形成して透明ガラス体Ｇ４を製造する工程では、長手方向にわたってガラス微粒子が均一に堆積するように制御する。
具体的には、コアガラスロッドＧ３の外径を測定する外径測定装置を長手方向の複数箇所に設けておき、これらの外径測定装置の測定結果に基づいて、各バーナ３４へガスを供給する流量調整装置（ＭＦＣ）３５を制御し、バーナ３４へのガラス原料ガスの供給量を制御する。
このように、コアガラスロッドＧ３の長手方向の各位置での外径を監視してバーナ３４への原料ガスの流量をフィードバック制御することにより、コアガラスロッドＧ３の長手方向におけるトレンチ層１３となるガラス微粒子の堆積量を均一化させて品質を高めることができる。
【００３３】
（クラッド層形成工程）
透明ガラス体Ｇ４の外側にクラッド層１４を形成し、光ファイバ母材Ｇとする。具体的には、透明ガラス体Ｇ４の外周に、ＯＶＤ法によって実質的に添加剤を含まない純石英のガラス微粒子を堆積させ、その後、脱水及び焼結して透明化させて光ファイバ母材Ｇとする。
【００３４】
また、クラッド層１４を形成する工程においても、予め重量の目標値を設定しておき、支持装置３１の重量計の測定結果が所定重量となった際に、ガラス微粒子の堆積を終了する。これにより、長手方向にわたるクラッド層１４の厚さを制御し、ロット間でのガラス微粒子堆積量の安定性を図ることができる。
【００３５】
また、このクラッド層１４を形成する工程においても、各外径測定装置の測定結果に基づいて、バーナ３４へのガラス原料ガスの供給量を制御する。これにより、コアガラスロッドＧ３の長手方向におけるクラッド層１４となるガラス微粒子の堆積量を均一化させて品質を高めることができる。
なお、クラッド層１４の形成は、ＯＶＤ法に限らず、ＶＡＤ法で行っても良い。
【００３６】
そして、このようにして製造した光ファイバ母材Ｇを線引きすれば、コア部１１において半径方向の外側に向かって次第に低屈折率になるグレーデッドインデックス形の屈折率分布を持ち、伝送する光信号の広がり（モード分散）が抑えられ、しかも、トレンチ層１３部分でコア部１１から外部への光の漏れが防がれ、曲げによる伝送損失も抑えられる光ファイバを製造することができる。
【００３７】
本実施形態に係る光ファイバ母材の製造方法によれば、コア部１１となるガラス微粒子をＶＡＤ法で堆積した後に脱水及び焼結して、透明なコアガラス体Ｇ２を製造し、このコアガラス体Ｇ２を延伸してコアガラスロッドＧ３とし、その後、ＯＶＤ法によってトレンチ層１３を容易に形成することができる。つまり、本実施形態によれば、光ファイバとした際にレイリー散乱損失が上がって伝送損失が増加することなく、意図した屈折率分布となる高品質な光ファイバ母材Ｇを、製造コストを極力抑えつつ容易に製造することができる。
【００３８】
しかも、ＶＡＤ法でコア部１１を作製するので、ガラス管に内付けするＭＣＶＤ法などに比べて大型の光ファイバ母材Ｇを低コストで製造でき、また、トレンチ層１３の屈折率等の構造を正確に制御することができる。しかも、中心孔を塞ぐ中実化（コラプス）を不要とすることができ、作業の簡略化とともに、中実化（コラプス）によるディップ（屈折率分布の乱れ）を抑えて高帯域の伝送特性に優れた光ファイバを製造することができる。
【００３９】
また、トレンチ層となるガラス管を用いる製造方法では、ガラス管を作るときの透明ガラスへの孔あけ工程や、ガラス管に内付けするときの内付け工程におけるバーナの酸水素火炎での加熱時に、ＯＨ基がガラス管に混入してしまうことがある。このようなトレンチ層となるガラス管を用いる方法と比較して、本実施形態では、ＶＡＤ法で作製したコア部１１を有するコアガラスロッドＧ３にＯＶＤ法でトレンチ層１３を形成するので、トレンチ層１３等へのＯＨ混入を抑制することができる。
【００４０】
また、コアガラス体製造工程で、グレーデッドインデックス形の屈折率分布を有するコア部１１の外周に、実効的に添加剤を含まない所定厚の純石英の薄層１２を形成しておくので、その後の工程でコア部１１へ影響を与えることなくトレンチ層１３を形成することができる。つまり、コアガラス体Ｇ２の外周部分を火炎によってエッチングなどを行って削ったとしても、グレーデッドインデックス形の屈折率分布を有するコア部１１への影響を極力抑えることができる。これにより、コア部１１における光の高帯域側の伝送周波数帯域が損なわれるような不具合をなくし、良好な伝送特性を得ることができる。
【符号の説明】
【００４１】
１１：コア部、１２：薄層、１３：トレンチ層、１４：クラッド層、３４：バーナ、Ｇ：光ファイバ母材、Ｇ２：コアガラス体、Ｇ３：コアガラスロッド、Ｇ４：透明ガラス体
【図１】
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【図２】
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【図３】
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