(57)【要約】【課題】製氷用の水を衛生的に安全な製氷が可能なように充分に除菌できる製氷用水浄化装置及びそれを備えた製氷機を提供する。【解決手段】製氷用水浄化装置は、給水タンク（12）内に設けられて水中で放電を生起し、水中に水酸ラジカルを生成させる電極対（22,22b,22x,24,24x,24y）と、電源（26a,26x,26y）と、給水タンク（12）内の水に超音波を照射することで、生成した水酸ラジカルが変化して生成する水中の過酸化水素を水酸ラジカルに変換させる超音波発生部（94）とを備える。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
製氷用の水（W）が貯留される給水タンク（12）内に設けられて水中で放電を生起し、前記給水タンク（12）内の水中に水酸ラジカルを生成させる電極対（22,22b,22x,24,24x,24y）と、
該電極対（22,22b,22x,24,24x,24y）に電圧を印加する電源（26a,26x,26y）と、
前記給水タンク（12）内の水に超音波を照射することで、生成した水酸ラジカルが変化して生成する水中の過酸化水素を水酸ラジカルに変換させる超音波発生部（94）とを備えていることを特徴とする製氷用水浄化装置。
【請求項２】
請求項１に記載の製氷用水浄化装置において、
前記給水タンク（12）は、製氷機（10）の給水タンク（12）であることを特徴とする製氷用水浄化装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の製氷用水浄化装置において、
前記電極対（22,22b,22x,24,24x,24y）の間における放電の放電電力を一定に制御する定電力制御部（26b）を備えていることを特徴とする製氷用水浄化装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のうち何れか１つに記載の製氷用水浄化装置において、
前記電極対（22,22b,22x,24,24x,24y）に印加する電圧のオン又はオフを制御する第１制御部（1）と、
前記超音波発生部（94）の動作を制御する第２制御部（5）とをさらに備え、
前記第１制御部（1）及び前記第２制御部（5）は、前記給水タンク（12）内の水に含まれる過酸化水素の濃度が所定の上限値を超えないように、前記電極対（22,22b,22x,24,24x,24y）に印加する電圧のオン又はオフ及び前記超音波発生部（94）の動作をそれぞれ制御することを特徴とする製氷用水浄化装置。
【請求項５】
請求項４に記載の製氷用水浄化装置において、
前記給水タンク（12）内の水に含まれる過酸化水素の濃度をモニタするセンサ（7）をさらに備え、
前記第１制御部（1）は、前記センサ（7）によるモニタ結果に応じて前記電極対（22,22b,22x,24,24x,24y）に印加する電圧のオン又はオフを制御し、
前記第２制御部（5）は、前記センサ（7）によるモニタ結果に応じて前記超音波発生部（94）の動作を制御することを特徴とする製氷用水浄化装置。
【請求項６】
請求項５に記載の製氷用水浄化装置において、
少なくとも前記給水タンク（12）内の水中の過酸化水素の濃度が前記上限値を越えた場合には、前記第１制御部（1）が、前記電極対（22,22b,22x,24,24x,24y）に印加する電圧をオフにして前記放電を停止させるとともに、前記第２制御部（5）が、前記超音波発生部（94）を動作させることを特徴とする製氷用水浄化装置。
【請求項７】
請求項４乃至６のうち何れか１つに記載の製氷用水浄化装置において、
前記第２制御部（5）は、前記給水タンク（12）内の水に含まれる過酸化水素の濃度が前記上限値より低い所定の下限値を超える期間中、前記超音波発生部（94）をオン状態にすることを特徴とする製氷用水浄化装置。
【請求項８】
請求項１乃至７のうち何れか１つに記載の製氷用水浄化装置において、
前記電極対（22,22b,22x,24,24x,24y）に印加する電圧のオン又はオフの制御、及び前記超音波発生部（94）の動作の制御を行う制御部とをさらに備え、
前記制御部は、前記給水タンク（12）内の水に含まれる過酸化水素の濃度が所定の上限値を超えないように、前記電極対（22,22b,22x,24,24x,24y）に印加する電圧のオン又はオフ、及び前記超音波発生部（94）の動作を制御することを特徴とする製氷用水浄化装置。
【請求項９】
請求項８に記載の製氷用水浄化装置において、
前記制御部は、前記給水タンク（12）内の水に含まれる過酸化水素の濃度が所定の上限値を超えた場合には、前記電極対（22,22b,22x,24,24x,24y）に印加する電圧をオフにして前記放電を停止させ、前記給水タンク（12）内の水に含まれる過酸化水素の濃度が前記上限値より低い所定の下限値を超える期間中、前記超音波発生部（94）をオン状態にすることを特徴とする製氷用水浄化装置。
【請求項１０】
請求項１乃至９のうち何れか１つに記載の製氷用水浄化装置において、
前記給水タンク（12）内の水中に泡を吐出する吐出手段（119）と、
前記吐出手段（119）に気体を送る送出手段（99）とをさらに備え、
前記電極対（22,24）は、板状であって、互いに対向するよう配置されており、
前記電源（26b）は、前記電極対（22,24）にパルス電圧を印加し、
前記吐出手段（119）は、前記電極対（22,24）の間であって、前記給水タンク（12）の底部に配置されていることを特徴とする製氷用水浄化装置。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のうち何れか１つに記載の製氷用水浄化装置（20）を備えることを特徴とする製氷機。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、製氷用水浄化装置及びそれを備えた製氷機に関し、特に、製氷用の水の衛生的な安全対策に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、冷蔵庫に備えられる製氷機で塩素を含む水道水以外のミネラルウォーターなどの水を用いて製氷した場合には、除菌作用が働かないため、カビなどの細菌類が繁殖しやすく、衛生的な問題がある。そこで、製氷機内で製氷用の水を除菌する技術が提案されている。
【０００３】
例えば、特許文献１には、製氷機の給水タンク内に浄水フィルターを設け、該浄水フィルターに光触媒を含有させると共に、浄水フィルター近傍に光触媒を励起状態にする光を発する発光手段を設ける構成が開示されている。そして、当該構成によれば、発光手段により浄水フィルターの光触媒を励起させることで、光触媒が強い酸化力を発揮して給水タンク内の水中にラジカルが発生し、このラジカルの酸化還元反応で細菌類が分解されるので、給水タンク内の水を脱臭及び抗菌でき、常に清潔な氷を提供できることが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００７−１９８７３２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、特許文献１に開示のように光触媒の励起により水中に発生するラジカルを利用して製氷用の水を除菌する場合には、水中に発生したラジカルは寿命が非常に短いので、給水タンク内で短時間しか除菌作用が働かない。このため、給水タンクから給水通路を通って製氷コーナーに送られる製氷用の水の除菌が不完全である場合があり、依然として衛生的な問題がある。
【０００６】
本発明は、斯かる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、製氷用の水を衛生的に安全な製氷が可能なように充分に除菌できる製氷用水浄化装置及びそれを備えた製氷機を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の目的を達成するために、この発明では、製氷用の水中での放電と超音波照射を組み合わせて浄化能力に優れた水酸ラジカルを発生させるようにした。
【０００８】
具体的に、第１の発明は、製氷用の水（W）が貯留される給水タンク（12）内に設けられて水中で放電を生起し、前記給水タンク（12）内の水中に水酸ラジカルを生成させる電極対（22,22b,22x,24,24x,24y）と、該電極対（22,22b,22x,24,24x,24y）に電圧を印加する電源（26a,26x,26y）と、前記給水タンク（12）内の水に超音波を照射することで、生成した水酸ラジカルが変化して生成する水中の過酸化水素を水酸ラジカルに変換させる超音波発生部（94）とを備えていることを特徴とする。
【０００９】
この第１の発明では、放電による液体の浄化と、過酸化水素の存在下での超音波照射による液体の浄化を適切に組み合わせることにより、放電のみを用いて液体を浄化する場合に比べて高い浄化能力を発揮させつつ、液体の過酸化水素濃度の増加を抑えることが可能となる。したがって、本発明の製氷用水浄化装置（20）によれば、給水タンク（12）内でより確実に水が浄化され、清浄な状態に保持される。これにより、製氷用の水（W）は衛生的に安全な製氷が可能なように充分に除菌される。
【００１０】
第２の発明は、第１の発明の製氷用水浄化装置（20）において、前記給水タンク（12）は、製氷機（10）の給水タンク（12）であることを特徴とする。
【００１１】
この第２の発明では、製氷機（10）の給水タンク（12）が製氷用の水（W）の殺菌・浄化を行う給水タンク（12）を兼ねているので、製氷機（10）の給水タンク（12）と別個に給水タンクを設ける必要がなく、本発明の製氷用水浄化装置（20）を備えた製氷機（10）が簡素な構成で実現される。また、製氷機（10）の給水タンク（12）内で製氷用の水（W）が確実に殺菌・浄化されるので、該給水タンク（12）から製氷用の水（W）が送られる給水通路（14）及び製氷コーナー（16）の清浄化も図られる。また、給水タンク（12）で生成された過酸化水素は、給水通路（14）及び製氷コーナー（16）内の水（W）だけでなく、給水通路（14）の内壁及び製氷コーナー（16）で水（W）を受ける製氷皿（18）自体に対しても除菌作用を発揮する。これにより、給水通路（14）及び製氷皿（18）が清潔な状態に保たれる。
【００１２】
第３の発明は、第１又は第２の発明の製氷用水浄化装置（20）において、前記電極対（22,22b,22x,24,24x,24y）の間における放電の放電電力を一定に制御する定電力制御部（26b）を備えていることを特徴とする。
【００１３】
対象となる水（W）の導電率は、水の種類によって変化する。具体的には、例えば製氷用の水（W）が水道水である場合には、この水道水の硬度によって導電率が変化する。また、製氷用の水（W）がミネラルウォーターである場合には、水（W）の導電率が高くなってしまう。第３の発明では、このように対象となる水（W）の導電率が変化しても、定電力制御部（26b）によって一定の放電電力で放電が行われる。したがって、対象となる製氷用の水（W）の種類に応じて、電源（26a,26x,26y）を交換することなく、様々な水質の水（W）に対し、一定の消費電力で安定した除菌性能が得られる。
【００１４】
第４の発明は、第１乃至第３の発明のうち何れか１つの製氷用水浄化装置（20）において、前記電極対（22,22b,22x,24,24x,24y）に印加する電圧のオン又はオフを制御する第１制御部（1）と、前記超音波発生部（94）の動作を制御する第２制御部（5）とをさらに備え、前記第１制御部（1）及び前記第２制御部（5）は、前記給水タンク（12）内の水に含まれる過酸化水素の濃度が所定の上限値を超えないように、前記電極対（22,22b,22x,24,24x,24y）に印加する電圧のオン又はオフ及び前記超音波発生部（94）の動作をそれぞれ制御することを特徴とする。
【００１５】
第５の発明は、第４の発明の製氷用水浄化装置において、前記給水タンク（12）内の水に含まれる過酸化水素の濃度をモニタするセンサ（7）をさらに備え、前記第１制御部（1）は、前記センサ（7）によるモニタ結果に応じて前記電極対（22,22b,22x,24,24x,24y）に印加する電圧のオン又はオフを制御し、前記第２制御部（5）は、前記センサ（7）によるモニタ結果に応じて前記超音波発生部（94）の動作を制御することを特徴とする。
【００１６】
第６の発明は、第５の発明の製氷用水浄化装置において、少なくとも前記給水タンク（12）内の水中の過酸化水素の濃度が前記上限値を越えた場合には、前記第１制御部（1）が、前記電極対（22,22b,22x,24,24x,24y）に印加する電圧をオフにして前記放電を停止させるとともに、前記第２制御部（5）が、前記超音波発生部（94）を動作させることを特徴とする。
【００１７】
第７の発明は、第４乃至第６の発明のうち何れか１つの製氷用水浄化装置において、前記第２制御部（5）は、前記給水タンク（12）内の水に含まれる過酸化水素の濃度が前記上限値より低い所定の下限値を超える期間中、前記超音波発生部（94）をオン状態にすることを特徴とする。
【００１８】
第８の発明は、第１乃至第７の発明のうち何れか１つの製氷用水浄化装置において、前記電極対（22,22b,22x,24,24x,24y）に印加する電圧のオン又はオフの制御、及び前記超音波発生部（94）の動作の制御を行う制御部とをさらに備え、前記制御部は、前記給水タンク（12）内の水に含まれる過酸化水素の濃度が所定の上限値を超えないように、前記電極対（22,22b,22x,24,24x,24y）に印加する電圧のオン又はオフ、及び前記超音波発生部（94）の動作を制御することを特徴とする。
【００１９】
第９の発明は、第８の発明の製氷用水浄化装置において、前記制御部は、前記給水タンク（12）内の水に含まれる過酸化水素の濃度が所定の上限値を超えた場合には、前記電極対（22,22b,22x,24,24x,24y）に印加する電圧をオフにして前記放電を停止させ、前記給水タンク（12）内の水に含まれる過酸化水素の濃度が前記上限値より低い所定の下限値を超える期間中、前記超音波発生部（94）をオン状態にすることを特徴とする。
【００２０】
第１０の発明は、第１乃至第９の発明のうち何れか１つの製氷用水浄化装置において、前記給水タンク（12）内の水中に泡を吐出する吐出手段（119）と、前記吐出手段（119）に気体を送る送出手段（99）とをさらに備え、前記電極対（22,24）は、板状であって、互いに対向するよう配置されており、前記電源（26b）は、前記電極対（22,24）にパルス電圧を印加し、前記吐出手段（119）は、前記電極対（22,24）の間であって、前記給水タンク（12）の底部に配置されていることを特徴とする。
【００２１】
第１１の発明は、製氷機（10）であって、第１乃至第１０の発明のうち何れか１つの製氷用水浄化装置（20）を備えることを特徴とする。
【００２２】
この第１１の発明では、第１乃至第１０の発明のうち何れか１つの製氷用水浄化装置（20）が製氷用の水（W）を衛生的に安全な製氷が可能なように充分に除菌できるという優れた特性を備えているので、衛生的に安全で清潔な氷を製造することが可能となる。
【発明の効果】
【００２３】
第１の発明によれば、放電による液体の浄化と、過酸化水素の存在下での超音波照射による液体の浄化を適切に組み合わせることにより、放電のみを用いて液体を浄化する場合に比べて高い浄化能力を発揮させつつ、液体の過酸化水素濃度の増加を抑えることが可能となる。したがって、本発明の製氷用水浄化装置（20）によれば、給水タンク（12）内でより確実に水が浄化され、清浄な状態に保持される。これにより、製氷用の水（W）は衛生的に安全な製氷が可能なように充分に除菌される。
【００２４】
第２の発明によれば、本発明の製氷用水浄化装置（20）が簡素な構成で実現できる。また、製氷機（10）の給水タンク（12）内で製氷用の水（W）が確実に殺菌・浄化されるので、該給水タンク（12）から製氷用の水（W）が送られる給水通路（14）及び製氷コーナー（16）の清浄化も図られる。また、給水通路（14）の内壁及び製氷コーナー（16）で水（W）を受ける製氷皿（18）自体も過酸化水素により除菌して清潔な状態に保つことができる。
【００２５】
第３の発明によれば、対象となる水（W）の導電率によらず、一定の放電電力で放電を行うことができる。したがって、対象となる製氷用の水（W）の種類に応じて、電源（26a）を交換することなく、様々な水質の水（W）に対し、一定の消費電力で安定した除菌性能を得ることができる。
【００２６】
第１１の発明によれば、衛生的に安全で清潔な氷を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】図１は、実施形態１に係る製氷機を示す全体模式図である。
【図２】図２は、実施形態１に係る製氷用水浄化装置の全体構成図であり、過酸化水素生成動作を開始する前の状態を示すものである。
【図３】図３は、実施形態１に係る絶縁ケーシングを示す斜視図である。
【図４】図４は、実施形態１に係る製氷用水浄化装置の全体構成図であり、過酸化水素生成動作を開始して気泡が形成された状態を示すものである。
【図５】図５（ａ）、（ｂ）は、超音波発生部の具体例を示す拡大断面図である。
【図６】図６は、実施形態１に係る製氷用水浄化装置による水処理の基本サイクルを示す図である。
【図７】図７（ａ）は、水中の過酸化水素の濃度を用いてフィードバック制御を行う場合の運転制御の一例を示すタイムチャートであり、（ｂ）は、過酸化水素の濃度変化の測定値を用いてフィードフォワード制御を行う場合の運転制御の一例を示すタイムチャートである。
【図８】図８は、実施形態１の第１の変形例に係る製氷用水浄化装置の全体構成図である。
【図９】図９は、実施形態１の第１の変形例に係る絶縁ケーシングを示す斜視図である。
【図１０】図１０は、実施形態２に係る製氷用水浄化装置の全体構成図であり、動作を開始する前の状態を示すものである。
【図１１】図１１は、実施形態２に係る製氷用水浄化装置の全体構成図であり、動作を開始して気泡が形成された状態を示すものである。
【図１２】図１２は、実施形態２の変形例に係る絶縁ケーシングの蓋部を示す平面図である。
【図１３】図１３は、実施形態３に係る製氷用水浄化装置を示す構成図である。
【図１４】図１４は、実施形態４に係る製氷用水浄化装置を示す構成図である。
【図１５】図１５は、実施形態５に係る浄化装置を示す構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、本発明は、以下の各実施形態は、本質的に好ましい例示であって、本発明、その適用物、あるいはその用途の範囲を制限することを意図するものではない。
【００２９】
《発明の実施形態１》
本発明に係る製氷機（10）の全体模式図を図１に示す。
【００３０】
製氷機（10）は、水を冷却して氷を製造するための機械であり、冷蔵庫に備えられる。製氷機（10）は、給水タンク（12）と給水通路（14）と製氷コーナー（16）とを備えている。給水タンク（12）は、製氷用の水（W）が貯留される貯水タンクである。製氷コーナー（16）内には、製氷用の水（W）を受けて氷を形成するための製氷皿（18）が収容されている。給水通路（14）は、給水タンク（12）から製氷コーナー（16）内の製氷皿（18）に製氷用の水（W）を供給するための水流路である。図示しないが、給水タンク（12）は冷蔵室内に、製氷コーナー（16）は製氷室内にそれぞれ配設される。
【００３１】
また、製氷機（10）は、製氷用水浄化装置（20）（以下、単に水浄化装置と称する）を備えている。水浄化装置（20）は、水中での放電と超音波照射とによって水中で水酸ラジカルなどの浄化成分を生成し、この浄化成分によって水（W）の浄化を行うものである。
【００３２】
水浄化装置（20）の全体構成図を図２に示す。図３は、水浄化装置（20）が備える絶縁ケーシング（28）の斜視図である。
【００３３】
水浄化装置（20）は、給水タンク（12）内に配置され、電極Ａ（22）及び電極Ｂ（24）とからなる電極対（22,24）と、この電極対（22,24）に電圧を印加する電源ユニット（26）と、電極Ａ（22）を内部に収容する絶縁ケーシング（28）と、給水タンク（12）内の水に超音波を照射する超音波発生部（94）とを備えている。
【００３４】
また、本実施形態の水浄化装置は、高電圧発生部(26a)に接続された放電波形発生部（3）と、電極対（22,24）に印加する電圧のオン又はオフを制御する制御部(1)と、増幅器（9）を介して超音波発生部（94）に所定の周波数の交流電圧を供給する超音波波形発生部（8）と、超音波波形発生部（8）を介して超音波発生部（94）の動作を制御する制御部（5）と、給水タンク（12）内の水体の過酸化水素濃度をモニタするセンサ（7）とを備えている。なお、図示しないが、センサ（7）のモニタ結果に基づいて制御部（1,5）を制御する中央演算装置（ＣＰＵ）が設けられていてもよい。制御部（1,5）による電源ユニット（26）及び超音波発生部（94）の制御方法については、後に説明する。なお、後述のいわゆるフィードフォワード制御を行う場合、センサ（7）は必ずしも設けられなくてもよい。
【００３５】
電極対（22,24）は、水中で放電を生起するためのものである。電極Ａ（22）は、絶縁ケーシング（28）の内部に配置されている。電極Ａ（22）は、上下に扁平な板状に形成されている。電極Ａ（22）は、電源ユニット（26）に接続されている。
【００３６】
電極Ｂ（24）は、絶縁ケーシング（28）の外部に配置されている。電極Ｂ（24）は、電極Ａ（22）の上方に設けられている。電極Ｂ（24）は、上下に扁平な板状であって、且つ上下に複数の貫通孔（25）を有するメッシュ形状ないしパンチングメタル形状に構成されている。電極Ｂ（24）は、電極Ａ（22）と略平行に配設されている。電極Ｂ（24）は、電源ユニット（26）の負極側に接続されている。これらの電極（22,24）は、耐腐食性の高い導電性の材料で構成されている。
【００３７】
電源ユニット（26）は、高電圧発生部（電源部）（26a）及び定電力制御部（26b）を備えている。高電圧発生部（26a）は、電極対（22,24）に所定の電圧を印加する電源で構成されている。すなわち、高電圧発生部（26a）は、電極対（22,24）に対して瞬時的に高電圧を繰り返し印加するようなパルス電源ではなく、電極対（22,24）に対して常に数キロボルトの電圧を印加する。定電力制御部（26b）は、電極対（22,24）の間における放電の放電電力を一定に制御する。
【００３８】
絶縁ケーシング（28）は、給水タンク（12）の底部に設置されている。絶縁ケーシング（28）は、例えばセラミックスなどの絶縁材料で構成されている。絶縁ケーシング（28）は、一面（上面）が開放された容器状のケース本体（30）と、該ケース本体（30）の上方の開放部を閉塞する板状の蓋部（32）とを有している。
【００３９】
ケース本体（30）は、角型筒状の側壁部（30a）と、該側壁部（30a）の底面を閉塞する底部（30b）とを有している。電極Ａ（22）は、底部（30b）の上側に敷設されている。絶縁ケーシング（28）では、蓋部（32）と底部（30b）との間の上下方向の距離が、電極Ａ（22）の厚さよりも長くなっている。つまり、電極Ａ（22）と蓋部（32）との間には、所定の間隔が確保されている。これにより、絶縁ケーシング（28）の内部では、電極Ａ（22）とケース本体（30）と蓋部（32）との間に空間（S）が形成されている。
【００４０】
図２及び図３に示すように、絶縁ケーシング（28）の蓋部（32）には、該蓋部（32）を厚さ方向に貫通する１つの開口（33）が形成されている。この開口（33）により、電極Ａ（22）と電極Ｂ（24）との間での電界の形成が許容されている。蓋部（32）の開口（33）の内径は、０．０２ｍｍ以上且つ０．５ｍｍ以下であることが好ましい。以上のような開口（33）は、電極対（22,24）の間の電流経路の電流密度を上昇させる電流密度集中部を構成する。
【００４１】
以上のように、絶縁ケーシング（28）は、電極対（22,24）のうちの一方の電極（電極Ａ（22））のみを内部に収容し、且つ電流密度集中部として開口（33）を有する絶縁部材を構成している。
【００４２】
加えて、絶縁ケーシング（28）の開口（33）内では、電流経路の電流密度が上昇することで、水がジュール熱によって気化して気泡（B）が形成される。つまり、絶縁ケーシング（28）の開口（33）は、該開口（33）に気相部としての気泡（B）を形成する気相形成部として機能する。
【００４３】
次に、図２に示す例において、超音波発生部（94）は、板状の圧電セラミックス（95）と、間に圧電セラミックス（95）を挟むように設けられた一対の金属板（96a,96b）とで構成される。超音波発生部（94）を封入するケース（97）は密閉され、給水タンク（12）の底部に配置されている。
【００４４】
金属板（96a,96b）には、増幅器（9）によって増幅された超音波波形発生部（8）の出力信号（交流電圧）が供給される。これにより、超音波発生部（94）は任意の周波数の超音波を給水タンク（12）内の水に照射する。ただし、過酸化水素を分解して水酸ラジカルを効率良く発生させるためには、超音波の周波数が、１００ｋＨｚ以上程度であれば特に好ましい。
【００４５】
なお、超音波発生部（94）は、給水タンク（12）内の水に超音波を照射できる範囲で任意の位置に設置されていてもよい。例えば、図５（ａ）に示すように、超音波発生部（94）が給水タンク（12）の底部外側に設置されていてもよい。超音波発生部（94）が給水タンク（12）の底部外側に設置されている場合、超音波は給水タンク（12）の壁面を介して水に伝達される。
【００４６】
また、超音波発生部（94）の構成は、図２に示す例に限られない。例えば、図５（ｂ）に示すように、金属ケース（97a）の上部と金属板（96）とで板状の圧電セラミックス（95）を挟み、両者の間に交流電圧を供給する構成であってもよい。
【００４７】
−水浄化装置の運転動作−
本実施形態の製氷機（10）では、水浄化装置（20）が運転されることで、給水タンク（12）に貯留された製氷用の水（W）の浄化がなされる。このような水浄化装置（20）による水（W）の浄化動作について、図２及び図４を参照しながら詳細に説明する。図４は、水浄化装置（20）の全体構成図であり、過酸化水素生成動作を開始して気泡（B）が形成された状態を示している。
【００４８】
水浄化装置（20）の運転開始時には、図２に示すように、絶縁ケーシング（28）内の空間（S）が浸水した状態となっている。電源ユニット（26）から電極対（22,24）に所定の電圧（例えば１ｋＶ）が印加されると、電極対（22,24）の間に電界が形成される。電極Ａ（22）の周囲は、絶縁ケーシング（28）で覆われている。このため、電極対（22,24）の間での漏れ電流が抑制されると共に、開口（33）内の電流経路の電流密度が上昇した状態となる。
【００４９】
開口（33）内の電流密度が上昇すると、開口（33）内のジュール熱が大きくなる。その結果、絶縁ケーシング（28）では、開口（33）の近傍において、水（W）の気化が促進されて気泡（B）が形成される。この気泡（B）は、図４に示すように、開口（33）のほぼ全域を覆う状態となり、電極Ｂ（24）に導通する負極側の水（W）と、正極側の電極Ａ（22）との間に気泡（B）が介在する状態となる。この状態では、気泡（B）が電極Ａ（22）と電極Ｂ（24）との間での水（W）を介した導通を阻止する抵抗として機能する。これにより、電極Ａ（22）と電極Ｂ（24）との間の漏れ電流が抑制され、電極対（22,24）の間では、所望とする電位差が保たれることになる。すると、気泡（B）内では、絶縁破壊に伴い放電が発生する。
【００５０】
以上のようにして、気泡（B）で放電が行われると、給水タンク（12）内の水中では、水酸ラジカルなどの活性種や、水酸ラジカルが変化した過酸化水素などが生成される。水酸ラジカルなどの活性種や過酸化水素は、放電に伴う熱によって給水タンク（12）内を対流する。これにより、水中での活性種や過酸化水素の拡散が促される。また、気泡（B）で放電が行われると、この放電に伴ってこの気泡（B）でイオン風を生成しやすくなる。よって、給水タンク（12）内では、このイオン風を利用して、活性種や過酸化水素の拡散効果をさらに向上できる。
【００５１】
また、本実施形態の水浄化装置（20）では、放電によって生成した過酸化水素から、超音波照射によって再度水酸ラジカルが生成される。以下、放電と超音波照射を組み合わせた浄化方法について詳述する。
【００５２】
図６は、本実施形態の水浄化装置（20）による水処理の基本サイクルを示す図である。同図に示すように、給水タンク（12）内の水は、まず、電極対（22,24）間に生起される放電によって浄化される。この際には、放電によって水中に水酸ラジカル等の活性種が生成し、有機物等の分解や殺菌などが行われる（図６中のステップSt1、St2）。水酸ラジカルは短時間で過酸化水素に変化する（ステップSt3）。
【００５３】
次に、超音波発生部（94）から水へと超音波を伝搬させ、水中の過酸化水素を分解し、水酸ラジカルに変化させる（ステップSt4）。超音波照射により発生した水酸ラジカルは、再度過酸化水素に変化する。ただし、除菌等、水の浄化反応に使われた水酸ラジカルは水に変化するので、放電を停止して超音波照射のみを行った場合には、過酸化水素の濃度は低下してゆくことになる。
【００５４】
次に、放電と超音波処理を組み合わせた水浄化装置（20）の運転制御の具体例について説明する。図７（ａ）は、水中の過酸化水素の濃度を用いてフィードバック制御を行う場合の運転制御の一例を示すタイムチャートである。以下の方法では、水中の過酸化水素はセンサ（7）によって検知される。
【００５５】
この方法において、まず給水タンク（12）内に水が存在する状態で運転を開始する。制御部（1）は、電極対（22,24）間に所定の電圧を印加させ、放電を生起させる。この際、超音波発生部（94）はオフ状態にしておく。これにより、放電により生じた水酸ラジカルによって水中の有害物質は分解され、殺菌も行われるので、水が浄化される。一方で、水中の過酸化水素の濃度が上昇する。
【００５６】
次いで、水の過酸化水素濃度があらかじめ設定された下限値を超えた場合、制御部（1）は電極対（22,24）への電圧供給を継続させ、制御部(5)は、超音波発生部（94）をオン状態にして水に超音波を照射させる。これにより、放電により生成された水酸ラジカルと、過酸化水素から生成された水酸ラジカルとによって水が浄化される。放電によって生成される過酸化水素の量は超音波によって分解される過酸化水素の量よりも多いので、この期間中も水中の過酸化水素の濃度は上昇する。
【００５７】
次に、水の過酸化水素濃度があらかじめ設定された上限値を超えた場合、制御部（1）は電極対（22,24）への電圧供給を停止し、放電を停止させる。制御部（5）は、引き続き超音波発生部（94）をオン状態にして水に超音波を照射させる。これにより、過酸化水素から生成された水酸ラジカルによって水が浄化される。この期間中、超音波によって過酸化水素が分解されるので、水中の過酸化水素の濃度は減少する。
【００５８】
次いで、水の過酸化水素濃度が上述の下限値を下回った時点で、制御部（1）は電極対（22,24）への電圧供給を再開する。これにより、水中の過酸化水素の濃度は再び上昇する。これ以後、同様に超音波照射のみを行う期間と超音波照射と放電とを組み合わせる期間とを繰り返すことで、水の過酸化水素濃度を下限値以上、且つ上限値以下の範囲に制御しつつ、水を浄化する。
【００５９】
−実施形態１の効果−
以上の方法において、制御部（1）は、動作開始後に水の過酸化水素濃度が上限値に達するまでは放電を生起させて水酸ラジカルを発生させ、水を浄化することができる。また、制御部（5）は、水の過酸化水素濃度が所定の下限値を超える期間中に超音波発生部（94）をオン状態にする、言い換えれば、過酸化水素濃度が所定の下限値を下回る期間中には超音波発生部（94）をオフ状態にする。つまり、水中に十分な過酸化水素が存在する場合に超音波によって水酸ラジカルを発生させているので、水を効果的に浄化することができる。さらに、十分な濃度の過酸化水素の存在下で超音波を継続的に照射することで、継続的に水酸ラジカルを生成することができるので、強い浄化能力を所定の期間中維持することができる。
【００６０】
さらに、上述の方法によれば、給水タンク（12）から製氷コーナー（16）へと供給される水中の過酸化水素の濃度を上限値以下に抑えることができるので、過酸化水素を除去するための工程を容易にすることができる上、処理後の水の安全性も向上する。
【００６１】
本実施形態の水浄化装置（20）によれば、上述のように、水中での放電と、水体への超音波照射とを組み合わせることで、水の過酸化水素濃度を上昇させずに浄化能力の向上を図ることが可能になる。
【００６２】
また、過酸化水素は、水酸ラジカルには及ばないものの、殺菌性及び抗菌性を有し、除菌作用を発揮する。また、水酸ラジカルと比較して安定であり、水中に残留しやすい。従って、給水タンク（12）から供給された水の過酸化水素濃度を下限値以上且つ上限値以下に保持することで、氷の安全性を確保するとともに、給水タンク（12）と製氷コーナー（16）との間の給水通路（14）内、及び製氷皿上での雑菌の繁殖を抑えることができる。
【００６３】
また、図２では、電極対（22,24）に印加する電圧のオン又はオフを制御する制御部（1）と、超音波発生部（94）の動作を制御する制御部（5）とを別個に設けたが、１つの制御部で電極対（22,24）に印加する電圧のオン又はオフと超音波発生部（94）の動作とを制御することもできる。
【００６４】
なお、本実施形態の水浄化装置（20）では、放電及び超音波照射によって生じる水酸ラジカルによって、水の浄化処理と同時に給水タンク（12）内に繁殖する細菌等を効果的に殺菌することもできる。
【００６５】
以上のようにして、水中に拡散した水酸ラジカルなどの活性種は、水中に含まれる細菌類や被処理成分（例えばアンモニアなど）を酸化分解して水（W）の殺菌・浄化に利用される。製氷機（10）では、このような水浄化動作が適宜実行され、殺菌・浄化された水（W）が製氷コーナー（16）の製氷皿（18）に供給される。これにより、本実施形態の製氷機（10）では、衛生的に安全で清潔な氷を製造することができる。
【００６６】
また、本実施形態１では、電源ユニット（26）に定電力制御部（26b）を用いているので、対象となる水（W）の導電率が変化しても、一定の放電電力で放電が行われる。したがって、対象となる製氷用の水（W）の種類に応じて、高電圧発生部（26a）を交換することなく、様々な水質の水（W）に対し、一定の消費電力で安定した除菌性能を得ることができる。
【００６７】
〈実施形態１の第１の変形例〉
図８は、この実施形態１の第１の変形例に係る水浄化装置（20）の全体構成図である。図９は、この変形例に係る絶縁ケーシング（28）を示す斜視図である。
【００６８】
上記実施形態１では、絶縁ケーシング（28）の蓋部（32）に１つの開口（33）が形成されているとしたが、本変形例では、例えば図８及び図９に示すように、絶縁ケーシング（28）の蓋部（32）に複数の開口（33）が形成されていてもよい。この変形例では、絶縁ケーシング（28）の蓋部（32）が略正方形板状に形成され、この蓋部（32）に複数の開口（33）が等間隔を置きながら碁盤目状に配列されている。一方、電極Ａ（22）及び電極Ｂ（24）は、全ての開口（33）に跨るような正方形板状に形成されている。
【００６９】
この変形例においても、各開口（33）が、電流密度集中部、及び気相形成部として機能する。これにより、電源ユニット（26）から電極対（22,24）に電圧が印加されると、各開口（33）の電流密度が上昇し、各開口（33）で気泡（B）が形成される。その結果、各気泡（B）でそれぞれ放電が生起され、水酸ラジカル等の活性種や、過酸化水素が生成される。
【００７０】
−実施形態１の第２の変形例−
以下、本実施形態に係る浄化装置の運転動作の変形例を、第２の変形例として説明する。
【００７１】
図７（ｂ）は、過酸化水素の濃度変化の測定値を用いてフィードフォワード制御を行う場合の運転制御の一例を示すタイムチャートである。
【００７２】
ここで用いられる浄化装置には、必ずしもセンサ（7）が設けられていなくてもよい。ただし、放電のみを行った場合に給水タンク（12）内の水の過酸化水素濃度が０から下限値に達するまでに要する時間Ｔ１、放電と超音波照射とを同時に行った場合に水の過酸化水素濃度が下限値から上限値になるまでに要する時間Ｔ２、超音波照射のみを行った場合に上限値から下限値に達するのに要する時間Ｔ３を、それぞれあらかじめ測定しておき、それらの測定データを制御部（1,5）内部又は外部に設けられたメモリ（図示せず）に記憶させておく。制御部（1,5）は測定データに基づいて以下の制御を行う。制御部（1,5）の内部又は外部には、時間をカウントするタイマを設けておく。
【００７３】
本変形例に係る方法において、まず制御部（1）は、電極対(22,24)間に所定の電圧を印加させ、放電を生起させる。この際、超音波発生部（94）はオフ状態にしておく。これにより、水が浄化されるとともに、水中の過酸化水素の濃度が上昇する。
【００７４】
次いで、運転開始から時間Ｔ１が経過した時点で、制御部（1）は電極対(22,24)への電圧供給を継続させ、制御部(5)は、超音波発生部（94）をオン状態にして水に超音波を照射させる。これにより、放電により生成された水酸ラジカルと、過酸化水素から生成された水酸ラジカルとによって水が浄化される。この期間中も水中の過酸化水素の濃度は上昇する。
【００７５】
次に、時間Ｔ２が経過した時点で、制御部（1）は電極対(22,24)への電圧供給を停止し、放電を停止させる。制御部（5）は、引き続き超音波発生部（94）をオン状態にして水に超音波を照射させる。これにより、過酸化水素から生成された水酸ラジカルによって水が浄化される。この期間中、水中の過酸化水素の濃度は減少する。
【００７６】
次いで、さらに時間Ｔ３が経過した時点で、制御部（1）は電極対(22,24)への電圧供給を再開し、この状態を時間Ｔ２の間継続する。これにより、水中の過酸化水素の濃度は再び上昇する。これ以後、同様に超音波照射のみを行う期間（時間Ｔ３）と超音波照射と放電とを組み合わせる期間（時間Ｔ２）とを繰り返すことで、水の過酸化水素濃度を下限値以上且つ上限値以下の範囲に制御しつつ、水を浄化する。
【００７７】
以上の方法によっても水中の過酸化水素の濃度を下限値以上、且つ上限値以下の範囲に制御しつつ、水を浄化することができる。なお、これは運転動作の一変形例であって、他の方法によっても水の浄化を行うことができる。
【００７８】
《発明の実施形態２》
図１０はこの実施形態２に係る水浄化装置（20）の全体構成図であり、過酸化水素生成動作を開始する前の状態を示すものである。
【００７９】
実施形態２に係る製氷機（10）は、上述した実施形態１と水浄化装置（20）の構成が異なるものである。以下には、上記実施形態１と異なる点を主として説明する。
【００８０】
図１０に示すように、実施形態２の水浄化装置（20）は、給水タンク（12）の外側から内部に向かって挿入されて固定される、いわゆるフランジユニット式に構成されている。また、実施形態２の水浄化装置（20）は、電極Ａ（22）と電極Ｂ（24）と絶縁ケーシング（28）とが一体的に組立てられている。
【００８１】
実施形態２の絶縁ケーシング（28）は、大略の外形が円筒状に形成されている。絶縁ケーシング（28）は、ケース本体（30）と蓋部（32）とを有している。
【００８２】
実施形態２のケース本体（30）は、ガラス質又は樹脂製の絶縁材料で構成されている。ケース本体（30）は、円筒状の基部（36）と、該基部（36）から給水タンク（12）側に向かって突出する筒状壁部（38）と、該筒状壁部（38）の外縁部から更に給水タンク（12）側に向かって突出する環状凸部（40）とを有している。また、ケース本体（30）には、環状凸部（40）の先端側に先端筒部（42）が一体に形成されている。基部（36）の軸心部には、円柱状の挿入口（36a）が軸方向に延びて貫通形成されている。筒状壁部（38）の内側には、挿入口（36a）と同軸となり、且つ挿入口（36a）よりも大径となる円柱状の空間（S）が形成されている。
【００８３】
実施形態２の蓋部（32）は、略円板状に形成されて環状凸部（40）の内側に嵌合している。蓋部（32）は、セラミックス材料で構成されている。蓋部（32）の軸心には、実施形態１と同様、蓋部（32）を上下に貫通する円形状の１つの開口（33）が形成されている。
【００８４】
電極Ａ（22）は、軸直角断面が円形状となる縦長の棒状の電極で構成されている。電極Ａ（22）は、基部（36）の挿入口（36a）に嵌合している。これにより、電極Ａ（22）は、絶縁ケーシング（28）の内部に収容されている。実施形態２では、電極Ａ（22）のうち給水タンク（12）とは反対側の端部が、給水タンク（12）の外部に露出される状態となる。このため、給水タンク（12）の外部に配置される電源ユニット（26）と、電極Ａ（22）とを電気配線によって容易に接続することができる。
【００８５】
電極Ａ（22）のうち給水タンク（12）側の端部（22a）は、絶縁ケーシング（28）の内部の空間（S）に臨んでいる。なお、図１０に示す例では、電極Ａ（22）の端部（22a）が、挿入口（36a）の開口面よりも上側（給水タンク（12）側）に突出しているが、この端部（22a）の先端面を挿入口（36a）の開口面と略面一としてもよいし、端部（22a）を挿入口（36a）の開口面よりも下側に陥没させてもよい。また、電極Ａ（22）は、実施形態１と同様、開口（33）を有する蓋部（32）との間に所定の間隔が確保されている。
【００８６】
電極Ｂ（24）は、円筒状の電極本体（24a）と、該電極本体（24a）から径方向外方へ突出する鍔部（24b）とを有している。電極本体（24a）は、絶縁ケーシング（28）のケース本体（30）に外嵌している。鍔部（24b）は、給水タンク（12）の壁部に固定されて水浄化装置（20）を保持する固定部を構成している。水浄化装置（20）が給水タンク（12）に固定された状態では、電極Ｂ（24）の電極本体（24a）の一部が浸水された状態となる。
【００８７】
電極Ｂ（24）は、電極本体（24a）よりも小径の内側筒部（24c）と、該内側筒部（24c）と電極本体（24a）との間に亘って形成される連接部（24d）とを有している。内側筒部（24c）及び連接部（24d）は、給水タンク（12）内の水中に浸漬している。内側筒部（24c）は、その内部に円柱空間（44）を形成している。内側筒部（24c）の軸方向の一端は、蓋部（32）と当接して該蓋部（32）を保持する保持部を構成している。また、電極本体（24a）と内側筒部（24c）と連接部（24d）の間には、ケース本体（30）の先端筒部（42）が内嵌している。内側筒部（24c）の軸方向の他端側には、円柱空間（44）を覆うようにメッシュ状の漏電防止材（46）が設けられている。この漏電防止材（46）は、電極Ｂ（24）と接触することで、実質的にアースされている。これにより、漏電防止材（46）は、給水タンク（12）の内部の空間（水中）のうち、円柱空間（44）の内側から外側への漏電を防止している。
【００８８】
電極Ｂ（24）は、電極本体（24a）の一部が給水タンク（12）の外部に露出される状態となる。このため、電源ユニット（26）と電極Ｂ（24）とを電気配線によって容易に接続することができる。
【００８９】
−水浄化装置の運転動作−
実施形態２の製氷機（10）においても、水浄化装置（20）が運転されることで、給水タンク（12）に貯留された製氷用の水（W）の浄化がなされる。このような水浄化装置（20）による水（W）の浄化動作について、図１０及び図１１を参照しながら詳細に説明する。図１１は、水浄化装置（20）の全体構成図であり、過酸化水素生成動作を開始して気泡（B）が形成された状態を示している。
【００９０】
水浄化装置（20）の運転開始時には、図１０に示すように、絶縁ケーシング（28）の内の空間（S）が浸水した状態となっている。電源ユニット（26）から電極対（22,24）に所定の電圧（例えば１ｋＶ）が印加されると、開口（33）の内部の電流密度が上昇していく。
【００９１】
図１０に示す状態から、電極対（22,24）へ更に電圧が継続して印加されると、図１１に示すように、開口（33）内の水が気化されて気泡（B）が形成される。この状態では、気泡（B）が開口（33）のほぼ全域を覆う状態となり、円柱空間（44）内の負極側の水と、電極Ａ（22）との間に気泡（B）による抵抗が付与される。これにより、電極Ａ（22）と電極Ｂ（24）との間の電位差が保たれ、気泡（B）で放電が発生する。その結果、水中では、水酸ラジカルや過酸化水素を生成され、これらの成分が水の殺菌・浄化に利用される。
【００９２】
〈実施形態２の変形例〉
図１２は、実施形態２の変形例に係る絶縁ケーシング（28）の蓋部（32）の平面図である。
【００９３】
上記実施形態２では、円板状の蓋部（32）の軸心に１つの開口（33）を形成しているが、この蓋部（32）に複数の開口（33）を形成してもよい。図１２に示す例では、蓋部（32）の軸心を中心とする仮想ピッチ円上に、５つの開口（33）が等間隔置きに配列されている。このように蓋部（32）に複数の開口（33）を形成することで、各開口（33）の近傍でそれぞれ放電を生起させることができる。
【００９４】
上記実施形態については、以下のような構成としてもよい。
【００９５】
〈水浄化装置の構成>
上述した各実施形態の電源ユニット（26）には、放電の放電電力を一定に制御する定電力制御部（26b）を用いている。しかしながら、定電力制御部（26b）に代えて、放電時の放電電流を一定に制御する定電流制御部を設けることもできる。この定電流制御を行うと、水（W）の導電率によらず放電が安定するため、スパークの発生も未然に回避できる。
【００９６】
また、上述した各実施形態では、電源ユニット（26）の正極に電極Ａ（22）を接続し、電源ユニット（26）の負極に電極Ｂ（24）を接続している。しかしながら、電源ユニット（26）の負極に電極Ａ（22）を接続し、電源ユニット（26）の正極に電極Ｂ（24）を接続することで、電極対（22,24）の間で、いわゆるマイナス放電を行うようにしてもよい。
【００９７】
〈水浄化装置の配置〉
上記実施形態１や実施形態２と異なる位置に水浄化装置（20）を配置してもよい。具体的には、例えば、給水通路（14）に水（W）が一時的に滞留する滞留部を設けて、該滞留部に水浄化装置（20）が取り付けられていてもよく、また、給水タンク（12）とは別個に製氷用の水（W）を貯留する貯水タンクを備え、該貯水タンクに水浄化装置（20）が取り付けられて、貯水タンク内で殺菌・浄化した水（W）を給水タンク（12）に供給するように構成されていても構わない。
【００９８】
《発明の実施形態３》
図１３は、本発明の実施形態３における水浄化装置を示す構成図である。同図では、実施形態１に係る水浄化装置と同様の構成については図２と同じ符号を付している。また、放電波形発生部（3）、制御部（1,5）、増幅器（9）及びセンサ（7）は図１３では図示を省略しているが、実際には本実施形態の水浄化装置に設けられている。以下では、主に実施形態１に係る水浄化装置と異なる点について説明する。
【００９９】
本実施形態の水浄化装置は、給水タンク（12）と、給水タンク（12）内に配置された電極対（22x,24x）と、電極対（22x,24x）に接続された高電圧発生部（電源部）（26a）と、給水タンク（12）の底部に設置された超音波発生部（94）とを備えている。
【０１００】
電極（22x）は絶縁ケーシング（28a）の内部に収納され、電極（24x）は絶縁ケーシング（28b）の内部に収納されている。電極（22x）及び電極（24x）は、それぞれ扁平な板状に形成されている。また、電極（22x）及び電極（24x）は耐腐食性の高い導電性の金属材料で構成されている。高電圧発生部（26a）は、数キロボルト程度の電圧を電極対（22x,24x）に供給する。
【０１０１】
絶縁ケーシング（28a,28b）は、例えばセラミックス等の絶縁材料で構成されており、図１に示す絶縁ケーシング（28）と同様の構成を有している。
【０１０２】
すなわち、絶縁ケーシング（28a）は、一面（図１３では右側の面）が開放された容器状のケース本体（180a）と、該ケース本体（180a）の上記開放部を閉塞する板状の蓋部（32a）とを有している。また、絶縁ケーシング（28b）は、一面（図１３では左側の面）が開放された容器状のケース本体（180b）と、該ケース本体（180b）の上記開放部を閉塞する板状の蓋部（32b）とを有している。
【０１０３】
絶縁ケーシング（28a）の蓋部（32a）には、該蓋部（32a）を厚さ方向に貫通する１つの開口（33a）が形成されている。絶縁ケーシング（28b）の蓋部（32b）にも、該蓋部（32b）を厚さ方向に貫通する１つの開口（33b）が形成されている。これらの開口（33a,33b）により、電極（22x）と電極（24x）との間の電界の形成が許容されている。開口（33a,33b）の内径は、０．０２ｍｍ以上０．５ｍｍ以下であることが好ましい。以上のような開口（33a,33b）は、電極対（22x,24x）の間の電流経路の電流密度を上昇させる電流密度集中部を構成する。
【０１０４】
絶縁ケーシング（28a,28b）は、給水タンク（12）内の互いに対向する側面に、蓋部（32a,32b）同士が対向するように設置されている。言い換えれば、電極（22x）と電極（24x）とは互いに対向するよう配置されている。
【０１０５】
絶縁ケーシング（28a,28b）の開口（33a,33b）内では、電流経路の電流密度が上昇することで、水がジュール熱によって気化して気泡が形成される。つまり、絶縁ケーシング（28a,28b）の開口（33a,33b）は、該開口（33a,33b）に気相部としての気泡を形成する気相形成部として機能する。この構成により、電圧が電極対（22x,24x）に供給された場合に電極対（22x,24x）間の気泡内に放電を生起させることができる。
【０１０６】
なお、超音波発生部（94）の具体的な構成は実施形態１に係る水浄化装置と同様である。
【０１０７】
本実施形態の水浄化装置を、図７（ａ）、（ｂ）に示す方法で運転することにより、水中の過酸化水素の濃度を所定の範囲内に保持しつつ、給水タンク（12）内の水を効果的に浄化することができる。
【０１０８】
《発明の実施形態４》
図１４は、本発明の実施形態４に係る水浄化装置を示す構成図である。同図では、実施形態１に係る水浄化装置と同様の構成については図１と同じ符号を付している。また、放電波形発生部（3）、制御部（1,5）、増幅器（9）及びセンサ（7）は図１４では図示を省略しているが、実際には本実施形態の水浄化装置に設けられている。以下では、主に実施形態１に係る水浄化装置と異なる点について説明する。
【０１０９】
本実施形態の水浄化装置は、給水タンク（12）と、給水タンク（12）内に配置された電極対（22,24）と、電極対（22,24）に接続された高電圧発生部（電源部）（26b）と、給水タンク（12）の底部に設置された超音波発生部（94）とを備えている。
【０１１０】
本実施形態の水浄化装置においては、電極Ａ（22）及び電極Ｂ（24）がそれぞれ高電圧発生部（26b）の正極側及び負極側にそれぞれ接続され、高電圧発生部（26b）から電極対（22,24）に高電圧のパルス電圧が供給される。
【０１１１】
また、電極Ａ（22）を囲む絶縁ケーシング(28)は設けられない。電極Ａ（22）及び電極Ｂ（24）は共に板状であり、給水タンク（12）内の側面に、互いに対向するように設置される。
【０１１２】
さらに、水浄化装置には、例えば給水タンク（12）の底部など、少なくとも電極対（22,24）の間であって、電極対（22,24）よりも低い位置に設けられたノズル（吐出手段）（119）と、ノズル（119）に空気等の気体を送るエアポンプ（送出手段）（99）とが設けられている。エアポンプ（99）によって給水タンク（12）内の気体は、ノズル（119）を介して循環される。ただし、エアポンプ（99）によって給水タンク（12）内に外部から気体を供給してもよい。
【０１１３】
超音波発生部（94）の構成は実施形態１に係る水浄化装置と同様であり、給水タンク（12）の底部に設置されていてもよいが、給水タンク（12）内の水に超音波を照射できる限りにおいて任意の位置に設置可能である。
【０１１４】
少なくとも放電処理を行う期間中、ノズル（119）から水中へと泡が吐出される。水中に泡が存在する状態で電極対（22,24）にパルス電圧を供給することにより、泡の内部で放電が生起され、水酸ラジカルが生成する。
【０１１５】
本実施形態の水浄化装置では、実施形態１に係る水浄化装置と基本的に同じ方法、すなわち図７（ａ）、（ｂ）に示す方法で、放電と超音波照射とを組み合わせた水浄化が行われる。ただし、図７（ａ）、（ｂ）に示す放電処理の期間中は、高電圧発生部（26b）から電極対（22,24）へとパルス電圧が間欠的に供給され、電極対（22,24）間に間欠的に放電が生起される。
【０１１６】
以上の構成及び方法によれば、電極対（22,24）間にパルス放電を発生させる場合でも効率良く水酸ラジカルを発生させることができるので、超音波照射と組み合わせることで、過酸化水素濃度を上昇させずに、高い浄化能力を発揮することができる。
【０１１７】
《発明の実施形態５》
図１５は、本発明の実施形態５における水浄化装置を示す構成図である。同図では、実施形態１、実施形態３に係る水浄化装置と同様の構成については図１及び図１３と同じ符号を付している。また、放電波形発生部（3）、制御部（1,5）、増幅器（9）及びセンサ（7）は図１５では図示を省略しているが、実際には本実施形態の水浄化装置に設けられている。以下では、主に実施形態３に係る水浄化装置と異なる点について説明する。
【０１１８】
本実施形態の水浄化装置は、給水タンク（12）と、給水タンク（12）内に配置された電極対（22b,24y）と、電極対（22b,24y）に接続された高電圧発生部（電源部）（26y）と、給水タンク（12）の底部に設置された超音波発生部（94）とを備えている。
【０１１９】
電極（22b）と電極（24y）とは、それぞれ給水タンク（12）内の側面に、互いに対向するように設置されている。
【０１２０】
電極（22b）は、少なくとも１つの導電部（164）と、導電部（164）を囲む絶縁部（165）とを有している。
【０１２１】
電極（24y）は、少なくとも１つの導電部（166）と、導電部（166）を囲む絶縁部（167）とを有している
以上のように、電極（22b）における導電部（164）の露出面、及び電極（24y）における導電部（166）の露出面の面積は小さいので、電圧を電極対（22b,24y）に供給した場合には導電部（164,166）の表面で電流密度の集中部が形成される。そのため、導電部（164,166）の表面では水がジュール熱によって気化して気泡が形成される。この泡によって導電部（164,166）の露出面が覆われた状態で高電圧発生部（26y）からの電圧供給を継続することにより、泡の内部で放電が生起される。
【０１２２】
なお、超音波発生部（94）の具体的な構成は実施形態１及び実施形態２に係る水浄化装置と同様である。
【０１２３】
本実施形態の水浄化装置を、図７（ａ）、（ｂ）に示す方法で運転することにより、水中の過酸化水素の濃度を所定の範囲内に保持しつつ、給水タンク（12）内の水を効果的に浄化することができる。
【０１２４】
以上の構成によっても、電極対（22b,24y）間での放電と、超音波照射と組み合わせることで、過酸化水素濃度を上昇させずに、高い浄化能力を発揮することができる。
【０１２５】
以上で説明した実施形態において、各部材の形状、配置、材質等、あるいは水浄化装置の運転方法は本発明の趣旨を逸脱しない範囲において適宜変更可能である。
【産業上の利用可能性】
【０１２６】
以上説明したように、本発明は、製氷用水浄化装置及びそれを備えた製氷機について有用であり、特に、製氷用の水を衛生的に安全な製氷が可能なように充分に除菌することが要望される製氷用水浄化装置及びそれを備えた製氷機に適している。
【符号の説明】
【０１２７】
W     製氷用の水
1,5   制御部
3     放電波形発生部
7     センサ
8     超音波波形発生部
9     増幅器
10    製氷機
12    給水タンク
20    製氷用水浄化装置
22    電極Ａ（電極対）
24    電極Ｂ（電極対）
26a,26x,26y   高電圧発生部
26b   定電力制御部
94    超音波発生部
95    圧電セラミックス
96,96a,96b    金属板
97    ケース
97a   金属ケース
99    エアポンプ
119   ノズル
164,166   導電部
165,167   絶縁部
180a,180b   ケース本体
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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