(57)【要約】【課題】  長期に亙って、感光体表面との摩擦係数の増大によってクリーニングブレードがめくれたり、クリーニングブレードの摩耗によって感光体表面にクリーニング不良が発生したり、感光体表面の感光膜の膜減りによって画像かぶりが発生したりすることのない感光体クリーニング装置及び該感光体クリーニング装置を備えた画像形成装置を提供することを課題とする。【解決手段】  クリーニングブレードの感光体表面当接部分にトナーの外添剤と同組成の疎水性シリカ及び疎水性酸化チタンを形成させることで、上記課題を解決する。【選択図】図１
2013003226.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
感光体と、該感光体に当接して表面を清掃するクリーニングブレードを備えた感光体クリーニング装置において、
前記クリーニングブレードの表面には、トナーの外添剤と同組成の疎水性シリカ及び疎水性酸化チタンが形成されていることを特徴とする感光体クリーニング装置。
【請求項２】
前記疎水性シリカは、平均粒径が３〜５０ｎｍであり、
前記疎水性酸化チタンは、平均粒径が１５〜７５ｎｍであり、
前記水溶媒１００重量部に対して、
前記疎水性シリカの部数は、０．７〜３．５重量部、
前記疎水性酸化チタンの部数は、０．２５〜２．３重量部、
前記疎水性シリカと前記疎水性酸化チタンの総部数は、０．９５〜５．８重量部としたことを特徴とする請求項１記載の感光体クリーニング装置。
【請求項３】
前記疎水性シリカは、平均粒径が５〜４０ｎｍであり、
前記疎水性酸化チタンは、平均粒径が２０〜６０ｎｍであり、
前記水溶媒１００重量部に対して、
前記疎水性シリカの部数は、１．０〜３．０重量部、
前記疎水性酸化チタンの部数は、０．５〜２．０重量部、
前記疎水性シリカと前記疎水性酸化チタンの総部数は、１．５〜５．０重量部としたことを特徴とする請求項１記載の感光体クリーニング装置。
【請求項４】
請求項１〜３に記載の感光体クリーニング装置を備えたことを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光体クリーニング装置及び該感光体クリーニング装置を備えた画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子写真方式を用いた画像形成装置では、感光体上に形成された静電潜像は現像工程でトナーによって可視像化された後、転写体に転写される。この時、全てのトナーが転写体に転写されることはなく、感光体上にトナーが残留してしまう。感光体上に残留する転写残トナーが多いと、次に複写動作が行われた際、感光体表面にクリーニング不良が発生し、出力画像にも現れる。クリーニング不良を発生させないためには、感光体に当接して表面を清掃するクリーニングブレードを備えた感光体クリーニング装置が搭載される。そして、クリーニングブレードの材料であるポリウレタンゴムの硬度、厚み、及び感光体表面に当接させるクリーニングブレードの当接角度、食い込み量を適正化することが図られている。
【０００３】
しかし、長期に亙って感光体クリーニング装置を使用すると、クリーニングブレードの摩耗が発生し、ライフ性能を縮める場合があった。
【０００４】
このような問題に対処するために、例えば、特開平６−２８２２０６号公報（特許文献１）では、図２に示すように、クリーニングブレード１００の感光ドラム１０１に当接させる部分に、アモルファスカーボン１０２をコーティングすることが記載されている。感光ドラム１０１を帯電させる際に発生した窒素酸化物やオゾン等の化学活性種が感光ドラム１０１の表面に付着し硝酸塩ならびに硝酸による表面荒れが生じるが、特許文献１のように感光ドラム１０１と当接する部分に高硬度のアモルファスカーボン１０２をコーティングしたクリーニングブレード１００を用いることによって、感光ドラム１０１の表面が荒れても容易に研磨でき、クリーニングブレード１００が摩耗しない感光体クリーニング装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平６−２８２２０６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１のようなコーティングを行うと、感光ドラム１０１が過剰に削れてしまい、画像かぶりが発生してしまう場合があった。
【０００７】
本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであり、クリーニングブレードの感光体表面当接部分に初期からトナーの外添剤と同組成の疎水性シリカ及び疎水性酸化チタンを形成させることで、クリーニングブレードが摩耗しても、摩耗成分と同組成の成分がトナー表面から遊離して供給され、初期のクリーニングブレードの組成を維持できるため、感光体表面との摩擦係数の増大によってクリーニングブレードがめくれたり、クリーニングブレードの摩耗によって感光体表面にクリーニング不良が発生したり、感光体表面の感光膜の膜減りによって画像かぶりが発生したりすることのない感光体クリーニング装置及び該感光体クリーニング装置を備えた画像形成装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、感光体と該感光体に当接して表面を清掃するクリーニングブレードを備えた感光体クリーニング装置において、前記クリーニングブレードは、前記感光体に当接する部分にトナーの外添剤と同組成の疎水性シリカ及び疎水性酸化チタンを含む水溶媒が塗布されていることを特徴とするものである。
【０００９】
また、本発明は、前記疎水性シリカは、平均粒径が３〜５０ｎｍであり、前記疎水性酸化チタンは、平均粒径が１５〜７５ｎｍであり、前記水溶媒１００重量部に対して、前記疎水性シリカの部数は、０．７〜３．５重量部、前記疎水性酸化チタンの部数は、０．２５〜２．３重量部、前記疎水性シリカと前記疎水性酸化チタンの総部数は、０．９５〜５．８重量部であることが好ましい。
【００１０】
また、本発明は、前記疎水性シリカは、平均粒径が５〜４０ｎｍであり、前記疎水性酸化チタンは、平均粒径が２０〜６０ｎｍであり、前記水溶媒１００重量部に対して、前記疎水性シリカの部数は、１．０〜３．０重量部、前記疎水性酸化チタンの部数は、０．５〜２．０重量部、前記疎水性シリカと前記疎水性酸化チタンの総部数は、１．５〜５．０重量部であることが好ましい。
【００１１】
また、本発明は、前記感光体クリーニング装置を備えた画像形成装置であることが好ましい。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、クリーニングブレードの感光体表面当接部分に初期からトナーの外添剤と同組成の疎水性シリカ及び疎水性酸化チタンを形成させることで、クリーニングブレードが摩耗しても、摩耗成分と同組成の成分がトナー表面から遊離して供給されることで、初期のクリーニングブレードの組成を維持できるため、感光体表面との摩擦係数の増大によってクリーニングブレードがめくれたり、クリーニングブレードの摩耗によって感光体表面にクリーニング不良が発生したり、感光体表面の感光膜の膜減りによって画像かぶりが発生したりすることのない感光体クリーニング装置及び該感光体クリーニング装置を備えた画像形成装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の実施例となる感光体クリーニング装置の構成を示す概略断面図である。
【図２】従来例の感光体クリーニング装置の構成を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
＜実施例１＞
本発明の感光体クリーニング装置について図面を参照して説明する。
【００１５】
図１は、本発明の感光体クリーニング装置１の構成を示す概略断面図である。以下には、本発明の感光体クリーニング装置に関して説明するが、その他の構成については、電子写真方式を用いた画像形成装置の一般的な技術が適用できることはいうまでもない。
【００１６】
感光体クリーニング装置１は、転写残トナー回収容器２、クリーニングブレード支持板金３、クリーニングブレード４から構成され、感光体５と対向して配設されている。
【００１７】
転写残トナー回収容器２では、クリーニングブレード４で掻きとられた感光体５上の転写残トナーが回収される。
【００１８】
クリーニングブレード支持板金３は、厚み１．２ｍｍの金属板金であり上面にクリーニングブレード４が接着され、転写残トナー回収容器２外周面に配設されている。
【００１９】
クリーニングブレード４のクリーニングブレード支持板金３側でない先端は時計方向に回転する感光体５と当接し、当接する部分を通過する感光体５の接線Ｅに対して２６．２度の当接角度θで当接している。感光体５表面への食い込み量は１．３ｍｍとした。
【００２０】
クリーニングブレード４は、感光体５長手方向の幅３３７ｍｍ、感光体５当接方向の長さ１２ｍｍ、厚み２ｍｍのポリウレタンゴムである。クリーニングブレード支持板金３との感光体５当接方向の接着長さは３ｍｍ、クリーニングブレード支持板金３と接着されていない感光体５当接方向の突き出し長さＬは９ｍｍとした。
【００２１】
クリーニングブレード３は、高硬度で弾性に富み機械的強度に優れた特性が必要であり、ＪＩＳ−Ａ硬度７０Ｈｓ、ヤング率６．５ＭＰａ、反発弾性率５０％、伸び３００％、引っ張り強度３０ＭＰａ、引き裂き強度４０ＫＮ／ｍとした。
【００２２】
感光体５は、直径３０ｍｍの円筒状であって、不図示の導電性基体と、導電性基体表面に形成される不図示の感光膜から構成される。導電性基体はアルミ製であり、厚みは１ｍｍとした。感光膜は、下地膜、電荷発生物質を含む樹脂層である電荷発生層、電荷輸送物質を含む樹脂層である電荷輸送層を積層し、３層構成とした。下地膜、電荷発生層、電荷輸送層の厚みはそれぞれ０．１μｍ、０．５μｍ、２３μｍとした。
【００２３】
次に、本発明で用いられるトナーについて説明する。トナーは、結着樹脂、着色剤、帯電制御剤、オフセット防止剤としてのワックス等を溶融混練した後、冷却により固化させてから、粉砕分級することよって得られる。トナーには、さらに、流動性及び帯電性を向上させる目的で、疎水性シリカ、疎水性酸化チタン等の無機微粒子を外添剤として外添する。このように、疎水性シリカ、疎水性酸化チタンを用いることで、高温高湿環境下でも吸湿することがない。その結果、高温高湿環境下でも帯電性を向上できる。
【００２４】
まず、結着樹脂として、ガラス転移点６８℃、軟化点１２９℃のポリエステル樹脂１００重量部、着色剤として、カーボンブラック（エボニックデグサジャパン社製、Ｎｉｐｅｘ−６０）６重量部、帯電制御剤として、ホウ素錯体（日本カーリット社製、ＬＲ−１４７）１．４重量部、オフセット防止剤として、カルナウバワックス（東亜化成社製、Ｔｏｗａｘ−１７１）２．０重量部を気流混合機であるヘンシェルミキサ（三井鉱山株式会社製、ＦＭミキサ）で均一に混合して樹脂混合物を得た。
【００２５】
得られた樹脂混合物は、溶融混練機である二軸混練機（池貝社製、ＰＣＭ−３７）で、樹脂混合物を供給する供給量を５ｋｇ／時間、二軸混練機の設定温度を１４０℃とした条件で溶融混練することにより、溶融混練物を作製した。
得られた溶融混練物は、冷却により固化させてから、粉砕分級することによって、粒子状のトナーが生成される。粉砕分級は、まず、カッターミル（オリエント社製、ＶＭ−１６）で粗粉砕し、次いで、カウンタジェットミル（ホソカワミクロン社製、ＡＦＧ）のようなエア式粉砕機によって微粉砕し、その後、ロータリ式分級機（ホソカワミクロン社製、ＴＳＰセパレータ）によって分級した。このことで、体積平均粒径６．７μｍの外添前トナーを得た。
【００２６】
得られた外添前トナー１００重量部に対して、シランカップリング剤とジメチルシリコーンオイルで表面処理した平均粒径１５ｎｍの小粒径の疎水性シリカ１．５重量部、同様に表面処理した平均粒径４０ｎｍの大粒径の疎水性酸化チタン１．０重量部を外添剤として添加し、ヘンシェルミキサ（三井鉱山株式会社製、ＦＭミキサ）で混合することによってトナーを製造した。
【００２７】
その後、得られたトナー５重量部にキャリア９５重量部を混合して２成分現像剤を得た。キャリアは、磁性を有するフェライト粒子表面をシリコーン樹脂で被覆したコートキャリアを用いた。キャリアの粒径は５０μｍとした。
【００２８】
次に、本発明で用いられるクリーニングブレード４の感光体５表面当接部分に塗布する水溶媒について説明する。まず、水溶媒である比抵抗５ＭΩ・ｃｍの純水１０００ｍｌに非イオン性界面活性剤のポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル２ｍｌを添加する。なお、水溶媒ではなく、アルコール、アセトン、テトラヒドロフラン等の有機溶媒を用いると、クリーニングブレード４に塗布したとき、ポリウレタンゴムであるクリーニングブレード４の組成が変化してしまうので好ましくない。
【００２９】
さらに、トナーの外添剤と同組成の疎水性シリカ及び疎水性酸化チタン、すなわち、シランカップリング剤とジメチルシリコーンオイルで表面処理した平均粒径１５ｎｍの小粒径の疎水性シリカ１．５重量部、同様に表面処理した平均粒径４０ｎｍの大粒径の疎水性酸化チタン１．０重量部を添加する。
【００３０】
その後、超音波ホモジナイザ（日本精機社製、ＵＳ−３００Ｔ）にて、５分間４０μＡの超音波振動を与えた。
【００３１】
このようにして得られたトナーの外添剤と同組成の疎水性シリカ及び疎水性酸化チタンを含む水溶媒をクリーニングブレード４のクリーニングブレード支持板金３側でない先端３ｍｍに１０秒間浸漬させた。
【００３２】
その後、浸漬させたクリーニングブレード４を引き上げて８時間自然乾燥させた。このことで、トナーの外添剤と同組成の疎水性シリカ及び疎水性酸化チタンを含む水溶媒が塗布された。
【００３３】
このように、クリーニングブレード４に疎水性シリカ、疎水性酸化チタンが添加されることで、高温高湿環境下でも吸湿することがない。その結果、高温高湿環境下でも感光体５表面との摩擦係数が増大することはない。
【００３４】
次に、トナーの外添剤と同組成の疎水性シリカ及び疎水性酸化チタンを含む水溶媒が塗布されたクリーニングブレード４をシャープ株式会社製複写機ＭＸ−２３００（複写速度２３枚／分、定着速度１２６ｍｍ／ｓｅｃ）を改造した画像形成装置に搭載して、常温常湿環境下、画像面積率５％のＡ４原稿にて普通紙（シャープ株式会社製、ＳＦ−４ＡＭ３）を１０万枚横通紙して複写試験を行った。
【００３５】
以下に、種々の評価及び測定方法を記載する。
【００３６】
感光体５表面との摩擦係数の増大によって発生するクリーニングブレード４のめくれの評価としては、複写試験中に異音が発生して、出力画像に感光体５周期で転写残トナーに起因する画像が現れた時点で複写試験を停止し、クリーニングブレード４のめくれが発生していないか目視で確認した。１０万枚後でも発生していなければ良好、発生していれば不良と判定した。
【００３７】
クリーニングブレード４の摩耗によって感光体５表面に発生するクリーニング不良の評価としては、５０００枚毎に出力画像に感光体５周期で転写残トナーに起因する画像が現れるかどうかを確認した。なお、感光体５周期とは、直径３０ｍｍの感光体５の外周周期である。１０万枚後でも現れなければ良好、現れれば不良と判定した。
【００３８】
クリーニングブレード４に塗布される疎水性酸化チタンの平均粒径が大き過ぎたり部数が多過ぎて、感光体５表面に発生させてしまう傷の評価としては、５０００枚毎に出力画像に黒色の傷が発生していないか目視で確認した。１０万枚後でも発生していなければ良好、発生していれば不良と判定した。
【００３９】
感光体５表面の感光膜の膜減りによって発生する画像かぶりの評価としては、１０万枚後、感光体５表面の非画像部に透明テープ（住友スリーエム社製、メンディングテープ）を貼り付け、剥がした透明テープの濃度を濃度計（エックスライト社製、Ｘ−ｒｉｔｅ９３８）にて測定することで行った。０．０１未満を良好、０．０１以上、０．０２未満をやや不良、０．０２以上を不良と判定した。１０万枚後、感光体５表面の感光膜の膜厚もフィッシャースコープ膜厚計（ケツト科学社製、タイプＭＭＳ）にて測定した。
【００４０】
なお、総合判定は、ひとつも不良がない場合を「○」、ひとつ不良があれば「△」、２つ以上不良があれば「×」と判定した。
【００４１】
以上の結果を表１に示す。
【００４２】
【表１】
2013003226.tif 000003
【００４３】
本実施例では、クリーニングブレード４のめくれ、クリーニング不良、感光体５表面の傷も発生しなかった。画像かぶりも、濃度０．００４と良好であった。
【００４４】
疎水性シリカの平均粒径は３〜５０ｎｍ、部数は０．７〜３．５重量部、疎水性酸化チタンの平均粒径は１５〜７５ｎｍ、部数は０．２５〜２．３重量部、疎水性シリカと疎水性酸化チタンの総部数は０．９５〜５．８重量部の範囲内であることが好ましい。
【００４５】
より好ましくは、疎水性シリカの平均粒径は５〜４０ｎｍ、部数は１．０〜３．０重量部、疎水性酸化チタンの平均粒径は２０〜６０ｎｍ、部数は０．５〜２．０重量部、疎水性シリカと疎水性酸化チタンの総部数は１．５〜５．０重量部の範囲内である。
【００４６】
疎水性シリカの平均粒径が３ｎｍより小さいと、クリーニングブレード４の感光体５表面当接部分に疎水性シリカが埋没してしまってクリーニングブレード４のめくれが発生し、５０ｎｍより大きいと、感光体５表面に傷を発生させてしまう。部数が０．７重量部より少ないと、クリーニングブレード４の摩耗によって感光体５表面全面にクリーニング不良が発生し、３．５重量部より多いと、感光体５表面との摩擦係数の増大によってクリーニングブレード４のめくれが発生してしまう。
【００４７】
疎水性酸化チタンの平均粒径が１５ｎｍより小さいと、クリーニングブレード４の感光体５表面当接部分に疎水性酸化チタンが埋没してしまってクリーニングブレード４のめくれが発生し、７５ｎｍより大きいと、感光体５表面に傷を発生させてしまう。部数が０．２５重量部より少ないと、クリーニングブレード４の摩耗によって感光体５表面にクリーニング不良が発生し、２．３重量部より大きいと、感光体５表面に大きな傷を発生させてしまう。
【００４８】
疎水性シリカと疎水性酸化チタンの総部数は、０．９５重量部より少ないと、クリーニングブレード４の摩耗によって感光体５表面にクリーニング不良が発生し、５．８重量部より大きいと、感光体５表面との摩擦係数の増大によってクリーニングブレード４のめくれが発生、もしくは感光体５表面に傷を発生させてしまうので、０．９５〜５．８重量部の範囲内であることが好ましい。
＜実施例２＞
本実施例では、実施例１と比べて、疎水性シリカの平均粒径、疎水性酸化チタンの平均粒径と部数を以下のように変更した。それ以外は実施例１と同一とした。疎水性シリカの平均粒径を１５ｎｍから５ｎｍ、疎水性酸化チタンの平均粒径を４０ｎｍから２０ｎｍ、部数を１．０重量部から０．５重量部に変更した。
【００４９】
クリーニングブレード４のめくれ、クリーニング不良、感光体５表面の傷も発生しなかった。画像かぶりも、濃度０．００３と良好であった。
＜実施例３＞
本実施例では、実施例２と比べて、疎水性酸化チタンの平均粒径と部数を以下のように変更した。疎水性酸化チタンの平均粒径を４０ｎｍから６０ｎｍ、部数を１．０重量部から２．０重量部に変更した。
【００５０】
クリーニングブレード４のめくれ、クリーニング不良、感光体５表面の傷も発生しなかった。画像かぶりも、濃度０．００５と良好であった。
＜実施例４＞
本実施例では、実施例２と比べて、疎水性シリカの部数、疎水性酸化チタンの部数を以下のように変更した。疎水性シリカの部数を１．５重量部から３．０重量部、疎水性酸化チタンの部数を０．５重量部から２．０重量部に変更した。
【００５１】
クリーニングブレード４のめくれ、クリーニング不良、感光体５表面の傷も発生しなかった。画像かぶりも、濃度０．００６と良好であった。
＜実施例５＞
本実施例では、実施例４と比べて、疎水性酸化チタンの平均粒径と部数を以下のように変更した。疎水性酸化チタンの平均粒径を２０ｎｍから６０ｎｍ、部数を２．０重量部から０．５重量部に変更した。
【００５２】
クリーニングブレード４のめくれ、クリーニング不良、感光体５表面の傷も発生しなかった。画像かぶりも、濃度０．００３と良好であった。
＜実施例６＞
本実施例では、実施例４と比べて、疎水性シリカの平均粒径と部数を以下のように変更した。疎水性シリカの平均粒径を５ｎｍから２０ｎｍ、部数を３．０重量部から１．５重量部に変更した。
【００５３】
クリーニングブレード４のめくれ、クリーニング不良、感光体５表面の傷も発生しなかった。画像かぶりも、濃度０．００６と良好であった。
＜実施例７＞
本実施例では、実施例６と比べて、疎水性酸化チタンの平均粒径と部数を以下のように変更した。疎水性酸化チタンの平均粒径を２０ｎｍから６０ｎｍ、部数を２．０重量部から０．５重量部に変更した。
【００５４】
クリーニングブレード４のめくれ、クリーニング不良、感光体５表面の傷も発生しなかった。画像かぶりも、濃度０．００３と良好であった。
＜実施例８＞
本実施例では、実施例２と比べて、疎水性シリカの平均粒径と部数を以下のように変更した。疎水性シリカの平均粒径を５ｎｍから２０ｎｍ、部数を１．５重量部から３．０重量部に変更した。
【００５５】
クリーニングブレード４のめくれ、クリーニング不良、感光体５表面の傷も発生しなかった。画像かぶりも、濃度０．００４と良好であった。
＜実施例９＞
本実施例では、実施例８と比べて、疎水性酸化チタンの平均粒径と部数を以下のように変更した。疎水性酸化チタンの平均粒径を２０ｎｍから６０ｎｍ、部数を０．５重量部から２．０重量部に変更した。
【００５６】
クリーニングブレード４のめくれ、クリーニング不良、感光体５表面の傷も発生しなかった。画像かぶりも、濃度０．００５と良好であった。
＜実施例１０＞
本実施例では、実施例３と比べて、疎水性酸化チタンの部数を２．０重量部から２．３重量部に変更した。
【００５７】
このことで、金属酸化物である疎水性酸化チタンの部数が２．０重量部を超えたため、８．５万枚後、感光体５表面に傷を発生させてしまった。
＜実施例１１＞
本実施例では、実施例６と比べて、疎水性シリカの部数を１．５重量部から０．７重量部に変更した。
【００５８】
このことで、クリーニングブレード４に塗布される疎水性シリカの部数が１．０重量部より少なくなったため、９万枚後、クリーニングブレード４の摩耗によって感光体５表面にクリーニング不良が発生した。
＜実施例１２＞
本実施例では、実施例２と比べて、疎水性酸化チタンの部数を０．５重量部から０．２５重量部に変更した。
【００５９】
このことで、クリーニングブレード４に塗布される疎水性酸化チタンの部数が０．５重量部より少なくなったため、９万枚後、クリーニングブレード４の摩耗によって感光体５表面にクリーニング不良が発生した。
＜実施例１３＞
本実施例では、実施例４と比べて、疎水性シリカの平均粒径、疎水性酸化チタンの平均粒径を以下のように変更した。疎水性シリカの平均粒径を５ｎｍから３ｎｍ、疎水性酸化チタンの平均粒径２０ｎｍから４０ｎｍに変更した。
【００６０】
このことで、クリーニングブレード４に塗布される疎水性シリカの平均粒径が５ｎｍより小さくなったため、クリーニングブレード４の感光体５表面当接部分に疎水性シリカが埋没してしまった。その結果、７．５万枚後、感光体５表面との摩擦係数の増大によってクリーニングブレード４のめくれが発生してしまった。複写試験も停止させた。
＜実施例１４＞
本実施例では、実施例１と比べて、疎水性酸化チタンの平均粒径、部数を以下のように変更した。疎水性酸化チタンの平均粒径を４０ｎｍから７５ｎｍ、部数を１．０重量部から２．０重量部に変更した。
【００６１】
このことで、金属酸化物である疎水性酸化チタンの平均粒径が６０ｎｍより大きくなったため、７．５万枚後、感光体５表面に傷を発生させてしまった。
＜実施例１５＞
本実施例では、実施例１と比べて、疎水性酸化チタンの平均粒径を４０ｎｍから１５ｎｍに変更した。
【００６２】
このことで、クリーニングブレード４に塗布される疎水性酸化チタンの平均粒径が２０ｎｍより小さくなったため、クリーニングブレード４の感光体５表面当接部分に疎水性酸化チタンが埋没してしまった。その結果、７．５万枚後、感光体５表面との摩擦係数の増大によってクリーニングブレード４のめくれが発生してしまった。複写試験も停止させた。
＜実施例１６＞
本実施例では、実施例１と比べて、疎水性シリカの部数を１．５重量部から３．５重量部に変更した。
【００６３】
このことで、クリーニングブレード４に塗布される疎水性シリカの部数が３．０重量部を超えたため、７．５万枚後、感光体５表面との摩擦係数の増大によってクリーニングブレード４のめくれが発生してしまった。複写試験も停止させた。
＜実施例１７＞
本実施例では、実施例１と比べて、疎水性シリカの平均粒径を１５ｎｍから５０ｎｍに変更した。
【００６４】
このことで、クリーニングブレード４に塗布される疎水性シリカの平均粒径が４０ｎｍより大きくなったため、９万枚後、感光体５表面に傷を発生させてしまった。
＜比較例１＞
本比較例では、クリーニングブレード４に、疎水性シリカ及び疎水性酸化チタンの水溶媒の塗布は行わなかった。
【００６５】
このことで、５万枚後、クリーニングブレード４の摩耗によって感光体５表面にクリーニング不良が発生した。
【００６６】
また、感光体５表面の感光膜の膜厚も９．５万枚後、１４．４μｍまで膜減りしてしまい、画像かぶりも濃度０．０２１と不良となってしまった。
【００６７】
以上により、総合判定は、実施例１〜９は、ひとつも不良がないため「○」、実施例１０〜１７はひとつ不良があるため「△」、比較例１は２つ以上不良があるため「×」とした。
【符号の説明】
【００６８】
１  感光体クリーニング装置
２  転写残トナー回収容器
３  クリーニングブレード支持板金
４  クリーニングブレード
５  感光体
Ｅ  接線
Ｌ  突き出し長さ
θ  当接角度
【図１】
2013003226.tif 000004
【図２】
2013003226.tif 000005