(57)【要約】      （修正有）【課題】半導体レーザの温度や経時的な変化によってＩ−Ｌ(駆動電流-光出力)特性が変化した場合においても、正確な高周波重畳量の校正を可能とする。【解決手段】半導体レーザに供給されるベース電流を制御するベース電流生成部は、発光量検出部で検出される発光量が目標発光量で一定となるように制御を行うＡＰＣ（Automatic Power Control）回路を有しており、ベース駆動電流をレーザ光源の発光閾値Ｉｔｈの近傍となるように制御し、上記発光量検出部で検出される発光量の情報に基づいて、高周波電流重畳部を制御する。【選択図】図７
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ光源を駆動するベース駆動電流を生成するベース電流生成部と、
上記ベース駆動電流に対し高周波電流を重畳する高周波電流重畳部と、
上記レーザ光源より発光されたレーザ光の発光量を検出する発光量検出部と、
上記ベース駆動電流を上記レーザ光源の発光閾値の近傍となるように制御し、上記発光量検出部で検出される上記発光量に基づいて上記高周波電流重畳部を制御する制御部と
を備えるレーザ駆動装置。
【請求項２】
上記ベース電流生成部は、
上記発光量検出部で検出される発光量が目標発光量で一定となるように制御を行うＡＰＣ（Automatic Power Control）回路を有しており、
上記制御部は、
上記高周波電流重畳部による上記高周波電流の重畳量をゼロとした状態で上記ＡＰＣ回路に上記発光閾値に応じて設定された発光量を目標発光量としたＡＰＣ動作を実行させることで上記ベース駆動電流を上記レーザ光源の発光閾値の近傍となるように制御し、その後当該制御部が上記高周波電流重畳部を制御するよりも前に、上記ＡＰＣ動作を停止させる
請求項１に記載のレーザ駆動装置。
【請求項３】
上記制御部は、
上記高周波電流重畳部による上記高周波電流の重畳量を段階的に変化させたときに得られる上記発光量の情報と、所定の目標発光量の情報とに基づき、上記高周波電流重畳部が上記ベース駆動電流に重畳する上記高周波電流の値を設定する
請求項１に記載のレーザ駆動装置。
【請求項４】
上記制御部は、
上記高周波電流重畳部による上記高周波電流の重畳量を徐々に増大させ、上記発光量が上記所定の目標発光量以上となったときの上記高周波電流のレベルを、上記高周波電流重畳部が上記ベース駆動電流に重畳する上記高周波電流の値として設定する
請求項３に記載のレーザ駆動装置。
【請求項５】
上記制御部は、
上記ベース駆動電流のレベルを上記レーザ光源の発光閾値と一致するレベルに制御する
請求項１に記載のレーザ駆動装置。
【請求項６】
レーザ光源を駆動するベース駆動電流を上記レーザ光源の発光閾値の近傍となるように制御し、検出される上記レーザ光の発光量に基づいて、上記ベース駆動電流に対し高周波電流を重畳する高周波電流重畳部を制御する
高周波重畳量制御方法。
【請求項７】
レーザ光源を駆動するベース駆動電流を生成するベース電流生成部と、上記ベース駆動電流に対し高周波電流を重畳する高周波電流重畳部と、上記レーザ光源より発光されたレーザ光の発光量を検出する発光量検出部とを備えるレーザ駆動装置が実行すべきプログラムであって、
上記ベース駆動電流を上記レーザ光源の発光閾値の近傍となるように制御し、上記発光量検出部で検出される上記発光量に基づいて上記高周波電流重畳部を制御する高周波重畳量制御処理を、上記レーザ駆動装置に実行させる
プログラム。
【請求項８】
光記録媒体に対して照射するレーザ光を発光するレーザ光源と、
上記レーザ光源より発光されたレーザ光の光記録媒体からの戻り光を受光する受光部と、
上記レーザ光源を駆動するベース駆動電流を生成するベース電流生成部と、
上記ベース駆動電流に対し高周波電流を重畳する高周波電流重畳部と、
上記レーザ光源より発光されたレーザ光の発光量を検出する発光量検出部と、
上記ベース駆動電流を上記レーザ光源の発光閾値の近傍となるように制御し、上記発光量検出部で検出される上記発光量に基づいて上記高周波電流重畳部を制御する制御部と
を備える光記録媒体駆動装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本技術は、レーザ光に対する高周波重畳機能を有するレーザ駆動装置、及び高周波重畳量測定方法、及び該高周波重畳量測定方法を実現するためのプログラムに関する。また、光記録媒体についての少なくとも再生を行い、レーザ光に対する高周波重畳機能を有する光記録媒体駆動装置に関する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００２】
【特許文献１】特許第４３４７２２０号公報
【特許文献２】特開２００２−３３５０４１号公報
【特許文献３】特開２００４−２５３０３２号公報
【背景技術】
【０００３】
例えばＣＤ（Compact Disc）、ＤＶＤ（Digital Versatile Disc）、ＢＤ（Blu-lay Disc：登録商標）などの光ディスク記録媒体（以下、光ディスクとも表記）が広く普及している。
【０００４】
これら光ディスクについて記録や再生を行う光記録媒体駆動装置では、レーザ光の発光駆動に際して、リードパワーのような低いパワー発光をさせる場合にレーザ駆動電流に高周波重畳を掛けることで、戻り光ノイズを軽減して安定した発光動作が得られるようにするものがある（例えば上記各特許文献を参照）。
光ディスクからの反射光の一部がレーザに戻ることにより、半導体レーザにノイズが発生する。このノイズを抑えるためにレーザに高周波重畳を加える手法が実用されている。
【０００５】
ここで、高周波重畳量が少ないと、十分な重畳効果を得ることができない反面、大き過ぎると記録したデータを再生時に劣化させてしまう。特に書き換え可能型（ＲＷ）など相変化系材料を記録層材料に用いるディスクではこの傾向が顕著であり、最適な重畳レベルを保つことは重要である。
【０００６】
高周波重畳信号は周波数が数１００ＭHzと高く、通常のＡＰＣ（Automatic Power Control）回路で用いているＦＰＤ（フロントモニタ）では信号の追従が困難とされる。
図９は、この点について説明するための図である。
上記のように高周波重畳信号は周波数が高いため、図中に破線で示す重畳レベルとしてのレーザパワーのピークレベルをＦＰＤで検出（測定）することができず、ＦＰＤでは、図中の一点鎖線で示すようなレーザパワーの平均レベルが検出されることになる。
【０００７】
このようにＦＰＤでは高周波重畳量の検出が困難なため、従来では、高周波重畳量についてＦＰＤを用いてのフィードバック制御は行わず、高周波重畳量を決定づける高周波電流の振幅値を固定とする手法を採るものとされていた。
【０００８】
しかしながら、半導体レーザは、温度や経時的な変化によってＩ−Ｌ(駆動電流-光出力)特性が変化することから、上記のように高周波電流振幅値を固定値としてしまうと、レーザに対する高周波重畳量を一定に保つことはできない。
【０００９】
そこで、レーザに対する実際の高周波重畳量を検出可能とするために、例えば上記特許文献１では、ピーク検出回路を用いた手法が提案されている。
この特許文献１に記載の発明では、半導体レーザからの出射光の一部をＦＰＤで受光し、ピーク検出回路でピーク値を検出する。レーザパワーの電気信号の平均値とピーク値との比であるピーク対平均比で高周波重畳量を求め、振幅を制御するものとしている。
【００１０】
また、上記特許文献２では、ＦＰＤからの信号をＢＰＦ(Band Pass Filter)を通して高周波信号を抽出し、制御する手法が提案されている。
また上記特許文献３では、半導体レーザに流す電流を固定値とした後、重畳Ｏｎ／Ｏｆｆ時のＦＰＤ出力レベル差が一定となるように重畳量を上げていく手法が開示されている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかしながら、上記の各特許文献に記載の従来手法では、高周波重畳とＡＰＣとを実現するための構成に加えて、ピーク検出回路や電流モニタ回路など専用の部品を別途要するものとなり、結果としてコストアップにつながってしまう。
具体的に、特許文献１では、レーザパワーについてのピーク検出回路を別途要し、また特許文献２ではＢＰＦを別途要するものとなる。また特許文献３では上記固定値に設定するため電流値をモニタする回路が別途必要となる。
【００１２】
本技術は上記問題点に鑑みなされたもので、高周波重畳とＡＰＣとを実現するための構成に別途の追加構成を必要としない簡易な回路構成により正確な高周波重畳量の校正を可能とすることをその課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記課題の解決のため、本技術ではレーザ駆動装置として以下のように構成することとした。
つまり、本技術のレーザ駆動装置は、レーザ光源を駆動するベース駆動電流を生成するベース電流生成部を備える。
また、上記ベース駆動電流に対し高周波電流を重畳する高周波電流重畳部を備える。
また、上記レーザ光源より発光されたレーザ光の発光量を検出する発光量検出部を備える。
また、上記ベース駆動電流を上記レーザ光源の発光閾値の近傍となるように制御し、上記発光量検出部で検出される上記発光量に基づいて上記高周波電流重畳部を制御する制御部を備えるものである。
【００１４】
上記のように本技術では、ベース駆動電流のレベルをレーザ光源の発光閾値の近傍となるように制御し、発光量検出部で検出される発光量の情報に基づいて、上記高周波電流重畳部を制御するものとしている。
これによれば、発光量検出部がレーザ光に重畳される高周波成分の平均値しか測定できないとの制約の下でも、高周波重畳量を正確に校正できる。
そして上記本技術によれば、高周波重畳量の校正は発光量検出部で検出される発光量をそのまま用いて行うことが可能であり、従来手法が要していたピーク検出回路や電流モニタ回路などの、高周波重畳とＡＰＣとを実現するため以外の追加構成は不要にできる。
【発明の効果】
【００１５】
上記のように本技術によれば、従来手法が要していたピーク検出回路や電流モニタ回路などの高周波重畳とＡＰＣとを実現するため以外の追加構成は必要とせずに、正確な高周波重畳量の校正を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】実施の形態としての光記録媒体駆動装置の内部構成を示した図である。
【図２】レーザ発光に係る部分の構成を示した図である。
【図３】ベース電流、高周波電流、及びレーザパワーの関係についての説明図である。
【図４】温度に依存して電流−光出力特性が変化することについての説明図である。
【図５】実施の形態の高周波重畳制御手法（主に重畳量の測定）について説明図である。
【図６】実施の形態の高周波重畳制御手法（主に重畳量の校正）について説明図である。
【図７】重畳量測定時のベース電流レベルを発光閾値近傍に設定すべき点についての説明図である。
【図８】実施の形態の高周波重畳制御手法を実現するために実行されるべき具体的な処理の手順を示したフローチャートである。
【図９】実際の高周波重畳量と検出可能な発光量との関係を示した図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本技術に係る実施の形態について説明する。
なお、説明は以下の順序で行う。
＜１．実施の形態の光記録媒体駆動装置の構成＞
＜２．実施の形態の高周波重畳制御手法＞
［2-1．ベース電流、高周波電流、及びレーザパワーの関係について］
［2-2．具体的な重畳制御手法］
［2-3．処理手順］
＜３．変形例＞
【００１８】
＜１．実施の形態の光記録媒体駆動装置の構成＞
図１は、本技術に係る実施の形態としての光記録媒体駆動装置（以下、光ディスク装置１とする）の内部構成を示している。
先ず、図中の光ディスクＤは、円盤状の光記録媒体（光ディスク記録媒体）である。ここで、光記録媒体とは、光の照射により情報の記録又は再生が行われる記録媒体を指す。
本実施の形態の光ディスク装置は、いわゆるＲＯＭ型（再生専用型）の光ディスクＤについての再生と、記録可能型の光ディスクＤについての記録及び再生が可能に構成されている。
【００１９】
光ディスクＤは、光ディスク装置１に装填されると、そのセンターホールが不図示のターンテーブル上にクランプされ、その状態で図中のスピンドルモータ（ＳＰＭ）２により例えばＣＬＶ（Constant Linear Velocity：線速度一定）方式等の所定の回転制御方式に従って回転駆動される。
【００２０】
光ディスク装置１には、回転駆動される光ディスクＤに対して情報の記録／再生を行うためのレーザ光の照射、及び光ディスクＤに照射された当該レーザ光の反射光（戻り光）を受光するための光ピックアップＯＰが設けられる。
【００２１】
光ピックアップＯＰ内には、上記レーザ光の光源となる半導体レーザ（後述するレーザダイオード１５）が設けられる。
また、光ピックアップＯＰ内には、上記レーザ光を光ディスクＤに集光するための対物レンズ３、及び当該対物レンズ３を光ディスクＤに接離する方向（フォーカス方向）と半径方向（トラッキング方向）とに変位可能に保持し且つ対物レンズ３を光軸に対し傾ける３軸アクチュエータ４が設けられる。
また、光ピックアップＯＰ内には、対物レンズ３を介して得られる光ディスクＤからの反射光を受光するためのフォトディテクタを具備する受光部が備えられる。
なお、光ピックアップＯＰ内にはレーザダイオード１５を発光駆動するための駆動回路（後述するレーザ駆動回路２１）や図中のＡＰＣ（Automatic Power Control）回路１８によるＡＰＣ処理で用いられるべき受光信号ＤＴ-Frを得るためのフロントモニタ（後述するフロントモニタ１６）が設けられるが、この点については図２により改めて説明する。
【００２２】
光ピックアップＯＰ内の上記受光部により得られた受光信号（受光信号ＤＴとする）は、信号生成回路５に供給される。
信号生成回路５は、受光信号ＤＴに基づき、所定の演算処理により必要な信号を生成する。
例えば再生データを得るための高周波信号（再生データ信号：以下ＲＦ信号と表記）、サーボ制御のためのフォーカスエラー信号ＦＥ、及びトラッキングエラー信号ＴＥを生成する。ここで、フォーカスエラー信号ＦＥは光ディスクＤに形成された記録面（反射面）に対するレーザ光の合焦位置の誤差を表す信号である。またトラッキングエラー信号ＴＥは、上記記録面に形成されたトラックに対する上記レーザ光の照射スポットのトラッキング方向における位置誤差を表す信号となる。
【００２３】
信号生成回路５が生成したＲＦ信号は、再生処理部６に供給される。再生処理部６は、ＲＦ信号についての２値化処理やエラー訂正処理等の再生処理（データリード処理）を行い、再生データを得る。
またＲＦ信号は、コントローラ１１に供給されて、信号品質の評価などに用いられる。
【００２４】
信号生成回路５が生成したフォーカスエラー信号ＦＥ、及びトラッキングエラー信号ＴＥは、サーボ回路７へ供給される。
サーボ回路７は、これらフォーカスエラー信号ＦＥ、トラッキングエラー信号ＴＥに基づき、フォーカス、トラッキングの各サーボ制御を実現する。
具体的にサーボ回路７は、フォーカスエラー信号ＦＥ、トラッキングエラー信号ＴＥに基づきフォーカスサーボ信号、トラッキングサーボ信号をそれぞれ生成し、これらをアクチュエータドライバ８に与える。
アクチュエータドライバ８は、これらフォーカスサーボ信号、トラッキングサーボ信号に基づき生成したフォーカスドライブ信号、トラッキングドライブ信号により、前述した３軸アクチュエータ４のフォーカスコイル、トラッキングコイルをそれぞれ駆動する。これにより、３軸アクチュエータ４→信号生成回路５→サーボ回路７→アクチュエータドライバ８→３軸アクチュエータ４・・・によるフォーカスサーボループ及びトラッキングサーボループがそれぞれ形成される。
【００２５】
また、アクチュエータドライバ８は、コントローラ１１からの指示に基づき、３軸アクチュエータ８による対物レンズ３のチルト量を調整する。
【００２６】
また光ディスク装置１には、記録波形生成部９及びレーザ駆動部１０が設けられる。
記録波形生成部９には、光ディスクＤに記録されるべき記録データが入力される。記録波形生成部９は、ライトストラテジ調整処理やＯＰＣ（Optimum Power Control）処理によって求められたパルス幅やパルス高さ等についてのパラメータに基づき、上記記録データに応じた記録波形信号ＲＣＰを生成し、これをレーザ駆動部１０に対して与える。この結果、レーザ駆動部１０からはレーザ駆動信号Ｄ-ldが出力され、該駆動信号Ｄ-ldに基づき光ピックアップＯＰ内のレーザダイオード１５が発光駆動される。これにより、光ディスクＤに上記記録データに応じた信号記録が為される。
なお、レーザ駆動部１０の内部構成については図２により改めて説明する。
【００２７】
コントローラ１１は、例えばＣＰＵ（Central Processing Unit）、ＲＯＭ（Read Only Memory）、ＲＡＭ（Random Access Memory）を備えたマイクロコンピュータで構成され、例えば上記ＲＯＭ等に格納されたプログラムに従った処理を実行することで、光ディスク装置１の全体制御を行う。
例えば、コントローラ１１は、ＲＦ信号の振幅値に基づきチルト調整処理を実行して最適チルト制御値を求め、該最適チルト制御値をアクチュエータドライバ８に対して指示することで、チルト補正を実行させる。
【００２８】
またコントローラ１１は、レーザ駆動部１０に対し、レーザパワーの指示を行う。例えば再生時に対応しては、所要の再生パワー（リードパワー）による発光が行われるように指示（具体的にはＡＰＣ回路１８に対する目標レーザパワーの指示）を行い、記録時に対応しては記録波形生成部９からの記録波形信号ＲＣＰに基づく発光が行われるように指示を行う。
また、コントローラ１１は、レーザ駆動部１０（後述する重畳制御部２１）に対し、後述する実施の形態としての高周波重畳制御の実行指示なども行うが、これについては改めて説明する。
【００２９】
図２は、光ディスク装置１が備えるレーザ発光に係る部分の構成を示した図である。
先ず、光ピックアップＯＰ内には、レーザ発光に係る構成として、レーザダイオード１５が設けられている。また光ピックアップＯＰ内には、フロントモニタ１６も設けられる。先の説明からも理解されるように、レーザダイオード１５はレーザ駆動信号Ｄ-ldにより発光駆動され、フロントモニタ１６はレーザダイオード１５が発光したレーザ光を受光して、発光量（光出力）を表す受光信号ＤＴ-Frを得る。
【００３０】
またこの図２では、レーザ発光に係る構成として、先の図１にも示したレーザ駆動部１０の内部構成が示されている。
【００３１】
図示するようにレーザ駆動部１０内には、レーザ駆動回路１７、ＡＰＣ回路１８、加算部１９、高周波電流生成回路２０、重畳制御部２１、及びメモリ２２が設けられる。
レーザ駆動回路１７は、ＡＰＣ回路１８からのベース電流指示値Ｂ、及び記録時には記録波形信号ＲＣＰに基づき、レーザダイオード１５の発光駆動に用いられるベース駆動電流Ｉ-ldを生成する。当該ベース駆動電流Ｉ-ldは、加算部１９に供給される。
なお以下、ベース駆動電流Ｉ-ldについては単にベース電流Ｉ-ldとも表記する。
【００３２】
高周波電流生成回路２０は、ベース電流Ｉ-ldに重畳されるべき高周波電流Ｉ-hgを生成し、これを加算部１９に出力する。
高周波電流生成回路２０が生成する高周波電流Ｉ-hgの周波数は数１００Ｍhz程度とされ、その振幅レベルは重畳量制御部２１より与えられる高周波電流振幅指示値Ｈに基づき設定される。
【００３３】
加算部１９は、レーザ駆動回路１７から入力されるベース電流Ｉ-ldと高周波電流生成回路２０から入力される高周波電流Ｉ-hgとを加算する。
このように加算部１９でベース電流Ｉ-ldと高周波電流Ｉ-hgとが加算されて得られる信号が、レーザ駆動信号Ｄ-ldとしてレーザダイオード１５に与えられる。
【００３４】
ＡＰＣ回路１８は、フロントモニタ１６による受光信号ＤＴ-Frに基づき、レーザダイオード１５のレーザパワーを指示されたパワーで一定とするＡＰＣ処理を行う。
【００３５】
重畳制御部２１は、フロントモニタ１６による受光信号ＤＴ-Frに基づき、以下で説明する実施の形態としての高周波重畳制御を行う。
本例の場合、重畳制御部２１は図中のメモリ２２内に格納された制御プログラム２２ａ従った処理を実行することで、実施の形態としての高周波重畳制御を実現するものとされる。
【００３６】
＜２．実施の形態の高周波重畳制御手法＞
［2-1．ベース電流、高周波電流、及びレーザパワーの関係について］
先ずは実施の形態としての高周波重畳制御手法についての説明に先立ち、図３を参照してベース電流、高周波電流、及びレーザパワーの関係について確認しておく。
図３において、図３Ａ，図３Ｂでは、共に横軸をレーザ駆動電流値（Ｉ）、縦軸をレーザパワー（Ｐｗ）として、高周波重畳をそれぞれＯｎ／Ｏｆｆとしたときの電流−パワー特性（電流−光出力特性）をグラフ化して示している。図のように重畳Ｏｆｆ時の特性は実線、重畳Ｏｎ時の特性は破線である。
また、図３Ａでは、グラフの下方に、ベース電流Ｉ-ldがレーザダイオード１５の発光閾値Ｉｔｈに設定された状態で所要の振幅による高周波電流Ｉ-hgの重畳が行われた場合における発光量（図中スクリーン部）を模式的に示している。一方、図３Ｂでは、グラフの下方にベース電流Ｉ-ldがレーザダイオード１５の発光閾値Ｉｔｈを超える値に設定された状態で所要の振幅による高周波電流Ｉ-hgの重畳が行われた場合における発光量（スクリーン部）を模式的に示している。
【００３７】
先ず、半導体レーザであるレーザダイオード１５は、レーザ駆動信号Ｄ-ldの値（電流値）が発光閾値Ｉｔｈ以上となることで発光を始める。
高周波重畳をＯｆｆにしたとき、すなわちベース電流Ｉ-dlのみによる駆動を考えると、その後は駆動電流に対して比例してレーザパワーＰｗも増加していくことになる（図中、実線による特性）。
【００３８】
次に、高周波重畳をＯｎとしたときを考える。図３Ａに示されるように高周波電流のうち閾値Ｉｔｈを超えるものは実際のレーザ発光となり、超えないものは発光には寄与しない。
このときのレーザパワーは図中にΔＰと示すものとなる。このΔＰは、ベース電流Ｉ-dl単体での駆動時と高周波電流を重畳した駆動時とでのレーザパワー差を表す。図のように該パワー差ΔＰは、ベース電流Ｉ-dlが閾値Ｉｔｈと一致しているときに最大となる。
【００３９】
なお、高周波重畳がＯｎの状態では、ベース電流Ｉ-ldが閾値Ｉｔｈより小さくても、高周波電流の一部が閾値Ｉｔｈを超えることで、レーザ発光が為される。ベース電流Ｉ-ldが閾値Ｉｔｈより小さい場合、ベース電流Ｉ-dlの大きさが閾値Ｉｔｈから離れるに従って徐々にパワー差ΔＰが減少していくことになる。
【００４０】
また、図３Ｂに示す、ベース電流Ｉ-dlが閾値Ｉｔｈよりも大である場合も、ベース電流Ｉ-dlの大きさが閾値Ｉｔｈから離れるに従って徐々にパワー差ΔＰが減少していくことになる。これは、図中の下方にて示すように、高周波電流Ｉ-hgの負極性側のパルスによりベース電流Ｉ-dlの一部が削られることに依る。
この場合、パワー差ΔＰが０となるのは、ベース電流Ｉ-ldの増加に伴い高周波電流のボトムレベルが発光閾値Ｉｔｈに一致したときである。
【００４１】
ここで、前述もしたように、高周波電流Ｉ-hgの周波数はフロントモニタ１６の検出能力に対して相当に高いため、フロントモニタ１６ではレーザへの高周波重畳量についてその平均値でしか情報を得ることができない。
このため、高周波重畳量に関しては、これを所望の重畳量で一定とするようにフィードバック制御を行うことが非常に困難とされていた。
【００４２】
例えば、高温時ではＩ−Ｌ（電流-光出力）特性の微分効率が低くなるので、同じ電流を流しても重畳量が低下してしまう。ＡＰＣ回路１８が設けられていることでレーザパワーの平均値を一定とするようにベース電流Ｉ-dlのレベルを上昇させる制御が為されるが、高周波重畳量に関しては低下したままとなってしまい、結果として十分な重畳効果を得ることができないものとなる。
【００４３】
図４は、温度に依存して電流−光出力特性（Ｉ−Ｌ特性）が変化することについて説明するための図である。
具体的にこの図４では、高周波電流振幅指示値と光出力平均値(∝レーザパワー)の常温(２５deg)時と高温(５０deg)時との関係を示している。
この図４によれば、同じ高周波電流振幅値を設定したとしても、温度に依存して、レーザに対する実際の高周波重畳量が異なることが確認できる。
例えば、図中の破線がレーザに対する最適な高周波成分の重畳状態であるとすると、２５degでは高周波電流振幅指示値＝３００程度に設定すべきであるのに対し、５０degでは高周波電流振幅指示値＝３５２程度に設定すべきであることが分かる。
【００４４】
また、高周波電流の重畳量とそれに応じたレーザへの実際の高周波重畳量との関係は、光ディスクＤや光ディスク装置１の個体差に依っても変化し得るものである。
従って、高周波重畳に関しては、これらの観点においてもその校正が行われることが望ましい。
【００４５】
本実施の形態は、このような高周波重畳量についての校正を、前述のようにフロントモニタ１６ではその平均的な値しか測定できないとの制約の下で、より正確に行うことをその課題とする。
また同時に、このような高周波重畳量の校正を、従来手法が要していたピーク検出回路や電流モニタ回路などの、高周波重畳とＡＰＣとを実現するため以外の追加構成を不要とした簡易な構成で実現することを課題とする。
【００４６】
［2-2．具体的な重畳制御手法］
図５及び図６により、実施の形態としての重畳制御手法について説明する。
なおこれら図５及び図６では、先の図３と同様に高周波重畳をＯｎとしたときの電流−パワー特性（破線）と高周波重畳をＯｆｆとしたときの電流−パワー特性（実線）とを示している。
また以下の説明において、制御主体は図２に示した重畳制御部２１となる。
【００４７】
先ず、本実施の形態では、図５中の＜１＞と示すように、高周波電流レベルを０とし、目標パワー＝ＰOとしたＡＰＣをかける。
ここで、パワーＰOの値としては、ベース電流Ｉ-ldのレベルが発光閾値Ｉｔｈ近傍となるようにすべく、０近傍のできるだけ小さな値に設定しておく。これは、ベース電流Ｉ-ldのレベルが発光閾値Ｉｔｈにより近い方が、より精度よく高周波重畳量を反映した測定結果を得ることができるためである。なおこのことは、先の図３Ａと図３Ｂとを対比して、ベース電流Ｉ-ldのレベルがより小さい方が、高周波重畳Ｏｎ時とＯｆｆ時とでのパワー差（ΔＰ）が大きく得られていることからも理解できる。
【００４８】
ここで、図７を参照し、高周波重畳量の測定を正確に行う上でベース電流Ｉ-dlのレベルをより小さく設定すべきであることを具体的に説明する。
図７において、図７Ａはベース電流レベルと発光閾値Ｉｔｈとが一致した状態で高周波重畳が行われた場合の発光量（スクリーン部）を表し、図７Ｂはベース電流レベルが発光閾値Ｉｔｈに対して比較的大きく設定された状態で高周波重畳が行われた場合の発光量（スクリーン部）を表している。
なお、これらの図では、高周波電流Ｉ-hgの振幅レベルを３段階に変化させた際の波形を重ね合わせて示している。
【００４９】
図７Ａに示されるようにベース電流レベルが発光閾値Ｉｔｈに一致する状態では、高周波電流Ｉ-hgの正極性側の波形部分のみが発光に寄与することとなるため、高周波電流Ｉ-hgの振幅変化と、発光量の変化との間の相関性が高い状態となる。
これに対し、図７Ｂのようにベース電流レベルが発光閾値Ｉｔｈに対し大きく設定された状態では、高周波電流Ｉ-hgの正極性側の波形部分のみでなく負極性側の波形部分が発光に寄与するため、高周波電流Ｉ-hgの振幅変化と発光量の変化との間の相関性が図７Ａの場合との比較で低下してしまうこととなる。
このようにして、実際の高周波重畳量を反映した正確なパワー測定結果を得るにあたっては、ベース電流Ｉ-ldのレベルはできるだけ発光閾値Ｉｔｈに近い値に設定（つまり＜１＞によるＡＰＣの目標パワーＰOはできるだけ０に近い値に設定）することが望ましいものである。
なお、具体的なパワーＰOについては、リードパワーの１／２０や１／５０など、リードパワーを目安としてその数十分の１程度に設定することができる。何れにしても、本例のように重畳量測定時に設定されるべきベース電流レベルをパワーＰOに基づくＡＰＣにより調整する場合には、パワーＰOとしては０より大となる値を設定すべきものとなる。
【００５０】
図５に戻り、上記＜１＞により目標パワー＝ＰOとしたＡＰＣが実行されることで、ベース電流Ｉ-ldのレベルは、該パワーＰOに応じたレベルに調整される。このときの駆動電流値を図のように「ＩO」とする。
このように目標パワー＝ＰOとしたＡＰＣをかけて駆動電流値がＩOに調整された後は、図中の＜２＞と示すように、ＡＰＣで定まったＩOにベース電流レベルを固定する。具体的には、上記のようにベース電流レベルがＩOに調整された状態でＡＰＣをＯｆｆにすると、ベース電流Ｉ-ldがＩOで固定される。
【００５１】
上記＜２＞によりベース電流Ｉ-ldをＩOで固定した後は、図６中の＜３＞と示すように、高周波電流振幅を徐々に増大させつつ、パワーをモニタする。具体的には、高周波電流生成回路２０に対する高周波電流振幅指示値Ｈを所定のステップ幅ａにより徐々に増大させつつ、フロントモニタ１６による受光信号ＤＴ-Frのレベルをモニタする。
【００５２】
上記＜３＞の動作を開始した後は、図中＜４＞と示すように、ターゲットパワーＰTGに至ったときの高周波電流振幅を最適な高周波電流振幅として設定する。
上記＜３＞の動作により高周波電流振幅指示値Ｈを徐々に増大させていくことによっては、それに比例して発光量（Ｐｗ）も徐々に大きくなる。該＜４＞の動作では、受光信号ＤＴ-Frに基づき測定されるレーザパワーの値が、予め設定されたターゲットパワーＰTGの値以上となったときの高周波電流振幅指示値Ｈを、高周波電流生成回路２０に設定されるべき最適な高周波電流振幅指示値Ｈとして設定するものである。
ここで、ターゲットパワーＰTGの値は、該パワーＰTGとなるように高周波電流振幅を調整することで高周波重畳量が校正されるように予めチューニングしておいた値とする。
具体的に、ターゲットパワーＰTGとしては、例えば上記実施の形態としての手法と同様にベース電流レベルをＩOに固定した状態で高周波電流振幅指示値Ｈを変化させて高周波重畳効果を確認する実験を行い、その結果より、所望の高周波重畳効果が得られたときパワー値を求めておく。
【００５３】
上記により説明した実施の形態としての重畳制御手法により、フロントモニタ１６がレーザパワーの平均レベルしか測定できないとの制約の下でも、高周波重畳量の校正を正確に行うことができる。
具体的に本実施の形態では、ベース電流Ｉ-ldのレベルを発光閾値Ｉｔｈ近傍のＩOに固定した状態で高周波電流振幅指示値Ｈを変化させてパワーを測定するので、レーザに対する実際の高周波重畳量を良く反映した正確な測定結果を得ることができ、結果として、高周波重畳量の校正を正確に行うことができる。
【００５４】
また、上記説明からも理解されるように、本実施の形態によれば、このような正確な高周波重畳量の測定や校正を行うにあたっては、パワーモニタ用のディテクタとしてＡＰＣ回路１８が用いているフロントモニタ１６を兼用することができる。この点からも理解されるように、本実施の形態では、高周波重畳量の正確な測定や校正にあたり、従来手法が要していたピーク検出回路や電流モニタ回路などの高周波重畳とＡＰＣとを実現するため以外の追加構成は不要とすることができる。すなわち、このような追加構成を要しない簡易な構成により、高周波重畳量の測定や校正を正確に行うことができるものである。
【００５５】
また、本実施の形態では、高周波重畳量についての校正を行うことで、例えば高周波電流振幅指示値Ｈを固定値で動作させる従来手法との比較で、温度変化や光ディスクＤ及び／又は光ディスク装置１の個体差に依る重畳量のばらつきを抑えることができ、確実かつ安定的に所望の重畳効果を得ることができる。
【００５６】
ここで、上記による実施の形態としての校正処理は、例えば光ディスク装置１の起動時（Initialize動作時）や温度変化（例えば２０degごと等）時、ＰＩ信号（ＰＩ：Pull-In）の低下時などに実行することができる。
起動時に対応して重畳量の校正を行うことで、温度差や光ディスクＤ・光ディスク装置１の個体差に関わらず、最適な重畳量を保つことができる。
また、温度変化に応じて校正を実行すれば、温度変化に依らず重畳量を最適に保つことができる。
また、光ディスクＤの再生中にＰＩ信号が悪化した際にはReadabilityの低下を疑い徐々に重畳量を上げてReadabilityの改善を図ることがあるが、過度に重畳量を上げると記録したデータに上書きしてしまい、記録信号品質の悪化を招いてしまう虞がある。ＰＩ信号の低下に応じて重畳量校正を実行すれば、一度で最適な重畳量に設定することができるため、上書きによる記録信号品質の悪化の防止を図ることができる。
【００５７】
なお、これらのタイミングでの重畳量校正処理の実行指示は、コントローラ１１が重畳制御部２１に対して行う。
例えば、温度変化に応じて校正を実行する際には、光ディスク装置１にはレーザダイオード１５周囲の温度を測定するサーミスタが設けられ、コントローラ１１が該サーミスタによる温度検出結果に応じて（例えば起動時や前回の重畳量校正時からの温度差が所定値に達したことに応じて）、重畳制御部２１に校正処理の実行を指示すればよい。
また、ＰＩ信号の低下に応じて校正を実行する際には、コントローラ１１がＰＩ信号（信号生成回路５にて生成される）を入力し、該ＰＩ信号の振幅値が所定値以下に低下したことに応じて重畳制御部２１に校正処理の実行を指示すればよい。
【００５８】
［2-3．処理手順］
図８は、上記により説明した実施の形態としての高周波重畳制御手法を実現するために実行されるべき具体的な処理の手順を示したフローチャートである。
なお、本例の場合、この図に示す処理は、図２に示した重畳制御部２１がメモリ２２に格納された制御プログラム２２ａに従って実行するものとなる。
【００５９】
図８において、先ずステップＳ１０１では、高周波電流振幅指示値Ｈ＝０に設定する。すなわち、高周波重畳量を０とするものである。
【００６０】
ステップＳ１０１にて高周波電流振幅指示値Ｈ＝０とした後は、ステップＳ１０２において、パワーＰOを目標パワーとしたＡＰＣを実行させる。すなわち、ＡＰＣ回路１８に対して予め設定されたパワーＰOとしての値を目標パワー値として指示し、ＡＰＣ処理を実行させる。
該ＡＰＣ処理により、ベース電流レベルが前述したＩOに調整される。
【００６１】
ステップＳ１０２によるＡＰＣ処理の実行によりベース電流Ｉ-ldのレベルがＩOに調整されたことに応じ、ステップＳ１０３において、ベース電流Ｉ-ldのレベルをＩOに固定する。具体的には、ＡＰＣ回路１８によるＡＰＣ処理をＯｆｆとすることで、ベース電流Ｉ-ldのレベルをＩOに固定する。
【００６２】
ステップＳ１０３によりベース電流Ｉ-ldのレベルをＩOに固定した後は、ステップＳ１０４においてレーザパワーＰｗの測定を行う。具体的には、受光信号ＤＴ-Frのレベルを検出する。
そしてその後、ステップＳ１０５において、測定したパワーＰｗがターゲットパワーＰTG以上（Ｐｗ≧ＰTG）であるか否かを判別する。
ステップＳ１０５において、「Ｐｗ≧ＰTG」ではないとして否定結果が得られた場合は、ステップＳ１０６に進んで現在の高周波電流振幅指示値Ｈにステップ幅ａの値を加算（Ｈ＝Ｈ＋ａ）した後、ステップＳ１０５に戻って再度「Ｐｗ≧ＰTG」であるか否かを判別する。これにより、パワーＰｗがターゲットパワーＰTGに至るまで徐々に高周波電流振幅指示値Ｈを増加させるループ処理が為される。
【００６３】
そして、ステップＳ１０５において、「Ｐｗ≧ＰTG」であるとの肯定結果が得られた場合は、ステップＳ１０７に進み、現在の高周波電流振幅指示値Ｈで固定する。すなわち、高周波電流生成回路２０に現在の高周波電流振幅指示値Ｈが設定された状態を維持する。これにより、最適な高周波重畳量の設定が為されたことになる。
【００６４】
なお確認のため述べておくと、ステップＳ１０７による重畳量の設定（固定）後には、ＡＰＣがオンとされた上で再生が開始されることになる。
【００６５】
＜３．変形例＞
以上、本技術に係る実施の形態について説明したが、本技術はこれまでで説明した具体例に限定されるべきものではない。
例えばこれまでの説明では、レーザ駆動回路１７、加算部１９、高周波電流生成回路２０、重畳制御部２１、及びメモリ２２が光ピックアップＯＰの外部に設けられた構成を例示したが、これらは光ピックアップＯＰの内部に設けることもできる。
また、ＡＣＰ回路１８についても、光ピックアップＯＰの外部でなく内部に設けることができる。
【００６６】
また、確認のため述べておくと、本実施の形態において、ベース電流レベルＩOは、発光閾値Ｉｔｈに一致させることもできる。
ベース電流レベルＩOを発光閾値Ｉｔｈに一致させるための手法としては、例えばベース電流Ｉ-ldのレベルを振りつつレーザパワーをモニタし、発光量が０となるベース電流レベルと発光がオンとなる（０より大となる）ベース電流レベルとの境界電流レベルを探索するなどの手法を挙げることができる。
或いは、目標パワーをパワーＰOとしたＡＰＣによりベース電流レベルを一旦発光閾値Ｉｔｈよりも高いレベルに調整した上で、該調整されたベース電流レベルに上記パワーＰｏの値に応じたオフセットを与えてベース電流レベルを発光閾値Ｉｔｈに一致させるということもできる。
【００６７】
また、これまでの説明では、本技術が光記録媒体についての記録と再生の双方が可能とされた光記録媒体駆動装置に適用される場合を例示したが、本技術は、光記録媒体についての少なくとも再生を行う光記録媒体駆動装置に好適に適用できる。
また、本技術は光記録媒体駆動装置に限らず、レーザ光に対する高周波重畳を行う装置に広く好適に適用できる。
【００６８】
また、本技術は、以下に示す構成とすることも可能である。
（１）
レーザ光源を駆動するベース駆動電流を生成するベース電流生成部と、
上記ベース駆動電流に対し高周波電流を重畳する高周波電流重畳部と、
上記レーザ光源より発光されたレーザ光の発光量を検出する発光量検出部と、
上記ベース駆動電流を上記レーザ光源の発光閾値の近傍となるように制御し、上記発光量検出部で検出される上記発光量に基づいて上記高周波電流重畳部を制御する制御部と
を備えるレーザ駆動装置。
（２）
上記ベース電流生成部は、
上記発光量検出部で検出される発光量が目標発光量で一定となるように制御を行うＡＰＣ（Automatic Power Control）回路を有しており、
上記制御部は、
上記高周波電流重畳部による上記高周波電流の重畳量をゼロとした状態で上記ＡＰＣ回路に上記発光閾値に応じて設定された発光量を目標発光量としたＡＰＣ動作を実行させることで上記ベース駆動電流を上記レーザ光源の発光閾値の近傍となるように制御し、その後当該制御部が上記高周波電流重畳部を制御するよりも前に、上記ＡＰＣ動作を停止させる
上記（１）に記載のレーザ駆動装置。
（３）
上記制御部は、
上記高周波電流重畳部による上記高周波電流の重畳量を段階的に変化させたときに得られる上記発光量の情報と、所定の目標発光量の情報とに基づき、上記高周波電流重畳部が上記ベース駆動電流に重畳する上記高周波電流の値を設定する
上記（１）又は（２）何れかに記載のレーザ駆動装置。
（４）
上記制御部は、
上記高周波電流重畳部による上記高周波電流の重畳量を徐々に増大させ、上記発光量が上記所定の目標発光量以上となったときの上記高周波電流のレベルを、上記高周波電流重畳部が上記ベース駆動電流に重畳する上記高周波電流の値として設定する
上記（３）に記載のレーザ駆動装置。
（５）
上記制御部は、
上記ベース駆動電流のレベルを上記レーザ光源の発光閾値と一致するレベルに制御する
上記（１）に記載のレーザ駆動装置。
【符号の説明】
【００６９】
１  光ディスク装置、２  スピンドルモータ（ＳＰＭ）、３  対物レンズ、４  ３軸アクチュエータ、５  信号生成回路、６  再生処理部、７  サーボ回路、８  アクチュエータドライバ、１０  レーザ駆動部、１１  コントローラ、１５  レーザダイオード、１６  フロントモニタ、１７  レーザ駆動回路、１８  ＡＰＣ回路、１９  加算部、２０  高周波電流生成回路、２１  重畳制御部、２２  メモリ、２２ａ  制御プログラム、ＯＰ  光ピックアップ、Ｄ  光ディスク
【図１】
2013218763.tif 000003
【図２】
2013218763.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
2013218763.tif 000007
【図６】
2013218763.tif 000008
【図７】
2013218763.tif 000009
【図８】
2013218763.tif 000010
【図９】
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