(57)【要約】【課題】基板の水平面に対する傾動動作を高精度で制御する。【解決手段】  レベリング装置４０は、基板を保持する基板ホルダと一体的に水平面に対して傾動可能なレベリングダイヤ４２と、レベリングダイヤ４２を下方から支持する複数のエアベアリング４６と、を含み、該エアベアリング４６は、球面軸受け５８、及び／又はヒンジ部５４の作用により、レベリングダイヤ４２の姿勢変化に応じて揺動可能となっている。エアベアリング４６は、露光動作中などにおけるレベリング制御時には、球面軸受け５８の動作が制限され、ヒンジ部５４のみの作用により揺動し、レベリングダイヤ４２が過度に傾動した場合には、球面軸受け５８、及びヒンジ部５４の作用により揺動する。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１面部を有する第１部材と、前記第１面部に対向して配置された第２面部を有する第２部材と、を含み、前記第２面部が前記第１面部に沿って相対移動することにより、前記第１及び第２部材の相対的な姿勢変化を許容する部材の支持構造であって、
前記第２部材は、
前記第２面部を揺動可能に支持する第１揺動支持装置と、
前記第２面部と前記第１揺動支持装置とを一体的に揺動可能に支持する第２揺動支持装置と、を備える部材の支持構造。
【請求項２】
前記第１部材は、前記第１面部を複数有し、
前記複数の第１面部は、互いに異なる方向を向いて配置され、
前記第２部材は、前記複数の第１面部に対応して前記第２面部を複数有する請求項１に記載の部材の支持構造。
【請求項３】
前記第１揺動支持装置は、前記第２面部を第１揺動中心回りに揺動可能に支持し、
前記第２揺動支持装置は、前記第２面部と前記第１揺動支持装置とを第２揺動中心回りに揺動可能に支持し、
前記第１及び第２揺動中心が一致する請求項１又は２に記載の部材の支持構造。
【請求項４】
前記第１揺動支持装置は、球面軸受け装置である請求項１〜３のいずれか一項に記載の部材の支持構造。
【請求項５】
前記第２揺動支持装置は、弾性ヒンジ装置である請求項４に記載の部材の支持構造。
【請求項６】
前記第１及び第２部材間に互いに近接する方向の所定の負荷が作用した状態では、前記第２面部が前記弾性ヒンジ装置を介して揺動動作し、前記負荷が低減された状態では、前記第２面部が前記球面軸受け装置を介して揺動動作するように、前記球面軸受け装置において摩擦接触する部材間の摩擦係数が設定される請求項５に記載の部材の支持構造。
【請求項７】
前記第１及び第２部材間に互いに離間する方向の力を前記第１及び第２部材の一方に作用させる装置が前記第１及び第２部材の他方に設けられる請求項６に記載の部材の支持構造。
【請求項８】
前記第２面部は、前記第１面部との間に供給される加圧気体の静圧により、非接触状態で前記第１面部に沿って対移動する請求項１〜７のいずれか一項に記載の部材の支持構造。
【請求項９】
前記第１面部と前記第２面部との間に転動体を含む転がり軸受け装置を更に備える請求項１〜７のいずれか一項に記載の部材の支持構造。
【請求項１０】
前記第１面部と前記第２面部との間に架設されたヒンジ部材を更に備える請求項１〜７のいずれか一項に記載の部材の支持構造。
【請求項１１】
所定の物体を保持する物体保持部材と、
前記第１又は第２部材が前記物体保持部材に接続された請求項１〜１０のいずれか一項に記載の部材の支持構造と、
前記物体保持部材に保持された前記物体にエネルギビームを用いて所定のパターンを形成するパターン形成装置と、を備える露光装置。
【請求項１２】
前記物体は、フラットパネルディスプレイ装置に用いられる基板である請求項１１に記載の露光装置。
【請求項１３】
前記基板は、少なくとも一辺の長さ又は対角長が５００ｍｍ以上である請求項１２に記載の露光装置。
【請求項１４】
請求項１２又は１３に記載の露光装置を用いて前記物体を露光することと、
露光された前記物体を現像することと、を含むフラットパネルディスプレイの製造方法。
【請求項１５】
請求項１１に記載の露光装置を用いて前記物体を露光することと、
露光された前記物体を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、部材の支持構造、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法に係り、更に詳しくは、所定の部材を揺動可能に支持する部材の支持構造、前記部材の支持構造を備える露光装置、及び前記露光装置を用いたフラットパネルディスプレイの製造方法、並びに前記露光装置を用いたデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶表示素子、半導体素子（集積回路等）等の電子デバイス（マイクロデバイス）を製造するリソグラフィ工程では、マスク又はレチクル（以下、「マスク」と総称する）と、ガラスプレート又はウエハ（以下、「基板」と総称する）とを所定の走査方向（スキャン方向）に沿って同期移動させつつ、マスクに形成されたパターンをエネルギビームを用いて基板上に転写するステップ・アンド・スキャン方式の露光装置が用いられている。
【０００３】
この種の露光装置では、投影光学系の焦点深度内に基板表面を精度良く位置決めするため、基板を保持する基板ホルダを複数のリニアモータ（例えばボイスコイルモータ）を用いて水平面に対して傾動させることにより、該基板ホルダの水平面に対する傾斜量（回転量）の制御を行うものが知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
ここで、露光装置としては、近年のパターンの微細化に伴って、上記基板の傾斜量制御をより高精度で行うことができるものが求められている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】米国特許出願公開第２０１０／００１８９５０号明細書
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上述の事情の下でなされたもので、第１の観点からすると、第１面部を有する第１部材と、前記第１面部に対向して配置された第２面部を有する第２部材と、を含み、前記第２面部が前記第１面部に沿って相対移動することにより、前記第１及び第２部材の相対的な姿勢変化を許容する部材の支持構造であって、前記第２部材は、前記第２面部を揺動可能に支持する第１揺動支持装置と、前記第２面部と前記第１揺動支持装置とを一体的に揺動可能に支持する第２揺動支持装置と、を備える部材の支持構造である。
【０００７】
これによれば、第２部材において、第２面部が第１揺動支持装置を介して揺動可能に支持されるとともに、第２面部と第１揺動支持装置とが第２揺動支持装置を介して揺動可能に支持される。第２面部は、第１揺動支持装置、及び／又は第２揺動支持装置の作用により揺動動作できるので、高精度な微少範囲の揺動動作と広範囲の揺動動作とが可能となる。
【０００８】
本発明は、第２の観点からすると、所定の物体を保持する物体保持部材と、前記第１又は第２部材が前記物体保持部材に接続された本発明の第１の観点にかかる部材の支持構造と、前記物体保持部材に保持された前記物体にエネルギビームを用いて所定のパターンを形成するパターン形成装置と、を備える露光装置である。
【０００９】
本発明は、第３の観点からすると、本発明の第２の観点にかかる露光装置を用いて前記物体を露光することと、露光された前記物体を現像することと、を含むフラットパネルディスプレイの製造方法である。
【００１０】
本発明は、第４の観点からすると、本発明の第２の観点にかかる露光装置を用いて前記物体を露光することと、露光された前記物体を現像することと、を含むデバイス製造方法である。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】一実施形態の液晶露光装置の構成を概略的に示す図である。
【図２】図１の液晶露光装置が有する基板ステージ装置の一部の断面図である。
【図３】図３（Ａ）は、図２の基板ステージ装置が有するレベリング装置を下方から見た図であり、図３（Ｂ）は、図３（Ａ）の３Ｂ−３Ｂ線断面図である。
【図４】図４（Ａ）及び図４（Ｂ）は、レベリング装置の動作を説明するための図（その１及びその２）である。
【図５】図５（Ａ）は、レベリング装置においてヒンジ部のみが動作した状態を示す図であり、図５（Ｂ）は、レベリング装置においてヒンジ部及び球面軸受けが動作した状態を示す図であり、図５（Ｃ）は、レベリング装置において球面軸受けのみが動作した状態を示す図である。
【図６】図６（Ａ）及び図６（Ｂ）は、第１の変形例に係るレベリング装置の構成及び動作を説明するための図（その１及びその２）である。
【図７】図７（Ａ）及び図７（Ｂ）は、第２の変形例に係るレベリング装置の構成及び動作を説明するための図（その１及びその２）である。
【図８】図８（Ａ）は、第２の変形例に係るレベリング装置が有する転がりガイド装置の平面図であり、図８（Ｂ）は、第２の変形例に係るレベリング装置の組み立て手順の一例を説明するための図であり、図８（Ｃ）は、第２の変形例に係るレベリング装置が有する転がりガイド装置の断面図である。
【図９】図９（Ａ）は、第３の変形例に係るレベリング装置を示す図であり、図９（Ｂ）は、第３の変形例に係るレベリング装置の組み立て手順の一例を説明するための図である。
【図１０】図１０（Ａ）及び図１０（Ｂ）は、第４の変形例に係るレベリング装置の構成及び動作を説明するための図（その１及びその２）である。
【図１１】図１１（Ａ）及び図１１（Ｂ）は、第４の変形例に係るレベリング装置が有する弾性ヒンジ装置の構成及び動作を説明するための図（その１及びその２）である。
【図１２】第５の変形例に係るレベリング装置の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、一実施形態について、図１〜図５（Ｃ）を用いて説明する。
【００１３】
図１には、一実施形態に係る液晶露光装置１０の構成が概略的に示されている。液晶露光装置１０は、例えば液晶表示装置（フラットパネルディスプレイ）などに用いられる矩形（角型）のガラス基板Ｐ（以下、単に基板Ｐと称する）を露光対象物とするステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置、いわゆるスキャナである。
【００１４】
液晶露光装置１０は、照明系１２、マスクＭを保持するマスクステージ１４、投影光学系１６、表面（図１で＋Ｚ側を向いた面）にレジスト（感応剤）が塗布された基板Ｐを保持する基板ステージ装置２０、及びこれらの制御系等を含む。以下、露光時にマスクＭと基板Ｐとが投影光学系１６に対してそれぞれ相対走査される方向をＸ軸方向とし、水平面内でＸ軸に直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸及びＹ軸に直交する方向をＺ軸方向として説明を行う。また、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸方向に関する位置を、それぞれＸ位置、Ｙ位置、Ｚ位置と称して説明を行う。また、Ｘ軸回り方向（θｘ方向）に関する位置をθｘ位置、Ｙ軸回り方向（θｙ方向）に関する位置をθｙ位置、Ｚ軸回り方向（θｚ方向）に関する位置をθｚ位置と称して説明を行う。
【００１５】
照明系１２は、例えば米国特許第５，７２９，３３１号明細書などに開示される照明系と同様に構成されている。照明系１２は、露光用の照明光ＩＬをマスクＭに照射する。照明光ＩＬとしては、例えばｉ線（波長３６５ｎｍ）、ｇ線（波長４３６ｎｍ）、ｈ線（波長４０５ｎｍ）などの光（あるいは、上記ｉ線、ｇ線、ｈ線の合成光）が用いられる。
【００１６】
マスクステージ１４は、所定の回路パターンが形成されたマスクＭを、例えば真空吸着により保持している。マスクステージ１４は、例えばリニアモータを含むマスクステージ駆動系（不図示）により走査方向（Ｘ軸方向）に所定の長ストロークで駆動されるとともに、Ｙ軸方向、及びθｚ方向に適宜微少駆動される。マスクステージ１４のＸＹ平面内の位置情報（θｚ方向の回転量情報を含む）は、不図示のレーザ干渉計を含むマスク干渉計システムにより求められる。
【００１７】
投影光学系１６は、マスクステージ１４の下方に配置されている。投影光学系１６は、例えば米国特許第６，５５２，７７５号明細書に開示された投影光学系と同様に構成されている。すなわち、投影光学系１６は例えば両側テレセントリックな等倍系で正立正像を形成する光学系を複数含む、いわゆるマルチレンズ投影光学系であり、Ｙ軸方向を長手方向とする長方形状の単一のイメージフィールドを持つ投影光学系と同等に機能する。
【００１８】
このため、照明系１２からの照明光ＩＬによってマスクＭ上の照明領域が照明されると、マスクＭを通過した照明光ＩＬにより、投影光学系１６を介してその照明領域内のマスクＭの回路パターンの投影像が、基板Ｐ上の照明領域に共役な照明光ＩＬの照射領域に形成される。そして、照明領域（照明光ＩＬ）に対してマスクＭが走査方向に駆動されるとともに、露光領域（照明光ＩＬ）に対して基板Ｐが走査方向に駆動されることで、基板Ｐ上の１つのショット領域にマスクＭに形成されたパターンが転写される。
【００１９】
基板ステージ装置２０は、ステージ架台２２、ベースフレーム２４、Ｙ粗動ステージ２６、Ｘ粗動ステージ２８、Ｙステップガイド３０、重量キャンセル装置３２、及び微動ステージ３４を含む。
【００２０】
ステージ架台２２は、平面視（＋Ｚ軸側から見て）矩形の板状の部材から成り、不図示の防振装置を介してクリーンルームの床１１上に設置されている。ステージ架台２２は、液晶露光装置１０の装置本体（ボディ）の一部を構成している。上記投影光学系１６、マスクステージ１４は、装置本体に支持されており、床１１から振動的に分離されている。
【００２１】
ベースフレーム２４は、Ｙ軸方向に延びるＹＺ平面に平行な板状部材から成り、ステージ架台２２の＋Ｘ側及び−Ｘ側（−Ｘ側のベースフレーム２４は、紙面奥行き方向に重なっているため不図示）に、ステージ架台２２に対して所定のクリアランスを介した状態で配置されている。ベースフレーム２４は、複数のアジャスタ装置２４ａを介して高さ位置（Ｚ位置）調整可能に床１１上に設置されている。
【００２２】
Ｙ粗動ステージ２６は、ベースフレーム２４上に搭載されている。Ｙ粗動ステージ２６は、一対のＸビーム２６ａを有している。一対のＸビーム２６ａは、それぞれＸ軸方向に延びるＹＺ断面矩形の部材から成り、Ｙ軸方向に所定間隔で互いに平行に配置されている。一対のＸビーム２６ａは、＋Ｘ側の端部近傍において、Ｙキャリッジ２６ｂと称されるＹ軸方向に延びる平面視矩形の板状部材により連結されている。なお、図１では紙面奥行き方向に重なっているため不図示であるが、一対のＸビーム２６ａの−Ｘ側の端部近傍も同様にＹキャリッジにより連結されている。
【００２３】
Ｙ粗動ステージ２６は、ベースフレーム２４に固定されたＹリニアガイド２３ａと、Ｙキャリッジ２６ｂに固定されたＹスライド部材２３ｂとから成るＹリニアガイド装置により、ベースフレーム２４上でＹ軸方向に直進案内される。また、Ｙ粗動ステージ２６は、ベースフレーム２４に取り付けられたねじ部２５ａとＹキャリッジ２６ｂに固定されたナット部２５ｂとから成る送りねじ装置により、ベースフレーム２４上でＹ軸方向に所定の長ストロークで駆動される。なお、Ｙ粗動ステージ２６をＹ軸方向に駆動するためのＹアクチュエータの種類は、上記送りねじ装置に限らず、例えばリニアモータ、ベルト駆動装置などであっても良い。
【００２４】
Ｘ粗動ステージ２８は、平面視矩形の板状部材から成り、Ｙ粗動ステージ２６上に搭載されている。Ｘ粗動ステージ２８は、Ｙ粗動ステージ２６に固定された複数のＸリニアガイド２７ａと、Ｘ粗動ステージ２８に固定された複数のＸスライド部材２７ｂとから成る複数のＸリニアガイド装置により、Ｙ粗動ステージ２６上でＸ軸方向に直進案内される。また、Ｘ粗動ステージ２８は、Ｙ粗動ステージ２６に固定された複数のＸ固定子２９ａ（例えば磁石ユニット）と、Ｘ粗動ステージ２８に固定された複数のＸ可動子２９ｂ（例えばコイルユニット）とから成る複数のＸリニアモータにより、Ｙ粗動ステージ２６上でＸ軸方向に所定の長ストロークで駆動される。また、Ｘ粗動ステージ２８は、上記Ｘリニアガイド装置の作用により、Ｙ粗動ステージ２６と一体的にＹ軸方向に移動する。すなわち、Ｙ粗動ステージ２６とＸ粗動ステージ２８とにより、いわゆるガントリタイプのＸＹ軸ステージ装置が構成されている。
【００２５】
Ｙステップガイド３０は、Ｘ軸方向に延びるＹＺ断面矩形の部材から成り、上記一対のＸビーム２６ａの間に配置されている。Ｙステップガイド３０は、上記一対のＸビーム２６ａそれぞれに対して、フレクシャ装置３０ａを介して接続されており、Ｙ粗動ステージ２６と一体的にＹ軸方向に移動する。Ｙステップガイド３０は、ステージ架台２２に固定されたＹリニアガイド３１ａと、Ｙステップガイド３０に固定されたＹスライド部材３１ｂとから成るＹリニアガイド装置により、ステージ架台２２上でＹ軸方向に直進案内される。上記Ｘビーム２６ａの下面は、Ｙリニアガイド３１ａの上面よりも＋Ｚ側に位置しており、Ｙ粗動ステージ２６とＹステップガイド３０とは、上記フレクシャ装置３０ａにより接続された部分を除き振動的に分離されている。
【００２６】
重量キャンセル装置３２は、微動ステージ３４を下方から支持している。本実施形態の重量キャンセル装置３２は、例えば米国特許出願公開第２０１０／００１８９５０号明細書に開示される重量キャンセル装置と同様に構成されている。すなわち、重量キャンセル装置３２は、図２に示されるように、筒状の筐体３２ａと、筐体３２ａ内に収容された空気ばね３２ｂと、筐体３２ａに対して複数の平行板ばね装置３２ｃを介してＺ軸方向に微少ストロークで移動可能に接続されたＺスライド部材３２ｄとを有する。重量キャンセル装置３２は、空気ばね３２ｂを用いて微動ステージ３４の重量（重量加速度による下向き（−Ｚ方向）の力）とほぼ同じ大きさの力を重力方向上向き（＋Ｚ方向）に微動ステージ３４に対して作用させる。
【００２７】
重量キャンセル装置３２は、Ｘ粗動ステージ２８の中央部に形成された開口部２８ａ内に挿入されている。重量キャンセル装置３２は、複数のフレクシャ装置３２ｅを介してＸ粗動ステージ２８に機械的に接続されており、Ｘ粗動ステージ２８と一体的にＸ軸方向、及び／又はＹ軸方向に移動する。
【００２８】
重量キャンセル装置３２は、その下面に取り付けられた複数のエアベアリング３２ｆを介して、Ｙステップガイド３０上に非接触状態で搭載されている。Ｙステップガイド３０は、長手方向（Ｘ軸方向）の寸法が重量キャンセル装置３２のＸ軸方向に関する移動可能距離よりも幾分長く設定されている。重量キャンセル装置３２は、Ｘ粗動ステージ２８と一体的にＸ軸方向に移動する際には、Ｙステップガイド３０上を移動する。また、重量キャンセル装置３２がＸ粗動ステージ２８と一体的にＹ軸方向に移動する際には、Ｙステップガイド３０がＹ粗動ステージ２６と一体的にＹ軸方向に移動するので、重量キャンセル装置３２がＹステップガイド３０上から脱落することがない。
【００２９】
微動ステージ３４は、図１に示されるように、本体部３６、基板ホルダ３８、及びレベリング装置４０を有している。本体部３６は、図２に示されるように、高さの低い中空の直方体状（箱形）の部材から成る。本体部３６の下面には、開口部３６ａが形成されており、レベリング装置４０は、上記開口部３６ａを介して本体部３６内に収容されている。
【００３０】
図１に戻り、基板ホルダ３８は、平面視矩形の板状部材から成り、本体部３６の上面に固定されている。基板ホルダ３８の上面には、基板Ｐが載置され、基板ホルダ３８は、該基板Ｐを、例えば真空吸着により吸着保持する。レベリング装置４０は、本体部３６の重量キャンセル装置３２に対する姿勢変化（θｘ、及び／又はθｙ方向への傾動）を許容するための装置である。レベリング装置４０の構成については後述する。
【００３１】
微動ステージ３４は、例えば米国特許出願公開第２０１０／００１８９５０号明細書に開示されるような微動ステージ駆動系により、Ｘ粗動ステージ２８に対して３自由度方向（Ｘ軸、Ｙ軸、θｚ方向）に微少駆動される。微動ステージ駆動系は、Ｘ粗動ステージ２８に固定された固定子と、本体部３６に固定された可動子とから成る複数のボイスコイルモータを含む。複数のボイスコイルモータには、Ｙ軸方向の推力を発生する複数（図１では紙面奥行き方向に重なっている）のＹボイスコイルモータ３９ｙ、及びＸ軸方向の推力を発生する複数のＸボイスコイルモータ（不図示）が含まれる。微動ステージ３４は、上記複数のボイスコイルモータが発生する推力によって、Ｘ粗動ステージ２８に誘導され、これにより、Ｘ粗動ステージ２８と共にＸ軸方向、及び／又はＹ軸方向に所定のストロークで移動する。また、微動ステージ３４は、上記複数のボイスコイルモータによりＸ粗動ステージ２８に対して上記３自由度方向に適宜微少駆動される。
【００３２】
また、微動ステージ駆動系は、本体部３６をθｘ、θｙ、及びＺ軸方向の３自由度方向に微少駆動するための複数のＺボイスコイルモータ３９ｚを有している。複数のＺボイスコイルモータ３９ｚは、本体部３６の四隅部に対応する箇所に配置されている（図１では、４つのＺボイスコイルモータ３９ｚのうち２つのみが示され、他の２つは紙面奥行き方向に隠れている）。なお、本体部３６をθｘ、及びθｙ方向に微少駆動できれば、複数のＺボイスコイルモータ３９ｚの配置は、これに限られず、例えば同一直線上にない三箇所に配置されても良い。微動ステージ３４には、上記重量キャンセル装置３２による重力方向上向きの力が作用しており、複数のＺボイスコイルモータ３９ｚは、比較的小さな力で本体部３６を駆動することができる。
【００３３】
液晶露光装置１０では、例えば露光動作時において、基板Ｐの表面の面位置（Ｚ位置、θｘ位置、及びθｙ位置）情報が装置本体（ボディ）に取り付けられた不図示のセンサにより求められる。そして、該センサの出力に基づいて基板Ｐの表面の面位置が、投影光学系１６の焦点深度内となるように、微動ステージ３４のＺ位置、θｘ位置、及びθｙ位置の制御（いわゆるオートフォーカス制御）が行われる。このため、複数のＺボイスコイルモータ３９ｚにより本体部３６がθｘ、及びθｙ方向に回転される際の回転角度は、微少角度であり、本実施形態では、例えば１ｍｒａｄ（ミリラジアン）以下である。
【００３４】
本体部３６のＸＹ平面内の位置情報（θｚ方向の回転量情報を含む）は、不図示レーザ干渉計を含む基板干渉計システムにより、本体部３６にミラーベース３５ａを介して固定されたバーミラー３５ｂを用いて求められる。なお、レーザ干渉計には、微動ステージ３４のＸ位置情報を求めるためのＸレーザ干渉計、及び微動ステージ３４のＹ位置情報を求めるためのＹレーザ干渉計が含まれる。また、本体部３６には、Ｘレーザ干渉計に対応するＸバーミラー、及びＹレーザ干渉計に対応するＹバーミラーがそれぞれ固定されているが、図１では代表的にＹバーミラーのみが示されている。
【００３５】
また、微動ステージ３４のθｘ、θｙ、及びＺ軸方向それぞれの位置情報は、図２に示されるように、本体部３６の下面に固定された複数のＺセンサ３７ａより、重量キャンセル装置３２にアーム状の支持部材３７ｂを介して固定されたターゲット３７ｃを用いて求められる。なお、本実施形態のＺセンサ３７ａには、絶対位置計測用のセンサと相対位置計測用のセンサとが含まれるが、相対位置計測用のセンサのみであっても良い。また、Ｚセンサ３７ａを設けず、上記オートフォーカス制御用のセンサの出力に基づいて本体部３６のθｘ位置、θｙ位置、及びＺ位置を制御しても良い。
【００３６】
レベリング装置４０は、本体部３６の天井面に固定されたレベリングダイヤ４２と、重量キャンセル装置３２に下方から支持されたレベリングカップ４４と、レベリングカップ４４に取り付けられた複数のエアベアリング４６と、を含む。
【００３７】
レベリングダイヤ４２は、図３（Ａ）に示されるように、三角錐の各頂部を切り落としたような形状の部材（多面体部材）から成り、図２に示されるように、底面が本体部３６の天井面に固定されている。なお、図３（Ａ）では、レベリングカップ４４、及び後述するフレクシャ装置５０の図示が省略されている。
【００３８】
レベリングカップ４４は、図３（Ｂ）に示されるように、＋Ｚ側に開口したカップ状の部材から成り、上記レベリングダイヤ４２の下端部（三角錐の頂部）近傍が上記開口を介してレベリングカップ４４内に挿入されている。レベリングカップ４４は、下面が平坦に形成されており、図２に示されるように、重量キャンセル装置３２のＺスライド部材３２ｄの上面に取り付けられた複数のエアベアリング４１を介して重量キャンセル装置３２に下方から支持されている。レベリングカップ４４は、エアベアリング４１から噴出される加圧気体の静圧により、重量キャンセル装置３２に対して所定のクリアランスを介して浮上しており、レベリング装置４０と重量キャンセル装置３２とがＸ軸、及び／又はＹ軸方向に微少範囲で相対移動可能となっている。
【００３９】
複数（本実施形態では、上記レベリングダイヤ４２の傾斜面に対応して、例えば３つ）のエアベアリング４６は、図３（Ａ）に示されるように、Ｚ軸回りにほぼ均等な間隔で配置されている。複数のエアベアリング４６それぞれの一面（軸受け面）は、レベリングダイヤ４２の対応する傾斜面に対向して配置され、該傾斜面に加圧気体（例えば、空気）を噴出する。本体部３６、基板ホルダ３８（それぞれ図３（Ａ）では不図示。図１参照）、及びレベリングダイヤ４２は、複数のエアベアリング４６から噴出される気体の静圧により、レベリングカップ４４に対して所定のクリアランスを介して浮上している。エアベアリング４６の他面の中央部には、円錐状の凹部４８が形成されている。なお、本実施形態では、エアベアリング４６の軸受け面は、円形であるが、他の形状（例えば矩形）であっても良い。また、凹部４８は、軸受け面を含む部材に形成されても良いし、軸受け面を含む部材とは別部材であっても良い。
【００４０】
ここで、図３（Ｂ）に示されるように、複数のエアベアリング４６は、それぞれレベリングカップ４４に対してフレクシャ装置５０を介して取り付けられている。フレクシャ装置５０は、取り付けボルト５２、ヒンジ部５４、及び球面部５６を有している。フレクシャ装置５０は、例えば３つエアベアリング４６に対応して、Ｚ軸回りに均等な間隔（１２０°間隔）で、例えば３つ設けられている（図３（Ｂ）では、例えば３つのフレクシャ装置５０のうちのひとつは不図示）。
【００４１】
レベリングカップ４４には、フレクシャ装置５０を取り付けるためのねじ孔がＺ軸回りに複数（上記エアベアリング４６に対応して、例えば３つ）形成されており、取り付けボルト５２は、該ねじ孔に螺合している。取り付けボルト５２は、一端がレベリングカップ４４の内周面側に突き出すとともに、他端がレベリングカップ４４の外周面側に突き出している。取り付けボルト５２は、水平面（ＸＹ平面）に対して、例えば４５°程度の角度を成してレベリングカップ４４に取り付けられている。
【００４２】
取り付けボルト５２の他端側には、弛み防止用のナット５３（ロックナット）が螺合している。なお、取り付けボルト５２は、レベリングカップ４４に対する取付位置を任意に調整可能な、いわゆるスタッドボルトであるが、これに限られず、例えばレベリングカップ４４に対する取り付け位置を規定するフランジを有するボルトであっても良い。また、取り付けボルト５２をレベリングカップ４４に対して確実に固定できれば、必ずしも弛み防止用のナット５３を用いなくても良い。
【００４３】
ヒンジ部５４は、棒状部材の長手方向中央部の外周面に周方向の溝が形成されたような形状の部材（長手方向中央部がくびれた棒状の部材）から成り、一端が取り付けねじ５２の一端に固定され、他端に球面部５６が固定されている。ヒンジ部５４は、例えば熱処理されたばね綱（例えば、ニッケル・クロム・モリブデン鋼）により形成されており、弾性変形により、他端側が一端側に対して首振り動作（揺動）可能となっている。
【００４４】
球面部５６は、半球体状の部材（曲率が一定の部材）から成り、底面がヒンジ部５４の他端に固定されている。球面部５６は、上記エアベアリング４６の凹部４８に挿入され、外周面と凹部４８の内壁面とが線接触しており、凹部４８と共に球面軸受け５８を構成している。このため、エアベアリング４６は、球面部５６の曲率中心（球面部が完全な球体であると仮定した場合の中心）を回りに、球面部５６の外周面に沿って摺動することが可能となっている。なお、球面部５６とヒンジ部５４は大きな曲げ応力が掛かることから、一体で加工成形されることが望ましい。
【００４５】
ここで、フレクシャ装置５０において、上記球面部５６の曲率中心と、上記ヒンジ部５４の首振り動作時の揺動中心とが、ほぼ同じとなるように球面部５６の曲率（あるいはヒンジ部５４の寸法）が設定されている。このため、フレクシャ装置５０では、球面軸受け５８の作用によるエアベアリング４６の姿勢変化時（揺動時）の動作と、球面部５６とエアベアリング４６とが固定されていると仮定した場合におけるヒンジ部５４の作用（首振り動作）によるエアベアリング４６の姿勢変化時（揺動時）の際の動作とは、概ね同じとなる。
【００４６】
以下、一例として本体部３６（図３（Ｂ）では不図示。図２参照）が複数のＺボイスコイルモータ３９ｚ（図３（Ｂ）では不図示。図２参照）によりθｘ方向に駆動される際のレベリング装置４０の動作について説明する。
【００４７】
図４（Ａ）、及び図４（Ｂ）には、図３（Ｂ）に示されるレベリング装置４０が模式化して示されている。図４（Ａ）には、基板ホルダ３８（図４（Ａ）では不図示。図１参照）の上面が水平面に平行とされた状態におけるレベリング装置４０が示されている。図４（Ａ）に示される状態では、複数のエアベアリング４６それぞれは、揺動可能範囲の中立（ニュートラル）位置に位置している。複数のエアベアリング４６の軸受け面は、レベリングダイヤ４２の対応する傾斜面に所定のクリアランスを介して対向している。
【００４８】
図４（Ａ）に示される状態から、本体部３６（図４（Ａ）及び図４（Ｂ）では不図示。図２参照）がθｘ方向に駆動されると、図４（Ｂ）に示されるように、レベリングダイヤ４２の姿勢が変化する。エアベアリング４６は、対応するレベリングダイヤ４２の傾斜面と軸受け面との間に形成される気体膜（気体層）を介して非接触で押圧されることにより、ヒンジ部５４、及び／又は球面軸受け５８（それぞれ図４（Ｂ）では不図示。図３（Ｂ）参照）の作用により、レベリングダイヤ４２の対応する傾斜面に対するクリアランスを一定に保ったまま、該傾斜面に平行にレベリングダイヤ４２に対して相対移動する。なお、図４（Ｂ）では、理解を容易にするため、エアベアリング４６の移動量が実際よりも大きく示されている。
【００４９】
上述のように、本体部３６（図４（Ａ）及び図４（Ｂ）では不図示。図２参照）のθｘ方向、及びθｙ方向の傾動角度は、微少角度（例えば１ｍｒａｄ以下）であるので、微動ステージ３４は一点（本実施形態では、微動ステージ３４（図４（Ｂ）では不図示。図１参照）の重心位置ＣＧ）を中心に回転したのと同様に動作することができる（すなわち、レベリング装置４０では、微動ステージ３４の回転中心が上記重心位置ＣＧとほぼ一致するように、複数のエアベアリング４６の取付角度（仰角）が設定されている）。これにより、レベリング装置４０は、球面軸受け装置と同等に機能することができる。
【００５０】
上述のようにして構成された液晶露光装置１０（図１参照）では、不図示の主制御装置の管理の下、不図示のマスクローダによって、マスクステージ１４上へのマスクＭのロードが行われるとともに、不図示の基板ローダによって、基板ホルダ３８上への基板Ｐのロードが行なわれる。その後、主制御装置により、不図示のアライメント検出系を用いてアライメント計測が実行され、そのアライメント計測の終了後、基板上に設定された複数のショット領域に逐次ステップ・アンド・スキャン方式の露光動作が行なわれる。なお、この露光動作は従来から行われているステップ・アンド・スキャン方式の露光動作と同様であるので、その詳細な説明は省略するものとする。
【００５１】
本実施形態の基板ステージ装置２０では、上記アライメント動作時、露光動作時などに前述のオートフォーカス制御を行うため、微動ステージ３４がθｘ方向、及び／又はθｙ方向に適宜駆動される（以下、該制御をレベリング制御と称して説明する）。
【００５２】
ここで、レベリング装置４０において、フレクシャ装置５０は、エアベアリング４６の揺動動作を許容する機構として球面軸受け５８、及びヒンジ部５４の２つの機構を有している。そして、レベリング装置４０では、上記レベリング制御を行う際、凹部４８を規定する壁面と球面部５６との接触部分に作用する摩擦力により、球面軸受け５８が動作しないように上記摩擦力（凹部４８を規定する壁面と球面部５６との間の摩擦係数）が設定されている。これにより、レベリング装置４０では、上記アライメント動作時、露光動作時などにおけるレベリング制御時には、図５（Ａ）に示されるように、ヒンジ部５４のみの作用によりエアベアリング４６の揺動が許容される。これは、摩擦によって揺動する球面軸受５８よりも、摩擦がないヒンジ部５４の変形による揺動の方がヒステリシスが無く位置決め精度が高いためである。ヒンジ部５４は、レベリング制御時に想定されるの範囲内で弾性変形可能なものが用いられている。
【００５３】
これに対し、レベリング制御時に、なんらかのトラブルで微動ステージ３４（図１参照）が上記想定される範囲を超えて傾動した場合、レベリング装置４０では、図５（Ｂ）に示されるように、ヒンジ部５４と併せて球面軸受け５８の作用によりエアベアリング４６が傾動する。この場合であっても、レベリングダイヤ４２は、重心位置ＣＧ回りに回転するので、微動ステージ３４（図５（Ｂ）では不図示。図１参照）が重量キャンセル装置３２に対して水平方向に相対移動しない。これにより、レベリング装置４０（すなわち微動ステージ３４）が重量キャンセル装置３２から脱落することが防止される。また、ヒンジ部５４に過度の曲げ応力が作用することが防止され、ヒンジ部５４の破損、あるいは塑性変形が防止される。
【００５４】
次に、図２に戻り、基板ステージ装置２０の組み立て手順について説明する。基板ステージ装置２０では、Ｙ粗動ステージ２６、Ｘ粗動ステージ２８、Ｙステップガイド３０、及び重量キャンセル装置３２が図２に示される配置となるように組み立てられる（順序は特に限定されない）。次いで、微動ステージ３４が、Ｘ粗動ステージ２８の上方に配置される。この際、レベリング装置４０が重量キャンセル装置３２に下方から支持されるように、微動ステージ３４の重量キャンセル装置３２に対する水平方向の位置（Ｘ位置、Ｙ位置、及びθｚ位置）が位置決めされる。なお、基板ステージ装置２０の組み立て時において、レベリングカップ４４は、不図示の吊り下げ部材により本体部３６の天井面から吊り下げ支持されている。
【００５５】
上記微動ステージ３４のＸ粗動ステージ２８に対する位置あわせには、Ｘ粗動ステージ２８に取り付けられた複数のＺアクチュエータ６０が用いられる。Ｚアクチュエータ６０の種類は、特に限定されないが、＋Ｚ方向に大きな力を発生できるものが望ましく、本実施形態では、ロッド先端にボールが取り付けられたエアシリンダ装置が用いられている。Ｚアクチュエータ６０は、例えば同一直線上にない３点に配置されている（図２では、例えば３つのＺアクチュエータ６０のうちのひとつは不図示）。
【００５６】
また、本体部３６の下面であって、上記複数のＺアクチュエータ６０に対向する部分には、それぞれ当接部材６２ａ、６２ｂが固定されている。当接部材６２ａには、下方に開口した円錐溝が形成されているのに対し、当接部材６２ｂは、平板状に形成されている。当接部材６２ａは、３つのＺアクチュエータ６０のうちの２つに対応して設けられており、残りのひとつのＺアクチュエータ６０に対応して当接部材６２ｂが設けられている。基板ステージ装置２０では、Ｚアクチュエータ６０が有するボールを当接部材６２ａの円錐溝内に挿入することにより、Ｘ粗動ステージ２８に対して微動ステージ３４を容易に位置決めできる。また、微動ステージ３４が重量キャンセル装置３２と併せて上記複数のＺアクチュエータ６０に下方から支持されるので、複数のＺアクチュエータ６０を用いて、微動ステージ３４のθｘ、及びθｙ方向の位置決めを行うことができる。
【００５７】
この際、微動ステージ３４において、レベリング装置４０が有する複数のエアベアリング４６の支持対象物、すなわちレベリングダイヤ４２、本体部３６、基板ホルダ３８（図２では不図示。図１参照）などを含む系から複数のエアベアリング４６に作用する負荷は、複数のＺアクチュエータ６０による＋Ｚ方向の力により、上記露光動作などを行う際に比べて減じられる。なお、この際、空気ばね３２ｂ内を減圧し、重量キャンセル装置３２が微動ステージ３４に作用させる＋Ｚ方向の力をレベリング制御時（露光動作時）に比べて減じて力の釣り合いをとると良い。
【００５８】
ここで、複数のＺアクチュエータ６０による＋Ｚ方向の力が本体部３６に作用している状態では、上記球面部５６と凹部４８を規定する内壁面との間の摩擦力が減じられる。そして、レベリング装置４０では、本体部３６に複数のＺアクチュエータ６０による＋Ｚ方向の力が作用している状態で、基板ホルダ３８（図１参照）の上面が水平面と平行となるように本体部３６のＸ粗動ステージ２８に対する位置調整（以下、初期位置調整と称して説明する）が行われる。
【００５９】
初期位置調整時に本体部３６がθｘ方向、及びθｙ方向に移動すると、レベリング装置４０では、レベリング制御時と同じように、レベリングダイヤ４２によりエアベアリング４６が非接触で押圧されることにより、エアベアリング４６が揺動する。そして、レベリング装置４０では、初期調整時（本体部３６に複数のＺアクチュエータ６０による＋Ｚ方向の力が作用している状態）において、図５（Ｃ）に示されるように、球面部５６と凹部４８を規定する内壁面とが摺動するように、球面部５６と凹部４８を規定する内壁面との間の摩擦係数が設定されている。これにより、本体部３６を重量キャンセル装置３２に対してθｘ、及びθｙ方向に適宜移動させて初期位置調整を行っても、フレクシャ装置５０では、ヒンジ部５４が弾性変形しない（あるいは無視できる程度に変形が小さい）。
【００６０】
したがって、初期位置調整後の基板ホルダ３８の上面が水平面に平行とされた状態（微動ステージ３４が傾動可能範囲の中立位置に位置した状態）では、ヒンジ部５４も、弾性変形可能範囲の中立位置に位置している。このように、基板ステージ装置２０では、エアベアリング４６の揺動可動範囲が狭くなることが抑制され、安定してレベリング制御を行うことができる。
【００６１】
また、基板ステージ装置２０では、複数の基板Ｐを連続して露光する際に、上記組み立て時と同じように、複数のＺアクチュエータ６０を用いて初期位置調整が適宜行うことができる。これにより、露光中に行われるレベリング制御によりヒンジ部５４に繰り返し作用する応力がヒンジ部５４内に残留（蓄積）することを抑制できるので、ヒステリシス現象が発生し難く、レベリング装置４０の耐久性が向上する。
【００６２】
なお、本実施形態では、上記初期位置調整において、Ｘ粗動ステージ２８が有する複数のＺアクチュエータ６０を用いて微動ステージ３４を重量の一部を支持することにより、レベリング装置４０のエアベアリング４６に作用する荷重を低減したが、これに限られず、別の治具（Ｘ粗動ステージ２８に対して着脱可能であっても良いし、床１１に設置されるようなものであっても良い）を用いても良い。
【００６３】
なお、上記実施形態に記載のレベリング装置４０の構成は、適宜変形が可能である。例えば、上記実施形態では、図２に示されるように、Ｘ粗動ステージ２８に取り付けられたＺアクチュエータ６０を用いて本体部３６を介してレベリングダイヤ４２に対して＋Ｚ方向の力を作用させたが、これに限られず、図６（Ａ）に示される第１の変形例のレベリング装置４０ａのように、Ｚアクチュエータ６４がレベリングカップ４４に取り付けられても良い。Ｚアクチュエータ６４の種類は、特に限定されないが、レベリング装置４０ａでは、ロッド先端が＋Ｚ側を向いたエアシリンダが用いられている。また、レベリングダイヤ４２の下端部には、Ｚアクチュエータ６４のロッド先端が挿入される凹部４２ａが形成されている。凹部４２ａの内径寸法は、ロッド先端の外径寸法よりも大きく設定されており、図６（Ｂ）に示されるように、レベリングダイヤ４２のレベリングカップ４４に対する相対移動が可能となっている。レベリング装置４０ａでは、Ｘ粗動ステージ２８と微動ステージ３４との相対位置に拘わらず、レベリングダイヤ４２に＋Ｚ方向の力を作用させることができ、任意のタイミングで上記初期位置調整を行うことができる。なお、常時Ｚアクチュエータ６４を用いてレベリングダイヤ４２に＋Ｚ方向の力を作用させ、エアベアリング４６、及びフレクシャ装置５０に作用する荷重を減じるようにしてもよい。
【００６４】
また、上記実施形態のレベリング装置４０は、図３（Ｂ）に示されるように、複数のエアベアリング４６を用いて非接触でレベリングダイヤ４２を支持したが、これに限られず、例えば図７（Ａ）に示される第２の変形例のレベリング装置４０ｂのように、転がりガイド装置７０を用いて接触状態で支持しても良い。転がりガイド装置７０は、図８（Ａ）に示されるようにボールリテーナ７２に保持された複数のボール７４を含む。ボールリテーナ７２は、複数の引っ張りばね７６により、支持パッド４６ａの中央に位置するように付勢されている。図７（Ｂ）に示されるように、支持パッド４６ａを支持するフレクシャ装置５０の構成及び動作は、上記実施形態と同じである。レベリング装置４０ｂでは、転がりガイド装置７０の剛性（レベリングダイヤ４２の傾斜面の法線方向の剛性）が上記実施形態のエアベアリング４６（図３（Ｂ）参照）により形成される気体膜に比べて高いので、エアベアリング４６に比べて支持パッド４６ａを小型化できる。また、レベリング装置４０ｂに加圧気体を供給する必要がないので、配管や加圧気体供給装置が必要なく、コストが安い。
【００６５】
なお、支持パッド４６ａをレベリングカップ４４に取り付ける際、ボール７４が脱落するおそれがある場合には、図８（Ｂ）に示されるように、ガイド板７８と支持パッド４６ａとの間に転がりガイド装置７０を挟み込むとともに、組立て冶具７７によりガイド板７８を支持パッド４６ａに固定した状態で、支持パッド４６ａをレベリングカップ４４に取り付けるようにしても良い。この場合、ガイド板７８をボルト７９によりレベリングダイヤ４２に固定することにより、例えばガイド板７８に表面を熱処理等によって硬化した鋼材を用いることにより、レベリングダイヤ４２には、例えばアルミ合金などの軽量な材料を用いることができ、レベリング装置４０ｃを軽量化することができる。また、転がりガイド装置７０のボールリテーナ７２としては、図８（Ｃ）に示されるように、ボール７４の直径よりも小径の穴部が複数形成された一対の板部材でボール７４を挟む構成のものを用いても良い。
【００６６】
また、上記第２の変形例のレベリング装置４０ｂは、転がりガイド装置７０が支持パッド４６ａに取り付けられたが、これに限られず、例えば図９（Ａ）に示される第３の変形例のレベリング装置４０ｃのように、転がりガイド装置７０がレベリングダイヤ４２に取り付けられても良い。この場合、図９（Ｂ）に示されるように、本体部３６を上下逆さにした状態で転がりガイド装置７０をレベリングダイヤ４２に取り付けることができるので、組み立てが容易である。
【００６７】
また、レベリングダイヤ４２の回転角度が微少角度であることから、図１０（Ａ）に示される第４の変形例のレベリング装置４０ｄのように、レベリングダイヤ４２と支持パッド４６ａとを弾性ヒンジ装置８０で連結しても良い。弾性ヒンジ装置８０は、図１１（Ａ）及び図１１（Ｂ）に示されるように、複数のヒンジ部８１を備える。ヒンジ部８１は、レベリングダイヤ４２（図１０（Ａ）参照）の傾斜面の法線方向に離間した２つのくびれ部を有しており、図１０（Ｂ）に示されるように、上記傾斜面に平行な方向へのレベリングダイヤ４２と支持パッド４６ａとの相対移動が許容される。
【００６８】
また、上記実施形態において、フレクシャ装置５０は、図３（Ｂ）に示されるように、取り付けボルト５２にヒンジ部５４を介して球面軸受け５８の一部である球面部５６が取り付けられたが、エアベアリング４６を２つの首振り機構を介してレベリングカップ４４に対して揺動可能に取り付けることができればこれに限られず、例えば図１２に示される第５の変形例のレベリング装置４０ｅのように、取り付けボルト５２の一端部に凹部４８が形成されるとともに、エアベアリング４６の他面にヒンジ部５４を介して上記凹部４８と共に球面軸受け５８を構成する球面部５６が取り付けられていても良い。
【００６９】
また、上記実施形態（及びその変形例）におけるエアベアリング４６（あるいは支持パッド４６ａ）の支持構造は、レベリング装置４０に限られず、その他のエアベアリング（例えば重量キャンセル装置３２のエアベアリング３２ｆ、４１）の支持構造に適用しても良い。この場合、ヒンジ部５４及び球面軸受け５８の揺動中心は必ずしも同じでなくても良い。
【００７０】
また、レベリングダイヤ４２を支持するエアベアリング４６（あるいは支持パッド４６ａ）の数、及び配置は、適宜変更が可能であり、例えばレベリングダイヤ４２を四角錐状にし、エアベアリング４６を４つ配置しても良い。また、球面軸受け５８は、球面部５６が凹部４８（円錐溝）を規定する壁面に線接触するピボット軸受け構造であったが、これに限られず球面同士が摺動する面接触構造でも良い。また、上記実施形態のレベリング装置４０では、レベリングダイヤ４２が本体部３６に固定され、レベリングカップ４４が重量キャンセル装置３２に支持されたが、レベリングダイヤ４２及びレベリングカップ４４の配置は、上記実施形態とは上下逆（レベリングダイヤ４２が重量キャンセル装置３２に支持され、レベリングカップ４４が本体部３６に固定される）であっても良い。
【００７１】
また、照明光は、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）、ＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）などの紫外光や、Ｆ2レーザ光（波長１５７ｎｍ）などの真空紫外光であっても良い。また、照明光としては、例えばＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザから発振される赤外域、又は可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム（又はエルビウムとイッテルビウムの両方）がドープされたファイバーアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を用いても良い。また、固体レーザ（波長：３５５ｎｍ、２６６ｎｍ）などを使用しても良い。
【００７２】
また、上記実施形態では、複数本の投影光学ユニットを備えたマルチレンズ方式の投影光学系１６である場合について説明したが、投影光学ユニットの本数はこれに限らず、１本以上あれば良い。また、マルチレンズ方式の投影光学系に限らず、例えばオフナー型の大型ミラーを用いた投影光学系などであっても良い。また、上記実施形態では投影光学系１６として、投影倍率が等倍のものを用いる場合について説明したが、これに限らず、投影光学系は縮小系及び拡大系のいずれでも良い。
【００７３】
また、上記実施形態では、光透過性のマスク基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスクが用いられたが、このマスクに代えて、例えば米国特許第６，７７８，２５７号明細書に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて、透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する電子マスク（可変成形マスク）、例えば、非発光型画像表示素子（空間光変調器とも呼ばれる）の一種であるＤＭＤ（Digital Micro-mirror Device）を用いる可変成形マスクを用いても良い。
【００７４】
また、露光装置としては、サイズ（外径、対角線の長さ、一辺の少なくとも１つを含む）が５００ｍｍ以上の基板、例えば液晶表示素子などのフラットパネルディスプレイ用の大型基板を露光対象物とする露光装置に特に適している。
【００７５】
また、露光装置としては、ステップ・アンド・リピート方式の露光装置、ステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用することができる。また、露光装置において、搬出装置により搬出される物体は、露光対象物体である基板などに限られず、マスクなどのパターン保持体（原版）であっても良い。
【００７６】
また、露光装置の用途としては、角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを転写する液晶用の露光装置に限定されることなく、例えば半導体製造用の露光装置、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン及びＤＮＡチップなどを製造するための露光装置にも広く適用できる。また、半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、ＥＵＶ露光装置、Ｘ線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるマスク又はレチクルを製造するために、ガラス基板又はシリコンウエハなどに回路パターンを転写する露光装置にも本発明を適用できる。なお、露光対象となる物体はガラスプレートに限られるものでなく、例えばウエハ、セラミック基板、フィルム部材、あるいはマスクブランクスなど、他の物体でも良い。また、露光対象物がフラットパネルディスプレイ用の基板である場合、その基板の厚さは特に限定されず、例えばフィルム状（可撓性を有するシート状の部材）のものも含まれる。
【００７７】
液晶表示素子（あるいは半導体素子）などの電子デバイスは、デバイスの機能・性能設計を行うステップ、この設計ステップに基づいたマスク（あるいはレチクル）を製作するステップ、ガラス基板（あるいはウエハ）を製作するステップ、上述した各実施形態の露光装置、及びその露光方法によりマスク（レチクル）のパターンをガラス基板に転写するリソグラフィステップ、露光されたガラス基板を現像する現像ステップ、レジストが残存している部分以外の部分の露出部材をエッチングにより取り去るエッチングステップ、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除くレジスト除去ステップ、デバイス組み立てステップ、検査ステップ等を経て製造される。この場合、リソグラフィステップで、上記実施形態の露光装置を用いて前述の露光方法が実行され、ガラス基板上にデバイスパターンが形成されるので、高集積度のデバイスを生産性良く製造することができる。
【産業上の利用可能性】
【００７８】
以上説明したように、本発明の部材の支持構造は、第１部材と第２部材とを相対的に姿勢変化させるのに適している。また、本発明の露光装置は、物体を露光するのに適している。また、本発明のフラットパネルディスプレイの製造方法は、フラットパネルディスプレイの製造に適している。また、本発明のデバイス製造方法は、マイクロデバイスの製造に適している。
【符号の説明】
【００７９】
１０…液晶露光装置、２０…基板ステージ装置、２６…Ｙ粗動ステージ、２８…Ｘ粗動ステージ、３２…重量キャンセル装置、３４…微動ステージ、４０…レベリング装置、４２…レベリングダイヤ、４４…レベリングカップ、４６…エアベアリング、５０…フレクシャ装置、５４…ヒンジ部、５８…球面軸受け、Ｐ…基板。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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