(57)【要約】【課題】耐クラック性および初期の紫外線吸収能に優れるとともに、長時間露光による紫外線吸収能の劣化が少ない紫外線吸収膜を有する紫外線吸収ガラス物品を提供する。【解決手段】ガラス基材と、前記ガラス基材の少なくとも一部の表面に紫外線吸収膜形成用組成物を用いて形成された紫外線吸収膜を有する紫外線吸収ガラス物品であって、紫外線吸収膜形成用組成物が、全固形分中に４官能加水分解性ケイ素化合物を５０質量％以上、これを含む酸化ケイ素系マトリクス原料成分をＳｉＯ２換算で５０〜９３質量％、親水性有機ポリマーを５〜３０質量％、蛍光増白剤を２〜２０質量％、のそれぞれ割合で含有し、紫外線吸収膜の膜厚が５．０μｍ以下であり、かつガラス物品の紫外線吸収膜形成領域におけるＪＩＳ−Ｒ３１０６により定められる初期の紫外線透過率が０．２％以下である紫外線吸収ガラス物品。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基材と、前記ガラス基材の少なくとも一部の表面に紫外線吸収膜形成用組成物を用いて形成された紫外線吸収膜を有する紫外線吸収ガラス物品であって、
前記紫外線吸収膜形成用組成物が、前記組成物中の全固形分量に対して、４官能加水分解性ケイ素化合物を含む加水分解性ケイ素化合物類からなる酸化ケイ素系マトリクス原料成分をＳｉＯ２換算で５０〜９３質量％、親水性有機ポリマーを５〜３０質量％、および蛍光増白剤を２〜２０質量％、のそれぞれ割合で、かつ前記４官能加水分解性ケイ素化合物の該全固形分量に対する含有割合がＳｉＯ２換算で少なくとも５０質量％となるように含有し、
前記紫外線吸収膜の膜厚が５．０μｍ以下であり、
かつ前記ガラス物品の前記紫外線吸収膜形成領域におけるＪＩＳ−Ｒ３１０６により定められる初期の紫外線透過率が０．２％以下である紫外線吸収ガラス物品。
【請求項２】
前記４官能加水分解性ケイ素化合物がテトラメトキシシランおよび／またはテトラエトキシシランから選ばれる請求項１記載の紫外線吸収ガラス物品。
【請求項３】
前記親水性有機ポリマーがポリオキシアルキレン基を含む請求項１または２に記載の紫外線吸収ガラス物品。
【請求項４】
前記蛍光増白剤が極性溶媒に可溶である請求項１〜３のいずれか１項に記載の紫外線吸収ガラス物品。
【請求項５】
前記紫外線吸収膜形成用組成物がさらに紫外線吸収剤を含有する請求項１〜４いずれか１項に記載の紫外線吸収ガラス物品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は紫外線吸収ガラス物品に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、自動車等の車輌用の窓ガラスや家屋、ビル等の建物に取り付けられる建材用の窓ガラス等の透明基板に、これらを通して車内や屋内に入射する紫外線を吸収する能力を有し、かつ耐摩耗性等の機械的耐久性を備えた紫外線吸収膜を被膜形成する試みがなされている。
【０００３】
上記高い耐摩耗性と紫外線吸収能を有する紫外線吸収被膜を得るために、従来から、有機系紫外線吸収剤をシラン化合物に配合した組成物を用いて基板上にシリカ系紫外線吸収膜を形成させる試みがなされている。例えば、特許文献１には、シリコンアルコキシドと、ポリエチレングリコール等の水溶性有機ポリマーとを含み、さらに紫外線吸収剤や有機色素を含有する組成物をガラス板上に塗布し、硬化させて有機無機複合膜からなる紫外線吸収膜を得ることが記載されている。
【０００４】
ここで、上記紫外線吸収膜に用いられる紫外線吸収剤や有機色素は一般的に長時間光に曝されると紫外線吸収能が低下することが知られている。そのために、紫外線吸収膜における紫外線吸収剤等の総体量が一定量以上であることが求められ、膜厚を厚くすることでこれに対応していた。しかしながら、このようなシリカ系紫外線吸収膜では、膜厚を厚くすると成膜直後や高温高湿の環境下での長時間使用においてクラックが発生する等の問題があった。そこで、耐クラック性、特に高温高湿下での長期使用における耐クラック性および初期の紫外線吸収能に優れるとともに、長時間露光による紫外線吸収能の劣化が少ない紫外線吸収膜が求められていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】国際公開第２００６／１３７４５４号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は上記問題を解決するためになされたものであって、耐クラック性、特に高温高湿下での長期使用における耐クラック性および初期の紫外線吸収能に優れるとともに、長時間露光による紫外線吸収能の劣化が少ない紫外線吸収膜を有する紫外線吸収ガラス物品を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、以下の構成を有する紫外線吸収ガラス物品を提供する。
［１］  ガラス基材と、前記ガラス基材の少なくとも一部の表面に紫外線吸収膜形成用組成物を用いて形成された紫外線吸収膜を有する紫外線吸収ガラス物品であって、
前記紫外線吸収膜形成用組成物が、前記組成物中の全固形分量に対して、４官能加水分解性ケイ素化合物を含む加水分解性ケイ素化合物類からなる酸化ケイ素系マトリクス原料成分をＳｉＯ２換算で５０〜９３質量％、親水性有機ポリマーを５〜３０質量％、および蛍光増白剤を２〜２０質量％、のそれぞれ割合で、かつ前記４官能加水分解性ケイ素化合物の該全固形分量に対する含有割合がＳｉＯ２換算で少なくとも５０質量％となるように含有し、
前記紫外線吸収膜の膜厚が５．０μｍ以下であり、
かつ前記ガラス物品の前記紫外線吸収膜形成領域におけるＪＩＳ−Ｒ３１０６により定められる初期の紫外線透過率が０．２％以下である紫外線吸収ガラス物品。
【０００８】
［２］  前記４官能加水分解性ケイ素化合物がテトラメトキシシランおよび／またはテトラエトキシシランから選ばれる［１］に記載の紫外線吸収ガラス物品。
［３］  前記親水性有機ポリマーがポリオキシアルキレン基を含む［１］または［２］に記載の紫外線吸収ガラス物品。
［４］  前記蛍光増白剤が極性溶媒に可溶である［１］〜［３］のいずれかに記載の紫外線吸収ガラス物品。
［５］  前記紫外線吸収膜形成用組成物がさらに紫外線吸収剤を含有する［１］〜［４］のいずれかに記載の紫外線吸収ガラス物品。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、耐クラック性、特に高温高湿下での長期使用における耐クラック性および初期の紫外線吸収能に優れるとともに、長時間露光によっても紫外線吸収能の劣化が少ない紫外線吸収膜を有する紫外線吸収ガラス物品を提供できる。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下に本発明の実施の形態を説明する。なお、本発明は、下記説明に限定して解釈されるものではない。
本発明の紫外線吸収ガラス物品は、ガラス基材と、前記ガラス基材の少なくとも一部の表面に以下の特定の組成の紫外線吸収膜形成用組成物を用いて形成された紫外線吸収膜を有し、前記紫外線吸収膜の膜厚が５．０μｍ以下であり、かつ前記ガラス物品の前記紫外線吸収膜形成領域におけるＪＩＳ−Ｒ３１０６により定められる初期の紫外線透過率が０．２％以下の紫外線吸収ガラス物品である。
【００１１】
本発明に用いる紫外線吸収膜形成用組成物は、下記（１）〜（３）の各成分を、それぞれ組成物中の全固形分量１００質量％に対して下記割合で含有する。
（１）４官能加水分解性ケイ素化合物を含む加水分解性ケイ素化合物類からなる酸化ケイ素系マトリクス原料成分をＳｉＯ２換算で５０〜９３質量％。ただし、４官能加水分解性ケイ素化合物の組成物中の全固形分量１００質量％に対する割合がＳｉＯ２換算で少なくとも５０質量％である。
（２）親水性有機ポリマーを５〜３０質量％。
（３）蛍光増白剤を２〜２０質量％。
【００１２】
本発明の紫外線吸収ガラス物品が有する紫外線吸収膜の膜厚は５．０μｍ以下であり、紫外線吸収膜形成領域におけるＪＩＳ−Ｒ３１０６により定められる初期の紫外線透過率が０．２％以下である。以下、本明細書においては、ＪＩＳ−Ｒ３１０６により定められる紫外線透過率を、単に紫外線透過率またはＴｕｖという。
ここで、紫外線吸収ガラス物品の「紫外線吸収能」は、紫外線吸収膜の紫外線吸収能とガラス基材の紫外線吸収能とを合わせて得られる紫外線吸収能を示すものであるが、本発明において、紫外線吸収ガラス物品の高い紫外線吸収能は、紫外線吸収膜の高い紫外線吸収能に起因するものである。
【００１３】
本発明に用いる蛍光増白剤は、３６０〜４００ｎｍの光を吸収し４３０ｎｍ前後の蛍光に変換する化合物であり、優れた紫外線吸収能を有する。しかしながら、蛍光増白剤は、多量に用いるとそれにより発生する蛍光が問題となるため、これまで紫外線吸収剤の補助剤として用いられていた。紫外線吸収剤は蛍光増白剤に比べて紫外線吸収能が低いため、総体的な量を増やすために膜厚を大きく取る必要性があるが、膜厚の大きいシリカ系の紫外線吸収膜はクラック発生の問題があった。そのために、可撓性成分や酸化ケイ素系マトリクス原料成分を構成する加水分解性ケイ素化合物の種類が検討されているが、耐摩耗性の点で問題があった。
【００１４】
本発明に係る紫外線吸収膜は、これを形成するための紫外線吸収膜形成用組成物において蛍光増白剤と、酸化ケイ素系マトリクス原料成分と、親水性有機ポリマーを上記割合で含有することにより、５．０μｍ以下の厚さでクラック発生の問題を回避しながら、初期の紫外線透過率０．２％以下という優れた紫外線吸収能を発揮することを可能にした。また初期において紫外線透過率が０．２％以下を達成すれば、その長時間露光によっても必要とされる紫外線透過率を維持することが可能となる。さらに、紫外線吸収膜形成用組成物の組成によれば耐摩耗性についても十分なレベルを堅持できる組成である。
【００１５】
また、本発明の紫外線吸収ガラス物品が、自動車等の車輌用の窓ガラスや家屋、ビル等の建物に取り付けられる建材用の窓ガラス等に用いられる場合には、通常、大面積のガラス基材上、に大面積、例えば、一方の主面全体に紫外線吸収膜が形成されて用いられる。このような場合においても、上記本発明に係る組成の紫外線吸収膜形成用組成物を用いて形成される紫外線吸収膜は、膜全体に亘って５．０μｍ以下の厚さに、かつ、該膜が形成された領域のガラス基材の全体に亘って紫外線透過率が０．２％以下となるように均一な形成が可能である。
以下、本発明の紫外線吸収ガラス物品を構成する部材について説明する。
【００１６】
［ガラス基材］
本発明の紫外線吸収ガラス物品に用いるガラス基材の材質としては、特に限定されず、通常のソーダライムガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、石英ガラス等が挙げられる。また、本発明の紫外線吸収ガラス物品のガラス基材としては、紫外線や赤外線を吸収するガラス基材を用いることも可能である。また、樹脂中間膜を用いて積層された合わせガラスを用いることもできる。
【００１７】
また、本発明の紫外線吸収ガラス物品に用いるガラス基材としては、波長４００ｎｍの光の透過率が５％以上であることが好ましく、紫外線吸収膜の効果をより発揮するために波長４００ｎｍの光の透過率が２０％以上であることがより好ましい。さらに、波長４００ｎｍの光の透過率は８０％以下であることが好ましく、６５％以下であることがより好ましい。また、ガラス基材のＪＩＳ−Ｒ３１０６（１９９８年）の日射透過率は７５％以下が好ましく、６５％以下がより好ましい。さらに、可視光透過率は５０％以上が好ましく、７０％以上がより好ましい。
【００１８】
本発明の紫外線吸収ガラス物品に用いるガラス基材の形状や大きさ、厚さは特に制限されない。ガラス基材の形状は平板でもよく、全面または一部が曲率を有していてもよい。ガラス基材の厚さについては、例えば、自動車の窓用や建築用の窓に用いる場合には、０．５〜１０ｍｍ程度の厚さが挙げられる。
【００１９】
本発明の紫外線吸収ガラス物品に用いるガラス基材において、例えば、紫外線吸収ガラス物品の紫外線吸収能がより発揮できるガラス基材として、波長４００ｎｍの光の透過率が５〜８０％、ＪＩＳ−Ｒ３１０６（１９９８年）の日射透過率が６５％以下、可視光透過率が７０％以上である、ガラス基材が好ましい。このようなガラス基材の材料としては、具体的には、ソーダライムガラス素地にチタンイオン、セリウムイオン、鉄イオンなどの金属イオンを含む、グリーン系のガラス材料が好適に用いられる。このようなガラス基材を用いると、より高い紫外線吸収能を具備できるだけでなく、１μｍ近傍の近赤外領域の遮蔽も行えるため、断熱性も具備させることができるという利点がある。
【００２０】
また、無機系ガラス材料からなるガラス板を大気中、６５０〜７００℃近い温度まで昇温し、急冷して強化処理を行って得られる強化ガラスをガラス基材として用いることができる。さらに、この熱処理においてガラス基材を曲げ加工することにより、曲げ加工されたガラス基材が得られる。このような加工が施されたガラス基材を用いることにより、高い耐久性を備えた、紫外線吸収膜を有する加工ガラス板が得られ、これは自動車用および建築用の窓材として特に有用である。
【００２１】
なお、本発明の紫外線吸収ガラス物品は、紫外線吸収膜が耐磨耗性に優れることから、好ましく適用されるのは、耐摩耗性が特に求められる用途であり、具体的には、自動車の窓用、特にウインドシールドや摺動窓用である。したがって、ガラス基材としては、このような用途に通常用いられる材質、大きさ、形状のガラス基材が好適に用いられる。
【００２２】
［紫外線吸収膜］
本発明の紫外線吸収ガラス物品において紫外線吸収膜は、上記（１）〜（３）の各成分を、それぞれ該組成物の全固形分量中に上記割合で含有する紫外線吸収膜形成用組成物を用いて形成される。
以下、本発明に用いる紫外線吸収膜形成用組成物が含有する各成分について説明する。
【００２３】
（１）酸化ケイ素系マトリクス原料成分
本発明に用いる紫外線吸収膜形成用組成物が含有する酸化ケイ素系マトリクス原料成分は、４官能加水分解性ケイ素化合物を含む加水分解性ケイ素化合物類からなる。本明細書において、加水分解性ケイ素化合物類とは、少なくとも１個の加水分解性基がケイ素原子に結合したシラン化合物群およびこのようなシラン化合物群の１種または２種以上の部分加水分解（共）縮合物の総称として用いる。また、加水分解性ケイ素化合物の官能性の数は、ケイ素原子に結合した加水分解性基の数をいう。
【００２４】
加水分解性ケイ素化合物類は、水の存在下、加水分解性基が加水分解してケイ素原子に結合した水酸基（シラノール基）を生成し、次いでシラノール基同士が脱水縮合して−Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ−で表されるシロキサン結合を生成して高分子量化する。２官能性加水分解性ケイ素化合物のみからは線状のポリシロキサンが生成するが、３官能性加水分解性ケイ素化合物や４官能性加水分解性ケイ素化合物からはポリシロキサンの３次元的なネットワークが生成され酸化ケイ素系マトリクスが形成される。また、２官能性加水分解性ケイ素化合物と３官能性加水分解性ケイ素化合物や４官能性加水分解性ケイ素化合物との混合物からもポリシロキサンの３次元的なネットワークが生成され酸化ケイ素系マトリクスが形成される。
【００２５】
本発明に用いる紫外線吸収膜形成用組成物においては、酸化ケイ素系マトリクス原料成分の主成分として、部分加水分解縮合物を含んでいてもよい、または部分加水分解縮合物であってもよい、４官能性加水分解性ケイ素化合物を含有する。以下、４官能性加水分解性ケイ素化合物とは、４官能性加水分解性ケイ素化合物および／またはその部分加水分解縮合物をいう。以下、３官能性加水分解性ケイ素化合物、２官能性加水分解性ケイ素化合物も同様である。
【００２６】
紫外線吸収膜形成用組成物における酸化ケイ素系マトリクス原料成分の含有量は組成物中の全固形分量１００質量％に対してＳｉＯ２換算で５０〜９３質量％であり、４官能加水分解性ケイ素化合物の組成物中の全固形分量１００質量％に対する割合がＳｉＯ２換算で少なくとも５０質量％である。紫外線吸収膜形成用組成物の全固形分量１００質量％に対するに酸化ケイ素系マトリクス原料成分の含有量をＳｉＯ２換算で５０〜９３質量％とし、かつ４官能加水分解性ケイ素化合物をＳｉＯ２換算で５０質量％以上とすることで、得られる紫外線吸収膜は耐摩耗性を有し、本発明の紫外線吸収ガラス物品の紫外線吸収膜の膜厚の範囲内において十分な耐クラック性を有するとともに紫外線吸収膜形成用組成物の成膜性も良好となる。
【００２７】
紫外線吸収膜形成用組成物の全固形分量１００質量％に対する酸化ケイ素系マトリクス原料成分の含有量は、ＳｉＯ２換算で５０〜９３質量％であり、６５〜９０質量％が好ましい。また、４官能加水分解性ケイ素化合物は、紫外線吸収膜形成用組成物の全固形分量１００質量％に対して５０質量％以上であり、６５質量％以上が好ましい。
【００２８】
酸化ケイ素系マトリクス原料成分は上記紫外線吸収膜形成用組成物中における４官能性加水分解性ケイ素化合物の含有量が確保できる限りはその他に３官能性加水分解性ケイ素化合物および／または２官能性加水分解性ケイ素化合物を含んでもよい。この場合、４官能性加水分解性ケイ素化合物と好ましく用いられるのは、３官能性加水分解性ケイ素化合物である。
【００２９】
酸化ケイ素系マトリクス原料成分における上記４官能性加水分解性ケイ素化合物と、３官能性加水分解性ケイ素化合物および／または２官能性加水分解性ケイ素化合物の含有割合はＳｉＯ２換算の質量比で、４官能性加水分解性ケイ素化合物：その他加水分解性ケイ素化合物として、６０〜１００：４０〜０が好ましく、７０〜１００：３０〜０がより好ましい。ただし、この場合であっても、紫外線吸収膜形成用組成物の全固形分量１００質量％に対する４官能加水分解性ケイ素化合物の割合は、５０質量％以上である。また、酸化ケイ素系マトリクス原料成分における２官能性加水分解性ケイ素化合物の配合量は、該成分全量に対して１０質量％以下の量とすることが好ましい。
【００３０】
酸化ケイ素系マトリクス原料成分が、４官能性加水分解性ケイ素化合物以外に、３官能性加水分解性ケイ素化合物、２官能性加水分解性ケイ素化合物を含有する場合、これらは、上記の通りそれ自体として配合されてもよく、それぞれの部分加水分解縮合物として配合されてもよく、これらの２種以上の部分加水分解共縮合物として配合されてもよい。以下、部分加水分解縮合物と部分加水分解共縮合物を総称して部分加水分解（共）縮合物ともいう。
【００３１】
本明細書において、部分加水分解（共）縮合物とは、加水分解性ケイ素化合物が加水分解し次いで脱水縮合することによって生成するオリゴマー（多量体）をいう。部分加水分解（共）縮合物は通常溶媒に溶解する程度の高分子量化体である。部分加水分解（共）縮合物は、加水分解性基やシラノール基を有し、さらに加水分解（共）縮合して最終的な硬化物になる性質を有する。ある１種の加水分解性ケイ素化合物のみから部分加水分解縮合物を得ることができ、また２種以上の加水分解性ケイ素化合物からそれらの共縮合体である部分加水分解共縮合物を得ることもできる。
【００３２】
なお、上記加水分解性ケイ素化合物の部分加水分解（共）縮合は、例えば、酸触媒存在下、加水分解性ケイ素化合物の低級アルコール溶液に水が添加された反応液を、１０〜４０℃で１〜４８時間撹拌することで行うことができる。
ここで、酸化ケイ素系マトリクス原料成分がこのような部分加水分解共縮合物を含有する場合の、各加水分解性ケイ素化合物の配合比は、原料加水分解性ケイ素化合物のＳｉＯ２換算の量として算出される。
【００３３】
酸化ケイ素系マトリクス原料成分を構成する各加水分解性ケイ素化合物が有する加水分解性基として、具体的には、アルコキシ基（アルコキシ置換アルコキシ基などの置換アルコキシ基を含む）、アルケニルオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、オキシム基、アミド基、アミノ基、イミノキシ基、アミノキシ基、アルキル置換アミノ基、イソシアネート基、塩素原子などが挙げられる。これらのうちでも加水分解性基としては、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アシルオキシ基、イミノキシ基、アミノキシ基等のオルガノオキシ基が好ましく、特にアルコキシ基が好ましい。アルコキシ基としては、炭素数４以下のアルコキシ基と炭素数４以下のアルコキシ置換アルコキシ基（２−メトキシエトキシ基など）が好ましく、特にメトキシ基とエトキシ基が好ましい。
【００３４】
酸化ケイ素系マトリクス原料成分の主成分として用いられる４官能性加水分解性ケイ素化合物は、４個の加水分解性基がケイ素原子に結合した化合物であり、加水分解性基の４個は互いに同一であっても異なっていてもよい。加水分解性基は、好ましくはアルコキシ基であり、より好ましくは炭素数４以下のアルコキシ基、さらに好ましくはメトキシ基とエトキシ基である。具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラｎ−プロポキシシラン、テトラｎ−ブトキシシラン、テトラｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラｔｅｒｔ−ブトキシシラン等が挙げられるが、本発明において好ましくは、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン等が用いられる。これらは１種が単独で用いられても、２種以上が併用されてもよい。
【００３５】
酸化ケイ素系マトリクス原料成分が任意に含有する３官能性加水分解性ケイ素化合物は、３個の加水分解性基と１個の非加水分解性基がケイ素原子に結合した化合物である。加水分解性基の３個は互いに同一であっても異なっていてもよい。加水分解性基は、好ましくはアルコキシ基であり、より好ましくは炭素数４以下のアルコキシ基、さらに好ましくはメトキシ基とエトキシ基である。
【００３６】
非加水分解性基としては、非加水分解性の官能基を有するまたは官能基を有しない１価有機基であることが好ましく、官能基を有する非加水分解性の１価有機基であることがより好ましい。非加水分解性の１価有機基とは、当該有機基とケイ素原子が炭素−ケイ素結合で結合する、結合末端原子が炭素原子である有機基をいう。
【００３７】
ここで、本明細書に用いる官能基とは、単なる置換基とは区別された、反応性を有する基を包括的に示す用語であり、例えば、飽和炭化水素基のような非反応性の基は、これに含まれない。また、モノマーが側鎖に有するような高分子化合物の主鎖形成に関わらない付加重合性の不飽和二重結合（エチレン性二重結合）は官能基の１種とする。また、本明細書に用いる（メタ）アクリル酸エステル等の「（メタ）アクリル…」の用語は、「アクリル…」と「メタクリル…」の両方を意味する用語である。
【００３８】
上記非加水分解性の１価有機基のうちでも、官能基を有しない非加水分解性の１価有機基としては、アルキル基、アリール基などの付加重合性の不飽和二重結合を有しない炭化水素基、ハロゲン化アルキル基などの付加重合性の不飽和二重結合を有しないハロゲン化炭化水素基が好ましい。官能基を有しない非加水分解性の１価有機基としては、特に炭素数２０以下、より好ましくは１０以下が好ましい。この１価有機基としては、炭素数４以下のアルキル基が好ましい。
【００３９】
官能基を有しない非加水分解性の１価有機基を有する３官能性加水分解性ケイ素化合物としては具体的には、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリイソプロペノキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン等が挙げられる。これらは１種が単独で用いられても、２種以上が併用されてもよい。
【００４０】
上記官能基を有する非加水分解性の１価有機基における官能基としては、エポキシ基、（メタ）アクリロキシ基、１級または２級のアミノ基、オキセタニル基、ビニル基、スチリル基、ウレイド基、メルカプト基、イソシアネート基、シアノ基、ハロゲン原子等が挙げられるが、エポキシ基、（メタ）アクリロキシ基、１級または２級のアミノ基、オキセタニル基、ビニル基、ウレイド基、メルカプト基などが好ましい。特に、エポキシ基、１級または２級のアミノ基、（メタ）アクリロキシ基が好ましい。エポキシ基を有する１価有機基としては、グリシドキシ基、３，４−エポキシシクロヘキシル基を有する１価有機基が好ましく、１級または２級のアミノ基を有する有機基としては、アミノ基、モノアルキルアミノ基、フェニルアミノ基、Ｎ−（アミノアルキル）アミノ基などを有する１価有機基が好ましい。
【００４１】
１価有機基における官能基は２個以上存在していてもよいが、１級または２級のアミノ基の場合を除いて１個の官能基を有する１価有機基が好ましい。１級または２級のアミノ基の場合は、２個以上のアミノ基を有していてもよく、その場合は１個の１級アミノ基と１個の２級アミノ基を有する１価有機基、例えば、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピル基や３−ウレイドプロピル基などが好ましい。これら官能基を有する１価有機基の全炭素数は２０以下が好ましく、１０以下がより好ましい。
【００４２】
官能基を有する非加水分解性の１価有機基を有する３官能性加水分解性ケイ素化合物としては具体的には、以下の化合物が挙げられる。
ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、ビニルトリイソプロペノキシシラン、ｐ−スチリルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、５，６−エポキシへキシルトリメトキシシラン、９，１０−エポキシデシルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ジ−（３−メタクリロキシ）プロピルトリエトキシシラン、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリプロポキシシラン、３，３，３−トリフロロプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、２−シアノエチルトリメトキシシラン等を挙げることができる。
【００４３】
これらのうちでも好ましい化合物としては、炭素数２または３のアルキル基の末端に、グリシドキシ基、２，３−エポキシシクロヘキシル基、アミノ基、アルキルアミノ基（アルキル基の炭素数は４以下）、フェニルアミノ基、Ｎ−（アミノアルキル）アミノ基（アルキル基の炭素数は４以下）、および（メタ）アクリロキシ基のいずれかの官能基を有する１価有機基の１個と、炭素数４以下のアルコキシ基の３個がケイ素原子に結合した３官能性加水分解性ケイ素化合物である。
【００４４】
このような化合物として、具体的には、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ジ−（３−メタクリロキシ）プロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。シラン化合物との反応性の点から３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン等が特に好ましい。これらは１種が単独で用いられても、２種以上が併用されてもよい。
【００４５】
酸化ケイ素系マトリクス原料成分が任意に含有する２官能性加水分解性ケイ素化合物は、２個の加水分解性基と２個の非加水分解性基がケイ素原子に結合した化合物である。加水分解性基の２個は互いに同一であっても異なっていてもよい。加水分解性基は、好ましくはアルコキシ基であり、より好ましくは炭素数４以下のアルコキシ基、さらに好ましくはメトキシ基とエトキシ基である。
【００４６】
非加水分解性基としては、非加水分解性の１価有機基であることが好ましい。非加水分解性の１価有機基は必要に応じて、上記３官能性加水分解性ケイ素化合物と同様の官能基を有してもよい。
【００４７】
上記２官能性加水分解性ケイ素化合物として、具体的には、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジ（２−メトキシエトキシ）シラン、ジメチルジアセトキシシラン、ジメチルジプロポキシシラン、ジメチルジイソプロペノキシシラン、ジメチルジブトキシシラン、ビニルメチルジメトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、ビニルメチルジアセトキシシラン、ビニルメチルジ（２−メトキシエトキシ）シラン、ビニルメチルジイソプロペノキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジアセトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジプロポキシシラン、３，３，３−トリフロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−アクリルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、２−シアノエチルメチルジメトキシシラン等が挙げられる。これらは１種が単独で用いられても、２種以上が併用されてもよい。
【００４８】
また、本発明の紫外線吸収膜形成用組成物において、組成物全質量に対する上記酸化ケイ素系マトリクス原料成分の含有量は、該酸化ケイ素系マトリクス原料成分に含まれるケイ素原子をＳｉＯ２に換算したときのＳｉＯ２含有量として、１〜２０質量％であることが好ましく、より好ましくは３〜１５質量％である。この組成物全質量に対する酸化ケイ素系マトリクス原料成分の含有量が、１質量％未満であると、所望の膜厚の紫外線吸収膜を得るための組成物の塗布量を多くする必要があり、その結果外観が悪化するおそれがあり、２０質量％を超えると、組成物を塗布した状態での膜厚が厚くなり得られる紫外線吸収膜にクラックが発生するおそれがある。
【００４９】
（２）親水性有機ポリマー
本発明に用いる紫外線吸収膜形成用組成物は、該組成物中の全固形分量１００質量％に対して５〜３０質量％の割合で親水性有機ポリマーを含有する。
親水性有機ポリマーは、紫外線吸収膜形成用組成物を用いて後述の方法により紫外線吸収膜を形成する際に、組成物に含まれる液体成分の蒸発に伴って生じることが懸念されるクラックの発生を抑制する機能を有する。
【００５０】
紫外線吸収膜は、紫外線吸収膜形成用組成物が主体として含有する酸化ケイ素系マトリクス原料成分からポリシロキサンの３次元的なネットワークが生成され酸化ケイ素系マトリクスが形成されることで成膜される。本発明に係る酸化ケイ素系マトリクス原料成分は４官能加水分解性ケイ素化合物のみからなる、あるいはこれを高含有量で含むため、得られる酸化ケイ素系マトリクスは、剛直な構造となり、成膜時の硬化収縮に対応しきれずクラックが発生することが懸念される。このような紫外線吸収膜形成用組成物が親水性有機ポリマーを含有すると、酸化ケイ素系マトリクス中に親水性有機ポリマーが取り込まれるかたちで成膜が行われる。これにより、成膜時の硬化収縮の構造変化に膜全体として柔軟に追随できるようになり、膜中の応力が緩和されると考えられる。
【００５１】
紫外線吸収膜形成用組成物における親水性有機ポリマーの含有量を上記範囲とすることで、成膜時にクラック発生を十分に抑制できるとともに、得られる紫外線吸収膜の機械的強度を保持することで耐摩耗性等を十分なものとできる。
【００５２】
紫外線吸収膜形成用組成物中の全固形分量１００質量％に対する親水性有機ポリマーの含有割合は、５〜３０質量％であり、１０〜３０質量％が好ましい。
【００５３】
親水性有機ポリマーとして、具体的には、水酸基、カルボン酸基等の親水性基や、アルキレン基の間にエーテル性酸素原子を有するポリオキシアルキレン基等を含むポリマーが挙げられる。本発明において好ましくは、ポリオキシアルキレン基を含む親水性有機ポリマーが挙げられる。ポリオキシアルキレン基を含む親水性有機ポリマーとしては、ポリエチレングリコール（ＰＥＧ）、ポリエーテルリン酸エステル系ポリマー等が挙げられる。
ポリエチレングリコール（ＰＥＧ）の分子量としては、１００〜４００００が好ましく、２００〜４０００がより好ましい。
【００５４】
ポリエーテルリン酸エステル系ポリマーとしては、ポリエーテルリン酸エステル系界面活性剤等が挙げられ、その好ましい分子量は、ポリエチレングリコール（ＰＥＧ）の分子量と同様である。ポリエーテルリン酸エステル系界面活性剤として、具体的には、市販品として、ソルスパース４１０００（商品名、日本ルーブリゾール社製）、ディスパロンＤＡ−３７５（商品名、楠本化成社製）等が挙げられる。
本発明において、これら親水性有機ポリマーは１種を単独で用いることも、２種以上を併用することも可能である。
【００５５】
（３）蛍光増白剤
本発明に用いる紫外線吸収膜形成用組成物は、該組成物中の全固形分量１００質量％に対して２〜２０質量％の割合で蛍光増白剤を含有する。
【００５６】
蛍光増白剤は、３６０〜４００ｎｍの光を吸収し４３０ｎｍ前後の蛍光に変換する化合物であり、本発明においては、通常、蛍光増白剤に分類される化合物を特に制限なく使用可能である。蛍光増白剤は上記波長の紫外線領域の光に対して高い吸光係数を有することから、紫外線吸収膜形成用組成物が含有する量が上記の範囲であっても、得られる紫外線吸収膜の膜厚を５．０μｍ以下とした際に、該膜が形成された領域のガラス基材のＴｕｖを０．２％以下とすることが可能である。
紫外線吸収膜形成用組成物中の全固形分量１００質量％に対する蛍光増白剤の含有割合は、２〜２０質量％であり、３〜１５質量％が好ましい。
【００５７】
本発明に用いられる蛍光増白剤として、具体的には、チオフェン系蛍光増白剤、スチルベン系蛍光増白剤、クマリン系蛍光増白剤、ナフタレン系蛍光増白剤、ベンズイミダゾール系蛍光増白剤等が挙げられる。
【００５８】
チオフェン系蛍光増白剤として具体的には、２，５−ビス（５−ｔ−ブチル−２−ベンズオキサゾリル）チオフェン等が挙げられる。
スチルベン系蛍光増白剤として具体的には、４，４’−ビス（２−ベンズオキサゾリル）スチルベン、４−（２Ｈ−ナフト［１，２−ｄ］トリアゾール−２−イル）スチルベン−２−スルホン酸ナトリウム、４，４’−ビス［（１，４−ジヒドロ−４−オキソ−６−フェニルアミノ−１，３，５−トリアジン−２−イル）アミノ］スチルベン−２,２’−ジスルホン酸二ナトリウム、２，２’−（１，２−エテンジイル）ビス［５−（３−フェニルウレイド）ベンゼンスルホン酸ナトリウム］、２，２’−（１，２−エテンジイル）ビス［５−［（４−アミノ−６−クロロ−１，３，５−トリアジン−２−イル）アミノ］ベンゼンスルホン酸ナトリウム］、４，４’−ビス［［４−アニリノ−６−［ビス（２−ヒドロキシエチル）アミノ］−１，３，５−トリアジン−２−イル］アミノ］スチルベン−２，２’−ジスルホン酸ジナトリウム、２，２’−［１，２-エテンジイルビス（３−ソジオスルホ−４,１-フェニレン）］ビス（２Ｈ−ナフト［１，２−ｄ］トリアゾール−６−スルホン酸ナトリウム）、２，２’−（１，２−エテンジイル）ビス［５−［（２，４−ジメトキシベンゾイル）アミノ］ベンゼンスルホン酸ナトリウム］、２，２’−（１，２−エテンジイル）ビス［５−［［４−メトキシ−６−［フェニルアミノ］−１，３，５−トリアジン−２−イル］アミノ］ベンゼンスルホン酸］ジナトリウム、４，４’−ビス［（６−アミノ−１，４−ジヒドロ−オキソ−１，３，５−トリアジン−２−イル）アミノ］スチルベン−２，２’−ジスルホン酸ナトリウム、２，２’−（［１，１’−ビフェニル］−４，４’−ジイルジビニレン）ビス（ベンゼンスルフォネート）ジナトリウム等が挙げられる。
【００５９】
ナフタレン系蛍光増白剤として具体的には、１，４−ビス（２−ベンズオキサゾリル）ナフタレン等が挙げられる。ベンズイミダゾール系蛍光増白剤として具体的には、ＨＯＳＴＡＬＵＸ  ＡＣＫ  ＬＩＱ（商品名、クラリアント・ジャパン社製））等が挙げられる。
【００６０】
上記以外に本発明に使用可能な蛍光増白剤として、市販品である、ＴＷ−２（商品名、昭和化学工業社製）、Ｈａｋｋｏｌ  Ｐ（商品名、昭和化学工業社製）、Ｋａｙａｌｉｇｈｔ  Ｂ（商品名、日本化薬社製）、ＴＩＮＯＰＡＬ  ＮＦＷ  ＬＩＱ（商品名、ＢＡＳＦ社製）、Ｈａｋｋｏｌ  ＫＩＰ（商品名、昭和化学工業社製）、等が挙げられる。
本発明において、これら蛍光増白剤は１種を単独で用いることも、２種以上を併用することも可能である。
【００６１】
上記蛍光増白剤は、紫外線吸収膜形成用組成物への溶解性の観点から、極性溶媒に可溶であることが好ましい。本発明に用いる紫外線吸収膜形成用組成物は、後述のように液体成分として通常、水とアルコール等の溶媒を含有する。なお、蛍光増白剤が極性溶媒に可溶であるとは、紫外線吸収膜形成用組成物に配合される所定量の水とアルコール等の極性溶媒に対して、上記蛍光増白剤の所定量が溶解可能であることをいう。
【００６２】
具体的な目安として、２５℃における水に対する溶解度が３ｇ／１００ｇ以上であれば、蛍光増白剤は極性溶媒に対して可溶であるといえる。
このような極性溶媒に可溶である蛍光増白剤として、Ｈａｋｋｏｌ  Ｐ（商品名、昭和化学工業社製）、ＴＩＮＯＰＡＬ  ＮＦＷ  ＬＩＱ（商品名、ＢＡＳＦ社製）Ｈａｋｋｏｌ  ＫＩＰ（商品名、昭和化学工業社製）等が挙げられる。
【００６３】
（４）その他成分
本発明に用いる、紫外線吸収膜形成用組成物は、上記(１)〜（３）成分の他に、通常、（１）成分の硬化触媒である酸等の硬化触媒、加水分解のための水、また、固形成分を溶解または分散させてガラス基体上への塗布を可能とする溶媒を含有する。また、任意成分として、紫外線吸収剤、可撓性成分、シリカ微粒子、赤外線吸収剤、光安定剤等の各種機能性成分、レベリング剤等の成膜性向上成分等を、本発明の効果を損なわない範囲において含有することができる。
【００６４】
（硬化触媒）
紫外線吸収膜形成用組成物は、さらに（１）成分の硬化触媒を含有してもよい。硬化触媒としては、脂肪族カルボン酸（ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、乳酸、酒石酸、コハク酸等）のリチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩；ベンジルトリメチルアンモニウム塩、テトラメチルアンモニウム塩、テトラエチルアンモニウム塩等の四級アンモニウム塩；アルミニウム、チタン、セリウム等の金属アルコキシドやキレート；過塩素酸アンモニウム、塩化アンモニウム、硫酸アンモニウム、酢酸ナトリウム、イミダゾール類及びその塩、トリフルオロメチルスルホン酸アンモニウム、ビス（トルフルオルメチルスルホニル）ブロモメチルアンモニウム等が挙げられる。
【００６５】
さらに、本発明においては、得られる紫外線吸収膜に所望の耐摩耗性を付与するために、紫外線吸収膜形成用組成物のｐＨを１．０〜５．０に調整することが好ましく、２．０〜４．５に調整することがより好ましい。ｐＨ調整の手法としては、酸の添加、硬化触媒の含有量の調整等が挙げられる。酸としては、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、亜硝酸、過塩素酸、スルファミン酸等の無機酸；ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、シュウ酸、コハク酸、マレイン酸、乳酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の有機酸が挙げられる。
本発明において、これら硬化触媒、好ましくは酸、は１種を単独で用いることも、２種以上を併用することも可能である。
【００６６】
紫外線吸収膜形成用組成物における上記酸等の硬化触媒の含有量としては、（１）成分である酸化ケイ素系マトリクス原料成分のＳｉＯ２換算量に対して、０．１〜２０．０質量％の量が好ましく、０．５〜１０．０質量％がより好ましい。
【００６７】
（水）
本発明に用いる紫外線吸収膜形成用組成物は、上記（１）成分である酸化ケイ素系マトリクス原料成分を構成する上記加水分解性ケイ素化合物類を加水分解、縮重合させるための水を含有する。
【００６８】
紫外線吸収膜形成用組成物が含有する水の量は、上記加水分解性ケイ素化合物類を加水分解、縮重合させるために十分な量であれば、特に制限されないが、上記（１）成分である酸化ケイ素系マトリクス原料成分のＳｉＯ２換算量に対してモル比で１〜２０当量となる量が好ましく、４〜１６当量となる量がより好ましい。水の量が上記モル比で１当量未満では加水分解が進行しにくく、該組成物をガラス基材の表面に塗布する際に、組成物がはじかれたり、ヘイズが上昇することがあり、２０当量を超えると加水分解速度が速くなり長期保管性が十分でなくなることがある。
【００６９】
なお、後述のように耐摩耗性や耐傷付き性等の紫外線吸収膜における硬度を向上させる目的で、シリカ微粒子を配合する場合は特に、紫外線吸収膜形成用組成物が含有する水の量は、上記酸化ケイ素系マトリクス原料成分のＳｉＯ２換算量に対してモル比で２〜２０当量となる量が好ましく、４〜１７．５当量となる量がより好ましい。水の量が上記モル比で２当量未満では紫外線吸収膜の硬度が低下することがあり、２０当量を超えると加水分解速度が速くなり長期保管性が十分でなくなることがある。
また、シリカ微粒子として後述する水分散型コロイダルシリカを用いた場合や、蛍光増白剤、後述の紫外線吸収剤が水分散体として用いられる場合には、これらの水も紫外線吸収膜形成用組成物に含まれる水として扱われる。
【００７０】
（溶媒）
本発明に用いる紫外線吸収膜形成用組成物は、通常、所定量の上記（１）〜（３）の各成分、酸および水と、任意に添加される種々の任意成分等が、溶媒中に溶解、分散した形態で調製される。上記紫外線吸収膜形成用組成物中の全固形分が溶媒に安定に溶解、分散することが必要であり、そのために溶媒は、少なくとも２０質量％以上、好ましくは５０質量％以上のアルコールを含有する。
【００７１】
このような溶媒に用いるアルコールとしては、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、２−メチル−１−プロパノール、１−メトキシ−２−プロパノール、２−エトキシエタノール、４−メチル−２−ペンタノール、および２−ブトキシエタノール等が好ましく、これらのうちでも、上記酸化ケイ素系マトリクス原料成分の溶解性が良好な点、基材への塗工性が良好な点から、沸点が８０〜１６０℃のアルコールが好ましい。具体的には、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、２−メチル−１−プロパノール、１−メトキシ−２−プロパノール、２−エトキシエタノール、４−メチル−２−ペンタノール、および２−ブトキシエタノールが好ましい。
【００７２】
また、紫外線吸収膜形成用組成物に用いる溶媒としては、該組成物が、加水分解性ケイ素化合物の部分加水分解（共）縮合物を含む場合には、その製造過程で、原料加水分解性ケイ素化合物（例えば、アルキルトリアルコキシシラン）を加水分解することに伴って発生する低級アルコール等や、有機溶媒分散系のコロイダルシリカや各種成分が有機溶媒と共に配合された場合にはそれらの有機溶媒も含まれる。
【００７３】
さらに、紫外線吸収膜形成用組成物においては、上記以外の溶媒として、水／アルコールと混和することができるアルコール以外の他の溶媒を併用してもよく、このような溶媒としては、アセトン、アセチルアセトン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸イソブチル等のエステル類；プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類が挙げられる。
【００７４】
本発明に用いる紫外線吸収膜形成用組成物において用いる溶媒の量は、紫外線吸収膜形成用組成物中の全固形分１００質量％に対して、２０〜１０００質量％であることが好ましく、４０〜５００質量％であることがより好ましい。
【００７５】
（紫外線吸収剤）
本発明に用いる紫外線吸収膜形成用組成物は、任意に紫外線吸収剤を含有してもよい。紫外線吸収剤は、上記蛍光増白剤よりも比較的波長の短い例えば３２５〜３９０ｎｍの範囲に吸収を示すものが多い。したがって、本発明の効果を損なわない範囲で紫外線吸収剤を蛍光増白剤と併用することで、比較的広い波長領域で紫外線吸収能を紫外線吸収膜となる。また、紫外線吸収剤の使用により上記蛍光増白剤の紫外線吸収膜形成用組成物における含有量を低い範囲に抑えることができ、発する蛍光の量を抑えることができ好ましい。
【００７６】
紫外線吸収剤として、具体的には、ベンゾフェノン類、トリアジン類、ベンゾトリアゾール類、シアノアクリレート類、アゾメチン類、インドール類、サリシレート類および、アントラセン類等の有機系紫外線吸収剤が挙げられる。これらの紫外線吸収剤には、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤、アゾメチン系紫外線吸収剤、インドール系紫外線吸収剤、サリシレート系紫外線吸収剤、アントラセン系紫外線吸収剤等およびこれらの化合物を用いて作製された水分散体、エマルジョン、さらに、これらの化合物と金属との錯体が含まれる。
【００７７】
上記ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤として、具体的には、２−〔５−クロロ（２Ｈ）−ベンゾトリアゾール−２−イル〕−４−メチル−６−（ｔｅｒｔ-ブチル）フェノール（市販品としては、ＴＩＮＵＶＩＮ  ３２６（商品名、ＢＡＳＦ社製）等）、オクチル−３−［３−ｔｅｒｔ−４−ヒドロキシ−５−［５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル］プロピオネート、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４,６−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェノール、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−［２−ヒドロキシ−３−（３，４，５，６−テトラヒドロフタルイミド−メチル）−５−メチルフェニル］ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、メチル３−（３−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２−（２Ｈ−ベンゾチリアゾール−２−イル）−４，６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（１−メチル−１−フェニルエチル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール等が挙げられる。
【００７８】
上記トリアジン系紫外線吸収剤として、具体的には、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−ドデシロキシプロピル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−（２’−エチル）ヘキシル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−６−（２，４−ビス−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−［１−オクチルカルボニルエトキシ］フェニル）−４，６−ビス(４−フェニルフェニル)−１，３，５−トリアジン、ＴＩＮＵＶＩＮ４７７（商品名、ＢＡＳＦ社製））等が挙げられる。
【００７９】
上記シアノアクリレート系紫外線吸収剤として、具体的には、ＵＶＩＮＵＬ３００８（商品名、ＢＡＳＦ社製）等が、サリシレート系紫外線吸収剤として、具体的には、ｐ−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、ｐ−オクチルフェニルサリシレート等が、アントラセン系紫外線吸収剤として、具体的には、アントラセンおよびアントラセン誘導体等が、インドール系紫外線吸収剤としてはＢＯＮＡＳＯＲＢ  ＵＡ−３９１１、ＢＯＮＡＳＯＲＢ  ＵＡ−３９１２（商品名、共にオリエント化学社製）等が、アゾメチン系紫外線吸収剤としては、ＢＯＮＡＳＯＲＢ  ＵＡ−３７０１（商品名、オリエント化学社製）等が挙げられる。
【００８０】
上記ベンゾフェノン系紫外線吸収剤として、具体的には、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，３（または４、５、６のいずれか）−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２,４−ジヒドロキシ−２’，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン等が挙げられる。
【００８１】
本発明において、これら紫外線吸収剤は１種を単独で用いることも、２種以上を併用することも可能である。また、これら紫外線吸収剤のうちでも本発明においては、溶解性の点からベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましく用いられる。
【００８２】
紫外線吸収膜形成用組成物における紫外線吸収剤の含有量は、組成物中の全固形分量１００質量％に対して５〜３０質量％が好ましく、１０〜２０質量％がより好ましい。
【００８３】
（可撓性付与成分）
本発明に用いる紫外線吸収膜形成用組成物においては、上記親水性有機ポリマーの他に酸化ケイ素系マトリクス原料成分が硬化して得られる酸化ケイ素系マトリクスに可撓性を付与する成分（以下、「可撓性付与成分」という。）を本発明の効果を損なわない範囲で配合することが可能である。その他可撓性付与成分は、上記親水性有機ポリマーと共に作用し、紫外線吸収膜におけるクラック発生の防止に寄与することが可能である。
【００８４】
可撓性付与成分としては、例えば、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂などの各種有機樹脂等の有機化合物を挙げることができる。
可撓性付与成分として有機樹脂を用いる場合、その形態としては、液状、微粒子などが好ましい。有機樹脂は、また、上記酸化ケイ素系マトリクス原料成分の硬化・乾燥等の際に、架橋・硬化するような樹脂の原料成分として、紫外線吸収膜形成用組成物に配合してもよい。この場合、酸化ケイ素系マトリクスの特性を阻害しない範囲で、上記酸化ケイ素系マトリクス原料成分の一部と可撓性付与成分である有機樹脂原料成分や有機樹脂が部分的に反応して架橋してもよい。
【００８５】
可撓性付与成分のうちシリコーン樹脂として好ましくは、各種変性シリコーンオイルを含むシリコーンオイル、末端が加水分解性シリル基もしくは重合性基含有有機基を含有するジオルガノシリコーンを一部あるいは全部架橋させたシリコーンゴム等が挙げられる。
【００８６】
ポリウレタン樹脂としてはポリウレタンゴム等を、アクリル系樹脂としてはアクリロニトリルゴム、アクリル酸アルキルエステルの単独重合体、メタクリル酸アルキルエステルの単独重合体、アクリル酸アルキルエステルとそのアクリル酸アルキルエステルと共重合可能なモノマーとの共重合体、メタクリル酸アルキルエステルとそのメタクリル酸アルキルエステルと共重合可能なモノマーとの共重合体等を好ましく挙げることができる。上記（メタ）アクリル酸アルキルエステルと共重合可能なモノマーとしては、（メタ）アクリル酸のヒドロキシアルキルエステル、ポリオキシアルキレン基を有する（メタ）アクリル酸エステル、紫外線吸収剤の部分構造を有する（メタ）アクリル酸エステル、ケイ素原子を有する（メタ）アクリル酸エステル等を使用できる。
【００８７】
可撓性付与成分としてエポキシ樹脂を紫外線吸収膜形成用組成物に配合する場合には、エポキシ樹脂の原料成分であるポリエポキシド類と硬化剤の組合せまたはポリエポキシド類を単独で配合することが好ましい。ポリエポキシド類とは、複数のエポキシ基を有する化合物の総称である。すなわち、ポリエポキシド類の平均エポキシ基数は２以上であるが、本発明においては平均エポキシ基数が２〜１０のポリエポキシドが好ましい。
【００８８】
このようなポリエポキシド類としては、ポリグリシジルエーテル化合物、ポリグリシジルエステル化合物、およびポリグリシジルアミン化合物等のポリグリシジル化合物が好ましい。また、ポリエポキシド類としては、脂肪族ポリエポキシド類、芳香族ポリエポキシド類のいずれであってもよく、脂肪族ポリエポキシド類が好ましい。これらは、エポキシ基を２個以上有する化合物である。
【００８９】
これらのなかでもポリグリシジルエーテル化合物が好ましく、脂肪族ポリグリシジルエーテル化合物が特に好ましい。ポリグリシジルエーテル化合物としては、２官能以上のアルコールのグリシジルエーテルであることが好ましく、耐光性を向上できる点から３官能以上のアルコールのグリシジルエーテルであることが特に好ましい。なお、これらアルコールは、脂肪族アルコール、脂環式アルコール、または糖アルコールであることが好ましい。
【００９０】
具体的には、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル、ジグリセロールポリグリシジルエーテル、ポリグリセロールポリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、ソルビトールポリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル等が挙げられる。これらは１種のみを用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００９１】
これらのうちでも、特に耐光性を向上できる点から、グリセロールポリグリシジルエーテル、ジグリセロールポリグリシジルエーテル、ポリグリセロールポリグリシジルエーテル、およびソルビトールポリグリシジルエーテル等の３個以上の水酸基を有する脂肪族ポリオールのポリグリシジルエーテル（１分子あたり平均のグリシジル基（エポキシ基）数が２を超えるもの）が好ましい。これらは１種が単独で用いられても、２種以上が併用されてもよい。
【００９２】
上記可撓性付与成分の配合量は、本発明の効果を損なわずに、上記親水性有機ポリマーと共に作用して紫外線吸収膜に可撓性を付与し耐クラック性を向上できる量であれば特に制限されない。具体的には、紫外線吸収膜形成用組成物中の全固形分量１００質量％に対して３〜２０質量％が好ましく、５〜１０質量％がより好ましい。
【００９３】
（シリカ微粒子）
本発明に用いる紫外線吸収膜形成用組成物は、紫外線吸収膜の耐摩耗性を向上させるために必要に応じてシリカ微粒子を含有してもよい。シリカ微粒子を紫外線吸収膜形成用組成物に配合する場合には、コロイダルシリカとして配合することが好ましい。なお、コロイダルシリカとは、シリカ微粒子が、水またはメタノール、エタノール、イソブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等の有機溶媒中に分散されたものをいう。紫外線吸収膜形成用組成物を調製する際にコロイダルシリカを適宜配合して、シリカ微粒子を含む紫外線吸収膜形成用組成物とすることができる。また、加水分解性ケイ素化合物の部分加水分解（共）縮合物を製造する場合、その原料加水分解性ケイ素化合物にコロイダルシリカを配合して部分加水分解（共）縮合を行い、シリカ微粒子含有部分加水分解（共）縮合物を得ることができ、これを用いてシリカ微粒子を含む紫外線吸収膜形成用組成物とすることも可能である。
【００９４】
紫外線吸収膜形成用組成物に用いるシリカ微粒子の平均粒径（ＢＥＴ法）は、１〜１００ｎｍが好ましい。平均粒径が１００ｎｍを超えると、粒子が光を乱反射するため、得られる紫外線吸収膜の曇価の値が大きくなり、光学品質上好ましくない場合がある。さらに、平均粒径は５〜４０ｎｍであることが特に好ましい。これは、紫外線吸収膜に耐摩耗性を付与しつつ、かつ紫外線吸収膜の無色透明性を保持するためである。また、コロイダルシリカは水分散型および有機溶剤分散型のどちらも使用できるが、有機溶剤分散型を使用することが好ましい。さらに、コロイダルシリカには、アルミナゾル、チタニアゾル、セリアゾル等のシリカ微粒子以外の無機質微粒子を含有させることもできる。
【００９５】
上記シリカ微粒子の配合量は、本発明の効果を損なわずに、紫外線吸収膜の耐摩耗性を向上できる量であれば特に制限されない。具体的には、紫外線吸収膜形成用組成物中の全固形分量１００質量％に対して３〜５０質量％が好ましく、５〜３０質量％がより好ましい。
【００９６】
（その他任意成分）
本発明に用いる紫外線吸収膜形成用組成物はさらに、耐光性向上の目的で、光安定剤を含んでいてもよい。光安定剤として好ましくは、ヒンダードアミン系光安定化剤（ＨＡＬＳ）等が挙げられる。光安定剤の配合量は、紫外線吸収膜形成用組成物中の全固形分量１００質量％に対して０．００１〜０．０１５質量％が好ましく、０．００２〜０．００９質量％がより好ましい。
【００９７】
紫外線吸収膜形成用組成物はさらに、赤外線遮蔽性を付与する目的でインジウム錫酸化物微粒子、アンチモン錫酸化物微粒子等の機能性微粒子や有機色素を含んでいてもよい。
【００９８】
また、紫外線吸収膜形成用組成物は、ガラス基材への塗工性および得られる塗膜の平滑性を向上させる目的で界面活性剤を添加剤として含んでいてもよい。
【００９９】
本発明に用いる紫外線吸収膜形成用組成物はさらに、ガラス基材への塗工性向上の目的で、消泡剤や粘性調整剤等の添加剤を含んでいてもよく、ガラス基材への密着性向上の目的で密着性付与剤等の添加剤を含んでいてもよい。これらの添加剤の配合量は、紫外線吸収膜形成用組成物中の全固形分量１００質量％に対して、添加剤成分毎に０．０１〜２質量％となる量が好ましい。また、紫外線吸収膜形成用組成物は、本発明の目的を損なわない範囲で、染料、顔料、フィラーなどを含んでいてもよい。
【０１００】
（紫外線吸収膜形成用組成物の調製）
本発明に用いる紫外線吸収膜形成用組成物は、上記(１)酸化ケイ素系マトリクス原料成分、（２）親水性有機ポリマー、（３）蛍光増白剤の所定量と、（１）成分の硬化触媒、加水分解のための水、また、固形成分を溶解または分散させる溶媒、また、必要に応じて添加される各種任意成分の任意の量を、通常の方法で混合することで調製できる。なお、各成分を添加する時期については、適宜選択可能である。
【０１０１】
ここで、本発明に用いる紫外線吸収膜形成用組成物が、上記酸化ケイ素系マトリクス原料成分として、加水分解性ケイ素化合物自体を含有する場合には、保存等に際して組成物を安定化するために、これらを部分加水分解（共）縮合させる処理を行ってもよい。
【０１０２】
上記と同様にこの部分加水分解共縮合においては、上記同様の酸触媒の存在下で、上記と同様の反応条件の下で行うことが好ましい。通常は、加水分解性ケイ素化合物単体の１種以上を必要に応じて混合後、酸触媒の存在下に常温で所定時間攪拌することにより目的を達することができる。前記任意の配合剤の配合は、この部分加水分解共縮合の前に行ってもよく、この部分加水分解共縮合の後に行ってもよい。触媒の添加やｐＨの調整はこの部分加水分解共縮合の後に行うことが好ましい。
【０１０３】
［本発明の紫外線吸収ガラス物品］
本発明の紫外線吸収ガラス物品は、ガラス基材と、このガラス基材の少なくとも一部の表面に上記紫外線吸収膜形成用組成物を用いて形成された紫外線吸収膜とを有する。なお、ガラス基材における紫外線吸収膜の形成は、ガラス基材の一方の主面の全面または、例えば端部を除く全領域に形成されることが好ましい。
【０１０４】
紫外線吸収膜形成用組成物を上記ガラス基材上に形成させる具体的な方法としては、（Ａ）ガラス基材上に組成物を塗布し塗膜を形成する工程と、（Ｂ）前記塗膜から上記溶媒を除去するとともに上記酸化ケイ素系マトリクス原料成分を硬化させて硬化物とすることで紫外線吸収膜を形成する工程を含む方法が挙げられる。
【０１０５】
まず（Ａ）工程において、紫外線吸収膜形成用組成物をガラス基材上に塗布して、該組成物による塗膜を形成する。なお、ここで形成される塗膜は上記溶媒を含む塗膜である。ガラス基材上への紫外線吸収膜形成用組成物の塗布方法は、均一に塗布される方法であれば特に限定されず、フローコート法、ディップコート法、スピンコート法、スプレーコート法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、ロールコート法、メニスカスコート法、ダイコート法など、公知の方法を用いることができる。紫外線吸収膜形成用組成物による塗膜の厚さは、最終的に得られる紫外線吸収膜の厚さを考慮して決められる。
なお、大面積や曲率を有するガラス基材上に均一に塗膜を形成する方法としてはディップコート法、スピンコート法、スプレーコート法、ロールコート法等が好ましい。
【０１０６】
次に（Ｂ）の工程：ガラス基材上の紫外線吸収膜形成用組成物の塗膜から溶媒を除去するとともに上記加水分解性ケイ素化合物類からなる酸化ケイ素系マトリクス原料成分を硬化させて紫外線吸収膜を形成する工程が実行される。
【０１０７】
上記紫外線吸収膜形成用組成物の塗膜は揮発性の有機溶媒等を含んでいるため、組成物による塗膜形成後、まずこの揮発性成分を蒸発させて除去する。この揮発性成分の除去は加熱および／または減圧乾燥によって行うことが好ましい。ガラス基材上に紫外線吸収膜形成用組成物の塗膜を形成した後、室温〜１２０℃程度の温度下で仮乾燥を行うことが塗膜のレベリング性向上の観点から好ましい。通常この仮乾燥の操作中に、これと並行して揮発成分が気化して除去されるため、揮発成分除去の操作は仮乾燥に含まれることになる。仮乾燥の時間、すなわち揮発成分除去の操作の時間は、用いる紫外線吸収膜形成用組成物にもよるが３秒〜２時間程度であることが好ましい。
【０１０８】
なお、この際、揮発成分が十分除去されることが好ましいが、完全に除去されなくてもよい。つまり、紫外線吸収膜の性能に影響を与えない範囲で紫外線吸収膜に有機溶媒等が残存することも可能である。また、上記揮発性成分の除去のために加熱を行う場合には、その後必要に応じて行われる酸化ケイ素系マトリクスの形成のための加熱と、上記揮発性成分の除去のための加熱、すなわち一般的には仮乾燥と、は連続して実施してもよい。
【０１０９】
上記のようにして塗膜から揮発成分を除去した後、上記酸化ケイ素系マトリクス原料成分を硬化させる。この反応は、常温下ないし加熱下に行うことができる。加熱下に硬化物（酸化ケイ素系マトリクス）を生成させる場合、硬化物が有機成分を含むことより、その加熱温度の上限は２００℃が好ましく、特に１９０℃が好ましい。常温においても硬化物を生成させることができることより、その加熱温度の下限は特に限定されるものではない。ただし、加熱による反応の促進を意図する場合は、加熱温度の下限は６０℃が好ましく、８０℃がより好ましい。したがって、この加熱温度は６０〜２００℃が好ましく、８０〜１９０℃がより好ましい。加熱時間は、被膜形成に用いる組成物にもよるが、１０分間〜２時間であることが好ましい。
【０１１０】
本発明の紫外線吸収ガラス物品において、上記紫外線吸収膜形成用組成物を用いて上記のようにしてガラス基材上に形成される紫外線吸収膜の膜厚は、膜全体に亘って５．０μｍ以下であり、かつ、該膜が形成された領域のガラス基材の全体に亘って初期の紫外線透過率（Ｔｕｖ）が０．２％以下である。膜厚が５．０μｍ以下であれば、耐クラック性に優れる紫外線吸収膜が得られる。また、Ｔｕｖが０．２％以下であれば初期の紫外線吸収能に優れるとともに、長時間露光によっても紫外線吸収能の劣化が少ない紫外線吸収膜が得られる。なお、好ましい初期Ｔｕｖは、０．１％以下である。
【０１１１】
初期のＴｕｖが上記範囲であれば耐光性試験、例えば、サンシャインカーボンウェザーメーター（スガ試験機：ＷＥＬ−ＳＵＮ−ＨＣＨ）に検体を設置し、照射照度７８．５Ｗ／ｍ２（３００−４００ｎｍ）、ブラックパネル温度８３℃、湿度５０〜６０ＲＨ％の条件に検体を曝し１０００時間経過した後のＴｕｖにおいて、初期Ｔｕｖからの変化量（ΔＴｕｖ）を１．０％以下とすることができ、長時間露光によっても紫外線吸収能の劣化が少ない紫外線吸収膜と言える。
【０１１２】
一方、膜厚の下限は、Ｔｕｖを上記範囲とすることができれば特に制限されないが、紫外線吸収膜の機械的強度や耐摩耗性を勘案すると０．５μｍを下限とすることが好ましく、膜厚の下限は１．０μｍがより好ましい。
【実施例】
【０１１３】
以下に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。なお、例１〜３が実施例であり、例４〜８が比較例である。
【０１１４】
（例１）
エタノール２７．８ｇ、テトラエトキシシラン（信越化学社製、表１中には「ＴＥＯＳ」と表記する。）３６．４ｇ、ポリエチレングリコールとしてＰＥＧ４０００（商品名、関東化学社製、分子量：４０００）３．０ｇ、蛍光増白剤としてＴＩＮＯＰＡＬ  ＮＦＷ  ＬＩＱ(商品名、ＢＡＳＦ社製、固形分２０質量％）７．５ｇ、純水２５．２ｇ、濃塩酸（関東化学社製、３５質量％）０．１ｇを仕込み、１時間攪拌して、紫外線吸収膜形成用組成物１を得た。その後、表面を清浄した高熱線吸収グリーンガラス板（Ｔｖ：７５．２％、Ｔｕｖ：９．５％、縦１０ｃｍ、横１０ｃｍ、厚さ３．５ｍｍ、旭硝子社製、通称ＵＶＦＬ）の一方の主面上の全面に、上記で得られた紫外線吸収膜形成用組成物１をスピンコート法によって塗布し、大気中、１８０℃で３０分間乾燥させて、紫外線吸収ガラス物品１を得た。得られた紫外線吸収ガラス物品１の特性を以下のとおり評価した。評価結果を表１に示す。なお、表１に示す膜厚は、最大膜厚［μｍ］である。ここで、紫外線吸収ガラス物品１において紫外線吸収膜は全体に亘ってほぼ均一な膜厚であった。
【０１１５】
［評価］
１）膜厚：走査型電子顕微鏡（日立製作所製：Ｓ−８００）によって紫外線吸収膜の断面観察を行い、得られた観察像より最大膜厚［μｍ］を得た。
【０１１６】
２）クラック（硬化後）：乾燥後の紫外線吸収膜を肉眼および金属顕微鏡にて観察し、層面にクラックが入っているかどうかで判断した。クラックが入っていない、つまり肉眼でも顕微鏡でも観察できないものを○、肉眼では見えないが顕微鏡では観察されるものを△、肉眼でも観察できるものを×とした。
【０１１７】
３）分光特性は、分光光度計（日立製作所製：Ｕ−４１００）を用いて測定し、ＪＩＳ−Ｒ３１０６に従って算出した、初期の可視光線透過率（Ｔｖ）および、初期と促進耐候性試験後の紫外線透過率（Ｔｕｖ）によって判定した。
【０１１８】
４）クラック（耐湿試験後）：８０℃、９５ＲＨ％の恒温恒湿槽に検体を投入し、１０００時間経過後、上記２）と同様の方法でクラックの判定を行った。
【０１１９】
５）促進耐候性試験（耐光性評価）：サンシャインカーボンウェザーメーター（スガ試験機：ＷＥＬ−ＳＵＮ−ＨＣＨ）に検体を設置し、照射照度７８．５Ｗ／ｍ２（３００−４００ｎｍ）、ブラックパネル温度８３℃、湿度５０〜６０ＲＨ％の条件に検体を曝し１０００時間経過した後、検体に対する紫外線透過率（Ｔｕｖ）を測定した。なお、促進耐候性試験後のＴｕｖの初期Ｔｕｖからの変化量ΔＴｕｖを表１に示した。ΔＴｕｖについては、１．０％以下であることが好ましい。
【０１２０】
（例２）
エタノール３０．７ｇ、テトラエトキシシラン（信越化学社製）３３．８ｇ、ポリエチレングリコール（ＰＥＧ）としてＰＥＧ４０００（商品名、関東化学社製、分子量：４０００）４．５ｇ、蛍光増白剤としてＨａｋｋｏｌ  Ｐ（商品名、昭和化学工業社製）０．４ｇ、純水３０．５ｇ、濃塩酸（関東化学社製、３５質量％）０．１ｇを仕込み、１時間攪拌して、紫外線吸収膜形成用組成物２を得た。その後、表面を清浄した高熱線吸収グリーンガラス（Ｔｖ：７５．２％、Ｔｕｖ：９．５％、縦１０ｃｍ、横１０ｃｍ、厚さ３．５ｍｍ、旭硝子社製、通称ＵＶＦＬ）の一方の主面上の全面に、上記で得られた紫外線吸収膜形成用組成物２をスピンコート法によって塗布し、大気中、１８０℃で３０分間乾燥させ、紫外線吸収ガラス物品２を得た。得られた紫外線吸収ガラス物品２の特性を例１と同様に評価した。評価結果を表１に示す。
【０１２１】
（例３）
膜厚を表１に示す通り変更した以外は例２と同様にして、紫外線吸収膜形成用組成物２を用いて紫外線吸収ガラス物品３を製造した。得られた紫外線吸収ガラス物品３の特性を例１と同様に評価した。評価結果を表１に示す。
【０１２２】
（例４〜６）
膜厚を表１に示す通り変更した以外は例１と同様にして、紫外線吸収膜形成用組成物１を用いて紫外線吸収ガラス物品４〜６を製造した。得られた紫外線吸収ガラス物品４〜６の特性を例１と同様に評価した。評価結果を表１に示す。
【０１２３】
（例７、８）
膜厚を表１に示す通り変更した以外は例２と同様にして、紫外線吸収膜形成用組成物２を用いて紫外線吸収ガラス物品７、８を製造した。得られた紫外線吸収ガラス物品７、８の特性を例１と同様に評価した。評価結果を表１に示す。
なお、上記の全ての例において、得られた紫外線吸収ガラス物品における紫外線吸収膜は全体に亘ってほぼ均一な膜厚であった。
【０１２４】
【表１】
2013136482.tif 000002
【０１２５】
表１からわかるように、本発明の紫外線吸収ガラス物品である例１〜３は、耐クラック性、特には高温高湿下での長期使用における耐クラック性および初期の紫外線吸収能に優れるとともに、長時間露光による紫外線吸収能の劣化が少ない。比較例である例４〜８の紫外線吸収ガラス物品は、膜厚または初期Ｔｕｖが本発明の範囲外であり、耐クラック性、特に高温高湿下での長期使用における耐クラック性と長時間露光による紫外線吸収能の維持の両立ができていない。
【産業上の利用可能性】
【０１２６】
本発明の紫外線吸収ガラス物品は、耐クラック性、特に高温高湿下での長期使用における耐クラック性および初期の紫外線吸収能に優れるとともに、長時間露光による紫外線吸収能の劣化が少ない紫外線吸収膜を有しており、自動車用のウインドシールドや摺動窓用など、紫外線吸収性とともに耐摩耗性、耐クラック性等の機械的耐久性が高度に要求される部位への適用も可能である。