(57)【要約】【課題】露光精度に優れた露光装置、露光方法及び基板処理装置を提供すること。【解決手段】マスクを介した露光光をシート状の基板に照射する露光装置であって、露光光の照射領域を通過するように基板を移動する移動装置と、移動可能に設けられ、基板を保持する保持面を有するステージと、少なくとも照射領域で基板と同期して基板と同一の方向に移動するようにステージを駆動する駆動装置とを備える。【選択図】図１
2013218157.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクを介した露光光をシート状の基板に照射する露光装置であって、
前記露光光の照射領域を通過するように前記基板を移動する移動装置と、
移動可能に設けられ、前記基板を保持する保持面を有するステージと、
少なくとも前記照射領域で前記基板と同期して前記基板と同一の方向に移動するように前記ステージを駆動する駆動装置と
を備える露光装置。
【請求項２】
前記移動装置は、前記基板を前記ステージ側へ押す移動機構を有する
請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記移動装置は、前記基板を当該基板の移動方向に平行な方向に引っ張る第２移動機構を有する
請求項１又は請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記移動装置は、前記基板を前記保持面に対して傾ける第３移動機構を有する
請求項１から請求項３のうちいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項５】
前記移動装置は、前記基板を前記ステージに案内する案内機構を有する
請求項１から請求項４のうちいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項６】
前記案内機構は、前記基板の移動方向において前記ステージの上流側及び下流側のうち少なくとも一方に設けられた案内部材を有する
請求項５に記載の露光装置。
【請求項７】
前記案内部材は、前記基板の表裏を挟むように設けられた案内部を有し、
前記案内部材を回転させる回転機構を更に備える
請求項６に記載の露光装置。
【請求項８】
前記保持面は、平坦に形成されている
請求項１から請求項７のうちいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項９】
前記ステージは、前記保持面に形成され前記基板を吸着する吸着部を有する
請求項１から請求項８のうちいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記ステージは、複数設けられており、
前記駆動装置は、複数の前記ステージが前記照射領域において交代で移動するように前記ステージのそれぞれを駆動する
請求項１から請求項９のうちいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１１】
前記駆動装置は、前記照射領域を通過した前記ステージを元の位置に復帰させるように前記ステージを駆動する
請求項１から請求項１０のうちいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１２】
マスクを介した露光光をシート状の基板に照射する露光方法であって、
前記露光光の照射領域を通過するように前記基板を移動させる移動工程と、
前記基板を保持する保持面を有するステージを、少なくとも前記照射領域で前記基板と同期して前記基板と同一の方向に移動するように駆動する駆動工程と
を含む露光方法。
【請求項１３】
前記移動工程は、前記基板を前記ステージ側へ押すことを含む
請求項１２に記載の露光方法。
【請求項１４】
前記移動工程は、前記基板を当該基板の移動方向に平行な方向に引っ張ることを含む
請求項１２又は請求項１３に記載の露光方法。
【請求項１５】
前記移動工程は、前記基板を前記保持面に対して傾けることを含む
請求項１２から請求項１４のうちいずれか一項に記載の露光方法。
【請求項１６】
前記移動工程は、前記基板を前記ステージに案内する案内工程を含む
請求項１２から請求項１５のうちいずれか一項に記載の露光方法。
【請求項１７】
前記案内工程は、前記基板の移動方向において前記ステージの上流側及び下流側のうち少なくとも一方に設けられた案内部材を用いて前記基板を案内することを含む
請求項１６に記載の露光方法。
【請求項１８】
前記案内工程は、
前記基板の表裏を挟むように前記案内部材に設けられた案内部によって前記基板を挟むことと、
前記基板を挟んだ状態で前記案内部材を回転させることと、を含む
請求項１７に記載の露光方法。
【請求項１９】
前記駆動工程は、平坦に形成された前記保持面で前記基板を保持することを含む
請求項１２から請求項１８のうちいずれか一項に記載の露光方法。
【請求項２０】
前記駆動工程は、前記保持面に前記基板を吸着させることを含む
請求項１２から請求項１９のうちいずれか一項に記載の露光方法。
【請求項２１】
前記駆動工程は、複数設けられた前記ステージが前記照射領域において交代で移動するように前記ステージのそれぞれを駆動することを含む
請求項１２から請求項２０のうちいずれか一項に記載の露光方法。
【請求項２２】
前記駆動工程は、前記照射領域を通過した前記ステージを元の位置に復帰させるように前記ステージを駆動することを含む
請求項１２から請求項２１のうちいずれか一項に記載の露光方法。
【請求項２３】
基板を搬送する基板搬送部と、
前記基板を処理する基板処理部と、を備え、
前記基板処理部は、請求項１から請求項１１のうちいずれか一項に記載の露光装置を有する
基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置、露光方法及び基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ディスプレイ装置などの表示装置を構成する表示素子として、例えば液晶表示素子、有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）素子が知られている。現在、これらの表示素子では、各画素に対応して基板表面に薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor：ＴＦＴ）を形成する能動的素子（アクティブデバイス）が主流となってきている。
【０００３】
近年では、可撓性を有する基板（例えばフィルム部材など）上に表示素子を形成する技術が提案されている。このような技術として、例えばロール・トゥ・ロール方式（以下、単に「ロール方式」と表記する）と呼ばれる手法が知られている（例えば、特許文献１参照）。ロール方式では、基板供給側の供給用ローラーに巻かれた帯状の基板を送り出すと共に送り出された基板を基板回収側の回収用ローラーで巻き取りながら基板を搬送する。
【０００４】
基板が送り出されてから巻き取られるまでの間、複数の処理装置により、ＴＦＴを構成するゲート電極、ゲート酸化膜、半導体膜、ソース・ドレイン電極等が形成される。その後、表示素子の他の構成要素が基板上に順次形成される。例えば基板上に有機ＥＬ素子を形成する場合には、発光層や陽極、陰極、電気回路などが基板上に順次形成される。これらの構成要素は、例えばマスクを介した露光光で基板を露光する露光装置などを用いて、例えばフォトリソグラフィ法を用いて形成される場合がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】国際公開第２００６／１００８６８号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、上記のようなロール方式においても、帯状の基板に表示素子を高精度に製造可能とする技術が要望されている。このため、露光精度に優れた露光装置が求められている。
【０００７】
そこで、本発明の態様は、露光精度に優れた露光装置、露光方法及び基板処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の第一の態様に従えば、マスクを介した露光光をシート状の基板に照射する露光装置であって、露光光の照射領域を通過するように基板を移動する移動装置と、移動可能に設けられ、基板を保持する保持面を有するステージと、少なくとも照射領域で基板と同期して基板と同一の方向に移動するようにステージを駆動する駆動装置とを備える露光装置が提供される。
【０００９】
本発明の第二の態様に従えば、マスクを介した露光光をシート状の基板に照射する露光方法であって、露光光の照射領域を通過するように基板を移動させる移動工程と、基板を保持する保持面を有するステージを、少なくとも照射領域で基板と同期して基板と同一の方向に移動するように駆動する駆動工程とを含む露光方法が提供される。
【００１０】
本発明の第三の態様に従えば、基板を搬送する基板搬送部と、基板を処理する基板処理部と、を備え、基板処理部は、本発明の第一の態様に従う露光装置を有する基板処理装置が提供される。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の態様によれば、露光精度に優れた露光装置、露光方法及び基板処理装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の第一実施形態に係る露光装置の構成を示す図。
【図２】本実施形態に係る露光装置の一部の構成を示す図。
【図３】本実施形態に係る露光装置の動作の過程を示す図。
【図４】本実施形態に係る露光装置の動作の過程を示す図。
【図５】本実施形態に係る露光装置の動作の過程を示す図。
【図６】本実施形態に係る露光装置の動作の過程を示す図。
【図７】本実施形態に係る露光装置の動作の過程を示す図。
【図８】本実施形態に係る露光装置の動作の過程を示す図。
【図９】本発明の第二実施形態に係るデバイス製造システムの構成を示す図。
【図１０】本発明の変形例に係る露光装置の一部の構成を示す図。
【図１１】本発明の変形例に係る露光装置の一部の構成を示す図。
【図１２】本発明の変形例に係る露光装置の一部の構成を示す図。
【図１３】本発明の変形例に係る露光装置の一部の構成を示す図。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
［第一実施形態］  
以下、図面を参照して、本発明の第一実施形態を説明する。  
図１及び図２は、本実施形態に係る露光装置ＥＸの構成を示す図である。  
図１に示すように、露光装置ＥＸは、照明ユニットＩＵと、マスクステージＭＳＴと、投影光学系ＰＬと、基板ステージＳＳＴと、制御装置とを有している。露光装置ＥＸは、マスクＭに形成されたパターンの露光光ＥＬＩによる像を、シート状の基板Ｓに投影する。
【００１４】
図１において、直交座標系ＸＹＺは、マスクＭのパターン形成面がＸＺ面と垂直となるように設定され、基板Ｓの搬送方向（長尺方向）と直交する幅方向がＹ方向に設定されるものとする。なお、その基板Ｓは、予め所定の前処理によって、その表面を改質して活性化したもの、或いは、表面に精密パターニングの為の微細な隔壁構造（凹凸構造）を形成したものでも良い。
【００１５】
基板Ｓとしては、例えば樹脂フィルムやステンレス鋼などの箔（フォイル）を用いることができる。例えば、樹脂フィルムは、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエステル樹脂、エチレンビニル共重合体樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、セルロース樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、酢酸ビニル樹脂、などの材料を用いることができる。
【００１６】
基板Ｓは、例えば２００℃程度の熱を受けても寸法が変わらないように熱膨張係数が小さい方が好ましい。例えば、無機フィラーを樹脂フィルムに混合して熱膨張係数を小さくすることができる。無機フィラーの例としては、酸化チタン、酸化亜鉛、アルミナ、酸化ケイ素などが挙げられる。また、基板Ｓはフロート法等で製造された厚さ１００μｍ程度の極薄ガラスの単体、或いはその極薄ガラスに上記樹脂フィルムやアルミ箔を貼り合わせた積層体であっても良い。
【００１７】
基板Ｓの幅方向（短尺方向）の寸法は例えば１ｍ〜２ｍ程度に形成されており、長さ方向（長尺方向）の寸法は例えば１０ｍ以上に形成されている。勿論、この寸法は一例に過ぎず、これに限られることは無い。例えば基板ＳのＹ方向の寸法が５０ｃｍ以下であっても構わないし、２ｍ以上であっても構わない。また、基板ＳのＸ方向の寸法が１０ｍ以下であっても構わない。
【００１８】
基板Ｓは、可撓性を有するように形成されている。ここで可撓性とは、基板に自重程度の力を加えても線断したり破断したりすることはなく、該基板を撓めることが可能な性質をいう。また、自重程度の力によって屈曲する性質も可撓性に含まれる。また、上記可撓性は、該基板の材質、大きさ、厚さ、又は温度などの環境、等に応じて変わる。なお、基板Ｓとしては、１枚の帯状の基板を用いても構わないが、複数の単位基板を接続して帯状に形成される構成としても構わない。
【００１９】
照明ユニットＩＵは、マスクＭに対して露光光ＥＬＩを照明する。本実施形態では、マスクＭとして、平板上のマスクＭが用いられている。当該マスクＭのパターン形成面（物体面）Ｍａには、所定のパターンが形成されている。マスクＭとしては、照明ユニットＩＵからの露光光ＥＬＩを透過する透過型マスクが用いられているが、これに限られず、照明ユニットＩＵからの露光光ＥＬＩを反射する反射型マスクが用いられても良い。
【００２０】
マスクステージＭＳＴは、マスクＭを保持して移動可能である。マスクステージＭＳＴは、パターン形成面Ｍａに沿ってマスクＭを移動させる駆動機構（不図示）を有している。マスクステージＭＳＴがマスクＭを移動させることにより、パターンの全体に対して露光光ＥＬＩが走査される。
【００２１】
投影光学系ＰＬは、マスクＭに形成されたパターンの像を基板Ｓに投影する。投影光学系ＰＬとしては、例えばマスクＭに形成されたパターンの像を拡大して投影する拡大光学系（すなわち、投影倍率として拡大倍率を有する光学系）が用いられている。
【００２２】
基板ステージＳＳＴは、投影光学系ＰＬによってパターンの像が投影される各投影領域ＰＡを経由するように基板Ｓを搬送する。図２は、露光装置ＥＸの基板ステージＳＳＴの構成を示す平面図である。図１及び図２に示すように、基板ステージＳＳＴは、基板Ｓを支持する基板支持面６０と、当該基板支持面６０上を吸引する吸引孔６１とを有している。基板ステージＳＳＴは、駆動部ＡＣＴにより、Ｘ方向、Ｙ方向及びＺ方向に移動可能に設けられている。例えば、基板ステージＳＳＴは、Ｘ方向における上流側位置Ａ１と下流側位置Ａ２との間を移動可能である。上流側位置Ａ１及び下流側位置Ａ２は、投影領域ＰＡをＸ方向に挟むように設定されている。また、駆動部ＡＣＴは、基板支持面６０がＸＹ平面に平行となるように基板ステージＳＳＴをθＸ方向、θＹ方向及びθＺ方向に移動させる。
【００２３】
吸引孔６１は、基板支持面６０のほぼ全面に亘って並ぶように配置されている。吸引孔６１は、不図示の吸引ポンプに接続されている。吸引孔６１は、基板Ｓを基板支持面６０に吸着させる。
【００２４】
基板ステージＳＳＴのうちＸ方向の両側には、それぞれ基板Ｓを案内するローラーＲ１〜ローラーＲ６を有する。ローラーＲ１及びローラーＲ６は、不図示の駆動部（例、モーターなど）に接続されており、駆動部の動作によって回転可能な駆動ローラーである。ローラーＲ１及びローラーＲ６により、基板Ｓが＋Ｘ方向に搬送される。
【００２５】
ローラーＲ３及びローラーＲ４は、ＸＺ断面が楕円形に形成されており、筒状あるいは柱状に形成されている。ローラーＲ３及びローラーＲ４は、高さ方向（軸線方向）がＹ方向に平行になるように配置されている。ローラーＲ３及びローラーＲ４は、当該楕円の周方向（θＹ方向）に回転可能である。ローラーＲ３及びローラーＲ４は、楕円の長軸方向がＸＹ平面に平行となる状態（以下、第一状態と表記する）と当該長軸方向がＺ方向に平行になる状態（以下、第二状態と表記する）とで、基板Ｓの搬送高さが切り替わるようになっている。
【００２６】
ローラーＲ２及びローラーＲ５は、それぞれローラーＲ１とローラーＲ３との間、及び、ローラーＲ４とローラーＲ６との間に配置され、基板Ｓに対してテンションを付加するテンションローラーである。ローラーＲ２及びローラーＲ５は、Ｚ方向に移動可能に設けられている。ローラーＲ２及びローラーＲ５がＺ方向に移動することで、基板Ｓに対して所定のテンションを付加することができる構成である。
【００２７】
次に、上記構成の露光装置ＥＸを用いた露光動作について説明する。  
まず、基板ステージＳＳＴを上流側位置Ａ１に配置させ、吸引孔６１において吸引が行われない状態とし、ローラーＲ３及びローラーＲ４をそれぞれ第二状態として基板Ｓを搬送する。この状態で、制御部は、図３に示すように、第二状態となっているローラーＲ４を第一状態とし、ローラーＲ３については第二状態のまま保持させる。この動作により、Ｚ方向におけるローラーＲ３による基板Ｓの支持位置の方が、ローラーＲ４による基板Ｓの支持位置よりも＋Ｚ側に配置される（高くなる）ため、基板Ｓが＋Ｘ方向へ向けて徐々に−Ｚ側に傾いた状態となる。このように基板Ｓを傾けた後、制御部は、吸引孔６１において吸引動作を開始させる。
【００２８】
次に、制御部は、第二状態となっているローラーＲ３を第一状態に切り替える。この動作により、基板Ｓの傾きが解消され、基板Ｓが＋Ｘ側から−Ｘ側へ向けて徐々に基板支持面６０に支持される。このとき、吸引孔６１において吸引動作が行われているため、図４に示すように、基板Ｓは基板支持面６０に吸着される。
【００２９】
基板Ｓを基板支持面６０に吸着させた後、制御部は、ローラーＲ２及びローラーＲ５を−Ｚ方向に移動させ、基板Ｓに対してテンションを付加する。基板Ｓにテンションを付加させた後、制御部は、ローラーＲ１及びローラーＲ２を用いて基板Ｓを所定速度で＋Ｘ方向に搬送させると共に、基板ステージＳＳＴを当該基板Ｓの搬送速度と等しい速度で上流側位置Ａ１から下流側位置Ａ２へ向けて＋Ｘ方向に移動させる。この動作により、基板Ｓが基板支持面６０に吸着された状態で、基板Ｓと基板支持面６０との間のＸ方向の相対位置が変化することなく、基板Ｓが搬送される。
【００３０】
基板Ｓの搬送により、基板Ｓの所定の領域（露光パターンを形成する予定の領域）が投影領域ＰＡに到達する。このとき制御部は、照明ユニットＩＵからマスクＭに対して露光光ＥＬＩを照射させる。この動作により、マスクＭを介した露光光ＥＬＩが投影光学系ＰＬを介して基板Ｓの表面に照射され、基板Ｓの表面が露光光ＥＬＩによって露光される。一方、制御部は、マスクＭと基板Ｓとを同期させてＸ方向に移動させる。この動作により、図５に示すように、マスクＭに形成されたパターンが基板Ｓの＋Ｘ側から−Ｘ側に向けて徐々に転写され、基板Ｓに露光パターンＰが形成される。基板Ｓが露光される間、基板Ｓは基板支持面６０に支持された状態で移動するため、基板Ｓが変形したり、シワなどが形成されたりするのを防ぐことができる。このため、安定した露光精度で露光パターンＰが基板Ｓに形成されることになる。
【００３１】
制御部は、基板Ｓに露光パターンＰが形成された後、基板Ｓと基板ステージＳＳＴとを下流側位置Ａ２で停止させ、吸引孔６１による吸引動作を停止させる。その後、制御部は、第一状態となっているローラーＲ４を、図７に示すように第二状態に切り替える。この動作により、基板Ｓが−Ｘ方向へ向けて徐々に−Ｚ側に傾いた状態となり、基板支持面６０から引き離される。
【００３２】
その後、制御部は、例えば第一状態になっているローラーＲ３を第二状態へと切り替えて、図８に示すように基板Ｓを基板支持面６０から完全に引き離す。基板Ｓを基板支持面６０から引き離した後、制御部は、基板Ｓを＋Ｘ方向に搬送させると共に、基板ステージＳＳＴを下流側位置Ａ２から上流側位置Ａ１へと−Ｘ方向に移動させる。基板Ｓと基板支持面６０とが引き離されているため、基板Ｓの搬送及び基板ステージＳＳＴの移動により、基板Ｓと基板支持面６０との間に摩擦力等が発生することが無く、スムーズな搬送が可能となる。
【００３３】
上記の動作を繰り返し行うことにより、基板Ｓには長手方向に複数の露光パターンＰが並んで形成されることになる。
【００３４】
以上のように、本実施形態に係る露光装置は、マスクＭを介した露光光ＥＬＩをシート状の基板Ｓに照射する露光装置ＥＸであって、露光光ＥＬＩの投影領域ＰＡを通過するように基板Ｓを移動する移動装置（ローラーＲ１〜ローラーＲ６）と、移動可能に設けられ、基板Ｓを保持する基板支持面６０を有する基板ステージＳＳＴと、少なくとも投影領域ＰＡで基板Ｓと同期して基板Ｓと同一の方向に移動するように基板ステージＳＳＴを駆動する駆動部ＡＣＴとを備えるので、基板Ｓが露光される間、基板Ｓを平坦な状態に保持することができる。これにより、露光精度に優れた露光装置ＥＸを得ることができる。
【００３５】
［第二実施形態］  
次に、本発明の第二実施形態を説明する。  
本実施形態では、上記第一実施形態に記載の露光装置ＥＸを備えるデバイス製造システムについて説明する。図９は、本実施形態のデバイス製造システム（フレキシブル・ディスプレー製造ライン）の一部の構成を示す図である。ここでは、供給ロールＦＲ１から引き出された可撓性の基板Ｓ（シート、フィルム等）が、順次、ｎ台の処理装置Ｕ１，Ｕ２，Ｕ３，Ｕ４，Ｕ５，・・・Ｕｎを経て、回収ロールＦＲ２に巻き上げられるまでの例を示している。
【００３６】
図９において、直交座標系ＸＹＺは、基板Ｓの表面（又は裏面）がＸＺ面と垂直となるように設定され、基板Ｓの搬送方向（長尺方向）と直交する幅方向がＹ方向に設定されるものとする。なお、その基板Ｓは、予め所定の前処理によって、その表面を改質して活性化したもの、或いは、表面に精密パターニングの為の微細な隔壁構造（凹凸構造）を形成したものでも良い。
【００３７】
供給ロールＦＲ１に巻かれている基板Ｓは、ニップされた駆動ローラーＤＲ１によって引き出されて処理装置Ｕ１に搬送されるが、基板ＳのＹ方向（幅方向）の中心はエッジポジションコントローラーＥＰＣ１によって、目標位置に対して±十数μｍ〜数十μｍ程度の範囲に収まるようにサーボ制御される。
【００３８】
処理装置Ｕ１は、印刷方式で基板Ｓの表面に感光性機能液（フォトレジスト、感光性カップリング材、ＵＶ硬化樹脂液等）を、基板Ｓの搬送方向（長尺方向）に関して連続的又は選択的に塗布する塗布装置である。処理装置Ｕ１内には、基板Ｓが巻き付けられる圧胴ローラーＤＲ２、この圧胴ローラーＤＲ２上で、基板Ｓの表面に感光性機能液を一様に塗布する為の塗布用ローラー等を含む塗布機構Ｇｐ１、基板Ｓに塗布された感光性機能液に含まれる溶剤または水分を急速に除去する為の乾燥機構Ｇｐ２等が設けられている。
【００３９】
処理装置Ｕ２は、処理装置Ｕ１から搬送されてきた基板Ｓを所定温度（例えば、数１０℃〜１２０℃程度）まで加熱して、表面に塗布された感光性機能層を安定に定着する為の加熱装置である。処理装置Ｕ２内には、基板Ｓを折返し搬送する為の複数のローラーとエア・ターン・バー、搬入されてきた基板Ｓを加熱する為の加熱チャンバー部ＨＡ１、加熱された基板Ｓの温度を、後工程（処理装置Ｕ３）の環境温度と揃うように下げる為の冷却チャンバー部ＨＡ２、ニップされた駆動ローラーＤＲ３等が設けられている。
【００４０】
処理装置Ｕ３は、処理装置Ｕ２から搬送されてきた基板Ｓの感光性機能層に対して、ディスプレイ用の回路パターンや配線パターンに対応した紫外線のパターニング光を照射する露光装置ＥＸである。当該露光装置ＥＸとして、上記第一実施形態に記載の露光装置ＥＸが用いられている。処理装置Ｕ３内には、基板ＳのＹ方向（幅方向）の中心を一定位置に制御するエッジポジションコントローラーＥＰＣ、ニップされた駆動ローラーＤＲ４、所定のテンションでＸ方向に搬送される基板Ｓの裏面をエアベアリングの層で平面支持する基板搬送装置ＳＴ、及び、基板Ｓに所定の弛み（あそび）ＤＬを与える為の２組の駆動ローラーＤＲ６、ＤＲ７等が設けられている。
【００４１】
図９の処理装置Ｕ４は、処理装置Ｕ３から搬送されてきた基板Ｓの感光性機能層に対して、湿式による現像処理、無電解メッキ処理等を行なうウェット処理装置である。処理装置Ｕ４内には、Ｚ方向に階層化された３つの処理槽ＢＴ１、ＢＴ２、ＢＴ３と、基板Ｓを折り曲げて搬送する複数のローラーと、ニップされた駆動ローラーＤＲ８等が設けられている。
【００４２】
処理装置Ｕ５は、処理装置Ｕ４から搬送されてきた基板Ｓを暖めて、湿式プロセスで湿った基板Ｓの水分含有量を所定値に調整する加熱乾燥装置であるが、詳細は省略する。その後、幾つかの処理装置を経て、一連のプロセスの最後の処理装置Ｕｎを通った基板Ｓは、ニップされた駆動ローラーＤＲ１を介して回収ロールＦＲ２に巻き上げられる。その巻上げの際も、基板ＳのＹ方向（幅方向）の中心、或いはＹ方向の基板端が、Ｙ方向にばらつかないように、エッジポジションコントローラーＥＰＣ２によって、駆動ローラーＤＲ１と回収ロールＦＲ２のＹ方向の相対位置が逐次補正制御される。
【００４３】
上位制御装置５は、製造ラインを構成する各処理装置Ｕ１〜Ｕｎの運転を統括制御するものであり、各処理装置Ｕ１〜Ｕｎにおける処理状況や処理状態の監視、処理装置間での基板Ｓの搬送状態のモニター、事前・事後の検査・計測の結果に基づくフィードバック補正やフィードフォワード補正等も行なう。
【００４４】
本実施形態で使用される基板Ｓは、例えば、樹脂フィルム、ステンレス鋼等の金属又は合金からなる箔（フォイル）等である。樹脂フィルムの材質は、例えば、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエステル樹脂、エチレンビニル共重合体樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、セルロース樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、酢酸ビニル樹脂のうち１又は２以上を含む。
【００４５】
基板Ｓは、各種の処理工程において受ける熱による変形量が実質的に無視できるように、熱膨張係数が顕著に大きくないものを選定するのが望ましい。熱膨張係数は、例えば、無機フィラーを樹脂フィルムに混合することによって、プロセス温度等に応じた閾値よりも小さく設定されていてもよい。無機フィラーは、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、アルミナ、酸化ケイ素等でもよい。また、基板Ｓは、フロート法等で製造された厚さ１００μｍ程度の極薄ガラスの単層体であってもよいし、この極薄ガラスに上記の樹脂フィルム、箔等を貼り合わせた積層体であってもよい。
【００４６】
本実施形態のデバイス製造システム１は、デバイス（ディスプレーパネル等）製造のための各種の処理を、基板Ｓに対して繰り返し、或いは連続して実行する。各種の処理が施された基板Ｓは、デバイスごとに分割（ダイシング）されて、複数個のデバイスになる。基板Ｓの寸法は、例えば、幅方向（短尺となるＹ方向）の寸法が１０ｃｍ〜２ｍ程度であり、長さ方向（長尺となるＸ方向）の寸法が１０ｍ以上である。
【００４７】
以上のように、本実施形態によれば、露光精度に優れた露光装置ＥＸが搭載されているので、帯状の基板Ｓに表示素子を高精度に製造可能となる。
【００４８】
本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えることができる。  
例えば、上記実施形態においては、基板Ｓに対してテンションを付加する構成として、ローラーＲ２及びローラーＲ５が用いられた構成を例に挙げて説明したが、これに限られることは無い。
【００４９】
例えば、図１０に示すように、基板ＳのうちローラーＲ１とローラーＲ３との間の部分を吸引する吸引部５１と、ローラーＲ４とローラーＲ６との間の部分を吸引する吸引部５２とが設けられた構成であっても良い。この構成において、吸引部５１及び吸引部５２の吸引源を、基板ステージＳＳＴの吸引孔６１の吸引源と共通化させても良いし、別個の吸引源が設けられていても良い。
【００５０】
また、図１１に示すように、ローラーＲ５が基板ステージＳＳＴとローラーＲ４との間に配置された構成であっても良い。この構成においては、基板ステージＳＳＴに支持される基板Ｓ対して、より基板ステージＳＳＴの近傍でテンションを付加することができるため、基板支持面６０上の基板Ｓの状態をより平坦にすることができる。
【００５１】
また、図１２に示すように、基板Ｓのうち基板支持面６０に支持された部分を当該基板支持面６０に押圧するローラーＲ６が設けられた構成であっても良い。この構成により、基板Ｓを直接基板支持面６０に押圧するため、基板支持面６０上の基板Ｓをより平坦にすることができる。
【００５２】
また、図１３に示すように、基板ステージＳＳＴのＸ方向の両側に、基板Ｓを挟み込むクランプ機構５３及びクランプ機構５４が設けられた構成であっても良い。クランプ機構５３及びクランプ機構５４は、基板Ｓを挿入する挿入部５３ａ及び挿入部５４ａを有している。挿入部５３ａ及び挿入部５４ａは、基板ＳをＸ方向に貫通させるように挿入する。クランプ機構５３及びクランプ機構５４は、回転機構５３ｂ及び回転機構５４ｂによってθＹ方向に回転可能である。クランプ機構５３及びクランプ機構５４は、挿入部５３ａ及び挿入部５４ａに基板Ｓが挿入された状態でθＹ方向に回転することにより、基板支持面６０に支持される基板ＳをＸ方向に伸ばすことができる。このため、基板支持面６０上に配置される基板Ｓをより平坦にすることができる。
【００５３】
また、上記実施形態においては、基板ステージＳＳＴが１つだけ設けられた構成を例に挙げて説明したが、これに限られることは無く、基板ステージＳＳＴが複数設けられた構成であっても良い。この場合、複数の基板ステージＳＳＴが交代で基板Ｓを支持して搬送する構成とすることができる。
【符号の説明】
【００５４】
ＥＸ…露光装置  ＥＬＩ…露光光  Ｓ…基板  ＰＡ…投影領域  ＡＣＴ…駆動部  Ａ１…上流側位置  Ａ２…下流側位置  Ｒ１〜Ｒ６…ローラー  Ｕ３…処理装置  ＳＳＴ…基板ステージ  ５１、５２…吸引部  ５３、５４…クランプ機構  ５３ａ、５４ａ…挿入部  ５３ｂ、５４ｂ…回転機構  ６０…基板支持面  ６１…吸引孔
【図１】
2013218157.tif 000003
【図２】
2013218157.tif 000004
【図３】
2013218157.tif 000005
【図４】
2013218157.tif 000006
【図５】
2013218157.tif 000007
【図６】
2013218157.tif 000008
【図７】
2013218157.tif 000009
【図８】
2013218157.tif 000010
【図９】
2013218157.tif 000011
【図１０】
2013218157.tif 000012
【図１１】
2013218157.tif 000013
【図１２】
2013218157.tif 000014
【図１３】
2013218157.tif 000015