(57)【要約】【課題】クロストーク及び色味ずれを抑制しうるパターン位相差フィルムを提供する。【解決手段】右眼用画像及び左眼用画像を表示することにより立体画像を表示しうるディスプレイ装置に設けられるパターン位相差フィルムであって、位相差を有し前記右眼用画像及び左眼用画像の一方を表示する光を透過させうる第一領域と、位相差を有さず前記右眼用画像及び左眼用画像の他方を表示する光を透過させうる第二領域とを有し、前記第一領域の、波長４５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（４５０）、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）、及び、波長６５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（６５０）が、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．０４及びＲｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）＞０．９８５を満たす。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
右眼用画像及び左眼用画像を表示することにより立体画像を表示しうるディスプレイ装置に設けられるパターン位相差フィルムであって、
位相差を有し前記右眼用画像及び左眼用画像の一方を表示する光を透過させうる第一領域と、位相差を有さず前記右眼用画像及び左眼用画像の他方を表示する光を透過させうる第二領域とを有し、
前記第一領域の、波長４５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（４５０）、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）、及び、波長６５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（６５０）が、
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．０４  及び
Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）＞０．９８５
を満たす、パターン位相差フィルム。
【請求項２】
前記第一領域が、透過光に対して略１／２波長の位相差を発現させうる、請求項１記載のパターン位相差フィルム。
【請求項３】
偏光板を備え前記偏光板を透過した光により右眼用画像及び左眼用画像を表示しうる画像表示パネルと、
面内で一様な位相差をその表示領域に有する位相差フィルムと、
請求項１又は２記載のパターン位相差フィルムとを、この順に備える、ディスプレイ装置。
【請求項４】
前記位相差フィルムの表示領域の、波長４５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（４５０）、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）、及び、波長６５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（６５０）が、
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＞０．９９７  または
Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．０１５
を満たす、請求項３記載のディスプレイ装置。
【請求項５】
前記位相差フィルムの遅相軸が、前記位相差フィルムの長手方向に対して略４５°の角度をなす、請求項３又は４記載のディスプレイ装置。
【請求項６】
前記位相差フィルムが、透過光に対して略１／４波長の位相差を発現させうる、請求項３〜５のいずれか一項に記載のディスプレイ装置。
【請求項７】
前記位相差フィルムが、シクロオレフィンポリマーを含んでなる、請求項３〜６のいずれか一項に記載のディスプレイ装置。
【請求項８】
前記パターン位相差フィルムの前記位相差フィルムとは反対側に、光学部材を備える、請求項３〜７のいずれか一項に記載のディスプレイ装置。
【請求項９】
前記偏光板の透過軸と前記位相差フィルムの遅相軸とが、略４５°の角度をなす、請求項３〜８のいずれか一項に記載のディスプレイ装置。
【請求項１０】
請求項３〜９のいずれか一項に記載のディスプレイ装置と偏光メガネとを備え、
前記偏光メガネは、前記右眼用画像を表示する光を透過させ前記左眼用画像を表示する光を遮断しうる右眼用部材と、前記右眼用画像を表示する光を遮断し前記左眼用画像を表示する光を透過させうる左眼用部材とを備え、
前記右眼用部材は、右眼用位相差フィルムと右眼用偏光板とを備え、
前記左眼用部材は、左眼用位相差フィルムと左眼用偏光板とを備える、立体画像表示システム。
【請求項１１】
前記右眼用位相差フィルム及び前記左眼用位相差フィルムの、波長４５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（４５０）、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）、及び、波長６５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（６５０）が、
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＞０．９９７  または
Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．０１５
を満たす、請求項１０記載の立体画像表示システム。
【請求項１２】
前記右眼用位相差フィルム及び前記左眼用位相差フィルムが、透過光に対して略１／４波長の位相差を発現させうる、請求項１０又は１１記載の立体画像表示システム。
【請求項１３】
前記位相差フィルム、前記右眼用位相差フィルム及び前記左眼用位相差フィルムが、同じ材質からなる、請求項１０〜１２のいずれか一項に記載の立体画像表示システム。
【請求項１４】
前記右眼用位相差フィルム及び前記左眼用位相差フィルムが、シクロオレフィンポリマーを含んでなる、請求項１０〜１３のいずれか一項に記載の立体画像表示システム。
【請求項１５】
前記偏光板の透過軸と、前記右眼用偏光板及び前記左眼用偏光板の透過軸とが、略垂直である、請求項１０〜１４のいずれか一項に記載の立体画像表示システム。
【請求項１６】
前記右眼用位相差フィルムの右眼用偏光板とは反対側、及び、前記左眼用位相差フィルムの左眼用偏光板とは反対側に、光学部材を備える、請求項１０〜１５のいずれか一項に記載の立体画像表示システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パターン位相差フィルム並びにそれを備えたディスプレイ装置及び立体画像表示システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
立体画像（３次元画像）を表示しうる立体画像表示システムにおける表示方式のうち、代表的な方式の一つに、パッシブ方式と呼ばれる方式がある。パッシブ形式の立体画像表示システムでは、通常、ディスプレイ装置の同一画面内に右眼用画像と左眼用画像とを同時に表示させ、これらの画像を専用の偏光メガネを用いて左右の目それぞれに振り分けるようにしている（特許文献１、２等参照）。
【０００３】
また、特許文献３〜７のような技術も知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−１７０５５７号公報
【特許文献２】特開２００２−１９６２８１号公報
【特許文献３】特開２００５−２４２２９３号公報
【特許文献４】特開平２−１２０８０４号公報
【特許文献５】特開２００１−３３７２２２号公報
【特許文献６】特開２００７−３１７０９号公報
【特許文献７】特開２００４−４６１５３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
パッシブ形式の立体画像表示システムでは、左眼用の画像及び右眼用の画像のそれぞれを、異なる偏光状態で表示させることが求められる。そのような表示を達成するため、パッシブ形式の立体画像表示システムでは、ディスプレイ装置に、２種類以上の異なる位相差（レターデーション）を有する複数種類の領域からなるパターンを有する位相差フィルムが設けられることがある。
【０００６】
ところが、一般に位相差フィルムは波長分散性を有するので、当該位相差フィルムを透過する光に発現する位相差（レターデーション）Ｒｅの大きさは波長により異なる。そのため、立体画像表示システムにおいては、クロストークが生じたり、右眼用画像と左眼用画像とで色味が異なったりすることがあった。ここでクロストークとは、右眼用画像が左眼で視認されたり、左眼用画像が右眼で視認されたりする現象を意味する。また、以下の説明において、右眼用画像と左眼用画像とで色味が異なる現象を「色味ずれ」ということがある。
【０００７】
クロストークは、位相差フィルムの波長分散性のために、画像を表示する偏光の偏光状態が波長によって異なることにより、偏光メガネによって遮断されるべき偏光の一部が偏光メガネを透過することにより生じるものと考えられる。また、色味ずれは、同様に位相差フィルムの波長分散性のために、画像を表示する偏光の偏光状態が波長によって異なることにより、偏光メガネを透過するべき偏光の一部が偏光メガネで遮断されることにより生じるものと考えられる。
【０００８】
そこで、前記の位相差フィルムの波長分散性を補償する光学補償フィルムを偏光メガネに設けることにより、クロストーク及び色味ずれを解消することが考えられる。ところが、光学補償フィルムを用いると、当該光学補償フィルムの分だけ偏光メガネの製造コストがかさむことになる。
【０００９】
本発明は上記の課題に鑑みて創案されたもので、クロストーク及び色味ずれを抑制しうるパターン位相差フィルム、ディスプレイ装置及び立体画像表示システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者は上述した課題を解決するべく鋭意検討した結果、パターン位相差フィルムの位相差を有する領域において、位相差の波長分散性を逆波長分散又はそれに近い波長分散とすることにより、クロストーク及び色味ずれを防止できることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は以下の〔１〕〜〔１６〕を要旨とする。
【００１１】
〔１〕  右眼用画像及び左眼用画像を表示することにより立体画像を表示しうるディスプレイ装置に設けられるパターン位相差フィルムであって、
位相差を有し前記右眼用画像及び左眼用画像の一方を表示する光を透過させうる第一領域と、位相差を有さず前記右眼用画像及び左眼用画像の他方を表示する光を透過させうる第二領域とを有し、
前記第一領域の、波長４５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（４５０）、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）、及び、波長６５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（６５０）が、
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．０４  及び
Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）＞０．９８５
を満たす、パターン位相差フィルム。
〔２〕  前記第一領域が、透過光に対して略１／２波長の位相差を発現させうる、〔１〕記載のパターン位相差フィルム。
〔３〕  偏光板を備え前記偏光板を透過した光により右眼用画像及び左眼用画像を表示しうる画像表示パネルと、
面内で一様な位相差をその表示領域に有する位相差フィルムと、
〔１〕又は〔２〕記載のパターン位相差フィルムとを、この順に備える、ディスプレイ装置。
〔４〕  前記位相差フィルムの表示領域の、波長４５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（４５０）、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）、及び、波長６５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（６５０）が、
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＞０．９９７  または
Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．０１５
を満たす、〔３〕記載のディスプレイ装置。
〔５〕  前記位相差フィルムの遅相軸が、前記位相差フィルムの長手方向に対して略４５°の角度をなす、〔３〕又は〔４〕記載のディスプレイ装置。
〔６〕  前記位相差フィルムが、透過光に対して略１／４波長の位相差を発現させうる、〔３〕〜〔５〕のいずれか一項に記載のディスプレイ装置。
〔７〕  前記位相差フィルムが、シクロオレフィンポリマーを含んでなる、〔３〕〜〔６〕のいずれか一項に記載のディスプレイ装置。
〔８〕  前記パターン位相差フィルムの前記位相差フィルムとは反対側に、光学部材を備える、〔３〕〜〔７〕のいずれか一項に記載のディスプレイ装置。
〔９〕  前記偏光板の透過軸と前記位相差フィルムの遅相軸とが、略４５°の角度をなす、〔３〕〜〔８〕のいずれか一項に記載のディスプレイ装置。
〔１０〕  〔３〕〜〔９〕のいずれか一項に記載のディスプレイ装置と偏光メガネとを備え、
前記偏光メガネは、前記右眼用画像を表示する光を透過させ前記左眼用画像を表示する光を遮断しうる右眼用部材と、前記右眼用画像を表示する光を遮断し前記左眼用画像を表示する光を透過させうる左眼用部材とを備え、
前記右眼用部材は、右眼用位相差フィルムと右眼用偏光板とを備え、
前記左眼用部材は、左眼用位相差フィルムと左眼用偏光板とを備える、立体画像表示システム。
〔１１〕  前記右眼用位相差フィルム及び前記左眼用位相差フィルムの、波長４５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（４５０）、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）、及び、波長６５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（６５０）が、
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＞０．９９７  または
Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．０１５
を満たす、〔１０〕記載の立体画像表示システム。
〔１２〕  前記右眼用位相差フィルム及び前記左眼用位相差フィルムが、透過光に対して略１／４波長の位相差を発現させうる、〔１０〕又は〔１１〕記載の立体画像表示システム。
〔１３〕  前記位相差フィルム、前記右眼用位相差フィルム及び前記左眼用位相差フィルムが、同じ材質からなる、〔１０〕〜〔１２〕のいずれか一項に記載の立体画像表示システム。
〔１４〕  前記右眼用位相差フィルム及び前記左眼用位相差フィルムが、シクロオレフィンポリマーを含んでなる、〔１０〕〜〔１３〕のいずれか一項に記載の立体画像表示システム。
〔１５〕  前記偏光板の透過軸と、前記右眼用偏光板及び前記左眼用偏光板の透過軸とが、略垂直である、〔１０〕〜〔１４〕のいずれか一項に記載の立体画像表示システム。
〔１６〕  前記右眼用位相差フィルムの右眼用偏光板とは反対側、及び、前記左眼用位相差フィルムの左眼用偏光板とは反対側に、光学部材を備える、〔１０〕〜〔１５〕のいずれか一項に記載の立体画像表示システム。
【発明の効果】
【００１２】
本発明のパターン位相差フィルム、ディスプレイ装置及び立体画像表示システムによれば、クロストーク及び色味ずれを防止できる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】図１は、本発明の第一実施形態に係る立体画像表示システムを模式的に示す図である。
【図２】図２は、本発明の第一実施形態に係る立体画像表示システムを分解した様子を模式的に示す図である。
【図３】図３は、本発明の第一実施形態に係る立体画像表示システムを分解した様子を模式的に示す図である。
【図４】図４は、本発明の第二実施形態に係る立体画像表示システムを模式的に示す図である。
【図５】図５は、本発明の第二実施形態に係る立体画像表示システムを分解した様子を模式的に示す図である。
【図６】図６は、本発明の第二実施形態に係る立体画像表示システムを分解した様子を模式的に示す図である。
【図７】図７は、本発明の第三実施形態に係る立体画像表示システムを模式的に示す図である。
【図８】図８は、実施例におけるクロストーク及び色味ずれの評価系の構成を模式的に示す分解図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明について実施形態及び例示物等を示して詳細に説明するが、本発明は以下に示す実施形態及び例示物等に限定されるものではなく、本発明の要旨及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施してもよい。
【００１５】
なお、以下の説明において「偏光板」とは、剛直な部材だけでなく、例えば樹脂フィルムのように可撓性を有する部材も含む。
また、偏光メガネのレンズは、別に断らない限り、必ずしも光を集束又は拡散させうるものでなくてもよい。例えば、平らなフィルムのみからなる光学部材も、ここではレンズと呼ぶ。
また、「位相差」とは、別に断らない限り、面内位相差（面内レターデーション）のことを意味する。フィルムの面内位相差は、フィルムの厚み方向に垂直な方向（面内方向）であって最大の屈折率を与える方向の屈折率ｎｘ、前記面内方向であってｎｘの方向に直交する方向の屈折率ｎｙ、フィルムの膜厚ｄを用いて、（ｎｘ−ｎｙ）×ｄで表される値である。
さらに、以下の実施形態の説明に用いる図面では、粘着層及び接着層は図示していない。
【００１６】
［１．第一実施形態］
〔１−１．概要〕
図１は、本発明の第一実施形態に係る立体画像表示システムを模式的に示す図である。また、図２は、本発明の第一実施形態に係る立体画像表示システムを分解した様子を模式的に示す図である。
【００１７】
図１及び図２に示すように、本発明の第一実施形態に係る立体画像表示システム１０は、液晶表示装置であるディスプレイ装置１００と、偏光メガネ２００とを備える。この立体画像表示システム１０では、ディスプレイ装置１００が右眼用画像及び左眼用画像を表示することによって立体画像を表示しうるようになっている。そして、観察者は偏光メガネ２００を装着してディスプレイ装置１００を見ることにより、表示された立体画像を視認できるようになっている。
【００１８】
ディスプレイ装置１００は、光源１１０と、光源側偏光板１２１、液晶セル１２２及び本発明に係る偏光板としての視認側偏光板１２３を備える画像表示パネル１２０と、位相差フィルム１３１及びパターン位相差フィルム１３２を備える積層位相差フィルム１３０とを、この順に備える。
また、偏光メガネ２００は、右眼用位相差フィルム２１１及び右眼用偏光板２１２をこの順に備える右眼用部材である右眼用レンズ２１０と、左眼用位相差フィルム２２１及び左眼用偏光板２２２をこの順に備える左眼用部材である左眼用レンズ２２０とを備える。
【００１９】
以下に説明する実施形態において、ディスプレイ装置１００は、光源側偏光板１２１、液晶セル１２２、視認側偏光板１２３、位相差フィルム１３１及びパターン位相差フィルム１３２の主面がいずれも鉛直方向に対して平行となるように縦置きされているものとして説明する。また、偏光メガネ２００は、右眼用位相差フィルム２１１、右眼用偏光板２１２、左眼用位相差フィルム２２１及び左眼用偏光板２２２の主面がいずれも鉛直方向に対して平行となるようになっているものとして説明する。したがって、図１及び図２は、ディスプレイ装置１００及び偏光メガネ２００を鉛直上方から見た様子を模式的に示す図となっている。
【００２０】
また、以下に説明する実施形態において、ディスプレイ装置１００の光源側偏光板１２１、液晶セル１２２、視認側偏光板１２３、位相差フィルム１３１及びパターン位相差フィルム１３２、並びに、偏光メガネ２００の右眼用位相差フィルム２１１、右眼用偏光板２１２、左眼用位相差フィルム２２１及び左眼用偏光板２２２の厚み方向は、一致している。そこで、以下、別に断らない限り、「厚み方向」とはこれらの厚み方向のことを意味するものとする。
【００２１】
また、以下の説明において、偏光板の透過軸、位相差フィルムの遅相軸等のような、光学素子の光学軸の角度は、別に断らない限り、厚み方向から見た角度のことを意味する。さらに、光学軸の角度のプラス及びマイナスの向きは、偏光メガネをかけて光源に向かって画像を見る向きにおいて、反時計回りの角度をプラスの角度、時計回りの角度をマイナスの角度として表記する。
また、偏光板及び位相差フィルム等の光学フィルムの面内方向とは、別に断らない限り、厚み方向に対して垂直な方向のことを意味する。
さらに、構成要素の方向が「平行」、「垂直」又は「直交」とは、本発明の効果を損ねない範囲内、例えば±５°の範囲内での誤差を含んでいてもよい。
【００２２】
〔１−２．ディスプレイ装置１００〕
（光源１１０）
光源１１０は、画像表示に使用される光を発する装置である。本実施形態では、面発光可能な光源装置を光源１１０として用いている。このような光源１１０は、例えば、冷陰極管又はＬＥＤ等の発光素子と導光板とを組み合わせることにより構成してもよい。
【００２３】
（画像表示パネル１２０）
画像表示パネル１２０は、光源１１０に近い方から順に、直線偏光板である光源側偏光板１２１と、液晶セル１２２と、直線偏光板である視認側偏光板１２３とを備える。光源側偏光板１２１の透過軸と視認側偏光板１２３の透過軸とは垂直となるように設定されている。具体的には、光源側偏光板１２１の透過軸（図示せず。）は水平方向に対して平行となっていて、視認側偏光板１２３の透過軸Ａ１２３は鉛直方向に対して平行となっている（図２参照）。また、本実施形態では液晶セル１２２にはバーティカルアラインメント（ＶＡ）モードの液晶材料が封入されていて、画像表示パネル１２０を透過する光の制御を行えるようになっている。このため、本実施形態では、光源１１０から発せられ、光源側偏光板１２１、液晶セル１２２及び視認側偏光板１２３を透過した光によって、右眼用画像及び左眼用画像が表示されうるようになっている。この際、画像を表示する光は、直線偏光板である視認側偏光板１２３を透過するので、直線偏光である。
【００２４】
また、この画像表示パネル１２０には、厚み方向から見てそれぞれ異なる位置に、右眼用画像を表示する領域１２０Ｒと左眼用画像を表示する領域１２０Ｌとが設定されている。したがって、この画像表示パネル１２０では、領域１２０Ｒを透過した光によって右眼用画像が表示されうるようになっており、また、領域１２０Ｌを透過した光によって左眼用画像が表示されうるようになっている。本実施形態では、これらの領域１２０Ｒ及び領域１２０Ｌはいずれも水平方向に延在する帯状の領域となっている。また、領域１２０Ｒ及び領域１２０Ｌは幅が一定の領域となっていて、それらの配置は、領域１２０Ｒと領域１２０Ｌとが鉛直方向において交互となるように並んだストライプ状の配置となっている。
【００２５】
（積層位相差フィルム１３０）
積層位相差フィルム１３０は、光源１１０に近い方から順に、位相差フィルム１３１と、パターン位相差フィルム１３２とを備える。
【００２６】
位相差フィルム１３１は、位相差フィルム１３１の表示領域においては面内で一様な位相差Ｒｅを有する位相差フィルムである。ここで表示領域とは、画像を表示する光が透過しうる領域のことを意味する。一般に、ディスプレイ装置の画面は外周をフレームに囲まれており、このフレームに囲まれた画面を厚み方向において位相差フィルム１３１に投影した領域が、通常は位相差フィルム１３１の表示領域である。本実施形態では、位相差フィルム１３１の全体が一様な位相差Ｒｅを有しており、したがって画像表示パネル１２０の領域１２０Ｒを透過した光及び領域１２０Ｌを透過した光のいずれも、位相差フィルム１３１を透過すれば一様な位相差Ｒｅが与えられるようになっている。
【００２７】
位相差フィルム１３１の表示領域の、波長４５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（４５０）、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）、及び、波長６５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（６５０）は、以下の式（ａ）及び式（ｂ）の少なくとも一方を満たすことが好ましく、両方を満たすことがより好ましい。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＞０．９９７      式（ａ）
Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．０１５      式（ｂ）
【００２８】
式（ａ）を詳しく説明すると、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は、好ましくは０．９９７より大きく、更に好ましくは０．９９８より大きく、特に好ましくは０．９９９より大きく、また、好ましくは１．０７０未満、更に好ましくは１．０５０未満、特に好ましくは１．０２０未満である。Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が前記の範囲に収まることにより、可視光域の短波長側から可視光域の中心波長５５０ｎｍ程度の光に対して光抜けを抑えることができる。
【００２９】
また、式（ｂ）を詳しく説明すると、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）は、好ましくは０．９５０より大きく、更に好ましくは０．９７０より大きく、特に好ましくは０．９９０より大きく、また、好ましくは１．０１５未満、更に好ましくは１．０１２未満、特に好ましくは１．０１０未満である。Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）が前記範囲に収まることにより、その面内レターデーションＲｅが、長波長になるほど増大するので、暗表示時における斜め方向から観察した際の着色を低減することができる。つまり、式（ａ）もしくは式（ｂ）の少なくとも一方を、あるいは両方を満足することで光学特性を最適化でき、可視光全域にわたって一様の偏光変換が可能となり、また斜め方向からのカラーシフトをも解決することができる。
【００３０】
位相差フィルム１３１が前記の式（ａ）又は式（ｂ）を満たすようにするには、例えば、位相差フィルム１３１の材料として、例えばシクロオレフィンポリマーを含む樹脂を用いるようにしてもよい。
【００３１】
位相差フィルム１３１が有する位相差Ｒｅの大きさは、本実施形態では、透過光の略１／４波長である。すなわち、位相差フィルム１３１は、透過光に対して略１／４波長の位相差Ｒｅを発現させうるものである。具体的には、位相差フィルム１３１の位相差Ｒｅが、透過光の波長範囲の中心値において、中心値の１／４の値から、通常±６５ｎｍ、好ましくは±３０ｎｍ、より好ましくは±１０ｎｍの範囲である場合に、透過光に対して略１／４波長の位相差Ｒｅを発現させうるといえる。通常、画像表示に用いられる光は可視光であるので、可視光の波長範囲の中心値である波長５５０ｎｍに対して前記の要件を満たせば、略１／４波長の位相差Ｒｅを有することになる。
【００３２】
また、位相差フィルム１３１の位相差Ｒｅが一様であるとは、画質を低下させない程度に位相差Ｒｅのバラツキが小さいことを意味する。具体的には、測定波長５５０ｎｍにおける位相差Ｒｅのバラツキが、通常１０ｎｍ以内、好ましくは５ｎｍ以内、さらに好ましくは２ｎｍ以内であれば、位相差Ｒｅが一様である。ここで、位相差Ｒｅのバラツキは、面内方向において位相差Ｒｅを測定したときの、その測定値の最大値と最小値との差である。位相差Ｒｅは、例えば、自動複屈折計「王子計測機器社製；ＫＯＢＲＡ-２１ＡＤＨ」などで測定することができる。
【００３３】
通常、位相差フィルム１３１の遅相軸Ａ１３１は、画像表示パネル１２０の視認側偏光板１２３の透過軸Ａ１２３と、略４５°の角度をなす。ここで略４５°とは、通常は４５°±５°のことを意味する。位相差フィルム１３１の遅相軸Ａ１３１と視認側偏光板１２３の透過軸Ａ１２３とがなす角の向きを考慮すると、通常、位相差フィルム１３１の遅相軸Ａ１３１は、画像表示パネル１２０の視認側偏光板１２３の透過軸Ａ１２３に対して、略＋４５°又は略−４５°の角度をなす。これにより、視認側偏光板１２３を透過した光の偏光状態は、位相差フィルム１３１を透過することにより直線偏光から円偏光へと変換されうるようになっている。
【００３４】
さらに、位相差フィルム１３１の遅相軸Ａ１３１は、位相差フィルム１３１の長手方向に対して略４５°の角度をなすことが好ましい。このような位相差フィルム１３１は、長尺の位相差フィルムをその長尺方向に対して平行又は垂直に切り出して得られるため、例えば前記長尺の位相差フィルムを斜め方向に切り出す場合と比べて容易に製造できる。なお、ここで「長尺」のフィルムとは、フィルムの幅に対して、少なくとも５倍以上の長さを有するものをいい、好ましくは１０倍若しくはそれ以上の長さを有し、具体的にはロール状に巻き取られて保管又は運搬される程度の長さを有するものをいう。
【００３５】
本実施形態では、位相差フィルム１３１の遅相軸Ａ１３１の方向は視認側偏光板１２３の透過軸Ａ１２３に対して＋１３５°（もしくは−４５°）の角度をなす方向となっているものとする。また、本実施形態では位相差フィルム１３１の長手方向は水平方向となっており、したがって位相差フィルム１３１の遅相軸Ａ１３１は位相差フィルム１３１の長手方向に対して＋４５°の角度をなしているものとする。
【００３６】
パターン位相差フィルム１３２は、パターン位相差フィルム１３２の表示領域に、第一領域（異方性領域）１３２Ａと第二領域（等方性領域）１３２Ｂとを有する。第一領域１３２Ａは、位相差Ｒｅを有し、右眼用画像及び左眼用画像の一方を表示する光を透過させうる領域である。また、第二領域１３２Ｂは、位相差Ｒｅを有さず、右眼用画像及び左眼用画像の他方を表示する光を透過させうる領域である。パターン位相差フィルム１３２の表示領域とは、位相差フィルム１３１の表示領域と同様に定義される領域であり、通常、ディスプレイ装置のフレームに囲まれた画面を厚み方向においてパターン位相差フィルム１３２に投影した領域が該当する。
【００３７】
パターン位相差フィルム１３２の第一領域１３２Ａの、波長４５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（４５０）、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）、及び、波長６５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（６５０）は、以下の式（Ａ）及び式（Ｂ）を満たす。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．０４      式（Ａ）
Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）＞０．９８５      式（Ｂ）
【００３８】
式（Ａ）を詳しく説明すると、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は、通常１．０４未満、更に好ましくは１．０２未満、特に好ましくは１．００未満である。Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が前記の範囲に収まることは、パターン位相差フィルム１３２の第一領域１３２Ａの位相差が逆波長分散性又はそれに近いフラットな波長分散性を有することを意味する。ここでフラットな波長分散性とは、波長によらず位相差が略一定であることを意味する。したがって、パターン位相差フィルム１３２の第一領域１３２Ａにおいて式（Ａ）が満たされれば、パターン位相差フィルム１３２の第一領域１３２Ａの波長分散性に起因するクロストーク及び色味ずれを抑制でき、特に青味かかった色の光に起因するクロストーク及び色味ずれを効果的に防止できる。なお、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）の下限は本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常０．７５以上である。
【００３９】
また、式（Ｂ）を詳しく説明すると、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）は、通常０．９８５より大きく、好ましくは０．９９５より大きく、更に好ましくは１．００より大きい。Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）が前記範囲に収まることは、パターン位相差フィルム１３２の第一領域１３２Ａの位相差が逆波長分散性又はそれに近いフラットな波長分散性を有することを意味する。したがって、パターン位相差フィルム１３２の第一領域１３２Ａにおいて式（Ｂ）が満たされれば、パターン位相差フィルム１３２の第一領域１３２Ａの波長分散性に起因するクロストーク及び色味ずれを抑制でき、特に赤味かかった色の光に起因するクロストーク及び色味ずれを効果的に防止できる。なお、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）の上限は本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常１．１５以下である。
【００４０】
したがって、パターン位相差フィルム１３２の第一領域１３２Ａが前記の式（Ａ）及び式（Ｂ）を両方とも満たすことにより、可視領域の広範な波長範囲において、波長分散性に起因するクロストーク及び色味ずれを抑制することができる。
パターン位相差フィルム１３２の第一領域１３２Ａが前記の式（Ａ）及び式（Ｂ）を満たすようにするには、例えば、パターン位相差フィルム１３２の材料として特定の液晶化合物（例えば、式（Ｉ）で表される化合物）を用いるようにする。
【００４１】
パターン位相差フィルム１３２の第一領域１３２Ａが有する位相差Ｒｅの大きさは、本実施形態では、透過光の略１／２波長である。すなわち、第一領域１３２Ａは、透過光に対して略１／２波長の位相差Ｒｅを発現させうるものである。具体的には、第一領域１３２Ａの位相差Ｒｅが、透過光の波長範囲の中心値において、中心値の１／２の値から、通常±６５ｎｍ、好ましくは±３０ｎｍ、より好ましくは±１０ｎｍの範囲となっている場合に、透過光に対して略１／２波長の位相差Ｒｅを発現させうるといえる。通常、画像表示に用いられる光は可視光であるので、可視光の波長範囲の中心値である波長５５０ｎｍに対して前記の要件を満たせば、略１／２波長の位相差Ｒｅを有することになる。パターン位相差フィルムの位相差Ｒｅは、例えば、２次元複屈折評価システム「フォトニックラティス社製；ＷＰＡ−ｍｉｃｒｏ」などで測定することができる。
【００４２】
通常、第一領域１３２Ａの遅相軸Ａ１３２Ａは、画像表示パネル１２０の視認側偏光板１２３の透過軸Ａ１２３と、略９０°の角度をなす。ここで略９０°とは、通常は９０°±５°のことを意味する。これにより、位相差フィルム１３１を透過した光の偏光状態は、第一領域１３２Ａを透過することにより９０°回転させられ、その円偏光の向きが反転しうるようになっている。本実施形態では、第一領域１３２Ａの遅相軸Ａ１３２Ａは、水平方向と平行となっているものとする。
【００４３】
他方、パターン位相差フィルム１３２の第二領域１３２Ｂは位相差Ｒｅを有さない。ここで位相差Ｒｅを有さないとは、位相差がゼロである場合だけでなく、実質的に画質を低下させない程度に小さい位相差Ｒｅを有することも含む。具体的な位相差Ｒｅの範囲を挙げると、測定波長５５０ｎｍにおいて、位相差Ｒｅが、通常０〜６５ｎｍ、好ましくは０〜３０ｎｍ、より好ましくは０〜１０ｎｍの範囲である場合に、第二領域１３２Ｂは位相差Ｒｅを有さないことになる。
【００４４】
これにより、位相差フィルム１３１を透過した光の偏光状態は、第二領域１３２Ｂを透過しても変化せず、その円偏光の向きを実質的に維持しうるようになっている。ここで円偏光の向きを実質的に維持する、とは、クロストーク及び色味ずれを抑制できる範囲で円偏光の向きが変化しないことを意味する。
【００４５】
パターン位相差フィルム１３２の第一領域１３２Ａ及び第二領域１３２Ｂは、パターン位相差フィルム１３２の、厚み方向から見てそれぞれ異なる位置に設けられている。これらの第一領域１３２Ａ及び第二領域１３２Ｂは、いずれも帯状の領域となっていて、画像表示パネル１２０の領域１２０Ｒ及び領域１２０Ｌに合わせてパターン化されている。ここでパターン化とは、ある一定の周期で繰り返される態様を意味する。
【００４６】
本実施形態では、第一領域１３２Ａ及び第二領域１３２Ｂは、それぞれ水平方向に延在する幅が一定の領域であり、それらの配置は、第一領域１３２Ａと第二領域１３２Ｂとが鉛直方向において交互となるように並んだストライプ状の配置となっている。また、厚み方向から見ると、第一領域１３２Ａは画像表示パネル１２０の領域１２０Ｌに重なり、第二領域１３２Ｂは画像表示パネル１２０の領域１２０Ｒに重なる位置に設けられていて、液晶表示パネル１２０の領域１２０Ｌ及び領域１２０Ｒが、それぞれパターン位相差フィルム１３２の第一領域１３２Ａ及び第二領域１３２Ｂに対応している。
【００４７】
したがって、ディスプレイ装置１００においては、光源１１０から発せられ、画像表示パネル１２０の領域１２０Ｒ、位相差フィルム１３１、及び、パターン位相差フィルム１３２の第二領域１３２Ｂを透過した光によって、右眼用画像を表示しうるようになっている。また、光源１１０から発せられ、画像表示パネル１２０の領域１２０Ｌ、位相差フィルム１３１、及び、パターン位相差フィルム１３２の第一領域１３２Ａを透過した光によって、左眼用画像を表示しうるようになっている。さらに、右眼用画像を表示する光及び左眼用画像を表示する光は、ディスプレイ装置１００から出ると、いずれも円偏光となっているが、その円偏光の向きは逆向きとなっている。円偏光なので、偏光メガネをかけている観察者が頭を傾けた場合や、画面中心よりずれた方向から見た場合にも、良好な立体映像を見ることができる。
【００４８】
〔１−３．偏光メガネ２００〕
（右眼用レンズ２１０）
右眼用レンズ２１０は、右眼用画像を表示する光を透過させうるレンズであり、また、左眼用画像を表示する光を遮断しうるレンズである。この右眼用レンズ２１０は、ディスプレイ装置１００に近い方から順に、右眼用位相差フィルム２１１と、直線偏光板である右眼用偏光板２１２を備える。
【００４９】
右眼用レンズ２１０の右眼用位相差フィルム２１１の、波長４５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（４５０）、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）、及び、波長６５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（６５０）は、前記の式（ａ）及び式（ｂ）の少なくとも一方を満たすことが好ましく、両方を満たすことがより好ましい。
【００５０】
すなわち、右眼用位相差フィルム２１１のＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は、好ましくは０．９９７より大きく、更に好ましくは０．９９８より大きく、特に好ましくは０．９９９より大きく、また、好ましくは１．０７０未満、更に好ましくは１．０５０未満、特に好ましくは１．０２０未満である。Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が前記の範囲に収まることにより、波長分散性に起因するクロストーク及び色味ずれを抑制でき、特に可視光域の短波長側から可視光域の中心波長５５０ｎｍ程度の光に起因するクロストーク及び色味ずれを効果的に防止することができる。
【００５１】
また、右眼用位相差フィルム２１１のＲｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）は、好ましくは０．９５０より大きく、更に好ましくは０．９７０より大きく、特に好ましくは０．９９０より大きく、また、好ましくは１．０１５未満、更に好ましくは１．０１２未満、特に好ましくは１．０１０未満である。Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）が前記範囲に収まることにより、波長分散性に起因するクロストーク及び色味ずれを抑制でき、特に赤味かかった色の光に起因するクロストーク及び色味ずれを効果的に防止することができる。
【００５２】
右眼用位相差フィルム２１１が前記の式（ａ）又は式（ｂ）を満たすようにするには、例えば、右眼用位相差フィルム２１１の材料として例えばシクロオレフィンポリマーを含む樹脂を用いるようにしてもよい。
【００５３】
右眼用レンズ２１０の右眼用位相差フィルム２１１が有する位相差Ｒｅの大きさは、本実施形態では、透過光の略１／４波長である。すなわち、右眼用位相差フィルム２１１は、透過光に対して略１／４波長の位相差Ｒｅを発現させうるものである。これにより、円偏光が右眼用位相差フィルム２１１を透過すると、偏光状態が変化し、直線偏光となるようになっている。
【００５４】
通常、右眼用位相差フィルム２１１の遅相軸Ａ２１１は、パターン位相差フィルム１３２の第一領域１３２Ａの遅相軸Ａ１３２Ａと略４５°の角度をなす。これにより、ディスプレイ装置１００から発せられた画像を表示する光の偏光状態は、右眼用位相差フィルム２１１を透過することにより、円偏光から直線偏光へと変換されうるようになっている。本実施形態では、右眼用位相差フィルム２１１の遅相軸Ａ２１１の方向は、水平方向に対して＋４５°の角度をなす方向となっているものとする。
【００５５】
右眼用レンズ２１０の右眼用偏光板２１２の透過軸Ａ２１２は、通常、右眼用位相差フィルム２１１の遅相軸Ａ２１１と、略４５°の角度をなす。また、右眼用偏光板２１２の透過軸Ａ２１２は、ディスプレイ装置１００の視認側偏光板１２３の透過軸Ａ１２３と略垂直であることが好ましく、具体的には９０°±５°の角度をなすことが好ましい。本実施形態では、右眼用位相差フィルム２１１の遅相軸Ａ２１１に対して−４５°の角度をなす水平方向に、右眼用偏光板２１２の透過軸Ａ２１２があるものとする。これにより、右眼用画像を表示する光が右眼用位相差フィルム２１１を透過することによって変換される直線偏光の偏光方向と、右眼用偏光板２１２の透過軸Ａ２１２の方向とが平行となって右眼用画像が観察者の右眼に到達する。
【００５６】
（左眼用レンズ２２０）
左眼用レンズ２２０は、左眼用画像を表示する光を透過しうるレンズであり、また、右眼用画像を表示する光を遮断させうるレンズである。この左眼用レンズ２２０は、ディスプレイ装置１００に近い方から順に、左眼用位相差フィルム２２１と、直線偏光板である左眼用偏光板２２２を備える。
【００５７】
左眼用レンズ２２０の左眼用位相差フィルム２２１の、波長４５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（４５０）、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）、及び、波長６５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（６５０）は、右眼用レンズ２１０の右眼用位相差フィルム２１１と同様に、前記の式（ａ）及び式（ｂ）の少なくとも一方を満たすことが好ましく、両方を満たすことがより好ましい。
【００５８】
左眼用レンズ２２０の左眼用位相差フィルム２２１が有する位相差Ｒｅの大きさは、本実施形態では、透過光の略１／４波長である。すなわち、左眼用位相差フィルム２２１は、透過光に対して略１／４波長の位相差Ｒｅを発現させうるものである。これにより、円偏光が左眼用位相差フィルム２２１を透過すると、偏光状態が変化し、直線偏光となるようになっている。また本実施形態では、右眼用位相差フィルム２１１と左眼用位相差フィルム２２１の位相差Ｒｅは、同じになっている。
【００５９】
通常、左眼用位相差フィルム２２１の遅相軸Ａ２２１は、右眼用位相差フィルム２１１の遅相軸Ａ２１１と略９０°の角度をなす。これにより、ディスプレイ装置１００から発せられた画像を表示する光の偏光状態は、左眼用位相差フィルム２２１を透過することにより、円偏光から直線偏光へと変換されうるようになっている。さらに、右眼用位相差フィルム２１１を透過した場合と、左眼用位相差フィルムを透過した場合とでは、変換される直線偏光の偏光方向が略９０°異なるようになっている。本実施形態では、左眼用位相差フィルム２２１の遅相軸Ａ２２１の方向は、水平方向に対して−４５°の角度をなす方向となっているものとする。
【００６０】
左眼用レンズ２２０の左眼用偏光板２２２の透過軸Ａ２２２は、通常、左眼用位相差フィルム２２１の遅相軸Ａ２２１と、略４５°の角度をなす。また、左眼用偏光板２２２の透過軸Ａ２２２は、ディスプレイ装置１００の視認側偏光板１２３の透過軸Ａ１２３と略垂直であることが好ましく、また、右眼用偏光板２１２の透過軸Ａ２１２と平行であることが好ましい。本実施形態では、左眼用位相差フィルム２２１の遅相軸Ａ２２１に対して＋４５°の角度をなす水平方向に、左眼用偏光板２２２の透過軸Ａ２２２があるものとする。これにより、左眼用画像を表示する光が左眼用位相差フィルム２２１を透過することによって変換される直線偏光の偏光方向と、左眼用偏光板２２２の透過軸Ａ２２２の方向とが平行となって左眼用画像が観察者の左眼に到達する。
【００６１】
〔１−４．使用方法〕
本発明の第一実施形態に係る立体画像表示システム１０は上述したように構成されているので、使用時には、ディスプレイ装置１００の光源１１０を発光させ、画像表示パネル１２０に画像を表示させる。本実施形態では、液晶セル１２２による制御に応じて、画像表示パネル１２０の領域１２０Ｒを透過した光によって右眼用画像が表示され、領域１２０Ｌを透過した光によって左眼用画像が表示される。
【００６２】
図３は、本発明の第一実施形態に係る立体画像表示システム１０を分解した様子を模式的に示す図である。図３に示すように、光源１１０が発した光は画像表示パネル１２０を透過する際に、直線偏光板である視認側偏光板１２３を透過する。このため、右眼用画像を表示する光Ｌｒ及び左眼用画像を表示する光Ｌｌは、直線偏光となって積層位相差フィルム１３０に入射する。この際、右眼用画像を表示する光Ｌｒ及び左眼用画像を表示する光Ｌｌの偏光方向は、同じ方向となっている。
【００６３】
右眼用画像を表示する光Ｌｒ及び左眼用画像を表示する光Ｌｌは、積層位相差フィルム１３０に入射すると、位相差フィルム１３１を透過する。位相差フィルム１３１が略１／４波長の位相差Ｒｅを有するので、位相差フィルム１３１を透過する際、右眼用画像を表示する光Ｌｒ及び左眼用画像を表示する光Ｌｌには、略１／４波長の位相差Ｒｅが発現する。このため、右眼用画像を表示する光Ｌｒ及び左眼用画像を表示する光Ｌｌは、位相差フィルム１３１を透過することにより、偏光状態が直線偏光から円偏光に変化する。また、位相差フィルム１３１の位相差Ｒｅは面内で一様であるので、右眼用画像を表示する光Ｌｒの円偏光の向きと左眼用画像を表示する光Ｌｌの円偏光の向きとは同じになる。
【００６４】
位相差フィルム１３１を透過した後で、右眼用画像を表示する光Ｌｒ及び左眼用画像を表示する光Ｌｌは、パターン位相差フィルム１３２を透過する。パターン位相差フィルム１３２には、画像表示パネル１２０の領域１２０Ｌ及び領域１２０Ｒに応じてパターン化された第一領域１３２Ａ及び第二領域１３２Ｂが設けられているので、右眼用画像を表示する光Ｌｒは第二領域１３２Ｂを透過し、左眼用画像を表示する光Ｌｌは第一領域１３２Ａを透過する。
【００６５】
第一領域１３２Ａは略１／２波長の位相差Ｒｅを有するので、第一領域１３２Ａを透過する際、左眼用画像を表示する光Ｌｌには、略１／２波長の位相差Ｒｅが発現する。このため、左眼用画像を表示する光Ｌｌは、第一領域１３２Ａを透過することにより、偏光方向が略９０°回転するので、円偏光の向きが反転する。
他方、第二領域１３２Ｂは位相差Ｒｅを有さないので、第二領域１３２Ｂを透過する際、右眼用画像を表示する光Ｌｒには、実質的に位相差Ｒｅは発現しない。このため、右眼用画像を表示する光Ｌｒは、第二領域１３２Ｂを透過した後でも、第二領域１３２Ｂへの入射前の偏光状態を実質的に維持し、円偏光の向きは反転しない。ここで偏光状態を実質的に維持する、とは、クロストーク及び色味ずれを抑制できる範囲で偏光状態が変化しないことを意味する。
したがって、ディスプレイ装置１００においては、右眼用画像と左眼用画像とは、互いに向きが逆の円偏光によって表示される。
【００６６】
このようにして表示された画像を、観察者は偏光メガネ２００を装着して視る。
右眼用画像を表示する光Ｌｒ及び左眼用画像を表示する光Ｌｌは、偏光メガネ２００の右眼用レンズ２１０に入射すると、右眼用位相差フィルム２１１を透過する。右眼用位相差フィルム２１１が略１／４波長の位相差Ｒｅを有するので、右眼用位相差フィルム２１１を透過する際、右眼用画像を表示する光Ｌｒ及び左眼用画像を表示する光Ｌｌには、略１／４波長の位相差Ｒｅが発現する。このため、右眼用画像を表示する光Ｌｒ及び左眼用画像を表示する光Ｌｌは、右眼用位相差フィルム２１１を透過することにより、偏光状態が円偏光から直線偏光に変化する。ただし、右眼用画像を表示する光Ｌｒ及び左眼用画像を表示する光Ｌｌは、右眼用位相差フィルム２１１に入射する以前の円偏光の向きが逆であるので、右眼用位相差フィルム２１１を透過した後の直線偏光の偏光方向は略９０°異なる。
【００６７】
こうして直線偏光に変化した右眼用画像を表示する光Ｌｒ及び左眼用画像を表示する光Ｌｌは、右眼用位相差フィルム２１１を透過した後で、右眼用偏光板２１２に入射する。右眼用偏光板２１２の透過軸Ａ２１２の方向は、右眼用画像を表示する光Ｌｒが右眼用位相差フィルム２１１を透過することによって変換される直線偏光の偏光方向と平行となっているので、右眼用画像を表示する光Ｌｒは右眼用偏光板２１２を透過して観察者の右眼で視認されるが、左眼用画像を表示する光Ｌｌは右眼用偏光板２１２で遮断されるので観察者の右眼では視認されない。
【００６８】
他方、右眼用画像を表示する光Ｌｒ及び左眼用画像を表示する光Ｌｌが、偏光メガネ２００の左眼用レンズ２２０に入射すると、左眼用位相差フィルム２２１を透過する。左眼用位相差フィルム２２１は右眼用位相差フィルム２１１と同様に略１／４波長の位相差Ｒｅを有するので、左眼用位相差フィルム２２１を透過する際、右眼用画像を表示する光Ｌｒ及び左眼用画像を表示する光Ｌｌには、右眼用位相差フィルム２１１を透過した場合と同様に、略１／４波長の位相差Ｒｅが発現し、偏光状態が円偏光から直線偏光に変化する。また、右眼用画像を表示する光Ｌｒ及び左眼用画像を表示する光Ｌｌは、左眼用位相差フィルム２２１を透過した後の直線偏光の偏光方向は略９０°異なる。
【００６９】
こうして直線偏光に変化した右眼用画像を表示する光Ｌｒ及び左眼用画像を表示する光Ｌｌは、左眼用位相差フィルム２２１を透過した後で、左眼用偏光板２２２に入射する。左眼用偏光板２２２の透過軸Ａ２２２の方向は、左眼用画像を表示する光Ｌｌが左眼用位相差フィルム２２１を透過することによって変換される直線偏光の偏光方向と平行となっているので、左眼用画像を表示する光Ｌｌは左眼用偏光板２２２を透過して観察者の左眼で視認されるが、右眼用画像を表示する光Ｌｒは左眼用偏光板２２２で遮断されるので観察者の左眼では視認されない。
【００７０】
このようにして、右眼用画像を表示する光Ｌｒが右眼のみで視認され、左眼用画像を表示する光Ｌｌが左眼のみで視認される。観察者は、こうして視認された右眼用画像及び左眼用画像を脳内で合成し、立体画像を認識する。
【００７１】
さらに、本実施形態では、パターン位相差フィルム１３２の第一領域１３２Ａが式（Ａ）及び式（Ｂ）を満たすことから分かるように、第一領域１３２Ａは逆波長分散性又はそれに近いフラットな波長分散性を有する。したがって、第一領域１３２Ａを透過する光に発現する位相差Ｒｅが、前記の光の波長に応じて適切な大きさで発現するので、第一領域１３２Ａを透過した光の偏光状態を可視波長の全体で均一に近づけることが可能となり、クロストーク及び色味ずれを抑制できる。
【００７２】
また、本実施形態では、光学補償フィルム等が不要な簡素な構成の偏光メガネ２００を用いてクロストークと色味ずれの両方を抑制することが可能であるので、画質及び製造コストの点で顕著な意義がある。
【００７３】
さらに、本実施形態に係るパターン位相差フィルム１３２では、第一領域１３２Ａ及び第二領域１３２Ｂが延在する水平方向は、パターン位相差フィルム１３２の面内の一方向に相当する。また、第一領域１３２Ａの遅相軸Ａ１３２Ａは、この第一領域１３２Ａが延在する水平方向に対して平行となっている。このような第一領域１３２Ａを有する積層位相差フィルム１３０は、効率的な製造が可能であるため、好ましい。
【００７４】
また、パターン位相差フィルム１３２のように異なる位相差を有する領域がパターン化された位相差フィルムは、本実施形態のパターン位相差フィルム１３２のように位相差を有する第一領域１３２Ａと位相差を有さない第二領域１３２Ｂとを組み合わせたフィルムの方が、位相差を有する領域同士を組み合わせた位相差フィルムと比べて安価に製造できるため、コストの面で好ましい。
【００７５】
［２．第二実施形態］
本発明の立体画像表示システムは、本発明の要旨を逸脱しない範囲においては、光学要素の光学軸の方向は、任意に設定してもよい。また、第一実施形態においてはＶＡモードの液晶材料を有する液晶セルを用いた例を示したが、液晶セルのモードはＶＡモードに限定されるものでなく、任意のモードを採用してもよい。以下、図面を用いてその立体画像表示システムの例を示す。
【００７６】
図４は、本発明の第二実施形態に係る立体画像表示システムを模式的に示す図である。また、図５は、本発明の第二実施形態に係る立体画像表示システムを分解した様子を模式的に示す図である。
図４及び図５に示すように、本発明の第二実施形態に係る立体画像表示システム２０は、液晶表示装置であるディスプレイ装置３００と、偏光メガネ４００とを備える。
【００７７】
ディスプレイ装置３００は、液晶セルとしてツイステッドネマチック（ＴＮ）モードのものを用いたこと、並びに、偏光板の透過軸の方向及び位相差フィルムの遅相軸の方向が異なること以外は第一実施形態に係るディスプレイ装置１００と同様であり、光源３１０と、光源側偏光板３２１、液晶セル３２２及び視認側偏光板３２３を備える画像表示パネル３２０と、位相差フィルム３３１及びパターン位相差フィルム３３２を備える積層位相差フィルム３３０とを、この順に備える。
また、偏光メガネ４００は、偏光板の透過軸の方向及び位相差フィルムの遅相軸の方向が異なること以外は第一実施形態に係る偏光メガネ２００と同様であり、右眼用位相差フィルム４１１及び右眼用偏光板４１２をこの順に備える右眼用部材である右眼用レンズ４１０と、左眼用位相差フィルム４２１及び左眼用偏光板４２２をこの順に備える左眼用部材である左眼用レンズ４２０とを備える。
【００７８】
本実施形態でも、光源側偏光板３２１の透過軸と視認側偏光板３２３の透過軸とは垂直となるように設定されている。具体的には、光源側偏光板３２１の透過軸（図示せず。）の方向は水平方向に対して＋４５°の角度をなす方向となっていて、視認側偏光板３２３の透過軸Ａ３２３の方向は水平方向に対して−４５°の角度をなす方向となっている（図５参照）。
また、位相差フィルム３３１の遅相軸Ａ３３１は、鉛直方向に対して平行になっている。この場合の位相差フィルム３３１としては、例えば、長尺方向に対して垂直な方向に遅相軸を有する横延伸フィルムを使用してもよく、斜め延伸フィルムを斜めに打ち抜いたものを使用してもよい。
さらに、パターン位相差フィルム３３２の第一領域３３２Ａの遅相軸Ａ３３２Ａの方向は、水平方向に対して略＋４５°又は略−４５°の角度をなす方向となっていてもよく、本実施形態では水平方向に対して＋４５°の角度をなす方向となっている。また、パターン位相差フィルム３３２の第二領域３３２Ｂは位相差Ｒｅを有さないので、遅相軸を有さない。
【００７９】
偏光メガネ４００においては、右眼用レンズ４１０の右眼用位相差フィルム４１１の遅相軸Ａ４１１の方向は鉛直方向に対して平行となっていて、右眼用偏光板４１２の透過軸Ａ４１２は水平方向に対して＋４５°の角度をなしている。他方、左眼用レンズ４２０の左眼用位相差フィルム４２１の遅相軸Ａ４２１の方向は水平方向に対して平行となっていて、右眼用位相差フィルム４１１の遅相軸Ａ４１１と垂直になっている。また、左眼用偏光板４２２の透過軸Ａ４２２は水平方向に対して＋４５°の角度をなしていて、右眼用偏光板４１２の透過軸Ａ４１２に対して平行になっている。
【００８０】
本発明の第二実施形態に係る立体画像表示システム２０は上述したように構成されているので、使用時には、ディスプレイ装置３００の光源３１０を発光させ、画像表示パネル３２０に画像を表示させる。この際、画像表示パネル３２０の領域３２０Ｒを透過した光によって右眼用画像が表示され、領域３２０Ｌを透過した光によって左眼用画像が表示される。
【００８１】
図６は、本発明の第二実施形態に係る立体画像表示システム２０を分解した様子を模式的に示す図である。図６に示すように、光源３１０が発した光は画像表示パネル３２０及び積層位相差フィルム３３０を透過して、ディスプレイ装置３００の外部へと出射する。また、本実施形態に係るディスプレイ装置３００においても、第一実施形態に係るディスプレイ装置１００と同様の要領で偏光状態の制御が行われることにより、右眼用画像を表示する光Ｌｒと左眼用画像を表示する光Ｌｌとは、互いに向きが逆の円偏光となってディスプレイ装置３００の外部へと出射する。
【００８２】
このようにして表示された画像を、観察者は偏光メガネ４００を装着して視る。本実施形態でも、第一実施形態に係る偏光メガネ２００と同様の要領によって、右眼用画像を表示する光Ｌｒのみが右眼用偏光板４１２を透過し、また、左眼用画像を表示する光Ｌｌのみが左眼用偏光板４２２を透過することにより、右眼用画像を表示する光Ｌｒが右眼のみで視認され、左眼用画像を表示する光Ｌｌが左眼のみで視認される。観察者は、こうして視認された右眼用画像及び左眼用画像を脳内で合成し、立体画像を認識する。
【００８３】
本実施形態でも、パターン位相差フィルム３３２の第一領域３３２Ａは式（Ａ）及び式（Ｂ）を満たし、逆波長分散性又はそれに近いフラットな波長分散性を有する。したがって、クロストーク及び色味ずれを抑制することができる。
さらに、本実施形態に係る立体画像表示システム２０においては、第一実施形態に係る立体画像表示システム１０と同様の利点を得ることができる。
【００８４】
［３．第三実施形態］
本発明に係るディスプレイ装置及び偏光メガネは、本発明の効果を著しく損なわない限り、上述した以外の構成要素を備えていてもよい。例えば、ディスプレイ装置のパターン位相差フィルムの位相差フィルムとは反対側の面、偏光メガネの右眼用位相差フィルムの右眼用偏光板とは反対側の面、又は、左眼用位相差フィルムの左眼用偏光板とは反対側の面に、光学部材を設けてもよい。これらの光学部材は、他の層を介さず直接に設けてもよく、接着層等の他の層を介して間接的に設けてもよい。このような光学部材としては好ましい例を挙げると、ハードコートフィルム、反射防止フィルムなどが挙げられる。以下、図面を用いてその立体画像表示システムの例を示す。
【００８５】
図７は、本発明の第三実施形態に係る立体画像表示システムを模式的に示す図である。図７に示すように、本発明の第三実施形態に係る立体画像表示システム３０は、液晶表示装置であるディスプレイ装置５００と、偏光メガネ６００とを備える。
【００８６】
ディスプレイ装置５００は、パターン位相差フィルム１３２の位相差フィルム１３１とは反対側の面に光学部材として光学フィルム５４０を備えること以外は、第一実施形態に係るディスプレイ装置１００と同様である。
また、偏光メガネ６００は、右眼用レンズ６１０の右眼用位相差フィルム２１１の右眼用偏光板２１２とは反対側の面に光学部材として光学フィルム６１３を備えること、及び、左眼用レンズ６２０の左眼用位相差フィルム２２１の左眼用偏光板２２２とは反対側の面に光学部材として光学フィルム６２３を備えること以外は第一実施形態に係る偏光メガネ２００と同様である。
【００８７】
光学フィルム５４０、６１３及び６２３としてハードコートフィルムを用いた場合、積層位相差フィルム１３０、右眼用レンズ６１０及び左眼用レンズ６２０の傷付きを防止することができる。
また、光学フィルム５４０、６１３及び６２３として反射防止フィルムを用いた場合、当該光学フィルム５４０、６１３及び６２３が設けられた面において外光の反射を防止することができる。
さらに、立体画像表示システム３０においては、第一実施形態と同様の利点が得られる。
【００８８】
［４．変形例］
本発明は上述した実施形態に限定されず、更に変更して実施してもよい。
例えば、上述した実施形態において、右眼用レンズと左眼用レンズとを入れ替えて用いてもよい。
また、例えば、右眼用偏光板及び左眼用偏光板として、一枚の共通した位相差フィルムを用いるようにしてもよい。
【００８９】
また、上述した実施形態ではパターン位相差フィルムの第一領域を透過した光によって左眼用画像を表示し第二領域を透過した光によって右眼用画像を表示するようにしたが、第一領域を透過した光によって右眼用画像を表示し第二領域を透過した光によって左眼用画像を表示するようにしてもよい。
【００９０】
また、画像表示パネル１２０，３２０の領域１２０Ｒ，３２０Ｒ及び１２０Ｌ，３２０Ｌ、並びに、パターン位相差フィルム１３２の第一領域１３２Ａ，３３２Ａ及び第二領域１３２Ｂ，３３２Ｂが延在する方向は、水平方向に限定されず、別の方向にしてもよい。
【００９１】
［５．各構成要素の説明］
本発明において用いられる偏光板、位相差フィルム、液晶パネル及びその他の部材の例について、以下に説明する。
【００９２】
〔５−１．偏光板〕
上記実施形態における光源側偏光板、視認側偏光板、右眼用偏光板及び左眼用偏光板等の偏光板は、例えば、ポリビニルアルコールフィルムにヨウ素若しくは二色性染料を吸着させた後、ホウ酸浴中で一軸延伸することによって製造してもよい。また、例えば、ポリビニルアルコールフィルムにヨウ素もしくは二色性染料を吸着させ延伸し、さらに分子鎖中のポリビニルアルコール単位の一部をポリビニレン単位に変性することによって製造してもよい。さらに、偏光板として、例えば、グリッド偏光板、多層偏光板、コレステリック液晶偏光板などの、偏光を反射光と透過光とに分離する機能を有する偏光板を用いてもよい。これらの中でも、ポリビニルアルコールを含んでなる偏光板が好ましい。
【００９３】
偏光板の偏光度は、好ましくは９８％以上、より好ましくは９９％以上である。
また、偏光板の厚さ（平均厚さ）は、好ましくは５μｍ〜８０μｍである。
【００９４】
〔５−２．位相差フィルム、右眼用位相差フィルム及び左眼用位相差フィルム〕
上記実施形態におけるディスプレイ装置の位相差フィルム、並びに偏光メガネの右眼用位相差フィルム及び左眼用位相差フィルム等の位相差フィルムは、例えば、樹脂により形成された延伸フィルムを用いてもよい。
【００９５】
通常、樹脂はポリマー（重合体）を含む。位相差フィルムの材料となる樹脂が含むポリマーの例を挙げると、鎖状オレフィンポリマー、シクロオレフィンポリマー、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリスチレン、ポリビニルアルコール、酢酸セルロース系ポリマー、ポリ塩化ビニル、ポリメタクリレートなどが挙げられる。これらの中でも、鎖状オレフィンポリマー及びシクロオレフィンポリマーが好ましく、透明性、低吸湿性、寸法安定性、軽量性などの観点から、シクロオレフィンポリマーが特に好ましい。
【００９６】
なお、樹脂は、１種類のポリマーを単独で含むものを用いてもよく、２種類以上のポリマーを任意の比率で組み合わせて含むものを用いてもよい。また、樹脂には、本発明の効果を著しく損なわない限り、任意の配合剤を含ませてもよい。好適な樹脂の具体例を挙げると、日本ゼオン社製「ゼオノア１４２０」を挙げることができる。
【００９７】
さらに、位相差フィルムとしては、単層構造のフィルムを用いてもよく、複層構造のフィルムを用いてもよい。
【００９８】
ただし、ディスプレイ装置の位相差フィルム、並びに偏光メガネの右眼用位相差フィルム及び左眼用位相差フィルムは、同じ材質からなるものを用いることが好ましい。これにより、位相差フィルム、右眼用位相差フィルム及び左眼用位相差フィルムを透過する際に透過光に発現する位相差の波長分散性を同じにして、クロストーク及び色味ずれを効果的に抑制することができる。
【００９９】
好適な位相差フィルムの例を挙げると、市販の長尺の斜め延伸フィルム、長尺の横延伸フィルム、例えば、日本ゼオン社製、製品名「斜め延伸ゼオノアフィルム」や「横延伸ゼオノアフィルム」などを挙げることができる。
【０１００】
〔５−３．パターン位相差フィルム〕
パターン位相差フィルムは、例えば、基材上に液晶相を呈することができ且つ紫外線（ＵＶ）等のエネルギー線の照射を受けて硬化しうる材料を用いて製造したものを用いてもよい。かかる材料を、以下において「液晶層形成用組成物」ということがある。また、かかる材料の、未硬化状態の層又は硬化後の層を、以下において「液晶樹脂層」ということがある。
【０１０１】
パターン位相差フィルムは、例えば、液晶層形成用組成物を基材に塗布して未硬化状態の液晶樹脂層を得て、その液晶樹脂層の一部をある配向状態で硬化させ、他の一部を等方相の配向状態（すなわち、配向していない状態）で硬化させることに製造してもよい。このような製造方法は、基材として長尺の基材フィルムを用いて行うことが可能であり、基材フィルムを搬送方向にラビングすることで、そのラビング方向と平行（遅相軸が搬送方向と平行）に液晶層形成用組成物が配向し、そのためパターン位相差フィルムを長尺のフィルムとして製造できるので、生産効率の点で優れている。
【０１０２】
具体的には、
ｉ．基材フィルムの一方の表面に、エネルギー線を遮光する遮光部と前記エネルギー線を透光する透光部とを有するマスク層を作製する工程と、
ii．前記基材フィルムの前記マスク層とは反対側の表面に、未硬化状態の液晶樹脂層を設ける工程と、
iii．前記基材フィルムの前記マスク層側から、前記遮光部で遮光されるが前記透光部を透光する波長のエネルギー線を照射して、前記液晶樹脂層の一部の領域を硬化させる第一の硬化工程と、
iv．前記液晶樹脂層の未硬化状態の領域における配向状態を変化させる工程と、
ｖ．前記基材フィルムの前記マスク層とは反対側からエネルギー線を照射して前記液晶樹脂層の未硬化状態の領域を硬化させる第二の硬化工程と
を有する製造方法により製造してもよい。
【０１０３】
これらのようにして製造されたパターン位相差フィルムは、通常は基材フィルム及びマスク層を剥がした後で使用される。ただし、適宜、基材フィルム及びマスク層は、剥がさずに使用してもよい。例えば、基材フィルムとして位相差フィルムを用いてもよい。
【０１０４】
上記のパターン位相差フィルムの製造方法において、基材フィルムの材料としては、未硬化状態の液晶樹脂層を硬化させる工程において液晶樹脂層が硬化できる程度に紫外線等のエネルギー線を透過させられる材料を用いうる。通常は、１ｍｍ厚で全光線透過率（ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１９９７に準拠して、濁度計（日本電色工業社製、ＮＤＨ−３００Ａ）を用いて測定）が８０％以上である材料が好適である。
【０１０５】
基材フィルムの材料の例を挙げると、位相差フィルム、右眼用位相差フィルム及び左眼用位相差フィルムの材料として挙げた樹脂などが挙げられる。これらの材料は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【０１０６】
基材フィルムの厚みは、製造時のハンドリング性、材料のコスト、薄型化及び軽量化の観点から、好ましくは３０μｍ以上、より好ましくは６０μｍ以上であり、好ましくは３００μｍ以下、より好ましくは２００μｍ以下である。
【０１０７】
基材フィルムは、延伸されていない未延伸フィルムであってもよく、延伸された延伸フィルムであってもよい。また、等方なフィルムであっても、異方性を有するフィルムであってもよい。
【０１０８】
基材フィルムは、一層のみからなる単層構造のフィルムであってもよく、二層以上の層からなる複層構造のフィルムであってもよい。通常は、生産性及びコストの観点から、単層構造のフィルムを用いる。
【０１０９】
基材フィルムは、その片面又は両面に表面処理が施されたものであってもよい。表面処理を施すことにより、基材フィルムの表面に直接形成される他の層との密着性を向上させることができる。表面処理としては、例えば、エネルギー線照射処理や薬品処理などが挙げられる。また、基材フィルムの液晶層形成用組成物を塗布する面に配向膜を有していてもよい。
【０１１０】
マスク層の材料としては、エネルギー線、特に紫外線を遮光することができ、且つパターンの形成が容易なマスク用組成物を適宜選択して用いてもよい。
【０１１１】
通常、マスク用組成物としては、樹脂を用いる。前記の樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロースエステル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ウレタンアクリレート硬化樹脂、エポキシアクリレート硬化樹脂およびポリエステルアクリレート硬化樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種類の樹脂が好ましい。これらの樹脂を含むことにより、紫外線を遮光する材料を高温環境下においても保持し、安定した遮光部を作製することができる。前記の樹脂は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【０１１２】
マスク用組成物に含まれる樹脂のガラス転移温度は、通常８０℃以上、好ましくは１００℃以上であり、通常４００℃以下、好ましくは３５０℃以下である。ガラス転移温度を８０℃以上にすることによりマスク層の耐熱性を高めることができ、例えば液晶樹脂層の加熱時にマスク層が変形することを防止できる。また、ガラス転移温度を４００℃以下にすることにより、樹脂の溶解性を高めてマスク用組成物の印刷を簡単にできる。印刷前の状態とマスク層を形成した後の状態とで樹脂のガラス転移温度が変化する場合には、マスク層を形成した後の状態においてガラス転移温度が前記の範囲に収まることが好ましい。
【０１１３】
マスク用組成物は、紫外線吸収剤を含むことが好ましい。これによりマスク層の遮光部が紫外線吸収剤を含むことになり、遮光部において紫外線を安定して遮光することができるようになる。紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤およびトリアジン系紫外線吸収剤からなる群より選ばれる少なくとも１種類の紫外線吸収剤を用いることが好ましい。紫外線吸収剤は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。紫外線吸収剤の使用量は、マスク層中のモノマー、オリゴマー及びポリマー１００重量部に対して、通常５重量部以上、好ましくは８重量部以上、より好ましくは１０重量部以上であり、通常２０重量部以下、好ましくは１８重量部以下、より好ましくは１５重量部以下である。
【０１１４】
マスク用組成物は、さらに、着色剤、金属粒子、溶媒、光重合開始剤、架橋剤、その他の成分を含んでいてもよい。
【０１１５】
マスク用組成物を用いてマスク層を形成する方法としては、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、オフセット印刷法、ロータリースクリーン印刷法、グラビアオフセット印刷法、インクジェット印刷法、又はこれらの組み合わせである印刷法を好ましく挙げることができる。透光部と遮光部は、例えば、マスク層の厚さが薄い層と厚い層とを形成することにより設けてもよい。
【０１１６】
液晶層形成用組成物としては、液晶化合物を含む組成物を用いうる。前記の液晶化合物としては、例えば、重合性基を有する液晶化合物、側鎖型液晶ポリマー化合物などが挙げられる。また、液晶化合物は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。中でも、パターン位相差フィルムの第一領域が前記の式（Ａ）及び式（Ｂ）を満たすようにするには、液晶化合物として、後述する式（Ｉ）で表される重合性化合物が好ましい。
【０１１７】
液晶層形成用組成物における液晶化合物の屈折率異方性Δｎは、好ましくは０．０５以上、より好ましくは０．１０以上であり、好ましくは０．３０以下、より好ましくは０．２５以下である。屈折率異方性Δｎが０．０５未満では所望の光学的機能を得るために液晶樹脂層の厚さが厚くなって配向均一性が低下する可能性があり、また経済コスト的にも不利である。屈折率異方性Δｎが０．３０より大きいと所望の光学的機能を得るために液晶樹脂層の厚さが薄くなり、厚さ精度に対して不利である。また、Δｎが０．３０より大きい場合、液晶樹脂層の紫外線吸収スペクトルの長波長側の吸収端が可視域に及ぶ場合がありえるが、該スペクトルの吸収端が可視域に及んでも所望する光学的性能に悪影響を及ぼさない限り、使用可能である。液晶層形成用組成物が液晶化合物を１種類だけ含む場合には、当該液晶化合物の屈折率異方性を、そのまま液晶層形成用組成物における液晶化合物の屈折率異方性とする。また、液晶層形成用組成物が液晶化合物を２種類以上含む場合には、各液晶化合物それぞれの屈折率異方性Δｎの値と各液晶化合物の含有比率とから求めた屈折率異方性Δｎの値を、液晶層形成用組成物における液晶化合物の屈折率異方性とする。屈折率異方性Δｎの値は、セナルモン法により測定しうる。
【０１１８】
さらに、液晶層形成用組成物は、製造方法や最終的な性能に対して適正な物性を付与するために、液晶化合物以外にその他の成分を含んでいてもよい。その他の成分の例を挙げると、有機溶媒、界面活性剤、キラル剤、重合開始剤、紫外線吸収剤、架橋剤、酸化防止剤などが挙げられる。これらの成分は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【０１１９】
有機溶媒のうち好適な例を挙げると、ケトン類、アルキルハライド類、アミド類、スルホキシド類、ヘテロ環化合物、炭化水素類、エステル類、およびエーテル類等が挙げられる。これらの中でも、環状ケトン類、環状エーテル類が、液晶化合物を溶解させやすいために好ましい。環状ケトン溶媒としては、例えば、シクロプロパノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等が挙げられ、中でもシクロペンタノンが好ましい。環状エーテル溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン等が挙げられ、中でも１，３−ジオキソランが好ましい。溶媒は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよく、液晶層形成用組成物としての相溶性や粘性、表面張力の観点などから最適化されることが好ましい。
有機溶媒の含有割合は、有機溶媒以外の固形分全量に対する割合として、通常は３０重量％以上９５重量％以下である。
【０１２０】
界面活性剤としては、配向を阻害しないものを適宜選択して使用することが好ましい。好ましい界面活性剤の例を挙げると、疎水基部分にシロキサン及びフッ化アルキル基等を含有するノニオン系界面活性剤などが挙げられる。中でも、１分子中に２個以上の疎水基部分を持つオリゴマーが特に好適である。これらの界面活性剤の例を製品名で挙げると、ＯＭＮＯＶＡ社ＰｏｌｙＦｏｘのＰＦ−１５１Ｎ、ＰＦ−６３６、ＰＦ−６３２０、ＰＦ−６５６、ＰＦ−６５２０、ＰＦ−３３２０、ＰＦ−６５１、ＰＦ−６５２；ネオス社フタージェントのＦＴＸ−２０９Ｆ、ＦＴＸ−２０８Ｇ、ＦＴＸ−２０４Ｄ；セイミケミカル社サーフロンのＫＨ−４０等が挙げられる。界面活性剤は、１種類を用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【０１２１】
界面活性剤の配合割合は、液晶層形成用組成物を硬化して得られる液晶樹脂層中における界面活性剤の濃度が０．０５重量％以上３重量％以下となるようにすることが好ましい。界面活性剤の配合割合が０．０５重量％より少ないと空気界面における配向規制力が低下して配向欠陥が生じる可能性がある。逆に３重量％より多い場合には、過剰の界面活性剤が液晶性化合物分子間に入り込み、配向均一性を低下させる可能性がある。
【０１２２】
キラル剤は、重合性化合物であってもよく、非重合性化合物であってもよい。キラル剤としては、通常、分子内にキラルな炭素原子を有し、液晶化合物の配向を乱さない化合物を使用する。キラル剤の例を挙げると、重合性のキラル剤としてはＢＡＳＦ社製「ＬＣ７５６」等が挙げられる。また、例えば、特開平１１−１９３２８７号公報、特開２００３−１３７８８７号公報などに記載されているものも挙げられる。キラル剤は、１種類を用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。キラル剤は、通常、ツイステッドネマチック相を有する領域を形成する場合に、重合性を有する液晶化合物と併用して用いられる。
【０１２３】
重合開始剤は、例えば熱重合開始剤を用いてもよいが、通常は光重合開始剤を用いる。光重合開始剤としては、例えば、紫外線又は可視光線によってラジカル又は酸を発生させる化合物を使用しうる。光重合開始剤の例を挙げると、ベンゾイン、ベンジルメチルケタール、ベンゾフェノン、ビアセチル、アセトフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンジルイソブチルエーテル、テトラメチルチウラムモノ（ジ）スルフィド、２，２−アゾビスイソブチロニトリル、２，２−アゾビス−２，４−ジメチルバレロニトリル、ベンゾイルパーオキサイド、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキサイド、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、メチルベンゾイルフォーメート、２，２−ジエトキシアセトフェノン、β−アイオノン、β−ブロモスチレン、ジアゾアミノベンゼン、α−アミルシンナックアルデヒド、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、２−クロロベンゾフェノン、ｐｐ′−ジクロロベンゾフェノン、ｐｐ′−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインｎ−プロピルエーテル、ベンゾインｎ−ブチルエーテル、ジフェニルスルフィド、ビス（２，６−メトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニル−フォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、アントラセンベンゾフェノン、α−クロロアントラキノン、ジフェニルジスルフィド、ヘキサクロルブタジエン、ペンタクロルブタジエン、オクタクロロブテン、１−クロルメチルナフタリン、１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−２−（ｏ−ベンゾイルオキシム）］や１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］エタノン１−（ｏ−アセチルオキシム）などのカルバゾールオキシム化合物、（４−メチルフェニル）［４−（２−メチルプロピル）フェニル］ヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、３−メチル−２−ブチニルテトラメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニル−（ｐ−フェニルチオフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート等が挙げられる。重合開始剤は、１種類を用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。さらに、必要に応じて液晶層形成用組成物に、例えば三級アミン化合物等の光増感剤又は重合促進剤を含ませて、液晶層形成用組成物の硬化性を調整してもよい。光重合効率を向上させるためには、液晶化合物及び光重合開始剤などの平均モル吸光係数を適切に選定することが好ましい。
【０１２４】
紫外線吸収剤としては、例えば、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルベンゾエート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロネート、４−（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ）−１−（２−（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ）エチル）−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンなどのヒンダードアミン系紫外線吸収剤；２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾールなどのベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤；２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエートなどのベンゾエート系紫外線吸収剤；ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、アクリロニトリル系；などが挙げられる。これらの紫外線吸収剤は、所望する耐光性を付与するために、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【０１２５】
紫外線吸収剤の配合割合は、液晶化合物１００重量部に対して、通常０．００１重量部以上、好ましくは０．０１重量部以上であり、通常５重量部以下、好ましくは１重量部以下である。紫外線吸収剤の配合割合が、０．００１重量部未満の場合には紫外線吸収能が不十分となり所望する耐光性を得られない可能性があり、５重量部より多い場合には液晶層形成用組成物を紫外線等の活性エネルギー線で硬化させる際に硬化が不十分となり、液晶樹脂層の機械的強度が低くなったり耐熱性が低くなったりする可能性がある。
【０１２６】
液晶層形成用組成物には、所望する機械的強度に応じて架橋剤を含ませてもよい。架橋剤の例としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、２−（２−ビニロキシエトキシ）エチルアクリレート等の多官能アクリレート化合物；グリシジル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル等のエポキシ化合物；２，２−ビスヒドロキシメチルブタノール−トリス［３−（１−アジリジニル）プロピオネート］、４，４−ビス（エチレンイミノカルボニルアミノ）ジフェニルメタン、トリメチロールプロパン−トリ−β−アジリジニルプロピオネート等のアジリジン化合物；ヘキサメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネートから誘導されるイソシアヌレート型イソシアネート、ビウレット型イソシアネート、アダクト型イソシアネート等のイソシアネート化合物；オキサゾリン基を側鎖に有するポリオキサゾリン化合物；ビニルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチリデン）−３−（トリエトキシシリル）−１−プロパンアミン等のアルコキシシラン化合物；などが挙げられる。架橋剤は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。また、液晶層形成用組成物には架橋剤の反応性に応じて公知の触媒を含ませ、膜強度や耐久性向上に加えて生産性を向上させるようにしてもよい。
【０１２７】
前記架橋剤の配合割合は、硬化後の液晶樹脂層中における架橋剤の濃度が０．１重量％以上２０重量％以下となるようにすることが好ましい。架橋剤の配合割合が０．１重量％より少ないと架橋密度向上の効果が得られない可能性があり、逆に２０重量％より多いと硬化後の液晶樹脂層の安定性を低下させる可能性がある。
【０１２８】
酸化防止剤としては、例えば、テトラキス（メチレン−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート）メタン等のフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、チオエーテル系酸化防止剤などが挙げられる。酸化防止剤は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。酸化防止剤の配合量は、粘着層の透明性や粘着力が低下しない範囲としうる。
【０１２９】
未硬化状態の液晶樹脂層を設ける場合、通常は、塗布法を用いる。液晶層形成用組成物の塗布方法としては、例えば、リバースグラビアコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、ダイコーティング法、バーコーティング法等の方法が挙げられる。液晶層形成用組成物を基材フィルムの表面に塗布することにより、未硬化状態の液晶樹脂層が形成される。
【０１３０】
液晶層形成用組成物は、基材フィルムの表面に直接に塗布してもよいが、基材フィルムの表面に例えば配向膜等を介して間接的に塗布してもよい。配向膜を用いれば、液晶樹脂層において液晶化合物を容易に配向させることができる。
【０１３１】
配向膜は、例えば、セルロース、シランカップリング剤、ポリイミド、ポリアミド、ポリビニルアルコール、エポキシアクリレート、シラノールオリゴマー、ポリアクリロニトリル、フェノール樹脂、ポリオキサゾール、環化ポリイソプレンなどを用いて形成してもよい。これらは１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【０１３２】
配向膜の厚みは、所望する液晶樹脂層の配向均一性が得られる厚みであればよく、好ましくは０．００１μｍ以上、より好ましくは０．０１μｍ以上であり、好ましくは５μｍ以下、より好ましくは２μｍ以下である。さらに、例えば、特開平６−２８９３７４号公報、特表２００２−５０７７８２号公報、特許４０２２９８５号公報、特許４２６７０８０号公報、特許４６４７７８２号公報、米国特許５３８９６９８号明細書などに示されるような光配向膜と偏光ＵＶを用いる方法によって、液晶化合物を配向させるようにしてもよい。
【０１３３】
また、上述した配向膜以外の手段によって、液晶化合物を配向させるようにしてもよい。例えば、配向膜を使用せずに基材フィルムの表面を直接ラビングするような配向処理を施してもよい。通常、基材フィルムの搬送方向とラビング方向は平行になる。
前記の配向膜の形成、基材フィルムの表面のラビング等の処理工程は、マスク層形成工程の工程前、工程中及び工程後のいずれの時点で行ってもよいが、未硬化状態の液晶樹脂層を設ける工程の前に行うことが好ましい。
【０１３４】
パターン位相差フィルムの製造方法においては、第一の硬化工程に先立ち、必要に応じて、未硬化状態の液晶樹脂層を設ける工程を行った後で、液晶樹脂層の液晶化合物を配向させる配向工程を行ってもよい。配向工程における具体的な操作としては、例えば、オーブン内で未硬化状態の液晶樹脂層を所定の温度に加熱する操作を挙げることができる。
【０１３５】
配向工程において液晶樹脂層を加熱する温度は、通常４０℃以上、好ましくは５０℃以上であり、通常２００℃以下、好ましくは１４０℃以下である。また、加熱処理における処理時間は、通常１秒以上、好ましくは５秒以上であり、通常３分以下、好ましくは１２０秒以下である。これにより、液晶樹脂層中の液晶化合物が配向しうる。また、液晶層形成用組成物に溶媒が含まれていた場合、前記の加熱によって通常は溶媒が乾燥するので、液晶樹脂層から溶媒が除去される。したがって、配向工程を行うと、通常は液晶樹脂層を乾燥させる乾燥工程も同時に進行する。通常、液晶樹脂層の配向軸はラビング方向と平行となり、配向軸が遅相軸となる。
【０１３６】
必要に応じて配向工程を行った後で、液晶樹脂層の一部の領域を硬化させる第一の硬化工程を行う。第一の硬化工程は、通常、紫外線の照射により行う。紫外線の照射時間、照射量、及びその他の条件は、液晶層形成用組成物の組成及び液晶樹脂層の厚みなどに応じて適切に設定しうる。照射時間は通常０．０１秒から３分の範囲であり、照射量は通常０．０１ｍＪ／ｃｍ２から５０ｍＪ／ｃｍ２の範囲である。また、紫外線の照射は、例えば窒素及びアルゴン等の不活性ガス中において行ってもよく、空気中で行ってもよい。
【０１３７】
第一の硬化工程の後で、液晶樹脂層の未硬化状態の領域における配向状態を変化させる工程を行う。この工程において、配向状態を変化させる方法としては、例えば、ヒーターにより、液晶樹脂層を、液晶層形成用組成物の透明点（ＮＩ点）以上に加熱してもよい。これにより、液晶化合物分子の配向はランダムになるので、液晶樹脂層の未硬化状態の領域は等方相となる。
【０１３８】
液晶樹脂層の未硬化状態の領域における配向状態を変化させた後で、第二の硬化工程を行う。第二の硬化工程は、紫外線の照射により行ってもよい。紫外線の照射時間、照射量などは、液晶層形成用組成物の組成及び液晶樹脂層の厚みなどに応じて適切に設定しうるが、照射量は通常５０ｍＪ／ｃｍ２から１０，０００ｍＪ／ｃｍ２の範囲である。また、紫外線の照射は、例えば窒素及びアルゴン等の不活性ガス中において行ってもよく、空気中で行ってもよい。照射に際して、必要に応じてヒーターによる加熱を継続して、未硬化状態の液晶樹脂層の等方相を維持した状態で照射を行ってもよい。
【０１３９】
さらに、別の製造方法として、パターン位相差フィルムは、
ｉ．基材フィルムの一方の表面に、未硬化状態の液晶樹脂層を設ける工程と、
ii．前記基材フィルムの液晶樹脂層を設けた面と反対側の表面に、ストライプパターンの透光部および遮光部をガラス上に設けたガラスマスクを介して、エネルギー線を照射して、前記液晶樹脂層の一部の領域を硬化させる第一の硬化工程と、
iii．前記液晶樹脂層の未硬化状態の領域における配向状態を変化させる工程と、
iv．前記基材フィルムの液晶樹脂層を設けた面にエネルギー線を照射して前記液晶樹脂層の未硬化状態の領域を硬化させる第２の硬化工程と
を有する製造方法により製造してよい。この製造方法においては、先に説明した製造方法と同様の操作は、先に説明した製造方法と同様の条件で行ってもよい。
【０１４０】
また、第一の硬化工程としては、特開平４−２９９３３２号公報に示した方法を使用してもよい。また、ガラスマスクは、例えば、ガラス表面にクロムスパッタを施し、さらにフォトレジストを塗布し、ストライプ状に露光してフォトレジストを感光させて、洗浄し、クロムをエッチングしたものを用いてもよい。あるいは、例えば感光性乳剤を塗布したＰＥＴフィルムをストライプ状にレーザー描画し、洗浄し、該ＰＥＴフィルムをガラス上に接着層を介して貼り合わせたものを用いてもよい。
さらに、上述した各製造方法では、パターン位相差フィルムが得られる限り、各工程の順番は任意である。
【０１４１】
上述した製造方法によれば、いずれも、遮光部及び透光部により形成されるマスク層又はガラスマスクのマスクパターンを精度よく写し取ったパターンを有するパターン位相差フィルムが製造できる。さらに、当該方法により得られたパターン位相差フィルムにおいては、位相差Ｒｅを有する第一領域と位相差Ｒｅを有さない第二領域との間には、物質的な連続性がある。したがって、領域間の空隙による反射及び散乱等を生じない点で光学的に有利であり、また、領域間の空隙を起点とした破損等を生じない点で機械的強度の点でも有利である。
【０１４２】
パターン位相差フィルムとしての液晶樹脂層の厚みは、液晶層形成用組成物における液晶化合物の屈折率異方性Δｎの値に応じて、第一領域及び第二領域それぞれで所望の位相差Ｒｅが得られるように適切な厚みに設定しうる。通常は、液晶樹脂層の厚みは、０．５μｍ以上５０μｍ以下の範囲である。
【０１４３】
〔５−４．液晶セル〕
液晶セルとしては、任意の表示モードの液晶セルを用いてもよい。例えばＶＡモード、ＴＮモード、スーパーツイステッドネマチック（ＳＴＮ）モード、ハイブリッドアラインメントネマチック（ＨＡＮ）モード、マルチドメインバーティカルアラインメント（ＭＶＡ）モード、インプレーンスイッチング（ＩＰＳ）モード、オプティカリーコンペンセイテッドバイリフジエンス（ＯＣＢ）モードなどの表示モードによるものとしてもよい。
【０１４４】
[６．パターン位相差フィルム層の好適な材料に関する説明]
〔６−１．式（Ｉ）で表される重合性化合物〕
【０１４５】
【化１】
2013003212.tif 000002
【０１４６】
式（Ｉ）において、Ｙ１〜Ｙ６は、それぞれ独立して、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ１−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１−、−ＮＲ１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ１−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１−、−Ｏ−ＮＲ１−、又は、−ＮＲ１−Ｏ−を表す。
ここで、Ｒ１は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
【０１４７】
Ｒ１の炭素数１〜６のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−へキシル基等が挙げられる。中でも、Ｒ１としては、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基が好ましい。
【０１４８】
これらの中でも、Ｙ１〜Ｙ６は、それぞれ独立して、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、又は、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−であるのが好ましい。
【０１４９】
式（Ｉ）において、Ｇ１及びＧ２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の２価の脂肪族基を表す。
炭素数１〜２０の２価の脂肪族基としては、例えば、鎖状構造を有する脂肪族基；飽和環状炭化水素（シクロアルカン）構造、不飽和環状炭化水素（シクロアルケン）構造等の脂環式構造を有する脂肪族基；等が挙げられる。
【０１５０】
その置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−へキシルオキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；等が挙げられる。これらの中でも、フッ素原子、メトキシ基、エトキシ基が好ましい。なお、置換基の数は１個でもよく、２個以上でもよい。また、置換基の種類も、１種類でもよく、２種類以上でもよい。
【０１５１】
また、該脂肪族基には、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ２−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ２−、−ＮＲ２−、又は−Ｃ（＝Ｏ）−が介在していてもよい。ただし、−Ｏ−又は−Ｓ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除く。これらの中でも、−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、又は、−Ｃ（＝Ｏ）−が好ましい。
【０１５２】
ここで、Ｒ２は、前記Ｒ１と同様の、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表し、水素原子又はメチル基であることが好ましい。
【０１５３】
これらの基が介在する脂肪族基の具体例としては、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓ−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−ＮＲ２−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＮＲ２−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ２−等が挙げられる。
【０１５４】
これらの中でも、式（Ｉ）で表される重合性化合物の利点を良好に発現させる観点から、Ｇ１及びＧ２としては、それぞれ独立して、炭素数１〜２０のアルキレン基、炭素数２〜２０のアルケニレン基等の鎖状構造を有する脂肪族基が好ましく、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基等の、炭素数１〜１２のアルキレン基がより好ましく、テトラメチレン基〔−（ＣＨ２）４−〕、及び、ヘキサメチレン基〔−（ＣＨ２）６−〕が特に好ましい。
【０１５５】
式（Ｉ）において、Ｚ１及びＺ２は、それぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数２〜１０のアルケニル基を表す。
該アルケニル基の炭素数としては、２〜６が好ましい。
Ｚ１及びＺ２のアルケニル基の置換基であるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられ、塩素原子が好ましい。
【０１５６】
Ｚ１及びＺ２の炭素数２〜１０のアルケニル基の具体例としては、ＣＨ２＝ＣＨ−、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−、ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２−、ＣＨ３−ＣＨ＝ＣＨ−、ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２−ＣＨ２−、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＨ２−ＣＨ２−、（ＣＨ３）２Ｃ＝ＣＨ−ＣＨ２−、（ＣＨ３）２Ｃ＝ＣＨ−ＣＨ２−ＣＨ２−、ＣＨ２＝Ｃ（Ｃｌ）−、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、ＣＨ３−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ２−等が挙げられる。
【０１５７】
なかでも、Ｚ１及びＺ２としては、式（Ｉ）で表される重合性化合物の利点を良好に発現させる観点から、それぞれ独立して、ＣＨ２＝ＣＨ２−、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−、ＣＨ２＝Ｃ（Ｃｌ）−、ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２−、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、又は、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＨ２−ＣＨ２−であるのが好ましく、ＣＨ２＝ＣＨ２−、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−、又は、ＣＨ２＝Ｃ（Ｃｌ）−であるのがより好ましく、ＣＨ２＝ＣＨ２−であるのが更に好ましい。
【０１５８】
式（Ｉ）において、Ａｘは、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。ここで「芳香環」とは、Ｈｕｃｋｅｌ則に従う広義の芳香族性を有する環状構造を意味し、すなわち、π電子を（４ｎ＋２）個有する環状共役構造及びチオフェン、フラン等に代表される硫黄、酸素等のヘテロ原子の孤立電子対がπ電子系に関与して芳香族性を示すものを意味する。
【０１５９】
Ａｘの、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基は、芳香環を複数個有するものであってもよく、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環を有するものであってもよい。
【０１６０】
前記芳香族炭化水素環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環等が挙げられる。前記芳香族複素環としては、例えば、ピロール環、フラン環、チオフェン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環等が挙げられる。
【０１６１】
Ａｘが有する芳香環は、置換基を有していてもよい。かかる置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基；ビニル基、アリル基等の炭素数２〜６のアルケニル基；トリフルオロメチル基等の炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基；置換アミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロピル基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等のアリール基；−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ基；−ＳＯ２Ｒ基；等が挙げられる。ここでＲは、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数６〜１４のアリール基を表す。
【０１６２】
また、Ａｘが有する芳香環は、同一又は相異なる置換基を複数有していてもよく、隣り合った二つの置換基が一緒になって結合して環を形成していてもよい。形成される環は単環であっても、縮合多環であってもよい。
なお、Ａｘの炭素数２〜３０の有機基の「炭素数」は、置換基の炭素原子を含まない有機基全体の総炭素数を意味する。これは、後述するＡｙにて同じである。
【０１６３】
Ａｘの、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基としては、例えば、芳香族炭化水素環基；芳香族複素環基；芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数３〜３０のアルキル基；芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数４〜３０のアルケニル基；芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数４〜３０のアルキニル基；等が挙げられる。
【０１６４】
式（Ｉ）において、Ａｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。
【０１６５】
Ａｙの、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基の、炭素数１〜６のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−へキシル基等が挙げられる。
【０１６６】
前記置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基の置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；ジメチルアミノ基等の置換アミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロピル基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等のアリール基；−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ基；−ＳＯ２Ｒ基；等が挙げられる。ここでＲは前記と同じ意味を表す。
【０１６７】
Ａｙの、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基としては、前記Ａｘで例示したのと同様のものが挙げられる。
また、Ａｙが有する芳香環は、任意の位置に置換基を有していてもよい。かかる置換基としては、前記Ａｘが有する芳香環の置換基として列記したものと同様のものが挙げられる。
【０１６８】
Ａｘ、Ａｙが有する芳香環の具体例を以下に示す。但し、Ａｘ、Ａｙが有する芳香環は以下に示すものに限定されるものではない。なお、下記化学式中、［−］は芳香環の結合手を示す。
【０１６９】
【化２】
2013003212.tif 000003
【０１７０】
【化３】
2013003212.tif 000004
【０１７１】
【化４】
2013003212.tif 000005
【０１７２】
上記式中、Ｅは、ＮＲ３、酸素原子又は硫黄原子を表す。ここで、Ｒ３は、水素原子；又は、メチル基、エチル基等の炭素数１〜６のアルキル基；を表す。
【０１７３】
【化５】
2013003212.tif 000006
【０１７４】
上記式中、Ｘ、Ｙ、Ｚは、それぞれ独立して、ＮＲ３、酸素原子、硫黄原子、−ＳＯ−又は、−ＳＯ２−を表す（ただし、酸素原子、硫黄原子、−ＳＯ−、−ＳＯ２−が、それぞれ隣接する場合を除く。）。Ｒ３は前記と同じ意味を表す。
【０１７５】
上記した芳香環の中でも、下記の芳香環が好ましい。
【０１７６】
【化６】
2013003212.tif 000007
【０１７７】
また、ＡｘとＡｙは一緒になって、環を形成していてもよい。その中でも、置換基を有していてもよい炭素数４〜３０の不飽和複素環、又は、炭素数６〜３０の不飽和炭素環を形成していることが好ましい。
炭素数４〜３０の不飽和複素環、炭素数６〜３０の不飽和炭素環としては、特に制約はなく、芳香族性を有していても有していなくてもよい。なかでも、下記に示す環が好ましい。なお、式中には、便宜上、環と窒素原子を結ぶ二重結合を示している（以下にて同じ）。
【０１７８】
【化７】
2013003212.tif 000008
【０１７９】
【化８】
2013003212.tif 000009
【０１８０】
式中、Ｘ、Ｙ、Ｚは、前記と同じ意味を表す。
また、これらの環は置換基を有していてもよい。
置換基としては、例えば、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、ニトロ基、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ基、−ＳＯ２Ｒ基等が挙げられる。ここで、Ｒは前記と同じ意味を表す。
これらの中でも、ＡｘとＡｙが一緒になって形成する環としては、下記に示すものが特に好ましい。
【０１８１】
【化９】
2013003212.tif 000010
【０１８２】
式中、Ｘ及びＹは前記と同じ意味を表し、Ｘ、Ｙは、それぞれ硫黄原子、及び、ＮＲ３（Ｒ３は前記と同じ意味を表す。）であるのが好ましい。
【０１８３】
ＡｘとＡｙに含まれるπ電子の総数は、式（Ｉ）で表される重合性化合物の利点を良好に発現させる観点から、４以上２４以下であるのが好ましい。
【０１８４】
Ａｘ、Ａｙの好ましい組合わせとしては、Ａｘが炭素数４〜３０の芳香族基で、Ａｙが水素原子である組合わせ、及び、ＡｘとＡｙが一緒になって不飽和複素環又は不飽和炭素環を形成しているものが挙げられる。
【０１８５】
式（Ｉ）において、Ａ１は、置換基を有していてもよい三価の芳香族基を表す。三価の芳香族基としては、三価の炭素環式芳香族基であっても、三価の複素環式芳香族基であってもよい。式（Ｉ）で表される重合性化合物の利点を良好に発現させる観点から、三価の炭素環式芳香族基が好ましく、下記式に示す三価のベンゼン環基又は三価のナフタレン環基がより好ましい。なお、下記式においては、結合状態をより明確にすべく、置換基Ｙ１、Ｙ２を便宜上記載している（Ｙ１、Ｙ２は、前記と同じ意味を表す。以下にて同じ。）。
【０１８６】
【化１０】
2013003212.tif 000011
【０１８７】
なかでも、Ａ１としては、下記に示す式（Ａ１１）〜（Ａ１８）で表される基がさらに好ましく、式（Ａ１１）で表される基が特に好ましい。
【０１８８】
【化１１】
2013003212.tif 000012
【０１８９】
Ａ１の、三価の芳香族基が有していてもよい置換基としては、前記ＡＸの芳香族基の置換基として例示したのと同様のものが挙げられる。Ａ１としては、置換基を有さないものが好ましい。
【０１９０】
式（Ｉ）において、Ａ２及びＡ３は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数６〜３０の二価の芳香族基を表す。
Ａ２及びＡ３の芳香族基は単環のものであっても、多環のものであってもよい。
Ａ２及びＡ３の具体例としては、下記のものが挙げられる。
【０１９１】
【化１２】
2013003212.tif 000013
【０１９２】
上記Ａ２、Ａ３の具体例として挙げた有機基は、任意の位置に置換基を有していてもよい。当該置換基としては、例えば、ハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシル基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、ニトロ基、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ４基；等が挙げられる。ここでＲ４は、炭素数１〜６のアルキル基である。これらの中でも、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基が好ましく、ハロゲン原子としてはフッ素原子が、アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基が、アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基が、より好ましい。
【０１９３】
これらの中でも、Ａ２、Ａ３としては、式（Ｉ）で表される重合性化合物の利点を良好に発現させる観点から、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい、下記式（Ａ２１）及び（Ａ２２）で表される基が好ましく、置換基を有していてもよい式（Ａ２１）で表される基がより好ましい。
【０１９４】
【化１３】
2013003212.tif 000014
【０１９５】
式（Ｉ）において、Ｑ１は、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を示す。
置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基としては、前記ＡＸで例示したのと同様のものが挙げられる。
これらの中でも、Ｑ１は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、水素原子がより好ましい。
【０１９６】
式（Ｉ）で表される重合性化合物は、例えば、下記に示す製造方法１又は製造方法２により製造できる。
（製造方法１）
【０１９７】
【化１４】
2013003212.tif 000015
【０１９８】
（式（３）及び式（４）中、Ｙ１〜Ｙ６、Ｇ１、Ｇ２、Ｚ１、Ｚ２、Ａｘ、Ａｙ、Ａ１〜Ａ３、及びＱ１は、前記と同じ意味を表す。）
【０１９９】
すなわち、式（３）で表されるヒドラゾン化合物（ヒドラゾン化合物（３））と、式（４）で表されるカルボニル化合物（カルボニル化合物（４））とを、（ヒドラゾン化合物（３）：カルボニル化合物（４））のモル比で、１：２〜２：１、好ましくは１：１．５〜１．５：１の割合で反応させることにより、高選択的かつ高収率で、目的物とする式（Ｉ）で示される重合性化合物を製造することができる。
【０２００】
この場合、反応系に、例えば（±）−１０−カンファースルホン酸、パラトルエンスルホン酸等の有機酸；塩酸、硫酸等の無機酸；の酸触媒を含ませて反応を行ってもよい。酸触媒を反応系に含ませることにより、反応時間が短縮され、収率が向上する場合がある。酸触媒の量は、カルボニル化合物（４）１モルに対して、通常０．００１モル〜１モルである。また、酸触媒を反応系に混合する時には、酸触媒をそのまま混合してもよく、適切な溶液に溶解させた溶液として混合してもよい。
【０２０１】
この反応に用いる溶媒としては、反応に不活性なものであれば特に限定されない。例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、イソブチルルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、ｎ−ペンチルアルコール、アミルアルコール等のアルコール系溶媒；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル系溶媒；酢酸エチル、酢酸プロピル、プロピオン酸メチル等のエステル系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒；ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン等の脂肪族炭化水素系溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ヘキサメチルリン酸トリアミド等のアミド系溶媒；ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒；及びこれらの２種類以上からなる混合溶媒；等が挙げられる。これらの中でも、アルコール系溶媒、エーテル系溶媒、及びアルコール系溶媒とエーテル系溶媒の混合溶媒が好ましい。これらは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【０２０２】
溶媒の使用量は、特に限定されず、用いる化合物の種類や反応規模等を考慮して適宜定めてもよいが、ヒドラゾン化合物（３）１ｇに対し、通常１ｇ〜１００ｇである。
【０２０３】
反応は、通常、−１０℃から、用いる溶媒の沸点までの温度範囲で円滑に進行する。各反応の反応時間は、反応規模にもよるが、通常、数分から数時間である。
【０２０４】
（製造方法２）
前記式（Ｉ）で示される重合性化合物のうち、前記式（Ｉ）中、式：Ｚ２−Ｙ６−Ｇ２−Ｙ４−Ａ３−Ｙ２−で表される基が、式：Ｚ１−Ｙ５−Ｇ１−Ｙ３−Ａ２−Ｙ１−で表される基と同一であり、Ｙ１が、−Ｙ１１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−で表される基である化合物（Ｉ’）である場合には、以下に示す、工程１及び工程２により製造してもよい。
【０２０５】
【化１５】
2013003212.tif 000016
【０２０６】
（式（３）、式（５）、式（７）、式（８）及び式（Ｉ’）中、Ｙ３、Ｙ５、Ｇ１、Ｚ１、Ａｘ、Ａｙ、Ａ１、Ａ２、Ｑ１は、前記と同じ意味を表す。Ｙ１１は、−Ｙ１１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−がＹ１となる基を表す。Ｙ１は前記と同じ意味を表す。Ｌは、例えば水酸基、ハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基等の脱離基を表す。）
【０２０７】
すなわち、分子内に、式：−Ｃ（＝Ｏ）−Ｑ１で表される基（Ｑ１は前記と同じ意味を表す。）を有する式（５）で表されるジヒドロキシ化合物（ジヒドロキシ化合物（５））と、ヒドラゾン化合物（３）とを反応させて、式（７）で表されるヒドロキシ化合物（７）を得る工程（工程１）を行い、その後、このものと、２倍当量以上の式（８）で表される化合物（化合物（８））とを反応させる工程（工程２）を行うことにより、式（Ｉ’）で表される化合物（化合物（Ｉ’））を得ることができる。
【０２０８】
工程１は、溶媒中、ジヒドロキシ化合物（５）とヒドラゾン化合物（３）とを、（ジヒドロキシ化合物（５）：ヒドラゾン化合物（３））のモル比で、１：１〜１：５、好ましくは１：１〜１：３で反応させて、ヒドロキシ化合物（７）を得る工程である。
【０２０９】
工程１の反応に用いる溶媒としては、反応に不活性なものであれば特に限定されない。用いる溶媒としては、製造方法１で例示したのと同様のものが挙げられる。溶媒の使用量は、特に限定されず、用いる化合物の種類や反応規模等を考慮して適宜定めてもよいが、ヒドラゾン化合物（３）１ｇに対し、通常１ｇ〜１００ｇである。
【０２１０】
工程２は、得られたヒドロキシ化合物（７）を精製した後、あるいは精製することなく、化合物（８）と、（化合物（７）：化合物（８））のモル比で、１：２〜１：４、好ましくは１：２〜１：３の割合で反応させることにより、高選択的かつ高収率で、目的とする化合物（Ｉ’）を製造する工程である。
【０２１１】
工程２においては、化合物（８）が、式（８）中、Ｌが水酸基の化合物（カルボン酸）である場合には、例えば１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩、ジシクロヘキシルカルボジイミド等の脱水縮合剤の存在下に反応させることにより、目的物を得ることができる。脱水縮合剤は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。脱水縮合剤の使用量は、化合物（８）１モルに対し、通常１モル〜３モルである。
【０２１２】
また、化合物（８）が、式（８）中、Ｌがハロゲン原子の化合物（酸ハライド）である場合には、塩基の存在下に反応させることにより、目的物を得ることができる。用いる塩基としては、例えば、トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基；水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基が挙げられる。塩基は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。塩基の使用量は、化合物（８）１モルに対し、通常１モル〜３モルである。
化合物（８）が、式（８）中、Ｌがメタンスルホニルオキシ基、又はｐ−トルエンスルホニルオキシ基である化合物（混合酸無水物）である場合も、Ｌがハロゲン原子の場合と同様である。
【０２１３】
工程２で用いる溶媒としては、例えば、クロロホルム、塩化メチレン等の塩素系溶媒；Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−アセタミド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等のアミド系溶媒；１，４−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル類；ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒；ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−オクタン等の脂肪族炭化水素系溶媒；シクロペンタン、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素系溶媒；などが挙げられる。これらの溶媒は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【０２１４】
溶媒の使用量は、特に限定されず、用いる化合物の種類や反応規模等を考慮して適宜定めてもよいが、ヒドロキシ化合物（７）１ｇに対し、通常１ｇ〜５０ｇである。
【０２１５】
ヒドラゾン化合物（３）は、例えば、次のようにして製造してもよい。
【０２１６】
【化１６】
2013003212.tif 000017
【０２１７】
（式（２）及び式（３）中、Ａｘ及びＡｙは、前記と同じ意味を表す。）
【０２１８】
すなわち、式（２）で表されるカルボニル化合物（カルボニル化合物（２））とヒドラジン（１）とを、適切な溶媒中、（カルボニル化合物（２）：ヒドラジン（１））のモル比で、１：１〜１：２０、好ましくは１：２〜１：１０で反応させて、対応するヒドラゾン化合物（３）を得ることができる。
【０２１９】
ヒドラジンとしては、通常は１水和物を用いる。ヒドラジンは、市販品をそのまま使用してもよい。
【０２２０】
この反応に用いる溶媒としては、反応に不活性なものであれば特に限定されない。例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、イソブチルルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、ｎ−ペンチルアルコール、アミルアルコール等のアルコール系溶媒；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒；ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン等の脂肪族炭化水素系溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ヘキサメチルリン酸トリアミド等のアミド系溶媒；ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒；等が挙げられる。これらの中でも、アルコール系溶媒、エーテル系溶媒、及びアルコール系溶媒とエーテル系溶媒の混合溶媒が好ましい。これらの溶媒は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【０２２１】
溶媒の使用量は、特に限定されず、用いる化合物の種類や反応規模等を考慮して適宜定めてもよいが、ヒドラジン１ｇに対し、通常１ｇ〜１００ｇである。
【０２２２】
反応は、通常、−１０℃から、用いる溶媒の沸点までの温度範囲で円滑に進行する。各反応の反応時間は、反応規模にもよるが、通常、数分から数時間である。
【０２２３】
また、上記方法で用いるヒドロキシ化合物（７）は、例えば、下記に示す方法によっても得てもよい。
【０２２４】
【化１７】
2013003212.tif 000018
【０２２５】
（式（５）、式（７）、式（９）及び式（１０）中、Ａｘ、Ａｙ、Ａ１及びＱは、前記と同じ意味を表す。）
【０２２６】
すなわち、ジヒドロキシ化合物（５）にヒドラジンを反応させて、式（９）で表されるヒドラゾン化合物（ヒドラゾン化合物（９））を得、このものに式（１０）で表されるカルボニル化合物（カルボニル化合物（１０））を反応させることによっても、ヒドロキシ化合物（７）を得ることができる。
【０２２７】
前記カルボニル化合物（４）及び化合物（８）は、典型的には、エーテル結合（−Ｏ−）、エステル結合（−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−）、カーボネート結合（−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−）及びアミド結合（−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−）の形成反応を任意に組み合わせて、所望の構造を有する複数の公知化合物を適宜結合及び修飾することにより製造することができる。
【０２２８】
エーテル結合の形成は、例えば、以下のようにして行ってもよい。
（ｉ）式：Ｄ１−ｈａｌ（ｈａｌはハロゲン原子を表す。以下にて同じ。）で表される化合物と、式：Ｄ２−ＯＭｅｔ（Ｍｅｔはアルカリ金属（主にナトリウム）を表す。以下にて同じ。）で表される化合物とを混合して縮合させる（ウイリアムソン合成）。なお、式中、Ｄ１及びＤ２は任意の有機基を表す（以下にて同じ。）
（ii）式：Ｄ１−ｈａｌで表される化合物と、式：Ｄ２−ＯＨで表される化合物とを、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の塩基の存在下、混合して縮合させる。
（iii）式：Ｄ１−Ｅ（Ｅはエポキシ基を表す。）で表される化合物と、式：Ｄ２−ＯＨで表される化合物とを、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の塩基の存在下、混合して縮合させる。
（iv）式：Ｄ１−ＯＦＮ（ＯＦＮは不飽和結合を有する基を表す。）で表される化合物と、式：Ｄ２−ＯＭｅｔで表される化合物とを、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の塩基存在下、混合して付加反応させる。
（ｖ）式：Ｄ１−ｈａｌで表される化合物と、式：Ｄ２−ＯＭｅｔで表される化合物とを、例えば銅あるいは塩化第一銅の存在下、混合して縮合させる（ウルマン縮合）。
【０２２９】
エステル結合及びアミド結合の形成は、例えば、以下のようにして行ってもよい。
（vi）式：Ｄ１−ＣＯＯＨで表される化合物と、式：Ｄ２−ＯＨ又はＤ２−ＮＨ２で表される化合物とを、脱水縮合剤（Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルカルボジイミド等）の存在下に脱水縮合させる。
（vii）式：Ｄ１−ＣＯＯＨで表される化合物にハロゲン化剤を作用させることにより、式：Ｄ１−ＣＯ−ｈａｌで表される化合物を得、このものと式：Ｄ２−ＯＨ又はＤ２−ＮＨ２で表される化合物とを、塩基の存在下に反応させる。
【０２３０】
（viii）式：Ｄ１−ＣＯＯＨで表される化合物に酸無水物を作用させることにより、混合酸無水物を得た後、このものに、式：Ｄ２−ＯＨ又はＤ２−ＮＨ２で表される化合物を反応させる。
【０２３１】
（ix）式：Ｄ１−ＣＯＯＨで表される化合物と、式：Ｄ２−ＯＨ又はＤ２−ＮＨ２で表される化合物とを、酸触媒あるいは塩基触媒の存在下に脱水縮合させる。
【０２３２】
いずれの反応においても、反応終了後は、有機合成化学における通常の後処理操作を行い、所望により、カラムクロマトグラフィー、再結晶法、蒸留法等の公知の分離精製手段を施すことにより、目的物を単離してもよい。
【０２３３】
目的とする化合物の構造は、ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトル、マススペクトル等の測定、元素分析等により、同定することができる。
【０２３４】
従来の位相差フィルムの材料は、一般に、位相差について波長分散性を有していた。また、逆波長分散性を有する材料の開発もなされていたが、従来の材料は、逆波長分散性が不十分であったり、工業的プロセスにおける加工には適していない高い融点を有しているのでフィルムに塗布することが困難であったり、液晶性を示す温度範囲が極端に狭かったり、工業的プロセスにおいて一般に使用される溶媒への溶解度が低かったり、性能面で多くの課題を有していた。また、従来の逆波長分散性を有する材料は、非常に高価な試薬を用いる合成法を駆使し、多段階で合成されるものであることから、コスト面でも課題を有していた。
【０２３５】
これに対し、式（Ｉ）で表される重合性化合物は、優れた逆波長分散性を有する。したがって、この式（Ｉ）で表される重合性化合物を用いてパターン位相差フィルムを製造すれば、第一領域において、広い波長域で一様の偏光変換が可能となる。
また、式（Ｉ）で表される重合性化合物は、通常、実用的な低い融点を有し、汎用溶媒に対する溶解性に優れ、低コストで製造可能である。したがって、式（Ｉ）で表される重合性化合物を用いれば、広い波長域において一様の偏光変換が可能な、性能面で満足のいく光学フィルムを低コストで製造できる。
【０２３６】
〔６−２．式（Ｉ）で表される重合性化合物を含む重合性組成物〕
式（Ｉ）で表される重合性化合物は、重合開始剤と組み合わせて、重合性組成物として用いてもよい。この重合開始剤は、式（Ｉ）で表される重合性化合物の重合反応をより効率的に行う観点から配合される。上述した液晶層形成用組成物として、式（Ｉ）で表される重合性化合物と重合開始剤とを含む前記の重合性組成物を用いてもよい。
【０２３７】
用いる重合開始剤としては、重合性化合物が有する重合性基の種類に応じて適宜なものを選択して使用すればよい。例えば、重合性基がラジカル重合性であればラジカル重合開始剤を、アニオン重合性の基であればアニオン重合開始剤を、カチオン重合性の基であればカチオン重合開始剤を、それぞれ使用すればよい。ラジカル重合開始剤としては、熱ラジカル発生剤と光ラジカル発生剤のいずれも使用可能であるが、光ラジカル発生剤を使用するのが好適である。
【０２３８】
光ラジカル発生剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル及びベンゾインプロピルエーテル等のベンゾイン；アセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１，１−ジクロロアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−プロパン−１−オン及びＮ，Ｎ−ジメチルアミノアセトフェノン等のアセトフェノン；２−メチルアントラキノン、１−クロロアントラキノン及び２−アミルアントラキノン等のアントラキノン；２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン及び２，４−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン；アセトフェノンジメチルケタール及びベンジルジメチルケタール等のケタール；ベンゾフェノン、メチルベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、４，４−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーズケトン及び４−ベンゾイル−４−メチルジフェニルサルファイド等のベンゾフェノン；２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等が挙げられる。
【０２３９】
光ラジカル発生剤の具体例としては、例えば、チバスペシャリティーケミカルズ社製の商品名Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７、商品名Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４、商品名Ｉｒｇａｃｕｒｅ３６９及び商品名Ｉｒｇａｃｕｒｅ６５１等が挙げられる。
【０２４０】
アニオン重合開始剤としては、例えば、アルキルリチウム化合物；ビフェニル、ナフタレン、ピレン等の、モノリチウム塩又はモノナトリウム塩；ジリチウム塩やトリリチウム塩等の多官能性開始剤；等が挙げられる。
【０２４１】
カチオン重合開始剤としては、例えば、硫酸、リン酸、過塩素酸、トリフルオロメタンスルホン酸等のプロトン酸；三フッ化ホウ素、塩化アルミニウム、四塩化チタン、四塩化スズのようなルイス酸；芳香族オニウム塩又は芳香族オニウム塩と、還元剤との併用系；などが挙げられる。
【０２４２】
これらの重合開始剤は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
重合開始剤の量は、式（Ｉ）で表される重合性化合物１００重量部に対し、通常０．１重量部以上、好ましくは０．５重量部以上であり、通常３０重量部以下、好ましくは１０重量部以下である。
【０２４３】
式（Ｉ）で表される重合性化合物を含む重合性組成物には、表面張力を調整するために、界面活性剤を配合するのが好ましい。当該界面活性剤としては、特に限定はないが、通常、ノニオン系界面活性剤が好ましい。当該ノニオン系界面活性剤としては、市販品を用いればよく、例えば、分子量が数千程度のオリゴマーであるノニオン系界面活性剤、例えば、セイミケミカル社製ＫＨ−４０等が挙げられる。
【０２４４】
界面活性剤は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
界面活性剤の量は、重合性化合物１００重量部に対し、通常０．０１重量部以上、好ましくは０．１重量部以上であり、通常１０重量部以下、好ましくは２重量部以下である。
【０２４５】
式（Ｉ）で表される重合性化合物と重合開始剤とを含む前記の重合性組成物には、さらに、後述の他の共重合可能な単量体、金属、金属錯体、染料、顔料、蛍光材料、燐光材料、レベリング剤、チキソ剤、ゲル化剤、多糖類、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、抗酸化剤、イオン交換樹脂、酸化チタン等の金属酸化物等の、その他の添加剤を配合してもよい。これらの添加剤は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
添加剤の配合割合は、重合性化合物１００重量部に対し、通常、各々０．１重量部〜２０重量部である。
【０２４６】
式（Ｉ）で表される重合性化合物と重合開始剤とを含む前記の重合性組成物は、通常、式（Ｉ）で著される重合性化合物及び重合開始剤、並びに所望により添加剤の所定量を適切な有機溶媒に混合し、溶解させることにより、調製してもよい。
【０２４７】
有機溶媒としては、例えば、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン等のケトン類；酢酸ブチル、酢酸アミル等の酢酸エステル類；クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；１，４−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，３−ジオキソラン等のエーテル類；等が挙げられる。なお、有機溶媒は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【０２４８】
以上のようにして得られる重合性組成物は、後述するように、高分子や光学異方体の製造原料として有用である。
【０２４９】
〔６−３．式（Ｉ）で表される重合性化合物から得られる高分子〕
式（Ｉ）で表される重合性化合物からは、高分子が得られる。この高分子は、式（Ｉ）で表される重合性化合物を重合して得られる高分子、又は、前記の重合性組成物を重合して得られる高分子である。ここで、「重合」とは、通常の重合反応のほか、架橋反応を含む広い意味での化学反応を意味するものとする。
【０２５０】
（１）式（Ｉ）で表される重合性化合物を重合して得られる高分子
式（Ｉ）で表される重合性化合物を重合して得られる高分子としては、式（Ｉ）で表される重合性化合物の単独重合体、式（Ｉ）で表される重合性化合物の２種類以上からなる共重合体、又は、式（Ｉ）で表される重合性化合物と他の共重合可能な単量体との共重合体が挙げられる。
【０２５１】
前記の共重合可能な単量体としては、特に限定されるものではなく、例えば、４−（２−メタクリロイルオキシエチルオキシ）安息香酸−４’−メトキシフェニル、４−（６−メタクリロイルオキシヘキシルオキシ）安息香酸ビフェニル、４−（２−アクリロイルオキシエチルオキシ）安息香酸−４’−シアノビフェニル、４−（２−メタクリロリルオキシエチルオキシ）安息香酸−４’−シアノビフェニル、４−（２−メタクリロリルオキシエチルオキシ）安息香酸−３’，４’−ジフルオロフェニル、４−（２−メタクリロイルオキシエチルオキシ）安息香酸ナフチル、４−アクリロイルオキシ−４’−デシルビフェニル、４−アクリロイルオキシ−４’−シアノビフェニル、４−（２−アクリロイルオキシエチルオキシ）−４’−シアノビフェニル、４−（２−メタクリロイルオキシエチルオキシ）−４’−メトキシビフェニル、４−（２−メタクリロイルオキシエチルオキシ）−４’−（４”−フルオロベンジルオキシ）−ビフェニル、４−アクリロイルオキシ−４’−プロピルシクロヘキシルフェニル、４−メタクリロイル−４’−ブチルビシクロヘキシル、４−アクリロイル−４’−アミルトラン、４−アクリロイル−４’−（３，４−ジフルオロフェニル）ビシクロヘキシル、４−（２−アクリロイルオキシエチル）安息香酸（４−アミルフェニル）、４−（２−アクリロイルオキシエチル）安息香酸（４−（４’−プロピルシクロヘキシル）フェニル）等が挙げられる。なお、これらは１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【０２５２】
式（Ｉ）で表される重合性化合物、及び必要に応じて用いられる共重合可能な単量体等の（共）重合は、適切な重合開始剤の存在下に行うことができる。重合開始剤の使用割合としては、前記重合性組成物中の重合性化合物に対する配合割合と同様にしてもよい。
【０２５３】
前記の高分子が、式（Ｉ）で表される重合性化合物と、共重合可能な単量体との共重合体である場合、式（Ｉ）で表される重合性化合物に由来する繰り返し単位の含有量は、特に限定されるものではないが、全構成単位に対して５０重量％以上が好ましく、７０重量％以上がより好ましい。かかる範囲にあれば、高分子のガラス転移温度（Ｔｇ）が高く、高い膜硬度が得られるため好ましい。
【０２５４】
前記の高分子は、より具体的には、例えば、
（Ａ）適切な重合開始剤の存在下、式（Ｉ）で表される重合性化合物、及び必要に応じて用いられる共重合可能な単量体等との（共）重合を適切な有機溶媒中で行った後、目的とする高分子を単離し、得られる高分子を適切な有機溶媒に溶解して溶液を調製し、この溶液を適切な基板上に塗工して得られた塗膜を乾燥後、所望により加熱することにより得る方法；
（Ｂ）式（Ｉ）で表される重合性化合物、及び必要に応じて用いられる共重合可能な単量体等を重合開始剤と共に有機溶媒に溶解した溶液を、公知の塗工法により基板上に塗布した後、脱溶媒し、次いで加熱又は活性エネルギー線を照射することにより重合反応を行う方法；
などにより好適に製造することができる。
用いる重合開始剤としては、前記重合性組成物の成分として例示したのと同様のものが挙げられる。
【０２５５】
前記（Ａ）の方法で重合反応に用いる有機溶媒としては、不活性なものであれば、特に制限されず、例えば、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素；シクロヘキサノン、シクロペンタノン、メチルエチルケトン等のケトン類；酢酸ブチル、酢酸アミル等の酢酸エステル類；クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン等のエーテル類；等が挙げられる。これらの中でも、取り扱い性に優れる観点から、沸点が６０℃〜２５０℃のものが好ましく、６０℃〜１５０℃のものがより好ましい。
【０２５６】
前記（Ａ）の方法による場合、高分子を溶解するための有機溶媒としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；酢酸ブチル、酢酸アミル等のエステル系溶剤；ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素系溶剤；テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル系溶剤；等が挙げられる。
【０２５７】
前記（Ｂ）の方法で用いる有機溶媒としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；酢酸ブチル、酢酸アミル等のエステル系溶剤；ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素系溶剤；テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、テトラヒドロピラン、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、１，３−ジオキソラン等のエーテル系溶剤；等が挙げられる。これらの中でも、取り扱いが容易な点から、溶媒の沸点が６０℃〜２００℃のものが好ましい。
なお、これらの溶媒は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【０２５８】
用いる基板としては、有機、無機を問わず、公知慣用の材質のものを使用してもよい。例えば、有機材料としてはポリシクロオレフィン〔例えば、ゼオネックス、ゼオノア（登録商標；日本ゼオン社製）、アートン（登録商標；ＪＳＲ社製）、及びアペル（登録商標；三井化学社製）〕、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリテトラフルオロエチレン、セルロース、三酢酸セルロース、ポリエーテルスルホン等が挙げられ、無機材料としてはシリコン、ガラス、方解石等が挙げられ、中でも有機材料が好ましい。
また、用いる基板は、単層のものであっても、積層体であってもよい。
基板としては、有機材料が好ましく、この有機材料をフィルムとした樹脂フィルムが更に好ましい。
【０２５９】
（Ａ）の方法において高分子の溶液を基板に塗布する方法、（Ｂ）の方法において重合反応用の溶液を基板に塗布する方法としては、公知の方法を用いることができ、例えばカーテンコーティング法、押し出しコーティング法、ロールコーティング法、スピンコーティング法、ディップコーティング法、バーコーティング法、スプレーコーティング法、スライドコーティング法、印刷コーティング法等が挙げられる。
【０２６０】
（２）重合性組成物を重合して得られる高分子
式（Ｉ）で表される重合性化合物を含む重合性組成物を重合することにより、高分子を容易に得ることができる。重合反応をより効率的に行う観点から、前記したような重合開始剤、特に光重合開始剤を含む重合性組成物を用いるのが好ましい。
【０２６１】
具体的には、前記（Ｂ）の方法、即ち、重合性組成物を、基板上に塗布し、重合させることによって、高分子を得ることが好適である。用いる基板としては、後述する光学異方体の作製に用いられる基板等が挙げられる。
【０２６２】
重合性組成物を基板上に塗布する方法としては、例えば、バーコーティング、スピンコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、スプレーコーティング、ダイコーティング、キャップコーティング、ディッピング法等の公知慣用のコーティング法が挙げられる。このとき、塗工性を高めるために、重合性組成物に公知慣用の有機溶媒を含ませてもよい。この場合は、重合性組成物を基板上に塗布後、自然乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥、減圧加熱乾燥等で有機溶媒を除去するのが好ましい。
【０２６３】
式（Ｉ）で表される重合性化合物又は重合性組成物を重合させる方法としては、例えば、活性エネルギー線を照射する方法、熱重合法等が挙げられる。中でも、加熱を必要とせず、室温で反応が進行することから活性エネルギー線を照射する方法が好ましい。特に、操作が簡便なことから、紫外線等の光を照射する方法が好ましい。
【０２６４】
照射時の温度は、３０℃以下とすることが好ましい。紫外線照射強度は、通常１Ｗ／ｍ２〜１０ｋＷ／ｍ２の範囲、好ましくは５Ｗ／ｍ２〜２ｋＷ／ｍ２の範囲である。
【０２６５】
式（Ｉ）で表される重合性化合物又は重合性組成物を重合させて得られる高分子は、基板から剥離して単体で使用してもよく、基板から剥離せずにそのまま光学フィルムの有機材料等として使用してもよい。
【０２６６】
以上のようにして得られる高分子の数平均分子量は、好ましくは５００以上、更に好ましくは５，０００以上であり、好ましくは５００，０００以下、更に好ましくは３００，０００以下である。該数平均分子量がかかる範囲にあれば、高い膜硬度が得られ、取り扱い性にも優れるため望ましい。高分子の数平均分子量は、単分散のポリスチレンを標準試料とし、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を溶離液としてゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定することができる。
【０２６７】
この高分子は、架橋点が分子内で均一に存在すると推定され、架橋効率が高く、硬度に優れている。
この高分子によれば、広い波長域において一様の偏光変換が可能な、性能面で満足のいく光学フィルムを低コストで得ることができる。
【０２６８】
〔６−４．式（Ｉ）で表される重合性化合物から得られる光学異方体〕
式（Ｉ）で表される重合性化合物から得られる高分子により、光学異方体を形成してもよい。この光学異方体は、例えば、基板上に配向膜を形成し、該配向膜上に、さらに、前記の高分子からなる液晶層を形成することによって、得ることができる。
【０２６９】
配向膜は、有機半導体化合物を面内で一方向に配向規制するために基板の表面に形成される。配向膜は、例えば、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリエステル、ポリアリレート、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド等のポリマーを含有するものである。配向膜は、このようなポリマーを含有する溶液（配向膜用組成物）を基板上に膜状に塗布し、乾燥させ、そして一方向にラビング処理等することで、得ることができる。
配向膜の厚さは０．００１μｍ〜５μｍであることが好ましく、０．００１μｍ〜１μｍであることがさらに好ましい。
【０２７０】
配向膜あるいは基板には、ラビング処理を施してもよい。ラビング処理の方法は、特に制限されないが、例えば、ナイロン等の合成繊維、木綿等の天然繊維からなる布やフェルトを巻き付けたロールで一定方向に配向膜を擦る方法が挙げられる。ラビング処理した時に発生する微粉末（異物）を除去して配向膜の表面を清浄な状態とするために、ラビング処理後に配向膜をイソプロピルアルコール等によって洗浄することが好ましい。
また、ラビング処理する方法以外に、配向膜の表面に偏光紫外線を照射する方法によっても、配向膜にコレステリック規則性を持つコレステリック液晶層を面内で一方向に配向規制する機能を持たせることができる。
【０２７１】
配向膜上に前記の高分子からなる液晶層を形成する方法としては、前記の高分子の項で記載したのと同様の方法が挙げられる。
【０２７２】
この光学異方体は、前記の高分子を構成材料としているので、低コストで製造可能で、かつ、広い波長域において一様の偏光変換が可能な、性能面でも優れたものである。
光学異方体としては、例えば、位相差板、液晶表示素子用配向膜、偏光板、視野角拡大板、カラーフィルター、ローパスフィルター、光偏光プリズム、各種光フィルター等が挙げられる。
【実施例】
【０２７３】
以下、実施例を示して本発明について具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではなく、本発明の要旨及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施してもよい。また、以下の説明において、量を表す「％」及び「部」は、別に断らない限り重量基準である。また、以下の説明において位相差Ｒｅの測定波長は、別に断らない限り５５０ｎｍである。さらに、以下に説明する操作は、別に断らない限り、常温及び常圧の条件において行った。
【０２７４】
［製造例１；化合物１の合成］
【０２７５】
【化１８】
2013003212.tif 000019
【０２７６】
〈ステップ１：中間体Ａの合成〉
【０２７７】
【化１９】
2013003212.tif 000020
【０２７８】
温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、２，５−ジヒドロキシベンズアルデヒド  ２０ｇ（１４４．８ｍｍｏｌ）、４−（６−アクリロイル−ヘクス−１−イルオキシ）安息香酸（ＤＫＳＨ社製）  １０５．８ｇ（３６２．０ｍｍｏｌ）、４−（ジメチルアミノ）ピリジン  ５．３ｇ（４３．４ｍｍｏｌ）をＮ−メチルピロリドン２００ｍｌに溶解させた。この溶液に、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＷＳＣ）  ８３．３ｇ（４３４．４ｍｍｏｌ）を加え、室温下にて１２時間攪拌した。反応終了後、反応液を水１．５リットルに投入し、酢酸エチル５００ｍｌで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液からロータリーエバポレーターにて酢酸エチルを減圧留去して、淡黄色固体を得た。この淡黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝９：１（体積比））により精製し、白色固体として中間体Ａを７５ｇ得た（収率：７５．４％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
【０２７９】
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：１０．２０（ｓ，１Ｈ）、８．１８−８．１２（ｍ，４Ｈ）、７．７８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．８Ｈｚ）、７．５２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．８Ｈｚ，８．７Ｈｚ）、７．３８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、７．００−６．９６（ｍ，４Ｈ）、６．４０（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，１７．４Ｈｚ）、６．１２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．６Ｈｚ，１７．４Ｈｚ）、５．８２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，１０．６Ｈｚ）、４．１８（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）、４．０８−４．０４（ｍ，４Ｈ）、１．８８−１．８１（ｍ，４Ｈ）、１．７６−１．６９（ｍ，４Ｈ）、１．５８−１．４２（ｍ，８Ｈ）
【０２８０】
〈ステップ２：中間体Ｂの合成〉
【０２８１】
【化２０】
2013003212.tif 000021
【０２８２】
温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、９−フルオレノン  ５ｇ（２７．７ｍｍｏｌ）、ヒドラジン一水和物  １３．９ｇ（２７７．７ｍｍｏｌ）を１−プロパノール５０ｍｌに溶解させ、全容を室温下にて１６時間攪拌した。反応終了後、析出した固体をろ取し、得られた固体を１−プロパノールで洗浄して、風乾することで中間体Ｂを黄色固体として２．２ｇ得た。このものは精製することなく、そのまま次の反応に用いた。
【０２８３】
〈ステップ３：化合物１の合成〉
温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、先のステップ１で合成した中間体Ａ  ３．０ｇ（４．３７ｍｍｏｌ）、先のステップ２で合成した中間体Ｂ  １．１ｇ（５．６８ｍｍｏｌ）を、エタノール８０ｍｌ、及びテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）４０ｍｌの混合溶剤に溶解させた。この溶液に、（±）−１０−カンファースルホン酸  ０．１ｇ（０．４４ｍｍｏｌ）をＴＨＦ３ｍｌに溶解させてゆっくりと加えた。その後、室温下にて２時間反応させた。反応終了後、反応液を飽和重曹水３００ｍｌに投入し、クロロホルム１００ｍｌで２回抽出した。得られたクロロホルム層を飽和食塩水２００ｍｌで洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液からロータリーエバポレーターにてクロロホルムを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝８：２（体積比））により精製し、黄色固体として化合物１を１．８ｇ得た（収率：４７．７％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
【０２８４】
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：８．６５（ｓ，１Ｈ）、８．２９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）、８．２１−８．１６（ｍ，５Ｈ）、７．８２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）、７．６０−７．５７（ｍ，２Ｈ）、７．４３−７．２５（ｍ，６Ｈ）、７．０１−６．９６（ｍ，４Ｈ）、６．４０２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，１７．４Ｈｚ）、６．３９８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，１７．４Ｈｚ）、６．１２２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．４Ｈｚ）、６．１１７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．４Ｈｚ）、５．８２０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、５．８１６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、４．１８（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ）、４．１７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ）、４．０６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）、４．０５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）、１．８７−１．８０（ｍ，４Ｈ）、１．７６−１．６８（ｍ，４Ｈ）、１．５９−１．４２（ｍ，８Ｈ）。
【０２８５】
［製造例２；化合物２の合成］
【０２８６】
【化２１】
2013003212.tif 000022
【０２８７】
〈ステップ１：中間体Ｃの合成〉
【０２８８】
【化２２】
2013003212.tif 000023
【０２８９】
温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、ヒドラジン一水和物  ３．６ｇ（７１．９ｍｍｏｌ）をエタノール３０ｍｌに溶解させた。この溶液に、９−アントラセンカルボキシアルデヒド  ３ｇ（１４．５ｍｍｏｌ）をＴＨＦ３０ｍｌに溶解させた溶液をゆっくり滴下した。その後、室温下にて１時間３０分反応させた。反応終了後、反応液を飽和重曹水２００ｍｌに投入し、クロロホルム１００ｍｌで２回抽出した。得られたクロロホルム層を飽和食塩水２００ｍｌで洗浄し、クロロホルム層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液からロータリーエバポレーターにてクロロホルムを減圧留去して得られた固体を乾燥して、黄色固体として中間体Ｃを２．５ｇ得た。このものは精製することなくそのまま次の反応に用いた。
【０２９０】
〈ステップ２：化合物２の合成〉
温度計を備えた４つ口反応器、窒素気流中、化合物１の合成におけるステップ１で合成した中間体Ａ  ３．０ｇ（４．３７ｍｍｏｌ）、先のステップ１で合成した中間体Ｃ  １．２ｇ（５．２４ｍｍｏｌ）をＴＨＦ３０ｍｌに溶解させた。この溶液に、（±）−１０−カンファースルホン酸０．１ｇ（０．４４ｍｍｏｌ）をＴＨＦ３ｍｌに溶解させた溶液をゆっくりと加えた。その後、室温下にて２時間反応させた。反応終了後、反応液を飽和重曹水３００ｍｌに投入し、酢酸エチル１００ｍｌで２回抽出した。得られた酢酸エチル層を飽和食塩水２００ｍｌで洗浄した後、クロロホルム層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液からロータリーエバポレーターにて酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝９５：５（体積比））により精製し、黄色固体として化合物２を２．１ｇ得た（収率：５４．１％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
【０２９１】
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：９．７４（ｓ，１Ｈ）、８．９５（ｓ，１Ｈ）、８．５７−８．５３（ｍ，３Ｈ）、８．２０−８．１８（ｍ，４Ｈ）、８．１４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．７Ｈｚ）、８．０２−８．００（ｍ，２Ｈ）、７．５６−７．４７（ｍ，４Ｈ）、７．４２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，８．７Ｈｚ）、７．３６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、７．００−６．９６（ｍ，４Ｈ）、６．４０４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，１７．４Ｈｚ）、６．３８４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，１７．４Ｈｚ）、６．１２６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１７．４Ｈｚ）、６．１００（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１７．４Ｈｚ）、５．８２４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，８．７Ｈｚ）、５．７９８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，８．７Ｈｚ）、４．１８（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）、４．１６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）、４．０７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）、４．０２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）、１．８９−１．７８（ｍ，４Ｈ）、１．７７−１．６６（ｍ，４Ｈ）、１．５８−１．４４（ｍ，８Ｈ）
【０２９２】
［製造例３；化合物３の合成］
【０２９３】
【化２３】
2013003212.tif 000024
【０２９４】
〈ステップ１：中間体Ｄの合成〉
【０２９５】
【化２４】
2013003212.tif 000025
【０２９６】
温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、ヒドラジン一水和物  ４．８ｇ（９５．９ｍｍｏｌ）をエタノール２５ｍｌに溶解させた。この溶液に、２−ナフトアルデヒド  ３ｇ（１９．２ｍｍｏｌ）をＴＨＦ２５ｍｌに溶解させた溶液をゆっくり滴下した。その後、室温下にて２時間反応させた。反応終了後、反応液を飽和重曹水２００ｍｌに投入して固体を析出させた。析出した固体を吸引ろ過によりろ取した。得られた固体を水洗した後、風乾して、黄色固体として中間体Ｄを２．５ｇ得た（収率：７６．５％）。このものは精製することなく、そのまま次の反応に用いた。
【０２９７】
〈ステップ２：化合物３の合成〉
温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、化合物１合成におけるステップ１で合成した中間体Ａ  ３．０ｇ（４．３７ｍｍｏｌ）、先のステップ１で合成した中間体Ｄ  ０．８９ｇ（５．２４ｍｍｏｌ）を、ＴＨＦ３０ｍｌ、及びエタノール１０ｍｌの混合溶剤に溶解させた。この溶液に、（±）−１０−カンファースルホン酸０．１ｇ（０．４４ｍｍｏｌ）をＴＨＦ３ｍｌに溶解させた溶液をゆっくりと加えた。その後、室温下にて２時間反応させた。反応終了後、反応液を飽和重曹水２００ｍｌに投入し、酢酸エチル１００ｍｌで２回抽出した。得られた酢酸エチル層を飽和食塩水２００ｍｌで洗浄した後、酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液からロータリーエバポレーターにて酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝９５：５（体積比））により精製して、淡黄色固体として化合物３を１．６ｇ得た（収率：４３．６％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
【０２９８】
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：８．８２（ｓ，１Ｈ）、８．７０（ｓ，１Ｈ）、８．２２−８．１５（ｍ，４Ｈ）、８．０８５−８．０７８（ｍ，２Ｈ）、８．０２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，８．７Ｈｚ）、７．８９−７．８３（ｍ，３Ｈ）、７．５５−７．４９（ｍ，２Ｈ）、７．３９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．８Ｈｚ，８．７Ｈｚ）、７．３２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、７．０２−６．９７（ｍ，４Ｈ）、６．４０（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，１７．３Ｈｚ）、６．１３（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．６Ｈｚ，１７．３Ｈｚ）、５．８２４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，１０．６Ｈｚ）、５．８１９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，１０．６Ｈｚ）、４．１９（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）、４．０８（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）、４．０６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）、１．８９−１．８２（ｍ，４Ｈ）、１．７７−１．７０（ｍ，４Ｈ）、１．５９−１．４４（ｍ，８Ｈ）
【０２９９】
［製造例４；化合物４の合成］
【０３００】
【化２５】
2013003212.tif 000026
【０３０１】
〈ステップ１：中間体Ｅの合成〉
【０３０２】
【化２６】
2013003212.tif 000027
【０３０３】
温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、３−メチル−２−ベンゾチアゾリノンヒドラゾン塩酸塩水和物（東京化成工業社製）  ６ｇ（２７．８ｍｍｏｌ）、２，５−ジヒドロキシベンズアルデヒド  １．９ｇ（１３．９ｍｍｏｌ）、及び１−プロパノール１００ｍｌを加え、全容を１時間加熱還流させた。反応終了後、反応液を室温まで冷却させた。その後、ＴＨＦを加えて均一な溶液とした。この溶液を１０％の重曹水に滴下して固体を析出させた。析出した固体を吸引ろ過によりろ取した。得られた固体を水洗した後、真空乾燥機にて乾燥させ、黄色固体として中間体Ｅを２．８ｇ得た（収率：６７．３％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
【０３０４】
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：１０．２１（ｓ，１Ｈ）、８．９５（ｓ，１Ｈ）、８．５０（ｓ，１Ｈ）、７．６５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）、７．３５−７．２８（ｍ，２Ｈ）、７．１１−７．０７（ｍ，１Ｈ）、６．９２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．３Ｈｚ）、６．７４−６．６８（ｍ，２Ｈ）、３．５４（ｓ，３Ｈ）
【０３０５】
〈ステップ２：化合物４の合成〉
温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、先のステップ１で合成した中間体Ｅ  １．８ｇ（６．０ｍｍｏｌ）、４−（６−アクリロイル−ヘクス−１−イルオキシ）安息香酸（ＤＫＳＨ社製）  ５．３ｇ（１８．０ｍｍｏｌ）、４−（ジメチルアミノ）ピリジン  ０．２６ｇ（２．２ｍｍｏｌ）をＮ−メチルピロリドン８０ｍｌに溶解させた。この溶液に、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＷＳＣ）４．１ｇ（２１．６ｍｍｏｌ）を加え、全容を室温下にて１５時間攪拌した。反応終了後、反応液を水５００ｍｌに投入し、酢酸エチル３００ｍｌで抽出した。得られた酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液からロータリーエバポレーターにて酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝９５：５（体積比））により精製して、黄色固体として化合物４を３．３ｇ得た（収率：６４．９％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
【０３０６】
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：８．４８（ｓ，１Ｈ）、８．１８（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、７．９９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．８Ｈｚ）、７．３６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）、７．２７−７．２２（ｍ，３Ｈ）、７．０６−７．０２（ｍ，１Ｈ）、７．００−６．９６（ｍ，５Ｈ）、６．４０（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，１７．４Ｈｚ）、６．１３（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．４Ｈｚ）、５．８２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、４．１８（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．２Ｈｚ）、４．０６（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．２Ｈｚ）、３．５５（ｓ，３Ｈ）、１．８９−１．８２（ｍ，４Ｈ）、１．７７−１．７０（ｍ，４Ｈ）、１．５８−１．４３（ｍ，８Ｈ）
【０３０７】
［製造例５；化合物５の合成］
【０３０８】
【化２７】
2013003212.tif 000028
【０３０９】
〈ステップ１：中間体Ｆの合成〉
【０３１０】
【化２８】
2013003212.tif 000029
【０３１１】
温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、ヒドラジン一水和物  １１．４ｇ（２２７．７ｍｍｏｌ）、２−アセチルベンゾ［ｂ］チオフェン  ４．０ｇ（２２．７ｍｍｏｌ）、及びエタノール５０ｍｌを加えた。この溶液を１時間３０分間加熱還流した。反応液を室温まで冷却させた後、１０％の重曹水に加えて結晶を析出させた。析出した結晶を吸引ろ過によりろ取した。得られた結晶を水洗、風乾して、精製することなく、そのまま次の反応に用いた。
【０３１２】
〈ステップ２：化合物５の合成〉
温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、化合物１合成におけるステップ１で合成した中間体Ａ  ３．０ｇ（４．３７ｍｍｏｌ）、先のステップ１で合成した中間体Ｆ  １．０ｇ（５．２４ｍｍｏｌ）を、ＴＨＦ３０ｍｌ、及びエタノール１５ｍｌの混合溶剤に溶解させた。この溶液に、（±）−１０−カンファースルホン酸０．１ｇ（０．４４ｍｍｏｌ）をＴＨＦ３ｍｌに溶解させた溶液をゆっくりと加えた。その後、室温下にて２時間反応させた。反応終了後、反応液を飽和重曹水２００ｍｌに投入し、酢酸エチル１００ｍｌで２回抽出した。得られた酢酸エチル層を飽和食塩水２００ｍｌで洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液からロータリーエバポレーターにて酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝９５：５（体積比））により精製して、黄色固体として化合物５を２．２ｇ得た（収率：５８．６％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
【０３１３】
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：８．６１（ｓ，１Ｈ）、８．１９−８．１５（ｍ，４Ｈ）、８．０４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．７Ｈｚ）、７．６７（ｓ，１Ｈ）、７．７９−７．７５（ｍ，２Ｈ）、７．３７−７．２９（ｍ，４Ｈ）、７．０１−６．９６（ｍ，４Ｈ）、６．４０５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，１７．４Ｈｚ）、６．４０２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，１７．４Ｈｚ）、６．１４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．４Ｈｚ）、６．１１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．４Ｈｚ）、５．８２２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、５．８１８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ）、４．１８（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）、４．０６２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）、４．０５８（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）、２．５２（ｓ，３Ｈ）、１．８８−１．８１（ｍ，４Ｈ）、１．７６−１．６９（ｍ，４Ｈ）、１．５８−１．４３（ｍ，８Ｈ）
【０３１４】
［製造例６；化合物６の合成］
【０３１５】
【化２９】
2013003212.tif 000030
【０３１６】
〈ステップ１：中間体Ｇの合成〉
【０３１７】
【化３０】
2013003212.tif 000031
【０３１８】
温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、ヒドラジン一水和物  １．９ｍｌ（３８．６ｍｍｏｌ）をエタノール１５ｍｌに溶解させた。この溶液に、２ーフルオレンカルボキシアルデヒド  １．５ｇ（７．７２ｍｍｏｌ）を加えた。その後、室温下にて６時間反応させた。反応終了後、反応液を飽和重曹水５０ｍｌに投入し、クロロホルム５０ｍｌで２回抽出した。得られたクロロホルム層を飽和食塩水５０ｍｌで洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液からロータリーエバポレーターにてクロロホルムを減圧留去して、黄色固体として中間体Ｇを１．２ｇ得た。この得られた固体を乾燥して、精製は行わず、そのまま次の反応に用いた。
【０３１９】
〈ステップ２：化合物６の合成〉
温度計を備えた４つ口反応器に窒素気流中、化合物１合成のステップ１で合成した中間体Ａ１．５ｇ（２．１８ｍｍｏｌ）、先のステップ１で合成した中間体Ｇ６８３ｍｇ（３．６８ｍｍｏｌ）をＴＨＦ１５ｍｌ、エタノール５ｍｌの混合溶媒に溶解させた。その後、室温下にて３時間反応させた。反応終了後、飽和重曹水１００ｍｌに投入し、クロロホルム１００ｍｌで２回抽出した。得られたクロロホルム層を飽和食塩水１００ｍｌで洗浄した後、クロロホルム層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液からロータリーエバポレーターにてクロロホルムを減圧留去して、淡黄色固体を得た。この淡黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝９５：５（体積比））により精製して、淡黄色固体として化合物６を１１７ｍｇ得た（収率：１４．２％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
【０３２０】
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：８．８０（ｓ，１Ｈ）、８．６３（ｓ，１Ｈ）、８．２０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、８．１６（ｄ，２Ｈ、Ｊ＝８．７Ｈｚ）、８．０７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．８Ｈｚ）、８．００（ｓ，１Ｈ）、７．８０−７．８５（ｍ，２Ｈ）、７．７４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．５５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）、７．３０−７．４０（ｍ，４Ｈ）、７．００（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．２Ｈｚ）、６．９８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．２Ｈｚ）、６．４１（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．４，１７．４Ｈｚ）、６．１３（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．５，１７．４Ｈｚ）、５．８２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．４，１０．５Ｈｚ）、４．１９０（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）、４．１８６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）、４．０８（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）、４．０６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）、３．９２（ｓ，２Ｈ）、１．８０−１．９０（ｍ，４Ｈ）、１．７０−１．７７（ｍ，４Ｈ）、１．４３−１．６０（ｍ，８Ｈ）
【０３２１】
［製造例７；化合物７の合成］
【０３２２】
【化３１】
2013003212.tif 000032
【０３２３】
〈ステップ１：中間体Ｈの合成〉
【０３２４】
【化３２】
2013003212.tif 000033
【０３２５】
温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、ヒドラジン一水和物７．０ｍｌ（１１４ｍｍｏｌ）をプロパノール２０ｍｌに溶解させた。この溶液に２−アセチルフルオレン３．０ｇ（１４．４ｍｍｏｌ）を加えた。この溶液を６時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却させた後、飽和重曹水１００ｍｌに投入し、クロロホルム１００ｍｌで２回抽出した。得られたクロロホルム層を飽和食塩水１００ｍｌで洗浄し、クロロホルム層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムをろ別した後、ロータリーエバポレーターにてクロロホルムを減圧留去して、黄色固体として中間体Ｈを２．８ｇ得た。この得られた固体を乾燥して、精製は行わず、そのまま次の反応に用いた。
【０３２６】
〈ステップ２：化合物７の合成〉
温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、化合物１合成におけるステップ１で合成した中間体Ａ  １．５ｇ（２．１８ｍｍｏｌ）、先のステップ１で合成した中間体Ｈ  ６３２ｍｇ（２．８３ｍｍｏｌ）を、ＴＨＦ１０ｍｌ、及びエタノール１０ｍｌの混合溶媒に溶解させた。この溶液を８時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却させた後、飽和重曹水５０ｍｌに投入し、クロロホルム５０ｍｌで２回抽出した。得られたクロロホルム層を飽和食塩水５０ｍｌで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液からロータリーエバポレーターにてクロロホルムを減圧留去して、淡黄色固体を得た。この淡黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝９０：１０（体積比））により精製して、淡黄色固体として化合物７を３７０ｍｇ得た（収率：１９．０％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
【０３２７】
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：８．５８（ｓ，１Ｈ）、８．１７（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、８．０４−８．０７（ｍ，２Ｈ）、７．８６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、７．７９（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．２，８．７Ｈｚ）、７．５４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）、７．２８−７．４１（ｍ，４Ｈ）、６．９８３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、６．９７５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、６．４０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４，１７．４Ｈｚ）、６．３９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４，１７．４Ｈｚ）、６．１２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．５，１７．４Ｈｚ）、６．１１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．５，１７．４Ｈｚ）、５．８２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４，１０．５Ｈｚ）、５．８１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４，１０．５Ｈｚ）、４．１８（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）、４．１７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）、４．０６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．２Ｈｚ）、４．０５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）、３．９１（ｓ，２Ｈ）、２．５０（ｓ，３Ｈ）、１．８１−１．８８（ｍ，４Ｈ）、１．６８−１．７６（ｍ，４Ｈ）、１．４３−１．５５（ｍ，８Ｈ）
【０３２８】
［製造例８；化合物８の合成］
【０３２９】
【化３３】
2013003212.tif 000034
【０３３０】
〈ステップ１：中間体Ｉの合成〉
【０３３１】
【化３４】
2013003212.tif 000035
【０３３２】
温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、ヒドラジン一水和物１０ｍｌ（１６３ｍｍｏｌ）をエチレングリコール２０ｍｌに溶解させた。この溶液に、５Ｈ−ジベンゾ［ａ、ｄ］シクロヘプテン−５−オン  １．５ｇ（７．３ｍｍｏｌ）を加え、更に、硫酸  ０．１ｍｌを加えた。この溶液を１２０℃で１５時間加熱した。反応液を室温まで冷却させた後、飽和重曹水１００ｍｌに投入し、クロロホルム１００ｍｌで２回抽出した。得られたクロロホルム層を飽和食塩水１００ｍｌで洗浄した後、クロロホルム層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液からロータリーエバポレーターにてクロロホルムを減圧留去して、黄色固体として中間体Ｉを１．２ｇ得た。この得られた固体を乾燥して、精製することなく、そのまま次の反応に用いた。
【０３３３】
〈ステップ２：中間体Ｊの合成〉
【０３３４】
【化３５】
2013003212.tif 000036
【０３３５】
温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、先のステップ１で合成した中間体Ｉ  １．０ｇ（４．５ｍｍｏｌ）、２，５−ジヒドロキシベンズアルデヒド  ０．４６ｇ（３．３３ｍｍｏｌ）をエタノール３０ｍｌに加えた。この溶液に硫酸０．１ｍｌを加えて、室温にて１時間反応させた。反応終了後、飽和重曹水１５０ｍｌに投入し、酢酸エチル１００ｍｌで２回抽出した。得られた酢酸エチル層を飽和食塩水１５０ｍｌで洗浄した後、酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液からロータリーエバポレーターにて酢酸エチルを減圧留去して、淡黄色固体を得た。この淡黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝８５：１５から８０：２０（体積比）にグラジェント）により精製して、黄色固体として中間体Ｊを７００ｍｇ得た（収率：６１．８％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
【０３３６】
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：１０．８１（ｓ，１Ｈ）、８．６４（ｓ，１Ｈ）、７．８２−７．７８（ｍ，１Ｈ）、７．５５−７．４０（ｍ，７Ｈ）、７．３０−７．１５（ｍ，１Ｈ）、６．９８（ｓ，２Ｈ）、６．７８−６．７４（ｍ，２Ｈ）、６．６６−６．６４（ｍ，１Ｈ）
【０３３７】
〈ステップ３：化合物８の合成〉
温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、先のステップ２で合成した中間体Ｊ  ０．７ｇ（２．０６ｍｍｏｌ）、４−（６−アクリロイル−ヘクス−１−イルオキシ）安息香酸（ＤＫＳＨ社製）１．５ｇ（５．１４ｍｍｏｌ）、４−（ジメチルアミノ）ピリジン  ０．６３ｇ（５．１４ｍｍｏｌ）をＮ−メチルピロリドン８０ｍｌに溶解させた。この溶液に、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＷＳＣ）１．１８ｇ（６．１７ｍｍｏｌ）を加え、室温にて１６時間攪拌した。反応終了後、反応液を水６００ｍｌに投入し、酢酸エチル２５０ｍｌで抽出した。得られた酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液からロータリーエバポレーターにて酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝９５：５（体積比））により精製して、淡黄色固体として化合物８を１．４ｇ得た（収率：７６．４％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
【０３３８】
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：８．６４（ｓ，１Ｈ）、８．１３−８．１１（ｍ，４Ｈ）、７．７５−７．７３（ｍ，１Ｈ）、７．７０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．８Ｈｚ）、７．４６−７．２４（ｍ，９Ｈ）、６．９９−６．９５（ｍ，４Ｈ）、６．９２（ｓ，２Ｈ）、６．４０５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，１７．４Ｈｚ）、６．４０２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，１７．４Ｈｚ）、６．１３（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．６Ｈｚ，１７．４Ｈｚ）、５．８２３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，１０．６Ｈｚ）、５．８１９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，１０．６Ｈｚ）、４．１８（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）、４．０６１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）、４．０５５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）、１．８８−１．８２（ｍ，４Ｈ）、１．７７−１．７０（ｍ，４Ｈ）、１．５８−１．４４（ｍ，８Ｈ）
【０３３９】
［製造例９；化合物９の合成］
【０３４０】
【化３６】
2013003212.tif 000037
【０３４１】
〈ステップ１：中間体Ｋの合成〉
【０３４２】
【化３７】
2013003212.tif 000038
【０３４３】
温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、ヒドラジン一水和物  ３．３ｇ（６５．９ｍｍｏｌ）をエタノール１０ｍｌに溶解させた。この溶液に、ピペロナール（１，３−ベンゾジオキソゾール−５−カルボキシアルデヒド）２．０ｇ（１３．３ｍｍｏｌ）を加えた。更に、テトラヒドロフラン１０ｍｌを加えた後、この溶液を室温で１時間反応させた。反応終了後、飽和重曹水１００ｍｌに投入し、クロロホルム８０ｍｌで２回抽出した。得られたクロロホルム層を飽和食塩水１００ｍｌで洗浄した後、クロロホルム層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液からロータリーエバポレーターにてクロロホルムを減圧留去して、淡黄色固体として中間体Ｋを１．３ｇ得た。この得られた固体を乾燥して、精製することなく、そのまま次の反応に用いた。
【０３４４】
〈ステップ２：化合物９の合成〉
温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、化合物１合成のステップ１で合成した中間体Ａ  １．５ｇ（２．１８ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン１５ｍｌに溶解させた。次いで、中間体Ａを溶解させた溶液に、先のステップ１で合成した中間体Ｋ４４８ｍｇ（２．７３ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン１５ｍｌに溶解させた溶液を加え、全容を室温で５時間攪拌した。反応終了後、反応液からロータリーエバポレーターにてテトラヒドロフランを減圧留去して、淡黄色固体を得た。この淡黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝９５：５（体積比））により精製して、淡黄色固体として化合物９を１．２ｇ得た（収率：６６．１％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
【０３４５】
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：８．７４（ｓ，１Ｈ）、８．４４（ｓ，１Ｈ）、８．１９−８．１４（ｍ，４Ｈ）、８．０３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．７Ｈｚ）、７．３８−７．２９（ｍ，３Ｈ）、７．１４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，８．２Ｈｚ）、７．０１−６．９６（ｍ，４Ｈ）、６．８２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、６．４０（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，１７．４Ｈｚ）、６．１２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．４Ｈｚ）、６．００（ｓ，２Ｈ）、５．８２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、４．１８（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）、４．０７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）、４．０５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）、１．８９−１．８１（ｍ，４Ｈ）、１．７６−１．７０（ｍ，４Ｈ）、１．５６−１．４４（ｍ，８Ｈ）
【０３４６】
［製造例１０；化合物１０の合成］
【０３４７】
【化３８】
2013003212.tif 000039
【０３４８】
〈ステップ１：中間体Ｌの合成〉
【０３４９】
【化３９】
2013003212.tif 000040
【０３５０】
温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、ヒドラジン一水和物  １．７ｇ（３３．５ｍｍｏｌ）をエタノール１５ｍｌに溶解させた。この溶液に、Ｎ−エチルカルバゾール−３−カルボキシアルデヒド  １．５ｇ（６．７２ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン１０ｍｌに溶解させた溶液を加え、全容を室温で１時間反応させた。反応終了後、飽和重曹水１００ｍｌに投入し、クロロホルム５０ｍｌで３回抽出した。得られたクロロホルム層を飽和食塩水１００ｍｌで洗浄し、クロロホルム層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液からロータリーエバポレーターにてクロロホルムを減圧留去して、中間体Ｌを黄色固体として１．０ｇ得た。得られた固体を乾燥して、精製することなく、そのまま次の反応に用いた。
【０３５１】
〈ステップ２：化合物１０の合成〉
温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、化合物１合成のステップ１で合成した中間体Ａ２．０ｇ（２．９１ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解させた。次いで、中間体Ａを溶解させた溶液に、先のステップ１で合成した中間体Ｌ０．９ｇ（３．７９ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解させた溶液を加え、全容を室温下にて８時間反応させた。反応終了後、反応液からロータリーエバポレーターにてテトラヒドロフランを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝９０：１０（体積比））により精製して、黄色固体として化合物１０を１．７ｇを得た（収率：６４．５％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
【０３５２】
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：８．８５（ｓ，１Ｈ）、８．７６（ｓ，１Ｈ）、８．５０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ）、８．２２−８．１６（ｍ，４Ｈ）、８．１２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）、８．０９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．８Ｈｚ）、７．９１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，８．３Ｈｚ）、７．４９（ｍ，１Ｈ）、７．４３−７．２４（ｍ，５Ｈ）、７．０３−６．９７（ｍ，４Ｈ）、６．４１０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，１７．４Ｈｚ）、６．４０７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，１７．４Ｈｚ）、６．１２９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．４Ｈｚ）、６．１２６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．４Ｈｚ）、５．８２７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、５．８１７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，１０．５Ｈｚ）、４．３７（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ）、４．１９（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）、４．０８（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）、４．０６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）、１．９０−１．８２（ｍ，４Ｈ）、１．７７−１．７０（ｍ，４Ｈ）、１．５９−１．４２（ｍ，８Ｈ）、１．４４（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ）。
【０３５３】
［製造例１１；化合物１１の合成］
【０３５４】
【化４０】
2013003212.tif 000041
【０３５５】
〈ステップ１：中間体Ｍの合成〉
【０３５６】
【化４１】
2013003212.tif 000042
【０３５７】
温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、ヒドラジン一水和物  １．６ｍｌ（３２．３ｍｍｏｌ）をエタノール１５ｍｌに溶解させた。この溶液に２−ナフチルフェニルケトン  １．５０ｇ（６．４６ｍｍｏｌ）を加え、全容を６時間加熱還流した。反応終了後、飽和重曹水５０ｍｌに投入し、クロロホルム５０ｍｌで２回抽出した。得られたクロロホルム層を飽和食塩水５０ｍｌで洗浄した後、クロロホルム層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液からロータリーエバポレーターにてクロロホルムを減圧留去して、黄色固体として中間体Ｍを１．５５ｇ得た。この得られた固体を乾燥して、精製することなく、そのまま次の反応に用いた。
【０３５８】
〈ステップ２：化合物１１の合成〉
温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、化合物１合成のステップ１で合成した中間体Ａ４．４４ｇ（６．４６ｍｍｏｌ）、先のステップ１で合成した中間体Ｍ  １．５５ｇ（６．４６ｍｍｏｌ）をプロパノール１５ｍｌの混合溶媒に溶解させた。その後、この溶液を８時間加熱還流した。反応終了後、反応液に飽和重曹水１００ｍｌに投入し、クロロホルム１００ｍｌで２回抽出した。得られたクロロホルム層を飽和食塩水１００ｍｌで洗浄した後、クロロホルム層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液からロータリーエバポレーターにてクロロホルムを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝９５：５（体積比））により精製して、黄色固体として化合物１１を３．１９ｇ得た（収率：５４．０％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した（下線部は立体異性体）。結果を以下に示す。
【０３５９】
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：８．７５（ｓ，１Ｈ）、８．７１（ｓ，１Ｈ）、８．１６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、８．１２（ｄ，２Ｈ＋２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、８．０５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、７．９８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．５Ｈｚ）、７．９１（ｓ，１Ｈ）、７．７６−７．８５（ｍ，３Ｈ＋４Ｈ）、７．６６−７．７２（ｍ，３Ｈ＋１Ｈ）、７．４１−７．５１（ｍ，２Ｈ＋７Ｈ）、７．２５−７．３９（ｍ，５Ｈ＋３Ｈ）、６．９８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．９７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．９４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．９３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．３８−６．４３（ｍ，２Ｈ＋２Ｈ）、６．０９−６．１６（ｍ，２Ｈ＋２Ｈ）、５．８０−５．８４（ｍ，２Ｈ＋２Ｈ）、４．１７−４．２０（ｍ，４Ｈ＋４Ｈ）、４．０２−４．０７（ｍ，４Ｈ＋４Ｈ）、１．８２−１．８８（ｍ，４Ｈ＋４Ｈ）、１．７０―１．７６（ｍ，４Ｈ＋４Ｈ）、１．４２−１．５７（ｍ，８Ｈ＋８Ｈ）
【０３６０】
［製造例１２；化合物１２の合成］
【０３６１】
【化４２】
2013003212.tif 000043
【０３６２】
〈ステップ１：中間体Ｎの合成〉
【０３６３】
【化４３】
2013003212.tif 000044
【０３６４】
温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、ヒドラジン一水和物  ９．６ｍｌ（１９７ｍｍｏｌ）をプロパノール２０ｍｌに溶解させた。この溶液に、２’，５’−ジヒドロキシアセトフェノン  ３．００ｇ（１９．７ｍｍｏｌ）を加えた。その後、全容を室温下にて２時間反応させた。反応終了後、反応液を飽和重曹水５０ｍｌに投入し、クロロホルム５０ｍｌで２回抽出した。得られたクロロホルム層を飽和食塩水５０ｍｌで洗浄した後、クロロホルム層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液からロータリーエバポレーターにてクロロホルムを減圧留去して、中間体Ｎを淡黄色固体として２．８６ｇ得た。この得られた固体を乾燥して、精製することなく、そのまま次の反応に用いた。
【０３６５】
〈ステップ２：中間体Ｏの合成〉
【０３６６】
【化４４】
2013003212.tif 000045
【０３６７】
温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、先のステップ１で合成した中間体Ｎ  １．００ｇ（６．０２ｍｍｏｌ）を、２−ナフトアルデヒド  ９４０ｍｇ（６．０２ｍｍｏｌ）をプロパノール１５ｍｌに溶解させた溶液に加え、全容を室温下にて５時間反応させた。反応終了後、反応液を水２００ｍｌに滴下して固体を析出させた。析出した固体を吸引ろ過によりろ取した。ろ取物である固体を水洗した後、風乾にて乾燥させ、黄色固体として中間体Ｏを１．８０ｇ得た。このものは精製することなく、そのまま次の反応に用いた。
【０３６８】
〈ステップ３：化合物１２の合成〉
温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、先のステップ２で合成した中間体Ｏ  １．００ｇ（３．２９ｍｍｏｌ）、４−（６−アクリロイル−ヘクス−１−イルオキシ）安息香酸（ＤＫＳＨ社製）２．４０ｇ（８．２１ｍｍｏｌ）、４−（ジメチルアミノ）ピリジン  １２０ｍｇ（９８７μｍｏｌ）をＮ−メチルピロリドン３０ｍｌに溶解させた。この溶液に、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＷＳＣ）１．５７ｇ（８．２１ｍｍｏｌ）を加え、全容を室温下にて１８時間攪拌した。反応終了後、反応液を水３００ｍｌに投入し、酢酸エチル３００ｍｌで抽出した。得られた酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液からロータリーエバポレーターにて酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝７５：２５（体積比））により精製して、淡黄色固体として化合物１２を１．１４ｇ得た（収率：４０．６％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。結果を以下に示す。
【０３６９】
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：８．２５（ｓ，１Ｈ）、８．１５（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝９．２Ｈｚ）、８．０１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．９２（ｓ，１Ｈ）、７．８２−７．８６（ｍ，３Ｈ）、７．４８−７．５８（ｍ，３Ｈ）、７．２９−７．３５（ｍ，２Ｈ）、６．９６（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝９．２Ｈｚ）、６．４０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１７．５Ｈｚ）、６．３９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１７．４Ｈｚ）、６．１２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ）、６．１０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．４Ｈｚ）、５．８２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ）、５．８０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ）、４．１８（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、４．１５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）、４．０５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）、４．０１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）、２．４８（ｓ，３Ｈ）、１．７６−１．８８（ｍ，４Ｈ）、１．６６−１．７４（ｍ，４Ｈ）、１．４１−１．５７（ｍ，８Ｈ）
【０３７０】
［製造例で得られた化合物の評価］
製造例１〜１２で得られた化合物１〜１２、及び、下記に示す参考比較例１で使用する化合物１ｒ（日本ゼオン社製、Ｋ３５）、参考比較例２で使用する化合物２ｒ（ＢＡＳＦ社製、ＬＣ２４２）につき、以下に示す方法で相転移温度の測定を行った。
【０３７１】
【化４５】
2013003212.tif 000046
【０３７２】
【化４６】
2013003212.tif 000047
【０３７３】
〈相転移温度の測定〉
化合物１〜１２、及び、比較参考例１の化合物１ｒ、比較参考例２の化合物２ｒをそれぞれ１０ｍｇ計量し、固体状態のままで、ラビング処理を施したポリイミド配向膜付きのガラス基板２枚に挟んだ。この基板をホットプレート上に載せ、５０℃から２００℃まで昇温した後、再び５０℃まで降温した。昇温、降温する際の組織構造の変化を偏光光学顕微鏡（ニコン社製、ＥＣＬＩＰＳＥ  ＬＶ１００ＰＯＬ型）で観察した。
測定した相転移温度を下記表１に示す。
表１中、「Ｃ」はＣｒｙｓｔａｌ、「Ｎ」はＮｅｍａｔｉｃ、「Ｉ」はＩｓｏｔｒｏｐｉｃをそれぞれ表す。ここで、Ｃｒｙｓｔａｌとは、試験化合物が固相にあることを、Ｎｅｍａｔｉｃとは、試験化合物がネマチック液晶相にあることを、Ｉｓｏｔｒｏｐｉｃとは、試験化合物が等方性液体相にあることを、それぞれ示す。
【０３７４】
【表１】
2013003212.tif 000048
【０３７５】
［実施例１］
（液晶層形成用組成物の調製）
重合性液晶化合物として製造例１で合成した化合物１を２５重量部と、下記の化合物Ｘを５重量部と、架橋剤（トリメチロールプロパントリアクリレート）を３重量部と、重合開始剤（チバ・ジャパン社製、製品名「Ｉｒｇ  ３７９」）を１重量部と、フッ素系界面活性剤（ネオス社製、「フタージェント２０９Ｆ」）を０．０３重量部と、メチルエチルケトンを６６重量部とを混合し、液晶層形成用組成物を調製した。
【０３７６】
【化４７】
2013003212.tif 000049
【０３７７】
（パターン位相差フィルム層の作製）
基材フィルムとして、ノルボルネン樹脂フィルム（日本ゼオン社製  ゼオノアフィルムＺＦ１４−１００）を用意した。この基材フィルムをフィルム搬送装置の繰り出し部に取り付け、当該基材フィルムを搬送しながらラビング処理を施し、ラビング処理を施した面に前記にて用意した液晶層形成用組成物をダイコーターを使用して塗布した。これにより、基材フィルムの片面に、塗膜として未硬化状態の液晶樹脂層を形成した。
【０３７８】
前記の液晶樹脂層を４０℃で２分間配向処理して、液晶樹脂層中の重合性液晶化合物を配向させた。その後、液晶樹脂層に対して、基材フィルムの液晶樹脂層が形成されたのとは反対側からガラスマスクを介して０．１ｍＪ／ｃｍ２〜４５ｍＪ／ｃｍ２の微弱な紫外線を照射した。前記のガラスマスクとしては、所定の方向に延在する透光部及び遮光部が互いに平行に並んでストライプ状に形成されたものを用いた。ガラスマスクの透光部の幅は２６９μｍ、遮光部の幅は２８４μｍとした。ガラスマスクの遮光部に相当する位置では露光されなかったために液晶樹脂層は未硬化状態のままであるが、ガラスマスクの透光部に相当する位置では露光されたために液晶樹脂層が硬化した。これにより、液晶樹脂層の露光部分において、１／２波長板として機能しうる面内位相差Ｒｅを有する樹脂領域（第一領域）を形成した。
【０３７９】
次に、液晶樹脂層を９０℃で１０秒間加温処理して、液晶樹脂層の未硬化状態の部分（ガラスマスクの遮光部に相当した部分）の液晶相を等方相に転移させた。この状態を維持しながら、基材フィルムの液晶樹脂層側から窒素雰囲気下で液晶樹脂層に対して２０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、液晶樹脂層の未硬化部分を硬化させた。これにより、面内位相差Ｒｅを有さない樹脂領域（第二領域）が液晶樹脂層に形成された。
【０３８０】
このようにして、１／２波長板として機能しうる面内位相差Ｒｅを有する樹脂領域（第一領域）と、面内位相差Ｒｅを有さない樹脂領域（第二領域）とを、同一面内に有する液晶樹脂層として、パターン位相差フィルム層を得た。このパターン位相差フィルム層を備える積層フィルムは、（基材フィルム）−（パターン位相差フィルム層）の層構成を有する長尺の積層フィルムである。形成されたパターン位相差フィルム層の乾燥膜厚は、３．５μｍであった。測定波長５５０ｎｍにおける第一領域の面内位相差Ｒｅは２８０ｎｍであり、面内方向の遅相軸が基材フィルムの長手方向と０°の角度をなしていた。一方、第二領域の測定波長５５０ｎｍにおける面内位相差Ｒｅは１０ｎｍ以下であった。第一領域及び第二領域は互いに平行な帯状の領域として形成され、それぞれの帯の幅は２７６．６μｍであった。
【０３８１】
（位相差フィルムの貼付）
位相差フィルム（日本ゼオン社製、製品名「斜め延伸ゼオノアフィルム」）を用意した。この位相差フィルムは、長手方向に対する配向角４５°、厚さ５０μｍ、測定波長５５０ｎｍでの面内位相差Ｒｅ１４０ｎｍ、面内における面内位相差Ｒｅのばらつき±１０ｎｍ以下であった。
【０３８２】
アクリル粘着剤（綜研化学社製、製品名「ＳＫダイン２０９４」）に硬化剤（綜研化学社製、製品名「Ｅ−ＡＸ」）を、アクリル粘着剤中のポリマー１００重量部に対して硬化剤が５重量部の割合となるように添加したものを用意した。以下、これを適宜「ＰＳＡ」と略称する。
【０３８３】
パターン位相差フィルム層を備える長尺の積層フィルムの前記パターン位相差フィルム層の表面に、ＰＳＡを介して、位相差フィルムを貼り合わせた。この際、位相差フィルムの遅相軸と、パターン位相差フィルム層の第一領域の遅相軸とが４５°の角度をなすようにして貼り合わせた。これにより、（基材フィルム）−（パターン位相差フィルム層）−（粘着層）−（位相差フィルム）の層構成を有する、長尺の積層位相差フィルムを得た。粘着層の厚さは２５μｍであった。
【０３８４】
（長尺の積層位相差フィルムとガラスとの貼り合せ）
前記の長尺の積層位相差フィルムを所定の大きさで切り取り、基材フィルムを剥がした。その後、パターン位相差フィルム層を、厚さ０．７ｍｍ、大きさ４２０ｍｍ×２７０ｍｍのガラス板（Ｅａｇｅｌ２０００）に、上記ＰＳＡを介して貼り付けた。これにより、（ガラス板）−（粘着層）−（パターン位相差フィルム層）−（粘着層）−（位相差フィルム）の層構成を有する評価用サンプルを得た。この評価用サンプルは、ガラス板を備えるために剛直性を有するので、画像表示パネルの画素パターンとの位置合わせが容易であった。
【０３８５】
（偏光メガネの右眼用フィルムの製造）
右眼用位相差フィルムとして、前記位相差フィルムと同様のフィルム（日本ゼオン社製、製品名「斜め延伸ゼオノアフィルム」；長手方向に対する配向角４５°、厚さ５０μｍ；測定波長５５０ｎｍでの面内位相差Ｒｅ１４０ｎｍ、面内位相差Ｒｅのばらつきは±１０ｎｍ以下）を用意した。
また、右眼用偏光板として、サンリッツ社製の偏光板（製品名「ＨＬＣ２−５６１８」）を用意した。
【０３８６】
右眼用位相差フィルムの遅相軸と、右眼用偏光板の透過軸とが＋４５°の角度をなすように、右眼用位相差フィルムと右眼用偏光板とを前記ＰＳＡを介して貼り合せて、右眼用フィルムを得た。
【０３８７】
（偏光メガネの左眼用フィルムの製造）
右眼用フィルムの右眼用位相差フィルム及び右眼用偏光板と同様の位相差フィルム及び偏光板を、左眼用フィルムの左眼用位相差フィルム及び左眼用偏光板として用意した。
左眼用位相差フィルムの遅相軸と、左眼用偏光板の透過軸とが−４５°の角度をなすように、左眼用位相差フィルムと左眼用偏光板とを前記ＰＳＡを介して貼り合せて、左眼用フィルムを得た。
【０３８８】
（クロストーク率ＣＲ、ＣＬの測定）
図８は、実施例におけるクロストーク及び色味ずれの評価系の構成を模式的に示す分解図である。
図８に示すように、評価用ディスプレイ装置としてＶＡモードのディスプレイ装置（ＢｅｎＱ社製Ｖ２４２０Ｈ  パネルはＡＵＯ社製Ｍ２４０ＨＷ０２、２４”Ｆｕｌｌ  ＨＤ  画素２７６．８ｕｍピッチ）を用意し、その画像表示パネル７１０が水平方向と平行で上向きになるように置いた。この画像表示パネル７１０は、光源側偏光板と、液晶セルと、視認側偏光板とを備えるものである。
【０３８９】
次に、画像表示パネル７１０の視認側偏光板上に、評価用サンプル７２０を置いた。このとき、評価用サンプル７２０は、液晶パネル７１０に近い方から、位相差フィルム、粘着層、パターン位相差フィルム層、粘着層及びガラス板の順となる向きにした。また、下向きに見て、画像表示パネル７１０の視認側の偏光板透過軸の方向は＋９０°方向、位相差フィルムの遅相軸の方向は＋４５°方向、パターン位相差フィルム層の第一領域の遅相軸は０°方向となるようにした。なお、この評価系において、各光学要素の光学軸（透過軸及び遅相軸）の角度は、ストライプ状に形成されたパターン位相差フィルム層の第一領域及び第二領域が延在する方向が０°方向、反時計回りの角度がプラスの角度、時計回りの角度がマイナスの角度である。
【０３９０】
次いで、評価用サンプル７２０のパターン位相差フィルム層の第一領域及び第二領域の位置と、画像表示パネル７１０の画素の位置とが対応するように、位置合わせを実施した。
【０３９１】
評価用サンプル７２０の面内において、ある位置７３０を原点（Ｘ，Ｙ＝０，０）として決めた。その原点７３０の直上（即ち、原点７３０を通り評価用サンプル７２０の主面に対して垂直な直線上）の、評価用サンプル７２０から約５００ｍｍ離れた位置に、色彩輝度計（トプコンハウステクノ社製、製品名「ＢＭ７」）７４０を設置した。
【０３９２】
評価用サンプル７２０と色彩輝度計７４０との間に、評価サンプル７２０に近い方から右眼用位相差フィルム及び右眼用偏光板の順となるように、右眼用フィルム７５０を配置した。このとき、下向きに見て、右眼用位相差フィルムの遅相軸の方向は＋４５°方向、右眼用偏光板の透過軸の方向は０°方向となるようにした。これにより、第一実施形態で説明した右眼用レンズと同様の光学系を構成した（図２参照）。
【０３９３】
評価用ディスプレイ装置にパーソナルコンピュータより評価用画像を入力し、表示された画像を右眼用フィルム７５０を介して色彩輝度計７４０で測定し、輝度ＬＲ、ＲＲ及びＢＲを測定した。
ここで、輝度ＬＲとは、右眼用の画像を表示する光を黒にし、左眼用の画像を表示する光を白にした場合に、右眼用フィルム７５０を介して測定した輝度を表す。
また、輝度ＲＲとは、右眼用の画像を表示する光を白にし、左眼用の画像を表示する光を黒にした場合に、右眼用フィルム７５０を介して測定した輝度を表す。
さらに、輝度ＢＲとは、右眼用の画像を表示する光及び左眼用の画像を表示する光を両方とも黒にした場合に、右眼用フィルム７５０を介して測定した輝度を表す。
【０３９４】
さらに、右眼用フィルム７５０に代えて左眼用フィルム７６０を配置して、同様に、輝度ＬＬ、ＲＬ及びＢＬを測定した。このとき、下向きに見て、左眼用位相差フィルムの遅相軸の方向は＋１３５°方向、左眼用偏光板の透過軸の方向は０°方向となるようにし、第一実施形態で説明した左眼用レンズと同様の光学系を構成した（図２参照）。
ここで、輝度ＬＬは、右眼用の画像を表示する光を黒にし、左眼用の画像を表示する光を白にした場合に、左眼用フィルム７６０を介して測定した輝度を表す。
また、輝度ＲＬは、右眼用の画像を表示する光を白にし、左眼用の画像を表示する光を黒にした場合に、左眼用フィルム７６０を介して測定した輝度を表す。
さらに、輝度ＢＬは、右眼用の画像を表示する光及び左眼用の画像を表示する光を両方とも黒にした場合に、左眼用フィルム７６０を介して測定した輝度を表す。
【０３９５】
測定した輝度から、下記の式により、右眼のクロストーク率ＣＲ（％）、左眼のクロストーク率ＣＬ（％）、及び平均クロストーク率（％）を算出した。結果を表２に示す。
ＣＲ＝（ＬＲ−ＢＲ）／（ＲＲ−ＢＲ）
ＣＬ＝（ＲＬ−ＢＬ）／（ＬＬ−ＢＬ）
平均クロストーク率＝（ＣＬ＋ＣＲ）／２
【０３９６】
（色味ずれの評価）
クロストーク率の測定と同様の評価系を用いて、評価用ディスプレイ装置にパーソナルコンピュータより評価用画像を入力し、表示された画像を右眼用フィルム７５０及び左眼用フィルム７６０それぞれを介して色彩輝度計７４０で色度（ｘ，ｙ）を測定した。測定の際、右眼用の画像を表示する光及び左眼用の画像を表示する光は両方とも白にした。右眼用フィルム７５０を介して測定した色度と左眼用フィルム７６０を介して測定した色度との色度差ΔＥを算出し、これにより色味ずれの大きさを評価した。結果を表２に示す。
【０３９７】
［実施例２］
重合性液晶化合物として、製造例４で合成した化合物４を用いた。
また、積層位相差フィルム用の位相差フィルム、右眼用位相差フィルム及び左眼用位相差フィルムとして、実施例１とは別の位相差フィルム（日本ゼオン社製、製品名「斜め延伸ゼオノアフィルム」）を用いた。この位相差フィルムは、長手方向に対する配向角４５°、厚さ５０μｍ、測定波長５５０ｎｍでの面内位相差Ｒｅ１４０ｎｍ、面内における面内位相差Ｒｅのばらつき±１０ｎｍ以下であった。
以上の事項以外は実施例１と同様にして、右眼のクロストーク率ＣＲ（％）、左眼のクロストーク率ＣＬ（％）、及び平均クロストーク率（％）並びに色度差ΔＥを測定した。結果を表２に示す。
【０３９８】
［実施例３］
重合性液晶化合物として、製造例５で合成した化合物５を用いた。
また、積層位相差フィルム用の位相差フィルム、右眼用位相差フィルム及び左眼用位相差フィルムとして、実施例１とは別の位相差フィルム（日本ゼオン社製、製品名「斜め延伸ゼオノアフィルム」）を用いた。この位相差フィルムは、長手方向に対する配向角４５°、厚さ５０μｍ、測定波長５５０ｎｍでの面内位相差Ｒｅ１４０ｎｍ、面内における面内位相差Ｒｅのばらつき±１０ｎｍ以下であった。
以上の事項以外は実施例１と同様にして、右眼のクロストーク率ＣＲ（％）、左眼のクロストーク率ＣＬ（％）、及び平均クロストーク率（％）並びに色度差ΔＥを測定した。結果を表２に示す。
【０３９９】
［実施例４］
重合性液晶化合物として、製造例３で合成した化合物３を用いた。
また、積層位相差フィルム用の位相差フィルム、右眼用位相差フィルム及び左眼用位相差フィルムとして、実施例１とは別の位相差フィルム（日本ゼオン社製、製品名「斜め延伸ゼオノアフィルム」）を用いた。この位相差フィルムは、長手方向に対する配向角４５°、厚さ５０μｍ、測定波長５５０ｎｍでの面内位相差Ｒｅ１４０ｎｍ、面内における面内位相差Ｒｅのばらつき±１０ｎｍ以下であった。
以上の事項以外は実施例１と同様にして、右眼のクロストーク率ＣＲ（％）、左眼のクロストーク率ＣＬ（％）、及び平均クロストーク率（％）並びに色度差ΔＥを測定した。結果を表２に示す。
【０４００】
［実施例５］
積層位相差フィルム用の位相差フィルム、右眼用位相差フィルム及び左眼用位相差フィルムとして、実施例１とは別の位相差フィルム（日本ゼオン社製、製品名「斜め延伸ゼオノアフィルム」）を用いた。この位相差フィルムは、長手方向に対する配向角４５°、厚さ５０μｍ、測定波長５５０ｎｍでの面内位相差Ｒｅ１２５ｎｍ、面内における面内位相差Ｒｅのばらつき±１０ｎｍ以下であった。
また、パターン位相差フィルム層の厚みを変え、測定波長５５０ｎｍにおける第一領域の面内位相差Ｒｅを２５０ｎｍにした。
以上の事項以外は実施例１と同様にして、右眼のクロストーク率ＣＲ（％）、左眼のクロストーク率ＣＬ（％）、及び平均クロストーク率（％）並びに色度差ΔＥを測定した。結果を表２に示す。
【０４０１】
［実施例６］
積層位相差フィルム用の位相差フィルム、右眼用位相差フィルム及び左眼用位相差フィルムとして、実施例１とは別の位相差フィルム（日本ゼオン社製、製品名「斜め延伸ゼオノアフィルム」）を用いた。この位相差フィルムは、長手方向に対する配向角４５°、厚さ５０μｍ、測定波長５５０ｎｍでの面内位相差Ｒｅ１４０ｎｍ、面内における面内位相差Ｒｅのばらつき±１０ｎｍ以下であった。
以上の事項以外は実施例１と同様にして、右眼のクロストーク率ＣＲ（％）、左眼のクロストーク率ＣＬ（％）、及び平均クロストーク率（％）並びに色度差ΔＥを測定した。結果を表３に示す。
【０４０２】
［実施例７］
右眼用位相差フィルム及び左眼用位相差フィルムとして、ポリカーボネート製の位相差フィルムを用いた。この位相差フィルムは、長手方向に対する配向角４５°、厚さ４０μｍ、測定波長５５０ｎｍでの面内位相差Ｒｅ１４０ｎｍ、面内における面内位相差Ｒｅのばらつき±１０ｎｍ以下であった。
以上の事項以外は実施例６と同様にして、右眼のクロストーク率ＣＲ（％）、左眼のクロストーク率ＣＬ（％）、及び平均クロストーク率（％）並びに色度差ΔＥを測定した。結果を表３に示す。
【０４０３】
［実施例８］
重合性液晶化合物として、製造例４で合成した化合物４を用いた。
また、右眼用位相差フィルム及び左眼用位相差フィルムとして、ポリカーボネート製の位相差フィルムを用いた。この位相差フィルムは、長手方向に対する配向角４５°、厚さ４０μｍ、測定波長５５０ｎｍでの面内位相差Ｒｅ１２５ｎｍ、面内における面内位相差Ｒｅのばらつき±１０ｎｍ以下であった。
以上の事項以外は実施例６と同様にして、右眼のクロストーク率ＣＲ（％）、左眼のクロストーク率ＣＬ（％）、及び平均クロストーク率（％）並びに色度差ΔＥを測定した。結果を表３に示す。
【０４０４】
［実施例９］
評価用ディスプレイ装置をＴＮモードにし、位相差フィルム（日本ゼオン社製、製品名「横延伸ゼオノアフィルム」）を、長手方向に対する配向角９０°、厚さ５０μｍ、測定波長５５０ｎｍでの面内位相差Ｒｅ１４０ｎｍ、面内における面内位相差Ｒｅのばらつき±１０ｎｍ以下のものに変更し、それに対応して各フィルムの遅相軸及び透過軸を調整して、光学系を第２実施形態のように変更したこと以外は実施例１と同様の操作を行った。
すなわち、パターン位相差フィルム層の第一領域の面内の遅相軸方向を、基材フィルムの長手方向と４５°の角度をなす方向に変更した。また、（基材フィルム）−（パターン位相差フィルム層）の層構成を有する積層フィルムは、基材フィルム裏面側に長手方向と４５°の角度をなす方向にマスク層を有するものを、紫外線の照射後にバッチに打ち抜くことにより、矩形に切り取られたフィルムからマスク層を剥離して得た。
また、評価用ディスプレイ装置を、ＴＮモードのディスプレイ装置（ＩＯ−ＤＡＴＡ社製、ＬＣＤ−ＡＤ２０１ＸＧＢ、パネルはＩｎｎｏｌｕｘ社製  ＭＴ２００ＬＷ０１）に変更した。
また、評価系において、画像表示パネルの視認側偏光板の透過軸の方向を＋１３５°方向、位相差フィルムの遅相軸の方向を＋９０°方向、パターン位相差フィルム層の第一領域の遅相軸の方向を＋４５°方向に変更した。
また、評価用サンプルと色彩輝度計との間に右眼用フィルムを配置する際、右眼用位相差フィルムの遅相軸の方向を＋９０°方向、右眼用偏光板の透過軸の方向を＋４５°方向に変更した。
さらに、評価用サンプルと色彩輝度計との間に左眼用フィルムを配置する際、左眼用位相差フィルムの遅相軸の方向を０°方向、左眼用偏光板の透過軸の方向を＋４５°方向に変更した。
以上の事項以外は実施例１と同様にして、右眼のクロストーク率ＣＲ（％）、左眼のクロストーク率ＣＬ（％）、及び平均クロストーク率（％）並びに色度差ΔＥを測定した。結果を表３に示す。
【０４０５】
［比較例１］
重合性液晶化合物として、重合性液晶化合物（ＢＡＳＦ社製、製品名「ＬＣ２４２」）を用いた。
以上の事項以外は実施例１と同様にして、右眼のクロストーク率ＣＲ（％）、左眼のクロストーク率ＣＬ（％）、及び平均クロストーク率（％）並びに色度差ΔＥを測定した。結果を表３に示す。
【０４０６】
［比較例２］
重合性液晶化合物として、重合性液晶化合物（ＢＡＳＦ社製、製品名「ＬＣ２４２」）を用いた。
また、積層位相差フィルム用の位相差フィルム、右眼用位相差フィルム及び左眼用位相差フィルムとして、実施例１とは別の位相差フィルム（日本ゼオン社製、製品名「斜め延伸ゼオノアフィルム」）を用いた。この位相差フィルムは、長手方向に対する配向角４５°、厚さ５０μｍ、測定波長５５０ｎｍでの面内位相差Ｒｅ１２５ｎｍ、面内における面内位相差Ｒｅのばらつき±１０ｎｍ以下であった。
さらに、右眼用位相差フィルム及び左眼用位相差フィルムとして、ポリカーボネート製の位相差フィルムを用いた。この位相差フィルムは、長手方向に対する配向角４５°、厚さ４０μｍ、測定波長５５０ｎｍでの面内位相差Ｒｅ１２５ｎｍ、面内における面内位相差Ｒｅのばらつき±１０ｎｍ以下であった。
以上の事項以外は実施例１と同様にして、右眼のクロストーク率ＣＲ（％）、左眼のクロストーク率ＣＬ（％）、及び平均クロストーク率（％）並びに色度差ΔＥを測定した。結果を表３に示す。
【０４０７】
【表２】
2013003212.tif 000050
【０４０８】
【表３】
2013003212.tif 000051
【０４０９】
［検討］
実施例及び比較例を比べれば分かるように、実施例においてはクロストーク及び色味ずれの両方において良好な結果が得られていることから、本発明によれれば、クロストーク及び色味ずれの両方を抑制できることが確認された。
【０４１０】
［参考例１〜１２、並びに比較参考例１及び２］
製造例１〜１２で得られた化合物１〜１２、並びに、化合物１ｒ及び化合物２ｒのそれぞれを１ｇ、光重合開始剤としてイルガキュアー＃１９１９（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）を３０ｍｇ、界面活性剤としてＫＨ−４０（ＡＧＣセイミケミカル社製）の１％シクロペンタノン溶液１００ｍｇを、下記表４に示す所定量のシクロペンタノンに溶解した。この溶液を０．４５μｍの細孔径を有するディスポーサブルフィルターでろ過し、重合性組成物１〜１２、１ｒ及び２ｒを得た。
【０４１１】
得られた重合性組成物１〜１２、１ｒ及び２ｒにつき、下記の方法にて重合して高分子とし、その高分子について、位相差の測定と波長分散の評価を行った。
【０４１２】
〈位相差の測定と波長分散の評価〉
（ｉ）配向膜を有する透明樹脂基材の作製
厚み１００μｍの脂環式オレフィンポリマーからなるフィルム（日本ゼオン社製、商品名：ゼオノアフィルムＺＦ１６−１００）の両面をコロナ放電処理した。５％のポリビニルアルコールの水溶液を当該フィルムの片面に♯２のワイヤーバーを使用して塗布し、塗膜を乾燥し、膜厚０．１μｍの配向膜を形成した。次いで当該配向膜をラビング処理し、配向膜を有する透明樹脂基材を作製した。
【０４１３】
（ii）重合性組成物による液晶層の形成
得られた配向膜を有する透明樹脂基材の、配向膜を有する面に、重合性組成物１〜１２、１ｒ、２ｒを、♯４のワイヤーバーを使用して塗布した。塗膜を表４に示す温度で３０秒間乾燥した後、下記表４に示す温度で３分間配向処理し、膜厚約１μｍの液晶層を形成した。その後、液晶層の塗布面側から２０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して重合し、波長分散測定用の試料とした。
【０４１４】
（iii）位相差の測定
得られた試料につき、４００ｎｍから８００ｎｍ間の位相差を、エリプソメーター（Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製  ＸＬＳ−１００型）を用いて測定した。
【０４１５】
（iv）波長分散の評価
測定した位相差を用いて以下のように算出されるα値及びβ値から波長分散を評価した。
α  ＝  Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）
β  ＝  Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）
【０４１６】
広帯域性を示す理想的な波長分散性、即ち逆波長分散性を示す場合、αは１より小となり、βは１より大となる。フラットな波長分散を有している場合、αとβは同程度の値となる。一般的な通常分散を有している場合、αは１より大となり、βは１より小となる。
【０４１７】
即ち、αとβが同程度の値となるフラットな波長分散性が好ましく、αが１より小となり、βが１より大となる逆波長分散性が特に好ましい。
【０４１８】
【表４】
2013003212.tif 000052
【０４１９】
表４の結果から、参考例１〜１２では、得られた高分子は光学異方体であることが分かる。また、参考例１〜１２では、得られた光学異方体のαとβは同程度か、αが１より大であり、且つβが１より小であった。参考例１では、αが１より大であり、且つβが１より大となり特に好ましいものであることが分かる。
それに対し、参考比較例１及び参考比較例２では、αは１よりかなり大きく、βは１より小さいものであった。
【符号の説明】
【０４２０】
１０  立体画像表示システム
２０  立体画像表示システム
３０  立体画像表示システム
１００  ディスプレイ装置
１１０  光源
１２０  画像表示パネル
１２０Ｒ  領域
１２０Ｌ  領域
１２１  光源側偏光板
１２２  液晶セル
１２３  視認側偏光板
１３０  積層位相差フィルム
１３１  位相差フィルム
１３２  パターン位相差フィルム
１３２Ａ  第一領域
１３２Ｂ  第二領域
２００  偏光メガネ
２１０  右眼用レンズ
２１１  右眼用位相差フィルム
２１２  右眼用偏光板
２２０  左眼用レンズ
２２１  左眼用位相差フィルム
２２２  左眼用偏光板
３００  ディスプレイ装置
３１０  光源
３２０  画像表示パネル
３２０Ｒ  領域
３２０Ｌ  領域
３２１  光源側偏光板
３２２  液晶セル
３２３  視認側偏光板
３３０  積層位相差フィルム
３３１  位相差フィルム
３３２  パターン位相差フィルム
３３２Ａ  第一領域
３３２Ｂ  第二領域
４００  偏光メガネ
４１０  右眼用レンズ
４１１  右眼用位相差フィルム
４１２  右眼用偏光板
４２０  左眼用レンズ
４２１  左眼用位相差フィルム
４２２  左眼用偏光板
５００  ディスプレイ装置
５４０  光学フィルム
６００  偏光メガネ
６１０  右眼用レンズ
６１３  光学フィルム
６２０  左眼用レンズ
６２３  光学フィルム
７１０  画像表示パネル
７２０  評価用サンプル
７３０  原点
７４０  色彩輝度計
７５０  右眼用フィルム
７６０  左眼用フィルム
【図１】
2013003212.tif 000053
【図２】
2013003212.tif 000054
【図３】
2013003212.tif 000055
【図４】
2013003212.tif 000056
【図５】
2013003212.tif 000057
【図６】
2013003212.tif 000058
【図７】
2013003212.tif 000059
【図８】
2013003212.tif 000060