(57)【要約】【課題】足をより広い範囲で揺動させることのできる揺動装置およびこれを備える椅子型マッサージ機を提供する。【解決手段】脚揺動装置１７０には、脚Ｒを支持する脚支持部１６および足Ｆを支持する足支持部１７を含むオットマン１２と、脚Ｒおよび足Ｆを揺動させる揺動機構１８と、脚支持部１６に対して足支持部１７を移動させる移動機構６０とが設けられている。この脚揺動装置１７０によれば、足Ｆが足支持部１７に対して揺動することが許容される領域を足揺動領域として、移動機構６０により足支持部１７を脚支持部１６に対して前方に移動させることにより、足揺動領域を拡大することができる。【選択図】図２１
2013031628.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
脚を支持する脚支持部と、足を支持する足支持部と、脚を揺動させる揺動機構とを備え、足のうちの外側の部分および内側の部分の少なくとも一方に対応した足側壁が前記足支持部に設けられている脚揺動装置において、
足が前記足支持部に対して揺動することが許容される領域を足揺動領域として、この足揺動領域の大きさを変更する領域変更機構が設けられていること、
ならびに、前記足支持部の構成要素同士の相対的な動作を部分動作とし、前記脚支持部に対する前記足支持部の動作を全体動作として、前記領域変更機構が前記部分動作および前記全体動作の少なくとも一方を可能にするものであること
を特徴とする脚揺動装置。
【請求項２】
請求項１に記載の脚揺動装置において、
前記全体動作として、前記足支持部が前記脚支持部に対して前記足揺動領域を拡大する方向に移動する動作、および前記足支持部が前記脚支持部に対して前記足揺動領域を拡大する方向に回転する動作の少なくとも一方が可能であること
を特徴とする脚揺動装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の脚揺動装置において、
足裏と対向する足底壁が前記足支持部に設けられていること、
ならびに、前記部分動作として、前記足底壁が前記足側壁に対して前記足揺動領域を拡大する方向に移動する動作、および前記足底壁が前記足側壁に対して前記足揺動領域を拡大する方向に回転する動作の少なくとも一方が可能であること
を特徴とする脚揺動装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の揺動装置において、
足裏と対向する足底壁が前記足支持部に設けられていること、
ならびに、前記部分動作として、前記足側壁が前記足底壁に対して前記足揺動領域を拡大する方向に回転する動作、および前記足側壁が前記足底壁に対して前記足揺動領域を拡大する方向に移動する動作の少なくとも一方が可能であること
を特徴とする脚揺動装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の脚揺動装置において、
前記揺動機構が前記脚支持部に設けられていること
を特徴とする脚揺動装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の脚揺動装置において、
前記領域変更機構として、前記足支持部をアクチュエータにより駆動するものが設けられていること
を特徴とする脚揺動装置。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の脚揺動装置において、
前記脚支持部および前記足支持部の少なくとも一方は、左足の指先と右足の指先との間隔を拡大させる揺動間隔拡大機構を有すること
を特徴とする脚揺動装置。
【請求項８】
請求項７に記載の脚揺動装置において、
前記脚支持部のうちの脹脛に対応する部分、前記足支持部のうちの踵に対応する部分の少なくとも一方は、左足の指先および右足の指先が互いに離間する方向に足または脚が傾く構造を有すること
を特徴とする脚揺動装置。
【請求項９】
請求項７または８に記載の脚揺動装置において、
前記足側壁は、少なくとも足のうちの外側の部分に対応すること、
前記脚支持部は、脚の外側の部分に対応した脚側壁を含むこと、
ならびに、前記足側壁および前記脚側壁の少なくとも一方は、基端部分から先端部分に向かうにつれて前記脚揺動装置の内側から外側に向けて傾斜する構造を有すること
を特徴とする脚揺動装置。
【請求項１０】
臀部を支持する座部と背中を支持する背もたれとを含む椅子型マッサージ機において、
請求項１〜９のいずれか一項に記載の脚揺動装置が設けられていること
を特徴とする椅子型マッサージ機。
【請求項１１】
請求項１０に記載の椅子型マッサージ機において、
身体を施術する施術機構が前記座部および前記背もたれ部の少なくとも一方に設けられていること
を特徴とする椅子型マッサージ機。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、脚を支持する脚支持部と、足を支持する足支持部と、脚を揺動させる揺動機構とを備える脚揺動装置およびこれを備える椅子型マッサージ機に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば特許文献１に記載されるように、従来の椅子型マッサージ機には、脚を支持するオットマンと、臀部を支持する座部と、背中を支持する背もたれと、身体を揺動させる揺動機構とが設けられている。このマッサージ機において揺動機構により座部が揺動させられたときには、臀部の揺動が脚および足に揺動が伝達されることにより脚および足も揺動する。
【０００３】
図５９を参照して、従来のオットマンの具体的な構成について説明する。
図５９（ａ）に示されるように、オットマン５００には、足裏が接触する底壁５１０と、両脚を外側から覆う側壁５２０と、各脚の間に設けられる中央壁５３０と、底壁５１０、側壁５２０および中央壁５３０を連結する裏壁５４０とが設けられている。
【０００４】
図５９（ｂ）に示されるように、底壁５１０において足裏に対応する部分には、エアバッグ５５１が設けられている。また、側壁５２０において脚に対応する部分には、エアバッグ５５２が設けられている。また、側壁５２０において足に対応する部分には、エアバッグ５５３が設けられている。また、側壁５２０においてかかとに対応する部分には、エアバッグ５５４が設けられている。また、中央壁５３０において足に対応する部分には、エアバッグ５５５が設けられている。また、裏壁５４０においてふくらはぎに対応する部分には、エアバッグ５５６が設けられている。
【０００５】
上記椅子型マッサージ機においては、エアポンプによりエアバッグ５５１〜５５６を膨張および収縮させることにより、脚および足がもみほぐされる。また、揺動機構により座部が揺動することにより脚および足の揺動にともない身体がほぐされる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００８−２９６６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、身体をほぐす効果を高めるためには、足の揺動量を大きくすることが望ましい。しかし、図５９に示されるオットマン５００においては、足の揺動範囲が側壁５２０および中央壁５３０により制限されているため、身体をほぐす点について改善の余地が残されている。
【０００８】
本発明はこのような実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、足をより広い範囲で揺動させることのできる脚揺動装置およびこれを備える椅子型マッサージ機を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するための手段を以下に記載する。
・本発明の脚揺動装置は、脚を支持する脚支持部と、足を支持する足支持部と、脚を揺動させる揺動機構とを備え、足のうちの外側の部分および内側の部分の少なくとも一方に対応した足側壁が前記足支持部に設けられ、足が前記足支持部に対して揺動することが許容される領域を足揺動領域として、この足揺動領域の大きさを変更する領域変更機構が設けられていること、ならびに、前記足支持部の構成要素同士の相対的な動作を部分動作とし、前記脚支持部に対する前記足支持部の動作を全体動作として、前記領域変更機構が前記部分動作および前記全体動作の少なくとも一方を可能にするものであることを特徴としている。
【００１０】
・この脚揺動装置においては、前記全体動作として、前記足支持部が前記脚支持部に対して前記足揺動領域を拡大する方向に移動する動作、および前記足支持部が前記脚支持部に対して前記足揺動領域を拡大する方向に回転する動作の少なくとも一方が可能であることが好ましい。
【００１１】
・この脚揺動装置においては、足裏と対向する足底壁が前記足支持部に設けられていること、ならびに、前記部分動作として、前記足底壁が前記足側壁に対して前記足揺動領域を拡大する方向に移動する動作、および前記足底壁が前記足側壁に対して前記足揺動領域を拡大する方向に回転する動作の少なくとも一方が可能であることが好ましい。
【００１２】
・この脚揺動装置においては、足裏と対向する足底壁が前記足支持部に設けられていること、ならびに、前記部分動作として、前記足側壁が前記足底壁に対して前記足揺動領域を拡大する方向に回転する動作、および前記足側壁が前記足底壁に対して前記足揺動領域を拡大する方向に移動する動作の少なくとも一方が可能であることが好ましい。
【００１３】
・この脚揺動装置においては、前記揺動機構が前記脚支持部に設けられていることが好ましい。
・この脚揺動装置においては、前記領域変更機構として、前記足支持部をアクチュエータにより駆動するものが設けられていることが好ましい。
【００１４】
・この脚揺動装置においては、前記脚支持部および前記足支持部の少なくとも一方は、左足の指先と右足の指先との間隔を拡大させる揺動間隔拡大機構を有することが好ましい。
【００１５】
・この脚揺動装置においては、前記脚支持部のうちの脹脛に対応する部分、前記足支持部のうちの踵に対応する部分の少なくとも一方は、左足の指先および右足の指先が互いに離間する方向に足または脚が傾く構造を有することが好ましい。
【００１６】
・この脚揺動装置においては、前記足側壁は、少なくとも足のうちの外側の部分に対応すること、前記脚支持部は、脚の外側の部分に対応した脚側壁を含むこと、ならびに、前記足側壁および前記脚側壁の少なくとも一方は、基端部分から先端部分に向かうにつれて前記脚揺動装置の内側から外側に向けて傾斜する構造を有することが好ましい。
【００１７】
・本発明の椅子型マッサージ機は、臀部を支持する座部と、背中を支持する背もたれとを含み、前記脚揺動装置が設けられていることを特徴としている。
・この椅子型マッサージ機においては、身体を施術する施術機構が前記座部および前記背もたれ部の少なくとも一方に設けられていることが好ましい。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、足をより広い範囲で揺動させることができる脚揺動装置およびこれを備える椅子型マッサージ機を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の第１実施形態の椅子型マッサージ機について、その側面構造を示す側面図。
【図２】同実施形態の椅子型マッサージ機について、（ａ）は同マッサージ機の正面構造を示す正面図、（ｂ）はオットマンの正面構造を示す正面図。
【図３】同実施形態の椅子型マッサージ機の制御構成を示すブロック図。
【図４】同実施形態のオットマンについて、（ａ）および（ｂ）は側面構造を示す側面図、（ｃ）は移動機構の底面構造を示す底面図。
【図５】本発明の第２実施形態の椅子型マッサージ機について、オットマンの側面構造を示す側面図。
【図６】同実施形態のオットマンの駆動機構について、（ａ）は平面構造を示す平面図、（ｂ）および（ｃ）は側面構造を示す側面図。
【図７】本発明の第３実施形態の椅子型マッサージ機について、オットマンの側面構造を示す側面図。
【図８】同実施形態のオットマンの昇降機構について、（ａ）は正面構造を示す正面図、（ｂ）は（ａ）の矢視Ａから見た側面構造を示す側面図。
【図９】本発明の第４実施形態の椅子型マッサージ機について、オットマンの側面構造を示す側面図。
【図１０】同実施形態のオットマンの回転移動機構について、（ａ）は底面構造を示す底面図、（ｂ）および（ｃ）は側面構造を示す側面図。
【図１１】本発明の第５実施形態の椅子型マッサージ機について、（ａ）および（ｃ）は足支持部の正面構造を示す正面図、（ｂ）および（ｄ）は足支持部の側面構造を示す側面図。
【図１２】本発明の第６実施形態の椅子型マッサージ機について、（ａ）および（ｃ）は足支持部の正面構造を示す正面図、（ｂ）および（ｄ）は足支持部の側面構造を示す側面図。
【図１３】本発明の第７実施形態の椅子型マッサージ機について、（ａ）および（ｃ）は足支持部の正面構造を示す正面図、（ｂ）および（ｄ）は足支持部の平面構造を示す平面図。
【図１４】本発明の第８実施形態の椅子型マッサージ機について、（ａ）および（ｃ）は足支持部の正面構造を示す正面図、（ｂ）および（ｄ）は足支持部の側面構造を示す側面図。
【図１５】本発明の第９実施形態の椅子型マッサージ機について、（ａ）および（ｃ）は足支持部の正面構造を示す正面図、（ｂ）および（ｄ）は足支持部の平面構造を示す平面図。
【図１６】本発明の第１０実施形態の椅子型マッサージ機について、（ａ）および（ｃ）は足支持部の正面構造を示す正面図、（ｂ）および（ｄ）は足支持部の側面構造を示す側面図。
【図１７】本発明の第１１実施形態の椅子型マッサージ機について、（ａ）および（ｃ）は足支持部の正面構造を示す正面図、（ｂ）および（ｄ）は足支持部の側面構造を示す側面図、（ｅ）は平面構造を示す平面図。
【図１８】本発明の第１２実施形態の椅子型マッサージ機について、（ａ）および（ｃ）は足支持部の正面構造を示す正面図、（ｂ）および（ｄ）は足支持部の側面構造を示す側面図。
【図１９】本発明の第１３実施形態の椅子型マッサージ機について、足支持部の平面構造を示す平面図。
【図２０】本発明の第１４実施形態の椅子型マッサージ機について、足支持部の断面構造を示す断面図。
【図２１】本発明の第１５実施形態の脚揺動装置としてのオットマンについて、その側面構造を示す側面図。
【図２２】本発明の第１６実施形態の脚揺動装置としてのオットマンについて、その側面構造を示す側面図。
【図２３】本発明の第１７実施形態の脚揺動装置としてのオットマンについて、その側面構造を示す側面図。
【図２４】本発明の第１８実施形態の脚揺動装置としてのオットマンについて、（ａ）は同装置を備える寝台の全体構造を模式的に示す模式図、（ｂ）は同寝台の平面構造を示す平面図。
【図２５】本発明のその他の実施形態の椅子型マッサージ機について、足支持部の側面構造を示す側面図。
【図２６】本発明のその他の実施形態の椅子型マッサージ機について、足支持部の側面構造を示す側面図。
【図２７】本発明のその他の実施形態の椅子型マッサージ機について、足支持部の側面構造を示す側面図。
【図２８】本発明のその他の実施形態の椅子型マッサージ機について、足支持部の正面構造を示す正面図。
【図２９】本発明のその他の実施形態の椅子型マッサージ機について、足支持部の正面構造を示す正面図。
【図３０】本発明のその他の実施形態の椅子型マッサージ機について、足支持部の側面構造を示す側面図。
【図３１】本発明のその他の実施形態の椅子型マッサージ機について、足支持部の側面構造を示す側面図。
【図３２】本発明のその他の実施形態の椅子型マッサージ機について、足支持部の正面構造を示す正面図。
【図３３】本発明のその他の実施形態の椅子型マッサージ機について、足支持部の正面構造を示す正面図。
【図３４】本発明のその他の実施形態の椅子型マッサージ機について、足支持部の正面構造を示す正面図。
【図３５】本発明のその他の実施形態の椅子型マッサージ機について、足支持部の平面構造を示す平面図。
【図３６】本発明のその他の実施形態の椅子型マッサージ機について、足支持部の平面構造を示す平面図。
【図３７】本発明のその他の実施形態の椅子型マッサージ機について、足支持部の平面構造を示す平面図。
【図３８】本発明のその他の実施形態の椅子型マッサージ機について、足支持部の側面構造を示す側面図。
【図３９】本発明のその他の実施形態の椅子型マッサージ機について、足支持部の側面構造を示す側面図。
【図４０】本発明のその他の実施形態の椅子型マッサージ機について、足支持部の正面構造を示す正面図。
【図４１】本発明のその他の実施形態の椅子型マッサージ機について、足支持部の正面構造を示す正面図。
【図４２】本発明のその他の実施形態の椅子型マッサージ機について、足支持部の平面構造を示す平面図。
【図４３】本発明のその他の実施形態の椅子型マッサージ機について、足支持部の平面構造を示す平面図。
【図４４】本発明のその他の実施形態の椅子型マッサージ機について、足支持部の側面構造を示す側面図。
【図４５】本発明のその他の実施形態の椅子型マッサージ機について、足支持部の正面構造を示す正面図。
【図４６】本発明のその他の実施形態の椅子型マッサージ機について、足支持部の平面構造を示す平面図。
【図４７】本発明のその他の実施形態の椅子型マッサージ機について、足支持部の断面構造を示す断面図。
【図４８】本発明のその他の実施形態の椅子型マッサージ機について、足支持部の断面構造を示す断面図。
【図４９】本発明のその他の実施形態の椅子型マッサージ機について、足支持部の断面構造を示す断面図。
【図５０】本発明のその他の実施形態の椅子型マッサージ機について、足支持部の平面構造を示す平面図。
【図５１】本発明のその他の実施形態の脚揺動装置としてのオットマンについて、その使用状態においての側面構造を示す側面図。
【図５２】本発明のその他の実施形態の椅子型マッサージ機について、（ａ）はオットマンの正面構造を示す正面図、（ｂ）は（ａ）のＴ−Ｔ線の断面構造を示す断面図。
【図５３】本発明のその他の実施形態の椅子型マッサージ機について、脚支持部の断面構造を示す断面図。
【図５４】本発明のその他の実施形態の椅子型マッサージ機について、脚支持部の断面構造を示す断面図。
【図５５】本発明のその他の実施形態の椅子型マッサージ機について、（ａ）はオットマンの正面構造を示す正面図、（ｂ）は（ａ）のＳ−Ｓ線の断面構造を示す断面図。
【図５６】本発明のその他の実施形態の椅子型マッサージ機について、脚支持部の平面構造を示す平面図。
【図５７】本発明のその他の実施形態の椅子型マッサージ機について、オットマンの正面構造を示す正面図。
【図５８】比較例としての椅子型マッサージ機の側面構造を示す側面図。
【図５９】従来のオットマンについて、（ａ）はその斜視構造を示す斜視図、（ｂ）はその正面構造を示す正面図。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
（第１実施形態）
図１〜図４を参照して、本発明の第１実施形態について説明する。
図１に示されるように、椅子型マッサージ機（以下、「マッサージ機１」）には、臀部を支持する座部１１と、脚Ｒおよび足Ｆを支持するオットマン１２と、背中を支持する背もたれ１３と、腕を支持する一対の肘掛１４とが設けられている。
【００２１】
座部１１には、床面２に載せられる一対の支持脚１５が設けられている。座部１１の一端部には、オットマン１２が接続されている。座部１１の他端部には、背もたれ１３が接続されている。オットマン１２には、脚Ｒの下腿を支持する脚支持部１６と、足Ｆを支持する足支持部１７とが設けられている。
【００２２】
以下の説明では、床面２に直交する方向を「上下方向Ｚ」とし、上下方向Ｚのうちの床面２から離れる方向を「上方」とし、上下方向Ｚにおいて床面２に近づく方向を「下方」とする。
【００２３】
また、マッサージ機１の幅方向を「左右方向Ｙ」とし、左右方向Ｙにおいてマッサージ機１に着座した使用者から見て左側に向かう方向を「左方」とし、左右方向Ｙにおいて同使用者から見て右側に向かう方向を「右方」とする。
【００２４】
また、上下方向Ｚおよび左右方向Ｙに直交する方向を「前後方向Ｘ」とし、前後方向Ｘにおいて背もたれ１３からオットマン１２に向かう方向を「前方」とし、前後方向Ｘにおいてオットマン１２から背もたれ１３に向かう方向を「後方」とする。
【００２５】
マッサージ機１には、各部分を構成するフレームとして、座部１１を支持する座フレーム１１Ａと、オットマン１２を支持する脚フレーム１２Ａと、背もたれ１３を支持する背フレーム１３Ａとが設けられている。
【００２６】
座フレーム１１Ａの前方の端部には、左右方向Ｙに沿うように回転軸１１Ｂが設けられている。座フレーム１１Ａの後方の端部には、左右方向Ｙに沿うように回転軸１１Ｃが設けられている。回転軸１１Ｂには、同軸１１Ｂに対する回転が可能な状態で脚フレーム１２Ａが取り付けられている。回転軸１１Ｃには、同軸１１Ｃに対する回転が可能な状態で背フレーム１３Ａが取り付けられている。
【００２７】
オットマン１２には、オットマン１２を座部１１に対して左右方向Ｙに揺動させる揺動機構１８が設けられている。なお、オットマン１２および揺動機構１８は「脚揺動装置」に相当する。
【００２８】
以下の説明では、上下方向Ｚおよび前後方向Ｘをそれぞれ縦軸および横軸とする仮想の平面を基準面としたとき、マッサージ機１においてこの基準面と平行な断面を基準断面とする。
【００２９】
また、基準断面において、座フレーム１１Ａの中心線と脚フレーム１２Ａの中心線とが成す角を「脚フレーム回転角ＴＡ」とし、座フレーム１１Ａの中心線と背フレーム１３Ａの中心線とが成す角を「背フレーム回転角ＴＢ」とする。
【００３０】
脚フレーム回転角ＴＡは、座フレーム１１Ａに対する脚フレーム１２Ａの回転位置を示すパラメータに相当する。背フレーム回転角ＴＢは、座フレーム１１Ａに対する背フレーム１３Ａの回転位置を示すパラメータに相当する。
【００３１】
脚フレーム１２Ａの動作について説明する。
座フレーム１１Ａに対する脚フレーム１２Ａの姿勢は、以下の「平行姿勢」、「下方傾斜姿勢」、および「上方傾斜姿勢」の３つに分類される。
（ａ）平行姿勢は、脚フレーム１２Ａの中心線が座フレーム１１Ａの中心線に平行しているときの脚フレーム１２Ａの姿勢を示す。
（ｂ）下方傾斜姿勢は、脚フレーム１２Ａの中心線が座フレーム１１Ａの中心線に対して後方から前方に向かうにつれて上方から下方に向けて傾斜した脚フレーム１２Ａの姿勢を示す。
（ｃ）上方傾斜姿勢は、脚フレーム１２Ａの中心線が座フレーム１１Ａの中心線に対して後方から前方に向かうにつれて下方から上方に向けて傾斜した脚フレーム１２Ａの姿勢を示す。
【００３２】
脚フレーム回転角ＴＡは次のように変更される。
脚フレーム１２Ａが平行姿勢のとき、脚フレーム回転角ＴＡは「０°」となる。脚フレーム１２Ａが下方傾斜姿勢のとき、脚フレーム回転角ＴＡは正の角度となる。脚フレーム１２Ａが上方傾斜姿勢のとき、脚フレーム回転角ＴＡは負の角度となる。
【００３３】
脚フレーム回転角ＴＡについて、正の角度のうちの最も大きい角度を「正の最大回転角度ＴＡＰ」とし、負の角度のうちの最も大きい角度を「負の最大回転角度ＴＡＮ」とする。このとき、脚フレーム回転各ＴＡは正の最大回転角度ＴＡＰから負の最大回転角度ＴＡＮまでの範囲で変更することができる。マッサージ機１においては、正の最大回転角度ＴＡＰの絶対値が負の最大回転角度ＴＡＮの絶対値よりも大きく設定されている。
【００３４】
背フレーム１３Ａの動作について説明する。
座フレーム１１Ａに対する背フレーム１３Ａの姿勢は、以下の「直立姿勢」、「後方傾斜姿勢」、および「平行姿勢」の３つに分類される。
（ａ）直立姿勢は、背フレーム１３Ａの中心線が座フレーム１１Ａの中心線に対して直交しているときの背フレーム１３Ａの姿勢を示す。
（ｂ）後方傾斜姿勢は、背フレーム１３Ａの中心線が座フレーム１１Ａの中心線に対して下方から上方に向かうにつれて前方から後方に向けて傾斜した背フレーム１３Ａの姿勢を示す。
（ｃ）平行姿勢は、背フレーム１３Ａの中心線が座フレーム１１Ａの中心線に平行しているときの背フレーム１３Ａの姿勢を示す。
【００３５】
背フレーム回転角ＴＢは次のように変更される。
背フレーム１３Ａが直立姿勢のとき、背フレーム回転角ＴＢは「９０°」となる。背フレーム１３Ａが後方傾斜姿勢のとき、背フレーム回転角ＴＢは正の角度となる。背フレーム１３Ａが平行姿勢のとき、背フレーム回転角ＴＢは「０°」となる。背フレーム回転角ＴＢは、「０°」から「９０°」までの範囲で変更することができる。
【００３６】
以下の説明では、マッサージ機１の右側面視において、回転軸１１Ｂまわりにおいての脚フレーム１２Ａの反時計方向の回転を「脚フレーム１２Ａの上昇方向への回転」とする。また、回転軸１１Ｂまわりにおいての脚フレーム１２Ａの時計回りの回転を「脚フレーム１２Ａの下降方向への回転」とする。
【００３７】
また、回転軸１１Ｂまわりにおいての背フレーム１３Ａの反時計回りの回転を「背フレーム１３Ａの下降方向への回転」とし、回転軸１１Ｂまわりにおいての背フレーム１３Ａの時計回りの回転を「背フレーム１３Ａの上昇方向への回転」とする。
【００３８】
座フレーム１１Ａの下方には、脚フレーム回転角ＴＡを変更する第１角度調整機構２１と、背フレーム回転角ＴＢを変更する第２角度調整機構２４とが設けられている。
第１角度調整機構２１には、駆動源となる第１モータ２２と、第１モータ２２の出力軸に接続される第１ボールねじ２３とが設けられている。
【００３９】
第２角度調整機構２４には、駆動源となる第２モータ２５と、第２モータ２５の出力軸に接続される第２ボールねじ２６とが設けられている。
背もたれ１３の左右方向Ｙの中央部には、腰、背中、肩、および首を施術する揉み玉機構２７が設けられている。揉み玉機構２７には、身体に接触する揉み玉２８と、揉み玉２８を駆動させるアクチュエータ２９とが設けられている。
【００４０】
第１角度調整機構２１による脚フレーム１２Ａの角度調整について説明する。
第１モータ２２が正回転するとき、第１ボールねじ２３が正回転するとともに前方に向けて移動する。このとき、第１ボールねじ２３と脚フレーム１２Ａとの接続部分が前方に移動することにより、脚フレーム１２Ａが回転軸１１Ｂまわりにおいて上昇方向に回転するため、脚フレーム回転角ＴＡが次第に小さくなる。
【００４１】
第１モータ２２が逆回転するとき、第１ボールねじ２３が逆回転するとともに後方に向けて移動する。このとき、第１ボールねじ２３と脚フレーム１２Ａとの接続部分が後方に移動することにより、脚フレーム１２Ａが回転軸１１Ｂまわりにおいて下降方向に回転するため、脚フレーム回転角ＴＡが次第に大きくなる。
【００４２】
第２角度調整機構２４による背フレーム１３Ａの角度調整について説明する。
第２モータ２５が正回転するとき、第２ボールねじ２６が正回転するとともに前方に向けて移動する。このとき、第２ボールねじ２６と背フレーム１３Ａとの接続部分が前方に移動することにより、背フレーム１３Ａが回転軸１１Ｃまわりにおいて下降方向に回転するため、背フレーム回転角ＴＢが次第に小さくなる。
【００４３】
第２モータ２５が逆回転するとき、第２ボールねじ２６が逆回転するとともに後方に向けて移動する。このとき、第２ボールねじ２６と背フレーム１３Ａとの接続部分が後方に移動することにより、背フレーム１３Ａが回転軸１１Ｃまわりにおいて上昇方向に回転するため、背フレーム回転角ＴＢが次第に大きくなる。
【００４４】
図２を参照して、オットマン１２の構成について説明する。
図２（ａ）に示されるように、オットマン１２の脚支持部１６および足支持部１７は、座部１１の前面において座部１１の左右方向Ｙの全体にわたり座部１１に対応して設けられている。
【００４５】
図２（ｂ）に示されるように、脚支持部１６には、脚支持部１６の後方の端部に設けられた脚裏壁４１と、脚支持部１６の左右方向Ｙの両端部に設けられた脚側壁４２と、脚支持部１６の左右方向Ｙの中央部に設けられた脚中央壁４３とが設けられている。各脚側壁４２および脚中央壁４３は、脚裏壁４１から前方に向けて突出している。
【００４６】
脚支持部１６においては、脚裏壁４１と右方の脚側壁４２と脚中央壁４３とにより右脚を収容する脚収容空間４４が形成されている。また、脚裏壁４１と左方の脚側壁４２と脚中央壁４３とにより左脚を収容する脚収容空間４４が形成されている。
【００４７】
足支持部１７には、足裏が接触する足底壁４５と、足支持部１７の左右方向Ｙの両端部に設けられた足側壁４６と、足支持部１７の左右方向Ｙの中央部に設けられた足中央壁４７と、かかとに対応する足裏壁４９とが設けられている。各足側壁４６および足中央壁４７は、足底壁４５から上方に向けて突出している。
【００４８】
足支持部１７においては、足底壁４５と右方の足側壁４６と足中央壁４７とにより右足を収容する足収容空間４８が形成されている。また、足底壁４５と左方の足側壁４６と足中央壁４７とにより左足を収容する足収容空間４８が形成されている。なお、足側壁４６および足中央壁４７は「足側壁」に相当する。
【００４９】
図２（ａ）を参照して、マッサージ機１のエアバッグの配置態様について説明する。
座部１１の内部には、臀部に対応した一対のエアバッグ５１が設けられている。オットマン１２の内部には、脚および足に対応した複数のエアバッグ５３〜５８が設けられている。背もたれ１３の内部には、背中に対応した一対のエアバッグ５２が設けられている。各肘掛１４の内部には、腕に対応したエアバッグ５９が設けられている。
【００５０】
図２（ｂ）を参照して、オットマン１２のエアバッグの配置態様について説明する。
脚支持部１６の脚裏壁４１の内部には、左右の下腿のそれぞれに対応した一対のエアバッグ５３が設けられている。また、各脚側壁４２の内部には、左右の下腿のそれぞれに対応したエアバッグ５４が設けられている。また、脚中央壁４３の内部には、左右の下腿のそれぞれに対応した一対のエアバッグ５５が設けられている。
【００５１】
また、足支持部１７の足底壁４５の内部には、左右の足裏のそれぞれに対応した一対のエアバッグ５６が設けられている。また、各足側壁４６の内部には、左右の足のそれぞれに対応した一対のエアバッグ５７がそれぞれ設けられている。また、足中央壁４７の内部には、左右の足のそれぞれに対応した一対のエアバッグ５８が設けられている。
【００５２】
各エアバッグ５７は、各足の外側においてかかとから足の指先に対応する部分までにわたり設けられている。各エアバッグ５８は、各足の内側においてかかとから足の指先に対応する部分までにわたり設けられている。
【００５３】
図３を参照して、マッサージ機１の制御機構について説明する。
マッサージ機１には、以下の各施術機構が設けられている。
座部１１には、エアバッグ５１の膨張および収縮を制御する臀部施術機構３４が設けられている。背もたれ１３には、エアバッグ５２の膨張および収縮を制御する背中施術機構３５が設けられている。オットマン１２には、各エアバッグ５３〜５５の膨張および収縮を制御する脚施術機構３６と、各エアバッグ５６〜５８の膨張および収縮を制御する足施術機構３７とが設けられている。肘掛１４には、エアバッグ５９の膨張および収縮を制御する腕施術機構３８が設けられている。
【００５４】
各施術機構３４〜３８には、対応するエアバッグにエアを供給するためのエアポンプと、エアポンプから対応するエアバッグへのエアの供給量を調整するための電磁弁とが設けられている（いずれも図示略）。なお、各エアバッグ５１〜５９、エアポンプ、および電磁弁は「施術機構」に相当する。
【００５５】
マッサージ機１には、座部１１、オットマン１２、背もたれ１３、および肘掛１４の各機構と、各部分に電力を供給する電源３１と、各部分の制御を行う制御装置３２と、使用者が各部分を操作するためのコントローラ３３とが設けられている。
【００５６】
制御装置３２は、座部１１の臀部施術機構３４と、オットマン１２の揺動機構１８、第１角度調整機構２１、脚施術機構３６、および足施術機構３７と、背もたれ１３の第２角度調整機構２４、揉み玉機構２７、および背中施術機構３５と、肘掛１４の腕施術機構３８とのそれぞれの制御を行う。
【００５７】
揺動機構１８の制御は次のように行われる。
制御装置３２は、コントローラ３３から揺動機構１８の動作を停止する旨の信号を受信したとき、揺動機構１８を停止する。また、コントローラ３３から揺動機構１８の動作を実行する旨の信号を受信したとき、揺動機構１８を揺動させる。また、コントローラ３３から揺動機構１８の揺動量を変更する旨の信号を受信したとき、揺動機構１８の揺動量を変更する。また、コントローラ３３から揺動機構１８の揺動速度を変更する旨の信号を受信したとき、揺動機構１８の揺動速度を変更する。なお、他の機構についても上記と同様に、コントローラ３３から制御装置３２に送信される信号に応じて制御が行われる。
【００５８】
図３を参照して、マッサージ機１の動作モードについて説明する。
マッサージ機１の動作モードとしては、以下の第１１モード〜第１８モードが予め用意されている。制御装置３２は、コントローラ３３の操作に応じてマッサージ機１の動作モードを選択し、選択した動作モードに応じて各機構を制御する。
【００５９】
各動作モードの説明にあたり各用語を下記のとおり定義する。
・「エアバッグ駆動」は、各エアバッグ５１〜５９が動作している状態を示す。
・「エアバッグ停止」は、各エアバッグ５１〜５９が停止している状態を示す。
・「オットマン揺動」は、オットマン１２が揺動している状態を示す。
・「オットマン停止」は、オットマン１２が停止している状態を示す。
・「施術実行」は、揉み玉機構２７が動作している状態を示す。
・「施術停止」は、揉み玉機構２７が停止している状態を示す。
【００６０】
各動作モードにおいては以下のように各機構が制御される。
（Ａ）第１１モードでは、エアバッグ駆動、オットマン揺動、かつ施術実行となる。
（Ｂ）第１２モードでは、エアバッグ駆動、オットマン揺動、かつ施術停止となる。
（Ｃ）第１３モードでは、エアバッグ駆動、オットマン停止、かつ施術実行となる。
（Ｄ）第１４モードでは、エアバッグ駆動、オットマン停止、かつ施術停止となる。
（Ｅ）第１５モードでは、エアバッグ停止、オットマン揺動、かつ施術実行となる。
（Ｆ）第１６モードでは、エアバッグ停止、オットマン揺動、かつ施術停止となる。
（Ｇ）第１７モードでは、エアバッグ停止、オットマン停止、かつ施術実行となる。
（Ｈ）第１８モードでは、エアバッグ停止、オットマン停止、かつ施術停止となる。
【００６１】
図４を参照して、オットマン１２の移動機構６０の構成について説明する。なお図４は、マッサージ機１について、図１の第１角度調整機構２１により脚フレーム１２Ａが平行姿勢に保たれた状態を示している。
【００６２】
図４（ａ）に示されるように、オットマン１２には、足支持部１７の全体を脚支持部１６に対して前後方向Ｘに移動させるための移動機構６０が設けられている。なお、移動機構６０は「領域変更機構」に相当する。
【００６３】
図４（ｃ）に示されるように、移動機構６０には、脚裏壁４１の背面に固定された平板状の取付フレーム６１と、取付フレーム６１に対して前後方向Ｘに移動するシャフト６２とが設けられている。
【００６４】
取付フレーム６１には、前後方向Ｘに延びる貫通孔６１Ａが形成されている。貫通孔６１Ａには、シャフト６２が挿入されている。シャフト６２の前方の端部は、足支持部１７に固定されている。
【００６５】
オットマン１２には、脚支持部１６に対して移動した足支持部１７を使用者の操作により基準位置に戻すための復帰機構が設けられている（図示略）。この復帰機構は、例えば座部１１において、マッサージ機１に着座した使用者の手が届く位置に設けられる。
【００６６】
使用者は、足Ｆまたは手により足支持部１７を前方に押すことにより、脚支持部１６に対する足支持部１７の位置を図４（ａ）の「基準位置」から図４（ｂ）の「開放位置」に変更することができる。また、手により復帰機構を操作することにより、脚支持部１６に対する足支持部１７の位置を開放位置から基準位置に変更することができる。このため、揺動機構１８によりオットマン１２を揺動させる動作が行なわれるとき、足支持部１７の位置を開放位置に設定することができる。
【００６７】
図４（ａ）に示されるように、足支持部１７の位置が基準位置のとき、脚支持部１６に対する足支持部１７の移動可能範囲において足支持部１７が脚支持部１６に最も接近している。
【００６８】
図４（ｂ）に示されるように、足支持部１７の位置が開放位置のとき、脚支持部１６に対する足支持部１７の移動可能範囲において足支持部１７が脚支持部１６から最も離間している。
【００６９】
オットマン１２の使用形態について説明する。
マッサージ機１においては、使用者の操作によりオットマン１２の使用形態を図４（ａ）の「第１使用形態」または図４（ｂ）の「第２使用形態」に設定した状態でマッサージを行うことができる。
【００７０】
すなわち、足支持部１７の位置が図４（ａ）の基準位置に設定された第１使用形態と、足支持部１７の位置が図４（ｂ）の開放位置に設定された第２使用形態とを選択することができる。
【００７１】
オットマン１２の使用形態と足Ｆの揺動領域との関係について説明する。
オットマン１２において足Ｆが足支持部１７に対して揺動することが可能な領域を「足揺動領域」としたとき、第１使用形態および第２使用形態においては、次のように足揺動領域の大きさが互いに異なる。
【００７２】
第１使用形態においては、左右方向Ｙにおいての足支持部１７に対する足Ｆの揺動範囲が足側壁４６と足中央壁４７との間に制限される。一方、第２使用形態においては、左右方向Ｙにおいての足支持部１７に対する足Ｆの揺動範囲が足側壁４６および足中央壁４７により制限されない。
【００７３】
このように、第２使用形態の足揺動領域は第１使用形態の足揺動領域よりも大きい。このため、オットマン１２の使用形態を第１使用形態から第２使用形態に変更する動作は、足揺動領域を大きくする動作に相当する。また、オットマン１２の動作のうちの足支持部１７が脚支持部１６に対して移動する動作は「足支持部の全体動作」に相当する。
【００７４】
（実施形態の効果）
本実施形態のマッサージ機１によれば、以下の効果が得られる。
（１）マッサージ機１には、脚支持部１６に対して足支持部１７を移動させるための移動機構６０が設けられている。この構成によれば、足支持部１７が脚支持部１６から離間した状態（第１使用形態）でオットマン１２が揺動するとき、足Ｆと足支持部１７の各足側壁４６および足中央壁４７との接触が抑制される。すなわち、足Ｆをより広い範囲で揺動させることができる。
【００７５】
（２）また、足支持部１７が脚支持部１６から離間した状態でオットマン１２が揺動するとき、足裏と足底壁４５との接触が抑制される。このため、オットマン１２の揺動時において、足裏と足底壁４５との摩擦が生じることを抑制することができる。
【００７６】
（３）マッサージ機１においては、オットマン１２に揺動機構１８が設けられている。この構成によれば、座部１１または背もたれ１３に揺動機構１８が設けられる構成と比較して、脚Ｒおよび足Ｆに揺動機構による揺動を直接伝えることができる。
【００７７】
（４）マッサージ機１には、揺動機構１８、各エアバッグ５１〜５９、および揉み玉機構２７が設けられている。この構成によれば、これらの装置の動作を組み合わせることにより、様々なマッサージを行うことができる。
【００７８】
（５）比較例のマッサージ機として、例えば図５８に示されるマッサージ機（以下、「比較マッサージ機４００」）が考えられる。比較マッサージ機４００においては、脚支持部４１０と足支持部４２０とが互いに分離した状態で動作することができる。脚支持部４１０は、角度調整機構４３０により回転中心軸４１１を中心として回転することができる。足支持部４２０は、移動機構４４０により床面２に沿うように移動することができる。この構成によれば、脚支持部４１０と足支持部４２０とが互いに分離した状態で脚支持部４１０を左右方向に揺動させることにより、足Ｆと足支持部４２０との接触を抑制することができる。
【００７９】
しかし、上記比較マッサージ機４００においては、脚支持部４１０のエアバッグ４１２および足支持部４２０のエアバッグ４２１により足Ｆおよび脚Ｒをもみほぐすとき、足支持部４２０と床面２との成す角度を変更することができない。
【００８０】
本実施形態のマッサージ機１には、脚フレーム回転角ＴＡを変更する第１角度調整機構２１が設けられているため、エアバッグ５６〜５８により足Ｆおよび脚Ｒをもみほぐすときの足Ｆおよび脚Ｒの位置を変更することができる。このため、比較マッサージ機４００と比較して、足Ｆに対するより多様なマッサージが可能になる。
【００８１】
（第２実施形態）
図５および図６を参照して、本発明の第２実施形態について説明する。
本実施形態のマッサージ機１は、第１実施形態のマッサージ機１の一部を変更したものとして構成されている。このため、以下では第１実施形態のマッサージ機１と異なる点の詳細を説明し、同実施形態と共通する構成については同一の符号を付してその説明の一部または全部を省略する。
【００８２】
第１実施形態のマッサージ機１では、足支持部１７を脚支持部１６に対して前方に移動させることにより、足揺動領域を拡大している。これに対して本実施形態のマッサージ機１では、足支持部１７を脚支持部１６に対して回転させることにより、足揺動領域を拡大している。
【００８３】
図５および図６を参照して、上記変更点の詳細について説明する。なお図５は、本実施形態のマッサージ機１について、図１の第１角度調整機構２１により脚フレーム１２Ａが平行姿勢に保たれた状態を示している。
【００８４】
図５（ａ）に示されるように、オットマン１２には、足支持部１７の全体を脚支持部１６に対して回転させるための回転機構７０が設けられている。なお、回転機構７０は「領域変更機構」に相当する。
【００８５】
使用者は、足Ｆまたは手により足支持部１７を回転させることにより、脚支持部１６に対する足支持部１７の回転位置を図５（ａ）の「基準位置」から図５（ｂ）の「開放位置」に変更することができる。また、足Ｆまたは手により足支持部１７を回転させることにより、脚支持部１６に対する足支持部１７の位置を開放位置から基準位置に変更することができる。このため、揺動機構１８によりオットマン１２を揺動させる動作が行なわれるとき、足支持部１７の回転位置を開放位置に設定することができる。なお、基準位置から開放位置までの回転角度は「９０°」に設定されている。
【００８６】
図５（ａ）に示されるように、足支持部１７の回転位置が基準位置のとき、脚支持部１６に対する足支持部１７の回転可能範囲において足支持部１７が脚支持部１６に最も接近している。
【００８７】
図５（ｂ）に示されるように、足支持部１７の回転位置が開放位置のとき、脚支持部１６に対する足支持部１７の回転可能範囲において足支持部１７が脚支持部１６から最も離間している。
【００８８】
図６を参照して、回転機構７０の詳細な構成について説明する。
図６（ａ）に示されるように、回転機構７０には、脚裏壁４１の背面に取り付けられた第１取付フレーム７１と、足底壁４５の背面に取り付けられた第２取付フレーム７２と、第２取付フレーム７２を第１取付フレーム７１に連結する連結フレーム７３とが設けられている。またこの他に、第２取付フレーム７２にばね力を付与するコイルばね７４と、第２取付フレーム７２を連結フレーム７３に対して回転可能な状態で支持するヒンジ７５とが設けられている。コイルばね７４の長さは、足支持部１７が基準位置のときに自然長となるように設定されている。
【００８９】
回転機構７０の動作について説明する。なお以下では、脚支持部１６に対する足支持部１７の回転方向について、足支持部１７の回転位置が基準位置から開放位置に向けて変化する回転方向を「開き方向」とする。また、足支持部１７の回転位置が開放位置から基準位置に向けて変化する回転方向を「閉じ方向」とする。
【００９０】
図６（ｂ）に示されるように、足支持部１７の回転位置が基準位置のとき、第２取付フレーム７２と連結フレーム７３との成す角が「９０°」に保持される。このとき、第２取付フレーム７２に付与されているコイルばね７４のばね力が同フレーム７２を閉じ方向に回転させる力として作用しているため、足支持部１７を閉じ方向に回転させる外力が加えられなくとも足支持部１７が基準位置に保持される。
【００９１】
そして、コイルばね７４のばね力に基づく閉じ方向の力よりも大きい開き方向の力が第２取付フレーム７２に加えられたとき、第２取付フレーム７２が開き方向に回転する。これにより、足支持部１７の回転位置が図６（ｃ）の開放位置に変更される。
【００９２】
図６（ｃ）に示されるように、足支持部１７の回転位置が開放位置のとき、第２取付フレーム７２と連結フレーム７３との成す角が「１８０°」に保持される。このとき、第２取付フレーム７２に付与されているコイルばね７４のばね力が同フレーム７２を閉じ方向に回転させる力として作用している。一方、足支持部１７の重さに基づく開き方向の力がコイルばね７４のばね力に基づく閉じ方向の力よりも大きくなる。このため、ばね力に抗する外力が足支持部１７に加えられなくとも足支持部１７が開放位置に保持される。
【００９３】
そして、足支持部１７の重さに基づく開き方向の力よりも大きい閉じ方向の力が第２取付フレーム７２に加えられたとき、第２取付フレーム７２が閉じ方向に回転する。足支持部１７が開き方向から所定量にわたり閉じ方向に回転した後は、主にコイルばね７４のばね力に基づく閉じ方向の力により、足支持部１７が閉じ方向に回転する。これにより、足支持部１７の回転位置が図６（ｂ）の基準位置に変更される。
【００９４】
図５を参照して、オットマン１２の使用形態について説明する。
マッサージ機１においては、使用者の操作によりオットマン１２の使用形態を図５（ａ）の「第１使用形態」または図５（ｂ）の「第２使用形態」に設定した状態でマッサージを行うことができる。
【００９５】
すなわち、足支持部１７の回転位置が図５（ａ）の基準位置に設定された第１使用形態と、足支持部１７の回転位置が図５（ｂ）の開放位置に設定された第２使用形態とを選択することができる。
【００９６】
オットマン１２の使用形態と足Ｆの揺動領域との関係について説明する。
この実施形態のマッサージ機１においては、第１実施形態のマッサージ機１と同様に、第２使用形態の足揺動領域が第１使用形態の足揺動領域よりも大きい。このため、オットマン１２の使用形態を第１使用形態から第２使用形態に変更する動作は、足揺動領域を大きくする動作に相当する。また、オットマン１２の動作のうちの足支持部１７が脚支持部１６に対して回転する動作は「足支持部の全体動作」に相当する。
【００９７】
（実施形態の効果）
本実施形態のマッサージ機１によれば、第１実施形態の（１）〜（５）の効果と同様の効果、および以下の（６）の効果が得られる。
【００９８】
（６）マッサージ機１のオットマン１２には、第２取付フレーム７２にばね力を付与するコイルばね７４が設けられている。この構成によれば、第１使用形態において足支持部１７が足Ｆから離れる方向すなわち開き方向に回転することが抑制される。
【００９９】
（第３実施形態）
図７および図８を参照して、本発明の第３実施形態について説明する。
本実施形態のマッサージ機１は、第１実施形態のマッサージ機１の一部を変更したものとして構成されている。このため、以下では第１実施形態のマッサージ機１と異なる点の詳細を説明し、同実施形態と共通する構成については同一の符号を付してその説明の一部または全部を省略する。
【０１００】
第１実施形態のマッサージ機１では、足支持部１７を脚支持部１６に対して前方に移動させることにより足揺動領域を拡大している。これに対して本実施形態のマッサージ機１では、足支持部１７を脚支持部１６に対して下方に移動させることにより足揺動領域を拡大している。
【０１０１】
図７を参照して、上記変更点の詳細について説明する。なお図７は、本実施形態のマッサージ機１について、図１の第１角度調整機構２１により脚フレーム１２Ａが平行姿勢に保たれた状態を示している。
【０１０２】
オットマン１２の脚支持部１６の下方には、足支持部１７を脚支持部１６に対して上下方向Ｚに昇降させる昇降機構８０が設けられている。昇降機構８０は、図７（ａ）に示される位置（以下、「基準位置」）から図７（ｂ）に示される位置（以下、「降下位置」）までの範囲において足支持部１７を昇降させる。なお、昇降機構８０は「領域変更機構」に相当する。
【０１０３】
図７および図８を参照して、昇降機構８０の詳細な構成について説明する。
図７に示されるように、昇降機構８０には、脚支持部１６に取り付けられる一対の連結フレーム８１と、足支持部１７に取り付けられる固定フレーム８２と、連結フレーム８１と固定フレーム８２とを互いに連結する連結アーム８３とが設けられている。またこの他に、駆動源としてのモータ８４と、モータ８４と連結アーム８３とを互いに接続するリンク部材８５とが設けられている。なお、モータ８４は「アクチュエータ」に相当する。
【０１０４】
各連結フレーム８１には、脚支持部１６の脚裏壁４１の背面に取り付けられる取付部８１Ａと、取付部８１Ａの後方の端部から下方に延びて連結アーム８３に接続される支持部８１Ｂとが設けられている。
【０１０５】
連結アーム８３の後方の端部は、支持部８１Ｂの下方の端部に対して回転可能な状態で取り付けられている。連結アーム８３の前方の端部は、固定フレーム８２の後方の端部に対して回転可能な状態で取り付けられている。
【０１０６】
モータ８４には、対応するリンク部材８５を回転させる２本の出力軸８４Ｂ（図８（ａ）参照）と、各出力軸８４Ｂを収容するケース８４Ａとが設けられている。各出力軸８４Ｂには、対応するリンク部材８５の一方の端部が固定されている。これにより、出力軸８４Ｂとリンク部材８５とが一体的に回転する。
【０１０７】
図８（ａ）に示されるように、昇降機構８０においては、左右方向Ｙにおいて一方の連結アーム８３と他方の連結アーム８３との間にモータ８４が設けられている。モータ８４の各出力軸８４Ｂは、それぞれケース８４Ａから右方または左方に突出している。
【０１０８】
図８（ｂ）に示されるように、各リンク部材８５には、出力軸８４Ｂに取り付けられる第１アーム８６と、連結アーム８３に取り付けられる第２アーム８７とが設けられている。第２アーム８７は、連結アーム８３に対する移動が可能な状態で同アーム８３に取り付けられている。
【０１０９】
第１アーム８６には、左右方向Ｙに延びて出力軸８４Ｂに固定される出力軸接続部８６Ａと、左右方向Ｙに延びて第２アーム８７に接続されるアーム接続部８６Ｃと、出力軸接続部８６Ａとアーム接続部８６Ｃとを互いに連結する公転部８６Ｂとが設けられている。第２アーム８７は、アーム接続部８６Ｃを中心として第１アーム８６に対して回転することが可能な状態で同接続部８６Ｃに接続されている。
【０１１０】
図７を参照して、足支持部１７の動作について説明する。
足支持部１７は、昇降機構８０により以下のように駆動される。
（Ａ）昇降機構８０のモータ８４が正回転することにともない連結アーム８３が下方に向けて回転するとき、足支持部１７が固定フレーム８２とともに脚支持部１６に対して下方に移動する。
【０１１１】
（Ｂ）昇降機構８０のモータ８４が逆回転することにともない連結アーム８３が上方に向けて回転するとき、足支持部１７が固定フレーム８２とともに脚支持部１６に対して上方に移動する。
【０１１２】
図７および図８を参照して、足支持部１７の動作の詳細について説明する。
図８（ｂ）に示されるように、モータ８４の出力軸８４Ｂが正回転するとき、第１アーム８６の公転部８６Ｂが出力軸８４Ｂを中心として公転するため、これにともない第２アーム８７が出力軸８４Ｂを中心として公転する。
【０１１３】
このとき第２アーム８７は、アーム接続部８６Ｃを中心として同接続部８６Ｃに対して回転するとともに、連結アーム８３と接触した状態で同アーム８３に対して移動する。そして、出力軸８４Ｂを中心とした第２アーム８７の公転にともない連結アーム８３が下方に移動する。
【０１１４】
図７に示されるように、連結アーム８３は、支持部８１Ｂとの接続部分を中心として図７（ａ）の基準位置から図７（ｂ）の開放位置まで回転する。そして、連結アーム８３の下方への回転にともない固定フレーム８２とともに足支持部１７が下方に移動する。
【０１１５】
モータ８４の出力軸８４Ｂが逆回転するときには、第１アーム８６の公転部８６Ｂが上述した正回転時と反対の方向に公転する。これにより、連結アーム８３は、支持部８１Ｂとの接続部分を中心として図７（ｂ）の開放位置から図７（ａ）の基準位置まで回転する。そして、連結アーム８３の上方への回転にともない固定フレーム８２とともに足支持部１７が上方に移動する。
【０１１６】
図３の制御装置３２は、昇降機構８０の動作を制御することにより、脚支持部１６に対する足支持部１７の位置を図７（ａ）の「基準位置」から図７（ｂ）の「開放位置」までの範囲で変更する。また、図１の揺動機構１８によりオットマン１２を揺動させる動作が行なわれるとき、足支持部１７の位置を開放位置に設定する。
【０１１７】
図７（ａ）に示されるように、足支持部１７の位置が基準位置のとき、脚支持部１６に対する足支持部１７の移動可能範囲において足支持部１７が脚支持部１６に最も接近している。
【０１１８】
図７（ｂ）に示されるように、足支持部１７の位置が開放位置のとき、脚支持部１６に対する足支持部１７の移動可能範囲において足支持部１７が脚支持部１６から最も離間している。
【０１１９】
図７を参照して、オットマン１２の使用形態について説明する。
マッサージ機１においては、昇降機構８０の動作によりオットマン１２の使用形態を図７（ａ）の「第１使用形態」または図７（ｂ）の「第２使用形態」に設定した状態でマッサージを行うことができる。
【０１２０】
すなわち、足支持部１７の位置が図７（ａ）の基準位置に設定された第１使用形態と、足支持部１７の位置が図７（ｂ）の開放位置に設定された第２使用形態とを選択することができる。
【０１２１】
オットマン１２の使用形態と足Ｆの揺動領域との関係について説明する。
この実施形態のマッサージ機１においては、第１実施形態のマッサージ機１と同様に、第２使用形態の足揺動領域が第１使用形態の足揺動領域よりも大きい。このため、オットマン１２の使用形態を第１使用形態から第２使用形態に変更する動作は、足揺動領域を大きくする動作に相当する。また、オットマン１２の動作のうちの足支持部１７が脚支持部１６に対して昇降する動作は「足支持部の全体動作」に相当する。
【０１２２】
（実施形態の効果）
本実施形態のマッサージ機１によれば、第１実施形態の（１）〜（５）の効果と同様の効果、および以下の（７）および（８）の効果が得られる。
【０１２３】
（７）マッサージ機１においては、モータ８４により足支持部１７を上下方向Ｚに移動させる昇降機構８０がオットマン１２に設けられている。この構成によれば、コントローラ３３の操作により足支持部１７を上下方向Ｚに移動させることができるため、使用者が足Ｆまたは手により足支持部１７を移動させる構成と比較して、足支持部１７を容易に移動させることができる。
【０１２４】
（８）マッサージ機１においては、揺動機構１８によりオットマン１２を揺動させる動作が行なわれるとき、昇降機構８０により足支持部１７の位置が降下位置に設定される。この構成によれば、使用者は脚Ｒおよび足Ｆが揺動させられるときに足首を伸ばすことができる。すなわち、脚Ｒおよび足Ｆをもみほぐすときに使用者が採ることのできる姿勢の幅が広くなる。
【０１２５】
（第４実施形態）
図９および図１０を参照して、本発明の第４実施形態について説明する。
本実施形態のマッサージ機１は、第２実施形態のマッサージ機１の一部を変更したものとして構成されている。このため、以下では第２実施形態のマッサージ機１と異なる点の詳細を説明し、同実施形態と共通する構成については同一の符号を付してその説明の一部または全部を省略する。
【０１２６】
この実施形態の回転機構７０には、第１実施形態の移動機構６０の機能が追加されている。すなわち回転機構７０は、足支持部１７を脚支持部１６に対して回転させる機能と、足支持部１７を脚支持部１６に対して前後方向Ｘに移動させる機能とを有する。
【０１２７】
図９および図１０を参照して、上記変更点の詳細について説明する。なお図９は、本実施形態のマッサージ機１について、図１の第１角度調整機構２１により脚フレーム１２Ａが平行姿勢に保たれた状態を示している。
【０１２８】
第２実施形態の回転機構７０においては、連結フレーム７３が第１取付フレーム７１に固定されている。これに対して本実施形態の回転機構７０においては、連結フレーム７３を第１取付フレーム７１に対して前後方向Ｘに移動させるための移動機構７６が設けられている。
【０１２９】
図１０（ｃ）に示されるように、移動機構７６には、第１取付フレーム７１の背面に固定された支持部７７と、第１取付フレーム７１に対して前後方向Ｘに移動するシャフト７８とが設けられている。
【０１３０】
支持部７７には、前後方向Ｘに延びる貫通孔７７Ａが形成されている。貫通孔７７Ａには、シャフト７８が挿入されている。シャフト７８の前方の端部は、連結フレーム７３に固定されている。
【０１３１】
使用者は、足Ｆまたは手により足支持部１７を移動させることにより、脚支持部１６に対する足支持部１７の位置を図９（ａ）の「基準位置」から図９（ｂ）の「開放位置」に変更することができる。そして、この状態から足Ｆまたは手により足支持部１７を回転させることにより、脚支持部１６に対する足支持部１７の回転位置を図９（ｂ）の「基準位置」から図９（ｃ）の「開放位置」に変更することができる。
【０１３２】
また、回転機構７０の位置および回転位置が開放位置に設定された状態において、足Ｆまたは手により足支持部１７を回転させることにより、脚支持部１６に対する足支持部１７の回転位置を図９（ｃ）の開放位置から図９（ｂ）の基準位置に変更することができる。そして、この状態から足Ｆまたは手により足支持部１７を移動させることにより、脚支持部１６に対する足支持部１７の位置を図９（ｂ）の「開放位置」から図９（ａ）の「基準位置」に変更することができる。
【０１３３】
このため、揺動機構１８によりオットマン１２を揺動させる動作が行なわれるとき、足支持部１７の位置および回転位置を開放位置に設定することができる。なお、基準位置から開放位置までの回転角度は「９０°」に設定されている。
【０１３４】
図９（ａ）に示されるように、足支持部１７の位置および回転位置が基準位置のとき、脚支持部１６に対する足支持部１７の回転可能範囲において足支持部１７が脚支持部１６に最も接近している。
【０１３５】
図９（ｃ）に示されるように、足支持部１７の位置および回転位置が開放位置のとき、脚支持部１６に対する足支持部１７の回転可能範囲において足支持部１７が脚支持部１６から最も離間している。
【０１３６】
オットマン１２において、足支持部１７が脚支持部１６に対して移動するときの回転機構７０の動作は、第１実施形態の移動機構６０の動作に準じたものとなる。すなわち、足支持部１７が脚支持部１６に対して移動するとき、回転機構７０の動作状態は、図１０（ａ）に示される状態と図１０（ｂ）に示される状態との間で変化する。
【０１３７】
また、足支持部１７が脚支持部１６に対して回転するときの回転機構７０の動作は、第２実施形態の回転機構７０の動作に準じたものとなる。すなわち、足支持部１７が脚支持部１６に対して回転するとき、回転機構７０の動作状態は、図１０（ｂ）に示される状態と図１０（ｃ）に示される状態との間で変化する。
【０１３８】
図９を参照して、オットマン１２の使用形態について説明する。
マッサージ機１においては、使用者の操作によりオットマン１２の使用形態を図９（ａ）の「第１使用形態」または図９（ｃ）の「第２使用形態」に設定した状態でマッサージを行うことができる。
【０１３９】
すなわち、足支持部１７の位置および回転位置が図９（ａ）の基準位置に設定された第１使用形態と、足支持部１７の位置および回転位置が図９（ｃ）の開放位置に設定された第２使用形態とを選択することができる。
【０１４０】
オットマン１２の使用形態と足Ｆの揺動領域との関係について説明する。
この実施形態のマッサージ機１においては、第１実施形態のマッサージ機１と同様に、第２使用形態の足揺動領域が第１使用形態の足揺動領域よりも大きい。このため、オットマン１２の使用形態を第１使用形態から第２使用形態に変更する動作は、足揺動領域を大きくする動作に相当する。また、オットマン１２の動作のうちの足支持部１７が脚支持部１６に対して回転する動作、および足支持部１７が脚支持部１６に対して移動する動作は「足支持部の全体動作」に相当する。
【０１４１】
（実施形態の効果）
本実施形態のマッサージ機１によれば、第１実施形態の（１）〜（５）の効果と同様の効果、および第２実施形態の（６）の効果と同様の効果が得られる。
【０１４２】
（第５実施形態）
図１１を参照して、本発明の第５実施形態について説明する。
本実施形態のマッサージ機１は、第１実施形態のマッサージ機１の一部を変更したものとして構成されている。このため、以下では第１実施形態のマッサージ機１と異なる点の詳細を説明し、同実施形態と共通する構成については同一の符号を付してその説明の一部または全部を省略する。
【０１４３】
第１実施形態のマッサージ機１では、足支持部１７の全体を脚支持部１６に対して前方に移動させることにより足揺動領域を拡大している。これに対して本実施形態のマッサージ機１では、足支持部１７の一部分としての足底壁４５を足支持部１７の他の部分としての足側壁４６および足中央壁４７に対して下方に移動させることにより足揺動領域を拡大している。
【０１４４】
図１１を参照して、上記変更点の詳細について説明する。なお図１１は、本実施形態のマッサージ機１について、図１の第１角度調整機構２１により脚フレーム１２Ａが下方傾斜姿勢に保持された状態、かつ脚フレーム回転角ＴＡが最大回転角度ＴＡＰに保持された状態を示している。
【０１４５】
図１１（ｂ）および（ｄ）に示されるように、足支持部１７には、各足底壁４５を足側壁４６および足中央壁４７に対して上下方向Ｚに移動させるための昇降機構９０が設けられている。
【０１４６】
昇降機構９０には、足底壁４５が固定されるとともに足裏壁４９に対して移動する移動フレーム９２と、移動フレーム９２を足裏壁４９に対して移動させるためのモータ９１とが設けられている。モータ９１には、外周面に雄ねじが形成された出力軸９１Ａが設けられている。
【０１４７】
移動フレーム９２には、足裏壁４９に対する移動が可能な状態で足裏壁４９に取り付けられる足裏壁取付部９３と、モータ９１の出力軸９１Ａが取り付けられる出力軸取付部９４とが設けられている。足底壁４５は、足裏壁取付部９３に固定されている。
【０１４８】
出力軸取付部９４には、出力軸９１Ａを挿入するための貫通孔９４Ａが形成されている。この貫通孔９４Ａを形成する出力軸取付部９４の内周面には、出力軸９１Ａの雄ねじに対応する雌ねじが形成されている。
【０１４９】
昇降機構９０においては、出力軸９１Ａの雄ねじが出力軸取付部９４の雌ねじに噛み合わせられている。これにより、出力軸９１Ａの回転にともない移動フレーム９２が上下方向Ｚに移動する。なお、昇降機構９０は「領域変更機構」に相当する。また、モータ９１は「アクチュエータ」に相当する。
【０１５０】
足底壁４５は、昇降機構９０により以下のように駆動される。
（Ａ）昇降機構９０のモータ９１が正回転することにともない移動フレーム９２が下方に移動するとき、足底壁４５が移動フレーム９２とともに足側壁４６および足中央壁４７に対して下方に移動する。
【０１５１】
（Ｂ）昇降機構９０のモータ９１が逆回転することにともない移動フレーム９２が上方に移動するとき、足底壁４５が移動フレーム９２とともに足側壁４６および足中央壁４７に対して上方に移動する。
【０１５２】
図３の制御装置３２は、昇降機構９０の動作を制御することにより、足側壁４６および足中央壁４７に対する足底壁４５の位置を図１１（ａ）および（ｂ）の「基準位置」から図１１（ｃ）および（ｄ）の「開放位置」までの範囲で変更する。また、図１の揺動機構１８によりオットマン１２を揺動させる動作が行なわれるとき、足側壁４６の位置を開放位置に設定する。
【０１５３】
図１１（ａ）および（ｂ）に示されるように、足底壁４５の位置が基準位置のとき、足側壁４６および足中央壁４７に対する足底壁４５の移動可能範囲において足底壁４５が足側壁４６および足中央壁４７に最も接近している。
【０１５４】
図１１（ｃ）および（ｄ）に示されるように、足底壁４５の位置が開放位置のとき、足側壁４６および足中央壁４７に対する足底壁４５の移動可能範囲において足底壁４５が足側壁４６および足中央壁４７から最も離間している。
【０１５５】
オットマン１２の使用形態について説明する。
マッサージ機１においては、昇降機構９０の動作によりオットマン１２の使用形態を図１１（ａ）および（ｂ）の「第１使用形態」または図１１（ｃ）および（ｄ）の「第２使用形態」に設定した状態でマッサージを行うことができる。
【０１５６】
すなわち、各足底壁４５の位置が図１１（ａ）および（ｂ）の基準位置に設定された第１使用形態と、各足底壁４５の位置が図１１（ｃ）および（ｄ）の開放位置に設定された第２使用形態とを選択することができる。
【０１５７】
図３の制御装置３２は、第２使用形態によりマッサージを行なうとき、揺動機構１８によりオットマン１２を揺動させることにともない各足底壁４５のエアバッグ５６を駆動させる。これにより、脚および足が揺動させられている状態においてエアバッグ５６による施術が行なわれる。
【０１５８】
オットマン１２の使用形態と足Ｆの揺動領域との関係について説明する。
オットマン１２において足Ｆが足支持部１７に対して揺動することが可能な領域を「足揺動領域」としたとき、第１使用形態および第２使用形態においては、次のように足揺動領域の大きさが互いに異なる。
【０１５９】
第１使用形態においては、左右方向Ｙにおいての足支持部１７に対する足Ｆの揺動範囲が足側壁４６と足中央壁４７との間に制限される。一方、第２使用形態においては、左右方向Ｙにおいての足支持部１７に対する足Ｆの揺動範囲について、この揺動範囲が足側壁４６および足中央壁４７により制限される度合いが第１使用形態よりも小さい。
【０１６０】
このように、第２使用形態の足揺動領域は第１使用形態の足揺動領域よりも大きい。このため、オットマン１２の使用形態を第１使用形態から第２使用形態に変更する動作は、足揺動領域を大きくする動作に相当する。また、オットマン１２の動作のうちの足底壁４５が足側壁４６および足中央壁４７に対して移動する動作は「足支持部の部分動作」に相当する。
【０１６１】
（実施形態の効果）
本実施形態のマッサージ機１によれば、第１実施形態の（１）〜（５）の効果と同様の効果、第３実施形態の（７）の効果、および以下の（９）の効果が得られる。
【０１６２】
（９）マッサージ機１においては、揺動機構１８により脚および足Ｆを揺動させるとき、各足底壁４５に設けられたエアバッグ５６を駆動させる。このため、足Ｆの揺動に加え、エアバッグ５６により足Ｆをもみほぐすことができる。
【０１６３】
（第６実施形態）
図１２を参照して、本発明の第６実施形態について説明する。
本実施形態のマッサージ機１は、第５実施形態のマッサージ機１の一部を変更したものとして構成されている。このため、以下では第５実施形態のマッサージ機１と異なる点の詳細を説明し、同実施形態と共通する構成については同一の符号を付してその説明の一部または全部を省略する。
【０１６４】
第５実施形態のマッサージ機１では、足底壁４５を足側壁４６および足中央壁４７に対して下方に移動させることにより足揺動領域を拡大している。これに対して本実施形態のマッサージ機１では、足底壁４５を足側壁４６および足中央壁４７に対して左右方向Ｙまわりで回転させることにより足揺動領域を拡大している。
【０１６５】
図１２を参照して、上記変更点の詳細について説明する。なお図１２は、本実施形態のマッサージ機１について、図１の第１角度調整機構２１により脚フレーム１２Ａが平行姿勢に保たれた状態を示している。
【０１６６】
図１２（ｂ）および（ｄ）に示されるように、足支持部１７には、足側壁４６および足中央壁４７に対する回転が可能な状態で足底壁４５を支持する回転軸部１０１と、回転軸部１０１を回転させる駆動機構１００とが設けられている。
【０１６７】
駆動機構１００には、駆動源としてのモータと、このモータの回転を減速して回転軸部１０１に伝達する減速機とが設けられている（いずれも図示略）。なお、駆動機構１００は「領域変更機構」および「アクチュエータ」に相当する。また、回転軸部１０１は「領域変更機構」に相当する。
【０１６８】
足底壁４５は、駆動機構１００により以下のように駆動される。
（Ａ）駆動機構１００のモータが正回転することにともない回転軸部１０１が回転するとき、回転軸部１０１とともに足底壁４５が足側壁４６および足中央壁４７に対して回転する。このとき足底壁４５は、足底壁４５の前方の端部が上方から下方に向けて移動する方向に回転する。
【０１６９】
（Ｂ）駆動機構１００のモータが逆回転することにともない回転軸部１０１が回転するとき、回転軸部１０１とともに足底壁４５が足側壁４６および足中央壁４７に対して回転する。このとき足底壁４５は、足底壁４５の前方の端部が下方から上方に向けて移動する方向に回転する。
【０１７０】
図３の制御装置３２は、駆動機構１００の動作を制御することにより、足側壁４６および足中央壁４７に対する足底壁４５の回転位置を図１２（ａ）および（ｂ）の「基準位置」から図１２（ｃ）および（ｄ）の「開放位置」までの範囲で変更する。また、図１の揺動機構１８によりオットマン１２を揺動させる動作が行なわれるとき、足底壁４５の回転位置を開放位置に設定する。なお、基準位置から開放位置までの回転角度は「９０°」に設定されている。
【０１７１】
図１２（ａ）および（ｂ）に示されるように、足底壁４５の回転位置が基準位置のとき、足側壁４６および足中央壁４７に対する足底壁４５の回転可能範囲において足底壁４５の前方の端部が足側壁４６および足中央壁４７に最も接近している。
【０１７２】
図１２（ｃ）および（ｄ）に示されるように、足底壁４５の回転位置が開放位置のとき、足側壁４６および足中央壁４７に対する足底壁４５の回転可能範囲において足底壁４５の前方の端部が足側壁４６および足中央壁４７から最も離間している。
【０１７３】
オットマン１２の使用形態について説明する。
マッサージ機１においては、駆動機構１００の動作によりオットマン１２の使用形態を図１２（ａ）および（ｂ）の「第１使用形態」または図１２（ｃ）および（ｄ）の「第２使用形態」に設定した状態でマッサージを行うことができる。
【０１７４】
すなわち、足底壁４５の回転位置が図１２（ａ）および（ｂ）の基準位置に設定された第１使用形態と、足底壁４５の回転位置が図１２（ｃ）および（ｄ）の開放位置に設定された第２使用形態とを選択することができる。
【０１７５】
オットマン１２の使用形態と足Ｆの揺動領域との関係について説明する。
この実施形態のマッサージ機１においては、第５実施形態のマッサージ機１と同様に、第２使用形態の足揺動領域が第１使用形態の足揺動領域よりも大きい。このため、オットマン１２の使用形態を第１使用形態から第２使用形態に変更する動作は、足揺動領域を大きくする動作に相当する。また、オットマン１２の動作のうちの足底壁４５が足側壁４６および足中央壁４７に対して回転する動作は「足支持部の部分動作」に相当する。
【０１７６】
（実施形態の効果）
本実施形態のマッサージ機１によれば、第１実施形態の（１）〜（５）の効果と同様の効果、および第３実施形態の（７）および（８）の効果と同様の効果が得られる。
【０１７７】
（第７実施形態）
図１３を参照して、本発明の第７実施形態について説明する。
本実施形態のマッサージ機１は、第５実施形態のマッサージ機１の一部を変更したものとして構成されている。このため、以下では第５実施形態のマッサージ機１と異なる点の詳細を説明し、同実施形態と共通する構成については同一の符号を付してその説明の一部または全部を省略する。
【０１７８】
第５実施形態のマッサージ機１では、足底壁４５を足側壁４６および足中央壁４７に対して下方に移動させることにより足揺動領域を拡大している。これに対して本実施形態のマッサージ機１では、足側壁４６を足底壁４５および足中央壁４７に対して左方または右方に移動させることにより足揺動領域を拡大している。
【０１７９】
図１３を参照して、上記変更点の詳細について説明する。なお図１３は、本実施形態のマッサージ機１について、図１の第１角度調整機構２１により脚フレーム１２Ａが平行姿勢に保たれた状態を示している。また、図１３（ｂ）および（ｄ）においては足Ｆを省略している。
【０１８０】
図１３（ｂ）および（ｄ）に示されるように、足支持部１７には、右方の足側壁４６を足中央壁４７に対して右方に移動させるとともに、左方の足側壁４６を足中央壁４７に対して左方に移動させるための移動機構１１０が設けられている。またこの他に、各足側壁４６を足底壁４５に対して移動可能な状態で支持するための次の各シャフトが設けられている。
【０１８１】
すなわち足底壁４５の左方の支持穴４５Ｈには、左方の足側壁４６と足底壁４５とを互いに接続するとともに同足側壁４６を足底壁４５に対して移動させるための左側シャフト１１７が設けられている。
【０１８２】
また、足底壁４５の右方の支持穴４５Ｈには、右方の足側壁４６と足底壁４５とを互いに接続するとともに同足側壁４６を足底壁４５に対して移動させるための右側シャフト１１８が設けられている。
【０１８３】
移動機構１１０には、左側の足側壁４６の背面に固定される左側取付部１１５と、右側の足側壁４６の背面に固定される右側取付部１１６と、各取付部１１５，１１６を対応する足側壁４６に対して左右方向Ｙに移動させるためのモータ１１１とが設けられている。
【０１８４】
モータ１１１には、その本体を構成するケース１１２と、ケース１１２から左方に突出する第１出力軸１１３と、ケース１１２から右方に突出する第２出力軸１１４とが設けられている。各出力軸１１３，１１４の外周面には雄ねじが形成されている。第１出力軸１１３の雄ねじの巻き方向と第２出力軸１１４の雄ねじの巻き方向とは、互いに同じ方向に設定されている。
【０１８５】
左側取付部１１５には、第１出力軸１１３を挿入するための貫通孔１１５Ａが形成されている。この貫通孔１１５Ａを構成する左側取付部１１５の内周面には、第１出力軸１１３の雄ねじに対応する雌ねじが形成されている。
【０１８６】
右側取付部１１６には、第２出力軸１１４を挿入するための貫通孔１１６Ａが形成されている。この貫通孔１１６Ａを構成する右側取付部１１６の内周面には、第２出力軸１１４の雄ねじに対応する雌ねじが形成されている。右側取付部１１６の雌ねじの巻き方向は、左側取付部１１５の雌ねじの巻き方向とは反対の方向に設定されている。
【０１８７】
移動機構１１０においては、第１出力軸１１３の雄ねじが左側取付部１１５の雌ねじに噛み合わせられている。また、第２出力軸１１４の雄ねじが右側取付部１１６の雌ねじに噛み合わせられている。これにより、第１出力軸１１３の回転にともない左側取付部１１５が左右方向Ｙに移動する。また、第２出力軸１１４の回転にともない右側取付部１１６が左右方向Ｙに移動する。なお、移動機構１１０は「領域変更機構」に相当する。また、モータ１１１は「アクチュエータ」に相当する。
【０１８８】
足側壁４６は、移動機構１１０により以下のように駆動される。
（Ａ）移動機構１１０のモータ１１１が正回転することにともない左側取付部１１５が左方に移動するとき、左側取付部１１５とともに左方の足側壁４６が足底壁４５および足中央壁４７に対して左方に移動する。また、移動機構１１０のモータ１１１が正回転することにともない右側取付部１１６が右方に移動するとき、右側取付部１１６とともに右方の足側壁４６が足底壁４５および足中央壁４７に対して右方に移動する。
【０１８９】
（Ｂ）移動機構１１０のモータ１１１が逆回転することにともない左側取付部１１５が右方に移動するとき、左側取付部１１５とともに左方の足側壁４６が足底壁４５および足中央壁４７に対して右方に移動する。また、移動機構１１０のモータ１１１が逆回転することにともない右側取付部１１６が左方に移動するとき、右側取付部１１６とともに右方の足側壁４６が足底壁４５および足中央壁４７に対して左方に移動する。
【０１９０】
図３の制御装置３２は、移動機構１１０の動作を制御することにより、足底壁４５および足中央壁４７に対する各足側壁４６の位置を図１３（ａ）および（ｂ）の「基準位置」から図１３（ｃ）および（ｄ）の「開放位置」までの範囲で変更する。また、図１の揺動機構１８によりオットマン１２を揺動させる動作が行なわれるとき、各足側壁４６の位置を開放位置に設定する。
【０１９１】
図１３（ａ）および（ｂ）に示されるように、各足側壁４６の位置が基準位置のとき、足底壁４５および足中央壁４７に対する各足側壁４６の移動可能範囲において各足側壁４６が足底壁４５および足中央壁４７に最も接近している。
【０１９２】
図１３（ｃ）および（ｄ）に示されるように、各足側壁４６の位置が開放位置のとき、足底壁４５および足中央壁４７に対する各足側壁４６の移動可能範囲において各足側壁４６が足底壁４５および足中央壁４７から最も離間している。
【０１９３】
オットマン１２の使用形態について説明する。
マッサージ機１においては、移動機構１１０の動作によりオットマン１２の使用形態を図１３（ａ）および（ｂ）の「第１使用形態」または図１３（ｃ）および（ｄ）の「第２使用形態」に設定した状態でマッサージを行うことができる。
【０１９４】
すなわち、各足側壁４６の位置が図１３（ａ）および（ｂ）の基準位置に設定された第１使用形態と、各足側壁４６の位置が図１３（ｃ）および（ｄ）の開放位置に設定された第２使用形態とを選択することができる。なお、図３の制御装置３２は、第２使用形態によりマッサージを行なうとき、第５実施形態と同様に態様で揺動機構１８およびエアバッグ５６の制御を行なう。
【０１９５】
オットマン１２の使用形態と足Ｆの揺動領域との関係について説明する。
この実施形態のマッサージ機１においては、第５実施形態のマッサージ機１と同様に、第２使用形態の足揺動領域が第１使用形態の足揺動領域よりも大きい。このため、オットマン１２の使用形態を第１使用形態から第２使用形態に変更する動作は、足揺動領域を大きくする動作に相当する。また、オットマン１２の動作のうちの足側壁４６が足底壁４５および足中央壁４７に対して移動する動作は「足支持部の部分動作」に相当する。
【０１９６】
（実施形態の効果）
本実施形態のマッサージ機１によれば、第１実施形態の（１）〜（５）の効果と同様の効果、第３実施形態の（７）の効果と同様の効果、および第５実施形態の（９）の効果と同様の効果が得られる。
【０１９７】
（第８実施形態）
図１４を参照して、本発明の第８実施形態について説明する。
本実施形態のマッサージ機１は、第７実施形態のマッサージ機１の一部を変更したものとして構成されている。このため、以下では第７実施形態のマッサージ機１と異なる点の詳細について説明し、同実施形態と共通する構成については同一の符号を付してその説明を省略する。
【０１９８】
第７実施形態のマッサージ機１では、足側壁４６を足底壁４５および足中央壁４７に対して左右方向Ｙに移動させることにより足揺動領域を拡大している。これに対して本実施形態のマッサージ機１では、足側壁４６を足底壁４５および足中央壁４７に対して左右方向Ｙまわりで回転させることにより足揺動領域を拡大している。
【０１９９】
図１４を参照して、上記変更点の詳細について説明する。なお図１４は、本実施形態のマッサージ機１について、図１の第１角度調整機構２１により脚フレーム１２Ａが平行姿勢に保たれた状態を示している。
【０２００】
図１４（ｂ）および（ｄ）に示されるように、足支持部１７には、足底壁４５および足中央壁４７に対する回転が可能な状態で足側壁４６を支持する回転軸部１２１と、回転軸部１２１を回転させる駆動機構１２０とが設けられている。
【０２０１】
駆動機構１２０には、駆動源としてのモータと、このモータの回転を減速して回転軸部１２１に伝達する減速機とが設けられている（いずれも図示略）。なお、駆動機構１２０は「領域変更機構」および「アクチュエータ」に相当する。また、回転軸部１２１は「領域変更機構」に相当する。
【０２０２】
足側壁４６は、駆動機構１２０により以下のように駆動される。
（Ａ）駆動機構１２０のモータが正回転することにともない回転軸部１２１が回転するとき、足側壁４６の前方の端部が上方から下方に向けて移動する方向において、足側壁４６が回転軸部１２１とともに足底壁４５および足中央壁４７に対して回転する。
【０２０３】
（Ｂ）駆動機構１２０のモータが逆回転することにともない回転軸部１２１が回転するとき、足側壁４６の前方の端部が下方から上方に向けて移動する方向において、足側壁４６が回転軸部１２１とともに足底壁４５および足中央壁４７に対して回転する。
【０２０４】
図３の制御装置３２は、駆動機構１２０の動作を制御することにより、足底壁４５に対する足側壁４６の回転位置を図１４（ａ）および（ｂ）の「基準位置」から図１４（ｃ）および（ｄ）の「開放位置」までの範囲で変更する。また、図１の揺動機構１８によりオットマン１２を揺動させる動作が行なわれるとき、足側壁４６の回転位置を開放位置に設定する。なお、基準位置から回転位置までの回転角度は「９０°」に設定されている。
【０２０５】
図１４（ａ）および（ｂ）に示されるように、足側壁４６の回転位置が基準位置のとき、足底壁４５および足中央壁４７に対する足側壁４６の回転可能範囲において足側壁４６の前方の端部が足底壁４５に最も接近している。
【０２０６】
図１４（ｃ）および（ｄ）に示されるように、足側壁４６の回転位置が開放位置のとき、足底壁４５および足中央壁４７に対する足側壁４６の回転可能範囲において足側壁４６の前方の端部が足底壁４５から最も離間している。
【０２０７】
オットマン１２の使用形態について説明する。
マッサージ機１においては、駆動機構１２０の動作によりオットマン１２の使用形態を図１４（ａ）および（ｂ）の「第１使用形態」または図１４（ｃ）および（ｄ）の「第２使用形態」に設定した状態でマッサージを行うことができる。
【０２０８】
すなわち、足側壁４６の回転位置が図１４（ａ）および（ｂ）の基準位置に設定された第１使用形態と、足側壁４６の回転位置が図１４（ｃ）および（ｄ）の開放位置に設定された第２使用形態とを選択することができる。なお、図３の制御装置３２は、第２使用形態によりマッサージを行なうとき、第５実施形態と同様に態様で揺動機構１８およびエアバッグ５６の制御を行なう。
【０２０９】
オットマン１２の使用形態と足Ｆの揺動領域との関係について説明する。
この実施形態のマッサージ機１においては、第５実施形態のマッサージ機１と同様に、第２使用形態の足揺動領域が第１使用形態の足揺動領域よりも大きい。このため、オットマン１２の使用形態を第１使用形態から第２使用形態に変更する動作は、足揺動領域を大きくする動作に相当する。また、オットマン１２の動作のうちの足側壁４６が足底壁４５および足中央壁４７に対して回転する動作は「足支持部の部分動作」に相当する。
【０２１０】
（実施形態の効果）
本実施形態のマッサージ機１によれば、第１実施形態の（１）〜（５）の効果と同様の効果、第３実施形態の（７）の効果と同様の効果、および第５実施形態の（９）の効果と同様の効果が得られる。
【０２１１】
（第９実施形態）
図１５を参照して、本発明の第９実施形態について説明する。
本実施形態のマッサージ機１は、第８実施形態のマッサージ機１の一部を変更したものとして構成されている。このため、以下では第８実施形態のマッサージ機１と異なる点の詳細を説明し、同実施形態と共通する構成については同一の符号を付してその説明の一部または全部を省略する。
【０２１２】
第８実施形態のマッサージ機１では、足側壁４６を足底壁４５および足中央壁４７に対して左右方向Ｙまわりで回転させることにより足揺動領域を拡大している。これに対して本実施形態のマッサージ機１では、足側壁４６を足底壁４５および足中央壁４７に対して上下方向Ｚまわりで回転させることにより足揺動領域を拡大している。
【０２１３】
図１５を参照して、上記変更点の詳細について説明する。なお図１５は、本実施形態のマッサージ機１について、図１の第１角度調整機構２１により脚フレーム１２Ａが平行姿勢に保たれた状態を示している。
【０２１４】
図１５（ａ）および（ｃ）に示されるように、この実施形態の足支持部１７においては、足側壁４６の上下方向Ｚの長さが第８実施形態よりも短く設定され、かつ足底壁４５の左右方向Ｙの長さが第８実施形態よりも長く設定されている。そして、足側壁４６の下面が足底壁４５の上面により支持されている。
【０２１５】
図１５（ｂ）および（ｄ）に示されるように、足支持部１７には、足底壁４５および足中央壁４７に対する回転が可能な状態で足側壁４６を支持する回転軸部１２２と、回転軸部１２２を回転させる駆動機構１２０とが設けられている。回転軸部１２２は、足側壁４６および足底壁４５にまたがり設けられている。
【０２１６】
駆動機構１２０には、駆動源としてのモータと、このモータの回転を減速して回転軸部１２２に伝達する減速機とが設けられている（いずれも図示略）。なお、駆動機構１２０は「領域変更機構」および「アクチュエータ」に相当する。また、回転軸部１２２は「領域変更機構」に相当する。
【０２１７】
足側壁４６は、駆動機構１２０により以下のように駆動される。
（Ａ）駆動機構１２０のモータが正回転することにともない左方の回転軸部１２２が回転するとき、左方の足側壁４６の前方の端部が右方から左方に向けて移動する方向において、同足側壁４６が回転軸部１２２とともに足底壁４５および足中央壁４７に対して回転する。また、駆動機構１２０のモータが正回転することにともない右方の回転軸部１２２が回転するとき、右方の足側壁４６の前方の端部が左方から右方に向けて移動する方向において、同足側壁４６が回転軸部１２２とともに足底壁４５および足中央壁４７に対して回転する。
【０２１８】
（Ｂ）駆動機構１２０のモータが逆回転することにともない左方の回転軸部１２２が回転するとき、左方の足側壁４６の前方の端部が左方から右方に向けて移動する方向において、同足側壁４６が回転軸部１２２とともに足底壁４５および足中央壁４７に対して回転する。また、駆動機構１２０のモータが逆回転することにともない右方の回転軸部１２２が回転するとき、右方の足側壁４６の前方の端部が右方から左方に向けて移動する方向において、同足側壁４６が回転軸部１２２とともに足底壁４５および足中央壁４７に対して回転する。
【０２１９】
図３の制御装置３２は、駆動機構１２０の動作を制御することにより、足底壁４５および足中央壁４７に対する各足側壁４６の回転位置を図１５（ａ）および（ｂ）の「基準位置」から図１５（ｃ）および（ｄ）の「開放位置」までの範囲で変更する。また、図１の揺動機構１８によりオットマン１２を揺動させる動作が行なわれるとき、各足側壁４６の回転位置を開放位置に設定する。なお、基準位置から回転位置までの回転角度は「３０°」に設定されている。
【０２２０】
図１５（ａ）および（ｂ）に示されるように、各足側壁４６の回転位置が基準位置のとき、足底壁４５および足中央壁４７に対する各足側壁４６の回転可能範囲において各足側壁４６の前方の端部が足中央壁４７に最も接近している。
【０２２１】
図１５（ｃ）および（ｄ）に示されるように、各足側壁４６の回転位置が開放位置のとき、足底壁４５および足中央壁４７に対する各足側壁４６の回転可能範囲において各足側壁４６の前方の端部が足中央壁４７から最も離間している。
【０２２２】
オットマン１２の使用形態について説明する。
マッサージ機１においては、駆動機構１２０の動作によりオットマン１２の使用形態を図１５（ａ）および（ｂ）の「第１使用形態」または図１５（ｃ）および（ｄ）の「第２使用形態」に設定した状態でマッサージを行うことができる。
【０２２３】
すなわち、各足側壁４６の回転位置が図１５（ａ）および（ｂ）の基準位置に設定された第１使用形態と、各足側壁４６の回転位置が図１５（ｃ）および（ｄ）の開放位置に設定された第２使用形態とを選択することができる。なお、図３の制御装置３２は、第２使用形態によりマッサージを行なうとき、第５実施形態と同様に態様で揺動機構１８およびエアバッグ５６の制御を行なう。
【０２２４】
オットマン１２の使用形態と足Ｆの揺動領域との関係について説明する。
この実施形態のマッサージ機１においては、第５実施形態のマッサージ機１と同様に、第２使用形態の足揺動領域が第１使用形態の足揺動領域よりも大きい。このため、オットマン１２の使用形態を第１使用形態から第２使用形態に変更する動作は、足揺動領域を大きくする動作に相当する。また、オットマン１２の動作のうちの足側壁４６が足底壁４５および足中央壁４７に対して回転する動作は「足支持部の部分動作」に相当する。
【０２２５】
（実施形態の効果）
本実施形態のマッサージ機１によれば、第１実施形態の（１）〜（５）の効果と同様の効果、第３実施形態の（７）の効果と同様の効果、および第５実施形態の（９）の効果と同様の効果が得られる。
【０２２６】
（第１０実施形態）
図１６を参照して、本発明の第１０実施形態について説明する。
本実施形態のマッサージ機１は、第５実施形態のマッサージ機１の一部を変更したものとして構成されている。このため、以下では第５実施形態のマッサージ機１と異なる点の詳細を説明し、同実施形態と共通する構成については同一の符号を付してその説明の一部または全部を省略する。
【０２２７】
第５実施形態のマッサージ機１では、足底壁４５を足側壁４６および足中央壁４７に対して下方に移動させることにより足揺動領域を拡大している。これに対して本実施形態のマッサージ機１では、足中央壁４７を足底壁４５および足側壁４６に対して下方に移動させることにより足揺動領域を拡大している。
【０２２８】
図１６を参照して、上記変更点の詳細について説明する。なお図１６は、本実施形態のマッサージ機１について、図１の第１角度調整機構２１により脚フレーム１２Ａが平行姿勢に保たれた状態を示している。
【０２２９】
図１６（ａ）および（ｃ）に示されるように、この実施形態の足支持部１７においては、足裏壁４９の左右方向Ｙの長さが第５実施形態よりも短く設定されている。また、図１６（ｂ）および（ｄ）に示されるように、足中央壁４７の前後方向Ｘの長さが第５実施形態よりも長く設定されている。
【０２３０】
すなわち、足中央壁４７の左方および右方のそれぞれに足裏壁４９が設けられている。また、左方の足裏壁４９と右方の足裏壁４９との間に足中央壁４７の後方の端部が設けられている。
【０２３１】
図１６（ｂ）および（ｄ）に示されるように、足支持部１７には、足中央壁４７を足底壁４５および足側壁４６に対して上下方向Ｚに移動させるための昇降機構１３０が設けられている。
【０２３２】
昇降機構１３０には、足中央壁４７が固定されるとともに足裏壁４９に対して移動する移動フレーム１３２と、移動フレーム１３２を足裏壁４９に対して移動させるためのモータ１３１とが設けられている。モータ１３１には、外周面に雄ねじが形成された出力軸１３１Ａが設けられている。
【０２３３】
移動フレーム１３２には、足裏壁４９に対する移動が可能な状態で足裏壁４９に取り付けられる足裏壁取付部１３３と、モータ１３１の出力軸１３１Ａが取り付けられる出力軸取付部１３４とが設けられている。足中央壁４７は、足裏壁取付部１３３に固定されている。
【０２３４】
出力軸取付部１３４には、出力軸１３１Ａを挿入するための貫通孔１３４Ａが形成されている。この貫通孔１３４Ａを形成する出力軸取付部１３４の内周面には、出力軸１３１Ａの雄ねじに対応する雌ねじが形成されている。
【０２３５】
昇降機構１３０においては、出力軸１３１Ａの雄ねじが出力軸取付部１３４の雌ねじに噛み合わせられている。これにより、出力軸１３１Ａの回転にともない移動フレーム１３２が上下方向Ｚに移動する。なお、昇降機構１３０は「領域変更機構」に相当する。また、モータ９１は「アクチュエータ」に相当する。
【０２３６】
足中央壁４７は、昇降機構１３０により以下のように駆動される。
（Ａ）昇降機構１３０のモータ１３１が正回転することにともない移動フレーム１３２が下方に移動するとき、移動フレーム１３２とともに足中央壁４７が足底壁４５および足側壁４６に対して下方に移動する。
【０２３７】
（Ｂ）昇降機構１３０のモータ１３１が逆回転することにともない移動フレーム１３２が上方に移動するとき、移動フレーム１３２とともに足中央壁４７が足底壁４５および足側壁４６に対して上方に移動する。
【０２３８】
図３の制御装置３２は、昇降機構１３０の動作を制御することにより、足底壁４５および足側壁４６に対する足中央壁４７の位置を図１６（ａ）および（ｂ）の「基準位置」から図１６（ｃ）および（ｄ）の「開放位置」までの範囲で変更する。また、図１の揺動機構１８によりオットマン１２を揺動させる動作が行なわれるとき、足中央壁４７の位置を開放位置に設定する。
【０２３９】
図１６（ａ）および（ｂ）に示されるように、足中央壁４７の位置が基準位置のとき、足底壁４５および足側壁４６に対する足中央壁４７の移動可能範囲において足中央壁４７の下方の端部が足底壁４５に最も接近している。
【０２４０】
図１６（ｃ）および（ｄ）に示されるように、足側壁４６の位置が開放位置のとき、足底壁４５および足側壁４６に対する足中央壁４７の移動可能範囲において足中央壁４７の下方の端部が足底壁４５から最も離間している。
【０２４１】
オットマン１２の使用形態について説明する。
マッサージ機１においては、昇降機構１３０の動作によりオットマン１２の使用形態を図１６（ａ）および（ｂ）の「第１使用形態」または図１６（ｃ）および（ｄ）の「第２使用形態」に設定した状態でマッサージを行うことができる。
【０２４２】
すなわち、足中央壁４７の位置が図１６（ａ）および（ｂ）の基準位置に設定された第１使用形態と、足中央壁４７の位置が図１６（ｃ）および（ｄ）の開放位置に設定された第２使用形態とを選択することができる。なお、図３の制御装置３２は、第２使用形態によりマッサージを行なうとき、第５実施形態と同様に態様で揺動機構１８およびエアバッグ５６の制御を行なう。
【０２４３】
オットマン１２の使用形態と足Ｆの揺動領域との関係について説明する。
この実施形態のマッサージ機１においては、第５実施形態のマッサージ機１と同様に、第２使用形態の足揺動領域が第１使用形態の足揺動領域よりも大きい。このため、オットマン１２の使用形態を第１使用形態から第２使用形態に変更する動作は、足揺動領域を大きくする動作に相当する。また、オットマン１２の動作のうちの足中央壁４７が足底壁４５および足側壁４６に対して移動する動作は「足支持部の部分動作」に相当する。
【０２４４】
（実施形態の効果）
本実施形態のマッサージ機１によれば、第１実施形態の（１）〜（５）の効果と同様の効果、第３実施形態の（７）の効果と同様の効果、および第５実施形態の（９）の効果と同様の効果が得られる。
【０２４５】
（第１１実施形態）
図１７を参照して、本発明の第１１実施形態について説明する。
本実施形態のマッサージ機１は、第５実施形態のマッサージ機１の一部を変更したものとして構成されている。このため、以下では第５実施形態のマッサージ機１と異なる点の詳細を説明し、同実施形態と共通する構成については同一の符号を付してその説明の一部または全部を省略する。
【０２４６】
第５実施形態のマッサージ機１では、足底壁４５の全体を足側壁４６および足中央壁４７に対して下方に移動させることにより足揺動領域を拡大している。これに対して本実施形態のマッサージ機１では、足底壁４５の一部を足側壁４６および足中央壁４７に対して下方に移動させることにより足揺動領域を拡大している。
【０２４７】
図１７を参照して、上記変更点の詳細について説明する。なお図１７は、本実施形態のマッサージ機１について、図１の第１角度調整機構２１により脚フレーム１２Ａが平行姿勢に保たれた状態を示している。
【０２４８】
図１７（ｂ）および（ｄ）に示されるように、各足底壁４５は各別に形成された２つの底壁部、すなわち前方側の第１底壁部４５Ａおよび後方側の第２底壁部４５Ｂにより構成されている。第１底壁部４５Ａは、足側壁４６および足中央壁４７に対して上下方向Ｚに移動することができる。第２底壁部４５Ｂは、足側壁４６および足中央壁４７に固定されている。
【０２４９】
この実施形態の昇降機構９０には、第５実施形態の昇降機構９０に対して連結フレーム９５が追加されている。連結フレーム９５は、移動フレーム９２の足裏壁取付部９３と第１底壁部４５Ａとを互いに連結している。図１７（ｅ）に示されるように、連結フレーム９５は、１つの第１底壁部４５Ａに対して２つ設けられている。
【０２５０】
図１７（ａ）および（ｃ）に示されるように、第２底壁部４５Ｂの下面には、連結フレーム９５を配置するためのフレーム溝４５Ｆが形成されている。フレーム溝４５Ｆは、連結フレーム９５に対応して１つの第２底壁部４５Ｂに対して２つ形成されている。
【０２５１】
第１底壁部４５Ａは、昇降機構９０により以下のように駆動される。
（Ａ）昇降機構９０のモータが正回転することにともない移動フレーム９２が下方に移動するとき、第１底壁部４５Ａが移動フレーム９２とともに足側壁４６および足中央壁４７に対して下方に移動する。
【０２５２】
（Ｂ）昇降機構９０のモータが逆回転することにともない移動フレーム９２が上方に移動するとき、第１底壁部４５Ａが移動フレーム９２とともに足側壁４６および足中央壁４７に対して上方に移動する。
【０２５３】
図３の制御装置３２は、昇降機構９０の動作を制御することにより、足側壁４６および足中央壁４７に対する第１底壁部４５Ａの位置を図１７（ａ）および（ｂ）の「基準位置」から図１７（ｃ）および（ｄ）の「開放位置」までの範囲で変更する。また、図１の揺動機構１８によりオットマン１２を揺動させる動作が行なわれるとき、第１底壁部４５Ａの位置を開放位置に設定する。
【０２５４】
図１７（ａ）および（ｂ）に示されるように、第１底壁部４５Ａの位置が基準位置のとき、足側壁４６および足中央壁４７に対する第１底壁部４５Ａの移動可能範囲において第１底壁部４５Ａが足側壁４６および足中央壁４７に最も接近している。
【０２５５】
図１７（ｃ）および（ｄ）に示されるように、第１底壁部４５Ａの位置が開放位置のとき、足側壁４６および足中央壁４７に対する第１底壁部４５Ａの移動可能範囲において第１底壁部４５Ａが足側壁４６および足中央壁４７から最も離間している。
【０２５６】
オットマン１２の使用形態について説明する。
マッサージ機１においては、昇降機構９０の動作によりオットマン１２の使用形態を図１７（ａ）および（ｂ）の「第１使用形態」または図１７（ｃ）および（ｄ）の「第２使用形態」に設定した状態でマッサージを行うことができる。
【０２５７】
すなわち、第１底壁部４５Ａの位置が図１７（ａ）および（ｂ）の基準位置に設定された第１使用形態と、第１底壁部４５Ａの位置が図１７（ｃ）および（ｄ）の開放位置に設定された第２使用形態とを選択することができる。
【０２５８】
オットマン１２の使用形態と足Ｆの揺動領域との関係について説明する。
この実施形態のマッサージ機１においては、第５実施形態のマッサージ機１と同様に、第２使用形態の足揺動領域が第１使用形態の足揺動領域よりも大きい。このため、オットマン１２の使用形態を第１使用形態から第２使用形態に変更する動作は、足揺動領域を大きくする動作に相当する。また、オットマン１２の動作のうちの足底壁４５の第１底壁部４５Ａが足側壁４６および足中央壁４７に対して回転する動作は「足支持部の部分動作」に相当する。
【０２５９】
（実施形態の効果）
本実施形態のマッサージ機１によれば、第１実施形態の（１）〜（５）の効果と同様の効果、および第３実施形態の（７）の効果と同様の効果が得られる。
【０２６０】
（第１２実施形態）
図１８を参照して、本発明の第１２実施形態について説明する。
本実施形態のマッサージ機１は、第１１実施形態のマッサージ機１の一部を変更したものとして構成されている。このため、以下では第１１実施形態のマッサージ機１と異なる点の詳細を説明し、同実施形態と共通する構成については同一の符号を付してその説明の一部または全部を省略する。
【０２６１】
第１１実施形態のマッサージ機１では、足底壁４５の第１底壁部４５Ａを足側壁４６および足中央壁４７に対して下方に移動させることにより足揺動領域を拡大している。これに対して本実施形態のマッサージ機１では、足底壁４５の第１底壁部４５Ａを足側壁４６および足中央壁４７に対して回転させることにより足揺動領域を拡大している。
【０２６２】
図１８を参照して、上記変更点の詳細について説明する。なお図１８は、本実施形態のマッサージ機１について、図１の第１角度調整機構２１により脚フレーム１２Ａが平行姿勢に保たれた状態を示している。
【０２６３】
足支持部１７には、第１底壁部４５Ａを第２底壁部４５Ｂに対して回転可能に支持する蝶番１４１と、第１底壁部４５Ａを足側壁４６および足中央壁４７に対して回転させる駆動機構１４０とが設けられている。また、１つの足底壁４５に対して２つの蝶番１４１が設けられている。
【０２６４】
駆動機構１４０には、駆動源としてのモータと、このモータの回転により第１底壁部４５Ａを蝶番１４１まわりで回転させるリンク機構とが設けられている（いずれも図示略）。なお、駆動機構１４０は「領域変更機構」および「アクチュエータ」に相当する。また、蝶番１４１は「領域変更機構」に相当する。
【０２６５】
第１底壁部４５Ａは、駆動機構１４０により以下のように駆動される。
（Ａ）駆動機構１４０のモータが正回転することにともないリンク機構が動作するとき、第１底壁部４５Ａの前方の端部が上方から下方に向けて移動する方向において、第１底壁部４５Ａが足側壁４６および足中央壁４７に対して回転する。
【０２６６】
（Ｂ）駆動機構１４０のモータが逆回転することにともないリンク機構が動作するとき、第１底壁部４５Ａの前方の端部が下方から上方に向けて移動する方向において、第１底壁部４５Ａが足側壁４６および足中央壁４７に対して回転する。
【０２６７】
図３の制御装置３２は、駆動機構１４０の動作を制御することにより、足側壁４６および足中央壁４７に対する第１底壁部４５Ａの回転位置を図１８（ａ）および（ｂ）の「基準位置」から図１８（ｃ）および（ｄ）の「開放位置」までの範囲で変更する。また、図１の揺動機構１８によりオットマン１２を揺動させる動作が行なわれるとき、第１底壁部４５Ａの回転位置を開放位置に設定する。なお、基準位置から回転位置までの回転角度は「９０°」に設定されている。
【０２６８】
図１８（ａ）および（ｂ）に示されるように、第１底壁部４５Ａの位置が基準位置のとき、足側壁４６および足中央壁４７に対する第１底壁部４５Ａの回転可能範囲において第１底壁部４５Ａの前方の端部が足側壁４６および足中央壁４７に最も接近している。
【０２６９】
図１８（ｃ）および（ｄ）に示されるように、第１底壁部４５Ａの位置が開放位置のとき、足側壁４６および足中央壁４７に対する第１底壁部４５Ａの回転可能範囲において第１底壁部４５Ａの前方の端部が足側壁４６および足中央壁４７から最も離間している。
【０２７０】
オットマン１２の使用形態について説明する。
マッサージ機１においては、駆動機構１４０の動作によりオットマン１２の使用形態を図１８（ａ）および（ｂ）の「第１使用形態」または図１８（ｃ）および（ｄ）の「第２使用形態」に設定した状態でマッサージを行うことができる。
【０２７１】
すなわち、第１底壁部４５Ａの回転位置が図１８（ａ）および（ｂ）の基準位置に設定された第１使用形態と、第１底壁部４５Ａの回転位置が図１８（ｃ）および（ｄ）の開放位置に設定された第２使用形態とを選択することができる。
【０２７２】
オットマン１２の使用形態と足Ｆの揺動領域との関係について説明する。
この実施形態のマッサージ機１においては、第５実施形態のマッサージ機１と同様に、第２使用形態の足揺動領域が第１使用形態の足揺動領域よりも大きい。このため、オットマン１２の使用形態を第１使用形態から第２使用形態に変更する動作は、足揺動領域を大きくする動作に相当する。また、オットマン１２の動作のうちの足底壁４５の第１底壁部４５Ａが足側壁４６および足中央壁４７に対して回転する動作は「足支持部の部分動作」に相当する。
【０２７３】
（実施形態の効果）
本実施形態のマッサージ機１によれば、第１実施形態の（１）〜（５）の効果と同様の効果、および第３実施形態の（７）の効果と同様の効果が得られる。
【０２７４】
（第１３実施形態）
図１９を参照して、本発明の第１３実施形態について説明する。
本実施形態のマッサージ機１は、第９実施形態のマッサージ機１の一部を変更したものとして構成されている。このため、以下では第９実施形態のマッサージ機１と異なる点の詳細を説明し、同実施形態と共通する構成については同一の符号を付してその説明の一部または全部を省略する。
【０２７５】
第９実施形態のマッサージ機１では、足側壁４６の全体を足底壁４５および足中央壁４７に対して回転させることにより足揺動領域を拡大している。これに対して本実施形態のマッサージ機１では、足側壁４６の一部を足底壁４５および足中央壁４７に対して回転させることにより足揺動領域を拡大している。
【０２７６】
図１９を参照して、上記変更点の詳細について説明する。なお図１９は、本実施形態のマッサージ機１について、図１の第１角度調整機構２１により脚フレーム１２Ａが平行姿勢に保たれた状態を示している。
【０２７７】
各足側壁４６は各別に形成された２つの側壁部、すなわち前方側の第１側壁部４６Ａおよび後方側の第２側壁部４６Ｂにより構成されている。第１側壁部４６Ａは、足底壁４５および足中央壁４７に対して上下方向Ｚまわりで回転することができる。第２側壁部４６Ｂは、足底壁４５および足中央壁４７に固定されている。
【０２７８】
足支持部１７には、第１側壁部４６Ａを第２側壁部４６Ｂに対して回転可能に支持する蝶番１５１と、第１側壁部４６Ａを足底壁４５および足中央壁４７に対して回転させる駆動機構１５０とが設けられている。また、１つの足側壁４６に対して２つの蝶番１５１が設けられている。
【０２７９】
駆動機構１５０には、駆動源としてのモータと、このモータの回転により第１側壁部４６Ａを蝶番１５１まわりで回転させるリンク機構とが設けられている（いずれも図示略）。なお、駆動機構１５０は「領域変更機構」および「アクチュエータ」に相当する。また、蝶番１５１は「領域変更機構」に相当する。
【０２８０】
第１側壁部４６Ａは、駆動機構１５０により以下のように駆動される。
（Ａ）駆動機構１５０のモータが正回転することにともないリンク機構が動作するとき、左方の第１側壁部４６Ａの前方の端部が右方から左方に向けて移動する方向において、同第１側壁部４６Ａが足底壁４５および足中央壁４７に対して回転する。また、駆動機構１５０のモータが正回転することにともないリンク機構が動作するとき、右方の第１側壁部４６Ａの前方の端部が左方から右方に向けて移動する方向において、同第１側壁部４６Ａが足底壁４５および足中央壁４７に対して回転する。
【０２８１】
（Ｂ）駆動機構１５０のモータが逆回転することにともないリンク機構が動作するとき、左方の第１側壁部４６Ａの前方の端部が左方から右方に向けて移動する方向において、同第１側壁部４６Ａが足底壁４５および足中央壁４７に対して回転する。また、駆動機構１５０のモータが逆回転することにともないリンク機構が動作するとき、右方の第１側壁部４６Ａの前方の端部が右方から左方に向けて移動する方向において、同第１側壁部４６Ａが足底壁４５および足中央壁４７に対して回転する。
【０２８２】
図３の制御装置３２は、駆動機構１５０の動作を制御することにより、足底壁４５および足中央壁４７に対する第１側壁部４６Ａの回転位置を図１９（ａ）の「基準位置」から図１９（ｂ）の「開放位置」までの範囲で変更する。また、図１の揺動機構１８によりオットマン１２を揺動させる動作が行なわれるとき、第１側壁部４６Ａの回転位置を開放位置に設定する。なお、基準位置から回転位置までの回転角度は「９０°」に設定されている。
【０２８３】
図１９（ａ）に示されるように、第１側壁部４６Ａの位置が基準位置のとき、足底壁４５および足中央壁４７に対する第１側壁部４６Ａの回転可能範囲において第１側壁部４６Ａの前方の端部が足底壁４５および足中央壁４７に最も接近している。
【０２８４】
図１９（ｂ）に示されるように、第１側壁部４６Ａの位置が開放位置のとき、足底壁４５および足中央壁４７に対する第１側壁部４６Ａの回転可能範囲において第１側壁部４６Ａの前方の端部が足底壁４５および足中央壁４７から最も離間している。
【０２８５】
オットマン１２の使用形態について説明する。
マッサージ機１においては、駆動機構１５０の動作によりオットマン１２の使用形態を図１９（ａ）の「第１使用形態」または図１９（ｂ）の「第２使用形態」に設定した状態でマッサージを行うことができる。
【０２８６】
すなわち、第１側壁部４６Ａの回転位置が図１９（ａ）の基準位置に設定された第１使用形態と、第１側壁部４６Ａの回転位置が図１９（ｂ）の開放位置に設定された第２使用形態とを選択することができる。なお、図３の制御装置３２は、第２使用形態によりマッサージを行なうとき、第５実施形態と同様に態様で揺動機構１８およびエアバッグ５６の制御を行なう。
【０２８７】
オットマン１２の使用形態と足Ｆの揺動領域との関係について説明する。
この実施形態のマッサージ機１においては、第５実施形態のマッサージ機１と同様に、第２使用形態の足揺動領域が第１使用形態の足揺動領域よりも大きい。このため、オットマン１２の使用形態を第１使用形態から第２使用形態に変更する動作は、足揺動領域を大きくする動作に相当する。また、オットマン１２の動作のうちの第１側壁部４６Ａが足底壁４５および足中央壁４７に対して回転する動作は「足支持部の部分動作」に相当する。
【０２８８】
（実施形態の効果）
本実施形態によれば、第１実施形態の（１）〜（５）の効果と同様の効果、第３実施形態の（７）の効果と同様の効果、および第５実施形態の（９）の効果と同様の効果が得られる。
【０２８９】
（第１４実施形態）
図２０を参照して、本発明の第１４実施形態について説明する。
本実施形態のマッサージ機１は、第１０実施形態のマッサージ機１の一部を変更したものとして構成されている。このため、以下では第１０実施形態のマッサージ機１と異なる点の詳細を説明し、同実施形態と共通する構成については同一の符号を付してその説明の一部または全部を省略する。
【０２９０】
第１０実施形態のマッサージ機１では、足中央壁４７を足底壁４５および足側壁４６に対して下方に移動させることにより足揺動領域を拡大している。これに対して本実施形態のマッサージ機１では、足中央壁４７を足底壁４５および足側壁４６に対して左右方向Ｙまわりで回転させることにより足揺動領域を拡大している。
【０２９１】
図２０を参照して、上記変更点の詳細について説明する。なお図２０は、本実施形態のマッサージ機１について、図１の第１角度調整機構２１により脚フレーム１２Ａが平行姿勢に保たれた状態を示している。
【０２９２】
足支持部１７には、足底壁４５および足側壁４６に対する回転が可能な状態で足中央壁４７を支持する回転軸部１６１と、回転軸部１６１を回転させる駆動機構１６０とが設けられている。
【０２９３】
駆動機構１６０には、駆動源としてのモータと、このモータの回転を減速して回転軸部１６１に伝達する減速機とが設けられている（いずれも図示略）。なお、駆動機構１６０は「領域変更機構」および「アクチュエータ」に相当する。また、回転軸部１６１は「領域変更機構」に相当する。
【０２９４】
足中央壁４７は、駆動機構１６０により以下のように駆動される。
（Ａ）駆動機構１６０のモータが正回転することにともない回転軸部１６１が回転するとき、足中央壁４７の前方の端部が上方から下方に向けて移動する方向において、足中央壁４７が回転軸部１６１とともに足底壁４５および足側壁４６に対して回転する。
【０２９５】
（Ｂ）駆動機構１６０のモータが逆回転することにともない回転軸部１６１が回転するとき、足中央壁４７の前方の端部が下方から上方に向けて移動する方向において、足中央壁４７が回転軸部１６１とともに足底壁４５および足側壁４６に対して回転する。
【０２９６】
図３の制御装置３２は、駆動機構１６０の動作を制御することにより、足底壁４５および足側壁４６に対する足中央壁４７の回転位置を図２０（ａ）の「基準位置」から図２０（ｂ）の「開放位置」までの範囲で変更する。また、図１の揺動機構１８によりオットマン１２を揺動させる動作が行なわれるとき、足中央壁４７の回転位置を開放位置に設定する。なお、基準位置から回転位置までの回転角度は「９０°」に設定されている。
【０２９７】
図２０（ａ）に示されるように、足中央壁４７の回転位置が基準位置のとき、足底壁４５および足側壁４６に対する足中央壁４７の回転可能範囲において足中央壁４７の前方の端部が足底壁４５および足側壁４６に最も接近している。
【０２９８】
図２０（ｂ）に示されるように、足中央壁４７の回転位置が開放位置のとき、足底壁４５および足側壁４６に対する足中央壁４７の回転可能範囲において足中央壁４７の前方の端部が足底壁４５および足側壁４６から最も離間している。
【０２９９】
オットマン１２の使用形態について説明する。
マッサージ機１においては、駆動機構１６０の動作によりオットマン１２の使用形態を図２０（ａ）の「第１使用形態」または図２０（ｂ）の「第２使用形態」に設定した状態でマッサージを行うことができる。
【０３００】
すなわち、足中央壁４７の回転位置が図２０（ａ）の基準位置に設定された第１使用形態と、足中央壁４７の回転位置が図２０（ｂ）の開放位置に設定された第２使用形態とを選択することができる。なお、図３の制御装置３２は、第２使用形態によりマッサージを行なうとき、第５実施形態と同様に態様で揺動機構１８およびエアバッグ５６の制御を行なう。
【０３０１】
オットマン１２の使用形態と足Ｆの揺動領域との関係について説明する。
この実施形態のマッサージ機１においては、第５実施形態のマッサージ機１と同様に、第２使用形態の足揺動領域が第１使用形態の足揺動領域よりも大きい。このため、オットマン１２の使用形態を第１使用形態から第２使用形態に変更する動作は、足揺動領域を大きくする動作に相当する。また、オットマン１２の動作のうちの足中央壁４７が足底壁４５および足側壁４６に対して回転する動作は「足支持部の部分動作」に相当する。
【０３０２】
（実施形態の効果）
本実施形態のマッサージ機１によれば、第１実施形態の（１）〜（５）の効果と同様の効果、第３実施形態の（７）の効果と同様の効果、および第５実施形態の（９）の効果と同様の効果が得られる。
【０３０３】
（第１５実施形態）
図２１を参照して、本発明の第１５実施形態について説明する。
本実施形態では、本発明の揺動装置を椅子から独立した脚揺動装置１７０として構成した一例を示している。脚揺動装置１７０のオットマン１２および揺動機構１８としては、第１実施形態と同じものが用いられている。このため、以下では同実施形態と共通する構成については同一の符号を付してその説明の一部または全部を省略する。
【０３０４】
脚揺動装置１７０には、脚Ｒおよび足Ｆを支持するオットマン１２と、オットマン１２を揺動させる揺動機構１８と、床面２上に載せられた平板状の基台１７１と、オットマン１２を回転可能な状態で支持する支持フレーム１７２とが設けられている。またこの他に、オットマン１２と一体的に回転する接続部分１７３と、接続部分１７３を支持フレーム１７２に対して回転させる駆動部１７４とが設けられている。またこの他に、駆動部１７４および揺動機構１８の制御を行う制御装置１７５と、制御装置１７５に操作情報を出力するコントローラ１７６とが設けられている。
【０３０５】
オットマン１２は、支持フレーム１７２を介して揺動機構１８の上に設けられている。揺動機構１８は、基台１７１の上に設けられている。支持フレーム１７２は、揺動機構１８の上に設けられている。このため、揺動機構１８の左右方向Ｙの揺動にともない支持フレーム１７２が左右方向Ｙに揺動する。
【０３０６】
脚揺動装置１７０の動作について説明する。
脚揺動装置１７０においては、揺動機構１８により支持フレーム１７２が揺動させられることにともないオットマン１２が揺動する。また、駆動部１７４により接続部分１７３が駆動されることにより、オットマン１２が支持フレーム１７２に対して回転する。そして、オットマン１２の回転にともない脚Ｒおよび足Ｆの位置が変更される。
【０３０７】
制御装置１７５は、揺動機構１８の動作を開始する旨の信号、または揺動機構１８の動作を終了する旨の信号、または揺動機構１８の揺動速度および揺動量の少なくとも一方を変更する旨の信号をコントローラ１７６から受信したとき、揺動機構１８の制御を行う。また、オットマン１２の動作を開始する旨の信号、またはオットマン１２の動作を終了する旨の信号、またはオットマン１２の回転速度および回転量の少なくとも一方を変更する旨の信号をコントローラ１７６から受信したとき、駆動部１７４の制御を行う。
【０３０８】
使用者は、足Ｆまたは手により足支持部１７を前方に押すことにより、脚支持部１６に対する足支持部１７の位置を図２１（ａ）の「基準位置」から図２２（ｂ）の「開放位置」に変更することができる。また、手により復帰機構を操作することにより、脚支持部１６に対する足支持部１７の位置を開放位置から基準位置に変更することができる。このため、揺動機構１８によりオットマン１２を揺動させる動作が行なわれるとき、足支持部１７の位置を開放位置に設定することができる。
【０３０９】
図２１（ａ）に示されるように、足支持部１７の位置が基準位置のとき、脚支持部１６に対する足支持部１７の移動可能範囲において足支持部１７が脚支持部１６に最も接近している。
【０３１０】
図２１（ｂ）に示されるように、足支持部１７の位置が開放位置のとき、脚支持部１６に対する足支持部１７の移動可能範囲において足支持部１７が脚支持部１６から最も離間している。
【０３１１】
オットマン１２の使用形態について説明する。
マッサージ機１においては、使用者の操作によりオットマン１２の使用形態を図２１（ａ）の「第１使用形態」または図２１（ｂ）の「第２使用形態」に設定した状態でマッサージを行うことができる。
【０３１２】
すなわち、足支持部１７の位置が図２１（ａ）の基準位置に設定された第１使用形態と、足支持部１７の位置が図２１（ｂ）の開放位置に設定された第２使用形態とを選択することができる。
【０３１３】
オットマン１２の使用形態と足Ｆの揺動領域との関係について説明する。
第１使用形態においては、左右方向Ｙにおいての足支持部１７に対する足Ｆの揺動範囲が足側壁４６と足中央壁４７との間に制限される。一方、第２使用形態においては、左右方向Ｙにおいての足支持部１７に対する足Ｆの揺動範囲について、この揺動範囲が足側壁４６および足中央壁４７により制限される度合いが第１使用形態よりも小さい。
【０３１４】
このように、第２使用形態の足揺動領域は第１使用形態の足揺動領域よりも大きい。このため、オットマン１２の使用形態を第１使用形態から第２使用形態に変更する動作は、足揺動領域を大きくする動作に相当する。また、オットマン１２の動作のうちの足支持部１７が脚支持部１６に対して移動する動作は「足支持部の全体動作」に相当する。
【０３１５】
図２１を参照して、脚揺動装置１７０の使用手順について説明する。
使用者は、次の手順で脚揺動装置１７０を使用することができる。
（Ａ）脚揺動装置１７０の使用にあたり基台１７１を床面２上に配置する。
（Ｂ）床面２上において仰臥位の姿勢をとる。
（Ｃ）膝を曲げて脚Ｒの下腿および足Ｆをオットマン１２に載せる。
（Ｄ）コントローラ１７６を操作して脚揺動装置１７０の動作を開始する。
（Ｅ）コントローラ１７６を操作してオットマン１２を揺動させる。
（Ｆ）足Ｆによりオットマン１２を操作して第２使用形態に変更する。
（Ｇ）コントローラ１７６を操作してオットマン１２の揺動を停止する。
（Ｈ）足Ｆによりオットマン１２を操作して第１使用形態に変更する。
（Ｉ）コントローラ３３を操作して脚揺動装置１７０の動作を停止する。
【０３１６】
なお、（Ｆ）および（Ｈ）の操作は脚揺動装置１７０の動作中および停止中の双方において行うことができる。また、これらの各操作を行なうか否かについては、使用者の意志により任意に選択することができる。
【０３１７】
（実施形態の効果）
本実施形態の脚揺動装置１７０によれば、第１実施形態の（１）〜（５）の効果に準じた効果、および以下の（１０）および（１１）の効果が得られる。
【０３１８】
（１０）脚揺動装置１７０は、椅子から独立した装置として構成されている。この構成によれば、使用者が身体を床面２に横たえた状態で脚揺動装置１７０により脚を揺動させることができる。
【０３１９】
（１１）脚揺動装置１７０においては、揺動機構１８が基台１７１上に設けられている。この構成によれば、揺動機構１８がオットマン１２に取り付けられる構成と比較して、揺動機構１８の動作が安定する。
【０３２０】
（第１６実施形態）
図２２を参照して、本発明の第１６実施形態について説明する。
本実施形態の脚揺動装置１７０は、第１５実施形態の脚揺動装置１７０の一部を変更したものとして構成されている。このため、以下では第１５実施形態の脚揺動装置１７０と異なる点の詳細を説明し、同実施形態と共通する構成については同一の符号を付してその説明の一部または全部を省略する。
【０３２１】
第１５実施形態の脚揺動装置１７０では、揺動機構１８が基台１７１上に設けられている。これに対して本実施形態の脚揺動装置１７０では、揺動機構１８がオットマン１２に取り付けられている。
【０３２２】
図２２（ａ）に示されるように、脚揺動装置１７０には、揺動機構１８を支持する平板状の支持台１７７と、支持台１７７を回転可能な状態で支持する支持フレーム１７２と、支持台１７７と一体的に回転する接続部分１７８とが設けられている。
【０３２３】
揺動機構１８は、支持台１７７上においてオットマン１２に取り付けられている。また、第１５実施形態の脚揺動装置１７０とは異なり、オットマン１２および支持フレーム１７２のうちの前者のみを左右方向Ｙに揺動させる。
【０３２４】
脚揺動装置１７０の動作について説明する。
脚揺動装置１７０においては、揺動機構１８が揺動することによりオットマン１２が揺動する。また、駆動部１７４により支持台１７７が駆動されることにより、支持台１７７およびオットマン１２が支持フレーム１７２に対して回転する。そして、オットマン１２の回転にともない脚Ｒおよび足Ｆの位置が変更される。なお、制御装置１７５による揺動機構１８および駆動部１７４の制御については、第１５実施形態の制御装置１７５の制御と同様の態様で行われる。
【０３２５】
（実施形態の効果）
本実施形態の脚揺動装置１７０によれば、第１実施形態の（１）〜（５）の効果に準じた効果、および以下の（１２）および（１３）の効果が得られる。
【０３２６】
（１２）脚揺動装置１７０においては、揺動機構１８が支持台１７７上に設けられている。この構成によれば、揺動機構１８が基台１７１上に設けられる構成と比較して、揺動機構１８の揺動にともない生じる振動が脚揺動装置１７０から床面２に伝えられる度合いが小さくなる。
【０３２７】
（１３）脚揺動装置１７０においては、支持フレーム１７２の上方の端部よりも上方にオットマン１２が配置されている。この構成によれば、オットマン１２が左右方向に揺動するときにオットマン１２の揺動が支持フレーム１７２により制限されることが抑制される。このため、各支持フレーム１７２の間にオットマン１２が設けられる構成と比較して、オットマン１２の左右方向Ｙへの揺動量を大きくすることができる。
【０３２８】
（第１７実施形態）
図２３を参照して、本発明の第１７実施形態について説明する。
本実施形態の脚揺動装置１７０は、第１６実施形態の脚揺動装置１７０の一部を変更したものとして構成されている。このため、以下では第１６実施形態の脚揺動装置１７０と異なる点の詳細を説明し、同実施形態と共通する構成については同一の符号を付してその説明の一部または全部を省略する。
【０３２９】
第１６実施形態の脚揺動装置１７０では、駆動部１７４により接続部分１７８を回転させることにより、支持台１７７を支持フレーム１７２に対して回転させている。これに対して本実施形態の脚揺動装置１７０では、支持フレーム１７２を省略して装置を構成するとともに、支持台１７７の後方の端部を昇降することにより支持台１７７を基台１７１に対して回転させる。
【０３３０】
脚揺動装置１７０には、基台１７１に対する支持台１７７の回転軸としての回転軸部１７９と、支持台１７７の後方の端部を基台１７１に対して昇降させる駆動部１７４とが設けられている。駆動部１７４には、空気の給排にともない上下方向Ｚに移動するシリンダと、シリンダに空気を供給するエアポンプとが設けられている（いずれも図示略）。
【０３３１】
脚揺動装置１７０の動作について説明する。
脚揺動装置１７０においては、揺動機構１８が揺動することによりオットマン１２が揺動する。また、駆動部１７４により支持台１７７が駆動されることにより、支持台１７７およびオットマン１２が基台１７１に対して回転する。そして、オットマン１２の回転にともない脚Ｒおよび足Ｆの位置が変更される。なお、制御装置１７５による揺動機構１８および駆動部１７４の制御については、第１６実施形態の制御装置１７５の制御と同様の態様で行われる。
【０３３２】
（実施形態の効果）
本実施形態の脚揺動装置１７０によれば、第１実施形態の（１）〜（５）の効果に準じた、および以下の（１４）の効果が得られる。
【０３３３】
（１４）脚揺動装置１７０においては、基台１７１と支持台１７７とが回転軸部１７９により互いに接続されている。この構成によれば、第１５および第１６実施形態のそれぞれの脚揺動装置１７０と比較して、脚揺動装置１７０の上下方向Ｚの体格を小さくすることができる。
【０３３４】
また、揺動機構１８が支持台１７７に載せられているため、揺動機構１８が基台１７１に載せられる構成と比較して、揺動機構１８の動作にともない生じる振動が床面２に伝えられる度合いを小さくすることができる。
【０３３５】
（第１８実施形態）
図２４を参照して、本発明の第１８実施形態について説明する。
本実施形態では、本発明の揺動装置を寝台１８０に適用した一例を示している。揺動装置としては、第１実施形態のオットマン１２と同じものが用いられている。このため、以下では同実施形態と共通する構成については同一の符号を付してその説明の一部または全部を省略する。
【０３３６】
図２４（ａ）に示されるように、寝台１８０には、使用者が身体を横たえるための本体部１８１と、本体部１８１を支持する４本の脚部１８１Ａと、脚Ｒおよび足Ｆを揺動させる脚揺動装置１８２と、背中を揺動させる背揺動装置１８３とが設けられている。またこの他に、背揺動装置１８３を駆動する駆動部１８６と、駆動部１８６、昇降機構１８５、および揺動機構１８を制御する制御装置１８７と、制御装置１８７に操作情報を出力するコントローラ１８８とが設けられている。
【０３３７】
脚揺動装置１８２は、使用者が本体部１８１上において身体を横たえたときの脚Ｒおよび足Ｆに対応する位置に設けられている。背揺動装置１８３は、使用者が本体部１８１上において身体を横たえたときの背中に対応する位置に設けられている。
【０３３８】
脚揺動装置１８２には、脚Ｒおよび足Ｆを支持するオットマン１２と、オットマン１２を左右方向Ｙに揺動させる揺動機構１８と、揺動機構１８を支持する支持台１８４と、支持台１８４を上下方向Ｚに昇降させる昇降機構１８５とが設けられている。揺動機構１８は、脚支持部１６の下方の端部に取り付けられている。
【０３３９】
昇降機構１８５には、支持台１８４の前方の端部および後方の端部のそれぞれに設けられたシリンダ１８５Ａと、各シリンダ１８５Ａに空気を給排するエアポンプ（図示略）とが設けられている。
【０３４０】
図２４（ｂ）に示されるように、背揺動装置１８３には、平板状の揺動板１９１と、揺動板１９１の左右方向Ｙの中間部分に取り付けられる一対のシャフト１９２と、各シャフト１９２に接続される一対のガイドレール１９３とが設けられている。
【０３４１】
各シャフト１９２は、各ガイドレール１９３に対して左右方向Ｙに移動すること、および左右方向Ｙの任意の位置において自転することができる。このため、揺動板１９１は、本体部１８１に対して左右方向Ｙに移動すること、およびシャフト１９２を回転中心として回転することができる。
【０３４２】
寝台１８０の動作モードとしては、以下の第２１モード〜第２４モードが予め用意されている。制御装置１８７は、コントローラ１８８の操作に応じて寝台１８０の動作モードを選択し、選択した動作モードに応じて各機構を制御する。
【０３４３】
各動作モードの説明にあたり各用語を下記のとおり定義する。
・「脚揺動」は、脚揺動装置１８２が揺動している状態を示す。
・「脚停止」は、脚揺動装置１８２が停止している状態を示す。
・「背揺動」は、背揺動装置１８３が揺動している状態を示す。
・「背停止」は、背揺動装置１８３が停止している状態を示す。
【０３４４】
各動作モードにおいては以下のように各機構が制御される。
（Ａ）第２１モードでは、脚揺動かつ背揺動となる。
（Ｂ）第２２モードでは、脚揺動かつ背停止となる。
（Ｃ）第２３モードでは、脚停止かつ背揺動となる。
（Ｄ）第２４モードでは、脚停止かつ背停止となる。
【０３４５】
（実施形態の効果）
本実施形態の寝台１８０によれば、第１実施形態の（１）〜（５）の効果に準じた効果、および以下の（１５）の効果が得られる。
【０３４６】
（１５）寝台１８０においては、背中に対応する位置に背揺動装置１８３が設けられている。この構成によれば、動作モードが第１モードのときには使用者の身体の全体が揺動するため、揺動による身体をほぐす効果を高めることができる。
【０３４７】
また、背揺動装置１８３が設けられているため、第１実施形態のマッサージ機１と比較して、身体を揺動させるための動作の種類が多くなる。このため、使用者が望む揺動態様をより的確に実現することができる。
【０３４８】
（その他の実施形態）
本発明の実施態様は上記各実施形態の内容に限定されるものではなく、例えば以下のように変更することもできる。また、以下の変形例は上記各実施形態についてのみ適用されるものではなく、異なる変形例同士を互いに組み合わせて実施することもできる。
【０３４９】
・第２実施形態（図５）では、足支持部１７の回転量を「９０°」に設定しているが、足支持部１７の回転量を「９０°」よりも大きくすることもできる。また、足Ｆと各足側壁４６および足中央壁４７との接触を抑制することが可能となる範囲において、足支持部１７の回転量を「９０°」よりも小さくすることもできる。
【０３５０】
・第１実施形態（図４）、第２実施形態（図５）、および第４実施形態（図９）において、アクチュエータにより足支持部１７を脚支持部１６に対して移動および回転させることもできる。例えば、第１実施形態においては、モータの回転を前後方向Ｘの往復運動に変換する回転直進変換機構を用いて足支持部１７を移動させることができる。また第２実施形態においては、ヒンジ７５を回転させる駆動機構を用いて足支持部１７を回転させることができる。また第４実施形態では、上記回転直進変換機構および上記駆動機構を用いて足支持部１７を移動および回転させることができる。
【０３５１】
・第５実施形態（図１１）では、足底壁４５を足側壁４６および足中央壁４７に対して下方に移動させることにより足揺動領域を拡大している。これに代えて、足揺動領域を拡大するための足底壁４５の動作態様を次のように変更することもできる。
【０３５２】
図２５に示されるように、足底壁４５を足側壁４６および足中央壁４７に対して前後方向Ｘに移動させることができる構成を採用する。そして、足底壁４５の位置を図２５（ａ）の位置から図２５（ｂ）の位置に変更することにより、足揺動領域を拡大する。この場合には、第５実施形態の構成から次の点が変更される。
【０３５３】
足支持部１７には、足底壁４５を足側壁４６および足中央壁４７に対してスライドさせるレールと（図示略）、足底壁４５を足側壁４６および足中央壁４７に対して前後方向Ｘに往復移動させる往復機構２１０とが設けられる。レールは、足底壁４５の側面と足側壁４６の側面との間、および足底壁４５の側面と足中央壁４７の側面との間に設けられる。往復機構２１０には、駆動源としてのモータと、モータの回転を前後方向Ｘの直線運動に変換する回転直進変換機構とが設けられる（いずれも図示略）。なお、モータは「アクチュエータ」に相当する。また、往復機構２１０、およびレールは「領域変更機構」に相当する。
【０３５４】
・第６実施形態（図１２）では、足底壁４５の後方の端部を回転中心として足底壁４５を足側壁４６および足中央壁４７に対して左右方向Ｙまわりで回転させることにより足揺動領域を拡大している。これに代えて、足揺動領域を拡大するための足底壁４５の動作態様を以下の（Ａ）〜（Ｄ）のように変更することもできる。
【０３５５】
（Ａ）図２６に示されるように、足底壁４５の前方の端部を回転中心として足底壁４５を足側壁４６および足中央壁４７に対して左右方向Ｙまわりで回転させることができる構成を採用する。そして、足底壁４５の回転位置を図２６（ａ）の回転位置から図２６（ｂ）の回転位置に変更することにより足揺動領域を拡大する。この場合には、第６実施形態の構成から次の点が変更される。
【０３５６】
足支持部１７には、足側壁４６および足中央壁４７に対する回転が可能な状態で足底壁４５を支持する回転軸部２２１と、回転軸部２２１を回転させる駆動機構２２０とが設けられる。駆動機構２２０としては、第６実施形態の駆動機構１００の構成に準じたものが用いられる。なお、駆動機構２２０は「領域変更機構」および「アクチュエータ」に相当する。また、回転軸部２２１は「領域変更機構」に相当する。
【０３５７】
（Ｂ）図２７に示されるように、足底壁４５の後方の端部を回転中心として足底壁４５を足側壁４６および足中央壁４７に対して左右方向Ｙまわりで回転させることができる構成を採用する。また、足底壁４５を足側壁４６および足中央壁４７に対して前後方向Ｘに移動させることができる構成を採用する。そして、足底壁４５の位置および回転位置を図２７（ａ）の位置および回転位置から図２７（ｂ）の位置および回転位置に変更することにより足揺動領域を拡大する。この場合には、上記図２６の変形例の構成から次の点が変更される。
【０３５８】
足支持部１７には、足側壁４６の穴に挿入されるとともに足側壁４６に対して前後方向Ｘに移動することができるシャフト２１１と、足底壁４５を足側壁４６および足中央壁４７に対して前後方向Ｘに往復移動させる往復機構２１０とが設けられる。シャフト２１１の一方の端部は、足底壁４５に固定される。往復機構２１０としては、上記図２５の変形例の往復機構２１０と同様のものが用いられる。なお、シャフト２１１は「領域変更機構」に相当する。
【０３５９】
（Ｃ）図２８に示されるように、左方の足底壁４５の左方の端部を回転中心として同足底壁４５を足側壁４６および足中央壁４７に対して前後方向Ｘまわりで回転させることができる構成を採用する。また、右方の足底壁４５の右方の端部を回転中心として同足底壁４５を足側壁４６および足中央壁４７に対して前後方向Ｘまわりで回転させることができる構成を採用する。そして、足底壁４５の回転位置を図２８（ａ）の回転位置から図２８（ｂ）の回転位置に変更することにより足揺動領域を拡大する。この場合には、第６実施形態の構成から次の点が変更される。
【０３６０】
足支持部１７には、足側壁４６および足中央壁４７に対する回転が可能な状態で足底壁４５を支持する回転軸部２３１と、回転軸部２３１を回転させる駆動機構２３０とが設けられる。駆動機構２３０としては、第６実施形態の駆動機構１００の構成に準じたものが用いられる。なお、駆動機構２３０は「領域変更機構」および「アクチュエータ」に相当する。また、回転軸部２３１は「領域変更機構」に相当する。
【０３６１】
（Ｄ）図２９に示されるように、左方の足底壁４５の右方の端部を回転中心として同足底壁４５を足側壁４６および足中央壁４７に対して前後方向Ｘまわりで回転させることができる構成を採用する。また、右方の足底壁４５の左方の端部を回転中心として同足底壁４５を足側壁４６および足中央壁４７に対して前後方向Ｘまわりで回転させることができる構成を採用する。そして、足底壁４５の回転位置を図２９（ａ）の回転位置から図２９（ｂ）の回転位置に変更することにより足揺動領域を拡大する。この場合には、第６実施形態の構成から次の点が変更される。
【０３６２】
足支持部１７には、足側壁４６および足中央壁４７に対する回転が可能な状態で足底壁４５を支持する回転軸部２４１と、回転軸部２４１を回転させる駆動機構２４０とが設けられる。駆動機構２４０としては、第６実施形態の駆動機構１００の構成に準じたものが用いられる。なお、駆動機構２４０は「領域変更機構」および「アクチュエータ」に相当する。また、回転軸部２４１は「領域変更機構」に相当する。
【０３６３】
・第７実施形態（図１３）では、足側壁４６を足底壁４５および足中央壁４７に対して左方または右方に移動させることにより足揺動領域を拡大している。これに代えて、足揺動領域を拡大するための足側壁４６の動作態様を以下の（Ａ）または（Ｂ）のように変更することもできる。
【０３６４】
（Ａ）図３０に示されるように、足側壁４６を足底壁４５および足中央壁４７に対して前後方向Ｘに移動させることができる構成を採用する。そして、足側壁４６の位置を図３０（ａ）の位置から図３０（ｂ）の位置に変更することにより足揺動領域を拡大する。この場合には、第７実施形態の構成から次の点が変更される。
【０３６５】
足支持部１７には、足側壁４６を足底壁４５および足中央壁４７に対してスライドさせるレールと（図示略）、足側壁４６を足底壁４５および足中央壁４７に対して前後方向Ｘに往復移動させる往復機構２５０とが設けられる。レールは、足底壁４５の側面と足側壁４６の側面との間に設けられる。往復機構２５０としては、上記図２５の変形例の往復機構２１０の構成に準じたものが用いられる。なお、往復機構２５０は「領域変更機構」および「アクチュエータ」に相当する。また、レールは「領域変更機構」に相当する。
【０３６６】
（Ｂ）図３１に示されるように、足側壁４６を足底壁４５および足中央壁４７に対して上下方向Ｚに移動させることができる構成を採用する。そして、足側壁４６の位置を図３１（ａ）の位置から図３１（ｂ）の位置に変更することにより足揺動領域を拡大する。この場合には、第７実施形態の構成から次の点が変更される。
【０３６７】
足支持部１７には、足側壁４６を足底壁４５および足中央壁４７に対してスライドさせるレールと（図示略）、足側壁４６を足底壁４５および足中央壁４７に対して上下方向Ｚに往復移動させる昇降機構２６０とが設けられる。レールは、足側壁４６の側面と足裏壁４９との間に設けられる。昇降機構２６０としては、第５実施形態の昇降機構９０の構成に準じたものが用いられる。なお、昇降機構２６０は「領域変更機構」および「アクチュエータ」に相当する。また、レールは「領域変更機構」に相当する。
【０３６８】
・第８実施形態（図１４）では、足側壁４６の後方の端部を回転中心として足側壁４６を足底壁４５および足中央壁４７に対して左右方向Ｙまわりで回転させることにより足揺動領域を拡大している。これに代えて、足揺動領域を拡大するための足側壁４６の動作態様を以下の（Ａ）〜（Ｄ）のように変更することもできる。
【０３６９】
（Ａ）図３２に示されるように、足側壁４６の下方の端部を回転中心として足側壁４６を足底壁４５および足中央壁４７に対して前後方向Ｘまわりで回転させることができる構成を採用する。そして、足側壁４６の回転位置を図３２（ａ）の回転位置から図３２（ｂ）の回転位置に変更することにより足揺動領域を拡大する。この場合には、第８施形態の構成から次の点が変更される。
【０３７０】
足支持部１７には、足底壁４５および足中央壁４７に対する回転が可能な状態で足側壁４６を支持する回転軸部２７１と、回転軸部２７１を回転させる駆動機構２７０とが設けられる。駆動機構２７０としては、第６実施形態の駆動機構１００の構成に準じたものが用いられる。なお、駆動機構２７０は「領域変更機構」および「アクチュエータ」に相当する。また、回転軸部２７１は「領域変更機構」に相当する。
【０３７１】
（Ｂ）図３３に示されるように、足側壁４６の下方の端部を回転中心として足側壁４６を足底壁４５および足中央壁４７に対して前後方向Ｘまわりで回転させることができる構成を採用する。また、足側壁４６を足底壁４５および足中央壁４７に対して左右方向Ｙに移動させることができる構成を採用する。そして、足側壁４６の位置および回転位置を図３３（ａ）の位置および回転位置から図３３（ｂ）の位置および回転位置に変更することにより足揺動領域を拡大する。この場合には、上記図３２の変形例の構成から次の点が変更される。
【０３７２】
足支持部１７には、足底壁４５の穴に挿入されるとともに足底壁４５に対して左右方向Ｙに移動することができるシャフト２８１と、足側壁４６を足底壁４５および足中央壁４７に対して左右方向Ｙに往復移動させる往復機構２８０とが設けられる。シャフト２８１の一方の端部は、足側壁４６に固定される。往復機構２８０としては、上記図２５の変形例の往復機構２１０の構成に準じたものが用いられる。なお、往復機構２８０は「領域変更機構」および「アクチュエータ」に相当する。また、シャフト２８１は「領域変更機構」に相当する。
【０３７３】
（Ｃ）図３４に示されるように、足側壁４６の上方の端部を回転中心として足側壁４６を足底壁４５および足中央壁４７に対して前後方向Ｘまわりで回転させることができる構成を採用する。そして、足側壁４６の回転位置を図３４（ａ）の回転位置から図３４（ｂ）の回転位置に変更することにより足揺動領域を拡大する。この場合には、第８実施形態の構成から次の点が変更される。
【０３７４】
足支持部１７には、足底壁４５および足中央壁４７に対する回転が可能な状態で足側壁４６を支持する回転軸部２９１と、回転軸部２９１を回転させる駆動機構２９０とが設けられる。駆動機構２９０としては、第６実施形態の駆動機構１００の構成に準じたものが用いられる。なお、駆動機構２９０は「領域変更機構」および「アクチュエータ」に相当する。また、回転軸部２９１は「領域変更機構」に相当する。
【０３７５】
（Ｄ）図３５に示されるように、足側壁４６の前方の端部を回転中心として足側壁４６を足底壁４５および足中央壁４７に対して上下方向Ｚまわりで回転させることができる構成を採用する。そして、足側壁４６の回転位置を図３５（ａ）の回転位置から図３５（ｂ）の回転位置に変更することにより足揺動領域を拡大する。この場合には、第８実施形態の構成から次の点が変更される。
【０３７６】
足支持部１７には、足底壁４５および足中央壁４７に対する回転が可能な状態で足側壁４６を支持する回転軸部３０１と、回転軸部３０１を回転させる駆動機構３００とが設けられる。駆動機構３００としては、第６実施形態の駆動機構１００の構成に準じたものが用いられる。なお、駆動機構３００は「領域変更機構」および「アクチュエータ」に相当する。また、回転軸部３０１は「領域変更機構」に相当する。
【０３７７】
・第９実施形態（図１５）では、足側壁４６を足底壁４５および足中央壁４７に対して上下方向Ｚまわりで回転させることにより足揺動領域を拡大している。これに代えて、足揺動領域を拡大するための足側壁４６の動作態様を次のように変更することもできる。
【０３７８】
図３６に示されるように、足側壁４６を足底壁４５および足中央壁４７に対して左右方向Ｙに移動させることができる構成を採用する。そして、足側壁４６の位置および回転位置を図３６（ａ）の位置および回転位置から図３６（ｂ）の位置および回転位置に変更することにより足揺動領域を拡大する。この場合には、第９実施形態の構成から次の点が変更される。
【０３７９】
足支持部１７には、足底壁４５の穴に挿入されるとともに足底壁４５に対して左右方向Ｙに移動することができる第１シャフト２８２および第２シャフト２８３が設けられる。またこの他に、足側壁４６を足底壁４５および足中央壁４７に対して左右方向Ｙに往復移動させる往復機構２８０が設けられる。各シャフト２８２，２８３の一方の端部は、足側壁４６に固定される。往復機構２８０としては、上記図２５の変形例の往復機構２１０の構成に準じたものが用いられる。なお、第１シャフト２８２および第２シャフト２８３は「領域変更機構」に相当する。
【０３８０】
・第１０実施形態（図１６）では、足中央壁４７を足底壁４５および足側壁４６に対して下方に移動させることにより足揺動領域を拡大している。これに代えて、足揺動領域を拡大するための足中央壁４７の動作態様を次のように変更することもできる。
【０３８１】
図３７に示されるように、足中央壁４７を足底壁４５および足側壁４６に対して前後方向Ｘに移動させることができる構成を採用する。そして、足中央壁４７の位置を図３７（ａ）の位置から図３７（ｂ）の位置に変更することにより足揺動領域を拡大する。この場合には、第１０実施形態の構成から次の点が変更される。
【０３８２】
足支持部１７には、足中央壁４７を足底壁４５および足側壁４６に対してスライドさせるレールと（図示略）、足中央壁４７を足底壁４５および足側壁４６に対して前後方向Ｘに往復移動させる往復機構３１０とが設けられる。足底壁４５は、左方の足側壁４６から右方の足側壁４６までにわたる１枚の壁として構成されている。レールは、足底壁４５の上面と足中央壁４７の下面との間に設けられる。往復機構３１０としては、上記図２５の変形例の往復機構２１０の構成に準じたものが用いられる。なお、往復機構３１０は「領域変更機構」および「アクチュエータ」に相当する。また、レールは「領域変更機構」に相当する。
【０３８３】
・第１３実施形態（図１９）では、第１側壁部４６Ａを足底壁４５および足中央壁４７に対して左方または右方に移動させることにより足揺動領域を拡大している。これに代えて、足揺動領域を拡大するための第１側壁部４６Ａの動作態様を以下の（Ａ）〜（Ｉ）のように変更することもできる。
【０３８４】
（Ａ）図３８に示されるように、第１側壁部４６Ａの上方かつ後方の端部を足底壁４５および足中央壁４７に対して左右方向Ｙまわりで回転させることができる構成を採用する。そして、第１側壁部４６Ａの回転位置を図３８（ａ）の回転位置から図３８（ｂ）の回転位置に変更することにより足揺動領域を拡大する。この場合には、第１３実施形態の構成から次の点が変更される。
【０３８５】
足支持部１７には、第１側壁部４６Ａおよび第２側壁部４６Ｂにより構成される足側壁４６が設けられる。また、第１側壁部４６Ａを第２側壁部４６Ｂに対して回転可能に支持する蝶番３２１と、第１側壁部４６Ａを足底壁４５および足中央壁４７に対して回転させる駆動機構３２０とが設けられる。駆動機構３２０としては、第１２実施形態の駆動機構１４０の構成に準じたものが用いられる。なお、駆動機構３２０は「領域変更機構」および「アクチュエータ」に相当する。また、蝶番３２１は「領域変更機構」に相当する。
【０３８６】
（Ｂ）図３９に示されるように、第１側壁部４６Ａの下方かつ後方の端部を足底壁４５および足中央壁４７に対して左右方向Ｙまわりで回転させることができる構成を採用する。そして、第１側壁部４６Ａの回転位置を図３９（ａ）の回転位置から図３９（ｂ）の回転位置に変更することにより足揺動領域を拡大する。
【０３８７】
この変形例の構成は、上記図３８の変形例に対して次の変更を加えたものに相当する。すなわち、足側壁４６に対する蝶番３２１の取り付け位置を足側壁４６の下面に変更する変更を加えたものに相当する。
【０３８８】
（Ｃ）図４０に示されるように、第１側壁部４６Ａの下方の端部を回転中心として第１側壁部４６Ａを足底壁４５および足中央壁４７に対して前後方向Ｘまわりで回転させることができる構成を採用する。そして、第１側壁部４６Ａの回転位置を図４０（ａ）の回転位置から図４０（ｂ）の回転位置に変更することにより足揺動領域を拡大する。
【０３８９】
この変形例の構成は、上記図３２の変形例に対して次の２点の変更を加えたものに相当する。すなわち、第１側壁部４６Ａおよび第２側壁部４６Ｂにより構成される足側壁４６を用いること、および駆動機構２７０により第１側壁部４６Ａを回転させることの２点の変更を加えたものに相当する。
【０３９０】
（Ｄ）図４１に示されるように、第１側壁部４６Ａの上方の端部を回転中心として第１側壁部４６Ａを足底壁４５および足中央壁４７に対して前後方向Ｘまわりで回転させることができる構成を採用する。そして、第１側壁部４６Ａの回転位置を図４１（ａ）の回転位置から図４１（ｂ）の回転位置に変更することにより足揺動領域を拡大する。
【０３９１】
この変形例の構成は、上記図３４の変形例に対して次の２点の変更を加えたものに相当する。すなわち、第１側壁部４６Ａおよび第２側壁部４６Ｂにより構成される足側壁４６を用いること、および駆動機構２７０により第１側壁部４６Ａを回転させることの２点の変更を加えたものに相当する。
【０３９２】
（Ｅ）図４２に示されるように、第１側壁部４６Ａを足底壁４５および足中央壁４７に対して左右方向Ｙに移動させることができる構成を採用する。そして、第１側壁部４６Ａの位置を図４２（ａ）の位置から図４２（ｂ）の位置に変更することにより足揺動領域を拡大する。
【０３９３】
この変形例の構成は、上記図３３の変形例に対して次の３点の変更を加えたものに相当する。すなわち、第１側壁部４６Ａおよび第２側壁部４６Ｂにより構成される足側壁４６を用いること、往復機構２８０により第１側壁部４６Ａを移動させること、および駆動機構２７０と回転軸部２７１とを省略することの３点の変更を加えたものに相当する。
【０３９４】
（Ｆ）図４３に示されるように、第１側壁部４６Ａを足底壁４５および足中央壁４７に対して前後方向Ｘに移動させることができる構成を採用する。そして、第１側壁部４６Ａの位置を図４３（ａ）の位置から図４３（ｂ）の位置に変更することにより足揺動領域を拡大する。この場合には、第１３実施形態の構成から次の点が変更される。
【０３９５】
足支持部１７には、第１側壁部４６Ａおよび第２側壁部４６Ｂにより構成される足側壁４６が設けられる。また、第２側壁部４６Ｂの穴に挿入されるとともに第２側壁部４６Ｂに対して前後方向Ｘに移動することができるシャフト３３１と、第１側壁部４６Ａを足底壁４５および足中央壁４７に対して前後方向Ｘに往復移動させる往復機構３３０とが設けられる。シャフト３３１の一方の端部は、第１側壁部４６Ａに固定される。往復機構３３０としては、上記図２５の変形例の往復機構２１０の構成に準じたものが用いられる。なお、往復機構３３０は「領域変更機構」および「アクチュエータ」に相当する。また、シャフト３３１は「領域変更機構」に相当する。
【０３９６】
（Ｇ）図４４に示されるように、第１側壁部４６Ａを足底壁４５および足中央壁４７に対して上下方向Ｚに移動させることができる構成を採用する。そして、第１側壁部４６Ａの位置を図４４（ａ）の位置から図４４（ｂ）の位置に変更することにより足揺動領域を拡大する。この場合には、第１３実施形態の構成から次の点が変更される。
【０３９７】
足支持部１７には、第１側壁部４６Ａおよび第２側壁部４６Ｂにより構成される足側壁４６と、第１側壁部４６Ａを足底壁４５および足中央壁４７に対して上下方向Ｚに往復移動させる昇降機構３４０とが設けられる。昇降機構３４０としては、第５実施形態の昇降機構９０の構成に準じたものが用いられる。なお、昇降機構３４０は「領域変更機構」および「アクチュエータ」に相当する。
【０３９８】
（Ｈ）図４５に示されるように、第１側壁部４６Ａの下方の端部を回転中心として第１側壁部４６Ａを足底壁４５および足中央壁４７に対して前後方向Ｘまわりで回転させることができる構成を採用する。また、第１側壁部４６Ａを足底壁４５および足中央壁４７に対して左右方向Ｙに移動させることができる構成を採用する。そして、第１側壁部４６Ａの位置および回転位置を図４５（ａ）の位置および回転位置から図４５（ｂ）の位置および回転位置に変更することにより足揺動領域を拡大する。
【０３９９】
この変形例の構成は、上記図３３の変形例に対して次の３点の変更を加えたものに相当する。すなわち、第１側壁部４６Ａおよび第２側壁部４６Ｂにより構成される足側壁４６を用いること、往復機構２８０により第１側壁部４６Ａを移動させること、および駆動機構２７０により同第１側壁部４６Ａを回転させることの３点の変更を加えたものに相当する。
【０４００】
（Ｉ）図４６に示されるように、第１側壁部４６Ａの後方の端部を回転中心として第１側壁部４６Ａを足底壁４５および足中央壁４７に対して上下方向Ｚまわりで回転させることができる構成を採用する。また、第１側壁部４６Ａを足底壁４５および足中央壁４７に対して左右方向Ｙに移動させることができる構成を採用する。そして、第１側壁部４６Ａの位置および回転位置を図４６（ａ）の位置および回転位置から図４６（ｂ）の位置および回転位置に変更することにより足揺動領域を拡大する。
【０４０１】
この変形例の構成は、第９実施形態（図１５）の構成に対して次の３点の変更を加えたものに相当する。すなわち、第１側壁部４６Ａおよび第２側壁部４６Ｂにより構成される足側壁４６を用いること、往復機構２８０により第１側壁部４６Ａを移動させること、および駆動機構１２０により同第１側壁部４６Ａを回転させることの３点の変更を加えたものに相当する。
【０４０２】
・第１４実施形態（図２０）では、足中央壁４７の後方の端部を回転中心として足中央壁４７を足底壁４５および足側壁４６に対して左右方向Ｙまわりで回転させることにより足揺動領域を拡大している。これに代えて、足揺動領域を拡大するための足中央壁４７の動作態様を以下の（Ａ）〜（Ｄ）のように変更することもできる。なお、以下の各変形例では、１枚の壁により構成される足中央壁４７に代えて、第１中壁部４７Ａおよび第２中壁部４７Ｂにより構成される足中央壁４７が設けられる。
【０４０３】
（Ａ）図４７に示されるように、第１中壁部４７Ａの下方かつ後方の端部を足底壁４５および足側壁４６に対して左右方向Ｙまわりで回転させることができる構成を採用する。そして、第１中壁部４７Ａの回転位置を図４７（ａ）の回転位置から図４７（ｂ）の回転位置に変更することにより足揺動領域を拡大する。
【０４０４】
この変形例の構成は、第１４実施形態（図２０）の構成に対して次の２点の変更を加えたものに相当する。すなわち、第１中壁部４７Ａおよび第２中壁部４７Ｂにより構成される足中央壁４７を用いること、駆動機構１６０により第１中壁部４７Ａを移動させることの２点の変更を加えたものに相当する。
【０４０５】
（Ｂ）図４８に示されるように、第１中壁部４７Ａの上方かつ後方の端部を足底壁４５および足側壁４６に対して左右方向Ｙまわりで回転させることができる構成を採用する。そして、第１中壁部４７Ａの回転位置を図４８（ａ）の回転位置から図４８（ｂ）の回転位置に変更することにより足揺動領域を拡大する。この場合には、第１４実施形態の構成から次の点が変更される。
【０４０６】
足支持部１７には、第１中壁部４７Ａおよび第２中壁部４７Ｂにより構成される足中央壁４７が設けられる。また、第１中壁部４７Ａを第２中壁部４７Ｂに対して回転可能に支持する蝶番３５１と、第１中壁部４７Ａを足底壁４５および足側壁４６に対して回転させる駆動機構３５０とが設けられる。駆動機構３５０としては、第１２実施形態の駆動機構１４０の構成に準じたものが用いられる。なお、駆動機構３５０は「領域変更機構」および「アクチュエータ」に相当する。また、蝶番３５１は「領域変更機構」に相当する。
【０４０７】
（Ｃ）図４９に示されるように、第１中壁部４７Ａを足底壁４５および足側壁４６に対して上下方向Ｚに移動させることができる構成を採用する。そして、第１中壁部４７Ａの位置を図４９（ａ）の位置から図４９（ｂ）の位置に変更することにより足揺動領域を拡大する。この場合には、第１４実施形態の構成から次の点が変更される。
【０４０８】
足支持部１７には、第１中壁部４７Ａおよび第２中壁部４７Ｂにより構成される足中央壁４７と、第１中壁部４７Ａを足底壁４５および足側壁４６に対して上下方向Ｚに往復移動させる昇降機構３６０とが設けられる。昇降機構３６０としては、第１１実施形態の昇降機構９０の構成に準じたものが用いられる。なお、昇降機構３６０は「領域変更機構」および「アクチュエータ」に相当する。
【０４０９】
（Ｄ）図５０に示されるように、第１中壁部４７Ａを足底壁４５および足側壁４６に対して前後方向Ｘに移動させることができる構成を採用する。そして、第１中壁部４７Ａの位置を図５０（ａ）の位置から図５０（ｂ）の位置に変更することにより足揺動領域を拡大する。この場合には、第１４実施形態の構成から次の点が変更される。
【０４１０】
足支持部１７には、第１中壁部４７Ａおよび第２中壁部４７Ｂにより構成される足中央壁４７が設けられる。また、第２中壁部４７Ｂの穴に挿入されるとともに第２中壁部４７Ｂに対して前後方向Ｘに移動することができるシャフト３７１と、第１中壁部４７Ａを足底壁４５および足側壁４６に対して前後方向Ｘに往復移動させる往復機構３７０とが設けられる。シャフト３７１の一方の端部は、第１中壁部４７Ａに固定される。往復機構３７０としては、上記図２５の変形例の往復機構２１０の構成に準じたものが用いられる。なお、往復機構３７０は「領域変更機構」および「アクチュエータ」に相当する。また、シャフト３７１は「領域変更機構」に相当する。
【０４１１】
・第１〜第４、第７〜第１０、および第１３〜第１８実施形態において、足支持部１７から足底壁４５および足裏壁４９の少なくとも一方を省略することもできる。
・第１〜第６、第１１、第１２、および第１５〜第１８実施形態において、足支持部１７から足側壁４６および足中央壁４７の少なくとも一方を省略することもできる。
【０４１２】
・第７、第９、および第１３実施形態において、足支持部１７から足中央壁４７を省略することもできる。
・第８、第１０、および第１４実施形態において、足支持部１７から足側壁４６を省略することもできる。
【０４１３】
・第５〜第１４実施形態において、足Ｆまたは手により足底壁４５、足側壁４６、および足中央壁４７を動作させることもできる。
・第５〜第１３実施形態において、各足底壁４５のうちの一方のみを部分動作させることにより足揺動領域の大きさを変更することもできる。
【０４１４】
・第５〜第１３実施形態において、各足側壁４６のうちの一方のみを部分動作させることにより足揺動領域の大きさを変更することもできる。
・第５〜第１４実施形態において、オットマン１２の部分動作を以下のように組み合わせることもできる。以下では、この部分動作の組み合わせに関する変形例を「部分動作変形例」として示す。
（Ａ）足底壁４５および足側壁４６を部分動作させる。
（Ｂ）足底壁４５および足中央壁４７を部分動作させる。
（Ｃ）足側壁４６および足中央壁４７を部分動作させる。
（Ｄ）足底壁４５、足側壁４６、および足中央壁４７を部分動作させる。
【０４１５】
上記の各部分動作変形例においては、次のように装置の構成が変更される。
足底壁４５を部分動作させるための構成を有していない実施形態に対して足底壁４５の部分動作を追加する場合には、同実施形態の足支持部１７に対して、足底壁４５を部分動作させるための構成が追加される。
【０４１６】
また、足側壁４６を部分動作させるための構成を有していない実施形態に対して足側壁４６の部分動作を追加する場合には、同実施形態の足支持部１７に対して、足側壁４６を部分動作させるための構成が追加される。
【０４１７】
また、足中央壁４７を部分動作させるための構成を有していない実施形態に対して足中央壁４７の部分動作を追加する場合には、同実施形態の足支持部１７に対して、足中央壁４７を部分動作させるための構成が追加される。
【０４１８】
・第１〜第４実施形態のオットマン１２の全体動作と、第５〜第１４実施形態のオットマン１２の部分動作とを以下のように組み合わせることもできる。
（Ａ）第１〜第４実施形態のいずれか１つの全体動作と、第５〜第１４実施形態のいずれか１つの部分動作とを組み合わせる。
（Ｂ）第１〜第４実施形態のいずれか１つの全体動作と、第５〜第１４実施形態の２つ以上の部分動作とを組み合わせる。この変形例においては、上記各部分動作変形例を組み合わせることができる。
【０４１９】
上記（Ａ）および（Ｂ）の各変形例においては、次のように装置の構成が変更される。
全体動作のための構成を有していない実施形態に対して全体動作を追加する場合には、同実施形態の足支持部１７に対して、全体動作のための構成が追加される。また、部分動作のための構成を有していない実施形態に対して全体動作を追加する場合には、上記部分動作変形例の場合と同様に部分動作のための構成が追加される。
【０４２０】
・第１〜第１４実施形態において、使用者を揺動させるための構成を以下のように変更することもできる。
（Ａ）オットマン１２に設けられた揺動機構１８を省略するとともに、座部１１および背もたれ１３の少なくとも一方に揺動機構１８を設ける。そして、この揺動機構１８により使用者を揺動させる。
（Ｂ）オットマン１２に設けられた揺動機構１８を省略する。そして、座部１１のエアバッグ５１および背もたれ１３のエアバッグ５２の少なくとも一方について、その膨張および収縮を繰り返すことにより使用者を揺動させる。
【０４２１】
・第１５および第１６実施形態の揺動装置１７０の使用形態として、図５１に示されるように、椅子３８０に着座した状態で脚揺動装置１７０を使用するものも挙げられる。この場合、足底壁４５が下方に位置するようにオットマン１２が配置される。これにより、例えばデスクワークを行いながら脚Ｒおよび足Ｆを揺動させることができる。
【０４２２】
・第１８実施形態において、オットマン１２の揺動機構１８を省略することもできる。
・第１５〜第１８実施形態では、オットマンとして第１実施形態のオットマン１２を用いているが、第２〜第１４実施形態のオットマン１２を用いることもできる。
【０４２３】
・上記各実施形態において、足支持部１７の足裏壁４９を省略することもできる。
・上記各実施形態において、脚支持部１６のエアバッグ５３〜５５を省略することもできる。また、足支持部１７のエアバッグ５６〜５８を省略することもできる。
【０４２４】
・上記各実施形態では、揺動機構１８としてオットマン１２を左右方向Ｙに揺動させるものを用いているが、揺動機構１８の揺動方向はこれに限られない。例えば、揺動方向として、左右方向Ｙの往復運動に対して上下方向Ｚまたは前後方向Ｘの往復運動を加えることにより、左右方向Ｙにおいて円弧状の軌跡が得られるように揺動方向を変更することもできる。
【０４２５】
・上記各実施形態において、足が揺動しているときに右足と左足とが接触することを抑制するための構成として、以下の（Ａ）〜（Ｅ）の少なくとも１つの揺動間隔拡大機構を脚支持部１６に追加することもできる。領域変更機構および揺動間隔拡大機構を組み合わせることにより、足揺動範囲がより大きくなり、かつ左足の指先と右足の指先との接触がより生じにくくなる。
【０４２６】
（Ａ）脚支持部１６は、揺動間隔拡大機構として、図５２（ａ）に示される構造を有する。すなわち、脚支持部１６の脚裏壁４１のエアバッグ５３について、脚側壁４２側の部分のみを脚裏壁４１に固定する構造を有する。この構成によれば、次のように足同士の接触が抑制される。
【０４２７】
図５２（ｂ）に示されるように、各エアバッグ５３に空気が供給されたとき、各エアバッグ５３の脚中央壁４３側の部分がエアバッグ５３の脚側壁４２側の部分を支点として脚Ｒに向けて持ち上げられる。これにより、左脚の内側および右脚の内側がそれぞれ対応するエアバッグ５３により持ち上げられるため、左足の指先と右足の指先とがそれぞれ外側に向けて傾けられる。すなわち、左足の指先と右足の指先との間隔が広げられる。これにより、足が揺動しているときの左足と右足との接触が生じにくくなる。
【０４２８】
（Ｂ）脚支持部１６は、揺動間隔拡大機構として、図５３（ａ）に示される構造を有する。すなわち各脚裏壁４１は、脚中央壁４３側の部分が脚側壁４２側の部分よりも脚Ｒに近づくように脚側壁４２および脚中央壁４３に対して傾斜する構成を有する。
【０４２９】
具体的には、左側の脚裏壁４１の左方の端部に設けられる回転軸部３９１と、右側の脚裏壁４１の右方の端部に設けられる回転軸部３９１と、各回転軸部３９１を回転させる駆動機構３９０とを脚支持部１６に追加する。駆動機構３９０および回転軸部３９１としては、第６実施形態の駆動機構１００および回転軸部１０１の構成に準じたものが用いられる。この構成によれば、次のように足同士の接触が抑制される。
【０４３０】
図５３（ｂ）に示されるように、各脚裏壁４１が脚側壁４２および脚中央壁４３に対して傾けられたとき、左脚の内側および右脚の内側がそれぞれ対応する脚裏壁４１により持ち上げられるため、左足の指先と右足の指先とがそれぞれ外側に向けて傾けられる。すなわち、左足の指先と右足の指先との間隔が広げられる。これにより、足が揺動しているときの左足と右足との接触が生じにくくなる。
【０４３１】
（Ｃ）脚支持部１６は、揺動間隔拡大機構として、図５４に示される構造を有する。すなわち各脚裏壁４１は、脚中央壁４３側の部分が脚側壁４２側の部分よりも脚Ｒに近づくように脚側壁４２および脚中央壁４３に対して傾斜する構造を有する。各脚裏壁４１は、左足の指先が左方に傾く力を左脚Ｒに付与する。また、右足の指先が右方に傾く力を右脚Ｒに付与する。
【０４３２】
（Ｄ）脚支持部１６は、揺動間隔拡大機構として、図５５に示される構造を有する。すなわち、左方の脚側壁４２は、前方に向かうにつれて左方に傾斜する構造を有する。右方の脚側壁４２は、前方に向かうにつれて右方に傾斜する構造を有する。このように、脚支持部１６は、脚支持部１６の後方の端部である基端部分から脚支持部１６の前方の端部である先端部分に向かうにつれて左方の脚側壁４２と右方の脚側壁４２との左右方向Ｙの距離が大きい構造を有する。
【０４３３】
上記（Ｃ）および（Ｄ）の脚支持部１６の構成によれば、オットマン１２が揺動しない状態において、左足の指先と右足の指先との間隔を大きくすることができる。このため、オットマン１２の揺動時に左足の指先および右足の指先が互いに接触することが抑制される。さらに、脚側壁４２を移動させるためのアクチュエータおよび脚裏壁４１を移動させるためのアクチュエータを用いる必要がないため、オットマン１２が軽量化する。このため、アクチュエータの出力が同じ大きさのとき、揺動機構によるオットマン１２の揺動速度および揺動幅の範囲が小さくなることが抑制される。したがって、より効果的な揺動感を使用者に付与することができる。
【０４３４】
（Ｅ）脚支持部１６は、揺動間隔拡大機構として、図５６（ａ）に示される構造を有する。すなわち脚中央壁４３は、左脚と対向する左脚中央壁４３Ａと、右脚と対向する右脚中央壁４３Ｂとを有する。脚中央壁４３は、左脚中央壁４３Ａと右脚中央壁４３Ｂとの左右方向Ｙの間に空間Ｓを有する。
【０４３５】
この構成によれば、上記各実施形態の脚支持部１６と比較して、左方の脚収容空間４４と右方の脚収容空間４４との距離が大きくなる。これにより、左脚と右脚との間隔が大きくなる。このため、左足の指先と右足の指先との間隔を広げることが可能となる。これにより、足が揺動しているときの左足と右足との接触が生じにくくなる。さらに、脚中央壁４３Ａ，４３Ｂを移動させるためのアクチュエータを用いる必要がないため、オットマン１２が軽量化する。このため、上記（Ｃ）および（Ｄ）の脚支持部１６と同様の効果を奏する。
【０４３６】
・上記（Ｄ）の変形例の脚支持部１６において、オットマン１２に各脚側壁４２を移動させるためのアクチュエータを追加することもできる。アクチュエータは、各脚側壁４２の後方の端部を回転中心とする回転軸部と、回転軸部を回転させる電動モータとを有する。オットマン１２は、アクチュエータにより選択可能な脚支持部１６の使用形態として次の第１使用形態および第２使用形態を有する。第１使用形態は、図２に示されるように、脚側壁４２が前後方向Ｘに沿うように位置する。第２使用形態は、図５５（ｂ）に示されるように、第１使用形態に対して脚側壁４２の後方の端部である基端部分から脚側壁４２の前方の端部である先端部分に向かうにつれて左方の脚側壁４２と右方の脚側壁４２との左右方向Ｙの距離が大きくなる。
【０４３７】
・上記（Ｅ）の変形例の脚支持部１６において、図５６（ｂ）に示されるように、脚裏壁４１が左方の脚裏壁４１Ａおよび右方の脚裏壁４１Ｂに分離させることもできる。
・上記（Ｅ）の変形例の脚支持部１６において、オットマン１２に各脚中央壁４３Ａ，４３Ｂを移動させるためのアクチュエータを追加することもできる。アクチュエータは、電動モータと、電動モータの回転を左右方向Ｙの往復運動に変換する往復機構とを有する。各脚中央壁４３Ａ，４３Ｂは、往復機構による往復運動にともない左右方向Ｙに移動する。オットマン１２は、アクチュエータにより選択可能な脚支持部１６の使用形態として次の第１使用形態および第２使用形態を有する。第１使用形態は、脚中央壁４３Ａ，４３Ｂの左右方向Ｙの距離が相対的に小さい。第２使用形態は、図５６に示されるように、脚中央壁４３Ａ，４３Ｂの左右方向Ｙの距離が相対的に大きい。
【０４３８】
・上記（Ａ）、（Ｂ）、および（Ｄ）の変形例は足支持部１７に適用することもできる。
・上記（Ａ）〜（Ｅ）の変形例は、互いに組み合わせることもできる。
【０４３９】
・上記（Ａ）〜（Ｅ）の変形例において、脚支持部１６のうちの右脚Ｒに対応する部分および左脚Ｒに対応する部分の一方を省略することもできる。
・上記各実施形態のオットマン１２において、図５７（ａ）に示される揺動間隔拡大機構を追加することもできる。すなわちオットマン１２は、左方の脚支持部１６Ａおよび足支持部１７Ａと、右方の脚支持部１６Ｂおよび足支持部１７Ｂとを有する。左方の脚支持部１６Ａおよび左方の足支持部１７Ａは、上方から下方に向かうにつれて右方から左方に向けて傾斜する。また、右方の脚支持部１６Ｂおよび右方の足支持部１７Ｂは、上方から下方に向かうにつれて左方から右方に傾斜する。
【０４４０】
この構成によれば、足支持部１７の左方の足収容空間４８と右方の足収容空間４８との距離が上記各実施形態の足支持部１７の左方の足収容空間４８と右方の足収容空間４８との距離よりも大きい。このため、左足の指先と右足の指先との間隔を広げることが可能となる。これにより、足が揺動しているときの左足の指先と右足の指先との接触が生じにくくなる。
【０４４１】
・上記変形例のオットマン１２（図５７（ａ）参照）に代えて、図５７（ｂ）に示されるオットマン１２を備えることもできる。このオットマン１２は、図５７（ａ）の各脚中央壁４３および各足中央壁４７を一体化した部分に相当する中央壁４３Ｃを有する。
【０４４２】
・上記変形例のオットマン１２（図５７参照）において、図５２〜図５６に示される上記（Ａ）〜（Ｅ）の脚支持部１６の構成を組み合わせることもできる。
【符号の説明】
【０４４３】
１…マッサージ機（椅子型マッサージ機）、１１…座部、１２…オットマン、１３…背もたれ部、１６…脚支持部、１６Ａ…脚支持部、１６Ｂ…脚支持部、１７…足支持部、１７Ａ…脚支持部、１７Ｂ…脚支持部、１８…揺動機構、２７…揉み玉機構（施術機構）、４２…脚側壁、４５…足底壁、４５Ａ…第１底壁部、４５Ｂ…第２底壁部、４６…足側壁、４６Ａ…第１側壁部、４６Ｂ…第２側壁部、４７…足中央壁、４７Ａ…第１中央壁部、４７Ｂ…第２中央壁部、５１〜５９…エアバッグ（施術機構）、６０…移動機構（領域変更機構）、７０…回転機構（領域変更機構）、７６…移動機構（領域変更機構）、８０…昇降機構（領域変更機構）、８４…モータ（アクチュエータ）、９０…昇降機構（領域変更機構）、９１…モータ（アクチュエータ）。
【０４４４】
１００…駆動機構（領域変更機構、アクチュエータ）、１０１…回転軸部（領域変更機構）、１１０…移動機構（領域変更機構）、１１１…モータ（アクチュエータ）、１２０…駆動機構（領域変更機構、アクチュエータ）、１２１…回転軸部（領域変更機構）、１２２…回転軸部（領域変更機構）、１３０…昇降機構（領域変更機構、アクチュエータ）、１４０…駆動機構（領域変更機構、アクチュエータ）、１４１…蝶番（領域変更機構）、１５０…駆動機構（領域変更機構、アクチュエータ）、１５１…蝶番（領域変更機構）、１６０…駆動機構（領域変更機構、アクチュエータ）、１６１…回転軸部（領域変更機構）、１７０…脚揺動装置、１８２…脚揺動装置。
【０４４５】
２１０…往復機構（領域変更機構、アクチュエータ）、２１１…シャフト（領域変更機構）、２２０…駆動機構（領域変更機構、アクチュエータ）、２２１…回転軸部（領域変更機構）、２３０…駆動機構（領域変更機構、アクチュエータ）、２３１…回転軸部（領域変更機構）、２４０…駆動機構（領域変更機構、アクチュエータ）、２４１…回転軸部（領域変更機構）、２５０…往復機構（領域変更機構、アクチュエータ）、２６０…昇降機構（領域変更機構、アクチュエータ）、２７０…駆動機構（領域変更機構、アクチュエータ）、２７１…回転軸部（領域変更機構）、２８０…往復機構（領域変更機構、アクチュエータ）、２８１…シャフト（領域変更機構）、２８２…第１シャフト（領域変更機構）、２８３…第２シャフト（領域変更機構）、２９０…駆動機構（領域変更機構、アクチュエータ）、２９１…回転軸部（領域変更機構）。
【０４４６】
３００…駆動機構（領域変更機構、アクチュエータ）、３０１…回転軸部（領域変更機構）、３１０…往復機構（領域変更機構、アクチュエータ）、３２０…駆動機構（領域変更機構、アクチュエータ）、３２１…蝶番（領域変更機構）、３３０…往復機構（領域変更機構、アクチュエータ）、３３１…シャフト（領域変更機構）、３４０…昇降機構（領域変更機構、アクチュエータ）、３５０…駆動機構（領域変更機構）、３５１…蝶番、３６０…昇降機構（領域変更機構、アクチュエータ）、３７０…往復機構（領域変更機構、アクチュエータ）、３７１…シャフト（領域変更機構）。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６】
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【図３７】
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【図３８】
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【図３９】
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【図４０】
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【図４１】
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【図４２】
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【図４３】
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【図４４】
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【図４５】
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【図４６】
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【図４７】
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【図４８】
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【図４９】
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【図５０】
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【図５１】
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【図５２】
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【図５３】
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【図５４】
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【図５５】
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【図５６】
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【図５７】
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【図５８】
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【図５９】
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