(57)【要約】【課題】スパッタリング温度を高くして導電膜を形成しても、表示ムラが抑制された高品位な画像表示が可能なカラーフィルタ基板を得る。【解決手段】重合性基を３つ以上有し、フッ素含有率が分子量の３０．０質量％以上であり、前記重合性基によって重合して架橋構造を形成したときに、全ての架橋間分子量の計算値が３００以下となる含フッ素多官能性化合物と重合開始剤とを含有する感光性樹脂組成物を基板上に付与して、感光性樹脂層を形成し、該層を露光し、現像し、さらに加熱処理して、離画壁を形成する離画壁形成工程と、離画壁により区画された基板上の凹部に、着色液体組成物を付与して着色領域を形成する着色領域形成工程と、離画壁および着色領域上に、スパッタリングにより導電膜を形成する導電膜形成工程と、を有するカラーフィルタ基板の製造方法である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
重合性基を３つ以上有し、フッ素含有率が分子量の３０．０質量％以上であり、前記重合性基によって重合して架橋構造を形成したときに、全ての架橋間分子量の計算値が３００以下となる含フッ素多官能性化合物と重合開始剤とを含有する感光性樹脂組成物を基板上に付与して、感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程、
前記感光性樹脂層を露光する露光工程、
露光された前記感光性樹脂層を現像する現像工程、及び
前記現像により得られたパターン画像を加熱処理する加熱処理工程を少なくとも経て、離画壁を形成する離画壁形成工程と、
前記離画壁により区画された前記基板上の凹部に、着色液体組成物を付与して着色領域を形成する着色領域形成工程と、
前記離画壁および前記着色領域上に、スパッタリングにより導電膜を形成する導電膜形成工程と、
を有するカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項２】
前記導電膜形成工程は、２５０℃を越え３００℃以下でスパッタリングを行う請求項１に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項３】
前記含フッ素多官能性化合物が下記一般式（Ａ）で表される請求項１または請求項２に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
【化１】
2013228705.tif 000042
〔前記一般式（Ａ）中、ＲｆＡは、炭素原子及びフッ素原子を含む鎖状又は環状の（ｐ＋ｑ）価の連結基を表す。
前記一般式（Ａ）中、ｐは３〜１０の整数を表し、ｑは０〜７の整数を表し、かつ、（ｐ＋ｑ）は３〜１０の整数である。
前記一般式（Ａ）中、ｍは０又は１を表す。
前記一般式（Ａ）中、Ｌは、炭素数１〜１０のアルキレン基、炭素数６〜１０のアリーレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ）−、又は、炭素数１〜１０のアルキレン基と−Ｏ−、−Ｓ−、及び−Ｎ（Ｒ）−の少なくとも１種とを組み合わせて得られる基を表す（ここで、Ｒは水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を表す）。
前記一般式（Ａ）中、Ｙは、（メタ）アクリロイル基、アリル基、アルコキシシリル基、α−フルオロアクリロイル基、エポキシ基、及び−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ２から選ばれる重合性基を表す。〕
【請求項４】
前記含フッ素多官能性化合物が下記一般式（Ｂ）で表される請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
【化２】
2013228705.tif 000043
〔前記一般式（Ｂ）中、ＲｆＢは、鎖状若しくは環状の（ｐ＋ｑ）価のパーフルオロ飽和炭化水素基、又は、パーフルオロ飽和炭化水素基と−Ｏ−とを組み合わせて得られる鎖状若しくは環状の（ｐ＋ｑ）価の連結基を表す。
前記一般式（Ｂ）中、Ｒｆｐ及びＲｆｑは、それぞれ独立に、炭素原子及びフッ素原子を含む鎖状又は環状の１価の基を表す。
前記一般式（Ｂ）中、ｐは３〜１０の整数を表し、ｑは０〜７の整数を表し、かつ、（ｐ＋ｑ）は３〜１０の整数である。
前記一般式（Ｂ）中、ｍは０又は１を表す。
前記一般式（Ｂ）中、ｒｐ及びｒｑは、それぞれ独立に０〜２の整数を表し、ｓｐ及びｓｑは、それぞれ独立に０又は１を表し、ｔｐ及びｔｑは、それぞれ独立に０又は１を表す。
前記一般式（Ｂ）中、Ｌは、炭素数１〜１０のアルキレン基、炭素数６〜１０のアリーレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ）−、又は、炭素数１〜１０のアルキレン基と−Ｏ−、−Ｓ−、及び−Ｎ（Ｒ）−の少なくとも１種とを組み合わせて得られる基を表す（ここで、Ｒは水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を表す）。
前記一般式（Ｂ）中、Ｙは、（メタ）アクリロイル基、アリル基、アルコキシシリル基、α−フルオロアクリロイル基、エポキシ基、及び−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ２から選ばれる重合性基を表す。〕
【請求項５】
前記含フッ素多官能性化合物が下記一般式（１）で表される請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
【化３】
2013228705.tif 000044
【化４】
2013228705.tif 000045
〔前記一般式（１）中、Ｒｆは、前記式ｆ−１〜前記式ｆ−９から選ばれるｎ価の基を表し、ｎは３〜６の整数を表す。
前記一般式（１）中、Ｌは、炭素数１〜１０のアルキレン基、炭素数６〜１０のアリーレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ）−、又は、炭素数１〜１０のアルキレン基と−Ｏ−、−Ｓ−、及び−Ｎ（Ｒ）−の少なくとも１種とを組み合わせて得られる基を表す（ここで、Ｒは水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を表す）。
前記一般式（１）中、ｍは、０又は１を表す。
前記一般式（１）中、Ｙは、（メタ）アクリロイル基、アリル基、アルコキシシリル基、α−フルオロアクリロイル基、エポキシ基、及び−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ２から選ばれる重合性基を表す。
前記式ｆ−１〜前記式ｆ−９中、＊は、前記ｍが１のときは前記Ｌとの結合位置を表し、前記ｍが０のときは前記Ｙとの結合位置を表す。〕
【請求項６】
前記含フッ素多官能性化合物が、下記式Ｍ−１〜式Ｍ−１３のいずれか１つで表される多官能性化合物である請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
【化５】
2013228705.tif 000046
【化６】
2013228705.tif 000047
【請求項７】
前記感光性樹脂層形成工程は、仮支持体上に前記感光性樹脂組成物を用いて形成された転写用感光性樹脂層を有する感光性転写材料を用いて、前記感光性樹脂層を形成する請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項８】
前記着色領域形成工程は、前記基板上の凹部に、前記着色液体組成物の液滴をインクジェット法により吐出して付与する請求項１〜請求項７のいずれか１項に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項９】
前記感光性樹脂組成物は、前記含フッ素多官能性化合物以外の多官能性化合物を更に含有し、前記含フッ素多官能性化合物と前記含フッ素多官能性化合物以外の多官能性化合物との総質量に対する前記含フッ素多官能性化合物の割合が、１質量％〜８０質量％である請求項１〜請求項８のいずれか１項に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項１０】
基板と、
前記基板上に、重合性基を３つ以上有し、フッ素含有率が分子量の３０．０質量％以上である含フッ素多官能性化合物に由来し、全ての架橋間分子量の計算値が３００以下である架橋構造を有する離画壁と、
前記離画壁により区画された前記基板上の凹部に形成された着色領域と、
前記離画壁および前記着色領域上にスパッタリングにより形成された導電膜と、
を有するカラーフィルタ基板。
【請求項１１】
前記導電膜は、前記離画壁および前記着色領域上に、２５０℃を越え３００℃以下でスパッタリングすることにより形成された請求項１０に記載のカラーフィルタ基板。
【請求項１２】
前記架橋構造は、炭素原子及びフッ素原子を含む鎖状又は環状の３〜１０価の基で表される請求項１０または請求項１１に記載のカラーフィルタ基板。
【請求項１３】
前記架橋構造は、下記一般式（ｂ−１）で表される３〜１０価の基で表される請求項１０〜請求項１２のいずれか１項に記載のカラーフィルタ基板。
【化７】
2013228705.tif 000048
〔前記一般式（ｂ−１）中、ＲｆＢは、鎖状若しくは環状の（ｐ＋ｑ）価のパーフルオロ飽和炭化水素基、又は、パーフルオロ飽和炭化水素基と−Ｏ−とを組み合わせて得られる鎖状若しくは環状の（ｐ＋ｑ）価の連結基を表す。
前記一般式（ｂ−１）中、Ｒｆｐ及びＲｆｑは、それぞれ独立に、炭素原子及びフッ素原子を含む鎖状又は環状の１価の基を表す。
前記一般式（ｂ−１）中、ｐは３〜１０の整数を表し、ｑは０〜７の整数を表し、かつ、（ｐ＋ｑ）は３〜１０の整数である。
前記一般式（ｂ−１）中、ｒｐ及びｒｑは、それぞれ独立に０〜２の整数を表し、ｓｐ及びｓｑは、それぞれ独立に０又は１を表し、ｔｐ及びｔｑは、それぞれ独立に０又は１を表す。
前記一般式（ｂ−１）中、＊は結合手を表す。〕
【請求項１４】
前記架橋構造は、下記式ｆ−１〜下記式ｆ−９から選ばれる３〜６価の基で表される請求項１０〜請求項１３のいずれか１項に記載のカラーフィルタ基板。
【化８】
2013228705.tif 000049
〔前記式ｆ−１〜前記式ｆ−９中、＊は結合手を表す。〕
【請求項１５】
請求項１０〜請求項１４のいずれか１項に記載のカラーフィルタ基板を備えた表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラーフィルタ基板の製造方法、カラーフィルタ基板、及び、表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、パーソナルコンピュータ用液晶ディスプレイ、液晶カラーテレビの需要が増加する傾向にあり、このようなディスプレイに不可欠のカラーフィルタの特性向上とコストダウンに対する要求が高まっている。
従来、カラーフィルタの製造方法としては、染色法、顔料分散法、電着法、印刷法などが実施されている。
【０００３】
例えば、染色法は、透明基板上に染色用の材料である水溶性の高分子材料層を形成し、これをフォトリソグラフィ工程により所望の形状にパターニングした後、得られたパターンを染色浴に浸漬して着色されたパターンを得る。この工程を３回繰り返すことにより、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の着色部からなる着色層を形成する方法である。
また、顔料分散法は、近年盛んに行われおり、透明基板上に顔料を分散した感光性樹脂層を形成し、これをパターニングすることにより単色のパターンを得る。この工程を３回繰り返すことにより、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色の着色部からなる着色層を形成する方法である。
電着法は、透明基板上に透明電極をパターニングし、顔料、樹脂、電解液等の入った電着塗装液に浸漬して第一の色を電着する。この工程を３回繰り返して、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色の着色部からなる着色層を形成し、最後に焼成するものである。
印刷法は、熱硬化型の樹脂に顔料を分散し、印刷を３回繰り返すことにより、Ｒ、Ｇ、Ｂを塗り分けた後、樹脂を熱硬化させることにより、着色層を形成するものである。
これらの方法はいずれも、赤色、緑色、青色の３色画素を形成するために、同一の工程を３回繰り返す必要があり、コスト高になる点で共通している。さらに、工程数が多いため、歩留まりが低下しやすいという問題もある。
【０００４】
これらを克服すべく、近年、ブラックマトリックス（離画壁）を顔料分散法で形成し、ＲＧＢ画素をインクジェット法や、転写材料を用いた転写法で作製するカラーフィルタ製造法が検討されている。
インクジェット方式は、ブラックマトリックス（離画壁）の凹部にＲ、Ｇ、Ｂ各色を順次付与して画素を形成する。インクジェット方式を利用した方法は、製造プロセスが簡略で、低コストであるという利点がある。しかしながら、インクジェット方式では、吐出液である水や有機溶剤等が飛散し易いため、隣り合う画素領域間におけるインクの混色等の発生や、所定の領域以外の部分にＩＴＯ溶液や金属溶液が固まりこびりつく現象を防ぐ手立てが必要となることが多い。
【０００５】
そのため、（ａ）フッ素原子を７つ以上有する繰り返し単位と（ｂ）エステル基を３つ以上有する繰り返し単位とを有する含フッ素化合物を含有する感光性樹脂組成物層を備える感光性転写材料を用いて、感光性樹脂組成物層を基板上に形成することで、高い撥水及び撥インク性が得られ、基板上に膜形成したときの感光性樹脂組成物層の基板密着性を向上する手法が開示されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００６】
また、含フッ素化合物は、種々の化合物が開示されており、例えば、低屈折率で優れた硬度を有し、且つ、耐擦傷性、および防汚性に優れる含フッ素重合体として、重合性基を３つ以上有する含フッ素化合物であって、フッ素含有率が該含フッ素化合物の分子量の３５．０質量％以上であり、前記重合性基によって重合させたとき、すべての架橋間分子量の計算値が３００以下であることを特徴とする、含フッ素多官能モノマーが開示されている（例えば、特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００８−２０２００６号公報
【特許文献２】特開２００６−２８２８０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
近年、カラーフィルタ上に、スパッタリングにより形成された導電膜を有するカラーフィルタ基板を備えた表示部材は、例えば、タッチパネル等に適用されている。タッチパネル用途等では、導電膜の導電性を高めるために、導電膜形成時のスパッタリング温度（蒸着温度およびアニール温度）を従来よりも高くし、スパッタリング時間を増加することが求められている。
しかしながら、従来の含フッ素化合物を含有する樹脂組成物で離画壁を形成し、その上にスパッタリングで導電膜を形成するときに、離画壁が欠損し、光漏れ等により表示ムラが生じることがあった。
【０００９】
本発明は、スパッタリング温度を高くして導電膜を形成しても、表示ムラが抑制された高品位な画像表示が可能なカラーフィルタ基板を得ることができるカラーフィルタ基板の製造方法、および、表示ムラが抑制された高品位な画像表示が可能なカラーフィルタ基板を提供することを目的とする。また、
本発明は、スパッタリング温度を高くして導電膜を形成しても、表示ムラが抑制された高品位な画像表示が可能な表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
前記課題を達成するための具体的手段は以下の通りである。
＜１＞  重合性基を３つ以上有し、フッ素含有率が分子量の３０．０質量％以上であり、前記重合性基によって重合して架橋構造を形成したときに、全ての架橋間分子量の計算値が３００以下となる含フッ素多官能性化合物と重合開始剤とを含有する感光性樹脂組成物を基板上に付与して、感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程、
前記感光性樹脂層を露光する露光工程、
露光された前記感光性樹脂層を現像する現像工程、及び
前記現像により得られたパターン画像を加熱処理する加熱処理工程を少なくとも経て、離画壁を形成する離画壁形成工程と、
前記離画壁により区画された前記基板上の凹部に、着色液体組成物を付与して着色領域を形成する着色領域形成工程と、
前記離画壁および前記着色領域上に、スパッタリングにより導電膜を形成する導電膜形成工程と、
を有するカラーフィルタ基板の製造方法である。
【００１１】
＜２＞  前記導電膜形成工程は、２５０℃を越え３００℃以下でスパッタリングを行う前記＜１＞に記載のカラーフィルタ基板の製造方法である。
【００１２】
＜３＞  前記含フッ素多官能性化合物が下記一般式（Ａ）で表される前記＜１＞または前記＜２＞に記載のカラーフィルタ基板の製造方法である。
【００１３】
【化１】
2013228705.tif 000002
【００１４】
前記一般式（Ａ）中、ＲｆＡは、炭素原子及びフッ素原子を含む鎖状又は環状の（ｐ＋ｑ）価の連結基を表す。
前記一般式（Ａ）中、ｐは３〜１０の整数を表し、ｑは０〜７の整数を表し、かつ、（ｐ＋ｑ）は３〜１０の整数である。
前記一般式（Ａ）中、ｍは０又は１を表す。
前記一般式（Ａ）中、Ｌは、炭素数１〜１０のアルキレン基、炭素数６〜１０のアリーレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ）−、又は、炭素数１〜１０のアルキレン基と−Ｏ−、−Ｓ−、及び−Ｎ（Ｒ）−の少なくとも１種とを組み合わせて得られる基を表す（ここで、Ｒは水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を表す）。
前記一般式（Ａ）中、Ｙは、（メタ）アクリロイル基、アリル基、アルコキシシリル基、α−フルオロアクリロイル基、エポキシ基、及び−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ２から選ばれる重合性基を表す。
【００１５】
＜４＞  前記含フッ素多官能性化合物が下記一般式（Ｂ）で表される前記＜１＞〜前記＜３＞のいずれか１つに記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
【００１６】
【化２】
2013228705.tif 000003
【００１７】
前記一般式（Ｂ）中、ＲｆＢは、鎖状若しくは環状の（ｐ＋ｑ）価のパーフルオロ飽和炭化水素基、又は、パーフルオロ飽和炭化水素基と−Ｏ−とを組み合わせて得られる鎖状若しくは環状の（ｐ＋ｑ）価の連結基を表す。
前記一般式（Ｂ）中、Ｒｆｐ及びＲｆｑは、それぞれ独立に、炭素原子及びフッ素原子を含む鎖状又は環状の１価の基を表す。
前記一般式（Ｂ）中、ｐは３〜１０の整数を表し、ｑは０〜７の整数を表し、かつ、（ｐ＋ｑ）は３〜１０の整数である。
前記一般式（Ｂ）中、ｍは０又は１を表す。
前記一般式（Ｂ）中、ｒｐ及びｒｑは、それぞれ独立に０〜２の整数を表し、ｓｐ及びｓｑは、それぞれ独立に０又は１を表し、ｔｐ及びｔｑは、それぞれ独立に０又は１を表す。
前記一般式（Ｂ）中、Ｌは、炭素数１〜１０のアルキレン基、炭素数６〜１０のアリーレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ）−、又は、炭素数１〜１０のアルキレン基と−Ｏ−、−Ｓ−、及び−Ｎ（Ｒ）−の少なくとも１種とを組み合わせて得られる基を表す（ここで、Ｒは水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を表す）。
前記一般式（Ｂ）中、Ｙは、（メタ）アクリロイル基、アリル基、アルコキシシリル基、α−フルオロアクリロイル基、エポキシ基、及び−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ２から選ばれる重合性基を表す。
【００１８】
＜５＞  前記含フッ素多官能性化合物が下記一般式（１）で表される前記＜１＞〜前記＜４＞のいずれか１つに記載のカラーフィルタ基板の製造方法である。
【００１９】
【化３】
2013228705.tif 000004
【００２０】
【化４】
2013228705.tif 000005
【００２１】
前記一般式（１）中、Ｒｆは、前記式ｆ−１〜前記式ｆ−９から選ばれるｎ価の基を表し、ｎは３〜６の整数を表す。
前記一般式（１）中、Ｌは、炭素数１〜１０のアルキレン基、炭素数６〜１０のアリーレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ）−、又は、炭素数１〜１０のアルキレン基と−Ｏ−、−Ｓ−、及び−Ｎ（Ｒ）−の少なくとも１種とを組み合わせて得られる基を表す（ここで、Ｒは水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を表す）。
前記一般式（１）中、ｍは、０又は１を表す。
前記一般式（１）中、Ｙは、（メタ）アクリロイル基、アリル基、アルコキシシリル基、α−フルオロアクリロイル基、エポキシ基、及び−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ２から選ばれる重合性基を表す。
前記式ｆ−１〜前記式ｆ−９中、＊は、前記ｍが１のときは前記Ｌとの結合位置を表し、前記ｍが０のときは前記Ｙとの結合位置を表す。
【００２２】
＜６＞  前記含フッ素多官能性化合物が、下記式Ｍ−１〜式Ｍ−１３のいずれか１つで表される多官能性化合物である前記＜１＞〜前記＜５＞のいずれか１つに記載のカラーフィルタ基板の製造方法である。
【００２３】
【化５】
2013228705.tif 000006
【００２４】
【化６】
2013228705.tif 000007
【００２５】
＜７＞  前記感光性樹脂層形成工程は、仮支持体上に前記感光性樹脂組成物を用いて形成された転写用感光性樹脂層を有する感光性転写材料を用いて、前記感光性樹脂層を形成する前記＜１＞〜前記＜６＞のいずれか１つに記載のカラーフィルタ基板の製造方法である。
【００２６】
＜８＞  前記着色領域形成工程は、前記基板上の凹部に、前記着色液体組成物の液滴をインクジェット法により吐出して付与する前記＜１＞〜前記＜７＞のいずれか１つに記載のカラーフィルタ基板の製造方法である。
【００２７】
＜９＞  前記感光性樹脂組成物は、前記含フッ素多官能性化合物以外の多官能性化合物を更に含有し、前記含フッ素多官能性化合物と前記含フッ素多官能性化合物以外の多官能性化合物との総質量に対する前記含フッ素多官能性化合物の割合が、１質量％〜８０質量％である前記＜１＞〜前記＜８＞のいずれか１つに記載のカラーフィルタ基板の製造方法である。
【００２８】
＜１０＞  基板と、
前記基板上に、重合性基を３つ以上有し、フッ素含有率が分子量の３０．０質量％以上である含フッ素多官能性化合物に由来し、全ての架橋間分子量の計算値が３００以下である架橋構造を有する離画壁と、
前記離画壁により区画された前記基板上の凹部に形成された着色領域と、
前記離画壁および前記着色領域上にスパッタリングにより形成された導電膜と、
を有するカラーフィルタ基板である。
【００２９】
＜１１＞  前記導電膜は、前記離画壁および前記着色領域上に、２５０℃を越え３００℃以下でスパッタリングすることにより形成された前記＜１０＞に記載のカラーフィルタ基板である。
【００３０】
＜１２＞  前記架橋構造は、炭素原子及びフッ素原子を含む鎖状又は環状の３〜１０価の基で表される前記＜１０＞または前記＜１１＞に記載のカラーフィルタ基板である。
【００３１】
＜１３＞  前記架橋構造は、下記一般式（ｂ−１）で表される３〜１０価の基で表される前記＜１０＞〜前記＜１２＞のいずれか１つに記載のカラーフィルタ基板。
【００３２】
【化７】
2013228705.tif 000008
【００３３】
前記一般式（ｂ−１）中、ＲｆＢは、鎖状若しくは環状の（ｐ＋ｑ）価のパーフルオロ飽和炭化水素基、又は、パーフルオロ飽和炭化水素基と−Ｏ−とを組み合わせて得られる鎖状若しくは環状の（ｐ＋ｑ）価の連結基を表す。
前記一般式（ｂ−１）中、Ｒｆｐ及びＲｆｑは、それぞれ独立に、炭素原子及びフッ素原子を含む鎖状又は環状の１価の基を表す。
前記一般式（ｂ−１）中、ｐは３〜１０の整数を表し、ｑは０〜７の整数を表し、かつ、（ｐ＋ｑ）は３〜１０の整数である。
前記一般式（ｂ−１）中、ｒｐ及びｒｑは、それぞれ独立に０〜２の整数を表し、ｓｐ及びｓｑは、それぞれ独立に０又は１を表し、ｔｐ及びｔｑは、それぞれ独立に０又は１を表す。
前記一般式（ｂ−１）中、＊は結合手を表す。
【００３４】
＜１４＞  前記架橋構造は、下記式ｆ−１〜下記式ｆ−９から選ばれる３〜６価の基で表される前記＜１０＞〜前記＜１３＞のいずれか１つに記載のカラーフィルタ基板である。
【００３５】
【化８】
2013228705.tif 000009
【００３６】
前記式ｆ−１〜前記式ｆ−９中、＊は結合手を表す。
【００３７】
＜１５＞  前記＜１０＞〜前記＜１４＞のいずれか１つに記載のカラーフィルタ基板を備えた表示装置である。
【発明の効果】
【００３８】
本発明によれば、本発明は、スパッタリング温度を高くして導電膜を形成しても、表示ムラが抑制された高品位な画像表示が可能なカラーフィルタ基板を得ることができるカラーフィルタ基板の製造方法、および、表示ムラが抑制された高品位な画像表示が可能なカラーフィルタ基板を提供することができる。また、
本発明は、スパッタリング温度を高くして導電膜を形成しても、表示ムラが抑制された高品位な画像表示が可能な表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】離画壁の上面、側面並びに基板上の凹部等を説明するためのカラーフィルタの断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００４０】
以下、本発明のカラーフィルタ基板の製造方法、カラーフィルタ基板、及び、表示装置について詳細に説明する。
【００４１】
＜カラーフィルタ基板の製造方法＞
本発明のカラーフィルタ基板の製造方法は、本発明における感光性樹脂組成物を用いて基板上に離画壁を形成する離画壁形成工程と、離画壁により区画された基板上の凹部に、着色液体組成物を付与して着色領域を形成する着色領域形成工程と、離画壁および着色領域上に、スパッタリングにより導電膜を形成する導電膜形成工程とを有して構成される。
まず、離画壁形成工程から説明する。
【００４２】
〔離画壁形成工程〕
離画壁形成工程では、本発明における感光性樹脂組成物を基板上に付与して、感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程、前記感光性樹脂層を露光する露光工程、露光された前記感光性樹脂層を現像する現像工程、及び前記現像により得られたパターン画像を加熱処理する加熱処理工程を少なくとも経て、離画壁を形成する。
なお、本発明における感光性樹脂組成物は、重合性基を３つ以上有し、フッ素含有率が分子量の３０．０質量％以上であり、前記重合性基によって重合して架橋構造を形成したときに、全ての架橋間分子量の計算値が３００以下となる含フッ素多官能性化合物と、重合開始剤とを含有する樹脂組成物である。
【００４３】
本発明における離画壁は、２以上の画素群（例えば色相の異なる複数色の画素群）の各画素間を離画するものであり、一般には黒（濃色）であることが多いが、黒に限定されるものではない。濃色とする着色剤としては、有機物（染料、顔料などの各種色素、炭素材料）、無機物が好ましい。
離画壁形成工程を構成する各工程について説明する。
なお、「重合性基を３つ以上有し、フッ素含有率が分子量の３０．０質量％以上であり、前記重合性基によって重合して架橋構造を形成したときに、全ての架橋間分子量の計算値が３００以下となる含フッ素多官能性化合物」を、『特定化合物』とも称する。
【００４４】
〔感光性樹脂層形成工程〕
感光性樹脂層形成工程では、本発明における感光性樹脂組成物を基板上に付与して、感光性樹脂層を形成する。
本発明における感光性樹脂組成物は、特定化合物の少なくとも１種と重合開始剤とを含み、必要に応じて、色材、バインダー等を更に含有していてもよい。
【００４５】
−含フッ素多官能性化合物（特定化合物）−
本発明における感光性樹脂組成物は、重合性基を３つ以上有し、フッ素含有率が分子量の３０．０質量％以上の化合物であり、前記重合性基によって重合して架橋構造を形成したときに、全ての架橋間分子量の計算値が３００以下となる含フッ素多官能性化合物（特定化合物）を含有する。
すなわち、特定化合物は、重合性基を３つ以上有し、フッ素含有率が分子量の３０．０質量％以上の化合物であり、特定化合物を、特定化合物が分子内に有する重合性基により重合して架橋構造を形成したときに、全ての架橋間分子量の計算値が３００以下となる。
本発明における感光性樹脂組成物は、硬化したときには、特定化合物が重合して形成される架橋構造を有する。
【００４６】
特定化合物は、撥水撥油性・界面活性などのフッ素官能基の機能を充分に発揮するとともに、感光性樹脂組成物の硬化を促進する効果促進剤として機能して、緻密な架橋構造を形成する。
従って、本発明における感光性樹脂組成物が特定化合物を含有することにより、感光性樹脂組成物に撥水撥油性・界面活性などの機能を与えるとともに、感光性樹脂組成物が硬化して緻密な架橋構造を有する離画壁となったときには、高温のスパッタリングで、離画壁上に導電膜が形成されても、離画壁を欠損しにくくすることができる。
【００４７】
（重合性基の種類）
特定化合物が有する重合性基としては、ラジカル重合性基、カチオン重合性基、縮合重合性基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基、アリル基、アルコキシシリル基、α−フルオロアクリロイル基、エポキシ基、−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ２等が好ましい。
また、特定化合物に含まれる３つ以上の重合性基は、同一であっても互いに異なっていてもよい。
本発明における感光性樹脂組成物が含有する架橋構造の形成において、特定化合物は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【００４８】
（重合性基の数）
また、特定化合物は、一分子内に、重合性基を３つ以上有する。
特定化合物が重合性基を３つ以上有しないと、特定化合物が重合し、架橋構造を形成したときに、架橋構造の密度を増加させることができないため、本発明における感光性樹脂組成物が硬化して形成される離画壁上に、高温（例えば、２５０℃を超える温度、好ましくは２５０℃を超える温度）でスパッタリングして導電膜を形成するときに、離画壁の欠損を抑制することができない。
特定化合物が有する重合性基の数は、４つ以上であることが好ましく、５つ以上であることがより好ましい。
【００４９】
（フッ素含有率）
特定化合物は、含フッ素多官能性化合物であり、フッ素含有率が分子量の３０．０質量％以上である。特定化合物のフッ素含有率が、特定化合物の分子量の３０．０質量％以上でないと、本発明における感光性樹脂組成物および感光性樹脂組成物が硬化した後の硬化物に、撥水撥油性および界面活性を与えることができない。
特定化合物のフッ素含有率は、特定化合物の分子量の３５．０質量％以上であることが好ましく、４０質量％以上（詳細には４０．０質量％以上）であることがより好ましく、４５質量％以上（詳細には４５．０質量％以上）であることが特に好ましい。
なお、特定化合物におけるフッ素含有率の上限には特に制限はないが、例えば、特定化合物の分子量の６０質量％以下（詳細には６０．０質量％以下）とすることができる。特定化合物におけるフッ素含有率の上限は、５５質量％（詳細には５５．０質量％）であることが好ましく、５０質量％（詳細には５５．０質量％）であることがより好ましい。
【００５０】
（架橋間分子量の計算値）
特定化合物は、さらに、特定化合物を、特定化合物が分子内に有する重合性基により重合して架橋構造を形成したときに、全ての架橋間分子量の計算値が３００以下となる化合物である。
ここで、架橋間分子量の計算値とは、前記重合性基によって多官能性化合物が重合して得られた重合体において、合わせて３個以上の炭素原子又はケイ素原子が結合した炭素原子を（ａ）、合わせて３個以上の炭素原子又は酸素原子が結合したケイ素原子を（ｂ）とするときに、（ａ）と（ａ）、（ｂ）と（ｂ）、又は（ａ）と（ｂ）で挟まれた原子団の分子量を指す。
なお、「合わせて３個以上の炭素原子又はケイ素原子が結合した炭素原子」とは、４つある結合手のうち、３つ以上が、炭素原子又はケイ素原子と結合している炭素原子を示し、「合わせて３個以上の炭素原子又は酸素原子が結合したケイ素原子」とは、４つある結合手のうち、３つ以上が、炭素原子又は酸素原子と結合しているケイ素原子を示す。
【００５１】
「全ての架橋間分子量の計算値が３００以下」とは、端的に言えば、特定化合物の分子と分子とを結ぶ架橋部分の分子鎖が短いことを意味し、特定化合物の重合体が緻密な架橋構造を成していることを表す。これにより、本発明における感光性樹脂組成物が硬化して得られる離画壁は、優れた耐熱性および強度を有し、離画壁上の導電膜が高温のスパッタリングで形成されたときにも、離画壁の欠損が抑制される。
全ての架橋間分子量の計算値が３００を超えると、架橋構造が緻密でなくなるため、離画壁の強度や耐熱性を欠き、離画壁上の導電膜が高温のスパッタリングで形成されたときに離画壁が欠損する。
架橋間分子量の計算手法については、後述する具体例と共に、詳細に説明する。
【００５２】
特定化合物は、重合性基の数、フッ素含有率、及び架橋間分子量の計算値が上記構成である含フッ素多官能性化合物であれば、特に制限されず、種々の多官能の含フッ素重合性化合物を用いることができる。重合性化合物としては、例えば、ラジカル重合性化合物、カチオン重合性化合物、縮合重合性化合物等が挙げられ、例えば、３官能以上のポリアクリレートをフッ素修飾した化合物であってもよい。
【００５３】
特定化合物の好ましい形態としては、例えば、フッ素原子と炭素原子とを含む実質的に重合に関与しない原子団（以下、「含フッ素コア部」ともいう）と、この含フッ素コア部にエステル結合やエーテル結合などの連結基を介して連結された、ラジカル重合性、カチオン重合性、または縮合重合性などの重合性を有する、３つ以上の重合性基と、を有する形態である。含フッ素コア部は、更に、その他の原子（例えば酸素原子及び水素原子の少なくとも一方）を含んでいてもよい。
【００５４】
特定化合物として、好ましくは下記一般式（Ａ）で表される含フッ素多官能性化合物（以下、単に「一般式（Ａ）で表される化合物」ともいう）である。
【００５５】
【化９】
2013228705.tif 000010
【００５６】
前記一般式（Ａ）中、ＲｆＡは、炭素原子及びフッ素原子を含む鎖状又は環状の（ｐ＋ｑ）価の連結基を表す。
前記一般式（Ａ）中、ｐは３以上の整数を表し、ｑは０以上の整数を表し、ｍは０又は１を表す。
前記一般式（Ａ）中、Ｌは二価の連結基を表し、Ｙは重合性基を表す。
【００５７】
前記一般式（Ａ）中のＲｆＡは、炭素原子及びフッ素原子に加え、その他の原子を含んでいてもよい。この場合のその他の原子としては、酸素原子及び水素原子の少なくとも一方が好ましい。このＲｆＡ又はＲｆＡ[ＣＨ２ＯＨ]ｑは、上記「含フッ素コア部」に相当する基である。
【００５８】
前記ＲｆＡとしては、鎖状若しくは環状の（ｐ＋ｑ）価のフッ化炭化水素基、フッ化炭化水素基と−Ｏ−とを組み合わせて得られる鎖状若しくは環状の（ｐ＋ｑ）価の連結基、又は、フッ化炭化水素基と炭化水素基と−Ｏ−とを組み合わせて得られる鎖状若しくは環状の（ｐ＋ｑ）価の連結基が好ましく、鎖状若しくは環状の（ｐ＋ｑ）価のフッ化炭化水素基、又は、フッ化炭化水素基と−Ｏ−とを組み合わせて得られる鎖状若しくは環状の（ｐ＋ｑ）価の連結基がより好ましい。
なお、本明細書中において、フッ化炭化水素基とは、炭化水素基に含まれる水素原子の少なくとも１つがフッ素原子に置き換わった構造の基を指す。
【００５９】
前記ＲｆＡが水素原子を含む場合、ＲｆＡにおける水素原子数／フッ素原子数には特に制限はないが、防汚性をより向上させる観点からは、１／４以下が好ましく、１／９以下がより好ましい。
ＲｆＡ又はＲｆＡ[ＣＨ２ＯＨ]ｑは、一般式（Ａ）で表される含フッ素多官能性化合物が全ての重合性基によって重合したときに、架橋間分子量がすべて３００以下になるような基が好ましい。架橋間分子量については後述する。
【００６０】
前記一般式（Ａ）中、ｐは３〜１０の整数であり、ｑは０〜７の整数であり、かつ、（ｐ＋ｑ）は３〜１０の整数であることが好ましい。
ｐは、３〜６の整数であることがより好ましく、３〜４の整数であることが更に好ましい。
ｑは、０〜３の整数であることが好ましく、０又は１であることがより好ましく、０が更に好ましい。
（ｐ＋ｑ）は、３〜６の整数であることがより好ましく、３〜４の整数であることが更に好ましい。
【００６１】
一般式（Ａ）中、Ｙは、ラジカル重合性、カチオン重合性、又は縮合重合性の重合性基であることが好ましく、より好ましくは、（メタ）アクリロイル基、アリル基、アルコキシシリル基、α−フルオロアクリロイル基、エポキシ基、又は−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ２である。これらの中でも、重合性の観点から、ラジカル重合性またはカチオン重合性を有する（メタ）アクリロイル基、アリル基、α−フルオロアクリロイル基、エポキシ基、−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ２が好ましく、より好ましくは、ラジカル重合性を有する（メタ）アクリロイル基、アリル基、α−フルオロアクリロイル基、および−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ２である。
【００６２】
一般式（Ａ）中、Ｌは、二価の連結基を表し、好ましくは、炭素数１〜１０のアルキレン基、炭素数６〜１０のアリーレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ）−、炭素数１〜１０のアルキレン基と−Ｏ−、−Ｓ−及び−Ｎ（Ｒ）−の少なくとも１種とを組み合わせて得られる基、又は、炭素数６〜１０のアリーレン基と−Ｏ−、−Ｓ−及び−Ｎ（Ｒ）−とを組み合わせて得られる基を表す（Ｒは水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を表す）。Ｌとしては、炭素数１〜１０のアルキレン基、炭素数６〜１０のアリーレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ）−、又は、炭素数１〜１０のアルキレン基と−Ｏ−、−Ｓ−及び−Ｎ（Ｒ）−の少なくとも１種とを組み合わせて得られる基が好ましい。
Ｌがアルキレン基又はアリーレン基を表す場合、Ｌで表されるアルキレン基及びアリーレン基はハロゲン原子で置換されていることが好ましく、フッ素原子で置換されていることが好ましい。
【００６３】
特定化合物は、下記一般式（Ｂ）で表される多官能性化合物（以下、単に、「一般式（Ｂ）で表される化合物」ともいう）であることがより好ましい。
【００６４】
【化１０】
2013228705.tif 000011
【００６５】
前記一般式（Ｂ）中、ＲｆＢは、鎖状若しくは環状の（ｐ＋ｑ）価のパーフルオロ飽和炭化水素基、又は、パーフルオロ飽和炭化水素基と−Ｏ−とを組み合わせて得られる鎖状若しくは環状の（ｐ＋ｑ）価の連結基を表す。
前記一般式（Ｂ）中、Ｒｆｐ及びＲｆｑは、それぞれ独立に、炭素原子及びフッ素原子を含む鎖状又は環状の１価の基を表す。
前記一般式（Ｂ）中、ｒｐ及びｒｑは、それぞれ独立に０〜２の整数を表し、ｓｐ及びｓｑは、それぞれ独立に０又は１を表し、ｔｐ及びｔｑは、それぞれ独立に０又は１を表す。
前記一般式（Ｂ）中におけるＹ、Ｌ、ｐ、ｑ、及びｍは、それぞれ、前記一般式（Ａ）中におけるＹ、Ｌ、ｐ、ｑ、及びｍと同義であり、好ましい範囲も同様である。
また、前記一般式（Ｂ）及び後述の一般式（ｂ−１）において、ｐ個の基における、（ＯＣＦ２ＣＦ２）、（ＯＣＦ２）、及び（ＣＦＲｆｐ）の配置順、及び、ｑ個の基における、（ＯＣＦ２ＣＦ２）、（ＯＣＦ２）、及び（ＣＦＲｆｑ）の配置順には特に限定はない。
【００６６】
本明細書中において、パーフルオロ飽和炭化水素基とは、飽和炭化水素基に含まれる水素原子の全てがフッ素原子に置き換わった構造の基を指す。
また、一般式（Ｂ）において、Ｒｆｐ及びＲｆｑは、それぞれ独立に、炭素原子及びフッ素原子に加え、その他の原子を含んでいてもよい。この場合のその他の原子としては、酸素原子及び水素原子の少なくとも一方が好ましい。
前記Ｒｆｐ及びＲｆｑは、それぞれ独立に、鎖状若しくは環状の１価のフッ化炭化水素基、フッ化炭化水素基と−Ｏ−とを組み合わせて得られる鎖状若しくは環状の１価の基、又は、フッ化炭化水素基と炭化水素基と−Ｏ−とを組み合わせて得られる鎖状若しくは環状の１価の基が好ましく、鎖状若しくは環状の１価のフッ化炭化水素基、又は、フッ化炭化水素基と−Ｏ−とを組み合わせて得られる鎖状若しくは環状の１価の基がより好ましい。
前記Ｒｆｐ及びＲｆｑは、それぞれ独立に、更に好ましくは炭素数１〜１２の鎖状又は分岐のパーフルオロアルキル基（例えば、トリフルオロメチル、パーフルオロエチル、パーフルオロプロピル等）又は炭素数３〜１２のパーフルオロシクロアルキル基（例えば、パーフルオロシクロペンチル、パーフルオロシクロヘキシル等）であり、より好ましくは炭素数１〜１２の鎖状又は分岐のパーフルオロアルキル基であり、最も好ましくはトリフルオロメチル基である。
【００６７】
一般式（Ｂ）中に含まれる、後述の一般式（ｂ−１）で表される３〜１０価の基は、一般式（Ｂ）で表される含フッ素多官能性化合物が全ての重合性基によって重合したときに、架橋間分子量がすべて３００以下になるような基が好ましい。架橋間分子量については後述する。
【００６８】
また、前記一般式（Ｂ）において、ｒｐ及びｒｑは、それぞれ独立に０〜２の整数を表すが、０〜１の整数が好ましく、１が更に好ましい。
また、前記一般式（Ｂ）において、ｓｐ及びｓｑは、それぞれ独立に０又は１を表すが、０が好ましい。
また、前記一般式（Ｂ）において、ｔｐ及びｔｑは、それぞれ独立に０又は１を表すが、０が好ましい。特に、（ｐ＋ｑ）が５以上の整数である場合は、ｔｐ及びｔｑは０であることが好ましい。
【００６９】
上述した一般式（Ａ）の特に好ましい形態は、ｐが３〜６の整数であり、かつ、ｑが０である形態である。
また、上述した一般式（Ｂ）の特に好ましい形態は、ｐが３〜６の整数であり、ｑが０であり、ｒｐ及びｒｑがそれぞれ独立に０〜２の整数である形態である。
【００７０】
特定化合物は、下記一般式（１）で表される多官能性化合物（以下、単に「一般式（１）で表される化合物」ともいう）であることがさらに好ましい。なお、下記一般式（１）で表される多官能性化合物は含フッ素化合物である。
【００７１】
【化１１】
2013228705.tif 000012
【００７２】
一般式（１）中、Ｒｆは、炭素原子及びフッ素原子を含む鎖状又は環状のｎ価の連結基を表す。
一般式（１）中、ｎは３以上の整数を表す。
一般式（１）中、Ｌ、Ｙ、及びｍについては、それぞれ、前記一般式（Ａ）におけるＬ、Ｙ、及びｍと同義であり、好ましい範囲も同様である。
【００７３】
前記一般式（１）中、ｎは３〜１０の整数であることが好ましく、３〜６の整数であることがより好ましく、３〜４の整数であることが特に好ましい。
【００７４】
前記一般式（１）中のＲｆは、炭素原子及びフッ素原子に加え、その他の原子を含んでいてもよい。この場合のその他の原子としては、酸素原子及び水素原子の少なくとも一方が好ましい。
このＲｆは、上記「含フッ素コア部」に相当する基である。
【００７５】
前記Ｒｆとしては、鎖状若しくは環状のｎ価のフッ化炭化水素基、フッ化炭化水素基と−Ｏ−とを組み合わせて得られる鎖状若しくは環状のｎ価の連結基、又は、フッ化炭化水素基と炭化水素基と−Ｏ−とを組み合わせて得られる鎖状若しくは環状のｎ価の連結基が好ましく、鎖状若しくは環状のｎ価のフッ化炭化水素基、又は、フッ化炭化水素基と−Ｏ−とを組み合わせて得られる鎖状若しくは環状のｎ価の連結基がより好ましい。
【００７６】
前記Ｒｆが水素原子を含む場合、Ｒｆにおける水素原子数／フッ素原子数には特に制限はないが、防汚性をより向上させる観点からは、１／４以下が好ましく、１／９以下がより好ましい。
Ｒｆは、一般式（１）で表される含フッ素多官能性化合物が全ての重合性基によって重合したときに、架橋間分子量がすべて３００以下になるような基が好ましい。架橋間分子量については後述する。
【００７７】
Ｒｆで表される「含フッ素コア部」の特に代表的なものとして、下記の具体例が挙げら
れる。
【００７８】
【化１２】
2013228705.tif 000013
【００７９】
式ｆ−１〜式ｆ−９中、＊は、ｍが１の場合にはＬとの結合位置を表し、ｍが０の場合にはＹとの結合位置を表す。
一般式（１）中のＲｆが、式ｆ−１〜式ｆ−９から選ばれるｎ価の基である場合、該ｎは３〜６の整数である。
【００８０】
一般式（１）で表される多官能性化合物として、より好ましくは、屈折率および重合性の観点から、一般式（２）又は一般式（３）で表される多官能性化合物である。
【００８１】
【化１３】
2013228705.tif 000014
【００８２】
一般式（２）及び一般式（３）中、Ｒｆ及びｎは、一般式（１）中におけるＲｆ及びｎと同義である。
【００８３】
以下、本発明における多官能性化合物の好ましい具体例（下記式Ｍ−１〜Ｍ−１３、式Ｍ−３１〜Ｍ−７２、式Ｍ−７４、及び式Ｍ−７５のいずれか１つで表される化合物；以下、例示化合物Ｍ−１〜Ｍ−１３、例示化合物Ｍ−３１〜Ｍ−７２、例示化合物Ｍ−７４、例示化合物Ｍ−７５ともいう）を挙げるが、本発明はこれらによって限定されない。
【００８４】
【化１４】
2013228705.tif 000015
【００８５】
【化１５】
2013228705.tif 000016
【００８６】
【化１６】
2013228705.tif 000017
【００８７】
【化１７】
2013228705.tif 000018
【００８８】
【化１８】
2013228705.tif 000019
【００８９】
【化１９】
2013228705.tif 000020
【００９０】
【化２０】
2013228705.tif 000021
【００９１】
【化２１】
2013228705.tif 000022
【００９２】
【化２２】
2013228705.tif 000023
【００９３】
【化２３】
2013228705.tif 000024
【００９４】
【化２４】
2013228705.tif 000025
【００９５】
例示化合物Ｍ−１〜Ｍ−１３、Ｍ−３１〜Ｍ−７２、Ｍ−７４、及びＭ−７５におけるフッ素含有率（質量％；以下では、単に「％」とも表記する）は、それぞれ、以下の通りである。
Ｍ−１：  ３７．５％
Ｍ−２：  ４６．２％
Ｍ−３：  ４８．６％
Ｍ−４：  ４９．８％
Ｍ−５：  ３６．６％
Ｍ−６：  ３９．８％
Ｍ−７：  ４７．０％
Ｍ−８：  ３５．１％
Ｍ−９：  ４４．９％
Ｍ−１０：  ４２．５％
Ｍ−１１：  ３６．２％
Ｍ−１２：  ４７．７％
Ｍ−１３：  ４５．８％
Ｍ−３１：  ４７．８％
Ｍ−３２：  ４８．９％
Ｍ−３３：  ５０．０％
Ｍ−３４：  ３４．３％
Ｍ−３５：  ３１．７％
Ｍ−３６：  ５１．５％
Ｍ−３７：  ４９．４％
Ｍ−３８：  ４１．７％
Ｍ−３９：  ５４．４％
Ｍ−４０：  ４４．５％
Ｍ−４１：  ３７．３％
Ｍ−４２：  ５１．５％
Ｍ−４３：  ４９．５％
Ｍ−４４：  ５１．９％
Ｍ−４５：  ４６．０％
Ｍ−４６：  ４７．８％
Ｍ−４７：  ５０．４％
Ｍ−４８：  ４５．５％
Ｍ−４９：  ４９．４％
Ｍ−５０：  ５２．７％
Ｍ−５１：  ５０．９％
Ｍ−５２：  ５４．９％
Ｍ−５３：  ４４．９％
Ｍ−５４：  ４６．３％
Ｍ−５５：  ４８．０％
Ｍ−５６：  ４８．６％
Ｍ−５７：  ５２．１％
Ｍ−５８：  ５２．８％
Ｍ−５９：  ５２．５％
Ｍ−６０：  ４９．１％
Ｍ−６１：  ５４．９％
Ｍ−６２：  ５６．７％
Ｍ−６３：  ４７．５％
Ｍ−６４：  ４９．６％
Ｍ−６５：  ５１．６％
Ｍ−６６：  ４８．４％
Ｍ−６７：  ４９．０％
Ｍ−６８：  ４９．７％
Ｍ−６９：  ４９．７％
Ｍ−７０：  ５０．９％
Ｍ−７１：  ５２．０％
Ｍ−７２：  ４６．９％
Ｍ−７４：  ５１．７％
Ｍ−７５：  ５０．１％
【００９６】
特定化合物は、既述のように、重合性基によって重合したときに、架橋間分子量の計算値が全て３００以下となる多官能性化合物である。
架橋間分子量の計算手法を、例示化合物Ｍ−２を例に挙げて説明する。
例示化合物Ｍ−２が、一分子に含まれる全ての重合性基によって重合したと仮定すると、得られる重合体は、式（４）のように表される。
【００９７】
【化２５】
2013228705.tif 000026
【００９８】
この場合、上記で定義した架橋間分子量の計算の対象となる部分構造は、式（４）の破線で囲まれた部分であり、架橋間分子量の計算値は、それぞれＣ２Ｆ４Ｏ＝１１６．０とＣ５Ｈ２Ｆ６Ｏ３＝２２４．１であり、何れも３００以下である。
【００９９】
上記のようにして、例示化合物Ｍ−１〜Ｍ−１３、Ｍ−３１〜Ｍ−７２、Ｍ−７４、及びＭ−７５のそれぞれについて、一分子に含まれる全ての重合性基によって重合したときの架橋間分子量（複数の架橋間分子量が存在する場合にはこれらの最大値）を求めると、以下のようになる。
Ｍ−１：      ５０．０
Ｍ−２：    ２２４．１
Ｍ−３：    ２１０．１
Ｍ−４：    ２２４．１
Ｍ−５：    １００．０
Ｍ−６：      ９１．０
Ｍ−７：      ９４．１
Ｍ−８：      ５８．０
Ｍ−９：    ２２４．１
Ｍ−１０：  １００．０
Ｍ−１１：  １００．０
Ｍ−１２：  ２２４．１
Ｍ−１３：  ２１０．１
Ｍ−３１：  ２２４．１
Ｍ−３２：  ２２４．１
Ｍ−３３：  ２７４．１
Ｍ−３４：    ５８．０
Ｍ−３５：    ５８．０
Ｍ−３６：  ２２４．１
Ｍ−３７：  ２２４．１
Ｍ−３８：  １７４．１
Ｍ−３９：  ２１０．１
Ｍ−４０：  ２１０．１
Ｍ−４１：  １７４．１
Ｍ−４２：  ２２４．１
Ｍ−４３：  ２２４．１
Ｍ−４４：  ２２４．１
Ｍ−４５：  ２２４．１
Ｍ−４６：  ２２４．１
Ｍ−４７：  ２１０．１
Ｍ−４８：  ２２４．１
Ｍ−４９：  ２２４．１
Ｍ−５０：  ２２４．１
Ｍ−５１：  ２２４．１
Ｍ−５２：  ２２４．１
Ｍ−５３：  ２２４．１
Ｍ−５４：  ２２４．１
Ｍ−５５：  ２２４．１
Ｍ−５６：  ２２４．１
Ｍ−５７：  ２７４．１
Ｍ−５８：  ２９０．１
Ｍ−５９：  ２９０．１
Ｍ−６０：  ２９０．１
Ｍ−６１：  ２９０．１
Ｍ−６２：  ２９０．１
Ｍ−６３：  ２９０．１
Ｍ−６４：  ２９０．１
Ｍ−６５：  ２９０．１
Ｍ−６６：  ２９０．１
Ｍ−６７：  ２９０．１
Ｍ−６８：  ２９０．１
Ｍ−６９：  ２９０．１
Ｍ−７０：  ２９０．１
Ｍ−７１：  ２９０．１
Ｍ−７２：  ２９０．１
Ｍ−７４：  ２９０．１
Ｍ−７５：  ２９０．１
【０１００】
特定化合物の架橋間分子量の計算値は、２５０以下であることが好ましく、２００以下であることがより好ましい。
【０１０１】
特定化合物が、一般式（Ａ）で表される化合物（一般式（Ｂ）又は一般式（１）で表される化合物を含む。以下同じ。）である場合、該特定化合物の製造方法には特に制限はないが、例えば、以下の方法が好適である。
即ち、エステル結合、ジアルコキシ基、および／またはハロゲン原子を有する化合物を液相フッ素化することにより、８０ｍｏｌ％以上（好ましくは９０ｍｏｌ％以上）の水素原子をフッ素原子に置換した後、３つ以上（好ましくは４つ以上、より好ましくは５つ以上）の重合性基を導入する方法が好適である。
液相フッ素化については、例えば、米国特許第５０９３４３２号明細書に記載されている。
【０１０２】
液相フッ素化に供される化合物としては、液相フッ素化する際に用いるフッ素系の溶媒に溶解するか、または、液体であることが要求されるが、それ以外は特に制限は無い。こうした溶解性や反応性の観点から、予めフッ素を含有する化合物を用いても良い。また、エステル結合、ジアルコキシ基、および／またはハロゲン原子を有する化合物は、液相フッ素化後に重合性基を導入する際の反応点を有することができるため、好適である。
液相フッ素化によってフッ素原子の導入を行うことにより、後から導入する重合性基以外の部分のフッ素含有率を極めて高くすることが可能である。
【０１０３】
−特定化合物に由来する重合体−
特定化合物は種々の重合方法により重合させ、特定化合物に由来する重合体として離画壁に含有させることができる。重合に際しては、特定化合物を単独重合させても共重合させてもよく、さらには、特定化合物を架橋剤として用いてもよい。
【０１０４】
特定化合物として一般式（Ａ）で表される化合物を用いる場合、離画壁に含まれる重合体は、一般式（Ａ）で表される化合物の単独重合体であってもよいし、一般式（Ａ）で表される化合物と他のモノマーとの共重合体であってもよい。
共重合させる他のモノマーとしては、公知慣用のモノマー類を使用することができるが、特に代表的なモノマーを例示すると、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，７Ｈ−ドデカフルオロヘプチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，９Ｈ−ヘキサデカフルオロノニル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、アリルアルコール、エチルアリルエーテル、α−フルオロアクリル酸メチルエステル、酢酸ビニル、エチルビニルケトン、ブチルビニルケトンなどのラジカル重合性のモノマー類、
【０１０５】
テトラエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、クロロトリメトキシシラン、アミノプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロイロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、または以下の化学式で表されるモノマーなど、縮合重合性のモノマー類、
【０１０６】
【化２６】
2013228705.tif 000027
【０１０７】
【化２７】
2013228705.tif 000028
【０１０８】
【化２８】
2013228705.tif 000029
【０１０９】
グリセロールジグリシジルエーテル、グリセロールトリグリシジルエーテル、１，１，１−トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ソルビトールポリグリシジルエーテル、ビスフェノール−Ａ−ジグリシジルエーテル、ハイドロキノンジグリシジルエーテル、レゾルシンジグリシジルエーテル、フルオログリシノールトリグリシジルエーテル、トリグリシジルイソシアヌレート、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテルなどのカチオン重合性のモノマー類などが挙げられる。これらの中でも、重合性の観点から、ラジカルまたはカチオン重合性のモノマー類が好ましく、より好ましくは、ラジカル重合性のモノマー類である。
【０１１０】
特定化合物の重合方法として、好ましくは、塊状重合または溶液重合である。
重合の開始方法は、重合開始剤（例えばラジカル開始剤）を用いる方法、光または放射線を照射する方法、酸を加える方法、光酸発生剤を添加した後に光を照射する方法、加熱により脱水縮合させる方法等がある。これらの重合方法、重合の開始方法は、例えば鶴田禎二著、「高分子合成方法」改訂版（日刊工業新聞社刊、１９７１年）や大津隆行・木下雅悦共著、「高分子合成の実験法」、化学同人、昭和４７年、１２４〜１５４頁に記載されている。
【０１１１】
（感光性樹脂組成物）
本発明における感光性樹脂組成物は、既述の特定化合物の少なくとも１種および重合開始剤を用いて構成されるものであり、必要に応じて更に、バインダー、エチレン性不飽和化合物、顔料等の色材などの他の成分を用いて好適に構成することができる。
【０１１２】
本発明の感光性樹脂組成物は、既述の特定化合物を含有するので、例えば膜形成後に加熱処理すると、良好な撥水・撥インク性と優れた耐熱強度特性が得られる。これより、ブラックマトリクス等の離隔壁でのインク乗り上げや基板面からの剥離や欠け等の欠陥の発生が抑制され、ひいては離隔壁で隔離された凹状領域にインクを例えば液滴付与（例えばインクジェット法による打滴など）した際の混色、白抜け、色ムラ等の画像故障の発生を防止され、高品位なカラーフィルタ及び表示装置を提供できる。
本発明における感光性樹脂組成物を構成する特定化合物については、既述した通りであり、好ましい態様も同様である。
【０１１３】
特定化合物の感光性樹脂組成物中における含有量としては、感光性樹脂組成物の全固形分に対して、０．０１質量％〜３０質量％が好ましく、０．０５質量％〜２０質量％であことがより好ましく、０．１質量％〜１０質量％であることが最も好ましい。
特定化合物の含有量が前記範囲内であると、感光性樹脂組成物が、より良好な撥水・撥インク性を示す。また、基板上に感光性樹脂層を形成したときの層と基板密着性も高め、感光性樹脂層が硬化した後の離画壁がより優れた耐熱性を示す。
例えば、黒色顔料等の着色剤を含んでブラックマトリクス等の離隔壁を形成する場合は、インクジェット法により液滴付与して着色領域を形成するときのインクの離画壁上への乗り上げを抑制でき、混色を防止できると共に、高い耐熱性、基板密着性及び色濃度の高い離画壁を作製することができる。
【０１１４】
既述のように、特定化合物は、硬化促進剤として機能し得る化合物である。
本発明における感光性樹脂組成物においては、硬化促進剤は、特定化合物のみを使用してもよいが、特定化合物以外の多官能性化合物（非フッ素系硬化促進剤ともいう）を更に併用する形態が好ましい。非フッ素系硬化促進剤を併用することで、感光性樹脂組成物の表面に浮かせて、離画壁上面を「撥水・撥油性」に、離画壁の基板に近い側を「親インク性」にすることができる。
【０１１５】
非フッ素系硬化促進剤としては、多官能アクリレートが挙げられ、具体的には、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジアクリレート、ジメチロールートリシクロデカンジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、シクロヘキサンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ジメチロールジシクロペンタンジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、テトラメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化イソシアヌール酸トリアクリレート、トリ（２−ヒドロキシエチルイソシアヌレート）トリアクリレート、プロポキシレートグリセリルトリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ネオペンチルグリコールオリゴアクリレート、１，４−ブタンジオールオリゴアクリレート、１，６−ヘキサンジオールオリゴアクリレート、トリメチロールプロパンオリゴアクリレート、ペンタエリスリトールオリゴアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート等が挙げられる。
【０１１６】
前記多官能性化合物としては、上記以外にも、例えば、特開２００８−１８１０６７号公報の段落００３１〜００３５、特開２００８−１３９３７８号公報の段落０１４９〜０１５５、特開２０１０−１３４１３７号公報の段落０１４２〜０１４６等に記載されている公知の重合性化合物や、後述する「共重合させる他のモノマー」の中から、多官能の重合性化合物を適宜選択して用いることができる。
【０１１７】
以上の中でも、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）が好ましく用いられる。
本発明における感光性樹脂組成物が、硬化促進剤として特定化合物と、非フッ素系硬化促進剤とを含有するとき、全硬化促進剤（特定化合物＋非フッ素系硬化促進剤）の総質量に対する特定化合物の割合は、１質量％〜８０質量％が好ましく、より好ましくは５質量％〜６０質量％であり、最も好ましくは１０質量％〜４０質量％である。上記範囲とすることで、カラーフィルタ基板の表示ムラを抑制することができる。
【０１１８】
以下、特定化合物以外の各成分について詳細に説明する。
１）重合開始剤（光重合開始剤）
本発明における感光性樹脂組成物は、重合開始剤の少なくとも１種を含有する。
特定化合物を含有する感光性樹脂組成物を硬化させる方法としては、熱開始剤を用いる熱開始系や光開始剤を用いる光開始系が一般的であるが、本発明では硬化後の離画壁を後述するような形状とすることが重要であることから、光開始系を用いる。
【０１１９】
光重合開始剤は、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、Ｘ線等の放射線の照射（露光ともいう）により、後述のエチレン性不飽和化合物の重合を開始する活性種を発生し得る化合物であり、公知の光重合開始剤もしくは光重合開始剤系の中から適宜選択することができる。
【０１２０】
光重合開始剤もしくは光重合開始剤系としては、例えば、トリハロメチル基含有化合物、アクリジン系化合物、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物、ベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、α−ジケトン系化合物、多核キノン系化合物、キサントン系化合物、ジアゾ系化合物、等を挙げることができる。
【０１２１】
具体的には、特開２００１−１１７２３０公報に記載の、トリハロメチル基が置換したトリハロメチルオキサゾール誘導体又はｓ−トリアジン誘導体、米国特許第４２３９８５０号明細書に記載のトリハロメチル−ｓ−トリアジン化合物、米国特許第４２１２９７６号明細書に記載のトリハロメチルオキサジアゾール化合物などのトリハロメチル基含有化合物；
【０１２２】
９−フェニルアクリジン、９−ピリジルアクリジン、９−ピラジニルアクリジン、１，２−ビス（９−アクリジニル）エタン、１，３−ビス（９−アクリジニル）プロパン、１，４−ビス（９−アクリジニル）ブタン、１，５−ビス（９−アクリジニル）ペンタン、１，６−ビス（９−アクリジニル）ヘキサン、１，７−ビス（９−アクリジニル）ヘプタン、１，８−ビス（９−アクリジニル）オクタン、１，９−ビス（９−アクリジニル）ノナン、１，１０−ビス（９−アクリジニル）デカン、１，１１−ビス（９−アクリジニル）ウンデカン、１，１２−ビス（９−アクリジニル）ドデカン等のビス（９−アクリジニル）アルカン、などのアクリジン系化合物；
【０１２３】
６−（ｐ−メトキシフェニル）−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、６−〔ｐ−（Ｎ，Ｎ−ビス（エトキシカルボニルメチル）アミノ）フェニル〕−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジンなどのトリアジン系化合物；その他、９，１０−ジメチルベンズフェナジン、ミヒラーズケトン、ベンゾフェノン／ミヒラーズケトン、ヘキサアリールビイミダゾール／メルカプトベンズイミダゾール、ベンジルジメチルケタール、チオキサントン／アミン、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、などが挙げられる。
【０１２４】
上記のうち、トリハロメチル基含有化合物、アクリジン系化合物、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物から選択される少なくとも一種が好ましく、特にトリハロメチル基含有化合物及びアクリジン系化合物から選択される少なくとも一種を含有することが好ましい。トリハロメチル基含有化合物、アクリジン系化合物は、汎用性でかつ安価である点でも有用である。
【０１２５】
特に好ましくは、前記トリハロメチル基含有化合物としては、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−（ｐ−ブトキシスチリル）−５−トリクロロメチル−１，３，４−オキサジアゾールであり、前記トリアジン系化合物としては、６−〔ｐ−（Ｎ，Ｎ−ビス（エトキシカルボニルメチル）アミノ）フェニル〕−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジンであり、前記アクリジン系化合物としては、９−フェニルアクリジンであり、前記アセトフェノン系化合物としては、ミヒラーズケトンであり、前記ビイミダゾール系化合物としては、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾールである。
【０１２６】
光重合開始剤は、単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
開始剤（特に光重合開始剤）の感光性樹脂組成物における総量としては、感光性樹脂組成物の全固形分（質量）の０．１質量％〜２０質量％が好ましく、０．５質量％〜１０質量％が特に好ましい。前記総量が前記範囲内であると、感光性樹脂組成物の光硬化を効率良く行なえ、現像の際に欠落や表面荒れの発生のない画像パターンを得ることができる。
【０１２７】
なお、本発明において、感光性樹脂組成物の全固形分（質量）とは、感光性樹脂組成物中の溶剤を除いた全成分を意味する。
【０１２８】
光重合開始剤は、水素供与体を併用して構成されてもよい。該水素供与体としては、感度をより良化することができる点で、下記メルカプタン系化合物、アミン系化合物等が好ましい。ここでの「水素供与体」とは、露光により光重合開始剤から発生したラジカルに対して、水素原子を供与することができる化合物をいう。
【０１２９】
メルカプタン系化合物は、ベンゼン環あるいは複素環を母核とし、該母核に直接結合したメルカプト基を１個以上、好ましくは１〜３個、更に好ましくは１〜２個有する化合物（以下、「メルカプタン系水素供与体」という）である。また、アミン系化合物は、ベンゼン環あるいは複素環を母核とし、該母核に直接結合したアミノ基を１個以上、好ましくは１〜３個、更に好ましくは１〜２個有する化合物（以下、「アミン系水素供与体」という）である。尚、これらの水素供与体は、メルカプト基とアミノ基とを同時に有していてもよい。
【０１３０】
上記のメルカプタン系水素供与体の具体例としては、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２，５−ジメルカプト−１，３，４−チアジアゾール、２−メルカプト−２，５−ジメチルアミノピリジン、等が挙げられる。これらのうち、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾールが好ましく、特に２−メルカプトベンゾチアゾールが好ましい。
【０１３１】
上記のアミン系水素供与体の具体例としては、４、４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４、４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４−ジエチルアミノアセトフェノン、４−ジメチルアミノプロピオフェノン、エチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノベンゾニトリル等が挙げられる。これらのうち、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが好ましく、特に４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが好ましい。
【０１３２】
前記水素供与体は、単独で又は２種以上を混合して使用することができ、形成された画像が現像時に永久支持体上から脱落し難く、かつ強度及び感度も向上させ得る点で、１種以上のメルカプタン系水素供与体と１種以上のアミン系水素供与体とを組合せて使用することが好ましい。
【０１３３】
メルカプタン系水素供与体とアミン系水素供与体との組合せの具体例としては、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等が挙げられる。より好ましい組合せは、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンであり、特に好ましい組合せは、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンである。
【０１３４】
メルカプタン系水素供与体とアミン系水素供与体とを組合せた場合の、メルカプタン系水素供与体（Ｍ）とアミン系水素供与体（Ａ）との質量比（Ｍ：Ａ）は、通常１：１〜１：４が好ましく、１：１〜１：３がより好ましい。水素供与体の感光性樹脂組成物における総量としては、感光性樹脂組成物の全固形分（質量）の０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１０質量％が特に好ましい。
【０１３５】
２）バインダー
本発明における感光性樹脂組成物は、バインダーの少なくとも１種を用いて好適に構成することができる。
バインダーとしては、側鎖にカルボン酸基やカルボン酸塩基などの極性基を有するポリマーが好ましい。その例としては、特開昭５９−４４６１５号公報、特公昭５４−３４３２７号公報、特公昭５８−１２５７７号公報、特公昭５４−２５９５７号公報、特開昭５９−５３８３６号公報、及び特開昭５９−７１０４８号公報に記載の、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等を挙げることができる。また、側鎖にカルボン酸基を有するセルロース誘導体も挙げることができる。また、このほかに水酸基を有するポリマーに環状酸無水物を付加したものも好ましく使用することができる。
【０１３６】
また、特に好ましい例として、米国特許第４１３９３９１号明細書に記載のベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸との共重合体や、ベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸と他のモノマーとの多元共重合体を挙げることができる。これらの極性基を有するバインダーポリマーは、単独で用いてもよく、あるいは通常の膜形成性のポリマーと併用する組成物の状態で使用してもよい。
【０１３７】
バインダーの感光性樹脂組成物中における含有量は、感光性樹脂組成物の全固形分に対して、２０〜５０質量％が一般的であり、２５〜４５質量％が好ましい。
【０１３８】
３）エチレン性不飽和化合物
本発明における感光性樹脂組成物は、エチレン性不飽和化合物の少なくとも１種を用いることにより感光性を有する構成とすることができる。エチレン性不飽和化合物としては、下記化合物を単独で又は他のモノマーとの組合わせて使用することができる。
【０１３９】
具体的には、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、２−エチル−２−ブチル−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ポリオキシエチル化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、１，４−ジイソプロペニルベンゼン、１，４−ジヒドロキシベンゼンジ（メタ）アクリレート、デカメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、スチレン、ジアリルフマレート、トリメリット酸トリアリル、ラウリル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリルアミド、キシリレンビス（メタ）アクリルアミド、等が挙げられる。
【０１４０】
また、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート等のヒドロキシル基を有する化合物とヘキサメチレンジイソシアネート、トルエンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート等のジイソシアネートとの反応物も使用できる。
これらのうち、特に好ましいのは、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレートである。
【０１４１】
エチレン性不飽和化合物の感光性樹脂組成物中における含有量としては、感光性樹脂組成物の全固形分（質量）に対して、５〜８０質量％が好ましく、１０〜７０質量％が特に好ましい。エチレン性不飽和化合物の含有量が前記範囲内であると、組成物の露光部でのアルカリ現像液への耐性を確保でき、感光性樹脂組成物としたときのタッキネスが増加するのを抑えて取り扱い性を保つことができる。
【０１４２】
４）色材
本発明における感光性樹脂組成物は、色材の少なくとも１種を用いて構成することができる。
色材としては、公知の着色剤（染料、顔料など）を使用することができ、具体的には、特開２００５−１７７１６号公報［００３８］〜［００５４］に記載の顔料及び染料や、特開２００４−３６１４４７号公報［００６８］〜［００７２］に記載の顔料、特開２００５−１７５２１号公報［００８０］〜［００８８］に記載の着色剤などを好適に用いることができる。
【０１４３】
本発明における感光性樹脂組成物には、有機顔料、無機顔料、染料等を好適に用いることができる。特に本発明における感光性樹脂組成物を遮光性の離隔壁形成用に構成するときには、炭素材料（カーボンブラックなど）、酸化チタン、４酸化鉄等の金属酸化物粉、金属硫化物粉、金属粉といった遮光材料、及び赤色、青色、緑色等の顔料の混合物等を用いることができる。中でも、カーボンブラックが好ましい。
顔料を用いる場合は、感光性樹脂組成物中に均一に分散されていることが好ましい。
【０１４４】
色材の感光性樹脂組成物中における含有量としては、現像時間を短縮する観点から、感光性樹脂組成物の全固形分に対して、３０質量％〜７０質量％であることが好ましく、４０質量％〜６０質量％であることがより好ましく、５０質量％〜５５質量％であることが更に好ましい。
【０１４５】
顔料は分散液として使用されることが望ましい。この分散液は、顔料と顔料分散剤とを予め混合して得られる組成物を、有機溶媒（又はビヒクル）に添加して分散させることによって調製することができる。ビヒクルとは、塗料が液体状態にあるときに顔料を分散させている媒質の部分をいい、液状であって顔料と結合して塗膜を固める部分（バインダー）と、これを溶解希釈する成分（有機溶媒）とを含む。顔料を分散させる際に使用する分散機としては、特に制限はなく、例えば「顔料の事典」（朝倉邦造著、第一版、朝倉書店、２０００年、４３８頁）に記載のニーダー、ロールミル、アトライダー、スーパーミル、ディゾルバ、ホモミキサー、サンドミル等の公知の分散機が挙げられる。更に、同文献の３１０頁に記載の機械的摩砕により、摩擦力を利用し微粉砕してもよい。
【０１４６】
色材（顔料）の粒子径は、分散安定性の観点から、数平均粒子径で０．００１〜０．１μｍが好ましく、０．０１〜０．０８μｍがより好ましい。なお、「粒子径」とは、粒子の電子顕微鏡写真画像から求めた粒子面積をこれと同面積の円で表したときの直径をいい、「数平均粒子径」とは、１００個の粒子の粒子径を求めて平均した平均値をいう。
【０１４７】
５）その他
感光性樹脂組成物には、前記１）〜４）の成分の他に、下記の溶剤、界面活性剤、熱重合防止剤、紫外線吸収剤等、及び特開平１１−１３３６００号公報に記載の「接着助剤」その他の添加剤等の他の成分を添加してもよい。
【０１４８】
−溶剤−
本発明における感光性樹脂組成物においては、上記成分の他に、更に溶剤を用いてもよい。溶剤の例としては、メチルエチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロヘキサノール、メチルイソブチルケトン、乳酸エチル、乳酸メチル、カプロラクタム等を挙げることができる。
【０１４９】
−界面活性剤−
本発明における感光性樹脂組成物においては、均一な膜厚に制御でき、塗布ムラを効果的に防止する観点から、該感光性樹脂組成物中に適切な界面活性剤を含有させることが好ましい。
界面活性剤としては、特開２００３−３３７４２４号公報、特開平１１−１３３６００号公報に開示されている界面活性剤が好適なものとして挙げられる。
【０１５０】
−熱重合防止剤−
本発明における感光性樹脂組成物は、熱重合防止剤を含むことが好ましい。
熱重合防止剤の例としては、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２−メルカプトベンズイミダゾール、フェノチアジン等が挙げられる。
【０１５１】
−紫外線吸収剤−
本発明における感光性樹脂組成物には、必要に応じて紫外線吸収剤を含有することができる。紫外線吸収剤としては、特開平５−７２７２４号公報に記載の化合物、並びにサリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、シアノアクリレート系、ニッケルキレート系、ヒンダードアミン系などが挙げられる。
【０１５２】
具体的には、フェニルサリシレート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３’，５’−ジ−ｔ−４’−ヒドロキシベンゾエート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、エチル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、２，２’−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、ニッケルジブチルジチオカーバメート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピリジン）−セバケート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、サルチル酸フェニル、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン縮合物、コハク酸−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリデニル）−エステル、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、７−｛［４−クロロ−６−（ジエチルアミノ）−５−トリアジン−２−イル］アミノ｝−３−フェニルクマリン等が挙げられる。
【０１５３】
−基板−
本発明において、基板（永久支持体）としては、ガラス、セラミック、合成樹脂フィルム等を使用することができる。特に好ましくは、透明性で寸度安定性の良好なガラスや合成樹脂フィルムが挙げられる。
【０１５４】
（感光性樹脂組成物の基板上への付与方法）
感光性樹脂層形成工程では、上記構成の特定化合物と重合開始剤（光重合開始剤）とを含有する本発明における感光性樹脂組成物を基板上に付与して、感光性樹脂層を形成する。
ここで、本発明における感光性樹脂組成物は、基板の少なくとも一方の面に付与すればよい。
【０１５５】
感光性樹脂組成物を基板上に付与する方法としては、特に限定はないが、例えば、スリット塗布等の公知の塗布方法により、基板上に感光性樹脂組成物を塗布することにより形成する塗布形式や、後述する本発明の感光性転写材料を用いる転写形式が挙げられる。
また、塗布形式により感光性樹脂層を形成する場合には、必要に応じて、塗布後にプリベークを行なってもよい。
【０１５６】
−感光性転写材料−
前記感光性樹脂層形成工程は、仮支持体上に、本発明における感光性樹脂組成物を用いて形成された転写用感光性樹脂層を有する本発明の感光性転写材料を用いて、感光性樹脂層を形成することができる。
ここで、本発明の感光性転写材料は、仮支持体上に、本発明における感光性樹脂組成物を用いて形成された転写用感光性樹脂層を有して構成される。
転写用感光性樹脂層は、基板に転写されることによって、既述の感光性樹脂層を形成し得る層である。
【０１５７】
感光性転写材料を用いて、感光性樹脂層を形成することで、離画壁を容易かつ低コストに形成することができる。また、本発明の感光性転写材料は、必要に応じて更に、仮支持体と転写用感光性樹脂層との間に酸素を遮断しうる保護層（以下、「酸素遮断層」ともいう）や熱可塑性樹脂層などの他の層を設けてもよい。
【０１５８】
酸素遮断層を用いた場合、転写用感光性樹脂層は酸素遮断層に大気から保護されるため、自動的に貧酸素雰囲気下となる。そのため、露光を不活性ガス下や減圧下で行う必要がなく、現状の工程をそのまま利用し、高感度化、高硬度化できる利点がある。後述するように、仮支持体を「酸素を遮断しうる保護層」として用いてもよく、この場合は酸素遮断層を設ける必要がなく、工程数削減に寄与する。
【０１５９】
感光性転写材料には、仮支持体と転写用感光性樹脂層との間、あるいは酸素遮断層を有する場合は仮支持体と酸素遮断層との間に、熱可塑性樹脂層を設けてもよい。熱可塑性樹脂層は、アルカリ可溶性を有し、少なくとも実質的な軟化点が８０℃以下の樹脂成分を含み、クッション性を備えた層である。このような熱可塑性樹脂層が設けられることにより、永久支持体との良好な密着性を得ることができる。
【０１６０】
軟化点が８０℃以下のアルカリ可溶性の熱可塑性樹脂としては、エチレンとアクリル酸エステル共重合体のケン化物、スチレンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体のケン化物、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体のケン化物、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等の（メタ）アクリル酸エステル共重合体などのケン化物、等が挙げられる。
【０１６１】
熱可塑性樹脂層には、上記の熱可塑性樹脂の少なくとも一種を適宜選択して用いることができ、更に「プラスチック性能便覧」（日本プラスチック工業連盟、全日本プラスチック成形工業連合会編著、工業調査会発行、１９６８年１０月２５日発行）による、軟化点が約８０℃以下の有機高分子のうちアルカリ水溶液に可溶なものを使用することができる。
【０１６２】
また、軟化点が８０℃以上の有機高分子物質についても、その有機高分子物質中に該高分子物質と相溶性のある各種可塑剤を添加することで、実質的な軟化点を８０℃以下に下げて用いることもできる。また、これらの有機高分子物質には、仮支持体との接着力を調節する目的で、実質的な軟化点が８０℃を越えない範囲で、各種ポリマーや過冷却物質、密着改良剤あるいは界面活性剤、離型剤、等を加えることもできる。
【０１６３】
好ましい可塑剤の具体例としては、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ジオクチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェート、クレジルジフェニルフォスフェート、ビフェニルジフェニルフォスフェートを挙げることができる。
【０１６４】
感光性転写材料を構成する仮支持体としては、化学的及び熱的に安定であって、可撓性の物質で構成されるものから適宜選択することができる。具体的には、テフロン（登録商標）、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル等、薄いシート若しくはこれらの積層体が好ましい。仮支持体の厚みとしては、５〜３００μｍが適当であり、好ましくは２０〜１５０μｍである。この厚みが前記範囲内であると、仮支持体を破れないように容易に剥離でき、仮支持体を介しても解像度の良い露光が行なえる。
上記具体例の中でも２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。
【０１６５】
感光性樹脂層の上には、貯蔵の際の汚染や損傷から保護するために薄いカバーシートを設けることが好ましい。カバーシートは仮支持体と同じか又は類似の材料からなってもよいが、感光性樹脂層から容易に分離されねばならない。カバーシート材料としては例えばシリコーン紙、ポリオレフィン若しくはポリテトラフルオロエチレンシートが適当である。尚、カバーシートの厚さは、４〜４０μｍが一般的であり、５〜３０μｍが好ましく、１０〜２５μｍが特に好ましい。
【０１６６】
感光性転写材料を用いて感光性樹脂層を形成する方法としては、特に限定はないが、例えば、以下のようにして形成することができる。すなわち、
仮支持体上に該仮支持体側から順に、酸素遮断層と、転写用感光性樹脂層と、該感光性樹脂層上を保護するカバーシートとが設けられた感光性転写材料を用意する。まず、カバーシートを剥離除去した後、露出した転写用感光性樹脂層の表面を永久支持体である基板上に貼り合わせ、ラミネータ等を通して加熱、加圧して積層する（積層体）。ラミネータには、従来公知のラミネータ、真空ラミネータ等の中から適宜選択したものを使用でき、より生産性を高めるには、オートカットラミネーターも使用可能である。
次いで、仮支持体と酸素遮断層との間で剥離し、積層体から仮支持体を除去することにより、基板上に感光性樹脂層を酸素遮断層と共に転写形成することができる。
【０１６７】
（露光工程及び現像工程）
露光工程では、感光性樹脂層を露光する。また、現像工程では、露光された感光性樹脂層を現像する。より詳細には、次のとおりである。
塗布形式により感光性樹脂層を形成した場合には、得られた感光性樹脂層表面と、所望のフォトマスク（例えば、石英露光マスク）とが向き合うように配置する。転写形式により感光性樹脂層を形成した場合には、感光性樹脂層を含む積層体の仮支持体除去後の除去面（感光性樹脂層表面；酸素遮断層面を有する場合は、酸素遮断層面）と、所望のフォトマスク（例えば、石英露光マスク）とが向き合うように配置する。
【０１６８】
ついで、感光性樹脂層とフォトマスクとを垂直に立てた状態で、フォトマスク面と感光性樹脂層との間の距離を適宜（例えば２００μｍ）設定し、露光する。
【０１６９】
露光は、例えば、超高圧水銀灯を有すプロキシミティー型露光機（例えば、日立ハイテク電子エンジニアリング（株）製）等を用いて行なえ、露光量は適宜（例えば３００ｍＪ／ｃｍ２）選択すればよい。
露光に用いる光源としては、中圧〜超高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ等が挙げられる。
【０１７０】
離画壁は、光感度、すなわち硬化度を高める点で、感光性樹脂層を貧酸素雰囲気下にて露光し、その後現像して形成されることが好ましい。ここで、貧酸素雰囲気下とは、不活性ガス下、減圧下、酸素を遮断しうる保護層（以下、「酸素遮断層」ともいう。）下にあることを指し、詳しくは以下の通りである。
【０１７１】
不活性ガス下とは、Ｎ２、Ｈ２、ＣＯ２などの不活性気体やＨｅ、Ｎｅ、Ａｒなどの希ガス類などのガス雰囲気に曝されていることをいう。中でも、安全性や入手の容易さ、コストの問題から、不活性ガスはＮ２が好適である。
【０１７２】
減圧下とは、５００ｈＰａ以下、好ましくは１００ｈＰａ以下の状態をいう。
【０１７３】
酸素を遮断しうる保護層（酸素遮断層）とは、例えば、特開昭４６−２１２１号や特公昭５６−４０８２４号の各公報に記載の、ポリビニルエーテル／無水マレイン酸重合体、カルボキシアルキルセルロースの水溶性塩、水溶性セルロースエーテル類、カルボキシアルキル澱粉の水溶性塩、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、各種のポリアクリルアミド類、各種の水溶性ポリアミド、ポリアクリル酸の水溶性塩、ゼラチン、エチレンオキサイド重合体、各種の澱粉およびその類似物からなる群の水溶性塩、スチレン／マレイン酸の共重合体、マレイネート樹脂、及びこれらの二種以上の組合せ等が挙げられる。これらの中でも、特に好ましくはポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンの組合せである。
また、ポリビニルアルコールは、鹸化率が８０％以上であるものが好ましく、ポリビニルピロリドンの含有量は、アルカリ可溶な感光性樹脂層の固形分に対し、１〜７５質量％が好ましく、より好ましくは１〜５０質量％、更に好ましくは１０〜４０質量％である。
【０１７４】
また、酸素遮断層には、各種フィルムを用いることもできる。例えば、ＰＥＴをはじめとするポリエステル類、ナイロンをはじめとするポリアミド類、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ類）も好適に用いることができる。これらフィルムは、必要に応じて延伸されたものでもよく、厚みは５〜３００μｍが適当であり、好ましくは２０〜１５０μｍである。
特に感光性転写材料を用いて離隔壁を形成する場合には、仮支持体を、酸素を遮断しうる保護層として好適に用いることが可能である。
【０１７５】
仮支持体を酸素遮断層として用いる場合は、仮支持体を残したまま（剥離せずに）、該仮支持体と所望のフォトマスク（例えば、石英露光マスク）とが向き合うように配置し、積層体とフォトマスクとを垂直に立てた状態で、露光マスク面と該仮支持体との間の距離を適宜（例えば２００μｍ）設定し、露光する。
【０１７６】
酸素を遮断しうる保護層（酸素遮断層）の酸素透過係数は、２０００ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下が好ましいが、１００ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であることがより好ましく、最も好ましくは５０ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下である。
酸素透過率が前記範囲内であると、酸素遮断により光硬化が良好に進行し、離画壁を所望の形状に形成するのに有効である。
【０１７７】
次いで、現像工程が施され、露光後の感光性樹脂層を所定の現像液を用いて現像処理する。引き続き、必要に応じて、水洗処理して、パターン画像（離画壁パターン）を得る。なお、現像の前には、純水をシャワーノズル等にて噴霧し、感光性樹脂層又は酸素遮断層の表面を均一に湿らせることが好ましい。
【０１７８】
現像処理に用いる現像液としては、アルカリ性物質の希薄水溶液が用いられるが、水と混和性の有機溶剤を少量添加したものでもよい。
【０１７９】
アルカリ性物質としては、アルカリ金属水酸化物類（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム）、アルカリ金属炭酸塩類（例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム）、アルカリ金属重炭酸塩類（例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム）、アルカリ金属ケイ酸塩類（例えば、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム）、アルカリ金属メタケイ酸塩類（例えば、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム）、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、モルホリン、テトラアルキルアンモンニウムヒドロキシド類（例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド）、燐酸三ナトリウム、等が挙げられる。アルカリ性物質の希薄水溶液は、アルカリ性物質の濃度としては０．０１〜３０質量％が好ましく、ｐＨは８〜１４が好ましい。
【０１８０】
「水と混和性の有機溶剤」としては、例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドン等が好適に挙げられる。水と混和性の有機溶剤の濃度は０．１〜３０質量％が好ましい。
更に、公知の界面活性剤を添加することもでき、該界面活性剤の濃度としては０．０１〜１０質量％が好ましい。
【０１８１】
現像液は、浴液としても、あるいは噴霧液としても用いることができる。
感光性樹脂層の未硬化部分を除去する場合、現像液中で回転ブラシや湿潤スポンジで擦るなどの方法を組合わせることができる。現像液の液温度は、通常室温（２０℃）付近から４０℃が好ましい。現像時間は、感光性樹脂層の組成、現像液のアルカリ性や温度、有機溶剤を添加する場合にはその種類と濃度、等に依るが、通常１０秒〜２分程度である。現像時間が前記範囲内であると、非硬化部（ネガ型の場合は非露光部）の現像進行が良好であり、硬化部（ネガ型の場合は露光部）がエッチングされることもなく、良好な形状の離画壁を得る点で有効である。
また、現像処理の後に水洗工程を入れることも可能である。
【０１８２】
（加熱処理工程）
加熱処理工程では、現像により得られたパターン画像を加熱処理する。
現像工程によって得られた感光性樹脂層からなるパターン画像（離画壁パターン）を加熱処理（ベーク処理ともいう）することにより、撥水・撥インク性および耐熱強度に優れた離画壁を得ることができる。
加熱処理は、露光及び現像により形成されたパターン画像（離画壁パターン）を加熱することで、硬化させると共に、熱で表面にフッ素官能基が並ぶので、特定化合物による撥水・撥インク性をより発揮させることができる。
【０１８３】
加熱処理の方法としては、従来公知の種々の方法を用いることができる。すなわち、例えば、複数枚の基板をカセットに収納してコンベクションオーブンで処理する方法、ホットプレートで１枚ずつ処理する方法、赤外線ヒーターで処理する方法、等である。
【０１８４】
また、ベーク温度（加熱温度）としては、通常１５０℃〜２８０℃であり、好ましくは１８０℃〜２５０℃である。加熱時間は、ベーク温度により適宜選択できるが、例えばベーク温度を２４０℃とした場合は１０分〜１２０分が好ましく、３０分〜９０分がより好ましい。
【０１８５】
また、離画壁の形成方法における加熱処理工程においては、露光、現像工程によって形成された離画壁パターンを、不均一な膜減りを防止し、感光性樹脂層に含まれるＵＶ吸収剤等の成分の析出を防止する観点から、加熱処理前にポスト露光を行なうようにしてもよい。加熱処理を施す前にポスト露光を行なうと、ラミネート時にかみこんだ微小な異物が膨れて欠陥となるのを効果的に防止することができる。
【０１８６】
ここで、ポスト露光について略説する。
ポスト露光に用いる光源としては、感光性樹脂層を硬化し得る波長領域の光（例えば、３６５ｎｍ、４０５ｎｍ）を照射できるものであれば適宜選定して用いることができる。
具体的には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。
露光量としては、露光を補う露光量であればよく、通常は５０ｍＪ／ｃｍ２〜５０００ｍＪ／ｃｍ２であり、好ましくは２００ｍＪ／ｃｍ２〜２０００ｍＪ／ｃｍ２、更に好ましくは５００ｍＪ／ｃｍ２〜１０００ｍＪ／ｃｍ２である。
【０１８７】
離画壁形成工程によって作製できる離画壁は、５５５ｎｍにおいて高い光学濃度を有することが好ましい。特に離隔壁としてカラーフィルタを構成するブラックマトリクスを形成するときには、遮光性を付与しより鮮明でくっきりとした多色画像を表示する観点から、光学濃度２．５以上が好ましく、２．５〜１０．０がより好ましく、２．５〜６．０が更に好ましく、３．０〜５．０が特に好ましい。
また、感光性樹脂層は好ましくは光開始系にて硬化されるため、露光波長（一般には紫外域）に対する光学濃度も重要である。すなわち、その値は２．０〜１０．０が好ましく、更には２．５〜６．０がより好ましく、３．０〜５．０が特に好ましい。前記好ましい範囲であると、所望形状の離画壁を形成することができる。
【０１８８】
また、離画壁の幅及び高さについては、幅（すなわちカラーフィルタを形成した場合における画素と画素との間隔）としては１５μｍ〜１００μｍが好ましく、高さ（すなわち基板法線方向における基板面から離画壁の頂点までの距離）としては１．０μｍ〜５．０μｍが好ましい。
離画壁の形状は、特開２００６−１５４８０４号公報の段落番号［００５４］〜［００５５］に記載の形状が、本発明においても好適である。
【０１８９】
〜離画壁の接触角測定〜
加熱処理（ベーク処理）前後での離画壁（例えばブラックマトリクス）のインク接触角及び水接触角の変化が重要である。ここでの接触角の測定方法は、財団法人・日本規格協会によるＪＩＳ規格に準拠した方法、具体的にはＪＩＳ  Ｒ３２５７「基板ガラス表面のぬれ性試験方法」内の「６．静滴法」に記載された方法が適用される。
より具体的には、接触角測定器（協和界面科学（株）製の接触角計ＣＡ−Ａ）を用い、２０メモリの大きさのインク滴、水滴をつくり、針先からインク滴、水滴を出して、パターン状に形成された離隔壁上面に接触させてインク滴、水滴を形成し、１０秒静置後、接触角計の覗き穴からインク滴、水滴の形状を観察し、２５℃における接触角θを求める。また、ここでの「加熱処理後」とは、２４０℃で５０分間加熱した後、１時間室温にて放冷した後のことをさす。
【０１９０】
ここで、離隔壁の上面について図１を参照して説明する。
離画壁の上面とは、離画壁の表面のうち基板と接する面と反対側の露出面をいう（図１の上面４）。なお、離画壁の側面とは、離画壁の露出する表面のうち、離画壁の上面以外の表面をいう（図１の側面５）。また、基板上の凹部とは、離隔壁で取り囲まれ、離画壁側面と基板の離画壁が形成されていない基板面とからなる凹状領域をいう（図１の凹部３）。
【０１９１】
〔着色領域形成工程〕
着色領域形成工程では、離画壁形成工程により形成された離画壁により区画された基板上の凹部に、着色液体組成物を付与して着色領域を形成する。
より具体的には、着色領域形成工程は、離隔壁を有する基板を用い、離画壁によって区画された基板上の凹部（着色領域形成用の領域）に（好ましくは２色以上の）着色液体組成物を付与し、（好ましくは２色以上の）複数の着色領域（例えば、赤、緑、青、白、紫等の着色画素など）を形成するものである。
【０１９２】
着色領域形成工程においては、既述の特定化合物を用いた離隔壁（例えばブラックマトリクス）を有する基板上に着色液体組成物を付与し、着色領域を形成するので、インクの離隔壁上への乗り上げ等に伴なう混色が回避でき、離隔壁の剥がれや欠け欠陥等の発生も抑えられるので、混色、色ムラ、白抜け等の画像故障が抑制された高品位なカラーフィルタを作製することができる。
このようにして得られた本発明のカラーフィルタは、既述の特定化合物を用いた離隔壁を備えるので、色ムラがなく色純度が高く、白抜け等の画像故障が抑制されており、鮮やかでくっきりとした表示特性を有する。
【０１９３】
着色液体組成物を離画壁により区画された基板上の凹部に付与する方法としては、特に限定されるものではなく、インクジェット法、スリットコート法やトライプギーサー法等の塗布法など、公知の方法を適宜用いることができる。ストライプギーサー塗布法は、細かな液滴吐出用の穴が開いたギーサーを用いて液滴を基板上に付与し、ストライプ状の画素を形成する方法である。
本発明においては、特にインクジェット法を好適に用いることができる。
【０１９４】
〜インクジェット法〜
インクジェット法としては、帯電したインクを連続的に噴射し電場によって制御する方法、圧電素子を用いて間欠的にインクを噴射する方法、インクを加熱しその発泡を利用して間欠的に噴射する方法等、各種の方法を採用できる。
インクは、油性、水性のいずれも使用できる。また、そのインクに含まれる着色剤は染料、顔料ともに使用でき、耐久性の面からは顔料の使用がより好ましい。また、公知のカラーフィルタの作製の際の塗布に用いられる着色インク（例えば特開２００５−３８６１号公報の段落番号［００３４］〜［００６３］に記載の着色樹脂組成物）や、特開２００４−３２５７３６号公報に記載の着色インク、特開２００２−３７２６１３号公報に記載のインクなど、公知のインクを使用することもできる。
【０１９５】
インクジェット法に用いるインクには、付与後の工程を考慮し、加熱によって硬化する、又は紫外線などのエネルギー線によって硬化する成分を添加することができる。加熱によって硬化する成分としては、各種の熱硬化性樹脂が広く用いられ、エネルギー線によって硬化する成分としては、例えばアクリレート誘導体又はメタクリレート誘導体に光反応開始剤を添加したものが例示できる。特に耐熱性を考慮してアクリロイル基、メタクリロイル基を分子内に複数有するものがより好ましい。これらのアクリレート誘導体、メタクリレート誘導体は水溶性のものが好ましく使用でき、水に難溶性のものでもエマルション化するなどして使用できる。
この場合、感光性樹脂組成物が含有し得る成分として挙げた顔料などの着色剤を含有させた感光性樹脂組成物を、好適なものとして用いることができる。
【０１９６】
本発明のカラーフィルタは、着色液体組成物の液滴をインクジェット法により基板上に吐出して着色領域（例えば画素）が形成されたカラーフィルタである場合が好ましく、少なくともＲＧＢ３色のインクをインクジェット法により吐出して少なくとも３色の着色画素を有するカラーフィルタが好ましい。
カラーフィルタのパターン形状は、特に限定されるものではなく、一般的なブラックマトリックス形状であるストライプ状であってもよいし、格子状、デルタ配列状であってもよい。
【０１９７】
作製されたカラーフィルタには、耐性向上のため、全面にオーバーコート層を設ける場合がある。オーバーコート層は、着色領域（例えばＲＧＢ画素）を保護すると共に、表面を平坦にすることができる。但し、工程数が増える観点からは設けないことが好ましい。
【０１９８】
オーバーコート層を形成する樹脂（ＯＣ剤）としては、アクリル系樹脂組成物、エポキシ樹脂組成物、ポリイミド樹脂組成物などが挙げられる。中でも、可視光領域での透明性に優れ、カラーフィルタを構成する硬化性組成物の樹脂成分が一般にアクリル系樹脂を主成分として含み、密着性に優れることから、アクリル系樹脂組成物が望ましい。オーバーコート層の例として、特開２００３−２８７６１８号公報の段落番号［００１８］〜［００２８］に記載のものや、オーバーコート剤の市販品としてＪＳＲ社製の「オプトマーＳＳ６６９９Ｇ」が挙げられる。
【０１９９】
〔導電膜形成工程〕
導電膜形成工程では、離画壁形成工程および着色領域形成工程を経て形成された離画壁および着色領域（例えばＲＧＢ画素）上に、スパッタリングにより導電膜を形成する。
導電膜としては、透明電極、配向膜等が挙げられる。透明電極の具体例としては、ＩＴＯ（インジウム錫酸化物）膜が挙げられる。また、配向膜の具体例としては、ポリイミドが挙げられる。
スパッタリングは、少なくとも、（１）蒸着工程を有し、更に、蒸着物を加熱するアニール工程（２）を有することが好ましい。
以下、本発明において、スパッタリングとは、（１）蒸着工程、または、（１）蒸着工程および（２）アニール工程を行うことをいう。
ただし、（１）蒸着工程が、加熱環境下で蒸着を行う蒸着工程であるときは、（２）アニール工程は無くてもよい。加熱環境とは、室温（例えば、２５℃）を超える温度環境であることを意味するが、本発明においては、特に加熱温度が高温（例えば、２５０℃を超える温度、好ましくは２５０℃を超える温度）であることが好ましい。
【０２００】
つまり、高温でのスパッタリングの態様としては、具体的には、ａ）高温での蒸着工程（アニール工程無し）を行うこと、ｂ）高温での蒸着工程および（２）高温でのアニール工程を行うこと、ｃ）２５０℃よりも低い温度（例えば、１００℃）での蒸着工程および（２）高温でのアニール工程を行うこと、等が挙げられる。
【０２０１】
既述のように、カラーフィルタ基板が、タッチパネル等の用途に用いられる場合、導電膜は、導電性を高めるため、２５０℃を超える高温でスパッタリングして形成される傾向にある。
本発明において、離画壁は、特定化合物を含有する本発明における感光性樹脂組成物を硬化して得られるため、優れた耐熱強度を有し、離画壁上に形成する導電膜が、２５０℃を越え３００℃以下でスパッタリングすることにより形成された場合でも、欠損しにくい。
ここで、「２５０℃を越え３００℃以下でスパッタリングする」とは、スパッタリングが蒸着工程のみである場合は、蒸着温度が２５０℃を越え３００℃以下であることを意味し、スパッタリングが蒸着工程及びアニール工程を有する場合は、蒸着工程及びアニール工程の少なくとも一方の温度が２５０℃を越え３００℃以下である。
【０２０２】
（１）蒸着工程
蒸着工程では、離画壁および着色領域に、導電膜を構成する成分（例えば、インジウム錫酸化物、ポリイミド等）を、加熱環境下で蒸着する。
蒸着温度は、好ましくは２５０℃を越えて３００℃以下、より好ましくは２６０〜２９０℃、更に好ましくは２７０〜２８０℃である。
【０２０３】
（２）アニール工程
アニール工程では、蒸着工程により形成された蒸着膜を加熱する工程である。
アニールの条件は、アニール温度とアニール時間との掛け合わせで決定することが好ましい。
具体的には、温度が２００〜２５０℃で時間が１２０分を越えて２４０分以内、もしくは、温度が２５０℃を越えて３００℃以下で時間が３０〜１２０分であることが好ましい。より好ましくは、温度が２００〜２５０℃で時間が１２０分を越えて１８０分以内、もしくは温度が２６０〜２９０℃で時間が３０〜９０分である。更に好ましくは、温度が２００〜２５０℃で時間が１２０分を越えて１５０分以内、もしくは温度が２７０〜２８０℃で時間が３０〜６０分である
【０２０４】
上記加環境下でスパッタリングを行うことで、導電膜の導電性を高めることができる。
導電膜（特にＩＴＯ膜）は、表面抵抗値が７０Ω／□以下であることが好ましく、より好ましくは６０Ω／□以下、更に好ましくは５０Ω／□以下である。
導電膜の表面抵抗値は、２３℃、５５％ＲＨの環境下で、円形電極（例えば、三菱油化（株）製ハイレスターＩＰの「ＨＲプローブ」）を用い、ＪＩＳ  Ｋ６９９１に従って測定することができる。
【０２０５】
＜カラーフィルタ基板＞
本発明のカラーフィルタ基板は、基板と、基板上に、重合性基を３つ以上有し、フッ素含有率が分子量の３０．０質量％以上である含フッ素多官能性化合物に由来し、全ての架橋間分子量の計算値が３００以下である架橋構造を有する離画壁と、離画壁により区画された基板上の凹部に形成された着色領域と、離画壁および着色領域上にスパッタリングにより形成された導電膜と、を有して構成される。
「重合性基を３つ以上有し、フッ素含有率が分子量の３０．０質量％以上である含フッ素多官能性化合物」は、既述の特定化合物であることが好ましく、
「重合性基を３つ以上有し、フッ素含有率が分子量の３０．０質量％以上である含フッ素多官能性化合物に由来し、全ての架橋間分子量の計算値が３００以下である架橋構造を有する離画壁」は、既述の本発明における感光性樹脂組成物を硬化して形成することができる。
【０２０６】
このとき、離画壁が有する架橋構造は、炭素原子及びフッ素原子を含む鎖状又は環状の３〜１０価の基（好ましくは前述の一般式（Ａ）中のＲｆＡ）で表されることが好ましい。この架橋構造は、「重合性基を３つ以上有し、フッ素含有率が分子量の３０．０質量％以上である含フッ素多官能性化合物」として、例えば、既述の一般式（Ａ）で表される化合物を用いることで形成することができる。
【０２０７】
離画壁が有する架橋構造は、より好ましくは、下記一般式（ｂ−１）で表される３〜１０価の基で表されることである。
【０２０８】
【化２９】
2013228705.tif 000030
【０２０９】
この一般式（ｂ−１）で表される３〜１０価の基は、前述の一般式（Ｂ）で表される含フッ素多官能性化合物の構造の一部である。
一般式（ｂ−１）中、ＲｆＢ、Ｒｆｐ、Ｒｆｑ、ｐ、ｒｐ、ｓｐ、ｔｐ、ｑ、ｒｑ、ｓｑ、及びｔｑは、前述の一般式（Ｂ）中のＲｆＢ、Ｒｆｐ、Ｒｆｑ、ｐ、ｒｐ、ｓｐ、ｔｐ、ｑ、ｒｑ、ｓｑ、及びｔｑと同義であり、好ましい範囲も同様である。
前記一般式（ｂ−１）中、＊は結合手を表す。
一般式（ｂ−１）で表される架橋構造は、「重合性基を３つ以上有し、フッ素含有率が分子量の３０．０質量％以上である含フッ素多官能性化合物」として、例えば、既述の一般式（Ｂ）で表される化合物を用いることで形成することができる。
【０２１０】
更には、離画壁が有する架橋構造は、下記式ｆ−１〜下記式ｆ−９から選ばれる３〜６価の基で表されることが特に好ましい。
【０２１１】
【化３０】
2013228705.tif 000031
【０２１２】
前記式ｆ−１〜前記式ｆ−９中、＊は結合手を表す。
なお、上記式ｆ−１〜上記式ｆ−９で表される架橋構造は、「重合性基を３つ以上有し、フッ素含有率が分子量の３０．０質量％以上である含フッ素多官能性化合物」として、例えば、既述の一般式（１）で表される化合物を用いることで形成することができる。
【０２１３】
本発明のカラーフィルタ基板が備える基板、離画壁、離画壁を形成するための本発明における感光性樹脂組成物、着色領域、及び導電膜の詳細は、カラーフィルタ基板の製造方法で説明した態様と同様であり、好ましい態様も同様である。
【０２１４】
本発明のカラーフィルタ基板は、特定化合物を含有する本発明における感光性樹脂組成物を用いて形成された離画壁を備えるため、高温（例えば、２５０℃を超える温度）のスパッタリングで形成された導電膜を有していても、離画壁の欠損が少ない。そのため、光漏れ等に起因する表示ムラが少なく、高品位な画像表示が可能である。
【０２１５】
＜表示装置＞
本発明の表示装置は、既述の本発明のカラーフィルタ基板を設けて構成される。
本発明のカラーフィルタ基板の製造方法により得られるカラーフィルタ基板は、液晶表示素子、電気泳動表示素子、エレクトロクロミック表示素子、ＰＬＺＴ等と組合せて表示素子として用いることができる。カラーカメラやその他のカラーフィルタを用いる用途にも使用できる。
【０２１６】
表示装置としては、液晶表示装置、プラズマディスプレイ表示装置、ＥＬ表示装置、ＣＲＴ表示装置などの表示装置などが挙げられる。表示装置の定義や各表示装置の説明については、例えば「電子ディスプレイデバイス（佐々木  昭夫著、（株）工業調査会  １９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹  順章著、産業図書（株）平成元年発行）」などに記載されている。
【０２１７】
本発明のカラーフィルタを設けて構成される表示装置としては、液晶表示装置が好ましい。液晶表示装置については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田  龍男編集、（株）工業調査会  １９９４年発行）」に記載されている。
本発明が適用できる液晶表示装置には特に制限はなく、例えば前記「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。中でも特に、カラーＴＦＴ方式の液晶表示装置に対して有効である。カラーＴＦＴ方式の液晶表示装置については、例えば「カラーＴＦＴ液晶ディスプレイ（共立出版（株）１９９６年発行）」に記載されている。さらに、本発明はＩＰＳなどの横電界駆動方式、ＭＶＡなどの画素分割方式などの視野角が拡大された液晶表示装置にも適用できる。これらの方式については、例えば「ＥＬ、ＰＤＰ、ＬＣＤディスプレイ−技術と市場の最新動向−（東レリサーチセンター調査研究部門  ２００１年発行）」の４３ページに記載されている。
【０２１８】
液晶表示装置は、カラーフィルタ以外に、電極基板、偏光フィルム、位相差フィルム、バックライト、スペーサ、視野角補償フィルムなど、様々な部材から構成される。本発明のカラーフィルタは、これらの公知の部材で構成される液晶表示装置に適用することができる。これらの部材については、例えば「'９４液晶ディスプレイ周辺材料・ケミカルズの市場（島  健太郎、（株）シーエムシー、１９９４年発行）」、「２００３液晶関連市場の現状と将来展望（下巻）（表  良吉、（株）富士キメラ総研、２００３年発行）」に記載されている。
【０２１９】
用途としては、タッチパネル、テレビ、パーソナルコンピュータ、液晶プロジェクター、ゲーム機、携帯電話などの携帯端末、デジタルカメラ、カーナビなどの用途に特に制限なく適用できる。
【実施例】
【０２２０】
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、分子量は、ゲルパーミッションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算の重量平均分子量を表し、また、特に断りのない限り、「部」及び「％」は質量基準である。
【０２２１】
〔実施例１０１〕
−感光性樹脂組成物Ｋ１の調製−
下記表１に記載の量のＫ顔料分散物１およびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを、それぞれはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍにて１０分間攪拌し、次いで、表１に記載の量のメチルエチルケトン、バインダー２、ハイドロキノンモノメチルエーテル、硬化促進剤〔ＤＰＨＡ液、及び、既述の特定化合物Ｍ−１（２５％２−ブタノン溶液）〕、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４’−（Ｎ，Ｎ−ビスエトキシカルボニルメチル）アミノ−３’−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン、界面活性剤１をはかり取り、温度２５℃（±２℃）でこの順に添加して、温度４０℃（±２℃）で１５０ｒｐｍにて３０分間攪拌することにより、感光性樹脂組成物Ｋ１を調製した。
このとき、特定化合物Ｍ−１の感光性樹脂組成物Ｋ１中における固形分質量に対する割合は５％であった。なお、表１に記載の量は質量部であり、表１に記載の各成分は、詳しくは以下の組成となっている。
【０２２２】
＜Ｋ顔料分散物１＞
・カーボンブラック（デグッサ社製  Ｎｉｐｅｘ３５）    ・・・・１３．１％
・下記分散剤１                                        ・・・・０．６５％
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、分子量３．７万）                                ・・・・６．７２％
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、分子量３．７万）                                ・・・・６．７２％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート    ・・・７９．５３％
【０２２３】
【化３１】
2013228705.tif 000032
【０２２４】
＜バインダー２＞
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸（＝７８／２２［モル比］）のランダム共重合物、分子量３．８万）                                ・・・２７％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート            ・・・７３％
【０２２５】
＜ＤＰＨＡ液＞
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（重合禁止剤ＭＥＨＱ  ５００ｐｐｍ含有、日本化薬（株）製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ）        ・・・７６％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート            ・・・２４％
【０２２６】
＜界面活性剤１＞
・下記構造物１                                                ・・・３０％
・メチルエチルケトン                                          ・・・７０％
【０２２７】
【化３２】
2013228705.tif 000033
【０２２８】
【表１】
2013228705.tif 000034
【０２２９】
＜カラーフィルタ基板の製造＞
−離画壁の形成−
無アルカリガラス基板を、ＵＶ洗浄装置で洗浄後、洗浄剤を用いてブラシ洗浄し、更に超純水で超音波洗浄した。基板を１２０℃３分熱処理して表面状態を安定化させた。
このガラス基板を冷却し２３℃に温調した後、スリット状ノズルを有すガラス基板用コーター（エフ・エー・エス・アジア社製、商品名：ＭＨ−１６００）にて、前記感光性樹脂組成物Ｋ１を塗布した。引き続き、ＶＣＤ（真空乾燥装置、東京応化工業社製）で３０秒間、溶媒の一部を乾燥して塗布層の流動性を無くした後、１２０℃３分間プリベークして膜厚２．３μｍの感光性樹脂組成物層Ｋ１を得た（感光性樹脂層形成工程）。
次に、超高圧水銀灯を有すプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社製）で、基板とマスク（画像パターンを有す石英露光マスク）を垂直に立てた状態で、露光マスク面と感光性樹脂組成物層Ｋ１の間の距離を２００μｍに設定し、窒素雰囲気下、露光量３００ｍＪ／ｃｍ２でパターン露光した（露光工程）。
【０２３０】
次に、純水をシャワーノズルにて噴霧して、感光性樹脂組成物層Ｋ１の表面を均一に湿らせた後、ＫＯＨ系現像液（ＫＯＨ、ノニオン界面活性剤含有、商品名：ＣＤＫ−１、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）を１００倍に希釈したものにて２３℃で８０秒間、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像しパターニング画像を得た（現像工程）。引き続き、超純水を、超高圧洗浄ノズルにて９．８ＭＰａの圧力で噴射して残渣除去を行ない、大気下にて露光量２０００ｍＪ／ｃｍ２にてポスト露光した。続いて、２４０℃で５０分間ポストベーク処理を行ない（加熱処理工程）、膜厚２．０μｍ、光学濃度４．０、１００μｍ幅の開口部を有するストライプ状の離画壁（離画壁付き基板）を得た。
なお、離画壁の基板密着性及び離隔壁の撥水・撥インク性については後述する。
【０２３１】
−着色領域の形成−
（１）画素用着色インク組成物の調製
下記の組成のうち、まず顔料、高分子分散剤、及び溶剤を混合し、３本ロールとビーズミルを用いて顔料分散液を得た。その顔料分散液をディソルバー等で充分に攪拌しながら、その他の材料を少量ずつ添加し、赤色（Ｒ）画素用着色インク組成物を調製した。
【０２３２】
（赤色画素用着色インク組成物の組成）
・顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４）                        ・・・・５部
・ソルスパース２４０００（ＡＶＥＣＩＡ社製；高分子分散剤）      ・・・・１部
・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸（＝７２／２８［モル比］）のランダム共重合物（分子量：３．７万、バインダー）                              ・・・・３部
・エピコート１５４（油化シェル社製；ノボラック型エポキシ樹脂、）・・・・２部
・ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル（エポキシ樹脂）    ・・・・５部
・トリメリット酸（硬化剤）                                      ・・・・４部
・３−エトキシプロピオン酸エチル（溶剤）                        ・・・８０部
【０２３３】
さらに、上記組成中のＣ．Ｉ．ピグメントレッド２５４に代えてＣ．Ｉ．ピグメントグリーン３６を同量用いる以外は、Ｒ画素用着色インク組成物の場合と同様にして、緑色（Ｇ）画素用着色インク組成物を調製した。また、上記組成中のＣ．Ｉ．ピグメントレッド２５４に代えてＣ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６を同量用いる以外は、Ｒ画素用着色インク組成物の場合と同様にして、青色（Ｂ）画素用着色インク組成物を調製した。
【０２３４】
（２）着色画素の形成
次に、前記Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素用着色インク組成物を用いて、上記で得られた離画壁付き基板の離画壁で区画された領域内（離画壁で取り囲まれた凹部）に、インクジェット方式の記録装置を用いて所望の濃度になるまでインク組成物の吐出を行ない、Ｒ、Ｇ、Ｂのパターン（着色画素）からなるカラーフィルタを作製した。続いて、このカラーフィルタを２３０℃オーブン中で３０分間ベークし、離画壁及び各画素がともに完全に硬化されたカラーフィルタを得た。
【０２３５】
−導電膜の形成１−
上記より得たカラーフィルタのＲ画素、Ｇ画素、及びＢ画素並びに離画壁の上に、更にＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）の透明電極を２５０℃でスパッタリング（蒸着温度；２５０℃、アニール無し）により形成した。表２に示す「スパッタ温度」は、蒸着温度である。
このＩＴＯの抵抗を測定（三菱化学（株）製の「ロレスタ」を用いて四探針法でシート抵抗を測定）したところ８０Ω／□であった。
【０２３６】
−カラーフィルタ基板の混色評価−
得られたカラーフィルタ基板を下記のように評価した。評価結果は下記表２に示す。
カラーフィルタの画素が形成された側と反対側から２００倍の光学顕微鏡で目視観察し、画素間の混色の有無を観察した。評価は、１０００画素を観察して下記ランクに分けて行なった。許容範囲は、Ａランク及びＢランクである。
【０２３７】
（評価基準）
・Ａランク：混色は全くなかった。
・Ｂランク：混色は１〜２箇所であった。
・Ｃランク：混色は３〜１０箇所であった。
・Ｄランク：混色は１１箇所以上であった。
【０２３８】
＜液晶表示装置の作製＞
−柱状スペーサパターンの形成−
スペーサパターン形成用の下記感光性樹脂層用塗布液を、上記と同様のスリットコーターにより前記カラーフィルタのＩＴＯ上に塗布し、乾燥させて、感光性樹脂層ＳＰ１を形成した。
【０２３９】
−感光性樹脂層用塗布液の処方ＳＰ１−
・メタクリル酸／アリルメタクリレート共重合体（モル比＝２０／８０、分子量４００００；高分子物質）                                      ・・・・・・１０８部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート            ・・・・・６４．７部
（重合性モノマー）
・２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔４’−（Ｎ，Ｎ−ビスエトキシカルボニルメチル）アミノ−３’−ブロモフェニル〕−ｓ−トリアジン・・・・・６．２４部
・ハイドロキノンモノメチルエーテル                    ・・・０．０３３６部
・ビクトリアピュアブルーＢＯＨＭ（保土ヶ谷化学社製）  ・・・・０．８７４部
・メガファックＦ７８０Ｆ（大日本インキ化学工業（株）製；界面活性剤）          
・・・・０．８５６部
・メチルエチルケトン                                  ・・・・・・３２８部
・１−メトキシ−２−プロピルアセテート                ・・・・・・４７５部
・メタノール                                          ・・・・・１６．６部
【０２４０】
次に、所定のフォトマスクを介して超高圧水銀灯により３００ｍＪ／ｃｍ２でプロキシミティー露光した。露光後、ＫＯＨ現像液〔ＣＤＫ−１（商品名）の１００倍希釈液（ｐＨ＝１１．８）、富士フイルム（株）製〕を用いて未露光部の感光性樹脂層を溶解除去した。
続いて、２３０℃で３０分間ベークし、ガラス基板上のＩＴＯ膜の上の離画壁の上部に位置する部分に直径１６μｍ、平均高さ３．７μｍの柱状スペーサパターンを形成した。その上に更にポリイミドよりなる配向膜を設けた。
【０２４１】
−液晶配向分割用突起の形成−
下記の突起用感光性樹脂層用塗布液を、上記と同様のスリットコーターにより前記カラーフィルタ基板のＩＴＯ上に塗布し、乾燥させて突起用感光性樹脂層を形成した。次に、突起用感光性樹脂層上に下記処方Ｐ１から中間層用塗布液を塗布し、乾燥膜厚１．６μｍの中間層を設けた。
【０２４２】
＜突起用感光性樹脂層用塗布液の処方Ａ＞
・ポジ型レジスト液                                        ・・・５３．３部
（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製、ＦＨ−２４１３Ｆ）
・メチルエチルケトン                                      ・・・４６．７部
・前記界面活性剤１                                        ・・・０．０４部
【０２４３】
＜中間層用塗布液の処方Ｐ１＞
・ＰＶＡ２０５（ポリビニルアルコール、クラレ（株）製、鹸化度＝８８％、重合度５５０）                                                      ・・・３２．２部
・ポリビニルピロリドン                                    ・・・１４．９部
（アイエスピー・ジャパン（株）製、Ｋ−３０）
・蒸留水                                                  ・・・・５２４部
・メタノール                                              ・・・・４２９部
【０２４４】
次に、フォトマスクが突起用感光性樹脂層の表面から１００μｍの距離となるようにプロキシミティー露光機を配置し、該フォトマスクを介して超高圧水銀灯により照射エネルギー１５０ｍＪ／ｃｍ２でプロキシミティー露光した。その後、２．３８％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を、シャワー式現像装置にて３３℃で３０秒間基板に噴霧しながら現像し、突起用感光性樹脂層の不要部（露光部）を現像除去した。すると、前記カラーフィルタ基板のＩＴＯ膜上のＲ、Ｇ、Ｂの画素の上部に位置する部分に、所望の形状にパターニングされた感光性樹脂層よりなる突起が形成された。次いで、該突起が形成されたカラーフィルタ基板を２４０℃下で５０分間ベークすることにより、カラーフィルタ基板上に高さ１．５μｍ、縦断面形状が蒲鉾様の配向分割用突起を形成した。
【０２４５】
更に、得られたカラーフィルタ基板に対して、駆動側基板及び液晶材料を組合せることによって配向分割垂直配向型液晶表示素子を作製した。具体的には、駆動側基板としてＴＦＴと画素電極（導電層）とが配列形成されたＴＦＴ基板を準備し、このＴＦＴ基板及び上記より得たカラーフィルタ基板を、ＴＦＴ基板の画素電極等が設けられた側の表面とカラーフィルタ基板の配向分割用突起等が形成された側の表面とが対向するように配置し、スペーサ分の間隙を設けて固定した。この間隙に液晶材料を封入することにより画像表示を担う液晶層を設け、液晶セルを得た。このようにして得た液晶セルの両面に（株）サンリッツ製の偏光板ＨＬＣ２−２５１８を貼り付けた。次いで、冷陰極管のバックライトを構成し、これを液晶セルの偏光板が設けられた側と反対側（背面側）に配置し、配向分割垂直配向型液晶表示装置とした。
【０２４６】
−評価−
（１）離画壁の撥水・撥インク性
上記と同様にして形成した感光性樹脂組成物層Ｋ１に対し、マスクを使用しない以外は上記と同様の方法で露光し、その後ポストベーク処理（加熱処理工程）までの操作を同様の条件で行なってテスト用感光性樹脂組成物層を得た。そして、このテスト用感光性樹脂組成物層をポストベーク処理後１時間室温にて放冷した後、接触角測定器（協和界面科学（株）製の接触角計ＣＡ−Ａ）を用いて、前記Ｒ画素用着色インク組成物を２０メモリの大きさの液体試料（インク試料）として針先から出し、テスト用感光性樹脂組成物層に接触させることにより、テスト用感光性樹脂組成物層上にＲ画素用着色インク組成物の液滴（インク滴）を形成した。そして、このインク滴の形状を接触角計の覗き穴から観察し、２５℃下、着滴から１０秒放置後のインク滴のインク接触角θ１を求めた。
また、接触角を測定したインク滴を水滴に変更し、同様の手順で水接触角θ２を測定した。
ポストベーク後の値を撥水・撥インク性を評価する指標とし、下記評価基準にしたがって評価した。許容範囲は、Ａランク及びＢランクである。評価結果は下記表２に示す。
【０２４７】
［評価基準］
・Ａランク：インク接触角≧５０°、水接触角≧１００°
・Ｂランク：インク接触角≧４０°、水接触角≧９０°
・Ｃランク：インク接触角≧３５°、水接触角≧８０°
・Ｄランク：インク接触角＜３５°、水接触角＜８０
【０２４８】
（２）離画壁の基板密着性
上記「離画壁の形成」において同条件で露光工程までを終了したガラス基板３枚を用意し、現像時間を９０秒、１２０秒、１５０秒と長くして処理を行なったこと以外は同様の現像条件にて現像処理し、それぞれの現像時間での離画壁の欠けの発生の有無を、１０００画素分目視により下記評価基準にしたがって評価した。許容範囲は、Ａランク及びＢランクである。評価結果は下記表２に示す。
【０２４９】
[評価基準］
・Ａランク：離画壁欠けは全くなかった。
・Ｂランク：離画壁欠けは１〜２箇所であった。
・Ｃランク：離画壁欠けは３〜１０箇所であった。
・Ｄランク：離画壁欠けは１１箇所以上であった。
【０２５０】
（３）液晶表示装置の表示ムラ
上記で作製した液晶表示装置について、グレイのテスト信号を入力させたときのグレイ表示を目視にて観察し、表示ムラの発生の有無を下記評価基準にしたがって評価した。
【０２５１】
［評価基準：
・Ａランク：表示ムラはなく、非常に良好な表示画像が得られた。
・Ｂランク：ガラス基板のふち部分に微かにムラがあったものの、表示部への影響はなく表示画像は良好であった。
・Ｃランク：表示部に微かにムラがみられたが、実用上許容範囲内であった。
・Ｄランク：表示部にムラがみられた。
【０２５２】
〔実施例１０２〜１０５〕
実施例１０１において、特定化合物Ｍ−１を、本発明の特定化合物（Ｍ−２、Ｍ−３、Ｍ−４、Ｍ−９）に代えたこと以外、実施例１０１と同様にして、感光性樹脂組成物Ｋ１を調製し、カラーフィルタ基板、液晶表示装置を作製すると共に、同様の評価を行なった。評価結果は下記表２に示す。
【０２５３】
〔比較例１０１〕
実施例１０１において、特定化合物Ｍ−１の代わりにＤＰＨＡ液を添加（２５％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液を３．０部）した以外は実施例１０１と同様にして感光性樹脂組成物Ｋ１を調製し、カラーフィルタ基板、液晶表示装置を作製すると共に、同様の評価を行なった。
【０２５４】
〔実施例１０６、１０７〕
実施例１０１において、表２に示すように、ＤＰＨＡ液の代わりにペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）製、商品名Ａ−ＴＭＭＴ）液（７６％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液を５．４部）、または、エトキシレーテッドグリセリントリアクリレート（新中村化学工業（株）製、商品名Ａ−ＧＬＹ−９Ｅ）液（７６％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液を５．４部）それぞれを添加した以外は実施例１０１と同様にして感光性樹脂組成物Ｋ１を調製し、カラーフィルタ基板、液晶表示装置を作製すると共に、同様の評価を行なった。評価結果は下記表２に示す。
【０２５５】
〔比較例１０２〜１０４〕
実施例１０１において、特定化合物Ｍ−１の代わりに、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）製、商品名Ａ−ＴＭＭＴ）液（２５％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液を３．０部）、エトキシレーテッドグリセリントリアクリレート（新中村化学工業（株）製、商品名Ａ−ＧＬＹ−９Ｅ）液（２５％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液を３．０部）、２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロ−１，６−ヘキサンジアクリレート（以下ＯＦＨＤＡと表記、ＳｙｎＱｕｅｓｔ  Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ，  Ｉｎｃ．製）液（２５％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液を３．０部）から選択される成分を表２に示すように、それぞれを添加した以外は実施例１０１と同様にして感光性樹脂組成物Ｋ１を調製し、カラーフィルタ基板、液晶表示装置を作製すると共に、同様の評価を行なった。評価結果は下記表２に示す。
【０２５６】
〔比較例１０５〕
実施例１０１において、特定化合物Ｍ−１の代わりに特開２００８−２０２００６号に記載の含フッ素化合物（１）（２５％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液を３．０部）〔表１では、「含Ｆ化合物（１）」と記載〕を添加した以外は実施例１０１と同様にして感光性樹脂組成物Ｋ１を調製し、カラーフィルタ基板、液晶表示装置を作製すると共に、同様の評価を行なった。評価結果は下記表２に示す。
【０２５７】
〔実施例１０８〜１１０、比較例１０６〜１０８〕
実施例１０１、１０２、１０５及び比較例１０１、１０２、１０４において、液晶表示装置の作成時、ＩＴＯ透明電極のスパッタリング温度を２５０℃から２８０℃（蒸着温度；２８０℃、アニール無し）に変更した以外は実施例１０１、１０２、１０５及び比較例１０１、１０２、１０４と同様にして液晶表示装置を作製すると共に、同様の評価を行なった。評価結果は下記表２に示す
【０２５８】
〔比較例１０９〕
実施例１０１において、特定化合物Ｍ−１の代わりに、下記構造の含フッ素重合性化合物（Ｚ−１）（２５％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液を３．０部）〔表１では、「Ｚ−１」と記載〕を添加した以外は実施例１０１と同様にして感光性樹脂組成物Ｋ１を調製し、カラーフィルタ基板、液晶表示装置を作製すると共に、同様の評価を行なった。なお、化合物（Ｚ−１）は、ＳｙｎＱｕｅｓｔ  Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ，  Ｉｎｃ．製の化合物であり、フッ素含率は３５．６％、架橋間分子量は２６６．１である。
評価結果は下記表２に示す。
【０２５９】
【化３３】
2013228705.tif 000035
【０２６０】
〔比較例１１０〕
実施例１０１において、特定化合物Ｍ−１の代わりに、下記構造の含フッ素重合性化合物（Ｚ−２）（２５％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液を３．０部）〔表１では、「Ｚ−２」と記載〕を添加した以外は実施例１０１と同様にして感光性樹脂組成物Ｋ１を調製し、カラーフィルタ基板、液晶表示装置を作製すると共に、同様の評価を行なった。評価結果は下記表２に示す。
【０２６１】
−含フッ素重合性化合物（Ｚ−２）の合成−
含フッ素重合性化合物（Ｚ−２）は、次のようにして得た。
内容量２００ｍｌのガラス製反応容器に１，４−ビス（５’，６’−エポキシヘキシル）ペルフルオロブタン（６．２ｇ）、アクリル酸（４．２ｇ）、テトラエチルアンモニウムブロマイド（０．１ｇ）、ｔｅｒｔ−ブチルカテコール（０．０１ｇ）を仕込み、９５℃で４時間攪拌した。反応溶液を室温まで冷却した後、５０ｍＬの塩化メチレンで希釈して、水洗した。溶媒を除去した後、１００ｍＬのジメチルアセトアミドを加え、氷冷下でアクリル酸クロライド（７．２ｇ）を滴下した。滴下終了後、５０℃に加熱して２時間攪拌した後、溶媒を除去し、シリカゲルカラムで精製することによって、フッ素含有率が２３．４質量％、架橋間分子量が３１２．３である下記構造を有する化合物（Ｚ−２）が得られた。
【０２６２】
【化３４】
2013228705.tif 000036
【０２６３】
〔比較例１１１〕
実施例１０１において、特定化合物Ｍ−１の代わりに、下記構造の含フッ素重合性化合物（Ｚ−３）（２５％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液を３．０部）〔表１では、「Ｚ−３」と記載〕を添加した以外は実施例１０１と同様にして感光性樹脂組成物Ｋ１を調製し、カラーフィルタ基板、液晶表示装置を作製すると共に、同様の評価を行なった。評価結果は下記表２に示す。
【０２６４】
−含フッ素重合性化合物（Ｚ−３）の合成−
含フッ素重合性化合物（Ｚ−３）は、次のようにして得た。
特開平１１−８０３１２号公報の実施例２と同様の操作によりフッ素含有率が３５質量％を超え、架橋間分子量が３００を超える下記構造を有する化合物（Ｚ−３）が得られた。
【０２６５】
【化３５】
2013228705.tif 000037
【０２６６】
上記化合物（Ｚ−３）の構造中、ａおよびｂは、それぞれ独立に、１〜５０の整数を示す。
【０２６７】
【表２】
2013228705.tif 000038
【０２６８】
表２中、「硬化促進剤」「特定化合物」の「量」に示す数値は、全硬化促進剤中の特定化合物の質量割合〔％〕を表す。
【０２６９】
表２に示すように、実施例では、加熱処理後の離画壁上の撥水・撥インク性に優れており、混色の発生がなく、基板密着性も良好であった。また、液晶表示装置を作製して表示した際の表示ムラの発生も効果的に抑えられ、表示特性に優れた画像が得られた。
これに対して比較例１０１〜１０３では特に混色評価において劣っており、これは撥インク性能が不十分であることに由来すると考えられる。比較例４では特に基板密着性に劣っているが、これは緻密な架橋構造が形成されないため、離画壁の形成が不十分であるためと考えられる。比較例１０５では特に基板密着性に劣っているが、これは硬化促進剤であるＤＰＨＡとフッ素化合物とで一部相分離のような不均一性が生じて離画壁の形成が不十分であるためと考えられる。また、実施例１０８〜１１０と比較例１０６〜１０７の結果から、本発明の離画壁は耐熱性にも優れることが分かる。
【０２７０】
〔実施例１１１〜１１５〕
実施例１０１において、特定化合物Ｍ−１を、本発明の特定化合物（Ｍ−３１、Ｍ−３４、Ｍ−４９、Ｍ−６４、Ｍ−７４）に代えたこと以外、実施例１０１と同様にして、感光性樹脂組成物Ｋ１を調製し、カラーフィルタ基板、液晶表示装置を作製すると共に、同様の評価を行なった。評価結果は下記表３に示す。
【０２７１】
【表３】
2013228705.tif 000039
【０２７２】
表３に示すように、実施例１１１〜１１５では、加熱処理後の離隔壁上の撥水・撥インク性に優れており、混色の発生がなく、基板密着性も良好であった。また、液晶表示装置を作製して表示した際の表示ムラの発生も効果的に抑えられ、表示特性に優れた画像が得られた。
【０２７３】
〔実施例２０１〕
無アルカリガラス基板（以下、単に「ガラス基板」という。）を、２５℃に調整したガラス洗浄剤液をシャワーにより２０秒間吹き付けながらナイロン毛を有する回転ブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液（Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン０．３％水溶液、商品名：ＫＢＭ６０３、信越化学工業（株）製）をシャワーにより２０秒間吹き付け、さらに純水シャワーにより洗浄した。洗浄後、このガラス基板を基板予備加熱装置により１００℃で２分間加熱した。
【０２７４】
シランカップリング処理後のガラス基板に、下記の感光性転写材料Ｋ１からカバーフィルムを除去して露出した感光性樹脂組成物層の表面を、該ガラス基板の表面と接するように重ね合わせ、ラミネータ（ＬａｍｉｃＩＩ型、株式会社日立インダストリイズ製）を用いて、ゴムローラー温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分でラミネートした。続いて、ＰＥＴ仮支持体を熱可塑性樹脂層との界面で剥離して除去した。仮支持体を剥離後、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社製）を用いて、ガラス基板とマスク（画像パターンを有する石英露光マスク）とを垂直に立てた状態で、露光マスク面と感光性樹脂組成物層との間の距離を２００μｍに設定し、露光量７０ｍＪ／ｃｍ２でパターン露光した。
【０２７５】
次いで、ＫＯＨ現像液〔富士フイルム（株）製のＣＤＫ−１（商品名）の１００倍希釈液（ｐＨ＝１１．８）〕にて現像して、感光性樹脂組成物層の未露光部分及びその下の中間層、熱可塑性樹脂層を除去し、ガラス基板上にパターンを形成した。続いて、大気下アライナーにてガラス基板のパターン形成面側からガラス基板の全面を２０００ｍＪ／ｃｍ２でポスト露光し、２４０℃で５０分間ポストベークを行なった。以上により、光学濃度４．０の離画壁（ブラックマトリックス）を得た。
【０２７６】
その後、導電膜を後述する方法「導電膜の形成２」で形成したほかは、実施例１０１と同様にして、カラーフィルタ基板、液晶表示装置を作製すると共に、実施例１０１と同様の評価を行なった。評価結果は下記表４に示す。
【０２７７】
−導電膜の形成２−
上記より得たカラーフィルタが形成されたガラス基板をスパッタ装置に入れて、カラーフィルタのＲ画素、Ｇ画素、及びＢ画素並びに離画壁の上に、更にＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）の透明電極を２５０℃でスパッタリング（蒸着温度；１００℃、アニール温度；２５０℃）により形成した。
なお、導電膜の形成２における「２５０℃でのスパッタリング」の詳細は次の通りである。
【０２７８】
Ｒ画素、Ｇ画素、及びＢ画素並びに離画壁の上に、１００℃でＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）を全面真空蒸着した後、２５０℃で９０分間アニールしてＩＴＯを結晶化し、ＩＴＯ透明電極を形成した。表４に示す「スパッタ温度」は、アニール温度である。
このＩＴＯの抵抗を測定（三菱化学（株）製の「ロレスタ」を用いて四探針法でシート抵抗を測定）したところ８０Ω／□であった。
【０２７９】
＜感光性転写材料Ｋ１の作製＞
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴ仮支持体）上に、スリット状ノズルを用いて、下記処方Ｈ１からなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布、乾燥させて熱可塑性樹脂層を形成した。次に、形成された熱可塑性樹脂層上に、下記処方Ｐ１からなる中間層用塗布液を塗布、乾燥させて中間層（酸素遮断膜）を積層した。更に、この中間層上に実施例１で調製した感光性樹脂組成物Ｋ１を塗布、乾燥させ、ブラック（Ｋ）の感光性樹脂組成物層Ｋ１を積層した。このとき、感光性樹脂組成物Ｋ１中における特定化合物Ｍ−１の固形分質量に対する割合は５％である。
このようにして、ＰＥＴ仮支持体の上に、乾燥膜厚が１４．６μｍの熱可塑性樹脂層と、乾燥膜厚が１．６μｍの中間層と、乾燥膜厚が２．３μｍの感光性樹脂組成物層とを積層し、さらに感光性樹脂組成物層の表面に保護フィルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着することにより、仮支持体／熱可塑性樹脂層／中間層／感光性樹脂組成物層Ｋ１とが一体となった感光性転写材料Ｋ１を作製した。
【０２８０】
−熱可塑性樹脂層用塗布液の処方Ｈ１−
・メタノール                                            ・・・１１．１部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート      ・・・６．３６部
・メチルエチルケトン                                    ・・・５２．４部
・メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝５５／１１．７／４．５／２８．８、分子量＝１０万、Ｔｇ≒７０℃）                          ・・・５．８３部
・スチレン／アクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝６３／３７、平均分子量＝１万、Ｔｇ≒１００℃）                                  ・・・１３．６部
・２，２−ビス［４−（メタクリロキシポリエトキシ）フェニル］プロパン（新中村化学工業（株）製）                                          ・・・・９．１部
・前記界面活性剤１                                      ・・・０．５４部
【０２８１】
−中間層用塗布液の処方Ｐ１−
・ＰＶＡ２０５                                          ・・・３２．２部
（ポリビニルアルコール、（株）クラレ製、鹸化度＝８８％、重合度５５０）
・ポリビニルピロリドン                                  ・・・１４．９部
（アイエスピー・ジャパン社製、Ｋ−３０）
・蒸留水                                                ・・・・５２４部
・メタノール                                            ・・・・４２９部
【０２８２】
〔実施例２０２〜２０４〕
実施例２０１において、特定化合物Ｍ−１を、本発明の特定化合物（Ｍ−２、Ｍ−３、Ｍ−９）に代えたこと以外、実施例２０１と同様にして、感光性樹脂組成物Ｋ１を調製し、感光性転写材料Ｋ１を作製し、さらにカラーフィルタ基板、液晶表示装置を作製した。また、実施例１０１と同様の評価を行ない、評価結果を下記表４に示す。
【０２８３】
〔比較例２０１〕
実施例２０１において、特定化合物の代わりにＤＰＨＡ液を添加（２５％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液を３．０部）した以外は実施例２０１と同様にして感光性樹脂組成物Ｋ１を調製し、感光性転写材料Ｋ１を作製し、さらにカラーフィルタ基板、液晶表示装置を作製すると共に、同様の評価を行なった。評価結果は下記表４に示す。
【０２８４】
〔実施例２０５〕
実施例２０４において、液晶表示装置の作成時、ＩＴＯ透明電極のスパッタリング温度を２５０℃から２８０℃（蒸着温度；１００℃、アニール温度；２８０℃）に変更した以外は実施例２０４と同様にして液晶表示装置を作製すると共に、同様の評価を行なった。評価結果は下記表４に示す。
【０２８５】
〔比較例２０２〕
実施例２０１において、特定化合物Ｍ−１の代わりに特開２００８−２０２００６号に記載の含フッ素化合物（１）（２５％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液を３．０部）を添加し、液晶表示装置の作成時、ＩＴＯ透明電極のスパッタリング温度を２５０℃から２８００℃（蒸着温度；１００℃、アニール温度；２８０℃）に変更した以外は実施例２０１と同様にして液晶表示装置を作製すると共に、同様の評価を行なった。評価結果は下記表４に示す。
【０２８６】
〔実施例２０６〕
実施例２０５において、ＤＰＨＡ液の代わりに含フッ素多官能モノマーＭ−９を添加（７６％２−プロパノン溶液を５．４部）した以外は実施例２０５と同様にして、感光性樹脂組成物Ｋ１を調製し、カラーフィルタ基板、液晶表示装置を作成すると共に同様の評価を行った。
【０２８７】
〔実施例２０７〕
実施例２０５において、ＤＰＨＡ液の添加量を０．６４部とし、含フッ素多官能モノマーＭ−９（７６％２−プロパノン溶液）を４．８部追添加した以外は実施例２０５と同様にして、感光性樹脂組成物Ｋ１を調製し、カラーフィルタ基板、液晶表示装置を作成すると共に同様の評価を行った。
【０２８８】
〔実施例２０８〕
実施例２０５において、ＤＰＨＡ液の添加量を３．２部とし、含フッ素多官能モノマーＭ−９（７６％２−プロパノン溶液）を２．２部追添加した以外は実施例２０５と同様にして、感光性樹脂組成物Ｋ１を調製し、カラーフィルタ基板、液晶表示装置を作成すると共に同様の評価を行った。
【０２８９】
〔実施例２０９〕
実施例２０５において、ＤＰＨＡ液の添加量を３．８部とし、含フッ素多官能モノマーＭ−９（７６％２−プロパノン溶液）を１．６部追添加した以外は実施例２０５と同様にして、感光性樹脂組成物Ｋ１を調製し、カラーフィルタ、液晶表示装置を作成すると共に同様の評価を行った。
【０２９０】
〔実施例２１０〕
実施例２０５において、含フッ素多官能モノマーＭ−９（２５％２−プロパノン溶液）ＤＰＨＡ液の添加量を１．９部とし、ＤＰＨＡ液（２５％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液）を１．１部追添加した以外は実施例２０５と同様にして、感光性樹脂組成物Ｋ１を調製し、カラーフィルタ基板、液晶表示装置を作成すると共に同様の評価を行った。
【０２９１】
【表４】
2013228705.tif 000040
【０２９２】
表４中、「硬化促進剤」「特定化合物」の「量」に示す数値は、全硬化促進剤中の特定化合物の質量割合〔％〕を表す。
【０２９３】
前記表４に示すように、実施例では、加熱処理後の離隔壁上の撥水・撥インク性に優れており、混色の発生がなく、基板密着性も良好であった。また、液晶表示装置を作製して表示した際の表示ムラの発生も効果的に抑えられ、表示特性に優れた画像が得られた。これに対して比較例２０１では特に混色評価に劣っているが、これは撥インク性が不十分であることに由来すると考えられる。また、実施例２０５と比較例２０２の結果から、本発明の離画壁は耐熱性にも優れることが分かる。
【０２９４】
〔実施例２１１〜２１５〕
実施例２０１において、特定化合物Ｍ−１を、本発明の特定化合物（Ｍ−３１、Ｍ−３４、Ｍ−４９、Ｍ−６４、Ｍ−７４）に代えたこと以外、実施例２０１と同様にして、感光性樹脂組成物Ｋ１を調製し、感光性転写材料Ｋ１を作製し、さらにカラーフィルタ基板、液晶表示装置を作製した。また、実施例２０１と同様の評価を行ない、評価結果を下記表５に示す。
【０２９５】
【表５】
2013228705.tif 000041
【０２９６】
表５に示すように、実施例２１１〜２１５では、加熱処理後の離隔壁上の撥水・撥インク性に優れており、混色の発生がなく、基板密着性も良好であった。また、液晶表示装置を作製して表示した際の表示ムラの発生も効果的に抑えられ、表示特性に優れた画像が得られた。
【符号の説明】
【０２９７】
１…離画壁
２…着色画素（着色領域）
３…凹部
４…離画壁上面
５…離画壁側面
６…基板
【図１】
2013228705.tif 000050