(57)【要約】【課題】レジスト膜を均一な厚さに成膜できる成膜装置を提供する。【解決手段】本発明の成膜装置１は、長尺の基材６０にレジストを塗布する塗布部４と、基材６０に塗布されたレジストを乾燥してレジスト膜を形成する乾燥部５と、基材６０を搬送する搬送部２と、基材６０が少なくとも塗布部４及び乾燥部５間に位置する際に、レジスト液が塗布された基材６０の搬送方向に交差する幅方向の両端部を中央部に対して相対的に持ち上げた状態に矯正する矯正部６と、を備えることを特徴とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
長尺の基材にレジスト液を塗布する塗布部と、
前記基材に塗布された前記レジスト液を乾燥してレジスト膜を形成する乾燥部と、
前記基材を搬送する搬送部と、
前記基材が少なくとも前記塗布部及び前記乾燥部間に位置する際に、前記レジスト液が塗布された前記基材の搬送方向に交差する幅方向の両端部を中央部に対して相対的に持ち上げた状態に矯正する矯正部と、を備えることを特徴とする成膜装置。
【請求項２】
前記矯正部は、前記搬送部による搬送中の前記基材を矯正することを特徴とする請求項１に記載の成膜装置。
【請求項３】
前記矯正部は、前記基材を湾曲させた状態に矯正することを特徴とする請求項１又は２に記載の成膜装置。
【請求項４】
前記矯正部は、搬送される前記基材の幅方向における前記両端部をガイドするガイドを含み、該ガイドは前記基材を漸次湾曲させるようにガイド幅が変化することを特徴とする請求項３に記載の成膜装置。
【請求項５】
前記矯正部は、前記搬送部によって搬送される前記基材が前記乾燥部に到達するまで該基材を矯正することを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の成膜装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、成膜装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
フレキシブル回路基板の製造工程において、基材であるフレキシブルテープにレジスト（フォトレジスト）を塗布する方法として、レジスト供給皿に浸した引き上げロールから転写ロールへレジストを受け渡し、転写ロールからフレキシブルテープへ転写するピックアップロール方式が知られている（例えば特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】国際公開第ＷＯ９８／０２２５４号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、上記従来技術においては、フレキシブル回路基板上に転写されたレジストは表面張力によって端部の厚みが著しく不安定となり、均一なレジスト膜を形成できないといった課題があった。
【０００５】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、レジスト膜を均一な厚さに成膜できる成膜装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記の課題を解決するために、本発明の成膜装置は、長尺の基材にレジスト液を塗布する塗布部と、前記基材に塗布された前記レジスト液を乾燥してレジスト膜を形成する乾燥部と、前記基材を搬送する搬送部と、前記基材が少なくとも前記塗布部及び前記乾燥部間に位置する際に、前記レジスト液が塗布された前記基材の搬送方向に交差する幅方向の両端部を中央部に対して相対的に持ち上げた状態に矯正する矯正部と、を備えることを特徴とする。
【０００７】
本発明の成膜装置によれば、基材が矯正されることによって、該基材の端部に生じているレジスト液の液溜まりが相対的に位置の低い中央部側に移動することでレジスト液の厚みを均一化することができる。よって、従来基材の端部で生じていたレジスト液の液溜まりに起因する膜厚不均性を解消することで均一なレジスト膜を基材上に形成することができる。
【０００８】
前記矯正部は、前記搬送部による搬送中の前記基材を矯正する構成としてもよい。
この構成によれば、基材を搬送した状態で矯正を行うことができるので、レジスト成膜工程に要するタクトを短縮することができる。
【０００９】
前記矯正部は、前記基材を湾曲させた状態に矯正する構成としてもよい。
この構成によれば、基材を湾曲させるので、基材が折れ曲がるといった不具合の発生を防止できる。
【００１０】
前記矯正部は、搬送される前記基材の幅方向における前記両端部をガイドするガイドを含み、該ガイドは前記基材を漸次湾曲させるようにガイド幅が変化する構成としてもよい。
この構成によれば、矯正部はガイドによって基材を漸次湾曲させることでレジスト液の液面を徐々に変化させることで均一なレジスト膜を形成できる。
【００１１】
前記矯正部は、前記搬送部によって搬送される前記基材が前記乾燥部の内部に到達するまで該基材を矯正する構成としてもよい。
この構成によれば、レジスト液が塗布された基材の矯正が乾燥部の内部にて保持されるので、膜厚を均一化させた状態でレジスト液の乾燥を行うことができる。よって、均一な膜厚の良質なレジスト膜を成膜することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】成膜装置の全体構成図。
【図２】（ａ）は矯正部及びフレキシブルテープの構成を示す平面図、（ｂ）は断面図。
【図３】塗布ユニットの全体構成図。
【図４】レジスト成膜工程を説明するための図。
【図５】矯正方法に係る変形例を示す概念図。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。かかる実施の形態は、本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で任意に変更可能である。また、以下の図面においては、各構成をわかりやすくするために、実際の構造における縮尺や数等が異なっている。
【００１４】
図１は、本実施形態の成膜装置の全体構成図である。
図１に示すように成膜装置１は、テープ搬送部２と、クリーニング部３と、塗布ユニット４と、乾燥部５と、矯正部６と、複数のローラー７と、を備え、フレキシブルテープ６０にレジスト膜を成膜するためのものである。
【００１５】
テープ搬送部２は、レジストを形成するためのフレキシブルテープ（基材）６０を搬送するためのものである。テープ搬送部２は、ロール状に巻回されたロール体Ｒからフレキシブルテープ６０を巻き解いて送り出す送出部２ａと、該送出部２ａから送り出したフレキシブルテープ６０を巻き取る巻取部２ｂとを含む。このような構成に基づき、テープ搬送部２はフレキシブルテープ６０を所定方向に移動させることができる。
【００１６】
フレキシブルテープ６０は長尺の基材であり、例えばポリイミド等の樹脂材料からなるものである。フレキシブルテープ６０は幅方向における両端にスプロケットホールＳＨが形成されている（図２参照）。テープ搬送部２は、スプロケットホールＳＨに係合可能な係合ギア部（不図示）を含み、該ギア部をスプロケットホールＳＨに係合させることでフレキシブルテープ６０に対して搬送力を付与する。
【００１７】
フレキシブルテープ６０の一方の面には、厚さ２〜５μｍ程度の銅箔などからなる導電体層６２が形成されている（図３参照）。
【００１８】
クリーニング部３は、フォトレジスト１２を塗布するに先立ち、フレキシブルテープ６０の表面（レジスト塗布面）をクリーニングするためのものである。クリーニング部３は、例えばフレキシブルテープ６０に対して洗浄液を塗布する塗布部と、塗布した該洗浄液を払拭する払拭部とを含む。
【００１９】
塗布ユニット４は、テープ搬送部２により搬送されるフレキシブルテープ６０に対してフォトレジスト（レジスト液）１２を塗布するためのものである。なお、塗布ユニット４の詳細については後述する。
【００２０】
乾燥部５は、フォトレジスト１２が塗布されたフレキシブルテープ６０を加熱することでフォトレジスト１２を硬化させることでレジスト膜を形成するためのものである。
【００２１】
複数のローラー７は、テープ搬送部２に搬送されるフレキシブルテープ６０に当接することで該フレキシブルテープ６０の下面側を支持する。これにより、搬送中のフレキシブルテープ６０に弛みが生じるのを防止することができる。
【００２２】
矯正部６は、フォトレジスト１２が塗布されたフレキシブルテープ６０の形状を所定の形状に矯正することで該フレキシブルテープ６０上に塗布されたフォトレジスト１２の膜厚を平坦化するためのものである。矯正部６は、テープ搬送部２に搬送されるフレキシブルテープ６０の搬送方向と交差する幅方向の両端部を中央部に対して相対的に持ち上げることで湾曲させた状態に矯正する。このようにフレキシブルテープ６０を湾曲させることで折れ曲がり等といった不具合の発生を防止している。
【００２３】
矯正部６は、テープ搬送部２に搬送されるフレキシブルテープ６０が少なくとも塗布ユニット４（図３に示すレジスト塗布部４０）及び乾燥部５間に位置する際に矯正可能な位置に設けられる。本実施形態に係る矯正部６は、フレキシブルテープ６０の搬送経路のうち、塗布ユニット４及び乾燥部５間の中間地点から乾燥部５の中間地点に至るように配置されている。なお、矯正部６が配置される位置はこれに限定されることはなく、上述のように少なくともテープの搬送経路のうち塗布ユニット４及び乾燥部５間に配置されていればよい。具体的に矯正部６が配置される位置（又は大きさ）は、フォトレジスト１２の粘度及び成分、テープ搬送部２におけるフレキシブルテープ６０の搬送速度、並びに乾燥部５の乾燥条件に基づいて適宜設定される。
【００２４】
図２は矯正部６の概略構成を示す図である。図２（ａ）は矯正部６及びフレキシブルテープ６０の構成を示す平面図であり、図２（ｂ）は矯正部６及びフレキシブルテープ６０の構成を示す断面図である。なお、矯正部６は、フレキシブルテープ６０上に塗布されたフォトレジスト１２に干渉しない位置に設けられている。
【００２５】
図２（ａ）、（ｂ）に示すように、矯正部６はフレキシブルテープ６０の幅方向（同図矢印に示す搬送方向に交差する方向）における両端部をガイドする一対のガイド８，９を有している。ガイド８，９は、フレキシブルテープ６０の長さ方向に亘って延在する板金部材から構成され、フレキシブルテープ６０の上面６０ａ（フォトレジスト１２が塗布された側の面）と下面６０ｂとを挟持する溝８ａ，９ａがそれぞれ形成されている。なお、ガイド８，９は同一部材から構成され、図２（ｂ）に示すようにフレキシブルテープ６０の中央を基準として左右対象の形状とされている。
【００２６】
ガイド８，９は、テープ搬送方向における上流側端部Ｔ１から下流側端部Ｔ２に向かって溝８ａ，９ａの深さが漸次変化した構成を採用している。また、ガイド８，９は、テープ搬送方向における上流側端部Ｔ１から下流側端部Ｔ２に向かって溝８ａ，９ａの傾斜角度θが漸次変化した構成を採用している。なお、溝８ａ，９ａの深さとは、フレキシブルテープ６０の両端部を挿入することができる距離を意味する。
【００２７】
本実施形態では、ガイド８，９の溝８ａ，９ａは、深さが上流側端部Ｔ１から中央部Ｔ３に向かって徐々に小さくなり、中央部Ｔ３において最少となった後、中央部Ｔ３から下流側端部Ｔ２に向かって徐々に大きくなり、下流側端部Ｔ２において元に戻る。
【００２８】
一方、溝８ａ，９ａの水平面に対する傾斜角度θは、上流側端部Ｔ１から中央部Ｔ３に向かって徐々に大きくなり、中央部Ｔ３において最大となった後、中央部Ｔ３から下流側端部Ｔ２に向かって徐々に小さくなり、下流側端部Ｔ２において元（傾斜無し）に戻る。
【００２９】
すなわち、溝８ａ，９ａの深さは、上流側端部Ｔ１及び下流側端部Ｔ２において最大となる。また溝８ａ，９ａの傾斜角度θは、上流側端部Ｔ１及び下流側端部Ｔ２において最少（傾斜無し）となる。
【００３０】
ここで、溝８ａ，９ａの下方端部を結ぶ面で規定される距離をガイド８，９間のガイド幅ＧＨとする。この場合、本実施形態に係るガイド８，９は、上述した溝８ａ，９ａの深さに応じてガイド幅ＧＨが漸次変化する構成となっている。ガイド幅ＧＨは、図２（ｂ）に示すようにＡ−Ａ線断面、Ｂ−Ｂ線断面、及びＣ−Ｃ線断面の順に小さくなっていく。すなわち、ガイド８，９の上流側端部Ｔ１及び下流側端部Ｔ２の溝８ａ，９ａにより規定されるガイド幅ＧＨ（すなわち、Ａ−Ａ線断面）は、フレキシブルテープ６０の幅に一致している。また、溝８ａ，９ａは、上述のように傾斜角度θが水平面に対して漸次大きくなるように変化するため、フレキシブルテープ６０の端部を次第に下方に向けた状態に保持するようになっている。
【００３１】
このような構成に基づき、矯正部６は、ガイド８，９（溝８ａ，９ａ）に案内されたフレキシブルテープ６０がテープ搬送部２によって搬送されるにつれて、該フレキシブルテープ６０の両端部６１を中央部側且つ斜め下方に移動させることができる。
【００３２】
これにより、フレキシブルテープ６０は、ガイド８，９にガイドされることで図２（ａ）乃至（ｃ）に示すように幅方向の両端部６１が中央部６１ａに対して相対的に持ち上げられた状態に形状が矯正されるようになっている。
【００３３】
また、本実施形態では、ガイド幅ＧＨとともに溝８ａ，９ａの深さが変化するのでフレキシブルテープ６０の両端部６１が常に溝８ａ，９ａに当接して良好に保持されることとなる。よって、ガイド８，９は、矯正時に該フレキシブルテープ６０の幅方向におけるガタツキの発生が防止されたものとなる。
【００３４】
図３は、塗布ユニット４の全体構成図である。図３に示すように塗布ユニット４は、貯蔵容器１０と、ポンプ２０と、レジスト調質部３０と、レジスト塗布部４０と、を備えている。貯蔵容器１０とポンプ２０は配管５２を介して接続され、ポンプ２０とレジスト調質部３０は配管５４を介して接続され、レジスト調質部３０とレジスト塗布部４０は配管５６を介して接続され、レジスト塗布部４０と貯蔵容器１０は配管５８を介して接続されており、全体としてフォトレジスト１２の循環系を構成している。
【００３５】
貯蔵容器１０は、液体のフォトレジスト１２を貯蔵するタンクである。貯蔵容器１０は配管５２、５８が接続された状態で密閉されている。出口側の配管５２は貯蔵容器１０の底部付近まで延びており、開口した先端が常にフォトレジスト１２中に配置される。一方、入口側の配管５８は、フォトレジスト１２の液面よりも上側の空間１４に開口している。
【００３６】
ポンプ２０は、配管５２を介して貯蔵容器１０からフォトレジスト１２を吸い出すとともに、配管５４を介してレジスト調質部３０へフォトレジスト１２を圧送する。ポンプ２０としては、公知の液送ポンプであれば特に限定されず用いることができる。
【００３７】
レジスト調質部３０は、密閉タンク３２と、密閉タンク３２に配管３４を介して接続された真空ポンプ３６と、フォトレジスト１２をろ過するフィルタ装置３９と、を備えている。
密閉タンク３２は、フォトレジスト１２を貯留する内側タンク３２ｂと、内側タンク３２ｂを収容する外側タンク３２ａとを有する。
【００３８】
内側タンク３２ｂには、ポンプ２０から延びる配管５４とフィルタ装置３９とが接続されている。配管５４は、内側タンク３２ｂの底部近傍の側壁に設けられた接続部１３２に接続されている。フィルタ装置３９は、内側タンク３２ｂの他の側壁に設けられた接続部１３３に接続されている。
【００３９】
外側タンク３２ａは、内側タンク３２ｂを内部に密閉することができる真空容器である。外側タンク３２ａには配管３４を介して真空ポンプ３６が接続され、真空ポンプ３６により空間３８内を減圧可能に構成されている。空間３８の圧力は１ｋＰａ〜１０ｋＰａ程度とすればよい。圧力を低くしすぎるとフォトレジスト１２中の溶媒が蒸発して粘度が上昇するためである。
【００４０】
フィルタ装置３９は、フォトレジスト１２に含まれる異物を除去する装置であり、公知のろ過装置を用いることができる。フィルタ装置３９としては、５０μｍ以上の大きさの異物や気泡を除去できるものを用いることが好ましい。
【００４１】
上記構成のレジスト調質部３０は、配管５４を介してポンプ２０から供給されるフォトレジスト１２を内側タンク３２ｂに貯留した状態で、真空ポンプ３６により空間３８を減圧することで、フォトレジスト１２に含まれる気泡を除去する。そして、気泡が除去されたフォトレジスト１２を、フィルタ装置３９でろ過し、浄化した後、配管５６を介してレジスト塗布部４０へ供給する。
【００４２】
レジスト塗布部４０は、レジスト供給部（レジスト供給源）４１と、引き上げロール４２と、転写ロール４４と、搬送ロール４５とを備えている。
【００４３】
図３に示すように転写ロール４４は大略円柱状であり、その中心軸に沿って回転軸５０が設けられている。転写ロール４４はフレキシブルテープ６０よりも狭い幅を有している。具体的に転写ロール４４はフレキシブルテープ６０の両端に設けられたスプロケットホールＳＨ間の距離よりも小さい寸法を有している。これにより、転写ロール４４は、フレキシブルテープ６０上のスプロケットホールＳＨ間の領域にフォトレジスト１２を塗布することが可能となっている（図２（ａ）参照）。なお、転写ロール４４と搬送ロール４５との間にはフレキシブルテープ６０を通過させる間隙が設けられている。
【００４４】
レジスト供給部４１は、配管５６及び配管５８に接続され、上方に開口した皿形の容器である。レジスト供給部４１には、レジスト調質部３０から配管５６を介して流入するフォトレジスト１２が貯留される。また、流入量と同量のフォトレジスト１２が配管５８を介して貯蔵容器１０へ排出される。
【００４５】
引き上げロール４２は、レジスト供給部４１に貯留されたフォトレジスト１２に部分的に浸される位置に設けられている。引き上げロール４２の上方に転写ロール４４が配置されている。引き上げロール４２と転写ロール４４は、それらの周面がほぼ当接する位置に配置されており、互いに逆方向に回転する。転写ロール４４の上方に、搬送ロール４５が配置されている。
【００４６】
フレキシブルテープ６０は、図３に示すように、搬送ロール４５に対して導電体層６２を外側に向けて架け渡され、搬送ロール４５により搬送される。
【００４７】
上記構成のレジスト塗布部４０では、引き上げロール４２の回転によりレジスト供給部４１からフォトレジスト１２が引き上げられ、引き上げロール４２から転写ロール４４へフォトレジスト１２が受け渡される。このような構成に基づき、搬送ロール４５により搬送されるフレキシブルテープ６０が搬送ロール４５と転写ロール４４との間隙を通過する際、転写ロール４４からフレキシブルテープ６０へフォトレジスト１２が転写されるようになっている。よって、塗布ユニット４は、フレキシブルテープ６０上の全面にフォトレジスト１２を塗布することができる。
【００４８】
続いて、成膜装置１の動作としてレジスト成膜工程について説明する。
はじめに成膜装置１は、クリーニング部３を駆動し、フォトレジスト１２の塗布に先立って、テープ搬送部２により搬送されるフレキシブルテープ６０の表面をクリーニングする。これにより、フレキシブルテープ６０のレジスト塗布面に付着していた埃やゴミ等の異物を除去することができる。
【００４９】
次に成膜装置１は、塗布ユニット４を駆動し、テープ搬送部２により搬送されるフレキシブルテープ６０の表面にフォトレジスト１２を塗布する。
【００５０】
塗布ユニット４は、搬送ロール４５により搬送されるフレキシブルテープ６０が搬送ロール４５と転写ロール４４との間隙を通過する際に、図３に示したように転写ロール４４からフレキシブルテープ６０にフォトレジスト１２を転写する。ここで、転写ロール４４はフレキシブルテープ６０よりも狭い幅を有しているので、図２（ａ）に示したようにスプロケットホールＳＨ間の領域にフォトレジスト１２を塗布することができる。
【００５１】
図４はレジスト成膜工程を説明するための図である。
このようにしてフォトレジスト１２が塗布されたフレキシブルテープ６０の断面形状は、図４（ａ）に示す態様となる。本実施形態においては、フォトレジスト１２がフレキシブルテープ６０上の全面に塗布されないため、フォトレジスト１２の一部が表面張力によって端部に引き寄せされることで膜厚の薄い凹部分１２ａと、膜厚の厚い凸部分１２ｂとを生じさせ、特に両端部においてフォトレジスト１２の膜厚が不均一となる。このように厚みが不均一なフォトレジスト１２を乾燥して硬化させた場合、当然ながら成膜された後のレジスト膜も厚みが不均一となってしまう。
【００５２】
これに対して本実施形態の成膜装置１は、矯正部６によってフレキシブルテープ６０の形状を矯正し、該フレキシブルテープ６０上に塗布されたフォトレジスト１２の膜厚を平坦化している。
【００５３】
具体的に矯正部６は、ガイド幅ＧＨを漸次狭めるガイド８，９の溝８ａ，９ａに沿ってフレキシブルテープ６０の搬送をガイドすることで該フレキシブルテープ６０の両端部６１を中央部側且つ斜め下方に移動させる。これにより、フレキシブルテープ６０は、図４（ｂ）に示すように両端部６１が中央部６１ａに対して相対的に持ち上げられた状態に形状が矯正される。
【００５４】
すると、フレキシブルテープ６０の両端部６１が相対的に持ち上げられるので、凸部分１２ｂが凹部分１２ａに対して上昇するため、凸部分１２ｂを構成するフォトレジスト１２を、凹部分１２ａを構成するフォトレジスト１２側に流動させることができる。よって、図４（ｃ）に示すようにフレキシブルテープ６０上に塗布されたフォトレジスト１２の膜厚を均一に矯正することができる。
【００５５】
ここで、本実施形態では、矯正部６がフレキシブルテープ６０の搬送経路のうち、塗布ユニット４及び乾燥部５間の中間地点から乾燥部５の中間地点に至るように配置されている。そのため、フレキシブルテープ６０の搬送方向における先端が乾燥部５内に搬送されるタイミングにおいて、該フレキシブルテープ６０は矯正部６によって矯正された状態となっている。よって、乾燥部５による加熱が開始される時点において、フォトレジスト１２は膜厚のバラツキが解消されて均一化されたものとなる。
【００５６】
成膜装置１は、乾燥部５によりフレキシブルテープ６０を加熱し、該フレキシブルテープ６０上に塗布されたフォトレジスト１２を硬化させてレジスト膜ＲＭを形成する。なお、矯正部６は乾燥部５の入口部分においてフレキシブルテープ６０の矯正度合いが最大（すなわち、ガイド幅ＧＨが最少）となっている。そのため、フレキシブルテープ６０は乾燥部５の内部に搬送されるに従って、矯正部６による矯正度合いが弱まっていく。よって、矯正部６によってフレキシブルテープ６０が湾曲した状態でフォトレジスト１２が硬化してしまい、平坦なレジスト膜ＲＭが形成できないといった不具合の発生を防止できる。
【００５７】
以上述べたように本実施形態に係る成膜装置１によれば、矯正部６によってフレキシブルテープ６０上のフォトレジスト１２の膜厚のバラツキを調整して該フォトレジスト１２を硬化させるので、均一な膜厚のレジスト膜ＲＭを成膜することができる。また、本実施形態では、矯正部６がテープ搬送部２によって搬送された状態のフレキシブルテープ６０を矯正するため、レジスト膜ＲＭの成膜工程に要するタクトを短縮することができる。
【００５８】
なお、本発明に係る一実施形態について説明したが、本発明はこれに限定されることは無く、発明の主旨を逸脱しない範囲内において適宜変更可能である。
【００５９】
上記実施形態では、矯正部６がフレキシブルテープ６０を矯正する際、該フレキシブルテープ６０を湾曲させた状態に矯正する場合を例に挙げたが、矯正方法はこれに限定されることはない。図５は矯正方法に係る変形例を示す概念図である。
【００６０】
フレキシブルテープ６０を矯正する場合、例えば図５に示すようにフォトレジスト１２の厚みが薄くなった凹部分１２ａに対応する部分を折り曲げ、スプロケットホールＳＨが形成されたテープ端を上方に持ち上げるようにしてもよい。
これによれば、上記実施形態と同様、均一なレジスト膜を成膜することができる。
【００６１】
また、上記実施形態では、矯正部６がフレキシブルテープ６０の両端部をガイドする一対のガイド８，９から構成される場合を例に挙げたが、矯正部６の構成はこれに限定されることはない。例えば、フレキシブルテープ６０の両端部を中央部に対して相対的に持ち上げることが可能な構成であれば、適宜置き換え可能である。一例として、フレキシブルテープ６０の中央部の裏面側を静電吸着や吸引ポンプ等を用いて引き寄せることで中央部を下方に移動し、両端部を相対的に上方に位置させることでフォトレジスト１２の膜厚を均一化させることができる。
【００６２】
また、上記実施形態では矯正部６としてガイド８，９の溝８ａ，９ａの深さ及び傾斜角度θを漸次変化させる構成を例に挙げたが、傾斜角度θのみを変化させてフレキシブルテープ６０の形状を矯正する構成でもあっても構わない。
【００６３】
また、上記実施形態では、矯正部６がテープ搬送部２によって搬送された状態のフレキシブルテープ６０を矯正する態様を例に挙げて説明したが、フレキシブルテープ６０の搬送を停止した状態で矯正を行うようにしても構わない。
【符号の説明】
【００６４】
１…成膜装置、５…乾燥部、６…矯正部、８、９…ガイド、８ａ，９ａ…溝、１２…フォトレジスト（レジスト液）、６０…フレキシブルテープ（基材）、６１…両端部、６１ａ…中央部、ＧＨ…ガイド幅、ＲＭ…レジスト膜
【図１】
2013197272.tif 000003
【図２】
2013197272.tif 000004
【図３】
2013197272.tif 000005
【図４】
2013197272.tif 000006
【図５】
2013197272.tif 000007