(57)【要約】【課題】パッシブ方式による３次元画像表示に関して、従来に比して一段と寸法精度を向上する。【解決手段】基材に形成した紫外線硬化性樹脂への金型に作製した凹凸形状の賦型（１９）により配向膜を作製する際に、この賦型直前における基材の含水率を制御して基材の伸縮を管理し（５２）、これによりパターン位相差フィルムの寸法精度を向上する。【選択図】図９
2013140306.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明フィルムによる基材の一方の面に配向膜、位相差層が順次作製されるパターン位相差フィルムの製造方法において、
前記基材の一方の面に紫外線硬化性樹脂を塗布する紫外線硬化性樹脂の塗布工程と、
前記基材に塗布された前記紫外線硬化性樹脂を乾燥させる乾燥工程と、
前記乾燥工程で乾燥した前記紫外線硬化性樹脂を金型に押圧して硬化させることにより、前記金型に作製された凹凸形状を転写して前記配向膜を作製する賦型工程と、
前記位相差層を作製する位相差層作製工程とを備え、
さらに前記位相差層作製工程に供給する前記基材の含水率を制御する水分量調整工程を備えるパターン位相差フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記水分量調整工程は、
前記賦型工程に供給する前記基材の含水率を０．３１％以上、０．９１％以下に制御する
請求項１に記載のパターン位相差フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記水分量調整工程は、
前記乾燥工程における前記基材の搬送速度の制御により前記基材の含水率を制御する
請求項１又は請求項２に記載のパターン位相差フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記紫外線硬化性樹脂の塗布工程の前及び又は後に、前記基材の含水率を測定する第１の水分量測定工程を有し、
前記水分量調整工程は、
前記水分量測定工程の測定結果に基づいて、前記基材の含水率を制御する
請求項１、請求項２、又は請求項３に記載のパターン位相差フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記位相差層の上に保護フィルムを配置する保護フィルム配置工程と、
前記基材の他方の面に粘着層を作製する粘着層作製工程と、
前記賦型工程の後で、前記基材の含水率を測定する第２の水分量測定工程とをさらに備え、
前記第２の水分量測定工程の測定結果に基づいて、保護フィルム配置工程及び又は前記粘着層作製工程における前記基材の搬送速度を制御する
請求項１、請求項２、請求項３、又は請求項４に記載のパターン位相差フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パッシブ方式による３次元画像表示に適用するパターン位相差フィルムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
フラットパネルディスプレイは、従来、２次元表示のものが主流であった。しかしながら、近年、３次元表示可能なフラットパネルディスプレイが注目を集めており、一部市販もされている。そして今後のフラットパネルディスプレイは３次元表示可能であることが当然に求められる傾向にあり、３次元表示可能なフラットパネルディスプレイの検討が幅広い分野において進められている。
【０００３】
フラットパネルディスプレイにおいて３次元表示をするには、通常、何らかの方式で右目用の映像と、左目用の映像とを、それぞれ選択的に視聴者の右目及び左目に提供することが必要である。右目用の映像と左目用の映像とを選択的に提供する方法としては、例えば、パッシブ方式が知られている。このパッシブ方式の３次元表示方式について図を参照しながら説明する。図９は、液晶表示パネルを使用したパッシブ方式の３次元表示の一例を示す概略図である。この図９の例では、液晶表示パネルの垂直方向に連続する画素を、順次交互に、右目用の映像を表示する右目用画素、左目用の映像を表示する左目用画素に振り分け、それぞれ右目用及び左目用の画像データで駆動し、これにより右目用の映像と左目用の映像とを同時に表示する。なおこれにより液晶表示パネルの画面は、短辺が垂直方向で長辺が水平方向となる帯状の領域により、右目用の映像を表示する領域と左目用の映像を表示する領域とに交互に区分されることになる。
【０００４】
さらにパッシブ方式では、液晶表示パネルのパネル面にパターン位相差フィルムを配置し、右目用及び左目用の画素からの直線偏光による出射光を、右目用及び左目用で回転方向の異なる円偏光に変換する。このためパターン位相差フィルムは、液晶表示パネルにおける領域の設定に対応して、遅相軸方向（屈折率が最大となる方向）が互いに直交する２種類の帯状領域が順次交互に形成される。これによりパッシブ方式では、対応する偏光フィルタを備えてなる眼鏡（メガネ）を装着して、右目用の映像と左目用の映像とをそれぞれ選択的に視聴者の右目及び左目に提供する。ちなみにこの隣接する帯状領域の遅相軸方向は、通常、水平方向に対して、＋４５度と−４５度、０度と＋９０度、０度と−９０度の何れかの組み合わせが採用される。なおこの図９の例では、通常の画像表示装置における呼称に習って画面の長辺方向を水平方向として示す。パッシブ方式では、この図９における水平方向に連続する画素を、垂直方向（画面の短辺方向）を長辺とする帯状領域に右目用及び左目用に振り分けて駆動すると共に、これに対応するようにパターン位相差フィルムを作製しても、同様に３次元画像を表示することができる。
【０００５】
このパッシブ方式は、応答速度の遅い液晶表示装置でも適用することができ、さらにパターン位相差フィルムと円偏光メガネとを用いた簡易な構成で３次元表示することができる。従ってパッシブ方式の液晶表示装置は、今後の３次元表示装置の中心的存在となるものとして非常に注目されている。
【０００６】
このパッシブ方式に係るパターン位相差フィルムは、画素の割り当てに対応して透過光に位相差を与えるパターン状の位相差層が必要である。このパターン位相差フィルムは、まだ広く研究、開発が行われておらず、標準的な技術としても確立されているものがないのが現状である。
【０００７】
このパターン位相差フィルムに関して、特許文献１には、配向規制力を制御した光配向膜をガラス基板上に形成し、この光配向膜により液晶の配列をパターンニングして位相差層を作成する方法が開示されている。また特許文献２には、レーザーの照射によりロール版の周囲に微細な凹凸形状を形成し、この凹凸形状を転写してパターン状に配向規制力を制御した光配向膜を作製する方法が開示されている。
【０００８】
このようなパターン位相差フィルムは、高い精度により効率良く量産できることが望まれるものの、従来の手法においては、精度の点で、実用上未だ不十分な問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００５−４９８６５号公報
【特許文献２】特開２０１０−１５２２９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、パッシブ方式に係るパターン位相差フィルム等に関して、従来に比して一段と寸法精度を向上することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、金型の凹凸形状を賦型して配向膜を作製する場合に、この賦型直前における基材の含水率を制御して基材の伸縮を管理するとの着想に至り、本発明を完成するに至った。
【００１２】
具体的には、本発明では、以下のようなものを提供する。
【００１３】
（１）  透明フィルムによる基材の一方の面に配向膜、位相差層が順次作製されるパターン位相差フィルムの製造方法において、
前記基材の一方の面に紫外線硬化性樹脂を塗布する紫外線硬化性樹脂の塗布工程と、
前記基材に塗布された前記紫外線硬化性樹脂を乾燥させる乾燥工程と、
前記乾燥工程で乾燥した前記紫外線硬化性樹脂を金型に押圧して硬化させることにより、前記金型に作製された凹凸形状を転写して前記配向膜を作製する賦型工程と、
前記位相差層を作製する位相差層作製工程とを備え、
さらに前記位相差層作製工程に供給する前記基材の含水率を制御する水分量調整工程を備える。
【００１４】
（１）によれば、位相差層作製工程に供給する前記基材の含水率を制御する水分量調整工程を備えることにより、含水率により伸縮する基材に関して、含水率を一定範囲に収めた状態で金型に形成された凹凸形状を転写することができる。従って以降の工程において含水率が変化した場合でも、寸法の変化を一定範囲に留めることができ、これによりパターン位相差フィルムの寸法精度を向上することができる。
【００１５】
（２）  （１）において、
前記水分量調整工程は、
前記賦型工程に供給する前記基材の含水率を０．３１％以上、０．９１％以下に制御する。
【００１６】
（２）によれば、パターン位相差フィルムの製造工程において、実用上充分にパターン位相差フィルムの寸法精度を向上することができる。
【００１７】
（３）  （１）又は（２）において、
前記水分量調整工程は、
前記乾燥工程における前記基材の搬送速度の制御により前記基材の含水率を制御する。
【００１８】
（３）によれば、乾燥工程を有効に利用して水分量調整工程を設けることができる。
【００１９】
（４）  （１）、（２）又は（３）において、
前記紫外線硬化性樹脂の塗布工程の前及び又は後に、前記基材の含水率を測定する第１の水分量測定工程を有し、
前記水分量調整工程は、
前記水分量測定工程の測定結果に基づいて、前記基材の含水率を制御する。
【００２０】
（４）によれば、製造工程に供給される基材の含水率が種々に変化する場合でも、この変化に対応して含水率を制御することができ、一段と精度を向上することができる。
【００２１】
（５）  （１）、（２）、（３）又は（４）において、
前記位相差層の上に保護フィルムを配置する保護フィルム配置工程と、
前記基材の他方の面に粘着層を作製する粘着層作製工程と、
前記賦型工程の後で、前記基材の含水率を測定する第２の水分量測定工程とをさらに備え、
前記第２の水分量測定工程の測定結果に基づいて、保護フィルム配置工程及び又は前記粘着層作製工程における前記基材の搬送速度を制御する。
【００２２】
（５）によれば、さらに詳細に含水率を調整して寸法精度を向上することができる。またこの場合、水分量調整工程において、含水率を事前に調整していることにより、保護フィルム配置工程及び又は前記粘着層作製工程における搬送速度の制御だけで、実用上充分に寸法のばらつきを抑圧して歩留まりを格段に向上することができる。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、高い寸法精度により効率良くパターン位相差フィルムを量産することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明の第１実施形態に係るパターン位相差フィルムを示す図である。
【図２】図１のパターン位相差フィルムの製造工程の説明に供する図である。
【図３】図２の続きを示す図である。
【図４】図３の金型の製造方法の説明に供する図である。
【図５】図４の続きを示す図である。
【図６】図２の製造工程における基材含水率の変化を示す特性曲線図である。
【図７】図３の製造工程における基材含水率の変化を示す特性曲線図である。
【図８】含水率と寸法との関係を示す図である。
【図９】寸法調整処理の説明に供する図である。
【図１０】パッシブ方式による３次元画像表示の説明に供する図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。
【００２６】
〔第１実施形態〕
図１は、本発明の第１実施形態に係る画像表示装置に適用されるパターン位相差フィルムを示す図である。この第１実施形態に係る画像表示装置は、液晶表示パネルの垂直方向（図１においては左右方向）に連続する画素が、順次交互に、右目用の映像を表示する右目用画素、左目用の映像を表示する左目用画素に振り分けられて、それぞれ右目用及び左目用の画像データで駆動される。これにより画像表示装置は、右目用の映像を表示する帯状の領域と、左目用の映像を表示する帯状の領域とに表示画面が交互に区分され、右目用の映像と左目用の映像とを同時に表示する。この画像表示装置は、この液晶表示パネルのパネル面に、この図１に示すパターン位相差フィルム１が配置され、このパターン位相差フィルム１により右目用及び左目用の画素からの出射光にそれぞれ対応する位相差を与える。これによりこの画像表示装置は、パッシブ方式により所望の立体画像を表示する。
【００２７】
ここでパターン位相差フィルム１は、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）の透明フィルムからなる基材２の一方の面上に、配向膜３、位相差層４が順次作製される。パターン位相差フィルム１は、位相差層４が屈折率異方性を保持した状態で固化（硬化）された液晶材料により形成され、この液晶材料の配向を配向膜３の配向規制力によりパターンニングする。なおこの液晶分子の配向を図１では細長い楕円により誇張して示す。このパターンニングにより、パターン位相差フィルム１は、液晶表示パネルにおける画素の割り当てに対応して、一定の幅により、右目用の領域Ａと、左目用の領域Ｂとが順次交互に帯状に形成され、右目用及び左目用の画素からの出射光にそれぞれ対応する位相差を与える。
【００２８】
パターン位相差フィルム１は、基材２の表面に紫外線硬化性樹脂５が塗布された後、この紫外線硬化性樹脂５の表面に微小な凹凸形状が形成される。パターン位相差フィルム１は、この紫外線硬化性樹脂５の表面の凹凸形状により配向膜３が形成される。パターン位相差フィルム１は、製造用金型に作製された微小な凹凸形状を転写して、配向膜３に係る微小な凹凸形状が作製され、この凹凸形状による配向規制力により位相差層４をパターンニングする。このため配向膜３は、右目用及び左目用の帯状領域Ａ及びＢにそれぞれ対応する帯状の領域が順次交互に形成され、それぞれ微小な凹凸形状が作製される。ここでこの微小な凹凸形状は、一方向に延長するライン状（線）の凹凸形状により形成され、この一方向に延長する方向が右目用領域Ａと左目用領域Ｂのうちの何れか一方向に対応する第１の領域及び右目用領域Ａと左目用領域Ｂのうちの他方向に対応する第２の領域とで互いに９０度異なる方向となるように、かつ各領域の延長方向（水平方向であり、図１に於いては右上と左下とを結ぶ方向に対応）に対して４５度傾くように形成される。なおこのこの傾きは、基材２等のリタデーションが無視できない程度に大きい場合には、リタデーション値に応じて、適宜、増減される。
【００２９】
さらにパターン位相差フィルム１は、位相差層４の上に、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタラート）フィルムによる保護フィルム６が配置される。また基材２の他方の面に粘着層７、セパレータフィルム８が順次設けられる。なおセパレータフィルム８は、例えばＰＥＴフィルムが適用される。パターン位相差フィルム１は、この粘着層７により液晶表示パネルの表示画面に貼り付けられて保持される。なおパターン位相差フィルム１は、さらに反射防止膜等が必要に応じて設けられる。
【００３０】
〔パターン位相差フィルム製造工程〕
図２は、このパターン位相差フィルム１の製造工程の前半部分を示す略線図である。この製造工程１０は、基材２に配向膜３を作製する配向膜作製工程である。この製造工程１０は、基材２がロールにより提供され、この基材２を供給リール１１から供給する。製造工程１０は、紫外線硬化性樹脂の塗布工程１２において、この基材２に順次紫外線硬化性樹脂を塗布する。より具体的に、この塗布工程１２は、ダイ１３により紫外線硬化性樹脂の塗布液を塗布する。製造工程１０は、続く乾燥工程１７において、基材２に塗布した紫外線硬化性樹脂を乾燥させる。このため乾燥工程１７は、乾燥機１８において８０℃の熱風により約１分間、紫外線硬化性樹脂を乾燥させ、未硬化の状態で次工程に送出する。
【００３１】
続いてこの製造工程１０は、賦型工程１９において、転写用金型の表面に形成された微細なライン状の凹凸形状を紫外線硬化性樹脂の表面に転写して配向膜３を作製する。すなわちこの賦型工程１９においては、円筒形状によるロール版２０が転写用金型であり、このロール版２０の表面に転写に供する微細な凹凸形状が形成されている。賦型工程１９は、押圧ローラ１９Ａにより基材２に設けられた紫外線硬化性樹脂層をロール版２０に押圧し、この状態で紫外線照射装置２３からの紫外線を基材２側から照射し、紫外線硬化性樹脂を硬化させる。また剥離ローラ１９Ｂによりロール版２０から基材２を剥離した後、図示しない紫外線照射装置により紫外線を再度照射して未硬化の紫外線硬化性樹脂を硬化させ、中間リール２４に巻き取って続く工程に送出する。
【００３２】
図３は、このパターン位相差フィルム１の製造工程の後半部分を示す略線図である。この製造工程３０は、位相差層４の作製工程である。この製造工程３０は、図２の製造工程１０で配向膜３が作製された基材２の供給を中間リール２４により受ける。この製造工程３０は、液晶材料の塗布工程３１において、基材２をプリヒートした後、ダイ３３によりこの基材２に順次液晶材料を塗布する。この塗布された液晶材料は、配向膜３上において、配向膜３の配向規制力により、図１に示す帯状の領域Ａ、領域Ｂ内に係るライン状の凹凸形状の走行方向（延長方向）に配向する。
【００３３】
続いてこの製造工程３０は、続く乾燥工程３４において、乾燥機３５により基材２に塗布した液晶材料を熱風で乾燥させる。製造工程３０は、続く紫外線照射工程３６において、押圧ローラ３６Ａを介して基材２をローラ３７に巻き付け、ここで紫外線照射装置３８からの紫外線を照射する。なおここでローラ３７は、内部を冷却水が循環する鉄製の冷却ローラであり、これによりこの製造工程３０は、基材２の温度上昇を抑制する。これらによりこの製造工程３０は、液晶材料を、液晶分子が所定のパターン状に（図１における配向膜３上のライン状凹凸形状の延長方向と合致した配向パターンで）配向した状態のままで硬化させて位相差層４を作製し、剥離ローラ３６Ｂを介して基材２を送出する。
【００３４】
製造工程３０は、続いて図示しない保護フィルム配置工程において、粘着剤を介して保護フィルム６を位相差層４の上面に圧着させ、この状態で所定の温度により粘着剤を硬化させ、これによりこの保護フィルムを貼り付ける。なおここで保護フィルムは、各種の透明フィルムを適用することができるものの、この実施形態ではＰＥＴ（ポリエチレンテレフタラート）フィルムが適用される。
【００３５】
またさらに続く粘着層作製工程において、基材２の位相差層４を作製していない側の面に、粘着層７、セパレータフィルム８が設けられる。より具体的に、この工程では、粘着層７を構成する粘着剤を直接塗工し、該粘着剤にセパレータフィルムをラミネートした後、エージングして粘着層７、セパレータフィルム８を配置する。この製造工程は、その後、基材２を所望の大きさで切断してパターン位相差フィルム１を作製する。
【００３６】
〔ロール版製造工程〕
図４及び図５は、パターン位相差フィルムの製造用金型であるロール版２０の製造工程を示す図である。なおこの図４及び図５において、パターン位相差フィルム１の領域Ａ、Ｂに対応する領域を、それぞれ符号ＡＲＡ、ＡＲＢにより示す。この製造工程では、母材４０の表面を研磨して平滑化した後（図４（ａ））、第１の凹凸形状作製工程において、母材４０の全面に微小なライン状凹凸形状による第１凹凸領域４２を形成する（図４（ｂ））。ここで母材４０は、ロール版２０の外形形状に対応する円筒形状の金属材料である。母材４０は、後述するレジスト層４３等を剥離除去可能に積層できるものであれば特に限定されるものではなく、ニッケル、クロム、チタン、銅、コバルト等の各種金属材料、ＳｉＯ２、ＤＬＣ（ダイヤモンド状炭素）、ＴｉＯ２、等の各種無機酸化物等を広く適用することができるものの、後述するレジスト層４３等を剥離除去可能に積層する観点から、金属材料、ＤＬＣ、ＴｉＯ２等であることが好ましく、ニッケル、クロム、ＤＬＣであることがより好ましい。またスパッタリング等の手法を適用して各種の金属材料層を表面に作製したものを適用しても良く、例えばこの表面の金属材料層にタングステン、チタン、金属化合物である酸化チタン、窒化チタン、タングステンカーバイド、酸化クロム、クロムモリブデン、ニッケルクロムモリブデンを適用すれば、強度を向上させることができる。
【００３７】
第１凹凸領域４２は、母材４０の表面に、配向膜３の右目用領域又は左目用領域の凹凸形状に対応する微小な凹凸形状を作製して形成される。なおここで言う表面とは円筒形状をした母材４０の円筒としての側面を意味する。具体的に、この実施形態では、ラビングロールＲによるラビング処理によりこの凹凸形状が作製される。
【００３８】
続いてロール版２０は、マスク作製工程において、レジスト材料により、右目用領域Ａに対応する領域ＡＲＡを被覆し、かつ左目用領域Ｂに対応する領域ＡＲＢを露出させたマスクが作製される。すなわちこの工程では、ポジ型のレジスト剤を全面に塗布した後、紫外線により露光し、現像処理することにより、左目用領域Ｂに対応する領域ＡＲＢを露出させたマスクが作製される。なおレジスト材料としては特に限定されるものではなく、ネガ型レジスト材料を適用しても良い。また塗布方法、露光方法にあっても種々の手法を広く適用することができる。
【００３９】
続いて図５（ｄ）に示すように、薄膜作製工程において、全面に、無機材料の第２層膜４４が、０．１μｍの膜厚で作製される。これによりレジスト層４３によりマスクされていない母材４０の表面に、第２層膜４４からなる第２層パターンが形成される。なおこの第２層膜４４は、例えばスパッタリングの手法を適用してクロム、チタン、ニッケル等の金属材料、金属化合物、ＤＬＣを成膜して作製される。
【００４０】
続いて図５（ｅ）に示すように、第２の凹凸形状作製工程において、第１凹凸領域４２と異なる方向（この実施形態では第１凹凸領域４２のラビング方向とは９０度の角度をなす方向である）に全面をラビングロールＲによりラビング処理し、第２層膜４４の表面に凹凸形状を作製する。その後、製造工程は、図５（ｆ）に示すように、続くレジスト除去工程において、レジスト層４３を、その上層の第２層膜４４と共に除去し、これにより２回の凹凸形状作製処理により配向膜３の領域Ａ及びＢに対応する凹凸形状を作製する。
【００４１】
〔寸法調整処理〕
ところで基材２に適用されるＡＴＣは、水分を吸収し易く、また含水率に応じて伸縮する特徴がある。これによりパターン位相差フィルム１では、連続する右目用及び左目用の領域を所定数分だけまとめた幅（トータルピッチ）が変化し、その結果、寸法精度が劣化することが判った。なおトータルピッチが変化すると、例えば画像表示パネルの画面中央を基準にして画像表示パネルにパターン位相差フィルム１を配置した際に、画面の上下において、右目用画素及び左目用画素に対して、対応する右目用の領域Ａ及び左目用の領域Ｂを正しく割り当てることが困難になり、その結果、画面の上下でクロストークが発生することになる。ここでクロストークは、本来、右目に選択的に供給すべき右目用の画素からの出射光が左目に漏れ込んだり、これとは逆に本来、左目に選択的に供給すべき左目用の画素からの出射光が右目に漏れ込んだりする現象であり、激しくなると立体感が失われることになる。これに対してパターン位相差フィルム１は、製造工程で乾燥等の処理が種々に実行されることにより、含水率が種々に変化することになる。また製造工程に供給される基材２自体も、種々に含水率が変化する。
【００４２】
図６は、配向膜作製工程１０における含水率の変化を示す図である。符号Ａ１は、紫外線硬化性樹脂の塗布の直前における測定結果であり、符号Ｂ１は、乾燥工程３４を経た直後の測定結果である。なお図２において、対応する測定箇所を符号Ａ１及びＢ１により示す。この測定は、基材２を間に挟んで光源及び受光素子を対向するように配置し、赤外線の吸光度を測定したものである。基材２は、厚みが６０〔μｍ〕であり、横軸は、複数ロールによる基材２の搬送量である。ここで赤外線は、水により吸収されることにより、吸光度は、含水率にほぼ反比例することになる。この図６によれば、乾燥工程１７の前後で、吸光度が約０．５から０．２５に変化しており、これにより乾燥工程で基材２の水分が低下したことが判る。なおここで吸光度０．５及び０．２５は、この例では、基材２における含水率２．１３％、０．６１％にそれぞれ相当する。なおこの明細書において、含水率は重量含水率である。
【００４３】
また図７は、同様にして位相差層作製工程３０における含水率の測定結果である。符号Ｃは、中間リール２４から引き出した直後の測定結果であり、符号Ｄは、その後のプリヒート後の測定結果である。また符号Ｅは、乾燥機３５から排出された直後の測定結果であり、符号Ｆは、紫外線照射工程３６の直後の測定結果である。なお図３において、対応する測定箇所を符号Ｃ〜Ｆにより示す。各測定箇所では、基材２における幅方向の両端２箇所で吸光度を測定し、図７では、この２箇所の測定結果（それぞれＭＳ及びＧＳにより示す）をそれぞれ示すものである。またこの測定は、図６について上述した測定と同様の光学系により測定したものであり、測定値は、各測定点における平均値である。この図７によれば、位相差層作製工程３０において、含水率が種々に変化していることが判る。
【００４４】
これらの測定結果を種々に検討したところ、賦型工程１９に供給する基材２の含水率を管理すれば、以降の工程において含水率が変化した場合でも、寸法の変化を一定範囲に留めることができることが判った。またこのようにして基材２の含水率を管理する場合には、賦型工程１９より得られるパターン位相差フィルム１の寸法のばらつきを一定の範囲に収め、以降の工程において、詳細に含水率を調整して寸法精度を一段と向上できることが判った。
【００４５】
図８は、賦型工程１９に供給されるパターン位相差フィルム１の吸光度（図２のＢ点の測定値である）と寸法との関係を示すものである。この図８において、縦軸は、トータルピッチの測定基準値に対する偏差ΔＴＰである。また直線は、測定結果における吸光度と偏差ΔＴＰとの間の相関曲線である。この図８によれば、吸光度が０．１変化すると、トータルピッチが７０μｍ変化することが判る。ここでトータルピッチにおける７０μｍ程度の誤差は、トータルピッチが４００ｍｍ程度の場合、後工程である保護フィルム配置工程、粘着層作製工程において、基材２の搬送速度の制御により充分に調整することが可能な誤差である。
【００４６】
これによりこの実施形態では、賦型工程１９に供給されるパターン位相差フィルム１の吸光度を０．２以上、０．３以下に管理し、賦型工程１９より得られるパターン位相差フィルム１の寸法のばらつきを一定の範囲に収めた上で、さらに、以降の工程において、詳細に含水率を詳細に調整して寸法精度を一段と向上する。なおここで賦型工程１９に供給されるパターン位相差フィルム１の吸光度を０．２以上、０．３以下に管理する場合、基材２の含水率は、０．９１％以下、０．３１％以上に管理することになる。
【００４７】
図９は、この含水率の管理に係る製造工程を示す図である。この図９において、図２及び図３について上述した各工程は、対応する符号を付して示す。この工程では、ダイ１３による紫外線硬化性樹脂の塗布工程１２の前に、第１の水分量測定工程５１が設けられる。ここで水分量測定工程５１は、基材２を間に挟んで対向するように光源及び受光素子を配置し、この光源及び受光素子を使用した赤外線に係る吸光度の測定により構成される。これによりこの製造工程は、ロールにより種々に変化する基材２の含水率を計測する。さらにこの工程は、水分量調整工程５２が設けられ、この水分量調整工程５２により基材２の含水率を制御する。これによりこの実施形態では、賦型直前における基材２の水分量（含水率）を制御して基材２の伸縮を管理し、パターン位相差フィルムの寸法精度を向上する。
【００４８】
より具体的に、この実施形態では、水分量測定工程５１で求められた含水率に基づいて、乾燥工程１７における基材２の搬送速度を可変することにより、乾燥工程１７から続く賦型工程１９に供給する機材２の含水率を０．３１％以上、０．９１％以下に制御する。なおこの搬送速度の可変は、水分量測定工程５１で高い水分量が計測された基材２程、乾燥工程１７における搬送速度を低下させて実行される。これによりこの実施形態では乾燥工程１７を有効に利用して基材２の水分量を調整する。
【００４９】
さらにこの工程は、賦型工程１９に続いて第２の水分量測定工程５３が設けられ、この工程により賦型工程１９から排出された基材の水分量（含水率）を計測する。またこの計測結果に基づいて、位相差層作製工程３０、保護フィルム配置工程５４、粘着層作製工程５５における基材２の搬送速度を可変し、これによりさらに詳細に寸法精度を向上させる。ここでこの第２の水分量測定工程５３は、第1の水分量測定工程５１と同様に、基材２を間に挟んで光源及び受光素子を配置して赤外線の吸光度を測定して実行される。なお位相差層作製工程３０、保護フィルム配置工程５４、粘着層作製工程５５における基材２の搬送速度を可変にあっては、トータルピッチを目標値に近づけるために実行され、このトータルピッチは、賦型工程１９で基材２に賦型された右目用及び左目用の領域の所定数分の幅である。これによりこの工程では、賦型工程１９の直前に実行される乾燥工程における搬送速度の可変とは逆に、含水率が高い場合程、搬送速度を増加させるように搬送速度を可変して実行される。より具体的に、この工程では、含水率が大きく、乾燥により収縮の度合いが大きい場合程、乾燥に供する時間を低下させるように、搬送速度を可変して実行される。
【００５０】
なお位相差層作製工程３０、保護フィルム配置工程５４、粘着層作製工程５５における基材２の搬送速度の可変に代えて、これらの工程の特定工程の１つ又は複数ののみで搬送速度を可変するようにしてもよい。また第２の水分量測定工程５３は、賦型工程１９の後の、位相差層作製工程３０の直前等に設けるようにし、その後の工程で搬送速度を可変してもよい。また実用上充分にパターン位相差フィルムの寸法精度を向上できる場合、この水分量測定工程については、水分量を調整する工程の後に設けるようにして、いわゆるフィードバック制御により水分量を調整してもよい。
【００５１】
以上の構成によれば、配向膜作製工程に供給する基材の含水率を制御する水分量調整工程を備えることにより、含水率により伸縮する基材に関して、含水率を一定範囲に収めた状態で金型に形成された凹凸形状を転写することができ、これによりパターン位相差フィルムの寸法精度を向上することができる。
【００５２】
またさらにこの基材の含水率を０，３１％以上、０．９１％以下に制御することにより、実用上充分にパターン位相差フィルムの寸法精度を向上することができる。
【００５３】
またさらに乾燥工程における基材の搬送速度の制御により基材の含水率を制御することにより、乾燥工程を有効に利用して水分量調整工程を設けることができる。
【００５４】
またさらに第１の水分量測定工程の測定結果に基づいて、基材の含水率を制御することにより、製造工程に供給される基材の含水率が種々に変化する場合でも、この変化に対応して含水率を制御することができ、一段と精度を向上することができる。
【００５５】
またさらに第２の水分量調整工程の測定結果に基づいて、位相差層作製工程、保護フィルム配置工程、粘着層作製工程における基材の搬送速度を制御することにより、さらに詳細に含水率を調整して寸法精度を向上することができる。
【００５６】
〔第２実施形態〕
この実施形態では、製造工程において、位相差層４に適用する液晶材料を切り換えて、２種類のパターン位相差フィルムを生産する。なおこの実施形態では、この液晶材料に関する構成が異なる点を除いて、第１実施形態と同一であることにより、以下においては、適宜、第１実施形態の図面を流用して説明する。
【００５７】
ここでこの切り換えに係る液晶材料は、相転移点の異なる第１及び第２の液晶材料である。これら２種類の液晶のうちの第１の液晶材料は、この２種類の液晶のうちで相転移点が相対的に高い側の液晶材料であり、第２の液晶材料に比して相対的に分子量の大きな液晶材料である。また第２の液晶材料は、これとは逆に第１の液晶材料に比して相対的に分子量が小さな液晶材料であり、例えば商品名：ｌｉｃｒｉｖｕｅ（登録商標）  ＲＭＳ０３−０１３Ｃ，メルク社製である。従ってこの実施形態では、第１の液晶材料によりパターン位相差フィルム１を生産する場合には、この相転移点が異なる分だけ、第２の液晶材料によりパターン位相差フィルム１を作製する場合に比して、位相差層作製工程３０における基材２の搬送速度を低下させる。
【００５８】
ところでこのように搬送速度を低下させると、その分、基材の含水率が低下し、トータルピッチが小さくなる。そこでこの実施形態では、第１実施形態と同様に、配向膜作製工程に供給する基材の含水率を制御することを前提に、第１及び第２の液晶材料で、ロール版２を交換し、第１の液晶材料でこのトータルピッチが低下する分だけ、領域ＡＲＡ、ＡＲＢが幅広のロール版２０を使用して第１液晶材料によりパターン位相差フィルム１を作製する。また第１の実施形態と同様に、位相差層作製工程以降の含水率の制御により最終的な寸法精度を確保する。
【００５９】
この実施形態では、配向膜作製工程に供給する基材の含水率を制御することを前提にした上で、相転移点の異なる液晶材料でロール版を交換することにより、製造工程の管理を簡略化して、高い精度によりパターン位相差フィルムを生産することができる。
【００６０】
〔他の実施形態〕
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態の構成を種々に変更することができる。
【００６１】
すなわち上述の実施形態では、紫外線硬化性樹脂の塗布工程１２の前に、第１の水分量測定工程５１を設ける場合について述べたが、本発明はこれに限らず、要は乾燥前の段階で含水量を測定することができればよく、実用上充分な測定精度を確保できる場合には、紫外線硬化性樹脂の塗布工程の後で、基材の含水率を測定しても良く、またこの塗布工程の前後で測定して測定結果を統計的に処理するようにしてもよい。
【００６２】
また上述の実施形態では、乾燥工程における搬送速度を可変することにより、賦型工程直前の含水率を管理する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、乾燥工程の温度を可変するようにしてもよい。
【００６３】
また上述の実施形態では、リアルタイムにより水分量を測定して含水率を管理する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、実用上充分に含水率を管理できる場合には、サンプリングにより測定してもよい。
【００６４】
また上述の実施形態では、液晶表示パネルの使用を前提とする場合について述べたが、本発明はこれに限らず、有機ＥＬパネル、プラズマディスプレイパネルの使用を前提とする場合にも広く適用することができ、また偏光フィルタを一体に設ける場合にも広く適用することができる。
【符号の説明】
【００６５】
１  パターン位相差フィルム
２  基材
３  配向膜
４  位相差層
５  紫外線硬化性樹脂
６  保護フィルム
７  粘着層
８  セパレータフィルム
１０、３０  製造工程
１１  供給リール
１９Ａ、１９Ｂ、２４Ａ、２４Ｂ、３６Ａ、３６Ｂ、３７  ローラ
１２  塗布工程
１２、３３  ダイ
１７、３４  乾燥工程
１８、３５  乾燥機
１９  賦型工程
２０  ロール版
２３、３８  紫外線照射装置
２４  中間リール
３０  製造工程
３１  塗布工程
３６  紫外線照射工程
４０  母材
４２  第１凹凸領域
４３  レジスト層
４４  第２層膜
５１、５３  水分量測定工程
５２  水分量調整工程
５４  保護フィルム配置工程
５５  粘着層作製工程
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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