(57)【要約】【課題】露光対象のアライメント（Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式による移動誤差レベルの把握手続き及び所要時間の短縮効果を期待することができるとともに、露光装置の偏心をはじめ設定情報に対する誤りを予め防止することができる露光モニタリングシステム及び方法を提供する。【解決手段】本発明の露光モニタリングシステム３００は、撮像モジュール及びヘッドの駆動を制御する駆動制御部３１０と、駆動制御部３１０によりターゲットの座標を把握するターゲット座標把握部３２０と、露光対象に形成された第１及び第２ターゲットに対して予め格納された第１及び第２ターゲット座標に基づいて前記撮像モジュール及びヘッドの実行結果を分析して誤りがあるか否かを把握する誤り検出部３３０と、前記第１及び第２ターゲット座標をはじめ露光モニタリングシステム３００に関する情報を格納する格納部３５０と、を含むものである。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮像モジュール及びヘッドの駆動を制御する駆動制御部と、
前記駆動制御部によりターゲットの座標を把握するターゲット座標把握部と、
露光対象に形成された第１及び第２ターゲットに対して予め格納された第１及び第２ターゲット座標に基づいて前記撮像モジュール及びヘッドの実行結果を分析して誤りがあるか否かを把握する誤り検出部と、
前記第１及び第２ターゲット座標をはじめ露光モニタリングシステムに関する情報を格納する格納部と、を含む露光モニタリングシステム。
【請求項２】
前記駆動制御部は、前記撮像モジュールを制御して、前記露光対象の第１ターゲットを認識し、第１ターゲットの検証用座標を取得して前記ターゲット座標把握部に伝達することを特徴とする請求項１に記載の露光モニタリングシステム。
【請求項３】
前記ターゲット座標把握部は、前記予め格納された第１及び第２ターゲット座標に基づいて前記第１ターゲットと前記第２ターゲットとの離隔距離を把握し、把握された前記第１ターゲットと第２ターゲットとの離隔距離に基づいて前記第１ターゲットの検証用座標から前記離隔距離だけ離隔した前記第２ターゲットの検証用座標を把握することを特徴とする請求項２に記載の露光モニタリングシステム。
【請求項４】
前記第１及び第２ターゲット座標はそれぞれ複数個の座標を含み、
前記ターゲット座標把握部は、複数個の第１及び第２ターゲット座標に対する前記第１及び第２ターゲットの検証用座標に基づいてそれぞれ図形を演算することを特徴とする請求項３に記載の露光モニタリングシステム。
【請求項５】
前記ヘッドは、前記駆動制御部の制御により、前記第２ターゲットの検証用座標に基づいて前記露光対象にラウンド状の第３ターゲットの露光を実行し、
前記誤り検出部は、ラウンド状の第３ターゲットの中心座標と前記第２ターゲットの座標とが一致するか否かを確認して前記撮像モジュールまたは前記ヘッドに誤りがあるか否かを把握することを特徴とする請求項３に記載の露光モニタリングシステム。
【請求項６】
前記誤り検出部は、前記ラウンド状の第３ターゲットの中心座標と前記第２ターゲットの座標とが一致しない場合、前記予め格納された第１ターゲット座標と前記第１ターゲットの検証用座標とが一致するか否かによって前記撮像モジュールに誤りがあるか否かを把握することを特徴とする請求項５に記載の露光モニタリングシステム。
【請求項７】
前記誤り検出部による前記撮像モジュール及びヘッドの誤り検出結果を運用者が確認することができるように通報する通報部をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の露光モニタリングシステム。
【請求項８】
露光対象に第１及び第２ターゲットを露光する段階と、
前記露光対象に形成された前記第１及び第２ターゲットに対して予め格納された第１及び第２ターゲット座標に基づいて前記撮像モジュール及びヘッドの動作を実行する段階と、
前記予め格納された第１及び第２ターゲット座標に基づいて前記実行結果を分析して前記撮像モジュール及びヘッドの誤りを検出する段階と、を含む露光モニタリング方法。
【請求項９】
前記撮像モジュール及びヘッドの動作を実行する段階は、
前記撮像モジュールにより前記露光対象の前記第１ターゲットを認識し、第１ターゲットの検証用座標を取得する段階と、
前記予め格納された第１及び第２ターゲット座標と前記第１ターゲットの検証用座標に基づいて第２ターゲットの検証用座標を把握する段階と、
前記第２ターゲットの検証用座標によって前記露光対象にヘッドを介してラウンド状の第３ターゲットを露光する段階と、を含むことを特徴とする請求項８に記載の露光モニタリング方法。
【請求項１０】
前記第１ターゲットと前記第２ターゲットは複数個の座標を含み、
前記第１ターゲットの検証用座標を把握する段階の後、前記第３ターゲットを露光する段階の前に、前記第１及び第２ターゲットの検証用座標に基づいてそれぞれ図形を演算する段階をさらに含むことを特徴とする請求項９に記載の露光モニタリング方法。
【請求項１１】
前記第２ターゲットの検証用座標を把握する段階は、
前記予め格納された第１及び第２ターゲット座標に基づいて第１ターゲットと第２ターゲットとの離隔距離を把握する段階と、
前記第１ターゲットの検証用座標及び前記第１ターゲットと第２ターゲットとの離隔距離に基づいて前記第１ターゲットの検証用座標から前記離隔距離だけ離隔した前記第２ターゲットの検証用座標を把握する段階と、を含むことを特徴とする請求項９に記載の露光モニタリング方法。
【請求項１２】
前記撮像モジュール及びヘッドの誤りを検出する段階は、
前記第２ターゲットの座標と前記第３ターゲットの中心座標とが一致するか否かを確認して誤りがあるか否かを検出する段階であることを特徴とする請求項９に記載の露光モニタリング方法。
【請求項１３】
前記第２ターゲットの座標と前記第３ターゲットの中心座標とが一致しない場合、予め格納された第１ターゲット座標と前記第１ターゲットの検証用座標とが一致するか否かによって前記撮像モジュールの誤差情報を把握する段階をさらに含むことを特徴とする請求項１２に記載の露光モニタリング方法。
【請求項１４】
前記撮像モジュール及びヘッドの誤りを検出する段階の後に、前記撮像モジュール及びヘッドの誤り検出結果を運用者が確認することができるように通報する段階をさらに含むことを特徴とする請求項８に記載の露光モニタリング方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光モニタリングシステム及び方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１をはじめ最近の印刷回路基板は、高整合を要求しており、コストを低減するため、高コストのガラスマスクを使用する代わりに、ガラスマスクを適用する必要がなく、菱形整合が可能な直接像（Ｄｉｒｅｃｔ  Ｉｍａｇｅ）露光方式が増加している。
【０００３】
直接像（Ｄｉｒｅｃｔ  Ｉｍａｇｅ）露光方式は、整合力を維持するために、ヘッドの段差とプラテン（またはステージ）の直進性、振動防止管理などの様々な管理要素がある。
【０００４】
したがって、露光時に基板のアンバランスな伸縮など様々な条件変化による露光装置の整合力レベルを把握し難い状態である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】米国特許出願公開第２００６／０１９１７０９号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上述した従来技術の問題点を解決するためのものであり、本発明の一側面は、撮像モジュール及びヘッドを含む露光装置の整合力をモニタするための露光モニタリングシステム及び方法に関する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の実施例による露光モニタリングシステムは、撮像モジュール及びヘッドの駆動を制御する駆動制御部と、前記駆動制御部によりターゲットの座標を把握するターゲット座標把握部と、露光対象に形成された第１及び第２ターゲットに対して予め格納された第１及び第２ターゲット座標に基づいて前記撮像モジュール及びヘッドの実行結果を分析して誤りがあるか否かを把握する誤り検出部と、前記第１及び第２ターゲット座標をはじめ露光モニタリングシステムに関する情報を格納する格納部と、を含むものである。
【０００８】
本発明の実施例による露光モニタリングシステムの駆動制御部は、前記撮像モジュールを制御して、前記露光対象の第１ターゲットを認識し、第１ターゲットの検証用座標を取得して前記ターゲット座標把握部に伝達することができる。
【０００９】
本発明の実施例による露光モニタリングシステムのターゲット座標把握部は、前記予め格納された第１及び第２ターゲット座標に基づいて前記第１ターゲットと前記第２ターゲットとの離隔距離を把握し、把握された前記第１ターゲットと第２ターゲットとの離隔距離に基づいて前記第１ターゲットの検証用座標から前記離隔距離だけ離隔した前記第２ターゲットの検証用座標を把握することができる。
【００１０】
本発明の実施例による露光モニタリングシステムは、前記第１及び第２ターゲット座標はそれぞれ複数個の座標を含み、前記ターゲット座標把握部は、複数個の第１及び第２ターゲット座標に対する前記第１及び第２ターゲットの検証用座標に基づいてそれぞれ図形を演算することができる。
【００１１】
本発明の実施例による露光モニタリングシステムのヘッドは、前記駆動制御部の制御により、前記第２ターゲットの検証用座標に基づいて前記露光対象にラウンド状の第３ターゲットの露光を実行し、前記誤り検出部は、ラウンド状の第３ターゲットの中心座標と前記第２ターゲットの座標とが一致するか否かを確認して前記撮像モジュールまたは前記ヘッドに誤りがあるか否かを把握することができる。
【００１２】
本発明の実施例による露光モニタリングシステムの誤り検出部は、前記ラウンド状の第３ターゲットの中心座標と前記第２ターゲットの座標とが一致しない場合、前記予め格納された第１ターゲット座標と前記第１ターゲットの検証用座標とが一致するか否かによって前記撮像モジュールに誤りがあるか否かを把握することができる。
【００１３】
本発明の実施例による露光モニタリングシステムは、前記誤り検出部による前記撮像モジュール及びヘッドの誤り検出結果を運用者が確認することができるように通報する通報部をさらに含むことができる。
【００１４】
他の本発明の実施例による露光モニタリング方法は、露光対象に第１及び第２ターゲットを露光する段階と、前記露光対象に形成された前記第１及び第２ターゲットに対して予め格納された第１及び第２ターゲット座標に基づいて前記撮像モジュール及びヘッドの動作を実行する段階と、前記予め格納された第１及び第２ターゲット座標に基づいて前記実行結果を分析して前記撮像モジュール及びヘッドの誤りを検出する段階と、を含むものである。
【００１５】
他の本発明の実施例による露光モニタリング方法の前記撮像モジュール及びヘッドの動作を実行する段階は、前記撮像モジュールにより前記露光対象の前記第１ターゲットを認識し、第１ターゲットの検証用座標を取得する段階と、前記予め格納された第１及び第２ターゲット座標と前記第１ターゲットの検証用座標に基づいて第２ターゲットの検証用座標を把握する段階と、前記第２ターゲットの検証用座標によって前記露光対象にヘッドを介してラウンド状の第３ターゲットを露光する段階と、を含むことができる。
【００１６】
他の本発明の実施例による露光モニタリング方法は、前記第１ターゲットと前記第２ターゲットは複数個の座標を含み、前記第１ターゲットの検証用座標を把握する段階の後、前記第３ターゲットを露光する段階の前に、前記第１及び第２ターゲットの検証用座標に基づいてそれぞれ図形を演算する段階をさらに含むことができる。
【００１７】
他の本発明の実施例による露光モニタリング方法の前記第２ターゲットの検証用座標を把握する段階は、前記予め格納された第１及び第２ターゲット座標に基づいて第１ターゲットと第２ターゲットとの離隔距離を把握する段階と、前記第１ターゲットの検証用座標及び前記第１ターゲットと第２ターゲットとの離隔距離に基づいて前記第１ターゲットの検証用座標から前記離隔距離だけ離隔した前記第２ターゲットの検証用座標を把握する段階と、を含むことができる。
【００１８】
他の本発明の実施例による露光モニタリング方法の前記撮像モジュール及びヘッドの誤りを検出する段階は、前記第２ターゲットの座標と前記第３ターゲットの中心座標とが一致するか否かを確認して誤りがあるか否かを検出する段階であることができる。
【００１９】
他の本発明の実施例による露光モニタリング方法は、前記第２ターゲットの座標と前記第３ターゲットの中心座標とが一致しない場合、予め格納された第１ターゲット座標と前記第１ターゲットの検証用座標とが一致するか否かによって前記撮像モジュールの誤差情報を把握する段階をさらに含むことができる。
【００２０】
他の本発明の実施例による露光モニタリング方法は、前記撮像モジュール及びヘッドの誤りを検出する段階の後に、前記撮像モジュール及びヘッドの誤り検出結果を運用者が確認することができるように通報する段階をさらに含むことができる。
【発明の効果】
【００２１】
本発明の実施例による露光モニタリングシステム及び方法によると、露光対象に露光作業を実行する前に撮像モジュール及びヘッドを含む露光装置の設定情報による露光能力を自動にモニタすることにより、露光対象のアライメント（Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式による移動誤差レベルの把握手続き及び所要時間の短縮効果を期待することができる。
【００２２】
また、本発明の実施例によると、露光装置に対するモニタリングを実行することにより、露光装置の偏心をはじめ設定情報に対する誤りを予め防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明の実施例による露光モニタリングシステムの構成を示す図面である。
【図２】本発明の実施例による露光モニタリング方法を説明するための例示図である。
【図３】本発明の実施例による露光モニタリング方法を説明するための例示図である。
【図４】本発明の実施例による露光モニタリング方法を説明するための例示図である。
【図５】本発明の実施例による露光モニタリング方法を説明するためのフローチャートである。
【図６】図５の撮像モジュール及びヘッド動作の実行方法を詳細に説明するためのフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
本発明の目的、特定の長所及び新規の特徴は、添付図面に係る以下の詳細な説明及び好ましい実施例によってさらに明らかになるであろう。本明細書において、各図面の構成要素に参照番号を付け加えるに際し、同一の構成要素に限っては、たとえ異なる図面に示されても、できるだけ同一の番号を付けるようにしていることに留意しなければならない。また、「一面」、「他面」、「第１」、「第２」などの用語は、一つの構成要素を他の構成要素から区別するために用いられるものであり、構成要素が前記用語によって限定されるものではない。以下、本発明を説明するにあたり、本発明の要旨を不明瞭にする可能性がある係る公知技術についての詳細な説明は省略する。
【００２５】
以下、添付図面を参照して、本発明の好ましい実施例を詳細に説明する。
（露光モニタリングシステム）
図１は、本発明の実施例による露光モニタリングシステムの構成を示す図面であり、本発明の実施例による露光モニタリング方法を説明するための例示図である図２から図４を参照して説明する。
【００２６】
図１に図示されたように、露光モニタリングシステム３００は、駆動制御部３１０と、ターゲット座標把握部３２０と、誤り検出部３３０と、通報部３４０と、格納部３５０と、を含むものである。
【００２７】
より詳細に説明すると、駆動制御部３１０は、撮像モジュール２００及びヘッド４００の駆動を制御することができる。この際、撮像モジュール２００は、特定対象に対するイメージ及び座標の取得が可能なモジュールであり、例えば、カメラなどであってもよい。
【００２８】
また、駆動制御部３１０は、撮像モジュール２００を制御し、露光対象１００の第１ターゲット１１１を認識し、第１ターゲットの検証用座標を取得してターゲット座標把握部３２０に伝達することができる。
【００２９】
この際、露光対象１００は、印刷回路基板であってもよく、これに限定されず、露光を実行できる対象であれば何れも可能である。
【００３０】
図２に図示されたように、露光対象１００は、露光用第１ターゲット１１及び露光用第２ターゲット１３が形成されたガラスマスク（ｇｌａｓｓ  ｍａｓｋ）１０を用いた露光工程により、第１ターゲット１１１及び第２ターゲット１１３が形成された状態であってもよい。
【００３１】
また、ターゲット座標把握部３２０は、駆動制御部３１０によりターゲットの座標を把握することができる。
【００３２】
より詳細に説明すると、ターゲット座標把握部３２０は、予め格納された第１及び第２ターゲット座標に基づいて第１ターゲット１１１と第２ターゲット１１３との離隔距離を把握し、把握された第１ターゲット１１１と第２ターゲット１１３との離隔距離に基づいて第１ターゲットの検証用座標から前記離隔距離だけ離隔した第２ターゲットの検証用座標を把握することができる。
【００３３】
すなわち、ターゲット座標把握部３２０は、座標値がセットされた第１及び第２ターゲット座標を基準として第２ターゲットの検証用座標を把握する。この際、第１及び第２ターゲット座標は、第１及び第２ターゲット１１１、１１３に対して初期設定された値を意味し、第１ターゲットの検証用座標は、撮像モジュール２００により第１ターゲット１１１を認識して取得した値を意味するものと定義する。
【００３４】
図３に図示されたように、第１及び第２ターゲット座標は、それぞれ複数個の座標を含むことができる。
【００３５】
また、ターゲット座標把握部３２０は、複数個の第１及び第２ターゲット座標に対する第１及び第２ターゲットの検証用座標を把握した後、把握された第１及び第２ターゲットの検証用座標に基づいてそれぞれ図形を演算することができる。
【００３６】
例えば、第１及び第２ターゲットの検証用座標に基づいて演算した図形は、初期に露光モニタリングのために運用者が第１及び第２ターゲットに基づいて設定した図形と比較して撮像モジュール２００により認識された検証用座標の配分が正常に行われたかを迅速に把握するために用いることができる。
【００３７】
図３では、説明の便宜上、撮像モジュール２００を二つのみ図示しているが、撮像モジュール２００は、運用者の必要に応じて、一つまたはターゲットそれぞれに個別に設けられることも可能である。
【００３８】
また、誤り検出部３３０は、露光対象１００に形成された第１及び第２ターゲット１１１、１１３に対して予め格納された第１及び第２ターゲット座標に基づいて撮像モジュール２００及びヘッド４００の実行結果を分析して誤りがあるか否かを把握することができる。
【００３９】
より詳細に説明すると、図４に図示されたように、ヘッド４００は、駆動制御部３１０の制御により、第２ターゲットの検証用座標に基づいてラウンド状の第３ターゲット１１５の露光を実行することができる。
【００４０】
本発明の実施例で実行する露光工程は、フォトマスクを使用することなく、レーザダイオード（Ｌａｓｅｒ  Ｄｉｏｄｅ）を光源として用いて基板上の被露光層を直接露光するレーザダイレクトイメージング（Ｌａｓｅｒ  Ｄｉｒｅｃｔ  Ｉｍａｇｉｎｇ）露光機を適用した露光工程であってもよく、これに限定されない。
【００４１】
これにより、誤り検出部３３０は、ラウンド状の第３ターゲット１１５の中心座標と第２ターゲット座標とが一致するか否かを確認して撮像モジュール２００またはヘッド４００に誤りがあるか否かを把握することができる。
【００４２】
より詳細に説明すると、ヘッド４００は、レーザの照射をはじめ露光に関する動作を実行する構成であり、第２ターゲットの検証用座標に基づいて露光を実行する場合、露光されたラウンド状の第３ターゲット１１５の中心座標と第２ターゲット座標とは一致しなければならない。
【００４３】
ここで、誤り検出部３３０は、第２ターゲットの座標と第３ターゲット１１５ａの中心座標とが一致する場合、ヘッド４００をはじめ撮像モジュール２００の設定情報が正常であると判断する。
【００４４】
また、誤り検出部３３０は、第２ターゲットの座標と第３ターゲット１１５ｂの中心座標とが一致しない場合、ヘッド４００または撮像モジュール２００の設定情報に誤りがあると判断する。すなわち、誤り検出部３３０は、第２ターゲットの座標と第３ターゲット１１５ｂの中心座標とが一致しない場合、ヘッド４００または撮像モジュール２００のレーザ照射または座標認識が正確ではないと判断する。
【００４５】
また、誤り検出部３３０は、ラウンド状の第３ターゲット１１５の中心座標と第２ターゲットの座標とが一致しない場合、予め格納された第１ターゲット座標と第１ターゲットの検証用座標とが一致するか否かによって撮像モジュール２００に誤りがあるか否かを把握することができる。
【００４６】
例えば、誤り検出部３３０は、撮像モジュール２００が露光対象１００の第１ターゲット１１１を認識して取得した第１ターゲットの検証用座標と予め格納された第１ターゲット座標とが一致する場合、撮像モジュール２００を正常状態と判断する。
【００４７】
また、誤り検出部３３０は、撮像モジュール２００が露光対象１００の第１ターゲット１１１を認識して取得した第１ターゲットの検証用座標と予め格納された第１ターゲット座標とが一致しない場合、第１ターゲット座標と第１ターゲットの検証用座標との差だけの誤差が発生すると判断することができる。
【００４８】
通報部３４０は、誤り検出部３３０による撮像モジュール２００及びヘッド４００の誤り検出結果を運用者が確認することができるように通報することができる。例えば、通報部３４０は、文字、アラームなどの形式で運用者に誤り検出情報を通報することができる。
【００４９】
また、格納部３５０は、第１及び第２ターゲット座標をはじめ露光モニタリングシステム３００に関する情報を格納することができる。
【００５０】
より詳細に説明すると、格納部３５０は、第１及び第２ターゲット座標だけでなく、撮像モジュール２００がターゲット座標を認識するための設定情報、及びヘッド４００が露光を実行するための設定情報などを格納することができる。
【００５１】
上述したように、本発明の実施例による露光モニタリングシステム３００は、露光対象に対する実質的な露光作業の前に露光装置（例えば、撮像モジュール２００、ヘッド４００）の設定情報の状態を点検することで、実際露光時に工程成功率を高めて生産効率を増大することができる。
【００５２】
また、本発明の実施例による露光モニタリングシステム３００は、別に装置を取り替えなくても露光装置の設定情報を変更することが可能であるため、露光対象の設計条件に応じて露光設定情報の変更に柔軟に対応することができ、これにより、露光対象の設計自由度も向上することができる。
【００５３】
（露光モニタリング方法）
図５は、本発明の実施例による露光モニタリング方法を説明するためのフローチャートであり、本発明の実施例による露光モニタリング方法を説明するための例示図である図２から図４を参照して説明する。
【００５４】
また、図５の撮像モジュール及びヘッド動作の実行方法について詳細に説明するために図６のフローチャートも参照する。
【００５５】
まず、図５に図示されたように、露光対象１００に第１ターゲット及び第２ターゲット１１、１３を露光することができる（Ｓ１０１）。
【００５６】
例えば、図２に図示されたように、露光用第１及び第２ターゲット１１、１３が形成されたガラスマスク（ｇｌａｓｓ  ｍａｓｋ）１０を用いて露光対象１００に露光を実行し、第１及び第２ターゲット１１１、１１３を形成する。
【００５７】
この際、露光対象１００は、感光性レジストが上部に形成された状態であってもよい。
【００５８】
次に、露光対象１００に形成された第１及び第２ターゲット１１１、１１３に対して予め格納された第１及び第２ターゲット座標に基づいて撮像モジュール２００及びヘッド４００の動作を実行することができる（Ｓ１０３）。
【００５９】
より詳細に説明すると、図６に図示されたように、ターゲット座標把握部３２０は、撮像モジュール２００により露光対象１００の第１ターゲット１１１を認識して第１ターゲットの検証用座標を取得することができる（Ｓ２０１）。
【００６０】
図３に図示されたように、ターゲット座標把握部３２０は、露光対象１００の複数の第１ターゲット１１１の検証用座標を撮像モジュール２００により取得することができる。
【００６１】
また、ターゲット座標把握部３２０は、予め格納された第１及び第２ターゲット座標と、第１ターゲットの検証用座標に基づいて、第２ターゲットの検証用座標を把握することができる（Ｓ２０３）。
【００６２】
前記第２ターゲットの検証用座標を把握する段階は、予め格納された第１及び第２ターゲット座標に基づいて第１ターゲット１１１と第２ターゲット１１３との離隔距離を把握する段階と、第１ターゲットの検証用座標及び第１ターゲット１１１と第２ターゲット１１３との離隔距離に基づいて第１ターゲットの検証用座標から前記離隔距離だけ離隔した第２ターゲットの検証用座標を把握する段階と、を含むことができる。
【００６３】
また、駆動制御部３１０は、第２ターゲットの検証用座標によって露光対象１００にヘッド４００を用いてラウンド状の第３ターゲット１１５を露光することができる（Ｓ２０５）。
【００６４】
一方、第１ターゲット１１１と第２ターゲット１１３は、複数個の座標を含み、第１ターゲットの検証用座標を把握する段階（Ｓ２０１）の後、前記第３ターゲットを露光する段階（Ｓ２０５）の前に、ターゲット座標把握部３２０が第１及び第２ターゲットの検証用座標に基づいてそれぞれ図形を演算する段階をさらに含むことができる。
【００６５】
例えば、第１及び第２ターゲットの検証用座標に基づいて演算した図形は、初期に露光モニタリングのために運用者が第１及び第２ターゲットに基づいて設定した図形と比較して撮像モジュール２００により認識された検証用座標の配分が正常に行われたかを迅速に把握するために用いることができる。
【００６６】
次に、図５に図示されたように、誤り検出部３３０は、予め格納された第１及び第２ターゲット座標に基づいて実行結果を分析して撮像モジュール２００及びヘッド４００の誤りを検出することができる（Ｓ１０５）。
【００６７】
より詳細に説明すると、誤り検出部３３０は、第２ターゲットの座標と第３ターゲット１１５の中心座標とが一致するか否かを確認して誤りがあるか否かを検出することができる。
【００６８】
また、誤り検出部３３０は、第２ターゲット座標と第３ターゲットの中心座標とが一致しない場合、予め格納された第１ターゲット座標と第１ターゲットの検証用座標とが一致するか否かによって撮像モジュール２００の誤差情報を把握することができる。
【００６９】
例えば、誤り検出部３３０は、撮像モジュール２００が露光対象１００の第１ターゲット１１１を認識して取得した第１ターゲットの検証用座標と予め格納された第１ターゲット座標とが一致する場合、撮像モジュール２００を正常状態と判断する。
【００７０】
次に、通報部３４０は、撮像モジュール２００及びヘッド４００の誤り検出結果を運用者が確認することができるように通報することができる（Ｓ１０７）。
【００７１】
一方、第１ターゲット１１１と第２ターゲット１１３は、複数個の座標を含むことができる。
【００７２】
上述した第１ターゲットの検証用座標を把握する段階（Ｓ２０１）の後、第３ターゲットを露光する段階（Ｓ２０５）の前に、ターゲット座標把握部３２０が第１及び第２ターゲットの検証用座標に基づいて、それぞれ図形を演算する段階をさらに含むことができる。
【００７３】
以上、本発明を具体的な実施例に基づいて詳細に説明したが、これは本発明を具体的に説明するためのものであり、本発明はこれに限定されず、該当分野における通常の知識を有する者であれば、本発明の技術的思想内にての変形や改良が可能であることは明白であろう。
【００７４】
本発明の単純な変形乃至変更はいずれも本発明の領域に属するものであり、本発明の具体的な保護範囲は添付の特許請求の範囲により明確になるであろう。
【産業上の利用可能性】
【００７５】
本発明は、露光モニタリングシステム及び方法に適用可能である。
【符号の説明】
【００７６】
１０  ガラスマスク
１１  露光用第１ターゲット
１３  露光用第２ターゲット
１００  露光対象
１１１  第１ターゲット
１１３  第２ターゲット
１１５、１１５ａ、１１５ｂ  第３ターゲット
２００  撮像モジュール
３００  露光モニタリングシステム
３１０  駆動制御部
３２０  ターゲット座標把握部
３３０  誤り検出部
３４０  通報部
３５０  格納部
４００  ヘッド
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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