(57)【要約】【課題】被描画媒体における異物が存在する領域を狭い範囲に特定することができる描画方法を提供する。【解決手段】描画方法は、吐出ヘッドと被描画媒体とを吐出走査方向に相対移動させ、被描画媒体上に液状体を配置する吐出走査工程と、吐出走査方向と交差する検出領域方向に延在し、検出領域方向における長さが被描画媒体より長い検出領域を有する検出装置によって、被描画媒体上の異物の有無を検査する異物検査工程と、を有し、異物検査工程は、被描画媒体に設定された基準軸と吐出走査方向との角度が第一の角度である状態で、被描画媒体と検出装置とを吐出走査方向に相対移動させて、被描画媒体上に位置する異物を検出する第一検出工程と、基準軸と吐出走査方向との角度が第一の角度とは異なる第二の角度である状態で、被描画媒体と検出装置とを吐出走査方向に相対移動させて、被描画媒体上に位置する異物を検出する第二検出工程と、を有する。【選択図】図１０
2013132610.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
吐出ヘッドと被描画媒体とを吐出走査方向に相対移動させるとともに、前記吐出ヘッドから液状体を選択的に吐出して、前記被描画媒体上の所定の位置に前記液状体を配置する吐出走査工程と、
前記吐出走査方向と交差する検出領域方向に延在し、前記検出領域方向における長さが、前記被描画媒体の前記検出領域方向における長さより長い検出領域を有し、前記検出領域における物体の存在を検出する検出装置によって、前記被描画媒体上の異物の有無を検査する異物検査工程と、を有し、
前記異物検査工程を、前記吐出走査工程の前に実施し、
前記異物検査工程は、
前記被描画媒体に設定された基準軸と前記吐出走査方向との角度が第一の角度である状態で、前記被描画媒体と前記検出装置とを前記吐出走査方向における第一走査方向に相対移動させ、前記被描画媒体上の前記異物の少なくとも一部が前記検出領域に入ったことを検出することによって、前記異物を検出する第一検出工程と、
前記基準軸と前記吐出走査方向との角度が前記第一の角度とは異なる第二の角度である状態で、前記被描画媒体と前記検出装置とを前記吐出走査方向に相対移動させ、前記被描画媒体上の前記異物の少なくとも一部が前記検出領域に入ったことを検出することによって、前記異物を検出する第二検出工程と、を有することを特徴とする描画方法。
【請求項２】
前記異物検査工程は、
前記第一検出工程において前記異物を検出した時点における前記被描画媒体と前記検出領域との相対位置から、前記被描画媒体における前記異物が位置する第一異物位置領域を算出する第一領域算出工程と、
前記第二検出工程において前記異物を検出した時点における前記被描画媒体と前記検出領域との相対位置から、前記被描画媒体における前記異物が位置する第二異物位置領域を算出する第二領域算出工程と、
前記第一領域算出工程又は前記第二領域算出工程において算出された第一異物位置領域及び第二異物位置領域から、前記異物が位置する異物位置領域を算出する異物位置領域算出工程と、をさらに有することを特徴とする、請求項１に記載の描画方法。
【請求項３】
前記第一検出工程において前記異物が検出された場合には、前記異物検査工程を継続し、前記異物が検出されなかった場合には、前記異物検査工程を終了することを特徴とする、請求項１又は２に記載の描画方法。
【請求項４】
記被描画媒体を、前記検出装置に対して、前記吐出走査方向における前記第一走査方向と反対方向の第二走査方向に相対移動させる後退工程をさらに有し、
前記後退工程を、前記第一検出工程を実施した後であって、前記第二検出工程を実施する前に実施し、前記第二検出工程では、前記被描画媒体を、前記検出装置に対して、前記第一走査方向に相対移動させることを特徴とする、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の描画方法。
【請求項５】
前記第一検出工程では、前記被描画媒体の全面について、前記異物の検出を実施することを特徴とする、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の描画方法。
【請求項６】
前記第二検出工程では、前記被描画媒体の全面について、前記異物の検出を実施することを特徴とする、請求項５に記載の描画方法。
【請求項７】
前記第一検出工程において前記異物が検出されたことによって、当該第一検出工程を終了することを特徴とする、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の描画方法。
【請求項８】
前記第二検出工程では、前記第一検出工程において検出された前記異物の数と同数の前記異物が検出されたことによって、当該第二検出工程を終了することを特徴とする、請求項５又は７に記載の描画方法。
【請求項９】
前記後退工程では、前記被描画媒体を、前記被描画媒体が前記検出領域より前記第二走査方向側に位置するまで相対移動させることを特徴とする、請求項４乃至７のいずれか一項に記載の描画方法。
【請求項１０】
前記後退工程では、前記被描画媒体を、検出した前記異物が前記検出領域より前記第二走査方向側に位置するまで相対移動させることを特徴とする、請求項４乃至７のいずれか一項に記載の描画方法。
【請求項１１】
前記第一検出工程及び前記第二検出工程を実施して求めた前記異物の位置について、矛盾の有無を検証する検証工程をさらに有し、
前記検証工程において、前記異物の位置について、矛盾が存在するとされた場合には、第三検出工程を実施することを特徴とする、請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の描画方法。
【請求項１２】
前記第三検出工程は、前記基準軸と前記吐出走査方向との角度が前記第一の角度及び前記第二の角度とは異なる第三の角度である状態で、前記被描画媒体と前記検出装置とを相対移動させ、前記被描画媒体上の前記異物の少なくとも一部が前記検出領域に入ったことを検出することによって、前記異物を検出する工程であることを特徴とする、請求項１１に記載の描画方法。
【請求項１３】
前記第三検出工程は、前記第二検出工程を継続する工程であることを特徴とする、請求項１１に記載の描画方法。
【請求項１４】
前記第三検出工程は、前記第一検出工程又は前記第二検出工程を、再度実施する工程であることを特徴とする、請求項１１に記載の描画方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被描画媒体と吐出ヘッドとを相対移動させると共に、吐出ヘッドから被描画媒体に向けて液状体を吐出し、吐出した液状体を被描画媒体上の所定の位置に配置して、被描画媒体上に画像などを描画する描画方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、液状体を吐出する吐出ヘッドを備え、吐出ヘッドから機能液を液滴として吐出して、被描画媒体上に着弾させることによって、被描画媒体上に機能液を配置し、当該機能液を硬化させることによって画像などを描画する描画装置が知られている。当該描画装置では、被描画媒体と吐出ヘッドとを相対移動させると共に、吐出ヘッドから液状体を吐出し、吐出した液状体を被描画媒体上の所定の位置に配置して、被描画媒体上に画像などを描画する。このような描画装置においては、描画時間を短縮するために、被描画媒体と吐出ヘッドとの相対移動速度が高速化されている。また、液状体の配置位置のさらなる高精度化や、描画時間の短縮のために、被描画媒体と吐出ヘッドとの距離の微小化が図られている。
近接して対向する被描画媒体と吐出ヘッドとが高速で相対移動するため、被描画媒体上に異物が存在すると、異物と吐出ヘッドとが衝突したり、被描画媒体と吐出ヘッドとの間に異物が噛み込まれたりする場合があった。異物と吐出ヘッドとが衝突したり、被描画媒体と吐出ヘッドとの間に異物が噛み込まれたりすると、吐出ヘッドや被描画媒体が破損する可能性がある。
【０００３】
特許文献１には、搬送テーブルに載置された基板を主走査方向に搬送させ、前記主走査方向に直交する副走査方向に並設されたキャリッジに設けた液滴吐出ヘッドの各ノズルから機能液を液滴にして吐出し、前記基板にパターンを形成するパターン形成装置であって、前記搬送テーブルの搬送経路を挟んで、前記基板の上面に沿って第１検出光を出射する第１投光部と前記第１検出光を受光する第１受光部とが設けられ、前記第１受光部が受光した受光量に基づいて、前記基板に付着した異物を検出する第１異物検出センサーと、前記搬送テーブルの搬送経路を挟んで、前記基板の上面に沿って第２検出光を出射する第２投光部と前記第２検出光を受光する第２受光部とが設けられ、前記第２受光部が受光した受光量に基づいて、前記基板に付着した異物を検出する第２異物検出センサーと、を備えるとともに、前記第１投光部と前記第２投光部とを、前記搬送経路を挟んで反対側に設けたパターン形成装置が開示されている。当該パターン形成装置によれば、第１異物検出センサーと第２異物検出センサーとを用いて異物を検出することによって、異物による液滴吐出ヘッドや基板の損傷を防止することができる。このパターン形成装置は、第１異物検出センサーと第２異物検出センサーとを備えることにより、例えば、基板が大型であるときに、第１異物検出センサーの第１検出光が拡散して異物の検出精度が低下してしまう領域、すなわち基板の第１受光部に近い領域に付着した異物を、検出光の向きが反対の第２異物検出センサーを設けることによって、第２異物検出センサーがその異物を精度よく検出することができる。つまり、第１及び第２異物検出センサーが協働することによって、基板の全領域において、精度よく異物を検出することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−１５４０８８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１に開示されたパターン形成装置（描画装置）では、異物を検出した場合には、異物を検出することによって、基板における、異物の主走査方向における位置は、特定されるが、主走査方向に交差する方向における位置は特定できないという課題があった。主走査方向の位置が特定できた後に、主走査方向に交差する方向において異物の位置を特定するために、多くの時間を要するという課題があった。近年、被描画媒体として大判の基板などを描画できるようにすることによって、被描画媒体の交換回数を抑制して、効率よく描画できる描画装置が用いられている。被描画媒体が大判の場合、主走査方向に交差する方向も長いため、当該方向の全体において異物を検出して位置を特定するために要する時間が長くなり、大判の被描画媒体を用いる利点が損なわれるという課題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
【０００７】
［適用例１］本適用例にかかる描画方法は、吐出ヘッドと被描画媒体とを吐出走査方向に相対移動させるとともに、前記吐出ヘッドから液状体を選択的に吐出して、前記被描画媒体上の所定の位置に前記液状体を配置する吐出走査工程と、前記吐出走査方向と交差する検出領域方向に延在し、前記検出領域方向における長さが、前記被描画媒体の前記検出領域方向における長さより長い検出領域を有し、前記検出領域における物体の存在を検出する検出装置によって、前記被描画媒体上の異物の有無を検査する異物検査工程と、を有し、前記異物検査工程を、前記吐出走査工程の前に実施し、前記異物検査工程は、前記被描画媒体に設定された基準軸と前記吐出走査方向との角度が第一の角度である状態で、前記被描画媒体と前記検出装置とを前記吐出走査方向における第一走査方向に相対移動させ、前記被描画媒体上の前記異物の少なくとも一部が前記検出領域に入ったことを検出することによって、前記異物を検出する第一検出工程と、前記基準軸と前記吐出走査方向との角度が前記第一の角度とは異なる第二の角度である状態で、前記被描画媒体と前記検出装置とを前記吐出走査方向に相対移動させ、前記被描画媒体上の前記異物の少なくとも一部が前記検出領域に入ったことを検出することによって、前記異物を検出する第二検出工程と、を有することを特徴とする。
【０００８】
本適用例にかかる描画方法によれば、第一検出工程を実施することで検出された異物は、当該異物が検出された時点における、検出領域が被描画媒体に投影された領域（「第一領域」と表記する）に存在する。第二検出工程を実施することで検出された異物は、当該異物が検出された時点における、検出領域が被描画媒体に投影された領域（「第二領域」と表記する）に存在する。第一検出工程は基準軸と前記吐出走査方向との角度が第一の角度である状態で実施され、第二検出工程は基準軸と前記吐出走査方向との角度が第二の角度である状態で実施されている。このため、第一領域と第二領域とは、異なる領域である。第一検出工程を実施することで検出された異物は、第一領域に存在し、第二検出工程を実施することで検出された異物は、第二領域に存在するため、第一検出工程及び第二検出工程において検出された異物は、第一領域と第二領域との共通部分に存在する。これにより、第一領域と第二領域との共通部分を検査（例えば目視検査）することで、異物を検出し、除去することができる。第一領域と第二領域との共通部分を検査（例えば目視検査）することで、第一領域又は第二領域の全体を検査（例えば目視検査）する場合にくらべて、検査（例えば目視検査）する範囲を狭くすることができる。
【０００９】
［適用例２］上記適用例にかかる描画方法において、前記異物検査工程は、前記第一検出工程において前記異物を検出した時点における前記被描画媒体と前記検出領域との相対位置から、前記被描画媒体における前記異物が位置する第一異物位置領域を算出する第一領域算出工程と、前記第二検出工程において前記異物を検出した時点における前記被描画媒体と前記検出領域との相対位置から、前記被描画媒体における前記異物が位置する第二異物位置領域を算出する第二領域算出工程と、前記第一領域算出工程又は前記第二領域算出工程において算出された第一異物位置領域及び第二異物位置領域から、前記異物が位置する異物位置領域を算出する異物位置領域算出工程と、をさらに有することが好ましい。
【００１０】
この描画方法によれば、第一領域算出工程を実施することによって、被描画媒体における、第一検出工程を実施することで検出された異物が位置する第一異物位置領域が算出される。第二領域算出工程を実施することによって、被描画媒体における、第二検出工程を実施することで検出された異物が位置する第二異物位置領域が算出される。第一検出工程は基準軸と前記吐出走査方向との角度が第一の角度である状態で実施され、第二検出工程は基準軸と前記吐出走査方向との角度が第二の角度である状態で実施されている。このため、第一異物位置領域と第二異物位置領域とは、異なる領域である。第一検出工程を実施することで検出された異物は、第一異物位置領域に存在し、第二検出工程を実施することで検出された異物は、第二異物位置領域に存在するため、第一検出工程及び第二検出工程において検出された異物は、第一異物位置領域と第二異物位置領域との共通部分に存在する。異物位置領域算出工程を実施することによって、例えば第一異物位置領域と第二異物位置領域との共通部分を算出して、異物が位置する異物位置領域を求めることができる。
【００１１】
［適用例３］上記適用例にかかる描画方法において、前記第一検出工程において前記異物が検出された場合には、前記異物検査工程を継続し、前記異物が検出されなかった場合には、前記異物検査工程を終了することが好ましい。
【００１２】
この描画方法によれば、第一検出工程において異物が検出されなかった場合には、異物検査工程を終了する。第一検出工程において異物が検出されなかった場合には、第一検出工程を実施した対象の被描画媒体には異物が存在しない可能性が高い。異物検査工程を終了することで、以降の異物検査工程を実施するために要する時間を不要にすることができる。
【００１３】
［適用例４］上記適用例にかかる描画方法において、記被描画媒体を、前記検出装置に対して、前記吐出走査方向における前記第一走査方向と反対方向の第二走査方向に相対移動させる後退工程をさらに有し、前記後退工程を、前記第一検出工程を実施した後であって、前記第二検出工程を実施する前に実施し、前記第二検出工程では、前記被描画媒体を、前記検出装置に対して、前記第一走査方向に相対移動させる記被描画媒体を、ことが好ましい。
【００１４】
この描画方法によれば、第一検出工程と第二検出工程との間に後退工程を実施する。これにより、第二検出工程を実施する前に、被描画媒体と検出装置との相対位置を、第一検出工程を実施する前と略同様にすることができる。当該状態から第二検出工程を実施することで、第一検出工程と同様に被描画媒体と検出装置とを相対移動させて、第二検出工程を実施することができる。
【００１５】
［適用例５］上記適用例にかかる描画方法において、前記第一検出工程では、前記被描画媒体の全面について、前記異物の検出を実施することが好ましい。
【００１６】
この描画方法によれば、第一検出工程では、被描画媒体の全面について、異物の検出を実施する。１個の異物ごとに別途第一検出工程を実施する場合、１個の異物ごとに第二検査工程も実施するために、基準軸と吐出走査方向との角度も第二の角度に変更し、再度第一検出工程を実施するために、第一の角度に戻す必要がある。このため、被描画媒体の全面について異物の検出を実施することで、多くの異物が存在する場合、１個の異物ごとに別途第一検出工程を実施する場合にくらべて、異物検出工程に要する時間を抑制することができる。この場合、被描画媒体の全面は、被描画媒体における、１回の吐出走査工程において吐出ヘッドに臨む面の全面である。
【００１７】
［適用例６］上記適用例にかかる描画方法において、前記第二検出工程では、前記被描画媒体の全面について、前記異物の検出を実施することが好ましい。
【００１８】
この描画方法によれば、第二検出工程では、被描画媒体の全面について、異物の検出を実施する。被描画媒体の全面について異物の検出を実施することで、多くの異物が存在する場合、１個の異物ごとに別途第二検出工程を実施する場合にくらべて、異物検出工程に要する時間を抑制することができる。
【００１９】
［適用例７］上記適用例にかかる描画方法において、前記第一検出工程において前記異物が検出されたことによって、当該第一検出工程を終了することが好ましい。
【００２０】
この描画方法によれば、第一検出工程において異物が検出されたことによって、当該第一検出工程を終了する。すなわち、１個の異物が検出されたことによって、第一検出工程を終了して、第二検出工程などを実施する。第二検出工程では、第一検出工程で検出された異物が位置する近くのみを検索することで当該異物を検出することができる。これにより、第二検出工程において被描画媒体と検出装置とを相対移動させる距離を短くすることができる。
【００２１】
［適用例８］上記適用例にかかる描画方法において、前記第二検出工程では、前記第一検出工程において検出された前記異物の数と同数の前記異物が検出されたことによって、当該第二検出工程を終了することが好ましい。
【００２２】
この描画方法によれば、第二検出工程では、第一検出工程において検出された異物の数と同数の異物が検出されたことによって、当該第二検出工程を終了する。ほとんどの場合、第二検出工程で検出される異物の数は、第一検出工程で検出された異物の数と同数である。第一検出工程において検出された異物の数と同数の異物が検出されたことによって、当該第二検出工程を終了することで、第二検出工程を実施するために要する時間を抑制することができる。なお、第二検出工程で検出される異物の数が、第一検出工程で検出された異物の数と異なる場合は、例えば、第二検出工程又は第一検出工程において、同時に複数の異物が検出されることで、複数の異物が１個の異物として検出される場合である。
【００２３】
［適用例９］上記適用例にかかる描画方法において、前記後退工程では、前記被描画媒体を、前記被描画媒体が前記検出領域より前記第二走査方向側に位置するまで相対移動させることが好ましい。
【００２４】
この描画方法によれば、後退工程を実施した後では、被描画媒体が検出領域より第二走査方向側に位置している。これにより、第二検出工程では、被描画媒体の端から、異物を検出して、被描画媒体上の異物を確実に検出することができる。なお、被描画媒体が検出領域より第二走査方向側に位置する状態は、基準軸と吐出走査方向との角度が第一の角度であっても、第二の角度であっても、被描画媒体が検出領域より第二走査方向側に位置する状態である。
【００２５】
［適用例１０］上記適用例にかかる描画方法において、前記後退工程では、前記被描画媒体を、検出した前記異物が前記検出領域より前記第二走査方向側に位置するまで相対移動させることが好ましい。
【００２６】
この描画方法によれば、後退工程を実施した後では、検出された異物が検出領域より第二走査方向側に位置している。これにより、第二検出工程では、第一検出工程で検出された異物を確実に検出領域に位置させて、確実に検出することができる。異物が検出領域より第二走査方向側に位置すれば、後退工程においては、それ以上相対移動させることを必要としないため、後退工程における移動量を抑制できる可能性がある。なお、異物が検出領域より第二走査方向側に位置する状態は、基準軸と吐出走査方向との角度が第一の角度であっても、第二の角度であっても、異物が検出領域より第二走査方向側に位置する状態である。
【００２７】
［適用例１１］上記適用例にかかる描画方法において、前記第一検出工程及び前記第二検出工程を実施して求めた前記異物の位置について、矛盾の有無を検証する検証工程をさらに有し、前記検証工程において、前記異物の位置について、矛盾が存在するとされた場合には、第三検出工程を実施することが好ましい。
【００２８】
この描画方法によれば、第一検出工程及び第二検出工程を実施して求めた異物の位置について、矛盾の有無を検証する検証工程を実施し、矛盾が存在する場合には、第三検出工程を実施する。異物の位置に矛盾が有る場合には、矛盾が生ずる要因が第一検出工程又は第二検出工程の一方、又は両方などに存在する可能性が高い。第三検出工程をさらに実施することで、矛盾の要因の影響を解除又は緩和して、矛盾を解消できる可能性が高い。異物の位置に矛盾が有る場合とは、例えば、異物の位置が被描画媒体から外れた位置にある場合である。
【００２９】
［適用例１２］上記適用例にかかる描画方法において、前記第三検出工程は、前記基準軸と前記吐出走査方向との角度が前記第一の角度及び前記第二の角度とは異なる第三の角度である状態で、前記被描画媒体と前記検出装置とを相対移動させ、前記被描画媒体上の前記異物の少なくとも一部が前記検出領域に入ったことを検出することによって、前記異物を検出する工程であることが好ましい。
【００３０】
この描画方法によれば、第三検出工程は、基準軸と吐出走査方向との角度が第一の角度及び第二の角度とは異なる第三の角度である状態で、被描画媒体と検出装置とを相対移動させて、被描画媒体上に位置する異物を検出する。基準軸と吐出走査方向との角度が第一の角度又は第二の角度であることに起因して、異物の位置に矛盾が生ずる場合がある。そのような場合には、基準軸と吐出走査方向との角度が第三の角度である状態で、第三検出工程を実施することで、矛盾を解消できる可能性が高い。角度が第一の角度又は第二の角度であることに起因して、異物の位置に矛盾が生ずる場合は、例えば、角度が第一の角度又は第二の角度簿場合に、複数の異物が検出領域方向に並んだ状態となり、当該複数の異物が、１個の異物として検出される場合である。
【００３１】
［適用例１３］上記適用例にかかる描画方法において、前記第三検出工程は、前記第二検出工程を継続する工程であることが好ましい。
【００３２】
この描画方法によれば、第三検出工程は、第二検出工程を継続する工程である。被描画媒体の途中まで第二検出工程を実施して、検出された異物の位置が求められている場合には、被描画媒体において第二検出工程を未実施の部分があることに起因して、異物の位置に矛盾が生ずる場合がある。そのような場合には、被描画媒体における第二検出工程を未実施の部分について、第二検出工程の続きを継続して実施することで、矛盾を解消できる可能性が高い。被描画媒体において第二検出工程を未実施の部分があることに起因して、異物の位置に矛盾が生ずる場合は、例えば、第一検出工程と第二検出工程とで最初に検出できる異物が異なる異物であり、異なる異物の検出結果から異物の位置が求められた場合である。
【００３３】
［適用例１４］上記適用例にかかる描画方法において、前記第三検出工程は、前記第一検出工程又は前記第二検出工程を、再度実施する工程であることが好ましい。
【００３４】
この描画方法によれば、第三検出工程として、第一検出工程又は第二検出工程を、再度実施する。第一検出工程又は第二検出工程が正しく実施されなかったことに起因して異物の位置に矛盾が有る場合、第一検出工程又は第二検出工程を再度実施することで、第一検出工程又は第二検出工程を正しく実施して、矛盾を解消できる可能性が高い。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】液滴吐出装置の概略構成を示す観斜視図。
【図２】（ａ）は、液滴吐出ヘッドと基板ステージとセンサーとの位置関係を示す模式側面図。（ｂ）は、液滴吐出ヘッドと基板ステージとセンサーとの位置関係を示す模式平面図。（ｃ）は、基板ステージとセンサーとの高さ関係を示す模式側面図。
【図３】（ａ）は、液滴吐出ヘッドの概略構成を示す外観斜視図。（ｂ）は、液滴吐出ヘッドの構造を示す斜視断面図。（ｃ）は、液滴吐出ヘッドの吐出ノズルの部分の構造を示す断面図。
【図４】ヘッドユニットの概略構成を示す平面図。
【図５】液晶表示パネルの概略構成を示す分解斜視図。
【図６】（ａ）は、対向基板の平面構造を模式的に示す平面。（ｂ）は、マザー対向基板の平面構造を模式的に示す平面図。（ｃ）は、３色カラーフィルターのフィルター膜の配列例を示す模式平面図。（ｄ）は、３色カラーフィルターのフィルター膜の配列例を示す模式平面図。
【図７】異物検査工程における各工程を示すフローチャート。
【図８】異物検査工程におけるマザー対向基板と第１異物検出センサーとの位置関係を示す説明図。
【図９】異物検査工程におけるマザー対向基板と第１異物検出センサーとの位置関係を示す説明図。
【図１０】異物検出工程における各工程を示すフローチャート。
【図１１】異物検出工程における各工程を示すフローチャート。
【図１２】異物検出工程におけるマザー対向基板と第１異物検出センサーとの位置関係を示す説明図。
【図１３】異物検出工程におけるマザー対向基板と第１異物検出センサーとの位置関係を示す説明図。
【図１４】異物検出工程における各工程を示すフローチャート。
【発明を実施するための形態】
【００３６】
以下、本発明に係る描画方法の一実施形態について、図面を参照して説明する。本実施形態では、インクジェット方式の液滴吐出ヘッドを備え、被描画媒体に画像などを描画する液滴吐出装置を例に、当該液滴吐出装置を用いて描画する描画方法について説明する。液滴吐出装置は、液滴吐出ヘッドと被描画媒体とを相対移動させると共に、液滴吐出ヘッドの吐出ノズルから機能液の液滴を吐出して、被描画媒体上の所定の位置に着弾させることによって、所定の画像を形成する装置である。なお、以下の説明において参照する図面では、図示の便宜上、部材又は部分の縦横の縮尺を実際のものとは異なるように表す場合がある。
【００３７】
＜液滴吐出装置＞
最初に、液滴吐出装置１の構成について、図１及び図２を参照して説明する。図１は、液滴吐出装置の概略構成を示す観斜視図である。図２は、液滴吐出装置の概略構成を示す模式図である。図２（ａ）は、液滴吐出ヘッドと基板ステージとセンサーとの位置関係を示す模式側面図であり、図２（ｂ）は、液滴吐出ヘッドと基板ステージとセンサーとの位置関係を示す模式平面図である。図２（ｃ）は、基板ステージとセンサーとの高さ関係を示す模式側面図である。
図１および図２において、主走査方向をＸ軸方向、主走査方向（Ｘ軸方向）に直交する副走査方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に直交する方向（上下方向）をＺ軸方向、Ｚ軸方向回りの回動方向をθ方向と表記する。
【００３８】
図１に示すように、液滴吐出装置１は、床面に主走査方向（Ｘ軸方向）に延在した基台２が設置され、その上面２ａに一対のＸ軸ガイドレール１１が主走査方向（Ｘ軸方向）に敷設され、その一対のＸ軸ガイドレール１１には搬送テーブルを構成するＸ軸移動テーブル１２が載置されている。Ｘ軸移動テーブル１２は、Ｘ軸ガイドレール１１に沿って主走査方向に移動可能に搭載されている。一対のＸ軸ガイドレール１１には、Ｘ軸リニアモーターＭ１が備えられ、Ｘ軸リニアモーターＭ１は、一対のＸ軸ガイドレール１１に載置されたＸ軸移動テーブル１２を、エアスライダー（図示省略）を介してＸ軸方向に往復移動させる。
主走査方向（Ｘ軸方向）が、吐出走査方向に相当する。
【００３９】
Ｘ軸移動テーブル１２の上面には、搬送テーブルを構成する基板ステージ１４が設けられている。基板ステージ１４は、真空吸着テーブルであって、その上面にガラス基板よりなるマザー対向基板２０１Ａ（図５及び図６参照）を吸着固定する。Ｘ軸移動テーブル１２によって基板ステージ１４を移動させることで、基板ステージ１４に吸着されたマザー対向基板２０１Ａを搬送する。基板ステージ１４は、Ｘ軸移動テーブル１２と基板ステージ１４との間に設けたステージ回動機構１６によって、Ｘ軸移動テーブル１２に対してθ方向に回動可能に支持固定されている。図１において、ステージ回動機構１６は、破線で示してある。
基板ステージ１４（マザー対向基板２０１Ａ）は、Ｘ軸移動テーブル１２とともにＸ軸方向（主走査方向）に移動する。また、基板ステージ１４（マザー対向基板２０１Ａ）は、Ｘ軸移動テーブル１２の平面（ＸＹ平面（水平面））に対して平行にθ方向に回動する。
マザー対向基板２０１Ａが、被描画媒体に相当する。
【００４０】
Ｘ軸ガイドレール１１の上方向をＹ軸方向に跨ぐように、一対のＹ軸ガイドレール１８が配設されている。一対のＹ軸ガイドレール１８の一端の支柱１９ａは、基台２の上面２ａに立設され、他端の支柱１９ｂは基台２から離間した床に立設されている。Ｙ軸ガイドレール１８の中央付近に形成された支柱１９ｃは、基台２の上面２ａに立設されている。一対のＹ軸ガイドレール１８は、Ｘ軸方向に予め定めた間隔をおいて平行に配設されている。尚、本実施形態では、Ｙ軸方向に平行に延びた一対のＹ軸ガイドレール１８において、基台２の上方位置を作業領域、基台２から離間した位置を待機領域としている。
【００４１】
一対のＹ軸ガイドレール１８の間に、複数（本実施形態では、６個）のキャリッジプレート２１が差し渡されるように配置されている。各キャリッジプレート２１は、Ｙ軸ガイドレール１８に沿って副走査方向（Ｙ軸方向）に移動可能に載置されている。Ｙ軸ガイドレール１８は、Ｙ軸リニアモーターＭ２を備えている。一対のＹ軸ガイドレール１８に配設された一対のＹ軸リニアモーターＭ２は、一対のＹ軸ガイドレール１８に載置された各キャリッジプレート２１を、それぞれエアスライダー（図示省略）を介してＹ軸方向に往復移動させる。各キャリッジプレート２１は、一対のＹ軸リニアモーターＭ２によって、Ｙ軸ガイドレール１８上の作業領域と待機領域との間を往復移動させられる。また、キャリッジプレート２１は、一対のＹ軸リニアモーターＭ２によって、任意の位置に保持される。
キャリッジプレート２１は、６個のキャリッジプレート２１をそれぞれ独立させて移動させることも可能であり、複数のキャリッジプレート２１を一体に移動させることも可能である。
【００４２】
各キャリッジプレート２１の上面には、機能液供給ユニット２２とヘッド用電装ユニット２３とが載置されている。機能液供給ユニット２２は、機能液を所定量貯蔵して、各液滴吐出ヘッド４０（図３参照）に機能液を供給するための供給回路装置である。ヘッド用電装ユニット２３は、各液滴吐出ヘッド４０を駆動するための電気信号を供給するための電気回路装置である。
ここでいう機能液とは、マザー対向基板２０１Ａ（ガラス基板２０１（図５及び図６参照））に形成された隔壁２０４（図５参照）の枠内に配置される赤色、緑色、又は青色のフィルター用機能液である。機能液は、ガラス基板２０１に形成された隔壁２０４の枠内に配置された後に乾燥されて、赤色フィルター膜２０５Ｒ（図５参照）、緑色フィルター膜２０５Ｇ（図５参照）、又は青色フィルター膜２０５Ｂ（図５参照）となる。
【００４３】
図２（ａ）に示すように、各キャリッジプレート２１の下面の中央位置には、吊下機構２５が設けられ、吊下機構２５の下端部にキャリッジ３０が釣支されている。
吊下機構２５は、吊下基板２６と、吊下回動枠２７と、吊下支持枠２８とを有している。吊下基板２６は、キャリッジプレート２１の下面中央位置に連結固定され、その下端部に吊下回動枠２７を連結している。吊下回動枠２７は、その下端部に吊下支持枠２８をθ方向に回動可能に連結支持している。吊下回動枠２７は、θ軸回動モーター（図示省略）を有し、θ軸回動モーターは吊下支持枠２８を吊下基板２６（キャリッジプレート２１）に対してθ方向に回動させる。吊下支持枠２８には、キャリッジ３０が固定されて、支持されている。θ軸回動モーターによって吊下支持枠２８を回動させることで、吊下機構２５に垂設されたキャリッジ３０をθ方向に回動させる。
【００４４】
キャリッジ３０は、略直方体形状のキャリッジ枠３１を有している。キャリッジ枠３１には、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれの両側面に開口部が設けられており（Ｘ軸方向の各開口部は図示省略）、キャリッジ枠３１の内側に対して、周囲の空気が流出入できる。キャリッジ３０の略直方体形状のキャリッジ枠３１の下端部には、ヘッドユニット４１が固定されている。ヘッドユニット４１は、ユニットプレート３４を備え、ユニットプレート３４が図示省略したネジ等により、キャリッジ枠３１の下端部に固定されている。ユニットプレート３４には、液滴吐出ヘッド４０が着脱可能に、かつ、精度よく位置決め固定されて取り付けられている。本実施形態では、Ｘ軸方向に並設された３個の液滴吐出ヘッド４０が、Ｙ軸方向と平行に３列、すなわち合計９個の液滴吐出ヘッド４０が取り付けられている。尚、キャリッジ枠３１の内側は、配管や配線などが配設されているが、表示すると煩雑になるため図示を省略している。
液滴吐出ヘッド４０が、吐出ヘッドに相当する。
【００４５】
図１に示すように、基台２に敷設された一対のＸ軸ガイドレール１１には、検査ユニット７０がＸ軸ガイドレール１１に沿って主走査方向に移動可能に配置されている。検査ユニット７０は、移動テーブル７１と、検査台７２と、フラッシング回収台７３と、重量測定ユニット７４と、を有している。
【００４６】
移動テーブル７１は、Ｘ軸ガイドレール１１に沿って主走査方向に移動可能に搭載されている。一対のＸ軸ガイドレール１１に備えられた一対のＸ軸リニアモーターＭ１は、移動テーブル７１を、エアスライダー（図示省略）を介してＸ軸方向に往復移動させる。
【００４７】
移動テーブル７１の上面の基板ステージ１４側には、検査台７２が設置固定されている。検査台７２は、Ｙ軸方向に沿って長く延び、その上面に、例えばフィルムコーティングが施された、検査用紙Ｐが配置されている。検査台７２に配置された検査用紙Ｐには、検査台７２が液滴吐出ヘッド４０の直下に案内された状態で、各キャリッジ３０の液滴吐出ヘッド４０の各吐出ノズル４４（図３参照）から吐出された液滴が着弾する。
【００４８】
移動テーブル７１の上面であって検査台７２に隣接した位置には、フラッシング回収台７３が配設されている。フラッシング回収台７３は、上述したキャリッジ３０の数（６個）だけ設けられている。６個のフラッシング回収台７３は、Ｙ軸方向に沿って並設されている。
フラッシング回収台７３の受け口７３ａは、各フラッシング回収台７３が対応するキャリッジ３０の直下に案内された状態で、ヘッドユニット４１に臨んで開口している。ヘッドユニット４１の液滴吐出ヘッド４０の吐出ノズル４４から液滴が吐出され（フラッシングされ）ると、その液滴は、ヘッドユニット４１に臨んで開口している受け口７３ａからフラッシング回収台７３に入り、収容すされる。例えば、マザー対向基板２０１Ａに機能液の液滴でカラーフィルターを描画する前にフラッシングが実施され、フラッシングによって吐出された機能液を、フラッシング回収台７３で回収する。
【００４９】
移動テーブル７１の上面であって並設されたフラッシング回収台７３に隣接した位置には、重量測定ユニット７４が配設されている。重量測定ユニット７４は、上述したキャリッジ３０の数（６個）だけ設けられている。６個の重量測定ユニット７４はＹ軸方向に沿って並設されている。
【００５０】
重量測定ユニット７４は、対応するキャリッジ３０の直下に案内された状態で、ヘッドユニット４１に臨んでいる。ヘッドユニット４１の液滴吐出ヘッド４０の各吐出ノズル４４から吐出された機能液の液滴が、重量測定ユニット７４に着弾し、その重量が重量測定ユニット７４によって計測される。例えば、マザー対向基板２０１Ａに機能液の液滴でカラーフィルターを描画する前に、ヘッドユニット４１の液滴吐出ヘッド４０の各吐出ノズル４４から吐出される液滴の重量を計測する。本実施形態の液滴吐出装置１では、検査台７２、フラッシング回収台７３、及び、重量測定ユニット７４は、その上面が略同じ高さになるように設けられている。
【００５１】
次に、マザー対向基板２０１Ａなどに付着した異物を検出する第１異物検出センサー８１について説明する。図２（ａ）に示すように、Ｙ軸ガイドレール１８の支柱１９ａと１９ｃとを利用して、第１異物検出センサー８１が設けられている。第１異物検出センサー８１が設けられているＹ軸ガイドレール１８は、基板ステージ１４側（検査ユニット７０の反対側）に位置するＹ軸ガイドレール１８である。
第１異物検出センサー８１の第１投光部８１Ａは、支柱１９ａの内側に設けられている。第１異物検出センサー８１は、図示省略したレーザー光源を有し、レーザー光からなる所定光量の第１検出光Ｌ１を出射する。第１受光部８１Ｂは、第１投光部８１Ａと相対向する位置で、支柱１９ｃに設けられており、受光面が第１投光部８１Ａに対向している。第１受光部８１Ｂは、第１投光部８１Ａから出射された第１検出光Ｌ１を受光して、その受光量を検出する。
【００５２】
図２（ｃ）に示すように、第１投光部８１Ａは、基板ステージ１４に載置されたマザー対向基板２０１Ａの側面に第１検出光Ｌ１の下部が照射されるとともに、マザー対向基板２０１Ａの上面に沿うように第１検出光Ｌ１を出射している。これにより、マザー対向基板２０１Ａの上面に異物が付着しているときには、その異物によって第１検出光Ｌ１が遮断され、第１受光部８１Ｂが受光する受光量が低下する。また、マザー対向基板２０１Ａの下面に異物が付着している場合には、異物が付着している近辺のマザー対向基板２０１Ａが基板ステージ１４に対して浮き上がった状態となる。当該浮き上がった部分によって、第１検出光Ｌ１が遮断され、第１受光部８１Ｂの受光量が低下する。
【００５３】
また、第１投光部８１Ａは、水平方向に対してＣＦ基板Ｗ側に所定の傾斜角をなすように、第１検出光Ｌ１の光軸を傾斜させている。第１検出光Ｌ１の光軸を傾斜させることによって、第１検出光Ｌ１の一部がマザー対向基板２０１Ａで反射し、その反射した第１検出光Ｌ１を第１受光部８１Ｂに入射させることができる。これにより、第１受光部８１Ｂに入射する第１検出光Ｌ１の光量を増大させることができる。すなわち、マザー対向基板２０１Ａに異物が付着しているとき、第１検出光Ｌ１を受光する第１受光部８１Ｂにおいて、マザー対向基板２０１Ａに異物が付着していない部分と異物が付着している部分とのコントラストを高くすることができる。したがって、第１検出光Ｌ１の拡散による影響を低減し、マザー対向基板２０１Ａに付着した異物を精度よく検出することができる。
【００５４】
また、図２（ａ）及び（ｂ）に示すように、基板ステージ１４側のＹ軸ガイドレール１８において、基板ステージ１４の上面と相対向する面には、基板検出センサー８１Ｃが設けられている。基板検出センサー８１Ｃは、第１異物検出センサー８１の第１検出光Ｌ１の光軸の直上に設けられている。基板検出センサー８１Ｃは、第１検出光Ｌ１の光軸の直下にマザー対向基板２０１Ａが配置されているか否かを検出するセンサーである。基板検出センサー８１Ｃによって第１検出光Ｌ１の光軸の直下にマザー対向基板２０１Ａが検出されているとき、第１異物検出センサー８１は、第１投光部８１Ａから第１検出光Ｌ１を出射する。
第１異物検出センサー８１が、検出装置に相当する。第１検出光Ｌ１が通過する範囲が検出領域に相当する。第１検出光Ｌ１の光軸の方向が、検出領域方向に相当する。
【００５５】
次に、第２異物検出センサー８３について説明する。第２異物検出センサー８３は、基板ステージ１４の上面における異物を検出する、搬送テーブル異物検出センサーである。第２異物検出センサー８３は、基板ステージ１４に付着した異物やメンテナンス時に置き忘れた工具などを検出することができるセンサーである。図２（ａ）及び（ｂ）に示すように、第２異物検出センサー８３は、第１異物検出センサー８１に隣接した位置に設けられている。第２異物検出センサー８３は、投受光部８３Ａと、反射板８３Ｂと、を備えている。投受光部８３Ａは、検出光Ｌ２を射出する投光部、及び受光部を有している。反射板８３Ｂは、投受光部８３Ａの投光部から射出された検出光Ｌ２を、投受光部８３Ａの方に反射させる装置である。
【００５６】
第２異物検出センサー８３は、図示省略したレーザー光源を有し、投受光部８３Ａの投光部から、反射板８３Ｂに向かってレーザー光からなる所定の光量の検出光Ｌ２を出射する。検出光Ｌ２は、投受光部８３Ａと反射板８３Ｂとの間に基板ステージ１４が位置する状態で、基板ステージ１４の上面に沿うように出射されている。反射板８３Ｂは、投受光部８３Ａの投光部から出射された検出光Ｌ２を、投受光部８３Ａの受光部に向かって反射させる。投受光部８３Ａの受光部は、反射板８３Ｂにて反射された検出光Ｌ２を受光して、その光量を検出する。基板ステージ１４の上面に異物があるときには、検出光Ｌ２が遮断され、投受光部８３Ａの受光部が受光する光量が低下する。
【００５７】
次に、第３異物検出センサー８４について説明する。第３異物検出センサー８４は、検査ユニット７０における異物を検出する、検査ユニット異物検出センサーである。第３異物検出センサー８４は、検査ユニット７０の検査台７２、フラッシング回収台７３、重量測定ユニット７４の上面に付着した異物や検査台７２の検査用紙Ｐの紙浮き、及びメンテナンス時に置き忘れた工具などを検出することができるセンサーである。
【００５８】
図１及び図２に示すように、第３異物検出センサー８４は、第２異物検出センサー８３と同様に、投受光部８４Ａと、反射板８４Ｂと、を備えている。第２異物検出センサー８３の投受光部８３Ａと同様に、投受光部８４Ａは、検出光Ｌ３を射出する投光部と、受光部とを備えている。反射板８３Ｂは、投受光部８４Ａの投光部から射出された検出光Ｌ３を、投受光部８４Ａの方に反射する装置である。
第３異物検出センサー８４の投受光部８４Ａは、検査ユニット７０側のＹ軸ガイドレール１８の支柱１９ａに隣接した位置に立設された固定部材８５ａに固定されている。投受光部８４Ａは、投光部から射出された検出光Ｌ３の光軸が所定の高さで略水平となる状態で、固定部材８５ａに固定されている。反射板８４Ｂは、検査ユニット７０側のＹ軸ガイドレール１８の支柱１９ｃに隣接した位置に立設された固定部材８５ｂに、反射面を投受光部８３Ａに対向させて、固定されている。当該位置及び姿勢で固定されることによって、反射板８４Ｂは、投受光部８３Ａの投光部から出射された検出光Ｌ２を、投受光部８３Ａの受光部に向かって反射させる。
【００５９】
第３異物検出センサー８４は、図示省略したレーザー光源を有し、投受光部８４Ａの投光部から、反射板８４Ｂに向かってレーザー光からなる所定の光量の検出光Ｌ３を出射する。検出光Ｌ３は、投受光部８４Ａと反射板８４Ｂとの間に検査ユニット７０が位置する状態で、検査ユニット７０の検査台７２、フラッシング回収台７３、又は重量測定ユニット７４の上面に沿うように出射されている。反射板８４Ｂは、投受光部８４Ａの投光部から出射された検出光Ｌ３を、投受光部８４Ａの受光部に向かって反射させる。投受光部８４Ａの受光部は、反射板８４Ｂによって反射された検出光Ｌ３を受光して、その光量を検出する。検査ユニット７０の検査台７２、フラッシング回収台７３、又は重量測定ユニット７４の上面に異物があるときには、検出光Ｌ３が遮断され、投受光部８４Ａの受光部が受光する光量が低下する。
【００６０】
＜液滴吐出ヘッド＞
次に、液滴吐出ヘッド４０について、図３を参照して説明する。図３は、液滴吐出ヘッドの概略構成を示す図である。図３（ａ）は、液滴吐出ヘッドの概略構成を示す外観斜視図であり、図３（ｂ）は、液滴吐出ヘッドの構造を示す斜視断面図であり、図３（ｃ）は、液滴吐出ヘッドの吐出ノズルの部分の構造を示す断面図である。
【００６１】
図３（ａ）に示したように、液滴吐出ヘッド４０は、ノズル基板４５を備えている。ノズル基板４５には、多数の吐出ノズル４４が略一直線状に並んだノズル列４４Ａが２列形成されている。吐出ノズル４４から液状体を液滴として吐出し、対向する位置にある描画対象物などに着弾させることで、当該位置に液状体を配置する。ノズル列４４Ａは、液滴吐出ヘッド４０が液滴吐出装置１に装着された状態で、図１に示したＹ軸方向に延在している。ノズル列４４Ａにおいて吐出ノズル４４は等間隔のノズルピッチで並んでおり、２列のノズル列４４Ａ間で、吐出ノズル４４の位置がＹ軸方向に半ノズルピッチずれている。したがって、液滴吐出ヘッド４０としては、Ｙ軸方向に半ノズルピッチ間隔で液状体の液滴を配置することができる。
【００６２】
図３（ｂ）及び（ｃ）に示すように、液滴吐出ヘッド４０は、ノズル基板４５に圧力室プレート５１が積層されており、圧力室プレート５１に振動板５２が積層されている。
圧力室プレート５１には、液滴吐出ヘッド４０に供給される液状体が常に充填される液たまり５５が形成されている。液たまり５５は、振動板５２と、ノズル基板４５と、圧力室プレート５１の壁とに囲まれた空間である。液状体は、振動板５２の液供給孔５３を経由して液たまり５５に供給される。また、圧力室プレート５１には、複数のヘッド隔壁５７によって区切られた圧力室５８が形成されている。振動板５２と、ノズル基板４５と、２個のヘッド隔壁５７とによって囲まれた空間が圧力室５８である。
【００６３】
圧力室５８は吐出ノズル４４のそれぞれに対応して設けられており、圧力室５８の数と吐出ノズル４４の数とは同じである。圧力室５８には、２個のヘッド隔壁５７の間に位置する供給口５６を介して、液たまり５５から液状体が供給される。ヘッド隔壁５７と圧力室５８と吐出ノズル４４と供給口５６との組は、液たまり５５に沿って１列に並んでおり、１列に並んだ吐出ノズル４４がノズル列４４Ａを形成している。図３（ｂ）では図示省略したが、図示した吐出ノズル４４を含むノズル列４４Ａに対して液たまり５５に関して略対称位置に、１列に並んで配設された吐出ノズル４４がもう１列のノズル列４４Ａを形成している。当該ノズル列４４Ａに対応するヘッド隔壁５７と圧力室５８と供給口５６との組が、１列に並んでいる。
【００６４】
振動板５２の圧力室５８を構成する部分には、それぞれ圧電素子５９の一端が固定されている。圧電素子５９の他端は、固定板（図示省略）を介して液滴吐出ヘッド４０全体を支持する基台（図示省略）に固定されている。
圧電素子５９は電極層と圧電材料とを積層した活性部を有し、電極層に駆動電圧を印加することで、活性部が長手方向（図３（ｂ）又は（ｃ）における振動板５２の厚さ方向）に縮む。活性部が縮むことで、圧電素子５９の一端が固定された振動板５２が圧力室５８と反対側に引張られる力を受ける。振動板５２が圧力室５８と反対側に引張られることで、振動板５２が圧力室５８の反対側に撓む。これにより、圧力室５８の容積が増加することから、液状体が液たまり５５から供給口５６を経て圧力室５８に供給される。次に、電極層に印加されていた駆動電圧が解除されると、活性部が元の長さに戻ることで、圧電素子５９が振動板５２を押圧する。振動板５２が押圧されることで、圧力室５８側に戻る。これにより、圧力室５８の容積が急激に元に戻る、すなわち増加していた容積が減少することから、圧力室５８内に充填されていた液状体に圧力が加わり、当該圧力室５８に連通して形成された吐出ノズル４４から液状体が液滴となって吐出される。
【００６５】
＜ヘッドユニット＞
次に、キャリッジ３０が備えるヘッドユニット４１の概略構成について、図４を参照して説明する。図４は、ヘッドユニットの概略構成を示す平面図である。図４に示したＸ軸方向及びＹ軸方向は、ヘッドユニット４１が液滴吐出装置１に取り付けられた状態において、図１に示したＸ軸方向又はＹ軸方向と一致している。
【００６６】
図４に示したように、ヘッドユニット４１は、ユニットプレート３４と、ユニットプレート３４に搭載された９個の液滴吐出ヘッド４０と、を有している。液滴吐出ヘッド４０は、図示省略したヘッド保持部材を介してユニットプレート３４に固定されている。固定された液滴吐出ヘッド４０は、ヘッド本体がユニットプレート３４に形成された孔（図示省略）に遊嵌して、ノズル基板４５が、ユニットプレート３４の面より突出した位置に位置している。図４は、ノズル基板４５の側から見た図である。９個の液滴吐出ヘッド４０は、Ｙ軸方向に分かれて、それぞれ３個ずつの液滴吐出ヘッド４０を有するヘッド組４２を３群、形成している。それぞれの液滴吐出ヘッド４０のノズル列４４Ａは、ヘッドユニット４１が液滴吐出装置１に取り付けられた状態において、Ｙ軸方向に延在している。
【００６７】
１個のヘッド組４２が有する３個の液滴吐出ヘッド４０は、Ｙ軸方向において、互いに隣り合う液滴吐出ヘッド４０の、一方の液滴吐出ヘッド４０の端の吐出ノズル４４に対して、もう一方の液滴吐出ヘッド４０の端の吐出ノズル４４が半ノズルピッチずれて位置する位置に、配設されている。ヘッド組４２が有する３個の液滴吐出ヘッド４０において、全ての吐出ノズル４４のＸ軸方向の位置を同じにすると、吐出ノズル４４は、Ｙ軸方向に半ノズルピッチの等間隔で並ぶ。すなわち、Ｘ軸方向の同じ位置において、それぞれの液滴吐出ヘッド４０が有するそれぞれのノズル列４４Ａを構成する吐出ノズル４４から吐出された液滴は、設計上では、Ｙ軸方向に等間隔に並んで一直線上に着弾する。
液滴吐出ヘッド４０は、Ｙ軸方向において互いに重なるため、Ｘ軸方向に階段状に並んでヘッド組４２を構成している。
【００６８】
ノズル列４４Ａは、例えば１８０個の吐出ノズル４４を有しており、液滴吐出ヘッド４０は、３６０個の吐出ノズル４４を有している。９個の液滴吐出ヘッド４０を有するヘッドユニット４１は、３２４０個の吐出ノズル４４を有している。１個のヘッドユニット４１が備える９個の液滴吐出ヘッド４０が有する１８列のノズル列４４Ａは、１本のノズル列として扱うこともできる。当該ノズル列を「ユニットノズル列２４０Ａ」と表記する。ユニットノズル列２４０Ａは、３２４０個の吐出ノズル４４を有している。ユニットノズル列２４０Ａのそれぞれの吐出ノズル４４から一滴ずつ吐出させて、Ｘ軸方向が同じ位置になるように着弾させると、３２４０個の点が半ノズルピッチのピッチ間隔で直線状に連なる点の集合体が形成される。
【００６９】
＜液晶表示パネルの構成＞
次に、液滴吐出装置１を用いて機能膜を形成する対象物の一例としての液晶表示パネルについて説明する。液晶表示パネル２００（図５参照）は、液晶装置の一例であり、カラーフィルターの一例である液晶表示パネル用のカラーフィルターを備える液晶表示パネルである。
最初に、液晶表示パネル２００の構成について、図５を参照して説明する。図５は、液晶表示パネルの概略構成を示す分解斜視図である。図５に示した液晶表示パネル２００は、駆動素子として薄膜トランジスター（ＴＦＴ（Thin Film Transistor）素子）を用いるアクティブマトリックス方式の液晶装置であり、図示省略したバックライトを用いる透過型の液晶装置である。
【００７０】
図５に示すように、液晶表示パネル２００は、ＴＦＴ素子２１５を有する素子基板２１０と、対向電極２０７を有する対向基板２２０と、シール材（図示省略）によって接着された素子基板２１０と対向基板２２０との隙間に充填された液晶と、を備えている。貼り合わされた素子基板２１０と、対向基板２２０とには、互いに貼り合わされた面の反対側の面に、それぞれ偏光板２３１又は偏光板２３２が、配設されている。
【００７１】
素子基板２１０は、ガラス基板２１１の対向基板２２０と対向する面に、ＴＦＴ素子２１５や、導電性を有する画素電極２１７や走査線２１２や信号線２１４が、形成されている。これらの素子や導電性を有する膜の間を埋めるように、絶縁層２１６が形成されており、走査線２１２及び信号線２１４は、絶縁層２１６の部分を挟んで互いに交差する状態で形成されている。走査線２１２と信号線２１４とは、絶縁層２１６の部分を間に挟むことで互いに絶縁されている。これらの走査線２１２と信号線２１４とに囲まれた領域内には画素電極２１７が形成されている。画素電極２１７は方形状の一部の角部分が方形状に欠けた形状をしている。画素電極２１７の切欠部と走査線２１２と信号線２１４とに囲まれた部分には、ソース電極、ドレイン電極、半導体部、及びゲート電極を具備するＴＦＴ素子２１５が組み込まれて構成されている。走査線２１２と信号線２１４とに信号を印加することによってＴＦＴ素子２１５をオン・オフして画素電極２１７への通電制御を実施する。
素子基板２１０の液晶２３０と接する面には、上記した走査線２１２や信号線２１４や画素電極２１７が形成された領域全体を覆う配向膜２１８が設けられている。
【００７２】
対向基板２２０は、ガラス基板２０１の素子基板２１０と対向する面に、カラーフィルター（以降、「ＣＦ」と表記する。）層２０８が形成されている。ＣＦ層２０８は、隔壁２０４と、赤色フィルター膜２０５Ｒと、緑色フィルター膜２０５Ｇと、青色フィルター膜２０５Ｂとを有している。ガラス基板２０１の上に、格子状に隔壁２０４を構成するブラックマトリックス２０２が形成されており、ブラックマトリックス２０２の上にバンク２０３が形成されている。ブラックマトリックス２０２とバンク２０３とで構成された隔壁２０４によって、方形のフィルター膜領域２２５が形成されている。フィルター膜領域２２５には、赤色フィルター膜２０５Ｒ、緑色フィルター膜２０５Ｇ、又は青色フィルター膜２０５Ｂが形成されている。赤色フィルター膜２０５Ｒ、緑色フィルター膜２０５Ｇ、及び青色フィルター膜２０５Ｂは、それぞれ上述した画素電極２１７のそれぞれと対向する位置及び形状に形成されている。
【００７３】
ＣＦ層２０８の上（素子基板２１０側）には、平坦化膜２０６が設けられている。平坦化膜２０６の上には、ＩＴＯなどの透明な導電性材料で形成された対向電極２０７が設けられている。平坦化膜２０６を設けることによって、対向電極２０７を形成する面を略平坦な面にしている。対向電極２０７は、上述した画素電極２１７が形成された領域全体を覆う大きさの連続した膜である。対向電極２０７は、図示省略した導通部を介して、素子基板２１０に形成された配線に接続されている。
【００７４】
対向基板２２０の液晶２３０と接する面には、少なくとも画素電極２１７の全面を覆う配向膜２２８が設けられている。液晶は、素子基板２１０と対向基板２２０とが貼り合わされた状態において、対向基板２２０の配向膜２２８と、素子基板２１０の配向膜２１８と、対向基板２２０と素子基板２１０とを貼り合わせるシール材とに囲まれた空間に充填されている。
【００７５】
なお、液晶表示パネル２００は、透過型の構成としたが、反射層あるいは半透過反射層を設けて、反射型の液晶装置あるいは半透過反射型の液晶装置とすることもできる。
【００７６】
＜マザー対向基板＞
次に、マザー対向基板２０１Ａについて、図６を参照して説明する。対向基板２２０は、分割されることによってガラス基板２０１となるマザー対向基板２０１Ａの上に上述したＣＦ層２０８などを形成した後、マザー対向基板２０１Ａを個別の対向基板２２０（ガラス基板２０１）に分割して形成される。図６（ａ）は、対向基板の平面構造を模式的に示す平面であり、図６（ｂ）は、マザー対向基板の平面構造を模式的に示す平面図であり、図６（ｃ）は、３色カラーフィルターのフィルター膜の配列例を示す模式平面図であり、図６（ｄ）は、３色カラーフィルターのフィルター膜の配列例を示す模式平面図である。なお、本実施形態においては、マザー対向基板２０１Ａの上にＣＦ層２０８などを形成したものや、ＣＦ層２０８などを形成する途中の状態のものも、マザー対向基板２０１Ａと表記する。
【００７７】
対向基板２２０は、厚みおよそ１．０ｍｍの透明な石英ガラスからなるガラス基板２０１を用いて形成されている。図６（ａ）に示すように、対向基板２２０は、ガラス基板２０１の周囲の僅かな額縁領域を除く部分に、ＣＦ層２０８が形成されている。ＣＦ層２０８は、方形状のガラス基板２０１の表面に複数のフィルター膜領域２２５をドットパターン状、本実施形態ではドット・マトリクス状に形成し、当該フィルター膜領域２２５にフィルター膜２０５を形成することによって形成されている。ガラス基板２０１のＣＦ層２０８が形成される領域にかからない位置には、図示省略したアライメントマークが形成されている。アライメントマークは、ＣＦ層２０８などを形成する諸工程を実行するためにガラス基板２０１を、液滴吐出装置１などの製造装置に取り付ける際などに位置決め用の基準マークとして用いられる。
【００７８】
図６（ｂ）に示すように、マザー対向基板２０１Ａには、対向基板２２０のＣＦ層２０８が、分割されてガラス基板２０１となる部分のそれぞれに形成されている。
【００７９】
図６（ｃ）及び図６（ｄ）に示すように、フィルター膜２０５は、隔壁２０４によって区画されてドット・マトリクス状に並んだ複数の方形状のフィルター膜領域２２５を色材で埋めることによって形成されている。例えば、液滴吐出装置１を用いて、フィルター膜２０５を構成する色材を含む機能液をフィルター膜領域２２５に充填し、当該機能液の溶媒を蒸発させて機能液を乾燥させることで、フィルター膜領域２２５を埋める膜状のフィルター膜２０５を形成する。
【００８０】
３色カラーフィルターにおける赤色フィルター膜２０５Ｒ、緑色フィルター膜２０５Ｇ、及び青色フィルター膜２０５Ｂなどの配列としては、例えば、ストライプ配列、モザイク配列、デルタ配列などが知られている。
ストライプ配列は、図６（ｃ）に示したように、マトリクスの縦列が全て同色の赤色フィルター膜２０５Ｒ、緑色フィルター膜２０５Ｇ、又は青色フィルター膜２０５Ｂ、になる配列である。
モザイク配列は、図６（ｄ）に示したように、横方向の各行ごとにフィルター膜２０５を１個分だけ色をずらした配列で、３色フィルターの場合、縦横の直線上に並んだ任意の３つのフィルター膜２０５が３色となる配列である。
【００８１】
図６（ｃ）又は（ｄ）に示した３色フィルターにおいて、フィルター膜２０５は、それぞれが、Ｒ（赤色）、Ｇ（緑色）、Ｂ（青色）のうちのいずれか１色の色材によって形成されている。隣り合って形成された赤色フィルター膜２０５Ｒ、緑色フィルター膜２０５Ｇ、及び青色フィルター膜２０５Ｂを各１個ずつ含むフィルター膜２０５の組で、画像を構成する最小単位である絵素のフィルター（以降、「絵素フィルター２５４」と表記する。）を形成している。
絵素フィルター２５４などの１個の絵素フィルターにおける、赤色フィルター膜（赤色フィルター膜２０５Ｒ）、緑色フィルター膜（緑色フィルター膜２０５Ｇ）、及び青色フィルター膜（青色フィルター膜２０５Ｂ）のいずれか一つ又はそれらの組み合わせに光を選択的に通過させること、及び通過させる光の光量を調整することにより、フルカラー表示を行う。
【００８２】
＜異物検査工程＞
次に、液滴吐出装置１を用いて、マザー対向基板２０１Ａに描画する描画工程において実施する異物検査工程について、図７、図８、及び図９を参照して説明する。描画工程は、液滴吐出装置１のヘッドユニット４１を用いて、フィルター膜２０５を構成する色材を含む機能液を、マザー対向基板２０１Ａにおけるフィルター膜領域２２５に充填するための工程である。異物検査工程は、第１異物検出センサー８１を用いて、マザー対向基板２０１Ａ上の異物を検出し、異物の有無を検査する工程である。
機能液を、マザー対向基板２０１Ａにおけるフィルター膜領域２２５に充填するための工程が、吐出走査工程に相当する。機能液が液状体に相当する。
図７は、異物検査工程における各工程を示すフローチャートである。図８及び図９は、異物検査工程におけるマザー対向基板と第１異物検出センサーとの位置関係を示す説明図である。図８は、マザー対向基板２０１Ａの異物が１個の例を示しており、図９は、マザー対向基板２０１Ａの異物が２個の例を示している。
【００８３】
最初に、図７のステップＳ１では、マザー対向基板２０１Ａの基準軸が主走査方向となす角度を第一角度に調整する。図８に示した例では、マザー対向基板２０１Ａの一辺を基準軸としている。図８（ａ）に示すように、マザー対向基板２０１Ａを基板ステージ１４に保持させて、基準軸が主走査方向となす角度が第一角度θ１となるように、方向を調整する。図８（ａ）に示した第一角度θ１は、９０度である。上述したように、基板ステージ１４は、真空吸着テーブルであって、その上面にマザー対向基板２０１Ａを吸着固定することができる。基板ステージ１４は、ステージ回動機構１６によって、Ｘ軸移動テーブル１２に対してθ方向に回動可能である。基板ステージ１４をθ方向に回動させることによって、基板ステージ１４に保持されたマザー対向基板２０１Ａの方向を調整することができる。
【００８４】
次に、図７のステップＳ２では、マザー対向基板２０１Ａの基準軸が主走査方向となす角度が第一角度である状態で、マザー対向基板２０１Ａの全面について異物検出を実施する。
図８（ａ）に矢印ａで示した主走査方向に基板ステージ１４を走査させながら、第１異物検出センサー８１によって、マザー対向基板２０１Ａ上の異物を検出する。上述したように、第１投光部８１Ａは、基板ステージ１４に載置されたマザー対向基板２０１Ａの側面に第１検出光Ｌ１の下部が照射されるとともに、マザー対向基板２０１Ａの上面に沿うように第１検出光Ｌ１を出射している。図８（ｂ）に示したように、塵埃９１が第１検出光Ｌ１の位置に達すると、塵埃９１によって第１検出光Ｌ１の少なくとも一部が遮られる。第１検出光Ｌ１の少なくとも一部が遮られることにより、異物（この場合は塵埃９１）の存在を検知することができる。
ステップＳ２が、第一検出工程に相当する。第一角度θ１が、第一の角度に相当する。主走査方向における矢印ａで示した方向が、第一走査方向に相当する。
ステップＳ２では、マザー対向基板２０１Ａの全体が第１検出光Ｌ１の位置を通過するまで、基板ステージ１４を走査させて、マザー対向基板２０１Ａの全面について異物検出を実施する。このとき、塵埃９１が液滴吐出ヘッド４０に衝突する可能性があるため、キャリッジ３０は、予め待機領域に移動しておくことが好ましい。マザー対向基板２０１Ａの全体が第１検出光Ｌ１の位置を通過したか否かは、基板検出センサー８１Ｃによって検出することができる。
【００８５】
次に、図７のステップＳ３では、異物が検出されたか否かを判定する。異物が検出されていなかった場合（ステップＳ３でＮＯ）には、異物検査工程を終了する。図８（ｂ）に示した場合のように、異物が検出されていた場合（ステップＳ３でＹＥＳ）には、ステップＳ４に進む。
【００８６】
ステップＳ３の次に、ステップＳ４では、第一異物位置領域１９１を算出する。第一異物位置領域１９１は、マザー対向基板２０１Ａにおける、ステップＳ２を実施して検出された異物が位置する可能性がある領域である。塵埃９１が図８（ｂ）に示したように検出された場合、検出された時点における、基板ステージ１４の位置、すなわちマザー対向基板２０１Ａの位置は、走査方向の位置として正確に特定することができる。液滴吐出装置１における第１異物検出センサー８１の位置は固定されている。したがって、第１異物検出センサー８１による第１検出光Ｌ１と、マザー対向基板２０１Ａとの相対位置を正確に特定することができる。
このとき、塵埃９１が第１検出光Ｌ１の少なくとも一部を遮っているため、塵埃９１の少なくとも一部は、第１検出光Ｌ１をマザー対向基板２０１Ａに投影した領域の中に位置している。図８（ｃ）に示した第一異物位置領域１９１は、塵埃９１が存在する可能性がある領域である。第一異物位置領域１９１は、図８（ｂ）に示した第１検出光Ｌ１とマザー対向基板２０１Ａとの位置関係において、第１検出光Ｌ１の範囲をマザー対向基板２０１Ａ上に投影した領域である。
図８（ｃ）に示したように、基準軸としたマザー対向基板２０１Ａの一辺をＶ軸とし、当該Ｖ軸とした辺と略直交する２辺の中の１辺をＷ軸とする。Ｖ軸とした辺とＷ軸とした辺との角をＶＷ座標の原点とする。第一異物位置領域１９１における第１検出光Ｌ１の光軸の投影線は、ＶＷ座標を用いて、（Ｗ＝−ｔａｎ（９０−θ１）＋ａ）で表される。ａは、図８（ｂ）に示したように塵埃９１が検出された時点における、第１検出光Ｌ１の光軸の、Ｖ軸からのＷ軸方向の距離である。θ１＝９０度であるため、第一異物位置領域１９１における第１検出光Ｌ１の光軸の投影線は、ＶＷ座標を用いて、（Ｗ＝ａ）で表される。第一異物位置領域１９１は、（Ｗ＝ａ）で表される直線に沿った、第１検出光Ｌ１の太さを考慮した幅を有する領域である。ステップＳ４が、第一領域算出工程に相当する。
【００８７】
次に、図７のステップＳ５では、基板ステージ１４を後退させる。すなわち、マザー対向基板２０１Ａを後退させる。基板ステージ１４を、図８（ｄ）に示した矢印ｂの方向に走査させることによって、ステップＳ２を実施して、第１検出光Ｌ１の位置より検査ユニット７０の側に位置するマザー対向基板２０１Ａを、図８（ｄ）に示したように、第１検出光Ｌ１に対して、検査ユニット７０の反対側に移動させる。ステップＳ５が、後退工程に相当する。
【００８８】
次に、図７のステップＳ６では、マザー対向基板２０１Ａの角度を第二角度θ２に調整する。ステージ回動機構１６を用いて、基板ステージ１４を図８（ｄ）に示した矢印ｃの方向に回動させることによって、マザー対向基板２０１Ａの基準軸が主走査方向となす角度を第二角度θ２に調整する。なお、ステップＳ５では、ステップＳ６を実施してマザー対向基板２０１Ａの基準軸が主走査方向となす角度が第二角度θ２となった状態で、マザー対向基板２０１Ａが第１検出光Ｌ１に対して、検査ユニット７０の反対側に位置する位置まで、基板ステージ１４を移動させる。
【００８９】
次に、図７のステップＳ７では、マザー対向基板２０１Ａの基準軸が主走査方向となす角度が第二角度θ２である状態で、マザー対向基板２０１Ａの全面について異物検出を実施する。
図８（ｅ）に矢印ａで示した主走査方向に基板ステージ１４を走査させながら、第１異物検出センサー８１によって、マザー対向基板２０１Ａ上の異物を検出する。図８（ｄ）に示したように、塵埃９１が第１検出光Ｌ１の位置に達すると、塵埃９１によって第１検出光Ｌ１の少なくとも一部が遮られる。第１検出光Ｌ１の少なくとも一部が遮られることにより、異物（この場合は塵埃９１）の存在を検知することができる。
ステップＳ７では、マザー対向基板２０１Ａの全体が第１検出光Ｌ１の位置を通過するまで、基板ステージ１４を走査させて、マザー対向基板２０１Ａの全面について異物検出を実施する。マザー対向基板２０１Ａの全体が第１検出光Ｌ１の位置を通過したか否かは、基板検出センサー８１Ｃの検出結果と第二角度θ２とによって、判定することができる。
ステップＳ７が、第二検出工程に相当する。第二角度θ２が、第二の角度に相当する。
【００９０】
次に、図７のステップＳ８では、第二異物位置領域２９１を算出する。第二異物位置領域２９１は、マザー対向基板２０１Ａにおける、ステップＳ７を実施して検出された異物が位置する可能性がある領域である。塵埃９１が図８（ｅ）に示したように検出された場合、ステップＳ４の第一異物位置領域１９１を算出する工程と同様にして、第二異物位置領域２９１を特定することができる。図８（ｆ）に示した第二異物位置領域２９１は、塵埃９１が存在する可能性がある領域である。第二異物位置領域２９１は、図８（ｅ）に示した第１検出光Ｌ１とマザー対向基板２０１Ａとの位置関係において、第１検出光Ｌ１の範囲をマザー対向基板２０１Ａ上に投影した領域である。
第二異物位置領域２９１における第１検出光Ｌ１の光軸の投影線は、ＶＷ座標を用いて、（Ｗ＝−ｔａｎ（９０−θ２）＋ｂ）で表される。ｂは、図８（ｅ）に示したように塵埃９１が検出された時点における、第１検出光Ｌ１の光軸とＷ軸とが交差する位置の、Ｖ軸からのＷ軸方向の距離である。第二異物位置領域２９１は、（Ｗ＝−ｔａｎ（９０−θ２）＋ｂ）で表される直線に沿った、第１検出光Ｌ１の太さを考慮した幅を有する領域である。ステップＳ８が、第二領域算出工程に相当する。
【００９１】
次に、図７のステップＳ９では、第一異物位置領域１９１と第二異物位置領域２９１とから、異物位置領域３９１を算出する。第一異物位置領域１９１は、ステップＳ２を実施することによって求められた塵埃９１が位置する領域であり、第二異物位置領域２９１は、ステップＳ７を実施することによって求められた塵埃９１が位置する領域である。塵埃９１は、第一異物位置領域１９１と第二異物位置領域２９１との両方に含まれる領域に位置している。図８（ｆ）に示した異物位置領域３９１は、第一異物位置領域１９１と第二異物位置領域２９１との両方に含まれる領域である。
異物位置領域３９１は、（Ｗ＝ａ）で表される直線と、（Ｗ＝−ｔａｎ（９０−θ２）＋ｂ）で表される直線との交点の位置に、第１検出光Ｌ１の太さを考慮した幅を付加した領域である。ステップＳ９が、異物位置領域算出工程に相当する。
【００９２】
次に、図７のステップＳ１０では、異物位置領域３９１を表示する。異物位置領域３９１の表示は、例えば、（Ｗ＝ａ）で表される直線と、（Ｗ＝−ｔａｎ（９０−θ２）＋ｂ）で表される直線との交点の位置の座標を表示することで表示する。
ステップＳ１０を実施して、異物検査工程を終了する。
異物検査工程において異物が検出されなかった場合には、異物検査工程を終了して、直ちに、描画工程を実施することができる。異物検査工程において異物が検出された場合には、異物を除去する工程を実施した後、描画工程を実施する。
【００９３】
図９に示したマザー対向基板２０１Ａには、塵埃９２と塵埃９３とが付着している。
図７のステップＳ２では、図９（ｂ）に示したように、塵埃９２によって第１検出光Ｌ１の少なくとも一部が遮られ、塵埃９２が検出される。マザー対向基板２０１Ａの全面について異物検出を実施する過程において、塵埃９３も検出される。
【００９４】
ステップＳ４を実施して、図９（ｃ）に示したように、第一異物位置領域１９２及び第一異物位置領域１９３が求められる。第一異物位置領域１９２は、塵埃９２が存在する可能性がある領域である。第一異物位置領域１９３は、塵埃９３が存在する可能性がある領域である。
第一異物位置領域１９２における第１検出光Ｌ１の光軸の投影線は、ＶＷ座標を用いて、（Ｗ＝ｃ）で表される。ｃは、塵埃９２が検出された時点における、第１検出光Ｌ１の光軸の、Ｖ軸からのＷ軸方向の距離である。第一異物位置領域１９２は、（Ｗ＝ｃ）で表される直線に沿った、第１検出光Ｌ１の太さを考慮した幅を有する領域である。
第一異物位置領域１９３における第１検出光Ｌ１の光軸の投影線は、ＶＷ座標を用いて、（Ｗ＝ｄ）で表される。ｄは、塵埃９３が検出された時点における、第１検出光Ｌ１の光軸の、Ｖ軸からのＷ軸方向の距離である。第一異物位置領域１９３は、（Ｗ＝ｄ）で表される直線に沿った、第１検出光Ｌ１の太さを考慮した幅を有する領域である。
【００９５】
図７のステップＳ７では、図９（ｅ）に示したように、塵埃９２によって第１検出光Ｌ１の少なくとも一部が遮られ、塵埃９２が検出される。マザー対向基板２０１Ａの全面について異物検出を実施する過程において、塵埃９３も検出される。
【００９６】
ステップＳ８を実施して、図９（ｆ）に示したように、第二異物位置領域２９２及び第二異物位置領域２９３が求められる。第二異物位置領域２９２は、塵埃９２が存在する可能性がある領域である。第二異物位置領域２９３は、塵埃９３が存在する可能性がある領域である。
第二異物位置領域２９２における第１検出光Ｌ１の光軸の投影線は、ＶＷ座標を用いて、（Ｗ＝−ｔａｎ（９０−θ２）＋ｅ）で表される。ｅは、図９（ｅ）に示したように塵埃９２が検出された時点における、第１検出光Ｌ１の光軸とＷ軸とが交差する位置の、Ｖ軸からのＷ軸方向の距離である。第二異物位置領域２９２は、（Ｗ＝−ｔａｎ（９０−θ２）＋ｅ）で表される直線に沿った、第１検出光Ｌ１の太さを考慮した幅を有する領域である。
第二異物位置領域２９３における第１検出光Ｌ１の光軸の投影線は、ＶＷ座標を用いて、（Ｗ＝−ｔａｎ（９０−θ２）＋ｆ）で表される。ｆは、塵埃９３が検出された時点における、第１検出光Ｌ１の光軸とＷ軸とが交差する位置の、Ｖ軸からのＷ軸方向の距離である。第二異物位置領域２９３は、（Ｗ＝−ｔａｎ（９０−θ２）＋ｆ）で表される直線に沿った、第１検出光Ｌ１の太さを考慮した幅を有する領域である。
【００９７】
図７のステップＳ９では、第一異物位置領域１９２と第二異物位置領域２９２とから、異物位置領域３９２を算出する。図９（ｆ）に示した異物位置領域３９２は、第一異物位置領域１９２と第二異物位置領域２９２との両方に含まれる領域である。
異物位置領域３９２は、（Ｗ＝ｃ）で表される直線と、（Ｗ＝−ｔａｎ（９０−θ２）＋ｅ）で表される直線との交点の位置に、第１検出光Ｌ１の太さを考慮した幅を付加した領域である。
ステップＳ９では、同様に、第一異物位置領域１９３と第二異物位置領域２９３とから、異物位置領域３９３を算出する。図９（ｆ）に示した異物位置領域３９３は、第一異物位置領域１９３と第二異物位置領域２９３との両方に含まれる領域である。
異物位置領域３９３は、（Ｗ＝ｄ）で表される直線と、（Ｗ＝−ｔａｎ（９０−θ２）＋ｆ）で表される直線との交点の位置に、第１検出光Ｌ１の太さを考慮した幅を付加した領域である。
【００９８】
図９に示した例においては、図７のステップＳ１０では、異物位置領域３９２及び異物位置領域３９３を表示する。
異物位置領域３９２及び異物位置領域３９３を表示するステップＳ１０を実施して、異物検査工程を終了する。
【００９９】
＜他の異物検査工程例１＞
次に、液滴吐出装置１を用いて、マザー対向基板２０１Ａに描画する描画工程において実施する異物検査工程の上述した異物検査工程とは一部が異なる異物検査工程について、図１０を参照して説明する。図１０は、異物検出工程における各工程を示すフローチャートである。
【０１００】
最初に、図１０のステップＳ２１では、上述した図７のステップＳ１と同様に、マザー対向基板２０１Ａの基準軸が主走査方向となす角度を第一角度θ１に調整する。上述した異物検査工程の説明で図８（ａ）に示したように、マザー対向基板２０１Ａを基板ステージ１４に保持させて、マザー対向基板２０１Ａの基準軸が主走査方向となす角度が第一角度θ１となるように、方向を調整する。図８（ａ）に示したθ１は、９０度である。
【０１０１】
次に、図１０のステップＳ２２では、マザー対向基板２０１Ａの基準軸が主走査方向となす角度が第一角度である状態で、マザー対向基板２０１Ａ上の異物検出を実施し、異物の有無を判定する。
図７のステップＳ２と同様に、図８（ａ）に矢印ａで示した主走査方向に基板ステージ１４を走査させながら、第１異物検出センサー８１によって、マザー対向基板２０１Ａ上の異物を検出する。
ステップＳ２２では、マザー対向基板２０１Ａ上の異物を検出するか、マザー対向基板２０１Ａ上の異物を検出している状態ではなくなるまで、基板ステージ１４を走査させて、マザー対向基板２０１Ａについて異物検出を実施する。マザー対向基板２０１Ａ上の異物を検出している状態ではなくなるのは、マザー対向基板２０１Ａの全体が第１検出光Ｌ１の位置を通過して、マザー対向基板２０１Ａの全面について異物検出が実施された状態である。ステップＳ２２が、第一検出工程に相当する。
【０１０２】
マザー対向基板２０１Ａ上の異物が検出されず、マザー対向基板２０１Ａ上の異物を検出している状態ではなくなった場合（ステップＳ２２でＮＯ）には、異物検査工程を終了する。図８（ｂ）を参照して説明した場合のように、異物が検出された場合（ステップＳ２２でＹＥＳ）には、ステップＳ２３に進む。
【０１０３】
ステップＳ２２の次に、ステップＳ２３では、第一異物位置領域１９１を算出する。第一異物位置領域１９１は、マザー対向基板２０１Ａにおける、ステップＳ２２を実施して検出された異物が位置する可能性がある領域である。上述したように、塵埃９１が、図８（ｂ）に示したように検出された場合、図８（ｃ）に示した第一異物位置領域１９１を求めることができる。第一異物位置領域１９１における第１検出光Ｌ１の光軸の投影線は、ＶＷ座標を用いて、（Ｗ＝ａ）で表される。第一異物位置領域１９１は、（Ｗ＝ａ）で表される直線に沿った、第１検出光Ｌ１の太さを考慮した幅を有する領域である。ステップＳ２３が、第一領域算出工程に相当する。
【０１０４】
次に、図１０のステップＳ２４では、基板ステージ１４を後退させる。すなわち、マザー対向基板２０１Ａを後退させる。基板ステージ１４を、図８（ｄ）に示した矢印ｂの方向に走査させることによって、図８（ｂ）に示した塵埃９１を検出した位置に位置するマザー対向基板２０１Ａを、図８（ｄ）に示したように、第１検出光Ｌ１に対して、検査ユニット７０の反対側に移動させる。ステップＳ２４が、後退工程に相当する。
【０１０５】
次に、図１０のステップＳ２５では、マザー対向基板２０１Ａの角度を第二角度θ２に調整する。ステージ回動機構１６を用いて、基板ステージ１４を図８（ｄ）に示した矢印ｃの方向に回動させることによって、マザー対向基板２０１Ａの基準軸が主走査方向となす角度を第二角度θ２に調整する。なお、ステップＳ２４では、ステップＳ２５を実施してマザー対向基板２０１Ａの基準軸が主走査方向となす角度が第二角度θ２となった状態で、マザー対向基板２０１Ａが第１検出光Ｌ１に対して、検査ユニット７０の反対側に位置する位置まで、基板ステージ１４を移動させる。
【０１０６】
次に、図１０のステップＳ２６では、マザー対向基板２０１Ａの基準軸が主走査方向となす角度が第二角度θ２である状態で、異物を検出するまで、マザー対向基板２０１Ａについて異物検出を実施する。ステップＳ２６が、第二検出工程に相当する。
【０１０７】
次に、ステップＳ２７では、第二異物位置領域２９１を算出する。第二異物位置領域２９１は、マザー対向基板２０１Ａにおける、ステップＳ２６を実施して検出された異物が位置する可能性がある領域である。上述したように、塵埃９１が図８（ｅ）に示したように検出された場合、ステップＳ２３の第一異物位置領域１９１を算出する工程と同様にして、第二異物位置領域２９１を特定することができる。上述したように、第二異物位置領域２９１は、（Ｗ＝−ｔａｎ（９０−θ２）＋ｂ）で表される直線に沿った、第１検出光Ｌ１の太さを考慮した幅を有する領域である。ステップＳ２７が、第二領域算出工程に相当する。
【０１０８】
次に、図１０のステップＳ２８では、図７のステップＳ９と同様にして、第一異物位置領域１９１と第二異物位置領域２９１とから、異物位置領域３９１を算出する。
上述したように、異物位置領域３９１は、（Ｗ＝ａ）で表される直線と、（Ｗ＝−ｔａｎ（９０−θ２）＋ｂ）で表される直線との交点の位置に、第１検出光Ｌ１の太さを考慮した幅を付加した領域である。ステップＳ２８が、異物位置領域算出工程に相当する。
【０１０９】
次に、図１０のステップＳ２９では、異物位置領域３９１を表示する。異物位置領域３９１の表示は、例えば、（Ｗ＝ａ）で表される直線と、（Ｗ＝−ｔａｎ（９０−θ２）＋ｂ）で表される直線との交点の位置の座標を表示することで表示する。
ステップＳ２９を実施して、異物検査工程を終了する。
異物検査工程において異物が検出されなかった場合には、異物検査工程を終了して、直ちに、描画工程を実施することができる。異物検査工程において異物が検出された場合には、異物を除去する工程を実施する。本異物検査工程においては、１個の異物が検出された部分より先の部分については、異物検査を実施してないため、異物を除去する工程を実施した後、異物検査を未実施の部分について、異物検査を実施する。マザー対向基板２０１Ａの全面について、異物検査及び異物を除去する工程を実施した後、描画工程を実施する。
【０１１０】
＜他の異物検査工程例２＞
次に、液滴吐出装置１を用いて、マザー対向基板２０１Ａに描画する描画工程において実施する異物検査工程の上述した異物検査工程とは一部が異なる異物検査工程について、図１１、図１２、及び図１３を参照して説明する。
図１１は、異物検出工程における各工程を示すフローチャートである。図１２及び図１３は、異物検出工程におけるマザー対向基板と第１異物検出センサーとの位置関係を示す説明図である。
【０１１１】
図１１のステップＳ３１からステップＳ３９の工程は、図７を参照して説明したステップＳ１からステップＳ９の工程と同様の工程である。
マザー対向基板２０１Ａの基準軸が主走査方向となす角度が第一角度である状態で、マザー対向基板２０１Ａの全面について異物検出を実施し、塵埃９４及び塵埃９５が検出されて、図１２（ｃ）に示したように、第一異物位置領域１９４及び第一異物位置領域１９５が求められる。
図１２に示した例では、マザー対向基板２０１Ａの基準軸が主走査方向となす角度が第二角度である状態で異物検出を実施し他場合、図１２（ｅ）に示すように、塵埃９４及び塵埃９５が、恰も１個の異物のように検出されている。このため、図１２（ｆ）に示すように、第二異物位置領域２９４が求められ、異物位置領域３９４が求められている。しかし、塵埃９５に対応する第二異物位置領域が求められておらず、異物位置領域が特定できていない。
【０１１２】
図１１のステップＳ３９の次にステップＳ４０では、求められた異物位置領域に矛盾があるか否かを判定する。上述した図９に示した例のように、異物位置領域（異物位置領域３９１）に矛盾がない（ステップＳ４０でＮＯ）場合には、ステップＳ４７に進む。図１２に示した例のように、異物位置領域に矛盾がある（塵埃９５に対応する異物位置領域が特定できていない）（ステップＳ４０でＹＥＳ）場合には、ステップＳ４１に進む。
【０１１３】
ステップＳ４１からステップＳ４６の工程は、ステップＳ４２において、図１３（ｇ）に示したように、マザー対向基板２０１Ａの基準軸が主走査方向となす角度を第三角度に調整する以外は、ステップＳ３５からステップＳ４０の工程と同様の工程である。
ステップＳ４１からステップＳ４３を実施して、図１３（ｈ）に示したように、塵埃９４及び塵埃９５が検出される。ステップＳ４４及びステップＳ４５を実施して、図１３（ｉ）に示したように、第三異物位置領域４９４と第三異物位置領域４９５、及び異物位置領域５９４と異物位置領域５９５とが求められる。なお、図１３（ｉ）に示した異物位置領域６９４及び異物位置領域６９５は、第一異物位置領域１９４及び第一異物位置領域１９５と第三異物位置領域４９４及び第三異物位置領域４９５とから、異物位置領域５９４及び異物位置領域５９５と同様に算出される。異物位置領域６９４及び異物位置領域６９５は、異物は存在しないが、異物位置領域として算出される領域である。本異物検査工程では、検出された塵埃９４及び塵埃９５が存在するのが、異物位置領域６９４、異物位置領域６９５、異物位置領域５９４、及び異物位置領域５９５のいずれであるかは特定されない。
【０１１４】
図１１のステップＳ４５の次にステップＳ４６では、求められた異物位置領域に矛盾があるか否かを判定する。異物位置領域に矛盾がない（ステップＳ４６でＮＯ）場合には、ステップＳ４７に進む。異物位置領域に矛盾がある（ステップＳ４６でＹＥＳ）場合には、ステップＳ４８に進む。
【０１１５】
ステップＳ４６の次にステップＳ４８では、算出されている異物位置領域を表示すると共に、表示した異物位置領域に矛盾があることを表示する。
【０１１６】
ステップＳ４０又はステップＳ４６の次にステップＳ４７では、算出されている異物位置領域を表示する。図１３（ｉ）に示したように、検出された塵埃９４及び塵埃９５が存在するのが、異物位置領域６９４、異物位置領域６９５、異物位置領域５９４、及び異物位置領域５９５のいずれであるかは特定されない場合には、算出された異物位置領域を全て表示する。
【０１１７】
ステップＳ４７又はステップＳ４８を実施して、異物検査工程を終了する。
異物検査工程において異物が検出されなかった場合には、異物検査工程を終了して、直ちに、描画工程を実施することができる。異物検査工程において異物が検出された場合には、異物を除去する工程を実施した後、描画工程を実施する。
ステップＳ４７において、検出された異物の数より多い異物位置領域が表示された場合には、表示された全ての異物位置領域において異物を除去する工程を実施し、実際に存在した異物を除去する。
ステップＳ４８が実施されて、算出されている異物位置領域が表示されると共に、表示された異物位置領域に矛盾があることが表示されている場合には、表示された異物位置領域において異物を除去する工程を実施し、再度異物検査工程を実施する。
【０１１８】
＜他の異物検査工程例３＞
次に、液滴吐出装置１を用いて、マザー対向基板２０１Ａに描画する描画工程において実施する異物検査工程の上述した異物検査工程とは一部が異なる異物検査工程について、図１４を参照して説明する。図１４は、異物検出工程における各工程を示すフローチャートである。
【０１１９】
図１４のステップＳ５１からステップＳ５８の工程は、図１０を参照して説明したステップＳ２１からステップＳ２８の工程と同様の工程である。
マザー対向基板２０１Ａの基準軸が主走査方向となす角度が第一角度である状態及び第二角度である状態で異物検出を実施し、第一異物位置領域及び第二異物位置領域が求められる。ステップＳ５８において、第一異物位置領域と第二異物位置領域とから、異物位置領域が算出される。
【０１２０】
図１４のステップＳ５８の次にステップＳ５９では、求められた異物位置領域に矛盾があるか否かを判定する。上述した図８に示した例のように、異物位置領域に矛盾がない（ステップＳ５９でＮＯ）場合には、ステップＳ６６に進む。異物位置領域に矛盾がある（ステップＳ５９でＹＥＳ）場合には、ステップＳ６０に進む。異物位置領域に矛盾がある場合とは、例えば、異物位置領域がマザー対向基板２０１Ａの上にない場合などである。
【０１２１】
ステップＳ６０からステップＳ６５の工程は、ステップＳ６１において、マザー対向基板２０１Ａの基準軸が主走査方向となす角度を第三角度に調整する以外は、ステップＳ５４からステップＳ５９の工程と同様の工程である。異物位置領域がマザー対向基板２０１Ａの上にない場合は、例えば、ステップＳ５２で検出した異物と、ステップＳ５６で検出した異物とが異なる場合である。この場合、第三角度は、第一角度に対して第二角度と反対側に、マザー対向基板２０１Ａを回動させた角度であることが好ましい。ステップＳ６１では、図１２（ｃ）などに示した矢印ｃの方向とは反対側にマザー対向基板２０１Ａを回動させて、マザー対向基板２０１Ａの角度を変更することが好ましい。
ステップＳ６０からステップＳ６２を実施して、異物が検出される。ステップＳ６３及びステップＳ６４を実施して、異物位置領域が求められる。
【０１２２】
図１４のステップＳ６４の次にステップＳ６５では、求められた異物位置領域に矛盾があるか否かを判定する。異物位置領域に矛盾がない（ステップＳ６５でＮＯ）場合には、ステップＳ６６に進む。異物位置領域に矛盾がある（ステップＳ６５でＹＥＳ）場合には、ステップＳ６７に進む。
【０１２３】
ステップＳ６５の次にステップＳ６７では、算出されている異物位置領域を表示すると共に、表示した異物位置領域に矛盾があることを表示する。
ステップＳ５９又はステップＳ６５の次にステップＳ６６では、算出されている異物位置領域を表示する。
【０１２４】
ステップＳ４７又はステップＳ４８を実施して、異物検査工程を終了する。
異物検査工程において異物が検出されなかった場合には、異物検査工程を終了して、直ちに、描画工程を実施することができる。異物検査工程において異物が検出された場合には、異物を除去する工程を実施した後、描画工程を実施する。
ステップＳ６７が実施されて、算出されている異物位置領域が表示されると共に、表示された異物位置領域に矛盾があることが表示されている場合には、表示された異物位置領域において異物を除去する工程を実施し、再度異物検査工程を実施する。
【０１２５】
以下、実施形態による効果を記載する。本実施形態によれば、以下の効果が得られる。
（１）第１異物検出センサー８１の第１投光部８１Ａと第１受光部８１Ｂとは、主走査方向と交差する方向において、主走査方向に走査される基板ステージ１４をはさむ位置に配設されている。これにより、１回の検出工程を実施することで、塵埃９１などの異物が位置する領域を、第一異物位置領域１９１や第二異物位置領域２９１に特定することができる。
【０１２６】
（２）走査方向に対するマザー対向基板２０１Ａの角度を変えた２回の検出工程を実施することで、第一異物位置領域１９１と第二異物位置領域２９１とのように、１個の塵埃９１などの異物が位置する領域として、２個の異なる領域を特定している。第一異物位置領域１９１と第二異物位置領域２９１とから異物位置領域３９１を求めるように、２個の異なる領域の共通部分を求めることで、異物が位置する領域を、異物位置領域３９１のような狭い範囲に特定することができる。
【０１２７】
（３）異物検査工程は、ステップＳ４０などの、異物位置領域３９１などに矛盾があるか否かを検証する工程を有している。これにより、矛盾がある異物位置領域が、検査結果として出力されることを抑制することができる。
【０１２８】
（４）ステップＳ２２やステップＳ５２において塵埃９１などの異物が検出された場合には、ステップＳ２４やステップＳ５４において基板ステージ１４を後退させている。続いて異物検出工程が実施され、特定された異物位置領域に位置する塵埃９１などの異物が除去される。したがって、塵埃９１などの異物は、第１異物検出センサー８１よりキャリッジ３０側に位置することがない。これにより、第１異物検出センサー８１とキャリッジ３０とを近接させて配置することが可能となり、液滴吐出装置１を小型にすることができる。あるいは、異物検査工程に際して、ヘッドユニット４１とマザー対向基板２０１Ａを対向させないためにキャリッジ３０を待機領域に移動することを不要にすることができる。
【０１２９】
（５）ステップＳ４０などにおいて、異物位置領域３９１などに矛盾があると判定された場合には、マザー対向基板２０１Ａの角度を第三角度に変更して、異物検出工程を実施する。これにより、矛盾のない異物位置領域を求めることができる確率を高くすることができる。
【０１３０】
（６）ステップＳ６１では、図１２（ｃ）などに示した矢印ｃの方向とは反対側にマザー対向基板２０１Ａを回動させて、マザー対向基板２０１Ａの角度を変更することが好ましい。ステップＳ６１の前に実施したステップＳ５９で矛盾有りと判定された理由は、ステップＳ５２で検出した異物と、ステップＳ５６で検出した異物とが異なることである可能性が高い。この場合、第二角度に変更するために矢印ｃの方向にマザー対向基板２０１Ａを回動させたことに対して、第三角度に変更するために矢印ｃの反対方向にマザー対向基板２０１Ａを回動させることで、矛盾を生じさせた要因を排除できる可能性を高くすることができる。
【０１３１】
以上、添付図面を参照しながら好適な実施形態について説明したが、好適な実施形態は、前記実施形態に限らない。実施形態は、要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論であり、以下のように実施することもできる。
【０１３２】
（変形例１）前記実施形態においては、ステップＳ２やステップＳ２２やステップＳ３２やステップＳ５２において異物が検出されなかった場合には、異物検査工程を終了していた。しかし、第一検出工程において異物が検出されなかった場合に異物検査工程を終了することは必須ではない。例えば異物が小さい場合は、受光量の変化量が小さいことに起因して、検出されない場合がある。異物の形状によって、第一角度の場合に検出光を遮る量が少ないが、第二角度の場合に、検出光を遮る量が第一角度の場合より増加する場合もある。異物が小さい環境などにおいては、第一検出工程において異物が検出されなかった場合にも、第二検出工程を実施してもよい。第一検出工程において異物が検出されなかった場合にも、第二検出工程を実施することで、より確実に異物を検出することができる。第一検出工程において異物が検出されなかった場合にも、第二検出工程を実施すると、異物位置領域に矛盾が生ずる（第一異物位置領域が求められていないことに起因して異物位置領域が求められない）可能性がある。このため、第一検出工程において異物が検出されなかった場合にも第二検出工程を実施する場合、第二検出工程において異物が検出された場合には、さらに検証工程を実施することが好ましい。
【０１３３】
（変形例２）前記実施形態においては、ステップＳ６２では、マザー対向基板２０１Ａの基準軸が主走査方向となす角度を、第一角度及び第二角度とは異なる第三角度に調整した状態で、異物検出を実施していた。しかし、第三検出工程は、第一検出工程又は第二検出工程を、再度実施する工程であってもよい。異物が小さい場合は、受光量の変化量が小さいことに起因して、検出され難い場合がある。このように、異物が存在するが検出され難い場合には、複数回実施することによって、検出される可能性が高くなる。異物が小さい環境においては、第一検出工程又は第二検出工程を再度実施することが有効である。
【０１３４】
（変形例３）前記実施形態においては、ステップＳ６２では、マザー対向基板２０１Ａの基準軸が主走査方向となす角度を、第一角度及び第二角度とは異なる第三角度に調整した状態で、異物検出を実施していた。しかし、第三検出工程は、異物を検出することによって終了した第二検出工程を、当該異物を検出した状態から再開する工程であってもよい。第一検出工程及び第二検出工程を実施して求めた異物の位置に矛盾が生ずる原因として、第一検出工程と第二検出工程とで、検出された異物が異なる可能性がある。この場合、第二検出工程を、当該異物を検出した状態から再開することで、第一検出工程で検出された異物を、再開した第二検出工程において検出できる可能性が高い。例えば、算出された異物位置領域が被描画媒体から外れた位置である場合などは、第一検出工程と第二検出工程とで、検出された異物が異なる可能性が高い。このような場合には、第二検出工程を、異物を検出した状態から再開することが有効である。
【０１３５】
（変形例４）前記実施形態においては、図７を参照して説明した異物検査工程及び図１１を参照して説明した異物検査工程におけるステップＳ７及びステップＳ３７において、マザー対向基板２０１Ａの全面について異物の検出を実施していた。しかし、ステップＳ７やステップＳ３７のように、２回目の異物検出の工程において被描画媒体の全面について異物の検出を実施することは必須ではない。２回目の異物検出の工程は、例えば、１回目の異物検出の工程において検出した異物の数と同数の異物を検出した時点で終了してもよい。
【０１３６】
（変形例５）前記実施形態においては、ステップＳ５やステップＳ３５において、基板ステージ１４を後退させてマザー対向基板２０１Ａを後退させる工程を実施していた。しかし、第一検出工程で被描画媒体の全面について異物の検出を実施する場合、後退工程を実施することは必須ではない。後退工程を実施することなく、第二検出工程においては、第一検出工程と反対方向に、被描画媒体と検出装置とを相対移動させながら異物検出を実施してもよい。
【０１３７】
（変形例６）前記実施形態においては、ステップＳ５やステップＳ２４などにおいて、基板ステージ１４を後退させてマザー対向基板２０１Ａを後退させる工程では、マザー対向基板２０１Ａの基準軸が主走査方向となす角度が第二角度θ２となった状態で、マザー対向基板２０１Ａが第１検出光Ｌ１に対して、検査ユニット７０の反対側に位置する位置まで、基板ステージ１４を移動させていた。しかし、後退工程において、被描画媒体を、被描画媒体が検出領域より第一検出工程を開始した相対位置側（第二走査方向側）に位置するまで相対移動させることは必須ではない。後退工程では、被描画媒体を、検出した異物が検出領域より第一検出工程を開始した相対位置側（第二走査方向側）に位置するまで相対移動させてもよい。
【０１３８】
（変形例７）前記実施形態においては、被描画媒体は、液晶表示パネル２００を構成する対向基板２２０を区画形成するマザー対向基板２０１Ａであった。しかし、被描画媒体は、液晶表示パネルを構成する基板に限らない。被描画媒体は、液滴吐出ヘッドを用いて描画する被描画媒体であれば、どのような被描画媒体であってもよい。
【０１３９】
（変形例８）前記実施形態においては、主走査方向に基板ステージ１４を走査させながら、第１異物検出センサー８１によって、マザー対向基板２０１Ａ上の異物を検出していた。しかし、被描画媒体と検出装置とを吐出走査方向における第一走査方向に相対移動させるために、被描画媒体を移動させることは必須ではない。検出装置を移動させることによって、被描画媒体と検出装置とを相対移動させてもよい。
【０１４０】
（変形例９）前記実施形態においては、ステップＳ９などの異物位置領域３９１などを算出して求める工程を有していた。しかし、異物検査工程において、異物位置領域算出工程を実施することは必須ではない。異物検査工程の結果として、第一異物位置領域と第二異物位置領域とを出力し、第一異物位置領域と第二異物位置領域とが交差する位置は、異物を除去する作業者が、第一異物位置領域と第二異物位置領域との情報から凡その位置を特定する方法であってもよい。
【符号の説明】
【０１４１】
１…液滴吐出装置、Ｌ１…検出光、１１…Ｘ軸ガイドレール、１４…基板ステージ、１６…ステージ回動機構、１８…Ｙ軸ガイドレール、３０…キャリッジ、４０…液滴吐出ヘッド、４１…ヘッドユニット、７０…検査ユニット、８１…第１異物検出センサー、８１Ａ…第１投光部、８１Ｂ…第１受光部、８１Ｃ…基板検出センサー、８３…第２異物検出センサー、８３Ａ…投受光部、８３Ｂ…反射板、９１，９２，９３，９４，９５…塵埃、１９１，１９２，１９３，１９４，１９５…第一異物位置領域、２００…液晶表示パネル、２０１…ガラス基板、２０１Ａ…マザー対向基板、２０４…隔壁、２０５…フィルター膜、２２０…対向基板、２９１，２９２，２９３，２９４…第二異物位置領域、３９１，３９２，３９３，３９４…異物位置領域、４９４，４９５…第三異物位置領域、５９４，５９５…異物位置領域、６９４，６９５…異物位置領域。
【図１】
2013132610.tif 000003
【図２】
2013132610.tif 000004
【図３】
2013132610.tif 000005
【図４】
2013132610.tif 000006
【図５】
2013132610.tif 000007
【図６】
2013132610.tif 000008
【図７】
2013132610.tif 000009
【図８】
2013132610.tif 000010
【図９】
2013132610.tif 000011
【図１０】
2013132610.tif 000012
【図１１】
2013132610.tif 000013
【図１２】
2013132610.tif 000014
【図１３】
2013132610.tif 000015
【図１４】
2013132610.tif 000016