(57)【要約】      （修正有）【課題】電子顕微鏡隔壁を損傷させず、かつその表面の大部分を酸化させることなく洗浄可能なガス環境室ホルダを提供する。【解決手段】ホルダ組立体において、流体流入口を有するガス環境室１０１及び排気可能部分を外部から隔離する真空壁を有する電子顕微鏡と協働し、電子顕微鏡と接する封止体を構成する電子顕微鏡隔壁、ガス環境室の流体流入口と接する封止体を構成するガス環境室隔壁、流体供給部とガス環境室の流体流入口とを接続する管、および第1部材１２２と第2部材１２１を有し、第1部材は第2部材から取り外し可能で、管とガス環境室の隔壁を有し、第2部材は電子顕微鏡の隔壁を有し、高温での第1部材の洗浄が、第2部材を高温に曝露することなく可能となる。管内の詰まりは炭素の減少により緩和され、他方第2部材を冷却状態に保持されうる。先記洗浄は、たとえば酸素又は水素を管に流すことによって改善されうる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガス環境室及び電子顕微鏡と協働するホルダ組立体であって、
前記ガス環境室は流体流入口を有し、
前記電子顕微鏡は、該電子顕微鏡の排気可能部分を前記電子顕微鏡の外部から隔離する真空壁を有し、
当該ホルダ組立体は、前記電子顕微鏡と接する封止体を構成する電子顕微鏡隔壁を有し、
当該ホルダ組立体は、前記ガス環境室の流体流入口と接する封止体を構成するガス環境室隔壁を有し、
当該ホルダ組立体は、流体供給部と前記ガス環境室の流体流入口とを接続する管を有し、
当該ホルダ組立体は第1部材と第2部材を有し、
前記第1部材は前記第2部材から取り外し可能で、
前記第1部材は前記管と前記ガス環境室の隔壁を有し、前記第2部材は前記電子顕微鏡の隔壁を有し、その結果、高温での前記第1部材の洗浄が、前記第2部材を前記高温に曝露することなく可能となる、
ことを特徴とするホルダ組立体。
【請求項２】
前記第2部材上に位置する第1部材を封止する密閉封止体をさらに有する請求項1に記載のホルダ組立体であって、
前記密閉封止体は、動作中、前記電子顕微鏡の外部から前記電子顕微鏡の排気可能な部分を封止する、ホルダ組立体。
【請求項３】
流体流入口と流体流出口を備えるガス環境室と協働するホルダ組立体である請求項1又は2に記載のホルダ組立体であって、
当該ホルダ組立体のガス環境室の隔壁はさらに、前記ガス環境室の流体流出口に対する封止隔壁を構成し、かつ、当該ホルダ組立体は、前記ガス環境室を前記電子顕微鏡の外部へ搬送する管を有する、ホルダ組立体。
【請求項４】
前記ガス環境室の隔壁で電気的ピンと電気的インターコネクトとを接続する1つ以上の電気的接続をさらに有する請求項1乃至3のうちいずれか一項に記載のホルダ組立体であって、
前記電気的ピンは動作中、前記電子顕微鏡の外部から利用可能である、ホルダ組立体。
【請求項５】
前記ガス環境室で光インターコネクトへの光学的結合と接続する光路を有する請求項1乃至4のうちいずれか一項に記載のホルダ組立体であって、
前記光学的結合は動作中、前記電子顕微鏡の外部に位置するか、又は、利用可能である、ホルダ組立体。
【請求項６】
前記電子顕微鏡以外の分析若しくは検査装置又は試料準備装置と接する他の隔壁を有する請求項1乃至5のうちいずれか一項に記載のホルダ組立体。
【請求項７】
前記管及び/又は前記ガス環境室の隔壁が、セラミック材料、チタン、タンタル、又はプラチナから作られる、請求項1乃至6のうちいずれか一項に記載のホルダ組立体。
【請求項８】
前記第2部材が、金属を有するか、又は、メタライズされる、請求項7に記載のホルダ組立体。
【請求項９】
流体流入口を有するガス環境室、並びに、排気可能部分及び該排気可能部分を前記電子顕微鏡の外部から隔離する真空壁を有する電子顕微鏡と協働し、
前記電子顕微鏡と接する封止体を構成する電子顕微鏡隔壁を有し、
前記ガス環境室の流体流入口と接する封止体を構成するガス環境室隔壁を有し、
流体供給部と前記ガス環境室の流体流入口とを接続する管を有する、ホルダ組立体の洗浄方法であって、
前記管と前記ガス環境室隔壁は、前記電子顕微鏡隔壁を有する当該ホルダ組立体の部材から取り外し可能で、
前記洗浄は第1部材から汚染物を除去する手順を有する、
方法。
【請求項１０】
前記管及び/又は前記ガス環境室の隔壁が、セラミック材料、チタン、タンタル、又はプラチナから作られる、請求項9に記載の方法。
【請求項１１】
前記汚染物を除去する手順が、前記管と前記ガス環境室隔壁を500℃よりも高温に曝露することによって、前記汚染物を揮発性生成物に変化させる手順を有する、請求項9又は10に記載の方法。
【請求項１２】
前記管にガスを流す手順をさらに有する、請求項11に記載の方法。
【請求項１３】
前記ガスは、酸素と水素からなる群から選ばれるガスである、請求項12に記載の方法。
【請求項１４】
前記洗浄が、前記管に液体を流す手順を有する、請求項9又は10に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
ガス環境室及び電子顕微鏡と協働するホルダ組立体に関する。前記ガス環境室は流体流入口を有する。前記電子顕微鏡は、該電子顕微鏡の排気可能部分を前記電子顕微鏡の外部から隔離する真空壁を有する。当該ホルダ組立体は、前記電子顕微鏡と接する封止体を構成する電子顕微鏡隔壁を有する。当該ホルダ組立体は、前記ガス環境室の流体流入口と接する封止体を構成するガス環境室隔壁を有する。当該ホルダ組立体は、流体供給部と前記ガス環境室の流体流入口とを接続する管を有する。
【０００２】
本発明はさらに、当該ホルダ組立体の洗浄方法にも関する。
【背景技術】
【０００３】
当該ホルダ組立体は非特許文献1から既知である。
【０００４】
電子顕微鏡(EM)では、試料に電子ビームを照射し、その照射に応じてその試料から放出される放射線を検出することによって、その試料が検査（分析、可視化、測定）される。照射は、走査型透過電子顕微鏡(STEM)及び走査電子顕微鏡(SEM)で行われているように、試料全体にわたって集束電子ビームを操作させることによって行われて良いし、あるいは、透過電子顕微鏡(TEM)で行われているように、平行な電子ビームを試料に照射することによって行われても良い。放出される放射線はたとえば、2次電子（50eV未満のエネルギーを有する）、後方散乱電子（50eVよりも大きなエネルギーを有する）、透過電子（散乱される電子と散乱されない電子の両方）、光（蛍光、リン光）、及びX線を有して良い。
【０００５】
通常試料の調査は、圧力10-4mbar−より具体的には10-6mbar−の高真空中で実行される。さもなければ衝突した電子が、ガス原子によって散乱される結果、EMの構成部材の損傷及び/又は到達可能な解像度の劣化を生じさせてしまうからである。
【０００６】
高真空の欠点は、多くの試料−たとえば生体試料−との相性が良くないことである。試料が冷凍又は樹脂内に埋めこなれない限り脱水が起こる。冷凍は、アモルファス状態の氷が生成されるように行われなければならない。さもなければ氷の針がデリケートな生体構造−たとえば細胞膜−を損傷させてしまうからである。アモルファス状態の氷を安定させるためには、温度は137Kより低い温度に維持されなければならないため、高価な低温電子顕微鏡が必要となる。樹脂への埋め込みは、難しくて時間のかかる処理で、大抵はアーティファクトを導入してしまう。
【０００７】
たとえば20mbarの圧力で動作しうる特別なTEM−所謂ETEM（環境制御型TEM）−が知られている。約20℃の温度では、水の平衡圧力は20mbarであるので、水分を含む試料が、その圧力と温度では観察できる。しかしそのような装置の価格は、その装置と同等であるが、先述の圧力で動作できないものの価格よりもはるかに高い。そのような装置の一例は、本願出願人であるFEIカンパニーが製造するタイタンETEM（Titan  ETEM）である。
【０００８】
他の調査領域は、化学反応の研究である。そのような化学反応はたとえば、固体と気体との間、2種類の気体間、又は液体と気体との間で起こりうる。一例は、ナノ粒子（1μm未満で、好適には100nm未満のサイズの粒子）の成長、又は、触媒材料の変化である。そのような研究は好適には、そのような触媒過程が通常起こるような高圧（1atm以上）及び/又は高温（500℃以上）で実行されなければならない。
【０００９】
そのような実験専用のTEMに替わるものは、標準的なTEMとガス環境室(ECELL)を併用することである。ECELLは、利用される電子を透過する2つのホイルを有する。前記2つのホイル間には薄い体積が生成される。この体積内には、開閉可能なECELLを機械的に挿入することにより試料が設けられて良いし、又は、ECELL内の開口部を介して挿入することによって（たとえば流体状態又は流体中に溶けた状態の）試料が設けられてもよい。この体積中での圧力及び/又は温度は、電子顕微鏡の試料チャンバ中での圧力及び/又は温度と異なって良い。ECELLは、ETEM内でとりうる圧力及び/又は温度よりもはるかに高い圧力及び/又は温度での実験を可能にし、かつ、反応性ガラスの利用、さらには液体の利用をも可能にする。
【００１０】
ECELL技術は新たに現れた技術だが、ECELLには多くの変形が既に知られている。
【００１１】
（内部に試料を挿入するように）開くことのできるECELLの例は、非特許文献2で与えられている。他のECELL非特許文献1に記載されている。ここで、各々が電子を透過する窓を備える2つのチップを有するMEMS（電子機械システム）室が表されている。前記2つのチップは、互いに間隔をあけた状態で保持されて接合される。2つのチップのうちの一のチップは、ガス流入孔とガス流出孔を有する。前記一のチップはホルダと接している。前記ガス流入孔と前記ガス流出孔の各々を取り囲むように、小型Oリングである小型封止体を備える真空封止体が形成される。
【００１２】
本明細書においては、ECELLという語句はナノ反応装置という語句を含むことに留意して欲しい。場合によっては、試料は挿入されず、その代わりに刺激−たとえば光、電子ビームの衝突、又は温度上昇−による2種類の流体の化学反応又は1種類の流体の分解の結果として、前記ECELLの薄い体積内に生成されることにさらに留意して欲しい。
【００１３】
既知のECELL及びECELLホルダの欠点は、ECELL内部へ流体（大抵の場合はガス）を供給する管が非常に狭いことである。TEM用の典型的なホルダ先端部（電子顕微鏡の光軸に近い部分）は4〜5mmの幅を有するので、1mmよりもはるかに狭い毛細管が用いられることに留意して欲しい。非特許文献1は、内径0.22mmの銅の毛細管の利用について記載している。
【００１４】
管の内径を考慮すると、詰まり又は汚染は通常、機械的な洗浄によっては解決できないことは明らかである。通常加熱しながら管にガスを流すことが、粒子が揮発すなわち気体物質を生成する望みのある唯一の解決法である。そのような粒子の多く−炭素も含まれる−は、このようにして除去される前にたとえば500℃に曝露されなければならない。さらに高い温度−たとえば1000℃を超える温度−が用いられることが好ましい。通常上限は、管とECELLの隔壁が作られる材料によって決まる。
【００１５】
課題は、真空と相性の良いエポキシ樹脂を備えるECELL隔壁を有する部材と結合することである。管を洗浄する温度にエポキシを曝露することで、（容器とエポキシの両方が炭素を含むため）その結合は自動的に壊れてしまう。
【００１６】
あるいはその代わりに、管をECELL隔壁に接合することも知られているが、内径0.22mmの管に接合する真空封止を形成するコストは極端に高い。関連する課題は、接合が全ての材料間で可能ではないことである。金属をたとえばセラミックスへ接合することは不可能である。
【００１７】
関連する問題は、試料ホルダをそのような高温に曝露することで、その試料ホルダが機械的に変形し、その結果、たとえば電子顕微鏡と接するその試料ホルダの封止の許容度が失われる恐れがあることである。この結果、試料ホルダが電子顕微鏡内に挿入さえるときに、その試料ホルダの漏れが生じる恐れがある。また試料ホルダの他の部材−たとえば電子ビーム付近に先端部を設置するのに必要な機構−は、高温に加熱できない。その他の部材が、その機能を失う恐れがあるからである。
【００１８】
他の問題は、好適には試料ホルダの大部分が、帯電を防ぐために伝導性でなければならないことである。帯電は当業者に既知の問題である。試料ホルダを高温に加熱する結果、その試料ホルダは、酸化されることで絶縁性の表面を有するようになってしまう。
【００１９】
他の関連する問題は、試料ホルダが、先に行われた実験から生じた物質及び/又は蓄積された結果残された物質を洗浄する必要があることである。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【００２０】
【非特許文献１】MEMS  reactor  for  atomic-scale  microscopy  of  nanomaterials,  J.F.  Creemer  et  al.,  Journal  of  Microelectromechanical  Systems  19  No  2  (April  2010),  pp.  254-264
【非特許文献２】Design  and  development  of  en  environmental  cell  for  dynamic  in  situ  observation  of  gas-solid  reactions  at  elevated  temperatures,  P.V.  Deshmukh,  thesis,  University  of  Pittsburgh,  2008
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００２１】
本発明の目的は、EM隔壁を損傷させず、かつ、その表面の大部分を酸化させることなく洗浄可能なECELLホルダを供することである。
【課題を解決するための手段】
【００２２】
上記目的のため、本発明によるホルダ組立体は、第1部材と第2部材を有し、前記第1部材は前記第2部材から取り外し可能で、前記第1部材は前記管と前記ガス環境室の隔壁を有し、前記第2部材は前記電子顕微鏡の隔壁を有し、その結果、高温での前記第1部材の洗浄が、前記第2部材を前記高温に曝露することなく可能となる。
【００２３】
前記管を有する前記ホルダ組立体の部材が、前記EMの隔壁から取り外し可能となるように前記ホルダ組立体を構成することによって、前記管は、半永久的な接続−たとえばはんだ又は接着剤による接続−を損傷させず、又は、前記EMの隔壁の許容度を損なうことなく、又は、前記ホルダ組立体の大部分を酸化させることなく高温で洗浄可能となる。
【００２４】
前記管は、（前記顕微鏡の外部と接する前記ガス環境室と接続するように）前記顕微鏡の壁を通過しなければならない。従って前記第2部材は少なくとも部分的に前記第1部材を取り囲む。よって一般的には前記第1部材は中空シリンダ状の部材を含む。
【００２５】
本発明の実施例では、当該ホルダ組立体は、該ホルダ組立体の第2部材上に位置する当該ホルダ組立体の第1部材を封止する密閉封止体をさらに有する。前記密閉封止体は、動作中、前記電子顕微鏡の外部から前記電子顕微鏡の排気可能な部分を封止する。
【００２６】
前記第1部材と前記第2部材が一つになる場合、前記電子顕微鏡の外部から前記電子顕微鏡の排気可能な内部空間への漏れを回避するように封止体が形成されなければならない。
【００２７】
本発明の他の実施例では、当該ホルダ組立体は、流体流入口と流体流出口を備えるガス環境室と協働するホルダ組立体であり、かつ、当該ホルダ組立体のガス環境室の隔壁はさらに、前記ガス環境室の流体流出口に対する封止隔壁を構成し、かつ、当該ホルダ組立体は、前記ガス環境室を前記電子顕微鏡の外部へ搬送する管を有する。
【００２８】
前記流出口が存在しないか、又は、前記電子顕微鏡の排気可能な領域の真空へベントしながら、流入管と接続するガス環境室を動作させることは可能だが、好適には、前記ガス環境室は流入口と流出口が備えられるので、当該ホルダ組立体には流入管と流出管が備えられる。
【００２９】
本発明は、前記第1部材（管とガス環境室の隔壁を有する）と前記第2部材（前記電子顕微鏡の隔壁を有する）とでそれぞれ異なる材料を使用することを可能にする。多くの実験にとって好適な選択は、前記第1部材にセラミックスを選択して、前記第2部材に金属を選択することである。前記セラミックスの管は、不活性で、かつ高温（1000℃を超える温度）になるまで加熱可能で、他方前記金属の部材は、前記電子顕微鏡の壁に対する当該ホルダ組立体の機械的設置に必要な部材を有して良い。しかし多くの実験にとって、金属（好適には不活性、非磁性、及び/又は酸化しにくい）−たとえばモリブデン、タンタル、又はプラチナ−も用いられて良い。
【００３０】
前記第2部材は、一つとなるように接合又ははんだ付けされた複数の金属から構築されて良いことに留意して欲しい。これらの部材は高温にまで加熱される必要がないからである。
【００３１】
さらに他の実施例では、当該ホルダ組立体は、前記ガス環境室の隔壁で電気的ピンと電気的インターコネクトとを接続する1つ以上の電気的接続をさらに有し、前記電気的ピンは動作中、前記電子顕微鏡の外部から利用可能である。
【００３２】
電気的フィードスルーは、前記ガス環境室と電気信号のやり取りを行うことができるように前記第2部分に組み込まれて良い。前記電気信号は、加熱、温度の決定等に利用されて良い。
【００３３】
また光学的フィードスルーも組み込まれて良い。光学的フィードスルーは非特許文献2に記載されている。
【００３４】
さらに他の実施例では、当該ホルダ組立体は、前記電子顕微鏡以外の分析若しくは検査装置又は試料準備装置と接する他の隔壁を有する。
【００３５】
基本的に当該ホルダ組立体は、電子顕微鏡用であるため、前記電子顕微鏡と接する封止体を備えていることが重要であることに留意して欲しい。当該ホルダ組立体が他の分析若しくは検査装置（たとえばX線分析装置）又は試料準備装置と併用される場合、前記装置に固有な隔壁が含まれても良い。
【００３６】
好適実施例では、前記第1部材はセラミック部材で、かつ、前記第2部材は金属部材である。
【００３７】
セラミック材料の利点は、一般的には不活性であるため、高温及び/又は反応性ガスに対する耐性があることである。セラミックの欠点は大抵脆いことである。他方、金属−たとえばチタン−は、物理的な力に対する耐性を有し、十分に加工可能（接合及びはんだ付けを含む）である。セラミックの第1部材とたとえばチタンの第2部材とを組み合わせる結果、組立体は、前記第1部材をたとえば1000℃の温度に加熱することによって洗浄されうる一方、通常動作においては、前記の脆いセラミック管は、該セラミック管を取り囲むチタンの管によって保護される。この結果頑丈な設計が実現する。
【００３８】
本発明の他の態様では、ホルダ組立体の洗浄方法が供される。当該ホルダ組立体はガス環境室及び電子顕微鏡と協働する。前記ガス環境室は流体流入口を有する。前記電子顕微鏡は、該電子顕微鏡の排気可能部分を前記電子顕微鏡の外部から隔離する真空壁を有する。当該ホルダ組立体は、前記電子顕微鏡と接する封止体を構成する電子顕微鏡隔壁を有する。当該ホルダ組立体は、前記ガス環境室の流体流入口と接する封止体を構成するガス環境室隔壁を有する。当該ホルダ組立体は、流体供給部と前記ガス環境室の流体流入口とを接続する管を有する。当該方法は、当該ホルダ組立体が第1部材と第2部材を有し、前記第1部材は前記第2部材から取り外し可能で、前記第1部材は前記管と前記ガス環境室の隔壁を有し、前記第2部材は前記電子顕微鏡の隔壁を有し、かつ、前記洗浄は、500℃を超える温度に前記第2部材を曝露することなく、前記管と前記ガス環境室を前記温度に曝露する手順を有する。
【００３９】
特に前記管にガス−好適には酸化ガス−を流しながら、前記第1部材を500℃で洗浄するとき、ほとんどの汚染物が除去される。前記第2部材は冷たい状態で保持されるので、たとえば前記TEMに対する当該ホルダ組立体の位置設定に必要な部材を有するかなり複雑な部材であっても良い。
【００４０】
しかし洗浄はまた、液体−より具体的には酸性の液体−を管に流すことによって実現されても良い。このような液体による洗浄は、ガスによる洗浄の代わりに行われても良いし、ガスによる洗浄の後に行われても良い。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】ガス環境室を備えるホルダ組立体とTEMの壁を概略的に表している。
【発明を実施するための形態】
【００４２】
図1は、ガス環境室を備えるホルダ組立体とTEMの壁を概略的に表している。
【００４３】
ガス環境室101は、軸100を中心とする体積102を構成する2つの薄いホイルを有するMEMS構造である。動作中、選択可能なエネルギー−たとえば60〜300keV−を有する電子ビームは、軸100に沿って進行し、かつ、前記2つのホイルのうちの一を介して体積102へ入射し、かつ、電子の少なくとも一部は前記2つのホイルのうちの他を介して前記体積を飛び出す。体積はさらに2つの開口部103と104と接続する。体積はさらに2つの開口部103と104と接続する。前記2つの開口部のうちの一は流体の流入口として機能し、前記2つの開口部のうちの他は流体の流出口として機能する。通常動作においては、ガス環境室101は、当該ホルダ組立体の第1部材122（固定手段は図示されていない）の反対側に設けられる。
【００４４】
開口部103と104は、通常動作においては、第1部材122中の2つのチャネル123と124に対して位置合わせされる。第1部材122中には、2つの小さなOリング132と131が、ガス環境室101に対して当該ホルダ組立体の第1部材の密閉封止を供するように設けられる。
【００４５】
チャネル123は管126と接続する。チャネル124は管127と接続する。ガス環境室の隔壁と管を有する第1部材122は、管126,127との間で密閉封止が形成されている場合には、セラミック材料で作られて良い。第1部材122と第2部材122との接合は、フリット溶融によって実現されて良い。フリット溶融では、セラミックのフリットが加えられて加熱されることで必要な密閉封止体が形成される。
【００４６】
このようにして、セラミックのECELL隔壁がセラミックの管に接合され、又は、1つ以上の部材がガラスから作られうることに留意して欲しい。
【００４７】
ECELLは、MEMS構造である必要がないことにさらに留意して欲しい。たとえば非特許文献2で用いられるECELLはMEMS構造ではない。
【００４８】
密閉封止体132と131（Oリング）は取り外し可能であり、かつ、ベーキング若しくは洗浄プロセス中に取り外されることに留意して欲しい。
【００４９】
第1部材122は、第2部材121上に設けられて第2部材121に抗して封止される。その結果シリンダが形成される。そのシリンダは、管が設けられる孔を有する。その孔は大気と接続する。第1部材122と第2部材121との間での封止は、Oリング130によって構成される。
【００５０】
他の封止体は、シリンダの外径と電子顕微鏡の壁110との間のOリング111によって構成される。
【００５１】
管又はガス環境室との間の隔壁から漏れたガスは、大気と接続するシリンダの孔へ入り込むので、管又はガス環境室の隔壁からのわずかな漏れは許容されることに留意して欲しい。しかしこの結果、意図しない効果−たとえば使用されるガスに依存して健康被害−が生じる恐れはある。
【００５２】
第1部材122と第2部材121との間の密閉封止体130は、当該ホルダ組立体の大気圧側の端部付近に設けられて良いことにさらに留意して欲しい。
【００５３】
第1部材122は、高温−たとえば500℃を超える温度で好適には1000℃を超える温度−に曝露されることによって洗浄すなわち汚染除去されて良い。洗浄の支援は、汚染物（通常は炭素）が気体生成物に変わるように、（加熱された）管にたとえば酸素又は水素を流すことによって行われて良い。
【００５４】
最大温度は使用される材料に依存し、かつ、セラミック材料が用いられるときには、そのセラミック材料が脆くなる温度−たとえば1500℃よりも高い温度−は避けなければならないことに留意して欲しい。
【００５５】
表面領域（伝導層を構成するようにメタライズされても良い）が酸化されないように、洗浄は真空中で行われても良いことにさらに留意して欲しい。
【００５６】
第2部材−通常は機械的取り付け装置、ボールベアリング、スライダ等を有する−は冷たい状態に保持されて良い。それにより許容度が保持され、たとえばグリース等が保持される。
【００５７】
他の洗浄形態は、酸を流すことによって汚染物を分解する手順を有する。ここでは、（洗浄される）第1部材122にとってガラス又はセラミックスは良い選択である一方、機械的取り付け装置、定規、ボールベアリング、心棒を有する第2部材121には金属が用いられる。ここでは互いにかなり異なる材料が用いられるので、第1部材122と第2部材121は着脱可能なことが好ましい。
【符号の説明】
【００５８】
101  ガス環境室
102  体積
103  開口部
104  開口部
110  真空壁
111  Oリング
121  第2部材
122  第1部材
123  チャネル
124  チャネル
126  管
127  管
130  Oリング
131  Oリング
132  Oリング
【図１】
2013171836.tif 000003