(57)【要約】【課題】外部に露出する電極部分が最小化されると共に電極での光反射が防止され、視認性を向上することができるタッチパネルを提供する。【解決手段】本発明によるタッチパネル１は、透明基板１１０と、透明基板１１０に形成される電極２１０と、電極２１０の幅より狭い幅を有し、電極２１０と透明基板１１０との間に介在されるように形成される視認低減層３００と、を含むものである。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板と、
前記透明基板に形成される電極と、
前記電極の幅より狭い幅を有し、前記電極と前記透明基板との間に介在されるように形成される視認低減層と、
を含むタッチパネル。
【請求項２】
前記透明基板に形成される絶縁層と、
前記絶縁層に形成される下部電極と、
をさらに含む請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項３】
前記下部電極の幅より狭い幅を有し、前記下部電極と前記絶縁層との間に介在されるように形成される視認低減層をさらに含む請求項２に記載のタッチパネル。
【請求項４】
下部基板と、
前記下部基板に形成される下部電極と、
前記透明基板及び前記下部基板を接着させる接着層と、
をさらに含む請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項５】
前記下部電極の幅より狭い幅を有し、前記下部電極に積層されるように形成される視認低減層をさらに含む請求項４に記載のタッチパネル。
【請求項６】
前記視認低減層の屈折率は、１．２〜１．４５であることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項７】
前記視認低減層は、アクリル系樹脂、カーボネート系樹脂及びウレタン系樹脂から選択される何れか一つを含んでなることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項８】
前記視認低減層は、ポリエチレン（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリプロピレン（ｐｏｌｙｐｒｏｐｙｌｅｎｅ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、環状オレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、トリアセチルセルロース（Ｔｒｉａｃｅｔｙｌｃｅｌｌｕｌｏｓｅ；ＴＡＣ）、ポリビニルアルコール（Ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ  ａｌｃｏｈｏｌ；ＰＶＡ）、ポリイミド（Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ；ＰＩ）、ポリスチレン（Ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ；ＰＳ）、二軸延伸ポリスチレン（Ｋ樹脂含有ｂｉａｘｉａｌｌｙ  ｏｒｉｅｎｔｅｄ  ＰＳ；ＢＯＰＳ）から選択される何れか一つを含んでなることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項９】
前記視認低減層は、二酸化チタン（ＴｉＯ２）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）、酸化セリウム（ＣｅＯ２）、五酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）から選択される何れか一つを含んでなることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項１０】
前記視認低減層の幅は、前記電極の幅の１／２であることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項１１】
前記視認低減層は、前記電極の幅の中央に位置することを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項１２】
透明基板と、
前記透明基板の一面に形成される電極と、
前記電極の幅より狭い幅を有し、前記電極に積層されるように形成される視認低減層と、
を含むタッチパネル。
【請求項１３】
前記透明基板の他面に形成される下部電極をさらに含む請求項１２に記載のタッチパネル。
【請求項１４】
前記下部電極の幅より狭い幅を有し、前記下部電極と前記透明基板との間に介在されるように形成される視認低減層をさらに含む請求項１３に記載のタッチパネル。
【請求項１５】
前記視認低減層の屈折率は、１．２〜１．４５であることを特徴とする請求項１２に記載のタッチパネル。
【請求項１６】
前記視認低減層は、アクリル系樹脂、カーボネート系樹脂及びウレタン系樹脂から選択される何れか一つを含んでなることを特徴とする請求項１２に記載のタッチパネル。
【請求項１７】
前記視認低減層は、ポリエチレン（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリプロピレン（ｐｏｌｙｐｒｏｐｙｌｅｎｅ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、環状オレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、トリアセチルセルロース（Ｔｒｉａｃｅｔｙｌｃｅｌｌｕｌｏｓｅ；ＴＡＣ）、ポリビニルアルコール（Ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ  ａｌｃｏｈｏｌ；ＰＶＡ）、ポリイミド（Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ；ＰＩ）、ポリスチレン（Ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ；ＰＳ）、二軸延伸ポリスチレン（Ｋ樹脂含有ｂｉａｘｉａｌｌｙ  ｏｒｉｅｎｔｅｄ  ＰＳ；ＢＯＰＳ）から選択される何れか一つを含んでなることを特徴とする請求項１２に記載のタッチパネル。
【請求項１８】
前記視認低減層は、二酸化チタン（ＴｉＯ２）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）、酸化セリウム（ＣｅＯ２）、五酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）から選択される何れか一つを含んでなることを特徴とする請求項１２に記載のタッチパネル。
【請求項１９】
前記視認低減層の幅は、前記電極の幅の１／２であることを特徴とする請求項１２に記載のタッチパネル。
【請求項２０】
前記視認低減層は、前記電極の幅の中央に位置することを特徴とする請求項１２に記載のタッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、タッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
デジタル技術を用いるコンピュータが発達するにつれて、コンピュータの補助装置もともに開発されており、パソコン、ポータブル伝送装置、その他の個人用の情報処理装置などは、キーボード、マウスなどの様々な入力装置（Ｉｎｐｕｔ  Ｄｅｖｉｃｅ）を用いてテキスト及びグラフィック処理を行う。
【０００３】
しかし、情報化社会の急速な進行により、コンピュータの用途が益々拡大する傾向にあるため、現在入力装置の役割を担当しているキーボード及びマウスだけでは、効率的な製品の駆動が困難であるという問題点がある。従って、簡単で誤操作が少なく、誰でも簡単に情報を入力することができる機器の必要性が高まっている。
【０００４】
また、入力装置に関する技術は、一般的な機能を満たす水準を越えて、高信頼性、耐久性、革新性、設計及び加工に関する技術などが注目されており、このような目的を達成するために、テキスト、グラフィックなどの情報入力が可能な入力装置としてタッチパネル（Ｔｏｕｃｈ  Ｐａｎｅｌ）が開発された。
【０００５】
タッチパネルは、電子手帳、液晶表示装置（ＬＣＤ；Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｄｅｖｉｃｅ）、ＰＤＰ（Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ）、Ｅｌ（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）などの平板ディスプレイ装置及びＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄｅ  Ｒａｙ  Ｔｕｂｅ）などの画像表示装置の表示面に設けられ、ユーザが画像表示装置を見ながら所望の情報を選択するようにするために利用される機器である。
【０００６】
タッチパネルの種類は、抵抗膜方式（Ｒｅｓｉｓｔｉｖｅ  Ｔｙｐｅ）、静電容量方式（Ｃａｐａｃｉｔｉｖｅ  Ｔｙｐｅ）、電磁方式（Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｍａｇｎｅｔｉｃ  Ｔｙｐｅ）、表面弾性波方式（ＳＡＷ  Ｔｙｐｅ；Ｓｕｒｆａｃｅ  Ａｃｏｕｓｔｉｃ  Ｗａｖｅ  Ｔｙｐｅ）及び赤外線方式（Ｉｎｆｒａｒｅｄ  Ｔｙｐｅ）に区分される。このような多様な方式のタッチパネルは、信号増幅の問題、解像度の差、設計及び加工技術の難易度、光学的特性、電気的特性、機械的特性、耐環境特性、入力特性、耐久性及び経済性を考慮して電子製品に採用されるが、現在最も幅広い分野で用いられている方式は、抵抗膜方式及び静電容量方式のタッチパネルである。
【０００７】
従来技術によるタッチパネルは、検知電極をインジウム−スズ酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  ｏｘｉｄｅ；ＩＴＯ）で形成する。しかし、ＩＴＯの場合、電気伝導度に優れるが、原料であるインジウム（Ｉｎｄｉｕｍ）が希土類金属で高価であり、今後１０年以内に枯渇が予想されるため需給が円滑でないという欠点がある。
【０００８】
このような理由により、特許文献１に開示されたように、金属を用いて電極を形成する研究が活発に進められている。金属からなる電極は、ＩＴＯに比べて電気伝導度がはるかに優秀であり、金属の需給が円滑な点において優れている。しかし、このような電極が形成されたタッチパネルは、電極が視覚的に認識されたりまたは外部から光が電極に照射される場合に電極で光反射が発生し、タッチパネルの視認性が低下するという問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】韓国公開特許第１０−２０１０−００９１４９７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、前記のような問題点を解決するために導き出されたものであり、金属からなる電極が視覚的に認識される問題を解消し、電極での光反射を防止して視認性が向上するタッチパネルを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の好ましい実施例によるタッチパネルは、透明基板と、前記透明基板に形成される電極と、前記電極の幅より狭い幅を有し、前記電極と前記透明基板との間に介在されるように形成される視認低減層と、を含む。
【００１２】
ここで、前記透明基板に形成される絶縁層と、前記絶縁層に形成される下部電極と、をさらに含むことができる。
【００１３】
また、前記下部電極の幅より狭い幅を有し、前記下部電極と前記絶縁層との間に介在されるように形成される視認低減層をさらに含むことができる。
【００１４】
または、下部基板と、前記下部基板に形成される下部電極と、前記透明基板及び前記下部基板を接着させる接着層と、をさらに含むこともできる。
【００１５】
ここで、前記下部電極の幅より狭い幅を有し、前記下部電極に積層されるように形成される視認低減層をさらに含むことができる。
【００１６】
一方、前記視認低減層の屈折率は、１．２〜１．４５であることができる。
【００１７】
または、前記視認低減層は、アクリル系樹脂、カーボネート系樹脂及びウレタン系樹脂から選択される何れか一つを含んでなることができる。
【００１８】
または、前記視認低減層は、ポリエチレン（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリプロピレン（ｐｏｌｙｐｒｏｐｙｌｅｎｅ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、環状オレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、トリアセチルセルロース（Ｔｒｉａｃｅｔｙｌｃｅｌｌｕｌｏｓｅ；ＴＡＣ）、ポリビニルアルコール（Ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ  ａｌｃｏｈｏｌ；ＰＶＡ）、ポリイミド（Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ；ＰＩ）、ポリスチレン（Ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ；ＰＳ）、二軸延伸ポリスチレン（Ｋ樹脂含有ｂｉａｘｉａｌｌｙ  ｏｒｉｅｎｔｅｄ  ＰＳ；ＢＯＰＳ）から選択される何れか一つを含んでなることができる。
【００１９】
または、前記視認低減層は、二酸化チタン（ＴｉＯ２）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）、酸化セリウム（ＣｅＯ２）、五酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）から選択される何れか一つを含んでなることができる。
【００２０】
この際、前記視認低減層の幅は、前記電極の幅の１／２であることができる。
【００２１】
また、前記視認低減層は、前記電極の幅の中央に位置することができる。
【００２２】
一方、前記電極は、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、チタン（Ｔｉ）、パラジウム（Ｐｄ）、クロム（Ｃｒ）から選択される何れか一つまたはこれらの組み合わせからなることができる。
【００２３】
または、前記電極は、銀塩乳剤層を露光／現像して形成された金属銀からなることができる。
【００２４】
一方、本発明の好ましい他の実施例によるタッチパネルは、透明基板と、前記透明基板の一面に形成される電極と、前記電極の幅より狭い幅を有し、前記電極に積層されるように形成される視認低減層と、を含む。
【００２５】
ここで、前記透明基板の他面に形成される下部電極をさらに含むことができる。
【００２６】
この際、前記下部電極の幅より狭い幅を有し、前記下部電極と前記透明基板との間に介在されるように形成される視認低減層をさらに含むことができる。
【００２７】
ここで、前記下部電極の幅より狭い幅を有し、前記下部電極に積層されるように形成される視認低減層をさらに含むことができる。
【００２８】
一方、前記視認低減層の屈折率は、１．２〜１．４５であることができる。
【００２９】
または、前記視認低減層は、アクリル系樹脂、カーボネート系樹脂及びウレタン系樹脂から選択される何れか一つを含んでなることができる。
【００３０】
または、前記視認低減層は、ポリエチレン（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリプロピレン（ｐｏｌｙｐｒｏｐｙｌｅｎｅ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、環状オレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、トリアセチルセルロース（Ｔｒｉａｃｅｔｙｌｃｅｌｌｕｌｏｓｅ；ＴＡＣ）、ポリビニルアルコール（Ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ  ａｌｃｏｈｏｌ；ＰＶＡ）、ポリイミド（Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ；ＰＩ）、ポリスチレン（Ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ；ＰＳ）、二軸延伸ポリスチレン（Ｋ樹脂含有ｂｉａｘｉａｌｌｙ  ｏｒｉｅｎｔｅｄ  ＰＳ；ＢＯＰＳ）から選択される何れか一つを含んでなることができる。
【００３１】
または、前記視認低減層は、二酸化チタン（ＴｉＯ２）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）、酸化セリウム（ＣｅＯ２）、五酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）から選択される何れか一つを含んでなることができる。
【００３２】
この際、前記視認低減層の幅は、前記電極の幅の１／２であることができる。
【００３３】
また、前記視認低減層は、前記電極の幅の中央に位置することができる。
【００３４】
また、前記電極は、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、チタン（Ｔｉ）、パラジウム（Ｐｄ）、クロム（Ｃｒ）から選択される何れか一つまたはこれらの組み合わせからなることができる。
【００３５】
または、前記電極は、銀塩乳剤層を露光／現像して形成された金属銀からなることができる。
【発明の効果】
【００３６】
本発明によると、視認低減層を含むことにより、外部に露出する電極部分が最小化されると共に電極での光反射が防止され、タッチパネルの視認性が向上する。
【００３７】
特に、本発明が大画面を有する装置に適用されることにより金属電極の線幅が１０μｍ以上に形成されなければならない場合、視認低減層は、電極の露出部分を最小化すると共に視認低減層自体は視認されないようにすることで、タッチパネルの視認性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００３８】
【図１】本発明の第１実施例によるタッチパネルの断面図である。
【図２】図１に図示されたタッチパネルの平面図である。
【図３】本発明の第２実施例によるタッチパネルの断面図である。
【図４】本発明の第３実施例によるタッチパネルの断面図である。
【図５】本発明の第４実施例によるタッチパネルの断面図である。
【図６】本発明の第５実施例によるタッチパネルの断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３９】
本発明の目的、特定の利点及び新規の特徴は、添付図面に係る以下の詳細な説明及び好ましい実施例によってさらに明らかになるであろう。本明細書において、各図面の構成要素に参照番号を付け加えるに際し、同一の構成要素に限っては、たとえ異なる図面に示されても、できるだけ同一の番号を付けるようにしていることに留意しなければならない。また、「一面」、「他面」、「第１」、「第２」などの用語は、一つの構成要素を他の構成要素から区別するために用いられるものであり、構成要素が前記用語によって限定されるものではない。以下、本発明を説明するにあたり、本発明の要旨を不明瞭にする可能性がある係る公知技術についての詳細な説明は省略する。
【００４０】
以下、添付図面を参照して、本発明の好ましい実施例を詳細に説明する。
【００４１】
図１は、本発明の第１実施例によるタッチパネルの断面図であり、図２は、図１に図示されたタッチパネルの平面図である。
【００４２】
図１及び図２に図示されたように、本発明の第１実施例によるタッチパネル１は、透明基板１１０、前記透明基板１１０に形成される電極２１０及び前記電極２１０の幅より狭い幅を有し、前記電極２１０と前記透明基板１１０との間に介在されるように形成される視認低減層３００を含む。
【００４３】
透明基板１１０は、電極２１０が形成される領域を提供する。ここで、透明基板１１０は、電極２１０を支持できる支持力及び画像表示装置で提供される画像をユーザが認識するための透明性を備えなければならない。
【００４４】
前記支持力と透明性を考慮すると、透明基板１１０は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、環状オレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、トリアセチルセルロース（Ｔｒｉａｃｅｔｙｌｃｅｌｌｕｌｏｓｅ；ＴＡＣ）フィルム、ポリビニルアルコール（Ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ  ａｌｃｏｈｏｌ；ＰＶＡ）フィルム、ポリイミド（Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ；ＰＩ）フィルム、ポリスチレン（Ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ；ＰＳ）、二軸延伸ポリスチレン（Ｋ樹脂含有ｂｉａｘｉａｌｌｙ  ｏｒｉｅｎｔｅｄ  ＰＳ；ＢＯＰＳ）、ガラスまたは強化ガラスなどで形成することができる。但し、透明基板１１０は、必ずしもこれに限定されるものではない。
【００４５】
本実施例において、透明基板１１０の一面は、高周波処理またはプライマー（ｐｒｉｍｅｒ）処理が施されることで活性化されることが好ましい。透明基板１１０の一面にこのような処理が施されることで、透明基板１１０と、透明基板１１０の一面に形成される後述する電極２１０との間の接着力は、さらに向上させることができる。
【００４６】
一方、本実施例において、透明基板１１０は、タッチパネル１の最外側に備えられるウィンドウ（Ｗｉｎｄｏｗ）であることが好ましい。透明基板１１０がウィンドウである場合、後述する電極２１０は、ウィンドウに直接形成される。この場合、タッチパネルの製造工程は、別途の透明基板に電極を形成した後、ウィンドウに付着する工程を省略することができ、タッチパネルは、その全体的な厚さが減少される。
【００４７】
電極２１０は、ユーザがタッチする際に信号を発生してコントローラ（不図示）でタッチ座標を認識できるようにする機能を有する。
【００４８】
電極２１０は、透明基板１１０の一面に形成される。電極２１０は、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、チタン（Ｔｉ）、パラジウム（Ｐｄ）、クロム（Ｃｒ）から選択される何れか一つまたはこれらの組み合わせからなることができる。この際、電極２１０は、めっき工程や蒸着工程で形成されることが好ましい。電極２１０は、前記金属の他にも銀塩乳剤層を露光／現像して形成された金属銀で形成されることもできる。前記素材からなる電極２１０は、透明基板１１０の一面にメッシュパターン（ｍｅｓｈ  ｐａｔｔｅｒｎ）で形成されることで、面抵抗を低下することができる。
【００４９】
一方、電極２１０が銅（Ｃｕ）で形成される場合、電極２１０の表面には、黒化処理が施されることが好ましい。ここで、黒化処理とは、電極２１０の表面を酸化させてＣｕ２ＯまたはＣｕＯを析出することであって、Ｃｕ２Ｏは褐色を帯びるため、ブラウンオキサイド（Ｂｒｏｗｎ  ｏｘｉｄｅ）とし、ＣｕＯは黒色を帯びるため、ブラックオキサイド（Ｂｌａｃｋ  ｏｘｉｄｅ）とする。電極２１０がこのように黒化処理されることで、光が透明基板１１０を介して電極２１０に照射されても、電極２１０での光反射を防止することができる。これによりタッチパネルの視認性を改善することができる。但し、黒化処理されたタッチパネルは、黒化処理が施された部分自体が視覚的に認識される可能性があり、期待するほど視認性が向上されなかったり、黒化処理によって電極２１０の電気的特性が低化するなるなど、補完すべき問題点がある。従って、本実施例は、電極２１０に黒化処理をしなくても視認される電極２１０の部分が最小化されると共に、電極２１０での光反射が防止されるようにする視認低減層３００を含む。
【００５０】
視認低減層３００は、電極２１０と透明基板１１０との間に介在されるように形成される。視認低減層３００は、電極２１０と透明基板１１０との間に介在され、透明基板１１０に対して電極２１０を覆う機能を有する。但し、視認低減層３００は、電極２１０の全体を覆わない。本実施例のタッチパネル１が大画面に適用される場合、電極２１０は、高い伝導性を確保するために幅を広く形成しなければならない。例えば、本実施例によるタッチパネル１が適用される装置の画面サイズが１０インチ以上であり、電極２１０が前記金属からなるメッシュパターンに形成される場合、電極２１０の線幅が１０μｍ以上であれば、電極２１０の低抵抗性を確保しながら所望するタッチ感度を得ることができる。また、画面サイズが２３インチ以上であり、電極２１０が前記金属からなるメッシュパターンに形成される場合、電極２１０の線幅が１５μｍ以上でなければならない。電極２１０がこのように１０μｍ以上、または１５μｍ以上の広幅を有すると、視認低減層３００は、電極２１０の線幅と同一の幅で形成され、電極２１０の全体を覆う場合、視認低減層３００自体が透明基板１１０を介して視認される可能性がある。
【００５１】
従って、本実施例に含まれる視認低減層３００は、電極２１０の幅より狭い幅を有するように形成される。即ち、視認低減層３００は、それ自体が視覚的に認識されない範囲の幅を有するように形成される。具体的に、電極２１０の線幅が前記のように１０μｍ以上、または１５μｍ以上に形成される場合、視認低減層３００は、例えば、電極２１０の幅の１／２になるように５μｍ以上、または７．５μｍ以上に形成することができる。この際、視認低減層３００は、図１及び図２に図示されたように、電極２１０の幅の中央に位置し、電極２１０の長さ方向に沿って形成することができる。視認低減層３００の幅が電極２１０の幅の１／２に形成され、また視認低減層３００が電極２１０の幅の中央に位置することにより、透明基板１１０を介して露出される電極２１０の部分は、電極２１０の全体幅の１／４に該当する幅の部分が視認低減層３００の左側及び右側でそれぞれ露出される。従って、視認低減層３００は、このような幅及び形成位置を有することで、電極２１０の視認程度を最も低減させることができる。また、電極２１０が視認低減層３００により最大限に覆われることで、電極２１０での光反射現象が減少する。従って、本実施例のタッチパネル１は、視認低減層３００により視認性を向上することができる。
【００５２】
一方、前記視認低減層３００は、反射率を高めて電極２１０を覆うことができるように、タッチパネルの最外側に備えられるウィンドウガラス（ｗｉｎｄｏｗ  ｇｌａｓｓ）に比べて低い屈折率を有する材料からなることが好ましい。具体的に、視認低減層３００は、ガラスの屈折率（１．５）未満である１．２〜１．４５の低屈折率を有することが好ましい。このような屈折率を有する視認低減層３００の具体的な材料として、アクリル系樹脂を含んでなる材料を使用することができる。アクリル系樹脂としては、アクリレートモノマー、ウレタンアクリレートオリゴマー、エポキシアクリレートオリゴマー、エステルアクリレートオリゴマーなどが挙げられ、その具体的な例としては、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンダエリスリトールトリ／テトラアクリレート、トリメチレンプロパントリアクリレート、エチレングリコールジアクリレートなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。視認低減層３００は、その他にもカーボネート系樹脂またはウレタン系樹脂を含んでなることもできる。
【００５３】
また、視認低減層３００は、ポリエチレン（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリプロピレン（ｐｏｌｙｐｒｏｐｙｌｅｎｅ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、環状オレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、トリアセチルセルロース（Ｔｒｉａｃｅｔｙｌｃｅｌｌｕｌｏｓｅ；ＴＡＣ）、ポリビニルアルコール（Ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ  ａｌｃｏｈｏｌ；ＰＶＡ）、ポリイミド（Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ；ＰＩ）、ポリスチレン（Ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ；ＰＳ）、二軸延伸ポリスチレン（Ｋ樹脂含有ｂｉａｘｉａｌｌｙ  ｏｒｉｅｎｔｅｄ  ＰＳ；ＢＯＰＳ）から選択される何れか一つを含んでなることができる。
【００５４】
一方、前記物質は、全て有機物に該当するものであり、必ずしもこのような例に限定されるものではない。視認低減層３００は、二酸化チタン（ＴｉＯ２）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）、酸化セリウム（ＣｅＯ２）、五酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）から選択される何れか一つを含む無機物からなることができる。
【００５５】
図３は、本発明の好ましい第２実施例によるタッチパネルを示す断面図である。
【００５６】
本実施例によるタッチパネル２は、第１実施例と比較すると、透明基板１１０に形成される絶縁層４００と、絶縁層４００に形成される下部電極２２０とをさらに含むという差がある。従って、以下では、第１実施例の説明と重複する部分は省略し、第１実施例と比較して差がある部分を中心に説明する。
【００５７】
一方、ユーザのタッチを認識できるようにする電極は、検知電極及び駆動電極からなることができる。この際、検知電極及び駆動電極は、透明基板１１０の一面に、共に形成することもできるが、分離して形成することもできる。本実施例は、検知電極と駆動電極が分離して形成される例を示しており、透明基板１１０に形成される電極２１０は、例えば、検知電極であることができ、絶縁層４００に形成される下部電極２２０は、例えば、駆動電極であることが好ましい。
【００５８】
絶縁層４００は、絶縁層４００の上部に位置した電極２１０を保護すると共に、下部電極２２０が形成される領域を提供する機能を有する。絶縁層４００は、電極２１０を覆うように透明基板１１０の一面に形成される。ここで、絶縁層４００は、エポキシ（Ｅｐｏｘｙ）またはアクリル（Ａｃｒｙｌｉｃ）系樹脂、ＳｉＯｘ薄膜、またはＳｉＮｘ薄膜などからなることができる。また、絶縁層４００は、プリンティング（Ｐｒｉｎｔｉｎｇ）、ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｅｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）またはスパッタリング（Ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ）などの方法で形成することができる。
【００５９】
下部電極２２０は、絶縁層４００の一面に形成される。下部電極２２０は、絶縁層４００の上部に位置する電極２１０と同様に、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、チタン（Ｔｉ）、パラジウム（Ｐｄ）、クロム（Ｃｒ）から選択される何れか一つまたはこれらの組み合わせ、または銀塩乳剤層を露光／現像して形成された金属銀からなり、メッシュパターンに形成することができる。
【００６０】
また、下部電極２２０は、伝導性高分子または金属酸化物からなり、絶縁層４００で面状に形成することもできる。伝導性高分子は、柔軟性に優れ、コーティング工程が単純である。伝導性高分子は、ポリ−３，４−エチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルホネート（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）、ポリアニリン、ポリアセンチレンまたはポリフェニレンビニレンを含んでなることができる。また、金属酸化物はインジウム−スズ酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｈｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）からなることができる。このような素材で形成される下部電極２２０は、絶縁層４００に乾式工程、湿式工程またはダイレクト（ｄｉｒｅｃｔ）パターニング工程により形成することができる。ここで、乾式工程は、スパッタリング（Ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ）、蒸着（Ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ）などを意味し、湿式工程は、ディップコーティング（Ｄｉｐ  ｃｏａｔｉｎｇ）、スピンコーティング（Ｓｐｉｎ  ｃｏａｔｉｎｇ）、ロールコーティング（Ｒｏｌｌ  ｃｏａｔｉｎｇ）、スプレーコーティング（Ｓｐｒａｙ  ｃｏａｔｉｎｇ）などを意味し、ダイレクトパターニング工程は、スクリーン印刷法（Ｓｃｒｅｅｎ  Ｐｒｉｎｔｉｎｇ）、グラビア印刷法（Ｇｒａｖｕｒｅ  Ｐｒｉｎｔｉｎｇ）、インクジェット印刷法（Ｉｎｋｊｅｔ  Ｐｒｉｎｔｉｎｇ）などを意味する。
【００６１】
一方、下部電極２２０が前記金属からなり、メッシュパターンに形成される場合、下部電極２２０に対応して視認低減層３００を形成することができる。下部電極２２０に対応して形成される視認低減層３００は、下部電極２２０の幅より狭い幅を有するように形成され、下部電極２２０と絶縁層４００との間に介在されるように形成される。
【００６２】
本実施例によるタッチパネル２は、下部電極２２０に対応する視認低減層３００を形成することにより、絶縁層４００の上部に位置する電極２１０だけでなく下部電極２２０も透明基板１１０を介して露出される部分が最小化される。また、下部電極２２０で発生し得る光反射現象も減少することができる。
【００６３】
図４は、本発明の好ましい第３実施例によるタッチパネルを示す断面図である。
【００６４】
本実施例によるタッチパネル３は、第１実施例と比較すると、下部基板１２０、下部基板１２０に形成される下部電極２２０、及び透明基板１１０と下部基板１２０を接着させる接着層１１５をさらに含むという差がある。従って、以下では、第１実施例の説明と重複する部分は省略し、第１実施例と比較して差がある部分を中心に説明する。
【００６５】
下部基板１２０は、透明基板１１０と同様に、支持力及び透明性を備えるために、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、環状オレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、トリアセチルセルロース（Ｔｒｉａｃｅｔｙｌｃｅｌｌｕｌｏｓｅ；ＴＡＣ）フィルム、ポリビニルアルコール（Ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ  ａｌｃｏｈｏｌ；ＰＶＡ）フィルム、ポリイミド（Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ；ＰＩ）フィルム、ポリスチレン（Ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ；ＰＳ）、二軸延伸ポリスチレン（Ｋ樹脂含有ｂｉａｘｉａｌｌｙ  ｏｒｉｅｎｔｅｄ  ＰＳ；ＢＯＰＳ）、ガラスまたは強化ガラスで形成されることができる。但し、下部基板１２０は、必ずしも前記例に限定されるものではない。
【００６６】
下部基板１２０の一面は、高周波処理またはプライマー（ｐｒｉｍｅｒ）処理が施されることで活性化されることが好ましい。下部基板１２０の一面に、このような処理が施されることで、下部基板１２０と、下部基板１２０の一面に形成される後述する下部電極２２０との間の接着力は、さらに向上する。
【００６７】
下部電極２２０は、下部基板１２０の一面に形成される。下部電極２２０は、上部に位置する電極２１０と同様に、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、チタン（Ｔｉ）、パラジウム（Ｐｄ）、クロム（Ｃｒ）から選択される何れか一つまたはこれらの組み合わせまたは銀塩乳剤層を露光／現像して形成された金属銀からなり、メッシュパターンに形成することができる。または、下部電極２２０は、伝導性高分子または金属酸化物からなり、面状に形成することもできる。その他の下部電極２２０に関する説明は、第２実施例の下部電極２２０に関する説明を参照する。
【００６８】
一方、下部電極２２０が前記金属からなり、メッシュパターンに形成される場合、下部電極２２０に対応して視認低減層３００を形成することができる。下部電極２２０に対応して形成される視認低減層３００は、下部電極２２０の幅より狭い幅を有するように形成され、下部電極２２０が透明基板１１０に対して覆われることができるように、下部基板１２０に積層されるように形成される。
【００６９】
本実施例によるタッチパネル３は、下部電極２２０に対応する視認低減層３００が形成されることで、接着層１１５の上部に位置する電極２１０だけでなく、下部電極２２０も透明基板１１０を介して露出される部分が最小化される。また、下部電極２２０で発生し得る光反射現象を減少させることができる。
【００７０】
接着層１１５は、透明基板１１０の一面と下部基板１２０の一面とを接着させる機能を有する。接着層１１５は、特に制限されないが、光学透明接着剤（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｃｌｅａｒ  Ａｄｈｅｓｉｖｅ；ＯＣＡ）を用いて形成することができる。
【００７１】
図５は、本発明の好ましい第４実施例によるタッチパネルを示す断面図である。
【００７２】
本発明の好ましい第４実施例によるタッチパネル４は、透明基板１１０、前記透明基板１１０の一面に形成される電極２１０、及び前記電極２１０の幅より狭い幅を有し、前記電極２１０に積層されるように形成される視認低減層３００を含む。
【００７３】
本実施例によるタッチパネル４は、第１実施例と比較すると、視認低減層３００が電極２１０に積層されるように形成されるという差がある。視認低減層３００が電極２１０に積層されるように形成されることは、第３実施例の下部電極２２０に視認低減層３００が積層されるように形成されることと同様に、電極２１０が透明基板１１０に対して覆われるようにするためである。
【００７４】
一方、本実施例は、透明基板１１０に付着されるウィンドウ５００をさらに含むことができる。
【００７５】
ウィンドウ５００は、タッチパネル４の最外側に備えられ、電極２１０のような内部構成を保護する。また、ウィンドウ５００は、入力手段によるタッチが直接作用する部材でもある。ここで、ウィンドウ５００の材質は、特に限定されない。ウィンドウ５００は、ガラスまたは強化ガラスなどで形成することができる。ウィンドウ５００は、光学透明接着剤（接着層１１６参照）などを用いて透明基板１１０に付着することができる。
【００７６】
図６は、本発明の好ましい第５実施例によるタッチパネルを示す断面図である。
【００７７】
本実施例によるタッチパネル５は、第４実施例と比較すると、透明基板１１０の他面に形成される下部電極２２０をさらに含むという差がある。従って、以下では、第４実施例の説明と重複する部分は省略し、第４実施例と比較して差がある部分を中心に説明する。
【００７８】
下部電極２２０は、透明基板１１０の他面に形成される。下部電極２２０は、上部に位置する電極２１０と同様に、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、チタン（Ｔｉ）、パラジウム（Ｐｄ）、クロム（Ｃｒ）から選択される何れか一つまたはこれらの組み合わせまたは銀塩乳剤層を露光／現像して形成された金属銀からなり、メッシュパターンに形成することができる。または、下部電極２２０は、伝導性高分子または金属酸化物からなり、面状に形成することもできる。その他の下部電極２２０に関する説明は、第２実施例の下部電極２２０に関する説明を参照する。
【００７９】
一方、下部電極２２０が前記金属からなり、メッシュパターンに形成される場合、下部電極２２０に対応して視認低減層３００を形成することができる。下部電極２２０に対応して形成される視認低減層３００は、下部電極２２０の幅より狭い幅を有するように形成され、下部電極２２０が透明基板１１０に対して覆われることができるように下部電極２２０と透明基板１１０との間に介在されるように形成される。本実施例によるタッチパネル５は、下部電極２２０に対応する視認低減層３００が形成されることで、透明基板１１０の上部に位置する電極２１０だけでなく、下部電極２２０も透明基板１１０を介して露出される部分が最小化される。また、下部電極２２０で発生し得る光反射現象を減少させることができる。
【００８０】
以上、本発明を具体的な実施例に基づいて詳細に説明したが、これは本発明を具体的に説明するためのものであり、本発明はこれに限定されず、該当分野における通常の知識を有する者であれば、本発明の技術的思想内にての変形や改良が可能であることは明白であろう。
【００８１】
本発明の単純な変形乃至変更はいずれも本発明の領域に属するものであり、本発明の具体的な保護範囲は添付の特許請求の範囲により明確になるであろう。
【産業上の利用可能性】
【００８２】
本発明は、金属からなる電極が視覚的に認識される問題を解消し、電極での光反射を防止して視認性が向上するタッチパネルに適用可能である。
【符号の説明】
【００８３】
１、２、３、４、５  タッチパネル
１１０  透明基板
１１５、１１６  接着層
１２０  下部基板
２１０  電極
２２０  下部電極
３００  視認低減層
４００  絶縁層
５００  ウィンドウ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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