(57)【要約】【課題】コレステリック層と基材との密着性と、電磁波の配向性との両方に優れた電磁波反射フィルムを提供する。【解決手段】本発明の電磁波反射フィルムは、（ａ）基材１１上に、エネルギー線硬化性を有する樹脂からなる樹脂層１２を形成する樹脂層形成工程と、（ｂ）二軸延伸フィルム１３を樹脂層１２上に一時的にラミネートする仮ラミネート工程と、（ｃ）樹脂層１２を硬化する樹脂層硬化工程と、（ｄ）二軸延伸フィルム１３を剥がす剥離工程と、（ｅ）剥離後の樹脂層１２の表面に、赤外線領域にピーク波長を有する電磁波を反射するコレステリック液晶を含む反射層１４を直接形成する反射層形成工程とを経て製造される。二軸延伸フィルムは、ラビング処理がなされたフィルムであり、このラビング面を樹脂層１２の表面上に形成することが好適である。また、剥離工程の後、樹脂層１２の表面にラビング処理を行ってから反射層を形成することも好適である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に、エネルギー線硬化性を有する樹脂からなる樹脂層を形成する樹脂層形成工程と、
二軸延伸フィルムを前記樹脂層上に一時的にラミネートする仮ラミネート工程と、
前記基材側及び／又は二軸延伸フィルム側からエネルギー線を照射して前記樹脂層を硬化する樹脂層硬化工程と、
前記二軸延伸フィルムを剥がす剥離工程と、
剥離後の前記樹脂層の表面に、赤外線領域にピーク波長を有する電磁波を反射するコレステリック液晶を含む反射層を形成する反射層形成工程とを含む、電磁波反射フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記二軸延伸フィルムは、ラミネート面にラビング処理がなされたフィルムである請求項１に記載の電磁波反射フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記剥離工程の後、前記樹脂層の表面にラビング処理を行ってから、前記反射層形成工程を行う、請求項１又は２に記載の電磁波反射フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記二軸延伸フィルムは、ポリエチレンテレフタレートフィルムである、請求項１から３のいずれかに記載の電磁波反射フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電磁波反射フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、所望の波長帯の電磁波を選択的に反射する電磁波反射フィルムが知られている。電磁波反射フィルムは、所望の波長帯の電磁波だけを反射し、他の波長帯の電磁波を透過するため、車やビルの窓等に貼り付けて、赤外線だけを反射し、可視光線や通信波長帯の電磁波を透過する用途としての利用が期待されている。
【０００３】
電磁波反射フィルムの一例として、基材上に、所定波長帯の電磁波を選択的に反射する反射層を形成したものが知られている。この反射層は、コレステリック液晶相を固定してなる１以上の層をからなり、右偏光成分及び左偏光成分の少なくとも一方を反射する。
【０００４】
図３は、このフィルムを透過型電子顕微鏡（以下「ＴＥＭ」という。）で観察したときのフィルム断面である。フィルム断面は、規則的な縞状の凹凸を有しており、選択的に反射する電磁波の波長帯は、この凹凸の間隔によって決まる。また、電磁波の反射率は、電磁波のコレステリック層への入射角の大きさによって決まる。この電磁波反射フィルムは、凹凸が規則的であることから、電磁波の配向性に優れる。しかし、コレステリック層と基材との密着性が劣るという欠点を有する。
【０００５】
この欠点を解消するため、基材とコレステリック層との間にラビングポリイミド層を形成することが提案されている（特許文献１参照）。図４は、このフィルムをＴＥＭで観察したときのフィルム断面である。フィルム断面は、一様ではない螺旋軸を有する。この電磁波反射フィルムは、凹凸が不規則であることから、コレステリック層と基材との密着性に優れる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】国際公開第９９／３４２４２号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、特許文献１に記載の電磁波反射フィルムにおいて、電磁波の配向性は、凹凸が規則的である場合に比べて劣る。
【０００８】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、コレステリック層と基材との密着性と、電磁波の配向性との両方に優れた電磁波反射フィルムを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者は、上記課題を解決するために、鋭意研究を重ねたところ、基材上に樹脂層を形成する樹脂層形成工程と、二軸延伸フィルムを樹脂層上に一時的にラミネートする仮ラミネート工程と、基材側及び／又は二軸延伸フィルム側からエネルギー線を照射して樹脂層を硬化する樹脂層硬化工程と、上記二軸延伸フィルムを剥がす剥離工程と、剥離後の上記樹脂層の表面に、電磁波を反射するコレステリック液晶を含む反射層を直接形成する反射層形成工程とを経ることで、反射層と基材との密着性と、電磁波の配向性との両方に優れる電磁波反射フィルムを提供できることを見出し、本発明を完成するに至った。具体的に、本発明では、以下のようなものを提供する。
【００１０】
（１）本発明は、基材上に、エネルギー線硬化性を有する樹脂からなる樹脂層を形成する樹脂層形成工程と、二軸延伸フィルムを前記樹脂層上に一時的にラミネートする仮ラミネート工程と、前記基材側及び／又は二軸延伸フィルム側からエネルギー線を照射して前記樹脂層を硬化する樹脂層硬化工程と、前記二軸延伸フィルムを剥がす剥離工程と、剥離後の前記樹脂層の表面に、赤外線領域にピーク波長を有する電磁波を反射するコレステリック液晶を含む反射層を形成する反射層形成工程とを含む、電磁波反射フィルムの製造方法である。
【００１１】
（２）また、本発明は、前記二軸延伸フィルムがラミネート面にラビング処理がなされたフィルムである（１）に記載の電磁波反射フィルムの製造方法である。
【００１２】
（３）また、本発明は、前記剥離工程の後、前記樹脂層の表面にラビング処理を行ってから、前記反射層形成工程を行う、（１）又は（２）に記載の電磁波反射フィルムの製造方法である。
【００１３】
（４）また、本発明は、前記二軸延伸フィルムがポリエチレンテレフタレートフィルムである、（１）から（３）のいずれかに記載の電磁波反射フィルムの製造方法である。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、反射層と基材との密着性と、電磁波の配向性との両方に優れた電磁波反射フィルムを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明に係る電磁波反射フィルムの製造方法を示す図である。
【図２】図１に続く図である。
【図３】基材上に、所定波長帯の電磁波を選択的に反射する反射層を形成した電磁波反射フィルムを透過型電子顕微鏡で観察したときのフィルム断面を示す参考図である。
【図４】基材と反射層との間にラビングポリイミド層を形成した電磁波反射フィルムを透過型電子顕微鏡で観察したときのフィルム断面を示す参考図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明の具体的な実施形態について、詳細に説明するが、本発明は、以下の実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の目的の範囲内において、適宜変更を加えて実施することができる。
【００１７】
＜電磁波反射フィルム１の製造方法＞
本発明の電磁波反射フィルム１は、図１及び図２に示す工程を経て製造される。
【００１８】
［樹脂層形成工程］
まず、図１の（ａ）に示すように、基材１１上に、エネルギー線硬化性を有する樹脂層形成用組成物を塗工し、樹脂層１２を形成する。
【００１９】
１．基材
本発明の基材は、反射層を支持でき、所定の透明性を有するものであれば、特に限定されるものではなく、可撓性を有するフレキシブル材であってもよいし、可撓性のないリジッド材であってもよい。基材として、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリエチレンやポリメチルペンテン等のオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエーテルサルホンやポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、ポリエーテルケトン、（メタ）アクロニトリル、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマー等の樹脂からなるものを挙げることができる。中でも、汎用性が高く、入手が容易であることから、ポリエチレンテレフタレートが好ましい。
【００２０】
基材の可視光領域における透過率は、８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。基材の透過率は、ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１（プラスチックー透明材料の全光透過率の試験方法）により測定できる。
【００２１】
基材の厚さは、電磁波反射フィルムの用途及び基材を構成する材料等に応じて適宜決定できるものであり、特に限定されるものではない。
【００２２】
２．樹脂層形成用組成物
樹脂層は、エネルギー線硬化性を有する樹脂からなるものであれば、どのようなものであってもよく、例えば、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリロイル基をもつ重合性オリゴマー、モノマーと、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリロニトリル、スチレン等重合性ビニル基をもつ重合性オリゴマー、モノマー等の単体あるいは配合したものに、必要に応じて増感剤等の添加剤を加えたものに光重合開始剤を加えたもの等を挙げることができる。
【００２３】
（１）（メタ）アクリル系主剤
主剤は、液晶層との密着性が良好で、液晶配向能を付与しやすい、高透明である点から（メタ）アクリル系であることが好ましい。主剤はエネルギー線硬化性を有するものであればどのようなものであってもよいが、基材への追従性に優れることから、モノマーであることが好ましい。エネルギー線としては、例えば、遠紫外線、紫外線、近紫外線、赤外線等の光線、Ｘ線、γ線等の電磁波のほか、電子線、プロトン線、中性子線等が挙げられる。硬化速度、照射装置の入手容易さ、価格等の観点において、紫外線照射による硬化が好ましい。
【００２４】
モノマー１分子中のエチレン性官能基の数は、特に限定されるものではないが、アクリルモノマーが重合した際に架橋構造を発現し、バリア性を向上できる点で、モノマー１分子中にエチレン性官能基を少なくとも２つ以上有することが好ましく、所望の重合度を達成するまでの時間が短くなる点で、３つ又は４つ有することがより好ましい。エチレン性官能基を３つ又は４つ有する（メタ）アクリル系モノマーを使用した場合、エチレン性官能基を２つ有する（メタ）アクリル系モノマーを使用する場合に比べ、反応速度が２〜１０倍になる。
【００２５】
（メタ）アクリル系モノマーとしては、下記式（Ｉ）で表されるペンタエリスリトールトリアクリレート（以下、「ＰＥＴ３Ａ」ともいう。）、下記式（ＩＩ）で表されるペンタエリスリトールテトラアクリレート（以下、「ＰＥＴ４Ａ」ともいう。）又はこれらの混合物を用いることが好ましい。
【化１】
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【００２６】
ＰＥＴ３Ａ及びＰＥＴ４Ａの量は、（メタ）アクリル系モノマー１００質量部に対して２０質量部以上であることが好ましい。２０重量％以上含有することにより、樹脂層と反射層との密着性を向上できるとともに、バリア性も維持できる。
【００２７】
重量基準で、ＰＥＴ４Ａを１に対して、ＰＥＴ３Ａを２以上の割合で含めることが好ましい。ＰＥＴ４Ａの割合が上記割合を超えると、（メタ）アクリル系モノマーの重合反応速度は向上するものの、反応速度が過剰に高くなるため、反応率の制御が困難になる点で好ましくない。また、ＰＥＴ４Ａの混合比率が高まることで、硬化物が剛直になり、電磁波反射フィルムが曲げ応力に対して脆くなる点でも好ましくない。
【００２８】
また、（メタ）アクリル系モノマーを重合架橋させた樹脂（重合体）は、モノマーの反応率が３０〜９０％であることが好ましく、４０〜８０％がより好ましく、５０〜７５％がさらに好ましい。反応率が３０％未満であると、樹脂層の流動性が高く、樹脂層上に反射層を形成しづらいため、好ましくない。一方、反応率が９０％を超えると、樹脂層を構成する樹脂の表面自由エネルギーが４０ｄｙｎｅ／ｃｍ未満となり、樹脂表面の濡れ性が低下し、樹脂層上に反射層を形成する際に、均一な膜を形成できなくなる可能性がある点で好ましくない。また、反応率を９０％以下にすることで、未反応官能基が樹脂ポリマー中に残存するため、樹脂層上にコレステリック液晶材料を塗布、硬化させて形成すると、コレステリック液晶材料と樹脂とが架橋して、層間の密着性が高まる点でも好ましい。
【００２９】
（メタ）アクリル系モノマーを重合架橋させた樹脂の表面自由エネルギーは、４０ｄｙｎｅ／ｃｍ以上であることが好ましい。この範囲の表面自由エネルギーとすることにより、樹脂層と反射層を構成する液晶材料との親和性が向上するため、均一な反射層を形成できる。
【００３０】
ところで、ＰＥＴ３ＡやＰＥＴ４Ａ等の（メタ）アクリルモノマーについては、カルボニル基（Ｃ＝Ｏ）の伸縮振動は、１７３０ｃｍ−１付近に、そして末端ビニル基のＣ−Ｈ面外変角振動は８１０ｃｍ−１付近に赤外吸収ピークを示す。カルボニル基は重合しても消失されないため１７３０ｃｍ−１付近のピークは重合前後でピーク強度は変化しないが、末端ビニル基は重合反応により消失される（二重結合から単結合になる）ため、８１０ｃｍ−１付近のピーク強度は減少する。そこで、減少した末端ビニル基、つまり８１０ｃｍ−１のピーク強度が重合反応前と比べてどの程度減少したかにより、重合反応の進行度合い、すなわち反応率を求めることができる。本明細書では、重合反応の前後での８１０ｃｍ−１のピーク強度の減少率を「反応率」として定義する。
【００３１】
すなわち、反応率は次のようにして求める。まず、樹脂層の赤外スペクトル（以下、「ＩＲ」という。）を測定する。そして、カルボニル基のＣ＝Ｏ伸縮振動に由来するピークＩＣ＝Ｏは、２１００〜１９００ｃｍ−１間の吸光度が最小値を示す点と、１５７０〜１５４０ｃｍ−１間の吸光度が最小値を示す点とを結ぶ線をベースラインとし、１７４０〜１７１０ｃｍ−１の範囲内にて極大値を示すピークトップのベースラインからの高さにより求める。また、末端ビニル基のＣ−Ｈ面外変角振動に由来するピークＩＣ−Ｈは、８３０±１０ｃｍ−１間の最小値と７９０±１０ｃｍ−１間の最小値とを結ぶベースラインを基準とした、８１０±５ｃｍ−１の範囲内にて極大値を示すピークトップのベースラインからの高さにより求める。そして、末端ビニル基の面外変角振動に由来するピークＩＣ−ＨのＣ＝Ｏ伸縮振動由来のピークＩＣ＝Ｏに対する比ＩＣ−Ｈ／ＩＣ＝Ｏを重合前後のそれぞれについて求め、重合反応の前後での減少率を「反応率」とする。
【００３２】
すなわち、重合前のピーク強度比をＡ０、重合後のピーク強度比をＡｘとして、下記式：
反応率（％）＝（Ａ０−Ａｘ）／Ａ０×１００
によって反応率を定義する。
【００３３】
なお、ＩＲ測定は、試料濃度をＫＢｒ量の１〜２重量％にし、ＫＢｒ錠剤法にしたがい、フーリエ変換赤外分光光度計ＦＴ／ＩＲ−６１０（日本分光社製）を用いることで測定できる。
【００３４】
（２）シランカップリング剤
樹脂層の架橋収縮率を改善し、樹脂層の変形を防止するため、樹脂層を構成する樹脂層形成用組成物は、シランカップリング剤を含有することが好ましい。
【００３５】
シランカップリング剤は、従来公知のものを用いればよく、例えば、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミエチル）３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−エトキシ）シラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。
【００３６】
シランカップリング剤の含有量は、（メタ）アクリル系主剤１００質量部に対して０．５質量部以上１００質量部以下であることが好ましい。０．５質量部未満であると、添加効果が得られないため、好ましくない。１００質量部を超えると、液晶の配向を乱す層となる傾向が見られるため、好ましくない。
【００３７】
（重合開始剤）
必須の構成要素ではないが、アクリル系主剤の感応性を増進させるため、樹脂層を構成する樹脂層形成用組成物は、重合開始剤を含有することが好ましい。重合開始剤は、液晶材料の重合反応を促進できるものであれば特に限定されるものではなく、照射するエネルギーの種類に応じて適宜選択すればよい。重合開始剤として、光重合開始剤及び熱重合開始剤等を挙げることができる。また、反射層形成用組成物に重合開始剤を含有させる場合、重合開始剤の量は、所望の重合反応が生じる程度であれば特に限定されるものではなく、適宜決定すればよい。
【００３８】
重合開始剤の含有量は、ラジカル連鎖反応が開始し、進行する量であれば、特に限定されるものではない。一般には、市販の分光光度計を用いて測定した重合開始剤の極大吸収波長における吸光度が０．４〜０．５の範囲内となる量の重合開始剤を配合する。
【００３９】
（３）その他の添加剤
また、樹脂層形成用組成物には、その他、本発明の目的を損なわない範囲で必要に応じて、架橋剤、粘着付与剤、金属キレート剤、界面活性剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、顔料、染料、着色剤、耐電防止剤、防腐剤、消泡剤、ぬれ性調整剤等の各種添加剤を配合することができる。
【００４０】
３．樹脂層の形成
基材１１上に樹脂層形成用組成物を塗工する方法は、特に限定されるものではなく、例えば、バーコート法、スピンコート法、ブレードコート法等を挙げることができる。樹脂層１２の厚さは、０．５μｍ〜２０μｍの範囲内であることが好ましい。厚さが０．５μｍ未満であると、基材フィルムの凹凸等の配向欠陥が発生する傾向であるため、好ましくない。厚さが２０μｍを超えると、樹脂層の収縮によるカールが発生してフィルムとして取り扱いしにくい傾向であるため、好ましくない。
【００４１】
［仮ラミネート工程］
次に、図１の（ｂ）に示すように、二軸延伸フィルム１３を樹脂層１２上に一時的にラミネートする。
【００４２】
樹脂層１２の表面に形成するフィルムは、二軸延伸フィルムであることを要する。二軸延伸フィルムでないと、二軸延伸フィルム１３を剥離した後の樹脂層１２の表面が極めて不規則な凹凸を有することになり、その後に形成される電磁波反射フィルムにおいて、電磁波の配向性が劣るため、好ましくない。また、電磁波の配向性を高めるため、樹脂層１２の表面に形成するフィルムは、少なくとも一方にラビング処理がなされたフィルムであり、上記二軸延伸フィルム形成工程において、二軸延伸フィルム１３のラビング処理がなされた面を樹脂層１２の表面上に形成することが好ましい。
【００４３】
二軸延伸フィルム１３の市販品としては、ポリエチレンテレフタレートフィルム（以下「ＰＥＴフィルム」という。）ルミラー（登録商標）Ｕ３５（東レ社製）が挙げられる。なお、基材１１と二軸延伸フィルム１３とは、同一の材料であってもよいし、異なる材料であってもよい。
【００４４】
ラミネートは、従来用いられるラミネーターを用いて行い、空気が入らないようにすればよいが、ラミネート温度は、２０℃以上１２０℃以下であることが好ましい。２０℃未満であれば、基材１１と二軸延伸フィルム１３とを適切にラミネートできない可能性がある点で好ましくない。１２０℃を超えると、基材１１と二軸延伸フィルム１３とが強固に密着し、その後、二軸延伸フィルム１３を剥がす際に容易に剥がすことができない可能性がある点で好ましくない。
【００４５】
［樹脂層硬化工程］
続いて、図１の（ｃ）に示すように、基材１１側及び／又は二軸延伸フィルム１３側からエネルギー線を照射して樹脂層１２を硬化させる。樹脂層形成用組成物の硬化は、樹脂層形成用組成物に電磁波を照射することによって行われる。電磁波は、２００〜４５０ｎｍの波長域の光が好ましく、３００〜４５０ｎｍの波長域の光がより好ましい。光源は、特に限定されるものではなく、例えば、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、炭素アーク灯、水銀蒸気アーク、蛍光ランプ、アルゴングローランプ、ハロゲンランプ、白熱ランプ、低圧水銀灯、フラッシュＵＶランプ、ディープＵＶランプ、キセノンランプ、タングステンフィラメントランプ、太陽光等が挙げられる。これらの光源を用い、積算光量が５０ｍＪ／ｃｍ２以上、好ましくは２００ｍＪ／ｃｍ２以上になるように光を照射することにより、樹脂層形成用組成物を硬化させることができる。
【００４６】
［剥離工程］
続いて、図１の（ｄ）に示すように、二軸延伸フィルム１３を基材１１から剥がす。これらの工程を経ることで、二軸延伸フィルム１３表面の凹凸が樹脂層１２の表面に転写される。なお、必須の工程ではないが、少なくとも一方にラビング処理がなされた二軸延伸フィルムを用いていない場合、電磁波の配向性を高めるため、剥離工程の後、樹脂層１２の表面にラビング処理を行ってから、次の反射層形成工程に移ることが好ましい。
【００４７】
［反射層形成工程］
続いて、図２の（ｅ）に示すように、樹脂層１２上に、反射層形成用組成物を層状に塗工する。
【００４８】
１．反射層形成用組成物
反射層形成用組成物は、コレステリック規則性を有する液晶材料と、カイラル剤とを含有する。また、反射層形成用組成物に対し、レベリング剤、重合開始剤、添加剤等を含有してもよい。
【００４９】
（液晶材料）
液晶材料として、コレステリック規則性を示すコレステリック液晶を用いることができる。このような材料として、コレステリック液晶構造を形成し得る液晶材料であれば特に限定されるものではないが、硬化後に光学的に安定した反射層を得られる点で、分子の両末端に重合性の官能基を有する液晶材料が好ましい。
【００５０】
このような液晶材料として、例えば、下記の一般式（１）で表わされる化合物のほか、下記の式（２−ｉ）〜（２−ｘｉ）で表される化合物を挙げることができる。また、これらの化合物を単独で、もしくは混合して用いることができる。
【化２】
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【化３】
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【００５１】
上記一般式（１）において、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ水素又はメチル基を示すが、液晶相を示す温度範囲の広さからＲ１及びＲ２はともに水素であることが好ましい。Ｘは水素、塩素、臭素、ヨウ素、炭素数１〜４のアルキル基、メトキシ基、シアノ基、ニトロ基のいずれであっても差し支えないが、塩素又はメチル基であることが好ましい。また、上記一般式（１）において、分子鎖両端の（メタ）アクリロイロキシ基と芳香環とのスペーサーであるアルキレン基の鎖長を示すａ及びｂは、それぞれ個別に２〜１２の範囲で任意の整数をとり得るが、４〜１０の範囲であることが好ましく、６〜９の範囲であることがさらに好ましい。ａ＝ｂ＝０である場合、安定性に乏しく、加水分解を受けやすい上に、化合物自体の結晶性が高いため、液晶相を示す温度範囲が狭い点で好ましくない。また、ａ又はｂのいずれかが１３以上である場合、アイソトロピック転移温度（ＴＩ）が低いため、液晶相を示す温度範囲が狭い点で好ましくない。
【００５２】
２．カイラル剤
カイラル剤は、光学活性な部位を有する低分子化合物であり、主として分子量１５００以下の化合物である。カイラル剤は主として、ネマチック規則性を示す重合性の液晶材料が発現する正の一軸ネマチック規則性に螺旋構造を誘起させる目的で用いられる。この目的が達成される限り、ネマチック規則性を示す重合性の液晶材料との間で溶液状態あるいは溶融状態において相溶し、ネマチック規則性を示す重合性の液晶材料の液晶性を損なうことなく、これに所望の螺旋構造を誘起できるものであれば、カイラル剤としての低分子化合物の種類は特に限定されない。
【００５３】
なお、このようにして液晶に螺旋構造を誘起させるために用いられるカイラル剤は、少なくとも分子中に何らかのキラリティーを有していることが必要である。したがって、ここで用いられるカイラル剤としては、例えば１つあるいは２つ以上の不斉炭素を有する化合物、キラルなアミンやキラルなスルフォキシド等のようにヘテロ原子上に不斉点がある化合物、あるいはクムレンやビナフトール等の軸不斉を持つ光学活性な部位を有する化合物が挙げられる。
【００５４】
しかしながら、選択されたカイラル剤の性質によっては、ネマチック規則性を示す重合性の液晶材料が形成するネマチック規則性の破壊、配向性の低下、あるいはカイラル剤が非重合性の場合には、液晶材料の硬化性の低下や、硬化後のフィルムの信頼性の低下を招くおそれがある。さらに、光学活性な部位を有するカイラル剤の多量な使用は、液晶材料のコストアップを招く。したがって、短い螺旋ピッチ長のコレステリック規則性を有する選択反射層を形成する場合には、液晶材料に含有させる光学活性な部位を有するカイラル剤としては、螺旋構造を誘起させる効果の大きなカイラル剤を選択することが好ましく、具体的には下記の一般式（３）、（４）又は（５）で表されるような、分子内に軸不斉を有する低分子化合物を用いることが好ましい。
【化４】
2013076958.tif 000006
【００５５】
上記一般式（３）又は（４）において、Ｒ４は水素又はメチル基を示す。Ｙは下記に示す式（ｉ）〜（ｘｘｉｖ）の任意の一つであるが、中でも、式（ｉ）、（ｉｉ）、（ｉｉｉ）、（ｖ）及び（ｖｉｉ）のいずれか一つであることが好ましい。また、アルキレン基の鎖長を示すｃ及びｄは、それぞれ個別に２〜１２の範囲で任意の整数をとり得るが、４〜１０の範囲であることが好ましく、６〜９の範囲であることがさらに好ましい。ｃ又はｄの値が０又は１である場合、安定性に欠け、加水分解を受けやすく、結晶性も高いため、ネマチック規則性を示す重合性の液晶材料との間の相溶性が低下し、濃度によっては相分離する可能性がある点で、好ましくない。一方、ｃ又はｄの値が１３以上である場合、融点（Ｔｍ）が低いため、ネマチック規則性を示す重合性の液晶材料との間の相溶性が低下し、濃度によっては相分離する可能性がある点で、好ましくない。
【化５−１】
2013076958.tif 000007
【化５−２】
2013076958.tif 000008
【化５−３】
2013076958.tif 000009
【化５−４】
2013076958.tif 000010
【００５６】
このようなカイラル剤は、特に重合性を有する必要はない。しかしながら、カイラル剤が重合性を有している場合、ネマチック規則性を示す重合性の液晶材料と重合され、コレステリック規則性が安定的に固定化されるので、熱安定性等の点で好ましい。特に、分子の両末端に重合性の官能基があることが、耐熱性の良好な選択反射層を得る上で好ましい。
【００５７】
反射層が反射する電磁波の波長帯は、反射層形成用組成物に含まれるカイラル剤の量によって決まる。一例として、反射層が反射する電磁波の波長帯のピークを７８０ｎｍにする場合、右旋回性を与えるカイラル剤の割合は、反射層形成用組成物１００質量部に対して２質量部以上１０質量部以下であることが好ましく、左旋回性を与えるカイラル剤の割合、反射層形成用組成物１００質量部に対して２質量部以上２０質量部以下であることが好ましい。
【００５８】
３．レベリング剤
レベリング剤は、液晶材料のコレステリック構造の形成を促すために用いられる。レベリング剤は、反射層において液晶材料のコレステリック配列を促進できるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、シリコン系化合物、フッ素系化合物、アクリル系化合物等を挙げることができる。レベリング剤の市販品としては、ビックケミー・ジャパン社製のＢＹＫ−３６１Ｎ、ＡＧＣセイケミカル社製のＳ−２４１等を用いることができる。なお、レベリング剤は、１種類であってもよいし、２種類以上であってもよい。
【００５９】
レベリング剤の含有量は、液晶材料のコレステリック構造を所望の規則性で形成できる範囲内であれば特に限定されるものではないが、反射層形成用組成物１００質量部に対して０．０１質量部以上５．０質量部以下であることが好ましく、０．０３質量部以上１０．０質量部以下であることがより好ましい。０．０１質量部未満であると、空気界面での液晶分子が垂直配向しやすくなり、かつ膜が均一となりにくい状態であるため、好ましくない。１０．０質量部を超えると、液晶の配向を阻害する場合が出てくる場合が見られる状態であるため、好ましくない。
【００６０】
４．重合開始剤
重合開始剤は、カイラル剤及びレベリング剤の作用によりコレステリック構造を形成した液晶材料を、当該コレステリック構造を維持したまま架橋し、コレステリック構造が乱されにくくするために用いられる。重合開始剤は、液晶材料の重合反応を促進できるものであれば特に限定されるものではなく、樹脂層で用いるものと同じものであってもよいし、異なるものであってもよい。
【００６１】
５．溶媒
また、液晶材料、カイラル剤、レベリング剤、重合開始剤を分散させるため、通常、反射層形成用組成物は溶媒に分散されている。溶媒は、上記の成分を分散できるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、シクロヘキサノン等を挙げることができる。
【００６２】
６．反射層の形成
反射層形成用組成物の塗工は、樹脂層の形成と同じ方法でよく、例えば、バーコート法、スピンコート法、ブレードコート法等を挙げることができる。反射層の厚さは、所定の波長領域にある赤外光を選択的反射する機能を実現できる範囲内であれば特に限定されるものではないが、０．１μｍ〜１００μｍの範囲内であることが好ましく、０．５μｍ〜２０μｍの範囲内であることがより好ましく、１μｍ〜１０μｍの範囲内であることがさらに好ましい。厚さが０．１μｍ未満であると、所望の反射率が得られない状態であるため、好ましくない。厚さが１００μｍを超えると、コレステリック配向が乱れやすい状態であるため、好ましくない。
【００６３】
［反射層乾燥工程］
続いて、図２の（ｆ）に示すように、樹脂層１２上に塗工した反射層形成用組成物を乾燥させる。反射層形成用組成物の乾燥は、溶媒を除去するために行われる。乾燥温度は、５０℃以上２００℃以下であることが好ましい。５０℃未満であると、溶媒を適切に除去できない可能性があるため、好ましくない。２００℃以上であると、熱シワの発生や劣化する可能性があるため、好ましくない。
【００６４】
［反射層硬化工程］
続いて、図２の（ｇ）に示すように、乾燥後の反射層形成用組成物を硬化することで反射層１４を形成する。これらの工程を経ることで、本発明の電磁波反射フィルム１が形成される。
【００６５】
反射層形成用組成物の硬化は、反射層形成用組成物に電磁波を照射することによって行われる。反射層形成用組成物に電磁波を照射するのは、カイラル剤及びレベリング剤の作用によりコレステリック構造を形成した液晶材料を、当該コレステリック構造を維持したまま架橋し、コレステリック構造が乱されにくくするためである。
【００６６】
光源は、樹脂層を形成する際に用いたものと同じでよく、その光源を用い、積算光量が２５ｍＪ／ｃｍ２〜８００ｍＪ／ｃｍ２、好ましくは２５ｍＪ／ｃｍ２〜４００ｍＪ／ｃｍ２、より好ましくは５０ｍＪ／ｃｍ２〜２００ｍＪ／ｃｍ２の範囲となるように光を照射することにより、反射層形成用組成物を硬化させることができる。積算光量が２５ｍＪ／ｃｍ２未満であると、液晶材料の重合が不十分になり、結果として液晶材料のコレステリック構造が乱され得るため、好ましくない。８００ｍＪ／ｃｍ２を超えると、レベリング剤が反射層の表面に表れる可能性があるため、好ましくない。
【実施例】
【００６７】
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。
【００６８】
【表１】
2013076958.tif 000011
【００６９】
＜実施例１＞
［基材の準備］
ＰＥＴからなる二軸延伸フィルム（商品名：ルミラー（登録商標）Ｕ３５，厚さ：１２５μｍ，東レ社製）を準備した。
【００７０】
［樹脂層の形成］
上記ＰＥＴフィルムの易接着層上に紫外線硬化性樹脂（商品名：ユニディック，ＤＩＣ社製）を、バーコーターを用いて５．４ｇ／ｍ２になるように塗布した。その後、樹脂を、９０℃に調整したオーブンで３０秒間加熱乾燥した。
【００７１】
［配向能の転写］
上記基材とは別に、上記ＰＥＴフィルムと同じフィルムを準備した。このフィルムの波長５８５ｎｍでのリタデーション値は、３７１０ｎｍであった。なお、リタデーション値は、光学材料検査装置Ｒｅｔｓ−１００（大塚電子社製）を用いて測定した。また、以下、特に断りのない限り、波長５８５ｎｍでのリタデーション値を「Ｒｅ値」と略して表現する。
【００７２】
上記フィルムの易接着処理がなされていない面を、上記樹脂層の表面と接触するようにラミネートした。ラミネートは、ラミネーターを用いて行い、空気が入らないようにした。続いて、ラミネートしたルミラーＵ３５の側から紫外線照射装置（フュージョン社製、Ｈバルブ）を用いて紫外線を照射した。このとき、積算光量は、１５８ｍＪ／ｃｍ２であった。その後、ラミネートしたＰＥＴフィルムを基材から剥離した。これによって、樹脂層に配向能が転写された状態となった。
［反射層の形成］
両末端に重合可能なアクリレートを有するとともに中央部のメソゲンとアクリレートとの間にスペーサを有する、下記の式で表される液晶性モノマー分子９５．８１重量部と、両側の末端に重合可能なアクリレートを有するカイラル剤分子（商品名：ＣＮＬ７１５，アデカ社製）４．１９重量部とをシクロヘキサノン溶液に溶解させた。そして、この溶液に、上記液晶性モノマー分子に対して５．０重量部の光重合開始剤（商品名：イルガキュア１８４，ＢＡＳＦ社製）を添加した。
【化６】
2013076958.tif 000012
【００７３】
次に上記樹脂層上にバーコーターにて、上記シクロヘキサノン溶液を塗布した。次いで、１００℃で２分間保持し、シクロヘキサノン溶液中のシクロヘキサノンを蒸発させて、液晶性モノマー分子を配向させた。そして、上記塗膜に紫外線照射装置（フュージョン社製、Ｈバルブ）を用いて紫外線を積算光量が４００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射し、塗膜中の光開始剤から発生するラジカルによって配向した液晶性モノマー分子のアクリレート及びカイラル剤分子のアクリレートを３次元架橋してポリマー化し、コレステリック構造を固定化することにより、反射層（ピーク反射波長880nm）を得た。このとき、反射層の膜厚は６μｍであった。
【００７４】
上記の工程を経ることで、実施例１の電磁波反射フィルムを得た。
【００７５】
＜実施例２＞
配向能の転写を以下の工程で行ったこと以外は、実施例１と同様の方法にて実施例２の電磁波反射フィルムを得た。
【００７６】
［配向能の転写］
上記基材とは別に、上記ＰＥＴフィルムと同じフィルムを準備した。このフィルムのＲｅ値は、４１９６ｎｍであった。上記フィルムの易接着処理がなされていない面に対し、ラビング処理を２回行った。ラビング処理は、レーヨン（商品名：ＹＡ−１８−Ｒ，吉川化工製）を用いて行った。そして、ラビング処理した面を、上記樹脂層の表面と接触するように仮ラミネートした。仮ラミネートは、ラミネーターを用いて行い、７０℃で行った。また、仮ラミネートの際、空気が入らないようにした。続いて、ラミネートしたルミラーＵ３５の側から紫外線照射装置（フュージョン社製、Ｈバルブ）を用いて紫外線を照射した。このとき、積算光量は、１５８ｍＪ／ｃｍ２であった。その後、ラミネートしたＰＥＴフィルムを基材から剥離した。これによって、樹脂層に配向能が転写された状態となった。
【００７７】
＜実施例３＞
配向能を転写する際に用いたフィルムのＲｅ値が５７１８ｎｍであること以外は、実施例１と同様の方法にて実施例３の電磁波反射フィルムを得た。
【００７８】
＜実施例４＞
配向能を転写する際に用いたフィルムのＲｅ値が６３３９ｎｍであること以外は、実施例１と同様の方法にて実施例３の電磁波反射フィルムを得た。
【００７９】
＜実施例５＞
上記基材がＰＥＴからなる二軸延伸フィルム（商品名：コスモシャイン（登録商標）Ａ４１００，厚さ：１２５μｍ，東洋紡績社製）であり、配向能を転写する際に用いたフィルムのＲｅ値が４１９６ｎｍであること以外は、実施例１と同様の方法にて実施例５の電磁波反射フィルムを得た。
【００８０】
＜実施例６＞
配向能を転写する際に用いたフィルムのＲｅ値が３７１１ｎｍであることと、樹脂層に配向能を転写した後に、上記レーヨンを用いて樹脂層の表面をラビング処理したこととのほかは、実施例１と同様の方法にて実施例６の電磁波反射フィルムを得た。
【００８１】
＜比較例１＞
配向能の転写を行わなかったことと、樹脂層を形成した後に、上記レーヨンを用いて樹脂層の表面をラビング処理したこととのほかは、実施例１と同様の方法にて比較例１の電磁波反射フィルムを得た。
【００８２】
＜比較例２＞
樹脂層の形成を行わず、基材の易接着処理がなされていない面上に反射層を直接形成したことのほかは、実施例１と同様の方法にて比較例２の電磁波反射フィルムを得た。
【００８３】
＜比較例３＞
樹脂層の形成を行わず、基材の易接着処理がなされている面上に反射層を直接形成したことのほかは、実施例１と同様の方法にて比較例３の電磁波反射フィルムを得た。
【００８４】
＜比較例４＞
配向能を転写する際に用いたフィルムがアクリルフィルム（商品名：ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ  Ｓ００１，住友化学社製）であること以外は、実施例１と同様の方法にて比較例４の電磁波反射フィルムを得た。
【００８５】
＜配向性の評価＞
配向性の評価は、分光光度計ＵＶ−３１００ＰＣ（島津製作所社製）を用いて波長８８０ｎｍでの５°正反射率を測定することにより行った。結果を表２に示す。４０％以上を“◎”とし、２０％以上を“○”とし、１５％以上を“△”とし、１５％未満を“×”とした。
【００８６】
＜密着性の評価＞
密着性の評価は、メンディングテープ（住友スリーエム社製）を用いて、ＪＩＳ  Ｋ５４００−８．５法にしたがってクロスカットを実施することにより行った。結果を表２に示す。左はピーク反射率を示し、４０％以上のピーク反射率を“◎”とし、４０％未満20％以上のピーク反射率を“○”とし、２０％未満１５％以上のピーク反射率を“△”とし、１５％未満のピーク反射率を“×”とした。“×”は、プレーナー配向したコレステリック液晶が得られていないことを示す。右は密着性を示し、８０％以上残っているものを“○”とし、８０％未満の場合を“×”とした。
【００８７】
【表２】
2013076958.tif 000013
【００８８】
基材上に、エネルギー線硬化性を有する樹脂からなる樹脂層を形成する樹脂層形成工程と、二軸延伸フィルムを樹脂層上に一時的にラミネートする仮ラミネート工程と、基材側及び／又は二軸延伸フィルム側からエネルギー線を照射して樹脂層を硬化する樹脂層硬化工程と、上記二軸延伸フィルムを剥がす剥離工程と、剥離後の上記樹脂層の表面に、赤外線領域にピーク波長を有する電磁波を反射するコレステリック液晶を含む反射層を直接形成する反射層形成工程とを経て製造された電磁波反射フィルムは、反射層と基材との密着性と、電磁波の配向性とのいずれにも優れることが確認された（実施例１〜６）。とりわけ、樹脂層の表面上に形成する二軸延伸フィルムのＲｅ値が５０００ｎｍを超えるとより好適な配向性を示すことが確認された（実施例３、４）。そして、樹脂層の表面上に形成する二軸延伸フィルムとして少なくとも一方の面にラビング処理がなされたフィルムを用いるか（実施例２）、又は剥離工程の後にラビング処理を行ってから反射層形成工程を行うと（実施例６）、さらに好適な配向性を示すことが確認された（実施例６）。
【００８９】
一方、フィルムの凹凸を樹脂層に転写しなかった場合、樹脂層に対してラビング処理を行ったとしても、好適な配向性を得られない可能性があることが確認された（比較例１）。また、樹脂層を形成しないと、反射層と基材との密着性を確保できない可能性があることが確認された（比較例２、３）。また、フィルムの凹凸を樹脂層に転写したとしても、フィルムが二軸延伸フィルムでないと、好適な配向性を得られないことが確認された（比較例４）。
【符号の説明】
【００９０】
１  反射フィルム
１１  基材
１２  樹脂層
１３  二軸延伸フィルム
１４  反射層
【図１】
2013076958.tif 000014
【図２】
2013076958.tif 000015
【図３】
2013076958.tif 000016
【図４】
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