(57)【要約】【課題】絶縁層の厚さを薄く製作しても、所望のタッチ感度を確保することができ、画像表示装置から発生するノイズを効果的に遮断することができるタッチパネルを提供する。【解決手段】本発明のよるタッチパネル１は、透明基板１００と、透明基板１００にメッシュパターンに形成される第１電極パターン２１０と、透明基板１００に形成される絶縁層３００と、絶縁層３００の露出面に形成されており、第１電極パターン２１０と向い合う交差領域２２０ａはメッシュパターンに形成され、交差領域を除く領域２２０ｂは面状に形成される第２電極パターン２２０と、を含むものである。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板と、
前記透明基板にメッシュパターンに形成される第１電極パターンと、
前記透明基板に形成される絶縁層と、
前記絶縁層の露出面に形成されており、前記第１電極パターンと向い合う交差領域はメッシュパターンに形成され、前記交差領域を除く領域は面状に形成される第２電極パターンと、を含むタッチパネル。
【請求項２】
前記絶縁層の露出面方向に備えられる画像表示装置をさらに含む請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項３】
前記第１電極パターンと前記交差領域に形成された前記第２電極パターンのうち少なくとも一つは、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、チタン（Ｔｉ）、パラジウム（Ｐｄ）、クロム（Ｃｒ）のうち何れか一つまたはこれらの組み合わせからなることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項４】
前記第１電極パターンと前記交差領域に形成された前記第２電極パターンのうち少なくとも一つは、銀塩乳剤層を露光／現像して形成された金属銀からなることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項５】
前記交差領域を除く領域に形成された前記第２電極パターンは、ポリ−３，４−エチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルホネート（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）、ポリアニリン、ポリアセチレンまたはポリフェニレンビニレンからなることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項６】
前記交差領域を除く領域に形成された前記第２電極パターンは、インジウム−スズ酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｈｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）からなることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項７】
透明基板と、
前記透明基板の一面にメッシュパターンに形成される第１電極パターンと、
前記透明基板の他面に形成されており、前記第１電極パターンと向い合う交差領域はメッシュパターンに形成され、前記交差領域を除く領域は面状に形成される第２電極パターンと、を含むタッチパネル。
【請求項８】
前記透明基板の他面方向に備えられる画像表示装置をさらに含む請求項７に記載のタッチパネル。
【請求項９】
前記第１電極パターンと前記交差領域に形成された前記第２電極パターンのうち少なくとも一つは、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、チタン（Ｔｉ）、パラジウム（Ｐｄ）、クロム（Ｃｒ）のうち何れか一つまたはこれらの組み合わせからなることを特徴とする請求項７に記載のタッチパネル。
【請求項１０】
前記第１電極パターンと前記交差領域に形成された前記第２電極パターンのうち少なくとも一つは、銀塩乳剤層を露光／現像して形成された金属銀からなることを特徴とする請求項７に記載のタッチパネル。
【請求項１１】
前記交差領域を除く領域に形成された前記第２電極パターンは、ポリ−３，４−エチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルホネート（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）、ポリアニリン、ポリアセチレンまたはポリフェニレンビニレンからなることを特徴とする請求項７に記載のタッチパネル。
【請求項１２】
前記交差領域を除く領域に形成された前記第２電極パターンは、インジウム−スズ酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｈｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）からなることを特徴とする請求項７に記載のタッチパネル。
【請求項１３】
第１透明基板と、
前記第１透明基板の一面にメッシュパターンに形成される第１電極パターンと、
第２透明基板と、
前記第２透明基板の一面に形成されており、前記第１電極パターンと向い合う交差領域はメッシュパターンに形成され、前記交差領域を除く領域は面状に形成される第２電極パターンと、
前記第１透明基板の一面と前記第２透明基板の一面とを接着させる接着層と、を含むタッチパネル。
【請求項１４】
前記第２透明基板の他面方向に備えられる画像表示装置をさらに含む請求項１３に記載のタッチパネル。
【請求項１５】
前記第１電極パターンと前記交差領域に形成された前記第２電極パターンのうち少なくとも一つは、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、チタン（Ｔｉ）、パラジウム（Ｐｄ）、クロム（Ｃｒ）のうち何れか一つまたはこれらの組み合わせからなることを特徴とする請求項１３に記載のタッチパネル。
【請求項１６】
前記第１電極パターンと前記交差領域に形成された前記第２電極パターンのうち少なくとも一つは、銀塩乳剤層を露光／現像して形成された金属銀からなることを特徴とする請求項１３に記載のタッチパネル。
【請求項１７】
前記交差領域を除く領域に形成された前記第２電極パターンは、ポリ−３，４−エチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルホネート（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）、ポリアニリン、ポリアセチレンまたはポリフェニレンビニレンからなることを特徴とする請求項１３に記載のタッチパネル。
【請求項１８】
前記交差領域を除く領域に形成された前記第２電極パターンは、インジウム−スズ酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｈｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）からなることを特徴とする請求項１３に記載のタッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、タッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
デジタル技術を用いるコンピュータが発達するにつれて、コンピュータの補助装置もともに開発されており、パソコン、ポータブル伝送装置、その他の個人用の情報処理装置などは、キーボード、マウスなどの様々な入力装置（Ｉｎｐｕｔ  Ｄｅｖｉｃｅ）を利用してテキスト及びグラフィック処理を行う。
【０００３】
しかし、情報化社会の急速な進行により、コンピュータの用途が益々拡大する傾向にあるため、現在入力装置の役割を担当しているキーボード及びマウスだけでは、効率的な製品の駆動が困難であるという問題点がある。従って、簡単で誤操作が少なく、誰でも簡単に情報を入力することができる機器の必要性が高まっている。
【０００４】
また、入力装置に関する技術は、一般的な機能を満たす水準を越えて、高信頼性、耐久性、革新性、設計及び加工に関する技術などが注目されており、このような目的を達成するために、テキスト、グラフィックなどの情報入力が可能な入力装置としてタッチパネル（Ｔｏｕｃｈ  Ｐａｎｅｌ）が開発された。
【０００５】
タッチパネルは、電子手帳、液晶表示装置（ＬＣＤ；Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｄｅｖｉｃｅ）、ＰＤＰ（Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ）、Ｅｌ（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）などの平板ディスプレイ装置及びＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄｅ  Ｒａｙ  Ｔｕｂｅ）などの画像表示装置の表示面に設けられ、ユーザが画像表示装置を見ながら所望の情報を選択するようにするために利用される機器である。
【０００６】
タッチパネルの種類は、抵抗膜方式（Ｒｅｓｉｓｔｉｖｅ  Ｔｙｐｅ）、静電容量方式（Ｃａｐａｃｉｔｉｖｅ  Ｔｙｐｅ）、電磁方式（Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｍａｇｎｅｔｉｃ  Ｔｙｐｅ）、表面弾性波方式（ＳＡＷ  Ｔｙｐｅ；Ｓｕｒｆａｃｅ  Ａｃｏｕｓｔｉｃ  Ｗａｖｅ  Ｔｙｐｅ）及び赤外線方式（Ｉｎｆｒａｒｅｄ  Ｔｙｐｅ）に区分される。このような多様な方式のタッチパネルは、信号増幅の問題、解像度の差、設計及び加工技術の難易度、光学的特性、電気的特性、機械的特性、耐環境特性、入力特性、耐久性及び経済性を考慮して電子製品に採用されるが、現在もっとも幅広い分野で用いられている方式は、抵抗膜方式タッチパネル及び静電容量方式タッチパネルである。
【０００７】
従来技術によるタッチパネルは、検知電極をＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ；インジウム−スズ酸化物）で形成する。しかし、ＩＴＯの場合、優れた電気伝導度を有するが、その原料であるインジウム（Ｉｎｄｉｕｍ）は、希土類金属で高価であり、今後１０年以内に枯渇が予想されているため、需給が円滑でないという短所がある。
【０００８】
このような理由から、特許文献１に開示されたように、金属を用いて電極を形成しようとする研究が活発に行われている。金属からなる電極は、優れた電気伝導度を有し、金属の需給が円滑であるという長所を有する。しかし、金属からなる電極は、金属の不透明性により、電極がユーザに視覚的に認識される可能性があるという問題がある。そのため、電極は、ユーザに認識されないように、マイクロメータ（μｍ）単位の幅に、またメッシュ（ｍｅｓｈ）構造に形成されることもあるが、このような従来のタッチパネルは、画像表示装置から発生するノイズの遮蔽性能が劣るという問題がある。
【０００９】
近年、タッチパネル構造の単純化、薄型化を目的として、ウィンドウガラス（ｗｉｎｄｏｗ  ｇｌａｓｓ）の一面に電極パターンを直接形成するタッチパネル構造が開示されている。Ｇ２構造と呼ばれるタッチパネル構造がその一例である。
【００１０】
開示されたＧ２構造の具体的な一例として、ウィンドウ上にブリッジを用いたＩＴＯ  Ｓｉｎｇｌｅ  Ｌａｙｅｒが形成される構造（ＳＩＴＯ方式）が挙げられる。しかし、このような構造は、検知電極（ｓｅｎｓｉｎｇ  ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ）が画像表示装置と直接向い合うようになるため、画像表示装置からのノイズに弱いという特性を有する。これにより、ノイズを遮蔽するための前面電極層が用いられたり、ノイズの発生が極めて少ない画像表示装置に制限的に用いられる。
【００１１】
一方、ＩＴＯ  Ｄｕａｌ  Ｌａｙｅｒ方式の場合、ウィンドウの一面に、絶縁層を挟んだ両層のＩＴＯパターン（ｂａｒ＆Ｓｔｒｉｐｅパターン）が形成された構造を有している。このような構造は、検知電極（Ｓｔｒｉｐｅ）が広幅の駆動電極（Ｂａｒ）によって覆われて、画像表示装置からのノイズ遮蔽性能に優れるという特性を有している。しかし、このようなＤｕａｌ  Ｌａｙｅｒ方式は、タッチＩＣが制御可能で適切な大きさの静電容量（ｃａｐａｃｉｔａｎｃｅ、Ｃ）及びタッチ強度（Ｔｏｕｃｈ  ｓｔｒｅｎｇｔｈ、Ｄｅｌｔａ  Ｃ）を確保するために、約１００μｍ以上の絶縁層を要するため、薄型化の長所が得られないだけでなく、現在のＧ２工程では、そのような厚さの絶縁層の具現自体が不可能である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１２】
【特許文献１】韓国公開特許第１０−２０１０−００９１４９７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
本発明は上記の問題点を解決するために導き出されたものであって、電極パターンが低い抵抗性を有し、静電容量が過度に大きく形成されない構造を提示することにより、向い合う電極パターンの間に形成された絶縁層などの部材の厚さを最小化して製作することができ、画像表示装置から発生するノイズを効果的に遮断することができるタッチパネルを提供することをその目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明の好ましい第１実施例によるタッチパネルは、透明基板と、前記透明基板にメッシュパターンに形成される第１電極パターンと、前記透明基板に形成される絶縁層と、前記絶縁層の露出面に形成されており、前記第１電極パターンと向い合う交差領域はメッシュパターンに形成され、前記交差領域を除く領域は面状に形成される第２電極パターンと、を含む。
【００１５】
また、前記絶縁層の露出面方向に備えられる画像表示装置をさらに含むことができる。
【００１６】
前記第１電極パターンと前記交差領域に形成された前記第２電極パターンのうち少なくとも一つは、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、チタン（Ｔｉ）、パラジウム（Ｐｄ）、クロム（Ｃｒ）のうち何れか一つまたはこれらの組み合わせからなることができる。
【００１７】
または、前記第１電極パターンと前記交差領域に形成された前記第２電極パターンのうち少なくとも一つは、銀塩乳剤層を露光／現像して形成された金属銀からなることもできる。
【００１８】
前記交差領域を除く領域に形成された前記第２電極パターンは、ポリ−３，４−エチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルホネート（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）、ポリアニリン、ポリアセチレンまたはポリフェニレンビニレンからなることができる。
【００１９】
または、前記交差領域を除く領域に形成された前記第２電極パターンは、インジウム−スズ酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｈｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）からなることができる。
【００２０】
本発明の好ましい第２実施例によるタッチパネルは、透明基板と、前記透明基板の一面にメッシュパターンに形成される第１電極パターンと、前記透明基板の他面に形成されており、前記第１電極パターンと向い合う交差領域はメッシュパターンに形成され、前記交差領域を除く領域は面状に形成される第２電極パターンと、を含む。
【００２１】
また、前記透明基板の他面方向に備えられる画像表示装置をさらに含むことができる。
【００２２】
前記第１電極パターンと前記交差領域に形成された前記第２電極パターンのうち少なくとも一つは、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、チタン（Ｔｉ）、パラジウム（Ｐｄ）、クロム（Ｃｒ）のうち何れか一つまたはこれらの組み合わせからなることができる。
【００２３】
または、前記第１電極パターンと前記交差領域に形成された前記第２電極パターンのうち少なくとも一つは、銀塩乳剤層を露光／現像して形成された金属銀からなることもできる。
【００２４】
前記交差領域を除く領域に形成された前記第２電極パターンは、ポリ−３，４−エチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルホネート（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）、ポリアニリン、ポリアセチレンまたはポリフェニレンビニレンからなることができる。
【００２５】
または、前記交差領域を除く領域に形成された前記第２電極パターンは、インジウム−スズ酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｈｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）からなることができる。
【００２６】
本発明の好ましい第３実施例によるタッチパネルは、第１透明基板と、前記第１透明基板の一面にメッシュパターンに形成される第１電極パターンと、第２透明基板と、前記第２透明基板の一面に形成されており、前記第１電極パターンと向い合う交差領域はメッシュパターンに形成され、前記交差領域を除く領域は面状に形成される第２電極パターンと、前記第１透明基板の一面と前記第２透明基板の一面とを接着させる接着層と、を含む。
【００２７】
また、前記第２透明基板の他面方向に備えられる画像表示装置をさらに含むことができる。
【００２８】
前記第１電極パターンと前記交差領域に形成された前記第２電極パターンのうち少なくとも一つは、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、チタン（Ｔｉ）、パラジウム（Ｐｄ）、クロム（Ｃｒ）のうち何れか一つまたはこれらの組み合わせからなることができる。
【００２９】
または、前記第１電極パターンと前記交差領域に形成された前記第２電極パターンのうち少なくとも一つは、銀塩乳剤層を露光／現像して形成された金属銀からなることもできる。
【００３０】
前記交差領域を除く領域に形成された前記第２電極パターンは、ポリ−３，４−エチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルホネート（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）、ポリアニリン、ポリアセチレンまたはポリフェニレンビニレンからなることができる。
【００３１】
または、前記交差領域を除く領域に形成された前記第２電極パターンは、インジウム−スズ酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｈｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）からなることができる。
【発明の効果】
【００３２】
本発明によると、第１電極パターンと向い合う第２電極パターンの領域が、第１電極パターンと同様に金属からなるメッシュパターンに形成されることにより、金属の低い抵抗特性を十分に活用することができる。また、第１電極パターンと第２電極パターンとの間に配置される透明基板、絶縁層または接着層の厚さが薄い場合にも、過度に大きい静電容量が発生しない。従って、透明基板、絶縁層または接着層の厚さを薄く形成しながらも、所望のタッチ感度を確保することができる。特に、ウィンドウに電極パターンが直接形成される、例えば、Ｇ２構造のようなタッチパネル構造で、絶縁層の厚さを厚く形成しなければならなかった問題点を解消して、タッチパネル構造の薄型化を実現することができる。
【００３３】
また、本発明によると、第１電極パターンと向い合わない第２電極パターンの領域が面状に形成されることにより、画像表示装置から発生するノイズを効果的に遮断する長所がある。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】本発明の好ましい第１実施例によるタッチパネルの分解斜視図である。
【図２Ａ】図１に図示されたタッチパネルのＡ−Ａ´断面図である。
【図２Ｂ】図１に図示されたタッチパネルのＢ−Ｂ´断面図である。
【図３】本発明の好ましい第２実施例によるタッチパネルの分解斜視図である。
【図４Ａ】図３に図示されたタッチパネルのＣ−Ｃ´断面図である。
【図４Ｂ】図３に図示されたタッチパネルのＤ−Ｄ´断面図である。
【図５】本発明の好ましい第３実施例によるタッチパネルの分解斜視図である。
【図６Ａ】図５に図示されたタッチパネルのＥ−Ｅ´断面図である。
【図６Ｂ】図５に図示されたタッチパネルのＦ−Ｆ´断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３５】
本発明の目的、特定の長所及び新規の特徴は、添付図面に係る以下の詳細な説明及び好ましい実施例によってさらに明らかになるであろう。本明細書において、各図面の構成要素に参照番号を付け加えるに際し、同一の構成要素に限っては、たとえ異なる図面に示されても、できるだけ同一の番号を付けるようにしていることに留意しなければならない。また、「一面」、「他面」、「第１」、「第２」などの用語は、一つの構成要素を他の構成要素から区別するために用いられるものであり、構成要素が前記用語によって限定されるものではない。以下、本発明を説明するにあたり、本発明の要旨を不明瞭にする可能性がある係る公知技術についての詳細な説明は省略する。
【００３６】
以下、添付図面を参照して、本発明の好ましい実施例を詳細に説明する。
【００３７】
図１は、本発明の好ましい第１実施例によるタッチパネルの分解斜視図であり、図２Ａは、図１に図示されたＡ−Ａ´断面図であり、図２Ｂは、図１に図示されたＢ−Ｂ´断面図である。
【００３８】
図１、図２Ａ及び図２Ｂに図示されたように、本実施例によるタッチパネル１は、透明基板１００と、前記透明基板１００にメッシュパターンに形成される第１電極パターン２１０と、前記透明基板１００に形成される絶縁層３００と、前記絶縁層３００の露出面に形成されており、前記第１電極パターン２１０と向い合う交差領域２２０ａはメッシュパターンに形成され、前記交差領域を除く領域２２０ｂは面状に形成される第２電極パターン２２０と、を含む。
【００３９】
透明基板１００は、第１電極パターン２１０が形成される領域を提供する。ここで、透明基板１００は、第１電極パターン２１０を支持することができる支持力と、画像表示装置４００から提供される画像をユーザが認識できるようにする透明性を備えなければならない。
【００４０】
上述の支持力及び透明性を考慮して、透明基板１００は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ）、環状オレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、トリアセチルセルロース（Ｔｒｉａｃｅｔｙｌｃｅｌｌｕｌｏｓｅ；ＴＡＣ）フィルム、ポリビニルアルコール（Ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ  ａｌｃｏｈｏｌ；ＰＶＡ）フィルム、ポリイミド（Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ；ＰＩ）フィルム、ポリスチレン（Ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ；ＰＳ）、二軸延伸ポリスチレン（Ｋ樹脂含有ｂｉａｘｉａｌｌｙ  ｏｒｉｅｎｔｅｄ  ＰＳ；ＢＯＰＳ）、ガラスまたは強化ガラスなどで形成することが好ましいが、必ずしてこれに限定されるものではない。
【００４１】
透明基板１００の一面は、高周波処理またはプライマー（ｐｒｉｍｅｒ）処理されることにより活性化されることが好ましい。透明基板１００がこのように処理されることにより、透明基板１００と第１電極パターン２１０との間の接着力をさらに向上することができる。
【００４２】
一方、透明基板１００は、タッチパネルの最外側に備えられたウィンドウ（Ｗｉｎｄｏｗ）であることが好ましい。透明基板１００がウィンドウである場合、ウィンドウに第１電極パターン２１０が直接形成される。また、後述する第２電極パターン２２０が形成された絶縁層３００がウィンドウの一面に形成されることにより、本構造は、ウィンドウの一面に、第１電極パターン２１０及び第２電極パターン２２０が絶縁層３００を挟んで形成されたＧ２構造からなることができる。この場合、タッチパネルの製造工程において、別の透明基板に電極を形成した後ウィンドウに付着する工程を省略することができ、タッチパネルの全体的な厚さを減少することができる。
【００４３】
絶縁層３００は、第１電極パターン２１０を保護するとともに、第２電極パターン２２０が形成される領域を提供する役割を遂行する。絶縁層３００は、第１電極パターン２１０を覆うように透明基板１００の一面に形成される。ここで、絶縁層３００は、エポキシ（Ｅｐｏｘｙ）またはアクリル系（Ａｃｒｙｌｉｃ）の樹脂、ＳｉＯｘ薄膜、またはＳｉＮｘ薄膜などからなることができる。また、絶縁層３００は、プリンティング（Ｐｒｉｎｔｉｎｇ）、ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｅｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）またはスパッタリング（Ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ）などの方法で形成することができる。
【００４４】
第１電極パターン２１０及び第２電極パターン２２０は、ユーザがタッチする際に信号を発生させて、コントローラ（不図示）でタッチ座標を認識できるようにする役割を遂行する。
【００４５】
第１電極パターン２１０は、透明基板１００の一面にメッシュパターンに形成される。第１電極パターン２１０は、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、チタン（Ｔｉ）、パラジウム（Ｐｄ）、クロム（Ｃｒ）から選択された何れか一つまたはこれらの組み合わせからなることができる。この際、第１電極パターン２１０は、メッキ工程や蒸着工程により形成することができる。一方、第１電極パターン２１０が銅（Ｃｕ）で形成される場合、第１電極パターン２１０の表面は黒化処理されることが好ましい。ここで、黒化処理とは、第１電極パターン２１０の表面を酸化させてＣｕ２ＯまたはＣｕＯを析出させることであり、Ｃｕ２Ｏは茶色を呈するためブラウンオキサイド（Ｂｒｏｗｎ  Ｏｘｉｄｅ）といい、ＣｕＯは黒色を呈するためブラックオキサイド（Ｂｌａｃｋ  Ｏｘｉｄｅ）という。第１電極パターン２１０がこのように黒化処理されることにより、光反射を防止することができ、これによってタッチパネルの視認性を改善することができる。第１電極パターン２１０は、上述の金属の他にも、銀塩乳剤層を露光／現像して形成された金属銀で形成することもできる。
【００４６】
第２電極パターン２２０は、絶縁層３００の露出面に形成される。
【００４７】
第２電極パターン２２０の全体領域のうち、絶縁層３００を介して上下方向に第１電極パターン２１０と向い合う交差領域２２０ａは、図１及び図２Ｂに図示されたように、メッシュパターンに形成される。交差領域２２０ａで形成されるメッシュパターンは、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、チタン（Ｔｉ）、パラジウム（Ｐｄ）、クロム（Ｃｒ）から選択された何れか一つまたはこれらの組み合わせからなることができる。また、交差領域２２０ａで形成されるメッシュパターンは、第１電極パターン２１０と同様に、メッキ工程や蒸着工程により形成されることができる。交差領域２２０ａで形成されるメッシュパターンは、上述の金属の他にも、銀塩乳剤層を露光／現像して形成された金属銀で形成することもできる。
【００４８】
一方、第２電極パターン２２０の交差領域２２０ａが、このように金属のメッシュパターンに形成されることにより、第１電極パターン２１０と第２電極パターン２２０との間に発生する静電容量は、過度に大きく形成されない。これにより、本実施例によるタッチパネル１は、絶縁層３００の厚さを最小化しながらも、十分なタッチ強度を確保することができるが、このような利点については、下記の表１を参照して、より詳細に説明する。
【００４９】
【表１】
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【００５０】
＜上下電極間のギャップ（Ｇａｐ）に応じた静電容量（Ｃ）及びタッチ強度（△Ｃ）の実験データ＞
【００５１】
上記の表１は、本実施例の絶縁層３００などのような部材の両面に第１電極と第２電極が形成された構造を含むタッチパネルにおいて、絶縁層３００のような部材の厚さ、即ち、上下に向い合う第１電極と第２電極との間のギャップ（Ｇａｐ）の変化に応じた、上下に向い合う第１電極と第２電極との間の静電容量（Ｃ）及びタッチ強度（△Ｃ）の変化を確認した実験結果である。
【００５２】
ここで、タッチ強度（△Ｃ）は、ユーザやその他の入力手段によるタッチ（ｔｏｕｃｈ）前後に発生する、第１電極と第２電極との間の静電容量の変化量をパーセント（％）単位に換算して示したものであり、通常、１０％以上である場合に、良好なタッチ感度またはタッチ強度が確保されると言える。
【００５３】
まず、上記の表１に示した「ＩＴＯ面電極」の実験結果を参照すると、本実験結果は、第１電極と第２電極の両方がインジウム−スズ酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｈｉｎ  Ｏｘｉｄｅ、ＩＴＯ）からなる面電極の構造を有するタッチパネルの実験結果であり、実験データから分かるように、電極の間のギャップが１００μｍ以上である場合に、１０％以上のタッチ強度（△Ｃ）が得られることを確認することができる。即ち、上下電極のギャップを形成させる本実施例の絶縁層３００のような部材が１００μｍ以上の厚さに形成される場合に、所望のタッチ感度が得られる。
【００５４】
次に、上記の表１に示した「金属メッシュ電極」の実験結果を参照すると、本実験結果は、第１電極と第２電極の両方が金属のメッシュタイプの電極で形成されるタッチパネルの実験結果であり、実験データから分かるように、電極の間のギャップが３０μｍ以上である場合に、既に１０％以上のタッチ強度が確保されることが分かる。即ち、上下電極のギャップを形成させる本実施例の絶縁層３００のような部材が薄型に製作されても、所望のタッチ感度が得られるのである。
【００５５】
本実験結果によると、同じギャップ状態で、「ＩＴＯ面電極」の場合と「金属メッシュ電極」の場合とのタッチ前後の静電容量の変化量の絶対値を比較すると、その絶対値の差が大きくなくても、「ＩＴＯ面電極」の場合が「金属メッシュ電極」の場合に比べタッチ前状態の静電容量値が大きく発生する。従って、同じギャップで、「ＩＴＯ面電極」の場合が「金属メッシュ電極」の場合よりタッチ強度値が非常に低く形成されるということが分かる。
【００５６】
本実施例によるタッチパネル１は、上記したように、第１電極パターン２１０が金属のメッシュパターンに形成され、第２電極パターン２２０の交差領域２２０ａが同様に金属のメッシュパターンに形成されるため、上記の実験例で上下電極が「金属メッシュ電極」に形成される場合に該当する。従って、本実施例によるタッチパネル１は、上下電極がＩＴＯ面電極で形成されるタッチパネル構造と比較して、絶縁層３００の厚さを非常に薄く製作しても所望のタッチ感度が得られるため、タッチパネル構造の薄型化を実現することができる利点を提供する。
【００５７】
一方、第２電極パターン２２０の全体領域のうち上述の交差領域を除く領域２２０ｂは、図１及び図２Ａに図示されたように、面状に形成される。この領域２２０ｂで面状に形成される第２電極パターン２２０は、伝導性高分子または金属酸化物からなることができる。ここで、伝導性高分子は、柔軟性に優れており、コーティング工程が単純である。この際、伝導性高分子は、ポリ−３，４−エチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルホネート（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）、ポリアニリン、ポリアセチレンまたはポリフェニレンビニレンを含んでなることができる。また、金属酸化物は、インジウム−スズ酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｈｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）からなることができる。
【００５８】
尚、この領域２２０ｂで面状に形成される第２電極パターン２２０は、乾式工程、湿式工程またはダイレクト（ｄｉｒｅｃｔ）パターニング工程により形成することができる。ここで、乾式工程は、スパッタリング（Ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ）、蒸着（Ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ）などを意味し、湿式工程は、ディップコーティング（Ｄｉｐ  ｃｏａｔｉｎｇ）、スピンコーティング（Ｓｐｉｎ  ｃｏａｔｉｎｇ）、ロールコーティング（Ｒｏｌｌ  ｃｏａｔｉｎｇ）、スプレーコーティング（Ｓｐｒａｙ  ｃｏａｔｉｎｇ）などを意味し、ダイレクトパターニング工程は、スクリーン印刷法（Ｓｃｒｅｅｎ  Ｐｒｉｎｔｉｎｇ）、グラビア印刷法（Ｇｒａｖｕｒｅ  Ｐｒｉｎｔｉｎｇ）、インクジェット印刷法（Ｉｎｋｊｅｔ  Ｐｒｉｎｔｉｎｇ）などを意味する。
【００５９】
一方、電極パターンは、メッシュパターンに形成されて、面抵抗を低めることができる。しかし、このようなメッシュパターンの間には、開口部が存在するため、画像表示装置４００から発生するノイズを遮断することが困難となる可能性がある。しかし、第２電極パターン２２０の全体領域のうち、上述の交差領域を除く領域２２０ｂは、面状に形成されるため、画像表示装置４００から発生するノイズを効果的に遮断することができ、これにより、ＥＭＩ（Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｍａｇｎｅｔｉｃ  Ｉｎｔｅｒｆｅｒｅｎｃｅ）が発生することを防止することができる。
【００６０】
第１電極パターン２１０及び第２電極パターン２２０は、図面では棒形パターンに形成されているが、これに限定されるものではない。第１電極パターン２１０及び第２電極パターン２２０は、菱形パターン、四角形パターン、三角形パターン、円形パターンなど、当業界に公知された全てのパターンに形成することができる。
【００６１】
本実施例によるタッチパネル１は、画像表示装置４００をさらに含むことができる。画像表示装置４００は、画像を出力する役割を遂行する。画像表示装置４００は、絶縁層３００の露出面方向に備えられる。画像表示装置４００は、液晶表示装置（ＬＣＤ、Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｄｅｖｉｃｅ）、ＰＤＰ（Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ）、ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）またはＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄ  Ｒａｙ  Ｔｕｂｅ）などを含む。
【００６２】
また、画像表示装置４００は、絶縁層３００の露出面に光学透明接着剤（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｃｌｅａｒ  Ａｄｈｅｓｉｖｅ、ＯＣＡ）４１０などの接着手段により接着することができる。一方、画像表示装置４００からノイズが発生する恐れがあるが、上述したように、交差領域を除く領域２２０ｂで面状に形成される第２電極パターン２２０によってノイズが効果的に遮断されるため、本実施例によるタッチパネル１は、ＥＭＩ（Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｍａｇｎｅｔｉｃ  Ｉｎｔｅｒｆｅｒｅｎｃｅ）の発生を防止することができる。
【００６３】
さらに、第１電極パターン２１０の端部には、第１電極パターン２１０からの電気的信号を受信する第１電極配線２１１を形成することができる。また、第２電極パターン２２０の端部には、第２電極パターン２２０からの電気的信号を受信する第２電極配線２２１を形成することができる。この際、第１電極配線２１１は、第１電極パターン２１０と一体に形成し、第２電極配線２２１は、第２電極パターン２２０と一体に形成することにより、製造工程を簡素化してリードタイム（Ｌｅａｄ  Ｔｉｍｅ）を短縮することができる。
【００６４】
図３は、本発明の好ましい第２実施例によるタッチパネルの分解斜視図であり、図４Ａは、図３に図示されたＣ−Ｃ´断面図であり、図４Ｂは、図３に図示されたＤ−Ｄ´断面図である。
【００６５】
図３、図４Ａ及び図４Ｂに図示されたように、本実施例によるタッチパネル２は、透明基板１００と、前記透明基板１００の一面にメッシュパターンに形成される第１電極パターン２１０と、前記透明基板１００の他面に形成されており、前記第１電極パターン２１０と向い合う交差領域２２０ａはメッシュパターンに形成され、前記交差領域を除く領域２２０ｂは面状に形成される第２電極パターン２２０と、を含む。
【００６６】
本実施例によるタッチパネル２は、上述の第１実施例によるタッチパネル１と比較して、第２電極パターン２２０を透明基板１００の他面に形成する点が異なる。従って、以下では、第１実施例についての説明と重複される内容は省略し、第１実施例と異なる部分を中心に説明する。
【００６７】
透明基板１００は、第１、第２電極パターン２１０、２２０が形成される領域を提供する。この際、透明基板１００の一面及び他面は、高周波処理またはプライマー（ｐｒｉｍｅｒ）処理されることにより活性化させることができる。
【００６８】
第１電極パターン２１０は、透明基板１００の一面にメッシュパターンに形成され、第２電極パターン２２０は、透明基板１００の他面に形成される。この際、第２電極パターン２２０の全体領域のうち、透明基板１００を介して上下方向に第１電極パターン２１０と向い合う交差領域２２０ａは、図３及び図４Ｂに図示されたように、メッシュパターンに形成される。また、第２電極パターン２２０の全体領域のうち、上述の交差領域を除く領域２２０ｂは、図３及び図４Ａに図示されたように、面状に形成される。第１、第２電極パターン２１０、２２０の具体的な機能、素材及び形成方法についての説明は、第１実施例の第１、第２電極パターン２１０、２２０についての説明に代替する。
【００６９】
本実施例のタッチパネル２は、第１実施例のタッチパネル１と同様に、第２電極パターン２２０の交差領域２２０ａが第１電極パターン２１０のような金属のメッシュパターンからなることができる。この場合、本実施例によるタッチパネル２は、上述の実験データを用いて説明したように、透明基板１００の厚さを薄く製作することができる利点を提供する。
【００７０】
また、本実施例のタッチパネル２は、第１実施例と同様に、画像表示装置４００をさらに含むことができる。画像表示装置４００は、透明基板１００の他面方向に備えられる。画像表示装置４００は、透明基板１００の他面に光学透明接着剤４１０により接着することができる。また、本実施例のタッチパネル２は、第１実施例と同様に、面状に形成される第２電極パターン２２０によって、画像表示装置４００から発生するノイズを効果的に遮断することができる。
【００７１】
本実施例における第１電極パターン２１０及び第２電極パターン２２０は、図面では棒形パターンに形成されているが、これに限定されない。第１電極パターン２１０及び第２電極パターン２２０は、第１実施例と同様に、菱形パターン、四角形パターン、三角形パターン、円形パターンなど、当業界に公知された全てのパターンに形成することができる。また、本実施例は、第１実施例と同様に、第１電極パターン２１０の端部には第１電極配線２１１を、第２電極パターン２２０の端部には第２電極配線２２１を形成することができる。
【００７２】
図５は、本発明の好ましい第３実施例によるタッチパネルの分解斜視図である、図６Ａは、図５に図示されたＥ−Ｅ´断面図であり、図６Ｂは、図５に図示されたＦ−Ｆ´断面図である。
【００７３】
図５、図６Ａ及び図６Ｂに図示されたように、本実施例によるタッチパネル３は、第１透明基板１１０と、前記第１透明基板１１０の一面にメッシュパターンに形成される第１電極パターン２１０と、第２透明基板１２０と、前記第２透明基板１２０の一面に形成されており、前記第１電極パターン２１０と向い合う交差領域２２０ａはメッシュパターンに形成され、前記交差領域を除く領域２２０ｂは面状に形成される第２電極パターン２２０と、前記第１透明基板１１０の一面と前記第２透明基板１２０の一面とを接着させる接着層１３０と、を含む。
【００７４】
本実施例によるタッチパネル３は、上述の第１実施例によるタッチパネル１と比較して、第１電極パターン２１０が第１透明基板１１０の一面に形成され、第２電極パターン２２０が第２透明基板１２０の一面に形成されて、第１透明基板１１０と第２透明基板１２０とが接着層１３０によって互いに付着される点が異なる。従って、以下では、第１実施例についての説明と重複される内容は省略し、第１実施例と異なる部分を中心に説明する。
【００７５】
第１、第２透明基板１１０、１２０は、第１、第２電極パターン２１０、２２０が形成される領域を提供する役割を遂行する。この際、第１、第２透明基板１１０、１２０の一面は、それぞれ高周波処理またはプライマー（ｐｒｉｍｅｒ）処理されることにより活性化させることができる。第１、第２透明基板１１０、１２０の具体的な素材についての説明は、第１実施例の透明基板１００についての説明に代替する。但し、この際、第１透明基板１１０は、タッチパネルの最外側に備えられたウィンドウであることが好ましい。この場合、第１電極パターン２１０は、ウィンドウに直接形成されるため、タッチパネルの製造工程において、別の透明基板に第１電極パターンを形成した後、ウィンドウに付着する工程を省略することができる。また、タッチパネルの全体的な厚さを減少することができる。
【００７６】
第１電極パターン２１０は、第１透明基板１１０の一面にメッシュパターンに形成され、第２電極パターン２２０は、第２透明基板１２０の一面に形成される。この際、第２電極パターン２２０の全体領域のうち、接着層１３０を介して上下方向に第１電極パターン２１０と向い合う交差領域２２０ａは、図５及び図６Ｂに図示されたように、メッシュパターンに形成される。また、第２電極パターン２２０の全体領域のうち、上述の交差領域を除く領域２２０ｂは、図５及び図６Ａに図示されたように、面状に形成される。第１、第２電極パターン２１０、２２０の具体的な機能、素材及び形成方法についての説明は、第１実施例の第１、第２電極パターン２１０、２２０についての説明に代替する。
【００７７】
接着層１３０は、第１透明基板１１０の一面と第２透明基板１２０の一面とを接着させる機能を遂行する。接着層１３０は、特に制限されるものではないが、光学透明接着剤を用いることができる。
【００７８】
また、本実施例のタッチパネル３は、上述の第１実施例及び第２実施例と同様に、第２電極パターン２２０の交差領域２２０ａが第１電極パターン２１０のような金属のメッシュパターンからなることができ、この場合、接着層１３０の厚さを薄く製作することができる利点を提供する。
【００７９】
また、本実施例のタッチパネル３は、第１実施例と同様に、画像表示装置４００をさらに含むことができる。画像表示装置４００は、第２透明基板１２０の他面方向に備えられる。画像表示装置４００は、透明基板１００の他面に光学透明接着剤４１０により接着することができる。また、本実施例によるタッチパネル３は、第１実施例と同様に、面状に形成される第２電極パターン２２０によって、画像表示装置４００から発生するノイズを効果的に遮断することができる。
【００８０】
本実施例における第１電極パターン２１０及び第２電極パターン２２０は、図面では棒形パターンに形成されているが、これに限定されない。第１電極パターン２１０及び第２電極パターン２２０は、第１実施例と同様に、菱形パターン、四角形パターン、三角形パターン、円形パターンなど、当業界に公知された全てのパターンに形成することができる。また、本実施例は、第１実施例と同様に、第１電極パターン２１０の端部には第１電極配線２１１を、第２電極パターン２２０の端部には第２電極配線２２１を形成することができる。
【００８１】
以上、本発明を具体的な実施例に基づいて詳細に説明したが、これは本発明を具体的に説明するためのものであり、本発明はこれに限定されず、該当分野における通常の知識を有する者であれば、本発明の技術的思想内にての変形や改良が可能であることは明白であろう。
【００８２】
本発明の単純な変形乃至変更はいずれも本発明の領域に属するものであり、本発明の具体的な保護範囲は添付の特許請求の範囲により明確になるであろう。
【産業上の利用可能性】
【００８３】
本発明は、絶縁層の厚さを薄く製作しても、所望のタッチ感度を確保することができ、画像表示装置から発生するノイズを効果的に遮断することができるタッチパネルに適用可能である。
【符号の説明】
【００８４】
１、２、３  タッチパネル
１００  透明基板
１１０  第１透明基板
１２０  第２透明基板
１３０  接着層
２１０  第１電極パターン
２１１  第１電極配線
２２０  第２電極パターン
２２０ａ  交差領域
２２０ｂ  交差領域を除く領域
２２１  第２電極配線
３００  絶縁層
４００  画像表示装置
４１０  光学透明接着剤
【図１】
2013228986.tif 000004
【図２Ａ】
2013228986.tif 000005
【図２Ｂ】
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【図３】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図５】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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