(57)【要約】【課題】複数枚の基板に対して一括してブラシ洗浄を行うことにより、１ロットの基板に対するブラシ洗浄を短時間で行うことができる。【解決手段】２本の保持部材３５を「受け渡し位置」に上昇させて複数枚の基板Ｗを受け取って「処理位置」に下降させ、処理液を複数枚の基板Ｗに供給させつつ、２本のブラシワイパー５１を揺動させることによりブラシ洗浄処理を行わせる。２本の保持部材３５を「処理位置」に移動させるとともに純水を含む処理液を供給させつつ２本の保持部材３５を昇降させることにより基板Ｗの洗浄処理を行わせる。２本の保持部材３５を「受け渡し位置」に移動させて複数枚の基板Ｗを搬出させる搬出処理とを行わせる。これにより、複数枚の基板Ｗに対して一括して複数本のブラシワイパー５１によるブラシ洗浄を行うことができ、１ロットの基板Ｗに対するブラシ洗浄を短時間で行うことができる。【選択図】図２
2013197476.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数枚の基板に対して一括してブラシ洗浄を行うバッチ式基板ブラシ洗浄装置において、
水平軸周りに回転可能な回転ベースと、
前記回転ベースの一面から水平方向に延出されており、前記回転ベースにおける外周側の搬入出位置と、前記回転ベースにおける中心側の把持位置とにわたって移動可能に構成されているとともに、複数枚の基板の端縁を把持する複数本の端縁把持部材と、
前記回転ベースに対向して配置された昇降ベースと、
前記昇降ベースの一面から前記回転ベースに向かって水平方向に延出されており、前記回転ベースよりも上方にあたる受け渡し位置と、載置された複数枚の基板の中心が前記回転ベースの回転中心にあたる処理位置と、前記回転ベースよりも下方にあたる待避位置とにわたって昇降可能に構成されているとともに、複数枚の基板の端縁を保持する複数本の保持部材と、
前記複数本の端縁把持部材または前記複数本の保持部材に向けて、薬液または純水を含む処理液を供給する処理液供給手段と、
前記回転ベースの側部に立設された支柱と、
前記支柱から前記端縁把持部材に沿って延出され、前記支柱に沿って昇降可能に構成された昇降アームと、
前記昇降アームから各基板の面に沿って延出して配置され、各基板の面に作用して洗浄処理を行う複数本の洗浄部材と、
前記昇降アームの昇降に応じて、前記複数本の端縁把持部材及び前記複数本の保持部材との干渉を回避しつつ、前記各洗浄部材を基板面に沿って揺動させる揺動駆動手段と、
前記複数本の端縁把持部材を搬入出位置に移動させた状態で、前記複数本の保持部材を受け渡し位置に上昇させて複数枚の基板を受け取り、前記複数本の保持部材を複数枚の基板とともに処理位置に下降させ、前記処理液供給手段から薬液を含む処理液を複数枚の基板に供給させつつ、前記揺動駆動手段を作動させて前記複数本の洗浄部材を揺動させることにより基板面のブラシ洗浄処理を行わせ、前記複数本の端縁把持部材を把持位置に移動させるとともに前記複数本の保持部材を待避位置に下降させる持ち替えを行わせ、前記複数本の洗浄部材を前記複数本の端縁把持部材の外部に待避させ、前記複数本の保持部材を処理位置に移動させるとともに前記複数本の端縁把持部材を搬入出位置に移動させ、前記処理液供給手段から純水を含む処理液を供給させつつ前記複数本の保持部材を昇降させることにより基板の洗浄処理を行わせ、前記処理液供給手段から純水を含む処理液の供給を停止させた後、前記複数本の保持部材を複数枚の基板とともに受け渡し位置に移動させて複数枚の基板を搬出させる搬出処理とを行わせる制御手段と、
を備えていることを特徴とするバッチ式基板ブラシ洗浄装置。
【請求項２】
請求項１に記載のバッチ式基板ブラシ洗浄装置において、
前記制御手段は、前記持ち替えの後も、前記基板面のブラシ洗浄処理を継続させることを特徴とするバッチ式基板ブラシ洗浄装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載のバッチ式基板ブラシ洗浄装置において、
前記制御手段は、前記ブラシ洗浄処理の後に、前記複数本の端縁把持部材を把持位置に移動させるとともに、複数本の基板の端縁を緩く把持させ、前記処理液供給手段から純水を含む処理液を供給させつつ、複数枚の基板を前記複数枚の保持部材に保持させたまま前記回転ベースを回転させて、前記複数本の端縁把持部材により複数枚の基板の端縁を洗浄する端縁洗浄処理を行わせることを特徴とするバッチ式基板ブラシ洗浄装置。
【請求項４】
請求項３に記載のバッチ式基板ブラシ洗浄装置において、
前記制御手段は、前記端縁洗浄処理の後、前記複数本の端縁把持部材で複数枚の基板の端縁を強く把持させ、前記回転ベースを回転させて、前記複数本の保持部材により複数枚の基板の端縁を洗浄する後続端縁洗浄処理を行わせることを特徴とするバッチ式基板ブラシ洗浄装置。
【請求項５】
請求項１から４のいずれかに記載バッチ式基板ブラシ洗浄装置において、
前記制御手段は、前記搬出処理の後に、前記複数本の保持部材を処理位置に移動させるとともに、前記処理液供給手段から純水を含む処理液を供給させ、前記複数本の端縁把持部材を前記回転ベースとともに回転させ、前記昇降ベースの昇降を繰り返させ、前記揺動駆動手段を作動させて前記複数本の洗浄部材を揺動させ、前記複数本の保持部材と、前記複数本の端縁把持部材と、前記複数本の洗浄部材とを洗浄させる部材洗浄処理を行わせることを特徴とするバッチ式基板ブラシ洗浄装置。
【請求項６】
請求項１から５のいずれかに記載のバッチ式基板ブラシ洗浄装置において、
前記複数本の保持部材は、複数枚の基板の裏面同士を対向された状態で複数枚の基板を載置され、
前記複数本の洗浄部材は、前記複数枚の基板の対向する裏面間に各々配置されていることを特徴とするバッチ式基板ブラシ洗浄装置。
【請求項７】
請求項１から６のいずれかに記載のバッチ式基板ブラシ洗浄装置と、
前記バッチ式基板ブラシ洗浄装置で処理された複数枚の基板を収容する処理槽と、前記処理槽の上方にあたる受け渡し位置と、前記処理槽の内部にあたる処理位置とにわたって昇降可能なリフタと、前記処理槽に洗浄液を供給する洗浄液供給手段とを備えた洗浄装置とを備え、
前記バッチ式基板ブラシ洗浄装置によるブラシ洗浄処理の後、前記洗浄装置により複数枚の基板の洗浄を行うことを特徴とする基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウエハ、液晶ディスプレイ用基板、プラズマディスプレイ用基板、有機ＥＬ用基板、ＦＥＤ(Field Emission Display)用基板、光ディスプレイ用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、太陽電池用基板（以下、単に基板と称する）に対して、ブラシを基板面に作用させて基板を洗浄するバッチ式基板ブラシ洗浄装置及び基板処理装置に係り、特に、複数枚の基板を一括して処理する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種の装置として、チャックと、チャック用回転モータと、カップと、基板洗浄用ブラシと、ブラシ用回転モータと、アーム部材と、アーム用回転モータとを備えた枚葉式基板ブラシ洗浄装置がある（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
チャックは、チャック用回転モータにより水平面内で回転可能に構成されている。カップは、チャックの周囲を囲って配置されている。基板洗浄用ブラシは、チャック側に糸状部材を向けた姿勢でブラシ用回転モータに取り付けられ、ブラシ用回転モータは、アーム部材の先端側に取り付けられている。アーム部材は、その基端部にアーム回転用モータが取り付けられており、アーム部材の先端部が基板の面方向に揺動可能に旺盛されている。
【０００４】
このように構成された装置では、一枚の基板をチャックに載置した後、チャック用回転モータを駆動して基板を水平面内で回転させる。そして、ブラシ用回転モータを駆動して基板洗浄用ブラシを自転させながら、アーム用回転モータを駆動して基板洗浄用ブラシを基板の上面に沿って揺動させる。これを所定時間だけ行うことにより、一枚の基板の上面全体に対するブラシ洗浄を完了し、新たな一枚の基板と入れ替えて順次に基板に対してブラシ洗浄を行うようになっている。その後、ブラシ洗浄を終えた基板をまとめて、バッチ式洗浄装置に搬送し、複数枚の基板に対して一括して洗浄液による浸漬洗浄を行う。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１１−２１１２４６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。
すなわち、従来の装置は、基板を一枚ずつ処理する枚葉式はパーティクル除去能力が非常に高いものの、一枚ずつ基板を入れ替えつつ洗浄処理を行うので、１ロットの基板を処理するのに長時間を要するという問題がある。
【０００７】
なお、枚葉処理を行うことなく、洗浄槽に複数枚の基板を浸漬させるバッチ式洗浄装置で１ロットの基板を一括して処理することも考えられるが、バッチ槽内において基板の裏面から離脱したパーティクルがその表面や他の基板に付着する相互汚染が生じる恐れがあり現実的ではない。
【０００８】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、複数枚の基板に対して一括してブラシ洗浄を行うことにより、１ロットの基板に対するブラシ洗浄を短時間で行うことができるバッチ式基板ブラシ洗浄装置及び基板処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、請求項１に記載の発明は、複数枚の基板に対して一括してブラシ洗浄を行うバッチ式基板ブラシ洗浄装置において、水平軸周りに回転可能な回転ベースと、前記回転ベースの一面から水平方向に延出されており、前記回転ベースにおける外周側の搬入出位置と、前記回転ベースにおける中心側の把持位置とにわたって移動可能に構成されているとともに、複数枚の基板の端縁を把持する複数本の端縁把持部材と、前記回転ベースに対向して配置された昇降ベースと、前記昇降ベースの一面から前記回転ベースに向かって水平方向に延出されており、前記回転ベースよりも上方にあたる受け渡し位置と、載置された複数枚の基板の中心が前記回転ベースの回転中心にあたる処理位置と、前記回転ベースよりも下方にあたる待避位置とにわたって昇降可能に構成されているとともに、複数枚の基板の端縁を保持する複数本の保持部材と、前記複数本の端縁把持部材または前記複数本の保持部材に向けて、薬液または純水を含む処理液を供給する処理液供給手段と、前記回転ベースの側部に立設された支柱と、前記支柱から前記端縁把持部材に沿って延出され、前記支柱に沿って昇降可能に構成された昇降アームと、前記昇降アームから各基板の面に沿って延出して配置され、各基板の面に作用して洗浄処理を行う複数本の洗浄部材と、前記昇降アームの昇降に応じて、前記複数本の端縁把持部材及び前記複数本の保持部材との干渉を回避しつつ、前記各洗浄部材を基板面に沿って揺動させる揺動駆動手段と、前記複数本の端縁把持部材を搬入出位置に移動させた状態で、前記複数本の保持部材を受け渡し位置に上昇させて複数枚の基板を受け取り、前記複数本の保持部材を複数枚の基板とともに処理位置に下降させ、前記処理液供給手段から薬液を含む処理液を複数枚の基板に供給させつつ、前記揺動駆動手段を作動させて前記複数本の洗浄部材を揺動させることにより基板面のブラシ洗浄処理を行わせ、前記複数本の端縁把持部材を把持位置に移動させるとともに前記複数本の保持部材を待避位置に下降させる持ち替えを行わせ、前記複数本の洗浄部材を前記複数本の端縁把持部材の外部に待避させ、前記複数本の保持部材を処理位置に移動させるとともに前記複数本の端縁把持部材を搬入出位置に移動させ、前記処理液供給手段から純水を含む処理液を供給させつつ前記複数本の保持部材を昇降させることにより基板の洗浄処理を行わせ、前記処理液供給手段から純水を含む処理液の供給を停止させた後、前記複数本の保持部材を複数枚の基板とともに受け渡し位置に移動させて複数枚の基板を搬出させる搬出処理とを行わせる制御手段と、備えていることを特徴とするものである。
【００１０】
［作用・効果］請求項１に記載の発明によれば、制御手段は、複数本の保持部材を受け渡し位置に上昇させて複数枚の基板を受け取って処理位置に下降させ、薬液を含む処理液を複数枚の基板に供給させつつ、複数本の洗浄部材を揺動させることにより基板面のブラシ洗浄処理を行わせる。そして、複数本の保持部材から複数本の端縁把持部材への持ち替えを行わせ、複数本の洗浄部材を複数本の端縁把持部材の外部に待避させ、複数本の保持部材を処理位置に移動させるとともに純水を含む処理液を供給させつつ複数本の保持部材を昇降させることにより基板の洗浄処理を行わせる。さらに、純水を含む処理液の供給を停止させた後、複数本の保持部材を受け渡し位置に移動させて複数枚の基板を搬出させる搬出処理とを行わせる。これにより、複数枚の基板に対して一括して複数本の洗浄部材によるブラシ洗浄を行うことができ、１ロットの基板に対するブラシ洗浄を短時間で行うことができる。
【００１１】
なお、本発明における「洗浄部材」とは、糸状部材、スポンジ、樹脂性からなる棒状部材も含むものである。
【００１２】
また、本発明において、前記制御手段は、前記持ち替えの後も、前記基板面のブラシ洗浄処理を継続させることが好ましい（請求項２）。
【００１３】
複数本の保持部材から複数本の端縁保持部材に持ち替え後も、制御手段が基板面のブラシ洗浄処理を継続させるので、複数本の保持部材が保持していた基板面が洗浄不足になることを回避できる。
【００１４】
また、本発明において、前記制御手段は、前記ブラシ洗浄処理の後に、前記複数本の端縁把持部材を把持位置に移動させ、前記処理液供給手段から純水を含む処理液を供給させつつ、複数枚の基板を前記複数枚の保持部材に保持させたまま前記回転ベースを回転させて、前記複数本の端縁把持部材により複数枚の基板の端縁を洗浄する端縁洗浄処理を行わせることが好ましい（請求項３）。
【００１５】
洗浄処理の後、制御手段が複数本の端縁把持部材により複数枚の基板の端縁を洗浄する端縁洗浄処理を行わせるので、基板面の洗浄だけでなく、基板の端縁も洗浄できる。したがって、別体の装置で端縁を洗浄する必要がなく効率的にブラシ洗浄ができる。
【００１６】
また、本発明において、前記制御手段は、前記端縁洗浄処理の後、前記複数本の端縁把持部材で複数枚の基板の端縁を強く把持させ、前記回転ベースを回転させて、前記複数本の保持部材により複数枚の基板の端縁を洗浄する後続端縁洗浄処理を行わせることが好ましい（請求項４）。
【００１７】
複数本の保持部材で保持されていた複数枚の基板の端縁を後続端縁洗浄処理で処理することができる。したがって、端縁洗浄処理では洗浄できなかった複数枚の基板の全周にわたって端縁を洗浄できる。
【００１８】
また、本発明において、前記制御手段は、前記搬出処理の後に、前記複数本の保持部材を処理位置に移動させるとともに、前記処理液供給手段から純水を含む処理液を供給させ、前記複数本の端縁把持部材を前記回転ベースとともに回転させ、前記昇降ベースの昇降を繰り返させ、前記揺動駆動手段を作動させて前記複数本の洗浄部材を揺動させ、前記複数本の保持部材と、前記複数本の端縁把持部材と、前記複数本の洗浄部材とを洗浄させる部材洗浄処理を行わせることが好ましい（請求項５）。
【００１９】
搬出処理の後、制御手段は、複数本の保持部材と、複数本の端縁把持部材と、複数本の洗浄部材とを洗浄させる部材洗浄処理を行わせるので、次のロットの複数枚の基板がこれらの部材で汚染されるのを防止できる。
【００２０】
また、本発明において、前記複数本の保持部材は、複数枚の基板の裏面同士を対向された状態で複数枚の基板を載置され、記複数本の洗浄部材は、前記複数枚の基板の対向する裏面間に各々配置されていることが好ましい（請求項６）。
【００２１】
複数本の保持部材は、複数枚の基板の裏面同士を対向された状態で複数枚の基板を載置されているので、複数本の洗浄部材は、複数枚の基板の枚数の半分でよい。したがって、装置コストを抑制できる。
【００２２】
また、本発明において、上記いずれかに記載のバッチ式基板ブラシ洗浄装置と、前記バッチ式基板ブラシ洗浄装置で処理された複数枚の基板を収容する処理槽と、前記処理槽の上方にあたる受け渡し位置と、前記処理槽の内部にあたる処理位置とにわたって昇降可能なリフタと、前記処理槽に洗浄液を供給する洗浄液供給手段とを備えた洗浄装置とを備え、前記バッチ式基板ブラシ洗浄装置によるブラシ洗浄処理の後、前記洗浄装置により複数枚の基板の洗浄を行うことが好ましい（請求項７）。
【００２３】
バッチ式基板ブラシ洗浄装置と、処理槽で一括洗浄が可能な洗浄装置とを基板処理装置が備えているので、バッチ式基板ブラシ洗浄装置で洗浄しきれなかった部分を洗浄装置で洗浄することができる。したがって、複数枚の基板を清浄度高くしかも短時間で洗浄できる。
【発明の効果】
【００２４】
本発明に係るバッチ式基板ブラシ洗浄装置によれば、制御手段は、複数本の保持部材を受け渡し位置に上昇させて複数枚の基板を受け取って処理位置に下降させ、薬液を含む処理液を複数枚の基板に供給させつつ、複数本の洗浄部材を揺動させることにより基板面のブラシ洗浄処理を行わせる。そして、複数本の保持部材から複数本の端縁把持部材への持ち替えを行わせ、複数本の洗浄部材を複数本の端縁把持部材の外部に待避させ、複数本の保持部材を処理位置に移動させるとともに純水を含む処理液を供給させつつ複数本の保持部材を昇降させることにより基板の洗浄処理を行わせる。さらに、純水を含む処理液の供給を停止させた後、複数本の保持部材を受け渡し位置に移動させて複数枚の基板を搬出させる搬出処理とを行わせる。これにより、複数枚の基板に対して一括して複数本の洗浄部材によるブラシ洗浄を行うことができ、１ロットの基板に対するブラシ洗浄を短時間で行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】実施例1に係るバッチ式基板ブラシ洗浄装置の概略構成を示す平面図である。
【図２】実施例１に係るバッチ式基板ブラシ洗浄装置の正面図である。
【図３】回転ベース及びブラシワイパー駆動機構の概略構成を示す図である。
【図４】昇降ベースの背面図である。
【図５】保持部材が処理位置にある際のブラシワイパーの動作説明図である。
【図６】端縁把持部材が把持位置にある際のブラシワイパーの動作説明図である。
【図７】制御系を示すブロック図である。
【図８】（ａ）〜（ｄ）は処理を示す模式図である。
【図９】（ａ）〜（ｄ）は処理を示す模式図である。
【図１０】（ａ）〜（ｄ）は処理を示す模式図である。
【図１１】（ａ）〜（ｄ）は処理を示す模式図である。
【図１２】実施例２に係る基板処理装置の概略構成を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
本発明についてバッチ式基板ブラシ洗浄装置及び基板処理装置について説明する。
【実施例１】
【００２７】
以下、図面を参照して本発明の実施例１について説明する。
図１は、実施例1に係るバッチ式基板ブラシ洗浄装置の概略構成を示す平面図であり、図２は、実施例１に係るバッチ式基板ブラシ洗浄装置の正面図である。また、図３は、回転ベース及びブラシワイパー駆動機構の概略構成を示す図であり、図４は、昇降ベースの背面図である。
【００２８】
バッチ式基板ブラシ洗浄装置１は、複数枚の基板Ｗに対して一括してブラシ洗浄を行うものである。なお、本発明におけるブラシとは、モヘアや糸状部材、スポンジの他、フッ素樹脂などの合成樹脂からなる部材も含む。
【００２９】
本実施例に係るバッチ式基板ブラシ洗浄装置１は、チャンバ３と、回転ベース５と、昇降ベース７と、ブラシワイパー駆動機構９と、ノズル１１とを備えている。チャンバ３は、装置の雰囲気を外部と遮断するものであり、上部に開口部１３を備え、この開口部１３には開閉自在のカバー１５が設けられている。開口部１３は、処理対象である複数枚の基板Ｗを搬入出するためのものである。
【００３０】
回転ベース５は、チャンバ３の奥側（図１の上側）に配置されている。回転ベース５は、回転モータ１７が背後に配置されており、回転ベース５が水平軸周りに回転可能に構成されている。回転ベース５は、３個のアクチュエータ１９と、３本の端縁把持部材２１とを設けられている。各アクチュエータ１９は、進退自在の作動片の進退方向が、回転ベース５の中心部から外周側に向けられて設けられている。各アクチュエータ１９は、下向きの三角形における各頂点に相当する位置に配置されている。また、各端縁把持部材２１は基端部が各アクチュエータ１９の作動片に取り付けられ、その先端部が昇降ベース７に向かって水平方向に延出されている。各端縁把持部材２１は、各基板Ｗの端縁が収まる複数個の溝（不図示）が形成されている。これらの端縁把持部材２１は、例えば、フッ素樹脂製の板状部材で構成されている。
【００３１】
３本の端縁把持部材２１は、回転ベース５とともに水平軸周りに回転可能であるとともに、各アクチュエータ１９により回転ベース５の中心部側に相当する「把持位置」と、回転ベース５の外周側であって、基板Ｗの端縁より外側に相当する「搬入出位置」とにわたって移動される。なお、「把持位置」は、複数枚の基板Ｗの端縁を強く把持して、複数枚の基板Ｗの端縁に当接する部材があったとしても、複数枚の基板Ｗを把持したままにできる「強把持位置」と、複数枚の基板Ｗの端縁を緩く把持して、基板Ｗの端縁に当接する部材がある場合には、複数枚の基板Ｗが３本の端縁把持部材２１に対して空回りする「弱把持位置」とに切り替え可能である。その切り換えは、アクチュエータ１９の動作によって行われる。
【００３２】
昇降ベース７は、回転ベース５と離間して、回転ベース５に対向する位置に設けられている。昇降ベース７は、図４に示すように、中央部を挟んで両側に保持部材昇降機構２３が設けられている。保持部材昇降機構２３は、リニアガイド２５と、昇降モータ２７と、ボールネジ２９と、昇降部材３１とを備えている。リニアガイド２５は、チャンバ３の底部から天井面に向かって立設されている。リニアガイド２５には、摺動自在に昇降片３３が取り付けられている。昇降モータ２７は、リニアガイド２５に隣接して配置され、その回転軸が上方に向けて設けられている。昇降モータ２７の回転軸には、ボールネジ２９が取り付けられている。昇降部材３１は、ボールネジ２９に螺合されているとともに昇降片３３に対して連結されている。
【００３３】
各昇降片３３には、保持部材３５の一端側が取り付けられている。保持部材３５の他端側は、回転ベース５側に向かって水平方向に延出されている。２本の保持部材３５は、保持部材昇降機構２３により、回転ベース５の上方であって、開口部１３の下方に相当する「受け渡し位置」と、２本の保持部材３５に載置された複数枚の基板Ｗの中心が、回転ベース５の回転中心と一致する高さに相当する「処理位置」と、回転ベース５の下方であってチャンバ３の底面との間に相当する「待避位置」とにわたって昇降される。２本の保持部材３５は、基板Ｗが載置された際に、その端縁を当接して保持する複数個の溝（不図示）が形成されている。２本の保持部材３５は、例えば、フッ素樹脂製の板状部材から構成されている。
【００３４】
回転ベース５の上方であって、チャンバ３の天井面近くの両側には、ノズル１１が設けられている。これらのノズル１１は、薬液または純水を含む処理液を、「把持位置」にある３本の端縁把持部材２１及び「処理位置」にある２本の保持部材３５に対して噴射して供給する。ノズル１１から噴射される処理液は、２本の保持部材３５に保持されている複数枚の基板Ｗに対して供給されたり、２本の保持部材３５や３本の端縁把持部材２１などの部材に供給されたりする。この処理液としては、例えば、アンモニア水と過酸化水素水との混合液からなるもの（ＳＣ−１と呼ばれる）や、純水のみからなる処理液が挙げられる。
【００３５】
なお、上述したノズル１１が本発明における「処理液供給手段」に相当する。
【００３６】
ブラシワイパー駆動機構９は、回転ベース５の両側に配置されている。ブラシワイパー駆動機構９は、図３に示すように、支柱３９と、昇降モータ４１と、ボールネジ４３と、昇降部材４５と、昇降アーム４７と、揺動モータ４９とを備えている。なお、図３では、図示の関係上、回転ベース５の左側に設けられたブラシワイパー駆動機構９のみを示しているが、構成は左右の向きと、後述するブラシワイパー５１の配置位置が異なるだけである。
【００３７】
支柱３９は、回転ベース５の両側に立設されている。支柱３９に隣接した外側には、昇降モータ４１が回転軸を上に向けた状態で配置されている。ボールネジ４３は、昇降モータ４１の回転軸に連動連結されている。昇降部材４５は、ボールネジ４３に螺合されている。昇降アーム４７は、支柱３９に沿って移動自在であって、昇降部材４５に連結されている。揺動モータ４９は、昇降アーム４７を水平軸周りに揺動可能に設けられ、昇降アーム４７とともに移動自在に設けられている。
【００３８】
昇降アーム４７は、外周面の一部位に複数本のブラシワイパー５１が設けられている。本実施例におけるバッチ式基板ブラシ洗浄装置１は、図１に示すように、２本の保持部材３５に対して、複数枚の基板Ｗの裏面同士を対向させて載置して処理するようになっている。そして、各ブラシワイパー５１は、図１に示すように、複数枚の基板Ｗの裏面ＢＳ側に位置するように、かつ、基板Ｗの裏面ＢＳ側の一つおきに昇降アーム４７に一列に設けられている。これにより、複数枚の基板Ｗの裏面ＢＳを一方方向にのみ向けて処理する場合に対してブラシワイパー５１の本数を半分にすることができるので、装置コストを抑制できる。また、反対側の昇降アーム４７は、上記ブラシワイパー５１と互い違いとなるようにブラシワイパー５１が一列に設けられている。ブラシワイパー５１は、例えば、フッ素樹脂製の単体の棒状部材や、ステンレス鋼板製の円筒部材と、その外周に貼り付けられたブラシ布とからなる構成や、ステンレス鋼板製の円筒部材と、その外周に貼り付けられたスポンジとからなる構成が挙げられる。
【００３９】
なお、上述した複数本のブラシワイパー５１が本発明における「複数本の洗浄部材」に相当する。
【００４０】
ここで図５及び図６を参照する。なお、図５は、保持部材が処理位置にある際のブラシワイパーの動作説明図であり、図６は、端縁把持部材が把持位置にある際のブラシワイパーの動作説明図である。なお、ブラシワイパー駆動機構９は、一方のみを図示して他方を省略しているが、動作的には以下と同様である。
【００４１】
上述したブラシワイパー駆動機構９は、上述したブラシワイパー５１を昇降させつつ揺動させる。具体的には、保持部材３５が「処理位置」に位置し、端縁把持部材２１が「搬入出位置」にある場合には、基板Ｗを保持している保持部材３５にブラシワイパー５１が接触しないように、昇降アーム４７を昇降させつつブラシワイパー５１を揺動させる（図５）。また、保持部材３５が「待避位置」に位置し、端縁把持部材２１が「把持位置」にある場合には、基板Ｗを保持している端縁把持部材２１にブラシワイパー５１が接触しないように、昇降アーム４７を昇降させつつブラシワイパー５１を揺動させる（図６）。換言すると、基板Ｗが保持部材３５または端縁把持部材２１で支持されている状態において、それらにブラシワイパー５１が接触しない範囲内で基板Ｗを最大に広く洗浄できるようにブラシワイパー５１を昇降させつつ揺動させる。
【００４２】
次に、図７を参照する。なお、図７は、制御系を示すブロック図である。
【００４３】
上述したバッチ式基板ブラシ洗浄装置１は、制御部５３を備えている。制御部５３は、ＣＰＵやメモリを内蔵している。制御部５３は、上述したカバー１５の開閉動作、回転モータ１７の回転動作、アクチュエータ１９の進退動作、昇降モータ２７の回転動作、昇降モータ４１の回転動作、揺動モータ４９の揺動動作を統括的に制御する。制御部５３は、予め設定されているレシピをメモリ（不図示）から読み出して、レシピに応じたタイミングや時間で上記各部を操作する。
【００４４】
次に図８〜図１１を参照する。図８〜図１１の（ａ）〜（ｄ）は処理を示す模式図である。
【００４５】
制御部５３は、アクチュエータ１９を操作して、３本の端縁把持部材２１を「搬入出位置」に移動させる（図８（ａ））。次に、制御部５３は、カバー１５を開放させるとともに、保持部材３５を「処理位置」から「受け渡し位置」に上昇させる。そして、開口部１３の上方に移動されてきた複数枚の基板Ｗを２本の保持部材３５に載置させる（図８（ｂ））。
【００４６】
次に、制御部５３は、保持部材３５を「受け渡し位置」から「処理位置」にまで下降させる（図８（ｃ））。そして、カバー１５を閉止してチャンバ３を密閉させる。制御部５３は、ノズル１１からＳＣ−１を処理液として供給させるとともに、ブラシワイパー５１を揺動させ始める（図８（ｄ））。このときの揺動は、２本の保持部材３５にブラシワイパー５１が接触しないように制御される。これにより、保持部材３５の周辺を除く基板Ｗの裏面ＢＳ側がブラシワイパー５１と処理液により洗浄される。この第１のブラシ洗浄処理を所定時間時間だけ行った後、次の処理に移行させる。
【００４７】
次に、制御部５３は、端縁把持部材２１を「把持位置」に移動させるとともに、保持部材３５を「待避位置」に下降させて保持部材３５から端縁把持部材２１への持ち替えを行わせ、この状態でブラシワイパー５１を揺動させる（図９（ａ））。これにより、洗浄できなかった保持部材３５の周辺部をブラシワイパー５１で洗浄することができる。この洗浄を第２のブラシ洗浄処理を所定時間だけ行った後、次の動作に移行する。
【００４８】
なお、上述した第１のブラシ洗浄処理と第２のブラシ洗浄処理とが本発明における「ブラシ洗浄処理」に相当する。
【００４９】
次に、制御部５３は、ブラシワイパー５１を起立姿勢にして側方に待避させ、回転ベース５を所定時間だけ揺動駆動させて、ブラシワイパー５１により離脱されたパーティクル等を処理液で洗い流させる（図９（ｂ））。
【００５０】
制御部５３は、保持部材３５を「処理位置」に上昇させるとともに、端縁把持部材２１を「搬入出位置」に移動させる。さらに、ノズル１１から純水だけを処理液として供給させる（図９（ｃ））。これにより、複数枚の基板Ｗに付着しているＳＣ−１の処理液を洗い流す。
【００５１】
制御部５３は、ノズル１１からの処理液がかかる範囲内で保持部材３５を昇降させる（図９（ｄ））。これにより複数枚の基板Ｗが保持されている部分も含めて均一に洗浄させる。
【００５２】
なお、上述した図９（ｃ）、（ｄ）の処理が本発明における「基板の洗浄処理」に相当する。
【００５３】
次に、制御部５３は、ノズル１１からの処理液の供給を停止させるとともに、保持部材３５の昇降を停止させ、保持部材３５を「処理位置」に停止させる（図１０（ａ））。
【００５４】
制御部５３は、端縁把持部材２１を「弱把持位置」に移動させるとともに、ノズル１１から純水からなる処理液を供給させる（図１０（ｂ））。そして、制御部５３は、３本の端縁保持部材２１のいずれも保持部材３５と接触しない範囲内で回転ベース５を回転させる（図１０（ｃ））。これにより、複数枚の基板Ｗは、保持部材３５に固定的に保持されたまま、端縁保持部材２１が複数枚の基板Ｗの端縁に摺動するので、複数枚の基板Ｗの端縁が洗浄される。
【００５５】
なお、上述した処理が本発明における「端縁洗浄処理」に相当する。
【００５６】
次に、制御部５３は、端縁把持部材２１を「強把持位置」に移動させる。そして、３本の端縁把持部材２１のいずれも保持部材３５と接触しない範囲内で回転ベース５を回転させる（図１０（ｄ））。これにより、複数枚の基板Ｗは、３本の端縁把持部材２１に強く把持されたまま、端縁が保持部材３５に摺動するので、端縁保持部材２１で洗浄できなかった複数枚の基板Ｗの端縁が洗浄される。
【００５７】
なお、上述した処理が本発明における「後続端縁洗浄処理」に相当する。
【００５８】
制御部５３は、ノズル１１からの処理液の供給を停止させ、端縁保持部材２１を「搬入出位置」に移動させる（図１１（ａ））。そして、カバー１５を開放させるとともに、保持部材３５を複数枚の基板Ｗとともに「受け渡し位置」に上昇させる（図１１（ｂ））。さらに、制御部５３は、ブラシワイパー５１を洗浄位置に上昇させる。
【００５９】
なお、この処理が本発明における「搬出処理」に相当する。
【００６０】
制御部５３は、ノズル１１から純水からなる処理液を供給させながら、ブラシワイパー５１を揺動させ、さらに回転ベース５を回転させ、保持部材３５を複数回昇降させる（図１１（ｃ））。これにより、各部材の洗浄を行うので、次のロットに備えて各部材を清浄化することができる。したがって、次のロットを構成する複数枚の基板Ｗがこれらの部材で汚染されるのを防止できる。
【００６１】
なお、上記の処理が本発明における「部材洗浄処理」に相当する。
【００６２】
上述したように、本実施例装置によると、制御部５３は、２本の保持部材３５を「受け渡し位置」に上昇させて複数枚の基板Ｗを受け取って「処理位置」に下降させ、ＳＣ−１を含む処理液を複数枚の基板Ｗに供給させつつ、２本のブラシワイパー５１を揺動させることによりブラシ洗浄処理を行わせる。そして、２本の保持部材３５から３本の端縁把持部材２１への持ち替えを行わせ、複数本のブラシワイパー５１を３本の端縁把持部材２１の外部に待避させ、２本の保持部材３５を「処理位置」に移動させるとともに純水を含む処理液を供給させつつ２本の保持部材３５を昇降させることにより基板Ｗの洗浄処理を行わせる。さらに、純水を含む処理液の供給を停止させた後、２本の保持部材３５を「受け渡し位置」に移動させて複数枚の基板Ｗを搬出させる搬出処理とを行わせる。これにより、複数枚の基板Ｗに対して一括して複数本のブラシワイパー５１によるブラシ洗浄を行うことができ、１ロットの基板Ｗに対するブラシ洗浄を短時間で行うことができる。
【００６３】
また、２本の保持部材３５から３本の端縁把持部材２１への持ち替えの後も、基板Ｗのブラシ洗浄を継続させているので、２本の保持部材３５が保持していた基板Ｗ面が洗浄不足になることを回避できる。
【００６４】
また、洗浄処理の後、制御部５３が３本の端縁把持部材２１により複数枚の基板Ｗの端縁を洗浄する端縁洗浄処理を行わせるので、基板Ｗ面の洗浄だけでなく、基板Ｗの端縁も洗浄できる。したがって、別体の装置で端縁を洗浄する必要がなく効率的にブラシ洗浄ができる。
【００６５】
また、２本の保持部材３５で保持されていた複数枚の基板Ｗの端縁を後続端縁洗浄処理で処理することができる。したがって、端縁洗浄処理では洗浄できなかった複数枚の基板Ｗの全周にわたって端縁を洗浄できる。
【実施例２】
【００６６】
次に、図面を参照して本発明の実施例２について説明する。
図１２は、実施例２に係る基板処理装置の概略構成を示す図である。
【００６７】
この基板処理装置７１は、上述したバッチ式基板ブラシ洗浄装置１と、洗浄装置７３と、載置台７５と、搬送機構７７とを備えている。
【００６８】
洗浄装置７３は、バッチ式基板ブラシ洗浄装置１に隣接して配置されている。洗浄装置７３を挟んだバッチ式基板ブラシ洗浄装置１の反対側には、載置台７５が配置されている。載置台７５には、複数枚の基板Ｗを収容する収納器７９が載置される。
【００６９】
洗浄装置７３は、内槽８１と、外槽８３と、リフタ８５とを備えている。内槽８１には、噴出管８７から処理液が供給される。内槽８１に供給された処理液のうち、内槽８１を溢れた処理液は、外槽８３で回収される。噴出管８７には、洗浄液供給手段８９が連通接続されている。洗浄液供給手段８９は、制御部５３によって供給量が操作される。リフタ８５は、内槽８１の上方にあたる「受け渡し位置」と、内槽８１の内部にあたる「処理位置」とにわたって昇降される。
【００７０】
搬送機構７７は、複数枚の基板Ｗの側縁を把持するアーム９１を備えている。搬送機構７７は、収納器７９とバッチ式基板ブラシ洗浄装置１及び洗浄装置７３との間で水平移動可能に構成され、各部との間で複数枚の基板Ｗの受け渡しを行う。
【００７１】
この基板処理装置７１は、バッチ式基板ブラシ洗浄装置１で複数枚の基板Ｗをブラシ洗浄処理した後、搬送機構７７でそれらの基板Ｗを洗浄装置７３に搬送して、洗浄しきれなかった部分を浸漬処理により複数枚の基板Ｗを洗浄処理することができる。したがって、複数枚の基板Ｗを清浄度高くしかも短時間で洗浄できる。
【００７２】
本発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。
【００７３】
（１）上述した実施例１では、２本の保持部材３５と３本の端縁把持部材２１との持ち替えの後もブラシ洗浄処理を継続したが、２本の保持部材３５で保持した状態で基板Ｗの全面をブラシワイパー５１で洗浄できるか、残し部分が無視できる程度の場合には、持ち替え後のブラシ洗浄処理を行う必要はない。
【００７４】
（２）上述した実施例１では、洗浄処理の後に端縁洗浄処理を行っているが、端縁洗浄処理は必須ではなく省略してもよい。
【００７５】
（３）上述した実施例１では、複数枚の基板Ｗを搬出する前に、３本の端縁把持部材２１を「強把持位置」に移動させ、２本の保持部材３５を「待避位置」に下降させた状態で、回転ベース５を回転させて振り切り乾燥処理を行うようにしてもよい。
【００７６】
（４）上述した実施例１では、複数枚の基板Ｗの裏面同士を対向させた状態で処理する場合を例にとり、ブラシワイパー５１を各基板Ｗの裏面ＢＳに配置しているが、各基板Ｗの裏面ＢＳを一方向にのみ配置し、基板Ｗごとにブラシワイパー５１を備えるようにしてもよい。
【００７７】
（５）上述した実施例１では、端縁把持部材２１を３本とし、保持部材３５を２本としたが、本発明はこのような本数に限定されない。
【００７８】
（６）上述した実施例１では、回転ベース５の両側に支柱３９を配置して、両側からブラシワイパー５１を動作させたが、一方側だけからブラシワイパー５１を動作させる構成としてもよい。
【００７９】
（７）上述した実施例２では、バッチ式基板ブラシ洗浄装置１と、洗浄装置７３と、載置台７５とを備えた基板処理装置７１を例にとったが、さらに引き上げ乾燥処理装置などを備える構成としてもよい。
【符号の説明】
【００８０】
Ｗ  …  基板
１  …  バッチ式基板ブラシ洗浄装置
３  …  チャンバ
５  …  回転ベース
７  …  昇降ベース
９  …  ブラシワイパー駆動機構
１１  …  ノズル
１９  …  アクチュエータ
２１  …  端縁把持部材
３５  …  保持部材
３９  …  支柱
５１  …  ブラシワイパー
５３  …  制御部
【図１】
2013197476.tif 000003
【図２】
2013197476.tif 000004
【図３】
2013197476.tif 000005
【図４】
2013197476.tif 000006
【図５】
2013197476.tif 000007
【図６】
2013197476.tif 000008
【図７】
2013197476.tif 000009
【図８】
2013197476.tif 000010
【図９】
2013197476.tif 000011
【図１０】
2013197476.tif 000012
【図１１】
2013197476.tif 000013
【図１２】
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