(57)【要約】【課題】均一な厚さのレジストを形成することができ、基材を無駄なく使用できるレジスト形成装置及びレジストの形成方法を提供する。【解決手段】本発明のレジスト形成装置は、幅方向における両端部に複数のスプロケットホールＳＨが形成された長尺の基材６０にレジストを塗布する塗布部と、スプロケットホールＳＨの開口端の内側を通る線よりも外側の領域の除去部と、を備え、塗布部は、基材６０の裏面に当接しつつ所定方向に搬送する搬送ロール４５と、基材６０よりも広い幅を有するとともに基材６０の表面の全体にレジストを塗布する塗布ロール４４とを含み、搬送ロール４５は、幅方向における両端部であって基材６０のスプロケットホールＳＨに対応する位置に、搬送ロール４５を一周するように形成された溝部４５ａ，４５ｂを有する。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
幅方向における両端部に複数のスプロケットホールが形成された長尺の基材にレジストを塗布する塗布部と、
前記スプロケットホールの開口端の内側を通る線よりも外側の領域の前記レジストを除去する除去部と、を備え、
前記塗布部は、前記基材の裏面に当接しつつ所定方向に搬送する搬送ロールと、前記基材よりも広い幅を有するとともに該基材の表面の全体に前記レジストを塗布する塗布ロールとを含み、
前記搬送ロールは、幅方向における両端部であって前記基材の前記スプロケットホールに対応する位置に、該搬送ロールを一周するように形成された溝部を有することを特徴とするレジスト形成装置。
【請求項２】
前記塗布部は、レジスト供給源から前記レジストを引き上げて前記塗布ロールに供給する供給ロールをさらに含むことを特徴とする請求項１に記載のレジスト形成装置。
【請求項３】
前記除去部による前記レジストの除去作業に先立ち、前記基材上に塗布された前記レジストを乾燥させる乾燥部をさらに備えることを特徴とする請求項１又は２に記載のレジスト形成装置。
【請求項４】
前記除去部は、洗浄液を染み込ませた払拭部材により前記基材上を払拭して前記レジストを除去することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のレジスト形成装置。
【請求項５】
幅方向における両端部に複数のスプロケットホールが形成された長尺の基材の表面の全体にレジストを塗布するレジスト塗布工程と、
前記基材上から前記スプロケットホールの開口端の内側を通る線よりも外側の領域の前記レジストを除去する除去工程と、を備え、
前記レジスト塗布工程は、前記基材の裏面側において前記スプロケットホールに対応する位置に隙間を設けた状態で所定方向に搬送される該基材に前記レジストを塗布することを特徴とするレジストの形成方法。
【請求項６】
前記除去工程に先立ち、前記基材上に塗布された前記レジストを乾燥させる乾燥工程をさらに備えることを特徴とする請求項５に記載のレジストの形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レジスト形成装置及びレジストの形成方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
フレキシブル回路基板の製造工程において、基材であるフレキシブルテープにレジスト（フォトレジスト）を塗布する方法として、レジスト供給皿に浸した引き上げロールから転写ロールへレジストを受け渡し、転写ロールからフレキシブルテープへ転写するピックアップロール方式が知られている（例えば特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】国際公開第ＷＯ９８／０２２５４号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、上記従来技術においては、フレキシブル回路基板上に転写されたレジストは表面張力によって端部の厚みが著しく薄くなってしまう問題があった。そこで、フレキシブル回路基板を構成する基材の幅を予め製品幅よりも広くし、レジストの塗布幅を広くすることで製品範囲内に膜厚の薄い部分が入らないように製造することが考えられていた。この場合、基材の幅が製品幅よりも広いため、配線パターンを形成した後、余分な部分を切断する必要が生じ、基材の一部が無駄になるといった問題が生じてしまう。
【０００５】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、均一な厚さのレジストを形成することができ、基材を無駄なく使用できるレジスト形成装置及びレジストの形成方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記の課題を解決するために、本発明のレジスト形成装置は、幅方向における両端部に複数のスプロケットホールが形成された長尺の基材にレジストを塗布する塗布部と、前記スプロケットホールの開口端の内側を通る線よりも外側の領域の前記レジストを除去する除去部と、を備え、前記塗布部は、前記基材の裏面に当接しつつ所定方向に搬送する搬送ロールと、前記基材よりも広い幅を有するとともに該基材の表面の全体に前記レジストを塗布する塗布ロールとを含み、前記搬送ロールは、幅方向における両端部であって前記基材の前記スプロケットホールに対応する位置に、該搬送ロールを一周するように形成された溝部を有することを特徴とする。
【０００７】
本発明のレジスト形成装置によれば、スプロケットホールの形成領域を含む基材の全面にレジストが塗布されるので、表面張力の影響を受けることが無く、基材上に均一な厚さのレジストを形成することができる。また、スプロケットホールの形成領域を除く基材の前面に均一な厚さのレジストを形成できるので、基材を無駄なく使用できる。また、除去部がスプロケットホールの開口端の内側を通る線よりも外側の領域のレジストを除去するので、スプロケットホール周辺のレジストが剥離することで異物を生じるといった不具合の発生を防止できる。
【０００８】
前記塗布部は、レジスト供給源から前記レジストを引き上げて前記塗布ロールに供給する供給ロールをさらに含む構成としてもよい。
この構成によれば、供給ロールが塗布ロールにレジストを安定して供給することができる。
【０００９】
前記除去部による前記レジストの除去作業に先立ち、前記基材上に塗布された前記レジストを乾燥させる乾燥部をさらに備える構成としてもよい。
この構成によれば、レジストを乾燥させることで例えば搬送中の振動等によって基材上のレジストの形状或いは厚みが変化してしまうといった不具合の発生を防止できる。
【００１０】
前記除去部は、洗浄液を染み込ませた払拭部材により前記基材上を払拭して前記レジストを除去する構成としてもよい。
この構成によれば、洗浄液を染み込ませた払拭部材が基材上を払拭することで簡便且つ確実に部分的にレジストを除去できる。
【００１１】
本発明のレジストの形成方法は、幅方向における両端部に複数のスプロケットホールが形成された長尺の基材の表面の全体にレジストを塗布するレジスト塗布工程と、前記基材上から前記スプロケットホールの開口端の内側を通る線よりも外側の領域の前記レジストを除去する除去工程と、を備え、前記レジスト塗布工程は、前記基材の裏面側において前記スプロケットホールに対応する位置に隙間を設けた状態で所定方向に搬送される該基材に前記レジストを塗布することを特徴とする。
【００１２】
本発明のレジストの形成方法によれば、スプロケットホールの形成領域を含む基材の全面に塗布されたレジストは表面張力の影響を受けることが無いので、基材上に均一な厚さのレジストを形成することができる。また、スプロケットホールの形成領域を除く基材の前面に均一な厚さのレジストを形成できるので、基材を無駄なく使用できる。また、スプロケットホールの開口端の内側を通る線よりも外側の領域のレジストを除去するので、スプロケットホール周辺のレジストが剥離することで異物を生じるといった不具合の発生を防止できる。
【００１３】
前記除去工程に先立ち、前記基材上に塗布された前記レジストを乾燥させる乾燥工程をさらに備える方法としてもよい。
この構成によれば、レジストを乾燥させることで例えば搬送中の振動等によって基材上のレジストの形状或いは厚みが変化してしまうといった不具合の発生を防止できる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】実施形態のレジスト形成装置の全体構成図。
【図２】塗布部の全体構成図。
【図３】レジスト塗布部４０の要部構成図。
【図４】レジスト形成装置１のレジスト形成方法を示すフローチャート図。
【図５】レジスト塗布部４０（塗布ユニット４）によるレジスト塗布動作を説明するための図。
【図６】レジスト除去部６によるフォトレジスト１２の除去工程を説明するための図。
【図７】レジスト除去部６の変形例に係る構成を示す図。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。かかる実施の形態は、本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で任意に変更可能である。また、以下の図面においては、各構成をわかりやすくするために、実際の構造における縮尺や数等が異なっている。
【００１６】
図１は、本実施形態のレジスト形成装置の全体構成図である。図２は、塗布部の全体構成図である。
図１に示すようにレジスト形成装置１は、テープ搬送部２と、クリーニング部３と、塗布ユニット４と、乾燥部５と、レジスト除去部６と、複数のローラー７と、を備え、フレキシブルテープ６０に対してレジスト膜を形成するためのものである。
【００１７】
テープ搬送部２は、レジストを形成するための基材であるフレキシブルテープ６０を搬送するためのものである。テープ搬送部２は、ロール状に巻回されたロール体Ｒからフレキシブルテープ６０を巻き解いて送り出す送出部２ａと、該送出部２ａから送り出したフレキシブルテープ６０を巻き取る巻取部２ｂとを含む。このような構成に基づき、テープ搬送部２はフレキシブルテープ６０を所定方向に移動させることができる。
【００１８】
フレキシブルテープ６０は長尺の基材であり、例えばポリイミド等の樹脂材料からなるものである。フレキシブルテープ６０は幅方向における両端にスプロケットホールＳＨが形成されている。テープ搬送部２は、スプロケットホールＳＨに係合可能な係合ギア部（不図示）を含み、該ギア部をスプロケットホールＳＨに係合させることでフレキシブルテープ６０に対して搬送力を付与する。
【００１９】
フレキシブルテープ６０の一方の面には、厚さ２〜５μｍ程度の銅箔などからなる導電体層６２が形成されている（図２参照）。
【００２０】
クリーニング部３は、フォトレジスト１２を塗布するに先立ち、フレキシブルテープ６０の表面（レジスト塗布面）をクリーニングするためのものである。クリーニング部３は、例えばフレキシブルテープ６０に対して洗浄液を塗布する塗布部と、塗布した該洗浄液を払拭する払拭部とを含む。
【００２１】
塗布ユニット４は、テープ搬送部２により搬送されるフレキシブルテープ６０に対してフォトレジスト１２を塗布するためのものである。なお、塗布ユニット４の詳細については後述する。
【００２２】
乾燥部５は、第１乾燥部５ａと第２乾燥部５ｂとを含む。第１乾燥部５ａは、フォトレジスト１２が塗布されたフレキシブルテープ６０を加熱することでフォトレジスト１２を半硬化させるためのものである。また、第２乾燥部５ｂは、後述するレジスト除去部６による除去工程の後、フレキシブルテープ６０を再度加熱することでフォトレジスト１２を本硬化させることでレジスト膜を形成するためのものである。
【００２３】
レジスト除去部６は、フレキシブルテープ６０上に塗布されて第１乾燥部５ａによって半硬化したフォトレジスト１２の一部を除去するためのものである。レジスト除去部６は、フレキシブルテープ６０上を払拭する払拭部材６ａと、該払拭部材６ａにレジスト除去液を供給する除去液供給部６ｂとを含む（図６参照）。
【００２４】
払拭部材６ａは、例えばレジスト除去液を含浸可能な多孔質部材やスポンジ部材から構成される。除去液供給部６ｂは、レジストを除去するための除去液（例えば、アセトン）を払拭部材６ａに供給する。払拭部材６ａは、テープ搬送部２によってフレキシブルテープ６０が所定方向に搬送されることでフレキシブルテープ６０上を払拭する。フレキシブルテープ６０における払拭部材６ａに払拭された部分からはレジストが除去される。
【００２５】
複数のローラー７は、テープ搬送部２に搬送されるフレキシブルテープ６０に当接することで該フレキシブルテープ６０の下面側を支持する。これにより、搬送中のフレキシブルテープ６０に弛みが生じるのを防止することができる。
【００２６】
塗布ユニット４は、貯蔵容器１０と、ポンプ２０と、レジスト調質部３０と、レジスト塗布部４０と、を備えている。貯蔵容器１０とポンプ２０は配管５２を介して接続され、ポンプ２０とレジスト調質部３０は配管５４を介して接続され、レジスト調質部３０とレジスト塗布部４０は配管５６を介して接続され、レジスト塗布部４０と貯蔵容器１０は配管５８を介して接続されており、全体としてフォトレジスト１２の循環系を構成している。
【００２７】
貯蔵容器１０は、液体のフォトレジスト１２を貯蔵するタンクである。貯蔵容器１０は配管５２、５８が接続された状態で密閉されている。出口側の配管５２は貯蔵容器１０の底部付近まで延びており、開口した先端が常にフォトレジスト１２中に配置される。一方、入口側の配管５８は、フォトレジスト１２の液面よりも上側の空間１４に開口している。
【００２８】
ポンプ２０は、配管５２を介して貯蔵容器１０からフォトレジスト１２を吸い出すとともに、配管５４を介してレジスト調質部３０へフォトレジスト１２を圧送する。ポンプ２０としては、公知の液送ポンプであれば特に限定されず用いることができる。
【００２９】
レジスト調質部３０は、密閉タンク３２と、密閉タンク３２に配管３４を介して接続された真空ポンプ３６と、フォトレジスト１２をろ過するフィルタ装置３９と、を備えている。
密閉タンク３２は、フォトレジスト１２を貯留する内側タンク３２ｂと、内側タンク３２ｂを収容する外側タンク３２ａとを有する。
【００３０】
内側タンク３２ｂには、ポンプ２０から延びる配管５４とフィルタ装置３９とが接続されている。配管５４は、内側タンク３２ｂの底部近傍の側壁に設けられた接続部１３２に接続されている。フィルタ装置３９は、内側タンク３２ｂの他の側壁に設けられた接続部１３３に接続されている。
【００３１】
外側タンク３２ａは、内側タンク３２ｂを内部に密閉することができる真空容器である。外側タンク３２ａには配管３４を介して真空ポンプ３６が接続され、真空ポンプ３６により空間３８内を減圧可能に構成されている。空間３８の圧力は１ｋＰａ〜１０ｋＰａ程度とすればよい。圧力を低くしすぎるとフォトレジスト１２中の溶媒が蒸発して粘度が上昇するためである。
【００３２】
フィルタ装置３９は、フォトレジスト１２に含まれる異物を除去する装置であり、公知のろ過装置を用いることができる。フィルタ装置３９としては、５０μｍ以上の大きさの異物や気泡を除去できるものを用いることが好ましい。
【００３３】
上記構成のレジスト調質部３０は、配管５４を介してポンプ２０から供給されるフォトレジスト１２を内側タンク３２ｂに貯留した状態で、真空ポンプ３６により空間３８を減圧することで、フォトレジスト１２に含まれる気泡を除去する。そして、気泡が除去されたフォトレジスト１２を、フィルタ装置３９でろ過し、浄化した後、配管５６を介してレジスト塗布部４０へ供給する。
【００３４】
レジスト塗布部４０は、レジスト供給部（レジスト供給源）４１と、引き上げロール（供給ロール）４２と、転写ロール（塗布ロール）４４と、搬送ロール４５とを備えている。図３は、レジスト塗布部４０の要部構成図である。なお、図３においては導電体層６２の図示を省略している。
【００３５】
図３に示すように転写ロール４４は大略円柱状であり、その中心軸に沿って回転軸５０が設けられている。搬送ロール４５の両端部には、それぞれ溝部４５ａ、４５ｂが形成されている。溝部４５ａ，４５ｂは、該搬送ロール４５を一周するように形成されている。この溝部４５ａ，４５ｂは、フレキシブルテープ６０のスプロケットホールＳＨに対応する位置に設けられている。溝部４５ａの幅はスプロケットホールＳＨの幅よりも大きく設定される。また、転写ロール４４はフレキシブルテープ６０よりも広い幅を有している。なお、転写ロール４４と搬送ロール４５との間にはフレキシブルテープ６０を通過させる間隙が設けられている。
【００３６】
レジスト供給部４１は、配管５６及び配管５８に接続され、上方に開口した皿形の容器である。レジスト供給部４１には、レジスト調質部３０から配管５６を介して流入するフォトレジスト１２が貯留される。また、流入量と同量のフォトレジスト１２が配管５８を介して貯蔵容器１０へ排出される。
【００３７】
引き上げロール４２は、レジスト供給部４１に貯留されたフォトレジスト１２に部分的に浸される位置に設けられている。引き上げロール４２の上方に転写ロール４４が配置されている。引き上げロール４２と転写ロール４４は、それらの周面がほぼ当接する位置に配置されており、互いに逆方向に回転する。転写ロール４４の上方に、搬送ロール４５が配置されている。
【００３８】
フレキシブルテープ６０は、図２に示すように、搬送ロール４５に対して導電体層６２を外側に向けて架け渡され、搬送ロール４５により搬送される。
【００３９】
上記構成のレジスト塗布部４０では、引き上げロール４２の回転によりレジスト供給部４１からフォトレジスト１２が引き上げられ、引き上げロール４２から転写ロール４４へフォトレジスト１２が受け渡される。このような構成に基づき、搬送ロール４５により搬送されるフレキシブルテープ６０が搬送ロール４５と転写ロール４４との間隙を通過する際、転写ロール４４からフレキシブルテープ６０へフォトレジスト１２が転写されるようになっている。よって、塗布ユニット４は、フレキシブルテープ６０上の全面にフォトレジスト１２を塗布することができる。
【００４０】
続いて、レジスト形成装置１の動作としてレジスト形成方法について説明する。図４はレジスト形成装置１のレジスト形成方法を示すフローチャート図である。
【００４１】
はじめにレジスト形成装置１は、クリーニング部３を駆動し、フォトレジスト１２の塗布に先立って、テープ搬送部２により搬送されるフレキシブルテープ６０の表面をクリーニングする（ステップＳ１に示すクリーニング工程）。これにより、フレキシブルテープ６０のレジスト塗布面に付着していた埃やゴミ等の異物を除去することができる。
【００４２】
次にレジスト形成装置１は、塗布ユニット４を駆動し、テープ搬送部２により搬送されるフレキシブルテープ６０の表面にフォトレジスト１２を塗布する（ステップＳ２に示す塗布工程）。
【００４３】
ここで、塗布ユニット４によるフォトレジスト１２の塗布工程について詳述する。図５はレジスト塗布部４０（塗布ユニット４）によるレジスト塗布動作を説明するための図である。なお、図５においては導電体層６２の図示を省略している。
【００４４】
塗布ユニット４は、搬送ロール４５により搬送されるフレキシブルテープ６０が搬送ロール４５と転写ロール４４との間隙を通過する際に、図４（ａ）に示したように転写ロール４４からフレキシブルテープ６０にフォトレジスト１２を転写する。これにより、図４（ｂ）に示すように、フレキシブルテープ６０上の全面にフォトレジスト１２が塗布される。
【００４５】
本実施形態の塗布ユニット４では、レジスト塗布部４０の搬送ロール４５が、図３に示す形状を有するものとされており、かかる搬送ロール４５の作用によって、上記動作によりフレキシブルテープ６０上に塗布されるフォトレジスト１２の膜厚を均一化することができるようになっている。以下、搬送ロール４５の作用について説明する。
【００４６】
本実施形態においては、図４（ａ）に示したように転写ロール４４がフレキシブルテープ６０よりも広い幅を有しているため、該フレキシブルテープ６０の全面にフォトレジスト１２を塗布することができる。このとき、フォトレジスト１２の一部がフレキシブルテープ６０のスプロケットホールＳＨを介して搬送ロール４５の溝部４５ａ，４５ｂに流動する。溝部４５ａ，４５ｂに流動したフォトレジスト１２は不図示のレジスト排出部に回収されるため、フレキシブルテープ６０の裏面を汚すことが無い。
【００４７】
よって、フォトレジスト１２はスプロケットホールＳＨ内に流動することで該スプロケットホールＳＨの開口端においても表面張力の影響を受け難くなる。従って、塗布されたフォトレジスト１２はスプロケットホールＳＨの開口端での表面張力の影響が抑えられたものとなるので、図４（ｃ）に示すようにフレキシブルテープ６０の全面に亘って均一な膜厚を有したものとなる。
【００４８】
レジスト塗布部４０によりフォトレジスト１２が塗布されたフレキシブルテープ６０は、テープ搬送部２により第１乾燥部５ａ（乾燥部５）内に搬送される。第１乾燥部５ａは、フォトレジスト１２が塗布されたフレキシブルテープ６０を加熱することでフォトレジスト１２を半硬化させる（ステップＳ３に示す第１乾燥工程）。
【００４９】
半硬化されたフォトレジスト１２が設けられたフレキシブルテープ６０は、テープ搬送部２によってレジスト除去部６へと搬送される。レジスト除去部６は、フレキシブルテープ６０上に塗布されて第１乾燥部５ａによって半硬化したフォトレジスト１２の一部を除去する（ステップＳ４に示すレジスト除去工程）。
【００５０】
図６はレジスト除去部６によるフォトレジスト１２の除去工程を説明するための図であり、同図（ａ）は側面図を示し、同図（ｂ）は除去工程の途中状態におけるフレキシブルテープ６０の平面図である。
【００５１】
レジスト除去部６は、図６（ａ）に示すようにテープ搬送部２によって所定方向に搬送されるフレキシブルテープ６０の表面に払拭部材６ａを当接させてフォトレジスト１２の一部を除去する。払拭部材６ａは、図６（ｂ）に示すようにスプロケットホールＳＨの開口端ＳＨ１の内側を通る線Ｌよりも外側の領域Ａを除去する。
【００５２】
本実施形態ではフォトレジスト１２を除去する前に第１乾燥部５ａの第１乾燥工程によって半硬化しているので、払拭部材６ａがフォトレジスト１２に接触した際にフォトレジスト１２が濡れ拡がることが無い。よって、払拭部材６ａによるフォトレジスト１２の除去部分の端面を図６（ｂ）に示したように線Ｌ上に揃えることができる。よって、フォトレジスト１２の端面において、歪みやガタツキ等といった不具合の発生を防止できるので、フレキシブルテープ６０上に残ったフォトレジスト１２の全部を有効に利用することができる。
【００５３】
また、本実施形態ではレジスト塗布部４０によってフレキシブルテープ６０の全面に亘って均一な膜厚のフォトレジスト１２を形成しているので、レジスト除去部６により一部が除去されたフォトレジスト１２は膜厚が均一なものとなっている。
【００５４】
レジスト除去部６によってフォトレジスト１２の一部が除去されたフレキシブルテープ６０は、テープ搬送部２により第２乾燥部５ｂ（乾燥部５）内に搬送される。第２乾燥部５ｂは、フレキシブルテープ６０を再度加熱することでフォトレジスト１２を本硬化させてレジスト膜を形成する（ステップＳ５に示す第２乾燥工程）。
【００５５】
以上、説明したステップＳ１〜Ｓ５によって、レジスト形成装置１はフレキシブルテープ６０上に均一な膜のレジスト膜を形成することができる。また、レジスト除去部６がスプロケットホールＳＨ周辺のフォトレジスト１２を除去しているので、該スプロケットホールＳＨ内に設けられたレジスト膜が剥離することで異物を生じるといった不具合の発生を防止できる。
【００５６】
以上、本発明に係る一実施形態について説明したが、本発明はこれに限定されることは無く、発明の主旨を逸脱しない範囲内において適宜変更可能である。
【００５７】
図７はレジスト除去部６の変形例に係る構成を示す図である。
また、上記実施形態では、レジスト除去部６の払拭部材６ａがフォトレジスト１２を払拭することで除去する場合を例に挙げたが、図７に示すようにフレキシブルテープ６０を挟持する一対のローラー６５，６６によってレジスト除去部６を構成するようにしても構わない。
【００５８】
フレキシブルテープ６０の上面（フォトレジスト１２が塗布された面）に当接するローラー６５にはレジストを除去するための除去液（例えば、アセトン）が含浸されている。一方、フレキシブルテープ６０の下面に当接するローラー６６には除去液が含浸されていない。ローラー６５，６６は、テープ搬送部２により搬送されるフレキシブルテープ６０との間に生じる摩擦力によって回転し、このときローラー６５がフォトレジスト１２の一部を効率的に除去することができる。
【００５９】
また、上記実施形態では、乾燥部５が第１乾燥部５ａ及び第２乾燥部５ｂを有する場合を例に挙げて説明したが、本硬化工程が不要となるようなレジスト液を採用した場合には乾燥部５が第１乾燥部５ａのみから構成されていればよい。これによれば、乾燥部５の装置構成を簡略化することができ、レジスト形成装置１のコスト低減を図ることができる。
【符号の説明】
【００６０】
Ａ…領域、Ｌ…線、１…レジスト形成装置、５…乾燥部、６ａ…払拭部材、４１…レジスト供給部（レジスト供給源）、４２…引き上げロール（供給ロール）、４４…転写ロール（塗布ロール）、４５…搬送ロール、４５ａ…溝部、６０…フレキシブルテープ（基材）、ＳＨ…スプロケットホール、ＳＨ１…開口端
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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