(57)【要約】【課題】純水の供給及び排出に係る構成を工夫することにより、基板の乾燥不良を防止するとともに処理効率を向上する。【解決手段】処理槽３に純水を供給する際には噴出管１７を「供給位置」の姿勢にさせるので、純水を処理槽３に供給できる。処理槽３内の純水を排出する際には噴出管１７を「排出位置」の姿勢にさせるので、処理槽３の開口部７からも純水を排出できるとともに噴出管１７内の純水を排出できる。乾燥処理の際には噴出管１７を「閉塞位置」の姿勢にさせるので、噴出管１７に純水が残留していても蒸発することを抑制できる。したがって、処理槽３内から排出されている純水にチャンバ４内の溶剤蒸気が凝結することを抑制でき、噴出管１７内に貯留している純水に溶剤蒸気が凝結することを防止できるので、乾燥位置にある基板Ｗへの置換効率が低下するのを防止できる。その結果、処理効率を向上できる。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を処理液で処理した後に乾燥処理を行う基板処理装置において、
基板を収容可能な容積を備え、処理液を貯留する処理槽と、
長手方向に複数個の噴出口を備え、前記処理槽に対して処理液を供給する噴出管と、
前記処理槽を囲うチャンバと、
基板を保持するものであって、前記処理槽の内部にあたる処理位置と、前記チャンバ内における前記処理槽の上方にあたる乾燥位置とにわたって昇降可能なリフタと、
前記チャンバ内に溶剤蒸気を供給する溶剤蒸気供給手段と、
前記チャンバ内を減圧する減圧手段と、
を備え、
前記処理槽は、前記複数個の噴出口が内部に臨む開口部を下部側面に備え、
前記噴出管は、前記処理槽内に処理液を供給する供給位置と、前記処理槽に貯留する処理液を前記開口部から排出するとともに、前記噴出管内に貯留する処理液を排出する排出位置と、前記処理槽内に非連通となる閉塞位置とにわたって姿勢を可変可能に構成され、前記処理槽に処理液を供給する際には前記噴出管を供給位置の姿勢にさせ、前記処理槽内の処理液を排出する際には前記噴出管を排出位置の姿勢にさせ、前記減圧手段で前記チャンバ内を減圧し、前記チャンバ内に前記溶剤蒸気供給手段で溶剤蒸気を供給して乾燥処理を行う際には前記噴出管を閉塞位置の姿勢にさせることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板処理装置において、
前記処理槽は、前記噴出管の長軸周りに自転可能に前記開口部に対して前記噴出管を取り付けられ、前記開口部に対して連通するとともに前記チャンバに連通している排出口を形成された噴出管ホルダを備え、
前記噴出管は、前記排出口に沿って形成された処理槽側流入溝と、前記排出口に沿って形成され、かつ前記処理槽側流入溝に対して対向した位置に形成されたチャンバ側排出溝と、外周面だけを備えた蓋部材とを備え、
前記供給位置では、前記複数個の噴出口が前記処理槽内に向き、前記排出位置では、前記処理槽側流入溝が前記処理槽内に向き、かつ前記チャンバ側排出溝が前記チャンバの底面側に向き、前記閉塞位置では、前記蓋部材が前記処理槽側に向くようように前記噴出管を長軸周りに回転させる噴出管回転手段と、
を備えていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項３】
請求項２に記載の基板処理装置において、
前記噴出管の基端部に処理液を供給し、フレキシブル配管で構成された処理液供給管をさらに備え、
前記噴出管回転手段は、前記噴出管の基端部側に設けられ、前記噴出管を長軸周りに回転させる回転モータを備えていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項４】
請求項１に記載の基板処理装置において、
前記噴出管は、前記チャンバの底面側に形成された排出溝を備え、
前記処理槽は、前記噴出管が着脱自在に取り付けられる噴出管ホルダを備えているとともに、
前記複数個の噴出口が前記処理槽内に向けられ、前記噴出管を前記開口部に対して密着させた密着位置と、前記噴出管を前記開口部から離間させた離間位置とにわたって前記噴出管を移動させる噴出管移動手段と、
前記開口部を閉塞する閉位置と、前記開口部を開放する開位置とにわたって移動可能なシャッタとをさらに備え、
前記供給位置では、前記シャッタを前記開位置に移動させるとともに、前記噴出管の排出溝が前記噴出管ホルダにより閉塞されるように前記噴出管を密着位置に移動させ、前記排出位置では、前記噴出管を離間位置に移動させるとともに前記シャッタを開位置に移動させ、前記閉塞位置では、前記噴出管を離間位置に移動させるとともに前記シャッタを閉位置に移動させることを特徴とする基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウエハ、液晶ディスプレイ用基板、プラズマディスプレイ用基板、有機ＥＬ用基板、ＦＥＤ(Field Emission Display)用基板、光ディスプレイ用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、太陽電池用基板（以下、単に基板と称する）を処理液に浸漬させた後、減圧された溶剤雰囲気中に基板を引き上げて乾燥処理を行う基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種の装置として、処理槽と、チャンバと、リフタと、噴出管と、ＱＤＲ弁と、ノズルとを備えたものがある（例えば、特許文献１参照）。処理槽は、基板を収容する容積を有し、純水を貯留する。チャンバは、処理槽の周囲を囲い、処理雰囲気を形成する。リフタは、複数枚の基板を支持し、処理槽の内部にあたる処理位置と、処理槽の上方にあたる乾燥位置とにわたって昇降する。噴出管は、処理槽の両側底部に設けられており、処理槽内に純水を供給する。ＱＤＲ弁は、処理槽の底部に設けられており、処理槽内の純水を急排水する。ノズルは、チャンバ内に溶剤蒸気を供給する。
【０００３】
このように構成された装置は、まず、複数枚の基板を保持したリフタを処理位置に下降させる。そして、処理槽に対して噴出管から純水を供給して、処理槽内の基板を純水で洗浄処理する。洗浄処理の後、チャンバ内を減圧するとともに、チャンバ内にノズルから溶剤蒸気を供給して、チャンバ内に溶剤雰囲気を形成する。次に、リフタを乾燥位置に引き上げるとともに、処理槽内の純水を排出する。リフタを乾燥位置に所定時間だけ維持させることにより、基板に付着している純水を溶剤蒸気で置換させ、減圧環境下における溶剤の揮発とともに基板に付着している純水を蒸発させて基板を乾燥させる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−１５２３９５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。
すなわち、従来の装置は、処理槽の純水を排出した後も、噴出管内には純水が貯留している。減圧環境下では噴出管内の純水が蒸発するので、乾燥位置にある基板に対してパーティクルや水分が付着するという問題がある。その結果、デバイスの特性劣化につながる乾燥不良が生じる恐れがある。
【０００６】
また、ＱＤＲ弁で処理槽内の純水を排水するが、排水箇所が一箇所であることから排水速度が遅い。したがって、排出中の純水に溶剤蒸気が凝結して溶剤濃度が低下するので、溶剤蒸気による純水の置換が阻害されるという問題がある。その結果、処理時間が長くなって処理効率が低下する。また、排水後であっても、噴出管内に残留した純水に溶剤蒸気が凝縮して溶剤濃度が低下するので、上記同様の問題が生じる。
【０００７】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、純水の供給及び排出に係る構成を工夫することにより、基板の乾燥不良を防止するとともに処理効率を向上することができる基板処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、請求項１に記載の発明は、基板を処理液で処理した後に乾燥処理を行う基板処理装置において、基板を収容可能な容積を備え、処理液を貯留する処理槽と、長手方向に複数個の噴出口を備え、前記処理槽に対して処理液を供給する噴出管と、前記処理槽を囲うチャンバと、基板を保持するものであって、前記処理槽の内部にあたる処理位置と、前記チャンバ内における前記処理槽の上方にあたる乾燥位置とにわたって昇降可能なリフタと、前記チャンバ内に溶剤蒸気を供給する溶剤蒸気供給手段と、前記チャンバ内を減圧する減圧手段と、を備え、前記処理槽は、前記複数個の噴出口が内部に臨む開口部を下部側面に備え、前記噴出管は、前記処理槽内に処理液を供給する供給位置と、前記処理槽に貯留する処理液を前記開口部から排出するとともに、前記噴出管内に貯留する処理液を排出する排出位置と、前記処理槽内に非連通となる閉塞位置とにわたって姿勢を可変可能に構成され、記処理槽に処理液を供給する際には前記噴出管を供給位置の姿勢にさせ、前記処理槽内の処理液を排出する際には前記噴出管を排出位置の姿勢にさせ、前記減圧手段で前記チャンバ内を減圧し、前記チャンバ内に前記溶剤蒸気供給手段で溶剤蒸気を供給して乾燥処理を行う際には前記噴出管を閉塞位置の姿勢にさせることを特徴とするものである。
【０００９】
［作用・効果］請求項１に記載の発明によれば、処理槽に処理液を供給する際には噴出管を供給位置の姿勢にさせるので、噴出管により処理液を処理槽に供給することができる。また、処理槽内の処理液を排出する際には噴出管を排出位置の姿勢にさせるので、処理槽の開口部からも処理液を排出できるとともに噴出管内の処理液を排出できる。また、乾燥処理の際には噴出管を閉塞位置の姿勢にさせるので、噴出管に処理液が残留していても蒸発することを抑制できる。したがって、処理槽内から排出されている処理液にチャンバ内の溶剤蒸気が凝結することを抑制できるとともに、噴出管内に貯留している処理液に溶剤蒸気が凝結することを防止できるので、乾燥位置にある基板への置換効率が低下することを防止できる。その結果、処理効率を向上することができる。
【００１０】
また、本発明において、前記処理槽は、前記噴出管の長軸周りに自転可能に前記開口部に対して前記噴出管を取り付けられ、前記開口部に対して連通するとともに前記チャンバに連通している排出口を形成された噴出管ホルダを備え、前記噴出管は、前記排出口に沿って形成された処理槽側流入溝と、前記排出口に沿って形成され、かつ前記処理槽側流入溝に対して対向した位置に形成されたチャンバ側排出溝と、外周面だけを備えた蓋部材とを備え、前記供給位置では、前記複数個の噴出口が前記処理槽内に向き、前記排出位置では、前記処理槽側流入溝が前記処理槽内に向き、かつ前記チャンバ側排出溝が前記チャンバの底面側に向き、前記閉塞位置では、前記蓋部材が前記処理槽側に向くようように前記噴出管を長軸周りに回転させる噴出管回転手段と、を備えていることが好ましい（請求項２）。
【００１１】
噴出管回転手段は、供給位置では、複数個の噴出口が処理槽内に向き、排出位置では、処理槽側流入溝が処理槽内に向き、かつチャンバ側排出溝がチャンバの底面側に向き、閉塞位置では、蓋部材が処理槽側に向きくように噴出管を長軸周りに回転させる。したがって、噴出管回転手段で噴出管の回転操作を行うだけで、噴出管を適切な姿勢に変えることができるので、制御を簡単化することができる。
【００１２】
また、本発明において、前記噴出管の基端部に処理液を供給し、フレキシブル配管で構成された処理液供給管をさらに備え、前記噴出管回転手段は、前記噴出管の基端部側に設けられ、前記噴出管を長軸周りに回転させる回転モータを備えていることが好ましい（請求項３）。
【００１３】
処理液供給管がフレキシブル配管で構成されているので、回転モータで噴出管を長軸周りに回転させても、噴出管への処理液の供給に支障が生じない。したがって、噴出管から処理液を供給させることができつつも、噴出管の姿勢を可変することができる。
【００１４】
また、本発明において、前記噴出管は、前記チャンバの底面側に形成された排出溝を備え、前記処理槽は、前記噴出管が着脱自在に取り付けられる噴出管ホルダを備えているとともに、前記複数個の噴出口が前記処理槽内に向けられ、前記噴出管を前記開口部に対して密着させた密着位置と、前記噴出管を前記開口部から離間させた離間位置とにわたって前記噴出管を移動させる噴出管移動手段と、前記開口部を閉塞する閉位置と、前記開口部を開放する開位置とにわたって移動可能なシャッタとをさらに備え、前記供給位置では、前記シャッタを前記開位置に移動させるとともに、前記噴出管の排出溝が前記噴出管ホルダにより閉塞されるように前記噴出管を密着位置に移動させ、前記排出位置では、前記噴出管を離間位置に移動させるとともに前記シャッタを開位置に移動させ、前記閉塞位置では、前記噴出管を離間位置に移動させるとともに前記シャッタを閉位置に移動させることが好ましい（請求項４）。
【００１５】
供給位置では、シャッタを開位置に移動させるとともに、噴出管移動手段により噴出管の排出溝が噴出管ホルダにより閉塞されるように噴出管を密着位置に移動させ、排出位置では、噴出管移動手段により噴出管を離間位置に移動させるとともにシャッタを開位置に移動させ、閉塞位置では、噴出管移動手段により噴出管を離間位置に移動させるとともにシャッタを閉位置に移動させる。したがって、噴出管移動手段による噴出管の移動だけで噴出管を適切な姿勢に変えることができ、さらにシャッタの開閉を組み合わせるだけで効果を得ることができる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明に係る基板処理装置によれば、処理槽に処理液を供給する際には噴出管を供給位置の姿勢にさせるので、噴出管により処理液を処理槽に供給することができる。また、処理槽内の処理液を排出する際には噴出管を排出位置の姿勢にさせるので、処理槽の開口部からも処理液を排出できるとともに噴出管内の処理液を排出できる。また、乾燥処理の際には噴出管を閉塞位置の姿勢にさせるので、噴出管に処理液が残留していても蒸発することを抑制できる。したがって、処理槽内から排出されている処理液にチャンバ内の溶剤蒸気が凝結することを抑制できるとともに、噴出管内に貯留している処理液に溶剤蒸気が凝結することを防止できるので、乾燥位置にある基板への置換効率が低下することを防止できる。その結果、処理効率を向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】実施例１に係る基板処理装置の概略構成を示す全体図である。
【図２】噴出管周りの構成を示し、底面から見た図である。
【図３】動作説明に係る模式図であり、（ａ）は処理液による処理時を示し、（ｂ）は排出時を示し、（ｃ）は減圧乾燥時を示す。
【図４】実施例２に係る基板処理装置の概略構成を示す全体図である。
【図５】噴出管周りの構成を示し、正面から見た図である。
【図６】動作説明に係る（ａ）は処理液による処理時を示し、（ｂ）は排出時を示し、（ｃ）は減圧乾燥時を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
本発明に係る基板処理装置の実施例を以下に説明する。
【実施例１】
【００１９】
以下、図面を参照して本発明の実施例１について説明する。
図１は、実施例１に係る基板処理装置の概略構成を示す全体図であり、図２は、噴出管周りの構成を示し、底面から見た図である。また、図３は、動作説明に係る模式図であり、（ａ）は処理液による処理時を示し、（ｂ）は排出時を示し、（ｃ）は減圧乾燥時を示す。
【００２０】
実施例１に係る基板処理装置１は、複数枚の基板Ｗを一括して処理液により洗浄処理を行った後、溶剤蒸気で乾燥処理を行うものである。
【００２１】
基板処理装置１は、処理槽３と、チャンバ４とを備えている。この処理槽３は、起立姿勢で水平方向（図１の奥手前方向）に整列された複数枚の基板Ｗを収容可能な容積を備えている。チャンバ４は、処理槽３の全体を囲うように設けられている。但し、チャンバ４は、図示省略しているが、複数枚の基板Ｗ等を搬入出する際の開口部及びカバーを上部に備えている。また、処理槽３は、後述する処理液を貯留する。ＱＤＲ弁５は、処理槽３の底面における中央部に配置されている。ＱＤＲ弁５は、処理槽３に貯留している処理液を大径の排液口（不図示）から大量の処理液を排出する。開口部７は、処理槽３の両側壁における下側に形成されている。開口部７は、処理槽３の外側面から内側面にわたって貫通して形成されている。また、開口部７は、図１における手前奥方向に沿って処理槽３の水平方向に長く形成されている。
【００２２】
図３（ａ）に示すように、開口部７は、噴出管ホルダ９を設けられている。噴出管ホルダ９は、ロアホルダ１１と、アッパホルダ１３とを備えている。ロアホルダ１１は、チャンバ４の側方にあたる内壁に向かって短く延出されて開口部７の下部に設けられている。アッパホルダ１３は、チャンバ４の側方にあたる内壁に向かって、ロアホルダ１１よりも長く延出されて開口部７の上部に設けられている。ロアホルダ１１は、上方に中心点を有する円弧で形成され、アッパホルダ１３は、ロアホルダ１１の中心点、つまり、下方に中心点を有する円弧で形成されている。換言すると、ロアホルダ１１とアッパホルダ１３は、共通する中心点を有する円弧で構成されているが、ロアホルダ１１は、アッパホルダ１３よりも小さく形成されている。ロアホルダ１１とアッパホルダ１３は、開口部７の反対側に、開口部７に沿って開口形成された排出口１５を設けられている。
【００２３】
噴出管１７は、処理液を処理槽３の内部に供給するものである。噴出管１７は、図２に示すように、筒状を呈し、長手方向に複数個の噴出口１９を形成されている。噴出管１７は、通常時に、複数個の噴出口１９が開口部７に臨むように処理槽３に取り付けられる。複数個の噴出口１９は、基板Ｗの整列方向に沿って、整列されている基板Ｗの間ごとに形成されている。噴出管１７は、噴出管ホルダ９に取り付けられている。噴出管１７の外径は、噴出管ホルダ９の内径より若干小さく形成されている。したがって、噴出管１７は、噴出管ホルダ９に対して長手方向の軸周りに回転自在になっている。
【００２４】
噴出管１７は、処理槽側流入溝２１と、チャンバ側排出溝２３と、蓋部材２５とを備えている。処理槽側流入溝２１は、噴出管ホルダ９の排出口１５に沿って形成された長溝である。また、チャンバ側排出溝２３は、噴出管１７の短軸の中心部を挟んでほぼ対向する位置に形成された長溝である。また、蓋部材２５は、処理槽側流入溝２１とチャンバ側排出溝２３との間に位置する噴出管１７の外周面である。
【００２５】
図２に示すように、噴出管１７の基端部側には、回転モータ２７が配置されている。回転モータ２７は、図１において処理槽３の奥側に位置する。回転モータ２７は、貫通式であり、噴出管１７の基端部が貫通している。回転モータ２７が駆動されると、噴出管１７が長軸周りに回転される。噴出管１７の基端部は、管継ぎ手２９を介してフレキシブル配管３１の一端側に連結されている。
【００２６】
回転モータ２７は、噴出管１７の姿勢を操作する。具体的には、複数個の噴出口１９が開口部７から処理槽３の底面中央部に向けられ、処理槽側流入溝２１がアッパホルダ１１に閉塞され、チャンバ側排出溝２３がロアホルダ１１に閉塞された「供給位置」（図３（ａ））と、処理槽側流入溝２１が開口部７の上部に位置し、チャンバ側排出溝２３が排出口１５の下部に位置し、複数個の噴出口１９がロアホルダ１１で閉塞された「排出位置」（図３（ｂ））と、処理槽側流入溝２１がロアホルダ１１に閉塞され、チャンバ側排出溝２３がアッパホルダ１３で閉塞され、複数個の噴出口１９がチャンバ４に連通された「閉塞位置」（図３（ｃ））とである。
【００２７】
図１に示すように、基板処理装置１は、リフタ３３を備えている。リフタ３３は、複数枚の基板Ｗを起立姿勢で保持可能である。リフタ３３は、処理槽３の内部にあたる「処理位置」と、チャンバ４内における処理槽３の上方にあたる「乾燥位置」とにわたって昇降可能に構成されている。図１中においては、「処理位置」を実線で示し、「乾燥位置」を二点鎖線で示す。
【００２８】
チャンバ４の天井面における両側には、ノズル３５が設けられている。各ノズル３５は、チャンバ４内の「乾燥位置」に向けて溶剤蒸気を供給する。
【００２９】
上述したフレキシブル配管３１の他端側には、処理液供給源３７が連通接続されている。処理液供給源３７は、例えば、純水や低表面張力液を含む処理液などを供給する。また、上述したノズル３５には、溶剤蒸気供給源３９が連通接続されている。溶剤蒸気供給源３９は、例えばイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）などの有機溶剤の蒸気をノズル３５に供給する。
【００３０】
また、チャンバ４には、減圧ポンプ４１が設けられている。この減圧ポンプ４１は、チャンバ４内を減圧する際に作動される。上述したリフタ３３は、昇降駆動部４３によって昇降される。基板処理装置１は、制御部４５を備えている。制御部４５は、図示しないメモリやＣＰＵを備えている。制御部４５は、上述したＱＤＲ弁５の開閉、回転モータ２７の回転、処理液供給源３７からの処理液の供給、溶剤蒸気供給源３９からの溶剤蒸気の供給、昇降駆動部４３によるリフタ３３の昇降を統括的に制御する。
【００３１】
なお、上述したノズル３５が本発明における「溶剤蒸気供給手段」に相当し、減圧ポンプ４１が本発明における「減圧手段」に相当する。また、フレキシブル配管３１が本発明における「処理液供給配管」に相当し、回転モータ３７が本発明における「噴出管回転手段」に相当する。
【００３２】
次に、上述した基板処理装置１の動作について説明する。なお、リフタ３３には複数枚の基板Ｗが既に保持されているものとする。また、噴出管１７は、「供給位置」の姿勢とされているものとする。
【００３３】
制御部４５は、昇降駆動部４３を操作して、リフタ３３を「処理位置」まで下降させる。そして、制御部４５は、処理液供給源３７から純水を噴出管１７に供給させる。これにより、図３（ａ）に示すように、純水が処理槽３に供給され、処理槽３の「処理位置」にある複数枚の基板Ｗが純水で洗浄される。この状態を所定時間だけ維持させた後、制御部４５は、処理液供給源３７からの純水の供給を停止させる。そして、制御部４５は、減圧ポンプ４１を操作して、チャンバ４内を所定の圧力まで減圧させる。所定の減圧値に到達すると、制御部４５は、溶剤蒸気供給源３９を操作してノズル３５から溶剤蒸気をチャンバ４内に供給する。
【００３４】
チャンバ４内の溶剤濃度が所定値に達した後、制御部４５は、昇降駆動部４３を操作して、リフタ３３を複数枚の基板Ｗごと「乾燥位置」まで上昇させる。これにより、複数枚の基板Ｗに溶剤蒸気が凝結し、複数枚の基板Ｗに付着している純水が溶剤で置換され、純水が溶剤とともに揮発して複数枚の基板Ｗが乾燥され始める。
【００３５】
制御部４５は、ＱＤＲ弁５を開放させるとともに、図３（ｂ）に示すように、回転モータ２７を操作して、噴出管１７を時計回りに回転させて噴出管１７を「排出位置」の姿勢にさせる。これにより、処理槽３内の純水がＱＤＲ弁５から排出されるとともに、噴出管１７の処理槽側流入溝２１とチャンバ側排出溝２３とを通って処理槽３の純水が排出される。このとき噴出管１７に貯留している純水もチャンバ側排出溝２３から排出される。
【００３６】
処理槽３内及び噴出管１７内の純水が全て排出された後、制御部４５は、図３（ｃ）に示すように、回転モータ２７を操作して、噴出管１７を反時計回りに回転させて噴出管１７を「閉塞位置」の姿勢にさせる。この姿勢を「乾燥位置」にある複数枚の基板Ｗの乾燥が終了するまで維持させる。
【００３７】
上述した実施例１に係る基板処理装置１によると、処理槽３に純水を供給する際には噴出管１７を「供給位置」の姿勢にさせるので、噴出管１７により純水を処理槽３に供給することができる。また、処理槽３内の純水を排出する際には噴出管１７を「排出位置」の姿勢にさせるので、処理槽３の開口部７からも純水を排出できるとともに噴出管１７内の純水を排出できる。また、乾燥処理の際には噴出管１７を「閉塞位置」の姿勢にさせるので、純水が噴出管１７に残留していても蒸発することを抑制できる。したがって、処理槽３内から排出されている純水にチャンバ４内の溶剤蒸気が凝結することを抑制できるとともに、噴出管１７内に貯留している純水に溶剤蒸気が凝結することを防止できるので、乾燥位置にある基板Ｗへの置換効率が低下することを防止できる。その結果、処理効率を向上することができる。
【００３８】
また、制御部４５は、回転モータ２７を操作して噴出管１７の回転を行うだけで、噴出管１７を適切な姿勢に変えることができるので、制御部４５における制御を簡単化することができる。
【００３９】
さらに、噴出管１７の基端部側フレキシブル配管３１で構成されているので、回転モータ２７で噴出管１７を長軸周りに回転させても、噴出管１７への純水の供給に支障が生じない。したがって、噴出管１７から純水を供給させることができつつも、噴出管１７の姿勢を可変することができる。
【実施例２】
【００４０】
次に、図面を参照して本発明の実施例２について説明する。
図４は、実施例２に係る基板処理装置の概略構成を示す全体図であり、図５は、噴出管周りの構成を示し、正面から見た図であり、図６は、動作説明に係る（ａ）は処理液による処理時を示し、（ｂ）は排出時を示し、（ｃ）は減圧乾燥時を示す。なお、上述した実施例１と同じ構成については同符号を付すことで詳細な説明については省略する。
【００４１】
実施例２に係る基板処理装置１Ａは、主として処理槽３の開口部７周りの構成が実施例１と相違する。
【００４２】
開口部７は、噴出管ホルダ９Ａを設けられている。噴出管ホルダ９Ａは、ロアホルダ１１Ａだけを備えている。この噴出管ホルダ９Ａは、噴出管１７Ａを着脱自在に取り付けられる。
【００４３】
噴出管１７Ａは、複数個の噴出口１９と、排出溝５１とを備えている。排出溝５１は、チャンバ４の底面側に形成されている。
【００４４】
噴出管移動機構５３は、複数個の噴出口１９が開口部７に臨み、噴出管１７Ａを開口部７に密着させた「密着位置」と、噴出管１７Ａを開口部７から離間させた「離間位置」とにわたって水平移動させる。具体的には、エアシリンダ５５と、連結具５７とから噴出管移動機構５３が構成されている。エアシリンダ５５は、作動片が横置きとなる姿勢で取り付けられ、噴出管１７Ａの外側面に取り付けられた連結具５７にその作動片が取り付けられている。これによりエアシリンダ５５を作動・非作動とすると、噴出管１７Ａが「密着位置」と「離間位置」とにわたって水平移動される。
【００４５】
また、開口部７の上部には、シャッタ５９が配置されている。このシャッタ５９は、開口部７の開口面積よりもやや大きな面積の板状部材であり、開口部７を開放または閉塞する。シャッタ５９の開閉は、シャッタ移動機構６１によって行われる。具体的にはシャッタ移動機構６１は、エアシリンダ６３と、連結具６５とを備えている。エアシリンダ６３は、作動片が縦置きとなる姿勢で取り付けられ、シャッタ５９の外側面に一端側が連結された連結具６５の他端側に作動片が取り付けられている。これによりエアシリンダ６３を作動・非作動とすると、シャッタ５９が開口部７の上方に対して開口部７を開放した「開位置」と、シャッタ５９が開口部７を閉塞した「閉位置」とにわたって移動される。
【００４６】
上述した噴出管移動機構５３及びシャッタ移動機構６１は、他の構成と同様に制御部４５によって統括的に制御される。
【００４７】
なお、上述した噴出管移動機構５３が本発明における「噴出管移動手段」に相当する。
【００４８】
次に、上述した基板処理装置１Ａの動作について説明する。なお、リフタ３３には既に複数枚の基板Ｗが保持され、噴出管１７Ａは「密着位置」に、シャッタ５９は「開位置」にあるものとする。
【００４９】
制御部４５は、昇降駆動部４３を操作して、リフタ３３を「処理位置」にまで下降させる。そして、制御部４５は、処理液供給源３７から純水を噴出管７Ａに供給させる。これにより、図６（ａ）に示すように、純水が処理槽３に供給され、処理槽３の「処理位置」にある複数枚の基板Ｗが純水で洗浄処理される。この状態を所定時間だけ維持させた後、制御部４５は、処理液供給源３７からの純水の供給を停止させる。そして、制御部４５は、チャンバ４内を所定の圧力まで減圧させ、所定の減圧値に到達すると、溶剤蒸気供給源３９を操作してノズル３５から溶剤蒸気をチャンバ４内に供給する。
【００５０】
チャンバ４内の溶剤濃度が所定値に達した後、制御部４５は、昇降駆動部４３を操作して、リフタ３３を複数枚の基板Ｗごと「乾燥位置」まで上昇させる。これにより、複数枚の基板Ｗが乾燥され始める。
【００５１】
制御部４５は、ＱＤＲ弁５を開放させるとともに、図６（ｂ）に示すように、噴出管移動機構５３を操作して、噴出管１７Ａを「離間位置」に移動させる。これにより、処理槽３内の純水がＱＤＲ弁５から排出されるとともに、開口部７からも処理槽３の純水が排出される。このとき、噴出管１７Ａに貯留している純水も排出溝５１から排出される。
【００５２】
制御部４５は、図６（ｃ）に示すように、シャッタ移動機構６１を操作して、シャッタ５９を「閉位置」に移動させる。この状態を複数枚の基板Ｗの乾燥処理が終了するまで維持させる。
【００５３】
上述した実施例２に係る基板処理装置１Ａによると、噴出管移動機構５３による噴出管１７Ａの移動だけで噴出管１７Ａを適切な姿勢に変えることができる。また、シャッタ５９の開閉を組み合わせるだけで上述した実施例１と同様の効果を奏する。
【００５４】
本発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。
【００５５】
（１）上述した実施例１では、噴出管ホルダ９をロアホルダ１１とアッパホルダ１３の２ピース構成としているが、それらを一体化して噴出管ホルダ９を構成してもよい。
【００５６】
（２）上述した実施例１では、噴出管１７を同軸で回転させる回転モータ２７で噴出管回転手段を構成したが、例えば、噴出管１７の外周面に歯車を取り付けて、その歯車を回転モータで回転させる構成としてもよい。また、エアシリンダとアームを組み合わせて噴出管１７が３つの姿勢をとれるように構成してもよい。
【００５７】
（３）上述した実施例２では、シャッタ５９が開口部７の上方に配置されているが、開口部７の下方に配置するようにしてもよい。
【００５８】
（４）上述した各実施例１，２では、処理槽３が単槽で構成されているが、内槽と外槽との複槽で構成してもよい。
【符号の説明】
【００５９】
Ｗ  …  基板
１  …  基板処理装置。
３  …  処理槽
５  …  ＱＤＲ弁
７  …  開口部
９  …  噴出管ホルダ
１１  …  ロアホルダ
１３  …  アッパホルダ
１５  …  排出口
１７  …  噴出管
１９  …  噴出口
２１  …  処理槽側流入溝
２３  …  チャンバ側排出溝２３
２５  …  蓋部材
２７  …  回転モータ
３１  …  フレキシブル配管
３３  …  リフタ
３５  …  ノズル
４５  …  制御部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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