(57)【要約】【課題】優れた表示性能を備えたプラズマディスプレイパネルを安価に提供する。【解決手段】前面基板に導電性の第１電極および第２電極の間に放電ギャップを設けて配置して表示電極を構成するとともにその表示電極を行方向に複数本配列して設けた前面板と、前面板の間に放電空間を設けて対向配置されかつ表示電極と交差する列方向に複数本のデータ電極を形成して交差部分に放電セルを設けた背面板とを有するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、第１電極および第２電極は、放電ギャップを介して対向する第１部分と、第１部分から間隔をあけて平行に配置された第２部分と、第２部分から間隔をあけて平行に配置された第３部分と、第１部分と第２部分と第３部分とを交差する方向に接続しかつ放電セル毎に設けた第４部分とを有し、第１部分と第３部分と第４部分とが露光される第１の露光ステップと、第２部分が露光される第２の露光ステップとを有する。【選択図】図６
2013152836.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
前面基板に導電性の第１電極および第２電極の間に放電ギャップを設けて配置して表示電極を構成するとともにその表示電極を行方向に複数本配列して設けた前面板と、前記前面板の間に放電空間を設けて対向配置されかつ表示電極と交差する列方向に複数本のデータ電極を形成して交差部分に放電セルを設けた背面板とを有するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、前記第１電極および前記第２電極は、放電ギャップを介して対向する第１部分と、前記第１部分から間隔をあけて平行に配置された第２部分と、前記第２部分から間隔をあけて平行に配置された第３部分と、前記第１部分と前記第２部分と前記第３部分とを交差する方向に接続しかつ放電セル毎に設けた第４部分とを有し、前記第１部分と前記第３部分と前記第４部分とが露光される第１の露光ステップと、前記第２部分が露光される第２の露光ステップとを有することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２】
前面基板に導電性の第１電極および第２電極の間に放電ギャップを設けて配置して表示電極を構成するとともにその表示電極を行方向に複数本配列して設けた前面板と、前記前面板の間に放電空間を設けて対向配置されかつ表示電極と交差する列方向に複数本のデータ電極を形成して交差部分に放電セルを設けた背面板とを有するプラズマディスプレイパネルであって、前記第１電極および前記第２電極は、放電ギャップを介して対向する第１部分と、前記第１部分から間隔をあけて平行に配置された第２部分と、前記第２部分から間隔をあけて平行に配置された第３部分と、前記第１部分と前記第２部分と前記第３部分とを交差する方向に接続しかつ放電セル毎に設けた第４部分とを有することを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示デバイスとしてのプラズマディスプレイパネルの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと示す）は、大別して、駆動的にはＡＣ型とＤＣ型がある。放電形式では、面放電型と対向放電型の２種類があるが、高精細化、大画面化および製造の簡便性から、現状では、ＰＤＰの主流は、３電極構造の面放電型のものである。この面放電型のＰＤＰ構造は、少なくとも前面側が透明な一対の基板を基板間に放電空間が形成されるように対向配置される。そして、放電空間を複数に仕切るための隔壁が基板に配置され、かつ隔壁により仕切られた放電空間で放電が発生するように基板に電極群が配置される。そして、放電により発光する赤色、緑色、青色に発光する蛍光体が形成されて複数の放電セルが構成されている。そして、放電により発生する波長の短い真空紫外光によって蛍光体を励起し、赤色、緑色、青色の放電セルからそれぞれ赤色、緑色、青色の可視光を発することによりカラー表示を行っている。
【０００３】
このようなＰＤＰは、液晶パネルに比べて高速の表示が可能であり、視野角が広いこと、大型化が容易であること、自発光型であるため表示品質が高い。これにより、フラットパネルディスプレイの中で最近特に注目を集めており、多くの人が集まる場所での表示装置や家庭で大画面の映像を楽しむための表示装置として各種の用途に使用されている。
【０００４】
ところで、今日では、できるだけ消費電力を抑えた電気製品が望まれる。ＰＤＰにおいても駆動時の消費電力を低くする期待が寄せられている。特に昨今の大画面化および高精細化の動向によって、開発されるＰＤＰの消費電力が増加傾向にある。そのため、省電力化を実現させる技術への要望が高くなっている。また、ＰＤＰにおいては安定した画像表示性能を得ることも基本的に望まれる。
【０００５】
このようなことから、ＰＤＰの安定した駆動と発光輝度を維持しながら消費電力を低減させること、すなわち発光効率の向上が望まれる。また発光輝度、発光効率を向上させるために、例えば蛍光体が紫外線を可視光に変換する際の変換効率を向上させる研究もなされているが、さらなる発光効率の向上が望まれている。
【０００６】
一方、ＰＤＰにおいては、画像表示の際の輝度を増加させるために、表示電極を幅広の帯状透明電極とこれに金属電極のバスラインを重ねた構成として電極面積を拡大させているが、これにより増大する放電電流を抑えるため、または透明電極をなくして工程数を削減するために、電極を複数の部分に分割し、開口部を設けた電極構造を用いるなどの工夫がなされている（例えば、特許文献１参照）。
【０００７】
さらに、ＰＤＰの構成においては、表示電極およびアドレス電極には、その形状および配設ピッチに精度が要求されることから、例えば、金属材料等のような導電性材料に、感光性材料を含有させた材料を基板全面に塗布、乾燥し、それを電極のパターンに露光する露光パターンを備えたフォトマスクにより露光し、その後、それを現像するという、いわゆるフォトリソグラフィ法によってパターニングすることで、所定の位置に所定形状の電極を形成する。
【０００８】
フォトリソグラフィ法においては、感光性材料としてネガ材を使用した場合、フォトマスクが備える露光パターンの露光部にダスト等が付着していると、その部分に対応する感光性材料が感光せず重合されなくなる。この場合、現像時にその部分が溶解し、「抜け」となってしまい、表示電極、アドレス電極の欠け・断線に至ってしまう。ここで、断線が発生してしまうと、断線発生箇所より給電方向下流側の画素に電力を供給することができず、ＰＤＰにおいては画像表示に支障が生じ、致命的な欠陥となる。
【０００９】
そこで、上述のような断線の発生を抑制するために、同一の露光パターンを備える複数のフォトマスクを用いて、複数回露光を行うという方法がある。これによって、たとえ一方のフォトマスクに付着したダストによって欠け・断線部が発生したとしても、他方のフォトマスクを用いた露光によって、その箇所を露光して断線を補償することが可能となる（例えば、特許文献２参照）。
【００１０】
また上記の技術では、露光パターンの幅が異なる複数のフォトマスクを用いて、複数回露光を行うという方法がある。これは、ＰＤＰの構造物に断線などの欠陥が発生することを抑制し、且つ、構造物の反り上がり、剥がれなども抑制することが可能となるというものである（例えば、特許文献３、４参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】国際公開番号ＷＯ０２／０１７３４５号公報
【特許文献２】特開２００５−２５０４６５号公報
【特許文献３】特開平１−２８１４４８号公報
【特許文献４】特開２００４−３４２３４８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
ところで、ＬＣＤやＰＤＰに代表される薄型ディスプレイデバイスは、表示画面の大型化が進行している。このため、薄型ディスプレイデバイスの製造工程においては、一度の処理で複数のパターンを得られるように、一枚の大型基板に複数のパターンを一度に形成し、パターン完成後に単板に割断するようにして、工数低減によるコスト削減を実施している。
【００１３】
また一方で、地上デジタルテレビジョン放送などに呼応し高精細ディスプレイの需要が伸張しており、画素ピッチの小型化、構造パターンの細線化が進んでいる。
【００１４】
このため、上記表示電極のパターンを形成するための露光工程においても、高い精度が求められることになる。ところが、上述のように露光を複数回行うと、各々の露光工程で転写位置にずれが生じやすくなる。
【００１５】
従来技術においても、このような転写ずれを考慮し、例えば、メインパターンを有するフォトマスクと断線補償用にメインパターンより細いサブパターンを有するフォトマスクを用い、２回の露光を行う方法が採り入れられている。
【００１６】
しかし、基板とフォトマスクの大型化、および表示電極の高精細化に伴い、各々の露光工程で生じる位置ずれ量が拡大する傾向にある。断線補償用のサブパターンは、本来メインパターンに隠れるようメインパターンより所定量細く設計されているが、転写位置ずれが許容量を超える場合、メインパターンからサブパターンがはみ出し、所定のパターン幅を得ることができなくなる。
【００１７】
本発明は、これらの課題に鑑みてなされたものであり、ＰＤＰの表示電極パターンに断線などの欠陥なく、且つ、大画面、高精細であっても、優れた表示性能を備えたＰＤＰを安価に提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
この課題を解決するために本発明は、前面基板に導電性の第１電極および第２電極の間に放電ギャップを設けて配置して表示電極を構成するとともにその表示電極を行方向に複数本配列して設けた前面板と、前面板の間に放電空間を設けて対向配置されかつ表示電極と交差する列方向に複数本のデータ電極を形成して交差部分に放電セルを設けた背面板とを有するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、第１電極および第２電極は、放電ギャップを介して対向する第１部分と、第１部分から間隔をあけて平行に配置された第２部分と、第２部分から間隔をあけて平行に配置された第３部分と、第１部分と第２部分と第３部分とを交差する方向に接続しかつ放電セル毎に設けた第４部分とを有し、第１部分と第３部分と第４部分とが露光される第１の露光ステップと、第２部分が露光される第２の露光ステップとを有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、同一部分を２回露光しないので２回露光による転写ずれ量を考慮する必要なく電極の細線化およびそれに伴う電極の断線を防ぐことができる。その結果、発光輝度、発光効率の高い優れた表示性能を備えたＰＤＰを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の実施の形態によるＰＤＰを示す分解斜視図
【図２】本発明の実施の形態によるＰＤＰの放電セル部分の構成を示す断面図
【図３】本発明の実施の形態によるＰＤＰの電極配列図
【図４】本発明の実施の形態によるＰＤＰを用いたＰＤＰ装置の全体構成を示すブロック図
【図５】本発明の実施の形態によるＰＤＰの各電極に印加する駆動電圧波形を示す波形図
【図６】（ａ）本発明の実施の形態によるＰＤＰの表示電極を構成する走査電極および維持電極とデータ電極と隔壁との配置関係を示す平面図、（ｂ）第１露光フォトマスク開口部を示す図、（ｃ）第２露光フォトマスク開口部を示す図
【図７】（ａ）本発明の実施の形態によるＰＤＰの走査電極および維持電極の構成例を示す拡大図、（ｂ）従来の走査電極および維持電極の構成例を示す拡大図
【発明を実施するための形態】
【００２１】
＜実施の形態１＞
以下、本発明の一実施の形態によるプラズマディスプレイパネルについて、図を用いて説明するが、本発明の実施の態様はこれに限定されるものではない。
【００２２】
まず、本発明の一実施の形態によるプラズマディスプレイパネルの全体構成について、図１〜図３を用いて説明する。
【００２３】
１、ＰＤＰの構成
図１は本発明の一実施の形態によるプラズマディスプレイパネルにおいて、前面板と背面板とを分離した状態で示す分解斜視図、図２は前面板と背面板とを貼り合わせてパネルとしたときの放電セル構造を示す断面図である。この図１、図２に示すように、パネルは、ガラス製の前面板１と背面板２とを、その間に放電空間３を形成するように対向配置することにより構成されている。
【００２４】
前面板１は、ガラス製の前面基板４上に導電性の第１電極である走査電極５および第２電極である維持電極６を、間に放電ギャップを設けて互いに平行に配置して表示電極７を構成するとともに、その表示電極７を行方向に複数本配列して設け、そして前記走査電極５および維持電極６を覆うようにガラス材料からなる誘電体層８が形成され、その誘電体層８上にはＭｇＯからなる保護層９が形成されている。
【００２５】
前記走査電極５および維持電極６は、それぞれＩＴＯなどの透明電極を用いず、Ａｇからなる膜厚が約５μｍ程度の導電性電極のみから構成されている。走査電極５および維持電極６は１層限定ではなく、２層以上の構造でもよい（図示のものは２層）。
【００２６】
また、背面板２は、ガラス製の背面基板１０上に、ガラス材料からなる絶縁体層１１で覆われかつ列方向にストライプ状に配列したＡｇからなる複数本のデータ電極１２が設けられ、そして絶縁体層１１上には、前面板１と背面板２との間の放電空間３を放電セル毎に区画するためのガラス材料からなる井桁状の隔壁１３が設けられている。また、絶縁体層１１の表面および隔壁１３の側面には、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の蛍光体層１４Ｒ、１４Ｇ、１４Ｂが設けられている。そして、走査電極５および維持電極６とデータ電極１２とが交差するように前面板１と背面板２とが対向配置され、前記走査電極５および維持電極６とデータ電極１２が交差する交差部分には、図３に示すように、放電セル１５が設けられている。また、放電空間３には、放電ガスとして、例えばネオンとキセノンの混合ガスが封入されている。なお、パネルの構造は上述したものに限られるわけではなく、例えばストライプ状の隔壁を備えたものであってもよい。
【００２７】
ここで、図２に示すように、放電セル１５を形成する井桁形状の隔壁１３は、データ電極１２に平行に形成された縦隔壁１３ａと、この縦隔壁１３ａに直交しかつ縦隔壁１３ａより高さが低くなるように形成した横隔壁１３ｂとから構成されている。また、この隔壁１３内に塗布して形成される蛍光体層１４Ｒ、１４Ｇ、１４Ｂは、縦隔壁１３ａに沿ってストライプ状に青色蛍光体層１４Ｂ、赤色蛍光体層１４Ｒ、緑色蛍光体層１４Ｇの順に配列して形成されている。
【００２８】
図３はこの図１、図２に示すパネルの電極配列図である。行方向に長いｎ本の走査電極Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３・・・Ｙｎ（図１の５）およびｎ本の維持電極Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３・・・Ｘｎ（図１の６）が配列され、列方向に長いｍ本のデータ電極Ａ１・・・Ａｍ（図１の１２）が配列されている。そして、１対の走査電極Ｙ１および維持電極Ｘ１と１つのデータ電極Ａ１とが交差した部分に放電セル１５が形成され、放電セル１５は放電空間内にｍ×ｎ個形成されている。また、前記走査電極Ｙ１および維持電極Ｘ１は、図３に示すように、走査電極Ｙ１−維持電極Ｘ１−維持電極Ｘ２−走査電極Ｙ２・・・・の配列で繰り返すパターンで、前面板１に形成されている。そしてこれらの電極のそれぞれは、前面板１、背面板２の画像表示領域外の周辺端部に設けられた接続端子それぞれに接続されている。
【００２９】
２、ＰＤＰ装置の構成
次に、上述したＰＤＰを用いたプラズマディスプレイ装置（以下、ＰＤＰ装置と示す）の全体構成について説明する。
【００３０】
図４はプラズマディスプレイ装置の全体構成を示すブロック図である。このＰＤＰ装置は、図１〜図３に示す構成のＰＤＰ２１、画像信号処理回路２２、データ電極駆動回路２３、走査電極駆動回路２４、維持電極駆動回路２５、タイミング発生回路２６および電源回路（図示せず）を備えている。また、データ電極駆動回路２３は、ＰＤＰ２１のデータ電極１２の一端に接続され、かつデータ電極１２に電圧を供給するための半導体素子からなる複数のデータドライバを有している。データ電極１２は、数本ずつのデータ電極１２で１ブロックとして複数のブロックに分割し、そのブロック単位で複数のデータドライバをＰＤＰ２１の下端部の電極引出部に接続して配置している。
【００３１】
図４において、画像信号処理回路２２は、画像信号ｓｉｇをサブフィールド毎の画像データに変換する。データ電極駆動回路２３はサブフィールド毎の画像データを各データ電極Ａ１〜Ａｍに対応する信号に変換し、各データ電極Ａ１〜Ａｍを駆動する。タイミング発生回路２６は水平同期信号Ｈおよび垂直同期信号Ｖをもとにして各種のタイミング信号を発生し、各駆動回路ブロックに供給している。走査電極駆動回路２４はタイミング信号にもとづいて走査電極Ｙ１〜Ｙｎに駆動電圧波形を供給し、維持電極駆動回路２５はタイミング信号にもとづいて維持電極Ｘ１〜Ｘｎに駆動電圧波形を供給する。なお、維持電極側は、ＰＤＰ２１内、またはＰＤＰ２１外において共通に接続された後、その共通接続配線が維持電極駆動回路２５に接続されている。
【００３２】
３、ＰＤＰの駆動について
次に、ＰＤＰ２１を駆動するための駆動電圧波形とその動作について図５を用いて説明する。図５はＰＤＰ２１の各電極に印加する駆動電圧波形を示す図である。
【００３３】
本実施の形態によるＰＤＰ２１においては、１フィールドを複数のサブフィールドに分割し、それぞれのサブフィールドは初期化期間、書込み期間、維持期間を有している。
【００３４】
３−１、初期化期間
第１サブフィールドの初期化期間では、データ電極Ａ１〜Ａｍおよび維持電極Ｘ１〜Ｘｎを０（Ｖ）に保持し、走査電極Ｙ１〜Ｙｎに対して放電開始電圧以下となる電圧Ｖｉ１（Ｖ）から放電開始電圧を超える電圧Ｖｉ２（Ｖ）に向かって緩やかに上昇するランプ電圧を印加する。すると、すべての放電セルにおいて１回目の微弱な初期化放電を起こし、走査電極Ｙ１〜Ｙｎ上に負の壁電圧が蓄えられるとともに維持電極Ｘ１〜Ｘｎ上およびデータ電極Ａ１〜Ａｍ上に正の壁電圧が蓄えられる。ここで、電極上の壁電圧とは電極を覆う誘電体層や蛍光体層上等に蓄積した壁電荷により生じる電圧を指す。
【００３５】
その後、維持電極Ｘ１〜Ｘｎを正の電圧Ｖｈ（Ｖ）に保ち、走査電極Ｙ１〜Ｙｎに電圧Ｖｉ３（Ｖ）から電圧Ｖｉ４（Ｖ）に向かって緩やかに下降するランプ電圧を印加する。すると、すべての放電セルにおいて２回目の微弱な初期化放電を起こし、走査電極Ｙ１〜Ｙｎ上と維持電極Ｘ１〜Ｘｎ上との間の壁電圧が弱められ、データ電極Ａ１〜Ａｍ上の壁電圧も書込み動作に適した値に調整される。
【００３６】
３−２、書込み期間
続く書込み期間では、走査電極Ｙ１〜Ｙｎを一旦Ｖｒ（Ｖ）に保持する。次に、１行目の走査電極Ｙ１に負の走査パルス電圧Ｖａ（Ｖ）を印加するとともに、データ電極Ａ１〜Ａｍのうち１行目に表示すべき放電セルのデータ電極Ａｋ（ｋ＝１〜ｍ）に正の書込みパルス電圧Ｖｄ（Ｖ）を印加する。このときデータ電極Ａｋと走査電極Ｙ１との交差部の電圧は、外部印加電圧（Ｖｄ−Ｖａ）（Ｖ）にデータ電極Ａｋ上の壁電圧と走査電極Ｙ１上の壁電圧とが加算されたものとなり、放電開始電圧を超える。そして、データ電極Ａｋと走査電極Ｙ１との間および維持電極Ｘ１と走査電極Ｙ１との間に書込み放電が起こり、この放電セルの走査電極Ｙ１上に正の壁電圧が蓄積され、維持電極Ｘ１上に負の壁電圧が蓄積され、データ電極Ａｋ上にも負の壁電圧が蓄積される。
【００３７】
このようにして、１行目に表示すべき放電セルで書込み放電を起こして各電極上に壁電圧を蓄積する書込み動作が行われる。一方、書込みパルス電圧Ｖｄ（Ｖ）を印加しなかったデータ電極Ａ１〜Ａｍと走査電極Ｙ１との交差部の電圧は放電開始電圧を超えないので、書込み放電は発生しない。以上の書込み動作をｎ行目の放電セルに至るまで順次行い、書込み期間が終了する。
【００３８】
３−３、維持期間
続く維持期間では、走査電極Ｙ１〜Ｙｎには第１の電圧として正の維持パルス電圧Ｖｓ（Ｖ）を、維持電極Ｘ１〜Ｘｎには第２の電圧として接地電位、すなわち０（Ｖ）をそれぞれ印加する。このとき書込み放電を起こした放電セルにおいては、走査電極Ｙｉ（ｉ＝１〜ｎ）上と維持電極Ｘｉ（ｉ＝１〜ｎ）上との間の電圧は維持パルス電圧Ｖｓ（Ｖ）に走査電極Ｙｉ上の壁電圧と維持電極Ｘｉ上の壁電圧とが加算されたものとなり、放電開始電圧を超える。そして、走査電極Ｙｉと維持電極Ｘｉとの間に維持放電が起こり、このとき発生した紫外線により蛍光体層が発光する。そして走査電極Ｙｉ上に負の壁電圧が蓄積され、維持電極Ｘｉ上に正の壁電圧が蓄積される。このときデータ電極Ａｋ上にも正の壁電圧が蓄積される。
【００３９】
書込み期間において書込み放電が起きなかった放電セルでは、維持放電は発生せず、初期化期間の終了時における壁電圧が保持される。続いて、走査電極Ｙ１〜Ｙｎには第２の電圧である０（Ｖ）を、維持電極Ｘ１〜Ｘｎには第１の電圧である維持パルス電圧Ｖｓ（Ｖ）をそれぞれ印加する。すると、維持放電を起こした放電セルでは、維持電極Ｘｉ上と走査電極Ｙｉ上との間の電圧が放電開始電圧を超えるので、再び維持電極Ｘｉと走査電極Ｙｉとの間に維持放電が起こり、維持電極Ｘｉ上に負の壁電圧が蓄積され走査電極Ｙｉ上に正の壁電圧が蓄積される。
【００４０】
３−４、第２サブフィールド以降
以降同様に、走査電極Ｙ１〜Ｙｎと維持電極Ｘ１〜Ｘｎとに交互に輝度重みに応じた数の維持パルスを印加することにより、書込み期間において書込み放電を起こした放電セルで維持放電が継続して行われる。こうして維持期間における維持動作が終了する。続くサブフィールドにおける初期化期間、書込み期間、維持期間の動作も第１サブフィールドにおける動作とほぼ同様のため、説明を省略する。
【００４１】
４、ＰＤＰの製造方法について
４−１、前面板の製造方法
フォトリソグラフィ法によって、前面基板４上に、走査電極５および維持電極６が形成される。走査電極５および維持電極６の材料には、銀（Ａｇ）と銀を結着させるためのガラスフリットと感光性樹脂と溶剤などを含む電極ペーストが用いられる。まず、スクリーン印刷法などによって、電極ペーストが、前面基板４に塗布される。次に、乾燥炉によって、電極ペースト中の溶剤が除去される。次に、所定のパターンのフォトマスクを介して、電極ペーストが露光される。
【００４２】
次に、電極ペーストが現像され、表示電極パターンが形成される。最後に、焼成炉によって、表示電極パターンが所定の温度で焼成される。つまり、表示電極パターン中の感光性樹脂が除去される。また、電極パターン中のガラスフリットが溶融する。その後、室温まで冷却することにより、溶融していたガラスフリットが、ガラス化する。以上の工程によって、走査電極５および維持電極６が形成される。
【００４３】
ここで、電極ペーストをスクリーン印刷する方法以外にも、スパッタ法、蒸着法などを用いることができる。
【００４４】
次に、誘電体層８が形成される。誘電体層８の材料には、誘電体ガラスフリットと樹脂と溶剤などを含む誘電体ペーストが用いられる。まずダイコート法などによって、誘電体ペーストが所定の厚みで走査電極５、維持電極６を覆うように前面基板４上に塗布される。次に、乾燥炉によって、誘電体ペースト中の溶剤が除去される。最後に、焼成炉によって、誘電体ペーストが所定の温度で焼成される。つまり、誘電体ペースト中の樹脂が除去される。また、誘電体ガラスフリットが溶融する。その後、室温まで冷却することにより、溶融していた誘電体ガラスフリットが、ガラス化する。以上の工程によって、誘電体層８が形成される。ここで、誘電体ペーストをダイコートする方法以外にも、スクリーン印刷法、スピンコート法などを用いることができる。また、誘電体ペーストを用いずに、ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法などによって、誘電体層８となる膜を形成することもできる。
【００４５】
次に、誘電体層８上に保護層９が形成される。
【００４６】
以上の工程により前面基板４上に走査電極５、維持電極６、誘電体層８および保護層９を有する前面板１が完成する。
【００４７】
４−２、背面板２の製造方法
フォトリソグラフィ法によって、背面基板１０上に、データ電極１２が形成される。データ電極１２の材料には、導電性を確保するための銀（Ａｇ）と銀を結着させるためのガラスフリットと感光性樹脂と溶剤などを含むデータ電極ペーストが用いられる。まず、スクリーン印刷法などによって、データ電極ペーストが所定の厚みで背面基板１０上に塗布される。次に、乾燥炉によって、データ電極ペースト中の溶剤が除去される。次に、所定のパターンのフォトマスクを介して、データ電極ペーストが露光される。次に、データ電極ペーストが現像され、データ電極パターンが形成される。最後に、焼成炉によって、データ電極パターンが所定の温度で焼成される。つまり、データ電極パターン中の感光性樹脂が除去される。また、データ電極パターン中のガラスフリットが溶融する。その後、室温まで冷却することにより、溶融していたガラスフリットが、ガラス化する。以上の工程によって、データ電極１２が形成される。ここで、データ電極ペーストをスクリーン印刷する方法以外にも、スパッタ法、蒸着法などを用いることができる。
【００４８】
次に、絶縁体層１１が形成される。絶縁体層１１の材料には、絶縁体ガラスフリットと樹脂と溶剤などを含む絶縁体ペーストが用いられる。まず、スクリーン印刷法などによって、絶縁体ペーストが所定の厚みでデータ電極１２が形成された背面基板１０上にデータ電極１２を覆うように塗布される。次に、乾燥炉によって、絶縁体ペースト中の溶剤が除去される。最後に、焼成炉によって、絶縁体ペーストが所定の温度で焼成される。つまり、絶縁体ペースト中の樹脂が除去される。また、絶縁体ガラスフリットが溶融する。その後、室温まで冷却することにより、溶融していた絶縁体ガラスフリットが、ガラス化する。以上の工程によって、絶縁体層１１が形成される。ここで、絶縁体ペーストをスクリーン印刷する方法以外にも、ダイコート法、スピンコート法などを用いることができる。また、絶縁体ペーストを用いずに、ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法などによって、絶縁体層１１となる膜を形成することもできる。
【００４９】
次に、フォトリソグラフィ法によって、隔壁１３が形成される。隔壁１３の材料には、フィラーと、フィラーを結着させるためのガラスフリットと、感光性樹脂と、溶剤などを含む隔壁ペーストが用いられる。まず、ダイコート法などによって、隔壁ペーストが所定の厚みで絶縁体層１１上に塗布される。次に、乾燥炉によって、隔壁ペースト中の溶剤が除去される。次に、所定のパターンのフォトマスクを介して、隔壁ペーストが露光される。次に、隔壁ペーストが現像され、隔壁パターンが形成される。最後に、焼成炉によって、隔壁パターンが所定の温度で焼成される。つまり、隔壁パターン中の感光性樹脂が除去される。また、隔壁パターン中のガラスフリットが溶融する。その後、室温まで冷却することにより、溶融していたガラスフリットが、ガラス化する。以上の工程によって、隔壁１３が形成される。ここで、フォトリソグラフィ法以外にも、サンドブラスト法などを用いることができる。
【００５０】
次に、蛍光体層１４が形成される。蛍光体層１４の材料には、蛍光体粒子とバインダと溶剤などとを含む蛍光体ペーストが用いられる。まず、ディスペンス法などによって、蛍光体ペーストが所定の厚みで隣接する複数の隔壁１３間の絶縁体層１１上および隔壁１３の側面に塗布される。次に、乾燥炉によって、蛍光体ペースト中の溶剤が除去される。最後に、焼成炉によって、蛍光体ペーストが所定の温度で焼成される。つまり、蛍光体ペースト中の樹脂が除去される。以上の工程によって、蛍光体層１４が形成される。ここで、ディスペンス法以外にも、スクリーン印刷法などを用いることができる。
【００５１】
以上の工程により、背面基板１０上に、データ電極１２、絶縁体層１１、隔壁１３および蛍光体層１４を有する背面板２が完成する。
【００５２】
４−３、前面板１と背面板２との組立方法
まず、ディスペンス法などによって、背面板２の周囲に封着ペーストが塗布される。封着ペーストは、ビーズと低融点ガラス材料とバインダと溶剤などを含んでいてもよい。塗布された封着ペーストは、封着ペースト層（図示せず）を形成する。次に乾燥炉によって、封着ペースト層中の溶剤が除去される。その後、封着ペースト層は、約３５０℃の温度で仮焼成される。仮焼成によって、封着ペースト層中の樹脂成分などが除去される。次に、表示電極７とデータ電極１２とが直交するように、前面板１と背面板２とが対向配置される。
【００５３】
さらに、前面板１と背面板２の周縁部が、クリップなどにより押圧した状態で保持される。この状態で、所定の温度で焼成することにより、低融点ガラス材料が溶融する。その後、室温まで冷却することにより、溶融していた低融点ガラス材料がガラス化する。これにより、前面板１と背面板２とが気密封着される。最後に、放電空間にＮｅ、Ｘｅなどを含む放電ガスが封入されることによりＰＤＰ２１が完成する。
【００５４】
５、表示電極の詳細な構造と製造方法
次に、本発明のＰＤＰの表示電極７の構成と製造方法について、さらに詳細に説明する。
【００５５】
上述したように、本発明のＰＤＰにおいては、前面板１の表示電極７を構成する走査電極５および維持電極６は、それぞれＩＴＯなどの透明電極を用いず、Ａｇなどの導電性材料からなる導電性電極のみにより構成している。図６に、表示電極７を構成する走査電極５および維持電極６と、データ電極１２と、隔壁１３との配置図を示している。また、図７に、１セル分の走査電極５および維持電極６の例を示している。
【００５６】
図６（ａ）に示すように、表示電極７を構成する走査電極５および維持電極６は、それぞれ梯子型形状をしており、放電ギャップＭＧを介して対向する第１部分５１、６１と、この第１部分５１、６１から間隔をあけて平行に配置された第２部分５２、６２と、この第２部分５２、６２から間隔をあけて平行に配置された第３部分５３、６３と、第１部分５１、６１と第２部分５２、６２と第３部分５３、６３とを交差して接続されかつ放電セル１５毎に設けられた第４部分５４、６４とを備えている。
【００５７】
走査電極５および維持電極６において、図６（ｂ）、図６（ｃ）に示すような開口部をもつフォトマスクを用いる。第１フォトマスク開口部１６により、第１の露光ステップでは、第１部分５１、６１と第３部分５３、６３と第４部分５４、６４は第１の露光のみ行う。次に、第２フォトマスク開口部１７により、第２の露光ステップでは、第２部分５２、６２は第２の露光のみ行う。もし、第１と第２の露光で転写ずれが発生したとしても、表示特性に寄与の大きい走査電極５および維持電極６間の放電ギャップＭＧと、隣接する放電セル１５間の非放電ギャップＩＰＧには影響しないので、安定した表示特性を確保できる。ここで、第１の露光と、第２の露光の順番は逆でも性能に影響しない。更に、表示電極７を構成する走査電極５および維持電極６はそれぞれ梯子型形状をしているので、２回露光しているのと同一の効果があり、たとえ一方のフォトマスクに付着したダストによって欠け・断線部が発生したとしても、他方のフォトマスクを用いた露光によって、その箇所を露光して断線を補償することが可能となり、走査電極５および維持電極６の断線の発生を抑制できる。２回露光による転写ずれを考慮する必要がなくなるので、細線化により遮光面積を減らすことができ、発光輝度を向上することができる。
【００５８】
例えば図６（ａ）に示すように、４２インチＨＤ型ＰＤＰの走査電極５および維持電極６において、前記第１部分５１、６１の幅をＬＬ１、第２部分５２、６２の幅をＬＬ２、第３部分５３、６３の幅をＬＬ３としたとき、ＬＬ１、ＬＬ２、ＬＬ３とも約３０μｍとなるように構成し、走査電極５および維持電極６間の放電ギャップＭＧを約９０μｍ、走査電極５および維持電極６それぞれの第１部分５１、６１と第２部分５２、６２との間のギャップＬＧ１、走査電極５および維持電極６それぞれの第２部分５２、６２と第３部分５３、６３との間のギャップＬＧ２はそれぞれ約６０μｍ、隣接する放電セル１５間の非放電ギャップＩＰＧを約１７０μｍとする。
【００５９】
比較例として、断線補償用のサブパターンがメインパターンよりはみ出さないように、ＬＬ１、ＬＬ２、ＬＬ３の少なくとも１つを５０μｍ以上とする必要がある。例えば、図７（ｂ）に示すようなＬＬ２にのみ２回露光してＬＬ２を約５０μｍとし、ＬＬ１とＬＬ３は約３０μｍ、ＭＧとＩＰＧは本発明と同じ約９０μｍ、約１７０μｍとしている。この比較例と本実施の形態の一例である図７（ａ）の場合と比較すると、遮光面積を約１５％低減でき発光輝度を向上できる。
【産業上の利用可能性】
【００６０】
以上のように本発明は、表示品質のより高いプラズマディスプレイパネルを提供する上で有用な発明である。
【符号の説明】
【００６１】
１  前面板
２  背面板
３  放電空間
４  前面基板
５  走査電極
６  維持電極
７  表示電極
８  誘電体層
９  保護層
１０  背面基板
１１  絶縁体層
１２  データ電極
１３  隔壁
１４Ｒ、１４Ｇ、１４Ｂ  蛍光体層
１５  放電セル
１６  第１フォトマスク開口部
１７  第２フォトマスク開口部
２１  ＰＤＰ
２２  画像信号処理回路
２３  データ電極駆動回路
２４  走査電極駆動回路
２５  維持電極駆動回路
２６  タイミング発生回路
５１、６１  第１部分
５２、６２  第２部分
５３、６３  第３部分
５４、６４  第４部分
【図１】
2013152836.tif 000003
【図２】
2013152836.tif 000004
【図３】
2013152836.tif 000005
【図４】
2013152836.tif 000006
【図５】
2013152836.tif 000007
【図６】
2013152836.tif 000008
【図７】
2013152836.tif 000009