(57)【要約】【課題】被膜によって眼鏡レンズの透明性が確保された場合であってもＣＧ痕が視認されるおそれを低減する眼鏡レンズ及び眼鏡レンズの製造方法を提供する。【解決手段】レンズ基材における光学面に対応する部分が機械加工における切削ツールにて切削されることにより、前記レンズ基材の切削面にうねり構造が形成されたレンズ基材と、眼鏡レンズの透明性を確保するために、前記レンズ基材の切削面に直接設けられる被膜と、を有し、眼鏡レンズの投影検査の際に、前記うねり構造又はそれに起因して生じた周期構造が、眼鏡レンズに対する研磨前の状態において視認されないようにする表面粗さが、眼鏡レンズの最表面に加えられていることを特徴とする。但し、前記うねり構造は、前記切削において切削ツールにより直接形成される切削ツール起因構造とは別に形成される周期構造であって、前記切削ツール起因構造よりも大きな周期を有する周期構造である。【選択図】図５
2013210471.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レンズ基材における光学面に対応する部分が機械加工における切削ツールにて切削されることにより、前記レンズ基材の切削面にうねり構造が形成されたレンズ基材と、
眼鏡レンズの透明性を確保するために、前記レンズ基材の切削面に直接設けられる被膜と、
を有し、
眼鏡レンズの投影検査の際に、前記うねり構造又はそれに起因して生じた周期構造が、眼鏡レンズに対する研磨前の状態において視認されないようにする表面粗さが、眼鏡レンズの最表面に加えられていることを特徴とする眼鏡レンズ。
但し、前記うねり構造は、前記切削において切削ツールにより直接形成される切削ツール起因構造とは別に形成される周期構造であって、前記切削ツール起因構造よりも大きな周期を有する周期構造である。
【請求項２】
前記切削ツールの切削ツール径及び切削ツール送り量のうち少なくとも一つに応じて前記表面粗さが決定されることを特徴とする請求項１に記載の眼鏡レンズ。
【請求項３】
レンズ基材における光学面に対応する部分を機械加工おける切削ツールにより切削することにより、前記レンズ基材の切削面にうねり構造を形成する切削工程と、
眼鏡レンズの透明性を確保するために、前記レンズ基材の切削面の上に被膜を直接設ける被膜形成工程と、
眼鏡レンズの投影検査の際に、前記うねり構造又はそれに起因して生じた周期構造が、眼鏡レンズに対する研磨前の状態において視認されないようにする表面粗さを、眼鏡レンズの最表面に加える表面粗さの調整工程と、
を有することを特徴とする眼鏡レンズの製造方法。
但し、前記うねり構造は、前記切削工程において切削ツールにより直接形成される切削ツール起因構造とは別に形成される周期構造であって、前記切削ツール起因構造よりも大きな周期を有する周期構造である。
【請求項４】
前記切削ツールの切削ツール径及び切削ツール送り量のうち少なくとも一つに応じて前記表面粗さを決定することを特徴とする請求項３に記載の眼鏡レンズの製造方法。
【請求項５】
レンズ基材の光学面に対応する部分が機械加工における切削ツールにて切削されることにより切削面が形成されており、眼鏡レンズの透明性を確保するための被膜を前記切削面に対して配置自在な眼鏡レンズにおいて、
前記レンズ基材の切削面にはうねり構造が形成されており、
前記被膜が配置された後の状態且つ眼鏡レンズに対する研磨前の状態において前記うねり構造又はそれに起因して生じた周期構造が眼鏡レンズの投影検査の際に視認されないようにする表面粗さが、眼鏡レンズの最表面に加えられていることを特徴とする眼鏡レンズ。
但し、前記うねり構造は、前記切削において切削ツールにより直接形成される切削ツール起因構造とは別に形成される周期構造であって、前記切削ツール起因構造よりも大きな周期を有する周期構造である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、眼鏡レンズ及び眼鏡レンズの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
眼鏡レンズの光学面は、高い面精度が要求される。このため、従来の光学面は、機械加工を用いた切削加工及び研磨加工によって創成されていた（例えば、本出願人による特許文献１参照）。
【０００３】
しかしながら研磨工程では、専用機器及び多数の工具が必要となる。なぜなら、研磨工程においては、切削加工においてレンズ基材の光学面に対応する部分に形成された切削面に対し、工具の形状を合わせる必要があるためである。仮に、工具の形状と切削面が上手く合わなければ、機械加工された表面を過度に変形させることになり、ひいては、表面の種々の箇所の曲率が損なわれることになる。
【０００４】
その一方、眼鏡レンズには、従来の球面とトーリック面構成の単焦点レンズ、非球面形状の単焦点レンズ、度数が表面上変化する累進レンズ等々、多岐に亘る種類が存在する。更に近年、同一度数のレンズでも、患者の個別パラメータによって異なる形状の面を使用するいわゆる個別対応レンズも登場している。つまり、眼鏡レンズは装用者のオーダーメイド（カスタムメイド）で製造されるものであり、個々の装用者の処方が反映されていることから、眼鏡レンズの表面を極めて複雑な形状に形成する必要がある。そのため、工具の形状と切削面とを合わせる際に、極めて精緻に研磨を行う必要もあるし、所定の形状を有する工具を細かく分類して多数用意する必要もある。研磨工程を行うだけでも、眼鏡レンズの製造工程において相当な時間を費やすことになり、費用もかかる。その結果、最終製品の眼鏡レンズにその分のコストを上乗せしなければならず、眼鏡レンズの製造者のみならず、眼鏡レンズの装用者にとっても負担が増大してしまう。
【０００５】
そこで、近年では、上記の研磨工程を省略するための試みがなされている（例えば、特許文献２〜５参照）。
【０００６】
本出願人による文献であって、眼鏡レンズに関する特許文献２においては、表面粗さＲｔが０．０５μｍ以下であれば機械加工による切削痕（以降、単に「切削痕」とも言う。）は作業者の肉眼では視認不可能のはずだったが、日本工業規格（ＪＩＳ）で推奨している光源（超高圧水銀灯）で検査したところ、表面粗さＲｔが０．０５μｍ以下であっても切削痕が確認されたことが記載されている。そして、上記の状況を打開する手段として、特許文献２の［請求項１］等には、レンズ基材が機械加工された切削面にレンズ基材と同一の材料からなる被膜溶液を塗布し、塗布された被膜溶液を加熱硬化させて被膜を形成することが記載されている。こうすることにより、特許文献２の［００６０］［００６１］に記載のように、切削ツール（バイト）による螺旋状の突状体と溝とからなる切削加工痕が観察されなくなる。なお、特許文献２の［０００９］には、表面粗さＲｔを５μｍ程度以下にし、被膜の材料を眼鏡レンズの材料とは異なるようにした場合は、屈折率の違いにより加工痕跡の存在を完全には打ち消すことができないことも記載されている。
【０００７】
なお、レンズに関する特許文献３において、例えば［００１３］や［請求項１］には、表面粗度を所定の範囲に収めるよう、機械加工による切削面に対して透明な薄膜を形成することが記載されている。
【０００８】
また、眼鏡レンズに関する特許文献４において、例えば［００２３］には、機械加工による切削面に対してワニスを塗布し、表面粗さＲａを減少させることにより、研磨状態を省略することが記載されている。
【０００９】
また、同じく眼鏡レンズに関する特許文献５においても、例えば［００３１］には、機械加工による切削面に対してワニスを塗布し、表面粗さＲａを減少させることにより、研磨状態を省略することが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】ＷＯ２００５／０８４８８５号公報
【特許文献２】ＷＯ２００７／１４２１３６号公報
【特許文献３】特開２００２−１８２０１１号公報
【特許文献４】特表２００３−５２６８１０号公報
【特許文献５】特表２００３−５２５７６０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
確かに、特許文献２〜５のように、研磨工程を省略するための種々の手法が開示されている。その一方、眼鏡レンズ製造者やその取引先等から、上記の手法を用いても切削痕が目視で確認できるくらいに生じる場合があるという報告が、本出願人の元へと届いている。そして目視で確認できる切削痕は、図２に示されたような数１００μｍの周期を有する加工痕（うねり構造）であるという報告が、本出願人の元へと届いている。
【００１２】
なお本明細書における「切削痕」とは、ＣＧ加工により視認される痕のことを指す。そして、この切削痕には、例えば切削ツール起因構造による加工痕等、種々の加工痕が含まれる。その中でも、切削ツールにより直接形成される切削ツール起因構造とは別に形成される周期構造であって、切削ツール起因構造よりも大きな周期を有する加工痕のことを「ＣＧ痕」と言う。
【００１３】
本発明の目的は、被膜によって眼鏡レンズの透明性が確保された場合であってもＣＧ痕が視認されるおそれを低減する眼鏡レンズ及び眼鏡レンズの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記の報告を受け、本発明者らは、上記の課題を解決するための手法について検討を始めた。その際、切削痕が目視で確認されるそもそもの原因について調査した。特許文献２〜５のように、従来だと、眼鏡レンズの表面粗さを低減させることができれば、切削痕が目視で確認できなくなると考えられていた。本発明者らは、その考え自体に疑問を抱き、表面粗さ以外の原因が存在するのではないか、と推察した。更に本発明者らは、その原因は機械加工に由来するものではないか、と推察した。
【００１５】
機械加工について説明を加えると、例えば眼鏡用のプラスチックレンズを構成する樹脂素材に対する加工においては、カーブジェネレータと呼ばれる装置（以降、「ＣＧ装置」と言う。）を用いて、カーブジェネレーティング加工（以降、「ＣＧ加工」と言う。）と呼ばれる機械加工が行われている。このＣＧ加工においては、加工ツールとして例えば先端に丸みを帯びたバイトが用いられる。そして、眼鏡用のプラスチックレンズを回転させながらバイトを接触させ、レンズ基材をＣＧ加工する。そして、レンズ基材を回転させながら、例えば外周から幾何中心へとバイトを移動させる。その結果、レンズ基材は所定の光学面形状に切削されるものの、レンズ基材の切削面には、図１に示すように、バイトに起因する突状体と溝とが形成されることになる（以降、「加工ツール起因構造」とも言う）。図１は、ＣＧ加工後のレンズ基材の外周から幾何中心へと向かう方向からレンズ基材を平面視又は断面視した際の、突状体と溝とを示す説明図である。（ａ）はレンズ基材の平面図であり実線が突状体の部分を示し、（ｂ）はＳＤが比較的大きい場合の断面図であり、（ｃ）はＳＤが比較的小さい場合の断面図である。なお、図中の破線は、突状体と溝とからなる加工ツール起因構造を強調するための線である。以降、突状体と溝のことを単に「凹凸」とも言う。また、以降、眼鏡レンズにおいてＣＧ加工前の状態、そしてＣＧ加工後であってＣＧ加工面上に別の部材（例えばハードコート膜）が膜として設けられる前の状態のものを「レンズ基材」とも言う。一方、ＣＧ加工面上に別の部材が膜として設けられた後の状態のものを「眼鏡レンズ」又は単に「レンズ」とも言う。
【００１６】
なお、バイトの送り量が大きければ、自ずとバイト径（切削ツール径）も大きくせざるを得なくなる。そうなると、図１（ａ）に示すように、数は少ないけれども大きな凸部を残してしまうことになる。そして、表面粗さは自ずと高くなってしまう。一方、切削ツールの送り量が小さければ、図１（ｂ）に示すように、数は多いけれども小さな凸部しか残らず、表面粗さは自ずと低くなる。つまり、従来の考えが正しいのならば、切削ツールの送り量が小さいほど、表面粗さを低くすることができ、切削痕を視認不可能な状態にすることが可能となるはずであった。
【００１７】
しかしながら本発明者らは、上記の従来の考えに疑問を抱き、切削ツールの送り量と、実際にＣＧ加工を行ったレンズ基材において、視認され得る程度（例えば図５（ｃ）に示すように数１００μｍ周期の）加工痕が視認されるか否かの結果との関係について調査した。
【００１８】
なお以降、「切削ツールの送り量」のことを「ＳＤ（Ｓｐｉｒａｌ  Ｄｉｓｔａｎｃｅ）」とも言う。なお、Ｓｐｉｒａｌ（螺旋）という単語を用いているが、本明細書における螺旋は、従来における螺旋とは若干意が異なる。つまり、従来の螺旋は、中心点から渦を巻くように線が形成され、外周方向に向かうにつれて、隣接する線と線の間が広くなる。一方、本明細書における「螺旋」は、外周方向に向かっても、隣接する線と線の間は略一定である。また、ここで言う「略一定」とは、ＳＤを一定に設定し、その設定どおりにＣＧ加工が行われた場合を含むのはもちろんのこと、ＳＤを一定に設定したが光学面の所々で誤差程度にＳＤにバラつきがある場合も含む。そのため、少なくとも本明細書におけるＣＧ加工においては、レンズ基材の外周から幾何中心へと向かう方向からレンズ基材を断面視すると、図１に示すような凹凸の切削ツール起因構造が形成されている。
【００１９】
本発明者らによる上記調査の結果、ハードコート膜をレンズ基材に形成した後の写真である図２（ａ）に示すように、ＳＤが２５μｍの場合だとＣＧ痕が視認されなくなる。この結果だけを考慮するならば、ＳＤが小さくなればなるほど、ＣＧ痕が視認されにくくなるはずである。しかしながら、図２（ｂ）（ＳＤが８μｍ）、図２（ｃ）（ＳＤが５μｍ）、図２（ｄ）（ＳＤが１μｍ）に示すように、ＳＤが小さくなっているにもかかわらず、ＣＧ痕が視認されること、特にＳＤが１μｍの場合だと、ハードコート膜をレンズ基材に形成していたとしても、再び激しくＣＧ痕が視認されることを、本発明者らによる鋭意努力の末、技術的に確立した。
【００２０】
従来の考えとは全く異なるこの新たな発見に基づき、本発明者らは、ＣＧ痕が視認されるメカニズムについて検討を加えた。その結果、ＣＧ痕が視認されるか否かは、「表面粗さ」もさることながら、「ＳＤ」が大きく寄与している、という知見を本発明者らは得た。そして、後述の実施例における図５（ｃ）のように、ＳＤの周期を有する加工ツール起因構造に加え、レンズ基材の主表面には更に大きな周期を有する別の「うねり構造」が形成されている、という知見を本発明者らは得た。
【００２１】
上記の知見に基づき、本発明者は、機械加工によるレンズ基材の切削により形成されるうねり構造と、眼鏡レンズの最表面における表面粗さ（例えば加工ツール起因構造によりもたらされる表面粗さ）とを協働させる、という知見を得た。この知見は、従来のように表面粗さを単に低減させるという考え方とは全く異なる。つまり、本発明においては、「眼鏡レンズの最表面に対して構造的な調整を行い、レンズ基材に形成されたうねり構造と組み合わせる」という知見に基づいてなされたものである。
【００２２】
以上の知見に基づいて成された本発明の態様は、以下の通りである。
本発明の第１の態様は、
レンズ基材における光学面に対応する部分が機械加工における切削ツールにて切削されることにより、前記レンズ基材の切削面にうねり構造が形成されたレンズ基材と、
眼鏡レンズの透明性を確保するために、前記レンズ基材の切削面に直接設けられる被膜と、
を有し、
眼鏡レンズの投影検査の際に、前記うねり構造又はそれに起因して生じた周期構造が、眼鏡レンズに対する研磨前の状態において視認されないようにする表面粗さが、眼鏡レンズの最表面に加えられていることを特徴とする眼鏡レンズである。
但し、前記うねり構造は、前記切削において切削ツールにより直接形成される切削ツール起因構造とは別に形成される周期構造であって、前記切削ツール起因構造よりも大きな周期を有する周期構造である。
本発明の第２の態様は、第１の態様に記載の態様であって、
前記切削ツールの切削ツール径及び切削ツール送り量のうち少なくとも一つに応じて前記表面粗さが決定されることを特徴とする。
本発明の第３の態様は、
レンズ基材における光学面に対応する部分を機械加工おける切削ツールにより切削することにより、前記レンズ基材の切削面にうねり構造を形成する切削工程と、
眼鏡レンズの透明性を確保するために、前記レンズ基材の切削面の上に被膜を直接設ける被膜形成工程と、
眼鏡レンズの投影検査の際に、前記うねり構造又はそれに起因して生じた周期構造が、眼鏡レンズに対する研磨前の状態において視認されないようにする表面粗さを、眼鏡レンズの最表面に加える表面粗さの調整工程と、
を有することを特徴とする眼鏡レンズの製造方法である。
但し、前記うねり構造は、前記切削工程において切削ツールにより直接形成される切削ツール起因構造とは別に形成される周期構造であって、前記切削ツール起因構造よりも大きな周期を有する周期構造である。
本発明の第４の態様は、第３の態様に記載の態様であって、
前記切削ツールの切削ツール径及び切削ツール送り量のうち少なくとも一つに応じて前記表面粗さを決定することを特徴とする。
本発明の第５の態様は、
レンズ基材の光学面に対応する部分が機械加工における切削ツールにて切削されることにより切削面が形成されており、眼鏡レンズの透明性を確保するための被膜を前記切削面に対して配置自在な眼鏡レンズにおいて、
前記レンズ基材の切削面にはうねり構造が形成されており、
前記被膜が配置された後の状態且つ眼鏡レンズに対する研磨前の状態において前記うねり構造又はそれに起因して生じた周期構造が眼鏡レンズの投影検査の際に視認されないようにする表面粗さが、眼鏡レンズの最表面に加えられていることを特徴とする眼鏡レンズである。
但し、前記うねり構造は、前記切削において切削ツールにより直接形成される切削ツール起因構造とは別に形成される周期構造であって、前記切削ツール起因構造よりも大きな周期を有する周期構造である。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、被膜によって眼鏡レンズの透明性が確保された場合であってもＣＧ痕が視認されるおそれを低減する眼鏡レンズ及び眼鏡レンズの製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】ＣＧ加工後のレンズ基材の外周から幾何中心へと向かう方向からレンズ基材を平面視又は断面視した際の、突状体と溝とを示す説明図である。（ａ）はレンズ基材の平面図であり実線が突状体の部分を示し、（ｂ）はＳＤが比較的大きい場合の断面図であり、（ｃ）はＳＤが比較的小さい場合の断面図である。
【図２】本実施例のレンズ基材において、ＣＧ痕の視認度合いとＳＤとの関係を示す写真であり、超高圧水銀ランプの透過光によるレンズ内面の投影検査を  行った際のレンズ基材の平面視写真である。（ａ）はＳＤが２５μｍの場合の写真、（ｂ）はＳＤが８μｍの場合の写真、（ｃ）はＳＤが５μｍの場合の写真、（ｄ）はＳＤが１μｍの場合の写真である。
【図３】本実施形態（変形例）における眼鏡レンズの断面概略図である。（ａ）は眼鏡レンズの全体図であり、（ｂ）は（ａ）のＡの部分の拡大図である。
【図４】ＮＣ制御のカーブジェネレータの概略構成を示す図である。
【図５】図２に対応するＳＤとＣＧ痕の視認度合いとの関係を定量的に表したグラフである。（ａ）はＳＤ（横軸）と表面粗さＲｔ（縦軸）との関係を表すグラフであり、（ｂ）はＳＤ（横軸）とうねり構造の振幅Ｗｔ（縦軸）との関係を表すグラフであり、（ｃ）はＳＤ（横軸）とうねり構造の周期Ｓ（縦軸）との関係を表すグラフである。
【図６】ＳＤ、うねり構造の振幅Ｗｔ及び表面粗さＲｔとの相互関係を説明する断面概略図である。（ａ）は図１（ａ）に対応し、（ｂ）は図１（ｂ）に対応し、（ｃ）は変形例に対応する。
【図７】図２に対応するＳＤとＣＧ痕の視認度合いとの関係を定量的に表したグラフである。（ａ）はＳＤ（横軸）と表面粗さＲａ（縦軸）との関係を表すグラフであり、（ｂ）はＳＤ（横軸）とうねり構造の振幅Ｗａ（縦軸）との関係を表すグラフである。
【図８】スピン処理部に眼鏡レンズを搬送した様子を示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、本発明の実施の形態について説明する。順序としては、以下の順序で説明を行う。
１．眼鏡レンズ 
Ａ）眼鏡レンズの全体構成
Ｂ）レンズ基材（レンズ基材に加工を施すＣＧ装置の概要についての説明）
Ｃ）被膜
Ｄ）その他
２．眼鏡レンズの製造方法
Ａ）レンズ基材の選定
Ｂ）ＣＧ加工（切削工程）
Ｃ）被膜形成工程
Ｄ）その他（カラー染色・検査・超音波洗浄・マルチコート加工等）
３．実施の形態による効果
４．変形例
なお、本実施形態においては、眼鏡レンズとして眼鏡用のプラスチックレンズを一例に挙げて、説明を行う。以降、眼鏡レンズのみならず眼鏡用のプラスチックレンズについても、説明の便宜上、「眼鏡レンズ」又は単に「レンズ」とも言う。
【００２６】
＜１．眼鏡レンズ＞
Ａ）眼鏡レンズの全体構成
図３に、本実施形態における眼鏡レンズ１の断面概略図を示す。（ａ）は眼鏡レンズ１の全体図、（ｂ）は（ａ）のＡの部分の拡大図である。
本実施形態における眼鏡レンズ１は、レンズ基材２における光学面に対応する部分が機械加工における切削ツールにて切削されることにより、レンズ基材２の切削面にうねり構造が形成されたレンズ基材２を有している。それに加え、眼鏡レンズ１の透明性を確保するために、レンズ基材２の切削面に直接設けられる被膜３を有している。その上で、眼鏡レンズ１の投影検査の際に、うねり構造又はそれに起因して生じた周期構造が、眼鏡レンズ１に対する研磨前の状態において視認されないようにする表面粗さが、眼鏡レンズの最表面に加えられている。
以下、詳細について、具体例を挙げて説明する。なお、本実施形態においては、図３に示すように、レンズ基材２において、眼球側の光学面（凹面）にうねり構造を設ける一方、物体側の光学面（凸面）にはうねり構造を設けない場合（即ち研磨後又はＣＧ加工前の状況）について説明する。
【００２７】
Ｂ）レンズ基材
レンズ基材２は、眼鏡レンズ１の基となるものであり、レンズ基材２の主表面に光学面が形成されることにより、眼鏡レンズ１としての機能が発揮される。本実施形態における眼鏡レンズ１のレンズ基材２としては、例えば、メチルメタクリレートと一種以上の他のモノマーとの共重合体、ジエチルグリコールビスアリルカーボネートと一種以上の他のモノマーとの共重合体、ポリカーボネート、ウレタン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、不飽和ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリウレタン、ポリチオウレタン、エンチオール反応を利用したスルフィド、硫黄を含むビニル重合体等が挙げられる。また、本発明におけるレンズ基材２としては、プラスチックレンズ基材または眼鏡用ブラスチックレンズ基材が好ましいが、中でもウレタン系レンズ基材とアリル系レンズ基材が更に好適である。もちろん、レンズ基材２はプラスチックレンズ以外であっても良く、ガラスレンズであっても構わない。
【００２８】
本実施形態において、レンズ基材２は、ジエチルグリコールビスアリルカーボネートによって製造されている。このようなレンズ基材２は、例えば特開２００５−１４１１６２号公報に開示されている成鋳型用鋳型にモノマーを充填した後、電気炉によって一定時間加熱されることにより製造される。成型用鋳型は、筒状のガスケットと、このガスケット内に組み込まれる一対のモールドとで構成されている。成型用鋳型内のモノマーは、電気炉によって一定時間加熱されると重合して硬化しレンズ基材２となり鋳型から取り出される。
【００２９】
次に、成形用鋳型から取り出されたレンズ基材２は、両面又は片面が旋盤等の加工機によって切削（研削）加工されることによりレンズ基材２が製造される。このため、得られたレンズ基材２の光学面２ａは、機械加工面からなる切削面であり、螺旋状のＣＧ痕が形成されている。なお、光学面２ｂについては、上述の通り研磨されている、又は、機械加工そのものを行わない。ここでは光学面２ｂについても機械加工を行い、その後、研磨される場合について述べる。ただ、光学面２ｂに対する研磨については公知の手法を用いているため省略する。
なお、本明細書における「切削面」とは、機械加工による切削（研削）後であって、鏡面研磨が行われていない状態のままの面のことを指す。
【００３０】
このようなレンズ基材２の光学面２ａ，２ｂは、加工機として例えば図４に示すような、ＮＣ制御されるＣＧ装置１０によって形成される。  
【００３１】
ＣＧ装置１０は、以下のような加工機である。先ず、加工目的たる曲面の特定点を通る回転軸を中心に円形のレンズ基材２を回転させながら、加工目的の曲面形状を形成する。その際、切削刃のレンズ基材２に対する距離および回転軸に対する距離を、形成目的の曲面形状に従ってコンピュータ制御する。即ち、このＣＧ装置１０は、切削刃自体は回転せず、レンズ基材２をその幾何中心で回転させる。そして、光学面形状をトレースするように、外周から幾何中心まで、レンズ基材の径方向において所定のピッチ（後のＳＤ）でダイヤモンドの刃先を送りながら加工する。なお、この「送り」の量が、切削ツール送り量である。本実施形態におけるＣＧ装置１０は、以上の構成を有する３軸制御の加工機である。  
【００３２】
更に、ＣＧ装置１０の構成を概略的に説明すると、このＣＧ装置１０は、下軸Ｃと上軸Ｄとを備えている。下軸Ｃにはレンズ基材２が取付けられており、下軸Ｃ自体は移動せずに軸回転する。一方、上軸Ｄは、荒削り用の第１のバイトＦが取付けられた第１の上軸部Ｇと、仕上げ切削用の第２のバイトＨが取付けられた第２の上軸部Ｉとを備えている。上軸Ｄは、加工時に水平方向に移動することにより第１、第２の上軸部Ｇ，Ｉを切り替える。切削ツールであるバイトＦ，Ｈの切削刃Ｂの材質としては、例えば焼結された多結晶ダイヤモンドや単結晶の天然ダイヤモンドが用いられる。レンズ基材２の凹側の面を所定の曲面からなる光学面２ａに加工するためには、マトリックスで表された凹面の設計形状高さデータがＮＣ制御部に送られる。  
【００３３】
レンズ基材２の切削加工に際して、下軸Ｃにはレンズ基材２を取り付けた上で、下軸Ｃを回転させる。第１のバイトＦは、レンズ基材２の外周からの半径方向と上下方向の２軸にて制御される。そして、切削刃Ｂによってレンズ基材２の凹面を荒加工する。次いで、第２のバイトＨは、同じくレンズ基材２の外周からの半径方向と上下方向の２軸にて制御される。そして、切削刃Ｂによってレンズ基材２の凹面を仕上げ加工する。上記のようＣＧ加工を行うことにより、レンズ基材２の切削面である光学面２ａには、凹凸の切削ツール起因構造及びそれよりも大きな周期を有する別のうねり構造が形成されることになる。なお、切削ツール起因構造は、上述の通り、外周方向に向かっても、隣接する線と線の間は略一定である。そして、この隣接する線と線の間の距離は、ＳＤ（切削ツール送り量、Ｓｐｉｒａｌ  Ｄｉｓｔａｎｃｅ）に対応する。また、「うねり構造」は、機械加工において切削ツールにより直接形成される切削ツール起因構造とは別に形成される周期構造であって、切削ツール起因構造よりも大きな周期を有する周期構造である。「周期構造」とは、凹凸が周期的に形成されている構造が含まれるのはもちろんのこと、厳密に一定周期を有さない構造であっても、フォームタリサーフ装置など公知の装置で周期性を認識し得る構造のことを指す。
【００３４】
本発明者らは、レンズ基材２の光学面となる部分を螺旋状にＣＧ加工することにより、表面が単に荒れるという観点ではなく、凹凸のうねり構造が形成されている、という観点で、ＣＧ痕発生のメカニズムを検討した。その結果、ＣＧ痕が単に表面粗さのみならず、レンズ基材２の切削面における加工ツール起因構造、ＣＧ加工の際のＳＤに起因しつつも、特に、加工ツール起因構造よりも大きな周期を有するうねり構造に主に起因するものであることを突き止めた。そして、うねり構造を形作る要因の中でも、特に、うねり構造の振幅がＣＧ痕の発生に影響を与えているということを本発明者らは突き止めた。それを示すがごとく、図２のように、レンズ基材２に対する切削を行う際のＳＤ（即ち加工ツール起因構造の周期、以降同様。）が小さくなるからといって、周期性のあるＣＧ痕（即ちうねり構造）が見えなくなるわけではない、という関係が生じている。なお、「周期性のあるＣＧ痕」とは、図２に示すように、投影検査によって、周期的に明暗が生じる痕のことを言う。また、本実施形態における投影検査は、超高圧水銀ランプの透過光による投影検査について述べている。しかしながら、本発明はこの検査方法に限定されるものではない。投影検査の光源としては、超高圧水銀ランプはもちろんのこと、蛍光灯やそれ以外の公知の光源を使用することが可能である。
【００３５】
そこで、ＣＧ痕の視認度合いと、ＳＤ及びうねり構造の振幅との間の関係について、本発明者らは調査した。その調査結果として、図２に対応するＣＧ痕の視認度合いを、ＳＤ（横軸）とうねり構造の振幅Ｗｔとの関係で定量的に表したものが図５である。なお、うねり構造の振幅Ｗｔは、眼鏡レンズ１の主表面において、例えば天地方向から見て最も地の側から最も天の側へと至るまでの、うねり構造の振幅の最大値を示し、凹凸のうねり構造を形成する凸部の頂点（山の頂上）の最大値と凹部の頂点（谷の底）の最大値との差を示す。なお、同様に、表面粗さＲｔは、天地方向から見て最も地の側から最も天の側へと至るまでの、粗さ曲線の山高さ（ｐｒｏｆｉｌｅ  ｐｅａｋ  ｈｅｉｇｈｔ）の最大値と谷深さ（ｐｒｏｆｉｌｅ  ｖａｌｌｅｙ  ｄｅｐｔｈ）の最大値との差を示す。
【００３６】
ここで図５（ａ）を見ると、ＳＤが１００μｍから減少するにつれて、表面粗さＲｔも減少している。これは図１に示すように、ＳＤが小さくなると凸部も小さくなり、表面粗さが小さくなることで説明可能である。その一方、図５（ｂ）を見ると、ＳＤが１００μｍ→５０μｍ→２５μｍに進むにつれてうねり構造の振幅Ｗｔが減少しているけれども、２５μｍを境として、２５μｍ→５μｍ→１μｍに進むにつれてうねり構造の振幅Ｗｔが増加に転じている。なお、表面粗さＲｔは、表面粗さの最大値を示し、例えば所定の形状の面において、粗さの原因となっているでっぱりの頂点からえぐれ部分の頂点との間の距離を示す。
【００３７】
このメカニズムについては、現在、本発明者らが鋭意検討中である。推測ではあるが、以下のようなメカニズムが考えられる。
まず、ＳＤが小さすぎると、図１（ｂ）に示すように、表面粗さもまた著しく小さくなってしまう。これは図５（ａ）が示すとおりである。そうなると今度は、ＳＤ、うねり構造の振幅Ｗｔ及び表面粗さＲｔとの相互関係を説明する断面概略図である図６（ａ）に示すように、表面粗さが小さい分、今度はうねり構造が際立ち過ぎてしまう。その結果、図５（ｂ）に示されるように、うねり構造に起因したＣＧ痕が明瞭に視認されることになってしまっているのではないかと考えられる。
一方、図１（ａ）のようにＳＤが比較的大きい場合（例えば２５μｍ）、表面粗さが比較的大きくなる。これは図５（ａ）が示すとおりである。ただ、この場合、表面粗さが大きくなる分、うねり構造の周期性が表面粗さにより失われることになる。そのため、図６（ｂ）に示すように、仮にレンズ基材２の主表面に形成されたうねり構造の山の頂上から谷の底までの距離が、ＳＤが１μｍの場合よりも大きいとしても、当該距離は「うねり構造の振幅としては認識されにくくなる」と推測される。その結果、ＳＤを２５μｍとしてＣＧ加工を行うと、図５（ｂ）に示されるように、うねり構造に起因したＣＧ痕が視認されなくなると推測される。
この推測については、本発明者らが鋭意確認中であるが、図５（ｃ）のように、単にＳＤを大きくしたとしても、眼鏡レンズ１（ここではレンズ基材２）の最表面に形成されているうねり構造の周期Ｓはあまり変動しないことからも、単に表面粗さや単にＳＤに起因して加工ツール起因構造がそのまま視認されるのではなく、表面粗さやＳＤ等が複雑に相関することにより、ＳＤとは異なる大きさのうねり構造が視認されるようになっていることがわかる。
【００３８】
また、ＣＧ加工の際に、切削ツール起因構造よりも大きなうねり構造が生じるメカニズムについても、現在、本発明者らが鋭意検討中である。ただ、うねり構造が生じる要因については、以下のような推測が可能である。
うねり構造の発生原因としては、ＣＧ装置１０が有する癖とも言える固有振動や外乱が挙げられる。また、うねり構造が生じる他の要因としては、ＳＤ、レンズ基材２の表面粗さ等々が、うねり構造が生じる要因として挙げられる。なお、ＳＤがうねり構造の形成に関係あると仮定するならば、ＳＤは、主にうねり構造の形状（うねり構造の振幅Ｗｔや周期Ｓ）及び表面粗さＲｔをもたらす要因の一つとなっていると考えられる。その一方、ＳＤがうねり構造の形成に関係ないと仮定するならば、ＳＤは主に表面粗さＲｔをもたらす要因の一つとなっていると考えられる。
【００３９】
以上のように、本実施形態によれば、実際に眼鏡レンズ１を作製する前に、ＣＧ加工の際のＳＤを所定の値としたり、レンズ基材２の主表面に加えられる表面粗さを制御したりすることにより、ＣＧ痕の視認を効果的に抑制できる。
【００４０】
なお、上記のＣＧ痕は、一般の干渉縞とは全く異なる。一般の干渉縞は、異なる周期構造や異なる屈折率を有するものが重なり合って、光が投下した際に明暗が生じることにより形成される。一方、ＣＧ痕は、所定の凹凸のうねり構造を有する透過性レンズに対し、光が入射した際に、例えば凸部全体に光軸方向の光が入射した際、光が屈折することにより、凸部の下部において明暗が生じることにより形成される。また、一般の干渉縞ならば、被膜３を単に厚くすれば消失する。一方、ＣＧ痕の場合、被膜３を何の手当もせずに単に厚くしたとしても、上述の通り、レンズ基材２のうねり構造が伝達されることにより、眼鏡レンズ１の最表面にはうねり構造が形成されることになる。そうなると、ＣＧ痕は相変わらず視認されてしまうという状況に陥る。そこで本実施形態のように、眼鏡レンズ１の最表面（即ちレンズ基材２の主表面）に所定の表面粗さを加える表面粗さの調整を行うことにより、ＣＧ痕が視認されない状況を作り出すことができる。
【００４１】
なお、本実施形態におけるうねり構造は、例えば特開２０１１−２２１２７２号公報等に記載のように、反射防止膜の主表面に形成される従来の凹凸とはその意味合いが全く異なる。反射防止膜は、その名の通り、主表面にて光が反射しにくくなるようにすべく、その主表面に凹凸が形成されている。一方、うねり構造は、ＣＧ痕の原因となるものであり、本来ならば対処すべき要因である。そして、本実施形態においては、うねり構造が存在するとしても、上記の表面粗さの調整が行われたものであるならば、ＣＧ痕が視認されなくなるという顕著な効果を奏する。このように、両者の間では導き出される効果が全く異なる。
【００４２】
Ｃ）被膜（ハードコート膜）
本実施形態においては、切削ツール起因構造が形成されたレンズ基材２の切削面の上に、被膜３が直接設けられる。この被膜３は、眼鏡レンズ１の透明性を確保するためのものである。なお、ここで言う「眼鏡レンズの透明性を確保」とは、ＣＧ加工の後であって鏡面研磨が行われていないレンズ基材２の切削面に対し、ＣＧ痕以外の切削痕が視認されないようにすることを指す。ＣＧ痕については、レンズ基材２に対してうねり構造の振幅をＳＤにて制御することにより、うねり構造の形成を抑制し、最終的にはＣＧ痕が視認されないようにする。
【００４３】
レンズ基材２の上に設けられる被膜３は、上記レンズ基材２の切削面に上記被膜３の原料を塗布し、それを硬化させることにより形成されたものである。この被膜３は、切削面を覆うように形成されたハードコート膜であり、レンズ基材２の硬度を高めるとともに耐擦傷性を向上させるためのものでもある。この被膜３は、例えば、シリコン系樹脂などの有機物質によって形成される。
【００４４】
Ｄ）その他
もちろん、レンズ基材２以外の部材を、眼鏡レンズ１に設けても構わない。例えば、図３に示すような反射防止膜、フォトクロミック膜、撥水コート、防曇性組成物膜等、公知の部材を設けても構わない。また、レンズ基材２と被膜３との間に、中間部材を設けても構わない。結局のところ、眼鏡レンズ１の最表面において、上述のような表面粗さを有するうねり構造が最終的に形成されていれば、レンズ基材２や被膜３以外の部材を別途用いても構わない。
【００４５】
＜２．眼鏡レンズの製造方法＞
眼鏡レンズ１の製造方法においても、眼鏡レンズ１の最表面において、上述のような表面粗さを有するうねり構造が最終的に形成されるのならば、以下の各工程の具体的手法は、例えば特許文献２に記載されている公知の手法であっても構わない。また、同様に、以下に記載されていない公知の工程を別途設けても構わない。以下、本実施形態における眼鏡レンズ１の製造方法の一例を挙げる。
【００４６】
Ａ）レンズ基材の選定
レンズ基材２としてはどのような形状のレンズ基材２を用いても構わない。本実施形態においては、物体側の面に凸形状を形成し、眼球側の面に凹形状を形成する例について述べる。そして、眼球側の面に凹形状を形成する際、その最表面にうねり構造を形成する例について述べる。
【００４７】
Ｂ）ＣＧ加工（切削工程）
レンズ保持具にレンズ基材２をブロッキングした後、本実施形態においては、レンズ基材の光学面となる部分に凹凸の加工ツール起因構造を形成する。ただその際、眼鏡レンズ１に対する研磨前の状態において超高圧水銀ランプの透過光による眼鏡レンズ１の投影検査の際にＣＧ痕が視認されないようにする表面粗さを、眼鏡レンズ１の最表面（レンズ基材２の主表面）に加える表面粗さの調整を行う。本実施形態においては、機械加工で用いられる切削ツール径及び切削ツール送り量のうち少なくとも一つに応じて表面粗さが決定される。こうすることにより、わざわざ表面粗さを加える処理を別途行わなくとも良くなり、工程の省略につながる。つまり、所定の表面粗さとうねり構造とを同時にレンズ基材２に加えることが可能となる。しかもそれはＳＤに関するパラメータを変更するという比較的簡素な手法にて可能となる。もちろん、切削ツール径及び切削ツール送り量以外のパラメータ（例えばレンズ基材２の回転数やツールの硬度等）に応じて表面粗さを決定しても構わない。
【００４８】
具体的な手法としては、ブロッキングを行った後、レンズ保持具ごとレンズ基材２をカーブジェネレータに取付け、保持されたレンズ基材２の未加工面を切削用のバイトにて所定の形状に切削する切削工程を行う。その際、レイアウトブロッカーと呼ばれる装置によってレンズ基材２付きレンズ保持具を取り付けても良い。また、このレンズ基材２に対する切削加工は、レンズ保持具ごと行っても構わない。なお、眼鏡レンズ１の最表面において、上述のような表面粗さが加えられるのならば、ＣＧ加工の具体的手法は公知のものであっても構わない。
【００４９】
このようにしてレンズ基材２は、３次元ＮＣ制御を行うカーブジェネレータに上記レンズ保持具を介して取付けられ、未加工面を所定の面形状に切削加工される。こうして、セミフィニッシュレンズであるレンズ基材２に対してＣＧ加工が施される。
【００５０】
なお、最近のＣＧ加工においては、高速で高精度のＮＣ（数値）制御のＣＧ加工が可能になっていることから、所定の面形状に切削する切削工程の後の、ラッピング加工に似た砂掛け工程を省略しても良い。もちろん、この砂掛け工程を行っても良い。
【００５１】
Ｃ）被膜形成工程
眼鏡レンズ１の最表面において、上述のような表面粗さを有するうねり構造が最終的に形成されるのならば、被膜形成工程の具体的手法は公知のものであっても構わない。以下、特許文献２に記載されている内容ではあるが、再掲する。
【００５２】
（前処理工程）
レンズ保持具からレンズ基材２をデブロッキングした（脱離させた）後、作業者は機械加工されたレンズ基材２の光学面２ａ，２ｂをアセトン等の溶剤で手拭きする。手拭きが終了すると、レンズ基材２はスピナー３１に装着される。スピナー３１により、レンズ基材２を低速回転させながら、イオン化エアを光学面２ａ，２ｂに一定時間（約１５秒）同時に吹き付ける。それにより静電気を除去する。なお、光学面２ａ，２ｂをトリートメントする方法は、被膜３の溶液を塗布し易いように光学面２ａ，２ｂの状態を整える上で効果的なものであれば良く、前述の前処理に限定されるものではない。  
【００５３】
（洗浄工程）
光学面２ａ，２ｂの前処理が終了すると、レンズ基材２は搬送機構によって洗浄槽に搬送され、洗浄槽内の洗浄液によって洗浄される。この洗浄は、レンズ基材２を洗浄液中に浸漬することにより行われる。洗浄液としては、水（純水）または溶剤系液体、洗剤水溶液等が用いられる。洗浄液は、洗浄槽内でオーバーフローしながら備えられたリザーブタンクとの間でポンプにより濾過されながら循環している。洗浄槽は、内部に超音波素子が設けられており、また、温度調整用装置、各種検出スィッチなど洗浄および洗浄液の循環に必要な構成要素を備えている。  
【００５４】
（乾燥工程）
洗浄液による洗浄が終了した後、レンズ基材２はスピナー３１によって乾燥される。スピナー３１は、回転数を例えば５００→１０００→２０００ｒｐｍのように段階的に上げながらレンズ基材２を一定時間（約３分）回転させ、光学面２ａ，２ｂに付着している水滴を遠心力で吹き飛ばすことによりレンズ基材２を乾燥させる。スピナー３１のスピン条件（例えば、スピン回転数、立ち上がり、立ち下がり、停止など）は、予めプログラムで設定できるようになっている。スピン条件は、レンズ基材２の種類や洗浄状態によって適宜決められる。
【００５５】
（被膜の原料となる溶液（被膜溶液）の塗布工程）
スピナー３１による乾燥が終了すると、レンズ基材２はディップアームによって浸漬処理部に搬送され、浸漬槽内における、被膜３の原料となる溶液（以降、「被膜溶液」とも言う。）中に所定時間浸漬される。被膜溶液は、レンズ基材２の材料と同じ材料からなる溶液であり、光学面２ａ，２ｂに同時に塗布される。  
【００５６】
浸漬槽内の被膜溶液中にレンズ基材２を浸漬するとき、ディップアームは、保持しているレンズ基材２の径方向が被膜溶液の液面に対して略垂直になるようにレンズ基材２の向きを変えた後、降下してレンズ基材２を被膜溶液に一定時間（約３０秒）浸漬する。そして、一定時間が経過すると、ディップアームは上昇してレンズ基材２を被膜溶液中から引き上げる（引き上げ時間は、例えば１〜２秒）。  
【００５７】
被膜溶液への浸漬のプロセス条件は、光学面２ａ，２ｂの状態、被膜溶液の特性などにより適宜決定される。被膜溶液は、浸漬槽内でオーバーフローしながら備えられたリザーブタンクとの間でポンプにより濾過されながら循環している。浸漬槽は、温度調整用装置、各種検出スィッチなど浸漬および被膜溶液の循環に必要な構成要素を備えている。
【００５８】
（余分な被膜溶液の除去）
浸漬処理が終了すると、レンズ基材２は搬送装置によって図７に示すスピン処理部３０に搬送され、スピナー３１に装着される。スピナー３１は、レンズ基材２を高速回転（１７５０〜１７８０ｒｐｍ）させ、光学面２ａ，２ｂに付着している被膜溶液の余分な液を遠心力で吹き飛ばす。スピナー３１は、回転数が可変可能になっており、スピン条件（例えば、スピン回転数、立ち上がり、立ち下がり、停止など）を予めプログラムで設定できるようになっている。スピン条件は、レンズ基材２の種類や洗浄状態によって適宜決められる。  
【００５９】
（加熱処理）
スピン処理が終了すると、レンズ基材２は搬送装置によって膜硬化処理部に搬送され、加熱炉内に装着される。加熱炉は、レンズ基材２を熱風により所定温度（８０℃）で一定時間（約７分）加熱処理する。加熱処理の条件は、被膜溶液による硬化特性によって適宜決定される。
これにより、レンズ基材２の各光学面２ａ，２ｂに塗布されていた被膜溶液は、硬化して図３に示す被膜３となる。このように、被膜３は、スピンコートされた被膜溶液の硬化によって形成されるものであるため、高い面精度が得られる。なお、加熱処理の条件は、被膜溶液の硬化特性により適宜決定される。もちろん、レンズ洗浄から加熱炉までの間の環境は、クリーンな環境に整えられている。
【００６０】
Ｄ）その他（カラー染色・検査・超音波洗浄・マルチコート加工等）
必要に応じて、カラー染色・検査・超音波洗浄・マルチコート加工等を、プラスチックレンズに施す。こうして、最終的な、眼鏡用のプラスチックレンズである眼鏡レンズ１の完成品を製造する。なお、本実施形態においては、主としてＢ）ＣＧ加工（切削工程）により、表面粗さの調整工程を行っている。
【００６１】
＜３．実施の形態による効果＞
本実施形態によれば、以下の効果を奏する。
即ち、実際に眼鏡レンズ１を作製する前に、ＣＧ加工の際のＳＤを所定の値としたり、レンズ基材２の主表面に対する表面粗さの調整の度合いを制御したりすることにより、ＣＧ痕の視認を効果的に抑制できる。つまり、凹凸のうねり構造が眼鏡レンズ１の最表面に形成されていたとしても、同じく最表面が所定の度合いで表面粗さの調整がされていれば、うねり構造の山の頂上から谷の底までの距離は、うねり構造の振幅としては認識されにくくなる。その結果、うねり構造に起因したＣＧ痕が視認されなくなる。つまり、レンズ基材２の切削面に対するうねり構造の形成を抑制できなかったとしても、所定の表面粗さがレンズ基材２に加えられることにより、ＣＧ痕が視認されないようにすることができる。
【００６２】
そして本実施形態ならば、眼鏡レンズ１に対する研磨前の状態においてＣＧ痕が視認されないようにすることが可能となる。つまり、研磨工程が省略可能となり、極めて精緻に研磨を行う必要がなくなるし、所定の形状を有する工具を細かく分類して多数用意する必要もなくなる。その結果、研磨工程を省略することにより、眼鏡レンズ１の製造工程において時間を節約することになり、費用の低減も図れる。その結果、最終製品の眼鏡レンズ１に対するその分のコストを低減することができ、眼鏡レンズ１の製造者のみならず、眼鏡レンズ１の装用者にとっても負担を軽減することができる。
【００６３】
その結果、本実施形態によれば、被膜によって眼鏡レンズの透明性が確保された場合であってもＣＧ痕が視認されるおそれを低減する眼鏡レンズ１及び眼鏡レンズ１の製造方法を提供することができる。
【００６４】
＜４．変形例＞
以上に本発明の実施形態を説明したが、上記の開示内容は、本発明の例示的な実施形態を示すものである。即ち、本発明の技術的範囲は、上記の例示的な実施形態に限定されるものではない。
【００６５】
（表面粗さを加える場所）
上記の実施形態においては、レンズ基材２の切削面に対してうねり構造と共に所定の表面粗さを加え、その後に被膜３を設ける場合について述べた。つまり、上記の実施形態の場合だと、まず、レンズ基材２の切削面に対して表面粗さの調整が行われている。そして、被膜３が切削面に形成されることにより、切削面に形成されていたうねり構造が被膜３の主表面（上記の実施形態では眼鏡レンズ１の最表面）において調整されている。それに加え、レンズ基材２での調整に加え、被膜３の主表面においても更なる表面粗さの調整が行われている。つまり、レンズ基材２の切削面に形成されたうねり構造に対し、眼鏡レンズ１の最表面において表面粗さの調整が行われている。なお、上記の実施形態のようにレンズ基材２の切削面に被膜３を直接設ける場合以外であっても、上記の表面粗さの調整は可能である。つまり、その上に被膜３が複数設けられた場合、レンズ基材２の切削面に形成されたうねり構造そのものではなく、レンズ基材２のうねり構造が複数の被膜３に伝達された状態の周期構造（即ち、うねり構造に起因して生じた周期構造）に対し、表面粗さの調整を行っても構わない。
一方、レンズ基材２の切削面に対して形成されたうねり構造が視認されなくなるように、図６（ｃ）のように、被膜３に対して所定の粗さを加え、眼鏡レンズ１の最表面において所定の表面粗さを有するように構成しても構わない。また、被膜３に対してうねり構造と共に所定の表面粗さを加えても構わない。
【００６６】
（レンズ基材と被膜との間の屈折率差）
なお、レンズ基材２と被膜３との間の屈折率差を所定の値に収めることも、ＣＧ痕の視認を抑制するのに有効である。具体的に言うと、両者の屈折率の差を０．１０以内とするのが好ましい。屈折率差が０．１０以内であれば、眼鏡レンズ１に対して略垂直に光が入射したとしても屈折度合いを低減させることができ、明暗の差の発生を抑制することができる。
【００６７】
その一方、両者の屈折率は、互いに異なるのが好ましい。なぜなら、両者の屈折率を同じと設定した場合に比べ、レンズ基材２に対する被膜３の原料の選定の自由度が飛躍的に向上するためである。そうなると眼鏡レンズ１の製造工程全体に要する費用の低減を図ることができ、高品質且つ比較的安価な眼鏡レンズ１を市場に供することができる。
【００６８】
（成膜方法）
また、上記の実施形態のように浸漬処理を用いて被膜３を形成する以外の方法で成膜しても良く、例えばスパッタリングや真空蒸着法等の手法を用いて成膜しても良い。
【００６９】
（表面粗さの調整）
上記の実施形態においては、ＣＧ加工において切削ツール及びＳＤによって生じる加工ツール起因構造により表面粗さの調整を行う例について述べた。もちろん、加工ツール起因構造以外によって表面粗さの調整を行っても良い。具体的に言うと、うねり構造が形成されたレンズ基材２の主表面に対してエッチングを行っても良いし、別途、表面粗さの調整をもたらす機械加工を行っても構わない。
【００７０】
（うねり構造についてのパラメータの他の例）
うねり構造についてのパラメータの例として、上記の実施形態で述べた以外のものを採用しても構わない。例えば、眼鏡レンズ１の形状データが一例として挙げられる。また、ＷｔやＲｔ以外にも、Ｗａ（測定範囲内におけるうねり構造の振幅Ｗｔの平均値）やＲａ（測定範囲内における表面粗さＲｔの平均値）を用いても構わない。
【００７１】
（研磨の必要性）
上記の実施形態ならば、研磨工程を省略することができる。その一方、本実施形態における眼鏡レンズ１に対して研磨が行われることを、本発明は否定するものではない。つまり、レンズ基材２そのものである眼鏡レンズ１や被膜３が形成された眼鏡レンズ１等に対し、研磨工程を行っても構わない。その際の研磨工程の具体的内容としては、公知の手法を用いても構わない。一例を挙げると、眼鏡レンズ１を、レンズ保持具を介して研磨装置に取付け研磨することにより研磨工程を行う。眼鏡レンズ１の光学面に形成されたうねり構造を、研磨によりほぼ完全に無くしても良い。なお、研磨工程を、後述の仕上げ研磨とともに、同一の研磨装置にてまとめて行っても良い。また、上記のＣＧ加工を、ＣＧ加工機能を備えた研磨装置にて行っても良い。また、粗研磨を行った後、眼鏡レンズ１が鏡面状態になるまで研磨（即ち仕上げ研磨）を行っても良い。なお、粗研磨と仕上げ研磨とを一つの工程でまとめて行っても良い。
【００７２】
（うねり構造を設ける面）
上記の実施形態では、眼球側の光学面（凹面）の最表面にうねり構造を設け、物体側の光学面（凸面）の最表面にはうねり構造を設けない場合について述べた。その一方、物体側の光学面にうねり構造を設けても構わないし、両面にうねり構造を設けても構わない。結局のところ、眼鏡レンズ１の最表面において、超高圧水銀ランプの透過光による眼鏡レンズ１の投影検査の際にＣＧ痕が視認されないようにする表面構造が最終的に形成されていれば良い。
【００７３】
（レンズ基材）
上記の実施形態では、レンズ基材２の切削面に直接被膜３を設ける場合について述べた。その一方、「ＣＧ痕が視認されるおそれを低減する」という目的及び効果に特化するならば、被膜３を設けない場合の眼鏡レンズ１（即ちレンズ基材２）であっても、本発明は適応可能である。つまり、レンズ基材２の光学面に対応する部分が、機械加工における切削ツールにより螺旋状に切削されることにより切削面が形成されている。そしてこの切削面には、切削ツール起因構造と共に、うねり構造も形成されている。しかしながら、このうねり構造は、ＳＤを所定の値とし、表面粗さがレンズ基材２の主表面に加えられているため、うねり構造に起因するＣＧ痕が視認されにくくなっている。なお、この場合の眼鏡レンズ１（即ちレンズ基材２）は、眼鏡レンズの透明性を確保するための被膜を、切削面に対して配置自在となっている。そして、被膜３が配置された場合に、眼鏡レンズ１に対する研磨前の状態においてうねり構造又はそれに起因して生じた周期構造が眼鏡レンズ１の投影検査の際に視認されないようにする表面粗さが、レンズ基材２の最表面に加えられている。
【００７４】
（ハードコート膜）
また、被膜３についてであるが、切削面に形成されたＣＧ痕以外の切削痕が視認されないようにすることができ、眼鏡レンズ１の透過性を確保できるならば、ハードコート膜を設けず、他の部材を設けても構わない。なお、レンズ基材２の上に設けられる「他の部材」のことをハードコート膜も含めて単に「膜」とも言い、この膜を形成することを「膜形成工程」とも言う。また、上記の実施形態のように浸漬処理を用いてハードコート膜を形成する以外の方法で成膜しても良く、例えばスパッタリングや真空蒸着法等の手法を用いて成膜しても良い。
【００７５】
（螺旋状）
なお、上記の実施形態においては、レンズ基材２を螺旋状に加工したが、それ以外の形状であっても構わない。例えば、レンズ基材２を天地方向や水平方向に向かって切削しても構わない。ただその際、外周から幾何中心に向かう方向（径方向）において、ＳＤを略一定とする。
【実施例】
【００７６】
次に実施例を示し、本発明について具体的に説明する。もちろん本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。なお、以下においては、被膜３をハードコート膜とした場合であって、被膜３を設けない場合については（実施例１）として記載し、被膜３を設ける場合については（実施例２）として記載する。なお、実験の条件として記載されていない部分については、上記の実施形態で述べたとおりである。また、ＣＧ加工及びハードコート膜の形成に関しては、公知の条件にて以下の工程を用いても構わない。
【００７７】
（実施例１）
レンズ基材２としては、平面状のものを用い、製品名ＥＹＡＳ（ＨＯＹＡ社製、屈折率１．６０）を用いた。このレンズ基材２の主表面に対し、所定のＳＤ（ＳＤ＝１００μｍ，５０μｍ，２５μｍ，８μｍ，５μｍ，１μｍ）にてＣＧ加工を行った。また、レンズ基材２の回転数は３５００ｒｐｍとし、切り込み０．２ｍｍとした。
以上の手法にて、実施例１における眼鏡レンズ１を作製した。なお、実施例１においては、被膜３の形成は行っていない。そして、実施例１における眼鏡レンズ１に対し、眼鏡レンズ１のうねり構造の振幅Ｗｔや表面粗さＲｔは、フォームタリサーフ装置を用いて測定した。なお、表面粗さＲｔの算出に際し、カットオフ値（Ｌｃ）は０．０８ｍｍとし、バンド幅は３０：１とした。また、複数回の粗さ測定を行って、それぞれ表面粗さＲｔを算出し、その相加平均を求めた。
【００７８】
眼鏡レンズ１の表面粗さＲｔを求めるための表面粗さ測定機としては、テーラーホブソン（Ｔａｙｌｏｒ  Ｈｏｂｓｏｎ）社製のフォームタリサーフ装置等を用いることが好ましい。表面粗さＲｔ値の算出は、ＪＩＳ  Ｂ０６０１（ＧＰＳ  表面性状：輪郭曲線方式−用語、定義及び表面性状パラメータ）、ＪＩＳ  Ｂ０６３３（ＧＰＳ  表面性状：輪郭曲線方式表面性状評価の方式及び手順）、ＪＩＳ  Ｂ０６５１（ＧＰＳ  表面性状：輪郭曲線方式触針式表面粗さの測定器の特性）等に準じて行うことが望ましく、基準長さを標準個数倍した長さに等しい一つの評価長さのデータから表面粗さＲｔを求めることができる。また、同様に、うねり構造の振幅Ｗｔやうねり構造の周期Ｓを求めた。もちろん、その他の公知の方法で求めても良い。同じくＷａやＲａについても求めることができる。また、後述の実施例における、加工ツール起因構造よりも大きな周期を有するうねり構造についても、同様のパラメータを求めることができる。
【００７９】
表面粗さＲｔは、例えば測定機により求められる複数の表面粗さＲｔ＝Ｘｉ（ｉ＝１，２，・・・，ｎ）を相加平均することでデータの不確かさが可能な限り小さくなるようにすることが望ましい。ここで適用しているフィルタはガウシアンである（下記式参照；式中、ｎは、例えば１，２，３・・・等の整数である）。
【数１】
2013210471.tif 000003
もちろん、それ以外の方法で、Ｗｔ，Ｒｔ，Ｓ，Ｗａ，Ｒａ等を求めても構わないし、公知の方法でこれらを求めても構わない。
【００８０】
上記の測定の結果を、図５に示す。
図５は、ＳＤとＣＧ痕の視認度合いとの関係を定量的に表したグラフである。（ａ）はＳＤ（横軸）と表面粗さＲｔ（縦軸）との関係を表すグラフであり、（ｂ）はＳＤ（横軸）とうねり構造の振幅Ｗｔ（縦軸）との関係を表すグラフであり、（ｃ）はＳＤ（横軸）とうねり構造の周期Ｓ（縦軸）との関係を表すグラフである。
【００８１】
図５（ｂ）においては、ＳＤが５μｍを超え５０μｍ未満（特に２５μｍ）だとＷｔが小さくなっていることがわかる。従来だと図５（ａ）に示すように、ＳＤが小さくなれば表面粗さＲｔは小さくなり、それと共にＣＧ痕も視認されなくなると考えられていた。この従来の考えとは異なる結果が、図５（ｂ）に記載されている。
【００８２】
（実施例２）
実施例１にて作製した複数のレンズ基材２（ＳＤ＝１００μｍ，５０μｍ，２５μｍ，８μｍ，５μｍ，１μｍ）の各々の主表面に対し、被膜３を形成した。なお、被膜３の形成条件は、以下のようにした。
【００８３】
まず、レンズ基材２の光学面２ａ，２ｂをアセトン等の溶剤で手拭きした後、レンズ基材２をスピナー３１に装着し、レンズ基材２を低速回転させながら、イオン化エアを光学面２ａ，２ｂに一定時間（約１５秒）同時に吹き付けることにより静電気を除去した。
その後、レンズ基材２を搬送機構によって洗浄槽に搬送し、洗浄槽内の洗浄液によって洗浄した。この洗浄は、レンズ基材２をアルカリ洗浄液中に浸漬することにより行われた。その後、純水が注入された３つの洗浄層に対し、レンズ基材２を順々に浸漬させた。
洗浄液による洗浄が終了した後、レンズ基材２をスピナー３１によって乾燥させた。スピナー３１は、回転数を５００→１０００→２０００ｒｐｍのように段階的に上げながらレンズ基材２を約３分回転させ、レンズ基材２を乾燥させた。
スピナー３１による乾燥が終了すると、レンズ基材２をディップアームによって浸漬処理部に搬送し、浸漬槽内の被膜溶液（被膜３の原料となる液、製品名ユニオックスＨＣ−６０Ｓ（日油製）、屈折率１．５９４）中に３０秒間浸漬させた。その後、余分な被膜溶液の除去を、同じくスピナー３１にて行った。
【００８４】
その後、レンズ基材２は搬送装置によって膜硬化処理部に搬送され、加熱炉内に装着される。加熱炉は、レンズ基材２を熱風により７５℃で約２０分加熱処理した。これにより、レンズ基材２の各光学面２ａ，２ｂに塗布されていた被膜溶液を、硬化させ、実施例１における眼鏡レンズ１を得た。なお、被膜溶液の塗布工程から乾燥処理に至るまでを１サイクルとし、合計８回、このサイクルを行った。なお、レンズ基材２の直径は７５ｍｍとし、眼鏡レンズ１の天地方向の中央部分の被膜３の厚さを約３０μｍとしている。
【００８５】
以上の手法にて、本実施例における眼鏡レンズ１を作製した。そして、超高圧水銀ランプの透過光による眼鏡レンズ１の投影検査を行った。
【００８６】
なお、本実施例における眼鏡レンズ１の投影検査の手法は、日本工業規格の屈折補正用単焦点眼鏡レンズ（ＪＩＳ−Ｔ７３１３）に規定されている視覚的な検査およびシュリーレン法を基にしている。
【００８７】
ここで、ＪＩＳ−Ｔ７３１３に規定されている視覚的な検査方法は、光源と観察者の間に  検査対象のレンズを配置してレンズ上の表面欠陥の有無を目視により検査する方法である（ＪＩＳ−Ｔ７３１３の附属書Ａ「材料および表面の品質評価方法」参照）。  
【００８８】
上記の投影検査の結果を、図２に示す。
図２は、本実施例のレンズ基材２において、ＣＧ痕の視認度合いとＳＤとの関係を示す写真であり、超高圧水銀ランプの透過光によるレンズ内面の投影検査を行った際のレンズ基材２の平面視写真である。（ａ）はＳＤが２５μｍの場合の写真、（ｂ）はＳＤが８μｍの場合の写真、（ｃ）はＳＤが５μｍの場合の写真、（ｄ）はＳＤが１μｍの場合の写真である。
なお、実施例１の性質を示す図５は、被膜３が形成されていないとはいえ、ＳＤとＣＧ痕の視認度合いを定量的に表したものであり、図２は、ＳＤとＣＧ痕の視認度合いを定性的に表したものであるとも言える。
【００８９】
図２を見ると、レンズ基材２に対するＳＤが５μｍを超え５０μｍ未満（特に２５μｍ）のときには、ＣＧ痕が視認されない状態であることがわかる。それを示すがごとく、図５（ｂ）においては、ＳＤが５μｍを超え５０μｍ未満（特に２５μｍ）だとＷｔが小さくなっていることがわかる。
つまり、ＳＤを所定の値（例えば本実施例のように５μｍを超え５０μｍ未満）とした場合、眼鏡レンズ１の投影検査の際に、うねり構造又はそれに起因する周期構造が、眼鏡レンズ１に対する研磨前の状態において視認されないようにする表面粗さが、眼鏡レンズ１の最表面に加えられていることが、この実施例から把握できる。
【００９０】
また、ＷｔやＲｔと同様に、ＷａやＲａについても調査した。その結果を図７に示す。図７は、図２に対応するＳＤとＣＧ痕の視認度合いとの関係を定量的に表したグラフである。（ａ）はＳＤ（横軸）と表面粗さＲａ（縦軸）との関係を表すグラフであり、（ｂ）はＳＤ（横軸）とうねり構造の振幅Ｗａ（縦軸）との関係を表すグラフである。
【００９１】
図７を見ても、図５と同様に、レンズ基材２に対するＳＤが５μｍを超え５０μｍ未満のときには、ＣＧ痕が視認されない状態であることがわかる。それを示すがごとく、図７（ｂ）においても、ＳＤが５μｍを超え５０μｍ未満（特に２５μｍ）だとＷａが小さくなっていることがわかる。
【００９２】
以下、その他の好ましい形態を付記する。
［付記１］
前記レンズ基材と、
前記レンズ基材の切削面の上に設けられた被膜と、
を有し、
前記レンズ基材の屈折率と前記被膜の屈折率との間の相違によっても、眼鏡レンズの投影検査の際に視認されないようになっていることを特徴とする眼鏡レンズ。
［付記２］
前記レンズ基材と、
前記レンズ基材の切削面の上に設けられた被膜と、
を有し、
前記レンズ基材の屈折率と前記被膜の屈折率との間の相違によっても、眼鏡レンズの投影検査の際に視認されないようになっていることを特徴とする眼鏡レンズの製造方法。
［付記３］
前記レンズ基材と、
前記レンズ基材の切削面の上に設けられた被膜と、
を有し、
眼鏡レンズの最表面に加えられる前記表面粗さは、前記被膜の主表面に形成されたものであることを特徴とする眼鏡レンズの製造方法。
［付記４］
レンズ基材の光学面に対応する部分が機械加工における切削ツールにて切削されることにより切削面が形成されており、眼鏡レンズの透明性を確保するための被膜を前記切削面に対して配置自在な眼鏡レンズの製造方法において、
前記レンズ基材の光学面に対応する部分にうねり構造を形成する切削工程と、
前記被膜が配置された後の状態且つ眼鏡レンズに対する研磨前の状態において前記うねり構造又はそれに起因して生じた周期構造が眼鏡レンズの投影検査の際に視認されないようにする表面粗さを、眼鏡レンズの最表面に加える表面粗さの調整工程と、
を有することを特徴とする眼鏡レンズの製造方法。
但し、前記うねり構造は、前記切削工程において切削ツールにより直接形成される切削ツール起因構造とは別に形成される周期構造であって、前記切削ツール起因構造よりも大きな周期を有する周期構造である。
【符号の説明】
【００９３】
１…眼鏡レンズ、２…レンズ基材、２ａ…（眼球側の）光学面、２ｂ…（物体側の）光学面、３…被膜
【図１】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図２】
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