(57)【要約】      （修正有）【課題】屈折率が大きく、光学基体上に成膜した場合には反射防止膜等としての機能を奏する光学膜を得る。【解決手段】（Ａ）分子内に３以上の（メタ）アクリロイル基を有する重合性化合物を１から１０質量％、（Ｂ）金属酸化物微粒子を３から３０質量％、（Ｃ）重合開始剤を０．０５から１質量％、（Ｄ）希釈剤を６０から９６質量％が分散した組成物を基材に塗布後、紫外線照射によって硬化させた光学膜。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）分子内に３以上の（メタ）アクリロイル基を有する重合性化合物を１から１０質量％、（Ｂ）金属酸化物微粒子を３から３０質量％、（Ｃ）重合開始剤を０．０５から１質量％、（Ｄ）希釈剤を６０から９６質量％が分散した組成物を基材に塗布後、紫外線照射によって硬化させたことを特徴とする光学膜。
【請求項２】
前記金属酸化物微粒子（Ｂ）の表面が、（メタ）アクリロイル基を有する官能基で表面修飾されたことを特徴とする請求項１記載の光学膜。
【請求項３】
前記重合開始剤（Ｃ）が、波長３７０ｎｍから４００ｎｍに光吸収を有していることを特徴とする請求項１または２記載の光学膜。
【請求項４】
金属酸化物を含まない紫外線硬化型樹脂からなる膜を表面に設けた基材上に形成されたことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項記載の光学膜。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学素子等に用いる光学膜に関し、屈折率が大きく、光学基体上に成膜した場合には反射防止膜等としての機能を奏する光学膜に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
光線透過率を向上して撮像性能を向上するために、レンズの光学面には反射防止膜等の光学膜が形成されている。光学膜を形成する手段として、一般的には減圧下で蒸発した成分を真空蒸着する真空蒸着法に代表される真空成膜法が用いられている。
しかし、真空成膜法は、真空下、高温加熱するため成膜時間が長いという問題があった。
近年では上記問題の解決のために、大気圧下で光学膜を形成する方法が提案されている。大気圧下での光学膜の成膜には、熱、紫外線等のエネルギーで硬化するエネルギー硬化型組成物を光学基材に塗布後、加熱、紫外線照射等の方法によって硬化することによって形成している。
【０００３】
光学膜には、その目的によって種々の物性の膜を成膜することが求められている。特に、反射防止膜にあっては、低屈折率のものから高屈折率のものまで様々な膜が必要とされる。高屈折率の光学膜を得るためには、芳香族化合物に代表されるπ電子を多く含有したもの、あるいは長い共役構造を有する化合物が用いられている。なかでも、フルオレン骨格やカルバゾール骨格を有するエネルギー硬化型材料が高屈折率材料としては好適である。
しかし、当該材料の屈折率は１．６程度が上限であり、それ以上の屈折率の化合物を得ることは困難であった。
更なる高屈折率化のために、屈折率が２以上の金属酸化物の微粒子をエネルギー硬化型材料に分散する方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
しかしながら、特許文献１には、金属酸化物粒子を含まない樹脂組成物をホットプレート上において硬化挙動を評価したことが記載されているのみであって、金属酸化物の微粒子を配合した組成物の硬化特性およびその硬化物の特性等については記載されていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−２３５１９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、真空成膜装置を用いることなく作製することが可能な光学膜を提供するものであり、屈折率が高い光学膜およびそれを有する光学素子を提供することを課題とするものである。また、微粒子を均一に分散した特性が優れた高屈折率の光学膜を提供することを課題とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上記の課題を解決するものであって、（Ａ）分子内に３以上の（メタ）アクリロイル基を有する重合性化合物１から１０質量％、（Ｂ）金属酸化物微粒子３から３０質量％、（Ｃ）重合開始剤０．０５から１質量％、（Ｄ）希釈剤６０から９６質量％が分散した組成物を基材に塗布後、紫外線照射によって硬化させた光学膜である。
また、前記金属酸化物微粒子（Ｂ）の表面が、（メタ）アクリロイル基を有する官能基で表面修飾された前記の光学膜である。
前記重合開始剤（Ｃ）が、波長３７０ｎｍから４００ｎｍに光吸収を有している前記の光学膜である。
金属酸化物を含まない紫外線硬化型樹脂からなる膜を表面に設けた基材上に形成された前記の光学膜である。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の光学膜は、分子内に３以上の（メタ）アクリロイル基を有する重合性化合物１から１０質量％と、金属酸化物微粒子３から３０質量％、重合開始剤０．０５から１質量％、希釈剤６０から９６質量％が分散した組成物を基材に塗布後、紫外線照射によって硬化させることで、重合性化合物の屈折率を更に高めることができる。  また、前記金属酸化物微粒子の表面は、（メタ）アクリロイル基を有する官能基で表面修飾したものであるので、基材との密着性が良好であるとともに金属酸化物微粒子は紫外線による重合反応を阻害することを防止することができる。
さらに、重合開始剤の吸収波長域を特定した場合には、金属酸化物粒子による紫外線の吸収の影響を受けずに円滑な硬化を進めることによって特性が優れた光学膜の形成が可能となる。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
本発明者は、光学基材の光学面等を形成する光学膜として、分子内に３以上の（メタ）アクリロイル基を有する重合性化合物１から１０質量％、（Ｂ）金属酸化物微粒子３から３０質量％、（Ｃ）重合開始剤０．０５から１質量％、（Ｄ）希釈剤６０から９６質量％が分散した組成物を基材に塗布後、紫外線照射によって硬化させることによって屈折率が大きな光学膜を提供することが可能であることを見いだしたものである。
【０００９】
分子内に３以上の（メタ）アクリロイル基を有する重合性化合物としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパンエトキシトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジメチロールプロパンテトラアクリレート等を挙げることができる。
本発明において（メタ）アクリロイル基とは、アクリロイル基、メタアクリロイル基の少なくともいずれか一方を含有するものを意味する。
これらの重合性化合物は、金属酸化物粒子を分散させた組成物とした場合、芳香族骨格の共役構造によって、金属酸化物微粒子の含有する効果を損ねることなく、透明性が高く、屈折率の高い樹脂組成物とすることができる。
分子内に３以上の（メタ）アクリロイル基を有する重合性化合物の配合量が１質量％より少ない場合には光学膜が硬化せず、一方、配合量が１０質量％より多い場合には重合性化合物を単独で硬化した場合に比べて屈折率が大きくならない。
【００１０】
金属酸化物微粒子としては、酸化チタン、インジウムスズ複合酸化物（ＩＴＯ）、酸化セリウム、酸化イットリウム、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化セレン、酸化スズ、酸化ニオブ、酸化タンタル等の微粒子を挙げることができ、これらの一種以上を配合することができる。
金属酸化物微粒子の配合量が、３質量％よりも少ない場合には、屈折率の向上の効果が得られず、一方、金属酸化物微粒子の配合量が３０質量％を超えると光学膜の硬化性が不充分なものとなる。
また、金属酸化物粒子は、表面が、（メタ）アクリロイル基を有する官能基で表面修飾されていることが好ましい。
【００１１】
また、光重合開始剤としては、任意のものを用いることができるが、波長３７０ｎｍから４００ｎｍに光吸収を有する重合開始剤の使用が好ましい。３７０nｍ以上であれば、金属酸化物の微粒子が波長37０ｎｍ以下で光吸収することによる影響を受けにくい。また４００ｎｍ以下であれば、光学膜の使用波長の光による影響を受けくい。
一例を挙げれば、金属酸化物粒子として酸化チタン微粒子を用いて可視光域において使用する光学膜の場合には、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モリフォリノプロパン−１−オン）（長瀬産業製イルガキュア９０７）やビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド（イルガキュア８１９）、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（イルガキュア１８４）などが好ましく、光重合反応を円滑に進めるとともに、可視光域において着色をしない硬化樹脂を得ることができる。これらは、単独に用いても構わないし、複数を組み合わせて用いてもよい。
光重合開始剤は、０．０５から１質量％を配合することが好ましく、０．０５質量％よりも少ない場合には、光学膜が充分に硬化しない。一方、光重合開始剤の配合量が１質量％よりも多いと得られる光学膜が黄変をする。
【００１２】
これらに加えて、希釈剤としてプロピレングリコールメチルエーテル等のプロピレングリコールアルキルエーテル類、及びジプロピレングリコールメチルエーテル等のポリプロピレングリコールアルキルエーテル類、及び酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の酢酸エステル類、及びジアルキルグリコールエーテル類等が挙げられ、これらは各々単独であるいは適宜互いに組み合わせて使用することができる。
希釈剤によって使用目的に応じた所望の塗布特性を付与することができるが、希釈剤の配合量が６０質量％よりも少ない場合には、平滑な膜が得られず、一方、９６質量％よりも多くなると硬化しなくなる。
【００１３】
本発明の光学膜は、様々な光学材料に利用することができ、レンズ、フィルター、ミラー等の光学素子であって、基材には、合成樹脂、ガラスのいずれをも使用可能である。
本発明の光学膜は、以上のような、分子内に３以上の（メタ）アクリロイル基を有する重合性化合物１から１０質量％、（Ｂ）金属酸化物微粒子３から３０質量％、（Ｃ）重合開始剤０．０５から１質量％、（Ｄ）希釈剤６０から９６質量％が分散した組成物を基材に塗布後、紫外線照射によって形成することができる。
【００１４】
本発明の光学膜は、金属酸化物を含まない紫外線硬化型樹脂からなる膜を表面に設けた基材上に形成される事が好ましい。さらに密着性を向上させることができる。
【００１５】
以下に、実施例、比較例を示し本発明を説明する。
【実施例】
【００１６】
実施例１
光学膜形成用組成物１の調製
重合性化合物として、トリメチロールプロパントリアクリレート（ダイセル・サイテック製）１０ｇ、金属酸化物微粒子として、粒径５０ｎｍの酸化チタン分散液（ＣＩＫナノテック社製酸化チタン１５質量％分散液）２００ｇ、光重合開始剤として、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モリフォリノプロパン−１−オン）（長瀬産業製イルガキュア９０７）１ｇ（吸収域４１０ｎｍ以下）、希釈剤として、プロピレングリコールモノメチルエーテル（和光純薬工業製）６４ｇを配合して、室温下、密閉容器中攪拌・混合した。
【００１７】
光学膜評価用試料の作製
直径３０ｍｍの鏡面研磨したガラス基材（オハラ社製  Ｓ−ＢＳＬ７）に、光学膜形成用組成物１の０．１ｍｌを滴下し、回転数４０００ｒｐｍで３０秒間回転して均一に塗布した。塗布後、メタルハライドランプを用い、波長３６５ｎｍの紫外線が積算光量で１０００ｍＪ／ｃｍ2 となるように照射した。
【００１８】
光学膜の評価
得られた光学膜に、レンズクリーニングワイパー（小津産業製ダスパー）を１．９７Ｎの力で押し当て、１０往復させて目視によって外観を観察したところ、外観に変化がなかった。
また、チタン酸化物を配合前の成分の硬化物、およびチタン酸化物を含有した薄膜のそれぞれの波長５５０ｎｍにおける屈折率を反射率測定器（オリンパス製ＵＳＰＭ−ＲＵ）を用いて２０℃６０％ＲＨの条件で測定したところ、それぞれ１．５０および１．８２であった。
【００１９】
実施例２
光学膜形成用組成物２の調製
重合性化合物として、トリメチロールプロパントリアクリレート（ダイセル・サイテック製）１ｇ、金属酸化物微粒子として、粒径５０ｎｍの酸化チタン分散液（ＣＩＫナノテック社製酸化チタン１５ｗｔ％分散液２０ｇ、光重合開始剤として、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モリフォリノプロパン−１−オン）（長瀬産業製イルガキュア９０７）０．０５ｇ、希釈剤として、プロピレングリコールモノメチルエーテル（和光純薬工業製）９６ｇを配合し、実施例１と同様にして混合した。
【００２０】
光学膜評価用試料の作製と評価
実施例１と同様に、作製した光学膜を同様に評価したところ、外観に変化はなかった。
また、チタン酸化物を配合前の成分の硬化物、およびチタン酸化物を含有した薄膜の波長５５０nmにおける屈折率を反射率測定器（オリンパス製ＵＳＰＭ−ＲＵ）を用いて２０℃６０％ＲＨの条件で測定したところ、それぞれ１．５０および１．７８であった。
【００２１】
実施例３
光学膜形成用組成物３の調製
重合性化合物として、トリメチロールプロパントリアクリレート（ダイセル・サイテック製）１０ｇ、金属酸化物微粒子として、粒径５０ｎｍの酸化チタン分散液（ＣＩＫナノテック社製酸化チタン１５質量％分散液）２００ｇ、光重合開始剤として、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モリフォリノプロパン−１−オン）（長瀬産業製イルガキュア９０７）０．０５ｇ、希釈剤として、プロピレングリコールモノメチルエーテル（和光純薬工業製）６５ｇを配合し、実施例１と同様にして混合した。
【００２２】
光学膜評価用試料の作製と評価
実施例１と同様に調製した光学膜を同様に評価したところ、外観に変化はなかった。
また、チタン酸化物を配合前の成分の硬化物、およびチタン酸化物を含有した薄膜の波長５５０ｎｍにおける屈折率を反射率測定器（オリンパス製ＵＳＰＭ−ＲＵ）を用いて２０℃６０％ＲＨの条件で測定したところ、それぞれ１．５０および１．８２であった。
【００２３】
実施例４
光学膜形成用組成物４の調製
重合性化合物として、トリメチロールプロパントリアクリレート（ダイセル・サイテック製）１０ｇ、金属酸化物微粒子として、粒径５０ｎｍの酸化チタン分散液（ＣＩＫナノテック社製酸化チタン１５質量％分散液）２０ｇ、光重合開始剤として、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モリフォリノプロパン−１−オン）（長瀬産業製イルガキュア９０７）０．０５ｇ、希釈剤として、プロピレングリコールモノメチルエーテル（和光純薬工業製）９２ｇを配合し、実施例１と同様にして混合した。
【００２４】
光学膜評価用試料の作製と評価
実施例１と同様に調製した光学膜を同様に評価したところ、外観に変化はなかった。
また、チタン酸化物を配合前の成分の硬化物、およびチタン酸化物を含有した薄膜の波長５５０ｎｍにおける屈折率を反射率測定器（オリンパス製ＵＳＰＭ−ＲＵ）を用いて２０℃６０％ＲＨの条件で測定したところ、それぞれ１．５０および１．５８であった。
【００２５】
実施例５
光学膜形成用組成物５の調製
重合性化合物として、トリメチロールプロパントリアクリレート（ダイセル・サイテック製）１ｇ、金属酸化物微粒子として、粒径５０ｎｍの酸化チタン（ＣＩＫナノテック社製酸化チタン１５質量％分散液）２００ｇ、光重合開始剤として、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モリフォリノプロパン−１−オン）（長瀬産業製イルガキュア９０７）１ｇ、希釈剤として、プロピレングリコールモノメチルエーテル（和光純薬工業製）６８ｇを配合し、実施例１と同様にして混合した。
【００２６】
光学膜評価用試料の作製と評価
実施例１と同様に調製した光学膜を同様に評価したところ、外観に変化はなかった。
また、チタン酸化物を配合前の成分の硬化物、およびチタン酸化物を含有した薄膜の波長５５０ｎｍにおける屈折率を反射率測定器（オリンパス製ＵＳＰＭ−ＲＵ）を用いて２０℃６０％ＲＨの条件で測定したところ、それぞれ１．５０および１．９７であった。
【００２７】
実施例６
光学膜形成用組成物６の調製
重合性化合物として、トリメチロールプロパントリアクリレート（ダイセル・サイテック製）１ｇ、金属酸化物微粒子として、粒径５０ｎｍの酸化チタン（ＣＩＫナノテック社製酸化チタン１５質量％分散液）２０ｇ、光重合開始剤として、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モリフォリノプロパン−１−オン）（長瀬産業製イルガキュア９０７）１ｇ、希釈剤として、プロピレングリコールモノメチルエーテル（和光純薬工業製）９５ｇを配合し、実施例１と同様にして混合した。
【００２８】
光学膜評価用試料の作製と評価
実施例１と同様に調製した光学膜を同様に評価したところ、外観に変化はなかった。
また、チタン酸化物を配合前の成分の硬化物、およびチタン酸化物を含有した薄膜の波長５５０ｎｍにおける屈折率を反射率測定器（オリンパス製ＵＳＰＭ−ＲＵ）を用いて２０℃６０％ＲＨの条件で測定したところ、それぞれ１．５０および１．７８であった。
【００２９】
実施例７
光学膜形成用組成物７の調製
重合性化合物として、トリメチロールプロパントリアクリレート（ダイセル・サイテック製）１０ｇ、金属酸化物微粒子として、粒径５０ｎｍの酸化チタン（ＣＩＫナノテック社製酸化チタン１５質量％分散液）２０ｇ、光重合開始剤として、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モリフォリノプロパン−１−オン）（長瀬産業製イルガキュア９０７）１ｇ、希釈剤として、プロピレングリコールモノメチルエーテル（和光純薬工業製）９１ｇを配合し、実施例１と同様にして混合した。
【００３０】
光学膜評価用試料の作製と評価
実施例１と同様に調製した光学膜を同様に評価したところ、外観に変化はなかった。
また、チタン酸化物を配合前の成分の硬化物、およびチタン酸化物を含有した薄膜の波長５５０ｎｍにおける屈折率を反射率測定器（オリンパス製ＵＳＰＭ−ＲＵ）を用いて２０℃６０％ＲＨの条件で測定したところ、それぞれ１．５０および１．５８であった。
【００３１】
実施例８
光学膜形成用組成物８の調製
重合性化合物として、トリメチロールプロパントリアクリレート（ダイセル・サイテック製）１ｇ、金属酸化物微粒子として、粒径５０ｎｍの酸化チタン（ＣＩＫナノテック社製酸化チタン１５質量％分散液）２００ｇ、光重合開始剤として、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モリフォリノプロパン−１−オン（長瀬産業製イルガキュア９０７）０．０５ｇ、希釈剤として、プロピレングリコールモノメチルエーテル（和光純薬工業製）６９ｇを配合し、実施例１と同様にして混合した。
光学膜評価用試料の作製と評価
実施例１と同様に調製した光学膜を同様に評価したところ、外観に変化はなかった。
また、チタン酸化物を配合前の成分の硬化物、およびチタン酸化物を含有した薄膜の波長５５０ｎｍにおける屈折率を反射率測定器（オリンパス製ＵＳＰＭ−ＲＵ）を用いて２０℃６０％ＲＨの条件で測定したところ、それぞれ１．５０および１．９７であった。
【００３２】
実施例９
光学膜形成用組成物９の調製
重合性化合物として、トリメチロールプロパントリアクリレート（ダイセル・サイテック製）１ｇ、金属酸化物微粒子として、粒径５０ｎｍ以下の酸化チタン粉末（石原産業ＴＴＯ−５１）４ｇ、酸化チタン粉末の表面修飾剤としてＫＢＭ５１０３（信越シリコーン製）０．５ｇ、光重合開始剤として、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モリフォリノプロパン−１−オン（長瀬産業製イルガキュア９０７）０．０５ｇ、希釈材として、プロピレングリコールモノメチルエーテル（和光純薬工業製）４５ｇを配合し、実施例１と同様にして混合した。
光学膜評価用試料の作製と評価
実施例１と同様に調製した光学膜を同様に評価したところ、外観に変化はなかった。
また、チタン酸化物を配合前の成分の硬化物、およびチタン酸化物を含有した薄膜の波長５５０ｎｍにおける屈折率を反射率測定器（オリンパス製ＵＳＰＭ−ＲＵ）を用いて２０℃６０％ＲＨの条件で測定したところ、それぞれ１，５０および１．９０であった。
【００３３】
比較例１−１
光学膜形成用組成物比較１−１の調製
重合性化合物のトリメチロールプロパントリアクリレート（ダイセル・サイテック製）０．８ｇとした点を除き，他の成分を実施例１と同様にして混合した。
光学膜評価用試料の作製と評価
実施例１と同様にして光学膜を作製しようとしたが膜が硬化しなかった。
【００３４】
比較例１−２
光学膜形成用組成物比較１−２の調製
重合性化合物のトリメチロールプロパントリアクリレート（ダイセル・サイテック製）１２ｇとした点を除き，他の成分を実施例１と同様にして混合した。
【００３５】
光学膜評価用試料の作製と評価
実施例１と同様に調製した光学膜を同様に評価したところ、外観に変化がなかった。
また、チタン酸化物を配合前の成分の硬化物、およびチタン酸化物を含有した薄膜の波長５５０ｎｍにおける屈折率を反射率測定器（オリンパス製ＵＳＰＭ−ＲＵ）を用いて２０℃６０％ＲＨの条件で測定したところ、それぞれ１．５０および１．８１であった。
【００３６】
比較例２−１
光学膜形成用組成物比較２−１の調製
酸化チタンの配合量を２ｇとした点を除き，他の成分を実施例１と同様にして混合した。
【００３７】
光学膜評価用試料の作製と評価
実施例１と同様に調製した光学膜を同様に評価したところ、外観に変化はなかった。
また、チタン酸化物を配合前の成分の硬化物、およびチタン酸化物を含有した薄膜の波長５５０ｎｍにおける屈折率を反射率測定器（オリンパス製ＵＳＰＭ−ＲＵ）を用いて２０℃６０％ＲＨの条件で測定したところ、それぞれ１．５０および１．５６であった。
【００３８】
比較例２−２
光学膜形成用組成物比較２−２の調製
酸化チタンの配合量を３２ｇとした点を除き，他の成分を実施例１と同様にして混合した。
【００３９】
光学膜評価用試料の作製と評価
実施例１と同様に調製した光学膜を同様に評価したところ、薄膜に傷が生じた。
また、チタン酸化物を配合前の成分の硬化物、およびチタン酸化物を含有した薄膜の波長５５０ｎｍにおける屈折率を精密屈折率計（島津デバイス製造製ＫＰＲ−２００）を用いて２０℃６０％ＲＨの条件で測定したところ、それぞれ１．５０および１．９２であった。
【００４０】
比較例３−１
光学膜形成用組成物比較３−１の調製
光重合開始剤の配合量を０．０３ｇとした点を除き，他の成分を実施例１と同様にして混合した。
【００４１】
光学膜評価用試料の作製と評価
実施例３と同様に調製した光学膜を同様に評価したところ、光学膜が硬化しなかった。
【００４２】
比較例３−２
光学膜形成用組成物比較３−２の調製
光重合開始剤の配合量を１．５ｇとした点を除き，他の成分を実施例１と同様にして混合した。
【００４３】
光学膜評価用試料の作製と評価
実施例３と同様に調製した光学膜を同様に評価したところ、光学膜が黄色に着色した。
【００４４】
比較例４−１
光学膜形成用組成物比較４−１の調製
希釈剤の配合量を５０ｇとした点を除き，他の成分を実施例１と同様にして混合した。
【００４５】
光学膜評価用試料の作製と評価
実施例１と同様に調製した光学膜を同様に評価したところ、平滑な膜にはならなかった。
【００４６】
比較例４−２
光学膜形成用組成物比較４−２の調製
希釈剤の配合量を１００ｇとした点を除き，他の成分を実施例１と同様にして混合した。
【産業上の利用可能性】
【００４７】
本発明の光学膜は、分子内に３以上の（メタ）アクリロイル基を有する重合性化合物を含有する１から１０質量％と、金属酸化物微粒子３から３０質量％、重合開始剤０．０５から１質量％、希釈剤６０から９６質量％が分散した組成物を基材に塗布後、紫外線照射によって硬化させたので、重合性化合物の屈折率を更に高めることができので、屈折率が大きな反射防止膜等の光学膜を真空成膜装置を用いることなく形成することが可能となる。