(57)【要約】【課題】光軸ずれを簡易に評価する液晶インキの評価方法を提供する。【解決手段】樹脂基材の一面側に、液晶インキが塗工されて形成された液晶層を有する評価用樹脂基板と、金属表面を有する部材と、電荷付与手段とを準備する工程と、前記評価用樹脂基板の前記樹脂基材表面のうち前記液晶層を有しない他面側の少なくとも一部を、前記金属表面を有する部材の金属表面に接触させて固定する工程と、前記評価用樹脂基板の少なくとも前記金属表面との接触部分を、液晶層側から前記電荷付与手段により帯電させる工程と、前記金属表面を接地する工程と、帯電させた前記評価用樹脂基板を前記金属表面から剥離することによって、前記評価用樹脂基板の前記接触部分のうち少なくとも一部を放電させる工程と、前記評価用樹脂基板の放電前の光軸と、放電後の光軸とを比較する工程とを有する、位相差フィルム形成用液晶インキの評価方法である。【選択図】図２
2013210329.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂基材の一面側に、液晶インキが塗工されて形成された液晶層を有する評価用樹脂基板と、金属表面を有する部材と、電荷付与手段とを準備する工程と、
前記評価用樹脂基板の前記樹脂基材表面のうち前記液晶層を有しない他面側の少なくとも一部を、前記金属表面を有する部材の金属表面に接触させて固定する工程と、
前記評価用樹脂基板の少なくとも前記金属表面との接触部分を、液晶層側から前記電荷付与手段により帯電させる工程と、
前記金属表面を接地する工程と、
帯電させた前記評価用樹脂基板を前記金属表面から剥離することによって、前記評価用樹脂基板の前記接触部分のうち少なくとも一部を放電させる工程と、
前記評価用樹脂基板の放電前の光軸と、放電後の光軸とを比較する工程とを有する、位相差フィルム形成用液晶インキの評価方法。
【請求項２】
樹脂基材の一面側に、液晶インキが塗工されて形成された液晶層を有する評価用樹脂基板と、金属表面を有する部材と、電荷付与手段とを準備する工程と、
前記評価用樹脂基板の前記樹脂基材表面のうち前記液晶層を有しない他面側の少なくとも一部を、前記金属表面を有する部材の金属表面に接触させて固定する工程と、
前記評価用樹脂基板の少なくとも前記金属表面との接触部分を、液晶層側から前記電荷付与手段により帯電させる工程と、
前記金属表面を接地する工程と、
帯電させた前記評価用樹脂基板を前記金属表面から剥離することによって、前記評価用樹脂基板の前記接触部分のうち少なくとも一部を放電させる工程と、
前記評価用樹脂基板の放電前の光軸と、放電後の光軸とを比較する工程とを有する、位相差樹脂基板用液晶インキの評価方法により、光軸にずれがない又は光軸のずれが許容範囲内にあると判定された液晶インキを用いて位相差層を形成する工程を有する、位相差フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、位相差フィルム用液晶インキの評価方法、及び位相差フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より液晶表示装置においては、視角依存性の問題を改善するために、様々な技術が開発されており、その１つとして、複屈折性を示す位相差層を有する位相差フィルムが液晶セルと偏光板との間に配置された液晶表示装置が知られている（例えば、特許文献１〜２）。
上記位相差層を有する位相差フィルムとしては、樹脂基材上に、液晶材料を一定方向に配列させる配向規制力を有する配向膜と、当該配向膜上に形成され、一定方向に配列された液晶材料を含有する位相差層とを有するものが用いられている。
【０００３】
また、フラットパネルディスプレイとしては、従来、２次元表示のものが主流であったが、近年においては３次元表示可能なフラットパネルディスプレイが注目を集め始めている。そして、今後のフラットパネルディスプレイにおいては３次元表示可能であることが、その性能として当然に求められる傾向にあり、３次元表示可能なフラットパネルディスプレイの検討が幅広い分野において進められている。
【０００４】
フラットパネルディスプレイにおいて３次元表示をするには、通常、視聴者に対して何らかの方式で右目用の映像と、左目用の映像とを別個に表示することが必要とされる。右目用の映像と左目用の映像とを別個に表示する方法としては、例えば、パッシブ方式というものが知られている。このようなパッシブ方式の３次元表示方式について図を参照しながら説明する。図６はパッシブ方式の３次元表示の一例を示す概略図である。図６に示すようにこの方式では、まず、フラットパネルディスプレイを構成する画素を、右目用映像表示画素と左目用映像表示画素の２種類の画素に分類し、ディスプレイ表示領域に右目用の画素と左目用の画素が隣接し合うようなパターン状に配列する。一方のグループの画素では右目用の映像を表示させ、他方のグループの画素では左目用の映像を表示させる。また、直線偏光板と当該画素の配列パターンに対応したパターン状の位相差層が形成されたパターン位相差フィルム（以下、単にパターン位相差フィルムということがある。）とを用い、右目用の映像と、左目用の映像とを互いに直交関係にある円偏光に変換する。さらに、視聴者には右目用レンズと左目用レンズとに互いに直交する円偏光レンズを採用した円偏光メガネを装着させ、右目用の映像が右目用レンズのみを通過し、かつ左目用の映像が左目用のレンズのみを通過するようにする。このようにして右目用の映像が右目のみに届き、左目用の映像が左目のみに届くようにすることによって３次元表示を可能となる。
このようなパッシブ方式では、上記パターン位相差フィルムと、対応する円偏光メガネとを用いることにより容易に３次元表示が可能なものにできるという利点がある。
【０００５】
上記パターン位相差フィルムとして、例えば、特許文献３には、ガラス基板上に配向規制力がパターン状に制御された光配向膜と、当該光配向膜上に形成され、液晶材料の配列が上記光配向膜のパターンに対応するようにパターニングされた位相差層（液晶層）とを有するパターン位相差板が開示されている。
【０００６】
このように、上記位相差フィルム及び、上記パターン位相差フィルムは、いずれも液晶材料が配向膜によって一定方向に配列され、フィルム全体で、或いはフィルム中の各パターン内で、光軸が一定であることが求められる。
【０００７】
液晶材料を含有する位相差層は、通常、配向膜上に、位相差層形成用液晶インキを塗工し、少なくとも乾燥工程を経て形成される。位相差層形成用液晶インキやその塗膜は、位相差フィルムの製造工程で帯電することがある。当該帯電した位相差層形成用液晶インキやその塗膜は、放電時に光軸がずれる場合があった（以下、液晶インキやその塗膜が帯電し、放電する過程を、帯電−放電過程と称することがある。）。
【０００８】
液晶インキの研究・開発は発展途上であり、どのような組成であれば帯電−放電過程においても位相差層形成用液晶インキの塗膜が光軸のずれを生じないかを理論的に解析することは困難であった。また従来、液晶インキの帯電−放電過程における光軸ずれを評価する簡易な方法がなかったため、液晶インキの評価をするためには、工場のラインにおいて位相差フィルムの試作品を製造しなければならないという問題があった。
このようなことから、液晶インクの帯電−放電過程による光軸ずれを評価する簡易な方法が求められていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開平３−６７２１９号公報
【特許文献２】特開平４−３２２２２３号公報
【特許文献３】特開２００５−４９８６５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、液晶インキやその塗膜の帯電−放電過程における光軸ずれを、試作品を製造することなく、予め簡易に評価することができる位相差フィルム用液晶インキの評価方法及び、当該評価方法を用いることにより光軸ずれのない位相差層を有する位相差フィルムが製造できる位相差フィルムの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明に係る位相差樹脂基板用液晶インキの評価方法は、樹脂基材の一面側に、液晶インキが塗工されて形成された液晶層を有する評価用樹脂基板と、金属表面を有する部材と、電荷付与手段とを準備する工程と、
前記評価用樹脂基板の前記樹脂基材表面のうち前記液晶層を有しない他面側の少なくとも一部を、前記金属表面を有する部材の金属表面に接触させて固定する工程と、
前記評価用樹脂基板の少なくとも前記金属表面との接触部分を、液晶層側から前記電荷付与手段により帯電させる工程と、
前記金属表面を接地する工程と、
帯電させた前記評価用樹脂基板を前記金属表面から剥離することによって、前記評価用樹脂基板の前記接触部分のうち少なくとも一部を放電させる工程と、
前記評価用樹脂基板の放電前の光軸と、放電後の光軸とを比較する工程とを有することを特徴とする。
【００１２】
また、本発明に係る位相差フィルムの製造方法は、樹脂基材の一面側に、液晶インキが塗工されて形成された液晶層を有する評価用樹脂基板と、金属表面を有する部材と、電荷付与手段とを準備する工程と、
前記評価用樹脂基板の前記樹脂基材表面のうち前記液晶層を有しない他面側の少なくとも一部を、前記金属表面を有する部材の金属表面に接触させて固定する工程と、
前記評価用樹脂基板の少なくとも前記金属表面との接触部分を、液晶層側から前記電荷付与手段により帯電させる工程と、
前記金属表面を接地する工程と、
帯電させた前記評価用樹脂基板を前記金属表面から剥離することによって、前記評価用樹脂基板の前記接触部分のうち少なくとも一部を放電させる工程と、
前記評価用樹脂基板の放電前の光軸と、放電後の光軸とを比較する工程とを有する、位相差樹脂基板用液晶インキの評価方法により、光軸にずれがない又は光軸のずれが許容範囲内にあると判定された液晶インキを用いて位相差層を形成する工程を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、液晶インキやその塗膜の帯電−放電過程における光軸ずれを、試作品を製造することなく、予め簡易に評価することができる位相差フィルム用液晶インキの評価方法及び、当該評価方法を用いることにより光軸ずれのない位相差層を有する位相差フィルムが製造できる位相差フィルムの製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明に用いられる評価用樹脂基板の一例を示す概略図である。
【図２】本発明の位相差フィルム形成用液晶インキの評価方法の一例を示す概略図である。
【図３】本発明の位相差フィルム形成用液晶インキの評価方法の別の一例を示す概略図である。
【図４】実施例１において評価された評価用樹脂基板の写真である。
【図５】実施例３において評価された評価用樹脂基板の写真である。
【図６】パッシブ方式で３次元映像を表示可能な液晶表示装置の一例を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明の位相差フィルム形成用液晶インキの評価方法、及び位相差フィルムの製造方法を順に説明する。
本発明においては、遅相軸と進相軸とを合わせて、光軸と総称する。
本発明において、配向規制力とは、液晶材料を特定方向に配列させる相互作用を意味する。
本発明において、位相差フィルムとは、特に断りがない限りパターン位相差フィルムをも含むものである。
また、本発明において、（メタ）アクリレートとは、メタアクリレート及び／又はメタクリレートを表す。
【００１６】
［位相差フィルム形成用液晶インキの評価方法］
本発明に係る位相差フィルム形成用液晶インキの評価方法（以下、単に評価方法ということがある。）は、樹脂基材の一面側に、液晶インキが塗工されて形成された液晶層を有する評価用樹脂基板と、金属表面を有する部材と、電荷付与手段とを準備する工程（以下単に、準備工程ということがある。）と、前記評価用樹脂基板の前記樹脂基材表面のうち前記液晶層を有しない他面側の少なくとも一部を、前記金属表面を有する部材の金属表面に接触させて固定する工程（以下単に、固定工程ということがある。）と、前記評価用樹脂基板の少なくとも前記金属表面との接触部分を液晶層側から前記電荷付与手段により帯電させる工程（以下単に、帯電工程ということがある。）と、前記金属表面を接地する工程（以下単に、接地工程ということがある。）と、帯電させた前記評価用樹脂基板を前記金属表面から剥離することによって、前記評価用樹脂基板の前記接触部分のうち少なくとも一部を放電させる工程（以下単に、放電工程ということがある。）と、前記評価用樹脂基板の放電前の光軸と、放電後の光軸とを比較する工程（以下単に、比較工程ということがある。）とを有することを特徴とする。
本発明の評価方法によれば、工場ラインにおいて位相差フィルムの試作品を製造することなく、予め液晶インキを評価することができるため、迅速かつ簡易に評価することができる。
【００１７】
本発明の評価方法は、少なくとも準備工程と、固定工程と、帯電工程と、接地工程と、放電工程と、比較工程とを有するものであり、必要に応じて他の工程を有していてもよいものである。
以下、このような本発明の評価方法の各工程について順に説明する。
【００１８】
＜準備工程＞
準備工程は、樹脂基材上に液晶インキが塗工されて形成された液晶層を有する評価用樹脂基板（以下単に、評価用樹脂基板とすることがある。）と、金属表面を有する部材と、電荷付与手段とを準備する工程である。
【００１９】
（１）評価用樹脂基板
評価用樹脂基板は、図１に示されるように、樹脂基材１上に、少なくとも評価されるべき位相差フィルム形成用液晶インキが塗工されて形成された液晶層２を有する樹脂基板であって、必要に応じて更に他の層を有していてもよいものである。
【００２０】
（１−１）樹脂基材
評価用樹脂基板に用いられる樹脂基材は、位相差フィルムに用いられる公知の樹脂基材を適宜選択して用いればよく、通常、所定の透明性を有する透明樹脂基材が用いられる。透明樹脂基材としては、例えば、トリアセチルセルロース等のアセチルセルロース系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリエチレンやポリメチルペンテン等のオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエーテルサルホンやポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、ポリエーテルケトン、アクロニトリル、メタクリロニトリル、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマー等の樹脂を用いて形成されたものを挙げることができる。
【００２１】
上記透明樹脂基材は、可視光領域における透過率が８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。ここで、透明フィルム基材の透過率は、ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１（プラスチック−透明材料の全光透過率の試験方法）により測定することができる。
【００２２】
透明樹脂基材の中でも、レターデーションが低いものであることが好ましい。より具体的には、透明基材の面内レターデーション値（Ｒｅ値）が、０ｎｍ〜１０ｎｍの範囲内であることが好ましく、０ｎｍ〜５ｎｍの範囲内であることがより好ましく、０ｎｍ〜３ｎｍの範囲内であることがさらに好ましい。面内レターデーションをゼロに近付けやすいことから、透明樹脂基材としては、アセチルセルロース系樹脂、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマー等の樹脂、アクリル系樹脂を用いて形成されたものが好ましい。
【００２３】
また、本発明においては、樹脂基材自体が配向規制力を有する基材であることが、液晶インキをより簡易に評価できる点から好ましい。配向規制力を有する基材を用いることにより、当該基材に、直接液晶インキを塗工しても液晶材料が一定方向に配列できるため、後述する配向層が不要となる。上記配向規制力を有する基材は、例えば、特開２００７−９４２０６号公報に記載の光学的に負のＣプレートとしての性質を有する基材等が挙げられる。
【００２４】
樹脂基材の厚みは、特に限定されないが、通常は、２０μｍ〜２００μｍの範囲内であり、３０μｍ〜９０μｍの範囲内であることが好ましい。
【００２５】
（１−２）配向層
前記樹脂基材として、配向規制力を有しない基材を用いる場合には、基材上に配向規制力を有する配向層を設ける。配向層は、評価されるべき位相差フィルム形成用液晶インキを一定方向に配列させるための層である。なお、本発明において硬化性とは、化学反応を経て硬くなる性質をいう。
【００２６】
配向層は、通常、配向層用硬化性組成物の硬化物からなる。当該配向層用硬化性組成物の組成は、特に限定されず、配向規制力を付与する手段との組み合わせにより適宜選択される。
配向層に配向規制力を付与する手段は、従来公知のものとすることができ、例えば、ラビング法、光配向法、賦形法などが挙げられる。
【００２７】
配向層を光配向法により形成する場合には、配向層用硬化性組成物としては、偏光を照射することにより配向規制力を発現する光配向性材料を有するものであれば特に限定されない。光配向性材料としては、例えば、シンナメート、クマリン、ベンジリデンフタルイミジン、ベンジリデンアセトフェノン、ジフェニルアセチレン、スチルバゾール、ウラシル、キノリノン、マレインイミド、または、シンナミリデン酢酸誘導体を有するポリマーを例示することができる。中でも、シンナメート、または、クマリンの少なくとも一方を有するポリマー、シンナメートおよびクマリンを有するポリマーが好ましく用いられる。また、例えば、特開平９−１１８７１７号公報、特表平１０−５０６４２０号公報、特表２００３−５０５５６１号公報、および、ＷＯ２０１０／１５０７４８号公報に記載された化合物を挙げることができる。
【００２８】
配向層用硬化性組成物は、必要に応じて光配向性材料以外の化合物を含むものであっても良い。このような化合物としては、配向層の配向規制力を損なわないものであればよく、例えば、官能基を有するモノマー又はオリゴマー（以下単に、重合性モノマー、重合性オリゴマーという場合がある。）が好適に用いられる。
【００２９】
本発明に用いられる上記重合性モノマー又は重合性オリゴマーとしては、例えば、アクリレート系の官能基を有する単官能モノマー（例えば、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン）及び多官能モノマー（例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリエチレン（ポリプロピレン）グリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ポリ(メタ）アクリレート（例えば、イソシアヌル酸ＥＯジアクリレート等））や、ビスフェノールフルオレン誘導体（例えば、ビスフェノキシエタノールフルオレンジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールフルオレンジエポキシ（メタ）アクリレート）等を単体もしくは混合したものとして用いることができる。
【００３０】
また、配向層を賦形法により形成する場合、配向層用硬化性組成物としては、所望の微細凹凸形状を形成することにより、配向規制力を発現できるものを用いればよく、例えば、紫外線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂等を用いることができる。中でも、配向層の形成が容易である点から紫外線硬化性樹脂が用いられることが好ましい。紫外線硬化性樹脂の具体例としては、例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、メラミンアクリレート等のアクリロイル基をもつ重合性オリゴマー、モノマーと、アクリル酸、アクリルアミド、アクリロニトリル、スチレン等重合性ビニル基をもつ重合性オリゴマー、モノマー等の単体あるいは配合したものに、必要に応じて増感剤等や光重合開始剤を加えたもの等を挙げることができる。
【００３１】
配向層の厚さは、後述する液晶層中の液晶材料が一定方向に配列できればよく、配向層に配向規制力を付与する手段や、用いる配向層用硬化性組成物の組成等に応じて適宜設定すればよい。光配向法により配向層を形成する場合、配向層の厚さは、通常、１〜１０００ｎｍであり、３〜１００ｎｍであることが好ましい。また、賦形法により配向層を形成する場合、配向層の厚さは、通常、１〜１０μｍであり、２〜５μｍであることが好ましい。
【００３２】
（１−３）液晶層
評価用樹脂基板において、液晶層は、評価されるべき液晶インキが塗工されて形成された層であり、前記配向規制力を有する基材、又は前記配向層によって、液晶材料が一定方向に配列されたものである。本発明の評価方法においては、当該塗工されて形成された液晶層は、含まれる溶剤の乾燥前でも乾燥後でもよい。後述の実施例で示したように、光軸ずれが発生する液晶層は、乾燥前でも乾燥後でも光軸ずれは発生する。重合性官能基を有する材料を含むインキの場合、重合反応前の状態とする。
【００３３】
位相差フィルム形成用液晶インキは、少なくとも、液晶材料を含有するものであり、他の成分を含むものであってもよい。位相差フィルム形成用液晶インキを構成する各成分は、特に限定されない。
【００３４】
液晶材料としては、例えば、ネマチック液晶性分子材料、コレステリック液晶性分子材料、カイラルネマチック液晶性分子材料、スメクチック液晶性分子材料、ディスコチック液晶性分子材料を挙げることができる。また、液晶分子内に重合性官能基を有するものが好適に用いられる。重合性官能基を有するものであれば、光の照射によって光重合開始剤から発生したラジカル、または電子線等の作用により、液晶材料を架橋することができるため位相差フィルムの安定性が向上する。
【００３５】
液晶層の形成方法としては、所望の厚みの液晶層を精度良く塗工できる方法であればよく、適宜選択することができる。例えば、グラビアコート法、リバースコート法、ナイフコート法、ディップコート法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、スピンコート法、ロールコート法、プリント法、浸漬引き上げ法、カーテンコート法、ダイコート法、キャスティング法、バーコート法、エクストルージョンコート法、Ｅ型塗布方法などが挙げられる。
液晶層を乾燥させてから評価する場合には、当該乾燥方法は従来公知の方法とすればよい。乾燥時に液晶層が帯電しにくい点から、湿度を５０％以上に保ちながら乾燥させることが好ましい。
【００３６】
液晶層の厚みは、特に限定されないが、製造する位相差フィルムの膜厚と同様のものとすることが好ましく、例えば１ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲内で設定することができ、好ましくは、５００ｎｍ〜１０００ｎｍである。
【００３７】
（２）金属表面を有する部材
金属表面を有する部材は、金属表面が前記評価用樹脂基板と接触し得る形状を有していればよく、当該金属表面が平面であっても、曲面を有していてもよい。例えば、金属板など金属表面を有する板の他、針金など線状のもの、製造ラインで用いられる金属表面を有するガイドロールなどが挙げられる。
表面の金属は、特に限定されず、鉄、銅、アルミニウムなどの他、ステンレスなどの合金を用いてもよい。
【００３８】
（３）電荷付与手段
電荷付与手段は、前記液晶層を帯電できるものであればよく、適宜選択することができる。例えば、イオン照射器、コロナ放電器などを用いて電荷を付与する手段や、帯電体を用いて静電誘導により電荷を付与する手段などが挙げられる。
【００３９】
（４）その他の部材
絶縁板等の絶縁機能を有する固定用基板や、フィルムを固定するために必要な部材を適宜用いてもよい。これらの部材は、少なくともフィルムが接触する部分の体積抵抗率が１０１４Ω・ｃｍ以上であるものを用いることが好ましい。
【００４０】
＜固定工程＞
固定工程は、前記評価用樹脂基板の前記樹脂基材表面のうち前記液晶層を有しない他面側の少なくとも一部を、前記金属表面を有する部材の金属表面に接触させて固定する工程である。例えば、図２（Ａ）のように、導電性のない絶縁板３０上に、金属表面を有する部材２０を固定し、評価用樹脂基材１０を、樹脂基材１表面のうち液晶層２を有しない他面側の少なくとも一部を前記金属表面を有する部材２０の金属表面に接触させて固定し、前記評価用樹脂基板の前記金属表面との接触部分３を設ける方法が挙げられる。また、図３のように、金属表面を有するガイドロール２２に評価用樹脂基板１０の少なくとも一部を巻きつけて固定させてもよい。
基材全面が上記金属表面と接触していてもよいが、後述の比較工程が容易となる点から、基材面の少なくとも一部は金属表面とは接触せず、絶縁されていることが好ましい。
なお、本発明において固定するとは、前記評価用樹脂基板の前記樹脂基材表面と前記金属表面との接触部分がずれないようにすることをいう。
【００４１】
＜帯電工程＞
帯電工程は、前記評価用樹脂基板の少なくとも前記金属表面との接触部分を液晶層側から前記電荷付与手段により帯電させる工程である。例えば、図２（Ｂ）のように、評価用樹脂基板１０の前記金属表面との接触部分３の液晶層側２に、電荷付与手段４０を用いて電荷４１を付与し、帯電させる方法が挙げられる。各部材が絶縁を保った状態において、帯電工程が行われることが好ましい。
本発明においては、液晶インキの評価基準を一定とする点から、帯電量を一定に制御することが好ましい。帯電量を一定に制御する手段としては、例えば、電荷付与手段としてイオン照射器を用いる場合には、照射時間と帯電量に相関があるため、照射時間を一定とすればよい。また、帯電量測定器（例えば、ＫＡＳＵＧＡ製  ＫＳＤ−０１０３）を用いて液晶層の帯電量を測定することによって、帯電量を一定にしてもよい。
液晶層の帯電量は、製造ライン上で生じ得る帯電量とすることが好ましく、適宜設定されれば良い。例えば製造ライン上で生じた帯電量を測定し、同程度の帯電量を設定することができる。数値としては特に限定されないが、５ＫＶ〜２０ＫＶ、好ましくは１０ＫＶ〜１４ＫＶとすることができる。
【００４２】
＜接地工程＞
接地工程は、前記金属表面を有する部材２０の金属表面を導線５０などで接地することにより行われる。当該接地工程により、当該金属表面が前記帯電した評価用樹脂基板が放電する際の経路となり易くなる（図２（Ｃ））。そのため、接地工程は、通常、放電工程前に行われる。帯電工程前に金属表面を有する部材の金属表面を接地してもよい。しかし、評価用樹脂基板を帯電しやすくする点から、帯電工程後に当該接地工程を有することが好ましい。
接地方法は特に限定されず、前記金属表面を有する部材の金属表面と、基準電位点となる別の金属等とを、導線５０などで接続すればよい。
【００４３】
＜放電工程＞
放電工程は、帯電させた前記評価用樹脂基板を前記金属表面から剥離することにより、前記評価用樹脂基板の前記接触部分のうち少なくとも一部を放電させる工程である。例えば、図２（Ｄ）のように、評価用樹脂基板１０を金属表面２１から剥離６０する際に、当該評価用樹脂基板と、金属表面との間で放電５が生じる。当該放電時に、放電した液晶層は光軸ずれを生じ得る。
【００４４】
＜比較工程＞
比較工程では、前記評価用樹脂基板の放電前の光軸と、放電後の光軸とを比較する。
放電前の光軸と、放電後の光軸を比較する方法としては、例えば、放電前の評価用樹脂基板及び放電後の評価用樹脂基板のそれぞれに、入射角が同一となるように光を照射し、当該光の反射光の反射角の違いを目視等で確認することにより光軸を比較することができる。反射角に違いがなければ、光軸ずれがないものと評価される。
放電前の光軸を確認し、その後、帯電−放電過程を行ってから放電部位の光軸を確認して光軸を比較してもよいが、同一の評価用樹脂基板を２枚作製し、そのうち１枚のみを放電し、２枚の評価用樹脂基板を用いて放電前と放電後の光軸を比較してもよい。また、図２（Ａ）〜図２（Ｅ）のように、前記評価用樹脂基板のうち一部のみを放電させ、放電後の評価用樹脂基板１１の放電部位６と未放電部位７の光軸を比較してもよい。
【００４５】
上記評価の結果、光軸にずれがない、又は光軸のずれが許容範囲内にあるのと評価された評価用樹脂基板に塗工された液晶インキは、位相差フィルムの位相差層形成用液晶インキとして好ましいものであると判定することができる。
光軸にずれがないとは、前記比較工程において光軸に違いがなかったことをいう。また、光軸のずれが許容範囲内にあるとは、前記比較工程において光軸に違いがあるものの、位相差フィルムの性能に影響のない範囲内であるか、又は、位相差フィルムの製造工程において液晶層の帯電量を抑えることにより、光軸ずれがなくなるか、或いは、光軸ずれが位相差フィルムの性能に影響のない範囲内であることをいう。
なお、位相差フィルムの位相差層形成用液晶インキとして好ましい液晶インキは、パターン位相差フィルムにおけるパターン位相差層形成用液晶インキとしても好ましいものである。
【００４６】
［位相差フィルムの製造方法］
本発明に係る位相差フィルムの製造方法は、樹脂基材の一面側に、液晶インキが塗工されて形成された液晶層を有する評価用樹脂基板と、金属表面を有する部材と、電荷付与手段とを準備する工程と、
前記評価用樹脂基板の前記樹脂基材表面のうち前記液晶層を有しない他面側の少なくとも一部を、前記金属表面を有する部材の金属表面に接触させて固定する工程と、
前記評価用樹脂基板の少なくとも前記金属表面との接触部分を液晶層側から前記電荷付与手段により帯電させる工程と、
前記金属表面を接地する工程と、
帯電させた前記評価用樹脂基板を前記金属表面から剥離することによって、前記評価用樹脂基板の前記接触部分のうち少なくとも一部を放電させる工程と、
前記評価用樹脂基板の放電前の光軸と、放電後の光軸とを比較する工程とを有する、位相差樹脂基板用液晶インキの評価方法により、光軸にずれがない又は光軸のずれが許容範囲内にあると判定された液晶インキを用いて位相差層を形成する工程（以下、位相差層形成工程という場合がある。）を有することを特徴とする。
【００４７】
本発明の製造方法によれば、帯電−放電過程によっても光軸にずれがないか、又は、光軸のずれが許容範囲内となる液晶インキを、簡易な評価方法により予め選択できるため、光軸ずれのない位相差フィルムを製造することができる。
本発明の製造方法は、少なくとも前記準備工程と、固定工程と、帯電工程と、接地工程と、放電工程と、比較工程、及び位相差層形成工程を有するものであり、必要に応じて他の工程を有していてもよいものである。
以下、このような本発明の製造方法を説明するが、上記本発明に係る位相差フィルム用液晶インキの評価方法と共通する工程は上述の通りであるため、ここでの説明は省略する。
【００４８】
［位相差層形成工程］
本発明の位相差層形成工程は、前記本発明に係る位相差フィルム用液晶インキの評価方法により、光軸にずれがない又は光軸のずれが許容範囲内にあると判定された液晶インキを用いることを特徴とする。当該液晶インキを用いることにより、製造工程中に光軸ずれが起こらず、高品質の位相差層及びパターン位相差層を形成することができる。
【００４９】
光軸にずれがない又は光軸のずれが許容範囲内にあると判定された液晶インキとは、前記本発明に係る評価方法において、放電前後の光軸にずれがない、又はずれが許容範囲内にあった評価用樹脂基板に用いられた位相差フィルム形成用液晶インキを示す。ここで許容範囲内にあると判定された液晶インキには、光軸のずれの程度が許容される場合と、製造条件を適宜変更することで光軸のずれがなくなる液晶インキが包含される。
製造条件を適宜変更することで光軸のずれがなくなる液晶インキにおける、製造条件としては、例えば、位相差層形成時における周辺湿度を５０％以上とする等、位相差フィルムの帯電量を抑え得る条件が挙げられる。
【００５０】
位相差フィルムの製造方法における、位相差層及びパターン位相差層の形成方法、及び必要に応じて形成される配向層の形成方法は、従来公知の方法を用いることができ、特に限定されない。
例えば、前記樹脂基材の一方の表面に、必要に応じて、配向層用硬化性組成物を塗工し、公知の手段を用いて配向規制力を付与して配向層を形成した後、当該配向層上に本発明に係る評価方法により、光軸にずれがない又は光軸のずれが許容範囲内にあると判定された液晶インキを塗工し、乾燥させ、硬化させることにより位相差層を形成する方法等が挙げられる。
【００５１】
また、パターン位相差フィルムの製造方法としては、例えば、トリアセチルセルロース基材の一面側に、光配向性材料を含む配向層用硬化性組成物を塗工し、第一の偏光紫外線を所望のパターンを有するマスクを介して照射し、次いで、第一の偏光紫外線の偏光軸と異なる偏光軸を有する第二の偏光紫外線をマスクを介さずに照射して、パターン状に配向規制力を付与した配向層を形成した後、前記本発明に係る位相差フィルム形成用液晶インキの評価方法により光軸にずれがない又は光軸のずれが許容範囲内にあると判定された液晶インキを塗工し、乾燥させ、硬化させることにより位相差層を形成する方法（光配向法）や、所望のパターン状に微細凹凸形状が形成された配向層用原版に、紫外線硬化性樹脂を含む配向層用硬化性組成物を塗布し、その上にトリアセチルセルロース基材を密着させ、紫外線を照射することにより微細凹凸形状が賦型された配向層を形成した後、前記本発明に係る位相差フィルム形成用液晶インキの評価方法により光軸にずれがない又は光軸のずれが許容範囲内にあると判定された液晶インキを塗工し、乾燥させ、硬化させることにより位相差層を形成する方法（賦型法）などが挙げられる。
パターン位相差フィルムの製造方法として、より具体的には、例えば、特開２０１２−１４０６４号公報等に記載の方法を用いることができる。
【００５２】
上記賦型法における、微細凹凸形状が形成された配向層用原版の形成方法としては、は、例えば、金属製の板状やロール状の基材の表面を、特定の方向に研磨することにより微小なライン上凹凸構造を形成する研磨処理を行う方法を挙げることができる。中でも、先端に微細凹凸形状を有するダイヤモンドバイト等のバイト等を用いて、特定の方向に切削することによりストライプ状のライン上凹凸構造を形成する切削処理を行う方法が好ましい。
【実施例】
【００５３】
以下、本発明について実施例を示して具体的に説明する。これらの記載により本発明を制限するものではない。
【００５４】
（製造例１：評価用樹脂基板１の作製）
配向規制力を有するトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）基材（富士フィルム株式会社製フジタック）上に、重合性液晶化合物を含有する液晶インキを塗布し、湿度を５０％以上に保ちながらオーブン内で乾燥させて、膜厚１μｍの液晶層を有する評価用樹脂基板１を作製した。
【００５５】
（製造例２：評価用樹脂基板２の作製）
製造例１において、液晶インキを乾燥させずに膜厚１μｍの液晶層とした以外は、製造例１と同様にして、評価用樹脂基板２を作製した。
【００５６】
（製造例３：評価用樹脂基板３の作製）
製造例１において、液晶インキを別の液晶インキ（メルク製、ＲＭＭ８８９）とした以外は、製造例１と同様にして、膜厚１μｍの液晶層を有する評価用樹脂基板３を作製した。
【００５７】
（製造例４：評価用樹脂基板４の作製）
製造例３において、液晶インキを乾燥させずに膜厚１μｍの液晶層とした以外は、製造例１と同様にして、評価用樹脂基板４を作製した。
【００５８】
（実施例１：位相差フィルム用液晶インキの評価）
体積抵抗率１０１４Ω・ｃｍ以上の絶縁体ガラス上に、鉄製の金属板をおき、当該金属板上に製造例１で作製した評価用樹脂基板１を図２（Ａ）のように接触させて固定した。次に、イオン照射器（春日電機製、静電気微物採取器（ＪＰＫ−３））を用いてイオンを照射して、評価用樹脂基板の液晶層に電荷を付与した。帯電量測定器（ＫＡＳＵＧＡ製  ＫＳＤ−０１０３）を用いて液晶層の帯電量を測定したところ、１４ＫＶであった。
次いで、金属板を接地した後、評価用樹脂基板１を金属板から剥離したところ、放電が生じた。得られた放電後の評価用樹脂基板１の放電部分と、未放電部分の光軸を比較したところ、図４の写真のとおり光軸ずれは生じていなかった。
【００５９】
（実施例２：位相差フィルム用液晶インキの評価）
実施例１において、評価用樹脂基板１の代わりに、評価用樹脂基板２を用いた以外は、実施例１と同様にして、評価用樹脂基板２の評価を行ったところ、光軸ずれは生じていなかった。
【００６０】
（実施例３：位相差フィルム用液晶インキの評価）
実施例１において、評価用樹脂基板１の代わりに、評価用樹脂基板３を用いた以外は、実施例１と同様にして、評価用樹脂基板３の評価を行ったところ、図５の写真のとおり光軸ずれが確認された。
【００６１】
（実施例４：位相差フィルム用液晶インキの評価）
実施例１において、評価用樹脂基板１の代わりに、評価用樹脂基板４を用いた以外は、実施例１と同様にして、評価用樹脂基板４の評価を行ったところ、光軸ずれが確認された。
【００６２】
（実施例５：位相差フィルム用液晶インキの評価）
実施例１において、鉄製の金属板の代わりに、金属表面を有するガイドロールを用いて、評価用樹脂基板１を、図３のように前記ガイドロールに接触させて固定した以外は、実施例１と同様にして、評価用樹脂基板１の評価を行ったところ、光軸ずれは生じていなかった。
【００６３】
（実施例６：位相差フィルム用液晶インキの評価）
実施例５において、評価用樹脂基板１の代わりに、評価用樹脂基板３を用いた以外は、実施例５と同様にして、評価用樹脂基板３の評価を行ったところ、光軸ずれが確認された。
【００６４】
（実施例７：パターン位相差フィルムの製造）
実施例１、２及び５において、光軸ずれがないと評価された液晶インキを用いて特開２０１２−１４０６４号公報の実施例１と同様にして、パターン位相差フィルムを製造したところ、製造されたパターン位相差フィルムは光軸ずれを生じていなかった。
【００６５】
（比較例１：パターン位相差フィルムの製造）
実施例７において、光軸ずれがないと評価された液晶インキの代わりに、実施例３、４及び６において光軸ずれを生じると評価された液晶インキ（ＲＭＭ８８９）を用いて実施例７と同様にしてパターン位相差フィルムを製造したところ、製造されたパターン位相差フィルムは光軸ずれを生じていた。
【符号の説明】
【００６６】
１      樹脂基材
２      液晶層
３      評価用樹脂基板の金属表面との接触部分
５      放電
６      放電部位
７      未放電部位
１０    評価用樹脂基板
１１    放電後の評価用樹脂基板
２０    金属板（金属表面を有する部材）
２１    金属表面
２２    ガイドロール（金属表面を有する部材）
３０    絶縁板
４０    電荷付与手段
４１    電荷
５０    導線（接地）
６０    剥離方向
【図１】
2013210329.tif 000003
【図２】
2013210329.tif 000004
【図３】
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【図４】
2013210329.tif 000006
【図５】
2013210329.tif 000007
【図６】
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