(57)【要約】【課題】搬送途上において基板を反転することを容易に可能とする。【解決手段】基板処理装置は、基板の上方を向く主面を処理する処理部と、基板が載置される載置部近傍の前部移載位置５０１と処理部近傍の後部移載位置５０２との間にて基板を搬送する基板搬送部５とを有する。基板搬送部５では、基板を保持する基板保持部５１の両側部に一対の円筒部５５が設けられ、搬送方向におよそ沿って伸びる一対の外側レール部５３が基板保持部５１の両側に設けられる。昇降機構５７１，５７２は、搬送方向における一対の外側レール部５３の両端部に高低差を設けることにより、前部移載位置５０１から後部移載位置５０２へと一対の円筒部５５を転がして、基板を反転しつつ基板保持部５１を搬送する。これにより、搬送途上において基板を反転することが容易に可能となり、基板処理装置におけるスループットを向上することができる。【選択図】図４
2013074234.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を処理する基板処理装置であって、
基板が載置される載置部と、
搬入される基板の少なくとも上方を向く主面を処理する処理部と、
前記載置部近傍の第１の位置と前記処理部近傍の第２の位置との間にて基板を搬送する基板搬送部と、
前記載置部と前記基板搬送部との間にて基板を移載する第１移載部と、
前記基板搬送部と前記処理部との間にて基板を移載する第２移載部と、
を備え、
前記基板搬送部が、
基板を保持する基板保持部と、
前記第１の位置から前記第２の位置に向かう水平な搬送方向におよそ沿って伸びるとともに、前記搬送方向に垂直かつ水平な幅方向に関して前記基板保持部の両側にそれぞれ配置される一対のレール部と、
前記幅方向における前記基板保持部の両側部にそれぞれ固定されるとともに、前記幅方向に平行な軸を中心とする一対の円筒部と、
前記搬送方向における前記一対のレール部の両端部に高低差を設け、前記一対のレール部上において前記第１の位置および前記第２の位置の一方の位置から他方の位置へと前記一対の円筒部を転がすことにより、前記一方の位置から前記他方の位置へと前記基板保持部を搬送するとともに前記基板を反転するレール角度変更機構と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板処理装置であって、
前記基板搬送部が、
前記一対のレール部とおよそ平行に設けられる他の一対のレール部と、
前記基板保持部に固定されるとともに前記他の一対のレール部と当接する一対の当接部と、
前記搬送方向における前記他の一対のレール部の両端部に高低差を設け、前記他の一対のレール部上において前記一方の位置から前記他方の位置へと前記一対の当接部を滑らせることにより、前記一方の位置から前記他方の位置へと前記基板保持部を搬送する他のレール角度変更機構と、
をさらに備え、
前記基板処理装置が、
基板の両主面のうち前記処理部における処理対象の主面を示す情報に基づいて、前記レール角度変更機構または前記他のレール角度変更機構の一方による前記基板保持部の搬送を選択する制御部をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項３】
請求項２に記載の基板処理装置であって、
前記レール角度変更機構により前記基板保持部が前記一方の位置から前記他方の位置へと移動する際に、前記一対の当接部と前記他の一対のレール部とが離間し、前記基板保持部が前記他方の位置に到達した際に、前記一対の当接部が、水平な前記他の一対のレール部と当接することを特徴とする基板処理装置。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記一対のレール部が、前記第１の位置および前記第２の位置のそれぞれにおいて、前記一対の円筒部の移動を係止する係止部を有することを特徴とする基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板を処理する基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
枚葉式の基板処理装置では、処理対象の基板が載置される載置部と、基板を処理する処理部との間に基板搬送部が設けられ、基板搬送部により処理対象の基板が処理部近傍へと搬送される。一方、基板の裏面を処理する際には、基板が反転された後、基板が処理部へと搬入される。例えば、特許文献１では、基板を反転させる反転機構、および、反転機構を移動させる移動機構を設けることにより、基板の搬送の際に基板の反転を行って基板処理のスループットを向上する手法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００８−１７２１６０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、特許文献１の装置では、モータ等が内蔵された回転機構が反転機構に設けられるため、反転機構の重量が重くなり、反転機構を移動させる移動機構において大型の駆動源が必要となる。したがって、搬送途上において基板を反転することが容易に可能な新規の手法が求められる。
【０００５】
本発明は上記課題に鑑みなされたものであり、搬送途上において基板を反転することが容易に可能な新規の手法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
請求項１に記載の発明は、基板を処理する基板処理装置であって、基板が載置される載置部と、搬入される基板の少なくとも上方を向く主面を処理する処理部と、前記載置部近傍の第１の位置と前記処理部近傍の第２の位置との間にて基板を搬送する基板搬送部と、前記載置部と前記基板搬送部との間にて基板を移載する第１移載部と、前記基板搬送部と前記処理部との間にて基板を移載する第２移載部とを備え、前記基板搬送部が、基板を保持する基板保持部と、前記第１の位置から前記第２の位置に向かう水平な搬送方向におよそ沿って伸びるとともに、前記搬送方向に垂直かつ水平な幅方向に関して前記基板保持部の両側にそれぞれ配置される一対のレール部と、前記幅方向における前記基板保持部の両側部にそれぞれ固定されるとともに、前記幅方向に平行な軸を中心とする一対の円筒部と、前記搬送方向における前記一対のレール部の両端部に高低差を設け、前記一対のレール部上において前記第１の位置および前記第２の位置の一方の位置から他方の位置へと前記一対の円筒部を転がすことにより、前記一方の位置から前記他方の位置へと前記基板保持部を搬送するとともに前記基板を反転するレール角度変更機構とを備える。
【０００７】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の基板処理装置であって、前記基板搬送部が、前記一対のレール部とおよそ平行に設けられる他の一対のレール部と、前記基板保持部に固定されるとともに前記他の一対のレール部と当接する一対の当接部と、前記搬送方向における前記他の一対のレール部の両端部に高低差を設け、前記他の一対のレール部上において前記一方の位置から前記他方の位置へと前記一対の当接部を滑らせることにより、前記一方の位置から前記他方の位置へと前記基板保持部を搬送する他のレール角度変更機構とをさらに備え、前記基板処理装置が、基板の両主面のうち前記処理部における処理対象の主面を示す情報に基づいて、前記レール角度変更機構または前記他のレール角度変更機構の一方による前記基板保持部の搬送を選択する制御部をさらに備える。
【０００８】
請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の基板処理装置であって、前記レール角度変更機構により前記基板保持部が前記一方の位置から前記他方の位置へと移動する際に、前記一対の当接部と前記他の一対のレール部とが離間し、前記基板保持部が前記他方の位置に到達した際に、前記一対の当接部が、水平な前記他の一対のレール部と当接する。
【０００９】
請求項４に記載の発明は、請求項１ないし３のいずれかに記載の基板処理装置であって、前記一対のレール部が、前記第１の位置および前記第２の位置のそれぞれにおいて、前記一対の円筒部の移動を係止する係止部を有する。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、搬送途上において基板を反転することが容易に可能となり、基板処理装置におけるスループットを向上することができる。
【００１１】
また、請求項２の発明では、基板の反転および非反転を選択的に行うことができ、請求項３の発明では、基板の姿勢を補正することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】基板処理装置の平面図である。
【図２】インデクサロボットの平面図である。
【図３】基板搬送部を示す図である。
【図４】基板搬送部を示す図である。
【図５】外側レール部の断面図である。
【図６】基板保持部の構成を示す図である。
【図７】固定板および可動板を示す斜視図である。
【図８】基板処理装置における動作の流れを示す図である。
【図９】基板保持部内への基板の搬入動作を説明するための図である。
【図１０】基板保持部内への基板の搬入動作を説明するための図である。
【図１１】基板保持部内への基板の搬入動作を説明するための図である。
【図１２】基板搬送部における基板の搬送動作を説明するための図である。
【図１３】基板搬送部における基板の搬送動作を説明するための図である。
【図１４】基板搬送部における基板の搬送動作を説明するための図である。
【図１５】基板搬送部における基板の搬送動作を説明するための図である。
【図１６】基板搬送部における基板の搬送動作を説明するための図である。
【図１７】基板搬送部における基板の搬送動作を説明するための図である。
【図１８】基板保持部からの基板の搬出動作を説明するための図である。
【図１９】基板保持部からの基板の搬出動作を説明するための図である。
【図２０】基板保持部からの基板の搬出動作を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
図１は、本発明の一の実施の形態に係る基板処理装置１を示す平面図である。基板処理装置１は、所定の薬液やリンス液等により円形のシリコン基板（以下、単に「基板」という。）９を処理する枚葉式の装置である。基板処理装置１は、インデクサブロック２、処理ブロック３および制御部１０を備え、制御部１０の制御により基板処理装置１の各構成要素が制御される。図１では、互いに垂直かつ水平な２方向をＸ方向およびＹ方向として示し、Ｘ方向およびＹ方向に垂直な鉛直方向をＺ方向として示している。
【００１４】
インデクサブロック２は、キャリア９０を保持するキャリア保持部２１、キャリア保持部２１と処理ブロック３との間に配置されるインデクサロボット２２、および、インデクサロボット２２を図１中の縦方向（図１中のＸ方向であり、以下、「幅方向」ともいう。）に移動するインデクサロボット移動機構２３を備える。キャリア保持部２１では、複数のキャリア９０が幅方向（すなわち、インデクサロボット２２の移動方向）に沿って配列され、各キャリア９０には複数の基板９が収容される。すなわち、キャリア保持部２１では、キャリア９０内に収容された状態の基板９が載置され、キャリア保持部２１は基板９の載置部である。インデクサロボット２２では、キャリア９０からの基板９の搬出、および、キャリア９０への基板９の搬入が行われる。
【００１５】
処理ブロック３は、４つの処理部４、および、センターロボット３１を備える。４つの処理部４はセンターロボット３１を囲むように配置され、センターロボット３１により処理ブロック３における基板９の搬送が行われる。各処理部４は、基板９を水平状態にて保持しつつ基板９を回転するスピンチャック、スピンチャックの周囲を囲むカップ部、スピンチャックの上方に配置される処理液ノズル等を備える。処理部４では、基板９の下方（図１中の（−Ｚ）側）を向く面がスピンチャック側を向いた状態で基板９が保持され、処理液ノズルから基板９の上方（（＋Ｚ）側）を向く面に所定の処理液（例えば、洗浄液）が付与されて基板９の当該面が処理される。すなわち、処理部４では、搬入される基板９の上方を向く面が処理される。処理ブロック３では、各処理部４に隣接して流体ボックス部４１が設けられ、流体ボックス部４１内に、各種処理液の供給に係る供給管、バルブ、流量計等が収容される。なお、処理ブロック３において、図１のＺ方向に複数の処理部が重ねて設けられてもよい（すなわち、積層配置されてもよい。）。
【００１６】
図２は、インデクサロボット２２の平面図である。図２に示すように、インデクサロボット２２はベース部２２１を有し、ベース部２２１には昇降回動部２２２が設けられる。昇降回動部２２２は、ベース部２２１内に設けられた昇降駆動機構により上下方向（Ｚ方向）に昇降するとともに、ベース部２２１内に設けられた回動駆動機構により鉛直軸の周りで回動する。昇降回動部２２２には、２つの多関節型アーム２２３ａ，２２３ｂが設けられ、多関節型アーム２２３ａ，２２３ｂの先端にはハンド２２４ａ，２２４ｂが接続される。ハンド２２４ａおよびハンド２２４ｂはＺ方向に異なる高さに配置される。多関節型アーム２２３ａ，２２３ｂは図示省略の駆動機構により独立して駆動され、ハンド２２４ａ，２２４ｂを一定姿勢に維持しつつ水平方向に進退させる。インデクサロボット２２では、各ハンド２２４ａ，２２４ｂ上に基板９が載置されて保持される。ハンドの形状を除き、センターロボット３１も図２のインデクサロボット２２とほぼ同様の構造である。
【００１７】
図１に示すように、インデクサロボット２２とセンターロボット３１との間には基板搬送部５が設けられる。基板処理装置１では、インデクサロボット２２が移載部としてキャリア保持部２１と基板搬送部５との間にて基板９を移載し、センターロボット３１が他の移載部として基板搬送部５と処理部４との間にて基板９を移載する。基板搬送部５は、インデクサロボット２２により基板９が移載される位置（すなわち、キャリア保持部２１近傍の位置）と、センターロボット３１により基板９が移載される位置（すなわち、処理部４近傍の位置）との間にて、Ｙ方向に沿って基板９を搬送する。本実施の形態では、基板搬送部５におけるインデクサロボット２２側の端部およびセンターロボット３１側の端部を、それぞれ「前部」および「後部」と呼ぶ。また、インデクサロボット２２により基板９が移載されるＹ方向の位置５０１を「前部移載位置５０１」と呼び、センターロボット３１により基板９が移載されるＹ方向の位置５０２を「後部移載位置５０２」と呼ぶ。
【００１８】
図３および図４は基板搬送部５を示す図であり、図３は（−Ｙ）側から（＋Ｙ）方向を向いて基板搬送部５を見た図であり、図４は（＋Ｘ）側から（−Ｘ）方向を向いて基板搬送部５を見た図である。基板搬送部５は、基板９を保持する基板保持部５１を有する。基板保持部５１の内部構造については後述する。
【００１９】
幅方向（Ｘ方向）における基板保持部５１の両側には、前部移載位置５０１から後部移載位置５０２に向かう水平な搬送方向（すなわち、Ｙ方向）におよそ沿って伸びる一対のレール部５２が配置される。また、一対のレール部５２の外側（すなわち、（＋Ｘ）側および（−Ｘ）側）には、搬送方向に伸びる他の一対のレール部５３が一対のレール部５２とおよそ平行に設けられる。以下の説明では、レール部５２を「内側レール部５２」と呼び、レール部５３を「外側レール部５３」と呼ぶ。
【００２０】
幅方向における基板保持部５１の各側部には、ブロック状の当接部５４が固定され、当接部５４の外側には幅方向に平行な軸（本実施の形態では、基板保持部５１の重心近傍を通過する軸）を中心とする円筒部５５が固定される。すなわち、基板保持部５１の両側部には、一対の当接部５４および一対の円筒部５５が固定される。幅方向に関して、一対の当接部５４は一対の内側レール部５２と同じ位置に配置され、一対の円筒部５５は一対の外側レール部５３とほぼ同じ位置に配置される。当接部５４は略直方体であり、Ｚ方向に垂直な２つの面５４０はほぼ鏡面である。後述する基板９の搬送の一態様では、当該２つの面５４０の一方が、内側レール部５２の（＋Ｚ）側の面５２０と摺動するため、以下、当接部５４の面５４０を「摺動面５４０」といい、内側レール部５２の面５２０を「搬送面５２０」という。基板搬送部５では、必要に応じて搬送面５２０および摺動面５４０に潤滑グリース等が塗布されてもよい。
【００２１】
図４に示すように、一対の内側レール部５２の前部には内側レール前部昇降機構５６１が接続され、一対の内側レール部５２の後部には内側レール後部昇降機構５６２が接続される。また、一対の外側レール部５３の前部には外側レール前部昇降機構５７１が接続され、一対の外側レール部５３の後部には外側レール後部昇降機構５７２が接続される。これらの昇降機構５６１，５６２，５７１，５７２は制御部１０に接続される。基板搬送部５では、一対の内側レール部５２または一対の外側レール部５３の一方を用いて基板保持部５１の搬送が行われ、一対の内側レール部５２を用いる際には一対の内側レール部５２と一対の当接部５４とが当接する。また、一対の外側レール部５３を用いる際には一対の外側レール部５３と一対の円筒部５５とが当接する。
【００２２】
図５は外側レール部５３の断面図であり、ＹＺ平面に平行な面における外側レール部５３の断面を示す。図３および図５に示すように、前部移載位置５０１および後部移載位置５０２のそれぞれにおいて、各外側レール部５３の内側レール部５２に対向する内側面にはＺ方向に伸びる溝５３３が形成される。平面視における（すなわち、（＋Ｚ）側から（−Ｚ）方向を見た場合における）溝５３３の断面形状は円筒部５５よりも僅かに大きい。図５に示すように、前部移載位置５０１における溝５３３には前部押出部材５３１が挿入され、前部押出部材５３１には前部押出部材昇降機構５８１が接続される。また、後部移載位置５０２における溝５３３には後部押出部材５３２が挿入され、後部押出部材５３２には後部押出部材昇降機構５８２が接続される。
【００２３】
基板搬送部５では、前部押出部材５３１の（＋Ｚ）側の面が、外側レール部５３の（＋Ｚ）側の面５３０（後述するように、基板保持部５１の搬送時に円筒部５５が当接する面であり、以下、「搬送面５３０」という。）と同じ高さ、もしくは、搬送面５３０よりも僅かに高くなる押出位置、または、搬送面５３０よりも下方となる係止位置のいずれかに前部押出部材５３１が配置される。同様に、後部押出部材５３２も押出位置または係止位置のいずれかに配置される。また、図３および図４に示すように、各内側レール部５２において、前部移載位置５０１および後部移載位置５０２のそれぞれには（正確には、前部移載位置５０１の（−Ｙ）側近傍および後部移載位置５０２の（＋Ｙ）側近傍のそれぞれには）、当接部５４の移動を係止する係止部材５２１が設けられる。
【００２４】
図６は基板保持部５１の構成を示す図である。図６に示すように、基板保持部５１は、Ｚ方向に垂直な２つの平板５１１、および、Ｘ方向に垂直な２つの平板５１２を有し、これらの平板５１１，５１２により（＋Ｙ）側および（−Ｙ）側が開口した外枠が形成される。直立する２つの平板５１２のＺ方向の中央には、平板５１１と平行な固定板５１３が固定される。すなわち、外枠の内部が固定板５１３により（＋Ｚ）側の第１空間５１０ａと（−Ｚ）側の第２空間５１０ｂとに仕切られる。
【００２５】
第１空間５１０ａおよび第２空間５１０ｂのそれぞれにおいて、一方の平板５１２には固定板５１３に垂直な方向に伸びるリニアガイド５１４が設けられる。各リニアガイド５１４には、Ｘ方向に伸びる支持部材５１５の一端が連結部材を介して摺動可能に取り付けられる。支持部材５１５にはシリンダ５１６が接続され、シリンダ５１６により支持部材５１５がリニアガイド５１４に沿ってＺ方向に移動する。支持部材５１５には、固定板５１３に平行な可動板５１７ａ，５１７ｂが取り付けられ、可動板５１７ａ，５１７ｂは支持部材５１５と共に昇降する。なお、シリンダ５１６の駆動源はチューブを介して導入される高圧エアや、充電池が接続されたモータ等である。
【００２６】
図７は、固定板５１３および２つの可動板５１７ａ，５１７ｂのみを示す斜視図である。図６および図７に示すように、固定板５１３の両主面には同じ高さの複数の支持ピン５１３１が設けられる。また、各可動板５１７ａ，５１７ｂにおいて固定板５１３と対向する主面には同じ高さの複数の支持ピン５１７１が設けられる。後述するように、第１空間５１０ａおよび第２空間５１０ｂのそれぞれに基板９が搬入された際に、複数の支持ピン５１３１は基板９の一方の主面の外縁部に当接するように設けられ、複数の支持ピン５１７１は基板９の他方の主面の外縁部に当接するように設けられる。実際には、２つの可動板５１７ａ，５１７ｂが固定板５１３から最も離れた状態において、各可動板５１７ａ，５１７ｂと固定板５１３との間の距離は、ハンド２２４ａ，２２４ｂの高さの差とほぼ等しい。
【００２７】
次に、基板処理装置１における動作の流れについて図８に沿って説明する。図１の基板処理装置１の制御部１０では、それぞれが基板に対する処理の内容を示す複数のレシピが予め準備されており、操作者の入力に基づいて一のレシピが選択される（ステップＳ１１）。ここで、レシピは、基板９の両主面のうち処理部４における処理対象の主面を示す情報や、当該主面に対して付与する処理液の種類を示す情報等を含んでいる。
【００２８】
続いて、キャリア９０内の２つの基板９がインデクサロボット２２の２つのハンド２２４ａ，２２４ｂにより取り出される。このとき、キャリア９０内では、各種パターンが形成された主面（以下、「パターン形成面」という。）を上方（（＋Ｚ）側）に向けて複数の基板９が収容されており、パターン形成面とは異なる主面（以下、単に「裏面」という。）がハンド２２４ａ，２２４ｂに当接する。ハンド２２４ａ，２２４ｂ上の２つの基板９は、前部移載位置５０１において基板搬送部５の基板保持部５１内に同時に搬入される（ステップＳ１２）。
【００２９】
図９ないし図１１は、基板保持部５１内への基板９の搬入動作を説明するための図であり、図９ないし図１１では、基板保持部５１の構成として固定板５１３および２つの可動板５１７ａ，５１７ｂのみを示している（後述の図１８ないし図２０において同様）。基板保持部５１内への基板９の搬入動作では、図９に示すように、インデクサロボット２２において基板９を保持する一方のハンド２２４ａが一方の可動板５１７ａと固定板５１３との間に進入し、他方のハンド２２４ｂが他方の可動板５１７ｂと固定板５１３との間に進入する。続いて、インデクサロボット２２の昇降回動部２２２が下降することにより、図１０中に二点鎖線にて示すように、ハンド２２４ａが固定板５１３の主面近傍に配置され、ハンド２２４ｂが可動板５１７ｂの主面近傍に配置される。これにより、ハンド２２４ａ上の基板９が固定板５１３の複数の支持ピン５１３１上に載置され、ハンド２２４ｂ上の基板９が可動板５１７ｂの複数の支持ピン５１７１上に載置される。なお、支持ピン５１３１，５１７１はハンド２２４ａ，２２４ｂと干渉しない位置に配置されている（センターロボット３１において同様。）。
【００３０】
図１０中に実線にて示すように、ハンド２２４ａ，２２４ｂが可動板５１７ａ，５１７ｂと固定板５１３との間から退避した後、シリンダ５１６により可動板５１７ａ，５１７ｂが固定板５１３に向かって移動する（すなわち、可動板５１７ａが（−Ｚ）方向に移動し、可動板５１７ｂが（＋Ｚ）方向に移動する）。これにより、図１１に示すように、可動板５１７ａの複数の支持ピン５１７１と固定板５１３の（＋Ｚ）側の主面上の複数の支持ピン５１３１とにより一方の基板９の外縁部が把持され、固定板５１３の（−Ｚ）側の主面上の複数の支持ピン５１３１と可動板５１７ｂの複数の支持ピン５１７１とにより他方の基板９の外縁部が把持される。以上の動作により、基板保持部５１内に基板９が搬入されて保持される。なお、インデクサロボット２２により、キャリア保持部２１から基板搬送部５に基板９が１枚づつ移載されてもよく、インデクサロボット２２が１つのハンドのみを有するものであってもよい（センターロボット３１において同様）。
【００３１】
基板９が基板搬送部５に移載されると、制御部１０では、前部移載位置５０１から後部移載位置５０２に基板９を搬送する際に、基板９を反転するか否かが確認される。ここでは、ステップＳ１１にて選択されたレシピに基づいて、基板９を反転することが確認され（ステップＳ１３）、図４の外側レール前部昇降機構５７１および外側レール後部昇降機構５７２により、一対の外側レール部５３が上昇して、内側レール部５２よりも上方に配置される。このとき、図５の前部押出部材昇降機構５８１により各前部押出部材５３１が搬送面５３０よりも下方となる係止位置に配置されており、図５に対応する図１２（後述の図１３ないし図１６において同様）に示すように、前部移載位置５０１において外側レール部５３に凹部５３４が形成されて、円筒部５５が凹部５３４内に収容される。また、一対の当接部５４は内側レール部５２の搬送面５２０から離間する。なお、図１２、並びに、後述の図１３ないし図１７では、基板保持部５１内の基板９のパターン形成面が向く方向を符号Ａ１を付す矢印にて示している。
【００３２】
続いて、外側レール後部昇降機構５７２により外側レール部５３の後部が下降し、図１３に示すように、搬送方向における外側レール部５３の両端部に高低差が設けられる。このとき、内側レール後部昇降機構５６２により内側レール部５２の後部も同様に下降するため、外側レール部５３と内側レール部５２とが互いにおよそ平行な状態が保たれる。そして、図１４および図１５に示すように、前部押出部材昇降機構５８１が各前部押出部材５３１を上昇して押出位置に配置することにより、一対の外側レール部５３の搬送面５３０上において一対の円筒部５５が転がって、基板保持部５１が（＋Ｙ）方向へと搬送される。
【００３３】
このとき、図１５に示すように、後部押出部材昇降機構５８２により各後部押出部材５３２が搬送面５３０よりも下方となる係止位置に配置されており、後部移載位置５０２において外側レール部５３に凹部５３４が形成される。したがって、（＋Ｙ）方向へと移動する円筒部５５が凹部５３４内に嵌る。また、外側レール部５３において前部移載位置５０１から後部移載位置５０２までの距離が円筒部５５の円周のほぼ半分であるため、一対の円筒部５５に固定された基板保持部５１では、後部移載位置５０２において第１空間５１０ａが（−Ｚ）側に配置され、第２空間５１０ｂが（＋Ｚ）側に配置される。
【００３４】
続いて、外側レール後部昇降機構５７２により外側レール部５３の後部が上昇することにより、図１６に示すように外側レール部５３が水平となる。また、内側レール後部昇降機構５６２により内側レール部５２の後部も同様に同時に上昇し、外側レール部５３よりも下方にて内側レール部５２も水平となる。その後、外側レール前部昇降機構５７１および外側レール後部昇降機構５７２により一対の外側レール部５３が下降する。これにより、外側レール部５３の搬送面５３０と、内側レール部５２の搬送面５２０とが同じ高さとなる。このとき、図１７に示すように、当接部５４の摺動面５４０が内側レール部５２の水平な搬送面５２０と当接し、円筒部５５が後部押出部材５３２から離間するため、基板保持部５１内の基板９が正確に水平となる。以上の動作により、前部移載位置５０１から後部移載位置５０２に基板９が搬送されるとともに、図１８に示すように、基板保持部５１内の第１空間５１０ａおよび第２空間５１０ｂが、図１１に示す状態から反転される（すなわち、基板９が反転される）（ステップＳ１４）。
【００３５】
後部移載位置５０２における基板保持部５１内の２つの基板９は、センターロボット３１により基板保持部５１から搬出される。具体的には、図１９に示すように、シリンダ５１６により可動板５１７ｂ，５１７ａが固定板５１３から離れる方向に移動する（すなわち、可動板５１７ｂが（＋Ｚ）方向に移動し、可動板５１７ａが（−Ｚ）方向に移動する）。また、センターロボット３１の一方のハンド３１４ａが（＋Ｚ）側の基板９と固定板５１３との間に進入し、他方のハンド３１４ｂが（−Ｚ）側の基板９と可動板５１７ａとの間に進入する。続いて、センターロボット３１の昇降回動部が上昇することにより、図２０に示すように、ハンド３１４ａ，３１４ｂ上に基板９が載置される。このとき、基板９のパターン形成面がハンド３１４ａ，３１４ｂに当接する。そして、ハンド３１４ａ，３１４ｂが可動板５１７ｂ，５１７ａと固定板５１３との間から退避することにより、２つの基板９が同時に基板保持部５１から搬出される。２つの基板９は異なる処理部４内に順次搬入される。以上の動作により、基板搬送部５から処理部４に基板９がセンターロボット３１により移載される（ステップＳ１５）。
【００３６】
各処理部４では、裏面を上方に向けて基板９が保持され、基板９を回転しつつ基板９の裏面に処理液が付与されて裏面が処理される（ステップＳ１６）。ここでは、処理液として洗浄液が用いられ、基板９の裏面が洗浄される。必要に応じて、純水が裏面に付与される。また、基板９を高速に回転して、裏面の乾燥が行われる。
【００３７】
処理部４における基板９の処理が完了すると、センターロボット３１により２つの基板９が２つの処理部４から順次取り出され、その後、基板搬送部５内に搬入される。基板搬送部５内への基板９の搬入動作は、ステップＳ１２と同様である（ステップＳ１７）。なお、処理部４における処理が先に完了した１つの基板９のみが基板搬送部５に搬入されてもよい。
【００３８】
基板搬送部５では、ステップＳ１４と同様の動作により、後部移載位置５０２から前部移載位置５０１に基板９を搬送しつつ基板９が反転される（ステップＳ１８）。これにより、前部移載位置５０１における基板保持部５１内の基板９では、パターン形成面が上方を向く。続いて、インデクサロボット２２により基板９が基板保持部５１から搬出される。基板搬送部５からの基板９の搬出動作は、ステップＳ１５と同様である。そして、基板９がキャリア９０内へと戻され、基板処理装置１における処理が完了する（ステップＳ１９）。
【００３９】
一方、ステップＳ１１にて選択されたレシピに基づいて、基板９を反転しないことが確認された場合には（ステップＳ１３）、図４の外側レール前部昇降機構５７１および外側レール後部昇降機構５７２により、一対の外側レール部５３が下降して、内側レール部５２よりも下方に配置される。このとき、一対の円筒部５５は一対の外側レール部５３から離間し、一対の当接部５４は一対の内側レール部５２と当接した状態である。続いて、内側レール後部昇降機構５６２により内側レール部５２の後部が下降し、外側レール後部昇降機構５７２により外側レール部５３の後部も同様に下降する。すなわち、外側レール部５３と内側レール部５２とが互いにおよそ平行な状態を保ちつつ、搬送方向における内側レール部５２（および外側レール部５３）の両端部に高低差が設けられる。これにより、当接部５４の（−Ｚ）側の摺動面５４０が内側レール部５２の搬送面５２０上を摺動して、基板保持部５１が後部移載位置５０２に向けて移動する。そして、当接部５４が後部の係止部材５２１に当接することにより、基板保持部５１が後部移載位置５０２にて停止する。
【００４０】
その後、内側レール後部昇降機構５６２および外側レール後部昇降機構５７２により、内側レール部５２の後部および外側レール部５３の後部が上昇し、内側レール部５２および外側レール部５３が水平となる。これにより、基板保持部５１内の基板９も水平となる。以上の動作により、基板９を反転することなく、前部移載位置５０１から後部移載位置５０２に基板９が搬送される（ステップＳ２０）。続いて、センターロボット３１により基板９が基板搬送部５から処理部４に移載される（ステップＳ２１）。
【００４１】
処理部４では、パターン形成面を上方に向けて基板９が保持され、基板９を回転しつつパターン形成面に処理液が付与されてパターン形成面が処理される（ステップＳ２２）。必要に応じて、純水のパターン形成面への付与およびパターン形成面の乾燥が行われる。処理部４における基板９の処理が完了すると、センターロボット３１により処理部４から基板搬送部５に基板９が移載される（ステップＳ２３）。
【００４２】
基板搬送部５では、ステップＳ２０と同様の動作により、基板９を反転することなく、後部移載位置５０２から前部移載位置５０１に基板９が搬送される（ステップＳ２４）。そして、インデクサロボット２２により基板搬送部５からキャリア保持部２１へと（正確には、キャリア保持部２１におけるキャリア９０内へと）基板９が移載され、基板処理装置１における処理が完了する（ステップＳ１９）。実際の基板処理装置１における処理では、上記ステップＳ１２〜Ｓ１９の動作、または、上記ステップＳ１２，Ｓ１３，Ｓ２０〜Ｓ２４，Ｓ１９の動作は複数対の基板９に対して部分的に並行して行われる。
【００４３】
以上に説明したように、基板処理装置１における基板搬送部５では、レール角度変更機構である外側レール前部昇降機構５７１および外側レール後部昇降機構５７２により、搬送方向における一対の外側レール部５３の両端部に高低差が設けられる。これにより、一対の外側レール部５３において、前部移載位置５０１および後部移載位置５０２の一方の位置から他方の位置へと一対の円筒部５５を転がして、基板９を反転しつつ当該一方の位置から当該他方の位置へと基板保持部５１を搬送することができる。このように、基板処理装置１では、基板９を反転させるための複雑な機構や搬送用の大型の駆動源等を用いることなく、搬送途上において基板９を反転することが容易に可能となり、基板処理装置１におけるスループットを向上することができる。
【００４４】
また、基板保持部５１が当該一方の位置から当該他方の位置へと移動する際に、一対の当接部５４と一対の内側レール部５２とが離間し、基板保持部５１が当該他方の位置に到達した際に、一対の当接部５４が、水平な一対の内側レール部５２と当接する。これにより、当該他方の位置における基板９の姿勢（すなわち、水平面に対する傾き）を補正することができる。
【００４５】
基板処理装置１では、他のレール角度変更機構である内側レール前部昇降機構５６１および内側レール後部昇降機構５６２により、搬送方向における一対の内側レール部５２の両端部に高低差が設けられる。これにより、一対の内側レール部５２上において、前部移載位置５０１および後部移載位置５０２の一方の位置から他方の位置へと一対の当接部５４を滑らせて、基板９を反転することなく、当該一方の位置から当該他方の位置へと基板保持部５１を搬送することができる。さらに、基板９の両主面のうち処理部４における処理対象の主面を示す情報に基づいて、制御部１０が上記２つのレール角度変更機構の一方による基板保持部５１の搬送を選択する。このように、基板処理装置１では、基板９の反転および非反転を選択的に行うことができ、基板処理装置１において様々な処理を行うことが可能となる。
【００４６】
外側レール部５３では、凹部５３４を形成する押出部材５３１，５３２が、円筒部５５の移動を係止する係止部として、前部移載位置５０１および後部移載位置５０２のそれぞれに設けられることにより、円筒部５５の移動を確実に停止することができる。
【００４７】
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、様々な変形が可能である。
【００４８】
前部移載位置５０１と後部移載位置５０２との間にて円筒部５５がおよそ（３／２）回転または（５／２）回転することにより、基板保持部５１にて保持される基板９が反転されてもよい。すなわち、前部移載位置５０１と後部移載位置５０２との間にて円筒部５５が、およそ（ｎ／２）回転（ただし、ｎは１以上の奇数）することにより、基板９を搬送しつつ反転することが可能である。また、搬送直後の基板保持部５１の傾きを補正することが可能な基板搬送部５では、円筒部５５の回転数が（ｎ／２）回転からある程度ずれていても、基板９の反転が実現可能である。
【００４９】
基板処理装置１では、当接部５４が内側レール部５２上を摺動するが、例えば、基板保持部５１において回転可能に支持されるローラが当接部として設けられてもよく、また、内側レール部５２の搬送面５２０に搬送方向に沿って複数のローラが配列されてもよい。上記のいずれの場合も、搬送方向における内側レール部５２の両端部に高低差を設けることにより、内側レール部５２上において一対の当接部を滑らせることが可能である。
【００５０】
円筒部５５を転がらせる一対のレール部、および、当接部５４を滑らせる他の一対のレール部の配置は、適宜変更されてよく、例えば、当該一対のレール部が、当該他の一対のレール部よりも内側に配置されてもよい。
【００５１】
外側レール部５３を傾けるレール角度変更機構は、外側レール前部昇降機構５７１および外側レール後部昇降機構５７２以外の構成にて実現されてもよく、内側レール部５２を傾ける他のレール角度変更機構も内側レール前部昇降機構５６１および内側レール後部昇降機構５６２以外の構成にて実現されてもよい。例えば、内側レール部５２および外側レール部５３が同一の支持プレート上に設けられ、当該支持プレートを傾斜させる機構が設けられることにより、内側レール部５２および外側レール部５３が同時に同様に傾けられてもよい。この場合、支持プレートを傾斜させる機構により上記２つのレール角度変更機構が実現される。なお、内側レール部５２と外側レール部５３との高さを変更する機構は別途設けられる。
【００５２】
外側レール部５３では、係止部材５２１と同様の部材が係止部として設けられることにより、前部移載位置５０１および後部移載位置５０２のそれぞれにおいて円筒部５５の移動が係止されてもよい。また、基板保持部５１では、１または３以上の基板９が保持されてもよい。
【００５３】
基板処理装置１では、図８に示す一度の動作により、基板９の裏面またはパターン形成面の一方のみが処理されるが、例えば、基板搬送部５の上方等に基板９を反転する反転機構を設けることにより、基板９の裏面およびパターン形成面が順次処理されてもよい。この場合、基板搬送部５により基板９を反転しつつ後部移載位置５０２へと搬送した後、基板９が処理部４内に搬入され、基板９の裏面が処理される。続いて、センターロボット３１により基板９が反転機構に搬送され、基板９が反転される。反転後の基板９は処理部４内に搬入され、基板９のパターン形成面が処理される。そして、基板搬送部５により基板９を反転することなく前部移載位置５０１へと搬送し、基板９がキャリア９０内に戻される。
【００５４】
また、処理部４では、基板９の両面が処理可能であってもよい。この場合、例えば、スピンチャックに中空の回転軸が設けられ、供給管が回転軸内に配置される。そして、供給管の一端が基板９の下方を向く面に対向して設けられ、基板９の下方を向く面に対して供給管から処理液が付与される（例えば、簡易的な裏面の洗浄が行われる。）。以上のように、処理部４は、搬入される基板９の少なくとも上方を向く主面を処理するものであればよい。
【００５５】
基板処理装置１において処理される基板９は、シリコン基板に限定されず、ガラス基板等の他の種類の基板であってもよい。
【００５６】
上記実施の形態および各変形例における構成は、相互に矛盾しない限り適宜組み合わされてよい。
【符号の説明】
【００５７】
１    基板処理装置
４    処理部
５    基板搬送部
９    基板
１０    制御部
２１    キャリア保持部
２２    インデクサロボット
３１    センターロボット
５１    基板保持部
５２    内側レール部
５３    外側レール部
５４    当接部
５５    円筒部
５０１    前部移載位置
５０２    後部移載位置
５３１    前部押出部材
５３２    後部押出部材
５６１    内側レール前部昇降機構
５６２    内側レール後部昇降機構
５７１    外側レール前部昇降機構
５７２    外側レール後部昇降機構
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
2013074234.tif 000018
【図１７】
2013074234.tif 000019
【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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