(57)【要約】【課題】湿式塗布法を用いて有機エレクトロニクスデバイスを製造する方法であって、その製造の乾燥工程において凝集や結晶化の発生を制御する。【解決手段】基板１上に、有機層３が形成された有機エレクトロニクスデバイス１０の製造方法は、有機層３の塗布液を基板１上に塗布する塗布工程と、基板１上に塗布された塗布液を恒率乾燥および減率乾燥する乾燥工程と、を備え、乾燥工程では、大気または不活性ガスを含む第１のガスと、少なくとも有機層３の塗布液と同一の有機溶剤のガスを含む第２のガスとの混合ガス雰囲気下で乾燥させることを特徴とする。【選択図】図２
2013214483.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、有機層が形成された有機エレクトロニクスデバイスの製造方法において、
前記有機層の塗布液を前記基板に塗布する塗布工程と、
前記基板上に塗布された前記塗布液を恒率乾燥および減率乾燥する乾燥工程と、
を備え、
前記乾燥工程では、大気または不活性ガスを含む第１のガスと、少なくとも前記有機層の塗布液と同一の有機溶剤のガスを含む第２のガスとの混合ガス雰囲気下で乾燥させることを特徴とする有機エレクトロニクスデバイスの製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の有機エレクトロニクスデバイスの製造方法において、
前記乾燥工程では、前記第１のガスと前記第２のガスとの体積比が７０：３０〜１０：９０であることを特徴とする有機エレクトロニクスデバイスの製造方法。
【請求項３】
請求項１または２に記載の有機エレクトロニクスデバイスの製造方法において、
前記乾燥工程では、前記減率乾燥後にさらに１０秒以上１０分以下、乾燥を続けることを特徴とする有機エレクトロニクスデバイスの製造方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の有機エレクトロニクスデバイスの製造方法において、
前記乾燥工程では、前記基板上の前記有機層を塗設する側の反対側の温度が３５℃以上６０℃以下であり、前記有機層を塗設する側の雰囲気中温度が３０℃以下であることを特徴とする有機エレクトロニクスデバイスの製造方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の有機エレクトロニクスデバイスの製造方法において、
前記有機層が発光層であることを特徴とする有機エレクトロニクスデバイスの製造方法。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の有機エレクトロニクスデバイスの製造方法により製造されたことを特徴とする有機エレクトロニクスデバイス。
【請求項７】
基板上に、有機層が形成された有機エレクトロニクスデバイスの製造装置において、
前記有機層の塗布液を前記基板に塗布する塗布部と、
前記基板上に塗布された前記塗布液を恒率乾燥および減率乾燥する乾燥部と、
を備え、
前記乾燥部には、大気または不活性ガスを含む第１のガスと、少なくとも前記有機層の塗布液と同一の有機溶剤のガスを含む第２のガスとの混合ガスが充填されることを特徴とする有機エレクトロニクスデバイスの製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロニクスデバイス、有機エレクトロニクスデバイスの製造方法および製造装置に関し、詳しくは、フレキシブルな樹脂基板を用いた有機エレクトロニクスデバイス、有機エレクトロニクスデバイスの製造方法および製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、有機材料を用いたエレクトロニクスデバイスが注目を集めている。その中でも特に、有機エレクトロルミネッセンスデバイス、有機ＴＦＴ（有機トランジスタ）、有機太陽電池等の研究開発が盛んに行われている。
たとえば、有機エレクトロニクスデバイスとしては、発光型の電子ディスプレイデバイスである、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）がある。ＥＬＤの構成要素としては、無機エレクトロルミネッセンス素子（無機ＥＬ素子）や有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子）が挙げられる。無機ＥＬ素子は、平面型光源として使用されてきたが、発光素子を駆動させるためには交流の高電圧が必要である。
【０００３】
一方、有機ＥＬ素子は、発光する化合物を含有する発光層を、陰極と陽極で挟んだ構成を有し、発光層に電子および正孔を注入して、再結合させることにより励起子（エキシトン）を生成させ、このエキシトンが失活する際の光の放出（蛍光・リン光）を利用して発光する素子である。数Ｖ〜数十Ｖ程度の電圧で発光が可能であり、さらに自己発光型であるために視野角に富み、視認性が高く、薄膜型の完全固体素子であるために省スペース、携帯性等の観点から注目されている。
【０００４】
また、有機ＥＬ素子は、従来実用に供されてきた主要な光源、たとえば、発光ダイオードや冷陰極管と異なり、面光源であることも大きな特徴である。この特性を有効に活用できる用途として、照明用光源や様々なディスプレイのバックライトがある。特に近年、需要の増加が著しい液晶フルカラーディスプレイのバックライトとして用いることも好適である。
【０００５】
近年、大量生産に向けた製造方法として、有機エレクトロニクスデバイスの湿式塗布法の要請が高まってきている。大サイズの有機エレクトロニクスデバイスの開発は、湿式塗布法による生産が不可欠である。しかしながら、従来の蒸着法と比較して性能の向上が難しいなど、困難な課題を抱えていた。
【０００６】
湿式塗布法において、高性能な素子を得るために、開発段階においてはまず小スケールの素子からはじめ、徐々に大スケールの素子へ移行していくのが一般的である。
有機エレクトロニクスデバイスはその構成上特に精密さが要求される。有機層は従来の製品にないくらい薄く、各層の膜厚は全面にわたり高い均一性が必要であり、さらに使用する素材は高純度のものが求められる。この制約のため今まで有機エレクトロニクスデバイスは蒸着法でしか作成することができなかった。しかし、近年ようやく湿式塗布法での生産の目途がついてきた。
【０００７】
湿式塗布法は大きく分けて後計量塗布方式と前計量塗布方式に分かれる。
開発段階で小スケールのものを手早く簡易的に作業できるのは後計量塗布方式の塗布装置である。たとえば、スピン式、ディップ式、バー式、ブレード式、エア式などである。
一方、生産で使用するのに好ましいのは前計量塗布方式の塗布装置である。たとえば、スライド式、カーテン式、スロット式、押出し式などが挙げられる。
後計量塗布方式と前計量塗布方式では塗布液の塗設方法や乾燥工程が大きく異なっており、そのため、開発段階から生産段階へスケールアップするときには、多くの場合何らかの性能上の不具合が発生する確率が高くなる。その不具合を改良するため、様々なプロセス上の工夫が加えられてきた。
【０００８】
たとえば、特許文献１には、塗布部と乾燥部との間に溶媒供給手段を設け、乾燥速度を制御することにより各層の膜厚を均一としている。しかし、乾燥による有機層の膜質劣化を防ぐことはできていない。
また、特許文献２は特許文献１同様に塗膜の膜厚むらを改良するものであり、液滴吐出装置が収納されたチャンバー内を有機溶媒雰囲気とする技術を開示しているが、塗布工程のみの対応では有機層の膜質改良には効果がない。
特許文献３ではインクジェットヘッド周辺の雰囲気を制御することで塗布品質を確保することが可能になっている。しかし、この技術でも膜質を制御するには至っていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】国際公開第２００９／０５１０３６号
【特許文献２】特開２００６−２６０７７８号公報
【特許文献３】特開２００４−２４３１６４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
ところで、湿式塗布法では、塗布液の塗布工程から乾燥工程にかけての製膜過程において、有機層素材が凝集、結晶化を起こすことが知られている。乾燥時間を短縮しても素材同士が凝集するのを完全に防ぐことは出来ない。この現象は蒸着法では起こらないことである。
有機層に使用される素材は、加熱溶解後、溶液が冷えるに従い凝集を起こす。また、経時によっても凝集が促進される。有機層塗布液を基板に塗布した後、乾燥が終了するまでにも、塗膜の乾燥に伴い素材同士が接近し、凝集、結晶化を起こす。また溶媒が抜けていく（揮発する）ため乾燥後の塗膜は隙間が多い状態となり、膜密度も低下してしまう。
かかる現象が認められる場合、正孔や電子の移動が制限を受け、有機エレクトロニクスデバイスの性能に大きく関わっていることが分かってきた。さらにこれらの現象は塗布方式の違いで差が大きくなることが分かってきた。
【００１１】
したがって、本発明の主な目的は、湿式塗布法を用いて有機エレクトロニクスデバイス（有機層）を製造する方法であって、その製造の乾燥工程において凝集や結晶化の発生を制御することができる有機エレクトロニクスデバイスの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者らは、鋭意検討の結果、乾燥工程において有機層の塗布溶液に使用しているものと同じ有機溶剤のガスをある割合で混合することで、素材ごとの造膜性を均一にでき、膜質を安定に保ち、有機ＥＬ素子の性能、特に発光寿命が改善できることを見出した。
【００１３】
そこで、本発明によれば、
基板上に、有機層が形成された有機エレクトロニクスデバイスの製造方法において、
前記有機層の塗布液を前記基板に塗布する塗布工程と、
前記基板上に塗布された前記塗布液を恒率乾燥および減率乾燥する乾燥工程と、
を備え、
前記乾燥工程では、大気または不活性ガスを含む第１のガスと、少なくとも前記有機層の塗布液と同一の有機溶剤のガスを含む第２のガスとの混合ガス雰囲気下で乾燥させることを特徴とする有機エレクトロニクスデバイスの製造方法が提供される。
【００１４】
本発明は、開発が困難な有機ＥＬ素子に使用する素材の改良ではなく、従来の素材を使用したプロセス上の改良である。これらの手段を用いることで、材料の性能を最大限生かしたまま、有機層を構成する塗布液中の溶質の存在状態を従来よりも安定化させることができ、性能を向上させることが出来る。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、乾燥工程において凝集や結晶化の発生を制御することができ、その結果、有機層の膜質劣化を抑制し、性能を向上させた有機エレクトロニクスデバイスの製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】有機エレクトロニクスデバイスの一例として、有機ＥＬ素子の構成を示す概略断面図である。
【図２】本発明の有機エレクトロニクスデバイスの製造装置を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、図面を参照しながら本発明の好ましい実施形態について、有機エレクトロニクスデバイスとして、有機ＥＬ素子を例として説明する。
【００１８】
《白色発光有機ＥＬ素子の構成》
本発明に係る白色発光有機ＥＬ素子は、基板（基盤）、電極、種々の機能を有する有機層等の構成要素によって構成される。
図１に示すとおり、有機ＥＬ素子１０は可撓性の基板１を有している。基板１上には、陽極２、有機層３および陰極４がこの順に形成されている。基板１上の陽極２、有機層３および陰極４は、封止用の接着剤６を介して封止部材５で封止されている。
陽極２から陰極４にかけての好ましい構成（特に有機層３の層構成）の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されない。
【００１９】
（ｉ）陽極／正孔輸送層／電子阻止層／発光層／正孔阻止層／電子輸送層／陰極
（ｉｉ）陽極／正孔輸送層／電子阻止層／発光層／正孔阻止層／電子輸送層／電子注入層／陰極
（ｉｉｉ）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／陰極
（ｉｖ）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／電子阻止層／発光層／正孔阻止層／電子輸送層／陰極
（ｖ）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／電子阻止層／発光層／正孔阻止層／電子輸送層／電子注入層／陰極
【００２０】
なお、上記の正孔輸送層、電子阻止層、正孔阻止層、電子輸送層および後述する中間層を総称して「キャリア制御層」という。また、「キャリア」とは電子および正孔をいい、「キャリア輸送層」は、キャリア輸送材料からなる層であるが、ｐ型又はｎ型半導体層から構成されることが好ましい。ここで、「ｐ型又はｎ型半導体層」とは、各々電子受容性化合物又は電子供与性化合物を含有し半導性を示す有機層をいう。
【００２１】
《有機ＥＬ素子の有機層》
次いで、本発明の有機ＥＬ素子１０を構成する有機層３の材料や特性等について説明する。
【００２２】
《ジベンゾフラン化合物》
本発明の有機ＥＬ素子１０において、有機層３は好ましくは少なくとも１層がジベンゾフラン化合物を含有しており、当該ジベンゾフラン化合物が、下記一般式（Ａ）で表される化合物であることが好ましい。
【００２３】
以下、一般式（Ａ）で表されるジベンゾフラン化合物について説明する。
【００２４】
【化１】
2013214483.tif 000003
【００２５】
上記一般式（Ａ）において、Ｒ１〜Ｒ８は、各々水素原子、アルキル基、アリール基、カルバゾリル基またはアザカルバゾリル基を表し、複数ある場合は異なるものを表していてもよく、また任意の置換基を有していてもよい。
【００２６】
また、上記の置換基は、連結基を有して複数組み合わせることもできる。好ましい様態としては一般式（Ａ）が非対称に置換したものであり、具体的には、２，６−ジベンゾフランジイル基、２，４，８−ジベンゾフラントリイル基等が好ましい。
【００２７】
本発明に係るジベンゾフラン化合物の含有量は、添加する有機層の２０〜９９．０質量％が好ましく、５０〜９７．５質量％がさらに好ましい。
【００２８】
以下、一般式（Ａ）として用いられる化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。
【００２９】
【化２】
2013214483.tif 000004
【００３０】
【化３】
2013214483.tif 000005
【００３１】
【化４】
2013214483.tif 000006
【００３２】
【化５】
2013214483.tif 000007
【００３３】
【化６】
2013214483.tif 000008
【００３４】
【化７】
2013214483.tif 000009
【００３５】
【化８】
2013214483.tif 000010
【００３６】
【化９】
2013214483.tif 000011
【００３７】
【化１０】
2013214483.tif 000012
【００３８】
【化１１】
2013214483.tif 000013
【００３９】
【化１２】
2013214483.tif 000014
【００４０】
【化１３】
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【００４１】
【化１４】
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【００４２】
本発明に係るジベンゾフラン化合物は、従来公知の合成方法に従って、合成することができる。
【００４３】
《注入層：正孔注入層、電子注入層》
本発明の有機ＥＬ素子１０においては、注入層は必要に応じて設けることができる。
注入層とは、駆動電圧低下や発光輝度向上のために電極と有機層間に設けられる層で、「有機ＥＬ素子とその工業化最前線（１９９８年１１月３０日エヌ・ティー・エス社発行）」の第２編第２章「電極材料」（１２３〜１６６頁）に詳細に記載されており、正孔注入層（陽極バッファー層）と電子注入層（陰極バッファー層）とがある。
注入層は、上記の如く陽極２と発光層または正孔輸送層の間、および陰極４と発光層または電子輸送層との間に存在させてもよい。
【００４４】
正孔注入層は、たとえば、特開平９−４５４７９号公報、同９−２６００６２号公報、同８−２８８０６９号公報等にもその詳細が記載されており、正孔注入層に適用可能な正孔注入材料としては、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ピラゾリン誘導体およびピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体等を含むポリマーやアニリン系共重合体、ポリアリールアルカン誘導体、または導電性ポリマーが挙げられ、好ましくはポリチオフェン誘導体、ポリアニリン誘導体、ポリピロール誘導体であり、さらに好ましくはポリチオフェン誘導体である。
【００４５】
電子注入層は、たとえば、特開平６−３２５８７１号公報、同９−１７５７４号公報、同１０−７４５８６号公報等にもその詳細が記載されており、具体的には、ストロンチウムやアルミニウム等に代表される金属バッファー層、フッ化リチウムに代表されるアルカリ金属化合物バッファー層、フッ化マグネシウムに代表されるアルカリ土類金属化合物バッファー層、酸化アルミニウムに代表される酸化物バッファー層等が挙げられる。本発明においては、上記バッファー層（注入層）はごく薄い膜であることが望ましく、フッ化カリウム、フッ化ナトリウムが好ましい。その膜厚は０．１ｎｍ〜５μｍ程度、好ましくは０．１〜１００ｎｍ、さらに好ましくは０．５〜１０ｎｍ、最も好ましくは０．５〜４ｎｍである。
【００４６】
《正孔輸送層》
正孔輸送層を構成する正孔輸送材料としては、上記正孔注入層で適用するのと同様の化合物を使用することができるが、さらには、ポルフィリン化合物、芳香族第３級アミン化合物およびスチリルアミン化合物、特に芳香族第３級アミン化合物を用いることが好ましい。
【００４７】
芳香族第３級アミン化合物およびスチリルアミン化合物の代表例としては、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラフェニル−４，４′−ジアミノフェニル；Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）−〔１，１′−ビフェニル〕−４，４′−ジアミン（ＴＰＤ）；２，２−ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）プロパン；１，１−ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）シクロヘキサン；Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラ−ｐ−トリル−４，４′−ジアミノビフェニル；１，１−ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）−４−フェニルシクロヘキサン；ビス（４−ジメチルアミノ−２−メチルフェニル）フェニルメタン；ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）フェニルメタン；Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ジ（４−メトキシフェニル）−４，４′−ジアミノビフェニル；Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラフェニル−４，４′−ジアミノジフェニルエーテル；４，４′−ビス（ジフェニルアミノ）クオードリフェニル；Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリ（ｐ−トリル）アミン；４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）−４′−〔４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）スチリル〕スチルベン；４−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ−（２−ジフェニルビニル）ベンゼン；３−メトキシ−４′−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノスチルベンゼン；Ｎ−フェニルカルバゾール、さらには、米国特許第５，０６１，５６９号明細書に記載されている２個の縮合芳香族環を分子内に有するもの、たとえば、４，４′−ビス〔Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ〕ビフェニル（ＮＰＤ）、特開平４−３０８６８８号公報に記載されているトリフェニルアミンユニットが３つスターバースト型に連結された４，４′，４″−トリス〔Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ〕トリフェニルアミン（ＭＴＤＡＴＡ）等が挙げられる。
【００４８】
さらに、これらの材料を高分子鎖に導入した、またはこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材料を用いることもできる。また、ｐ型−Ｓｉ、ｐ型−ＳｉＣ等の無機化合物も正孔注入材料、正孔輸送材料として使用することができる。
【００４９】
また、特開平４−２９７０７６号公報、特開２０００−１９６１４０号公報、特開２００１−１０２１７５号公報、Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．，９５，５７７３（２００４）、特開平１１−２５１０６７号公報、Ｊ．Ｈｕａｎｇ  ｅｔ．ａｌ．著文献（Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｐｈｙｓｉｃｓ  Ｌｅｔｔｅｒｓ  ８０（２００２），ｐ．１３９）、特表２００３−５１９４３２号公報に記載されているような、いわゆるｐ型半導体的性質を有するとされる正孔輸送材料を用いることもできる。
【００５０】
正孔輸送層は、上記正孔輸送材料を、たとえば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、インクジェット法を含む印刷法、ＬＢ法等の公知の方法により、薄膜化することにより形成することができる。正孔輸送層の膜厚については、特に制限はないが、通常は５ｎｍ〜５μｍ程度、好ましくは５〜２００ｎｍである。この正孔輸送層は上記材料の１種または２種以上からなる一層構造であってもよい。
【００５１】
以下、本発明の有機ＥＬ素子１０の正孔輸送材料に用いられる化合物の好ましい具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。
【００５２】
【化１５】
2013214483.tif 000017
【００５３】
【化１６】
2013214483.tif 000018
【００５４】
【化１７】
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【００５５】
【化１８】
2013214483.tif 000020
【００５６】
【化１９】
2013214483.tif 000021
【００５７】
【化２０】
2013214483.tif 000022
【００５８】
なお、上記例示化合物に記載のｎは重合度を表し、重量平均分子量が５０，０００〜２００，０００の範囲となる整数を表す。重量平均分子量がこの範囲未満では、溶媒への溶解性の高さから製膜時に他の層と混合する懸念がある。また製膜できたとしても、低い分子量では発光効率が上がらない。重量平均分子量がこの範囲より大きい場合は、合成、精製の難しさにより問題が生じる。分子量分布が大きくなると共に、不純物の残存量も増加するため、有機ＥＬ素子１０の発光効率、電圧、寿命は悪化する。
【００５９】
これらの高分子化合物は、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１９３，９０９頁（１９９２）等に記載の公知の方法で合成することができる。
【００６０】
《電子輸送層》
電子輸送層とは電子を輸送する機能を有する材料からなり、広い意味で電子注入層、正孔阻止層も電子輸送層に含まれる。電子輸送層は単層または複数層設けることができる。
【００６１】
単層の電子輸送層、および複数層とする場合、発光層に対して陰極側に隣接する電子輸送層に用いられる電子輸送材料（正孔阻止材料を兼ねる）としては、陰極より注入された電子を発光層に伝達する機能を有していればよく、その材料としては従来公知の化合物の中から任意のものを選択して用いることができ、たとえば、フルオレン誘導体、カルバゾール誘導体、アザカルバゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、トリゾール誘導体、シロール誘導体、ピリジン誘導体、ピリミジン誘導体、８−キノリノール誘導体等の金属錯体等が挙げられる。
【００６２】
その他、メタルフリーもしくはメタルフタロシアニン、またはそれらの末端がアルキル基やスルホン酸基等で置換されているものも、電子輸送材料として好ましく用いることができる。
【００６３】
これらの中でもカルバゾール誘導体、アザカルバゾール誘導体、ピリジン誘導体等が本発明では好ましく、カルバゾール誘導体であって本発明に係るジベンゾフラン化合物であることがより好ましい。
【００６４】
電子輸送層は上記電子輸送材料を、たとえば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、インクジェット法を含む印刷法、ＬＢ法等の公知の方法により、薄膜化することにより形成することができる。
【００６５】
電子輸送層の膜厚については特に制限はないが、通常は５ｎｍ〜５μｍ程度、好ましくは５〜２００ｎｍである。電子輸送層は上記材料の１種または２種以上からなる一層構造であってもよい。
【００６６】
また、不純物をゲスト材料としてドープしたｎ性の高い電子輸送層を用いることもできる。その例としては、特開平４−２９７０７６号公報、同１０−２７０１７２号公報、特開２０００−１９６１４０号公報、同２００１−１０２１７５号公報、Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．，９５，５７７３（２００４）等に記載されたものが挙げられる。
【００６７】
本発明における電子輸送層には、有機物のアルカリ金属塩を含有することが好ましい。有機物の種類としては特に制限はないが、ギ酸塩、酢酸塩、プロピオン酸、酪酸塩、吉草酸塩、カプロン酸塩、エナント酸塩、カプリル酸塩、シュウ酸塩、マロン酸塩、コハク酸塩、安息香酸塩、フタル酸塩、イソフタル酸塩、テレフタル酸塩、サリチル酸塩、ピルビン酸塩、乳酸塩、リンゴ酸塩、アジピン酸塩、メシル酸塩、トシル酸塩、ベンゼンスルホン酸塩が挙げられ、好ましくはギ酸塩、酢酸塩、プロピオン酸塩、酪酸塩、吉草酸塩、カプロン酸塩、エナント酸塩、カプリル酸塩、シュウ酸塩、マロン酸塩、コハク酸塩、安息香酸塩、より好ましくはギ酸塩、酢酸塩、プロピオン酸塩、酪酸塩等の脂肪族カルボン酸のアルカリ金属塩が好ましく、脂肪族カルボン酸の炭素数が４以下であることが好ましい。最も好ましくは酢酸塩である。
【００６８】
有機物のアルカリ金属塩のアルカリ金属の種類としては特に制限はないが、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓが挙げられ、好ましくはＫ、Ｃｓ、さらに好ましくはＣｓである。有機物のアルカリ金属塩としては、上記有機物とアルカリ金属の組み合わせが挙げられ、好ましくは、ギ酸Ｌｉ、ギ酸Ｋ、ギ酸Ｎａ、ギ酸Ｃｓ、酢酸Ｌｉ、酢酸Ｋ、酢酸Ｎａ、酢酸Ｃｓ、プロピオン酸Ｌｉ、プロピオン酸Ｎａ、プロピオン酸Ｋ、プロピオン酸Ｃｓ、シュウ酸Ｌｉ、シュウ酸Ｎａ、シュウ酸Ｋ、シュウ酸Ｃｓ、マロン酸Ｌｉ、マロン酸Ｎａ、マロン酸Ｋ、マロン酸Ｃｓ、コハク酸Ｌｉ、コハク酸Ｎａ、コハク酸Ｋ、コハク酸Ｃｓ、安息香酸Ｌｉ、安息香酸Ｎａ、安息香酸Ｋ、安息香酸Ｃｓ、より好ましくは酢酸Ｌｉ、酢酸Ｋ、酢酸Ｎａ、酢酸Ｃｓ、最も好ましくは酢酸Ｃｓである。
【００６９】
これらドープ材の含有量は、添加する電子輸送層に対し、好ましくは１．５〜３５質量％であり、より好ましくは３〜２５質量％であり、最も好ましくは５〜１５質量％である。
【００７０】
《発光層》
（１）特性や構成材料等
本発明の有機ＥＬ素子１０を構成する発光層は、電極または電子輸送層、正孔輸送層から注入されてくる電子および正孔が再結合して発光する層であり、発光する部分は発光層の層内であっても発光層と隣接層との界面であってもよい。
【００７１】
本発明に係る発光層は、含まれる発光材料が上記要件を満たしていればよく、その構成には特に制限はない。
【００７２】
また、同一の発光スペクトルや発光極大波長を有する層が複数層あってもよい。各発光層間には非発光性の中間層を有していることが好ましい。
【００７３】
本発明における発光層の膜厚の総和は１ｎｍ〜１００ｎｍの範囲にあることが好ましく、さらに好ましくは、より低い駆動電圧を得ることができることから５０ｎｍ以下である。なお、本発明でいう発光層の膜厚の総和とは、発光層間に非発光性の中間層が存在する場合には、当該中間層も含む膜厚である。
【００７４】
個々の発光層の膜厚としては１ｎｍ〜５０ｎｍの範囲に調整することが好ましい。青、緑、赤の各発光層の膜厚の関係については、特に制限はない。
【００７５】
発光層の作製には、後述する発光材料やホスト化合物を、たとえば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、ＬＢ法、インクジェット法等の公知の薄膜化法により製膜して形成することができる。
【００７６】
本発明においては、各発光層には複数の発光材料（ドーパント化合物）を混合してもよく、またリン光ドーパントと蛍光発光材料を同一発光層中に混合して用いてもよい。
【００７７】
本発明においては、発光層の構成として、ホスト化合物、ドーパント化合物を含有し、ドーパント化合物より発光させることが好ましい。
【００７８】
（２）ホスト化合物
本発明の有機ＥＬ素子１０の発光層に含有されるホスト化合物としては、室温（２５℃）におけるリン光発光のリン光量子収率が０．１未満の化合物が好ましい。さらに好ましくはリン光量子収率が０．０１未満である。また、発光層に含有される化合物の中で、その層中での体積比が５０％以上であることが好ましい。
【００７９】
ホスト化合物としては、公知のホスト化合物を単独で用いてもよく、または複数種併用して用いてもよい。ホスト化合物を複数種用いることで、電荷の移動を調整することが可能であり、有機ＥＬ素子１０を高効率化することができる。また、後述する発光材料を複数種用いることで異なる発光を混ぜることが可能となり、これにより任意の発光色を得ることができる。
【００８０】
本発明に用いられるホスト化合物としては、従来公知の低分子化合物でも、繰り返し単位をもつ高分子化合物でもよく、ビニル基やエポキシ基のような重合性基を有する低分子化合物（蒸着重合性発光ホスト）でもよい。
【００８１】
公知のホスト化合物としては、正孔輸送能、電子輸送能を有しつつ、かつ発光の長波長化を防ぎ、なおかつ高Ｔｇ（ガラス転移温度）である化合物が好ましい。ここで、ガラス転移点（Ｔｇ）とは、ＤＳＣ（Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ  Ｓｃａｎｎｉｎｇ  Ｃｏｌｏｒｉｍｅｔｒｙ：示差走査熱量法）を用いて、ＪＩＳ−Ｋ−７１２１に準拠した方法により求められる値である。
【００８２】
公知のホスト化合物の具体例としては、以下の文献に記載されている化合物が挙げられる。たとえば、特開２００１−２５７０７６号公報、同２００２−３０８８５５号公報、同２００１−３１３１７９号公報、同２００２−３１９４９１号公報、同２００１−３５７９７７号公報、同２００２−３３４７８６号公報、同２００２−８８６０号公報、同２００２−３３４７８７号公報、同２００２−１５８７１号公報、同２００２−３３４７８８号公報、同２００２−４３０５６号公報、同２００２−３３４７８９号公報、同２００２−７５６４５号公報、同２００２−３３８５７９号公報、同２００２−１０５４４５号公報、同２００２−３４３５６８号公報、同２００２−１４１１７３号公報、同２００２−３５２９５７号公報、同２００２−２０３６８３号公報、同２００２−３６３２２７号公報、同２００２−２３１４５３号公報、同２００３−３１６５号公報、同２００２−２３４８８８号公報、同２００３−２７０４８号公報、同２００２−２５５９３４号公報、同２００２−２６０８６１号公報、同２００２−２８０１８３号公報、同２００２−２９９０６０号公報、同２００２−３０２５１６号公報、同２００２−３０５０８３号公報、同２００２−３０５０８４号公報、同２００２−３０８８３７号公報等が挙げられる。
【００８３】
本発明に用いられるホスト化合物は、カルバゾール誘導体であることが好ましく、カルバゾール誘導体であって、本発明に係るジベンゾフラン化合物であることがより好ましい。
【００８４】
（３）ドーパント化合物
次に、ドーパント化合物について説明する。
【００８５】
本発明に係るドーパント化合物としては、蛍光性化合物、リン光ドーパント（リン光性化合物、リン光発光性化合物等ともいう）を用いることができるが、リン光ドーパントであることが好ましい。
【００８６】
本発明において、リン光ドーパントとは励起三重項からの発光が観測される化合物であり、具体的には室温（２５℃）にてリン光発光する化合物であり、リン光量子収率が２５℃において０．０１以上の化合物であると定義されるが、好ましいリン光量子収率は０．１以上である。
【００８７】
上記リン光量子収率は第４版実験化学講座７の分光ＩＩの３９８頁（１９９２年版、丸善）に記載の方法により測定できる。溶液中でのリン光量子収率は種々の溶媒を用いて測定できるが、本発明においてリン光ドーパントを用いる場合、任意の溶媒のいずれかにおいて上記リン光量子収率（０．０１以上）が達成されればよい。
【００８８】
リン光ドーパントの発光原理としては２種挙げられ、一つはキャリアが輸送されるホスト化合物上でキャリアの再結合が起こってホスト化合物の励起状態が生成し、このエネルギーをリン光ドーパントに移動させることでリン光ドーパントからの発光を得るというエネルギー移動型、もう一つはリン光ドーパントがキャリアトラップとなり、リン光ドーパント上でキャリアの再結合が起こりリン光ドーパントからの発光が得られるというキャリアトラップ型であるが、いずれの場合においても、リン光ドーパントの励起状態のエネルギーはホスト化合物の励起状態のエネルギーよりも低いことが条件である。
【００８９】
リン光ドーパントは、有機ＥＬ素子１０の発光層に使用される公知のものの中から適宜選択して用いることができるが、好ましくは元素の周期表で８〜１０族の金属を含有する錯体系化合物であり、さらに好ましくはイリジウム化合物、オスミウム化合物、または白金化合物（白金錯体系化合物）、希土類錯体であり、中でも最も好ましいのはイリジウム化合物である。
【００９０】
以下に、リン光ドーパントとして用いられる化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。これらの化合物は、たとえば、Ｉｎｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，４０巻、１７０４〜１７１１に記載の方法等により合成できる。
【００９１】
【化２１】
2013214483.tif 000023
【００９２】
【化２２】
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【００９３】
【化２３】
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【００９４】
【化２４】
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【００９５】
【化２５】
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【００９６】
【化２６】
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【００９７】
【化２７】
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【００９８】
【化２８】
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【００９９】
【化２９】
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【０１００】
【化３０】
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【０１０１】
【化３１】
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【０１０２】
【化３２】
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【０１０３】
【化３３】
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【０１０４】
【化３４】
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【０１０５】
【化３５】
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【０１０６】
【化３６】
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【０１０７】
【化３７】
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【０１０８】
【化３８】
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【０１０９】
《有機層の製造装置》
有機層３の製造装置としては、たとえば、図２に示すような塗布装置２０を用いることができる。
塗布装置２０は、主に、巻き出し部３０と塗布部４０と乾燥部５０とガス供給部６０とから構成されている。巻き出し部３０、塗布部４０、乾燥部５０は外気と隔離され、密閉されている。また、少なくとも乾燥部５０には、後述するガス導入部７０，８０から供給される混合ガスが充填される。
【０１１０】
巻き出し部３０は、基板元巻きロール３２と搬送ロール３４とを有している。基板元巻きロール３２には、可撓性基板１が巻回される。
塗布部４０は、スロットダイコーター４２とバックロール４４と搬送ロール３４とを有している。スロットダイコーター４２は、基板１を挟んでバックロール４４に対向する位置に配置され、送液ポンプ４６を介して、貯留タンク４８と接続されている。貯留タンク４８には、有機層３の塗布液が貯留される。
乾燥部５０は、ヒーター５２と搬送ロール３４と排気口５４を有している。ヒーター５２は、可撓性基板１の有機層３が塗布される側とは反対側に、複数設けられている。
【０１１１】
ガス供給部６０は、大気導入部７０と有機溶剤ガス導入部８０とを有している。
大気導入部７０は、配管７２と配管７２に取り付けられる流量計７４とを有している。配管７２の一方の開口部は乾燥部５０に挿入され、配管７２の他方の開口部は大気中に開放されている。
有機溶剤ガス導入部８０は、配管８２と配管８２に取り付けられる流量計８４と気化器８６と気化用ヒーター８８とを有している。配管８２の一方の開口部は乾燥部５０に挿入され、配管８２の他方の開口部は気化器８６に挿入されている。気化器８６には、貯留タンク４８に貯留される塗布液と同一の有機溶剤が貯留される。気化用ヒーター８８は、気化器８６を覆うようにして設けられている。
【０１１２】
なお、上記の有機層３の塗布装置２０においては、塗布手段としてスロットダイコーター４２を用いた場合を示したが、特にこれに限定されるものではなく、他の塗布手段、たとえば、インクジェット方式等を用いることもできる。
【０１１３】
《有機層の製造方法》
（１）製造工程
有機層３は基板１上に一定の塗布液が塗布・乾燥され形成される。
詳しくは、有機層３の製造方法は、主に、
（ｉ）発光層を構成する溶質を溶媒に溶解させ、塗布液を調製する工程と、
（ｉｉ）有機層の塗布液を基板上に塗布する塗布工程と、
（ｉｉｉ）基板上に塗布された塗布液を乾燥させる乾燥工程と、
から構成され、これら各工程の処理が実行され所望の有機層３が形成される。本発明において、上記製造方法は、有機ＥＬ素子の場合については、特に発光層の形成に好適に用いられる。
【０１１４】
（２）調製工程
（ｉ）の調製工程で用いられる溶媒としては、例えば、塩化メチレン、メチルエチルケトン、テトラヒドロフラン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸酸エチル等の脂肪酸エステル類、ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、トルエン、キシレン、メシチレン、シクロヘキシルベンゼン等の芳香族炭化水素類、シクロヘキサン、デカリン、ドデカン等の脂肪族炭化水素類、ＤＭＦ、ＤＭＳＯ、ｎ−ブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノールのアルコール類等の有機溶媒があげられるが、好ましくはエステル系化合物である。
エステル系化合物とは、カルボン酸等の有機酸や硫酸等の無機のオキソ酸が、アルコールと脱水縮合してできた化合物のことを指す。
有機酸としては、例えば、ギ酸、酢酸、クエン酸、シュウ酸、スルホン酸が挙げられ、無機酸としては例えば、塩酸、リン酸、硝酸、硫酸、ホウ酸、フッ化水素酸が挙げられる。
アルコールとしては、例えば、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、２−メチル−１−プロパノール、２−メチル−２−プロパノール、１−ペンタノールが挙げられる。また酢酸とアルコールからできたエステル化合物も好ましい。酢酸とアルコールからできたエステル系化合物としては、例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、酢酸フェニルがある。
【０１１５】
（３）塗布工程
（ｉｉ）の塗布工程では、湿式塗布法を用いる。湿式塗布法で製膜することにより連続製膜が可能になり、樹脂製の基板１への塗布が容易になる。
湿式塗布法の製膜手段としては湿式であればいずれの方法でもよいが、生産性を考慮した場合には、たとえば、キャスト法、インクジェット法、印刷法、ダイコート法、ブレードコート法がある。
なお、発光層以外の有機層３の各層も湿式塗布法により製膜可能であり、発光層を含む有機層３の製膜工程では、各層毎に異なる塗布方法を用いることができる。
【０１１６】
（４）乾燥工程
通常、塗布膜の乾燥は２段階に分けられる。
本発明においては、乾燥工程を以下のように定義する。
【０１１７】
（４．１）１次乾燥工程
１次乾燥工程と呼ぶ最初のステージは、一定の乾燥傾向にあり（恒率乾燥期間）、この間においては、表面の溶媒は外部温度、溶媒蒸気濃度によって決められる速度並びにその循環の程度等によって影響されながら蒸発が進行する。
【０１１８】
（４．２）２次乾燥工程
２次乾燥工程と呼ぶ第２のステージは、溶媒分離速度が減少する状態である（減率乾燥期間）。これは、物質内の液境界面における浸透によるものである。この間では、形成される蒸気と液界面の移動距離が増加してくるので、乾燥速度は、減少してくる。
【０１１９】
恒率、減率乾燥工程とも乾燥方法としては、通常、常温の送風乾燥を用いるのが好ましい。
【０１２０】
本発明では、乾燥工程の雰囲気中に、少なくとも有機層３に用いているものと同一の有機溶剤ガスと大気（ドライエアー）との混合ガスを含有させることを特徴とする。ドライエアーと使用する有機溶剤ガスの体積比は、好ましくは７０：３０〜１０：９０、より好ましくは６０：４０〜１０：９０、特に好ましくは５０：５０〜１０：９０の範囲である。
この条件にすることにより塗布液に溶解した素材の析出に差が少なくなり、凝集、結晶化が抑制され、造膜が均一化される。
また、上記乾燥工程では、有機溶剤ガスは少なくとも有機層３で使用している有機溶剤を含有していればよく、複数の有機溶剤を含有していてもよい。さらに、大気に代えて窒素ガス等の不活性ガスを用いることもできる。
【０１２１】
さらに本発明では減率乾燥が終了してもしばらく乾燥工程を継続することを特徴とする。減率乾燥終了時点からの乾燥（加熱）継続時間は好ましくは１０秒以上１０分以下であり、より好ましくは３０秒以上５分以内、特に好ましくは１分以上３分以内の範囲である。
この条件にすることにより乾燥途中に素材同士の凝集が抑制され、膜中の素材の存在状態が安定する。
【０１２２】
また、本発明においては、乾燥工程が終了するまでの間、有機層３を塗設する側（塗設面）の反対側（裏面）の温度が３５℃以上６０℃以下、有機層３の塗設側の雰囲気中温度が３０℃以下の条件を保つことを特徴とする。有機層３を塗設する側の反対側の温度は、より好ましくは３５℃以上５０℃以下、特に好ましくは３５℃以上４５℃以下の範囲である。
この条件にすることにより、塗膜表面が乾いて被膜になる前に膜中から乾燥が進み、残存しやすい溶媒が外部に放出されていく。その結果、性能低下の因子となる残留溶媒が減少して寿命が向上する。有機層３の塗設側の温度は３０℃を超えると膜中よりも塗膜表面の乾燥が進みすぎ、被膜を形成してしまう。その結果、膜中に溶媒が残ることとなり、寿命の低下を招いてしまう。
【０１２３】
（５）有機層の製造方法
続いて、図２に示す塗布装置２０を用いた有機層３の製造方法について説明する。
【０１２４】
まず、基板元巻きロール３２に巻回されている可撓性基板１を、駆動手段（図示略）により、搬送方法Ａに繰り出し、搬送ロール３４を介して、塗布部４０へ搬送する。
次に、塗布部４０に搬送された基板１をバックロール４４に搬送し、バックロール４４上においてスロットダイコーター４２により所望の有機層３の塗布液を塗布する。スロットダイコーター４２には、貯留タンク４８に貯留されている塗布液が、送液ポンプ４６により塗布液の供給量を適宜調節されながら供給されている。塗布液が塗布された基板１を、搬送ロール３４を介して、乾燥部５０へ搬送する。
【０１２５】
次に、乾燥部５０に搬送された基板１を、恒率乾燥、減率乾燥に続けてさらに乾燥させる。このとき、有機層３の塗設側の雰囲気中温度は３０℃以下、基板１の塗布液が塗布された側の反対側（基板１の裏面）は、ヒーター５２で加温し３５℃以上６０℃以下とする。
このとき、乾燥部５０には、大気導入部７０から供給された大気と、有機溶剤ガス導入部８０から供給された有機溶剤ガスとの混合ガスが充填されている。大気導入部７０から供給される大気は、大気処理手段（図示略）により水分や不純物が除去され、配管７２を通して、乾燥部５０に供給される。有機溶剤ガス供給部８０から供給される有機溶剤ガスは、気化器８６に貯留された有機溶剤を気化用ヒーター８６により気化され、配管８２を通して、乾燥部５０に供給される。
【０１２６】
乾燥部５０内の大気と有機溶剤ガスの体積比は、流量計７４，８４や排気口５４を制御する制御手段(図示略)により適宜調節することができる。また、大気と有機溶剤ガスの体積比の実測値は、乾燥部５０にセンサー等を設けて測定してもよいし、乾燥部５０から抜き取ったガスや排気口５４から排出されるガスをガスクロマトグラフィーにより測定してもよい。
【０１２７】
上記工程を経て、所望の有機層３が形成される。有機層３が形成された基板１は、巻き取りロール（図示略）に巻き取られ、有機層３の他層の製造工程に使用される。また、巻き取りロールに巻き取らず、シート状にカットして使用することも可能である。
【０１２８】
《陽極》
白色発光有機ＥＬ素子１０における陽極２としては、仕事関数の大きい（４ｅＶ以上）金属、合金、電気伝導性化合物およびこれらの混合物を電極物質とするものが好ましく用いられる。
このような電極物質の具体例としては、Ａｕ等の金属、ＣｕＩ、インジウムチンオキシド（ＩＴＯ）、ＳｎＯ２、ＺｎＯ等の導電性透明材料が挙げられる。また、ＩＤＩＸＯ（Ｉｎ２Ｏ３−ＺｎＯ）等非晶質で透明導電膜を作製可能な材料を用いてもよい。
陽極２はこれらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により、薄膜を形成させ、フォトリソグラフィー法で所望の形状のパターンを形成してもよく、あるいはパターン精度をあまり必要としない場合は（１００μｍ以上程度）、上記電極物質の蒸着やスパッタリング時に所望の形状のマスクを介してパターンを形成してもよい。あるいは、有機導電性化合物のように塗布可能な物質を用いる場合には、印刷方式、コーティング方式など湿式塗布法を用いることもできる。
この陽極２側より発光を取り出す場合には、透過率を１０％より大きくすることが望ましく、また陽極２としてのシート抵抗は数百Ω／□以下が好ましい。さらに膜厚は材料にもよるが、通常１０〜１０００ｎｍ、好ましくは１０〜２００ｎｍの範囲で選ばれる。
【０１２９】
《陰極》
一方、陰極４としては、仕事関数の小さい（４ｅＶ以下）金属（電子注入性金属と称する）、合金、電気伝導性化合物およびこれらの混合物を電極物質とするものが用いられる。
このような電極物質の具体例としては、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム、リチウム、マグネシウム／銅混合物、マグネシウム／銀混合物、マグネシウム／アルミニウム混合物、マグネシウム／インジウム混合物、アルミニウム／酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）混合物、インジウム、リチウム／アルミニウム混合物、希土類金属等が挙げられる。
これらの中で、電子注入性および酸化等に対する耐久性の点から、電子注入性金属とこれより仕事関数の値が大きく安定な金属である第二金属との混合物、たとえば、マグネシウム／銀混合物、マグネシウム／アルミニウム混合物、マグネシウム／インジウム混合物、アルミニウム／酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）混合物、リチウム／アルミニウム混合物、アルミニウム等が好適である。
陰極４はこれらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により薄膜を形成させることにより、作製することができる。
また、陰極４としてのシート抵抗は数百Ω／□以下が好ましく、膜厚は通常５〜１０μｍ、好ましくは５０〜２００ｎｍの範囲で選ばれる。
なお、発光した光を透過させるため、有機ＥＬ素子の陽極または陰極のいずれか一方が、透明または半透明であれば発光輝度が向上し好都合である。
【０１３０】
また、陰極４に上記金属を１〜２０ｎｍの膜厚で作製した後に、陽極２の説明で挙げた導電性透明材料をその上に作製することで、透明または半透明の陰極４を作製することができ、これを応用することで陽極２と陰極４の両方が透過性を有する素子を作製することができる。
【０１３１】
《基板》
本発明において用いる基板１としては、種類には特に限定はないが、フレキシビリティを有し、かつ透明であることが好ましい。
【０１３２】
樹脂基板の樹脂としては、たとえば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）、セルロースアセテートフタレート（ＴＡＣ）、セルロースナイトレート等のセルロースエステル類又はそれらの誘導体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート、ノルボルネン樹脂、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリフェニレンスルフィド、ポリスルホン類、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリル或いはポリアリレート類、アートン（商品名ＪＳＲ社製）或いはアペル（商品名三井化学社製）といったシクロオレフィン系樹脂等を挙げられる。
【０１３３】
フレキシビリティを有する樹脂基板、すなわち、フレキシブルな樹脂基板としては、その引っ張り強度が２０〜８０ｋｇ／ｍｍ２であり、基板面に平行な任意の方向での弾性率が１０００〜２５００ｋｇ／ｍｍ２であり、基板面に平行な任意の方向での破壊伸度が５％以上であることが好ましい。
【０１３４】
本発明に係る樹脂基板の表面には、無機物、有機物の被膜またはその両者のハイブリッド被膜が形成されていてもよく、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２９−１９９２に準拠した方法で測定された水蒸気透過度（２５±０．５℃、相対湿度（９０±２）％ＲＨ）が、１×１０−３ｇ／（ｍ２・２４ｈ）以下のバリア性フィルムであることが好ましく、さらには、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２６−１９８７に準拠した方法で測定された酸素透過度が、１×１０−３ｍｌ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ以下、水蒸気透過度（２５±０．５℃、相対湿度（９０±２）％ＲＨ）が、１×１０−３ｇ／（ｍ２・２４ｈ）以下の高バリア性フィルムであることが好ましい。
【０１３５】
高バリア性フィルムとするために樹脂フィルム表面に形成されるバリア膜を形成する材料としては、水分や酸素など素子の劣化をもたらすものの浸入を抑制する機能を有する材料であればよく、たとえば、酸化珪素、二酸化珪素、窒化珪素などを用いることができる。さらに該膜の脆弱性を改良するためにこれら無機層と有機材料からなる層の積層構造を持たせることがより好ましい。無機層と有機層の積層順については特に制限はないが、両者を交互に複数回積層させることが好ましい。
【０１３６】
バリア膜の形成方法については、特に限定はなく、たとえば真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、分子線エピタキシー法、クラスタ−イオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、大気圧プラズマ重合法、プラズマＣＶＤ法、レーザーＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法、コーティング法などを用いることができるが、特開２００４−６８１４３号公報に記載されているような大気圧プラズマ重合法によるものが特に好ましい。不透明な基板１としては、たとえばアルミ、ステンレス等の金属板・フィルムや不透明樹脂基板、セラミック製の基板等が挙げられる。
【０１３７】
本発明に係る白色発光有機ＥＬ素子１０の発光の室温における外部取り出し効率は１％以上であることが好ましく、より好ましくは５％以上である。ここで、外部取り出し量子効率（％）＝有機ＥＬ素子外部に発光した光子数／有機ＥＬ素子に流した電子数×１００である。また、カラーフィルタ等の色相改良フィルタ等を併用しても、有機ＥＬ素子１０からの発光色を蛍光体を用いて多色へ変換する色変換フィルタを併用してもよい。
【０１３８】
《封止》
本発明に係る白色発光有機ＥＬ素子１０の封止に用いられる封止手段としては、たとえば封止部材５と、電極２，４、基板１とを接着剤６で接着する方法を挙げることができる。
封止部材５を用いて封止する場合、有機ＥＬ素子１０を複数並べた面発光パネルの発光面と反対面にある複数の発光層全体を覆うように封止するのが好ましい。
【０１３９】
接着剤６としては、具体的には、アクリル酸系オリゴマー、メタクリル酸系オリゴマーの反応性ビニル基を有する光硬化および熱硬化型接着剤、２−シアノアクリル酸エステルなどの湿気硬化型等の接着剤を挙げることができる。また、エポキシ系などの熱および化学硬化型（二液混合）を挙げることができる。また、ホットメルト型のポリアミド、ポリエステル、ポリオレフィンを挙げることができる。また、カチオン硬化タイプの紫外線硬化型エポキシ樹脂接着剤を挙げることができる。
なお、有機ＥＬ素子１０が熱処理により劣化する場合があるので、室温から８０℃までに接着硬化できるものが好ましい。また、接着剤６中に乾燥剤を分散させておいてもよい。
【０１４０】
無機物、有機物の層を形成し封止膜とすることも好適に実施できる。
この場合、該膜を形成する材料としては、水分や酸素など素子の劣化をもたらすものの浸入を抑制する機能を有する材料であればよく、たとえば、酸化珪素、二酸化珪素、窒化珪素などを用いることができる。さらに該膜の脆弱性を改良するためにこれら無機層と有機材料からなる層の積層構造を持たせることが好ましい。
【０１４１】
これらの膜の形成方法については、特に限定はなく、たとえば真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、分子線エピタキシー法、クラスタ−イオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、大気圧プラズマ重合法、プラズマＣＶＤ法、レーザーＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法、コーティング法などを用いることができる。
封止部材５と有機ＥＬ素子１０の表示領域との間隙には、気相および液相では、窒素、アルゴン等の不活性気体や、フッ化炭化水素、シリコンオイルのような不活性液体を注入することが好ましい。
【０１４２】
また、真空とすることも可能である。
また、内部に吸湿性化合物を封入することもできる。
吸湿性化合物としてはたとえば金属酸化物（たとえば、酸化ナトリウム、酸化カリウム、酸化カルシウム、酸化バリウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム等）、硫酸塩（たとえば、硫酸ナトリウム、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、硫酸コバルト等）、金属ハロゲン化物（たとえば、塩化カルシウム、塩化マグネシウム、フッ化セシウム、フッ化タンタル、臭化セリウム、臭化マグネシウム、沃化バリウム、沃化マグネシウム等）、過塩素酸類（たとえば過塩素酸バリウム、過塩素酸マグネシウム等）等があげられ、硫酸塩、金属ハロゲン化物および過塩素酸類においては無水塩が好適に用いられる。
【０１４３】
《保護膜、保護板》
有機層３を挟み基板１と対向する側の封止膜あるいは封止用フィルムの外側に、有機ＥＬ素子１０の機械的強度を高めるために保護膜、あるいは保護板を設けてもよい。
特に、封止が封止膜により行われている場合には、その機械的強度は必ずしも高くないため、このような保護膜、保護板を設けることが好ましい。これに使用することができる材料としては、封止に用いたのと同様なガラス板、ポリマー板・フィルム、金属板・フィルム等を用いることができるが、軽量かつ薄膜化ということからポリマーフィルムを用いることが好ましい。
【０１４４】
《白色発光有機ＥＬ素子の作製方法》
本発明に係る白色発光有機ＥＬ素子１０の作製方法の一例として、陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極からなる有機ＥＬ素子の作製法について説明する。
【０１４５】
まず、フレキシブル性を有する支持基板１上に所望の電極物質、たとえば、陽極用物質からなる薄膜を１μｍ以下、好ましくは１０〜３００ｎｍの膜厚になるように、蒸着やスパッタリング等の方法により形成させ、陽極２を作製する。
次に、この上に有機ＥＬ素子材料である正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層および電子注入層の有機化合物薄膜（有機層３）を形成させる。
【０１４６】
これら各層の形成方法としては、湿式塗布法（キャスト法、インクジェット法、印刷法、ダイコート法、ブレードコート法等）を用いる。
有機層３の形成では、層毎に異なる塗布法を適用してもよい。
これらの層を形成後、その上に陰極用物質からなる薄膜を、１μｍ以下好ましくは５０〜２００ｎｍの範囲の膜厚になるように、たとえば、蒸着やスパッタリング等の方法により形成させ、陰極４を設けることにより所望の有機ＥＬ素子１０が得られる。
【０１４７】
本発明において、製膜に湿式塗布法を用いて有機層を塗布する際は、不活性雰囲気下で塗布を行うことが好ましい。
不活性ガスとは、窒素、二酸化炭素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、ラドンを言うが、安価で得られる点から不活性ガスとしては窒素が好ましい。
不活性雰囲気下での酸素濃度および水分濃度は、１〜１０００ｐｐｍの範囲であることが好ましく、１〜１００ｐｐｍの範囲であることがさらに好ましい。
【０１４８】
正孔注入層〜電子輸送層を形成後、たとえばフッ化リチウムといった無機金属から成る電子注入層を設ける。この場合はたとえば蒸着法により製膜させることができる。
【０１４９】
電子注入層の上に陰極用物質からなる薄膜を１μｍ以下、好ましくは、５０〜２００ｎｍの範囲の膜厚になるように、たとえば、蒸着やスパッタリング等の方法により形成し、陰極４を設けることにより所望の有機ＥＬ素子１０が得られる。
【０１５０】
また、作製順序を逆にして、陰極４、電子注入層、電子輸送層、発光層、正孔輸送層、正孔注入層、陽極２の順に作製することも可能である。
このようにして得られた有機ＥＬ素子１０を多色の表示装置に用い、直流電圧を印加する場合には、陽極２を＋、陰極４を−の極性として電圧２〜４０Ｖ程度を印加すると、発光が観測できる。また交流電圧を印加してもよい。なお、印加する交流の波形は任意でよい。
【０１５１】
《白色発光有機ＥＬ素子の特性等》
有機ＥＬ素子は、空気よりも屈折率の高い（屈折率１．６〜２．１程度）層の内部で発光し、発光層で発生した光のうち１５％から２０％程度の光しか取り出せないことが一般的に言われている。これは、臨界角以上の角度θで界面（透明基板と空気との界面）に入射する光は、全反射を起こし素子外部に取り出すことができないことや、透明電極ないし発光層と透明基板との間で光が全反射を起こし、光が透明電極ないし発光層を導波し、結果として、光が素子側面方向に逃げるためである。
【０１５２】
この光の取り出しの効率を向上させる手法としては、たとえば、透明基板表面に凹凸を形成し、透明基板と空気界面での全反射を防ぐ方法（たとえば、米国特許第４７７４４３５号明細書）、基板に集光性を持たせることにより効率を向上させる方法（たとえば、特開昭６３−３１４７９５号公報）、素子の側面等に反射面を形成する方法（たとえば、特開平１−２２０３９４号公報）、基板と発光体の間に中間の屈折率を持つ平坦層を導入し、反射防止膜を形成する方法（たとえば、特開昭６２−１７２６９１号公報）、基板と発光体の間に基板よりも低屈折率を持つ平坦層を導入する方法（たとえば、特開２００１−２０２８２７号公報）、基板、透明電極層や発光層のいずれかの層間（含む、基板と外界間）に回折格子を形成する方法（特開平１１−２８３７５１号公報）などが挙げられる。
【０１５３】
本発明においては、これらの方法を本発明に係る白色発光有機ＥＬ素子１０と組み合わせて用いることができるが、基板１と発光体の間に基板１よりも低屈折率を持つ平坦層を導入する方法、あるいは基板１、透明電極層や発光層のいずれかの層間（含む、基板と外界間）に回折格子を形成する方法を好適に用いることができる。
【０１５４】
本発明は、これらの手段を組み合わせることにより、さらに高輝度あるいは耐久性に優れた素子を得ることができる。
【０１５５】
透明電極と透明基板の間に低屈折率の媒質を光の波長よりも長い厚みで形成すると、透明電極から出てきた光は、媒質の屈折率が低いほど、外部への取り出し効率が高くなる。
【０１５６】
低屈折率層としては、たとえば、エアロゲル、多孔質シリカ、フッ化マグネシウム、フッ素系ポリマーなどが挙げられる。透明基板の屈折率は一般に１．５〜１．７程度であるので、低屈折率層は、屈折率がおよそ１．５以下であることが好ましい。またさらに１．３５以下であることが好ましい。
【０１５７】
また、低屈折率媒質の厚みは、媒質中の波長の２倍以上となるのが望ましい。これは、低屈折率媒質の厚みが、光の波長程度になってエバネッセントで染み出した電磁波が基板内に入り込む膜厚になると、低屈折率層の効果が薄れるからである。
【０１５８】
全反射を起こす界面または、いずれかの媒質中に回折格子を導入する方法は、光取り出し効率の向上効果が高いという特徴がある。この方法は、回折格子が１次の回折や、２次の回折といった、いわゆるブラッグ回折により、光の向きを屈折とは異なる特定の向きに変えることができる性質を利用して、発光層から発生した光のうち、層間での全反射等により外に出ることができない光を、いずれかの層間もしくは、媒質中（透明基板内や透明電極内）に回折格子を導入することで光を回折させ、光を外に取り出そうとするものである。
【０１５９】
導入する回折格子は、二次元的な周期屈折率を持っていることが望ましい。これは、発光層で発光する光はあらゆる方向にランダムに発生するので、ある方向にのみ周期的な屈折率分布を持っている一般的な１次元回折格子では、特定の方向に進む光しか回折されず、光の取り出し効率がさほど上がらない。
【０１６０】
しかしながら、屈折率分布を二次元的な分布にすることにより、あらゆる方向に進む光が回折され、光の取り出し効率が上がる。
【０１６１】
回折格子を導入する位置としては、いずれかの層間、もしくは媒質中（透明基板内や透明電極内）でも良いが、光が発生する場所である有機発光層の近傍が望ましい。このとき、回折格子の周期は、媒質中の光の波長の約１／２〜３倍程度が好ましい。回折格子の配列は、正方形のラチス状、三角形のラチス状、ハニカムラチス状など、２次元的に配列が繰り返されることが好ましい。
【０１６２】
本発明に係る白色発光有機ＥＬ素子１０は、基板１の光取出し側に、たとえばマイクロレンズアレイ上の構造を設けるように加工したり、あるいは、いわゆる集光シートと組み合わせることにより、特定方向、たとえば素子発光面に対し正面方向に集光することにより、特定方向上の輝度を高めることができる。
【０１６３】
マイクロレンズアレイの例としては、基板の光取り出し側に一辺が３０μｍでその頂角が９０度となるような四角錐を２次元に配列する。一辺は１０〜１００μｍが好ましい。これより小さくなると回折の効果が発生して色付く、大きすぎると厚さが厚くなり好ましくない。
【０１６４】
集光シートとしては、たとえば液晶表示装置のＬＥＤバックライトで実用化されているものを用いることが可能である。このようなシートとしてたとえば、住友スリーエム社製輝度上昇フィルム（ＢＥＦ）などを用いることができる。プリズムシートの形状としては、たとえば基板に頂角９０度、ピッチ５０μｍの△状のストライプが形成されたものであってもよいし、頂角が丸みを帯びた形状、ピッチをランダムに変化させた形状、その他の形状であっても良い。
【０１６５】
また、有機ＥＬ素子１０からの光放射角を制御するために光拡散板・フィルムを、集光シートと併用してもよい。たとえば、（株）きもと製拡散フィルム（ライトアップ）などを用いることができる。
【０１６６】
《白色発光有機ＥＬ素子の応用分野》
本発明の白色発光有機ＥＬ素子１０は、照明用や露光光源のような一種のランプとして使用してもよいし、画像を投影するタイプのプロジェクション装置や、静止画像や動画像を直接視認するタイプの表示装置（ディスプレイ）として使用してもよい。動画再生用の表示装置として使用する場合の駆動方式は、単純マトリクス（パッシブマトリクス）方式でもアクティブマトリクス方式でもどちらでもよい。
【０１６７】
本発明に用いられる白色発光有機ＥＬ素子１０においては、必要に応じ製膜時にメタルマスクやインクジェットプリンティング法等でパターニングを施してもよい。
パターニングする場合は、電極のみをパターニングしてもよいし、電極と発光層をパターニングしてもよいし、素子全層をパターニングしてもよい。発光層に用いるドーパント化合物としては特に制限はなく、たとえば、液晶表示素子におけるバックライトであれば、ＣＦ（カラーフィルタ）特性に対応した波長範囲に適合するように、本発明に係る白金錯体、また公知のドーパント化合物の中から任意のものを選択して組み合わせて、また本発明に係る光取り出しおよび／または集光シートと組み合わせて、白色化すればよい。
【０１６８】
このように、本発明に係る白色の有機ＥＬ素子１０は、ＣＦ（カラーフィルタ）と組み合わせて、また、ＣＦ（カラーフィルタ）パターンに合わせ素子および駆動トランジスタ回路を配置することで、有機ＥＬ素子１０から取り出される白色光をバックライトとして、青色フィルタ、緑色フィルタ、赤色フィルタを介して青色光、緑色光、赤色光を得ることで、低駆動電圧で長寿命のフルカラーの有機エレクトロルミネッセンスディスプレイができ、好ましい。
【０１６９】
本発明の白色発光有機ＥＬ素子１０は、上述のように、表示デバイス、ディスプレイ、各種発光光源として用いることができる。
発光光源として、たとえば、家庭用照明、車内照明、時計や液晶用のバックライト、看板広告、信号機、光記憶媒体の光源、電子写真複写機の光源、光通信処理機の光源、光センサーの光源等が挙げられるがこれに限定するものではないが、特にカラーフィルタや光拡散板、光取り出しフィルムなどと組み合わせた各種表示装置のバックライト、照明用光源としての用途に有効に用いることができる。
【実施例１】
【０１７０】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されない。
なお、本実施例において「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量％」を表す。
【０１７１】
《有機ＥＬ素子サンプルの作製》
（１）有機ＥＬ素子１−１の作製
【０１７２】
（１．１）基板の準備
５０ｍ×１８０ｍｍ×０．１２５ｍｍのＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）基板上に大気圧プラズマ重合法で、厚さ約９０ｎｍの透明バリア膜を形成した。ＪＩＳ  Ｋ−７１２９Ｂに準拠した方法により水蒸気透過率を測定した結果、１０−３ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であった。ＪＩＳ  Ｋ−７１２６Ｂに準拠した方法により酸素透過率を測定した結果、１０−３ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であった。
【０１７３】
（１．２）陽極の形成
準備したガスバリア性の可撓性フィルム上に厚さ１２０ｎｍのＩＴＯ（インジウムチンオキシド）をスパッタ法により製膜し、フォトリソグラフィー法によりパターニングを行い、陽極を形成した。
なお、パターンは発光面積が５０ｍｍ平方になるようなパターンとした。
【０１７４】
（１．３）正孔注入層の形成
パターニング後のＩＴＯ基板をイソプロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥し、ＵＶオゾン洗浄を５分間行った。この基板上に、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）−ポリスチレンスルホネート（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳと略記、Ｂａｙｅｒ製、Ｂａｙｔｒｏｎ  Ｐ  Ａｌ  ４０８３）を純水で７０％に希釈した溶液をスロットダイコート法により塗布速度１ｍ／分で製膜した後、２次乾燥として２００℃、１時間乾燥した。このようにして膜厚３０ｎｍの正孔注入層を形成した。
【０１７５】
（１．４）正孔輸送層の形成
この基板を、窒素ガス（グレードＧ１）を用いた窒素雰囲気下に移し、正孔輸送材料である例示化合物（６０）（Ｍｗ＝８０，０００）をクロロベンゼンに０．５％溶解した溶液を、スロットダイコート法により塗布速度１ｍ／分で製膜した後、２次乾燥として１６０℃、３０分間乾燥した。このようにして膜厚３０ｎｍの正孔輸送層を形成した。
【０１７６】
（１．５）発光層の形成
次いで、下記組成の発光層組成物（塗布液）を調製し、これをスロットダイコート法により塗布速度０．５ｍ／分で製膜した後、乾燥させた。
塗布、乾燥は図２に示す塗布装置２０を用い、ドライエアーのみの雰囲気下で乾燥を行った。
その後、乾燥部５０で１２０℃、３０分間乾燥させた。減率乾燥終了後、さらに１０秒間乾燥（加熱）させた。このようにして膜厚７０ｎｍの発光層を形成した。
なお、乾燥中、基板の発光層が塗設された側（塗設面）の雰囲気中温度を２５℃、それとは反対側（裏面）の温度を、ヒーターで加温して３５℃とした。
【０１７７】
〈発光層組成物〉
例示化合物Ａ−６７    ２２．３質量部
例示化合物Ｄ−６６      ４．９質量部
例示化合物Ｄ−６７    ０．０５質量部
例示化合物Ｄ−８０    ０．０５質量部
酢酸ｎ−プロピル    ２，０００質量部
【０１７８】
（１．６）電子輸送層の形成
続いて、３０ｍｇの一般式（Ａ）で表される化合物である例示化合物Ａ−７７を、４ｍｌのテトラフルオロプロパノール（ＴＦＰＯ）に溶解した溶液を、スロットダイコート法により塗布速度１ｍ／分で製膜した後、２次乾燥として１２０℃、３０分間乾燥した。このようにして膜厚３０ｎｍの電子輸送層を形成した。
【０１７９】
（１．７）電子注入層、陰極の形成
続いて、基板を大気に曝露することなく真空蒸着装置へ取り付けた。また、モリブデン製抵抗加熱ボートにフッ化ナトリウムおよびフッ化カリウムを入れたものを真空蒸着装置に取り付け、真空槽を４×１０−５Ｐａまで減圧した後、ボートに通電して加熱してフッ化ナトリウムを０．０２ｎｍ／秒で電子輸送層上に膜厚１ｎｍの薄膜を形成し、続けて同様にフッ化カリウムを０．０２ｎｍ／秒でフッ化ナトリウム上に膜厚１．５ｎｍの電子注入層を形成した。
引き続き、アルミニウム１００ｎｍを蒸着して陰極を形成した。
【０１８０】
（１．８）封止
陰極の蒸着面側を３００μｍのエポキシ樹脂で覆い、さらに１２μｍのアルミニウム箔で覆った後、硬化させた。封止は、大気に接触させることなく窒素雰囲気下のグローブボックス（純度９９．９９９％以上の高純度窒素ガスの雰囲気下）内で行った。その後、枚葉に断裁し、白色発光有機ＥＬ素子１−１とした。
【０１８１】
（２）有機ＥＬ素子１−２〜１−８の作製
白色発光有機ＥＬ素子１−１の作製において、発光層の形成時、混合したガス種、ガスの体積比を表１の条件に変更した。
なお、ガスの体積比はドライエアー（または窒素ガス）と有機溶剤ガスの送風量を調整することにより制御した。
それ以外は有機ＥＬ素子１−１の作製と同様に行った。
【０１８２】
《有機ＥＬ素子サンプルの評価》
作製した有機ＥＬ素子１−１〜１−８に対し、下記の評価をおこなった。
【０１８３】
（１）正孔移動度の算出
発光用素子とは別に、下記の構成で特性評価用素子を作成した。
有機ＥＬ素子１−１と同じＩＴＯまで作製したＰＥＮ基板上に、上記と同様の作成方法で発光層（７０ｎｍ）を塗設した。その上に上記と同様の方法でα−ＮＰＤ（３０ｎｍ）を蒸着した。その後、フッ化カリウム（２ｎｍ）を蒸着し、最後にアルミニウム１００ｎｍを蒸着して陰極を形成した。封止も同様に行い、正孔移動度測定用素子を作製した。
測定方法としては、陽極、陰極に電源をつないで電流を流す。電圧は０Ｖから１８Ｖとし、そのときの電流密度を測定する。
正孔移動度μは、Ｍｏｔｔ−Ｇｕｒｎｅｙ  ｌａｗより、下記式で求められる。
算出結果を表１に示す。
なお、正孔移動度は有機ＥＬ素子１−１を１００とした時の相対値で表した。
【０１８４】
キャリア移動度μ＝１／ａ×傾き×（発光層膜厚）３
（ａ＝２．９９×１０−１３）
「傾き」は電圧の２乗と電流密度のＪ−Ｖプロットより求めることができる。
【０１８５】
（２）発光寿命の評価
有機ＥＬ素子１−１〜１−８を、初期輝度１００００ｃｄを与える一定電流で連続駆動させ、輝度が半減するのに要した時間を測定し、これを半減寿命時間（τ０．５）として発光寿命の指標とした。測定には分光放射輝度計ＣＳ−１０００（コニカミノルタセンシング社製）を用いた。
比較例の有機ＥＬ素子１−１に対し、好ましくは１０％以上、発光寿命が向上したものがよい。
評価結果を表１に示す。
なお、発光寿命は有機ＥＬ素子１−１を１００とした時の相対値で表した。
【０１８６】
【表１】
2013214483.tif 000041
【０１８７】
（３）まとめ
表１に示すとおり、有機ＥＬ素子１−２〜１−６，１−８は、比較例の有機ＥＬ素子１−１，１−７と比較して、正孔移動度、発光寿命のいずれの面においても優れている。
以上から、乾燥工程において、有機層の塗布液と同一の有機溶剤ガスを含有する混合ガス雰囲気下で乾燥させることが正孔移動度が高く、長寿命である有機ＥＬ素子を提供するのに有用であることがわかる。
【実施例２】
【０１８８】
（１）有機ＥＬ素子２−１〜２−７の作製
白色発光有機ＥＬ素子１−４の作製において、発光層の形成時、減率乾燥後の加熱継続時間を表２の条件に変更した。
それ以外は有機ＥＬ素子１−４の作製と同様に行った。
【０１８９】
（２）有機ＥＬ素子サンプルの評価
実施例１と同様にして、正孔移動度、発光寿命の評価を行った。
その結果を表２に示す。
なお、正孔移動度、発光寿命は有機ＥＬ素子１−４を１００とした時の相対値で表した。
【０１９０】
【表２】
2013214483.tif 000042
【０１９１】
（３）まとめ
表２に示すとおり、有機ＥＬ素子２−３，２−４は、他の有機ＥＬ素子と比較して、正孔移動度、発光寿命ともに向上していることがわかる。
以上から、減率乾燥後の加熱継続時間を１分以上３分以下とすることが、より正孔移動度、発光寿命に優れた有機ＥＬ素子を提供するのに有用であることがわかる。
【実施例３】
【０１９２】
（１）有機ＥＬ素子３−１〜３−６の作製
白色発光有機ＥＬ素子２−３の作製において、発光層の形成時、雰囲気中温度を表３の条件に変更した。
それ以外は有機ＥＬ素子２−３の作製と同様に行った。
【０１９３】
（２）有機ＥＬ素子サンプルの評価
実施例１と同様にして、正孔移動度、発光寿命の評価を行った。
その結果を表３に示す。
なお、正孔移動度、発光寿命は有機ＥＬ素子２−３を１００とした時の相対値で表した。
【０１９４】
【表３】
2013214483.tif 000043
【０１９５】
（３）まとめ
表３に示すとおり、有機ＥＬ素子３−３〜３−５は、他の有機ＥＬ素子と比較して、正孔移動度、発光寿命ともに向上していることがわかる。
以上から、基板の塗布液が塗設される側とは反対側の温度を３５℃〜６０℃とすることが、より正孔移動度、発光寿命に優れた有機ＥＬ素子を提供するのに有用であることがわかる。
【０１９６】
また、有機太陽電池や有機トランジスタ等の他の有機エレクトロニクスデバイスにおいても、有機層に使用している素材を凝集や結晶の発生なく製膜することは諸特性の向上に有効である。
【符号の説明】
【０１９７】
１  基板
２  陽極
３  有機層
４  陰極
５  封止部材
６  接着剤
１０  有機ＥＬ素子
２０  塗布装置
３０  巻き出し部
３２  基板元巻きロール
３４  搬送ローラ
４０  塗布部
４２  スロットダイコーター
４４  バックロール
４６  送液ポンプ
４８  貯留タンク
５０  乾燥部
５２  ヒーター
５４  排気口
６０  ガス供給部
７０  大気導入部
７２  配管
７４  流量計
８０  有機溶剤ガス導入部
８２  配管
８４  流量計
８６  気化器
８８  気化用ヒーター
Ａ  搬送方向
【図１】
2013214483.tif 000044
【図２】
2013214483.tif 000045