(57)【要約】【課題】簡単な構成で、発光効率が異なる画素の輝度を容易に調整するための光学素子製造装置、光学素子製造方法及び光学素子を提供する。【解決手段】本実施形態の有機ＥＬ素子１０は、複数の画素領域２６Ｂ，２６Ｇ，２６Ｒに形成された発光層１６Ｂ，１６Ｇ，１６Ｒを備えている。発光層１６Ｇが発光層１６Ｂ，１６Ｒよりも発光効率が高い材料で構成されている。発光層１６Ｂ，１６Ｒは、それぞれ膜厚分布が均一な平坦な膜で形成されており、発光層１６Ｇは、隣接する発光層１６Ｒ側が厚くなった、膜厚分布が不均一な膜で形成されている形成される。発光層１６Ｂ，１６Ｇ，１６Ｒは製造装置によって製造される。製造装置は、発光層１６Ｇを形成する緑色の塗工液を画素領域２６Ｇに塗布した後、遅延して、この画素領域２６Ｇに隣接する画素領域２６Ｒに、赤色の塗工液を塗布する。【選択図】図１
2013214360.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
塗工液を吐出する吐出口が形成されたノズルと、
光学素子を形成する基板に対向するように前記ノズルを保持する保持部と、
前記ノズルから塗工液を連続的に吐出させながら、基板に対する前記ノズルの相対移動制御を行なう制御部とを備えて、光学素子を製造する製造装置であって、
前記制御部が、
各色の塗工液の光学的特性に基づいて、特定色の画素領域内に形成する発光層を、前記特定色とは異なる色の画素領域内の膜厚分布とは異なる膜厚分布に形成するように、前記ノズルの相対移動制御を行なうことを特徴とする光学素子製造装置。
【請求項２】
前記制御部が、前記光学的特性に応じて、画素領域の中心位置よりも端部にずれた位置にノズルを配置して、塗工液を塗布することにより、前記ノズルの相対移動制御を行なうことを特徴とする請求項１に記載の光学素子製造装置。
【請求項３】
前記制御部が、前記光学的特性に応じて、異なる色の塗工液を塗布する隣接画素領域の塗布のタイミングを変更することを特徴とする請求項１又は２に記載の光学素子製造装置。
【請求項４】
塗工液を吐出する吐出口が形成されたノズルと、
光学素子を形成する基板に対向するように前記ノズルを保持する保持部と、
前記ノズルから塗工液を連続的に吐出させながら、基板に対する前記ノズルの相対移動制御を行なう制御部とを備えた製造装置を用いて、光学素子を製造する製造方法であって、
前記制御部が、
各色の塗工液の光学的特性に基づいて、特定色の画素領域内に形成する発光層を、前記特定色とは異なる色の画素領域内の膜厚分布とは異なる膜厚分布に形成するように、前記ノズルの相対移動制御を行なうことを特徴とする光学素子製造方法。
【請求項５】
光学的特性が異なる第１及び第２の光学材料を用いた光学素子であって、前記光学的特性に応じて、第１の光学材料の膜厚分布を、前記第２の光学材料の膜厚分布とは変更したことを特徴とする光学素子。
【請求項６】
前記第１の光学材料を分離する隔壁の少なくとも一部を、前記第２の光学材料を分離する隔壁とは異なる撥液性を有する材料で形成したことを特徴とする請求項５に記載の光学素子。
【請求項７】
前記第１の光学材料を分離する隔壁の光学的特性に応じて、光学材料を分離する隔壁の撥液領域を変更したことを特徴とする請求項５に記載の光学素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス素子等の光学素子を製造する光学素子製造装置、光学素子製造方法及び光学素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、フラットパネルディスプレイ等の光学素子として、有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）素子が用いられている。この有機ＥＬ素子は、例えば３色の発光層を備えて、フルカラーを実現している。この場合、各色の発光層の発光効率は、有機発光材料の色ごとに異なる。従って、従来から、白調整を行なうために、色ごとに適した電流値を供給する必要があることが指摘されている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００３】
この文献においては、発光素子と、これに電流を供給する薄膜トランジスタとを含み、発光素子がお互いに異なる色を発光する副画素を３つ以上有する発光装置であって、少なくとも１つの副画素の薄膜トランジスタのゲート絶縁膜の容量を、他の副画素の薄膜トランジスタのゲート絶縁膜の容量と異ならせている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１０−２２４１１１号公報（図１、第１頁）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
白調整を行なう場合、各色の発光輝度を同じになるように調整する必要がある。この場合、特許文献に記載されている技術においては、発光効率が低い色の発光層が形成された画素について、印加する電流を上げている。しかしながら、印加電圧を上げると、発光効率が低い色の画素の劣化が大きく、寿命が他の画素に比べて短くなる。
また、白調整を行なう方法として、発光輝度が高い画素の輝度を落とすことも考えられる。しかしながら、同じ発光輝度となるように印加電圧を調整することは煩雑である。
【０００６】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、その目的は、簡単な構成で、発光効率が異なる画素の輝度を容易に調整するための光学素子製造装置、光学素子製造方法及び光学素子を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記問題点を解決するために、請求項１に記載の発明は、塗工液を吐出する吐出口が形成されたノズルと、光学素子を形成する基板に対向するように前記ノズルを保持する保持部と、前記ノズルから塗工液を連続的に吐出させながら、基板に対する前記ノズルの相対移動制御を行なう制御部とを備えて、光学素子を製造する製造装置であって、前記制御部が、各色の塗工液の光学的特性に基づいて、特定色の画素領域内に形成する発光層を、前記特定色とは異なる色の画素領域内の膜厚分布とは異なる膜厚分布に形成するように、前記ノズルの相対移動制御を行なうことを要旨とする。
【０００８】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の光学素子製造装置において、前記制御部が、前記光学的特性に応じて、画素領域の中心位置よりも端部にずれた位置にノズルを配置して、塗工液を塗布することにより、前記ノズルの相対移動制御を行なうことを要旨とする。
【０００９】
請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載の光学素子製造装置において、前記制御部が、前記光学的特性に応じて、異なる色の塗工液を塗布する隣接画素領域の塗布のタイミングを変更することを要旨とする。
【００１０】
請求項４に記載の発明は、塗工液を吐出する吐出口が形成されたノズルと、光学素子を形成する基板に対向するように前記ノズルを保持する保持部と、前記ノズルから塗工液を連続的に吐出させながら、基板に対する前記ノズルの相対移動制御を行なう制御部とを備えた製造装置を用いて、光学素子を製造する製造方法であって、前記制御部が、各色の塗工液の光学的特性に基づいて、特定色の画素領域内に形成する発光層を、前記特定色とは異なる色の画素領域内の膜厚分布とは異なる膜厚分布に形成するように、前記ノズルの相対移動制御を行なうことを要旨とする。
【００１１】
請求項５に記載の発明は、光学的特性が異なる第１及び第２の光学材料を用いた光学素子であって、前記光学的特性に応じて、第１の光学材料の膜厚分布を、前記第２の光学材料の膜厚分布とは変更したことを要旨とする。
【００１２】
請求項６に記載の発明は、請求項５に記載の光学素子において、前記第１の光学材料を分離する隔壁の少なくとも一部を、前記第２の光学材料を分離する隔壁とは異なる撥液性を有する材料で形成したことを要旨とする。
【００１３】
請求項７に記載の発明は、請求項５に記載の光学素子において、前記第１の光学材料を分離する隔壁の光学的特性に応じて、光学材料を分離する隔壁の撥液領域を変更したことを要旨とする。
【００１４】
（作用）
請求項１、４又は５に記載の発明によれば、各色の塗工液の光学的特性に基づいて、特定色の画素領域内に形成する発光層を、特定色とは異なる色の画素領域内の膜厚分布とは異なる膜厚分布に形成するように、ノズルの相対移動を制御する。これにより、発光効率が高い発光層の膜厚分布が他の発光層とは異なるため、発光効率が高い発光層が発光する部分が他の発光層とは異なる。従って、発光効率が高い発光層の発光輝度を低くすることにより、他の発光層との発光輝度差を小さくすることができる。よって、簡単な構成で、発光効率が異なる画素の輝度を容易に調整することができる。
【００１５】
請求項２に記載の発明によれば、制御部が、光学的特性に応じて、画素領域の中心位置よりも端部にずれた位置にノズルを配置して、塗工液を塗布することにより、ノズルの相対移動を制御する。これにより、塗工液を吐出するノズルの位置を調整することにより、特定色の画素領域内に形成する発光層を、他の色の画素領域内の膜厚分布とは異なるように効率よく形成することができる。
【００１６】
請求項３に記載の発明によれば、制御部が、光学的特性に応じて、異なる色の塗工液を塗布する隣接画素領域の塗布のタイミングを変更する。これにより、異なる色の塗工液の塗布のタイミングを変更することにより、特定色の画素領域内に形成する発光層を、他の色の画素領域内の膜厚分布とは異なるように効率よく形成することができる。
【００１７】
請求項６に記載の発明によれば、第１の光学材料を分離する隔壁の少なくとも一部を、第２の光学材料を分離する隔壁とは異なる撥液性を有する材料で形成する。これにより、隔壁の材料を変更することにより、特定色の画素領域内に形成する発光層を、他の色の画素領域内の膜厚分布とは異なるように効率よく形成することができる。
【００１８】
請求項７に記載の発明によれば、第１の光学材料を分離する隔壁の光学的特性に応じて、光学材料を分離する隔壁の撥液領域を変更する。これにより、隔壁の撥液領域を変更することにより、特定色の画素領域内に形成する発光層を、他の色の画素領域内の膜厚分布とは異なるように効率よく形成することができる。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、簡単な構成で、発光効率が異なる画素の輝度を容易に調整することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】第１実施形態における光学素子の概略構成を示す断面図。
【図２】同光学素子の発光層を形成する製造工程における光学素子の要部の平面図。
【図３】同発光層を形成する製造装置の概略斜視図。
【図４】同発光層を形成する製造装置の制御部を説明するための機能ブロック図。
【図５】同発光層を形成する製造工程を説明する概略断面図であり、（ａ）は第１発光層の塗工液を塗布した状態、（ｂ）は第１発光層が形成された状態、（ｃ）は第２発光層の塗工液を塗布した状態、（ｄ），（ｅ）は第３発光層の塗工液を塗布した状態、（ｆ）は第２発光層及び第３発光層が形成された状態を示す。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明を具体化した一実施形態を、図１〜図５を用いて説明する。
図１は、本実施形態の光学素子としての有機ＥＬ素子１０の断面図である。図１に示すように、この有機ＥＬ素子１０は、基板１１と、画素電極としての陽極１２と、複数の画素領域２６Ｂ，２６Ｇ，２６Ｒの発光層１６Ｂ，１６Ｇ，１６Ｒと、陰極１７と、封止材１８及び樹脂層（図示せず）から構成される封止体とが積層されて構成されている。ここで、画素領域２６Ｂ，２６Ｇ，２６Ｒには、青色（Ｂ）、緑色（Ｇ）及び赤色（Ｒ）をそれぞれ発光する発光層１６Ｂ，１６Ｇ，１６Ｒが形成される。なお、陽極１２と陰極１７とを、それぞれ逆の極性電極として用いることも可能である。
【００２２】
図２は、有機ＥＬ素子１０の発光層１６Ｂ，１６Ｇ，１６Ｒが形成される前の画素領域２６Ｂ，２６Ｇ，２６Ｒを示した平面図である。なお、この図２では、画素領域２６Ｂ，２６Ｇ，２６Ｒは横に５個、縦に各２列のみ示している。各画素領域２６Ｂ，２６Ｇ，２６Ｒは、第１隔壁１３及び第２隔壁１４から構成される隔壁１５によって分離されている。また、第１方向（図２のＸ軸方向）には、同じ色の発光層１６Ｂ（１６Ｇ，１６Ｒ）が形成された画素領域２６Ｂ（２６Ｇ，２６Ｒ）が、それぞれ各ラインＢＬ１，ＢＬ２（ＧＬ１，ＧＬ２，ＲＬ１，ＲＬ２）を形成するように並んでいる。更に、第１方向と直交する第２方向（図２のＹ軸方向）には、画素領域に形成される発光層の色とは異なる色の発光層の画素領域が、隣接するように配置されている。
【００２３】
次に、有機ＥＬ素子１０を構成する各構成要素について、図１及び図２を用いて詳述する。
基板１１は、絶縁性を有し、かつ寸法安定性に優れた材料（例えばガラス、金属等やプラスチック）によって構成されている。光取出し面を基板１１側か封止側のどちらの面から行うかに応じて基材の透光性を選択すればよく、基板１１側から光取出しをする場合には透明な材料を用いる。また、基板１１には、有機ＥＬ素子１０内への水分の侵入を避けるために、無機膜やフッ素樹脂層を形成して、防湿処理や疎水性処理を施してあることが好ましい。特に、発光層１６Ｂ，１６Ｇ，１６Ｒへの水分の侵入を避けるために、基板１１における含水率及びガス透過係数を小さくすることが好ましい。
【００２４】
更に、有機ＥＬ素子１０を画素毎に駆動するアクティブマトリクス方式とする場合には、基板として画素ごとに薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）が形成されたＴＦＴ基板とすることが好ましい。
【００２５】
基板１１上には、各画素に対応して陽極１２が形成されている。各陽極１２は、正孔注入性を損なわない低抵抗材料（例えば、ＩＴＯ（インジウムスズ複合酸化物））で構成されている。各陽極１２は、公知の方法を用いて、各画素に対応するようにパターニングされる。具体的には、各陽極１２は、基板１１上に蒸着又はスパッタリングによって成膜した後、所定の開口形状を有するマスクを用いたエッチングによって形成される。また、基板１１としてＴＦＴ基板を用いる場合には、ＴＦＴのドレイン電極と有機ＥＬ素子１０の陽極１２とが電気的に接続される。これは、ＴＦＴを、有機ＥＬ素子１０のスイッチング素子として機能させるＴＦＴと陽極１２とを接続するためである。
【００２６】
隔壁１５は、第１方向に平行に延在させた複数の第１隔壁１３と、この第１隔壁１３と直交する第２方向に配置された複数の第２隔壁１４とから構成されている。
第１隔壁１３は、電気的絶縁性を有する材料（本実施形態では、公知の感光性樹脂材料）で構成される。この第１隔壁１３は、例えば、形成材料溶液をスリットコート法やスピンコート法により全面コーティングした後、露光、現像といったフォトリソグラフィ法を用いたパターニングにより形成される。
【００２７】
各第２隔壁１４は、２つの第１隔壁１３の間に設けられており、隣接する同色の画素領域２６Ｂ（２６Ｇ，２６Ｒ）を分離する。本実施形態では、第２隔壁１４は、第１隔壁１３よりも低い形状で形成されている。この第２隔壁１４は、第１隔壁１３と同様に、電気的絶縁性を有する性質の材料（例えばＳｉＮ（窒化ケイ素））で構成されている。第２隔壁１４は、スパッタリング法、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition ）法といった成膜法で形成可能であり、隔壁のパターニングはマスクやフォトリソグラフィ法により行なうことができる。また、この第２隔壁１４は、数百ｎｍの高さに形成される。
【００２８】
本実施形態では、発光層１６Ｇが発光層１６Ｂ，１６Ｒよりも発光効率が高い材料で構成されている場合を想定する。この場合、発光層１６Ｂ，１６Ｒは、それぞれ、膜厚分布が均一な平坦な膜で構成する。また、図１に示すように、発光層１６Ｇは、膜厚分布が不均一な膜で構成する。具体的には、発光層１６Ｇは、隣接する発光層１６Ｒ側を厚くして、断面において非対称の膜厚分布の膜で構成する。ここで、発光層１６Ｇを構成する材料が第１の光学材料に相当し、発光層１６Ｂ，１６Ｒを構成する材料が第２の光学材料に相当する。また、発光層１６Ｒが形成される画素領域２６Ｒが隣接画素領域に相当する。
また、陽極１２と発光層１６Ｂ，１６Ｇ，１６Ｒとの間に、公知の正孔輸送層、インターレイヤ及び正孔注入層を設けることも可能である。
【００２９】
隔壁１５及び発光層１６Ｂ，１６Ｇ，１６Ｒの上には、陰極１７が形成されている。陰極１７は、金属材料（例えばＭｇ，Ａｌ，Ｙｂ等の金属材料）で構成されている。この陰極１７は、材料に応じて、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、反応性蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法を用いて形成される。特に、アクティブマトリクス方式の場合には、陰極１７は、隔壁１５の全体及び全ての画素上の発光層１６Ｂ，１６Ｇ，１６Ｒを覆うように形成される。
また、画素領域２６Ｂ，２６Ｇ，２６Ｒの発光層１６Ｂ，１６Ｇ，１６Ｒと陰極１７との間に、公知の電子輸送層、インターレイヤ及び電子注入層を設けることも可能である。
【００３０】
陰極１７の上には、封止材１８が形成されている。この封止材１８は、水分や酸素の透過性が低い材料（例えばアルミナ、酸化ケイ素、窒化ケイ素等の無機材料）で構成され、大気中の水分や酸素による発光層１６Ｂ，１６Ｇ，１６Ｒや陰極１７の劣化を防止するために陰極１７の全面を覆うように形成される。また、封止材１８上には樹脂層が形成され、樹脂層は、アクリル系、又はエポキシ系樹脂等の光硬化型又は熱硬化型の接着性樹脂を用いることができる。更に、本実施形態では、基板１１の封止材１８が形成された面と、樹脂層とを介して接着される図示しない封止基板（例えばガラス、金属やガスバリア層が形成されたプラスチック基板等）が形成されており、大気中の水分や酸素による発光媒体層の劣化を防止する。
【００３１】
樹脂層は、公知の溶剤溶液法、押出ラミ法、溶融・ホットメルト法、カレンダー法、ノズル塗布法、スクリーン印刷法、真空ラミネート法、熱ロールラミネート法を用いて、封止材１８上又は封止基板上に形成され、基板１１及び封止基板と貼り合わされる。
【００３２】
次に、上述した有機ＥＬ素子１０の発光層１６Ｂ，１６Ｇ，１６Ｒの製造方法について説明する。ここで、まず、本実施形態に用いる製造装置について、図３及び図４を用いて説明する。
【００３３】
本実施形態の製造装置５０は、各色の発光層１６Ｂ，１６Ｇ，１６Ｒを形成する場合に用いる。この製造装置５０は、塗工液を連続して吐出するノズルプリンティング法を用いる。本実施形態では、各発光層１６Ｂ，１６Ｇ，１６Ｒをそれぞれ形成する各塗工液ＬＢ，ＬＧ，ＬＲを用いる。各塗工液ＬＢ，ＬＧ，ＬＲは、各色を発光する有機発光材料を有機溶媒に溶解又は分散させたインクである。
【００３４】
図３に示すように、本実施形態の製造装置５０は、基板１１に塗工液を塗布するノズルを備えている。この製造装置５０は、各塗工液ＬＢ，ＬＧ，ＬＲをそれぞれ吐出するノズルを備えている。ここで、各塗工液を塗布するための機構は、同じである。そこで、青色の発光層１６Ｂを形成する塗工液ＬＢを塗布するための機構について説明し、他の色の発光層１６Ｇ，１６Ｒを形成する塗工液を塗布するための機構については説明を省略する。なお、以下で説明する青色の発光層１６Ｂのための機構（ノズルやインクボトル等）と同じものが各色別に設けられている。
【００３５】
ノズル５１Ｂには、塗工液ＬＢを下方に吐出する吐出口が形成されている。ノズル５１Ｂには、青色の塗工液ＬＢを収容したインクボトル５２Ｂが、配管を介して、連通されている。このインクボトル５２Ｂには、図４に示す青色塗工液供給機構部５９Ｂが設けられている。この青色塗工液供給機構部５９Ｂは、インクボトル５２Ｂへ送り込む気体を制御する。この気体により、インクボトル５２Ｂから青色の塗工液ＬＢが押し出されて、ノズル５１Ｂに供給される。更に、インクボトル５２Ｂとノズル５１Ｂとの間の配管には、流量制御弁５３Ｂ及び流量計５４Ｂが設けられている。流量計５４Ｂは、配管を流れる塗工液ＬＢの流量を計測する。流量制御弁５３Ｂは、流量計５４Ｂにおける計測結果に応じて、塗工液ＬＢの流量が一定となるように弁を制御する。この弁の制御により、製造装置５０は、ノズル５１Ｂから吐出される塗工液ＬＢの流量が一定となるように制御している。
【００３６】
更に、製造装置５０は、塗工液ＬＢ，ＬＧ，ＬＲをそれぞれ吐出するノズルを支持する第１保持部、第２保持部及び第３保持部を備えている。図３においては、青色の塗工液ＬＢを吐出するノズル５１Ｂを支持する第１保持部５５Ｂのみを示している。第１保持部５５Ｂは、主走査方向（図１ではＸ軸方向）に延在されるとともに、ノズル５１ＢをＸ軸方向に往復移動可能に支持している。第１保持部５５Ｂには、ノズル５１Ｂを往復移動させるための図４のＸ軸方向第１駆動部５６Ｂが取り付けられている。
【００３７】
同様に、第２保持部及び第３保持部は、主走査方向に延在されるとともに、赤色及び緑色の塗工液ＬＧ，ＬＲをそれぞれ吐出するノズルを、Ｘ軸方向に往復移動可能に支持している。第２保持部及び第３保持部には、それぞれ支持しているノズルを往復移動させるためのＸ軸方向第２駆動部５６Ｇ、Ｘ軸方向第３駆動部５６Ｒが取り付けられている。
【００３８】
また、図３の製造装置５０は、ノズル（５１Ｂ）の下方には、基板１１を載置するステージ５７を備えている。このステージ５７には、主走査方向に直交する副走査方向（図３ではＹ軸方向）に移動させる図４のＹ軸方向駆動部５７ａが取り付けられている。従って、各ノズル（５１Ｂ）のＸ軸方向の移動と、ステージ５７のＹ軸方向の移動とを組み合わせることにより、各ノズル（５１Ｂ）を、ステージ５７上の基板１１の全面上を可動させることができる。
【００３９】
更に、図４に示すように、製造装置５０は、各ノズル（５１Ｂ）の移動及び位置を制御する制御部６０を備えている。この制御部６０は、入力部６５、Ｘ軸方向第１駆動部５６Ｂ、Ｘ軸方向第２駆動部５６Ｇ、Ｘ軸方向第３駆動部５６Ｒ、Ｙ軸方向駆動部５７ａに接続されている。入力部６５は、操作者によって入力された条件設定値を取得して制御部６０に供給する。本実施形態では、入力部６５を、製造装置５０に設けられたタッチパネルディスプレイ等により構成する。そして、条件設定値として、塗布する各塗工液ＬＢ，ＬＧ，ＬＲの粘度、塗工液ＬＢ，ＬＧ，ＬＲによって形成される発光層１６Ｂ，１６Ｇ，１６Ｒの発光効率等を入力する。
【００４０】
Ｘ軸方向第１〜第３駆動部（５６Ｂ，５６Ｒ，５６Ｇ）は、制御部６０の制御に応じて、各ノズル（５１Ｂ）をＸ軸方向に移動させる。Ｙ軸方向駆動部５７ａは、制御部６０の制御に応じて、ステージ５７をＹ軸方向に移動させる。
【００４１】
制御部６０は、ＣＰＵ、ＲＡＭ、ＲＯＭ（図示せず）等から構成された制御手段を備えており、後述する各処理（タイミング制御段階、吐出制御段階及び駆動制御段階の各処理）を行なう。従って、制御部６０は、塗布タイミング決定部６１、吐出制御部６２及び駆動制御部６３を備える。
【００４２】
塗布タイミング決定部６１は、入力部６５から取得した条件設定値から、塗工液ＬＢ，ＬＧ，ＬＲを塗布する時間差を決定する。本実施形態では、発光効率が低い発光層１６Ｂを形成する塗工液ＬＢを最初に塗布し、この塗工液ＬＢが完全に乾燥して発光層１６Ｂが形成された後に、発光層１６Ｇ，１６Ｒを形成する。塗布タイミング決定部６１は、発光効率が高い発光層１６Ｇが塗布された後、この発光層１６Ｇの画素領域２６Ｇに隣接する画素領域２６Ｒに塗工液ＬＲを塗布することにより、発光層１６Ｇの再溶解時間を考慮した隣接ライン塗布時間間隔を計算する。更に、塗布タイミング決定部６１は、この隣接ライン塗布時間間隔をノズルの１往復に要する時間で除算することにより、塗布タイミングとしての塗布ライン間隔を算出する。この塗布ライン間隔は、緑色の先行ラインを塗布してから、この先行ラインに隣接する赤色ラインを塗布するまでに、先行ラインに継続して緑色ラインを塗布する本数である。
【００４３】
吐出制御部６２は、青色塗工液供給機構部５９Ｂ、緑色塗工液供給機構部５９Ｇ及び赤色塗工液供給機構部５９Ｒをそれぞれ制御して、塗工液ＬＢ、ＬＧ，ＬＲを各ノズルから吐出させる。
駆動制御部６３は、Ｘ軸方向第１〜第３駆動部（５６Ｂ，５６Ｇ，５６Ｒ）を制御し、各ノズルをＸ軸方向に往復移動させる。この場合、駆動制御部６３は、基板１１の塗布領域上においては、各ノズルを同じ所定速度で同期させて移動させる。そして、駆動制御部６３は、各ノズルが非塗布領域の上にあるときに、Ｙ軸方向駆動部５７ａを制御して、ステージ５７を１ピッチ（Ｙ軸方向に同じ色の画素ラインが形成されている間隔）移動させる。
【００４４】
次に、有機ＥＬ素子１０の発光層１６Ｂ，１６Ｇ，１６Ｒの製造方法について説明する。
発光層１６Ｂ，１６Ｇ，１６Ｒを形成する前の基板１１の上面には、図２に示すように、画素領域２６Ｂ，２６Ｇ，２６Ｒが区画されている。この場合、画素領域２６Ｂ，２６Ｇ，２６Ｒの底面には、陽極１２が露出している。
【００４５】
まず、製造装置５０は、入力部６５を介して取得した条件設定値を制御部６０の塗布タイミング決定部６１に供給する。ここでは、条件設定値として、各塗工液ＬＢ，ＬＧ，ＬＲの粘度、形成される発光層１６Ｂ，１６Ｇ，１６Ｒの発光効率等に関する値が供給される。
【００４６】
次に、制御部６０の塗布タイミング決定部６１は、取得した条件設定値から、膜厚分布を変更する発光層を特定し、塗布タイミングを算出する。ここで、塗布タイミング決定部６１は、画素領域２６Ｇに塗工液ＬＧを塗布した後、隣接する画素領域２６Ｒに塗工液ＬＲを塗布する塗布ライン間隔を算出する。そして、塗布タイミング決定部６１は、吐出制御部６２及び駆動制御部６３に、塗布ライン間隔を用いて、各塗工液ＬＢ，ＬＧ，ＬＲを塗布するように指示信号を出力する。
【００４７】
本実施形態では、製造装置５０の制御部６０は、まず、塗工液ＬＢを用いて青色の発光層１６Ｂを形成する。具体的には、制御部６０は、Ｘ軸方向第１駆動部５６Ｂ及びＹ軸方向駆動部５７ａを駆動して、非塗布領域の塗布開始位置にノズル５１Ｂを配置する。そして、制御部６０は、青色塗工液供給機構部５９Ｂを制御して、塗工液ＬＢを吐出させる。次に、制御部６０は、Ｘ軸方向第１駆動部５６Ｂを制御して、ノズル５１ＢをＸ軸方向に移動させる。この場合、例えば、ラインＢＬ１上をノズル５１Ｂが移動する。
【００４８】
そして、基板１１における塗布開始位置の反対側に到達したところで、駆動制御部６３は、Ｘ軸方向第１駆動部５６Ｂを制御して、ノズル５１Ｂを、反対方向に移動するように方向転換させる。この際に、駆動制御部６３は、Ｙ軸方向駆動部５７ａを制御して、ステージ５７をＹ軸方向に１ピッチ分だけ移動させる。これにより、ノズル５１Ｂは、次に塗布する画素領域２６Ｂが配列されたラインＢＬ２上に移動することになる。
そして、駆動制御部６３は、Ｘ軸方向第１駆動部５６Ｂを制御して、ノズル５１Ｂを、ラインＢＬ２上において、ラインＢＬ１を塗布した方向とは反対方向に移動させる。
【００４９】
以降、上述したように、駆動制御部６３は、ノズル５１ＢのＸ軸方向、ステージ５７のＹ軸方向の各移動を、Ｘ軸方向第１駆動部５６Ｂ及びＹ軸方向駆動部５７ａに指示する制御処理を繰り返す。この結果、ノズル５１Ｂから連続的に吐出された塗工液ＬＢは、基板１１上に、図３に示すように塗布される。この場合、画素領域２６Ｂには、図５（ａ）に示すように、塗工液ＬＢが収容される。その後、塗工液ＬＢが乾燥すると、図５（ｂ）に示すように、画素領域２６Ｂには、発光層１６Ｂが形成される。
【００５０】
次に、製造装置５０の制御部６０は、青色の発光層１６Ｂを形成した場合と同様に、非塗布領域の塗布開始位置に、緑色の塗工液ＬＧを吐出させるノズルを配置し、緑色塗工液供給機構部５９Ｇを制御して、ノズルから塗工液ＬＧを吐出させる。そして、制御部６０は、Ｘ軸方向第２駆動部５６Ｇを制御して、このノズルをＸ軸方向に移動させる。これにより、ラインＧＬ１上に塗工液ＬＧが塗布されて、図５（ｃ）に示すように、画素領域２６Ｇに塗工液ＬＧが収容される。なお、主走査方向に並んでいる画素領域２６Ｇの１ラインについて塗布を終了した場合、この塗工液ＬＧを吐出させながら、非塗布領域においてステージ５７を移動させることによりノズルをＹ軸方向に移動させ、更にＸ軸方向に移動させる。これにより、次のラインＧＬ２上に並んだ画素領域２６Ｇに塗工液ＬＧが収容される。
【００５１】
その後、製造装置５０の制御部６０は、青色の発光層１６Ｂを形成した場合と同様に、非塗布領域の塗布開始位置に、赤色の塗工液ＬＲを吐出させるノズルを配置し、赤色塗工液供給機構部５９Ｒを制御して、ノズルから塗工液ＬＲを吐出させる。次に、制御部６０は、緑色の塗工液ＬＧが塗布ライン間隔分の塗布が終了した場合、Ｘ軸方向第３駆動部５６Ｒを制御して、このノズルをＸ軸方向に移動させる。これにより、ラインＲＬ１上に塗工液ＬＲが塗布されて、図５（ｄ）に示すように、画素領域２６Ｒに塗工液ＬＲが収容される。
【００５２】
これ以降、製造装置５０の制御部６０は、ノズルから塗工液ＬＧ，ＬＲを吐出しながら、これらノズルをＸ軸方向に移動させて１ラインずつ同期して塗布する。この場合、１ラインを塗布した後、青色の塗工液ＬＢの塗布の場合と同様に、塗工液ＬＧ，ＬＲを吐出させた状態で、非塗布領域においてステージ５７を移動させることにより各ノズルをＹ軸方向に移動させ、更に各ノズルをＸ軸方向に移動させる。これにより、Ｘ軸方向に並んでいる次のラインの画素領域２６Ｇ，２６Ｒに塗工液ＬＧ，ＬＲが収容される。
【００５３】
そして、塗布ライン間隔分遅れて、緑色の塗工液ＬＧが収容された画素領域２６Ｇに隣接する画素領域２６Ｒに赤色の塗工液ＬＲが収容される。この場合、図５（ｅ）に示すように、この画素領域２６Ｇの緑色の塗工液ＬＧは、再溶解して、隣接する画素領域２６Ｒの塗工液ＬＲに引き寄せられて、この画素領域２６Ｒの第１隔壁１３側にずれた形状になる。
【００５４】
そして、この形状で、この塗工液ＬＧが乾燥されて、図５（ｆ）に示すように、画素領域２６Ｇには、隣接する画素領域２６Ｒ側の膜厚が厚くなった発光層１６Ｇが形成される。その後、画素領域２６Ｒの塗工液ＬＲも乾燥して、発光層１６Ｒが形成される。
【００５５】
本実施形態によれば、以下のような効果を得ることができる。
（１）本実施形態の有機ＥＬ素子１０は、複数の画素領域２６Ｂ，２６Ｇ，２６Ｒに形成された発光層１６Ｂ，１６Ｇ，１６Ｒを備えている。発光層１６Ｇが発光層１６Ｂ，１６Ｒよりも発光効率が高い材料で構成されている。発光層１６Ｂ，１６Ｒは、それぞれ膜厚分布が均一な平坦な膜で形成されており、発光層１６Ｇは、隣接する発光層１６Ｒ側が厚くなった、膜厚分布が不均一な膜で形成されている。これにより、発光効率が高い発光層１６Ｇが発光する部分が他の発光層１６Ｂ，１６Ｒより小さくなる。従って、発光効率が高い発光層１６Ｇの発光輝度を低くすることができ、他の発光層１６Ｂ，１６Ｒとの発光輝度差を小さくすることができる。よって、簡単な構成で、発光効率が異なる画素の輝度を容易に調整することができる。
【００５６】
（２）本実施形態の有機ＥＬ素子１０の発光層１６Ｂ，１６Ｇ，１６Ｒは、製造装置５０によって形成される。製造装置５０は、発光層１６Ｇを形成する緑色の塗工液ＬＧを画素領域２６Ｇに塗布した後、塗布ライン間隔後に、この画素領域２６Ｇに隣接する画素領域２６Ｒに赤色の塗工液ＬＲを塗布する。これにより、この画素領域２６Ｇの緑色の塗工液ＬＧは、再溶解して、隣接する画素領域２６Ｒの塗工液ＬＲに引き寄せられて、この画素領域２６Ｒ側にずれた形状の発光層１６Ｇを形成する。従って、発光層１６Ｇを、他の発光層１６Ｂ，１６Ｒとは異なる膜厚分布で効率よく形成することができる。
【００５７】
また、上記実施形態は以下のように変更してもよい。
・  上記実施形態において、製造装置５０は、発光効率が高い発光層１６Ｇに隣接する発光層１６Ｒの塗布タイミングを変更することにより、発光層１６Ｇを非対称の膜厚分布となるように形成した。発光効率が高い発光層１６Ｇを形成する方法はこれに限られない。例えば、製造装置５０は、各ラインＧＬ１，ＧＬ２の中心軸よりもＹ軸方向にずらした位置にノズルを配置し、この位置でＸ軸方向に移動させることにより、他の発光層１６Ｂ，１６Ｒの膜厚分布とは異なる発光層１６Ｇを効率よく形成することができる。
【００５８】
また、発光効率が高い発光層１６Ｇが形成される画素領域２６Ｇを区画する第１隔壁１３及び第２隔壁１４の親液性を、他の画素領域２６Ｂ，２６Ｒを区画する第１隔壁１３及び第２隔壁１４と異ならせることにより、非対称の膜厚分布の発光層１６Ｇとして形成してもよい。例えば、発光効率が高い発光層が形成される画素領域を区画する第１隔壁１３及び第２隔壁１４に対して撥液化処理（例えば、プラズマ処理等）を施して、撥液性に改質してもよい。また、画素領域２６Ｇを区画する第２隔壁１４を、他の画素領域２６Ｂ，２６Ｒを区画する第２隔壁１４とは異なる撥液性材料で構成してもよい。更に、発光効率が高い発光層が形成される画素領域を区画する第１隔壁１３及び第２隔壁１４の一部を撥液領域として形成してもよい。これらの場合には、隔壁の材料や隔壁の表面状態を変更することにより、膜厚分布が異なる発光層１６Ｇを効率よく形成することができる。
【００５９】
・  上記実施形態においては、発光効率が高い発光層１６Ｇを、Ｙ軸方向に切った断面の形状が斜めの非対称の膜厚分布の膜で形成した。発光効率が高い発光層の膜厚分布は、これに限定されず、例えばＸ軸方向に切った断面の形状が傾斜した形状であってもよい。また、断面が凸形状や凹形状の膜としてもよい。
【００６０】
・  上記実施形態においては、発光効率が高い１色の発光層１６Ｇの膜厚分布を、他の発光層１６Ｂ，１６Ｒについて変更した。これに限らず、発光層の発光効率によっては、２色の発光層の膜厚分布を、他の発行層に比べて変更してもよい。この場合、発光効率が高い発光層の膜厚分布の均一性を変更することにより、発光効率が高い発光層の発光輝度を低くすることができるので、他の発光層との発光輝度差を小さくして、簡単な構成で、発光効率が異なる画素の輝度を容易に調整することができる。
【符号の説明】
【００６１】
ＬＢ，ＬＧ，ＬＲ…塗工液、１０…有機ＥＬ素子、１１…基板、１２…陽極、１３…第１隔壁、１４…第２隔壁、１５…隔壁、１６Ｂ，１６Ｇ，１６Ｒ…発光層、１７…陰極、１８…封止材、２６Ｂ，２６Ｇ，２６Ｒ…画素領域、５０…製造装置、５１Ｂ…ノズル、５２Ｂ…インクボトル、５３Ｂ…流量制御弁、５４Ｂ…流量計、５５Ｂ…第１保持部、５６Ｂ…第１駆動部、５６Ｇ…第２駆動部、５６Ｒ…第３駆動部、５７…ステージ、５７ａ…Ｙ軸方向駆動部、５９Ｂ…青色塗工液供給機構部、５９Ｇ…緑色塗工液供給機構部、５９Ｒ…赤色塗工液供給機構部、６０…制御部、６１…タイミング制御部、６２…吐出制御部、６３…駆動制御部、６５…入力部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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