(57)【要約】      （修正有）【課題】僅かな膜厚むらしか伴わない縦スジや横ダンについても、塗布直後に確実に発見することができる、膜厚むら検出装置並びに、当該膜厚むら検出装置を備えた塗布装置を提供する。【解決手段】基板１０上の塗布膜に特定の照射パターンの光を照射する照射部３と、塗布膜表面で反射された反射光を受光する受光部４と、受光部によって受光された受光パターンと、特定の照射パターンとを比較して塗布膜の形成状態の良否を判断する判断部とを備えた膜厚むら検出装置で、判断部は、受光パターンと照射パターンとを比較する画像比較部と、画像比較部で受光パターンと照射パターンとを比較してずれを抽出するずれ抽出画像生成部と、ずれ抽出された画像から点在するずれ抽出画像の面積を積算する積算部と、積算されたずれ抽出面積の合計値が所定の基準値より大きいかどうかを判定する積算ずれ面積判定部とを備える。【選択図】図１
2013152153.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成された塗布膜に向けて、特定の照射パターンの光を照射する照射部と、
前記塗布膜の表面で反射された前記特定の照射パターンの反射光を受光する受光部とを備え、
前記受光部によって受光された前記反射光の受光パターンと、前記特定の照射パターンに対応する基準パターンとを比較することにより、塗布膜の形成状態の良否を判断する検査部とを備えた膜厚むら検出装置であって、
前記検査部は、
前記受光パターンと、前記基準パターンとを比較する画像比較部と、
前記画像比較部で前記受光パターンと前記基準パターンとが比較され、ずれのある部分として抽出された画素からなる画像をずれ抽出画像として生成する、ずれ抽出画像生成部と、
前記ずれ抽出画像の所定領域内に存在する前記ずれ抽出された画素の面積をずれ抽出画素面積積算値として積算する、ずれ抽出画素面積積算部と、
前記ずれ抽出画素面積積算値が設定基準値より大きいかどうかを判定する、積算ずれ面積判定部と
を備えたことを特徴とする膜厚むら検出装置。
【請求項２】
請求項１に記載の膜厚むら検出装置であって、
前記検査部は、
前記積算ずれ面積判定部の設定基準値を第一基準値として登録する第一基準値登録部と、
前記ずれ抽出画素面積積算値が前記第一基準値よりも大きい場合には、
前記ずれ抽出画像の所定領域内に存在する前記ずれ抽出された画素と連続して存在する、前記所定領域外のずれ抽出された画素の面積を、前記ずれ抽出画素面積積算値に追加積算してずれ抽出画素面積追加積算値とする、ずれ抽出画素面積追加積算部と、
前記ずれ抽出画素面積追加積算値に対する設定基準値を第二基準値として登録する第二基準値登録部と、
前記ずれ抽出画素面積追加積算値が前記第二基準値より大きいかどうかを判定する、
積算ずれ面積第二判定部と
を備えたことを特徴とする膜厚むら検出装置。
【請求項３】
前記所定領域が、塗布方向又はそれと直交する方向に伸びた領域であること
を特徴とする、請求項１又は請求項２に記載の膜厚むら検出装置。
【請求項４】
基板載置部と、塗布ノズルと、移動機構と、
請求項１〜３のいずれかに記載の膜厚むら検出装置と
を備えた膜厚むら検出装置付塗布装置であって、
前記塗布膜の表面で反射された反射光が、前記塗布ノズルで塗布された塗布膜の表面で反射された反射光である
ことを特徴とする膜厚むら検出装置付塗布装置。
【請求項５】
基板上に形成された塗布膜に向けて、特定の照射パターンの光を照射するステップと、
前記照射ステップで照射されて前記塗布膜の表面で反射された光を受光するステップとを有し、
前記受光ステップで受光されたパターンと、前記特定の照射パターンに対応する基準パターンとを比較することにより、塗布膜の形成状態の良否を判断する検査ステップとを有する膜厚むら検出方法であって、
前記検査ステップは、
前記受光パターンと前記基準パターンとを比較する画像比較ステップと、
前記画像比較ステップにて前記受光パターンと前記照射パターンとを比較され、ずれのある部分として抽出された画素からなる画像をずれ抽出画像として生成する、ずれ抽出画像生成ステップと、
前記ずれ抽出画像の所定領域内に存在する前記ずれ抽出された画像の面積をずれ抽出画素面積積算値として積算する、ずれ抽出面積積算ステップと、
前記ずれ抽出画素面積積算値が設定基準値より大きいかどうかを判定する、積算ずれ面積判定ステップと
を有することを特徴とする膜厚むら検出方法。
【請求項６】
請求項５に記載の膜厚むら検出方法であって、
前記検査ステップは、
積算ずれ面積の判定基準値となる第一基準値を読み出し、
前記積算されたずれ面積の合計値が登録された前記第一基準値よりも大きい場合には、
前記ずれ抽出画像の所定領域内に存在する前記ずれ抽出された画素と連続して存在する、前記所定領域外のずれ抽出された画素の面積を、前記ずれ抽出画素面積積算値に追加積算してずれ抽出画素面積追加積算値とする、ずれ抽出画素面積追加積算ステップと、
前記ずれ抽出画素面積追加積算値に対する判定基準値となる第二基準値を読み出し、
前記ずれ抽出画素面積追加積算値が前記第二基準値より大きいかどうかを判定する、
積算ずれ面積第二判定ステップと
を有することを特徴とする膜厚むら検出方法。
【請求項７】
前記所定領域が、塗布方向又はそれと直交する方向に伸びた領域であること
を特徴とする、請求項１又は請求項２に記載の膜厚むら検出方法。
【請求項８】
基板を基板載置部に置くステップと、
基板載置部と塗布ノズルとを相対移動させるステップと、
前記相対移動させながら、塗布ノズルから塗布液を吐出させて、前記基板上に塗布膜を形成するステップと、
前記塗布ステップで基板上に形成された塗布膜の膜厚むらを検出するステップを有し、
前記膜厚むら検出ステップは、請求項５〜７のいずれかに記載の膜厚むら検出方法であることを特徴とする、基板上に形成された塗布膜の膜厚むら検出方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
基板上に形成された塗布膜の膜厚むらを検出する装置及び方法、並びに、基板上に塗布膜を形成した直後に当該塗布膜の膜厚むらを検出する塗布装置及び塗布方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイには、ガラス等からなる基板上にカラー皮膜や透明膜を形成するために、塗布液が塗布されたもの（塗布基板という）が使用されている。この塗布基板は、塗布液を均一に塗布する塗布装置によって形成されている。すなわち、塗布装置は、基板を載置するステージと、塗布液を吐出する塗布ユニットとを有しており、塗布ユニットの口金部から塗布液を吐出させながら、基板と塗布ユニットとを相対的に移動させることにより、基板上に所定厚さの塗布液膜（塗布膜）が形成されるようになっている。
【０００３】
このような塗布装置により形成された塗布基板は、塗布膜に筋状や粒状等の膜厚むらが含まれていないかどうかを確認する膜厚むら検査が行なわれる。具体的には、基板上に塗布膜を形成する塗布工程の直後、塗布膜を乾燥工程により乾燥させて薄膜化する前の状態で、膜厚むらの検査が行われる（例えば、特許文献１）。
【０００４】
この膜厚むら検査に用いられる装置では、基板上に形成された塗布膜に対して特定の照射パターンの光を出力する照射部が用いられ、塗布膜の表面で反射された反射光を受光して、受光された反射光の受光パターンと、特定の照射パターンとを比較することにより、塗布膜の形成状態の良否を判断がされている（例えば、特許文献２）。
【０００５】
図１０は、従来の膜厚むら検査装置において撮像された画像のイメージ図であり、膜厚むらの無い基板で反射されたパターンを受光したものである。つまり、照射部から照射された、白黒のストライプ模様が、明部４３ａと暗部４３ｂとして撮像されている。
【０００６】
図１１は、従来の膜厚むら検査装置において撮像された画像のイメージ図であり、膜厚むら（縦スジ）のある基板で反射されたパターンを受光したものである。そのため、膜厚むらのない部分は、図１０で示した図と同様、明部４３ａと暗部４３ｂとして撮像されている。一方、膜厚むら（縦スジ）のある部分４３ｓについては、ストライプ模様が歪んだ状態で、明部４３ａと暗部４３ｂが撮像されている。
【０００７】
図１２は、従来の膜厚むら検査装置において、ずれ抽出処理をした後のイメージ図であり、膜厚むらのない場合の画像と膜厚むらのある場合の画像とを比較処理し、差異のある部分のみを「ずれ抽出画素４３ｚ」として抽出したものである。このずれ抽出画素からなる画像イメージは、説明の便宜上、白黒パターンの境界を破線で表し、ずれ抽出画素４３ｚが、受光パターンのどの位置に、どの程度の大きさで存在しているのかを示している。
【０００８】
従来の膜厚むら検査装置では、ずれ抽出画素４３ｚを抽出するための諸条件を検査パラメータとして適正値を設定し、抽出されたずれ抽出画素４３ｚは、個々の大きさが予め設定しておいた基準値より大きいかどうかを判定して、膜厚むらがあるかどうかの検査を行っていた。そして、フラットパネルディスプレイは、低価格化が急速に進みコストダウンへの要求が強い一方で、高精細化や、色再現性に対する要望も高くなっており、膜厚むらの検査に対する要求もシビアになってきている。そのため、基準値を超える膜厚むらが含まれた塗布基板は、塗布後の乾燥工程を通過した後（いわゆる、塗布乾燥後）に検査されるだけでなく、塗布直後の乾燥工程前で膜厚むらの検査が行われる。そして、塗布直後の基板は、塗布直後の膜厚むら検査において、良品として乾燥工程に進めて良いか判断され、不良品であれば乾燥前にリジェクトしてリペア処理するといった措置がとられている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００５−３３７８５７号公報
【特許文献２】特開２０１０−２３４２３７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
従来の塗布直後の検査において、検査対象となる基板は、前述のストライプパターンの明部４３ａ，暗部４３ｂの境界付近に表れるずれ抽出画素について、個々の面積について大小判定がなされ、大きな面積のずれ抽出画素があれば、不良品と判断されていた。一方で、面積の小さなずれ抽出画素が一群で存在していても、個々の面積が小さければ、ずれ抽出の過程でノイズ成分として扱われ、大きな面積のずれ抽出画素がなければ、検査対象となる基板は、不良品とされなかった。
【００１１】
しかし、このような一群で存在する小さな面積のずれは、僅かな膜厚むらしか伴わない縦スジや横ダンに起因する場合があり、塗布乾燥後の厳密な検査では、縦スジや横ダンとして検出されることがある。そのため、塗布直後の検査においても、縦スジや横ダンに起因する僅かな膜厚むらについて、乾燥後の厳密な検査と同程度の検出精度を発揮する（つまり、整合性を保つ）ことが望まれていた。
【００１２】
そこで、本発明は、僅かな膜厚むらしか伴わない縦スジや横ダンについても、塗布直後に確実に検出し、塗布乾燥後の厳密な検査との整合性を保つことができる、膜厚むら検出装置並びに、当該膜厚むら検出装置を備えた塗布装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
以上の課題を解決するために、請求項１に記載の発明は、
基板上に形成された塗布膜に向けて、特定の照射パターンの光を照射する照射部と、
前記塗布膜の表面で反射された前記特定の照射パターンの反射光を受光する受光部とを備え、
前記受光部によって受光された前記反射光の受光パターンと、前記特定の照射パターンに対応する基準パターンとを比較することにより、塗布膜の形成状態の良否を判断する検査部とを備えた膜厚むら検出装置であって、
前記検査部は、
前記受光パターンと、前記基準パターンとを比較する画像比較部と、
前記画像比較部で前記受光パターンと前記基準パターンとが比較され、ずれのある部分として抽出された画素からなる画像をずれ抽出画像として生成する、ずれ抽出画像生成部と、
前記ずれ抽出画像の所定領域内に存在する前記ずれ抽出された画素の面積をずれ抽出画素面積積算値として積算する、ずれ抽出画素面積積算部と、
前記ずれ抽出画素面積積算値が設定基準値より大きいかどうかを判定する、積算ずれ面積判定部と
を備えたことを特徴とする膜厚むら検出装置である。
【００１４】
請求項５に記載の発明は、
基板上に形成された塗布膜に向けて、特定の照射パターンの光を照射するステップと、
前記照射ステップで照射されて前記塗布膜の表面で反射された光を受光するステップとを有し、
前記受光ステップで受光されたパターンと、前記特定の照射パターンに対応する基準パターンとを比較することにより、塗布膜の形成状態の良否を判断する検査ステップとを有する膜厚むら検出方法であって、
前記検査ステップは、
前記受光パターンと前記基準パターンとを比較する画像比較ステップと、
前記画像比較ステップにて前記受光パターンと前記照射パターンとを比較され、ずれのある部分として抽出された画素からなる画像をずれ抽出画像として生成する、ずれ抽出画像生成ステップと、
前記ずれ抽出画像の所定領域内に存在する前記ずれ抽出された画像の面積をずれ抽出画素面積積算値として積算する、ずれ抽出面積積算ステップと、
前記ずれ抽出画素面積積算値が設定基準値より大きいかどうかを判定する、積算ずれ面積判定ステップと
を有することを特徴とする膜厚むら検出方法である。
【００１５】
上記膜厚むら検出装置及び方法を用いるので、
従来はノイズとして処理していた様な、所定の照射パターン上に点在する小さな膜厚むら変化部分に対しても、一群の膜厚むら或いは膜厚むら候補として取り扱い、塗布膜の形成状態の良否を判断することができる。
【００１６】
請求項２に記載の発明は、
請求項１に記載の膜厚むら検出装置であって、
前記検査部は、
前記積算ずれ面積判定部の設定基準値を第一基準値として登録する第一基準値登録部と、
前記ずれ抽出画素面積積算値が前記第一基準値よりも大きい場合には、
前記ずれ抽出画像の所定領域内に存在する前記ずれ抽出された画素と連続して存在する、前記所定領域外のずれ抽出された画素の面積を、前記ずれ抽出画素面積積算値に追加積算してずれ抽出画素面積追加積算値とする、ずれ抽出画素面積追加積算部と、
前記ずれ抽出画素面積追加積算値に対する設定基準値を第二基準値として登録する第二基準値登録部と、
前記ずれ抽出画素面積追加積算値が前記第二基準値より大きいかどうかを判定する、
積算ずれ面積第二判定部と
を備えたことを特徴とする膜厚むら検出装置である。
【００１７】
請求項６に記載の発明は、
請求項５に記載の膜厚むら検出方法であって、
前記検査ステップは、
積算ずれ面積の判定基準値となる第一基準値を読み出し、
前記積算されたずれ面積の合計値が登録された前記第一基準値よりも大きい場合には、
前記ずれ抽出画像の所定領域内に存在する前記ずれ抽出された画素と連続して存在する、前記所定領域外のずれ抽出された画素の面積を、前記ずれ抽出画素面積積算値に追加積算してずれ抽出画素面積追加積算値とする、ずれ抽出画素面積追加積算ステップと、
前記ずれ抽出画素面積追加積算値に対する判定基準値となる第二基準値を読み出し、
前記ずれ抽出画素面積追加積算値が前記第二基準値より大きいかどうかを判定する、
積算ずれ面積第二判定ステップと
を有することを特徴とする膜厚むら検出方法である。
【００１８】
上記膜厚むら検出装置及び方法を用いれば、
本来検出したい縦スジ・横ダンに対応するずれ抽出画素が、設定した所定領域の境界線を跨ぐように存在し、ずれ抽出画素面積積算値が半減してしまうような場合でも、第一基準値の閾値を低く設定しておき、当該所定領域の外にはみ出して存在する一群のずれ抽出画素を含めたずれ抽出画素面積追加積算値と、第二基準値とを比較することができる。そうすることで、膜厚むらの検出漏れを防ぎ、確実に塗布膜の形成状態の良否を判断することができる。
【００１９】
請求項３に記載の発明は、
前記所定領域が、塗布方向又はそれと直交する方向に伸びた領域であること
を特徴とする、請求項１又は請求項２に記載の膜厚むら検出装置である
ことを特徴とする膜厚むら検出装置付塗布装置である。
【００２０】
請求項７に記載の発明は、
前記所定領域が、塗布方向又はそれと直交する方向に伸びた領域であること
を特徴とする、請求項１又は請求項２に記載の膜厚むら検出方法である。
【００２１】
上記膜厚むら検出装置及び方法を用いれば、
縦スジや横ダンと呼ばれる一方向に伸びる膜厚むらに起因する塗布膜の形成状態の良否
を精度良く判断することができる。
【００２２】
請求項４に記載の発明は、
基板載置部と、塗布ノズルと、移動機構と、
請求項１〜３のいずれかに記載の膜厚むら検出装置と
を備えた膜厚むら検出装置付塗布装置であって、
前記塗布膜の表面で反射された反射光が、前記塗布ノズルで塗布された塗布膜の表面で反射された反射光である
ことを特徴とする膜厚むら検出装置付塗布装置である。
【００２３】
請求項８に記載の発明は、
基板を基板載置部に置くステップと、
基板載置部と塗布ノズルとを相対移動させるステップと、
前記相対移動させながら、塗布ノズルから塗布液を吐出させて、前記基板上に塗布膜を形成するステップと、
前記塗布ステップで基板上に形成された塗布膜の膜厚むらを検出するステップを有し、
前記膜厚むら検出ステップは、請求項５〜７のいずれかに記載の膜厚むら検出方法であることを特徴とする、基板上に形成された塗布膜の膜厚むら検出方法である。
【００２４】
上記膜厚むら検出装置付塗布装置及び、基板上に形成された塗布膜の膜厚むら検出方法を用いれば、
塗布直後の塗布基板に膜厚むらが発生しているかどうかの判断を行うことができる。そのため、膜厚むらが発生していると判断されれば、直ちに塗布動作を中止したり、塗布基板を下流工程に受け渡す際に異常情報を通知したりするなどして、早期に不良基板を取り出す措置を取ることができるので、製造工程におけるロスを低減し、コストダウンを図ることができる。
【発明の効果】
【００２５】
僅かな膜厚むらしか伴わない縦スジや横ダンについても、塗布直後に確実に検出することができ、塗布乾燥後の厳密な検査との整合性を保つことができる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明を具現化する形態の一例を示す側面図である。
【図２】本発明を具現化する形態の一例を示すシステム構成図である。
【図３】本発明を具現化する形態の一例において、ずれ抽出処理をした後のイメージ図である。
【図４】本発明を具現化する形態の一例において撮像された画像に基づいてずれ抽出された画素の度数分布図である。
【図５】本発明を具現化する形態の一例におけるフロー図である。
【図６】本発明を具現化する形態の一例において、ずれ抽出処理の有無による違いを表すイメージ図である。
【図７】本発明を具現化する形態の別の一例を示す平面図である。
【図８】本発明を具現化する形態の別の一例を示す側面図である。
【図９】本発明を具現化する形態の別の一例を示すシステム構成図である。
【図１０】従来の膜厚むら検査装置において撮像された画像のイメージ図である。
【図１１】従来の膜厚むら検査装置において撮像された画像のイメージ図である。
【図１２】従来の膜厚むら検査装置において、ずれ抽出処理をした後のイメージ図である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
本発明を実施するための形態について、図を用いながら説明する。
図１は、本発明を具現化する形態の一例を示す側面図である。
以下、各図において直交座標系の３軸をＸ、Ｙ、Ｚとし、ＸＹ平面を水平面、Ｚ方向を鉛直方向とする。特にＺ方向は矢印の方向を上とし、その逆方向を下と表現する。
【００２８】
膜厚むら検出装置１は、基板載置部２と、照射部３と、受光部４と、検査部５と、制御部９とを含んで、構成されている。ここでは、検査対象となる基板として、ガラスにカラー皮膜が塗布された基板１０を例示して説明する。
【００２９】
基板載置部２は、基板１０を置く基板載置台２１を含んで構成されており、基板載置台２１の表面には、細孔や細溝が設けられており、前記細孔や細溝は、真空ポンプなどの真空源と切替バルブなどを介して接続されている。そのため、前記細孔や細溝を負圧状態にすることで、基板載置台２１上に置かれた基板１０を基板載置台２１上で固定・保持することができる。また、基板載置台２１は、膜厚むら検出装置１のフレーム部（図示せず）に直接、或いは移動機構２３を介して取り付けられている。
【００３０】
照射部３は、基板１０に向けて特定の照射パターンの光を照射する照射ユニット３１と、照射ユニット３１に接続されて照射ユニット３１から照射される光の強さを調節する光量調節部３８（図２参照）とを含んで構成されている。照射ユニット３１は、筐体部３２と、発光部３３と、部分遮光部３４とを含んで構成されており、筐体部３２内に配置された発光部３３から発せられた光が、部分遮光部３４を通過し、基板１０の検査対象領域１０ｆに向けて照射されるように配置されている。部分遮光部３４は、図１０を用いて説明した様な白と黒のストライプパターンに対応した光透過部と遮光部とで構成されている。そのため、発光部３３から発せられて光透過部を通過した部分が明部４３ａとして撮像され、遮光部で遮光された部分が暗部４３ｂとして撮像される。なお、このとき、照射ユニット３１から発せられた光の照射光軸３７は、基板１０に対して角度θをなして配置されている。
【００３１】
受光部４は、撮像カメラ４１と、レンズ４２とを含んで構成されており、撮像カメラ４１及びレンズ４２は、基板１０の検査対象領域１０ｆに向けて配置されている。このとき、撮像カメラ４１及びレンズ４２の観察光軸４７は、基板１０に対して角度θをなして配置されている。さらに、撮像カメラ４１は、照明ユニットの部分遮光部３４に焦点が合うように設置されており、照射ユニット３１から照射されて、検査対象となる基板１０に形成された塗布膜の表面で反射された光を、受光パターンとして取得することができる。
【００３２】
検査部５は、詳細を後述するが、基板上で反射した受光パターンと、特定の照射パターンに対応した基準パターンとの比較処理を行い、塗布膜の形成状態の良否を判断することができる。なお、前記基準パターンは、基板１０に形成された塗布膜に膜厚むらが含まれない場合に撮像カメラ４１で観察される受光パターンであり、膜厚むらが無い又は膜厚むらが無いと見なすことのできる基準ワークを用いて取得して登録したり、設計上の基準パターンを規定して、登録したりしておいても良い。
【００３３】
［システム構成］
図２は、本発明を具現化する形態の一例を示すシステム構成図であり、図１を用いて上述した膜厚むら検出装置１において、基板載置部２、照射部３、受光部４、検査部５の各機器が、制御部９の各機器と接続されている様子を示している。
【００３４】
制御部９には、制御用コンピュータ９０と、情報入力手段９１と、情報出力手段９２と、発報手段９３と、情報記録手段９４と、機器制御ユニット９５が含まれて構成されている。制御用コンピュータ９０には、情報入力手段９１と、情報出力手段９２と、発報手段９３と、情報記録手段９４と、機器制御ユニット９５が接続されている。
【００３５】
制御コンピュータ９０は、本発明の膜厚むら検出装置１を統括して制御するためのものである。具体的には、制御コンピュータ９０は、情報記録手段９４に登録されたプラグラムや、膜厚むらの検出に用いる種々の設定パラメータなどを読み出し、実行し、制御機器制御ユニット９５に対して制御指令を行うことで、本発明にかかる膜厚むらの検出を行うことができるように構成されている。
【００３６】
制御用コンピュータ９０としては、マイコン、パソコン、ワークステーションなどの、数値演算ユニットが搭載されたものが例示される。
情報入力手段９１としては、キーボードやマウスやスイッチなどが例示される。
情報出力手段９２としては、画像表示ディスプレイやランプなどが例示される。
発報手段９３としては、ブザーやスピーカ、ランプなど、作業者に注意喚起をすることができるものが例示される。
【００３７】
情報記録手段９４は、詳細を後述する設定基準値や、所定領域の設定値、第１基準値及び第二基準値を登録しておくものである。具体的な情報記録手段９４の形態としては、メモリーカードやデータディスクなどの、半導体記録媒体や磁気記録媒体や光磁気記録媒体などが例示される。
機器制御ユニット９５としては、プログラマブルコントローラやモーションコントローラと呼ばれる機器などが例示される。
【００３８】
機器制御ユニット９５は、移動機構２３と接続されており、制御コンピュータ９０からの指令に基づいて、照射部３及び受光部４と基板１０とを所定の速度で相対移動させることができる。
【００３９】
機器制御ユニット９５は、光量調整ユニット３８と接続されており、光量調整ユニット３８に対して所定の設定値を伝送することができる。そのため、機器制御ユニット９５は、制御コンピュータ９０からの指令に基づいて、照射ユニット３１から照射される光の量をコントロールすることができる。
【００４０】
制御部９には、さらに画像処理ユニット９６が含まれて構成されている。画像処理ユニット９６は、制御用コンピュータ９０に接続されており、画像処理ユニット９６を介して、第１及び第２の観察部３１，３２から出力された映像信号が入力される。画像処理ユニット９６は、一般にＧＰＵ（グラフィックプロセッシングユニット）と呼ばれ、制御用コンピュータ９０の外部に設置される形態のもの、制御用コンピュータ９０の筐体内に接続される形態のもの、制御用コンピュータ９０の画像処理部を利用したものなどが例示される。
【００４１】
制御用コンピュータ９０には、画像処理ユニット９６を介して、撮像カメラ４１から出力された画像信号が入力される。画像処理ユニット９６は、制御用コンピュータ９０の外部に設置される形態のもの、制御用コンピュータ９０の筐体内に接続される形態のもの、制御用コンピュータ９０の画像処理部を利用した形態のものなどが例示でき、本発明における検査部５として機能する。
【００４２】
［検査部詳細］
検査部５は、画像処理ユニット９６に設けられており、画像比較部と、ずれ抽出画像生成部と、ずれ抽出画素面積積算部と、積算ずれ面積判定部とを含んで構成されている。また、前記各部は、画像処理ユニット９６に登録されたプログラムにおける処理ブロックに対応して構成されており、具体的には以下の処理が行われる。
【００４３】
前記画像比較部は、前記受光パターンと、前記特定の照射パターンに対応する基準パターンとを比較し、各パターンの対応する場所において、変化が生じているかどうかを判別するものである。具体的には、前記受光パターンと前記基準パターンとが白黒パターンである場合、撮像カメラ４１で撮像された前記受光パターンと、前記基準パターンの対応する位置の各画素について差分演算処理を行い、前記受光パターンと前記基準パターンとが同じ白色又は黒色であるか、或いは、白色と黒色が異なっているかを判別するように、処理ブロックがプログラミングされている。そのため、前記受光パターンのうち、前記基準パターンと色が異なる部分の画素は、膜厚むらに起因した、ずれのある部分として取り扱われる。なお、前記画像比較部では、基準となるパターンと、受光したパターンとを比較する際に、従来とは異なる閾値に設定し、従来はノイズとして処理していたような小さなずれも検出されるように（いわゆる過検出条件）で、比較処理が行われるようにする。
【００４４】
前記ずれ抽出画像生成部は、前記画像比較部でずれのある部分として抽出された画素を、前記受光パターンの観察位置に対応させて、１つの画像イメージとして生成するものである。具体的には、撮像カメラ２１で撮像された前記受光パターンのうち、ずれのある部分として抽出された画素について、いわゆるラベリング処理を行い、隣接する画素同士を一まとめにする。そして、ラベリング処理後の点在するずれ抽出画素が、撮像カメラ２１の観察エリア内のどの部分にどのように分布しているのかが分かるように、観察エリア内の各画素の位置に対応する全体画像を、１つの画像イメージとして生成されるように、処理ブロックがプログラミングされている。
【００４５】
図３は、本発明を具現化する形態の一例において、ずれ抽出処理をした後のイメージ図であり、前記ずれ抽出画像生成部で生成された画像イメージを示している。
前記画像比較部で比較処理により、ずれのある部分とされた画素は、「ずれ抽出画素４３ｃ」として図３中に例示されるように、イメージ図内の各所に存在している。さらにずれ抽出画素４３ｃは、独立して点在するものの他、やや集まって点在するずれ抽出画素群４４や、直線状に点在するずれ抽出画素群４５や、直線状に密集して点在するずれ抽出画素群４６のような形態として見ることができる。なお図３では、説明の便宜上、破線４３ｄは、前記受光パターンの明部４３ａと暗部４３ｂとの境界部分を示している。また、この画像を得るために、従来の検査装置に用いていた閾値とは異なる閾値を設定し、ずれ抽出画素４３ｃがより多く抽出されるようにしている。
【００４６】
前記ずれ抽出画像生成部で生成された画像は、前記観察エリア内の各画素の位置に対応する全体画像をいくつかのエリアに分割され、分割された個々のエリアは所定領域として設定される。図３には、複数設定された所定領域の内、１つの所定領域４８が例示されており、この所定領域４８は、Ｘ方向にｔ画素分、Ｙ方向に全画素分の領域で構成されている。
【００４７】
前記ずれ抽出画素面積積算部は、設定された所定領域４８内に存在する、ずれ抽出された画素４３ｃの面積を積算し、ずれ抽出画素面積積算値として取得するものである。具体的には、撮像カメラ２１で撮像された受光パターンのうち、ずれのある部分として抽出された画素４３ｃが、所定領域内に何画素分あるか（例えば、共通する位置Ｘ方向の範囲内で、Ｙ方向に何画素分あるか）をカウント（足し合わせ）して、面積積算されるように、処理ブロックがプログラミングされている。
【００４８】
この所定領域４８の設定について、具体例を示しながら説明する。本実施形態において、撮像カメラ４１の有効撮像エリアがＸ方向に１０００画素分、Ｙ方向に７５０画素分あり、それをＸ方向に１００分割するものとする。この場合、前記ずれ抽出画像は、Ｘ：１０００画素×Ｙ：７５０画素の画像イメージとして、前記ずれ抽出画像生成部で生成される。その上で、生成された前記ずれ抽出画像は、Ｘ方向に１００分割して１０画素分、Ｙ方向は分割せず７５０画素分の領域に区切られ、Ｘ：１０画素×Ｙ：７５０画素分の画像イメージについて、その中に含まれるずれ抽出画素の面積が積算処理される。このような処理を、それぞれの所定領域についても行い、各所定領域毎に、ずれ抽出画素の面積積算値を算出する。そうすることで、所定領域内に離れて存在している小さな面積のずれ抽出画素を、一纏まりのずれ抽出画素群として取り扱うことができる。
【００４９】
なお、上述ではイメージ画像全体をＸ方向に１００分割する例について説明したが、分割数は適宜変更することができる。また、所定領域をＹ方向に分割しても良い。
【００５０】
前記積算ずれ面積判定部は、前記ずれ抽出画素面積積算部で積算したずれ抽出画素面積積算値に対して、予め設定しておいた設定基準値と大小比較を行い、設定基準値より大きいかどうかを判定するものである。具体的には、前記設定基準値は、情報記録手段９４に登録設定されていたものを読み出され、前記ずれ抽出画素面積積算値と大小比較される。そして、前記積算ずれ面積判定部は、前記ずれ抽出画素面積積算値が、前記設定基準値よりも大きければ、塗布膜の形成状態が不良とし、前記ずれ抽出画素面積積算値が、前記設定基準値よりも小さければ、塗布膜の形成状態が良好であると判断するように、処理ブロックがプログラミングされている。
【００５１】
図４は、本発明を具現化する形態の一例において撮像された画像に基づいてずれ抽出された画素の度数分布図であり、図３を用いて例示したずれ抽出画像に対応して、横軸を撮像位置Ｘとし、縦軸は各撮像位置の共通するＸ方向の範囲内で、Ｙ方向にずれ抽出画素の面積積算値Ｎを示したものである。
Ｘ方向に分割されて、個々の所定領域毎に積算処理された、ずれ抽出画素の面積積算値Ｎは、前記積算ずれ面積判定部にて前記設定基準値との大小比較が行われる。
【００５２】
このとき、前記設定基準値として、例えばＮ０が設定されていれば、Ｎ０のレベル（直線５０）が前記面積積算値Ｎに対する閾値となる。そして、前記積算ずれ面積判定部は、前記個々の所定領域におけるずれ抽出画素の面積積算値Ｎが、設定基準値Ｎ０よりも大きいかどうかを判定し、前記面積積算値Ｎが前記設定基準値Ｎ０のレベルを超えるところがなければ検査対象の基板を良品と判定し、前記設定基準値Ｎ０のレベルを超えるところがあれば不良品と判定する。
【００５３】
そのため、図３に対応させて説明すると、ずれ抽出画素４３ｃのうち、独立して点在するもの、やや集まって点在するずれ抽出画素群４４、並びに直線状に点在するずれ抽出画素群４５の部分については、いずれも面積積算値Ｎが前記設定基準値Ｎ０よりも小さいため、前記積算ずれ面積判定部は、良品と判断する。一方、直線状に密集して点在するずれ抽出画素群４６の部分については、面積積算値Ｎが前記設定基準値Ｎ０よりも大きいため、前記積算ずれ面積判定部は、この部分をもって膜厚むらの不良があると判定する。
【００５４】
このとき、前記設定基準値は、塗布膜の品種や検査条件が複数あれば、塗布膜の品種や検査条件と紐付けて登録しておき、品種切替に対応できるようにしておく。また、一纏まりのずれ抽出画素群が膜厚むらであるかどうかの判定をするために、所定領域の積算値に対して膜厚むら有無の判定をする基準値は、塗布乾燥後の検査装置で得られた結果と合致するように設定することが好ましい。そうすることで、本発明にかかる膜厚むら検出の精度を、塗布乾燥後の検査精度に近づけ、互いの整合性を保つことができる。
【００５５】
膜厚むら検出装置１は、このような構成をしているので、基板１０上の検査対象領域で反射された、照射部３の照明ユニット３１から発せられた特定の照射パターン（上記例にあっては、斜め４５度のストライプパターン）を、受光部４の撮像カメラ４１で撮像し、当該撮像された画像に基づいて検査部５にて塗布膜の形成状態の良否判断を行い、膜厚むらを検出することができる。
【００５６】
従来の検査装置では、ずれ抽出画素１つ１つの大きさに基づいて良否判定を行っていたので、膜厚むらの変化が大きければ良否判定が容易に可能であったが、膜厚むらの変化が僅かながらも複数の基準パターンを跨いで存在するような、縦スジや横ダン起因の膜厚むらについては、良否判定が困難であった。
【００５７】
しかし、本発明にかかる膜厚むら検出装置１は、複数の基準パターンを跨いで存在するような、縦スジや横ダン起因の膜厚むらについても、所定領域内に存在するずれ抽出画素の面積を積算し、面積積算値に基づいて良否判定を行うように構成されている。そのため、縦スジや横ダンのような所定方向に長さを有する膜厚むらの良否判定には好適である。
【００５８】
［フローチャート］
図５は、本発明を具現化する形態の一例におけるフロー図であり、本発明を適用させて基板上に形成された塗布膜の膜厚むらを検出する一連のフローが、ステップ毎に示されている。
【００５９】
先ず、塗布膜が形成された基板１０を、基板載置台２１上に置く（ｓ１０１）。
必要に応じて基板１０を固定・保持した状態で、基板１０上の検査対象領域１０ｆが撮像カメラ４１で撮像できる位置に、基板載置台２１を移動させる（ｓ１０２）。
基板１０上の検査対象領域１０ｆに向けて照明ユニット３１から光を照射し、撮像カメラ４１で撮像を行う（ｓ１０３）。
【００６０】
予め設定登録しておいた検査条件の情報に基づいて、従来と同じ検査を行うかどうかを選択する（ｓ１０４）。
従来と同じ検査を行う場合、撮像カメラ４１で撮像された受光パターン光と、予め登録しておいた照射パターン光とを、従来の検査条件と同様の適正条件にて、検査部５の画像比較部で比較処理し（ｓ１１１）、検査部５のずれ抽出画像生成部でずれ部分を抽出する（ｓ１１２）。その後、検査部５のずれ抽出画素面積積算部で、前記ずれ抽出画像の所定領域内に存在する前記ずれ抽出された画素の面積をずれ抽出画素面積積算値として積算する。その後、積算ずれ面積判定部で、ずれ抽出画素面積積算値が設定基準値より大きいかどうかを判定し（ｓ１１４）、大きければ不良品として処理し（ｓ１１６）、そうでなければ良品として処理する（ｓ１１７）。
【００６１】
上記ステップｓ１０４にて従来と同じ検査を行わないと選択された場合、或いは上記ステップｓ１１６，ｓ１１７の後、予め設定登録しておいた検査条件の情報（従来とは異なる過検出条件）に基づいて、撮像カメラ４１で撮像された受光パターン光と、予め登録しておいた照射パターン光とを、検査部５で比較処理し（ｓ１２１）、ずれ部分を抽出する（ｓ１２２）。
その後、所定領域のずれ抽出画素を積算する（ｓ１２３）。
当該積算値が設定基準値より大きいかどうかを判定し（ｓ１２４）、大きければ不良品として処理し（ｓ１２６）、そうでなければ良品として処理する（ｓ１２７）。
【００６２】
上述の様にすることで、Ｙ方向に存在する縦スジ起因の僅かな膜厚むらを精度良く検出することができる。なお、上述ではＹ方向に存在する縦スジ起因の僅かな膜厚むらについて説明を行ってきたが、同様にＸ方向に存在する横ダン起因の僅かな膜厚むらについても精度良く検出することができる。このＸ方向，Ｙ方向を、塗布基板に発生する可能性のある縦スジや横ダンの方向に合わせることで、縦スジや横ダンに起因する僅かな膜厚むらを検出することができる。
【００６３】
［変形例：追加処理］
【００６４】
図６は、本発明を具現化する形態の一例において、ずれ抽出処理の有無による違いを表すイメージ図である。図６（ａ）は、上述で図３を用いて説明したずれ抽出画素についての拡大イメージを示しており、ずれ抽出された画素４３ｃと、所定領域４８とが示されている。本来検出したい縦スジ・横ダンに対応する一群のずれ抽出画素は、所定領域４８に完全に収まる場合もあれば、図６（ａ）に示すように、設定した所定領域４８の境界線を跨ぐように存在する場合もある。
図６（ｂ）は、ずれ抽出画素４３ｃのうち、所定領域４８と重複する（つまり、所定領域内の）ずれ抽出画素４３ｍを示したイメージ図である。そのため、上述したような本発明にかかる膜厚むら検出装置及び方法では、本来検出したい縦スジ・横ダンに対応する一群のずれ抽出画素が、所定領域４８に完全に収まらず、設定した所定領域４８の境界線を跨ぐように存在している場合、積算されたずれ抽出画素面積積算値は、所定領域内の設定基準値に達せず、不良品として判断されない。
【００６５】
そこで本発明にかかる膜厚むら検出装置は、上記説明の形態に加え、下記の構成を追加して具現化し、本来検出したい縦スジ・横ダンに対応する一群のずれ抽出画素上を、設定した所定領域４８の境界線が跨ぐ場合であっても、確実に良否判断を行うものである。
【００６６】
図６（ｃ）は、ずれ抽出画素４３ｃのうち、所定領域４８内のずれ抽出画素４３ｍと、前記ずれ抽出画素４３ｍに隣接するずれ抽出画素４３ｐを示したイメージ図であり、所定領域４８の境界線を跨ぐように、所定領域内のずれ抽出された画素４３ｍと連続して存在する、所定領域外のずれ抽出画素４３ｐが、再ラベリング処理された後の様子が示されている。
【００６７】
この変形例の場合、検査部は、第一基準値登録部と、ずれ抽出画素面積追加積算部と、第二基準値登録部と、積算ずれ面積第二判定部とをさらに含んで構成される。また、前記各部は、画像処理ユニット９６に登録されたプログラムにおける処理ブロックに対応して構成されている。
【００６８】
前記第一基準値登録部は、前記積算ずれ面積判定部の設定基準値を第一基準値として登録するものである。具体的には、仮に第一基準値をＮ１と設定された場合、図４を用いて説明すると、前記面積積算値ＮがＮ１のレベル（直線５１）が閾値となる。そして、前記積算ずれ面積判定部は、面積積算値Ｎが前記設定基準値Ｎ１のレベルを超えるところがなければ検査対象の基板を良品と判定し、Ｎ１のレベルを超えるところがあれば、当該所定領域については追加判定をすべきと判定するように、処理ブロックがプログラミングされている。
【００６９】
ずれ抽出画素面積追加積算部は、前記ずれ抽出画素面積積算値だけでは良否判断が難しい場合に、前記ずれ抽出画像の所定領域内に存在する前記ずれ抽出された画素と連続して存在する、前記所定領域外のずれ抽出された画素の面積を、前記ずれ抽出画素面積積算値に追加積算してずれ抽出画素面積追加積算値追加積算として取得するものである。具体的には、前記積算ずれ面積判定部で追加判定すべきと判定された領域の境界線を跨ぐように
、所定領域内のずれ抽出された画素と連続して存在する、所定領域外のずれ抽出画素は、再ラベリング処理されて、それぞれの画素面積が積算される。そして、所定領域外の再ラベリング処理されたずれ抽出された画素の面積値が、所定領域内のずれ抽出された画素の面積積算値に積算され、ずれ抽出画素面積追加積算値として取得されるように、処理ブロックがプログラミングされている。
【００７０】
第二基準値登録部は、前記ずれ抽出画素面積追加積算値に対する設定基準値を第二基準値として登録するものである。具体的には、前記第二基準値登録部は、前記第一基準値よりも大きな値を登録し、追加積算後のずれ抽出画素面積値が、膜厚むらの良否判断の閾値となるような値が設定されるように、処理ブロックがプログラミングされている。
【００７１】
積算ずれ面積第二判定部は、前記ずれ抽出画素面積追加積算値が前記第二基準値より大きいかどうかを判定するものである。具体的には、前記積算ずれ面積第二判定部は、第二基準値がＮ２と設定された場合、ずれ抽出画素面積追加積算値Ｎｘが第二基準値（Ｎ２）のレベルを超えるところがなければ検査対象の基板を良品と判定し、Ｎ２のレベルを超えるところがあれば、当該所定領域については不良品と判定するように、処理ブロックがプログラミングされている。
【００７２】
一方、本発明にかかる膜厚むら検出方法においては、下記のようにして、上記変形例として説明した追加処理を適用する。
まず、上記変形例を適用しない場合は、上記ステップｓ１２４にて、ずれ抽出画素の面積積算値が設定基準値より大きいかどうかの判定を行っていたが、上記変形例を適用する場合は、当該ステップｓ１２４を予備判定のステップとし、さらに後処理を追加して検査精度を高める判定を行うようにしておく。また、上記ステップｓ１２３では、所定領域内のずれ部分の画素面積を積算し、その結果に基づいて、ステップｓ１２４でずれ部分の面積積算値が基準値より大きいかどうかを判定していた。しかし本変形例では、当該ステップｓ１２４で判定の基準とする値を第一基準値とし、第一基準値登録部に予め登録しておく。そして、上記ステップｓ１２３で得られたずれ面積の積算値と前記第一基準値とを比較する。
【００７３】
前記積算されたずれ面積の合計値が登録された前記第一基準値よりも大きい場合には、当該合計値に、当該面積を積算されたずれ抽出画素と隣接するずれ抽出画素の面積をさらに追加合算する処理を行う。そうすれば、所定領域内のずれ抽出画素だけなく、その抽出されたずれ部分が所定領域外にはみ出して存在している場合にも、一群のずれ抽出画素として積算することになり、ずれ抽出画素の積算値の中に微小なノイズ成分由来のものが含まれていたとしても、上記隣接するずれ抽出画素を合算することで、微小なノイズ成分ではない、本来検出すべきむらに由来するずれ抽出画素をより多く積算することができる。
【００７４】
そして、前記追加合算された後のずれ面積積算値が、第二基準値よりも大きいかどうかを判定する。このとき、この第二基準値は、乾燥後の膜厚むら検出装置などを用いて得られた検出結果と整合性が取れるような設定値を、第二基準値登録部に予め登録しておくことが好ましい。そうすることで、本発明にかかる膜厚むら検出の精度を、より一層、塗布乾燥後の検査精度に近づけ、互いの整合性を保つことができる。
【００７５】
なお、前記膜厚むらのない場合の画像は、実際に膜厚むらのない基板を準備し、撮像カメラ４１で撮像したものを保存しておく。或いは、実際に膜厚むらのない基板を撮像した場合に観察される画像を規定して基準画像として保存しておいても良い。
【００７６】
上述の様に、上記変形例を適用した膜厚むら検出装置及び方法を用いれば、
本来検出したい縦スジ・横ダンに対応するずれ抽出画素が、設定した所定領域の境界線を跨ぐように存在し、ずれ抽出画素面積積算値が半減してしまった場合でも、第一基準値の閾値を低く設定しておき、所定領域４８の外にはみ出して存在する一群のずれ抽出画素を含めたずれ抽出画素面積追加積算値と、第二基準値と比較して、塗布膜の形成状態の良否を判断することができる。
【００７７】
［変形例２：所定領域の方向設定］
上述では、本発明を適応するにあたって、受光パターンの任意の場所について所定領域４８を設定していた。このような形態でも、縦スジや横ダンについて検出することができる。しかし、膜厚のむらが微小になるにつれて、前記ずれ抽出画素面積積算値や、前記ずれ抽出画素面積追加積算値前記が、設定基準値或いは、第一及び第二基準値を、僅かに下回ることがあり、不良と判断されない場合がある。つまり、検出したい縦スジに対して、所定領域４８が、塗布方向に延びた領域でなく、交差したり徐々にそれたりした状態で設定されている場合、前記状況が起こり得る。同様に、検出したい横ダンに対して、所定領域４８が、塗布方向と直交する方向に延びた領域でなく、交差したり徐々にそれたりした状態で設定されていると、前記状況が起こり得る。
【００７８】
そのため、本発明を適応するにあたって、所定領域４８を塗布方向に伸びた領域とすること、或いは、塗布方向と直交する方向に延びた領域とすることがより好ましい。そうすることで、僅かな膜厚むらしか伴わない縦スジ・横ダンをより確実に検出することができる。
【００７９】
［膜厚むら検査装置付塗布装置］
図７は、本発明を具現化する形態の別の一例を示す平面図であり、図８は、本発明を具現化する形態の別の一例を示す側面図である。
塗布装置１０１は、照射部３と、受光部４と、検査部５と、相対移動部７と、塗布部８と、制御部９とを含んで、構成されている。
【００８０】
塗布装置１０１は、フレーム部１１２と、フレーム部１１２上に取り付けられてＹ方向に延びるガイドレール１２２と、ガイドレール１２２上を所定の速度で移動して所定の位置で静止することができるスライダ部１２３とを含んで構成されている。フレーム部１１２上には、基板載置台１２１を挟んで、ガイドレール１２２及びスライダ部１２３が２組を一対として取り付けられている。さらに、一対のスライダ部１２３の上には、基板載置台１２１を跨ぐように、門型フレーム１３０が取り付けられている。門型フレーム１３０には、Ｚ方向に移動可能な昇降用アクチュエータ１４０が取り付けられており、昇降用アクチュエータ１４０には、塗布ノズル１５０が取り付けられている。
【００８１】
塗布装置１０１を構成する照射部３の照明ユニット３１並びに受光部４の撮像カメラ４１は、上述の観察装置１のそれらと同様の構成で、基板１１０ｗと対向した位置に配置されており、照明ユニット３１から照射されて反射した光が、撮像カメラ４１で観察されるように構成されている。また、基板１０の表面に対して、照明ユニット３１の照明光軸３７や、撮像カメラ４１の観察光軸４７とのなす角度は同じ角度に設定されている。
【００８２】
塗布装置１０１を構成する検査部５、制御部９は、上述の観察装置１と同様、基板上に形成された皮膜の膜厚むらを検査する機能を含み、さらに基板１１０ｗにカラー皮膜を塗布形成することができるように構成されている。
なお、本形態における相対移動部７は、スライダ部１２３を含んで構成されている。
また、塗布部８は、昇降用アクチュエータ１４０と、塗布ノズル１５０とを含んで構成されている。
【００８３】
照明ユニット３１は基板１１０ｗの幅方向（つまり、Ｘ方向）に所定の長さを有しており、基板１１０ｗ上の検査対象領域１１０ｆに対して特定の照射パターンの光を照射することができる。撮像カメラ４１は、基板１１０ｗ上の検査対象領域１１０ｆを観察できるように、少なくとも１つ以上配置されている。
【００８４】
また、フレーム部１１２には、破線で示す門型フレーム１１５が、基板１１０ｗ及び基板載置台１２１を跨ぐように門型フレーム１３０と並んで取り付けてあり、門型フレーム１１５には、取り付け金具など（図示せず）を介して照明ユニット３１及び撮像カメラ４１が取り付けられている。門型フレーム１１５及び照明ユニット３１や撮像カメラ４１は、スライダ部１２３がＹ方向に移動しても、門型フレーム１３０や塗布ノズル１５０とは干渉しない位置に配置されている。
【００８５】
図９は、本発明を具現化する形態の別の一例を示すシステム構成図であり、図７，図８を用いて説明した形態の塗布装置１０１において、照射部３、受光部４、検査部５、相対移動部７、塗布部８の各機器が、制御部９の各機器と接続されている様子を示している。
【００８６】
塗布装置１０１は、このような構成をしているため、スライダ部１２３をＹ方向に動かしながら基板１１０ｗに対する塗布ノズル１５０のＺ方向の位置を設定し、塗布液を吐出させることで、所定の塗布動作を行うことができる。そして、スライダ部１２３がＹ方向に移動し続けて塗布動作が継続され、塗布が終わるまでの間に、門型フレーム１３０や塗布ノズル１５０が、照明ユニット３１や撮像カメラ４１から離れる。そして、観察に影響しない位置に遠ざかってから、基板１１０ｗ上の塗布開始部分を検査対象領域１１０ｓとして、膜厚むら検出装置１を用いて、当該塗布開始部分の塗布膜について、形成状態の良否判断が行われる。
【００８７】
塗布装置１０１では、基板中央部と比べて、塗布開始部分に膜厚むらが生じやすいため、当該塗布開始部分に膜厚むらがあるかどうかを検出することが好ましい。そして、塗布動作中や、塗布動作完了時に、膜厚むらが検出されたかどうか結果を通知したり、下流側の装置に塗布済基板を受け渡す際に、当該基板に膜厚むらが含まれているか否かの情報を合わせて通知したりする。そうすれば、膜厚むらの無い塗布基板であれば、引き続き通常の処理（塗布膜の乾燥処理など）を行い、膜厚むらのある塗布基板であれば、通常の処理をせずに再検査や再生処理を行うことができる。
【００８８】
上述の様に、本発明にかかる膜厚むら検査装置を備えた塗布装置は、膜厚むらが発生していれば即座に検出結果を外部の機器に通知したり、塗布動作そのものを中止したりすることができる。そのため、無駄な塗布液の消費や、基板のロスを防ぐことができ、コストダウンに貢献できる。
【符号の説明】
【００８９】
１    観察装置
２    基板載置部
３    照射部
４    受光部
５    検査部
７    相対移動部
８    塗布部
９    制御部
１０    基板
１０ｆ  検査対象領域
２１    基板載置台
２３    移動機構
３１    照明ユニット
３２    筐体部
３３    発光部
３４    部分遮光部
３７    照明光軸
３８    光量調整部
４１    撮像カメラ
４２    レンズ
４３ａ  明部（ストライプパターンの白部分）
４３ｂ  暗部（ストライプパターンの黒部分）
４３ｃ  ずれ抽出画素（過検出条件）
４３ｄ  明部と暗部との境界部分を示す破線
４３ｓ  膜厚むら（縦スジ）がある部分
４３ｍ  
４３ｐ  
４３ｚ  ずれ抽出画素（従来の条件）
４４    やや集まって点在するずれ抽出画素群
４５    直線状に点在するずれ抽出画素群
４６    直線状に密集して点在するずれ抽出画素群
４７    観察光軸
４８    所定領域
５０    設定基準値
５１    設定基準値
５２    設定基準値
９０  制御用コンピュータ
９１  情報入力手段
９２  情報出力手段
９３  発報手段
９４  情報記録手段
９５  機器制御ユニット
９６  画像処理ユニット
１０１    塗布装置
１１０ｗ  塗布基板（検査対象物）
１１０ｆ  検査対象領域
１１０ｓ  塗布開始部分
１１２    フレーム部
１１５    門型フレーム（検査部）
１２１    基板載置台
１２２    ガイドレール
１２３    スライダ部
１３０    門型フレーム（塗布部）
１４０    昇降用アクチュエータ
１５０    塗布ノズル
【図１】
2013152153.tif 000003
【図２】
2013152153.tif 000004
【図３】
2013152153.tif 000005
【図４】
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【図５】
2013152153.tif 000007
【図６】
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【図７】
2013152153.tif 000009
【図８】
2013152153.tif 000010
【図９】
2013152153.tif 000011
【図１０】
2013152153.tif 000012
【図１１】
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【図１２】
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