(57)【要約】【課題】所望の領域に封止部を形成することが可能な表示装置を提供する。【解決手段】表示領域を囲む封止領域および封止領域を外側から囲む段差部を有する基板と、表示領域に設けられた表示層と、封止領域に設けられた封止部とを備えた表示装置。この表示装置では、基板に段差部が設けられているので、封止部が段差部よりも外側に広がる虞がなく、所望の領域に封止部が設けられる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示領域を囲む封止領域および前記封止領域を外側から囲む段差部を有する基板と、
前記表示領域に設けられた表示層と、
前記封止領域に設けられた封止部と
を備えた表示装置。
【請求項２】
前記段差部は、前記基板に設けられた溝と、前記基板の表面から突出した突壁とからなる
請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記封止領域にはぬれ性を向上させる処理、前記段差部には撥水処理がそれぞれなされている
請求項１に記載の表示装置。
【請求項４】
前記封止領域にはプラズマ処理がなされている
請求項３に記載の表示装置。
【請求項５】
前記段差部にはシリカ系の表面処理がなされている
請求項３に記載の表示装置。
【請求項６】
前記段差部は、前記基板に設けられた複数の溝と、前記基板の表面から突出した複数の突壁とからなる
請求項１に記載の表示装置。
【請求項７】
表示装置を備え、
前記表示装置は、
表示領域を囲む封止領域および前記封止領域を外側から囲む段差部を有する基板と、
前記表示領域に設けられた表示層と、
前記封止領域に設けられた封止部とを備えた
電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本技術は、表示層の周囲に封止部を設けて防湿性を高めた表示装置、およびこの表示装置を備えた電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在テレビジョンなどの平面表示装置として液晶表示装置が幅広く利用されているが、更に薄型化・低消費電力化の可能な表示装置が注目されている。
【０００３】
このような表示装置では、以下の理由により表示層に対する防湿機能が重要となる。まず、ほとんどの表示層は水分によって劣化しやすいことが挙げられる。次に、有機ＥＬ（Electroluminescence）表示装置等と比較して、表示層の厚み（積層方向の厚み）が大きい表示装置では、有機ＥＬ表示装置等の防湿対策をそのまま適用させても、表示層の側面からの水分の浸入を十分に防ぐことができない、という点も挙げられる。このため、基板上の表示層を透湿度の低い（例えば透湿度〜０．０３ｇ／ｍ2／日）防湿膜で覆い、更に、基板と防湿膜との間に封止部を形成して、表示層の側面も封止部により覆うようにしている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００５−１１４８２０号公報
【特許文献２】特開２００７−０７３３９７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、基板と防湿膜との間の間隙に封止部の原料となる硬化前樹脂を充填するため、この硬化前樹脂の粘度は低くしておく必要がある。これにより、硬化前樹脂は基板上で広がり易く、基板の外周に設けられた配線部分にも封止部が影響を与える虞があった。また硬化前樹脂の広がりによって、額縁面積も広くなる。
【０００６】
特許文献２では、硬化前樹脂が基板上に広がることを防止するため、封止部とは異なる樹脂材料を用いて表示領域の周囲に囲いを形成しておき、この囲いの内側に封止部を設ける方法が提案されている。しかしながらこの方法では、囲いを形成するための樹脂材料および作業工程時間が増え、また、囲いおよび封止部を構成するそれぞれの樹脂材料の相性を考慮しなければならないため、使用できる樹脂材料が制限されていた。
【０００７】
本技術はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、封止部の広がりを抑え、所望の領域に封止部を設けることができる表示装置、およびこの表示装置を備えた電子機器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本技術の表示装置は、表示領域を囲む封止領域および封止領域を外側から囲む段差部を有する基板と、表示領域に設けられた表示層と、封止領域に設けられた封止部とを備えたものである。
【０００９】
本技術の電子機器は、本技術の表示装置を備えたものである。
【００１０】
本技術の表示装置または電子機器では、基板に段差部が設けられているので、封止部が段差部よりも外側に広がる虞がなく、所望の領域に封止部が設けられる。
【発明の効果】
【００１１】
本技術の表示装置および電子機器によれば、基板に段差部を設けるようにしたので、封止領域を所望の領域に設けることが可能となる。よって、封止領域以外の領域、例えば基板の外周に設けられた配線部分が封止部の影響を受けることを防止でき、また狭額縁化も可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本開示の一実施の形態に係る表示装置の構成を表す側断面図である。
【図２】図１に示した表示装置の構成を表す平面図である。
【図３】図１に示した表示装置の製造方法の一工程を表す側断面図である。
【図４】紫外線遮断機能を有する膜の波長と透過率との関係を表す図である。
【図５】図１に示した表示装置の変形例の構成を表す側断面図である。
【図６】適用例１の外観を表す斜視図である。
【図７】適用例２の外観を表す斜視図である。
【図８】（Ａ）は適用例３の表側から見た外観を表す斜視図、（Ｂ）は裏側から見た外観を表す斜視図である。
【図９】適用例４の外観を表す斜視図である。
【図１０】適用例５の外観を表す斜視図である。
【図１１】（Ａ）は適用例６の開いた状態の正面図、（Ｂ）はその側断面、（Ｃ）は閉じた状態の正面図、（Ｄ）は左側面図、（Ｅ）は右側面図、（Ｆ）は上面図、（Ｇ）は下面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本技術の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、説明は以
下の順序で行う。
１．実施の形態
段差部を有する基板を備えた表示装置
２．変形例
基板に段差部を複数有する表示装置
３．適用例
【００１４】
＜実施の形態＞
図１は本開示の一実施の形態に係る表示装置（表示装置１）の断面構成を表すものである。この表示装置１は、例えば、電子ペーパーディスプレイであり、駆動基板１０（基板）上に表示層２０，対向基板３０，防湿膜４０および光学機能膜５０をこの順に有している。表示層２０から光学機能膜５０に至る積層部の側面は封止部６０により覆われている。なお、図１は、表示装置１の構造を模式的に表したものであり、実際の寸法・形状とは異なる場合がある。
【００１５】
駆動基板１０は、基体１１，バリア層１２，ＴＦＴ層１３および平坦化層１４をこの順に有しており、平坦化層１４上に表示層２０が設けられている。図２に示したように、駆動基板１０は、中央部の表示領域１０−１と、この表示領域１０−１に隣接し、かつ表示領域１０−１を囲む封止領域１０−２と、封止領域１０−２の外側（表示領域１０−１と反対側）の段差部１０−３とを有している。表示領域１０−１には、表示層２０および対向基板３０、封止領域１０−２には封止部６０がそれぞれ設けられている。駆動基板１０の外周には、外部から信号を供給するための配線部分（図示せず）が設けられている。
【００１６】
基体１１は、例えば、ガラス，石英，シリコン，ガリウム砒素等の無機材料あるいは、ポリイミド，ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ），ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ），ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ），ポリカーボネート（ＰＣ），ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ），ポリエチルエーテルケトン（ＰＥＥＫ），芳香族ポリエステル（液晶ポリマー）等のプラスチック材料等からなる。この基体１１は、ウェハなどの剛性を有するものであってもよく、薄層ガラスやフィルムなど可撓性を有するものであってもよい。基体１１が可撓性を有するものであれば、折り曲げ可能な表示装置を実現できる。
【００１７】
バリア層１２は、例えばＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法により形成されたＡｌＯxＮ1-X（ただし、Ｘ＝０．０１〜０．２）膜または窒化シリコン（Ｓｉ3Ｎ4）膜であり、水分や有機ガスによるＴＦＴ層１３および表示層２０の劣化を防止する。
【００１８】
ＴＦＴ層１３は画素を選択するためのスイッチング機能を有している。このＴＦＴ層１３は、チャネル層として無機半導体層を用いた無機ＴＦＴあるいは、有機半導体層を用いた有機ＴＦＴのどちらにより構成されていてもよい。
【００１９】
駆動基板１０のうち、表示層２０との対向面、即ちＴＦＴ層１３上に配置された平坦化層１４は、ＴＦＴ層１３等の配線によって生じる段差を緩和するためのものである。平坦化層１４は例えばアクリルまたはポリイミド等により構成されている。この平坦化層１４に、段差部１０−３が設けられている。
【００２０】
段差部１０−３は、封止領域１０−２を所望の領域に規定するためのものであり、封止領域１０−２を囲む位置に設けられている。図２に表したように、本実施の形態では、段差部１０−３は連続して封止領域１０−２の周囲を囲んでいるが、封止領域１０−２の領域が規定できれば一部が分断されていてもよい。封止部６０を形成する際、この段差部１０−３により、封止部６０の原料である硬化前樹脂が所望の領域以上に外側に広がることを防止できる。段差部１０−３は、駆動基板１０の表面から一定の深さを有するトレンチ１０Ａ（溝）と、駆動基板１０の表面から突出したリブ１０Ｂ（突壁）とにより構成されている。トレンチ１０Ａの内部に封止部６０（樹脂）が入り込み、封止領域１０−２と段差部１０−３が一部重なっていてもよい。例えば、封止領域１０−２における平坦化層１４の厚みは１０μｍ程度であり、トレンチ１０Ａ，リブ１０Ｂ（段差部１０−３）は、封止領域１０−２に対してそれぞれ３μｍ程度の溝，突壁が設けられたものである。図１に表したように、トレンチ１０Ａによって平坦化層１４が分断されていてもよい。
【００２１】
段差部１０−３では、撥水性を向上させるため、平坦化層１４に例えばシリカ系の表面処理が施されている。一方、封止領域１０−２には、ぬれ性を向上させるための表面処理、例えば酸素プラズマ処理がなされている。即ち、封止領域１０−２では封止部６０を構成する樹脂が馴染んで広がり易くなるのに対し、段差部１０−３では、はじかれるようになっているため、より確実に所望の領域に封止部６０を設けることが可能となる。
【００２２】
表示層２０は画素電極と共通電極との間に表示体を有するものである。画素電極は平坦化層１４、共通電極は対向基板３０にそれぞれ接している。表示層２０の積層方向の厚みは、例えば４０μｍ〜１６５μｍ程度である。画素電極は画素ごとに設けられており、例えばクロム（Ｃｒ）、金（Ａｕ）、白金（Ｐｔ）、ニッケル（Ｎｉ）、銅（Ｃｕ）、タングステン（Ｗ）、アルミニウム（Ａｌ）あるいは銀（Ａｇ）などの金属元素の単体または合金からなる。共通電極は、対向基板３０の一面に亘り設けられており、例えば、酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ）、酸化アンチモン−酸化スズ（ＡＴＯ）、フッ素ドープ酸化スズ（ＦＴＯ）またはアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）等の透光性導電材料（透明電極材料）により構成されている。
【００２３】
本実施の形態では、対向基板３０側において画像が表示されるため、対向基板３０には光透過性の材料が用いられるが、この点を除き、基板１０と同様の材料を用いることができる。
【００２４】
防湿膜４０は、表示層２０への水分の浸入を防止するものであり、表示層２０と最表面の光学機能膜５０との間に介在している。対向基板３０と防湿膜４０とは、例えば感圧接着剤あるいは感熱接着剤等により接着されている。防湿膜４０は、例えばポリエチレンテレフタレート，ポリメタクリル酸メチル，ポリカーボネート，ポリエチレンナフタレート，ポリプロピレン，ナイロン−６，ナイロン−６６，ポリ塩化ビニリデン，ポリエーテルスルホン等により構成されている。防湿膜４０は防湿性、例えば０.１ｇ／ｍ2／日〜０．０００００１ｇ／ｍ2／日、好ましくは０．０３ｇ／ｍ2／日以下の透湿度を有し、かつ光透過性の高いものであることが好ましい。
【００２５】
表示装置１では、防湿膜４０および光学機能膜５０は表示領域１０−１（表示層２０および対向基板３０）よりも大きく、その端面は封止領域１０−２側（外側）に張り出している。これにより、防湿膜４０と駆動基板１０との間に間隙が生じ、庇構造が形成されている。
【００２６】
光学機能膜５０は、例えば外光の表示面への映り込みを防止するためのものであり、防湿膜４０を間にして表示層２０の表示面と対向するように配置されている。光学機能膜５０は防湿膜４０に接着剤（図示せず）を介して貼り合わされている。具体的には光学機能膜５０は反射防止機能あるいは防眩機能を有する。例えば光学機能膜５０が反射防止機能を有する場合、光学機能膜５０は屈折率の異なる複数の薄膜の積層体であり、これらの薄膜の界面で発生する反射光の干渉を利用して反射光を減衰する。また、例えば光学機能膜５０が防眩機能を有する場合、光学機能膜５０の表面には、塗料により凹凸面が形成されており、この凹凸面により外光を乱反射させる。光学機能膜５０に代えて、表面膜として、ハードコート等の表示面を物理的な刺激（外力）から保護する膜を形成してもよい。
【００２７】
封止部６０は、駆動基板１０上に表示層２０，対向基板３０，防湿膜４０および光学機能膜５０の各端面を覆うように設けられている。換言すれば、表示層２０，対向基板３０，防湿膜４０および光学機能膜５０の周囲を囲むように封止部６０が設けられている。封止部６０は、表示装置１の端部を封止すると共に、側面からの水分の浸入を防止できるものが好ましい。封止部６０は、例えば熱または紫外線硬化性のアクリル系樹脂，メタクリル系樹脂あるいはエポキシ樹脂等により構成されている。
【００２８】
[表示装置１の製造方法]
この表示装置１は、例えば以下のようにして製造することができる。
【００２９】
まず、例えば、シリコンをターゲットとして用い、窒素ガスを導入しながら高周波スパッタリングを行うことにより、基体１１に窒化シリコンからなるバリア層１２を形成する。次いで、バリア層１２上に上述のＴＦＴ層１３を形成し、ＴＦＴ層１３上にアクリルからなる有機膜を形成する。この有機膜に、例えばリソグラフィー，エッチング法によりトレンチ１０Ａ，リブ１０Ｂ（段差部１０−３）を設けて平坦化層１４を形成することにより、駆動基板１０が形成される。駆動基板１０（平坦化層１４）の、封止領域１０−２には酸素プラズマ処理、段差部１０−３にはシリカ系の表面処理をそれぞれ施しておく。
【００３０】
駆動基板１０を形成した後、例えばクロム，金，白金，ニッケル，銅，タングステンあるいは銀からなる金属膜を駆動基板１０の全面に形成し、これをパターニングすることにより、画素電極を形成する。
【００３１】
次いで、共通電極を備えた対向基板３０に例えば塗布により表示体を形成した後、この対向基板３０を駆動基板１０に貼り合わせる。これにより、駆動基板１０上に表示層２０および対向基板３０が形成される。共通電極は、例えばＩＴＯを対向基板３０の一方の面の全面に成膜し、形成しておく。
【００３２】
続いて、透明接着剤により防湿膜４０を対向基板３０上に固定する。このとき、防湿膜４０には、その全ての辺において表示領域１０−１の辺よりも大きく、その面積が表示領域１０−１の面積よりも大きいものを用いる。これにより、防湿膜４０に表示領域１０−１の外側に張り出す部分が生じ、庇構造が形成される。防湿膜４０を対向基板３０上に固定した後、防湿膜４０上に光学機能膜５０を設ける。防湿膜４０および光学機能膜５０を対向基板３０に予め接着し、この対向基板３０を駆動基板１０に対向させるようにしてもよい。
【００３３】
光学機能膜５０を設けた後、封止領域１０−２に封止部６０を形成する。以下、この工程について詳細に説明する。
【００３４】
封止部６０の形成では、図３に示したように、まず、防湿膜４０と駆動基板１０との間の間隙部に、熱または紫外線硬化性の樹脂（硬化前樹脂６１）を、例えばニードル６２により充填する。このとき、硬化前樹脂６１の毛管現象を利用して充填させるため、硬化前樹脂６１の粘度は低くしておく必要がある。硬化前樹脂６１の粘度は、例えば１０（Ｐａ・ｓ）以下、好ましくは２（Ｐａ・ｓ）以下である。硬化前樹脂６１の粘度は、樹脂成分により調整できるが、シリンジ本体（図示せず）あるいはニードル６２を加熱することにより粘度を下げることも可能である。
【００３５】
このように硬化前樹脂６１の粘度が低いと、段差部１０−３が設けられていない場合には、硬化前樹脂６１は駆動基板１０上で広がり易く、所望の領域以上の広い範囲にわたって封止部６０が形成される虞がある。駆動基板１０の外周には配線部分が設けられているので、この配線部分まで硬化前樹脂６１（封止部６０）が広がると、配線部分の劣化が生じ、表示装置の信頼性が低下する。また、封止部６０が広い領域わたって形成されていたり、あるいは、位置によって封止部６０の幅（封止部６０の内側から外側までの距離）にばらつきが生じていると、表示装置の額縁面積は広くなり、デザイン上も制限を受ける。
【００３６】
特許文献２のように、封止部６０を構成するものとは異なる樹脂材料により駆動基板１０上に囲いを形成し、この囲いの内側に硬化前樹脂６１を充填する方法も考えられる。しかしながら、この方法では囲いを形成するための樹脂材料および作業工程時間が増え、また、囲いおよび封止部を構成するそれぞれの樹脂材料の相性を考慮しなければならないため、使用できる樹脂材料が制限される。
【００３７】
これに対し、本実施の形態では駆動基板１０に段差部１０−３を設けているため、段差部１０−３よりも外側に硬化前樹脂６１（封止部６０）が広がることが抑えられる。また、段差部１０−３は、平坦化層１４へのリソグラフィー，エッチング等により形成しているため、使用する樹脂材料の種類を最小限に抑えて、所望の領域に封止部６０（封止領域１０−２）を設けることができる。よって、駆動基板１０の外周の配線部分まで封止部６０が形成されることはなく、表示装置１の信頼性を向上させることが可能となる。また、狭額縁化によりデザイン性も向上する。
【００３８】
硬化前樹脂６１を表示領域１０−２に設けた後、例えば熱または光の照射により硬化前樹脂６１の硬化を行い、封止部６０を形成する。防湿膜４０および光学機能膜５０に用いられる膜のなかには、紫外線遮断機能を有するものも多い。このような防湿膜４０および光学機能膜５０を用いた場合は、遮断される紫外線の波長範囲外の光により硬化可能な樹脂材料を用いて、封止部６０を形成すればよい。図４は、紫外線遮断機能を有する防湿膜４０における波長と光の透過率との関係の一例を示したものである。このような防湿膜４０を使用する場合は、３８０ｎｍより長波長の光（可視光）の照射により硬化可能な樹脂材料を用いればよい。なお、表示装置１の可撓性を保持するためには、封止部６０（硬化後樹脂）のヤング率が５００（ＭＰａ）以下であることが好ましく、１００（ＭＰａ）以下であることがより好ましい。以上により、図１に示した表示装置１が完成する。
【００３９】
以上のように本実施の形態の表示装置１では、駆動基板１０に段差部１０−３を設けるようにしたので、封止部６０の広がりを抑え、封止領域１０−２（封止部６０）を所望の領域に設けることが可能となる。よって、駆動基板１０の外周の配線部分が封止部６０の影響を受けることを防止でき、また狭額縁化も可能となる。
【００４０】
また、駆動基板１０の封止領域１０−２には、ぬれ性を向上させるための表面処理、段差部１０−３には撥水性を向上させるための表面処理をそれぞれ施すことにより、より確実に封止領域１０−２の範囲を定めることが可能になる。
【００４１】
＜変形例＞
図５は変形例に係る表示装置１Ａの断面構成を表したものである。この表示装置１Ａは、段差部１０−３が複数のトレンチ１０Ａおよびリブ１０Ｂにより構成されている。その点を除き、表示装置１Ａは上記実施の形態の表示装置１と同様の構成を有し、その作用および効果も同様である。
【００４２】
表示装置１Ａの駆動基板１０には、複数のトレンチ１０Ａおよびリブ１０Ｂが設けられている。ここでは、２つのトレンチ１０Ａと２つのリブ１０Ｂを例示している。このように複数のトレンチ１０Ａ，リブ１０Ｂを設けることにより、より確実に封止部６０が広がることが抑えられる。
【００４３】
上記表示装置１，１Ａは、例えば次の適用例１〜６に示した電子機器に搭載することができる。
【００４４】
＜適用例１＞
図６（Ａ）および図６（Ｂ）は、電子ブックの外観を表したものである。この電子ブックは、例えば、表示部２１０、非表示部２２０および操作部２３０を有している。操作部２３０は、図６（Ａ）に示したように表示部２１０と同じ面（前面）に形成されていても、図６（Ｂ）に示したように表示部２１０とは異なる面（上面）に形成されていてもよい。
【００４５】
＜適用例２＞
図７は、テレビジョン装置の外観を表したものである。このテレビジョン装置は、例えば、フロントパネル３１０およびフィルターガラス３２０を含む映像表示画面部３００を有している。
【００４６】
＜適用例３＞
図８は、デジタルスチルカメラの外観を表したものである。このデジタルスチルカメラは、例えば、フラッシュ用の発光部４１０、表示部４２０、メニュースイッチ４３０およびシャッターボタン４４０を有している。
【００４７】
＜適用例４＞
図９は、ノート型パーソナルコンピュータの外観を表したものである。このノート型パーソナルコンピュータは、例えば、本体５１０，文字等の入力操作のためのキーボード５２０および画像を表示する表示部５３０を有している。
【００４８】
＜適用例５＞
図１０は、ビデオカメラの外観を表したものである。このビデオカメラは、例えば、本体部６１０，この本体部６１０の前方側面に設けられた被写体撮影用のレンズ６２０，撮影時のスタート／ストップスイッチ６３０および表示部６４０を有している。
【００４９】
＜適用例６＞
図１１は、携帯電話機の外観を表したものである。この携帯電話機は、例えば、上側筐体７１０と下側筐体７２０とを連結部（ヒンジ部）７３０で連結したものであり、ディスプレイ７４０，サブディスプレイ７５０，ピクチャーライト７６０およびカメラ７７０を有している。
【００５０】
以上、実施の形態および変形例を挙げて本技術を説明したが、本技術は上記実施の形態等に限定されるものではなく、種々変形が可能である。例えば、上記実施の形態等では、電子ペーパーディスプレイについて説明したが、液晶表示装置，有機ＥＬ（Electroluminescence）表示装置あるいは無機ＥＬ表示装置であってもよい。
【００５１】
また、上記実施の形態等では、トレンチ１０Ａを内側（封止領域１０−２側）、リブ１０Ｂを外側に設けた場合について説明したが、これらの配置を逆にしてもよい。更には、トレンチ１０Ａのみ、またはリブ１０Ｂのみにより段差部１０−３を構成してもよい。
【００５２】
加えて、上記実施の形態等において説明した各層の材料および厚み、または成膜方法および成膜条件等は限定されるものではなく、他の材料および厚みとしてもよく、または他の成膜方法および成膜条件としてもよい。
【００５３】
更に、上記実施の形態等では、表示装置１，１Ａの構成を具体的に挙げて説明したが、全ての層を備える必要はなく、また、他の層を更に備えていてもよい。
【００５４】
なお、本技術は以下のような構成を取ることも可能である。
（１）表示領域を囲む封止領域および前記封止領域を外側から囲む段差部を有する基板と、前記表示領域に設けられた表示層と、前記封止領域に設けられた封止部とを備えた表示装置。
（２）前記段差部は、前記基板に設けられた溝と、前記基板の表面から突出した突壁とからなる前記（１）に記載の表示装置。
（３）前記封止領域にはぬれ性を向上させる処理、前記段差部には撥水処理がそれぞれなされている前記（１）または（２）に記載の表示装置。
（４）前記封止領域にはプラズマ処理がなされている前記（１）乃至（３）のいずれか１つに記載の表示装置。
（５）前記段差部にはシリカ系の表面処理がなされている前記（１）乃至（４）のいずれか１つに記載の表示装置。
（６）前記段差部は、前記基板に設けられた複数の溝と、前記基板の表面から突出した複数の突壁とからなる前記（１）乃至（５）のいずれか１つに記載の表示装置。
（７）表示装置を備え、前記表示装置は、表示領域を囲む封止領域および前記封止領域を外側から囲む段差部を有する基板と、前記表示領域に設けられた表示層と、前記封止領域に設けられた封止部とを備えた電子機器。
【符号の説明】
【００５５】
１，１Ａ・・・表示装置、１０・・・駆動基板、１０−１・・表示領域、１０−２・・封止領域、１０−３・・段差部、１０Ａ・・トレンチ、１０Ｂ・・リブ、１１・・・基体、１２・・・バリア層、１３・・・ＴＦＴ層、１４・・平坦化層、２０・・・表示層、３０・・・対向基板、４０・・・防湿膜、５０・・・光学機能膜、６０・・・封止部。
【図１】
2013029722.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2013029722.tif 000009
【図８】
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【図９】
2013029722.tif 000011
【図１０】
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【図１１】
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