(57)【要約】【課題】熱的安定性の良好な染料用化合物を提供すること。【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物。2013227552.tif 000045［式（Ｉ）中、  Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜２０の１価の炭化水素基を表すか、Ｒ１及びＲ３が結合して隣接するベンゼン環上の炭素原子および隣接する窒素原子とともに環を形成し、Ｒ２及びＲ４が結合して隣接するベンゼン環上の炭素原子および隣接する窒素原子とともに環を形成し、または、Ｒ１及びＲ２が結合して隣接する窒素原子とともに環を形成する。Ｍは、水素原子又はアルカリ金属原子を表す。］【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）で表される化合物。
2013227552.tif 000043
［式（Ｉ）中、
Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜２０の１価の炭化水素基を表すか、Ｒ１及びＲ３が結合して隣接するベンゼン環上の炭素原子および隣接する窒素原子とともに環を形成し、Ｒ２及びＲ４が結合して隣接するベンゼン環上の炭素原子および隣接する窒素原子とともに環を形成し、または、Ｒ１及びＲ２が結合して隣接する窒素原子とともに環を形成する。該１価の炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子、硫黄原子、−Ｎ（Ｒ５）−、スルホニル基又はカルボニル基に置き換わっていてもよく、該１価の炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルバモイル基、スルファモイル基、−ＳＯ３Ｍ、−ＣＯ２Ｍ、ヒドロキシ基又はアミノ基に置き換わっていてもよい。
Ｒ５は、水素原子又は炭素数１〜２０の１価の炭化水素基を表す。Ｒ５が複数存在する場合、それらは互いに同一又は相異なる。
Ｍは、水素原子又はアルカリ金属原子を表す。］
【請求項２】
Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜２０の１価の炭化水素基を表すか、Ｒ１及びＲ３が結合して隣接するベンゼン環上の炭素原子および隣接する窒素原子とともに環を形成し、または、Ｒ２及びＲ４が結合して隣接するベンゼン環上の炭素原子および隣接する窒素原子とともに環を形成する請求項１記載の化合物。
【請求項３】
Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜２０の１価の炭化水素基を表すか、Ｒ１及びＲ３が結合して隣接するベンゼン環上の炭素原子および隣接する窒素原子とともに環を形成し、並びに、Ｒ２及びＲ４が結合して隣接するベンゼン環上の炭素原子および隣接する窒素原子とともに環を形成する請求項１または２記載の化合物。
【請求項４】
式（ＩＩ）で表される化合物。
2013227552.tif 000044
［式（ＩＩ）中、
Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜２０の１価の炭化水素基を表す。該１価の炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子、硫黄原子、−Ｎ（Ｒ５）−、スルホニル基又はカルボニル基に置き換わっていてもよく、該１価の炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルバモイル基、スルファモイル基、−ＳＯ３Ｍ、−ＣＯ２Ｍ、ヒドロキシ基又はアミノ基に置き換わっていてもよい。
Ｒ５は、水素原子又は炭素数１〜２０の１価の炭化水素基を表す。Ｒ５が複数存在する場合、それらは互いに同一又は相異なる。
Ｍは、水素原子又はアルカリ金属原子を表す。］
【請求項５】
Ｒ１及びＲ２が、それぞれ独立して、炭素数１〜２０の１価の炭化水素基を表し、該１価の炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子に置き換わっていてもよく、該１価の炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子に置き換わっていてもよい、請求項４記載の化合物。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか記載の化合物を含む染料。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、染料として有用な化合物等に関する。
【背景技術】
【０００２】
染料は、例えば、繊維材料、液晶表示装置、インクジェット等の分野で反射光又は透過光を利用して色表示するために使用されている。かかる染料として、クマリン６が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−１５４７４０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記の化合物（クマリン６）は、熱的安定性の点で液晶表示装置等の表示装置のカラーフィルタに用いられる染料として十分に満足できるものではなかった。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、以下の発明を含む。
〔１〕  式（Ｉ）で表される化合物。
2013227552.tif 000002
［式（Ｉ）中、
Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜２０の１価の炭化水素基を表すか、Ｒ１及びＲ３が結合して隣接するベンゼン環上の炭素原子および隣接する窒素原子とともに環を形成し、Ｒ２及びＲ４が結合して隣接するベンゼン環上の炭素原子および隣接する窒素原子とともに環を形成し、または、Ｒ１及びＲ２が結合して隣接する窒素原子とともに環を形成する。該１価の炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子、硫黄原子、−Ｎ（Ｒ５）−、スルホニル基又はカルボニル基に置き換わっていてもよく、該１価の炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルバモイル基、スルファモイル基、−ＳＯ３Ｍ、−ＣＯ２Ｍ、ヒドロキシ基又はアミノ基に置き換わっていてもよい。
Ｒ５は、水素原子又は炭素数１〜２０の１価の炭化水素基を表す。Ｒ５が複数存在する場合、それらは互いに同一又は相異なる。
Ｍは、水素原子又はアルカリ金属原子を表す。］
〔２〕  Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜２０の１価の炭化水素基を表すか、Ｒ１及びＲ３が結合して隣接するベンゼン環上の炭素原子および隣接する窒素原子とともに環を形成し、または、Ｒ２及びＲ４が結合して隣接するベンゼン環上の炭素原子および隣接する窒素原子とともに環を形成する〔１〕記載の化合物。
〔３〕  Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜２０の１価の炭化水素基を表すか、Ｒ１及びＲ３が結合して隣接するベンゼン環上の炭素原子および隣接する窒素原子とともに環を形成し、並びに、Ｒ２及びＲ４が結合して隣接するベンゼン環上の炭素原子および隣接する窒素原子とともに環を形成する〔１〕または〔２〕記載の化合物。
〔４〕  式（ＩＩ）で表される化合物。
2013227552.tif 000003
［式（ＩＩ）中、
Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜２０の１価の炭化水素基を表す。該１価の炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子、硫黄原子、−Ｎ（Ｒ５）−、スルホニル基又はカルボニル基に置き換わっていてもよく、該１価の炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルバモイル基、スルファモイル基、−ＳＯ３Ｍ、−ＣＯ２Ｍ、ヒドロキシ基又はアミノ基に置き換わっていてもよい。
Ｒ５は、水素原子又は炭素数１〜２０の１価の炭化水素基を表す。Ｒ５が複数存在する場合、それらは互いに同一又は相異なる。
Ｍは、水素原子又はアルカリ金属原子を表す。］
〔５〕  Ｒ１及びＲ２が、それぞれ独立して、炭素数１〜２０の１価の炭化水素基を表し、該１価の炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子に置き換わっていてもよく、該１価の炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子に置き換わっていてもよい〔４〕記載の化合物。
〔６〕  〔１〕〜〔５〕のいずれか記載の化合物を含む染料。
【発明の効果】
【０００６】
本発明の化合物は、熱的安定性が高いため、液晶表示装置等の表示装置のカラーフィルタに用いられる染料として優れる。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
本発明の化合物は、式（Ｉ）で表される化合物（以下、化合物（Ｉ）ということがある。）である。本発明の化合物には、その互変異性体やそれらの塩も含まれる。
2013227552.tif 000004
［式（Ｉ）中、
Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜２０の１価の炭化水素基を表すか、Ｒ１及びＲ３が結合して隣接するベンゼン環上の炭素原子および隣接する窒素原子とともに環を形成し、または、Ｒ２及びＲ４が結合して隣接するベンゼン環上の炭素原子および隣接する窒素原子とともに環を形成する。該１価の炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子、硫黄原子、−Ｎ（Ｒ５）−、スルホニル基又はカルボニル基に置き換わっていてもよく、該１価の炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルバモイル基、スルファモイル基、−ＳＯ３Ｍ、−ＣＯ２Ｍ、ヒドロキシ基又はアミノ基に置き換わっていてもよい。
Ｒ５は、水素原子又は炭素数１〜２０の１価の炭化水素基を表す。Ｒ５が複数存在する場合、それらは互いに同一又は相異なる。
Ｍは、水素原子又はアルカリ金属原子を表す。］
【０００８】
式（Ｉ）中、Ｒ１〜Ｒ４におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。
【０００９】
式（Ｉ）中、Ｒ１〜Ｒ４における炭素数１〜２０の１価の炭化水素基としては、例えば、
メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、イソプロペニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、（２−エチル）ブチル基、２−ブテニル基、１，３−ブタジエニル基、ペンチル基、イソペンチル基、３−ペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、１−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、２−ペンテニル基、（３−エチル）ペンチル基、ヘキシル基、イソヘキシル基、５−メチルヘキシル基、（２−エチル）ヘキシル基、ヘプチル基、（３−エチル）ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、オクダデシル基等の脂肪族炭化水素基；
シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキセニル基、シクロヘプチル基、１−メチルシクロヘキシル基、２−メチルシクロヘキシル基、３−メチルシクロヘキシル基、４−メチルシクロヘキシル基、１，２−ジメチルシクロヘキシル基、１，３−ジメチルシクロヘキシル基、１，４−ジメチルシクロヘキシル基、２，３−ジメチルシクロヘキシル基、２，４−ジメチルシクロヘキシル基、２，５−ジメチルシクロヘキシル基、２，６−ジメチルシクロヘキシル基、３，４−ジメチルシクロヘキシル基、３，５−ジメチルシクロヘキシル基、２，２−ジメチルシクロヘキシル基、３，３−ジメチルシクロヘキシル基、４，４−ジメチルシクロヘキシル基、２，４，６−トリメチルシクロヘキシル基、２，２，６，６−テトラメチルシクロヘキシル基、３，３，５，５−テトラメチルシクロヘキシル基などの脂環式炭化水素基；
フェニル基、ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基、キシリル基、メシチル基、ｏ−クメニル基、ｍ−クメニル基、ｐ−クメニル基、ベンジル基、フェネチル基、ビフェニリル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基等の芳香族炭化水素基；
及び、それらの組み合わせによる基が挙げられる。
【００１０】
これら１価の炭化水素基を構成するメチレン基が、酸素原子、硫黄原子、−Ｎ（Ｒ5）−、スルホニル基又はカルボニル基に置き換わったり、１価の炭化水素基に含まれる水素原子が、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルバモイル基、スルファモイル基、−ＳＯ３Ｍ、−ＣＯ２Ｍ、ヒドロキシ基又はアミノ基に置き換わったりした基としては、例えば、
メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、（２−エチル）ヘキシルオキシ基等のアルコキシ基；
フェノキシ基等のアリールオキシ基；
ベンジルオキシ基等のアラルキルオキシ基；
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基；
アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等のアシルオキシ基；
【００１１】
Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ−エチルカルバモイル基、Ｎ−プロピルカルバモイル基、Ｎ−イソプロピルカルバモイル基、Ｎ−ブチルカルバモイル基、Ｎ−イソブチルカルバモイル基、Ｎ−ｓｅｃ−ブチルカルバモイル基、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルカルバモイル基、Ｎ−ペンチルカルバモイル基、Ｎ−（１−エチルプロピル）カルバモイル基、Ｎ−（１，１−ジメチルプロピル）カルバモイル基、Ｎ−（１，２−ジメチルプロピル）カルバモイル基、Ｎ−（２，２−ジメチルプロピル）カルバモイル基、Ｎ−（１−メチルブチル）カルバモイル基、Ｎ−（２−メチルブチル）カルバモイル基、Ｎ−（３−メチルブチル）カルバモイル基、Ｎ−シクロペンチルカルバモイル基、Ｎ−ヘキシルカルバモイル基、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）カルバモイル基、Ｎ−（３，３−ジメチルブチル）カルバモイル基、Ｎ−ヘプチルカルバモイル基、Ｎ−（１−メチルヘキシル）カルバモイル基、Ｎ−（１，４−ジメチルペンチル）カルバモイル基、Ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−（２−エチルヘキシル）カルバモイル基、Ｎ−（１，５−ジメチル）ヘキシルカルバモイル基、Ｎ−（１，１，２，２−テトラメチルブチル）カルバモイル基等のＮ−１置換カルバモイル基；
Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−エチルメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−プロピルメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−イソプロピルメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ブチルエチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ビス（１−メチルプロピル）カルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ヘプチルメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ビス（２−エチルヘキシル）カルバモイル基等のＮ，Ｎ−２置換カルバモイル基；
【００１２】
Ｎ−メチルスルファモイル基、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−プロピルスルファモイル基、Ｎ−イソプロピルスルファモイル基、Ｎ−ブチルスルファモイル基、Ｎ−イソブチルスルファモイル基、Ｎ−ｓｅｃ−ブチルスルファモイル基、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルスルファモイル基、Ｎ−ペンチルスルファモイル基、Ｎ−（１−エチルプロピル）スルファモイル基、Ｎ−（１，１−ジメチルプロピル）スルファモイル基、Ｎ−（１，２−ジメチルプロピル）スルファモイル基、Ｎ−（２，２−ジメチルプロピル）スルファモイル基、Ｎ−（１−メチルブチル）スルファモイル基、Ｎ−（２−メチルブチル）スルファモイル基、Ｎ−（３−メチルブチル）スルファモイル基、Ｎ−シクロペンチルスルファモイル基、Ｎ−ヘキシルスルファモイル基、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）スルファモイル基、Ｎ−（３，３−ジメチルブチル）スルファモイル基、Ｎ−ヘプチルスルファモイル基、Ｎ−（１−メチルヘキシル）スルファモイル基、Ｎ−（１，４−ジメチルペンチル）スルファモイル基、Ｎ−オクチルスルファモイル基、Ｎ−（２−エチルヘキシル）スルファモイル基、Ｎ−（１，５−ジメチル）ヘキシルスルファモイル基、Ｎ−（１，１，２，２−テトラメチルブチル）スルファモイル基等のＮ−１置換スルファモイル基；
Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−エチルメチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−プロピルメチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−イソプロピルメチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルメチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ブチルエチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ビス（１−メチルプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ヘプチルメチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ビス（２−エチルヘキシル）スルファモイル基等のＮ，Ｎ−２置換スルファモイル基；
【００１３】
Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ−イソプロピルアミノ基、Ｎ−ブチルアミノ基、Ｎ−イソブチルアミノ基、Ｎ−ｓｅｃ−ブチルアミノ基、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、Ｎ−ペンチルアミノ基、Ｎ−（１−エチルプロピル）アミノ基、Ｎ−（１，１−ジメチルプロピル）アミノ基、Ｎ−（１，２−ジメチルプロピル）アミノ基、Ｎ−（２，２−ジメチルプロピル）アミノ基、Ｎ−（１−メチルブチル）アミノ基、Ｎ−（２−メチルブチル）アミノ基、Ｎ−（３−メチルブチル）アミノ基、Ｎ−シクロペンチルアミノ基、Ｎ−ヘキシルアミノ基、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）アミノ基、Ｎ−（３，３−ジメチルブチル）アミノ基、Ｎ−ヘプチルアミノ基、Ｎ−（１−メチルヘキシル）アミノ基、Ｎ−（１，４−ジメチルペンチル）アミノ基、Ｎ−オクチルアミノ基、Ｎ−（２−エチルヘキシル）アミノ基、Ｎ−（１，５−ジメチル）ヘキシルアミノ基、Ｎ−（１，１，２，２−テトラメチルブチル）アミノ基等のＮ−アルキルアミノ基；
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−エチルメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−プロピルメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−イソプロピルメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ブチルエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ビス（１−メチルプロピル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ヘプチルメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ビス（２−エチルヘキシル）アミノ基等のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基；
【００１４】
Ｎ−メチルアミノメチル基、Ｎ−エチルアミノメチル基、Ｎ−プロピルアミノメチル基、Ｎ−イソプロピルアミノメチル基、Ｎ−ブチルアミノメチル基、Ｎ−イソブチルアミノメチル基、Ｎ−ｓｅｃ−ブチルアミノメチル基、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアミノメチル基、Ｎ−ペンチルアミノメチル基、Ｎ−（１−エチルプロピル）アミノメチル基、Ｎ−（１，１−ジメチルプロピル）アミノメチル基、Ｎ−（１，２−ジメチルプロピル）アミノメチル基、Ｎ−（２，２−ジメチルプロピル）アミノメチル基、Ｎ−（１−メチルブチル）アミノメチル基、Ｎ−（２−メチルブチル）アミノメチル基、Ｎ−（３−メチルブチル）アミノメチル基、Ｎ−シクロペンチルアミノメチル基、Ｎ−ヘキシルアミノメチル基、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）アミノメチル基、Ｎ−（３，３−ジメチルブチル）アミノメチル基、Ｎ−ヘプチルアミノメチル基、Ｎ−（１−メチルヘキシル）アミノメチル基、Ｎ−（１，４−ジメチルペンチル）アミノメチル基、Ｎ−オクチルアミノメチル基、Ｎ−（２−エチルヘキシル）アミノメチル基、Ｎ−（１，５−ジメチル）ヘキシルアミノメチル基、Ｎ−（１，１，２，２−テトラメチルブチル）アミノメチル基等のＮ−アルキルアミノメチル基；
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチル基、Ｎ，Ｎ−エチルメチルアミノメチル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノメチル基、Ｎ，Ｎ−プロピルメチルアミノメチル基、Ｎ，Ｎ−イソプロピルメチルアミノメチル基、Ｎ，Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルメチルアミノメチル基、Ｎ，Ｎ−ブチルエチルアミノメチル基、Ｎ，Ｎ−ビス（１−メチルプロピル）アミノメチル基、Ｎ，Ｎ−ヘプチルメチルアミノメチル基、Ｎ，Ｎ−ビス（２−エチルヘキシル）アミノメチル基等のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノメチル基；
【００１５】
トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロイソプロペニル基、ペルフルオロ（１−プロペニル）基、ペルフルオロ（２−プロペニル）基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロイソブチル基、ペルフルオロ（ｓｅｃ−ブチル）基、ペルフルオロ（ｔｅｒｔ−ブチル）基、ペルフルオロ（２−ブテニル）基、ペルフルオロ（１，３−ブタジエニル）基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロ（イソペンチル）基、ペルフルオロ（３−ペンチル）基、ペルフルオロネオペンチル基、ペルフルオロ（ｔｅｒｔ−ペンチル）基、ペルフルオロ（１−メチルペンチル）基、ペルフルオロ（２−メチルペンチル）基、ペルフルオロ（２−ペンテニル）基、ペルフルオロヘキシル基、ペルフルオロイソヘキシル基、ペルフルオロ（５−メチルヘキシル）基、ペルフルオロ（２−エチルヘキシル）基、ペルフルオロヘプチル基、ペルフルオロオクチル基、ペルフルオロノニル基、ペルフルオロデシル基、ペルフルオロウンデシル基、ペルフルオロドデシル基、ペルフルオロオクタデシル基等のフッ素原子を有する脂肪族炭化水素基；
【００１６】
ペルフルオロシクロプロピル基、ペルフルオロシクロブチル基、ペルフルオロシクロペンチル基、ペルフルオロシクロヘキシル基、ペルフルオロシクロヘキセニル基、ペルフルオロシクロヘプチル基、ペルフルオロ（１−メチルシクロヘキシル）基、ペルフルオロ（２−メチルシクロヘキシル）基、ペルフルオロ（３−メチルシクロヘキシル）基、ペルフルオロ（４−メチルシクロヘキシル）基、ペルフルオロ（１，２−ジメチルシクロヘキシル）基、ペルフルオロ（１，３−ジメチルシクロヘキシル）基、ペルフルオロ（１，４−ジメチルシクロヘキシル）基、ペルフルオロ（２，３−ジメチルシクロヘキシル）基、ペルフルオロ（２，４−ジメチルシクロヘキシル）基、ペルフルオロ（２，５−ジメチルシクロヘキシル）基、ペルフルオロ（２，６−ジメチルシクロヘキシル）基、ペルフルオロ（３，４−ジメチルシクロヘキシル）基、ペルフルオロ（３，５−ジメチルシクロヘキシル）基、ペルフルオロ（２，２−ジメチルシクロヘキシル）基、ペルフルオロ（３，３−ジメチルシクロヘキシル）基、ペルフルオロ（４，４−ジメチルシクロヘキシル）基、ペルフルオロ（２，４，６−トリメチルシクロヘキシル）基、ペルフルオロ（２，２，６，６−テトラメチルシクロヘキシル）基、ペルフルオロ（３，３，５，５−テトラメチルシクロヘキシル）基等のフッ素原子を有する脂環式炭化水素基；
【００１７】
ペルフルオロフェニル基、ペルフルオロ（ｏ−トリル）基、ペルフルオロ（ｍ−トリル）基、ペルフルオロ（ｐ−トリル）基、ペルフルオロキシリル基、ペルフルオロメシチル基、ペルフルオロ（ｏ−クメニル）基、ペルフルオロ（ｍ−クメニル）基、ペルフルオロ（ｐ−クメニル）基、ペルフルオロベンジル基、ペルフルオロフェネチル基、ペルフルオロビフェニリル基、ペルフルオロ（１−ナフチル）基、ペルフルオロ（２−ナフチル）基、１−トリフルオロメチルフェニル基、２−トリフルオロメチルフェニル基、３−トリフルオロメチルフェニル基、４−トリフルオロメチルフェニル基等のフッ素原子を有する芳香族炭化水素基；
【００１８】
ペルフルオロメトキシ基、ペルフルオロエトキシ基、ペルフルオロプロポキシ基、ペルフルオロ（イソプロポキシ）基、ペルフルオロブトキシ基、ペルフルオロ（イソブトキシ）基、ペルフルオロ（ｓｅｃ−ブトキシ）基、ペルフルオロ（ｔｅｒｔ−ブトキシ）基、ペルフルオロペンチルオキシ基、ペルフルオロフェノキシ基、ペルフルオロベンジルオキシ基、２，２，２−トリフルオロエトキシ基、（ペルフルオロエチル）メトキシ基、（ペルフルオロプロピル）メトキシ基、（ペルフルオロ（イソプロピル））メトキシ基、（ペルフルオロ（イソプロペニル））メトキシ基、（ペルフルオロ（１−プロペニル））メトキシ基、（ペルフルオロ（２−プロペニル））メトキシ基、（ペルフルオロブチル）メトキシ基、（ペルフルオロ（イソブチル））メトキシ基、（ペルフルオロ（ｓｅｃ−ブチル））メトキシ基、（ペルフルオロ（ｔｅｒｔ−ブチル））メトキシ基、（ペルフルオロ（２−ブテニル））メトキシ基、（ペルフルオロ（１，３−ブタジエニル））メトキシ基、（ペルフルオロペンチル）メトキシ基、（ペルフルオロ（イソペンチル））メトキシ基、（ペルフルオロ（３−ペンチル））メトキシ基、（ペルフルオロ（ネオペンチル））メトキシ基、（ペルフルオロ（ｔｅｒｔ−ペンチル））メトキシ基、（ペルフルオロ（１−メチルペンチル））メトキシ基、（ペルフルオロ（２−メチルペンチル））メトキシ基、（ペルフルオロ（２−ペンテニル））メトキシ基、（ペルフルオロヘキシル）メトキシ基、（ペルフルオロ（イソヘキシル））メトキシ基、（ペルフルオロ（５−メチルヘキシル））メトキシ基、（ペルフルオロ（（２−エチル）ヘキシル））メトキシ基、（ペルフルオロヘプチル）メトキシ基、（ペルフルオロオクチル）メトキシ基、（ペルフルオロノニル）メトキシ基、（ペルフルオロデシル）メトキシ基、（ペルフルオロウンデシル）メトキシ基、（ペルフルオロドデシル）メトキシ基、（ペルフルオロオクタデシル）メトキシ基等のフッ素原子を有する置換オキシ基；
【００１９】
２，３−ビス（トリフルオロメチル）フェニルメチル基、２，４−ビス（トリフルオロメチル）フェニルメチル基、２，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニルメチル基、２，６−ビス（トリフルオロメチル）フェニルメチル基、３，４−ビス（トリフルオロメチル）フェニルメチル基、３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニルメチル基等が挙げられる。
【００２０】
Ｒ１及びＲ２としては、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基が好ましい。該脂肪族炭化水素基に含まれる水素原子は、脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基で置き換わっていてもよい。該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基で置き換わっていてもよい。該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基で置き換わっていてもよい。
【００２１】
Ｒ１としては、炭素数１〜１０の脂肪族炭化水素基が好ましい。中でも、エチル基、ブチル基、ヘキシル基、（２−エチル）ヘキシル基及びオクチル基がより好ましく、エチル基、ブチル基、ヘキシル基及び（２−エチル）ヘキシル基がさらに好ましく、（２−エチル）ヘキシル基が特に好ましい。Ｒ１がこれらの基である本発明の化合物は溶媒への溶解性に優れる。
【００２２】
Ｒ２としては、炭素数１〜１０の脂肪族炭化水素基が好ましい。中でも、エチル基、ブチル基、ヘキシル基、（２−エチル）ヘキシル基及びオクチル基がより好ましく、エチル基、ブチル基、ヘキシル基及び（２−エチル）ヘキシル基がさらに好ましく、ヘキシル基及び（２−エチル）ヘキシル基が特に好ましい。Ｒ２がこれらの基である本発明の化合物は溶媒への溶解性に優れる。
【００２３】
Ｒ３及びＲ４は、製造し易さの点で、水素原子であることが好ましい。
【００２４】
Ｒ１及びＲ３が結合して隣接するベンゼン環上の炭素原子および隣接する窒素原子とともに環を形成し、またはＲ２及びＲ４が結合して隣接するベンゼン環上の炭素原子および隣接する窒素原子とともに環を形成する場合、＊−Ｒ１−Ｒ３−＊及び＊−Ｒ２−Ｒ４−＊としては、＊−ＣＨ２−ＣＨ２−＊、＊−ＣＦ２−ＣＦ２−＊、＊−ＣＨ２−Ｃ（ＣＨ２）５−＊、＊−ＣＨ２−Ｃ（ＣＨ３）２−＊等が挙げられ、＊−ＣＨ２−ＣＨ２−＊及び＊−ＣＨ２−Ｃ（ＣＨ３）２−＊が好ましく、その中でも＊−ＣＨ２−Ｃ（ＣＨ３）２−＊が特に好ましい。＊は結合手を表す。
【００２５】
Ｒ１及びＲ２が結合して隣接する窒素原子とともに環を形成する場合、＊−Ｒ１−Ｒ２−＊としては、＊−（ＣＨ２）２−＊、＊−（ＣＨ２）３−＊、＊−（ＣＨ２）４−＊、＊−（ＣＨ２）５−＊、＊−（ＣＨ２）６−＊、＊−（ＣＨ２）７−＊、＊−（ＣＦ２）２−＊、＊−（ＣＦ２）３−＊、＊−（ＣＦ２）４−＊、＊−（ＣＦ２）５−＊、＊−（ＣＦ２）６−＊、＊−（ＣＦ２）７−＊等が挙げられ、＊−（ＣＨ２）４−＊、＊−（ＣＨ２）５−＊、＊−（ＣＨ２）６−＊、＊−（ＣＦ２）４−＊、＊−（ＣＦ２）５−＊及び＊−（ＣＦ２）６−が好ましく、その中でも＊−（ＣＨ２）４−＊、＊−（ＣＨ２）５−＊及び＊−（ＣＨ２）６−＊が好ましく、＊−（ＣＨ２）４−＊及び＊−（ＣＨ２）５−＊が特に好ましい。＊は結合手を表す。
【００２６】
Ｒ５における炭素数１〜２０の１価の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、イソプロペニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、（２−エチル）ブチル基、２−ブテニル基、１，３−ブタジエニル基、ペンチル基、イソペンチル基、３−ペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、１−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、２−ペンテニル基、（３−エチル）ペンチル基、ヘキシル基、イソヘキシル基、５−メチルヘキシル基、（２−エチル）ヘキシル基、ヘプチル基、（３−エチル）ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、オクダデシル基等の脂肪族炭化水素基；
シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキセニル基、シクロヘプチル基、１−メチルシクロヘキシル基、２−メチルシクロヘキシル基、３−メチルシクロヘキシル基、４−メチルシクロヘキシル基、１，２−ジメチルシクロヘキシル基、１，３−ジメチルシクロヘキシル基、１，４−ジメチルシクロヘキシル基、２，３−ジメチルシクロヘキシル基、２，４−ジメチルシクロヘキシル基、２，５−ジメチルシクロヘキシル基、２，６−ジメチルシクロヘキシル基、３，４−ジメチルシクロヘキシル基、３，５−ジメチルシクロヘキシル基、２，２−ジメチルシクロヘキシル基、３，３−ジメチルシクロヘキシル基、４，４−ジメチルシクロヘキシル基、２，４，６−トリメチルシクロヘキシル基、２，２，６，６−テトラメチルシクロヘキシル基、３，３，５，５−テトラメチルシクロヘキシル基等の脂環式炭化水素基；
フェニル基、ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基、キシリル基、メシチル基、ｏ−クメニル基、ｍ−クメニル基、ｐ−クメニル基、ベンジル基、フェネチル基、ビフェニリル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基等の芳香族炭化水素基；
及び、それらを組み合わせた基が挙げられる。
【００２７】
Ｍは、水素原子又はアルカリ金属原子を表し、好ましくは水素原子、ナトリウム原子又はカリウム原子であり、より好ましくは水素原子である。
【００２８】
化合物（Ｉ）としては、例えば、式（Ｉ−１）〜式（Ｉ−４４）でそれぞれ表される化合物及びそれらの塩が挙げられる。
【００２９】
2013227552.tif 000005
【００３０】
2013227552.tif 000006
【００３１】
2013227552.tif 000007
【００３２】
2013227552.tif 000008
【００３３】
2013227552.tif 000009
【００３４】
2013227552.tif 000010
【００３５】
2013227552.tif 000011
【００３６】
2013227552.tif 000012
【００３７】
2013227552.tif 000013
【００３８】
2013227552.tif 000014
【００３９】
2013227552.tif 000015
【００４０】
2013227552.tif 000016
【００４１】
2013227552.tif 000017
【００４２】
2013227552.tif 000018
【００４３】
2013227552.tif 000019
【００４４】
2013227552.tif 000020
【００４５】
2013227552.tif 000021
【００４６】
2013227552.tif 000022
【００４７】
2013227552.tif 000023
【００４８】
2013227552.tif 000024
【００４９】
2013227552.tif 000025
【００５０】
2013227552.tif 000026
【００５１】
合成のしやすさの観点から、化合物（Ｉ）としては、化合物（Ｉ−１）〜化合物（Ｉ−８）及び化合物（Ｉ−１５）〜化合物（Ｉ−４２）が好ましく、その中でも化合物（Ｉ−１）〜化合物（Ｉ−４）、化合物（Ｉ−１５）〜化合物（Ｉ−３２）及び化合物（Ｉ−３９）〜化合物（Ｉ−４２）が好ましく、その中でも化合物（Ｉ−１）〜化合物（Ｉ−４）、化合物（Ｉ−１５）〜化合物（Ｉ−２０）、化合物（Ｉ−２７）〜化合物（Ｉ−２８）、化合物（Ｉ−３１）〜化合物（Ｉ−３２）及び化合物（Ｉ−３９）〜化合物（Ｉ−４２）がさらに好ましい。
【００５２】
本発明の化合物（Ｉ）は、例えば、Dyes and Pigments (2008), 77, 556-558.に記載された方法に準じて製造することができる。
化合物（Ｉ）の具体的な製造方法としては、式（ａ１）で表される化合物、式（ａ２）で表される化合物及びシアノ酢酸エチルを、安息香酸及び溶媒存在下、環化反応させる方法が挙げられる。反応温度は、０℃〜２００℃が好ましく、１００℃〜１５０℃がより好ましい。反応時間は、１時間〜２４時間が好ましく、８時間〜１６時間がより好ましい。前記溶媒としては、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−ブタノール、１−ペンタノール、１−オクタノール又はＮ−メチルピロリドン等が挙げられ、１−ペンタノールが好ましい。
2013227552.tif 000027
［式（ａ１）及び式（ａ２）中、Ｒ１〜Ｒ４及びＭは、それぞれ上記と同じ意味を表す。
］
【００５３】
化合物（Ｉ）の製造において、式（ａ１）で表される化合物の使用量は、式（ａ２）で表される化合物１モルに対して、好ましくは１モル〜１０モルであり、より好ましくは１モルであり、さらに好ましくは１モル〜３モルであり、さらにより好ましくは１モルである。
【００５４】
化合物（Ｉ）の製造において、シアノ酢酸エチルの使用量は、式（ａ２）で表される化合物１モルに対して、好ましくは１モル〜１０モルであり、より好ましくは１モル〜４モルであり、より好ましくは１モル〜３モルであり、より好ましくは１モルである。
【００５５】
化合物（Ｉ）の製造において、安息香酸の使用量は、式（ａ２）で表される化合物１モルに対して、好ましくは０．１モル〜３モルであり、さらに好ましくは０．３モル〜３モルであり、さらにより好ましくは０．３モル〜１．２モルであり、特に好ましくは０．３〜０．４モルである。
【００５６】
反応混合物から目的化合物である本発明の化合物（Ｉ）を取得する方法は特に限定されず、公知の種々の手法が採用できる。例えば、反応混合物の温度を適宜調整する方法、又は反応混合物を化合物（I）が溶解しない溶媒に加える方法で結晶を析出させ、該結晶を濾取することが好ましい。濾取した結晶は、水、アセトニトリル、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−ブタノール、１−ペンタノール、１−オクタノール、テトラヒドロフラン、アセトン、酢酸、酢酸エチル、ヘキサン、トルエン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、クロロホルム又はこれらの混合液等の溶媒で洗浄又は再結晶し、次いで乾燥することが好ましい。また必要に応じて、カラムクロマトグラフィー又は再結晶等の公知の手法によってさらに精製してもよい。
【実施例】
【００５７】
次に実施例等を挙げて、本発明をさらに具体的に説明する。
実施例及び比較例中、含有量や使用量を表す％及び部は、特記ない限り、質量基準である。
【００５８】
以下の実施例において、化合物の構造はＮＭＲ（ＪＭＭ−ＥＣＡ−５００；日本電子（株）製）又は質量分析（ＬＣ；Ａｇｉｌｅｎｔ製１２００型、ＭＡＳＳ；Ａｇｉｌｅｎｔ製ＬＣ／ＭＳＤ６１３０型）で確認した。
【００５９】
実施例１
４−アミノ−３−ヒドロキシ安息香酸（東京化成工業（株）製）１０．０部、４−（ジエチルアミノ）サリチルアルデヒド（東京化成工業（株）製）１２．８部、安息香酸（東京化成工業（株）製）２．７３部、１−ペンタノール（東京化成工業（株）製）１５７部及びシアノ酢酸エチル（東京化成工業（株）製）７．４３部を混合し、１２０℃で３時間攪拌した。シアノ酢酸エチル（東京化成工業（株）製）７．４６部、安息香酸（東京化成工業（株）製）２．７９部、１−ペンタノール（東京化成工業（株）製）４９．８部及び４−（ジエチルアミノ）サリチルアルデヒド（東京化成工業（株）製）１２．７部を加え、１２０℃で１４時間攪拌した。シアノ酢酸エチル（東京化成工業（株）製）３．７６部、安息香酸（東京化成工業（株）製）１．４１部、１−ペンタノール（東京化成工業（株）製）５２．５部及び４−（ジエチルアミノ）サリチルアルデヒド（東京化成工業（株）製）６．３５部を加え、１２０℃で８時間攪拌した。上記の反応液を室温まで冷却後、析出した結晶を吸引ろ過の残渣として得た。この残渣にテトラヒドロフラン１４０部を加え、７０℃で１時間撹拌した後、不溶物を吸引ろかの残渣として得た。この残渣にテトラヒドロフラン１２０部を加え、７０℃で１時間撹拌した後、不溶物を吸引ろかの残渣として得た。この残渣にＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３４０部を加え、９０℃に加熱して溶解させた後、０℃〜５℃で静置した。析出した結晶を吸引ろ過の残渣として得た。この残渣を、６０℃で減圧乾燥して、式（Ｉ−１）で表される化合物５．６９部を得た。１Ｈ−ＮＭＲにて構造を確認した。
2013227552.tif 000028
＜式（Ｉ−１）で表される化合物の同定＞
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）：１．１４（６Ｈ，ｔ），３．４７（４Ｈ，ｑ），６．５７（１Ｈ，ｄ），６．７８（１Ｈ，ｄｄ），７．６８（１Ｈ，ｄ），７．７９（１Ｈ，ｄ），７．９６（１Ｈ，ｄｄ），８．１５（１Ｈ，ｄ），８．８０（１Ｈ，ｓ），１３．１１（１Ｈ，ｓ）
【００６０】
実施例２
４−（ジブチルアミノ）サリチルアルデヒド（東京化成工業（株）製）２４．８部、４−アミノ−３−ヒドロキシ安息香酸（東京化成工業（株）製）１５．３部、安息香酸（東京化成工業（株）製）４．２０部、１−ペンタノール（東京化成工業（株）製）２４２部及びシアノ酢酸エチル（東京化成工業（株）製）１１．３部を混合し、１２０℃で５時間攪拌した。シアノ酢酸エチル（東京化成工業（株）製）４．６１部、安息香酸（東京化成工業（株）製）１．７０部、４−（ジブチルアミノ）サリチルアルデヒド（東京化成工業（株）製）１０．１部及び１−ペンタノール（東京化成工業（株）製）１０．０部を加え、１２０℃で３時間攪拌した。シアノ酢酸エチル（東京化成工業（株）製）４．６０部、安息香酸（東京化成工業（株）製）１．７０部、４−（ジブチルアミノ）サリチルアルデヒド（東京化成工業（株）製）１０．２部及び１−ペンタノール（東京化成工業（株）製）１０．０部を加え、１２０℃で３時間攪拌した。シアノ酢酸エチル（東京化成工業（株）製）４．６１部、安息香酸（東京化成工業（株）製）１．７１部及び４−（ジブチルアミノ）サリチルアルデヒド（東京化成工業（株）製）１０．３部を加え、１２０℃で１８時間攪拌した。上記の反応液を室温まで冷却後、ヘキサン１９００部に加え撹拌した。析出した結晶を吸引ろ過の残渣として得た。この残渣にテトラヒドロフラン３２８部を加え、６０℃で再結晶した。析出した結晶を吸引ろかの残渣として得た。この残渣にテトラヒドロフラン１６０部を加え撹拌し、不溶物を吸引ろかの残渣として得た。この残渣を、６０℃で減圧乾燥して、式（Ｉ−３）で表される化合物１８．９部を得た。１Ｈ−ＮＭＲにて構造を確認した。
2013227552.tif 000029
＜式（Ｉ−３）で表される化合物の同定＞
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）：０．９２（６Ｈ，ｔ），１．３４（４Ｈ，ｑｔ），１．５４（４Ｈ，ｔｔ），３．４１（４Ｈ，ｔ），６．５６（１Ｈ，ｄ），６．７８（１Ｈ，ｄｄ），７．６９（１Ｈ，ｄ），７．８０（１Ｈ，ｄ），７．９８（１Ｈ，ｄｄ），８．１７（１Ｈ，ｄ），８．８２（１Ｈ，ｓ），１３．１１（１Ｈ，ｓ）．
【００６１】
実施例３
４−アミノ−３−ヒドロキシ安息香酸（東京化成工業（株）製）４．３２部、４−（ビス（２−エチルヘキシル）アミノ）サリチルアルデヒド（特表２００７−５０８２７５に記載された方法に準じて合成した）１０．２部、安息香酸（東京化成工業（株）製）１．１８部、１−ペンタノール（東京化成工業（株）製）６８．０部及びシアノ酢酸エチル（東京化成工業（株）製）３．１９部を混合し、１２０℃で３時間攪拌した。この反応溶液に４−（ビス（２−エチルヘキシル）アミノ）サリチルアルデヒド（特表２００７−５０８２７５に記載された方法に準じて合成した）１５．３部、安息香酸（東京化成工業（株）製）１．８０部、１−ペンタノール（東京化成工業（株）製）１０．０部及びシアノ酢酸エチル（東京化成工業（株）製）４．８０部を加え、１２０℃で１２時間攪拌した。上記の反応液を室温まで冷却後、ロータリーエバポレーターで溶媒留去し、残渣を得た。この残渣をカラムクロマトグラフィーで精製し、式（Ｉ−１５）で表される化合物６．３２部を得た。
2013227552.tif 000030
＜式（Ｉ−１５）で表される化合物の同定＞
（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ＋：  ｍ／ｚ＝[Ｍ＋Ｈ]＋  ５４７．３
Ｅｘａｃｔ  Ｍａｓｓ：  ５４６．３
【００６２】
実施例４
レゾルシノール（東京化成工業（株）製）２７５部とｎ−ヘキシルアミン（東京化成工業（株）製）１０１部を混合し、１５０〜１５５℃で生成する水を除去しながら２０時間撹拌した。放冷後、反応混合物をトルエン４３３部に溶解し、このトルエン溶液を水１０００部で３回洗浄した。このトルエン溶液に無水硫酸マグネシウム５０部を加えて撹拌した後、ろ過した。ろ液の溶媒を留去して粗生成物を得た。この粗生成物をトルエン２３４部に溶解し、０℃以下で撹拌し、晶析物を濾過により取り出した。この晶析物を５０℃で減圧乾燥して、式（ｐｔ１）で表される化合物９５．７部を得た。
2013227552.tif 000031
＜式（ｐｔ１）で表される化合物の同定＞
（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ＋：  ｍ／ｚ＝[Ｍ＋Ｈ]＋  １９４．２
Ｅｘａｃｔ  Ｍａｓｓ：  １９３．２
【００６３】
式（ｐｔ１）で表される化合物９５．３部と水４８.０部を混合し、８０℃で撹拌した。続いて、１−ブロモ−２−エチルヘキサン（東京化成工業（株）製）１０７部を加えながら、８０℃で３時間撹拌した後、４８％水酸化ナトリウム水溶液２２．４部を加えた。この混合物を１１０℃で１８時間撹拌した。放冷後、反応混合物を１０％水酸化ナトリウム水溶液を用いてｐＨを５に調整し、トルエン１３０部を加えて撹拌し、トルエン層を抽出した。トルエン抽出液を水５００部で２回洗浄し、無水硫酸マグネシウム２５.０部を加えて撹拌し、ろ過した。ろ液の溶媒を留去し、式（ｐｔ２）で表される化合物を主成分として含む残渣１５４部を得た。
2013227552.tif 000032
＜式（ｐｔ２）で表される化合物の同定＞
（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ＋：  ｍ／ｚ＝[Ｍ＋Ｈ]＋  ３０６．３
Ｅｘａｃｔ  Ｍａｓｓ：  ３０５．３
【００６４】
得られた式（ｐｔ２）で表される化合物を主成分として含む残渣１５４部とＮ，Ｎ―ジメチルホルムアミド５９７部を混合し、−６℃〜３℃で撹拌した。これに、液温を−６℃〜３℃に保ちながら、塩化ホスホリル（和光純薬工業（株）製）２５８部を加えた。この混合物を室温で１時間撹拌した後、６０℃で４時間撹拌した。放冷後、反応混合物を氷１５００部に加え、４８％水酸化ナトリウム水溶液を用いて中和した。これにトルエン８６７部を加え、トルエン層を抽出した。このトルエン抽出液を１５％塩化ナトリウム水溶液１２００部で２回洗浄した。このトルエン抽出液に無水硫酸マグネシウム６０．０部を加えて撹拌した後、ろ過した。ろ液の溶媒を留去して残渣を得た。この残渣をカラムクロマトグラフィーで精製し、式（ｐｔ３）で表される化合物９４．４部を得た。
2013227552.tif 000033
＜式（ｐｔ３）で表される化合物の同定＞
（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ＋：  ｍ／ｚ＝[Ｍ＋Ｈ]＋  ３３４．３
Ｅｘａｃｔ  Ｍａｓｓ：  ３３３．３
【００６５】
４−アミノ−３−ヒドロキシ安息香酸（東京化成工業（株）製）６．８９部、式（ｐｔ３）で表される化合物１５．０部、安息香酸（東京化成工業（株）製）１．８７部、１−ペンタノール（東京化成工業（株）製）１１０部及びシアノ酢酸エチル（東京化成工業（株）製）５．０９部を混合し、１２０℃で３時間攪拌した。この反応溶液に式（ｐｔ３）で表される化合物２２．５部、安息香酸（東京化成工業（株）製）２．８５部、１−ペンタノール（東京化成工業（株）製）１０．０部及びシアノ酢酸エチル（東京化成工業（株）製）７．６６部を混合し、１２０℃で１２時間攪拌した。上記の反応液を室温まで冷却後、溶媒を留去し、残渣を得た。この残渣をカラムクロマトグラフィーで精製し、式（Ｉ−１７）で表される化合物８．８６部を得た。
2013227552.tif 000034
＜式（Ｉ−１７）で表される化合物の同定＞
（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ＋：  ｍ／ｚ＝[Ｍ＋Ｈ]＋  ５１９．３
Ｅｘａｃｔ  Ｍａｓｓ：  ５１８．３
【００６６】
実施例５
レゾルシノール１３８部に２−エチルヘキシルアミン６４．５部を加え、この混合物を１５０℃〜１５５℃で生成する水を除去しながら１８時間撹拌した。放冷後、反応混合物にトルエン２５０部を加え、水５００部で３回洗浄した。このトルエン溶液に無水硫酸マグネシウム２０．０部を加えて撹拌した後、ろ過した。ろ液の溶媒を留去し、式（ｐｔ４）で表される化合物を主成分として含む残渣１１３部を得た。
2013227552.tif 000035
＜式（ｐｔ４）で表される化合物の同定＞
（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ＋：  ｍ／ｚ＝[Ｍ＋Ｈ]＋  ２２２．２
Ｅｘａｃｔ  Ｍａｓｓ：  ２２１．２
【００６７】
得られた式（ｐｔ４）で表される化合物を主成分として含む残渣を５８．５部に水２３．０部を加え、撹拌しながら、液温を６０℃にした。この温度で、硫酸ジエチル３９．３部と４８％水酸化ナトリウム水溶液１０．６部を加えながら９時間撹拌した。その後、６０℃下で５時間撹拌した。放冷後、反応混合物を１０％水酸化ナトリウム水溶液で中和し、トルエン３００部を加えた。このトルエン溶液を水５００部で３回洗浄した。このトルエン溶液に無水硫酸マグネシウム２０．０部加えて撹拌した後、ろ過した。ろ液の溶媒を留去して、式（ｐｔ５）で表される化合物を主成分として含む残渣を６７．５部得た。
2013227552.tif 000036
＜式（ｐｔ５）で表される化合物の同定＞
（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ＋：  ｍ／ｚ＝[Ｍ＋Ｈ]＋  ２５０．２
Ｅｘａｃｔ  Ｍａｓｓ：  ２４９．２
【００６８】
得られた式（ｐｔ５）で表される化合物を主成分として含む残渣を６７．５部に、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３２３部を加えた。この混合溶液の温度を−６℃〜４℃に保ちながら、オキシ塩化リン１０５部を加えた。この反応液の温度を室温に戻して１時間撹拌した後、反応液の温度を６０℃に上げて３時間撹拌した。放冷後、反応混合物を氷水１５００部に加え、撹拌しながら４８％水酸化ナトリウム水溶液を加えて中和した。これにトルエン５００部を加え、トルエン層を抽出した。このトルエン溶液を水１０００部で洗浄した。次に、このトルエン溶液を飽和塩化ナトリウム水溶液１５００部で洗浄した。このトルエン溶液に、無水硫酸マグネシウム２５．０部を加えて撹拌した後、ろ過した。ろ液の溶媒を留去して残渣を得た。この残渣をカラムクロマトグラフィーで精製し、式（ｐｔ６）で表される化合物３６．７部を得た。
2013227552.tif 000037
＜式（ｐｔ６）で表される化合物の同定＞
（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ＋：  ｍ／ｚ＝[Ｍ＋Ｈ]＋  ２７８．２
Ｅｘａｃｔ  Ｍａｓｓ：  ２７７．２
【００６９】
４−アミノ−３−ヒドロキシ安息香酸（東京化成工業（株）製）８．２８部、式（ｐｔ６）で表される化合物１５．０部、安息香酸（東京化成工業（株）製）２．２５部、１−ペンタノール（東京化成工業（株）製）１３０部及びシアノ酢酸エチル（東京化成工業（株）製）６．１２部を混合し、１２０℃で３時間攪拌した。この反応溶液に式（ｐｔ６）で表される化合物２２．５部、安息香酸（東京化成工業（株）製）３．４０部、１−ペンタノール（東京化成工業（株）製）１０．０部及びシアノ酢酸エチル（東京化成工業（株）製）９．２０部を混合し、１２０℃で１２時間攪拌した。上記の反応液を室温まで冷却後、溶媒を留去し、残渣を得た。この残渣をカラムクロマトグラフィーで精製し、式（Ｉ−１９）で表される化合物８．７５部を得た。
2013227552.tif 000038
＜式（Ｉ−１９）で表される化合物の同定＞
（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ＋：  ｍ／ｚ＝[Ｍ＋Ｈ]＋  ４６３．２
Ｅｘａｃｔ  Ｍａｓｓ：  ４６２．２
【００７０】
実施例６
４−アミノ−３−ヒドロキシ安息香酸（東京化成工業（株）製）８．０１部、２−ヒドロキシ−４−（ピロリジン−１−イル）ベンズアルデヒド（Chem. Commun.2011,47, 2435.に準じて合成した）１０．０部、安息香酸（東京化成工業（株）製）２．１８部、１−ペンタノール（東京化成工業（株）製）１２７部及びシアノ酢酸エチル（東京化成工業（株）製）５．９１部を混合し、１２０℃で３時間攪拌した。この反応溶液に２−ヒドロキシ−４−（ピロリジン−１−イル）ベンズアルデヒド（Chem. Commun.2011,47, 2435.に準じて合成した）１５．０部、安息香酸（東京化成工業（株）製）３．３０部、１−ペンタノール（東京化成工業（株）製）１０．０部及びシアノ酢酸エチル（東京化成工業（株）製）８．９０部を混合し、１２０℃で１２時間攪拌した。上記の反応液を室温まで冷却後、溶媒を留去し、残渣を得た。この残渣をカラムクロマトグラフィーで精製し、式（Ｉ−３９）で表される化合物６．５０部を得た。
2013227552.tif 000039
＜式（Ｉ−３９）で表される化合物の同定＞
（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ＋：  ｍ／ｚ＝[Ｍ＋Ｈ]＋  ３７７．１
Ｅｘａｃｔ  Ｍａｓｓ：  ３７６．１
【００７１】
〔耐熱性評価〕
示差熱熱重量同時測定装置（エスアイアイ・ナノテクノロジー製  ＴＧ／ＤＴＡ６２００Ｒ）を用いて、実施例１〜実施例６でそれぞれ得られた化合物並びにクマリン６（東京化成工業（株）製）の示差走査熱量測定を行った。一回の測定に用いた試料量は５ｍｇであった。測定温度は、最初、２５℃から開始し、毎分１０℃の速度で昇温し、６００℃まで測定した。空気中において重量減少率が５％となる温度Ｔ５（空気下）、空気中において重量減少率が１０％となる温度Ｔ１０（空気下）、窒素雰囲気下において重量減少率が５％となる温度Ｔ５（窒素下）、および窒素雰囲気下において重量減少率が１０％となる温度Ｔ１０（窒素下）を求めた。結果を表１に示す。
【００７２】
【表１】
2013227552.tif 000040
表１の結果から、本発明の化合物は熱的安定性が高いことがわかる。
【００７３】
実施例７
４−アミノ−３−ヒドロキシ安息香酸（東京化成工業（株）製）９．２１部、８−ヒドロキシジュロリジン−９−カルボキシアルデヒド（東京化成工業（株）製）１３．１部、安息香酸（東京化成工業（株）製）２．５１部、１−ペンタノール（東京化成工業（株）製）１４５部及びシアノ酢酸エチル（東京化成工業（株）製）６．８０部を混合し、１２０℃で３時間攪拌する。シアノ酢酸エチル（東京化成工業（株）製）１０．２部、安息香酸（東京化成工業（株）製）３．８０部、８−ヒドロキシジュロリジン−９−カルボキシアルデヒド（東京化成工業（株）製）１９．６部及び１−ペンタノール（東京化成工業（株）製）１０．０部を加え、１２０℃で１２時間攪拌する。上記の反応液を室温まで冷却後、ロータリーエバポレーターで溶媒留去し、残渣を得る。この残渣をカラムクロマトグラフィーで精製し、式（Ｉ−５）で表される化合物を得る。
2013227552.tif 000041
【００７４】
実施例８
４−アミノ−３−ヒドロキシ安息香酸（東京化成工業（株）製）９．２１部、８−ヒドロキシ−１，１，７，７−テトラメチルジュロリジン−９−カルボキシアルデヒド（東京化成工業（株）製）１６．４部、安息香酸（東京化成工業（株）製）２．５１部、１−ペンタノール（東京化成工業（株）製）１４５部及びシアノ酢酸エチル（東京化成工業（株）製）６．８０部を混合し、１２０℃で３時間攪拌する。シアノ酢酸エチル（東京化成工業（株）製）１０．２部、安息香酸（東京化成工業（株）製）３．８０部、８−ヒドロキシ−１，１，７，７−テトラメチルジュロリジン−９−カルボキシアルデヒド（東京化成工業（株）製）２４．７部及び１−ペンタノール（東京化成工業（株）製）１０．０部を加え、１２０℃で１２時間攪拌する。上記の反応液を室温まで冷却後、ロータリーエバポレーターで溶媒留去し、残渣を得る。この残渣をカラムクロマトグラフィーで精製し、式（Ｉ−７）で表される化合物を得る。
2013227552.tif 000042
【産業上の利用可能性】
【００７５】
本発明の化合物は、熱的安定性が高いため、液晶表示装置等の表示装置のカラーフィルタに用いられる染料として有用であり、利用可能である。