(57)【要約】【課題】液晶パネルとの位置合わせを精度良く行うことができるパターン位相差板を提供する。【解決手段】パターン位相差板１００に長尺の基材フィルム１１０と接着層１２０とパターン位相差フィルム層１３０とをこの順に設け、パターン位相差フィルム層１３０は、位相差又は遅相軸方向が異なる２種類以上の領域１３１，１３２を有し、領域１３１，１３２は基材フィルム１１０の長尺方向Ｘに対して平行に延在する帯状の領域であって、領域１３１，１３２の長尺方向Ｘにおける振れ幅ΔＤと平均幅Ｄとの比ΔＤ／Ｄを０．０２以上０．２５以下にする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
長尺の基材フィルムと接着層とパターン位相差フィルム層とをこの順に備え、
前記パターン位相差フィルム層は、位相差又は遅相軸方向が異なる２種類以上の領域を有し、
前記の領域は、前記基材フィルムの長尺方向に対して平行に延在する帯状の領域であって、
前記領域の長尺方向における振れ幅ΔＤと平均幅Ｄとの比ΔＤ／Ｄが０．０２以上０．２５以下である、パターン位相差板。
【請求項２】
前記基材フィルムの厚みに対する前記パターン位相差フィルム層の厚みの比が、０．０１以上０．５以下である、請求項１記載のパターン位相差板。
【請求項３】
前記基材フィルムが、面内において均一な位相差及び遅相軸方向を有する位相差フィルムである、請求項１又は２記載のパターン位相差板。
【請求項４】
前記パターン位相差フィルム層の、前記基材フィルムとは反対側に、保護層を備える、請求項１〜３のいずれか一項に記載のパターン位相差板。
【請求項５】
面内において均一な位相差及び遅相軸方向を有する長尺の基材フィルムと、位相差が異なる２種類以上の領域を有するパターン位相差フィルム層とを備え、前記パターン位相差フィルム層の前記領域が長尺方向に対して平行に延在する帯状の領域であるパターン位相差板の製造方法であって、
長尺基材の表面に、重合性液晶化合物を含み活性エネルギー線の照射により硬化しうる液晶組成物の層を形成して、前記長尺基材と前記液晶組成物の層とを備える積層体を得る工程、
前記液晶組成物の層に含まれる前記重合性液晶化合物を配向させる工程、
前記長尺基材と前記液晶組成物の層とを備える前記積層体に対して長尺方向に張力をかけた状態で、前記長尺方向に対して平行に延在する帯状の遮光部及び透光部を有するマスクを介して、前記液晶組成物の層に活性エネルギー線を照射する工程、
前記液晶組成物の層を加熱して、前記液晶組成物の層の前記活性エネルギー線を照射されなかった領域の位相差を変化させて、前記長尺基材と前記パターン位相差フィルム層とを備える積層フィルムを得る工程、
前記長尺基材と前記パターン位相差フィルム層とを備える前記積層フィルムに対して、前記積層フィルムの引っ張り歪が０．００２％以上０．２％以下となる張力を長尺方向にかけた状態で、前記パターン位相差フィルム層と前記基材フィルムとを接着層を介して貼り合せる工程、並びに、
前記長尺基材を剥がす工程を含む、パターン位相差板の製造方法。
【請求項６】
位相差が１０ｎｍ以下の長尺の基材フィルムと、遅相軸方向が異なる２種類以上の領域を有するパターン位相差フィルム層とを備え、前記パターン位相差フィルム層の前記領域が長尺方向に対して平行に延在する帯状の領域であるパターン位相差板の製造方法であって、
長尺基材の表面に、偏光を照射されることにより不可逆的に配向する光配向材料の層を形成して、前記長尺基材と前記光配向材料の層とを備える積層体を得る工程、
前記長尺基材と前記光配向材料の層とを備える前記積層体に対して長尺方向に張力をかけた状態で、前記光配向材料の層の長尺方向に対して平行に延在する帯状の領域に、偏光を照射する工程、
前記光配向材料の層の全体に、前記の偏光とは偏光方向が９０°±３°異なる偏光を照射して、配向膜を得る工程、
前記配向膜の表面に、重合性液晶化合物を含み活性エネルギー線の照射により硬化しうる液晶組成物の層を形成する工程、
前記液晶組成物の層に活性エネルギー線を照射して、前記長尺基材と前記パターン位相差フィルム層とを備える積層フィルムを得る工程、
前記長尺基材と前記パターン位相差フィルム層とを備える前記積層フィルムに対して、前記積層フィルムの引っ張り歪が０．００２％以上０．２％以下となる張力を長尺方向にかけた状態で、前記パターン位相差フィルム層と前記基材フィルムとを接着層を介して貼り合せる工程、並びに、
前記長尺基材を剥がす工程を含む、パターン位相差板の製造方法。
【請求項７】
前記基材フィルムの厚みに対する前記パターン位相差フィルム層の厚みの比が、０．０１以上０．５以下である、請求項５又は６記載のパターン位相差板の製造方法。
【請求項８】
前記パターン位相差フィルム層と前記基材フィルムとを貼り合わせる際の前記積層フィルムの引っ張り歪が、０．０１％以上０．１５％以下である、請求項５〜７のいずれか一項に記載のパターン位相差板の製造方法。
【請求項９】
前記基材フィルムに、前記基材フィルムの引っ張り歪みが０．２％以下となる張力を長尺方向にかけた状態で、前記パターン位相差フィルム層と前記基材フィルムとを貼り合わせる、請求項５〜８のいずれか一項に記載のパターン位相差板の製造方法。
【請求項１０】
ブラックマトリックスを有する液晶パネルと、請求項１〜４のいずれか一項に記載のパターン位相差板又は請求項５〜９のいずれか一項に記載の製造方法によって製造されたパターン位相差板とを備え、
前記液晶パネルと前記パターン位相差板とは、前記パターン位相差板に５Ｎ／１６００ｍｍ以上の張力をかけた状態で、前記パターン位相差板の前記パターン位相差フィルム層の前記２種類以上の領域の境界線と前記液晶パネルの前記ブラックマトリックスとの相対的な位置関係が位置合わせされ、貼り合わせられている、液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パターン位相差板及びその製造方法、並びにそれを備える液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置のある態様として、画素と位置合わせされた状態で設けられた、特定のパターンを有する位相差フィルムを備えるものが知られている。例えば、パッシブ形式の立体画像表示装置では、通常、同一画面内に右目用の画像と左目用の画像とを同時に表示させ、これらの画像を専用のメガネを用いて左右の目それぞれに振り分けるようにしている。そのため、パッシブ形式の立体画像表示装置には、左目用の画像及び右目用の画像のそれぞれを、異なる偏光状態で表示させることが求められる。そのような表示を達成するため、パッシブ形式の立体画像表示装置には、２種以上の異なる位相差（レターデーション）を有する複数種類の領域からなるパターンを有する位相差フィルムが設けられることがある（特許文献１，２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００９−１９３０１４号公報
【特許文献２】特許第４３６３０２９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
前記のようなパターンを有する位相差フィルムは、従来、ガラス板等の剛性の高い基材の表面に設けられることが多かった。しかし近年、製造効率の向上等の有利な効果を得るための改良として、上に述べたパターンを有する位相差フィルムを、可撓性の基材フィルムに設けることが考えられる。具体例を挙げると、このような可撓性の基材フィルムに設けたパターンを有する位相差フィルムを、斜め延伸された位相差フィルムに貼り合わせて長尺の位相差板を形成し、これを、液晶パネルに連続的に貼り合わせることが考えられる。このような製造が可能となれば、１／４波長板とパターンを有する位相差フィルムとを同時に簡単に設けることができ、製造効率を著しく高め、且つ製造コストを著しく低減させ、且つ得られる液晶表示装置を軽量化しうることが期待される。
【０００５】
パターンを有する位相差フィルムと液晶パネルとの位置合わせは、当該位相差フィルムのパターンを構成する各領域が画素に精密に対応するよう行うことが求められる。具体的には、上で述べたパッシブ形式の立体画像表示装置の例では、右目用の画素と左目用の画素との境界のブラックマトリックス上に、前記のパターンを構成する領域間の境界が位置するような配置を、表示面全面において達成することが求められる。ところが、可撓性の基材フィルムを用いた場合には、ガラス板を基材として用いた場合と比べ、寸法安定性及び形状安定性が低いため、このような精密な位置合わせを、連続的な製造工程において行うことは非常に困難であった。
【０００６】
本発明は上述した課題に鑑みて創案されたもので、液晶パネルとの位置合わせを精度良く行うことができるパターン位相差板及びその製造方法、並びに、それを備えた液晶表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者は前記の課題を解決するべく鋭意検討した結果、長尺基材に張力をかけた状態でパターン位相差フィルム層を製造し、張力をかけた状態を維持したままでパターン位相差フィルム層を別の基材フィルムに転写することにより、パターン位相差フィルム層が有する各領域の真直性を高め、パターン位相差フィルム層と液晶パネルとの位置合わせを精度良く行うことが可能となることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は以下の通りである。
【０００８】
〔１〕  長尺の基材フィルムと接着層とパターン位相差フィルム層とをこの順に備え、
前記パターン位相差フィルム層は、位相差又は遅相軸方向が異なる２種類以上の領域を有し、
前記の領域は、前記基材フィルムの長尺方向に対して平行に延在する帯状の領域であって、
前記領域の長尺方向における振れ幅ΔＤと平均幅Ｄとの比ΔＤ／Ｄが０．０２以上０．２５以下である、パターン位相差板。
〔２〕  前記基材フィルムの厚みに対する前記パターン位相差フィルム層の厚みの比が、０．０１以上０．５以下である、〔１〕記載のパターン位相差板。
〔３〕  前記基材フィルムが、面内において均一な位相差及び遅相軸方向を有する位相差フィルムである、〔１〕又は〔２〕記載のパターン位相差板。
〔４〕  前記パターン位相差フィルム層の、前記基材フィルムとは反対側に、保護層を備える、〔１〕〜〔３〕のいずれか一項に記載のパターン位相差板。
〔５〕  面内において均一な位相差及び遅相軸方向を有する長尺の基材フィルムと、位相差が異なる２種類以上の領域を有するパターン位相差フィルム層とを備え、前記パターン位相差フィルム層の前記領域が長尺方向に対して平行に延在する帯状の領域であるパターン位相差板の製造方法であって、
長尺基材の表面に、重合性液晶化合物を含み活性エネルギー線の照射により硬化しうる液晶組成物の層を形成して、前記長尺基材と前記液晶組成物の層とを備える積層体を得る工程、
前記液晶組成物の層に含まれる前記重合性液晶化合物を配向させる工程、
前記長尺基材と前記液晶組成物の層とを備える前記積層体に対して長尺方向に張力をかけた状態で、前記長尺方向に対して平行に延在する帯状の遮光部及び透光部を有するマスクを介して、前記液晶組成物の層に活性エネルギー線を照射する工程、
前記液晶組成物の層を加熱して、前記液晶組成物の層の前記活性エネルギー線を照射されなかった領域の位相差を変化させて、前記長尺基材と前記パターン位相差フィルム層とを備える積層フィルムを得る工程、
前記長尺基材と前記パターン位相差フィルム層とを備える前記積層フィルムに対して、前記積層フィルムの引っ張り歪が０．００２％以上０．２％以下となる張力を長尺方向にかけた状態で、前記パターン位相差フィルム層と前記基材フィルムとを接着層を介して貼り合せる工程、並びに、
前記長尺基材を剥がす工程を含む、パターン位相差板の製造方法。
〔６〕  位相差が１０ｎｍ以下の長尺の基材フィルムと、遅相軸方向が異なる２種類以上の領域を有するパターン位相差フィルム層とを備え、前記パターン位相差フィルム層の前記領域が長尺方向に対して平行に延在する帯状の領域であるパターン位相差板の製造方法であって、
長尺基材の表面に、偏光を照射されることにより不可逆的に配向する光配向材料の層を形成して、前記長尺基材と前記光配向材料の層とを備える積層体を得る工程、
前記長尺基材と前記光配向材料の層とを備える前記積層体に対して長尺方向に張力をかけた状態で、前記光配向材料の層の長尺方向に対して平行に延在する帯状の領域に、偏光を照射する工程、
前記光配向材料の層の全体に、前記の偏光とは偏光方向が９０°±３°異なる偏光を照射して、配向膜を得る工程、
前記配向膜の表面に、重合性液晶化合物を含み活性エネルギー線の照射により硬化しうる液晶組成物の層を形成する工程、
前記液晶組成物の層に活性エネルギー線を照射して、前記長尺基材と前記パターン位相差フィルム層とを備える積層フィルムを得る工程、
前記長尺基材と前記パターン位相差フィルム層とを備える前記積層フィルムに対して、前記積層フィルムの引っ張り歪が０．００２％以上０．２％以下となる張力を長尺方向にかけた状態で、前記パターン位相差フィルム層と前記基材フィルムとを接着層を介して貼り合せる工程、並びに、
前記長尺基材を剥がす工程を含む、パターン位相差板の製造方法。
〔７〕  前記基材フィルムの厚みに対する前記パターン位相差フィルム層の厚みの比が、０．０１以上０．５以下である、〔５〕又は〔６〕記載のパターン位相差板の製造方法。
〔８〕  前記パターン位相差フィルム層と前記基材フィルムとを貼り合わせる際の前記積層フィルムの引っ張り歪が、０．０１％以上０．１５％以下である、〔５〕〜〔７〕のいずれか一項に記載のパターン位相差板の製造方法。
〔９〕  前記基材フィルムに、前記基材フィルムの引っ張り歪みが０．２％以下となる張力を長尺方向にかけた状態で、前記パターン位相差フィルム層と前記基材フィルムとを貼り合わせる、〔５〕〜〔８〕のいずれか一項に記載のパターン位相差板の製造方法。
〔１０〕  ブラックマトリックスを有する液晶パネルと、〔１〕〜〔４〕のいずれか一項に記載のパターン位相差板又は〔５〕〜〔９〕のいずれか一項に記載の製造方法によって製造されたパターン位相差板とを備え、
前記液晶パネルと前記パターン位相差板とは、前記パターン位相差板に５Ｎ／１６００ｍｍ以上の張力をかけた状態で、前記パターン位相差板の前記パターン位相差フィルム層の前記２種類以上の領域の境界線と前記液晶パネルの前記ブラックマトリックスとの相対的な位置関係が位置合わせされ、貼り合わせられている、液晶表示装置。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、パターン位相差フィルム層と液晶パネルとの位置合わせを精度良く行うことができるパターン位相差板及びその製造方法、並びに、それを備えた液晶表示装置を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】図１は、本発明の一実施形態に係るパターン位相差板の一部を模式的に示す斜視図である。
【図２】図２は、パターン位相差フィルム層が有しうるパターンの一例を概略的に示す上面図である。
【図３】図３は、本発明のパターン位相差板の製造方法の一例に係る配向膜の形成工程を模式的に示す図である。
【図４】図４は、本発明のパターン位相差板の製造方法の一例に係るマスク層の形成工程を模式的に示す図である。
【図５】図５は、本発明のパターン位相差板の製造方法の一例に係る液晶組成物層の形成工程を模式的に示す図である。
【図６】図６は、本発明のパターン位相差板の製造方法の一例に係る配向工程を模式的に示す図である。
【図７】図７は、本発明のパターン位相差板の製造方法の一例に係る第一の硬化工程を模式的に示す図である。
【図８】図８は、本発明のパターン位相差板の製造方法の一例に係る配向変化工程を模式的に示す図である。
【図９】図９は、本発明のパターン位相差板の製造方法の一例に係る第二の硬化工程を模式的に示す図である。
【図１０】図１０は、本発明のパターン位相差板の製造方法において使用しうる製造装置の一例を示す図である。
【図１１】図１１は、本発明のパターン位相差板の製造方法の一例に係る光配向材料層の形成工程を模式的に示す図である。
【図１２】図１２は、本発明のパターン位相差板の製造方法の一例に係る第一の偏光照射工程を模式的に示す図である。
【図１３】図１３は、本発明のパターン位相差板の製造方法の一例に係る第二の偏光照射工程を模式的に示す図である。
【図１４】図１４は、本発明のパターン位相差板の製造方法の一例に係る液晶組成物層の形成工程を模式的に示す図である。
【図１５】図１５は、本発明のパターン位相差板の製造方法の一例に係る配向工程を模式的に示す図である。
【図１６】図１６は、本発明のパターン位相差板の製造方法の一例に係る硬化工程を模式的に示す図である。
【図１７】図１７は、パターン境界線とブラックマトリックスの相対的な位置関係の例を概略的に示す上面図である。
【図１８】図１８は、液晶パネル及びその他の層の観察の態様の例を概略的に示す斜視図である。
【図１９】図１９は、液晶表示装置を製造するための一連の装置及びその操作の一例を概略的に示す立面図である。
【図２０】図２０は、ＸＹ平面上の位置合わせを行う点の好ましい例を概略的に示す平面図である。
【図２１】図２１は、本発明の製造方法における貼付の態様の具体的な一例を概略的に示す立面図である。
【図２２】図２２は、本発明の製造方法における紫外線の照射の態様の具体的な一例を概略的に示す立面図である。
【図２３】図２３は、図２２に示した紫外線の照射の態様の例を別の角度から概略的に示す上面図である。
【図２４】図２４は、本発明の製造方法における紫外線の照射の態様の具体的な別の一例を概略的に示す立面図である。
【図２５】図２５は、本発明の製造方法における基材の剥離の態様の具体的な一例を概略的に示す立面図である。
【図２６】図２６は、本発明の製造方法を実施するための一連の装置及びその操作の別の一例を概略的に示す立面図である。
【図２７】図２７は、図２６に示した操作の例の一部の工程を概略的に示す部分立面図である。
【図２８】図２８は、図２６に示した操作の例の別の一部の工程を概略的に示す部分立面図である。
【図２９】図２９は、図２６に示した操作の例のさらに別の一部の工程を概略的に示す部分立面図である。
【図３０】図３０は、図２６に示した操作の例のさらに別の一部の工程を概略的に示す部分立面図である。
【図３１】図３１は、図２６に示した操作の例のさらに別の一部の工程を概略的に示す部分立面図である。
【図３２】図３２は、液晶表示装置を製造するための一連の装置及びその操作のさらに別の一例を概略的に示す立面図である。
【図３３】図３３は、液晶表示装置を製造するための一連の装置及びその操作のさらに別の一例を概略的に示す立面図である。
【図３４】図３４は、図３３に示した操作の例の一部の工程を概略的に示す部分立面図である。
【図３５】図３５は、図３３に示した操作の例の別の一部の工程を概略的に示す部分立面図である。
【図３６】図３６は、立体画像表示装置として使用しうる液晶表示装置の例を概略的に示す分解上面図である。
【図３７】図３７は、立体画像表示装置として使用しうる液晶表示装置の例を概略的に示す分解上面図である。
【図３８】図３８は、実施例１〜３及び５並びに比較例１及び２において、パターン位相差板のパターン位相差フィルム層の領域の振れ幅ΔＤ及び平均幅Ｄを測定する際のサンプルの様子を模式的に示す図である。
【図３９】図３９は、実施例及び比較例においてΔＤ／Ｄの測定のためにパターン位相差板を撮影した場合に撮影される画像を模式的に示す図である。
【図４０】図４０に、図３９に示す画像の一部を拡大した様子を模式的に示す図である。
【図４１】図４１は、パターン位相差フィルム層の領域の触れ幅ΔＤの測定方法を説明するため、パターン位相差板を撮影して得られる画像における規格化されたＹ値を表すグラフの一例を示す図である。
【図４２】図４２は、実施例４において、パターン位相差板のパターン位相差フィルム層の領域の振れ幅ΔＤ及び平均幅Ｄを測定する際のサンプルの様子を模式的に示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明について実施形態及び例示物等を示して詳細に説明するが、本発明は以下に示す実施形態及び例示物等に限定されるものではなく、本発明の特許請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施してもよい。
【００１２】
以下の説明において、「長尺」とは、幅に対して、少なくとも５倍以上の長さを有するものをいい、好ましくは１０倍若しくはそれ以上の長さを有し、具体的にはロール状に巻き取られて保管又は運搬される程度の長さを有するものをいう。
また、「位相差板」及び「偏光板」とは、剛直な部材だけでなく、例えば樹脂製のフィルムのように可撓性を有する部材も含む。
【００１３】
また、「位相差」とは、別に断らない限り、面内位相差（面内レターデーション）のことを意味する。フィルムの面内位相差は、（ｎｘ−ｎｙ）×ｄで表される値である。ここで、ｎｘは、フィルムの厚み方向に垂直な方向（面内方向）であって最大の屈折率を与える方向の屈折率を表す。ｎｙは、前記面内方向であってｎｘの方向に直交する方向の屈折率を表す。ｄは、フィルムの膜厚を表す。面内位相差は、市販の位相差測定装置（例えば、王子計測機器社製、「ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ」、フォトニックラティス社製、「ＷＰＡ−ｍｉｃｒｏ」）あるいはセナルモン法を用いて測定できる。
【００１４】
また、「（メタ）アクリレート」とは「アクリレート」及び「メタクリレート」のことを意味し、「（メタ）アクリル」とは「アクリル」及び「メタクリル」のことを意味する。
また、「紫外線」とは、波長が１ｎｍ以上４００ｎｍ以下の光のことを意味する。
【００１５】
また、構成要素の方向が「平行」又は「垂直」とは、特に断らない限り、本発明の効果を損ねない範囲内、例えば±５°の範囲内での誤差を含んでいてもよい。さらに、ある方向に「沿って」とは、ある方向に「平行に」との意味である。
【００１６】
［１．パターン位相差板］
図１は、本発明の一実施形態に係るパターン位相差板の一部を模式的に示す斜視図である。図１に示すように、本発明の一実施形態に係るパターン位相差板１００は、長尺の基材フィルム１１０と接着層１２０とパターン位相差フィルム層１３０とをこの順に備える。パターン位相差フィルム層１３０は、位相差又は遅相軸方向が異なる２種類以上の領域１３１及び１３２を有する。前記の領域１３１及び１３２は、基材フィルム１１０の長尺方向Ｘに対して平行に延在する帯状の領域である。また、パターン位相差板１００に張力をかけない状態において、前記の領域１３１及び１３２の長尺方向Ｘにおける振れ幅ΔＤと平均幅Ｄとの比ΔＤ／Ｄは、０．０２以上０．２５以下である。なお、「長尺方向」とは、別に断らない限り、基材フィルムの長尺方向を意味する。
【００１７】
〔１−１．基材フィルム〕
基材フィルムとしては、通常、樹脂フィルムを用いる。通常、樹脂はポリマー（重合体）を含む。樹脂フィルムの材料となる樹脂が含むポリマーの例を挙げると、鎖状オレフィンポリマー、シクロオレフィンポリマー、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリスチレン、ポリビニルアルコール、酢酸セルロース系ポリマー、ポリ塩化ビニル、ポリメタクリレートなどが挙げられる。これらの中でも、鎖状オレフィンポリマー及びシクロオレフィンポリマーが好ましく、透明性、低吸湿性、寸法安定性、軽量性などの観点から、シクロオレフィンポリマーが特に好ましい。
【００１８】
樹脂は、１種類のポリマーを単独で含むものを用いてもよく、２種類以上のポリマーを任意の比率で組み合わせて含むものを用いてもよい。また、樹脂には、本発明の効果を著しく損なわない限り、任意の配合剤を含ませてもよい。好適な樹脂の具体例を挙げると、日本ゼオン社製「ゼオノア１４２０」を挙げることができる。
【００１９】
基材フィルムとしては、単層構造のフィルムを用いてもよく、複層構造のフィルムを用いてもよい。
また、基材フィルムとしては、延伸フィルムを用いてもよく、未延伸フィルムを用いてもよい。
【００２０】
基材フィルムは、面内において均一な位相差及び遅相軸方向を有することが好ましい。液晶表示装置における画質を向上させるためである。
ここで、面内において位相差が均一であるとは、パターン位相差フィルム層とは異なり、異なる位相差を有する２種類以上の領域からなるパターンを有しないという意味である。具体的には、面内において位相差が均一であるとは、基材フィルムの面内の位相差のばらつきが、好ましくは±２０ｎｍ以内、より好ましくは±１０ｎｍ以内である。
さらに、面内において遅相軸方向が均一であるとは、パターン位相差フィルム層とは異なり、異なる遅相軸方向を有する２種類以上の領域からなるパターンを有しないという意味である。具体的には、面内において遅相軸方向が均一であるとは、基材フィルムの面内の遅相軸方向のばらつきが、好ましくは±５°以内、より好ましくは±１°以内である。
【００２１】
例えばパターン位相差フィルム層が位相差が異なる２種類以上の領域を有する場合には、基材フィルムとして位相差フィルムを用いてもよい。この場合、長尺のパターン位相差板をその長尺方向に対して平行及び垂直な方向に切断して、矩形に切り出し、液晶表示装置に設けることにより、パターン位相差フィルム層と位相差フィルムとを備える複層フィルムを、容易に製造することができる。
【００２２】
基材フィルムとして位相差フィルムを用いる場合、その位相差フィルムの具体的な位相差は液晶表示装置の構成に応じて設定してもよい。例えば、位相差フィルムとしては１／４波長板として機能しうるものを用いてもよい。１／４波長板として機能しうる位相差フィルムの位相差は、透過光の波長範囲の中心値の１／４の値から、通常±６５ｎｍ、好ましくは±３０ｎｍ、より好ましくは±１０ｎｍの範囲であるか、または、中心値の３／４の値から通常±６５ｎｍ、好ましくは±３０ｎｍ、より好ましくは±１０ｎｍの範囲である。前記の透過光は通常は可視光であるため、透過光の波長範囲の中心値としては、通常、透過光の波長範囲の中心値である５５０ｎｍを適用する。
【００２３】
基材フィルムが位相差フィルムである場合、当該位相差フィルムの長尺方向と、位相差フィルムの遅相軸方向とがなす角は、液晶表示装置の態様に応じて設定してもよい。例えば、位相差フィルムとして、幅方向又は長尺方向に延伸した延伸フィルムを用いることにより、当該位相差フィルムの遅相軸方向を、長尺方向と平行な方向又は垂直な方向にしてもよい。また、例えば、位相差フィルムとして斜め延伸した延伸フィルムを用いることにより、当該位相差フィルムの遅相軸方向を、長尺方向と４５°程度（例えば４５°±５°、好ましくは４５°±１°）の角度をなす方向としてもよい。
【００２４】
また、基材フィルムの厚みＴ１１０は、基材フィルムの厚みＴ１１０に対するパターン位相差フィルム層の厚みＴ１３０の比Ｔ１３０／Ｔ１１０が、好ましくは０．０１以上、より好ましくは０．０５以上、特に好ましくは０．１以上であり、好ましくは０．５以下、より好ましくは０．３以下、特に好ましくは０．２以下となる厚みにする（図１参照）。基材フィルムの厚みＴ１１０をパターン位相差フィルム層の厚みＴ１３０よりも十分に厚くすることにより、基材フィルムの剛性を高めることができる。このため、製造時の張力によって張力開放時（即ち、張力をかけていない時）にパターン位相差フィルム層が縮もうとする応力を有していても、パターン位相差板が撓んだり反ったりすることを防止できる。ひいては、パターン位相差フィルム層と液晶パネルとの位置合わせを精度良く行うことができる。また、基材フィルムの厚みを前記範囲の上限値以下とすることにより、液晶表示装置の更なる薄型化を実現できる。
【００２５】
好適な基材フィルムの例を挙げると、市販の長尺の斜め延伸フィルムなどが挙げられる。例えば、位相差フィルムとして、日本ゼオン社製、製品名「斜め延伸ゼオノアフィルム」を挙げることができる。
【００２６】
〔１−２．接着層〕
接着層は、接着剤によって形成された層である。接着層により、基材フィルムとパターン位相差フィルム層とが剥がれないように固定することができる。
ここで接着剤とは、別に断らない限り、狭義の接着剤（エネルギー線照射後、あるいは加熱処理後、２３℃における剪断貯蔵弾性率が１ＭＰａ〜５００ＭＰａである接着剤、例えば後述する後硬化型接着剤等）のみならず、２３℃における剪断貯蔵弾性率が１ＭＰａ未満である粘着剤をも包含する。
【００２７】
接着剤としては、例えば、後硬化接着剤を用いてもよい。後硬化接着剤とは、接着対象の２つの界面のうちの一方又は両方に塗布し、必要であれば適宜乾燥させて、接着剤の未硬化層（以下、「未硬化接着剤層」ということがある。）を形成し、その後でかかる未硬化接着剤層を介して接着対象を貼り合わせた後に、未硬化接着剤層に活性エネルギー線を照射することにより、硬化し、最終的な接着能を発現する接着剤である。ここで、接着能とは、界面での密着性、及び接着層自体の凝集性を意味する。活性エネルギー線としては、例えば、紫外線（ＵＶ）、Ｘ線及び電子線等を挙げることができる。安価な装置を使用することができるため、後硬化接着剤は紫外線ないし電子線で硬化するものであることが好ましい。
【００２８】
説明の便宜上、以下の後硬化接着剤の説明においては、液体である後硬化接着剤を塗布してなる層（乾燥の工程を経る前のもの）を単に接着剤の「塗膜」と呼び、塗膜を乾燥させる工程を経た接着剤の層であって活性エネルギー線の照射に供されていない層を「未硬化接着剤層」と呼び、かかる未硬化接着剤層を活性エネルギー線の照射により硬化させた層を、「硬化接着剤層」と呼ぶ。
【００２９】
かかる後硬化接着剤としては、１種類以上のオリゴマー及びモノマーを含む樹脂成分並びに重合開始剤を含有し、さらに、必要に応じて粒子を樹脂成分１００重量部に対して３重量部〜２０重量部含有するものを用いてもよい。このような後硬化接着剤を用いることにより、貼り合せ時にニップロールにて未硬化接着剤層に圧力をかける際に、ロールに押されて、ロールの進行方向に後硬化接着剤が移動し、未硬化接着剤層の厚みが不均一になったり、接着剤がはみ出したりする現象を低減することができる。
【００３０】
また、上記の効果を得る観点からは、未硬化接着剤層の粘度は、温度２０±１．０℃において、好ましくは５０ｍＰａ・ｓ以上、より好ましくは６０ｍＰａ・ｓ以上であり、好ましくは６０００ｍＰａ・ｓ以下、より好ましくは４０００ｍＰａ・ｓ以下である。
【００３１】
後硬化接着剤が含有しうるオリゴマー及びモノマーは、それぞれ、下記（Ａ）及び（Ｂ）としてもよい。
（Ａ）１分子あたりの官能基数が３以下のオリゴマー型多官能（メタ）アクリレート（以下「（メタ）アクリレート（Ａ）」ということがある。）。
（Ｂ）温度２０±１．０℃における粘度が１０ｍＰａ・ｓ以上５００ｍＰａ・ｓ未満であり、１分子内に水酸基を少なくともひとつ有するモノ（メタ）アクリレート（以下「（メタ）アクリレート（Ｂ）」ということがある。）。
【００３２】
（メタ）アクリレート（Ａ）は、好ましくは１分子あたり２個又は３個の官能基を有する。（メタ）アクリレート（Ａ）の具体例としては、例えば、ポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、シリコーン（メタ）アクリレートなどのラジカル重合性を示す各種の官能基数が３以下のアクリル系オリゴマーを挙げることができる。これらは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００３３】
（メタ）アクリレート（Ａ）としてのアクリル系オリゴマーの分子量は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーで測定したポリイソプレンの換算の重量平均分子量（Ｍｗ）で、５００以上１００００以下とすることが、良好な粘度を発現するなどの観点から好ましい。
【００３４】
ポリエステル（メタ）アクリレートは、例えば、多塩基酸と多価アルコールから得られるポリエステルの末端水酸基を（メタ）アクリル酸と反応させることによって得られる。多塩基酸としては、例えば、フタル酸、アジピン酸、マレイン酸、イタコン酸、コハク酸、及びテレフタル酸を挙げることができる。多価アルコールとしては、例えば、エチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、及びポリプロピレングリコールを挙げることができる。なお、これらはそれぞれ、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００３５】
ポリエステル（メタ）アクリレートの具体例としては、ＥＢＥＣＲＹＬ  ８５１，８５２，８５３，８８４，８８５（ダイセルサイテック社製）、オレスター（三井化学社製）、及びアロニックスＭ−６１００，６２００，６２５０，６５００（東亞合成社製）を挙げることができる。なお、これらはそれぞれ、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００３６】
エポキシ（メタ）アクリレートは、エポキシ樹脂に（メタ）アクリル酸を開環付加反応させた反応物である。
エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡとエピクロロヒドリンからなるビスフェノールＡ型、フェノールノボラックとエピクロロヒドリンからなるノボラック型、脂肪族型、脂環型のものなどが挙げられる。脂肪族型エポキシ樹脂としては、例えば、エチレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテルなどを用いることができ、またブタジエン系エポキシ樹脂、イソプレン系エポキシ樹脂などの不飽和脂肪酸エポキシ樹脂も用いることができる。脂環型エポキシ樹脂は、例えば、ビニルシクロヘキセンモノオキサイド、１，２−エポキシ−４−ビニルシクロヘキサン、１，２：８，９−ジエポキシシリモネン、３，４−エポキシシクロヘキセニルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキセンカルボキシレートなどを用いることができる。なお、これらはそれぞれ、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００３７】
エポキシ（メタ）アクリレートの具体例としては、ＥＢＥＣＲＹＬ６００，８６０，３１０５，３４２０，３７００，３７０１，３７０２，３７０３，３７０８，６０４０（ダイセルサイテック社製）、ネオポール８１０１，８２５０，８２６０，８２７０，８３５５，８３５１，８３３５，８４１４，８１９０，８１９５，８３１６，８３１７，８３１８，８３１９，８３７１（日本ユピカ社製）、デナコールアクリレート  ＤＡ２１２，２５０，３１４，７２１，７２２，ＤＭ２０１（ナガセケムテックス社製）、バンビーム（ハリマ化成社製）、及びＭｉｒａｍｅｒ  ＰＥ２１０，ＰＥ２３０，ＥＡ２２８０（東洋ケミカルズ社製）を挙げることができる。なお、これらはそれぞれ、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００３８】
ウレタン（メタ）アクリレートは、例えば水酸基を有する（メタ）アクリルモノマー、多官能イソシアネート及び多価アルコールの反応により得られる、中心にウレタン骨格を有する反応物である。水酸基を有する（メタ）アクリルモノマーとしては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートなどを挙げることができる。多官能イソシアネートとしては、例えば、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、トリメチロールプロパントリレンジイソシアネート、ジフェニルメタントリイソシアネートなどを挙げることができ、中でも耐候性の良好なヘキサメチレンジイソシアネートが好適に用いられる。多価アルコールとして、ポリエステル（メタ）アクリレートに使用できるものを使用することができる。なお、これらはそれぞれ、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００３９】
ウレタン（メタ）アクリレートの具体例としては、ＥＢＥＣＲＹＬ２０４，２１０，２２０，２３０，２７０，４８５８，８２００，８２０１，８４０２，８８０４，８８０７，９２６０，９２７０，ＫＲＭ８０９８，７７３５，８２９６（ダイセルサイテック社製）、ＵＸ２２０１，２３０１，３２０４，３３０１，４１０１，６１０１，７１０１，８１０１，０９３７（日本化薬社製）、ＵＶ６６４０Ｂ，６１００Ｂ，３７００Ｂ，３５００ＢＡ，３５２０ＴＬ，３２００Ｂ，３０００Ｂ，３３１０Ｂ，３２１０ＥＡ，７０００Ｂ，６６３０Ｂ，７４６１ＴＥ（日本合成化学社製）、ユピカ８９２１，８９３２，８９４０，８９３６，８９３７，８９８０，８９７５，８９７６（日本ユピカ社製）、及びＭｉｒａｍｅｒ  ＰＵ２４０，ＰＵ３４０（東洋ケミカルズ社製）などを挙げることができる。なお、これらはそれぞれ、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００４０】
ポリエーテル（メタ）アクリレートは、ポリエーテルポリオールと（メタ）アクリル酸との反応物である。例えば、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、ＥＢＥＣＲＹＬ８１（ダイセルサイテック社製）を挙げることができる。なお、これらはそれぞれ、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００４１】
これらのアクリル系オリゴマーのうち、ポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、及びウレタン（メタ）アクリレートが好ましい。１分子あたりの官能基数が３個以下であることによって、未硬化接着剤層を活性エネルギー線で硬化し硬化接着剤層とする際の硬化収縮を小さくでき、かつ硬化接着剤層のガラス転移温度を低くすることができ、且つ、接着させる界面との接着性を良好に保持できる。
【００４２】
後硬化接着剤中の（メタ）アクリレート（Ａ）の含有割合は、全固形分中１０重量％〜６０重量％であることが好ましい。接着力を発現し、高温、高湿環境下に放置した場合にも接着力を良好に保持できるためである。
【００４３】
（メタ）アクリレート（Ｂ）の具体例としては、２−ヒドロキシプロピルアクリレート（１０．９ｍＰａ・ｓ）、４−ヒドロキシブチルアクリレート（１７ｍＰａ・ｓ）、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート（３７３ｍＰａ・ｓ）、グリセリンモノメタクリレート：ブレンマーＧＬＭ（１５０ｍＰａ・ｓ、日油社製）、ポリエチレングリコールモノメタクリレート：ブレンマーＰＥ−９０（１５ｍＰａ・ｓ、日油社製）、ＰＥ−２００（３０ｍＰａ・ｓ、日油社製）、ＰＥ−３５０（４５ｍＰａ・ｓ、日油社製）、ポリプロピレングリコールモノメタクリレート：ブレンマーＰＰ−１０００（５０ｍＰａ・ｓ、日油社製）、ＰＰ−５００（７５ｍＰａ・ｓ、日油社製）、ポリ（エチレン・プロピレングリコール）モノメタクリレート：ブレンマー５０ＰＥＰ−３００（５５ｍＰａ・ｓ、日油社製）、ポリエチレングリコール・ポリプロピレングリコールモノメタクリレート：ブレンマー７０ＰＥＰ−３５０Ｂ（７９ｍＰａ・ｓ、日油社製）、プロピレングリコール・ポリブチレングリコールモノメタクリレート：ブレンマー１０ＰＰＢ−５００Ｂ（４８ｍＰａ・ｓ、日油社製）、ポリエチレングリコールモノアクリレート：ブレンマーＡＥ−２００（１５ｍＰａ・ｓ、日油社製）、ポリプロピレングリコールモノアクリレート：ブレンマーＡＰ−４００（４８ｍＰａ・ｓ、日油社製）脂肪族エポキシアクリレート：ＥＢＥＣＲＹＬ１１２（５５ｍＰａ・ｓ、ダイセルサイテック）、ＰＡ５００（７１．８ｍＰａ・ｓ、東邦化学社製）等が挙げられる。上記の（メタ）アクリレート（Ｂ）の例示において、括弧内の粘度の記載は、温度２０±１．０℃における粘度である。なお、これらはそれぞれ、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００４４】
（メタ）アクリレート（Ｂ）を使用することで、未硬化接着剤層の粘度を前述の温度２０±１．０℃において５０ｍＰａ・ｓ〜６０００ｍＰａ・ｓとすることができ、かつ硬化接着剤層がより強い接着力を示すので好ましい。粘度範囲はより好ましくは５０ｍＰａ・ｓ以上、さらに好ましくは７０ｍＰａ・ｓ以上であり、より好ましくは４００ｍＰａ・ｓ以下、更に好ましくは３５０ｍＰａ・ｓ以下である。
【００４５】
後硬化接着剤中の（メタ）アクリレート（Ｂ）の含有割合は、後硬化接着剤の全固形分中５重量％〜９０重量％であることが好ましい。この範囲内であることにより、より強固な接着力を得ることができる。
【００４６】
後硬化接着剤が含有しうる重合開始剤は、活性エネルギー線の種類に応じて適宜選択可能である。後硬化接着剤を光硬化により硬化させる場合、光重合開始剤を１種類以上含有していてもよい。また、任意に光増感剤を用いることができる。
【００４７】
光重合開始剤としては、例えば、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、メチルベンゾイルフォーメート、２，２−ジエトキシアセトフェノン、β−アイオノン、β−ブロモスチレン、ジアゾアミノベンゼン、α−アミルシンナックアルデヒド、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、２−クロロベンゾフェノン、ｐ，ｐ′−ジクロロベンゾフェノン、ｐ，ｐ′−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインｎ−プロピルエーテル、ベンゾインｎ−ブチルエーテル、ジフェニルスルフィド、ビス（２，６−メトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニル−フォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、アントラセンベンゾフェノン、α−クロロアントラキノン、ジフェニルジスルフィド、ヘキサクロルブタジエン、ペンタクロルブタジエン、オクタクロロブテン、１−クロルメチルナフタリン、１，２−オクタンジオン、１−［４−（フェニルチオ）−，２−（ｏ−ベンゾイル）］オキシム、１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］エタノン１−（ｏ−アセチルオキシム）、（４−メチルフェニル）［４−（２−メチルプロピル）フェニル］ヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、３−メチル−２−ブチニルテトラメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニル−（ｐ−フェニルチオフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート等が挙げられる。なお、これらは１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００４８】
光重合開始剤の量は、後硬化接着剤の全固形分中、０．５重量％以上が好ましく、１重量％以上がより好ましく、また、１０重量％以下が好ましく、５重量％以下がより好ましい。
また、後硬化接着剤に光増感剤として例えば、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィンなどを含ませて、硬化性をコントロールしてもよい。
【００４９】
後硬化接着剤が粒子を含む場合、その粒子の数平均粒子径は、好ましくは３μｍ〜２０μｍである。粒子の形状が真球でない場合には、粒子の長径の粒子間平均の値を、数平均粒子径とする。ここで真球でない形状とは、例えば楕円回転体、円柱、角柱、円錐、角錐、及びこれらのいずれかの一部が欠けた形状、並びにこれらに類する形状などが挙げられる。また、粒子の長径とは、最も長い径を意味する。長径の数平均粒子径が上記要件を満たすことにより、硬化接着剤層の膜厚を均一にする効果を良好に発現することができる。
【００５０】
粒子を構成する材料は、有機材料としては、例えば、アクリル樹脂、ポリウレタン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン樹脂、ポリアクリロニトリル、ポリアミド、ポリシロキサン樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂などを挙げることができる。無機材料としては、例えば、シリカ、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化亜鉛、硫酸バリウム、マグネシウムシリケートなどを挙げることができる。これらは１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。これらの中でも、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリシロキサン樹脂およびこれらの架橋物からなる粒子が、高分散性、高耐熱性、成形時の着色がない点で好ましい。
【００５１】
さらに、後硬化接着剤は、本発明の効果を著しく損なわない限り、任意の成分を含んでいてもよい。また、そのような成分は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００５２】
例えば、後硬化接着剤は、接着力を向上させるための成分を含んでいてもよい。接着力を向上させる成分としては、例えば、イソシアネート基を分子中に含むモノマー（具体的にはカレンズＭＯＩ、ＡＯＩ、ＢＥＩ（いずれも商品名、昭和電工社製）；Ｌａｒｏｍｅｒ  ＬＲ９０００（商品名、ＢＡＳＦ製））；並びにメルカプト基を分子中に含むモノマー（具体的にはＴＥＭＰＩＣ、ＰＥＭＰ、ＤＰＭＰ（いずれも商品名、ＳＣ有機化学社製）；カレンズＭＴＢＤ１、ＩＳ１、ＰＥ１（いずれも商品名、昭和電工社製））などを挙げることができる。このような、接着力を向上させる成分の全固形分中の含有割合は、５重量％〜２０重量％であることが好ましい。
【００５３】
例えば、後硬化接着剤は、光照射後の暗反応を促進するためのカチオン重合硬化性の成分を含んでいてもよい。その例を挙げると、エポキシ化合物、ビニルエーテル化合物、オキセタン化合物およびカチオン重合開始剤などが挙げられる。
【００５４】
エポキシ化合物としては、芳香族エポキシ化合物を用いてもよく、脂環式エポキシ化合物を用いてもよく、脂肪族エポキシ化合物を用いてもよい。
芳香族エポキシ化合物の例としては、フェニルグリシジルエーテルなどの単官能エポキシ化合物；少なくとも１個の芳香族環を有する多価フェノールまたはそのアルキレンオキサイド付加体のポリグリシジルエーテルであって、例えばビスフェノールＡ、テトラブロモビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ等のビスフェノール化合物またはビスフェノール化合物のアルキレンオキサイド（例えば、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド等）付加体とエピクロルヒドリンとの反応によって製造されるグリシジルエーテル類、ノボラック型エポキシ樹脂類（例えば、フェノール・ノボラック型エポキシ樹脂、クレゾール・ノボラック型エポキシ樹脂、臭素化フェノール・ノボラック型エポキシ樹脂等）、トリスフェノールメタントリグリシジルエーテルなどがあげられる。
【００５５】
脂環式エポキシ化合物としては、例えば、４−ビニルシクロヘキセンモノエポキサイド、ノルボルネンモノエポキサイド、リモネンモノエポキサイド、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス−（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサノン−メタ−ジオキサン、ビス（２，３−エポキシシクロペンチル）エーテル、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサノン−メタ−ジオキサン、２，２−ビス〔４−（２，３−エポキシプロポキシ）シクロヘキシル〕ヘキサフルオロプロパン、ＢＨＰＥ−３１５０（ダイセル化学工業（株）製、脂環式エポキシ樹脂（軟化点７１℃））などがあげられる。
【００５６】
脂肪族エポキシ化合物としては、例えば、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、エチレングリコールモノグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールモノグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールモノグリシジルエーテル、グリセロールジグリシジルエーテル、グリセロールトリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンモノグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ジグリセロールトリグリシジルエーテル、ソルビトールテトラグルシジルエーテル、アリルグルシジルエーテル、２−エチルヘキシルグルシジルエーテルなどがあげられる。
【００５７】
ビニルエーテル化合物としては、例えば、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、ブタンジオールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル等のジ又はトリビニルエーテル化合物、エチルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、ｎ−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、イソプロペニルエーテル−Ｏ−プロピレンカーボネート、ドデシルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル等のモノビニルエーテル化合物等が挙げられる。
【００５８】
オキセタン化合物としては、例えば、３−ヒドロキシメチル−３−メチルオキセタン、３−ヒドロキシメチル−３−エチルオキセタン、３−ヒドロキシメチル−３−プロピルオキセタン、３−ヒドロキシメチル−３−ノルマルブチルオキセタン、３−ヒドロキシメチル−３−フェニルオキセタン、３−ヒドロキシメチル−３−ベンジルオキセタン、３−ヒドロキシエチル−３−メチルオキセタン、３−ヒドロキシエチル−３−エチルオキセタン、３−ヒドロキシエチル−３−プロピルオキセタン、３−ヒドロキシエチル−３−フェニルオキセタン、３−ヒドロキシプロピル−３−メチルオキセタン、３−ヒドロキシプロピル−３−エチルオキセタン、３−ヒドロキシプロピル−３−プロピルオキセタン、３−ヒドロキシプロピル−３−フェニルオキセタン、３−ヒドロキシブチル−３−メチルオキセタン、ＡＵＢ−１００４、ＣＲＢ−１１０３、ＫＡＢ−１０１４（商品名  東洋インキ製）などを挙げることができる。
【００５９】
カチオン重合開始剤としては、例えば、ビス［４−（ジフェニルスルホニオ）フェニル］スルフィド  ビスヘキサフルオロホスフェート、ビス［４−（ジフェニルスルホニオ）フェニル］スルフィド  ビスヘキサフルオロアンチモネート、ビス［４−（ジフェニルスルホニオ）フェニル］スルフィドビステトラフルオロボレート、ビス［４−（ジフェニルスルホニオ）フェニル］スルフィド  テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジフェニル−４−（フェニルチオ）フェニルスルホニウム  ヘキサフルオロホスフェート、ジフェニル−４−（フェニルチオ）フェニルスルホニウム  ヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニル−４−（フェニルチオ）フェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、ジフェニル−４−（フェニルチオ）フェニルスルホニウム  テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス［４−（ジ（４−（２−ヒドロキシエトキシ））フェニルスルホニオ）フェニル］スルフィド  ビスヘキサフルオロホスフェート、ビス［４−（ジ（４−（２−ヒドロキシエトキシ））フェニルスルホニオ）フェニル］スルフィド  ビスヘキサフルオロアンチモネート、ビス［４−（ジ（４−（２−ヒドロキシエトキシ））フェニルスルホニオ）フェニル］スルフィド  ビステトラフルオロボレート、ビス［４−（ジ（４−（２−ヒドロキシエトキシ））フェニルスルホニオ）フェニル］スルフィドテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、などが挙げられる。
【００６０】
ヨードニウム塩系の酸発生型カチオン重合開始剤としては、例えば、ジフェニルヨードニウム  ヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルヨードニウム  ヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルヨードニウム  テトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウム  テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウム  ヘキサフルオロホスフェート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウム  ヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウム  テトラフルオロボレート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウム  テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、４−メチルフェニル−４−（１−メチルエチル）フェニルヨードニウム  ヘキサフルオロホスフェート、４−メチルフェニル−４−（１−メチルエチル）フェニルヨードニウム  ヘキサフルオロアンチモネート、４−メチルフェニル−４−（１−メチルエチル）フェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、４−メチルフェニル−４−（１−メチルエチル）フェニルヨードニウム  テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、などが挙げられる。
【００６１】
例えば、後硬化接着剤は、溶媒を含んでいてもよい。溶媒は、塗膜を乾燥する工程で揮発するものとしうるが、溶媒の一部が乾燥の工程後に未硬化接着剤層及び硬化接着剤層に残存してもよい。
溶媒としては、例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタンなどの脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノールなどのアルコール類、エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチルグリコールモノエチルエーテルなどのグリコール類等の有機溶媒を好ましく用いることができる。後硬化接着剤中の溶媒の好ましい含有割合は、接着剤液中３０重量％〜８０重量％とすることができる。
【００６２】
例えば、後硬化接着剤は、架橋剤、無機フィラー、重合禁止剤、着色顔料、染料、消泡剤、レベリング剤、分散剤、光拡散剤、可塑剤、帯電防止剤、界面活性剤、非反応性ポリマー（不活性重合体）、粘度調整剤、近赤外線吸収材等の任意成分を含んでいてもよい。
【００６３】
接着層の厚みは、通常５μｍ以上、好ましくは１０μｍ以上、より好ましくは１５μｍ以上であり、通常５０μｍ以下、好ましくは４０μｍ以下、より好ましくは３０μｍ以下である。接着層の厚みを前記範囲の下限値以上とすることにより基材フィルムとパターン位相差フィルム層との接着力を十分に高めることができ、上限値以下とすることにより基材フィルム、接着層、パターン位相差フィルム層の積層構成を薄くすることができる。
【００６４】
〔１−３．パターン位相差フィルム〕
パターン位相差フィルム層は、位相差又は遅相軸方向が異なる２種類以上の領域を有する。これらの領域は、位相差のみが異なっていてもよく、遅相軸方向のみが異なっていてもよく、位相差及び遅相軸方向の両方が異なっていてもよい。通常、これらの２種類以上の領域は所定のパターンを形成するようになっていて、このため、パターン位相差フィルム層の名称には「パターン」との用語が付されている。
【００６５】
パターン位相差フィルム層の領域の好適な組み合わせの例としては、第一に、等方な領域（以下、「等方性領域」ということがある。）及び異方性を有する領域（以下、「異方性領域」ということがある。）との組み合わせが挙げられる。このような領域を有するパターン位相差フィルム層は、位相差フィルム（特に、１／４波長板として機能しうる位相差フィルム）を基材フィルムとして用いることが好ましい。
【００６６】
異方性領域は、例えば、１／２波長板として機能しうる領域としてもよい。１／２波長板として機能しうる領域は、測定波長５５０ｎｍで測定した面内位相差の値が、２２５ｎｍ以上が好ましく、２４５ｎｍ以上がより好ましく、また、２８５ｎｍ以下が好ましく、２６５ｎｍ以下がより好ましい。
他方、等方性領域は、測定波長５５０ｎｍで測定した面内位相差がほぼゼロであることが好ましい。具体的には、測定波長５５０ｎｍで測定した面内位相差の値が、１ｎｍ以上が好ましく、３ｎｍ以上がより好ましく、また、１０ｎｍ以下が好ましく、５ｎｍ以下がより好ましい。
【００６７】
パターン位相差フィルム層の領域の好適な組み合わせの例としては、第二に、遅相軸方向が略９０°異なる２種類の領域の組み合わせが挙げられる。ここで遅相軸方向が略９０°異なるとは、これらの遅相軸方向がなす角度が、通常９０°±５°以内、好ましくは９０°±１°以内であることをいう。
【００６８】
図２は、パターン位相差フィルム層１３０が有しうるパターンの一例を概略的に示す上面図である。図２に示す例では、パターン位相差フィルム層１３０は、複数の領域１３１及び１３２を交互に有し、したがってこれらからなるストライプ状のパターンを有している。また、領域１３１及び１３２は、いずれも長尺方向（座標軸Ｘで示す方向）に対して平行に延在する帯状の形状を有している。したがって、パターン位相差フィルム層１３０は、領域１３１と領域１３２との境界線１３３を、長尺方向に延長する線として有する。このように、パターン位相差フィルム層１３０が有する複数種類の領域１３１及び１３２の境界線１３３を、以下において「パターン境界線」ということがある。
【００６９】
前記のストライプ状のパターンは、液晶表示装置においてパターン位相差板と組み合わせる液晶パネルの画素の位置に応じて設定される。例えば、液晶表示装置がパッシブ型の立体表示装置である場合、液晶パネルは通常２組の画素群（即ち、右目で観察されるための画素群及び左目で観察されるための画素群）を有する。この場合、パターン位相差フィルム層が有するパターンは、これらの画素群のうちの一方に対応する領域を等方性領域とし、他方に対応する領域を異方性領域としてもよい。
【００７０】
領域１３１及び１３２の幅Ｗ１３１及びＷ１３２は、組み合わせる液晶パネルの画素の寸法に合わせて設定してもよい。通常、液晶パネルの画素の寸法は均一であるため、いずれの領域１３１及び１３２の幅Ｗ１３１及びＷ１３２も同程度になる。また、異なる種類の領域１３１と領域１３２とのパターン境界は液晶パネルの画素間にあるブラックマトリックスに対応する位置に位置合わせすることになり、そのブラックマトリックスはある程度の幅を有している。このため、当該ブラックマトリックスの幅の分は、領域１３１の幅Ｗ１３１と領域１３２の幅Ｗ１３２とに差があってもよいので、異なる種類の領域１３１及び１３２の幅Ｗ１３１及びＷ１３２は必ずしも同じでなくても構わない。
【００７１】
パターン位相差板に張力をかけていない状態において、前記の領域の長尺方向における触れ幅ΔＤと平均幅Ｄとの比ΔＤ／Ｄが、通常０．０２以上であり、通常０．２５以下、好ましくは０．２０以下、より好ましくは０．１５以下である。これは、パターン位相差板に張力をかけていない状態においても、前記の領域が真直性に優れることを意味する。すなわち、前記の領域の幅が長尺方向において不均一となったり前記領域が湾曲したりすること無く、より直線に近い形状となることを意味する。このように各領域が真直性に優れることにより、パターン位相差板のパターン位相差フィルム層と液晶パネルとの位置合わせを精度良く行うことができる。このような利点は、パターン位相差板が長尺のフィルムであるときも、当該長尺のフィルムから必要な形状に切り出した後でも、同様に奏される。
【００７２】
ここで、前記の長尺方向における振れ幅ΔＤは、前記の領域の幅方向の位置の、長尺方向における変動を表す指標値である。すなわち、前記の領域の湾曲の程度を表す指標値である。この触れ幅ΔＤは、以下のようにして求める。
パターン位相差フィルム層が有する領域から任意に選んだ複数（通常、１０本）の領域の、それぞれの幅方向中央の地点（以下、「中点」ということがある。）に着目する。この中点の幅方向の位置を、各領域について長尺方向における複数個所で測定する。各領域の測定結果について、測定を開始した地点の中点の位置を基準として規格化を行う。選んだ全ての領域の測定結果の中から、規格化した中点の位置のうち、最も一端寄りとなった位置と最も他端寄りとなった位置との幅方向における距離を算出し、この距離を触れ幅ΔＤとする。
【００７３】
また、前記の長尺方向における平均幅Ｄは、前記の領域の幅（図２の幅Ｗ１３１及びＷ１３２参照）の平均値を表す指標値である。この平均幅Ｄは、以下のようにして求める。
パターン位相差フィルム層が有する領域から任意に選んだ複数（通常、１０本）の領域の、それぞれの幅を、各領域について長尺方向における複数個所で測定する。選んだ全ての領域の全ての測定結果の平均値を算出し、この平均値を平均幅Ｄとする。
【００７４】
パターン位相差フィルム層の厚みは、前記の領域それぞれで所望の面内位相差が得られるように適切な厚みに設定しうる。通常は、パターン位相差フィルム層の厚みは、０．５μｍ以上５０μｍ以下の範囲である。
【００７５】
〔１−４．その他の層〕
パターン位相差板は、本発明の効果を著しく損なわない限り、基材フィルム、接着層及びパターン位相差フィルム層以外の構成要素を備えていてもよい。
【００７６】
例えば、パターン位相差板は、パターン位相差フィルム層の基材フィルムとは反対側に、保護層を備えていてもよい。保護層は、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性等に優れるポリマーにより形成することが好ましい。このようなポリマーとしては、例えば、トリアセチルセルロース等のアセテート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、鎖状ポリオレフィン樹脂、脂環式オレフィン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂等が挙げられる。また、これらポリマーにより形成された層上に、例えばハードコート層、アンチグレア層、低反射層、反射防止層等を設けてもよい。また、例えば粘着層付きのポリエチレンテレフタレートフィルム等の、再剥離可能なフィルムを保護層として用いてもよい。中でも、トリアセチルセルロース層、ポリエチレンテレフタレートフィルムなどは、パターン位相差板と液晶パネルとの貼り合せ時に張力をかけてもよいため、好ましい。
保護層の厚みは任意であるが、通常５μｍ以上であり、通常５００μｍ以下、好ましくは３００μｍ以下、より好ましくは１５０μｍ以下である。
【００７７】
また、例えば、パターン位相差フィルム層を製造する際に配向膜を用いた場合、パターン位相差板は前記の配向膜を有していても構わない。
さらに、パターン位相差板は、例えば液晶表示装置の製造時にパターン位相差板を支持しうる支持基材を備えていてもよい。
【００７８】
〔１−５．パターン位相差板の物性〕
パターン位相差板に張力をかけない状態において、パターン位相差板は、通常、反りを生じ難い。このように反りを生じにくいため、本発明のパターン位相差板は、パターン位相差フィルム層と液晶パネルとの位置合わせを精度良く行うことができる。また、パターン位相差板と液晶パネルとを貼り合わせた場合にパターン位相板の反りに合わせて液晶パネルが反る現象を防止できる。このように反りを生じ難い理由は、パターン位相差フィルム層が縮もうとする応力を有していても、通常は基材フィルムがパターン位相差フィルム層よりも十分に厚く、剛性が高いため、応力に抗して反りを防止できるからである。
【００７９】
パターン位相差板は、通常、高い透明性を有する。具体的には、パターン位相差板の全光線透過率は、好ましくは８５％以上、より好ましくは９０％以上である。なお、上限は理想的には１００％である。ここで、全光線透過率は、ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１９９７に準拠して測定する。
【００８０】
パターン位相差板は、通常、ヘイズが小さい。具体的には、パターン位相差板のヘイズは、通常１０％以下、好ましくは５％以下、より好ましくは１％以下である。なお、下限値は理想的にはゼロであるが、通常は０．１％以上である。ここで、ヘイズは、ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１９９７に準拠して測定する。
【００８１】
［２．パターン位相差板の第一の製造方法］
パターン位相差フィルム層が、位相差の異なる２種類以上の領域を有する場合、本発明のパターン位相差板は、例えば、以下に説明する方法によって製造してもよい。
【００８２】
すなわち、この製造方法は、
ｉ．長尺基材を用意する工程と、
ii．長尺基材の表面に、重合性液晶化合物を含み活性エネルギー線の照射により硬化しうる液晶組成物の層（以下、「液晶組成物層」ということがある。）を形成して、前記長尺基材と前記液晶組成物層とを備える積層体（以下、「未硬化積層体」ということがある。）を得る工程と、
iii．前記液晶組成物層に含まれる前記重合性液晶化合物を配向させる工程と、
iv．前記長尺基材と前記液晶組成物層とを備える前記未硬化積層体に対して長尺方向に張力をかけた状態で、前記長尺方向に対して平行に延在する帯状の遮光部及び透光部を有するマスクを介して、前記液晶組成物層に活性エネルギー線を照射する工程と、
ｖ．前記液晶組成物層を加熱して、前記液晶組成物層の前記活性エネルギー線を照射されなかった領域の位相差を変化させて、前記長尺基材と前記パターン位相差フィルム層とを備える積層フィルムを得る工程と、
vi．前記長尺基材と前記パターン位相差フィルム層とを備える前記積層フィルムに対して、前記積層フィルムの引っ張り歪が０．００２％以上０．２％以下となる張力を長尺方向にかけた状態で、前記パターン位相差フィルム層と前記基材フィルムとを接着層を介して貼り合せる工程と、
vii．前記長尺基材を剥がす工程とを含む。
【００８３】
また、必要に応じて、上述した工程以外の工程を行ってもよい。例えば、
viii．長尺基材の表面に配向膜を形成する工程、
ix．マスクとして、長尺基材の表面にマスク層を形成する工程、
ｘ．液晶組成物層を乾燥させる工程、
xi．パターン位相差フィルム層に活性エネルギー線を照射して、位相差を変化させた領域を硬化させる工程、
などを行ってもよい。
【００８４】
なお、所望のパターン位相差板が得られる限り、各工程の順番は任意である。また、パターン位相差板の製造方法において、通常は長尺基材の長尺方向と長尺の基材フィルムの長尺方向とは一致するので、特に断らない限り、「長尺方向」とはこれらの長尺方向のことを指すものとする。さらに、ここで説明する製造方法では、通常、基材フィルムとして、面内において均一な位相差及び遅相軸方向を有する基材フィルムを用いる。
【００８５】
〔２−１．長尺基材の用意〕
長尺基材は、パターン位相差フィルム層を製造する際に使用される長尺の基材である。通常、パターン位相差板は長尺基材を剥がした後で使用されるので、パターン位相差板には長尺基材は残らない。このような長尺基材としては、通常、長尺のフィルムを用いる。
【００８６】
長尺基材の材料としては、通常は樹脂を用いる。未硬化状態の液晶組成物層を硬化させる工程において長尺基材を介して液晶組成物層にエネルギー線を照射する場合は、液晶組成物を硬化させられる程度に紫外線等のエネルギー線を透過させられる材料を用いることが好ましい。通常は、１ｍｍ厚で全光線透過率（ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１９９７に準拠して、濁度計（日本電色工業社製、ＮＤＨ−３００Ａ）を用いて測定）が８０％以上である材料が好適である。
【００８７】
さらに、長尺基材の材料としては、熱及び張力に強く、ライン搬送時の揺れの小さくする観点から、弾性率の高い材料を用いることが好ましい。
【００８８】
長尺基材の材料の例を挙げると、鎖状オレフィンポリマー、シクロオレフィンポリマー、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリスチレン、ポリビニルアルコール、酢酸セルロース系ポリマー、ポリ塩化ビニル、ポリメタクリレートなどが挙げられる。これらの中でも、鎖状オレフィンポリマー及びシクロオレフィンポリマーが好ましく、透明性、低吸湿性、寸法安定性、軽量性などの観点から、シクロオレフィンポリマーが特に好ましい。なお、これらは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。また、長尺基材の材料には、本発明の効果を著しく損なわない限り、任意の配合剤を含ませてもよい。好適な材料の具体例を挙げると、日本ゼオン社製「ゼオノア１４２０」を挙げることができる。
【００８９】
長尺基材の厚みは、製造時のハンドリング性、材料のコストの観点からは薄くしてもよいが、熱及び張力に強く、ライン搬送時の揺れの小さくする観点から厚くしてもよい。特に、長尺基材はパターン位相差板には残らないので、長尺基材の厚みを厚くしても液晶表示装置の薄膜化の実現を妨げないことは、この製造方法の利点の一つである。具体的な範囲としては、好ましくは５０μｍ以上、より好ましくは８０μｍ以上であり、好ましくは３００μｍ以下、より好ましくは２５０μｍ以下である。
【００９０】
長尺基材がフィルムである場合、延伸されていない未延伸フィルムであってもよく、延伸された延伸フィルムであってもよい。また、等方なフィルムであっても、異方性を有するフィルムであってもよい。さらに、長尺基材は、一層のみからなる単層構造のフィルムであってもよく、二層以上の層からなる複層構造のフィルムであってもよい。通常は、生産性及びコストの観点から、単層構造のフィルムを用いる。
【００９１】
長尺基材の液晶組成物層を形成する面には、ラビング処理を施してもよい。ラビング処理を施すことにより、後述する配向膜を形成しなくても、液晶組成物層において重合性液晶化合物を配向させることができる。通常、長尺基材の搬送方向とラビング方向は平行になる。
長尺基材の表面のラビング処理は、長尺基材の表面に未硬化状態の液晶組成物層を設ける工程の前に行う。
【００９２】
長尺基材は、その片面又は両面に表面処理が施されたものであってもよい。表面処理を施すことにより、長尺基材の表面に直接形成される他の層と長尺基材との密着性を向上させることができる。表面処理としては、例えば、エネルギー線照射処理や薬品処理などが挙げられる。
【００９３】
エネルギー線照射処理としては、例えば、コロナ放電処理、プラズマ処理、電子線照射処理、紫外線照射処理などが挙げられる。中でも、処理効率の点から、コロナ放電処理およびプラズマ処理が好ましく、コロナ放電処理が特に好ましい。
薬品処理としては、例えば、重クロム酸カリウム溶液、濃硫酸などの酸化剤水溶液中に、浸漬し、その後、充分に水で洗浄する処理が挙げられる。浸漬した状態で振盪すると効果的であるが、長期間浸漬したままにしておくと表面が溶解したり、透明性が低下したりすることがあるので、処理に用いる薬品の反応性、濃度などに応じて、浸漬時間、温度などの処理条件を調整することが好ましい。
【００９４】
〔２−２．配向膜の形成工程〕
図３は、本発明のパターン位相差板の製造方法の一例に係る配向膜の形成工程を模式的に示す図である。図３に示すように、液晶組成物層は、長尺基材２１０の表面に直接に形成してもよいが、長尺基材２１０の表面に例えば配向膜２２０等を介して間接的に塗布してもよい。配向膜２２０を用いれば、液晶組成物層において重合性液晶化合物を容易に配向させることができる。配向膜２２０の形成工程は、長尺基材２１０の表面に未硬化状態の液晶組成物層を設ける工程の前に行う。
【００９５】
配向膜２２０は、例えば、セルロース、シランカップリング剤、ポリイミド、ポリアミド、ポリビニルアルコール、エポキシアクリレート、シラノールオリゴマー、ポリアクリロニトリル、フェノール樹脂、ポリオキサゾール、環化ポリイソプレンなどを用いて形成してもよい。これらは１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００９６】
配向膜２２０の厚みは、所望する液晶組成物層の配向均一性が得られる厚みであればよく、好ましくは０．００１μｍ以上、より好ましくは０．０１μｍ以上であり、好ましくは５μｍ以下、より好ましくは２μｍ以下である。さらに、例えば、特開平６−２８９３７４号公報、特表２００２−５０７７８２号公報、特許４０２２９８５号公報、特許４２６７０８０号公報、特許４６４７７８２号公報、米国特許５３８９６９８号明細書などに示されるような光配向膜と偏光ＵＶを用いる方法によって、重合性液晶化合物を配向させるようにしてもよい。
【００９７】
〔２−３．マスク層の形成工程〕
図４は、本発明のパターン位相差板の製造方法の一例に係るマスク層の形成工程を模式的に示す図である。図４に示すように、長尺基材２１０の液晶組成物層を形成する面２１１とは反対側の面２１２には、必要に応じて、マスク層２３０を形成してもよい。マスク層２３０は、エネルギー線を遮光する遮光部２３１と、前記エネルギー線を透光する透光部２３２とを有する。マスク層２３０の遮光部２３１及び透光部２３２は、それぞれパターン位相差フィルム層の異なる位相差を有する領域に対応していて、いずれも長尺方向に対して平行に延在する帯状の形状を有している。また、これらの遮光部２３１及び透光部２３２は幅方向において交互に並ぶことにより、全体としてストライプ状のパターンを形成している。
【００９８】
マスク層２３０の材料としては、エネルギー線、特に紫外線を遮光することができ、且つパターンの形成が容易なマスク用組成物を適宜選択して用いてもよい。
【００９９】
通常、マスク用組成物としては、樹脂を用いる。前記の樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロースエステル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ウレタンアクリレート硬化樹脂、エポキシアクリレート硬化樹脂およびポリエステルアクリレート硬化樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種類の樹脂が好ましい。これらの樹脂を含むことにより、紫外線を遮光する材料を高温環境下においても保持し、安定した遮光部を作製することができる。前記の樹脂は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【０１００】
マスク用組成物に含まれる樹脂のガラス転移温度は、通常８０℃以上、好ましくは１００℃以上であり、通常４００℃以下、好ましくは３５０℃以下である。ガラス転移温度を８０℃以上にすることによりマスク層２３０の耐熱性を高めることができ、例えば液晶組成物層の加熱時にマスク層２３０が変形することを防止できる。また、ガラス転移温度を４００℃以下にすることにより、樹脂の溶解性を高めてマスク用組成物の印刷を簡単にできる。印刷前の状態とマスク層２３０を形成した後の状態とで樹脂のガラス転移温度が変化する場合には、マスク層２３０を形成した後の状態においてガラス転移温度が前記の範囲に収まることが好ましい。
【０１０１】
マスク用組成物は、紫外線吸収剤を含むことが好ましい。これによりマスク層２３０の遮光部２３１が紫外線吸収剤を含むことになり、遮光部２３１において紫外線を安定して遮光することができるようになる。紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤およびトリアジン系紫外線吸収剤からなる群より選ばれる少なくとも１種類の紫外線吸収剤を用いることが好ましい。紫外線吸収剤は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。紫外線吸収剤の使用量は、マスク層２３０中のモノマー、オリゴマー及びポリマー１００重量部に対して、通常５重量部以上、好ましくは８重量部以上、より好ましくは１０重量部以上であり、通常２０重量部以下、好ましくは１８重量部以下、より好ましくは１５重量部以下である。
【０１０２】
マスク用組成物は、さらに、着色剤、金属粒子、溶媒、光重合開始剤、架橋剤、その他の成分を含んでいてもよい。
【０１０３】
長尺基材２１０及びマスク用組成物を用意した後で、長尺基材２１０の一方の表面２１２にマスク層２３０を形成する。マスク用組成物を用いてマスク層２３０を形成する方法としては、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、オフセット印刷法、ロータリースクリーン印刷法、グラビアオフセット印刷法、インクジェット印刷法、又はこれらの組み合わせである印刷法を好ましく挙げることができる。透光部２３２と遮光部２３１は、例えば、マスク層２３０の厚さが薄い層と厚い層とを形成することにより設けてもよい。
【０１０４】
ただし、マスク層２３０は、長尺基材２１０に対して長尺方向に張力をかけた状態で形成することが好ましい。張力をかけることにより、長尺基材２１０のたわみ、変形、湾曲、長尺基材搬送時のフレなどを防止して、遮光部２３１及び透光部２３２の寸法及び形状を安定させることができる。このため、遮光部２３１及び透光部２３２の寸法、形状及び延在方向の精度を高め、真直性に優れた遮光部２３１及び透光部２３２を形成することが可能となる。
【０１０５】
〔２−４．液晶組成物層の形成工程〕
図５は、本発明のパターン位相差板の製造方法の一例に係る液晶組成物層の形成工程を模式的に示す図である。図５に示すように、長尺基材２１０を用意し、必要に応じて配向膜２２０を形成した後で、長尺基材２１０の表面２１１に、直接又は配向膜２２０等を介して、液晶組成物層２４０を形成する。
【０１０６】
パターン位相差フィルム層の形成に用いる液晶組成物は、重合性液晶化合物を含み、活性エネルギー線の照射により硬化しうる。前記の重合性液晶化合物としては、重合可能な液晶化合物を用い、例えば、重合性基を有する棒状液晶化合物及び側鎖型液晶ポリマー化合物などが挙げられる。
【０１０７】
棒状液晶化合物としては、例えば、特開２００２−０３００４２号公報、特開２００４−２０４１９０号公報、特開２００５−２６３７８９号公報、特開２００７−１１９４１５号公報、特開２００７−１８６４３０号公報などに記載された重合性基を有する棒状液晶化合物などが挙げられる。
また、側鎖型液晶ポリマー化合物としては、例えば、特開２００３−１７７２４２号公報などに記載の側鎖型液晶ポリマー化合物などが挙げられる。
また、好ましい重合性液晶化合物の例を製品名で挙げると、ＢＡＳＦ社製「ＬＣ２４２」等が挙げられる。重合性液晶化合物は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【０１０８】
重合性液晶化合物の屈折率異方性Δｎは、好ましくは０．０５以上、より好ましくは０．１０以上であり、好ましくは０．３０以下、より好ましくは０．２５以下である。屈折率異方性Δｎが０．０５未満では所望の光学的機能を得るために液晶組成物層２４０の厚さが厚くなって配向均一性が低下する可能性があり、また経済コスト的にも不利である。屈折率異方性Δｎが０．３０より大きいと所望の光学的機能を得るために液晶組成物層２４０の厚さが薄くなり、厚さ精度に対して不利である。屈折率異方性Δｎが大きい場合、液晶組成物層２４０の紫外線吸収スペクトルの長波長側の吸収端が可視域に及ぶ場合がありえるが、該スペクトルの吸収端が可視域に及んでも所望する光学的性能に悪影響を及ぼさない限り、使用可能である。液晶組成物が重合性液晶化合物を１種類だけ含む場合には、当該重合性液晶化合物の屈折率異方性を、そのまま液晶組成物における重合性液晶化合物の屈折率異方性としうる。また、液晶組成物が重合性液晶化合物を２種類以上含む場合には、各重合性液晶化合物それぞれの屈折率異方性Δｎの値と各重合性液晶化合物の含有比率とから求めた加重平均値屈折率異方性Δｎの値を、液晶組成物における重合性液晶化合物の屈折率異方性とする。屈折率異方性Δｎの値は、セナルモン法により測定しうる。
【０１０９】
さらに、液晶組成物は、製造方法や最終的な性能に対して適正な物性を付与するために、重合性液晶化合物以外にその他の成分を含んでいてもよい。その他の成分の例を挙げると、有機溶媒、界面活性剤、キラル剤、重合開始剤、紫外線吸収剤、架橋剤、酸化防止剤などが挙げられる。その他の成分は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【０１１０】
有機溶媒のうち好適な例を挙げると、ケトン類、アルキルハライド類、アミド類、スルホキシド類、ヘテロ環化合物、炭化水素類、エステル類、およびエーテル類等が挙げられる。これらの中でも、環状ケトン類、環状エーテル類が、重合性液晶化合物を溶解させやすいために好ましい。環状ケトン溶媒としては、例えば、シクロプロパノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等が挙げられ、中でもシクロペンタノンが好ましい。環状エーテル溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン等が挙げられ、中でも１，３−ジオキソランが好ましい。溶媒は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよく、液晶組成物としての相溶性や粘性、表面張力の観点などから最適化されることが好ましい。
有機溶媒の含有割合は、有機溶媒以外の固形分全量に対する割合として、通常は３０重量％以上９５重量％以下としうる。
【０１１１】
界面活性剤としては、配向を阻害しないものを適宜選択して使用することが好ましい。好ましい界面活性剤の例を挙げると、疎水基部分にシロキサン及びフッ化アルキル基等を含有するノニオン系界面活性剤などが挙げられる。中でも、１分子中に２個以上の疎水基部分を持つオリゴマーが特に好適である。これらの界面活性剤の例を製品名で挙げると、ＯＭＮＯＶＡ社ＰｏｌｙＦｏｘのＰＦ−１５１Ｎ、ＰＦ−６３６、ＰＦ−６３２０、ＰＦ−６５６、ＰＦ−６５２０、ＰＦ−３３２０、ＰＦ−６５１、ＰＦ−６５２；ネオス社フタージェントのＦＴＸ−２０９Ｆ、ＦＴＸ−２０８Ｇ、ＦＴＸ−２０４Ｄ；セイミケミカル社サーフロンのＫＨ−４０等が挙げられる。界面活性剤は、１種類を用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【０１１２】
界面活性剤の配合割合は、硬化後の液晶組成物層２４０における界面活性剤の濃度が０．０５重量％以上３重量％以下となるようにすることが好ましい。界面活性剤の配合割合が０．０５重量％より少ないと空気界面における配向規制力が低下して配向欠陥が生じる可能性がある。逆に３重量％より多い場合には、過剰の界面活性剤が液晶化合物の分子間に入り込み、配向均一性を低下させる可能性がある。
【０１１３】
キラル剤は、重合性化合物であってもよく、非重合性化合物であってもよい。キラル剤としては、通常、分子内にキラルな炭素原子を有し、重合性液晶化合物の配向を乱さない化合物を使用する。キラル剤の例を挙げると、重合性のキラル剤としてはＢＡＳＦ社製「ＬＣ７５６」等が挙げられる。また、例えば、特開平１１−１９３２８７号公報、特開２００３−１３７８８７号公報などに記載されているものも挙げられる。キラル剤は、１種類を用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。キラル剤は、通常、ツイステッドネマチック相を有する領域を形成する場合に、重合性を有する液晶化合物と併用して用いられる。
【０１１４】
重合開始剤は、例えば熱重合開始剤を用いてもよいが、通常は光重合開始剤を用いる。光重合開始剤としては、例えば、紫外線又は可視光線によってラジカル又は酸を発生させる化合物を使用しうる。光重合開始剤の例を挙げると、ベンゾイン、ベンジルメチルケタール、ベンゾフェノン、ビアセチル、アセトフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンジルイソブチルエーテル、テトラメチルチウラムモノ（ジ）スルフィド、２，２−アゾビスイソブチロニトリル、２，２−アゾビス−２，４−ジメチルバレロニトリル、ベンゾイルパーオキサイド、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキサイド、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、メチルベンゾイルフォーメート、２，２−ジエトキシアセトフェノン、β−アイオノン、β−ブロモスチレン、ジアゾアミノベンゼン、α−アミルシンナックアルデヒド、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、２−クロロベンゾフェノン、ｐｐ′−ジクロロベンゾフェノン、ｐｐ′−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインｎ−プロピルエーテル、ベンゾインｎ−ブチルエーテル、ジフェニルスルフィド、ビス（２，６−メトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニル−フォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、アントラセンベンゾフェノン、α−クロロアントラキノン、ジフェニルジスルフィド、ヘキサクロルブタジエン、ペンタクロルブタジエン、オクタクロロブテン、１−クロルメチルナフタリン、１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−２−（ｏ−ベンゾイルオキシム）］や１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］エタノン１−（ｏ−アセチルオキシム）などのカルバゾールオキシム化合物、（４−メチルフェニル）［４−（２−メチルプロピル）フェニル］ヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、３−メチル−２−ブチニルテトラメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニル−（ｐ−フェニルチオフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート等が挙げられる。重合開始剤は、１種類を用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。さらに、必要に応じて液晶組成物に、例えば三級アミン化合物等の光増感剤又は重合促進剤を含ませて、液晶組成物の硬化性をコントロールしてもよい。光重合効率を向上させるためには、重合性液晶化合物及び光重合開始剤などの平均モル吸光係数を適切に選定することが好ましい。
【０１１５】
紫外線吸収剤としては、例えば、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルベンゾエート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロネート、４−（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ）−１−（２−（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ）エチル）−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンなどのヒンダードアミン系紫外線吸収剤；２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾールなどのベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤；２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエートなどのベンゾエート系紫外線吸収剤；ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、アクリロニトリル系；などが挙げられる。これらの紫外線吸収剤は、所望する耐光性を付与するために、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【０１１６】
紫外線吸収剤の配合割合は、重合性液晶化合物１００重量部に対して、通常０．００１重量部以上、好ましくは０．０１重量部以上であり、通常５重量部以下、好ましくは１重量部以下である。紫外線吸収剤の配合割合が、０．００１重量部未満の場合には紫外線吸収能が不十分となり所望する耐光性を得られない可能性があり、５重量部より多い場合には液晶組成物を紫外線等の活性エネルギー線で硬化させる際に硬化が不十分となり、液晶組成物層２４０の機械的強度が低くなったり耐熱性が低くなったりする可能性がある。
【０１１７】
液晶組成物には、所望する機械的強度に応じて架橋剤を含ませてもよい。架橋剤の例としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、２−（２−ビニロキシエトキシ）エチルアクリレート等の多官能アクリレート化合物；グリシジル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル等のエポキシ化合物；２，２−ビスヒドロキシメチルブタノール−トリス［３−（１−アジリジニル）プロピオネート］、４，４−ビス（エチレンイミノカルボニルアミノ）ジフェニルメタン、トリメチロールプロパン−トリ−β−アジリジニルプロピオネート等のアジリジン化合物；ヘキサメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネートから誘導されるイソシアヌレート型イソシアネート、ビウレット型イソシアネート、アダクト型イソシアネート等のイソシアネート化合物；オキサゾリン基を側鎖に有するポリオキサゾリン化合物；ビニルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチリデン）−３−（トリエトキシシリル）−１−プロパンアミン等のアルコキシシラン化合物；などが挙げられる。架橋剤は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。また、液晶組成物には架橋剤の反応性に応じて公知の触媒を含ませ、膜強度や耐久性向上に加えて生産性を向上させるようにしてもよい。
【０１１８】
前記架橋剤の配合割合は、硬化後の液晶組成物層中における架橋剤の濃度が０．１重量％以上２０重量％以下となるようにすることが好ましい。架橋剤の配合割合が０．１重量％より少ないと架橋密度向上の効果が得られない可能性があり、逆に２０重量％より多いと硬化後の液晶組成物層２４０の安定性を低下させる可能性がある。
【０１１９】
酸化防止剤としては、例えば、テトラキス（メチレン−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート）メタン等のフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、チオエーテル系酸化防止剤などが挙げられる。酸化防止剤は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。酸化防止剤の配合量は、粘着層の透明性や粘着力が低下しない範囲としうる。
【０１２０】
液晶組成物層２４０を形成する場合、通常は、塗布法を用いる。液晶組成物の塗布方法としては、例えば、リバースグラビアコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、ダイコーティング法、バーコーティング法等の方法が挙げられる。
【０１２１】
図５に示すように、液晶組成物を長尺基材２１０に塗布することにより、塗膜として未硬化状態の液晶組成物層２４０が形成され、長尺基材２１０と未硬化状態の液晶組成物層２４０とを備え、更に必要に応じて配向膜２２０及びマスク層２３０を備える未硬化積層体２５０が得られる。
【０１２２】
〔２−５．配向工程〕
図６は、本発明のパターン位相差板の製造方法の一例に係る配向工程を模式的に示す図である。図６に示すように、未硬化状態の液晶組成物層２４０を形成する工程を行った後で、液晶組成物層２４０に含まれる重合性液晶化合物を配向させる配向工程を行ってもよい。配向工程における具体的な操作としては、例えば、オーブン内で未硬化状態の液晶組成物層２４０を所定の温度に加熱する操作を挙げることができる。
【０１２３】
配向工程において液晶組成物層２４０を加熱する温度は、通常４０℃以上、好ましくは５０℃以上であり、通常２００℃以下、好ましくは１４０℃以下である。また、加熱処理における処理時間は、通常１秒以上、好ましくは５秒以上であり、通常３分以下、好ましくは１２０秒以下である。これにより、液晶組成物層中の重合性液晶化合物が配向しうる。
また、液晶組成物に溶媒が含まれていた場合、前記の加熱によって通常は溶媒が乾燥するので、液晶組成物層２４０から溶媒が除去される。したがって、配向工程を行うと、通常は液晶組成物層２４０を乾燥させる乾燥工程も同時に進行する。通常、液晶組成物層２４０の配向軸はラビング方向と平行となり、配向軸が遅相軸となる。
【０１２４】
〔２−６．第一の硬化工程〕
図７は、本発明のパターン位相差板の製造方法の一例に係る第一の硬化工程を模式的に示す図である。図７に示すように、配向工程を行った後で、未硬化状態の液晶組成物層２４０の一部の領域２４１を硬化させる工程（第一の硬化工程）を行う。硬化させられる領域２４１では液晶組成物において重合反応が進行し、重合性液晶化合物が異方性の配向状態を維持したまま固定化される。
【０１２５】
第一の硬化工程では、マスクを介して未硬化状態の液晶組成物層２４０に活性エネルギー線を照射することにより、活性エネルギー線を照射された領域（以下、「露光領域」ということがある。）２４１を硬化させる。この際、マスクとしては、長尺方向に対して平行に延在する帯状の遮光部２３１及び透光部２３２を有するマスクを用いる。
【０１２６】
例えば、マスクとして長尺基材２１０にマスク層２３０を形成してある場合には、長尺基材２１０のマスク層側からマスク層２３０を介して液晶組成物層に活性エネルギー線を照射する。
また、例えば、長尺基材２１０とは別に、例えばストライプ状のパターンを構成する透光部及び遮光部をガラス上に設けたガラスマスクを介して、液晶組成物層に活性エネルギー線を照射してもよい。ガラスマスクは、例えば、ガラス表面にクロムスパッタを施し、さらにフォトレジストを塗布し、ストライプ状に露光してフォトレジストを感光させて、洗浄し、クロムをエッチングしたものを用いてもよい。あるいは、例えば感光性乳剤を塗布したＰＥＴフィルムをストライプ状にレーザー描画し、洗浄し、該ＰＥＴフィルムをガラス上に接着層を介して貼り合わせたものを用いてもよい。
また、特開平４−２９９３３２号公報に示した方法を使用してもよい。
【０１２７】
ただし、活性エネルギー線の照射は、未硬化積層体２５０に対して長尺方向に張力をかけた状態で実施することが好ましい。張力をかけることにより、未硬化積層体２５０のたわみ、変形、湾曲などを防止して、露光領域２４１の寸法及び形状を安定させることができる。このため、露光領域２４１の寸法、形状及び延在方向の精度を高め、露光領域に対応したパターン位相差フィルム層の領域（本例では、異方性領域）の真直性を向上させることができる。
【０１２８】
未硬化積層体２５０に対して長尺方向にかける張力の大きさは、パターン位相差フィルム層の領域の真直性を高められる程度である。具体的には、未硬化積層体２５０の引っ張り歪が、通常０．０１％以上、好ましくは０．０３％以上、より好ましくは０．０５％以上であり、通常０．１７％以下、好ましくは０．１５％以下、より好ましくは０．１３％以下となる大きさの張力をかける。張力の大きさを前記範囲の下限値以上とすることによってパターン位相差フィルム層の領域の真直性を高めることができ、上限値以下とすることにより過度の張力による意図しない変形を防止できる。
【０１２９】
第一の硬化工程では、活性エネルギー線として、液晶組成物を硬化させうる波長であって、マスクの遮光部で遮光されるが透光部を透光する波長の光を用いる。このような活性エネルギー線として、通常は紫外線を用いる。紫外線の照射時間、照射量、及びその他の条件は、液晶組成物の組成及び液晶組成物層２４０の厚みなどに応じて適切に設定しうる。照射時間は通常０．０１秒から３分の範囲であり、照射量は通常０．０１ｍＪ／ｃｍ２から５０ｍＪ／ｃｍ２の範囲である。また、紫外線の照射は、例えば窒素及びアルゴン等の不活性ガス中において行ってもよく、空気中で行ってもよい。
【０１３０】
〔２−７．配向変化工程〕
図８は、本発明のパターン位相差板の製造方法の一例に係る配向変化工程を模式的に示す図である。図８に示すように、第一の硬化工程の後で、液晶組成物層２４０の活性エネルギー線を照射されなかった領域（即ち、液晶組成物層の未硬化状態の領域）２４２の位相差を変化させる工程を行う。
【０１３１】
この工程において、どのような配向状態に変化させるかはパターン位相差板の用途に応じて設定しうるが、例えば、ヒーターにより、液晶組成物層２４０を、液晶組成物のＮＩ点以上に加熱してもよい。これにより、液晶化合物分子の配向状態が変化してランダムになるので、液晶組成物層２４０の未硬化状態の領域２４２は等方性領域となる。よって、液晶組成物層２４０は、位相差が異なる２種類以上の領域２４１及び２４２を有するパターン位相差フィルム層となるので、長尺基材２１０とパターン位相差フィルム層とを備え、必要に応じて配向膜２２０及びマスク層２３０を備える積層フィルム２６０が得られる。なお、本例においてパターン位相差フィルム層は、液晶組成物層２４０からなる層であるので、液晶組成物層２４０と同様の符号「２４０」を用いて示す。
【０１３２】
〔２−８．第二の硬化工程〕
図９は、本発明のパターン位相差板の製造方法の一例に係る第二の硬化工程を模式的に示す図である。図９に示すように、通常、未硬化状態の領域２４２の配向状態を変化させた後で、その未硬化状態の領域２４２を硬化させる第二の硬化工程を行う。この際、硬化させられる領域２４２では液晶組成物において重合反応が進行し、重合性液晶化合物は配向状態を維持したまま固定化される。
【０１３３】
第二の硬化工程は、紫外線の照射により行ってもよい。紫外線の照射時間、照射量などは、液晶組成物の組成及び液晶組成物層２４０の厚みなどに応じて適切に設定しうるが、照射量は通常５０ｍＪ／ｃｍ２から１０，０００ｍＪ／ｃｍ２の範囲である。また、紫外線の照射は、例えば窒素及びアルゴン等の不活性ガス中において行ってもよく、空気中で行ってもよい。照射に際して、必要に応じてヒーターによる加熱を継続して、未硬化状態の液晶組成物層の配向状態（例えば、等方相）を維持した状態で照射を行ってもよい。
【０１３４】
上述した製造方法により得られるパターン位相差フィルム層２４０においては、異なる位相差を有する領域２４１及び２４２が、遮光部及び透光部により形成されるマスクのマスクパターンを精度よく写し取ったパターンを形成する。さらに、当該製造方法により得られたパターン位相差フィルム層２４０においては、異なる位相差を有する領域２４１及び２４２の間には、物質的な連続性がある。したがって、上述した製造方法は、領域２４１及び２４２間の空隙による反射及び散乱等を生じない点で光学的に有利であり、また、領域２４１及び２４２間の空隙を起点とした破損等を生じない点で機械的強度の点でも有利である。
【０１３５】
〔２−９．パターン位相差フィルム層と基材フィルムとの貼合工程〕
図１０は、本発明のパターン位相差板の製造方法において使用しうる製造装置の一例を示す図である。図１０に示すように、長尺基材２１０及びパターン位相差フィルム層（図１０では図示せず）を備える積層フィルム２６０を得た後で、前記積層フィルム２６０と基材フィルム２７０とを貼り合わせる。
【０１３６】
積層フィルム２６０の貼り合せの向きは、積層フィルム２６０のパターン位相差フィルム層と基材フィルム２７０とが貼り合せられる向きにする。すなわち、パターン位相差フィルム層の長尺基材２１０とは反対側で積層フィルム２６０と基材フィルム２７０とが貼り合せられるようにする。
【０１３７】
貼り合せは、接着層（図１０では図示せず）を介して行う。この際、予め基材フィルム２７０及び積層フィルム２６０の一方又は両方の表面に接着剤を塗布しておき、それから貼り合わせを行うと、操作が簡単であり、好ましい。
通常、貼り合せは、積層フィルム２６０及び基材フィルム２７０を長尺方向に搬送しながら、積層フィルム２６０及び基材フィルム２７０を一対のニップロール２８１及び２８２で挟み込むことにより行う。
【０１３８】
貼り合せの際、積層フィルム２６０には、矢印Ａ２６０で示すように、所定の大きさの張力を長尺方向にかけた状態にすることが好ましい。この際の張力の大きさは、積層フィルム２６０の引っ張り歪が、通常０．００２％以上、好ましくは０．０１％以上、より好ましくは０．０１５％以上であり、通常０．２％以下、好ましくは０．１５％以下、より好ましくは０．１２％以下となる大きさである。前記範囲の下限値以上の張力をかけることにより、パターン位相差フィルム層における各領域を、当該領域の形成時（例えば、第一の硬化工程）と同様の真直性を保持した状態にすることができるので、それらの領域の真直性を高めることができる。また、張力の大きさを上限値以下とすることにより、過度の張力によりパターン位相差フィルム層が延伸されて各領域の寸法、位相差、遅相軸方向などが変化したり、パターン位相差フィルム層に縮もうとする過度に大きな応力が生じたりすることを防止できる。
【０１３９】
また、貼り合せの際、基材フィルム２７０にも、矢印Ａ２７０で示すように、張力を長尺方向にかけた状態にすることが好ましい。基材フィルム２７０にしわ及びたわみが生じることを防止するためである。この際、基材フィルム２７０にかける張力の大きさは、積層フィルム２６０にかける張力よりも小さくすることが好ましい。具体的には、基材フィルム２７０の引っ張り歪が、通常０．２％以下、好ましくは０．１５％以下、より好ましくは０．１０％以下であり、通常０．０１％以上、好ましくは０．０５％以上、より好ましくは０．０８％以上となる大きさである。このように基材フィルム２７０にかける張力を小さくすることにより、張力解放後の基材フィルム２７０に縮もうとする応力が生じることを防止できるので、貼り合せ後においてパターン位相差フィルム層の各領域の真直性を維持でき、また、得られるパターン位相差板２９０の反り等の変形を安定して防止することが可能である。
【０１４０】
〔２−１０．接着層の硬化工程〕
積層フィルム２６０と基材フィルム２７０とを貼り合わせた後で、必要に応じて、接着層の硬化工程を行う。例えば、接着剤として後硬化接着剤を用いた場合、必要に応じて接着剤を乾燥させ、活性エネルギー線の照射などを行うことにより、接着層を硬化させてもよい。
図１０に示す例では、光源２８３から活性エネルギー線を照射することにより、接着層を硬化させているものとする。
【０１４１】
〔２−１１．剥離工程〕
上述した各工程を経たことにより、長尺基材２１０、パターン位相差フィルム層、接着層及び基材フィルム２７０をこの順に備えたフィルム２９１が得られる。このフィルム２９１から長尺基材２１０を剥がすことにより、パターン位相差板２９０が得られる。本例では、フィルム２９１が対向する搬送ロール２８４，２８５間を通過したとき、長尺基材２１０が剥がされているものとする。
【０１４２】
長尺基材２１０の表面にマスク層（図１０では図示せず）が形成されている場合、当該マスク層は、長尺基材２１０を剥がしたときに長尺基材２１０と一緒に剥がれる。また、長尺基材２１０の表面に配向膜（図１０では図示せず）が形成されている場合、当該配向膜は、長尺基材２１０を剥がしたときに長尺基材２１０と一緒にはがれてもよく、パターン位相差フィルム層の表面に残っていてもよい。
【０１４３】
上述したように、積層フィルム２６０と基材フィルム２７０とを貼り合わせる際、パターン位相差フィルム層の各領域の真直性を高めるために、積層フィルム２６０に大きな張力をかけた。また、得られたパターン位相差板２９０においては、パターン位相差フィルム層は張力をかけられた状態のままで固定されている。さらに、通常、貼り合せ時において基材フィルム２７０には、前記の真直性を低下させうるほどの張力はかけられていない。このため、パターン位相差フィルム層の各領域の真直性は高くなっており、この真直性は、パターン位相差板２９０に張力をかけていないときでも維持される。
【０１４４】
また、長尺基材２１０、パターン位相差フィルム層、接着層及び基材フィルム２７０にかけられた張力差により、これらを有するフィルム２９１の張力を開放した時には、張力が大きかった方が凹となるようにしてフィルム２９１が反ることがある。通常は、長尺基材２１０に特に大きな張力がかけられるので、長尺基材２１０側を凹としてフィルム２９１は反る傾向がある。しかし、得られたパターン位相差板２９０では、長尺基材２１０を剥がしたことにより、前記のような反りを防止できる。
【０１４５】
さらに、パターン位相差板２９０においては、通常はパターン位相差フィルム層に基材フィルム２７０よりも大きい張力がかけられるので、パターン位相差フィルム層に生じる応力によって反りが生じることも考えられる。しかし、パターン位相差フィルム層は、一般に基材フィルム２７０よりも薄いので、パターン位相差フィルム層に発現する応力では、基材フィルム２７０の剛性に抗してパターン位相差板２９０全体を変形させることは難しい。したがって、パターン位相差板２９０に張力をかけていないときでも、パターン位相差板２９０の反りを防止できる。
【０１４６】
〔２−１２．その他の工程〕
必要に応じて、上述した工程以外の工程を行うようにしてもよい。
例えば、パターン位相差フィルム層の基材フィルム２７０とは反対側に、保護層を設ける工程を行ってもよい。保護層を設ける工程は、例えば、下記のようにして行いうる。まず、保護層を有するフィルム状の基材を用意する。この基材の保護層とは反対側の面に接着剤を設ける。その後、パターン位相差フィルム層と基材に設けた接着剤とを貼り合わせる。これにより、パターン位相差フィルム層上に保護層が設けられる。この場合、パターン位相差フィルム層及び基材フィルム２７０を備えるパターン位相差板２９０にかかる張力に対して、保護層を有する基材にかかる張力が、同等以下であることが好ましい。パターン位相差板２９０にかかる張力と保護層を有する基材にかかる張力との張力差は、具体的には、通常０Ｎ／フィルム幅以上、好ましくは５０Ｎ／フィルム幅以上であり、通常５００Ｎ／フィルム幅以下、好ましくは４００Ｎ／フィルム幅以下である。
【０１４７】
さらに、例えば、基材フィルム２７０のパターン位相差フィルム層を貼り合わせた面とは反対側に、接着層を設けてもよい。接着層を設ける方法は、例えば、下記のようにして行いうる。まず、ＰＥＴ基材表面にシリコン系離型層を設けたフィルムを用意する。このフィルムのシリコン系離型層上に、接着層を塗工する。その後、基材フィルム２７０のパターン位相差フィルム層を貼り合わせた面とは反対側に、上記接着層を貼り合わせることで、基材フィルム２７０に接着層を設けることができる。この場合、パターン位相差フィルム層及び基材フィルム２７０を備えるパターン位相差板２９０にかかる張力に対して、接着層を塗工したフィルムにかかる張力が、同等以下であることが好ましい。パターン位相差板２９０にかかる張力と接着層を塗工したフィルムにかかる張力との張力差は、具体的には、通常０Ｎ／フィルム幅以上、好ましくは５０Ｎ／フィルム幅以上であり、通常５００Ｎ／フィルム幅以下、好ましくは４００Ｎ／フィルム幅以下である。
【０１４８】
［３．パターン位相差板の第二の製造方法］
パターン位相差フィルム層が、遅相軸方向が異なる２種類以上の領域を有する場合、本発明のパターン位相差板は、例えば、以下に説明する方法によって製造してもよい。
【０１４９】
すなわち、この製造方法は、
xii．長尺基材を用意する工程と、
xiii．長尺基材の表面に、偏光を照射されることにより不可逆的に配向する光配向材料の層（以下、「光配向材料層」ということがある。）を形成して、長尺基材と光配向材料層とを備える積層体（以下、「配向材料積層体」ということがある。）を得る工程と、
xiv．長尺基材と光配向材料層とを備える配向材料積層体に対して長尺方向に張力をかけた状態で、光配向材料層の長尺方向に対して平行に延在する帯状の領域に、偏光を照射する工程と、
xv．光配向材料層の全体に、前記の偏光とは偏光方向が９０°±３°異なる偏光を照射して、配向膜を得る工程と、
xvi．前記配向膜の表面に、重合性液晶化合物を含み活性エネルギー線の照射により硬化しうる液晶組成物の層（即ち、液晶組成物層）を形成する工程と、
xvii．前記液晶組成物層に活性エネルギー線を照射して、長尺基材とパターン位相差フィルム層とを備える積層フィルムを得る工程と、
xviii．前記長尺基材と前記パターン位相差フィルム層とを備える前記積層フィルムに対して、前記積層フィルムの引っ張り歪が０．００２％以上０．２％以下となる張力を長尺方向にかけた状態で、前記パターン位相差フィルム層と前記基材フィルムとを接着層を介して貼り合せる工程と、
xix．前記長尺基材を剥がす工程とを含む。
【０１５０】
また、必要に応じて、上述した工程以外の工程を行ってもよい。例えば、
xx．前記液晶組成物層に含まれる前記重合性液晶化合物を配向させる工程、
xxi．液晶組成物層を乾燥させる工程、
などを行ってもよい。
【０１５１】
なお、所望のパターン位相差板が得られる限り、各工程の順番は任意である。また、パターン位相差板の製造方法において、通常は長尺基材の長尺方向と長尺の基材フィルムの長尺方向とは一致するので、特に断らない限り、「長尺方向」とはこれらの長尺方向のことを指すものとする。さらに、ここで説明する製造方法では、通常、基材フィルムとして、位相差が通常１０ｎｍの基材フィルムを用いる。
【０１５２】
〔３−１．長尺基材の用意〕
長尺基材は、［２．パターン位相差板の第一の製造方法］において説明したのと同様にしてもよい。
【０１５３】
〔３−２．光配向材料層の形成工程〕
図１１は、本発明のパターン位相差板の製造方法の一例に係る光配向材料層の形成工程を模式的に示す図である。図１１に示すように、長尺基材３１０の表面３１１には、光配向材料層３２０を形成する。これにより、長尺基材３１０と光配向材料層３２０とを備える配向材料積層体３３０が得られる。
【０１５４】
光配向材料とは、偏光を照射されることにより不可逆的に配向する材料である。このような光配向材料の例としては、特許４２６７０８０号公報に記載のＰＰＮ層に使用されるＰＰＮ材料、特許４６４７７８２号公報に記載のＬＰＰ／ＬＣＰ混合物、第２５４３６６６号公報に記載のＰＰＮ材料などが挙げられる。なお、これらは１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【０１５５】
光配向材料層３２０の厚みは、所望する液晶組成物層の配向均一性が得られる厚みであればよく、好ましくは０．００１μｍ以上、より好ましくは０．０１μｍ以上であり、好ましくは５μｍ以下、より好ましくは２μｍ以下である。
【０１５６】
〔３−３．第一の偏光照射工程〕
図１２は、本発明のパターン位相差板の製造方法の一例に係る第一の偏光照射工程を模式的に示す図である。図１２に示すように、光配向材料層３２０を形成した後で、光配向材料層３２０の一部の領域３２１に偏光を照射する工程（第一の変更照射工程）を行う。偏光を照射された領域３２１では、光配向材料層３２０において光配向材料が不可逆的に配向し、その配向状態を維持したまま固定化される。
【０１５７】
第一の偏光照射工程では、通常、マスクを介して光配向材料層３２０に偏光を照射する。この際、マスクとしては、長尺方向に対して平行に延在する帯状の遮光部及び透光部を有するマスクを用いる。これにより、光配向材料層３２０の、長尺方向に対して平行に延在する帯状の領域３２１に、偏光を照射することができる。このようなマスクとしては、例えば、［２．パターン位相差板の第一の製造方法］において説明したマスク層及びガラスマスクなどを用いてもよい。
【０１５８】
ただし、偏光の照射は、配向材料積層体３３０に対して長尺方向に張力をかけた状態で実施することが好ましい。張力をかけることにより、配向材料積層体３３０のたわみ、変形、湾曲などを防止して、偏光を照射される領域３２１の寸法及び形状を安定させることができる。このため、偏光を照射される領域３２１の寸法、形状及び延在方向の精度を高め、偏光を照射される領域３２１及び当該領域に対応したパターン位相差フィルム層の領域の真直性を向上させることができる。
【０１５９】
配向材料積層体３３０に対して長尺方向にかける張力の大きさは、偏光を照射される領域３２１の真直性を高められる程度である。具体的には、配向材料積層体３３０の引っ張り歪が、通常０．０１％以上、好ましくは０．０３％以上、より好ましくは０．０５％以上であり、通常０．１７％以下、好ましくは０．１５％以下、より好ましくは０．１３％以下となる大きさの張力をかける。張力の大きさを前記範囲の下限値以上とすることによって偏光を照射される領域３２１の真直性を高めることができ、上限値以下とすることにより過度の張力による意図しない変形を防止できる。
【０１６０】
第一の偏光照射工程では、偏光として、光配向材料を配向させうる波長であって、マスクの遮光部で遮光されるが透光部を透光する波長の光を用いる。このような偏光として、通常は紫外線を用いる。紫外線の照射時間、照射量、及びその他の条件は、光配向材料の組成及び光配向材料層３２０の厚みなどに応じて適切に設定しうる。照射時間は通常０．００１秒から１分の範囲であり、照射量は通常１ｍＪ／ｃｍ２から５００ｍＪ／ｃｍ２の範囲である。また、偏光の照射は、例えば窒素及びアルゴン等の不活性ガス中において行ってもよく、空気中で行ってもよい。
【０１６１】
〔３−４．第二の偏光照射工程〕
図１３は、本発明のパターン位相差板の製造方法の一例に係る第二の偏光照射工程を模式的に示す図である。図１３に示すように、第一の偏光照射工程の後で、光配向材料層３２０の全体に、前記の偏光とは偏光方向が９０°±３°異なる偏光を照射する第二の偏光照射工程を行う。これにより、第一の偏光照射工程において偏光が照射されていなかった領域３２２において、光配向材料が不可逆的に配向し、その配向状態を維持したまま固定化される。また、第一の偏光照射工程で照射した偏光と第二の偏光照射工程で照射した偏光とは偏光方向が９０°±３°異なっているので、光配向材料層３２０において第二の偏光照射工程で配向した領域３２２の配向方向は、第一の偏光照射工程で配向した領域３２１の配向方向と９０°±３°異なる。
【０１６２】
第二の偏光照射工程は、例えば、マスクを介さずに偏光を照射することにより行ってもよい。偏光の照射時間、照射量などは、光配向材料の組成及び光配向材料層３２０の厚みなどに応じて適切に設定しうるが、照射量は通常０．５ｍＪ／ｃｍ２から３００ｍＪ／ｃｍ２の範囲である。また、偏光の照射は、例えば窒素及びアルゴン等の不活性ガス中において行ってもよく、空気中で行ってもよい。
【０１６３】
上述した製造方法により、長尺基材３１０の表面３１１に光配向材料層３２０からなる配向膜が得られる。この配向膜においては、配向方向が９０°±３°異なる領域３２１及び３２２が、遮光部及び透光部により形成されるマスクのマスクパターンを精度よく写し取ったパターンを形成する。すなわち、配向方向が９０°±３°異なる領域３２１及び３２２が、いずれも長尺方向に対して平行に延在する帯状の形状を有して交互に並ぶことにより、全体としてストライプ状のパターンが形成される。なお、本例において配向膜は、光配向材料層３２０からなる層であるので、光配向材料層３２０と同様の符号「３２０」を用いて示す。
【０１６４】
〔３−５．液晶組成物層の形成工程〕
図１４は、本発明のパターン位相差板の製造方法の一例に係る液晶組成物層の形成工程を模式的に示す図である。図１４に示すように、長尺基材３１０に配向膜３２０を形成した後で、その配向膜３２０の表面３２３に、液晶組成物層３４０を形成する。液晶組成物層３４０の形成工程については、［２．パターン位相差板の第一の製造方法］において説明したのと同様にしてもよい。液晶組成物を配向膜３２０の表面３２３に塗布することにより、塗膜として未硬化状態の液晶組成物層３４０が形成される。
【０１６５】
〔３−６．配向工程〕
図１５は、本発明のパターン位相差板の製造方法の一例に係る配向工程を模式的に示す図である。図１５に示すように、未硬化状態の液晶組成物層３４０を形成する工程を行った後で、必要に応じて、液晶組成物層３４０に含まれる重合性液晶化合物を配向させる配向工程を行ってもよい。配向工程については、［２．パターン位相差板の第一の製造方法］において説明したのと同様にしてもよい。配向工程を行うことにより、配向膜３２０の各領域３２１及び３２２の配向方向に応じた方向へと重合性液晶化合物が配向する。また、配向工程を行うと、通常は液晶組成物層３４０を乾燥させる乾燥工程も同時に進行することも、同様である。
【０１６６】
〔３−７．硬化工程〕
図１６は、本発明のパターン位相差板の製造方法の一例に係る硬化工程を模式的に示す図である。図１６に示すように、必要に応じて配向工程を行った後で、未硬化状態の液晶組成物層３４０を硬化させる工程（硬化工程）を行う。硬化させられる液晶組成物層３４０の領域３４１及び３４２では液晶組成物において重合反応が進行し、重合性液晶化合物は配向状態を維持したまま固定化される。これにより、長尺基材３１０の表面３１１に、配向膜３２０を介して、液晶組成物層からなるパターン位相差フィルム層が形成されるので、長尺基材３１０と配向膜３２０とパターン位相差フィルム層とを備える積層フィルム３５０が得られる。なお、本例においてパターン位相差フィルム層は、液晶組成物層３４０からなる層であるので、液晶組成物層３４０と同様の符号「３４０」を用いて示す。
【０１６７】
この硬化工程では、［２．パターン位相差板の第一の製造方法］における第二の硬化工程と同様にして、液晶組成物層３４０に活性エネルギー線を照射してもよい。
【０１６８】
このパターン位相差フィルム層３４０においては、遅相軸方向が異なる２種類の領域３４１及び３４２が、配向膜３２０に形成された異なる配向方向を有する領域３２１及び３２２のパターンを精度よく写し取ったパターンを形成する。通常、配向膜３２０の各領域３２１及び３２２における配向方向と、その表面に形成されたパターン位相差フィルム層３４０の各領域３４１及び３４２の遅相軸方向とは、平行又は垂直となる。したがって、本例のように配向方向が９０°±３°異なる領域３２１及び３２２を配向膜３２０に形成した場合、パターン位相差フィルム層３４０において各領域３４１及び３４２の遅相軸方向も、９０°±３°異なるようになる。
【０１６９】
さらに、当該製造方法により得られたパターン位相差フィルム層３４０においては、遅相軸方向が異なる領域３４１及び３４２の間には、物質的な連続性がある。したがって、上述した製造方法は、領域３４１及び３４２間の空隙による反射及び散乱等を生じない点で光学的に有利であり、また、領域３４１及び３４２間の空隙を起点とした破損等を生じない点で機械的強度の点でも有利である。
【０１７０】
〔３−８．パターン位相差フィルム層と基材フィルムとの貼合工程〕
長尺基材及びパターン位相差フィルム層を備える積層フィルムを得た後で、前記積層フィルムと基材フィルムとを貼り合わせる。この貼り合わせは、［２．パターン位相差板の第一の製造方法］と同様にして行う（図１０参照）。
【０１７１】
貼り合せの際、積層フィルムには、所定の大きさの張力を長尺方向にかけた状態にするので、パターン位相差フィルム層における各領域の真直性を高めることができる。また、過度の張力によりパターン位相差フィルム層が延伸されて各領域の寸法、位相差、遅相軸方向などが変化したり、パターン位相差フィルム層に縮もうとする過度に大きな応力が生じたりすることを防止できる。
【０１７２】
また、貼り合せの際、基材フィルムにも、張力を長尺方向にかけた状態にすることが好ましい。基材フィルムにしわ及びたわみが生じることを防止するためである。この際、基材フィルムにかける張力の大きさを小さくすることにより、パターン位相差フィルム層が縮もうとする応力に対して基材フィルムが抗することが可能となり、得られるパターン位相差板の反り等の変形を安定して防止することが可能である。
【０１７３】
〔３−９．接着層の硬化工程〕
積層フィルムと基材フィルムとを貼り合わせた後で、必要に応じて、接着層の硬化工程を行う（図１０参照）。例えば、接着剤としては、後硬化接着剤を用いた場合、必要に応じて接着剤を乾燥させ、活性エネルギー線の照射などを行うことにより、接着層を硬化させてもよい。
【０１７４】
〔３−１０．剥離工程〕
必要に応じて接着層を硬化させた後で、長尺基材を剥がすことにより、パターン位相差板が得られる。長尺基材は、［２．パターン位相差板の第一の製造方法］と同様にして剥がしてもよい（図１０参照）。
【０１７５】
本例の製造方法においても、得られるパターン位相差板のパターン位相差フィルム層の各領域の真直性は高くなっており、このような状態は、パターン位相差板に張力をかけていないときでも維持される。
また、パターン位相差板に張力をかけていないときでも、パターン位相差板の反りを防止できる。
【０１７６】
〔３−１１．その他の工程〕
必要に応じて、上述した工程以外の工程を行うようにしてもよい。
例えば、［２．パターン位相差板の第一の製造方法］と同様の工程を行ってもよい。
【０１７７】
［４．液晶表示装置の製造方法］
液晶表示装置の製造方法では、ブラックマトリックスを有する液晶パネルと、上述した本発明のパターン位相差板とを、パターン位相差板のパターン位相差フィルム層の２種類以上の領域のパターン境界線と液晶パネルのブラックマトリックスとの相対的な位置関係とを位置合わせし、貼り合わせる工程を行う。本発明のパターン位相差板は、張力をかけなくてもパターン位相差フィルム層の各領域の真直性に優れ、且つ、反らないので、液晶パネルとの位置合わせを精度良く行うことが容易である。また通常は、パターン位相差板は、液晶パネルの視認側の面に貼り合わせるようにする。
【０１７８】
通常、この製造方法では、
Ｉ．パターン位相差板を連続的に繰り出す工程（Ａ）と、
II．前記パターン位相差板と液晶パネルとを対向させた状態で、これらを観察し、パターン位相差板のパターン位相差フィルム層の各領域のパターン境界線と、液晶パネルのブラックマトリックスとの相対的な位置関係を位置合わせする工程（Ｂ）と、
III．パターン位相差板と液晶パネルとを接着層を介して貼り合わせる工程（Ｃ）と
を行う。
【０１７９】
〔４−１．工程（Ａ）〕
工程（Ａ）では、パターン位相差板を連続的に繰り出す工程（Ａ）を含む。かかる連続的な繰り出しは、通常、長尺のパターン位相差板、又はパターン位相差板とそれを支持する支持基材との複合フィルムを製造し、これを直接繰り出すか、または一旦巻回してロールとし、このロールから使用に際してパターン位相差板を繰り出すことにより行う。
【０１８０】
支持基材が後の工程における操作の妨げとならない場合は、パターン位相差板を、複合フィルムのまま繰り出し、後の工程に供してもよい。一方、支持基材が後の工程における操作の妨げとなる場合は、複合フィルムから支持基材を剥離して、パターン位相差板のみを繰り出し、後の工程に供してもよい。具体的には例えば、支持基材が透明でない場合、又は透明ではあるがレターデーションを有している場合は、位置決めの際に支持基材を透過しての観察が困難となる可能性がある。この場合、複合フィルムから支持基材を剥離し、パターン位相差板のみを後の工程（工程（Ｂ）等）に供してもよい。具体的には、支持基材が５０ｎｍ以上のレターデーションを有する場合、このように後の工程に先立ち支持基材を剥離することが好ましい。
【０１８１】
このように長尺のパターン位相差板を用いた操作は、インラインで連続的に行うことができ、枚様処理で発生しやすいフィルムへのシワ、折れの発生を抑制し、製造効率を高めることができる。但し、長尺のパターン位相差板は、インラインでの製造工程において、工程（Ｂ）に供される前に切断されてもよい。
【０１８２】
パターン位相差板に、例えば偏光板など、必要に応じて任意の層を設けてもよい。
【０１８３】
工程（Ａ）の終了後、工程（Ｂ）及び（Ｃ）に先立ち、前記パターン位相差板又は液晶パネルのどちらか一方又は両方の面上に、工程（Ｃ）での貼り合わせのための接着層を、予め設けることがこのましい。これにより、その後の貼り合わせの工程（Ｃ）を円滑に行うことができる。
【０１８４】
〔４−２．工程（Ｂ）〕
工程（Ｂ）では、パターン位相差板と、ブラックマトリックスを有する液晶パネルとを対向させた状態で、これらを観察し、パターン位相差板のパターン位相差フィルム相のパターン境界線と、液晶パネルのブラックマトリックスとの相対的な位置関係の位置合わせを行なう。
【０１８５】
液晶パネルとしては、既知の種々の表示モードの液晶パネルを用いることができる。例えばツイステッドネマチック（ＴＮ）モード、スーパーツイステッドネマチック（ＳＴＮ）モード、ハイブリッドアラインメントネマチック（ＨＡＮ）モード、バーティカルアラインメント（ＶＡ）モード、マルチドメインバーティカルアラインメント（ＭＶＡ）モード、インプレーンスイッチング（ＩＰＳ）モード、オプティカリーコンペンセイテッドバイリフジエンス（ＯＣＢ）モードなどの表示モードによるものとすることができる。
【０１８６】
パターン位相差板と液晶パネルとを対向させる際、液晶パネルの向きは、その表示面（液晶表示装置とした際に観察者に対面する側の面）がパターン位相差板と対面する向きとしてもよい。かかる向きとすることにより、立体画像表示装置とするのに適した液晶表示装置を容易に製造することができる。
一方、パターン位相差板の向きは、パターン位相差フィルム層側の面及び基材フィルム側の面のうち、どちらが液晶パネルに対面する向きとしてもよい。パターン位相差板が、支持基材と組み合わせて複合フィルムとして繰り出される場合、通常は、かかる複合フィルムの、パターン位相差板側の面が液晶パネルに対面する向きとする。
【０１８７】
パターン境界線とブラックマトリックスの相対的な位置関係とは、液晶パネルの表示面に垂直な方向から観察した場合における、これらの相対的な位置関係である。以下において、このような位置関係を、単に「ＸＹ平面上における」位置関係という場合がある。かかる位置合わせは、具体的には、液晶パネルの表示面に垂直な方向から観察した場合において、パターン境界線が、ブラックマトリックス上に位置するような位置合わせとしてもよい。より具体的には、表示面領域内に位置するパターン境界線が、ブラックマトリックスの、液晶パネル中の複数の組の画素の各組を分ける部分上に位置するような位置合わせとしてもよい。ここで表示面領域とは、表示面に垂直な方向から観察した場合における、液晶パネルの画素が配置されている領域を意味する。
【０１８８】
図１７は、パターン境界線とブラックマトリックスの相対的な位置関係の例を概略的に示す上面図である。図１７の例において、液晶パネル４４０は、パッシブ型の立体画像表示装置用の液晶パネルである。液晶パネル４４０は、２組の画素群、即ち右目で観察されるための画素群及び左目で観察されるための画素群を有している。画素Ｒ１、画素Ｇ１及び画素Ｂ１は２の画素群のうちの第１の画素群を構成し、画素Ｒ２、画素Ｇ２及び画素Ｂ２は第２の画素群を構成している。各画素群の画素は、図中座標軸Ｘ方向に整列し、第１の画素群の画素の列４４１及び第２の画素群の画素の列４４２を構成している。画素の列４４１及び４４２は、座標軸Ｙ方向において、交互に配列されている。したがって、第１の画素群及び第２の画素群は、ブラックマトリックスの座標軸Ｘ方向に延長する部分４４５により分けられている。この例において、パターン位相差板は、パターン位相差フィルム層４１０の領域４１１及び４１２のパターン境界線４１５が、ブラックマトリックスの部分４４５上に位置するよう位置合わせされている。
【０１８９】
このように、矩形の表示面の一辺に平行な方向に沿って各画素群における画素が整列している態様において、長尺方向に平行なパターン境界線を有するパターン位相差板を用いると、位置合わせの精度が向上する。また、これに加えて、長尺のパターン位相差板の長尺方向に平行及び垂直な線に沿ってパターン位相差板を切断して切り出すことができ、パターン位相差板の利用効率が向上する。
【０１９０】
工程（Ｂ）において、パターン位相差フィルム層のパターン境界線及びブラックマトリックスの相対的な位置は、カメラ及び光源を含む装置を用いて観察してもよい。より具体的には、カメラ及び光源に加え、これらの一方又は両方に備えられた円偏光板を含む装置により観察してもよい。
【０１９１】
パターン位相差フィルム層のパターン境界線及びブラックマトリックスの相対的な位置の観察の例を、図１８を参照して説明する。図１８は、液晶パネル及びその他の層の観察の態様の例を概略的に示す斜視図である。この例では、パターン位相差フィルム層４１０、基材フィルム４２０、偏光板４３０、及び液晶パネル４４０が配置された状態において、液晶パネル４４０及びパターン位相差フィルム層４１０上のパターンを観察装置４９０により観察している。矢印Ａ４１１〜Ａ４１３は、観察の際の光路を示している。図１８においては、図示のため、光路は斜めに示されているが、実際には、カメラ４９２に向かう光路は、実質的に液晶パネル４４０と垂直としてもよい。
【０１９２】
図１８においては、パターン位相差フィルム層４１０、基材フィルム４２０、偏光板４３０、及び液晶パネル４４０は、図示のため離隔して示されているが、これらのうち一部又は全部は実際の態様においては接触した状態で工程（Ｂ）に供されうる。具体的には、パターン位相差フィルム層４１０及び基材フィルム４２０は、通常、パターン位相差板に含まれる部材として接着層（図１８では図示せず）を介して貼り合わされた状態で工程（Ｂ）に供される。また、偏光板４３０は、直接又は必要に応じて接着層（図１８では図示せず）を介して、基材フィルム４２０又は液晶パネル４４０に貼り合わされた状態で工程（Ｂ）に供されてもよい。接着層を形成する接着剤としては、基材フィルムとパターン位相差フィルム層とを貼り合わせる際に用いた接着剤と同様のものを用いてもよい。
【０１９３】
この例において、偏光板４３０は座標軸Ｙ方向に透過軸を有する。基材フィルム４２０は偏光板４３０の透過軸と４５°の角度をなす方向に遅相軸を有する１／４波長板である。パターン位相差フィルム層４１０は、図２を参照して説明した通り、１／２波長板として機能する異方性領域４１１と、等方性領域４１２とを有する。観察装置４９０は、光源４９１、カメラ４９２、及びカメラ４９２と観察対象との間に着脱可能に設けられた観察用の円偏光板４９３を含む。円偏光板４９３は左円偏光及び右円偏光のうち、一方を透過し他方を吸収または反射する機能を有する。
【０１９４】
光源４９１から液晶パネル４４０に到達した光（矢印Ａ４１１）は、偏光板４３０、基材フィルム４２０及びパターン位相差フィルム層４１０を通って出射する。ここで、偏光板４３０は座標軸Ｙ方向に透過軸を有し、且つ基材フィルム４２０は偏光板４３０の透過軸と４５°の角度をなす方向に遅相軸を有する１／４波長板であるため、基材フィルム４２０から出射する光は、円偏光となる。当該円偏光がパターン位相差フィルム層４１０を透過する際、等方性領域４１２に入射した光は、入射した光と同じ回転方向の円偏光として出射する。一方、１／２波長板として機能する領域４１１に入射した光は、入射した光と反対の回転方向の円偏光として出射する。これをさらに、観察用の円偏光板４９３に通すと、かかる２種類の円偏光のうち一方（矢印Ａ４１２）は透過し、他方（矢印Ａ４１３）は吸収または反射される。したがって、２種類の円偏光のうち一方のみを観察することができる。したがって、円偏光板４９３を介した状態で、且つカメラ４９２をパターン位相差フィルム層４１０の表面に合焦した状態で観察を行うことにより、パターン位相差フィルム層４１０のパターン境界線を観察することができる。
【０１９５】
一方、カメラ４９２を液晶パネル４４０内部に配置されたブラックマトリックスの表面に合焦した状態で観察することにより、ブラックマトリックスを観察することができる。ここで、円偏光板４９３は装着したまま観察することもできるが、取り外した状態で観察したほうが、より鮮明で良好な観察を行うことができる。
【０１９６】
位置合わせの具体的な手順は、特に限定されないが、パターン位相差板及び液晶パネルのうち一方を固定し、他方を動かすことにより行ってもよい。より具体的には例えば、最初にパターン位相差板におけるパターン境界線を観察して、その位置をカメラに接続した記憶装置にて記憶し、その後液晶パネルのブラックマトリックスを観察し、記憶されたパターン境界線の位置と対比し、相対的な位置関係を把握してもよい。その結果、所望の位置からずれていた場合、相対的に位置を動かすことにより、所望の位置に調節できる。上記の如く先にパターン位相差板を観察し、その後液晶パネルを観察した場合は、パターン位相差板を固定した状態で、液晶パネルの観察を続け、同時に、記憶されているパターン境界線とブラックマトリックスが所望の状態に位置合わせされるよう液晶パネルを動かすことにより、効率的な位置合わせを行うことができる。
【０１９７】
位置合わせに際して観察する箇所は、特に限定されないが、パターン位相差板及び液晶パネル上の２点以上の観察点としてもよい。好ましくは、矩形の液晶パネルの辺に近い２点以上の観察点で観察を行いうる。具体的には、矩形の液晶パネルの四隅のうち２以上の隅の近傍の観察点で観察を行ってもよく、あるいは対向する２辺の中点である２つの観察点で観察を行ってもよい。好ましくは、四隅の４つの観察点で観察を行ってもよく、あるいは対向する２辺の中点および２隅の計４つの観察点で観察を行ってもよい。観察点の視野は、好ましくは２ｍｍ角以上、より好ましくは１０ｍｍ角以上、上限値は好ましくは１００ｍｍ角以下、より好ましくは５０ｍｍ角以下である。観察する対象は、パターン境界線及びブラックマトリックスそのものであってもよいが、これらのうちのいずれか一方又は両方に代えて、これらの位置に対応した位置合わせ用マークを観察してもよい。例えば、液晶パネルの、表示面領域外に、ブラックマトリックスの位置に対応した位置合わせ用マークを設け、ブラックマトリックスそのものに代えて当該マークを観察することにより位置合わせを行ってもよい。また、パターン位相差フィルム層の、表示面領域外に対応する領域に、パターン境界線の位置に対応した位置合わせ用マークを設け、パターン境界線そのものに代えて当該マークを観察することにより位置合わせを行ってもよい。液晶パネルに位置合わせ用マークを設ける方法は、ブラックマトリックスの形成と同時に形成することが好ましいが、これに限られず液晶パネルの調製の任意の段階で適切な方法により設けてもよい。また、パターン位相差板の位置合わせ用マークについては、パターンが表示面領域外にはみ出ていれば、表示面領域外のパターン境界線を、表示面領域外の位置合わせマークとして用いうるが、これに限られずパターン位相差板の調製の任意の段階で適切な方法により設けてもよい。
【０１９８】
工程（Ｂ）においては、パターン位相差板に、好ましくは５Ｎ／１６００ｍｍ以上、より好ましくは１０Ｎ／１６００ｍｍ以上、特に好ましくは５０Ｎ／１６００ｍｍ以上の張力をかけた状態で、パターン位相差板のパターン境界線と液晶パネルのブラックマトリックスとの相対的な位置関係を位置合わせすることが好ましい。この際、張力は、長尺方向にかけることが好ましい。これにより、パターン位相差板のシワを抑制して、精密な位置合わせを更に容易に行うことが可能となる。特に、本発明のパターン位相差板は張力によってパターン位相差フィルム層の各領域の真直性を高める必要がないので、このようにシワを抑制できる程度に小さい張力をかけるだけで位置合わせの精度を効果的に高めることができることは、貼り合せ後にパターン位相差板の応力緩和によって液晶パネルが反ることを防止するためには有用である。
【０１９９】
前記のように、かけられた張力に起因してパターン位相差板に生じる応力の緩和によって、貼り合わせ後の液晶パネルが反ることを防止するには、パターン位相差板にかける張力は小さいことが好ましい。パターン位相差板にかける張力の具体的な大きさは、好ましくは５００Ｎ／１６００ｍｍ以下、より好ましくは２５０Ｎ／１６００ｍｍ以下、特に好ましくは１００Ｎ／１６００ｍｍ以下である。さらには、工程（Ｂ）をパターン位相差板に張力をかけて行い、その後工程（Ｃ）を行う場合は、工程（Ｂ）においてかけた張力をそのまま維持して工程（Ｃ）を行うことが好ましい。
【０２００】
工程（Ｂ）において、パターン境界線とブラックマトリックスとの位置合わせは、パターン位相差板と液晶パネルとが、離隔した状態で行ってもよく、パターン位相差板と液晶パネルとが、接着層及び必要であればその他の任意の層を介して接触した状態で行ってもよい。さらには、パターン位相差板と液晶パネルとが離隔した状態で位置合わせを行い、さらにその後パターン位相差板と液晶パネルとが接触した状態でさらに位置合わせを行ってもよい。
【０２０１】
パターン位相差板と液晶パネルとが離隔した状態で位置合わせを行う場合において、パターン位相差板の液晶パネル側の面（またはパターン位相差板の液晶パネル側の面に任意の層が設けられている場合は当該任意の層の表面）と液晶パネルのパターン位相差板側の面（または液晶パネルのパターン位相差板側の面に任意の層が設けられている場合は当該任意の層の表面）との間隔は、偶発的な接触を防ぐのに十分遠い距離で、且つなるべく近い距離であることが好ましい。前記の間隔は、位置合わせの際に付加する張力、表示面領域の寸法、パターン位相差板の物性等により適宜定めうる。前記の間隔の具体的な大きさは、好ましくは０．５ｍｍ以上、より好ましくは１ｍｍ以上であり、好ましくは１０ｍｍ以下、より好ましくは５ｍｍ以下である。
【０２０２】
パターン位相差板と液晶パネルとが接着層等の層を介して接触した状態で位置合わせを行う場合において用いる接着層は、その厚み及び材質を適宜選択することにより、パターン位相差板と液晶パネルとが接触した状態で摺動しうる状態としてもよい。かかる摺動を行うことにより、パターン位相差板と液晶パネルとが接着層等の層を介して接触した状態で位置合わせを行うことができる。かかる摺動は、液晶パネルを適切なステージ上に固定し、一方パターン位相差板を吸着板等の適切な吸着装置に固定し、かかるステージと吸着装置との相対的な位置を動かすことにより行ってもよい。かかる摺動による工程（Ｂ）の後に工程（Ｃ）を行う場合は、工程（Ｂ）の終了後、パターン位相差板と液晶パネルとが接触した状態のまま圧接等の操作を行い工程（Ｃ）を行ってもよく、パターン位相差板を一旦液晶パネルから離隔させた後に、工程（Ｃ）を行ってもよい。
【０２０３】
パターン位相差板を吸着装置に固定して位置合わせを行う場合は、通常、パターン位相差板の表示面領域に相当する領域の全面が吸着されるため、表示面領域における観察を行うことが困難となり得る。したがって、パターン位相差板の外形（座標軸Ｘ及びＹ方向の寸法）を、液晶パネルの表示面領域より大きくし、表示面領域より外側において観察を行うことが、この場合特に好ましい。この場合、上で述べた、表示面領域外の位置合わせ用マークを適宜設けて、位置合わせを行ないうる。
【０２０４】
〔４−３．工程（Ｃ）〕
工程（Ｃ）では、パターン位相差板と液晶パネルとを、接着層を介して貼り合わせる。工程（Ｃ）は、通常、工程（Ｂ）の後に行う。
【０２０５】
工程（Ｃ）において、パターン位相差板と液晶パネルとの間には、接着層に加えて、必要に応じて任意の層が介在してもよい。例えば、１枚以上の偏光板を適宜介在させてもよい。偏光板を介在させる場合、偏光板は、工程（Ｃ）に先立ち、好ましくは工程（Ｂ）及び（Ｃ）の両方に先立ち、パターン位相差板又は液晶パネルに貼り合わせる。
【０２０６】
工程（Ｃ）において、パターン位相差板に張力をかけた状態で、パターン位相差板と液晶パネルとを貼り合わせることが好ましい。この際、張力は、長尺方向にかけることが好ましい。これにより、パターン位相差板のシワを抑制して、精密な位置合わせを更に容易に行うことが可能となる。この際の張力の大きさは、工程（Ｂ）で説明した張力の大きさと同様の範囲にすることが、工程（Ｂ）と同様の理由により、好ましい。さらに、パターン位相差板にかける張力によってパターン位相差フィルム層の各領域の真直性を向上させる必要がないので、張力をコントロールするための複雑な機構の無い簡素な枚様貼合機（例えば、後述する図２９、図３０参照）での貼り合せが可能となる。工程（Ａ）において、パターン位相差板を、支持基材と組み合わせて複合フィルムとして繰り出し、それをそのまま工程（Ｃ）に供給した場合は、張力は、複合フィルムにかけるようにしてもよい。
【０２０７】
工程（Ｃ）における貼り合わせは、パターン位相差板及び前記液晶パネルを接着層等の層を介して接触させ、ニップロール等の適切な装置で挟むことにより行ってもよい。挟む際のニップ圧は、３ＭＰａ以下としてもよい。かかる低いニップ圧で挟むことにより、ニップロールの移動により接着層の厚みが不均一になる現象を低減することができる。また、ニップロールの移動により発生するパターン位相差板と接着層等との間のズリ応力によって、適切な貼り合わせ位置が不意にずれるのを防止することができる。
【０２０８】
ニップロールとしては、例えば、ＳＵＳ製のコア表面にゴムを焼き付けたゴムロール、テフロン（登録商標）を焼き付けたテフロン（登録商標）ロール、ＳＵＳ製ロールなどを用いてもよい。ゴムの材質としては、例えば、ニトリルブタジエンゴム、シリコンゴム、スチレンブタジエンゴムなどを好適に用いてもよい。
【０２０９】
ロール径は、通常１０ｍｍ以上、好ましくは５０ｍｍ以上であり、通常３００ｍｍ以下、好ましくは２００ｍｍ以下である。１０ｍｍ以下では貼り合わせ時の圧力でロールの幅手でのたわみが発生しやすく、３００ｍｍ以上では自重が大きく、貼り合わせ圧力の制御が困難となる。
ゴム硬度は、通常１０度以上、好ましくは３０度以上であり、通常１００度以下、好ましくは９０度以下である。１０度未満では、貼り合わせ時に圧力が十分に負荷されない可能性があり、１００度より大きいとゴム表面が貼り合わせるフィルムの表面に追随せず、泡噛みが起きやすくなる。
【０２１０】
〔４−４．他の工程〕
液晶表示装置を製造する際には、上に述べた工程以外に、任意の工程を行ってもよい。例えば、前記工程（Ｂ）及び（Ｃ）の後に、パターン位相差板又は前記液晶パネルに、引っ張り荷重をかけて、パターン境界線とブラックマトリックスの相対的な位置を調整する工程（Ｄ）を行ってもよい。
【０２１１】
工程（Ｄ）は、パターン位相差板又は前記液晶パネルのうち一方を固定し、他方に荷重をかけることにより行ってもよい。引っ張り荷重の大きさは、５Ｎ／１０００ｍｍ以上としてもよい。引っ張り荷重の方向は、通常、液晶パネルの表示面と平行な面内の方向であって、位置のずれを低減しうる方向とする。かかる工程（Ｄ）を行うことにより、パターン境界線とブラックマトリックスとの相対的な位置を微調整することができる。例えば、工程（Ｂ）において精密に位置合わせをしたが工程（Ｃ）を行うときに位置がずれてしまった際の位置の微調整を行うことができる。
【０２１２】
前記工程（Ｃ）の後におけるパターン境界線とブラックマトリックスとの相対的な位置のずれは、前記工程（Ｂ）と同じ方法で観察することができる。このような観察と、工程（Ｄ）による位置の調整とを交互に繰り返し実施することで、位置の微小なずれを確実になくすことができる。
【０２１３】
他の任意の工程として、工程（Ｂ）及び（Ｃ）の後、接着層にエネルギー線を照射して、接着層を硬化させる工程（Ｅ）を行ってもよい。かかるエネルギー線としては、紫外線、可視光線、電子線等の、樹脂の硬化に用いうるエネルギー線を採用することができ、紫外線が特に好ましい。より具体的には、波長３００ｎｍ〜４００ｎｍに発光波長を示す紫外線が好ましく、好ましい発光光源は、高圧水銀灯、及びメタルハライドランプである。
【０２１４】
工程（Ｅ）を行う場合、接着層の材料として、工程（Ｅ）を行うのに適した材料を選択することが好ましい。例えば、接着層が、工程（Ｃ）におけるニップ圧の付加による接着剤のパターン位相差板の端部からのはみ出しがなく、泡抜けが良好で、且つエネルギー線の照射により硬化して強い接着能を発現することができる材料であることが好ましい。具体的な接着力は、通常０．５Ｎ／２５ｍｍ以上、好ましくは２Ｎ／２５ｍｍ以上である。
【０２１５】
液晶表示装置は、液晶パネルの表示面側の偏光板（図１８の例における偏光板４３０）に加えて、その反対側即ち液晶パネルの光源側の偏光板を有しうる。したがって、他の任意の工程として、このような光源側の偏光板を設ける工程を行ってもよい。当該工程は、液晶パネルの光源側の面に偏光板を、必要に応じて接着層を介して貼り合わせることにより行いうる。
【０２１６】
光源側の偏光板の貼り合わせは、何時行ってもよいが、工程（Ｂ）及び（Ｃ）の後に行うことが好ましい。また、製造方法が工程（Ｄ）、工程（Ｅ）又はこれらの両方を含む場合は、それらの工程の後に行うことが好ましい。その理由は以下の通りである。即ち、光源及びカメラを用いて工程（Ｂ）の位置合わせを行う際に、光源側の偏光板が既に設けられていると、入射した光が反射する際に、表示面側の偏光板によって吸収され、ブラックマトリックスの観察が困難となる。一方、光源側の偏光板が設けられる前に工程（Ｂ）及びその他の位置合わせの工程を行うと、位置合わせにおけるブラックマトリックスの観察が容易となる。この利点は、液晶パネルとしてノーマリーブラック型のパネルを用いている場合、特に顕著となる。
【０２１７】
さらに、必要に応じて、上記に述べたものの他の任意の工程を適宜行うことにより、液晶表示装置を製造してもよい。例えば、上記の工程により得られた、液晶パネル及びパターン位相差板を含む積層体に、さらに輝度および輝度均斉度を向上させるための追加の光学部材を適宜配置する工程を行ってもよい。このような追加の光学部材としては、例えば反射防止フィルム、ギラツキ防止フィルム、アンチグレアフィルム、ハードコートフィルムおよびプリズムシートを挙げることができる。これらの追加の光学部材は、例えば、上記工程により設けたパターン位相差板よりも視認側に設けてもよい。追加の光学部材の基材は、耐手脂性に優れたフィルムであることが好ましく、例えば、トリアセチルセルロース樹脂、変性アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂などを挙げることができる。光学部材の厚みは、好ましくは８０μｍ以上、より好ましくは１５０μｍ以上であり、好ましくは５００μｍ以下、より好ましくは３００μｍ以下である。また例えば、液晶表示装置を構成するための筐体、通電装置等を適宜配設してもよい。
【０２１８】
〔４−５．製造方法の具体的実施形態；第１の実施形態〕
次に、本発明の製造方法を実施するより具体的な実施形態の一例を説明する。なお、以下に示す実施形態に係る図面においては、方向の関係を示すために座標軸ＸＹＺからなる座標を示し、水平面をＸＹ平面とし、垂直面を座標軸Ｚ方向とする。また、別に断らない限り、液晶パネルの表示面を水平（即ちＸＹ平面に平行）且つ上向きにし、パターン位相差板の長尺方向を座標軸Ｘ方向とした状態で図示及び説明を行う。
図１９は、液晶表示装置を製造するための一連の装置及びその操作の一例を概略的に示す立面図である。図１９において、液晶パネル４４０は、図１７を参照して説明した通りの、２画素群の画素の列を有している。
【０２１９】
液晶パネル４４０及び偏光板４３０の積層物は、液晶パネル４４０の表示面が上側に面するよう、搬送装置上に水平に載置され、コンベヤにより搬送される。搬送される過程で、まず塗布装置４６１により、接着剤が塗布され、接着層４６２が形成される。その後、液晶パネル４４０を含む積層物は、さらに矢印Ａ１方向に搬送され、ステージ４５１上に載置される。液晶パネル４４０はさらに、ステージ４５１上に固定され、これにより、液晶パネル４４０の位置を、ステージ４５１を動かすことで調整しうる状態となる。
【０２２０】
一方、ロール４８１から、パターン位相差板４０８と支持基材４０９とを組み合わせた複合フィルム４８２が、矢印Ａ２方向に繰り出される（工程（Ａ））。ここで、複合フィルム４８２は、（支持基材）−（パターン位相差フィルム層）−（接着層）−（基材フィルム）の層構成を有するフィルムであり、複合フィルム４８２が有するパターン位相差フィルム層は、図２を参照して説明した通りの領域からなるパターンを有する。この例において、支持基材４０９としては、位置合わせの工程でのパターン位相差板４０８のパターンの観察を妨げないものが用いられる。このような支持基材４０９の例としては、面内レターデーションが１０ｎｍ以下のものが挙げられる。また、接着層としては、紫外線の照射を受けることにより硬化し、最終的な接着能を発揮するものが用いられる。
【０２２１】
繰り出された複合フィルム４８２には、カッター刃４５２で支持基材４０９以外の層に切り込みを入れる。これにより、パターン位相差板４０８が幅方向に切断され、液晶パネル４４０の表示面領域に適合した寸法とされる。その後、複合フィルム４８２がさらに搬送され、ステージ４５１の上方に繰り出される（工程（Ａ））。ここで、複合フィルム４８２は、支持基材側の面が上側となるよう繰り出される。この例では、複合フィルム４８２は、ロール４８３及び４８４及びその他の適切な手段（ニップロール、サクションロール、ダンサーロールなど、不図示）により、長尺方向（この例では座標軸Ｘ方向）に適切な張力をかけられ、そのままその後の工程に供される。
【０２２２】
次に、複合フィルム４８２中のパターン境界線と、液晶パネル４４０内のブラックマトリックスとの相対的な位置関係を位置合わせする（工程（Ｂ））。位置合わせは、光源４９１、カメラ４９２及び観察用の円偏光板（図１９では図示せず）を含む観察装置により、複合フィルム４８２及び液晶パネル４４０を観察し、ステージ４５１を移動させることにより行う。ステージ４５１の移動は、座標軸Ｘ方向の移動、座標軸Ｙ方向の移動、ＸＹ平面内での回転のうちの１以上により行うことができる。
この例では、位置合わせは、パターン位相差板４０８と、液晶パネル４４０とが離隔した状態で行われる。
【０２２３】
この例において、ＸＹ平面上における位置合わせのための観察をする位置は、表示面領域の端部とする。但し、この例では液晶パネル４４０とパターン位相差板４０８とが重なる任意の点において観察が可能であるので、必要に応じて、表示面領域の中心近傍等、任意の点において容易に観察を行ってもよい。また、観察する位置の数は、正確な位置合わせを行う観点から、通常２点以上とする。正確な位置合わせと工程の簡略化を両立する観点からは、通常、矩形の表示面領域の四隅において位置合わせを行うことが好ましい。
【０２２４】
図２０は、ＸＹ平面上の位置合わせを行う点の好ましい例を概略的に示す平面図である。図２０において、ステージ４５１上の液晶パネル４４０の内側に規定された表示面領域４４６の四隅に、観察点４９４Ａ〜４９４Ｄが規定されている。これらの観察点のうち、２点以上、好ましくは４点において観察を行うことにより、正確かつ効率的な位置合わせを行うことができる。２点のみで観察を行う場合、画素の列に平行又は垂直な方向に並んだ２点において観察を行うことが好ましい。この例では、矩形の表示面領域４４６の一辺に沿った２点（例えば、点４９４Ａと４９４Ｂ、又は点４９４Ａと４９４Ｃ等）において観察を行うことが好ましい。
【０２２５】
この例では、パターン境界線とブラックマトリックスとを直接観察する。そのため、観察点は表示面領域内に収める。しかしながら、パターン位相差板及び液晶パネルの表示面領域外に、位置合わせ用のマークを予め設けていれば、観察点を表示面領域外とし、当該マークにより位置合わせをすることもできる。
【０２２６】
位置合わせ用マークとしては、カメラで検出して位置合わせをするのに好適な形状を適宜選択してもよい。このような形状の具体例としては、三角形、矩形、もしくはその他の多角形形状であってもよく、また、円形や楕円形であってもよく、３本のラインを平行配置した川の字形状、２本のラインが交差する十字形状のような複数の要素で構成するマークであってもよい。
【０２２７】
位置合わせが終了した後、光源４９１、カメラ４９２は上昇し、ニップロールが複合フィルム４８２上に配置される。さらに複合フィルム４８２にかけた張力を維持した状態で、ステージ４５１を垂直に上昇させることにより、パターン位相差板４０８と液晶パネル４４０とを、偏光板４３０及び接着層４６２を介して接触させる。この時点で、必要に応じて、パターン境界線とブラックマトリックスとを再度観察し、接触の操作によるずれが生じていれば、さらにもう一度位置合わせを行うようにしてもよい。その後、ニップロール４８５を用いて、複合フィルム４８２が液晶パネル４４０側に圧接するよう圧力を加え、パターン位相差板４０８と液晶パネル４４０との貼り合わせを達成することができる（工程（Ｃ））。
【０２２８】
ニップロール４８５を用いた貼り合わせのより具体的な態様を、図２１に示す。図２１に示す通り、ニップロール４８５を、ステージ４５１側に付勢しながら、矢印Ａ３方向に転がすことにより、ニップロール４８５及びステージ４５１で、複合フィルム４８２を、液晶パネル４４０、偏光板４３０及び接着層４６２からなる積層体に圧接し、貼り合わせを達成することができる。ここで、複合フィルム４８２は、支持基材４０９と、パターン位相差板４０８とを含む。パターン位相差板４０８は、パターン位相差フィルム層４１０、接着層４６３、及び基材フィルム４２０を含む。
【０２２９】
続いて、複合フィルム４８２又は液晶パネル４４０に、必要に応じて引っ張り荷重をかけて、パターン境界線とブラックマトリックスの相対的な位置を調整する（工程（Ｄ））。かかる調整のための引っ張り荷重は、例えばＸＹ平面内の任意の方向にかけてもよい。調整のための引っ張り荷重は、複合フィルム４８２側にかけてもよいが、複合フィルム４８２側に工程（Ｂ）よりかけていた張力はそのままとし、ステージ４５１側に荷重をかけて調整を行ってもよい。
【０２３０】
続いて、複合フィルム４８２にかけた張力を維持した状態で、接着層４６２に紫外線を照射し、複合フィルム４８２の固定を行う（工程（Ｅ））。かかる固定は、パターン位相差板４０８の面内の一部の箇所において行ってもよく、全面において行ってもよい。面内の一部において行う場合、図２２に示すように、ランプ５０１により複合フィルム４８２の端部に紫外線の照射を行ってもよい。より具体的には、図２３に示すように、液晶パネル４４０の面内であって且つ表示面領域４４６の四隅より外側にある点である点５０４Ａ〜５０４Ｄの４点において紫外線の照射を行い、四隅において固定をしてもよい。かかる位置の固定により、迅速であり且つ表示面の品質を損ねない固定を達成することができる。一方、全面において固定を行う場合は、図２４に示すように、全面への紫外線の照射が可能なランプ５０２を用いて固定を達成してもよい。
【０２３１】
固定が終了した後、複合フィルム４８２を支持する装置を上昇させるか、ステージ４５１を下降させるか、又はこれらの両方により、図２５に示す通り、支持基材４０９を、パターン位相差板４０８から剥離させることができる。ここで、パターン位相差板４０８は、パターン位相差フィルム層４１０、接着層４６３、及び基材フィルム４２０を含む。その後、液晶パネル４４０、パターン位相差板４０８及びその他の層が積層された積層体を、図１９の矢印Ａ４で示す方向にさらに搬送し、必要に応じてランプ５０３にて接着層４６２の全体をさらに硬化させてもよい。一方、剥離した支持基材４０９は巻き取りロール４８６で巻き取りうる。これにより、多数の液晶表示装置の連続的な製造において、次に貼り合わせに供する複合フィルム４８２をステージ４５１上に円滑に搬送させることができる。
【０２３２】
〔４−６．製造方法の具体的実施形態；第２の実施形態〕
次に、本発明の製造方法を実施する具体的な実施形態の別の例を説明する。
図２６は、液晶表示装置を製造するための一連の装置及びその操作の別の一例を概略的に示す立面図である。図２６において、液晶パネル５４０は、図１７を参照して説明した通りの、２画素群の画素の列を有している。
【０２３３】
液晶パネル５４０は、その表示面領域外に、ブラックマトリックスの位置に対応した位置合わせマーク（不図示）を有している。
液晶パネル５４０及び偏光板４３０の積層物は、液晶パネル５４０の表示面が上側に面するよう、搬送装置上に水平に載置され、コンベヤにより搬送される。搬送される過程で、まず塗布装置４６１により、接着剤が塗布され、接着層４６２が形成される。その後、液晶パネル５４０を含む積層物は、さらに矢印Ａ１方向に搬送される。
【０２３４】
一方、ロール５８１から、パターン位相差板と支持基材とを組み合わせた複合フィルム５８２が、矢印Ａ２方向に繰り出される。ここで、複合フィルム５８２は、（支持基材）−（パターン位相差フィルム層）−（接着層）−（基材フィルム）の層構成を有するフィルムであり、複合フィルム５８２が有するパターン位相差フィルム層は、図２を参照して説明した通りの領域からなるパターンを有する。この例において、支持基材４０９は、位置合わせに先立って剥離するので、必ずしも等方性の材料である必要は無い（即ち、面内レターデーションが５０ｎｍを超える材料であってもよい）。また、接着層としては、紫外線の照射を受けることにより硬化し、最終的な接着能を発揮するものが用いられる。繰り出された複合フィルム５８２は、ロール５８３及び５８４の間を通過した後、支持基材４０９がパターン位相差板５１０から剥離され、支持基材４０９のみが巻き取りロール５８５方向に導かれる。一方パターン位相差板５１０は、矢印Ａ５方向に導かれる。
【０２３５】
ロール５８６を通過する時点で、パターン位相差板５１０は、搬送されて来た液晶パネル５４０を含む積層物と合流し、矢印Ａ６方向に導かれ、図２７に示す通り、２組のロール５８７Ｕ及び５８７Ｌ並びに５８８Ｕ及び５８８Ｌに把持された状態で、これらの間を通過する。ロール５８７Ｌ及び５８８Ｌは上下に動くことができ且つそれぞれ上方向に付勢されて設けられており、それにより積層物を把持することができる。これにより、パターン位相差板５１０は偏光板４３０上に、接着層４６２を介して接した状態で載置される。但し接着層４６２は未だ紫外線の照射を受けておらず、また貼り合わせが達成される程度の高い圧力も付されていないので、パターン位相差板５１０は偏光板４３０上に固定されてはおらず、ＸＹ面に平行な方向の力を受ければそれに応答して摺動可能であり、且つ必要に応じて剥離しうる状態となっている。
【０２３６】
液晶パネル５４０及びパターン位相差板５１０を含む積層体は、さらに、図２８に示すように、矢印Ａ７方向に搬送され、パターン位相差板５１０が、カッター刃５５４で所望の寸法に切断され、さらに搬送され、ステージ５５１及び吸着板５５２の間に導かれる。図２９に示される通り、液晶パネル５４０及びパターン位相差板５１０を含む積層体はステージ５５１及び吸着板５５２の間に載置され、これらにより挟まれる。液晶パネル５４０はさらに、ステージ５５１上に固定され、これにより、液晶パネル５４０の位置を、ステージ５５１を動かすことで調整しうる状態となる。吸着板５５２は、その下側の面に適切な吸着装置（図示せず）を備え、これによりパターン位相差板５１０の上面を吸着する。パターン位相差板５１０を吸着した状態で、吸着板５５２を、ステージ５５１に対してＸＹ平面に平行な方向、回転方向に摺動させることにより、位置合わせを行うことができる（工程（Ｂ））。
【０２３７】
ここで、吸着板５５２は、パターン位相差板の表示面領域全域を含む領域を吸着することが、得られる液晶表示装置の表示面の品質を向上させる観点から好ましい。しかしながら、そのような吸着を行った場合、位置合わせのための観察に際して、表示面領域内のパターン境界線及びブラックマトリックスは、吸着板５５２に遮られて直接観察できなくなる。したがってこの例においては、液晶パネル５４０の、表示面領域外の位置に設けられた位置合わせ用マークと、パターン位相差板５１０の、表示面領域外のパターン境界線との相対的な位置関係を観察することにより、位置関係の観察を行ってもよい。あるいは、吸着板５５２の光源４９１の光が照射される部分に直径１０ｍｍ程度の観察穴を設けることで位置関係の観察を行ってもよい。このような観察は、吸着板５５２の周辺の領域に設けられた光源４９１、カメラ４９２及び観察用の円偏光板（図２９では図示せず）により行うことができる。
【０２３８】
位置合わせが終了した後、光源４９１、カメラ４９２は上昇し、ニップロール５８９がパターン位相差板５１０上に配置される。図３０に示す通り、吸着板５５２を一旦持ち上げ、ニップロール５８９を矢印Ａ８方向に転がすことにより、パターン位相差板５１０に張力を加えながら、パターン位相差板５１０を接着層４６２に圧力を加えた状態で接触させる。これにより、パターン位相差板５１０と液晶パネル５４０とを、接着層４６２を介して貼り合わせることができる（工程（Ｃ））。
【０２３９】
貼り合わせが終了した後、図３１に示す通り、液晶パネル５４０及びパターン位相差板５１０を含む積層体を、矢印Ａ８方向に搬送し、さらにその際にランプ５０３を用いて紫外線の照射を行い、積層体を搬送しながら接着層４６２を硬化させることができる。
【０２４０】
〔４−７．製造方法の具体的実施形態；第３の実施形態〕
次に、本発明の製造方法を実施する具体的な実施形態のさらに別の例を説明する。
図３２は、液晶表示装置を製造するための一連の装置及びその操作のさらに別の一例を概略的に示す立面図である。この実施形態は、複合フィルム５８２から支持基材４０９が剥離されたパターン位相差板５１０が液晶パネル５４０を含む積層物と合流する前に、搬送方向Ａ５の方向に搬送される途中で保護層を貼りあわせた点で、第２の実施形態と異なっている。ここで保護層は、例えば、〔１−４．その他の層〕の項で説明したものを用いてもよい。
【０２４１】
ロール５９１から、ポリマーフィルムとハードコート層とを組み合わせた保護層５９２と、それを保護するための保護フィルム５９３が積層した状態の複層保護フィルム５９０が繰り出される。この例においては、保護層５９２は、ポリマーフィルムの一方の面にハードコート層を備え、他方の面に接着層を備えたフィルムである。したがって、複層保護フィルム５９０は、（ハードコート層）−（ポリマーフィルム）−（接着層）−（保護フィルム）の層構成を有する。また、保護フィルム５９３は、複合保護フィルム５９０がロールの状態とされている際に接着層を保護する機能を有する。さらに、接着層としては、通常、粘着剤により形成された粘着層を用いる。
【０２４２】
繰り出された複層保護フィルム５９０は、ロール５９４及び５９５の間を通過した後、保護フィルム５９３が保護層５９２から剥離され、保護フィルム５９３のみが巻き取りロール５９６方向に導かれる。一方、保護層５９２は、矢印Ａ９方向に導かれる。
【０２４３】
保護層５９２は、ロール５９７及びロール５９８の間を通る際に、支持基材４０９を剥離されたパターン位相差板５１０に合流する。ロール５９７及びロール５９８間で挟圧されることにより、保護層５９２はパターン位相差板５１０に貼り合わせられる。これにより、（ハードコート層）−（ポリマーフィルム）−（接着層）−（パターン位相差フィルム層）−（接着層）−（基材フィルム）の層構成を有するフィルム５９９が得られる。このフィルム５９９はロール５８６へと導かれて、その後、第２の実施形態のパターン位相差板５１０と同様の要領で、液晶パネル５４０を含む積層物との位置合わせ及び貼り合せが行われる。
このように、パターン位相差板に保護層等の任意の層を貼り合わせる工程と、パターン位相差板と液晶パネルとの位置合わせ及び貼り合せを、同一の貼合装置において実施することも可能である。
【０２４４】
〔４−８．製造方法の具体的実施形態；第４の実施形態〕
次に、本発明の製造方法を実施する具体的な実施形態のさらに別の例を説明する。
図３３は、液晶表示装置を製造するための一連の装置及びその操作のさらに別の一例を概略的に示す立面図である。この実施形態は、液晶パネル４４０及び偏光板４３０の積層物上に接着層４６２を設けず、代わりに、複合フィルム６８２の偏光板４３０に接する面上に接着層を設けた点で、第１の実施形態と異なっている。
【０２４５】
図３３において、液晶パネル４４０及び偏光板４３０は、第１の実施形態において用いたものと同様であるが、接着層の塗布を経ずに、ステージ４５１上に搬送され載置される。
【０２４６】
一方、ロール６８１から、パターン位相差板４０８と支持基材４０９とを組み合わせた複合フィルム６８２と、それを保護するための保護フィルム６８９が積層した状態の複合フィルム６９０が、矢印Ａ２方向に繰り出される（工程（Ａ））。ここで、複合フィルム６９０は、（支持基材）−（パターン位相差フィルム層）−（接着層）−（基材フィルム）−（接着層）−（保護フィルム）の層構成を有するフィルムであり、保護フィルムは、複合フィルム６９０がロールの状態とされている際に接着層を保護する機能を有する。複合フィルム６９０が有するパターン位相差フィルム層は、図２を参照して説明した通りの領域からなるパターンを有する。この例において、支持基材４０９としては、位置合わせの工程でのパターン位相差板４０８のパターンの観察を妨げないものが用いられる。このような支持基材４０９としては、例えば、面内レターデーションが５０ｎｍ以下のものが挙げられる。また、接着層としては、紫外線の照射を受けることにより硬化し、最終的な接着能を発揮するものを用いてもよい。
【０２４７】
繰り出された複合フィルム６９０は、ロール６９１に接する時点で、複合フィルム６８２と、保護フィルム６８９とに分離される。複合フィルム６８２は、複合フィルム６９０から保護フィルム６８９を剥離した残余であるので、（支持基材）−（パターン位相差フィルム層）−（接着層）−（基材フィルム）−（接着層）の層構成を有する。複合フィルム６８２には、カッター刃４５２で支持基材４０９以外の層に切り込みを入れる。これにより、パターン位相差板４０８及び接着層が幅方向に切断され、液晶パネル４４０の表示面領域に適合した寸法とされる。その後、複合フィルム６８２がさらに搬送され、ステージ４５１の上方に繰り出される（工程（Ａ））。ここで、複合フィルム６８２は、支持基材４０９側の面が上側となるよう繰り出される。この例では、複合フィルム６８２は、ロール４８３及び４８４及びその他の適切な手段（ニップロール、サクションロール、ダンサーロールなど、不図示）により、長尺方向（この例では座標軸Ｘ方向）に適切な張力をかけられ、そのままその後の工程に供される。
【０２４８】
次に、複合フィルム６８２中のパターン境界線と、液晶パネル４４０内のブラックマトリックスとの相対的な位置関係を位置合わせする（工程（Ｂ））。位置合わせは、第１の実施形態と同様の操作で行いうる。
【０２４９】
位置合わせが終了した後、光源４９１、カメラ４９２は上昇し、ニップロール４８５が複合フィルム６８２上に配置される。さらに複合フィルム６８２にかけた張力を維持した状態で、ステージ４５１を垂直に上昇させることにより、パターン位相差板４０８と液晶パネル４４０とを、偏光板４３０及び接着層を介して接触させる。この時点で、必要に応じて、パターン境界線とブラックマトリックスとを再度観察し、接触の操作によるずれが生じていれば、さらにもう一度位置合わせを行うことができる。その後、ニップロール４８５を用いて、複合フィルム６８２が液晶パネル４４０側に圧接するよう圧力を加え、パターン位相差板と液晶パネルとの貼り合わせを達成することができる（工程（Ｃ））。
【０２５０】
ニップロール４８５を用いた貼り合わせのより具体的な態様を、図３４に示す。図３４に示す通り、ニップロール４８５を、ステージ４５１側に付勢しながら、矢印Ａ３方向に転がすことにより、ニップロール４８５及びステージ４５１で、複合フィルム６８２を、液晶パネル４４０及び偏光板４３０からなる積層体に圧接し、貼り合わせを達成することができる。ここで、複合フィルム６８２は、支持基材４０９と、パターン位相差板４０８と、接着層６６２とを含む。パターン位相差板４０８は、パターン位相差フィルム層４１０、接着層４６３、及び基材フィルム４２０を含む。
【０２５１】
続いて、複合フィルム６８２又は液晶パネル４４０に、必要に応じて引っ張り荷重をかけて、パターン境界線とブラックマトリックスの相対的な位置を調整し（工程（Ｄ））、その後複合フィルム６８２の固定を行う（工程（Ｅ））。位置の調整及び固定は、第１の実施形態と同様の操作で行うことができる。
【０２５２】
固定が終了した後、複合フィルム６８２を支持する装置を上昇させるか、ステージ４５１を下降させるか、又はこれらの両方により、図３５に示す通り、支持基材４０９を、パターン位相差板４０８から剥離させることができる。ここでパターン位相差板４０８は、パターン位相差フィルム層４１０、接着層４６３、及び基材フィルム４２０を含む。その後、液晶パネル４４０、パターン位相差板４０８、接着層６６２及びその他の層が積層された積層体を、図３３の矢印Ａ４で示す方向にさらに搬送し、必要に応じてランプ５０３にて接着層６６２の全体をさらに硬化させうる。一方、剥離した支持基材４０９は巻き取りロール４８６で巻き取りうる。これにより、多数の液晶表示装置の連続的な製造において、次に貼り合わせに供する複合フィルム６８２をステージ４５１上に円滑に搬送させることができる。
【０２５３】
［５．液晶表示装置の使用態様］
本発明の液晶表示装置は、パターン境界線と、ブラックマトリックスとが精密に配置されたものとしうる。例えば、表示装置の中央部分を、装置の使用に際して装置を観察する最適な方向（例えば、テレビ受像機であれば表示面に垂直な方向）から観察した場合において、表示面内中央部分のパターン境界線が、ブラックマトリックス上に位置するよう配置されたものとしうる。具体的には、表示面内中央部分を表示面に垂直な方向から観察した場合において、表示面内中央部分におけるパターン境界線の全長のうち、好ましくは９５％以上、より好ましくは１００％が、ブラックマトリックス上に位置するよう配置されたものとしうる。また、パターン境界線とブラックマトリックスとのずれが存在していても、かかるずれが５０μｍ以内の範囲内のものとしうる。ここで、「表示面内中央部分」とは、表示面の中央の、２ｍｍ角以上５０ｍｍ角以下の正方形の領域としうる。
【０２５４】
上述したようにして製造された液晶表示装置は、例えば、立体画像表示装置として用いうる。以下、立体画像表示装置として使用しうる液晶表示装置の具体的な例について図面を示して説明する。
【０２５５】
〔５−１．第一の例〕
図３６は、立体画像表示装置として使用しうる液晶表示装置の例を概略的に示す分解上面図である。図３６は、観察者が、液晶表示装置７００の表示面に対して垂直な方向から、右目及び左目により映像を視認する態様を上側から観察した例を示している。液晶表示装置７００は、図中左側に縦置きされている。すなわち、液晶表示装置７００は、表示面が鉛直方向に平行となるよう置かれている。従って、図中右側から観察する観察者の観察方向は、水平方向となる。図３６に示すように、液晶表示装置７００は、液晶パネル７１０と、１／４波長板である位相差フィルム７２０と、パターン位相差フィルム層７３０とを、この順に備える。使用の態様において、液晶パネル７１０、位相差フィルム７２０及びパターン位相差フィルム層７３０は、通常は貼付された状態とされるが、図３６では図示のためこれらを分解して示している。また、位相差フィルム７２０とパターン位相差フィルム層７３０との間には接着層が設けられるが、この接着層は大きな位相差を有さないので、画像表示に影響を与えないため、本例においては図示を省略する。
【０２５６】
液晶パネル７１０は、光源側から順に、直線偏光板である光源側偏光板７１１と、液晶セル７１２と、直線偏光板である視認側偏光板７１３とを備える。これらにより、液晶パネル７１０を透過した光は、直線偏光となって出射する。視認側偏光板７１３の透過軸は、矢印Ａ７１３で示す通り鉛直方向に平行であり、したがって視認側偏光板７１３から出射する光の偏光方向も矢印Ａ７１３で示される鉛直方向となる。
【０２５７】
液晶パネル７１０には、厚み方向から見てそれぞれ異なる位置に、右目用画像を表示する画素領域と左目用画像を表示する画素領域とが設定されている。これらの画素領域はいずれも水平方向に延在する帯状の領域となっている。また、右目用画像を表示する画素領域及び左目用画像を表示する画素領域は幅が一定の領域となっていて、それらの配置は、右目用画像を表示する画素領域と左目用画像を表示する画素領域とが鉛直方向において交互となるように並んだストライプ状の配置となっている。
【０２５８】
位相差フィルム７２０は、透過光に対して１／４波長板として機能しうるフィルムであって、面内に一様な位相差を有する。位相差フィルム７２０の遅相軸は、矢印Ａ７２０で示す通り、視認側偏光板７１３の偏光透過軸に対して４５°の角度をなす方向である。視認側偏光板７１３から出射した直線偏光は、この位相差フィルム７２０を透過することにより、矢印Ａ７４０で示す回転方向を有する円偏光に変換される。
【０２５９】
パターン位相差フィルム層７３０は、画面の長手方向に対して平行且つ均一に設けられた帯状の異方性領域７３１と帯状の等方性領域７３２とを有する。異方性領域７３１及び等方性領域７３２は、鉛直方向において交互に並んだストライプ状の配置となっている。また、厚み方向から見ると、異方性領域７３１は液晶パネル７１０の左目用画像を表示する画素領域に重なり、等方性領域７３２は液晶パネルの右目用画像を表示する画素領域に重なるようになっている。
【０２６０】
異方性領域７３１の位相差は透過光の１／２波長であり、異方性領域７３１の遅相軸は、矢印Ａ７３１で示す通り、視認側偏光板７１３の偏光透過軸に対して垂直な方向（即ち水平方向）である。これにより、位相差フィルム７２０から出射した円偏光のうち、異方性領域７３１を透過した光は、矢印Ａ７５１で示される、反転した回転方向を有する円偏光に変換される。他方、等方性領域７３２の位相差はゼロであり、したがって、位相差フィルム７２０から出射した円偏光のうち等方性領域７３２を透過した光は、矢印Ａ７５２で示す通り、透過前と同じ回転方向を有する円偏光として出射する。
【０２６１】
この例において、観察者は、偏光メガネ８００を通して液晶表示装置７００の表示面を観察する。偏光メガネ８００は、１／２波長板８１０、１／４波長板８２０及び直線偏光板８３０をこの順に備える。１／２波長板８１０の遅相軸は、矢印Ａ８１０で示す通り、パターン位相差フィルム層７３０の異方性領域７３１の遅相軸に対して垂直である（即ち、鉛直方向に平行である。）。１／４波長板８２０の遅相軸は、矢印Ａ８２０で示す通り、液晶表示装置７００の位相差フィルム７２０の遅相軸に対して垂直である。直線偏光板８３０の偏光透過軸は、矢印Ａ８３０で示す通り、液晶表示装置７００の視認側偏光板７１３の偏光透過軸に対して垂直（即ち、水平方向）である。また、１／２波長板８１０は、偏光メガネ８００の、右目に対応する部分に設けられているが、左目に対応する部分には設けられない。
【０２６２】
光源側偏光板７１１、液晶セル７１２及び視認側偏光板７１３を透過した光は、直線偏光となって出射する。視認側偏光板７１３の偏光透過軸の方向は、矢印Ａ７１３で示す通り鉛直方向であるため、視認側偏光板７１３から出射する光の偏光方向は矢印Ａ７１３で示される鉛直方向となる。位相差フィルム７２０の遅相軸は、矢印Ａ７２０で示す通り、視認側偏光板７１３の偏光透過軸に対して４５°の角度をなす方向であるため、視認側偏光板７１３から出射した直線偏光は、この位相差フィルム７２０を透過することにより、矢印Ａ７４０で示す回転方向を有する円偏光に変換される。位相差フィルム７２０から出射した円偏光のうち、異方性領域７３１を透過した光は、矢印Ａ７５１で示される、反転した回転方向を有する円偏光に変換される。他方、等方性領域７３２の面内レターデーションはゼロであり、したがって、位相差フィルム７２０から出射した円偏光のうち等方性領域７３２を透過した光は、矢印Ａ７５２で示す通り、透過前と同じ回転方向を有する円偏光として出射する。
【０２６３】
異方性領域７３１から出射した光Ｌが、偏光メガネ８００の左目に対応する部分に入射すると、光Ｌは、偏光を変換されることなく１／４波長板８２０に入射する。１／４波長板８２０を透過した光は、矢印Ａ８３０と同じ方向に偏光軸を有する直線偏光に変換され、したがって直線偏光板８３０を透過することができる。したがって、異方性領域７３１を透過した光Ｌは、使用者の左目で視認される。
【０２６４】
一方、異方性領域７３１から出射した光Ｌが、偏光メガネ８００の右目に対応する部分に入射し、１／２波長板８１０を透過すると、光Ｌは、反転した回転方向（即ち矢印Ａ８４０とは反対方向）を有する円偏光に変換され、１／４波長板８２０に入射する。１／４波長板８２０を透過した光は、矢印Ａ８３０に対して垂直な方向に偏光軸を有する直線偏光に変換され、したがって直線偏光板８３０を透過することができない。したがって、異方性領域７３１を透過した光Ｌは、使用者の右目で視認されない。
【０２６５】
また、等方性領域７３２から出射した光Ｒが、偏光メガネ８００の右目に対応する部分に入射し、１／２波長板８１０を透過すると、光Ｒは、矢印Ａ８４０で示される、反転した回転方向を有する円偏光に変換され、１／４波長板８２０に入射する。１／４波長板８２０を透過した光は、矢印Ａ８３０と同じ方向に偏光軸を有する直線偏光に変換され、したがって直線偏光板８３０を透過することができる。したがって、等方性領域７３２を透過した光Ｒは、使用者の右目で視認される。
【０２６６】
一方、等方性領域７３２から出射した光Ｒが、偏光メガネ８００の左目に対応する部分に入射すると、光Ｒは、偏光を変換されることなく１／４波長板８２０に入射する。１／４波長板８２０を透過した光は、矢印Ａ８３０に対して垂直な方向に偏光軸を有する直線偏光に変換され、したがって直線偏光板８３０を透過することができない。したがって、等方性領域７３２を透過した光Ｒは、使用者の左目で視認されない。
【０２６７】
このように、使用者は、異方性領域７３１を透過した光を左目で視て、また、等方性領域７３２を透過した光を右目で視ることになる。したがって、異方性領域７３１に対応する画素領域で左目用の画像を表示し、等方性領域７３２に対応する画素領域で右目用の画像を表示することにより、使用者は、立体画像を視認できる。この際、液晶表示装置７００では、液晶パネル７１０に対してパターン位相差フィルム層７３０を精密に位置合わせできているので、異方性領域７３１及び等方性領域７３２の位相差を精度よく発現させることが可能である。したがって、液晶表示装置７００の画質を向上させることができる。
【０２６８】
なお、上記の液晶表示装置７００は、更に変更して実施してもよい。
例えば、位相差フィルム７２０とパターン位相差フィルム層７３０との順番を入れ替えて、位相差フィルム７２０をパターン位相差フィルム層７３０よりも視認側に設けてもよい。
また、例えば、液晶表示装置７００に、反射防止フィルム、ギラツキ防止フィルム、アンチグレアフィルム、ハードコートフィルム、輝度向上フィルム、接着層、粘着層、ハードコート層、反射防止膜、保護層などを設けてもよい。
また、偏光メガネ８００の右目に対応する部分と左目に対応する部分の構成を入れ替えて、且つ、液晶パネル７１０の異方性領域７３１に対応する画素領域の画像と液晶パネル７１０の等方性領域７３２に対応する画素領域の画像とを入れ替えて実施してもよい。
さらに、立体画像を適切に表示できる限り、各光学要素の遅相軸、透過軸等の光軸の方向は変更して実施してもよい。
【０２６９】
〔５−２．第二の例〕
図３７は、立体画像表示装置として使用しうる液晶表示装置の例を概略的に示す分解上面図である。図３７は、観察者が、液晶表示装置９００の表示面に対して垂直な方向から、右目及び左目により映像を視認する態様を上側から観察した例を示している。液晶表示装置９００は、図中左側に縦置きされている。すなわち、液晶表示装置９００は、表示面が鉛直方向に平行となるよう置かれている。従って、図中右側から観察する観察者の観察方向は、水平方向となる。図３７に示すように、液晶表示装置９００は、液晶パネル７１０と、基材フィルム９２０と、パターン位相差フィルム層９３０とを、この順に備える。使用の態様において、液晶パネル７１０、基材フィルム９２０及びパターン位相差フィルム層９３０は、通常は貼付された状態とされるが、図３７では図示のためこれらを分解して示している。また、基材フィルム９２０とパターン位相差フィルム層９３０との間には接着層が設けられるが、この接着層は大きな位相差を有さないので、画像表示に影響を与えないため、本例においては図示を省略する。
【０２７０】
液晶パネル７１０は、第一の例において説明したものと同様である。
【０２７１】
基材フィルム９２０は、位相差が１０ｎｍ以下のフィルムであり、実質的に位相差を有さないフィルムである。したがって、基材フィルム９２０を透過する光は、透過前の偏光状態を維持したままで基材フィルム９２０を透過する。
【０２７２】
パターン位相差フィルム層９３０は、画面の長手方向に対して平行且つ均一に設けられた帯状の領域９３１と帯状の領域９３２とを有する。領域９３１及び領域９３２は、鉛直方向において交互に並んだストライプ状の配置となっている。また、厚み方向から見ると、領域９３１は液晶パネル７１０の左目用画像を表示する画素領域に重なり、領域９３２は液晶パネル７１０の右目用画像を表示する画素領域に重なるようになっている。
【０２７３】
領域９３１の位相差は透過光の１／４波長である。また、領域９３１の遅相軸の方向は、矢印Ａ９３１で示す通り、視認側偏光板７１３の偏光透過軸に対して−４５°の角度をなす方向である。このため、視認側偏光板７１３から出射した直線偏光は、この領域９３１を透過することにより、矢印Ａ７５１で示す回転方向を有する円偏光に変換される。
他方、領域９３２の位相差も透過光の１／４波長である。ただし、領域９３２の遅相軸の方向は、矢印Ａ９３２で示す通り、視認側偏光板７１３の偏光透過軸に対して＋４５°の角度をなす方向であり、領域９３１の遅相軸と９０°の角度をなしている。このため、視認側偏光板７１３から出射した直線偏光は、この領域９３２を透過することにより、領域９３１を透過した光とは反対に、矢印Ａ７５２で示す回転方向を有する円偏光に変換される。
【０２７４】
この例において、観察者は、偏光メガネ１０００を通して液晶表示装置９００の表示面を観察する。偏光メガネ１０００は、１／４波長板１０１０、１／４波長板１０２０及び直線偏光板１０３０を備える。１／４波長板１０１０の遅相軸Ａ１０１０は、パターン位相差フィルム層９３０の領域９３１の遅相軸方向Ａ９３１と平行である。１／４波長板１０２０の遅相軸Ａ１０２０は、パターン位相差フィルム層９３０の領域９３２の遅相軸方向Ａ９３２と平行である。直線偏光板１０３０の偏光透過軸は、矢印Ａ１０３０で示す通り、液晶表示装置９００の視認側偏光板７１３の偏光透過軸Ａ７１３に対して垂直（即ち、水平方向）である。また、１／４波長板１０１０は偏光メガネ１０００の左目に対応する部分に設けられ、１／４波長板１０２０は偏光メガネ１０００の右目に対応する部分に設けられている。直線偏光板１０３０は、偏光メガネ１０００の右目に対応する部分及び左目に対応する部分の両方に設けられている。
【０２７５】
光源側偏光板７１１、液晶セル７１２及び視認側偏光板７１３を透過した光は、直線偏光となって出射する。視認側偏光板７１３の偏光透過軸の方向は、矢印Ａ７１３で示す通り鉛直方向であるため、視認側偏光板７１３から出射する光の偏光方向は矢印Ａ７１３で示される鉛直方向となる。視認側偏光板７１３から出射した直線偏光は、その偏光状態を維持したままで基材フィルム９２０を透過する。
【０２７６】
基材フィルム９２０を透過した直線偏光のうち、領域９３１を透過した光は、矢印Ａ７５１で示される回転方向を有する円偏光に変換される。他方、領域９３２を透過した光は、矢印Ａ７５２で示す通り、領域９３１を透過した光とは反対の回転方向を有する円偏光に変換される。
【０２７７】
領域９３１から出射した光Ｌが、偏光メガネ１０００の左目に対応する部分に入射すると、光Ｌは、１／４波長板１０１０に入射する。１／４波長板１０１０を透過した光は、直線偏光板１０３０の透過軸Ａ１０３０と平行な偏光軸を有する直線偏光に変換され、したがって直線偏光板１０３０を透過することができる。したがって、領域９３１を透過した光Ｌは、使用者の左目で視認される。
一方、領域９３１から出射した光Ｌが、偏光メガネ１０００の右目に対応する部分に入射すると、光Ｌは、１／４波長板１０２０に入射する。１／４波長板１０２０を透過した光は、直線偏光板１０３０の透過軸Ａ１０３０に対して垂直な偏光軸を有する直線偏光に変換され、したがって直線偏光板１０３０を透過することができない。したがって、領域９３１を透過した光Ｌは、使用者の右目で視認されない。
【０２７８】
また、領域９３２から出射した光Ｒが、偏光メガネ１０００の右目に対応する部分に入射すると、光Ｒは、１／４波長板１０２０に入射する。１／４波長板１０２０を透過した光は、直線偏光板１０３０の透過軸Ａ１０３０と平行な偏光軸を有する直線偏光に変換され、したがって直線偏光板１０３０を透過することができる。したがって、領域９３２を透過した光Ｒは、使用者の右目で視認される。
一方、領域９３２から出射した光Ｒが、偏光メガネ１０００の左目に対応する部分に入射すると、光Ｒは、１／４波長板１０１０に入射する。１／４波長板１０１０を透過した光は、直線偏光板１０３０の透過軸Ａ１０３０に対して垂直な偏光軸を有する直線偏光に変換され、したがって直線偏光板１０３０を透過することができない。したがって、領域９３２を透過した光Ｒは、使用者の左目で視認されない。
【０２７９】
このように、使用者は、領域９３１に対応する画素領域で左目用の画像を表示し、領域９３２に対応する画素領域で右目用の画像を表示することにより、使用者は、立体画像を視認できる。この際、液晶表示装置９００では、液晶パネル７１０に対してパターン位相差フィルム層９３０を精密に位置合わせできているので、領域９３１及び９３２の位相差を精度よく発現させることが可能である。したがって、液晶表示装置９００の画質を向上させることができる。
【０２８０】
なお、上記の液晶表示装置９００は、更に変更して実施してもよい。例えば、第一の例で説明した液晶表示装置と同様に変更して実施してもよい。
【実施例】
【０２８１】
以下、実施例を示して本発明について具体的に説明するが、本発明は以下に示す実施例に限定されるものではなく、本発明の特許請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施してもよい。また、以下の説明において、量を表す「％」及び「部」は、別に断らない限り重量基準である。また、以下の説明において位相差Ｒｅの測定波長は、別に断らない限り５５０ｎｍである。さらに、以下に説明する操作は、別に断らない限り、常温及び常圧の条件において行った。
【０２８２】
［評価方法］
〔１．引っ張り歪の測定方法〕
引っ張りひずみは、ＪＩＳ  Ｋ７１６１に準拠して、応力−歪み曲線を測定して算出した。
【０２８３】
〔２．ΔＤ／Ｄの測定方法〕
（実施例１〜３及び５並びに比較例１及び２での測定方法）
図３８は、実施例１〜３及び５並びに比較例１及び２において、パターン位相差板のパターン位相差フィルム層の領域の振れ幅ΔＤ及び平均幅Ｄを測定する際のサンプルの様子を模式的に示す図である。
図３８に示すように、ガラス板に貼り合わせた直線偏光板１０及び２０を用意し、ガラス板が内側になるようにして配置した。この際、一方の直線偏光板１０の透過軸Ａ１０と、他方の直線偏光板２０の透過軸Ａ２０とは垂直にして、クロスニコル状態となるようにした。この直線偏光板１０と直線偏光板２０との間に、パターン位相差フィルム層３１及び１／４波長板３２を備えるパターン位相差板３０を挿入した。このとき、パターン位相差板３０の１／４波長板３２の遅相軸Ａ３２が、直線偏光板１０及び２０の偏光板透過軸Ａ１０及びＡ２０と直交あるいは平行となるようにした。
【０２８４】
こうして用意したサンプルを、二次元測定機（中村製作所社製「ＥＸＬＯＮｙ９９」）の定盤上に設置し、ＣＣＤカメラにて撮影し、観察した。前記の二次元測定器の仕様は、以下の通りである。
測定機の仕様
測定範囲：Ｘ軸＝９００ｍｍ、Ｙ軸＝９００ｍｍ
最小読取量：０．００１ｍｍ
各軸精度：Ｕ１＝５＋５Ｌ／１０００
座標検出：光学式リニアエンコーダー
画像検出：ＣＣＤカメラ
照明装置：ＬＥＤ落射照明
【０２８５】
パターン位相差板３０の異方性領域３４に相当する部分は光が透過し、等方性領域３５に相当する部分は光が遮光される。したがって、前記の撮影では、図３９で示すように、透過部分と遮光部分とがストライプ状に形成された画像が撮影される。撮影された画像において、黒色の部分が延在する方向を長尺方向Ｘ、それに垂直な方向を幅方向Ｙとし、さらに二次元測定機に予め信頼性の高い基準点を設け、その基準点を原点（０，０）として、ＸＹ座標を設定した。
【０２８６】
図４０に、撮影された画像の一部を拡大した様子を模式的に示す。図４０で示すように、黒色の部分４０の幅方向Ｙのエッジ４１及び４２を、画像処理により検出し、黒色の部分４０の幅方向両端のエッジ４１及び４２のＹ座標を「Ｙ値」として測定した。
Ｘ座標が同一の値（ｘ）となる位置において、一端側のエッジ４１のＹ値（ｙ４１）と他端側のエッジ４２のＹ値（ｙ４２）の平均値（（ｙ４１＋ｙ４２）／２）を、当該Ｘ座標（ｘ）における中点４３のＹ値とした。また、一端側のエッジＸ４１のＹ値（ｙ４１）と他端側のエッジＸ４２のＹ値（ｙ４２）の差（ｙ４２−ｙ４１）を、当該Ｘ座標（ｘ）における黒色の部分４０の幅とした。このような計算を、その黒色の部分４０について、長尺方向Ｘにおいて３０ｍｍピッチで１０８０ｍｍまでの３７箇所で行った。
【０２８７】
前記の測定を、図３９に示すように、幅方向の端部から連続した５本の黒色の部分４０Ａ〜４０Ｅ、並びに、２０ｍｍピッチで５本の黒色の部分４０Ｆ〜４０Ｊについて行い、黒色の部分４０Ａ〜４０Ｊそれぞれの各Ｘ座標における幅及び中点のＹ値を求めた。
【０２８８】
上述したようにして求めた１０本の黒色の部分４０Ａ〜４０Ｊの幅の全測定結果の平均値を、このサンプルの領域の平均幅Ｄとした。
【０２８９】
１０本の黒色の部分４０Ａ〜４０Ｊそれぞれについて、Ｘ座標が０となる位置における中点のＹ値を「０」として、３７箇所の中点のＹ値を規格化し、図４１で示すようにグラフに表した。このグラフにおいて、長尺方向ＸでのＹ値の最大値と最小値との差を、領域の振れ幅ΔＤとした。
【０２９０】
（実施例４での測定方法）
図４２は、実施例４において、パターン位相差板のパターン位相差フィルム層の領域の振れ幅ΔＤ及び平均幅Ｄを測定する際のサンプルの様子を模式的に示す図である。
図４２に示すように、ガラス板に直線偏光板７１及び１／４波長板７２を接着剤を介して貼り合わせた円偏光板７０と、ガラス板に貼り合わせた直線偏光板５０を用意し、ガラス板が内側になるようにして配置した。この際、円偏光板７０の直線偏光板７１の透過軸Ａ７１と、直線偏光板５０の透過軸Ａ５０とは垂直となるようにした。また、直線偏光板７１の透過軸Ａ７１と１／４波長板７２の遅相軸Ａ７２とは４５°の角度をなすようにした。この円偏光板７０と直線偏光板５０との間にパターン位相差板６０を挿入した。この際、直線偏光板７１の透過軸Ａ７１と、パターン位相差板６０のパターン位相差フィルム層の帯状の各領域６１及び６２が延在する方向とが平行になるようにした。このような状態では、パターン位相差フィルム層の各領域６１及び６２の遅相軸方向Ａ６１及びＡ６２は、直線偏光板７１及び５０の透過軸Ａ７１及びＡ５０と４５°の角度をなす。
【０２９１】
こうして用意したサンプルを、実施例１〜３及び５並びに比較例１及び２と同様にして観察する。パターン位相差フィルム層の各領域６１及び６２の遅相軸方向Ａ６１及びＡ６２の相違により、領域６１及び領域６２のうち一方に相当する部分を光は透過しうるが、他方に相当する部分は光を遮断する。したがって、実施例４においても、図３９で示すように、透過部分と遮光部分とがストライプ状に形成された画像が撮影される。この撮影された画像から、実施例１〜３及び５並びに比較例１及び２と同様にしてΔＤ／Ｄを測定した。
【０２９２】
［実施例１］
（１−１．（長尺基材）−（パターン位相差フィルム層）の積層フィルムの製造）
（１−１−１．液晶組成物の調製）
重合性液晶化合物（ＢＡＳＦ社製、製品名「ＬＣ２４２」）２５部と、重合開始剤（チバ・ジャパン社製、製品名「Ｉｒｇ  ３７９」）１部と、液晶性を示さない化合物１（構造式は下記の通り）５部と、架橋剤としてトリメチロールプロパントリアクリレート３部と、界面活性剤としてフッ素系界面活性剤（ネオス社製、製品名「フタージェント２０９Ｆ」）０．０３部と、溶媒としてメチルエチルケトン６６部とを混合して、液晶組成物を調製した。
【０２９３】
【化１】
2013029827.tif 000003
【０２９４】
（１−１−２．パターン位相差フィルム層の製造）
長尺基材として、長尺のノルボルネン樹脂のフィルム（日本ゼオン社製  ゼオノアフィルムＺＦ１４−１００）を用意した。この長尺基材を、フィルム搬送装置の繰り出し部に取り付け、当該長尺基材を搬送しながらラビング処理を施し、ラビング処理を施した面に前記にて用意した液晶組成物をダイコーターを使用して塗布した。これにより、長尺基材の片面に、塗膜として未硬化状態の液晶組成物層を形成して、（長尺基材）−（液晶組成物層）の層構成を備える未硬化積層体を得た。
【０２９５】
前記の液晶組成物層を４０℃で２分間配向処理して、液晶組成物層中の重合性液晶化合物を配向させた。
【０２９６】
その後、液晶組成物層に対して、長尺基材の液晶組成物層が形成されたのとは反対側からガラスマスクを介して０．１ｍＪ／ｃｍ２〜４５ｍＪ／ｃｍ２の微弱な紫外線を照射した。前記のガラスマスクとしては、長尺基材の長尺方向に延在する透光部及び遮光部が互いに平行に並んでストライプ状に形成されたものを用いた。ガラスマスクの透光部の幅は６２４μｍ、遮光部の幅は６３７μｍとした。また、紫外線を照射する際、（長尺基材）−（液晶組成物層）の層構成を備える未硬化積層体には長尺方向に張力をかけた。この張力は、前記の未硬化積層体の引っ張り歪が０．１３％となる大きさとした。
【０２９７】
液晶組成物層の前記遮光部に相当する位置では露光されなかったために液晶組成物層は未硬化状態のままであるが、前記透光部に相当する位置では露光されたために液晶組成物層が硬化した。これにより、液晶組成物層の露光部分において、１／２波長板として機能しうる位相差Ｒｅを有する領域（異方性領域）を形成した。
【０２９８】
次に、液晶組成物層を９０℃で１０秒間加熱処理して、液晶組成物層の未硬化状態の部分（遮光部に相当する部分）の液晶相を等方相に転移させた。
この状態を維持しながら、長尺基材の液晶組成物層側から窒素雰囲気下で液晶組成物層に対して２０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、液晶組成物層の未硬化部分を硬化させた。これにより、位相差Ｒｅが小さい領域（等方性領域）が形成された。
【０２９９】
このようにして、１／２波長板として機能しうる位相差Ｒｅを有する異方性領域と、位相差Ｒｅが小さい等方性領域とを、同一面内に有する液晶組成物層を、パターン位相差フィルム層として得た。また、これにより、（長尺基材）−（パターン位相差フィルム層）の層構成を備える積層フィルムを得た。形成されたパターン位相差フィルム層の乾燥厚みは５．０μｍであった。異方性領域の位相差Ｒｅは２５０ｎｍであり、その面方向の遅相軸が積層フィルムの長尺方向と０°の角度をなしていた。一方、等方性領域の位相差Ｒｅは１０ｎｍ以下であった。異方性領域及び等方性領域の配置は、それぞれの領域が長尺方向に帯状に延在する配置となっており、全体としてストライプ状のパターンを形成していた。それぞれの領域の幅は、６３０μｍであった。
【０３００】
（１−２．パターン位相差板の製造）
基材フィルムとして位相差フィルム（日本ゼオン社製、製品名「斜め延伸ゼオノアフィルム」；厚み４１μｍ；長尺方向に対する配向角４５°；測定波長５５０ｎｍでの面内における位相差１２５ｎｍ；面内における位相差のばらつきは±１０ｎｍ以下）を用意した。
【０３０１】
アクリル粘着剤（綜研化学社製、製品名「ＳＫダイン２０９４」）に硬化剤（綜研化学社製、製品名「Ｅ−ＡＸ」）を、アクリル粘着剤中のポリマー１００重量部に対して５重量部の割合で添加したものを用意した。以下、これを適宜「ＰＳＡ」と略称する。
【０３０２】
基材フィルムを、ＰＳＡを介して、上記にて得られた（長尺基材）−（パターン位相差フィルム層）の層構成を備える積層フィルムのパターン位相差フィルム層に貼り合わせた。この際、（長尺基材）−（パターン位相差フィルム層）の層構成を備える積層フィルムには、長尺方向に張力をかけた。この張力は、前記の積層フィルムの引っ張り歪が０．０８３％となる大きさとした。また、接着層の厚さは２５μｍであった。
【０３０３】
次いで、長尺基材をパターン位相差フィルム層から剥がし、（パターン位相差フィルム層）−（接着層）−（基材フィルム）の層構成を備えるパターン位相差板を得た。
得られたパターン位相差板について、上述した要領でΔＤ／Ｄを求めた。結果を表１に示す。
【０３０４】
（１−３．パターン位相差板と液晶パネルとの貼り合わせ）
（１−３−１．液晶パネルの表面への接着層の形成）
紫外線硬化性樹脂（商品名「紫光ＵＶ６６４０Ｂ」、日本合成化学工業株式会社製、ウレタンアクリレート）３０部、２−ヒドロキシエチルアクリレート（商品名「ＨＥＡ」、大阪有機化学工業株式会社製）７０部、及びアクリル粒子（商品名「ＭＢＸ−８」、数平均粒子径８μｍ、積水化成品工業株式会社製）１０部を混合し、接着剤を調製した。
【０３０５】
市販のディスプレイ装置（ＳＯＮＹ社製、ＢＲＡＶＩＡ  ＥＸ７００  ３２インチ）から液晶パネルを取り出し、その表示面上に、接着剤を塗布し、接着層を形成した。接着層の厚さは１０μｍとした。
【０３０６】
（１−３−２．位置合わせ）
前記の液晶パネルを、ＸＹ平面内で移動可能なステージに、接着層が上向きになるように置いた。また、このステージには、光源、カメラ及び観察用の円偏光板を含む観察装置を設けた。
前記のパターン位相差板を液晶パネルの表示面に合わせて切り取り、液晶パネルの上方に保持した。この際、パターン位相差板と液晶パネルとは、離隔した状態とした。また、パターン位相差板には、１０Ｎ／１６００ｍｍの張力をかけ、その状態を保持した。
【０３０７】
前記の観察装置により、液晶パネルの矩形の表示面領域の四隅においてパターン位相差板のパターン境界線及び液晶パネルのブラックマトリックスを観察しながら、ステージを移動させることにより、位置合わせを行った（図２９参照）。
【０３０８】
（１−３−３．貼り合わせ）
位置合わせ後、ニップロールをパターン位相差板の上方に配置し、パターン位相差板に張力をかけた状態を維持しながら、ステージを上昇させることにより、パターン位相差板と液晶パネルと接着層を介して接触させた。
【０３０９】
次いで、ニップロールをステージ側に付勢しながら転がすことにより、ニップロール及びステージでパターン位相差板を液晶パネルに圧接して、パターン位相差板と液晶パネルとを貼り合わせた（図３０参照）。続いて、パターン位相差板に張力をかけた状態を維持しながら、接着層に紫外線を照射し、接着層を硬化させた。これにより、パターン位相差板、接着層及び液晶パネルをこの順に備える積層部材を得た。
この積層部材を、ディスプレイ装置の筐体に戻して実装し、評価用ディスプレイ装置を作製した。
【０３１０】
（１−４．偏光メガネの製造）
（１−４−１．偏光メガネ用１／２波長板の製造）
ノルボルネン樹脂の基材フィルム（日本ゼオン社製、「ゼオノアフィルムＺＦ１４−１００」、上記（１−１−２）で使用したものと同一）のラビング処理を施した面に、上記（１−１−１）で調製した液晶組成物をダイコーターを使用して塗布し、塗膜を形成した。この塗膜を４０℃で２分間配向処理し、塗膜面側より窒素雰囲気下で２０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して硬化させ、乾燥膜厚が１．５μｍ、位相差が１／２波長の樹脂層を形成し、基材フィルム及び１／２波長樹脂層を有する偏光メガネ用１／２波長板を得た。
【０３１１】
（１−４−２．偏光メガネ用円偏光板１）
偏光板（サンリッツ社製、製品名「ＨＬＣ２−５６１８」）上に、ＰＳＡを介して、１／４波長板として機能しうる位相差フィルム（日本ゼオン社製、製品名「斜め延伸ゼオノアフィルム」；パターン位相差板の基材フィルムとして上で用いたものと同じ）を貼合して、偏光メガネ用円偏光板１を得た。
【０３１２】
（１−４−３．偏光メガネ用円偏光板２）
円偏光板１の１／４波長板側の面上に、ＰＳＡを介して、偏光メガネ用１／２波長板を貼合して、偏光メガネ用円偏光板２を得た。
【０３１３】
（１−４−４．偏光メガネ１）
偏光メガネ用円偏光板１と、偏光メガネ用円偏光板２とが観察者の左右それぞれの視野上に並ぶように配置し、偏光メガネ１を得た。この際、偏光メガネ１における偏光メガネ用円偏光板１及び偏光メガネ用円偏光板２の配置は、図３６に示すとおりにした。
【０３１４】
すなわち、偏光メガネ用円偏光板１を左目用とし、１／４波長板及び直線偏光板をこの順になるように取り付けた。偏光メガネ用円偏光板１の１／４波長板の遅相軸は評価用ディスプレイ装置の位相差フィルムの遅相軸に対して垂直とし、偏光メガネ用円偏光板１の偏光メガネ１の直線偏光板の偏光透過軸は評価用ディスプレイ装置の視認側偏光板の偏光透過軸に対して垂直とした。
また、偏光メガネ用円偏光板２を右眼用とし、１／２波長板、１／４波長板及び直線偏光板をこの順になるように取り付けた。偏光メガネ用円偏光板２の１／２波長板の遅相軸は評価用ディスプレイ装置のパターン位相差フィルム層の異方性領域の遅相軸に対して垂直とし、偏光メガネ用円偏光板２の１／４波長板の遅相軸は評価用ディスプレイ装置の位相差フィルムの遅相軸に対して垂直とし、偏光メガネ用円偏光板２の直線偏光板の偏光透過軸は評価用ディスプレイ装置の視認側偏光板の偏光透過軸に対して垂直とした。
【０３１５】
（１−５．評価用ディスプレイ装置の評価）
評価用ディスプレイ装置の液晶パネルに、画素の奇数列が黒表示、画素の偶数列が白表示となる信号を入力して、画素の奇数列を黒表示、偶数列を白表示とした。液晶パネルから１ｍ離れた距離で、偏光メガネ１を使用して観察し、右目で液晶パネルの全画面のうち９／１０以上の面積で黒表示である場合を「良」、光りヌケが全画面のうち１／１０より大きい面積で見られる場合を「不良」とした。結果を表１に示す。
【０３１６】
［実施例２］
（長尺基材）−（パターン位相差フィルム層）の層構成を備える積層フィルムと基材フィルムとの貼り合せ時の積層フィルムの引っ張り歪が０．１００％となるようにした。この事項以外は実施例１と同様にして、パターン位相差板を製造し、そのパターン位相差板を液晶パネルと位置合わせして貼り合せ、評価用ディスプレイ装置を製造して評価した。結果を表１に示す。
【０３１７】
［実施例３］
（長尺基材）−（パターン位相差フィルム層）の層構成を備える積層フィルムと基材フィルムとの貼り合せ時の積層フィルムの引っ張り歪が０．００２％となるようにした。また、パターン位相差板と液晶パネルとの位置合わせ時にパターン位相差板にかける張力の大きさを１５６．８Ｎ／１６００ｍｍにした。これらの事項以外は実施例１と同様にして、パターン位相差板を製造し、そのパターン位相差板を液晶パネルと位置合わせして貼り合せ、評価用ディスプレイ装置を製造して評価した。結果を表１に示す。
【０３１８】
［実施例４］
（４−１．評価用ディスプレイ装置の用意）
長尺基材として、長尺のノルボルネン樹脂のフィルム（日本ゼオン社製  ゼオノアフィルムＺＦ１４−１００）を用意した。この長尺基材の片面に、光配向材料として（ＤＩＣ社製「ＬＩＡ−０２」；固形分率１重量％；溶媒として２−ブトキシエタノール９９重量％）を＃２バーにより塗布し、８０℃２分間で乾燥させて、光配向材料層を形成した。これにより、長尺基材の片面に光配向材料層を備える配向材料積層体を得た。
【０３１９】
その後、光配向材料層に対して、ガラスマスクを介して、波長３１３ｎｍの直線偏光紫外線を２００ｍＪ／ｃｍ２の積算光量で照射した。前記のガラスマスクとしては、長尺基材の長尺方向に延在する透光部及び遮光部が互いに平行に並んでストライプ状に形成されたものを用いた。ガラスマスクの透光部の幅は６２４μｍ、遮光部の幅は６３７μｍとした。また、紫外線を照射する際、（長尺基材）−（光配向材料層）の層構成を備える配向材料積層体には長尺方向に張力をかけた。この張力は、前記の配向材料積層体の引っ張り歪が０．１３％となる大きさとした。これにより、光配向材料層の露光された領域において光配向材料を配向させた。
【０３２０】
次いで、ガラスマスクを外し、前記の直線偏光紫外線とは偏光方向が９０°異なる波長３１３ｎｍの直線偏光紫外線を１０ｍＪ／ｃｍ２の積算光量で照射した。これにより、光配向材料層において未配向であった領域が配向し、配向膜が得られた。この配向膜では、配向方向が９０°異なる領域がガラスマスクのマスクパターンを精度よく写し取ったパターンを形成していた。
【０３２１】
その後、配向膜の表面に、実施例１と同様の液晶組成物をダイコーターを使用して塗布した。前記の液晶組成物層を４０℃で２分間配向処理して、液晶組成物層中の重合性液晶化合物を配向させた。
【０３２２】
次に、窒素雰囲気下で液晶組成物層に対して２０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、液晶組成物層を硬化させた。これにより、遅相軸方向が９０°異なる２種類の領域を、同一面内に有する液晶組成物層を、パターン位相差フィルム層として得た。また、これにより、（長尺基材）−（配向膜）−（パターン位相差フィルム層）の層構成を備える積層フィルムを得た。形成されたパターン位相差フィルム層の乾燥厚みは２μｍであった。パターン位相差フィルム層の位相差Ｒｅは１２５ｎｍであり、その面方向の遅相軸が積層フィルムの長尺方向と＋４５°又は−４５°の角度をなしていた。パターン位相差フィルム層の各領域の配置は、それぞれの領域が長尺方向に帯状に延在する配置となっており、全体としてストライプ状のパターンを形成していた。それぞれの領域の幅は、６３０μｍであった。
【０３２３】
基材フィルム（日本ゼオン社製、製品名「ゼオノアフィルム」；厚み２３μｍ；測定波長５５０ｎｍでの面内における位相差５ｎｍ）を用意した。この基材フィルムを、ＰＳＡを介して、上記にて得られた（長尺基材）−（配向膜）−（パターン位相差フィルム層）の層構成を備える積層フィルムのパターン位相差フィルム層に貼り合わせた。この際、（長尺基材）−（配向膜）−（パターン位相差フィルム層）の層構成を備える積層フィルムには、長尺方向に張力をかけた。この張力は、前記の積層フィルムの引っ張り歪が０．０８３％となる大きさとした。また、接着層の厚さは２５μｍであった。
【０３２４】
次いで、長尺基材をパターン位相差フィルム層から剥がし、（パターン位相差フィルム層）−（接着層）−（基材フィルム）−（配向膜）の層構成を備えるパターン位相差板を得た。得られたパターン位相差板について、上述した要領でΔＤ／Ｄを求めた。結果を表１に示す。
【０３２５】
このようにして得たパターン位相差板を用い、パターン位相差板と液晶パネルとの位置合わせ及び貼り付けの際の張力の大きさを５Ｎ／１６００ｍｍに変更したこと以外は実施例１と同様にして、パターン位相差板と液晶パネルとを接着層を介して貼り合せて、パターン位相差板、接着層及び液晶パネルをこの順に備える積層部材を得た。
この積層部材を、ディスプレイ装置の筐体に戻して実装し、評価用ディスプレイ装置を作製した。
【０３２６】
（４−２．偏光メガネの製造）
（４−２−１．偏光メガネ用円偏光板３）
偏光メガネ用円偏光板１と１／４波長板の遅相軸が直交するようにしたこと以外は偏光メガネ用円偏光板１と同様にして、偏光メガネ用円偏光板３を得た。
【０３２７】
（４−２−２．偏光メガネ２）
偏光メガネ用円偏光板１と偏光メガネ用円偏光板３とが観察者の左右それぞれの視野上に並ぶように配置し、偏光メガネ２を得た。その際、偏光メガネ２における偏光メガネ用円偏光板１及び偏光メガネ用円偏光板３の配置は、図３７に示すとおりとした。
【０３２８】
すなわち、偏光メガネ用円偏光板１を左目用とし、１／４波長板及び直線偏光板をこの順になるように取り付けた。偏光メガネ用円偏光板１の１／４波長板の遅相軸は、評価用ディスプレイ装置のパターン位相差フィルム層の領域９３１の遅相軸Ａ９３１と平行にした。偏光メガネ用円偏光板３の１／４波長板の遅相軸は、評価用ディスプレイ装置のパターン位相差フィルム層の領域９３２の遅相軸Ａ９３２と平行にした。また、偏光メガネ用円偏光板１および偏光メガネ用円偏光板３の直線偏光板の偏光透過軸は、評価用ディスプレイ装置の視認側偏光板の偏光透過軸に対して垂直とした。
【０３２９】
（４−３．評価用ディスプレイ装置の評価）
評価用ディスプレイ装置について、偏光メガネ２を用いて評価を行った。この際、偏光メガネ２における偏光メガネ用円偏光板１及び偏光メガネ用円偏光板３の配置は、図３７に示すとおりにした。結果を表１に示す。
【０３３０】
［実施例５］
基材フィルムとして位相差フィルム（日本ゼオン社製、製品名「斜め延伸ゼオノアフィルム」；厚み８２μｍ（マスキングフィルム３０μｍを含む）；長尺方向に対する配向角４５°；測定波長５５０ｎｍでの面内における位相差１２５ｎｍ；面内における位相差のばらつきは±１０ｎｍ以下）を用いた。また、（長尺基材）−（パターン位相差フィルム層）の層構成を備える積層フィルムと基材フィルムとの貼り合せ時の積層フィルムの引っ張り歪が０．１％となるようにした。また、パターン位相差板と液晶パネルとの位置合わせ時にパターン位相差板にかける張力の大きさを１５６．８Ｎ／１６００ｍｍにした。また、位相差フィルム上のマスキングフィルムを、パターン位相差板と液晶パネルを位置合わせする前に剥離した。これらの事項以外は実施例１と同様にして、パターン位相差板を製造し、そのパターン位相差板を液晶パネルと位置合わせして貼り合せ、評価用ディスプレイ装置を製造して評価した。結果を表１に示す。
【０３３１】
［比較例１］
パターン位相差フィルム層を製造する工程において、ガラスマスクを介して液晶組成物層に紫外線を照射する際、（長尺基材）−（液晶組成物層）の層構成を備える未硬化積層体の長尺方向にかける張力を、前記の未硬化積層体の引っ張り歪が０．０５％となる大きさとした。また、パターン位相差板と液晶パネルとの位置合わせ時にパターン位相差板にかける張力の大きさを３１３Ｎ／１６００ｍｍにした。これらの事項以外は実施例１と同様にして、パターン位相差板を製造し、そのパターン位相差板を液晶パネルと位置合わせして貼り合せ、評価用ディスプレイ装置を製造して評価した。結果を表１に示す。
【０３３２】
［比較例２］
長尺基材をパターン位相差フィルム層から剥がす操作を行わなかった。また、パターン位相差板と液晶パネルとの位置合わせ時にパターン位相差板にかける張力の大きさを３１３Ｎ／１６００ｍｍにした。これらの事項以外は実施例１と同様にして、パターン位相差板を製造し、そのパターン位相差板を液晶パネルと位置合わせして貼り合せ、評価用ディスプレイ装置を製造して評価した。結果を表１に示す。
【０３３３】
【表１】
2013029827.tif 000004
【０３３４】
［検討］
表１から分かるように、実施例においては、いずれも評価用ディスプレイ装置の評価結果が良好であった。
これに対し、比較例１、２では、パターン位相差フィルム層の各領域の真直性が悪く、位置合わせが困難であった。このため、評価用ディスプレイ装置の評価結果が不良であった。これらの比較例のような場合、各領域が湾曲したり画素に対して位置がずれたりして、右目で左目用の画像が視認されたり左眼で右眼用の画像が認識されたりするクロストークという現象が生じ、立体画像を認識できなくなる。
以上より、本発明により、液晶パネルとの位置合わせを精度良く行うことができるパターン位相差板を実現しうることが確認された。
【符号の説明】
【０３３５】
１０、２０  直線偏光板
３０  パターン位相差板
３１  パターン位相差フィルム層
３２  １／４波長板
３３、３４  パターン位相差板の領域
４０  撮影された画像の黒色の部分
４１、４２  撮影された画像の黒色の部分の幅方向端部のエッジ
４３  撮影された画像の黒色の部分の幅方向の中点
５０  直線偏光板
６０  パターン位相差板
６１、６２  パターン位相差板の領域
７０  円偏光板
７１  直線偏光板
７２  １／４波長板
１００  パターン位相差板
１１０  長尺の基材フィルム
１２０  接着層
１３０  パターン位相差フィルム層
１３１、１３２  パターン位相差フィルム層の領域
２１０  長尺基材
２１１、２１２  長尺基材の表面
２２０  配向膜
２３０  マスク層
２３１  遮光部
２３２  透光部
２４０  液晶組成物層（パターン位相差フィルム層）
２４１、２４２  液晶組成物層の領域
２５０  未硬化積層体
２６０  積層フィルム
２７０  基材フィルム
２８１、２８２  ニップロール
２８３  光源
２８４、２８５  搬送ロール
２９０  パターン位相差板
３１０  長尺基材
３１１  長尺基材の表面
３２０  光配向材料層（配向膜）
３２１、３２２  光配向材料層の領域
３２３  配向膜の表面
３３０  配向材料積層体
３４０  液晶組成物層（パターン位相差フィルム層）
３４１、３４２  液晶組成物層の領域
３５０  積層フィルム
４０８  パターン位相差板
４０９  支持基材
４１０  パターン位相差フィルム層
４１１、４１２  パターン位相差フィルム層の領域
４１５  パターン境界線
４２０  基材フィルム
４３０  偏光板
４４０  液晶パネル
４４１  第１の画素群の画素の列
４４２  第２の画素群の画素の列
４４５  ブラックマトリックスの座標軸Ｘ方向に延長する部分
４４６  表示面領域
４５１  ステージ
４５２  カッター刃
４６１  塗布装置
４６２  接着層
４６３  接着層
４８１  ロール
４８２  複合フィルム
４８３、４８４  ロール
４８５  ニップロール
４８６  巻き取りロール
４９０  観察装置
４９１  光源
４９２  カメラ
４９３  観察用の円偏光板
４９４Ａ〜４９４Ｄ  観察点
５０１、５０２、５０３  ランプ
５０４Ａ〜５０４Ｄ  紫外線照射点
５１０  パターン位相差板
５４０  液晶パネル
５５１  ステージ
５５２  吸着板
５５４  カッター刃
５８１  ロール
５８２  複合フィルム
５８３、５８４  ロール
５８５  巻き取りロール
５８６  ロール
５８７Ｕ、５８７Ｌ、５８８Ｕ、５８８Ｌ  ロール
５８９  ニップロール
５９０  複層保護フィルム
５９１  ロール
５９２  保護層
５９３  保護フィルム
５９４、５９５  ロール
５９６  巻き取りロール
５９７、５９８  ロール
５９９  フィルム
６６２  接着層
６８１  ロール
６８２  複合フィルム
６８９  保護フィルム
６９０  複合フィルム
６９１  ロール
７００  液晶表示装置
７１０  液晶パネル
７１１  光源側偏光板
７１２  液晶セル
７１３  視認側偏光板
７２０  位相差フィルム
７３０  パターン位相差フィルム層
７３１  異方性領域
７３２  等方性領域
８００  偏光メガネ
８１０  １／２波長板
８２０  １／４波長板
８３０  直線偏光板
９００  液晶表示装置
９２０  基材フィルム
９３０  パターン位相差フィルム層
９３１、９３２  パターン位相差フィルム層の領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６】
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【図３７】
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【図３８】
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【図３９】
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【図４０】
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【図４１】
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【図４２】
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