(57)【要約】【課題】表示ムラを生じさせない光学フィルムの提供。【解決手段】  以下の関係式を満たす位相層Ａ（Ａ層）  ｎｚ＞ｎｘ≧ｎｙ但し、ｎｘは面内遅相軸方位の面内屈折率を、ｎｙは面内遅相軸方位に直交する方位の面内屈折率を、ｎｚは厚み方向屈折率を意味；及び  面内レターデーションＲｅ及び厚み方向レターデーションＲｔｈが以下の関係式を満たす位相差層Ｂ（Ｂ層）      ０ｎｍ≦Ｒｅ≦２０ｎｍ    ５０ｎｍ≦Ｒｔｈ≦３００ｎｍ；を有し、総膜厚が５〜４０μｍであることを特徴とする光学フィルムである。【選択図】図１
2013152430.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の関係式を満たす位相層Ａ（Ａ層）
ｎｚ＞ｎｘ≧ｎｙ
但し、ｎｘは面内遅相軸方位の面内屈折率を、ｎｙは面内遅相軸方位に直交する方位の面内屈折率を、ｎｚは厚み方向屈折率を意味；及び
面内レターデーションＲｅ及び厚み方向レターデーションＲｔｈが以下の関係式を満たす位相差層Ｂ（Ｂ層）
０ｎｍ≦Ｒｅ≦２０ｎｍ
５０ｎｍ≦Ｒｔｈ≦３００ｎｍ；
を有し、総膜厚が５〜４０μｍであることを特徴とする光学フィルム。
【請求項２】
Ａ層のＲｅ及びＲｔｈが、以下の関係式
５０ｎｍ≦Ｒｅ≦１５０ｎｍ
−５０ｎｍ≦Ｒｔｈ≦−１５０ｎｍ
を満たす請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
積層フィルム全体としてのＲｅ及びＲｔｈが、以下の関係式
０．５≦｜Ｒｔｈ｜／｜Ｒｅ｜＋０．５≦０．８
を満たす請求項１又は２に記載の光学フィルム。
【請求項４】
積層フィルム全体としてのＲｅ及びＲｔｈが、以下の関係式
０．５≦｜Ｒｔｈ｜／｜Ｒｅ｜＋０．５≦０．７
を満たす請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項５】
総膜厚が５〜３０μｍである請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項６】
Ｂ層の主成分が、ディスコティック液晶ポリマー又はポリイミド樹脂の少なくとも１種である請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項７】
Ａ層の主成分が、芳香環を有するセルロースアシレート、スチレン系樹脂、及びポリエステル系樹脂から選択される少なくとも１種である請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項８】
偏光子と、請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学フィルムとを少なくとも有する偏光板。
【請求項９】
前記偏光子の厚みが、１０μｍ以下である請求項８に記載の偏光板。
【請求項１０】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学フィルム、又は請求項８もしくは９に記載の偏光板を少なくとも有する液晶表示装置。
【請求項１１】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学フィルムと、該光学フィルムのＡ層の表面上に、ラミネート層Ｃ（Ｃ層）を有する積層フィルム。
【請求項１２】
Ｃ層の主成分が、熱可塑性樹脂の少なくとも１種である請求項１１に記載の積層フィルム。
【請求項１３】
Ｃ層の主成分が、セルロースアセテートの少なくとも１種である請求項１１又は１２に記載の積層フィルム。
【請求項１４】
請求項８〜１３のいずれか１項に記載の積層フィルムの製造方法であって、
Ａ層とＣ層との積層体を溶液共流延法で製造すること、及び
該積層体のＡ層表面に、塗布によりＢ層を形成すること
を含む積層フィルムの製造方法。
【請求項１５】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法であって、
請求項８〜１３のいずれか１項に記載の積層フィルムを準備すること、及び
該積層フィルムからＣ層を剥離すること
を含む光学フィルムの製造方法。
【請求項１６】
Ｃ層を剥離することによって露出されたＡ層の表面に、粘着剤層を形成することを含む請求項１５に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に用いられる位相差フィルム等として有用な光学フィルム、及びその製造等に利用される積層フィルム、並びにこれらフィルムを安定的に製造可能な方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ｎｚ＞ｎｘ≧ｎｙを満足する、例えば正のＣプレート及び正のＢプレートといった位相差フィルムが、液晶表示装置の視野角補償フィルム等として利用されている。上記特性を満足する位相差フィルムは、例えば、負のＢプレート又は負のＣプレート等、他の光学特性の位相差層との積層体として、液晶表示装置に用いられるのが一般的である（例えば、特許文献１及び２）。しかし、上記所定の光学特性を示す位相差層の積層体を液晶表示装置の視野角補償に利用すると、温度・湿度等の使用環境の変動により、表示ムラが発生する場合があり、改善が求められている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０００−２２７５２０号公報
【特許文献２】特開２００９−１９２６１１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は上記諸問題に鑑みなされたものであって、ｎｚ＞ｎｘ≧ｎｙを満足する位相差層を有する光学フィルムを用いた液晶表示装置の、温度・湿度の変動に起因して生じる表示ムラを軽減することを課題とする。
具体的には、本発明は、液晶表示装置に用いた場合に、温度・湿度の変動による表示ムラを生じさせない又は表示ムラが少ない、上記光学特性を示す位相差層を有する光学フィルム、並びに該光学フィルムを有する偏光板及び液晶表示装置を提供することを課題とする。
また、本発明は、上記光学フィルムの安定的な製造を可能とする、積層フィルム、及び製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者が、温度・湿度の変動による表示ムラの発生原因について種々検討した結果、液晶表示装置に用いられている位相差フィルムが温度・湿度によって変形し、この変形したフィルムによって液晶パネル内部に不均一な圧がかかり、それが表示ムラとして現われることがわかった。特に、厚膜の位相差フィルムは、フィルム全体の剛性が高くなる傾向があり、自らの剛性によって密着しているガラス板などに対して高い応力を発生し、表示ムラが悪化する傾向を確認することができた。ｎｚ＞ｎｘ≧ｎｙを満足する位相差層の形成には、固有複屈折が負の材料を用いる必要があるが、固有複屈折が負の材料は、一般的に分子主鎖方向に対して、垂直方向に嵩高い側鎖を有するか、又は芳香環を有する分子構造を有するものが多く、フィルムが脆くなる傾向がある。この様な脆いフィルムは薄膜化し難いため、従来、薄膜化の技術検討がされてこなかったというのが実情である。しかし、本発明者が種々検討したところ、溶液流延法を利用することで、上記特性を満足する薄膜のフィルムを製造でき、さらには、所定の光学特性の他の位相差層との積層体としての総厚みを所定の範囲にすることで、表示ムラを顕著に軽減できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００６】
即ち、前記課題を解決するための手段は、以下の通りである。
［１］    以下の関係式を満たす位相層Ａ（Ａ層）
ｎｚ＞ｎｘ≧ｎｙ
但し、ｎｘは面内遅相軸方位の面内屈折率を、ｎｙは面内遅相軸方位に直交する方位の面内屈折率を、ｎｚは厚み方向屈折率を意味；及び
面内レターデーションＲｅ及び厚み方向レターデーションＲｔｈが以下の関係式を満たす位相差層Ｂ（Ｂ層）
０ｎｍ≦Ｒｅ≦２０ｎｍ
５０ｎｍ≦Ｒｔｈ≦３００ｎｍ；
を有し、総膜厚が５〜４０μｍであることを特徴とする光学フィルム。
［２］  Ａ層のＲｅ及びＲｔｈが、以下の関係式
５０ｎｍ≦Ｒｅ≦１５０ｎｍ
−５０ｎｍ≦Ｒｔｈ≦−１５０ｎｍ
を満たす［１］の光学フィルム。
［３］  積層フィルム全体としてのＲｅ及びＲｔｈが、以下の関係式
０．５≦｜Ｒｔｈ｜／｜Ｒｅ｜＋０．５≦０．８
を満たす［１］又は［２］の光学フィルム。
［４］  積層フィルム全体としてのＲｅ及びＲｔｈが、以下の関係式
０．５≦｜Ｒｔｈ｜／｜Ｒｅ｜＋０．５≦０．７
を満たす［１］〜［３］のいずれかの光学フィルム。
［５］  総膜厚が５〜３０μｍである［１］〜［４］のいずれかの光学フィルム。
［６］  Ｂ層の主成分が、ディスコティック液晶ポリマー又はポリイミド樹脂の少なくとも１種である［１］〜［５の］のいずれかの光学フィルム。
［７］  Ａ層の主成分が、芳香環を有するセルロースアシレート、スチレン系樹脂、及びポリエステル系樹脂から選択される少なくとも１種である［１］〜［６］のいずれかの光学フィルム。
［８］  偏光子と、［１］〜［７］のいずれかの光学フィルムとを少なくとも有する偏光板。
［９］  前記偏光子の厚みが、１０μｍ以下である［８］の偏光板。
［１０］  ［１］〜［７］のいずれかの光学フィルム、又は［８］もしくは［９］の偏光板を少なくとも有する液晶表示装置。
［１１］  ［１］〜［７］のいずれかの光学フィルムと、該光学フィルムのＡ層の表面上に、ラミネート層Ｃ（Ｃ層）を有する積層フィルム。
［１２］  Ｃ層の主成分が、熱可塑性樹脂の少なくとも１種である［１１］の積層フィルム。
［１３］  Ｃ層の主成分が、セルロースアセテートの少なくとも１種である［１１］又は［１２］の積層フィルム。
［１４］  ［８］〜［１３］のいずれかの積層フィルムの製造方法であって、
Ａ層とＣ層との積層体を溶液共流延法で製造すること、及び
該積層体のＡ層表面に、塗布によりＢ層を形成すること
を含む積層フィルムの製造方法。
［１５］  ［１］〜［５］のいずれかの光学フィルムの製造方法であって、
［８］〜［１３］のいずれかの積層フィルムを準備すること、及び
該積層フィルムからＣ層を剥離すること
を含む光学フィルムの製造方法。
［１６］  Ｃ層を剥離することによって露出されたＡ層の表面に、粘着剤層を形成することを含む［１５］の方法。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、ｎｚ＞ｎｘ≧ｎｙを満足する位相差層を有する光学フィルムを用いた液晶表示装置の、温度・湿度の変動に起因して生じる表示ムラを軽減することができる。
具体的には、本発明によれば、液晶表示装置に用いた場合に、温度・湿度の変動による表示ムラを生じさせない又は表示ムラが少ない、上記光学特性を示す位相差層を有する光学フィルム、並びに該光学フィルムを有する偏光板及び液晶表示装置を提供することができる。
また、本発明によれば、上記光学フィルムの安定的な製造を可能とする、積層フィルム、及び製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の光学フィルムの一例の断面模式図である。
【図２】本発明の積層フィルムの一例の断面模式図である。
【図３】本発明の光学フィルムの他の例の断面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本発明の光学フィルム、その製造方法、並びに積層フィルム及びその製造方法について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
【００１０】
［光学フィルム］
本発明の光学フィルムは、以下の関係式を満たす位相層Ａ（Ａ層）
ｎｚ＞ｎｘ≧ｎｙ
但し、ｎｘは面内遅相軸方位の面内屈折率を、ｎｙは面内遅相軸方位に直交する方位の面内屈折率を、ｎｚは厚み方向屈折率を意味；及び
面内レターデーションＲｅ及び厚み方向レターデーションＲｔｈが以下の関係式を満たす位相差層Ｂ（Ｂ層）
０ｎｍ≦Ｒｅ≦２０ｎｍ
５０ｎｍ≦Ｒｔｈ≦３００ｎｍ；
を有し、総膜厚が５〜４０μｍであることを特徴とする。
【００１１】
本発明の光学フィルムの特徴の一つは、総膜厚が５〜４０μｍであることにある。フィルムの剛性は、一般的に厚みが厚くなるほど大きくなる傾向がある。剛性が大きくなると、上記した通り、温度・湿度の変動に起因したフィルムの変形が顕著になり、フィルムの変形により液晶パネル内部に不均一な圧がかかり、表示ムラが生じる一因になる。本発明では、総膜厚を前記範囲にすることで、温度・湿度の変動に起因するフィルムの変形を抑制し、それにより表示ムラの発生を軽減している。この観点では、本発明の光学フィルムの総膜厚は小さいほど好ましいが、一方で、薄いフィルムは、製膜中のハンドリング性が悪く、製造適性の点では好ましくない。また所望の光学特性の達成のためにもある程度の厚みが必要である。これらの観点から、本発明の光学フィルムの総膜厚は、５〜３０μｍであるのが好ましく、１０〜３０μｍであるのがより好ましい。
【００１２】
本発明の光学フィルムは、所定の光学特性をそれぞれ示すＡ層及びＢ層の積層構造を有する。
Ａ層は、ｎｚ＞ｎｘ≧ｎｙを満足する位相差層である。ｎｚ＞ｎｘ≧ｎｙを満足する層の形成には、溶液流延法が有効である。これは、主成分材料の溶液を支持体上に流延後、乾燥時に膜厚方向に溶剤が揮発することで、フィルム膜厚方向に圧縮応力が発生し、分子鎖の面配向性を高めることによって、上記特性を発現するものと推定している。また、溶液流延法によると、薄膜のＡ層を安定的に製造可能な点でも好ましい。
【００１３】
ｎｚ＞ｎｘ≧ｎｙを満足する位相差層の例には、いわゆる正のＣプレート（本明細書では、厳密な意味での正のＣプレートのみを意味するものではなく、Ｃプレート様に機能する位相差板のいずれも含まれるものとし、具体的にはＲｔｈが負の値を示し、且つＲｅが０〜１０ｎｍの位相差板を意味するものとする）及びいわゆる正のＢプレート（本明細書では光学的に二軸の位相差板であって、Ｒｔｈが負の光学的二軸の位相差板をいずれも含む意味で用いる）が含まれる。上記特性を満足する光学フィルムは、例えば、ＩＰＳモード又はＦＦＳモード等の水平配向モードの液晶表示装置の視野角補償フィルム等として有用である。
【００１４】
水平配向モードの液晶表示装置の視野角補償フィルムとして利用する場合は、Ａ層がいわゆる正のＢプレートである態様では、Ｂ層は負のＣプレートであるのが好ましく、一方、Ａ層がいわゆる正のＣプレートである態様では、Ｂ層は負のＢプレートであるのが好ましい。
【００１５】
Ａ層が、いわゆる正のＢプレートである態様では、Ａ層のＲｅ及びＲｔｈは以下の関係式を満足するのが好ましく、
５０ｎｍ≦Ｒｅ≦１５０ｎｍ
−１５０ｎｍ≦Ｒｔｈ≦−５０ｎｍ
以下の関係式を満足するのがより好ましい。
７０ｎｍ≦Ｒｅ≦１３０ｎｍ
−１３０ｎｍ≦Ｒｔｈ≦−７０ｎｍ
【００１６】
Ｂ層は、Ｒｅが０ｎｍ〜２０ｎｍ、及びＲｔｈが５０ｎｍ〜３００ｎｍ（好ましくは５０〜２００ｎｍ、より好ましくは５０〜１５０ｎｍ）を満足する位相差層であり、該位相差層の例には、いわゆる負のＣプレート（本明細書では、厳密な意味での負のＣプレートのみを意味するものではなく、Ｃプレート様に機能する位相差板のいずれも含まれるものとし、具体的にはＲｔｈが正の値を示し、且つＲｅが０〜１０ｎｍの位相差板を意味するものとする）及びいわゆる負のＢプレート（本明細書では光学的に二軸の位相差板であって、Ｒｔｈが正の光学的二軸の位相差板をいずれも含む意味で用いる）が含まれる。
【００１７】
また、水平配向モードの液晶表示装置の視野角補償フィルムとして利用する場合は、Ａ層とＢ層との積層体全体として計測したときの光学特性において、Ｒｔｈが−３０〜３０ｎｍの間にあることが好ましく、具体的には、｜Ｒｔｈ｜／｜Ｒｅ｜＋０．５が、０．５〜０．８であるのが好ましく、０．５〜０．７であるのがより好ましい。
【００１８】
（Ａ層）
上記光学特性を満足するＡ層が、上記正のＣプレートや正のＢプレート等として機能し、水平配向モードの液晶表示装置の視野角補償に寄与するためには、負にある程度大きいＲｔｈを示す必要がある。本発明の光学フィルムは、総膜厚が上記範囲の薄層のフィルムであるので、Ａ層の厚みも薄いほどよく、例えば、５〜３０μｍであるのが好ましく、８〜２８μｍであるのが好ましく、１３〜２５μｍであるのがより好ましい。薄層である程度の負に大きなＲｔｈを示すためには、Ｒｔｈ発現性の高い材料を主成分として含んでいるのが好ましい。上記光学特性を満足する光学フィルムの例には、後述する種々の固有複屈折が負の樹脂が含まれるが、Ｒｔｈ発現性の観点では、ポリスチレン系樹脂、ポリエステル系樹脂、及び芳香環を含むセルロースアシレート系樹脂が好ましい。なお、主成分とは層を構成する成分の中で最も含有量（質量％）が多い成分を意味する。
以下、Ａ層の形成に主成分として利用可能な固有複屈折が負の高分子材料について説明する。
【００１９】
＜固有複屈折が負の高分子材料＞
本発明の光学フィルムは、固有複屈折が負の高分子材料（樹脂及び重合体の双方を含む意味で用いる）を含有する。固有複屈折が負の高分子材料としては種々のものが知られていて、いずれも使用できるが、溶液製膜可能であること、及びＲｔｈ発現性が高い点で、ポリスチレン系樹脂、ポリエステル系樹脂、及び芳香環を含むセルロースアシレート系樹脂が好ましい。以下、これらの樹脂については詳細に説明するが、これらの樹脂に限定されるものではない。
【００２０】
スチレン系樹脂：
前記光学フィルムの主成分として利用可能なアクリル樹脂の例には、ポリスチレン誘導体及びスチレン系共重合体が含まれる。具体的には、スチレン系モノマーの単独重合体及び共重合体が含まれる。スチレン系共重合体は、２種以上のスチレン系モノマーの共重合体であっても、１種以上のスチレン系モノマーと、１種以上の非スチレン系モノマー（例えば、アクリル系モノマーであり、好ましくは下記式（ｃ）で表されるアクリル系モノマーである）との共重合体であってもよい。
【００２１】
前記スチレン系モノマーの例には、スチレンが有するエテニル基の１以上の水素原子が置換基で置換されたモノマー、及びスチレンが有するフェニル基の１以上の水素原子が置換基で置換されたモノマーが含まれる。フェニル基に置換基を有するスチレン系モノマーが好ましい。前記置換基としては、アルキル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アセトキシ基などのカルボキシル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、アリール基、ヒドロキシル基、カルボニル基などが挙げられ、ヒドロキシル基、カルボニル基またはアセトキシ基が好ましく、ヒドロキシル基またはアセトキシ基がより好ましい。なお、前記置換基は単独であっても、２以上であってもよい。さらに前記置換基はさらに置換基を有していても有していなくてもよい。また、前記スチレン系誘導モノマーはさらにフェニル基とその他の芳香環とが縮合したものでもよく、また、置換基がフェニル基以外の環を形成するようなインデン類、インダン類であってもよく、架橋環を有する構造であってもよい。
【００２２】
前記スチレン系モノマーは、好ましくは、下記一般式(ｂ)で表される、芳香族ビニル系単量体である。
【００２３】
【化１】
2013152430.tif 000003
【００２４】
式中、Ｒ101〜Ｒ104は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、酸素原子、硫黄原子、窒素原子またはケイ素原子を含む連結基を有していてもよい、置換もしくは非置換の炭素原子数１〜３０の炭化水素基、または極性基を表し、Ｒ104は全て同一の原子または基であっても、個々異なる原子または基であっても、互いに結合して、炭素環または複素環(これらの炭素環、複素環は単環構造でもよいし、他の環が縮合して多環構造を形成してもよい)を形成してもよい。
【００２５】
前記芳香族ビニル系単量体の具体例としては、スチレン；α−メチルスチレン、β−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレンなどのアルキル置換スチレン類；４−クロロスチレン、４−ブロモスチレンなどのハロゲン置換スチレン類；ｐ−ヒドロキシスチレン、α−メチル−ｐ−ヒドロキシスチレン、２−メチル−４−ヒドロキシスチレン、３，４−ジヒドロキシスチレンなどのヒドロキシスチレン類；ビニルベンジルアルコール類；ｐ−メトキシスチレン、ｐ−tert−ブトキシスチレン、ｍ−tert−ブトキシスチレンなどのアルコキシ置換スチレン類；３−ビニル安息香酸、４−ビニル安息香酸などのビニル安息香酸類；メチル−４−ビニルベンゾエート、エチル−４−ビニルベンゾエートなどのビニル安息香酸エステル類；４−ビニルベンジルアセテート；４−アセトキシスチレン；２−ブチルアミドスチレン、４−メチルアミドスチレン、ｐ−スルホンアミドスチレンなどのアミドスチレン類；３−アミノスチレン、４−アミノスチレン、２−イソプロペニルアニリン、ビニルベンジルジメチルアミンなどのアミノスチレン類；３−ニトロスチレン、４−ニトロスチレンなどのニトロスチレン類；３−シアノスチレン、４−シアノスチレンなどのシアノスチレン類；ビニルフェニルアセトニトリル；フェニルスチレンなどのアリールスチレン類、インデン類などが挙げられるが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。これらの単量体は、二種以上を共重合成分として用いてもよい。
【００２６】
前記アクリル系モノマーは、例えば、下記式（ｃ）で表されるモノマーから選択することができる。
【００２７】
【化２】
2013152430.tif 000004
【００２８】
式中、Ｒ105〜Ｒ108は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、酸素原子、硫黄原子、窒素原子もしくはケイ素原子を含む連結基を有していてもよい、置換もしくは非置換の炭素原子数１〜３０の炭化水素基、または極性基を表す。
【００２９】
当該アクリル酸エステル系単量体の例としては、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル（ｉ−、ｎ−）、アクリル酸ブチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−、tert−）、アクリル酸ペンチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−）、アクリル酸ヘキシル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ヘプチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸オクチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ノニル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ミリスチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸（２−エチルヘキシル）、アクリル酸（ε−カプロラクトン）、アクリル酸（２−ヒドロキシエチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（３−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（４−ヒドロキシブチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシブチル）、アクリル酸（２−メトキシエチル）、アクリル酸（２−エトキシエチル）アクリル酸フェニル、メタクリル酸フェニル、アクリル酸（２または４−クロロフェニル）、メタクリル酸（２または４−クロロフェニル）、アクリル酸（２または３または４−エトキシカルボニルフェニル）、メタクリル酸（２または３または４−エトキシカルボニルフェニル）、アクリル酸（ｏまたはｍまたはｐ−トリル）、メタクリル酸（ｏまたはｍまたはｐ−トリル）、アクリル酸ベンジル、メタクリル酸ベンジル、アクリル酸フェネチル、メタクリル酸フェネチル、アクリル酸（２−ナフチル）、アクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸（４−メチルシクロヘキシル）、メタクリル酸（４−メチルシクロヘキシル）、アクリル酸（４−エチルシクロヘキシル）、メタクリル酸（４−エチルシクロヘキシル）等、または上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルに変えたものを挙げることができるが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。これらの単量体は、２種以上を共重合成分として用いてもよい。これらのうち、工業的に入手が容易で、かつ安価な点で、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル（ｉ−、ｎ−）、アクリル酸ブチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−、tert−）、アクリル酸ペンチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−）、アクリル酸ヘキシル（ｎ−、ｉ−）、または上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルに変えたものが好ましい。
【００３０】
また、他の共重合成分としては、無水マレイン酸、無水シトラコン酸、シス−１−シクロヘキセン−１，２−無水ジカルボン酸、３−メチル−シス−１−シクロヘキセン−１，２−無水ジカルボン酸、４−メチル−シス−１−シクロヘキセン−１，２−無水ジカルボン酸等の酸無水物、アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどのニトリル基含有ラジカル重合性単量体；アクリルアミド、メタクリルアミド、トリフルオロメタンスルホニルアミノエチル（メタ）アクリレートなどのアミド結合含有ラジカル重合性単量体；酢酸ビニルなどの脂肪酸ビニル類；塩化ビニル、塩化ビニリデンなどの塩素含有ラジカル重合性単量体；１，３−ブタジエン、イソプレン、１，４−ジメチルブタジエン等の共役ジオレフィン類を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００３１】
ポリエステル樹脂：
前記光学フィルムの主成分として利用可能なポリエステル樹脂としては、例えば、特開２００８−１１２１４１号公報等に記載されている、負の固有複屈折を有する材料として知られているフマル酸エステル系樹脂が挙げられる。フマル酸エステル系樹脂としては、フマル酸エステル重合体が挙げられ、その中でも一般式（ａ）により示されるフマル酸ジエステル残基単位５０モル％以上からなるフマル酸ジエステル系樹脂が好ましい。
【００３２】
【化３】
2013152430.tif 000005
【００３３】
Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立して炭素数３〜１２の分岐状アルキル基又は環状アルキル基を示す。
【００３４】
フマル酸ジエステル残基単位のエステル置換基であるＲ1及びＲ2は、それぞれ独立して、炭素数３〜１２の分岐状アルキル基又は環状アルキル基であり、フッ素、塩素などのハロゲン基、エーテル基、エステル基若しくはアミノ基で置換されていてもよく、例えばイソプロピル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ペンチル基、ｔ−ペンチル基、ｓ−ヘキシル基、ｔ−ヘキシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。イソプロピル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が好ましく、イソプロピル基が好ましい。
【００３５】
一般式（ａ）で表されるフマル酸ジエステル残基単位の例には、フマル酸ジイソプロピル残基、フマル酸ジ−ｓ−ブチル残基、フマル酸ジ−ｔ−ブチル残基、フマル酸ジ−ｓ−ペンチル残基、フマル酸ジ−ｔ−ペンチル残基、フマル酸ジ−ｓ−ヘキシル残基、フマル酸ジ−ｔ−ヘキシル残基、フマル酸ジシクロプロピル残基、フマル酸ジシクロペンチル残基、フマル酸ジシクロヘキシル残基等が挙げられ、フマル酸ジイソプロピル残基、フマル酸ジ−ｓ−ブチル残基、フマル酸ジ−ｔ−ブチル残基、フマル酸ジシクロペンチル残基、フマル酸ジシクロヘキシル残基等が含まれ、特にフマル酸ジイソプロピル残基が好ましい。
【００３６】
Ａ層の主成分としては、一般式（ａ）により示されるフマル酸ジエステル残基単位５０モル％以上から成るフマル酸エステル系樹脂を用いるのが好まし、一般式（ａ）により示されるフマル酸ジエステル残基単位５０モル％以上、フマル酸ジエステル類と共重合可能な単量体からなる残基単位５０モル％以下からなる樹脂がより好ましい。フマル酸ジエステル類と共重合可能な単量体からなる残基単位としては、例えばスチレン残基、α−メチルスチレン残基等のスチレン類残基；アクリル酸残基；アクリル酸メチル残基、アクリル酸エチル残基、アクリル酸ブチル残基、アクリル酸３−エチル−３−オキセタニルメチル残基、アクリル酸テトラヒドロフルフリル残基等のアクリル酸エステル類残基；メタクリル酸残基；メタクリル酸メチル残基、メタクリル酸エチル残基、メタクリル酸ブチル残基、メタクリル酸３−エチル−３−オキセタニルメチル残基、メタクリル酸テトラヒドロフルフリル残基等のメタクリル酸エステル類残基；酢酸ビニル残基、プロピオン酸ビニル残基等のビニルエステル類残基；アクリロニトリル残基；メタクリロニトリル残基；エチレン残基、プロピレン残基等のオレフィン類残基；等の１種又は２種以上を挙げることができ、その中でもアクリル酸３−エチル−３−オキセタニルメチル残基、メタクリル酸３−エチル−３−オキセタニルメチル残基が好ましく、特にアクリル酸３−エチル−３−オキセタニルメチル残基が好ましい。これらの中でも、一般式（ａ）により示されるフマル酸ジエステル残基単位が７０モル％以上である樹脂が好ましく、フマル酸ジエステル残基単位が８０モル％以上である樹脂がより好ましく、さらに９０モル％以上である樹脂がさらに好ましい。勿論、一般式（ａ）により示されるフマル酸ジエステル残基単位のみからなる樹脂も好ましい。
【００３７】
Ａ層の主成分として用いるフマル酸エステル系樹脂としては、ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー（以下、ＧＰＣと記す。）により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）が１×１０4以上であることが好ましく、特に機械特性に優れ、製膜時の成形加工性に優れた光学フィルムとなることから２×１０4以上２×１０5以下であることが好ましい。
【００３８】
前記フマル酸エステル系樹脂の製造方法については特に制限はなく、種々の方法を採用できる。例えば、フマル酸ジエステル類、場合によってはフマル酸ジエステル類と共重合可能な単量体を併用しラジカル重合あるいはラジカル共重合を行うことにより製造することができる。原料として用いるフマル酸ジエステル類としては、例えばフマル酸ジイソプロピル、フマル酸ジ−ｓ−ブチル、フマル酸ジ−ｔ−ブチル、フマル酸ジ−ｓ−ペンチル、フマル酸ジ−ｔ−ペンチル、フマル酸ジ−ｓ−ヘキシル、フマル酸ジ−ｔ−ヘキシル、フマル酸ジシクロプロピル、フマル酸ジシクロペンチル、フマル酸ジシクロヘキシル等が挙げられ、フマル酸ジエステルと共重合可能な単量体としては、例えばスチレン、α−メチルスチレン等のスチレン類；アクリル酸；アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸３−エチル−３−オキセタニルメチル、アクリル酸テトラヒドロフルフリル等のアクリル酸エステル類；メタクリル酸；メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸３−エチル−３−オキセタニルメチル、メタクリル酸テトラヒドロフルフリル等のメタクリル酸エステル類；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等のビニルエステル類；アクリロニトリル；メタクリロニトリル；エチレン、プロピレン等のオレフィン類；等の１種又は２種以上を挙げることができ、その中でもアクリル酸３−エチル−３−オキセタニルメチル、メタクリル酸３−エチル−３−オキセタニルメチルが好ましく、特にアクリル酸３−エチル−３−オキセタニルメチルが好ましい。
【００３９】
また、用いるラジカル重合法としては、公知の重合方法で行うことが可能であり、例えば塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法等のいずれもが採用可能である。
【００４０】
ラジカル重合法を行う際の重合開始剤としては、例えばベンゾイルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、アセチルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ｔ−ブチルパーオキシピバレート等の有機過酸化物；２，２'−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニト
リル）、２，２'−アゾビス（２−ブチロニトリル）、２，２'−アゾビスイソブチロニトリル、ジメチル−２，２'−アゾビスイソブチレート、１，１'−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）等のアゾ系開始剤が挙げられる。
【００４１】
溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法において使用可能な溶媒として特に制限はなく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族溶媒；メタノール、エタノール、プロピルアルコール、ブチルアルコール等のアルコール系溶媒；シクロヘキサン；ジオキサン；テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）；アセトン；メチルエチルケトン；ジメチルホルムアミド；酢酸イソプロピル；水等が挙げられ、これらの混合溶媒も挙げられる。
【００４２】
また、ラジカル重合を行う際の重合温度は、重合開始剤の分解温度に応じて適宜設定することができ、一般的には４０〜１５０℃の範囲で行うことが好ましい。
【００４３】
前記光学フィルム（特にポリエステル樹脂を含有する光学フィルム）中には、１種以上の界面活性剤を添加してもよい。使用可能な添加剤の例及び添加量の好ましい範囲については、特開２００９−１６８９００号公報の［００３３］〜［００４１］等を参照することができる。
【００４４】
芳香環を含むセルロースアシレート系樹脂：
前記光学フィルムの主成分として利用可能な芳香族環を含むセルロースアシレート系樹脂は、原料のセルロース分子中のＯＨ基の少なくとも一部の水素原子が、芳香族基を有するアシル基で置換された樹脂である。原料のセルロースとしては、綿花リンタや木材パルプ（広葉樹パルプ，針葉樹パルプ）などがあり、何れの原料セルロースから得られるセルロースアシレートでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。これらの原料セルロースについての詳細な記載は、例えば、丸澤、宇田著、「プラスチック材料講座（１７）繊維素系樹脂」日刊工業新聞社（１９７０年発行）や発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号（７頁〜８頁）に記載のセルロースを用いることができる。
【００４５】
前記芳香族アシル基としては、置換もしくは無置換のフェニル基又はナフチル基を有するアシル基が好ましく、置換もしくは無置換のフェニル基を有するアシル基が好ましい。置換基の例には、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、及びハロゲン原子が挙げられる。前記芳香族アシル基の炭素原子数７〜１４であるのが好ましく、炭素原子数７〜８であることがより好ましく、特に好ましく炭素原子数７である。好ましい芳香族アシル基の例としては、ベンゾイル基、４−クロロベンゾイル基、４−メチルベンゾイル基、４−メトキシベンゾイル基、２−メチルベンゾイル基、２−メトキシベンゾイル基、３−メチルベンゾイル基、３−メトキシベンゾイル基などを挙げることができる。
【００４６】
前記セルロースアシレート系樹脂は、芳香族アシル基とともに脂肪族アシル基を有しているのが好ましく、炭素原子数２〜７の脂肪族アシル基であるのが好ましく、炭素原子数２〜６であることが好ましく、炭素原子数２〜５であることがさらに好ましく、炭素原子数２〜４であることがよりさらに好ましく、炭素原子数２であるアセチル基が特に好ましい。これらの脂肪族アシル基の例としては、アルキルカルボニル基、アルケニルカルボニル基、あるいはアルキニルカルボニル基などを挙げることができる。好ましい脂肪族アシル基の例としては、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基、ヘプタノイル基、ヘキサノイル基、イソブチリル基、ピバロイル基、シクロヘキサンカルボニル基などを挙げることができ、アセチル基が特に好ましい。
【００４７】
前記セルロースアシレート系樹脂の芳香族アシル基による置換度Ａは、０．８〜２．０であるのが好ましく、１．０〜１．８であるのがより好ましい。一方、前記セルロースアシレート系樹脂の脂肪族アシル基による置換度Ｂは、０．７〜１．９であるのが好ましく、０．９〜１．７であるのがより好ましい。総置換度Ａ＋Ｂは、１．５〜３．０であるのが好ましく、１．７〜２．８であるのがより好ましい。置換度が前記範囲であると、良好な溶液製膜性と、高いＲｔｈ発現性の双方が得られる。
【００４８】
＜固有複屈折が負の他の高分子材料＞
上記樹脂の他、Ａ層の主成分として利用可能な固有複屈折が負の高分子材料の例には、ポリカーボネート類及びアクリル樹脂が挙げられる。これらの樹脂は、Ｒｔｈ発現性の点では、上記樹脂と比較して劣るが、低Ｒｔｈが求められる用途では好ましい。以下、使用可能なアクリル樹脂の具体例について説明する。
アクリル樹脂：
Ａ層の主成分として利用可能なアクリル樹脂としては、数平均分子量が、１０００以上２００００００未満であるのが好ましく、５０００〜１００００００であるのがより好ましく、８０００〜５０００００であるのがさらに好ましい。
【００４９】
前記アクリル樹脂の例には、下記一般式（２）で表される、アクリル酸エステル系単量体から得られる構造単位を含むポリマーが含まれる。
【００５０】
【化４】
2013152430.tif 000006
【００５１】
式中、Ｒ105〜Ｒ108は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、酸素原子、硫黄原子、窒素原子もしくはケイ素原子を含む連結基を有していてもよい、置換もしくは非置換の炭素原子数１〜３０の炭化水素基、又は極性基を表す。
【００５２】
当該アクリル酸エステル系単量体の例としては、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル（ｉ−、ｎ−）、アクリル酸ブチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−、tert−）、アクリル酸ペンチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−）、アクリル酸ヘキシル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ヘプチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸オクチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ノニル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ミリスチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸（２−エチルヘキシル）、アクリル酸（ε−カプロラクトン）、アクリル酸（２−ヒドロキシエチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（３−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（４−ヒドロキシブチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシブチル）、アクリル酸（２−メトキシエチル）、アクリル酸（２−エトキシエチル）アクリル酸フェニル、メタクリル酸フェニル、アクリル酸（２または４−クロロフェニル）、メタクリル酸（２または４−クロロフェニル）、アクリル酸（２または３または４−エトキシカルボニルフェニル）、メタクリル酸（２または３または４−エトキシカルボニルフェニル）、アクリル酸（ｏまたはｍまたはｐ−トリル）、メタクリル酸（ｏまたはｍまたはｐ−トリル）、アクリル酸ベンジル、メタクリル酸ベンジル、アクリル酸フェネチル、メタクリル酸フェネチル、アクリル酸（２−ナフチル）、アクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸（４−メチルシクロヘキシル）、メタクリル酸（４−メチルシクロヘキシル）、アクリル酸（４−エチルシクロヘキシル）、メタクリル酸（４−エチルシクロヘキシル）等、または上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルに変えたものを挙げることができるが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。これらの単量体は、２種以上を共重合成分として用いてもよい。これらのうち、工業的に入手が容易で、かつ安価な点で、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル（ｉ−、ｎ−）、アクリル酸ブチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−、tert−）、アクリル酸ペンチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−）、アクリル酸ヘキシル（ｎ−、ｉ−）、または上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルに変えたものが好ましい。
【００５３】
市販品を利用してもよく、例えば、「ダイヤナールＢＲ８８」（三菱レイヨン社製）等を用いることができる。
【００５４】
（Ｂ層）
本発明の光学フィルムは、総膜厚が上記範囲の薄層のフィルムであるので、Ｂ層の厚みも薄いほどよく、例えば、Ｂ層の厚みは０．５〜２０μｍであるのが好ましく、０．７〜１０μｍであるのが好ましく、１．０〜５．０μｍであるのがより好ましい。上記範囲厚みの薄層は、例えば、塗布によって形成可能である。一方、前記範囲の厚みの位相差層により、Ｂ層に求められる上記光学特性を満足するためには、Ｒｔｈ発現性が高い材料を用いるのが好ましい。従って、Ｂ層の主成分としては、塗布により層形成が可能であり、且つ正のＲｔｈ発現性が高い材料が好ましい。塗布により、正にある程度大きなＲｔｈを示す位相差層を形成可能な材料の例には、液晶化合物及び高分子材料が含まれる。液晶化合物としては、ディスコティック液晶化合物が好ましい。また高分子材料としては、ポリイミド樹脂が好ましい。以下、Ｂ層の主成分として利用可能な材料について詳細に説明する。
【００５５】
＜ディスコティック液晶化合物＞
Ｂ層の形成に利用可能なディスコティック液晶化合物の例には、様々な文献（Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅ  ｅｔ  ａｌ．，Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｒ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．，ｖｏｌ．７１，ｐａｇｅ  １１１（１９８１）；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節（１９９４）；Ｂ．Ｋｏｈｎｅ  ｅｔ  ａｌ．，Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．，ｐａｇｅ  １７９４（１９８５）；Ｊ．Ｚｈａｎｇ  ｅｔ  ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ｖｏｌ．１１６，ｐａｇｅ  ２６５５（１９９４））に記載されている化合物が含まれる。
【００５６】
ディスコティック液晶性化合物は、重合により固定可能なように、重合性基を有するのが好ましい。例えば、ディスコティック液晶性化合物の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させた構造が考えられるが、但し、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に連結基を有する構造が好ましい。即ち、重合性基を有するディスコティック液晶性化合物は、下記式で表される化合物であることが好ましい。
Ｄ（−Ｌ−Ｐ）n
式中、Ｄは円盤状コアであり、Ｌは二価の連結基であり、Ｐは重合性基であり、ｎは１〜１２の整数である。前記式中の円盤状コア（Ｄ）、二価の連結基（Ｌ）及び重合性基（Ｐ）の好ましい具体例は、それぞれ、特開２００１−４８３７号公報に記載の（Ｄ１）〜（Ｄ１５）、（Ｌ１）〜（Ｌ２５）、（Ｐ１）〜（Ｐ１８）であり、同公報に記載の内容を好ましく用いることができる。なお、液晶性化合物のディスコティックネマティック液晶相−固相転移温度は、３０〜３００℃が好ましく、３０〜１７０℃が更に好ましい。
【００５７】
下記式（Ｉ）で表わされるディスコティック液晶性化合物は、これを含有する塗布液の粘度が比較的低くなる傾向があり、塗布性が良好である点等で好ましい。また光学特性発現性の点でも好ましい。
【００５８】
【化５】
2013152430.tif 000007
【００５９】
式中、Ｙ11、Ｙ12及びＹ13は、それぞれ独立に置換されていてもよいメチン又は窒素原子を表し；Ｌ1、Ｌ2及びＬ3は、それぞれ独立に単結合又は二価の連結基を表し；Ｈ1、Ｈ2及びＨ3は、それぞれ独立に一般式（Ｉ−Ａ）又は（Ｉ−Ｂ）の基を表し；Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、それぞれ独立に下記一般式（Ｉ−Ｒ）を表す；
【化６】
2013152430.tif 000008
【００６０】
一般式（Ｉ−Ａ）中、ＹＡ1及びＹＡ2は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表し；ＸＡは、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し；＊は上記一般式（Ｉ）におけるＬ1〜Ｌ3側と結合する位置を表し；＊＊は上記一般式（Ｉ）におけるＲ1〜Ｒ3側と結合する位置を表す；
【００６１】
【化７】
2013152430.tif 000009
【００６２】
一般式（Ｉ−Ｂ）中、ＹＢ1及びＹＢ2は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表し；ＸＢは、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し；＊は上記一般式（Ｉ）におけるＬ1〜Ｌ3側と結合する位置を表し；＊＊は上記一般式（Ｉ）におけるＲ1〜Ｒ3側と結合する位置を表す；
【００６３】
一般式（Ｉ−Ｒ）
＊−（−Ｌ21−Ｑ2）n1−Ｌ22−Ｌ23−Ｑ1
一般式（Ｉ−Ｒ）中、＊は、一般式（Ｉ）におけるＨ1〜Ｈ3側と結合する位置を表す；Ｌ21は単結合又は二価の連結基を表す；Ｑ2は少なくとも１種類の環状構造を有する二価
の基（環状基）を表す；ｎ１は、０〜４の整数を表す；Ｌ22は、＊＊−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−、＊＊−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−Ｓ−、＊＊−ＮＨ−、＊＊−ＳＯ2−、＊＊−ＣＨ2−、＊＊−ＣＨ＝ＣＨ−又は＊＊−Ｃ≡Ｃ−を表す；Ｌ23は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−並びにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表す；Ｑ1は
重合性基又は水素原子を表す。
【００６４】
前記式（Ｉ）で表される３置換ベンゼン系ディスコティック液晶化合物の各符号の好ましい範囲、及び前記式（Ｉ）の化合物の具体例については、特開２０１０−２４４０３８号公報の段落［００１３］〜［００７７］記載を参照することができる。但し、本発明に使用可能なディスコティック液晶化合物は、前記式（Ｉ）の３置換ベンゼン系ディスコティック液晶化合物に限定されるものではない。
【００６５】
トリフェニレン化合物としては、特開２００７−１０８７３２号公報の段落［００６２］〜［００６７］記載の化合物等が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００６６】
前記光学特性を満足するＢ層は、ディスコティック液晶を水平配向状態に固定することで形成することができる。ここで、「水平配向」とは、ディスコティック液晶が、その円盤面を層面に対して平行にして配向状態をいう。この配向状態を達成するために、１種以上の添加剤（水平配向促進剤）を添加してもよく、液晶性化合物の水平配向促進剤については、特開平１１−３５２３２８号、特開２０００−１０５３１５号および同２００２−２０３６３号の各公報に記載がある。本発明においてＢ層の形成に使用する水平配向促進剤としては、１，３，５−トリアジン環を有する化合物が好ましい。１，３，５−トリアジン環を有する化合物は、下記式（II）で表されることが好ましい。下記式（II）で表される化合物の詳細については、特開２００４−１７７８１３号公報の［００３５］〜［０１０６］に記載があり、参照することができる。
【００６７】
【化８】
2013152430.tif 000010
【００６８】
また、本発明においてＢ層の形成に利用可能な水平配向促進剤の例には、下記２式それぞれで表される化合物等の空気界面水平配向促進剤も含まれる。下記２式それぞれで表される化合物の詳細については、特開２００２−６２４２５号公報の［００２３］〜［００４２］に記載があり、参照することができる。また安定的に水平配向状態を形成するために、配向膜を利用してもよい。
【００６９】
【化９】
2013152430.tif 000011
【００７０】
Ｂ層の形成に利用される液晶組成物は硬化性であるのが好ましく、重合反応もしくは架橋反応により硬化可能な組成物であるのが好ましい。該組成物には、重合開始剤や重合性モノマーを別途添加してもよい。また塗布性の良化のために、界面活性剤等を添加してもよい。
【００７１】
Ｂ層の一例は、塗布液として調製したディスコティック液晶を少なくとも含む硬化性組成物を、Ａ層等の表面に塗布し、所望により温度変化を与えてディスコティック液晶化合物の分子を水平配向させ、その状態を硬化反応の進行により固定することで形成できる。この例では、層の厚みが０．５〜１０μｍ程度であると、Ｂ層に要求される光学特性を満足する。
【００７２】
＜ポリイミド樹脂＞
Ｂ層の形成に利用可能なポリイミド樹脂は、重量平均分子量（Mw）が１，０００〜１，０００，０００の範囲であることが好ましく、より好ましくは、２，０００〜５００，０００の範囲である。前記重量平均分子量は、例えば標準試料としてポリエチレンオキシド、溶媒としてDMFを使用して、ゲル・パーミエーションクロマトグラフ（ＧＰＣ）で測定
できる。
前記ポリイミドとしては、例えば面内配向性が高く、有機溶剤に可溶なポリイミドが好ましい。具体的には、特表２０００−５１１２９６号公報に開示された、９，９−ビス（アミノアリール）フルオレンと芳香族テトラカルボン酸二水物との縮重合生成物を含み、下記式（１）に示す繰り返し単位を１つ以上含むポリマーが使用できる。
【００７３】
【化１０】
2013152430.tif 000012
【００７４】
上記ポリマーの他にも、例えば、特表平８−５１１８１２号公報に記載された、繰り返し単位が下記一般式（３）で表されるホモポリマーや、繰り返し単位が下記一般式（５）で示されるポリイミド等があげられる。なお、下記式（５）のポリイミドは、下記式（３）のホモポリマーの好ましい形態である。
【００７５】
【化１１】
2013152430.tif 000013
【００７６】
さらに、前記ポリイミドとしては、例えば、前述のような骨格（繰り返し単位）以外の酸二無水物やジアミンを、適宜共重合させたコポリマーがあげられる。前記酸二無水物としては、例えば、芳香族テトラカルボン酸二無水物があげられる。前記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、ピロメリト酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、複素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物、２，２’−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等があげられる。前記ジアミンとしては、例えば、芳香族ジアミンがあげられ、具体例としては、ベンゼンジアミン、ジアミノベンゾフェノン、ナフタレンジアミン、複素環式芳香族ジアミン、およびその他の芳香族ジアミンがあげられる。
【００７７】
Ｂ層の一例は、ポリイミド樹脂を溶媒に溶解して調製した塗布液を、Ａ層等の表面に塗布し、所望により加熱して乾燥して、形成することができる。この例では、層の厚みが１．０〜５．０μｍ程度であると、Ｂ層に要求される光学特性を満足する。
【００７８】
＜Ｂ層のその他の主成分高分子材料＞
Ｂ層の主成分として利用される材料は上記例に限定されるものではなく、光学的一軸性すなわち、厚み方向にのみ位相差を示す高分子材料等から種々選択することができる。その例には、ポリカーボネート等が含まれる。
【００７９】
Ｂ層が、上記した通り、塗布により形成される位相差層である態様では、Ａ層は、Ｂ層の支持体フィルムとして機能するのが好ましく、Ａ層の表面にＢ層形成用塗布液を塗布・乾燥することで、Ｂ層を形成するのが好ましい。また、Ｂ層は、自己支持性のある位相差フィルムであってもよく、該位相差フィルムは、粘着剤や接着剤を利用して、Ａ層表面に貼合してもよい。
【００８０】
［積層フィルム］
本発明は、本発明の光学フィルムと、該光学フィルムのＡ層の表面上に、ラミネート層Ｃ（Ｃ層）を有する積層フィルムにも関する。上記した通り、Ａ層は薄層であるのが好ましいが、一方で、フィルムの厚みが薄いほど、製膜時のハンドリング性は悪くなる傾向がある。また、Ｂ層を塗布により形成する態様では、Ａ層が薄層（例えば、５〜３０μｍ）であると、Ｂ層の支持体フィルムとしての強度が不足し、安定な塗布の実施ができない場合がある。Ｃ層を有する積層フィルムの態様にすることで、Ａ層が薄層であることによる製膜時のハンドリング性の悪化、及びＢ層形成時の支持体としての強度の不足を解決することができる。
【００８１】
前記積層フィルムでは、Ｃ層は、最終的には、前記光学フィルムから剥離されてもよい。この態様では、前記光学フィルムのＡ層とＣ層との層間剥離力は、０．０５〜５Ｎ／ｃｍであるのが好ましい。層間剥離力が前記範囲であることにより、製膜時においては剥離が生じない程度の良好な接着性を維持し、且つ使用時には、前記光学フィルムを、Ｃ層から容易に剥離し、使用可能な程度の良好な剥離性を示す。これにより、溶液製膜時において良好なハンドリング性を維持でき、且つ使用時には前記光学フィルムをＣ層から切り離し、光学フィルムとして種々の用途に用いることが可能になる。Ａ層とＣ層との層間剥離力は、好ましくは０．１〜４Ｎ／ｃｍであり、より好ましくは０．２〜３Ｎ／ｃｍである。
【００８２】
Ａ層とＣ層との層間剥離力は、Ａ層及びＣ層それぞれに主成分として用いられる高分子材料の親和性に影響される。互いに親和性の高い主成分をそれぞれ用いた層間の密着性は高くなり、即ち層間剥離力は大きくなり、一方、互いに親和性の低い主成分をそれぞれ用いた層間の密着性は低くなり、即ち層間剥離力は小さくなる。Ａ層の主成分として、前述の所定の固有複屈折が負の高分子材料を使用する場合は、Ｃ層の主成分として、セルロースエステル等の親水性がある程度高い材料を使用すると、層間剥離力を前記範囲に調整することができる。また、層間剥離力は、主成分のみならず、それぞれの層に添加する添加剤の種類や添加量を調整することによっても、前記範囲内にすることができる。さらに、層間剥離力は、溶液製膜時にそれぞれの層形成用ドープの溶媒種又は溶剤組成によっても、調整することができる。
【００８３】
Ｃ層は、Ａ層と比較して弾性率が高い層であるのが、Ａ層が上記範囲の膜厚の薄層である態様では、溶液流延法におけるハンドリング性低下を改善できるので好ましい。Ｃ層とＡ層との弾性率Ｅ'（ＧＰａ）の差が、ΔＥ'が、０．２ＧＰａ以上であれば、上記効果を得ることができ、０．４ＧＰａ以上であるのがより好ましい。例えば、セルロースアセテートの弾性率は、３．０ＧＰａ程度以上であり、アセチル置換度が高くなるほど、それを主成分として含むフィルムの弾性率も高くなる傾向がある。Ａ層の主成分として例示したスチレン系樹脂等を主成分として含むフィルムの弾性率は２．０ＧＰａ程度である。アセチル置換度が２．６以上のセルロースアセテートを利用すれば、上記樹脂を主成分として含有するＡ層の弾性率よりも高い弾性率のＣ層を形成することができる。
【００８４】
また、ハンドリング性改善の観点では、Ｃ層の膜厚ｄ（μｍ）及び弾性率Ｅ'（ＧＰａ
）が、下記式を満たすのが好ましく、
３０≦Ｅ'×ｄ≦３００
下記式を満足するのがより好ましい。
４０≦Ｅ'×ｄ≦２５０
【００８５】
また、Ｃ層の厚みについては特に制限はない。積層フィルムとしてのハンドリング性を改善するためには、１０μｍ以上であるのが好ましく、２０μｍ以上であるのがより好ましい。一方で、ラミネート層として、素材を廃却する観点では、薄いほうが好ましく、例えば、４０μｍ以下であるのが好ましく、３５μｍ以下であるのがより好ましい。
【００８６】
（積層フィルムの厚み）
前記光学フィルムとＣ層とを含む前記積層フィルムの合計膜厚についても特に制限はない。ハンドリング性の改善の観点では、２０μｍ以上２００μｍ以下であることが好ましく、２０μｍ以上１８０μｍ以下の厚みであることがより好ましく、３０μｍ以上１５０μｍ以下であることが特に好ましく、最も好ましくは４０μｍ以上１００μｍ以下である。
【００８７】
（積層態様）
本発明の積層フィルムの一例は、図１に断面模式図として示す通り、Ａ層を中心として、その上下にＢ層及びＣ層を有する３層構造の積層フィルムである。Ｃ層は、ハンドリング性の改善に寄与する層であってもよいし、Ａ層の保護層（例えば、Ａ層の表面にごみやほこりが付着するのを防止するための保護層や、傷などがつくのを防止するための保護層等）であってもよく、又はその双方の機能を有する層であってもよい。Ｃ層は、上記した通り、実際に使用する際は、光学フィルムから剥離してもよい。また、用途によっては、前記光学フィルムとともに、用途に供してもよい。Ｃ層は、共流延により、Ａ層とともに同時に形成されてもよいし、Ａ層を製造した後、別途、Ｃ層となるフィルム等を貼合して形成してもよい。
【００８８】
上記した通り、前記積層フィルムからＣ層を剥離して、前記光学フィルムの形態で使用することができる。Ｃ層を剥離して露出したＡ層の表面には、図３に一例の断面模式図を示す通り、塗布等により粘着剤層を形成してもよい。該粘着剤層は、Ａ層と他の部材（例えば偏光子、位相差フィルム、又は液晶セル）とを貼合するのに利用される。使用前の保管時もしくは搬送時等には、前記粘着剤層の表面に、剥離フィルムを積層して、粘着面を保護してもよい。
【００８９】
（フィルム幅）
本発明の積層フィルムの幅は４００〜２５００ｍｍであることが好ましく、１０００ｍｍ以上であることがより好ましく、１５００ｍｍ以上であることが特に好ましく、１８００ｍｍ以上であることがより特に好ましい。
【００９０】
（フィルム長さ）
また、本発明の積層フィルムは、連続的に製造された長尺状の形態もしくはそれがロール状に巻き取られたロール状の形態であってもよいし、また実際に使用されるのに適する形状、例えば矩形状等に裁断等された形態であってもよい。
【００９１】
次に、本発明の積層フィルムのＣ層の形成に利用可能な材料及び方法について、詳細に説明する。
（Ｃ層）
Ｃ層の形成に利用する材料については特に制限はなく、用途に応じて、種々の高分子材料から選択することができる。熱可塑性樹脂から選択されるのが好ましい。溶液製膜法により形成可能な材料であれば、いずれも用いることができる。セルロースエステルは、溶液製膜可能な高分子材料であり、Ｃ層の主成分として好ましい。また、Ａ層との関係で層間剥離力が上記範囲であり且つ弾性率が高いＣ層を形成可能であるので、光学フィルム転写用の転写材としての用途や、Ａ層が薄層の態様では好ましい。
以下、Ｃ層の主成分としてセルロースエステルを用いる態様について詳細に説明するが、Ｃ層の主成分をセルロースエステルに限定する主旨ではなく、光学部材としてはＣ層を用いない場合は、フィルムの製造工程や偏光板等の光学部材への取り付け工程時などで適度な密着力を発現して各工程におけるハンドリング性向上に寄与し、その後の工程ではＡ層から容易に剥離可能となる材料や処方も選択できる。
【００９２】
＜セルロースエステル＞
Ｃ層の形成に利用可能なセルロースエステルは、原料のセルロース分子中のＯＨ基の少なくとも一部をエステル基で置換した材料である。原料のセルロースとしては、綿花リンタや木材パルプ（広葉樹パルプ，針葉樹パルプ）などがあり、何れの原料セルロースから得られるセルロースアシレートでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。これらの原料セルロースについての詳細な記載は、例えば、丸澤、宇田著、「プラスチック材料講座（１７）繊維素系樹脂」日刊工業新聞社（１９７０年発行）や発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号（７頁〜８頁）に記載のセルロースを用いることができる。
【００９３】
前記セルロースエステルは、脂肪族エステルであるのが好ましく、即ち脂肪族アシル基を有しているのが好ましい。脂肪族アシル基の例には、アセチル基、プロピニル基、及びブチニル基が含まれる。使用可能なセルロースエステルの例には、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートベンゾエート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート等が挙げられる。より好ましくは、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネートであり、更に好ましくはセルロースアセテートである。アセチル基の置換度が２．６〜２．９５（より好ましくは２．７〜２．９１）のセルロースアセテートを利用すると、前記アクリル樹脂、スチレン系樹脂又はポリエステル系樹脂を主成分として含有するＡ層との関係で、層間剥離力が前記範囲であり、且つ弾性力が高いＢ層を、溶液製膜法で形成可能であるので好ましい。
【００９４】
なお、アセチル基の置換度や他のアシル基の置換度は、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に規定の方法により求めることができる。
【００９５】
本発明に用いられるセルロースエステルの重量平均分子量（Ｍｗ）は、溶液製膜性等の観点から、好ましくは７５０００以上であり、７５０００〜３０００００の範囲であることがより好ましく、１０００００〜２４００００の範囲内であることが更に好ましく、１６００００〜２４００００のものが特に好ましい。
【００９６】
前記Ｃ層は、上記主成分以外に、機械特性や光学物性などの諸物性値の制御や耐久性向上を目的として、可塑剤、無機微粒子（マット剤と称することがある）、紫外線吸収剤等の１種以上の添加剤を含有していてもよい。後述のＣ層も、同様に１種以上の添加剤を含有していてもよい。
【００９７】
なお、Ｃ層は、共流延により、Ａ層とともに同時に形成されてもよいし、Ａ層や光学フィルムを製造した後、別途、Ｃ層となるフィルム等を貼合して形成してもよい。貼合可能なフィルムとしては、セルロースエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリイミドフィルム、高分子液晶フィルム、環状オレフィンフィルム等種々の汎用フィルムを利用することができる。
【００９８】
（粘着剤層）
前記積層フィルムからＣ層を剥離することによって得られる前記光学フィルムの表面に、粘着剤層を形成してもよい。粘着剤層は、例えば、前記光学フィルムを他の部材（例えば、偏光子、他の位相差フィルム、偏光板保護フィルム、又は液晶セル等）に貼合するために利用される。粘着剤層は、例えば、Ａ層の表面であって、Ｃ層を剥離することによって露出するＡ層の表面に形成することができる。また、使用前の保管時もしくは搬送時等には、前記粘着剤層の表面に、剥離フィルムを積層して、粘着面を保護してもよい。
【００９９】
前記粘着剤層の形成に利用可能材料については特に制限はない。具体的には、特開２０１１−３７１４０号等に記載の粘着剤を利用することができる。なお、Ａ層がセルロースアシレート系樹脂を主成分とする場合はＡ層に性能に影響を及ぼさない範囲であれば、従前方法によるＰＶＡのりを用いて貼付けることができる。
【０１００】
［積層フィルムの製造方法］
本発明は、前記積層フィルムの製造方法にも関する。前記積層フィルムの製造方法の一例は、
Ａ層とＣ層との積層体を溶液共流延法で製造すること、及び
該積層体のＡ層表面に、塗布によりＢ層を形成すること
を含む積層フィルムの製造方法である。
【０１０１】
Ａ層とともにＣ層を溶液共流延により製膜することで、Ａ層の薄層化に伴う製膜中のハンドリング性の悪化を軽減することができる。また、Ａ層の薄層化に伴う、塗布により形成されるＢ層の支持体としての強度の不足を補うことができる。
【０１０２】
前記製造方法に利用される溶液共流延については、特に制限はなく、従来溶液共流延に利用されている種々の装置、条件等を採用して実施することができる。
【０１０３】
＜ドープの調製＞
溶液共流延法では、各層形成用の溶液（ドープ）を調製する。ドープは、各層の形成材料を有機溶媒に溶解して調製することができる。Ａ層及びＣ層の形成材料の例については、前記の通りである。該溶液（ドープ）の調製について、その溶解方法は、室温溶解法、冷却溶解法又は高温溶解方法により実施され、更にはこれらの組合せで実施される。これらに関しては、例えば特開平５−１６３３０１号、特開昭６１−１０６６２８号、特開昭５８−１２７７３７号、特開平９−９５５４４号、特開平１０−９５８５４号、特開平１０−４５９５０号、特開２０００−５３７８４号、特開平１１−３２２９４６号、特開平１１−３２２９４７号、特開平２−２７６８３０号、特開２０００−２７３２３９号、特開平１１−７１４６３号、特開平０４−２５９５１１号、特開２０００−２７３１８４号、特開平１１−３２３０１７号、特開平１１−３０２３８８号などの各公報に記載のセルロースアシレート溶液の調製法を参照することができる。これらの詳細、特に非塩素系溶媒系については、前記の公技番号２００１−１７４５号の２２〜２５頁に詳細に記載されている方法で実施される。更に、ドープ溶液は、溶液濃縮、濾過が通常実施され、同様に前記の公技番号２００１−１７４５号の２５頁に詳細に記載されている。なお、高温度で溶解する場合は、使用する有機溶媒の沸点以上の場合がほとんどであり、その場合は加圧状態で用いられる。
【０１０４】
（有機溶媒）
各層の形成に利用されるドープの調製に用いられる有機溶媒については特に制限はない。低級脂肪族炭化水素の塩化物、低級脂肪族アルコール、炭素原子数３から１２までのケトン、炭素原子数３〜１２のエステル、炭素原子数３〜１２のエーテル、炭素原子数５〜８の脂肪族炭化水素類、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素類、フルオロアルコール類（例えば、特開平８−１４３７０９号公報  段落番号［００２０］、同１１−６０８０７号公報  段落番号［００３７］等に記載の化合物）等、種々の有機溶媒から、フィルム形成材料の溶解性等に応じて適するものを選択することができる。
【０１０５】
前記溶剤は、単独でも併用でもよいが、良溶剤と貧溶剤を混合して使用することが面状安定性を付与するために好ましく、更に好ましくは、良溶剤と貧溶剤の混合比率は良溶剤が６０〜９９質量％であり、貧溶剤が４０〜１質量％である。本発明において、良溶剤とは使用する樹脂を単独で溶解するもの、貧溶剤とは使用する樹脂を単独で膨潤するか又は溶解しないものをいう。良溶剤としては、メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物やジオキソラン類が挙げられる。また、貧溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−ブタノール、シクロヘキサン等が好ましく用いられる。
【０１０６】
前記有機溶媒のうちアルコールの割合が有機溶剤全体の１０〜５０質量％であることが製膜後の支持体（流延基材）上での乾燥時間を短縮し、早く剥ぎ取って乾燥することができるという理由から好ましく、１５〜３０質量％であることがより好ましい。
【０１０７】
（ドープの固形分濃度）
各層を形成する材料は、有機溶媒に１０〜６０質量％の固形分濃度（乾燥後固体となる成分の和）で溶解していることが好ましく、更に好ましくは１０〜５０質量％である。セルロースエステルを主成分とする場合には、１０〜３０質量％溶解していることが好ましく、１５〜２５質量％であることが好ましく、１８〜２０質量％であることが最も好ましい。但し、用途によっては、有機溶剤の含有量を少なくでき、乾燥時間の短縮ができるという理由などからドープの固形分濃度が２０質量％を超え２２質量％以下であっても好ましい場合がある。これらの固形分濃度に調製する方法は、溶解する段階で所定の固形分濃度になるように調製してもよく、また予め低濃度溶液（例えば９〜１４質量％）として作製した後に濃縮工程で所定の高濃度溶液に調整してもよい。更に、予め高濃度の光透過性基材を形成する材料の溶液として後に、種々の添加物を添加することで所定の低濃度の溶液としてもよい。
支持体離型性、界面密着性、低カールを達成する観点から、ドープ中の主成分高分子材料の組成は、例えばセルロースエステルを含有するドープでは、セルロースエステルの占める割合は、５０〜１００質量％が好ましく、更に好ましくは７０〜１００質量％、最も好ましくは８０〜１００質量％である。また、アクリル系樹脂等を含有するドープでは、アクリル系樹脂の占める割合は、３０〜１００質量％が好ましく、更に好ましくは５０〜１００質量％、最も好ましくは７０〜１００質量％である。
一方、共流延製膜にて良好な面状のフィルムを得るためには、各層形成用ドープの固形分濃度の差が１０質量％以内であることが好ましく、５質量％以内であることがより好ましい。
特に、Ｂ層形成用ドープにおいて、固形分濃度が１６〜３０質量％であり、かつ各層形成用ドープの固形分濃度の差が１０質量％以内であることが好ましい。
【０１０８】
（流延）
前記方法は、Ａ層用ドープ（以下、ドープＡという場合がある）、及びＣ層用ドープ（以下、ドープＣという場合がある）を共流延法により流延支持体上に積層流延する工程を含んでいてもよい。支持体側がドープＡであっても、ドープＣであってもよい。
【０１０９】
支持体上に流延された各ドープは、支持体上で乾燥され、溶媒が蒸発することにより製膜される。ここで、前記支持体は、特に制限はないが、ドラム又はバンドであることが好ましい。支持体の表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ソルベントキャスト法における流延及び乾燥方法については、米国特許２３３６３１０号、同２３６７６０３号、同２４９２０７８号、同２４９２９７７号、同２４９２９７８号、同２６０７７０４号、同２７３９０６９号、同２７３９０７０号、英国特許６４０７３１号、同７３６８９２号の各明細書、特公昭４５−４５５４号、同４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４号、同６０−２０３４３０号、同６２−１１５０３５号の各公報に記載がある。
【０１１０】
本発明では、流延支持体上に前記２種以上のドープを流延して製膜する。本発明のフィルムの製造方法としては、上記以外に特に制限はなく公知の共流延方法を用いることができる。例えば、金属支持体の進行方向に間隔を置いて設けた複数の流延口からドープ溶液をそれぞれ流延させて積層させながらフィルムを作製してもよく、例えば特開昭６１−１５８４１４号、特開平１−１２２４１９号、特開平１１−１９８２８５号の各公報などに記載の方法が適応できる。また、２つの流延口からドープ溶液を流延することによってもフィルム化することでもよく、例えば特公昭６０−２７５６２号、特開昭６１−９４７２４号、特開昭６１−９４７２４５号、特開昭６１−１０４８１３号、特開昭６１−１５８４１３号、特開平６−１３４９３３号の各公報に記載の方法で実施できる。
【０１１１】
＜乾燥工程＞
流延されたドープは、ドラムやバンド上で乾燥される。ドラムやベルトが１周する直前の剥離位置で剥離されたウェブは、千鳥状に配置されたロ−ル群に交互に通して搬送する方法や剥離されたウェブの両端をクリップ等で把持させて非接触的に搬送する方法などにより搬送される。乾燥は、搬送中のウェブ（フィルム）両面に所定の温度の風を当てる方法やマイクロウエ−ブなどの加熱手段などを用いる方法によって行われる。急速な乾燥は、形成されるフィルムの平面性を損なう恐れがあるので、乾燥の初期段階では、溶媒が発泡しない程度の温度で乾燥し、乾燥が進んでから高温で乾燥を行うのが好ましい。支持体から剥離した後の乾燥工程では、溶媒の蒸発によってフィルムは長手方向あるいは幅方向に収縮しようとする。収縮は、高温度で乾燥するほど大きくなる。この収縮を可能な限り抑制しながら乾燥することが、でき上がったフィルムの平面性を良好にする上で好ましい。この点から、例えば、特開昭６２−４６６２５号公報に示されているように、乾燥の全工程あるいは一部の工程を幅方向にクリップあるいはピンでウェブの幅両端を幅保持しつつ行う方法（テンタ−方式）が好ましい。上記乾燥工程における乾燥温度は、１００〜１４５℃であることが好ましい。使用する溶媒によって乾燥温度、乾燥風量及び乾燥時間が異なるが、使用溶媒の種類、組合せに応じて適宜選べばよい。
多層流延したドープを支持体上で乾燥させてから、支持体から剥離することが好ましい。
【０１１２】
＜後処理工程＞
支持体上で製膜した後、単層もしくは積層フィルムを支持体から剥離する。剥離した積層フィルムに対して、さらに延伸処理、収縮処理、加熱処理、加熱水蒸気処理（水蒸気を吹き付ける処理）、表面処理等を行ってもよい。延伸処理や収縮処理は、Ａ層の光学特性を所望の範囲に調整するために実施される処理であってもよい。また、表面処理（酸処理、アルカリ処理、プラズマ処理、コロナ処理等）は、Ａ層と他の層との接着性を良化することを目的として実施される処理であってもよい。
【０１１３】
［光学フィルムの製造方法］
また、本発明は、本発明の積層フィルムを利用した、本発明の光学フィルムの製造方法にも関する。具体的には、本発明の光学フィルムの製造方法の一例は、
本発明の積層フィルムを準備すること、及び
該積層フィルムからＣ層を剥離すること
を含む光学フィルムの製造方法である。
【０１１４】
Ｃ層を剥離することによって露出されたＡ層の表面に、粘着剤層を形成することが好ましい。粘着剤層の形成に利用可能な例については、上記と同様である。Ａ層の表面に形成された粘着剤層を利用して、他の膜（例えば、偏光膜又は位相差膜）や液晶セル等と貼合することができる。
【０１１５】
剥離したＣ層は、そのまま廃棄してもよいし、または他の用途に利用してもよい。一例は、剥離したＣ層を、切断、粉砕等して、Ｂ層の主成分高分子材料を回収し、本発明の積層フィルムのＣ層形成用ドープの調製に再利用し、Ａ層形成用ドープとともに、溶液共流延して、本発明の積層フィルムを製造する態様である。Ｃ層用高分子材料を回収・再利用することで、製造コストの軽減、及び廃棄物の軽減を達成することができる。
【０１１６】
［偏光板］
本発明は、本発明の光学フィルム（本発明の積層フィルムから転写された本発明の光学フィルムも含む）と、偏光膜とを少なくとも有する偏光板にも関する。前記光学フィルムは、偏光膜とその少なくとも一方の側に配置された保護フィルムとを有する偏光板において、その保護フィルムとして使用することができる。また、前記光学フィルムと偏光膜との間に、他のフィルム（保護フィルム、位相差フィルム等）を配置してもよい。
【０１１７】
また偏光板の構成として、偏光膜の両面に保護フィルムを配置する形態においては、前記光学フィルムは、一方の保護フィルム、として用いることもできる。
【０１１８】
偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜及び染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造することができる。
【０１１９】
偏光膜の厚みについては特に制限はないが、偏光膜の厚みが薄いほうが、偏光板及びそれを組み込む液晶表示装置をさらに薄型化することができる。この観点では、偏光膜の厚みは１０μｍ以下であるのが好ましい。偏光膜の膜厚の下限値は、偏光膜内での光路が光の波長より大きいことが必要であるため、０．７μｍ以上、実質的には１μｍ以上であり、一般的には、３μｍより厚いことが好ましい。
【０１２０】
［液晶表示装置］
本発明は、本発明の光学フィルム（本発明の積層フィルムから転写された本発明の光学フィルムも含む）、又は前記した本発明の偏光板を少なくとも有する液晶表示装置にも関する。液晶表示装置の配向モードについては特に制限はないが、水平配向モード（ＩＰＳモード及びＦＦＳモード）を利用した液晶表示装置であるのが好ましい。Ａ層とＢ層とを含む本発明の光学フィルムは、ＩＰＳモード及びＦＦＳモード液晶表示装置の視野角補償フィルムとして有用である。
【０１２１】
本発明の光学フィルムは、液晶セルと視認側偏光膜との間に配置されても、液晶セルとバックライト側偏光膜との間に配置されていてもよい。例えば、上記水平配向モードの態様では、本発明の光学フィルムは、ＩＰＳモードでは、液晶セルと視認側偏光膜との間に配置されているのが好ましく、ＦＦＳモードでは、液晶セルとバックライト側偏光膜との間に配置されているのが好ましい。
【０１２２】
なお、本明細書において、Ｒｅ(λ)、Ｒｔｈ(λ)は各々、波長λにおける面内のレターデーションおよび厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅ(λ)はＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨまたはＷＲ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。測定波長λｎｍの選択にあたっては、波長選択フィルターをマニュアルで交換するか、または測定値をプログラム等で変換して測定するができる。
測定されるフィルムが1軸または2軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ(λ)は前記Ｒｅ(λ)を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨまたはＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨまたはＷＲが算出する。
上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨまたはＷＲが算出する。
尚、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の式（１）及び式（２）よりＲｔｈを算出することもできる。
【０１２３】
【数１】
2013152430.tif 000014
式（２）
Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ)／２ − ｎｚ｝ × ｄ
上記式中、Ｒｅ(θ)は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値をあらわし、ｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表す。ｄは膜厚である。
【０１２４】
測定されるフィルムが１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ  ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨまたはＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−５０度から＋５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨまたはＷＲが算出する。
上記の測定において、平均屈折率の仮定値は  ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ  ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：  セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨまたはＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ、ｎｙ、ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）が更に算出される。
なお、本明細書では、特に付記がない限りは屈折率の測定波長は５５０ｎｍとする。
【実施例】
【０１２５】
以下に実施例を挙げて本発明の特徴を更に具体的に説明する。
以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
なお、特に断りのない限り、「部」は質量基準である。
【０１２６】
［測定方法］
＜三次元屈折率＞
波長λが５５０ｎｍのエリプソメトリー（モデルＭ２０００Ｖ、J.A.Woollam Co.）によって測定した。
【０１２７】
１．光学フィルム又は積層フィルムの製造と評価
（１）ドープの調製
＜ドープＡの調製＞
下記表に記載の高分子材料をそれぞれ用いて、ドープＡをそれぞれ調製した。溶剤として、塩化メチレンを用いたが、材料の溶解性に応じて、メタノール、ｎ−ブタノール等を混合した混合溶媒を利用した例もある。なお、いずれのドープについても、固形分濃度２０質量％で調製した。
【０１２８】
なお、各ドープの主成分については、表下に記載した。
フィルムＮｏ．１のＡ層の主成分Ｐ０は、酢化度６０．７〜６１．１％のセルロースアセテートであり、フィルムＮｏ．１のＡ層としては、以下の組成のドープＡを用いて製造した。
（ドープＡの組成）
酢化度６０．７〜６１．１％のセルロースアセテート                  １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤）                                ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）                        ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                                    ３３６質量部
メタノール（第２溶媒）                                              ２９質量部
１−ブタノール（第３溶媒）                                          １１質量部
【０１２９】
別のミキシングタンクに、下記のレターデーション上昇剤（Ａ）１６質量部、メチレンクロライド９２質量部及びメタノール８質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液を調製した。セルロースアセテート溶液４７４質量部にレターデーション上昇剤溶液２５質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。レターデーション上昇剤の添加量は、セルロースアセテート１００質量部に対して、６．０質量部であった。
【０１３０】
【化１２】
2013152430.tif 000015
【０１３１】
得られたドープを、バンド延伸機を用いて流延して、フィルムＮｏ．１用のＡ層を形成した。バンド上での膜面温度が４０℃となってから、１分乾燥し、剥ぎ取った後、１４０℃の乾燥風で、テンターを用いて幅方向に１５％延伸した。この後、１３５℃の乾燥風で２０分間乾燥し、残留溶剤量が０．３質量％のセルロースアセテートフィルムであるフィルムＮｏ．１用のＡ層を製造した。
【０１３２】
フィルムＮｏ．２〜２２のＡ層の主成分Ｐ１は、ベンゾイル及びアセチルを有する芳香族基を有するセルロースアシレート樹脂（ベンゾイル置換度が１．６、アセチル置換度が１．１、アシル総置換度が２．７）である。該セルロースアシレート樹脂は、セルロースを鹸化し、その後アシル化することで製造した。特開２００８−１６３１９３号公報の［０１２１］及び［０１２４０］を参照して、鹸化及びアシル化を行った。
【０１３３】
＜ドープＣの調製＞
下記表中、積層フィルム例については、下記表中に記載の高分子材料を用いて、Ｃ層用のドープＣをそれぞれ調製した。溶剤として、塩化メチレンを用いた。
【０１３４】
（２）溶液流延による製膜
各ドープＡを単独で支持体上に流延して単層の光学フィルムをそれぞれ製造した。又は各ドープＡをドープＣとともに下記表に記載の組み合わせで、支持体上に共流延して、Ａ層とＣ層の積層体を作製した。支持体としては、金属支持体を用いた。ドープを乾燥風により乾燥して支持体上で製膜し、得られた各積層フィルムを支持体から剥ぎ取った。
（３）延伸
下記表に示すいくつかの例については、支持体から剥ぎ取った後、自由端一軸延伸についてはロールの周速差を用いて搬送方向に延伸を、また固定端一軸延伸についてはテンター延伸を用いて延伸処理を実施した。以下に、延伸処理したフィルムについて、延伸条件をそれぞれ記載する。以下に記載のないフィルムについては延伸処理を行っていない。
フィルムＮｏ．２：固定端一軸延伸処理；温度１９８℃、速度３０％／ｍｉｎ、倍率９０％
フィルムＮｏ．３：固定端一軸延伸；温度２０４℃、速度３０％／ｍｉｎ、倍率５５％
フィルムＮｏ．４：固定端一軸延伸；温度２０４℃、速度３０％／ｍｉｎ、倍率４５％
フィルムＮｏ．５：固定端一軸延伸；温度２０４℃、速度３０％／ｍｉｎ、倍率４０％
フィルムＮｏ．６：固定端一軸延伸；温度２０４℃、速度３０％／ｍｉｎ、倍率３５％
フィルムＮｏ．７：固定端一軸延伸；温度１９９℃、速度３０％／ｍｉｎ、倍率７０％
フィルムＮｏ．１２、１３：自由端一軸延伸；温度１９９℃、速度３０％／ｍｉｎ、倍率４０％
フィルムＮｏ．１４：固定端一軸延伸  温度２０４℃、速度３０％／ｍｉｎ、倍率７０％フィルムＮｏ．８、１０、１１、１５〜２１：固定端一軸延伸；温度２０４℃、速度３０％／ｍｉｎ、倍率７０％
フィルムＮｏ．２２：自由端一軸延伸；温度１３０℃、速度３０％／ｍｉｎ、倍率８０％フィルムＮｏ．２３：自由端一軸延伸；温度１４０℃、速度３０％／ｍｉｎ、倍率８０％フィルムＮｏ．２４、２９：自由端一軸延伸；温度１２０℃、速度３０％／ｍｉｎ、倍率３０％
フィルムＮｏ．２５：固定端一軸延伸；温度１２０℃、速度３０％／ｍｉｎ、倍率３０％フィルムＮｏ．２６：固定端一軸延伸；温度１２０℃、速度３０％／ｍｉｎ、倍率２５％フィルムＮｏ．２７：固定端一軸延伸；温度１２５℃、速度３０％／ｍｉｎ、倍率３５％フィルムＮｏ．２８：固定端一軸延伸；温度１１８℃、速度３０％／ｍｉｎ、倍率３０％
【０１３５】
（４）Ｂ層の形成
（４）−１  ディスコティック液晶組成物からなるＢ層の形成：
（配向膜の形成）
上記作製した各フィルムのＡ層の表面に、下記の組成の配向膜塗布液を、ワイヤーバーコーターで塗布し、乾燥して配向膜を形成した。
【０１３６】
【表１】
2013152430.tif 000016
【０１３７】
【化１３】
2013152430.tif 000017
【０１３８】
メチルエチルケトン１０２ｇに、下記の円盤状液晶性化合物４１．０１ｇ、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）４．０６ｇ、１，３，５−トリアジン化合物（ＩＩ−１）１．８５ｇ、光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）１．３５ｇおよび増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．４５ｇを溶解して塗布液を調製した。
【０１３９】
【化１４】
2013152430.tif 000018
【０１４０】
配向膜上に、塗布液を＃４のワイヤーバーで塗布した。これを金属の枠に貼り付けて、１２０℃の恒温槽中で３０秒間加熱し、円盤状液晶性化合物を配向させた。なお、１２０℃の状態で、高圧水銀灯を用いて２ＪのＵＶ光を照射し、円盤状液晶性化合物を重合させ、配向状態を確認したところ、液晶性化合物は水平配向状態になっていた。その後、室温まで放冷した。このようにして、各フィルムの上に位相差層（Ｂ層）を形成した。
【０１４１】
なお、上記で形成したＢ層に対し、８０℃に加熱し、かつ２ＪのＵＶ光の照射の実施有・無、膜厚調整により、下記表に示す通り、種々の光学特性のＢ層をそれぞれ形成した。なお、表中、Ｂ層の「素材」の欄に、「円盤状液晶」と記載されている例が、上記と同様にディスコティック液晶組成物を利用して形成されたＢ層である。Ｂ層それぞれの厚み及び光学特性を下記表中に示す。
【０１４２】
（４）−２  高分子材料からなるＢ層の形成：
下記表に記載のＢ層用高分子材料をそれぞれ用いて、Ｂ層を形成した。
フィルムＮｏ．１０のＢ層については、上記Ｐ１（ベンゾイル及びアセチルを有する芳香族基を有するセルロースアシレート樹脂；ベンゾイル置換度が１．６、アセチル置換度が１．１、アシル総置換度が２．７）を溶液流延法で製膜した後、２００℃で５分間熱処理し、固定端一軸延伸処理（温度１９９℃、速度３０％／ｍｉｎ、倍率１０％）することによって製造した。この様にして作製したＢ層用のフィルムを、Ａ層にラミネートした。
【０１４３】
フィルムＮｏ．１１のＢ層については、上記フィルムＮｏ．１０のＢ層用フィルムと同様にして製膜し、その後、２００℃で５分間熱処理し、延伸処理を実施しなかった以外は同様にして、製造した。この様にして作製したＢ層用のフィルムを、Ａ層にラミネートした。
【０１４４】
フィルムＮｏ．２０のＢ層については、特開２００９−１６３２１０号公報に記載の参考例５と同様にして、塗布により形成した。
フィルムＮｏ．２１のＢ層については、特開２００９−１６３２１０号公報の［０１３４］〜［０１４３］に記載のポリカーボネートを、塩化メチレンに溶解して塗布液を調製し、該塗布液を、アプリケーターでＡ層用フィルムの表面に塗布し、乾燥することで形成した。
【０１４５】
２．フィルムの評価
得られた各フィルムについて、各層の特性、及びＡ層とＢ層との積層光学フィルム全体としての特性について、上記通りにそれぞれ測定した。結果を下記表に示す。
【０１４６】
また、得られた各フィルムについて、製膜中の搬送性を以下の基準でそれぞれ評価した。
搬送性：
Ａ：  全く問題なく、搬送できた。
Ｂ：  搬送時に若干のツレ、シワが発生するが搬送できた。
Ｃ：  搬送できなかった（搬送中にフィルム破断）。
結果を下記表に示す。
【０１４７】
３．実装評価
（１）粘着剤層の形成
上記で製造したフィルムのそれぞれのＡ層の表面に、以下の粘着剤組成物を用いて、粘着剤層を形成した。なお、フィルムＮｏ．２９は、Ｃ層／Ａ層／Ｂ層の３層構造であり、Ｃ層を剥離することにより露出したＡ層の表面に、粘着剤層を形成した。Ｃ層の剥離は容易であり、破断・破損等は認められなかった。
【０１４８】
冷却管、撹拌羽、温度計が付属した４つロフラスコ中に、ブチルアクリレート  ９１質量部、アクリル酸３質量部、Ｎ‐（２‐ヒドロキシエチル）アクリルアミド  １．５質量部、ＤＭＡＡ（Ｎ，Ｎ‐ジメチルアクリルアミド）４．５質量部、及び過酸化ベンゾイル０．２質量部を、トルエン２００質量部とともに加え、十分に窒素置換した後、窒素気流下で撹拌しながら、約６０℃で８時間反応させ、重量平均分子量１８０万（ＧＰＣポリスチレン換算）のアクリル系共重合体の溶液を得た。このアクリル系共重合体の溶液の固形分１００質量部に対して、イソシアネート系架橋剤（コロネートＬ，日本ポリウレタン社製）を固形分で０．５質量部加えて、粘着剤溶液を調製した。
【０１４９】
得られた粘着剤溶液を、離型処理を施したポリエステルフィルム（厚さ３５μｍ）からなるセパレータ上に、乾燥後の粘着剤層の厚さが２０μｍになるように、リバースロールコート法により塗布し、１５５℃で３分間加熱処理して、溶剤を揮発させ、粘着剤層を得た。この粘着剤層を、上記で製造したフィルムのそれぞれのＡ層の表面に積層して、粘着剤付きフィルムをそれぞれ作製した。
【０１５０】
（２）偏光板の作製
偏光膜として、ヨウ素で染色したポリビニルアルコール系偏光膜（厚みは８μｍ）を準備した。
この偏光膜の一方の表面に、上記で作製した各フィルムの面内遅相軸と偏光膜の吸収軸とが平行になるように、ＰＶＡ（（株）クラレ製、ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として用いて貼合した。この時、Ａ層の表面をＰＶＡ偏光膜の表面と貼合し、Ａ層の反対側の表面にＢ層が積層されている構成とした。また偏光膜の他方の表面には、市販のセルローストリアセテートフィルムを前記接着剤を用いて貼合した。この様にして、各偏光板を作製した。
【０１５１】
上記で製造した偏光板それぞれと組み合わせて用いられる偏光板として、偏光膜の一方の表面にＺ−ＴＡＣ（富士フイルム社製の低位相差のセルロースアセテートフィルム）が貼合され、他方の表面に市販のセルローストリアセテートフィルムが貼合された偏光板ｃを準備した。
【０１５２】
（３）液晶セルの準備
ＩＰＳモードの液晶セルを備える３２インチの液晶表示装置［日立製作所製  液晶テレビ  商品名「Ｗｏｏｏ」（型番：Ｗ３２−Ｌ７０００）］から、液晶パネルを取り出し、液晶セルの上下に配置されていた光学フィルムを全て取り除いて、液晶セルの表裏のガラス面を洗浄した。
【０１５３】
（４）液晶表示装置の作製
上記ＩＰＳモード液晶セルの表示面側表面に上記で作製した各偏光板を、バックライト側表面に偏光板ｃを、互いの吸収軸を直交にしてそれぞれ貼合した。なお、いずれの偏光板についても市販のセルローストリアセテートフィルムを外側に向けて貼合した。この様にしてＩＰＳモード液晶表示装置ＬＣＤをそれぞれ作製した。
【０１５４】
（５）液晶表示装置の評価
作製したＬＣＤをそれぞれ黒表示させ、斜め方向（極角６０°）から観察した際の黒輝度（視野角黒輝度）、及び黒表示状態で正面方向から観察した際に認識される表示ムラを、それぞれ以下の基準で評価した。
視野角黒輝度：
ＡＡ：  １．５ｃｄ／ｍ2以下。
Ａ：  １．５ｃｄ／ｍ2より大、３．０ｃｄ／ｍ2以下。
Ｂ：  ３．０ｃｄ／ｍ2より大、５．０ｃｄ／ｍ2以下。
Ｃ：  ５．０ｃｄ／ｍ2より大。
表示ムラ：
ＡＡ：  ムラの発生は認められない。
Ａ：  僅かにムラが発生している。
Ｂ：  一部分に明確にムラが認められる。
Ｃ：  全面にムラが認められる。
結果を下記表に示す。
【０１５５】
【表２】
2013152430.tif 000019
【０１５６】
【表３】
2013152430.tif 000020
【０１５７】
【表４】
2013152430.tif 000021
【０１５８】
【表５】
2013152430.tif 000022
【０１５９】
【表６】
2013152430.tif 000023
【図１】
2013152430.tif 000024
【図２】
2013152430.tif 000025
【図３】
2013152430.tif 000026