(57)【要約】      （修正有）【課題】鹸化処理前の耐擦傷性が良好で、鹸化処理後も鹸化処理前の耐擦傷性が維持され、鹸化液に対する耐性の良好な反射防止フィルム、反射防止性偏光板および透過型液晶ディスプレイを提供する。【解決手段】透明基材１１の少なくとも一方の面に、ハードコート層１２と、低屈折率層形成用塗液から形成された低屈折率層１３とが順次積層されてなり、低屈折率層１３にフッ素含有化合物およびケイ素含有化合物を含む表面調整剤が含まれ、Ｘ線光電子分光装置で測定される、低屈折率層表面のフッ素量（Ｆ１ｓ）とケイ素量（Ｓｉ２ｐ）との比（Ｓｉ２ｐ／Ｆ１ｓ）が、４．０〜３０．０である反射防止フィルム１、反射防止性偏光板および透過型液晶ディスプレイ。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材の少なくとも一方の面に、ハードコート層と、低屈折率層形成用塗液から形成された低屈折率層とが順次積層された反射防止フィルムにおいて、
前記低屈折率層に、フッ素含有化合物およびケイ素含有化合物を含む表面調整剤が含まれ、かつ、
Ｘ線光電子分光装置で測定される、前記低屈折率層表面のフッ素量（Ｆ１ｓ）とケイ素量（Ｓｉ２ｐ）との比（Ｓｉ２ｐ／Ｆ１ｓ）が、４．０〜３０．０であることを特徴とする、反射防止フィルム。
【請求項２】
低屈折率層表面の水接触角が、９０〜１１０°であることを特徴とする、請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
フッ素含有化合物が、パーフルオロアルキル基またはパーフルオロアルキレンエーテル基を有する化合物であることを特徴とする、請求項１または２に記載の反射防止フィルム。
【請求項４】
フッ素含有化合物が、低屈折率層形成用塗液の固形分中に０．１〜１２．０重量％含まれ、ケイ素含有化合物が、低屈折率層形成用塗液の固形分中に０．１〜２５．０重量％含まれることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１つに記載の反射防止フィルム。
【請求項５】
低屈折率層表面の平均視感反射率が、０．４〜１．５％であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１つに記載の反射防止フィルム。
【請求項６】
ハードコート層が、帯電防止ハードコート層であり、電子電導型の導電性ポリマーが含まれることを特徴とする、請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１つに記載の反射防止フィルムを備え、該反射防止フィルムの低屈折率層が形成されていない面側に、第１の偏光板を備えたことを特徴とする、反射防止性偏光板。
【請求項８】
請求項７に記載の反射防止性偏光板と、液晶セルと、第２の偏光板と、バックライトユニットとを順に備え、該反射防止性偏光板の低屈折率層が形成されていない面側に、液晶セルが保持されていることを特徴とする、透過型液晶ディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止フィルム、反射防止性偏光板および透過型液晶ディスプレイに関する。さらには、反射防止性能および帯電防止性能を備え、ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、プロジェクションディスプレイ、ＥＬディスプレイ等のディスプレイの表示画面に適用される反射防止フィルム、該反射防止フィルムを備えた反射防止性偏光板および透過型液晶ディスプレイに関する。
【背景技術】
【０００２】
ＬＣＤやＣＲＴ、プラズマディスプレイ等の光学表示装置は、室内外を問わず、外光等が入射する環境下で使用される。この外光等の入射光は、ディスプレイ表面等において正反射され、それによる反射像が表示画像と混合することにより、画面表示品質を低下させてしまう。そのため、ディスプレイ表面等に反射防止機能を付与することが多く、反射防止機能の高性能化、反射防止機能以外の機能の複合化が求められている。
【０００３】
一般に反射防止機能は、透明基材もしくはハードコート層上にそれらより屈折率の低い反射防止層を形成することで得られる。さらに、反射防止性能を向上させるために、透明基材もしくはハードコート層上に金属酸化物等の透明材料からなる高屈折率層と反射防止層との繰り返し構造による多層構造を形成する場合もある。この多層構造からなる反射防止層は、化学蒸着（ＣＶＤ）法や、物理蒸着（ＰＶＤ）法といったドライコーティング法により形成することができる（特許文献１）。
【０００４】
ドライコーティング法を用いて反射防止層を形成するに当たっては、各層の膜厚を精密に制御できるという利点があるが、成膜を真空中で行わなければならないため大型の設備が必要であり、かつ生産性が低く大量生産に適していないという問題を抱えている。一方、反射防止層の形成方法として大面積化、連続生産、低コスト化が可能である塗液を用いたウェットコーティング法を用いた反射防止フィルムの生産が注目されている。
【０００５】
ウェットコーティング法により低屈折率層を得る手法としては、（１）屈折率の低いフッ素元素を含有する材料を用いる手法と、（２）層中に空孔を設け、空気の混入により屈折率を低くする手法とに大別される。
【０００６】
例えば、特許文献２には、フッ素含有有機材料を用いることが提案されている。特許文献３には、フッ素含有有機材料と低屈折率微粒子とを用いることが提案されている。特許文献４には、フッ素含有有機材料とアルコキシシランとを用いることが提案されている。特許文献５には、アルコキシシランと低屈折率微粒子とを用いることが提案されている。
【０００７】
偏光板に用いる反射防止フィルムは、偏光膜と貼り合わせるうえで十分な密着性を有していることが必要である。偏光膜との密着性を改良する手法として、反射防止フィルムを鹸化処理してフィルムの表面を親水化することが通常行われている。しかしながら、反射防止フィルムを鹸化処理して偏光板へ貼り合わせる場合、鹸化処理液が反射防止フィルムの物理強度(耐擦傷性、硬度等)、帯電防止性、耐薬品性、耐候性(耐湿熱性、耐光性等)を悪化させる。
【０００８】
そのため、反射防止フィルムの鹸化処理後の物理強度（耐擦傷性、硬度等）、帯電防止性、耐薬品性等の特性劣化を改善する必要があり、これまでも改善方法が種々提案されている。特許文献６には、鹸化処理後の水滴付着、防汚性改善のために低屈折率微粒子の粒子サイズの最適化や、フッ素化アルキル部およびジアルキルシロキサン部を有する化合物を用いることが提案されている。また特許文献７には、耐擦傷性および耐鹸化性を向上させるために、反射防止フィルムのハードコート層に球形微粒子を含む塗膜を反射防止膜とする方法も提案されている。
【０００９】
しかしながら、低屈折率微粒子の粒子サイズの最適化や、フッ素化アルキル部およびジアルキルシロキサン部を有する化合物を用いることで、鹸化処理後の防汚性等の改善には効果があるものの、鹸化処理後の耐擦傷性を鹸化処理前と同程度に維持させることは困難である。また、球形微粒子を添加する方法においても、鹸化処理前の耐擦傷性が悪化するという問題があり、十分な耐擦傷性を得ることはできない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特許第３９１５２０２号公報
【特許文献２】特開平０２−０１９８０１号公報
【特許文献３】特開平０６−２３０２０１号公報
【特許文献４】特開平０７−３３１１１５号公報
【特許文献５】特開平０８−２１１２０２号公報
【特許文献６】特開２００６−０７９０６８号公報
【特許文献７】特開２００４−２９１５７３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明の目的は、鹸化処理前の耐擦傷性が良好で、鹸化処理後も鹸化処理前の耐擦傷性を維持することが可能であり、鹸化液に対する耐性の良好な反射防止フィルムを提供すること、並びに、該反射防止フィルムを使用した反射防止性偏光板および透過型液晶ディスプレイを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者らが鋭意検討を重ねた結果、鹸化液に対する耐性を向上させるためには、低屈折率層表面のフッ素量（Ｆ１ｓ）とケイ素量（Ｓｉ２ｐ）との比（Ｓｉ２ｐ／Ｆ１ｓ）が、４．０〜３０．０の範囲に含まれることが重要であることを見出した。
【００１３】
前記課題を解決するために、本発明の反射防止フィルムは、透明基材の少なくとも一方の面に、ハードコート層と、低屈折率層形成用塗液から形成された低屈折率層とが順次積層されたものであり、該低屈折率層に、フッ素含有化合物およびケイ素含有化合物を含む表面調整剤が含まれ、かつ、Ｘ線光電子分光装置で測定される、該低屈折率層表面のフッ素量（Ｆ１ｓ）とケイ素量（Ｓｉ２ｐ）との比（Ｓｉ２ｐ／Ｆ１ｓ）が、４．０〜３０．０であることを特徴とする。
【００１４】
本発明の反射防止フォルムでは、低屈折率層表面の水接触角が９０〜１１０°であることが好ましい。
【００１５】
本発明の反射防止フォルムでは、フッ素含有化合物が、パーフルオロアルキル基またはパーフルオロアルキレンエーテル基を有する化合物であることが好ましい。
【００１６】
本発明の反射防止フォルムでは、フッ素含有化合物が低屈折率層形成用塗液の固形分中に０．１〜１２．０重量％含まれ、ケイ素含有化合物が低屈折率層形成用塗液の固形分中に０．１〜２５．０重量％含まれることが好ましい。
【００１７】
本発明の反射防止フォルムでは、低屈折率層表面の平均視感反射率が０．４〜１．５％であることが好ましい。
【００１８】
本発明の反射防止フォルムでは、ハードコート層が帯電防止ハードコート層であり、電子電導型の導電性ポリマーが含まれることが好ましい。
【００１９】
また本発明の反射防止性偏光板は、前記反射防止フィルムを備え、該反射防止フィルムの低屈折率層が形成されていない面側に、第１の偏光板を備えたことを特徴とする。
【００２０】
さらに本発明の透過型液晶ディスプレイは、前記反射防止性偏光板と、液晶セルと、第２の偏光板と、バックライトユニットとを順に備え、該反射防止性偏光板の低屈折率層が形成されていない面側に、液晶セルが保持されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２１】
本発明の反射防止フィルムは、透明基材の少なくとも一方の面に、ハードコート層と、低屈折率層形成用塗液から形成された低屈折率層とを順次積層したものであり、該低屈折率層に、フッ素含有化合物およびケイ素含有化合物が含まれ、かつ、Ｘ線光電子分光装置で測定される、該低屈折率層表面のフッ素量（Ｆ１ｓ）とケイ素量（Ｓｉ２ｐ）との比（Ｓｉ２ｐ／Ｆ１ｓ）が、４．０〜３０．０であるので、鹸化液に対する耐性が向上し、鹸化処理後も鹸化処理前の優れた耐擦傷性が維持されており、かつ低屈折率層の膜成分が鹸化液に溶出することがなく、安定性に優れたものである。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の実施の形態１に係る反射防止フィルムを示す概略断面図
【図２】本発明の実施の形態２に係る、反射防止フィルムを備えた反射防止性偏光板を示す概略断面図
【図３】（ａ）および（ｂ）は、本発明の実施の形態３に係る、反射防止フィルムを有する反射防止性偏光板を備えた透過型液晶ディスプレイを示す概略断面図
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、本発明の実施の形態を、図面を参照しつつ説明する。各実施の形態において、同一構成要素には同一符号を付し、各実施の形態間で重複する説明は省略する。
【００２４】
（実施の形態１）
図１は、本発明の実施の形態１に係る反射防止フィルムを示す概略断面図である。図１に示すように、本発明の実施の形態１に係る反射防止フィルム１は、透明基材１１、ハードコート層１２および低屈折率層１３を備えており、透明基材１１上にハードコート層１２が積層され、ハードコート層１２上に低屈折率層１３が積層されている。
【００２５】
まず、透明基材１１について説明する。透明基材１１としては、種々の有機高分子化合物からなるフィルムまたはシートを用いることができる。例えば、ディスプレイ等の光学部材に通常使用される透明基材が挙げられ、透明性や光の屈折率等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性等の諸物性を考慮して、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等のセルロース系樹脂、６−ナイロン、６，６−ナイロン等のポリアミド系樹脂、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、エチレンビニルアルコール等の有機高分子化合物からなるものが用いられる。これらの中でも、特にトリアセチルセルロースが好ましい。さらに、これらの有機高分子化合物に、例えば紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等の添加剤を添加することにより機能を付加させたものを用いることもできる。
【００２６】
次に、ハードコート層１２について説明する。ハードコート層１２は、前記透明基材１１上に形成されるものであり、ハードコート層１２の形成には、ハードコート材料を含有するハードコート層形成用塗液が用いられる。該ハードコート材料としては、例えば紫外線硬化型材料、電子線硬化型材料等の電離放射線硬化型材料を用いることができる。
【００２７】
電離放射線硬化型材料としては、ハードコート層１２の表面および後述する低屈折率層１３の表面の改質を目的として、スチールウールラビング試験による耐擦傷性、鉛筆引っかき試験による表面硬度、粘着テープ剥離試験による密着性、最小曲げ試験によるクラック性等の諸特性について、要求されるスペックを満足させるような樹脂を選択して使用することができる。
【００２８】
電離放射線硬化型材料として用いられる光重合性ポリマーとしては、例えば、ポリエステルアクリレート系樹脂、エポキシアクリレート系樹脂、ウレタンアクリレート系樹脂、ポリオールアクリレート系樹脂等のプレポリマーが挙げられる。これらの光重合性ポリマーは１種を用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００２９】
電離放射線硬化型材料として用いられる光重合性モノマーとしては、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。特に本発明の実施の形態１においては、ハードコート層１２は、（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多官能性モノマーを主成分とする重合体からなることが好ましい。
【００３０】
なお、本明細書において「（メタ）アクリル」とは「アクリル」および「メタクリル」の両方を示す。
【００３１】
また、ハードコート材料には、必要に応じて光重合開始剤が加えられる。光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類等の化合物を用いることができる。
【００３２】
ハードコート層形成用塗液には、表面硬度の向上を目的として、さらに（メタ）アクリルモノマーもしくはその重合体を加えることができる。
【００３３】
前記（メタ）アクリルモノマーとしては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートなどのジ（メタ）アクリレートや、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス２−ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート等のトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等の３官能（メタ）アクリレート化合物や、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ（メタ）アクリレート等の３官能以上の多官能（メタ）アクリレート化合物や、これら（メタ）アクリレートの一部をアルキル基やε−カプロラクトンで置換した多官能（メタ）アクリレート化合物等を用いることができる。
【００３４】
本発明の実施の形態１に係る反射防止フィルムでは、ハードコート層１２が帯電防止ハードコート層であり、ハードコート層１２には、電子電導型の導電性ポリマーが含まれることが好ましい。ハードコート層に帯電防止機能を付与するにあっては、通常導電性材料が添加されるが、このとき電子電導型の導電性材料とイオン電導型の導電性材料とに大別され、そのうち、本発明では子電導型の導電性材料が好適に用いられる。
【００３５】
また、本発明の実施の形態１に係る反射防止フィルムは、全光線透過率が９５．０％以上であることが好ましく、４級アンモニウム塩材料を含むハードコート層１２を形成することにより、反射防止フィルムに帯電防止機能を付与すると共に、全光線透過率を９５．０％以上とすることができる。なお、導電性を備える金属酸化物粒子を添加し、反射防止フィルムの低屈折率層表面における表面抵抗値が１．０×１０11Ω／ｃｍ2以下となるように帯電防止機能を付与しようとした場合には、全光線透過率を９５．０％以上とすることは困難になる。全光線透過率が９５．０％未満の反射防止フィルムは、ディスプレイ表面に設ける反射防止フィルムとして適さない恐れが生じる。
【００３６】
さらに、本発明の実施の形態１に係る反射防止フィルムにおいては、ハードコート層１２に中の前記４級アンモニウム塩材料の含有量が５重量％以上、２０重量％未満の範囲であることが好ましい。４級アンモニウム塩材料の含有量が５重量％未満の場合は、反射防止フィルムの低屈折率層表面における表面抵抗値が１．０×１０11Ω／ｃｍ2を超える恐れがあり、２０重量％以上の場合は、後述する低屈折率層１３との密着性が低下する恐れがある。
【００３７】
前記４級アンモニウム塩材料としては、４級アンモニウム塩を官能基として分子内に含むアクリル系材料を好適に用いることができる。４級アンモニウム塩は、−Ｎ+Ｘ-の構造を示し、４級アンモニウムカチオン（−Ｎ+）とアニオン（Ｘ-）とを備えることにより、ハードコート層１２に導電性を発現させる。なお、Ｘ-としては、例えば、Ｃｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-、Ｆ-、ＨＳＯ4-、ＳＯ42-、ＮＯ3-、ＰＯ43-、ＨＰＯ42-、Ｈ2ＰＯ4-、ＳＯ3-、ＯＨ-等を挙げることができる。
【００３８】
４級アンモニウム塩を官能基として分子内に含むアクリル系材料としては、例えば、４級アンモニウム塩（−Ｎ+Ｘ-）を官能基として分子内に含む、多価アルコールの（メタ）アクリル酸エステル等の多官能の（メタ）アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコールおよび（メタ）アクリル酸のヒドロキシエステル等から合成される多官能のウレタン（メタ）アクリレート化合物等を使用することができる。またこれらの他にも、電離放射線型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。
【００３９】
４級アンモニウム塩を官能基として分子内に含むアクリル系材料として、具体的には、ライトエステルＤＱ−１００（共栄社化学（株）製）や、ＮＲ−１２１Ｘ−９ＩＰＡ（コルコート（株）製、固形分１０％）等を用いることができる。
【００４０】
また、本発明の実施の形態１においては、前記したように、反射防止フィルムの低屈折率層表面における表面抵抗値が１．０×１０11Ω／ｃｍ2以下であることが好ましく、１．０×１０9Ω／ｃｍ2以上であることが好ましい。低屈折率層側の反射防止フィルム表面の表面抵抗値を１．０×１０11Ω／ｃｍ2以下とすることにより、帯電防止性に優れた反射防止フィルムとすることができる。
【００４１】
反射防止フィルムの低屈折率層表面における表面抵抗値が１．０×１０11Ω／ｃｍ2を超える場合には、十分な帯電防止性を有さないため、ディスプレイ表面に反射防止フィルムを設けた際に埃等の付着汚れが発生する恐れがあり、ディスプレイ表面の帯電がディスプレイ内部に影響する恐れもある。逆に低屈折率層表面における表面抵抗値が１．０×１０9Ω／ｃｍ2未満の場合には、導電性材料をバインダマトリックス中に多量添加する必要が生じ、不経済であるほか、光学特性の調整が困難になる恐れがある。
【００４２】
ハードコート層形成用塗液には、必要に応じて溶媒が添加される。溶媒を添加することにより、塗工適性を向上させることができる。溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサンなどの炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、エチレングリコール等のアルコール類、水等が挙げられ、これらの中から、塗工適性等を考慮して適宜選択すればよい。
【００４３】
ハードコート層形成用塗液を塗布し、形成される塗膜においてハジキ、ムラといった塗膜欠陥の発生を防止するために、該ハードコート層形成用塗液には、表面調整剤を加えてもよい。該表面調整剤は、その作用に応じて、レベリング剤、消泡剤、界面張力調整剤、表面張力調整剤とも呼ばれるが、いずれも形成される塗膜の表面張力を低下させる作用を有する。
【００４４】
また、ハードコート層形成用塗液には、前記表面調整剤以外の機能性添加剤を加えてもよい。該機能性添加剤としては、例えば、帯電防止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、密着性向上剤、硬化剤等を用いることができる。
【００４５】
以上の材料を調製して得られるハードコート層形成用塗液を、湿式成膜法により透明基材１１上に塗布して塗膜を形成し、必要に応じて塗膜の乾燥を行った後に、電離放射線である紫外線もしくは電子線を照射することにより、ハードコート層１２が形成される。
【００４６】
前記湿式成膜法としては、例えば、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーターを用いた塗布方法を採用することができる。
【００４７】
紫外線を照射する紫外線硬化の場合は、高圧水銀灯、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク、キセノンアーク等の光源を利用することができる。また、電子線を照射する電子線硬化の場合は、コックロフトワルト型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される電子線を利用することができる。
【００４８】
なお、硬化によりハードコート層１２を形成する工程の前後に、乾燥工程もしくは加熱工程を設けてもよい。特に、ハードコート層形成用塗液に溶媒が含まれる場合、形成された塗膜の溶媒を除去するために、電離放射線を照射する前に乾燥工程を設けることが好ましい。乾燥手段としては、加熱、送風、熱風等が例示される。
【００４９】
本発明の実施の形態１に係る反射防止フィルム１において、かくして形成されるハードコート層１２の膜厚は、３〜１０μｍであることが好ましく、鉛筆硬度は、物理的な耐擦傷性を備えることを考慮すると、Ｈ以上であることが好ましい。
【００５０】
次に、低屈折率層１３について説明する。低屈折率層１３は、低屈折率層形成用塗液から形成され、該低屈折率層１３には、フッ素含有化合物およびケイ素含有化合物を含む表面調整剤が含まれている。
【００５１】
前記表面調整剤は、その作用に応じて、レベリング剤、消泡剤、界面張力調整剤、表面張力調整剤とも呼ばれるが、いずれも形成される塗膜の表面張力を低下させる作用を有する。この表面調整剤の添加によって、形成される塗膜において、ハジキ、ムラといった塗膜欠陥の発生を防止することができる。
【００５２】
前記フッ素含有化合物としては、例えば、パーフルオロアルキル基またはパーフルオロアルキレンエーテル基を有する化合物等が挙げられる。
【００５３】
前記パーフルオロアルキル基またはパーフルオロアルキレンエーテル基を有する化合物において、パーフルオロアルキル基は、式：−ＣnＦ2n+1（ｎは１以上の整数）で表される構造であり、パーフルオロアルキレンエーテル基は、式：−ＣnＦ2nＯ−（ｎは１以上の整数）で表される構造（以下の式（Ｉ））であり、疎水・疎油基として機能する。剛直で曲がりにくく、表面に整然と配列する特徴を有するので、少量で表面を覆う表面調整剤として機能することができる。このとき、親油基と組み合わせることで、さらに表面調整剤としての効果を向上させることが可能となる。なお、パーフルオロアルケニル基は、分子内にＣ＝Ｃ結合を有しているので、嵩高く、表面に配列する際にパーフルオロアルキル基に比べて密度が低下する。そのため、パーフルオロアルキル基が有するリコート性阻害を抑えることができる。
【００５４】
【化１】
2013210583.tif 000003
なお、前記式（Ｉ）中、Ｘは以下の（ａ）〜（ｅ）のいずれかであり、式（Ｉ）中の全てのＸが同一のものであってもよいし、複数のものがランダム状またはブロック状になっていてもよい。
【化２】
2013210583.tif 000004
【００５５】
前記ケイ素含有化合物としては、例えば、シリコーン骨格を有する化合物等が挙げられる。
【００５６】
前記シリコーン骨格を有する化合物としては、シリコーン骨格と有機変性部とを分子内に含むシリコーン系化合物を好適に用いることができる。シリコーン骨格を有する化合物は、式（II）で表される構造を有しており、式（II）中の繰り返し数ｎ（１以上の数）や有機変性部の種類を変化させることで、表面張力を任意にコントロールすることができる。
【化３】
2013210583.tif 000005
【００５７】
前記式（II）中のｎや有機変性部の種類を変化させる一例として、例えば式（III）で表される構造（ｘ、ｙは繰り返し数を表す１以上の数、ｍは１以上の整数）が挙げられ、側鎖を付与することによりシリコーン骨格を変性させることができる。なお、式（III）中のＲ1としては、例えば、ＣＨ3、ＣＨ2−ＣＨ3、（ＣＨ2）9ＣＨ3等が挙げられる。また、Ｒ2としては、例えば、ポリエーテル基、ポリエステル基、アラルキル基等が挙げられる。さらに、式（IV）で表される構造（ｍは１以上の整数）を有する化合物も用いることが可能であり、シリコーン鎖は数個のＳｉ−Ｏ結合からなり、Ｒ3に相当する平均１個のポリエーテル鎖等を有する。このように、式（III）で表される化合物および式（IV）で表される化合物いずれにおいても、表面張力のコントロールや相溶性の調整を任意に行うことができる。
【化４】
2013210583.tif 000006
【００５８】
表面張力を任意にコントロールしたり、相溶性の調整を任意に行うために、またリコート性阻害を抑える等の特性を得るためには、フッ素含有化合物が低屈折率層形成用塗液の固形分中に０．１〜１２．０重量％、さらには１．０〜１０．０重量％含まれ、ケイ素含有化合物が低屈折率層形成用塗液の固形分中に０．１〜２５．０重量％、さらには０．５〜９．０重量％含まれることが好ましい。フッ素含有化合物及びケイ素含有化合物の量が各々０．１重量％未満の場合、低屈折率層において、これらフッ素含有化合物及びケイ素含有化合物の局在化が促進されないため、耐擦傷性が低下する恐れがある。一方、耐擦傷性の向上を目的として、フッ素含有化合物の含有量が１２．０重量％を超えるように、ケイ素含有化合物の含有量が２５．０重量％を超えるように添加した場合、低屈折率層中の低屈折率成分が相対的に減少してしまうため、反射率の上昇（悪化）を招く恐れがある。
【００５９】
本発明の実施の形態１において、低屈折率層形成用塗液には、前記表面調整剤の他に、必要に応じて、例えば以下に示すフッ素を有する化合物やケイ素を有する化合物等を配合することができる。
【００６０】
フッ素を有する化合物としては、例えば、ＬｉＦ、ＭｇＦ、３ＮａＦ・ＡｌＦまたはＡｌＦ（いずれも、屈折率１．４）、もしくはＮａ3ＡｌＦ6（氷晶石、屈折率１．３３）等の低屈折率材料からなる低屈折率ナノ粒子が挙げられる。
【００６１】
低屈折率ナノ粒子の平均粒子径は１〜１００ｎｍであることが好ましい。平均粒子径が１００ｎｍを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、低屈折率層が白化して反射防止フィルムの透明性が低下する恐れがある。一方、平均粒子径が１ｎｍ未満の場合、低屈折率層における粒子の凝集等の問題が生じる恐れがある。
【００６２】
なお、本明細書において、平均粒子径とは、溶液中の粒子を動的光散乱方法で測定し、粒径分布を累積分布で表したときの５０％粒径（ｄ５０  メジアン径）を示す。
【００６３】
さらに、フッ素を有する化合物としては、例えば、オプツールＤＡＣ（ダイキン工業（株）製）、ＳＵＡ１９００Ｌ１０、ＳＵＡ１９００Ｌ６（いずれも、新中村化学（株）製）、ＵＴ３９７１（日本合成（株）製）、ディフェンサＴＦ３００１、ディフェンサＴＦ３０００、ディフェンサＴＦ３０２８（いずれも、大日本インキ（株）製）、メガファックＦ−４４４、メガファックＦ−４４５、メガファックＦ−４４６、メガファックＦ−４７０、メガファックＦ−４８９（いずれも、ＤＩＣ（株）製）、ライトプロコートＡＦＣ３０００（共栄社化学（株）製）、ＫＮＳ５３００（信越シリコーン（株）製）、ＵＶＨＣ１１０５、ＵＶＨＣ８５５０（いずれも、ＧＥ東芝シリコーン（株）製）等が挙げられるが、これらの他にも、アルカリ処理後の低屈折率層表面の水接触角を９０〜１１０°とする作用を有するものを好適に用いることができる。
【００６４】
ケイ素を有する化合物としては、例えば、低屈折率シリカ粒子、ケイ素アルコキシドの加水分解物等が挙げられる。
【００６５】
前記低屈折率シリカ粒子としては、粒子内部に空隙を有するシリカ粒子を好適に用いることができる。粒子内部に空隙を有するシリカ粒子は、空隙の部分を空気の屈折率（約１）とすることができるので、非常に低い屈折率を備える低屈折率粒子となる。具体的には、多孔質シリカ粒子、シェル（殻）構造のシリカ粒子を用いることができる。
【００６６】
粒子内部に空隙を有するシリカ粒子の平均粒子径は１〜１００ｎｍ、さらには１０〜１００ｎｍ、特に２０〜１００ｎｍであることが好ましい。平均粒子径が１００ｎｍを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、低屈折率層が白化して反射防止フィルムの透明性が低下する恐れがある。一方、平均粒子径が１ｎｍ未満の場合、粒子の凝集による低屈折率層における粒子の不均一性等の問題が生じる恐れがある。
【００６７】
なお、内部に空隙を有するシリカ粒子を用いる場合、該内部に空隙を有するシリカ粒子の低屈折率層中の含有量は、４０重量％以上、９０重量％未満であることが好ましい。シリカ粒子の含有量が４０重量％未満では、低屈折率層の屈折率が十分に低下せず、平均視感反射率が高くなる恐れがある。一方、シリカ粒子の含有量が９０重量％以上では、低屈折率層を硬化する成分が少なくなり、反射防止フィルムの耐擦傷性や鹸化液に対する耐性を確保することが困難になる。
【００６８】
前記ケイ素アルコキシドの加水分解物としては、例えば、式（Ｖ）：ＲxＳｉ（ＯＲ）4-x（式中、Ｒはアルキル基、ｘは０≦ｘ≦３を満足する整数を示す）で表されるケイ素アルコキシドの加水分解物を用いることができる。
【００６９】
式（Ｖ）で表されるケイ素アルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−プロキシシラン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等を用いることができる。ケイ素アルコキシドの加水分解物は、式（Ｖ）で表される金属アルコキシドを原料として得られるものであればよく、例えば塩酸にて加水分解することで得られるものである。
【００７０】
さらに、低屈折率層のバインダマトリックス形成材料として、低屈折率層形成用塗液に電離放射線硬化型材料を配合することもできる。該電離放射線硬化型材料としては、ハードコート層を形成する際の材料として例示した光重合性ポリマーや光重合性モノマーを使用することができ、多官能ウレタン（メタ）アクリレート等の多官能（メタ）アクリレート化合物を使用することもできる。またこれらの他にも、電離放射線硬化型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。
【００７１】
なお、バインダマトリックス形成材料として電離放射線硬化型材料を用い、紫外線を照射することにより低屈折率層を形成する場合には、低屈折率層形成用塗液に光重合開始剤が加えられる。光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類等が挙げられる。
【００７２】
また、低屈折率層形成用塗液には、必要に応じて、溶媒や各種添加剤を加えることができる。溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼン等の芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサン等の炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール等のエーテル類、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等のケトン類、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、水等の中から、塗工適性等を考慮して適宜選択される。また、添加剤として、屈折率調整剤、密着性向上剤、光増感剤等を加えることも可能である。
【００７３】
以上の材料を調製して得られる低屈折率層形成用塗液を、湿式成膜法によりハードコート層１２上に塗布して塗膜を形成し、低屈折率層１３を形成することができる。前記バインダマトリックス形成材料として電離放射線硬化型材料を用いた場合は、必要に応じて塗膜の乾燥を行った後に、電離放射線である紫外線もしくは電子線を照射することにより、低屈折率層１３が形成される。また、バインダマトリックス形成材料として金属アルコキシドを用いた場合は、乾燥、加熱等により低屈折率層１３が形成される。
【００７４】
前記湿式成膜法としては、例えば、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーターを用いた塗布方法を採用することができる。また、同じ湿式成膜法を用いることにより、ハードコート層１２の形成と低屈折率層１３の形成とを連続的に行うことが可能である。
【００７５】
かくして得られる低屈折率層１３において、Ｘ線光電子分光装置（ＸＰＳ）で測定される、該低屈折率層表面のフッ素量（Ｆ１ｓ）とケイ素量（Ｓｉ２ｐ）との比（Ｓｉ２ｐ／Ｆ１ｓ）は、４．０〜３０．０である。
【００７６】
前記Ｘ線光電子分光装置（ＸＰＳ）を用い、試料にエネルギー（ｈν）のＸ線を照射すると、光電効果により元素内の内核電子が放出される。このときの光電子の運動エネルギー（Ｅｋ）は、式：Ｅｋ＝ｈν−Ｅｂ−φで表される。ここで、Ｅｂは、内核電子のエネルギーレベルで、これは元素固有の値であり、その元素の化学状態によって変化する。φは、装置や試料の仕事関数である。また、固体内で電子がエネルギーを保持したまま通過することができる距離は、数十オングストローム程度である。
【００７７】
したがって、試料表面から放出された光電子の運動エネルギー（Ｅｋ）とその数量を測定することによって、試料表面から数十オングストロームの深さまでに存在する元素の種類、含有量および化学状態を分析することができる。
【００７８】
本発明の実施の形態１において、Ｘ線光電子分光装置を用いた測定条件は、以下のとおりである。
Ｘ線出力：２５Ｗ（１５ｋＶ）
測定エリア：１００μｍφ、
積算時間：ワイド８ｍｉｎ／ナロー１８ｍｉｎ
【００７９】
前記したように、低屈折率層表面のフッ素量（Ｆ１ｓ）とケイ素量（Ｓｉ２ｐ）との比（Ｓｉ２ｐ／Ｆ１ｓ）は、４．０以上、３０．０以下、好ましくは４．０以上、２０．０以下である。Ｓｉ２ｐ／Ｆ１ｓが４．０未満では、表面調整剤のケイ素部位が表面に少なく、表面のすべり性が低下し、耐擦傷性が悪化する。一方、Ｓｉ２ｐ／Ｆ１ｓが３０．０を超える場合には、表面調整剤のフッ素部位が表面に少なく、ケイ素部位が多くなることで、鹸化液にケイ素部位が溶解し、鹸化液へ低屈折率層が溶出したり、鹸化処理後の耐擦傷性が悪化する。
【００８０】
また、Ｘ線光電子分光装置で測定される、低屈折率層表面のケイ素量（Ｓｉ２ｐ）が４．０〜２５．０  ａｔｏｍｉｃ％であることが好ましい。Ｓｉ２ｐが４．０  ａｔｏｍｉｃ％未満であると、低屈折率層表面でのケイ素含有化合物が少なく、十分な耐擦傷性を発現することが困難になる。一方、Ｓｉ２ｐが２５．０  ａｔｏｍｉｃ％を超えると、低屈折率層中に含まれる表面調整剤が最適量を超え、低屈折率層形成用塗液とハードコート層との密着性が低下し、剥離しやすくなる恐れがある。
【００８１】
なお、得られる反射防止フィルム１に十分な反射防止機能を付与するために、低屈折率層１３の膜厚（ｄ）は、その膜厚（ｄ）に低屈折率層１３の屈折率（ｎ）を乗じることによって得られる光学膜厚（ｎｄ）が、可視光の波長の１／４程度となるように設計されることが好ましく、膜厚（ｄ）は、５０〜２００ｎｍであることが好ましい。
【００８２】
本発明の実施の形態１に係る反射防止フィルムは、低屈折率層表面の平均視感反射率が０．４〜１．５％であることが好ましい。平均視感反射率が１．５％を超える場合には、十分な反射防止機能を備える反射防止フィルムとすることが困難になる。一方、低屈折率層表面の平均視感反射率が低いほど、優れた反射防止機能を備えるものの、０．４％未満の場合、反射防止フィルムを低屈折率層単層で実現することが困難になる。
【００８３】
なお、平均視感反射率は、可視光の各波長の反射率を比視感度により校正し、平均した反射率の値である。このとき、比視感度は明所視標準比視感度が用いられる。
【００８４】
本発明の実施の形態１に係る反射防止フィルムは、そのヘイズを０．２％以下とすることにより、明所コントラストの高い反射防止フィルムとすることができる。ヘイズが０．２％を超える場合には、散乱による透過損失によって暗所での黒表示させた際の光モレを見かけ上抑制することが可能となるが、明所での黒表示の際に、散乱によって黒表示が白ボケしてコントラストが低下する恐れがある。
【００８５】
本発明の実施の形態１に係る反射防止フィルムは、その全光線透過率を９５．０〜９８．０％とすることにより、コントラストをより向上させることができる。全光線透過率が９５．０％未満の場合には、白表示した際の白輝度が低下し、コントラストが低下する恐れがある。一方、裏面反射等を考慮すると、全光線透過率が９８．０％を超える反射防止フィルムを作製することは実質的に困難である。
【００８６】
本発明の実施の形態１に係る反射防止フィルムは、低屈折率層表面の水接触角が９０〜１１０°であることが好ましい。本発明の実施の形態１に係る反射防止フィルムでは、低屈折率層にフッ素含有化合物およびケイ素含有化合物を含む表面調整剤が含まれており、低屈折率層表面に防汚性を付与することができる。このとき、低屈折率層表面の水接触角が９０°以上であれば、より十分な防汚性を備える反射防止フィルムとすることができる。一方、低屈折率層表面の水接触角が大きいほど、防汚性は向上するが、水接触角が１１０°を超える反射防止フィルムを作製しようとすると、生産性が低下する恐れがある。
【００８７】
（実施の形態２）
図２は、実施の形態１に係る反射防止フィルムを備えた、本発明の実施の形態２に係る反射防止性偏光板を示す概略断面図である。
【００８８】
図２に示すように、本発明の実施の形態２に係る反射防止性偏光板２１０は、反射防止フィルム１を有し、該反射防止フィルム１の低屈折率層１３が形成されていない面側、すなわち、透明基材１１側に、第１の偏光板２を備えている。該第１の偏光板２は、透明基材１１側から順に、偏光層２３と透明基材２１とが積層されたものである。なお、これら偏光層２３および透明基材２１には特に限定がなく、通常反射防止性偏光板に用いられるものを適宜用いることができる。
【００８９】
（実施の形態３）
図３は、実施の形態１に係る反射防止フィルムを備えた、実施の形態２に係る反射防止性偏光板を備えた、実施の形態３に係る透過型液晶ディスプレイを示す概略断面図である。
【００９０】
図３（ａ）に示す透過型液晶ディスプレイは、反射防止性偏光板２００と、液晶セル３と、第２の偏光板４と、バックライトユニット５とを順に備えている。反射防止性偏光板２００は、反射防止フィルム１と、該反射防止フィルム１の透明基材１１側に第１の偏光板２’を備えており、該第１の偏光板２’は、透明基材１１側から順に、透明基材２２と偏光層２３と透明基材２１とが積層されたものである。液晶セル３は、反射防止性偏光板２００の低屈折率層１３が形成されていない面側、すなわち、透明基材２１側に保持されている。このとき、反射防止フィルム１側が観察側、すなわち、ディスプレイ表面となる。
【００９１】
図３（ａ）に示す透過型液晶ディスプレイは、反射防止フィルム１の透明基材１１と、第１の偏光板２’の透明基材２２とを別々に備えるディスプレイである。
【００９２】
バックライトユニット５は、光源と光拡散板とを備える。液晶セル３は、一方の透明基材に電極が設けられ、もう一方の透明基材に電極およびカラーフィルタを備えており、両電極間に液晶が封入された構造となっている。液晶セル３を挟むように設けられる第１の偏光板２’、第２の偏光板４においては、透明基材２１、２２間に偏光層２３が挟持され、透明基材４１、４２間に偏光層４３が挟持された構造となっている。
【００９３】
図３（ｂ）に示す透過型液晶ディスプレイは、反射防止性偏光板２１０と、液晶セル３と、第２の偏光板４と、バックライトユニット５とを順に備えている。反射防止性偏光板２１０は、反射防止フィルム１と、該反射防止フィルム１の透明基材１１側に第１の偏光板２を備えており、該第１の偏光板２は、透明基材１１側から順に、偏光層２３と透明基材２１とが積層されたものである。液晶セル３は、反射防止性偏光板２１０の低屈折率層１３が形成されていない面側、すなわち、透明基材２１側に保持されている。このとき、反射防止フィルム１側が観察側、すなわち、ディスプレイ表面となる。
【００９４】
図３（ｂ）に示す透過型液晶ディスプレイは、反射防止フィルム１の低屈折率層１３が形成されていない面、すなわち、透明基材１１面に、第１の偏光板２として、偏光層２３と透明基材２２とがこの順に設けられたディスプレイである。
【００９５】
図３（ａ）に示す透過型液晶ディスプレイと同様に、バックライトユニット５は、光源と光拡散板とを備える。液晶セル３は、一方の透明基材に電極が設けられ、もう一方の透明基材に電極およびカラーフィルタを備えており、両電極間に液晶が封入された構造となっている。液晶セル３を挟むように設けられる第１の偏光板２（反射防止性偏光板２１０の一部）、第２の偏光板４においては、透明基材２１、１１間に偏光層２３が挟持され、透明基材４１、４２間に偏光層４３が挟持された構造となっている。
【００９６】
なお、本発明の透過型液晶ディスプレイは、他の機能性部材を備えていてもよい。他の機能性部材としては、例えば、バックライトから発せられる光を有効に使うための、拡散フィルム、プリズムシート、輝度向上フィルムや、液晶セルや偏光板の位相差を補償するための位相差フィルム等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００９７】
（実施例）
以下に、本発明の反射防止フィルムを実施例に基づいて説明するが、本発明はこれによって限定されるものではない。なお、実施例中「部」および「％」は、「重量部」および「重量％」をそれぞれ示す。
【００９８】
以下に、ハードコート層形成用塗液の調製例を示す。
【００９９】
（ハードコート層形成用塗液１）
ウレタンアクリレート１００部に対して、
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                              ５０部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート                                  ５０部
・４級アンモニウム塩を含むアクリル系材料                                １０部
（共栄社化学（株）製、商品名：ライトエステルＤＱ１００）
・光重合開始剤                                                          １０部
（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製、イルガキュア１８４）
・アルキルポリエーテル変性シリコーンオイル                                １部
（ＧＥ東芝シリコーン（株）製、ＴＳＦ４４６０）
を用い、メチルエチルケトン１００部に溶解して、ハードコート層形成用塗液１（４級アンモニウム塩含有塗料）を調製した。
【０１００】
次に、低屈折率層形成用塗液の調製例を示す。
【０１０１】
（低屈折率層形成用塗液１）
・多孔質シリカ微粒子分散液                                        １４．９４部
（平均粒子径５０ｎｍ、固形分２０％、溶剤メチルイソブチルケトン）
・ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                  １．９９部
（日本化薬（株）製、ＤＰＥＡ−１２）
・光重合開始剤                                                      ０．０７部
（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製、イルガキュア１８４）
・パーフルオロアルキル基・親水性基・親油性基含有オリゴマー          ０．２０部
（ＤＩＣ（株）製、メガファックＦ−４７０、固形分１００％）
・ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン                            １．００部
（ビックケミー・ジャパン（株）製、ＢＹＫ−３０７）
を用い、溶媒であるメチルイソブチルケトン１５０部で希釈して低屈折率層形成用塗液１を調製した。
【０１０２】
（低屈折率層形成用塗液２）
・多孔質シリカ微粒子分散液                                        ３４．５０部
（平均粒子径５０ｎｍ、固形分２０％、溶剤メチルイソブチルケトン）
・ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                  ６．００部
（日本化薬（株）製、ＤＰＥＡ−１２）
・光重合開始剤                                                      ０．１４部
（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製、イルガキュア１８４）
・パーフルオロアルキル基・親水性基・親油性基含有オリゴマー          １．４０部
（ＤＩＣ（株）製、メガファックＦ−４７０、固形分１００％）
・ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン                            ０．０２部
（ビックケミー・ジャパン（株）製、ＢＹＫ−３０７）
を用い、溶媒であるメチルイソブチルケトン４３０部で希釈して低屈折率層形成用塗液２を調製した。
【０１０３】
（低屈折率層形成用塗液３）
・多孔質シリカ微粒子分散液                                        １４．９４部
（平均粒子径５０ｎｍ、固形分２０％、溶剤メチルイソブチルケトン）
・ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                  １．９９部
（日本化薬（株）製、ＤＰＥＡ−１２）
・光重合開始剤                                                      ０．０７部
（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製、イルガキュア１８４）
・パーフルオロアルキレンエーテル基・親水性基・親油性基含有オリゴマー１．００部
（ダイキン工業（株）製、オプツールＤＡＣ−ＨＰ、固形分２０％）
・ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン                            １．００部
（ビックケミー・ジャパン（株）製、ＢＹＫ−３０７）
を用い、溶媒であるメチルイソブチルケトン１５０部で希釈して低屈折率層形成用塗液３を調製した。
【０１０４】
（低屈折率層形成用塗液４）
・多孔質シリカ微粒子分散液                                        １４．９４部
（平均粒子径５０ｎｍ、固形分２０％、溶剤メチルイソブチルケトン）
・ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                  １．９９部
（日本化薬（株）製、ＤＰＥＡ−１２）
・光重合開始剤                                                      ０．０７部
（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製、イルガキュア１８４）
・パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物                        １．００部
（ＤＩＣ（株）製、メガファックＦ−４４４、固形分１００％）
・ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン                            １．００部
（ビックケミー・ジャパン（株）製、ＢＹＫ−３０７）
を用い、溶媒であるメチルイソブチルケトン１５０部で希釈して低屈折率層形成用塗液４を調製した。
【０１０５】
（低屈折率層形成用塗液５）
・多孔質シリカ微粒子分散液                                        ３５．５０部
（平均粒子径５０ｎｍ、固形分２０％、溶剤メチルイソブチルケトン）
・ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                  ２．５１部
（日本化薬（株）製、ＤＰＥＡ−１２）
・光重合開始剤                                                      ０．３９部
（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製、イルガキュア１８４）
・パーフルオロアルキル基・親水性基・親油性基含有オリゴマー          ０．５０部
（ＤＩＣ（株）製、メガファックＦ−４７０、固形分１００％）
・ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン                            １．００部
（ビックケミー・ジャパン（株）製、ＢＹＫ−３０７）
を用い、溶媒であるメチルイソブチルケトン２５０部で希釈して低屈折率層形成用塗液５を調製した。
【０１０６】
（低屈折率層形成用塗液６）
・多孔質シリカ微粒子分散液                                        １４．９０部
（平均粒子径５０ｎｍ、固形分２０％、溶剤メチルイソブチルケトン）
・ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                  ３．０４部
（日本化薬（株）製、ＤＰＥＡ−１２）
・光重合開始剤                                                      ０．１１部
（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製、イルガキュア１８４）
・パーフルオロアルキル基・親水性基・親油性基含有オリゴマー          ０．２０部
（ＤＩＣ（株）製、メガファックＦ−４７０、固形分１００％）
・ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン                            １．００部
（ビックケミー・ジャパン（株）製、ＢＹＫ−３０７）
を用い、溶媒であるメチルイソブチルケトン２５０部で希釈して低屈折率層形成用塗液６を調製した。
【０１０７】
（低屈折率層形成用塗液７）
・多孔質シリカ微粒子分散液                                        １４．９４部
（平均粒子径５０ｎｍ、固形分２０％、溶剤メチルイソブチルケトン）
・ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                  ０．９９部
（日本化薬（株）製、ＤＰＥＡ−１２）
・フッ素基含有多官能アクリレート                                    １．００部
（共栄社化学社製、ＬＩＮＣ−３Ａ）
・光重合開始剤                                                      ０．０７部
（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製、イルガキュア１８４）
・パーフルオロアルキル基・親水性基・親油性基含有オリゴマー          ０．２０部
（ＤＩＣ（株）製、メガファックＦ−４７０、固形分１００％）
・ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン                            １．００部
（ビックケミー・ジャパン（株）製、ＢＹＫ−３０７）
を用い、溶媒であるメチルイソブチルケトン１５０部で希釈して低屈折率層形成用塗液７を調製した。
【０１０８】
（低屈折率層形成用塗液８）
・多孔質シリカ微粒子分散液                                        １８．９７部
（平均粒子径５０ｎｍ、固形分２０％、溶剤メチルイソブチルケトン）
・ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                  ２．８４部
（日本化薬（株）製、ＤＰＥＡ−１２）
・光重合開始剤                                                      ０．０７部
（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製、イルガキュア１８４）
・パーフルオロアルキル基・親水性基・親油性基含有オリゴマー          ０．０３部
（ＤＩＣ（株）製、メガファックＦ−４７０、固形分１００％）
・ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン                            １．００部
（ビックケミー・ジャパン（株）製、ＢＹＫ−３０７）
を用い、溶媒であるメチルイソブチルケトン１８７部で希釈して低屈折率層形成用塗液８を調製した。
【０１０９】
（低屈折率層形成用塗液９）
・多孔質シリカ微粒子分散液                                        １３．２１部
（平均粒子径５０ｎｍ、固形分２０％、溶剤メチルイソブチルケトン）
・ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                  ２．８９部
（日本化薬（株）製、ＤＰＥＡ−１２）
・光重合開始剤                                                      ０．０７部
（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製、イルガキュア１８４）
・パーフルオロアルキル基・親水性基・親油性基含有オリゴマー          ０．１０部
（ＤＩＣ（株）製、メガファックＦ−４７０、固形分１００％）
・ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン                            ０．１５部
（ビックケミー・ジャパン（株）製、ＢＹＫ−３０７）
を用い、溶媒であるメチルイソブチルケトン１８０部で希釈して低屈折率層形成用塗液９を調製した。
【０１１０】
（低屈折率層形成用塗液１０）
・多孔質シリカ微粒子分散液                                        １４．３０部
（平均粒子径５０ｎｍ、固形分２０％、溶剤メチルイソブチルケトン）
・ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                  ２．８９部
（日本化薬（株）製、ＤＰＥＡ−１２）
・光重合開始剤                                                      ０．０７部
（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製、イルガキュア１８４）
・パーフルオロアルキル基・親水性基・親油性基含有オリゴマー          １．００部
（ＤＩＣ（株）製、メガファックＦ−４７０、固形分１００％）
・ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン                            ０．２０部
（ビックケミー・ジャパン（株）製、ＢＹＫ−３０７）
を用い、溶媒であるメチルイソブチルケトン１８０部で希釈して低屈折率層形成用塗液１０を調製した。
【０１１１】
（実施例１）
図１に示す構成の反射防止フィルム１を製造した。透明基材１１には、膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム（株）製）を用いた。
【０１１２】
（１）ハードコート層の形成
透明基材１１上に、ハードコート層形成用塗液１を塗布し、６０℃で６０秒間オーブンにて乾燥し、乾燥後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムズジャパン（株）製、光源Ｈバルブ）を用い、照射線量３００ｍＪ／ｍ2で紫外線照射を行うことにより、乾燥膜厚５μｍの透明なハードコート層１２を形成した。
【０１１３】
（２）低屈折率層の形成
前記ハードコート層１２上に、低屈折率層形成用塗液１を塗布し、６０℃で６０秒間オーブンにて乾燥し、乾燥後、窒素ガス雰囲気下にて前記紫外線照射装置を用い、照射線量３００ｍＪ／ｍ2で紫外線照射を行うことにより、乾燥膜厚０．１μｍの低屈折率層１３を形成し、反射防止フィルム１を得た。
【０１１４】
（実施例２〜７）
低屈折率層形成用塗液１のかわりに、低屈折率層形成用塗液２〜７をそれぞれ用いたほかは、実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た。
【０１１５】
（比較例１〜３）
低屈折率層形成用塗液１のかわりに、低屈折率層形成用塗液８〜１０をそれぞれ用いたほかは、実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た。
【０１１６】
実施例１〜７および比較例１〜３で得られた反射防止フィルムについて、以下の方法で評価を行った。その結果を表１および表２に示す。
【０１１７】
（平均視感反射率）
得られた反射防止フィルムの低屈折率層表面について、自動分光光度計（（株）日立製作所製、Ｕ−４０００）を用い、入射角５°における分光反射率を測定した。得られた分光反射率曲線から平均視感反射率を求めた。なお、測定の際には、透明基材であるトリアセチルセルロースフィルムのうち低屈折率層が形成されていない面につや消し黒色塗料を塗布し、反射防止の処置を行った。
【０１１８】
（耐擦傷性）
得られた反射防止フィルムの表面を、スチールウール（日本スチールウール（株）製、ボンスター＃００００）にて荷重２００ｇ／ｃｍ2、５００ｇ／ｃｍ2で各１０回擦り、傷の有無を目視にて観察して評価した。また、鹸化液（５．０Ｎ  ＫＯＨ）に３分間浸漬させた後に、同様に傷の有無を目視にて観察して評価した。評価基準を以下に示す。
○：傷を確認することができない。
△：僅かに傷を確認することができる。
×：明確に傷を確認することができる。
【０１１９】
（Ｆ１ｓおよびＳｉ２ｐ）
得られた反射防止フィルムの低屈折率層表面について、Ｘ線光電子分光装置（日本電子（株）製、ＪＳＰ−９０ＳＸＶ）を用い、Ｆ１ｓおよびＳｉ２ｐを測定して両者の比率（Ｓｉ２ｐ／Ｆ１ｓ）を算出した。測定条件を以下に示す。
Ｘ線出力：２５Ｗ（１５ｋＶ）
測定エリア：１００μｍφ、
積算時間：ワイド８ｍｉｎ／ナロー１８ｍｉｎ
【０１２０】
（表面抵抗値）
得られた反射防止フィルムの低屈折率層表面の表面抵抗値を、ＪＩＳ  Ｋ  ６９１１に記載の方法に準拠して測定した。
【０１２１】
（水接触角）
乾燥状態（温度２０℃、相対湿度６５％）で直径１．８ｍｍの水からなる液滴を針先に作り、これを得られた反射防止フィルムの低屈折率層の表面に接触させ、接触角計（協和界面科学（株）製、ＣＡ−Ｘ型）を用いて水接触角を測定した。水接触角とは、低屈折率層表面と液体とが接触する点における、液体表面に対する接線と低屈折率層表面とがなす角であり、液体を含む側の角度で定義した。
【０１２２】
なお、表１および表２には、低屈折率層形成用塗液の固形分中の、表面調整剤（フッ素含有化合物およびケイ素含有化合物）の含有量も併せて示す。
【０１２３】
【表１】
2013210583.tif 000007
【表２】
2013210583.tif 000008
【０１２４】
表１および表２に示す結果から、実施例１〜７のように、低屈折率層にフッ素含有化合物およびケイ素含有化合物を含む表面調整剤を含有させ、かつ、低屈折率層表面のＦ１ｓとＳｉ２ｐとの比（Ｓｉ２ｐ／Ｆ１ｓ）を４．０〜３０．０の範囲とすることにより、鹸化処理前の耐擦傷性が良好で、鹸化処理後も鹸化処理前の耐擦傷性を維持することが可能であり、鹸化液に対する耐性に優れた反射防止フィルムを得ることができることが分かる。
【産業上の利用可能性】
【０１２５】
本発明の反射防止フィルムは、例えば、ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、プロジェクションディスプレイ、ＥＬディスプレイ等のディスプレイの表示画面に好適に用いることができる。
【符号の説明】
【０１２６】
１      反射防止フィルム
１１    透明基材
１２    ハードコート層
１３    低屈折率層
２      第１の偏光板
２’    第１の偏光板
２１    透明基材
２２    透明基材
２３    偏光層
２００  反射防止性偏光板
２１０  反射防止性偏光板
３      液晶セル
４      第２の偏光板
４１    透明基材
４２    透明基材
４３    偏光層
５      バックライトユニット
【図１】
2013210583.tif 000009
【図２】
2013210583.tif 000010
【図３】
2013210583.tif 000011