(57)【要約】【課題】正常細胞の破壊を軽減しつつ、治療効果の高い放射線ビームを広範囲に照射することができる放射線照射装置、プログラム及び放射線照射方法を提供する。【解決手段】放射線ビームを出射する放射線出射装置と、放射線出射装置に対して放射線ビームの出射方向下流側に配置され、入射した放射線ビームを通過させる複数のスリットを有するとともに複数のスリット以外に入射した放射線ビームを遮蔽する放射線遮蔽体と、放射線ビームの照射対象である第１領域に対して、放射線遮蔽体を通過した放射線ビームの照射領域である第２領域が相対的に移動するように第１領域及び第２領域の少なくとも一方を移動させる制御を行うと共に、移動前後でスリットを通過した放射線ビームの一部が重なるように放射線ビームを照射する制御を行う制御手段（Ｓ１１５）とを具備する。【選択図】図６
2013138694.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射線ビームを出射する放射線出射装置と、
前記放射線出射装置に対して前記放射線ビームの出射方向下流側に配置され、入射した放射線ビームを通過させる複数のスリットを有するとともに前記複数のスリット以外に入射した放射線ビームを遮蔽する放射線遮蔽体と、
前記放射線ビームの照射対象である第１領域に対して、前記放射線遮蔽体を通過した前記放射線ビームの照射領域である第２領域が相対的に移動し、かつ移動前後で前記スリットを通過した放射線ビームの一部が重なるように前記第１領域及び前記第２領域の少なくとも一方を移動させる制御を行う制御手段と、
を具備する放射線照射装置。
【請求項２】
前記制御手段は、前記移動する制御を行う際に、当該移動の前後で前記スリットを通過した放射線ビームの一部が前記スリットの長手方向に重なるように制御を行う
請求項１記載の放射線照射装置。
【請求項３】
前記制御手段は、前記移動する制御を行う際に、当該移動の前後で前記第２領域を前記放射線ビームの出射方向を中心として９０度ずつ回転させるように制御を行う
請求項１記載の放射線照射装置。
【請求項４】
前記制御手段は、前記放射線遮蔽体を回転させることにより前記第２領域の回転の制御を行う
請求項３記載の放射線照射装置。
【請求項５】
前記制御手段は、前記放射線ビームの照射対象者が保持される保持体を移動させることにより前記第２領域の移動の制御を行う
請求項１乃至４のいずれか１項記載の放射線照射装置。
【請求項６】
前記複数のスリットは、当該スリット面の延長面上に前記放射線ビームの焦点が位置するように前記放射線遮蔽体に形成されている
請求項１乃至５の何れか１項記載の放射線照射装置。
【請求項７】
前記放射線遮蔽体は、前記第２領域を矩形状の領域となるように形成する
請求項１乃至６の何れか１項記載の放射線照射装置。
【請求項８】
前記第１領域が前記第２領域より広いか否かを判定する判定手段をさらに備え、
前記制御手段は、前記判定手段により前記第１領域が前記第２領域より広いと判定された場合、前記第１領域を、前記第２領域に対応する大きさの複数の領域に、隣接する当該複数の領域が各々重なり合うように分割した各分割領域が前記第２領域となるように、前記移動する制御を行う
請求項１乃至７の何れか１項記載の放射線照射装置。
【請求項９】
コンピュータを、
放射線出射装置から出射された放射線ビームの照射対象とする第１領域が、前記放射線出射装置に対して前記放射線ビームの出射方向下流側に配置され、入射した放射線ビームを通過させる複数のスリットを有するとともに前記複数のスリット以外に入射した放射線ビームを遮蔽する放射線遮蔽体を通過した前記放射線ビームの照射領域である第２領域が相対的に移動し、かつ移動前後で前記スリットを通過した放射線ビームの一部が重なるように前記第１領域及び第２領域の少なくとも一方を移動させる制御を行う制御手段、
として機能させるためのプログラム。
【請求項１０】
コンピュータを、
前記制御手段による移動の際、前記第２領域の位置の移動前後で前記放射線遮蔽体を前記放射線ビームの出射方向を中心として９０°ずつ回転させる回転制御手段
としてさらに機能させる請求項９記載のプログラム。
【請求項１１】
放射線出射装置から出射された放射線ビームの照射対象とする第１領域が、前記放射線出射装置に対して前記放射線ビームの出射方向下流側に配置され、入射した放射線ビームを通過させる複数のスリットを有するとともに前記複数のスリット以外に入射した放射線ビームを遮蔽する放射線遮蔽体を通過した前記放射線ビームの照射領域である第２領域が相対的に移動し、かつ移動前後で前記スリットを通過した放射線ビームの一部が重なるように前記第１領域及び第２領域の少なくとも一方を移動させる制御を行う制御ステップ
を備えた放射線照射方法。
【請求項１２】
前記制御ステップによる移動の際、前記第２領域の位置の移動前後で前記放射線遮蔽体を前記放射線ビームの出射方向を中心として９０°ずつ回転させる回転制御ステップ
をさらに備えた請求項１１記載の放射線照射方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、放射線を照射する放射線照射装置、当該放射線照射装置により実行されるプログラム、及び当該放射線照射装置における放射線照射方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
放射線を用いた治療法として、特許文献１には、多葉コリメータを用いた粒子線治療装置において、多葉コリメータのリーフ開口部の形状を容易に精度良く確認することが可能な粒子線治療装置が開示されている（特許文献１参照）。この粒子線治療装置は、粒子線の照射方向に対して多葉コリメータの上流側に第一照明手段と第二照明手段及び撮影手段を設け、回転角度検出手段により検出された多葉コリメータの回転角度情報をもとに２つの照明手段の入り切りを照明制御手段により制御することにより、リーフによる照明光の強い乱反射を抑制することができるようにしている。
【０００３】
ところで、近年、がんの治療法として、Ｘ線ビームを幅がμｍ単位のスリットを通過させて得られるマイクロビームを生成し、このマイクロビームを腫瘍に対して照射する治療法（所謂ＭＲＴ；Microbeam Radiation Therapy）が提案されている。このＭＲＴでは、正常細胞をほとんど破壊せずにがん細胞を破壊することができるという優れた治療効果が得られることが様々な実験により報告されている。
【０００４】
このＭＲＴに関する技術として、非特許文献１及び２には、高エネルギーの電子等の荷電粒子が磁場中でローレンツ力により曲がるときに電磁波を放射する現象を利用し、この放射された電磁波である放射光（Ｘ線ビーム）を複数の線状の放射線遮蔽スリットを通過させることで、ＭＲＴ用のＸ線ビームを生成する手法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１０−６８９０８号公報
【非特許文献】
【０００６】
【非特許文献１】“スリット状マイクロビームに対する細胞致死効果とその回復現象におけるがん抑制遺伝子p53正常型がん細胞と異常型がん細胞の違い”、［online］、平成２２年、［平成２３年９月３０日検索］、インターネット＜ URL ：http://www.spring8.or.jp/pdf/ja/MBTU/H20/14.pdf＞
【非特許文献２】“ マイクロビーム治療に関する基礎研究”、放医研ニュース, No. 134、［online］、平成２０年、［平成２３年９月３０日検索］、インターネット＜ URL ：http://www.nirs.go.jp/report/nirs_news/200801/hik10p.htm＞
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上記非特許文献１及び２に開示されているＭＲＴの技術では、上述したように正常細胞をほとんど破壊せずにがん細胞を破壊することはできるが、生成可能なＸ線ビームの進行方向に対して垂直な方向における断面視形状の大きさには制限がある。よって、ＭＲＴによる放射線治療を行う場合に、腫瘍の大きさが上記断面視形状よりも広範囲である状況が考えられ、このような状況では、腫瘍全体に対する放射線治療を行うことができない、という問題があった。
【０００８】
本発明は上記問題に鑑みてなされたものであり、正常細胞の破壊を軽減しつつ、治療効果の高い放射線ビームを広範囲に照射することができる放射線照射装置、プログラム及び放射線照射方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するために、請求項１記載の放射線照射装置は、放射線ビームを出射する放射線出射装置と、前記放射線出射装置に対して前記放射線ビームの出射方向下流側に配置され、入射した放射線ビームを通過させる複数のスリットを有するとともに前記複数のスリット以外に入射した放射線ビームを遮蔽する放射線遮蔽体と、前記放射線ビームの照射対象である第１領域に対して、前記放射線遮蔽体を通過した前記放射線ビームの照射領域である第２領域が相対的に移動し、かつ移動前後で前記スリットを通過した放射線ビームの一部が重なるように前記第１領域及び前記第２領域の少なくとも一方を移動させる制御を行う制御手段と、を具備している。
【００１０】
請求項１に記載の放射線照射装置によれば、放射線出射装置により、放射線ビームが出射される。また、前記放射線出射装置に対して前記放射線ビームの出射方向下流側に配置され、入射した放射線ビームを通過させる複数のスリットを有する放射線遮蔽体により、入射した前記放射線ビームのうち、前記複数のスリットに入射した放射線ビームが通過されるとともに前記複数のスリット以外に入射した放射線ビームが遮蔽される。
【００１１】
ここで、本発明では、制御手段により、前記放射線ビームの照射対象である第１領域に対して、前記放射線遮蔽体を通過した前記放射線ビームの照射領域である第２領域が相対的に移動し、かつ移動前後で前記スリットを通過した放射線ビームの一部が重なるように前記第１領域及び前記第２領域の少なくとも一方を移動させる制御が行われる。
【００１２】
すなわち、ＭＲＴ用の放射線ビームは、複数のスリットを通過することにより複数の面状の放射線ビームにより構成されるため、当該放射線ビームのビームプロファイルにおいて山（放射線遮蔽体のスリットの部分に相当し、入射した放射線ビームが複数のスリットを通過することにより相対放射線強度が高い部分；以下、ピーク部分ともいう。）と谷（放射線遮蔽体のスリット以外の部分に相当し、入射したＸ線ビームが遮蔽されることにより相対放射線強度が低い部分；以下、バレイ部分ともいう。）が複数形成され、この山と谷との比（以下、ＰＶ比という。）が大きいほど治療効果が高いことが近年のＭＲＴ技術の研究により見出されている。そこで、本発明では、前記放射線ビームの照射対象である第１領域に対して、前記放射線遮蔽体を通過した前記放射線ビームの照射領域である第２領域が相対的に移動し、かつ、移動前後で前記スリットを通過した放射線ビームの一部が重なるように前記第１領域及び前記第２領域の少なくとも一方を移動させる制御が行われ、この制御によって複数の第２領域が重なり合った領域においてもＰＶ比が大きくなるようにしている。
【００１３】
このように、請求項１記載の放射線照射装置によれば、複数の第２領域が重なり合った領域においてもＰＶ比を大きくすることができる結果、正常細胞の破壊を軽減しつつ、治療効果の高い放射線ビームを広範囲に照射することができる。
【００１４】
なお、本発明は、請求項２に記載の発明のように、前記制御手段が、前記移動する制御を行う際に、当該移動の前後で前記スリットを通過した放射線ビームの一部が前記スリットの長手方向に重なるように制御を行うようにしても良い。これにより、治療対象領域における放射線ビームの非照射領域の発生を防止することができる結果、治療効果をより高めることができる。
【００１５】
ところで、第２領域の位置を移動する際、上述したように、ＰＶ比を大きくするために、各分割領域に対して連続的かつスリットを通過した放射線ビームの当該スリットの長手方向に対する位置が重なるように、正確に移動させることが望ましい
【００１６】
しかし、機械的な誤差や患者の体動等により必ずしもスリットを通過した放射線ビームの当該スリットの長手方向に対する位置が重なるように移動できるとは限らない。位置がずれた場合には第２領域が重なり合う領域においてピークが分散してしまい、位置がずれない場合と比較して、ピーク部分の放射線強度が低くなりバレイ部分の放射線強度が高くなることによりＰＶ比が低下してしまう、という問題があった。
【００１７】
そこで、本発明は、請求項３に記載の発明のように、前記制御手段が、前記移動する制御を行う際に、当該移動の前後で前記第２領域を前記放射線ビームの出射方向を中心として９０度ずつ回転させるように制御を行うようにしても良い。これにより、隣接する第２領域間でスリットの長手方向に対する位置がずれた場合であっても、ピーク部分の放射線強度を高くしバレイ部分の放射線強度を低くすることができるため、より確実に治療効果の高い治療用放射線ビームを照射することができる。
【００１８】
特に、請求項３に記載の発明は、請求項４に記載の発明のように、前記制御手段が、前記放射線遮蔽体を回転させることにより前記第２領域の回転の制御を行うようにしても良い。これにより、放射線ビームの被照射体を回転させる場合と比較して、より簡易に第２領域を回転させることができる。
【００１９】
また、本発明は、請求項５に記載の発明のように、前記制御手段が、前記放射線ビームの照射対象者が保持される保持体を移動させることにより前記第２領域の移動の制御を行うようにしても良い。これにより、放射線ビームの位置を移動させる場合と比較して、より簡易に第２領域を移動させることができる。
【００２０】
また、本発明は、請求項６に記載の発明のように、前記複数のスリットが、当該スリット面の延長面上に前記放射線ビームの焦点が位置するように前記放射線遮蔽体に形成されているようにしても良い。これにより、スリット面の延長面上に放射線ビームの焦点が位置しない場合と比較して、出射された放射線ビームをより有効に利用することができる。
【００２１】
また、本発明は、請求項７に記載の発明のように、前記放射線遮蔽体が、前記第２領域を矩形状の領域となるように形成するようにしても良い。これにより、第２領域が重なり合う領域を小さくすることができる。
【００２２】
また、本発明は、請求項８に記載の発明のように、前記第１領域が前記第２領域より広いか否かを判定する判定手段をさらに備え、前記制御手段が、前記判定手段により前記第１領域が前記第２領域より広いと判定された場合、前記第１領域を、前記第２領域に対応する大きさの複数の領域に、隣接する当該複数の領域が各々重なり合うように分割した各分割領域が前記第２領域となるように、前記移動する制御を行うようにしても良い。これにより、治療対象領域における放射線ビームの非照射領域の発生を防止することができる結果、治療効果をより高めることができる。
【００２３】
一方、上記目的を達成するために、請求項９に記載のプログラムは、コンピュータを、放射線出射装置から出射された放射線ビームの照射対象とする第１領域が、前記放射線出射装置に対して前記放射線ビームの出射方向下流側に配置され、入射した放射線ビームを通過させる複数のスリットを有するとともに前記複数のスリット以外に入射した放射線ビームを遮蔽する放射線遮蔽体を通過した前記放射線ビームの照射領域である第２領域が相対的に移動し、かつ移動前後で前記スリットを通過した放射線ビームの一部が重なるように前記第１領域及び第２領域の少なくとも一方を移動させる制御を行う制御手段と、として機能させる。
【００２４】
従って、請求項９に記載のプログラムによれば、コンピュータを請求項１に記載の発明と同様に作用させることができるので、請求項１に記載の発明と同様に、正常細胞の破壊を軽減しつつ、治療効果の高い放射線ビームを広範囲に照射することができる。
【００２５】
なお、請求項９に記載の発明は、請求項１０に記載の発明のようには、コンピュータを、前記制御手段による移動の際、前記第２領域の位置の移動前後で前記放射線遮蔽体を前記放射線ビームの出射方向を中心として９０°ずつ回転させる回転制御手段としてさらに機能させるようにしても良い。これにより、請求項３に記載の発明と同様に、より確実に治療効果の高い治療用放射線ビームを照射することができる。
【００２６】
一方、上記目的を達成するために、請求項１１に記載の放射線照射方法は、放射線出射装置から出射された放射線ビームの照射対象とする第１領域が、前記放射線出射装置に対して前記放射線ビームの出射方向下流側に配置され、入射した放射線ビームを通過させる複数のスリットを有するとともに前記複数のスリット以外に入射した放射線ビームを遮蔽する放射線遮蔽体を通過した前記放射線ビームの照射領域である第２領域が相対的に移動し、かつ移動前後で前記スリットを通過した放射線ビームの一部が重なるように前記第１領域及び第２領域の少なくとも一方を移動させる制御を行う制御ステップを備えている。
【００２７】
従って、請求項１１に記載の放射線照射方法によれば、請求項１に記載の発明と同様に作用するので、請求項１に記載の発明と同様に、正常細胞の破壊を軽減しつつ、治療効果の高い放射線ビームを広範囲に照射することができる。
【００２８】
なお、請求項１１に記載の発明は、請求項１２に記載の発明のように、前記制御ステップによる移動の際、前記第２領域の位置の移動前後で前記放射線遮蔽体を前記放射線ビームの出射方向を中心として９０°ずつ回転させる回転制御ステップをさらに備えるようにしても良い。これにより、請求項３に記載の発明と同様に、より確実に治療効果の高い治療用放射線ビームを照射することができる。
【発明の効果】
【００２９】
本発明によれば、正常細胞の破壊を軽減しつつ、治療効果の高い放射線ビームを広範囲に照射することができる、という効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】実施形態に係るＸ線照射装置の全体の構成を示す構成図である。
【図２】実施形態に係る遮蔽体の外観を示す斜視図である。
【図３】実施形態に係るＸ線照射装置において、電子ビームがターゲットに衝突して生成されたＸ線ビームが遮蔽体の複数のスリットを通過する様子を示す図であり、（Ａ）は、概略上面図であり、（Ｂ）は、概略側面図である。
【図４】（Ａ）は、実施形態に係るＸ線照射装置において、遮蔽体の複数のスリットを通過したＸ線ビームの進行方向に対して垂直な方向における断面視形状の一例を示す図であり、（Ｂ）は、実施形態に係るＸ線照射装置において、遮蔽体の複数のスリットを通過したＸ線ビームのｘ軸方向における位置と相対Ｘ線強度との関係を示すグラフである。
【図５】実施形態に係るＸ線照射装置において、遮蔽体の複数のスリットを通過したＸ線ビームのビームプロファイルの一例を示す図である。
【図６】第１実施形態に係るＸ線照射処理プログラムの処理の流れを示すフローチャートである。
【図７】第１実施形態に係るＸ線照射処理の説明に供する概略上面図である。
【図８】第１実施形態に係るＸ線照射装置において、腫瘍においてＸ線ビームが複数回に分割して照射される様子を示す正面図である。
【図９】第１実施形態に係るＸ線照射装置において、一例として複数回に（照射対象領域を縦２回×横２回に）分割して面状のＸ線ビームの位置が各々重なるように照射を行った場合の重なり部分のｘ軸方向における相対Ｘ線強度を示す図である。
【図１０】実施形態に係るＸ線照射装置において、一例として複数回に（照射対象領域を縦２回×横２回の４回に）分割して面状のＸ線ビームの位置が各々スリット間ピッチの半分の距離だけずれるように照射を行った場合の重なり部分のｘ軸方向における相対Ｘ線強度を示す図である。
【図１１】第２実施形態に係るＸ線照射処理プログラムの処理の流れを示すフローチャートである。
【図１２】第２実施形態に係るＸ線照射処理の説明に供する概略上面図である。
【図１３】第２実施形態に係るＸ線照射装置において、腫瘍に対してＸ線ビームが複数回に分割されて照射される様子を示す図である。
【図１４】第２実施形態に係るＸ線照射装置において、一例として複数回に（照射対象領域を縦２回×横２回の４回に）分割して面状のＸ線ビームの位置が各々重なるように照射を行った場合の重なり部分のｘ軸方向における相対Ｘ線強度を示す図である。
【図１５】第２実施形態に係るＸ線照射装置において、一例として複数回に（照射対象領域を縦２回×横２回の４回に）分割して面状のＸ線ビームの位置が各々スリット間ピッチの半分の距離だけずれるように照射を行った場合の重なり部分のｘ軸方向における相対Ｘ線強度を示す図である。
【図１６】（Ａ）は、実施形態に係るＸ線照射装置において、腫瘍に対してＸ線ビームＸが照射される様子の別例を示す正面図であり、（Ｂ）は、当該別例において使用される遮蔽体の外観の一例を示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００３１】
〔第１実施形態〕
以下、第１実施形態に係る放射線照射装置について添付図面を用いて詳細に説明する。なお、第１実施形態に係る放射線照射装置は、電子ビームを金属ターゲットに衝突させることにより発生する制動Ｘ線を放射線ビームとして照射するＸ線照射装置１であるが、これに限定されず、他の方法で生成したＸ線ビームを照射するＸ線照射装置であっても、Ｘ線ビーム以外の他の放射線ビームを照射する放射線照射装置であっても良い。
【００３２】
図１は、第１実施形態に係るＸ線照射装置１の全体の構成を示す構成図である。図１に示すように、Ｘ線照射装置１は、電子ビームｅを生成する電子銃２ａ、生成した電子ビームｅを加速させる加速器２ｂ、及び、加速させた電子ビームｅを外部に誘導するビームダクト２を備えている。
【００３３】
また、Ｘ線照射装置１は、ＣＰＵ（Central Processing Unit）、ＲＡＭ（Random Access Memory）、ＲＯＭ（Read Only Memory）を有する制御装置３を備えている。制御装置３は、ＣＰＵの制御により、電子銃２ａによる電子ビームｅの生成、加速器２ｂにより加速される電子ビームｅのビーム電流、ビーム速度及びビーム径の測定、及びそれらの測定値に応じたソレノイドコイルによる磁場調整等の制御を行うとともに、後述する遮蔽体６の回転の制御、寝台７の移動の制御を行う。なお、電子銃２ａ及び加速器２ｂに関する制御は一般的な電子銃及び加速器において現在行われている制御であるため、説明を省略する。
【００３４】
ビームダクト２の電子ビームｅの出口付近には、Ｔｉ、Ｂｅ等の薄い金属板で形成された電子出射窓４が設けられている。ビームダクト２の内部は真空に保たれており、電子出射窓４は、ビームダクト２の内部に空気が進入して電子の動きが妨げられることを防止するためにビームダクト２の内部と外界とを仕切っている。そして、ビームダクト２の内部に到達した電子ビームｅは、電子出射窓４を介して外部に出射される。
【００３５】
ビームダクト２の電子ビームｅの出射方向（以下、ｚ軸方向ともいう。）の下流側には、ターゲット５が設けられている。ターゲット５は、Ｗ、Ｔａ等の重金属で形成され、電子出射窓４を介して照射された電子ビームｅとターゲット５とが衝突した際に、当該衝突に応じて制動Ｘ線が発生する。発生した制動Ｘ線は、衝突点の前方（電子ビームｅの出射方向において上流から下流に向かう方向）に円錐状に広がってＸ線ビームとして放射される。
【００３６】
ターゲット５のＸ線ビームＸの出射方向の下流側には、Ｘ線ビームＸの一部を通過させる複数のスリット６ａを有する遮蔽体６が設けられている。複数のスリット６ａは、各々のスリット６ａの入口部の幅（短手方向の長さ）が、Ｘ線ビームＸのビーム径より小さく、複数のスリット６ａ全体としてＸ線ビームのビーム径より大きくなり、かつ各々がＸ線ビームＸの出射方向に対して略平行になるように形成されている。
【００３７】
また、遮蔽体６は、遮蔽体６をＸ線ビームＸの出射方向の中心線を中心軸として回転駆動させる、モータを主構成とする回転駆動装置６ｂを備えており、回転駆動装置６ｂは制御装置３により制御される。
【００３８】
図２は、第１実施形態に係る遮蔽体６の外観を示す斜視図である。図２に示すように、本実施形態に係る遮蔽体６は、全体として概略直方体とされ、Ｘ線ビームＸを遮蔽する能力が高い重金属（本実施形態では、Ｗ）で構成された複数の遮蔽ユニット６ｃが複数組み合わされて構成されている。本実施形態に係る遮蔽体６では、複数の遮蔽ユニット６ｃが、相互間の隙間によりスリット状の間隙が設けられるように配置されており、当該間隙によってＸ線ビームＸを通過させるスリット６ａが形成されている。遮蔽体６に入射したＸ線ビームＸのうちのスリット６ａに入射したＸ線ビームＸは、遮蔽体６のスリット６ａを通過して遮蔽体６の背部に到達するが、遮蔽ユニット６ｃに入射したＸ線ビームＸは、当該遮蔽ユニット６ｃに遮蔽されて遮蔽体６の背部まで到達しない。
【００３９】
また、遮蔽体６の複数のスリット６ａの各々は、スリット面の延長面上にＸ線ビームＸの焦点が位置するとともに各々スリット面が異なる方向となるように設けられている。このようにＸ線ビームＸの放射方向に合わせてスリット６ａが設けられることにより、Ｘ線ビームＸがコーン状に拡がっていても、平行ビームと同等の面状ビーム変換効率が得られる。
【００４０】
なお、本実施形態に係るＸ線照射装置１では、複数のスリット６ａが、各々隣接する遮蔽ユニット６ｃ間の間隙である例を示したが、これに限定されず、Ｘ線透過性を有する素材をストライプ状に設けることにより形成されていても良い。この場合には、隣接する遮蔽ユニット６ｃ間に、上記間隙の代わりに当該素材が配置される。
【００４１】
Ｘ線ビームを人のがん治療に用いる場合には高エネルギーのＸ線ビームが必要となるが、放射されたＸ線ビームをＭＲＴ用の面状ビームとするためにはタングステンなどの重金属を用いても厚さ（Ｘ線ビームＸの出射方向における長さ）１０ｃｍ程度の遮蔽体が必要となる。その厚みの遮蔽体にμｍ単位の幅（短手方向における長さ）で通り抜けるスリットを製作することは現在の技術では非常に難しい。そこで、この問題を解決するために、遮蔽体６を、平板状の遮蔽ユニットと平板状の補助部材とを複数組み合わせることで形成しても良い。当該補助部材は、ポリイミドフィルム等のＸ線に対する遮蔽効果が低い素材で形成されていて、遮蔽体６のうちの補助部材が設けられた領域に入射したＸ線ビームＸは、遮蔽されずに遮蔽体６の背部に到達する。これにより、遮蔽体６に間隙を設ける場合と比較して、より簡易に遮蔽体６を製作することができる。
【００４２】
遮蔽体６のＸ線ビームＸの出射方向の下流側には、Ｘ線ビームＸによる放射線治療を受ける患者Ｋを横たわらせるための寝台７（照射対象者を保持する保持体に対応）が設置されている。また、寝台７は、Ｘ線ビームＸの出射方向に対して垂直な平面上において寝台７を移動させるためのモータを主構成とする移動駆動装置７ａを備えていて、移動駆動装置７ａは制御装置３により制御される。本実施形態に係るＸ線照射装置１では、移動駆動装置７ａは、寝台７を、Ｘ線ビームＸの出射方向に対して垂直な予め定められた方向（以下、ｘ軸方向という。）、及びＸ線ビームＸの出射方向に対して垂直でかつ当該予め定められた方向に対して垂直な方向（以下、ｙ軸方向という。）に移動させることができる。
【００４３】
なお、本実施形態に係るＸ線照射装置１では、Ｘ線ビームＸの出射方向が重力方向であり、寝台７の移動方向が寝台７が設けられた床面に対して平行な方向（水平方向）であるものとする。本実施形態に係るＸ線照射装置１では、患者Ｋが寝台７に載置された状態で寝台７を移動させながら患者Ｋの腫瘍Ｃに対してＸ線ビームＸを照射することにより、腫瘍Ｃの全体領域に対するＭＲＴが行われる。
【００４４】
このように、本実施形態に係るＸ線照射装置１では、Ｘ線ビームＸをスリット６ａを有する遮蔽体６に照射し、照射されたＸ線ビームＸのうちのスリット６ａを通過した面状のＸ線ビームＸを患者Ｋに照射することにより、ＭＲＴによる放射線治療を行うことができる。
【００４５】
本発明者らの鋭意検討の結果、Ｘ線ビームＸを用いてＭＲＴを行う場合、照射する面状のＸ線ビームの厚さが２０μｍ以上１ｍｍ以下とするとほとんどの組織に破壊を発生させることなく細胞の核のみが消失する現象が発生することが判明しているので、スリット６ａの幅を２０μｍ以上１ｍｍ以下とすることが好ましい。
【００４６】
また同様に、本発明者らの鋭意検討の結果、ＭＲＴを行う場合には、電子ビームｅの線量は、スリット６ａを通過したＸ線ビームＸの線量が１Ｇｙ以上１０００Ｇｙ以下になるとともに、遮蔽体６のスリット６ａ以外の領域で完全に遮蔽されずに一部分透過したＸ線ビームＸの線量がスリット６ａを通過したＸ線ビームＸの線量の１／１０００以上１／１０以下となるように決定されると優れた治療効果が得られることが判明しているため、この条件を満足していることが望ましい。
【００４７】
図３は、第１実施形態に係るＸ線照射装置１において、電子ビームｅがターゲット５に衝突して生成されたＸ線ビームＸが遮蔽体６の複数のスリット６ａを通過する様子を示す図であり、図３（Ａ）は、概略上面図であり、図３（Ｂ）は、概略側面図である。図３（Ａ）及び（Ｂ）に示すように、遮蔽体６に入射したＸ線ビームＸは、複数のスリット６ａを通過することにより、ｙ軸方向及びｚ軸方向に伸びた面状のＸ線ビームＸとして、遮蔽体６のＸ線ビームＸの下流側に照射される。
【００４８】
図４（Ａ）は、第１実施形態に係るＸ線照射装置１において、遮蔽体６の複数のスリット６ａを通過したＸ線ビームＸの当該Ｘ線ビームＸの進行方向に対して垂直な方向における断面視形状の一例を示す図であり、図４（Ｂ）は、第１実施形態に係るＸ線照射装置１において、遮蔽体６の複数のスリット６ａを通過したＸ線ビームＸのｘ軸方向における位置と相対Ｘ線強度との関係を示すグラフである。
【００４９】
図４（Ａ）に示すように、遮蔽体６に入射したＸ線ビームＸは、当該Ｘ線ビームＸのうちスリット６ａに入射したＸ線ビームＸのみが遮蔽体６を通過するため、断面形状がスリット６ａの入口部の形状に略合致した形状である面状のＸ線ビームＸが形成される。また、図４（Ｂ）に示すように、遮蔽体６に入射したＸ線ビームＸは、ｘ軸方向において、スリット６ａが設けられている位置において鋭いピークを有する。さらに、Ｘ線ビームＸは、コーン状に拡がる際にビームの断面視中央側に多く放射されるため、図４（Ｂ）に示すように、断面視中央部のピーク部分における相対Ｘ線強度が高くなり、断面視端部側に向かってピーク部分における相対Ｘ線強度が低くなる。
【００５０】
図５は、第１実施形態に係るＸ線照射装置１において、遮蔽体６の複数のスリット６ａを通過したＸ線ビームＸのビームプロファイルの一例を示す図である。なお、図５に示した例では、遮蔽体６の複数のスリット６ａを通過した後の複数の面状のＸ線ビームＸが、各ピークの半値幅が２５μｍ、各ピーク間のピッチが２００μｍ、遮蔽体６により遮蔽された位置における相対Ｘ線強度が相対Ｘ線強度のピーク値の１％となっている。
【００５１】
ＭＲＴを行う場合には、通常の放射線治療と異なり、治療に使用されるＸ線ビームが予め定められた要件を満たす必要がある。当該予め定められた要件は、具体的には、ピーク部分とバレイ部分との比であるＰＶ比が１０：１以上であることである。
【００５２】
この予め定められた要件を満たすようなＸ線ビームを照射することにより、腫瘍細胞はバイスタンダー（bystander）効果（低線量の放射線を照射した場合に、放射線が直接当たっていない細胞にも影響が現れる効果）によりバレイ部分を含めて死滅し、正常細胞はピーク部分の死滅を除き、正常機能を保つような放射線治療を行うことができる。
【００５３】
また、ＭＲＴ用のＸ線ビームを生成する際、Ｘ線ビームの上記断面視形状には制限があるため、腫瘍細胞が上記断面視形状より大きい場合には、Ｘ線ビームＸを腫瘍細胞の全体に対して一度に照射することは困難であるが、照射対象とする領域（以下、「第１領域」ともいう。）を分割して複数回に分けて照射を行うことで、腫瘍細胞の全体に対して照射を行うことができる。そこで、本実施形態に係るＸ線照射装置１では、遮蔽体６のスリット６ａを通過したＸ線ビームＸの照射領域（以下、「第２領域」ともいう。）の位置をずらしながら複数回に分割して照射を行うこと（以下、「分割照射」ともいう。）で、腫瘍Ｃの全体にＸ線ビームＸを照射する。
【００５４】
この分割照射を行う際、隣接する各々の第２領域の間に隙間があった場合には、当該隙間にはＸ線ビームＸが照射されないため当該隙間部分においては治療効果が得られないこと、及び上述したように遮蔽体６の複数のスリット６ａを通過したＸ線ビームＸは、ビームの断面視端部側に向かってピーク部分におけるＸ線強度が低くなっていくことを考慮し、互いに隣接する第２領域の端部の一部領域を部分的に重ねることにより、照射ムラ（治療対象領域における非照射領域の発生や、上述したＭＲＴの要件を満たさない照射領域の発生）を低減することができる。
【００５５】
次に、本実施形態の作用を説明する。
【００５６】
図６は、第１実施形態に係るＸ線照射処理プログラムの処理の流れを示すフローチャートであり、当該プログラムは制御装置３に備えられた記録媒体であるＲＯＭの所定領域に予め記憶されている。また、図７は、第１実施形態に係るＸ線照射処理の説明に供する概略上面図である。図７において、第２領域Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３…の位置の移動をわかりやすくするため、患者Ｋ及び腫瘍Ｃの描画を省略している。
【００５７】
制御装置３のＣＰＵは、予め定められたタイミング（本実施形態では、実行する旨の指示入力が行なわれたタイミング）で、当該Ｘ線照射処理プログラムを実行する。なお、ここでは、錯綜を回避するために、患者Ｋを寝台７の上部に横たわらせた状態で治療を行う場合について説明する。
【００５８】
Ｘ線照射処理の実行に先立ち、放射線技師、医師等のＸ線照射装置１の操作者は、患者Ｋを寝台７の上で、かつ寝台７の移動駆動装置７ａによる移動可能範囲で寝台７を移動することにより、治療対象とする腫瘍Ｃの全域にＸ線ビームＸが照射可能な位置に横たわらせる。その後、操作者は、Ｘ線照射処理の実行を指示する指示情報を制御装置３に入力する。これにより、Ｘ線照射処理プログラムの実行が開始される。
【００５９】
Ｘ線照射処理プログラムの実行が開始されると、ステップＳ１０１において、ＣＰＵは、Ｘ線ビームＸの照射対象とする第１領域（本実施形態では、腫瘍Ｃの全体の領域）が、第２領域より広いか否かを判定する。この際、ＣＰＵは、患者Ｋの治療対象とする腫瘍Ｃの平面視外接矩形枠を第１領域とし、遮蔽体６のスリット６ａを通過したＸ線ビームＸの照射領域の平面視外接矩形枠を第２領域として相互に比較し、第２領域の少なくとも一つの辺が、当該辺に対応する第２領域の辺よりも長い場合には、第１領域が第２領域より狭いと判定する。
【００６０】
ステップＳ１０１において第１領域が第２領域より広くないと判定された場合、ステップＳ１０３において、ＣＰＵは、患者Ｋの治療対象とする腫瘍Ｃに対して通常のＭＲＴのＸ線照射を行って、Ｘ線照射処理を終了する。
【００６１】
ステップＳ１０１において第１領域が第２領域より広いと判定された場合、分割照射を行うために、ステップＳ１０５において、ＣＰＵは、寝台７の位置が予め定められた基準位置（以下、「ホームポジション」という。）に位置されるように移動駆動装置７ａを制御する。なお、本実施の形態に係るＸ線照射装置１では、上記ホームポジションとして、患者Ｋの治療対象とする腫瘍Ｃの平面視外接矩形枠の左上角点がＸ線照射装置１によって照射されたＸ線ビームＸの照射領域に含む位置を適用しているが、これに限るものではない。
【００６２】
ステップＳ１０７において、ＣＰＵは、ＭＲＴのＸ線照射を開始するようにＸ線照射装置１を制御し、次のステップＳ１０９において、腫瘍Ｃの種類や形状に応じて予め定められた１照射単位の照射が終了するまで待機する。この待機している間、図７（Ａ）に示すように、寝台７に横たえられている患者Ｋの腫瘍Ｃに対するホームポジションにおける第２領域Ｒ１にＸ線ビームＸが照射される。
【００６３】
１照射単位の照射が終了すると、次のステップＳ１１１において、ＣＰＵは、ステップＳ１０７にて開始させたＸ線照射を停止させる。Ｘ線照射を停止させる方法は、電子出射窓４から出射されるＸ線ビームＸを停止させる方法でも良く、あるいは、電子出射窓４とターゲット５との間に電子ビームｅを遮蔽する遮蔽体を一時的に設けたり、ターゲット５と遮蔽体６との間または遮蔽体６と患者Ｋとの間にＸ線ビームＸを遮蔽する遮蔽体を一時的に設けたりする方法でも良い。
【００６４】
ステップＳ１１３において、ＣＰＵは、患者Ｋの腫瘍Ｃの全体の領域においてＸ線ビームＸの照射が終了したか否かを判定する。この際、ＣＰＵは、制御装置３の入力装置により終了指示が入力されたことに基づいて照射が終了したものと判定する。あるいは、第２領域の形状に基づいて予め計算されて記憶されている照射回数と、その時点における照射回数と比較することで、照射が終了したものと判定しても良い。
【００６５】
ステップＳ１１３において照射が終了していないと判定された場合、ステップＳ１１５において、ＣＰＵは、寝台７の位置が移動するように移動駆動装置７ａを制御した上で、ステップＳ１０７に移行する。この際、ＣＰＵは、第２領域の位置を、第１領域を複数の領域に分割した各分割領域に対して、連続的かつ遮蔽体６の複数のスリット６ａを通過したＸ線ビームＸの当該スリットの長手方向に対応する位置が重なるように移動する。すなわち、前回のステップＳ１０７における第２領域と今回の第２領域とにおいて端部の一部分が重なり、かつ腫瘍Ｃの一部が今回の第２領域に含まれ、かつ各々の第２領域における面状のＸ線ビームＸが重なるように、寝台７の位置を移動させる。ステップＳ１０７において、ＣＰＵは、再びＸ線ビームＸの照射を行うことで、図７（Ｂ）に示すように、今回の第２領域Ｒ２が前回の第２領域Ｒ１と一部重なるようにＸ線ビームＸが照射される。
【００６６】
ステップＳ１１３において照射が終了するまでステップＳ１０７乃至Ｓ１１５の処理を繰り返すことで、図７（Ｃ）に示すように、互いに隣接する第２領域Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３…が各々重なるようにＸ線ビームＸの照射が順次行われる。
【００６７】
そして、ステップＳ１１３において照射が終了したと判定された場合、ＣＰＵは、Ｘ線照射処理プログラムの実行を終了する。
【００６８】
図８は、腫瘍ＣにおいてＸ線ビームＸが複数回に分割して照射される様子を示す正面図である。図８に示すように、各々の第２領域Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３…において互いに隣接する第２領域の一部が各々重なるようにして第２領域Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３…の位置をずらしながら複数回に分割して照射を行うことで、腫瘍Ｃの全体についてＸ線ビームＸの照射が行われる。また、各々の第２領域Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３…間で、スリット６ａを通過することにより面状に形成された各々のＸ線ビームＸがそれぞれ重なって一つの面状のＸ線ビームＸとなるようにＸ線ビームＸが照射される。
【００６９】
図９は、一例として複数回に（照射対象領域を縦２回×横２回に）分割して面状のＸ線ビームＸの位置が各々重なるように照射を行った場合の重なり部分のｘ軸方向における相対Ｘ線強度を示す図である。図９に示すように、複数の第２領域が重なり合った領域において、スリット６ａを通過することにより面状に形成された各々のＸ線ビームＸが各々繋がって一つの面状のＸ線ビームＸとなるようにして照射された場合、図９に示すグラフにおいて、当該複数の第２領域が重なり合った領域において、各々の第２領域におけるＸ線ビームＸのピークに対応する位置に、それぞれピーク部分が表れ、隣接する各々のピーク部分の間にバレイ部分が表れている。
【００７０】
ＭＲＴにおいて、Ｘ線ビームＸの相対Ｘ線強度は、ピーク部分のＸ線強度が適切で、かつバレイ部分のＸ線強度が低ければ低いほど優れた治療効果が得られる。よって、Ｘ線ビームＸの照射を分割して行う際に、各々の第２領域Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３…間で、スリット６ａを通過することにより面状に形成された各々のＸ線ビームＸがそれぞれ重なって一つの面状のＸ線ビームＸとなるようにＸ線ビームＸが照射されることにより、正常細胞の破壊を軽減しつつ、ＭＲＴの優れた治療効果を得ることができる。
【００７１】
〔第２実施形態〕
以下、第２実施形態に係るＸ線照射装置１について添付図面を用いて詳細に説明する。第２実施形態に係るＸ線照射装置１は、第１実施形態に係るＸ線照射装置１と同様に図１及び図２に示す構成を有している。なお、第１実施形態と同一の構成には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
【００７２】
図１０は、第１実施形態に係るＸ線照射装置において、一例として複数回に（照射対象領域を縦２回×横２回の４回に）分割して面状のＸ線ビームＸの位置が各々スリット間ピッチの半分の距離だけずれるように照射を行った場合の重なり部分のｘ軸方向における相対Ｘ線強度を示す図である。Ｘ線ビームＸの照射を分割して行う際に、図１０に示すように、隣接する第２領域が重なり合った領域において、スリット６ａを通過することにより面状に形成された各々のＸ線ビームＸがそれぞれ重ならずに複数の面状のＸ線ビームＸとなった場合には、当該第２領域が重なり合った位置において、面状のＸ線ビームＸが重なり合った場合と比較して、ピーク部分の相対Ｘ線強度が低くなると共にバレイ部分の相対Ｘ線強度が高くなってしまう可能性がある。上述したように、ＭＲＴを行う際には、Ｘ線ビームのＰＶ比が１０：１以上であることが好ましいが、図１０に示す例では３：１程度となっている。また、隣接する第２領域間において面状のＸ線ビームＸが重なっていないために、各々の第２領域における各々の面状のＸ線ビームＸによりそれぞれピーク部分が形成されるために、各ピーク部分間の間隔が狭くなってしまう。
【００７３】
そこで、第２実施形態では、複数回に分割してＸ線ビームＸの照射を行う際に第２領域の位置を移動する場合に、Ｘ線ビームＸの出射方向の中心線を回転軸として遮蔽体６を所定角度（本実施形態では、９０°または略９０°）回転させて、隣接する第２領域において、Ｘ線ビームＸがスリット６ａを通過することにより面状に形成されるＸ線ビームＸの方向を変更させている。なお、ここでいう略９０°とは、回転駆動装置６ｂの機械的なあそびや誤差を含めた形での９０°を意味する。
【００７４】
次に、本実施形態の作用を説明する。
【００７５】
図１１は、第１実施形態に係るＸ線照射処理プログラムの処理の流れを示すフローチャートであり、当該プログラムは制御装置３に備えられた記録媒体であるＲＯＭの所定領域に予め記憶されている。また、図１２は、第１実施形態に係るＸ線照射処理の説明に供する概略上面図である。なお、図１２において、第２領域の位置の移動をわかりやすくするため、患者Ｋ及び腫瘍Ｃの描画を省略している。
【００７６】
制御装置３のＣＰＵは、予め定められたタイミング（本実施形態では、実行する旨の指示入力が行なわれたタイミング）で、当該Ｘ線照射処理プログラムを実行する。なお、第２実施形態と同様に、患者Ｋを寝台７の上部に横たわらせた状態で治療を行う場合について説明する。
【００７７】
ＣＰＵは、ステップＳ２０１乃至Ｓ２０９において、第１実施形態のステップＳ１０１乃至Ｓ１０９と同様の処理を行う。ステップＳ２０９において待機している間、図１２（Ａ）に示すように、寝台７に横たえられている患者Ｋの腫瘍Ｃに対するホームポジションにおける第２領域Ｒ１にＸ線ビームＸが照射される。
【００７８】
そして、ＣＰＵは、ステップＳ２１１及びＳ２１３において、第１実施形態のステップＳ１１１及びＳ１１３と同様の処理を行う。
【００７９】
ステップＳ２１３において照射が終了していないと判定された場合、ステップＳ２１５において、ＣＰＵは、遮蔽体６をＸ線ビームＸの出射方向における中心線を回転軸として回転させるように回転駆動装置６ｂを制御する。この際、ＣＰＵは、前回の第２領域における面状のＸ線ビームＸと次回の第２領域における面状のＸ線ビームＸとの角度とが略９０°になるように遮蔽体６を回転させるように回転駆動装置６ｂを制御する。
【００８０】
ステップＳ２１７において、ＣＰＵは、寝台７の位置が移動するように移動駆動装置７ａを制御した上で、ステップＳ１０７に移行する。この際、ＣＰＵは、第２領域の位置を、第１領域を複数の領域に分割した各分割領域に対して連続的になるように移動させる。すなわち、前回のステップＳ２０７における第２領域と次回の第２領域とにおいて端部の一部分が重なり、かつ腫瘍Ｃの一部が今回の第２領域に含まれるように、寝台７の位置を移動させる。ステップＳ２０７において、ＣＰＵは、再びＸ線ビームＸの照射を行うことで、図１２（Ｂ）に示すように、今回の第２領域Ｒ２が前回の第２領域Ｒ１と一部重なり、かつ第２領域Ｒ１における面状のＸ線ビームＸと第２領域Ｒ２における面状のＸ線ビームＸとが相互に９０°の角度をなすようにＸ線ビームＸが照射される。
【００８１】
ステップＳ２１３において照射が終了するまでステップＳ２０７乃至Ｓ２１７の処理を繰り返すことで、図１２（Ｃ）に示すように、互いに隣接する第２領域Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３…が各々重なり、かつ隣接する第２領域間において各々面状のＸ線ビームＸとが相互に９０°の角度をなすようにＸ線ビームＸの照射が順次行われる。
【００８２】
そして、ステップＳ２１３において照射が終了したと判定された場合、ＣＰＵは、Ｘ線照射処理プログラムの実行を終了する。
【００８３】
図１３は、腫瘍Ｃに対してＸ線ビームＸが複数回に分割されて照射される様子を示す図である。図１３に示すように、複数回に分割してＸ線ビームＸを照射する際に、各々の第２領域Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３…が一部重なるように第２領域Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３…の位置をずらしながら、かつ隣接する第２領域Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３…間において、Ｘ線ビームＸが遮蔽体６の複数のスリット６ａと通過することにより面状に形成されたＸ線ビームＸの各々の向きが相互に９０°となるように遮蔽体６をＸ線ビームＸの出射方向における中心線を回転軸として回転させながら照射することで、腫瘍Ｃの全体に対するＸ線ビームＸの照射が行われる。
【００８４】
図１４は、一例として複数回に（照射対象領域を縦２回×横２回の４回に）分割して面状のＸ線ビームＸの位置が各々重なるように照射を行った場合の重なり部分のｘ軸方向における相対Ｘ線強度を示す図である。図１４に示すように、複数の第２領域が重なり合った領域における面状のＸ線ビームＸが、各々の第２領域において繋がって一つの面状のＸ線ビームＸとなるようにして照射された場合、図１４のグラフに示すように、複数の第２領域が重なり合った位置において、各々の第２領域におけるＸ線ビームＸのピークに対応する位置に相対Ｘ線強度のピークが表れている。
【００８５】
Ｘ線ビームＸの照射を分割して行う際に、複数の第２領域が重なり合っている領域で、各々の第２領域における面状のＸ線ビームＸがそれぞれ繋がって一つの面状のＸ線ビームＸとなるようにＸ線ビームＸの第２領域の位置を調節して照射することにより、ＭＲＴの優れた治療効果を得ることができる。
【００８６】
また、図１５は、一例として複数回に（照射対象領域を縦２回×横２回の４回に）分割して面状のＸ線ビームＸの位置が各々スリット間ピッチの半分の距離だけずれるように照射を行った場合の重なり部分のｘ軸方向における相対Ｘ線強度を示す図である。Ｘ線ビームＸの照射を分割して行う際に、図１５に示すように、複数の第２領域が重なり合った領域において各々の第２領域における面状のＸ線ビームＸの位置がずれて重ならない場合であっても、複数の第２領域が重なり合った領域において、ピーク部分の相対Ｘ線強度が一定以上の値で確保できると共にバレイ部分についても相対Ｘ線強度が一定以下の値で抑えることが可能性となる。
【００８７】
なお、第１実施形態及び第２実施形態では、電子ビームｅとターゲット５とが衝突することにより生成されたＸ線ビームＸを、そのまま遮蔽体６の複数のスリット６ａを通過させた状態で腫瘍Ｃに照射しているので、第２領域の形状はＸ線ビームＸの出射方向に対して垂直な面における断面視形状すなわち円状となるが、第２領域の形状は、これに限定されない。
【００８８】
図１６（Ａ）は、第１実施形態及び第２実施形態において、腫瘍Ｃに対してＸ線ビームＸが照射される様子の別例を示す正面図であり、図１６（Ｂ）は、当該別例において使用される遮蔽体の外観の一例を示す斜視図である。図１６では、上記別例の形態を第２実施形態に適用した場合について描画している。第２領域の形状は、図１６（Ａ）に示すように、矩形状に形成されても良い。この場合には、遮蔽体６とは別個に設けられた図１６（Ｂ）に示す遮蔽体６Ａが、遮蔽体６のＸ線ビームＸの出射方向に対する上流側あるいは下流側に配置される。遮蔽体６Ａは、Ｘ線ビームＸを通過させる矩形状のＸ線通過部６ｄが設けられていて、遮蔽体６Ａに入射したＸ線ビームＸは、上記断面視形状を矩形状にコリメートされて遮蔽体６Ａから出射される。
【００８９】
なお、遮蔽体６Ａを遮蔽体６とは別個に設ける形態に限定されず、遮蔽体６において矩形状の領域のみにスリット６ａを設けることで、遮蔽体６に入射するＸ線ビームＸを矩形状にコリメートした上で複数のスリット６ａにより面状のＸ線ビームＸを形成するようにしても良い。この場合、複数のスリット６ａに入射し、かつ予め定められた矩形状の領域に入射したＸ線ビームＸのみを通過させることで、患者Ｋに照射するＸ線ビームＸの出射方向に対して垂直な面における断面視形状が矩形状となり、複数の第２領域が重なり合う領域を狭くしつつ隙間なくＸ線ビームＸを照射することができる。
【００９０】
また、第１実施形態及び第２実施形態では、遮蔽体６を回転させることによりＸ線ビームＸをＸ線ビームＸの出射方向における中心線を回転軸として回転させるが、これに限定されず、寝台７を移動駆動させる際に併せて回転駆動させるようにしても良い。
【００９１】
また、第１実施形態及び第２実施形態では、寝台７を移動させることにより第２領域の位置を移動させるが、これに限定されず、電子出射窓４から出射される電子ビームｅの出射位置や出射方向を変更することで第２領域の位置を移動させても良い。または、遮蔽体６の複数のスリット６ａの位置や角度を変更することで、第２領域の位置を移動させても良い。
【００９２】
また、第１実施形態及び第２実施形態では、電子ビームｅをターゲット５に衝突させて制動Ｘ線を発生させ、この制動Ｘ線をＭＲＴ用のＸ線ビームＸとして使用するが、これに限定されず、上述した放射光や、ガンマ線であっても良い。
【符号の説明】
【００９３】
１…Ｘ線照射装置，２…ビームダクト，２ａ…電子銃，２ｂ…加速器，３…制御装置，４…電子出射窓，５…ターゲット，６…遮蔽体，６ａ…スリット，６ｂ…回転駆動装置，６ｃ…遮蔽ユニット，７…寝台，７ａ…移動駆動装置，Ｃ…腫瘍，Ｋ…患者，ｅ…電子ビーム，Ｘ…Ｘ線ビーム。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１６】
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【図４】
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【図９】
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【図１０】
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【図１４】
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【図１５】
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