(57)【要約】【課題】照明状態の精密な調整に有利な技術を提供する。【解決手段】露光装置は、原版を照明する照明光学系と、前記原版のパターンを基板に投影する投影光学系と、計測部と、制御部とを備えている。前記照明光学系は、照明状態を調整するための光学ユニットと、前記光学ユニットを駆動する駆動部とを含む。前記計測部は、前記照明状態を計測し、前記制御部は、前記駆動部を制御する。前記制御部は、前記駆動部が前記光学ユニットを駆動したことによる前記計測部によって計測される前記照明状態の変化に基づいて、前記駆動部による前記光学ユニットの駆動量と前記照明状態の変化との関係を求める。【選択図】図６
2013236025.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原版を照明する照明光学系と、前記原版のパターンを基板に投影する投影光学系とを有する露光装置であって、
前記照明光学系は、照明状態を調整するための光学ユニットと、前記光学ユニットを駆動する駆動部とを含み、
前記露光装置は、前記照明状態を計測する計測部と、前記駆動部を制御する制御部と、を備え、
前記制御部は、前記駆動部が前記光学ユニットを駆動したことによる前記計測部によって計測される前記照明状態の変化に基づいて、前記駆動部による前記光学ユニットの駆動量と前記照明状態の変化との関係を求める、
ことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記関係は、前記駆動部による前記光学ユニットの駆動量に対する前記照明状態の変化率である、
ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記制御部は、目標照明状態と前記計測部によって計測された現在の前記照明状態との差と、前記関係とに基づいて、前記照明状態が前記目標照明状態に近づくように前記駆動部を制御する、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記照明状態は、前記照明光学系の瞳面における光強度分布を含む、
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項５】
前記制御部は、前記駆動部に複数回にわたって前記光学ユニットを駆動させ、当該駆動の度に前記関係を求める、
ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項６】
前記駆動部が前記光学ユニットを駆動し、光束の輪帯比を変更することで、前記照明状態を調整することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項７】
前記駆動部が前記光学ユニットを駆動し、外径の大きさを変更することで、前記照明状態を調整することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項８】
原版を照明する照明光学系と、前記原版のパターンを基板に投影する投影光学系とを有する露光装置であって、
前記照明光学系は、
第１駆動部が第１光学ユニットを駆動し、輪帯比を変更することで照明状態を調整する第１調整部と、
第２駆動部が第２光学ユニットを駆動し、外径の大きさを変更することで前記照明状態を調整する第２調整部とを含み、
前記露光装置は、前記照明状態を計測する計測部と、前記第１駆動部および前記第２駆動部を制御する制御部と、を備え、
前記制御部は、
前記第１駆動部が前記第１光学ユニットを駆動したことによる前記計測部によって計測される輪帯比の変化と、前記第２駆動部が前記第２光学ユニットを駆動したことによる前記計測部によって計測される外径の大きさの変化とに基づいて、目標照明状態に近づくように前記第１駆動部による前記第１光学ユニットの駆動量及び前記第２駆動部による前記第２光学ユニットの駆動量を求める、
ことを特徴とする露光装置。
【請求項９】
原版を照明する照明光学系と、前記原版のパターンを基板に投影する投影光学系とを有する露光装置の前記照明光学系の照明状態を計測する照明条件計測方法であって、
計測部によって前記照明条件を計測する工程と、
前記照明光学系に設けられ、前記照明条件を調整するための光学ユニットを駆動部により駆動する工程と、
前記計測部により前記照明条件を計測し、前記駆動部が前記光学ユニットを駆動したことによる前記照明状態の変化に基づいて、前記駆動部による前記光学ユニットの駆動量と前記照明状態の変化との関係を求める工程と、
を有することを特徴とする照明条件計測方法。
【請求項１０】
デバイスを製造するデバイス製造方法であって、
請求項１乃至８のいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
該基板を現像する工程と、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置、照明条件計測方法およびデバイスを製造するデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
原版のパターン（換言すると、基板に形成すべきパターン）に応じた有効光源分布で原版を照明する技術が知られている。有効光源分布は、照明光学系の瞳面における光強度分布であり、これは、原版面に原版が配置されていない状態での投影光学系の瞳面における光強度分布と等しい。有効光源分布を変更することによって基板に入射する露光光束の角度分布を変更することができる。有効光源分布の形状に注目した代表的な照明として、標準照明（Ｃｏｎｖｅｎｔｉｏｎａｌ照明）、変形照明の輪帯照明（Ａｎｎｕｌａｒ照明）、四重極照明（Ｑｕａｄｒｕｐｏｌｅ照明）、二重極照明（Ｄｉｐｏｌｅ照明）などがある（特許文献１、特許文献２）。
【０００３】
投影光学系によって基板に形成される像を精密に調整するために、有効光源分布の径の大きさを表すσ値を精密に調整することが求められる。また、複数の露光装置の状態を一致させるために、両者の有効光源分布のσ値を一致させることが求められる（特許文献３）。有効光源分布の調整は、照明光学系に組み込まれた光学素子を駆動することによって行われうる（特許文献４、特許文献５）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平１１−８７２３２号公報
【特許文献２】特開２００３−３１８０８６号公報
【特許文献３】特開２００７−８１３９３号公報
【特許文献４】特開平１１−５４４２６号公報
【特許文献５】特開２００７−４８８５１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
近年、半導体デバイスのパターンの微細化が進み、照明状態の制御に対する要求が厳しくなる傾向にある。そのため、各光学素子の加工、組立公差の管理だけでは各照明状態の設定値、例えば、有効光源分布のσ値の精度を保証することが難しくなっている。
【０００６】
本発明は、上記の背景に鑑みてなされたものであり、照明状態の精密な調整に有利な技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の１つの側面は、原版を照明する照明光学系と、前記原版のパターンを基板に投影する投影光学系とを有する露光装置に係り、前記露光装置は、前記照明光学系は、照明状態を調整するための光学ユニットと、前記光学ユニットを駆動する駆動部とを含み、前記露光装置は、前記照明状態を計測する計測部と、前記駆動部を制御する制御部と、を備え、前記制御部は、前記駆動部が前記光学ユニットを駆動したことによる前記計測部によって計測される前記照明状態の変化に基づいて、前記駆動部による前記光学ユニットの駆動量と前記照明状態の変化との関係を求める。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、照明状態の精密な調整に有利な技術が提供される。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の一実施形態の露光装置の構成を示す図。
【図２】σ値の計算方法を例示的に示す図。
【図３】第１調整部における光学ユニットの駆動量と有効光源分布との関係を例示する図。
【図４】第２調整部における光学ユニットの駆動量と有効光源分布との関係を例示する図。
【図５】第１調整部における光学素子の間隔、第２調整部における光学素子の間隔およびσ９０％との関係を例示する図。
【図６】照明状態の変化を計測する処理を示す図。
【図７】照明状態を調整する処理を示す図。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、添付図面を参照しながら本発明の実施形態を説明する。
【００１１】
まず、図１を参照しながら本発明の一実施形態の露光装置１０を説明する。露光装置１０は、照明装置１００と、原版２００を保持する原版ステージＲＳと、投影光学系３００と、基板４００を保持する基板ステージＷＳと、計測部４０と、制御部５００とを有する。露光装置１０は、例えば、ステップ・アンド・スキャン方式やステップ・アンド・リピート方式で、原版２００のパターンを基板４００に転写する。
【００１２】
照明装置１００は、光源部１０１と、光源部１０１から提供される光を使って原版２００を照明する照明光学系１１０とを有する。照明された原版２００のパターンは、投影光学系３００によって基板４００に投影される。これによって基板４００が露光され、基板４００に塗布されている感光剤に潜像が形成される。
【００１３】
光源部１０１は、光源として、例えば、波長約１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザー、または、波長約２４８ｎｍＫｒＦエキシマレーザーを含みうるが、光源の種類はエキシマレーザーに限定されず、光源の個数も特定の個数に限定されない。光源部１０１は、例えば、水銀ランプおよび／またはキセノンランプを含みうる。光源部１０１がレーザーを含む場合、コヒーレントなレーザー光束をインコヒーレント化するインコヒーレント化光学系を使用することが好ましい。
【００１４】
照明光学系１１０は、例えば、レンズ、ミラー、オプティカルインテグレータ、絞り等を含みうる。図１に示す例では、照明光学系１１０は、折り曲げミラー１２０、１２１、１２２、光束形状変換部１３０と、第１調整部１４０と、第２調整部１５０と、ハエの目レンズ１６０と、集光光学系１７０と、マスキングブレード１８０と、結像光学系１９０とを有する。
【００１５】
折り曲げミラー１２０、１２１は、光源部１０１から射出された光束の経路を折り曲げて光束形状変換部１３０に導く。光束形状変換部１３０を通った光は、第１調整部１４０に入射する。第１調整部１４０は、例えば、光学ユニット１４３と、駆動部１４５とを含む。光学ユニット１４３は、例えば、光学素子１４１、１４２を含み、駆動部１４５は、例えば、光学素子１４１、１４２の間隔を調整しうる。第１調整部１４０は、例えば、円、輪帯、多重極などの断面形状を有する光束を形成する。第１調整部１４０から射出された光束は、第２調整部１５０に入射する。第２調整部１５０は、例えば、光学ユニット１５３と、駆動部１５５とを含む。光学ユニット１５３は、例えば、光学素子１５１、１５２を含み、駆動部１５５は、例えば、光学素子１５１、１５２の間隔を調整しうる。第２調整部１５０は、光束の大きさ（倍率）を調整する。第２調整部１５０から射出された光束は、ハエの目レンズ１６０の入射面に入射する。
【００１６】
ハエの目レンズ１６０の射出面は、照明光学系１１０の瞳面であり、該射出面から射出された光束は、集光光学系１７０を介して、マスキングブレード１８０が配置された面を照明する。マスキングブレード１８０は、レンズ１９１、１９２を含む結像光学系１９０により、原版２００が配置される面（投影光学系３００の物体面）と光学的に共役な位置に配置され、原版２００の被照明領域を決定する。原版２００の射出面から射出された光は、投影光学系３００を介して、基板４００に入射する。ハエの目レンズ１６０の射出面（照明光学系１１０の瞳面）に形成される光強度分布は、有効光源分布であり、これは、原版２００が取り去られた状態における投影光学系３００の瞳面における光強度分布と等しい。
【００１７】
基板ステージＷＳには、有効光源分布（照明光学系１１０の瞳面における光強度分布）を計測する計測部４０が配置されている。計測部４０は、例えば、基板基準面（投影光学系３００の像面）に配置されたピンホール板と、該ピンホール板のピンホールを通った光が形成する像を撮像するイメージセンサとを含みうる。ここで、ピンホールを通った光は、該ピンホール板に入射した光の角度部分と同じ角度分布を有し、イメージセンサに形成される像は、有効光源分布と等価である。計測部４０によって計測された有効光源分布のデータ（画像データ）は、制御部５００に提供される。
【００１８】
以下、照明光学系１１０による投影光学系３００の物体面の照明状態の１つの評価値である有効光源分布のσ値を調整する方法を説明する。制御部５００は、計測部４０によって計測された有効光源分布のデータに基づいて有効光源分布のσ値を計算する。図２を参照しながらσ値の計算方法を例示的に説明する。図２（ａ）、図２（ｂ）、図２（ｃ）は、それぞれ計測部４０で計測された輪帯照明、四重極照明、標準照明の有効光源分布の画像データを表している。有効光源分布に対して、中心ｏを通る横軸をｘ軸、縦軸をｙ軸として、中心ｏからの距離をｒとする。有効光源分布の径の最大値をｒｍａｘ、点（ｘ、ｙ）における光量をＩ（ｘ、ｙ）とすると、半径ｒの内側に含まれる光量を積算して、全体光量で正規化した値Ｅ（ｒ）を（１）式のように定義する。
【００１９】
【数１】
2013236025.tif 000003
・・・（１）
【００２０】
ここでは、σ値として、σ１０％とσ９０％とを考える。σ１０％は、Ｅ（ｒ）＝０．１となるときのｒの値であり、σ９０％は、Ｅ（ｒ）＝０．９となるときのｒの値である。図２（ａ’）は図２（ａ）の有効光源分布のＥ（ｒ）、図２（ｂ’）は図２（ｂ）の有効光源分布のＥ（ｒ）、図２（ｃ’）は図２（ｃ）の有効光源分布のＥ（ｒ）を示している。図２（ａ’）、図２（ｂ’）、図２（ｃ’）において、横軸が半径ｒ、縦軸がＥ（ｒ）である。
【００２１】
σ値（σ１０％、σ９０％）は、第１調整部１４０および第２調整部１５０によって調整可能である。第１調整部１４０は、例えば、駆動部１４５（第１駆動部）によって光学素子１４１と光学素子１４２との間隔を調整するように構成されうる。ここで、光学素子１４１と光学素子１４２との間隔の変化量は、駆動部１４５による光学ユニット１４３（第１光学ユニット）の駆動量である。
【００２２】
図３には、光学素子１４１、１４２の配置（位置関係）と有効光源分布との関係が示されている。光束の断面形状として輪帯比を調節することができる。図３（ａ）のように光学素子１４１、１４２の間隔が小さい場合、輪帯比（＝内径÷外径）が小さくなり、輪帯照明、四重極照明は図３（ｂ）、図３（ｃ）で表される有効光源分布になる。一方、図３（ａ’）のように光学素子１４１、１４２の間隔が大きい場合、輪帯比が大きくなり、図３（ｂ’）、図３（ｃ’）で表される有効光源分布になる。
【００２３】
第２調整部１５０は、例えば、駆動部１５５（第２駆動部）によって光学素子１５１と光学素子１５２との間隔を調整するように構成されうる。ここで、光学素子１５１と光学素子１５２との間隔の変化量は、駆動部１５５による光学ユニット１５３（第２光学ユニット）の駆動量である。図４には、光学素子１５１、１５２の配置（位置関係）と有効光源分布との関係が示されている。図４（ａ）のように光学素子１５１、１５２の間隔が小さい場合、外径が大きくなり、輪帯照明、四重極照明、標準照明は、図４（ｂ）、図４（ｃ）、図４（ｄ）で表される有効光源分布になる。一方、図４（ａ’）のように光学素子１５１、１５２の間隔が大きい場合、外径が小さくなり、図４（ｂ’）、図４（ｃ’）、図４（ｄ’）で表される有効光源分布になる。
【００２４】
なお、上記の説明では、説明の簡単化のために、第１調整部１４０が輪帯比に与える影響のみを述べたが、実際には、外径の大きさも変化する。同様に、上記の説明では、第２調整部１５０が有効光源分布の外経の大きさに与える影響のみを述べたが、実際には、輪帯比も変化する。以上のように、光学素子１４１、１４２の間隔、および光学素子１５１、１５２の間隔を調整することで有効光源分布のσ値を変更することができる。
【００２５】
図５は、ある照明形状のσ９０％と第１調整部１４０における光学素子１４１、１４２の間隔と第２調整部１５０における光学素子１５１、１５２の間隔との関係を例示する図である。第２調整部１５０における光学素子１５１、１５２の間隔が広いほど、σ９０％が小さくなる。第１調整部１４０における光学素子１４１、１４２が広いほど、σ９０％が大きくなる。図５に例示されたような関係は、光学素子の製造誤差や設置誤差のために、設計値と実測値とで異なり、高い精度（例えば、０．００１σの精度）で両者を一致させることは難しい。
【００２６】
そこで、この実施形態では、制御部５００は、図６に例示された照明条件計測方法によって、駆動部１４５、駆動部１５５による光学ユニット１４３、１５３の駆動量とそれによる照明状態（有効光源分布）の変化との関係を求める。以下では、代表的に駆動部１４５による光学ユニット１４３の駆動量とそれによる有効光源分布の変化との関係を求める処理を説明するが、同様の手順で駆動部１５５による光学ユニット１５３の駆動量とそれによる有効光源分布の変化との関係を求めることができる。
【００２７】
ステップ１００１では、制御部５００は、計測部４０を使って有効光源分布を計測し、その有効光源分布を示す指標値であるσ１０％、σ９０％を計算する。ステップ１００２では、制御部５００は、第１調整部１４０の光学ユニット１４３を第１調整部１４０の駆動部１４５に駆動量ΔＸだけ駆動させる。具体的には、制御部５００は、光学ユニット１４３の光学素子１４１と光学素子１４２との間隔が駆動量ΔＸだけ変化するように駆動部１４５を制御する。ここで、駆動量ΔＸは任意に決定することができる。
【００２８】
ステップ１００３では、制御部５００は、再び、計測部４０を使って有効光源分布を計測し、その有効光源分布を示す指標値であるσ１０％、σ９０％を計算する。ステップ１００４では、制御部５００は、駆動部１４５が光学ユニット１４３を駆動量ΔＸだけ駆動したことによる計測部４０で計測される光強度分布の変化に基づいて、駆動部１４５による光学ユニット１４３の駆動量と光強度分布の変化との関係を求める。ここで、駆動部１４５によって光学ユニット１４３を駆動したことによるσ１０％の変化量をΔＲ１０、駆動部１４５によって光学ユニット１４３を駆動したことによるσ９０％の変化量をΔＲ９０とする。また、当該駆動によるσ１０％の変化率をａ１０、当該駆動によるσ９０％の変化率をａ９０とする。ａ１０およびａ９０は、（２）式で与えられる。
【００２９】
【数２】
2013236025.tif 000004
・・・（２）
【００３０】
ここでは、駆動部１４５によって光学ユニット１４３を駆動したことによるσ１０％およびσ９０％の変化を変化率ａ１０およびａ９０として表現しているが、当該関係は、例えば多項式で表現されてみよい。また、σ値は、σ１０％およびσ９０％以外の他のσ値であってもよい。また、σ値の代わりに、ポールバランス値やテレセントリック値などの照明状態を表す評価値の変化率を計算してもよい。
【００３１】
以下、図７を参照しながら、図６を参照して説明した処理の応用例として、照明状態を目標照明状態に設定する調整処理を説明する。ステップ２００１では、制御部５００は、照明状態を計測する。具体的には、ステップ２００１では、制御部５００は、計測部４０を使って有効光源分布を計測し、その有効光源分布を示す指標値であるσ値（この例では、σ１０％、σ９０％）を計算する。
【００３２】
ステップ２００２では、制御部５００は、光学ユニット１４３を駆動量ΔＸだけ駆動したことによる計測部４０で計測される光強度分布の変化に基づいて、光学ユニット１４３の駆動量と光強度分布の変化との関係（ここでは変化率）を求める。この処理は、前述のステップ１００１〜１００４の処理に相当する。
【００３３】
ステップ２００３では、制御部５００は、光学ユニット１５３を駆動量ΔＸだけ駆動したことによる計測部４０で計測される光強度分布の変化に基づいて、光学ユニット１５３の駆動量と光強度分布の変化との関係（この例では、変化率）を求める。この処理は、前述のステップ１００１〜１００４の処理に相当する。ここでは変化率が分かれば良いので、光学ユニット１４３の駆動量はΔＸに限らない。
【００３４】
ステップ２００４では、制御部５００は、ステップ２００２で求めたσ値（σ１０％、σ９０％）の変化率とステップ２００３で求めたσ値の変化率に基づいて、σ値を目標値（目標照明状態）とするための光学ユニット１４３、１５３の駆動量を決定する。ここで、σ１０％の目標値と現在値との差分をΔｒ１０、σ９０％の目標値と現在値との差分をΔｒ９０とする。また、駆動部１４５による光学ユニット１４３の駆動量に対するσ１０％の変化率をａ１０、駆動部１４５による光学ユニット１４３の駆動量に対するσ９０％の変化率をａ９０とする。また、駆動部１５５による光学ユニット１５３の駆動量に対するσ１０％の変化率をｂ１０、駆動部１５５による光学ユニット１５３のσ９０％の変化率をｂ９０とする。駆動部１４５による光学ユニット１４３の駆動量Δｘ、駆動部１５５による光学ユニット１５３の駆動量Δｙは、（３）式を満たす。制御部５００は、（３）式をΔｘ、Δｙについて解くことによってΔｘ、Δｙを求める。
【００３５】
【数３】
2013236025.tif 000005
・・・（３）
【００３６】
ステップ２００５において、制御部５００は、ステップ２００４で求めたΔｘ、Δｙに従って駆動部１４５、１５５にそれぞれ光学ユニット１４３、１５３を駆動させる。
【００３７】
ステップ２００６において、照明状態を計測する。具体的には、ステップ２００６では、制御部５００は、計測部４０を使って有効光源分布を計測し、その有効光源分布を示す指標値であるσ値（この例では、σ１０％、σ９０％）を計算する。ステップ２００７において、制御部５００は、ステップ２００６で求めたσ値（σ１０％、σ９０％）が目標σ値（σ１０％、σ９０％）の許容範囲であるかどうかを判定する。そして、ステップ２００６で求めたσ値が目標σ値の許容範囲であれば、照明状態（σ値）の調整処理を終了し、そうでなければ、ステップ２００２に処理を戻す。つまり、制御部５００は、ステップ２００６で求めたσ値が目標σ値の許容範囲となるまで、駆動部１４５、１５５に複数回にわたって光学ユニット１４３、１５３を駆動させ、当該駆動の度に前記関係を求める。
【００３８】
上記の例では、ステップ２００４において、駆動部１４５、駆動部１５５による駆動量を決定する際に、駆動量とσ値との関係を一次式で近似しているが、実際には図５で例示されるように一次式近似でない場合がある。しかし、ステップ２００２〜２００７を繰返して実施することで、徐々に目標σ値へ近づけることができる。ステップ２００２〜２００７を繰り返す際に、再度、第１調整部と第２調整部を駆動させて駆動量に対する照明状態の変化を計測する代わりに、ステップ２００５の駆動量とステップ２００６の照明状態の変化から照明状態の変化量を求めても良い。
【００３９】
また、上記の例は、σ１０％、σ９０％を調整するものであるが、σ９０％のみを調整してもよいし、σ１０％、σ９０％ではなく他のσ値を調整してもよい。更に、σ値だけでなく、照明状態を表すポールバランス値やテレセントリック値などを各補正ユニットで調整してもよい。
【００４０】
更に、調整部の個数は３個以上であってもよい。ｎ個（ｎは自然数）の調整部でｎ個のσ値を調整する場合は、図６に示す処理において、各調整部における駆動量に対する各σ値の変化率を計測する。そして、図７に示す処理においてステップ２００４では、（４）式を満たすように各調整部における駆動量を求める。ここで、σｉの目標値と現在値との差分をΔｒｉ（１≦ｉ≦ｎ）、駆動部ｊ（１≦ｊ≦ｎ）による光学ユニットの駆動量に対するσｉの変化率をａｉ，ｊ（１≦ｉ≦ｎ，  １≦ｊ≦ｎ）と、各調整部による光学ユニットの駆動量をΔｘ１，Δｘ２，．．．Δｘｎとする。
【００４１】
【数４】
2013236025.tif 000006
・・・（４）
【００４２】
上記の例では、光学ユニットの駆動量とσ値との関係を一次関数で近似しているが、これを多項式などで近似してもよい。
【００４３】
以上の実施形態によれば、露光装置において、駆動部による光学ユニットの駆動量とそれによる照明状態（有効光源分布）の変化との関係を計測することにより、高い精度で照明状態を調整することができる。
【００４４】
本発明の好適な実施形態のデバイス製造方法は、例えば、半導体デバイス、液晶デバイス等のデバイスの製造に好適である。前記方法は、感光剤が塗布された基板を、上記の露光装置を用いて露光する工程と、前記露光された基板を現像する工程とを含みうる。さらに、前記デバイス製造方法は、他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等）を含みうる。
【図１】
2013236025.tif 000007
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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