(57)【要約】【課題】露光不良の発生を抑制できる液浸部材を提供する。【解決手段】液浸部材は、液浸露光装置内において、露光光が射出される射出面及び射出面の周囲に配置される外側面を有する光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される。液浸部材は、少なくとも一部が第１間隙を介して外側面と対向する第１内面、及び射出面と対向する物体が対向可能な第１下面を有し、射出面側に第１液体の第１液浸空間を形成する第１部材と、光路に対して第１部材の外側に配置され、物体が対向可能な第２下面を有する第２部材と、第１部材及び第２部材の一方又は両方に配置され、第１液体を供給する第１供給口と、第１部材及び第２部材の一方又は両方に配置され、第１供給口からの第１液体の少なくとも一部を回収する第１回収口と、第１部材と第２部材との間の第２間隙に面し、第２間隙に第２液体を供給する第２供給口と、を備える。【選択図】図２
2013106002.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液浸露光装置内において、露光光が射出される射出面及び前記射出面の周囲に配置される外側面を有する光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される液浸部材であって、
少なくとも一部が第１間隙を介して前記外側面と対向する第１内面、及び前記射出面と対向する物体が対向可能な第１下面を有し、前記射出面側に前記第１液体の第１液浸空間を形成する第１部材と、
前記光路に対して前記第１部材の外側に配置され、前記物体が対向可能な第２下面を有する第２部材と、
前記第１部材及び前記第２部材の一方又は両方に配置され、前記第１液体を供給する第１供給口と、
前記第１部材及び前記第２部材の一方又は両方に配置され、前記第１供給口からの前記第１液体の少なくとも一部を回収する第１回収口と、
前記第１部材と前記第２部材との間の第２間隙に面し、前記第２間隙に第２液体を供給する第２供給口と、を備える液浸部材。
【請求項２】
前記第２供給口は、前記第１部材及び前記第２部材の一方又は両方に配置される請求項１に記載の液浸部材。
【請求項３】
前記第２間隙に面し、前記第２間隙の前記第１液体及び前記第２液体の一方又は両方を回収する第２回収口を有する請求項１又は２に記載の液浸部材。
【請求項４】
液浸露光装置内において、露光光が射出される射出面及び前記射出面の周囲に配置される外側面を有する光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される液浸部材であって、
少なくとも一部が第１間隙を介して前記外側面と対向する第１内面、及び前記射出面と対向する物体が対向可能な第１下面を有し、前記射出面側に前記第１液体の第１液浸空間を形成する第１部材と、
前記光路に対して前記第１部材の外側に配置され、前記物体が対向可能な第２下面を有する第２部材と、
前記第１部材及び前記第２部材の一方又は両方に配置され、前記第１液体を供給する第１供給口と、
前記第１部材及び前記第２部材の一方又は両方に配置され、前記第１供給口からの前記第１液体の少なくとも一部を回収する第１回収口と、
前記第１部材と前記第２部材との間の第２間隙に面し、前記第２間隙の前記第１液体を回収する第２回収口と、を備える液浸部材。
【請求項５】
前記第２回収口は、前記第１部材及び前記第２部材の一方又は両方に配置される請求項３又は４に記載の液浸部材。
【請求項６】
前記第１間隙は、前記物体に近い第１部分と、前記第１部分の上方の第２部分と、を有し、
前記第２部分の寸法は、前記第１部分の寸法よりも大きい請求項１〜５のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項７】
前記第１間隙は、前記光学部材の前記外側面と、前記第１部材の前記第１内面との間に形成され、
前記第１内面は、前記物体に近い第１領域と、前記第１領域の上方に配置される第２領域と、前記第１領域の上端と前記第２領域の下端とを結ぶように配置され、前記第１、第２領域とは異なる方向を向く第３領域と、を含む請求項１〜６のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項８】
前記第３領域は、前記光路に対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する請求項７に記載の液浸部材。
【請求項９】
前記第１供給口は、前記第１領域に配置される請求項７又は８に記載の液浸部材。
【請求項１０】
前記第２間隙は、前記物体に近い第３部分と、前記第３部分の上方の第４部分と、を有し、
前記第４部分の寸法は、前記第３部分の寸法よりも大きい請求項１〜１０のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項１１】
前記第２間隙は、前記第１部材の第１外面と、前記第２部材の第２内面との間に形成され、
前記第１外面は、前記物体に近い第４領域と、前記第４領域の上方に配置される第５領域と、前記第４領域の上端と前記第５領域の下端とを結ぶように配置され、前記第４、第５領域とは異なる方向を向く第６領域と、を含む請求項１〜１０のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項１２】
前記第５領域及び前記第６領域の一方又は両方に配置され、前記第２間隙の前記第１液体を回収する第２回収口を有する請求項１１に記載の液浸部材。
【請求項１３】
前記第５領域及び第６領域の一方又は両方に配置され、前記第２間隙に第２液体を供給する第２供給口を有する請求項１１又は１２に記載の液浸部材。
【請求項１４】
前記第６領域は、前記光路に対する放射方向に関して内側に向かって上方に傾斜する請求項１１〜１３のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項１５】
前記第２間隙は、前記第１部材の第１外面と、前記第２部材の第２内面との間に形成され、
前記第２内面は、前記物体に近い第７領域と、前記第７領域の上方に配置される第８領域と、前記第７領域の上端と前記第８領域の下端とを結ぶように配置され、前記第７、第８領域とは異なる方向を向く第９領域と、を含む請求項１〜１４のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項１６】
前記第８領域及び前記第９領域の一方又は両方に配置され、前記第２間隙の前記第１液体を回収する第３回収口を有する請求項１５に記載の液浸部材。
【請求項１７】
前記第８領域及び第９領域の一方又は両方に配置され、前記第２間隙に第２液体を供給する第３供給口を有する請求項１５又は１６に記載の液浸部材。
【請求項１８】
前記第９領域は、前記光路に対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する請求項１５〜１７のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項１９】
液浸露光装置内において、露光光が射出される射出面及び前記射出面の周囲に配置される外側面を有する光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される液浸部材であって、
少なくとも一部が第１間隙を介して前記外側面と対向する第１内面、及び前記射出面と対向する物体が対向可能な第１下面を有し、前記射出面側に前記第１液体の第１液浸空間を形成する第１部材と、
前記光路に対して前記第１部材の外側に配置され、第２間隙を介して前記第１部材の第１外面と対向する第２内面、及び前記物体が対向可能な第２下面を有する第２部材と、
前記第１部材及び前記第２部材の一方又は両方に配置され、前記第１液体を供給する第１供給口と、
前記第１部材及び前記第２部材の一方又は両方に配置され、前記第１供給口からの前記第１液体の少なくとも一部を回収する第１回収口と、を備え、
前記第１内面及び前記第２内面の一方又は両方は、角部を有する液浸部材。
【請求項２０】
前記第２下面と前記物体の上面との間の寸法は、前記第１下面と前記物体の上面との間の寸法よりも小さい請求項１〜１９のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項２１】
前記第１部材に対して前記第２部材を可動に支持する支持装置を備える請求項１〜２０のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項２２】
前記第２間隙の上部に配置され、前記第２間隙からの液体の流出を抑制する抑制部材を備える請求項１〜２１のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項２３】
前記抑制部材の表面の少なくとも一部は、前記第２間隙の液体に対して撥液性である請求項２２に記載の液浸部材。
【請求項２４】
前記第１供給口は、前記光路に面するように前記第１部材に配置される請求項１〜２３のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項２５】
前記第１供給口は、前記物体が対向するように前記第１部材に配置される請求項１〜２４のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項２６】
前記第１回収口は、前記物体が対向するように前記第２部材に配置される請求項１〜２５のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項２７】
前記第１回収口は、前記物体に面するように前記第２部材に形成された開口に配置される多孔部材の孔を含む請求項１〜２６のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項２８】
前記第２下面は、前記多孔部材の下面を含む請求項２７に記載の液浸部材。
【請求項２９】
前記第１液浸空間の少なくとも一部が、前記第２部材の前記第２下面側に形成される請求項１〜２８のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項３０】
前記光路に対して前記第２部材の外側に配置され、前記物体が対向可能な第３下面を有し、前記第３下面側に第２液浸空間の少なくとも一部が形成される第３部材を備える請求項１〜２９のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項３１】
前記第３部材に配置され、前記第２液浸空間を形成するための液体を供給する第４供給口と、
前記第３部材に配置され、前記第３供給口からの液体の少なくとも一部を回収する第４回収口と、を有する請求項３０に記載の液浸部材。
【請求項３２】
前記第４回収口は、前記第２部材の前記第２下面が面する空間から流出した液体を、前記第２液浸空間の液体とともに回収する請求項３１に記載の液浸部材。
【請求項３３】
第１液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置であって、
請求項１〜３２のいずれか一項に記載の液浸部材を備える液浸露光装置。
【請求項３４】
請求項３３に記載の液浸露光装置を用いて基板を露光することと、
露光された前記基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【請求項３５】
露光光が射出される光学部材の射出面と基板との間の前記露光光の光路に満たされた第１液体を介して前記露光光で前記基板を露光する露光方法であって、
少なくとも一部が第１間隙を介して前記射出面の周囲に配置される前記光学部材の外側面と対向する第１内面と、前記射出面と対向する前記基板が対向可能な第１下面とを有する第１部材、及び前記光路に対して前記第１部材の外側に配置され、前記物体が対向可能な第２下面を有する第２部材の一方又は両方に配置された第１供給口から、前記第１液体を供給することと、
前記第１部材及び前記第２部材の一方又は両方に配置された第１回収口から、前記第１供給口からの前記第１液体の少なくとも一部を回収することと、
前記第１供給口からの前記第１液体の供給と前記第１回収口からの前記第１液体の回収とにより、前記射出面と前記基板との間の前記露光光の光路が前記第１液体で満たされるように、前記第１液体の第１液浸空間を形成することと、
前記第１液浸空間の前記第１液体を介して前記基板を露光することと、
前記第１部材と前記第２部材との間の第２間隙に面する第２供給口から、前記第２間隙に第２液体を供給することと、を含む露光方法。
【請求項３６】
露光光が射出される光学部材の射出面と基板との間の前記露光光の光路に満たされた第１液体を介して前記露光光で前記基板を露光する露光方法であって、
少なくとも一部が第１間隙を介して前記射出面の周囲に配置される前記光学部材の外側面と対向する第１内面と前記射出面と対向する前記基板が対向可能な第１下面とを有する第１部材、及び前記光路に対して前記第１部材の外側に配置され、前記物体が対向可能な第２下面を有する第２部材の一方又は両方に配置された第１供給口から、前記第１液体を供給することと、
前記第１部材及び前記第２部材の一方又は両方に配置された第１回収口から、前記第１供給口からの前記第１液体の少なくとも一部を回収することと、
前記第１供給口からの前記第１液体の供給と前記第１回収口からの前記第１液体の回収とにより、前記射出面と前記基板との間の前記露光光の光路が前記第１液体で満たされるように、前記第１液体の第１液浸空間を形成することと、
前記第１液浸空間の前記第１液体を介して前記基板を露光することと、
前記第１部材と前記第２部材との間の第２間隙に面する第２回収口から、前記第２間隙の前記第１液体を回収することと、を含む露光方法。
【請求項３７】
露光光が射出される光学部材の射出面と基板との間の前記露光光の光路に満たされた第１液体を介して前記露光光で前記基板を露光する露光方法であって、
少なくとも一部が第１間隙を介して前記射出面の周囲に配置される前記光学部材の外側面と対向する第１内面と前記射出面と対向する前記基板が対向可能な第１下面とを有する第１部材、及び前記光路に対して前記第１部材の外側に配置され、前記物体が対向可能な第２下面を有する第２部材の一方又は両方に配置された第１供給口から、前記第１液体を供給することと、
前記第１部材及び前記第２部材の一方又は両方に配置された第１回収口から、前記第１供給口からの前記第１液体の少なくとも一部を回収することと、
前記第１供給口からの前記第１液体の供給と前記第１回収口からの前記第１液体の回収とにより、前記射出面と前記基板との間の前記露光光の光路が前記第１液体で満たされるように、前記第１液体の第１液浸空間を形成することと、
前記第１液浸空間の前記第１液体を介して前記基板を露光することと、を含み、
前記第１内面及び前記第２内面の一方又は両方は、角部を有する露光方法。
【請求項３８】
請求項３５〜３７のいずれか一項に記載の露光方法を用いて基板を露光することと、
露光された前記基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【請求項３９】
コンピュータに、露光光が射出される光学部材の射出面と基板との間の前記露光光の光路に満たされた第１液体を介して前記露光光で前記基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
少なくとも一部が第１間隙を介して前記射出面の周囲に配置される前記光学部材の外側面と対向する第１内面と、前記射出面と対向する前記基板が対向可能な第１下面とを有する第１部材、及び前記光路に対して前記第１部材の外側に配置され、前記物体が対向可能な第２下面を有する第２部材の一方又は両方に配置された第１供給口から、前記第１液体を供給することと、
前記第１部材及び前記第２部材の一方又は両方に配置された第１回収口から、前記第１供給口からの前記第１液体の少なくとも一部を回収することと、
前記第１供給口からの前記第１液体の供給と前記第１回収口からの前記第１液体の回収とにより、前記射出面と前記基板との間の前記露光光の光路が前記第１液体で満たされるように、前記第１液体の第１液浸空間を形成することと、
前記第１液浸空間の前記第１液体を介して前記基板を露光することと、
前記第１部材と前記第２部材との間の第２間隙に面する第２供給口から、前記第２間隙に第２液体を供給することと、を実行させるプログラム。
【請求項４０】
コンピュータに、露光光が射出される光学部材の射出面と基板との間の前記露光光の光路に満たされた第１液体を介して前記露光光で前記基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
少なくとも一部が第１間隙を介して前記射出面の周囲に配置される前記光学部材の外側面と対向する第１内面と前記射出面と対向する前記基板が対向可能な第１下面とを有する第１部材、及び前記光路に対して前記第１部材の外側に配置され、前記物体が対向可能な第２下面を有する第２部材の一方又は両方に配置された第１供給口から、前記第１液体を供給することと、
前記第１部材及び前記第２部材の一方又は両方に配置された第１回収口から、前記第１供給口からの前記第１液体の少なくとも一部を回収することと、
前記第１供給口からの前記第１液体の供給と前記第１回収口からの前記第１液体の回収とにより、前記射出面と前記基板との間の前記露光光の光路が前記第１液体で満たされるように、前記第１液体の第１液浸空間を形成することと、
前記第１液浸空間の前記第１液体を介して前記基板を露光することと、
前記第１部材と前記第２部材との間の第２間隙に面する第２回収口から、前記第２間隙の前記第１液体を回収することと、を実行させるプログラム。
【請求項４１】
コンピュータに、露光光が射出される光学部材の射出面と基板との間の前記露光光の光路に満たされた第１液体を介して前記露光光で前記基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
少なくとも一部が第１間隙を介して前記射出面の周囲に配置される前記光学部材の外側面と対向する第１内面と前記射出面と対向する前記基板が対向可能な第１下面とを有する第１部材、及び前記光路に対して前記第１部材の外側に配置され、前記物体が対向可能な第２下面を有する第２部材の一方又は両方に配置された第１供給口から、前記第１液体を供給することと、
前記第１部材及び前記第２部材の一方又は両方に配置された第１回収口から、前記第１供給口からの前記第１液体の少なくとも一部を回収することと、
前記第１供給口からの前記第１液体の供給と前記第１回収口からの前記第１液体の回収とにより、前記射出面と前記基板との間の前記露光光の光路が前記第１液体で満たされるように、前記第１液体の第１液浸空間を形成することと、
前記第１液浸空間の前記第１液体を介して前記基板を露光することと、を実行させ、
前記第１内面及び前記第２内面の一方又は両方は、角部を有するプログラム。
【請求項４２】
請求項３９〜４１のいずれか一項に記載のプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液浸部材、液浸露光装置、露光方法、デバイス製造方法、プログラム、及び記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
フォトリソグラフィ工程で用いられる露光装置において、例えば下記特許文献に開示されているような、液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】米国特許出願公開第２００７／０１３９６２８号明細書
【特許文献２】米国特許出願公開第２００８／０１７４７４８号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
液浸露光装置において、例えば液体の質が低下したり、液体が所定の空間から流出したりすると、露光不良が発生する可能性がある。その結果、不良デバイスが発生する可能性がある。
【０００５】
本発明の態様は、露光不良の発生を抑制できる液浸部材、液浸露光装置、及び露光方法を提供することを目的とする。また本発明の態様は、不良デバイスの発生を抑制できるデバイス製造方法、プログラム、及び記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の第１の態様に従えば、液浸露光装置内において、露光光が射出される射出面及び射出面の周囲に配置される外側面を有する光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される液浸部材であって、少なくとも一部が第１間隙を介して外側面と対向する第１内面、及び射出面と対向する物体が対向可能な第１下面を有し、射出面側に第１液体の第１液浸空間を形成する第１部材と、光路に対して第１部材の外側に配置され、物体が対向可能な第２下面を有する第２部材と、第１部材及び第２部材の一方又は両方に配置され、第１液体を供給する第１供給口と、第１部材及び第２部材の一方又は両方に配置され、第１供給口からの第１液体の少なくとも一部を回収する第１回収口と、第１部材と第２部材との間の第２間隙に面し、第２間隙に第２液体を供給する第２供給口と、を備える液浸部材が提供される。
【０００７】
本発明の第２の態様に従えば、液浸露光装置内において、露光光が射出される射出面及び射出面の周囲に配置される外側面を有する光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される液浸部材であって、少なくとも一部が第１間隙を介して外側面と対向する第１内面、及び射出面と対向する物体が対向可能な第１下面を有し、射出面側に第１液体の第１液浸空間を形成する第１部材と、光路に対して第１部材の外側に配置され、物体が対向可能な第２下面を有する第２部材と、第１部材及び第２部材の一方又は両方に配置され、第１液体を供給する第１供給口と、第１部材及び第２部材の一方又は両方に配置され、第１供給口からの第１液体の少なくとも一部を回収する第１回収口と、第１部材と第２部材との間の第２間隙に面し、第２間隙の第１液体を回収する第２回収口と、を備える液浸部材が提供される。
【０００８】
本発明の第３の態様に従えば、液浸露光装置内において、露光光が射出される射出面及び射出面の周囲に配置される外側面を有する光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される液浸部材であって、少なくとも一部が第１間隙を介して外側面と対向する第１内面、及び射出面と対向する物体が対向可能な第１下面を有し、射出面側に第１液体の第１液浸空間を形成する第１部材と、光路に対して第１部材の外側に配置され、第２間隙を介して第１部材の第１外面と対向する第２内面、及び物体が対向可能な第２下面を有する第２部材と、第１部材及び第２部材の一方又は両方に配置され、第１液体を供給する第１供給口と、第１部材及び第２部材の一方又は両方に配置され、第１供給口からの第１液体の少なくとも一部を回収する第１回収口と、を備え、第１内面及び第２内面の一方又は両方は、角部を有する液浸部材が提供される。
【０００９】
本発明の第４の態様に従えば、第１液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置であって、第１〜第３のいずれか一つの態様の液浸部材を備える液浸露光装置が提供される。
【００１０】
本発明の第５の態様に従えば、第４の態様の液浸露光装置を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。
【００１１】
本発明の第６の態様に従えば、露光光が射出される光学部材の射出面と基板との間の露光光の光路に満たされた第１液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、少なくとも一部が第１間隙を介して射出面の周囲に配置される光学部材の外側面と対向する第１内面と、射出面と対向する基板が対向可能な第１下面とを有する第１部材、及び光路に対して第１部材の外側に配置され、物体が対向可能な第２下面を有する第２部材の一方又は両方に配置された第１供給口から、第１液体を供給することと、第１部材及び第２部材の一方又は両方に配置された第１回収口から、第１供給口からの第１液体の少なくとも一部を回収することと、第１供給口からの第１液体の供給と第１回収口からの第１液体の回収とにより、射出面と基板との間の露光光の光路が第１液体で満たされるように、第１液体の第１液浸空間を形成することと、第１液浸空間の第１液体を介して基板を露光することと、第１部材と第２部材との間の第２間隙に面する第２供給口から、第２間隙に第２液体を供給することと、を含む露光方法が提供される。
【００１２】
本発明の第７の態様に従えば、露光光が射出される光学部材の射出面と基板との間の露光光の光路に満たされた第１液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、少なくとも一部が第１間隙を介して射出面の周囲に配置される光学部材の外側面と対向する第１内面と射出面と対向する基板が対向可能な第１下面とを有する第１部材、及び光路に対して第１部材の外側に配置され、物体が対向可能な第２下面を有する第２部材の一方又は両方に配置された第１供給口から、第１液体を供給することと、第１部材及び第２部材の一方又は両方に配置された第１回収口から、第１供給口からの第１液体の少なくとも一部を回収することと、第１供給口からの第１液体の供給と第１回収口からの第１液体の回収とにより、射出面と基板との間の露光光の光路が第１液体で満たされるように、第１液体の第１液浸空間を形成することと、第１液浸空間の第１液体を介して基板を露光することと、第１部材と第２部材との間の第２間隙に面する第２回収口から、第２間隙の第１液体を回収することと、を含む露光方法が提供される。
【００１３】
本発明の第８の態様に従えば、露光光が射出される光学部材の射出面と基板との間の露光光の光路に満たされた第１液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、少なくとも一部が第１間隙を介して射出面の周囲に配置される光学部材の外側面と対向する第１内面と射出面と対向する基板が対向可能な第１下面とを有する第１部材、及び光路に対して第１部材の外側に配置され、物体が対向可能な第２下面を有する第２部材の一方又は両方に配置された第１供給口から、第１液体を供給することと、第１部材及び第２部材の一方又は両方に配置された第１回収口から、第１供給口からの第１液体の少なくとも一部を回収することと、第１供給口からの第１液体の供給と第１回収口からの第１液体の回収とにより、射出面と基板との間の露光光の光路が第１液体で満たされるように、第１液体の第１液浸空間を形成することと、第１液浸空間の第１液体を介して基板を露光することと、を含み、第１内面及び第２内面の一方又は両方は、角部を有する露光方法が提供される。
【００１４】
本発明の第９の態様に従えば、第６〜第８のいずれか一つの態様の露光方法を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。
【００１５】
本発明の第１０の態様に従えば、コンピュータに、露光光が射出される光学部材の射出面と基板との間の露光光の光路に満たされた第１液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、少なくとも一部が第１間隙を介して射出面の周囲に配置される光学部材の外側面と対向する第１内面と、射出面と対向する基板が対向可能な第１下面とを有する第１部材、及び光路に対して第１部材の外側に配置され、物体が対向可能な第２下面を有する第２部材の一方又は両方に配置された第１供給口から、第１液体を供給することと、第１部材及び第２部材の一方又は両方に配置された第１回収口から、第１供給口からの第１液体の少なくとも一部を回収することと、第１供給口からの第１液体の供給と第１回収口からの第１液体の回収とにより、射出面と基板との間の露光光の光路が第１液体で満たされるように、第１液体の第１液浸空間を形成することと、第１液浸空間の第１液体を介して基板を露光することと、第１部材と第２部材との間の第２間隙に面する第２供給口から、第２間隙に第２液体を供給することと、を実行させるプログラムが提供される。
【００１６】
本発明の第１１の態様に従えば、コンピュータに、露光光が射出される光学部材の射出面と基板との間の露光光の光路に満たされた第１液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、少なくとも一部が第１間隙を介して射出面の周囲に配置される光学部材の外側面と対向する第１内面と射出面と対向する基板が対向可能な第１下面とを有する第１部材、及び光路に対して第１部材の外側に配置され、物体が対向可能な第２下面を有する第２部材の一方又は両方に配置された第１供給口から、第１液体を供給することと、第１部材及び第２部材の一方又は両方に配置された第１回収口から、第１供給口からの第１液体の少なくとも一部を回収することと、第１供給口からの第１液体の供給と第１回収口からの第１液体の回収とにより、射出面と基板との間の露光光の光路が第１液体で満たされるように、第１液体の第１液浸空間を形成することと、第１液浸空間の第１液体を介して基板を露光することと、第１部材と第２部材との間の第２間隙に面する第２回収口から、第２間隙の第１液体を回収することと、を実行させるプログラムが提供される。
【００１７】
本発明の第１２の態様に従えば、コンピュータに、露光光が射出される光学部材の射出面と基板との間の露光光の光路に満たされた第１液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、少なくとも一部が第１間隙を介して射出面の周囲に配置される光学部材の外側面と対向する第１内面と射出面と対向する基板が対向可能な第１下面とを有する第１部材、及び光路に対して第１部材の外側に配置され、物体が対向可能な第２下面を有する第２部材の一方又は両方に配置された第１供給口から、第１液体を供給することと、第１部材及び第２部材の一方又は両方に配置された第１回収口から、第１供給口からの第１液体の少なくとも一部を回収することと、第１供給口からの第１液体の供給と第１回収口からの第１液体の回収とにより、射出面と基板との間の露光光の光路が第１液体で満たされるように、第１液体の第１液浸空間を形成することと、第１液浸空間の第１液体を介して基板を露光することと、を実行させ、第１内面及び第２内面の一方又は両方は、角部を有するプログラムが提供される。
【００１８】
本発明の第１３の態様に従えば、第１０〜第１２のいずれか一つのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体が提供される。
【発明の効果】
【００１９】
本発明の態様によれば、露光不良の発生を抑制できる。また本発明の態様によれば、不良デバイスの発生を抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】第１実施形態に係る露光装置の一例を示す図である。
【図２】第１実施形態に係る液浸部材の一例を示す図である。
【図３】第１実施形態に係る液浸部材の一例を示す図である。
【図４】第２実施形態に係る液浸部材の一例を示す図である。
【図５】第３実施形態に係る液浸部材の一例を示す図である。
【図６】第４実施形態に係る液浸部材の一例を示す図である。
【図７】第５実施形態に係る液浸部材の一例を示す図である。
【図８】第６実施形態に係る液浸部材の一例を示す図である。
【図９】第７実施形態に係る液浸部材の一例を示す図である。
【図１０】第８実施形態に係る液浸部材の一例を示す図である。
【図１１】第９実施形態に係る液浸部材の一例を示す図である。
【図１２】第９実施形態に係る液浸部材の一例を示す図である。
【図１３】デバイスの製造方法の一例を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されない。以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部の位置関係について説明する。水平面内の所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれと直交する方向（すなわち鉛直方向）をＺ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。
【００２２】
＜第１実施形態＞
第１実施形態について説明する。図１は、第１実施形態に係る露光装置ＥＸの一例を示す概略構成図である。本実施形態の露光装置ＥＸは、液体ＬＱを介して露光光ＥＬで基板Ｐを露光する液浸露光装置である。本実施形態においては、基板Ｐに照射される露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳ１が形成される。液浸空間とは、液体で満たされた部分（空間、領域）をいう。基板Ｐは、液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱを介して露光光ＥＬで露光される。本実施形態においては、液体ＬＱとして、水（純水）を用いる。
【００２３】
図１において、露光装置ＥＸは、マスクＭを保持して移動可能なマスクステージ１と、基板Ｐを保持して移動可能な基板ステージ２と、マスクＭを露光光ＥＬで照明する照明系ＩＬと、露光光ＥＬで照明されたマスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する投影光学系ＰＬと、液体ＬＱの液浸空間ＬＳ１を形成する液浸部材３と、マスクステージ１及び基板ステージ２の位置を計測する計測システム４と、露光装置ＥＸ全体の動作を制御する制御装置５と、制御装置５に接続され、露光に関する各種の情報を記憶する記憶装置６とを備えている。記憶装置６は、例えばＲＡＭ等のメモリ、ハードディスク、ＣＤ−ＲＯＭ等の記録媒体を含む。記憶装置６には、コンピュータシステムを制御するオペレーティングシステム（ＯＳ）がインストールされ、露光装置ＥＸを制御するためのプログラムが記憶されている。
【００２４】
マスクＭは、基板Ｐに投影されるデバイスパターンが形成されたレチクルを含む。マスクＭは、例えばガラス板等の透明板と、その透明板上にクロム等の遮光材料を用いて形成されたパターンとを有する透過型マスクを含む。なお、マスクＭとして、反射型マスクを用いることもできる。
【００２５】
基板Ｐは、デバイスを製造するための基板である。基板Ｐは、例えば半導体ウエハ等の基材と、その基材上に形成された感光膜とを含む。感光膜は、感光材（フォトレジスト）の膜である。また、基板Ｐが、感光膜に加えて別の膜を含んでもよい。例えば、基板Ｐが、反射防止膜を含んでもよいし、感光膜を保護する保護膜（トップコート膜）を含んでもよい。
【００２６】
本実施形態において、液浸部材３は、投影光学系ＰＬの複数の光学素子のうち、投影光学系ＰＬの像面に最も近い終端光学素子７の周囲の少なくとも一部に配置される。終端光学素子７は、露光光ＥＬが射出される射出面７Ｒと、射出面７Ｒの周囲に配置される外側面７Ｓとを有する。
【００２７】
本実施形態において、液浸空間ＬＳ１は、射出面７Ｒ側に形成される。液浸空間ＬＳ１は、射出面７Ｒから射出される露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように形成される。本実施形態において、液浸部材３は、射出面７Ｒ側に液体ＬＱの液浸空間ＬＳ１を形成する第１部材３０と、光路Ｋに対して第１部材３０の外側に配置される第２部材６０とを含む。
【００２８】
また、露光装置ＥＸは、少なくとも投影光学系ＰＬを支持するボディ（フレーム）１００を備えている。また、露光装置ＥＸは、露光光ＥＬが進行する空間１０２の環境（温度、湿度、圧力、及びクリーン度の少なくとも一つ）を調整するチャンバ装置１０３を備えている。チャンバ装置１０３は、空間１０２を形成するチャンバ部材１０４と、その空間１０２の環境を調整する環境制御装置１０５とを有する。空間１０２は、チャンバ部材１０４が形成する内部空間である。ボディ１００は、空間１０２に配置される。
【００２９】
空間１０２は、空間１０２Ａ及び空間１０２Ｂを含む。空間１０２Ａは、基板Ｐが処理される空間である。基板ステージ２は、空間１０２Ａを移動する。
【００３０】
環境制御装置１０５は、空間１０２Ａ、１０２Ｂに気体Ｇｓを供給する給気部１０５Ｓを有し、その給気部１０５Ｓから空間１０２Ａ、１０２Ｂに気体Ｇｓを供給して、その空間１０２Ａ、１０２Ｂの環境を調整する。本実施形態においては、少なくとも基板ステージ２、及び投影光学系ＰＬの終端光学素子７が空間１０２Ａに配置される。本実施形態においては、環境制御装置１０５から空間１０２に供給される気体Ｇｓは、空気である。
【００３１】
照明系ＩＬは、所定の照明領域ＩＲに露光光ＥＬを照射する。照明領域ＩＲは、照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。照明系ＩＬは、照明領域ＩＲに配置されたマスクＭの少なくとも一部を均一な照度分布の露光光ＥＬで照明する。照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬとして、例えば水銀ランプから射出される輝線（ｇ線、ｈ線、ｉ線）及びＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光（ＤＵＶ光）、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）、及びＦ２レーザ光（波長１５７ｎｍ）等の真空紫外光（ＶＵＶ光）等が用いられる。本実施形態においては、露光光ＥＬとして、紫外光（真空紫外光）であるＡｒＦエキシマレーザ光を用いる。
【００３２】
マスクステージ１は、マスクＭを保持した状態で、ベース部材８のガイド面８Ｇ上を移動可能である。マスクステージ１は、マスクＭの少なくとも一部が照明領域ＩＲを移動するように、ガイド面８Ｇ上を移動する。マスクステージ１は、例えば米国特許第６４５２２９２号明細書に開示されているような平面モータを含む駆動システム１Ｄの作動により移動する。平面モータは、マスクステージ１に配置された可動子と、ベース部材８に配置された固定子とを有する。本実施形態においては、マスクステージ１は、駆動システム１Ｄの作動により、ガイド面８Ｇ上において、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能である。なお、マスクステージ１を移動させる駆動システム１Ｄは、平面モータでなくてもよい。例えば、駆動システム１Ｄがリニアモータを含んでもよい。
【００３３】
投影光学系ＰＬは、所定の投影領域ＰＲに露光光ＥＬを照射する。投影領域ＰＲは、投影光学系ＰＬから射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。投影光学系ＰＬは、投影領域ＰＲに配置された基板Ｐの少なくとも一部に、マスクＭのパターンの像を所定の投影倍率で投影する。本実施形態の投影光学系ＰＬは、その投影倍率が例えば１／４、１／５、又は１／８等の縮小系である。なお、投影光学系ＰＬは等倍系及び拡大系のいずれでもよい。本実施形態においては、投影光学系ＰＬの光軸は、Ｚ軸と平行である。また、投影光学系ＰＬは、反射光学素子を含まない屈折系、屈折光学素子を含まない反射系、反射光学素子と屈折光学素子とを含む反射屈折系のいずれであってもよい。また、投影光学系ＰＬは、倒立像と正立像とのいずれを形成してもよい。
【００３４】
終端光学素子７の射出面７Ｒは、投影光学系ＰＬの像面に向けて露光光ＥＬを射出する。投影領域ＰＲは、射出面７Ｒから射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。また、本実施形態において、投影領域ＰＲは、射出面７Ｒと対向する位置を含む。
【００３５】
基板ステージ２は、基板Ｐを保持した状態で、ベース部材９のガイド面９Ｇ上を移動可能である。基板ステージ２は、基板Ｐの少なくとも一部が投影領域ＰＲを移動するように、ガイド面９Ｇ上を移動する。基板ステージ２は、例えば米国特許第６４５２２９２号明細書に開示されているような平面モータを含む駆動システム２Ｄの作動により移動する。平面モータは、基板ステージ２に配置された可動子と、ベース部材９に配置された固定子とを有する。本実施形態においては、基板ステージ２は、駆動システム２Ｄの作動により、ガイド面９Ｇ上において、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能である。なお、基板ステージ２を移動させる駆動システム２Ｄは、平面モータでなくてもよい。例えば、駆動システム２Ｄがリニアモータを含んでもよい。
【００３６】
本実施形態において、基板ステージ２は、例えば米国特許出願公開第２００７／０１７７１２５号明細書、米国特許出願公開第２００８／００４９２０９号明細書等に開示されているような、基板Ｐの下面をリリース可能に保持する第１保持部２１と、第１保持部２１の周囲に配置され、カバー部材Ｔの下面をリリース可能に保持する第２保持部２２とを有する。カバー部材Ｔは、第１保持部２１に保持された基板Ｐの周囲に配置される。
【００３７】
本実施形態において、第１保持部２１は、基板Ｐを保持する。第２保持部２２は、カバー部材Ｔを保持する。本実施形態において、第１保持部２１に保持された基板Ｐの上面と第２保持部２２に保持されたカバー部材Ｔの上面とは、ほぼ同一平面内に配置される（ほぼ面一である）。
【００３８】
なお、カバー部材Ｔは、基板ステージ２に一体的に形成されていてもよい。この場合、第２保持部２２は省略される。
【００３９】
計測システム４は、干渉計システム及びエンコーダシステムの一方又は両方を含む。干渉計システムは、マスクステージ１の計測ミラーに計測光を照射して、そのマスクステージ１の位置を計測する干渉計ユニットと、基板ステージ２の計測ミラーに計測光を照射して、その基板ステージ２の位置を計測する干渉計ユニットとを含む。エンコーダシステムは、例えば米国特許出願公開第２００７／０２８８１２１号明細書に開示されているような、計測光を射出する照射装置及び計測光を受光する受光装置を有するエンコーダヘッドを備える。エンコーダヘッドは、基板ステージ２に配置され、格子（スケール、格子線）を有するスケール部材に照射装置からの計測光を照射して、その格子を介した計測光を受光装置で受光して、その格子の位置を計測する。
【００４０】
基板Ｐの露光処理を実行するとき、あるいは所定の計測処理を実行するとき、制御装置５は、計測システム４の計測結果に基づいて、駆動システム１Ｄ、２Ｄを作動し、マスクステージ１（マスクＭ）、及び基板ステージ２（基板Ｐ）の位置制御を実行する。
【００４１】
次に、本実施形態に係る液浸部材３について説明する。図２は、本実施形態に係る液浸部材３の一例を示すＹＺ平面と平行な側断面図、図３は、図２の一部を拡大した図である。
【００４２】
図２及び図３に示すように、液浸部材３は、終端光学素子７の周囲の少なくとも一部に配置される。終端光学素子７は、露光光ＥＬが射出される射出面７Ｒと、射出面７Ｒの周囲に配置される外側面７Ｓとを有する。
【００４３】
本実施形態において、射出面７Ｒは、−Ｚ方向を向いており、ＸＹ平面と平行である。なお、−Ｚ方向を向いている射出面７Ｒは、凸面であってもよいし、凹面であってもよい。終端光学素子７の光軸ＡＸは、Ｚ軸と平行である。本実施形態において、射出面７Ｒから射出される露光光ＥＬは、−Ｚ方向に進行する。
【００４４】
本実施形態において、外側面７Ｓは、露光光ＥＬを射出しない。換言すれば、露光光ＥＬは、外側面７Ｓを通過しない。本実施形態において、外側面７Ｓは、終端光学素子７の光軸ＡＸに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。
【００４５】
本実施形態において、液浸空間ＬＳ１は、終端光学素子７と、射出面７Ｒが対向する物体との間の露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように、射出面７Ｒ側に形成される。本実施形態において、射出面７Ｒが対向する物体は、投影領域ＰＲに配置可能な物体を含む。本実施形態において、その物体は、基板ステージ２（カバー部材Ｔ）、及び基板ステージ２（第１保持部２１）に保持された基板Ｐの少なくとも一つを含む。また、その物体は、液浸部材３の下面と対向するように配置可能である。基板Ｐの露光において、基板Ｐに照射される露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように、射出面７Ｒ側に液浸空間ＬＳ１が形成される。基板Ｐに露光光ＥＬが照射されているとき、投影領域ＰＲを含む基板Ｐの上面（表面）の一部の領域だけが液体ＬＱで覆われるように液浸空間ＬＳ１が形成される。
【００４６】
本実施形態において、液浸部材３は、第１部材３０と第２部材６０とを含む。本実施形態において、第１部材３０及び第２部材６０は、支持装置１０を介して、ボディ１００に支持される。本実施形態において、ボディ１００の位置は、実質的に固定されている。支持装置１０は、物体（基板Ｐ等）の上方に、第１部材３０及び第２部材６０を支持する。
【００４７】
本実施形態において、支持装置１０は、第１部材３０及び第２部材６０が接続される支持部材１１と、支持部材１１とボディ１００とを連結する連結部材１２とを含む。本実施形態において、支持部材１１及び連結部材１２の位置は、実質的に固定されている。換言すれば、支持部材１１及び連結部材１２とボディ１００との相対位置は、変化しない。
【００４８】
本実施形態において、支持装置１０は、第１部材３０と支持部材１１とを接続する第１支持機構１３と、第２部材６０と支持部材１１とを接続する第２支持機構１４とを含む。
【００４９】
本実施形態において、第１支持機構１３は、支持部材１１に対する第１部材３０の位置が変化しないように、第１部材３０を支持する。すなわち、本実施形態において、第１部材３０の位置は、変化しない。
【００５０】
本実施形態において、第２支持機構１４は、支持部材１１に対する第２部材６０の位置が変化するように、第２部材６０を支持する。すなわち、本実施形態において、第２部材６０の位置は、変化可能である。換言すれば、第２部材６０と支持部材１１との相対位置は、変化可能である。したがって、本実施形態において、第２支持機構１４は、第１部材３０に対して第２部材６０を可動に支持する。
【００５１】
本実施形態において、第２部材６０は、第２支持機構１４によって、能動的に移動可能に支持されている。例えば、第２支持機構１４が、第２部材６０を移動可能なアクチュエータを含む駆動装置を備えてもよい。
【００５２】
なお、第２部材６０は、第２支持機構１４によって、受動的に移動可能に支持されてもよい。例えば、第２支持機構１４が、ばね部材及びベローズ部材の一方又は両方を含み、第２部材６０を移動可能に支持してもよい。
【００５３】
本実施形態において、第２部材６０は、少なくともＺ軸方向に移動可能に支持される。なお、第２部材６０が、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、θＸ方向、及びθＹ方向、θＺ方向の少なくとも一つに関して移動可能に支持されてもよい。
【００５４】
なお、第１支持機構１３が、第１部材３０を移動可能に支持してもよい。例えば、第１部材３０が、ばね部材及びベローズ部材の一方又は両方を含む第１支持機構１３によって、受動的に移動可能に支持されてもよい。例えば、第１部材３０が、アクチュエータを含む第２支持機構１４によって、能動的に移動可能に支持されてもよい。また、第１部材３０は、Ｚ軸方向に移動可能に支持されてもよいし、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、Ｚ軸方向、θＸ方向、θＹ方向、及びθＺ方向の少なくとも一つに関して移動可能に支持されてもよい。
【００５５】
なお、第２部材６０の位置が、実質的に固定されてもよい。
【００５６】
なお、第１部材３０及び第２部材６０の一方又は両方が、支持装置１０とは異なる部材で支持されてもよい。例えば、第１部材３０及び第２部材６０の一方又は両方が、支持装置１０とは異なる支持部材を介して、ボディ１００に支持されてもよいし、投影光学系ＰＬの少なくとも一つの光学素子を支持する支持部材で支持されてもよい。また、第１部材３０と第２部材６０の一方又は両方が、投影光学系ＰＬを支持していないボディ（フレーム）に、連結するようにしてもよい。
【００５７】
第１部材３０は、第１内面３０Ａと、第１下面３０Ｂとを有する。第１内面３０Ａの少なくとも一部は、第１間隙Ｇ１を介して、終端光学素子７の外側面７Ｓと対向する。第１下面３０Ｂは、射出面７Ｒと対向する物体が対向可能である。図２及び図３においては、射出面７Ｒ及び第１下面３０Ｂが対向する物体の一例として基板Ｐが示されているが、上述したように、その物体としては、例えば基板ステージ２（カバー部材Ｔ）でもよいし、基板ステージ２及び基板Ｐとは別の物体でもよい。以下の説明においては、射出面７Ｒが対向する物体が基板Ｐである場合を例にして説明する。
【００５８】
本実施形態において、第１部材３０は、環状の部材である。第１部材３０の少なくとも一部は、終端光学素子７の周囲に配置される。また、本実施形態においては、第１部材３０の少なくとも一部は、終端光学素子７と基板Ｐとの間の光路Ｋの周囲にも配置される。
【００５９】
なお、第１部材３０は、環状の部材でなくてもよい。例えば、第１部材３０が終端光学素子７の周囲において、間隔をあけて複数配置されてもよい。また、第１部材３０が、終端光学素子７の周囲の一部に配置されてもよい。また、第１部材３０が、終端光学素子７の周囲の少なくとも一部に配置され、終端光学素子７と基板Ｐとの間の光路Ｋの周囲には配置されなくてもよい。
【００６０】
第２部材６０は、光路Ｋ（終端光学素子７の光軸ＡＸ）に対して第１部材３０の外側に配置される。第２部材６０は、第２内面６０Ａと、第２下面６０Ｂとを有する。第２内面６０Ａの少なくとも一部は、第２間隙Ｇ２を介して、第１部材３０の第１外面３０Ｃと対向する。第２下面６０Ｂは、基板Ｐが対向可能である。
【００６１】
本実施形態において、終端光学素子７と第１部材３０との間に空間ＳＰ１が形成される。第１部材３０と第１部材３０の下面と対向する物体（基板Ｐ等）との間に空間ＳＰａが形成される。第２部材６０と第２部材の下面と対向する物体（基板Ｐ等）との間に空間ＳＰｂが形成される。第１部材３０と第２部材６０との間に空間ＳＰ２が形成される。
【００６２】
空間ＳＰ１は、上端に開口２３を有する。開口２３は、外側面７Ｓと第１内面３０Ａの上端との間に形成される。空間ＳＰ１は、開口２３を介して、液浸部材３の周囲の雰囲気に開放されている。すなわち、空間ＳＰ１は、開口２３を介して、チャンバ装置１０３によって形成される空間１０２（１０２Ａ）に開放されている。換言すれば、空間ＳＰ１は、開口２３を介して、空間１０２と接続される。なお、空間１０２の圧力は、大気圧に調整されていてもよし、大気圧より高い圧力に調整されてもよいし、低い圧力に調整されてもよい。
【００６３】
空間ＳＰ２は、上端に開口２５を有し、下端に開口２６を有する。開口２５は、第１外面３０Ｃの上端と第２内面６０Ａとの間に形成される。開口２６は、第１外面３０Ｃの下端と第２内面６０Ａとの間に形成される。空間ＳＰ２は、開口２５を介して、液浸部材３の周囲の雰囲気に開放されている。すなわち、空間ＳＰ２は、開口２５を介して、空間１０２（１０２Ａ）と接続される。空間ＳＰ２は、開口２６を介して、空間ＳＰａ及び空間ＳＰｂに接続される。
【００６４】
また、空間ＳＰａ及び空間ＳＰｂも、液浸部材３の周囲の雰囲気に開放される。
【００６５】
液浸部材３は、液体ＬＱを供給する供給口３１と、供給口３１からの液体ＬＱの少なくとも一部を回収する回収口６２とを有する。供給口３１は、液浸空間ＬＳ１が形成されるように、液体ＬＱを供給する。供給口３１から供給される液体ＬＱの少なくとも一部は、光路Ｋに供給される。本実施形態において、回収口６２は、光路Ｋ（光軸ＡＸ）に対する放射方向に関して供給口３１の外側に配置される。
【００６６】
本実施形態において、供給口３１は、第１部材３０に配置される。本実施形態において、供給口３１は、供給口３１Ａと供給口３１Ｂとを含む。
【００６７】
供給口３１Ａは、空間ＳＰ１に面するように配置される。本実施形態において、供給口３１Ａは、射出面７Ｒと基板Ｐとの間の光路Ｋに面するように、第１部材３０に配置される。本実施形態において、第１内面３０Ａに供給口３１Ａが配置される。第１内面３０Ａの少なくとも一部は、供給口３１Ａの周囲に配置される。なお、供給口３１Ａが、終端光学素子７の外側面７Ｓと対向するように、第１内面３０Ａに配置されてもよい。
【００６８】
供給口３１Ｂは、空間ＳＰａに面するように配置される。本実施形態において、供給口３１Ｂは、基板Ｐが対向するように、第１部材３０に配置される。本実施形態において、第１下面３０Ｂに供給口３１Ｂが配置される。第１下面３０Ｂの少なくとも一部は、供給口３１Ｂの周囲に配置される。
【００６９】
なお、本実施形態において、供給口３１Ａが設けられ、供給口３１Ｂが省略されてもよいし、供給口３１Ｂが設けられ、供給口３１Ａが省略されてもよい。なお、供給口３１が、第１外面３０Ｃの少なくとも一部に配置された供給口を含んでもよい。
【００７０】
なお、供給口３１が、第２部材６０の少なくとも一部に設けられた供給口を含んでもよい。例えば、液体ＬＱを供給する供給口が第２部材６０の第２下面６０Ｂの少なくとも一部に配置されてもよいし、第２内面６０Ａの少なくとも一部に配置されてもよい。すなわち、液体ＬＱを供給する供給口が、第１部材３０及び第２部材６０の両方に配置されてもよい。
【００７１】
本実施形態において、回収口６２は、第２部材６０に配置される。本実施形態において、回収口６２は、空間ＳＰｂに面するように配置される。本実施形態において、回収口６２は、基板Ｐが対向するように、第２部材６０に配置される。本実施形態において、第２下面６０Ｂに回収口６２が配置される。第２下面６０Ｂの少なくとも一部は、回収口６２の周囲に配置される。
【００７２】
本実施形態において、第２部材６０は、基板Ｐに面するように形成された開口６０Ｋを有する。開口６０Ｋは、第２部材６０の内部に形成された空間６０Ｓの下端に配置される。本実施形態において、開口６０Ｋに、多孔部材６３が配置される。本実施形態において、多孔部材６３は、空間６０Ｓに面する上面と、上面の反対方向を向く下面と、上面と下面とを結ぶ複数の孔とを有する。本実施形態において、回収口６２は、多孔部材６３の孔を含む。本実施形態において、第２下面６０Ｂは、多孔部材６３の下面を含む。液体ＬＱは、多孔部材６３の孔を介して回収される。
【００７３】
なお、回収口６２は、多孔部材６３の孔でなくてもよい。例えば、回収口６２が、第２部材６０に形成された開口でもよい。すなわち、第２部材６０が多孔部材を介さずに、液体ＬＱを回収してもよい。
【００７４】
なお、回収口６２が、第２下面６０Ｂに配置されず、第２部材６０の第２内面６０Ａの少なくとも一部に配置されてもよい。なお、回収口６２が、第２内面６０Ａに配置された回収口、及び第２下面６０Ｂに配置された回収口を含んでいてもよい。
【００７５】
なお、回収口６２が、第１部材３０の少なくとも一部に設けられてもよい。例えば、回収口６２が第１部材３０の第１下面３０Ｂの少なくとも一部に配置されてもよいし、第１外面３０Ｃの少なくとも一部に配置されてもよい。なお、回収口６２が、第１部材３０に配置された回収口、及び第２部材６０に配置された回収口を含んでいてもよい。
【００７６】
本実施形態において、液浸部材３の下面と対向する物体（基板Ｐ等）の上面は、間隙Ｇａを介して、第１部材３０の第１下面３０Ｂと対向する。物体（基板Ｐ等）の上面は、間隙Ｇｂを介して、第２部材６０の第２下面６０Ｂと対向する。本実施形態において、間隙Ｇｂの寸法は、間隙Ｇａの寸法よりも小さい。なお、間隙Ｇｂの寸法と間隙Ｇａの寸法とが等しくてもよいし、間隙Ｇｂの寸法が、間隙Ｇａの寸法よりも大きくてもよい。
【００７７】
本実施形態において、第１下面３０Ｂは、ＸＹ平面と実質的に平行である。第２下面６０Ｂは、ＸＹ平面と実質的に平行である。本実施形態において、第１下面３０Ｂは、基板Ｐの上面と実質的に平行である。本実施形態において、第２下面６０Ｂは、基板Ｐの上面と実質的に平行である。
【００７８】
なお、第１下面３０Ｂ及び第２下面６０Ｂの一方又は両方が、ＸＹ平面に対して傾斜してもよい。また、第１下面３０Ｂ及び第２下面６０Ｂの一方又は両方が、曲面を含んでもよい。
【００７９】
本実施形態において、第１部材３０は、少なくとも一部が射出面７Ｒと基板Ｐの上面との間に配置される第１部分３０ＰＡと、終端光学素子７の周囲の少なくとも一部に配置される第２部分３０ＰＢとを含む。第１部分３０ＰＡは、射出面７Ｒが対向する上面と、その上面の反対方向を向く下面とを含む。また、第１部分３０ＰＡは、射出面７Ｒから射出される露光光ＥＬが通過する開口（孔）２４を有する。開口２４は、第１部分３０ＰＡの上面と下面とを結ぶように形成される。第１下面３０Ｂは、第１部分３０ＰＡの下面を含む。
【００８０】
第１内面３０Ａは、第２部分３０ＰＢに配置される。本実施形態において、第１内面３０Ａは、光路Ｋ（光軸ＡＸ）に対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。本実施形態において、第１内面３０Ａは、終端光学素子７の外側面７Ｓと実質的に平行である。なお、第１内面３０Ａは、終端光学素子７の外側面７Ｓと非平行でもよい。
【００８１】
本実施形態において、空間ＳＰ１は、開口２４を介して、空間ＳＰａと接続される。
【００８２】
第１外面３０Ｃは、光路Ｋ（光軸ＡＸ）を囲むように配置される。本実施形態において、第１外面３０Ｃは、Ｚ軸と実質的に平行である。なお、第１外面３０Ｃが、光路Ｋ（光軸ＡＸ）に対する放射方向に関して内側に向かって上方に傾斜してもよい。なお、第１外面３０Ｃが、光路Ｋ（光軸ＡＸ）に対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜してもよい。
【００８３】
第２内面６０Ａは、光路Ｋ（光軸ＡＸ）を囲むように配置される。本実施形態において、第２内面６０Ａは、第１外面３０Ｃと実質的に平行である。本実施形態において、第２内面６０Ａは、Ｚ軸とほぼ平行である。なお、第２内面６０Ａは、第１外面３０Ｃと非平行でもよい。なお、第２内面６０Ａが、光路Ｋ（光軸ＡＸ）に対する放射方向に関して内側に向かって上方に傾斜してもよい。なお、第２内面６０Ａが、光路Ｋ（光軸ＡＸ）に対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜してもよい。
【００８４】
本実施形態において、液体ＬＱ及び空間１０２の気体Ｇｓを含む流体は、空間ＳＰ１と空間ＳＰａとの間を流通（移動）可能である。また、流体は、空間ＳＰ２と空間ＳＰａとの間を流通（移動）可能である。また、流体は、空間ＳＰ２と空間ＳＰｂとの間を流通（移動）可能である。また、流体は、空間ＳＰａと空間ＳＰｂとの間を流通（移動）可能である。
【００８５】
本実施形態において、液浸部材３は、第１部材３０と第２部材６０との間の第２間隙Ｇ２（空間ＳＰ２）に面し、その第２間隙Ｇ２に液体ＬＲを供給する供給口６１を備えている。本実施形態において、液体ＬＲは、液体ＬＱと同種類の液体である。すなわち、本実施形態において、液体ＬＲは、水（純水）である。なお、供給口６１から供給される液体ＬＲが、供給口３１から供給される液体ＬＱと異なる種類の液体でもよい。例えば、液体ＬＲが、液体ＬＱとは異なる粘性（粘度）を有する液体でもよい。また、液体ＬＲが、液体ＬＱとは異なる透過率（露光光ＥＬに対する透過率）を有する液体でもよい。
【００８６】
本実施形態において、供給口６１は、第２間隙Ｇ２（空間ＳＰ２）に面するように、第２部材６０の第２内面６０Ａに配置されている。なお、供給口６１が、第２間隙Ｇ２に面するように、第１部材３０の第１外面３０Ｃに配置されてもよい。なお、供給口６１が、第２間隙Ｇ２に面するように、第１部材３０及び第２部材６０の両方に配置されてもよい。なお、供給口６１が、第２間隙Ｇ２に面するように、第１部材３０及び第２部材６０とは別の部材に配置されてもよい。
【００８７】
本実施形態において、供給口６１は、Ｚ軸方向に関して、供給口３１（３１Ａ、３１Ｂ）よりも高い位置に配置される。また、本実施形態において、供給口６１は、Ｚ軸方向に関して、射出面７Ｒよりも高い位置に配置される。また、本実施形態において、供給口６１は、Ｚ軸方向に関して、回収口６２よりも高い位置に配置される。また、本実施形態において、供給口６１は、Ｚ軸方向に関して、第２内面６０Ａの中央部よりも高い位置に配置される。また、本実施形態において、供給口６１は、Ｚ軸方向に関して、第１外面３０Ｃの中央部よりも高い位置に配置される。なお、供給口６１が、Ｚ軸方向に関して、供給口３１Ｂよりも高い位置に配置され、供給口３１Ａよりも低い位置に配置されてもよい。
【００８８】
本実施形態において、供給口３１（３１Ａ、３１Ｂ）は、第１部材３０の内部に形成された供給流路３２（３２Ａ、３２Ｂ）を介して、液体ＬＱを供給可能な液体供給装置３３と接続される。液体供給装置３３は、クリーンで温度調整された液体ＬＱを供給可能である。供給口３１Ａは、液体供給装置３３からの液体ＬＱを、終端光学素子７と基板Ｐとの間の光路Ｋを含む空間に供給する。また、供給口３１Ｂは、液体供給装置３３からの液体ＬＱを、第１部材３０と基板Ｐとの間の空間ＳＰａに供給する。
【００８９】
本実施形態において、供給口３１Ａから供給された液体ＬＱは、射出面７Ｒと第１部分３０ＰＡの上面との間の空間を流れ、開口２４を介して、基板Ｐ上に供給される。供給口３１Ａから供給され、開口２４を通過した液体ＬＱの少なくとも一部は、空間ＳＰａに供給される。
【００９０】
供給口３１Ａから空間ＳＰａに供給された液体ＬＱの少なくとも一部、及び供給口３１Ｂから空間ＳＰａに供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、開口２６を介して、第１部材３０と第２部材６０との間の空間ＳＰ２（第２間隙Ｇ２）に流入する可能性がある。
【００９１】
また、供給口３１Ａから空間ＳＰａに供給された液体ＬＱの少なくとも一部、及び供給口３１Ｂから空間ＳＰａに供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、第２部材６０と基板Ｐとの間の空間ＳＰｂに流入する。空間ＳＰｂの液体ＬＱの少なくとも一部は、空間ＳＰｂに面するように配置されている回収口６２（多孔部材６３の孔）から回収される。
【００９２】
本実施形態において、回収口６２は、第２部材６０の内部に形成された回収流路（空間）６０Ｓを介して、液体ＬＱを回収可能な液体回収装置６３と接続される。液体回収装置６３は、例えば真空システムを含み、液体ＬＱを回収（吸引）可能である。
【００９３】
液体供給装置３３及び液体回収装置６３は、制御装置５に制御される。本実施形態においては、供給口３１（３１Ａ、３１Ｂ）からの液体ＬＱの供給と並行して、回収口６２からの液体ＬＱの回収が実行されることによって、一方側の終端光学素子７、第１部材３０、及び第２部材６０と、他方側の基板Ｐとの間に、液体ＬＱで液浸空間ＬＳ１が形成される。本実施形態において、液浸空間ＬＳ１の少なくとも一部は、第１部材３０の第１下面３０Ｂ側に形成される。また、液浸部材ＬＳ１の少なくとも一部は、第２部材６０の第２下面６０Ｂ側に形成される。
【００９４】
本実施形態において、供給口６１は、第２部材６０の内部に形成された供給流路６４を介して、液体ＬＲを供給可能な液体供給装置６５と接続される。液体供給装置６５は、液体ＬＲを供給可能である。供給口６１は、液体供給装置６５からの液体ＬＲを、第１部材３０と第２部材６０との間の空間ＳＰ２（第２間隙Ｇ２）に供給する。
【００９５】
本実施形態において、供給口６１から供給された液体ＬＲは、第１外面３０Ｃと第２内面６０Ａとの間の空間ＳＰ２を流れ、空間ＳＰ２の下端に配置された開口２６を介して、基板Ｐ上に供給される。供給口６１から供給され、開口２６を通過した液体ＬＲの少なくとも一部は、空間ＳＰｂに流入する。
【００９６】
供給口６１から空間ＳＰ２に供給され、開口２６を介して空間ＳＰｂに流入した液体ＬＲの少なくとも一部は、空間ＳＰｂに面するように配置されている回収口６２（多孔部材６３の孔）から回収される。液体回収装置６３は、液体ＬＲも回収可能である。
【００９７】
液体供給装置６５は、制御装置５に制御される。本実施形態においては、供給口３１（３１Ａ、３１Ｂ）からの液体ＬＱの供給、及び供給口６１からの液体ＬＲの供給と並行して、回収口６２からの液体ＬＱ、ＬＲの回収が実行される。なお、供給口３１及び供給口６１の一方からの液体供給を行い、他方からの液体供給を停止することもできる
【００９８】
なお、本実施形態において、供給口３１から供給される液体ＬＱの温度と、供給口６１から供給される液体ＬＲの温度とが異なってもよい。例えば、第１部材３０及び第２部材６０の一方又は両方の温度を調整するために、供給口６１から供給される液体ＬＲの温度が、供給口３１から供給される液体ＬＱの温度よりも高くてもよいし、低くてもよい。また、供給口３１から供給される液体ＬＱのクリーン度と、供給口６１から供給される液体ＬＲのクリーン度とが異なってもよい。例えば、供給口６１から供給される液体ＬＲのクリーン度が、供給口３１から供給される液体ＬＱのクリーン度よりも低くてもよい。
【００９９】
次に、上述の構成を有する露光装置ＥＸを用いて基板Ｐを露光する方法について説明する。
【０１００】
制御装置５は、露光前の基板Ｐを第１保持部２１に搬入（ロード）する処理を実行する。制御装置５は、露光前の基板Ｐを第１保持部２１に搬入（ロード）するために、基板ステージ２を、液浸部材３から離れた基板交換位置に移動する。なお、例えば露光後の基板Ｐが第１保持部２１に保持されている場合、その露光後の基板Ｐが第１保持部２１から搬出（アンロード）する処理が実行された後、露光前の基板Ｐを第１保持部２１に搬入（ロード）する処理が実行される。
【０１０１】
基板交換位置は、基板Ｐの交換処理が実行可能な位置である。基板Ｐの交換処理は、搬送装置を用いて、第１保持部２１に保持された露光後の基板Ｐを第１保持部２１から搬出（アンロード）する処理、及び第１保持部２１に露光前の基板Ｐを搬入（ロード）する処理の少なくとも一方を含む。制御装置５は、液浸部材３から離れた基板交換位置に基板ステージ２を移動して、基板Ｐの交換処理を実行する。
【０１０２】
露光前の基板Ｐが第１保持部２１にロードされた後、制御装置５は、基板ステージ２を投影領域ＰＲに移動して、終端光学素子７及び液浸部材３と基板ステージ２（基板Ｐ）との間に液体ＬＱの液浸空間ＬＳ１を形成する。制御装置５は、液浸空間ＬＳ１を形成するために、供給口３１から液体ＬＱを供給する。また、制御装置５は、供給口３１からの液体ＬＱの少なくとも一部を回収口６２から回収する。供給口３１からの液体ＬＱの供給と回収口６２からの液体ＬＱの回収とにより、射出面７Ｒと基板Ｐとの間の露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように、終端光学素子７、第１部材３０、及び第２部材６０の少なくとも一部と、基板Ｐ（基板ステージ２）との間に、液浸空間ＬＳ１が形成される。
【０１０３】
光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳ１が形成された後、制御装置５は、基板Ｐの露光処理を開始する。制御装置５は、液浸空間ＬＳ１が形成され、射出面７と基板Ｐの少なくとも一部とが対向している状態で、照明系ＩＬから露光光ＥＬを射出する。照明系ＩＬはマスクＭを露光光ＥＬで照明する。マスクＭからの露光光ＥＬは、投影光学系ＰＬ及び液体ＬＱを介して基板Ｐに照射される。これにより、基板Ｐは、液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱを介して露光光ＥＬで露光され、マスクＭのパターンの像が基板Ｐに投影される。
【０１０４】
本実施形態の露光装置ＥＸは、マスクＭと基板Ｐとを所定の走査方向に同期移動しつつ、マスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する走査型露光装置（所謂スキャニングステッパ）である。本実施形態においては、基板Ｐの走査方向（同期移動方向）をＹ軸方向とし、マスクＭの走査方向（同期移動方向）もＹ軸方向とする。制御装置５は、基板Ｐを投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲに対してＹ軸方向に移動するとともに、その基板ＰのＹ軸方向への移動と同期して、照明系ＩＬの照明領域ＩＲに対してマスクＭをＹ軸方向に移動しつつ、投影光学系ＰＬと基板Ｐ上の液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱとを介して基板Ｐに露光光ＥＬを照射する。
【０１０５】
本実施形態においては、液浸空間ＬＳ１が形成されている状態で、供給口６１から液体ＬＲが供給される。なお、液浸空間ＬＳ１が形成された後に供給口６１からの液体供給を開始してもよいし、液浸空間ＬＳ１が形成される前に供給口６１からの液体供給を開始してもよい。
【０１０６】
本実施形態において、供給口３１から供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、開口２６を介して、空間ＳＰ２（第２間隙Ｇ２）に流入する。本実施形態においては、空間ＳＰ２の少なくとも一部に液体ＬＱが存在する状態で、供給口６１から液体ＬＲが供給される。これにより、空間ＳＰ２の少なくとも一部において、液体ＬＱ、ＬＲが流動する。また、開口２６を介して空間ＳＰ２に流入した液体ＬＱの少なくとも一部は、開口２６を介して空間ＳＰ２から排出される。また、空間ＳＰ２の液体ＬＲの少なくとも一部も、開口２６を介して空間ＳＰ２から排出される。空間ＳＰ２から排出された液体ＬＱ、ＬＲの少なくとも一部は、空間ＳＰｂに流入し、回収口６２から回収される。
【０１０７】
本実施形態においては、供給口６１から空間ＳＰ２（第２間隙Ｇ２）に液体ＬＲが供給されるため、空間ＳＰ２において液体ＬＱ（ＬＲ）が長時間滞留することが抑制される。これにより、滞留に起因する空間ＳＰ２における液体ＬＱ（ＬＲ）の汚染が抑制される。すなわち、空間ＳＰ２において液体ＬＱ（ＬＲ）が長時間滞留すると、バクテリアが発生する等、空間ＳＰ２における液体ＬＱ（ＬＲ）の質（水質）が低下したり、液体ＬＱ（ＬＲ）が汚染したりする可能性がある。その結果、光路Ｋに存在する液体ＬＱの質、あるいは基板Ｐに接触する液体ＬＱの質が低下し、露光不良が発生する可能性がある。
【０１０８】
本実施形態によれば、空間ＳＰ２（第２間隙Ｇ２）に面するように配置された供給口６１から、その空間ＳＰ２に液体ＬＲを供給するようにしたので、その空間ＳＰ２において液体ＬＱ（ＬＲ）を流動させることができる。また、その空間ＳＰ２から液体ＬＱ（ＬＲ）を排出することができる。これにより、空間ＳＰ２に液体ＬＱ（ＬＲ）が滞留することが抑制される。したがって、液体ＬＱの汚染等が抑制され、露光不良の発生が抑制される。
【０１０９】
また、本実施形態によれば、供給口６１から液体ＬＲが供給されることにより、空間ＰＳＰ２における液体ＬＱ（ＬＲ）の表面（界面）ＬＧ２の位置が調整されてもよい。例えば、供給口６１からの単位時間当たりの液体ＬＲの供給量が調整されることによって、空間ＳＰ２における液体ＬＱの滞留を抑制しつつ、空間ＳＰ２における液体ＬＱ（ＬＲ）の表面ＬＧ２の位置がほぼ一定に維持してもよい。これにより、空間ＳＰ２の液体ＬＱ（ＬＲ）が、例えば空間ＳＰ２の上端の開口２５から流出することが抑制される。
【０１１０】
以上説明したように、本実施形態によれば、空間ＳＰ２（第２間隙Ｇ２）に面するように配置された供給口６１から、その空間ＳＰ２に液体ＬＲを供給するようにしたので、空間ＳＰ２における液体ＬＱを所望の状態に維持することができる。例えば、空間ＳＰ２における液体ＬＱ（ＬＲ）の滞留を抑制しつつ、その空間ＳＰ２からの液体ＬＱ（ＬＲ）の流出を抑制することができる。したがって、露光不良の発生、及び不良デバイスの発生を抑制することができる。
【０１１１】
＜第２実施形態＞
次に、第２実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【０１１２】
図４は、第２実施形態に係る液浸部材３００２の一例を示す図である。図４に示すように、本実施形態において、液浸部材３００２は、第１部材３０２と第２部材６０２との間の第２間隙Ｇ２（空間ＳＰ２）に面し、その第２間隙Ｇ２の液体ＬＱを回収する回収口６６を備えている。
【０１１３】
本実施形態において、回収口６６は、第２間隙Ｇ２に面するように、第２部材６０２の第１内面６０２Ａに配置されている。なお、回収口６６が、第２間隙Ｇ２に面するように、第１部材３０２の第１外面３０２Ｃに配置されてもよい。なお、回収口６６が、第２間隙Ｇ２に面するように、第１部材３０２及び第２部材６０２の両方に配置されてもよい。なお、回収口６６が、第２間隙Ｇ２に面するように、第１部材３０２及び第２部材６０２とは別の部材に配置されてもよい。
【０１１４】
本実施形態において、回収口６６は、Ｚ軸方向に関して、供給口３１（３１Ａ、３１Ｂ）よりも高い位置に配置される。また、本実施形態において、回収口６６は、Ｚ軸方向に関して、射出面７Ｒよりも高い位置に配置される。また、本実施形態において、回収口６６は、Ｚ軸方向に関して、回収口６２よりも高い位置に配置される。また、本実施形態において、回収口６６は、Ｚ軸方向に関して、第２内面６０２Ａの中央部よりも高い位置に配置される。また、本実施形態において、回収口６６は、Ｚ軸方向に関して、第１外面３０２Ｃの中央部よりも高い位置に配置される。なお、回収口６６が、Ｚ軸方向に関して、供給口３１Ｂよりも高い位置に配置され、供給口３１Ａよりも低い位置に配置されてもよい。
【０１１５】
本実施形態において、回収口６６は、第２部材６０２の内部に形成された回収流路６７を介して、液体ＬＱを回収可能な液体回収装置６８と接続される。液体回収装置６８は、回収口６６を真空システムに接続可能であり、液体ＬＱを回収可能である。
【０１１６】
本実施形態において、制御装置５は、液体ＬＱで液浸空間ＬＳ１が形成された状態で、回収口６６の回収動作を行う。本実施形態においては、供給口３１から供給され、開口２６を介して空間ＳＰａから空間ＳＰ２へ流入した液体ＬＱの少なくとも一部は、回収口６６から回収される。これにより、露光不良の発生が抑制される。
【０１１７】
例えば、回収口６６から空間ＳＰ２の液体ＬＱの少なくとも一部が回収されることによって、その空間ＳＰ２における液体ＬＱの滞留が抑制される。したがって、液体ＬＱの汚染等が抑制される。また、回収口６６から空間ＳＰ２の液体ＬＱの少なくとも一部が回収されることによって、空間ＳＰ２の液体ＬＱが空間ＳＰ２の上端の開口２５を介して空間ＳＰ２から流出することが抑制される。
【０１１８】
また、回収口６６から空間ＳＰ２の液体ＬＱの少なくとも一部が回収されることによって、空間ＳＰ２における液体ＬＱの表面（界面）ＬＧ２の位置が調整されてもよい。また、回収口６５から空間ＳＰ２の液体ＬＱの少なくとも一部が回収されることによって、空間ＳＰ２における液体ＬＱの表面（界面）ＬＧ２の位置が実質的に一定に維持してもよい。本実施形態においても、露光不良の発生、及び不良デバイスの発生が抑制される。
【０１１９】
＜第３実施形態＞
次に、第３実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【０１２０】
図５は、第３実施形態に係る液浸部材３００３の一例を示す図である。図５に示すように、本実施形態において、液浸部材３００３は、第２間隙Ｇ２に面し、第２間隙Ｇ２に液体ＬＲを供給する供給口６１Ｃと、第２間隙Ｇ２に面し、第２間隙Ｇ２の液体ＬＱ及び液体ＬＲの一方又は両方を回収する回収口６６Ｃとを有する。本実施形態において、供給口６１Ｃは、第２間隙Ｇ２に面するように、第２部材６０３の第２内面６０３Ａに配置される。回収口６６Ｃは、第２間隙Ｇ２に面するように、第１部材３０３の第１外面３０３Ｃに配置される。本実施形態においては、Ｚ軸方向に関して、供給口６１Ｃと回収口６６Ｃとは、ほぼ同じ位置（高さ）に配置される。なお、供給口６１Ｃが回収口６６Ｃよりも高い位置に配置されてもよいし、低い位置に配置されもよい。
【０１２１】
なお、供給口６１Ｃが、第１部材３０３の第１外面３０３Ｃに配置され、回収口６６Ｃが、第２部材６０３の第２内面６０３Ａに配置されてもよい。
【０１２２】
なお、供給口６１Ｃ及び回収口６６Ｃの両方が、第２部材６０３に配置され、第１部材３０３に配置されなくてもよい。なお、供給口６１Ｃ及び回収口６６Ｃの両方が、第１部材３０３に配置され、第２部材６０３に配置されなくてもよい。なお、供給口６１Ｃ及び回収口６６Ｃが、第１部材３０３及び第２部材６０３の両方に配置されてもよい。
【０１２３】
なお、供給口６１Ｃ及び回収口６６Ｃの一方又は両方が、第２間隙Ｇ２に面するように、第１部材３０３及び第２部材６０３とは別の部材に配置されてもよい。
【０１２４】
本実施形態においては、供給口６１Ｃからの液体ＬＲの供給と並行して、回収口６６Ｃからの液体ＬＱ、ＬＲの回収が行われる。なお、制御装置５は、回収口６６Ｃの回収動作を実行せずに、供給口６１Ｃからの液体ＬＲの供給を実行し、供給口６１Ｃからの液体ＬＲの供給動作を開始してから第１の時間が経過後、その供給動作を停止するとともに、回収口６６Ｃからの回収動作を実行してもよい。また、制御装置５は、回収口６６Ｃからの回収動作を開始してから第２の時間が経過後、その回収動作を停止するとともに、供給口６１Ｃからの液体ＬＲの供給動作を開始してもよい。すなわち、供給口６１Ｃからの供給動作と回収口６６Ｃからの回収動作とが交互に実行されてもよい。
【０１２５】
本実施形態において、制御装置５は、液体ＬＱで液浸空間ＬＳ１が形成された状態で、供給口６１Ｃの供給動作及び回収口６６Ｃの回収動作を行う。本実施形態においては、供給口３１から供給され、開口２４を介して空間ＳＰａから空間ＳＰ２へ流入した液体ＬＱの少なくとも一部、及び供給口６１Ｃから空間ＳＰ２へ供給された液体ＬＲの少なくとも一部は、回収口６６Ｃから回収される。これにより、露光不良の発生が抑制される。
【０１２６】
例えば、供給口６１Ｃからの液体ＬＲの供給、及び回収口６６Ｃからの空間ＳＰ２の液体ＬＱ、ＬＲの回収の一方又は両方によって、その空間ＳＰ２における液体ＬＱ、ＬＲの滞留が抑制される。したがって、空間ＳＰ２における液体ＬＱ、ＬＲの汚染等が抑制される。また、供給口６１Ｃの供給動作及び回収口６６Ｃの回収動作の一方又は両方によって、空間ＳＰ２の液体ＬＱ（ＬＲ）が、空間ＳＰ２の上端の開口２５を介して空間ＳＰ２から流出することが抑制される。また、供給口６１Ｃの供給動作及び回収口６６Ｃの回収動作の一方又は両方によって、空間ＳＰ２における液体ＬＱ（ＬＲ）の表面（界面）ＬＧ２の位置が調整されてもよい。また、供給口６１Ｃの供給動作及び回収口６６Ｃの回収動作の一方又は両方によって、空間ＳＰ２における液体ＬＱ（ＬＲ）の表面（界面）ＬＧ２の位置が実質的に一定に維持してもよい。本実施形態においても、露光不良の発生、及び不良デバイスの発生が抑制される。
【０１２７】
＜第４実施形態＞
次に、第４実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【０１２８】
図６は、第４実施形態に係る液浸部材３００４の一例を示す図である。図６において、液浸部材３００４は、第１内面３０４Ａを有する第１部材３０４と、第２内面６０４Ａを有する第２部材６０４とを備える。
【０１２９】
本実施形態において、終端光学素子７の外側面７Ｓと第１内面３０４Ａとの間の第１間隙Ｇ１は、基板Ｐに近い第１部分Ｂ１と、第１部分Ｂ１の上方の第２部分Ｂ２とを有する。本実施形態において、第２部分Ｂ２における第１間隙Ｇ１の寸法は、第１部分Ｂ１における第１間隙Ｇ１の寸法よりも大きい。
【０１３０】
本実施形態において、第１内面３０４Ａは、基板Ｐに近い第１領域Ａ１と、第１領域Ａ１の上方に配置される第２領域Ａ２と、第１領域Ａ１の上端と第２領域Ａ２の下端とを結ぶように配置され、第１、第２領域Ａ１、Ａ２とは異なる方向を向く第３領域Ａ３とを含む。
【０１３１】
本実施形態において、第１部分Ｂ１は、外側面７Ｓと第１領域Ａ１との間の第１間隙Ｇ１を含む。第２部分Ｂ２は、外側面７Ｓと第２、第３領域Ａ２、Ａ３との間の第１間隙Ｇ１を含む。
【０１３２】
本実施形態において、第３領域Ａ３は、光路Ｋ（光軸ＡＸ）に対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。なお、第３領域Ａ３が、ＸＹ平面とほぼ平行でもよい。
【０１３３】
本実施形態において、供給口３１Ａは、第１領域Ａ１に配置される。供給口３１Ａは、液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱに浸かるように配置される。
【０１３４】
本実施形態において、第１内面３０４Ａは、角部Ｋ１及び角部Ｋ２を有する。角部Ｋ１は、第１領域Ａ１と第３領域Ａ３との境界に形成される。角部Ｋ２は、第３領域Ａ３と第２領域Ａ２との境界に形成される。角部Ｋ１は、外側面７Ｓに向かって凸である。角部Ｋ２は、外側面７Ｓに対して凹む。
【０１３５】
本実施形態において、第２間隙Ｇ２は、基板Ｐに近い第３部分Ｂ３と、第３部分Ｂ３の上方の第４部分Ｂ４とを有する。第４部分Ｂ４における第２間隙Ｇ２の寸法は、第３部分Ｂ３における第２間隙Ｇ２の寸法よりも大きい。
【０１３６】
本実施形態において、第１外面３０４Ｃは、基板Ｐに近い第４領域Ａ４と、第４領域Ａ４の上方に配置される第５領域Ａ５と、第４領域Ａ４の上端と第５領域Ａ５の下端とを結ぶように配置され、第４、第５領域Ａ４、Ａ５とは異なる方向を向く第６領域Ａ６とを含む。
【０１３７】
本実施形態において、第３部分Ｂ３は、第４領域Ａ４と第２内面６０４Ａとの間の第２間隙Ｇ２を含む。第４部分Ｂ４は、第５、第６領域Ａ５、Ａ６と第２内面６０４Ａとの間の第２間隙Ｇ２を含む。
【０１３８】
本実施形態において、第６領域Ａ６は、光路Ｋ（光軸ＡＸ）に対する放射方向に関して内側に向かって上方に傾斜する。なお、第６領域Ａ６が、ＸＹ平面とほぼ平行でもよい。
【０１３９】
本実施形態において、第５領域Ａ５に、回収口６６Ｄが配置される。回収口６６Ｄは、第２間隙Ｇ２に面するように配置される。回収口６６Ｄは、第２間隙Ｇ２の液体ＬＱを回収する。なお、回収口６６Ｄは、第６領域Ａ６に配置されてもよいし、第５領域Ａ５及び第６領域Ａ６の両方に配置されてもよい。
【０１４０】
なお、第５領域Ａ５に、第２間隙Ｇ２に面し、第２間隙Ｇ２に液体ＬＲを供給する供給口６１Ｄが、回収口６６Ｄの替わりに、あるいは回収口６６Ｄとともに、配置されもよい。なお、供給口６１Ｄは、第６領域Ａ６に配置されてもよいし、第５領域Ａ５及び第６領域Ａ６の両方に配置されてもよい。
【０１４１】
なお、第２間隙Ｇ２に液体ＬＱを供給する供給口６１Ｄ及び第２間隙Ｇ２の液体ＬＱ、ＬＲを回収する回収口６６Ｄの一方又は両方が、第５、第６領域Ａ５、Ａ６に対向する第２内面６０４Ａの少なくとも一部に配置されてもよい。
【０１４２】
本実施形態において、第１外面３０４Ｃは、角部Ｋ３及び角部Ｋ４を有する。角部Ｋ３は、第４領域Ａ４と第６領域Ａ６との境界に形成される。角部Ｋ４は、第６領域Ａ６と第５領域Ａ５との境界に形成される。角部Ｋ３は、第２内面６０４Ａに向かって凸である。角部Ｋ４は、第２内面６０４Ａに対して凹む。
【０１４３】
本実施形態においては、第１間隙Ｇ１において角部Ｋ１が設けられているため、第１間隙Ｇ１において、液体ＬＱの表面（界面）ＬＧ１が角部Ｋ１よりも上方へ移動することが抑制される。これにより、第１間隙Ｇ１の液体ＬＱが、開口２３を介して第１間隙Ｇ１から流出することが抑制される。
【０１４４】
また、本実施形態においては、第２間隙Ｇ２において角部Ｋ３が設けられているため、第２間隙Ｇ２において、液体ＬＱの表面（界面）ＬＧ２が角部Ｋ３よりも上方へ移動することが抑制される。これにより、第２間隙Ｇ２の液体ＬＱが、開口２５を介して第２間隙Ｇ２から流出することが抑制される。
【０１４５】
なお、本実施形態において、第２間隙Ｇ２から液体ＬＱを回収する回収口６６Ｄ、及び第２間隙Ｇ２に液体ＬＲを供給する供給口６１Ｄの一方又は両方が省略されてもよい。また、回収口６６Ｄ及び供給口６１Ｄの一方又は両方が角部Ｋ３よりも下方に配置されてもよい。
【０１４６】
＜第５実施形態＞
次に、第５実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【０１４７】
図７は、第５実施形態に係る液浸部材３００５の一例を示す図である。図７において、液浸部材３００５は、第１内面３０５Ａを有する第１部材３０５と、第２内面６０５Ａを有する第２部材６０５とを備える。
【０１４８】
本実施形態において、第２間隙Ｇ２は、基板Ｐに近い第３部分Ｂ３と、第３部分Ｂ３の上方の第４部分Ｂ４とを有する。第４部分Ｂ４における第２間隙Ｇ２の寸法は、第３部分Ｂ３における第２間隙Ｇ２の寸法よりも大きい。
【０１４９】
本実施形態において、第２内面６０５Ａは、基板Ｐに近い第７領域Ａ７と、第７領域Ａ７の上方に配置される第８領域Ａ８と、第７領域Ａ７の上端と第８領域Ａ８の下端とを結ぶように配置され、第７、第８領域Ａ７、Ａ８とは異なる方向を向く第９領域Ａ９とを含む。
【０１５０】
本実施形態において、第３部分Ｂ３は、第１外面３０５Ｃと第７領域Ａ７との間の第２間隙Ｇ２を含む。第４部分Ｂ４は、第１外面３０５Ｃと第８、第９領域Ａ８、Ａ９との間の第２間隙Ｇ２を含む。
【０１５１】
本実施形態において、第９領域Ａ９は、光路Ｋ（光軸ＡＸ）に対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。なお、第９領域Ａ９がＸＹ平面と実質的に平行でもよい。
【０１５２】
本実施形態において、第８領域Ａ８に、第２間隙Ｇ２に面し、第２間隙Ｇ２の液体ＬＱを回収する回収口６６Ｅが配置される。なお、回収口６６Ｅは、第９領域Ａ９に配置されてもよいし、第８領域Ａ８及び第９領域Ａ９の両方に配置されてもよい。
【０１５３】
なお、第８領域Ａ８に、第２間隙Ｇ２に面し、第２間隙Ｇ２に液体ＬＲを供給する供給口６１Ｅが、回収口６６Ｅの替わりに、あるいは回収口６６Ｅとともに配置されてもよい。なお、供給口６１Ｅは、第９領域Ａ９に配置されてもよいし、第８領域Ａ８及び第９領域Ａ９の両方に配置されてもよい。
【０１５４】
なお、第２間隙Ｇ２に液体ＬＱを供給する供給口６１Ｅ及び第２間隙Ｇ２の液体ＬＱ、ＬＲを回収する回収口６６Ｅの一方又は両方が、第８、第９領域Ａ８、Ａ９に対向する第２内面６０５Ａの少なくとも一部に配置されてもよい。
【０１５５】
本実施形態において、第２内面６０５Ａは、角部Ｋ５及び角部Ｋ６を有する。角部Ｋ５は、第７領域Ａ７と第９領域Ａ９との境界に形成される。角部Ｋ６は、第９領域Ａ９と第８領域Ａ８との境界に形成される。角部Ｋ５は、第１外面３０５Ｃに向かって凸である。角部Ｋ６は、第１外面３０５Ｃに対して凹む。
【０１５６】
本実施形態においては、第２間隙Ｇ２において角部Ｋ５が設けられているため、第２間隙Ｇ２において、液体ＬＱの表面（界面）ＬＧ２が角部Ｋ５よりも上方へ移動することが抑制される。これにより、第２間隙Ｇ２の液体ＬＱが、開口２５を介して空間ＳＰ２から流出することが抑制される。
【０１５７】
なお、本実施形態において、第２間隙Ｇ２から液体ＬＱを回収する回収口６６Ｅ、及び第２間隙Ｇ２に液体ＬＲを供給する供給口６１Ｅの一方、又は両方が省略されてもよい。また、回収口６６Ｄ及び供給口６１Ｄの一方又は両方が角部Ｋ５よりも下方に配置されてもよい。
【０１５８】
なお、液浸部材３００５が、上述の第４実施形態で説明した、角部Ｋ３、Ｋ４を含む第１外面３０４Ｃを有する第１部材３０４と、第５実施形態で説明した、角部Ｋ５、Ｋ６を含む第２内面６０５Ａを有する第２部材６０５とを備えてもよい。
【０１５９】
＜第６実施形態＞
次に、第６実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【０１６０】
図８は、第６実施形態に係る第１部材３０６の第１内面３０６Ａの一例を示す図である。例えば図８に示すように、第１内面３０６Ａに角部が無くてもよい。図８において、第１内面３０６Ａは、外側面７Ｓとの距離が上方（開口２３）に向かって徐々に大きくなるように傾斜している。図８に示す例においても、液体ＬＱの表面張力によって、第１間隙Ｇ１の液体ＬＱの表面（界面）ＬＧ１が上方（開口２３）に向かって移動することが抑制される。したがって、第１間隙Ｇ１の液体ＬＱが開口２３から流出することが抑制される。
【０１６１】
＜第７実施形態＞
次に、第７実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【０１６２】
図９は、第７実施形態に係る第１部材３０７の第１外面３０７Ｃ及び第２部材６０７の第２内面６０７Ａの一例を示す図である。
【０１６３】
例えば図９に示すように、第１外面３０７Ｃ及び第２内面６０７Ａに角部が無くてもよい。図９において、第２内面６０７Ａは、第１外面３０７Ｃとの距離が上方（開口２５）に向かって徐々に大きくなるように傾斜している。図９に示す例においても、液体ＬＱの表面張力によって、第２間隙Ｇ２の液体ＬＱの表面（界面）ＬＧ２が上方（開口２５）に向かって移動することが抑制される。したがって、第２間隙Ｇ２の液体ＬＱが開口２５から流出することが抑制される。
【０１６４】
＜第８実施形態＞
次に、第８実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【０１６５】
図１０は、第８実施形態に係る液浸部材３００８の一例を示す図である。図１０において、液浸部材３００８は、第２間隙Ｇ２の上部に配置され、第２間隙Ｇ２からの液体ＬＱの流出を抑制する抑制部材７０を備えている。本実施形態において、抑制部材７０は、第１部材３０８の第１外面３０８Ｃに接続され、第２部材６０８に接触しない。本実施形態において、抑制部材７０は、プレート状の部材である。
【０１６６】
抑制部材７０は、第２間隙Ｇ２（空間ＳＰ２）に面する下面と、下面の反対方向を向く上面と、上面と下面とを結ぶ側面とを有する。本実施形態において、抑制部材７０の側面は、第２内面６０８Ａと対向する。抑制部材７０の側面は、間隙Ｇｕを介して第２内面６０８Ａと対向する。間隙Ｇｕは、第２間隙Ｇ２よりも小さい。第２間隙Ｇ２（空間ＳＰ２）は、間隙Ｇｕを介して雰囲気に開放される。なお、抑制部材７０の少なくとも一部と第２部材６０８とが接触してもよい。
【０１６７】
なお、本実施形態においては、抑制部材７０は、第１部材３０８に接続されているが、第２部材６０８に接続されてもよい。第２部材６０８に接続される抑制部材７０は、第１部材３０８から離れていてもよいし、接触していてもよい。
【０１６８】
本実施形態において、抑制部材７０は、Ｚ軸方向に関して、第１外面３０８Ｃの中央部及び第２内面６０８Ａの中央部よりも高い位置に配置される。
【０１６９】
本実施形態において、抑制部材７０の表面の少なくとも一部は、第２間隙Ｇ２の液体ＬＱに対して撥液性である。少なくとも、抑制部材７０の下面及び側面は、液体ＬＱに対して撥液性である。液体ＬＱに対する抑制部材７０の表面の接触角は、例えば９０度以上である。なお、液体ＬＱに対する抑制部材７０の表面の接触角が、例えば１００度以上でもよいし、１１０度以上でもよい。
【０１７０】
本実施形態においては、抑制部材７０を配置したので、空間ＳＰ２（第２間隙Ｇ２）の液体ＬＱが、開口２５を介して空間ＳＰ２から流出することが抑制される。
【０１７１】
なお、抑制部材７０を上述の第１実施形態〜第７実施形態に適用することができる。
【０１７２】
＜第９実施形態＞
次に、第９実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【０１７３】
図１１は、第９実施形態に係る液浸部材３００９の一部を示す図、図１２は、液浸部材３００９を下方から見た図である。図１１及び図１２において、液浸部材３００９は、終端光学素子７の周囲の少なくとも一部に配置された第１部材３０９と、光路Ｋ（光軸ＡＸ）に対して第１部材３０９の外側に配置された第２部材６０９と、光路Ｋ（光軸ＡＸ）に対して第２部材６０９の外側に配置された第３部材８０９とを備えている。
【０１７４】
第３部材８０９は、第２部材６０９の第２外面６０９Ｃと対向する第３内面８０９Ａと、基板Ｐ（物体）が対向可能な第３下面８０９Ｂとを有する。第３下面８０９Ｂと基板Ｐとの間に空間ＳＰｃが形成される。本実施形態において、第３下面８０９Ｂと基板Ｐの上面との間隙Ｇｃの寸法は、第２下面６０９Ｂと基板Ｐの上面との間隙Ｇｂの寸法とほぼ等しい。なお、間隙Ｇｃの寸法が、間隙Ｇｂの寸法よりも大きくてもよいし、小さくてもよい。
【０１７５】
本実施形態において、第３下面８０９Ｂ側に、液体ＬＰの液浸空間ＬＳ２の少なくとも一部が形成される。本実施形態において、液浸空間ＬＳ２は、第３下面８０９Ｂと基板Ｐ（物体）との間に保持される液体ＬＰによって形成される。
【０１７６】
本実施形態において、液体ＬＰは、液体ＬＱと同種類の液体である。すなわち、本実施形態において、液体ＬＰは、水（純水）である。なお、液体ＬＰが、液体ＬＱと異なる種類の液体でもよい。例えば、液体ＬＰが、液体ＬＱとは異なる粘性（粘度）を有する液体でもよい。また、液体ＬＰが、液体ＬＱとは異なる透過率（露光光ＥＬに対する透過率）を有する液体でもよい。
【０１７７】
本実施形態において、液浸空間ＬＳ２は、液浸空間ＬＳ１よりも小さい。本実施形態において、ＸＹ平面内における液浸空間ＬＳ２の大きさは、液浸空間ＬＳ１の大きさよりも小さい。また、本実施形態において、液浸空間ＬＳ２を形成する液体ＬＰの体積（重量）は、液浸空間ＬＳ１を形成する液体ＬＱの体積（重量）よりも小さい。
【０１７８】
なお、本実施形態において、第２部材６０９の第２外面６０９Ｃと第３部材８０９の第３内面８０９Ａとの間隙Ｇ３の寸法は、間隙Ｇ２の寸法よりも小さい。なお、第２部材６０９の第２外面６０９Ｃと第３部材８０９の第３内面８０９Ａの少なくとも一部とが接触してもよい。
【０１７９】
本実施形態において、第３部材８０９は、液浸空間ＬＳ２を形成するための液体ＬＰを供給する供給口７５と、供給口７５からの液体ＬＰの少なくとも一部を回収する回収口７６とを有する。本実施形態において、供給口７５は、基板Ｐが対向するように配置される。本実施形態において、回収口７６は、基板Ｐが対向するように配置される。本実施形態において、供給口７５及び回収口７６は、第３部材８０９の第３下面８０９Ｂに配置される。本実施形態においては、第３下面８０９Ｂにおいて、回収口７６は、供給口７５の周囲に配置される。
【０１８０】
供給口７５は、液体ＬＰを供給可能な液体供給装置に接続される。回収口７６は、液体を回収可能な液体回収装置に接続される。液体供給装置及び液体回収装置は、制御装置５によって制御される。供給口７５からの液体ＬＰの供給と並行して、回収口７６からの液体ＬＰの回収が行われることによって、第３部材８０９と基板Ｐとの間に液体ＬＰで液浸空間ＬＳ２が形成される。
【０１８１】
図１２に示すように、本実施形態において、第３部材８０９は、光路Ｋ（光軸ＡＸ）に対してＹ軸方向（走査方向）に配置される。本実施形態においては、第３部材８０９は、光路Ｋ（光軸ＡＸ）に対する＋Ｙ側及び−Ｙ側のそれぞれに配置される。液浸空間ＬＳ２は、液浸空間ＬＳ１の＋Ｙ側及び−Ｙ側のそれぞれに形成される。
【０１８２】
本実施形態においては、例えば液浸空間ＬＳ１が形成されている状態で、基板ＰがＸＹ平面内において移動するとき、液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱが、第２部材６０９の第２下面６０９Ｂ側の空間のうち、光路Ｋに対して＋Ｙ側の一部の空間、及び−Ｙ側の一部の空間に誘導される。以下の説明において、一部の空間を適宜、誘導空間ＧＰＳ、と称する。
【０１８３】
本実施形態においては、液浸空間ＬＳ１が形成されている状態で、基板ＰがＸＹ平面内において移動するとき、液体ＬＱが誘導空間ＧＰＳに誘導されるように、第１下面３０９Ｂ及び第２下面６０９Ｂ（多孔部材６３）の形状が定められている。本実施形態において、液浸空間ＬＳ２は、誘導空間ＧＰＳに隣接するように形成される。
【０１８４】
例えば、基板Ｐの移動条件等に起因して、液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱの少なくとも一部が、第２部材６０９の第２下面６０９Ｂが面する空間ＳＰｂから流出する可能性がある。本実施形態においては、液体ＬＱは、空間ＳＰｂの液体ＬＱは、誘導空間ＧＰＳから、空間ＳＰｂの外側に流出する可能性が高い。
【０１８５】
本実施形態においては、誘導空間ＧＰＳに隣接するように、液浸空間ＬＳ２が形成される。したがって、空間ＳＰｂ（誘導空間ＧＰＳ）から流出した液体ＬＱは、液浸空間ＬＳ２の液体ＬＰと接触する。また、流出した液体ＬＱは、液浸空間ＬＳ２の液体ＬＰと一体となる。空間ＳＰｂから流出した液体ＬＱは、液浸空間ＬＳ２の液体ＬＰとともに、回収口７６から回収される。これにより、空間ＳＰｂから液体ＬＱが流出したとしても、その流出した液体ＬＱが空間ＳＰｃの外側に流出することが抑制される。
【０１８６】
以上説明したように、本実施形態よれば、光路Ｋに対して第２部材６０９の外側に、液浸空間ＬＳ２を形成するための第３部材８０９を設けたので、空間ＳＰｂから流出した液体ＬＱを、液浸空間ＬＳ２によって捕捉することができる。したがって、液体ＬＱが空間ＳＰｃの外側に流出することが抑制される。
【０１８７】
なお、第１部材３０９と第２部材６０９との間の空間に面する部分に、上述の第１実施形態〜第８実施形態の構造を適用することができる。
【０１８８】
また、第２部材６０９と第３部材８０９との間にも空間が形成される場合には、第２部材６０９と第３部材８０９の、その空間に面する部分に、上述の第１実施形態〜第８実施形態の第１部材（３０等）と第２部材（６０等）の構造を適用してもよい。
【０１８９】
また、上述の第１実施形態〜第８実施形態に、液浸空間ＬＳ２を形成するための第３部材を設けてもよい。
【０１９０】
なお、上述の第１実施形態〜第９実施形態の少なくとも一つで説明した色々な変形例は、他の実施形態にも適用できる。
【０１９１】
なお、上述したように、制御装置５は、ＣＰＵ等を含むコンピュータシステムを含む。また、制御装置５は、コンピュータシステムと外部装置との通信を実行可能なインターフェースを含む。記憶装置６は、例えばＲＡＭ等のメモリ、ハードディスク、ＣＤ−ＲＯＭ等の記録媒体を含む。記憶装置６には、コンピュータシステムを制御するオペレーティングシステム（ＯＳ）がインストールされ、露光装置ＥＸを制御するためのプログラムが記憶されている。
【０１９２】
なお、制御装置５に、入力信号を入力可能な入力装置が接続されていてもよい。入力装置は、キーボード、マウス等の入力機器、あるいは外部装置からのデータを入力可能な通信装置等を含む。また、液晶表示ディスプレイ等の表示装置が設けられていてもよい。
【０１９３】
記憶装置６に記録されているプログラムを含む各種情報は、制御装置（コンピュータシステム）５が読み取り可能である。記憶装置６には、制御装置５に、露光光が射出される光学部材の射出面と基板との間の露光光の光路に満たされた第１液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムが記録されている。
【０１９４】
記憶装置６に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置５に、少なくとも一部が第１間隙を介して射出面の周囲に配置される光学部材の外側面と対向する第１内面と、射出面と対向する基板が対向可能な第１下面とを有する第１部材、及び光路に対して第１部材の外側に配置され、物体が対向可能な第２下面を有する第２部材の一方又は両方に配置された第１供給口から、第１液体を供給することと、第１部材及び第２部材の一方又は両方に配置された第１回収口から、第１供給口からの第１液体の少なくとも一部を回収することと、第１供給口からの第１液体の供給と第１回収口からの第１液体の回収とにより、射出面と基板との間の露光光の光路が第１液体で満たされるように、第１液体の第１液浸空間を形成することと、第１液浸空間の第１液体を介して基板を露光することと、第１部材と第２部材との間の第２間隙に面する第２供給口から、第２間隙に第２液体を供給することと、を実行させてもよい。
【０１９５】
また、記憶装置６に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置５に、少なくとも一部が第１間隙を介して射出面の周囲に配置される光学部材の外側面と対向する第１内面と射出面と対向する基板が対向可能な第１下面とを有する第１部材、及び光路に対して第１部材の外側に配置され、物体が対向可能な第２下面を有する第２部材の一方又は両方に配置された第１供給口から、第１液体を供給することと、第１部材及び第２部材の一方又は両方に配置された第１回収口から、第１供給口からの第１液体の少なくとも一部を回収することと、第１供給口からの第１液体の供給と第１回収口からの第１液体の回収とにより、射出面と基板との間の露光光の光路が第１液体で満たされるように、第１液体の第１液浸空間を形成することと、第１液浸空間の第１液体を介して基板を露光することと、第１部材と第２部材との間の第２間隙に面する第２回収口から、第２間隙の第１液体を回収することと、を実行させてもよい。
【０１９６】
また、記憶装置６に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置５に、少なくとも一部が第１間隙を介して射出面の周囲に配置される光学部材の外側面と対向する第１内面と射出面と対向する基板が対向可能な第１下面とを有する第１部材、及び光路に対して第１部材の外側に配置され、物体が対向可能な第２下面を有する第２部材の一方又は両方に配置された第１供給口から、第１液体を供給することと、第１部材及び第２部材の一方又は両方に配置された第１回収口から、第１供給口からの第１液体の少なくとも一部を回収することと、第１供給口からの第１液体の供給と第１回収口からの第１液体の回収とにより、射出面と基板との間の露光光の光路が第１液体で満たされるように、第１液体の第１液浸空間を形成することと、第１液浸空間の第１液体を介して基板を露光することと、を実行させてもよい。この場合において、第１内面及び第２内面の一方又は両方は、角部を有してもよい。
【０１９７】
記憶装置６に記憶されているプログラムが制御装置５に読み込まれることにより、基板ステージ２、及び液浸部材３等、露光装置ＥＸの各種の装置が協働して、液浸空間ＬＳ１が形成された状態で、基板Ｐの液浸露光等、各種の処理を実行する。
【０１９８】
なお、上述の各実施形態においては、投影光学系ＰＬの終端光学素子７の射出面７Ｒ側（像面側）の光路Ｋが液体ＬＱで満たされているが、投影光学系ＰＬが、例えば国際公開第２００４／０１９１２８号パンフレットに開示されているような、終端光学素子７の入射側（物体面側）の光路も液体ＬＱで満たされる投影光学系でもよい。
【０１９９】
なお、上述の各実施形態においては、液体ＬＱが水であることとしたが、水以外の液体でもよい。液体ＬＱは、露光光ＥＬに対して透過性であり、露光光ＥＬに対して高い屈折率を有し、投影光学系ＰＬあるいは基板Ｐの表面を形成する感光材（フォトレジスト）等の膜に対して安定なものが好ましい。例えば、液体ＬＱが、ハイドロフロロエーテル（ＨＦＥ）、過フッ化ポリエーテル（ＰＦＰＥ）、フォンブリンオイル等のフッ素系液体でもよい。また、液体ＬＱが、種々の流体、例えば、超臨界流体でもよい。
【０２００】
なお、上述の各実施形態においては、基板Ｐが、半導体デバイス製造用の半導体ウエハを含むこととしたが、例えばディスプレイデバイス用のガラス基板、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）等を含んでもよい。
【０２０１】
なお、上述の各実施形態においては、露光装置ＥＸが、マスクＭと基板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキャニングステッパ）であることとしたが、例えばマスクＭと基板Ｐとを静止した状態でマスクＭのパターンを一括露光し、基板Ｐを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパ）でもよい。
【０２０２】
また、露光装置ＥＸが、ステップ・アンド・リピート方式の露光において、第１パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第１パターンの縮小像を基板Ｐ上に転写した後、第２パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第２パターンの縮小像を第１パターンと部分的に重ねて基板Ｐ上に一括露光する露光装置（スティッチ方式の一括露光装置）でもよい。また、スティッチ方式の露光装置が、基板Ｐ上で少なくとも２つのパターンを部分的に重ねて転写し、基板Ｐを順次移動させるステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置でもよい。
【０２０３】
また、露光装置ＥＸが、例えば米国特許第６６１１３１６号明細書に開示されているような、２つのマスクのパターンを、投影光学系を介して基板上で合成し、１回の走査露光によって基板上の１つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置でもよい。また、露光装置ＥＸが、プロキシミティ方式の露光装置、ミラープロジェクション・アライナー等でもよい。
【０２０４】
また、露光装置ＥＸが、例えば米国特許第６３４１００７号明細書、米国特許第６２０８４０７号明細書、及び米国特許第６２６２７９６号明細書等に開示されているような、複数の基板ステージを備えたツインステージ型の露光装置でもよい。例えば、露光装置ＥＸが２つの基板ステージを備えている場合、射出面７と対向するように配置可能な物体は、一方の基板ステージ、その一方の基板ステージの基板保持部に保持された基板、他方の基板ステージ、及びその他方の基板ステージの基板保持部に保持された基板の少なくとも一つを含む。
【０２０５】
また、露光装置ＥＸが、例えば米国特許第６８９７９６３号明細書、及び欧州特許出願公開第１７１３１１３号明細書等に開示されているような、基板ステージと、基板を保持せずに、計測器（計測部材）を搭載する計測ステージとを備えた露光装置でもよい。その場合、終端光学素子７及び液浸部材との間で液浸空間を形成可能な物体は、基板ステージ及び計測ステージの少なくとも一つを含む。
【０２０６】
また、露光装置ＥＸが、複数の基板ステージと計測ステージとを備えた露光装置でもよい。
【０２０７】
露光装置ＥＸが、基板Ｐに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置でもよいし、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置でもよいし、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）、マイクロマシン、ＭＥＭＳ、ＤＮＡチップ、あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置でもよい。
【０２０８】
なお、上述の実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスクを用いたが、このマスクに代えて、例えば米国特許第６７７８２５７号明細書に開示されているような、露光すべきパターンの電子データに基づいて透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する可変成形マスク（電子マスク、アクティブマスク、あるいはイメージジェネレータとも呼ばれる）を用いてもよい。また、非発光型画像表示素子を備える可変成形マスクに代えて、自発光型画像表示素子を含むパターン形成装置を備えるようにしてもよい。
【０２０９】
上述の各実施形態においては、露光装置ＥＸが投影光学系ＰＬを備えることとしたが、投影光学系ＰＬを用いない露光装置及び露光方法に、上述の各実施形態で説明した構成要素を適用してもよい。例えば、レンズ等の光学部材と基板との間に液浸空間を形成し、その光学部材を介して、基板に露光光を照射する露光装置及び露光方法に、上述の各実施形態で説明した構成要素を適用してもよい。
【０２１０】
また、露光装置ＥＸが、例えば国際公開第２００１／０３５１６８号パンフレットに開示されているような、干渉縞を基板Ｐ上に形成することによって基板Ｐ上にライン・アンド・スペースパターンを露光する露光装置（リソグラフィシステム）でもよい。
【０２１１】
上述の実施形態の露光装置ＥＸは、上述の各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了した後、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度及びクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【０２１２】
半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図１３に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２０２、デバイスの基材である基板を製造するステップ２０３、上述の実施形態に従って、マスクのパターンからの露光光で基板を露光すること、及び露光された基板を現像することを含む基板処理（露光処理）を含む基板処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。
【０２１３】
なお、上述の各実施形態の要件は、適宜組み合わせることができる。また、一部の構成要素を用いない場合もある。また、法令で許容される限りにおいて、上述の各実施形態及び変形例で引用した露光装置等に関する全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。
【符号の説明】
【０２１４】
２…基板ステージ、３…液浸部材、５…制御装置、６…記憶装置、７…終端光学素子、７Ｒ…射出面、７Ｓ…外側面、３０…第１部材、３１…供給口、３０Ａ…第１内面、３０Ｂ…第１下面、３０Ｃ…第１外面、６０Ａ…第２内面、６０Ｂ…第２下面、
６０…第２部材、６１…供給口、６２…回収口、６６…回収口、８０９…第３部材、ＡＸ…光軸、ＥＬ…露光光、ＥＸ…露光装置、Ｇ１…第１間隙、Ｇ２…第２間隙、ＩＬ…照明系、Ｋ…光路、Ｋ１〜Ｋ６…角部、Ａ１〜Ａ９…領域、Ｂ１〜Ｂ４…部分、ＬＱ…液体、ＬＳ１…液浸空間、ＬＳ２…液浸空間、Ｐ…基板、ＳＰ１…空間、ＳＰ２…空間、ＳＰａ…空間、ＳＰｂ…空間
【図１】
2013106002.tif 000003
【図２】
2013106002.tif 000004
【図３】
2013106002.tif 000005
【図４】
2013106002.tif 000006
【図５】
2013106002.tif 000007
【図６】
2013106002.tif 000008
【図７】
2013106002.tif 000009
【図８】
2013106002.tif 000010
【図９】
2013106002.tif 000011
【図１０】
2013106002.tif 000012
【図１１】
2013106002.tif 000013
【図１２】
2013106002.tif 000014
【図１３】
2013106002.tif 000015