(57)【要約】【課題】複数の被吐出領域に亘って膜厚が均一な機能膜を形成可能な機能膜の形成方法、この機能膜の形成方法を用いた有機ＥＬパネルの製造方法、優れた表示品質を有する表示装置を提供することを課題とする。【解決手段】基板上に設けられた隔壁によって区画された複数の被吐出領域に対して、第１溶媒を含む所定量の機能液を吐出後乾燥させ、所定量以下の範囲内で機能性材料を溶解させる第２溶媒を基板中央部の被吐出領域から基板周辺部の被吐出領域にゆくに従って、段階的に増やしながら吐出させ乾燥させる。その結果として、被吐出領域間の膜厚ムラを抑制することが可能となる。【選択図】図１
2013214396.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に設けられた隔壁によって区画された複数の被吐出領域に対して、機能性材料を含む機能液を吐出して機能膜を形成する機能膜の形成方法であって、
前記被吐出領域ごとに第１溶媒を含む所定量の前記機能液を吐出する第１吐出工程と、
前記被吐出領域に吐出された前記機能液を乾燥させる第１乾燥工程と、
前記機能性材料を溶解させる第２溶媒を基板中央部の前記被吐出領域から基板周辺部の前記被吐出領域にゆくに従って、前記所定量以下の範囲内で段階的に増やしながら吐出する第２吐出工程と、
前記被吐出領域の前記第２溶媒を乾燥させる第２乾燥工程と、を有することを特徴とする機能膜の形成方法。
【請求項２】
請求項１に記載の機能膜の形成方法であって、
前記第２溶媒の粘度は前記機能液の粘度以下であること、を特徴とする機能膜の形成方法。
【請求項３】
請求項１または２に記載の機能膜の形成方法であって、
前記隔壁の少なくとも側壁の一部が撥液性を有するように撥液処理すること、を特徴とする機能膜の形成方法。
【請求項４】
少なくとも発光層を含む複数の機能膜を陽極および陰極で挟持した構造を有する有機ＥＬパネルの製造方法であって、
請求項１乃至３のいずれか一項に記載の機能膜の形成方法を用いて、前記複数の機能膜のうち少なくとも１つを形成することを特徴とする有機ＥＬパネルの製造方法。
【請求項５】
請求項４に記載の有機ＥＬパネルの製造方法によって製造された有機ＥＬパネルを備えたことを特徴とする表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、機能膜の形成方法、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）パネルの製造方法、有機ＥＬパネルを備えた表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、表示装置として有機ＥＬ素子を表示素子として用いた有機ＥＬパネルが多く使われるようになってきた。有機ＥＬ素子は発光材料を含む発光層に電流を流すことによって、所望の明るさや色の発光を得るものである。発光層を形成する方法としては、例えば、基板上に隔壁によって区画形成された複数の被吐出領域のそれぞれに対して、発光材料を含む液状体を、液状体を吐出するノズルを備えたヘッドから所定量吐出し、その後、減圧乾燥や加熱乾燥などの乾燥処理により、液状体に含まれる溶媒成分を蒸発させ固化することによって行われる。
【０００３】
ところで、有機ＥＬ素子を表示素子として用いた表示装置の場合、先に述べたように発光層に電流を流す必要がある。この電流量を調整することにより有機ＥＬ素子が発光する明るさや色を制御して表示装置としている。発光層は発光材料を含む機能膜であり、この機能膜は金属と比べて圧倒的に電気抵抗が高い。従って有機ＥＬ素子を用いて表示装置を製造する際には、この機能膜の膜厚がパネル面内で均一になるように形成することが表示装置の発光の明るさや色を所望の状態に制御でき、表示装置の表示品質を高めることになる。
【０００４】
一方で、乾燥処理工程において、被吐出領域に吐出された液状体に含まれる溶媒成分の蒸発速度をパネル面内の複数の被吐出領域に亘って均一にすることが難しい。例えば、乾燥過程において、パネル周辺部の被吐出領域とパネル中央部の被吐出領域とでは、パネル中央部の被吐出領域のほうが、周囲に溶媒が多く配置される関係上、溶媒の蒸発が遅くなる。このように、蒸発速度が不均一となると、液状体を乾燥して得られる機能膜の膜形状が被吐出領域間でばらついて、被吐出領域間の膜厚が不均一となる。被吐出領域間の膜厚の不均一が、発光層から発光される明るさや色の不均一を招き、表示装置の表示品質を低下させることになる。
【０００５】
そこで、例えば、特許文献１には、基板上に形成された被吐出領域に溶質が含まれた機能液と溶質が含まれない溶媒液の２種類の液状体を用いて、乾燥過程における乾燥速度を均一にし、形成される機能膜の膜厚を均一にする方法が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００９−２４７９３３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１に提案された液状体の吐出方法では、被吐出領域ごとに吐出される機能液（液状体）の吐出量を変動させるため、実際には、乾燥工程で隔壁の側壁における機能膜の形成開始位置（液状体の乾燥が進んで機能膜が形成され始める末端の掛止位置；ピニング位置）が被吐出領域ごとに変動することになる。機能膜の形成開始位置が変動すると、機能膜の膜形状が変動し、必ずしも均一な膜厚の機能膜が形成されないと言う課題がある。また、この方法を用いて製造された有機ＥＬパネルを備えた表示装置の表示品質を低下させるおそれがある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
【０００９】
［適用例１］本適用例に係る機能膜の形成方法は、基板上に設けられた隔壁によって区画された複数の被吐出領域に対して、機能性材料を含む機能液を吐出して機能膜を形成する機能膜の形成方法であって、前記被吐出領域ごとに第１溶媒を含む所定量の前記機能液を吐出する第１吐出工程と、前記被吐出領域に吐出された前記機能液を乾燥させる第１乾燥工程と、前記機能性材料を溶解させる第２溶媒を基板中央部の前記被吐出領域から基板周辺部の前記被吐出領域にゆくに従って、前記所定量以下の範囲内で段階的に増やしながら吐出する第２吐出工程と、前記被吐出領域の前記第２溶媒を乾燥させる第２乾燥工程と、を有することを特徴とする。
【００１０】
本適用例によれば、第１吐出工程において、第１溶媒を含む機能液を基板に形成された被吐出領域に所定量吐出することで、第１乾燥工程時に隔壁の側壁における機能膜の形成開始位置のばらつきが機能液の吐出量を被吐出領域ごとに変えたときと比較して小さくなる。機能膜の形成開始位置の差が小さくなることで、被吐出領域内の機能膜の膜形状のばらつきが少なくなる。
【００１１】
第２吐出工程において、第１吐出工程時の機能液の所定量以下の範囲内で第２溶媒を吐出させることで、第１乾燥工程時に形成された機能膜の再溶解または再分散を促す状況であっても上記形成開始位置の変化は起こりにくい。逆に、第１乾燥工程で得られた機能膜を第２吐出工程において第２溶媒が再溶解または再分散させることで、第１乾燥工程時に形成された被吐出領域ごとの機能膜の膜形状をリセットし、変化させることが出来る。さらに、第２吐出工程において、被吐出領域内に吐出される充填量を変化させることで、第２乾燥工程時においてのそれぞれの被吐出領域からの第２溶媒の蒸発速度の差が少なくなり、これによって、被吐出領域間の膜厚の差を小さくすることができる。すなわち、被吐出領域間での膜厚ばらつきを小さくすることが可能な機能膜の形成方法を提供することができる。
【００１２】
［適用例２］上記適用例に係る機能膜の形成方法において、前記第２溶媒の粘度は前記機能液の粘度以下であること、を特徴とする。
【００１３】
本適用例によれば、第２吐出工程において吐出される第２溶媒が第１吐出工程において吐出される第１溶媒よりも少ない吐出量であっても被吐出領域内全体に濡れ広がらせることが出来る。
【００１４】
［適用例３］上記適用例に係る機能膜の形成方法において、前記隔壁の少なくとも側壁の一部が撥液性を有するように撥液処理すること、を特徴とする。
【００１５】
本適用例によれば、第１吐出工程および第２吐出工程において被吐出領域に第１溶媒を含む機能液および第２溶媒がそれぞれ吐出される際に、機能液および第２溶媒が被吐出領域内から溢れる不良や、機能液および第２溶媒が隣接している被吐出領域間を跨いで配置される不良を回避できる。
【００１６】
［適用例４］本適用例に係る有機ＥＬパネルの製造方法は、少なくとも発光層を含む複数の機能膜を陽極および陰極で挟持した構造を有する有機ＥＬパネルの製造方法であって、上記適用例の機能膜の形成方法を用いて、前記複数の機能膜のうち少なくとも１つを形成すること、を特徴とする。
【００１７】
本適用例によれば、例えば、乾燥処理後に機能液によって形成される発光層の膜厚がほぼ均一になり、有機ＥＬパネルの輝度ムラが抑制される。
【００１８】
［適用例５］本適用例に係る表示装置は、上記有機ＥＬパネルの製造方法によって製造された有機ＥＬパネルを備えていること、を特徴とする。
【００１９】
本適用例によれば、輝度ムラが抑制された有機ＥＬパネルを備えた表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】実施形態１に係る吐出状況模式図。
【図２】実施形態２に係る有機ＥＬパネルの配線構造を示す模式図。
【図３】実施形態２に係る有機ＥＬパネルの構成を模式的に示す平面図。
【図４】（ａ）及び（ｂ）は実施形態２に係る有機ＥＬパネルの製造工程における断面図。
【図５】（ａ）及び（ｂ）は実施形態２に係る有機ＥＬパネルの製造工程における断面図。
【図６】（ａ）及び（ｂ）は実施形態２に係る有機ＥＬパネルの製造工程における断面図。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。なお、以下の各図においては、各層や各部材を認識可能な程度の大きさにするため、各層や各部材の尺度を実際とは異ならせしめている。
【００２２】
（実施形態１）
まず、本実施形態の機能膜の形成方法の概要を、図１を参照して説明する。図１は、基板ＰにおいてＹ軸方向（図面縦方向）に４個配置され、Ｘ軸方向（図面横方向）に６個配置された計２４個の画素に、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色発光層に対応した発光材料と溶媒とを含む機能液を吐出する様子を示す模式図である。各画素は、基板Ｐ上において隔壁によって区画されており、区画された領域を被吐出領域と呼ぶ。言い換えれば、図示された画素を被吐出領域と呼ぶこともある。本実施形態では、異なる色の画素が繰り返し配列する方向をＸ軸方向とし、同色の画素が配列する方向をＹ軸方向として以降説明する。
【００２３】
図１に示すように、本実施形態では、基板Ｐとノズルを有するノズルヘッド２０とを対向配置させて、Ｙ軸方向に相対移動させる主走査の間に、ノズルから、Ｒ、Ｇ、Ｂに対応する画素に、それぞれＲ機能液、Ｇ機能液、Ｂ機能液を吐出する。さらに、基板Ｐに対してノズルヘッド２０と一緒に相対移動するノズルヘッド３０に設けられたノズルから、Ｒ、Ｇ、Ｂに対応する画素に、それぞれＲ溶媒液、Ｇ溶媒液、Ｂ溶媒液を吐出する。また、各溶媒液は、各機能液に含まれる溶媒と同じ溶媒の溶液でも良いし、異なっていても良い。
【００２４】
本実施形態では、一回の主走査によってＸ軸方向に連続する３つの画素に対して機能液を、ノズルヘッド２０を所謂スキャン走査することによって吐出する。すなわち、基板Ｐに形成された全ての画素に対して、まず一回目の主走査によって図中破線で示した主走査領域に含まれる画素に機能液が吐出される（第１吐出工程）。その後、機能液から溶媒を除去する目的で減圧乾燥を行う（第１乾燥工程）。次に、二回の主走査によってＸ軸方向に連続する３つの画素に対して溶媒液を、ノズルヘッド３０を所謂スキャン走査することによって吐出する（第２吐出工程）。但し、二回目に吐出する溶媒液は一回目に吐出する機能液の吐出量（体積量）以下となるように吐出量を制御して吐出する。そして、各画素に吐出された溶媒液の減圧乾燥を行う（第２乾燥工程）。
【００２５】
ここで、本実施形態では、説明を簡略化するため、各ノズルブロック２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂ、および各ノズルブロック３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂに形成されたノズルは１個であるものとした。通常、ノズルヘッド２０には多数のノズルが形成され、基板Ｐに区画された多数の被吐出領域に対して、それぞれ対応するノズルから機能液や溶媒液を吐出することは言うまでもない。
【００２６】
さて、このように全ての画素に機能液の吐出を行うと、Ｒ機能液については画素Ｒ１から画素Ｒ８の順序で、Ｇ機能液については画素Ｇ１から画素Ｇ８の順序で、Ｂ機能液については画素Ｂ１から画素Ｂ８の順序で、それぞれ機能液が吐出される。この結果、例えば、全てのＲ画素に関して、最後の画素Ｒ８に機能液が吐出されるまでの時間に、各画素に吐出された機能液が自然乾燥によって減少する液量は、最初に機能液が吐出された画素Ｒ１が最も多く、次に画素Ｒ２、次に画素Ｒ３、・・・というようにＲ機能液が吐出された順番に従って減少していることになる。また、その後機能液の溶媒を除去する目的で減圧乾燥した際にも、各画素の周辺に配置された単位面積当たりの溶媒量が異なるので、溶媒の蒸発ムラ（蒸発するまでに要する時間のムラ）が生じる。他のＧ機能液やＢ機能液を吐出する場合も同様に溶媒の蒸発ムラが生ずる。
【００２７】
そこで、本実施形態では、溶媒液の吐出に際して、例えば、基板周辺の画素であれば、吐出する溶媒液の液量を増やし、基板中央の画素であれば、吐出する溶媒液の液量を減らし、減圧乾燥時に溶媒が蒸発するに要する時間を基板全体の画素で同様になるようにする。言い換えれば、基板Ｐの画素間における溶媒の蒸発速度のムラを低減するように、吐出量を調整して画素ごとに溶媒液を吐出する。
【００２８】
以上述べたように、本実施形態によれば、先に吐出される機能液の液量（吐出量）を基板上全ての被吐出領域に対して同量とすることで、それぞれの被吐出領域を区画する隔壁の側壁における機能膜の形成開始位置（ピニング位置）は全ての被吐出領域でほぼ同じ位置となる。そして、次に吐出される溶媒液の液量（吐出量）を基板中央部から周辺部へと所定量の範囲内で吐出量を変化させていくことで、溶媒の蒸発に要する時間を基板全体で均一化する。さらに、隔壁の側壁における機能膜の形成開始位置を全ての被吐出領域で同位置に保つために、溶媒液の吐出量を機能液の吐出量（所定量）以下とする。こうすることで、第１乾燥工程で得られた機能膜の形成開始位置は変化を起こさないため、膜ムラが抑制される。
【００２９】
（実施形態２）
本実施形態に係る有機ＥＬパネルについて、図２および図３を参照して説明する。図２は実施形態２に係る有機ＥＬパネルの配線構造を示す模式図、図３は実施形態２に係る有機ＥＬパネルの構成を模式的に示す平面図である。
【００３０】
図２に示すように、本実施形態の有機ＥＬパネル１は、スイッチング素子として薄膜トランジスター（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ、以下ＴＦＴと称する）を用いたアクティブマトリクス方式のもので、複数の走査線１０１と、各走査線１０１に対して直角に交差する方向に延びる複数の信号線１０２と、各信号線１０２に並列に延びる複数の電源線１０３とからなる配線構成を有すると共に、走査線１０１及び信号線１０２の各交点付近に、画素（サブ画素４０）が設けられている。
【００３１】
信号線１０２には、シフトレジスター、レベルシフター、ビデオライン及びアナログスイッチを備えるデータ線駆動回路１００が接続されている。また、走査線１０１には、シフトレジスター及びレベルシフターを備える走査線駆動回路８０が接続されている。
【００３２】
サブ画素４０の各々には、走査線１０１を介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッチング用のＴＦＴ１２２と、このスイッチング用のＴＦＴ１２２を介して信号線１０２から供給される画素信号を保持する保持容量１１３と、保持容量１１３によって保持された画素信号がゲート電極に供給される駆動用のＴＦＴ１２３と、ＴＦＴ１２３を介して電源線１０３に電気的に接続したときに当該電源線１０３から駆動電流が与えられる画素電極（陽極）２３と、画素電極（陽極）２３と向き合う位置にある対向電極（陰極）５０と、画素電極（陽極）２３と対向電極（陰極）５０との間に挟み込まれた発光機能を有する機能層とを備えた有機ＥＬ素子１７（Ｒ，Ｇ，Ｂ）（Ｒ（赤色），Ｇ（緑色），Ｂ（青色））と、が設けられている。
【００３３】
次に、本実施形態の有機ＥＬパネル１の具体的な態様を、図３を参照して説明する。
図３に示すように、基板２０Ａ上の実表示領域４には、Ｒ，Ｇ，Ｂに対応して設けられたサブ画素４０がマトリクス状に規則的に配置されている。ここで、基板２０Ａは、基板本体２０、及び基板本体２０上に設けられた、例えばＴＦＴ１２２，１２３を含む。
【００３４】
また、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色のサブ画素４０（Ｒ，Ｇ，Ｂ）は一つの基本単位となって表示単位画素４１を構成している。また、サブ画素４０（Ｒ，Ｇ，Ｂ）の各々は、ＴＦＴ１２２，１２３の動作に伴って、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、及び青色（Ｂ）に対応して発光する有機ＥＬ素子１７（Ｒ，Ｇ，Ｂ）を備える構成を有している。これによって表示単位画素４１は、Ｒ，Ｇ，Ｂの発光を混色させてフルカラー表示を行う構成を有している。
【００３５】
なお、本実施形態において画素部３は、中央部分の実表示領域４（図中二点鎖線枠内）と、実表示領域４の周囲に配置されたダミー領域５（一点鎖線及び二点鎖線の間の領域）とに区画されている。そして、実表示領域４の図３中両側には、走査線駆動回路８０が配置されている。この走査線駆動回路８０は、ダミー領域５の下層側に位置して設けられている。
【００３６】
また、実表示領域４の図３中上方側には検査回路９０が配置されており、この検査回路９０はダミー領域５の下層側に配置されて設けられている。この検査回路９０は、有機ＥＬパネル１の作動状況を検査するための回路であって、例えば検査結果を外部に出力する検査情報出力手段を備え、製造途中や出荷時における有機ＥＬパネル１の品質、欠陥の検査を行うことができるように構成されている。有機ＥＬパネル１の端子部には、有機ＥＬパネル１を駆動するためのドライバーＩＣ（データ線駆動回路）１００が実装された中継基板（ＦＰＣ）３６が電気的に接続されている。
【００３７】
本実施形態に係る有機ＥＬパネル１の製造方法について、図４〜図６を参照して説明する。
【００３８】
図４（ａ）及び（ｂ）、図５（ａ）及び（ｂ）、図６（ａ）及び（ｂ）は、本実施形態に示す有機ＥＬパネルの製造方法を説明するための工程断面図である。なお、有機ＥＬパネルの製造方法として、Ｒ，Ｇ，Ｂのうちの１つの有機ＥＬ素子１７の製造方法を取り上げて説明する。以下、この図面に沿って説明を行う。
【００３９】
まず、工程１として、ガラス等の透明部材を用いた基板本体２０上にＴＦＴ１２２、ＴＦＴ１２３等を形成してなる基板２０Ａを洗浄し、層間絶縁層２０２となる窒化珪素層をＣＶＤ法（化学気相堆積法）等を用いて４００ｎｍ程度堆積する。
【００４０】
次に、工程２として、ＩＴＯを５０ｎｍ程度の厚さとなるようスパッタ法を用いて積層する。そして不要な部分をエッチング除去することで光透過性を有する陽極２０４を形成する。
【００４１】
次に、工程３として、酸化珪素層を５０ｎｍ程度層形成し、発光領域２１１が形成される領域をエッチング除去することで第１隔壁２０５を形成する。
【００４２】
次に、工程４として、感光性アクリル樹脂を２μｍ程度の厚さに塗布し、露光・現像することで第２隔壁２０６を形成する。第２隔壁２０６内部である被吐出領域１１７の平面寸法は例えば１５０μｍ×５０μｍ程度の形状を持つ略長方形の形状を有している。
【００４３】
次に、工程５として、酸素プラズマ処理、四弗化炭素ガスでのプラズマ処理等を行い、陽極２０４と第１隔壁２０５に親液性を与え、第２隔壁２０６に撥液性を与える。
【００４４】
次に、工程６として、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ分散液を液滴吐出法を用いて第２隔壁２０６内に吐出する。この場合において、第２隔壁２０６に撥液性を与えているため、第２隔壁２０６ではＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ分散液は弾かれ、第１隔壁２０５、陽極２０４上に流入するため、液滴吐出位置の若干のずれは補正され、液滴は第１隔壁２０５、陽極２０４上に再現性高く配置される。
【００４５】
次に、工程７として、乾燥工程等を行うことで、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳを用いたキャリア注入層としての正孔注入層２０７が形成される。この工程を終了した状態での断面図を図４（ａ）に示す。正孔注入層２０７の厚さとしては、例えば２０ｎｍ程度が好適である。
【００４６】
次に、工程８として、第１溶媒２２２を含む機能液２２０を液滴吐出法を用いて第２隔壁２０６内に吐出する。この場合、機能液２２０を構成する第１溶媒２２２としては、シクロヘキシルベンゼン、テトラメチルベンゼン等、沸点が１７０℃以上３００℃以下の溶媒を用いることが好適である。また、発光層として機能する機能層２２４（図６（ａ）参照）を構成する材質として、ポリフルオレン系高分子誘導体にペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等をドープした物質を用いることが可能であり、これらのドーパントを一つ、あるいは複数を混ぜて用いることでＲＧＢの３色を得ることが可能となる。
【００４７】
この時点では、吐出ヘッド近傍で溶媒が蒸発することで生じる射出ムラを抑制した状態が必ずしも得られていなくても構わない。
【００４８】
そして、第１溶媒２２２に、機能層２２４を構成すべく添加される材質の濃度は３ｗｔ％程度が望ましい。この程度の濃度を用いることで、機能層２２４の層厚を確保でき、また吐出を容易に行える程度の粘性に抑えることができる。
【００４９】
次に、工程９として、減圧乾燥を行う。減圧乾燥工程を行うことで、第１溶媒２２２は蒸発し、機能層２２１が形成される。この工程を終了した状態での断面図を図５（ａ）に示す。
【００５０】
次に、工程１０として、粘度が第１溶媒２２２以下であり、かつ沸点が１７０℃以上３００℃以下の第２溶媒２２３を第２隔壁２０６内に、第１溶媒２２２を含む機能液２２０の吐出量以下となるように、かつ周辺隔壁から中央隔壁に向かって吐出量が段階的に減少していくように吐出する。ここで用いる第２溶媒２２３としては、例えばテトラリン、テトラロン、シクロヘキシルベンゼン、テトラメチルベンゼンを用いることが好適である。この吐出工程で、機能層２２１は再度溶解又は分散し、一旦液状となって第２隔壁２０６内に膜状に広がる。この工程を終了した状態での断面図を図５（ｂ）に示す。
【００５１】
そして、減圧乾燥を行う。減圧乾燥工程を行うことで、第２溶媒２２３は蒸発し、機能層２２４が形成される。
【００５２】
ここで、工程１０について得られる効果について更に詳細な説明を行う。第１溶媒２２２を含む機能液２２０は、全ての被吐出領域１１７に一定同量吐出されるものの、第１溶媒２２２の蒸発速度のムラによって形成された機能層２２１は面内で膜形状ムラが発生している。しかし、第２溶媒２２３は第１溶媒２２２を含む機能液２２０よりも粘度が低く、さらに機能液２２０の吐出量よりも減少させているため、機能液２２０によって形成された機能層２２１の第２隔壁２０６に形成されるピニング位置は保持したまま、第２溶媒２２３によって、機能層２２１を再溶解または分散させることが可能となる。そのため、面内で第２溶媒２２３の吐出量を変化させることで、パネル全面の被吐出領域１１７内の膜形状を同一にすることが可能となり、発光輝度の均一性が高い有機ＥＬパネル１を製造することが可能となる。
【００５３】
次に、工程１１として、５ｎｍ程度の厚さを有するカルシウムを用いた陰極２２５を形成する。そして、陰極２２５を覆うように２００ｎｍ以上の層厚を有する、アルミニウムを用いた光反射層２２６を形成することで、図６（ｂ）に示す有機ＥＬ素子１７（Ｒ，Ｇ，Ｂ）が形成される。
【００５４】
ここでは、透明な基板２０Ａを通過させて光を取り出すボトムエミッション型の有機ＥＬ素子１７（Ｒ，Ｇ，Ｂ）の製造方法について説明したが、これは容易にトップエミッション型の製造工程に変更することが可能である。即ち、透明な基板２０Ａと層間絶縁層２０２との間に例えば２００ｎｍ以上の厚みを有するアルミニウム等の反射層を形成する工程を加えることで基板２０Ａ側の反射率を高くし、光透過性を有し酸化に強いＭｇ／Ａｇを用いて陰極２２５を形成すれば、トップエミッション型の構造が得られる工程を得ることができる。また、光反射層２２６を形成する工程を省略し、上記反射層を形成する工程を行わないことで、両面で視認可能な構造を得ることも可能である。
【００５５】
以上述べたように、本実施形態に係る有機ＥＬパネル１の製造方法によれば、発光輝度の均一性が高い有機ＥＬパネル１を製造することができる。
なお、発光層として機能する機能層２２４の形成に限らず、正孔注入層２０７も上記実施形態１の機能膜の形成方法を適用して形成することができる。
また、有機ＥＬ素子１７は、陽極２０４と陰極２２５との間に正孔注入層２０７と機能層２２４とを有するものに限定されない。例えば、正孔注入層２０７と機能層２２４との間に正孔輸送層を設けたり、機能層２２４と陰極２２５との間に中間層や電子輸送層などを設けた構成としてもよい。これらの正孔輸送層、中間層、電子輸送層も上記実施形態１の機能膜の形成方法を適用して形成することができる。
【００５６】
（実施形態３）
本実施形態の表示装置は、上記実施形態の有機ＥＬパネル１の製造方法を用いて製造された有機ＥＬパネル１を備えるものである。有機ＥＬパネル１を備えた表示装置は、例えば、ノート型パーソナルコンピューター、携帯型情報端末、携帯電話機、ビデオカメラ、デジタルカメラ、ナビゲーションシステムなどの電子機器における表示部に好適に用いることができる。
【符号の説明】
【００５７】
１…有機ＥＬパネル、１７…有機ＥＬ素子、２０Ａ…基板、２３，２０４…陽極（画素電極）、４０…画素、５０，２２５…陰極、１１７…被吐出領域、２０６…隔壁としての第２隔壁、２２０…機能液、２２１，２２４…機能層（発光層）、２２２…第１溶媒、２２３…第２溶媒。
【図１】
2013214396.tif 000003
【図２】
2013214396.tif 000004
【図３】
2013214396.tif 000005
【図４】
2013214396.tif 000006
【図５】
2013214396.tif 000007
【図６】
2013214396.tif 000008