(57)【要約】      （修正有）【課題】製造コストを増加させず、かつ簡便な製造プロセスによって液晶材料の注入時間を短縮することが可能な液晶素子とその製造技術を提供する。【解決手段】液晶素子は、第１基板１１及び第２基板１２、第１基板１１の一面と第２基板１２の一面の間に設けられたシール材３、第１基板１１の一面及び第２基板１２の一面のそれぞれに設けられた垂直配向膜１５，１６、平面視においてシール材３に隣接して環状に配置されており、垂直配向膜１５，１６とは異なる、例えば水平配向膜１８，１９による基板表面配向状態を生じさせる液晶流入領域２、シール材３に囲まれて第１基板１１と第２基板１２の間に設けられた液晶層１７を備える。【選択図】図２
2013125124.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対向配置された第１基板及び第２基板と、
前記第１基板の一面と前記第２基板の一面の間に設けられたシール材と、
前記第１基板の一面及び前記第２基板の一面のそれぞれに設けられた垂直配向膜と、
平面視において前記シール材に隣接して環状に配置されており、前記垂直配向膜とは異なる基板表面配向状態を生じさせる液晶流入領域と、
前記シール材に囲まれて前記第１基板と前記第２基板の間に設けられた液晶層と、
を備える、液晶素子。
【請求項２】
前記液晶流入領域は、前記第１基板の一面と前記第２基板の一面の少なくとも一方に水平配向膜を設けて構成される、請求項１に記載の液晶素子。
【請求項３】
前記液晶流入領域は、前記第１基板の一面と前記第２基板の一面の少なくとも一方の基板面を露出させて構成される、請求項１に記載の液晶素子。
【請求項４】
前記液晶流入領域は、平面視における幅が０．２ｍｍ以上１ｍｍ以下である、請求項１〜３の何れか１項に記載の液晶素子。
【請求項５】
第１基板及び第２基板の各々の一面に垂直配向膜を形成する工程と、
前記第１基板と前記第２基板の各々の一面に、平面視において前記垂直配向膜を囲むようにして、前記垂直配向膜とは異なる基板表面配向状態を生じさせる液晶流入領域を形成する工程と、
前記第１基板と前記第２基板を各々の一面に、前記液晶流入領域を囲むようにしてシール材を塗布する工程と、
前記シール材を介して前記第１基板と前記第２基板を貼り合わせる工程と、
前記シール材に囲まれた前記第１基板と前記第２基板の間隙に液晶材料を注入する工程と、
前記液晶材料の相転移温度を超えた温度による熱処理を行う工程と、
を含む、液晶素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、垂直配向型の液晶素子とその製造技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、種々の電子機器における情報表示部として広く利用されている。このような液晶表示装置の一種として垂直配向型の液晶表示装置が知られている。この垂直配向型の液晶表示装置は、対向配置させた一対の基板間に液晶層が設けられ、この液晶層内においては電圧無印加時に液晶分子が基板面に略垂直に配向するように構成されている。
【０００３】
ところで、上記したような垂直配向型の液晶表示装置は、他の配向モード、例えばＴＮ（Twisted Nematic）型の液晶表示装置等に比較して、その製造時において、一対の基板間に液晶層を形成する工程に要する時間が長いという不都合がある。この原因について、特開２００８−１３４５６７号公報（特許文献１）では、垂直配向膜の側鎖と液晶分子との接触が液晶材料の注入の妨害となる旨が指摘されている。具体的には、基板上に予め形成された垂直配向膜は基板面に垂直方向へ延びた側鎖を有しており、液晶層を形成するために基板間に液晶材料を注入する際にはこの垂直方向に延びた側鎖と液晶分子とが接触するために液晶材料の進入が阻害されると考えられる点が指摘されている。そして、上記の不都合を解消すべく特許文献１では、液晶材料の注入時に一対の基板の外側から電圧を印加しながら液晶材料を注入するという先行例が開示されている。この先行例は、液晶材料の注入時に電圧印加を行うことで液晶分子の長軸方向を基板面と水平かそれに近い角度に傾斜させることにより、垂直配向膜の側鎖と液晶分子との干渉が軽減されて注入時間が短縮されるというものである。
【０００４】
しかしながら、上記した先行例は、液晶注入時に電圧を印加するために専用の新規設備を導入し、または既存設備を大幅に改造することによる設備投資費用が必要となるため、液晶表示装置の製造コストを増加させるという不都合がある。また、電圧印加のための作業が増えるため製造プロセスが複雑化するという不都合もある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００８−１３４５６７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明に係る具体的態様は、製造コストを増加させず、かつ簡便な製造プロセスによって液晶材料の注入時間を短縮することが可能な液晶素子とその製造技術を提供することを目的の１つとする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係る一態様の液晶素子は、（ａ）対向配置された第１基板及び第２基板と、（ｂ）第１基板の一面と第２基板の一面の間に設けられたシール材と、（ｃ）第１基板の一面及び第２基板の一面のそれぞれに設けられた垂直配向膜と、（ｄ）平面視においてシール材に隣接して環状に配置されており、垂直配向膜とは異なる基板表面配向状態を生じさせる液晶流入領域と、（ｅ）シール材に囲まれて第１基板と第２基板の間に設けられた液晶層を備える、液晶素子である。
ここで、液晶流入領域は、例えば第１基板の一面と第２基板の一面の少なくとも一方（または両方）に水平配向膜を設けて構成することができる。また、液晶流入領域は、例えば第１基板の一面と第２基板の一面の少なくとも一方（または両方）の基板面を露出させて構成することもできる。
また、液晶流入領域は、平面視における幅が０．２ｍｍ以上１ｍｍ以下であることがより好ましい。
【０００８】
本発明に係る一態様の液晶素子の製造方法は、（ａ）第１基板及び第２基板の各々の一面に垂直配向膜を形成する工程と、（ｂ）第１基板と第２基板の各々の一面に、平面視において垂直配向膜を囲むようにして、垂直配向膜とは異なる基板表面配向状態を生じさせる液晶流入領域を形成する工程と、（ｃ）第１基板と第２基板を各々の一面に、液晶流入領域を囲むようにしてシール材を塗布する工程と、（ｄ）シール材を介して第１基板と第２基板を貼り合わせる工程と、（ｅ）シール材に囲まれた第１基板と第２基板の間隙に液晶材料を注入する工程と、（ｆ）液晶材料の相転移温度を超えた温度による熱処理を行う工程を含む、液晶素子の製造方法である。
【０００９】
上記した各発明によれば、垂直配向型の液晶表示装置において、垂直配向膜とは異なる配向状態を生じさせる液晶流入領域をシール材に隣接して環状に設けることにより、液晶材料の注入時にこの液晶流入領域へ液晶材料を優先的に流動させることができる。このため、液晶材料の注入時における流動性の向上を図り、液晶材料の注入時間を短縮することが可能となる。このような液晶流入領域は、例えば水平配向膜を形成し、あるいは基板面を露出させることにより実現可能であるので、特別な装置、設備を必要としない。したがって、製造コストを増加させず、かつ簡便な製造プロセスによって液晶材料の注入時間を短縮することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】一実施形態の液晶表示装置を模式的に示す正面図（平面図）である。
【図２】液晶表示装置の断面構造の一例を示す部分断面図である。
【図３】液晶表示装置の断面構造の他の一例を示す部分断面図である。
【図４】液晶表示装置の断面構造の他の一例を示す部分断面図である。
【図５】液晶表示装置の断面構造の他の一例を示す部分断面図である。
【図６】液晶表示装置の断面構造の他の一例を示す部分断面図である。
【図７】液晶表示装置の断面構造の他の一例を示す部分断面図である。
【図８】液晶表示装置の製造方法の一例を説明するための流れ図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下に、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。
【００１２】
図１は、一実施形態の液晶表示装置を模式的に示す正面図（平面図）である。図１に示す本実施形態の液晶表示装置は、一対の基板間に配置された液晶層内の液晶分子が電圧無印加時において各基板に対してほぼ垂直に配向する垂直配向型の液晶表示装置である。各基板を挟んで対向配置される一対の偏光板は、それぞれの吸収軸が直交するように配置されている（ノーマリーブラックモード）。
【００１３】
図１に示す本実施形態の液晶表示装置は、任意の画像表示を行うための有効表示領域１と、この有効表示領域１を環状に取り囲む液晶流入領域（液晶流入部）２と、液晶層を封止するために基板周縁に沿って環状に設けられたシール材３と、外部回路等から駆動信号を供給するための端子部４を備えている。端子部４は、上下基板のいずれか一方の端部に設けられている。シール材３は、平面視において略矩形状であり、その一辺に設けられた開口部６が液晶材料の注入口として用いられる。開口部６は図示しない封止材によって封止されている。
【００１４】
図２は、液晶表示装置の断面構造の一例を示す部分断面図である。図２に示す部分断面図は上述した図１に示すII−II線に対応する断面構造を示したものである。図２に示す構成例の液晶表示装置は、対向配置された上側基板（第１基板）１１および下側基板（第２基板）１２と、両基板の間に配置された液晶層１７を基本構成として備える。
【００１５】
上側基板１１および下側基板１２は、それぞれ例えばガラス基板、プラスチック基板等の透明基板である。図示のように、上側基板１１と下側基板１２は、上側電極１３と下側電極１４が対向するようにして所定の間隙（例えば数μｍ程度）を設けて貼り合わされている。
【００１６】
上側電極１３は、上側基板１１の一面側に設けられている。同様に、下側電極１４は、下側基板１２の一面側に設けられている。上側電極１３および下側電極１４は、それぞれ例えばインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）などの透明導電膜を適宜パターニングすることによって構成されている。これらの上側電極１３、下側電極１４を介して外部の駆動回路（図示省略）から液晶層１７に駆動信号が供給される。上側電極１３と下側電極１４は、例えば、互いが重なった領域が所望の文字や図案からなる画素部を形作るように形成されている（セグメント表示型の場合）。また、上側電極１３は、紙面の左右方向に対応する第１方向に延在するストライプ形状に形成され、下側電極１４は、上記の第１方向と直交する第２方向に延在するストライプ形状に形成されていてもよい。この場合には、上側電極１３と下側電極１４が互いに交差した領域のそれぞれが画素部を形作り、全体としては規則的に配列された複数の画素部からなるドットマトリクス表示部が構成される。このように上側電極１３と下側電極１４が交差して画素部となっている領域をすべて囲い込む領域を有効表示領域１としている。図１においてはすべての表示部を矩形で囲む部分が有効表示領域１となっている。
【００１７】
垂直配向膜１５は、上側基板１１の一面側に上側電極１３を覆うようにして設けられている。同様に、垂直配向膜１６は、下側基板１２の一面側に下側電極１４を覆うようにして設けられている。これらの垂直配向膜１５、１６は、液晶層１７の配向状態を規制するものである。各垂直配向膜１５、１６は、例えばラビング処理等の一軸配向処理が施されており、かつその配向処理の方向が互い違い（アンチパラレル）となるように配置されている。
【００１８】
液晶層１７は、上側基板１１と下側基板１２の間に設けられている。本実施形態においては、誘電率異方性Δεが負の液晶材料を用いて液晶層１７が構成される。液晶層１７に図示された太線は、液晶層１７における液晶分子の配向方向を模式的に示したものである。本実施形態の液晶層１７は、電圧無印加時における液晶分子の配向方向が上側基板１１および下側基板１２の各基板面に対してわずかなプレティルト角を有して略垂直に配向する垂直配向型に設定されている。
【００１９】
水平配向膜１８は、上側基板１１の一面において、上記した液晶流入領域２に対応する部分に設けられている。同様に、水平配向膜１９は、下側基板１２の一面において、上記した液晶流入領域２に対応する部分に設けられている。これらの水平配向膜１８、１９は、液晶表示装置の製造時において液晶層１７を形成するために上側基板１１と下側基板１２の間隙へ液晶材料を注入する際に要する時間をより短くするために設けられたものである。各水平配向膜１８、１９は、上記した有効表示領域１に対応する部分に設けられた各垂直配向膜１５、１６に比べて液晶材料の流動を阻害しにくい性質を有する。なお、周知のように水平配向膜とは液晶分子を水平方向へ配向させる規制力を有するものである。
【００２０】
上側偏光板２１は、上側基板１１の外側に配置されている。同様に、下側偏光板２２は、下側基板１２の外側に配置されている。上側偏光板２１と下側偏光板２２は、各々の吸収軸が互いに略直交するように配置されている。また、上側偏光板２１と下側偏光板２２の各吸収軸は、配向処理の方向に対応して定義される液晶層１７の層厚方向の略中央における液晶分子の配向方向に対して略４５°の角度をなす位置に設定される。なお、各偏光板と各基板との間には適宜Ｃプレート等の光学補償板が配置されてもよい。例えば本実施形態では、上側基板１１と上側偏光板２１の間、下側基板１２と下側偏光板２２の間のそれぞれに光学補償板２３、２４が配置されている。
【００２１】
図３は、液晶表示装置の断面構造の他の一例を示す部分断面図である。上記した図２に示した液晶表示装置とは液晶流入領域２の構造のみが異なっている。以下、共通する構成については同一符号を用いたうえでそれらの説明は省略し、相違点について説明する（以降も同様）。図３に示す液晶表示装置では、液晶流入領域２に対応する部分のうち、上側基板１１にのみ水平配向膜１８が設けられており、下側基板１２の一面上には垂直配向膜１６が設けられている。このような構造によっても、液晶材料の注入時における流動性の向上を図ることができる。
【００２２】
図４は、液晶表示装置の断面構造の他の一例を示す部分断面図である。上記した図２に示した液晶表示装置とは液晶流入領域２の構造のみが異なっている。図４に示す液晶表示装置では、液晶流入領域２に対応する部分のうち、上側基板１１にのみ水平配向膜１８が設けられており、この水平配向膜１８と対向する下側基板１２の一面上には何も設けられずに基板面１９ａが露出している。なお、この露出した基板面１９ａには、予めＳｉＯ２膜を設けるなどの平滑化処理が行われていてもよい。このような構造によっても、液晶材料の注入時における流動性の向上を図ることができる。
【００２３】
図５は、液晶表示装置の断面構造の他の一例を示す部分断面図である。上記した図２に示した液晶表示装置とは液晶流入領域２の構造のみが異なっている。図５に示す液晶表示装置では、液晶流入領域２に対応する部分のうち、下側基板１２の一面上には何も設けられずに基板面１９ａが露出しており、この露出した基板面１９ａと対向する上側基板１１の一面上には垂直配向膜１５が設けられている。上記と同様にこの露出した基板面１９ａには、予めＳｉＯ２膜を設けるなどの平滑化処理が行われていてもよい。このような構造によっても、液晶材料の注入時における流動性の向上を図ることができる。
【００２４】
図６は、液晶表示装置の断面構造の他の一例を示す部分断面図である。上記した図２に示した液晶表示装置とは液晶流入領域２の構造のみが異なっている。図６に示す液晶表示装置では、液晶流入領域２に対応する部分について、上側基板１１および下側基板１２のそれぞれの一面上には何も設けられずに、基板面１８ａ、基板面１９ａがそれぞれ露出している。上記と同様にこれらの露出した基板面１８ａ、基板面１９ａには、予めＳｉＯ２膜を設けるなどの平滑化処理が行われていてもよい。このような構造によっても、液晶材料の注入時における流動性の向上を図ることができる。
【００２５】
図７は、液晶表示装置の断面構造の他の一例を示す部分断面図である。この液晶表示装置は、上記した図６に示した液晶表示装置と同様、液晶流入領域２に対応する部分について、上側基板１１および下側基板１２のそれぞれの一面では基板面１８ａ、基板面１９ａがそれぞれ露出しているが、さらにこれらの基板面１８ａ、基板面１９ａには垂直配向膜１５ａ、垂直配向膜１６ａが設けられている。垂直配向膜１５ａは、例えば環状に設けられていてもよいし、複数の膜片を間欠的に配置して環状に並べたものであってもよいし、部分的に垂直配向膜１５と繋がっていてもよい。垂直配向膜１６ａも同様である。このような構造によっても、液晶材料の注入時における流動性の向上を図ることができる。特に、液晶流入領域２の内部にも垂直配向膜１５ａ、１６ａを部分的に設けることにより、これらによる配向規制力を利用して液晶流入領域２における配向乱れをより抑制することができる。それにより、液晶流入領域２の幅をより広く確保することが可能となり、液晶材料の注入時における流動性をより高めることが可能となる。具体的には、上記した図２〜図６に示したような各垂直配向膜１５ａ、１６ａを設けない場合における液晶流入領域２の幅は、シール材３による影響を考慮して配向状態を維持し得る条件として０．２ｍｍ以上１ｍｍ以下であることが好ましいが、各垂直配向膜１５ａ、１６ａを設けることにより液晶流入領域２の幅を１ｍｍ以上としてもシール材３による影響を抑制することが可能となる。なお、垂直配向膜１５ａと垂直配向膜１６ａのいずれか一方のみを設けるようにしてもよい。
【００２６】
なお、上記した各実施形態のうち、特に液晶流入領域２に垂直配向膜を設けない実施形態の液晶表示装置においては、液晶流入領域２の液晶層１７が必ずしも垂直配向とはならず、クロスニコル配置とした上側偏光板２１と下側偏光板２２によるノーマリーブラック状態が保証されない。これに対しては、例えば第１基板１１の外側に遮光のための印刷物等を設けて光抜けを防止する方法や、バックライトの構造を工夫する方法などによって対処することが可能である。
【００２７】
次に、上記した各実施形態の液晶表示装置の好適な一例の製造方法を説明する。図８は、液晶表示装置の製造方法の一例を説明するための流れ図である。
【００２８】
まず、上側基板１１の一面上に上側電極１３を形成し、下側基板１２の一面上に下側電極１４を有する形成する（図８：ステップＳ１１）。具体的には、片面が研磨処理され、その表面にＳｉＯ２アンダーコートが施された後、ＩＴＯ（インジウム錫酸化物）からなる透明導電膜が成膜された一対のガラス基板を用意する。これらのガラス基板の透明導電膜に対してフォトリソグラフィ工程及びエッチング工程を行うことにより所望の形状にパターニングする。
【００２９】
なお、必要に応じて、透明導電膜をパターニングして得られた上側電極１３や下側電極１４の各々の一部表面上にＳｉＯ２などによる絶縁層（平滑層）を形成してもよい。その後、上側基板１１および下側基板１２をそれぞれ弱アルカリ溶液および純水にてブラシ洗浄後、基板乾燥し、低圧水銀ランプまたは酸素キャリアを用いた大気圧プラズマ等によるドライ洗浄を行う。
【００３０】
次に、各基板にフレキソ印刷法にて所望パターンの垂直配向膜材料を塗布し、これを焼成することによって垂直配向膜１５、１６を形成する（図８：ステップＳ１２）。具体的には、上記した図２に示した構造例の液晶表示装置であれば、上側基板１１と下側基板１２のそれぞれの液晶流入領域２に対応する領域には垂直配向膜材料が塗布されず有効表示領域１にのみ塗布されるようにする。
【００３１】
また、上記した図３に示した構造例の液晶表示装置であれば、上側基板１１の液晶流入領域２に対応する領域には垂直配向膜材料が塗布されず有効表示領域１にのみ塗布されるようにし、下側基板１２には有効表示領域１と液晶流入領域２のそれぞれに対応する領域に渡って垂直配向膜材料が塗布されるようにする。
【００３２】
また、上記した図４に示した構造例の液晶表示装置であれば、上側基板１１と下側基板１２のそれぞれの液晶流入領域２に対応する領域には垂直配向膜材料が塗布されず有効表示領域１にのみ塗布されるようにする。
【００３３】
また、上記した図５に示した構造例の液晶表示装置であれば、上側基板１１には有効表示領域１と液晶流入領域２のそれぞれに対応する領域に渡って垂直配向膜材料が塗布されるようにし、下側基板１２には液晶流入領域２に対応する領域には垂直配向膜材料が塗布されず有効表示領域１にのみ塗布されるようにする。
【００３４】
また、上記した図６に示した構造例の液晶表示装置であれば、上側基板１１と下側基板１２のそれぞれにおいて液晶流入領域２に対応する領域には垂直配向膜材料が塗布されず有効表示領域１にのみ塗布されるようにする。
【００３５】
また、上記した図７に示した構造例の液晶表示装置であれば、上側基板１１と下側基板１２のそれぞれにおいて、有効表示領域１に対応する領域は各垂直配向膜１５、１６に対応する垂直配向膜材料が塗布され、液晶流入領域２に対応する領域には各垂直配向膜１５ａ、１６ａに対応する垂直配向膜材料が塗布されるようにする。
【００３６】
次に、上側基板１１と下側基板１２の少なくとも一方の一面上に、液晶流入領域２を形成する（図８：ステップＳ１３）。具体的には、上記した図２に示した構造例の液晶表示装置であれば、上側基板１１と下側基板１２のそれぞれの液晶流入領域２に対応する領域に、フレキソ印刷法などによって水平配向膜材料を塗布し、これを焼成することにより、水平配向膜１８、１９を形成する。
【００３７】
また、上記した図３または図４に示した各構造例の液晶表示装置であれば、上側基板１１の液晶流入領域２に対応する領域にのみ、フレキソ印刷法などによって水平配向膜材料を塗布し、これを焼成することにより、水平配向膜１８を形成する。なお、上記した図５〜図７に示した各構造例の液晶表示装置であれば、本工程では上側基板１１と下側基板１２のそれぞれの液晶流入領域２に対応する領域には何も形成しない。
【００３８】
なお、いずれの場合においても、液晶流入領域２に対応する領域に設けられる水平配向膜材料の外縁が部分的に有効表示領域１の外縁と重なってもよい。また、液晶流入領域２の形成工程と垂直配向膜の形成工程との順序を入れ替えてもよい。
【００３９】
次に、垂直配向膜１５、１６のそれぞれに対して一軸配向処理を行う（図８：ステップＳ１４）。本実施形態では、代表的な配向処理であるラビング処理を垂直配向膜１５、１６の双方に対して行う。なお、各水平配向膜１８、１９、あるいは各垂直配向膜１５ａ、１６ａが設けられている場合（図７参照）には、それらに対しても一軸配向処理がなされる。
【００４０】
次に、一方の基板上（例えば、下側基板１２の一面上）に、所定粒径の球状スペーサーを乾式散布法等の方法によって散布する（図８：ステップＳ１５）。また、他方の基板（例えば上側基板１１）には、例えばスクリーン印刷法によってシール材３を印刷する（図８：ステップＳ１６）。シール材３は、上側基板１１と下側基板１２が重なる領域の外形よりわずかに小さい枠状に形成される。
【００４１】
スペーサー散布およりシール材形成の後、上側基板１１と下側基板１２を貼り合わせて熱圧着することによりシール材３を固着させる（図８：ステップＳ１７）。熱圧着の条件は、例えば１２０℃で１時間以上とする。
【００４２】
次に、真空注入法等の方法によって、上側基板１１と下側基板１２の間隙に液晶材料を注入し、その注入口を紫外線硬化樹脂等によって封止する（図８：ステップＳ１８）。これにより液晶層１７が形成される。このとき、液晶材料は各水平配向膜１８、１９等の形成された液晶流入領域２へ優先的に流動し、その後垂直配向膜１５、１６の形成された領域へ流動して上側基板１１と下側基板１２の間隙に浸透する。そのため、液晶材料の注入速度が上がり、液晶材料の注入時間が短縮される。
【００４３】
次に、液晶層１７を再配向させるための熱処理を行う（図８：ステップＳ１９）。詳細には、上側基板１１および下側基板１２を貼り合わせて得られたセルに対して、液晶材料のネマティック相と等方相の間の相転移温度よりも高い温度で６０分間以上の熱処理が行われる。
【００４４】
その後、上側基板１１および下側基板１２を貼り合わせて得られたセルを中性洗剤等で洗浄し、さらに純水でリンスし、乾燥させる。そして、上側基板１１の外側に上側偏光板２１および光学補償板２３を貼り合わせ、かつ下側基板１２の外側に下側偏光板２２および光学補償板２４を貼り合わせる（図８：ステップＳ２０）。最後に、フレキシブル基板またはリードフレームを適宜に取り付けることにより液晶表示装置が完成する。
【００４５】
以上のような本実施形態によれば、垂直配向型の液晶表示装置において、有効表示領域とシール材との間に垂直配向膜とは異なる配向状態を生じさせる液晶流入領域を設けることにより、液晶材料の注入時における流動性の向上を図ることができる。したがって、特別な装置、設備を必要としないことから製造コストを増加させず、かつ簡便な製造プロセスによって液晶材料の注入時間を短縮することが可能となる。
【００４６】
なお、本発明は上述した実施形態の内容に限定されるものではなく、本発明の要旨の範囲内において種々に変形して実施をすることが可能である。例えば、上記した実施形態においては一例として液晶表示装置、すなわち表示用途に用いられる液晶素子について説明していたが、本発明の適用範囲はこれに限定されず広く液晶素子一般に適用可能である。
【符号の説明】
【００４７】
１：有効表示領域
２：液晶流入領域
３：シール材
６：開口部
１１：上側基板
１２：下側基板
１３：上側電極
１４：下側電極
１５、１６、１５ａ、１６ａ：垂直配向膜
１７：液晶層
１８、１９：水平配向膜
１８ａ、１９ａ：露出した基板面
２１：上側偏光板
２２：下側偏光板
２３、２４：視角補償板
【図１】
2013125124.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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