(57)【要約】【課題】枚葉基板や帯状フィルム上の処理液を均一に保つことが可能なＷＥＴ処理装置を提供する。【解決手段】基板や帯状フィルムを処理する製造ラインにおいて用いられるＷＥＴ処理装置であって、スクリューノズルと、処理液供給部と、エアー供給部と、カバーと、バックサポートロールと、で構成され、スクリューノズルは、ねじ状の形状を有し、全幅に中空構造を備え、ねじ山部にスリット状の開口を有し、基板や帯状フィルム上に近接して設置され、処理液供給部によって前記スクリューノズルの端部のねじの谷部に処理液が供給され、エアー供給部によって前記スクリューノズルの中空構造の端から供給されたエアーが、前記スリット状の開口から噴出し、カバーによってスクリューノズルは上方から覆われ、バックサポートロールは基板や帯状フィルムに対して前記スクリューノズルと対向する位置に設けられたことを特徴とするＷＥＴ処理装置。【選択図】図３
2013167802.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板や帯状フィルムを処理する製造ラインにおいて用いられるＷＥＴ処理装置であって、
スクリューノズルと、処理液供給部と、エアー供給部と、カバーと、バックサポートロールと、で構成され、
スクリューノズルは、ねじ状の形状を有し、全幅に中空構造を備え、ねじ山部にスリット状の開口を有し、基板や帯状フィルム上に近接して設置され、
処理液供給部によって前記スクリューノズルの端部のねじの谷部に処理液が供給され、
エアー供給部によって前記スクリューノズルの中空構造の端から供給されたエアーが、前記スリット状の開口から噴出し、
カバーによってスクリューノズルは上方から覆われ、
バックサポートロールは基板や帯状フィルムに対して前記スクリューノズルと対向する位置に設けられ、
カバーと、スクリューノズルのねじ谷部と、基板や帯状フィルムと、で形成された閉塞部に前記スリット状の開口からエアーを噴出し、閉塞部に処理液を保持しながらスクリューノズルを回転することによって処理液を掻きとりながらこの処理液を移動させ、同時に基板や帯状フィルムを搬送することによって全面をＷＥＴ処理することを特徴とするＷＥＴ処理装置。
【請求項２】
前記スクリューノズルと基板や帯状フィルムとの間隔は調整可能であることを特徴とする請求項１に記載のＷＥＴ処理装置。
【請求項３】
前記スクリューノズルは時計方向に回転するスクリューノズルと反時計方向に回転するスクリューノズルからなることを特徴とする請求項１または２に記載のＷＥＴ処理装置。
【請求項４】
前記スクリューノズルの回転方向は可変であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載のＷＥＴ処理装置。
【請求項５】
前記スクリューノズルはガラス基板やフィルム基材の搬送方向に対して角度Θの位置に設けられることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載のＷＥＴ処理装置。
【請求項６】
前記スクリューノズルの回転速度は可変であることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載のＷＥＴ処理装置。
【請求項７】
更にノズル洗浄ユニットを有し、このノズル洗浄ユニットは前記スクリューノズルのねじにかみ合って設けられており、スクリューノズルの回転によってスクリューノズルの幅方向に移動してスクリューノズルを洗浄し、一方、処理液によって処理されている際には移動しない構造を有することを特徴とする請求項１から６のいずれかに記載のＷＥＴ処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はガラス基板等を処理する枚葉処理工程や、帯状フィルム等を処理するウェブ処理工程を有する製造ラインにおいて用いられる、処理液を使用する装置（以下、ＷＥＴ処理装置）に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ガラス基板等を処理する枚葉処理工程や、帯状フィルム等を処理するウェブ処理工程を有する製造ラインでは、処理液を使用する工程が多く存在する。
【０００３】
図１に枚葉処理工程で製造されるガラス基板の一例としてカラー液晶ディスプレイに用いられるカラーフィルタの断面を示す。カラーフィルタ１は、ガラス基板２上にブラックマトリックス（以下、ＢＭ）３、レッドＲの着色画素（以下、Ｒ画素）４−１、グリーンＧの着色画素（以下、Ｇ画素）４−２、ブルーＢの着色画素（以下、Ｂ画素）４−３、透明電極５、及びフォトスペーサー（Ｐｈｏｔｏ  Ｓｐａｃｅｒ）（以下、ＰＳ）６、バーテイカルアライメント（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）（以下、ＶＡ）７が順次形成されたものである。
【０００４】
上記構造のカラーフィルタの製造方法は、フォトリソグラフィー法、印刷法、インクジェット法を用いることが知られているが、図２は一般的に用いられているフォトリソグラフィー法の工程を示すフロー図である。カラーフィルタは、先ず、ガラス基板上にＢＭを形成処理する工程（Ｃ１）、ガラス基板を洗浄処理する工程（Ｃ２）、着色フォトレジストを塗布および予備乾燥処理する工程（Ｃ３）、着色フォトレジストを乾燥、硬化処理するプリベーク工程（Ｃ４）、露光処理する工程（Ｃ５）、現像処理する工程（Ｃ６）、着色フォトレジストを硬化処理する工程（Ｃ７）、透明電極を成膜処理する工程（Ｃ８）、ＰＳ、ＶＡを形成処理する工程（Ｃ９）がこの順に行われ製造される。
【０００５】
例えば、Ｒ画素、Ｇ画素、Ｂ画素の順に画素が形成される場合には、カラーフィルタ用ガラス基板を洗浄処理する工程（Ｃ２）から、着色フォトレジストを硬化処理する工程間（Ｃ７）ではレッドＲ、グリーンＧ、ブルーＢの順に着色フォトレジストを変更して３回繰り返されてＲ画素、Ｇ画素、Ｂ画素が形成される。
【０００６】
上記図２に示すカラーフィルタ製造工程においてもガラス基板を洗浄処理する工程（Ｃ２）、現像処理する工程（Ｃ６）といった、ＷＥＴ処理工程や装置が存在する。この傾向は、液晶テレビや半導体製造工程においても顕著である。ＷＥＴ処理工程として洗浄処理工程（Ｃ２）、現像処理工程（Ｃ６）のほかに図示しないエッチング処理工程、剥離処理工程、等が挙げられる。
【０００７】
これらの処理工程で用いられる装置は、ガラス基板に対して処理液を連続供給する必要がある。供給方式としては、スプレーノズルによる処理液の塗布と噴霧方式が最も一般的である。そのほかに従来では、処理液を用いる工程ではバッチ処理としてガラス基板を処理液に浸漬する方式も採用されていたが、製造ラインの生産能力の観点からガラス基板を連続的に搬送するために、ワークを処理液に浸漬する方式は採用されず、最近ではＷＥＴ装置の殆どが塗布または噴霧方式を採用している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００４−２２６５１９号公報
【特許文献２】特開２００６−３１３２１９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら上記塗布や噴霧方式の場合には、ガラス基板に一度付着した処理液が、後から噴霧されるフレッシュな処理液とガラス基板との化学的反応を阻害し、結果として以下に示す問題が発生する。
即ち、（１）処理時間が延び、結果として処理装置の生産能力が落ちる。（２）ガラス基板面内での処理液が不均一となるためプロセス進行度合いに差が生じ、結果として製品の品質にバラツキが生ずる。（３）ガラス基板を傾斜させる処置により、古い処理液の排除スピードを向上することは可能であるが、ワーク面内のプロセス進行度合いの不均一性は解決されない。
【００１０】
上記課題は、ガラス基板のような枚葉基板に限らず、帯状フィルムを処理するウェブ処理工程においても解決が望まれていた。
【００１１】
本発明は上記事情に鑑み、枚葉基板や帯状フィルム上の処理液を均一に保つことが可能なＷＥＴ処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の請求項１に係る発明は、基板や帯状フィルムを処理する製造ラインにおいて用いられるＷＥＴ処理装置であって、
スクリューノズルと、処理液供給部と、エアー供給部と、カバーと、バックサポートロールと、で構成され、
スクリューノズルは、ねじ状の形状を有し、全幅に中空構造を備え、ねじ山部にスリット状の開口を有し、基板や帯状フィルム上に近接して設置され、
処理液供給部によって前記スクリューノズルの端部のねじの谷部に処理液が供給され、
エアー供給部によって前記スクリューノズルの中空構造の端から供給されたエアーが、前記スリット状の開口から噴出し、
カバーによってスクリューノズルは上方から覆われ、
バックサポートロールは基板や帯状フィルムに対して前記スクリューノズルと対向する位置に設けられ、
カバーと、スクリューノズルのねじ谷部と、基板や帯状フィルムと、で形成された閉塞部に前記スリット状の開口からエアーを噴出し、閉塞部に処理液を保持しながらスクリューノズルを回転することによって処理液を掻きとりながらこの処理液を移動させ、同時に基板や帯状フィルムを搬送することによって全面をＷＥＴ処理することを特徴とするＷＥＴ処理装置である。
【００１３】
本発明の請求項２に係る発明は、前記スクリューノズルと基板や帯状フィルムとの間隔は調整可能であることを特徴とする請求項１に記載のＷＥＴ処理装置である。
【００１４】
本発明の請求項３に係る発明は、前記スクリューノズルは時計方向に回転するスクリューノズルと反時計方向に回転するスクリューノズルからなることを特徴とする請求項１または２に記載のＷＥＴ処理装置である。
【００１５】
本発明の請求項４に係る発明は、前記スクリューノズルの回転方向は可変であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載のＷＥＴ処理装置である。
【００１６】
本発明の請求項５に係る発明は、前記スクリューノズルはガラス基板やフィルム基材の搬送方向に対して角度Θの位置に設けられることを特徴とする請求項１から４のいずれか
に記載のＷＥＴ処理装置である。
【００１７】
本発明の請求項６に係る発明は、前記スクリューノズルの回転速度は可変であることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載のＷＥＴ処理装置である。
【００１８】
本発明の請求項７に係る発明は、更にノズル洗浄ユニットを有し、このノズル洗浄ユニットは前記スクリューノズルのねじにかみ合って設けられており、スクリューノズルの回転によってスクリューノズルの幅方向に移動してスクリューノズルを洗浄し、一方、処理液によって処理されている際には移動しない構造を有することを特徴とする請求項１から６のいずれかに記載のＷＥＴ処理装置である。
【発明の効果】
【００１９】
本発明のＷＥＴ処理装置によれば、処理によって劣化した液をワーク上を確実に掻きとりながら移動することが出来るため、処理液供給側の閉領域内に存在するより新しい処理液による化学的反応を効率的に推進できる。
【００２０】
また本発明に係るスクリューノズルの山部に設けられたスリットからエアーを噴射させることで、閉領域の現像液をより確実に移動させることが可能となり、更に現像液の劣化度合いとワーク接触座標の関係を制御することが可能となるため、化学的反応の進行度合いを面内で均一となるようコントロールすることが出来る。その結果、ワーク面内の化学的反応度合いの均一性をより向上させることが出来る。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】カラー液晶ディスプレイに用いられるカラーフィルタの断面を示す図。
【図２】一般的に用いられているフォトリソグラフィー法の工程を示すフロー図。
【図３】本発明の現像処理装置の構成を模式的に示す図。（ａ）は上面から見た図。（ｂ）は側面から見た面。
【図４】本発明に係るスクリューノズルを説明するための図（ａ）はスクリューノズルの断面を詳細に示す図。（ｂ）はスクリューノズルの設置状態を説明するための図。
【図５】本発明に係る現像液供給部を説明するための図。
【図６】本発明に係るスクリューノズル１０−１によってワークが現像される際の様子を示す図。
【図７】本発明に係るスクリューノズル１０−２によってワークが現像される際の様子を示す図。
【図８】ワークに対するスクリューノズルの設置位置を説明するための図。
【図９】本発明に係るスクリューノズルによって現像液が掻きとられて現像されることを説明するための図。
【図１０】本発明に係るスクリューノズルを洗浄する洗浄ユニットの概略構成を示す図。
【図１１】本発明に係るノズル洗浄ユニットの動作を説明するための図。（ａ）はスクリューノズルが回転し現像を行う場合を示す図。（ｂ）は洗浄その１を行う場合を示す図。（ｃ）は洗浄終了時を示す図。（ｄ）は洗浄その２を行う場合を示す図。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
ワークの一例としてガラス基板を、またＷＥＴ処理の一例としてワーク上に形成された塗膜の現像処理を行う場合に用いられる現像処理装置を図面を用いて説明する。
【００２３】
図３は本発明の現像処理装置の構成を模式的に示す図である。図３（ａ）は上面から見た図、図３（ｂ）は側面から見た面を示す。現像処理装置は、矢印１０１で示す方向に搬送されるガラス基板１００（以下、ワーク１００）を現像処理するための装置であって、ねじ状の形状を有したスクリューノズル１０−１、１０−２と、スクリューノズルに上方から処理液を供給する処理液供給部（この場合は現像液供給部）１１−１、１１−２と、スクリューノズル１０−１、１０−２の中空構造の端部からエアーを供給するエアー供給部１２−１、１２−２と、スクリューノズル１０−１、１０−２を覆うカバー１３−１，１３−２と、ワーク１００に対してスクリューノズル１０−１、１０−２と対向する位置に設けられたバックサポートロール１４−１、１４−２と、スクリューノズル１０−１、１０−２のねじにかみ合って設けられた図示しないノズル洗浄ユニットと、を備えている。上記スクリューノズルと現像液供給部とエアー供給部とカバーとは、それぞれ２個の場合を示しているが、これに限定されず適宜その数を選択すれば良い。また、バックサポートロールは、スクリューノズルと同数でなくても良く、ワークの種類（ガラス基板かフィルム）や大きさによって適宜設ければ良い。
【００２４】
図４（ａ）は例えばスクリューノズル１０−１の断面を詳細に示し側面から見た図である。スクリューノズル１０−１は、ねじの山部１０−１ａとねじの谷部１０−１ｂを備えたねじ状の形状を有し、全幅にわたってねじ山部１０−１ａにスリット状の開口１０−１ｃを有している。スクリューノズル１０−１は中空構造１０−１ｄをなしており、その端部にはエアー供給部１２−１が繋がれエアーが供給される。図４（ａ）ではエアー供給はスクリューノズル１０−１の左の端部１０−１ｅからエアーを供給する場合を示しているが、左右の両端部から供給しても良い。エアー供給部１２−１からエアーが供給されることによってスリット状の開口１０−１ｃからエアーを噴出することが出来る。
【００２５】
図４（ｂ）はスクリューノズル１０−１の設置状態を説明するための図で、スクリューノズル１０−１の断面を正面から見た図を示す。スクリューノズル１０−１は矢印１０１の方向に搬送されるワーク１００に近接して設置される。スクリューノズル１０−１はカバー１３−１で覆われている。カバー１３−１の天面には開口１３−１ａが設けられており、その開口を介してスクリューノズル１０−１の端部のねじの谷部には、処理液供給部（この場合は現像液供給部を指す）１１−１から現像液が供給される。また、ワーク１００に対してスクリューノズル１０−１と対向する位置（ワークに現像液が供給される裏側）にバックサポートロール１４−１が設けられておりワーク１００の撓みが補正される。
【００２６】
図５は現像液供給部１１−１ａ、１１−１ｂを説明するための図である。スクリューノズル１０−１にはその左端部のねじの谷部に現像液２０−１ａを供給する現像液供給部１１−１ａと、その右端部のねじの谷部に現像液２０−１ｂを供給する現像液供給部１１−１ｂを備えている、左端部あるいは右端部の現像供給部のどちらかが選択されて現像液は供給される。図５ではスクリューノズル１０−１を例示したが、スクリューノズルの全てにその左端部のねじの谷部、更に右端部のねじの谷部に現像液を供給する現像供給部が備えられている。
【００２７】
図６はワーク１００が現像される際の様子を示す図であって、例えばスクリューノズル１０−１の場合で、現像液供給部１１−１ａから現像液２０−１ａが左端部のねじの谷部に供給される場合を示す図である。現像液供給部１１−１ａから現像液２０−１ａは左端部のねじの谷部に供給され、スクリューノズル１０−１は矢印１０２で示す方向に回転する。一方、ワーク１００は紙面の手前から奥に向かって搬送される。破線４０の部分を拡大した図はワークが現像される際の様子を詳しく説明するための図である。スクリューノズル１０−１はガラス基板１００に近接して設置され、ねじの谷部１０−１ｂと、ワーク１００とで閉塞部２１が形成される。また、図示しないカバーでスクリューノズル１０−１は覆われているため閉塞部２１には現像液１１０が保持され、更にスリット状の開口１
０−１ｃからエアー２３を噴出しているため、スクリューノズル１０−１のねじの谷部１０−１ｂに保持された現像液１１０は、閉塞部２１に保持された状態でスクリューノズル１０−１を矢印１０２の方向に回転することによって、掻き取られるようにして矢印２４で示す方向に移動し、隣接したねじの谷部１０−２ｂ、更にねじの谷部１０−３ｂに移動する。この場合、現像液供給部１１−１ａから現像液２０−１ａは連続して供給される。拡大した図ではワーク１００は紙面の奥の方向に搬送される。
【００２８】
図７はスクリューノズル１０−２の場合を示す図である。現像液供給部１１−２から現像液２０−２は右端部のねじの谷部に供給される。スクリューノズル１０−２は矢印１０３で示される方向に回転する。その結果、スクリューノズル１０−２のねじの谷部に供給され閉塞部に保持された現像液１１１は、上記スクリューノズル１０−１の場合とは逆方向の矢印１０５で示す方向に掻き取られるようにして隣接したねじの谷部に移動する。この場合、現像液供給部１１−２から現像液２０−２は連続して供給される。
【００２９】
図６、図７で示されるようにエアーによってワーク１００とねじの山部で形成された閉塞部に保持された現像液を掻きとるように移動する必要があるため、スクリューノズル１０−１、及びスクリューノズル１０−２は上記したようにワーク１００と近接した位置に設置されることが望ましい。
【００３０】
また、スクリューノズル１０−１及びスクリューノズル１０−２と、ワークとの間隔は近接した位置で調整可能であることが望ましく、それによって閉塞部の体積を調整することが出来、現像液の量をコントロールすることが可能となり、処理時間を短縮することが出来る。
【００３１】
図６、図７で示される符号１４はバックサポートロールであって、ワーク１００に対してスクリューノズル１０−１、１０−２と対向する位置に置かれ、ワーク１００の撓みを抑制するためのものであり、ワークの種類や大きさや撓みの大きさによって、その本数は適宜設けられる。
【００３２】
図８はワークに対するスクリューノズルの設置位置を説明するための図である。スクリューノズル１０−１と１０−２はワーク１００の搬送方向１０１に対して直交ではなく、角度Θをもって設けられる。
【００３３】
そしてワーク１００を矢印１０１の方向へ搬送し、スクリューノズル１０−１を矢印１０２の方向に、またスクリューノズル１０−２を矢印１０３の方向に回転すると、図９に示すようにスクリューノズル１０−１によって矢印１２１の方向に現像液が掻きとられ、またスクリューノズル１０−２によって矢印１２２の方向に現像液が掻きとられ、その結果、ワーク１００の全面が現像される。
【００３４】
図９に示されるようにワーク１００の全面を現像するためには、矢印１２１、矢印１２２のようにワーク１００の搬送方向に対して直交するように現像液を掻きれば良く、その為には、スクリューノズル１０−１とスクリューノズル１０−２が設けられる上記角度Θは、スクリューノズルのねじ山の間隔（ねじ山ピッチ）と回転速度とワークの搬送速度によって決定することが望ましい。
【００３５】
更に、図８ではスクリューノズルは回転方向がそれぞれ異なる２本の場合を例示したが、ワーク１００の全面を均一に現像するにはこれに限定されるものではなく、その本数を適宜選択することが望ましい。
【００３６】
このように、現像によって劣化した液をワーク上を確実に掻きとりながら移動すること
が出来るため、現像液供給側の閉領域内に存在するより新しい現像液による化学的反応を効率的に推進できる（即ち、古い液が新液の反応を阻害しない）。一般に現像液は、ワークと接触した状態で時間が経過すると劣化する（新液に比べ、発生する化学的反応が鈍化する）ため、ワーク上に供給された後は速やかに除去されることが望ましいが、本発明に係るスクリューノズルによればこれを達成することが可能となる。また、次に示すように現像液の劣化度合いとワーク接触座標の関係を制御することが可能となるため、化学的反応の進行度合いを面内で均一となるようコントロールすることが出来る。
【００３７】
本発明に係るスクリューノズルによってワークを現像した場合には、例えば面内の現像むら（不均一）が発生した場合には、むらの位置から上記現像液の劣化度合いとワーク接触座標の関係を知ることが出来るため、スクリューノズルの本数を変更したり、更にスクリューノズルの１本毎の回転方向や回転速度を変えることによって、均一に現像することが可能になる。
【００３８】
また本発明に係るスクリューノズルの山部に設けられたスリットからエアーを噴射させることで、閉領域の現像液をより確実に移動させることが可能となり、その結果、ワーク面内の化学的反応度合いの均一性をより向上させることが出来る。更に、エアーを噴射させるといった非接触移動方式であるため、ワークへの異物付着やキズ発生といった問題の発生を防ぐことが出来る。
【００３９】
図１０はスクリューノズルを洗浄する洗浄ユニットの概略構成を示す図である。一般的に現像液を噴射したり塗布するノズルは、定期的に洗浄することが望ましい。本発明に係るノズル洗浄ユニットは洗浄ブロック３１、ローラ３２、リニアガイド３３で構成されている。洗浄ブロック３１はスクリューノズル１０のねじにかみ合った状態で設けられている。リニアガイド３３は矢印３４で示す方向に移動する機能を有しおり、例えば板金を用いることが出来る。ローラ３２はリニアガイド３３に接しながら回転する。ノズル洗浄ユニットは、自重では回転せず現在位置を保持できる程度の保持力を有しており、これは、例えばノズル洗浄ユニットとスクリューノズル間をボールねじ構造で連結して、いわゆる与圧を高めることによって達成できる。ローラ３２がリニアガイド３３に接しながら回転する場合には、ノズル洗浄ブロック３１はスクリューノズル１０の回転方向に伴って矢印３５の方向に移動する。
【００４０】
図１１はノズル洗浄ユニットの動作を示す図である。図１１（ａ）は、スクリューノズル１０が矢印１０２の方向に回転し現像を行う場合を示しており、スクリューノズル１０が回転すると、ノズル洗浄ユニットは矢印１０４の方向に回転する。この場合ノズル洗浄ユニットは回転するが水平方向には移動しない。リニアガイド３３が矢印３６で示す方向に移動すると図１１（ｂ）に示すように洗浄開始となる。この場合、リニアガイド３３にローラ３２が接し、これによって洗浄ブロック３１の回転が解除され、洗浄ブロック３１は矢印３７で示す方向に移動する。洗浄ブロック３１が移動することによってスクリューノズル１０を洗浄（洗浄その１）することが出来る。図１１（ｃ）は洗浄終了時を示しており、ローラ３２がリニアガイド３３から外れると洗浄ブロック３１はこれ以上矢印３７で示す方向へは移動しない。また、図１１（ｄ）に示すようにリニアガイド３３をローラ３２の位置まで矢印３８で示す方向に移動し、更にスクリューノズル１０を矢印１０５で示す方向に回転することによって、洗浄ブロック３１は矢印３９で示す方向に移動して洗浄（洗浄その２）を行うことが出来る。
【００４１】
本発明に係る上記洗浄ユニットは、現像液を繰り返し循環して使用することによる異物やゲルの付着がある場合に用いることが可能であるが、比較的、液汚れの少ない置換（循環）水洗エリアにおいて、最も効果を発揮することができる。
【００４２】
上記本発明の実施形態では、ガラス基板の現像処理装置を例として説明したが、一般的にＷＥＴ処理と呼ばれるエッチング装置や剥離処理装置へ適用することが出来る。ガラス基板のような枚葉処理工程に限らず、帯状フィルムを処理するウェブ処理工程を有する製造ラインに広く用いることが出来る。
【００４３】
以上のように本発明のＷＥＴ処理装置によれば、ガラス基板やフィルム基材上の処理液の劣化度合いと処理液のワーク上の所在位置を知ることが出来、スクリューノズルの回転速度や回転方向、更にワークとスクリューノズルの間隔をコンロールすることによって、処理液のワークに対する供給を適正にすることが出来、その結果、ワーク面内の処理の均一性を向上することが出来る。また、ノズルの自己洗浄機能を有するため、ノズル洗浄のための作業時間（ライン停止）が不要となり、生産性を向上することができる。
【符号の説明】
【００４４】
１・・・カラーフィルタ
２・・・ガラス基板
３・・・ブラックマトリックス（ＢＭ）
４−１・・・レッドＲの着色画素（Ｒ画素）
４−２・・・グリーンＧの着色画素（Ｇ画素）
４−３・・・ブルーＢの着色画素（Ｂ画素）
５・・・透明電極
６・・・フォトスペーサー（ＰＳ）
７・・・バーテイカルアライメント
１０・・・スクリューノズル
１０−１、２・・・スクリューノズル
１０−２ｂ、３ｂ・・・隣接したねじの谷部
１０−１ａ・・・ねじの山部
１０−１ｂ・・・ねじの谷部
１０−１ｃ・・・スリット状の開口
１０−１ｄ・・・中空構造
１０−１ｅ・・・スクリューノズルの左の端部
１１−１、２・・・処理液供給部（現像液供給部）
１１−１ａ、１ｂ・・・現像液供給部
１２−１、２・・・エアー供給部
１３−１、２・・・カバー
１３−１ａ・・・カバーの天面に設けられた開口
１４−１、２・・・バックサポートロール
２０−１ａ、１ｂ・・・現像液
２０−２・・・現像液供給部１１−２から供給される現像液
２１・・・閉塞部
２３・・・エアー
２４・・・現像液が掻き取られるようにして移動する方向を示す矢印
３１・・・洗浄ブロック
３２・・・ローラ
３３・・・リニアガイド
３４・・・リニアガイドの移動する方向を示す矢印
３５・・・ノズル洗浄ユニットの移動方向を示す矢印
３６・・・リニアガイドの移動方向を示す矢印
３７・・・洗浄ブロックの移動方向を示す矢印
３８・・・リニアガイドをローラの位置まで移動する方向を示す矢印
３９・・・洗浄ブロックの移動方向を示す矢印
１００・・・ガラス基板（ワーク）
１０１・・・ワークが搬送される方向を示す矢印
１０２・・・スクリューノズル１０−１の回転方向を示す矢印
１０３・・・スクリューノズル１０−２の回転方向を示す矢印
１０４・・・ノズル洗浄ユニットの回転方向を示す矢印
１０５・・・閉塞部に保持された現像液１１１の移動方向を示す矢印
１１０・・・閉塞部に保持された現像液
１１１・・・閉塞部に保持された現像液
１２１・・・スクリューノズル１０−１によって現像液が掻きとられる方向を示す矢印
１２２・・・スクリューノズル１０−２によって現像液が掻きとられる方向を示す矢印
【図２】
2013167802.tif 000003
【図１】
2013167802.tif 000004
【図３】
2013167802.tif 000005
【図４】
2013167802.tif 000006
【図５】
2013167802.tif 000007
【図６】
2013167802.tif 000008
【図７】
2013167802.tif 000009
【図８】
2013167802.tif 000010
【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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