(57)【要約】【課題】誘電率異方性が負の液晶材料を用いた場合でも、液晶層の厚さを適正化することのできる液晶パネルの製造方法を適用すること。【解決手段】液晶パネルを製造するにあたって、注入工程で、空セル３ｅ内に液晶材料５０ａを注入した後、検査工程において、液晶パネル３に検査光を供給するとともに、液晶パネル３からの出射光を検出して液晶材料５０ａの注入量を検査する。そして、調整工程では、検査工程での検査結果に基づいて、空セル３ｅ内への液晶材料５０ａの注入量を調整して液晶注入口１０７ａを封止材１０６で塞ぐ。ここで、液晶材料５０ａは、誘電率異方性が負であり、液晶パネル３はノーマリーブラックモード用であるが、検査工程では、液晶パネル３に通電した状態で液晶パネル３に検査光を供給する。【選択図】図１
2013257444.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と第２基板とをシール材で貼り合わせて液晶注入口を備えた液晶パネル用の空セルを形成する空セル形成工程と、
真空注入法により前記液晶注入口から前記空セル内に誘電率異方性が負の液晶材料を注入して液晶パネルとする注入工程と、
前記液晶パネルに通電した状態で前記液晶パネルに検査光を供給するとともに、当該液晶パネルからの出射光を検出する検査工程と、
を有し、
該検査工程での前記出射光の検出結果に基づいて前記空セル内への前記液晶材料の注入量を調整した状態で前記液晶注入口を封止材により塞ぐことを特徴とする液晶パネルの製造方法。
【請求項２】
前記検査工程での前記出射光の検出結果に基づいて前記液晶パネルから前記液晶材料の一部を排出して前記空セル内への前記液晶材料の注入量を調整することを特徴とする請求項１に記載の液晶パネルの製造方法。
【請求項３】
前記検査工程の後、当該検査工程での前記出射光の検出結果に基づいて前記液晶パネルから前記液晶材料の一部を排出して前記空セル内への前記液晶材料の注入量を調整することを特徴とする請求項２に記載の液晶パネルの製造方法。
【請求項４】
前記検査工程を行いながら前記出射光の検出結果に基づいて前記液晶パネルから前記液晶材料の一部を排出して前記空セル内への前記液晶材料の注入量を調整することを特徴とする請求項２に記載の液晶パネルの製造方法。
【請求項５】
前記注入工程を行いながら前記検査工程を行い、
当該検査工程での前記出射光の検出結果に基づいて前記液晶材料の注入を停止し、前記空セル内への前記液晶材料の注入量を調整することを特徴とする請求項１に記載の液晶パネルの製造方法。
【請求項６】
前記第１基板上に前記空セルを複数形成し、
当該複数の空セルの各々に対して、前記注入工程および前記検査工程を行い、
該検査工程での前記出射光の検出結果に基づいて前記複数の空セルへの前記液晶材料の注入量を調整して前記液晶注入口を前記封止材により塞ぐことを特徴とする請求項１乃至５の何れか一項に記載の液晶パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、シール材の液晶注入口から空セル内に液晶材料を真空注入する液晶パネルの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶装置は、画素トランジスターおよび画素電極等が形成された第１基板がシール材によって第２基板と貼り合わされた液晶パネルを有しており、第１基板と第２基板との間でシール材により囲まれた領域に液晶層が保持されている。このため、液晶パネルの製造工程では、第１基板と第２基板とをシール材で貼り合わせて、液晶注入口を備えた空セルを形成した後、真空注入法により液晶注入口から空セル内に液晶材料を注入することになる。かかる真空注入の際、空セル内への液晶材料の注入量がばらつくと、第１基板および第２基板の形状がばらつき、第１基板と第２基板との間隔（液晶層の厚さ（セル厚））がばらついてしまう。その結果、液晶層のリタデーションがばらつき、表示品位が低下する。
【０００３】
そこで、液晶の注入時に液晶パネルを光学的に観察して液晶材料の入り込み状態を計測し、液晶パネルの形状（液晶材料の注入量）を制御することが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平１０−２５４３８９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１に記載の方法は、従来のＴＮ（Twisted Nematic）モードの液晶パネルの場合には適用できるが、ＶＡ（Vertical Alignment）モードの液晶パネルのように、誘電率異方性が負の液晶材料を用いた場合には適用できない。すなわち、誘電率異方性が負の液晶材料を用いた場合、液晶パネルは、電圧がかかっていないときを遮光状態とするノーマリーブラックモードとして用いられるため、特許文献１に記載の方法では、光学的な観察が困難である。
【０００６】
以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、誘電率異方性が負の液晶材料を用いた場合でも、液晶層の厚さを適正化することのできる液晶パネルの製造方法を適用することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明に係る液晶パネルの製造方法は、第１基板と第２基板とをシール材で貼り合わせて液晶注入口を備えた液晶パネル用の空セルを形成する空セル形成工程と、真空注入法により前記液晶注入口から前記空セル内に誘電率異方性が負の液晶材料を注入して液晶パネルとする注入工程と、前記液晶パネルに通電した状態で前記液晶パネルに検査光を供給するとともに、当該液晶パネルからの出射光を検出する検査工程と、を有し、該検査工程での前記出射光の検出結果に基づいて前記空セル内への前記液晶材料の注入量を調整した状態で前記液晶注入口を封止材により塞ぐことを特徴とする。
【０００８】
本発明では、注入工程において、空セル内に液晶材料を注入した後、検査工程において、液晶パネルに検査光を供給するとともに、液晶パネルからの出射光を検出し、かかる出射光の検出結果に基づいてセル厚（空セル内への液晶材料の注入量）を調整した状態で液晶注入口を封止材により塞ぐ。ここで、液晶材料は、誘電率異方性が負であり、液晶パネルはノーマリーブラックモード用であるが、検査工程では、液晶パネルに通電した状態で液晶パネルに検査光を供給する。このため、液晶パネルからの出射光の検出結果に基づいて空セル内への液晶材料の注入量を監視できるので、セル厚（空セル内への液晶材料の注入量）を調整した状態で液晶注入口を封止材により塞ぐことができる。それ故、液晶層の層厚（セル厚）のばらつきを抑制することができる。
【０００９】
本発明において、前記検査工程での前記出射光の検出結果に基づいて前記液晶パネルから前記液晶材料の一部を排出して前記空セル内への前記液晶材料の注入量を調整する構成を採用することができる。
【００１０】
この場合、例えば、前記検査工程の後、当該検査工程での前記出射光の検出結果に基づいて前記液晶パネルから前記液晶材料の一部を排出して前記空セル内への前記液晶材料の注入量を調整する。かかる構成によれば、検査工程や液晶材料の一部を排出する工程を独立して行うことができるので、これらの工程で用いる装置の構成を簡素化することができる。
【００１１】
また、前記検査工程を行いながら、当該検査工程での前記出射光の検出結果に基づいて前記液晶パネルから前記液晶材料の一部を排出して前記空セル内への前記液晶材料の注入量を調整してもよい。かかる構成によれば、検査工程と、液晶材料の一部を排出する工程とを同時に行うことができるので、生産性を向上することができる。
【００１２】
本発明においては、前記注入工程を行いながら前記検査工程を行い、当該検査工程での前記出射光の検出結果に基づいて前記液晶材料の注入を停止し、前記空セル内への前記液晶材料の注入量を調整してもよい。かかる構成によれば、液晶材料の注入を停止するタイミングを制御するので、液晶材料の一部を排出して空セル内への液晶材料の注入量を調整する工程を必要としない。それ故、産性を向上することができる。
【００１３】
本発明においては、前記第１基板上に前記空セルを複数形成し、当該複数の空セルの各々に対して、前記注入工程および前記検査工程を行い、該検査工程での前記出射光の検出結果に基づいて前記複数の空セルへの前記液晶材料の注入量を調整して前記液晶注入口を前記封止材により塞ぐことが好ましい。かかる構成によれば、第１基板上に空セルを複数形成した場合でも、複数の空セルの各々に対する液晶材料の注入量を適正化することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の実施の形態１に係る液晶装置に用いた液晶パネルの説明図である。
【図２】本発明の実施の形態１に係る液晶パネルの製造工程を示す説明図である。
【図３】本発明の実施の形態１に係る液晶パネルの製造工程で用いる検査装置の構成を模式的に示す説明図である。
【図４】本発明の実施の形態１に係る液晶パネルの製造工程で用いる大型基板や空セル等の説明図である。
【図５】本発明の実施の形態１に係る液晶パネルの製造工程で行う液晶封入工程の説明図である。
【図６】本発明の実施の形態２に係る液晶パネルの製造工程を示す説明図である。
【図７】本発明の実施の形態２に係る液晶パネルの製造工程で用いる検査装置の説明図である。
【図８】本発明の実施の形態３に係る液晶パネルの製造工程を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。なお、以下の説明で参照する図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。
【００１６】
［実施の形態１］
（液晶装置の全体構成）
図１は、本発明の実施の形態１に係る液晶装置に用いた液晶パネルの説明図であり、図１（ａ）、（ｂ）は各々、液晶パネルを各構成要素と共に第２基板の側から見た平面図、およびそのＨ−Ｈ′断面図である。
【００１７】
図１（ａ）、（ｂ）に示すように、液晶装置１は、第１基板１０（素子基板）と第２基板２０（対向基板）とが所定の隙間を介してシール材１０７によって貼り合わされた液晶パネル３を有している。液晶パネル３において、シール材１０７は第２基板２０の外縁に沿うように枠状に設けられており、第１基板１０と第２基板２０との間においてシール材１０７により囲まれた領域内に液晶層５０が保持されている。シール材１０７は、光硬化性樹脂や熱硬化性樹脂等からなる接着剤であり、両基板間の距離を所定値とするためのグラスファイバー、あるいはガラスビーズ等のギャップ材が配合されている。シール材１０７は、途切れ部分からなる液晶注入口１０７ａを有しており、液晶注入口１０７ａは封止材１０６によって塞がれている。かかる構成の液晶パネル３は、後述するように、第１基板１０と第２基板２０とをシール材１０７で貼り合わせて液晶注入口１０７ａを備えた空セル３ｅを形成した後、液晶材料５０ａを注入し、しかる後に、液晶注入口１０７ａを封止材１０６によって塞ぐことにより製造される。
【００１８】
本形態において、第１基板１０および第２基板２０はいずれも四角形であり、第１基板１０は、Ｘ方向に延在するとともにＹ方向で互いに対向する２つの端部１０ａ、１０ｂと、Ｙ方向に延在するとともにＸ方向で互いに対向する２つの端部１０ｃ、１０ｄとを備えている。また、第２基板２０は、Ｘ方向に延在するとともにＹ方向で互いに対向する２つの端部２０ａ、２０ｂと、Ｙ方向に延在するとともにＸ方向で互いに対向する２つの端部２０ｃ、２０ｄとを備えている。液晶パネル３の略中央には、画素領域１ａ（画像表示領域）が四角形の領域として設けられている。かかる形状に対応して、シール材１０７も略四角形に設けられ、シール材１０７の内周縁と画素領域１ａの外周縁との間には、略四角形の周辺領域１ｂが額縁状に設けられている。第１基板１０の一方側の基板面において、画素領域１ａには、画素トランジスター（図示せず）や画素電極９ａがマトリクス状に形成されており、かかる画素電極９ａの上層側には配向膜１６が形成されている。また、第１基板１０の一方面側において、周辺領域１ｂには、画素電極９ａと同時形成されたダミー画素電極９ｂが形成されている。
【００１９】
第１基板１０は、第２基板２０の端部２０ａから一方側（Ｙ方向）に張り出した張出領域１０５を備えており、かかる張出領域１０５には、第１基板１０の一方側の端部１０ａに沿って複数の端子１０２が形成されている。張出領域１０５では、端子１０２が配列されている領域に対して端部１０ａが位置する側とは反対側にデータ線駆動回路１０１が形成されている。また、第１基板１０には、Ｘ方向で対向する端部１０ｃ、１０ｄに沿って走査線駆動回路１０４が形成されている。なお、端子１０２には、フレキシブル配線基板（図示せず）が接続されており、第１基板１０には、フレキシブル配線基板を介して各種電位や各種信号が入力される。
【００２０】
第２基板２０において第１基板１０と対向する一方面側には共通電極２１が形成されており、共通電極２１の上層には配向膜２６が形成されている。共通電極２１は、第２基板２０の略全面あるいは複数の帯状電極として複数の画素に跨って形成されている。本形態において、共通電極２１は第２基板２０の全面に形成されている。また、第２基板２０において第１基板１０と対向する一方面側には、共通電極２１の下層側に遮光層１０８が形成されている。本形態において、遮光層１０８は、画素領域１ａの外周縁に沿って延在する額縁状に形成されており、見切りとして機能する。ここで、遮光層１０８の外周縁は、シール材１０７の内周縁との間に隙間を隔てた位置にあり、遮光層１０８とシール材１０７とは重なっていない。なお、第２基板２０において、遮光層１０８は、隣り合う画素電極９ａにより挟まれた領域と重なる位置にブラックマトリクスとして形成されることもある。
【００２１】
このように構成した液晶パネル３において、第１基板１０には、シール材１０７より外側において第２基板２０の角部分と重なる位置に、第１基板１０と第２基板２０との間で電気的導通をとるための基板間導通用電極１０９が形成されている。かかる基板間導通用電極１０９には、導電粒子を含んだ基板間導通材１０９ａが配置されており、第２基板２０の共通電極２１は、基板間導通材１０９ａおよび基板間導通用電極１０９を介して、第１基板１０側に電気的に接続されている。
【００２２】
かかる構成の液晶装置１において、画素電極９ａおよび共通電極２１を透光性導電膜により形成すると、透過型の液晶装置を構成することができる。これに対して、共通電極２１を透光性導電膜により形成し、画素電極９ａを反射性電極として構成すると、反射型の液晶装置を構成することができる。液晶装置１は、モバイルコンピューター、携帯電話機等といった電子機器のカラー表示装置として用いることができ、この場合、第２基板２０には、カラーフィルター（図示せず）や保護膜が形成される。また、液晶装置１では、位相差フィルム、偏光板等が液晶パネル３に対して所定の向きに配置される。さらに、液晶装置１は、投射型表示装置（液晶プロジェクター）において、ＲＧＢ用のライトバルブとして用いることができる。この場合、ＲＧＢ用の各液晶装置１の各々には、ＲＧＢ色分解用のダイクロイックミラーを介して分解された各色の光が投射光として各々入射されることになるので、カラーフィルターは形成されない。
【００２３】
このように構成した液晶装置１において、液晶パネル３０では、液晶層５０に誘電率異方性が負の液晶材料５０ａが用いられており、液晶パネル３は、電圧がかかっていないときを遮光状態とするノーマリーブラックモードとして用いられる。
【００２４】
（液晶パネル３の製造方法の概要）
図２は、本発明の実施の形態１に係る液晶パネル３の製造工程を示す説明図である。
【００２５】
図１および図２に示すように、液晶パネル３を製造するには、まず、第１基板１０に対して画素電極９ａ等の形成工程Ｓ１を行った後、斜方蒸着法、印刷法、スピンコート法等により配向膜１６を形成する配向膜形成工程Ｓ２を行う。本形態において、配向膜１６は、斜方蒸着された無機配向膜が用いられている。一方、第２基板２０に対しては、共通電極２１等の形成工程Ｓ１１を行った後、斜方蒸着法、印刷法、スピンコート法等により配向膜２６を形成する配向膜形成工程Ｓ１２を行う。本形態において、配向膜２６は、斜方蒸着された無機配向膜が用いられている。
【００２６】
次に、空セル形成工程Ｓ２０では、第１基板１０と第２基板２０とをシール材１０７で貼り合わせて液晶注入口１０７ａを備えた液晶パネル３用の空セル３ｅを形成する。より具体的には、まず、第１基板１０に対してシール材１０７を塗布するシール印刷工程Ｓ２１を行う。かかるシール材１０７の塗布は、ノズルからシール材を突出しながら、ノズルと第１基板１０とを相対移動させて、シール材１０７を矩形枠状に描画する。次に、シール材１０７によって第１基板１０と第２基板２０とを貼り合わせる貼り合わせ工程Ｓ２５を行う。かかる貼り合わせ工程Ｓ２５では、まず、重ね合わせ工程Ｓ２２において、シール材１０７を間に挟んで第１基板１０と第２基板２０とを重ね合わせ、その後に、シール硬化工程Ｓ２３においてシール材１０７を硬化させ、空セル３ｅを構成する。かかるシール硬化工程Ｓ２３では、例えば、第２基板２０側からＵＶ光等を照射してシール材１０７を硬化させる。
【００２７】
次に、液晶封入工程Ｓ３０では、誘電率異方性が負の液晶材料５０ａを空セル３ｅ内に注入した後、液晶注入口１０７ａを封止材１０６で塞ぐ。かかる液晶封入工程Ｓ３０では、まず、液晶注入工程Ｓ３１において、真空注入法により、液晶注入口１０７ａから空セル３ｅ内に液晶材料５０ａを注入した後、封止工程Ｓ３４において、液晶注入口１０７ａに光硬化性樹脂からなる封止材１０６を塗布し、その後、封止材１０６を光硬化させて液晶注入口１０７ａを封止材１０６で塞ぐ。
【００２８】
本形態では、液晶封入工程Ｓ３０において、液晶注入工程Ｓ３１の後、後述する検査工程Ｓ３２および調整工程Ｓ３３を行い、空セル３ｅ内への液晶材料５０ａの注入量を調整した後、液晶注入口１０７ａを封止材１０６により塞ぐ。
【００２９】
本形態では、かかる工程までは、第１基板１０として、図４および図５を参照して後述する大型基板を用い、液晶封入工程Ｓ３０の後、切断工程Ｓ４０において、大型基板を単品サイズの第１基板１０に切断して、単品サイズの液晶パネル３を得る。
【００３０】
（検査装置の説明）
図３は、本発明の実施の形態１に係る液晶パネル３の製造工程で用いる検査装置の構成を模式的に示す説明図である。
【００３１】
図３に示す検査装置４０は、図２に示す検査工程Ｓ３２において、封止工程Ｓ３４を行う前の液晶パネル３のセル厚（第１基板１０と第２基板２０との隙間／液晶層５０の層厚）を検査するための装置である。検査装置４０は、検査光を出射する偏光照明装置４１を有しており、偏光照明装置４１は、白色光や単色光を出射する光源４２と、光源４２と液晶パネル３との間に配置された第１偏光板４３とを有している。かかる偏光照明装置４１からは、偏光光束からなる検査用照明光が出射される。なお、偏光照明装置４１は、第１偏光板４３に代えて、偏光変換素子（ポラライジングコンバーター（ＰＬＣ））を備えていても良い。また、検査装置４０は、光検出器４４と、光検出器４４と液晶パネル３との間に配置された第２偏光板４５とを有しており、第１偏光板４３と第２偏光板４５とは、互いの偏光軸が直交するクロスニコルに配置されている。なお、第２偏光板４５と液晶パネル３との間には１乃至複数枚の位相差板４６が配置されている。
【００３２】
また、検査装置４０は、液晶パネル３の端子１０２（図１参照）に接触させたプローブ４８を介して液晶パネル３の端子１０２（図１参照）に通電する通電装置４９を有しており、液晶パネル３は通電された状態で検査装置４０によって検査される。
【００３３】
光検出器４４は、例えばＣＣＤカメラであり、光検出器４４には、制御部４７が接続されている。制御部４７は、ＣＰＵ等の演算手段、ＲＯＭ、ＲＡＭ、ハードディスク等の記憶手段および入出力手段を備えている。光検出器４４は、入射した光に基づく画像を取得し、制御部４７へ画像信号を出力する。制御部４７は、光検出器４４から入力される画像信号に対する所定の処理を行って光検出器４４で受光された光の強度や色相値を算出する。色相値を用いる場合、光源４２からは白色光が出射される。また、色相値は、各色相が円環状に配列された色環において、各色相を０〜２５５に振り分けた値であり、かかる色相値は、例えば、光検出器４４で得られた赤色光の強度、緑色光の強度、および青色光の強度を用いて周知の演算を行うことにより算出される。
【００３４】
ここで、液晶層５０のリタデーションは、液晶層５０の屈折率異方性と液晶層５０の層厚（セル厚）との積で表わされる。このため、空セル３ｅへの液晶材料５０ａの注入量によって第１基板１０および第２基板２０が変形して液晶層５０の層厚が変わると、液晶パネル３のリタデーションが変化し、液晶パネル３から出射される光強度や光の分光特性（色相）が変化する。それ故、液晶層５０の層厚と、光検出器４４で受光される光強度や光の色相値との関係を予め把握しておき、それに対応する換算テーブルや、換算式を求めておけば、制御部４７においては、液晶パネル３のセル厚を導き出すことができる。その際、制御部４７は、光検出器４４で取得された画像を、例えば、複数の領域に分割し、分割された領域毎の光強度や色相値を算出する。かかる構成によれば、制御部４７は、液晶パネル３の複数個所毎のセル厚を導き出すことができ、空セル３ｅへの液晶材料５０ａの注入量を高い精度で検出することができる。このようにして得られた検出結果は、表示部４７０に表示することができるとともに、外部に出力することができる。
【００３５】
ここで、検査装置４０での検査結果に基づいて、空セル３ｅへの液晶材料５０ａの注入量を調整すれば、空セル３ｅへの液晶材料５０ａの注入量（セル厚）を調整することができる。例えば、空セル３ｅへの液晶材料５０ａの注入量を少なくとも最適量以上となるように、液晶注入工程Ｓ３１を行い、検査装置４０での検査結果に基づいて、空セル３ｅを押圧して液晶材料５０ａの一部を液晶パネル３から排出して注入量を調整すれば、空セル３ｅへの液晶材料５０ａの注入量（セル厚）を最適な値とすることができる。
【００３６】
（液晶パネル３の製造方法の詳細説明）
図４は、本発明の実施の形態１に係る液晶パネル３の製造工程で用いる大型基板や空セル等の説明図である。図５は、本発明の実施の形態１に係る液晶パネル３の製造工程で行う液晶封入工程の説明図である。
【００３７】
図２を参照して説明した工程により液晶パネル３を得るにあたって、本形態では、画素電極９ａ等の形成工程Ｓ１から液晶封入工程Ｓ３０までは、図４（ａ）に示すように、実線Ｌ１１で示す第１基板１０を多数取りできる大型基板１０ｘの状態で行う。本形態において、大型基板１０ｘはシリコンウェーハと同様、円板状であり、かかる大型基板１０ｘにおいて、複数の第１基板１０が切り出される領域（一点鎖線Ｌｙで囲んだ領域）が有効領域１０ｙであり、それ以外の領域は、図２に示す切断工程Ｓ４０で除去される無効領域１０ｚ（除材領域／一点鎖線Ｌｙで囲んだ領域の外側）である。
【００３８】
かかる大型基板１０ｘを用いて液晶パネル３を製造するには、図２を参照して説明した空セル形成工程Ｓ２０において、シール印刷工程Ｓ２１では、図４（ｂ）に示すように、大型基板１０ｘのうち、第１基板１０を切り出す複数の領域の各々にシール材１０７を枠状に印刷する。その際、シール材１０７に途切れ部分からなる液晶注入口１０７ａを形成する。次に、貼り合わせ工程Ｓ２５では、図４（ｃ）に示すように、大型基板１０ｘの第１基板１０として切り出される複数の領域の各々に対して第２基板２０を重ねた後、シール材１０７を硬化させる。本形態では、第２基板２０は単品サイズの大きさであり、大型基板１０ｘの第１基板１０として切り出される領域（有効領域１０ｙ）には、液晶注入口１０７ａを備えた複数の空セル３ｅが形成される。
【００３９】
次に、図２を参照して説明した液晶注入工程Ｓ３１では、図５（ａ）に示すように、真空注入法により、液晶注入口１０７ａから空セル３ｅ内に液晶材料５０ａを注入する。より具体的には、空セル３ｅが配置された雰囲気を真空状態から真空度を低下させた状態（常圧状態）に変化させて大型基板１０ｘ上に滴下された液晶材料５０ａの注入を開始する。より具体的には、空セル３ｅを真空雰囲気に配置し、この状態で大型基板１０ｘの空セル３ｅの近傍に液晶材料５０ａを滴下すると、液晶材料５０ａは第２基板２０の端部を伝って液晶注入口１０７ａに向けて流れる。従って、空セル３ｅが配置されている空間を常圧に戻すと、その差圧によって、液晶材料５０ａは液晶注入口１０７ａから空セル３ｅの内部に注入される。その際、空セル３ｅへの液晶材料５０ａの注入量を少なくとも最適量以上となるように、液晶注入工程Ｓ３１での真空度や液晶材料５０ａの温度等の条件を設定する。その際、所定のタイミングで液晶パネル３を押圧して液晶材料５０ａの注入を停止してもよい。また、液晶パネル３の外側に残る液晶材料５０ａを拭き取って液晶材料５０ａの注入を停止してもよい。
【００４０】
次に、図２に示す検査工程Ｓ３２では、図３および図５（ｂ）に示すように、液晶パネル３を検査装置４０に設置し、複数の液晶パネル３の各々のセル厚（空セル３ｅへの液晶材料５０ａの注入量）を検査する。
【００４１】
次に、図２に示す調整工程Ｓ３３では、検査工程Ｓ３２での検査結果に基づいて、複数の液晶パネル３のうち、液晶材料５０ａの注入量が多すぎると判定された液晶パネル３については、矢印で示すように、液晶材料５０ａの一部を液晶注入口１０７ａから排出した後、排出した液晶材料５０ａを拭き取る。例えば、液晶パネル３の第１基板１０（大型基板１０ｘ）または第２基板２０を押圧して液晶材料５０ａの一部を液晶注入口１０７ａから排出した後、排出した液晶材料５０ａを拭き取る。その際の排出量は、検査工程Ｓ３２での検査結果に基づいて、複数の液晶パネル３毎に最適な量とする。その結果、各液晶パネル３におけるセル厚が適正な値となる。
【００４２】
しかる後には、液晶注入口１０７ａを封止材１０６で塞ぎ、その後、図２を参照して説明した切断工程Ｓ４０において大型基板１０ｘの有効領域１０ｙを第１基板１０のサイズに切断し、複数の液晶パネル３を得る。
【００４３】
（本形態の主な効果）
以上説明したように、本形態では、液晶注入工程Ｓ３１において、空セル３ｅ内に液晶材料５０ａを注入した後、検査工程Ｓ３２において、液晶パネル３に検査光を供給するとともに、液晶パネル３からの出射光を検出して液晶材料５０ａの注入量を検査する。そして、調整工程Ｓ３３では、検査工程Ｓ３２での検査結果に基づいて、空セル３ｅ内への液晶材料５０ａの注入量を調整して液晶注入口１０７ａを封止材１０６で塞ぐ。ここで、液晶材料５０ａは、誘電率異方性が負であり、液晶パネル３はノーマリーブラックモード用であるが、検査工程Ｓ３２では、液晶パネル３に通電した状態で液晶パネル３に検査光を供給する。このため、出射光の検出結果に基づいて空セル３ｅ内への液晶材料５０ａの注入量を監視できるので、空セル３ｅ内への液晶材料５０ａの注入量を調整した状態で液晶注入口１０７ａを封止材１０６で塞ぐことができる。それ故、液晶層５０の層厚（セル厚）のばらつきを抑制することができる。
【００４４】
また、本形態では、検査工程Ｓ３２の後、調整工程Ｓ３３において、液晶パネル３から液晶材料５０ａの一部を排出して空セル３ｅ内への液晶材料５０ａの注入量を調整する。このため、検査工程Ｓ３２や調整工程Ｓ３３を独立して行うことができるので、これらの工程で用いる装置の構成を簡素化することができる。
【００４５】
［実施の形態２］
図６は、本発明の実施の形態２に係る液晶パネル３の製造工程を示す説明図である。図７は、本発明の実施の形態２に係る液晶パネル３の製造工程で用いる検査装置の説明図である。なお、本形態の基本的な構成は、実施の形態１と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの説明を省略する。
【００４６】
実施の形態１では、液晶注入工程Ｓ３１の後、検査工程Ｓ３２および調整工程Ｓ３３を行い、空セル３ｅ内への液晶材料５０ａの注入量を調整した後、液晶注入口１０７ａを封止材１０６で塞いだ。これに対して、本形態では、図６に示すように、検査工程Ｓ３２Ａにおいて、空セル３ｅ内への液晶材料５０ａの注入量（セル厚）を検査しながら、検出結果に基づいて液晶パネル３から液晶材料５０ａの一部を排出して空セル３ｅ内への液晶材料５０ａの注入量を調整する。
【００４７】
このため、本形態では、図７に示す検査装置４０Ａを用いる。かかる検査装置４０Ａは、空セル３ｅ内への液晶材料５０ａの注入量（セル厚）の検査工程と、液晶パネル３から液晶材料５０ａの一部を排出する調整工程とを行えるように構成されている。より具体的には、検査装置４０Ａは、透明なガラステーブル４０８を有しており、かかるガラステーブル４０８の上に、封止前の液晶パネル３が配置される。また、液晶パネル３の上方位置には、液晶パネル３毎に独立した透明な加圧治具４０９が配置されており、加圧治具４０９は、上部治具４０７によって保持されている。ここで、加圧治具４０９と上部治具４０７との間にはバネ（図示せず）が配置されており、加圧治具４０９は上方に付勢されている。また、加圧治具４０９と上部治具４０７との間は気密状態にある。
【００４８】
上部治具４０７の上方位置にはガラス板４０６が配置され、かかるガラス板４０６の上面に位相差板４６や第２偏光板４５が設置されている。また、第２偏光板４５に対して液晶パネル３とは反対側には光検出器４４が配置され、光検出器４４には制御部４７が設けられている。また、ガラステーブル４０８の下部には、第１偏光板４３を介して光源４２を備えたテーブル４０１が配置されている。さらに、検査装置４０Ａには、プローブ４８を介して液晶パネル３に通電する通電装置４９が設けられている。
【００４９】
ここで、上部治具４０７、ガラス板４０６および加圧治具４０９に囲まれた空間は、複数の加圧治具４０９毎に独立した圧力印加室４０５になっており、圧力印加室４０５に加圧ガスを供給することにより、加圧治具４０９を下方に向けて押圧可能である。その際、加圧ガスの圧力によって、複数の加圧治具４０９毎に下方への変位量を調整可能である。
【００５０】
かかる検査装置４０Ａでは、液晶パネル３に検査光を供給して液晶パネル３からの出射光を検出し、その検出結果に基づいて、液晶材料５０ａの注入量が多すぎる液晶パネル３においては、加圧治具４０９を下降させて、液晶パネル３を押圧し、液晶パネル３からの出射光を検出しながら、セル厚の検出値が適正な値になるまで液晶パネル３から液晶材料５０ａの一部を排出する。従って、空セル３ｅ内への液晶材料５０ａの注入量を調整することができるので、その後、封止工程Ｓ３２を行う。かかる方法によれば、検査工程Ｓ３２Ａにおいて、セル厚の検査と、液晶材料５０ａの注入量の調整とを同時に行うことができるので、セル厚の検査と液晶材料５０ａの注入量の調整とを別の装置で行う場合と比較して、生産性を向上することができる。
【００５１】
なお、図７に示す検査装置４０Ａにおいて、空セル３ｅ内への液晶材料５０ａの注入量（セル厚）を検査した後、検出結果に基づいて、液晶パネル３から液晶材料５０ａの一部を排出して空セル３ｅ内への液晶材料５０ａの注入量を調整してもよい。
【００５２】
［実施の形態３］
図８は、本発明の実施の形態３に係る液晶パネル３の製造工程を示す説明図である。なお、本形態の基本的な構成は、実施の形態１と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの説明を省略する。
【００５３】
実施の形態１では、液晶注入工程Ｓ３１の後、検査工程Ｓ３２および調整工程Ｓ３３を行い、実施の形態２では、液晶注入工程Ｓ３１の後、検査工程Ｓ３２Ａを行いながら空セル３ｅ内への液晶材料５０ａの注入量を調整した。これに対して、本形態では、図８に示すように、液晶注入工程Ｓ３１Ａを行いながら検査工程を行い、検査工程での検出結果に基づいて液晶材料５０ａの注入を停止することにより、空セル３ｅ内への液晶材料５０ａの注入量を調整する。
【００５４】
より具体的には、図５（ａ）に示すように、真空雰囲気中で、大型基板１０ｘの空セル３ｅの近傍に液晶材料５０ａを滴下した後、空セル３ｅを図７に示す検査装置４０Ａに配置する。次に、空セル３ｅが配置されている空間を常圧に戻し、その差圧によって、液晶材料５０ａを液晶注入口１０７ａから空セル３ｅの内部に注入する。その際、液晶パネル３に検査光を供給して液晶パネル３からの出射光に基づいて、セル厚を検査し、セル厚が適正な値になるタイミングに合わせて、加圧治具４０９を下降させて、液晶パネル３を押圧し、液晶材料５０ａの注入を停止する。かかる方法によれば、液晶材料５０ａの注入と、セル厚の検査と、液晶材料５０ａの注入量の調整とを同時に行うことができるので、セル厚の検査と液晶材料５０ａの注入量の調整とを別の装置で行う場合と比較して生産性を向上することができる。
【００５５】
［他の液晶装置］
上記実施の形態では、液晶パネル３として透過型の液晶パネル３を例示したが、反射型の液晶パネル３の製造方法に本発明を適用してもよい。その場合、検査装置４０、４０Ａでは、偏光ビームスプリッター等を用いて、液晶パネル３に対する検査光の光路と、液晶パネル３からの出射光の光路とを分離することになる。
【符号の説明】
【００５６】
１・・液晶装置、３・・液晶パネル、３ｅ・・空セル、９ａ・・画素電極、１０・・第１基板、１０ｘ・・大型基板、２０・・第２基板、２１・・共通電極、４０、４０Ａ・・検査装置、４２・・光源、４４・・光検出器、５０・・液晶層、５０ａ・・液晶材料、１０６・・封止材、１０７・・シール材、１０７ａ・・液晶注入口
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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