(57)【要約】【課題】高分子材料を含む薬液をフィルタにより濾過するにあたり、フィルタの通過により高分子が帯電することに起因する微小異物の生成を抑えること。【解決手段】ノズルに前記薬液を供給するための供給路に、フィルタ装置４を配置し、前記供給路におけるフィルタ装置４の下流側に除電ユニット６を設ける。高分子材料を構成する高分子がフィルタを通過する際、高分子同士又は高分子とフィルタとの摩擦により静電気が発生し、前記高分子が帯電する。この帯電した高分子を含む薬液は、フィルタの下流側において、接地された導電性の管状部材６１よりなる除電ユニット６を通過する。従って、帯電した高分子は導電性部材に接触しながら流れていくので、導電性部材との接触により高分子の持つ電荷が導電性部材に移動して除去される。これにより、帯電した高分子に起因する微小異物の生成が抑えられる。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板保持部に保持した基板に対して、高分子材料を含む薬液をノズルから供給して処理を行う液処理装置において、
前記ノズルに前記薬液を供給するための供給路と、
前記薬液中の微小異物を除去するために、前記供給路に配置されたフィルタと、
前記フィルタの通過により帯電した高分子を除電するために、前記供給路におけるフィルタの下流側に前記薬液と接触するように設けられると共に、接地された導電性部材と、を備えることを特徴とする液処理装置。
【請求項２】
前記導電性部材は炭素を主成分とするものであることを特徴とする請求項１記載の液処理装置。
【請求項３】
前記導電性部材は前記薬液の流路を構成する管状部材であることを特徴とする請求項１または２記載の液処理装置。
【請求項４】
前記導電性部材は前記供給路の内部に設けられていることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一つに記載の液処理装置。
【請求項５】
基板保持部に保持した基板に対して、高分子材料を含む薬液をノズルから供給して処理を行う液処理方法において、
前記ノズルに前記薬液を供給するための供給路に設けられたフィルタに前記薬液を通過させることにより、前記薬液中の微小異物を除去する工程と、
前記供給路におけるフィルタの下流側において、接地された導電性部材に前記薬液を接触させることにより、前記フィルタの通過により帯電した高分子を除電する工程と、を含むことを特徴とする液処理方法。
【請求項６】
前記導電性部材は炭素を主成分とするものであることを特徴とする請求項５記載の液処理方法。
【請求項７】
高分子材料を含む薬液を濾過するフィルタ装置において、
前記薬液から微小異物を除去するために、容器本体に設けられたフィルタと、
前記容器本体に設けられ、前記フィルタに前記薬液を供給するための供給口と、
前記容器本体に設けられ、フィルタを通過した前記薬液を容器本体から流出させるための流出口と、
フィルタの通過により帯電した高分子を除電するために、少なくとも一部がフィルタを通過した薬液と接触するように設けられ、接地された導電性部材と、を備えることを特徴とするフィルタ装置。
【請求項８】
前記容器本体の内部において、前記フィルタに薬液を供給するために設けられた第１の通流室と、
前記容器本体の内部において、前記第１の通流室とは区画して設けられ、前記フィルタの通過により微小異物が除去された薬液が通流する第２の通流室と、を備え、
前記供給口は前記第１の通流室に高分子材料を含む薬液を供給し、
前記流出口は前記第２の通流室からフィルタを通過した前記薬液を流出させ、
前記導電性部材は、少なくとも一部が前記第２の通流室内の薬液と接触するように設けられていることを特徴とする請求項７記載のフィルタ装置。
【請求項９】
前記導電性部材は炭素を主成分とするものであることを特徴とする請求項７又は８記載のフィルタ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レジスト液等の高分子材料を含む薬液を用いて基板に対して液処理を行う技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスやＬＣＤ基板等の基板の製造プロセスにおいては、基板に対してレジスト液を塗布し、露光及び現像処理を行うことによりレジストパターンが形成されている。一般に、半導体製造装置では、薬液の供給系にパーティクル（微小異物）を除去するためにフィルタが設けられている。このフィルタは、例えばポリエチレンやナイロン等の樹脂からなり、ポアサイズ（フィルタの孔部の大きさ）が例えば３ｎｍ〜１０ｎｍと極めて小さいものも用いられている。
【０００３】
一方、パターンサイズが微細になるに連れ、ブリッジ欠陥９２の問題が顕在化しつつある。このブリッジ欠陥とは、図１６に示すように、配線パターン９１，９１を跨ぐように形成される欠陥であり、図１６に示す例は、線幅５０ｎｍの配線パターン９１，９１を模式的に示している。ブリッジ欠陥の原因の一つは、レジスト液中に含まれる微小異物と考えられている。このため、フィルタの材質や濾過速度の適正化が検討され、一定の効果が上がっているが、今後パターンの微細化がより進むと、ブリッジ欠陥９２の発生について更なる抑制化を図る必要がある。
【０００４】
特許文献１には、処理液を除電するために、処理液の流路内や濾過手段に炭素電極よりなる導電性部材を設ける技術が記載されている。洗浄液やリンス液よりなる処理液が耐薬品性の流路内を通流したときに、処理液と流路との摩擦により静電気が発生して処理液が帯電する。この帯電量が大きくなると、処理液が放電して基板に損傷を与えてしまうことから、処理液の除電が行われている。濾過手段では、フィルタに接触するように炭素電極が挿入されて、処理液の除電が行われることが記載されている。
【０００５】
特許文献２には、洗浄液やリンス液等の供給路の一部を構成する流路形成部材に、導電性の接液棒を設ける技術が記載されている。また、特許文献３には、ポリマー除去液を通流させる配管の継ぎ手に導通手段を設ける技術が記載されている。さらに、特許文献４には、貯留槽又は配管の一部を石英により構成することにより、洗浄処理や酸化処理、レジスト剥離処理、ポリマー除去処理等に用いられる処理液を除電する技術が記載されている。
【０００６】
しかしながら、これら特許文献１〜４には、高分子材料を含む薬液が帯電するメカニズムや、ブリッジ欠陥の発生を抑えることについては何ら示唆されておらず、これら特許文献に基づいても本発明の課題を解決することはできない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００６−２６９６７７号公報（段落０００８，０００９，００６３，００８３、図４参照）
【特許文献２】特開２００８−２３５３０１号公報（段落０００４，００４３，００４４参照）
【特許文献３】特開２００３−２７８９７２号公報（段落００１５，００１６参照）
【特許文献４】特開２００７−２３４８１４号公報（段落００１５参照）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、このような事情の下になされたものであり、その目的は、高分子材料を含む薬液を用いた液処理装置において、フィルタの通過により高分子が帯電したことに起因する微小異物の生成を抑えて、良好な液処理を行うことができる技術を提供することにある。また、他の目的は、高分子材料を含む薬液を濾過するフィルタ装置において、高分子が帯電したことに起因する微小異物の生成を抑えることができるフィルタ装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
このため、本発明の液処理装置は、
基板保持部に保持した基板に対して、高分子材料を含む薬液をノズルから供給して処理を行う液処理装置において、
前記ノズルに前記薬液を供給するための供給路と、
前記薬液中の微小異物を除去するために、前記供給路に配置されたフィルタと、
前記フィルタの通過により帯電した高分子を除電するために、前記供給路におけるフィルタの下流側に前記薬液と接触するように設けられると共に、接地された導電性部材と、を備えることを特徴とする。
【００１０】
また、本発明の液処理方法は、
基板保持部に保持した基板に対して、高分子材料を含む薬液をノズルから供給して処理を行う液処理方法において、
前記ノズルに前記薬液を供給するための供給路に設けられたフィルタに前記薬液を通過させることにより、前記薬液中の微小異物を除去する工程と、
前記供給路におけるフィルタの下流側において、接地された導電性部材に前記薬液を接触させることにより、前記フィルタの通過により帯電した高分子を除電する工程と、を含むことを特徴とする。
【００１１】
さらに、本発明のフィルタ装置は、
高分子材料を含む薬液を濾過するフィルタ装置において、
前記薬液から微小異物を除去するために、容器本体に設けられたフィルタと、
前記容器本体に設けられ、前記フィルタに前記薬液を供給するための供給口と、
前記容器本体に設けられ、フィルタを通過した前記薬液を容器本体から流出させるための流出口と、
フィルタの通過により帯電した高分子を除電するために、少なくとも一部がフィルタを通過した薬液と接触するように設けられ、接地された導電性部材と、を備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
基板保持部に保持した基板に対して、高分子材料を含む薬液をノズルから供給するにあたり、薬液をノズルに供給する供給路に、薬液中の微小異物を除去するフィルタを配置すると共に、このフィルタの下流側に導電性部材を設ける。高分子材料を含む薬液がフィルタを通過する際、高分子同士又は高分子とフィルタとの摩擦により静電気が発生し、前記高分子が帯電する。この帯電した高分子を含む薬液は、フィルタの下流側において前記導電性部材に接触しながら流れていき、導電性部材との接触により、高分子の持つ電荷が導電性部材に移動して除去される。これにより、帯電した高分子に起因する微小異物の生成が抑えられ、良好な液処理を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明に係る液処理装置の一実施の形態を示す構成図である。
【図２】フィルタ装置の一例を示す縦断面図とフィルタの一例を示す斜視図である。
【図３】除電ユニットの一例を示す斜視図である。
【図４】塗布ユニットの一例を示す縦断面図である。
【図５】フィルタと除電ユニットと流路とを示す縦断面図である。
【図６】除電ユニットの作用を示す説明図である。
【図７】フィルタと流路とを示す縦断面図である。
【図８】除電ユニットの他の例を示す斜視図及び縦断面図である。
【図９】液処理装置の薬液供給系の他の例を示す構成図である。
【図１０】液処理装置の薬液供給系のさらに他の例を示す構成図である。
【図１１】フィルタ装置の他の例を示す縦断面図とフィルタの斜視図である。
【図１２】フィルタ装置のさらに他の例を示す縦断面図である。
【図１３】フィルタ装置のさらに他の例を示す縦断面図である。
【図１４】液処理装置の供給路を示す縦断面図である。
【図１５】実施例及び比較例のブリッジ欠陥数を示す特性図である。
【図１６】ブリッジ欠陥を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下に本発明に係る液処理装置の一実施の形態について、ウエハＷにレジスト液を塗布する液処理を行う場合を例にして説明する。図１はこの液処理装置の薬液供給系を示す配管構成図であり、図中２はレジスト液を貯留する薬液貯留部である。このレジスト液は高分子材料を含む薬液に相当する。前記薬液貯留部２は、加圧用ガスを導入するためのガス導入路２１により、バルブＶ１を介して加圧用ガスの供給源２２に接続されている。加圧用ガスとしては例えば窒素（Ｎ２）ガス等が用いられ、当該Ｎ２ガスを導入することにより、薬液貯留部２内の薬液が流出するように構成されている。
【００１５】
この薬液貯留部２の下流側には供給路１１を介して中間タンク３が接続されており、この中間タンク３の天井部３１にはベント用の補助流路３２が設けられている。前記補助流路３２には、液検知センサ３３及びバルブＶ２が設けられており、薬液１０が液検知センサ３３が設けられたレベルまで到達すると、当該センサ３３からの検出値に基づいてバルブＶ２が閉じられるように構成されている。これにより、中間タンク３内に薬液１０を供給する際に、薬液１０に溶解していた気体が発泡して発生した気体が補助流路３２を介して排気される。
【００１６】
中間タンク３の下流側には、ポンプＰ１を備えた供給路１２を介してフィルタ装置４が設けられている。このフィルタ装置４は、例えば図２（ａ）に示すように、容器本体４１の内部にパーティクル（微小異物）除去用のフィルタ４２を設けて構成されている。この例のフィルタ４２は、図２（ｂ）に示すように、例えば断面がリング状の筒状体よりなり、筒状体の内側と外側に夫々薬液の流路が構成されるように容器本体４１の内部に設けられている。フィルタ４２は、例えばポリエチレンやナイロン等の樹脂により構成され、その孔部４２ａ（図５参照）の大きさ（ポアサイズ）は、例えば３ｎｍ〜１０ｎｍに設定されている。  
前記フィルタ４２の内側の中空領域４３には、当該フィルタ４２の長さ方向（図２中Ｘ方向）に沿って伸びるように、第１の通流室５１と第２の通流室５２とが区画部材４４により形成されている。この第１の通流室５１はフィルタ４２へ供給される薬液１０が通流する流路であり、第２の通流室５２はフィルタ４２を通過した薬液が通流する流路である。この例では、環状の第１の通流室５１の内側に第２の通流室５２が形成されている。
【００１７】
このフィルタ装置４では、第１の通流室５１はフィルタ４２の一端側にて外方に屈曲するように構成されており、この通流室５１を形成するために、フィルタ４２の一端側には容器本体４１に接続される区画部材４５が設けられている。また、第２の通流室５２は、フィルタ４２の他端側を介してフィルタ４２の周りにＵ字状の流路を形成するように構成されている。このため、前記区画部材４４はフィルタ４２の他端側にて屈曲して、当該フィルタ４２の他端側と接続されている。  
この例においては、フィルタ４２の内面と外面には、夫々プレート４６，４７が設けられており、これらプレート４６，４７の夫々には、薬液の通流孔４６ａ，４７ａが多数穿設されている。これら容器本体４１、区画部材４４，４５、プレート４６，４７は、例えば薬液に対する耐性があり、金属を含まない材質例えばポリエチレンやポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）等の樹脂により構成される。
【００１８】
また、容器本体４１におけるフィルタ４２の一端側に対応する壁面４０には、前記第１の通流室５１に対応する領域に、前記供給路１２に接続される開口部５３が形成されている。さらに、第２の通流室５２に対応する領域には、フィルタ装置４の下流側に薬液を供給するための供給路１３に接続される開口部５４が形成される。さらにまた、第１の通流室５１に対応する領域には、ベント用の補助流路４８に接続される開口部５５が形成され、当該補助流路４８には例えば中間タンク３の補助流路３２と同様に液検知センサ４９とバルブＶ３とが設けられている。  
こうして、容器本体４１の内部には、第１の通流室５１から供給された薬液１０がフィルタ４２を通過して、フィルタ４２の外側の第２の通流室５２に通流していく。次いで、薬液１０はフィルタ４２の他端側を介して第１の通流室５１の内側の第２の通流室５２へ至り、前記供給路１３からフィルタ装置４の外部へ流出していく。
【００１９】
フィルタ装置４の下流側には、前記供給路１３を介して除電ユニット６が設けられている。この除電ユニット６は、例えば導電性部材より構成された管状体６１よりなり、薬液１０の流路の一部を構成すると共に、接地されている。導電性部材としては金属以外のものが用いられ、例えばカーボン繊維や、アモルファスカーボン又はグラファイト材料等の炭素を主成分とするものが用いられる。ここで、炭素を主成分とするとは、除電効果が見込める程度に炭素を含有することをいい、例えば炭素含有率が１０％以上のものをいう。また、金属以外の導電性部材を用いるのは、薬液１０へのメタルの混入を抑えることにより、ウエハＷのメタル汚染を防止するためである。  
除電ユニット６の管状部材６１の一例を挙げると、管状部材６１の内径は供給路の内径と同じ程度に構成され、例えば供給路及び管状部材６１の内径は５ｍｍ、通流方向の長さが３００ｍｍ〜６００ｍｍである。このような管状部材６１は、その上流端（供給路１３が接続された端部）とフィルタ装置４の流出口５４との距離が５ｍｍ〜１００ｍｍ程度の位置に配置される。
【００２０】
前記除電ユニット６の下流側には供給路１４を介して塗布ユニット７の塗布ノズル７５が接続されている。この塗布ユニット７の構成について図４を用いて説明すると、図中７１は、ウエハＷを略水平に保持するための基板保持部をなすスピンチャックであり、駆動機構７１ａにより回転自在及び昇降自在に構成されている。このスピンチャック７１に保持されたウエハＷの周縁部には、ウエハＷの側方及び裏面側周縁部を覆うように、ウエハＷから飛散するレジスト液等の薬液を回収するための液受けカップ７２が設けられている。この液受けカップ７２の下部側は液受け部７３として構成されており、その下面にはドレインや排気等を行うためのドレイン管７４ａや排気管７４ｂが接続されている。
【００２１】
また、塗布ユニット７には、スピンチャック７１に保持されたウエハＷに対してレジスト液を吐出するための塗布ノズル７５と、ウエハＷに対してレジスト液の溶剤であるシンナー液を吐出するための溶剤ノズル７６とが設けられている。これらノズル７５，７６は、例えばウエハＷのほぼ中心にレジスト液や溶剤を吐出する処理位置と、液受けカップ７２の外側の待機位置との間で移動自在、昇降自在に設けられている。前記塗布ノズル７５は、レジスト液の供給系に含まれる前記供給路１４に接続されており、溶剤ノズル７６は溶剤供給系７６ａに接続されている。
【００２２】
このような塗布ユニット７では、スピンチャック７１に保持されたウエハＷを回転させながら、このウエハＷの略中心に溶剤ノズル７６からレジスト液の溶剤であるシンナー液を吐出する。次いで、塗布ノズル７５からレジスト液を吐出することにより、ウエハＷの表面全体にレジスト液が塗布されるようになっている。  
前記液処理装置では、薬液１０が接触する構成部材、例えば薬液貯留部２、中間タンク３、供給路１１，１２，１３，１４や補助流路３２，４８を構成する配管は、例えば薬液に対する耐性があり、金属を含まない材質例えばポリエチレンやポリテトラフルオロエチレン等の樹脂により構成される。
【００２３】
また、前記液処理装置は制御部１００により制御されるように構成されており、この制御部１００は、例えばコンピュータからなるプログラム格納部を有しておいる。プログラム格納部には、後述するような当該液処理装置や塗布ユニット７の作用が実施されるように命令が組まれた、例えばソフトウェアからなるプログラムが格納される。そして、当該プログラムが制御部１００に読み出されることにより、当該制御部１００は前記作用を制御する。なお、このプログラムは、例えばハードディスク、コンパクトディスク、マグネットオプティカルディスクなどの記憶媒体に収納された状態でプログラム格納部に格納される。
【００２４】
続いて、当該実施の形態の作用について説明する。先ずバルブＶ１を開いてＮ２ガスを導入することにより薬液貯留部２から中間タンク３に薬液１０を供給し、薬液１０により中間タンク３を満たす。そして、ポンプＰ１を作動させて加圧することにより、薬液１０をフィルタ装置４に供給する。フィルタ装置４において、薬液１０は、既述のように第１の通流室５１からフィルタ４２を介して第２の通流室５２に流れていく。こうしてフィルタ４２の通過によりパーティクルが除去された薬液１０は第２の通流室５２を介して供給路１３に流出していく。
【００２５】
図５に、薬液１０の供給路に設けられたフィルタ４２及び除電ユニット６のイメージを示す。既述のようにフィルタ４２の孔部４２ａは３ｎｍ〜１０ｎｍ程度と小さく設定されている。薬液１０をなすレジスト液は高分子材料（高分子化合物）を構成する極めて微細な高分子（ポリマー分子）が溶媒中に分散又は溶解、あるいは一部が分散し、残りが溶解している状態の液体であり、ポリマー分子８１は孔部４２ａよりも小さいため、孔部４２ａを通過していく。一方、薬液１０に含まれるパーティクルは孔部４２ａを通過することができないため、薬液１０をフィルタ４２に通過させることにより、薬液中のパーティクルが除去される。
【００２６】
既述のように、フィルタ４２の孔部４２ａは極めて小さいため、前記薬液１０がフィルタ４２を通過する際、前記ポリマー分子８１がフィルタ４２の壁部４２ｂに衝突したり、ポリマー分子８１同士が接触する機会が多くなる。このようにポリマー分子８１が樹脂製のフィルタ４２の壁部４２ｂや他のポリマー分子８１に接触して摩擦されると、一方の物質から他方の物質に電荷（電子）が移動して電位差が生じ、静電気が発生する。ここで、フィルタ４２はポリエチレンより構成され、レジストを構成するポリマー分子は、ナイロンに近い構造を有している。両者は、摩擦帯電列上で離れているので、多くの電荷が移動しやすく、静電気がより発生しやすい状態にある。従って、フィルタ４２を通過したポリマー分子８１の中には正の電荷に帯電するものが存在し、さらに、正に帯電したポリマー分子８２の付近では、負に帯電するポリマー分子８３も現れる。
【００２７】
このように帯電したポリマー分子８２，８３を含む薬液１０は、除電ユニット６を構成する管状体６１の内部を通流していき、管状体６１の内壁と接触する。この管状体６１の内壁は導電性であり、接地されているため、帯電したポリマー分子８２，８３が当該内壁に接触すると、これらポリマー分子８２，８３から前記内壁に速やかに電子が移動していく（図６参照）。こうして正に帯電したポリマー分子８２は電子を受け取り、負に帯電した分子８３は電子を放出することにより、電子（電気）の除去が行われる。また、管状体６１は接地されているので、当該管状体６１に電荷が蓄積されることがない。このため、帯電していないポリマー分子８１が管状体６１に接触しても、管状体６１からポリマー分子８１側へ電子が移動するおそれはない。  
このようにして、除電されたポリマー分子８１を含む薬液１０は、供給路１４を介して下流側に流れていき、塗布ユニット７において、塗布ノズル７５を介してウエハＷ上に供給される。
【００２８】
一方、除電ユニット６を設けない場合には、図７に示すように、フィルタ４２の通過により正に帯電したポリマー分子８２の付近に、負に帯電したポリマー分子８３が現れる。そして、これらが静電引力により引き寄せあって凝集したり、ゲル化して、大きさが数十ｎｍ程度の凝集体８４となる。この凝集体８４を含む薬液１０は、供給路１４を下流側に向けて通流していき、塗布ノズル７５を介してウエハＷ上に供給されてしまうため、ウエハＷに微小異物となる凝集体８４が供給されることとなる。これにより、後の工程にて露光及び現像処理を行なうと、背景技術の欄にて記載したように、配線パターンを跨ぐブリッジ欠陥が形成されてしまう。
【００２９】
上述の実施の形態によれば、フィルタ４２の下流側に除電ユニット６を設けて、導電性部材と薬液１０とを接触させているので、薬液１０中に帯電したポリマー分子８２，８３が存在しても、当該ポリマー分子８２，８３の電荷が除去される。このため、帯電したポリマー分子８２，８３に起因する凝集体８４の生成が抑えられ、当該凝集体８４がウエハＷに供給されるおそれがないので、凝集体８４が原因となるブリッジ欠陥の形成が抑えられる。このように、微小異物の混入を抑えた状態で薬液１０をウエハＷに供給することができるので、良好な液処理を行うことができる。  
また、除電ユニット６は薬液１０の供給路に設けられており、薬液１０を通流させるという簡易な手法でポリマー分子の除電を行うことができる。従って、除電のために、複雑な機構や処理時間を確保する必要がなく、スループットの低下やコストの増大を抑えて除電を行い、この結果良好な液処理を行うことができる。  
以上において、除電ユニット６を管状体により構成する場合は、図３に示すように直管状に構成する場合の他、コイル状に構成して、スペース当たりの流路を長くとり、除電効率を高めるようにしてもよい。また、除電ユニット６は、図８（ａ）に示すように、細い管状の導電性の流路部材６２を複数個配列した集合体であってもよい。例えば流路部材６２の集合体は互いに電気的に接続されており、一つの流路部材６２を接地することにより、全ての流路部材６２が接地されるように構成される。
また、除電ユニット６は、図８（ｂ）に示すように、導電性部材により薄膜状のフィルタ６３を構成し、このフィルタ６３を複数枚積層した構造体により構成してもよい。これらフィルタ６３は、互いに接触するように設けられており、一枚のフィルタ６３を接地することにより、全てのフィルタ６３が接地される。
【００３０】
これら流路部材６２やフィルタ６３は、薬液１０の供給路１３を構成する配管内に配置するようにしてもよいし、図３に示す管状体６１の内部に収納するようにしてもよい。例えば流路部材６２を設ける構成では、当該流路部材６２の内部を薬液１０が通流するように配置される。薬液１０は流路部材６２の内面や外面に接触しながら流れていくため、導電性部材と薬液１０との接触面積が大きくなり、薬液１０中の帯電したポリマー分子の除電を速やかに行うことができる。またフィルタ６３を設ける構成では、フィルタ６３を薬液１０が通過していくようにフィルタ６３が配置される。導電性部材をフィルタ状に構成した場合も、導電性部材と薬液１０との接触面積が大きくなるので、薬液１０中の帯電したポリマー分子を効率よく除電することができる。
【００３１】
さらに、除電ユニット６は、図８（ｃ）に示すように、繊維状の導電性部材の集合体６４を備えるものであってもよい。この集合体６４は、供給路１３を構成する配管や管状体６１の内部に設けられる。この場合も導電性部材を繊維状としているため、薬液１０との接触面積を大きくとることができ、除電効率を高めることができる。
【００３２】
以上において、液処理装置の薬液供給系では図９に示すように、フィルタ装置４と除電ユニット６との間にポンプＰ１を設けるように構成してもよい。この場合には、フィルタ装置４ではポンプＰ１により吸引されることにより濾過が行われる。
また、液処理装置の薬液供給系を図１０に示すように構成してもよい。この構成が上述の図１に示す薬液供給系と異なる点は、除電ユニット６と塗布ノズル７５との間に、上流側から供給路１４、バッファタンク（第２の中間タンク）３Ａ、供給路１５及びポンプＰ２（第２のポンプ）を設けた点である。前記バッファタンク３Ａは、除電ユニット６により除電された薬液１０を貯留するためのものであり、薬液貯留部２の下流側に設けられた中間タンク３（第１の中間タンク）と同様に構成されている。また、後段側のポンプＰ２は、前段側のポンプＰ１（第１のポンプ）とは独立して駆動される。例えば前段側のポンプＰ１は薬液貯留部２からバッファタンク３Ａまでの薬液１０の送液に用いられ、後段側のポンプＰ２はバッファタンク３Ａから塗布ノズル７５までの薬液１０の送液に用いられる。
【００３３】
このような構成では、除電処理時の薬液１０の送液と、液処理時の薬液１０の送液とを別個のポンプＰ１，Ｐ２により夫々独立して行うことができるため、除電処理と液処理とを独立して行うことができる。これによって予め除電処理のみを行うことや、除電処理時の薬液１０の通流速度と、液処理時の薬液１０の通流速度とを変えて、夫々の処理時に適正な通流速度で薬液１０を通流させることができる。また、除電ユニット６での圧損が大きい場合であっても、液処理には影響を与えないため、液処理時にはほぼ同じ吐出量で薬液１０を供給することができ、安定した液処理を行うことができる。
【００３４】
続いて本発明の第２の実施の形態として、フィルタ装置に導電性部材を設ける構成について説明する。図１１（ａ）に示すフィルタ装置４Ａは、図２（ａ）に示すフィルタ装置４にて第２の通流室５２に導電性部材８１を設けた例である。前記導電性部材８１は、図１１（ｂ）に示すように、例えば筒状に構成され、例えば流出口５４を介して第２の通流室５２内に挿入される。この導電性部材８１は、図１１（ａ）に示すように、フィルタの長さ方向（図１１中Ｘ方向）に伸びる区画部材４４に沿って、当該区画部材４４と接触するように設けられる。但し、必ずしも区画部材４４と接触させる必要はない。
【００３５】
また、フィルタ装置は図１２に示すように構成してもよい。このフィルタ装置４Ｂは、第２の通流室５２と、当該第２の通流室５２に接続される供給路１３とに跨って導電性部材８３を設けた例である。前記導電性部材８３は、例えば筒状に構成され、例えば供給路１３を構成する配管に一端側が挿入され、他端側が前記流出口５４を介して前記第２の通流室５２内に挿入されるように設けられている。
図１１に示すフィルタ装置４Ａの導電性部材８１及び図１２に示すフィルタ装置４Ｂの導電性部材８３は、夫々例えば流出口５４に設けられたシート状の導電性材料８２、８４を介して接地されている。これにより、前記第２の通流室５２内の薬液１０と導電性部材８１，８３が接触し、フィルタ４２の通過により帯電したポリマー分子が除電される。
【００３６】
さらに、図１３に示すフィルタ装置８５は、容器本体８６の内部において、薬液の薬液供給用の開口部（供給口）８６ａ及び薬液流出用の開口部（流出口）８６ｂの一方を塞ぎ、他方を塞がない位置にフィルタ８７を設けたものである。この例では、供給口８６ａを塞ぎ、流出口８６ｂを塞がないようにフィルタ８７が設けられている。フィルタ８７は例えば薬液通流用の孔部８８ａが多数穿設されたケース体８８に収納されており、例えばこのケース体８８が導電性部材により構成されている。また、ケース体８８は例えば流出口８６ｂに設けられたシート状の導電性材料８９を介して接地されている。このようなフィルタ装置８５では、供給口８６ａを介してフィルタ８７に供給された薬液１０は、フィルタ８７を通過し、ケース体８８の孔部８８ａを介して容器本体８６に流れていく。フィルタ８７の通過により帯電したポリマー分子は、導電性であるケース体８８に接触することにより除電される。
【００３７】
この例では、開口部８６ａを流出口、開口部８６ｂを供給口に設定して、図１３に示すようにフィルタ８７を設けると共に、フィルタ８７と流出用の開口部８６ａとの間に、例えばプレート状の導電性部材（図示せず）を設けるように構成してもよい。このようなフィルタ装置では、供給用の開口部８６ｂを介して容器本体８６に導入された薬液１０は、ケース体８８の孔部８８ａを介してフィルタ８７に供給される。そして、フィルタ８７を通過した薬液１０は、図示しないプレート状の導電性部材に接触しながら、当該プレートに設けられた通流孔及び流出口８６ａを介して下流側に流れていく。このようにして、フィルタ８７の通過により帯電したポリマー分子が導電性部材に接触することにより除電される。
【００３８】
以上のように、フィルタ装置に導電性部材を設ける場合には、薬液をフィルタに通過させて薬液中のパーティクルを除去する際に、薬液に含まれるポリマー分子（高分子）が帯電することに起因する凝集体８４（微小異物）の生成を抑えることができる。また、導電性部材がフィルタに接触するか、フィルタの下流側直近に設けられているので、ポリマー分子が帯電したとしても、速やかに電荷を除去することができる。このため、ポリマー分子の帯電に起因した周囲のポリマー分子の帯電が抑えられ、ポリマー分子の凝集による凝集体８４の形成を抑制することができる。
【００３９】
以上において、本発明では薬液の供給路におけるフィルタの下流側に前記薬液と接触するように、接地された導電性部材を設ければよい。このため、例えば図１４（ａ）に示すように、薬液の供給路９を構成する配管９１ａの内部にフィルタ９０を設けると共に、配管９１（９１ｂ）の中におけるフィルタ９０の下流側に、導電性部材９２を設けるようにしてもよい。図１４（ａ）に示す例では、導電性部材９２の上流端は屈曲し、当該屈曲部９２ａがフィルタ９０の下流端の一部に接触するように設けられている。導電性部材９２は、例えば配管９１ａ，９１ｂの継ぎ目から外部に引き出されるように設けられたシート状の導電性材料９３を介して接地されている。また、導電性部材９２を設ける代わりに、フィルタ９０の下流側の配管９１ｂ（９１ｃ）自体を接地された導電性部材により構成するようにしてもよい。
【００４０】
さらにまた、図１４（ｂ）に示すように、例えば配管９１（９１ａ，９１ｂ）内において、パーティクル（微細異物）除去用のフィルタ９０の下流側に、導電性材料よりなる導電性フィルタ９４を設けるようにしてもよい。この導電性フィルタ９４は、例えば炭素を主成分とする導電性材料より形成された薄膜の集合体や、炭素を主成分とする導電性材料よりなる繊維の集合体等により構成される。図示の例では、導電性フィルタ９４は、パーティクル除去用のフィルタ９０と接触するように設けられているが、互いに離隔して設けるようにしてもよい。この導電性フィルタ９４は、例えば配管９１ａ，９１ｂの継ぎ目から外部に引き出されるように設けられたシート状の導電性材料９５を介して接地されている。
【００４１】
また、薬液を基板に吐出する塗布ノズルを導電性材料により構成したり、前記塗布ノズルの流路に導電性部材を設けるようにしてもよい。さらにまた、例えば導電性部材を備えたフィルタ装置を用いると共に、薬液の供給路に除電ユニットを設けるといったように、上述に記載した導電性部材を複数組み合わせて用いるようにしてもよい。
【００４２】
以上において、高分子材料を含む薬液とは、高分子材料を水や溶媒に分散又は溶解、あるいは一部が分散し、残りが溶解している状態の薬液をいい、高分子材料とはレジスト膜の成分、反射防止膜の成分、表面保護膜、有機シリコーン（ＳＯＧ／ＳＯＤ：Spin-on- Glass／Spin-on-Dielectric）及び塗布型エッチングマスク（ＳＯＨ：Spin-on-Hardmask）等の成分となる高分子化合物をいう。
【実施例】
【００４３】
（実施例１）
図１に示すレジスト液の供給系において、図３に示す除電ユニット６を用いて、液処理ユニット７においてウエハＷに対してレジスト液の塗布処理を行い、次いで線幅が５０ｎｍの配線パターンを形成するために露光及び現像処理を行った。こうしてパターンが形成された１０枚のウエハＷに対して、光学式及びＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）欠陥検査装置を用いてブリッジ欠陥の検査を行った。
【００４４】
フィルタ装置４に設けられたフィルタ４２はポリエチレン製とし、孔部４２ａの大きさが５ｎｍのものを用いた。また、除電ユニット６の管状部材６１はカーボン繊維により構成され、その内径が５ｍｍ、通流方向の長さが６００ｍｍのものを用いた。さらに、フィルタ装置４の流出口５４と除電ユニット６の管状部材の上流端との距離は５ｍｍとし、供給路１１，１２，１３，１４内の薬液の通流速度は０．２ｃｃ／ｓｅｃとした。  
また、比較例１として除電ユニット６を設けない場合についても同様にレジスト液の塗布処理を行い、ブリッジ欠陥の検査を行った。実施例１及び比較例１の結果を図１５に夫々示す。図１５は、ブリッジ欠陥数のばらつきの程度を箱ひげ図により示したものであるが、実施例１は比較例１に比べてブリッジ欠陥数が少なく、ばらつきの程度も小さいことが認められた。このことから、接地された導電性部材を設けることにより、ブリッジ欠陥の原因となる微小異物の形成が抑えられるものと推察される。この際、導電性部材の有無によっては、薬液中の高分子の帯電率が変化する。従って、導電性部材との接触により高分子の電荷が除去され、高分子同士の静電引力による凝集やゲル化による微小異物の生成が抑制され、結果として当該微小異物が原因となるブリッジ欠陥の形成が抑えられているものと推察される。
【符号の説明】
【００４５】
Ｗ          半導体ウエハ
２          薬液貯留部
３          中間タンク
４          フィルタ装置
４２        フィルタ
Ｐ１，Ｐ２  ポンプ
６          除電ユニット
６１        管状部材
７          塗布ユニット
７５        塗布ノズル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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