(57)【要約】【課題】被処理材料、及び被処理材料を収納する収納容器が、被処理材料の処理により発生する熱に基づく温度上昇によりダメージを受けることを防止できる遠心機を提供する。【解決手段】遠心機１は、公転軸線Ｌ１を中心に回転可能な公転体２０と、公転体２０に保持されて、自転軸線Ｌ２を中心に回転可能な自転体３０と、自転体３０と共に回転して、被処理材料Ｍを収納する収納容器５０と、公転体２０と自転体３０とを回転させる駆動部６０と、被処理材料Ｍの温度情報を検知する検知部７０と、検知部７０が検知した温度情報に基づき、被処理材料Ｍと収納容器５０との少なくとも一方の温度が上限値以上と判断した場合に、公転体２０が回転した状態にて、自転体３０の回転速度が低回転速度となるように駆動部６０を制御する第１制御部を備える。【選択図】図１
2013244475.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
公転軸線を中心に回転可能な公転体と、
前記公転体に保持されて、自転軸線を中心に回転可能な自転体と、
前記自転体と共に回転して、被処理材料を収納する収納容器と、
前記公転体と前記自転体とを回転させる駆動部と、
温度情報を検知する検知部と、
前記検知部が検知した温度情報に基づき、前記被処理材料と前記収納容器との少なくとも一方の温度が上限値以上と判断した場合に、前記公転体が回転した状態にて、前記自転体の回転速度が通常回転速度より低速な低回転速度となるように、又は、前記自転体の回転が停止するように、前記駆動部を制御する第１制御部と、
を備える遠心機。
【請求項２】
更に、前記第１制御部による制御により、前記検知部が検知した温度情報に基づき、前記被処理材料、及び前記収納容器の温度が下限値以下と判断した場合に、前記公転体、及び前記自転体の回転速度が通常回転速度となるように、前記駆動部を制御する第２制御部、
を備える請求項１の遠心機。
【請求項３】
前記第１制御部は、前記検知部が検知した温度情報に基づき、前記被処理材料と前記収納容器との少なくとも一方の温度が上限値以上と判断した場合に、前記公転体の回転速度が通常回転速度と異なる回転速度となるように前記駆動部を制御する請求項１又は２記載の遠心機。
【請求項４】
前記自転体は、前記公転体が前記公転軸線を中心に回転することにより、熱媒体をその中空部に流入させ、流出させる流入流出部が設けられた自転体本体を有し、
前記収納容器が前記自転体本体の中空部に配置され、
前記流入流出部は、前記公転体の回転方向の上流又は下流に対向可能な前記自転体本体の壁面に設けられる請求項１〜３の何れか記載の遠心機。
【請求項５】
更に、前記公転体の回転する領域を含む空間を区画する区画体と、
前記区画体内を満たす前記熱媒体の温度を氷点下以下とすることが可能な温調機と、
を備える請求項４記載の遠心機。
【請求項６】
更に、前記区画体の壁面から、当該区画体の中空部に向かって突出する凸状体を備える請求項５記載の遠心機。
【請求項７】
被処理材料を収納した収納容器を、公転軸線を中心に回転させつつ、自転軸線を中心に回転させる駆動部と、温度情報を検知する検知部とを備える遠心機に用いられる制御機構であって、
前記検知部が検知した温度情報に基づき、前記被処理材料と前記収納容器との少なくとも一方の温度が上限値以上と判断した場合に、前記公転軸線を中心とした回転が行われた状態にて、前記自転軸線を中心とした回転の回転速度が通常回転速度より低速な低回転速度となるように、又は、前記自転軸線を中心とした回転が停止するように、前記駆動部を制御する第１制御部
を備える制御機構。
【請求項８】
被処理材料を収納した収納容器を、公転軸線を中心に回転させつつ、自転軸線を中心に回転させる駆動部と、温度情報を検知する検知部とを備えて、前記被処理材料を処理する処理方法であって、
前記検知部が検知した温度情報に基づき、前記被処理材料と前記収納容器との少なくとも一方の温度が上限値以上と判断した場合に、前記公転軸線を中心とした回転が行われた状態にて、前記自転軸線を中心とした回転の回転速度が通常回転速度より低速な低回転速度となるように、又は、前記自転軸線を中心とした回転が停止するように、前記駆動部を制御する第１制御を行う処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被処理材料を公転させながら自転させることによって処理する遠心機、及び処理方法に関する。併せて、本発明は、遠心機に用いられる制御機構に関する。
【背景技術】
【０００２】
収納容器を公転させながら自転させることによって、当該収納容器に収納された被処理材料を処理する遠心機（自転公転式の遠心機）が知られている。この遠心機は、例えば特許文献１にあるように撹拌脱泡装置として利用され、被処理材料の撹拌処理と脱泡処理とを同時に行う。又、この遠心機は、被処理材料を粉砕するボールミル（特許文献２参照）、更には、被処理材料を乳化する乳化装置（特許文献３参照）等として利用される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第4084493号公報
【特許文献２】特開2002-143706号公報
【特許文献３】特開2010-194470号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ここで、遠心機においては、被処理材料、及び被処理材料を収納する収納容器が、被処理材料の処理により発生する熱に基づく温度上昇によりダメージを受ける場合がある。
【０００５】
本発明は、上記事情を鑑みなされたものであって、被処理材料、及び被処理材料を収納する収納容器が、被処理材料の処理により発生する熱に基づく温度上昇によりダメージを受けることを防止できる遠心機を提供することを目的とする。併せて、本発明は、遠心機に用いられる制御機構、及び被処理材料の処理方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一つの実施態様は、
公転軸線を中心に回転可能な公転体と、
前記公転体に保持されて、自転軸線を中心に回転可能な自転体と、
前記自転体と共に回転して、被処理材料を収納する収納容器と、
前記公転体と前記自転体とを回転させる駆動部と、
温度情報を検知する検知部と、
前記検知部が検知した温度情報に基づき、前記被処理材料と前記収納容器との少なくとも一方の温度が上限値以上と判断した場合に、前記公転体が回転した状態にて、前記自転体の回転速度が通常回転速度より低速な低回転速度となるように、又は、前記自転体の回転が停止するように、前記駆動部を制御する第１制御部と、
を備える遠心機を提供する。
【０００７】
この遠心機は、第１制御部により、被処理材料、及び被処理材料を収納する収納部材の温度の低下を促進させることができる。これにより、本遠心機は、被処理材料、及び被処理材料を収納する収納容器が、被処理材料の処理により発生する熱に基づく温度上昇によりダメージを受けることを防止できる。
【０００８】
この遠心機において、
更に、前記検知部が検知した温度情報に基づき、前記被処理材料、及び前記収納容器の温度が下限値以下と判断した場合に、前記公転体、及び前記自転体の回転速度が通常回転速度となるように、前記駆動部を制御する第２制御部を備えてもよい。
【０００９】
この遠心機において、
前記第１制御部は、前記検知部が検知した温度情報に基づき、前記被処理材料と前記収納容器との少なくとも一方の温度が上限値以上と判断した場合に、前記公転体の回転速度が通常回転速度と異なる回転速度となるように前記駆動部を制御するものであってもよい。
【００１０】
この遠心機において、
前記自転体は、前記公転体が前記公転軸線を中心に回転することにより、熱媒体をその中空部に流入させ、流出させる流入流出部が設けられた自転体本体を有し、
前記収納容器が前記自転体本体の中空部に配置され、
前記流入流出部は、前記公転体の回転方向の上流又は下流に対向可能な前記自転体本体の壁面に設けられてもよい。
【００１１】
この遠心機において、
更に、前記公転体の回転する領域を含む空間を区画する区画体と、
前記区画体内を満たす前記熱媒体の温度を氷点下以下とすることが可能な温調機と、
を備えてもよい。
【００１２】
この遠心機において、
更に、前記区画体の壁面から、当該区画体の中空部に向かって突出する凸状体を備えてもよい。
【００１３】
本発明の別の実施態様は、
被処理材料を収納した収納容器を、公転軸線を中心に回転させつつ、自転軸線を中心に回転させる駆動部と、温度情報を検知する検知部とを備える遠心機に用いられる制御機構であって、
前記検知部が検知した温度情報に基づき、前記被処理材料と前記収納容器との少なくとも一方の温度が上限値以上と判断した場合に、前記公転軸線を中心とした回転が行われた状態にて、前記自転軸線を中心とした回転の回転速度が通常回転速度より低速な低回転速度となるように、又は、前記自転軸線を中心とした回転が停止するように、前記駆動部を制御する第１制御部
を備える制御機構を提供する。
【００１４】
この制御機構は、第１制御部により、被処理材料、及び被処理材料を収納する収納部材の温度の低下を促進させることができる。これにより、本制御機構は、遠心機において、被処理材料、及び被処理材料を収納する収納容器が、被処理材料の処理により発生する熱に基づく温度上昇によりダメージを受けることを防止できる
【００１５】
本発明の別の実施態様は、
被処理材料を収納した収納容器を、公転軸線を中心に回転させつつ、自転軸線を中心に回転させる駆動部と、温度情報を検知する検知部とを備えて、前記被処理材料を処理する処理方法であって、
前記検知部が検知した温度情報に基づき、前記被処理材料と前記収納容器との少なくとも一方の温度が上限値以上と判断した場合に、前記公転軸線を中心とした回転が行われた状態にて、前記自転軸線を中心とした回転の回転速度が通常回転速度より低速な低回転速度となるように、又は、前記自転軸線を中心とした回転が停止するように、前記駆動部を制御する第１制御を行う処理方法を提供する。
【００１６】
この処理方法は、第１制御を行うことで、被処理材料、及び被処理材料を収納する収納部材の温度の低下を促進させることができる。これにより、本処理方法は、被処理材料、及び被処理材料を収納する収納容器が、被処理材料の処理により発生する熱に基づく温度上昇によりダメージを受けることを防止できる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、被処理材料、及び被処理材料を収納する収納容器が、被処理材料の処理により発生する熱に基づく温度上昇によりダメージを受けることを防止できる遠心機、遠心機に用いられる制御機構、及び被処理材料の処理方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本実施の形態に係る遠心機の概略断面図。
【図２】制御機構を説明するブロック図。
【図３】遠心機の動作を示すフローチャート。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、本発明を適用した実施の形態について図面を参照して説明する。ただし、本発明は以下の実施の形態に限定されるものではない。すなわち、以下の実施の形態で説明するすべての構成が本発明にとって必須であるとは限らない。又、本発明は、以下の内容を自由に組み合わせたもの、又、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で変更を加えたものを含む。
【００２０】
（１）遠心機１の構成
以下、本実施の形態に係る遠心機１の構成について、図面を参照して説明する。遠心機１は、図１に示すように、回転軸１０と、回転軸１０に固定された公転体２０と、公転体２０に取り付けられる自転体３０、及びバランス錘４０と、自転体３０と共に回転する収納容器５０と、公転体２０と自転体３０とを回転させる駆動部６０と、被処理材料Ｍの温度情報を検知する検知部７０と、公転体２０の回転する領域を含む空間を区画する区画体８０と、被処理材料Ｍを温調する温調機９０とを備える。更に遠心機１は、図２に示すように、当該遠心機１の動作を制御する制御機構１００を備える。
【００２１】
又、遠心機１は、図1に示すように、区画体８０等を支持する支持基板１１０、支持基板１１０を含む上記各構成を収納する筐体１２０を備える。更に、遠心機１は、支持基板１１０を支持して、その振動を防止するための、防振ワイヤや防振バネ等により構成される図示しない防振手段を備えてもよい。尚、遠心機１は、収納容器５０に収納した被処理材料Ｍを処理するものであり、より具体的には、収納容器５０を公転させながら自転させることによって、被処理材料Ｍを撹拌・脱泡、粉砕、乳化等するものである。
【００２２】
回転軸１０は、図１に示すように、仮想の直線である公転軸線Ｌ１を中心に回転するように構成される。尚、回転軸１０は、図示するように鉛直に伸びる公転軸線Ｌ１を中心に回転するように構成してよい。但し、回転軸１０は、これに限定されるものでなく、例えば、水平に伸びる公転軸線Ｌ１を中心に回転するように構成してもよい。
【００２３】
公転体２０は、図１に示すように、回転軸１０に固定されて回転軸１０と共に公転軸線Ｌ１を中心に回転する。この公転体２０は、公転軸線Ｌ１に対し直交する一方向に延びて途中で屈曲する自転体３０を取り付けるための第１アーム２２と、第１アーム２２と逆方向に延びてバランス錘４０を取り付けるための第２アーム２４とを備える。
【００２４】
自転体３０は、図１に示すように、有底形状で中空部３１を有し、上端側が開口した自転体本体３２と、自転体本体３２の底部に取り付けられた自転軸３４とを備える。又、自転体３０は、自転軸３４がベアリング３６を介して、公転体２０の第１アーム２２に、より具体的には、当該第１アーム２２の屈曲した部分を介して公転軸線Ｌ１から所定距離離れた位置に回転可能に取り付けられる。これにより、自転体３０は、公転体２０の回転に伴って、公転軸線Ｌ１を中心に公転することになる。併せて、自転体３０は、公転体２０を通る仮想の直線である自転軸線Ｌ２を中心に回転可能となる。
【００２５】
尚、自転体３０は、第１アーム２２の屈曲した部分を介して公転軸線Ｌ１から所定距離離れた位置に取り付けられることに基づき、その自転中心である自転軸線Ｌ２が公転軸線Ｌ１に対し所定の角度で斜めに交差する。この角度は限定されるものではないが、例えば、図示するように４５度としてよい。又、自転体３０は、第１アーム２２に屈曲した部分を設けないことによって、その自転中心である自転軸線Ｌ２が公転軸線Ｌ１に対し交差しないように構成してもよい。
【００２６】
自転体本体３２は、図１に示すように、中空部３１と当該自転体本体３２の外部とを連通し、自転体本体３２の外部を満たす熱媒体の中空部３１への流入流出口として利用される流入流出部３３を備える。尚、熱媒体は、空気、窒素ガス、ヘリウムガス等の気体であってよい。又、変形例として、熱媒体としては、オイル等の液体を使用することも想定される。
【００２７】
流入流出部３３は、公転体２０の回転方向の上流又は下流に対向可能な自転体本体３２の壁面に設けられる。即ち、本実施の形態において、流入流出部３３は、自転軸線Ｌ２に対し直交する方向に位置した自転体本体３２の壁面に設けられる。この流入流出部３３は、任意の個数設けられるように構成してよい。
【００２８】
バランス錘４０は、図１に示すように、公転体２０の第２アーム２４に、公転軸線Ｌ１からの距離が変更可能に取り付けられている。このバランス錘４０は、公転体２０のバランスを調整するものであり、公転軸線Ｌ１からの距離を適宜調整することにより、遠心機１を安定して動作させる。
【００２９】
収納容器５０は、図１に示すように、底部を有する円筒状に形成されて、被処理材料Ｍを収納可能な本体部５２と、本体部５２の開口した部分を封止する蓋部５４とを備える。
【００３０】
本体部５２は、樹脂、金属、ガラス、ジルコニア等の材質により構成される。この本体部５２は、自転体３０の自転体本体３２の中空部３１に、その底部側から挿入されることで、自転体本体３２に装着されて、自転体本体３２と共に公転軸線Ｌ１を中心に公転、かつ、自転軸線Ｌ２を中心に自転可能に構成される。又、本体部５２は、自転体本体３２への装着時、外周部から突出する凸部５３が自転体本体３２の上端と当接することで、図１に示すように、自転体本体３２の底部と離間した状態となる。又、本体部５２は、自転体本体３２への装着時、当該本体部５２の中心を通る仮想の直線である中心軸線が自転軸線Ｌ２と重なるように配置される。
【００３１】
尚、本体部５２には、より確実に自転体本体３２と共に回転できるように、自転体本体３２に対し固定するための図示しない公知の固定機構等を設けてもよい。又、変形例として、本体部５２は、自転体本体３２への装着時、当該本体部５２の前記中心軸線と自転軸線Ｌ２とが重ならないように配置してもよい。
【００３２】
蓋部５４は、本体部５２の開口した部分に取り付けられて、図１に示すように、中蓋５５と外蓋５７とを含み構成される。外蓋５７は、中蓋５５を本体部５２の開口した部分に取り付けた後に、例えば、本体部５２と螺合できるようにする図示しないねじ機構を利用して、本体部５２に取り付けられる。
【００３３】
駆動部６０は、公転体２０と自転体３０とを回転させることで、収納容器５０を、公転軸線Ｌ１を中心として公転させながら、自転軸線Ｌ２を中心として自転させるものであり、図１に示すように、モータ６１、プーリー６２、プーリー６３、ベルト６４、及び自転力付与機構６５を備える。モータ６１は、支持基板１１０に固定されており、その回転軸に固定されたプーリー６２、回転軸１０に固定されたプーリー６３、プーリー６２とプーリー６３とに掛け回されるベルト６４を利用して回転軸１０に回転力を付与して公転体２０を回転させることで、公転軸線Ｌ１を中心に収納容器５０を公転させる。
【００３４】
自転力付与機構６５は、自転体３０の自転軸３４に固定された自転歯車６６と、回転軸１０と同心になるように支持基板１１０に固定された自転力付与歯車６７と、自転歯車６６、及び自転力付与歯車６７間で動力を伝達する自転動力伝達歯車６８とを備える。自転動力伝達歯車６８は、公転体２０にベアリング６９を介して回転可能に取り付けられており、自転歯車６６と噛み合う第１歯車と、自転力付与歯車６７と噛み合う第２歯車とが固定されることで構成される。
【００３５】
上記構成を有することにより、自転力付与機構６５は、自転動力伝達歯車６８によって、自転歯車６６、及び自転力付与歯車６７の回転角速度が関連付けされるため、自転歯車６６、及び自転力付与歯車６７が遊星歯車機構と同様の挙動を示す。従って、自転力付与機構６５は、モータ６１により公転体２０が回転する回転速度に応じた回転速度にて自転歯車６６を回転させる。これにより、自転力付与機構６５は、自転軸線Ｌ２を中心として収納容器５０を自転させる。
【００３６】
検知部７０は、図１に示すように、収納容器５０に取り付けられて、収納容器５０に収納された被処理材料Ｍの温度情報を検知する。この検知部７０は、被処理材料Ｍに接触することでその温度情報を検知するものであってよく、図示するように、被処理材料Ｍと非接触にその温度情報を検知するものであってもよい。又、検知部７０は、検知した被処理材料Ｍの温度情報を、赤外線通信等の無線回線、及び必要に応じて設けられるインターフェースユニットを介し、図２に示すＣＰＵ１０２に送る。
【００３７】
区画体８０は、図１に示すように、有底形状で中空部８１を有し、上端側が開口したものであり、前記開口した部分を開閉可能に取り付けられる蓋部８２と、当該区画体８０の壁面から中空部８１に向かって突出した凸状体８４とを備える。区画体８０は、公転体２０の回転する領域を含む空間を区画するものであり、蓋部８２を開けることにより、自転体３０の自転体本体３２を露出させて、収納容器５０を自転体本体３２に着脱可能とする。又、区画体８０は、温調機９０により被処理材料Ｍが好適に温調できるように、熱伝導性の高い材料で構成される。
【００３８】
凸状体８４は、図１に示すように、公転軸線Ｌ１を中心とする円周と直交するように伸びる板状部材により構成されて、区画体８０の底面に沿って伸びて、当該底面と接する底面部８５と、区画体８０の側面に沿って伸びて、当該側面と接する側面部８６とにより構成される。
【００３９】
尚、凸状体８４は、任意の個数設けてよいが、例えば、等間隔に４個設けるように構成してよい。又、凸状体８４は、変形例として、区画体８０の底面に沿って伸びる底面部８５のみにより構成してよく、区画体８０の側面に沿って伸びる側面部８６のみにより構成してもよい。又、変形例として、凸状体８４は、公転軸線Ｌ１を中心とする円周と斜めに交差するように伸びる形状としてもよい。
【００４０】
温調機９０は、図１に示すように、水、オイル等の熱媒体（以下、「熱流体」という）の流路であって区画体８０の外周に巻かれたパイプ状の熱交換部９２と、熱流体の温度を調節する図示しない温調部と、当該温調部で温調された熱流体を熱交換部９２内に循環させる図示しないポンプとを備える。この温調機９０は、収納容器５０に収納された被処理材料Ｍを温調すべく、熱交換部９２内を流れる温調された熱流体と区画体８０との間で熱交換を行わせる。これにより、温調機９０は、区画体８０内を満たす前記熱媒体を温調し、当該熱媒体を介して収納容器５０と共に被処理材料Ｍを温調する。尚、温調機９０は、被処理材料Ｍの種類等に応じて、上記のごとく、熱交換部９２内に流す熱流体の温度を所定範囲で自在に前記温調部により調整可能である。但し、以下において、温調機９０は、被処理材料Ｍを冷却することを目的としたものであるとして説明を行う。
【００４１】
制御機構１００は、図２に示すように、マイクロプロセッサ（ＣＰＵ１０２）と、駆動部６０の動作を制御する駆動制御部１０４と、温調機９０の動作を制御する温調機制御部１０６とを備える。
【００４２】
ＣＰＵ１０２には、検知部７０、ユーザが遠心機１を操作する際に使用する操作部１０７、公転体２０の回転速度を検知する回転センサ１０８、及びユーザ向けに遠心機１の状態等を表示する表示部１０９が、有線又は無線回線、及び必要に応じた図示しないインターフェースユニットを介し接続される。このＣＰＵ１０２は、操作部１０７を介しユーザから入力された遠心機１の運転条件、検知部７０、及び回転センサ１０８からの情報等に基づき、駆動制御部１０４及び温調機制御部１０６に指示を出すと共に、ユーザ向けに遠心機１の状態を示す情報を表示部１０９に表示させる。尚、ＣＰＵ１０２は、図示しない記憶部を備えて、検知部７０による被処理材料Ｍの温度情報、あらかじめ設定される遠心機１の運転条件等を記憶するように構成してもよい。
【００４３】
駆動制御部１０４は、ＣＰＵ１０２からの指示に基づき、駆動部６０の動作を制御する。例えば、モータ６１としてインダクションモータを採用した場合において、駆動制御部１０４は、ＣＰＵ１０２から指示された公転体２０の回転速度を実現できるように、周波数を定めた交流電力をモータ６１に供給する。温調機制御部１０６は、ＣＰＵ１０２からの指示に基づき、温調機９０の前記温調部の設定温度と、前記ポンプの動作とを制御する。回転センサ１０８は、自転体３０の回転速度を検知するように構成してもよい。
【００４４】
（２）被処理材料Ｍ
本実施の形態に適用可能な被処理材料Ｍは、流体として挙動するものであればよく、その組成や用途は特に限定されるものではない。被処理材料Ｍとして、流体成分（樹脂等）のみを含む材料や、流体成分のほかに粒状成分（粉状成分）を含む材料などを適用することができる。被処理材料Ｍとして、例えば、接着剤、シーラント剤、液晶材料、ＬＥＤの蛍光体と樹脂とを含む混合材料、半田ペースト、歯科用印象材料、歯科用セメント（穴埋め剤等）、液状の薬剤等の種々の材料を適用することができる。又、被処理材料Ｍとして、粒状（粉状）材料と、これを粉砕するためのメディア（例えばジルコニアボール）を適用することも可能である。あるいは、被処理材料Ｍとして、乳化処理の対象となる流体を適用することも可能である。
【００４５】
（３）被処理材料Ｍの処理方法
遠心機１における被処理材料Ｍの処理方法について、図３を参照して説明する。Ｓ１において、自転体３０の自転体本体３２には、被処理材料Ｍが収納された収納容器５０がユーザにより装着される。
【００４６】
Ｓ２において、ユーザが操作部１０７を介して入力すること等により設定された運転条件に基づき、遠心機１の運転が開始される。即ち、ＣＰＵ１０２は、前記運転条件に基づく指示を駆動制御部１０４、及び温調機制御部１０６に対し行う。これにより、駆動制御部１０４は、ＣＰＵ１０２から指示された公転体２０の回転速度を実現するべく、駆動部６０のモータ６１を制御する。これにより、公転体２０、及び自転体３０は、被処理材料Ｍを処理するための通常の回転速度（以下、「通常回転速度」という）で回転する。従って、収納容器５０は、通常回転速度にて、公転軸線Ｌ１を中心に公転しつつ、自転軸線Ｌ２を中心に自転するので、被処理材料Ｍの処理が行われる。又、温調機制御部１０６は、ＣＰＵ１０２から指示に基づき、被処理材料Ｍを冷却すべく、前記温調部の設定温度と、前記ポンプの動作とを制御する。これにより、区画体８０内を満たす前記熱媒体が冷却されるので、被処理材料Ｍは、当該熱媒体により収納容器５０と共に冷却される。
【００４７】
ここで、遠心機１では、上記のように、温調機９０により被処理材料Ｍを収納容器５０と共に冷却している。しかし、収納容器５０が公転軸線Ｌ１を中心に公転しつつ、自転軸線Ｌ２を中心に自転することで被処理材料Ｍに働く力による発熱により、被処理材料Ｍ、及び収納容器５０の温度上昇が発生する場合がある。この際、被処理材料Ｍ、及び収納容器５０の温度が、それらの劣化を生じさせる温度、又は劣化を促進させる温度を超えないようにしなければならない。そのため、Ｓ３において、ＣＰＵ１０２は、検知部７０が検知した被処理材料Ｍの温度情報に基づき、被処理材料Ｍの温度、及び被処理材料Ｍと略同温度となる被処理材料Ｍと触れている部分の収納容器５０の温度が、それらを劣化させる温度、又は劣化を促進させる温度（以下、「上限値」という）以上となっているか否かを判断する。ＣＰＵ１０２は、被処理材料Ｍと収納容器５０との少なくとも一方の温度が上限値（この上限値は、安全性を考慮して、被処理材料Ｍや収納容器５０を劣化等させる温度より所定温度低い温度とすることも許容される。）以上となっていると判断した場合において（Ｓ３にてＹ）、処理はＳ４に進む。又、ＣＰＵ１０２が被処理材料Ｍ、及び収納容器５０の温度が上限値以下であると判断した場合において（Ｓ３にてＮ）、処理はＳ７に進む。
【００４８】
Ｓ４において、ＣＰＵ１０２が公転体２０の回転速度を低下させるべく、駆動制御部１０４に指示を出す。これにより、駆動制御部１０４は、ＣＰＵ１０２から指示された公転体２０の回転速度を実現するべく、駆動部６０のモータ６１を制御する。この制御により、公転体２０、及び自転体３０の回転速度は低下する。
【００４９】
ここで、遠心機１では、公転体２０、及び自転体３０が、通常回転速度より低速な回転速度（以下、「低回転速度」という）で回転することで、被処理材料Ｍ、及び収納容器５０の温度の低下を促進させることができる。これは、公転体２０、及び自転体３０が低回転速度で回転している場合には、公転体２０、及び自転体３０が通常回転速度で回転している場合に比べ、被処理材料Ｍに働く力が小さくなるので発熱も小さくなる（この際、被処理材料Ｍの処理は、停止又は低速化される。）。更に、公転体２０が低回転速度で回転することで、自転体３０の自転体本体３２の流入流出部３３から、温調機９０により温調された熱媒体が中空部３１に流入し、収納容器５０との間で熱交換を行った後、自転体本体３２から流出する。これにより、遠心機１では、単に公転体２０、及び自転体３０の回転を停止させた場合に比べ、被処理材料Ｍ、及び収納容器５０の温度の低下を促進させることができる。尚、Ｓ３とＳ４とのステップを合わせて、第１制御部と呼ぶ。
【００５０】
Ｓ５において、ＣＰＵ１０２は、検知部７０で検知した被処理材料Ｍの温度情報に基づき、被処理材料Ｍ、及び収納容器５０の温度が、十分に低下して下限値以下となっているか否かを判断する。この下限値とは、上限値より十分に低い値であり、再び公転体２０、及び自転体３０を通常回転数で回転させて被処理材料Ｍの処理を再開可能な温度である。ＣＰＵ１０２が被処理材料Ｍ、及び収納容器５０の温度が下限値以下であると判断した場合において（Ｓ５にてＹ）、処理はＳ６に進む。又、ＣＰＵ１０２が被処理材料Ｍ、及び収納容器５０の温度が下限値以上であると判断した場合において（Ｓ５にてＮ）、処理はＳ４に戻る。
【００５１】
Ｓ６において、遠心機１では、被処理材料Ｍの処理が再開される。即ち、ＣＰＵ１０２は、公転体２０が通常回転速度にて回転するように駆動制御部１０４に指示を出す。これにより、駆動制御部１０４は、ＣＰＵ１０２から指示された公転体２０の回転速度を実現するべく、駆動部６０のモータ６１を制御する。この制御により、公転体２０、及び自転体３０は通常回転速度にて回転する。尚、Ｓ５とＳ６とのステップを合わせて、第２制御部と呼ぶ。
【００５２】
Ｓ７において、ＣＰＵ１０２は、被処理材料Ｍの処理が終了したか否かを判断する。この判断は、例えば、遠心機１の運転条件に基づき行うとしてよい。ＣＰＵ１０２が被処理材料Ｍの処理が終了していると判断した場合において（Ｓ７にてＹ）、処理はＳ８に進む。又、ＣＰＵ１０２が被処理材料Ｍの処理が終了していないと判断した場合において（Ｓ７にてＮ）、処理はＳ３に戻る。
【００５３】
Ｓ８において、遠心機１は運転を終了する。即ち、ＣＰＵ１０２は、駆動制御部１０４、及び温調機制御部１０６に対し指示を行い、駆動部６０、及び温調機９０を停止させる。以上により、遠心機１における被処理材料Ｍの処理は完了する。
【００５４】
（４）作用効果
以下、本実施の形態における遠心機１が奏する作用効果について説明する。
【００５５】
遠心機１では、上記の第１制御部に係るステップが行われることで、被処理材料Ｍ、及び収納容器５０の温度の低下を促進させることができる。表１は、この効果を確認するために行った実験の結果を示すものである。即ち、同表は、遠心機１において、通常回転速度にて公転体２０、及び自転体３０を回転させることで、被処理材料Ｍ、及び収納容器５０の温度が上限値となった後に、第１制御部に係るステップを行った場合における被処理材料Ｍ、及び収納容器５０の温度の測定結果を示すものであり、温度が上限値に対して時間経過と共にどれだけ低下したかを示す。又、同表では、比較例として、被処理材料Ｍ、及び収納容器５０の温度が上限値となった後に、単に公転体２０、及び自転体３０の回転を停止させた場合おける同様の測定の結果も示している。
【００５６】
【表１】
2013244475.tif 000003
【００５７】
表１より明らかであるように、遠心機１では、第１制御部に係るステップにより、被処理材料Ｍ、及び収納容器５０の温度の低下を促進させることができる。そのため、遠心機１は、被処理材料Ｍ、及び収納容器５０が、被処理材料Ｍの処理により発生する熱に基づく温度上昇によりダメージを受けることを防止できる。
【００５８】
尚、被処理材料Ｍ、及び収納容器５０の温度の低下を促進させる別の方法としては、温調機９０の冷却能力を向上させることも考えられる。しかし、温調機９０の冷却能力を向上させることは、高コスト化、大型化等のデメリットがある。これに対し、遠心機１は、そのようなデメリットを生じさせることがない。
【００５９】
又、遠心機１では、上記のように、迅速に被処理材料Ｍ、及び収納容器５０の温度を低下させて、その後第２制御ステップに係るステップにより、被処理材料Ｍの処理を再開できるので、被処理材料Ｍの処理を短時間に行うことができる。更に、遠心機１では、第１制御部、及び第２制御部のステップが自動的に行われるので、ユーザにより高い利便性を供給することもできる。
【００６０】
又、遠心機１では、自転体３０の自転体本体３２に流入流出部３３が設けられている。そのため、遠心機１では、公転体２０が回転することで、区画体８０内を満たす熱媒体が流入流出部３３を介して自転体本体３２の中空部３１に流入し、収納容器５０と熱交換した後、再び流入流出部３３を介して自転体本体３２の外部に排出される。これにより、遠心機１では、効率よく被処理材料Ｍ、及び収納容器５０の温度を低下させることができる。この効果は、公転体２０、及び自転体３０を通常回転速度にて回転させた場合であっても、低回転速度にて回転させた場合であっても発揮される。
【００６１】
更に、遠心機１では、収納容器５０が自転体本体３２の底部と離間して配置されることにより、中空部３１に流入した熱媒体と収納容器５０との接触が広い面積にて行われるので、更に効率よく熱媒体と収納容器５０との熱交換を行うことができる。これにより、遠心機１では、更に効率よく被処理材料Ｍ、及び収納容器５０の温度を低下させることができる。
【００６２】
又、遠心機１では、第１制御部に係るステップにより、運転中、常に公転体２０、及び自転体３０の回転が行われている。そのため、温調機９０により区画体８０内の熱媒体が氷点下以下とされた場合であっても、ベアリング３６、ベアリング６９等の凍結を防止することができ、もって、それに起因した故障を防止することができる。
【００６３】
又、遠心機１では、凸状体８４が設けられることで、効率よく被処理材料Ｍ、及び収納容器５０の温度を低下させることができる。これは、区画体８０内を満たす前記熱媒体は、公転体２０の回転に伴って流動し、凸状体８４に衝突する。凸状体８４に衝突した熱媒体は、公転体２０の回転方向への移動が阻止されるため、凸状体８４に沿って区画体８０の内側（公転軸線Ｌ１）に向かって移動する。そして、公転軸線Ｌ１の近傍にまで移動してきた熱媒体は、公転体２０の回転に伴う流動を開始し、区画体８０の外周に向かう移動を開始する。又、区画体８０の外周近傍では、凸状体８４の近傍の圧力が低くなることから、当該凸状体８４に向かう熱媒体の流れが発生する。これらの現象が連続的に発生することで、区画体８０内の熱媒体の対流が発生する。これにより、遠心機１では、温調機９０が、区画体８０を満たす熱媒体を冷却した後、当該熱媒体により被処理材料Ｍ、及び収納容器５０の温度をより効率的に低下させることができる。この効果は、公転体２０を通常回転速度にて回転させた場合であっても、低回転速度にて回転させた場合であっても発揮される。
【００６４】
（５）変形例
尚、遠心機１は、公転体２０の回転速度と自転体３０の回転速度とを独立して制御できるように構成してもよい。例えば、遠心機１は、駆動部６０の自転力付与機構６５にかわって、モータ６１と異なる図示しないモータを備えるよう構成し、前記図示しないモータを用いて、自転体３０を回転させることで、公転体２０の回転速度と自転体３０の回転速度を独立して制御できる。
【００６５】
又、上記変形例において、遠心機１は、第１制御部のステップにおいて、公転体２０を任意の回転速度で回転させた状態にて、自転体３０を低回転速度で回転させ、又は、自転体３０の回転を停止させるように構成してもよい。このように構成することによっても、被処理材料Ｍに働く力を小さくして、発熱を小さくすることができる。又、この場合において、遠心機１は、公転体２０を通常回転速度、又は、通常回転速度より高速な高回転速度で回転させることも可能であるため、自転体３０の自転体本体３２の流入流出部３３から中空部３１に流入する熱媒体を多くして、より迅速に被処理材料Ｍの温度を低下させることができる。
【００６６】
又、遠心機１は、温調機９０による強制的な冷却が必要なく、自然冷却でよい場合には、温調機９０を設けなくてもよい。この場合においても、遠心機１は、第１制御部に係るステップを行うことで、被処理材料Ｍ、及び収納容器５０の温度の低下を促進させることができる。
【００６７】
又、遠心機１は、検知部７０により、収納容器５０（特に、被処理材料Ｍと触れる部分）の温度情報を検知するように構成してもよい。この場合において、遠心機１では、ＣＰＵ１０２が、検知部７０が検知した収納容器５０の温度情報に基づき、被処理材料Ｍと収納容器５０との少なくとも一方の温度が上限値以上になっているか否かの判断等を行う。更に、遠心機１は、検知部７０により、収納容器５０と被処理材料Ｍとの両方の温度情報を検知するように構成してもよい。
【符号の説明】
【００６８】
１…遠心機、  １０…回転軸、  ２０…公転体、  ２２…第１アーム、  ２４…第２アーム、  ３０…自転体、  ３１…中空部、  ３２…自転体本体、  ３３…流入流出部、  ３４…自転軸、  ３６…ベアリング、  ４０…バランス錘、  ５０…収納容器、  ５２…本体部、  ５３…凸部、  ５４…蓋部、  ５５…中蓋、  ５７…外蓋、  ６０…駆動部、  ６１…モータ、  ６２…プーリー、  ６３…プーリー、  ６４…ベルト、  ６５…自転力付与機構、  ６６…自転歯車、  ６７…自転力付与歯車、  ６８…自転動力伝達歯車、  ６９…ベアリング、  ７０…検知部、  ８０…区画体、  ８１…中空部、  ８２…蓋部、  ８４…凸状体、  ８５…底面部、  ８６…側面部、  ９０…温調機、  ９２…熱交換部、  １００…制御機構、  １０２…ＣＰＵ、  １０４…駆動制御部、  １０６…温調機制御部、  １０７…操作部、  １０８…回転センサ、  １０９…表示部、  １１０…支持基板、  １２０…筐体、  Ｌ１…公転軸線、  Ｌ２…自転軸線、Ｍ…被処理材料
【図１】
2013244475.tif 000004
【図２】
2013244475.tif 000005
【図３】
2013244475.tif 000006
【手続補正書】
【提出日】平成25年3月7日(2013.3.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
公転軸線を中心に回転可能な公転体と、
前記公転体に保持されて、自転軸線を中心に回転可能な自転体と、
前記自転体と共に回転して、被処理材料を収納する収納容器と、
前記公転体と前記自転体とを回転させる駆動部と、
温度情報を検知する検知部と、
前記検知部が検知した温度情報に基づき、前記被処理材料と前記収納容器との少なくとも一方の温度が上限値以上と判断した場合に、前記公転体が回転した状態にて、前記自転体の回転速度が通常回転速度より低速な低回転速度となるように、又は、前記自転体の回転が停止するように、前記駆動部を制御する第１制御を行う制御機構と、
を備える遠心機。
【請求項２】
前記制御機構は、前記第１制御後において、前記検知部が検知した温度情報に基づき、前記被処理材料、及び前記収納容器の温度が下限値以下と判断した場合に、前記公転体、及び前記自転体の回転速度が通常回転速度となるように、前記駆動部を制御する第２制御を行う請求項１の遠心機。
【請求項３】
前記制御機構は、前記第１制御において、前記検知部が検知した温度情報に基づき、前記被処理材料と前記収納容器との少なくとも一方の温度が上限値以上と判断した場合に、前記公転体の回転速度が通常回転速度と異なる回転速度となるように前記駆動部を制御する請求項１又は２記載の遠心機。
【請求項４】
前記自転体は、前記公転体が回転することにより、熱媒体をその中空部に流入させ、又、流出させる流入流出部が設けられた自転体本体を有し、
前記収納容器が前記自転体本体の中空部に配置され、
前記流入流出部は、前記公転体の回転方向の上流又は下流に対向可能な前記自転体本体の壁面に設けられる請求項１〜３の何れか記載の遠心機。
【請求項５】
更に、前記公転体の回転する領域を含む空間を区画する区画体と、
前記区画体内を満たす前記熱媒体の温度を氷点下以下とすることが可能な温調機と、
を備える請求項４記載の遠心機。
【請求項６】
更に、前記区画体の壁面から、当該区画体内に向かって突出する凸状体を備える請求項５記載の遠心機。
【請求項７】
被処理材料を収納した収納容器を、公転軸線を中心に回転させつつ、自転軸線を中心に回転させる駆動部と、温度情報を検知する検知部とを備える遠心機に用いられる制御機構であって、
前記検知部が検知した温度情報に基づき、前記被処理材料と前記収納容器との少なくとも一方の温度が上限値以上と判断した場合に、前記公転軸線を中心とした回転が行われた状態にて、前記自転軸線を中心とした回転の回転速度が通常回転速度より低速な低回転速度となるように、又は、前記自転軸線を中心とした回転が停止するように、前記駆動部を制御する第１制御を行う制御機構。
【請求項８】
被処理材料を収納した収納容器を、公転軸線を中心に回転させつつ、自転軸線を中心に回転させる駆動部と、温度情報を検知する検知部とを用いて、前記被処理材料を処理する処理方法であって、
前記検知部が検知した温度情報に基づき、前記被処理材料と前記収納容器との少なくとも一方の温度が上限値以上と判断した場合に、前記公転軸線を中心とした回転が行われた状態にて、前記自転軸線を中心とした回転の回転速度が通常回転速度より低速な低回転速度となるように、又は、前記自転軸線を中心とした回転が停止するように、前記駆動部を制御する第１制御を行う処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の一つの実施態様は、
公転軸線を中心に回転可能な公転体と、
前記公転体に保持されて、自転軸線を中心に回転可能な自転体と、
前記自転体と共に回転して、被処理材料を収納する収納容器と、
前記公転体と前記自転体とを回転させる駆動部と、
温度情報を検知する検知部と、
前記検知部が検知した温度情報に基づき、前記被処理材料と前記収納容器との少なくとも一方の温度が上限値以上と判断した場合に、前記公転体が回転した状態にて、前記自転体の回転速度が通常回転速度より低速な低回転速度となるように、又は、前記自転体の回転が停止するように、前記駆動部を制御する第１制御を行う制御機構と、
を備える遠心機を提供する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
この遠心機は、制御機構が行う第１制御により、被処理材料、及び被処理材料を収納する収納部材の温度の低下を促進させることができる。これにより、本遠心機は、被処理材料、及び被処理材料を収納する収納容器が、被処理材料の処理により発生する熱に基づく温度上昇によりダメージを受けることを防止できる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
この遠心機において、
前記制御機構は、前記第１制御後において、前記検知部が検知した温度情報に基づき、前記被処理材料、及び前記収納容器の温度が下限値以下と判断した場合に、前記公転体、及び前記自転体の回転速度が通常回転速度となるように、前記駆動部を制御する第２制御を行ってもよい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
この遠心機において、
前記制御機構は、前記第１制御において、前記検知部が検知した温度情報に基づき、前記被処理材料と前記収納容器との少なくとも一方の温度が上限値以上と判断した場合に、前記公転体の回転速度が通常回転速度と異なる回転速度となるように前記駆動部を制御するものであってもよい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
この遠心機において、
前記自転体は、前記公転体が回転することにより、熱媒体をその中空部に流入させ、又、流出させる流入流出部が設けられた自転体本体を有し、
前記収納容器が前記自転体本体の中空部に配置され、
前記流入流出部は、前記公転体の回転方向の上流又は下流に対向可能な前記自転体本体の壁面に設けられてもよい。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
この遠心機において、
更に、前記区画体の壁面から、当該区画体内に向かって突出する凸状体を備えてもよい。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明の別の実施態様は、
被処理材料を収納した収納容器を、公転軸線を中心に回転させつつ、自転軸線を中心に回転させる駆動部と、温度情報を検知する検知部とを備える遠心機に用いられる制御機構であって、
前記検知部が検知した温度情報に基づき、前記被処理材料と前記収納容器との少なくとも一方の温度が上限値以上と判断した場合に、前記公転軸線を中心とした回転が行われた状態にて、前記自転軸線を中心とした回転の回転速度が通常回転速度より低速な低回転速度となるように、又は、前記自転軸線を中心とした回転が停止するように、前記駆動部を制御する第１制御を行う制御機構を提供する。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
この制御機構は、第１制御により、被処理材料、及び被処理材料を収納する収納部材の温度の低下を促進させることができる。これにより、本制御機構は、遠心機において、被処理材料、及び被処理材料を収納する収納容器が、被処理材料の処理により発生する熱に基づく温度上昇によりダメージを受けることを防止できる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明の別の実施態様は、
被処理材料を収納した収納容器を、公転軸線を中心に回転させつつ、自転軸線を中心に回転させる駆動部と、温度情報を検知する検知部とを用いて、前記被処理材料を処理する処理方法であって、
前記検知部が検知した温度情報に基づき、前記被処理材料と前記収納容器との少なくとも一方の温度が上限値以上と判断した場合に、前記公転軸線を中心とした回転が行われた状態にて、前記自転軸線を中心とした回転の回転速度が通常回転速度より低速な低回転速度となるように、又は、前記自転軸線を中心とした回転が停止するように、前記駆動部を制御する第１制御を行う処理方法を提供する。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
ここで、遠心機１では、公転体２０、及び自転体３０が、通常回転速度より低速な回転速度（以下、「低回転速度」という）で回転することで、被処理材料Ｍ、及び収納容器５０の温度の低下を促進させることができる。これは、公転体２０、及び自転体３０が低回転速度で回転している場合には、公転体２０、及び自転体３０が通常回転速度で回転している場合に比べ、被処理材料Ｍに働く力が小さくなるので発熱も小さくなる（この際、被処理材料Ｍの処理は、停止又は低速化される。）。更に、公転体２０が低回転速度で回転することで、自転体３０の自転体本体３２の流入流出部３３から、温調機９０により温調された熱媒体が中空部３１に流入し、収納容器５０との間で熱交換を行った後、自転体本体３２から流出する。これにより、遠心機１では、単に公転体２０、及び自転体３０の回転を停止させた場合に比べ、被処理材料Ｍ、及び収納容器５０の温度の低下を促進させることができる。尚、Ｓ３とＳ４とのステップを合わせて、第１制御と呼ぶ。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
Ｓ６において、遠心機１では、被処理材料Ｍの処理が再開される。即ち、ＣＰＵ１０２は、公転体２０が通常回転速度にて回転するように駆動制御部１０４に指示を出す。これにより、駆動制御部１０４は、ＣＰＵ１０２から指示された公転体２０の回転速度を実現するべく、駆動部６０のモータ６１を制御する。この制御により、公転体２０、及び自転体３０は通常回転速度にて回転する。尚、Ｓ５とＳ６とのステップを合わせて、第２制御と呼ぶ。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
遠心機１では、上記の第１制御に係るステップが行われることで、被処理材料Ｍ、及び収納容器５０の温度の低下を促進させることができる。表１は、この効果を確認するために行った実験の結果を示すものである。即ち、同表は、遠心機１において、通常回転速度にて公転体２０、及び自転体３０を回転させることで、被処理材料Ｍ、及び収納容器５０の温度が上限値となった後に、第１制御に係るステップを行った場合における被処理材料Ｍ、及び収納容器５０の温度の測定結果を示すものであり、温度が上限値に対して時間経過と共にどれだけ低下したかを示す。又、同表では、比較例として、被処理材料Ｍ、及び収納容器５０の温度が上限値となった後に、単に公転体２０、及び自転体３０の回転を停止させた場合おける同様の測定の結果も示している。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
表１より明らかであるように、遠心機１では、第１制御に係るステップにより、被処理材料Ｍ、及び収納容器５０の温度の低下を促進させることができる。そのため、遠心機１は、被処理材料Ｍ、及び収納容器５０が、被処理材料Ｍの処理により発生する熱に基づく温度上昇によりダメージを受けることを防止できる。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
又、遠心機１では、上記のように、迅速に被処理材料Ｍ、及び収納容器５０の温度を低下させて、その後第２制御に係るステップにより、被処理材料Ｍの処理を再開できるので、被処理材料Ｍの処理を短時間に行うことができる。更に、遠心機１では、第１制御、及び第２制御のステップが自動的に行われるので、ユーザにより高い利便性を供給することもできる。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
又、遠心機１では、第１制御に係るステップにより、運転中、常に公転体２０、及び自転体３０の回転が行われている。そのため、温調機９０により区画体８０内の熱媒体が氷点下以下とされた場合であっても、ベアリング３６、ベアリング６９等の凍結を防止することができ、もって、それに起因した故障を防止することができる。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
又、上記変形例において、遠心機１は、第１制御のステップにおいて、公転体２０を任意の回転速度で回転させた状態にて、自転体３０を低回転速度で回転させ、又は、自転体３０の回転を停止させるように構成してもよい。このように構成することによっても、被処理材料Ｍに働く力を小さくして、発熱を小さくすることができる。又、この場合において、遠心機１は、公転体２０を通常回転速度、又は、通常回転速度より高速な高回転速度で回転させることも可能であるため、自転体３０の自転体本体３２の流入流出部３３から中空部３１に流入する熱媒体を多くして、より迅速に被処理材料Ｍの温度を低下させることができる。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
又、遠心機１は、温調機９０による強制的な冷却が必要なく、自然冷却でよい場合には、温調機９０を設けなくてもよい。この場合においても、遠心機１は、第１制御に係るステップを行うことで、被処理材料Ｍ、及び収納容器５０の温度の低下を促進させることができる。