(57)【要約】【課題】本発明は、フレキシブル性を維持させながら、耐屈曲性に優れた光導波路を提供することを目的とする。またフレキシブル性を維持させながら、耐屈曲性、難燃性に優れた光導波路およびその製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】クラッド部および少なくとも１つのコア部を有した未被覆光導波路の少なくともクラッド部上面部もしくは下面部の５０％以上が被覆層により覆われており、その被覆層は平行に光導波路内部に垂直移動させたとした場合に必ずコア部の全てが被覆層に含まれていることを特徴とする光導波路。【選択図】図１
2013167708.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
クラッド部および少なくとも１つのコア部を有した未被覆光導波路の少なくともクラッド部上面部もしくは下面部の５０％以上が被覆層により覆われており、その被覆層は平行に光導波路内部に垂直移動させたとした場合に必ずコア部の全てが被覆層に含まれていることを特徴とする光導波路。
【請求項２】
クラッド部および少なくとも１つのコア部を有した未被覆光導波路の全面が被覆層により覆われていることを特徴とする請求項１に記載の光導波路。
【請求項３】
前記被覆層の最小被覆層厚さ幅と最大被覆層厚さ幅が、１０μm以上３００μm以下であることを特徴とする請求項１〜２に記載の光導波路。
【請求項４】
前記被覆層の硬さが、ショアA測定方法で３０以上８０以下であることを特徴とする請求項１〜３に記載の光導波路。
【請求項５】
前記被覆層がゴム系樹脂であることを特徴とする請求項１〜４に記載の光導波路。
【請求項６】
前記ゴム系樹脂がシリコーン系であることを特徴とする請求項５に記載の光導波路。
【請求項７】
前記ゴム系樹脂が変性シリコーン系であることを特徴とする請求項５〜６に記載の光導波路。
【請求項８】
クラッド部およびコア部を有した未被覆光導波路表面に、被覆層を一定の厚さ幅に塗布する工程と、塗布した後に硬化させる工程を有することを特徴とする光導波路製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光信号の伝送媒体に用いられる、光導波路およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、配線基板間の高速・高密度信号伝送において、従来の電気配線による伝送では、信号の相互干渉や減衰が障壁となり、高速・高密度化の限界が見え始めている。これを解決するために、配線基板間を光で接続する光インタコネクションが検討されている。光の伝送路として加工の容易さ、低コスト、配線の自由度が高く、かつ高密度化が可能な点から近年、従来代表的であった石英系光導波路にかわり、ポリマー系光導波路が注目を集めている。特に携帯電話やノート型パソコンなど小型の電子機器は、省スペース、薄型化に対応するため、フレキシブル性のあるポリマーフィルムを用いた光導波路を用いて、光導波路を屈曲させて使うことが要求されている（特許文献１）。
この場合、光導波路設置作業時や、設置後に、設置周囲の冷却ファン等の風の影響により、急激な屈曲が発生して割れやクラックが生じることがあった。
【０００３】
加えて、さらなる省スペース、薄型、小型化に対応するため、ヒンジ部に光配線だけでなく電気配線も配置する場合がある。その場合光配線と電気配線とを組み合わせた光電気混載基板が望まれているが、光電気混載基板ではさらにその厚さが増大してしまうため、光導波路には、より一層の屈曲耐久性が求められるとともに、各種回路近くに配置されることが多くなるので、光導波路に難燃性を要求される場合があった。
【０００４】
光導波路の屈曲耐久性を向上させる方法としては、光導波路に保護フィルムを貼ることで、屈曲の支持体として使用する方法もあるが、フィルムの剛直性によりフレキシブル性を制約してしまい、またフィルムを精度良く剥れないように貼る必要があり、生産性に課題があった。
【０００５】
また、難燃性を付与するため引用文献２に記載のように、導波路自身をハロゲン化等で難燃化する方法がある。しかしこの場合、十分な屈曲性を実現することが困難であり、それ以外にも難燃剤の配合によって環境における問題や光導波路の伝送特性、信頼性が低下するなどの問題が起こる可能性があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１０−２８２０８８号公報
【特許文献２】特開２００３−１４９８０７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、以上のような問題点を鑑みて為されたものであり、フレキシブル性を維持させながら、耐屈曲性に優れた光導波路を提供することを目的とする。
またフレキシブル性を維持させながら、耐屈曲性、難燃性に優れた光導波路およびその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、クラッド部上面部を被覆層で覆い該被覆層の厚さと硬さを所定の値にすることで、耐屈曲性が向上することを見出し、本発明を完成した。
また、クラッド部上面部、下面部、側面部全てを被覆層で覆うことで耐屈曲性、難燃性に優れた光導波路が得られることを見出し、本発明を完成した。
【０００９】
（１）クラッド部および少なくとも１つのコア部を有した未被覆光導波路の少なくともクラッド部上面部もしくは下面部の５０％以上が被覆層により覆われており、その被覆層は平行に光導波路内部に垂直移動させたとした場合に必ずコア部の全てが被覆層に含まれていることを特徴とする光導波路。
（２）クラッド部および少なくとも１つのコア部を有した未被覆光導波路の全面が被覆層により覆われていることを特徴とする前記（１）に記載の光導波路。
（３）前記被覆層の最小被覆層厚さ幅と最大被覆層厚さ幅が、１０μm以上３００μm以下であることを特徴とする前記（１）〜（２）に記載の光導波路。
（４）前記被覆層の硬さが、ショアA測定方法で３０以上８０以下であることを特徴とする前記（１）〜（３）に記載の光導波路。
（５）前記被覆層がゴム系樹脂であることを特徴とする前記（１）〜（４）に記載の光導波路。
（６）前記ゴム系樹脂がシリコーン系であることを特徴とする前記（１）〜（５）に記載の光導波路。
（７）前記ゴム系樹脂が変性シリコーン系であることを特徴とする前記（１）〜（６）に記載の光導波路。
（８）クラッド部およびコア部を有した未被覆光導波路表面に、被覆層を一定の厚さ幅に塗布する工程と、塗布した後に硬化させる工程を有することを特徴とする光導波路製造方法。
【発明の効果】
【００１０】
クラッド部上面部を被覆層で被覆した本発明によれば、フレキシブル性を維持させながら、耐屈曲性に優れた光導波路を提供することができる。
またクラッド部上面部、下面部、側面部全てを被覆層で被覆した本発明によれば、フレキシブル性を維持させながら耐屈曲性、難燃性に優れた光導波路を提供することが出来る。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の光導波路の断面図であって、クラッド部上面部に被覆層を形成したもの、クラッド部上面部、下面部および側面部の全てに被覆層を形成したもの、である。
【図２】光導波路の断面図である。
【図３】光導波路の断面図である。
【図４】被覆層形状が異なる光導波路の断面図である。
【図５】被覆層形状が異なる光導波路の断面図である。
【図６】被覆層形状が異なる光導波路の断面図である。
【図７】被覆層形状が異なる光導波路の断面図である。
【図８】被覆層形状が異なる光導波路の断面図である。
【図９】本発明における凹凸構造を有した被覆層を有する光導波路製造方法の一例を示すフロー図（その１）である。
【図１０】本発明における凹凸構造を有した被覆層を有する光導波路製造方法の一例を示すフロー図（その２）である。
【図１１】本発明における凹凸構造を有した被覆層を有する光導波路製造方法の一例を示すフロー図（その３）である。
【図１２】本発明における凹凸構造を有した被覆層を有する光導波路製造に使用するアプリケーターの一例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下本発明の実施の形態を図面を参照して説明する。
図１〜図８は本発明の光導波路を示す断面図である。図１（１）は被覆層３０ｃでクラッド部上面部１ａを全て覆った光導波路１（１）の断面図である。未被覆光導波路ａは、光が通過するコア部１０ａおよびクラッド部２０ｂからなり、クラッド部上面部１ａには被覆層３０ｃが全面に構成される。図１（２）は被覆層３１ｃでクラッド部２１ｂ最外表面部（クラッド部上面部２ａ、クラッド部下面部２ｂ、クラッド部左側面部２ｃ、クラッド部右側面部２ｄ）を全て覆った光導波路１（２）の断面図である。
コア部に関しては配置に特に制限はなく、図２に示すように、クラッド部下面部３ｂもしくは図３に示すようにクラッド部上面部３ａに近くても構わない。コア部の数は１つ以上であればよく、上限は特に制限されない。
本発明における被覆層の形状は図１以外にも図４〜図８に示すように用途に応じて変えてよい。図４は、クラッド部上面部４ａの面積を１００％とした場合に、その面積の５０％以上を覆った被覆層３４ｃを有する光導波路４である。図５は片方の端部が他方の端部より厚い被覆層３５ｃを有する光導波路５であり、図６はテーパ形状になった被覆層３６ｃを有する光導波路６である。また、図７は凹になった被覆層３７ｃを有する光導波路７であり、図８は凸になった被覆層３８ｃを有する光導波路８である。
ただし、被覆層の配置に関しては、屈曲が要求されるクラッド部の面積の大きい箇所を上面部、下面部、小さい箇所を側面部とした場合、少なくともクラッド部上面部もしくは下面部の５０％以上が被覆層により覆われており、その被覆層は平行に光導波路内部に垂直移動させたとした場合に必ずコア部全てが被覆層に含まれていなければならない。
【００１３】
本発明を構成する被覆層の被覆形状作製方法は、上記形状を達成するものであれば特に限定されないが、例えば図９に示す方法によって行なわれる。
まず未被覆光導波路ｃに対してクラッド部上面部５ａ全域に被覆層材料５０ｄを塗布する（図９（ａ）参照）。この時、クラッド部塗布位置、塗布厚さ幅および塗布幅等は上記に限らず、用途に応じて適宜決定することができる。
続いて所望の幅にて用意したマスキングテープ６０ｅをこの被覆層材料５０ｄの上に設ける（図９（ｂ）参照）。この際、使用するマスキングテープの形状は、後工程で剥がし取ることを考慮した形状、例えば図９（ｃ）に図示されるように、被覆層材料５０ｄに対して部分的にはみ出させておく等させておくのが好ましい。
次に被覆層材料５０ｄおよびマスキングテープ６０ｅ表面上より、再び被覆層材料を塗布し、硬化させて被覆層３９ｃを形成する（図９（ｄ）参照）。
最後に、不要な部分のマスキングテープの除去であるが、例えば図９（ｅ）の先程部分的にはみ出させておいたマスキングテープ６０ｅを掴みながら、矢印の方向に持ち上げていくと、図９（ｆ）に示すように、マスキングテープ６０ｅの形状に沿って綺麗に被覆層３９ｃを剥がし取り、凹形状等を作製することができる（図９（ｆ）、図９（ｇ）参照）。被覆層材料として後述するシリコーンゴムまたは変性シリコーンゴム等を使用した場合、より綺麗に被覆層３９ｃを剥がし取ることができる。
被覆層の被覆形状作製方法は他にも、上記と同様に、未被覆光導波路ｃに対してクラッド部上面部５ａ全域に被覆層材料５０ｄを塗布し（図１０（ａ）参照）、所望の幅にて用意した離型フィルム７０ｆを有する第２の被覆層材料５１ｄを貼付けて硬化させ（図１０（ｂ）参照）、被覆層４０ｃを形成し（図１０（ｃ）参照）、最後に剥離フィルム７０ｆを剥がす方法でも凹形状等の形状を作製することができる（図１０（ｄ）参照）。
さらに、図１１（ａ）〜図１１（ｃ）に示すように、被覆層材料５０ｄの厚くしたい部分に被覆層材料５２ｄを直接重ね塗りして硬化させ、被覆層４１ｃとする方法や、図１２に示すようなアプリケーター８０ｇを用いて、注入口９０ｈより塗液を注入し、アプリケーター８０ｇをクラッド部の長手方向に対して相対的に移動させることで、アプリケーターヘッド（塗布溶液を射出する部位）の膜厚制御部１００ｉの任意の形状に従う被覆層形状とする塗工方法等も利用できる。
上述のような方法によって製造した光導波路を加熱または加圧、さらにはこれらを併用し膜厚変化部を平滑化することで、図１〜図８のような様々な被覆層形状にすることが可能となる。さらに光導波路上の被覆層の厚さ幅を任意に制御することも可能となる。
【００１４】
以下クラッド部の表面に被覆層を形成させる、光導波路の作製工程について説明する。ここで作製される光導波路は、その被覆形態により、耐屈曲性、難燃性に優れている。
【００１５】
（第１工程）
第１工程は、クラッド部上面部を全面、もしくは部分的にクラッド部長手方向にかけて被覆層材料を塗布する工程である。クラッド部上面部に被覆層材料を塗布する方法としては、種々の方法があるが、アプリケーターにより被覆層材料を滴下して塗布させていく方法が簡易的である。
（第２工程）
第２工程は、第１工程後にクラッド部上面部に被覆された被覆層材料に含まれる溶剤を乾燥させる工程である。この工程は被覆層材料に溶剤が含まれていない場合は行なう必要はない。例えば、被覆層材料として湿気硬化型のシリコーンゴムまたは変性シリコーンゴムを使用する場合は、溶剤を含ませないで第１工程を行なうことができるため、第２工程は不要である。
（第３工程）
第３工程は、第２工程後または第１工程後（湿気硬化型のシリコーンゴムまたは変性シリコーンゴムを使用した場合）に被覆層材料を硬化させ、被覆層を得る工程である。硬化方法は湿気硬化、ＵＶ硬化、加熱による硬化等種々の硬化方法を利用できるが、硬化時に反りや収縮等のひずみが起きにくい湿気硬化が好ましい。また、湿気硬化であれば、被覆層材料に溶剤を使用する必要がなくなるため、クラッド部の本来の性質を損なうことなく、被覆層を形成させることができ、好ましい。
（第４工程）
第４工程は、第３工程でクラッド部上面部に被覆された被覆層材料を硬化形成させた後でクラッド部の被覆されていないクラッド部下面部、側面部全てを全面、もしくは部分的にクラッド部長手方向にかけ、被覆層材料を塗布する工程である。第１工程と同様にして被覆層材料を塗布させた後、被覆層材料を硬化させていく方法が簡易的である。被覆されていないクラッド部下面部、側面部全てをクラッド部長手方向にかけて塗布する場合、クラッド部側面部への被覆層材料の塗布は、クラッド部下面部を塗布する時に被覆層材料が下面部から側面部に広がっていくことを利用するのが良い。
第４工程に関しては、光導波路の使用目的により、クラッド部に対する被覆が第１工程、第２工程および第３工程のみで良い場合には実施しなくても良い。
【００１６】
本発明の光導波路クラッド部およびコア部の形成材料としては、特に制限はないが、柔軟性、強靭性を有するとの観点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル類、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリフェニレンエーテル、ポリエーテルサルファイド、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、ＵＶアクリレート、ＵＶエポキシ樹脂、重水素化ポリメチルメタクリレート、液晶ポリマー、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、弗素化ポリイミド等のポリイミド類、アラミド、ポリシラン等が好適に挙げられる。この中でＵＶエポキシ樹脂は低収縮等の特性から従来より光導波路形成材料として広く使用されてきた材料であり好適である。またポリイミドは、耐熱性が高く、優れた可撓性や難燃性を有しているが、光導波路にはやわらかすぎて折れが発生しやすくなるという欠点がある。なお、クラッド部、コア部が別々の材料からなる構成であってもかまわない。コア寸法、クラッド寸法も任意に選択してよい。
【００１７】
前記被覆層は、光導波路のクラッド部最外表面部に位置し、クラッド部および少なくとも１つのコア部を有した未被覆光導波路において、屈曲が要求されるクラッド部の面積の大きい箇所を上面部、下面部、小さい箇所を側面部とした場合、少なくともクラッド部上面部もしくは下面部の面積１００％に対して５０％以上を覆う必要がある。
特に上面部もしくは下面部のみに被覆層を形成した場合には、屈曲したときに、光導波路の柔軟性に沿って追随して曲がり、伸縮による応力集中が少ない。他方難燃性を重視する場合、下面部や側面部にも同様に被覆層を配置しても良い。被覆層に使用される材料としては、ゴム系の樹脂、特にシリコーンゴムが対環境特性に優れ、耐熱、耐湿に影響が小さいため、適している。
【００１８】
前記シリコーンゴムは、シロキサン結合による主骨格を持つ高分子化合物であるが、各種有機基を導入してシリコーンの優れた特長に新たな機能を付加した変性シリコーンゴムも本発明に含まれる。変性シリコーンゴムは、電子製品の接点障害を引き起こすとされる低分子シロキサン量がほとんど無く、また環境性に優れているという特徴もある。
変性シリコーンゴムとしては、例えばポリシロキサンの側鎖に有機基を導入したものや、ポリシロキサンの両末端に有機基を導入したもの、ポリシロキサンの片末端に有機基を導入したもの、ポリシロキサンの側鎖と両末端の両方に有機基を導入したもの、有機ポリマーの片末端にオルガノポリシロキサンを導入したもの等がある。その他、シリコーンゴムに難燃性、耐熱性を付与させることにより、光導波路に機能性を持たせても良い。また硬化させる際には、硬化時に反りや収縮等のひずみの生じにくい室温で湿気により硬化する湿気硬化タイプの使用が好ましい。
【００１９】
前記被覆層の厚さ幅は最小被覆層厚さ幅と最大被覆層厚さ幅が１０μｍ以上３００μm以下であることが好ましい。例えば図５の被覆層３５ｃの場合、最小被覆層厚さ幅は１ｊ、最大被覆層厚さ幅は１ｋとなり、その厚さ幅が上記範囲内に入っていれば良いということになる。
被覆層厚さ幅が１０μmより薄いと柔らかすぎて補強としての機能は果たせず、屈曲に対して折れが生じやすくなる。一方、被覆層厚さ幅が３００μm超であると、厚すぎて光導波路の柔軟性が低下し、光損失の増大や割れが置きやすくなる。なお、途中で応力が集中しなければ、厚さ幅に勾配を付けてもかまわない。最小被覆層厚さ幅は、３０μｍであることがより好ましく、５０μｍであることがさらにより好ましい。最大被覆層厚さ幅は、２００μｍであることがより好ましく、１５０μｍであることがさらにより好ましい。また、これら最小被覆層厚さ幅および最大被覆層厚さ幅は、好ましい範囲、より好ましい範囲、さらに好ましい範囲を適宜組み合わせることができる。
【００２０】
同様に、前記被覆層の硬さは、測定物の表面に圧子を押し込み変形させ、その変形量（押込み深さ）を測定し、数値化するデュロメーター（スプリング式ゴム硬度計）を用いて測定するショアＡ測定方法で３０以上８０以下であることが好ましい。ショアＡで３０未満であると柔らかすぎて補強としての機能は果たせず、屈曲に対して折れが生じやすくなる。一方、８０超であると、硬すぎて光導波路の柔軟性が低下し、光損失の増大や割れが置きやすくなる。被覆層の硬さの下限値は、５０であることがより好ましい。被覆層の硬さの上限値は、７０であることがより好ましい。また、これら被覆層の硬さの下限値及び上限値は、好ましい範囲、より好ましい範囲を適宜組み合わせることができる。
【００２１】
この他にも光導波路の片端、あるいは両端には、フェルールやガイド等の接続部材を取り付けることができる。その際、被覆層は接続部材直近まで被覆されていることが好ましく、それにより、光導波路全体が均一に屈曲し折れが起きにくくなる。
【実施例】
【００２２】
以下、本発明を実施例を用いて説明するが、本発明は、これらの実施例によってなんら限定されるものではない。
なお、以下で述べる厚さ幅について、図１(1)における光導波路形状の場合、未被覆導波路ａのクラッド部厚さ幅は１ｅ、光導波路1（１）の被覆層上面部厚さ幅は１ｆとし、図２の光導波路形状の場合、未被覆導波路ｂのクラッド部厚さ幅は２ｅ、光導波路1（２）の被覆層厚さ幅は上面部２ｆ、下面部１ｇ、左側面部１ｈ、右側面部１ｉの箇所を示すこととする。
【００２３】
（実施例１）
実施例１では、被覆された光導波路（形状は図１の（１）において１（１））を以下のように作製した。
1つのコアを有するＵＶエポキシ樹脂を主成分とする未被覆光導波路（図１の（１）においてａ）を用意した（クラッド部上面部、下面部幅１０mm×長さ１００mm、クラッド部厚さ幅１ｅは５００μm）。
次に、未被覆光導波路をダイス状治具に通し、湿気硬化型のシリコーンゴム（信越シリコーン社製シリコーンゴム樹脂、商品名：「ＫＥ４０ＲＴＶ」、硬さ６０）をダイス状冶具に充填させてから未被覆光導波路を未被覆光導波路長さ方向に対して移動させ、クラッド部上面部を幅１０mm×長さ８０mm、被覆層上面部厚さ幅１ｆを５０μmで塗布した。塗布された光導波路を数時間風乾させて湿気硬化させてから、クラッド部上面部において、幅１０mm×長さ８０mm、被覆層上面部厚さ幅１ｆの５０μmよりはみ出た被覆層箇所をカッターで取り除き、クラッド部上面部が幅１０mm×長さ８０mm、被覆層上面部厚さ幅１ｆが５０μmの被覆層で覆われた図１（１）に示す光導波路１（１）を得た。
【００２４】
（実施例２）
実施例２では、被覆された光導波路（形状は図１の（２）において１（２））を以下のように作製した。
実施例１で作製した図１（１）に示す光導波路１（１）を再び実施例１とは形状の異なるダイス状冶具に通し、実施例１で使用した、同じシリコーンゴム材料をダイス状冶具に充填させて、図１（１）の光導波路１（１）のクラッド部下面部１ｂおよびクラッド部左側面部１ｃ、クラッド部右側面部１ｄなる箇所をクラッド部下面部幅１０mm×長さ８０mm、クラッド部左、右側面部幅０．５mm×長さ８０mm、被覆層厚さ幅は下面部１ｇ、左側面部１ｈ、右側面部１ｉ全て５０μmで塗布した。塗布された光導波路を数時間風乾させて湿気硬化させてから、クラッド部下面部幅１０mm×長さ８０mm、被覆層厚さ幅は下面部１ｇ、左側面部１ｈ、右側面部１ｉ全て５０μmよりはみ出た被覆層箇所をカッターで取り除き、クラッド部上面部、下面部が幅１０mm×長さ８０mm、被覆層厚さ幅が上面部２ｆ、下面部１ｇ、左側面部１ｈ、右側面部１ｉ全てが５０μmの被覆層で覆われた図１の（２）に示す光導波路１（２）を得た。
【００２５】
（比較例１）
実施例１のシリコーンゴムの被覆層厚さ幅を４００μmとする他は実施例１と同様に作製することで、光導波路を得た。
【００２６】
（比較例２）
実施例１のシリコーンゴムの被覆層厚さ幅を５μmとする他は実施例１と同様に作製することで、光導波路を得た。
【００２７】
（比較例３）
実施例１のシリコーンゴムの被覆層材料を湿気硬化型のシリコーンゴム（信越シリコーン社製シリコーンゴム樹脂、商品名：「KE４４１」、硬さ２０）とする他は実施例１と同様に作製することで、光導波路を得た。
【００２８】
（比較例４）
実施例１のシリコーンゴムの被覆層材料を湿気硬化型のシリコーンゴム（信越シリコーン社製シリコーンゴム樹脂、商品名：「KＥ３４９２」、硬さ８５）とする他は実施例１と同様に作製することで、光導波路を得た。
【００２９】
（比較例５）
実施例１で使用した未被覆光導波路を比較例５とした。
【００３０】
実施例１〜実施例２、比較例１〜比較例５で使用した光導波路および未被覆光導波路について、それぞれ屈曲耐性について評価した（屈曲耐性試験１回目とする）。
【００３１】
（屈曲耐性試験１回目）
基板上に置いた光導波路または未被覆光導波路の片端を接着剤で固定した後、直径４ｍｍの塩化ビニル製パイプの外周に沿わせながら光導波路または未被覆光導波路を凸状に曲げ、曲げ半径が２ｍｍになるように保持した状態で、光導波路または未被覆光導波路の他端も同様に接着剤で固定した。かつ、この設置作業中に外観変化が生じないか確認した。
光導波路または未被覆光導波路を接着剤で凸状に固定した設置作業後、塩化ビニルパイプを取り除き、凸状に曲げられ固定された光導波路または未被覆光導波路より１０ｃｍ程度離れた位置に小型ファンを設置し、風速を１０秒間隔で１ｍ／ｓと１０ｍ／ｓに交互に変動させながら、１００時間風を当て続けた。この間、設置作業時から１００時間風を当てた終了時までの光導波路または未被覆光導波路の外観変化を確認した。
以下上記評価結果を表１に示す。
【００３２】
【表１】
2013167708.tif 000003
以上の結果より、実施例１および実施例２は、設置作業時ならびに設置後１００時間経過しても折れが生じなかったのに対し、比較例１と比較例４では、設置作業後送風時に被覆層の硬さおよび厚さ幅の大きさの影響により、光導波路部に応力の負荷がかかり、加えて風の影響による断続的な負荷がかかることにより折れが生じた。比較例２と比較例３は光導波路被覆層が柔らかすぎるために設置作業後の送風により、一部が急激に曲がってしまい、折れが生じた。
比較例５は光導波路自体がやわらかすぎるために折れが生じた。
【００３３】
引き続き、実施例１および実施例２で使用した光導波路について、クラッド部上面部のみとクラッド部上面部、下面部、側面部全ての箇所の被覆における屈曲耐性の優位性に関して確認するため、評価条件を変更して屈曲耐性評価を実施した（屈曲耐性試験２回目とする）。
【００３４】
（屈曲耐性試験２回目）
基板上に置いた光導波路の片端を接着剤で固定した後、直径４ｍｍの塩化ビニル製パイプの外周に沿わせながら光導波路を凸状に曲げ、曲げ半径が２ｍｍになるように保持した状態で、光導波路の他端も同様に接着剤で固定した。かつ、この設置作業中に外観変化が生じないか確認した。
光導波路を接着剤で凸状に固定した設置作業後、塩化ビニルパイプを取り除き、凸状に曲げられ固定された光導波路より１０ｃｍ程度離れた位置に小型ファンを設置し、風速を１０秒間隔で１ｍ／ｓと１５ｍ／ｓに交互に変動させながら、１００時間風を当て続けた。この間、設置作業時から１００時間風を当てた終了時までの光導波路の外観変化を確認した。
以下上記評価結果を表２に示す。
【００３５】
【表２】
2013167708.tif 000004
以上の結果より、屈曲耐性試験１回目よりも風速変動を大きくしても、実施例１は、設置作業時ならびに設置後１００時間経過しても折れが生じなかったのに対し、実施例２は光導波路に対する被覆層の厚さ幅の影響から折れが生じた。
上記のように、実施例２では、屈曲耐性試験２回目において折れが発生が確認されたが、実施した風速１５ｍ／ｓは、ビューフォート風力階級表では風力階級７の強風レベルとなり、屈曲耐性試験１回目の時の風速１０ｍ／ｓである風力階級５の疾風レベルよりもかなり強い風速である。
実施例２は屈曲耐性試験１回目の結果より、最大風速１０ｍ／ｓにおける屈曲耐性は問題がなかったため、実使用レベルにおいてはなんら問題のない屈曲耐性を示すと言える。
以上の結果より、光導波路について、クラッド部のクラッド部上面部のみとクラッド部上面部、下面部、側面部全ての箇所の被覆における屈曲耐性の優位性に関して、どちらも実使用レベルとしては問題がなく、かつクラッド部上面部被覆のみの方がより優れた屈曲耐性を示すことが確認できた。
【００３６】
引き続き、実施例１〜実施例２、それから比較例１〜比較例５で使用した光導波路または未被覆光導波路について、燃焼性について評価した。
【００３７】
（燃焼性試験）
光導波路または未被覆光導波路の燃焼性試験は、ＵＬ９４規格に基づいて実施した。すなわち垂直に支持した短冊状の試験片の下端にバーナー炎をあてて１０秒間保ち、その後バーナーを試験片から離す。炎が３０秒以内に消えれば直ちにバーナー炎をさらに１０秒間あてた後にバーナーを離す。
難燃性の判定は、１回目と２回目の接炎終了後の有炎燃焼持続時間、２回目の接炎終了後有炎燃焼持続時間及び無炎燃焼持続時間の合計、５本の試験片の有炎燃焼時間の合計、並びに燃焼滴下物（ドリップ）の有無で判定した。
以下上記評価結果を表３に示す。
【００３８】
【表３】
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難燃性の評価においては、実施例２のみ、９４Ｖ−１相当の優れた難燃性を示した。この結果より、難燃性に関しては、クラッド部上面部、下面部、側面部全ての箇所に被覆層が設けられた光導波路が優れていることが確認できた。
【符号の説明】
【００３９】
１（１）、１（２）、２〜８  光導波路
９  未硬化光導波路
ａ〜ｃ  未被覆光導波路
１ａ〜５ａ  クラッド部上面部
１ｂ〜３ｂ  クラッド部下面部
１ｃ〜２ｃ  クラッド部左側面部
１ｄ〜２ｄ  クラッド部右側面部
１ｅ〜２ｅ  クラッド部厚さ幅
１ｆ〜２ｆ  被覆層上面部厚さ幅
１ｇ  被覆層下面部厚さ幅
１ｈ  被覆層左側面部厚さ幅
１ｉ  被覆層右側面部厚さ幅
１ｊ  最小被覆層厚さ幅
１ｋ  最大被覆層厚さ幅
１０ａ〜１９ａ  コア部
２０ｂ〜２９ｂ  クラッド部
３０ｃ〜４１ｃ  被覆層
５０ｄ〜５２ｄ  被覆層材料
６０ｅ  マスキングテープ
７０ｆ  離型フィルム
８０ｇ  アプリケーター
９０ｈ  注入口
１００ｉ  アプリケーターヘッド膜厚制御部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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