(57)【要約】【課題】入力操作に対する応答速度の低下や電極層の抵抗値の増大を防止するとともに、摺動音の発生を抑制することが可能な入力装置及びその製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】第１透明基材１０と、第１透明基材１０に対向して配置された第２透明基材２０と、第１透明基材１０に形成された第１電極層１１と、第２透明基材２０に形成された第２電極層２１と、を有し、第１電極層１１と第２電極層２１とが空間を設けて対向するように、第１透明基材１０と第２透明基材２０とが配置されており、第１電極層１１及び第２電極層２１の互いに対向する面どうしの静止摩擦係数が、以下の条件にて０．５以上、１．０以下であるように、第１電極層１１及び第２電極層２１が形成されていることを特徴とする。  ＜静止摩擦係数測定条件＞    荷重：０．７５ｋｇｆ    面積：０．００１ｍ２    引張り速度：０．００１ｍ／秒【選択図】図３
2013145437.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透光性の第１透明基材と、
前記第１透明基材に対向して配置された第２透明基材と、
前記第１透明基材に形成された第１電極層と、
前記第２透明基材に形成された第２電極層と、を有し、
前記第１電極層と前記第２電極層とが空間を設けて対向するように、前記第１透明基材と前記第２透明基材とが配置されており、
前記第１電極層及び前記第２電極層の互いに対向する面どうしの静止摩擦係数が、以下の条件にて０．５以上、１．０以下であるように、前記第１電極層及び前記第２電極層が形成されていることを特徴とする入力装置。
＜静止摩擦係数測定条件＞
荷重：０．７５ｋｇｆ
面積：０．００１ｍ２
引張り速度：０．００１ｍ／秒
【請求項２】
前記第１電極層及び前記第２電極層の、互いに対向する面の少なくとも一方は、ＵＶ照射されていることを特徴とする、請求項１に記載の入力装置。
【請求項３】
前記第１電極層及び前記第２電極層は、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）を有して構成されていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の入力装置。
【請求項４】
透光性の第１透明基材と、
前記第１透明基材に対向して配置された第２透明基材と、
前記第１透明基材に形成された第１電極層と、
前記第２透明基材に形成された第２電極層と、を有し、
前記第１電極層と前記第２電極層とが空間を設けて対向するように、前記第１透明基材と前記第２透明基材とが配置された、入力装置の製造方法であって、
前記第１電極層及び前記第２電極層の互いに対向する面どうしの静止摩擦係数が、以下の条件にて０．５以上、１．０以下になるように、前記互いに対向する面の少なくとも一方にＵＶ照射する工程を含むことを特徴とする、入力装置の製造方法。
＜静止摩擦係数測定条件＞
荷重：０．７５ｋｇｆ
面積：０．００１ｍ２
引張り速度：０．００１ｍ／秒
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、入力装置及びその製造方法に関し、特に、入力操作に対する応答速度の低下や電極層の抵抗値の増大を防止するとともに、摺動音の発生を抑制することが可能な入力装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、携帯用の電子機器などの表示部として、表示画像のメニュー項目やオブジェクトを視認しながら、指やスタイラスペンなどで操作して座標入力を行うための透光型入力装置が用いられている。このような入力装置として、様々な入力方式が提案されており、例えば特許文献１に開示されている抵抗膜式の入力装置が、多くの電子機器に用いられている。
【０００３】
従来の抵抗膜式の入力装置は、対向して配置された第１透明基材と第２透明基材を有して構成されている。そして、第１透明基材には第１電極層が形成され、第２透明基材には第２電極層が形成されており、第１電極層と第２電極層とが空間を設けて対向するように第１透明基材と第２透明基材が配置されている。
【０００４】
抵抗膜式の入力装置の入力操作において、操作者が入力領域を指やスタイラスペンで押圧操作すると、押圧箇所で第１電極層と第２電極層とが接触する。このときの抵抗値変化に基づいて入力位置座標が検出される。
【０００５】
従来の抵抗膜式の入力装置においては、押圧操作によって、第１電極層及び第２電極層にクラックや剥離が発生して耐久性が劣化するという課題が知られている。また、文字入力や携帯ゲーム機の入力操作等において摺動操作が行われると、電極層間の接触によって摺動音が発生する。この摺動音の有する周波数成分は操作者にとって耳障りな周波数域にあり、入力装置の快適な操作性が損なわれる。
【０００６】
図６には、特許文献１に記載されている入力装置１０１の模式断面図を示す。入力装置１０１においては、第１電極層１１１と第２電極層１２１との対向面の少なくとも一方にパーフルオロポリエーテル化合物１３０が塗布されている。これにより、第１電極層１１１及び第２電極層１２１のクラックや剥離を防止するとともに、摺動操作に伴う摺動音の発生を抑制している。
【０００７】
また、特許文献２には、電極層の表面にフッ素化合物を偏在させることにより、電極層のクラックや剥離を防止する方法が開示されている。
【０００８】
特許文献１及び特許文献２に記載の入力装置において、パーフルオロポリエーテル化合物１３０やフッ素化合物は、電極層間の摩擦係数を低減する潤滑剤層としての機能を有している。これにより、クラック、剥離の発生や、摺動操作に伴う摺動音の発生を抑制することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２０１１−１８６９８３号公報
【特許文献２】特開２０１０−１７７１０１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、電極層間の潤滑剤層としてパーフルオロポリエーテル化合物１３０やフッ素化合物が介在することにより、入力操作時の電極層どうしの接触において障害となり、電極層の表面抵抗値が増大するおそれがある。また、潤滑剤層として液体状の材料を用いる場合には電極層間のべたつきが発生するため、入力操作に対する応答速度が低下するという問題が生じる。これらの問題によって入力装置としての機能が損なわれる可能性もあり、さらなる改善が必要である。
【００１１】
本発明は、上記課題を解決して、入力操作に対する応答速度の低下や電極層の抵抗値の増大を防止するとともに、摺動音を抑制することが可能な入力装置及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の入力装置は、透光性の第１透明基材と、前記第１透明基材に対向して配置された第２透明基材と、前記第１透明基材に形成された第１電極層と、前記第２透明基材に形成された第２電極層と、を有し、前記第１電極層と前記第２電極層とが空間を設けて対向するように、前記第１透明基材と前記第２透明基材とが配置されており、前記第１電極層及び前記第２電極層の互いに対向する面どうしの静止摩擦係数が、以下の条件にて０．５以上、１．０以下であるように、前記第１電極層及び前記第２電極層が形成されていることを特徴とする。
＜静止摩擦係数測定条件＞
荷重：０．７５ｋｇｆ
面積：０．００１ｍ２
引張り速度：０．００１ｍ／秒
【００１３】
本発明によれば、第１電極層及び第２電極層の互いに対向する面どうしの静止摩擦係数を０．５以上とすることにより、摺動操作時における第１電極層と第２電極層とのスティックスリップを抑制して、摺動音の発生を抑制することができる。また、静止摩擦係数を１．０以下とすることにより第１電極層と第２電極層との接触による応力を抑えて、クラックや剥離の発生を防止できる。また、第１電極層及び第２電極層の互いに対向する面に摩擦係数を低減するための潤滑剤層等を設ける必要がないため、入力操作に対する応答速度の低下や電極層の抵抗値の増大を抑えることができる。
【００１４】
したがって、本発明の入力装置によれば、入力操作に対する応答速度の低下や電極層の抵抗値の増大を防止するとともに、摺動音の発生を抑制することが可能となる。
【００１５】
本発明の入力装置において、前記第１電極層及び前記第２電極層の、互いに対向する面の少なくとも一方は、ＵＶ照射されていることが好適である。これによれば、前記第１電極層及び前記第２電極層の少なくとも一方の表面に付着した有機物が除去されることにより、電極層どうしが密着し易くなり、静止摩擦係数が向上する。また、ＵＶ光の積算光量を制御することによって、第１電極層と第２電極層との静止摩擦係数を０．５以上、１．０以下に容易に制御することができる。
【００１６】
本発明の入力装置において、前記第１電極層及び第２電極層は、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）を有して構成されていることが好ましい。これによれば、抵抗値が低く、かつ、耐環境性が良好な第１電極層及び第２電極層を得ることができる。したがって、繰り返しの入力操作や耐環境性試験等において、電極層の抵抗値の変化が抑制される。
【００１７】
本発明の入力装置の製造方法は、透光性の第１透明基材と、前記第１透明基材に対向して配置された第２透明基材と、前記第１透明基材に形成された第１電極層と、前記第２透明基材に形成された第２電極層と、を有し、前記第１電極層と前記第２電極層とが空間を設けて対向するように、前記第１透明基材と前記第２透明基材とが配置された入力装置の製造方法であって、前記第１電極層及び前記第２電極層の互いに対向する面どうしの静止摩擦係数が、以下の条件にて０．５以上、１．０以下になるように、前記互いに対向する面の少なくとも一方にＵＶ照射する工程を含むことを特徴とする。
＜静止摩擦係数測定条件＞
荷重：０．７５ｋｇｆ
面積：０．００１ｍ２
引張り速度：０．００１ｍ／秒
【００１８】
本発明によれば、第１電極層第及び２電極層の互いに対向する面の、少なくとも一方にＵＶ照射することにより、静止摩擦係数を０．５以上とする。これにより、摺動操作時における第１電極層と第２電極層とのスティックスリップを抑制して、摺動音の発生を抑制することができる。また、静止摩擦係数を１．０以下とすることにより第１電極層と第２電極層との接触による応力を抑えてクラックや剥離の発生を防止できる。また、第１電極層と第２電極層との互いに対向する面に潤滑剤層等を設ける必要がないため、入力操作に対する応答速度の低下や電極層の抵抗値の増大を抑えることができる。
【００１９】
また、ＵＶ照射により、前記第１電極層及び前記第２電極層の少なくとも一方の表面に付着した有機物が除去される。これにより、電極層どうしが密着し易くなり静止摩擦係数が向上する。また、ＵＶ光の積算光量を制御することよって、第１電極層と第２電極層との静止摩擦係数を０．５以上、１．０以下に容易に制御することができる。
【００２０】
したがって、本発明の入力装置の製造方法によれば、入力操作に対する応答速度の低下や電極層の抵抗値の増大を防止するとともに、摺動音を抑制することが可能な入力装置を製造することができる。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、第１電極層及び第２電極層の互いに対向する面どうしの静止摩擦係数を０．５以上とすることにより、摺動操作時における第１電極層と第２電極層とのスティックスリップを抑制して、摺動音の発生を抑制することができる。また、静止摩擦係数を１．０以下とすることにより第１電極層と第２電極層との接触による応力を抑えて、クラックや剥離の発生を防止できる。また、第１電極層及び第２電極層の互いに対向する面に摩擦係数を低減するための潤滑剤層等を設ける必要がないため、入力操作に対する応答速度の低下や電極層の抵抗値の増大を抑えることができる。
【００２２】
したがって、本発明の入力装置によれば、入力操作に対する応答速度の低下や電極層の抵抗値の増大を防止するとともに、摺動音の発生を抑制することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】実施形態における入力装置を構成する第１透明基材の平面図である。
【図２】実施形態における入力装置を構成する第２透明基材の平面図である。
【図３】実施形態における入力装置の断面図である。
【図４】実施例におけるＵＶ積算光量と静止摩擦係数との関係を示すグラフである。
【図５】実施例における静止摩擦係数の測定方法を説明するための模式図である。
【図６】従来例における入力装置の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
本発明の実施形態における入力装置１について、図面に基づいて説明する。図１には、本実施形態における入力装置１を構成する第１透明基材１０の平面図を示し、図２には、第２透明基材２０の平面図を示す。なお、各図面では、見やすくするために適宜寸法を変更して示している。
【００２５】
図１及び図２に示すように、第１透明基材１０及び第２透明基材２０には、入力操作を行うことが可能な入力領域３０が設定されている（図１及び図２に示す２点鎖線Ａ、Ｂの内側）。入力領域３０は可視光を透過する透光性の領域であり、操作者は、入力領域３０を通して液晶ディスプレイなどの表示画像を視認しながら入力操作を行うことができる。また、入力領域３０の周囲には、枠状の加飾領域３１が形成されている（図１及び図２に示す２点鎖線Ａ、Ｂの外周）。
【００２６】
図１に示すように第１透明基材１０の少なくとも入力領域３０には第１電極層１１が形成されている。そして、入力領域３０を囲むように第１配線層１２が形成されている。第１配線層１２は、Ｘ１側の加飾領域３１及びＸ２側の加飾領域３１においてＹ１−Ｙ２方向に延在するとともに、第１電極層１１と接続されている。これにより、第１電極層１１のＸ１−Ｘ２方向に電圧を印加することができ、また、第１配線層１２を通して入力位置情報を外部へと取り出すことが可能となる。
【００２７】
同様に、図２に示すように、第２透明基材２０の少なくとも入力領域３０には、第２電極層２１が形成されており、入力領域３０を囲むように第２配線層２２が形成されている。第２配線層２２は、Ｙ１側の加飾領域３１及びＹ２側の加飾領域３１においてＸ１−Ｘ２方向に延在するとともに、第２電極層２１と接続されている。これにより、第２電極層２１のＹ１−Ｙ２方向に電圧を印加することができ、また、入力位置情報を外部へと取り出すことが可能となる。第１配線層１２及び第２配線層２２は、Ｙ２側の加飾領域３１に設けられた第１接続部１３及び第２接続部２３へとそれぞれ引き出されて、フレキシブルプリント基板（図示しない）等と接続される。
【００２８】
第１透明基材１０及び第２透明基材２０は、可撓性を有する透光性の樹脂フィルムであり、例えばＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム等が用いられる。その厚みは５０μｍ〜２００μｍ程度に形成されている。
【００２９】
また、第１電極層１１及び第２電極層２１は、可視光で透光性を有するＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）、ＳｎＯ２、ＺｎＯ等の透明導電材料が用いられる。第１電極層１１及び第２電極層２１は、スパッタ法や蒸着法等の薄膜法で成膜することができる。また、薄膜法以外の方法では、あらかじめ透明導電膜が形成されたフィルムを用意して透明導電膜を基材に転写する転写法や、液状の原料を塗布、乾燥して透明導電膜を形成する塗布法等が挙げられる。
【００３０】
第１配線層１２及び第２配線層２２は、ＡｇやＣｕ等の導電性材料を含む導電性ペーストを用いて、スクリーン印刷やインクジェット印刷などの印刷法で形成されている。
【００３１】
図３には、図１及び図２のＩＩＩ−ＩＩＩ線に対応する箇所で切断したときの入力装置１の断面図を示す。本実施形態の入力装置１において、第１電極層１１と第２電極層２１とが空間を設けて対向するように、第１透明基材１０と第２透明基材２０とが配置されている。第１透明基材１０と第２透明基材２０とは、図３に示すように、加飾領域３１に設けられた第１粘着層５０によって貼り合わされている。第１粘着層５０を設けることにより、第１電極層１１と第２電極層２１との間に空間が設けられている。なお、第１配線層１２と第２配線層２２との絶縁を確保するために、第１配線層１２及び第２配線層２２の表面に、単層または複数層のレジスト層（図示しない）を適宜積層しても良い。
【００３２】
図３に示すように、第２透明基材２０には、第２粘着層５１を介して加飾フィルム４０が貼り合わされている。加飾フィルム４０には、着色された加飾層４１が形成されている。加飾層４１によって、入力領域３０と加飾領域３１とが区分けされるとともに、第１配線層１２や第２配線層２２が操作者から視認されないように遮蔽されている。
【００３３】
入力装置１の入力操作時において、入力領域３０の任意の箇所を指やスタイラスペンで押圧操作すると、第２透明基材２０が加飾フィルム４０とともに第１透明基材１０へ向かって撓み、押圧位置で第２電極層２１と第１電極層１１とが接触する。第１電極層１１及び第２電極層２１にはそれぞれ電圧が印加されており、電極層どうしの接触位置で生じる分圧比に基づいて、入力位置情報が検知される。
【００３４】
なお、本実施形態において第１透明基材１０及び第２透明基材２０には、可撓性を有する樹脂フィルムが用いられており、第１透明基材１０の下部には、押圧操作を支持するための下部基板（図示しない）が設けられている。下部基板（図示しない）には、ＰＣ（ポリカーボネート）、ＰＭＭＡ（ポリメタクリル酸メチル樹脂）等の透光性の樹脂材料を用いることができ、その厚みは０．５ｍｍ〜１．５ｍｍ程度に形成される。第１透明基材１０と下部基板（図示しない）とは、透光性の両面テープによって貼り合わされている。また、本実施形態の構成に限らず、第１透明基材１０として、樹脂フィルムを用いずに、剛性を有するＰＣ、ＰＭＭＡ等の樹脂基板を用いて、その表面に第１電極層１１、第１配線層１２等を形成することも可能である。
【００３５】
本実施形態において、第１電極層１１及び第２電極層２１の互いに対向する面の少なくとも一方には、ＵＶ照射による表面処理が施されている。これにより、電極層表面に付着した有機物が除去されて、第１電極層１１と第２電極層２１との密着性が向上して、第１電極層１１と第２電極層２１との間の静止摩擦係数を大きくすることができる。本実施形態において、第１電極層１１と第２電極層２１との間の静止摩擦係数が０．５以上、１．０以下となるように、ＵＶ照射されている。
【００３６】
第１電極層１１と第２電極層２１との間の静止摩擦係数を０．５以上、１．０以下とする方法は、特に限定されるものではないが、ＵＶ照射や、プラズマ法による表面処理が好ましい。ＵＶ照射やプラズマ法によって、有機物の除去による洗浄効果や、電極層表面の平坦化、及び表面活性化などの表面状態の改質効果が得られて、電極層どうしが密着し易くなり、静止摩擦係数が向上する。これによれば、ＵＶ光の強度、波長、時間などを調整して、あるいは、プラズマ処理時間、投入電力などを調整して、静止摩擦係数が０．５以上、１．０以下となるように容易に制御することができる。
【００３７】
なお、本明細書における静止摩擦係数は、第１透明基材１０と第２透明基材２０とを電極層どうしが接触するように重ねて配置し、１０ｃｍ２（０．００１ｍ２）の面積に７５０ｇｆ（０．７５ｋｇｆ）の荷重を加えるとともに、引張り速度１ｍｍ／秒（０．００１ｍ／秒）で測定したときの静止摩擦係数を示す。このような方法で測定することにより、小型の入力装置１であっても、実際に入力装置１に使用される形態における第１透明基材１０と第２透明基材２０との静止摩擦係数を良好に測定することができる。
【００３８】
本実施形態において、第１電極層１１と第２電極層２１との間の静止摩擦係数を０．５以上とすることで、入力装置１の入力操作時に摺動操作を行う場合であっても、第１電極層１１と第２電極層２１との密着性が高いため、スティックスリップ現象の発生が防止される。これにより、摺動操作時の摺動音の発生を抑制することができる。また、電極層どうしの静止摩擦係数が０．５より小さい場合、特に、スタイラスペンを用いて摺動操作を行う場合、スティックスリップ現象が生じて７５０Ｈｚ〜３ｋＨｚ程度の周波数帯の不快な摺動音が発生するため、入力装置１の快適な使用が損なわれてしまう。なお、スティックスリップ現象とは、電極層どうしが密着して動かない状態と、電極層どうしで急激に滑る状態とが、短い周期で交互に繰り返される現象である。
【００３９】
また、第１電極層１１と第２電極層２１との、互いに対向する面どうしの静止摩擦係数を１．０以下とすることにより、第１電極層１１と第２電極層２１との接触による応力が緩和されて、クラックや剥離の発生を防止することができる。特に、スタイラスペンを用いて入力操作がされる場合や、突っつくような入力がされる場合において、クラック等が発生する可能性が懸念されるが、静止摩擦係数を１．０以下とすることによりクラック等の発生は生じない。静止摩擦係数が１．０より大きい場合には、入力操作時の第１電極層１１と第２電極層２１との接触による応力が緩和されることがなく、クラックや剥離が発生するおそれがあり、好ましくない。
【００４０】
本実施形態の入力装置１においては、第１電極層１１及び第２電極層２１の互いに対向する面に、潤滑剤層などを設けることなく摺動音が抑制される。したがって、第１電極層１１と第２電極層２１との間に互いの接触の妨げとなるものがないため、入力操作時における応答速度の低下や、電極層の抵抗値の増大を防止することができる。
【００４１】
また、第１電極層１１及ぶ第２電極層２１として、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）を用いることがより好ましい。これによれば、抵抗値が低く、かつ、耐環境性が良好な第１電極層及び第２電極層を得ることができるため、繰り返しの入力操作や、耐環境試験においても応答速度の低下や抵抗値の変化などの不具合は発生しない。
【００４２】
なお、本実施形態においては、第１電極層１１及び第２電極層２１の互いに対向する面に、ＵＶ照射やプラズマ法による表面処理が施されている。しかし、この態様に限らず、他の方法により第１透明基材１０及び第２透明基材２０の表面状態を変化させる、または、第１電極層１１及び第２電極層２１の成膜条件を変更すること等によって、静止摩擦係数が０．５以上、１．０以下となるように調整してもよい。この場合であっても、本実施形態と同様の効果が得られる。
【実施例】
【００４３】
以下、実施例の入力装置１について説明する。本実施例において、第１透明基材１０及び第２透明基材２０として、厚さ約１５０μｍのＰＥＴフィルムを用いた。そして、ＰＥＴフィルム上に、スパッタ法によりＩＴＯ膜を形成して、第１電極層１１及び第２電極層２１とした。そして、Ａｇペーストを用いてスクリーン印刷法により第１配線層１２、第２配線層２２、及び第１接続部１３、第２接続部２３を形成した。このようにして、図１及び図２に示すような、第１透明基材１０及び第２透明基材２０が得られた。
【００４４】
この第１電極層１１及び第２電極層２１にＵＶを照射して静止摩擦係数を向上させた。本実施例では、第１電極層１１及び第２電極層２１へのＵＶ積算光量を変化させて、実施例１〜３、及び比較例１〜３を作製した。そして、それぞれについて、静止摩擦係数、及び入力装置１として組み立てた時の摺動音の発生の有無を調べた。表１には、実施例１〜３、及び比較例１〜３について、ＵＶ照射条件、静止摩擦係数、及び摺動音の発生の有無を比較して示す。
【００４５】
【表１】
2013145437.tif 000003
【００４６】
表１に示すように、ＵＶ光源として、出力１１０Ｗ、主波長１８５ｎｍのＵＶランプを用いた。ＵＶランプと第１電極層１１または第２電極層２１との距離が４５ｍｍ一定となるように、第１透明基材１０または第２透明基材２０を配置して、ＵＶ照射時間を０〜１８０秒まで変化させて積算光量を変化させた。なお、比較例１は、ＵＶ照射を行っていない初期状態である。
【００４７】
実施例１〜３及び比較例１〜３について、図５に示すような方法で静止摩擦係数の測定を行った。第１透明基材１０と第２透明基材２０とを、第１電極層１１と第２電極層２１とが接触するように重ね合わせて、ステージ６０上に載置する。第１透明基材１０とステージ６０とは両面テープ等によって固定される。そして、第２透明基材２０の上に重り６１を載置して、１０ｃｍ２（０．００１ｍ２）の面積に７５０ｇｆ（０．７５ｋｇｆ）の荷重を加えるとともに、第２透明基材２０を１ｍｍ／秒（０．００１ｍ／秒）の引張り速度で移動させるように引っ張り力を加える。そして第２透明基材２０が移動し始めたときの引張り力をロードセル６２により測定して、静止摩擦係数を求める。
【００４８】
図４は、ＵＶ光の積算光量と静止摩擦係数との関係を示すグラフである。図４に示すように、初期状態（比較例１）における静止摩擦係数は０．２６であるが、ＵＶ積算光量の増加に伴って、静止摩擦係数が大きくなる傾向を示している。積算光量２７５ｍＪ／ｃｍ２（＝２７５０Ｊ／ｍ２）（照射時間６２秒）以上で、静止摩擦係数０．５以上を示す。また、積算光量１９０７ｍＪ／ｃｍ２（＝１９０７０Ｊ／ｍ２）（照射時間１８０秒）で静止摩擦係数が１．０以上となっている。このようにＵＶ照射の積算光量を制御することにより、所望の静止摩擦係数の電極層を得ることができる。また、潤滑剤層を塗布、乾燥する工程に比べて、短い処理時間で所望の静止摩擦係数を得ることが可能であり、製造コストの増大が抑えられる。
【００４９】
また、表１に示す実施例１〜３、比較例１〜３を用いて、それぞれ図３に示すような入力装置１を組み立てて、摺動音の発生の有無を調査した。摺動試験には、先端径０．８ｍｍのポリアセタール製のスタイラスペンを用いた。そして、入力装置１の入力領域３０に垂直荷重１．５ｋｇｆを印加しながら、スタイラスペンで同一箇所を摺動幅４０ｍｍで繰り返し摺動した。
【００５０】
その結果、表１に示すように、静止摩擦係数が０．５よりも小さい比較例１及び比較例２では摺動音が発生した。これに対して、静止摩擦係数が０．５以上となるようにＵＶ照射した実施例１〜３及び比較例３では、摺動音は発生しなかった。これは、ＵＶ照射により第１電極層１１と第２電極層２１との密着性が向上して、スティックスリップ現象の発生が抑えられたためと推察される。また、実施例１〜３及び比較例１〜３を用いた各入力装置１において、応答速度の低下は発生していない。さらに、摺動回数１０万回後に電気検査を行ったところ、抵抗値の変化はほとんど見られなかった。
【００５１】
本実施例において、比較例３においても摺動音の発生は抑制されているが、静止摩擦係数が１．０より大きい場合には、第１電極層１１及び第２電極層２１にクラックや剥離が発生するおそれがある。例えば、ゲーム機用途など厳しい耐久性が必要とされる場合には、静止摩擦係数が１．０以下となるように調整することが好ましい。
【００５２】
このように、第１電極層１１及び第２電極層２１の互いに対向する面にＵＶ照射することにより、第１電極層１１と第２電極層２１との静止摩擦係数を０．５以上、１．０以下に容易に制御することができる。これにより、入力操作に対する応答速度の低下や電極層の抵抗値の増大を防止するとともに、摺動音を抑制することが可能な入力装置１を提供することができる。
【符号の説明】
【００５３】
１  入力装置
１０  第１透明基材
１１  第１電極層
１２  第１配線層
２０  第２透明基材
２１  第２電極層
２２  第２配線層
３０  入力領域
３１  加飾領域
４０  加飾フィルム
４１  加飾層
６０  ステージ
６１  重り
６２  ロードセル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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