(57)【要約】【課題】伝導性非酸化物系セラミックス（Ｔｉ３ＳｉＣ２）で電極を形成して、別の黒化処理が不要であるため、タッチパネルの量産性を向上させることができるタッチパネルを提供する。【解決手段】本発明のタッチパネル１００は、透明基板１１０と、透明基板１１０に伝導性非酸化物系セラミックスで形成され、タッチを検知する電極１２０と、を含むものである。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板と、
前記透明基板に伝導性非酸化物系セラミックスで形成され、タッチを検知する電極と、を含むタッチパネル。
【請求項２】
前記伝導性非酸化物系セラミックスは、Ｔｉ３ＳｉＣ２であることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項３】
前記電極の面抵抗は、１Ω／□以下であることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項４】
前記電極の面抵抗は、０．１５Ω／□以下であることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項５】
前記電極のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系のＬ＊値が、５０．００以上であることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項６】
前記電極は、スパッタ（Ｓｐｕｔｔｅｒ）を用いた蒸着工程により形成されることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項７】
前記蒸着工程中に炭素を供給することを特徴とする請求項６に記載のタッチパネル。
【請求項８】
前記電極の端部に形成された配線をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項９】
前記配線と前記電極は、一体に形成されることを特徴とする請求項８に記載のタッチパネル。
【請求項１０】
前記配線は、伝導性非酸化物系セラミックスで形成されることを特徴とする請求項８に記載のタッチパネル。
【請求項１１】
前記伝導性非酸化物系セラミックスは、Ｔｉ３ＳｉＣ２であることを特徴とする請求項９に記載のタッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、タッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
デジタル技術を用いるコンピュータが発達するにつれて、コンピュータの補助装置もともに開発されており、パソコン、ポータブル伝送装置、その他の個人用の情報処理装置などは、キーボード、マウスなどの様々な入力装置（Ｉｎｐｕｔ  Ｄｅｖｉｃｅ）を利用してテキスト及びグラフィック処理を行う。
【０００３】
しかし、情報化社会の急速な進行により、コンピュータの用途が益々拡大する傾向にあるため、現在、入力装置の役割を担当しているキーボード及びマウスだけでは、効率的な製品の駆動が困難であるという問題点がある。従って、簡単で誤操作が少なく、誰でも簡単に情報を入力することができる機器の必要性が高まっている。
【０００４】
また、入力装置に関する技術は、一般的な機能を満たす水準を越えて、高信頼性、耐久性、革新性、設計及び加工に関する技術などが注目されており、このような目的を達成するために、テキスト、グラフィックなどの情報入力が可能な入力装置としてタッチパネル（Ｔｏｕｃｈ  Ｐａｎｅｌ）が開発された。
【０００５】
このようなタッチパネルは、電子手帳、液晶表示装置（ＬＣＤ；Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｄｅｖｉｃｅ）、ＰＤＰ（Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ）、Ｅｌ（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）などの平板ディスプレイ装置及びＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄｅ  Ｒａｙ  Ｔｕｂｅ）などの画像表示装置の表示面に設けられ、ユーザが画像表示装置を見ながら所望の情報を選択するようにするために利用される機器である。
【０００６】
一方、タッチパネルの種類は、抵抗膜方式（Ｒｅｓｉｓｔｉｖｅ  Ｔｙｐｅ）、静電容量方式（Ｃａｐａｃｉｔｉｖｅ  Ｔｙｐｅ）、電磁方式（Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｍａｇｎｅｔｉｃ  Ｔｙｐｅ）、表面弾性波方式（ＳＡＷ  Ｔｙｐｅ；Ｓｕｒｆａｃｅ  Ａｃｏｕｓｔｉｃ  Ｗａｖｅ  Ｔｙｐｅ）及び赤外線方式（Ｉｎｆｒａｒｅｄ  Ｔｙｐｅ）に区分される。このような多様な方式のタッチパネルは、信号増幅の問題、解像度の差、設計及び加工技術の難易度、光学的特性、電気的特性、機械的特性、耐環境特性、入力特性、耐久性及び経済性を考慮して電子製品に採用されるが、現在もっとも幅広い分野で用いられている方式は、抵抗膜方式タッチパネル及び静電容量方式タッチパネルである。
【０００７】
このようなタッチパネルは、通常、電極をＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ；インジウム−スズ酸化物）で形成する。しかし、ＩＴＯは、優れた電気伝導度を有するが、その原料であるインジウム（Ｉｎｄｉｕｍ）は希土類金属で、高価である。また、インジウムは、今後１０年以内に枯渇が予想されているため、需給が円滑でないという短所がある。
【０００８】
このような理由から、特許文献１に開示されたように、金属を用いて電極を形成しようとする研究が活発に行われている。このように金属で電極を形成すると、ＩＴＯに比べ遥かに優れた電気伝導度を有し、需給が円滑であるという長所があるが、金属特有の光沢によって視認性が劣るという問題点がある。このような問題点を解決するために、金属で形成された電極の上／下部に金属酸化物を層着する黒化処理を施しているが、製造工程が複雑となって、量産性が低下するという問題点がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】韓国公開特許第１０−２０１０−００９１４９７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は上記の問題点を解決するために導き出されたものであって、本発明の目的は、伝導性非酸化物系セラミックス（Ｔｉ３ＳｉＣ２）で電極を形成して、別の黒化処理が不要なタッチパネルを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の実施例によるタッチパネルは、透明基板と、前記透明基板に伝導性非酸化物系セラミックスで形成され、タッチを検知する電極と、を含んで構成される。
【００１２】
また、本発明の実施例によるタッチパネルにおいて、前記伝導性非酸化物系セラミックスは、Ｔｉ３ＳｉＣ２であることを特徴とする。
【００１３】
また、本発明の実施例によるタッチパネルにおいて、前記電極の面抵抗は、１Ω／□以下であることを特徴とする。
【００１４】
また、本発明の実施例によるタッチパネルにおいて、前記電極の面抵抗は、０．１５Ω／□以下であることを特徴とする。
【００１５】
また、本発明の実施例によるタッチパネルにおいて、前記電極のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系のＬ＊値が、５０．００以上であることを特徴とする。
【００１６】
また、本発明の実施例によるタッチパネルにおいて、前記電極は、スパッタ（Ｓｐｕｔｔｅｒ）を用いた蒸着工程により形成されることを特徴とする。
【００１７】
また、本発明の実施例によるタッチパネルにおいて、前記蒸着工程中に炭素を供給することを特徴とする。
【００１８】
また、本発明の実施例によるタッチパネルにおいて、前記電極の端部に形成された配線をさらに含むことを特徴とする。
【００１９】
また、本発明の実施例によるタッチパネルにおいて、前記配線と前記電極は、一体に形成されることを特徴とする。
【００２０】
また、本発明の実施例によるタッチパネルにおいて、前記配線は、伝導性非酸化物系セラミックスで形成されることを特徴とする。
【００２１】
また、本発明の実施例によるタッチパネルにおいて、前記伝導性非酸化物系セラミックスは、Ｔｉ３ＳｉＣ２であることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によると、伝導性非酸化物系セラミックス（Ｔｉ３ＳｉＣ２）で電極を形成して、別の黒化処理が不要であるため、タッチパネルの量産性を向上させることができる長所がある。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの平面図である。
【図２】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの断面図である。
【図３】図１に図示されたタッチパネルの電極を下面で測定する過程を図示した断面図である。
【図４】図１に図示されたタッチパネルの電極を上面で測定する過程を図示した断面図である。
【図５】本発明の好ましい実施例によって製作したタッチパネルの断面図である。
【図６】本発明の好ましい実施例によって製作したタッチパネルの断面図である。
【図７】本発明の好ましい実施例によって製作したタッチパネルの断面図である。
【図８】本発明の好ましい実施例によって製作したタッチパネルの断面図である。
【図９】Ｔｉ３ＳｉＣ２の単位セル（Ｕｎｉｔ  ｃｅｌｌ）を示した図面である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
本発明の目的、特定の長所及び新規の特徴は、添付図面に係る以下の詳細な説明及び好ましい実施例によってさらに明らかになるであろう。本明細書において、各図面の構成要素に参照番号を付け加えるに際し、同一の構成要素に限っては、たとえ異なる図面に示されても、できるだけ同一の番号を付けるようにしていることに留意しなければならない。また、「一面」、「他面」、「第１」、「第２」などの用語は、一つの構成要素を他の構成要素から区別するために用いられるものであり、構成要素が前記用語によって限定されるものではない。以下、本発明を説明するにあたり、本発明の要旨を不明瞭にする可能性がある係る公知技術についての詳細な説明は省略する。
【００２５】
以下、添付図面を参照して、本発明の好ましい実施例を詳細に説明する。
【００２６】
図１は、本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの平面図であり、図２は、本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの断面図である。
【００２７】
図１及び図２に図示されたように、本実施例によるタッチパネル１００は、透明基板１１０と、透明基板１１０に伝導性非酸化物系セラミックスで形成され、タッチを検知する電極１２０と、を含む構成である。
【００２８】
前記透明基板１１０は、電極１２０及び配線１３０が形成される領域を提供する役割をする。ここで、透明基板１１０は、アクティブ領域Ａとベゼル領域Ｂに区画される。アクティブ領域Ａは、入力手段のタッチを認識するための電極１２０が形成される部分であり、透明基板１１０の中心に備えられる。ベゼル領域Ｂは、電極１２０と通電する配線１３０が形成される部分であり、アクティブ領域Ａの端部に備えられる。この際、透明基板１１０は、電極１２０と配線１３０を支持することができる支持力と、画像表示装置から提供される画像をユーザが認識できるようにする透明性を備えなければならない。
【００２９】
上述の支持力及び透明性を考慮して、透明基板１１０は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ）、環状オレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、トリアセチルセルロース（Ｔｒｉａｃｅｔｙｌｃｅｌｌｕｌｏｓｅ；ＴＡＣ）フィルム、ポリビニルアルコール（Ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ  ａｌｃｏｈｏｌ；ＰＶＡ）フィルム、ポリイミド（Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ；ＰＩ）フィルム、ポリスチレン（Ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ；ＰＳ）、二軸延伸ポリスチレン（Ｋ樹脂含有ｂｉａｘｉａｌｌｙ  ｏｒｉｅｎｔｅｄ  ＰＳ；ＢＯＰＳ）、ガラスまたは強化ガラスなどで形成することが好ましいが、必ずしもこれに限定されるものではない。
【００３０】
一方、透明基板１１０は、タッチパネル１００の最外側に備えられたウィンドウ（Ｗｉｎｄｏｗ）であることができる。このように、透明基板１１０がウィンドウである場合、ウィンドウに電極１２０が直接形成されるため、別の透明基板１１０に電極１２０を形成した後ウィンドウに付着する工程を省略して、製造工程を単純化することができ、タッチパネル１００の全体的な厚さを減らすことができる。
【００３１】
一方、透明基板１１０を活性化させるために、高周波処理またはプライマー（Ｐｒｉｍｅｒ）処理を施すことができる。このように透明基板１１０を活性化させることにより、透明基板１１０と電極１２０との間の接着力を向上させることができる。
【００３２】
前記電極１２０は、ユーザのタッチを検知して、コントローラーでタッチ座標を認識できるようにする役割をするものである。ここで、電極１２０は、伝導性非酸化物系セラミックスで形成される。この際、伝導性非酸化物系セラミックスは、Ｔｉ３ＳｉＣ２であることができる。
【００３３】
図９は、Ｔｉ３ＳｉＣ２の単位セル（Ｕｎｉｔ  ｃｅｌｌ）を示した図面である。
【００３４】
図９に図示されたように、Ｔｉ３ＳｉＣ２の相（Ｐｈａｓｅｓ）は、Ｓｉの純粋層（ｐｕｒｅ  ｌａｙｅｒｓ）の間にＴｉＣＸの層が配置される。一方、電極１２０は、スパッタ（Ｓｐｕｔｔｅｒ）を用いた蒸着工程により形成することができる。また、蒸着工程中に炭素を供給することができる。
【００３５】
タッチパネル１００の電極１２０として活用するために、電極１２０の面抵抗は、１Ω／□以下、より好ましくは０．１５Ω／□以下であることができる。実際に、Ｔｉ３ＳｉＣ２を用いてスパッタで電極１２０を形成した結果、電極１２０の面抵抗が平均０．１２Ω／□と測定されたことから、タッチパネル１００の電極１２０として用いるに適することが分かる。但し、電極１２０は、必ずしもＴｉ３ＳｉＣ２で形成しなければならないのではなく、当業界に公知された全ての伝導性非酸化物系セラミックスを用いることができる。
【００３６】
また、Ｔｉ３ＳｉＣ２を用いて電極１２０を形成した後、電極１２０のＬ*ａ*ｂ*表色系は、下記表１及び表２のとおりである。
【００３７】
参照に、表１は、図３に図示されたように電極１２０の下面を測定した値であり（矢印参照）、表２は、図４に図示されたように電極１２０の上面を測定した値である（矢印参照）。
【００３８】
【表１】
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【００３９】
【表２】
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【００４０】
前記表１及び表２に記載したように、電極１２０は、Ｌ*ａ*ｂ*表色系を基準として、Ｌ*値が５０．００以上である。ここで、Ｌ*値は明度（明るさ）を示すものであり、その値が高いほど黒色に近い。電極１２０のＬ*値は５０．００以上で、相対的に高い。このように、電極１２０のＬ＊値が高いため、光が電極１２０に反射することを防止することができ、これにより、タッチパネル１００の視認性を改善することができる。また、別の黒化処理が不要であるため、タッチパネル１００の量産性を向上させることができる。
【００４１】
一方、電極１２０は、ユーザに視覚的に認識されないように、約マイクロメータ（μｍ）単位の幅を有するメッシュ（Ｍｅｓｈ）構造に形成することができる。また、電極１２０は、図示されたように、棒形パターンに形成することができるが（図１参照）、これに限定されるものではなく、菱形パターン、四角形パターン、三角形パターン、円形パターンなどに形成することができ、パターンでなく、導電膜の形態に形成することもできる。
【００４２】
さらに、電極１２０の端部には、電極１２０からの電気的信号を受信する配線１３０が形成される。この際、配線１３０は、Ｔｉ３ＳｉＣ２などの伝導性非酸化物系セラミックスを用いて電極１２０と一体に形成することができる。このように、配線１３０と電極１２０を一体に形成することにより、製造工程を簡素化し、リードタイム（Ｌｅａｄ  Ｔｉｍｅ）を短縮することができる。また、配線１３０と電極１２０の接合工程を省略することができるため、配線１３０と電極１２０との間に発生する段差や接合不良の問題を予め防止することができる。
【００４３】
図２に図示されたように、本実施例によるタッチパネル１００の場合、１層構造の電極１２０を用いて静電容量方式（Ｃａｐａｃｉｔｉｖｅ  Ｔｙｐｅ）のタッチパネルを製作することができる。しかし、本発明によるタッチパネルは、これに制限されるものではなく、後述するように、前記構成を含む様々な形態のタッチパネルを製作することができる。
【００４４】
図５から図８は、本発明の好ましい実施例を用いて製作したタッチパネルの断面図である。
【００４５】
図５に図示されたように、透明基板１１０の両面に電極１２０をそれぞれ形成して、静電容量方式（Ｃａｐａｃｉｔｉｖｅ  Ｔｙｐｅ）のタッチパネル２００（図５参照）を製作することができる。
【００４６】
また、図６及び図７に図示されたように、一面に電極１２０が形成された透明基板１１０を二つ備え、電極１２０が向い合うように二つの透明基板１１０を接着層１４０で接着して、静電容量方式（Ｃａｐａｃｉｔｉｖｅ  Ｔｙｐｅ）のタッチパネル３００（図６参照）、または抵抗膜方式（Ｒｅｓｉｓｔｉｖｅ  Ｔｙｐｅ）のタッチパネル４００（図７参照）を製作することができる。ここで、静電容量方式（Ｃａｐａｃｉｔｉｖｅ  Ｔｙｐｅ）のタッチパネル３００（図６参照）の場合、向い合う二つの電極１２０が絶縁されるように、接着層１４０が透明基板１１０の全面に付着される。一方、抵抗膜方式（Ｒｅｓｉｓｔｉｖｅ  Ｔｙｐｅ）のタッチパネル４００（図７参照）の場合、入力手段の圧力が作用すると向い合う二つの電極１２０が接触するように、接着層１４０が透明基板１１０の端部にのみ付着されて、入力手段の圧力が除去されると電極１２０が原位置に復帰するように、反発力を提供するドットスペーサー１５０を電極１２０の露出面に備える。
【００４７】
一方、図８に図示されたように、透明基板１１０に電極１２０を形成した後、絶縁層１６０を形成し、さらに電極１２０を形成することにより、静電容量方式（Ｃａｐａｃｉｔｉｖｅ  Ｔｙｐｅ）のタッチパネル５００（図８参照）を製作することができる。ここで、絶縁層１６０は、エポキシ（Ｅｐｏｘｙ）またはアクリル系（Ａｃｒｙｌｉｃ）の樹脂、ＳｉＯｘ薄膜、またはＳｉＮｘ薄膜などであることができる。
【００４８】
本発明の好ましい実施例によって製作したタッチパネル２００、３００、４００、５００も、伝導性非酸化物系セラミックス（Ｔｉ３ＳｉＣ２）で電極１２０を形成するため、別の黒化処理を行うことなく、タッチパネル２００、３００、４００、５００の視認性を改善することができる。また、別の黒化処理が不要であるため、タッチパネル２００、３００、４００、５００の量産性を向上させることができる。
【００４９】
以上、本発明を具体的な実施例に基づいて詳細に説明したが、これは本発明を具体的に説明するためのものであり、本発明はこれに限定されず、該当分野における通常の知識を有する者であれば、本発明の技術的思想内にての変形や改良が可能であることは明白であろう。
【００５０】
本発明の単純な変形乃至変更はいずれも本発明の領域に属するものであり、本発明の具体的な保護範囲は添付の特許請求の範囲により明確になるであろう。
【産業上の利用可能性】
【００５１】
本発明は、タッチパネルに適用可能である。
【符号の説明】
【００５２】
１００、２００、３００、４００、５００  タッチパネル
１１０  透明基板
１２０  電極
１３０  配線
１４０  接着層
１５０  ドットスペーサー
１６０  絶縁層
Ａ  アクティブ領域
Ｂ  ベゼル領域
【図１】
2013257870.tif 000005
【図２】
2013257870.tif 000006
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
2013257870.tif 000010
【図７】
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【図８】
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【図９】
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