(57)【要約】【課題】視認性の良好なアライメントマークを備え、位置精度の高い加工を容易に行い得る光導波路、および、高い位置精度で加工することができる光導波路の加工方法を提供すること。【解決手段】光導波路１は、クラッド層１１、コア層１３およびクラッド層１２が下方からこの順で積層されてなるものであり、コア層１３は、平面視において並列に設けられた４本のコア部１４と、コア部１４にそれぞれ隣接して併設され、コア部１４より屈折率の低い側面クラッド部１５と、を有する。また、光導波路１は、コア部１４と同じ組成の材料で構成された第１アライメントマーク１９１および第２アライメントマーク１９２からなるアライメントマークを有している。このうち、第１アライメントマーク１９１はＬ字状パターン１９１５で構成され、第２アライメントマーク１９２は枠状パターン１９２５で構成されている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
長尺状のコア部と、前記コア部に隣接するクラッド部と、前記クラッド部中に設けられ前記コア部と同じ組成の材料で構成されたアライメントマークと、が形成されたコア層を有し、
前記アライメントマークは、
前記コア部の長手方向と平行なＸ方向に延伸する第１線分と、前記Ｘ方向と直交するＹ方向に延伸する第２線分とが、前記コア部の長手方向の端部を前記Ｙ方向にずらした位置の近傍で接続されてなるパターンを含む第１アライメントマークと、
前記パターンの少なくとも一部を囲う枠状のパターンを含む第２アライメントマークと、を有することを特徴とする光導波路。
【請求項２】
前記第１線分は、前記Ｘ方向の少なくとも一方の端部が当該光導波路の端部に達するまで延伸している請求項１に記載の光導波路。
【請求項３】
前記第１アライメントマークが含む前記パターンは、前記第１線分の前記Ｘ方向の端部と前記第２線分の前記Ｙ方向の端部とを接続してなるＬ字状パターンであり、
前記第１アライメントマークは、１つの前記Ｌ字状パターンを前記Ｘ方向に平行な線に対して線対称の関係を満足するように複写し、さらに前記１つの前記Ｌ字状パターンと前記複写されたパターンとを前記Ｙ方向に平行な線に対して線対称の関係を満足するように複写してなるものに等しい形状の部位を含んでいる請求項１または２に記載の光導波路。
【請求項４】
前記第２アライメントマークが含む前記枠状のパターンは、その内側に前記第１線分と前記第２線分との接続部が位置し、その外側に前記第１線分の一部がはみ出るように配置されている請求項３に記載の光導波路。
【請求項５】
前記第２アライメントマークが含む前記枠状のパターンは、前記Ｘ方向に延伸する第３線分と前記Ｙ方向に延伸する第４線分とが接続されてなるものを含む請求項１ないし４のいずれかに記載の光導波路。
【請求項６】
前記第２アライメントマークが含む前記枠状のパターンは、断続的に途切れた形状をなしている請求項１ないし５のいずれかに記載の光導波路。
【請求項７】
前記アライメントマークは、前記コア部と同一のプロセスで一括または連続して形成されたものである請求項１ないし６のいずれかに記載の光導波路。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれかに記載の光導波路に加工を施す光導波路の加工方法であって、
前記アライメントパターンの位置を基準にして加工位置を決定し、加工することを特徴とする光導波路の加工方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光導波路および光導波路の加工方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
光搬送波を使用してデータを移送する光通信技術が開発され、近年、この光搬送波を、一地点から他地点に導くための手段として、光導波路が普及しつつある。この光導波路は、線状のコア部と、その周囲を覆うように設けられたクラッド部と、を有している。コア部は、光搬送波の光に対して実質的に透明な材料によって構成され、クラッド部は、コア部より屈折率が低い材料によって構成されている。
【０００３】
光導波路では、コア部の一端から導入された光が、クラッド部との境界で反射しながら他端に伝送（搬送）される。光導波路の入射側には半導体レーザー等の発光素子が配置され、出射側にはフォトダイオード等の受光素子が配置される。発光素子から入射された光は光導波路を伝搬し、受光素子により受光され、受光した光の明滅パターンもしくはその強弱パターンに基づいて通信を行う。
【０００４】
ところで、光導波路は一般に短距離の光通信を担うのに対し、長距離の光通信には光ファイバーが用いられる。したがって、これらを接続することにより、ローカルネットワークと基幹系ネットワークとを接続することが可能になる。
【０００５】
例えば、特許文献１の図８等には、光導波路層と光ファイバーとが接続された構造が開示されている。この構造では、光路変換用のミラーが形成された光導波路層の上面に、光ファイバーが垂直に接続されている。光ファイバーの端部には光コネクターが装着されており、この光コネクターと光導波路層とを嵌合させることにより、光導波路と光ファイバーとが光学的に接続されている。
【０００６】
このような接続構造においては、まず、光導波路層の上面に開口するガイド穴を設け、一方、光コネクターの下面にはガイドピンを設ける。そして、光導波路層のガイド穴に光コネクターのガイドピンを嵌合させる。この際、光導波路の光軸と光ファイバーの光軸とがミラーを介して一致しなければならないので、光導波路層に形成するガイド穴の位置精度が極めて重要である。また、ミラーは光導波路層に加工を施すことにより形成されるが、この加工位置も光導波路の光軸に大きな影響を及ぼすことになるため、その精度が重要になる。
【０００７】
ところで、光導波路層に対してガイド穴やミラーを加工する際、これらの加工位置の基準点には、一般に光導波路層内に設けられたコア部が用いられる。ところが、このコア部は非常に細い線状のものであるため、光導波路層の外部からその位置を正確に認識することが難しい。このため、コア部を基準点とした場合、基準点の位置が安定せず、その結果、ガイド穴やミラーの加工精度を十分に高められないという課題を抱えている。
【０００８】
そこで、光導波路にアライメントマークを設け、これを基準点とすることが提案されているが、これまでのアライメントマークは、視認性が低いため、やはり基準点としての安定性に乏しいという問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】国際公開第２００６／０５４５６９号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明の目的は、視認性の良好なアライメントマークを備え、位置精度の高い加工を容易に行い得る光導波路、および、高い位置精度で加工することができる光導波路の加工方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
このような目的は、下記（１）〜（８）の本発明により達成される。
（１）  長尺状のコア部と、前記コア部に隣接するクラッド部と、前記クラッド部中に設けられ前記コア部と同じ組成の材料で構成されたアライメントマークと、が形成されたコア層を有し、
前記アライメントマークは、
前記コア部の長手方向と平行なＸ方向に延伸する第１線分と、前記Ｘ方向と直交するＹ方向に延伸する第２線分とが、前記コア部の長手方向の端部を前記Ｙ方向にずらした位置の近傍で接続されてなるパターンを含む第１アライメントマークと、
前記パターンの少なくとも一部を囲う枠状のパターンを含む第２アライメントマークと、を有することを特徴とする光導波路。
【００１２】
（２）  前記第１線分は、前記Ｘ方向の少なくとも一方の端部が当該光導波路の端部に達するまで延伸している上記（１）に記載の光導波路。
【００１３】
（３）  前記第１アライメントマークが含む前記パターンは、前記第１線分の前記Ｘ方向の端部と前記第２線分の前記Ｙ方向の端部とを接続してなるＬ字状パターンであり、
前記第１アライメントマークは、１つの前記Ｌ字状パターンを前記Ｘ方向に平行な線に対して線対称の関係を満足するように複写し、さらに前記１つの前記Ｌ字状パターンと前記複写されたパターンとを前記Ｙ方向に平行な線に対して線対称の関係を満足するように複写してなるものに等しい形状の部位を含んでいる上記（１）または（２）に記載の光導波路。
【００１４】
（４）  前記第２アライメントマークが含む前記枠状のパターンは、その内側に前記第１線分と前記第２線分との接続部が位置し、その外側に前記第１線分の一部がはみ出るように配置されている上記（３）に記載の光導波路。
【００１５】
（５）  前記第２アライメントマークが含む前記枠状のパターンは、前記Ｘ方向に延伸する第３線分と前記Ｙ方向に延伸する第４線分とが接続されてなるものを含む上記（１）ないし（４）のいずれかに記載の光導波路。
【００１６】
（６）  前記第２アライメントマークが含む前記枠状のパターンは、断続的に途切れた形状をなしている上記（１）ないし（５）のいずれかに記載の光導波路。
【００１７】
（７）  前記アライメントマークは、前記コア部と同一のプロセスで一括または連続して形成されたものである上記（１）ないし（６）のいずれかに記載の光導波路。
【００１８】
（８）  上記（１）ないし（７）のいずれかに記載の光導波路に加工を施す光導波路の加工方法であって、
前記アライメントパターンの位置を基準にして加工位置を決定し、加工することを特徴とする光導波路の加工方法。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、視認性の良好なアライメントマークを備え、位置精度の高い加工を容易に行い得る光導波路が得られる。
【００２０】
また、本発明によれば、光導波路に対して種々の加工を高い位置精度で施すことができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の光導波路の実施形態のコア層を示す平面図である。
【図２】本発明の光導波路の実施形態のうち、一部を示す斜視図である。
【図３】図１に示すコア層の部分拡大図である。
【図４】本発明の光導波路の他の実施形態を示す平面図である。
【図５】本発明の光導波路の加工方法の実施形態を説明するための平面図である。
【図６】本発明の光導波路の加工方法の実施形態を説明するための平面図である。
【図７】光導波路に形成したガイド穴に光ファイバーの端部に装着された光コネクターのガイドピンを挿入し、嵌合させる様子を説明するための斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明の光導波路および光導波路の加工方法について添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。
【００２３】
＜光導波路＞
まず、本発明の光導波路の実施形態について説明する。
【００２４】
図１は、本発明の光導波路の実施形態のコア層を示す平面図、図２は、本発明の光導波路の実施形態のうち、一部を示す斜視図、図３は、図１に示すコア層の部分拡大図である。
【００２５】
図２に示す光導波路１は、帯状をなし、光信号を伝送し得る部材であり、クラッド層１１、コア層１３およびクラッド層１２が下方からこの順で積層されてなるものである。
【００２６】
また、図１に示すコア層１３は、平面視において並列に設けられた４本のコア部１４と、各コア部１４にそれぞれ隣接して併設され（すなわち、コア層１３においてコア部１４の間を埋めるように設けられ）、コア部１４より屈折率の低い側面クラッド部１５と、を有している。
【００２７】
ここで、このような光導波路１には、コア部１４の途中または延長線上に後述するようなミラーが形成される。このミラーにより、コア部１４を伝搬する信号光の光路が変換され、信号光を光導波路１の外部に取り出すことができる。したがって、例えばミラーの位置に合わせて光ファイバー等を設けることにより、光導波路と光ファイバーとを光学的に接続することができる。
【００２８】
光導波路１に対して光ファイバーを固定する際には、例えば、光ファイバーの先端に光コネクターを装着し、この光コネクターの先端から突出するガイドピンを、光導波路１に形成したガイド穴に挿入することで、光導波路１に対して光ファイバーが位置決めされ、その位置で固定される。この際、コア部１４の光軸と光ファイバーのコア部の光軸とを一致させる必要がある。このため、光導波路１に形成されるガイド穴の位置は、光結合効率を高める観点から重要であるものの、従来、ガイド穴の加工精度を高めるのは容易ではなかった。その理由は、コア部や従来のアライメントマークがいずれも視認性が低く、ガイド穴の位置を決定する基準として安定しない点にある。
【００２９】
そこで、本発明では、光導波路１を、コア部１４の長手方向と平行なＸ方向に延伸する第１線分１９１１と、Ｘ方向と直交するＹ方向に延伸する第２線分１９１２とが、コア部１４の長手方向の端部１４１をＹ方向にずらした位置の近傍で接続されてなるＬ字状パターン１９１５を含む第１アライメントマーク１９１と、Ｌ字状パターン１９１５の一部を囲う枠状パターン１９２５を含む第２アライメントマーク１９２と、を有するものとした。
【００３０】
このような光導波路１は、アライメントマークの視認性が高いものとなる。例えば画像認識システムによるアライメントマークの認識においては、第１アライメントマーク１９１および第２アライメントマーク１９２の双方を設けたことにより、分解能の低い画像認識システムであっても確実に認識することができる。このため、このアライメントマークの位置を基準としてガイド穴の位置を正確に決定し、加工することができる。
【００３１】
また、第１アライメントマーク１９１および第２アライメントマーク１９２は、それぞれコア部１４と同じ組成の材料で構成されたものである。このため、熱膨張差等によりコア部１４に対して各アライメントマーク１９１、１９２の相対位置が変化するのを防止することができる。その結果、コア部１４に対する位置精度の高いアライメントマークを備えた光導波路１が得られ、この光導波路１に対し、位置精度の高いガイド穴を容易に加工することができる。なお、コア部１４と側面クラッド部１５とは屈折率が異なり、それによって呈する色も異なっているため、コア部１４と同じ組成の材料で側面クラッド部１５中に形成されたアライメントマークも、その周囲とは異なる色を呈し、視認することができる。
【００３２】
また、このアライメントマークは、コア層１３中に形成されたものであり、これを視認する際にはコア層１３上に積層されたクラッド層１２またはコア層１３の下に積層されたクラッド層１１を通して視認することになる。このため、外部環境によっては外光の反射や散乱に影響されてしまいアライメントマークを視認し難い場合もあるが、上述した第１アライメントマーク１９１および第２アライメントマーク１９２を有することにより、このような環境下でもアライメントマークを確実に認識することができる。
【００３３】
以下、光導波路１の各部の構成について順次詳述する。
（コア層）
図１、２に示すコア層１３には、前述したように、４本のコア部１４および側面クラッド部１５が形成されている。これにより、各コア部１４は、それぞれクラッド部（側面クラッド部１５および各クラッド層１１、１２）で囲まれることとなる。その結果、各コア部１４には信号光が閉じ込められ、その信号光を伝搬することができる。
【００３４】
コア部１４の屈折率は、クラッド部の屈折率より大きければよいが、その差は０．３％以上であるのが好ましく、０．５％以上であるのがより好ましい。一方、上限値は特に設定されないが、好ましくは５．５％程度とされる。屈折率差が前記下限値未満の場合、光を伝搬する効果が低下するおそれがあり、一方、屈折率差が前記上限値を上回る場合、光の伝送効率のそれ以上の向上は期待できない。
【００３５】
なお、前記屈折率差とは、コア部１４の屈折率をＡ、クラッド部の屈折率をＢとしたとき、次式で表される。
屈折率差（％）＝｜Ａ／Ｂ−１｜×１００
【００３６】
また、コア部１４の横断面における屈折率分布は、いかなる形状の分布であってもよい。具体的には、屈折率が不連続的に変化したいわゆるステップインデックス（ＳＩ）型の分布であってもよく、屈折率が連続的に変化したいわゆるグレーデッドインデックス（ＧＩ）型の分布であってもよい。ＳＩ型の分布であれば屈折率分布の形成が容易であり、ＧＩ型の分布であれば屈折率の高い領域に信号光が集まる確率が高くなるため伝送効率が向上する。
【００３７】
また、コア部１４は、平面視で直線状であっても曲線状であってもよい。また、コア部１４は、途中で交差していたり、分岐していたりしていてもよい。
【００３８】
なお、コア部１４の横断面形状は特に限定されず、例えば、真円、楕円形、長円形等の円形、三角形、四角形、五角形、六角形等の多角形であってもよいが、四角形（矩形状）であることにより、コア部１４を形成し易い利点がある。
【００３９】
コア部１４の幅および高さ（コア層１３の厚さ）は、特に限定されないが、それぞれ、１０〜２００μｍ程度であるのが好ましく、１５〜１００μｍ程度であるのがより好ましく、２０〜７０μｍ程度であるのがさらに好ましい。これにより、光導波路１の伝送効率の低下を抑えつつコア部１４の高密度化を図ることができる。その結果、光導波路１の伝送容量の増大を図ることができる。
【００４０】
一方、２本のコア部１４同士の間に位置する側面クラッド部１５の幅は、５〜１００μｍ程度であるのが好ましく、１０〜８０μｍ程度であるのがより好ましい。これにより、２本のコア部１４同士の間で光信号が混在（クロストーク）するのを防止しつつ、光導波路１の高密度化を図ることができる。
【００４１】
また、側面クラッド部１５の幅は、その側面クラッド部１５に隣接するコア部１４の幅よりも狭いことが好ましい。側面クラッド部１５の幅をこのように設定することにより、クロストークを抑制するとともに、光導波路１の高密度化を図ることができる。
【００４２】
具体的には、側面クラッド部１５の幅は、隣接するコア部１４の幅の５〜９５％程度であるのが好ましく、１０〜９０％程度であるのがより好ましい。
【００４３】
上述したようなコア層１３の構成材料（主材料）は、例えば、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、エポキシ系樹脂やオキセタン系樹脂のような環状エーテル系樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾール、ポリシラン、ポリシラザン、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリウレタン、ポリオレフィン系樹脂、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリクロロプレン、ＰＥＴやＰＢＴのようなポリエステル、ポリエチレンサクシネート、ポリサルフォン、ポリエーテル、また、ベンゾシクロブテン系樹脂やノルボルネン系樹脂等の環状オレフィン系樹脂のような各種樹脂材料の他、石英ガラス、ホウケイ酸ガラスのようなガラス材料等を用いることができる。なお、樹脂材料は、異なる組成のものを組み合わせた複合材料であってもよい。
【００４４】
また、これらの中でも特に（メタ）アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリイミド系樹脂、フッ素系樹脂、およびポリオレフィン系樹脂からなる群から選択される少なくとも１種が好ましく、（メタ）アクリル系樹脂またはエポキシ系樹脂がより好ましい。これらの樹脂材料は、光の透過性が高いことから、特に伝送損失の小さい光導波路１が得られる。
【００４５】
（クラッド層）
一方、クラッド層１１、１２は、コア層１３の下部および上部に位置する。
【００４６】
クラッド層１１、１２の平均厚さは、コア層１３の平均厚さの０．０５〜１．５倍程度であるのが好ましく、０．１〜１．２５倍程度であるのがより好ましい。具体的には、クラッド層１１、１２の平均厚さは、それぞれ１〜２００μｍ程度であるのが好ましく、３〜１００μｍ程度であるのがより好ましく、５〜６０μｍ程度であるのがさらに好ましい。これにより、光導波路１が必要以上に厚膜化するのを防止しつつ、クラッド部としての機能が確保される。
【００４７】
また、クラッド層１１、１２の構成材料としては、例えば、前述したコア層１３の構成材料と同様の材料を用いることができるが、特に（メタ）アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリイミド系樹脂、フッ素系樹脂、およびポリオレフィン系樹脂からなる群から選択される少なくとも１種であるのが好ましく、（メタ）アクリル系樹脂またはエポキシ系樹脂がより好ましい。
【００４８】
また、光導波路１の横断面の厚さ方向の屈折率分布についても、特に限定されず、例えばＳＩ型、ＧＩ型の分布が挙げられる。
【００４９】
光導波路１中に形成されるコア部１４の数は、特に限定されないが、２〜１００本程度であるのが好ましく、２〜５０本程度であるのがより好ましい。なお、コア部１４の数が多い場合は、必要に応じて、光導波路１を多層化してもよい。具体的には、図２に示す光導波路１の上に、さらにコア層とクラッド層とを交互に重ねることにより多層化することができる。
【００５０】
また、必要に応じて、光導波路１の下面には支持フィルムが、上面にはカバーフィルムが、それぞれ必要に応じて設けられていてもよい。
【００５１】
支持フィルムおよびカバーフィルムの構成材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレン、ポリプロピレンのようなポリオレフィン、ポリイミド、ポリアミド等の各種樹脂材料が挙げられる。
【００５２】
また、支持フィルムおよびカバーフィルムの平均厚さは、特に限定されないが、５〜５００μｍ程度であるのが好ましく、１０〜４００μｍ程度であるのがより好ましい。これにより、支持フィルムおよびカバーフィルムは、適度な剛性を有するものとなるため、光導波路１を確実に支持するとともに、外力や外部環境から光導波路１を確実に保護することができる。
【００５３】
（アライメントマーク）
光導波路１は、前述したように、第１アライメントマーク１９１と第２アライメントマーク１９２（以下、これらを合わせて単に「アライメントマーク」ともいう。）とを有する。このアライメントマークは、光導波路１のコア部１４との間で所定の位置関係を有しており、この位置関係に基づき、コア部１４に対して設計通りの位置に加工を施すことが可能になる。
【００５４】
図３に示す第１アライメントマーク１９１は、コア部１４の長手方向と平行なＸ方向に延伸する第１線分１９１１と、Ｘ方向と直交するＹ方向に延伸する第２線分１９１２とが、コア部１４の長手方向の端部１４１をＹ方向にずらした位置の近傍で接続されてなるＬ字状パターン１９１５を含む。また、図３に示す第１アライメントマーク１９１は、「このＬ字状パターン１９１５をＸ方向に平行な線に対して線対称の関係を満足するように複写し、さらに前記Ｌ字状パターン１９１５と前記複写されたパターンとをＹ方向に平行な線に対して線対称の関係を満足するように複写してなるものに等しい形状の部位」を含んでいる。すなわち、この部位とは、向きを変えながら、かつ、所定の間隔を保ちながら４つのＬ字状パターン１９１５を配置したものである。このような４つのＬ字状パターン１９１５を配置したことにより、Ｌ字状パターン１９１５同士で挟まれた側面クラッド部１５は、細い線分同士が交差したクロスパターンＣとなる。このクロスパターンＣ中の交差点１９５はアライメントマークのほぼ中心に位置する点なので、例えば位置座標の基準点等に利用することができる。
【００５５】
一方、図３に示す第２アライメントマーク１９２は、Ｘ方向に延伸する第３線分１９１３とＹ方向に延伸する第４線分１９１４とが接続されてなるパターンを４つ含む。また、第３線分１９１３のみからなるパターンを２つ含む。これら６つのパターンを枠状に配置することにより、図３に示す枠状パターン１９２５が構成されている。また、第２アライメントマーク１９２は、この枠状パターン１９２５が第１アライメントマーク１９１の一部（図３では交差点１９５を中心とする部分）を囲うように配置されている。
【００５６】
このような第１アライメントマーク１９１と第２アライメントマーク１９２とを有することにより、光導波路１に設けられたアライメントマークは、視認性に優れたものとなる。これは、延伸方向が直交関係にある第１線分１９１１と第２線分１９１２とを接続したパターン（図３ではＬ字状パターン１９１５）を含む第１アライメントマーク１９１と、枠状パターン１９２５を含む第２アライメントマーク１９２と、を組み合わせることにより、視認環境（外光の向き、強さ、色等）によらず誤視認の割合が低下するからであると考えられる。また、画像解析によるアライメントマークの視認システムにおいては、アライメントマークの識別方式として主にパターンマッチング方式またはエッジ検出方式がとられるが、光導波路１が有するアライメントマークは、いずれの方式においても高い視認率が得られるマークである。したがって、このアライメントマークを基準として光導波路１に対する加工位置を正確に決定することができる。
【００５７】
なお、図３に示す第２アライメントマーク１９２も、第１アライメントマーク１９１と同様、延伸方向が直交関係にある第３線分１９１３と第４線分１９１４とを接続したパターンを含んでいるため、視認環境によらず誤視認の割合の低下に寄与する。
【００５８】
また、前述した第１線分１９１１および第２線分１９１２は、これらの接続部がコア部１４の端部１４１をＹ方向にずらした位置の近傍に位置するよう配置される。これにより、アライメントマークは、端部１４１近傍にミラーを加工したり、光ファイバー等の光学部品を接続するためのガイド穴を端部１４１の近傍に形成したりするときの加工位置の基準として有用なものとなる。これは、加工位置のＸ座標とアライメントマークのＸ座標とが近いため、コア層１３の製造時の均質性が確実に担保され、熱膨張等の影響でアライメントマークと加工位置との位置関係がずれ難くなるからである。したがって、アライメントマークの安定性が向上する。特に、光導波路１を構成するクラッド層１１、コア層１３およびクラッド層１２は、それぞれロール・ツー・ロール方式で製造されることが多いため、各層の進行方向に直交する幅方向では均質性が維持される確率が特に高い。このため、コア部１４の端部１４１からＹ方向にずれた位置の近傍は、コア部１４との位置関係が重要である加工を施すための基準点（アライメントマーク）の形成位置として最適であるといえる。
【００５９】
なお、コア部１４の端部１４１をＹ方向にずらした位置の近傍とは、コア部１４に隣り合う側面クラッド部１５上であり、かつ図１、３に示す補助線Ｌ上またはその近傍の領域をいう。近傍とは、補助線Ｌから、コア部１４の幅の５０倍以下程度の距離の範囲を指す。
【００６０】
さらに、アライメントマークは、コア部１４と同じ組成の材料で構成されたものである。このようなアライメントマークは、同一環境下ではコア部１４と同じ熱的挙動および機械的挙動を示すため、やはり熱膨張等の影響でアライメントマークとコア部１４との位置関係がずれ難くなる。その結果、かかるアライメントマークを備えた光導波路１は、アライメントマークに基づいて正確な加工を容易に施し得るものとなる。
【００６１】
なお、コア部１４と同じ組成の材料とは、分子構造等も含めて同じ材料であることをいい、例えば単一層からコア部１４と側面クラッド部１５とを作り込む場合、コア部１４と同じ製造プロセスを経て形成されたアライメントマークの構成材料のことをいう。
【００６２】
また、図１に示す第１アライメントマーク１９１が含む第１線分１９１１は、一方の端部が光導波路１の端部に達するまで延伸している。これにより、光導波路１は、第１アライメントマーク１９１周辺における気泡の残留を抑え得るものとなる。例えば光導波路１を製造する際に、ロールラミネート法を用いた場合、コア層１３とクラッド層１２との間に気泡が残留することがある。これは、コア層１３に対して露光処理を施し、コア部１４や側面クラッド部１５とともにアライメントマークを形成する際に、非露光領域（または露光領域）がわずかに収縮し、アライメントマークに対応する部分が側面クラッド部１５に対して低下するため、ロールラミネートの際その部分に気泡が残留し易いからである。そこで、第１線分１９１１を光導波路１の端部に達するまで延伸させることにより、第１線分１９１１に沿って気泡を外部に押し出すことができる。これにより、光導波路１内における気泡の残留が抑えられる。
【００６３】
また、Ｌ字状パターン１９１５における第１線分１９１１と第２線分１９１２との接続部は枠状パターン１９２５の内側に位置し、一方、第１線分１９１１の一部は枠状パターン１９２５の外側にはみ出ている。このような形状のアライメントマークは、特に視認性が高く、かつ気泡の残留し難いものとなる。
【００６４】
なお、第２アライメントマーク１９２が含む枠状パターン１９２５は、例えば図３に示す複数の第３線分１９１３同士が繋がっているパターンであってもよいが、図３に示すように、断続的に途切れた形状のパターンであるのが好ましい。これにより、ロールラミネートの際、この途切れた部分から気泡を抜くことができ、光導波路１内における気泡の残留が抑えられる。
【００６５】
また、アライメントマークは、前述したようにコア部１４と同じ組成の材料で構成されたものであるが、さらに、コア部１４と同一のプロセスで一括して、または連続して形成されたものであるのが好ましい。これにより、このアライメントマークとコア部１４との位置関係が、形成時の時間差によってずれるおそれがなくなるため、アライメントマークの位置精度はさらに安定したものとなる。すなわち、アライメントマークとコア部１４との位置関係が設計通りの関係であることについての信頼性が高くなるので、アライメントマークを基準点にして所定の位置に加工を施すことにより、その加工位置とコア部１４との位置関係も設計通りの関係になることは十分に確からしいといえることになる。
【００６６】
なお、アライメントマークの形成位置は、上記の条件を満たす位置であれば特に限定されないが、図１では、４本の並列するコア部１４が形成された領域の外側に設けられている。したがって、この領域の四隅にそれぞれアライメントマークを形成することにより、アライメントマークと加工位置との距離をそれぞれ短くすることができ、加工位置の精度をより高めることができる。
【００６７】
また、アライメントマークに含まれる各線分の幅は、特に限定されないが、前述したコア部１４の幅と同程度に設定される。これによりアライメントマークの視認性を確保しつつ、アライメントマークの著しい大型化によるスペースの無駄が抑えられる。
【００６８】
また、枠状パターン１９２５の平面視における大きさ（枠の一辺の長さ）は、特に限定されないが、３００〜５０００μｍ程度であるのが好ましく、５００〜３０００μｍ程度であるのがより好ましい。この場合も、アライメントマークの視認性を確保しつつ、アライメントマークの著しい大型化によるスペースの無駄が抑えられる。
【００６９】
なお、本発明の光導波路に係るアライメントマークの形状は、図１、３に示すものに限定されない。
【００７０】
図４は、本発明の光導波路の他の実施形態を示す平面図である。
図４に示す第１アライメントマーク１９１は、図３に示す第１アライメントマーク１９１を側面クラッド部１５に変更し、図３に示すクロスパターンＣを第１線分１９１１および第２線分１９１２に変更した以外、図３に示すものと同様である。このようなアライメントマークにおいても、図１、３に示すものと同様の作用・効果が得られる。
【００７１】
また、第１アライメントマーク１９１は、第１線分１９１１や第２線分１９１２以外の線分、例えばＸ方向に対して４５°傾けた方向に延伸する線分等を含んでいてもよい。このように延伸方向の異なる線分を含むことにより、アライメントマークの基準点としての信頼性をより高めることができる。
【００７２】
また、第２アライメントマーク１９２も、枠状パターン１９２５以外の線分、例えば枠状パターン１９２５をさらに囲う枠状パターンや、Ｘ方向に対して４５°傾けた方向に延伸する線分等を含んでいてもよい。
【００７３】
さらに、光導波路１は、これら第１アライメントマーク１９１および第２アライメントマーク１９２以外のマーク、例えば、第２線分１９１２の延長線上に配置された第３のマークを有していてもよい。
【００７４】
＜光導波路の加工方法＞
次に、本発明の光導波路の加工方法の実施形態について説明する。
【００７５】
図５、６は、それぞれ、本発明の光導波路の加工方法の実施形態を説明するための平面図である。
【００７６】
光導波路（本発明の光導波路）１に対する加工としては、例えば、コア部１４の途中または延長線上にある側面クラッド部１５の一部を凹没させ、ミラーを形成する加工、側面クラッド部１５の一部にガイド穴を形成する加工等が挙げられる。以下、これらの加工について説明する。
【００７７】
（ミラーの形成）
図１に示すコア部１４の途中または延長線上にミラーを形成することにより、コア部１４を伝搬する信号光の光路が変換され、信号光を光導波路１の外部に取り出すことができる。
【００７８】
図５は、コア部１４の延長線上にミラー１７が形成されている例を示す平面図である。このミラー１７は、コア部１４の延長線上にある側面クラッド部１５の一部を凹没させるように加工し、これにより得られる凹部１７０の内面の一部で構成される。ミラー１７の位置や角度に応じて信号光の反射角が大きく変わるため、凹部１７０の形成位置は、光導波路１と他の光学部品との光結合効率の観点から極めて重要である。
【００７９】
ミラー１７の形成には、例えば、ダイサーのような切削・研削加工機、成形型を押し当てて成形する成形加工機、レーザー加工機、電子線加工機等が用いられる。これらの加工機は、いずれも被加工物を載せるステージおよび加工ツールを備え、これらのうちの少なくとも一方を相対的に移動させながら被加工物を加工することにより、任意の形状の加工を施す。加えて、これらの加工機は画像認識システムを備えており、画像認識システムのカメラ（例えばＣＣＤ、ＣＭＯＳ等）によって光導波路１のアライメントマークを認識することにより、加工機の内部の座標系を光導波路１の座標系と対応させる。このような座標系の対応により、アライメントマークを基準点として光導波路１の任意の位置に正確な加工を施すことができる。
【００８０】
ミラー１７を形成するには、まず、これらの加工機の画像認識システムに光導波路１のアライメントマークを認識させる。アライメントマークの認識は、あらかじめ画像認識システムに記憶させておいたパターンとカメラが捉えたアライメントマークの画像とが一致するようにステージおよび画像認識システムのカメラのうちの少なくとも一方を相対的に移動させる方法や、アライメントマークのエッジのコントラストを検出する方法等により行われる。
【００８１】
なお、第１アライメントマーク１９１により形成される前述したクロスパターンＣの交差点１９５および第２アライメントマーク１９２が含む枠状パターン１９２５の中心点に基づき、例えばこの点を座標系の原点として設定することができる。また、第１アライメントマーク１９１では、Ｘ方向に延伸する第１線分１９１１がＹ方向に延伸する第２線分１９１２よりも長く設定されている。このような長さの差を設けることにより、第１線分１９１１の延伸方向をＸ方向と認識させることができる。以上のようにして、加工機の内部の座標系を光導波路１の座標系と対応させることができる。
【００８２】
また、アライメントマークを認識させる以外に、アライメントマーク以外の構造（例えば光導波路１のエッジ、コア部１４等）を認識させることを併用して、基準点の信頼性をより高めるようにしてもよい。
【００８３】
次いで、加工機の内部の座標系と光学設計による加工位置の座標とに基づき、光導波路１に凹部１７０を加工する。これにより設計通りの位置に加工が施され、図５に示すミラー１７が形成される。
【００８４】
（ガイド穴の形成）
次に、図５に示す光導波路１に対してガイド穴１８を形成する。このガイド穴１８は、光導波路１と光学的に接続される他の光学部品（例えば光ファイバー等）が備えるガイドピンが挿入されることにより、光導波路１のコア部１４の光軸と光ファイバーのコア部の光軸とを一致させ得るものである。
【００８５】
ガイド穴１８の形成にも、マイクロドリルのような機械加工機、成形加工機、レーザー加工機、電子線加工機等が用いられる。
【００８６】
ガイド穴１８を形成するには、ミラー１７の形成の場合と同様、まず、加工機の画像認識システムに光導波路１のアライメントマークを認識させ、加工機の内部の座標系を光導波路１の座標系と対応させる。
【００８７】
次いで、加工機の内部の座標系と他の光学部品が備えるガイドピンの配置や受発光部の配置とに基づき、光導波路１にガイド穴１８を加工する。これにより、図６に示すガイド穴１８が形成される。なお、図６では、第１アライメントマーク１９１のクロスパターンＣの交差点１９５の位置にガイド穴１８が形成されているが、ガイド穴１８の形成位置はこれに限定されない。
【００８８】
ここで、図７は、光導波路１に形成したガイド穴１８に光ファイバーの端部に装着された光コネクターのガイドピンを挿入し、嵌合させる様子を説明するための斜視図である。
【００８９】
形成されたガイド穴１８に対し、図７に示すように、光ファイバー９の端部に装着された光コネクター９１のガイドピン９１１を挿入する。これにより、光導波路１のコア部１４の光軸と光ファイバーのコア部の光軸とを一致させ、光学的に接続することができる。
【００９０】
なお、本実施形態では、ミラー１７およびガイド穴１８の双方について、その近傍に設けたアライメントマークを基準にして形成しているため、これら相互の位置関係およびこれらとコア部１４との位置関係をほぼ設計通りに再現することができ、とりわけ光結合効率の高い接続が可能になる。
【００９１】
また、アライメントマークは、加工の際の基準としてだけでなく、光導波路１に対して、レンズ、回折格子、フィルター、偏光子のような各種光学部品、発光素子（ＶＣＳＥＬ）、受光素子（ＰＤ）のような各種光学素子、ＬＳＩ、ＩＣのような各種電気素子、各種電気回路基板等を載置する際の基準としても用いられる。これらの部品や素子を載置する際には、必要に応じてダイボンダー、フリップチップボンダーのような各種ボンダー、チップマウンターのような各種マウンターを用いることができる。これらの装置においても画像認識システムにアライメントマークを認識させ、装置内部の座標系を光導波路１の座標系と対応させるようにすればよい。
【００９２】
＜光導波路の製造方法＞
次に、本発明の光導波路を製造する方法について説明する。
【００９３】
光導波路１は、クラッド層１１、コア層１３およびクラッド層１２をこの順に積層し、圧着または接着することによって製造されるが、このうちコア層１３中にコア部１４と側面クラッド部１５とを形成するのには、例えばナノインプリント法、直接描画法、直接露光自己形成法等が用いられる。このうち、直接描画法では、光等の放射線の照射により露光領域と非露光領域との間に屈折率差を形成し得る屈折率変調能を有する被膜に向けて局所的に放射線を照射し、屈折率差を形成することによりコア部１４と側面クラッド部１５とを形成する。また、コア部１４とともにアライメントマークも形成される。
【００９４】
屈折率変調の原理には、例えばモノマーディフュージョン、フォトブリーチング、光異性化、光二量化等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせたものが用いられる。このうち、屈折率変調の原理としては、特にモノマーディフュージョンが好ましく採用される。モノマーディフュージョンでは、ポリマー中にこのポリマーと屈折率の異なる光重合性モノマーが分散してなる材料で構成された層に対して部分的に光を照射（露光）し、光重合性モノマーの重合を生起させるとともに、それに伴って光重合性モノマーを移動、偏在させることにより、層内に屈折率の偏りが生じる。すなわち、層の露光領域と非露光領域との間に屈折率差が生じる。なお、ポリマーと光重合性モノマーとの間における屈折率の大小関係に応じて、露光領域の屈折率が高くなる場合と低くなる場合とがある。このようにして、露光領域と非露光領域のうち、高屈折率側の領域がコア部１４およびアライメントマークとなり、低屈折率側の領域が側面クラッド部１５となる。
【００９５】
このような原理の屈折率変調においては、光を照射する領域を選択するのみで、いかなる形状のコア部１４をも簡単に形成することができるので、光導波路１を極めて効率よく製造することができる。また、このような原理で形成される屈折率分布は、光重合性モノマーの濃度分布に対応して形成されるため、形成されたコア部１４の横断面における屈折率分布は滑らかな屈折率変化を伴うものとなる。その結果、製造される光導波路１は、ＧＩ型の屈折率分布を有するものとなり、伝送特性が高いものとなる。さらに、コア部１４に対して高い位置精度を有するアライメントマークを形成することができる。
【００９６】
このようなモノマーディフュージョンを生じる材料としては、例えば、特開２０１０−０９０３２８号公報に記載された感光性樹脂組成物等が挙げられる。
【００９７】
一方、フォトブリーチング、光異性化および光二量化といった原理による屈折率変調の場合、照射する光の照射量（放射線の照射量）に応じて屈折率の変化量を調整することができる。フォトブリーチングでは、光の照射によって材料中の分子構造が切断され、離脱性基が主鎖から離脱する。これにより材料の屈折率を変化させ、コア部１４およびアライメントマークを形成する。また、光異性化および光二量化では、光の照射によって材料の光異性化または光二量化を生じ、材料の屈折率が変化する。これによりコア部１４およびアライメントマークを形成する。
【００９８】
フォトブリーチングを生じる材料としては、例えば、特開２００９−１４５８６７号公報に記載されたコアフィルム材料等が挙げられる。
【００９９】
また、光異性化を生じる材料としては、例えば、特開２００５−１６４６５０号公報に記載されたノルボルネン系樹脂等が挙げられる。
【０１００】
また、光二量化を生じる材料としては、例えば、特開２０１１−１０５７９１号公報に記載された感光性樹脂組成物等が挙げられる。
【０１０１】
なお、照射する光の照射量を徐々に変化させることにより、形成される屈折率分布も滑らかな屈折率変化を伴うものとなる。照射する光の照射量を徐々に変化させる方法としては、例えば、グレイトーンマスクやハーフトーンマスクといった多階調マスクを用いる方法、光強度に分布がある光ビームを走査する方法、領域ごとの照射時間を変化させつつ照射する方法等が挙げられる。
【０１０２】
また、これらの屈折率変調においては、その原理に応じて非露光領域または露光領域のいずれかが収縮する。このため、ロールラミネート法やプレスラミネート法において、この収縮した部分に気泡が残留するおそれがある。このような気泡を除去するにあたり、前述した形状のアライメントマークが有用になるのである。
【０１０３】
また、ポリマー中に屈折率調整剤を拡散させ、その際、屈折率調整剤の濃度を連続的に変化させることによって屈折率差を形成するようにしてもよい。ポリマー中に屈折率調整剤を供給する方法としては、例えば、塗布、噴霧、付着、浸漬、堆積等の方法が挙げられる。このような供給方法で屈折率調整剤を供給する際、領域ごとの供給量を調整することによって、任意の屈折率分布を形成することができる。なお、屈折率調整剤としては、例えば、特開２００６−２７６７３５号公報に記載されたものが挙げられる。
【０１０４】
また、露光処理に用いる露光装置としては、形成すべき導波路パターンに対応したフォトマスクを介して露光する装置を用いるようにしてもよいが、光を照射する領域を細かく制御し、フォトマスクを用いることなく露光すべき領域のみに光を選択的に照射する装置（マスクレス露光装置）を用いるのが好ましい。これにより、高い空間分解能でかつ効率よく露光処理を施すことができる。また、フォトマスクが不要になるので、露光処理の低コスト化が図られるとともに、異なる導波路パターンにも速やかに切り替えることができるので、多品種少量生産が可能になる。
【０１０５】
マスクレス露光装置としては、例えば、デジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）のような反射型空間光変調素子、液晶表示素子（ＬＣＤ）のような透過型空間光変調素子といった各種の空間光変調素子を利用し、光源からの光を空間変調された光ビームとして出射するものが挙げられる。
このうち、光源としては、例えばランプ、レーザー光源、ＬＥＤ等が用いられる。
【０１０６】
また、上記以外の空間光変調素子としては、空間光変調器（ＳＬＭ：Spatial Light Modulator）のようなＭＥＭＳ（Micro Electro Mechanical System）方式の空間光変調素子、ＰＬＺＴ素子のような電気光学効果により透過光を変調する空間光変調素子、液晶光シャッター等が挙げられる。
【０１０７】
さらには、光源として複数の発光点を格子状に配列させたもの、例えば、レーザーダイオード（ＬＤ）アレイ、発光ダイオード（ＬＥＤ）アレイ、有機ＥＬアレイ等もこの露光処理に用いることができる。このような光源を用いた場合には、空間光変調素子を省略することもできる。
【０１０８】
なお、マスクレス露光装置は、光源や空間光変調素子以外に、被処理物を駆動するＸＹＺステージ、各種光学系、光源や空間光変調素子の動作を制御する制御部等を有していてもよい。
【０１０９】
＜電子機器＞
上述したような本発明の光導波路は、前述したように、位置精度の高い加工を容易に施し得るものであるため、他の光学部品と接続する際の光結合効率を高め得るものとなる。したがって、本発明の光導波路を備えることにより、高品質の光通信を行い得る信頼性の高い電子機器が得られる。
【０１１０】
本発明の光導波路を備える電子機器としては、例えば、携帯電話、ゲーム機、ルーター装置、ＷＤＭ装置、パソコン、テレビ、ホーム・サーバー等の電子機器類が挙げられる。これらの電子機器では、いずれも、例えばＬＳＩ等の演算装置とＲＡＭ等の記憶装置との間で、大容量のデータを高速に伝送する必要がある。したがって、このような電子機器が本発明の光導波路を備えることにより、電気配線に特有なノイズ、信号劣化等の不具合が解消され、その性能の飛躍的な向上が期待できる。
【０１１１】
さらに、光導波路部分では、電気配線に比べて発熱量が大幅に削減される。このため、冷却に要する電力を削減することができ、電子機器全体の消費電力を削減することができる。
【０１１２】
以上、本発明の光導波路および光導波路の加工方法を、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【実施例】
【０１１３】
次に、本発明の具体的実施例について説明する。
１．光導波路の製造
（実施例１）
（１）クラッド層形成用樹脂組成物の製造
ダイセル化学工業（株）製の脂環式エポキシ樹脂、セロキサイド２０８１  ２０ｇ、（株）ＡＤＥＫＡ製のカチオン重合開始剤、アデカオプトマーＳＰ−１７０  ０．６ｇ、およびメチルイソブチルケトン８０ｇを撹拌混合して溶液を調製した。
【０１１４】
次いで、得られた溶液を０．２μｍ孔径のＰＴＦＥフィルターでろ過して清浄で無色透明なクラッド層形成用樹脂組成物を得た。
【０１１５】
（２）感光性樹脂組成物の製造
エポキシ系ポリマーとして新日鐵化学（株）製のフェノキシ樹脂、ＹＰ−５０Ｓ  ２０ｇ、光重合性モノマーとしてダイセル化学工業（株）製のセロキサイド２０２１Ｐ  ５ｇ、および重合開始剤として（株）ＡＤＥＫＡ製のアデカオプトマーＳＰ−１７０  ０．２ｇを、メチルイソブチルケトン８０ｇ中に投入し、撹拌溶解して溶液を調製した。
【０１１６】
次いで、得られた溶液を０．２μｍ孔径のＰＴＦＥフィルターでろ過して清浄で無色透明な感光性樹脂組成物を得た。
【０１１７】
（３）下側クラッド層の作製
クラッド層形成用樹脂組成物をドクターブレードにより厚さ２５μｍのポリイミドフィルム上に均一に塗布した後、５０℃の乾燥機に１０分間投入した。溶媒を完全に除去した後、ＵＶ露光機で全面に紫外線を照射し、塗布した樹脂組成物を硬化させた。これにより、厚さ１０μｍの無色透明な下側クラッド層を得た。なお、紫外線の積算光量は５００ｍＪ／ｃｍ２とした。
【０１１８】
（４）コア層の作製
作製した下側クラッド層上に感光性樹脂組成物をドクターブレードにより均一に塗布した後、４０℃の乾燥機に５分間投入した。溶媒を完全に除去して被膜とした後、得られた被膜上に、ライン、スペースの直線パターンを描くように、マスクレス露光装置により紫外線を照射した。なお、紫外線の積算光量は１０００ｍＪ／ｃｍ２とした。
【０１１９】
次いで、露光後の被膜を１５０℃のオーブンに３０分間投入した。オーブンから取り出すと、被膜には鮮明な８本の導波路パターンおよびアライメントマークが現れているのが確認された。なお、アライメントマークは図３に示すものである。また、得られたコア部のピッチは１２５μｍ、得られたコア層の厚さは５０μｍであった。
【０１２０】
（５）上側クラッド層の作製
作製したコア層上に、（３）と同様にしてクラッド層形成用樹脂組成物を塗布し、厚さ１０μｍの無色透明な上側クラッド層を得た。
【０１２１】
（６）ミラーの作製
次に、得られたものをレーザー加工機にセットし、画像認識システムによりアライメントマークを認識させた。次いで、このアライメントマークの位置に基づき、レーザー加工により、コア部の位置に合わせて設計した位置に凹部を加工した。これによりミラーを作製した。なお、ミラーの形成位置は、図５に示すようにコア部の延長線上にある側面クラッド部とした。以上のようにして長さ１０ｃｍの光導波路を得た。
【０１２２】
（実施例２）
アライメントマークを図４に示すものに変更した以外は、実施例１と同様にして光導波路を得た。
【０１２３】
（比較例１）
アライメントマークとして図４に示す第１アライメントマーク１９１のみを用いた以外は、実施例１と同様にして光導波路を得た。
【０１２４】
（比較例２）
図１に示すアライメントマークを全て省略し、代わりのアライメントマークとしてコア部１４の端部１４１のエッジを用いた以外は、実施例１と同様にして光導波路を得た。
【０１２５】
２．光導波路の評価
各実施例および比較例で得られた光導波路について、各コア部に対応して形成されたミラーの設計上の位置と加工による実際の位置との最大ずれ量を測定した。そして、８本のコア部における最大ずれ量を平均し、これを加工精度を表す指標とした。
【０１２６】
各光導波路についてこの指標を比較したところ、実施例１の平均最大ずれ量が最も小さく、次いで実施例２の平均最大ずれ量が小さかった。
【０１２７】
一方、比較例１の平均最大ずれ量は実施例２よりかなり大きく、比較例２の平均最大ずれ量は比較例１よりもさらに大きかった。
【０１２８】
以上のような結果から、本発明の光導波路では、アライメントマークの基準点としての安定性、信頼性が高いことが裏付けられた。そして、本発明の光導波路によれば、高い位置精度で加工を行い得ることが明らかとなった。
【符号の説明】
【０１２９】
１                      光導波路
１１、１２              クラッド層
１３                    コア層
１４                    コア部
１４１                  端部
１５                    側面クラッド部
１７                    ミラー
１７０                  凹部
１８                    ガイド穴
１９１                  第１アライメントマーク
１９１１                第１線分
１９１２                第２線分
１９１３                第３線分
１９１４                第４線分
１９１５                Ｌ字状パターン
１９２                  第２アライメントマーク
１９２５                枠状パターン
１９５                  交差点
９                      光ファイバー
９１                    光コネクター
９１１                  ガイドピン
Ｃ                      クロスパターン
Ｌ                      補助線
【図１】
2013257433.tif 000003
【図２】
2013257433.tif 000004
【図３】
2013257433.tif 000005
【図４】
2013257433.tif 000006
【図５】
2013257433.tif 000007
【図６】
2013257433.tif 000008
【図７】
2013257433.tif 000009