(57)【要約】【課題】厚さ４００μｍ以下のワークガラスを用いても、ハンドリングや平坦度の確保に支障を来さず、各種製造プロセスに通すことができ、高価な装置を要しないワークガラス用サポート治具及びその取扱方法を提供する。【解決手段】厚さ４００μｍ以下のワークガラス１を搭載するベース基板１０と、ベース基板１０の表面に設けられ、ワークガラス１の対向面の周縁部２に粘着する粘着材１１と、ベース基板１０に設けられてワークガラス１を包囲する包囲壁１２とを備え、ベース基板１０と包囲壁１２を耐熱性の光学ガラスにより形成し、粘着材１１を、耐熱性の粘着材料により形成してその厚さを１〜６０μｍの範囲内とすることにより、包囲壁１２にワークガラス１が包囲される場合に、ワークガラス１の露出面が包囲壁１２の表面よりも上方に位置するのを規制し、包囲壁１２を、ワークガラス１の周面との間に１〜５ｍｍの隙間を区画するエンドレスに形成する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
厚さ４００μｍ以下のワークガラスを搭載するハンドリング可能なベース基板と、このベース基板の片面に設けられ、ワークガラスの対向する対向面における周縁部の少なくとも一部分に粘着する粘着材と、ベース基板に設けられてワークガラスを包囲する包囲壁とを含み、
ベース基板と包囲壁とを、耐熱性を有する光学ガラスによりそれぞれ形成し、粘着材を、耐熱性を有する粘着材料により形成してその厚さを１〜６０μｍの範囲内とすることにより、包囲壁にワークガラスが包囲される場合に、ワークガラスの露出面が包囲壁の表面よりも上方に位置するのを規制し、包囲壁を、ワークガラスの周面との間に１〜５ｍｍの隙間を区画するエンドレスに形成したことを特徴とするワークガラス用サポート治具。
【請求項２】
ベース基板に平面略枠形の包囲壁を一体形成し、この包囲壁の内周縁部付近に粘着材を位置させるようにした請求項１記載のワークガラス用サポート治具。
【請求項３】
ベース基板の表面に平面略枠形の包囲壁を積層して接着し、この包囲壁の内周縁部付近に粘着材を位置させるようにした請求項１記載のワークガラス用サポート治具。
【請求項４】
液晶デバイスの製造プロセスで請求項１、２、又は３に記載したワークガラス用サポート治具にワークガラスを粘着して取り扱うことを特徴とするワークガラス用サポート治具の取扱方法。
【請求項５】
粘着したワークガラスに所定の処理を施してＴＦＴアレイ基板を製造し、ＴＦＴアレイ基板の露出面に配向膜用樹脂を塗布した後、ＴＦＴアレイ基板の露出面に配向膜をラビング処理により形成する請求項４記載のワークガラス用サポート治具の取扱方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶デバイスや液晶レンズの製造プロセスで使用されるワークガラス用サポート治具及びその取扱方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶デバイスを薄くする場合には、図示しないが、厚さ５００μｍ程度の剛性を有するワークガラスを用意し、この厚いワークガラスを用いて液晶デバイスを製造し、その後、製造した液晶デバイスをウェットエッチング法や研削法等により薄化している（特許文献１、２、３、４参照）。
【０００３】
しかしながら、製造した液晶デバイスをウェットエッチング法により薄化する場合には、均一な薄さ精度を得ることが困難になる。また、ウェットエッチング法を採用する場合、エッチング液の浸入を防止する観点から、液晶デバイスの周縁部をマスキングしてエッチングする必要があるが、そうすると、液晶デバイスの周縁部が厚いまま残存するので、周縁部を後からカットする作業が新たに必要となる。また、面積的な観点からも、製品率の低下を招くおそれが少なくない。さらに、ウェットエッチング法の場合、廃液の処理に配慮しなければならないので、高価な廃液処理装置を設置せざるを得ず、コストを削減できないという問題も生じる。
【０００４】
これに対し、液晶デバイスを研削法により薄化する場合には、半導体用の研削装置等を使用することができるので、均一な薄さ精度を容易に得ることができる。しかしながら、研削法を採用する場合、一度に処理できる数量に限界があるので、生産性が低下するという大きな問題が新たに生じることとなる。
これらの問題を解消するため、厚いワークガラスを使用するのではなく、当初から薄いワークガラスを用いる方法が提案され、検討されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１１‐１６４４２７号公報
【特許文献２】特開２００９‐６９７５９号公報
【特許文献３】特開２００１‐１０８８３８号公報
【特許文献４】特開２００３‐３３０００６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、ワークガラスは、厚さが４００μｍ以下、特に１００μｍ以下になると、撓んで変形してしまうので、単体でのハンドリングや平坦度の確保に支障を来し、しかも、各製造プロセスに通すこともできなくなる。この点に鑑み、ワークガラスを曲率半径の大きいロールに巻装し、ロールツーロール方式で連続加工する方法が検討されているが、この方法を採用すると、きわめて高価な繰出装置や巻取装置を用意しなければならないという問題が新たに生じる。
【０００７】
本発明は上記に鑑みなされたもので、例え厚さ４００μｍ以下の薄いワークガラスを使用しても、ハンドリングや平坦度の確保に支障を来すことがなく、各種の製造プロセスに通すことができ、しかも、高価な装置を要しないワークガラス用サポート治具及びその取扱方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明においては上記課題を解決するため、厚さ４００μｍ以下のワークガラスを搭載するハンドリング可能なベース基板と、このベース基板の片面に設けられ、ワークガラスの対向する対向面における周縁部の少なくとも一部分に粘着する粘着材と、ベース基板に設けられてワークガラスを包囲する包囲壁とを含み、
ベース基板と包囲壁とを、耐熱性を有する光学ガラスによりそれぞれ形成し、粘着材を、耐熱性を有する粘着材料により形成してその厚さを１〜６０μｍの範囲内とすることにより、包囲壁にワークガラスが包囲される場合に、ワークガラスの露出面が包囲壁の表面よりも上方に位置するのを規制し、包囲壁を、ワークガラスの周面との間に１〜５ｍｍの隙間を区画するエンドレスに形成したことを特徴としている。
【０００９】
なお、ベース基板と包囲壁とを、少なくとも２００℃以上の耐熱性を有する硼珪酸ガラスと無アルカリガラスのいずれかによりそれぞれ形成することができる。
また、ベース基板に平面略枠形の包囲壁を一体形成し、この包囲壁の内周縁部付近に粘着材を位置させることができる。
また、ベース基板の表面に平面略枠形の包囲壁を積層接着し、この包囲壁の内周縁部付近に粘着材を位置させることもできる。
【００１０】
また、粘着材を、少なくとも２００℃以上の耐熱性を有するシリコーン系あるいはフッ素系の粘着材料とし、この粘着材を平面略枠形に印刷することが可能である。
また、粘着材を、少なくとも２００℃以上の耐熱性を有する縮合型のシリコーン系エラストマーとし、この粘着材を平面略枠形に印刷することが可能である。
【００１１】
また、本発明においては上記課題を解決するため、液晶デバイスの製造プロセスで請求項１、２、又は３に記載したワークガラス用サポート治具にワークガラスを粘着して取り扱うことを特徴としている。
【００１２】
なお、減圧下でワークガラス用サポート治具の粘着材にワークガラスを粘着することが好ましい。
また、粘着したワークガラスに所定の処理を施してＴＦＴアレイ基板を製造し、ＴＦＴアレイ基板の露出面に配向膜用樹脂を塗布した後、ＴＦＴアレイ基板の露出面に配向膜をラビング処理により形成することができる。
【００１３】
また、ワークガラスの露出面に所定の処理を施した後、ベース基板の表面に、ワークガラスを包囲する包囲壁を接着することもできる。
また、ＴＦＴアレイ基板の表面に配向膜をラビング処理で形成した後、ベース基板の表面に、ワークガラスを包囲する包囲壁を接着することが可能である。
【００１４】
ここで、特許請求の範囲におけるワークガラスの厚さは、ハンドリングが困難な４００μｍ以下であれば、２００μｍ、１００μｍ、７５μｍ、５０μｍ程度でも良い。また、包囲壁が設けられるのは、ベース基板の片面に粘着材が設けられる前でも良いし、設けられた後でも良い。液晶デバイスの製造プロセスには、少なくとも真空プロセス、加熱プロセス、液晶に方向性を与える配向膜の形成プロセス等が含まれる。
【００１５】
本発明によれば、ワークガラス用サポート治具のベース基板の片面に厚さ４００μｍ以下の薄いワークガラスを配置し、粘着材にワークガラスの対向面周縁部を粘着支持させれば、薄く脆いワークガラスの撓みを防ぐことができ、ワークガラスのハンドリングが可能になる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、例え厚さ４００μｍ以下の薄いワークガラスを使用しても、ハンドリングや平坦度の確保に支障を来すことが少ないという効果がある。また、液晶デバイスの各種製造プロセスに薄いワークガラスを容易に通すことができ、高価な製造装置を省くことができる。また、液晶デバイスの製造当初から薄いワークガラスを使用することができるので、均一な薄さ精度の液晶デバイスを効率的に得ることができ、しかも、液晶デバイスの厚い周縁部を後からカットする作業を省略したり、製品率の低下を招くおそれを有効に排除することができる。
【００１７】
また、請求項２記載の発明によれば、ベース基板に平面略枠形の包囲壁を一体形成するので、ワークガラス用サポート治具の製造に要する作業時間を短縮したり、部品点数を削減することができる。
また、請求項３記載の発明によれば、ワークガラス用サポート治具の製造時に、ベース基板の表面に粘着材を印刷して形成した後、ベース基板の表面に包囲壁を接着するようにすれば、包囲壁が粘着材の印刷の障害になるおそれが少ないので、ベース基板に粘着材を容易に形成することが可能になる。
【００１８】
さらに、請求項５記載の発明によれば、ワークガラスの露出面高さが包囲壁の表面高さを超えることがないので、ワークガラスに配向膜をラビング処理で形成する際、ラビング装置の干渉に伴い、ワークガラスが周縁部から捲れ、配向膜の形成に支障を来すのを有効に防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明に係るワークガラス用サポート治具の実施形態を模式的に示す斜視説明図である。
【図２】本発明に係るワークガラス用サポート治具の実施形態を模式的に示す平面説明図である。
【図３】本発明に係るワークガラス用サポート治具の実施形態を模式的に示す断面説明図である。
【図４】本発明に係るワークガラス用サポート治具の第２の実施形態を模式的に示す断面説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、図面を参照して本発明の実施形態を説明すると、本実施形態におけるワークガラス用サポート治具は、図１ないし図３に示すように、枚葉化された薄いワークガラス１を搭載する肉厚のベース基板１０と、このベース基板１０に設けられてワークガラス１の不要な周縁部２に粘着する弱粘着性の粘着材１１と、ベース基板１０に一体化されてワークガラス１を包囲する平面枠形の包囲壁１２とを備え、配向膜の形成プロセス等を含む液晶デバイスの製造プロセスで使用される。
【００２１】
ワークガラス１は、図１ないし図３に示すように、例えば約１８３ｍｍ×約２５５ｍｍの大きさを有する平面矩形の薄板ガラスからなり、周縁部２以外の大部分が液晶デバイスの製造に使用される。このワークガラス１は、厚さ４００μｍ以下、好ましくは２００μｍ以下、より好ましくは１００μｍ以下の薄さを有し、容易に撓んで変形し、単独でのハンドリングが困難であるという特徴を有する。
【００２２】
ベース基板１０と包囲壁１２とは、図１や図３に示すように、所定の光学ガラスにより一体形成され、少なくとも２００℃以上×３０分、好ましくは２５０℃以上×１時間、より好ましくは３００℃×１時間程度の環境下での耐熱性を有する。このような耐熱性が付与されるのは、液晶デバイスの製造プロセスに加熱プロセス（例えば、スパッタリングプロセスや焼成プロセス等）が存在するからである。
【００２３】
光学ガラスとしては、例えば耐熱性に優れる白板ガラスと呼ばれる硼珪酸ガラスや無アルカリガラス等があげられる。但し、イオンの放出を防止し、低膨張率、耐薬品性、透過性等に優れる透明な硼珪酸ガラスの採用が好ましい。この硼珪酸ガラスによれば、酸化硼素を多く含むので、ベース基板１０と包囲壁１２の耐久性をも向上させることができる。
【００２４】
ベース基板１０と包囲壁１２とは、厚さが５００μｍ以上、例えば７００μｍ〜８００μｍ程度に形成され、ハンドリングが可能な剛性を有する。ベース基板１０は、例えば約３２０ｍｍ×約４００ｍｍのワークガラス１よりも大きい平面矩形に形成され、ワークガラス１に対向する平坦な表面側に包囲壁１２が一体形成される。
【００２５】
粘着材１１は、図１や図３に示すように、例えば液晶デバイスの加熱プロセスに配慮した耐熱性の粘着材料からなり、ベース基板１０の表面にエンドレスに形成されて包囲壁１２の内周縁部付近に位置し、ワークガラス１の対向する対向面における周縁部２に着脱自在に粘着する。
【００２６】
粘着材１１の具体的な粘着材料としては、例えばアクリル系、シリコーン系、フッ素系のゴムやエラストマーがあげられる。但し、これらの中でも、少なくとも２００℃以上×３０分、好ましくは２５０℃以上×１時間、より好ましくは３００℃×１時間程度の環境下で優れた耐熱性を発揮するシリコーン系やフッ素系のゴム、エラストマーが良い。シリコーン系の粘着材料が選択される場合、耐熱性や密着力にきわめて優れる比較的安価な縮合型（室温硬化型）のシリコーン系エラストマー（例えば、信越化学工業株式会社製）が最適である。
【００２７】
粘着材１１は、例えば１ｍｍ幅で断面矩形の線条に形成され、ベース基板１０の表面にワークガラス１の周縁部２に対応する枠を区画する。この粘着材１１を形成する場合には、例えば粘着材１１の形成予定領域の周囲に所定の厚さのマスキングを施し、粘着材１１の形成予定領域に粘着材料をディスペンサ等により充填し、マスキングの表面をスキージ等で擦ることにより、粘着材料を平坦化して余分な粘着材料を除去し、その後、マスキングを除去することで均一に形成することができる。
【００２８】
但し、粘着材１１が厚い（高い）と、ベース基板１０方向にワークガラス１の中央部等が撓むおそれがあるので、ワークガラス１を高精度に薄くし、ワークガラス１が撓むのを防止するためには、スクリーン印刷法やグラビア印刷法で形成することが好ましい。
【００２９】
粘着材１１の厚さは、包囲壁１２にワークガラス１が嵌合包囲された場合に、ワークガラス１の露出した表面が包囲壁１２の平坦な表面よりも上方に位置せず、ワークガラス１の表面が包囲壁１２の表面と面一に揃うか、あるいはワークガラス１の表面高さが包囲壁１２の表面高さよりも僅かに低位に位置するよう調整される（図３参照）。
【００３０】
これは、ワークガラス１の表面高さが包囲壁１２の表面高さを超えると、ワークガラス１の表面に配向膜をラビング処理で形成する際、ラビング装置のラビングブラシの干渉に伴い、ワークガラス１が周縁部２から捲れ上がり、形成作業に支障を来すからである。これに対し、ワークガラス１の表面高さが包囲壁１２の表面高さ以下であれば、ワークガラス１の表面に配向膜を円滑にラビング処理で形成することが可能になる。
【００３１】
具体的な粘着材１１の厚さとしては、１〜６０μｍで、かつワークガラス１の厚さの１／６〜１／３、好ましくは１０〜５０μｍで、かつワークガラス１の厚さの１／５〜１／３、より好ましくは１０〜２５μｍで、かつワークガラス１の厚さの１／４程度が良い。
【００３２】
包囲壁１２は、ワークガラス１よりも大きいエンドレスの平面枠形に形成されてその平面矩形の中空１３から粘着材１１を露出させ、ワークガラス１を外側から遊嵌包囲して位置決めする。この包囲壁１２の内周面は、図２や図３に示すように、ワークガラス１の周面に密接せず、ワークガラス１の周面との間に１ｍｍ〜５ｍｍ、好ましくは４ｍｍ程度の隙間Ｃを区画することにより、ワークガラス１の着脱を容易にするよう機能する。
【００３３】
上記において、ワークガラス用サポート治具を製造する場合には、先ず、用意したベース基板１０の表面に、ワークガラス１よりも僅かに大きい平面矩形の凹部をエッチング方法等により形成し、この凹部内の前後左右の周縁に流動性の粘着材料をスクリーン印刷法等により平面枠形に印刷した後、ドライラック等にワークガラス用サポート治具をセットして所定の時間放置し、粘着材料を硬化させて粘着材１１を形成すれば、ベース基板１０と包囲壁１２とが一体のワークガラス用サポート治具を製造することができる。
【００３４】
次に、液晶デバイスの製造プロセスで薄く撓みやすいワークガラス１を取り扱う場合には、先ず、ワークガラス用サポート治具の包囲壁１２の中空１３にワークガラス１を遊嵌し、粘着材１１にワークガラス１の対向面周縁部２を押圧して水平に粘着支持させる。この際、後の真空プロセス等でワークガラス１が一時的に浮き上がるのを防止するため、減圧下で粘着材１１にワークガラス１を粘着することが好ましい。粘着材１１にワークガラス１の対向面周縁部２を粘着支持させるので、例えワークガラス用サポート治具を傾けたり、反転しても、ワークガラス１が脱落するのを簡易な構成で有効に防止することができる。
【００３５】
こうしてワークガラス用サポート治具にワークガラス１を粘着支持させたら、液晶デバイスの製造プロセスにワークガラス１を順次供給して繰り返すことにより、ワークガラス１をＴＦＴアレイ基板に製造する。具体的には、（１）ワークガラス１の洗浄・乾燥、（２）２５０℃×約３０分の条件下でのＩＴＯスパッタリング、（３）ワークガラス１の表面に対するレジスト塗布、（４）フォトマスクによる露光パターニング、（５）現像、（６）ウェットエッチング又はドライエッチング、（７）レジスト剥離のプロセスに順次供給し、これらを複数回（例えば３回）繰り返すことにより、ワークガラス１をＴＦＴアレイ基板に製造する。
【００３６】
次いで、ＴＦＴアレイ基板の表面に配向膜用樹脂を塗布し、この配向膜用樹脂をラビング処理して配向膜を形成し、この配向膜上に液晶を滴下した後、この液晶を２３０℃×約２０分の条件下で加熱し、レベリング、焼成する。液晶を焼成したら、この液晶に、カラーフィルタ、配向膜、及びエポキシシール剤を塗布した部品を真空中で貼着することにより中間品を製造し、この中間品を１５０℃×約１時間の条件下で加熱することにより、エポキシシール剤を硬化させる。
【００３７】
次いで、中間品を５インチサイズの液晶の大きさにスクライブブレイクすることにより、５インチサイズの液晶セルを形成し、この５インチサイズの液晶セルの両面に偏向板を貼着し、二方向にＴＣＰを用いて電極を取り出すとともに、ドライバＩＣを取り付けた後、バックライトを装着すれば、液晶モジュールを製造することができる。
【００３８】
次に、液晶レンズデバイスの製造プロセスで薄く撓みやすいワークガラス１を取り扱う場合には、先ず、ワークガラス用サポート治具にワークガラス１を粘着支持させ、上記と同様の液晶レンズデバイスの製造プロセスにワークガラス１を順次供給して繰り返すことにより、ワークガラス１をＴＦＴアレイ基板に製造する。ＴＦＴアレイ基板を製造したら、このＴＦＴアレイ基板の表面に配向膜用樹脂を塗布し、この配向膜用樹脂をラビング処理して配向膜を形成し、この配向膜上に液晶を滴下した後、この液晶を２３０℃×約２０分の条件下で加熱し、レベリング、焼成する。
【００３９】
次いで、別のワークガラス１にエポキシシール剤を塗布し、この別のワークガラス１と焼成した液晶とを真空中で貼着することにより、貼着品を製造する。また、上記と同様の製造プロセスに別のワークガラス１を順次供給して繰り返すことにより、別のワークガラス１をＴＦＴアレイ基板に製造し、この別のＴＦＴアレイ基板の表面に配向膜用樹脂を塗布するとともに、この配向膜用樹脂をラビング処理して配向膜を形成し、この配向膜上に液晶を滴下した後、この液晶を２３０℃×約２０分の条件下で加熱し、レベリング、焼成する。
【００４０】
液晶を焼成したら、この液晶にエポキシシール剤を塗布し、この液晶と貼着品とを真空中で貼着して中間品を製造し、この中間品を１５０℃×１時間の条件下で加熱することにより、エポキシシール剤を硬化させ、その後、中間品をスクライブすれば、５ｍｍ□の液晶レンズデバイスを製造することができる。
【００４１】
上記によれば、ベース基板１０に厚さ４００μｍ以下の撓みやすいワークガラス１を支持させて一体化するので、ワークガラス１の撓みや変形を有効に防止することができる。したがって、ワークガラス１のハンドリングや平坦度の確保に支障を来すことが全くなく、しかも、各製造プロセスに確実に通すことができる。また、高価な繰出装置や巻取装置を用意する必要がないので、コスト削減が大いに期待できる。また、粘着材１１が平面Ｌ字形等ではなく、連続した平面枠形を区画するので、洗浄液やエッチング液が粘着材１１の外部から内部に浸入し、ワークガラス１の汚染や不要なエッチングを招くのを有効に防止することができる。
【００４２】
また、粘着材１１がワークガラス１の対向面の全面に粘着するのではなく、不要な周縁部２のみに粘着するので、例えばワークガラス１の対向面に配線層等を形成するため、対向面の全面から不要な粘着材１１を洗浄除去する必要もない。また、包囲壁１２の内周面がワークガラス１の周面との間に１０ｍｍ程度の広い隙間Ｃを区画するのではなく、１ｍｍ〜５ｍｍ程度の狭い隙間Ｃを区画するので、ラビング処理に支障を来すことが全くない。さらに、粘着材１１が強粘着性ではなく、弱粘着性であるから、ワークガラス１を容易に着脱することが可能となる。
【００４３】
次に、図４は本発明の第２の実施形態を示すもので、この場合には、ベース基板１０と包囲壁１２とをそれぞれ光学ガラスにより別々に形成し、ＴＦＴアレイ基板の表面に配向膜をラビング処理で形成した後、ベース基板１０の表面に平面枠形の包囲壁１２を接着剤１４を介して積層接着し、ＴＦＴアレイ基板と包囲壁１２とを相互に嵌合するようにしている。
【００４４】
粘着材１１は、包囲壁１２が後から積層接着されると、包囲壁１２の中空１３から露出し、包囲壁１２の内周縁部付近に位置する。その他の部分については、上記実施形態と略同様であるので説明を省略する。
【００４５】
本実施形態においても上記実施形態と同様の作用効果が期待でき、しかも、ワークガラス用サポート治具の製造時に包囲壁１２がベース基板１０の表面との間に段差を形成し、粘着材１１の印刷の障害になるおそれがないので、ベース基板１０の表面に粘着材１１を簡単に印刷することができるのは明らかである。また、ラビング処理の際、包囲壁１２がワークガラス１の周縁部２との間に段差を形成するおそれが全くないので、ＴＦＴアレイ基板の表面に配向膜を円滑にラビング処理することが可能になる。
【００４６】
なお、上記実施形態の粘着材１１と包囲壁１２の内周面との間には、隙間が形成されても良いし、隙間がなくても良い。また、上記実施形態では粘着材１１を連続した平面枠形に形成したが、必要に応じ、不連続の平面枠形に形成しても良い。さらに、包囲壁１２の四辺の内周縁部付近に粘着材１１を位置させても良いが、二辺、三辺の内周縁部付近に位置させ、ワークガラス１の対向面周縁部２の一部分に粘着しても良い。
【産業上の利用可能性】
【００４７】
本発明に係るワークガラス用サポート治具及びその取扱方法は、液晶デバイスや液晶レンズデバイスの製造分野で使用することができる。
【符号の説明】
【００４８】
１        ワークガラス
２        周縁部
１０      ベース基板
１１      粘着材
１２      包囲壁
１３      中空
Ｃ        隙間
【図１】
2013257487.tif 000003
【図２】
2013257487.tif 000004
【図３】
2013257487.tif 000005
【図４】
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