(57)【要約】      （修正有）【課題】真空搬送チャンバと真空蒸着チャンバとを直列に配置する真空蒸着システムにおいて、材料損失を低減できるシステム及び方法を提供する。【解決手段】ワークＷを水平に搬送する真空搬送チャンバＨＡ１〜ＨＡ３、ＨＢ１〜ＨＢ４とワークに蒸着材料を蒸着する真空蒸着チャンバＣＡ、ＣＢ、ＣＣとを交互に直列に配置し、複数の真空蒸着チャンバを有するラインＬＡ、ＬＢで構成される真空蒸着システム１００において、ラインを互いに並行してＮ(Ｎは２以上)ラインを設け、真空蒸着チャンバはそれぞれのＮラインに跨って設けられたＮライン真空蒸着チャンバであり、Ｎライン真空蒸着チャンバは、ライン毎にワークを蒸着させる蒸着位置を有し、Ｎラインのうち第１のラインで第１のワークを蒸着中に、第１のラインとは異なる他のラインで第２のワークを下流側の真空搬送チャンバに搬出し、第３のワークを上流側の真空搬送チャンバから搬入する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワークを水平に搬送する真空搬送チャンバと前記ワークに蒸着材料を蒸着する真空蒸着チャンバとを交互に直列に配置し、複数の前記真空蒸着チャンを有するラインで構成される真空蒸着システムにおいて、
前記ラインを互いに並行してＮ(Ｎは２以上)ラインを設け、前記真空蒸着チャンバはそれぞれの前記Ｎラインに跨って設けられたＮライン真空蒸着チャンバであり、前記Ｎライン真空蒸着チャンバは、ライン毎にワークを蒸着させる蒸着位置を有し、前記Ｎラインのうち第１のラインで第１の前記ワークを蒸着中に、前記第１のラインとは異なる他のラインで第２のワークを下流側の前記真空搬送チャンバに搬出し、第３のワークを上流側の前記真空搬送チャンバから搬入することを特徴とする真空蒸着システム。
【請求項２】
前記Ｎは２であり、前記他のラインは第２のラインであることを特徴とする請求項１に記載の真空蒸着システム。
【請求項３】
前記真空搬送チャンバは、前記ワークの搬送方向に前後に伸縮する多段直動軸を有するフィード機構を有し、上流側の前記Ｎライン真空蒸着チャンバ或いはロード室から前記ワークを搬出し、下流側の前記Ｎライン真空蒸着チャンバ又はアンロード室へ前記ワークを搬入することを特徴とする請求項１又は２に記載の真空蒸着システム。
【請求項４】
前記Ｎライン真空蒸着チャンバは、前記蒸着位置の上方に前記ワークの受け渡しをする受渡機構を有し、前記受渡機構は前記ワークを昇降させる昇降手段を有することを特徴とする請求項１又は２に記載の真空蒸着システム。
【請求項５】
前記Ｎライン真空蒸着チャンバは、前記蒸着位置から下部の領域において蒸発源を２次元上に移動させる蒸発源駆動手段を有することを特徴とする請求項１又は２に記載の真空蒸着システム。
【請求項６】
前記真空搬送チャンバの真空部は、前記蒸着位置より高い位置に設けられ、前記Ｎライン真空蒸着チャンバは前記真空搬送チャンバの真空部の下側に突き出た構造を有することを特徴とする請求項５に記載の真空蒸着システム。
【請求項７】
前記真空搬送チャンバは各々前記Ｎラインに跨って設けられたＮライン真空搬送チャンバであり、前記Ｎライン真空搬送チャンバは前記フィード機構を前記Ｎライン間を移動させる手段を有することを特徴とする請求項３に記載の真空蒸着システム。
【請求項８】
前記真空搬送チャンバは各々前記Ｎラインに跨って設けられたＮライン真空搬送チャンバであり、前記Ｎライン真空搬送チャンバは１台の水平多関節型の搬送ロボットを有し、前記搬送ロボットは、上流側の前記Ｎライン真空蒸着チャンバ或いはロード室から前記ワークを搬出し、下流側の前記Ｎライン真空蒸着チャンバ又はアンロード室へ前記ワークを搬入することを特徴とする請求項１又は２に記載の真空蒸着システム。
【請求項９】
前記真空搬送チャンバは、前記ワークのみ又は前記ワークを保持するワーク搬送体或いはマスクと一体になった前記ワークを搬送することを特徴とする請求項１又は２に記載の真空蒸着システム。
【請求項１０】
ワークを水平に搬送する真空搬送チャンバと前記ワークに蒸着材料を蒸着する真空蒸着チャンバとを交互に直列に配置し、複数の前記真空蒸着チャンを有するラインを互いに並行してＮ(Ｎは２以上)ライン有し、前記Ｎラインの前記真空蒸着チャンバに跨って設けられたそれぞれのＮライン真空蒸着チャンバで前記ワークを蒸着する真空蒸着方法において、
前記Ｎラインのうち第１のラインで第１の前記ワークを蒸着中に、前記第１のラインとは異なる他のラインで第２のワークを下流側の前記真空搬送チャンバに搬出し、第３のワークを上流側の前記真空搬送チャンバから搬入することを特徴とする真空蒸着方法。
【請求項１１】
前記Ｎは２であり、前記他のラインは第２のラインであることを特徴とする請求項１０に記載の真空蒸着方法。
【請求項１２】
上流側の前記Ｎライン真空蒸着チャンバ或いはロード室から前記ワークを搬出し、下流側の前記Ｎライン真空蒸着チャンバ又はアンロード室へ前記ワークを搬入することを特徴とする請求項１０又は１１に記載の真空蒸着方法。
【請求項１３】
前記搬入又は前記搬出は、蒸着位置の上方に設けられ前記蒸着位置と搬入出位置との間を昇降する受渡機構を介して行われることを特徴とする請求項１０又は１１に記載の真空蒸着方法。
【請求項１４】
前記真空搬送チャンバは、前記ワークのみ又は前記ワークを保持するワーク搬送体或いはマスクと一体になった前記ワークを搬送することを特徴とする請求項１０又は１１に記載の真空蒸着方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、直列に配置された複数の真空蒸着チャンバと前記直列上で各装着チャンバ間を蒸着するワークを搬送する真空搬送チャンバとを有する真空蒸着システム及び真空蒸着方法に係わり、特に蒸着法による製造に好適な真空蒸着システム及び真空蒸着方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
真空基板などのワークに有機ＥＬなどを蒸着する真空蒸着法がある。一般的な真空蒸着法では、安定した蒸着を持続させるために、蒸発源から材料蒸発速度を一定に保つように制御する必要がある。抵抗加熱や誘導加熱などの方法を用いて蒸着材料を加熱し物理蒸着(ＰＶＣ)を行なう場合、蒸発速度の安定には一定の時間が必要となり、材料蒸発速度を一定に保ち常時蒸発させる必要がある。そのために、真空蒸着チャンバにワークを１枚ずつ入れて処理していると、ワークの蒸着後にワークを真空蒸着チャンバから搬出し、新たなワークを搬入する間の蒸発源から蒸発する材料は蒸着工程になんら寄与せず、そのまま材料損失となっていた。
【０００３】
この材料損失を低減する課題を解決とする方法としては特許文献１がある。特許文献１には、真空搬送チャンバの周囲に真空蒸着チャンバを設けるクラスタ形式の真空蒸着システムにおいて、前記真空蒸着チャンバに２枚のワークを交互に搬入し、搬出し、蒸着する方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−２２７４７７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、図１に示すように真空搬送チャンバと真空蒸着チャンバとを直列に配置する真空蒸着システムにおいても、ワークの搬入時における材料損失の低減が望まれている。
【０００６】
従って、本発明の目的は、真空搬送チャンバと真空蒸着チャンバとを直列に配置する真空蒸着システムにおいて、材料損失を低減できる経済性のよい真空蒸着システム及び真空蒸着方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、上記目的を達成するために、少なくとも以下の特徴を有する。
本発明は、ワークを水平に搬送する真空搬送チャンバと前記ワークに蒸着材料を蒸着する真空蒸着チャンバとを交互に直列に配置し、複数の前記真空蒸着チャンを有するラインで構成される真空蒸着システムにおいて、前記ラインを互いに並行してＮ(Ｎは２以上)ラインを設け、前記真空蒸着チャンバはそれぞれの前記Ｎラインに跨って設けられたＮライン真空蒸着チャンバであり、前記Ｎライン真空蒸着チャンバは、ライン毎にワークを蒸着させる蒸着位置を有し、前記Ｎラインのうち第１のラインで第１の前記ワークを蒸着中に、前記第１のラインとは異なる他のラインで第２のワークを下流側の前記真空搬送チャンバに搬出し、第３のワークを上流側の前記真空搬送チャンバから搬入することを第１の特徴とする。
【０００８】
また、本発明は、ワークを水平に搬送する真空搬送チャンバと前記ワークに蒸着材料を蒸着する真空蒸着チャンバとを交互に直列に配置し、複数の前記真空蒸着チャンを有するラインを互いに並行してＮ(Ｎは２以上)ラインを有し、前記真空蒸着チャンバはそれぞれの前記Ｎラインに跨って設けられたＮライン真空蒸着チャンバで前記ワークを蒸着する真空蒸着方法において、前記Ｎラインのうち第１のラインで第１の前記ワークを蒸着中に、前記第１のラインとは異なる他のラインで第２のワークを下流側の前記真空搬送チャンバに搬出し、第３のワークを上流側の前記真空搬送チャンバから搬入することを第２の特徴とする。
【０００９】
さらに、前記Ｎは２であり、前記他のラインは第２のラインであってもよい。
また、前記真空搬送チャンバは、前記ワークの搬送方向に前後に伸縮する多段直動軸を有するフィード機構を有していてもよい。
【００１０】
さらに、上流側の前記Ｎライン真空蒸着チャンバ或いはロード室から前記ワークを搬出し、下流側の前記Ｎライン真空蒸着チャンバ又はアンロード室へ前記ワークを搬入してもよい。
また、前記搬入又は前記搬出は、蒸着位置の上方に設けられ前記蒸着位置と搬入出位置との間を昇降する受渡機構を介して行ってもよい。
【００１１】
さらに、前記Ｎライン真空蒸着チャンバは、前記蒸着位置から下部の領域において蒸発源を２次元移動させる蒸発源駆動手段を有してもよい。
また、前記真空搬送チャンバの真空部は、前記蒸着位置より高い位置に設けられ、前記Ｎライン真空蒸着チャンバは前記真空搬送チャンバの真空部の下側に突き出た構造を有してもよい。
【００１２】
さらに、前記真空搬送チャンバは各々前記Ｎラインに跨って設けられたＮライン真空搬送チャンバであり、前記Ｎライン真空搬送チャンバは前記フィード機構を前記Ｎライン間を移動させる手段、又は１台の水平多関節型の搬送ロボットを有していてもよい。
また、前記真空搬送チャンバは、前記ワークのみ又は前記ワークを保持するワーク搬送体或いはマスクと一体になった前記ワークを搬送してもよい。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、真空搬送チャンバと真空蒸着チャンバとを直列に配置する真空蒸着システムにおいて、材料損失を低減できる経済性のよい真空蒸着システム及び真空蒸着方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の実施形態における真空蒸着システムを示す図である。
【図２】真空蒸着チャンバと真空搬送チャンバの構造を示す側面図である。
【図３】真空搬送チャンバ内のフィード機構の説明図である。
【図４】蒸発源を２つのラインに跨って移動し、２つのラインのワークを蒸着する蒸発源駆動手段の構造を示す図である。
【図５】２つのラインに跨って行う蒸着処理フロー及び蒸発源の動作フローを示す図である。
【図６】蒸発源の動作を模式的に示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
本発明の実施形態を図１から図６を用いて説明する。図１は、本発明の実施形態における真空蒸着システム１００を示す。真空蒸着システム１００は、２つの並行ラインＬＡ、ＬＢと、全体を管理し各部を制御する制御装置４０と、を有する。真空蒸着システム１００は、両ラインに跨る３つの真空蒸着チャンバＣＡ、ＣＢ、ＣＣと、各ラインにワークＷを搬入するロード室ＩＡ、ＩＢと、各ラインから処理済のワークＷを搬出するアンロード室ＥＡ、ＥＢと、を有する。また、真空蒸着システム１００は、各真空蒸着チャンバＣ(代表して示すときはＣのみを記す）間を、或いはロード室ＩＡ、ＩＢ又はアンロード室ＥＡ、ＥＢと該当する真空蒸着チャンバＣとの間を、ワークＷを搬送する後述するフィード機構を有する真空搬送チャンバＨＡ１乃至ＨＡ４及びＨＢ１乃至ＨＡ４(代表して示すときはＫＡのみを記す）を有する。矢印ＫＡは、各フィード機構のワークＷの搬送範囲を示す。例えば、矢印ＫＡ１は、真空搬送チャンバＨＡ１のフィード機構の搬送範囲を示す。なお、各ラインのロード室ＩＡ、ＩＢ及びアンロード室ＥＡ、ＥＢに示す小さな矢印は、ワークＷの搬送方向を示す。即ち、左側が上流側、右側が下流側となる。
【００１６】
このような構成によって、本実施形態は、ワークＷの下面を一様に蒸着する装置を構成できる。各真空蒸着チャンバＣの間で同一蒸着材料を蒸着してもよいし、異なった蒸着材料を蒸着してもよい。また、各真空蒸着チャンバＣの数は、３に限らず複数であればよい。
また、ロード室又はアンロード室の代わりに、前工程又は後工程を接続してもよい。
【００１７】
図２は、真空蒸着チャンバＣと真空搬送チャンバＨ(代表して示すときはＨのみを記す)の構造を示す側面図で、ラインＬＡのＨＡ２、ＣＢ及びＨＡ３を矢印Ｄの方向からみた矢視図である。基本的には真空蒸着チャンバＣと真空搬送チャンバＨの各構造は同一なので、各構造には場所示すＣＢ、ＨＡ２、ＨＡ３などを示す符号は示さない。
【００１８】
真空蒸着チャンバＣは、大別してフィード機構Ｆとの間でワークＷの受け渡しをする受渡部２と、ワークＷに蒸着材料を蒸着する蒸着部１とを有する。また、真空蒸着チャンバＣは、真空蒸着チャンバ内を所定の真空度の保つクライオポンプ９と、真空搬送チャンバＨとの間に設けられたゲート弁１０を有する。ゲート弁は、必ずしもすべての真空搬送チャンバＨに設ける必要はない。少なくとも、各ラインＬＡ、ＬＢにおいて関係するゲート弁がすべて大気開放状態とならないように設ければよい。例えば、最上流側及び最下流側の真空搬送チャンバ又はロード室或いはアンロード室の搬入出口にゲート弁を設けてもよい。なお、ワークＷは、中央部に蒸着するための開口部を有するワーク搬送体４に保持されて搬送される。勿論、直接ワークを搬送してもよい。その場合は、蒸着面とは反対側の面を保持することが望ましい。
【００１９】
受渡部２には、上流のフィード機構Ｆからワーク搬送体４を受渡位置ＵＰで受け取り、破線で示す蒸着位置ＪＰまで移動し、蒸着後元の受渡位置ＵＰまで戻り、下流側のフィード機構Ｆにワーク搬送体４を渡す受渡機構２０を有する。図２に示す受渡機構２０はラインＬＡ用であるが、紙面裏側には同一構造を有するラインＬＢ用の受渡機構２０が存在する。
【００２０】
受渡機構２０は、ワーク搬送体４と同様に蒸着側に開口部を有する受渡体２１と、受渡体２１の四隅部(図２では２隅のみ示す)に先端が固定され、真空蒸着チャンバＣの上部の真空シール２５を介して設けられた鞘２３内を移動する支持棒２２とを有する。受渡体２１は、相対する２辺(図２では１辺のみ記す）の中央部に先端が固定されたボールねじ軸２５ｂによって昇降する。このとき、ボールねじ軸２５ｂは、モータの駆動を図示しない磁性流体シールで伝動されたナット２５ｎによって駆動され、鞘２４内を移動する。
【００２１】
次に、蒸着部１を説明する前に、真空搬送チャンバＨ内のフィード機構Ｆを図３を用いて図２と共に説明する。図３(ａ)はフィード機構Ｆが全く延びていない中立の状態を示し、図３(ｂ)はフィード機構ＦがワークＷの搬送方向に最も右側に移動し伸びた状態を示す。左側にも図３(ｂ)と同様に移動し伸びる。
フィード機構Ｆは、移動ベース３１ｂと、移動ベース３１ｂ上にワークＷの搬送方向に平行に設けられた２本の軌道軸３２(図３では紙面側の１本のみ示す)と、各軌道軸の両端部から所定位置Ｘ離れた駆動軸３２上を移動する合計４個の直動軸受け３３(図３では図示された軌道軸の２個のみを示す)とで構成された一段の直動軸を備え、直動軸受け３３を上段の移動ベース３１ｂに固定することで多段の直動軸を有する。なお、最上段直動軸のワーク搬送体４を載置する部分をテーブル３４といい、固定ベース３１ａは真空搬送チャンバＨの底部に固定されている。
【００２２】
このように構成されたフィード機構Ｆの各段の直動軸受け３３を右側に移動させ伸びた状態が図３(ｂ)となり、最も縮んだ状態が図３(ａ)となり、各真空搬送チャンバＨのフィード機構はワークＷを図１に示す矢印ＫＡの範囲を搬送できる。
【００２３】
図２において、真空搬送チャンバＨと真空蒸着チャンバＣとの搬送方向における中心距離、即ち片側のワーク搬送距離はＫＡ／２である。図３の固定ベース３１ａ及び移動ベース３１ｂの長さＬをＬ＝ＫＡ／２とし、且つ、直動軸受け３３がテーブル３４を支える幅をＬ／２としたとき、軌道軸３２と直動軸受け３３からなる直動ガイド３５の一軸分の片側移動量ＸはＬ／４と等しい。フィード機構Ｆの必要な片側ストロークは搬送距離ＫＡ／２＝Ｌ以上あればよいから、必要な直動ガイド３５の数は４軸である。また、ゲートバルブ１０が各チャンバ間に存在することや各チャンバの内壁と機構部にいくらかの間隙が必要であることを考慮し、固定ベース３１ａおよび移動ベース３１ｂの長さＬをＬ＝２／５ＫＡとし、直動軸受け３３がテーブル３４を支える幅をＬ／２とすればＸ＝Ｌ／４＝１／１０ＫＡであり、搬送距離がＫＡ／２であるから、直動ガイド３５は５段重ねすればよい。
なお、図２においては、図の複雑さを回避するために３段アームのフィード機構Ｆを示している。フィード機構Ｆの具体的な駆動は、例えば、移動ベース３１ｂの各段とテーブル３４が最下段の移動ベース３１ｂが移動すれば、各段が等距離移動するようにリンク機構を配す。更に固定ベース３１ａにボールねじを設置し、チャンバの外部からモータ等の回転駆動を導入しボールねじに伝動する。ボールねじのナットを最下段の移動ベース３１ｂに固定することで、各移動ベース３１ｂ及びテーブル３４が等速移動できる。結果、絶対的なテーブル３４の移動距離は、最下段の移動ベース３１ｂの移動距離Ｘに対し、移動ベース３１ｂの数Ｎに応じてそれぞれ（Ｎ＋1）倍になる。
【００２４】
次に、図２に戻り、蒸着部１を説明する。蒸着部１は、移動する蒸発源７１に各種ユーティリティーを供給するための配線・配管等を真空中に露出することなく接続するための２リンクの中空アーム機構５１と、蒸着位置ＪＰに設けられた防着板１１とを有する。中空アーム機構５１の移動端側は大気ボックス５１ｋに接続し、固定側は真空シール５１ｓを介して真空蒸着チャンバＣの底壁に固定されている。蒸発源７１は大気ボックス５１ｋに固定されている。大気ボックス５１ｋ、２リンク５１ａ、５１ｂの互いの接続部は回転可能に真空シールされており、それ等の内部は大気雰囲気となっている。そこで、蒸発源７１に必要な給電線や信号線等、配管類は真空雰囲気から隔離されており、蒸着に悪影響を与える配線や樹脂配管からのアウトガスが真空中に放出することを防止でき、信頼性の高い蒸着ができる。
【００２５】
図２に示すように、真空搬送チャンバＨの真空部Ｈｐを蒸着位置ＪＰより高い位置に設け、しかも受渡部２にワークを蒸着位置との間を昇降できる受渡機構２０を儲け、受渡部２の搬送方向の長さを短くしている。その結果、真空蒸着チャンバＣの搬送方向の長さを短くできると共に、フィード機構Ｆのストロークを短くでき、真空搬送チャンバＨの搬送方向の長さを短くできる。なお、真空搬送チャンバＨには、図示しないクライオポンプなどの付属物を有する場合もあり、その部分は、真空蒸着チャンバＣの蒸着部１間などの蒸着位置ＪＰより低い位置に設けることもできる。
【００２６】
一方、蒸着部１においては、蒸着位置ＪＰの下側に存在する蒸発源７１が２次元に移動する領域を真空搬送チャンバＨの下部に突き出た突出構造としている。その結果、蒸着しないときの待機領域を突出構造に設けることできる。本実施形態では、クライオポンプ９も真空搬送チャンバＨの下部にも設けている。
【００２７】
これらの結果、本実施形態によれば、図１に示す真空蒸着システム１００のラインＬＡ、ＬＢのライン長を短くできる。
【００２８】
図４は、蒸発源７１のラインＬＡ、ＬＢに跨って移動し、２つのラインＬＡ、ＬＢのワークＷを蒸着する蒸発源駆動手段の構造を示す図である。図４（ａ）はチャンバＣをワークＷの蒸着面から俯瞰した平面断面図であり、図４（ｂ）は図４（ａ）の下側から内部が見えるように切断した正面断面図である。蒸発源駆動手段は、蒸発源及び配線配管部７２をラインＬＡ、ＬＢ間を移動させるＡＢライン間移動手段６０と、蒸発源７１をラインＬＡ、ＬＢ内を走査させるライン内走査手段８０を有する。
【００２９】
まず、ＡＢライン間移動手段６０を説明する。ＡＢライン間移動手段６０は蒸発源７１を搭載する大気ボックス５１ｋを図４（ａ）に示す上下に移動し、ワークＷＡまたはＷＢが存在する蒸着走査ラインに移動する役目を有する。
【００３０】
上記役目を果たすために、ＡＢライン間移動手段６０は、チャンバ底部１ａに固定されたＡＢライン間移動直動ガイド６１により支えられるＡＢライン間移動テーブル６２と、前記ＡＢライン間移動テーブルをＡＢ間で移動させるために回転運動を直線運動に変換するためのローラピニオン６５ｐ及びラック６５ｒからなるローラ式ラック＆ピニオン６５と、前記ピニオンに駆動を伝達させるためのＡＢライン間駆動伝動部６４と、前記駆動伝動部にチャンバＣの外部、即ち大気側から回転運動を導入する駆動導入部６３とを有する。ローラピニオン６５ｐが回転することにより、ラック６５ｒが固定されたＡＢライン間移動テーブル６２がＡＢライン間移動直動ガイド６１の案内により直線移動する。
【００３１】
ＡＢライン間移動モータ６３ｍは、発熱及び真空蒸着チャンバＣ内での発塵を抑えるために真空蒸着チャンバの外部に設置されている。それ故、ＡＢライン間駆動モータ６３ｍの回転を真空雰囲気中のＡＢライン間駆動伝動部６４に伝え、且つ真空をシールできる磁性流体シール６３ｓと前記磁性流体シールとＡＢライン間駆動モータ６３ｍとを連結し、且つ組立時のミスアライメントや偏角を吸収するカップリング６３ｃとが必要である。また、ＡＢライン間駆動伝動部６４は、磁性流体シール６３ｓとピニオン軸６４ｓとを連結し、且つ組立時のミスアライメントや偏角を吸収するカップリング６４ｃとローラピニオン６５ｐの回転軸であるところのピニオン軸６４ｓを支える軸受け６４ｂからなる。
【００３２】
一方ライン内走査手段８０は、チャンバＣの内部に設置される。
ライン内走査手段８０は、大気ボックス５１ｋを直線案内するためのＡＢライン間移動テーブル６２上に設置されたライン内走査直動ガイド８１と、大気ボックス５１ｋの内部の大気雰囲気に設置されたライン内駆動モータ８２ｍ、真空用回転シールである磁性流体シール８２ｓ及び前記ライン内駆動モータと前記磁性流体シールとを連結し、且つ組立時のミスアライメントや偏角を吸収するカップリング８２ｃからなるライン内駆動導入部８２と、回転運動から直線運動に変換するためのローラピニオン８３ｐとラック８３ｒからなるローラ式ラック＆ピニオン８３とを有する。
【００３３】
ライン内走査手段８０のローラピニオン８３ｐとラック８３ｒの回転運動を直線運動に変換による移動関係はＡＢライン間移動手段６０の場合とは相対的に逆の関係であり、ラック８３ｒはＡＢライン間移動テーブルに固定され、ローラピニオン８３ｐが回転し移動する。即ち大気ボックス５１ｋ及び蒸発源７１は、ライン内駆動導入部８２を抱えたままライン内走査直動ガイド８１に案内されて自走することにより走査する。
【００３４】
以上の実施形態では２ラインを有する場合を説明した。たとえば、図４（ａ）において、移動方向にチャンバを拡張し、ＡＢライン間移動テーブル６２のストロークに合わせ、ＡＢライン間駆動導入部６３とＡＢライン間駆動伝動部６４、及びローラピニオン６５ｐを一式としたものを適当な位置に追加することにより、３以上のラインに跨る真空蒸着チャンバを構成することができる。
【００３５】
次に、実施形態おける蒸着処理フローを図５を用いて説明する。図５は、ラインＬＡ、ＬＢに跨って行う蒸着処理フロー及び蒸発源７１の動作フローを示す。図６はこのときの蒸発源７１の動作を模式的に示す図である。図６における２リンクの中空アーム機構５１の実線又は破線は、ラインＬＡ、ＬＢの右端又は左端における姿勢を示す。
以下に説明する各ラインの構成する各真空蒸着チャンバＣ及び各真空搬送チャンバＨの処理又は動作は、各ライン単位で同期して行なわれる。
【００３６】
図５に示す蒸着処理フローは、蒸発源７１がラインＬＢのワークＷＢの蒸着を終了し、ＬＢラインの左端に行き、ラインＬＡでは各真空蒸着チャンバの蒸着位置ＪＰに既にワークＷＡがセットされ待機している状態(ＡＳ０、ＢＳ０、ＪＳ０)から示す。
まず、蒸発源７１は、図６の矢印Ｊ１に示すように、ラインＬＢの左端からラインＬＡの左端に移動する。このとき、ラインＬＢでは、ワークＷＢを受渡位置ＵＰに上昇させ(ＢＳ１)、下流側の真空搬送チャンバＨへの搬出を開始する。蒸発源７１は、ラインＬＡの左端に移動後、ラインＬＡのワークＷＡの下面を左から右に移動し(図６の矢印Ｊ２)、再び左端に戻る(図６の矢印Ｊ３)。この蒸発源７１の動作を一回乃至数回行うことに伴い、ラインＬＡではワークＷＡが蒸着される(ＡＳ１）。
【００３７】
一方、ラインＬＢでは、前述のＢＳ１後も、ラインＬＡの蒸着中にワークＷＢの搬出動作を継続する。即ち、下流側のフィード機構Ｆにより真空蒸着チャンバＣから下流側の真空搬送チャンバＨにワークＷＢを搬出する(ＢＳ２)。その後、上流側のフィード機構Ｆにより上流側の真空搬送チャンバＨから真空蒸着チャンバＣの受渡位置ＵＰに新たなワークＷＢを搬入する(ＢＳ３)。そして、場合によっては位置決め等の動作を行った後(ＢＳ４)、蒸着位置ＪＰまで降下し新たなワークＷＢをセットし、ラインＬＡの蒸着が終了するまで待機する(ＢＳ５)。
【００３８】
次に、ラインＬＡで蒸着が終了すると、蒸発源７１は、図６の矢印Ｊ４に示すように、ラインＬＡの左端からラインＬＢの左端移動し(ＪＳ３）、その後、ステップＪＳ２と同様に、図６の矢印Ｊ５、Ｊ６に示すように、ラインＬＢのワークＢの下面を一回乃至数回往復し（ＪＳ４)、ワークＷＢを蒸着する(ＢＳ６）。この間、ラインＬＡでは、ラインＬＢのステップＢＳ１からＢＳ５に示した処理を、ステップＡＳ２からＡＳ６で行なう。
その後は、上述したステップを繰り返す。
【００３９】
また、以上の説明では、ＡＢライン間の移動を左端側で行ったが、二点鎖線で示す矢印Ｊ７、Ｊ８に示すように、右端側で行ってもよい。さらに、ワークの下面の走査を一回乃至数回往復させたが、往復させずに、矢印Ｊ１、Ｊ２、Ｊ８、Ｊ６又はＪ４、Ｊ５、Ｊ８、Ｊ３のループによる片方向走査を1回又は複数回行ってもよい。
【００４０】
以上説明した本実施形態によれば、各真空蒸着チャンバにおいて、一方のラインでワークを蒸着している間に、他方のラインの蒸着したワークを搬出、新たなワークを搬入することで、蒸着工程になんら寄与せずに損失となっていた材料を低減できる蒸着ライン又は真空蒸着方法を提供できる。
【００４１】
また、以上説明した本実施形態によれば、独立した２つの単ラインで構成された蒸着ライン比較して、各真空蒸着チャンバにおいて、一方のラインでワークを蒸着している間に、他方のラインの蒸着したワークを搬出、新たなワークを搬入することで、処理していない時間を短縮でき、スループットの高い蒸着ライン又は真空蒸着方法を提供できる。
【００４２】
以上実施形態では、マスクを用いずワーク面に一様に蒸着したが、蒸着位置に下側にマスクを設け、パターン蒸着してもよい。この場合は、マスクとワークを相対的に移動させてアライメントする機構を設けてもよい。例えば、以上説明した実施形態では、受渡機構を相対的に移動させてアライメント行なってもよい。また、マスクとワークを一体にして搬送して蒸着させてもよい。
【００４３】
また、以上実施形態では、フィード機構をライン毎に設けたが、真空搬送チャンバも真空蒸着チャンバと同様に、２つのラインに跨って設け、１台のフィード機構をライン間で移動、共有させてもよい。
【００４４】
さらに、真空搬送チャンバを真空蒸着チャンバと同様に、２つのラインに跨って設け、その中心に２つのラインのワークの搬入出を行う１台の水平多関節型の搬送ロボットをフィード機構の代わりに設けてよい。
【符号の説明】
【００４５】
１：蒸着部                            ２：受渡部
４：ワーク搬送体                      ９：クライオポンプ
１０：ゲート弁                        １１：防着板
２０：受渡機構                        ４０：制御装置
５１：２リンクの中空アーム機構        ６０：ＡＢライン間移動手段
７１：蒸発源                          ８０：ライン内移動手段
１００：真空蒸着システム              Ｃ、ＣＡ、ＣＢ、ＣＣ：真空蒸着チャンバ
ＥＡ、ＥＢ：アンロード室              Ｆ：フィード機構  
Ｈ、ＨＡ１乃至ＨＡ３、ＨＢ１乃至ＨＢ４：真空搬送チャンバ
ＩＡ、ＩＢ：ロード室                  Ｗ：ワーク
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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