(57)【要約】      （修正有）【課題】低コスト化を図れる導膜製造装置、製造した電気機械変換素子、液滴吐出装置を提供する。【解決手段】第１のアライメント調整工程では着弾位置２５１をカメラ２０５で捕捉し着弾位置２５１がカメラ２０５の撮影撮影基準位置２５２に一致するように基板又は液滴吐出ヘッド２０１を相対的に移動する。第２のアライメント調整工程ではレーザレッドによってレーザ光を照射して照射跡を形成し照射跡をカメラ２０５で捕捉し照射跡がカメラ２０５の撮影撮影基準位置２５２に一致するように基板又はレーザヘッドを相対的に移動する。第３のアライメント調整工程では基板上に予め形成されているアライメントマークを撮像手段２０５で撮影したアライメントマークの形状に基づいて基板の向きを検知して基板の向きの調整を行いアライメントマークを撮像手段２０５の撮影基準位置に一致するように基板を移動することで基板の組付け位置の調整を行う。【選択図】図９
2013063371.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＸＹ平面移動可能で、かつ面内回転可能なステージに保持された基板上に薄膜形成用の溶液を液滴吐出ヘッドにより吐出し、基板上に着弾した溶液にレーザ光源によるレーザ光を照射して熱処理を施して薄膜を形成する薄膜製造装置のアライメント調整方法において、
前記基板が前記液滴吐出ヘッドの直下になるように前記基板又は前記液滴吐出ヘッドを相対的に任意の基準位置から移動させて前記液滴吐出ヘッドによってアライメントマーク用の溶液を前記基板上に吐出し、着弾したアライメントマーク用の溶液に１台の描画撮影用の撮像手段の撮影基準位置が一致するように前記基板又は前記撮像手段を相対的に移動させたときの第１の移動量を記憶し、前記液滴吐出ヘッドの直下に着弾位置が来るように前記第１の移動量に基づいて前記基板又は前記液滴吐出ヘッドを相対的に移動させる第１のアライメント調整工程と、
基準位置から前記基板又は前記レーザ光源による照射位置を相対的に移動させて前記レーザ光源によって前記基板上にレーザ光を照射して照射跡を形成し、該照射跡に前記撮像手段の撮影基準位置が一致するように前記基板又は前記撮像手段を相対的に移動させたときの第２の移動量を記憶し、前記レーザ光源による照射位置に着弾位置が来るように前記第２の移動量に基づいて前記基板又は前記レーザ光源による照射位置を相対的に移動させる第２のアライメント調整工程と、
前記基板上に予め形成されているアライメントマークを前記撮像手段で撮像し、撮像した前記アライメントマークの形状に基づいて前記基板の向きを検知して所定の向きになるように前記基板又は前記撮像手段を相対的に回転させたとき回転角度を記憶し、前記アライメントマークの位置が前記撮像手段の撮像基準位置に一致するように前記撮像手段又は前記基板を相対的に移動させたときの前記アライメントマークの前記ステージにおける位置座標を記憶し、前記基板の向きを所定の向きになるように前記回転角度に基づいて前記基板又は前記撮像手段を相対的に回転させ、かつ前記アライメントマークの位置が前記撮像基準位置に一致するように前記位置座標に基づいて前記基板又は前記撮像手段を相対的に移動させる第３のアライメント調整工程と
を有することを特徴とする薄膜製造装置のアライメント調整方法。
【請求項２】
請求項１記載の薄膜製造装置のアライメント方法において、
前記アライメントマークの形状には直線部分を有することを特徴とする薄膜製造装置のアライメント調整方法。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の薄膜製造装置のアライメント方法において、
前記アライメントマークが１つ形成されており、前記アライメントマークは前記基板の大きさと略同じであることを特徴とする薄膜製造装置のアライメント調整方法。
【請求項４】
請求項１又は２に記載の薄膜製造装置のアライメント方法において、
前記アライメントマークが複数形成されていることを特徴とする薄膜製造装置のアライメント調整方法。
【請求項５】
請求項４記載の薄膜製造装置のアライメント方法において、
少なくとも１組以上の前記各アライメントマークの間の長さが、前記基板が接する外接円の直径の半分よりも長いことを特徴とする薄膜製造装置のアライメント調整方法。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の薄膜製造装置のアライメント調整方法を用いてアライメントを調整することを特徴とする薄膜製造装置。
【請求項７】
請求項６記載の薄膜製造装置を用いて、電気機械変換膜を形成する溶液を液滴吐出ヘッドにより吐出し、基板上に着弾した溶液にレーザ光源によりレーザ光を照射して熱処理を施して製造することを特徴とする電気機械変換膜。
【請求項８】
請求項７記載の電気機械変換膜に第１の電極上を形成した後、その第１の電極上に形成した電気機械変換膜を挟むように第２の電極を配置する第２電極を有することを特徴とする電気機械変換素子。
【請求項９】
請求項８の電気機械変換素子を備えたことを特徴とする液滴吐出ヘッド。
【請求項１０】
請求項９の液滴吐出ヘッドを備えたことを特徴とする液滴吐出装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、薄膜製造装置のアライメント調整方法、薄膜製造装置、該薄膜製造装置により製造した電気機械変換膜、電気機械変換素子、液滴吐出ヘッド及び液滴吐出装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、電気機械変換膜を電極で挟むように構成された電気機械変換素子は、例えばインクの液滴を吐出する液体吐出ヘッドを備え、媒体を搬送しながらインク滴を用紙に付着させて画像形成を行うインクジェット記録装置で用いられている。ここでの媒体は「用紙」ともいうが材質を限定するものではなく、被記録媒体、記録媒体、転写材、記録紙なども同義で使用する。また、画像形成装置は、紙、糸、繊維、布帛、皮革、金属、プラスチック、ガラス、木材、セラミックス等の媒体に液体を吐出して画像形成を行う装置を意味する。そして、画像形成とは、文字や図形等の意味を持つ画像を媒体に対して付与することだけでなく、パターン等の意味を持たない画像を媒体に付与する（単に液滴を吐出する）ことをも意味する。また、インクとは、所謂インクに限るものではなく、吐出されるときに液体となるものであれば特に限定されるものではなく、例えばＤＮＡ試料、レジスト、パターン材料なども含まれる液体の総称として用いる。
【０００３】
そして、上記インクジェット記録装置は、主として、インク滴を吐出するノズルと、このノズルが連通する吐出室、加圧液室、圧力室、インク流路室と称する液室と、該液室内のインクを吐出するための圧力発生手段とで構成されている。この圧力発生手段として、圧電素子などの電気機械変換素子を用いて吐出室の壁面を形成している振動板を変形変位させることでインク滴を吐出させるピエゾ型の圧力発生手段が知られている。このピエゾ型の圧力発生手段に使用される電気機械変換素子は、下部電極（第１の電極）と、電気機械変換層と、上部電極（第２の電極）とが積層したものからなる。各圧力室にインク吐出の圧力を発生させるのに個別の電気機械変換素子が配置されることになる。電気機械変換層は電気機械変換膜を形成する工程を複数回行って形成される。電気機械変換膜は例えばジルコン酸チタン酸鉛（ＰＺＴ）が用いられ、これらは複数の金属酸化物を主成分としているので一般に金属複合酸化物と称される。
【０００４】
この電気機械変換膜の製造方法としては、スパッタリング法、ゾルゲル法、ＣＶＤ法、レーザアブレーション法等があるが、これらのうち、ゾルの塗布、乾燥、熱分解、結晶化という工程により成膜するゾルゲル法は、結晶状態の制御性に優れている。このゾルゲル法を用いた電気機械変換膜の製造方法として、特許文献１に記載のものが知られている。この特許文献１の製造方法では、下部電極となる白金は濡れ性が強く、下部電極の表面は親液性の特性を有する親液面となる。そして、上記ＰＺＴの成分を含む溶液が下部電極の表面に塗布されると、その表面は濡れ性が弱くなり、疎液性の特性を有する疎液面となる。そして、塗布された上記ＰＺＴ溶液の膜上にフォトリソグラフィーにより所定のパターンに形成されたフォトレジストを配置し、そのフォトレジストの所定のパターンに合わせたエッチングを行う。具体的には、酸素プラズマの照射又はＵＶ光の照射によりフォトレジストで被覆されずに剥き出しになっている上記ＰＺＴ溶液の膜を除去し、フォトレジストで被覆されていた上記ＰＺＴ溶液の膜は残る。その後、加工に用いたフォトレジストを取り除いてフォトレジストによって被覆されていた上記ＰＺＴ溶液の膜のパターニングを完了する。以上の工程を行うことにより、下部電極上のＰＺＴ液が塗布される所定部分以外の表面を疎液面にする表面改質が行われる。
【０００５】
次に、上記エッチングによって上記ＰＺＴ溶液の膜が除去された下部電極上の所定部分に、電気機械変換膜を形成するための原料を含むＰＺＴ液の液滴を液滴吐出ヘッドのノズルから滴下する塗布工程を行う。そして、上記所定部分に滴下された上記ＰＺＴ液の膜のみにレーザ光を照射しながら走査して所定の温度での熱処理を行うレーザ光照射による熱処理工程を行う。具体的には、上記ＰＺＴ液の膜が形成されたベース基板を固定し、赤外線や紫外線等の不可視光線であるレーザ光のスポット外輪部が所定部分に形成された上記ＰＺＴ液の膜端部に沿うように、レーザ光を照射しながら走査する。あるいは、ベース基板をＸＹ軸移動ステージ上に設置し、当該ＸＹ軸移動ステージをＸ軸方向−Ｙ軸方向に移動させることによって、固定されたレーザ光の照射位置に下部電極上の所定部分を相対的に走査させて照射する。このレーザ光照射による熱処理工程を行うことにより、上記ＰＺＴ液を乾燥させ熱分解して結晶化させて、所望パターンの電気機械変換膜を形成することができる。ここでのレーザ光照射による熱処理工程は、上記ＰＺＴ液を乾燥させる工程、乾燥させた上記ＰＺＴ液の膜を熱分解させる工程、及び熱分解された上記ＰＺＴ液の膜を結晶化させる工程を含んでいる。
【０００６】
所望の膜厚を有する所望のパターンの電気機械変換膜を得ようとする場合、上記熱処理工程までの製造工程を一度行うことで所望の膜厚の電気機械変換膜を得ようとすると上記熱処理工程において所定の温度より高い温度でのレーザ光による熱処理を行って膜全体を乾燥させるので、レーザ光が当たる電気機械変換膜の表面の温度が内部の温度に比べて非常に高くなる。そして、電気機械変換膜の内部全体に温度差分布が形成されてしまい電気機械変換膜にクラックが発生し易くなる。そのため、上記レーザ光照射による熱処理工程まで終えて形成された電気機械変換膜の上部に上記ＰＺＴ液を滴下して塗布する塗布工程を行い、所定の温度で上記レーザ光照射による熱処理工程を行う一連の工程を繰り返す。これにより、クラックの発生を抑えながら段階的に電気機械変換膜の膜厚を厚くして所望の膜厚を得ることができる。
【０００７】
そして、上記塗布工程では、下部電極上の所定部分に液滴吐出ヘッドのノズルから上記ＰＺＴ液の液滴を精度良く着弾させるために、製造工程前に液滴吐出ヘッドによる着弾位置が狙った位置になる液滴吐出ヘッドの所定の移動量を取得する第１のアライメント調整工程を行う必要がある。上記レーザ光照射による熱処理工程では、塗布された上記ＰＺＴ液の液滴にレーザ光を精度良く照射するために、製造工程前にレーザ光源による照射位置が狙った位置となる照射位置への所定の移動量を取得する第２のアライメント調整工程を行う必要がある。そして、上記薄膜製造工程を行う際、基板が所定の位置に組付けられるように基板を回転させあるいはＸＹ軸方向に移動させて基板の組付け位置を調整する第３のアライメント調整工程を行う必要がある。
【０００８】
これらのアライメント調整工程を行う方法として、特許文献２に記載のものが知られている。この特許文献２のアライメント調整方法では、２つのカメラ（撮像手段）を用いる。上記第１のアライメント調整工程及び上記第２のアライメント調整工程では第１、第２のカメラ（撮像手段）を用い、上記第３のアライメント調整工程では第２のカメラ（撮像手段）を用いる。上記第１のアライメント調整工程及び上記第２のアライメント調整工程では、ＸＹ軸移動ステージによる基板又は液滴吐出ヘッドを相対的に移動させて、ＸＹ軸移動ステージ上に設置した基板に液滴吐出ヘッドから垂直方向にアライメントマーク形成用の溶液を数滴Ｘ軸方向に並べて着弾させる。そして、レーザ光を所定の固定位置に照射する。基板又はレーザ光源をＸ軸方向に相対的に移動させながら必要に応じて第１のカメラのズーム倍率を調整して第１のカメラの撮影範囲内にレーザ光照射による照射スポットを入れる。基板又は液滴吐出ヘッドをＸ軸方向に相対的に移動させながら必要に応じて第２のカメラのズーム倍率を調整して第２のカメラの撮影範囲内に着弾した各溶液を入れる。照射スポット及び着弾した各溶液をそれぞれ捕捉する。第１のカメラは、赤外線などのレーザ光の照射スポットを認識できる赤外線カメラのような特殊なカメラであり、第２のカメラに比べて高価なカメラである。第２のカメラは、アライメントマーク形成用の溶液や基板に予め形成されているアライメントマークを認識できる描画撮影用のカメラである。そして、第１のカメラで捕捉している照射スポットが、第２のカメラで捕捉している着弾した各溶液にそれぞれ一致するように、ＸＹ軸移動ステージによる基板又は照射スポットを相対的に移動させる。照射スポットが着弾した各溶液に一致したときの移動量をそれぞれ記憶しておく。以上により上記第１のアライメント調整工程及び上記第２のアライメント調整工程が終了する。製造工程時では、基板上に液滴吐出ヘッドにより所定の位置に液滴を吐出した後、記憶した各移動量だけＸＹ軸移動ステージによる基板又は照射スポットを相対的に移動させることで、着弾した溶液にレーザ光を照射することができる。
【０００９】
上記第３のアライメント調整工程では、基板上に２箇所にアライメントマークをそれぞれ形成し、この２つのアライメントマークを用いる。つまり、上記第１のアライメント調整工程及び上記第２のアライメント調整工程で記憶した移動量のうち２つの移動量に基づいて基板又は液滴吐出ヘッドをそれぞれ相対的に移動させる。そして、第１のアライメント調整工程で吐出した溶液の着弾位置とは異なる基板上の２箇所に液滴吐出ヘッドによってアライメントマーク形成用の溶液を吐出する。上記２つの移動量に基づいてＸＹ軸移動ステージによる基板又は照射スポットをそれぞれ相対的に移動させて２箇所の溶液にレーザ光をそれぞれ照射して乾燥、焼成を行う。これにより、基板上に２つのアライメントマークを形成する。そして、ＸＹ軸移動ステージによって基板をＹ軸方向に移動させて２つのアライメントマークを第２のカメラの撮影範囲内に入れ、２つのアライメントマークを第２のカメラで捕捉する。そして、第２のカメラによって２つのアライメントマークを撮像してその画像を記憶する。以上により第３のアライメント調整工程が終了する。製造工程時で、例えば基板が取り外されて別の工程を行った後に再び薄膜製造工程を行う場合、設置された基板上の２つのアライメントマークを第２のカメラによって捕捉する。そして、第２のカメラによって捕捉した基板上の２つのアライメントマークが、記憶しておいた画像上の２つのアライメントマークに一致するように基板を回転させあるいはＸＹ軸方向に移動させて基板の組付け位置を調整する。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、上記特許文献２のアライメント調整方法によれば、第１のカメラでレーザ光の照射スポットを認識し、第２のカメラで着弾したアライメントマーク形成用の溶液や基板上に形成されたアライメントマークを認識している。上述したように、第２のカメラに比べて高価なカメラである第１のカメラに、着弾したアライメントマーク形成用の溶液や基板上に形成されたアライメントマークも認識できる描画撮影機能を持たせ、この描画撮像機能を持つ第１のカメラだけで各アライメント調整工程を行うことができたとしても、機能が増えただけ第１のカメラはより一層高価となる。このため、アライメント調整を行う際に第１のカメラを用いることは、装置の高コスト化につながってしまう。
【００１１】
本発明は以上の問題点に鑑みなされたものであり、その目的は、装置の低コスト化を図ることができる、薄膜製造装置のアライメント調整方法、薄膜製造装置、該薄膜製造装置により製造した電気機械変換膜、電気機械変換素子、液滴吐出ヘッド及び液滴吐出装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記目的を達成するために、ＸＹ平面移動可能で、かつ面内回転可能なステージに保持された基板上に薄膜形成用の溶液を液滴吐出ヘッドにより吐出し、基板上に着弾した溶液にレーザ光源によるレーザ光を照射して熱処理を施して薄膜を形成する薄膜製造装置のアライメント調整方法において、前記基板が前記液滴吐出ヘッドの直下になるように前記基板又は前記液滴吐出ヘッドを相対的に任意の基準位置から移動させて前記液滴吐出ヘッドによってアライメントマーク用の溶液を前記基板上に吐出し、着弾したアライメントマーク用の溶液に１台の描画撮影用の撮像手段の撮影基準位置が一致するように前記基板又は前記撮像手段を相対的に移動させたときの着弾したアライメントマーク用の溶液と撮影基準位置との第１の距離を記憶し、前記液滴吐出ヘッドの直下に着弾位置が来るように前記第１の距離に基づいて前記基板又は前記液滴吐出ヘッドを相対的に移動させる第１のアライメント調整工程と、基準位置から前記基板又は前記レーザ光源による照射位置を相対的に移動させて前記レーザ光源によって前記基板上にレーザ光を照射して着弾したアライメントマーク用の溶液の形状と異なる形状の照射跡を形成し、該照射跡に前記撮像手段の撮影基準位置が一致するように前記撮像手段又は前記基板を相対的に移動させたときの照射跡と撮影基準位置との第２の距離を記憶し、前記レーザ光源による照射位置に着弾位置が来るように前記第２の距離に基づいて前記基板又は前記レーザ光源による照射位置を相対的に移動させる第２のアライメント調整工程と、前記基板上に予め形成され、かつ着弾したアライメントマーク用の溶液の形状及び前記照射跡の形状とそれぞれ異なる所定の形状を有するアライメントマークを前記撮像手段で撮像し、撮像した前記アライメントマークの形状に基づいて前記基板の向きを検知して所定の向きになるように前記基板又は前記撮像手段を相対的に回転させたとき回転角度を記憶し、前記アライメントマークの位置が前記撮像手段の撮像基準位置に一致するように前記撮像手段又は前記基板を相対的に移動させたときの前記アライメントマークの前記ステージにおける位置座標を記憶し、前記基板の向きを所定の向きになるように前記回転角度に基づいて前記基板又は前記撮像手段を相対的に回転させ、かつ前記アライメントマークの位置が前記撮像基準位置に一致するように前記基板又は前記撮像手段を相対的に移動させる第３のアライメント調整工程とを有することを特徴とするものである。
【００１３】
本発明においては、第２のアライメント調整工程において捕捉する対象を照射跡とした。この照射跡は描画された画像であり、描画を認識できる機能を有している描画撮影用の撮像手段で認識することができる。これにより、各アライメント調整工程において捕捉する対象は全て描画撮影用の撮像手段で認識することができるようになる。このため、従来のような赤外線カメラのような高価で特殊なレーザ光撮影用の撮像手段を用いなくてもよく、レーザ光撮影用の撮像手段に比べて低コストな描画撮影用の撮像手段を１台だけで全てのアライメント調整工程を行うことができるようになった。よって、装置の低コスト化を図ることができる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、装置の低コスト化を図ることができるという効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の実施形態の液滴吐出装置の一構成例を示す概略構成図である。
【図２】本実施形態の液滴吐出装置の概略透視斜視図である。
【図３】本発明の一実施形態に係る電気機械変換膜の形成を伴う電気機械変換素子の製造工程を示す工程断面図である。
【図４】Ｐ（分極）−Ｅ（電界強度）のヒステリシス曲線を示す特性図である。
【図５】製造方法で製造した電気機械変換素子を用いて構成した液滴吐出ヘッドの一構成例を示す概略構成図である。
【図６】図５の液吐出ヘッドを複数並べた構成例を示す概略構成図である。
【図７】本実施形態の液滴吐出ヘッドにおける電気機械変換膜の製造装置の斜視図である。
【図８】電気機械変換膜製造装置による機能性インクの塗布、加熱及び結晶化の各工程を示す概略図である。
【図９】液滴吐出ヘッドの塗布位置とカメラの撮影範囲内での基準位置とのアライメント調整を説明するための模式図である。
【図１０】レーザ光の照射位置とカメラの画像内での基準位置とのアライメント調整を説明するための模式図である。
【図１１】移動手段群の座標系と基板の向き、位置のアライメント調整を説明するための模式図である。
【図１２】アライメントマークの所定の向きからずれたときの状態を説明するための模式図である。
【図１３】ＳＡＭ膜を除去した電極露出面及びＳＡＭ膜を配置したままの表面における純水の接触角の各様子を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明の実施形態を図面に基づき説明する。
【００１７】
図１は本発明の実施形態の液滴吐出装置の一構成例を示す概略構成図である。また、図２は本実施形態の液滴吐出装置の概略透視斜視図である。両図に示す本発明の液滴吐出装置の一例であるインクジェット記録装置１００は、主に、記録装置本体の内部に主走査方向に移動可能なキャリッジ１０１と、キャリッジ１０１に搭載した本発明を実施して製造した液滴吐出ヘッドの一例であるインクジェットヘッドからなる記録ヘッド１０２と、記録ヘッド１０２へインクを供給するインクカートリッジ１０３とを含んで構成される印字機構部１０４を有している。また、装置本体の下方部には前方側から多数枚の用紙１０５を積載可能な給紙カセット１０６を抜き差し自在に装着することができ、また用紙１０５を手差しで給紙するための手差しトレイ１０７を開倒することができ、給紙カセット１０６或いは手差しトレイ１０７から給送される用紙１０５を取り込み、印字機構部１０４によって所要の画像を記録した後、後面側に装着された排紙トレイ１０８に排紙する。
【００１８】
印字機構部１０４は、図示しない左右の側板に横架したガイド部材である主ガイドロッド１０９と従ガイドロッド１１０とでキャリッジ１０１を主走査方向に摺動自在に保持し、このキャリッジ１０１にはイエロー（Ｙ）、シアン（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、ブラック（Ｂｋ）の各色のインク滴を吐出する本発明に係る液滴吐出ヘッドの一例であるインクジェットヘッドからなる記録ヘッド１０２を複数のインク吐出口（ノズル）を主走査方向と交差する方向に配列し、インク滴吐出方向を下方に向けて装着している。また、キャリッジ１０１には記録ヘッド１０２に各色のインクを供給するための各インクカートリッジ１０３を交換可能に装着している。インクカートリッジ１０３は上方に大気と連通する大気口、下方には記録ヘッド１０２へインクを供給する供給口を、内部にはインクが充填された多孔質体を有しており、多孔質体の毛管力により記録ヘッド１０２へ供給されるインクをわずかな負圧に維持している。
【００１９】
また、記録ヘッド１０２としてここでは各色のヘッドを用いているが、各色のインク滴を吐出するノズルを有する１個のヘッドでもよい。ここで、キャリッジ１０１は後方側（用紙搬送方向下流側）を主ガイドロッド１０９に摺動自在に嵌装し、前方側（用紙搬送方向上流側）を従ガイドロッド１１０に摺動自在に載置している。そして、このキャリッジ１０１を主走査方向に移動走査するため、主走査モータ１１１で回転駆動される駆動プーリ１１２と従動プーリ１１３との間にタイミングベルト１１４を張装し、このタイミングベルト１０４をキャリッジ１０１に固定しており、主走査モータ１１１の正逆回転によりキャリッジ１０１が往復駆動される。
【００２０】
一方、給紙カセット１０６にセットした用紙１０５を記録ヘッド１０２の下方側に搬送するために、給紙カセット１０６から用紙１０５を分離給装する給紙ローラ１１５及びフリクションパッド１１６と、用紙１０５を案内するガイド部材１１７と、給紙された用紙１０５を反転させて搬送する搬送ローラ１１８と、この搬送ローラ１１８の周面に押し付けられる搬送コロ１１９及び搬送ローラ１１８からの用紙１０５の送り出し角度を規定する先端コロ１２０とを設けている。搬送ローラ１１８は副走査モータ１２１によってギヤ列を介して回転駆動される。そして、キャリッジ１０１の主走査方向の移動範囲に対応して搬送ローラ１１８から送り出された用紙１０５を記録ヘッド１０２の下方側で案内する用紙ガイド部材である印写受け部材１２２を設けている。この印写受け部材１２２の用紙搬送方向下流側には、用紙１０５を排紙方向へ送り出すために回転駆動される搬送コロ１２３、拍車１２４を設け、さらに用紙１０５を排紙トレイ１０８に送り出す排紙ローラ１２５及び拍車１２６と、排紙経路を形成するガイド部材１２７、１２８とを配設している。
【００２１】
記録時には、キャリッジ１０１を移動させながら画像信号に応じて記録ヘッド１０２を駆動することにより、停止している用紙１０５にインクを吐出して１行分を記録し、用紙１０５を所定量搬送後次の行の記録を行う。記録終了信号または、用紙１０５の後端が記録領域に到達した信号を受けることにより、記録動作を終了させ用紙１０５を排紙する。
【００２２】
また、キャリッジ１０１の移動方向右端側の記録領域を外れた位置には、記録ヘッド１０２の吐出不良を回復するための回復装置１２９を配置している。回復装置１２９はキャップ手段と吸引手段とクリーニング手段を有している。キャリッジ１０１は印字待機中にはこの回復装置１２９側に移動されてキャッピング手段で記録ヘッド１０２をキャッピングされ、吐出口部を湿潤状態に保つことによりインク乾燥による吐出不良を防止する。また、記録途中などに記録と関係しないインクを吐出することにより、全ての吐出口のインク粘度を一定にし、安定した吐出性能を維持する。
【００２３】
このように、このインクジェット記録装置は、本実施形態のインクジェットヘッドを搭載しているので、振動板駆動不良によるインク滴吐出不良がなく、安定したインク滴吐出特性が得られて画像品質が向上する。
【００２４】
次に、本発明の実施形態の電気機械変換膜の製造工程について説明する。なお、本実施形態では、圧電定数ｄ３１の変形を利用した横振動（ベンドモード）型の電気機械変換膜を有する電気機械変換素子を例として説明するが、本発明はこの型の電気機械変換膜に限定されることなく適用可能である。
【００２５】
電気機械変換膜がＰＺＴ膜の場合、酢酸鉛三水和物、イソプロポキシドチタン、ノルマルブトキシドジルコニウムを出発材料として合成したＰＺＴ前駆体溶液を用いることができる。酢酸鉛の結晶水はメトキシエタノールに溶解した後、脱水する。化学量論的組成に対し鉛量を１０モル％過剰にしてある。これは熱処理中のいわゆる鉛抜けによる結晶性低下を防ぐためである。イソプロポキシドチタン、ノルマルブトキシドジルコニウムをメトキシエタノールに溶解し、アルコール交換反応、エステル化反応を進め、上記酢酸鉛を溶解したメトキシエタノール溶液と均一に混合することによりＰＺＴ前駆体溶液を合成することができる。このＰＺＴ前駆体溶液のＰＺＴ濃度は例えば０．１モル／リットルにする。
【００２６】
また、電気機械変換膜がＰＺＴ膜の場合のＰＺＴ前駆体溶液は、非特許文献１に記載されている、酢酸鉛、ジルコニウムアルコキシド、チタンアルコキシド化合物を出発材料にし、共通溶媒としてメトキシエタノールに溶解させ、均一溶液として得るようにしてもよい。上記ＰＺＴ前駆体溶液は「ゾルゲル液」とも呼ばれる。
【００２７】
ＰＺＴとは、ジルコン酸鉛（ＰｂＺｒＯ３）とチタン酸鉛（ＰｂＴｉＯ３）の固溶体で、その比率により特性が異なる。一般的に優れた圧電特性を示す組成はＰｂＺｒＯ３とＰｂＴｉＯ３の比率が５３：４７の割合で、化学式で示すとＰｂ（Ｚｒ０．５３，Ｔｉ０．４７）Ｏ３、一般にＰＺＴ（５３／４７）と示される。酢酸鉛、ジルコニウムアルコキシド、チタンアルコキシド化合物の出発材料は、この化学式に従って秤量される。金属アルコキシド化合物は大気中の水分により容易に加水分解してしまうので、前駆体溶液に安定剤としてアセチルアセトン、酢酸、ジエタノールアミンなどの安定化剤を適量、添加してもよい。
【００２８】
ＰＺＴ以外の複合酸化物としてはチタン酸バリウムなどが挙げられ、この場合はバリウムアルコキシド、チタンアルコキシド化合物を出発材料にし、共通溶媒に溶解させることでチタン酸バリウム前駆体溶液を作製することも可能である。
【００２９】
また、下地となる基板上の第１の電極の表面に電気機械変換膜としてのパターン化したＰＺＴ膜を得る場合、上記溶液を塗布液として液滴吐出方式で塗布することにより塗膜を形成し、溶媒乾燥、熱分解、結晶化の各々の熱処理を施すことでパターン化したＰＺＴ膜が得られる。塗膜から結晶化膜への変態には体積収縮が伴うので、クラックフリーな膜を得るには一度の工程で１００［ｎｍ］以下の膜厚が得られるようにするのが好ましい。そして、前駆体濃度は、電気機械変換膜の成膜面積とＰＺＴ前駆体溶液の塗布量との関係から適正化するように調整するのが好ましい。また、液滴吐出装置の電気機械変換素子として用いる場合、このＰＺＴ膜の膜厚は１［μｍ］〜２［μｍ］が要求される。この膜厚を得るには十数回、工程を繰り返すことになる。
【００３０】
更に、ゾルゲル法によるパターン化した電気機械変換層の形成の場合には、下地となる基板の濡れ性を制御したＰＺＴ前駆体溶液の塗り分けをする。これは、非特許文献２に示されているアルカンチオールが特定金属上に自己配列する現象を利用したものであり、まず、基板の白金族金属の表面に、チオールのＳＡＭ（Self assembled monolayer）膜を形成する。ＳＡＭ膜上はアルキル基が配置しているので、疎液性になる。このＳＡＭ膜は、例えば周知のフォトリソグラフィ・エッチングにより、フォトレジストを用いてパターニングすることができる。レジスト剥離後も、パターン化ＳＡＭ膜は残っているので、この部位は疎液性になっている。一方、ＳＡＭ膜が除去された部位は白金表面が露出しているため、親液性になっている。この表面エネルギーのコントラストを利用してＰＺＴ前駆体溶液の塗り分けをすることができる。本実施形態では、上記ＳＡＭ膜を、ＰＺＴ前駆体溶液を塗布しない領域に選択的に形成した後、以下に示すように、ＰＺＴ前駆体溶液の消費量を低減することができる液滴吐出方式による塗工（インクジェット塗工）でＰＺＴ前駆体溶液を選択的に塗布している。
【００３１】
図３は本発明の一実施形態に係る電気機械変換膜の形成を伴う電気機械変換素子の製造工程を示す工程断面図である。同図の（ａ）に示す基板１１の表面（上面）には、チオールとの反応性に優れた第１の電極としての図示しない白金族金属からなる白金電極が、例えばスパッタ法により形成されている。この基板１１の白金電極の表面に、同図の（ｂ）に示すようにＳＡＭ膜１２が形成される。ＳＡＭ膜１２は、アルカンチオール液に基板１１をディップして自己配列させることで得られる。本例では、ＣＨ３（ＣＨ２）−ＳＨのアルカンチオールの分子を一般的な有機溶媒（アルコール、アセトン、トルエンなど）に所定濃度（例えば数［ｍｏｌ／ｌ］）で溶解させたアルカンチオール液を用いた。このアルカンチオール液に基板１１を浸漬させ、所定時間後に取り出した後、余剰な分子を溶媒で置換洗浄し乾燥することにより、白金電極の表面にＳＡＭ膜１２を形成することができる。次に、同図の（ｃ）に示すように、フォトリソグラフィーによりフォトレジスト１３をパターン形成し、同図の（ｄ）に示すようにドライエッチング（例えば、酸素プラズマの照射又はＵＶ光の照射）によりＳＡＭ膜１２を除去し、加工に用いたフォトレジスト１３を除去してＳＡＭ膜１２のパターニングを終了する。このように形成されたＳＡＭ膜１２は、純水に対する接触角が例えば９２度であり、疎液性を示す。一方、ＳＡＭ膜１２が除去されて露出した基板１１の白金電極の表面は、純水に対する接触角が例えば５４度であり、親液性を示す。
【００３２】
次に、図３の（ａ）〜（ｄ）に示す工程を行った後、ＰＺＴ前駆体溶液の液滴をノズルから吐出させる液滴吐出方式、具体的には液滴吐出ヘッド１４によりＰＺＴ前駆体溶液１５が塗布される（図３の（ｅ）参照）。このＰＺＴ前駆体溶液１５の塗布は、疎液部であるＳＡＭ膜上にはＰＺＴ膜１６が形成されず、ＳＡＭ膜を除去された親液部のみにＰＺＴ膜が形成されるように行われる。最後に、溶媒乾燥、熱分解、結晶化の各々の熱処理を施すことで電気機械変換膜１７が得られる（図３の（ｆ）参照）。
【００３３】
上記図３の方法では、上記図３の（ａ）〜（ｄ）及び液滴吐出方式によるＰＺＴ前駆体溶液の塗布、溶媒乾燥、熱分解、結晶化の各熱処理を１回ずつ実行して所定膜厚の電気機械変換膜を得る場合について示したが、上記図３の（ａ）〜（ｄ）、液滴吐出方式によるＰＺＴ前駆体溶液の塗布の図３の（ｅ）、及び溶媒乾燥、熱分解、結晶化の各熱処理の図３の（ｆ）を、所定回数（２回以上）繰り返して実行して薄めに設定した電気機械変換膜を多層に重ねて形成し、所定膜厚の電気機械変換膜を得るようにしてもよい。この場合、電気機械変換膜のクラックの発生をより確実に防止できる。
【００３４】
また、上記図３の方法では、第１の電極上のＰＺＴ前駆体溶液が塗布される所定部分以外の表面をＳＡＭ膜によって疎液面にする表面改質を行っているが、第１の電極の表面が疎液面の場合は、その第１の電極上のＰＺＴ前駆体溶液が塗布される所定部分の表面を親液面にする表面改質を行ってもよい。
【００３５】
上述した製造工程を１５回繰り返し５００［ｎｍ］の膜を得た。このとき作製された膜にクラックなどの不良は生じなかった。さらに、１５回のＰＺＴ前駆体の選択塗布とレーザ照射を行い、結晶化処理をした。膜にクラックなどの不良は生じなかった。膜厚は１０００［ｎｍ］に達した。このパターン化膜に上部電極（白金）を成膜し電気特性、電気機械変換能（圧電定数）の評価を行った。その結果、図４のＰ（分極）−Ｅ（電界強度）のヒステリシス曲線が得られた。膜の比誘電率は１２２０、誘電損失は０．０２、残留分極は１９．３［μＣ／ｃｍ２］、抗電界は３６．５［ｋＶ／ｃｍ］であり、通常のセラミック焼結体と同等の特性を持っていることがわかった。また、電気−機械変換能は電界印加による変形量をレーザードップラー振動計で計測し、シミュレーションによる合わせ込みから算出した。その圧電定数ｄ３１は１２０［ｐｍ／Ｖ］となり、こちらもセラミック焼結体と同等の値であった。この値は液体吐出ヘッドに用いる圧電素子として十分設計できうる特性値である。電極膜として白金やＳｒＲｕＯ３やＬａＮｉＯ３などの酸化物を溶媒に溶かし、インクジェット法で塗布、レーザ照射することで圧電体層と同様に電極膜も形成することができる。
【００３６】
図５は上記製造方法で製造した電気機械変換素子を用いて構成した液滴吐出ヘッドの一構成例を示す概略構成図である。図示の例では、液室基板となるシリコン基板２０上に、振動板３０、密着層４１及び下部電極（第１の電極）４２を積層し、その下部電極（第１の電極）４２上の所定部分に、上記簡便な製造方法により、バルクセラミックスと同等の性能を持つ電気機械変換素子（ＰＺＴ素子）４３及び上部電極４４をパターン化して形成することができる。その後、シリコン基板２０の裏面（図中の下面）からエッチング除去工程により液室２２ａを形成し、ノズル孔２１を有するノズル板２２を接合することにより、液体吐出ヘッド５０を作製することができる。なお、図中には液体供給手段、流路、流体抵抗についての記述は省略した。また、図５の液滴吐出ヘッド５０は、図６に示すように複数個並べるように構成することもできる。
【００３７】
図７は本実施形態の液滴吐出ヘッドにおける電気機械変換膜の製造装置の斜視図である。同図に示す電気機械変換膜製造装置２００は、機能性インクを基板上に塗布するための液滴吐出ヘッド２０１と、基板２０２を保持するステージ２０３と、塗布された機能性インクを加熱、結晶化するためのレーザヘッド２０４と、アライメントするためのカメラ２０５と、基板の向きを調整するθ軸移動手段２０６と、基板をスキャン軸方向に移動させるスキャン軸移動手段２０７と、基板をフィード軸方向に移動させるフィード軸移動手段２０８とを有する。スキャン軸は図中のＸ軸に、フィード軸は図中のＹ軸に相当する。液滴吐出ヘッド２０１は液滴吐出ヘッド支持部材２０９に支持されている。この液滴吐出ヘッド２０１には図示されていない各インクタンクから各々機能性材料インク供給用パイプからインクが供給される。基板２０２を保持するステージ２０３には図示されていない真空、静電気などの吸着手段が付随しており、基板２０２をステージ２０３上に固定することができる。レーザヘッド２０４はレーザヘッド支持部材２１０に支持されている。レーザヘッド２０４は多チャンネルのものでも、単一口のものでも構わないが、多チャンネルのものが好ましい。レーザ光２０４−１の波長は赤外線の領域もしくは紫外線の領域が好ましく、該当基板もしくは基板上に成膜された層の吸収係数の高い波長であればより一層好ましい。カメラ２０５はカメラ支持部材２１１に支持されている。カメラ２０５は、画素数が多い方が好ましい。これにより、広い領域を撮影できるのでアライメントに要する時間を短縮化でき、また、高解像度で撮影できるので、アライメントマークを精度よく認識できる。画素数の多いカメラは、例えば、Edmund社製1/2型プログレッシブスキャンＣＭＯＳカメラ（型番：EO-5012、画素数：約５００万画素）などがある。また、このようなカメラでは、ピクセルサイズが縦２．２［μｍ］×縦２．２［μｍ］のカメラがある。このカメラを使って、例えば一般的なレンズ倍率５倍の顕微鏡タイプのレンズを装着した場合、約１ｍｍ角四方の領域を約０．４［μｍ］の解像度で撮影することができる。
【００３８】
基板２０２を保持するステージ２０３はθ軸移動手段２０６上に設置されており、基板の向きを調整することができる。このθ軸移動手段２０６は回転量を検知、記録できるようにエンコーダー機能を有していることが好ましい。さらに、θ軸移動手段２０６は、スキャン軸移動手段２０７上に設置されており、機能性インクのパターン上の塗布・加熱・結晶化を行うために基板２０２を移動させることができる。そして、スキャン軸駆動手段２０７とフィード軸駆動手段２０８は移動量を検知、記録できるようにエンコーダー機能を有していることが好ましい。
【００３９】
図７に示す電気機械変換膜製造装置２００による機能性インクの塗布・加熱・結晶化工程を図８に示す。先ず、図８の（ａ）のようにスキャン軸移動手段２０７及びフィード軸駆動手段２０８を用いて液滴吐出ヘッド直下に基板２０２を移動させ、任意のパターンを基板２０２上に塗布する。その後、図８の（ｂ）のように基板２０２をレーザヘッド２０４の直下に移動して、レーザを照射することにより機能性インクの加熱・結晶化する。この工程は所望の膜厚になるまで繰り返される。
【００４０】
以上説明した工程が任意の場所で実施できるように、機能性インクの塗布位置及びレーザ光の照射位置は、スキャン軸方向（図８中の左右方向）、フィード軸方向（図８中の前後方向）に調整できる。更に、機能性インクの塗布、加熱、結晶化プロセスを効率的に実施するために、θ軸方向（スキャン軸−フィード軸平面内の回転）の調整ができる。以上説明した工程において、液滴吐出ヘッド２０１及びレーザヘッド２０４が移動してもよく、この場合は基板が固定されていてもよい。また、レーザヘッド２０４は固定されており、レーザ光をミラー等で走査してもよい。
【００４１】
次に、機能性インクをパターン上に塗布、加熱、結晶化するためのアライメント調整工程について説明する。この工程には、次の３つのアライメント調整工程がある。
アライメント調整工程Ａ：液滴吐出ヘッドの塗布位置とカメラの撮影範囲内での基準位置との距離のアライメント
アライメント調整工程Ｂ：レーザ光の照射位置とカメラの撮影範囲内での基準位置との距離のアライメント
アライメント調整工程Ｃ：移動手段群であるスキャン軸駆動手段とフィード軸駆動手段の座標系と基板の向きや位置のアライメント
【００４２】
はじめに、液滴吐出ヘッドの塗布位置とカメラの撮影範囲内での基準位置との距離のアライメント調整工程Ａについて説明する。図９は液滴吐出ヘッドの塗布位置とカメラの撮影範囲内での基準位置とのアライメント調整を説明するための模式図である。
【００４３】
先ず、ステージ２０３を液滴吐出ヘッド２０１の直下に移動させ、液滴吐出ヘッド２０１から液を吐出させる。このときのスキャン軸駆動手段２０７、フィード軸駆動手段２０８の位置を（ＸIJ、ＹIJ）とする。このとき液滴が着弾した着弾位置は液滴吐出ヘッド２０１の着弾位置２５１である。そして、液滴がステージに着弾後、着弾した液滴がカメラ２０５の撮影基準位置２５２に来るようにステージ２０３を移動させる。この時のスキャン軸駆動手段２０７、フィード軸駆動手段２０８の位置を（ＸC、ＹC）とする。液滴吐出ヘッドの着弾位置２５１とカメラ２０５の撮影範囲内での撮影基準位置２５２との距離（ΔＸa、ΔＹa）は、ΔＸa＝ＸIJ−ＸC、ΔＹa＝ＹIJ−ＹC、となる。これにより、液滴吐出ヘッドの着弾位置２５１とカメラ２０５の撮影範囲内での撮影基準位置２５２との距離のアライメントが完了する。このアライメント調整工程は、装置構築時に行う。また、このアライメント調整工程は装置交換時、および定期的に行うことが好ましい。更に、このアライメント調整工程で塗布する液がパターン塗布に使用する液と同一であることが好ましい。
【００４４】
次に、レーザ光の照射位置とカメラの画像内での基準位置との距離のアライメント調整工程Ｂについて説明する。図１０はレーザ光の照射位置とカメラの画像内での基準位置とのアライメント調整を説明するための模式図である。
【００４５】
先ず、ステージ２０３をレーザヘッド２０４の直下に移動させ、レーザヘッド２０４からレーザ光を照射し、照射位置の痕跡を残す。このとき、レーザ光が照射された場所を認識できるように、ステージ２０３上にはレーザ光に反応する感光紙等を固定しておくことが望ましい。このときのスキャン軸駆動手段２０７、フィード軸駆動手段２０８の位置を（ＸL、ＹL）とする。このときレーザ光が照射された位置がレーザ光の照射位置２６１である。そして、レーザ光を照射後、照射位置の痕跡がカメラ２０５の基準点位置２５２に来るようにステージ２０３を移動させる。この時のスキャン軸駆動手段２０７、フィード軸駆動手段２０８の位置を（Ｘ’C、Ｙ’C）とする。レーザ光の照射位置２６１とカメラ２０５の撮影範囲内での撮影基準位置２５２との距離の（ΔＸｂ、ΔＹｂ）を、ΔＸｂ＝ＸL−Ｘ’C、ΔＹｂ＝ＹL−Ｙ’C、とする。これにより、レーザ光の照射位置２６１とカメラ２０５の撮影範囲内での基準位置２５１との距離のアライメントが完了する。このアライメント調整工程は、装置構築時に行う。さらに、このアライメント調整工程は装置交換時、及び定期的に行うことが好ましい。
【００４６】
次に、スキャン軸駆動手段２０７及びフィード軸駆動手段２０８の移動手段群の座標系と基板の向き、位置のアライメント調整工程Ｃについて説明する。図１１は移動手段群の座標系と基板の向き、設置位置のアライメント調整を説明するための模式図である。
【００４７】
先ず、基板２０２をステージ２０３上に固定し、図１１の（ａ）のように基板２０２上に予め形成されたアライメントマーク２７１がカメラの撮影範囲２５３内に来るように基板２０２を移動し、アライメントマーク２７１を捕捉する。そして、捕捉したアライメントマーク２７１の形状に基づいて基板２０２の向きを検知し、図１１の（ｂ）のように基板２０２の向きを所定の向きになるようにθ方向に回転させる。次に、図１１の（ｃ）のように、アライメントマーク２７１をカメラの撮影範囲内での撮影基準位置２５２に移動する。この時のスキャン軸駆動手段２０７、フィード軸駆動手段２０８の位置を（Ｘ"C、Ｙ"C）とする。これにより、スキャン軸駆動手段２０７とフィード軸駆動手段２０８の座標系と基板の向き、設置位置のアライメントが完了する。このとき、アライメントマーク２７１は、その形状の中に、基板２０２の向きを認識しやすいように直線部分を有している方が好ましい。
【００４８】
３つのアライメントを実施することにより、基板上の所定の位置に機能性インクを塗布し、その位置にレーザ光を照射することができる。例えば、基板２０２上に予め形成されたアライメントマーク２７１を元に基板２０２の向きが所定の向きになるように基板２０２を回転させる。そして、アライメントマーク２７１から距離（ΔＸP、ΔＹP）離れた位置に塗布する場合、スキャン軸駆動手段２０７及びフィード軸駆動手段２０８を（Ｘ"C−ΔＸ’P＋ΔＸa、Ｙ"C−ΔＹ’P＋ΔＹa）となるように移動することで、パターンの塗布位置に機能性インクが塗布される。また、スキャン軸駆動手段２０７及びフィード軸駆動手段２０８を（Ｘ"C−ΔＸ’P＋ΔＸｂ、Ｙ"C−ΔＹ’P＋ΔＹｂ）となるように移動することで、基板上での塗布位置にレーザが照射される。
【００４９】
ここで、アライメントマークが１つのとき、アライメントマークの大きさは大きくする。この方が、大きさが大きいほど基板の傾きを精度良く認識することができる。図１２はアライメントマークが１つの場合において、アライメントマークの所定の向きからずれたときの状態を説明するための模式図である。同図に示すアライメントマークは十字の形状をなすマークであるがこれに限定する必要はない。同図において、アライメントマーク２７２は、所定の向きのアライメントマーク２７１に対してズレ角Δθ回転したものである。そして、アライメントマーク２７１とアライメントマーク２７２とのズレ量Ｄは、基板の傾きを求めるのに使用するアライメントマークの横直線部分の長さをＬとすると、Ｌ×ｓｉｎΔθとなる。つまり、アライメントマークの横直線部分の長さＬが大きいほどアライメントマークのズレ量Ｄを大きくなる。小さな角度のズレでもアライメントマークの横直線部分の長さを大きくしておけば認識しやすくなる。
【００５０】
また、２つのアライメントマークを使用し、長さＬを２つのアライメントマーク間の距離とすることで、基板の向きを所定の向きにすることができる。これにより、パターンを塗布できる領域を広く確保することができる。このとき、アライメントマーク間距離は長い方がよく、少なくとも接する外接円の直径の半分以上あることが好ましい。アライメントマークの位置は、パターンを塗布できる領域が広くすることができるので、基板の端部にある方が望ましい。アライメントマークの大きさは、パターンを塗布できる領域を広くするために、カメラで認識できる大きさ以上であれば小さい方がよい。このとき、アライメントマークの大きさは塗布されるパターンの短幅よりも小さいことが好ましい。これにより、アライメントマークの位置精度は少なくともパターンの短幅以下にすることできる。アライメントマークが複数存在する場合、アライメントマークの形状は同一でもよいが、個々のアライメントマークの形状は異なる方が好ましい。この方が、特定のアライメントマークの認識に要する時間を短縮できる。また、アライメントマークを誤認することがないので、歩留まりを向上することができる。
【００５１】
そして、シリコンウェハに熱酸化膜（膜厚１［μｍ］）を形成し、密着層としてチタン膜（膜厚５０［ｎｍ］）をスパッタ成膜した。引続き下部電極として白金膜（膜厚２００［ｎｍ］）スパッタ成膜した。アルカンチオールにＣＨ３（ＣＨ２）６−ＳＨを用い、濃度０．０１［ｍｏｌ／ｌ］（溶媒：イソプロピルアルコール）溶液に浸漬させ、ＳＡＭ処理を行った。その後、イソプロピルアルコールで洗浄、乾燥後、パターニングの工程に移る。
【００５２】
ＳＡＭ処理後の疎液性は接触角測定を行い、ＳＡＭ膜上での水の接触角は９２．２°であった。一方、ＳＡＭ処理前の白金スパッタ膜のそれは５°以下（完全濡れ）であり、ＳＡＭ膜処理がなされたことがわかる。
【００５３】
東京応化社製フォトレジスト（ＴＳＭＲ８８００）をスピンコート法で成膜し、通常のフォトリソグラフィーでレジストパターンを形成した後、酸素プラズマ処理を行い露出部のＳＡＭ膜を除去した。処理後の残渣レジストはアセトンにて溶解除去し、同様の接触角評価を行ったところ、除去部では５°以下（完全濡れ）、レジストでカバーされていた部位のそれは９２．４°の値を示し、ＳＡＭ膜のパターン化がなされたことを確認した。
【００５４】
他方式のパターニングとして、同様のレジストワークにより予めレジストパターンを形成し、同様のＳＡＭ膜処理を実施後、アセトンにてレジストを除去し、接触角を測定した。レジストカバーされた白金膜上の接触角は５°以下（完全濡れ）、他の部位のそれは９２．０°となり、ＳＡＭ膜のパターン化がなされたことを確認した。
【００５５】
もう一つの他方式として、シャドウマスクを用いた紫外線照射を行った。用いた紫外線はエキシマランプによる波長１７６［ｎｍ］の真空紫外光を１０分間照射した。照射部の接触角は５°以下（完全濡れ）であった（図１３の（ａ）参照）、未照射部のそれは９２．２°であり（図１３の（ｂ）参照）ＳＡＭ膜のパターン化がなされたことを確認した。
【００５６】
圧電層としてＰＺＴ（５３／４７）を成膜する。前駆体塗布液の合成は、出発材料に酢酸鉛三水和物、イソプロポキシドチタン、イソプロポキシドジルコニウムを用いた。酢酸鉛の結晶水はメトキシエタノールに溶解後、脱水した。化学両論組成に対し鉛量を１０モル％過剰にしてある。これは熱処理中のいわゆる鉛抜けによる結晶性低下を防ぐためである。
【００５７】
イソプロポキシドチタン、イソプロポキシドジルコニウムをメトキシエタノールに溶解し、アルコール交換反応、エステル化反応を進め、先記の酢酸鉛を溶解したメトキシエタノール溶液と混合することでＰＺＴ前駆体溶液を合成した。このＰＺＴ濃度は０．１モ［ｍｏｌ／ｌ］にした。
【００５８】
一度のゾルゲル成膜で得られる膜厚は１００［ｎｍ］が好ましく、前駆体濃度は成膜面積と前駆体塗布量の関係から適正化される。従って、０．１［ｍｏｌ／ｌ］に限定されるものではない。この前駆体溶液を先のパターン化ＳＡＭ膜上にインクジェット法で塗布した。インクジェット法によりＳＡＭ膜上には液滴を吐出せず親液部のみ吐出することで接触角のコントラストにより親液部上にのみ塗膜ができた。この塗膜に際して、膜厚に応じた出力でレーザ照射を行うことで基板を加熱しパターニングされた前駆体インクの乾燥、結晶化を行い、図３の（ｆ）に示す電気機械変換膜１７を得た。
【００５９】
このように、このインクジェット記録装置においては本発明を実施したインクジェットヘッドを搭載しているので、振動板駆動不良によるインク滴吐出不良がなく、安定したインク滴吐出特性が得られて、画像品質が向上する。
【００６０】
以上に説明したものは一例であり、本発明は、次の態様毎に特有の効果を奏する。
（態様Ａ）
第１のアライメント調整工程では、基板が液滴吐出ヘッドの直下になるように基板又は液滴吐出ヘッドを相対的に任意の基準位置から移動させて液滴吐出ヘッドによってアライメントマーク用の溶液を基板上に吐出し、着弾したアライメントマーク用の溶液に１台の描画撮影用の撮像手段の撮影基準位置が一致するように基板又は撮像手段を相対的に移動させたときの第１の移動量を記憶し、液滴吐出ヘッドの直下に着弾位置が来るように第１の移動量に基づいて基板又は液滴吐出ヘッドを相対的に移動させる。第２のアライメント調整工程では、基準位置から基板又はレーザ光源による照射位置を相対的に移動させてレーザ光源によって基板上にレーザ光を照射して照射跡を形成し、該照射跡に撮像手段の撮影基準位置が一致するように基板又は撮像手段を相対的に移動させたときの第２の移動量を記憶し、レーザ光源による照射位置に着弾位置が来るように第２の移動量に基づいて基板又はレーザ光源による照射位置を相対的に移動させる。第３のアライメント調整工程では、基板上に予め形成されているアライメントマークを撮像手段で撮像し、撮像した前記アライメントマークの形状に基づいて基板の向きを検知して所定の向きになるように基板又は撮像手段を相対的に回転させたとき回転角度を記憶し、アライメントマークの位置が撮像手段の撮像基準位置に一致するように撮像手段又は基板を相対的に移動させたときのアライメントマークのステージにおける位置座標を記憶し、基板の向きを所定の向きになるように回転角度に基づいて基板又は撮像手段を相対的に回転させ、かつアライメントマークの位置が撮像基準位置に一致するように位置座標に基づいて基板又は撮像手段を相対的に移動させる。これによれば、上記実施形態について説明したように、第２のアライメント調整工程において捕捉する対象を基板上に感光紙などを貼り付けその感光紙に痕跡が残る照射跡とした。この照射跡は描画された画像であり、描画を認識できる機能を有しているカメラ２０５で認識することができる。これにより、各アライメント調整工程において捕捉する対象は全て描画撮影用のカメラ２０５で認識することができるようになる。このため、従来のような赤外線カメラのような高価で特殊なレーザ光撮影用の撮像手段を用いなくてもよく、レーザ光撮影用の撮像手段に比べて低コストな描画撮影用のカメラ２０５を１台だけで全てのアライメント工程を行うことができるようになった。よって、低コスト化が図ることができる。
（態様Ｂ）
（態様Ａ）において、アライメントマークの形状には直線部分を有する。これによれば、上記実施形態について説明したように、アライメントマーク２７１の向きが認識しやすく、基板２０２の向きの認識精度が向上しているので、パターンの塗布精度が向上する。
（態様Ｃ）
（態様Ａ）又は（態様Ｂ）において、アライメントマークが１つ形成されており、アライメントマークは基板の大きさと略同じである。これによれば、上記実施形態について説明したように、アライメントマーク２７１が大きく、アライメントマーク２７１の向きの認識精度がよくなり、基板２０２の向きの認識精度が向上しているので、パターンの塗布精度が向上する。
（態様Ｄ）
（態様Ａ）又は（態様Ｂ）において、アライメントマークが複数形成されている。これによれば、上記実施形態について説明したように、基板２０２に対してアライメントマーク２７１が占めるスペースを削減した状態で高精度な基板の向きの認識を実現できるので、１枚の基板２０２の多くのパターンを塗布することができ、生産コストを下げることができる。
（態様Ｅ）
（態様Ｄ）において、少なくとも１組以上の各アライメントマークの間の長さが、基板が接する外接円の直径の半分よりも長い。これによれば、上記実施形態について説明したように、離れた位置にある複数のアライメントマークを使うことで基板の向きの認識精度が向上しているので、パターンの塗布精度が向上する。
（態様Ｆ）
（態様Ａ）〜（態様Ｄ）のいずれの薄膜製造装置のアライメント調整方法を用いてアライメントを調整する。これによれば、上記実施形態について説明したように、高価なカメラが１台で済むので装置全体の低コスト化が図れ、かつ装置内に占める設置スペースが減り小型化を図ることができる。
（態様Ｇ）
（態様Ｆ）の薄膜製造装置を用いて電気機械変換膜を形成する溶液を液滴吐出ヘッドにより吐出し、基板上に着弾した溶液にレーザ光源によりレーザ光を照射して熱処理を施して製造する。これによれば、上記実施形態について説明したように、製造コストを抑えられるため、製造される電気機械変換膜を低コストとすることができる。
（態様Ｈ）
（態様Ｇ）の電気機械変換膜に第１の電極上を形成した後、その第１の電極上に形成した電気機械変換膜を挟むように第２の電極を配置する第２電極を有する。これによれば、上記実施形態について説明したように、製造コストを抑えられるため、製造される電気機械変換素子を低コストとすることができる。
（態様Ｉ）
（態様Ｈ）の電気機械変換素子を備えた。これによれば、上記実施形態について説明したように、製造コストを抑えられるため、製造される液滴吐出ヘッドを低コストとすることができる。
（態様Ｊ）
（態様Ｉ）の液滴吐出ヘッドを備えた。これによれば、上記実施形態について説明したように、製造コストを抑えられるため、製造される液滴吐出装置を低コストとすることができる。
【符号の説明】
【００６１】
１１  基板
１２  ＳＡＭ膜
１３  フォトレジスト
１４  液滴吐出ヘッド
１５  ＰＺＴ前駆体溶液
１６  ＰＺＴ膜
１７  電気機械変換膜
２０  シリコン基板
２１  ノズル孔
２２  ノズル板
２２ａ  液室
３０  振動板
４１  密着層
４２  下部電極
４３  電気機械変換素子
４４  上部電極
５０  液体吐出ヘッド
１００  インクジェット記録装置
２００  電気機械変換膜製造装置
２０１  液滴吐出ヘッド
２０２  基板
２０３  ステージ
２０４  レーザヘッド
２０５  カメラ
２０６  θ軸移動手段
２０７  スキャン軸移動手段
２０８  フィード軸移動手段
２０９  液滴吐出ヘッド支持部材
２１０  レーザヘッド支持部材
２１１  カメラ支持部材
２５１  着弾位置
２５２  撮影基準位置
２５３  撮影範囲
２６１  照射位置
２７１  アライメントマーク
２７２  塗布部分
２７３  アライメントマーク
【先行技術文献】
【特許文献】
【００６２】
【特許文献１】特開２００８−１８７３０２号公報
【特許文献２】特許第４３５３１４５号公報
【非特許文献】
【００６３】
【非特許文献１】Ｋ．Ｄ．Ｂｕｄｄ，  Ｓ．Ｋ．Ｄｅｙ  ａｎｄ  Ｄ．Ａ．Ｐａｙｎｅ，Ｐｒｏｃ．Ｂｒｉｔ．Ｃｅｒａｍ．Ｓｏｃ．３６，１０７（１９８５）
【非特許文献２】Ａ．Ｋｕｍａｒ  ａｎｄ  Ｇ．Ｍ．Ｗｈｉｔｅｓｉｄｅｓ，  Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．，６３，２００２（１９９３）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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