(57)【要約】      （修正有）【課題】長期湿熱耐久試験（８５℃、湿度８５％、１０００時間）実施時の伝送損失の増加が抑制された、屈折率分布型プラスチック光ファイバを提供する。【解決手段】同心円状の内層１と外層２との２層構造を有する屈折率分布型光ファイバの外層上に、少なくとも１層の保護被覆層が形成されたプラスチック光ファイバであって、前記保護被覆層の構成材料が、ガラス転移温度が１２０℃以上の非結晶性の熱可塑性樹脂であるプラスチック光ファイバ。【選択図】図１
2013222130.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
同心円状の、内層と外層とを有する２層構造からなる屈折率分布型光ファイバの前記外層上に、少なくとも１層の保護被覆層が形成されたプラスチック光ファイバであって、
前記保護被覆層の構成材料が、ガラス転移温度が１２０℃以上の非結晶性の熱可塑性樹脂であることを特徴とする、プラスチック光ファイバ。
【請求項２】
前記保護被覆層の構成材料が、ガラス転移温度が１２０℃以上の芳香族系ポリカーボネートと芳香族系ポリエステルとのポリマーアロイである請求項１に記載のプラスチック光ファイバ。
【請求項３】
前記芳香族系ポリカーボネートと芳香族系ポリエステルとのポリマーアロイにおいて、ポリエステルの構成成分であるカルボン酸が、フタル酸である、請求項２に記載のプラスチック光ファイバ。
【請求項４】
前記芳香族系ポリカーボネートと芳香族系ポリエステルとのポリマーアロイにおいて、
前記芳香族系ポリエステルの構成成分であるジオールが、２種以上のジオールであり、ビスフェノールフルオレン、ビスクレゾールフルオレン、ビスフェノキシエタノールフルオレン、シクロヘキサンジメタノール、および、スピログリコールからなる群から選択される少なくとも１種のジオールと、エチレングリコールおよびブチレングリコールからなる群から選択される少なくとも１種のジオールと、を含有する、請求項２または３に記載のプラスチック光ファイバ。
【請求項５】
前記保護被覆層が、ガラス転移温度が１２０℃以上の、ポリフェニレンエーテルと、ポリプロピレン、汎用ポリスチレン、または、耐衝撃性ポリスチレンと、のポリマーアロイを構成材料とする、請求項１に記載のプラスチック光ファイバ。
【請求項６】
前記内層が実質的にＣ−Ｈ結合を有しない非結晶性の含フッ素重合体（ａ）を材料とする屈折率分布構造を有し、前記外層が実質的にＣ−Ｈ結合を有しない非結晶性の含フッ素重合体であってかつ内層の最外部の屈折率より低屈折率であり、かつ、式（１）で表される化合物を単独重合して得られる含フッ素重合体（ｃ）のみからなる請求項１〜５のいずれかに記載のプラスチック光ファイバ。
ＣＦ2＝ＣＦ−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ3）−ＣＦ2−ＣＦ＝ＣＦ2    ・・・（１）
【請求項７】
前記外層を構成する前記含フッ素重合体（ｃ）のガラス転移温度Ｔｇｃが下記範囲（式中、Ｔｇａは含フッ素重合体（ａ）のガラス転移温度）にある、請求項６に記載のプラスチック光ファイバ。
７０℃＜Ｔｇｃ＜Ｔｇａ＋３０℃
【請求項８】
前記外層を構成する前記含フッ素重合体（ｃ）の屈折率が、前記内層の最外部の屈折率に対して０．００３以上低い、請求項６または７に記載のプラスチック光ファイバ。
【請求項９】
前記内層が、含フッ素重合体（ａ）をマトリクスとし、そのマトリクス中に屈折率の異なる物質（ｂ）を分布させて屈折率分布構造を形成してなる内層である、請求項６〜８のいずれかに記載のプラスチック光ファイバ。
【請求項１０】
前記含フッ素重合体（ａ）が主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する含フッ素重合体である、請求項６〜９のいずれかに記載のプラスチック光ファイバ。
【請求項１１】
前記保護被覆層の外側に、第２の保護被覆層が形成されている、請求項１〜１０のいずれかに記載のプラスチック光ファイバ。
【請求項１２】
前記第２の保護被覆層が、結晶性の熱可塑性樹脂、光硬化性樹脂、または、熱硬化性樹脂を構成材料とする、請求項１１に記載のプラスチック光ファイバ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラスチック光ファイバに関する。より具体的には、同心円状の内外２層構造を有する屈折率分布型光ファイバであって、該屈折率分布型光ファイバの外層上に、特定の保護被覆層を形成することにより、長期湿熱耐久性が改善されたプラスチック光ファイバに関する。
【背景技術】
【０００２】
屈折率分布型プラスチック光ファイバとして、実質的にＣ−Ｈ結合を有しない非結晶性の含フッ素重合体をマトリクスとし、マトリクスと屈折率の異なる物質を半径方向に濃度勾配をもって分布させて屈折率分布構造を形成したプラスチック光ファイバが知られている（特許文献１参照）。さらに、このような屈折率分布型光ファイバにおける曲げによる伝送損失の増加を改善するために、マトリクスより低屈折率の重合体をその外周に設けた光ファイバも知られている（特許文献２、３参照）。
【０００３】
上記の従来の低屈折率重合体を外周に設けた屈折率分布型光ファイバは、内層と外層の界面不整の影響で、外層を設けない屈折率分布型光ファイバよりも初期の伝送損失が悪く、さらに、長期耐熱性（７０℃、１０００時間）、冷熱サイクル試験（７０℃／−２０℃×１０回）、湿熱サイクル試験（６５℃、湿度９５％／−１０℃×１０回）などの耐熱・湿熱性試験を行うと伝送損失が増加するという問題があった。
【０００４】
本願出願人らは、熱サイクル試験および湿熱サイクル試験後のファイバを解析した結果、低屈折率重合体からなる外層と屈折率分布が形成されている内層との間で界面剥離が起きることが伝送損失増加の原因であることを見出し、内層と外層の密着性を向上するために、外層の低屈折率材料として、内層のマトリクスを構成している重合体と親和性が高く、同一基本骨格の重合体を用いることが有効であるとの知見を得た。
本願出願人らは、この知見に基づき、特許文献４に記載のプラスチック光ファイバを提供している。特許文献４に記載のプラスチック光ファイバは、屈折率分布型の光ファイバにおいて、屈折率分布の形成された内層の外側に内層の最外部の屈折率よりも低い屈折率を有しかつ密着性の良好な同一基本骨格の重合体を用いて外層を形成することにより、耐熱性、耐湿熱性を保持したまま、初期の伝送損失および曲げによる伝送損失の増加の低減された光ファイバを新規に提供するものである。
【０００５】
プラスチック光ファイバの外層のさらに外側に、保護被覆層を設ける場合がある。
特許文献４では、保護被覆層の材料としては、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、環状ポリオレフィン樹脂が好ましいとしている。
また、特許文献５では、コア部及びクラッド部の外周を被覆するプラスチックの被覆材（オーバークラッド材）としては、耐薬品性、流動性に優れる点で、ポリエステルと複合された変性ポリカーボネートが好ましいとしており、同文献の実施例（実施例２７〜４２）では、ＸＹＬＥＸ Ｘ７３００ＣＬ［製品名、ＳＡＢＩＣ イノベーティブジャパン製、ポリエステル変性ポリカーボネート］をオーバークラッド材として用いている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平８−５８４８号公報
【特許文献２】特開平８−３０４６３６号公報
【特許文献３】特開２００２−７１９７２号公報
【特許文献４】特開２００７−７９５０８号公報
【特許文献５】特開２０１１−２３２７２６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
プラスチック光ファイバは、より過酷な環境、具体的には、高温多湿となる環境での使用されるようになってきており、このような環境での耐久性が求められるようになった。
本願出願人らは、長期湿熱耐久試験（８５℃、湿度８５％、１０００時間）を試みたところ、保護被覆層として、従来公知の材料、たとえば、ＰＭＭＡや、特許文献５の実施例で使用されているＸＹＬＥＸ Ｘ７３００ＣＬを用いた場合、長期湿熱耐久試験の実施時に、伝送損失が増加するという問題があることを見出した。
【０００８】
本発明は、上記した従来技術の問題点を解決するため、長期湿熱耐久試験（８５℃、湿度８５％、１０００時間）実施時の伝送損失の増加が抑制された、屈折率分布型プラスチック光ファイバの提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは、上記の目的を達成すべく鋭意検討した結果、以下の知見を得た。
（１）保護被覆層として、ＰＭＭＡや、ＸＹＬＥＸ Ｘ７３００ＣＬ（ポリエステル変性ポリカーボネート）を用いた場合、長期湿熱耐久試験（８５℃、湿度８５％、１０００時間）の実施後、保護被覆層の破断伸びが、初期の破断伸びに比べて著しく低下した。すなわち、下記式で表わされる破断伸び保持率が著しく低下した。
破断伸び保持率（％）＝（長期湿熱耐久試験実施後の破断伸び）／（初期の破断伸び）
×１００
（２）長期湿熱耐久試験実施後の伝送損失の増加と、保護被覆層の破断伸び率の低下には関連性がある。
（３）長期湿熱耐久試験実施後に保護被覆層の破断伸び率が低下する原因は、ＰＭＭＡでは解重合による分子量低下であり、ＸＹＬＥＸ Ｘ７３００ＣＬ（ポリエステル変性ポリカーボネート）では加水分解による分子量低下である。
【００１０】
本発明は、上記の知見に基づいてなされたものであり、同心円状の、内層と外層とを有する２層構造からなる屈折率分布型光ファイバの前記外層上に、少なくとも１層の保護被覆層が形成されたプラスチック光ファイバであって、
前記保護被覆層の構成材料が、ガラス転移温度が１２０℃以上の非結晶性の熱可塑性樹脂であることを特徴とする、プラスチック光ファイバを提供する。
【００１１】
本発明のプラスチック光ファイバにおいて、前記保護被覆層の構成材料が、ガラス転移温度が１２０℃以上の芳香族系ポリカーボネートと芳香族系ポリエステルとのポリマーアロイであることが好ましい。
前記芳香族系ポリカーボネートと芳香族系ポリエステルとのポリマーアロイにおいて、ポリエステルの構成成分であるカルボン酸が、フタル酸であることが好ましい。
前記芳香族系ポリカーボネートと芳香族系ポリエステルとのポリマーアロイにおいて、前記芳香族系ポリエステルの構成成分であるジオールが２種以上のジオールであり、ビスフェノールフルオレン、ビスクレゾールフルオレン、ビスフェノキシエタノールフルオレン、シクロヘキサンジメタノール、および、スピログリコールからなる群から選択される少なくとも１種のジオールと、エチレングリコールおよびブチレングリコールからなる群から選択される少なくとも１種のジオールと、を含有することが好ましい。
【００１２】
また、本発明のプラスチック光ファイバにおいて、前記保護被覆層が、ガラス転移温度が１２０℃以上の、ポリフェニレンエーテルと、ポリプロピレン、汎用ポリスチレン、または、耐衝撃性ポリスチレンと、のポリマーアロイを構成材料とすることが好ましい。
【００１３】
また、本発明のプラスチック光ファイバにおいて、前記内層が実質的にＣ−Ｈ結合を有しない非結晶性の含フッ素重合体（ａ）を材料とする屈折率分布構造を有し、前記外層が実質的にＣ−Ｈ結合を有しない非結晶性の含フッ素重合体であってかつ内層の最外部の屈折率より低屈折率であり、かつ、式（１）で表される化合物を単独重合して得られる含フッ素重合体（ｃ）のみからなることが好ましい。
ＣＦ2＝ＣＦ−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ3）−ＣＦ2−ＣＦ＝ＣＦ2    ・・・（１）
【００１４】
また、本発明のプラスチック光ファイバにおいて、前記外層を構成する前記含フッ素重合体（ｃ）のガラス転移温度Ｔｇｃが下記範囲にあることが好ましい。
７０℃＜Ｔｇｃ＜Ｔｇａ＋３０℃
（式中、Ｔｇａは含フッ素重合体（ａ）のガラス転移温度。）
【００１５】
また、本発明のプラスチック光ファイバにおいて、前記外層を構成する前記含フッ素重合体（ｃ）の屈折率が、前記内層の最外部の屈折率に対して０．００３以上低いことが好ましい。
【００１６】
また、本発明のプラスチック光ファイバにおいて、前記内層が、含フッ素重合体（ａ）をマトリクスとし、そのマトリクス中に屈折率の異なる物質（ｂ）を分布させて屈折率分布構造を形成してなる内層であることが好ましい。
【００１７】
また、本発明のプラスチック光ファイバにおいて、前記含フッ素重合体（ａ）が主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する含フッ素重合体であることが好ましい。
【００１８】
本発明のプラスチック光ファイバは、前記保護被覆層の外側に、第２の保護被覆層が形成されていてもよい。
この場合、第２の保護被覆層は、結晶性の熱可塑性樹脂、光硬化性樹脂、または、熱硬化性樹脂を構成材料とすることが好ましい。
【発明の効果】
【００１９】
本発明のプラスチック光ファイバでは、保護被覆層の破断伸び保持率が４０％以上であり、保護被覆層の長期湿熱耐久性が良好である。これにより、長期湿熱耐久試験実施時の伝送損失の増加が抑制される。
このため、携帯電話、パーソナルコンピュータ、デジタルテレビといったエレクトロニクス製品や自動車といった高温多湿となる環境で使用される用途に好適である。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】図１（Ａ）および（Ｂ）は、それぞれ、本発明の光ファイバ本体の好適態様の断面における、半径方向の屈折率分布の具体例を示した図である。
【図２】図２（Ｃ）および（Ｄ）は、それぞれ、本発明の光ファイバ本体の好適態様の断面における、半径方向の屈折率分布の具体例を示した図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明のプラスチック光ファイバについて説明する。
本発明のプラスチック光ファイバは、同心円状の、内層と外層とを有する２層構造からなる屈折率分布型光ファイバの前記外層上に、少なくとも１層の保護被覆層が形成されたものである。
以下、本明細書において、その外層上に保護被覆層が形成される屈折率分布型光ファイバのことを、光ファイバ本体とし、光ファイバ本体上に少なくとも１層の保護被覆層が形成されたものを、プラスチック光ファイバとする。
【００２２】
＜光ファイバ本体＞
本発明における光ファイバ本体は、同心円状の、内層と外層とを有する２層構造からなる屈折率分布型光ファイバを広く含む。
本発明における光ファイバ本体としては、例えば、特開２０１１−２５７７２９号公報、特開２０１１−２３２７２６号公報、特開２０１１−５３６３８号公報、特開２００９−２５８３５４号公報、特開２００６−２９３１５６号公報、特開２００６−２５８９１５号公報、特開２００６−１９５２８０号公報、特開２０００−１９３８３９号公報、特開平９−２６９４２５号公報、特表２００７−５２９０２３号公報に記載されているものを用いてもよい。
また、本発明における光ファイバ本体の構成材料は、屈折率分布型プラスチック光ファイバの構成材料に使用されるものから広く選択できる。
【００２３】
本発明における光ファイバ本体の好適態様を以下に示す。
本発明における光ファイバ本体の好適態様は、同心円状の、内層と外層とを有する２層構造のうち、内層が屈折率分布構造を有し、かつ、外層が内層の最外部の屈折率より低屈折率である。
（内層）
光ファイバ本体の好適態様における、内層の屈折分布構造の具体例を図１（Ａ）および（Ｂ）、並びに図２（Ｃ）および（Ｄ）に示す。これらの図は、光ファイバ本体の断面における半径方向の屈折率分布を示しており、横軸は光ファイバの直径を示し、縦軸は屈折率を示す。光ファイバ本体の内層（範囲（１））は、中心が高屈折率で中心から離れるほど屈折率が低下する屈折率分布構造を有する。外層（範囲（２））の屈折率は、内層の最外部の屈折率より低屈折率である。内層の屈折率分布構造は図１（Ａ）および（Ｂ）のように外周部でなだらかな分布を示すものでも、図２（Ｃ）および（Ｄ）のように放物線状の分布を示すもののいずれでもよい。伝送帯域が高いという点からは後者の放物線状の屈折率分布構造を有するものが望ましい。一方、図１（Ｂ）および図２（Ｄ）のように屈折率が内層の最外部まで連続的に低下している屈折率分布構造を有するものでも、図１（Ａ）および図２（Ｃ）のように中心から内層の途中まで連続的に低下しそれより外側の内層が一定の屈折率を有する、屈折率分布構造を有するものでもよい。図１（Ｂ）および図２（Ｄ）における外層は実質的にクラッド層として機能する。また、図１（Ａ）および図２（Ｃ）の内層における屈折率が一定の部分はクラッド層として機能し、外層は第２クラッド層として機能する。
【００２４】
光ファイバ本体の好適態様では、内層が、非結晶性であり、かつ近赤外光で光吸収が起こるＣ−Ｈ結合を実質的に有しない含フッ素重合体（ａ）を構成材料とする。本発明における含フッ素重合体（ａ）は、非結晶性であり、かつ含フッ素重合体であれば特に限定されないが、主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する含フッ素重合体が好ましい。主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有するとは、脂肪族環を構成する炭素原子の１以上が主鎖を構成する炭素連鎖中の炭素原子であり、かつ脂肪族環を構成する炭素原子の少なくとも一部にフッ素原子またはフッ素含有基が結合している構造を有することを意味する。環を構成する原子としては炭素原子以外に酸素原子や窒素原子を有していてもよい。含フッ素脂肪族環構造としては、含フッ素脂肪族エーテル環構造がさらに好ましい。
【００２５】
光ファイバ本体の好適態様において、図１（Ａ）および（Ｂ）、並びに図２（Ｃ）および（Ｄ）に示すような屈折率分布を形成する方法としては、含フッ素重合体（ａ）をマトリクスとし、そのマトリクス中に屈折率の異なる物質（ｂ）を分布させて屈折率分布構造を形成する方法が好ましい。また、重合組成割合に応じて屈折率が変化する重合体を形成しうる２種以上の含フッ素単量体を組み合わせて、中心から半径方向に重合組成割合が変化した含フッ素重合体（ａ）からなる内層を形成する方法であってもよい。上述したように、含フッ素重合体（ａ）は伝送損失を低いものとするために非結晶性の含フッ素重合体でありかつ近赤外の波長帯での光通信が可能となるようにＣ−Ｈ結合を有しない化学構造である必要があり、物質（ｂ）は同様に含フッ素重合体に溶解しうるものであってかつＣ−Ｈ結合を有しない化学構造であることが好ましい。
【００２６】
含フッ素重合体（ａ）の溶融状態における粘度は、溶融温度２００〜３００℃において１０3〜１０5ポアズが好ましい。溶融粘度が高すぎると溶融紡糸が困難なうえ、屈折率分布の形成に必要な、物質（ｂ）の拡散が起こりにくくなり屈折率分布の形成が困難になる。また、溶融粘度が低すぎると実用上問題が生じる。すなわち、本発明のプラスチック光ファイバを、電子機器や自動車等での光伝送体として用いる場合に高温にさらされ軟化し、光の伝送性能が低下する。
【００２７】
含フッ素重合体（ａ）の数平均分子量は１×１０4〜５×１０6が好ましく、５×１０4〜１×１０6がより好ましい。分子量が小さすぎると耐熱性を阻害することがあり、大きすぎると、内層が屈折率分布構造を有する光ファイバ本体の形成が困難になる。この分子量を固有粘度［η］で表わした場合は、ペルフルオロ（２−ブチルテトラヒドロフラン）［以下、ＰＢＴＨＦという］中３０℃で０．１〜１．０ｄＬ／ｇであることが好ましく、特に０．２〜０．５ｄＬ／ｇであることが好ましい。
【００２８】
含フッ素脂肪族環構造を有する重合体としては、含フッ素環構造を有する単量体（環を構成する炭素原子と環を構成しない炭素原子間に重合性二重結合を有する単量体、または環を構成する炭素原子２個間に重合性二重結合を有する単量体）を重合して得られる重合体や、２個以上の重合性二重結合を有する含フッ素単量体を環化重合して得られる主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する重合体が好適である。
【００２９】
物質（ｂ）は、マトリクス樹脂である含フッ素重合体（ａ）との比較において屈折率の差が０．００５以上である物質が好ましく、含フッ素重合体（ａ）よりも高屈折率であっても低屈折率であってもよい。また、マトリックス樹脂である含フッ素重合体（ａ）中に、物質（ｂ）が１５質量％含有された含フッ素重合体（ａ）と、物質（ｂ）を含まない含フッ素重合体（ａ）との屈折率差が０．００３以上であることが好ましい。好ましくは、物質（ｂ）が含フッ素重合体（ａ）よりも高屈折率の物質であり、この物質（ｂ）が内層の中心から周辺方向に沿って濃度が低下する濃度勾配を有して分布している光ファイバ本体である。ある場合には物質（ｂ）が含フッ素重合体（ａ）よりも低屈折率の物質であり、この物質が内層の周辺から中心方向に沿って濃度が低下する濃度勾配を有して分布している光ファイバ本体も有用である。前者の光ファイバ本体は通常物質（ｂ）を中心に配置し周辺方向に向かって拡散させることにより製造できる。後者の光ファイバ本体は物質（ｂ）を周辺から中心方向に拡散させることによって製造できる。
【００３０】
本発明において、物質（ｂ）としては通常は含フッ素重合体（ａ）よりも高屈折率の物質を用いる。すなわち、物質（ｂ）は、含フッ素重合体（ａ）と同様な理由から実質的にＣ−Ｈ結合を有しない物質であり、含フッ素重合体（ａ）より屈折率が０．０５以上大きいことがより好ましい。より屈折率が大きいと所望の屈折率分布を形成するために必要な（ｂ）の含有量がより少なくて良いため、ガラス転移温度の低下が少なくてすみ、その結果、光ファイバ本体の耐熱性が高まるので、０．１以上大きいことが特に好ましい。
【００３１】
この物質（ｂ）としては、ベンゼン環等の芳香族環、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子、エーテル結合等の結合基を含む、低分子化合物、オリゴマ、ポリマーが好ましいが、ポリマーの場合、分子量が大きくなると含フッ素重合体（ａ）との相溶性が低下し、その結果光散乱損失が大きくなるため、あまり分子量が大きいものは好ましくない。また、逆に分子量の小さな化合物の場合、含フッ素重合体（ａ）との混合物におけるガラス転移温度が低くなり光ファイバ本体の耐熱温度が低下する原因となるため、小さすぎても好ましくない。ゆえに、化合物（ｂ）の数平均分子量は３×１０2〜２×１０3が好ましく、３×１０2〜１×１０3がより好ましい。
【００３２】
物質（ｂ）の具体的な化合物としては、特開平８−５８４８号公報に記載されるようなクロロトリフルオロエチレンの５〜８量体であるオリゴマ、ジクロロジフルオロエチレンの５〜８量体であるオリゴマ、または前記含フッ素重合体（ａ）を形成する単量体のうち高い屈折率のオリゴマを与える単量体（例えば、塩素原子を有する単量体）を重合することによって得られる２〜５量体オリゴマがある。
【００３３】
含フッ素重合体（ａ）中に物質（ｂ）を分布させて屈折率分布構造を形成し、光ファイバ本体の内層を製造する具体的方法としては、例えば、以下の方法がある。ただし、物質（ｂ）は含フッ素重合体（ａ）よりも高屈折率であるとする。中心軸に高濃度の物質（ｂ）を存在させた含フッ素重合体（ａ）製円柱状成形体を製造し、熱拡散により物質（ｂ）を中心軸から半径方向に拡散させて屈折率分布を形成し、その後得られた円柱状成形体をプリフォームとして光ファイバ本体の内層を成形する方法（１）。方法（１）において、物質（ｂ）の熱拡散を光ファイバ本体の内層製造時に同時に行う方法（２）。含フッ素重合体（ａ）を溶融押出ししながら繊維状に成形して光ファイバ本体の内層を製造する際に中心軸に高濃度の物質（ｂ）を存在させ、その物質（ｂ）を熱拡散させながら光ファイバ本体の内層を製造する方法（３）。方法（３）において、押出成形によって屈折率分布を形成した円柱状プリフォームを製造し、その後そのプリフォームから光ファイバ本体の内層を製造する方法（４）。
【００３４】
含フッ素重合体（ａ）を形成しうる単量体に物質（ｂ）を溶解し、この溶液を回転する円筒状成形型中に入れ、回転しながら円筒状成形型の周辺から中心方向に単量体の重合を進めて屈折率分布を形成し、得られた円筒状成形体をプリフォームとして光ファイバ本体の内層を製造する方法（５）。この方法（５）においては、物質（ｂ）は通常単量体に比較して重合体に対する溶解度が低いことより、円筒体の周辺から重合を進めると重合した部分よりも未重合の単量体部分に物質（ｂ）が高濃度に分布し、結果的に最も重合体形成が遅かった中心軸部分に高濃度の物質（ｂ）が存在し中心軸より半径方向に物質（ｂ）の濃度が低下する濃度分布が形成されて、屈折率分布が形成される。方法（５）において、物質（ｂ）の先駆物質として重合性単量体を用いる方法（６）。この重合性単量体（以下前駆単量体という）の重合性が含フッ素重合体（ａ）を形成しうる単量体の重合性よりも低い場合、前駆単量体の重合が遅いことより方法（５）の場合と同様に中心軸部分に高濃度の前駆単量体の重合体（すなわち、物質（ｂ））が存在する濃度分布が形成される。
【００３５】
（外層）
上述したように、本発明における光ファイバ本体の好適態様では、外層が内層の最外部の屈折率より低屈折率である。ここで、外層の屈折率は、内層の最外部の屈折率に対して０．００３以上低いことが曲げ損失を低減するために好ましい。より好ましい屈折率差は０．００５以上である。また、光ファイバ本体の中心部分の最高屈折率と外層の最低屈折率とで計算される開口数ＮＡは０．２０以上、好ましくは０．２３以上、より好ましくは０．２５以上であることが望ましい。通常、開口数の上限としては、０．５である。一般に曲げ損失は光ファイバのコア径によっても変化し、コア径が大きくなるほど曲げ損失も大きくなる。本発明における光ファイバ本体のコア径は、特に限定されないが、１０００μｍ以下、好ましくは５００μｍ以下、より好ましくは２００μｍ以下である。通常、コア径の下限としては、３０μｍである。なお、本発明における光ファイバ本体のコア部分とは、内層の最低屈折率よりも、内層の最高屈折率と内層の最低屈折率との差の５％以上高い屈折率を有する部分をいう。
【００３６】
本発明の光ファイバ本体の好適態様において、外層の構成材料は内層の最外部の屈折率より低屈折率の材料であることが必要であり、かつ含フッ素重合体（ａ）からなる内層と高い密着性を有するために、非結晶性の含フッ素重合体であり、かつＣ−Ｈ結合を有しない化学構造である必要がある。
光ファイバ本体の好適態様では、外層の構成材料が、式（１）で表される化合物を単独重合して得られる含フッ素重合体（ｃ）のみからなる。
ＣＦ2＝ＣＦ−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ3）−ＣＦ2−ＣＦ＝ＣＦ2    ・・・（１）
【００３７】
本発明の光ファイバ本体の好適態様において、含フッ素重合体（ｃ）のガラス転移温度Ｔｇｃは７０℃＜Ｔｇｃ＜Ｔｇａ＋３０℃であることが好ましい。ここで、Ｔｇａは含フッ素重合体（ａ）のガラス転移温度である。
Ｔｇｃが７０℃以下であると熱変形を生じ伝送損失が増加したり、高温低温の温度サイクルの間に、光ファイバ本体の外層と、保護被覆層と、の間でずれが生じて、プラスチック光ファイバ端面の突き出しや引っ込みが生じやすくなる。
一方、Ｔｇｃが（Ｔｇａ＋３０℃）以上であると、光ファイバ本体を紡糸する際の冷却時に内層と外層とで収縮速度の違いが生じ、光ファイバの本体の内層内に歪が生じ、これが散乱損失を引き起こす原因となりやすい。
Ｔｇｃとしては、Ｔｇａとの差が１５℃以内であることが好ましい。すなわち、Ｔｇａ−１５℃＜Ｔｇｃ＜Ｔｇａ＋１５℃であることが好ましい。
なお、含フッ素重合体（ａ）のガラス転移温度であるＴｇａは、７０℃＜Ｔｇａであることが好ましい。
また、含フッ素重合体（ｃ）の溶融粘度は内層の含フッ素重合体（ａ）の溶融粘度にできるだけ近いものが同様の理由で好ましい。
【００３８】
光ファイバ本体の好適態様における外層は、例えば以下のようにして形成できる。
含フッ素重合体（ｃ）からなる円筒体を製造し、この円筒体の内部に、上記した方法に準じて含フッ素重合体（ａ）と物質（ｂ）からなる内層を形成して、外層を有するプリフォームを製造し、このプリフォームを用いて光ファイバ本体を製造する。上記した方法などで得られたプリフォームの外周に、外層となる含フッ素重合体（ｃ）の層を塗布等の方法で形成し、この層を有するプリフォームを用いて光ファイバ本体を製造する。プリフォームの外径よりも大きい内径を有する含フッ素重合体（ｃ）からなる円筒体を製造し、この円筒体の内部にプリフォームを嵌合したものを一体に紡糸して光ファイバ本体を製造する。上記した溶融押出し法において含フッ素重合体（ｃ）を外層として内層と同時に押出して外層を有するプリフォームを製造するかまたは押出しと同時に直接紡糸して光ファイバ本体を製造する。上記した手順で光ファイバ本体の内層を製造した後、塗布等により外層を形成する。上記した方法（５）において含フッ素重合体（ｃ）からなる円筒状成形型を用いてこの円筒状成形型と一体化したプリフォームを製造し、プリフォームを用いて光ファイバ本体を製造する。
【００３９】
例えば、屈折率分布を形成したプリフォームを製造した後、含フッ素重合体（ｃ）からなる円筒体にこのプリフォームを嵌合して紡糸することにより光ファイバ本体が得られる。また、物質（ｂ）拡散前の内層と外層からなる円柱体を製造し、この円柱体を加熱して物質（ｂ）の拡散を行ってプリフォームとし、その後紡糸することによっても光ファイバ本体が得られる。
【００４０】
＜保護被覆層＞
本発明のプラスチック光ファイバでは、光ファイバ本体の外層上に形成される保護被覆層の構成材料が、ガラス転移温度が１２０℃以上の非結晶性の熱可塑性樹脂である。
結晶性の熱可塑性樹脂は、粘度の温度依存性が非結晶性の熱可塑性樹脂よりも大きいために押出成形で光ファイバを安定的に作成することが難しいおそれがある。このため、保護被覆層の構成材料としては、非結晶の熱可塑性樹脂を用いる。
保護被覆層の構成材料が、ガラス転移温度が１２０℃以上の非結晶性の熱可塑性樹脂であることにより、長期湿熱耐久試験（８５℃、湿度８５％、１０００時間）実施時のプラスチック光ファイバの伝送損失の増加が抑制される。
【００４１】
本願発明者らは、長期湿熱耐久試験実施時のプラスチック光ファイバの伝送損失の増加と、保護被覆層の破断伸び率の低下には関連性があることを見出した。このため、長期湿熱耐久試験実施時の保護被覆層の破断伸び率の低下を抑制すること、別の言い方をすると、下記式で表わされる破断伸び保持率を高めることにより、プラスチック光ファイバの伝送損失の増加を抑制する。
破断伸び保持率（％）＝（長期湿熱耐久試験実施後の破断伸び）／（初期の破断伸び）
×１００
本発明において、長期湿熱耐久試験実施時のプラスチック光ファイバの伝送損失の低下を抑制するのに、保護被覆層の破断伸び保持率に着目するのは以下の理由による。
保護被覆層は劣化すると、破断伸び率が低下する。ＰＭＭＡは解重合をおこし、またポリエステル変性ポリカーボネートは、加水分解を起こす。いずれの場合も分子量が低下するために機械的特性が変化するが、低分子量成分が局所的に形成されることにより、光ファイバ本体の形状が変化し伝送損失が増加する。
なお、保護被覆層の破断伸びは、引張試験機（オリエンテック社製、商品名「ＲＴＭ−１００」等）により求めることができる。
【００４２】
本発明では、保護被覆層の構成材料を、ガラス転移温度が１２０℃以上の非結晶性の熱可塑性樹脂とすることにより、破断伸び保持率を高めることができる。
保護被覆層の破断伸び率の低下の原因は、長期湿熱耐久試験実施時に、保護被覆層の構成材料が加水分解されて、保護被覆層が劣化するためである。
保護被覆層の構成材料を、ガラス転移温度が１２０℃以上の非結晶性の熱可塑性樹脂とすることにより、長期湿熱耐久試験実施時において、保護被覆層の構成材料の加水分解が抑制される。これにより、破断伸び保持率を高めることができる。
本発明において、破断伸び保持率が４０％以上であることが、プラスチック光ファイバの伝送損失を抑制するうえで好ましい。
【００４３】
本発明において、保護被覆層の初期の破断伸びも高いことが、プラスチック光ファイバの柔軟性や取扱性の観点から好ましい。
本発明において、保護被覆層の初期の破断伸びが４０％以上であることが好ましく、５０％以上であることがより好ましく、６０％以上であることがさらに好ましい。
【００４４】
上述したように、本発明では、保護被覆層の構成材料を、ガラス転移温度が１２０℃以上の非結晶性の熱可塑性樹脂とする。しかしながら、保護被覆層の構成材料のガラス転移温度が高すぎると、光ファイバ本体の外層と保護被覆層との界面剥離が生じやすくなり、伝送損失が悪化するおそれがある。
上記の観点から、保護被覆層の構成材料のガラス転移温度は１５０℃以下であることが好ましい。したがって、保護被覆層の構成材料のガラス転移温度は１２０〜１５０℃であることが好ましい。
【００４５】
また、保護被覆層の構成材料のガラス転移温度は、光ファイバ本体の外層の構成材料である含フッ素重合体（ｃ）のガラス転移温度Ｔｇｃとの温度差が、５０℃以下であることが、プラスチック光ファイバの紡糸性の観点から好ましい。
Ｔｇｃとの温度差が、５０℃よりも大きいと、プラスチック光ファイバを紡糸する際の冷却時に光ファイバ本体の外層と、保護被覆層と、で収縮速度の違いが生じ、界面剥離を生じるおそれがある。
保護被覆層の構成材料のガラス転移温度は、Ｔｇｃとの温度差が、３０℃以下であることがより好ましい。
【００４６】
本発明における保護被覆層の構成材料の好適態様を以下に示す。
本発明における保護被覆層の構成材料の好適態様は、芳香族系ポリカーボネートと芳香族系ポリエステルとのポリマーアロイであって、ガラス転移温度が１２０℃以上のものである。
【００４７】
保護被覆層の構成材料として、芳香族系ポリカーボネートと芳香族系ポリエステルとのポリマーアロイを用いる場合は、ポリマーアロイのガラス転移温度が１２０℃以上となる限り、芳香族系ポリカーボネートおよび芳香族系ポリエステルは特に限定されない。
【００４８】
芳香族系ポリカーボネート樹脂としては、特に制限はなく種々のものが挙げられ、通常、２価フェノールとカーボネート前駆体との反応により製造される芳香族ポリカーボネートを使用できる。
例えば、２価フェノールとカーボネート前駆体とを溶液法又は溶融法、具体的には、２価フェノールとホスゲンの反応、２価フェノールとジフェニルカーボネートなどとのエステル交換反応により製造されたものを使用できる。
【００４９】
２価フェノールとしては、様々なものが挙げられるが、例えば、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン〔ビスフェノールＡ〕、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン、４，４'−ジヒドロキシジフェニル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロアルカン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホキシド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ケトンなどが挙げられる。これらの中でも、特に好ましい２価フェノールとしては、ビス（ヒドロキシフェニル）アルカン系、特にビスフェノールＡを主原料としたものである。その理由は、汎用性があり、コスト面で有利だからである。
【００５０】
芳香族系ポリカーボネート樹脂としては、市販品を用いてもよい。具体的な芳香族系ポリカーボネート樹脂としては、パンライトＬ−１２２５ＬＭ（帝人化成（株）製），パンライトＬ−１２２５Ｌ（帝人化成（株）製）、パンライトＬ−１２２５Ｙ（帝人化成（株）製）、パンライトＬ−１２５０Ｙ（帝人化成（株）製）、タフロンＡＣ１０８０、タフロンＡＣ１０３０（出光興産（株）製）、タフロンＡ１９００（出光興産（株）製）、タフロンＲ１９００（出光興産（株）製）、ＬＥＸＡＮ９１５Ｒ（ＳＡＢＩＣ イノベーティブジャパン製）、ＬＥＸＡＮ９２５Ａ（ＳＡＢＩＣ イノベーティブジャパン製）等、数多く挙げられる。
【００５１】
芳香族系ポリエステルは、カルボン酸およびジオールを構成成分とするが、芳香族系ポリエステルの構成成分であるカルボン酸がフタル酸であることが好ましい。
【００５２】
一方、芳香族系ポリエステルの構成成分であるジオールについては、２種以上のジオールを含有することが好ましい。具体的には、ビスフェノールフルオレン、ビスクレゾールフルオレン、ビスフェノキシエタノールフルオレン、シクロヘキサンジメタノール、および、スピログリコールからなる群から選択される少なくとも１種のジオールと、エチレングリコールおよびブチレングリコールからなる群から選択される少なくとも１種のジオールと、を含有することが好ましい。
ジオール成分が上記成分以外のときは、芳香族系ポリエステル樹脂が結晶性となり加工性に問題が生じるおそれがある。
【００５３】
芳香族系ポリエステル樹脂としては、市販品を用いてもよい。具体的な芳香族系ポリエステル樹脂としては、ＥＡＳＴＥＲ  ＰＣＴＧ１０１７９（Ｅａｓｔｍａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ製）、ＥＡＳＴＥＲコポリエステル５４４５（Ｅａｓｔｍａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ製）、ＥＡＳＴＥＲコポリエステル６７６３（Ｅａｓｔｍａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ製）、ＥＡＳＴＥＲコポリエステル１５０８６（Ｅａｓｔｍａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ製）、ＯＫＰ４（大阪ガスケミカル（株）製）、ＯＫＰ６（大阪ガスケミカル（株）製）、ＯＫＰ４ＨＴ（大阪ガスケミカル（株）製）、Ａｌｔｅｓｔｅｒ２０（三菱ガス化学（株）製）、Ａｌｔｅｓｔｅｒ３０（三菱ガス化学（株）製）、Ａｌｔｅｓｔｅｒ４５（三菱ガス化学（株）製）等が挙げられる。
【００５４】
芳香族系ポリカーボネートと芳香族系ポリエステルとのポリマーアロイは、二軸押出機で溶融混錬することにより作製することができる。
【００５５】
本発明における保護被覆層の構成材料の別の好適態様は、ポリフェニレンエーテルと、汎用ポリスチレン（ＧＰＰＳ）、または、耐衝撃性ポリスチレンと、のポリマーアロイであってガラス転移温度が１２０℃以上のものである。ここで、汎用ポリスチレンとは、添加剤等を除いた樹脂成分が実質上スチレン系単量体のみで構成されたものである。一方、耐衝撃性ポリスチレンとは、スチレン系単量体以外にブタジエンなどのゴム成分を含有するものであり、例えば、該ゴム成分がスチレン系単量体と共重合しているコポリマーや、該コポリマーと他のホモポリマーあるいはコポリマーとのブレンド樹脂などが挙げられる。
本発明において、ポリマーアロイのガラス転移温度が１２０℃以上となる限り、ポリフェニレンエーテル、ポリプロピレンおよびポリスチレンは特に限定されない。
【００５６】
ポリフェニレンエーテル樹脂としては、例えば、ポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレン）エーテル、ポリ（２−メチル−６−エチル−１，４−フェニレン）エーテル、ポリ（２，６−ジエチル−１，４−フェニレン）エーテル、ポリ（２−メチル−６−ｎ−プロピル−１，４−フェニレン）エーテル、ポリ（２−エチル−６−ｎ−プロピル−１，４−フェニレン）エーテル、ポリ（２，６−ジ−ｎ−プロピル−１，４−フェニレン）エーテル、ポリ（２−メチル−６−ｉ−プロピル−１，４−フェニレン）エーテル、ポリ（２−エチル−６−ｉ−プロピル−１，４−フェニレン）エーテル、ポリ（２，６−ジ−ｉ−プロピル−１，４−フェニレン）エーテル、ポリ（２−メチル−６−フェニル−１，４−フェニレン）エーテル、ポリ（２，６−ジフェニル−１，４−フェニレン）エーテル、ポリ（２−メチル−６−クロロ−１，４−フェニレン）エーテル、ポリ（２−メチル−６−ヒドロキシエチル−１，４−フェニレン）エーテル、ポリ（２−メチル−６−クロロエチル−１，４−フェニレン）エーテル、ポリ（２−メチル−６−メトキシ−１，４−フェニレン）エーテル、ポリ（２−メチル−１，４−フェニレン）エーテル、ポリ（−１，４−フェニレン）エーテル、ポリ（２，６−ジ（ｐ−フルオロフェニル）−１，４−フェニレン）エーテル、等が挙げられる。
【００５７】
ポリフェニレンエーテルと、汎用ポリスチレン、または耐衝撃性ポリスチレンと、のポリマーアロイとしては、市販品を用いてもよい。具体的には、例えば、ザイロンＴ０７０２、ザイロンＸ３０４Ｈ（旭化成ケミカルズ）が挙げられる。
【００５８】
保護被覆層の厚さは、特に限定されるものではないが、光ファイバ本体の半径の０．５倍以上であることが、柔軟性等の光ファイバに必要な物性を満足するうえで好ましい。また、光ファイバ本体の半径の３０倍以下であることが、柔軟性等の光ファイバに必要な物性を満足するうえで好ましい。
【００５９】
本発明のプラスチック光ファイバでは、上記した保護被覆層、すなわち、ガラス転移温度が１２０℃以上の非結晶性の熱可塑性樹脂を構成材料とする保護被覆層の外側に、第２の保護被覆層を形成してもよい。第２の被覆層の機能は特に限定されないが、例えば、難燃性、酸化防止、ラジカル捕獲、漏光防止等の機能が挙げられる。
なお、保護被覆層の外側に第２の保護被覆層を形成する場合、それらの合計の厚さが上述した保護被覆層の厚さに関する条件を満たすようにする。
【００６０】
第２の保護被覆層の構成材料は特に限定されないが、上記の機能を発揮するには、例えば、結晶性の熱可塑性樹脂、光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂が好ましい。
【００６１】
第２の保護被覆層には、その機能を発揮するために、必要に応じて各種添加剤を含有させてもよい。このような目的で含有させる添加剤としては、例えば、難燃剤、酸化防止剤、ラジカル捕獲剤などが挙げられる。なお、これらの添加剤は、ガラス転移温度が１２０℃以上の非結晶性の熱可塑性樹脂を構成材料とする保護被覆層に含有させてもよい。
【００６２】
本発明のプラスチック光ファイバにおける保護被覆層、および、第２の保護被覆層は、例えば以下のようにして形成できる。
コア部及びクラッド部が形成された光ファイバ本体の外周に、クロスヘッドダイを備えたケーブル被覆装置を用いて、保護被覆層、および、第２の保護被覆層の構成材料を押し出し被覆し、本発明のプラスチック光ファイバにおける保護被覆層、および、第２の保護被覆層を形成することができる。
【００６３】
＜プラスチック光ファイバの性能＞
本発明のプラスチック光ファイバは、光ファイバ本体の外層上に、ガラス転移温度が１２０℃以上の非結晶性の熱可塑性樹脂を構成材料とする保護被覆層を形成したことにより、長期湿熱耐久試験実施後の伝送損失の増加が抑制されている。具体的には、１００ｄＢ／ｋｍ以下、好ましくは、８０ｄＢ／ｋｍ以下に抑制されている。
このため、携帯電話、パーソナルコンピュータ、デジタルテレビといったエレクトロニクス製品や自動車といった高温多湿となる環境で使用される用途に好適である。
ここで、光ファイバ本体として、上記した好適態様のものを用いることで、紫外光から近赤外までの光を極めて低損失で伝送可能となる。具体的には、波長７００〜１，６００ｎｍで、１００ｍの伝送損失が１００ｄＢ以下となる。
【実施例】
【００６４】
以下、具体例をもって本発明を説明するが本発明はこれら具体例に限定されない。例１〜３および例６は実施例、例４、５および７は比較例である。
なお、例１〜５では、光ファイバ本体上に保護被覆層が形成されたプラスチック光ファイバではなく、保護被覆層の構成材料を押出成形してストランドを作製し、長期湿熱耐久試験（８５℃、湿度８５％、１０００時間）実施前後の破断伸びを引張試験機（オリエンテック社製、試料長さ：１００ｍｍ、引張速度＝１０ｍｍ/ｍｉｎ、温度２３℃、湿度６０％）にて評価し、下記式で表わされる破断伸び保持率を算出した。
破断伸び保持率（％）＝（長期湿熱耐久試験実施後の破断伸び）／（初期の破断伸び）
×１００
【００６５】
（例１）
保護被覆層の構成材料として、パンライトＬ−１２２５ＬＭ（帝人化成（株）製）（ビスフェノールＡ型の芳香族系ポリカーボネート（ＰＣ）（７５質量部）と、ＥＡＳＴＥＲ  ＰＣＴＧ１０１７９（Ｅａｓｔｍａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ製）（芳香族系ポリエステル）（ＰＥ）（２５質量部）と、のポリマーアロイ（ガラス転移温度１２７℃）を２７０℃で溶融混錬した後、押出成形にて直径２００μｍのストランドを作製した。ダイス温度は２３０℃であった。
作製したストランドを用いて、上記の長期湿熱耐久試験実施前後の破断伸び、および、破断伸び保持率を評価した。結果を下記表に示す。
【００６６】
（例２）
保護被覆層の構成材料として、ポリフェニレンエーテル（ＰＰＥ）（４０質量部）と、汎用ポリスチレン（ＧＰＰＳ）（６０質量部）と、のポリマーアロイ（ガラス転移温度１２７℃）を使用した以外は、例１と同様にしてストランドを作製し、上記の長期湿熱耐久試験実施前後の破断伸び、および、破断伸び保持率を評価した。結果を下記表に示す。
【００６７】
（例３）
保護被覆層の構成材料として、ポリフェニレンエーテル（ＰＰＥ）（５０質量部）と、汎用ポリスチレン（ＧＰＰＳ）（５０質量部）と、のポリマーアロイ（ガラス転移温度１３５℃）を使用した以外は、例１と同様にしてストランドを作製し、上記の長期湿熱耐久試験実施前後の破断伸び、および、破断伸び保持率を評価した。結果を下記表に示す。
【００６８】
（例４）
保護被覆層の構成材料として、ＰＭＭＡ（パラペットＥＨ１０００、クラレ製、ガラス転移温度１００℃））を使用した以外は、例１と同様にしてストランドを作製し、上記の長期湿熱耐久試験実施前後の破断伸び、および、破断伸び保持率を評価した。結果を下記表に示す。
【００６９】
（例５）
保護被覆層の構成材料として、ＸＹＬＥＸ Ｘ７３００ＣＬ（ＳＡＢＩＣイノベーティブジャパン製、ポリエステル（ＰＥ）変性ポリカーボネート（ＰＣ）（芳香族ポリカーボネート（ＰＣ）と、芳香族ポリエステル（ＰＥ）（ジカルボン酸がシクロヘキサンジカルボン酸、ジオールがシクロヘキサンジメタノール）と、のポリマーアロイであって、ＰＣ：ＰＥの質量比＝６０：４０。）、ガラス転移温度  １１３℃）を使用した以外は、実施例１と同様にしてストランドを作製し、上記の長期湿熱耐久試験実施前後の破断伸び、および、破断伸び保持率を評価した。結果を下記表に示す。
【００７０】
【表１】
2013222130.tif 000003
上記の結果から、ガラス転移温度が１２０℃以上の非結晶性の熱可塑性樹脂（ポリマーアロイ）を用いた例１〜３では、破断伸び保持率が４０％以上であることから、これらの材料を、プラスチック光ファイバの保護被覆層とすることにより、長期湿熱耐久試験実施時の伝送損失の増加を抑制できると考えられる。
一方、ガラス転移温度が１２０℃未満の非結晶性の熱可塑性樹脂を用いた例４および５では、破断伸び保持率が４０％未満であることから、これらの材料を、プラスチック光ファイバの保護被覆層とした場合、長期湿熱耐久試験実施時の伝送損失の増加を抑制できないと考えられる。
【００７１】
（例６）
本実施例では、保護被覆層の構成材料として、実施例１で使用した芳香族ポリカーボネートと芳香族ポリエステルとのポリマーアロイを使用し、光ファイバ本体の構成材料として、下記手順で作製したと組み合わせて本発明のプラスチック光ファイバを得た。
【００７２】
内層材料
ペルフルオロ（ブテニルビニルエーテル）［以下ＰＢＶＥという］３０ｇ、イオン交換水１５０ｇ、メタノール１０ｇおよび重合開始剤であるジイソプロピルペルオキシジカーボネートの０．１５ｇを、内容積２００ｍｌの耐圧ガラス製オートクレーブに入れた。系内を３回窒素で置換した後、４０℃２２時間懸濁重合を行った。その結果、重合体（以下、重合体Ａという）を２６ｇ得た。重合体Ａの固有粘度［η］は、ＰＢＴＨＦ中３０℃０．２４であった。熱機械分析（以下、ＴＭＡという）により測定した重合体Ａのガラス転移温度は１０８℃であり、室温ではタフで透明なガラス状の重合体であった。また１０％熱分解温度は４６８℃あり、重合体をプレス成型により作成したフィルムをアッベ屈折率計により測定した屈折率は１．３４２であった。
ＭＭＡ９５質量％、５ＦＳｔ５質量％、重合開始剤としてのジｔ−ブチルパーオキサイド及び連鎖移動剤としてのｎ−ラウリルメルカプタンを、全モノマー成分１００質量部当りそれぞれ０．０１質量部及び０．０５質量部添加し、さらにドーパントとしてジフェニルスルフィドを５質量部添加し、攪拌混合した。この混合液を細孔径０．１μｍのメンブレンフィルタを用いて濾過し、濾過後の液を重合容器に入れ、重合容器の温度を１１０℃に維持しながら、約４０時間かけて重合させ、コア部材ロッドを得た。
【００７３】
外層材料
内容積２００ｍｌの耐圧ガラス製オートクレーブオートクレーブに水８０ｇ、ＣＦ2＝ＣＦＣＦ2ＣＦ（ＣＦ3）ＯＣＦ＝ＣＦ2１５ｇ（４５．７ｍｍｏｌ）、ペルフルオロベンゾイルパーオキシド３８ｍｇ、メタノール２．４ｇを仕込んだ。そのオートクレーブを窒素置換した後、オートクレーブの内温が７０℃になるまで加熱し、７０℃で２０時間重合を行った。得られた重合体をイオン交換水、メタノールで洗浄した後、２００℃で１時間乾燥した。その結果、重合体（以下、重合体Ｂという）を１２．５ｇ得た。得られた重合体の収率は８３％であった。
重合体Ｂの一部をＰＢＴＨＦに溶解して固有粘度を測定したところ、０．３１ｄｌ／ｇであった。屈折率は１．３２８、また、示差走査熱分析（ＤＳＣ）により測定したガラス転移温度は１２４℃であった。本重合体の引張特性を測定したところ引張弾性率１２８０ＭＰａ、降伏応力３８ＭＰａ、破断伸度５．１％であった。また、回転式溶融粘弾性測定装置により２３０℃におけるゼロシェア粘度を測定したところ、５２００Ｐａ・ｓであった。
【００７４】
光ファイバ本体
上記の手順で得られた重合体Ａを円筒型の容器内で２５０℃で溶融し、その中心部に屈折率分布形成物質（ｂ）としてクロロトリフルオロエチレンオリゴマ（平均分子量７６０）を注入し拡散させ、その中心部における濃度が１５質量％になるように時間を調節して屈折率分布の形成されたプリフォームを作成した。このプリフォームの外側に上記の手順で得られた重合体Ｂより作成した中空管を被せ、及び円筒型電気加熱炉中、２４０℃で先端より紡糸を行い光ファイバ本体を得た。
【００７５】
プラスチック光ファイバ
上記で得られた光ファイバ本体の外周に、２１０℃に設定したクロスヘッドダイを備えたケーブル被覆装置を用いて、保護被覆層の構成材料として例１で用いたポリマーアロイ（ガラス転移温度１２７℃）を押し出し被覆し、ＧＩ型ＰＯＦを得た。
得られたプラスチック光ファイバは、光ファイバ本体の半径が２００μｍ（内層の半径は１５０μｍ）であり、保護被覆層の厚さが８００μｍであった。
【００７６】
上記の手順で得られたプラスチック光ファイバの伝送損失をカットバック法により測定したところ、波長１３００ｎｍにおいて３０ｄＢ／ｋｍであった。
次に、プラスチック光ファイバに対し、長期湿熱耐久試験（８５℃、湿度８５％、１０００時間）を実施した後の伝送損失を測定したところ３２ｄＢ／ｋｍであった。
【００７７】
（例７）
光ファイバ本体の外層上にＸＹＬＥＸ Ｘ７３００ＣＬ（ＳＡＢＩＣイノベーティブジャパン製）を使用した点以外は、例６と同様に実施した。長期湿熱耐久試験実施前後の伝送損失を測定したところ、それぞれ２８ｄＢ／ｋｍ、１１４ｄＢ／ｋｍであった。
【００７８】
例６と、例７と、の比較から明らかように、破断伸び保持率が４０％以上である保護被覆層を形成することにより、長期湿熱耐久試験実施時の伝送損失の増加が抑制できる。
【符号の説明】
【００７９】
１：内層
２：外層
３：内層の最外部の屈折率レベル
４：外層の屈折率レベル0
【図１】
2013222130.tif 000004
【図２】
2013222130.tif 000005