(57)【要約】【課題】本発明は、キャスタレーションが形成されたベース板を有し、曲げの応力に対して強い圧電デバイスを提供する。【解決手段】圧電デバイス（１００）は、長辺及び長辺よりも短い短辺により形成される矩形形状のベース板（１２０ａ）と所定の周波数で振動する圧電振動片（１３０）とを有する圧電デバイスであって、ベース板が、一対の外部電極が形成される第１面（１２１）と、圧電振動片が配置される第２面（１２２）と、一辺の短辺に形成され、第１面と第２面とを結ぶ側面から内側にくぼんだ一対のキャスタレーション（１２７）と、を備え、一対のキャスタレーションの長辺方向の長さがそれぞれ異なる。【選択図】図１
2013021383.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
長辺及び前記長辺よりも短い短辺により形成される矩形形状のベース板と所定の周波数で振動する圧電振動片とを有する圧電デバイスであって、
前記ベース板は、
一対の外部電極が形成される第１面と、
前記圧電振動片が配置される第２面と、
前記一辺の短辺に形成され、前記第１面と前記第２面とを結ぶ側面から内側にくぼんだ一対のキャスタレーションと、を備え、
前記一対のキャスタレーションの長辺方向の長さはそれぞれ異なる圧電デバイス。
【請求項２】
長辺及び前記長辺よりも短い短辺により形成される矩形形状のベース板と所定の周波数で振動する圧電振動片とを有する圧電デバイスであって、
前記ベース板は、
一対の外部電極が形成される第１面と、
前記圧電振動片が配置される第２面と、
前記一辺の長辺に形成され、前記第１面と前記第２面とを結ぶ側面から内側にくぼんだ一対のキャスタレーションと、を備え、
前記一対のキャスタレーションの短辺方向の長さはそれぞれ異なる圧電デバイス。
【請求項３】
長辺及び前記長辺よりも短い短辺を有する矩形形状のベース板と所定の周波数で振動する圧電振動片とを有する圧電デバイスであって、
前記ベース板は、
一対の外部電極が形成される第１面と、
前記圧電振動片が配置される第２面と、
前記一辺の短辺に前記長辺が交差する角部に前記長辺方向及び前記短辺方向に形成され、前記第１面と前記第２面とを結ぶ側面から内側にくぼんだ一対のキャスタレーションと、を備え、
前記一対のキャスタレーションの前記長辺方向の長さ及び前記短辺方向の長さがそれぞれ異なる圧電デバイス。
【請求項４】
前記圧電振動片は一対の励振電極と前記励振電極から引き出された一対の引出電極とを含み、
前記ベース板の前記第２面は、前記一対の引出電極と電気的に接続する一対の接続電極を含み、
前記キャスタレーションは前記一対の外部電極と前記一対の接続電極とを電気的に接続する一対の側面電極を含む請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の圧電デバイス。
【請求項５】
前記キャスタレーションの断面は、前記第１面から前記第２面に形成された第１曲面と前記第２面から前記第１面に形成された第２曲面と前記第１面と第２面との中間に形成された直線状の突起面とからなり、
前記側面電極は、前記第１曲面、前記第２曲面及び前記突起面に形成される請求項４に記載の圧電デバイス。
【請求項６】
前記第１曲面は前記第２曲面よりも面積が大きい請求項５に記載の圧電デバイス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、キャスタレーションが形成されたベース板を有する圧電デバイスに関する。
【背景技術】
【０００２】
所定の振動数で振動する圧電振動片と、ベース板と、リッド板とにより形成され、ハンダを介してプリント基板等に実装されて用いられる圧電デバイスが知られている。圧電振動片には励振電極が形成され、ベース板にはプリント基板等に実装されるための外部電極が形成される。また、ベース板の外部側面にはキャスタレーションが形成され、励振電極と外部電極とはキャスタレーションに形成される側面電極を介して電気的に接続される。
【０００３】
このような圧電デバイスに形成されるキャスタレーションは、様々な形状に形成される。例えば特許文献１では、圧電デバイスがプリント基板に実装された場合にハンダに発生するクラックを抑えるためのキャスタレーションの形状及び寸法等が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−１９６７０３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし一方で、このようなキャスタレーションの影響により、例えばプリント基板の曲げ試験を行った場合などにキャスタレーションの一部を起点としてベース板が割れることがある。そのため、圧電デバイスのベース板は、このような曲げの応力に対して強いことが望まれている。
【０００６】
そこで本発明は、キャスタレーションが形成されたベース板を有し、曲げの応力に対して強い圧電デバイスを提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
第１観点の圧電デバイスは、長辺及び長辺よりも短い短辺により形成される矩形形状のベース板と所定の周波数で振動する圧電振動片とを有する圧電デバイスであって、ベース板が、一対の外部電極が形成される第１面と、圧電振動片が配置される第２面と、一辺の短辺に形成され第１面と第２面とを結ぶ側面から内側にくぼんだ一対のキャスタレーションと、を備え、一対のキャスタレーションの長辺方向の長さがそれぞれ異なる。
【０００８】
第２観点の圧電デバイスは、長辺及び長辺よりも短い短辺により形成される矩形形状のベース板と所定の周波数で振動する圧電振動片とを有する圧電デバイスであって、ベース板が、一対の外部電極が形成される第１面と、圧電振動片が配置される第２面と、一辺の長辺に形成され、第１面と第２面とを結ぶ側面から内側にくぼんだ一対のキャスタレーションと、を備え、一対のキャスタレーションの短辺方向の長さがそれぞれ異なる。
【０００９】
第３観点の圧電デバイスは、長辺及び長辺よりも短い短辺により形成される矩形形状のベース板と所定の周波数で振動する圧電振動片とを有する圧電デバイスであって、ベース板が、一対の外部電極が形成される第１面と、圧電振動片が配置される第２面と、一辺の短辺に長辺が交差する角部に長辺方向及び短辺方向に形成され第１面と第２面とを結ぶ側面から内側にくぼんだ一対のキャスタレーションと、を備え、一対のキャスタレーションの長辺方向の長さ及び短辺方向の長さがそれぞれ異なる。
【００１０】
第４観点の圧電デバイスは、第１観点から第３観点において、圧電振動片が一対の励振電極と励振電極から引き出された一対の引出電極とを含み、ベース板の第２面が一対の引出電極と電気的に接続する一対の接続電極を含み、キャスタレーションが一対の外部電極と一対の接続電極とを電気的に接続する一対の側面電極を含む。
【００１１】
第５観点の圧電デバイスは、第４観点において、キャスタレーションの断面が、第１面から第２面に形成された第１曲面と第２面から第１面に形成された第２曲面と第１面と第２面との中間に形成された直線状の突起面とからなり、側面電極が第１曲面、第２曲面及び突起面に形成される。
【００１２】
第５観点の圧電デバイスは、第４観点において、第１曲面が第２曲面よりも面積が大きい。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、キャスタレーションが形成されたベース板を有し、曲げの応力に対して強い圧電デバイスを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】圧電デバイス１００の分解斜視図である。
【図２】（ａ）は、図１のＡ−Ａ断面図である。  （ｂ）は、圧電振動片１３０の＋Ｙ’軸側の面の平面図である。  （ｃ）は、圧電振動片１３０の−Ｙ’軸側の面の平面図である。
【図３】（ａ）は、ベース板１２０ａの＋Ｙ’軸側の電極が示された平面図である。  （ｂ）は、ベース板１２０ａの−Ｙ’軸側の電極が示された平面図である。
【図４】圧電デバイス１００の作製方法を示したフローチャートである。
【図５】（ａ）は、ベースウエハＷ１２０Ａの平面図である。  （ｂ）は、ベース板１２０ｂの＋Ｙ’軸側の電極が示された平面図である。  （ｃ）は、ベース板１２０ｂの−Ｙ’軸側の電極が示された平面図である。
【図６】リッドウエハＷ１１０の平面図である。
【図７】（ａ）は、ベースウエハＷ１２０Ｂの部分平面図である。  （ｂ）は、ベース板１２０ｃの平面図である。  （ｃ）は、ベース板１２０ｄの平面図である。
【図８】（ａ）は、ベースウエハＷ１２０Ｃの部分平面図である。  （ｂ）は、ベース板１２０ｅの平面図である。  （ｃ）は、ベース板１２０ｆの平面図である。
【図９】（ａ）は、ベースウエハＷ１２０Ｄの部分平面図である。  （ｂ）は、ベースウエハＷ１２０Ｅの部分平面図である。  （ｃ）は、ベースウエハＷ１２０Ｆの部分平面図である。
【図１０】圧電デバイス２００の分解斜視図である。
【図１１】（ａ）は、図１０のＢ−Ｂ断面図である。  （ｂ）は、ベース板２２０ａの平面図である。  （ｃ）は、−Ｙ’軸側の面の電極が示されているベース板２２０ａの平面図である。
【図１２】圧電デバイス２００の作製方法を示したフローチャートである。
【図１３】圧電ウエハＷ２３０の平面図である。
【図１４】ベースウエハＷ２２０Ａの平面図である。
【図１５】ベースウエハＷ２２０Ａの作製方法を示したフローチャートである。
【図１６】ベースウエハＷ２２０Ａの作製方法を示したフローチャートである。
【図１７】（ａ）は、ベースウエハＷ２２０Ｂの平面図である。  （ｂ）は、ベース板２２０ｃの平面図である。  （ｃ）は、−Ｙ’軸側の面の電極が示されたベース板２２０ｃの平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、本発明の範囲は以下の説明において特に本発明を限定する旨の記載がない限り、これらの形態に限られるものではない。
【００１６】
（第１実施形態）
＜圧電デバイス１００の構成＞
図１は、圧電デバイス１００の分解斜視図である。圧電デバイス１００は表面実装型の圧電デバイスであり、プリント基板等に実装されて使用される。圧電デバイス１００は主に、リッド板１１０と、ベース板１２０ａと、圧電振動片１３０とにより構成されている。リッド板１１０は例えばセラミック、ガラス又は圧電材等により形成され、ベース板１２０ａはガラス又は圧電材等により形成される。また、圧電振動片１３０には例えばＡＴカットの水晶材が用いられる。ＡＴカットの水晶材は、主面（ＹＺ面）が結晶軸（ＸＹＺ）のＹ軸に対して、Ｘ軸を中心としてＺ軸からＹ軸方向に３５度１５分傾斜されている。以下の説明では、ＡＴカットの水晶材の軸方向を基準とし、傾斜された新たな軸をＹ’軸及びＺ’軸として用いる。すなわち、圧電デバイス１００において圧電デバイス１００の長辺方向をＸ軸方向、圧電デバイス１００の高さ方向をＹ’軸方向、Ｘ及びＹ’軸方向に垂直な方向をＺ’軸方向として説明する。
【００１７】
リッド板１１０は、Ｘ軸方向に長辺が伸び、Ｚ’軸方向に短辺が伸びた矩形形状に形成されている。リッド板１１０の−Ｙ’軸側の面には凹部１１１が形成されており、凹部１１１の周囲にはベース板１２０ａに接合される接合面１１２が形成されている。
【００１８】
ベース板１２０ａはＸ軸方向に長辺が伸び、Ｚ’軸方向に短辺が伸びた矩形形状に形成されている。ベース板１２０ａの−Ｙ’軸側の面である第１面１２１には、プリント基板等にハンダを介して電気的に接続されるための電極である外部電極１２５、及び圧電デバイス１００に帯電した静電気等を除去するためのアース端子１２６が形成されている。ベース板１２０ａの＋Ｙ’軸側の面である第２面１２２には接合材１４０が形成され、リッド板１１０の接合面１１２と接合される。また、ベース板１２０ａには第２面１２２から−Ｙ’軸方向に凹んだ凹部１２３が形成されている。さらに、第２面１２２の一部には圧電振動片１３０を載置するための載置部１２４が形成されており、載置部１２４の＋Ｙ’軸側の面には接続電極１２８が形成されている。また、ベース板１２０ａの四隅の側面にはキャスタレーション１２７が形成されている。キャスタレーション１２７には側面電極１２９が形成されており、側面電極１２９は外部電極１２５及び接続電極１２８を互いに電気的に接続し、又はアース端子１２６に電気的に接続される。
【００１９】
圧電振動片１３０は、Ｘ軸方向に長辺が伸び、Ｚ’軸方向に短辺が伸びた矩形形状に形成されている。圧電振動片１３０の＋Ｙ’軸側及び−Ｙ’軸側の面の中央領域には、それぞれ励振電極１３１が形成されている。また、各励振電極１３１からは引出電極１３２が引き出されている。＋Ｙ’軸側の面に形成されている励振電極１３１から引き出されている引出電極１３２は圧電振動片１３０の＋Ｙ’軸側の面の−Ｘ軸側の辺沿いに形成され、さらに圧電振動片１３０の−Ｘ軸側の側面に形成される引出電極１３２ａを介して−Ｙ’軸側の面の−Ｘ軸側の辺沿いに形成されている。同様に、−Ｙ’軸側の面に形成されている励振電極１３１から引き出されている引出電極１３２は圧電振動片１３０の−Ｙ’軸側の面の＋Ｘ軸側の辺沿いに形成され、さらに圧電振動片１３０の＋Ｘ軸側の側面に形成される引出電極１３２ａを介して＋Ｙ’軸側の面の＋Ｘ軸側の辺沿いに形成されている。圧電振動片１３０は、ベース板１２０ａの接続電極１２８と引出電極１３２とが導電性接着剤１４１（図２参照）を介して接合されることにより、励振電極１３１と外部電極１２５とが電気的に接続される。
【００２０】
図２（ａ）は、図１のＡ−Ａ断面図である。圧電デバイス１００には、ベース板１２０ａの第２面１２２とリッド板１１０の接合面１１２とが接合材１４０を介して接合されることにより、圧電デバイス１００内に密封されたキャビティ１０１が形成される。この接合材１４０には、例えば融点が５００度以下のガラス接合材である低融点ガラス又はポリイミド樹脂等の樹脂系接合材などが用いられる。また、圧電振動片１３０は、キャビティ１０１のベース板１２０ａの載置部１２４に、引出電極１３２と接続電極１２８とが導電性接着剤１４１を介して接合されることにより載置される。圧電振動片１３０が載置部１２４に載置されることにより、圧電振動片１３０の励振電極１３１が、引出電極１３２、導電性接着剤１４１、接続電極１２８、及び側面電極１２９を介してベース板１２０ａの外部電極１２５に電気的に接続される。
【００２１】
図２（ｂ）は、圧電振動片１３０の＋Ｙ’軸側の面の平面図である。圧電振動片１３０は、Ｘ軸方向に長辺、Ｚ’軸方向に短辺を有する矩形形状の平面を有している。圧電振動片１３０の＋Ｙ’軸側の面の中央領域には励振電極１３１が形成されており、さらに励振電極１３１からは−Ｘ軸側の辺に引出電極１３２が引き出されている。−Ｘ軸側の辺に引き出された引出電極１３２は圧電振動片１３０の−Ｘ軸側の辺に沿って形成されており、さらに圧電振動片１３０の−Ｘ軸側の側面に形成されている引出電極１３２ａを介して圧電振動片１３０の−Ｙ’軸側の面に引き出されている。また、圧電振動片１３０の＋Ｙ’軸側の面の＋Ｘ軸側の辺には、−Ｙ’軸側の励振電極１３１から引き出された引出電極１３２が＋Ｘ軸側の辺に沿って形成されている。
【００２２】
図２（ｃ）は、圧電振動片１３０の−Ｙ’軸側の面の平面図である。圧電振動片１３０の−Ｙ’軸側の面の中央領域には励振電極１３１が形成されており、さらに励振電極１３１からは＋Ｘ軸側の辺に引出電極１３２が引き出されている。＋Ｘ軸側の辺に引き出された引出電極１３２は圧電振動片１３０の＋Ｘ軸側の辺に沿って形成されており、さらに圧電振動片１３０の＋Ｘ軸側の側面に形成されている引出電極１３２ａを介して圧電振動片１３０の＋Ｙ’軸側の面に引き出されている。また、圧電振動片１３０の−Ｙ’軸側の面の−Ｘ軸側の辺には、＋Ｙ’軸側の励振電極１３１から引き出された引出電極１３２が−Ｘ軸側の辺に沿って形成されている。
【００２３】
図３（ａ）は、ベース板１２０ａの＋Ｙ’軸側の電極が示された平面図である。ベース板１２０ａの＋Ｙ’軸側の面には凹部１２３が形成されており、凹部１２３を囲むように第２面１２２が形成されている。また、凹部１２３の＋Ｘ軸側の−Ｚ’軸側、及び−Ｘ軸側の＋Ｚ’軸側には圧電振動片１３０を載置するための載置部１２４が形成されており、載置部１２４の＋Ｙ’軸側の面には接続電極１２８が形成されている。一方、ベース板１２０ａの四隅の側面にはそれぞれキャスタレーション１２７が形成されている。以降の説明においては、＋Ｘ軸側の−Ｚ’軸側のキャスタレーションをキャスタレーション２７ａ、＋Ｘ軸側の＋Ｚ’軸側のキャスタレーションをキャスタレーション２７ｂ、−Ｘ軸側の−Ｚ’軸側のキャスタレーションをキャスタレーション２７ｃ、−Ｘ軸側の＋Ｚ’軸側のキャスタレーションをキャスタレーション２７ｄとして説明する。キャスタレーション２７ａ及びキャスタレーション２７ｄは、Ｘ軸方向に長さＬＸ１、Ｚ’軸方向に長さＬＺ１の幅に形成されている。一方、キャスタレーション２７ｂ及びキャスタレーション２７ｃは、Ｘ軸方向に長さＬＸ２、Ｚ’軸方向に長さＬＺ２の幅に形成されている。長さＬＸ１は長さＬＸ２よりも長く、長さＬＺ１は長さＬＺ２よりも短い。また、キャスタレーション２７ａ及びキャスタレーション２７ｄに形成される側面電極１２９は接続電極１２８と外部電極１２５とを電気的に接続しており、キャスタレーション２７ｂ及びキャスタレーション２７ｃに形成される側面電極１２９はアース端子１２６（図３（ｂ）参照）に電気的に接続されている。
【００２４】
ベース板１２０ａは、ベース板１２０ａに形成されている各キャスタレーションがＸ軸方向及びＺ’軸方向に隣り合うキャスタレーションとそれぞれＺ’軸方向及びＸ軸方向の長さが異なっている。例えば、キャスタレーション２７ａはＸ軸方向に長さＬＸ１に形成されているが、キャスタレーション２７ａの＋Ｚ’軸方向に隣り合うキャスタレーション２７ｂのＸ軸方向の長さはＬＸ２に形成されており、互いにＸ軸方向に異なる長さに形成されている。そのため、キャスタレーション２７ａの−Ｘ軸側の端のベース板１２０ａ側に凹んだ角部１７１ａとキャスタレーション２７ｂの−Ｘ軸側の端のベース板１２０ａ側に凹んだ角部１７１ｂとを結ぶ直線１７１は、Ｚ’軸に平行になっていない。また、キャスタレーション２７ａはＺ’軸方向に長さＬＺ１に形成されているが、−Ｘ軸方向に隣り合うキャスタレーション２７ｃは、Ｚ’軸方向に長さＬＺ２に形成されており、互いにＺ’軸方向に異なる長さに形成されている。そのため、キャスタレーション２７ａの＋Ｚ’軸側の端のベース板１２０側に凹んだ角部１７２ａとキャスタレーション２７ｃの＋Ｚ’軸側の端のベース板１２０側に凹んだ角部１７２ｂとを結ぶ直線１７２は、Ｘ軸に平行になっていない。
【００２５】
図３（ｂ）は、ベース板１２０ａの−Ｙ’軸側の電極が示された平面図である。図３（ｂ）では、ベース板１２０ａの−Ｙ’軸側に形成された電極が、＋Ｙ’軸側から−Ｙ’軸方向にベース板１２０ａを透過して見る形で示されている。ベース板１２０ａの−Ｙ’軸側の面の＋Ｘ軸側の−Ｚ’軸側、及び−Ｘ軸側の＋Ｚ’軸側には外部電極１２５が形成されている。各外部電極１２５は、側面電極１２９を介して＋Ｙ’軸側の面に形成されている接続電極１２８に電気的に接続されている。また、−Ｙ’軸側の面の＋Ｘ軸側の＋Ｚ’軸側、及び−Ｘ軸側の−Ｚ’軸側にはアース端子１２６が形成されている。
【００２６】
圧電デバイスは、プリント基板に実装されてプリント基板の曲げ試験を行ったときに、ベース板に割れが生じることがある。この割れは、キャスタレーションのベース板の内側に凹んだ角部（例えば、図３（ａ）の角部１７１ａ等に相当）を起点として発生し、Ｘ軸方向又はＺ’軸方向に平行に発生する。また、このような割れはベース板の中心近くを通って発生する確率が高く、Ｘ軸方向又はＺ’軸方向に隣り合うキャスタレーションの角部同士がＸ軸又はＺ’軸に平行な直線上にあるときに発生し易い。このような傾向から、ベース板にはプリント基板の曲げ試験を行った場合に、キャスタレーションの角部同士を結ぶ直線がベース板の中心近くを通り、直線がＸ軸又はＺ’軸に平行となるときにベース板に強い応力がかかる、又はベース板のキャスタレーションがこのような条件を満たす角部を有している場合に曲げ応力に弱くなると考えられる。圧電デバイス１００のベース板１２０ａは、例えば図３（ａ）の直線１７１及び直線１７２のように、キャスタレーションの角部同士を結びベース板の中心近くを通る直線がＸ軸又はＺ’軸に平行にならないように形成されているため、ベース板１２０ａに割れが生じにくい。また、圧電デバイス１００では、キャスタレーションがＸ軸方向及びＺ’軸方向に伸びたＬ字型に形成されることにより側面電極１２９の幅を太くすることができ、電極の安定したパターニング及び抵抗値を得ることができる。
【００２７】
また、ベース板１２０ａはキャスタレーションの角部同士を結びベース板の中心近くを通る直線がＸ軸又はＺ’軸に平行にならないように形成されたが、キャスタレーションの角部同士を結びベース板の中心近くを通る直線がＸ軸又はＺ’軸のどちらか一方に平行にならないように形成されればベース板に割れを生じ難くすることができる。
【００２８】
＜圧電デバイス１００の作製方法＞
図４は、圧電デバイス１００の作製方法を示したフローチャートである。以下、図４を参照して圧電デバイス１００の作製方法を説明する。
【００２９】
ステップＳ１０１では、圧電振動片１３０が用意される。圧電振動片１３０は、図１、図２（ｂ）及び図２（ｃ）に示されるように平板の矩形形状に形成され、励振電極１３１及び引出電極１３２が形成されている。
【００３０】
ステップＳ１０２では、ベースウエハが用意される。ベースウエハには複数のベース板が形成されている。以下、図５を参照してベースウエハＷ１２０Ａについて説明する。
【００３１】
図５（ａ）は、ベースウエハＷ１２０Ａの平面図である。ベースウエハＷ１２０Ａには、ベース板１２０ａ及びベース板１２０ｂの２種類のベース板が形成されており、それぞれＸ軸方向及びＺ’軸方向に交互に形成されている。また、図５（ａ）には、後述のステップＳ１０６においてウエハが切断される線であるスクライブライン１４２が二点鎖線で示されている。図５（ａ）では、ベースウエハＷ１２０Ａに形成されるベース板１２０ａ及びベース板１２０ｂが、スクライブライン１４２によって囲まれて示されている。また、Ｘ軸方向に伸びるスクライブライン１４２とＺ’軸方向に伸びるスクライブライン１４２とが交差する位置には、ベースウエハＷ１２０Ａを貫通する貫通孔１４３ａ又は貫通孔１４３ｂが形成されている。貫通孔１４３ａの平面形状は、スクライブライン１４２の交点を中心にしてＺ’軸方向に長く伸びＸ軸方向に短く伸びた十字型に形成されている。また、貫通孔１４３ｂの平面形状は、スクライブライン１４２の交点を中心にしてＺ’軸方向に短く伸びＸ軸方向に長く伸びた十字型に形成されている。ベース板１２０ａには貫通孔１４３ａが＋Ｘ軸側の＋Ｚ’軸側に配置されており、ベース板１２０ｂは貫通孔１４３ｂが＋Ｘ軸側の＋Ｚ’軸側に配置されている。
【００３２】
図５（ｂ）は、ベース板１２０ｂの＋Ｙ’軸側の電極が示された平面図である。ベース板１２０ｂの＋Ｙ’軸側の面には凹部１２３が形成されており、凹部１２３を囲むように第２面１２２が形成されている。また、凹部１２３の＋Ｘ軸側の−Ｚ’軸側、及び−Ｘ軸側の＋Ｚ’軸側には載置部１２４が形成されており、載置部１２４の＋Ｙ’軸側の面には接続電極１２８が形成されている。一方、ベース板１２０ｂの四隅にはそれぞれキャスタレーション２７ａ〜２７ｄが形成されている。ベース板１２０ｂに形成される各キャスタレーション２７ａ〜２７ｄのＸ−Ｚ’平面における形状は、ベース板１２０ａと同様にＸ軸方向及びＺ’軸方向に伸びたＬ字型に形成されており、各キャスタレーション２７ａ〜２７ｄには側面電極１２９が形成されている。凹部１２３に形成されている各接続電極１２８は、側面電極１２９を介して−Ｙ’軸側の面に形成されている外部電極１２５（図５（ｃ）参照）に電気的に接続されている。
【００３３】
図５（ｃ）は、ベース板１２０ｂの−Ｙ’軸側の電極が示された平面図である。図５（ｃ）では、ベース板１２０ｂの−Ｙ’軸側に形成された電極が、＋Ｙ’軸側から−Ｙ’軸方向にベース板１２０ｂを透過して見る形で示されている。ベース板１２０ｂの−Ｙ’軸側の面の＋Ｘ軸側の−Ｚ’軸側、及び−Ｘ軸側の＋Ｚ’軸側には外部電極１２５が形成されている。各外部電極１２５は、側面電極１２９を介して＋Ｙ’軸側の面に形成されている接続電極１２８に電気的に接続されている。また、−Ｙ’軸側の面の＋Ｘ軸側の＋Ｚ’軸側、及び−Ｘ軸側の−Ｚ’軸側にはアース端子１２６が形成されており、アース端子１２６は側面電極１２９に電気的に接続されている。
【００３４】
ベースウエハＷ１２０では、貫通孔１４３ａのＸ軸方向の長さと貫通孔１４３ｂのＺ’軸方向の長さ、及び貫通孔１４３ａのＺ’軸方向の長さと貫通孔１４３ｂのＸ軸方向の長さとが等しい場合、ベース板１２０ａ及びベース板１２９ｂの長さＬＸ１と長さＬＺ２との長さが等しく、長さＬＸ２と長さＬＺ１との長さが等しくなる。このとき、ベース板１２０ａ及びベース板１２０ｂに形成される全ての側面電極１２９の断面の長さが等しくなる。そのため、圧電デバイスが形成された場合、ベース板１２０ａ又はベース板１２０ｂのいずれが用いられた場合でも電気的な接続が等しくなっている。
【００３５】
図４に戻って、ステップＳ１０３では、リッドウエハが用意される。リッドウエハには複数のリッド板が形成されている。以下、図６を参照してリッドウエハＷ１１０について説明する。
【００３６】
図６は、リッドウエハＷ１１０の平面図である。リッドウエハＷ１１０には、複数のリッド板１１０が形成されている。図６には、後述のステップＳ１０６においてウエハが切断される線であるスクライブライン１４２が二点鎖線で示されており、リッドウエハＷ１１０に形成されている各リッド板１１０は、スクライブライン１４２に囲まれて示されている。各リッド板１１０の−Ｙ’軸側の面には凹部１１１が形成されている。
【００３７】
ステップＳ１０４では、ベースウエハＷ１２０Ａに圧電振動片１３０が載置される。ベースウエハＷ１２０Ａに形成されるベース板１２０ａ及びベース板１２０ｂには、載置部１２４及び接続電極１２８がベース板の中の同じ場所に形成されているため、圧電振動片１３０は、ベース板１２０ａ及びベース板１２０ｂを判別しなくとも載置部１２４に載置することができる。
【００３８】
ステップＳ１０５では、接合材１４０によりベースウエハＷ１２０ＡとリッドウエハＷ１１０とが接合される。ベースウエハＷ１２０ＡとリッドウエハＷ１１０との接合は、ベースウエハＷ１２０Ａの第２面１２２とリッドウエハＷ１１０の接合面１１２とが互いに接合材１４０を介して接合される。これにより、ウエハ上に複数の圧電デバイス１００が形成される。
【００３９】
ステップＳ１０６では、ウエハがダイシングにより切断される。ウエハの切断は、スクライブライン１４２（図５及び図６参照）に沿って行われ、ウエハに形成された各圧電デバイス１００が個別に分けられる。
【００４０】
＜ベース板の変形例＞
ベース板及びベースウエハは、キャスタレーション及び貫通孔の形状が異なる様々な変形例が考えられる。以下に、ベース板及びベースウエハの変形例を説明する。
【００４１】
図７（ａ）は、ベースウエハＷ１２０Ｂの部分平面図である。ベースウエハＷ１２０Ｂには、複数のベース板１２０ｃ及び複数のベース板１２０ｄがＸ軸方向及びＺ’軸方向に交互に形成されている。図７（ａ）にはスクライブライン１４２が示されており、各ベース板１２０ｃ及びベース板１２０ｄは、スクライブライン１４２に囲まれて示されている。また、Ｘ軸方向に伸びるスクライブライン１４２とＺ’軸方向に伸びるスクライブライン１４２との交点には貫通孔１４３ｃ及び貫通孔１４３ｄが交互に形成されている。ベース板１２０ｃの＋Ｘ軸側の＋Ｚ’軸側の角部には貫通孔１４３ｃが形成され、ベース板１２０ｄの＋Ｘ軸側の＋Ｚ’軸側の角部には貫通孔１４３ｄが形成されている。貫通孔１４３ｃはスクライブライン１４２の交点から＋Ｘ軸方向及び＋Ｚ’軸方向に長く伸び、−Ｘ軸方向及び−Ｚ’軸方向に短く伸びている。また、貫通孔１４３ｄはスクライブライン１４２の交点から＋Ｘ軸方向及び＋Ｚ’軸方向に短く伸び、−Ｘ軸方向及び−Ｚ’軸方向に長く伸びている。
【００４２】
図７（ｂ）は、ベース板１２０ｃの平面図である。ベース板１２０ｃのキャスタレーション２７ａは＋Ｚ’軸方向に長さＬＺ１、−Ｘ軸方向に長さＬＸ１だけ伸びている。また、キャスタレーション２７ｄは−Ｚ’軸方向に長さＬＺ２、＋Ｘ軸方向に長さＬＸ２だけ伸びている。キャスタレーション２７ｂは−Ｘ軸方向及び−Ｚ’軸方向にそれぞれ長さＬＸ２及び長さＬＺ１だけ伸び、キャスタレーション２７ｃは＋Ｘ軸方向及び＋Ｚ’軸方向にそれぞれ長さＬＸ１及び長さＬＺ２だけ伸びている。ベース板１２０ｃでは、長さＬＸ１と長さＬＺ２との長さが等しく、長さＬＺ１と長さＬＸ２との長さが等しい。また、長さＬＸ１よりも長さＬＺ１の方が短い。そのため、キャスタレーション２７ａの角部１７１ａとキャスタレーション２７ｂの角部１７１ｂとを結ぶ直線１７１と、キャスタレーション２７ａの角部１７２ａとキャスタレーション２７ｃの角部１７２ｃとを結ぶ直線１７２とは、共にＸ軸及びＺ’軸に平行ではない。
【００４３】
図７（ｃ）は、ベース板１２０ｄの平面図である。ベース板１２０ｄのキャスタレーション２７ａは＋Ｚ’軸方向に長さＬＺ２、−Ｘ軸方向に長さＬＸ２だけ伸びている。また、キャスタレーション２７ｄは−Ｚ’軸方向に長さＬＺ１、＋Ｘ軸方向に長さＬＸ１だけ伸びている。キャスタレーション２７ｂは−Ｘ軸方向及び−Ｚ’軸方向にそれぞれ長さＬＸ１及び長さＬＺ２だけ伸び、キャスタレーション２７ｃは＋Ｘ軸方向及び＋Ｚ’軸方向にそれぞれ長さＬＸ２及び長さＬＺ１だけ伸びている。ベース板１２０ｄでは、長さＬＸ１と長さＬＺ２との長さが等しく、長さＬＺ１と長さＬＸ２との長さが等しい。また、長さＬＸ１よりも長さＬＺ１の方が短い。そのため、キャスタレーション２７ａの角部１７１ａとキャスタレーション２７ｂの角部１７１ｂとを結ぶ直線１７１と、キャスタレーション２７ａの角部１７２ａとキャスタレーション２７ｃの角部１７２ｃとを結ぶ直線１７２とは、共にＸ軸及びＺ’軸に平行ではない。
【００４４】
図８（ａ）は、ベースウエハＷ１２０Ｃの部分平面図である。ベースウエハＷ１２０Ｃには、複数のベース板１２０ｅ及び複数のベース板１２０ｆがＸ軸方向及びＺ’軸方向に交互に形成されている。図８（ａ）にはスクライブライン１４２が示されており、各ベース板１２０ｅ及びベース板１２０ｆはスクライブライン１４２に囲まれて示されている。また、Ｘ軸方向に伸びるスクライブライン１４２とＺ’軸方向に伸びるスクライブライン１４２との交点には貫通孔１４３ｅ及び貫通孔１４３ｆが交互に形成されている。ベース板１２０ｅの＋Ｘ軸側の＋Ｚ’軸側の角部には貫通孔１４３ｅが形成され、ベース板１２０ｆの＋Ｘ軸側の＋Ｚ’軸側の角部には貫通孔１４３ｆが形成されている。貫通孔１４３ｅはスクライブライン１４２の交点から＋Ｚ’軸方向及び−Ｚ’軸方向に伸びている。また、貫通孔１４３ｆはスクライブライン１４２の交点から＋Ｘ軸方向及び−Ｘ軸方向に短く伸びている。
【００４５】
図８（ｂ）は、ベース板１２０ｅの平面図である。ベース板１２０ｅのキャスタレーション２７ａは−Ｘ軸方向に長さＬＸ１だけ伸びている。また、キャスタレーション２７ｄは＋Ｘ軸方向に長さＬＸ１だけ伸びている。キャスタレーション２７ｂ及びキャスタレーション２７ｃは−Ｚ’軸方向及び＋Ｚ’軸方向にそれぞれ長さＬＺ２だけ伸びている。ベース板１２０ｅでは、長さＬＸ１と長さＬＺ２との長さが等しい。また、ベース板１２０ｅでは、キャスタレーション２７ａの角部１７１ａとキャスタレーション２７ｂの角部１７１ｂとを結ぶ直線１７１と、キャスタレーション２７ａの角部１７１ａとキャスタレーション２７ｃの角部１７２ｃとを結ぶ直線１７２とは、共にＸ軸及びＺ’軸に平行ではない。
【００４６】
図８（ｃ）は、ベース板１２０ｆの平面図である。ベース板１２０ｆのキャスタレーション２７ａ及びキャスタレーション２７ｄは、それぞれ＋Ｚ’軸方向及び−Ｚ’軸方向に長さＬＺ２だけ伸びている。また、キャスタレーション２７ｂ及びキャスタレーション２７ｃは−Ｘ軸方向及び＋Ｘ軸方向にそれぞれ長さＬＸ１だけ伸びている。そのため、キャスタレーション２７ａの角部１７１ａとキャスタレーション２７ｂの角部１７１ｂとを結ぶ直線１７１と、キャスタレーション２７ａの角部１７１ａとキャスタレーション２７ｃの角部１７２ｃとを結ぶ直線１７２とは、共にＸ軸及びＺ’軸に平行ではない。
【００４７】
図９（ａ）は、ベースウエハＷ１２０Ｄの部分平面図である。ベースウエハＷ１２０Ｄには、複数のベース板１２０ｇ及び複数のベース板１２０ｈがＸ軸方向に交互に形成されている。一方、複数のベース板１２０ｇ及び複数のベース板１２０ｈはＺ’軸方向には同じ種類のベース板が並んで形成されている。図９（ａ）にはスクライブライン１４２が示されており、各ベース板１２０ｇ及びベース板１２０ｈは、スクライブライン１４２に囲まれて示されている。また、Ｘ軸方向に伸びるスクライブライン１４２とＺ’軸方向に伸びるスクライブライン１４２との交点には貫通孔１４３ｇ及び貫通孔１４３ｈが形成されており、Ｘ軸方向には交互に、Ｚ’軸方向には同一の貫通孔が形成されている。ベース板１２０ｇの＋Ｘ軸側の−Ｚ’軸側の角部には貫通孔１４３ｇが形成され、ベース板１２０ｈの＋Ｘ軸側の＋Ｚ’軸側の角部には貫通孔１４３ｈが形成されている。貫通孔１４３ｇはスクライブライン１４２の交点から＋Ｚ’軸方向に伸びており、貫通孔１４３ｈはスクライブライン１４２の交点から−Ｚ’軸方向に伸びている。ベース板１２０ｇは、図８（ｃ）に示されたベース板１２０ｆのキャスタレーション２７ｂ及びキャスタレーション２７ｃが形成されていない形状に形成されている。また、ベース板１２０ｈの載置部１２４はベース板１２０ｇとは異なり凹部１２３の＋Ｘ軸側の＋Ｚ’軸側及び−Ｘ軸側の−Ｚ’軸側に形成されている。ベース板１２０ｈは圧電振動片１３０が＋Ｘ軸側及び−Ｘ軸側の辺に沿って引出電極１３２が形成されているため、圧電振動片１３０をベース板に載置する際には、ベース板１２０ｈとベース板１２０ｇとを区別しなくてもよい。
【００４８】
図９（ｂ）は、ベースウエハＷ１２０Ｅの部分平面図である。ベースウエハＷ１２０Ｅには、複数のベース板１２０ｊ及び複数のベース板１２０ｋがＸ軸方向及びＺ’軸方向に交互に形成されている。図９（ｂ）にはスクライブライン１４２が示されており、各ベース板１２０ｊ及びベース板１２０ｋは、スクライブライン１４２に囲まれて示されている。また、Ｘ軸方向に伸びるスクライブライン１４２とＺ’軸方向に伸びるスクライブライン１４２との交点には貫通孔１４３ｊがＸ軸方向及びＺ’軸方向に１つ置きに形成されている。貫通孔１４３ｊはスクライブライン１４２の交点から＋Ｚ’軸方向及び−Ｚ’軸方向に伸びている。ベース板１２０ｊの形状は図９（ａ）のベース板１２０ｈと同じであり、ベース板１２０ｋの形状は図９（ａ）のベース板１２０ｇと同じである。
【００４９】
図９（ｃ）は、ベースウエハＷ１２０Ｆの部分平面図である。ベースウエハＷ１２０Ｆには、複数のベース板１２０ｍ及び複数のベース板１２０ｎがＸ軸方向及びＺ’軸方向に交互に形成されている。図９（ｃ）にはスクライブライン１４２が示されており、各ベース板１２０ｍ及びベース板１２０ｎは、スクライブライン１４２に囲まれて示されている。また、Ｘ軸方向に伸びるスクライブライン１４２とＺ’軸方向に伸びるスクライブライン１４２との交点には貫通孔１４３ｋがＸ軸方向及びＺ’軸方向に１つ置きに形成されている。貫通孔１４３ｋはスクライブライン１４２の交点から＋Ｚ’軸方向、−Ｚ’軸方向、＋Ｘ軸方向及び−Ｘ軸方向にそれぞれ等距離に伸びている。ベース板１２０ｍ及びベース板１２０ｎは、対角線上にある一対のキャスタレーションにＸ軸方向及びＺ’軸方向に溝が伸びることにより形成されている。
【００５０】
図９（ａ）、図９（ｂ）及び図９（ｃ）に示された各ベース板は、一方の対角線上のベース板の角にはキャスタレーションが形成されるが、他方の対角線上のベース板の角にはキャスタレーションが形成されていない。−Ｙ’軸側の面に形成されるアース端子はキャスタレーションに形成される側面電極に電気的に接続されることが必須ではないため、図９（ａ）〜図９（ｃ）に示されるように、キャスタレーションは外部電極に接する箇所のみに形成されることができる。このような場合は、Ｘ軸方向及びＺ’軸方向に隣り合うキャスタレーションが形成されないため、Ｘ軸方向及びＺ’軸方向に隣り合うキャスタレーションの角部同士を結びベース板の中心近くを通る直線が形成されず、ベース板に割れが生じにくい。
【００５１】
（第２実施形態）
圧電デバイスは、外枠が形成された圧電振動片が用いられても良い。以下、外枠が形成された圧電振動片を有する圧電デバイス２００について説明する。
【００５２】
＜圧電デバイス２００の構成＞
図１０は、圧電デバイス２００の分解斜視図である。圧電デバイス２００は主に、リッド板２１０と、ベース板２２０ａと、圧電振動片２３０ａとにより構成されている。圧電振動片２３０ａは、＋Ｙ’軸側及び−Ｙ’軸側の面に励振電極２３１がそれぞれ形成された振動部２３３と、励振部２３３を囲む枠部２３４と、振動部２３３及び枠部２３４を連結する連結部２３５と、により構成されている。振動部２３３と枠部２３４との間の連結部２３５以外の領域には圧電振動片２３０ａをＹ’軸方向に貫通する貫通溝２３６が形成されている。＋Ｙ’軸側の面に形成される励振電極２３１からは、連結部２３５、−Ｘ軸側の＋Ｚ’軸側の貫通溝２３６の側面を介して枠部２３４の−Ｘ軸側の＋Ｚ’軸側の−Ｙ’軸側の面の角部にまで引出電極２３２が引き出されている。また、−Ｙ’軸側の面に形成されている励振電極２３１からは、連結部２３５を介して枠部２３４の＋Ｘ軸側の−Ｚ’軸側の−Ｙ’軸側の面の角部にまで引出電極２３２が引き出されている。
【００５３】
ベース板２２０ａは、圧電振動片２３０ａの−Ｙ’軸側の面に配置されている。ベース板２２０ａの−Ｙ’軸側の面である第１面２２１には外部電極２２５及びアース端子２２６が形成されている。また、＋Ｙ’軸側の面には凹部２２３と凹部２２３の周りの第２面２２２とが形成されている。さらに、第２面２２２の＋Ｘ軸側の−Ｚ’軸側、及び−Ｘ軸側の＋Ｚ’軸側の角部には接続電極２２８が形成されている。また、ベース板２２０ａの＋Ｘ軸側の−Ｚ’軸側、及び−Ｘ軸側の＋Ｚ’軸側の角部には、キャスタレーション２２７が形成されており、キャスタレーション２２７には側面電極２２９が形成されており、側面電極２２９は接続電極２２８と外部電極２２５とを電気的に接続している。ベース板２２０ａと圧電振動片２３０ａとは、ベース板２２０ａの第２面２２２と圧電振動片２３０ａの枠部２３４の−Ｙ’軸側の面とが接合材１４０（図１１参照）を介して接合されることにより接合される。
【００５４】
リッド板２１０は、圧電振動片２３０ａの＋Ｙ’軸側の面に配置される。リッド板２１０の−Ｙ’軸側には凹部２１１が形成され、凹部２１１を囲むように接合面２１２が形成されている。リッド板２１０と圧電振動片２３０ａとは、リッド板２１０の接合面２１２と圧電振動片２３０ａの枠部２３４の＋Ｙ’軸側の面とが接合材１４０（図１１参照）を介して接合されることにより接合される。
【００５５】
図１１（ａ）は、図１０のＢ−Ｂ断面図である。圧電デバイス２００には、ベース板２２０ａ、リッド板２１０、及び圧電振動片２３０ａが互いに接合されることにより圧電デバイス２００内にキャビティ２０１が形成される。また、圧電振動片２３０ａの圧電振動部２３３がキャビティ２０１内に配置されている。圧電振動部２３３に形成されている励振電極２３１は、引出電極２３２とベース板２２０ａの接続電極２２８とが電気的に接続されることにより、外部電極２２５に電気的に接続される。ベース板２２０ａのキャスタレーション２２７は、第１面２２１から第２面２２２方向に伸びて形成される第１曲面２７１と、第２面２２２から第１面２２１方向に向かって伸びて形成される第２曲面２７２と、第１曲面２７１及び第２曲面２７２の間に形成されている突起面２７３と、により構成されている。第１曲面２７１及び第２曲面２７２はＹ’軸方向の断面がベース板２２０ａ側に凹んだ曲面を含んでおり、突起面２７３はＹ’軸方向の断面が直線になるように形成されている。また、突起面２７３は、第１曲面２７１及び第２曲面２７２よりもベース板２２０から外側に向かって突き出て形成されている。この、第１曲面２７１、第２曲面２７２及び突起面２７３には側面電極２２９が形成されており、側面電極２２９は接続電極２２８と外部電極２２５とを電気的に接続している。また、第１面２２１、外部電極２２５及びアース端子２２６（図１１（ｃ）参照）の表面は、粗面状に形成されている。
【００５６】
図１１（ｂ）は、ベース板２２０ａの平面図である。ベース板２２０ａの＋Ｙ’軸側の面には凹部２２３が形成されており、凹部２２３を囲むように第２面２２２が形成されている。また、＋Ｘ軸側の−Ｚ’軸側と−Ｘ軸側の＋Ｚ’軸側とにはキャスタレーション２２７が形成されている。キャスタレーション２２７のＸ−Ｚ’平面における断面は、半径Ｌ２２７の円の一部を含んでおり、キャスタレーション２２７には側面電極２２９（図１１（ａ）参照）が形成されている。さらに、第２面２２２の＋Ｘ軸側の−Ｚ’軸側と−Ｘ軸側の＋Ｚ’軸側とには側面電極２２９に電気的に接続される接続電極２２８が形成されている。
【００５７】
図１１（ｃ）は、−Ｙ’軸側の面の電極が示されているベース板２２０ａの平面図である。図１１（ｃ）では、ベース板２２０ａの−Ｙ’軸側の面に形成された電極が、＋Ｙ’軸側から−Ｙ’軸方向にベース板２２０ａを透過して見る形で示されている。ベース板２２０ａの−Ｙ’軸側の面の＋Ｘ軸側の−Ｚ’軸側、及び−Ｘ軸側の＋Ｚ’軸側には外部電極２２５が形成されている。各外部電極２２５は、キャスタレーション２２７に形成される側面電極２２９（図１１（ａ）参照）を介して＋Ｙ’軸側の面に形成されている接続電極２２８に電気的に接続されている。また、−Ｙ’軸側の面の＋Ｘ軸側の＋Ｚ’軸側、及び−Ｘ軸側の−Ｚ’軸側にはアース端子２２６が形成されている。
【００５８】
＜圧電デバイス２００の作製方法＞
図１２は、圧電デバイス２００の作製方法を示したフローチャートである。以下、図１２を参照して圧電デバイス２００の作製方法を説明する。
【００５９】
ステップＳ２０１では、圧電ウエハＷ２３０が用意される。圧電ウエハＷ２３０には、複数の圧電振動片２３０ａ及び複数の圧電振動片２３０ｂが形成されている。以下、図１３を参照して圧電ウエハＷ２３０について説明する。
【００６０】
図１３は、圧電ウエハＷ２３０の平面図である。図１３にはスクライブライン１４２が二点鎖線で示されており、圧電振動片２３０ａ及び圧電振動片２３０ｂがスクライブライン１４２に囲まれて示されている。また、圧電振動片２３０ａ及び圧電振動片２３０ｂはＸ軸方向及びＺ’軸方向に交互に形成されている。圧電振動片２３０ｂは、連結部２３５が振動部２３３の＋Ｘ軸側の＋Ｚ’軸側及び−Ｘ軸側の−Ｚ’軸側に形成されており、引出電極２３２が枠部２３４の＋Ｘ軸側の＋Ｚ’軸側及び−Ｘ軸側の−Ｚ’軸側まで引き出されている。圧電振動片２３０ａ及び圧電振動片２３０ｂとは、互いにＸ−Ｙ’平面に対して面対称になる形状を有しており、電気的特性及び振動特性等の違いはない。圧電ウエハＷ２３０には、貫通溝２３６、励振電極２３１及び引出電極２３２等が形成されることにより、圧電振動片２３０ａ及び圧電振動片２３０ｂが形成される。
【００６１】
ステップＳ２０２では、ベースウエハが用意される。ベースウエハには複数のベース板が形成されている。以下、図１４を参照してベースウエハＷ２２０Ａについて説明し、図１５及び図１６を参照してベースウエハＷ２２０の作製方法について説明する。
【００６２】
図１４は、ベースウエハＷ２２０Ａの平面図である。ベースウエハＷ２２０Ａには、複数のベース板が形成されている。ベースウエハＷ２２０Ａに形成されるベース板は、ベース板２２０ａ及びベース板２２０ｂの２種類であり、それぞれＸ軸方向及びＺ’軸方向に交互に形成されている。また、図１４には、後述のステップＳ１０６においてウエハが切断される線であるスクライブライン１４２が二点鎖線で示されている。ベースウエハＷ２２０Ａに形成されるベース板２２０ａ及びベース板２２０ｂは、このスクライブライン１４２によって囲まれて示されている。また、Ｘ軸方向に伸びるスクライブライン１４２とＺ’軸方向に伸びるスクライブライン１４２とが交差する位置には、一つ置きにベースウエハＷ２２０Ａを貫通する貫通孔２４３ａが形成されている。貫通孔２４３ａの平面形状は、スクライブライン１４２の交点を中心とした円形である。ベース板２２０ａには貫通孔２４３ａが＋Ｘ軸側の−Ｚ’軸側及び−Ｘ軸側の＋Ｚ’軸側に配置されており、ベース板２２０ｂは貫通孔２４３ａが＋Ｘ軸側の＋Ｚ’軸側及び−Ｘ軸側の−Ｚ’軸側に配置されている。
【００６３】
＜＜ベースウエハＷ２２０Ａの作製方法１＞＞
図１５は、ベースウエハＷ２２０Ａの作製方法を示したフローチャートである。図１５及び図１６に示された各ステップの右横には各ステップを説明するための図が示されている。図１５に示される各ステップを説明するための図は、図１４に示されたベースウエハＷ２２０ＡのＣ−Ｃ断面に相当する断面図である。以下に図１５を用いてベースウエハＷ２２０Ａの作製方法を説明する。
【００６４】
図１５のステップＳ２２１では、平板状のベースウエハＷ２２０Ａの＋Ｙ’軸側及び−Ｙ’軸側の両面に耐蝕膜１５０及びフォトレジスト１５１が形成される。図１５（ａ）には耐蝕膜１５０及びフォトレジスト１５１が形成されたベースウエハＷ２２０Ａの部分断面図が示されている。図１５（ａ）に示されるように、ベースウエハＷ２２０Ａの＋Ｙ’軸側及び−Ｙ’軸側の面に耐蝕膜１５０が形成され、耐蝕膜１５０の表面にフォトレジスト１５１が形成される。耐蝕膜１５０は、ベースウエハＷ２２０Ａに金属膜をスパッタリングもしくは蒸着などの手法により形成されることにより形成される。耐蝕膜１５０は、例えばベースウエハＷ２２０Ａに下地としてニッケル（Ｎｉ）、クロム（Ｃｒ）、チタン（Ｔｉ）又はニッケル・タングステン（ＮｉＷ）等の膜を形成し、下地の上に金（Ａｕ）及び銀（Ａｇ）等を成膜することにより形成される。フォトレジスト１５１は、耐蝕膜１５０の表面にスピンコートなどの手法で均一に塗布される。
【００６５】
ステップＳ２２２では、フォトレジスト１５１が露光及び現像され、耐蝕膜１５０がエッチングされる。図１５（ｂ）には、フォトレジスト１５１が露光及び現像され、耐蝕膜１５０がエッチングされたベースウエハＷ２２０Ａの断面図が示されている。ステップＳ２２２でフォトレジスト１５１が露光及び現像される領域は、ベースウエハＷ２２０の＋Ｙ’軸側の面の凹部２２３（図１４参照）に対応した凹領域１６０、−Ｙ’軸側の貫通孔２４３ａ（図１４参照）に対応した第１貫通領域１６１、及び＋Ｙ’軸側の貫通孔２４３ａ（図１４参照）に対応した第２貫通領域１６２である。
【００６６】
ステップＳ２２３では、ベースウエハＷ２２０Ａがウエットエッチングされる。図１５（ｃ）には、ウエットエッチングされた後のベースウエハＷ２２０の断面図が示されている。ベースウエハＷ２２０Ａのウエットエッチングされる領域は、凹領域１６０、第１貫通領域１６１及び第２貫通領域１６２である。ベースウエハＷ２２０Ａはウエットエッチングされることにより凹部２２３が形成され、第１貫通領域１６１及び第２貫通領域１６２にキャスタレーション２２７の第１曲面２７１及び第２曲面２７２に対応する凹みが形成される。ステップＳ２３３では、ベースウエハＷ２２０が深さＨＹ１だけエッチングされ、ベースウエハＷ２２０Ａの第１貫通領域１６１と第２貫通領域１６２との間１７０にはベースウエハＷ２２０Ａが貫通されずに残っている。
【００６７】
ステップＳ２２４では、ベースウエハＷ２２０Ａに形成されているフォトレジスト１５１及び耐蝕膜１５０が除去され、サンドブラストにより貫通孔２４３ａが形成される。図１５（ｄ）は、貫通孔２４３ａが形成されたベースウエハＷ２２０Ａの断面図である。サンドブラストは、ベースウエハＷ２２０Ａの−Ｙ’軸側の面に、−Ｙ’軸側から＋Ｙ’軸方向に研磨材が吹きつけられることにより行われる。ベースウエハＷ２２０Ａに吹き付けられる研磨材は第１貫通領域１６１と第２貫通領域１６２との間１７０を貫通させることにより、貫通孔２４３ａに突起部２７３が形成される。また、ベースウエハＷ２２０の−Ｙ’軸側の面である第１面２２１が、例えばベースウエハＷ２２０Ａの第２面２２２等のベースウエハＷ２２０Ａの他の面よりも表面の凹凸の高低差が大きい粗面状に形成される。
【００６８】
ステップＳ２２５では、ベースウエハＷ２２０Ａに、接続電極２２８、外部電極２２５、アース端子２２６（図１１（ｃ）参照）及び側面電極２２９が形成される。図１５（ｅ）は、電極が形成されたベースウエハＷ２２０Ａの断面図である。これらの電極は、例えばガラスの表面にクロム（Ｃｒ）層が形成され、クロム層の表面に金（Ａｕ）層が蒸着されることにより形成される。また、各ベース板２２０ａ及びベース板２２０ｂの第１面２２１は粗面状に形成されているため、外部電極２２５及びアース端子２２６の表面も粗面状に形成される。
【００６９】
図１５に示されたベースウエハＷ２２０Ａの作製方法では、ベースウエハＷ２２０Ａに形成される各ベース板２２０ａ及びベース板２２０ｂのキャスタレーション２２７に突起部２７３が形成される。圧電デバイス２００のベース板には突起部２７３が形成されていることにより、圧電デバイス２００がハンダを介してプリント基板に実装される際に、ハンダがキャスタレーション２２７を介してベース板の第２面２２２に近づくことが阻止される。ハンダがベース板の第２面２２２に近づいた場合、ハンダの熱により圧電デバイスのキャビティの封止が破られる又は弱くなることが考えられるが、圧電デバイス２００では、このようにハンダによるキャビティの封止の破れを防ぐことができる。さらに、外部電極２２５及びアース端子２２６の表面も粗面状に形成されることにより、外部電極２２５及びアース端子２２６の表面積が広くなってハンダとの接合面積が広がるため、プリント基板等とより強固に接合することができる。
【００７０】
＜＜ベースウエハＷ２２０Ａの作製方法２＞＞
ベース板のキャスタレーションの第１曲面は、第２曲面よりも大きく形成されてもよい。以下に、第１曲面の面積が第２曲面の面積よりも大きく形成されたベース板を有するベースウエハの作製方法を、図１６を参照して説明する。また、この作製方法は、図１５のステップＳ２２１及びステップＳ２２２が共通しているため、図１６に示されるフローチャートは図１５のステップＳ２２２の次のステップとして説明される。
【００７１】
図１６のステップＳ２３３は、図１５のステップＳ２２２の次のステップである。ステップＳ２３３では、ベースウエハＷ２２０Ａの凹領域１６０、第１貫通領域１６１及び第２貫通領域１６２がウエットエッチングされることにより、凹部２２３、及び第１貫通領域１６１及び第２貫通領域１６２にキャスタレーション２２７の第１曲面２７１及び第２曲面２７２に対応する凹みが形成される。図１６（ａ）は、ウエットエッチングされたベースウエハＷ２２０Ａの断面図である。ステップＳ２３３でウエットエッチングされるベースウエハＷ２２０Ａは、深さＨＹ２だけエッチングされる。この深さＨＹ２は、図１５のステップＳ２２３で示された深さＨＹ１よりも浅い。
【００７２】
ステップＳ２３４では、ベースウエハＷ２２０Ａの＋Ｙ’軸側の面の耐蝕膜１５０及びフォトレジスト１５１が除去され、再び＋Ｙ’軸側の面に耐蝕膜１５０及びフォトレジスト１５１が形成される。図１６（ｂ）は、耐蝕膜１５０及びフォトレジスト１５１が＋Ｙ’軸側の面の全体に形成されたベースウエハＷ２２０Ａの断面図である。ステップＳ２３４では、ベースウエハＷ２２０Ａの＋Ｙ’軸側の全面に耐蝕膜１５０及びフォトレジスト１５１が形成されているが、−Ｙ’軸側の面の第１貫通領域１６１には耐蝕膜１５０及びフォトレジスト１５１が形成されていない。
【００７３】
ステップＳ２３５では、第１貫通領域１６１がウエットエッチングされる。図１６（ｃ）は、第１貫通領域１６１がウエットエッチングされたベースウエハＷ２２０Ａの断面図である。第１貫通領域１６１のベースウエハＷ２２０Ａはさらにウエットエッチングされることにより、第１貫通領域１６１の溝の深さがＨＹ３となるように形成される。深さＨＹ３は深さＨＹ１及び深さＨＹ２よりも深い。
【００７４】
ステップＳ２３６では、ベースウエハＷ２２０Ａの全面に形成されているフォトレジスト１５１及び耐蝕膜１５０が除去され、サンドブラストにより貫通孔２４３ａが形成される。図１６（ｄ）は、貫通孔２４３ａが形成されたベースウエハＷ２２０Ａの断面図である。サンドブラストは、ベースウエハＷ２２０Ａの−Ｙ’軸側の面に、−Ｙ’軸側から＋Ｙ’軸方向に研磨材が吹きつけられることにより行われる。ベースウエハＷ２２０Ａに吹き付けられる研磨材は第１貫通領域１６１と第２貫通領域１６２との間１７０（図１６（ｃ）参照）を貫通させることにより、貫通孔２４３ａに突起部２７３が形成される。また、ベースウエハＷ２２０Ａの−Ｙ’軸側の面である第１面２２１を、例えばベースウエハＷ２２０Ａの第２面２２２等のベースウエハＷ２２０Ａの他の面よりも表面の凹凸の高低差が大きい粗面状に形成される。また、貫通孔２４３ａの第１貫通領域１６１のＸ軸方向の幅ＷＸ１は、貫通孔２４３ａの第２貫通領域１６２のＸ軸方向の幅ＷＸ２よりも大きく形成されている。
【００７５】
ステップＳ２３７では、ベースウエハＷ２２０Ａに、接続電極２２８、外部電極２２５、アース端子２２６（図１１（ｃ）参照）及び側面電極２２９が形成される。図１６（ｅ）には、電極が形成されたベースウエハＷ２２０Ａの断面図が示されている。これらの電極は、例えばガラスの表面にクロム（Ｃｒ）層が形成され、クロム層の表面に金（Ａｕ）層が蒸着されることにより形成される。また、各ベース板の第１面２２１は粗面状に形成されているため、外部電極２２５及びアース端子２２６の表面も粗面状に形成される。
【００７６】
図１６に示されたベースウエハＷ２２０Ａの作製方法では、ベースウエハＷ２２０Ａに形成される各ベース板のキャスタレーションに突起部２７３が形成される。そのため、図１５に示された作製方法により形成されたベース板と同様に、突起部２７３が形成されていることにより、圧電デバイス２００がハンダを介してプリント基板に実装される際にハンダがキャスタレーションを介してベース板の第２面２２２に近づくことが阻止されている。図１６の方法により作製されたベース板は、さらに貫通孔２４３ａの第１貫通領域１６１が広く形成されることにより第１曲面２７１の面積が大きくなるため、ハンダが第２面２２２にさらに届きにくくなる。また、貫通孔２４３ａの第２貫通領域１６２のエッチング量が少なくなることにより、第２貫通領域１６２のＸ軸方向の幅ＷＸ２を狭く形成することができる。すなわち、ベース板の第２面２２２の面積を広く取ることができて接合材１４０の塗布面積を広くすることができるため、キャビティの封止をより強固にすることができる。
【００７７】
図１２に戻って、ステップＳ２０３では、リッドウエハが用意される。リッドウエハには、複数のリッド板２１０が形成されている。リッドウエハは、図６に示されたリッドウエハＷ１１０と同様に−Ｙ’軸側の面に凹部２１１が形成されることにより形成される。
【００７８】
ステップＳ２０４では、ベースウエハＷ２２０Ａと圧電ウエハＷ２３０とが接合される。ベースウエハＷ２２０Ａと圧電ウエハＷ２３０との接合では、圧電振動片２３０ａとベース板２２０ａとが重なり、圧電振動片２３０ｂとベース板２２０ｂとが重なるように行われる。
【００７９】
ステップＳ２０５では、接合材１４０により圧電ウエハＷ２３０とリッドウエハとが接合される。圧電ウエハＷ２３０とリッドウエハとの接合は、圧電ウエハＷ２３０の＋Ｙ’軸側の面とリッドウエハＷ２１０の接合面２１２とが互いに接合材１４０を介して接合される。
【００８０】
ステップＳ２０６では、ウエハがダイシングにより切断される。ウエハの切断は、スクライブライン１４２（図５及び図６参照）に沿って行われ、ウエハに形成された各圧電デバイス２００が個別に分断される。
【００８１】
＜ベース板及びベースウエハの変形例＞
ベース板及びベースウエハは、キャスタレーション及び貫通孔の形状が異なる様々な変形例が考えられる。以下に、ベース板及びベースウエハの変形例を説明する。
【００８２】
図１７（ａ）は、ベースウエハＷ２２０Ｂの平面図である。ベースウエハＷ２２０Ｂには、複数のベース板２２０ｃ及び複数のベース板２２０ｄがＸ軸方向及びＺ’軸方向に交互に形成されている。図１７（ａ）にはスクライブライン１４２が示されており、各ベース板２２０ｃ及びベース板２２０ｄは、スクライブライン１４２に囲まれて示されている。また、Ｘ軸方向に伸びるスクライブライン１４２とＺ’軸方向に伸びるスクライブライン１４２との交点には貫通孔２４３ａ及び貫通孔２４３ｂが交互に形成されている。貫通孔２４３ａはベース板２２０ｃの＋Ｘ軸側の−Ｚ’軸側の角部、及びベース板２２０ｄの＋Ｘ軸側の＋Ｚ’軸側の角部に形成されており、貫通孔２４３ａの周りには接続電極２２８が形成されている。貫通孔２４３ｂは貫通孔２４３ａよりもその半径が小さくなるように形成されている。貫通孔２４３ａ及び貫通孔２４３ｂには側面電極２２９が形成されている。
【００８３】
図１７（ｂ）は、ベース板２２０ｃの平面図である。ベース板２２０ｃのキャスタレーション２７ａ及びキャスタレーション２７ｄは、半径Ｌ２２７の円の一部が形成され、キャスタレーション２７ｂ及びキャスタレーション２７ｃは、半径Ｌ２２７ｂの円の一部が形成される。半径Ｌ２２７は半径Ｌ２２７ｂよりも大きいため、ベース板２２０ｃではＸ軸方向又はＺ’軸方向に隣り合うキャスタレーション間にＸ軸又はＺ’軸に平行な応力がかかり難くなっており、ベース板２２０ｃに割れが生じにくい。
【００８４】
図１７（ｃ）は、−Ｙ’軸側の面の電極が示されたベース板２２０ｃの平面図である。図１７（ｃ）では、−Ｙ’軸側の面に形成される電極を＋Ｙ’軸側から−Ｙ’軸側にベース板２２０ｃを透過して見ている。ベース板２２０ｃの−Ｙ’軸側の面の＋Ｘ軸側の−Ｚ’軸側、及び−Ｘ軸側の＋Ｚ’軸側には外部電極２２５が形成されている。各外部電極２２５は、キャスタレーションに形成される側面電極２２９を介して＋Ｙ’軸側の面に形成されている接続電極２２８に電気的に接続されている。また、−Ｙ’軸側の面の＋Ｘ軸側の＋Ｚ’軸側、及び−Ｘ軸側の−Ｚ’軸側にはアース端子２２６が形成されており、側面電極２２９に電気的に接続されている。
【００８５】
ベース板２２０ｄは、ベース板２２０ｃとＸ−Ｙ’平面に対して面対称に形成されている。ベース板２２０ｃ及びベース板２２０ｄは、アース端子２２６に接続されている側面電極２２９が形成されていることにより、圧電デバイスがハンダを介してプリント基板等に接続された場合に、ハンダは側面電極２２９にも形成されるため、アース端子２２６に接合されるハンダの状態を確認することができる。
【００８６】
以上、本発明の最適な実施形態について詳細に説明したが、当業者に明らかなように、本発明はその技術的範囲内において実施形態に様々な変更・変形を加えて実施することができる。
【００８７】
例えば、上記の実施形態では、ベース板に外部電極とアース端子とが形成されていたが、外部電極のみが形成されていても良い。
【００８８】
また、上記の実施形態では圧電振動片にＡＴカットの水晶振動片である場合を示したが、同じように厚みすべりモードで振動するＢＴカット、又は音叉型水晶振動片などであっても同様に適用できる。さらに圧電振動片は水晶材のみならず、タンタル酸リチウムやニオブ酸リチウムあるいは圧電セラミックを含む圧電材に基本的に適用できる。
【符号の説明】
【００８９】
１００、２００  …  圧電デバイス
１１０、２１０  …  リッド板
１１１、１２３、２１１、２２３  …  凹部
１１２、２１２  …  接合面
１２０ａ〜１２０ｈ、１２０ｊ〜１２０ｎ、２２０ａ、２２０ｂ  …  ベース板
１２１、２２１  …  第１面
１２２、２２２  …  第２面
１２４  …  載置部
１２５  …  外部電極
１２６  …  アース端子
２７ａ、２７ｂ、２７ｃ、２７ｄ、１２７、２２７  …  キャスタレーション
１２８  …  接続電極
１２９  …  側面電極
１３０、２３０ａ、２３０ｂ  …  圧電振動片
１３１  …  励振電極
１３２、１３２ａ  …  引出電極
１４０  …  接合材
１４１  …  導電性接着剤
１４２  …  スクライブライン
１４３ａ〜１４３ｈ、１４３ｊ〜１４３ｋ  …  貫通孔
１５０  …  耐蝕膜
１５１  …  フォトレジスト
２３３  …  振動部
２３４  …  枠部
２３５  …  連結部
２３６  …  貫通溝
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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