(57)【要約】 【課題】従来、大気圧マイクロプラズマの照射領域を小さく絞ることで、処理領域の微細化が試みられてきた。プラズマを照射では、ノズルからガスが流れ出し、気体からの力が働くため、サンプルと密着させることは不可能である。プラズマ活性種は、広い空間に流れ出るため、不可避的にランダムな現象が混入し、サンプル加工の条件や場所に乱れが混じるためノズルを絞るだけでは、技術的な解決にならない。【解決手段】  本発明は、マイクロ流路内部において、プラズマ励起された放電ガスと励起されていない反応ガスの少なくとも２流体を合流し、上記流体界面でシート状の反応性プラズマを形成した上でマイクロ流路内部にサンプルの全体またはその一部を配置するマイクロプラズマ源ユニットを実現する。サンプル周辺の流れ場も合わせて安定させ、揺らぎの少ないプラズマ加工が実現できる。【選択図】        図１
2013191471.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マイクロ流路内部において、プラズマ励起された放電ガスと励起さ
れていない反応ガスの少なくとも２流体が合流し、上記流体界面で反応性プラズ
マを形成するマイクロプラズマ源ユニット。
【請求項２】
請求項１に記載されたプラズマ源ユニットにおいて、マイクロ流路
内部にサンプルの全体またはその一部を配置することを特徴とするプラズマ加工
処理を行うユニット。
【請求項３】
請求項１または２に記載されたプラズマ源ユニットにおいて、流体
界面でプラズマエッチング処理を行うユニット。
【請求項４】
請求項１または２に記載されたプラズマ源ユニットにおいて、流体
界面で表面処理を行うユニット。
【請求項５】
請求項１または２に記載されたプラズマ源ユニットにおいて、流体
界面でプラズマデポジション処理を行うユニット。
【請求項６】
請求項１から５に記載されたプラズマ源ユニットのいずれかにおい
て、マイクロ流路内部から外部にサンプルを出す、または外部から内部にサンプ
ルを入れる機構を持つユニット。
【請求項７】
請求項１から６に記載されたプラズマ源ユニットのいずれかにおい
て、流体界面とサンプルの位置関係を調節する機構を持つユニット。
【請求項８】
請求項１から７に記載されたプラズマ源ユニットのいずれかにおい
て、対象物（サンプルもしくは反応生成物）の温度調整機構を持つユニット。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反応性マイクロプラズマのシート状の局所的な形成と、そのサンプ
ルへの照射応用に関する。
【背景技術】
【０００２】
液体を扱う化学合成や化学分析分野において、反応時間の短縮および高収率の
合成を行うために、マイクロ加工技術を用いて製作された、断面寸法が数ｍｍ以
下の流路から構成されるマイクロ流路またはマイクロリアクタが使用されている。
マイクロ流路内部では、層流条件が安定して保持される。これは、代表長さが数
ｍｍ以下に小さくなるため、レイノルズ数が小さくなるからである。複数の液体
の混合を行うには、層流が保持されることが問題となり、拡散等を用いた様々な
混合方法が提案されている。
マイクロ流路内部では流れが層流になることは、ガスにおいても同様に成り立
つ。大気圧で動作するマイクロプラズマにも当てはまる。従来からのマイクロプ
ラズマ応用では、ガス系下流の開放された空間にプラズマ活性種を流して、サン
プルに照射してきた。プラズマ活性種は大気と混ざることになり、不可避的にラ
ンダムな現象が混入する。加工応用では、揺らぎを最小限にすることが求められ
るのに対して、ランダムな現象が混じることは問題である。
【０００３】
例えば、Ｙ形合流路を製作して２種のガスを導入すると、平行な層流からなる
流れ場となり、両者の界面が安定形成される。ガスの一つを大気圧プラズマによ
って活性化し、もう一つを励起されていない反応ガスとすると、両者が接して、
ガスが互いに衝突する界面においてのみ反応性プラズマが形成される。大気圧で
のガスの平均自由行程から、界面の厚みはｎｍレベルである。揺らぎの少ないプ
ラズマの性質を加工に応用すれば、優れた特性のエッチング、表面処理、および
デポジションが得られると期待される。
液体および気体のいずれにおいても、層流が安定して保持されることを応用し
て得られる流体界面を利用した技術は、例えば特許文献１から４、非特許文献１
から３に開示されている。
【０００４】
特許文献１では、液相反応における粒径１ｎｍから１μｍをもつナノ粒子の製
造方法が開示されている。マイクロ流路を利用すると、反応温度及び反応時間を
正確かつ容易に制御できる。具体的には、湯煎など加熱帯領域にマイクロ流路を
配置したり、マイクロ流路自体を加熱したりする。粒子製造用の前駆体を含有す
る溶液を連続的に供給しながら、所定の昇温速度で反応開始温度まで急熱して反
応させたのち、所定の冷却速度で急冷し易い。短時間で粒径バラツキの少ないナ
ノ粒子を連続的に製造する方法である。
特許文献２では、マイクロ流路内に、水と有機溶媒、気体と液体等、複数の不
混和性流体を流通させた場合、分離して層状に流れ易いことを利用している。流
路内壁に流路内部方向に突出し、かつ流路軸方向に延びた少なくとも一対の案内
板によって、複数の流体界面を更に安定化（曲がり部を有する場合であっても安
定化）できるマイクロ流路を開示している。このマイクロ流路は、流体の体積に
対する流体間の界面の面積を大きくできることから、界面反応の効率向上、界面
反応後の複数の不混和性流体の分離に有利となる。
【０００５】
特許文献３では、大気圧プラズマ電極の放電面の汚れを抑えることを目的とし
て、個別に仕切られた流路で導入する放電ガスと原料ガスを、極力混ざらないよ
うにして導入する装置が開示されている。各ガスが合流する箇所において、ガス
の対流や渦が無いような滑らかな流路とするガス供給口端部形状を示している。
部品はｍｍサイズであるが、装置構成を工夫するとガスが混ざり難くできること
を示している。
特許文献４では、大気圧プラズマを利用してデポジション加工する場合に、雰
囲気の大気に起因した不純物の膜への混入を極力少なくする（例えばＳｉ薄膜の
成膜において、酸素や水分を少なくする）技術が開示されている。プラズマ回り
に、反応ガスより供給量が多い不活性ガス（Ａｒ、Ｈｅなど）をカーテンガスと
して使用し、周辺雰囲気をパージしつつ、基板に向けて吹き出されたカーテンガ
スを排気ダクトにより吸引して排出する。部品サイズはｍｍであるが、装置構成
を工夫するとガスが混ざり難くできることを示している。
【０００６】
非特許文献１では、２種の液体をマイクロ流路に導入している。層流が形成さ
れる流路を三角形状とし、内部に屈折率の異なる液体を流すことで三角プリズム
を形成している。液体の供給速度と排出速度のバランスを取ることで、三角プリ
ズムの形状および角度、すなわち界面の位置や方向が制御できることを示してい
る。
非特許文献２では、２種の薬液による、ナイロン高分子膜を界面に合成する技
術を示している。Ｙ形合流路の下流部の幅２５０μｍのトレンチ中心に、薄膜が
合成されている。
非特許文献３では、先端口径が数μｍからサブμｍに細くしたガラス毛細管を
利用し、ガラス管内でＨｅガス大気圧プラズマを点灯し、５００ｎｍ程度の先端
穴からプラズマを照射した内容を述べている。フォトレジストに対して、幅５０
０から７００ｎｍのパターン幅を観察したことを述べている。ガラス管を通るガ
スが、微細な穴から流出する際の、ガス流速はｋｍ／ｓオーダである。
【０００７】
【特許文献１】「ナノ粒子製造方法」公表番号 : 特許公開２００３−２２５９００公開日: ２００３年８月１２日出願人 : 独立行政法人産業技術総合研究所
【特許文献２】「マイクロ流路」公表番号 : 特許公開２００６−２７２２３１公開日: ２００６年１０月１２日出願人 : 株式会社日立製作所
【特許文献３】「薄膜形成装置」公表番号 : 特許公開２００４−３５９７６公開日: ２００４年２月５日出願人 : コニカミノルタホールディングス株式会社
【特許文献４】「大気圧プラズマ処理装置」公表番号 : 特許公開２０１０−１０３１８８公開日: ２０１０年５月６日出願人 : 三菱電機株式会社
【非特許文献１】"An optofluidic prism tuned by twolaminar flows", S. Xiong, A. Q. Liu, L. K. Chin, Y. Yang, Lab on a Chip, Vol. 11(2011) pp.1864-1869.
【非特許文献２】"Chemico-Functional Membrane forIntegrated Chemical Processes on a Microchip", H. Hisamoto, Y.Shimizu, K. Uchiyama, M. Tokeshi, Y. Kikutani, A. Hibara, T. Kitamori, AnalyticalChemistry, Vol. 75 (2003) pp.350-354.
【非特許文献３】"Production of UltrafineAtmospheric Pressure Plasma Jet with Nano-capillary", R. Kakei, A.Ogino, F. Iwata, M. Nagatsu, Thin Solid Films Vol. 518 (2010) pp.3457-3460.
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
マイクロプラズマ応用においては一般に、ガス系下流の開放された空間に配置
されたサンプルにプラズマ活性なガスを流し照射している。従来、大気圧マイク
ロプラズマの照射領域を小さく絞ることで、処理領域の微細化が試みられてきた。
通常は、プラズマ源の一部品であるガラス管など、プラズマ活性種が出射される
ノズルを細くすることが試みられる。プラズマを照射する際には、ノズルからガ
スが流れ出すため、サンプルと密着させることは不可能である。サンプルとノズ
ルは離れて配置することになる。プラズマ活性種は、サンプルが配置される広い
空間に流れ出る。このため、プラズマ活性種は大気と混合しながら広がるととも
に、不可避的にランダムな現象が混入する。このため、サンプル加工の条件や場
所に乱れが混じる。ノズル出射口を狭めるだけでは、技術的な解決にならない。
以上から、加工揺らぎを小さくすることが原理的に難しい。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明によれば、マイクロ流路内部において、プラズマ励起された放電ガスと
励起されていない反応ガスの少なくとも２流体が合流し、上記流体界面で反応性
プラズマを形成するマイクロプラズマ源ユニットが得られる。放電ガスはＨｅや
Ａｒなどであり、大気圧プラズマを発生する。マイクロ流路のサイズは１００μ
ｍ程度である。内部気体流れのレイノルズ数を考える。発明者らは、幅２ｍｍ、
深さ１．２ｍｍの流路において、平均ガス流速Ｖが３ｍ／ｓで大気圧プラズマの
点火がし易いことを実験的に確認している。この流速のまま、マイクロ流路の代
表長さLを１００μｍまで小さくすると、室温での動粘度νが空気では１５ｘ１
０−６  ｍ２／ｓであることから、レイノルズ数Ｒｅ（＝ＶＬ／ν）は空気で２０
となる。低臨界レイノルズ数が２０００程度であることから、安定して層流が保
持される。流体の界面に対応するシート状の反応性プラズマが得られる。
また本発明によれば、マイクロ流路内部にサンプルの全体またはその一部を配
置することを特徴とするプラズマ加工処理を行うユニットが得られる。サンプル
の被加工部分がマイクロ流路内部に配置されることで、層流からなる安定な流れ
場の中にサンプルとプラズマを置くことができる。開放された空間に配置された
サンプルの場合とは異なり、プラズマ活性種は大気と混合しないため、ランダム
な現象が混入することなく、サンプルに照射する条件や場所が安定する。
また本発明によれば、流体界面でプラズマエッチング処理を行うユニットが得
られる。流体界面に形成されるシート状の反応性プラズマを、エッチング加工に
応用できる。サンプルとガスの組み合わせによって、様々なエッチング加工がで
きる。シート状の反応性プラズマが照射する領域で、エッチング反応が進むため、
シート状にサンプルがカットされることとなる。
また本発明によれば、流体界面で表面処理を行うユニットが得られる。流体界
面に形成されるシート状の反応性プラズマを、表面処理加工に応用できる。サン
プルとガスの組み合わせによって、様々な表面処理加工ができる。シート状の反
応性プラズマが照射する領域で、表面処理反応が進むため、シート状にサンプル
が親水化または疎水化したり、特定の原子や分子が吸着したりすることとなる。
また本発明によれば、流体界面でプラズマデポジション処理を行うユニットが
得られる。流体界面に形成されるシート状の反応性プラズマを、デポジション加
工に応用できる。ガスの組み合わせによって、デポジション加工ができる。シー
ト状の反応性プラズマは揺らぎの少ない反応場であり、高品質な反応生成物が得
られる。
また本発明によれば、マイクロ流路内部から外部にサンプルを出す、または外
部から内部にサンプルを入れる機構を持つユニットが得られる。デボジションに
よって得られた材料はマイクロ流路内部に蓄積されるため、これを外部に回収す
ることが、適切な機構を組み込むことで可能となる。また、ユニット外部にあっ
た微小サンプルを、マイクロ流路内部に配置することによって、サンプル周囲の
流れを、安定な層流からなる流れ場にできる。エッチングや表面処理加工を行っ
た後に外部に取り出すことが可能となる。
また本発明によれば、流体界面とサンプルの位置関係を調節する機構を持つユ
ニットが得られる。例えば、エッチング加工を１度行うと、サンプルにはシート
状の跡ができる。この位置に対して正確に変位させた位置に、別のシート状の跡
が形成できる。マイクロ流路内部において、界面が形成される位置を任意に調整
できると、位置決め誤差が少ない正確な複数個所の加工が可能となる。
また本発明によれば、内部もしくは外部において、対象物（サンプルもしくは
反応生成物）の温度調整機構を持つユニットが得られる。エッチング、表面処理、
およびデポジション反応のいずれにおいても、場の温度は反応結果に大きな影響
を与える。また、反応を局所的に発生させるには、その場所だけを適切な温度に
することで、不要な反応が発生することを抑制できる。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、安定な層流条件を利用することで、ランダムな現象が混入す
ることの無い反応性プラズマ処理ができるマイクロプラズマ源ユニットが得られ
る。従来からの開放型プラズマ処理装置と比べると、サンプルの全体またはその
一部の大きさがマイクロ流路内部に入る程度に小さいことが必要条件になる。そ
の代わりに、揺らぎの少ない安定化した流体の流れ場が得られる。少なくとも２
流体を混合することで、両者の界面を安定して得ることができる。大気圧では、
反応性プラズマの領域は、平均自由行程程度の厚みのｎｍレベルである。シート
状の反応性プラズマが得られる。これによるエッチング、表面処理、およびデポ
ジション加工が可能である。マイクロ流路の特定位置に制御した形で、揺らぎの
少ないプラズマ加工処理が実現できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。図は例示
であり、プラズマ源ユニットを構成する、ガス流路の形状、配置、材料などは限
定されるものではない。
図１は本発明の実施の形態による、プラズマ励起された放電ガスと励起されて
いない反応ガスの少なくとも２流体が合流し、上記流体界面で反応性プラズマを
形成するマイクロプラズマ源ユニットの概略図である。１はプラズマ励起された
放電ガス（例えば、Ｈｅ 、Ａｒ）である。プラズマ励起用の機構８にはマイクロ
プラズマ源（例えば、特許公開２０１１−２４９２８９の浮遊電極を持つ誘導結
合型マイクロプラズマ源）が利用できる。２は励起されていない反応ガス（例え
ば、ＳＦ６、ＣＦ４などのＣｘＦｙ（ｘ、ｙは自然数）、Ｏ２、ＣＨ４、Ｃ２Ｈ４）であ
る。Ｙ形のマイクロ流路３によって、上記ガス１と２が合流する。マイクロ流路
内部では流体が層流（非乱流状態）となって流れ、２流体が分離したまま流れる
層流とすることができる。両ガスの流量と圧力が同じであれば、対称な流れ場と
なり、中心位置で２つのガスは接して界面を持つ。界面においては、プラズマ励
起されたガス１と、励起されていない反応ガス２との衝突が発生し、ガス２が励
起される。従って、界面にて励起された反応ガスにより、シート状の反応性プラ
ズマ４が形成される。シートの位置や形状は、ガス流路の形状、２流体の供給量
や圧力や排出量、大気圧プラズマなどの電気的条件、によって制御できる。１つ
のシートだけでなく複数のシートを形成することも可能である。時間的に条件を
切り替えることにより流路断面で形成する、ガス流れと共に移動する、シートを
形成することもできる。サンプルを配置する場所は、ガス流路内部で任意である。
流体がマイクロ流路内で合流する、界面の安定性の質が重要となる。応用によ
っては、流路を更に小さくして、レイノルズ数をより下げることができる。例え
ば幅１００μｍの流路を、より小さくして１０μｍにするなどである。他にも、
ガス流れの乱れを生じないように、流路の表面粗さを小さくしたり、Ｙ形合流部
の角部を先鋭化したりする技術が利用できる。以上を合わせて、揺らぎの抑制が
可能である。
【００１２】
図２は本発明の実施の形態による、マイクロ流路内部にサンプルの全体または
その一部を配置することを特徴とするプラズマ加工処理を行うユニットの概略図
である。サンプル配置位置が流路３の中流の例である（上流、下流でも同様の機
構を導入できる）。右側は、マイクロ流路内部にサンプル５を入れる、またはサン
プルを出す機構６である。サンプルがマイクロ流路内部に入る大きさであるため、
サンプル周囲は層流が保たれる。かつ、２流体の界面のシート状の反応性プラズ
マ４を、サンプルを横切る面に形成することができる。
ガスとサンプルの組み合わせによって、プラズマエッチング処理を行うことが
できる。シートにより、サンプルをある断面でカットできる。例えば、放電ガス
１をＡｒ、反応ガス２をＳＦ６、サンプル５をＳｉとすると、シート状の反応性
プラズマ４の位置で、サンプルをエッチングできる。シートにより、サンプルを
ある断面でカットできる。
また別に、表面処理を行うことができる。シートにより、サンプル表面の性質
を変更できる。放電ガス１をＡｒ、反応ガス２をＯ２、サンプル５を細胞とする
と、シート状の反応性プラズマ４の位置で、細胞膜を表面処理できる。
また別に、ガスの組み合わせによって、プラズマデポジション処理を行うこと
ができる。シートにより、サンプル５のある面に反応生成物を堆積できる。放電
ガス１をＡｒ、反応ガス２をＣＨ４とすると、シート状の反応性プラズマ４の位
置で、ダイヤモンドライクカーボンをポジション処理できる。
サンプルを出し入れする機構６は、マイクロアクチュエータ等によって実現で
きる。マイクロ流路とアクチュエータ側の隙間には、ガス流れが生じない（流量
０となる）ように封じ込めることで、シート状の反応性プラズマへの影響を最小
にできる。シート状の反応性プラズマの位置は、調節することができる。流体１
および２の供給量や圧力や排出量を制御することで、界面位置が変更できる。サ
ンプル位置を変更することでも、シート状の反応性プラズマとの相対位置を変更
することができる。マイクロ流路内部にサンプルを入れる、またはサンプルを出
すアクチュエータをマイクロ流路内部の範囲で駆動することで位置調節が可能で
ある。
サンプルを出し入れする機構には温度調節機構７を組み込むことができる。こ
の機構とサンプルは接触しているため、サンプルの温度を調節できる。これによ
り、エッチング、表面処理、デポジション反応を適切に行うことができる。
【００１３】
図３は本発明の実施の形態による、マイクロ流路内部から外部にサンプルを出
す機構を持つユニットの概略図である。２流体が合流し、上記流体界面で反応性
プラズマによるデポジションが進む。反応生成物はナノ粒子やシート状の反応物
等である。これらのサンプル５を、マイクロ流路３の下流側にあるマイクロ流路
内部から外部にサンプルを出す機構６によって連続的に取り出すことができる。
プラズマデポジションが進むマイクロ流路、またはユニット全体には温度調節
機構７を組み込むことができる。これによりデポジション反応を適切な環境で進
めることが可能となる。マイクロ流路のように、熱容量の小さな部品の温度制御
は、省エネルギーで行えると共に、急峻な温度勾配領域を形成することが可能で
ある。これにより、僅かな反応容積の中で、効率的なデポジション反応を進める
ことができる。
【００１４】
図４は本発明の実施の形態による、マイクロ流路内部にサンプルの全体または
その一部を配置することを特徴とするプラズマ加工処理を行うユニットの概略図
である。マイクロ流路３の下流部において、サンプル５が配置されている。サン
プルはマイクロ流路よりも大きくても良く、マイクロ流路の出射口に近接配置さ
れる。このため、流体およびシート状の反応性プラズマ４は僅かな隙間を通って
サンプルに照射する。流体にとっての特性長を、マイクロ流路の特性長と同程度
に小さくできるため、層流条件を維持することが可能である。これによりシート
状の反応性プラズマによる処理をサンプルに施すことが可能である。エッチング、
表面処理、デポジションのいずれも可能である。サンプルがユニットと固定され
る必要が無いため、サンプルをユニットに対して走査することができる。走査機
構は、マイクロ流路内部からサンプルを出したり、内部にサンプルを入れたりす
る機構６としての機能を果たす。これにより連続的にサンプルの加工が可能であ
る。
また、図では隙間があることを示しているが、ユニットのマイクロ流路から離
れた部分にサンプル側のステージと密着する部分を用意することも可能である。
Ｏリング等を介して密着部からガスが四方に漏れ出すことを防ぎ、構造として用
意した下流部からガスが流れ出るように流路を用意することも可能である。下流
部も含めて、非乱流条件に制御し易く、層流条件を安定して実現できる。この場
合にはプラズマ処理の範囲は限定されるが、ランダムな現象が混入することを確
実に抑えることができる。加工は、サンプル側のステージにユニットを固定配置
し、流れ場を形成し、プラズマ点灯によるシート状の反応性プラズマ形成、プラ
ズマ消灯、サンプルに対するユニット場所の変更という、一連の処理を繰り返す
こととなる。シート状の反応性プラズマの位置調節は、流体条件を変更すること
によっても可能である。
また、サンプル側のステージには、温度調整機構７を組み合わせることが可能
である。これにより、エッチング、表面処理、およびデポジション反応を適切に
行うことができる。
【産業上の利用可能性】
【００１５】
プラズマ領域の一部もしくは全てがｃｍを下回る、マイクロプラズマ源には、
多くの種類が報告されている。圧力が高くなると、小さなサイズでもプラズマ点
灯に有利となる。圧力に応じた、高密度なプラズマが得られる。中でも大気圧プ
ラズマは、低圧プラズマの場合に必須であった真空チャンバーが不要になること
から装置が簡単で安価になり、真空引きが要らないことからプロセス時間が短く
できる。これまで、開放された空間に置かれた、大きな部品を対象として発展し
てきた。例えば、プラスチック容器への水性塗料印字を可能にするための表面処
理、医療用メスの硬化処理、食物の殺菌などである。
対して、細胞のように、小さな空間に配置できるサンプルがある。一般的な細
胞のサイズは１０μｍである。細胞壁に反応性プラズマを照射し、特定領域を活
性化するなどの処理である。放電ガスに、ＡｒやＨｅを利用し、反応ガスにＯ２
を利用すると、反応性酸素プラズマのシートが、細胞の特定領域の殺菌やクリー
ニング処理をすることになる。また、微細な部品としては、Ｓｉ材料を多く使う
ＩＣやＭＥＭＳ（Ｍｉｃｒｏ  Ｅｌｅｃｔｒｏ Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  Ｓｙｓｔ
ｅｍｓ）チップがある。反応ガスにＳＦ６を利用できる。これらにシート状の反
応性プラズマを照射すると、シート状にカットされたＳｉチップを製作できる。
ボールレンズを半分にカットすれば半球レンズが製作できる。デポジションによ
って得られる材料例としては、カーボンナノチュープ、グラフェン、ダイヤモン
ドライクカーボンなどがある。反応ガスにはＣＨ４、Ｃ２Ｈ６、Ｃ２Ｈ２などが利用
できる。粉状で、マイクロ流路内部に溜まる材料を、外部に取り出して利用でき
る。
上記処理のいずれにおいても、ガス流れの性質を利用し、揺らぎを少なくでき
ると優れた特性を得ることが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の実施の形態による、プラズマ励起された放電ガスと励起されていない反応ガスの少なくとも２流体が合流し、上記流体界面で反応性プラズマを形成するマイクロプラズマ源ユニットの概略図である。
【図２】本発明の実施の形態による、マイクロ流路内部にサンプルの全体またはその一部を配置することを特徴とするプラズマ加工処理を行うユニットの概略図である。
【図３】本発明の実施の形態による、マイクロ流路内部から外部にサンプルを出す機構を持つユニットの概略図である。
【図４】本発明の実施の形態による、マイクロ流路内部にサンプルの一部を配置することを特徴とするプラズマ加工処理を行うユニットの概略図である。
【符号の説明】
【００１７】
１・・・放電ガス
２・・・反応ガス
３・・・マイクロ流路
４・・・シート状の反応性プラズマ
５・・・サンプル
６・・・マイクロ流路内部にサンプルを入れる、またはサンプルを出す機構、両矢印は移動方向の例
７・・・温度調節機構（ヒータやペルチェ素子、および温度センサなど）
８・・・プラズマ励起用の機構
【図１】
2013191471.tif 000003
【図２】
2013191471.tif 000004
【図３】
2013191471.tif 000005
【図４】
2013191471.tif 000006