(57)【要約】      （修正有）【課題】耐溶剤性に優れた赤外線反射フィルムを提供する。【解決手段】かかる赤外線反射フィルムは、基材の一方の面に反射層及び保護層を順に積層した赤外線反射フィルムであって、保護層は、下式の繰り返し単位Ａ、Ｂ及びＣのうち、少なくともいずれか二つ以上の繰り返し単位を含む高分子同士が架橋構造を有する層であり、架橋構造は、高分子に対して５〜３５重量％添加された（メタ）アクリレート系のラジカル重合型モノマーとそれぞれの高分子とが結合している構造である。2013145357.tif 000008【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材の一方の面に反射層及び保護層を順に積層した赤外線反射フィルムであって、
保護層は、下記化学式Ｉの繰り返し単位Ａ、Ｂ及びＣのうち、少なくともいずれか二つ以上の繰り返し単位を含む高分子同士が架橋構造を有する層であり、
該架橋構造は、該高分子に対して５〜３５重量％添加された（メタ）アクリレート系のラジカル重合型モノマーとそれぞれの高分子とが結合している構造である
赤外線反射フィルム。
【化１】
2013145357.tif 000007
【請求項２】
前記架橋構造は、前記保護層への電子線の照射により形成される請求項１に記載の赤外線反射フィルム。
【請求項３】
前記保護層側表面の垂直放射率が０．２０以下である請求項１又は請求項２に記載の赤外線反射フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、可視光領域において高い透過性を有し且つ赤外光領域において高い反射性を有する赤外線反射フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
赤外線反射フィルムは、主に、放射される太陽光の熱影響を抑制するために用いられる。例えば、建物や自動車等の窓ガラスに赤外線反射フィルムを貼ることで、窓ガラスを通って室内に入射される赤外線（特に近赤外線）を遮蔽し、室内の温度上昇を抑制し、これにより、冷房の消費電力を抑制して省エネルギー化を図ることができる。
【０００３】
赤外線の反射には、金属や金属酸化物の積層構造による赤外線反射層が用いられる。しかしながら、金属や金属酸化物は耐擦傷性が低い。そのため、赤外線反射フィルムでは、赤外線反射層の上に保護層を設けるのが一般的である。例えば、特許文献１には、ポリアクリロニトリル（ＰＡＮ）を保護層の材料として用いることが開示されている。ポリアクリロニトリルのような高分子は、赤外線の吸収率が低く、室内から透光性部材を通って外に出射される遠赤外線を遮蔽できることから、冬期や室外の温度が低下する様な夜間での断熱効果による省エネルギー化も図ることができる。
【０００４】
ポリアクリロニトリルのような高分子を保護層の材料として用いる場合、保護層は、まず、高分子を溶剤に溶解させて溶液を調製し、この溶液を赤外線反射層の上に塗布し、次いで、溶液を乾燥させる（溶剤を揮発させる）、という手順で形成される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特公昭６１−５１７６２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、この種の赤外線反射フィルムは、保護層が表側となるように建物や自動車等の窓ガラスに貼られる。従って、保護層の表面には、時間が経過するほどに汚れ等が付着していく。汚れ等を除去するためには、保護層の表面を例えば洗浄液を用いて清掃すればよい。しかしながら、洗浄液には各種の有機溶剤が含まれていることが多い。そして、洗浄液に含まれる少なくとも一部の有機溶剤が保護層に含まれる高分子を可溶な溶剤である場合、洗浄時に保護層が溶出し、耐擦傷性の低い赤外線反射層が露出してしまう、という問題が生じる。
【０００７】
そこで、本発明は、かかる事情に鑑みてなされたもので、耐溶剤性に優れた赤外線反射フィルムを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明に係る赤外線反射フィルムは、
基材の一方の面に反射層及び保護層を順に積層した赤外線反射フィルムであって、
保護層は、下記化学式Ｉの繰り返し単位Ａ、Ｂ及びＣのうち、少なくともいずれか二つ以上の繰り返し単位を含む高分子同士が架橋構造を有する層であり、
該架橋構造は、該高分子に対して５〜３５重量％添加された（メタ）アクリレート系のラジカル重合型モノマーとそれぞれの高分子とが結合している構造である。
【化１】
2013145357.tif 000002
【０００９】
ここで、本発明に係る赤外線反射フィルムの一態様として、前記架橋構造は、前記保護層への電子線の照射により形成される、ようにすることができる。
【００１０】
また、本発明に係る赤外線反射フィルムの他態様として、前記保護層側表面の垂直放射率が０．２０以下である、ようにすることができる。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、耐溶剤性に優れた赤外線反射フィルムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の一実施形態に係る赤外線反射フィルムの積層構造を説明するための概要図を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明の一実施形態に係る赤外線反射フィルムについて説明する。なお、本実施形態に係る赤外線反射フィルムは、従来の赤外線反射フィルムが持つ遮熱特性（近赤外線の反射特性）に加え、断熱特性（遠赤外線の反射特性）を併せ持つ赤外線反射フィルムである。
【００１４】
本実施形態に係る赤外線反射フィルムは、図１に示す如く、基材１の一方の面１ａに、反射層２及び保護層３をその順に積層し、他方の面１ｂに粘着層４を設けた層構造となっている。
【００１５】
基材１は、ポリエステル系フィルムが用いられ、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリシクロヘキシレンメチレンテレフタレート、あるいはこれらを２種以上組み合わせた混合樹脂からなるフィルムが用いられる。なお、これらの中で、性能面から、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムが好ましく、特に２軸延伸ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムが好適である。
【００１６】
反射層２は、基材１の表面（一方の面）１ａに蒸着により形成される蒸着層である。該蒸着層の形成方法としては、例えば、スパッタリング、真空蒸着、イオンプレーティング等の物理蒸着（ＰＶＤ）がある。ここで、真空蒸着においては、真空中で抵抗加熱、電子ビーム加熱、レーザ光加熱、アーク放電等の方法で蒸着物質を加熱蒸発させることで、基材１上に反射層２が形成される。また、スパッタリングにおいては、アルゴン等の不活性ガスが存在する真空中で、グロー放電等により加速されたＡｒ+等の陽イオンをターゲット（蒸着物質）に撃突させて蒸着物質をスパッタ蒸発させることで、基材１上に反射層２が形成される。イオンプレーティングは、真空蒸着とスパッタリングとを組み合わせた形態の蒸着法である。この方法では、真空中において、加熱により放出された蒸発原子を、電界中でイオン化と加速を行い、高エネルギー状態で基材１上に付着させることで、反射層２が形成される。
【００１７】
反射層２は、半透明金属層２ａを一対の金属酸化物層２ｂ，２ｃで挟み込んだ複層構造となっており、上記蒸着層の形成方法を用い、まず、基材１の表面（一方の面）１ａに金属酸化物層２ｂを蒸着し、次に、金属酸化物層２ｂ上に半透明金属層２ａを蒸着し、最後に、半透明金属層２ａ上に金属酸化物層２ｃを蒸着して形成される。半透明金属層２ａは、例えば、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、銀合金（ＭｇＡｇ、Ａｇ−Ｐｄ−Ｃｕ合金（ＡＰＣ）、ＡｇＣｕ、ＡｇＡｕＣｕ、ＡｇＰｄ、ＡｇＡｕ等）、アルミニウム合金（ＡｌＬｉ、ＡｌＣａ、ＡｌＭｇ等）、あるいはこれらを２種又は２層以上組み合わせた金属材料が用いられる。金属酸化物層２ｂ，２ｃは、反射層２に透明性を付与し、半透明金属層２ａの劣化を防止するためのものであり、例えば、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウムチタン（ＩＴ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化ガリウム亜鉛（ＧＺＯ）、酸化アルミニウム亜鉛（ＡＺＯ）、酸化ガリウムインジウム（ＩＧＯ）等の酸化物が用いられる。
【００１８】
保護層３は、下記化学式Ｉの繰り返し単位Ａ、Ｂ及びＣのうち、少なくともいずれか二つ以上の繰り返し単位を含む高分子を含む層である。化学式Ｉ中のＲ１として、Ｈやメチル基を用いることができる。また、化学式Ｉ中のＲ２〜Ｒ５として、Ｈ、炭素数が１〜４のアルキル基又はアルケニル基を用いることができる。ちなみに、繰り返し単位Ａ、Ｂ及びＣで構成され、Ｒ１〜Ｒ５としてＨを用いたものは、水素化ニトリルゴム（ＨＮＢＲ）である。
【化１】
2013145357.tif 000003
【００１９】
これらの高分子を得るためのモノマー成分としては、例えば、化学式IIで示すようなアクリロニトリル（繰り返し単位Ｄ）及びその誘導体、炭素数が４のアルキル（繰り返し単位Ｅ）及びその誘導体、並びに、ブタジエン（繰り返し単位Ｆ１又はＦ２）及びそれらの誘導体の共重合体等が挙げられる。ここで、Ｒ６は、Ｈ又はメチル基、Ｒ７〜Ｒ１８は、Ｈ又は炭素数が１〜４のアルキル基を示す。なお、Ｆ１，Ｆ２のそれぞれは、ブタジエンが重合する繰り返し単位を示しており、Ｆ１がメインの繰り返し単位となっている。また、これらの高分子は、化学式IIのアクリロニトリル（繰り返し単位Ｄ）及びその誘導体、１，３−ブタジエン（繰り返し単位Ｆ１）及びその誘導体の共重合体であるニトリルゴムや、ニトリルゴム中に含まれる二重結合の一部又は全部が水素化された水素化ニトリルゴムであってもよい。
【化２】
2013145357.tif 000004
【００２０】
上記共重合体を部分的に切り出した化学式IIIを用いて、アクリロニトリル、ブタジエン及びアルキルが重合された共重合体と、それぞれの繰り返し単位Ａ、Ｂ及びＣとの関係を説明する。化学式IIIは、保護層３に用いられる高分子鎖の一部を切り出しており、１，３−ブタジエン（繰り返し単位Ｆ１）、アクリロニトリル（繰り返し単位Ｄ）、及び１，３−ブタジエン（繰り返し単位Ｆ１）が順に結合されている。なお、化学式IIIはＲ７，Ｒ１１〜Ｒ１４がＨの結合例を示している。化学式IIIは、左側のブタジエンにはアクリロニトリルのシアノ基（−ＣＮ）が結合された側が結合しており、アクリロニトリルのシアノ基（−ＣＮ）が結合していない側に右側のブタジエンが形成されている。この様な結合例においては、１個の繰り返し単位Ａ、１個の繰り返し単位Ｂ、及び２個の繰り返し単位Ｃが含まれている。この中で、繰り返し単位Ａは左側のブタジエンの右側の炭素原子とアクリロニトリルのシアノ基（−ＣＮ）とが結合した炭素原子を含んでおり、繰り返し単位Ｂはアクリロニトリルのシアノ基（−ＣＮ）が結合していない炭素原子と右側のブタジエンの左側の炭素原子とを含んだ組合せである。そして、左側のブタジエンの一番左側の炭素原子と、右側のブタジエンの一番右側の炭素原子は、結合する分子の種類により繰り返し単位Ａまたは繰り返し単位Ｂの一部の炭素原子となる。
【化３】
2013145357.tif 000005
【００２１】
かかる保護層３は、上述した高分子を架橋剤とともに溶剤に溶解させて溶液を調製し、この溶液を反射層２の上に塗布し、次いで、溶液を乾燥させる（溶剤を揮発させる）、という手順で形成される。溶剤は、上述した高分子を可溶な溶剤であり、例えば、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、塩化メチレン（ジクロロメタン）等の溶剤が用いられる。なお、メチルエチルケトンや塩化メチレンは、低沸点の溶剤（メチルエチルケトンは７９．５℃、塩化メチレンは４０℃）である。従って、これらの溶剤を用いると、低い乾燥温度で溶剤を揮発させることができるため、基材１（や反射層２）が熱ダメージを受けることはない。
【００２２】
保護層３の厚さは、下限値としては、１μｍ以上である。好ましくは、３μｍ以上である。また、上限値としては、２０μｍ以下である。好ましくは、１５μｍ以下である。より好ましくは、１０μｍ以下である。保護層３の厚さが小さいと、赤外線の反射特性は高くなるものの、耐擦傷性が損なわれ、保護層３としての機能を十分に発揮することができない。保護層３の厚さが大きいと、赤外線反射フィルムの断熱特性が悪くなる。保護層３の厚さが上記範囲内であれば、赤外線の吸収が小さく且つ反射層２を適切に保護することができる保護層３が得られる。
【００２３】
なお、垂直放射率とは、ＪＩＳ  Ｒ３１０６で規定される通り、垂直放射率（εｎ）＝１−分光反射率（ρｎ）で表わされる。分光反射率ρｎは、常温の熱放射の波長域５〜５０μｍで測定される。５〜５０μｍの波長域は遠赤外線領域であり、遠赤外線の波長域の反射率が高くなるほど、垂直放射率は小さくなる。
【００２４】
また、化学式Ｉ中のｋとｌとｍの比率は、ｋ：ｌ：ｍ＝５〜５０重量％：２５〜８５重量％：０〜６０重量％（但し、ｋとｌとｍの合計は１００重量％）となるのが好ましい。より好ましくは、ｋ：ｌ：ｍ＝１５〜４０重量％：５５〜８５重量％：０〜２０重量％（但し、ｋとｌとｍの合計は１００重量％）である。さらに好ましくは、ｋ：ｌ：ｍ＝２５〜４０重量％：５５〜７５重量％：０〜１０重量％（但し、ｋとｌとｍの合計は１００重量％）である。
【００２５】
ところで、保護層３に良好な耐溶剤性を付与する観点から、保護層３は、高分子同士の架橋構造を有する。高分子同士を架橋させることにより、保護層３の耐溶剤性が向上するため、高分子を可溶な溶剤が保護層３に接触した場合であっても、保護層３が溶出するのを防止することができる。
【００２６】
高分子同士に架橋構造を付与する手段としては、溶液を乾燥させた後に、電子線を照射することが挙げられる。また、高分子を溶剤に溶解させる際に、あるいは、高分子を溶剤に溶解させた後に、ラジカル重合型モノマー等の多官能モノマーといった架橋剤を添加することが好ましい。多官能モノマーを添加すると、多官能モノマーに含まれる官能基がそれぞれの高分子鎖と反応（結合）することにより、高分子同士が（多官能モノマーを介して）架橋されやすくなる。従って、電子線の積算照射線量を（５０ｋＧｙ程度に）引き下げても高分子同士の十分な架橋を得ることができる。そのため、電子線の積算照射線量を低照射線量で済ませることができる。また、電子線の積算照射線量が低下することで、高分子や基材１の黄変をさらに抑制することができ、しかも、生産性を向上させることができる。
【００２７】
電子線の積算照射線量は、下限値としては、３０ｋＧｙ以上である。また、上限値としては、６００ｋＧｙ以下である。好ましくは、４００ｋＧｙ以下である。より好ましくは、２００ｋＧｙ以下である。なお、積算照射線量とは、電子線を１回照射する場合であれば、その照射線量をいい、電子線を複数回照射する場合であれば、その照射線量の合計をいう。電子線の１回の照射線量は、３００ｋＧｙ以下であるのが好ましい。電子線の積算照射線量が上記範囲内であれば、高分子同士の十分な架橋を得ることができる。また、電子線の積算照射線量が上記範囲内であれば、電子線の照射によって発生する高分子や基材１の黄変を最小限に抑えることができ、着色の少ない赤外線反射フィルムを得ることができる。なお、これら電子線の照射条件は、加速電圧が１５０ｋＶでの照射条件である。
【００２８】
以上の構成からなる本実施形態に係る赤外線反射フィルムによれば、反射層２上の層構造の厚み、即ち、保護層３の厚みを少なくすることで、（反射層２を基準とした）保護層３側表面の垂直放射率が小さくなっている。また、特に、遠赤外線を吸収しにくく、透過しやすいニトリルゴム、水素化ニトリルゴム、完全水素化ニトリルゴムなどを保護層３に用いれば、それによっても垂直放射率は小さくなる。これにより、遠赤外線は、保護層３に入射されても保護層３に吸収されにくく、反射層２に到達し、その結果、反射層２で反射されやすくなる。従って、本実施形態に係る赤外線反射フィルムを窓ガラス等の透光性部材に室内側から貼っておくことで、室内から透光性部材を通って外に出射される遠赤外線を遮蔽することができ、これにより、冬季や室内の温度が低下する夜間での断熱効果が期待できる。本実施形態に係る赤外線反射フィルムでは、その目的のために、保護層３側表面の垂直放射率が０．２０以下に設定される。より好ましくは、垂直放射率が０．１５以下である。
【００２９】
また、本実施形態に係る赤外線反射フィルムによれば、可視光線透過率（ＪＩＳ  Ａ５７５９参照）を高くすることで、透光性部材の透光性が阻害されることはない。本実施形態に係る赤外線反射フィルムでは、その目的のために、可視光線透過率が５０％以上に設定される。
【００３０】
また、近赤外線は、（粘着層４及び）基材１に入射されても（粘着層４及び）基材１に吸収されにくく、反射層２に到達し、その結果、反射層２で反射されやすくなる。従って、本実施形態に係る赤外線反射フィルムを窓ガラス等の透光性部材に室内側から貼っておくことで、窓ガラス等の透光性部材を通って室内に入射される近赤外線を遮蔽することができ、これにより、従来の赤外線反射フィルムと同様、夏季での遮熱効果が期待できる。本実施形態に係る赤外線反射フィルムでは、その目的のために、（反射層２を基準とした）基材１側表面から光を入射させたときの日射透過率（ＪＩＳ  Ａ５７５９参照）が６０％以下に設定される。
【００３１】
そして、本実施形態に係る赤外線反射フィルムによれば、上述の如く、保護層３に良好な耐溶剤性が付与されている。即ち、保護層３における高分子同士を架橋することで、保護層３の耐溶剤性が向上している。これにより、高分子を可溶な溶剤が保護層３に接触した場合であっても、保護層３が溶出するのを防止することができ、そのため、赤外線反射層が露出することによって耐擦傷性が低下するのを防止することができる。本実施形態に係る赤外線反射フィルムでは、その目的のために、メチルエチルケトンに対する溶解性試験後のゲル分率が６５％以上に設定される。但し、好ましくは、７０％以上である。より好ましくは、７５％以上である。さらにより好ましくは、８０％以上である。これらは後述する各種の実施例の試験結果によって明らかにされる。
【実施例】
【００３２】
ここで、本発明者らは、本実施形態に係る赤外線反射フィルムを作製し（実施例）、併せて、比較用の赤外線反射フィルムを作製し（比較例）、それらに対して耐溶剤性試験を行った。また、本発明者らは、それらの垂直放射率を測定した。
【００３３】
実施例、比較例ともに作製方法は次のとおりである。厚みが５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（三菱樹脂株式会社製  商品名「ダイアホイル  Ｔ６０２Ｅ５０」）を基材１として用いた。この基材１の一方の面１ａにＤＣマグネトロンスパッタ法により反射層２を形成した。詳しくは、ＤＣマグネトロンスパッタ法を用い、基材１の一方の面１ａに酸化インジウム錫からなる金属酸化物層２ｂを３５ｎｍの厚みで形成し、その上にＡｇ−Ｐｄ−Ｃｕ合金からなる半透明金属層２ａを１８ｎｍの厚みで形成し、その上に酸化インジウム錫からなる金属酸化物層２ｃを３５ｎｍの厚みで形成し、これを反射層２とした。そして、この反射層２の上に塗工法により保護層３を形成した。なお、保護層３の詳細な形成条件は、それぞれ実施例、比較例の説明において詳述する。
【００３４】
耐溶剤性試験は、次のとおりである。まず、保護層１００ｍｇをテフロン（登録商標）膜で包んだものを用意した。それをメチルエチルケトンの溶剤に浸漬させた。浸漬期間は１週間とした。その後、１１０℃で２時間乾燥させた。そして、乾燥後、それぞれの重量を測定し、溶剤浸漬前後の重量変化からゲル分率を算出した。算出式は次のとおりである。
ゲル分率(％) ＝ (溶剤浸漬後の重量(g)／溶剤浸漬前の重量(g)) × 100
【００３５】
垂直放射率の測定方法は、次のとおりである。角度可変反射アクセサリを装着したフーリエ変換型赤外分光（ＦＴ−ＩＲ）装置（Ｖａｒｉａｎ社製）を用いて、波長５ミクロン〜２５ミクロンの赤外光の正反射率を測定し、ＪＩＳ Ｒ ３１０６−２００８（板ガラス類の透過率・反射率・放射率・日射熱取得率の試験方法）に準じて求めた。
【００３６】
なお、保護層２の厚みは、ダイヤルゲージ（株式会社ニコン製  製品名「ＤＩＧＩＭＩＣＲＯ  ＳＴＡＮＤ  ＭＳ−１１Ｃ」）を用いて測定した。
【００３７】
＜実施例１＞
水素化ニトリルゴム（ランクセス社製  商品名「テルバン５０６５」〔ｋ：３３．３、ｌ：６３、ｍ：３．７、Ｒ１〜Ｒ５：Ｈ〕）１０重量％とメチルエチルケトン（和光純薬工業株式会社製）９０重量％を混合し、撹拌溶解を８０℃の温度で５時間行い、水素化ニトリルゴムをメチルエチルケトンの溶剤に溶解させ、溶液を調製した。そして、この溶液に（メタ）アクリレート系モノマー（トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）：アクリル系の３官能モノマー）（大阪有機化学工業株式会社製  商品名「ビスコート♯２９５」）を水素化ニトリルゴムの固形分に対して５重量％添加した。
そして、この溶液を反射層２の上にアプリケーターを用いて塗布し、空気循環式の乾燥オーブンに入れ、１００℃で５分間乾燥を行った。これにより、厚さが５μｍの保護層３を形成した。
その後、電子線照射装置（岩崎電気株式会社製  製品名「ＥＣ２５０／３０／２０ｍＡ」）を用いて保護層３の表面側から電子線を照射し、実施例１に係る赤外線反射フィルムを得た。電子線の照射条件は、ライン速度を３ｍ／ｍｉｎ、加速電圧を１５０ｋＶ、積算照射線量を５０ｋＧｙとした。
【００３８】
＜実施例２＞
アクリレート系モノマーの添加量を水素化ニトリルゴムの固形分に対して１０重量％とした点以外は、実施例１と同じである。
【００３９】
＜実施例３＞
アクリレート系モノマーの添加量を水素化ニトリルゴムの固形分に対して２０重量％とした点以外は、実施例１と同じである。
【００４０】
＜実施例４＞
アクリレート系モノマーの添加量を水素化ニトリルゴムの固形分に対して３０重量％とした点以外は、実施例１と同じである。
【００４１】
＜比較例１＞
アクリレート系モノマーの代わりに、ブタジエン系モノマー（日本曹達株式会社製  商品名「Ｂ−１０００」）を用いた点以外は、実施例１と同じである。
【００４２】
＜比較例２＞
ブタジエン系モノマーの添加量を水素化ニトリルゴムの固形分に対して１０重量％とした点以外は、比較例１と同じである。
【００４３】
＜比較例３＞
ブタジエン系モノマーの添加量を水素化ニトリルゴムの固形分に対して２０重量％とした点以外は、比較例１と同じである。
【００４４】
＜比較例４＞
アクリレート系モノマーの代わりに、シアヌレート系モノマー（エボニック デグサ ジャパン株式会社製  商品名「ＴＡＩＣＲＯＳ（登録商標）」）を用いた点以外は、実施例１と同じである。
【００４５】
＜比較例５＞
シアヌレート系モノマーの添加量を水素化ニトリルゴムの固形分に対して１０重量％とした点以外は、比較例４と同じである。
【００４６】
＜比較例６＞
シアヌレート系モノマーの添加量を水素化ニトリルゴムの固形分に対して２０重量％とした点以外は、比較例４と同じである。
【００４７】
＜比較例７＞
アクリレート系モノマーの代わりに、アリルアミン系モノマー（和光純薬工業株式会社製  商品名「トリアリルアミン」）を用いた点以外は、実施例１と同じである。
【００４８】
＜比較例８＞
アリルアミン系モノマーの添加量を水素化ニトリルゴムの固形分に対して１０重量％とした点以外は、比較例７と同じである。
【００４９】
＜比較例９＞
アリルアミン系モノマーの添加量を水素化ニトリルゴムの固形分に対して２０重量％とした点以外は、比較例７と同じである。
【００５０】
＜比較例１０＞
モノマーを添加しない点以外は、実施例１と同じである。
【００５１】
＜比較例１１＞
モノマーを添加しない点、及び、電子線を照射しない点以外は、実施例１と同じである。
【００５２】
＜比較例１２＞
アクリレート系モノマーの代わりに、カチオン重合系モノマーであるグリシジルエーテル系モノマー（三菱樹脂株式会社製  商品名「エピコート８２８」）を用いた点、その添加量を水素化ニトリルゴムの固形分に対して１０重量％とした点以外は、実施例１と同じである。
【００５３】
＜比較例１３＞
アクリレート系モノマーの添加量を水素化ニトリルゴムの固形分に対して４０重量％とした点以外は、実施例１と同じである。
【００５４】
＜比較例１４＞
ブタジエン系モノマーの添加量を水素化ニトリルゴムの固形分に対して３０重量％とした点以外は、比較例１と同じである。
【００５５】
＜比較例１５＞
シアヌレート系モノマーの添加量を水素化ニトリルゴムの固形分に対して３０重量％とした点以外は、比較例４と同じである。
【００５６】
＜比較例１６＞
アリルアミン系モノマーの添加量を水素化ニトリルゴムの固形分に対して３０重量％とした点以外は、比較例７と同じである。
【００５７】
これらの結果を表１に示す。
【表１】
2013145357.tif 000006
【００５８】
これによれば、（メタ）アクリレート系モノマーを添加した実施例１、実施例２、実施例３、実施例４及び比較例１３は、耐溶剤性が付与されており、それ以外の架橋剤を添加する場合及び架橋剤を添加しない場合は、耐溶剤性が付与されないことがわかった。なお、電子線を照射しない場合（比較例１１）は、高分子同士に架橋構造が付与されないか、付与されるにしても架橋構造が十分でないことがより理解できる。
しかしながら、添加剤が（メタ）アクリレート系モノマーであれば、それだけでいいわけではない。（メタ）アクリレート系モノマーの添加量が多くなれば（比較例１３）、赤外線反射フィルムの（反射層２を基準とした）保護層３側表面の垂直放射率が悪化する（垂直放射率が０．２０を超える。）。そのため、赤外線反射フィルムにおける赤外線の反射特性が低下し、赤外線反射フィルムの断熱特性が悪くなる。
以上から、（メタ）アクリレート系モノマーの添加量は、高分子に対して５〜３５重量％の範囲内であることが好ましい、ということがわかった。また、より好ましくは、高分子に対して５〜２５重量％であることがわかった。
【００５９】
なお、本発明に係る赤外線反射フィルムは、上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。
【００６０】
例えば、上記実施形態においては、繰り返し単位Ａ、Ｂ及びＣのうち、少なくともいずれか二つ以上の繰り返し単位からなる高分子について説明した。しかしながら、これに限定されるものではない。これら繰り返し単位以外の他の繰り返し単位についても、保護層に必要な特性を損なわない範囲で含ませることができる。他の繰り返し単位としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、（メタ）アクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、酢酸ビニル、（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。これらは、高分子全体に対する割合が１０重量％以下であるのが好ましい。
【００６１】
また、上記実施形態においては、反射層２を蒸着により形成した。しかしながら、これに限定されるものではない。例えば、反射性フィルムを用いる等、反射層を基材とは別に用意し、反射性フィルムを基材に貼着することにより反射層を形成してもよい。
【００６２】
また、上記実施形態に係る赤外線反射フィルムは、遮熱特性と断熱特性とを併せ持つ赤外線反射フィルムである。しかしながら、これに限定されるものではない。本発明に係る赤外線反射フィルムは、従来の遮熱特性のみを持つ赤外線反射フィルムにも適用できることは言うまでもない。
【符号の説明】
【００６３】
１…基材、１ａ…一方の面、１ｂ…他方の面、２…反射層、２ａ…半透明金属層、２ｂ，２ｃ…金属酸化物層、３…保護層、４…粘着層
【図１】
2013145357.tif 000009