(57)【要約】【課題】カラーフィルタ基板および駆動用ＴＦＴ基板を構成する液晶表示装置用樹脂材料は高温で加熱して硬化させる方法がとられている。樹脂材料は加熱硬化することで、基板との密着力が向上するが、樹脂は高温加熱で酸化して着色する課題がある。樹脂の加熱硬化において、不活性ガス中で樹脂を加熱することで、酸化をおさえることができるので、不活性ガス中で効率よく作業安全を保ちながら樹脂を加熱硬化することが課題となる。【解決手段】透明基板上に形成された樹脂膜を炉内酸素濃１０％以下で加熱硬化させる加熱硬化装置であって、基板搬送口に直線状にスリットをもつノズルから不活性ガスを吹き出すことを特徴とする樹脂の加熱硬化装置【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成された樹脂膜を炉内酸素濃度１０％以下で加熱硬化させる基板搬送口を持つ加熱硬化装置であって、基板搬送口に不活性ガスを吹き出すノズル、あるいは不活性ガス吹き出し機構を持つ開閉扉が設置されたことを特徴とする樹脂の加熱硬化装置。
【請求項２】
不活性ガス吹き出し口が直線状のスリットである請求項１記載の樹脂の加熱装置。
【請求項３】
基板搬送口の不活性ガス吹き出し口の対抗する位置に不活性ガスを吸引する機構を取り付けた請求項１または２に記載の樹脂の加熱硬化装置。
【請求項４】
不活性ガスの吹き出し速度が毎秒０．２ｍ以上である請求項１から請求項３のいずれかに記載の樹脂の加熱硬化装置。
【請求項５】
加熱硬化炉の基板搬送口から水平方向に３０ｃｍ離れた位置での酸素濃度が１８％以上である請求項１から４のいずれかに記載の樹脂の加熱装置。
【請求項６】
不活性ガスの吹き出し温度が６０℃以上である請求項１から５のいずれかに記載の樹脂の加熱装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶表示装置用基板上に形成された樹脂の加熱硬化工程において、樹脂酸化による黄着色を軽減することにより、透過率の高い液晶表示装置用基板を製造することができる加熱炉に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、液晶表示装置は、軽量、薄型、低消費電力等の特性を生かし、ノートＰＣ、携帯情報端末、デスクトップモニタ、デジタルカメラ、大型液晶テレビなど様々な用途で使用されている。携帯情報端末では、画面の解像度が３００ｐｐｉを越える製品が発売されており、高精細化が進展している。
【０００３】
一般的に液晶表示装置の表示画面側の基板にはカラーフィルタが形成されている。カラーフィルタには、通常ブラックマトリックスにより区切られた赤画素、緑画素、青画素の着色画素が形成されているので、解像度が上がるほど着色画素の面積が低下するので液晶表示が暗くなる。着色画素の透過率を上げることができれば、液晶表示が明るくなる。また、同じ明るさならば、液晶表示用のバックライトの電流消費量を押さえることが可能になる。
【０００４】
着色画素は顔料を分散した樹脂からなり、耐薬品性向上や膜強度を増すために高温の熱処理を実施する。熱処理時に樹脂が酸化することにより樹脂が着色するので透過率が低下する。カラーフィルタ上に形成される平坦化膜も液晶中に不純物が溶出しないように、耐薬品性向上や膜強度を増すために高温の熱処理を実施するので樹脂の酸化による透過率の低下がある。
【０００５】
特許文献１、２および３には、樹脂の酸化による着色を防ぐために、不活性ガスや窒素中または真空中で加熱硬化する方法が開示されている。
【０００６】
特許文献４には酸素濃度が５％以下の雰囲気中において熱処理される方法が開示されている。このように、酸素の少ない雰囲気で樹脂を加熱硬化する方法が検討されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平１−１４５６０３号公報
【特許文献２】特開平４−１５１１０３号公報
【特許文献３】特開２００５−２６６７１５号公報
【特許文献４】特開２００６−３１７７７６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
液晶表示装置は、カラー表示のための着色画素を有するカラーフィルタ基板と、液晶を挟んで対抗する駆動用ＴＦＴ基板からなるものが一般的である。カラーフィルタ基板および駆動用ＴＦＴ基板を構成する樹脂材料からは、液晶中に不純物が溶出して液晶配向を乱さないことが重要であり、カラーフィルタ基板および駆動用ＴＦＴ基板を構成する液晶表示装置用樹脂材料は高温で加熱して硬化させる方法がとられている。樹脂材料は加熱硬化することで、基板との密着力が向上するが、樹脂は高温加熱で酸化して着色する課題がある。樹脂の加熱硬化において、不活性ガス中で樹脂を加熱することで、酸化をおさえることができるので、不活性ガス中で効率よく作業安全を保ちながら樹脂を加熱硬化することが課題となる。
【０００９】
カラーフィルタを製造する方法としては、生産効率に優れた基板を連続的に処理していく枚葉式が用いられることが多い。枚葉式では、樹脂膜の加熱硬化は、ホットプレートまたは、多段式の熱風オーブンが用いられる。樹脂を形成した基板は、ロボットハンドや搬送コロによって、加熱硬化炉に搬送される。加熱硬化炉への基板の搬送口は、開放系や、扉などの開閉式扉機構を備えたものが一般的であるが、いずれの場合においても不活性ガス中で加熱硬化しようとすると、基板搬送口から不活性ガスが漏れだし加熱硬化炉内の酸素濃度が高くなる問題があった。
【００１０】
加熱硬化炉に供給する不活性ガス流量を増大させて加熱硬化炉の酸素濃度を低下させる方法では、不活性ガスのコストアップや、加熱硬化炉周辺の酸素濃度低下により、作業者に酸素欠乏症の危険が発生する作業安全性の問題があった。加熱硬化炉の周囲の酸素濃度低下を防ぐためには、周りの空気の酸素濃度をモニターしながら、空気の循環量を増やすなどの対応のためにコスト増加要因になる問題があった。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明では、下記の構成により課題を解決する方法を導き出した。
（１）基板上に形成された樹脂膜を炉内酸素濃度１０％以下で加熱硬化させる基板搬送口を持つ加熱硬化装置であって、基板搬送口に不活性ガスを吹き出すノズル、あるいは不活性ガス吹き出し機構を持つ開閉扉が設置されたことを特徴とする樹脂の加熱硬化装置。
（２）不活性ガス吹き出し口が直線状のスリットである（１）記載の樹脂の加熱装置。
（３）基板搬送口の不活性ガス吹き出し口の対抗する位置に不活性ガスを吸引する機構を取り付けた（１）または（２）に記載の樹脂の加熱硬化装置。
（４）不活性ガスの吹き出し速度が毎秒０．２ｍ以上である（１）から（３）のいずれかに記載の樹脂の加熱硬化装置。
（５）加熱硬化炉の基板搬送口から水平方向に３０ｃｍ離れた位置での酸素濃度が１８％以上である（１）から（４）のいずれかに記載の樹脂の加熱装置。
（６）不活性ガスの吹き出し温度が６０℃以上であることを特徴とした（１）〜（５）のいずれかに記載の樹脂の加熱装置。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の製造装置によって、樹脂膜形成基板を不活性ガス雰囲気で加熱硬化することができるので、樹脂膜の酸化着色が低減できる。また、加熱炉へ導入する前に基板表面に不活性ガスを吹き付けて基板表面の吸着水を乾燥させることができるので、基板に付着した吸着水が加熱炉内で気化して、不活性ガスを押しのけることがなくなり不活性ガス雰囲気を保つことができる。
さらに、加熱硬化炉の周辺に漏れ出す不活性ガス量を減少させ効率的に不活性ガス雰囲気をつくるので、作業安全性に優れ、かつ経済的に有利な加熱硬化炉である。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】プロキシ加熱ホットプレートの概略図である
【図２】コンタクト加熱ホットプレートの概略図である
【図３】熱風オーブンの概略図である
【図４】不活性ガスを吹き出すノズルの概略図である。
【図５】不活性ガス吹き出し機構を備えた開閉扉の概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本発明における加熱硬化炉は、ホットプレート上の基板を主に輻射熱で加熱するホットプレート加熱、熱風循環させるオーブン中で基板を加熱するオーブン加熱が好適に用いられるが、その他にもＩＲ加熱など既知の方法を用いることができる。
【００１５】
ホットプレート加熱では、ホットプレート上にプロキシピンを立てその上で基板を加熱するプロキシ加熱（図１）や、ホットプレート上に直接基板を置くコンタクト加熱（図２）がある。プロキシ加熱は、ホットプレートを水平方向に複数枚設置して、連続または間欠的に熱処理する方法がある。
【００１６】
ホットプレート加熱炉では、低酸素雰囲気で加熱するためにホットプレート内に不活性ガスを導入するが、加熱炉内の不活性ガスを積極的に循環しないので、加熱炉内から外部に流出する不活性ガスは少ない。しかし、基板搬送口周辺では、基板搬送に伴い周辺の空気を巻き込むので酸素濃度が高くなる。図１のプロキシホットプレートの場合は、基板搬送口に不活性ガスを吹き出すノズル１、または不活性ガス吹き出し機構を持つ開閉扉６を設置する。不活性ガスを吹き出すノズル１の詳細は図４に、不活性ガス吹き出し機構を持つ開閉扉６の詳細は図５に示す。図１には不活性ガスを吹き出すノズル１を設置した場合を示しており、不活性ガスを吹き出すノズル１と同様に不活性ガス吹き出し機構を持つ開閉扉６を設置することができる。
【００１７】
不活性ガス吹き出しノズルの対向側には、不活性ガスの吸引フード１１を設置することが好ましい。周囲の酸素濃度および、加熱炉内の酸素濃度は、酸素濃度計１６でモニターして、適宜不活性ガスの吹き出し流量と吸引量をコントロールすることが好ましい。不活性ガス吸引フード１１により適切に不活性ガスを吸引することで、加熱炉内が低酸素濃度であっても周囲の作業環境の酸素濃度低下を防ぐことができる。空気中の酸素濃度が１８％以上あれば、作業者の人体に影響がない安全範囲とされているので、不活性ガスの吸引は、加熱炉周囲の酸素濃度が１８％以上になるように吸引する事が好ましい。酸素濃度は、吸引型または拡散型のガルバニ電池式酸素濃度計により測定することができる。
【００１８】
コンタクト加熱ホットプレート（図２）の場合は、基板搬送口に不活性ガスの吹き出しノズル１、または不活性ガス吹き出し機構を持つ開閉扉６を設置する。図２には不活性ガスを吹き出すノズル１を設置した場合を示している。図２では、基板搬送口に開閉扉２２が設置されている加熱炉の概略図である。不活性ガスの吹き出しノズル１からは、開閉扉２２が開放する前から、基板出し入れが終わって開閉扉２２が閉まるで、下向きの不活性ガス４ａが吹き出されることりより、効率的に加熱炉内を低酸素に保つことができる。ホットプレートは垂直方向に複数のホットプレートを設置した多段ホットプレートとすることができる。多段ホットプレートは、フットプリントを削減できるので好ましい。
【００１９】
熱風オーブン（図３）の場合には、基板搬送口に不活性ガスの吹き出しノズル１、または不活性ガス吹き出し機構を持つ開閉扉６を設置する。図３には不活性ガス吹き出し機構を持つ開閉扉６を設置した場合を示している。熱風オーブンでは、ヒーター２４で加熱した気体を、ファン２５で循環させる機構を持つので、基板搬送口から漏洩する不活性ガスが増大して、オーブン内の酸素濃度が上がりやすい。このため、基板搬送口に設置する不活性ガス吹き出し機構は、下方向加えて、水平方向４ｃや上方向４ｂにも吹き出す機構であることが好ましい。さらに下向き方向の不活性ガスの吹き出し口が、搬送基板に対して斜め前方に吹き出すように設置することも可能であり、搬送基板上の吸着水を効率的に除去することができる。
【００２０】
本発明においては、樹脂の加熱硬化は、不活性ガス雰囲気で実施する。不活性ガス雰囲気とは、加熱炉内の酸素の濃度が１０％以下になるように、加熱炉内に不活性ガスを導入することで得られる。不活性ガスは樹脂を酸化しないものであれば特に限定されないが、経済的優位性から窒素ガスを使う事が好ましい。
【００２１】
カラーフィルタは生産性向上のために、１時間あたり６０〜１８０枚の基板を製造する枚葉生産方式がとられるので、加熱硬化炉は連続してカラーフィルタ基板を処理することが必要になる。加熱炉から不活性ガスや熱の流出を防ぐためには、加熱炉への基板搬送口を小さくするか、基板搬送口に開閉扉を設けて基板搬送以外は、加熱炉を略密閉する方法が効率的である。
【００２２】
加熱硬化炉の基板搬送口に設置するスリット５の開口部を持つノズル（図４）のノズルのスリットの幅は０．１mmから２mmの範囲で設定される事が好ましく、０．１５mmから０．３mmの幅がさらに好ましい。スリットの幅が０．１ｍｍより小さいと、スリット幅の変動による不活性ガスの吹き出しがムラになり好ましくない。スリットの幅が２mmより大きいと、ノズルから不活性ガスの流速を確保するために使用する不活性ガスの流量が増大して、経済的ではない。ノズルのスリットは直線状であり、加熱硬化炉への基板の搬送口幅以上の長さであることが好ましい。
【００２３】
ノズルからの不活性ガスの吹き出し口は、基板に対して垂直から、外側方向に４５度の範囲で設置されることが好ましい。
【００２４】
ノズルからの不活性ガスの吹き出し速度は、毎秒０．２ｍ以上の吹き出し速度であることが好ましい。さらに好ましくは、毎秒０．５ｍ以上の不活性ガスの吹き出し速度があると、加熱硬化炉へ周囲の気体の取り込みが少なくなるので好ましい。
【００２５】
樹脂の加熱硬化は、基板との密着性向上や、液晶中への不純物溶出抑制のために行われるので、樹脂に合わせて適宜行われるが、１８０℃から２９０℃で５分から６０分行われるのが好ましい。
【００２６】
本発明の樹脂を形成する基板には透明基板が用いられる。基板としては無アルカリガラスや石英ガラスが好適に用いられるが、樹脂の加熱硬化工程で変形および変色しない樹脂やフイルム基板を用いることもできる。
【００２７】
本発明は、カラーフィルタ基板を好適に加熱硬化することができる。カラーフィルタの製造方法の一例としては、透明基板上に、まずブラックマトリックスを形成する。ブラックマトリックスは金属または、黒色顔料および樹脂を含む黒色ペーストをディップ法、ロールコータ法、スピナー法、ダイコーティング法など既知の方法で基板上に塗布する。その後、真空乾燥などにより溶剤を蒸発させたのちにプリベークをする。黒色ペーストが感光性樹脂の場合には、プリベーク膜にフォトマスクを介して紫外線照射したのちにアルカリ現像することでパターンを得る。現像後には、ポストベークをして樹脂を加熱硬化させる。ブラックマトリックスを形成した基板に赤画素、緑画素、青画素の３色を形成する。ブラックマトリックスを形成した基板に着色剤を含有した感光性樹脂ペーストを塗布し、真空乾燥で溶剤を乾燥させた後に、６０〜１５０℃でプリベークを行う。続いて、フォトマスクを介して紫外線照射した後に、アルカリ現像により、画素をパターン加工する。
【００２８】
その後、加熱炉にて１６０〜２９０℃で、５分〜６０分のポストベークを行う事で、着色画素ができる。この工程を３回繰り返すことで、赤画素、緑画素、青画素を形成する。
【００２９】
本発明における加熱硬化炉は樹脂の加熱硬化を目的としており、プリベークとは温度が異なる。プリベークは主に溶剤成分の揮発を目的とした比較的低温での熱処理を指し、具体的には１５０゜Ｃ以下での熱処理のことをいう。プリベークをおこなう方法については、ホットプレート、熱風オーブン、ＩＲヒーター等公知の方法を用いることができる。プリベークでは、温度が１５０℃以下と低いので不活性ガス中で加熱する必要はない。
【００３０】
画素の樹脂ペーストは、樹脂ペースト自体が感光性を持つ感光法と、樹脂は感光性をもたず、樹脂上に感光性樹脂を積層してパターン加工する非感光法があり、どちらも好適に用いることができる。感光法は、紫外線で硬化する感光アクリル法が好適に用いられる。
【００３１】
カラーフィルタの画素に用いられる着色剤は、顔料および染料が好適に使用できる。使用する着色剤によっては、加熱硬化で酸化して変色する場合があるが、本発明の加熱炉では、着色剤の変色も小さくなる。着色剤には特に制限はないが、耐光性、耐熱性、耐薬品性に優れた物が望ましい。代表的な顔料の具体的な例をカラーインデックス（ＣＩ）ナンバーで示すと、次のようなものが好ましく使用されるが、いずれもこれらに限定されるものではない。
【００３２】
赤色顔料の例としては、ピグメントレッド（以下ＰＲと略す）９、ＰＲ４８、ＰＲ９７、ＰＲ１２２、ＰＲ１２３、ＰＲ１４４、ＰＲ１４９、ＰＲ１６６、ＰＲ１６８、ＰＲ１７７、ＰＲ１７９、ＰＲ１８０、ＰＲ１９０、ＰＲ１９２、ＰＲ２０９、ＰＲ２１５、ＰＲ２１６、ＰＲ２１７、ＰＲ２２０、ＰＲ２２３、ＰＲ２２４、ＰＲ２２６、ＰＲ２２７、ＰＲ２２８、ＰＲ２４０、ＰＲ２５４などが使用される。
【００３３】
黄色顔料の例としては、ピグメントイエロー（以下ＰＹと略す）ＰＹ１２、ＰＹ１３、ＰＹ１４、ＰＹ１７、ＰＹ２０、ＰＹ２４、ＰＹ８３、ＰＹ８６、ＰＹ９３、ＰＹ９４、ＰＹ９５、ＰＹ１０９、ＰＹ１１０、ＰＹ１１７、ＰＹ１２５、ＰＹ１２９、ＰＹ１３７、ＰＹ１３８、ＰＹ１３９、ＰＹ１４７、ＰＹ１４８、ＰＹ１５０、ＰＹ１５３、ＰＹ１５４、ＰＹ１６６、ＰＹ１６８、ＰＹ１７３、ＰＹ１８０、ＰＹ１８５などが使用される。
【００３４】
また、紫色顔料の例としては、ピグメントバイオレット（以下ＰＶと略す）１９、ＰＶ２３、ＰＶ２９、ＰＶ３０、ＰＶ３２、ＰＶ３６、ＰＶ３７、ＰＶ３８、ＰＶ４０、ＰＶ５０などが使用される。
【００３５】
また、青色顔料の例としては、ピグメントブルー（以下ＰＢと略す）１５、ＰＢ１５：３、ＰＢ１５：４、ＰＢ１５：６、ＰＢ２２、ＰＢ６０、ＰＢ６４などが使用される。
【００３６】
また、緑色顔料の例としては、ピグメントグリーン（以下ＰＧと略す）７、ＰＧ１０、ＰＧ３６、などが使用される。
【００３７】
これらの顔料は、樹脂中への分散安定化を目的として、ロジン処理、酸性基処理、塩基性処理などの表面処理がされていてもよく、分散剤として顔料誘導体を添加することもできる。本発明の加熱硬化では、表面処理剤においても酸化による変色が少ないので多くの種類の表面処理が適用可能で、表面処理剤を増量しても変色しにくい。
本発明における樹脂ペーストの樹脂については特に限定はなく、非感光性樹脂については、エポキシ樹脂、アクリルエポキシ樹脂、アクリル樹脂、シロキサンポリマ、ポリイミド、ケイ素含有ポリイミド、ポリイミドシロキサン等を用いることができる。
【００３８】
感光性樹脂についても、特に制限なく使用することができ、ポリマ、光重合性モノマ、光重合開始剤等を含有する、いわゆるネガ型の感光性樹脂組成物であってもよく、ナフトキノンジアジド化合物等の光酸発生剤を含有するポジ型の感光性樹脂組成物であってもよい。
【００３９】
カラーフィルタまたはＴＦＴ基板では、平坦性向上や着色画素に含有される成分の液晶層への溶出を防ぐためにオーバーコート膜を形成することが好ましい。オーバーコート膜の材質としては、エポキシ膜、アクリルエポキシ膜、アクリル膜、シロキサンポリマ系の膜、ポリイミド膜、ケイ素含有ポリイミド膜、ポリイミドシロキサン膜等が挙げられる。オーバーコートの厚みには、０．５〜３μｍが好ましく用いられる。
【００４０】
オーバーコートは下層との密着力向上や、含有成分の液晶層への溶出を防ぐために、１６０〜２９０℃で５分から６０分加熱硬化する。
オーバーコート上に必要に応じてＩＴＯなどの透明導電膜を形成することができる。
【００４１】
樹脂が高温で加熱酸化されると着色するが、カラーフィルタの着色画素の樹脂が酸化されると、特に青画素の色変化が大きく、青画素の透過率が低下する。また、カラーフィルタ上や、ＴＦＴ基板に形成されるオーバーコート膜の樹脂が酸化すると、オーバーコートの色変化によって透過率が低下するので、本発明の加熱硬化炉は、特に青画素およびオーバーコート膜の加熱硬化に好適に用いることができる。
【００４２】
樹脂は溶剤に溶解して基板に塗布されるが、樹脂を溶解する溶剤としては特に制限なく使用することができる。樹脂成分を溶解する単独あるいは２種類以上の溶媒の混合溶媒を、適宜組み合わせて使用するのが好ましい
【実施例】
【００４３】
実施例１
［輝度の測定］
加熱硬化後樹脂膜の色変化は顕微分光器（大塚電子製ＭＣＰＤ２０００）を用いて輝度Ｙを測定した。
【００４４】
［非感光オーバーコート剤の調製］
トリメリット酸  ６５．０５ｇをγ−ブチロラクトン  ２８０ｇに溶解した後に、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン  ７４．９５ｇを添加し、１２０℃で２時間加熱した。得られた溶液  ２０ｇに、ビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル  ７ｇ、ジエチレングリコールジメチルエーテル  １５ｇを加えて、室温（約２３℃）で、２時間攪拌して、非感光性オーバーコートを得た。
【００４５】
［非感光オーバーコートのプリベーク膜の形成］
透明ガラス基板上に樹脂ブラックマトリクス層、赤、緑、青の着色層からなるカラーフィルタ基板を作製した。得られたカラーフィルタ上に非感光性オーバーコートをポストベーク後の厚さが１．５μｍとなるようにスピンコートし、熱風オーブンで１３０℃で５分間プリベーク処理して、カラーフィルタ上に非感光オーバーコートのプリベーク膜を形成した基板を得た。このときのオーバーコートを含む青画素の輝度Ｙは１０．５であった。
［オーバーコートのポストベーク］
非感光オーバーコートプリベーク膜を形成したカラーフィルタ基板を図２のコンタクトホットプレートで２６０℃でポストベークした。ホットプレート内の酸素濃度を３％として、ホットプレートの開閉扉前に設置したノズルの０．２mm幅のスリットから下向きに０．２ｍ／秒で２３℃の窒素ガスを吹き出しながら、基板を搬送した。このとき、開閉扉の下に設置した吸引フードで、−２ｋＰａで吸引した。このときのオーバーコートを含む青画素の輝度Ｙは１０．３２であり、−１．７％の輝度変化があった。（表１）
実施例２
ノズルから６０度の窒素ガスを吹き出しながら基板を搬送したこと以外は実施例１と同様に非感光性オーバーコートをポストベークした。このときのオーバーコートを含む青画素の輝度Ｙは１０．３４であり、−１．５％の輝度変化があった。（表１）
実施例３
ホットプレート内の酸素濃度を５％としたこと以外は実施例１と同様に非感光性オーバーコートをポストベークした。このときのオーバーコートを含む青画素の輝度Ｙは１０．２９であり、−２．０％の輝度変化があった。（表１）
実施例４
ホットプレート内の酸素濃度を１０％としたこと以外は実施例１と同様に非感光性オーバーコートをポストベークした。このときのオーバーコートを含む青画素の輝度Ｙは１０．２０であり、−２．９％の輝度変化があった。（表１）
実施例５
ホットプレートの開閉扉前に設置したノズルの０．２mm幅のスリットから下向きに０．５ｍ／秒で２３℃の窒素ガスを吹き出しながら、基板を搬送したこと以外は実施例１と同様に非感光性オーバーコートをポストベークした。このときのオーバーコートを含む青画素の輝度Ｙは１０．３０であり、−１．９％の輝度変化があった。（表１）
実施例６
ホットプレートの開閉扉前に設置したノズルの０．２mm幅のスリットから下向きに１．０ｍ／秒で２３℃の窒素ガスを吹き出しながら、基板を搬送したこと以外は実施例１と同様に非感光性オーバーコートをポストベークした。このときのオーバーコートを含む青画素の輝度Ｙは１０．３３であり、−１．６％の輝度変化があった。（表１）
比較例１
ホットプレートの開閉扉前に設置したノズルからは窒素ガスを吹き出さなかったこと、
開閉扉の下に設置した吸引フードで吸引しなかったこと以外は実施例１と同様に非感光性オーバーコートをポストベークした。このときのオーバーコートを含む青画素の輝度Ｙは９．６７であり、−７．９％の輝度変化があった。（表１）
比較例２
ホットプレート内の酸素濃度を１５％にしたこと以外は実施例１と同様に非感光性オーバーコートをポストベークした。このときのオーバーコートを含む青画素の輝度Ｙは９．４９であり、−９．６％の輝度変化があった。（表１）
【００４６】
【表１】
2013186226.tif 000003
【００４７】
実施例７
［感光性オーバーコート剤の調製］
アクリル共重合体溶液（ダイセル化学工業株式会社製サイクロマーＰ、ＡＣＡ−２５０、４３質量％溶液）７０．０ｇ、多官能モノマとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３０．０ｇ、光重合開始剤として２−メリル−１−「４−（メチルチオ）フェニル」−２−モルフォリノプロパン−１−オンを１０．０ｇ、紫外線吸収剤に２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１、１、３、３−テトラメチルブチル）フェノールを３ｇ、溶剤としてシクロペンタノン２１７．５ｇを加え、アクリル樹脂濃度（アクリル共重合体とモノマの合計濃度）２０質量％の感光性透明樹脂組成物（Ａ）を得た。
【００４８】
［感光性オーバーコートのプリベーク膜の形成］
得られたオーバーコートを、透明ガラス基板上に樹脂ブラックマトリクス層、赤、緑、青の着色層からなるカラーフィルタ基板にポストベーク後の厚さが１．５μｍとなるようにスピンコートし、熱風オーブンで１００℃で５分加熱することにより、プリベーク処理した。キャノン株式会社製紫外線露光機ＰＬＡ−５０１Ｆを用い、カラーフィルタ額縁部の基板外周部分を遮光したフォトマスクパターンを介して２００ｍＪ/ｃｍ２（３６５ｎｍの紫外線強度）露光した。露光後、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの０．２％の水溶液からなる現像液に６０秒浸漬して、カラーフィルタ上に感光オーバーコートのプリベーク膜を形成した基板を得た。このときのオーバーコートを含む青画素の輝度Ｙは１０．５であった。
［オーバーコートのポストベーク］
感光オーバーコートプリベーク膜を形成したカラーフィルタ基板を図３の熱風オーブンで２３０℃で３０分ポストベークした。熱風オーブン内の酸素濃度を１％として、熱風オーブンの開閉扉の外周に形成した０．２mm幅のスリットから上下左右方向に０．２ｍ／秒で２３℃の窒素ガスを吹き出しながら、基板を搬送した。このとき、開閉扉の下に設置した吸引フードで、−２ｋＰａで吸引した。このときのオーバーコートを含む青画素の輝度Ｙは１０．４０であり、−１．０％の輝度変化があった。（表２）
実施例８
熱風オーブンの開閉扉の外周に形成したノズルから６０℃の窒素ガスを吹き出しながら基板を搬送したこと以外は実施例７と同様に感光性オーバーコートをポストベークした。このときのオーバーコートを含む青画素の輝度Ｙは１０．４２であり、−０．８％の輝度変化があった。（表２）
実施例９
熱風オーブン内の酸素濃度を３％としたこと以外は実施例７と同様に感光性オーバーコートをポストベークした。このときのオーバーコートを含む青画素の輝度Ｙは１０．３７であり、−１．２％の輝度変化があった。（表２）
実施例１０
熱風オーブン内の酸素濃度を１０％としたこと以外は実施例７と同様に感光性オーバーコートをポストベークした。このときのオーバーコートを含む青画素の輝度Ｙは１０．３１であり、−１．８％の輝度変化があった。（表２）
実施例１１
熱風オーブンの開閉扉前に設置したノズルの０．２mm幅のスリットから０．５ｍ／秒で２３℃の窒素ガスを吹き出しながら、基板を搬送したこと、熱風オーブン内の酸素濃度を３％にしたこと以外は実施例７と同様に感光性オーバーコートをポストベークした。このときのオーバーコートを含む青画素の輝度Ｙは１０．３８であり、−１．１％の輝度変化があった。（表２）
実施例１２
熱風オーブンの開閉扉前に設置したノズルの０．２mm幅のスリットから０．１ｍ／秒で２３℃の窒素ガスを吹き出しながら、基板を搬送したこと、熱風オーブン内の酸素濃度を３％にしたこと以外は実施例７と同様に感光性オーバーコートをポストベークした。このときのオーバーコートを含む青画素の輝度Ｙは１０．２５であり、−２．４％の輝度変化があった。（表２）
比較例３
熱風オーブンの開閉扉から窒素ガスを吹き出さなかったこと、開閉扉の下に設置した吸引フードで吸引しなかったこと以外は実施例７と同様に感光性オーバーコートをポストベークした。このときのオーバーコートを含む青画素の輝度Ｙは９．８３であり、−６．４％の輝度変化があった。（表２）
比較例４
熱風オーブンの開閉扉から窒素ガスを吹き出さなかったこと、開閉扉の下に設置した吸引フードで吸引しなかったこと、熱風オーブン内の酸素濃度を１０％にしたこと以外は実施例７と同様に感光性オーバーコートをポストベークした。このときのオーバーコートを含む青画素の輝度Ｙは９．６６であり、−８．０％の輝度変化があった。（表２）
比較例５
熱風オーブン内の酸素濃度を１５％にしたこと以外は実施例７と同様に感光性オーバーコートをポストベークした。このときのオーバーコートを含む青画素の輝度Ｙは９．６２であり、−８．４％の輝度変化があった。（表２）
【００４９】
【表２】
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【産業上の利用可能性】
【００５０】
本発明の加熱硬化炉は液晶表示装置用基板の加熱硬化に用いられる。
【符号の説明】
【００５１】
１．不活性ガスを吹き出すノズル
２．ノズルへの不活性ガス導入口
３．マニホールド
４．不活性ガス
４ａ．下向方向の不活性ガス
４ｂ．上向方向の不活性ガス
４ｃ．水平方向の不活性ガス
４ｄ．斜め方向の不活性ガス
５．スリット
６．不活性ガス吹き出し機構を持つ開閉扉
１０．不活性ガス
１１．吸引フード
１２．基板
１３．プロキシホットプレート
１４．ホットプレート
１５．プロキシピン
１６．酸素濃度計
２１．コンタクトホットプレート
２２．搬送口扉
２３．熱風オーブン
２４．ヒーター
２５．ファン
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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