(57)【要約】【課題】情報記録媒体用ガラス基板の製造過程で生じる不良を低減することが可能な、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。【解決手段】ガラス基板の洗浄を行なう工程は、ロールスクラブ洗浄装置を用いてガラス基板に対してロールスクラブ洗浄を行なう工程と、ロールスクラブ洗浄の後に、カップスクラブ洗浄装置を用いてガラス基板に対してカップスクラブ洗浄を行なう工程とを含み、カップスクラブ洗浄は、ロールスクラブ洗浄後のガラス基板の主表面が乾かないうちに実施する。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、
化学強化処理により、ガラス基板の主表面に表面強化層を形成する工程と、
前記主表面に前記表面強化層を形成した後、前記主表面の研磨を行なう工程と、
前記主表面の研磨を行なった後に、前記ガラス基板の洗浄を行なう工程と、を備え、
前記ガラス基板の洗浄を行なう工程は、
ロールスクラブ洗浄装置を用いて前記ガラス基板に対してロールスクラブ洗浄を行なう工程と、
前記ロールスクラブ洗浄の後に、カップスクラブ洗浄装置を用いて前記ガラス基板に対してカップスクラブ洗浄を行なう工程と、を含み、
前記カップスクラブ洗浄は、前記ロールスクラブ洗浄後の前記ガラス基板の主表面が乾かないうちに実施する、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項２】
前記ロールスクラブ洗浄および前記カップスクラブ洗浄は、それぞれ流水槽の中で行なう、請求項１に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項３】
前記ロールスクラブ洗浄および前記カップスクラブ洗浄は、それぞれ超音波を印加しながら前記ガラス基板の超音波洗浄を行なう、請求項２に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項４】
前記ガラス基板の洗浄を行なう工程は、前記カップスクラブ洗浄の後に、４３０〜９５０ｋＨｚの高周波を印加しながらリンス槽内において高周波洗浄を行なう工程を有する、請求項３に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項５】
前記リンス槽内において、０．５〜１ｐｐｍの水素水を用いる、請求項４に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項６】
前記リンス槽において、開口径が０．０２μｍのフィルターを用いる、請求項５に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
コンピュータなどに用いられる情報記録媒体（磁気ディスク記録媒体）には、従来からアルミニウム基板またはガラス基板が用いられている。これらの基板上に磁気薄膜層が形成され、磁気薄膜層を磁気ヘッドで磁化することにより、磁気薄膜層に情報が記録される。
【０００３】
近年、ハードディスクドライブ装置においては、２．５インチの記録媒体１枚で、記録容量が５００ＧＢ（片面２５０ＧＢ）、面記録密度が６３０Ｇｂ／平方インチ以上の記録密度を有するものが開発されており、磁気ヘッドと情報記録媒体との間の距離（フライングハイト）がさらに小さくなってきている。
【０００４】
フライングハイトが小さくなるにつれて、情報記録媒体をハードディスクドライブ装置に用いた場合の不良（ヘッドクラッシュ）を抑えるために、情報記録媒体として許容される基板表面の欠陥の大きさもより小さくなってきている。また、情報記録媒体用ガラス基板の表面欠陥についても大きさおよび個数に対する要求が厳しくなってきている。
【０００５】
これらの厳しい要求を満足するために、情報記録媒体用ガラス基板の研磨加工、洗浄方法を工夫して情報記録媒体用ガラス基板の欠陥を低減すべく工夫がなされている。しかし、磁気ヘッドに採用されるＤＦＨ（Dynamic  Flying  Hight）機構等により、ますます情報記録媒体への精度が厳しくなってきている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００９−１５８０３０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
この発明が解決しようとする課題は、情報記録媒体用ガラス基板の製造過程における、情報記録媒体用ガラス基板の欠陥低減の要求が厳しくなってきている点にある。
【０００８】
本発明は、上記の実情に鑑みてなされたものであって、情報記録媒体用ガラス基板の製造過程で生じる不良を低減することが可能な、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
この発明に基づいた情報記録媒体用ガラス基板の製造方法においては、磁気記録用ガラス基板の製造方法であって、化学強化処理により、ガラス基板の主表面に表面強化層を形成する工程と、上記主表面に上記表面強化層を形成した後、上記主表面の研磨を行なう工程と、上記主表面の研磨を行なった後に、上記ガラス基板の洗浄を行なう工程と、を備える。
【００１０】
上記ガラス基板の洗浄を行なう工程は、ロールスクラブ洗浄装置を用いて上記ガラス基板に対してロールスクラブ洗浄を行なう工程と、上記ロールスクラブ洗浄の後に、カップスクラブ洗浄装置を用いて上記ガラス基板に対してカップスクラブ洗浄を行なう工程と、を含む。
【００１１】
上記カップスクラブ洗浄は、上記ロールスクラブ洗浄後の上記ガラス基板の主表面が乾かないうちに実施する。
【００１２】
他の形態においては、上記ロールスクラブ洗浄および上記カップスクラブ洗浄は、それぞれ流水槽の中で行なう。
【００１３】
他の形態においては、上記ロールスクラブ洗浄および上記カップスクラブ洗浄は、それぞれ超音波を印加しながら上記ガラス基板の超音波洗浄を行なう。
【００１４】
他の形態においては、上記ガラス基板の洗浄を行なう工程は、上記カップスクラブ洗浄の後に、４３０〜９５０ｋＨｚの高周波を印加しながらリンス槽内において高周波洗浄を行なう工程を有する。
【００１５】
他の形態においては、上記リンス槽内において、０．５〜１ｐｐｍの水素水を用いる。
他の形態においては、上記リンス槽において、開口径が０．０２μｍのフィルターを用いる。
【発明の効果】
【００１６】
この発明に基づいた情報記録媒体用ガラス基板の製造方法によれば、情報記録媒体用ガラス基板の製造過程で生じる不良を低減することが可能な、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを可能とする。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】実施の形態における情報記録媒体用ガラス基板の斜視図である。
【図２】実施の形態における情報記録媒体の斜視図である。
【図３】実施の形態における情報記録媒体の製造方法を示すフロー図である。
【図４】実施例１における各洗浄工程を示す模式図である。
【図５】実施例１におけるロールスクラブ洗浄に用いられるロールスクラブ洗浄装置の構成を示す模式図（斜視図）である。
【図６】実施例１におけるロールスクラブ洗浄に用いられるロールスクラブ洗浄装置の構成を示す概念図（平面図）である。
【図７】実施例１におけるロールスクラブ洗浄の洗浄状態を示す第１概念図である。
【図８】実施例１におけるロールスクラブ洗浄の洗浄状態を示す第２概念図である。
【図９】実施例１におけるカップスクラブ洗浄に用いられるカップスクラブ洗浄装置の構成を示す模式図（正面図）である。
【図１０】実施例１におけるカップスクラブ洗浄に用いられるカップスクラブ洗浄装置の構成を示す模式図（側面図）である。
【図１１】実施例１におけるカップスクラブ洗浄の洗浄状態を示す第１概念図である。
【図１２】実施例１におけるカップスクラブ洗浄の洗浄状態を示す第２概念図である。
【図１３】実施例２におけるロールスクラブ洗浄の洗浄状態を示す概念図である。
【図１４】実施例２におけるカップスクラブ洗浄の洗浄状態を示す概念図である。
【図１５】実施例３におけるロールスクラブ洗浄の洗浄状態を示す概念図である。
【図１６】実施例３におけるカップスクラブ洗浄の洗浄状態を示す概念図である。
【図１７】浮上テストにおける磁気ヘッドと付着物との位置関係を示す模式図である。
【図１８】ガラス基板と付着物との位置関係を示す第１模式図である。
【図１９】ガラス基板と付着物との位置関係を示す第２模式図である。
【図２０】ガラス基板と付着物との位置関係を示す第３模式図である。
【図２１】実施例１から６および比較例における、浮上テストおよび全面走査後のエラー発生率（ｎ＝１００）を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
本発明に基づいた実施の形態および実施例について、以下、図面を参照しながら説明する。実施の形態および実施例の説明において、個数、量などに言及する場合、特に記載がある場合を除き、本発明の範囲は必ずしもその個数、量などに限定されない。実施の形態および実施例の説明において、同一の部品、相当部品に対しては、同一の参照番号を付し、重複する説明は繰り返さない場合がある。
【００１９】
（情報記録媒体１の構成）
図１および図２を参照して、情報記録媒体用ガラス基板１Ｇおよび情報記録媒体１の構成について説明する。図１は、情報記録媒体用ガラス基板１Ｇの斜視図、図２は、情報記録媒体の斜視図である。
【００２０】
図１に示すように、情報記録媒体１に用いられる情報記録媒体用ガラス基板１Ｇ（以下、「ガラス基板１Ｇ」と称する。）は、中心に孔１１が形成された環状の円板形状を呈している。ガラス基板１Ｇは、外周端面１２、内周端面１３、表主表面１４、および裏主表面１５を有している。ガラス基板１Ｇとしては、アモルファスガラス等を用い、たとえば、外径約６５ｍｍ、内径約２０ｍｍ、厚さ約０．８ｍｍ、表面粗さは、約２．０Å以下である。
【００２１】
ガラス基板１Ｇのインチサイズに特に限定はなく、０．８インチ、１．０インチ、１．８インチ、２．５インチ、３．５インチ各種ガラス基板１Ｇを、情報記録媒体用のディスクとして製造してもよい。
【００２２】
落下衝撃によるガラス基板１Ｇの割れに対して有効であることから、ガラス基板１Ｇの厚みは０．３０ｍｍ〜２．２ｍｍが好ましい。ここでいうガラス基板１Ｇの厚みとは基板上の点対象となる任意の何点かで測定した値の平均値を意味する。
【００２３】
図２に示すように、情報記録媒体１は、上記したガラス基板１Ｇの表主表面１４上に磁気薄膜層２３が形成されている。図示では、表主表面１４上にのみ磁気薄膜層２３が形成されているが、裏主表面１５上に磁気薄膜層２３を設けることも可能である。
【００２４】
磁気薄膜層２３の形成方法としては従来公知の方法を用いることができ、例えば磁性粒子を分散させた熱硬化性樹脂を基板上にスピンコートして形成する方法、スパッタリングにより形成する方法、無電解めっきにより形成する方法が挙げられる。
【００２５】
スピンコート法での膜厚は約０．３〜１．２μｍ程度、スパッタリング法での膜厚は０．０４〜０．０８μｍ程度、無電解めっき法での膜厚は０．０５〜０．１μｍ程度であり、薄膜化および高密度化の観点からはスパッタリング法および無電解めっき法による膜形成がよい。
【００２６】
磁気薄膜層２３に用いる磁性材料としては、特に限定はなく従来公知のものが使用できるが、高い保持力を得るために結晶異方性の高いＣｏを基本とし、残留磁束密度を調整する目的でＮｉ、Ｃｒを加えたＣｏ系合金などが好適である。近年では、熱アシスト記録用に好適な磁性層材料として、ＦｅＰｔ系の材料が用いられるようになってきている。
【００２７】
磁気ヘッドの滑りをよくするために磁気薄膜層２３の表面に潤滑剤を薄くコーティングしてもよい。潤滑剤としては、例えば液体潤滑剤であるパーフロロポリエーテル（ＰＦＰＥ）をフレオン系などの溶媒で希釈したものが挙げられる。
【００２８】
必要により下地層、保護層を設けてもよい。情報記録媒体１における下地層は磁性膜に応じて選択される。下地層の材料としては、例えば、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ、Ｖ、Ｂ、Ａｌ、Ｎｉなどの非磁性金属から選ばれる少なくとも一種以上の材料が挙げられる。
【００２９】
下地層は単層とは限らず、同一又は異種の層を積層した複数層構造としても構わない。例えば、Ｃｒ／Ｃｒ、Ｃｒ／ＣｒＭｏ、Ｃｒ／ＣｒＶ、ＮｉＡｌ／Ｃｒ、ＮｉＡｌ／ＣｒＭｏ、ＮｉＡｌ／ＣｒＶ等の多層下地層としてもよい。
【００３０】
磁気薄膜層２３の摩耗、腐食を防止する保護層としては、例えば、Ｃｒ層、Ｃｒ合金層、カーボン層、水素化カーボン層、ジルコニア層、シリカ層などが挙げられる。保護層は、下地層、磁性膜など共にインライン型スパッタ装置で連続して形成できる。保護層は、単層としてもよく、あるいは、同一又は異種の層からなる多層構成としてもよい。
【００３１】
上記保護層上に、あるいは上記保護層に替えて、他の保護層を形成してもよい。例えば、上記保護層に替えて、Ｃｒ層の上にテトラアルコキシランをアルコール系の溶媒で希釈した中に、コロイダルシリカ微粒子を分散して塗布し、さらに焼成して酸化ケイ素（ＳｉＯ２）層を形成してもよい。
【００３２】
（ガラス基板１Ｇの製造工程）
次に、図３を参照して、本実施の形態に係るガラス基板１Ｇおよび情報記録媒体１の製造方法を説明する。図３は、ガラス基板１Ｇおよび情報記録媒体１の製造方法を示すフロー図である。
【００３３】
まず、ステップ１０（以下、「Ｓ１０」と略す。ステップ１１以降も同様。）の「ガラス溶融工程」において、ガラス基板を構成するガラス素材を溶融する。
【００３４】
Ｓ１１の「プレス成形工程」において、溶融させたガラス素材を上型および下型を用いたプレスによりガラス基板を作製した。使用したガラス組成は、一般的なアルミノシリケートガラスを用いた。ガラス基板の作製方法としては成形に限らず、公知の手法である板ガラスからの切り出し等でも構わず、ガラス組成もこれに限らない。
【００３５】
Ｓ１２の「第１ラップ工程」において、ガラス基板の両主表面をラッピング加工した。この第１ラップ工程は、遊星歯車機構を利用した両面ラッピング装置を用いて行なった。具体的には、ガラス基板の両面に上下からラップ定盤を押圧させ、研削液をガラス基板の主表面上に供給し、これらを相対的に移動させてラッピング加工を行なった。このラッピング加工により、おおよそ平坦な主表面を有するガラス基板を得た。
【００３６】
Ｓ１３の「コアリング工程」において、円筒状のダイヤモンドドリルを用いて、ガラス基板の中心部に穴を形成し、円環状のガラス基板を作製した。ガラス基板の内周端面、および外周端面をダイヤモンド砥石によって研削し、所定の面取り加工を実施した。
【００３７】
Ｓ１４の「第２ラップ工程」において、ガラス基板の両主表面について、上記第１ラップ工程（Ｓ１２）と同様に、ラッピング加工を行なった。この第２ラップ工程を行なうことにより、前工程のコアリングや端面加工において主表面に形成された微細な凹凸形状を予め除去しておくことができる。その結果、後工程での主表面の研磨時間を短縮することができる。
【００３８】
Ｓ１５の「外周研磨工程」において、ガラス基板の外周端面について、ブラシ研磨による鏡面研磨を行なった。このとき研磨砥粒としては、一般的な酸化セリウム砥粒を含むスラリーを用いた。
【００３９】
Ｓ１６の「第１ポリッシュ工程」において、主表面研磨を行なった。この第１ポリッシュ工程は、上述の第１および第２ラップ工程（Ｓ１２，Ｓ１４）において主表面に残留したキズや反りを矯正することを主目的とするものである。この第１ポリッシュ工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により主表面の研磨を行なった。研磨剤としては、一般的な酸化セリウム砥粒を用いた。
【００４０】
Ｓ１７の「化学強化工程」において、ガラス基板１Ｇの主表面に対して表面強化層を形成した。具体的には、３００℃に加熱された硝酸カリウム（７０％）と硝酸ナトリウム（３０％）の混合溶液中に、ガラス基板１Ｇを約３０分間浸漬することによって化学強化を行なった。その結果、ガラス基板の内周端面および外周端面のリチウムイオンおよびナトリウムイオンが、化学強化溶液中のナトリウムイオンおよびカリウムイオンにそれぞれ置換され、圧縮応力層が形成されることでガラス基板の主表面及び端面が強化された。
【００４１】
Ｓ１８の「第２ポリッシュ工程」において、主表面研磨工程を施した。この第２ポリッシュ工程は上述までの工程で発生、残存している主表面上の微小欠陥等を解消して鏡面状に仕上げること、反りを解消し所望の平坦度に仕上げることを目的とする。この第２ポリッシュ工程は、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により研磨を行なった。研磨剤としては、平滑面を得る為に平均粒径が約２０ｎｍのコロイダルシリカを用いた。
【００４２】
Ｓ１９の「最終洗浄工程（Final  Cleaning）」において、ガラス基板の主表面、端面の最終洗浄を実施する。これによりガラス基板上に残存する付着物を除去する。
【００４３】
Ｓ２０の「磁気薄膜層成膜工程」において、上述の工程を経て得られたガラス基板の洗浄後に、ガラス基板の両主表面に、Ｃｒ合金からなる密着層、ＣｏＦｅＺｒ合金からなる軟磁性層、Ｒｕからなる配向制御下地層、ＣｏＣｒＰｔ合金からなる垂直磁気記録層、Ｃ系の保護層、Ｆ系からなる潤滑層を順次成膜することにより、垂直磁気記録方式の情報記録媒体を製造した。この構成は垂直磁気記録方式の構成の一例であり、面内情報記録媒体として磁性層等を構成してもよい。その後、Ｓ２１の「後熱処理工程」を実施することで、情報記録媒体が完成する。
【００４４】
＜実施例＞
以下、上述した工程により得られた磁気記録媒体用ガラス基板および情報記録媒体について、最終洗浄工程（Ｓ１９）の具体的な洗浄工程を、実施例および比較例として説明する。
【００４５】
（実施例１）
上記「最終洗浄工程（Ｓ１９）」において、図４に示す洗浄装置１００を用いて、ガラス基板の洗浄を実施した。この洗浄装置１００は、ガラス基板ロードステーションＬＤ、第１洗浄ステーション１０１（酸またはアルカリを用いた洗浄）、第２洗浄ステーション１０２（ロールスクラブ洗浄）、第３洗浄ステーション１０３（リンスまたはアルカリを用いた洗浄）、第４洗浄ステーション１０４（カップスクラブ洗浄）、第５洗浄ステーション１０５（リンス洗浄）、第６洗浄ステーション１０６（リンス洗浄）、第７乾燥ステーション１０７（乾燥）、および、ガラス基板アンロードステーションＵＬＤを有し、各ステーション間をガラス基板が順次搬送される。
【００４６】
第１洗浄ステーション１０１、第２洗浄ステーション１０２、第３洗浄ステーション１０３、および第４洗浄ステーション１０４には濃度約２％のアルカリ洗剤を使用した。第２洗浄ステーション１０２では、ロールスクラブ洗浄装置２００を用いたロールスクラブ洗浄を行なった。第４洗浄ステーション１０４では、カップスクラブ洗浄装置３００を用いたカップスクラブ洗浄を行なった。
【００４７】
第５洗浄ステーション１０５および第６洗浄ステーション１０６ではリンス洗浄、第７乾燥ステーション１０７では乾燥工程を行なった。第７乾燥ステーション１０７での乾燥工程は、ＩＰＡベーパーを用いたがこれに限らず温純水乾燥、スピン乾燥等でもよい。
【００４８】
上記第２洗浄ステーション１０２のロールスクラブ洗浄から第４洗浄ステーション１０４のカップスクラブ洗浄への移行においては、第２洗浄ステーション１０２から第３洗浄ステーション１０３への移行、および、第３洗浄ステーション１０３から第４洗浄ステーション１０４への移動において、ガラス基板の主表面を乾燥させないで移行させる。ガラス基板の主表面を乾燥させないで移行とは、各洗浄工程間でガラス基板表面の全面が濡れていることを意味する。ガラス基板の表面の一部でも乾燥すると、その箇所に存在する付着物は、次洗浄工程で除去困難になるからである。
【００４９】
（ロールスクラブ洗浄）
図５から図８を参照して、第２洗浄ステーション１０２における、ロールスクラブ洗浄装置２００を用いたロールスクラブ洗浄について説明する。図５は、ロールスクラブ洗浄工程に用いられるロールスクラブ洗浄装置２００の構成を示す模式図（斜視図）、図６は、ロールスクラブ洗浄工程に用いられるロールスクラブ洗浄装置２００の構成を示す概念図（平面図）、図７および図８は、ロールスクラブ洗浄工程の洗浄状態を示す第１および第２概念図である。
【００５０】
図５および図６を参照して、ロールスクラブ洗浄装置２００は、相互に平行に併置された第１ローラ２１６ａおよび第２ローラ２１６ｂを有する。第１ローラ２１６ａの表面には、スポンジブラシ２１１ａが巻き付けられている。同様に、第２ローラ２１６ｂの表面には、スポンジブラシ２１１ｂが巻き付けられている。スポンジブラシ２１１ａおよびスポンジブラシ２１１ｂの表面には、複数の突起２１１ｐが設けられている。
【００５１】
第１ローラ２１６ａおよび第２ローラ２１６ｂの間には、ガラス基板１Ｇが挟みこまれ、ガラス基板１Ｇの下端は、回転支持ローラ２１３により回転可能に支持されている。
【００５２】
第１ローラ２１６ａおよび第２ローラ２１６ｂは、制御装置２１５により、図示しない駆動装置により、図中の矢印Ｒ１および矢印Ｒ２の方向（カウンタ方向）に回転制御される。回転支持ローラ２１３は、制御装置２１５により、図示しない駆動装置により、図中の矢印Ｒ３の方向に回転制御される。これにより、ガラス基板１Ｇは、図中の矢印Ｒ４の方向に回転する。
【００５３】
第１ローラ２１６ａおよび第２ローラ２１６ｂの上方には、洗浄剤吐出ノズル２１４が設けられ、洗浄剤吐出ノズル２１４からガラス基板１Ｇに向けて洗浄剤が供給される。
【００５４】
図７を参照して、ロールスクラブ洗浄装置２００を用いた、ガラス基板１Ｇの洗浄においては、ガラス基板１Ｇが回転支持ローラ２１３により回転させられた状態で、スポンジブラシ２１１ａおよびスポンジブラシ２１１ｂが、回転することでガラス基板１Ｇの表面が洗浄される。
【００５５】
スポンジブラシ２１１ａおよびスポンジブラシ２１１ｂには、複数の突起２１１ｐが設けられていることから、この突起２１１ｐの作用点に押圧力が集中する。これにより、物理的な洗浄効果を高めることができる。図８に示すように、ガラス基板１Ｇから見た突起２１１ｐの軌跡Ｔは、ガラス基板１Ｇの円周方向に形成され、ガラス基板１ＧのパーティクルＰは、この軌跡に沿って除去される。
【００５６】
（カップスクラブ洗浄）
次に、図９から図１２を参照して、第４洗浄ステーション１０４における、カップスクラブ洗浄装置３００を用いたカップスクラブ洗浄について説明する。図９は、カップスクラブ洗浄工程に用いられるカップスクラブ洗浄装置３００の構成を示す模式図（正面図）、図１０は、カップスクラブ洗浄工程に用いられるカップスクラブ洗浄装置３００の構成を示す模式図（側面図）、図１１および図１２は、カップスクラブ洗浄工程の洗浄状態を示す第１および第２概念図である。
【００５７】
図９および図１０を参照して、カップスクラブ洗浄装置３００は、回転軸３２１から放射状に配置された柱状の複数のスポンジブラシ３２３を有する。このスポンジブラシ３２３は、回転軸３２１の軸方向に沿って所定の間隙を隔てて複数配置されている。回転軸３２１の両端には、端部円盤３２２が設けられている。
【００５８】
軸方向に隣接するスポンジブラシ３２３の間には、ガラス基板１Ｇが挟みこまれる。ガラス基板１Ｇの下端は、回転支持ローラ３１３により回転支持されている。
【００５９】
回転軸３２１は、制御装置３１５により、図示しない駆動装置により、図中の矢印Ｒ１１の方向に回転制御される。その動作につられて、ガラス基板はＲ１４とは逆方向に回転されながら洗浄される。このとき、回転支持ローラ３１３は、支持ローラーのみの役割で、回転支持ローラ３１３はスポンジブラシ３２３の回転に追従して回転する。
【００６０】
スポンジブラシ３２３の上方には、洗浄剤吐出ノズル３１４が設けられ、洗浄剤吐出ノズル３１４からガラス基板１Ｇに向けて洗浄剤が供給される。
【００６１】
図１１を参照して、ロールスクラブ洗浄装置３００を用いた、ガラス基板１Ｇの洗浄においては、スポンジブラシ３２３が、回転することでガラス基板１Ｇの表面が洗浄される。
【００６２】
図１２に示すように、ガラス基板１Ｇから見た柱状のスポンジブラシ３２３の軌跡Ｔは、ガラス基板１Ｇの表面において扇型に形成され、ガラス基板１ＧのパーティクルＰは、この軌跡に沿って除去される。これにより、スポンジブラシ３２３による仕事面積を大きく確保することができる。
【００６３】
図８に示したように、ロールスクラブ洗浄では突起２１１ｐの部分に力が集中し、その軌跡Ｔ上に存在する比較的大きなサイズ（５００ｎｍ〜数μｍ）の付着物除去には適しているが、小さいサイズ（５００ｎｍ以下)の付着物を完全に除去するのは困難である。また、突起２１１ｐが当接した位置にスタンプマークがつき易い。
【００６４】
一方、カップスクラブ洗浄は、柱状のスポンジブラシ３２３の軌跡Ｔはガラス基板の表面を万遍なく掃くように通過することから、小さいサイズの付着も外周付近の１箇所に寄せ集めて取り除く効果がある。また、スタンプマークは付きにくい。
【００６５】
よって、カップスクラブ洗浄とロールスクラブ洗浄とを組み合わせることで、両者の利点により両者の欠点を補うことができ、洗浄効果をより高めることができる。以上より、ロールスクラブ洗浄のみの場合は、小さいサイズの付着物を除去しきれない。カップスクラブ洗浄のみの場合は、大きな付着物の存在により、スポンジブラシがガラス基板の表面を一様に掃く作用を阻害する為に、結果的に小さいサイズの付着物が残存してしまったり、大きな付着物を引きずって微小クラックを発生させてしまう可能性がある。大きな付着物を除去後に小さい付着物を除去するという、両方の組み合わせが必要である。
【００６６】
なお、ロールスクラブ洗浄の第１ローラ２１６ａおよび第２ローラ２１６ｂの回転数は約７００ｒｐｍ、カップスクラブ洗浄の柱状のスポンジブラシ３２３の回転数は約１１０ｒｐｍとした。
【００６７】
回転数が小さすぎると仕事量が小さくなり、大きすぎると摩擦係数が小さくなる。その結果、ガラス基板へのスポンジブラシ面圧が小さくなり仕事量が小さくなる。そこで、ロールスクラブ洗浄では５００ｒｐｍ〜１０００ｒｐｍが好ましく、カップスクラブ洗浄では１００ｒｐｍ〜１２０ｒｐｍが好ましい。
【００６８】
本実施例１では、図４に示すように一体式の洗浄装置１００を用いたが、ロールスクラブ洗浄装置、カップスクラブ洗浄装置、各洗浄ステーションを用いてガラス基板を乾かさずに移送するのであれば、図４に示すように一体式の洗浄装置１００を用いなくてもよい。
【００６９】
（実施例２）
次に、実施例２における、上記「最終洗浄工程（Ｓ１９）」について、図１３および図１４を参照して説明する。図１３は、ロールスクラブ洗浄の洗浄状態を示す概念図、図１４は、カップスクラブ洗浄の洗浄状態を示す概念図である。
【００７０】
上記実施例１における「最終洗浄工程」との相違は、第２洗浄ステーション１０２におけるロールスクラブ洗浄、および、第４洗浄ステーション１０４におけるロールスクラブ洗浄をいずれも、図１３および図１４に示すように、流れる水中（流水槽）で洗浄を行なった点にある。
【００７１】
流れる水中（流水槽）で洗浄を行なうことで、各スポンジブラシによってガラス基板を洗浄する際に、ガラス基板から除去された付着物がスポンジブラシに再付着するのを回避することができる。
【００７２】
（実施例３）
次に、実施例３における、上記「最終洗浄工程（Ｓ１９）」について、図１５および図１６を参照して説明する。図１５は、ロールスクラブ洗浄の洗浄状態を示す概念図、図１６は、カップスクラブ洗浄の洗浄状態を示す概念図である。
【００７３】
上記実施例２における「最終洗浄工程」との相違は、ロールスクラブ洗浄およびカップスクラブ洗浄を流れる水中（流水槽）で行いながら、さらに、図１５および図１６に図示するように、流水槽の下部に超音波発振装置４００を設置し、流水槽に超音波を印加して、ガラス基板の洗浄を行なった。
【００７４】
本実施例では、超音波発振装置４００を用いて、１２０ｋＨｚの超音波を印加した。これにより、ガラス基板の洗浄能力がさらに向上した。使用する超音波の周波数は、８０ｋＨｚ〜４３０ｋＨｚの範囲が好ましく、さらに１２０ｋＨｚ〜１７０ｋＨｚの範囲が好ましい。
【００７５】
（実施例４）
次に、実施例４における、上記「最終洗浄工程（Ｓ１９）」について説明する。上記実施例３との相違は、第４洗浄ステーション１０４におけるカップスクラブ洗浄の後の第５洗浄ステーション１０５のリンス洗浄工程において、高周波洗浄を実施した点にある。
【００７６】
第５洗浄ステーション１０５のリンス洗浄工程において印加した高周波の周波数は、９５０ｋＨｚである。ロールスクラブ洗浄およびカップスクラブ洗浄の順でガラス基板を洗浄することで、おおよその付着物が除去できる。
【００７７】
しかし、使用している研磨材コロイダルシリカのような大きさを考えると、粒径２０ｎｍ(平均粒径)〜１００ｎｍ(若干凝集)の付着物をガラス基板の主表面から完全に除去するには、高周波洗浄によるマイクロストリーミング効果が最適であった。
【００７８】
なお、高周波の周波数は、４３０〜９５０ｋＨｚの範囲が好ましい。これは、一般的に、超音波洗浄のキャビテーションと加速度の関係から、超音波の周波数が４３０ｋＨｚよりも低周波の場合はサイズの大きな付着除去に有効であり、超音波の周波数が９５０ｋＨよりも高周波の場合は小さな付着除去に有効だからである。
【００７９】
（実施例５）
次に、実施例５における、上記Ｓ１９の「最終洗浄工程」について説明する。上記実施例４との相違は、第５洗浄ステーション１０５のリンス洗浄工程において、高周波洗浄とともに機能水として水素水を用いた。水素濃度が低すぎると効果が得られず、水素濃度が高すぎると槽内に水素によるバブリング現象が発生するため、水素濃度は、０．７ｐｐｍで実施した。
【００８０】
なお、水素水の水素濃度は、０．５〜１ｐｐｍの範囲が好ましい。これは、濃度が０．５ｐｐｍよりも低くすぎると、ただの脱気水（水中の酸素、窒素を除去した状態）で微粒子除去効果が薄れるからであり。濃度が１ｐｐｍよりも濃すぎる場合、水素の飽和濃度が１．６ｐｐｍ程度なので、水素の気泡が発生してしまい高周波洗浄の外乱因子になってしまうからである。
【００８１】
本実施例では、機能水として水素水を用いたが、ガラス基板に残存する微小付着物を除去するには、高周波洗浄の効率の向上が図れる水素水が最適であった。ガラス基板の組成によっては、オゾン水との組み合わせがよい場合もある。
【００８２】
（実施例６）
次に、実施例６における、上記Ｓ１９の「最終洗浄工程」について説明する。この実施例においては、上記実施例５との相違は、第６洗浄ステーション１０６のリンス洗浄工程において、除去した微小付着物をフィルターで捕捉するため、開口径が０．０２μｍのフィルターを用いた。
【００８３】
これは、槽内をポンプ循環し、最適な開口のフィルターで付着物を捕捉する必要があるからであり、ガラス基板の製造工程の中で、最終研磨工程で使用している研磨材のサイズは０．０２μｍであり、実際は凝集している為に、研磨材のサイズは、０．０２μｍ〜０．１μｍと想定されます。よって、開口径が０．０２μｍのフィルターを用いることが好ましい。
【００８４】
（比較例１）
上記Ｓ１９の「最終洗浄工程(Final  Cleaning)」において、比較例１として、以下の洗浄工程を実施した。図７および図８に示すロールスクラブ洗浄装置を用いたロールスクラブ洗浄を行なった。上部よりシャワーで洗剤をかけながらスポンジブラシの回転数は７００ｒｐｍとした。その後、ガラス基板を乾燥させない状態で別の洗浄機で最終洗浄を実施した。
【００８５】
洗剤槽（１）、洗剤槽（２）、純水槽（１）、純水槽（２）、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）の順で各洗浄槽に順次浸漬して、超音波洗浄を各５ｍｉｎ実施した。洗剤槽（１）では８０ｋＨｚ、洗剤槽（２）では８０ｋＨｚ、純水槽（１）では８０ｋＨｚ、純水槽（２）では８０ｋＨｚの超音波周波数とした。その後、ＩＰＡによる蒸気乾燥を行なった。
【００８６】
（比較例２）
上記Ｓ１９の「最終洗浄工程(Final  Cleaning)」において、比較例２として、以下の洗浄工程を実施した。図９および図１０に示すカップスクラブ洗浄装置を用いたカップスクラブ洗浄を行なった。上部よりシャワーで洗剤をかけながらスポンジブラシの回転数は110ｒｐｍとした。その後、ガラス基板を乾燥させない状態で別の洗浄機で最終洗浄を実施した。
【００８７】
洗剤槽（１）、洗剤槽（２）、純水槽（１）、純水槽（２）、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）の順で各洗浄槽に順次浸漬して、超音波洗浄を各５ｍｉｎ実施した。洗剤槽（１）では８０ｋＨｚ、洗剤槽（２）では８０ｋＨｚ、純水槽（１）では８０ｋＨｚ、純水槽（２）では８０ｋＨｚの超音波周波数とした。その後、ＩＰＡによる蒸気乾燥を行なった。
【００８８】
実施例１から６、比較例で作製したガラス基板を用いて、図１７に示す浮上テストを実施した。磁気ヘッド２Ｄがサスペンション２Ｃにより保持され、磁気ヘッド２Ｄのガラス基板１Ｇ表面からの浮上量（浮上高さ）をＦ１とする。
【００８９】
通常はガラス基板１Ｇ上に磁気薄膜層を成膜して、情報記録媒体（磁気ディスク記録媒体）の状態で試験を行なうが、今回はガラス基板１Ｇ上に潤滑層のみを形成して浮上テストを実施した。その理由について、図１８から図２０を参照して説明する。
【００９０】
図１８に示すように、ガラス基板１Ｇ上に付着物１ｐが存在し、図１９に示すように、付着物１ｐの上に磁気薄膜層４０１，４０２，４０３（約１００ｎｍ)が形成されると、付着物１ｐ付着物の実際の突起高さよりも情報記録媒体での付着物による突起高さは小さくなる（ｈ４）。これは、付着物１ｐが成膜の過程により徐々に埋没していくためである。
【００９１】
よって、図２０に示すように、ガラス基板１Ｇ上に潤滑層４０１(約数ｎｍ)のみを形成して浮上テストを行なうほうが、より過酷な試験となる。
【００９２】
図２１に、実施例１から６および比較例１、２の浮上テストおよび全面走査後のエラー発生率（ｎ＝１００）の結果を示す。各実施例および比較例においては、１００枚のガラス基板に対して、浮上テストを行ない、エラー発生率を調査した。
【００９３】
いずれの実施例１から６においても、比較例よりも良好な結果となった。なお、浮上テストにおいて、「◎◎」は、実用途で申し分のないレベルであり、「◎」は、十分使用可能なレベルであり、「○」は、使用可能なレベルあり、「×」は、不良多発で実用途には適さないレベルである。
【００９４】
また、実施例１から６においては、ガラス基板の製造過程で生じる不良を低減することが可能となり、各実施例で製造した情報記録媒体（磁気ディスク）は、ガラス基板での浮上テストの結果を反映しており、ヘッドクラッシュ等の発生がなく高密度容量の磁気ディスクとして申し分なく使用できる品質であった。
【００９５】
以上、磁気ヘッドの浮上量が５ｎｍ以下のＤＦＨ機構を採用した情報記録装置において、面記録密度が６３０Ｇｂ／平方インチ以上の高密度の情報記録媒体であっても、磁気ヘッドによる安定した情報の書込みおよび読出しを実行することが可能となる。
【００９６】
今回開示された実施の形態および実施例はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【符号の説明】
【００９７】
１  情報記録媒体、１Ｇ  情報記録媒体用ガラス基板、２  情報記録装置、１１  孔、１２  外周端面、１３  内周端面、１４  表主表面、１５  裏主表面、２３  磁気薄膜層、２００  ロールスクラブ洗浄装置、２１６ａ  第１ローラ、２１６ｂ  第２ローラ、２１１ａ，２１１ｂ，３２３  スポンジブラシ、２１１ｐ  突起、２１３  回転支持ローラ、２１５，３１５  制御装置、３００  カップスクラブ洗浄装置、３２１  回転軸、３２２  端部円盤、２１４，３１４  洗浄剤吐出ノズル。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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