(57)【要約】      （修正有）【課題】容易な方法で、品種間差を反映した加工条件を算出できるウエハ加工方法とウエハ加工装置を提供する。【解決手段】関係式算出部がウエハの品種に依存するパラメータと該パラメータに対応する検査結果との関係を表す関係式を算出する関係式算出工程Ｓ４と、次回加工条件算出部が該関係式からウエハの加工条件を算出する工程Ｓ１１と、を有し、検査装置により新たな検査結果が得られる度に、該パラメータを横軸とし該検査結果の単位を縦軸とする座標平面において、最新の関係式から得られる基準点と新たな検査結果である新規検査結果を表す点とから、該関係式を補正するＳ２５。【選択図】図２
2013207216.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
加工装置が、第１品種のウエハと第２品種のウエハに対しそれぞれ所定の加工を施す第１加工工程と、
検査装置が、前記第１加工工程で加工されたウエハを検査する第１検査工程と、
検査結果取得部が、前記第１検査工程の検査結果を取得する工程と、
関係式算出部が、前記ウエハの品種に依存するパラメータと前記パラメータに対応する前記検査結果から、前記パラメータと前記検査結果との関係を表す第１関係式を算出する工程と、
次回加工品種特定部が、前記加工装置で次に加工するウエハの品種である次回加工品種を特定する工程と、
次回加工条件算出部が、前記次回加工品種に対する加工条件である次回加工条件を、前記第１関係式から算出する工程と、
通知部が、前記次回加工条件を前記加工装置に通知する工程と、
前記加工装置が、前記次回加工条件でウエハを加工する第２加工工程と、
前記検査装置が、前記第２加工工程で加工されたウエハを検査する第２検査工程と、
前記検査結果取得部が、前記第２検査工程の検査結果を取得する工程と、
前記関係式算出部が、前記パラメータを横軸とし前記検査結果の単位を縦軸とする座標平面において、前記第１関係式から得られる基準点と前記第２検査工程の検査結果を表す点とから、前記第１関係式を補正して第２関係式を算出する工程と、
前記第２関係式から算出した加工条件でウエハを加工する工程と、を備え、
前記検査装置により新たな検査結果が得られる度に、最新の関係式から得られる基準点と新たな検査結果である新規検査結果を表す点とから、前記関係式を補正することを特徴とするウエハ加工方法。
【請求項２】
前記第１加工工程と前記第２加工工程はエッチング工程であり、
前記パラメータはウエハに形成されたマスクパターンの開口率であり、
前記検査結果はエッチングレートであることを特徴とする請求項１に記載のウエハ加工方法。
【請求項３】
前記第１関係式、前記第２関係式、及び前記関係式は一次関数で表され、
前記第１関係式、前記第２関係式、及び前記関係式の切片と傾きは、最小二乗法で求めることを特徴とする請求項１又は２に記載のウエハ加工方法。
【請求項４】
第１品種のウエハと第２品種のウエハに対しそれぞれ所定の加工を施す加工装置と、
前記加工装置で加工されたウエハを検査する検査装置と、
前記検査装置の検査結果を取得する検査結果取得部と、
前記ウエハの品種に依存するパラメータと前記パラメータに対応する前記検査結果から、前記パラメータと前記検査結果との関係を表す第１関係式を算出する関係式算出部と、
前記加工装置で次に加工するウエハの品種である次回加工品種を特定する次回加工品種特定部と、
前記次回加工品種に対する加工条件である次回加工条件を、前記第１関係式から算出する次回加工条件算出部と、
前記次回加工条件を前記加工装置に通知する通知部と、を備え、
前記加工装置は、前記次回加工条件でウエハを加工し、
前記検査装置は、前記次回加工条件で加工されたウエハを検査し、
前記検査結果取得部は、前記次回加工条件で加工されたウエハの検査結果を取得し、
前記関係式算出部は、前記パラメータを横軸とし前記検査結果の単位を縦軸とする座標平面において、前記第１関係式から得られる基準点と、前記次回加工条件で加工されたウエハの検査結果を表す点とから、前記第１関係式を補正して第２関係式を算出し、
前記加工装置は、前記第２関係式から算出した加工条件でウエハを加工し、
前記関係式算出部は、前記検査装置により新たな検査結果が得られる度に、最新の関係式から得られる基準点と新たな検査結果である新規検査結果を表す点とから、前記関係式を補正することを特徴とするウエハ加工システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウエハの加工に用いられるウエハ加工方法とウエハ加工システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、ウエハの加工条件を決めるために、まずシミュレーションを行い、当該シミュレーション結果を実測データで補正することが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００９−１５２２６９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
加工装置ではさまざまな品種のウエハを処理する。そのため、ウエハに所望の加工を施すためには、品種間差を考慮して加工条件を定めることが好ましい。しかしながら特許文献１に開示の技術では加工条件を求めるためにシミュレーションが必要となるので、複雑な演算を要するという問題があった。
【０００５】
本発明は、上述のような課題を解決するためになされたもので、容易な方法で、品種間差を反映した加工条件を算出できるウエハ加工方法とウエハ加工システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本願の発明に係るウエハ加工方法は、加工装置が、第１品種のウエハと第２品種のウエハに対しそれぞれ所定の加工を施す第１加工工程と、検査装置が、該第１加工工程で加工されたウエハを検査する第１検査工程と、検査結果取得部が、該第１検査工程の検査結果を取得する工程と、関係式算出部が、該ウエハの品種に依存するパラメータと該パラメータに対応する該検査結果から、該パラメータと該検査結果との関係を表す第１関係式を算出する工程と、次回加工品種特定部が、該加工装置で次に加工するウエハの品種である次回加工品種を特定する工程と、次回加工条件算出部が、該次回加工品種に対する加工条件である次回加工条件を、該第１関係式から算出する工程と、通知部が、該次回加工条件を該加工装置に通知する工程と、該加工装置が、該次回加工条件でウエハを加工する第２加工工程と、該検査装置が、該第２加工工程で加工されたウエハを検査する第２検査工程と、該検査結果取得部が、該第２検査工程の検査結果を取得する工程と、該関係式算出部が、該パラメータを横軸とし該検査結果の単位を縦軸とする座標平面において、該第１関係式から得られる基準点と該第２検査工程の検査結果を表す点とから、該第１関係式を補正して第２関係式を算出する工程と、該第２関係式から算出した加工条件でウエハを加工する工程と、を備え、該検査装置により新たな検査結果が得られる度に、最新の関係式から得られる基準点と新たな検査結果である新規検査結果を表す点とから、該関係式を補正することを特徴とする。
【０００７】
本願の発明に係るウエハ加工システムは、第１品種のウエハと第２品種のウエハに対しそれぞれ所定の加工を施す加工装置と、該加工装置で加工されたウエハを検査する検査装置と、該検査装置の検査結果を取得する検査結果取得部と、該ウエハの品種に依存するパラメータと該パラメータに対応する該検査結果から、該パラメータと該検査結果との関係を表す第１関係式を算出する関係式算出部と、該加工装置で次に加工するウエハの品種である次回加工品種を特定する次回加工品種特定部と、該次回加工品種に対する加工条件である次回加工条件を、該第１関係式から算出する次回加工条件算出部と、該次回加工条件を該加工装置に通知する通知部と、を備え、該加工装置は、該次回加工条件でウエハを加工し、該検査装置は、該次回加工条件で加工されたウエハを検査し、該検査結果取得部は、該次回加工工程で加工されたウエハの検査結果を取得し、該関係式算出部は、該パラメータを横軸とし該検査結果の単位を縦軸とする座標平面において、該第１関係式から得られる基準点と、該次回加工工程で加工されたウエハの検査結果を表す点とから、該第１関係式を補正して第２関係式を算出し、該加工装置は、該第２関係式から算出した加工条件でウエハを加工し、該関係式算出部は、該検査装置により新たな検査結果が得られる度に、最新の関係式から得られる基準点と新たな検査結果である新規検査結果を表す点とから、該関係式を補正することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、容易な方法で品種間差を反映した加工条件を算出できる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の実施の形態に係るウエハ加工システムを示す図である。
【図２】本発明の実施の形態に係るウエハ加工方法を示すフローチャートである。
【図３】第１関係式により得られた直線を示す図である。
【図４】第２関係式を算出することを示す図である。
【図５】第３関係式を算出することを示す図である。
【図６】第ｉ関係式を算出することを示す図である。
【図７】比較例の関係式により得られた直線を示す図である。
【図８】マスクパターン開口率が大きい品種のウエハについて新規検査結果が得られたときの関係式の補正を示す図である。
【図９】マスクパターン開口率が小さい品種のウエハについて新規検査結果が得られたときの関係式の補正を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
実施の形態．
図１は、本発明の実施の形態に係るウエハ加工システムを示す図である。ウエハ加工システムは計算機１０を備える。計算機１０には加工装置１２と検査装置１４が接続されている。加工装置１２は、計算機１０から通知される条件でウエハをエッチングするエッチング装置である。検査装置１４は加工装置１２で加工されたウエハを検査するものである。本発明の実施の形態１に係るウエハ加工システムは、計算機１０が、検査装置１４で得られた検査結果から次に処理するウエハの加工条件を決定し、加工装置１２に通知するものである。
【００１１】
次いで、本発明の実施の形態に係るウエハ加工システムを用いた、ウエハ加工方法を説明する。図２は、本発明の実施の形態に係るウエハ加工方法を示すフローチャートである。まず、加工装置１２が、第１品種のウエハと第２品種のウエハに対しそれぞれエッチングを施す。第１品種のウエハと第２品種のウエハにはマスクパターンが形成されている。このマスクパターンをマスクとしてウエハをエッチングすることでディープトレンチを形成する。第１品種のウエハにおけるマスクパターン開口率（第１開口率）は、第２品種のウエハにおけるマスクパターン開口率（第２開口率）よりも小さい。第１開口率と第２開口率の差は大きいほど好ましい。この工程を第１加工工程(ステップＳ１)と称する。第１加工工程による処理を終えたウエハは検査装置１４に搬送される。
【００１２】
ステップＳ１を終えるとステップＳ２へ処理が進められる。ステップＳ２では検査装置１４が第１加工工程で加工されたウエハを検査する。この工程を第１検査工程（ステップＳ２）と称する。第１検査工程では、第１品種のウエハのエッチングレートと、第２品種のウエハのエッチングレートを検査する。ステップＳ２を終えるとステップＳ３へと処理が進められる。ステップＳ３では検査結果取得部１０ａが、ウエハの検査結果を取得する。この工程を検査結果取得工程と称する。検査結果取得部１０ａは、検査結果をマスクパターン開口率と関連付けて取得する。すなわち、ウエハの品種に依存するパラメータであるマスクパターン開口率ごとに、検査結果（エッチングレート）を取得する。
【００１３】
ステップＳ３を終えるとステップＳ４へ処理が進められる。ステップＳ４では関係式算出部１０ｂが、検査結果取得部１０ａで取得したデータを用いて第１関係式を算出する。第１関係式とは、ウエハの品種に依存するパラメータと検査結果の関係を表すものである。本発明の実施の形態では、ウエハの品種に依存するパラメータとしてマスクパターン開口率を採用し、検査結果としてエッチングレートを採用する。半導体のエッチングにおいては、エッチングレートがマスクパターン開口率によって変化することがある。例えばマスクパターン開口率が小さいとエッチングレートが増加傾向となることがある。検査結果取得部１０ａにより検査結果とマスクパターン開口率を関連付けて取得したので、マスクパターン開口率Ｅとそれに対応するエッチングレートＶに基づいて第１関係式を算出することができる。
【００１４】
図３は、第１関係式により得られた直線を示す図である。第１関係式は、マスクパターン開口率がＥ１１（第１開口率）である第１品種のウエハの検査結果（エッチングレート）を示すＰ１１と、マスクパターン開口率がＥ１２（第２開口率）である第２品種のウエハの検査結果（エッチングレート）を示すＰ１２を結ぶ下記の式１で表される。
【００１５】
【数１】
2013207216.tif 000003
【００１６】
ここで、
Ｖ：エッチングレート
ｃ１：切片
ａ１：傾き
Ｅ：マスクパターン開口率
である。このように、第１関係式はマスクパターン開口率Ｅに関する１次関数Ｖ１で表される。この関係式は、品種間の出来栄えの違いを定量的に表すものである。図３から明らかなように、Ｅ１１（第１開口率）とＥ１２（第２開口率）の差を大きくすることで、第１関係式を精度よく算出できる。なお、第１加工工程ではＥ１１（第１開口率）とＥ１２（第２開口率）の差を大きくするために、製品用マスクパターンとは異なるパターンが形成された評価用ウエハなどを用いてもよい。
【００１７】
ステップＳ４を終えるとステップＳ５へ処理が進められる。ステップＳ５では次回加工品種特定部１０ｃが、加工装置１２で次に加工するウエハの品種である次回加工品種を特定する。ステップＳ５を終えるとステップＳ６へ処理が進められる。ステップＳ６では、次回加工条件算出部１０ｄが、次回加工品種に対する加工条件である次回加工条件を、第１関係式から算出する。具体的には、第１関係式を用いて、次回加工品種のマスクパターン開口率Ｅ２３から次回加工品種のウエハのエッチングレートＶｃａｌｃ２３（＝ｃ１＋ａ１×Ｅ２３）を算出する。そして、エッチングレートＶｃａｌｃ２３で所望のディープトレンチを形成できるようにエッチング条件（次回加工条件）を決める。エッチング条件の一つとして、エッチング時間が挙げられる。エッチング時間を例えばエッチングレートに反比例するように設定することで、マスクパターン開口率による品種間の出来映えの違いをエッチング条件に反映して加工することができ、品種によらず所望の深さのエッチングを精度よく行うことができる。
【００１８】
ステップＳ６を終えるとステップＳ７へ処理が進められる。ステップＳ７では通知部１０ｅが、次回加工条件を加工装置１２に通知する。ステップＳ７を終えるとステップＳ８へ処理が進められる。ステップＳ８では加工装置１２が次回加工品種のウエハを次回加工条件でエッチングする。この工程は第２加工工程と称する。ステップＳ８を終えるとステップＳ９へ処理が進められる。ステップＳ９では検査装置１４が第２加工工程で加工したウエハを検査する。この工程を第２検査工程と称する。また、直近の検査で得られた検査結果を「新規検査結果」と称する。新規検査結果は、１品種分の検査結果に限らず、複数品種分の検査結果であってもよい。ステップＳ９を終えるとステップＳ１０へと処理が進められる。ステップＳ１０では検査結果取得部１０ａが新規検査結果を取得する。
【００１９】
ステップＳ１０を終えるとステップＳ１１へと処理が進められる。ステップＳ１１では関係式算出部１０ｂが、第１加工工程で加工したウエハの検査結果に新規検査結果を加えて、第１関係式を補正し第２関係式を算出する。関係式の補正について図４を参照して説明する。図４は、第２関係式を算出することを示す図である。補正前の第１関係式は直線Ｌ１で表されている。補正後の第２関係式は直線Ｌ２で示されている。直線Ｌ１は、Ｐ１１、Ｐ１２から算出されている。Ｐ１１、Ｐ１２の２点の座標はそれぞれ（Ｅ１１，Ｖ１１）、（Ｅ１２，Ｖ１２）である。第１関係式の補正は、Ｐ２１、Ｐ２２、Ｐ２３の３点から関係式を算出し直すことで行う。Ｐ２１、Ｐ２２の２点は直線Ｌ１上の基準点である。Ｐ２１、Ｐ２２の２点の座標はそれぞれ（Ｅ２１，Ｖ１（Ｅ２１））、（Ｅ２２，Ｖ１（Ｅ２２））である。Ｐ２３は新規検査結果を表す点である。Ｐ２３の座標は、第２工程の加工品種のマスクパターン開口率Ｅ２３と第２検査工程における検査結果Ｖ２３から（Ｅ２３，Ｖ２３）と表される。これらの３点から一次関数である関係式の切片と傾きを最小二乗法で求める。
【００２０】
Ｐ２１、Ｐ２２、Ｐ２３の３点の座標をそれぞれ（Ｅ２１、Ｖ２１）、（Ｅ２２、Ｖ２２）、（Ｅ２３、Ｖ２３）とすると、最小二乗法を用いて、第２関係式の切片ｃ２は以下の数式で表される。
【００２１】
【数２】
2013207216.tif 000004
【００２２】
また、第２関係式の傾きａ２は以下の数式で表される。
【００２３】
【数３】
2013207216.tif 000005
【００２４】
第２関係式は以下の数式で表される。
【００２５】
【数４】
2013207216.tif 000006
【００２６】
このように、関係式算出部１０ｂは、パラメータ（マスクパターン開口率）を横軸とし検査結果（エッチングレート）の値を縦軸とする座標平面において、第１関係式から得られる基準点（Ｐ２１，Ｐ２２）と第２検査工程の検査結果を表す点(Ｐ２３)とから、第１関係式Ｌ１を補正して第２関係式Ｌ２を算出する。
【００２７】
ところで、第２関係式算出のための第１開口率Ｅ２１、第２開口率Ｅ２２をそれぞれ第１加工工程における第１開口率Ｅ１１、第２開口率Ｅ１２と同一の値とすれば、基準点Ｐ２１、Ｐ２２はそれぞれＰ１１、Ｐ１２と同一の点となる。なお、Ｅ２１、Ｅ２２をそれぞれＥ１１、Ｅ１２と異なる値とすることもでき、その場合基準点Ｐ２１、Ｐ２２は直線Ｌ１上の点であるものの、Ｐ１１、Ｐ１２とは異なる点となる。なお、第２関係式算出のための第１開口率Ｅ２１と第２開口率Ｅ２２の差は大きいほど好ましい。
【００２８】
ステップＳ１１を終えるとステップＳ１２へと処理が進められる。ステップＳ１２では、次回加工品種（第３加工工程における加工品種）を特定する。次いで、ステップＳ１３では次回加工条件（第３加工工程における加工条件）を第２関係式から算出する。具体的には、第２関係式を用いて、次回加工品種のマスクパターン開口率Ｅ３３から次回加工品種のウエハのエッチングレートＶｃａｌｃ３３（＝Ｖ２（Ｅ３３））を算出し、エッチング条件（次回加工条件）を決める。次いで、ステップＳ１４では、通知部１０ｅが次回加工条件を加工装置１２に通知する。次いで、ステップＳ１５では加工装置１２が、次回加工条件で次回加工品種のウエハをエッチングする（第３加工工程）。次いで、ステップＳ１６にて検査装置１４が第３加工工程で加工したウエハを検査する（第３検査工程）。次いでステップＳ１７にて、検査結果取得部１０ａが新規検査結果すなわち第３検査工程における検査結果を取得する。
【００２９】
次いで、ステップＳ１８にて、関係式算出部１０ｂが第２関係式から得られる基準点と、第３加工工程におけるエッチングレートを表す新規検査結果から、第３関係式を算出する（第３関係式算出工程）。図５は、第３関係式を算出することを示す図である。具体的には、直線Ｌ２上の基準点Ｐ３１、Ｐ３２に、Ｐ３３で表される新規検査結果を加えた３点から、一次関数の切片と傾きを最小二乗法で求めることで、第３関係式を算出する。Ｐ３１、Ｐ３２の座標はそれぞれ（Ｅ３１，Ｖ２（Ｅ３１））、（Ｅ３２，Ｖ２（Ｅ３２））である。Ｐ３３の座標は、第３加工工程の加工品種のマスクパターン開口率Ｅ３３と第３検査工程における検査結果Ｖ３３から（Ｅ３３，Ｖ３３）と表される。第３関係式算出のための第１開口率Ｅ３１、同第２開口率Ｅ３２は、それぞれ第２関係式算出のための第１開口率Ｅ２１、同第２開口率Ｅ２２と同一の値とすると、関係式の算出が容易となる。Ｅ３１、Ｅ３２を、Ｅ２１、Ｅ２２とは異なる値とすることもでき、その場合はＥ３１とＥ３２の差は大きいほど好ましい。
【００３０】
以上のように、第２検査工程における検査結果により第１関係式を補正して第２関係式を得て、第３検査工程における検査結果により第２関係式を補正して第３関係式を得る、というように新規検査結果により関係式を順次補正していく。このことにより、品種間の出来映えの違いのみならず、加工工程の変動（加工条件を一定にしていても加工装置または環境の変化等により経時的に製品の出来映えが変化すること）をも製品の出来映えの検査結果を介して加工条件にフィードバックさせ、製品の加工ばらつきを小さくすることができる。
【００３１】
以後、加工と検査を行う度に、新しく得られた検査結果によって関係式を補正していく。すなわち、検査装置１４により新たな検査結果が得られる度に、最新の関係式から得られる基準点と新たな検査結果である新規検査結果を表す点とから、その関係式を補正していく。ステップＳ１９−Ｓ２５の処理内容は、ステップＳ１２−Ｓ１８の処理内容と同じである。図６は、第ｉ関係式を算出することを示す図である。第ｉ関係式とはｉ番目の関係式である。第ｉ加工工程（ステップＳ２３）では、第ｉ加工工程における加工品種のマスクパターン開口率Ｅｉ３と、その直前の関係式算出工程で得られた第（ｉ−１）関係式Ｖ＝Ｖｉ−１（Ｅ）とから得られるエッチングレートＶｃａｌｃｉ３（＝Ｖｉ−１（Ｅｉ３））を用いて、エッチング条件を決定し加工を行う。そして、第（ｉ−１）関係式で示される直線Ｌｉ−１上の基準点Ｐｉ１，Ｐｉ２と、第ｉ検査工程の検査結果Ｖｉ３に対応する点Ｐｉ３＝（Ｅｉ３，Ｖｉ３）とから、最小二乗法により、以下の数式で表される第ｉ関係式を求める。
【００３２】
【数５】
2013207216.tif 000007
【００３３】
ここで、ｃiとａｉは以下のように求められる。
【００３４】
【数６】
2013207216.tif 000008
【００３５】
【数７】
2013207216.tif 000009
【００３６】
ステップＳ２６で関係式をリセットしなければならない事由（加工装置のメンテナンス等）がなければ、上述した処理と同じ処理である第（ｉ＋１）加工工程、第（ｉ＋１）検査工程、第（ｉ＋１）関係式算出工程などを実施する。ステップ２６で関係式をリセットしなければならない事由が生じない限り、これらの処理を繰り返していく。
【００３７】
なお、関係式の補正を行うための第１開口率Ｅｉ１、第２開口率Ｅｉ２は、それぞれ各段階の工程を通して同一の値を用いると、関係式算出が容易となる。第ｉ加工工程においてマスク開口率がＥｉ３，Ｅｉ４，．．，Ｅｉ Ｎ＋２であるＮ個の複数品種の加工を行う場合には、第ｉ検査工程において複数品種の検査結果Ｖｉ３，Ｖｉ４，．．．，Ｖｉ Ｎ＋２が得られる。この場合、式６、式７の総和（Σ）の計算において、ｊ＝１，２，３ではなくｊ＝１，２，．．．，Ｎ＋２として計算する。具体的には以下のとおりである。
【００３８】
【数８】
2013207216.tif 000010
【００３９】
【数９】
2013207216.tif 000011
【００４０】
また、関係式の補正に際して、各加工工程における品種の数が多い場合や、新規検査結果の誤差が大きい場合など、新規検査結果の補正への反映量を小さくしたいときや、逆に反映量を大きくしたいときには、基準点と新規検査結果を表す点とで異なる重み付けを行い最小二乗近似を行えばよい。
【００４１】
本発明の実施の形態に係るウエハ加工方法とウエハ加工システムによれば、容易な方法で、品種間差を反映した加工条件（エッチングレート）を算出できる。すなわち、品種間の出来栄えの違いを定量的に表す関係式を用いて加工条件を算出するので品種ごとに適切な加工条件を算出できる。さらに本発明の実施の形態に係るウエハ加工方法とウエハ加工システムによれば、加工工程の変動を関係式に反映させつつ、品種ごとに適切な加工条件を算出できるので、経時的な品質ばらつきと品種間の品質ばらつきの両方を小さくすることができる。また、処理実績のない品種のウエハについても、関係式を用いて最適な加工条件を算出することができる。このように品種ごとに最適な加工条件を算出することで、品種間差を低減して、品種間の品質ばらつきを小さくすることができる。しかも、関係式は１次関数で表されるので任意の品種のウエハに対して採用すべき加工条件を容易に求めることができる。
【００４２】
ところで、新規検査結果のみから関係式を求めることとすると、関係式が不正確になることがある。このことについて、図７を参照して説明する。図７は、比較例の関係式により得られた直線を示す図である。直線Ｌａは補正前の関係式を表し、直線Ｌｂは補正後の関係式を表す。直線Ｌｂは、直線Ｌａで表される関係式を算出したときの検査結果の影響を受けず、新規検査結果であるＰａ、Ｐｂ、Ｐｃのみから算出されている。新規検査結果Ｐａ、Ｐｂ、Ｐｃはマスクパターン開口率の大きい領域に集中しているため、直線Ｌｂはマスクパターン開口率の小さい領域において誤差が大きくなり易い。
【００４３】
しかしながら、本発明の実施の形態に係るウエハ加工方法によれば、補正前の関係式で算出される２点以上の基準点に新規検査結果を加えて関係式を補正する。新規検査結果が特定のマスクパターン開口率周辺に集中した場合でも、補正前の関係式で算出される基準点が他のマスクパターン開口率についての検査結果を補う。よって、様々なマスクパターン開口率について誤差の小さいエッチングレートを算出できる。
【００４４】
例えば、マスクパターン開口率が大きい品種のウエハについて新規検査結果が得られた場合を考える。図８は、マスクパターン開口率が大きい品種のウエハについて新規検査結果が得られたときの関係式の補正を示す図である。この場合、マスクパターン開口率の大きい領域では新規検査結果(Ｐ２３)の影響を受けるが、マスクパターン開口率の小さい領域では補正がかかりにくい。他方、マスクパターン開口率が小さい品種のウエハについて新規検査結果が得られた場合を考える。図９は、マスクパターン開口率が小さい品種のウエハについて新規検査結果が得られたときの関係式の補正を示す図である。この場合、マスクパターン開口率の小さい領域では新規検査結果（Ｐ２３）の影響を受けるが、マスクパターン開口率の大きい領域では補正がかかりにくい。
【００４５】
実際のウエハ加工工程においては、マスクパターン開口率の下限から上限までの広い範囲で均等に製品の検査結果が得られるとは限らず、マスクパターン開口率が偏った領域の品種の検査結果しか得られない場合がある。このような場合においても、本発明の実施の形態に係るウエハ加工方法とウエハ加工システムによれば、補正前の関係式の直線上の基準点も使用して関係式を補正するため、検査結果が得られなかったマスクパターン開口率の領域での誤差を抑制しつつ、検査結果を関係式にフィードバックすることができる。補正前の直線上の２つの基準点を、マスクパターン開口率の差が大きくなるように、特にマスクパターン開口率の下限領域と上限領域とに取ることで、検査結果が得られなかったマスクパターン開口率の領域での補正誤差を顕著に抑制することができる。
【００４６】
本発明の実施の形態では、最初に第１品種のウエハと第２品種のウエハの検査結果から関係式を算出したが、本発明はこれに限定されない。複数品種のウエハの計算結果から第１関係式を算出すれば特に限定されない。
【００４７】
第１加工工程、第２加工工程などの加工工程をエッチング工程としたが本発明はこれに限定されない。例えば、成膜工程や写真製版工程について本発明を応用しても上述の効果を得ることができる。成膜工程の場合は、「ウエハの品種に依存するパラメータ」として仕上がり寸法、「検査結果」として成膜レートを採用した関係式を算出する。このように、「ウエハの品種に依存するパラメータ」や「検査結果」は対象とする工程によって適宜変化させればよい。
【００４８】
本発明の実施の形態では、関係式を最小二乗法で算出したが、他の方法で算出してもよい。さらに、本発明の特徴を失わない限りにおいて様々な変形が可能である。
【符号の説明】
【００４９】
１０  計算機、  １０ａ  検査結果取得部、  １０ｂ  関係式算出部、  １０ｃ  次回加工品種特定部、  １０ｄ  次回加工条件算出部、  １０ｅ  通知部、 １２ 加工装置、  １４ 検査装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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