(57)【要約】【課題】製造性に優れた構造であり、正確な駆動を実現することができる光学素子アレイを提供する。【解決手段】この光学素子アレイは、対向配置された第１および第２の基板と、第１の基板の、第２の基板と対向する内面に立設する複数の第１の壁と、隣り合う第１の壁の対向する壁面にそれぞれ設けられた第１および第２の電極と、第２の基板の、第１の基板と対向する内面に設けられた第３の電極と、第１の基板の内面および第１の壁を部分的に覆い、第１の基板と第２の基板とが挟む空間の少なくとも一部を部分的もしくは全体的に取り囲む第２の壁と、第１の基板、第２の基板および第２の壁によって取り囲まれた空間に封入され、互いに異なる屈折率を有する極性液体および無極性液体とを備える。【選択図】図２
2013104913.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対向配置された第１および第２の基板と、
前記第１の基板の、前記第２の基板と対向する内面に立設する複数の第１の壁と、
隣り合う前記第１の壁の対向する壁面にそれぞれ設けられた第１および第２の電極と、
前記第２の基板の、前記第１の基板と対向する内面に設けられた第３の電極と、
前記第１の基板の内面および前記第１の壁を部分的に覆い、前記第１の基板と前記第２の基板とが挟む空間の少なくとも一部を部分的もしくは全体的に取り囲む第２の壁と、
前記第１の基板、前記第２の基板および前記第２の壁によって取り囲まれた空間に封入され、互いに異なる屈折率を有する極性液体および無極性液体と
を備えた光学素子アレイ。
【請求項２】
前記第２の壁の上端は、前記第１の壁の上端よりも高い位置にある
請求項１記載の光学素子アレイ。
【請求項３】
前記第１の壁の上端と、前記第２の基板との間にスペーサを有する
請求項１記載の光学素子アレイ。
【請求項４】
前記スペーサおよび前記第２の壁が同一材料からなる
請求項３記載の光学素子アレイ。
【請求項５】
前記スペーサは遮光性材料からなる
請求項３記載の光学素子アレイ。
【請求項６】
前記第１および第２の電極をそれぞれ覆う絶縁膜をさらに備えた
請求項１記載の光学素子アレイ。
【請求項７】
前記第２の壁をも覆うように前記絶縁膜が設けられている
請求項６記載の光学素子アレイ。
【請求項８】
前記第２の壁は、前記第１および第２の電極をも選択的に覆うように設けられている
請求項１記載の光学素子アレイ。
【請求項９】
前記第２の壁は、前記複数の第１の壁と、前記第１の壁によって仕切られた複数の空間とを横断するように設けられている
請求項１記載の光学素子アレイ。
【請求項１０】
表示部と、光学素子アレイとを備え、
前記光学素子アレイは、
対向配置された第１および第２の基板と、
前記第１の基板の、前記第２の基板と対向する内面に立設する複数の第１の壁と、
隣り合う前記第１の壁の対向する壁面にそれぞれ設けられた第１および第２の電極と、
前記第２の基板の、前記第１の基板と対向する内面に設けられた第３の電極と、
前記第１の基板の内面と前記第１の壁とを部分的に覆い、前記表示手段の有効領域の外縁に沿って設けられた第２の壁と、
前記第１の基板、前記第２の基板および前記第２の壁によって取り囲まれた空間に封入され、互いに異なる屈折率を有する極性液体および無極性液体と
を含む
表示装置。
【請求項１１】
表示部と光学素子アレイとを有する表示装置を備え、
前記光学素子アレイは、
対向配置された第１および第２の基板と、
前記第１の基板の、前記第２の基板と対向する内面に立設する複数の第１の壁と、
隣り合う前記第１の壁の対向する壁面にそれぞれ設けられた第１および第２の電極と、
前記第２の基板の、前記第１の基板と対向する内面に設けられた第３の電極と、
前記第１の基板の内面と前記第１の壁とを選択的に覆い、前記表示手段の有効領域の外縁に沿って設けられた第２の壁と、
前記第１の基板、前記第２の基板および前記第２の壁によって取り囲まれた空間に封入され、互いに異なる屈折率を有する極性液体および無極性液体と
を含む
電子機器。
【請求項１２】
第１の基板の表面に立設する複数の第１の壁を形成する工程と、
前記第１の壁の壁面に、互いに対向するように第１および第２の電極を形成する工程と、
前記第１の基板の表面と前記第１の壁とを選択的に覆い、かつ、前記第１の基板上の空間を部分的もしくは全体的に取り囲むように第２の壁を形成する工程と、
一方の面に第３の電極が設けられた第２の基板を、前記第３の電極が前記第１の基板と対向するように配置する工程と、
前記第１の基板、前記第２の基板および前記第２の壁によって取り囲まれた空間に、互いに異なる屈折率を有する極性液体および無極性液体を封入する工程と
を含む光学素子アレイの形成方法。
【請求項１３】
前記第２の壁の上端を、前記第１の壁の上端よりも高い位置とする
請求項１２記載の光学素子アレイの形成方法。
【請求項１４】
前記第１の壁の上端と前記第２の基板との間にスペーサを形成する工程をさらに含む
請求項１２記載の光学素子アレイの形成方法。
【請求項１５】
前記スペーサおよび前記第２の壁と、同一材料を用いて一括して形成する
請求項１４記載の光学素子アレイ。
【請求項１６】
前記スペーサを、遮光性材料を用いて形成する
請求項１４記載の光学素子アレイの形成方法。
【請求項１７】
前記第１および第２の電極をそれぞれ覆うように絶縁膜を形成する工程をさらに含む
請求項１２記載の光学素子アレイの形成方法。
【請求項１８】
前記絶縁膜を、前記第２の壁をも覆うように形成する
請求項１７記載の光学素子アレイの形成方法。
【請求項１９】
前記第１および第２の電極の形成を、前記第２の壁を形成する前の段階で行う
請求項１２記載の光学素子アレイの形成方法。
【請求項２０】
前記第２の壁を、前記複数の第１の壁と前記第１の壁によって仕切られた複数の空間とを横断するように形成する
請求項１２記載の光学素子アレイの形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、エレクトロウェッティング現象を利用した光学素子アレイ、それらを備えた表示装置および電子機器、ならびにそのような光学素子アレイの形成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、エレクトロウェッティング現象（電気毛管現象）により光学作用を発揮する液体光学素子が開発されている。エレクトロウェッティング現象とは、電極と導電性を有する液体（極性液体）との間に電圧を印加した場合に、その電極の表面と液体との界面エネルギーが変化し、液体の表面形状が変化する現象をいう。
【０００３】
本出願人は、このような複数の液体光学素子からなる光学素子アレイをレンチキュラーレンズとして用いた立体画像表示装置を、既に提案している（例えば特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−２４７４８０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
最近では、このような光学素子アレイに対し、より正確な駆動制御が求められつつある。そのためには、対向する電極同士の間隔など、各部の寸法精度の向上が必要となる。その一方で全体構成の大型化への対応も求められている。
【０００６】
本開示はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その第１の目的は、大型化した場合であっても十分な寸法精度を確保しつつ、製造性に優れた構造を有する光学素子アレイ、ならびにそれを備えた表示装置および電子機器を提供することにある。また、本開示の第２の目的は、そのような光学素子アレイを効率的かつ高い精度で形成可能な光学素子アレイの形成方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本開示の光学素子アレイは、以下の（Ａ１）〜（Ａ６）の各構成要件を備えたものである。
（Ａ１）対向配置された第１および第２の基板。
（Ａ２）第１の基板の、第２の基板と対向する内面に立設する複数の第１の壁。
（Ａ３）隣り合う第１の壁の対向する壁面にそれぞれ設けられた第１および第２の電極。
（Ａ４）第２の基板の、第１の基板と対向する内面に設けられた第３の電極。
（Ａ５）第１の基板の内面および第１の壁を部分的に覆い、第１の基板と第２の基板とが挟む空間の少なくとも一部を部分的もしくは全体的に取り囲む第２の壁。
（Ａ６）第１の基板、第２の基板および第２の壁によって取り囲まれた空間に封入され、互いに異なる屈折率を有する極性液体および無極性液体。
【０００８】
本開示の表示装置は、表示手段と光学素子アレイとを備えたものであって、光学素子アレイが以下の（Ｂ１）〜（Ｂ６）の各構成要件を含むものである。
（Ｂ１）対向配置された第１および第２の基板。
（Ｂ２）第１の基板の、第２の基板と対向する内面に立設する複数の第１の壁。
（Ｂ３）隣り合う第１の壁の対向する壁面にそれぞれ設けられた第１および第２の電極。
（Ｂ４）第２の基板の、第１の基板と対向する内面に設けられた第３の電極。
（Ｂ５）第１の基板の内面と第１の壁とを部分的に覆い、表示手段の有効領域の外縁に沿って設けられた第２の壁。
（Ｂ６）第１の基板、第２の基板および第２の壁によって取り囲まれた空間に封入され、互いに異なる屈折率を有する極性液体および無極性液体。
【０００９】
本開示の電子機器は、表示手段と光学素子アレイとを有する表示装置を備えたものであって、光学素子アレイが以下の（Ｃ１）〜（Ｃ６）の各構成要件を含むものである。
（Ｃ１）対向配置された第１および第２の基板。
（Ｃ２）第１の基板の、第２の基板と対向する内面に立設する複数の第１の壁。
（Ｃ３）隣り合う第１の壁の対向する壁面にそれぞれ設けられた第１および第２の電極。
（Ｃ４）第２の基板の、第１の基板と対向する内面に設けられた第３の電極。
（Ｃ５）第１の基板の内面と第１の壁とを選択的に覆い、表示手段の有効領域の外縁に沿って設けられた第２の壁。
（Ｃ６）第１の基板、第２の基板および第２の壁によって取り囲まれた空間に封入され、互いに異なる屈折率を有する極性液体および無極性液体。
【００１０】
本開示の光学素子アレイの形成方法は、以下の（Ｄ１）〜（Ｄ５）の各工程を含むものである。
（Ｄ１）第１の基板の表面に立設する複数の第１の壁を形成する工程。
（Ｄ２）第１の壁の壁面に、互いに対向するように第１および第２の電極を形成する工程。
（Ｄ３）第１の基板の表面と第１の壁とを選択的に覆い、かつ、第１の基板上の空間を部分的もしくは全体的に取り囲むように第２の壁を形成する工程。
（Ｄ４）一方の面に第３の電極が設けられた第２の基板を、第３の電極が第１の基板と対向するように配置する工程。
（Ｄ５）第１の基板、第２の基板および第２の壁によって取り囲まれた空間に、互いに異なる屈折率を有する極性液体および無極性液体を封入する工程。
【００１１】
本開示の光学素子アレイ、表示装置、電子機器および光学素子アレイの形成方法では、第１の壁と第２の壁とを別体として設けるようにしたので、第１および第２の壁がそれぞれ高精度の寸法を有するものとなる。これは、第１の基板上に、第１および第２の壁のうち、第１の壁のみを複数配置した構造であれば、比較的加工しやすい構造となるからである。すなわち、一軸方向において連続した同一断面形状を有するものとなり、あるいは一定の周期で変化する断面形状を有するものとなるからである。このような構造であれば、一軸方向への押し出し成型や型ロールを使用したラミネート転写などの、高速かつ高精度の加工方法による成型が可能である。
【発明の効果】
【００１２】
本開示の光学素子アレイ、表示装置、電子機器および光学素子アレイの形成方法によれば、第１の壁と第２の壁とを別体として設けるようにしたので、大型化した場合であっても製造性に優れ、かつ、十分な寸法精度を有する構造を実現することができる。それら第１および第２の壁を、各々の形状や寸法などに適した形成方法を選択して個別に形成することができるからである。その結果、設計上の自由度を向上させることができるうえ、大画面化にも対応可能となる。また、高い寸法精度が確保されることにより、駆動時における、より正確な挙動を実現することができる。また、本開示の光学素子アレイの形成方法によれば、大型化した場合であっても効率的に、かつ精度よく作製することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本開示の一実施の形態に係る立体表示装置の構成を表す概略図である。
【図２】図１に示した波面変換偏向部の要部構成を表す斜視図である。
【図３】図１に示した波面変換偏向部の要部構成を表す平面図である。
【図４】図３に示した波面変換偏向部のIV- IV線に沿った断面図である。
【図５】図３に示した波面変換偏向部のV-V線に沿った断面図である。
【図６】図３に示した液体光学素子の動作を説明するための概念図である。
【図７】図３に示した液体光学素子の動作を説明するための他の概念図である。
【図８】図１に示した波面変換偏向部の製造方法における一工程を説明するための斜視図である。
【図９】図８に続く一工程を説明するための断面模式図である。
【図１０】図９に続く一工程を説明するための断面模式図である。
【図１１】図１０に示した工程の一部を詳細に説明するための断面模式図である。
【図１２】変形例としての立体表示装置における波面変換偏向部の構成を表す断面図である。
【図１３】表示装置を用いた電子機器としてのテレビジョン装置の構成を表す斜視図である。
【図１４】図１に示した波面変換偏向部の他の使用例を説明するための断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本開示の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
１．実施の形態（図１〜図１１）：立体表示装置
２．変形例（図１２）：立体表示装置の変形例
３．適用例（図１３）：立体表示装置の適用例（電子機器）
【００１５】
［１．立体表示装置］
＜立体表示装置の構成＞
まず、図１を参照して、本開示における一実施の形態としての液体光学素子アレイを用いた立体表示装置について説明する。図１は、本実施の形態の立体表示装置の、水平面内における一構成例を表す概略図である。
【００１６】
図１に示したように、この立体表示装置は、光源（図示せず）の側から、画素１１を複数有する表示部１と、液体光学素子アレイとしての波面変換偏向部２とを順に備えている。ここでは、光源からの光の進行方向をＺ軸方向とし、水平方向をＸ軸方向とし、鉛直方向をＹ軸方向としている。
【００１７】
表示部１は、映像信号に応じた２次元表示画像を生成するものであり、例えばバックライトＢＬが照射されることにより表示画像光を射出するカラー液晶ディスプレイである。表示部１は、光源の側からガラス基板１１と、それぞれ画素電極および液晶層を含む複数の画素１２（１２Ｌ，１２Ｒ）と、ガラス基板１３とが順に積層された構造を有している。ガラス基板１１およびガラス基板１３は透明であり、いずれか一方には例えば赤（Ｒ），緑（Ｇ），青（Ｂ）の着色層を有するカラーフィルタが設けられている。このため、画素１２は、赤色を表示する画素Ｒ−１２と緑色を表示する画素Ｇ−１２と青色を表示する画素Ｂ−１２とに分類される。この表示部１では、Ｘ軸方向においては画素Ｒ−１２と、画素Ｇ−１２と、画素Ｂ−１２とが順に繰り返し配置される一方、Ｙ軸方向においては同色の画素１２が揃うように配置されている。さらに、画素１２は、左眼用の画像を形成する表示画像光を射出するものと、右眼用の画像を形成する表示画像光を射出するものとに分類され、それらはＸ軸方向において交互に配置されている。図１では、左眼用の表示画像光を射出する画素１２を画素１２Ｌと表し、右眼用の表示画像光を射出する画素１２を画素１２Ｒと表す。
【００１８】
波面変換偏向部２は、例えばＸ軸方向に隣り合う１組の画素１２Ｌ，１２Ｒに対応して設けられた１つの液体光学素子２０が、Ｘ軸方向に複数配列されたアレイ状をなすものである。波面変換偏向部２は、表示部１から射出された表示画像光に対し、波面変換処理および偏向処理を行う。具体的には、波面変換偏向部２では、各画素１２に対応する各液体光学素子２１がシリンドリカルレンズとして機能する。すなわち、波面変換偏向部２は、全体としてレンチキュラーレンズとして機能する。これによって各画素１２Ｌ，１２Ｒからの表示画像光の波面が、鉛直方向（Ｙ軸方向）に並ぶ一群の画素１２を一単位として所定の曲率を有する波面に一括して変換される。波面変換偏向部２では、併せて、必要に応じてそれらの表示画像光を水平面内（ＸＺ平面内）において一括して偏向することも可能となっている。
【００１９】
図２〜図４を参照して、波面変換偏向部２の具体的な構成について説明する。
【００２０】
図２は、波面変換偏向部２の要部を表す斜視図である。また、図３は、表示画像光の進行方向から眺めた波面変換偏光部２のＸＹ平面における平面図である。また、図４は、図３に示したIV−IV線に沿った矢視方向の断面図である。さらに、図５は、図３に示したV−V線に沿った矢視方向の断面図である。
【００２１】
図２〜図５に示したように、波面変換偏向部２は、対向配置された一対の平面基板２１，２２と、平面基板２１における平面基板２２と対向する内面２１Ｓに立設し、接着層ＡＬを介して平面基板２２を支持する側壁２３および隔壁２４とを備えている。波面変換偏向部２では、Ｙ軸方向へ延在する複数の隔壁２４によって区画された複数の液体光学素子２０がＸ軸方向へ並び、全体として液体光学素子アレイを構成している。液体光学素子２０は、屈折率の異なる２種の液体（極性液体２９Ｐおよび無極性液体２９Ｎ）を含み、入射光線に対して偏向や屈折などの光学的作用（すなわち、波面変換作用および偏向作用）を及ぼすものである。なお、図２および図３では、接着層ＡＬ、側壁２３、平面基板２２、極性液体２９Ｐおよび無極性液体２９Ｎのほか、絶縁膜２８（後出）および第３の電極２７（後出）の図示を省略している。
【００２２】
平面基板２１，２２は、例えばガラスや透明なプラスチックなど、可視光を透過する透明な絶縁材料によって構成される。平面基板２１は、内面２１Ｓおよび外面２１ＳＳにそれぞれ形成された第１および第２の接続部２１Ｔ１，２１Ｔ２、ならびに第１および第２の引出線３１，３２と共に配線基板を構成している。平面基板２１，２２の厚さは、例えば数百〜数千μｍである。平面基板２１の内面２１Ｓには、この平面基板２１上の空間領域を、複数の液体光学素子２０ごとに仕切る複数の隔壁２４が立設している。すなわち液体光学素子２０は、隣り合う隔壁２４同士に挟まれた空間である素子領域２０Ｒごとに設けられている。複数の隔壁２４は各々Ｙ軸方向へ延在していることから、液体光学素子２０（素子領域２０Ｒ）は、Ｙ軸方向に並ぶ一群の表示画素１２に対応して矩形状の平面形状を有している。各素子領域２０Ｒには、それぞれ無極性液体２９Ｎが保持されている。すなわち、無極性液体２９Ｎは、隔壁２４の存在により、隣り合う他の素子領域２０Ｒへ移動（流出）しないようになっている。なお、無極性液体２９Ｎは、Ｙ軸方向においては封止壁２３（後述）によって外部へ流出しないように封止されている。隔壁２４は、極性液体２９Ｐおよび無極性液体２９Ｎに溶解等しない材料、例えば、エポキシ系樹脂やアクリル系樹脂などによって構成されることが望ましい。なお、平面基板２１と隔壁２４とが同種の透明なプラスチック材料からなり、一体成型されたものであってもよい。隔壁２４は、Ｘ軸方向において例えば数十〜数千μｍのピッチで配置されている。隔壁２４の高さは、例えばＸ軸方向における上記の配置ピッチと同程度である。
【００２３】
各隔壁２４の壁面には、隔壁２４の延在方向（Ｙ軸方向）に沿って延伸し、互いの一部が対向するように配置された第１および第２の電極２５，２６が設けられている。波面変換偏向部２における第１および第２の電極２５，２６が互いに重なり合う領域（対向する領域）は、表示部１から射出された表示画像光に対し、波面変換処理および偏向処理を行うことのできる有効領域２０Ｚ１である。この有効領域２０Ｚ１は、表示部１において表示画像を形成する有効表示領域に対応している。波面変換偏向部２では、この有効領域２０Ｚ１をＹ軸方向において挟むように、第１および第２の電極２５，２６の一方のみが形成された接続領域２０Ｚ２，２０Ｚ３が設けられている。接続領域２０Ｚ２，２０Ｚ３には、平面基板２１における内面２１Ｓと反対側の外面２１ＳＳに複数の第１および第２の引出線３１，３２（図３では破線で示す）が設けられている。第１および第２の引出線３１，３２は、いずれもＹ軸と交差する方向（ここではＸ軸方向）に延在する帯状をなすものである。また、接続領域２０Ｚ２，２０Ｚ３のうちの隣り合う一対の隔壁２４に挟まれた領域には、第１および第２の貫通孔２１Ｈ１，２１Ｈ２が、平面基板２１を厚さ方向（Ｚ軸方向）に貫くように形成されている。
【００２４】
各々の第１の電極２５は、第１の貫通孔２１Ｈ１を通じて一の第１の引出線３１と接続されている。同様に、各々の第２の電極２６は、第２の貫通孔２１Ｈ２を通じて一の第２の引出線３２と接続されている。すなわち、一の第１の電極２５に対して一の第１の貫通孔２１Ｈ１が設けられ、一の第２の電極２６に対して一の第２の貫通孔２１Ｈ２が設けられている。第１および第２の貫通孔２１Ｈ１，２１Ｈ２は、例えばレーザビームを照射して行うレーザビーム加工のほか、機械加工（マイクロビア加工）によって形成される。
【００２５】
ここで、第１の電極２５は、周期的に（図３では６つおきに）同一の第１の引出線３１と接続され、第２の電極２６は、周期的に（図３では６つおきに）同一の第２の引出線３２と接続されている。但し、この周期は図３に示したものに限定されず、任意に設定可能である。
【００２６】
第１および第２の電極２５，２６、第１および第２の引出線３１，３２、ならびに第１および第２の接続部２１Ｔ１，２１Ｔ２は、例えば以下の材料によって形成される。すなわち、酸化インジウム錫（ＩＴＯ：Indium Tin Oxide）や酸化亜鉛（ＺｎＯ）などの透明な導電性材料のほか、銅（Ｃｕ）などの金属材料、あるいは炭素（Ｃ）もしくは導電性高分子などの他の導電性材料が適用可能である。
【００２７】
接続領域２０Ｚ２，２０Ｚ３では、第１および第２の接続部２１Ｔ１，２１Ｔ２が、平面基板２１の内面２１Ｓと、隔壁２４を覆う第１および第２の電極２５，２６とそれぞれ連結されている。第１および第２の電極２５，２６は、それぞれ、第１および第２の接続部２１Ｔ１，２１Ｔ２と、第１および第２の引出線３１，３２とを介して外部電源と接続され、電圧供給が可能となっている。第１および第２の電極２５，２６は、例えば平面基板２１の外面２１ＳＳに設けられた制御部（図示せず）によってそれぞれ所定の大きさの電位に設定できるようになっている。
【００２８】
平面基板２１には、さらに、その内面２１Ｓおよび隔壁２４を選択的に覆うように立設し、平面基板２１と平面基板２２との間に挟まれた空間の少なくとも一部を取り囲む封止壁２３が設けられている。この封止壁２３は、平面基板２１と平面基板２２との間に挟まれた極性液体２９Ｐおよび無極性液体２９Ｎを封止するためのものであり、表示部１の有効表示領域に対応する有効領域２０Ｚ１の外縁に沿って設けられている。したがって、封止壁２３は、その一部が、複数の液体光学素子２０を横断するように設けられている。なお、封止壁２３は、図２および図３に示したように、有効領域２０Ｚ１の外縁を周回するように、所定の空間の全てを取り囲む形状のものに限定されず、その一部が欠如した開放部分を有していてもよい。その場合、他の部材によってその開放部分を封止するようにすればよい。
【００２９】
封止壁２３の構成材料としては、例えばエポキシ樹脂やアクリル系樹脂などの熱硬化型樹脂や紫外線（ＵＶ）硬化型樹脂を用いることができる。
【００３０】
また、封止壁２３の上端面２３ＴＳの高さ位置は、隔壁２４の上端面２４ＴＳの高さ位置よりも高い位置にあるとよい。平面基板２１と平面基板２２との間隔の、面内でのばらつきが低減されるからである。なお、高さ位置とは、内面２１Ｓを基準位置としたときの、Ｚ軸方向（厚さ方向）の位置である。本実施の形態では、隔壁２４と封止壁２３とが別体であるため互いに異なる工程において作製可能である。よって、それらを一体として一括形成する場合と比較して、作製方法や使用材料の点で自由度が高い反面、相対位置精度の点では不利である。そこで、封止壁２３の上端面２３ＴＳを隔壁２４の上端面２４ＴＳよりも高い位置とすることにより、隔壁２４の高さに関わらず、封止壁２３の高さを制御することのみによって平面基板２１と平面基板２２との間隔を規定することができる。
【００３１】
なお、封止壁２３は、第１および第２の電極２５，２６をも選択的に覆うように設けられているとよい。すなわち、第１および第２の電極２５，２６が隔壁２４と共に、封止壁２３を貫く構造であるとよい。第１および第２の電極２５，２６が封止壁２３を跨ぐような構造であると、その構造に起因した問題が懸念されるからである。具体的には、封止壁２３と内面２１Ｓとの段差に起因して、第１および第２の電極２５，２６の断面積の不足による抵抗増大や、第１および第２の電極２５，２６の破断などを招くおそれが生じるからである。
【００３２】
第１および第２の電極２５，２６は、絶縁膜２８によって密に覆われている。絶縁膜２８は、第１および第２の電極２５，２６だけでなく、封止壁２３、隔壁２４および平面基板２１を全面的に覆うように形成されていてもよい。この絶縁膜２８は、極性液体２９Ｐに対して疎水性（撥水性）を示す（より厳密には無電界下において無極性液体２９Ｎに親和性を示す）と共に、電気的絶縁性に優れた性質を有する材料からなるものである。具体的には、フッ素系の高分子であるポリフッ化ビニリデン（ＰＶｄＦ）やポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、あるいはシリコーンなどが挙げられる。但し、第１の電極２５と第２の電極２６との電気的絶縁性をより高めることを目的として、第１および第２の電極２５，２６と絶縁膜２８との間に例えばスピン・オン・グラス（ＳＯＧ）などからなる他の絶縁膜を設けるようにしてもよい。なお、隔壁２４の上端もしくはそれを覆う絶縁膜２８は、平面基板２２および第３の電極２７と離間していることが望ましい。
【００３３】
平面基板２２の、平面基板２１と対向する内面２２Ｓには、第３の電極２７が設けられている。第３の電極２７は、例えばＩＴＯやＺｎＯなどの透明な導電材料によって構成されており、接地電極として機能する。
【００３４】
一対の平面基板２１，２２および封止壁２３などによって完全に密閉された空間領域には、無極性液体２９Ｎおよび極性液体２９Ｐが密封されている。無極性液体２９Ｎおよび極性液体２９Ｐは、その閉空間において互いに溶解せずに分離して存在し、界面ＩＦを形成している。無極性液体２９Ｎおよび極性液体２９Ｐは透明であることから、界面ＩＦを透過する光は、その入射角と、無極性液体２９Ｎおよび極性液体２９Ｐの屈折率とに応じて屈折する。
【００３５】
無極性液体２９Ｎは、ほとんど極性を有さず、かつ、電気絶縁性を示す液体材料であり、例えばデカン、ドデカン、ヘキサデカンもしくはウンデカンなどの炭化水素系材料のほか、シリコンオイルなどが好適である。無極性液体２９Ｎは、第１の電極２５と第２の電極２６との間に電圧を印加しない場合において、平面基板２１（もしくはそれを覆う絶縁膜２８）の表面を全て覆う程度に十分な容量を有していることが望ましい。
【００３６】
一方、極性液体２９Ｐは極性を有する液体材料であり、例えば水のほか、塩化カリウムや塩化ナトリウムなどの電解質を溶解させた水溶液が好適である。極性液体２９Ｐに電圧を印加すると、素子領域２０Ｒにおいて対向する内表面２８Ａ，２８Ｂに対する濡れ性（極性液体２９Ｐと内表面２８Ａ，２８Ｂとの接触角）が無極性液体２９Ｎと比べて大きく変化する。極性液体２９Ｐは、接地電極としての第３の電極２７と接している。
【００３７】
ここで、Ｘ軸方向に並ぶ隔壁２４の間隔（より厳密には、Ｘ軸方向において隣り合う隔壁２４を覆う絶縁膜２８同士の間隔Ｗ１（図３および図４参照））は、以下の式（１）で表される毛管長Ｋ-1以下の長さであるとよい。そうすることで、無極性液体２９Ｎおよび極性液体２９Ｐが、安定して初期位置（図４に示した位置）に保持される。これは、無極性液体２９Ｎおよび極性液体２９Ｐが隔壁２４を覆う絶縁膜２８と接することにより、その接触界面における界面張力が無極性液体２９Ｎおよび極性液体２９Ｐに対し作用するからである。ここでいう毛管長Ｋ-1とは、無極性液体２９Ｎと極性液体２９Ｐとの界面に生じる界面張力に対して重力の影響を全く無視できる最大の長さをいう。
【００３８】
Κ-1 ＝｛Δγ／（Δρ×ｇ）｝0.5  ……（１）
但し、
Κ-1 ：毛管長（ｍｍ）
Δγ：極性液体と無極性液体との界面張力（ｍＮ／ｍ）
Δρ：極性液体と無極性液体との密度差（ｇ／ｃｍ3 ）
ｇ：重力加速度（ｍ／ｓ2 ）
【００３９】
各液体光学素子２０では、第１および第２の電極２５，２６の間に電圧が印加されていない状態（第１および第２の電極２５，２６の電位がいずれも零である状態）では、図４に示したように、界面ＩＦは、極性液体２９Ｐの側から無極性液体２９Ｎへ向けて凸の曲面をなしている。このときの界面ＩＦの曲率はＹ軸方向において一定であり、各液体光学素子２０は１つのシリンドリカルレンズとして機能する。また、界面ＩＦの曲率はこの状態（第１および第２の電極２５，２６の間に電圧を印加しない状態）が最大となる。内表面２８Ａに対する無極性液体２９Ｎの接触角θ１、および内表面２８Ｂに対する無極性液体２９Ｎの接触角θ２は、例えば絶縁膜２８の材料種を選択することによって調整することができる。ここで、無極性液体２９Ｎが極性液体２９Ｐよりも大きな屈折率を有していれば、液体光学素子２０は負の屈折力を発揮する。これに対し、無極性液体２９Ｎが極性液体２９Ｐよりも小さな屈折率を有していれば、液体光学素子２０は正の屈折力を発揮する。例えば、無極性液体２９Ｎが炭化水素系材料またはシリコンオイルであり、極性液体２９Ｐが水または電解質水溶液であれば、液体光学素子２０が負の屈折力を発揮することとなる。
【００４０】
第１および第２の電極２５，２６の間に電圧が印加されると界面ＩＦの曲率が小さくなり、ある一定以上の電圧を印加すると例えば図６（Ａ）〜６（Ｃ）に表したように平面となる。なお、図６（Ａ）は、第１の電極２５の電位（Ｖ１とする）と第２の電極２６の電位（Ｖ２とする）とが互いに等しい（Ｖ１＝Ｖ２）場合を示している。この場合、例えば接触角θ１，θ２がいずれも直角（９０°）となる。このとき、液体光学素子２０へ入射して界面ＩＦを通過した入射光は、界面ＩＦにおいて収束、発散もしくは偏向などの光学作用を受けることなく、そのまま液体光学素子２０から射出する。
【００４１】
電位Ｖ１と電位Ｖ２とが異なる場合（Ｖ１≠Ｖ２）には、例えば図６（Ｂ），６（Ｃ）に表したように、Ｘ軸およびＺ軸に対して傾斜した平面（Ｙ軸に対しては平行な面）となる（θ１≠θ２）。具体的には、電位Ｖ１が電位Ｖ２よりも大きい場合（Ｖ１＞Ｖ２）、図６（Ｂ）に示したように接触角θ１が接触角θ２よりも大きくなる（θ１＞θ２）。反対に、電位Ｖ１よりも電位Ｖ２が大きいと（Ｖ１＜Ｖ２）、図６（Ｃ）に示したように、接触角θ１よりも接触角θ２が大きくなる（θ１＜θ２）。これらの場合（Ｖ１≠Ｖ２）、例えば第１の電極２５，２６と平行に進行して液体光学素子２０へ入射した入射光は、界面ＩＦにおいてＸＺ平面内で屈折し、偏向される。したがって、電位Ｖ１および電位Ｖ２の大きさを調整することで、入射光をＸＺ平面内の所定の向きへ偏向可能となる。
【００４２】
なお、上記の現象（電圧の印加による接触角θ１，θ２の変化）は以下のように生じるものと推察される。すなわち、電圧印加により、内表面２８Ａ，２８Ｂに電荷が蓄積され、その電荷のクーロン力によって、極性を有する極性液体２９Ｐが絶縁膜２８へ引き寄せられる。すると、極性液体２９Ｐが内表面２８Ａ，２８Ｂと接触する面積を拡大する一方、無極性液体２９Ｎが内表面２８Ａ，２８Ｂと接触する部分から極性液体２９Ｐによって排除されるように移動（変形）し、結果として界面ＩＦが平面に近づくこととなる。
【００４３】
また、電位Ｖ１および電位Ｖ２の大きさの調整により界面ＩＦの曲率が変わるようになっている。例えば、電位Ｖ１，Ｖ２（Ｖ１＝Ｖ２とする）を、界面ＩＦが水平面となる場合の電位Ｖmaxよりも低い値とすれば、例えば図７（Ａ）に表したように、電位Ｖ１，Ｖ２が零の場合の界面ＩＦ0（破線で表示）よりも曲率の小さな界面ＩＦ1（実線で表示）が得られる。このため、界面ＩＦを透過する光に対して発揮する屈折力は、電位Ｖ１および電位Ｖ２の大きさを変えることで調整可能である。すなわち、液体光学素子２０は、可変焦点レンズとして機能する。さらに、その状態で電位Ｖ１と電位Ｖ２とが互いに異なる大きさ（Ｖ１≠Ｖ２）となれば、界面ＩＦは適度な曲率を有しつつ、傾斜した状態となる。例えば電位Ｖ１のほうが大きい（Ｖ１＞Ｖ２）場合には、図７（Ｂ）において実線で表した界面ＩＦａが形成される。一方、電位Ｖ２のほうが大きい（Ｖ１＜Ｖ２）場合には、図７（Ｂ）において破線で表した界面ＩＦｂが形成される。したがって、電位Ｖ１および電位Ｖ２の大きさを調整することで、液体光学素子２０は、入射光に対して適度な屈折力を発揮しつつ、その入射光を所定の向きへ偏向することが可能である。なお、図７（Ａ），７（Ｂ）では、無極性液体２９Ｎが極性液体２９Ｐよりも大きな屈折率を有しており、液体光学素子２０が負の屈折力を発揮する場合に、界面ＩＦ1，ＩＦａを形成したときの入射光の変化を表している。
【００４４】
＜波面変換偏向部の製造方法＞
次に、波面変換偏向部２の製造方法について、図８に示した斜視図ならびに図９，図１０に表した断面模式図を参照して説明する。なお、図９および図１０は、ＸＺ平面における断面図である。
【００４５】
まず、図８に示したように、上記の所定材料からなる平面基板２１を用意したのち、その一方の面（内面２１Ｓ）の上の所定位置に立設する隔壁２４を複数形成する。これにより、隔壁２４によって仕切られた複数の素子領域２０Ｒが形成される。具体的には、例えばスピンコーティング法により所定の樹脂を内面２１Ｓの上にできるだけ均一な厚みとなるように塗布したのち、フォトリソグラフィ法を利用して選択的な露光を行うことにより、パターニングを行う。あるいは、所定形状の金型を使用した一括成型により、同種の材料からなる一体化した平面基板２１および隔壁２４を形成するようにしてもよい。さらには、押出成型、射出成型、熱プレス成型、フィルム材を用いた転写成型または２Ｐ（Photoreplication  Process）法などによりそれらを形成することも可能である。このように本実施の形態では、平面基板２１に複数の隔壁２４を立設させた形状が一軸方向において連続した同一断面形状を有する単純なものであることから、種種の形成方法を採用することができる。特に、一軸方向への押出成型や型ロールを使用したラミネート転写などは、高速かつ高精度の加工が可能であるため、これを採用することが望ましい。
【００４６】
次に、複数の隔壁２４によって仕切られた各素子領域２０Ｒの所定位置に、第１および第２の貫通孔２１Ｈ１，２１Ｈ２（図８では図示せず）を１つずつ、例えばレーザビーム加工（好ましくはＣＯ2 レーザビームを用いたもの）などにより形成する。
【００４７】
第１および第２の貫通孔２１Ｈ１，２１Ｈ２を形成したのち、それらの内面を被覆し、もしくはそれらの内部を充填するように第１および第２の接続部２１Ｔ１，２１Ｔ２を形成する。具体的には、スクリーン印刷、凸版印刷、あるいはオフセット印刷などの手法を用いる。ここでは、外面２１ＳＳの側から第１および第２の貫通孔２１Ｈ１，２１Ｈ２の内面に銀（Ａｇ）などを含む導電性ペーストを塗布し、もしくはそれらの内部に導電性ペーストを充填する。導電性ペーストは、例えば１００００ｃＰ以上の粘度を有し、熱硬化型もしくは紫外線硬化型の、Ａｇペースト（望ましくはＡｇナノペースト）あるいはカーボンペーストである。このとき、第１および第２の貫通孔２１Ｈ１，２１Ｈ２に塗布もしくは充填された導電性ペーストは、平面基板２１の内面２１Ｓにおける第１および第２の貫通孔２１Ｈ１，２１Ｈ２の近傍に広がるように流出する場合がある。ところが隔壁２４の存在により、隣接する素子領域２０Ｒに至るまで導電性ペーストが広がるような事態は回避される。このため、隣接する第１の電極２５同士や、隣接する第２の電極２６同士の短絡は生じない。
【００４８】
次に、図９に示したように、隔壁２４の壁面２４Ｓを覆うように、例えば直流スパッタリング法により第１および第２の電極２５，２６を形成する。その際、有効領域２０Ｚ１においては相互に対向するように第１および第２の電極２５，２６の双方を形成する。一方、接続領域２０Ｚ２においてはメタルマスクなどを用いて第１の電極２５のみを形成し、接続領域２０Ｚ３においてはメタルマスクなどを用いて第２の電極２６のみを形成するようにする。これにより、第１の接続部２１Ｔ１は第１の電極２５のみと導通した状態となり、第２の接続部２１Ｔ２は第２の電極２６のみと導通した状態となる。さらに、平面基板２１の外面２１ＳＳの所定の位置に、第１および第２の引出線３１，３２を複数形成する。第１および第２の引出線３１，３２は、例えばスピンコート法によりレジストを塗布したのちパターニングして所定形状のレジストマスクを形成し、さらにめっき法やスパッタリング法によって金属膜を形成したのちリフトオフすることにより得る。
【００４９】
続いて、図１０に示したように、複数の隔壁２４と、隔壁２４によって仕切られた複数の空間とを横断するように封止壁２３を形成する。ここでは、封止壁２３の上端面２３ＴＳを、隔壁２４の上端面２４ＴＳよりも高い位置とする。例えば、隔壁２４の高さ（内面２１Ｓから上端面２４ＴＳまでの寸法）を８０μｍとしたとき、封止壁２３の高さ（内面２１Ｓから上端面２３ＴＳまでの寸法）を１００μｍとする。封止壁２３は、例えば図１１に示した手順で作製される。なお、図１１は、封止壁２３を形成する際の詳細なステップを表す断面図である。
【００５０】
まず、図１１（Ａ）に示したように、有効領域２０Ｚ１の外縁に沿って、例えばディスペンサによって描画するように所定の位置に例えばＵＶ硬化型の樹脂を塗布し、樹脂パターン２３Ｚ１を形成する。次に、図１１（Ｂ）に示したように、封止壁２３の高さ調整用の平板ガラスＧ１を、所定の高さ２３Ｈを有するギャップ調整治具２３Ｇを介して平面基板２１と対向するように配置する。このとき、樹脂パターン２３Ｚ１の頭頂部が平坦化され、高さ２３Ｈを有する樹脂パターン２３Ｚ２が形成される。その状態を維持しつつ、平板ガラスＧ１を透過させた紫外線を樹脂パターン２３Ｚ２に照射する。これにより樹脂パターン２３Ｚ２が硬化し、高さ２３Ｈを有する封止壁２３が形成される。そののち、平板ガラスＧ１を除去することにより、封止壁２３が現れる。
【００５１】
封止壁２３を形成したのち、例えば図１０に示したように、全体を覆うように例えば真空蒸着法により絶縁膜２８を形成する。なお、封止壁２３を形成する前に、隔壁２４に設けられた第１および第２の電極２５，２６を覆うように絶縁膜２８を形成してもよい。但し、その場合には、絶縁膜２８を選択的に覆うように封止壁２３が形成されるので、絶縁膜２８に局所的な応力が加わることとなる。そのため、絶縁膜２８の一部に亀裂が生じることのないように留意する必要がある。
【００５２】
そののち、無極性液体２９Ｎを、隔壁２４で仕切られた空間に注入もしくは滴下する。さらに、封止壁２３によって取り囲まれた空間に極性液体２９Ｐを注入する。最後に、平面基板２２に第３の電極２７を設けたものを用意し、平面基板２１と平面基板２２とが一定の間隔となるように対向配置する。その際、平面基板２１と平面基板２２とが重なり合う領域の外縁、すなわち、封止壁２３に沿って接着層ＡＬを設け、その接着層ＡＬを介して平面基板２２と封止壁２３とを固定するようにする。あるいは、接着層ＡＬの一部には注入口を形成しておき、平面基板２２を封止壁２３に貼り合わせたのち、その注入口から、平面基板２１、封止壁２３および平面基板２２によって囲まれた空間に極性液体２９Ｐを充填してもよい。その場合、最後に注入口を封止する。
【００５３】
以上の手順により、応答性に優れた液体光学素子２０を複数備えた波面変換偏向部２を簡便に製造することができる。
【００５４】
＜立体表示装置の動作＞
この立体表示装置では、図１に示したように、表示部１に映像信号が入力されると、表示画素１２Ｌから左眼用の表示画像光Ｉ−Ｌが射出されると共に表示画素１２Ｒから右眼用の表示画像光Ｉ−Ｒが射出される。表示画像光Ｉ−Ｌ，Ｉ−Ｒは、いずれも液体光学素子２０に入射する。液体光学素子２０では、その焦点距離が、例えば表示画素１２Ｌ，１２Ｒと界面ＩＦとの間の屈折率を空気換算した距離となるように、適切な値の電圧を第１および第２の電極２５，２６に印加する。なお、観察者の位置に応じて、液体光学素子２０の焦点距離を前後させるようにしてもよい。液体光学素子２０における無極性液体２９Ｎと極性液体２９Ｐとの界面ＩＦが形成するシリンドリカルレンズの作用により、表示部１の各表示画素１２Ｌ，１２Ｒから射出された表示画像光Ｉ−Ｌ，Ｉ−Ｒの射出角度が選択される。そのため、図１に示したように、表示画像光Ｉ−Ｌは観察者の左眼１０Ｌに入射し、表示画像光Ｉ−Ｒは観察者の右眼１０Ｒに入射する。これにより、観察者は立体映像を観察することができる。
【００５５】
また、液体光学素子２０において界面ＩＦを平坦面（図６（Ａ）参照）とし、表示画像光Ｉ−Ｌ，Ｉ−Ｒに対する波面変換を行わないことにより、高解像度な二次元画像の表示も可能となる。
【００５６】
＜立体表示装置の効果＞
このように、本実施の形態の波面変換偏向部２では、隔壁２４とは別に封止壁２３を別体として設けるようにしたので、隔壁２４および封止壁２３がそれぞれ高精度の寸法を有するものとなる。これは、隔壁２４と封止壁２３とをそれぞれ別々の工程で形成可能であるからである。すなわち、平面基板２１の上に複数の隔壁２４のみを所定の位置に配置した構造であれば、比較的加工しやすい構造となるからである。比較的加工しやすい構造とは、例えば、一軸方向において連続した同一断面形状を有するものである。このような構造であれば、一軸方向への押し出し成型や型ロールを使用したラミネート転写などの、高速かつ高精度の加工方法による成型が可能である。その結果、設計上の自由度を向上させることができるうえ、大画面化にも対応可能となる。また、高い寸法精度が確保されることにより、駆動時における、より正確な挙動を実現することができる。また、本実施の形態の波面変換偏向部２の形成方法によれば、大型化した場合であっても効率的に、かつ精度よく作製することができる。したがって、この波面変換偏向部２を備えた立体表示装置によれば、より優れた品質の立体映像を観察することができる。
【００５７】
また、封止壁２３の上端面２３ＴＳを、隔壁２４の上端面２４ＴＳよりも高い位置としたので、平面基板２１と平面基板２２との間隔のばらつきを低減することができる。その結果、よりいっそう正確な挙動を実現することができ、よりいっそう優れた品質の立体映像を観察することができる。
【００５８】
また、絶縁膜２８を、封止壁２３を形成したのちに全体を覆うように形成したので、第１および第２の電極２５，２６を緻密に、ほぼ一定の厚さで覆うことができる。よって、この波面変換偏向部２は、動作安定性に優れたものとなる。
【００５９】
［２．立体表示装置の変形例］
図１２に、本実施の形態の変形例としての波面変換偏向部２Ａを示す。本変形例は、封止壁２３に取り囲まれた有効領域２０Ｚ１において、隔壁２４と平面基板２２の内面２２Ｓを覆う第３の電極２７との間にスペーサＳＰを設けるようにしたものである。スペーサＳＰは絶縁膜２８によって覆われており、接着層ＡＬを介して第３の電極２７と接合されているとよい。このスペーサＳＰを設けることにより、平面基板２２がスペーサＳＰおよび隔壁２４によって支持され、平面基板２１と平面基板２２との適切な間隔が確実に維持される。それにより、平面基板２２の撓みや歪みなどによる意図しない光学的作用が回避される。したがって、この波面変換偏向部２を備えた立体表示装置によれば、よりいっそう優れた品質の立体映像を観察することができる。
【００６０】
このスペーサＳＰは、例えば封止壁２３と同一の材料によって構成されることが望ましい。封止壁２３と同一の過程で一括形成することができるからである。そのような一括形成されたものであれば、各スペーサＳＰの上面の高さ位置と、封止壁２３の上面の高さ位置とを比較的容易に揃えることができ、平面基板２１と平面基板２２との間隔の精度向上が期待できる。なお、高さ位置とは、内面２１Ｓを基準位置としたときの、Ｙ軸方向（厚さ方向）の位置である。
【００６１】
また、スペーサＳＰは可視光を反射もしくは吸収する遮光性材料によって構成してもよい。この場合には、隣り合う視点映像を十分に分離することができる。観察者の眼に対し、所定の視点映像光のみを入射させ、隣接する不要な視点映像の入射を排除することができるからである。
【００６２】
［３．立体表示装置の適用例］
＜電子機器＞
次に、上記した立体表示装置の適用例について説明する。
【００６３】
本技術の表示装置は、各種用途の電子機器に適用可能であり、その電子機器の種類は特に限定されない。この表示装置は、例えば、以下の電子機器に搭載可能である。ただし、以下で説明する電子機器の構成はあくまで一例であるため、その構成は適宜変更可能である。
【００６４】
図１３は、テレビジョン装置の外観構成を表している。このテレビジョン装置は、例えば、表示装置としての映像表示画面部２００を備えている。映像表示画面部２００は、フロントパネル２１０およびフィルターガラス２２０を含むものである。
【００６５】
本技術の表示装置は、図１３に示したテレビジョン装置のほか、例えばタブレット型パーソナルコンピュータ（ＰＣ）、ノート型ＰＣ、モバイルフォン、デジタルスチルカメラ、ビデオカメラあるいはカーナビゲーションシステムにおける映像表示部分として用いることができる。
【００６６】
以上、いくつかの実施の形態を挙げて本技術を説明したが、本技術は上記実施の形態に限定されるものではなく、種々変形が可能である。例えば、上記実施の形態では、波面変換偏向部２における液体光学素子２０により、集光もしくは発散作用と、偏向作用との双方を発揮させるようにした。しかしながら、波面変換部と偏向部とを個別に設け、集光もしくは発散作用と、偏向作用とを別々のデバイスによって表示画像光に付与するようにしてもよい。
【００６７】
また、図１４に示したように、１組の表示画素１２Ｌ，１２Ｒについて複数の液体光学素子２０を対応させ、それら複数の液体光学素子２０を組み合わせて１つのシリンドリカルレンズとして機能させるようにしてもよい。なお、図１４では、液体光学素子２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃにより、１つのシリンドリカルレンズを構成する例を示している。
【００６８】
また、上記実施の形態では、隔壁２４の壁面２４Ｓが平面基板２１の内面２１Ｓに対して垂直な場合について例示したが、壁面２４Ｓは、内面２１Ｓに対して傾斜した斜面であってもよい。
【００６９】
また、上記実施の形態では、２次元画像生成手段（表示部）としてバックライトを使用するカラー液晶ディスプレイを例示したが、本技術はこれに限定されるものではない。例えば有機ＥＬ素子を用いたディスプレイやプラズマディスプレイであってもよい。
【００７０】
また、本技術の液体光学素子アレイは、立体表示装置に限定して適用されるものではなく、光学的作用を必要とする種種のデバイスへの応用が可能である。
【００７１】
また、本技術は以下のような構成を取り得るものである。
（１）
対向配置された第１および第２の基板と、
前記第１の基板の、前記第２の基板と対向する内面に立設する複数の第１の壁と、
隣り合う前記第１の壁の対向する壁面にそれぞれ設けられた第１および第２の電極と、
前記第２の基板の、前記第１の基板と対向する内面に設けられた第３の電極と、
前記第１の基板の内面および前記第１の壁を部分的に覆い、前記第１の基板と前記第２の基板とが挟む空間の少なくとも一部を部分的もしくは全体的に取り囲む第２の壁と、
前記第１の基板、前記第２の基板および前記第２の壁によって取り囲まれた空間に封入され、互いに異なる屈折率を有する極性液体および無極性液体と
を備えた光学素子アレイ。
（２）
前記第２の壁の上端は、前記第１の壁の上端よりも高い位置にある
上記（１）記載の光学素子アレイ。
（３）
前記第１の壁の上端と、前記第２の基板との間にスペーサを有する
上記（１）または（２）に記載の光学素子アレイ。
（４）
前記スペーサおよび前記第２の壁が同一材料からなる
上記（３）記載の光学素子アレイ。
（５）
前記スペーサは遮光性材料からなる
上記（３）または（４）に記載の光学素子アレイ。
（６）
前記第１および第２の電極をそれぞれ覆う絶縁膜をさらに備えた
上記（１）から（５）のいずれか１つに記載の光学素子アレイ。
（７）
前記第２の壁をも覆うように前記絶縁膜が設けられている
上記（６）に記載の光学素子アレイ。
（８）
前記第２の壁は、前記第１および第２の電極をも選択的に覆うように設けられている
上記（１）から（７）のいずれか１つに記載の光学素子アレイ。
（９）
前記第２の壁は、前記複数の第１の壁と、前記第１の壁によって仕切られた複数の空間とを横断するように設けられている
上記（１）から（８）のいずれか１つに記載の光学素子アレイ。
（１０）
表示部と、光学素子アレイとを備え、
前記光学素子アレイは、
対向配置された第１および第２の基板と、
前記第１の基板の、前記第２の基板と対向する内面に立設する複数の第１の壁と、
隣り合う前記第１の壁の対向する壁面にそれぞれ設けられた第１および第２の電極と、
前記第２の基板の、前記第１の基板と対向する内面に設けられた第３の電極と、
前記第１の基板の内面と前記第１の壁とを部分的に覆い、前記表示手段の有効領域の外縁に沿って設けられた第２の壁と、
前記第１の基板、前記第２の基板および前記第２の壁によって取り囲まれた空間に封入され、互いに異なる屈折率を有する極性液体および無極性液体と
を含む
表示装置。
（１１）
表示部と光学素子アレイとを有する表示装置を備え、
前記光学素子アレイは、
対向配置された第１および第２の基板と、
前記第１の基板の、前記第２の基板と対向する内面に立設する複数の第１の壁と、
隣り合う前記第１の壁の対向する壁面にそれぞれ設けられた第１および第２の電極と、
前記第２の基板の、前記第１の基板と対向する内面に設けられた第３の電極と、
前記第１の基板の内面と前記第１の壁とを選択的に覆い、前記表示手段の有効領域の外縁に沿って設けられた第２の壁と、
前記第１の基板、前記第２の基板および前記第２の壁によって取り囲まれた空間に封入され、互いに異なる屈折率を有する極性液体および無極性液体と
を含む
電子機器。
（１２）
第１の基板の表面に立設する複数の第１の壁を形成する工程と、
前記第１の壁の壁面に、互いに対向するように第１および第２の電極を形成する工程と、
前記第１の基板の表面と前記第１の壁とを選択的に覆い、かつ、前記第１の基板上の空間を部分的もしくは全体的に取り囲むように第２の壁を形成する工程と、
一方の面に第３の電極が設けられた第２の基板を、前記第３の電極が前記第１の基板と対向するように配置する工程と、
前記第１の基板、前記第２の基板および前記第２の壁によって取り囲まれた空間に、互いに異なる屈折率を有する極性液体および無極性液体を封入する工程と
を含む光学素子アレイの形成方法。
（１３）
前記第２の壁の上端を、前記第１の壁の上端よりも高い位置とする
上記（１２）記載の光学素子アレイの形成方法。
（１４）
前記第１の壁の上端と前記第２の基板との間にスペーサを形成する工程をさらに含む
上記（１２）または（１３）に記載の光学素子アレイの形成方法。
（１５）
前記スペーサおよび前記第２の壁と、同一材料を用いて一括して形成する
上記（１４）記載の光学素子アレイ。
（１６）
前記スペーサを、遮光性材料を用いて形成する
上記（１４）または（１５）に記載の光学素子アレイの形成方法。
（１７）
前記第１および第２の電極をそれぞれ覆うように絶縁膜を形成する工程をさらに含む
上記（１２）から（１６）のいずれか１つに記載の光学素子アレイの形成方法。
（１８）
前記絶縁膜の形成を、前記第２の壁を形成する前の段階で行う
上記（１７）記載の光学素子アレイの形成方法。
（１９）
前記第１および第２の電極の形成を、前記第２の壁を形成する前の段階で行う
上記（１２）から（１８）のいずれか１つに記載の光学素子アレイの形成方法。
（２０）
前記第２の壁を、前記複数の第１の壁と前記第１の壁によって仕切られた複数の空間とを横断するように形成する
上記（１２）から（１９）のいずれか１つに記載の光学素子アレイの形成方法。
【符号の説明】
【００７２】
１…表示部、１１，１３…ガラス基板、１２（１２Ｌ，１２Ｒ）…画素、２，２Ａ…波面変換偏向部、２０…液体光学素子、２０Ａ…素子領域、２０Ｚ１…有効領域、２０Ｚ２，２０Ｚ３…接続領域、２１，２２…平面基板、２３…封止壁、２４…隔壁、２５…第１の電極、２６…第２の電極、２７…第３の電極、２８…絶縁膜、２９Ｐ…極性液体、２９Ｎ…無極性液体、３１，３２…引出線、ＡＬ…接着層、ＩＦ…界面、ＳＰ…スペーサ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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