(57)【要約】【課題】賦型用金型に起因する欠陥の発生を有効に回避してパターン位相差フィルム等を製造できるようにする。【解決手段】配向膜の作成に供する賦型用金型の製造方法において、賦型用金型の母材の表面に、賦型に供する凹凸形状を作成する凹凸形状の作成工程と、この凹凸形状に係る欠陥を検出する欠陥検出工程（ＳＰ２、ＳＰ３）と、欠陥検出工程（ＳＰ２、ＳＰ３）で検出した欠陥を修復する欠陥修復工程（ＳＰ４）とを設けるようにする。【選択図】図５
2013186194.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
配向膜の作成に供する賦型用金型の製造方法であって、
前記賦型用金型の母材の表面に、賦型に供する凹凸形状を作成する凹凸形状の作成工程と、
前記凹凸形状に係る欠陥を検出する欠陥検出工程と、
前記欠陥検出工程で検出した欠陥を修整する欠陥修整工程と
を備える賦型用金型の製造方法。
【請求項２】
前記欠陥修整工程は、
前記欠陥検出工程で検出した欠陥の個所を囲むマスクを作成するマスクの作成工程と、
前記マスクの内側に前記凹凸形状を作成する工程と、
前記マスクを除去する工程とを備える
請求項１に記載の賦型用金型の製造方法。
【請求項３】
前記配向膜が、
パターン位相差フィルムの配向膜である
請求項１又は請求項２に記載の賦型用金型の製造方法。
【請求項４】
配向膜の作成に供する賦型用金型であって、
母材の表面に、前記配向膜の凹凸形状を賦型する凹凸形状が作成され、
前記凹凸形状に係る欠陥が修復された
賦型用金型。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えばパッシブ方式による３次元画像表示に適用するパターン位相差フィルムの製造に適用することができる。
【背景技術】
【０００２】
フラットパネルディスプレイは、従来、２次元表示のものが主流であった。しかしながら、近年、３次元表示可能なフラットパネルディスプレイが注目を集めており、一部市販もされている。そして今後のフラットパネルディスプレイは、３次元表示可能であることが当然に求められる傾向にあり、３次元表示可能なフラットパネルディスプレイの検討が幅広い分野において進められている。
【０００３】
フラットパネルディスプレイにおいて３次元表示をするには、通常、何らかの方式で右目用の映像と、左目用の映像とを、それぞれ選択的に視聴者の右目及び左目に提供することが必要である。右目用の映像と左目用の映像とを選択的に提供する方法としては、例えば、パッシブ方式が知られている。このパッシブ方式の３次元表示方式について図を参照しながら説明する。図１５は、液晶表示パネルを使用したパッシブ方式の３次元表示の一例を示す概略図である。この図１５の例では、液晶表示パネルの垂直方向に連続する画素を、順次交互に、右目用の映像を表示する右目用画素、左目用の映像を表示する左目用画素に振り分け、それぞれ右目用及び左目用の画像データで駆動し、これにより右目用の映像と左目用の映像とを同時に表示する。なおこれにより液晶表示パネルの画面は、短辺が垂直方向で長辺が水平方向となる帯状の領域により、右目用の映像を表示する領域と左目用の映像を表示する領域とに交互に区分されることになる。
【０００４】
さらにパッシブ方式では、液晶表示パネルのパネル面にパターン位相差フィルムを配置し、右目用及び左目用の画素からの直線偏光による出射光を、右目用及び左目用で回転方向の異なる円偏光に変換する。このためパターン位相差フィルムは、液晶表示パネルにおける領域の設定に対応して、遅相軸方向（屈折率が最大となる方向）が直交する２種類の帯状領域が順次交互に形成される。これによりパッシブ方式では、対応する偏光フィルタを備えてなる眼鏡（メガネ）を装着して、右目用の映像と左目用の映像とをそれぞれ選択的に視聴者の右目及び左目に提供する。なおここでこの隣接する帯状領域の遅相軸方向は、通常、水平方向に対して、＋４５度と−４５度、０度と＋９０度、又は０度と−９０度の何れかの組み合わせが採用される。なおこの図１５の例では、通常の画像表示装置における呼称に習って画面の長辺方向を水平方向として示す。
【０００５】
このパッシブ方式は、応答速度の遅い液晶表示装置でも適用することができ、さらにパターン位相差フィルムと円偏光メガネとを用いた簡易な構成で３次元表示することができる。従ってパッシブ方式の液晶表示装置は、今後の３次元表示装置の中心的存在となるものとして非常に注目されている。
【０００６】
このパッシブ方式に係るパターン位相差フィルムは、画素の割り当てに対応して透過光に位相差を与えるパターン状の位相差層が必要である。このパターン位相差フィルムに関して、特許文献１には、配向規制力を制御した光配向膜をガラス基板上に形成し、この光配向膜により液晶の配列をパターンニングして位相差層を作成する方法が開示されている。また特許文献２には、レーザーの照射によりロール版の周側面に微細な凹凸形状を形成し、この凹凸形状を転写（賦型）してパターン状に配向規制力を制御した光配向膜を作製する方法が開示されている。
【０００７】
このようなパターン位相差フィルムは、右目用及び左目用の画素からの出射光がそれぞれ確実に右目及び左目に入射するように、部分的な欠陥の発生を有効に回避して透過光に対応する位相差を与えることが必要である。このため例えば特許文献２に開示のように、賦型用の金型により配向膜を作成する場合、この賦型用金型に起因する欠陥の発生を有効に回避することが求められる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００５−４９８６５号公報
【特許文献２】特開２０１０−１５２２９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、賦型用金型に起因する欠陥の発生を有効に回避してパターン位相差フィルム等を製造できるようにすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、賦型用金型の作成工程に、欠陥を修整する工程を設けるとの着想に至り、本発明を完成するに至った。
【００１１】
具体的には、本発明では、以下のようなものを提供する。
【００１２】
（１）  配向膜の作成に供する賦型用金型の製造方法であって、
前記賦型用金型の母材の表面に、賦型に供する凹凸形状を作成する凹凸形状の作成工程と、
前記凹凸形状に係る欠陥を検出する欠陥検出工程と、
前記欠陥検出工程で検出した欠陥を修整する欠陥修整工程とを備えるようにする。
【００１３】
（１）によれば、金型の欠陥に起因する配向膜の欠陥を防止することができ、これにより部分的な欠陥の発生を有効に回避してパターン位相差フィルム等を製造することができる。
【００１４】
（２）  （１）において、
前記欠陥修整工程は、
前記欠陥検出工程で検出した欠陥の個所を囲むマスクを作成するマスクの作成工程と、
前記マスクの内側に前記凹凸形状を作成する工程と、
前記マスクを除去する工程とを備える。
【００１５】
（２）によれば、欠陥の発生していない部位への影響、隣接する領域への影響を有効に回避して修復処理することができる。
【００１６】
（３）  （１）、又は（２）において、
前記配向膜が、
パターン位相差フィルムの配向膜である。
【００１７】
（３）によれば、パターン位相差フィルムの製造に適用して、欠陥の発生を有効に回避することができる。
【００１８】
（４）  配向膜の作成に供する賦型用金型であって、
母材の表面に、前記配向膜の凹凸形状を賦型する凹凸形状が作成され、
前記凹凸形状に係る欠陥が修復された。
【００１９】
（４）によれば、金型の欠陥に起因する配向膜の欠陥を防止することができ、これにより部分的な欠陥の発生を有効に回避してパターン位相差フィルム等を製造することができる。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、賦型用金型に起因する欠陥の発生を有効に回避してパターン位相差フィルム等を製造できる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の第１実施形態に係るパターン位相差フィルムを示す図である。
【図２】図１のパターン位相差フィルムの製造工程の説明に供する図である。
【図３】図１のパターン位相差フィルムの賦型用金型の生産工程を示す図である。
【図４】図３の続きを示す図である。
【図５】パターン位相差フィルムの賦型用金型の工程を示すフローチャートである。
【図６】欠陥個所の特定の説明に供する図である。
【図７】図６との対比により欠陥個所の特定の説明に供する図である。
【図８】マスキングの説明に供する図である。
【図９】修復処理の説明に供する図である。
【図１０】図９の続きを示す図である。
【図１１】図１０の続きを示す図である。
【図１２】本発明の第２実施形態に係るパターン位相差フィルムの工程を示すフローチャートである。
【図１３】金属膜の剥離に係る欠陥の説明に供する図である。
【図１４】図１３の欠陥の修復の説明に供する図である。
【図１５】パッシブ方式による３次元画像表示の説明に供する図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。
【００２３】
〔第１実施形態〕
図１は、本発明の第１実施形態に係る画像表示装置に適用されるパターン位相差フィルムを示す図である。この第１実施形態に係る画像表示装置は、垂直方向（図１においては左右方向が対応する方向である）に連続する液晶表示パネルの画素が、順次交互に、右目用の映像を表示する右目用画素、左目用の映像を表示する左目用画素に振り分けられて、それぞれ右目用及び左目用の画像データで駆動される。これにより画像表示装置は、右目用の映像を表示する帯状の領域と、左目用の映像を表示する帯状の領域とに表示画面が交互に区分され、右目用の映像と左目用の映像とを同時に表示する。この画像表示装置は、この液晶表示パネルのパネル面に、この図１に示すパターン位相差フィルム１が配置され、このパターン位相差フィルム１により右目用及び左目用の画素からの出射光にそれぞれ対応する位相差を与える。これによりこの画像表示装置は、パッシブ方式により所望の立体画像を表示する。
【００２４】
ここでパターン位相差フィルム１は、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）等の透明フィルムからなる基材２の一方の面上に、配向膜３、位相差層４が順次作製される。パターン位相差フィルム１は、位相差層４が屈折率異方性を保持した状態で固化（硬化）された液晶材料（例えばアクリル系の重合性液晶）により形成され、この液晶材料の配向を配向膜３の配向規制力によりパターンニングする。なおこの液晶分子の配向を図１では細長い楕円により誇張して示す。このパターンニングにより、パターン位相差フィルム１は、液晶表示パネルにおける画素の割り当てに対応して、一定の幅により、右目用の領域Ａと、左目用の領域Ｂとが順次交互に帯状に形成され、右目用及び左目用の画素からの出射光にそれぞれ対応する位相差を与える。
【００２５】
パターン位相差フィルム１は、微細形状の賦型に供する賦型用樹脂である紫外線硬化性樹脂が基材２の表面に塗布され、この紫外線硬化性樹脂により表面に微小な凹凸形状が形成されて賦型層５が作成される。パターン位相差フィルム１は、この賦型層５の表面の凹凸形状により配向膜３が形成される。パターン位相差フィルム１は、後述する金型の表面に作製された微小な凹凸形状を転写して、配向膜３に係る微小な凹凸形状が作製され、この凹凸形状による配向規制力により位相差層４をパターンニングする。このため配向膜３は、右目用及び左目用の帯状領域Ａ及びＢにそれぞれ対応する帯状の領域が順次交互に形成され、それぞれ微小な凹凸形状が作製される。ここでこの微小な凹凸形状は、一方向に延長するライン状（線）の凹凸形状により形成され、この一方向に延長する方向が右目用領域Ａと左目用領域Ｂとで互いに９０度異なる方向となるように、かつ各領域の延長方向（表示画面では水平方向であり、図１に於いては右上と左下とを結ぶ方向に対応）に対して４５度傾くように形成される。パターン位相差フィルム１は、この図１に示す基本構成に加えて、粘着層、セパレータフィルム、反射防止フィルム等が必要に応じて設けられる。
【００２６】
〔パターン位相差フィルム製造工程〕
図２は、このパターン位相差フィルム１の製造工程を示す略線図である。この製造工程１０は、基材２がロールにより提供され、この基材２を供給リール１１から供給する。製造工程１０は、ダイ１２によりこの基材２に紫外線硬化樹脂の塗布液を塗布する。なお紫外線硬化樹脂としては、アクリレート系、メタクリレート系、エポキシ系等の単量体、プレポリマー、或いはこれらの混合物にベンゾフェノン、芳香族ヨードニウム等の光重合開始剤を添加したものを使用することができる。ロール版２０は、賦型用金型であり、パターン位相差フィルム１の配向膜３に係る凹凸形状が周側面に形成された円筒形状の金型である。
【００２７】
製造工程１０は、紫外線硬化樹脂が塗布された基材２を加圧ローラ１４によりロール版２０に押圧し、高圧水銀燈からなる紫外線照射装置１５による紫外線の照射により紫外線硬化樹脂を硬化させる。これにより製造工程１０は、ロール版２０の周側面に形成された凹凸形状を基材２に転写（賦型）して賦型層５を作成する。その後、剥離ローラ１６によりロール版２０から基材２を剥離し、ダイ１９により液晶材料を塗布する。またその後、紫外線照射装置１７による紫外線の照射により液晶材料を硬化させ、これにより位相差層４を作成する。この工程１０は、続いて基材２を巻き取りリール１８に巻き取る。パターン位相差フィルム１は、この巻き取りリール１８に巻き取ったシート材に、必要に応じて粘着層、反射防止層等を形成した後、所望の大きさに切断して作製される。これによりパターン位相差フィルム１は、ロール版２０を用いた凹凸形状の転写により、ロールにより提供される基材２を連続して処理して効率良く大量生産される。
【００２８】
〔ロール版製造工程〕
図３及び図４は、パターン位相差フィルムの製造用金型であるロール版２０の製造工程を示す図である。なおこの図３及び図４において、パターン位相差フィルム１の領域Ａ、Ｂに対応する領域を、それぞれ符号ＡＲＡ、ＡＲＢにより示す。この製造工程では、母材４０の表面を研磨して平滑化した後（図３（ａ））、第１の凹凸形状作製工程において、母材４０の周側面に微小なライン状凹凸形状による第１凹凸領域４２を形成する（図３（ｂ））。ここで母材４０は、ロール版２０の外形形状に対応する円筒形状又は円柱形状の金属材料である。母材４０は、後述するレジスト層４３等を剥離除去可能に積層できるものであれば特に限定されるものではなく、ニッケル、クロム、チタン、銅、コバルト等の各種金属材料、ＳｉＯ２、ＤＬＣ（ダイヤモンド状炭素）、ＴｉＯ２、等の各種無機酸化物等を広く適用することができる。しかしながら後述するレジスト層４３等を剥離除去可能に積層する観点から、金属材料、ＤＬＣ、ＴｉＯ２等であることが好ましく、ニッケル、クロム、ＤＬＣであることがより好ましい。またスパッタリング等の手法を適用して各種の金属材料層を表面に作製したものを適用しても良く、例えばこの表面の金属材料層にタングステン、チタン、金属化合物である酸化チタン、窒化チタン、タングステンカーバイド、酸化クロム、クロムモリブデン、ニッケルクロムモリブデンを適用すれば、強度を向上させることができる。また密着強度を向上する等の目的で、中間層を介して、母材表面に金属材料層を設けることもできる。
【００２９】
第１凹凸領域４２は、母材４０の周側面に、配向膜３の右目用領域又は左目用領域の凹凸形状に対応する微小な凹凸形状を作製して形成される。具体的に、この実施形態では、ラビングロールＲを用いたラビング処理によりこの凹凸形状が作製される。
【００３０】
続いてロール版２０は、マスク作製工程において、レジスト材料により、右目用領域Ａに対応する領域ＡＲＡを被覆し、かつ左目用領域Ｂに対応する領域ＡＲＢを露出させたマスクが作製される（図３（ｃ））。すなわちこの工程では、ポジ型のレジスト剤を全面に塗布した後、露光、現像処理することにより、左目用領域Ｂに対応する領域ＡＲＢを露出させたマスクが作製される。なおレジスト材料としては特に限定されるものではなく、ネガ型レジスト材料を適用しても良い。また塗布方法、露光方法にあっても種々の手法を広く適用することができる。
【００３１】
続いて図４（ｄ）に示すように、薄膜作製工程において、全面に、無機材料の第２層膜４４が、０．１μｍの膜厚で作製される。これによりレジスト層４３によりマスクされていない母材４０の表面に、第２層膜４４からなる第２層パターンが形成される。なおこの第２層膜４４は、例えばスパッタリングの手法を適用してクロム、チタン、ニッケル等の金属材料、金属化合物、ＤＬＣを成膜して作製される。
【００３２】
続いて図４（ｅ）に示すように、第２の凹凸形状作製工程において、第１凹凸領域４２と異なる方向（この実施形態では第１凹凸領域４２のラビング方向とは９０度の角度をなす方向である）に全面をラビングロールＲを使用してラビング処理し、第２層膜４４の表面に凹凸形状を作製する。その後、製造工程は、図４（ｆ）に示すように、続くレジスト除去工程において、レジスト層４３を、その上層の第２層膜４４と共に除去し、これにより２回の凹凸形状作製処理により配向膜３の領域Ａ及びＢに対応する凹凸形状を作製する。なおロール版の製造は、空気清浄度が管理されたクリーンルーム内で行われ、これにより異物の付着により製造不良を有効に回避する。
【００３３】
〔金型仕上げ工程〕
ところで図３及び図４の工程により作成されたロール版２０においては、完全には塵、レジスト残渣等の異物の付着を防止し得ない。このような異物が存在すると、この異物の付着した個所では、ラビング処理において、局所的に、微細な凹凸形状を作成することが困難になる。賦型用金型であるロール版２０においてこのような個所が発生すると、賦型処理により作成される配向膜３において、局所的に、正しく微細な凹凸形状が作成されていない個所が発生することになり、このような個所では、位相差層４において、透過光に正しく位相差を与えることが困難になり、画像表示装置では画質の劣化が知覚されることになる。またラビング処理の後に異物が付着した場合には、正常にラビング痕が作成されているにもかかわらず、当該異物が付着した個所では、同様に、賦型処理により作成される配向膜３において、この異物に対応する個所で、局所的に、正しく微細な凹凸形状が作成されていない個所が発生し、この場合も透過光に正しく位相差を与えることが困難になり、画像表示装置では画質の劣化が知覚されることになる。これによりこれらの場合、このような異物の付着個所が、パターン位相差フィルムにおいて正しく位相差を与えることが困難な、賦型用金型に起因する欠陥となる。そこでこの実施形態では、図５に示す仕上げ工程によりロール版２０の欠陥を検出して修復する。
【００３４】
すなわちこの工程では、図３及び図４の工程１０に続いて、この図５に示す金型仕上げ工程が設けられる。この金型仕上げ工程では、初めに目視によりロール版２０の周側面を観察して欠陥を検出する（ステップＳＰ１−ＳＰ２）。なおこの目視による観察では、例えば周囲との光沢の相違等により比較的大きな欠陥が検出される。続いてこの工程では、パターン位相差フィルム１を試験的に生産し、この試験生産によるパターン位相差フィルム１を観察して欠陥を検出する（ステップＳＰ３）。具体的にこの製品による観察は、直交ニコルの間に観察対象のパターン位相差フィルムを配置し、直交ニコルに対するパターン位相差フィルムの傾きを変化させながら、目視により又は撮像手段を介して明暗を観察することにより実行される。
【００３５】
続いてこの工程では、ステップＳＰ２、ステップＳＰ３で検出した欠陥の個所について、修整処理を実行し（ステップＳＰ４）、これによりロール版２０の欠陥を修復する。
【００３６】
図６及び図７は、ステップＳＰ４の修整工程の説明に供する図である。ステップＳＰ２について上述した目視によるロール版の観察により検出される欠陥にあっては、ロール版上で欠陥を検出することにより、ロール版２０上で欠陥の個所を特定することができる。これに対してステップＳＰ３の製品の観察により検出される欠陥では、対応する欠陥個所をロール版２０上で特定することが必要である。そこでこの実施形態では、パターン位相差フィルム１で検出される欠陥の座標（ｘ、ｙ）を精密測定し（図６）、この座標の座標原点に対応するロール版２０の基準点Ｏからの計測により、ロール版２０上の欠陥個所を特定する（図７）。なおこの基準点Ｏからの計測において、ロール版２０の周側面に計測器具が接触すると新たな欠陥が発生することになる。このためこの計測では、レーザー等を使用した非接触による計測手法が適用される。また、高精度に位置決め可能な旋盤等を使用した機械的計測により実行してもよい。
【００３７】
続いて図８に示すように、この欠陥個所を囲むように、マスクＭによりマスキングする。なおこのマスキングは、薄膜フィルムを貼り付けてマスキングする方法、インク、樹脂等の塗布によりマスキングする方法等、種々の手法を適用することができる。因みに、マスキングに供する工具等の接触により欠陥が発生する恐れがあることにより、この実施形態において、マスキングは、例えばディスペンサ等をもちいて非接触でインク、樹脂等を塗布して実行される。
【００３８】
続いて図９に示すように、マスクＭの内側を選択的にラビング処理する。このラビング処理は、マスクＭの内側の微小領域を選択的に実行するものであることから、例えば先端にラビング布を取り付けたペン５０、同様の筆等を使用して、さらには先端にラビング布を設けたリューター等を使用して実行される。また当該個所に本来設けられるべきラビング痕跡とほぼ同一のラビング痕跡を作成するように、ラビング方向が設定され、さらにロール版２０の表面材料の硬さ等に応じて強さや回数が設定される。具体的に、例えは、筆を使用して押し込み量０．５ｍｍによりラビング処理する場合、往復８００回程度で充分に欠陥を修復することができる。また容易に修復可能な欠陥では、この条件で２００回程度筆を往復させて修復することができるものの、この往復の回数は、２００〜２０００回程度で修復することができ、好ましくは２００〜１０００回程度である。
【００３９】
なお欠陥が発生していない周囲との比較において、ラビング痕の延長方向をこの周囲の延長方向に対して約±３度以下に設定して、パターン位相差フィルム上において、実用上充分に、修復個所を発見困難とすることができる。またこのような筆等の往復による操作によりラビング処理して欠陥修復する場合には、ラビング痕における各スジの延長方向に多少なりともばらつきが発生するものの、周囲の対応するばらつきに比して、欠陥修復個所のばらつきを３倍以下に設定して、修復個所を発見困難とすることができる。なおこれらは１０点の計測結果を統計的に処理した結果である。
【００４０】
これにより図９との対比により図１０に示すように、マスクＭの内側にラビング痕を作成し、続いて図１１に示すように、ロール版２０を洗浄してマスクＭを除去する。なおマスキングに用いた粘着剤やインクが残存すると、新たな欠陥の発生に繋がることから、この洗浄によりマスクＭを完全に除去することが必要である。なお正常にラビング痕が作成されているにも係わらず、異物の付着により凹凸形状を賦型することが困難となった欠陥については、上述した一連の処理により、付着した異物が取り除かれ、これにより欠陥が修整される。
【００４１】
第１の実施形態によれば、ロール版の欠陥を検出して修整することにより、賦型用金型の欠陥に起因する配向膜の欠陥を防止することができ、これにより部分的な欠陥の発生を有効に回避してパターン位相差フィルムを製造することができる。これによりパターン位相差フィルムの製造工程では、歩留まりを向上することができる。
【００４２】
またこの欠陥の修復において、対応する領域をマスキングして修復することにより、欠陥の発生していない部位への影響、隣接する領域への影響を有効に回避して修復処理することができる。特にパターン位相差フィルム１では、右目用の領域と左目用の領域とが幅狭の帯状に作成されて、交互に設けられることにより、マスキングによりこれらの領域における凹凸形状の損傷を有効に回避することができ、これにより一段と確実に部分的な欠陥の発生を有効に回避してパターン位相差フィルムを製造することができる。
【００４３】
〔第２実施形態〕
図１２は、図５との対比により本発明の第２実施形態に係る工程を示す図である。この実施形態では、この工程を除いて、第１実施形態と同一に構成される。
【００４４】
ここで図１３に示すように、下地の表面に直接に、又は中間層を介して、金属膜等によるスパッタ層を作成し、このスパッタ層をラビング処理等してロール版２０を作成する場合、表面のスパッタ膜の剥離により、さらには中間層の剥離により、欠陥が発生する恐れもある。そこでこの実施形態では、このような欠陥についても対応することができるように工程が構成される。
【００４５】
すなわちこの図１２に示す工程では、欠陥の判定工程が設けられ、目視により検出された欠陥（ステップＳＰ２）、製品により検出された欠陥（ステップＳＰ３）について、顕微鏡によるロール版２０表面の観察により、スパッタ層、中間層等の剥離による欠陥か否か判定される（ステップＳＰ１２）。
【００４６】
続いてこの判定結果に基づいて、欠陥修復処理が実行される（ステップＳＰ１３）。この欠陥修復処理において、スパッタ層、中間層等の剥離による欠陥が存在する場合、初めに当該欠陥の個所のみが露出するように、ロール版２０の全面をマスクしてスパッタリング処理を実行し、これにより図１３との対比により図１４に示すように、スパッタ層、中間層等の剥離個所をスパッタリングにより埋め戻す。なお実用上充分な特性を確保できる場合には、スパッタリングによる処理に代えて、メッキ等の手法を適用しても良い。
【００４７】
その後、ロール版２０の洗浄によりスパッタリングに供したマスクを除去した後、第１実施形態と同様の修復処理を実行する。このとき埋め戻した部位についても、他の欠陥と同一の処理により凹凸形状を修復する。
【００４８】
この実施形態では、母材表面の金属層等の剥離による欠陥についても修復して第１実施形態と同様の効果を得ることができる。
【００４９】
〔他の実施形態〕
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態の構成を種々に変更し、さらには組み合わせることができる。
【００５０】
すなわち上述の実施形態では、ラビング布を使用したラビング処理により賦型に供する凹凸形状を作成する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、研磨により賦型に供する凹凸形状を作成する場合等にも広く適用することができる。
【００５１】
また上述の実施形態では、欠陥個所をマスクで囲って修整する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、周辺への影響等を有効に回避して実用上充分に欠陥を修整できる場合には、マスクを設けることなく、欠陥を修整しても良い。
【００５２】
また上述の実施形態では、全面を一方向にラビング処理した後、マスクして他方向にラビング処理することにより配向膜の作成に供する賦型用金型を作成する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、例えば右目用の領域と左目用の領域とを交互にマスキングしてラビング処理することにより賦型用の金型を作成する場合等、種々の作成方法により賦型用金型を作成する場合に広く適用することができる。
【００５３】
また上述の実施形態では、賦型用樹脂に紫外線硬化性樹脂を適用して賦型層を作成する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、紫外線硬化性樹脂以外の各種の賦型用樹脂により賦型する場合、さらには軟化させた基材を直接押圧して賦型する場合等にも広く適用することができる。
【００５４】
また上述の実施形態では、ロール版により賦型用金型を作成する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、いわゆる平板により賦型用金型を作成する場合にも広く適用することができる。
【００５５】
また上述の実施形態では、液晶表示パネルの使用を前提とする場合について述べたが、本発明はこれに限らず、有機ＥＬパネル、プラズマディスプレイパネルの使用を前提とする場合にも広く適用することができ、また偏光フィルタを一体に設ける場合にも広く適用することができる。
【００５６】
また上述の実施の形態では、パターン位相差フィルムの配向膜の作成に供する賦型用金型に本発明を適用する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、配向膜の作成に供する種々の賦型用金型に広く適用することができる。
【符号の説明】
【００５７】
１  パターン位相差フィルム
２  基材
３  配向膜
４  位相差層
５  賦型層
１０、３０  製造工程
１１  供給リール
１２、１９  ダイ
１４  加圧ローラ
１５、１７  紫外線照射装置
１６  剥離ローラ
１８  巻き取りリール
２０  ロール版
４０  母材
４２  第１凹凸領域
４３  レジスト層
４４  第２層膜
５０  ペン
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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