(57)【要約】【課題】偏向装置において、応答性を損なうことなく、信頼性および耐久性を向上する技術を提供する。【解決手段】本明細書では、偏向装置を開示する。その偏向装置は、基板と、基板から間隔を隔てて支持されており傾動軸周りに傾動可能な傾動板と、反射部支持柱を介して傾動板に固定された反射部を備えている。その偏向装置では、傾動板との接合部分における反射部支持柱の断面形状が、傾動軸に沿う方向の長さに比べて傾動軸に直交する方向の長さが長く形成されている。【選択図】  図１
2013195650.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
基板から間隔を隔てて支持されており、傾動軸周りに傾動可能な傾動板と、
反射部支持柱を介して傾動板に固定された反射部を備える偏向装置であって、
傾動板との接合部分における反射部支持柱の断面形状が、傾動軸に沿う方向の長さに比べて傾動軸に直交する方向の長さが長く形成されている偏向装置。
【請求項２】
反射部が、電磁波を反射可能なミラーである請求項１の偏向装置。
【請求項３】
傾動板の形状が、傾動軸に直交する方向の長さに比べて傾動軸に沿う方向の長さが長く形成されている請求項１または２の偏向装置。
【請求項４】
反射部の形状が、傾動軸に直交する方向の長さに比べて傾動軸に沿う方向の長さが長く形成されている請求項１から３の何れか一項の偏向装置。
【請求項５】
傾動板に、傾動軸に沿って並べて配置された一対の開口が形成されており、
一対の開口に対応して配置された、基板から伸びる一対の支持柱と、支持柱から傾動板の傾動軸に沿う方向の端部に向けて伸びており、支持柱と傾動板の開口の縁を接続する一対の支持梁によって、傾動板が支持されており、
反射部支持柱が、傾動板の一対の開口の間に配置されている請求項１から４の何れか一項の偏向装置。
【請求項６】
傾動板が、導電層を絶縁層で挟み込んだ三層構造を有する請求項１から５の何れか一項の偏向装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本明細書は、偏向装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１に、基板と、基板から間隔を隔てて支持されており、傾動軸周りに傾動可能な傾動板と、反射部支持柱を介して傾動板に固定された反射部を備える偏向装置が開示されている。この偏向装置では、駆動手段によって傾動板を基板に対して傾動させることで、反射部の角度を調整する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１１−１２３３６３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記のような偏向装置では、傾動板を傾動させると、傾動板の外縁が基板に衝突して、傾動板、反射部支持柱および反射部に衝撃荷重が作用する。繰り返し衝撃荷重が作用すると、傾動板と反射部支持柱の接合部分に剥離が発生し、この剥離が傾動軸に直交する方向へ進展していく。傾動板と反射部支持柱の接合部分が完全に剥離してしまうと、反射膜が無くなってしまうので、反射のオン／オフ制御ができなくなってしまう。
【０００５】
上記のような剥離に起因する偏向装置の故障を抑制し、偏向装置の信頼性および耐久性を向上するためには、反射部支持柱の断面形状を太く形成して、反射部支持柱と傾動板の接合部分の面積を大きくすることが有効である。しかしながら、反射部支持柱の断面形状を太く形成すると、それだけ反射部支持柱の重量が増大する。傾動板と反射部支持柱と反射部は一体的に傾動するから、反射部支持柱の重量が増大すると、傾動板を傾動軸周りに傾動させる際の慣性モーメントが増大し、偏向装置の応答性を低下させてしまう。このような偏向装置では、オン／オフ制御だけでなく、オンとオフのデューティ比による階調制御が求められるので、応答性の低下は階調制御の階調数を制限してしまうというデメリットに繋がる。偏向装置において、応答性を損なうことなく、信頼性および耐久性を向上する技術が期待されている。
【０００６】
本明細書は上記課題を解決する技術を提供する。本明細書では、偏向装置において、応答性を損なうことなく、信頼性および耐久性を向上する技術を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本明細書では、偏向装置を開示する。その偏向装置は、基板と、基板から間隔を隔てて支持されており傾動軸周りに傾動可能な傾動板と、反射部支持柱を介して傾動板に固定された反射部を備えている。その偏向装置では、傾動板との接合部分における反射部支持柱の断面形状が、傾動軸に沿う方向の長さに比べて傾動軸に直交する方向の長さが長く形成されている。
【０００８】
上記の偏向装置では、反射部支持柱と傾動板との接合面が、傾動軸に直交する方向に長く形成されている。このような構成とすることによって、基板と傾動板が繰り返し衝突する場合でも、反射部支持柱と傾動板の接合部分を剥離しにくくすることができる。加えて、上記の偏向装置では、反射部支持柱と傾動板との接合面が、傾動軸に沿う方向に短く形成されている。このような構成とすることによって、反射部支持柱の重量増加を抑制することができる。上記の偏向装置によれば、応答性を損なうことなく、信頼性および耐久性を向上することができる。
【０００９】
上記の偏向装置では、反射部が、電磁波を反射可能なミラーであることが好ましい。
【００１０】
上記の偏向装置によれば、可視光等の電磁波を反射する光偏向装置を実現することができる。
【００１１】
上記の偏向装置は、傾動板の形状が、傾動軸に直交する方向の長さに比べて傾動軸に沿う方向の長さが長く形成されていることが好ましい。
【００１２】
傾動板の傾動軸に直交する方向の長さを短くすると、傾動板の傾動角度を大きく取ることができるという利点がある。また、傾動板の形状を、傾動軸に直交する方向の長さに比べて傾動軸に沿う方向の長さが長くなるように形成することで、傾動軸周りの慣性モーメントを低減して、傾動板を高速で駆動することが可能となる。しかしながら、傾動板が基板に衝突する際の衝撃荷重も大きくなってしまい、反射部支持柱と傾動板の接合部分が剥離しやすくなってしまう。上記の偏向装置によれば、反射部支持柱と傾動板との接合面が傾動軸に直交する方向に長く形成されているので、反射部支持柱と傾動板の接合部分の剥離を抑制しつつ、傾動板の傾動角度を大きく取り、かつ傾傾動板を高速で駆動することが可能となる。
【００１３】
上記の偏向装置では、反射部の形状が、傾動軸に直交する方向の長さに比べて傾動軸に沿う方向の長さが長く形成されていることが好ましい。
【００１４】
反射部の形状を、傾動軸に直交する方向の長さに比べて傾動軸に沿う方向の長さが長くなるように形成することで、傾動軸周りの慣性モーメントを低減して、傾動板を高速で駆動することが可能となる。しかしながら、傾動板が基板に衝突する際の衝撃荷重も大きくなってしまい、反射部支持柱と傾動板の接合部分が剥離しやすくなってしまう。上記の偏向装置によれば、反射部支持柱と傾動板との接合面が傾動軸に直交する方向に長く形成されているので、反射部支持柱と傾動板の接合部分の剥離を抑制しつつ、傾動板を高速で駆動することが可能となる。
【００１５】
上記の偏向装置では、傾動板に傾動軸に沿って並べて配置された一対の開口が形成されており、一対の開口に対応して配置された基板から伸びる一対の支持柱と、支持柱から傾動板の傾動軸に沿う方向の端部に向けて伸びており支持柱と傾動板の開口の縁を接続する一対の支持梁によって傾動板が支持されており、反射部支持柱が、傾動板の一対の開口の間に配置されていることが好ましい。
【００１６】
傾動板の開口の内側に配置された支持柱と支持梁によって傾動板を支持する構成とすると、限られたスペース内で傾動板、支持梁および支持柱を配置することができ、偏向装置を小型化することができる。加えて、一対の支持柱と一対の支持梁によって傾動板を支持する構成とすると、傾動板の残留歪に起因する支持梁の座屈を抑制することができ、設計時の想定通りに偏向装置を動作させることができる。しかしながら、このような構成とする場合、傾動板に一対の開口が形成されるため、反射部支持柱と傾動板の接合面を広く確保することが困難となる。上記の偏向装置では、傾動板との接合部分における反射部支持柱の断面形状が、傾動軸に沿う方向の長さに比べて傾動軸に直交する方向の長さが長く形成されているので、傾動軸に沿って並べて配置された一対の開口の間に無理なく反射部支持柱を配置することができる。反射部支持柱と傾動板の接合部分の剥離を抑制しつつ、傾動板を高速で駆動することが可能となる。
【００１７】
上記の偏向装置では、傾動板が、導電層を絶縁層で挟み込んだ三層構造を有することが好ましい。
【００１８】
傾動板が導電層を絶縁層で挟み込んだ三層構造を有する場合、傾動板に反りを生じやすい。しかしながら、上記の偏向装置では、反射部支持柱が、傾動板の傾動軸に直交する方向の反りを抑制する補強部材としての役割を果たす。このような構成とすることで、傾動板の傾動軸に沿う方向の反りを抑制することができる。
【発明の効果】
【００１９】
本明細書が開示する技術によれば、偏向装置において、応答性を損なうことなく、信頼性および耐久性を向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】光偏向装置１０の平面図である。
【図２】光偏向装置１０の可動構造体１４を上方から平面視した横断面図である。
【図３】光偏向装置１０について図２のＡ−Ａ断面で見た縦断面図である。
【図４】光偏向装置１０について図２のＢ−Ｂ断面で見た縦断面図である。
【図５】光偏向装置１０の製造プロセスを示す図である。
【図６】光偏向装置１０の製造プロセスを示す図である。
【図７】光偏向装置１０の製造プロセスを示す図である。
【図８】光偏向装置１０の製造プロセスを示す図である。
【図９】光偏向装置１０の製造プロセスを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
好ましい実施例の特徴を最初に列記する。
（特徴１）基板に固定電極が形成されており、傾動板に可動電極が形成されている。
【実施例】
【００２２】
以下では図１−図４を参照しながら、実施例１に係る光偏向装置１０について説明する。光偏向装置１０は、基板１２と、可動構造体１４と、ミラー構造体１６を備えている。光偏向装置１０は半導体製造プロセスを利用して製造される、ＭＥＭＳデバイスである。
【００２３】
基板１２は、シリコンウェハ１１に形成されている。基板１２は、中継電極部１８と、一対の固定電極部２０、２２を備えている。中継電極部１８は、基板１２の上面に形成されており、基板１２の端部から中央に向けて伸びている。固定電極部２０、２２は、基板１２の上面に形成されており、中継電極部１８を間に挟んで配置されている。図４に示すように、中継電極部１８は、周囲を絶縁膜２４で覆われた中継電極１８ａを備えている。図３に示すように、固定電極部２０は、周囲を絶縁膜２４で覆われた固定電極２０ａを備えている。固定電極部２２は、周囲を絶縁膜２４で覆われた固定電極２２ａを備えている。図２に示すように、固定電極２０ａ、２２ａは、基板１２を上方から平面視したときに、長方形状となるように形成されている。中継電極１８ａ、固定電極２０ａ、２２ａは、いずれも導電性を付与されたポリシリコンからなる。絶縁膜２４は酸化シリコンからなる。中継電極１８ａ、固定電極２０ａ、２２ａは、互いに絶縁されている。図１に示すように、中継電極１８ａは、基板１２の上面に露出した可動電極端子１８ｂと導通している。固定電極２０ａは、基板１２の上面に露出した固定電極端子２０ｂと導通している。固定電極２２ａは、基板１２の上面に露出した固定電極端子２２ｂと導通している。
【００２４】
図２に示すように、可動構造体１４は、一対の支持柱２６ａ、２６ｂと、一対の支持梁２８ａ、２８ｂと、傾動板３２を備えている。傾動板３２は、可動構造体１４を上方から平面視したときに、長方形状となるように形成されている。傾動板３２には、支持柱２６ａ、２６ｂおよび支持梁２８ａ、２８ｂと干渉しないように、開口３０ａ，３０ｂが形成されている。傾動板３２の長辺部には、可動電極部３４，３６が形成されている。傾動板３２は、一方の可動電極部３４が固定電極部２０と対向し、他方の可動電極部３６が固定電極部２２と対向するように、配置されている。支持柱２６ａ、２６ｂは、基板１２の上面から上方に向けて伸びており、傾動板３２に形成された開口３０ａ，３０ｂに達している。支持梁２８ａ，２８ｂは、傾動板３２の長手方向に沿って開口３０ａ，３０ｂ内を伸びており、支持柱２６ａ、２６ｂの上端と傾動板３２を連結している。支持柱２６ａおよび支持梁２８ａと、支持柱２６ｂおよび支持梁２８ｂは、傾動板３２の中心を挟んで対称な位置に配置されている。傾動板３２は、支持柱２６ａ，２６ｂと支持梁２８ａ，２８ｂによって、基板１２から浮いた状態で支持されている。
【００２５】
支持梁２８ａ，２８ｂは、何れも細長い形状に形成されている。支持梁２８ａ，２８ｂに沿う方向の傾動軸Ｘ（図２参照）周りのトルクが傾動板３２に作用すると、傾動板３２を支持する支持梁２８ａ，２８ｂがねじれ変形して、傾動板３２は傾動軸Ｘ周りに傾動する。
【００２６】
図３、図４に示すように、支持柱２６ａ，２６ｂ、支持梁２８ａ，２８ｂ、傾動板３２は、何れも導電層３８と、導電層３８の周囲を覆う絶縁膜４０を備えている。支持柱２６ａ，２６ｂ、支持梁２８ａ，２８ｂ、傾動板３２において、導電層３８は継ぎ目無く一体的に形成されており、それぞれの導電層３８は略同電位に保たれている。導電層３８は、導電性を付与されたポリシリコンからなる。絶縁膜４０は酸化シリコンからなる。傾動板３２の導電層３８は、支持梁２８ａの導電層３８と支持柱２６ａの導電層３８を介して、基板１２の中継電極１８ａと導通している。傾動板３２の可動電極部３４の導電層３８によって、可動電極３４ａが構成されている。傾動板３２の可動電極部３６の導電層３８によって、可動電極３６ａが構成されている。
【００２７】
図１−図３に示すように、傾動板３２には、傾動板３２の長手方向に沿って伸びるリブ４６が形成されている。本実施例の光偏向装置１０では、リブ４６は、板厚がほぼ一様な傾動板３２の一部を板厚方向に波状に屈曲させることで、形成されている。リブ４６が形成されていることで、傾動板３２の剛性が確保されて、傾動板３２の長手方向の反りが抑制されている。
【００２８】
ミラー構造体１６は、ミラー支持柱４２と、ミラー４４を備えている。ミラー支持柱４２は、傾動板３２から上方に向けて伸びている。図２に示すように、ミラー支持柱４２は、傾動板３２に形成された開口３０ａ，３０ｂの間に配置されている。ミラー支持柱４２の断面形状は、長手方向が傾動板３２の傾動軸Ｘに直交する長方形状である。ミラー４４はミラー支持柱４２によって支持されている。ミラー４４は、傾動板３２が傾動すると、傾動板３２と一体的に傾動する。図１に示すように、ミラー４４は、ミラー支持柱４２、可動構造体１４、中継電極部１８、固定電極部２０、２２等を覆い隠す大きさの長方形状の平板状に形成されている。ミラー４４の長手方向は、傾動板３２の長手方向と一致している。
【００２９】
光偏向装置１０は、静電駆動式であり、可動電極端子１８ｂ、固定電極端子２０ｂ、２２ｂに印加する電圧を制御することによって、傾動板３２を傾動軸Ｘ周りに傾動させて、ミラー４４を傾動させる。可動電極端子１８ｂ、固定電極端子２０ｂ、２２ｂを駆動信号生成器（図示せず）等に接続することによって、可動電極端子１８ｂ、固定電極端子２０ｂ、２２ｂに印加する駆動電圧を制御することができる。
【００３０】
例えば、可動電極３４ａ、３６ａに導通する可動電極端子１８ｂを接地し、固定電極２０ａ、２２ａに導通する固定電極端子２０ｂ、２２ｂをそれぞれ駆動信号生成器（図示せず）に接続する。駆動信号生成器を用いて、固定電極端子２０ｂに駆動電圧を印加すると、接地されている可動電極３４ａと固定電極２０ａの間に静電引力が発生し、可動電極部３４が基板１２に近づく方向に、傾動板３２が傾動する。傾動板３２は、可動電極部３４が固定電極部２０に当接する傾動角度まで傾動する。逆に、固定電極端子２２ｂに駆動電圧を印加すると、接地されている可動電極３６ａと固定電極２２ａの間に静電引力が発生し、可動電極部３６が基板１２に近づく方向に、傾動板３２が傾動する。傾動板３２は、可動電極部３６が固定電極部２２に当接する傾動角度まで傾動する。上記のようにして、傾動板３２を傾動軸Ｘ周りで傾動させることができる。傾動板３２が傾動することで、ミラー支持柱４２を介して傾動板３２に固定されているミラー４４も傾動する。ミラー４４の傾動角度は、傾動板３２の傾動角度に等しい。傾動板３２の傾動角度は、駆動電圧を印加していない状態での基板１２と傾動板３２の間の間隔と、傾動板３２の傾動軸Ｘに直交する方向の長さにより規定される。
【００３１】
本実施例の光偏向装置１０では、傾動板３２の傾動軸Ｘと、傾動板３２の長手方向が一致している。言い換えると、傾動板３２の傾動軸Ｘに直交する方向の長さは、傾動板３２の傾動軸Ｘに沿った方向の長さよりも短い。このように、傾動板３２の傾動軸Ｘに沿った方向の長さを短くすることで、ミラー４４の傾動角度を大きくすることができる。
【００３２】
本実施例の光偏向装置１０では、傾動板３２とミラー４４の双方とも、長手方向が傾動軸Ｘに沿う長方形状に形成されている。このような構成とすることで、傾動板３２およびミラー構造体１６の傾動軸Ｘ周りの慣性モーメントを小さくすることができる。制御電圧の印加時にミラー４４を高速で駆動することができる。
【００３３】
光偏向装置１０では、ミラー４４を傾動させると、可動電極部３４，３６が固定電極部２０，２２に衝突して、可動構造体１４およびミラー構造体１６に衝撃荷重が作用する。繰り返し衝撃荷重が作用すると、傾動板３２とミラー支持柱４２の接合部分に剥離が発生し、この剥離が傾動軸Ｘに直交する方向へ進展していく。本実施例の光偏向装置１０では、ミラー支持柱４２と傾動板３２の接合面が、傾動軸Ｘに直交する方向に長い長方形状となっている。このような構成とすることによって、可動構造体１４およびミラー構造体１６に繰り返し衝撃荷重が作用する場合でも、傾動板３２とミラー支持柱４２の接合部分が剥離しにくくすることができる。光偏向装置１０の信頼性および耐久性を向上することができる。
【００３４】
傾動板３２において、傾動軸Ｘに直交する方向に反りが生じると、可動電極部３４，３６と固定電極部２０，２２が当接する傾動角度が変化し、ミラー４４の傾動角度にばらつきを生じることになる。本実施例の光偏向装置１０では、ミラー支持柱４２が、傾動板３２の傾動軸Ｘに直交する方向の反りを抑制する補強部材としての役割を果たす。このような構成とすることで、傾動板３２の傾動軸Ｘに沿う方向の反りを抑制し、ミラー４４の傾動角度のばらつきを抑制することができる。
【００３５】
本実施例の光偏向装置１０では、傾動板３２を上方から平面視したときに、支持柱２６ａ，２６ｂと支持梁２８ａ，２８ｂが、傾動板３２の内部に形成された開口３０ａ，３０ｂの中に配置されている。このような構成とすることによって、傾動板３２の長手方向の長さを長くして、可動電極部３４，３６および固定電極部２０，２２の対向面積を広くすることができる。光偏向装置１０の駆動電圧を小さくすることができる。
【００３６】
本実施例の光偏向装置１０では、傾動板３２を上方から平面視したときに、支持柱２６ａ，２６ｂと支持梁２８ａ，２８ｂが、傾動板３２の内部に形成された開口３０ａ，３０ｂの中に配置されており、かつ傾動板３２の長手方向と傾動板３２の傾動軸Ｘの方向（すなわち支持梁２８ａ，２８ｂの長手方向）が一致している。このような構成とすることで、支持梁２８ａ，２８ｂを長く形成し、支持梁２８ａ，２８ｂをねじれやすくすることができる。これにより、光偏向装置１０の駆動電圧を小さくすることができる。
【００３７】
仮に傾動板３２の内側に配置された一対の支持梁２８ａ，２８ｂを単一の支持柱で支持する構成とすると、残留応力に起因して支持梁２８ａ，２８ｂに圧縮荷重が作用する。このような場合に、支持梁２８ａ，２８ｂの断面積を小さくすると、支持梁２８ａ，２８ｂが座屈するおそれがある。本実施例の光偏向装置１０では、支持梁２８ａを支持する支持柱２６ａと、支持梁２８ｂを支持する支持柱２６ｂを別個に設けているので、残留応力に起因する支持梁２８ａ，２８ｂへの圧縮荷重の作用を抑制することができる。支持梁２８ａ，２８ｂの断面積を小さくした場合でも、傾動板３２の残留応力に起因する支持梁２８ａ，２８ｂの座屈を防止することができる。
【００３８】
本実施例の光偏向装置１０では、傾動板３２が、導電層３８を絶縁膜４０で挟み込んだ積層構造を有している。このような構成とすることで、傾動板３２の強度を確保しつつ、傾動板３２の平坦性を上げることができる。また、導電層３８の酸化による変質を防止することができる。
【００３９】
以下では図５−図９を参照しながら、本実施例の光偏向装置１０の製造方法について説明する。図５−図９は、図４の断面に相当する。
【００４０】
まず、図５に示すように、シリコンウェハ１１の上面を酸化して絶縁膜２４を成膜し、その上にポリシリコン層を積層後、エッチングによってポリシリコン層をパターニングする。その後、イオン注入および活性化アニールによりポリシリコン層に導電性を付与する。これにより、基板１２の中継電極１８ａ、固定電極２０ａ、２２ａが形成される。その後、ポリシリコン層の表面を酸化して絶縁膜２４を成膜した後、エッチングにより絶縁膜２４のうち支持柱２６ａに対応する箇所を除去する。これにより、基板１２の中継電極部１８、固定電極部２０，２２が形成される。
【００４１】
次いで、図６に示すように、ポリシリコン層を積層して第１犠牲層６０を形成し、エッチングによって、第１犠牲層６０の上面に傾動板３２のリブ４６に対応する窪み６１を形成する。その後、支持柱２６ａ，２６ｂに対応する箇所のポリシリコン層に導電性を付与するために、イオン注入および活性化アニールを行う。そして、エッチングによって、支持柱２６ａ，２６ｂの外縁に対応する箇所をトリミングする。その後、第１犠牲層６０の表面を酸化して絶縁膜４０を成膜した後、エッチングにより絶縁膜４０のうち支持柱２６ａ，２６ｂの上端に対応する箇所を除去する。
【００４２】
次いで、図７に示すように、絶縁膜４０の上面にポリシリコン層を積層し、エッチングによりポリシリコン層をパターニングする。その後、イオン注入および活性化アニールによってポリシリコン層に導電性を付与して導電層３８を形成する。その後、導電層３８の表面を酸化して絶縁膜４０を成膜し、エッチングにより絶縁膜４０をパターニングする。これにより、支持柱２６ａ，２６ｂと、支持梁２８ａ，２８ｂと、傾動板３２が形成される。なお、本実施例では、この後に形成されるミラー支持柱４２と導電層３８を導通させるために、上記した絶縁膜４０のエッチングの際に、ミラー支持柱４２が形成される箇所の絶縁膜４０を除去している。ミラー支持柱４２と導電層３８を導通させない構成とする場合には、ミラー支持柱４２が形成される箇所の絶縁膜４０を除去する必要はない。
【００４３】
次いで、図８に示すように、ポリシリコン層を積層して第２犠牲層６２を形成する。そして、エッチングによって、可動電極端子１８ｂおよび固定電極端子２０ｂ、２２ｂに対応する箇所の第１犠牲層６０と第２犠牲層６２をトリミングする。その後、可動電極端子１８ｂおよび固定電極端子２０ｂ、２２ｂに対応する箇所の絶縁膜２４をエッチングにより除去する。その後、スパッタリング法で金属層を積層して、エッチングにより金属層をパターニングし、シンタリングを行って可動電極端子１８ｂおよび固定電極端子２０ｂ、２２ｂをそれぞれ形成する。本実施例では金属層はアルミからなる。その後、エッチングによってミラー支持柱４２の外縁に対応する箇所の第２犠牲層６２をトリミングし、スパッタリング法で金属層を積層して、エッチングにより金属層をパターニングする。これにより、ミラー支持柱４２とミラー４４が形成される。
【００４４】
次いで、図９に示すように、エッチングによって、第１犠牲層６０と第２犠牲層６２を除去する。以上により、図１〜図４に示す光偏向装置１０を製造することができる。
【００４５】
以上、本発明の実施例について詳細に説明したが、これらは例示に過ぎず、特許請求の範囲を限定するものではない。特許請求の範囲に記載の技術には、以上に例示した具体例を様々に変形、変更したものが含まれる。
【００４６】
上記の実施例では、可視光を反射する光偏向装置１０について説明したが、ミラー４４の代わりに、紫外線、赤外線、マイクロ波などの電磁波や、電子線などのエネルギー線を反射可能な部材を用いることで、任意のエネルギー線を反射する偏向装置を実現することができる。
【００４７】
上記の実施例では、基板に固定電極が形成されており、傾動板に可動電極が形成されている、いわゆる静電駆動方式によって傾動板を傾動させる場合について説明したが、傾動板を傾動させる駆動方式はこれに限られない。例えば基板および傾動板の一方に永久磁石を設置し、他方にコイルを設置して、コイルへの通電により生じる磁力を利用して傾動板を傾動させる構成としてもよい。
【００４８】
本明細書または図面に説明した技術要素は、単独であるいは各種の組合せによって技術的有用性を発揮するものであり、出願時の請求項に記載の組合せに限定されるものではない。また、本明細書または図面に例示した技術は複数目的を同時に達成するものであり、そのうちの一つの目的を達成すること自体で技術的有用性を持つものである。
【符号の説明】
【００４９】
１０  光偏向装置；１１  シリコンウェハ；１２  基板；１４  可動構造体；１６  ミラー構造体；１８  中継電極部；１８ａ  中継電極；１８ｂ  可動電極端子；２０  固定電極部；２０，２２  固定電極部；２０ａ，２２ａ  固定電極；２０ｂ，２２ｂ  固定電極端子；２４  絶縁膜；２６ａ，２６ｂ  支持柱；２８ａ，２８ｂ  支持梁；３０ａ，３０ｂ  開口；３２  傾動板；３４，３６  可動電極部；３４ａ，３６ａ  可動電極；３８  導電層；４０  絶縁膜；４２  ミラー支持柱；４４  ミラー；４６  リブ；６０  第１犠牲層；６２  第２犠牲層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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