(57)【要約】【課題】賦型用金型に由来する欠陥の発生を有効に回避してパターン位相差フィルム等を製造できるようにする。【解決手段】賦型用金型の母材に、ストライプ状にマスクを作成するマスク作成工程ＳＰ４と、マスクを検査して欠陥を検出する検査工程ＳＰ５と、検査工程ＳＰ５の検査結果に基づいて欠陥を修整するマスク修整工程ＳＰ６と、マスク修整工程ＳＰ６で欠陥を修整した母材をラビング又は研削して、賦型に係る凹凸形状を作成する凹凸形状の作成工程ＳＰ８とを備えるようにする。ここでマスク修整工程ＳＰ６は、ペンのペン先又は筆の筆先を母材に押圧してこのペン又は筆のインクの付着によりマスクの欠陥を修整する。【選択図】図５
2013186177.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ライン状の凹凸形状を賦型して配向膜の作成に供する賦型用金型の製造方法であって、
前記賦型用金型の母材に、ストライプ状にマスクを作成するマスク作成工程と、
前記マスクを検査して欠陥を検出する検査工程と、
前記検査工程の検査結果に基づいて前記欠陥を修整するマスク修整工程と、
前記マスク修整工程で欠陥を修整した前記母材をラビング又は研削して、前記凹凸形状を作成する凹凸形状の作成工程とを備え、
前記マスク修整工程は、
ペンのペン先又は筆の筆先を前記母材に押圧して前記ペン又は筆のインクの付着により前記マスクの欠陥を修整する
賦型用金型の製造方法。
【請求項２】
ライン状の凹凸形状を賦型して配向膜の作成に供する賦型用金型の製造装置であって、
前記賦型用金型は、
前記賦型用金型の母材に、ストライプ状のマスクを作成した状態で、前記母材をラビング又は研削して前記凹凸形状が作成され、
前記賦型用金型の製造装置は、
前記ストライプ状のマスクを作成した前記母材を保持する保持機構と、
前記保持機構により保持した前記母材にペン又は筆を押圧して前記ペン又は筆のインクを前記母材の表面に付着させる修整ユニットとを備え、
前記インクの付着により前記マスクの欠陥を修整する
賦型用金型の製造装置。
【請求項３】
前記賦型用金型は、
円柱形状又は円筒形状による前記母材の周側面に前記凹凸形状が作成されたロール版であり、
前記保持機構は、
前記母材の回転軸により、回転可能に前記母材を保持し、
前記賦型用金型の製造装置は、
前記回転軸に沿って延長するねじ軸により前記修整ユニットの位置を変位させる可動機構を備え、
前記可動機構により前記修整ユニットを前記欠陥の位置に変位させた後、前記ペン又は筆を前記母材に押圧した状態で前記母材を回転させることにより、前記ストライプの延長方向に前記欠陥を修整する
請求項２に記載の賦型用金型の製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えばパッシブ方式による３次元画像表示に適用するパターン位相差フィルムの製造に適用することができる。
【背景技術】
【０００２】
フラットパネルディスプレイは、従来、２次元表示のものが主流であった。しかしながら、近年、３次元表示可能なフラットパネルディスプレイが注目を集めており、一部市販もされている。そして今後のフラットパネルディスプレイは、３次元表示可能であることが当然に求められる傾向にあり、３次元表示可能なフラットパネルディスプレイの検討が幅広い分野において進められている。
【０００３】
フラットパネルディスプレイにおいて３次元表示をするには、通常、何らかの方式で右目用の映像と、左目用の映像とを、それぞれ選択的に視聴者の右目及び左目に提供することが必要である。右目用の映像と左目用の映像とを選択的に提供する方法としては、例えば、パッシブ方式が知られている。このパッシブ方式の３次元表示方式について図を参照しながら説明する。図１０は、液晶表示パネルを使用したパッシブ方式の３次元表示の一例を示す概略図である。この図１０の例では、液晶表示パネルの垂直方向に連続する画素を、順次交互に、右目用の映像を表示する右目用画素、左目用の映像を表示する左目用画素に振り分け、それぞれ右目用及び左目用の画像データで駆動し、これにより右目用の映像と左目用の映像とを同時に表示する。なおこれにより液晶表示パネルの画面は、短辺が垂直方向で長辺が水平方向となる帯状の領域により、右目用の映像を表示する領域と左目用の映像を表示する領域とに交互に区分されることになる。
【０００４】
さらにパッシブ方式では、液晶表示パネルのパネル面にパターン位相差フィルムを配置し、右目用及び左目用の画素からの直線偏光による出射光を、右目用及び左目用で回転方向の異なる円偏光に変換する。このためパターン位相差フィルムは、液晶表示パネルにおける領域の設定に対応して、遅相軸方向（屈折率が最大となる方向）が直交する２種類の帯状領域が順次交互に形成される。これによりパッシブ方式では、対応する偏光フィルタを備えてなる眼鏡（メガネ）を装着して、右目用の映像と左目用の映像とをそれぞれ選択的に視聴者の右目及び左目に提供する。なおここでこの隣接する帯状領域の遅相軸方向は、通常、水平方向に対して、＋４５度と−４５度、０度と＋９０度、又は０度と−９０度の何れかの組み合わせが採用される。なおこの図１０の例では、通常の画像表示装置における呼称に習って画面の長辺方向を水平方向として示す。
【０００５】
このパッシブ方式は、応答速度の遅い液晶表示装置でも適用することができ、さらにパターン位相差フィルムと円偏光メガネとを用いた簡易な構成で３次元表示することができる。従ってパッシブ方式の液晶表示装置は、今後の３次元表示装置の中心的存在となるものとして非常に注目されている。
【０００６】
このパッシブ方式に係るパターン位相差フィルムは、画素の割り当てに対応して透過光に位相差を与えるパターン状の位相差層が必要である。このパターン位相差フィルムに関して、特許文献１には、配向規制力を制御した光配向膜をガラス基板上に形成し、この光配向膜により液晶の配列をパターンニングして位相差層を作成する方法が開示されている。また特許文献２には、レーザーの照射によりロール版の周囲に微細な凹凸形状を形成し、この凹凸形状を転写（賦型）してパターン状に配向規制力を制御した光配向膜を作製する方法が開示されている。
【０００７】
このようなパターン位相差フィルムは、右目用及び左目用の画素からの出射光がそれぞれ確実に右目及び左目に入射するように、部分的な欠陥の発生を有効に回避して透過光に対応する位相差を与えることが必要である。このため例えば特許文献２に開示のように、賦型用の金型により配向膜を作成する場合、この賦型用金型に起因する欠陥の発生を有効に回避することが求められる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００５−４９８６５号公報
【特許文献２】特開２０１０−１５２２９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、賦型用金型に起因する欠陥の発生を有効に回避できるようにすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、賦型用金型の製造工程の途中に、マスキングに係る欠陥を検出、修整する工程を設けるとの着想に至り、本発明を完成するに至った。
【００１１】
具体的には、本発明では、以下のようなものを提供する。
【００１２】
（１）  ライン状の凹凸形状を賦型して配向膜の作成に供する賦型用金型の製造方法であって、
前記賦型用金型の母材に、ストライプ状にマスクを作成するマスク作成工程と、
前記マスクを検査して欠陥を検出する検査工程と、
前記検査工程の検査結果に基づいて前記欠陥を修整するマスク修整工程と、
前記マスク修整工程で欠陥を修整した前記母材をラビング又は研削して、前記凹凸形状を作成する凹凸形状の作成工程とを備え、
前記マスク修整工程は、
ペンのペン先又は筆の筆先を前記母材に押圧して前記ペン又は筆のインクの付着により前記マスクの欠陥を修整する。
【００１３】
（１）によれば、ペン又は筆を使用して簡易にマスクの欠陥を修整することができ、これにより簡易に、賦型用金型に由来する欠陥を有効に回避することができる。
【００１４】
（２）  ライン状の凹凸形状を賦型して配向膜の作成に供する賦型用金型の製造装置であって、
前記賦型用金型は、
前記賦型用金型の母材に、ストライプ状のマスクを作成した状態で、前記母材をラビング又は研削して前記凹凸形状が作成され、
前記賦型用金型の製造装置は、
前記ストライプ状のマスクを作成した前記母材を保持する保持機構と、
前記保持機構により保持した前記母材にペン又は筆を押圧して前記ペン又は筆のインクを前記母材の表面に付着させる修整ユニットとを備え、
前記インクの付着により前記マスクの欠陥を修整する。
【００１５】
（２）によれば、ペン又は筆を使用して簡易にマスクの欠陥を修整することができ、これにより、簡易に、賦型用金型に由来する欠陥を回避することができる。
【００１６】
（３）  （２）において、前記賦型用金型は、
円柱形状又は円筒形状による前記母材の周側面に前記凹凸形状が作成されたロール版であり、
前記保持機構は、
前記母材の回転軸により、回転可能に前記母材を保持し、
前記賦型用金型の製造装置は、
前記回転軸に沿って延長するねじ軸により前記修整ユニットの位置を変位させる可動機構を備え、
前記可動機構により前記修整ユニットを前記欠陥の位置に変位させた後、前記ペン又は筆を前記母材に押圧した状態で前記母材を回転させることにより、前記ストライプの延長方向に前記欠陥を修整する。
【００１７】
（３）によれば、ロール版による賦型用金型の製造装置に適用して、簡易、賦型用金型に由来する欠陥を回避することができる。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、賦型用金型に起因する欠陥の発生を有効に回避してパターン位相差フィルム等を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の第１実施形態に係るパターン位相差フィルムを示す図である。
【図２】図１のパターン位相差フィルムの製造工程の説明に供する図である。
【図３】図１のパターン位相差フィルムの賦型用金型の生産工程を示す図である。
【図４】図３の続きを示す図である。
【図５】製造工程の全体構成を示す図である。
【図６】欠陥の処理に係る製造装置を示す図である。
【図７】図６の製造装置の修整ユニットの詳細を示す図である。
【図８】欠陥修整の説明に供する図である。
【図９】図８とは異なる例による欠陥修整の説明に供する図である。
【図１０】パッシブ方式による３次元画像表示の説明に供する図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。
【００２１】
〔第１実施形態〕
図１は、本発明の第１実施形態に係る画像表示装置に適用されるパターン位相差フィルムを示す図である。この第１実施形態に係る画像表示装置は、垂直方向（図１においては左右方向が対応する方向である）に連続する液晶表示パネルの画素が、順次交互に、右目用の映像を表示する右目用画素、左目用の映像を表示する左目用画素に振り分けられて、それぞれ右目用及び左目用の画像データで駆動される。これにより画像表示装置は、右目用の映像を表示する帯状の領域と、左目用の映像を表示する帯状の領域とに表示画面が交互に区分され、右目用の映像と左目用の映像とを同時に表示する。この画像表示装置は、この液晶表示パネルのパネル面に、図１に示すパターン位相差フィルム１が配置され、このパターン位相差フィルム１により右目用及び左目用の画素からの出射光にそれぞれ対応する位相差を与える。これによりこの画像表示装置は、パッシブ方式により所望の立体画像を表示する。
【００２２】
ここでパターン位相差フィルム１は、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）等の透明フィルムからなる基材２の一方の面上に、配向膜３、位相差層４が順次作製される。パターン位相差フィルム１は、位相差層４が屈折率異方性を保持した状態で固化（硬化）された液晶材料（例えばアクリル系の重合性液晶）により形成され、この液晶材料の配向を配向膜３の配向規制力によりパターンニングする。なおこの液晶分子の配向を図１では細長い楕円により誇張して示す。このパターンニングにより、パターン位相差フィルム１は、液晶表示パネルにおける画素の割り当てに対応して、一定の幅により、右目用の領域Ａと、左目用の領域Ｂとが順次交互に帯状に形成され、右目用及び左目用の画素からの出射光にそれぞれ対応する位相差を与える。
【００２３】
パターン位相差フィルム１は、微細形状の賦型に供する賦型用樹脂である紫外線硬化性樹脂が基材２の表面に塗布され、この紫外線硬化性樹脂により表面に微小な凹凸形状が形成されて賦型層５が作成される。パターン位相差フィルム１は、この賦型層５の表面の凹凸形状により配向膜３が形成される。パターン位相差フィルム１は、後述する金型の表面に作製された微小な凹凸形状を転写して、配向膜３に係る微小な凹凸形状が作製され、この凹凸形状による配向規制力により位相差層４をパターンニングする。このため配向膜３は、右目用及び左目用の帯状領域Ａ及びＢにそれぞれ対応する帯状の領域が順次交互に形成され、それぞれ微小な凹凸形状が作製される。ここでこの微小な凹凸形状は、一方向に延長するライン状（線）の凹凸形状により形成され、この一方向に延長する方向が右目用領域Ａと左目用領域Ｂとで９０度異なる方向となるように、かつ各領域の延長方向（表示画面では水平方向であり、図１においては右上と左下とを結ぶ方向）に対して４５度傾くように形成される。パターン位相差フィルム１は、この図１に示す基本構成に加えて、粘着層、セパレータフィルム、反射防止フィルム等が必要に応じて設けられる。
【００２４】
〔パターン位相差フィルム製造工程〕
図２は、このパターン位相差フィルム１の製造工程を示す略線図である。この製造工程１０は、基材２がロールにより提供され、この基材２を供給リール１１から供給する。製造工程１０は、ダイ１２によりこの基材２に紫外線硬化樹脂の塗布液を塗布する。なお紫外線硬化樹脂としては、アクリレート系、メタクリレート系、エポキシ系等の単量体、プレポリマー、或いはこれらの混合物にベンゾフェノン、芳香族ヨードニウム等の光重合開始剤を添加したものを使用することができる。ロール版２０は、賦型用金型であり、パターン位相差フィルム１の配向膜３に係る凹凸形状が周側面に形成された円筒形状の金型である。
【００２５】
製造工程１０は、紫外線硬化樹脂が塗布された基材２を加圧ローラ１４によりロール版２０に押圧し、高圧水銀燈からなる紫外線照射装置１５による紫外線の照射により紫外線硬化樹脂を硬化させる。これにより製造工程１０は、ロール版２０の周側面に形成された凹凸形状を基材２に転写（賦型）して賦型層５を作成する。その後、剥離ローラ１６によりロール版２０から基材２を剥離し、ダイ１９により液晶材料を塗布する。またその後、紫外線照射装置１７による紫外線の照射により液晶材料を硬化させ、これにより位相差層４を作成する。この工程１０は、続いて基材２を巻き取りリール１８に巻き取る。パターン位相差フィルム１は、この巻き取りリール１８に巻き取ったシート材に、必要に応じて粘着層、反射防止層等を形成した後、所望の大きさに切断して作製される。これによりパターン位相差フィルム１は、ロール版２０を用いた凹凸形状の転写により、ロールにより提供される基材２を連続して処理して効率良く大量生産される。
【００２６】
〔ロール版製造工程〕
図３及び図４は、パターン位相差フィルムの製造用金型であるロール版２０の製造工程を示す図である。なおこの図３及び図４において、パターン位相差フィルム１の領域Ａ、Ｂに対応する領域を、それぞれ符号ＡＲＡ、ＡＲＢにより示す。この製造工程では、母材４０の表面を研磨して平滑化した後（図３（ａ））、第１の凹凸形状作製工程において、母材４０の全面に微小なライン状凹凸形状による第１凹凸領域４２を形成する（図３（ｂ））。ここで母材４０は、ロール版２０の外形形状に対応する円筒形状又は円柱形状の金属材料である。母材４０は、後述するレジスト層４３等を剥離除去可能に積層できるものであれば特に限定されるものではなく、ニッケル、クロム、チタン、銅、コバルト等の各種金属材料、ＳｉＯ２、ＤＬＣ（ダイヤモンド状炭素）、ＴｉＯ２、等の各種無機酸化物等を広く適用することができる。しかしながら後述するレジスト層４３等を剥離除去可能に積層する観点から、金属材料、ＤＬＣ、ＴｉＯ２等であることが好ましく、ニッケル、クロム、ＤＬＣであることがより好ましい。またスパッタリング等の手法を適用して各種の金属材料層を表面に作製したものを適用しても良く、例えばこの表面の金属材料層にタングステン、チタン、金属化合物である酸化チタン、窒化チタン、タングステンカーバイド、酸化クロム、クロムモリブデン、ニッケルクロムモリブデンを適用すれば、強度を向上させることができる。また密着強度を向上する等の目的で、中間層を介して、母材表面に金属材料層を設けることもできる。
【００２７】
第１凹凸領域４２は、母材４０の周側面に、配向膜３の右目用領域又は左目用領域の凹凸形状に対応する微小な凹凸形状を作製して形成される。具体的に、この実施形態では、ラビングロールＲを用いたラビング処理によりこの凹凸形状が作製される。
【００２８】
続いてロール版２０は、マスク作製工程において、レジスト材料により、右目用領域Ａに対応する領域ＡＲＡを被覆し、かつ左目用領域Ｂに対応する領域ＡＲＢを露出させたマスクが作製される（図３（ｃ））。なおこのように作成することにより、マスクはストライプ状に作成されることになる。すなわちこの工程では、ポジ型のレジスト剤を全面に塗布した後、露光、現像処理することにより、左目用領域Ｂに対応する領域ＡＲＢを露出させたマスクが作製される。なおレジストの厚みは、薄い方が後工程で剥離しやすいので好ましいが、薄すぎると厚みムラを生じやすいので、１μｍ〜５μｍ程度が望ましい。なおレジスト材料としては特に限定されるものではなく、ネガ型レジスト材料を適用しても良い。また塗布方法、露光方法にあっても種々の手法を広く適用することができる
【００２９】
続いて図４（ｄ）に示すように、薄膜作製工程において、全面に、無機材料の第２層膜４４が、０．１μｍの膜厚で作製される。これによりレジスト層４３によりマスクされていない母材４０の表面に、第２層膜４４からなる第２層パターンが形成される。なおこの第２層膜４４は、例えばスパッタリングの手法を適用してクロム、チタン、ニッケル等の金属材料、金属化合物、ＤＬＣを成膜して作製される。
【００３０】
続いて図４（ｅ）に示すように、第２の凹凸形状作製工程において、第１凹凸領域４２と異なる方向（この実施形態では第１凹凸領域４２のラビング方向とは９０度の角度をなす方向である）に全面をラビングロールＲを使用してラビング処理し、第２層膜４４の表面に凹凸形状を作製する。その後、製造工程は、図４（ｆ）に示すように、続くレジスト除去工程において、レジスト層４３を、その上層の第２層膜４４と共に除去し、これにより２回の凹凸形状作製処理により配向膜３の領域Ａ及びＢに対応する凹凸形状を作製する。なお上記ロール版の製造は、空気清浄度が管理されたクリーンルーム内で行われ、これにより異物の付着により製造不良を有効に回避する。
【００３１】
〔金型修整工程〕
ところで図３及び図４の工程により作成されたロール版２０においては、マスク作製工程（図３（ｃ））において、右目用領域Ａに対応する領域ＡＲＡを被覆し、かつ左目用領域Ｂに対応する領域ＡＲＢを露出させたマスクを作成し、このマスクを利用して領域ＡＲＡ及びＡＲＢで延長方向が直交するライン状の凹凸形状が作成される。従ってマスクの作成工程における洗浄等の処理において、このマスクが部分的に欠落すると、この欠落した部位では、正しい方向に延長するように凹凸形状を作成することが困難になり、パターン位相差フィルムでは、対応する部位で正しく位相差を設定することが困難になる。これによりパターン位相差フィルムでは、賦型用金型に由来する欠陥が発生することになる。
【００３２】
そこでこの実施形態は、図３及び図４について上述した製造工程１０において、途中に中間検査工程、修整工程を設け、マスクに係る欠陥を検出して修整する。図５は、図３及び図４の製造工程を中間検査工程及び修整工程と共に示すフローチャートである。この製造工程は、平滑化処理工程（ステップＳＰ２）、第１の凹凸形状作成工程（ステップＳＰ３）、マスク作成工程（ステップＳＰ４）に続いて、中間検査工程（ステップＳＰ５）、修整工程（ステップＳＰ６）が設けられる。なおここでこれら平滑化処理工程、第１の凹凸形状作成工程、マスク作成工程は、それぞれ図３（ａ）、（ｂ）、（ｃ）について上述した工程である。
【００３３】
中間検査工程では、顕微鏡を使用した目視による観察により母材４０の周側面を観察してマスクの欠陥を検出する。また続く修整工程においては、中間検査工程で発見された欠陥を修整する。この工程では、この修整工程で修整した母材４０について、さらに薄膜作製工程（図４（ｄ）、ステップＳＰ７）、第２の凹凸形状作製工程（図４（ｅ）、ステップＳＰ８）、レジスト除去工程（図４（ｆ）、ステップＳＰ９）を実行してロール版２０を作成する。
【００３４】
〔製造装置〕
図６は、このステップＳＰ４の中間検査工程、ステップＳＰ５の修整工程に適用される製造装置の概略構成を示す側面図及び正面図である。この製造装置５０は、保持機構により母材４０の回転軸の両端を保持することにより、この回転軸がほぼ水平となり、この回転軸により回転可能に、さらに周側面が他の部位に接触しないように、母材４０を保持する。製造装置５０は、図示しないフットスイッチの操作により保持機構により保持した母材４０を矢印により示すようにゆっくりとした速度で回転させる。
【００３５】
製造装置５０は、この母材４０の回転軸と平行に、一対のねじ軸５１、５２が設けられる。ここでねじ軸５１には、このねじ軸５１と共にボールネジを構成するナット部５３が設けられ、このナット部５３には母材４０の周側面を観察する顕微鏡５４が設けられる。これにより製造装置５０は、ねじ軸５１及びナット部５３により顕微鏡５４の可動機構を構成し、ネジ軸５１の回転により顕微鏡５４を母材４０の回転軸に沿った方向に移動させ、母材４０の周側面を顕微鏡５４により観察して中間検査工程に係る作業を実行し、さらには修整工程に係るマスクの欠陥修整作業を目視により確認しながら実行できるように構成される。
【００３６】
これに対してねじ軸５２には、同様に、ネジ軸５２と共にボールネジを構成するナット部５５が設けられ、このナット部５５にマスクの修整に供する修整ユニット５６が設けられる。これにより製造装置５０は、ねじ軸５２及びナット部５５により修整ユニット５６の可動機構を構成し、ねじ軸５２の回転により修整ユニット５６を母材４０の回転軸に沿った方向に移動させ、修整工程に係るマスクの欠陥修整を実行できるように構成される。
【００３７】
図７は、この修整ユニット５６の構成を詳細に示す図である。修整ユニット５６は、ロードセル５８を介して、棒状の部材がナット部５５より立ち上がり、その先端に保持部５９が設けられ、この保持部５９に油性のペン６１が保持される。これにより修整ユニット５６は、ロードセル５８により押圧力をモニタしながら、母材４０にペン６１のペン先を押圧できるように構成される。
【００３８】
製造装置５０は、このロードセル５８による押圧力をモニタしたフィードバック制御により、所定の押圧力でペン６１のペン先を母材４０に押圧する。またこの状態で、母材４０を回転させ、これにより円周方向に延長するようにペン６１のインクを付着させてマスクの欠陥を修整する。なお欠陥が小さい場合には、母材４０の回転を中止して、単にペン６１のペン先を押圧して欠陥個所にインクを付着させるだけで欠陥を修整する。
【００３９】
ここでペン６１には、母材４０の表面に対して充分な濡れ性を有するインクによるペンが適用され、具体的に油性ペンが適用される。またペン６１には、マスクの幅に対応するペン先のペンが適用され、具体的にこの実施形態では、領域ＡＲＡ、ＡＲＢの幅がそれぞれ０．３ｍｍ程度であることにより、ペン先の太さが０．０３〜０．３ｍｍのペンを適用することができ、この実施形態では太さ０．２ｍｍのペン先によるペンが適用される。なお領域ＡＲＡ、ＡＲＢの幅がそれぞれ０．６ｍｍ程度である場合には、ペン先の太さが０．１〜０．６ｍｍのペンを適用することができる。またペン６１は、溶剤がアルコール系のものが望ましく、インキの粘度は２００〜１０００ｍ・Ｐａｓが望ましい。またペン先は、フェルト等のやわらかいものが望ましく、さらに押圧力は、マスクの下層を損傷させないようにする観点から、筆圧に換算して１０〜２０ｇが望ましい。また、ペン以外による修正も可能である。その場合、筆に、有機溶媒に樹脂を溶かしたインキを少量つけて適用し、この筆の筆先を修整対象に押し付けてインクの付着により修整する。筆を使用する場合にインクとして適用できる樹脂としては、続くレジスト除去工程において、上層の第２層膜４４とともに除去できるものであれば特に限定されるものではなく、ロジン系樹脂、ケトン樹脂、フェノール樹脂、テルペン樹脂、テルペンフェノール樹脂、ブチラール樹脂、アクリル樹脂などを適用できる。
【００４０】
なお修正した部分の高さは周囲のレジストと同等もしくは低い方が望ましいことから、インクの乾燥膜厚により修整に供するインクの濃度、インクの付着量等が選定される。具体的に、周囲のレジストより修整個所が高いと、２回目のラビング処理時に、修正部分の樹脂とともに第２層膜が削られ、母材表面の傷になったりする。また周囲のレジストより修整個所が高い場合にあって、修正部分がストライプ端部に近い場合、又は修正部分がストライプ端部に掛かる場合、２回目のラビング方向によっては修正部分が邪魔になり、修正部分に隣接する領域ＡＲＡのストライプ境界付近がラビング不足となったりする恐れがある。
【００４１】
これによりこの実施形態では、マスクの欠陥を修復して、賦型用金型に由来するパターン位相差フィルムの欠陥を防止する。すなわち図８は、欠陥の修整結果の説明に供する図である。図８（Ａ）は、何ら欠陥を修復していない状態を示す図であり、この図の例ではマスクに係るレジストが部分的に欠落していることがわかる。なおこの欠落した部位では、正しく凹凸形状を作成できないことにより、パターン位相差フィルムの対応する部位では正しく位相差を付与することが困難になる。図８（Ｂ）は、この欠陥を修復した状態を示す図である。この場合、マスクの延長方向に、マスクの端部に沿って、ペン６１によるインクを塗付してマスクを修整することができ、これによりこのマスクの欠陥に係る賦型用金型に由来するパターン位相差フィルムの欠陥を防止することができる。
【００４２】
また図９は、レジスト残渣の付着に係る欠陥の説明に供する図である。図９（Ａ）では、マスクの上にレジスト残渣が付着している場合である。この場合には、ペン６１に代えて、先端がウレタンゴムの自己粘着タイプのペンスティックを配置して、このペンスティックにより異物を除去した後、ペン６１によりインクを塗付して修復する。なお図９（Ｂ）はこのようにして修復を完了した図である。
【００４３】
なおこのようなレジストの修正方法として、マイクロディスペンサを使用してレジストを塗布して修整する方法（特開昭６３−１９６５７号）が開示されているものの、この方法では簡易にレジストを修復できない問題があり、この種のロール版の修復では実用的ではない。しかしながらこの実施形態のようにペンによりマスクを修復する場合には、パターン位相差フィルムの賦型用金型に適用して簡易かつ確実にマスクを修復することができる。
【００４４】
以上の構成によれば、ペン又は筆によりインクを付着してマスクの欠陥を修整することにより、賦型に供する凹凸形状を正しく作成して、賦型用金型に由来するパターン位相差フィルムの欠陥を有効に回避することができる。
【００４５】
また回転軸により母材を保持するようにして、この母材の回転によりマスクに係るストライプ方向にインクを順次付着させてマスクを修整することにより、ロール版であるパターン位相差フィルムの賦型用金型に適用して欠陥を確実に修整することができる。
【００４６】
〔第２実施形態〕
この実施形態では、上述した製造装置を使用するようにして、ペンの代わりに、所定の液体を含浸された面相筆を製造装置５０の保持部５９に保持し、この面相筆によりマスクの欠陥を修整する。なおここでこの所定の液体は、メタクリル酸ジメチルアミノエチル５０モル％、スチレン４０モル％、アクリル酸−ブチル１０モル％を、アゾビスジメチルバレロニトリル触媒下で共重合させた樹脂を、エチルアルコールに10wt%含有するインキである。この実施形態では、この面相筆に関する構成が異なる点を除いて、第１の実施形態と同一に構成される。
【００４７】
この実施形態では、エチルアルコールを溶媒としたインクを適用する場合でも、第１実施形態と同様の効果を得ることができる。
【００４８】
〔他の実施形態〕
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態の構成を種々に変更し、さらには組み合わせることができる。
【００４９】
すなわち上述の実施形態では、全面を一方向にラビング処理した後、マスクして異なる方向にラビング処理することにより配向膜の作成に供する賦型用金型を作成する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、例えば右目用の領域と左目用の領域とを交互にマスクしてラビング処理することにより賦型用金型を作成する場合等、種々の方法によりマスクを使用して賦型用金型を作成する場合に広く適用することができる。
【００５０】
また上述の実施形態では、ラビング布を使用したラビング処理により賦型に供する凹凸形状を作成する場合に適用する場合ついて述べたが、本発明はこれに限らず、研磨により賦型に供する凹凸形状を作成する場合にも広く適用することができる。
【００５１】
また上述の実施形態では、ロール版による賦型用金型に本発明を適用する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、いわゆる平板による賦型用金型にも広く適用することができる。
【００５２】
また上述の実施形態では、賦型用樹脂に紫外線硬化性樹脂を適用して賦型層を作成する場合について、欠陥を修復する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、紫外線硬化性樹脂以外の各種の賦型用樹脂により賦型する場合、さらには軟化させた基材を直接押圧して賦型する場合等にも広く適用することができる。
【００５３】
また上述の実施形態では、液晶表示パネルの使用を前提とする場合について述べたが、本発明はこれに限らず、有機ＥＬパネル、プラズマディスプレイパネルの使用を前提とする場合にも広く適用することができ、また偏光フィルタを一体に設ける場合にも広く適用することができる。
【００５４】
また上述の実施の形態では、パターン位相差フィルムの配向膜の作成に供する賦型用金型に本発明を適用する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、配向膜の作成に供する種々の賦型用金型に広く適用することができる。
【符号の説明】
【００５５】
１  パターン位相差フィルム
２  基材
３  配向膜
４  位相差層
５  賦型層
１０、３０  製造工程
１１  供給リール
１２、１９  ダイ
１４  加圧ローラ
１５、１７  紫外線照射装置
１６  剥離ローラ
１８  巻き取りリール
２０  ロール版
４０  母材
４２  第１凹凸領域
４３  レジスト層
４４  第２層膜
５０  修整装置
５１、５２  ねじ軸
５３、５５  ナット部
５４  顕微鏡
５６  修整ユニット
５７  計測計
５８  ロードセル
５９  保持部
６１  ペン
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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