(57)【要約】      （修正有）【課題】混色の発生を抑制する撮像素子、製造装置および方法、撮像装置、表示素子、並びに表示装置を提供する。【解決手段】入射光の所定の波長成分を透過するフィルタ１００と、前記フィルタを透過した入射光を光電変換する光電変換部１５１とを備え、前記フィルタの周辺部が、中心部に比べて、前記光電変換部側に厚く形成され、前記光電変換部側に延伸する杭部１０１を有する。【選択図】図２
2013207035.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入射光の所定の波長成分を透過するフィルタと、
前記フィルタを透過した入射光を光電変換する光電変換部と
を備え、
前記フィルタの周辺部が、中心部に比べて、前記光電変換部側に厚く形成される
撮像素子。
【請求項２】
前記フィルタの前記周辺部の前記光電変換部側に、前記中心部より突き出た杭部が形成される
請求項１に記載の撮像素子。
【請求項３】
前記杭部は、前記光電変換部と前記フィルタとの間に形成される平坦化膜により挟まれる
請求項２に記載の撮像素子。
【請求項４】
前記杭部は、前記フィルタの周辺部全体に形成される
請求項２に記載の撮像素子。
【請求項５】
前記杭部は、前記フィルタの周辺部の一部に形成される
請求項２に記載の撮像素子。
【請求項６】
前記フィルタは、所定の色の可視光を透過させるカラーフィルタである
請求項１に記載の撮像素子。
【請求項７】
前記フィルタは、全ての波長の可視光を透過させるホワイトフィルタである
請求項１に記載の撮像素子。
【請求項８】
前記光電変換素子を有する画素を複数有し、
前記画素の一部または全部の画素が前記フィルタを有する
請求項１に記載の撮像素子。
【請求項９】
画素毎に、隣接する画素とは異なる所定の色の可視光を透過させるカラーフィルタが形成され、
前記カラーフィルタの、所定の単色若しくは複数色の可視光を透過させる画素の部分が前記フィルタにより形成される
請求項８に記載の撮像素子。
【請求項１０】
前記カラーフィルタの、前記フィルタにより形成される画素以外の画素の部分が、中心部と周辺部とで厚さが略同じである平型フィルタにより形成される
請求項９に記載の撮像素子。
【請求項１１】
各画素の前記フィルタの前記周辺部の前記光電変換部側に、前記中心部より突き出た杭部が形成され、
隣接する画素の前記フィルタの前記杭部は、一体的に、前記光電変換部と前記フィルタとの間に形成される平坦化膜により挟まれる
請求項９に記載の撮像素子。
【請求項１２】
各画素の前記光電変換素子と前記カラーフィルタとの間に、遮光膜が形成され、
前記杭部は、前記遮光膜上に位置するように形成される
請求項１１に記載の撮像素子。
【請求項１３】
前記光電変換素子の、前記フィルタ側とは反対側に配線層が形成される裏面照射型の撮像素子である
請求項８に記載の撮像素子。
【請求項１４】
前記光電変換素子と前記フィルタとの間に配線層が形成される表面照射型の撮像素子であって、
前記配線層に、光伝搬可能な導波路が形成され、
各画素の前記フィルタの前記周辺部の前記光電変換部側に、前記中心部より突き出た杭部が、前記導波路の回りに、高屈折率材料によって形成される層を分断するように形成される
請求項８に記載の撮像素子。
【請求項１５】
前記フィルタおよび前記光電変換部は、前記入射光の主な入射角に応じて配置され、
各画素の前記フィルタの前記周辺部の前記光電変換部側に、前記中心部より突き出るように形成される杭部は、前記入射光の主な入射角に応じて形成される
請求項８に記載の撮像素子。
【請求項１６】
撮像素子を製造する製造装置であって、
入射光を光電変換する光電変換部を形成する光電変換部形成部と、
前記光電変換部形成部により形成された前記光電変換部の表面に平坦化膜を形成する平坦化膜形成部と、
前記平坦化膜形成部により形成された前記平坦化膜表面に凹部を形成する凹部形成部と、
前記凹部形成部により形成された前記平坦化膜の凹部を用いて、入射光の所定の波長成分を透過するフィルタを、前記フィルタの周辺部が中心部に比べて前記光電変換部側に厚くするように形成するフィルタ形成部と
を備える製造装置。
【請求項１７】
撮像素子を製造する製造装置の製造方法であって、
前記製造装置が、
入射光を光電変換する光電変換部を形成し、
前記光電変換部の表面に平坦化膜を形成し、
前記平坦化膜表面に凹部を形成し、
前記平坦化膜の凹部を用いて、入射光の所定の波長成分を透過するフィルタを、前記フィルタの周辺部が中心部に比べて前記光電変換部側に厚くするように形成する
製造方法。
【請求項１８】
入射光の所定の波長成分を透過するフィルタと、前記フィルタを透過した入射光を光電変換する光電変換部とを備え、前記フィルタの周辺部が、中心部に比べて、前記光電変換部側に厚く形成され、被写体を撮像し、前記被写体の画像を電気信号として出力する撮像素子と、
前記撮像素子において得られた前記被写体の画像を画像処理する画像処理部と
を備える撮像装置。
【請求項１９】
光を発光する発光部と、
前記発光部が発光することにより前記発光部から出射される出射光の所定の波長成分を透過する、周辺部が中心部に比べて厚く形成されるフィルタと
を備える表示素子。
【請求項２０】
画像を画像処理する画像処理部と、
光を発光する発光部と、前記発光部が発光することにより前記発光部から出射される出射光の所定の波長成分を透過する、周辺部が中心部に比べて厚く形成されるフィルタとを備え、前記画像処理部により画像処理された画像を表示する表示素子と
を備える表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本技術は、撮像素子、製造装置および方法、撮像装置、表示素子、並びに表示装置に関し、特に、混色の発生を抑制することができるようにした撮像素子、製造装置および方法、撮像装置、表示素子、並びに表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、画素の微細化に伴い、撮像素子製造の際に、カラーフィルタが剥がれ易くなる恐れがあった。その解決策の１つとして、画素間ブリッジ手法などが考えられた（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００９−４３８９９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、この手法の場合、ブリッジ部が他色画素上にまたがるため、感度低下と混色発生を招く恐れがあった。
【０００５】
混色の発生は、隣接画素間の光成分が混じり合うため解像感の低下につながるだけでなく、本来の色を再現する上での弊害ともなり、色再現性の悪化や、Ｓ／Ｎ比の悪化を招く恐れがあった。
【０００６】
本技術は、このような状況に鑑みて提案されたものであり、混色の発生を抑制することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本技術の第１の側面は、入射光の所定の波長成分を透過するフィルタと、前記フィルタを透過した入射光を光電変換する光電変換部とを備え、前記フィルタの周辺部が、中心部に比べて、前記光電変換部側に厚く形成される撮像素子である。
【０００８】
前記フィルタの前記周辺部の前記光電変換部側に、前記中心部より突き出た杭部が形成されるようにすることができる。
【０００９】
前記杭部は、前記光電変換部と前記フィルタとの間に形成される平坦化膜により挟まれるようにすることができる。
【００１０】
前記杭部は、前記フィルタの周辺部全体に形成されるようにすることができる。
【００１１】
前記杭部は、前記フィルタの周辺部の一部に形成されるようにすることができる。
【００１２】
前記フィルタは、所定の色の可視光を透過させるカラーフィルタであるようにすることができる。
【００１３】
前記フィルタは、全ての波長の可視光を透過させるホワイトフィルタであるようにすることができる。
【００１４】
前記光電変換素子を有する画素を複数有し、前記画素の一部または全部の画素が前記フィルタを有することができる。
【００１５】
画素毎に、隣接する画素とは異なる所定の色の可視光を透過させるカラーフィルタが形成され、前記カラーフィルタの、所定の単色若しくは複数色の可視光を透過させる画素の部分が前記フィルタにより形成されるようにすることができる。
【００１６】
前記カラーフィルタの、前記フィルタにより形成される画素以外の画素の部分が、中心部と周辺部とで厚さが略同じである平型フィルタにより形成されるようにすることができる。
【００１７】
各画素の前記フィルタの前記周辺部の前記光電変換部側に、前記中心部より突き出た杭部が形成され、隣接する画素の前記フィルタの前記杭部は、一体的に、前記光電変換部と前記フィルタとの間に形成される平坦化膜により挟まれるようにすることができる。
【００１８】
各画素の前記光電変換素子と前記カラーフィルタとの間に、遮光膜が形成され、前記杭部は、前記遮光膜上に位置するように形成されるようにすることができる。
【００１９】
前記光電変換素子の、前記フィルタ側とは反対側に配線層が形成される裏面照射型の撮像素子であるようにすることができる。
【００２０】
前記光電変換素子と前記フィルタとの間に配線層が形成される表面照射型の撮像素子であって、前記配線層に、光伝搬可能な導波路が形成され、各画素の前記フィルタの前記周辺部の前記光電変換部側に、前記中心部より突き出た杭部が、前記導波路の回りに、高屈折率材料によって形成される層を分断するように形成されるようにすることができる。
【００２１】
前記フィルタおよび前記光電変換部は、前記入射光の主な入射角に応じて配置され、各画素の前記フィルタの前記周辺部の前記光電変換部側に、前記中心部より突き出るように形成される杭部は、前記入射光の主な入射角に応じて形成されるようにすることができる。
【００２２】
本技術の第２の側面は、撮像素子を製造する製造装置であって、入射光を光電変換する光電変換部を形成する光電変換部形成部と、前記光電変換部形成部により形成された前記光電変換部の表面に平坦化膜を形成する平坦化膜形成部と、前記平坦化膜形成部により形成された前記平坦化膜表面に凹部を形成する凹部形成部と、前記凹部形成部により形成された前記平坦化膜の凹部を用いて、入射光の所定の波長成分を透過するフィルタを、前記フィルタの周辺部が中心部に比べて前記光電変換部側に厚くするように形成するフィルタ形成部とを備える製造装置である。
【００２３】
本技術の第２の側面は、また、撮像素子を製造する製造装置の製造方法であって、前記製造装置が、入射光を光電変換する光電変換部を形成し、前記光電変換部の表面に平坦化膜を形成し、前記平坦化膜表面に凹部を形成し、前記平坦化膜の凹部を用いて、入射光の所定の波長成分を透過するフィルタを、前記フィルタの周辺部が中心部に比べて前記光電変換部側に厚くするように形成する製造方法である。
【００２４】
本技術の第３の側面は、入射光の所定の波長成分を透過するフィルタと、前記フィルタを透過した入射光を光電変換する光電変換部とを備え、前記フィルタの周辺部が、中心部に比べて、前記光電変換部側に厚く形成され、被写体を撮像し、前記被写体の画像を電気信号として出力する撮像素子と、前記撮像素子において得られた前記被写体の画像を画像処理する画像処理部とを備える撮像装置である。
【００２５】
本技術の第４の側面は、光を発光する発光部と、前記発光部が発光することにより前記発光部から出射される出射光の所定の波長成分を透過する、周辺部が中心部に比べて厚く形成されるフィルタとを備える表示素子である。
【００２６】
本技術の第５の側面は、画像を画像処理する画像処理部と、光を発光する発光部と、前記発光部が発光することにより前記発光部から出射される出射光の所定の波長成分を透過する、周辺部が中心部に比べて厚く形成されるフィルタとを備え、前記画像処理部により画像処理された画像を表示する表示素子とを備える表示装置である。
【００２７】
本技術の第１の側面においては、入射光の所定の波長成分を透過するフィルタと、フィルタを透過した入射光を光電変換する光電変換部とが備えられ、フィルタの周辺部が、中心部に比べて、光電変換部側に厚く形成される。
【００２８】
本技術の第２の側面においては、入射光を光電変換する光電変換部が形成され、光電変換部の表面に平坦化膜が形成され、平坦化膜表面に凹部が形成され、平坦化膜の凹部を用いて、入射光の所定の波長成分を透過するフィルタが、フィルタの周辺部が中心部に比べて光電変換部側に厚くするように形成される。
【００２９】
本技術の第３の側面においては、入射光の所定の波長成分を透過するフィルタと、フィルタを透過した入射光を光電変換する光電変換部とが備えられ、フィルタの周辺部が、中心部に比べて、光電変換部側に厚く形成され、被写体を撮像し、被写体の画像を電気信号として出力する撮像素子と、撮像素子において得られた被写体の画像を画像処理する画像処理部とが備えられる。
【００３０】
本技術の第４の側面においては、光を発光する発光部と、発光部が発光することにより発光部から出射される出射光の所定の波長成分を透過する、周辺部が中心部に比べて厚く形成されるフィルタとが備えられる。
【００３１】
本技術の第５の側面においては、より発光部から出射される出射光の所定の波長成分を透過する、周辺部が中心部に比べて厚く形成されるフィルタとが備えられ、画像処理部により画像処理された画像を表示する表示素子とが備えられる。
【発明の効果】
【００３２】
本技術によれば、混所の発生を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】従来のカラーフィルタの構造を説明する図である。
【図２】杭型フィルタの例を説明する図である。
【図３】杭型フィルタの例を説明する図である。
【図４】撮像素子の製造装置の主な構成例を示すブロック図である。
【図５】撮像素子の製造処理の流れの例を説明するフローチャートである。
【図６】撮像素子の製造の様子の例を説明する図である。
【図７】杭型フィルタを用いた撮像素子の他の構成例を説明する図である。
【図８】ホワイト画素を有する撮像素子の杭型フィルタの例を説明する図である。
【図９】複数種類の画素に設けられた杭型フィルタの例を説明する図である。
【図１０】撮像素子の製造の様子の例を説明する図である。
【図１１】従来の遮光膜を有する撮像素子の例を説明する図である。
【図１２】遮光膜を有する撮像素子の杭型フィルタの例を説明する図である。
【図１３】製造装置の他の構成例を示すブロック図である。
【図１４】製造処理の流れの他の例を説明するフローチャートである。
【図１５】瞳補正された撮像素子の杭型フィルタの例を説明する図である。
【図１６】瞳補正された撮像素子の杭型フィルタの例を説明する図である。
【図１７】瞳補正された撮像素子の杭型フィルタの例を説明する図である。
【図１８】瞳補正された撮像素子の杭型フィルタの例を説明する図である。
【図１９】瞳補正された撮像素子の杭型フィルタの例を説明する図である。
【図２０】瞳補正された撮像素子の杭型フィルタの例を説明する図である。
【図２１】従来の表面照射型の撮像素子の構成例を示す図である。
【図２２】表面照射型の撮像素子の杭型フィルタの例を説明する図である。
【図２３】従来の有機EL素子の構成例を示す図である。
【図２４】有機EL素子の杭型フィルタの例を説明する図である。
【図２５】有機EL素子の製造装置の主な構成例を示すブロック図である。
【図２６】有機EL素子の製造処理の流れの例を説明するフローチャートである。
【図２７】有機EL素子の製造の様子を説明する図である。
【図２８】有機EL素子の杭型フィルタの他の例を説明する図である。
【図２９】有機EL素子の製造装置の他の構成例を示すブロック図である。
【図３０】有機EL素子の製造処理の流れの、他の例を説明するフローチャートである。
【図３１】有機EL素子の製造の様子を説明する図である。
【図３２】杭型フィルタを用いた撮像装置の主な構成例を示すブロック図である。
【図３３】杭型フィルタを用いた表示装置の主な構成例を示すブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【００３４】
以下、本開示を実施するための形態（以下実施の形態とする）について説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
１．第１の実施の形態（撮像素子、製造装置、製造方法）
２．第２の実施の形態（有機EL素子、製造装置、製造方法）
３．第３の実施の形態（撮像装置）
４．第４の実施の形態（表示装置）
【００３５】
＜１．第１の実施の形態＞
［１−１杭型フィルタと撮像素子］
近年、撮像素子の製造において、画素の微細化に伴い、カラーフィルタの剥がれが発生し易くなっていた。その解決策の１つとして、特許文献１には、画素間ブリッジ手法が提案されている。
【００３６】
図１Ａに示されるカラーフィルタ１０は、この画素間ブリッジ手法を用いたカラーフィルタである。カラーフィルタ１０では、緑（Ｇ）のフィルタ同士の間にブリッジが形成されている。つまり、隣接する緑（Ｇ）のフィルタ同士が連結されている。したがって、カラーフィルタ１０の形成において、最初に緑（Ｇ）のフィルタを形成した時に、各画素の緑（Ｇ）のフィルタが互いに連結されているので剥がれ難くなる。また、赤（Ｒ）のフィルタや青（Ｂ）のフィルタを形成する際も、それらのフィルタは、緑（Ｇ）のフィルタにより周囲から挟まれるので、剥がれ難くなる。
【００３７】
しかしながら、この手法においては、ブリッジ部が他色画素上にまたがるため、感度低下と混色発生の一因となっていた。図１Ｂは、図１Ａのカラーフィルタ１０の、点線Ｘ−Ｘ’の断面図である。図１Ｂに示されるように、撮像素子は、フォトダイオード１１の上に平坦化膜１２が形成され、その平坦化膜１２とオンチップレンズ１３との間にカラーフィルタ１０が形成される。図１Ｂに示されるように、このカラーフィルタ１０において、緑（Ｇ）のフィルタのブリッジ部分が、赤（Ｒ）のフィルタの画素と、青（Ｂ）のフィルタの画素の両方に侵入している。
【００３８】
そのため、点線矢印で示されるように、緑（Ｇ）のフィルタのブリッジ部分を透過した光が、赤（Ｒ）のフィルタの画素のフォトダイオード１１や、青（Ｂ）のフィルタの画素のフォトダイオード１１に入射し、光電変換されてしまう恐れがあった。つまり、混色が発生する恐れがあった。
【００３９】
また、図１Ｃは、図１Ａのカラーフィルタ１０の、点線Ｙ−Ｙ’の断面図である。図１Ｃに示されるように、この方向にはブリッジは形成されていないものの、隣接する画素のカラーフィルタ１０の透過光が進入する恐れがあった。つまり、混色が発生する恐れがあった。
【００４０】
混色は、隣接画素間の光成分が混じり合うため解像感の低下につながるだけでなく、本来の色を再現する上での弊害ともなり、色再現性の悪化や、Ｓ／Ｎ比の悪化を招く恐れがあった。
【００４１】
混色を改善するために、画素間に遮光膜（黒色フィルタや金属膜などで形成）を形成する方法もあるが、この方法は材料が増える分のコストや製造工程数の増大を招く恐れがあった。また、上述したカラーフィルタの剥がれに対する効果はなかった。
【００４２】
また、この画素間ブリッジ手法の場合、上述したように、ブリッジを形成するカラーフィルタを最初に形成する必要があった。つまり、ブリッジのない孤立パターンは剥がれ易いため、剥がれに強いブリッジのある色を先に形成し、その後、その色のカラーフィルタに挟まれる形で他色を形成する必要があった。
【００４３】
そして、ブリッジを形成できる色は、カラーフィルタの色配列に依存する。例えば、図１に示されるようなベイヤ配列の場合、赤（Ｒ）や青（Ｂ）においてブリッジを形成することは困難である。つまり、カラーフィルタの各色の形成順は、カラーフィルタの色配列に依存する（制約を受ける）恐れがあり、製造の難易度が高くなってしまう恐れがあった。
【００４４】
そこで、画素毎のフィルタの周辺部（画素内周辺部）に杭状の凸部（以下、杭部とも称する）を形成し、その杭部を平坦化膜に埋め込むようにフィルタを形成する。このようにすることにより、画素内周辺部に厚みのあるフィルタが形成され、隣接画素への光の進入を抑制し、混色の発生を抑制することができる。また、この杭部が平坦化膜に埋め込まれる形となるので、平坦化膜によってその杭部が固定され、フィルタ形成時の剥がれを抑制することができる。
【００４５】
なお、ここで、フィルタの周辺部とは、画素毎のフィルタの端に近い、内側の部分（画素内周辺部）のことを示しており、フィルタの端の外側（画素外部）のことを示しているわけではない。
【００４６】
図２を参照して杭型フィルタを説明する。杭型フィルタ１００は、撮像素子の１画素分のフィルタであり、その周辺部（つまり画素内周辺部）が、中心部（つまり画素中心部）よりも、光電変換素子（フォトダイオード）側に向かって厚みを持った形状を有する、所定の波長域の光（波長成分）を透過するフィルタである。
【００４７】
例えば、図２Ａに示されるように、杭型フィルタ１００は、その周辺部に、光電変換素子側に向かって延伸する杭部１０１Ａおよび杭部１０１Ｂを有する。図２Ａは、光の透過方向を図中上下方向とする方向から見た杭型フィルタ１００の断面図である。図２Ａにおいて、杭部１０１Ａおよび杭部１０１Ｂを斜線模様に示しているが、これは説明の便宜上設けたものであり、実際には、白地で示される杭部以外の部分と後述するように一体的に生成される。つまり、杭部はそれ以外の部分と同一の素材で形成される。
【００４８】
なお、杭部１０１Ａおよび杭部１０１Ｂは、図２Ｂに示されるように、一体的に形成される場合もある。したがって、これらを互いに区別して説明する必要が無い場合、単に杭部１０１と称する。図２Ｂは、この杭型フィルタ１００を光入射側から見た図である。図２Ｂに示されるように、例えば、杭部１０１は、杭型フィルタ１００の周辺部全体に形成される。この場合、杭部１０１Ａおよび杭部１０１Ｂは、互いに繋がっており、一体的に形成される。
【００４９】
図２Ｃは、このような杭型フィルタ１００を用いた撮像素子１５０の一部の構成を、光の透過方向を図中上下方向とする方向から見た断面図である。
【００５０】
図２Ｃに示されるように、撮像素子１５０は、図示せぬ半導体基板に形成されるフォトダイオード１５１を有する。また、撮像素子１５０は、フォトダイオード１５１が形成される半導体基板の光入射面側に形成される、平坦化膜１５２、カラーフィルタ１５３、並びに、オンチップレンズ１５４を有する。オンチップレンズ１５４は、各画素に入射する入射光を画素中央付近に集光する集光レンズよりなる。図２Ｃにおいては、４画素分の構成が示されているが、撮像素子１５０の画素数は任意であり、４画素以上でももちろんよい。
【００５１】
図２Ｃに示されるように、カラーフィルタ１５３の、フォトダイオード１５１−２の画素とフォトダイオード１５１−４の画素の部分、つまり、緑（Ｇ）のフィルタは、上述した杭型フィルタ１００により形成される。また、カラーフィルタ１５３の、フォトダイオード１５１−１の画素とフォトダイオード１５１−３の画素の部分、すなわち、赤（Ｒ）のフィルタは、フォトダイオード１５１側の面が略平面状の平型フィルタ１６０により形成される。
【００５２】
したがって、点線矢印で示されるように、赤（Ｒ）のフィルタを透過した光が、緑（Ｇ）のフィルタの画素に侵入しようとすると（混色成分）、その混色成分（赤色が主成分の光）は、緑色以外の光成分を吸収する緑（Ｇ）の杭型フィルタ１００の杭部１０１によって遮断される（波長域が異なるので透過しない）。また、逆に、緑（Ｇ）のフィルタを透過した光が、赤（Ｒ）のフィルタの画素に侵入しようとすると（混色成分）、その混色成分（赤色が主成分の光）は、自身（緑（Ｇ）のフィルタ）の杭部１０１を透過することになる。つまり、混色成分は、フィルタを２度透過することになる。したがって、図１の場合よりも混色成分を低減させることができる。
【００５３】
このように撮像素子１５０は、杭部１０１によって、混色成分をより低減させ、混色の発生を抑制することができる。
【００５４】
図２Ｄに示されるようにカラーフィルタ１５３の色配列は、ベイヤ配列であり、青（Ｂ）のフィルタも平型フィルタにより形成される。つまり、カラーフィルタ１５３は、緑（Ｇ）のフィルタのみ杭型フィルタ１００により形成される。
【００５５】
この場合、平坦化膜１５２には、図２Ｅに太線で示されるように、緑（Ｇ）の周辺部にあたる部分に凹部１７０が形成される。換言するに、杭部１０１は、図２Ｅの太線に示されるように配置される。つまり、杭部１０１は、赤（Ｒ）のフィルタとの境界近傍だけでなく、青（Ｂ）のフィルタとの境界近傍にも形成される。
【００５６】
したがって、この場合、青（Ｂ）のフィルタの画素と、緑（Ｇ）のフィルタの画素との間でも、上述した赤（Ｒ）の画素の場合のように、混色成分は、杭部１０１により抑制される。
【００５７】
また、図２Ｃに示されるように、このような杭部１０１が平坦化膜１５２に埋め込まれるように形成されることにより、杭型フィルタ１００は、平坦化膜１５２との接触面積が増えるだけでなく、杭部１０１が平坦化膜１５２により挟みこまれるため、剥がれ難くなる。
【００５８】
そのため、図１に示されるような画素間ブリッジが不要になる。もちろん、画素間ブリッジをこの杭型フィルタ１００と併用することも可能であるが、画素間ブリッジを形成しないことにより、撮像素子１５０は、図１Ｂを参照して説明したようなブリッジ部を無くすことができ、混色の発生を抑制することができる。
【００５９】
もちろん、杭部１０１が上述したように混色成分を低減させることにより、混色の発生がさらに抑制されることは言うまでも無いが、撮像素子１５０は、フィルタを剥がれ難くすることのみで、混色の発生を抑制することができる。
【００６０】
したがって、杭部１０１は、画素毎のフィルタの周辺部に設けられる必要は無く、例えば、フィルタの中央部に設けられるようにしてもよい。つまり、フィルタのフォトダイオード側の面の形状が平坦でなければ、それだけで平坦化膜との接触面積が増大し、フィルタが剥がれ難くなる。
【００６１】
しかしながら、このようにフィルタを形成すると、図２を参照して上述したフィルタ周辺における杭部１０１による混色発生抑制効果が低減するだけでなく、当該画素のフォトダイオード１５１に主に入射する、画素中央付近においてフィルタを透過する光にも影響を及ぼしてしまう恐れがある。つまり、フォトダイオード１５１への入射光が低減し、感度が低減してしまう恐れがある。つまり、撮像素子１５０により得られる画像の画質劣化を招く恐れがある。
【００６２】
これに対して、図２Ｂを参照して説明したように、杭型フィルタ１００は、その周辺部（画素内周辺部）のみに杭部１０１が形成されるので、このような画素中央付近を透過する光への影響を抑制することができ、従来の平型フィルタ１６０と略同様の感度を得ることができる。つまり、撮像素子１５０により得られる画像の画質劣化を抑制することができる。
【００６３】
図２においては、杭部１０１が矩形であるように示したが、この杭部１０１の形状は、フィルタの中央部より光電変換素子側に厚みを有していればよく（凸部となっていればよく）、矩形でなくてもよい。
【００６４】
例えば、図３Ａに示されるように、杭部１０１の先部が根元部よりも細くなっていてもよい。また、例えば、図３Ｂに示されるように、杭部１０１の中央部が先部や根元部よりも太くなっているようにしてもよい。さらに、例えば、図３Ｃに示されるように、杭部１０１の先部が根元部よりも太くなっているようにしてもよい。さらに、例えば、図３Ｄに示されるように、より複雑な形状となっていてもよい。
【００６５】
また、図３Ｅに示されるように、杭部１０１の長さ（埋め込まれる深さ）が、その位置によって異なるようにしてもよい。図３Ｅに示される例の場合、杭部１０１の長さは、フィルタの左端の方が右端よりも長くなっている。さらに、図３Ｆに示されるように、この杭部１０１の深さが、より複雑に変化するようにしてもよい。図３Ｅの場合、杭部１０１の長さが直線的に変化しているが、図３Ｆの場合、杭部１０１の長さが曲線的に変化している。もちろん、さらに複雑に変化するようにしても良い。
【００６６】
また、画素間で杭部１０１の長さが異なっていても良い。
【００６７】
［１−２製造］
図４は、撮像素子１５０の製造装置の主な構成例を示すブロック図である。図４に示される製造装置２００は、制御部２０１および製造部２０２を有する。
【００６８】
制御部２０１は、例えば、CPU（Central Processing Unit）、ROM（Read Only Memory）、およびRAM（Random Access Memory）等を有し、製造部２０２の各部を制御し、撮像素子１５０の製造に関する制御処理を行う。例えば、制御部２０１のCPUは、ROMに記憶されているプログラムに従って各種の処理を実行する。また、そのCPUは、記憶部２１３からRAMにロードされたプログラムに従って各種の処理を実行する。RAMにはまた、CPUが各種の処理を実行するにあたって必要なデータなども適宜記憶される。
【００６９】
製造部２０２は、制御部２０１に制御されて、撮像素子１５０の製造に関する処理を行う。製造部２０２は、フォトダイオード形成部２３１、配線層形成部２３２、平坦化膜形成部２３３、凹部形成部２３４、杭型フィルタ形成部２３５、平型フィルタ形成部２３６、および集光レンズ形成部２３７を有する。
【００７０】
これらのフォトダイオード形成部２３１乃至集光レンズ形成部２３７は、制御部２０１に制御され、後述するように、撮像素子を製造する各工程の処理を行う。
【００７１】
製造装置２００は、入力部２１１、出力部２１２、記憶部２１３、通信部２１４、およびドライブ２１５を有する。
【００７２】
入力部２１１は、キーボード、マウス、タッチパネル、および外部入力端子などよりなり、ユーザ指示や外部からの情報の入力を受け付け、制御部２０１に供給する。出力部２１２は、CRT（Cathode Ray Tube）ディスプレイやLCD（Liquid Crystal Display）等のディスプレイ、スピーカ、並びに外部出力端子などよりなり、制御部２０１から供給される各種情報を画像、音声、若しくは、アナログ信号やデジタルデータとして出力する。
【００７３】
記憶部２１３は、フラッシュメモリ等SSD（Solid State Drive）やハードディスクなどよりなり、制御部２０１から供給される情報を記憶したり、制御部２０１からの要求に従って、記憶している情報を読み出して供給したりする。
【００７４】
通信部２１４は、例えば、有線LAN（Local Area Network）や無線LANのインタフェースやモデムなどよりなり、インターネットを含むネットワークを介して、外部の装置との通信処理を行う。例えば、通信部２１４は、制御部２０１から供給される情報を通信相手に送信したり、通信相手から受信した情報を制御部２０１に供給したりする。
【００７５】
ドライブ２１５は、必要に応じて制御部２０１に接続される。そして、磁気ディスク、光ディスク、光磁気ディスク、或いは半導体メモリなどのリムーバブルメディア２２１がそのドライブ２１５に適宜装着される。そして、そのドライブ２１５を介してリムーバブルメディア２２１から読み出されたコンピュータプログラムが、必要に応じて記憶部２１３にインストールされる。
【００７６】
図５のフローチャートを参照して、製造処理の流れの例を説明する。なお、適宜、図６を参照して説明する。図６は、製造処理の各工程の様子を説明する図である。
【００７７】
製造処理が開始されると、ステップＳ１０１において、フォトダイオード形成部２３１は、制御部２０１に制御されて、外部より供給されたＮ型半導体基板にフォトダイオード１５１を形成する（図６Ａ）。
【００７８】
ステップＳ１０２において、配線層形成部２３２は、制御部２０１に制御されて、フォトダイオード１５１が形成されたＮ型半導体基板の、光入射面とは反対側の面に、銅やアルミニウム等の金属を用いた多層配線を含む配線層を形成する（図示せず）。ステップＳ１０３において、平坦化膜形成部２３３は、制御部２０１に制御されて、フォトダイオード１５１が形成されたＮ型半導体基板の光入射面に平坦化膜１５２を形成する（図６Ｂ）。
【００７９】
ステップＳ１０４において、凹部形成部２３４は、平坦化膜１５２の光入射面にレジスト２５１を塗布する。ステップＳ１０５において、凹部形成部２３４は、リソグラフィによりレジスト２５１にパターンを形成する（図６Ｃ）。
【００８０】
ステップＳ１０６において、凹部形成部２３４は、エッチングを行い平坦化膜１５２の光入射面に凹部１７０（図６の例の場合、凹部１７０−１乃至凹部１７０−４）を形成する（図６Ｄ）。
【００８１】
レジストを除去した後、ステップＳ１０７乃至ステップＳ１０９の処理により、杭型フィルタ１００が形成される。
【００８２】
つまり、ステップＳ１０７において、杭型フィルタ形成部２３５は、凹部１７０が形成された平坦化膜の光入射面に、杭型用のフィルタを塗布する（図６Ｅ）。図６Ｅの例の場合、緑色フィルタ２５２が、杭型用のフィルタとして塗布される。
【００８３】
ステップＳ１０８において、杭型フィルタ形成部２３５は、リソグラフィにより、塗布したフィルタにパターンを形成する（図６Ｆ）。
【００８４】
ステップＳ１０９において、杭型フィルタ形成部２３５は、全ての杭型フィルタ１００を形成したか否かを判定する。未処理の杭型フィルタ１００が存在すると判定された場合、処理は、ステップＳ１０７に戻る。また、全ての杭型フィルタ１００を形成したと判定された場合、処理はステップＳ１１０に進む。
【００８５】
このとき、上述したように杭部１０１が平坦化膜１５２に埋め込まれた状態で形成されるので、杭型フィルタ１００の剥がれが抑制される。
【００８６】
ステップＳ１１０乃至ステップＳ１１２の処理により平型フィルタ１６０が形成される。
【００８７】
つまり、ステップＳ１１０において、平型フィルタ形成部２３６は、未形成の平型フィルタが存在するか否かを判定する。未処理の平型フィルタが存在すると判定された場合、処理は、ステップＳ１１１に進む。
【００８８】
ステップＳ１１１において、平型フィルタ形成部２３６は、凹部１７０が形成された平坦化膜の光入射面に、平型用のフィルタを塗布する。ステップＳ１１２において、平型フィルタ形成部２３６は、リソグラフィによりその平型用のフィルタにパターンを形成する。ステップＳ１１２の処理が終了すると、処理は、ステップＳ１１０に戻る。
【００８９】
ステップＳ１１０において、未形成の平型フィルタ１６０が存在しないと判定された場合、処理はステップＳ１１３に進む（図６Ｇ）。
【００９０】
以上のようにカラーフィルタ１５３（杭型フィルタ１００および平型フィルタ１６０）が形成されると、ステップＳ１１３において、集光レンズ形成部２３７は、そのカラーフィルタ１５３の光入射面に、オンチップレンズ１５４を形成する（図６Ｈ）。
【００９１】
ステップＳ１１３の処理が終了すると、製造処理が終了する。
【００９２】
以上のように、製造装置２００は、杭型フィルタ１００を用いた撮像素子１５０を製造することができる。つまり、製造装置２００は、混色の発生を抑制することができる撮像素子を製造することができる。
【００９３】
［１−３撮像素子（感光性平坦化膜）］
図７は、杭型フィルタ１００を用いた撮像素子の他の構成例を説明する図である。
【００９４】
平坦化膜が感光性のレジスト材料であれば、図６Ｃおよび図６Ｄのプロセスは、新たなレジスト塗布やエッチングをせずに、平坦化膜自体をリソグラフィすることで形成することもできる。
【００９５】
ただし、その場合、凹部の深さ制御が困難である。図７Ａに示されるように、杭型フィルタ１００の杭部１０１が、感光性のレジスト材料よりなる平坦化膜を突き抜ける構成となる場合がある。
【００９６】
このような場合、例えば、図２Ｅに示されるように、凹部１７０が緑色のフィルタの周辺部全体に形成されるようにすると、緑色直下の平坦化膜２６１は、凹部１７０形成時に一時的に孤立パターン（隣接画素とつながっていない状態）となり、平坦化膜２６１自体が剥がれ易くなる恐れがある。
【００９７】
そのため、図７Ｂに示されるような色配列（ベイヤ配列）のカラーフィルタを形成する場合、平坦化膜に感光性のレジスト材料を用いるのであれば、例えば、図７Ｃに示される太線の点線のような断続的なパターニングにするのが望ましい。つまり、画素内周辺部全てを凹部１７０とする（画素を凹部で囲む）のではなく、画素内周辺部の一部を凹部１７０とする（画素内周辺部の一部に凹部１７０が形成されないようにする）。このように隣接画素の平坦化膜と繋がっている部分を意図的に設けるように凹部１７０を形成することにより、杭型フィルタ１００が形成される画素の平坦化膜が隣接画素の平坦化膜から孤立しないので、剥がれを抑制することができる。
【００９８】
以上においては、緑（Ｇ）のフィルタを杭型フィルタ１００とするように説明したが、これに限らず、杭型フィルタ１００は、例えば、青色、赤色、白色、エメラルド色等、任意の色のフィルタに適用することができる。また、例えば、赤外光フィルタ等、カラーフィルタ以外にも適用することができる。つまり、杭型フィルタ１００は、画素への入射光の所定の波長域の成分のみを透過させるフィルタであれば、任意のフィルタに適用することができる。
【００９９】
ここで、重要なことは、杭型フィルタ１００は、１画素単位で適用することができることである。つまり、杭型フィルタ１００を適用することにより、上述したように画素間ブリッジが不要になる。したがって、上述したような様々な効果が得られるが、それ以外にも、例えば、杭型フィルタ１００を適用するフィルタが、配列パターンに依存しなくなる。つまり、例えばベイヤ配列のカラーフィルタに対して、緑より数が少なく、同色の画素が隣接しない赤や青のフィルタにも、緑のフィルタに適用する場合とまったく同様に、杭型フィルタ１００を適用することができる。したがって、混色発生の抑制がより容易になる。
【０１００】
さらに、杭型フィルタ１００の適用が、フィルタの配列パターンに依存しないことから、各画素のフィルタの形成順序の自由度も向上させることができる。つまり、剥がれを抑制する効果を上げるためには、杭型フィルタ１００を適用するフィルタから形成する必要があるが、その場合でも、撮像素子１５０は、配列パターンに関わらず、任意の画素に杭型フィルタ１００を適用することができるので、実質的に、任意の順序で、フィルタ形成を行うことができる。したがって、撮像素子１５０の製造をより容易にすることができる。
【０１０１】
［１−４撮像素子（ホワイト画素）］
以上のように、杭型フィルタ１００の適用は、フィルタの配列パターンに依存しない。換言するに、杭型フィルタ１００は、任意の配列パターンのフィルタに適用することができる。例えば、輝度（若しくは白色）を検出する画素（ホワイト画素とも称する）を有する撮像素子にも適用することができる。
【０１０２】
図８Ａは、その場合のカラーフィルタ２７１の色配列パターンの例を示す。図８Ａにおいて説明の便宜上Ｗと記載されている（実際のフィルタでは記載されない）四角がホワイト画素である。
【０１０３】
このホワイト画素に対して、例えば、フィルタを設けないようにすることができる。この場合、カラーフィルタ２７１のＷと記載されている四角が、穴となっている（フィルタが形成されない）。
【０１０４】
この場合の撮像素子１５０の断面図を図８Ｂに示す。図８Ｂに示されるように、ホワイト画素には、フィルタが存在しないので、それ以外の色のフィルタに対して杭型フィルタ１００を適用することができる。
【０１０５】
また、ホワイト画素に対して、入射光の全ての波長成分を透過させるホワイトフィルタを設けることができる。
【０１０６】
この場合の撮像素子１５０の断面図を図８Ｃに示す。図８Ｃに示されるように、ホワイト画素にもホワイトフィルタが存在するので、このホワイトフィルタに対して杭型フィルタ１００を適用することができる。もちろん、この場合も、ホワイトフィルタ以外のフィルタに杭型フィルタ１００を適用することもできる。その上、さらに、ホワイトフィルタにも杭型フィルタ１００を適用することもできる。
【０１０７】
また、ホワイトフィルタの代わりに、入射光の、全ての波長成分では無いが、他の色のフィルタと比べて非常に広い帯域の波長成分を透過するグレーフィルタをホワイト画素に設ける場合もある。そのグレーフィルタに対しても、上述したホワイトフィルタの場合と同様に、杭型フィルタ１００を適用することができる。もちろん、グレーフィルタ以外のフィルタに杭型フィルタ１００を適用することもできるし、グレーフィルタと、それ以外のフィルタの両方に杭型フィルタ１００を適用することもできる。
【０１０８】
［１−５撮像素子（複数色）］
杭型フィルタ１００は、上述したように１画素単位で適用することができるので、例えば、互いに異なる色の複数のフィルタ（互いに異なる波長域の成分を透過させる複数のフィルタ）に適用することもできる。
【０１０９】
杭型フィルタ１００は、上述したように、配列パターンに関わらず、任意の色のフィルタに適用することができるが、杭型フィルタ１００を適用した画素数が少ないほど、撮像素子１５０全体でみると、混色発生の抑制や、剥がれの抑制等の効果が低減する。
【０１１０】
これに対して、杭型フィルタ１００を複数の色のフィルタに適用することにより、杭型フィルタ１００を適用した画素数を増大させることができる。すなわち、撮像素子１５０は、混色の発生や剥がれをより抑制することができるようになる。
【０１１１】
例えば、図９Ａに示されるように、全ての画素（フィルタ）に杭型フィルタ１００を適用するようにしてもよい。その場合、図９Ｂに示されるベイヤ配列のフィルタに対して、凹部１７０は、図９Ｄに示される例のように形成される。また、一部の画素（フィルタ）には、杭型フィルタ１００を適用しないようにすることもできる。例えば、カラーフィルタ１５３に対して赤（Ｒ）のフィルタと緑（Ｇ）のフィルタにのみ杭型フィルタ１００を適用し、青（Ｂ）のフィルタには適用しないようにすることもできる。その場合、凹部１７０は、図９Ｃに示される例のように形成される。
【０１１２】
［１−６製造］
この場合も、図１０Ａ乃至図１０Ｈに示されるように、図６を参照して説明した、単色のフィルタにのみ杭型フィルタ１００を適用する場合と同様のプロセスにより、撮像素子１５０を生成することができる。
【０１１３】
ただし、図１０の場合、図１０Ｄに示されるように、隣接する２画素において凹部１７０が形成される場合、その２画素の凹部１７０が繋がり、１つの凹部１７０として形成されることがある。
【０１１４】
その場合、図１０Ｆに示されるように、杭型フィルタ１００の生成時に、その杭部１０１が平坦化膜１５２によって挟まれない可能性がある。この場合、図６の場合よりも、杭型フィルタ１００が剥がれやすくなる可能性がある。ただし、平型フィルタ１６０と比べると、フィルタと平坦化膜１５２との接触面積が広いので、剥がれの抑止効果が全くなくなるわけではない。なお、剥がれの抑止効果を高めるために、画素間ブリッジを併用するようにしてもよい。
【０１１５】
以上のように、隣接する２画素の両方に杭型フィルタ１００を適用すると、それぞれの杭部１０１が図９Ａに示されるように並ぶ場合がある。このような場合、互いに異なる波長成分を透過させるフィルタが並ぶので、この杭部１０１を光が透過することが、より困難になる。つまり、カラーフィルタが複数色重なることで、擬似的に黒体となる（緑色のカラーフィルタを透過した光は、赤色カラーフィルタを透過しにくく、逆に赤色のカラーフィルタを透過した光は、緑色カラーフィルタを透過しにくいため）。したがって、この場合の撮像素子１５０は、混色発生をより抑制することができる。
【０１１６】
［１−７撮像素子（遮光膜）］
なお、従来、図１１に示されるように、画素間に遮光膜（黒色フィルタや金属膜などで形成）を設け、混色の発生を抑制する方法がある。
【０１１７】
このような撮像素子に対して、杭型フィルタ１００を適用するようにしてもよい。図１２にその場合の撮像素子１５０の構成例を示す。図１２に示されるように、この場合の撮像素子１５０は、平坦化膜１５２の画素間（フォトダイオード１５１の境界近傍）に形成される遮光膜２８１を有する。図１２に示される遮光膜２８１は、例えば、金属等の、光を透過しない素材により形成される。
【０１１８】
なお、実際には、遮光膜２８１は、隣接する画素同士を全て区切るように、各画素の境界近傍を網羅するように網の目状に形成される。つまり、図１２に示される断面図においては、複数の独立した遮光膜２８１のように示されているが、実際には、これらの遮光膜２８１は全て繋がっている。つまり、遮光膜２８１は、１画素についてみると、画素周辺部に全周にわたって形成される。
【０１１９】
したがって、図１２に示されるように、杭型フィルタ１００の杭部１０１を、画素間に設けられた遮光膜２８１の上に形成するようにしてもよい。このようにすることにより、杭型フィルタ１００の杭部１０１とフォトダイオード１５１との間を介しての、隣接画素への光の進入および隣接画素からの光の進入を、遮光膜２８１によって抑制することができる。したがって、撮像素子１５０は、隣接画素への光漏れをより抑制することができ、混色の発生をより抑制することができる。また、白点発生を抑制することもできる。
【０１２０】
［１−８製造］
この場合の撮像素子１５０を生成する製造装置２００を図１３に示す。図１３に示されるように、この場合の製造装置２００は、図４に示される構成に加え、さらに、遮光膜形成部２８３を有する。遮光膜形成部２８３は、配線層形成部２３２がフォトダイオード１５１が形成される半導体基板の光入射面とは反対側の面に配線層を形成した後、フォトダイオードの光入射面の画素間に遮光膜２８１を形成する。
【０１２１】
つまり、図１４に示されるように、製造処理のステップＳ１３３において、遮光膜形成部２８３は、フォトダイオード１５１が形成される半導体基板の光入射面の画素間に、例えば金属等で遮光膜２８１を形成する。それ以外の処理（ステップＳ１３１およびステップＳ１３２、並びに、ステップＳ１３４乃至ステップＳ１４４）は、図５の製造処理（ステップＳ１０１乃至ステップＳ１１３）の各処理と同様に実行される。
【０１２２】
このように、製造装置２００は、ステップが１つ増えるのみで、図５の場合と同様に、容易に撮像素子１５０を生成することができる。
【０１２３】
なお、凹部１７０を遮光膜２８１上に形成することにより、遮光膜２８１をエッチングストッパ膜として利用することができる。例えば、遮光金属上（例えば２００nm）に炭化シリコン膜（例えば３０nm）を設けて、炭化シリコンをエッチングストッパ膜として利用しても良い。
【０１２４】
炭化シリコン自体には遮光効果がないが、特開２００９−２７２５６８号公報に記載があるように炭化シリコンなどの膜は、エッチングによる白点悪化を防ぐ効果がある。つまりこのような構成の遮光膜２８１を配置することで、金属による遮光効果と、炭化シリコンによる白点改善（悪化を防ぐ）効果、エッチングストッパ膜としての効果（バラツキの少ない凹部膜厚）が得られる。
【０１２５】
［１−９撮像素子（射出瞳補正）］
多くの場合、撮像素子においては、レンズの光学系（撮像素子への入射角）に合わせて射出瞳補正が加えられている。例えば特開２０１０−２３２５９５号公報に開示されているように、瞳補正量はイメージセンサの中心部から離れる程大きくなる。つまり、イメージセンサの中心から離れた位置では、フォトダイオードとカラーフィルタが断面の垂直方向に同一の一致にないことがある。
【０１２６】
図１５に例を示した。図内の矢印は主要な光の入射方向を示している。図１５Ａは、画素領域全体を表している。図１５Ｂは、図１５Ａに示される画素領域の「中心」付近の画素の例を示している。また、図１５Ｃは、図１５Ａに示される画素領域の「端」付近の画素の例を示している。
【０１２７】
図１５Ｃに示されるように、端部の画素においては、中央部の画素よりも強く射出瞳補正がかけられ、フォトダイオード１５１の位置と、カラーフィルタ１５３やオンチップレンズ１５４の位置とが、光の主な入射角に併せるようにずれて形成される。
【０１２８】
このようなイメージセンサの中心から離れた部位に本技術を単純に適用すると、図１５Ｃに示されるように、例えば緑色のカラーフィルタを透過した光は、緑色カラーフィルタの凹部も透過することになるため、本来のカラーフィルタの膜厚設定以上に光を吸収させてしまう恐れがあった。
【０１２９】
そこで、例えばイメージセンサの光学方向を図１６Ａに示すように５種類に分割する。比較的平行な光が入射する領域Ｏと、横／斜め方向の光が入射する領域Ａ乃至領域Ｄである。その上で、図１６Ｂ乃至図１６Ｄに示されるように凹部を設ける部位を、上記弊害が発生しないレイアウト位置のみに限定する。（便宜上、点線などの表現も用いているが図面上の点線部分には凹部１７０はないものとし、凹部１７０は実線部分に形成されている）。
【０１３０】
もちろん分割する数は５種類以上であっても以下であっても良い。このようにレイアウト位置を光学方向の位置別に分割することで、図１７Ａに示されるように緑色を透過した光は、凹部の緑色フィルタに再度入射することなくフォトダイオードに集光することができる。したがって、フォトダイオード１５１の感度低下を防ぐことができる。
【０１３１】
なお、図１７Ａにおいては、杭部１０１が、杭型フィルタ１００の、入射光が入射する側の周辺部にのみ形成されるようにしたが、図１７Ｂに示されるように、入射光が入射する側と反対側の周辺部にのみ形成されるようにしてもよい。
【０１３２】
上述したように、図１７Ａに示される構成の場合、撮像素子１５０は、杭型フィルタ１００を透過する光が、その杭型フィルタ１００の平坦部と杭部１０１の両方を透過し、必要以上に感度が低下してしまうことを抑制することができる。
【０１３３】
これに対して、図１７Ｂに示される構成の場合、斜め光入射時のみ杭部１０１を光が通るため、カラーフィルタの透過率特性による混色成分が減る。このため、撮像素子１５０は、一般に斜め光で増える他の混色成分と相殺し合い、高い入射角でも特性を維持することが出来る。
【０１３４】
上記２つはそれぞれ逆のことを言っているが、これは、撮像素子に光りを集光させる光学系（レンズやIRCF）に応じて、最適解が異なるためである。つまり、光学環境に応じてより適切な方を選択するようにすれば、より混色の発生を抑制することができる。
【０１３５】
また、杭型フィルタ１００を複数色に適用する場合も同様である。例えば、図１８Ａに示されるように、杭型フィルタ１００の、入射光が入射する側の周辺部にのみ杭部１０１が形成されるようにしてもよいし、図１８Ｂに示されるように、杭型フィルタ１００の、入射光が入射する側と反対側の周辺部にのみ形成されるようにしてもよい。
【０１３６】
図１７を参照して説明したように、図１８Ａに示される構成の場合、不要な感度低下を抑制することができる。また、図１８Ｂに示される構成の場合、緑（Ｇ）のカラーフィルタの平坦部を斜めに透過した入射光は、その杭部も透過することになるため、本来のカラーフィルタの膜厚設定以上に光を吸収させてしまう。しかしながら、より多くカラーフィルタを透過させることは、カラーフィルタ起因の混色の低減にもつながる（一般にカラーフィルタの膜厚は厚いほど色純度が高くなるため）。周辺部分では、斜め光による混色が増えるが、カラーフィルタの膜厚が厚くなればカラーフィルタの透過率起因の混色は低減できる。このため、斜め光による混色成分と相殺し合い、周辺部であっても混色が増えにくい構成であるとも言える。これは混色などによって周辺部で色付きが発生する色シェーディングなどの改善にも効果がある。
【０１３７】
また、杭部１０１のレイアウトは変えずに、図１９Ａに示されるように、画素領域の周辺部ほど凹部の長さを短くするようにしてもよい。このようにすることにより、斜め光が凹部の埋込カラーフィルタに接触するのを抑制することができる。さらに、図１９Ｂに示されるように、各杭型フィルタ１００の、光の入射光側の杭部１０１の長さを長くし、反対側の杭部１０１の長さを短くするようにしてもよい。もちろん、その逆に、各杭型フィルタ１００の、光の入射光側の杭部１０１の長さを短くし、反対側の杭部１０１の長さを長くするようにしてもよい。
【０１３８】
さらに図２０Ａに示されるように、杭部１０１を、光の入射方向に沿って斜めに延伸するようにしてもよい。さらに、図２０Ｂに示されるように、杭部１０１を、光の入射方向に沿って、階段状に延伸するようにしてもよい。
【０１３９】
［１−１０撮像素子（表面照射型）］
なお、杭型フィルタ１００は、上述した撮像素子１５０のような裏面照射型のイメージセンサに限らず、例えば特開２０１０−４１０３４号公報に記載のあるような表面照射型のイメージセンサにも適用することができる。
【０１４０】
図２１Ａに従来の表面照射型のイメージセンサの構成例を示す。図２１Ａに示される撮像素子は、フォトダイオード３０１の上に配線層３０２が設けられ、配線層３０２内の光の伝搬効率を上げるために導波路がSIN（窒化シリコン）と光屈折埋込材料で構成され、その上に平坦化膜、カラーフィルタ、オンチップレンズの順に形成されている。なお、図２１Ａに示されているのは１画素分の構成のみである。
【０１４１】
このような構成において、SINや光屈折埋込材料が隣接画素と連続的に形成されているため、図２１Ｂに示されるように、斜め光が導波路に伝搬せずに、光屈折材料を通して隣接画素に伝搬してしまうことが混色の要因となっている。
【０１４２】
図２２Ａは、本技術を適用した杭型フィルタを用いる表面照射型のイメージセンサの主な構成例を示す図である。図２２Ａに示される撮像素子３００は、基本的に図２１Ａに示される従来の表面照射型のイメージセンサと同様の構成を有するが、杭型フィルタ３１０をカラーフィルタ３０６の一部または全部として適用する。この杭型フィルタ３１０は、杭型フィルタ１００と同様のフィルタである。
【０１４３】
図２２Ａに示されるように、撮像素子３００は、半導体基板に形成されるフォトダイオード３０１を有し、さらに、その半導体基板（フォトダイオード３０１）の光入射面側に形成される配線層３０２を有する。その配線層３０２には、SIN３０３および高屈折率埋め込み材料３０４よりなる導波路が形成される。また、高屈折率埋め込み材料３０４の光入射面側には、平坦化膜３０５、カラーフィルタ３０６、およびオンチップレンズ３０７が積層される。このカラーフィルタ３０６の一部若しくは全部として、杭型フィルタ３１０が適用される。
【０１４４】
裏面照射型のイメージセンサの場合と同様に、撮像素子３００の場合も、杭型フィルタ３１０を適用することにより、フィルタの剥がれ抑止効果だけでなく、隣接画素との混色低減効果が得られる。
【０１４５】
カラーフィルタ３０６の色配列が、例えば図２２Ｂに示されるようにベイヤ配列であるとする。そして、緑（Ｇ）のフィルタのみ杭型フィルタ１００により形成され、赤（Ｒ）と青（Ｂ）のフィルタは、平型フィルタ３２０により形成されるとする。
【０１４６】
この場合、SIN３０３乃至平坦化膜３０５には、図２２Ｃに太線で示されるように、緑（Ｇ）の周辺部にあたる部分に凹部３３０が形成される。換言するに、杭型フィルタ３１０の杭部３１１は、図２２Ｃの太線に示されるように配置される。つまり、杭部３１１は、赤（Ｒ）のフィルタとの境界近傍だけでなく、青（Ｂ）のフィルタとの境界近傍にも形成される。
【０１４７】
したがって、この場合、青（Ｂ）のフィルタの画素と緑（Ｇ）のフィルタの画素との間、並びに、赤（Ｒ）のフィルタの画素と緑（Ｇ）のフィルタの画素との間において、混色の発生が抑制される。
【０１４８】
さらに、このように形成される凹部３３０は、高屈折率材料で形成された埋め込み材料である高屈折率埋め込み材料３０４やSIN３０３を分断するため、屈折率の高い部分を伝搬しやすい光を遮ることができ、このこと自体も混色改善に寄与する。なお、配線層間膜の酸化膜が一般に1.4〜1.5程度の屈折率であるため、ここでの高屈折率材料とは1.5以上であるものとする。
【０１４９】
つまり、凹部形成による高屈折部分の分断による混色低減効果と、そこに埋め込まれる杭型フィルタ３１０の杭部３１１による混色低減効果の２重の効果を得ることができる。カラーフィルタ形成時の製造プロセスについては、裏面照射型イメージセンサと同様である。
【０１５０】
凹部３３０の深さをどの程度にするかは任意に決めることが出来る。但し、図２２のようにパッシベーション膜（保護膜）としての効果があるSINをエッチングする場合、その全てをエッチングせずにその一部膜厚（例えば３０nmなど）を残すことが、パッシベーション性能上望ましい。
【０１５１】
例えば平坦部のSIN膜厚が７００nmであれば、６７０nmをエッチングし、３０nmを残すなどである。もちろん、混色性能を重視する場合は全てをエッチングしても良い。エッチングする膜種や膜厚は任意である。
【０１５２】
本技術はベイヤ配列に限らずクリアビット配列などその他の配列においても適用可能である。また、カラーフィルタも顔料系のみならず染色系など、いずれのカラーフィルタにおいても同様の技術を適用できる。補色やエメラルド、白色、赤外フィルタなど様々である。凹部形成方法もエッチングに限らずリソグラフィなどでも可能である。
【０１５３】
さらに、有機光電変換膜を含むイメージセンサのカラーフィルタ部分が凹部になっていても良いし、有機光電変換膜がカラーフィルタと同様に凹部を含む形状で形成されていても良い。これもカラーフィルタ同様の効果が得られ、混色や解像感低下を防ぐことができる。
【０１５４】
＜２．第２の実施の形態＞
［２−１有機EL素子］
以上においては、イメージセンサについて説明したが、フィルタの剥がれ抑止効果や混色防止効果は、有機EL（ElectroLumines）素子においても同様に効果がある。
【０１５５】
例えば特開２００５−２９３９４６号公報にあるようなトップエミッション型の有機EL素子の発光部分にのみ着目して簡易化した図面を図２３に示す。図２３に点線矢印で示されるように、有機EL発光層から発光した光は、隣接画素方向にもその一部が散乱する。これにより、例えば緑色部分のみを発光させても、赤色や青色画素のカラーフィルタにも光の一部が漏れ込む。これにより本来、表現したい色が表現できない色再現性の悪化にもつながる恐れがあった。
【０１５６】
そこで、上述した撮像素子１５０の場合と同様に、この有機EL素子に対しても杭型フィルタ１００を適用する。図２４は、その場合の有機EL素子の構成例を示す図である。図２４に示される有機EL素子４００は、図２３の有機EL素子と同様に、バックパネル４１１、有機EL発光素子４１２、樹脂膜４１３、カラーフィルタ４１４、およびフロントパネル４１５を有する。
【０１５７】
ただし、このカラーフィルタ４１４には、杭型フィルタ１００と同様の杭型フィルタ４２０が適用されている。この場合、杭型フィルタ４２０の杭部４２１は、有機EL発光素子側に延伸する。
【０１５８】
このようにすることにより、樹脂膜４１３に形成される凹部に埋め込まれた複数種類のカラーフィルタが横方向に見れば連続しているため、擬似的に黒体のような役割を果たす（緑色のカラーフィルタを透過した光は、赤色カラーフィルタを透過しにくく、逆に赤色のカラーフィルタを透過した光は、緑色カラーフィルタを透過しにくいため）。したがって、有機EL素子４００は、混色成分を低減することができる。
【０１５９】
［２−２製造］
図２５は、有機EL素子４００の製造装置の主な構成例を示すブロック図である。図２５に示される製造装置５００は、制御部５０１および製造部５０２を有する。
【０１６０】
制御部５０１は、例えば、CPU、ROM、およびRAM等を有し、製造部５０２の各部を制御し、有機EL素子４００の製造に関する制御処理を行う。例えば、制御部５０１のCPUは、ROMに記憶されているプログラムに従って各種の処理を実行する。また、そのCPUは、記憶部５１３からRAMにロードされたプログラムに従って各種の処理を実行する。RAMにはまた、CPUが各種の処理を実行するにあたって必要なデータなども適宜記憶される。
【０１６１】
製造部５０２は、制御部５０１に制御されて、有機EL素子４００の製造に関する処理を行う。製造部５０２は、バックパネル形成部５３１、有機EL形成部５３２、封止部５３３、凹部形成部５３４、杭型フィルタ形成部５３５、およびフロントパネル形成部５３６を有する。
【０１６２】
これらのバックパネル形成部５３１乃至フロントパネル形成部５３６は、制御部５０１に制御され、後述するように、有機EL素子４００を製造する各工程の処理を行う。
【０１６３】
製造装置５００は、入力部５１１、出力部５１２、記憶部５１３、通信部５１４、およびドライブ５１５を有する。
【０１６４】
入力部５１１は、キーボード、マウス、タッチパネル、および外部入力端子などよりなり、ユーザ指示や外部からの情報の入力を受け付け、制御部５０１に供給する。出力部５１２は、CRTディスプレイやLCD等のディスプレイ、スピーカ、並びに外部出力端子などよりなり、制御部５０１から供給される各種情報を画像、音声、若しくは、アナログ信号やデジタルデータとして出力する。
【０１６５】
記憶部５１３は、フラッシュメモリ等SSDやハードディスクなどよりなり、制御部５０１から供給される情報を記憶したり、制御部５０１からの要求に従って、記憶している情報を読み出して供給したりする。
【０１６６】
通信部５１４は、例えば、有線LANや無線LANのインタフェースやモデムなどよりなり、インターネットを含むネットワークを介して、外部の装置との通信処理を行う。例えば、通信部５１４は、制御部５０１から供給される情報を通信相手に送信したり、通信相手から受信した情報を制御部５０１に供給したりする。
【０１６７】
ドライブ５１５は、必要に応じて制御部５０１に接続される。そして、磁気ディスク、光ディスク、光磁気ディスク、或いは半導体メモリなどのリムーバブルメディア５２１がそのドライブ５１５に適宜装着される。そして、そのドライブ５１５を介してリムーバブルメディア５２１から読み出されたコンピュータプログラムが、必要に応じて記憶部５１３にインストールされる。
【０１６８】
図２６のフローチャートを参照して、製造処理の流れの例を説明する。なお、適宜、図２７を参照して説明する。図２７は、製造処理の各工程の様子を説明する図である。
【０１６９】
製造処理が開始されると、ステップＳ２０１において、バックパネル形成部５３１は、有機EL駆動に関わるバックパネル４１１を形成する（図２７Ａ）。なお、実際には、配線層やトランジスタ、電極などもそのバックパネル４１１に形成される。
【０１７０】
ステップＳ２０２において、有機EL形成部５３２は、バックパネル４１１の画像が表示される側（以下、前面側とも称する）の面に有機EL材料の有機EL発光素子４１２と駆動のための電極（図示せず）を形成する（図２７Ｂ）。
【０１７１】
ステップＳ２０３において、封止部５３３は、樹脂膜４１３で有機EL発光素子４１２の前面側を封止する（図２７Ｃ）。
【０１７２】
ステップＳ２０４において、凹部形成部５３４は、樹脂膜４１３の前面側の面の、凹部を形成したい箇所にレジストを塗布する。ステップＳ２０５において、凹部形成部５３４は、リソグラフィによりパターンを形成する（図２７Ｄ）。ステップＳ２０６において、凹部形成部５３４は、エッチングにより、樹脂膜４１３の前面側の面に凹部を形成する（図２７Ｅ）。
【０１７３】
ステップＳ２０７において、杭型フィルタ形成部５３５は、凹部が形成された樹脂膜４１３の前面側の面に、杭型用のフィルタを塗布する（図２７Ｆ）。図２７Ｆの例においては、赤色フィルタ５５２が、杭型用のフィルタとして塗布されている。この時、凹部も含めてレジストが埋め込まれるため、カラーフィルタのリソグラフィ後のパターン形成においても剥がれが生じにくい効果がある。ステップＳ２０８において、杭型フィルタ形成部５３５は、リソグラフィによりそのパターン形成を行い、杭型フィルタ４２０を形成する（図２７Ｇ）。
【０１７４】
ステップＳ２０９において、杭型フィルタ形成部５３５は、全ての杭型フィルタ４２０を形成したか否か（つまり、カラーフィルタ４１４を形成したか否か）を判定する。未処理の杭型フィルタ４２０が存在すると判定された場合、処理は、ステップＳ２０７に戻る。
【０１７５】
つまり、凹部が形成された樹脂膜４１３の前面側の面には、例えば赤色と同様に緑色や青色の杭型フィルタ４２０もカラーフィルタ４１４として形成される（図２７Ｈ）。ステップＳ２０９において、全ての杭型フィルタ４２０（カラーフィルタ４１４）が形成されたと判定された場合、処理は、ステップＳ２１０に進む。
【０１７６】
ステップＳ２１０において、フロントパネル形成部５３６は、カラーフィルタ４１４を保護可能なフロントパネル４１５を形成する（図２７Ｊ）。より具体的には、フロントパネル形成部５３６は、カラーフィルタ４１４の前面側の面に、フロントパネル４１５を貼り付ける。これにより、表示素子４００が形成される。
【０１７７】
ステップＳ２１０の処理が終了すると、製造処理が終了する。
【０１７８】
以上のように製造処理を行うことにより、製造装置５００は、容易に有機EL素子４００を生成することができる。なお、杭型フィルタ４２０は、カラーフィルタ４１４の一部にのみに設けるようにしてもよい。
【０１７９】
［２−３有機EL素子（逆方向杭）］
なお、有機EL材料（有機EL発光素子４１２）を含むバックパネル４１１と、カラーフィルタ４１４を含むフロントパネル４１５を個別に作成後に両者を接着させても良い。この場合も、杭型フィルタ４２０の杭部４２１が、樹脂膜４１３内に埋め込まれるように形成されるので、カラーフィルタ４１４の剥がれが抑制される。ただし、この場合、図２８に示されるように、杭型フィルタ４２０の杭部４２１が、フロントパネル４１５側に形成される。つまり、有機EL発光素子４１２側に杭部４２１が形成されないので、図２４の場合の方が、混色低減の効果が大きい。
【０１８０】
［２−４製造］
図２９は、この場合の有機EL素子４００を生成する製造装置５００の主な構成例を示すブロック図である。図２９に示されるように、この場合、製造部５０２は、フロントパネル形成部５６１、平坦化膜形成部５６２、凹部形成部５６３、杭型フィルタ形成部５６４、有機EL形成部５６５、及びバックパネル形成部５６６を有する。
【０１８１】
図３０のフローチャートを参照して、製造処理の流れの例を説明する。なお、適宜、図３１を参照して説明する。図３１は、製造処理の各工程の様子を説明する図である。
【０１８２】
製造処理が開始されると、ステップＳ２３１において、フロントパネル形成部５６１は、フロントパネル４１５を形成する（図３１Ａ）。
【０１８３】
ステップＳ２３２において、平坦化膜形成部５６２は、フロントパネル４１５の前面側と反対側（以下、背面側とも称する）の面に平坦化膜として樹脂膜４１３を形成する（図３１Ｂ）。
【０１８４】
ステップＳ２３３において、凹部形成部５６３は、平坦化膜である樹脂膜４１３の背面側の面にレジスト５７１を塗布する。ステップＳ２３４において、凹部形成部５６３は、リソグラフィによりパターンを形成する（図３１Ｃ）。ステップＳ２３５において、凹部形成部５６３は、エッチングを行い、樹脂膜４１３の背面側の面に凹部を形成する（図３１Ｄ）。
【０１８５】
ステップＳ２３６において、杭型フィルタ形成部５６４は、凹部が形成された樹脂膜４１３の背面側の面に、杭型用のフィルタを塗布する（図３１Ｅ）。図３１Ｅの例においては、赤色フィルタ５７２が、杭型用のフィルタとして塗布されている。ステップＳ２３７において、杭型フィルタ形成部５６４は、塗布した杭型用のフィルタに、リソグラフィによりパターンを形成する（図３１Ｆ）。つまり、赤色フィルタの杭型フィルタ４２０が形成される。ステップＳ２３８において、杭型フィルタ形成部５６４は、全ての杭型フィルタ４２０を形成したか否かを判定する。未処理のフィルタが存在すると判定された場合、処理は、ステップＳ２３６に戻る。つまり、杭型フィルタ形成部５６４は、全ての杭型フィルタ４２０を形成するまで、ステップＳ２３６乃至ステップＳ２３８の各処理を繰り返す。
【０１８６】
ステップＳ２３８において、全ての杭型フィルタを形成した（すなわち、カラーフィルタ４１４を形成した）と判定された場合、処理は、ステップＳ２３９に進む（図３１Ｇ）。
【０１８７】
ステップＳ２３９において、有機EL形成部５６５は、バックパネル４１１の前面側の面に有機EL発光素子４１２を形成する。
【０１８８】
ステップＳ２４０において、バックパネル形成部５６６は、そのバックパネル４１１上に形成される有機EL発光素子４１２の前面側の面を、樹脂膜４１３の背面側の面に形成されるカラーフィルタ４１４の背面側の面に貼り付ける（図３１Ｈ）。これにより、表示素子４００が形成される。
【０１８９】
ステップＳ２４０の処理が終了すると製造処理が終了される。
【０１９０】
以上のように製造処理を行うことにより、製造装置５００は、容易に有機EL素子４００を生成することができる。なお、この場合も、杭型フィルタ４２０は、カラーフィルタ４１４の一部にのみに設けるようにしてもよい。
【０１９１】
なお、有機EL素子４００の有機EL発光素子４１２は白色でも良いし、各色で波長の特徴を持ったEL発光部であっても良い（例えばRGB）。カラーフィルタもRGBに限らない。白色フィルタや補色など、RGB以外の色であってもよい。
【０１９２】
＜３．第３の実施の形態＞
［３−１撮像装置］
図３２は、杭型フィルタを用いた撮像装置の主な構成例を示すブロック図である。図３２に示される撮像装置６００は、被写体を撮像し、その被写体の画像を電気信号として出力する装置である。
【０１９３】
図３２に示されるように撮像装置６００は、光学部６１１、CMOSセンサ６１２、A/D変換器６１３、操作部６１４、制御部６１５、画像処理部６１６、表示部６１７、コーデック処理部６１８、および記録部６１９を有する。
【０１９４】
光学部６１１は、被写体までの焦点を調整し、焦点が合った位置からの光を集光するレンズ、露出を調整する絞り、および、撮像のタイミングを制御するシャッタ等よりなる。光学部６１１は、被写体からの光（入射光）を透過し、CMOSセンサ６１２に供給する。
【０１９５】
CMOSセンサ６１２は、入射光を光電変換して画素毎の信号（画素信号）をA/D変換器６１３に供給する。
【０１９６】
A/D変換器６１３は、CMOSセンサ６１２から、所定のタイミングで供給された画素信号を、デジタルデータ（画像データ）に変換し、所定のタイミングで順次、画像処理部６１６に供給する。
【０１９７】
操作部６１４は、例えば、ジョグダイヤル（商標）、キー、ボタン、またはタッチパネル等により構成され、ユーザによる操作入力を受け、その操作入力に対応する信号を制御部６１５に供給する。
【０１９８】
制御部６１５は、操作部６１４により入力されたユーザの操作入力に対応する信号に基づいて、光学部６１１、CMOSセンサ６１２、A/D変換器６１３、画像処理部６１６、表示部６１７、コーデック処理部６１８、および記録部６１９の駆動を制御し、各部に撮像に関する処理を行わせる。
【０１９９】
画像処理部６１６は、A/D変換器６１３から供給された画像データに対して、例えば、混色補正や、黒レベル補正、ホワイトバランス調整、デモザイク処理、マトリックス処理、ガンマ補正、およびYC変換等の各種画像処理を施す。画像処理部６１６は、画像処理を施した画像データを表示部６１７およびコーデック処理部６１８に供給する。
【０２００】
表示部６１７は、例えば、液晶ディスプレイ等として構成され、画像処理部６１６から供給された画像データに基づいて、被写体の画像を表示する。
【０２０１】
コーデック処理部６１８は、画像処理部６１６から供給された画像データに対して、所定の方式の符号化処理を施し、得られた符号化データを記録部６１９に供給する。
【０２０２】
記録部６１９は、コーデック処理部６１８からの符号化データを記録する。記録部６１９に記録された符号化データは、必要に応じて画像処理部６１６に読み出されて復号される。復号処理により得られた画像データは、表示部６１７に供給され、対応する画像が表示される。
【０２０３】
以上のような撮像装置６００のCMOSセンサ６１２に上述した本技術を適用する。すなわち、CMOSセンサ６１２には、上述したような杭型フィルタ１００が用いられる。したがって、CMOSセンサ６１２は、混色の発生を抑制することができる。したがって撮像装置６００は、被写体を撮像することにより、より高画質な画像を得ることができる。
【０２０４】
なお、本技術を適用した撮像装置は、上述した構成に限らず、他の構成であってもよい。例えば、デジタルスチルカメラやビデオカメラだけでなく、携帯電話機、スマートホン、タブレット型デバイス、パーソナルコンピュータ等の、撮像機能を有する情報処理装置であってもよい。また、他の情報処理装置に装着して使用される（若しくは組み込みデバイスとして搭載される）カメラモジュールであってもよい。
【０２０５】
＜４．第４の実施の形態＞
［４―１表示装置］
図３３は、杭型フィルタを用いた表示装置の主な構成例を示すブロック図である。図３３に示される表示装置７００は、放送波（例えば、テレビジョン信号）を受信し、その画像を表示する装置である。表示装置７００は、例えば、アンテナ７０１、チューナ７０２、デマルチプレクサ７０３、デコーダ７０４、映像信号処理部７０５、表示部７０６、音声信号処理部７０７、スピーカ７０８、外部インタフェース７０９、制御部７１０、ユーザインタフェース７１１、及びバス７１２を備える。
【０２０６】
チューナ７０２は、アンテナ７０１を介して受信される放送信号から所望のチャンネルの信号を抽出し、抽出した信号を復調する。そして、チューナ７０２は、復調により得られた符号化ビットストリームをデマルチプレクサ７０３へ出力する。即ち、チューナ７０２は、画像が符号化されている符号化ストリームを受信する、表示装置７００における伝送部としての役割を有する。
【０２０７】
デマルチプレクサ７０３は、符号化ビットストリームから視聴対象の番組の映像ストリーム及び音声ストリームを分離し、分離した各ストリームをデコーダ７０４へ出力する。また、デマルチプレクサ７０３は、符号化ビットストリームからEPG（Electronic Program Guide）などの補助的なデータを抽出し、抽出したデータを制御部７１０に供給する。なお、デマルチプレクサ７０３は、符号化ビットストリームがスクランブルされている場合には、デスクランブルを行ってもよい。
【０２０８】
デコーダ７０４は、デマルチプレクサ７０３から入力される映像ストリーム及び音声ストリームを復号する。そして、デコーダ７０４は、復号処理により生成される映像データを映像信号処理部７０５へ出力する。また、デコーダ７０４は、復号処理により生成される音声データを音声信号処理部７０７へ出力する。
【０２０９】
映像信号処理部７０５は、デコーダ７０４から入力される映像データを再生し、表示部７０６に映像を表示させる。また、映像信号処理部７０５は、ネットワークを介して供給されるアプリケーション画面を表示部７０６に表示させてもよい。また、映像信号処理部７０５は、映像データについて、設定に応じて、例えばノイズ除去などの追加的な処理を行ってもよい。さらに、映像信号処理部７０５は、例えばメニュー、ボタン又はカーソルなどのGUI（Graphical User Interface）の画像を生成し、生成した画像を出力画像に重畳してもよい。
【０２１０】
表示部７０６は、映像信号処理部７０５から供給される駆動信号により駆動され、表示デバイス（例えば、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ又はOELD（Organic ElectroLuminescence Display）（有機ELディスプレイ）など）の映像面上に映像又は画像を表示する。
【０２１１】
音声信号処理部７０７は、デコーダ７０４から入力される音声データについてD/A変換及び増幅などの再生処理を行い、スピーカ７０８から音声を出力させる。また、音声信号処理部７０７は、音声データについてノイズ除去などの追加的な処理を行ってもよい。
【０２１２】
外部インタフェース７０９は、表示装置７００と外部機器又はネットワークとを接続するためのインタフェースである。例えば、外部インタフェース７０９を介して受信される映像ストリーム又は音声ストリームが、デコーダ７０４により復号されてもよい。即ち、外部インタフェース７０９もまた、画像が符号化されている符号化ストリームを受信する、表示装置７００における伝送部としての役割を有する。
【０２１３】
制御部７１０は、CPUなどのプロセッサ、並びにRAM及びROMなどのメモリを有する。メモリは、CPUにより実行されるプログラム、プログラムデータ、EPGデータ、及びネットワークを介して取得されるデータなどを記憶する。メモリにより記憶されるプログラムは、例えば、表示装置７００の起動時にCPUにより読み込まれ、実行される。CPUは、プログラムを実行することにより、例えばユーザインタフェース７１１から入力される操作信号に応じて、表示装置７００の動作を制御する。
【０２１４】
ユーザインタフェース７１１は、制御部７１０と接続される。ユーザインタフェース７１１は、例えば、ユーザが表示装置７００を操作するためのボタン及びスイッチ、並びに遠隔制御信号の受信部などを有する。ユーザインタフェース７１１は、これら構成要素を介してユーザによる操作を検出して操作信号を生成し、生成した操作信号を制御部７１０へ出力する。
【０２１５】
バス７１２は、チューナ７０２、デマルチプレクサ７０３、デコーダ７０４、映像信号処理部７０５、音声信号処理部７０７、外部インタフェース（外部I/F）７０９、および、制御部７１０を相互に接続する。
【０２１６】
このように構成された表示装置７００の表示部７０６に、上述した、杭型フィルタ４２０を有する有機EL素子４００が用いられる。したがって、表示部７０６は、混色の発生を抑制することができる。したがって表示装置７００は、画像をより高画質に表示することができる。
【０２１７】
上述した一連の処理は、ハードウェアにより実行させることもできるし、ソフトウェアにより実行させることもできる。上述した一連の処理をソフトウェアにより実行させる場合には、そのソフトウェアを構成するプログラムが、ネットワークや記録媒体からインストールされる。
【０２１８】
この記録媒体は、例えば、図４、図１３、図２５、または図２９に示されるように、装置本体とは別に、ユーザにプログラムを配信するために配布される、プログラムが記録されているリムーバブルメディア２２１若しくはリムーバブルメディア５２１により構成される。このリムーバブルメディア２２１およびリムーバブルメディア５２１には、磁気ディスク（フレキシブルディスクを含む）や光ディスク（CD-ROMやDVDを含む）が含まれる。さらに、光磁気ディスク（MD（Mini Disc）を含む）や半導体メモリ等も含まれる。また、上述した記録媒体は、このようなリムーバブルメディア２２１およびリムーバブルメディア５２１だけでなく、装置本体に予め組み込まれた状態でユーザに配信される、プログラムが記録されているROMや、記憶部２１３若しくは記憶部５１３に含まれるハードディスクなどにより構成されるようにしてもよい。
【０２１９】
なお、コンピュータが実行するプログラムは、本明細書で説明する順序に沿って時系列に処理が行われるプログラムであっても良いし、並列に、あるいは呼び出しが行われたとき等の必要なタイミングで処理が行われるプログラムであっても良い。
【０２２０】
また、本明細書において、記録媒体に記録されるプログラムを記述するステップは、記載された順序に沿って時系列的に行われる処理はもちろん、必ずしも時系列的に処理されなくとも、並列的あるいは個別に実行される処理をも含むものである。
【０２２１】
また、本明細書において、システムとは、複数の構成要素（装置、モジュール（部品）等）の集合を意味し、全ての構成要素が同一筐体中にあるか否かは問わない。したがって、別個の筐体に収納され、ネットワークを介して接続されている複数の装置、及び、１つの筐体の中に複数のモジュールが収納されている１つの装置は、いずれも、システムである。
【０２２２】
また、以上において、１つの装置（または処理部）として説明した構成を分割し、複数の装置（または処理部）として構成するようにしてもよい。逆に、以上において複数の装置（または処理部）として説明した構成をまとめて１つの装置（または処理部）として構成されるようにしてもよい。また、各装置（または各処理部）の構成に上述した以外の構成を付加するようにしてももちろんよい。さらに、システム全体としての構成や動作が実質的に同じであれば、ある装置（または処理部）の構成の一部を他の装置（または他の処理部）の構成に含めるようにしてもよい。
【０２２３】
以上、添付図面を参照しながら本開示の好適な実施形態について詳細に説明したが、本開示の技術的範囲はかかる例に限定されない。本開示の技術分野における通常の知識を有する者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、これらについても、当然に本開示の技術的範囲に属するものと了解される。
【０２２４】
例えば、本技術は、１つの機能を、ネットワークを介して複数の装置で分担、共同して処理するクラウドコンピューティングの構成をとることができる。
【０２２５】
また、上述のフローチャートで説明した各ステップは、１つの装置で実行する他、複数の装置で分担して実行することができる。
【０２２６】
さらに、１つのステップに複数の処理が含まれる場合には、その１つのステップに含まれる複数の処理は、１つの装置で実行する他、複数の装置で分担して実行することができる。
【０２２７】
なお、本技術は以下のような構成も取ることができる。
（１）  入射光の所定の波長成分を透過するフィルタと、
前記フィルタを透過した入射光を光電変換する光電変換部と
を備え、
前記フィルタの周辺部が、中心部に比べて、前記光電変換部側に厚く形成される
撮像素子。
（２）  前記フィルタの前記周辺部の前記光電変換部側に、前記中心部より突き出た杭部が形成される
前記（１）に記載の撮像素子。
（３）  前記杭部は、前記光電変換部と前記フィルタとの間に形成される平坦化膜により挟まれる
前記（２）に記載の撮像素子。
（４）  前記杭部は、前記フィルタの周辺部全体に形成される
前記（２）または（３）に記載の撮像素子。
（５）  前記杭部は、前記フィルタの周辺部の一部に形成される
前記（２）乃至（４）のいずれかに記載の撮像素子。
（６）  前記フィルタは、所定の色の可視光を透過させるカラーフィルタである
前記（１）乃至（５）のいずれかに記載の撮像素子。
（７）  前記フィルタは、全ての波長の可視光を透過させるホワイトフィルタである
前記（１）乃至（６）のいずれかに記載の撮像素子。
（８）  前記光電変換素子を有する画素を複数有し、
前記画素の一部または全部の画素が前記フィルタを有する
前記（１）乃至（７）のいずれかに記載の撮像素子。
（９）  画素毎に、隣接する画素とは異なる所定の色の可視光を透過させるカラーフィルタが形成され、
前記カラーフィルタの、所定の単色若しくは複数色の可視光を透過させる画素の部分が前記フィルタにより形成される
前記（８）に記載の撮像素子。
（１０）  前記カラーフィルタの、前記フィルタにより形成される画素以外の画素の部分が、中心部と周辺部とで厚さが略同じである平型フィルタにより形成される
前記（９）に記載の撮像素子。
（１１）  各画素の前記フィルタの前記周辺部の前記光電変換部側に、前記中心部より突き出た杭部が形成され、
隣接する画素の前記フィルタの前記杭部は、一体的に、前記光電変換部と前記フィルタとの間に形成される平坦化膜により挟まれる
前記（９）または（１０）に記載の撮像素子。
（１２）  各画素の前記光電変換素子と前記カラーフィルタとの間に、遮光膜が形成され、
前記杭部は、前記遮光膜上に位置するように形成される
前記（１１）に記載の撮像素子。
（１３）  前記光電変換素子の、前記フィルタ側とは反対側に配線層が形成される裏面照射型の撮像素子である
前記（８）乃至（１２）のいずれかに記載の撮像素子。
（１４）  前記光電変換素子と前記フィルタとの間に配線層が形成される表面照射型の撮像素子であって、
前記配線層に、光伝搬可能な導波路が形成され、
各画素の前記フィルタの前記周辺部の前記光電変換部側に、前記中心部より突き出た杭部が、前記導波路の回りに、高屈折率材料によって形成される層を分断するように形成される
前記（８）乃至（１３）のいずれかに記載の撮像素子。
（１５）  前記フィルタおよび前記光電変換部は、前記入射光の主な入射角に応じて配置され、
各画素の前記フィルタの前記周辺部の前記光電変換部側に、前記中心部より突き出るように形成される杭部は、前記入射光の主な入射角に応じて形成される
前記（８）乃至（１６）のいずれかに記載の撮像素子。
（１６）  撮像素子を製造する製造装置であって、
入射光を光電変換する光電変換部を形成する光電変換部形成部と、
前記光電変換部形成部により形成された前記光電変換部の表面に平坦化膜を形成する平坦化膜形成部と、
前記平坦化膜形成部により形成された前記平坦化膜表面に凹部を形成する凹部形成部と、
前記凹部形成部により形成された前記平坦化膜の凹部を用いて、入射光の所定の波長成分を透過するフィルタを、前記フィルタの周辺部が中心部に比べて前記光電変換部側に厚くするように形成するフィルタ形成部と
を備える製造装置。
（１７）  撮像素子を製造する製造装置の製造方法であって、
前記製造装置が、
入射光を光電変換する光電変換部を形成し、
前記光電変換部の表面に平坦化膜を形成し、
前記平坦化膜表面に凹部を形成し、
前記平坦化膜の凹部を用いて、入射光の所定の波長成分を透過するフィルタを、前記フィルタの周辺部が中心部に比べて前記光電変換部側に厚くするように形成する
製造方法。
（１８）  入射光の所定の波長成分を透過するフィルタと、前記フィルタを透過した入射光を光電変換する光電変換部とを備え、前記フィルタの周辺部が、中心部に比べて、前記光電変換部側に厚く形成され、被写体を撮像し、前記被写体の画像を電気信号として出力する撮像素子と、
前記撮像素子において得られた前記被写体の画像を画像処理する画像処理部と
を備える撮像装置。
（１９）  光を発光する発光部と、
前記発光部が発光することにより前記発光部から出射される出射光の所定の波長成分を透過する、周辺部が中心部に比べて厚く形成されるフィルタと
を備える表示素子。
（２０）  画像を画像処理する画像処理部と、
光を発光する発光部と、前記発光部が発光することにより前記発光部から出射される出射光の所定の波長成分を透過する、周辺部が中心部に比べて厚く形成されるフィルタとを備え、前記画像処理部により画像処理された画像を表示する表示素子と
を備える表示装置。
【符号の説明】
【０２２８】
１００  杭型フィルタ，  １０１  杭部，  １５０  撮像素子，  １５１  フォトダイオード，  １５２  平坦化膜，  １５３  カラーフィルタ，  １５４  オンチップレンズ，  １６０  平型フィルタ，  １７０  凹部，  ２００  製造装置，  ２０２  製造部，  ２３１  フォトダイオード形成部，  ２３２  配線層形成部，  ２３３  平坦化膜形成部，  ２３４  凹部形成部，  ２３５  杭型フィルタ形成部，  ２３６  平型フィルタ形成部，  ２３７  集光レンズ形成部，  ２５１  レジスト，  ２５２  緑色フィルタ，  ２６１  平坦化膜，  ２７１  カラーフィルタ，  ２８１  遮光膜，  ２８３  遮光膜形成部，  ３０１  フォトダイオード，  ３０２  配線層，  ３０３  SIN，  ３０４  高屈折率埋め込み材料，  ３０５  平坦化膜，  ３０６  カラーフィルタ，  ３０７  オンチップレンズ，  ３１０  杭型フィルタ，  ３１１  杭部，  ３２０  平型フィルタ，  ３３０  凹部，  ４００  有機EL素子，  ４１１  バックパネル，  ４１２  有機EL発光素子，  ４１３  樹脂膜，  ４１４  カラーフィルタ，  ４１５  フロントパネル，  ４２０  杭型フィルタ，  ４２１  杭部，  ５００  製造装置，  ５０２  製造部，  ５３１  バックパネル形成部，  ５３２  有機EL形成部，  ５３３  封止部，  ５３４  凹部形成部，  ５３５  杭型フィルタ形成部，  ５３６  フロントパネル形成部，  ５６１  フロントパネル形成部，  ５６２  平坦化膜形成部，  ５６３  凹部形成部，  ５６４  杭型フィルタ形成部，  ５６５  有機EL形成部，  ５６６  バックパネル形成部，  ６００  撮像装置，  ６１２  CMOSセンサ，  ７００  表示装置，  ７０６  表示部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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