(57)【要約】【課題】  ノズル孔に不良が発生した際に、迅速に回復処理を行うことができる薄膜形成装置を提供する。【解決手段】  ステージの保持面に基板が保持される。ステージに保持された基板にノズルヘッドが対向する。ノズルヘッドは、基板に向かって薄膜材料の液滴を吐出する複数のノズル孔を有する。移動機構が、ステージをノズルヘッドに対して保持面に平行な方向に移動させる。撮像装置が、ノズルヘッドに対して移動可能であり、ノズル孔を撮像できる位置まで移動可能に構成されている。【選択図】  図２
2013237004.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
保持面に基板を保持するステージと、
前記ステージに保持された基板に対向し、前記基板に向かって薄膜材料の液滴を吐出する複数のノズル孔が形成されたノズルヘッドと、
前記ステージと前記ノズルヘッドとの一方を他方に対して、前記保持面に平行な方向に移動させる移動機構と、
前記ノズルヘッドに対して移動可能であり、前記ノズル孔を撮像できる位置まで移動可能に構成された撮像装置と
を有する薄膜形成装置。
【請求項２】
前記撮像装置は前記ステージに取り付けられている請求項１に記載の薄膜形成装置。
【請求項３】
さらに、前記撮像装置の移動を制御する制御装置を有し、
前記制御装置は、不良ノズル孔が存在すると推定される被疑領域を撮像することが可能な位置まで、前記撮像装置を移動させる請求項１または２に記載の薄膜形成装置。
【請求項４】
さらに、オペレータが操作する入力装置を有し、オペレータが前記被疑領域の位置情報を前記入力装置から入力することにより、前記被疑領域の位置情報が前記制御装置に与えられる請求項３に記載の薄膜形成装置。
【請求項５】
さらに、前記撮像装置で撮像された画像を表示する出力装置を有し、
前記制御装置は、前記撮像装置で撮像された画像を前記出力装置に表示する請求項１乃至４のいずれか１項に記載の薄膜形成装置。
【請求項６】
さらに、前記制御装置からの制御を受けて、ノズル孔の回復処理を行うリペア装置を有し、
前記制御装置は、
前記入力装置からリペア処理実行の指令、及び不良ノズル孔を特定する情報が入力されると、前記不良ノズル孔の回復処理を行うように前記リペア装置を制御する請求項５に記載の薄膜形成装置。
【請求項７】
さらに、前記制御装置からの制御を受けて、不良ノズル孔の回復処理を行うリペア装置を有し、
前記制御装置は、
前記入力装置から入力された前記被疑領域を撮像することが可能な位置まで、前記撮像装置を移動させ、撮像された画像の画像解析を行い、画像解析結果に基づいて、不良ノズル孔を特定し、特定された不良ノズル孔の回復処理を行うように前記リペア装置を制御する請求項４に記載の薄膜形成装置。
【請求項８】
保持面に基板を保持するステージと、
前記ステージに保持された基板に対向し、前記基板に向かって薄膜材料の液滴を吐出する複数のノズル孔が形成されたノズルヘッドと、
前記ステージと前記ノズルヘッドとの一方を他方に対して、前記保持面に平行な方向に移動させる移動機構と、
前記ノズルヘッドに対して移動可能であり、前記ノズル孔を撮像できる位置まで移動可能に構成された撮像装置と
を有する薄膜形成装置の修理方法であって、
基板に形成された薄膜に不良が発生したときに、不良が発生した位置に基づいて、不良の原因となった不良ノズル孔が含まれる被疑領域の位置を推定し、前記被疑領域を撮像可
能な位置まで前記撮像装置を移動させる工程と、
前記撮像装置で、前記被疑領域を撮像する工程と、
撮像された画像に基づいて、不良ノズル孔を特定する工程と
を有する薄膜形成装置の修理方法。
【請求項９】
さらに、前記画像に基づいて、前記不良ノズル孔の回復処理を行うか、前記ノズルヘッドの交換を行うかを判定する工程と
を有する請求項８に記載の薄膜形成装置の修理方法。
【請求項１０】
保持面に基板を保持するステージと、
前記ステージに保持された基板に対向し、前記基板に向かって薄膜材料の液滴を吐出する複数のノズル孔が形成された複数のノズルヘッドと、
前記ステージと前記ノズルヘッドとの一方を他方に対して、前記保持面に平行な方向に移動させる移動機構と、
前記ノズルヘッドに対して移動可能であり、前記ノズル孔を撮像できる位置まで移動可能に構成された撮像装置と
を有する薄膜形成装置の調整方法であって、
前記撮像装置を、前記ノズルヘッドが撮像可能な位置まで移動させ、少なくとも２つの前記ノズルヘッドを撮像する工程と、
前記ノズルヘッドが撮像された画像に基づいて、複数の前記ノズルヘッドの相対位置を調整する工程と
を有する薄膜形成装置の調整方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複数のノズル孔から薄膜材料の液滴を吐出して薄膜パターンを形成する薄膜形成装置、薄膜形成装置の修理方法及び調整方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
プリント配線板にソルダーレジストのパターンを形成する従来の方法について説明する。まず、表面に回路パターンが形成されたプリント配線板の全面に、感光性のソルダーレジストを塗布する。所定のマスクパターンを用いて、ソルダーレジスト膜を露光し、その後現像することにより、ソルダーレジストのパターンが形成される。
ソルダーレジストを液滴化して、プリント配線板の所望の領域にのみ液滴を付着させ、硬化させることにより、ソルダーレジストのパターンを形成する技術が注目されている。ソルダーレジストの液滴は、複数のノズル孔からプリント配線板に向けて吐出される。プリント配線板の表面に付着した液滴に紫外線を照射することにより、液滴を硬化させることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−１０４１０４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ソルダーレジスト等の液状材料によって、ノズル孔に詰まり等の不良が発生する場合がある。ノズル孔に不良が発生したときに、薄膜形成装置の停止時間を短くするために、迅速に、ノズル孔の不良回復処理（リペア処理）を行うことが好ましい。
本発明の目的は、ノズル孔に不良が発生した際に、迅速に回復処理を行うことができる薄膜形成装置、及び薄膜形成装置の修理方法を提供することである。本発明の他の目的は、薄膜形成装置に搭載された複数のノズルヘッドの相対位置を調整する方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の一観点によると、
保持面に基板を保持するステージと、
前記ステージに保持された基板に対向し、前記基板に向かって薄膜材料の液滴を吐出する複数のノズル孔が形成されたノズルヘッドと、
前記ステージと前記ノズルヘッドとの一方を他方に対して、前記保持面に平行な方向に移動させる移動機構と、
前記ノズルヘッドに対して移動可能であり、前記ノズル孔を撮像できる位置まで移動可能に構成された撮像装置と
を有する薄膜形成装置が提供される。
【０００６】
本発明の他の観点によると、
保持面に基板を保持するステージと、
前記ステージに保持された基板に対向し、前記基板に向かって薄膜材料の液滴を吐出する複数のノズル孔が形成されたノズルヘッドと、
前記ステージと前記ノズルヘッドとの一方を他方に対して、前記保持面に平行な方向に移動させる移動機構と、
前記ノズルヘッドに対して移動可能であり、前記ノズル孔を撮像できる位置まで移動可
能に構成された撮像装置と
を有する薄膜形成装置の修理方法であって、
基板に形成された薄膜に不良が発生したときに、不良が発生した位置に基づいて、不良の原因となった不良ノズル孔が含まれる被疑領域の位置を推定し、前記被疑領域を撮像可能な位置まで前記撮像装置を移動させる工程と、
前記撮像装置で、前記被疑領域を撮像する工程と、
撮像された画像に基づいて、不良ノズル孔を特定する工程と
を有する薄膜形成装置の修理方法が提供される。
【０００７】
本発明のさらに他の観点によると、
保持面に基板を保持するステージと、
前記ステージに保持された基板に対向し、前記基板に向かって薄膜材料の液滴を吐出する複数のノズル孔が形成された複数のノズルヘッドと、
前記ステージと前記ノズルヘッドとの一方を他方に対して、前記保持面に平行な方向に移動させる移動機構と、
前記ノズルヘッドに対して移動可能であり、前記ノズル孔を撮像できる位置まで移動可能に構成された撮像装置と
を有する薄膜形成装置の調整方法であって、
前記撮像装置を、前記ノズルヘッドが撮像可能な位置まで移動させ、少なくとも２つの前記ノズルヘッドを撮像する工程と、
前記ノズルヘッドが撮像された画像に基づいて、複数の前記ノズルヘッドの相対位置を調整する工程と
を有する薄膜形成装置の調整方法が提供される。
【発明の効果】
【０００８】
撮像装置でノズル孔を撮像することにより、複数のノズル孔から不良が発生したノズル孔を特定することができる。これにより、迅速にノズル孔の回復処理を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】図１は、実施例による薄膜形成装置の概略図である。
【図２】図２は、実施例による薄膜形成装置のステージ、撮像装置、リペア装置、及びノズルユニットの斜視図である。
【図３】図３Ａは、ノズルユニットの斜視図であり、図３Ｂは、ノズルユニットの底面図である。
【図４】図４Ａは、基板に形成される薄膜パターンの平面図であり、図４Ｂは、基板に形成された不良箇所を含む薄膜パターンの平面図である。
【図５】図５は、実施例による薄膜形成装置の修理方法のフローチャートである。
【図６】図６は、ノズルユニット及び撮像装置の断面図である。
【図７】図７は、ノズルユニット、及び撮像装置の撮像範囲の位置関係を示す図である。
【図８】図８は、他の実施例による薄膜形成装置の調整方法を説明するためのノズルユニット、及び撮像装置の撮像範囲の位置関係を示す図である。
【図９】図９は、他の実施例の変形例による薄膜形成装置の調整方法を説明するためのノズルユニット、及び撮像装置の撮像範囲の位置関係を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
図１に、実施例による薄膜形成装置の概略図を示す。定盤２０の上に、移動機構２１によりステージ２５が支持されている。ステージ２５の上面（保持面）に、プリント配線板等の基板３０が保持される。ステージ２５の保持面に平行な方向をＸ方向及びＹ方向とし
、保持面の法線方向をＺ方向とするＸＹＺ直交座標系を定義する。移動機構２１は、ステージ２５をＸ方向及びＹ方向に移動させる。
【００１１】
定盤２０の上方に、支柱２６によって梁２７が支えられている。梁２７に、ノズルユニット支持機構４１及び撮像装置４２が取り付けられている。ノズルユニット支持機構４１に、ノズルユニット４０が支持されている。撮像装置４２及びノズルユニット４０は、ステージ２５に保持された基板３０に対向する。撮像装置４２は、基板３０の表面に形成されている配線パターン、アライメントマーク、基板３０に形成された薄膜パターン等を撮像する。撮像されて得られた画像データが、制御装置３３に入力される。ノズルユニット４０は、複数のノズル孔から基板３０に向けて、紫外線硬化型の薄膜材料の液滴、例えばソルダーレジスト等の液滴を吐出する。吐出された薄膜材料が、基板３０の表面に付着する。
【００１２】
ノズルユニット４０を定盤２０に固定して、ステージ２５を移動させる代わりに、ステージ２５に対してノズルユニット４０を移動させてもよい。
【００１３】
撮像装置５０がステージ３０に取り付けられている。ステージ３０を移動させて撮像装置５０をノズルユニット４０の直下に配置することにより、撮像装置５０でノズルユニット４０の複数のノズル孔のうち一部のノズル孔を撮像することができる。
【００１４】
制御装置３３が、移動機構２１、ノズルユニット４０、及び撮像装置４２、５０を制御する。制御装置３３には、基板３０に形成すべき薄膜パターンの画像データ等が記憶されている。  オペレータが、入力装置３５を通して制御装置３３に、種々の指令（コマンド）や、制御に必要な数値データを入力する。入力装置３５には、例えばキーボード、タッチパネル、ポインティングデバイス等が用いられる。制御装置３３は、出力装置３６からオペレータに対して各種情報を出力する。出力装置３６には液晶ディスプレイ等が用いられる。
【００１５】
図２に、実施例による薄膜形成装置のステージ２５、ノズルユニット４０、ノズルユニット支持機構４１の斜視図を示す。ステージ２５の保持面に基板３０が保持されている。基板３０の上方にノズルユニット４０が支持されている。ノズルユニット４０は、ノズルホルダ４５、及びノズルホルダ４５に固定された複数のノズルヘッド４６を含む。ノズルヘッド４６の、基板３０に対向する面に、複数のノズル孔が設けられている。
【００１６】
ノズルユニット支持機構４１が、ゴニオメータ４７及び昇降機構４８を含む。ゴニオメータ４７は、ノズルユニット４０をＺ軸に平行な軸を回転中心として、ある角度範囲内で回転させることができる。昇降機構４８は、ノズルユニット４０をＺ方向に移動させる。
【００１７】
ステージ２５の縁に、撮像装置５０が取り付けられている。撮像装置５０には、例えばＣＣＤカメラ等が用いられる。ステージ２５を移動させて、撮像装置５０をノズルユニット４０の直下に配置することにより、一部のノズル孔を撮像することができる。撮像装置５０は制御装置３３により制御され、撮像された画像データが制御装置３３に入力される。なお、撮像装置５０として、ライセンセンサを用いてもよい。ラインセンサを用いる場合には、制御装置３３は、ステージ２５を移動させながら複数本の一次元画像を取得する。取得された複数本の一次元画像を合成して、２次元画像を生成することができる。
【００１８】
照明装置５１が、撮像範囲内のノズル孔を照明する。照明方法として、例えば同軸落射照明が採用される。照明光は、液状の薄膜材料を硬化させない波長域のみを含み、薄膜材料を硬化させる紫外域の波長を含まない。
【００１９】
ステージ２５に、さらにリペア装置５３が取り付けられている。リペア装置５３を、ノズルユニット４０の下方に移動させることにより、ノズル孔の詰まり等を回復させる。リペア装置５３は、制御装置３３により制御される。ノズル詰まりの回復方法として、例えばパージ、吸引、ワイプ等が挙げられる。
【００２０】
パージとは、ノズルヘッド４６内の薄膜材料が収容される空間に正圧を印加する処理である。なお、通常は、薄膜材料が収容される空間に負圧が印加されている。パージを行うと、ノズル孔から液状の薄膜材料が流れ出る。リペア装置５３には、ノズル孔から流れでた薄膜材料を受けるトレイが配置されている。
【００２１】
吸引とは、ノズル孔の外側の空間に負圧を印加することにより、ノズル孔内の異物等を吸い出す処理である。リペア装置５３には、ノズル孔に負圧を印加する吸引装置が収容されている。ワイプとは、ノズルユニット４０のノズル孔が設けられている面をワイパで拭きとる処理である。リペア装置５３には、ワイパが備えられている。
【００２２】
図３Ａに、ノズルユニット４０の斜視図を示す。ノズルホルダ４５に、複数、例えば４個のノズルヘッド４６が取り付けられている。ノズルヘッド４６の各々に、複数のノズル孔５５が形成されている。Ｘ方向に関して最も外側のノズルヘッド４６よりもさらに外側に、それぞれ紫外光源５６が配置されている。紫外光源５６は、基板３０（図１、図２）に紫外線を照射する。
【００２３】
図３Ｂに、ノズルヘッド４６及び紫外光源５６の底面図を示す。ノズルヘッド４６の各々の底面（基板３０に対向する表面）に、２列のノズル列５７が配置されている。ノズル列５７の各々は、Ｙ方向にピッチ（周期）８Ｐで並ぶ複数のノズル孔５５で構成される。一方のノズル列５７は、他方のノズル列５７に対して、Ｘ方向にずれており、さらに、Ｙ方向にピッチ４Ｐだけずれている。すなわち、１つのノズルヘッド４６に着目すると、ノズル孔５５は、Ｙ方向に関してピッチ４Ｐで等間隔に分布することになる。ピッチ４Ｐは、例えば３００ｄｐｉの解像度に相当する。
【００２４】
４個のノズルヘッド４６は、Ｘ方向に配列し、かつ相互にＹ方向にずらされてノズルホルダ４５（図３Ａ）に取り付けられている。図３Ｂにおいて、最も左側のノズルヘッド４６を基準にすると、２、３、４番目のノズルヘッド４６は、それぞれＹ軸の負の方向に２Ｐ、Ｐ、及び３Ｐだけずらされている。このため、４個のノズルヘッド４６に着目すると、ノズル孔５５は、Ｙ方向にピッチＰ（１２００ｄｐｉに相当するピッチ）で配列することになる。
【００２５】
Ｘ方向に関して最も外側のノズルヘッド４６よりもさらに外側に、それぞれ紫外光源５６が配置されている。紫外光源５６は、基板３０（図１、図２）に付着した液状の薄膜材料を硬化させる。さらに、ノズルヘッド４６の間にも、紫外光源を配置してもよい。ノズルヘッド４６の間にも紫外光源を配置すると、薄膜材料の液滴が基板３０に着弾してから硬化するまでの時間を短縮することができる。
【００２６】
基板３０（図１）をＹ方向に移動させながら、ノズルユニット４０の各ノズル孔５５から薄膜材料の液滴を吐出させることにより、Ｙ方向に関して１２００ｄｐｉの解像度で薄膜パターンを形成することができる。Ｙ方向にＰ／２だけずらして往復走査を行うことにより、Ｙ方向の解像度を２倍の２４００ｄｐｉまで高めることができる。Ｘ方向の解像度は、基板３０の移動速度と、ノズル孔５５からの液滴の吐出周期で決定される。
【００２７】
図４Ａに、基板３０に形成された薄膜パターン３１の平面図を示す。例えば、薄膜パターン３１は、行列状に配置された複数の合同のパターンで構成される。形成する薄膜パタ
ーン３１の画像データは、制御装置３３（図１）に記憶されている。一部のノズル孔５５（図３Ａ、図３Ｂ）にノズル詰まり等の不良が発生すると、図４Ｂに示すように、Ｘ方向に平行な直線状の不良箇所３２が現れる。
【００２８】
図５に、実施例による薄膜形成装置の修理方法のフローチャートを示す。図４Ｂに示したように、形成された薄膜パターン３１に不良箇所３２が現れると、ステップＳ１において、不良箇所３２の位置から、不良と思われるノズル孔のＹ方向の位置を推定する。ただし、不良箇所３２の位置のみからでは、不良ノズル孔の位置を、ある領域内に絞り込むことはできるが、不良が発生しているノズル孔５５（不良ノズル孔）を特定することは困難である。不良ノズル孔が存在すると推定される領域を「被疑領域」ということとする。被疑領域には、複数のノズル孔が含まれる。また、不良ノズル孔５５が属するノズルヘッド４６を特定することも困難であるため、ノズルヘッド４６のそれぞれに、被疑領域が定義される。
【００２９】
ステップＳ２において、各ノズルヘッド４６の被疑領域を撮像装置５０（図１、図２）で撮像する。具体的には、オペレータが、入力装置３５（図１）から被疑領域のＹ方向の位置情報を入力する。この位置情報は、図３Ｂに示したノズルヘッド４６を基準とした位置情報でもよいし、図４Ｂに示した基板３０を基準とした位置情報でもよい。基板３０を基準とした位置情報が入力された場合には、制御装置３３（図１、図２）が、基板３０を基準とした位置情報からノズルヘッド４６を基準とした位置情報に変換する。制御装置３３は、図６に示すように、ステージ２５を移動させて、各ノズルヘッド４６の被疑領域の直下まで撮像装置５０を移動させる。
【００３０】
なお、被疑領域の位置情報をオペレータが入力する代わりに、被疑領域の位置を自動検出する方法を採用することも可能である。次に、被疑領域の位置を自動検出する方法について説明する。まず、基板３０に薄膜パターン３１（図４Ａ）を形成した後、撮像装置４２（図１）で薄膜パターン３１を撮像する。撮像された画像を自動解析することにより、不良箇所３２（図４Ｂ）が存在するか否かを判定する。不良箇所３２が検出された場合には、不良箇所３２の位置に基づいて、被疑領域の位置を算出する。
【００３１】
図７に、ノズル孔５５と、撮像装置５０（図６）の撮像範囲５２との位置関係を示す。例えば、撮像範囲５２内に、１つのノズルヘッド４６に属する３〜４個のノズル孔５５が収まる。ステージ２５（図６）をＸ方向に移動させることにより、４個のノズルヘッド４６の被疑領域を順番に撮像範囲５２内に収めて撮像することができる。制御装置３３は、撮像された画像を、出力装置３６に表示する。
【００３２】
ステップＳ３において、オペレータが、出力装置３６に表示された画像を観察することにより、不良ノズル孔、及び不良ノズル孔が存在するノズルヘッド４６を特定する。ステップＳ４において、オペレータは、不良ノズル孔５５が回復可能か否かを判定する。例えば、不良ノズル孔５５内に気泡が滞留している場合、不良ノズル孔５５内に微小な異物が残置されている場合等は、不良ノズル孔５５は回復可能であると判定される。不良ノズル孔５５内で薄膜材料が固化している場合、不良ノズル孔５５が変形している場合等は、不良ノズル孔は回復不能であると判定される。
【００３３】
不良ノズル孔５５が回復不能であると判定された場合には、ステップＳ９において、不良ノズル孔５５が属するノズルヘッド４６を、新しいノズルヘッドに交換する。ステップＳ４で回復可能な不良と判定された場合には、ステップＳ５において、オペレータが、入力装置３５から、不良ノズル孔５５を特定する情報、及びリペア処理の実行指令を入力する。不良ノズル孔５５を特定する情報は、ノズルヘッド４６を特定する情報、及びノズルヘッド４６内のノズル孔５５を特定する情報を含む。
【００３４】
ステップＳ６において、制御装置３３（図１、図２）は、不良ノズル孔５５に対してリペア処理を行う。具体的には、リペア装置５３を、不良ノズル孔５５の直下まで移動させる。その後、吸引、ワイプ、パージ等を行う。吸引は、不良ノズル孔５５のみ、またはその近傍のノズル孔に対して行われる。ワイプ及びパージは、不良ノズル孔５５が属するノズルヘッド４６に対して行われる。
【００３５】
リペア処理が終了すると、ステップＳ７において、リペア処理後のノズル孔５５を、撮像装置５０（図６）で撮像する。制御装置３３は、取得した画像を出力装置３６（図１）に表示する。ステップＳ８において、オペレータが、出力装置３６に表示された画像を観察することにより、ノズル孔５５の不良が回復したか否かを判定する。不良が回復したと判定された場合には、リペア処理を終了する。不良が回復していないと判定された場合には、ステップＳ９において、不良のノズル孔５５を含むノズルヘッド４６を、新しいノズルヘッドに交換する。
【００３６】
上記実施例では、ノズルヘッド４６をノズルホルダ４５から取り外すことなく、撮像装置５０（図１、図２）で、ノズル孔５５（図３Ａ、図３Ｂ）を観察することができる。このため、薄膜パターン３１に不良箇所３２（図４Ｂ）が現れたとき、不良のノズル孔の状態及び位置を容易に特定することができる。これにより、リペア処理の時間を短縮することができる。
【００３７】
また、ステップＳ６（図５）で行われるワイプは、不良ノズル孔５５を回復させることが可能な場合もあるが、逆に、正常なノズル孔５５を詰まらせる要因にもなり得る。実施例では、不良ノズル孔５５が属するノズルヘッド４６のみに対してワイプが行われ、正常なノズルヘッド４６に対しては、ワイプが行われない。このため、ワイプに起因する不良の発生を防止することができる。
【００３８】
上記実施例では、ステップＳ３（図５）において、オペレータがノズル孔の画像を観察することにより、不良が発生しているノズル孔５５を特定した。オペレータが介在することなく、制御装置３３（図２）が自動画像解析を行うことにより、不良が発生しているノズル孔５５を特定し、かつ回復可能か否かを判定するようにしてもよい。種々の不良ノズル孔の画像データ、及び回復可能か否かの情報を蓄積しておくことにより、画像の自動解析を行うことが可能になる。
【００３９】
また、上記実施例では、不良が発生しているノズル孔５５を特定するために、撮像装置５０（図１、図２）が用いられた。撮像装置５０を、より低倍率にして、ノズルヘッド４６のより広い表面を観察可能にしてもよい。これにより、ノズルヘッド４６の表面の汚れの状態を観察することができる。
【００４０】
上記実施例では、図２に示したように、撮像装置５０及びリペア装置５３を、基板３０用のステージ２５に取り付けたが、基板３０用のステージ２５とは別に、撮像装置５０及びリペア装置５３用のステージを配置してもよい。これにより、基板３０用のステージ２５の重量を軽減することができる。また、撮像装置５０及びリペア装置５３を定盤２０（図１）に固定し、ノズルユニット４０を撮像装置５０またはリペア装置５３の上方まで移動させる構成としてもよい。
【００４１】
次に、図８を参照して、他の実施例による薄膜形成装置の調整方法について説明する。この調整方法では、図３Ａに示したノズルホルダ４５に複数のノズルヘッド４６を取り付けた後、複数のノズルヘッド４６の相対位置を調整する。
【００４２】
図８に示すように、１つのノズルヘッド４６の基準となるノズル孔（以下、「基準ノズル孔」という。）５５ｒが、撮像装置５０の撮像範囲５２内に含まれるように、撮像装置５０を移動させ、画像を取得する。同様に、他のノズルヘッド４６の基準ノズル孔５５ｒを撮像する。
【００４３】
撮像された画像を解析することにより、複数のノズルヘッド４６の基準ノズル孔５５ｒの相対位置関係を求める。算出結果に基づいて、基準ノズル孔５５ｒが目標とする位置に配置されるように、ノズルヘッド４６の相対位置を調整する。ノズルヘッド４６の位置の微調整は、微調ねじ等により行うことができる。
【００４４】
図９に示すように、相互に隣り合う２つのノズルヘッド４６の縁（エッジ）を、撮像可能範囲５２内に配置して、ノズルヘッド４６の縁を撮像してもよい。撮像された画像を解析することにより、複数のノズルヘッド４６の相対位置関係を求めることができる。
【００４５】
以上実施例に沿って本発明を説明したが、本発明はこれらに制限されるものではない。例えば、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に自明であろう。
【符号の説明】
【００４６】
２０  定盤
２１  移動機構
２５  ステージ
２６  支柱
２７  梁
３０  基板
３１  薄膜パターン
３２  不良箇所
３３  制御装置
３５  入力装置
３６  出力装置
４０  ノズルユニット
４１  ノズルユニット支持機構
４２  撮像装置
４５  ノズルホルダ
４６  ノズルヘッド
４７  ゴニオメータ
４８  昇降機構
５０  撮像装置
５１  照明装置
５２  撮像範囲
５３  リペア装置
５５  ノズル孔
５５ｒ  基準となるノズル孔
５６  紫外光源
５７  ノズル列
【図１】
2013237004.tif 000003
【図２】
2013237004.tif 000004
【図３】
2013237004.tif 000005
【図４】
2013237004.tif 000006
【図５】
2013237004.tif 000007
【図６】
2013237004.tif 000008
【図７】
2013237004.tif 000009
【図８】
2013237004.tif 000010
【図９】
2013237004.tif 000011