(57)【要約】【課題】電磁波パルスの照射・検出のみでは十分なコントラストが得られないことや、反射系において所望の位置に明確な界面がないと信号が十分に得られないことを解決する技術を提供する。【解決手段】電磁波パルス測定装置は、試料の所定の領域に対して音波を発する弾性振動波発生部１と、音波が照射された所定の領域に電磁波パルスを照射する電磁波パルス発生部２と、音波により所定の領域において変調を受けた電磁波パルスの波形を測定する電磁波パルス検出部３を有する。電磁波パルスの波形を測定するタイミングを、音波を発する際の音波の位相角が所定の値を取る時とする。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料の所定の領域に対して弾性振動波を照射する弾性振動波発生部と、前記弾性振動波が照射された前記所定の領域に電磁波パルスを照射する電磁波パルス発生部と、前記弾性振動波により前記所定の領域において変調を受けた前記電磁波パルスの波形を測定する電磁波パルス検出部と、を有し、
前記電磁波パルス検出部が前記電磁波パルスの波形を測定するタイミングを、前記弾性振動波発生部が前記弾性振動波を発する際の弾性振動波の位相角が所定の値を取る時とするよう構成されていることを特徴とする電磁波パルス測定装置。
【請求項２】
前記所定の領域に照射する電磁波パルスの繰り返し周波数、ないし、連続する前記電磁波パルスからなる電磁波パルス列の繰り返し周波数が、前記弾性振動波の周波数の自然数分の１であることを特徴とする請求項１に記載の電磁波パルス測定装置。
【請求項３】
前記電磁波パルス検出部は、前記弾性振動波の周波数に同期して検波する信号抽出部を備えることを特徴とする請求項１または２に記載の電磁波パルス測定装置。
【請求項４】
前記弾性振動波発生部は、前記弾性振動波を前記所定の領域に収束するように照射することを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の電磁波パルス測定装置。
【請求項５】
前記弾性振動波発生部が前記弾性振動波を発する際の弾性振動波の位相角の所定の値を制御する制御部を有することを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の電磁波パルス測定装置。
【請求項６】
前記電磁波パルスの周波数は30GHzから30THzまでの範囲におけるいずれかの周波数を含むことを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の電磁波パルス測定装置。
【請求項７】
前記電磁波パルスの半値全幅は前記電磁波パルスの繰り返し周期Tpの1/10以下であることを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の電磁波パルス測定装置。
【請求項８】
連続する前記電磁波パルスからなる電磁波パルス列の時間幅ないし前記信号抽出部が前記電磁波パルスを検出する際のゲート時間をτ、前記弾性振動波の周期をTusとしたとき、
前記電磁波パルス列の時間間隔ないし検出ゲート時間τは前記弾性振動波の周期Tusの1/10以下であり、かつ前記電磁波パルスの繰り返し周期Tpは前記弾性振動波の周期Tusの1/20以下であることを特徴とする請求項７に記載の電磁波パルス測定装置。
【請求項９】
試料の所定の領域に対して弾性振動波を発するステップと、前記弾性振動波が照射された前記所定の領域に電磁波パルスを照射するステップと、前記弾性振動波により前記所定の領域において変調を受けた前記電磁波パルスの波形を測定するステップと、を有し、
前記電磁波パルスの波形を測定するステップにおいて、前記電磁波パルスの波形を測定するタイミングを、前記弾性振動波を発するステップで弾性振動波を発する際の弾性振動波の位相角が所定の値を取る時とすることを特徴とする電磁波パルス測定方法。
【請求項１０】
請求項１から８のいずれか１項に記載の電磁波パルス測定装置と、前記電磁波パルス測定装置における前記試料の所定の領域の位置を走査する機構と、を備え、前記試料の所定の領域の位置を走査しながら前記電磁波パルスの波形を測定した結果をもとに、試料特性の内部断面像ないし立体像を表示することを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電磁波パルス及び音波などの弾性振動波を対象（試料）に照射し、得られた電磁波パルスを解析して対象についての情報を取得する電磁波パルス測定装置及び方法（典型的には、電磁波パルスの受信法として時間領域分光法を用いる）、それを用いたトモグラフィ装置等に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、周波数が30GHzから30THzの範囲に及ぶ電磁波、いわゆるテラヘルツ波を用いた様々な検査技術が開発されている。透過性を利用した非破壊検査や、生体分子がテラヘルツ帯に特徴的な吸収を持つことを利用した分光などは、その例である。検出したテラヘルツ波を解析してトモグラフィ像を得るイメージング装置も開発されている。
【０００３】
特許文献１に挙げた例では、超短パルスのレーザー光をポンプ光とし、テラヘルツ領域の周波数を持つ電磁波パルスを発生させた後にこれを試料へと照射する。試料において反射ないし透過した電磁波パルスは、前述のポンプ光と検出器及び光遅延系を用いた時間領域分光法（TDS法）により検出される。電磁波パルスの波形そのものを観測するTDS法では、電界の振幅と位相を同時に取得する。つまり、複素屈折率の実部と虚部の双方の情報を一度に得ることができるという特徴がある。
【０００４】
一方、扱い易い可視から赤外の光や、弾性振動波である音波（なかでも可聴域を超える周波数を持つ超音波）を用いた非破壊の検査手法については、従来、数多くの手法が開発され、使われてきた。生体中の組織のように、注目する部位とその周囲とのコントラストが低い場合には、光と超音波を組み合わせた手法も使われる。特許文献２及び３に挙げた例では、試料の検査したい部位にレーザー光と超音波を共に照射する。超音波は試料の密度や屈折率を変調するので、試料において透過ないし反射してきたレーザー光の強度や位相も影響を受ける。結果として生じたレーザー光の変動は照射部位の特性を反映していることから、光と超音波を照射する位置を変えながら測定を行うことにより、試料の特性の分布を求めることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特表2003-525447号公報
【特許文献２】特開2007-216001号公報
【特許文献３】特許第4603100号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら特許文献１の方法では、観測する試料の部位に違いがあっても屈折率の差が僅かな場合や傾斜状に緩やかに変化する場合に、信号のコントラストを十分に確保できないことがあり得る。加えて、反射系において深さ方向にこうした状況があると、電磁波パルスが戻って来ないために情報を得ることができないということもあり得る。
【０００７】
また、特許文献２や３の方法では、試料の屈折率の超音波照射にともなう変化を、連続光である照射光の位相の変化から取得する。屈折率と弾性コンプライアンスの少なくとも一方に違いがあれば良いため、光と超音波のいずれか一方のみを使用する場合と比較して、差異を検出できる可能性は高い。ただし、ここでは、各点の測定で得ているのは照射光の位相の変化、つまり屈折率の実部の情報に限られている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
そこで本発明の電磁波パルス測定装置は、試料の所定の領域に対して弾性振動波（以下、音波とも記す）を発する弾性振動波発生部と、音波が照射された前記所定の領域に電磁波パルスを照射する電磁波パルス発生部と、音波により前記所定の領域において変調を受けた電磁波パルスの波形を測定する電磁波パルス検出部と、を備え、電磁波パルス検出部が電磁波パルスの波形を測定するタイミングを、弾性振動波発生部が音波を発する際の音波の位相角が所定の値を取る時とするよう構成したことを特徴とする。また、本発明の電磁波パルス測定方法は、試料の所定の領域に対して弾性振動波を発するステップと、弾性振動波が照射された前記所定の領域に電磁波パルスを照射するステップと、弾性振動波により前記所定の領域において変調を受けた電磁波パルスの波形を測定するステップと、を有し、前記電磁波パルスの波形を測定するステップにおいて、電磁波パルスの波形を測定するタイミングを、前記弾性振動波を発するステップで弾性振動波を発する際の弾性振動波の位相角が所定の値を取る時とすることを特徴とする。
【０００９】
また、本発明の画像形成装置は、前記電磁波パルス測定装置と、前記電磁波パルス測定装置における前記試料の所定の領域の位置を走査する機構と、を備え、前記試料の所定の領域の位置を走査しながら電磁波パルスの波形を測定した結果をもとに、試料特性の内部断面像ないし立体像を表示することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、電磁波パルスと音波を共に照射し、試料の前記領域への音波照射の特定のタイミングにおいて変調された電磁波パルスの波形測定、すなわち時間領域分光を行う。これにより、電磁波のみで試料を測定した場合よりも信号のコントラストが上昇する。また、反射系において従来電磁波パルスが戻らなかった状況下でも、反射があり、試料の情報を得ることができる。加えて、電磁波パルスの波形を直接測定してその位相と振幅を得るため、試料の複素屈折率の実部と虚部の情報を同時に取得できる。よって、屈折率や吸収のいずれかの変化を検出する方式よりも、試料の部位間の識別が容易となる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の電磁波パルス測定装置ないし方法の基本的な構成を示すブロック図。
【図２】本発明において音波を試料に照射した様子を示す図。
【図３】本発明において音波照射前後での試料の特性を説明する図。
【図４】本発明における音波と電磁波パルスの照射タイミングを説明する図。
【図５】本発明における音波と電磁波パルスの検出タイミングを説明する図。
【図６】本発明の第１の実施例における基本的な構成を示すブロック図。
【図７】本発明の第１の実施例における構成の具体例を示す図。
【図８】本発明の第２の実施例における主要部の構成を示すブロック図。
【図９】本発明の第２の実施例における測定部位の様子を説明する図。
【図１０】本発明の第３の実施例における主要部の構成を示すブロック図。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本発明は、試料の所定の領域に対して音波と電磁波パルスを照射し、音波により前記所定の領域で変調を受けた電磁波パルスの波形を測定する際に、電磁波パルスの波形を測定するタイミングを、音波発振時の音波の位相角が所定の値を取る時とすることを特徴とする。こうすれば、電磁波パルスが試料の前記所定の領域において変調を受ける時は、或る一定の位相角の音波が該領域を照射している時とできて、該領域において変調を受けた電磁波パルスの波形測定を確実に遂行できる。この際に、例えば、電磁波パルスの発振態様は固定しておいて、音波発振時の音波の位相角を走査すれば、前記所定の領域での音波の位相角は変化させられる。したがって、例えば、音波により前記所定の領域で変調を受けた電磁波パルスを測定しながらその変化をモニターすることで、前記所定の領域での音波の位相角を所望のものに設定することができる。こうした考え方に基づいて、本発明の電磁波パルス測定装置及び方法は、上記課題を解決するための手段のところで述べた様な基本的な構成を有する。
【００１３】
以下、図面を用いて、本発明の特徴を説明した後で本発明の実施形態及び実施例を説明する。本発明の特徴を説明する。図１に、本発明の基本的な構成をブロック図で示した。音波発生部（弾性振動波発生部）１は、試料６の測定部位に向けて音波を発する。電磁波パルス発生部２は、ごく短期間だけ持続する電磁波のパルスを発生し、試料６の測定部位に向けて照射する。測定部位において試料と相互作用して変調させられた電磁波パルスは、その波形を変えて外部に出てくる。電磁波パルス検出部３は、測定部位の情報を含むこれらの電磁波パルスをとらえてその波形を測定する。こうして、パルス波形の振幅と位相の情報を共に取得する。つまり時間領域分光測定を行う点が、本発明の一つの特徴である。本発明において、試料から反射や透過により得られた電磁波パルスの波形を光スイッチや電気光学効果（ポッケルス効果）などを用いて時間領域分光測定を行うものの他に、試料照射時と照射後の電磁波パルスについて相関を取る、いわゆる自己相関THz分光測定などを行うとしても良い。
【００１４】
次に、図２に、音波照射前後での試料測定部位における密度変化の様子を示す。粗密波である音波を試料へと照射すると、各部の密度は音波進行方向に沿って周期的に変化する（図２（ａ）参照）。各点における位相は時間の経過とともに移り変わるため（図２（ｂ）参照）、単に音波を照射しながら時間領域分光測定を行うだけでは、意味のある測定値は得られない。そこで、照射する音波（音波発生部１から発する音波）が所定の位相角（例えば図２（ａ）において位相角θ＝θ0）をとる時に、試料へ照射されて電磁波パルス検出部３へ達した電磁波パルスを測定する。このように、同条件のもとで繰り返し測定を行えるよう、照射する音波の位相に合わせて電磁波パルスを測定するタイミングを設定する点が、本発明のもう一つの特徴である。
【００１５】
図３に、音波照射前後における試料測定部位の光学及び音響特性の分布の例を示した。試料の深さd0に組成の境界があり、屈折率ｎや音響インピーダンスZに不連続（段差）が生じている。ここで、音響インピーダンスZは試料中の音速vと密度ρの積vρで与えられる量である。電磁波パルスは光学特性の乱れに影響を受けるものの、音響特性と直接の関係はない。しかし、密度ρと屈折率nとの間には、下記のいわゆるローレンツ-ローレンスの式（Lorentz-Lorenz formula）が示すように関連がある。ここで、Mは分子量、αは分子あたりの分極率、NAはアボガドロ定数である。
(N2-1)/(n2+2)・M/ρ=(4π/3)・NA・α            （数式１）
【００１６】
右辺やMは試料に固有な量なので、音波照射に伴う試料の密度変化は屈折率を増減させることが分かる。その際の空間的な周期（波長）λは、音速vと周波数fの比で与えられる。このため、音波照射時の試料測定部位における屈折率は、音響特性の違いを反映した変調を受ける。その様子を図３（ｂ）に示した。深さd0の界面では、試料本来の屈折率差にこの変調の違いも含めた屈折率差の形で、電磁波パルスの波形が乱される。そのため、この電磁波パルスの検出時のコントラストが向上する。
【００１７】
一方、先に本発明の特徴として挙げた様に、音波が所定の位相角における電磁波パルスの測定を行うには、音波発生部１、電磁波パルス発生部２、電磁波パルス検出部３が連携して動作する必要がある。それには、例えば、所定の位相角の音波が試料測定部位にある時と電磁波パルスの照射タイミングが一致する場合にのみ、電磁波パルスを照射するよう構成する。図４に、両者を照射するタイミングの例を示した。図４（ａ）〜（ｃ）は照射時の電磁波パルス（列）、図４（ｄ）は試料測定部位における音波の波形であり、各々横軸は時間である。音波は図４（ｄ）に示すように周波数f_us（周期Tus）で試料に照射するものとした。
【００１８】
図４（ａ）に、ごく短い電磁波パルスを繰り返し周波数f_pls1で試料に照射している様子を示す（電磁波パルス１）。パルスの幅が狭いほど、測定の際に深さ方向の分解能が向上する。測定の精度を上げるためにも、電磁波パルスの半値全幅Wは繰り返し周期Tpの少なくとも1/10以下となるよう構成する。加えて、照射する超音波との関係から、電磁波パルスの半値全幅Wが音波の周期Tusの少なくとも1/10以下となるよう構成する。
【００１９】
ここで、電磁波パルス１の繰り返し周波数f_pls1を、音波の周波数f_usの自然数分の１に設定することにより、検出時の音波と電磁波パルスのタイミングを自然に一致させることができる。
m・fpls1=fus  （m：自然数）      （数式２）
特に、電磁波パルスの繰り返し周波数と音波の周波数f_usを等しくすれば（m=1）、音波１周期あたりの測定回数を最大にできるので効率が良く、検出する信号のS/N比向上も期待できる。その様子を図４（ｂ）に示した（電磁波パルス２）。同図において、電磁波パルス２の繰り返し周波数f_pls2は音波の周波数f_usに等しい。
【００２０】
また、電磁波パルスの繰り返し周波数が音波の周波数よりも十分に高い場合は、引き続く電磁波パルスの列を試料に照射し、同様な検出を行う様にしてもよい。その様子を図４（ｃ）に示した。ここで、電磁波パルス３の繰り返し周波数f_pls3は音波の周波数f_usより十分、具体的には10倍以上高いものとする。加えて、連続する電磁波パルスからなる電磁波パルス列の時間間隔（時間幅）τ1は、音波の周期Tusと比較して十分短いものとする。具体的には、音波の周期Tusの1/10以下の時間を確保する。その際、電磁波パルスの繰り返し周期Tpは音波の周期Tusの1/20以下であることが望ましい。試料測定部位を照射する音波の位相角θ=θ0であるときが試料を測定したいタイミングである場合、その時刻（例えばt0）の前後に、幅τ1の時間間隔に限って電磁波パルスを照射する。その結果、照射される電磁波パルス３は、繰り返し周波数f_pls3のパルスが時間τ1だけ続くパルス列を、周波数f_grpで繰り返すものとなる。図４（ｃ）では“列繰り返し周波数”f_grpを音波の周波数f_usに等しく取ったが、図４（ａ）の場合と同様、前者が後者の自然数分の１であっても構わない。
m・fgrp=fus  （m：自然数）      （数式３）
【００２１】
さらに、電磁波パルス検出部３が電磁波パルスの波形を検出するタイミングの方に制限を加えてもよい。図５にその状況を示した。図５（ａ）は試料に照射している電磁波パルス（繰り返し周波数f_pls4）、図５（ｂ）は電磁波パルス検出部３が波形を検出するタイミング（ゲート時間）を示すゲート信号（繰り返し周波数f_det）である。また、図５（ｃ）は検出後の信号（列繰り返し周波数f_det）、図５（ｄ）は音波の波形（周波数f_us）である。各々横軸は時間である。ここで、時刻t0における音波の位相角をθ0、Δt後の位相角をθ0＋Δθとし、所定の時間間隔（検出ゲート時間τ）τ2は音波の周期Tusと比較して十分短いものとする。例えば、音波の周期Tusの1/10以下の時間であるとする。試料測定部位の音波照射において、測定したいタイミングにおける位相角がθ=θ0＋Δθだとする。電磁波パルス検出部３は、試料測定部位で音波が位相角θ0＋Δθをとる時刻の前後に、幅τ2の時間間隔に限って電磁波パルスを検出する。その結果、得られる信号は、試料測定部位を経た電磁波パルス（繰り返し周波数f_pls4）が時間τ2だけ続くパルス列を、周波数f_detで繰り返したものを反映する。先の例と同様、列繰り返し周波数f_detは音波の周波数f_usの自然数分の１であっても構わない。
【００２２】
以上、電磁波パルスを照射するタイミングを制御する方法と、測定する電磁波パルスを選択するタイミングを制御する方法について説明した。当然ながら両者を組み合わせる構成も可能であり、この場合、どちらか片方のみを使う場合よりも感度良く信号を検出することが可能である。また、ここまで音波は連続的に照射するものとして説明したが、間欠的に照射する構成であってもよい。ただし、電磁波パルスを照射・検出するタイミングでの位相角が毎回同じになるよう、音波を発する必要がある。
【００２３】
以下、より具体的な実施例について図を用いて詳細に説明する。
（第１の実施例）
本発明の第１の実施例について図６を用いて詳細に説明する。本実施例では、試料６の表面からTHz帯の電磁波パルス（30GHzから30THzまでの範囲におけるいずれかの周波数を含む電磁波）を照射し、裏面から超音波を発する構成とした。超音波発生器７は、周期信号発生部１２からの信号をもとに、所定の周波数の超音波を試料６に向けて照射する。超音波発生器７には、例えば圧電素子を中心に構成し電気音響変換機能を持つ超音波トランスデューサを用いる。超音波発生器７と試料６は、密着しているか、或いは図中に簡易的に示したインピーダンスマッチング材料で隙間を満たされており、超音波が効率良く試料６に伝わるように全体が構成されている。
【００２４】
ここで、周期信号発生部１２には既存の高周波発振器を使用することができる。発振周波数は試料６に依って最適な値を選択すればよい。対象が生体であれば数MHz、例えば1MHzが好適に用いられる。また、発振周波数や出力の有無は制御部５から、発振の位相角は遅延信号発生部１３からの信号により、それぞれ制御されている。レーザー源８は超短パルス光を周期的に発生する光源である。例えば、フェムト秒オーダーの超短パルス光を約80MHzの繰り返し周波数で出力するモード同期Tiサファイアレーザーやファイバーレーザー等が好適に用いられる。超短パルス光はビームスプリッタ等で二分され、一方がTHz光送信器９に入射する。THz光送信器９は、例えば低温成長GaAsを使用した光伝導素子や非線形光学結晶を中心に構成され、ポンプ光である超短パルス光の入射にともないテラヘルツ帯の電磁波パルス（以下、テラヘルツパルスとも記す）を発生する。テラヘルツパルスの典型的な例は、帯域として7THz、パルス幅は300fsである。テラヘルツパルスの繰り返し周波数については後述する。
【００２５】
テラヘルツパルスは、一部を図示した専用の光学系により集光され、超音波照射により密度の変調を受けた試料測定部位に照射される。集光用の光学系には、軸外し放物面鏡等が好適に用いられる。測定部位を含む試料の各部で反射されたテラヘルツパルスは、また別の光学系により集められTHz光受信器１０へと入射する。THz光受信器１０は、例えば先の光伝導素子をもとに構成され、プローブ光が入射するタイミングに合わせて、入射したテラヘルツパルスの振幅を検出する。そのタイミングの詳細についても後述する。ここで、THz光受信器１０に入射するプローブ光は、先に二分したレーザー源８の出力の他方を光遅延系１１に通過させたものである。光遅延系１１は、通過する光の光路長を外部信号に応じて制御する機構であって、例えば既存の折り返し光学系と移動ステージの組み合わせにより構成することができる。
【００２６】
本実施例では、制御部５が光遅延系１１、周期信号発生部１２と遅延信号発生部１３を制御し、連携させつつ超音波とテラヘルツパルスの発生と照射及び検出を行う。つまり、まず周期信号発生部１２と遅延信号発生部１３からの信号を制御して、照射する超音波の周波数と検出時の位相角を定める。周期信号発生部１２からの信号はレーザー源８やTHz光送信器９に供給され、照射するテラヘルツパルスの繰り返し周波数を定める。また、検出した反射テラヘルツパルスのうち、周期信号発生部１２からの信号に同期する成分のみを信号抽出部４で抽出ないし検波する。これには、例えば市販のロックインアンプを用いればよい。出力としてテラヘルツパルスの振幅に比例する信号が得られるので、光遅延系１１により光路長を掃引することで、所望のテラヘルツパルスの波形が得られる。
【００２７】
次に、本発明の特徴である超音波とテラヘルツパルスの照射及び検出のタイミング制御について説明する。まず、テラヘルツパルスを照射する側の構成について述べる。ポンプ光やプローブ光に用いるレーザー源８の典型的な周波数は約80MHzであり、数10kHzから数MHzの範囲で使われる超音波の周波数と比較して、１桁から３桁高い。周波数1MHzの超音波を発するなら、その比は約80倍である。そこで、THz光送信器９に光チョッパーを組み込み、超音波（周波数f_us=1MHz）のタイミングに合わせてポンプ光パルスを抽出し、光伝導素子や非線形光学結晶に入射する。光チョッパーとしては、羽が回転するものや電気光学素子を応用したものを使用することができる。また、光伝導素子のように、テラヘルツパルス発生に際してバイアス電圧の印加が必要な場合は、バイアス電圧を変調してもよい。図４を例にとると、光チョッパーのチョッピング周波数や変調周波数を、繰り返し周波数f_pls1=250kHz（図４（ａ））やf_pls2=1MHz（図４（ｂ））、ないしf_grp=1MHz（図４（ｃ））に設定する。
【００２８】
レーザー源８として、出力光パルスの繰り返し周波数を外部から制御可能な光源を用いてもよい。そうした光源の構成は既知であり、市販もされている。この場合、光パルスの繰り返し周波数（80MHz）は、周期信号発生部１２からの信号の周波数、すなわち超音波の周波数（1MHz）の自然数倍ないし自然数分の１に同期するよう制御をかける。また、レーザー源８が十分安定であれば、光パルスの繰り返し周波数を制御部５が直接制御する構成としてもよい（この構成は不図示）。その際、光パルスの繰り返し周波数を分周し、周期信号発生部１２の出力信号をこれに同期させれば、全体の精度が高まる。
【００２９】
テラヘルツパルスを検出する側についても、同様な構成を使うことができる。例えば、THz光受信器１０に光チョッパーを組み込み、超音波の周波数f_usのタイミングに合ったプローブ光のみを抽出して、受信用の素子や結晶に入射する。つまり、図５を例に取るなら、チョッパーの窓（開口部）を、プローブ光が透過する時間領域に図５（ｂ）のゲート信号の“H（ＯＮ）”状態が対応するよう、構成する。また、THz光受信器１０に光伝導素子を用いているなら、バイアス電圧を変調する構成としてもよい。その場合、図５（ｂ）のゲート信号に対応するバイアス信号を光伝導素子に印加するよう構成する。
【００３０】
ついで、本実施例の具体的な構成について図７を用いて説明する。試料の特性分布を知るためには、超音波やテラヘルツパルスを照射する測定部位を変えながら逐次測定を行う必要がある。そこで、テラヘルツパルスを照射する軸に略垂直な方向（図７においてはＸ及びＹ方向）に、試料の測定部位を動かすことを可能な構成とした。試料ホルダ１４は、試料６を保持して試料ホルダ底部に固定する。測定の際、テラヘルツパルスは、不図示のTHz光送信器より上方から下方の試料６へと照射される。その反射光は集められて不図示のTHz光受信器により検出される。一方、試料台１５は床面に固定されており、内部には超音波発生器７を保持している。測定の際、超音波は、この超音波発生器７より試料ホルダ１４を介して試料６の裏面から照射される。試料ホルダ１４と試料６との間には、水などの適当なマッチング材料が充填されていることが望ましい。
【００３１】
また、ＸＹステージ１６は下部（図７ではＹステージ）が床に、上部（Ｘステージ）は試料ホルダ１４にそれぞれ固定されている。ここで、試料ホルダ１４は試料台１５の上に乗っているが固定はされていない。同様に、ＸＹステージ１６と試料台１５の底面は干渉しないよう構成されている。その結果、ＸＹステージ１６は、試料ホルダ１４ひいては試料６のＸ及びＹ方向の位置を、制御部５（図６参照）からの信号に従い掃引することが可能となっている。
【００３２】
測定の際には、試料６をＸ及びＹ方向に掃引しつつ、試料下方から超音波、上方からはテラヘルツパルスを照射し、試料６から反射したテラヘルツパルスを測定する。パルスの波形は各点における試料深さ方向（Ｚ方向）の情報を含んでおり、それらを集めて構成することにより、試料の３次元的な特性分布、いわゆるトモグラフィ像を得ることができる。本実施例ではさらに、超音波の位相角（図５におけるθ0＋Δθ）を変えながら測定することで、４次元目の情報を得ることも可能である。超音波の位相角を掃引することは、試料内部における密度、ひいては屈折率の“腹”や“節”の位置を上下に動かすことに相当する。つまり、テラヘルツパルスが反射される深さ位置を掃引することができる。超音波照射なしでは反射信号が得られない場合にも、試料内部の情報が得られるメリットがある。
【００３３】
以上の説明では光学系を固定し試料６を動かす構成としたが、光学系の方を動かす構成も可能である。その場合、試料ホルダ１４は床に固定し、測定に際して動かさない。また、超音波発生器７を含む試料台１５とテラヘルツパルス光学系は、ＸＹステージ１６に取り付けられる。本配置は、試料を動かすことが難しい場合に有効である。以上の様にして、本発明の電磁波パルス測定装置における試料の所定の領域の位置を走査する機構を備え、試料の所定の領域の位置を走査しながら電磁波パルスの波形を測定した結果をもとに、試料特性の内部断面像ないし立体像を表示する画像形成装置が実現される。
【００３４】
（第２の実施例）
本発明の第２の実施例について、図８を用いて説明する。大部分の構成と各部の動作は第１の実施例と同じであるので、差異のある試料近傍について詳しく述べる。本実施例は、超音波発生器７が超音波を試料６の測定部位に収束するように照射する構成としたことを特徴とする。
【００３５】
超音波発生器７は、例えば先端部に音響レンズを取り付けた複数の超音波トランスデューサを、焦点が試料測定部位に一致するよう射線を傾けて配置する。ここでは、試料６として生体を想定し、前腕の裏側（手のひら側）の皮膚近傍を測定する様子を示した。超音波発生器７は前腕の表側（手の甲側）ないし側面に押しあてて、テラヘルツパルス用光学系との干渉を避ける。その接触位置や超音波の照射方向は、測定したい部位に焦点が来るよう、前もって調整しておく。なお、図８は超音波発生器７を１つだけ使用する構成としたが、複数の超音波発生器７を使用する構成でもかまわない。ただし、各発生器における超音波の周波数と焦点位置は一致するように構成する。
【００３６】
図９に、図８における試料測定部位の近傍を示した。図９（ａ）は、前腕の一部にテラヘルツパルスと超音波を照射している様子を示している。図の範囲外に配置した２台の超音波発生器７から、上方の測定部位に向けて絞り込むように超音波を発する。図９（ｂ）は、その測定部位近傍の断面拡大図である。人間の皮膚は、表面から順に角層、表皮、真皮、と呼ばれる層構造を持つ。厚みはそれぞれ約２０μｍ、２００μｍ、２ｍｍ程度であり、身体の部位により大きく異なるほか、健康状態に左右される。たとえば、老化や紫外線は表皮厚減少の、刺激や細菌への感染は表皮厚増加の一因となる。また、炎症は、浮腫の発生や表皮・真皮間の凹凸（乳頭層）の不規則化など、各層の界面に影響を与えることがある。このため、皮膚各層の厚みや界面の状態を知ることは診断において重要であり、体内に浸透して生体を傷つけることなく皮下の情報を入手できるテラヘルツパルスでの計測は、その有効な手段である。
【００３７】
他方、皮膚の健康状態を知るのに、構造だけでなく組成の情報も重要なことは明らかで、この点でもテラヘルツパルスでの波形計測は有効である。たとえば、皮膚各層は水分を多く含んでおり、その分布や増減の情報は、診断に対して多くの示唆を与える。テラヘルツ帯の電磁波は水に良く吸収されるため、含水率の変化に対して感度が高い。そこで、炎症の有無や、腫瘍等の異常組織の検出（正常な皮膚組織と腫瘍等の異常組織間とでは含水率に差がある）に応用できる。また、生体内（in-vivo）測定のメリットを活かし、薬剤の特定波長の吸収スペクトルに着目することで、経皮薬の浸透度合いの時間的な変化を把握することも可能である。
【００３８】
以上は生体組織の光学特性にもとづいた診断手法であるが、本発明では加えて音響特性の差も検出に利用する。生体中の音速は、組織の弾性、つまり同種ないし異種細胞間の結合強度の差や、コラーゲン等の細胞外基質の状態を反映している。異なる層間だけでなく、同じ層内でも炎症が生じている部位や腫瘍及びその周囲は、正常な部位とは音響特性が違う。これは、細胞同士の結合強度や基質の状態に差があるからである。本発明では、超音波の照射によって音響特性の差を光学特性に反映させるので、テラヘルツパルスを用いただけの測定よりも、組織間の違いを敏感に検出できる。
【００３９】
さらに、本実施例の構成によれば、試料測定部位の近傍においてのみ超音波の強度が増すので、測定におけるコントラストがより上昇する。また、超音波を十分に集中すれば、照射前は得られなかった部位からも反射パルスが得られる。加えて、図９に示す様に超音波とテラヘルツパルスの照射方向の軸を外すことにより、試料の測定部位以外での超音波による密度変調を抑え、テラヘルツパルスの不要な散乱を低減する効果がある。また、比較的広いスペースを必要とするテラヘルツパルス照射のための光学系を避けて、超音波を試料に照射できることも、本実施例の有利な点である。
【００４０】
（第３の実施例）
本発明の第３の実施例について、図１０を用いて説明する。本実施例も大部分の構成と各部の動作は第１の実施例と同じであるので、差異のある試料近傍について詳しく述べる。本実施例は、超音波とテラヘルツパルスを同軸、同方向に照射するよう、超音波発生器７とTHz光送信器９を構成したことを特徴とする。テラヘルツパルスが試料表面より入射し、裏面に抜ける透過系とした。そのため、超音波発生器７には開口部を設け、その中をテラヘルツパルスが透過できるように構成している。試料４は、テラヘルツパルスが透過する材料で構成した試料ホルダの内部に密着させる状態で保持している。試料ホルダはまた、超音波発生器７とも接しており、インピーダンスマッチング材料としても機能している。
【００４１】
本実施例には、超音波とテラヘルツパルスの射線が同軸上のため、光学調整が容易という長所がある。また、テラヘルツパルスが透過し易い試料の測定においても、超音波照射によるコントラスト上昇の効果が得られる。
【符号の説明】
【００４２】
１…弾性振動波発生部、２…電磁波パルス発生部、３…電磁波パルス検出部、６…試料
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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