(57)【要約】【課題】構造物のパターン形状によらず、パターンを損壊させることなく構造物を形成することができる構造物形成装置、構造物製造方法及びこれらにより製造された構造物を提供すること。【解決手段】本技術に係る構造物形成装置は、回転体と、保持部材と、照射ユニットとを具備する。前記回転体は、パターニングされたマスクを配置可能に構成されている。前記照射ユニットは、前記マスクを介して前記回転体の回転の軸方向に沿う領域にエネルギー線を照射可能である。前記保持部材は、前記エネルギー線により硬化する材料を保持する保持領域を形成するように前記回転体に対向して配置されている。【選択図】図１
2013207060.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パターニングされたマスクを配置可能な回転体と、
前記マスクを介して前記回転体の回転の軸方向に沿う領域にエネルギー線を照射可能な照射ユニットと、
前記エネルギー線により硬化する材料を保持する保持領域を形成するように前記回転体に対向して配置された保持部材と
を具備する構造物形成装置。
【請求項２】
請求項１に記載の構造物形成装置であって、
前記回転体は、前記保持部材との間に前記保持領域を形成する曲面状の外周面を有する
構造物形成装置。
【請求項３】
請求項１に記載の構造物形成装置であって、
前記照射ユニットは、前記エネルギー線として光を出射する光源を有する
構造物形成装置。
【請求項４】
請求項３に記載の構造物形成装置であって、
前記照射ユニットは、前記光源から出射された前記光が通ることで、前記保持領域にライン状の照射領域を形成するスリットを有するスリット部材をさらに有する
構造物形成装置。
【請求項５】
請求項３に記載の構造物形成装置であって、
前記光源は、レーザ光を出射する光源であり、
前記照射ユニットは、前記出射されたレーザ光をライン状に拡げる光学系をさらに有する
構造物形成装置。
【請求項６】
請求項３に記載の構造物形成装置であって、
前記回転体は、前記光源が配置された中空部を有する筒体である
構造物形成装置。
【請求項７】
請求項１に記載の構造物形成装置であって、
前記回転体は、前記マスクが配置される外周面を有する
構造物形成装置。
【請求項８】
請求項１に記載の構造物形成装置であって、
前記保持部材の表面のうち、少なくとも前記保持領域を形成する領域は、平面である
構造物形成装置。
【請求項９】
請求項１に記載の構造物形成装置であって、
前記保持部材の表面のうち、少なくとも前記保持領域を形成する領域は、曲面である
構造物形成装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の構造物形成装置であって、
前記材料が硬化して形成される構造物を保持するフィルム状のベース材を走行させる走行機構をさらに具備し、
前記保持部材は、前記ベース材にテンションを加える
構造物形成装置。
【請求項１１】
請求項９に記載の構造物形成装置であって、
前記材料が硬化して形成される構造物を巻き取る巻取リールをさらに具備する
構造物形成装置。
【請求項１２】
請求項１に記載の構造物形成装置であって、
前記回転体と前記保持部材との距離に応じて、形成される構造物の厚さが決定される
構造物形成装置。
【請求項１３】
パターニングされたマスクを配置可能な回転体と、前記回転体に対向して配置された保持部材との間に、前記エネルギー線のエネルギーにより硬化する材料を保持し、
前記マスクを介して、前記保持された材料の、前記回転体の回転の軸方向に沿う領域にエネルギー線を照射する
構造物の製造方法。
【請求項１４】
パターニングされたマスクを配置可能な回転体と、前記回転体に対向して配置された保持部材との間に、前記エネルギー線のエネルギーにより硬化する材料を保持し、
前記マスクを介して、前記保持された材料の、前記回転体の回転の軸方向に沿う領域にエネルギー線を照射する
方法により製造された構造物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本技術は、シート状の構造物を形成する構造物形成装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１に記載のローラ型インプリント装置は、いわゆるナノインプリント技術を用いて、樹脂シートを形成する装置である。この装置は、樹脂シートにパターンを転写する転写ロールを備えている。転写ロールの外周面にはナノメートルサイズの転写パターンが形成されている。樹脂シートとしては、基材フィルム上に設けられた紫外線硬化性樹脂が用いられる。樹脂シートが転写ロールの表面を通る時、樹脂シートに紫外線が照射されることにより、転写ロールのパターンが樹脂シートに形成される（例えば、特許文献１の明細書段落[００８５]参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１１−１０２０３９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１に記載の装置では、その転写パターンの表面全体の形状が曲率を持つ転写ローラによりパターンが転写され、樹脂シートの転写ローラからの取り外し、つまり離型は、その転写ローラの回転とともに行われる。したがって、転写されるパターンのアスペクト比が高いほど、離型が困難になり、パターンの損壊を招くおそれがある。
【０００５】
したがって、本技術の目的は、構造物のパターン形状によらず、パターンを損壊させることなく構造物を形成することができる構造物形成装置、構造物製造方法及びこれらにより製造された構造物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するため、本技術に係る構造物形成装置は、回転体と、保持部材と、照射ユニットとを具備する。
前記回転体は、パターニングされたマスクを配置可能に構成されている。
前記照射ユニットは、前記マスクを介して前記回転体の回転の軸方向に沿う領域にエネルギー線を照射可能である。
前記保持部材は、前記エネルギー線により硬化する材料を保持する保持領域を形成するように前記回転体に対向して配置されている。
【０００７】
本技術では、３次元の型ではなく２次元状のマスクが用いられることにより、エネルギー線の照射により硬化した材料が、回転する回転体から剥がれやすくなる。つまり、３次元の型を用いる場合に起こるおそれがある、材料の硬化により形成されたパターンの損壊を防ぐことができる。
【０００８】
前記回転体は、前記保持部材との間に前記保持領域を形成する曲面状の外周面を有する。これにより、高解像度で微細な構造物を形成することができる。
【０００９】
前記照射ユニットは、前記エネルギー線として光を出射する光源を有してもよい。
【００１０】
前記照射ユニットは、前記光源から出射された前記光が通ることで、前記保持領域にライン状の照射領域を形成するスリットを有するスリット部材をさらに有してもよい。これにより、インコヒーレント光を出射する光源を用いてもライン状の光の照射領域を形成することができる。
【００１１】
前記光源は、レーザ光を出射する光源であり、前記照射ユニットは、前記出射されたレーザ光をライン状に拡げる光学系をさらに有してもよい。このようにレーザ光源を用いた場合でも、ライン状の照射領域にレーザ光を照射することができる。
【００１２】
前記回転体は、前記光源が配置された中空部を有する筒体であってもよい。回転体である筒体の内部である中空部に光源が配置されるので、構造物形成装置の小型化を実現できる。
【００１３】
前記回転体は、前記マスクが配置される外周面を有してもよい。これにより、マスクと、保持部材との距離が狭くなるため、パターンの転写の解像度を高めることができる。
【００１４】
前記保持部材の表面のうち、少なくとも前記保持領域を形成する領域は、平面であってもよいし、曲面であってもよい。
【００１５】
前記構造物形成装置は、前記材料が硬化して形成される構造物を保持するフィルム状のベース材を走行させる走行機構をさらに具備してもよい。その場合、前記保持部材は、前記ベース材にテンションを加える。これにより、ベース材上に構造物を形成することができる。
【００１６】
前記構造物形成装置は、前記材料が硬化して形成される構造物を巻き取る巻取リールをさらに具備してもよい。これにより、巻取リールにより構造物を巻き取ることができる。
【００１７】
前記回転体と前記保持部材との距離に応じて、形成される構造物の厚さが決定されてもよい。これにより、当該距離が調整されることにより構造物の厚さを設定できる。
【００１８】
本技術に係る構造物の製造方法は、パターニングされたマスクを配置可能な回転体と、前記回転体に対向して配置された保持部材との間に、前記エネルギー線のエネルギーにより硬化する材料を保持することを含む。
そして、前記マスクを介して、前記保持された材料の、前記回転体の回転の軸方向に沿う領域にエネルギー線を照射される。
【００１９】
本技術に係る構造物は、上記の製造方法により製造された構造物である。
【発明の効果】
【００２０】
以上、本技術によれば、その構造物のパターン形状によらず、パターンを損壊させることなく構造物を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】図１は、本技術の第１の実施形態に係る構造物形成装置を模式的に示す斜視図である。
【図２】図２は、図１に示した構造物形成装置の側面図である。
【図３】図３は、伸長されたマスクの例を示す平面図である。
【図４】図４は、図３に示したマスクに形成された構造物の例を示す平面図である。
【図５】図５は、回転ドラムの外周面と、照射領域の平面とのずれ量を説明する図である。
【図６】図６は、参考例として、インプリント技術で用いられる３次元型を表面に持つローラを示す斜視図である。
【図７】図７は、図６に示したローラの３次元型を用いて構造物が形成される様子を示す図である。
【図８】図８は、本実施形態に係る構造物の他の例を示す平面図である。
【図９】図９は、本技術の第２の実施形態に係る構造物形成装置を示す側面図である。
【図１０】図１０Ａ及びＢは、本技術の第３の実施形態に係る構造物形成装置の光照射ユニットの平面図及び側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、図面を参照しながら、本技術の実施形態を説明する。
【００２３】
[第１の実施形態]
【００２４】
（構造物形成装置の構成）
図１は、本技術の第１の実施形態に係る構造物形成装置を模式的に示す斜視図である。図２は、図１に示した構造物形成装置１００の側面図である。
【００２５】
構造物形成装置１００は、回転体としての回転ドラム１０と、回転ドラム１０に対向して配置された保持部材としてのステージ２０と、回転ドラム１０内に配置された光照射ユニット４０とを備える。
【００２６】
回転ドラム１０は、Ｙ軸方向に長さを有し、筒状、典型的には円筒状に形成され、曲面としての円筒面を持つ外周面１１を有する。その外周面１１には、複数のローラ１５がそれぞれ当接しており、これらのローラ１５により回転ドラム１０が保持されている。これにより、回転ドラム１０がＹ軸方向を回転の軸方向として回転可能となっている。
【００２７】
回転ドラム１０の材質として、ガラス、アクリル等、光を透過する材料が用いられる。
【００２８】
ステージ２０は、回転ドラム１０に対向する表面２１を有する。この表面２１は平面状に形成されている。ステージ２０には、このステージ２０を駆動する図示しない駆動機構が接続されている。駆動機構は、例えば水平方向、ここでは上記回転ドラム１０の回転の軸方向に直交する方向（Ｘ軸方向）に、ステージ２０を移動させることが可能な構成を備える。駆動機構としては、例えばボールネジ機構、ベルト機構、電磁作用によるリニアモータ等が用いられる。
【００２９】
図２に示すように、回転ドラム１０の外周面１１には、光の透過形状パターン（以下、透光パターンという。）を有するマスクＭが配置されている。つまり、マスクＭは、外周面１１の曲面形状に沿って配置されている。
【００３０】
マスクＭは、金属や樹脂等によって薄いフィルム状に形成され、回転ドラム１０の外周面１１に貼り付けられている。マスクＭは、典型的には外周面１１の全周（３６０°）にわたって設けられている。マスクＭ自体は、フォトリソグラフィ及びエッチング技術、あるいは、切削加工等により形成されればよい。
【００３１】
なお、マスクＭの透光パターンは、印刷等によって、回転ドラム１０の外周面１１に直接描かれていてもよい。
【００３２】
図３は、伸長されたマスクＭの例を示す平面図である。黒い部分が遮光部分であり、白い部分が透光部分である。つまり透光パターンがメッシュ状となっている。マスクＭの透光パターンは、これに限られず、任意の形状パターンでよい。
【００３３】
光照射ユニット４０は、エネルギー線としての光を出射する光源として、インコヒーレントな紫外線を発生するＵＶランプ４１を有する。ＵＶランプ４１は、回転ドラム１０内の中空部の実質的中心に配置され、Ｙ軸方向に沿って長い形状を有する。
【００３４】
また、光照射ユニット４０は、回転ドラム１０の中空部に配置されたスリット部材４２を有する。スリット部材４２は、回転ドラム１０には接続されておらず、回転しない部材である。スリット部材４２は、図示しない支持部材により支持されていればよい。
【００３５】
スリット部材４２は、ステージ２０と対向する位置に、Ｙ軸方向に沿って長く形成されたスリット４２ａを有する。典型的には、スリット４２ａは、回転ドラム１０の外周面１１と、ステージ２０の表面２１との距離が最も近くなる回転ドラム１０の外周面１１の領域に対応する位置（その外周面１１と同じ半径方向におけるスリット部材４２での位置）に形成されている。
【００３６】
スリット４２ａのＸ軸方向の幅は、０．１mm〜１mm程度であるが、この範囲に限られない。上記のように最も近くなる、回転ドラム１０の外周面１１とステージ２０の表面２１との距離ｔは、典型的には、０．００１mm〜１mm程度である。本実施形態の場合、回転ドラム１０の外周面１１とステージ２０の表面２１との距離が、液体の材料Ｒが硬化して形成された硬化物Ｒ’（構造物）の厚さになる。すなわち、当該距離が調整されることにより、形成される構造物の厚さを設定することができる。
【００３７】
スリット部材４２は、金属または樹脂により構成される。スリット部材４２の内周面は、ＵＶランプ４１から出射した光の反射率が高い材料により形成されている。その高反射率の内周面は、スリット部材４２の母材に高反射率のコーティングが施されることにより形成されてもよいし、その母材自体が高反射率の材料でなっていてもよい。このような構成により、スリット４２ａを通る光量を多くでき、光の利用効率を高めることができる。
【００３８】
ＵＶランプ４１は、実質的には時間連続的に光を照射する。「実質的に時間連続的」の意味は、回転ドラム１０の回転速度（ステージ２０の移動速度）よりも十分短い周期で、ＵＶランプ４１からの出射光量が変わる、という形態も含む趣旨である。回転ドラム１０の回転速度よりも十分短い周期とは、マスクＭの透光パターンを介して十分な光量を材料Ｒが受け、材料Ｒが所定の硬度が得られるような周期である。
【００３９】
光照射ユニット４０によって、回転ドラム１０及びステージ２０の間に保持された材料へ照射される光の照射可能範囲の最大は、スリット部材４２のスリット４２ａと同等またはそれよりわずかに大きいサイズとなる。つまり、それはＹ軸方向に沿うライン状の照射領域となる。
【００４０】
構造物形成装置１００は、図示しないが、液体の材料を供給可能な材料供給ユニットを備えている。材料供給ユニットは、図２に示すように、回転ドラム１０とステージ２０との間の領域（材料Ｒの保持領域Ｈ）に材料Ｒを供給する。回転ドラム１０及びステージ２０を構成する材質、形状、表面２１状態及び材料の種類等に応じて、表面張力によって、所定量の材料Ｒが回転ドラム１０及びステージ２０の間の領域に保持される。
【００４１】
液体の材料Ｒとしては、上記ＵＶランプ４１により発生される紫外線により硬化する樹脂材料、すなわち紫外線硬化性樹脂が用いられる。ＵＶランプ４１に代えて、可視光や赤外線を発生するランプが用いられてもよく、使用光に応じて樹脂材料も適宜選択され得る。
【００４２】
図示しない材料供給ユニットは、例えばスリット状または複数孔状のノズルを有し、そのスリットまたは複数孔から材料を吐出させる。
【００４３】
なお、材料供給ユニットは設けられていなくてもよく、例えば作業者が人手で材料を供給してもよい。
【００４４】
（構造物形成装置の動作）
構造物形成装置１００の動作を説明する。
【００４５】
図示しない材料供給ユニットから、回転ドラム１０及びステージ２０の間の領域に材料が供給される。材料供給ユニットからの材料の供給量または供給流量は、材料の種類、保持領域Ｈで保持できる材料量、硬化物の移動速度（回転ドラム１０及びステージ２０の移動速度等）により適宜設定される。
【００４６】
保持領域Ｈに材料Ｒが保持されると、ステージ２０が一定速度で移動し、また、ＵＶランプ４１から光が出射される。光は、スリット部材４２のスリット４２ａ、回転ドラム１０及びマスクＭの透光部を介して保持領域Ｈの材料Ｒに照射される。
【００４７】
材料Ｒに光が照射された部分は硬化する。その硬化物Ｒ’が、ステージ２０及び回転ドラム１０を一定の機械的強度で連結する機能を有する。これにより、ステージ２０の移動に伴って回転ドラム１０が連れ回る。ここで、後述するように、Ｘ軸方向の移動方向に向かうにしたがって回転ドラム１０の外周面１１とステージ２０の表面２１との距離が離れることにより、硬化物Ｒ’により連結機能は弱められる。これにより、硬化物が回転ドラム１０から付着したまま離れないという状態になることはない。
【００４８】
このように、ステージ２０及び回転ドラム１０が実質的に一定速度で移動することにより、微細かつ高精度なパターン形状を持つシート状の構造物を形成することができる。
【００４９】
以上のように、ステージ２０上に形成された構造物には、図示しない洗浄ユニット（洗浄ノズル）から水やアルコール等の洗浄液が供給される。これにより、構造物に付着した未硬化の材料Ｒが除去される。洗浄は、作業者により人手で行われてもよい。
【００５０】
例えば図３に示したようなマスクＭによれば、図４に示したようなメッシュ状の構造物が形成される。図４に示す黒い部分が、構造物（硬化物）であり、厚さ（高さ）ｔ（図２参照）を有するリブを形成している。
【００５１】
以上のように、本実施形態では、３次元の型ではなく２次元状のマスクＭが用いられることにより、光の照射による硬化物Ｒ’が、回転する回転ドラム１０から剥がれやすくなる。つまり、従来のインプリント技術において３次元の型を用いる場合に起こるおそれがある、材料の硬化により形成されたパターンの損壊を防ぐことができる。
【００５２】
すなわち、高アスペクト比を持つ構造物ほど、３次元型からの構造物の剥離が困難になるが、本実施形態によれば、そのような問題を解決することができる。
【００５３】
特に本実施形態では、１次元規制液面法による造形技術が用いられる。すなわち、１次元規制液面法による造形技術は、保持領域Ｈにある材料Ｒの液面のうち、回転ドラム１０によってＹ軸方向に沿ったライン状の液面に規制され、規制された領域の材料Ｒに光を照射する技術である。
【００５４】
材料Ｒの液面を規制する領域及び硬化可能領域がＹ軸に沿うライン状となり、かつ、Ｘ軸方向における移動方向に向かうにしたがって、ステージ２０の表面２１から回転ドラム１０の曲面状の外周面１１が離れていく。これにより、ステージ２０の移動が進むにしたがって、硬化物Ｒ’は容易に回転ドラム１０の外周面１１から剥離されていく。
【００５５】
なお、回転ドラム１０が連れ回りする時の、ステージ２０及び回転ドラム１０の連結力を高めるために、マスクＭのＸ軸方向の一端部または両端部において、Ｙ軸方向に連続的に形成された透光部が形成されていてもよい。この場合、その透光部に応じて連続的な材料の硬化部が形成され、硬化部と回転ドラム１０の外周面１１との接触面積が大きくなるので、当該連結力が高められる。
【００５６】
あるいは、構造物形成装置１００は、ステージ２０の移動と同期して回転ドラム１０を回転させる駆動ユニットをさらに備えていてもよい。
【００５７】
本実施形態では、回転ドラム１０内の中空部にＵＶランプ４１が配置されているため、構造物形成装置１００の小型化を実現できる。
【００５８】
本実施形態では、マスクＭが回転ドラム１０の外周面１１に配置されている。これにより、マスクＭとステージ２０の表面２１との距離ｔを極力狭くすることができるため、パターンの転写の解像度を高めることができる。
【００５９】
上記実施形態では、ＵＶランプ４１の時間ごとの出射光量は実質的に一定とされた。しかし、図３に示すように、マスクＭの透光パターンの形状が単調である場合、光照射ユニット４０の出射光は、次のように制御されてもよい。すなわち、その制御部は、透光部がスリット４２ａと対面するタイミングで光の出射をONしたり（ON/OFFの場合）、あるいは、そのタイミングで光量が大きくなるように出射光量を可変に制御したりすることもできる。
【００６０】
図５は、回転ドラム１０の外周面１１と、光の照射領域の平面とのずれ量を説明する図である。
【００６１】
回転半径をr、保持領域ＨにおけるＹ軸方向で見た光の幅をwとする。図５では、説明を分かりやすくするため、光の幅のサイズを大きく描かれている。保持領域Ｈにおいて光が当たっている部分の平面Ｇ（幅wを有する）からのＺ軸方向でのずれ量（その平面Ｇから外周面１１までのＺ軸方向の距離）をdとする。
【００６２】
θの角度が微小である場合、つまり、rsinθ=rθである場合、微小な近似三角形Ｆに着目すると、次の２つの式が成立する。
【００６３】
rθ=w/2
w/2=d/ sinθ、つまりw/2=d/θ
【００６４】
これらの式から、d=w2/(4r)が導出される。例えば、r=１００mm、w=１mmの時は、d=０．００２５mmとなる。したがって、ずれ量dはごく微小値となる。つまり、回転ドラム１０の外周面１１に光が入射する曲面は実質的に平面とみなすことができ、その外周面１１における入射幅は、実質的に保持領域における幅wとなる。
【００６５】
図６は、参考例として、インプリント技術で用いられる３次元型を表面２１に持つローラを示す斜視図である。このローラ１１０の外周面１１５には３次元の型が設けられている。例えば上記特許文献１のインプリント技術は、このようなローラ１１０を用いて、図７に示すように、その外周面１１５と被転写シート１２０との間に紫外線硬化性樹脂を供給して、これに紫外線を照射する。この場合、光の照射領域は、本技術のようにライン状ではなく、面状である。このことは、特許文献１の図４等を参照するとよく理解できる。
【００６６】
従来のようなインプリント技術では、このように３次元型が用いられることにより、上述のように離型が容易ではない。構造物のアスペクト比が高いほど、その困難性が顕著に現れる。これに対して、上記実施形態に係る構造物形成装置１００によれば、こういった問題を解決することができる。
【００６７】
図８は、構造物の他の例を示す平面図である。これは、自己相似形（フラクタル形状）のハニカム形状を有する構造物である。そのほか、本実施形態に係る構造物形成装置１００によれば、電気配線やマイクロ流路等、任意のパターンを有する構造物も形成され得る。
【００６８】
[第２の実施形態]
【００６９】
図９は、本技術の第２の実施形態に係る構造物形成装置を示す側面図である。これ以降の説明では、図１等に示した実施形態に係る構造物形成装置１００が含む部材や機能等について同様のものは説明を簡略化または省略し、異なる点を中心に説明する。
【００７０】
構造物形成装置２００は、上記のように平面状の表面２１を持つステージ２０の代わりに、曲面の表面を持つ保持部材としての保持ローラ６０を備える。すなわち、保持ローラ６０の曲面状の表面である外周面６１と、回転ドラム１０の曲面状の外周面６１との間に、材料Ｒを保持する保持領域Ｈが形成される。
【００７１】
また、本実施形態に係る保持ローラ６０は、その外周面１１にベースフィルム（ベース材）２５を接触させるようにしてテンションを加え、そのベースフィルム２５を介して材料Ｒを保持する。ベースフィルム２５は、少なくとも図示しない供給リール及び巻取リールの間で、バックテンションも加えられながら、回転ドラム１０及び保持ローラ６０と同期して走行する。この場合、供給リール及び巻取リールは、走行機構として機能する。
【００７２】
このように構成された構造物形成装置１００では、硬化した硬化物Ｒ’である構造物がベースフィルム２５上に形成されていく。巻取リールは、この構造物が形成されたベースフィルム２５を巻き取ることができ、構造物の生産性を高めることができる。
【００７３】
[第３の実施形態]
【００７４】
図１０Ａ及びＢは、本技術の第３の実施形態に係る構造物形成装置の光照射ユニットの平面図及び側面図である。
【００７５】
この光照射ユニットは、光源としてレーザ光を出射するレーザダイオード４３と、レーザ光をライン状に拡げる光学系４５を備えている。この光学系４５は、例えば２つのシリンドリカルレンズ４５１及び４５２を含む。レーザダイオード４３とこの光学系４５との間には、コリメータレンズ４６が設けられている。
【００７６】
このような光照射ユニットによれば、Ｙ軸方向に沿うライン状の光を形成することができる。つまり、上記のようなスリット部材４２がなくても、保持領域Ｈにライン状の光の照射領域を形成することができる。
【００７７】
また、このような光照射ユニットも、回転ドラム１０内に配置させることが可能なサイズを有するので、構造物形成装置の小型化を実現できる。
【００７８】
[その他の実施形態]
【００７９】
本技術は、以上説明した実施形態に限定されず、他の種々の実施形態を実現することができる。
【００８０】
上記実施形態では、マスクＭは回転ドラム１０の外周面１１に設けられていたが、回転ドラム１０の内周面に配置されていてもよい。
【００８１】
上記実施形態では、マスクＭは回転ドラム１０の外周面１１に３６０°にわたって設けられていたが、外周面１１の一部に設けられていてもよい。その範囲は、例えば３０〜２７０°等であるが、この範囲に限られない。
【００８２】
あるいは、マスクＭに限られず、スリット部材４２も３６０°で設けられる必要はなく、その一部でもよい。
【００８３】
上記各実施形態では、回転体として、曲面状の外周面１１を有する円筒形状の回転ドラム１０が用いられた。しかし、回転体は、円筒形状に限られず、その外面のうち一部のみ（少なくとも、材料を保持する保持領域Ｈに対応する部分のみ）が曲面状に形成されてもよい。例えば回転体は、半円筒、１／４円筒、楕円筒、及び、これらと多角筒との組み合わせた形状等でもよい。このことは、第２の実施形態に係る曲面状の表面を有する保持ローラ６０についても同様である。
あるいは、回転体の外周面に曲面が形成されていなくてもよい。例えば、回転体は、５角形や６角形など、３角形以上の筒体であって、複数の平面を含む外周面を有していてもよい。
【００８４】
上記第２の実施形態では、ベースフィルム２５がなくてもよい。つまり、保持領域Ｈで形成された構造物自体に、保持ローラ６０によって適度なテンションが加えられてもよい。また、そのように形成された構造物が図示しない巻取リールにより巻き取られてもよい。
【００８５】
上記第３の実施形態に係る光照射ユニットは、レーザ光のＹ軸方向の幅を広げる光学系４５を備えていた。しかし、光照射ユニットは、レーザ光源から出射されたレーザ光をＹ軸方向に沿ってスキャンさせるスキャナを有していてもよい。この場合スキャンの往復の周波数が、ステージ２０及び回転ドラム１０の動きより十分速ければよい。スキャナとしては、ポリゴンスキャナ、ガルバノスキャナ等を用いることができる。
【００８６】
上記各実施形態では、光照射ユニットが回転ドラム内に配置される構成を示したが、光照射ユニットの一部または全部が回転ドラムの外に配置されてもよい。
【００８７】
上記実施形態では、材料を硬化するエネルギー線として紫外線が用いられた。しかし、エネルギー線は、上述のように紫外線以外の光の他、電子線、熱、超音波等でもよい。
【００８８】
以上説明した各形態の特徴部分のうち、少なくとも２つの特徴部分を組み合わせることも可能である。
【００８９】
本技術は以下のような構成もとることができる。
（１）パターニングされたマスクを配置可能な回転体と、
前記マスクを介して前記回転体の回転の軸方向に沿う領域にエネルギー線を照射可能な照射ユニットと、
前記エネルギー線により硬化する材料を保持する保持領域を形成するように前記回転体に対向して配置された保持部材と
を具備する構造物形成装置。
（２）（１）に記載の構造物形成装置であって、
前記回転体は、前記保持部材との間に前記保持領域を形成する曲面状の外周面を有する
構造物形成装置。
（３）（１）または（２）に記載の構造物形成装置であって、
前記照射ユニットは、前記エネルギー線として光を出射する光源を有する
構造物形成装置。
（４）（３）に記載の構造物形成装置であって、
前記照射ユニットは、前記光源から出射された前記光が通ることで、前記保持領域にライン状の照射領域を形成するスリットを有するスリット部材をさらに有する
構造物形成装置。
（５）（３）に記載の構造物形成装置であって、
前記光源は、レーザ光を出射する光源であり、
前記照射ユニットは、前記出射されたレーザ光をライン状に拡げる光学系をさらに有する
構造物形成装置。
（６）（３）から（５）のうちいずれか１つに記載の構造物形成装置であって、
前記回転体は、前記光源が配置された中空部を有する筒体である
構造物形成装置。
（７）（１）から（６）のうちいずれか１つに記載の構造物形成装置であって、
前記回転体は、前記マスクが配置される外周面を有する
構造物形成装置。
（８）（１）から（６）のうちいずれか１つに記載の構造物形成装置であって、
前記保持部材の表面のうち、少なくとも前記保持領域を形成する領域は、平面である
構造物形成装置。
（９）（１）から（６）のうちいずれか１つに記載の構造物形成装置であって、
前記保持部材の表面のうち、少なくとも前記保持領域を形成する領域は、曲面である
構造物形成装置。
（１０）（９）に記載の構造物形成装置であって、
前記材料が硬化して形成される構造物を保持するフィルム状のベース材を走行させる走行機構をさらに具備し、
前記保持部材は、前記ベース材にテンションを加える
構造物形成装置。
（１１）（９）または（１０）に記載の構造物形成装置であって、
前記材料が硬化して形成される構造物を巻き取る巻取リールをさらに具備する
構造物形成装置。
（１２）（１）から（１１）のうちいずれか１つに記載の構造物形成装置であって、
前記回転体と前記保持部材との距離に応じて、形成される構造物の厚さが決定される
構造物形成装置。
（１３）パターニングされたマスクを配置可能な回転体と、前記回転体に対向して配置された保持部材との間に、前記エネルギー線のエネルギーにより硬化する材料を保持し、
前記マスクを介して、前記保持された材料の、前記回転体の回転の軸方向に沿う領域にエネルギー線を照射する
構造物の製造方法。
（１４）  パターニングされたマスクを配置可能な回転体と、前記回転体に対向して配置された保持部材との間に、前記エネルギー線のエネルギーにより硬化する材料を保持し、
前記マスクを介して、前記保持された材料の、前記回転体の回転の軸方向に沿う領域にエネルギー線を照射する
方法により製造された構造物。
【符号の説明】
【００９０】
１０…回転ドラム
１１…外周面
２０…ステージ
２１…表面
２５…ベースフィルム
４０…光照射ユニット
４１…ＵＶランプ
４２…スリット部材
４２ａ…スリット
４３…レーザダイオード
４５…光学系
６０…保持ローラ
６１…外周面
１００、２００…構造物形成装置
【図１】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図８】
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【図１０】
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【図２】
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【図６】
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【図７】
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【図９】
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