(57)【要約】【課題】（Ａ）光透過性支持層；及び（Ｂ）酸化インジウムスズを含有する厚さ１００ｎｍ以上の光透過性導電層を含有する光透過性導電性フィルムに、好ましい表面抵抗値を容易に付与する。【解決手段】前記光透過性導電層（Ｂ）のＸ線回折におけるピークが以下の要件（ｉ）〜（ｉｉｉ）を充足することを特徴とする、光透過性導電性フィルム：（ｉ）（２２２）面のピークが最も強く；（ｉｉ）（２２２）面のピークの半値幅が０．５以下であり；かつ（ｉｉｉ）（３３２）面及び（１３４）面のピーク強度がいずれも（２２２）面のピーク強度の３％以上である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）光透過性支持層；及び
（Ｂ）酸化インジウムスズを含有する光透過性導電層
を含有する光透過性導電性フィルムであって、
前記光透過性導電層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、
前記光透過性導電層（Ｂ）の厚さが、１００ｎｍ以上であり、かつ
前記光透過性導電層（Ｂ）のＸ線回折におけるピークが以下の要件（ｉ）〜（ｉｉｉ）を充足することを特徴とする、光透過性導電性フィルム：
（ｉ）（２２２）面のピークが最も強く；
（ｉｉ）（２２２）面のピークの半値幅が０．５以下であり；かつ
（ｉｉｉ）（３３２）面及び（１３４）面のピーク強度がいずれも（２２２）面のピーク強度の３％以上である。
【請求項２】
表面抵抗が、６０Ω／□以下である、請求項１に記載の光透過性導電性フィルム。
【請求項３】
前記光透過性導電層（Ｂ）が、
（１）前記光透過性導電層（Ｂ）が隣接する、９０℃以上に保持した層の上に、イオンプレーティング法により酸化インジウムスズを含有する層を形成する工程
を含有する方法により得られうる、請求項１又は２に記載の光透過性導電性フィルム。
【請求項４】
前記光透過性導電層（Ｂ）が、さらに
（２）工程（１）で得られた酸化インジウムスズを含有する層を９０℃以上に保持する工程
を含有する方法により得られうる、請求項３に記載の光透過性導電性フィルム。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の光透過性導電性フィルムを含有する、太陽電池、ディスプレイ、照明、電子ペーパー、トランジスタ、プリンタブル回路、又は透明面状発熱体。
【請求項６】
（Ａ）光透過性支持層；及び
（Ｂ）酸化インジウムスズを含有する光透過性導電層
を含有する光透過性導電性フィルムであって、
前記光透過性導電層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、
前記光透過性導電層（Ｂ）の厚さが、１００ｎｍ以上であり、かつ
前記光透過性導電層（Ｂ）のＸ線回折におけるピークが以下の要件（ｉ）〜（ｉｉｉ）を充足することを特徴とする、光透過性導電性フィルムを製造する方法であって、
前記光透過性導電層（Ｂ）が隣接する、９０℃以上に保持した層の上に、イオンプレーティング法により酸化インジウムスズを含有する層を形成する工程
を含有する方法：
（ｉ）（２２２）面のピークが最も強く；
（ｉｉ）（２２２）面のピークの半値幅が０．５以下であり；かつ
（ｉｉｉ）（３３２）面及び（１３４）面のピーク強度がいずれも（２２２）面のピーク強度の３％以上である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光透過性導電性フィルム、その製造方法及びその用途に関する。
【背景技術】
【０００２】
プラスチック等からなる光透過性支持層の少なくとも一方の面に、直接又は他の層を介して酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）からなる光透過性導電層を配置した光透過性導電性フィルムが数多く用いられている。これらの用途としては、光エネルギーを電気エネルギーに変換する太陽電池や、それとは反対に、電気エネルギーを光エネルギーに変換するディスプレイ（有機ＥＬ等を含む）、照明や電子ペーパー（又は電子インク）等が挙げられる他、さらにトランジスタやプリンタブル回路等も挙げられる。
【０００３】
上に挙げたような用途に用いられる光透過性導電性フィルムとしては、高い表面抵抗値は出力を押し下げる原因となるため、一般に表面抵抗値（シート抵抗）が比較的低いものが望ましいとされる。このため、光透過性導電層の厚さは比較的厚く、概ね１００ｎｍ以上である（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−２６９３３８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ＩＴＯ含有光透過性導電層を含有する従来の光透過性導電性フィルムにおいては、単にＩＴＯ含有光透過性導電層の厚さを１００ｎｍ以上とするだけでは十分に低い表面抵抗値を達成できなかった。本発明は、厚さ１００ｎｍ以上のＩＴＯ含有光透過性導電層を含有する光透過性導電性フィルムに、太陽電池等の用途に適した表面抵抗値を付与することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、上記課題を解決するべく鋭意検討を重ね、Ｘ線回折において、（２２２）面のピークが最も強く、（２２２）面のピークの半値幅が０．５以下であり、かつ（３３２）面及び（１３４）面のピーク強度がいずれも（２２２）面のピーク強度の３％以上となるように前記光透過性導電層を形成することによって、上記課題を解決できることを新たに見出した。本発明は、この新たな知見に基づいてさらに種々の検討を重ねることにより完成されたものであり、次に掲げるものである。
項１
（Ａ）光透過性支持層；及び
（Ｂ）酸化インジウムスズを含有する光透過性導電層
を含有する光透過性導電性フィルムであって、
前記光透過性導電層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、
前記光透過性導電層（Ｂ）の厚さが、１００ｎｍ以上であり、かつ
前記光透過性導電層（Ｂ）のＸ線回折におけるピークが以下の要件（ｉ）〜（ｉｉｉ）を充足することを特徴とする、光透過性導電性フィルム：
（ｉ）（２２２）面のピークが最も強く、；
（ｉｉ）（２２２）面のピークの半値幅が０．５以下であり；かつ
（ｉｉｉ）（３３２）面及び（１３４）面のピーク強度がいずれも（２２２）面のピーク強度の３％以上である。
項２
表面抵抗が、６０Ω／□以下である、項１に記載の光透過性導電性フィルム。
項３
前記光透過性導電層（Ｂ）が、
（１）前記光透過性導電層（Ｂ）が隣接する、９０℃以上に保持した層の上に、イオンプレーティング法により酸化インジウムスズを含有する層を形成する工程
を含有する方法により得られうる、項１又は２に記載の光透過性導電性フィルム。
項４
前記光透過性導電層（Ｂ）が、さらに
（２）工程（１）で得られた酸化インジウムスズを含有する層を９０℃以上に保持する工程
を含有する方法により得られうる、項３に記載の光透過性導電性フィルム。
項５
項１〜４のいずれかに記載の光透過性導電性フィルムを含有する、太陽電池、ディスプレイ、照明、電子ペーパー、トランジスタ、プリンタブル回路、又は透明面状発熱体。
項６
（Ａ）光透過性支持層；及び
（Ｂ）酸化インジウムスズを含有する光透過性導電層
を含有する光透過性導電性フィルムであって、
前記光透過性導電層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、
前記光透過性導電層（Ｂ）の厚さが、１００ｎｍ以上であり、かつ
前記光透過性導電層（Ｂ）のＸ線回折におけるピークが以下の要件（ｉ）〜（ｉｉｉ）を充足することを特徴とする、光透過性導電性フィルムを製造する方法であって、
前記光透過性導電層（Ｂ）が隣接する、９０℃以上に保持した層の上に、イオンプレーティング法により酸化インジウムスズを含有する層を形成する工程
を含有する方法：
（ｉ）（２２２）面のピークが最も強く；
（ｉｉ）（２２２）面のピークの半値幅が０．５以下であり；かつ
（ｉｉｉ）（３３２）面及び（１３４）面のピーク強度がいずれも（２２２）面のピーク強度の３％以上である。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、好ましい表面抵抗値を有する光透過性導電性フィルムを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】光透過性支持層（Ａ）の片面に光透過性導電層（Ｂ）が配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。
【図２】光透過性支持層（Ａ）の両面に光透過性導電層（Ｂ）が配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。
【図３】光透過性支持層（Ａ）の片面に光透過性導電層（Ｂ）及びアンダーコート層（Ｃ）が配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。
【図４】光透過性支持層（Ａ）の両面に光透過性導電層（Ｂ）及びアンダーコート層（Ｃ）がそれぞれ配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。
【図５】光透過性支持層（Ａ）の片面に光透過性導電層（Ｂ）、アンダーコート層（Ｃ）及びハードコート層（Ｄ）が配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。
【図６】光透過性支持層（Ａ）の両面に光透過性導電層（Ｂ）、アンダーコート層（Ｃ）及びハードコート層（Ｄ）がそれぞれ配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。
【図７】本発明の光透過性導電性フィルムを用いた色素増感型太陽電池を示す断面図である。
【図８】本発明の光透過性導電性フィルムを用いた有機ＥＬ素子を示す断面図である。
【図９】実施例１のＸ線回折の測定結果である。
【図１０】実施例２のＸ線回折の測定結果である。
【図１１】比較例１のＸ線回折の測定結果である。
【図１２】比較例２のＸ線回折の測定結果である。
【図１３】比較例３のＸ線回折の測定結果である。
【符号の説明】
【０００９】
１        光透過性導電性フィルム
１１      光透過性支持層（Ａ）
１２      光透過性導電層（Ｂ）
１３      アンダーコート層（Ｃ）
１４      ハードコート層（Ｄ）
２１      半導体粒子
２２      色素
２３      電解液層
２４      対向電極層
３１      有機ＥＬ層
３２      陰極電極層
【発明を実施するための形態】
【００１０】
１．  光透過性導電性フィルム
本発明の光透過性導電性フィルムは、
（Ａ）光透過性支持層；及び
（Ｂ）酸化インジウムスズを含有する光透過性導電層
を含有する光透過性導電性フィルムであって、
前記光透過性導電層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、
前記光透過性導電層（Ｂ）の厚さが、１００ｎｍ以上であり、かつ
前記光透過性導電層（Ｂ）のＸ線回折におけるピークが以下の要件（ｉ）〜（ｉｉｉ）を充足することを特徴とする、光透過性導電性フィルム：
（ｉ）（２２２）面のピークが最も強く；
（ｉｉ）（２２２）面のピークの半値幅が０．５以下であり；かつ
（ｉｉｉ）（３３２）面及び（１３４）面のピーク強度がいずれも（２２２）面のピーク強度の３％以上である。
【００１１】
本発明において「光透過性」とは、光を透過させる性質を有する（ｔｒａｎｓｌｕｃｅｎｔ）ことを意味する。「光透過性」には、透明（ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔ）が含まれる。「光透過性」とは、例えば、全光線透過率が８０％以上、好ましくは８５％以上、より好ましくは８７％以上である性質をいう。本発明において全光線透過率は、ヘーズメーター（日本電色社製、商品名：ＮＤＨ−２０００、またはその同等品）を用いてＪＩＳ−Ｋ−７１０５に基づいて測定する。
【００１２】
本明細書において、光透過性支持層（Ａ）の一方の面に配置される複数の層のうち二つの層の相対的な位置関係について言及する場合、光透過性支持層（Ａ）を基準にして、光透過性支持層（Ａ）からの距離が大きい一方の層を「上層」又は「上方に位置する」等といい、光透過性支持層（Ａ）からの距離が小さい他方の層を「下層」又は「下方に位置する」等ということがある。
【００１３】
図１に、本発明の光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層（Ａ）の一方の面に直接、光透過性導電層（Ｂ）が配置されている。このような光透過性導電性フィルムのことを、「光透過性片面導電性フィルム」ということがある。
【００１４】
図２に、本発明の光透過性導電性フィルムの別の態様を示す。この態様では、光透過性支持層（Ａ）の両方の面に直接、光透過性導電層（Ｂ）が配置されている。このような光透過性導電性フィルムのことを、「光透過性両面導電性フィルム」ということがある。
【００１５】
１．１  光透過性支持層（Ａ）
本発明において光透過性支持層とは、光透過性導電層を含有する光透過性導電性フィルムにおいて、光透過性導電層を含有する層を支持する役割を果たすものをいう。光透過性支持層（Ａ）としては、特に限定されないが、例えば、太陽電池、ディスプレイ、照明、電子ペーパー（電子インク）、トランジスタ、プリンタブル回路、又は透明面状発熱体の用途に使用される光透過性導電性フィルムにおいて、光透過性支持層として通常用いられるものを用いることができる。
【００１６】
光透過性支持層（Ａ）の素材は、特に限定されないが、例えば、各種の有機高分子等を挙げることができる。有機高分子としては、特に限定されないが、例えば、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリメタクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、及びポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられる。ポリエステル系樹脂としては、特に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、及びポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等が挙げられる。光透過性支持層（Ａ）の素材は、ポリエステル系樹脂が好ましく、特にＰＥＴが好ましい。光透過性支持層（Ａ）は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。
【００１７】
光透過性支持層（Ａ）の厚さは、特に限定されないが、例えば、２〜３００μｍの範囲が挙げられる。
【００１８】
１．２  光透過性導電層（Ｂ）
光透過性導電層（Ｂ）は、光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されている。
【００１９】
本発明において光透過性導電層とは、電気を導通しかつ可視光を透過する役割を果たすものをいう。光透過性導電層（Ｂ）としては、特に限定されないが、例えば、太陽電池、ディスプレイ、照明、電子ペーパー（電子インク）、トランジスタ、プリンタブル回路、又は透明面状発熱体の用途に使用される光透過性導電性フィルムにおいて光透過性導電層として通常用いられるものを用いることができる。
【００２０】
光透過性導電層（Ｂ）は、スズをドープした酸化インジウム（ｉｎｄｉｕｍ  ｔｉｎ  ｏｘｉｄｅ（ＩＴＯ）；酸化インジウムスズ）を含有し、さらに他の成分を含有していてもよい。他の成分としては、特に限定されないが、例えば、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化ゲルマニウム、酸化亜鉛、及び酸化チタン等が挙げられる。光透過性導電層（Ｂ）は、酸化インジウムスズに加えて、これらのうちいずれか単独をさらに含有していてもよいし、複数種を含有していてもよい。
【００２１】
光透過性導電層（Ｂ）は、酸化インジウム（ＩＩＩ）（Ｉｎ２Ｏ３）と酸化スズ（ＩＶ）（ＳｎＯ２）を用いて得られた無機化合物である酸化インジウムスズが好ましい。この場合、ＳｎＯ２の添加量としては、特に限定されないが、例えば、１〜１５重量％、好ましくは２〜１０重量％、より好ましくは３〜８重量％等が挙げられる。
【００２２】
光透過性導電層（Ｂ）の厚さは、１００ｎｍ以上であり、好ましくは１００〜５００ｎｍ、より好ましくは１００〜３００ｎｍ、さらに好ましくは１００〜２００ｎｍである。
【００２３】
本発明において、光透過性導電層（Ｂ）の厚さは、蛍光Ｘ線分析装置（株式会社リガク製、商品面：ＲＩＸ１０００又はその同等品）を用いて測定する。
【００２４】
光透過性導電層（Ｂ）のＸ線回折において、（２２２）面のピークが最も強い。
【００２５】
光透過性導電層（Ｂ）のＸ線回折における（２２２）面のピークの半値幅は０．５以下であり、好ましくは０．４以下である。
前記光透過性導電層（Ｂ）のＸ線回折における（３３２）面及び（１３４）面のピーク強度はいずれも（２２２）面のピーク強度の３％以上であり、好ましくは４％以上である。
【００２６】
本発明において、Ｘ線回折法は、次の条件で行う。Ｘ線回折装置はＲｉｇａｋｕ製  薄膜評価用試料水平型Ｘ線回折装置ＳｍａｒｔＬａｂ、又はその同等品を用いて薄膜法にて測定する。平行ビーム光学配置を用い、光源にはＣｕＫα線（波長：１．５４１８６Å）を４０ｋＶ、３０ｍＡのパワーで用いる。入射側スリット系はソーラスリット５．０°、高さ制御スリット１０ｍｍ、入射スリット０．１ｍｍを用い、受光側スリットにはパラレルスリットアナライザー（ＰＳＡ）０．１１４ｄｅｇ．を用いる。検出器はシンチレーションカウンターを用いる。試料ステージは多孔質吸着試料ホルダを用いて、ポンプにより試料を吸着固定する。入射側を０．３５°で固定し、ステップ間隔０．０１°、測定スピード３．０°／ｍｉｎ、測定範囲を５°〜８０°で測定する。
【００２７】
光透過性導電層（Ｂ）のＸ線回折における（２２２）面のピークは、ＩＴＯに由来するものである。このピークの半値幅がより小さいということは、ＩＴＯがより均一な結晶状態となっていること、言い換えればより結晶性が高いことを示している。
【００２８】
本発明の光透過性導電性フィルムは、光透過性導電層（Ｂ）のＸ線回折における（２２２）面のピークの半値幅が０．５以下であるという特徴に起因して、表面抵抗値が６０Ω／□以下を示す。なお、表面抵抗値の単位は「Ω／□」の他、「Ω／ｃｍ２」、「Ω／ｓｑ．」又は単に「Ω」と表記してもよい。
【００２９】
光透過性導電層（Ｂ）を形成する方法は、湿式及び乾式のいずれであってもよい。
【００３０】
光透過性導電層（Ｂ）を形成する方法としては、特に限定されないが、例えば、イオンプレーティング法、スパッタリング法、真空蒸着法、ＣＶＤ法、及びパルスレーザーデポジション法等が挙げられる。光透過性導電層（Ｂ）を形成する方法としては、イオンプレーティング法が好ましい。
【００３１】
光透過性導電層（Ｂ）を形成する方法としては、
（１）前記光透過性導電層（Ｂ）が隣接する、９０℃以上に保持した層の上に、酸化インジウムスズを含有する層を形成する工程
を含有する方法が好ましい。なお、前記光透過性導電層（Ｂ）が隣接する前記層のことを、本明細書において基板ということがある。この場合、基板が、９０〜２５０℃に保持されていれば好ましく、９０〜１５０℃に保持されていればより好ましい。
本発明において、基板を所望の温度に保持する方法は特に限定されない。例えば、基板の裏面側に接触し、前記基板を支持、搬送する支持ロールを有する基板搬送工程を備え、前記支持ロールは、支持ロール内部に液体を流入する流入口と流出する流出口を有し、前記液体を前記支持ロール内に循環させることで前記支持ロールの温度制御を行う方法が挙げられる。例えば、この方法を用いる場合、本発明において「特定の温度に基板を保持する」とは、前記液体の流入口と流出口の温度の平均値が当該温度であることを意味する。このように、上記方法を用いる場合に限らず、本発明において「特定の温度に基板を保持する」とは、一般に、基板が置かれている環境（液体又は雰囲気）が当該温度であることを意味する。
【００３２】
光透過性導電層（Ｂ）を形成する方法としては、前記工程（１）に加えてさらに、
（２）前記工程（１）で得られた酸化インジウムスズを含有する層を９０℃以上に保持する工程
を含有する方法が好ましい。この場合、上記温度としては、９０〜２５０℃が好ましく、９０〜１５０℃がより好ましい。また、上記温度で保持する時間としては、１０分〜３時間が好ましく、１０分〜１時間がより好ましい。処理雰囲気としては、真空、大気、窒素、酸素、若しくは水素添加窒素等、又はこれらのうち二種以上の組合せが挙げられる。
【００３３】
１．３  アンダーコート層（Ｃ）
本発明の光透過性導電性フィルムは、光透過性支持層（Ａ）の光透過性導電層（Ｂ）が配置されている面に、直接又は一以上の他の層を介してアンダーコート層（Ｃ）が配置されていてもよい。アンダーコート層（Ｃ）が配置されている場合、少なくとも一方の前記光透過性導電層（Ｂ）が、少なくとも前記アンダーコート層（Ｃ）を介して前記光透過性支持層（Ａ）の前記面に配置されている。この場合、少なくとも一方の前記光透過性導電層（Ｂ）が、前記アンダーコート層（Ｃ）に隣接して配置されていてもよい。
【００３４】
図３に、本発明の光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層（Ａ）の一方の面にアンダーコート層（Ｃ）が隣接して配置されており、さらに光透過性導電層（Ｂ）がアンダーコート層（Ｃ）に隣接して配置されている。
【００３５】
図４に、本発明の光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層（Ａ）の両方の面にアンダーコート層（Ｃ）が隣接して配置されており、さらに光透過性導電層（Ｂ）がそれぞれ両方のアンダーコート層（Ｃ）に隣接して配置されている。
【００３６】
アンダーコート層（Ｃ）の素材は、特に限定されないが、例えば、誘電性を有するものであってもよい。アンダーコート層（Ｃ）の素材としては、特に限定されないが、例えば、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素、炭化ケイ素、シリコンアルコキシド、アルキルシロキサンの及びその縮合物、ポリシロキサン、シルセスキオキサン、ポリシラザン等が挙げられる。アンダーコート層（Ｃ）は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。酸化ケイ素を含有する光透過性下地層が好ましく、酸化ケイ素からなる光透過性下地層がより好ましい。
【００３７】
アンダーコート層（Ｃ）は、一層が配置されていてもよい。あるいは二層以上が互いに隣接して、または他の層を介して互いに離間して配置されていてもよい。
【００３８】
アンダーコート層（Ｃ）の一層あたりの厚さは、１５〜４０ｎｍ等が挙げられる。二層以上が互いに隣接して配置されている場合は互いに隣接している全てのアンダーコート層（Ｃ）の合計厚さが上記範囲内であればよい。左記の例示列挙においては後出のものが前出のものよりも好ましい。
【００３９】
アンダーコート層（Ｃ）を配置する方法としては、湿式及び乾式のいずれでもよく、特に限定されないが、湿式としては例えば、ゾル−ゲル法、微粒子分散液、コロイド溶液を塗布する方法等が挙げられる。アンダーコート層（Ｃ）を配置する方法として、乾式としては、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法、パルスレーザーデポジション法により隣接する層上に積層する方法等が挙げられる。
【００４０】
１．４  ハードコート層（Ｄ）
本発明の光透過性導電性フィルムは、光透過性支持層（Ａ）の光透過性導電層（Ｃ）が配置されている側の面に、直接又は一以上の他の層を介してハードコート層（Ｄ）が配置されていてもよい。ハードコート層（Ｄ）は、好ましくは光透過性支持層（Ａ）の光透過性導電層（Ｃ）が配置されている側の面に、直接配置されている。
【００４１】
アンダーコート層（Ｃ）はハードコート層（Ｄ）の面に直接、又は他の層を介して配置されている。アンダーコート層（Ｃ）は、好ましくはハードコート層（Ｄ）の面に直接配置されている。
【００４２】
ハードコート層（Ｄ）は、一層が配置されていてもよい。あるいは二層以上が互いに隣接して、または他の層を介して互いに離間して配置されていてもよい。
【００４３】
ハードコート層（Ｄ）は、二層以上が互いに隣接して配置されている場合、上方に位置するハードコートに比較して下方に位置するハードコートがより高い屈折率を有していてもよい。このような構成を採ることにより、屈折率の異なる二層間に光学干渉作用が生じ、これにより光透過性導電性フィルムの透過率が向上するので好ましい。
【００４４】
図５に、本発明の光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層（Ａ）の一方の面に直接、ハードコート層（Ｄ）が配置されており、アンダーコート層（Ｃ）が直接、ハードコート層（Ｄ）の上に配置されており、さらに光透過性導電層（Ｂ）が直接、アンダーコート層（Ｃ）の上に配置されている。
【００４５】
図６に、本発明の光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層（Ａ）の両方の面にそれぞれ、直接、ハードコート層（Ｄ）が配置されており、アンダーコート層（Ｃ）が直接、ハードコート層（Ｄ）の上に配置されており、さらに光透過性導電層（Ｂ）が直接、アンダーコート層（Ｃ）の上に配置されている。
【００４６】
本発明においてハードコート層とは、プラスチック表面の傷つきを防止する役割を果たすものをいう。ハードコート層（Ｄ）としては、特に限定されないが、例えば、太陽電池、ディスプレイ、照明、電子ペーパー（電子インク）、トランジスタ、プリンタブル回路、又は透明面状発熱体の用途に使用される光透過性導電性フィルムにおいてハードコート層として通常用いられるものを用いることができる。
【００４７】
ハードコート層（Ｄ）の素材は、特に限定されないが、例えば、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、アルキド系樹脂、シリカ、ジルコニア、チタニア、アルミナなどのコロイド粒子等が挙げられる。ハードコート層（Ｄ）は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。ジルコニア粒子を分散したアクリル樹脂がより好ましい。
【００４８】
ハードコート層（Ｄ）の一層あたりの厚さは、特に限定されないが、例えば０．１〜１０μｍ、１〜７μｍ、及び２〜６μｍ等が挙げられる。二層以上が互いに隣接して配置されている場合は互いに隣接している全てのハードコート層（Ｄ）の合計厚さが上記範囲内であればよい。左記の例示列挙においては後出のものが前出のものよりも好ましい。
【００４９】
ハードコート層（Ｄ）を配置する方法としては、特に限定されないが、例えば、フィルムに塗布して、熱で硬化する方法、紫外線や電子線などの活性エネルギー線で硬化する方法等が挙げられる。生産性の点で、紫外線により硬化する方法が好ましい。
【００５０】
１．５  その他の層
本発明の光透過性導電性フィルムは、光透過性支持層（Ａ）の光透過性導電層（Ｂ）が配置されている側の面に、アンダーコート層（Ｂ）、ハードコート層（Ｄ）及び少なくとも１種のその他の層（Ｅ）からなる群より選択される少なくとも１種の層がさらに配置されていてもよい。
【００５１】
その他の層（Ｅ）としては、特に限定されないが、例えば、接着層等が挙げられる。
【００５２】
接着層とは、二層の間に当該二層と互いに隣接して配置され、当該二層間を互いに接着するために配置される層である。接着層としては、特に限定されないが、例えば、太陽電池、ディスプレイ、照明、電子ペーパー（電子インク）、トランジスタ、プリンタブル回路、又は透明面状発熱体の用途に使用される光透過性導電性フィルムにおいて接着層として通常用いられるものを用いることができる。
【００５３】
１．６  本発明の光透過性導電性フィルムの用途
本発明の光透過性導電性フィルムは、表面抵抗値（シート抵抗）が６０Ω／□以下であるため、高出力が期待できる。このため、高出力が要求される用途全般に用いることができる。特に限定されないが、そのような用途として例えば、光エネルギーを電気エネルギーに変換する太陽電池、それとは反対に、電気エネルギーを光エネルギーに変換するディスプレイ（有機ＥＬ等を含む）、照明及び電子ペーパー（又は電子インク）、並びにトランジスタ、プリンタブル回路等、又は透明面状発熱体等（以下、総称して「太陽電池等」ということがある。）が挙げられる。太陽電池等について詳細は、２で説明する通りである。
【００５４】
２．本発明の太陽電池等
本発明の太陽電池等は、本発明の光透過性導電性フィルムを含み、さらに必要に応じてその他の部材を含んでなる。
【００５５】
２．１  本発明の太陽電池
本発明の太陽電池の具体的な構成例としては、色素増感型太陽電池が挙げられる。色素増感型太陽電池は、電解液層を負極と正極で挟んだ構造をしている。図７に、本発明の光透過性導電性フィルムを用いた色素増感型太陽電池の一態様を示す。
【００５６】
正極はタングステン、チタン、白金などの金属や光透過性導電性フィルムを用いることができる。電解液層は拡散速度や酸化還元電位の低さから、ヨウ素系の電解液が用いられる。負極は、光透過性導電性フィルムとその上に形成された色素を吸着させた半導体粒子から構成される。色素の材料はＣＯＯＨ基を有する、ルテニウム色素、フタロシアニン色素などの金属錯体、シアニン色素などの有機色素を挙げることができる。半導体粒子は酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズなどが挙げられる。
【００５７】
このような色素増感型太陽電池の負極に光が入射すると、色素内で電子が励起されて、半導体粒子に電子が注入される。この電子が半導体粒子を拡散して、電極に到達する。正極では電子が電解液に注入され、ヨウ素が還元される。還元されたヨウ素は電解液を拡散して、色素に電子を与えて酸化される。このようなサイクルを繰り返すことで、発電が行われている。
【００５８】
本発明の光透過性導電性フィルムは表面抵抗が低いため、電子の移動を妨げにくくなり、発電効率が高くなり、高出力が期待できる。
【００５９】
２．２  本発明のディスプレイ
本発明のディスプレイの具体的な構成例としては、有機ＥＬディスプレイが挙げられる。有機ＥＬディスプレイは有機化合物を含む有機ＥＬ層を陽極電極と陰極電極で挟んだ構造をした有機ＥＬ素子からなる。図８に、本発明の光透過性導電性フィルムを用いた有機ＥＬ素子の一態様を示す。
【００６０】
陰極電極は従来公知のものであれば、その素材は限定されない。電子が注入しやすい仕事関数の小さな導電性材料が好ましく、アルミニウム、銀などが挙げられる。有機ＥＬ層は少なくともエレクトロルミネッセンスを起こす有機発光材料からなる発光層を含み、発光層に正孔を輸送する正孔輸送層、正孔輸送層に正孔を注入する正孔注入層、発光層に電子を輸送する電子輸送層、電子輸送層に電子を注入する電子注入層などを積層させても良い。陽極電極には光透過性導電性フィルムを用いることができる。
【００６１】
このような構成の有機ＥＬ素子に電圧をかけることで、陰極および陽極からそれぞれ電子、正孔を注入すると、発光層で結合する。結合によるエネルギーで発光層の発光材料が励起され、その励起状態から再び基底状態に戻る際に光を発生する。これをひとつの画素とすることで、ディスプレイが形成される。
【００６２】
本発明の光透過性導電性フィルムは表面抵抗が低いため、発光効率が高くなり、高出力が期待できる。
【００６３】
３．  本発明の光透過性導電性フィルムの製造方法
本発明の光透過性導電性フィルムの製造方法は、
（Ａ）光透過性支持層；及び
（Ｂ）酸化インジウムスズを含有する光透過性導電層
を含有する光透過性導電性フィルムであって、
前記光透過性導電層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、
前記光透過性導電層（Ｂ）の厚さが、１００ｎｍ以上であり、かつ
前記光透過性導電層（Ｂ）のＸ線回折におけるピークが以下の要件（ｉ）〜（ｉｉｉ）を充足することを特徴とする、光透過性導電性フィルムを製造する方法であって、
前記光透過性導電層（Ｂ）が隣接する、９０℃以上に保持した層の上に、イオンプレーティング法により酸化インジウムスズを含有する層を形成する工程
を含有する方法：
（ｉ）（２２２）面のピークが最も強く；
（ｉｉ）（２２２）面のピークの半値幅が０．５以下であり；かつ
（ｉｉｉ）（３３２）面及び（１３４）面のピーク強度がいずれも（２２２）面のピーク強度の３％以上である方法である。
【００６４】
本発明の光透過性導電性フィルムの製造方法は、光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、光透過性導電層（Ｂ）に加えて、アンダーコート層（Ｃ）、ハードコート層（Ｄ）及びそれらと異なる少なくとも１種のその他の層（Ｅ）からなる群より選択される少なくとも１種の層をそれぞれ配置する工程をそれぞれ含んでいてもよい。それぞれの層を配置する工程は、それぞれの層について説明した通りである。光透過性導電層（Ｂ）に加えて、少なくとも１種の他の層を配置する場合は、例えば、光透過性支持層（Ａ）の光透過性導電層（Ｂ）が配置されている側の面に、下層側から順次配置させてもよいが、配置の順番は特に限定されない。例えば、最初に光透過性支持層（Ａ）ではない層（例えば、光透過性導電層（Ｂ））の一方の面に他の層を配置させてもよい。あるいは、一方で２種以上の層を互いに隣接するように配置させることにより１種の複合層を得てから、又はそれと同時に、他方で同様に２種以上の層を互いに隣接するように配置させることにより１種の複合層を得て、これらの２種の複合層をさらに互いに隣接するように配置させてもよい。
【実施例】
【００６５】
以下に実施例を掲げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。
本実施例および比較例における膜厚は蛍光Ｘ線分析装置（株式会社リガク製、商品名：ＲＩＸ１０００）を用いて測定した。また、表面抵抗は、ＭＩＴＳＵＢＩＳＨＩ  ＣＨＥＭＩＣＡＬ  ＡＮＡＬＹＴＥＣＨ社製の表面抵抗計（商品名：Ｌｏｒｅｓｔａ−ＥＰ）を用いて、４端子法により測定した。全光線透過率は、ヘーズメーター（日本電色社製、商品名：ＮＤＨ−２０００）を用いてＪＩＳ−Ｋ−７１０５に基づいて測定した。
【００６６】
以下の製法により、それぞれ光透過性導電性フィルムを得た。
実施例１
両面にハードコート層を有する１８８μｍ厚のロール状ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）を真空装置内に設置し、５×１０−４Ｐａ以下となるまで真空排気した後、アルゴンガス（濃度：９９．９％。以下、同じ。）を３５０ｓｃｃｍ、酸素ガス１５ｓｃｃｍを導入して、ＤＣマグネトロンスパッタリング法によりＳｉＯｘ(不完全酸化のため、ｘは１〜２の間の値をとりうる)からなるアンダーコート層を約３０ｎｍとなるように成膜した。このアンダーコート層の成膜をＰＥＴフィルムの両面に行った。
【００６７】
このロール状ＰＥＴフィルムを真空装置内に設置し、２×１０−４Ｐａ以下となるまで真空排気した後、圧力勾配型プラズマガンを用いた反応性イオンプレーティング法によって、成膜圧力０．１Ｐａにて、膜厚が１３０ｎｍとなるようにＩＴＯ（ＳｎＯ２は５重量％）を成膜した。このとき、基板温度を制御するために、反応性イオンプレーティング法による成膜中の基板を支持するロール内部に、加熱した液体を循環させた。この液体のロール入口及び出口での温度の平均値を１１０℃となるように液体の温度を制御した。
【００６８】
このフィルムを適切な大きさに切り取り、１５０℃に制御された炉の中に１時間置いた。炉の雰囲気は大気とした。
【００６９】
このようにして得られた光透過性導電性フィルムの表面抵抗は２５．６Ω／□と非常に低いものであった。また、全光線透過率は８７％と高く、透明であった。
【００７０】
この光透過性導電性フィルムをＲｉｇａｋｕ製  薄膜評価用試料水平型Ｘ線回折装置  ＳｍａｒｔＬａｂを用いて薄膜法にて測定した。測定は、平行ビーム光学配置を用い、光源にはＣｕＫα線（波長：１．５４１８６Å）を４０ｋＶ、３０ｍＡのパワーで用いた。入射側スリット系はソーラスリット５．０°、高さ制御スリット１０ｍｍ、入射スリット０．１ｍｍを用い、受光側スリットにはパラレルスリットアナライザー（ＰＳＡ）０．１１４ｄｅｇ．を用いた。検出器はシンチレーションカウンターを用いた。試料ステージは多孔質吸着試料ホルダを用いて、ポンプにより試料を吸着固定した。入射側を０．３５°で固定し、ステップ間隔０．０１°、測定スピード３．０°／ｍｉｎ、測定範囲を５°〜８０°で測定した。結果を図９に示す。
【００７１】
最も強いピークは３０°付近の（２２２）面のピークであり、このピークの半値幅は０．３６であった。４２°付近には（３３２）面のピークが（２２２）面のピーク強度に対して４．１１％の強さで観察された。また、４６°付近には（１３４）面のピークが（２２２）面のピーク強度に対して６．４１％の強さで観察された。
【００７２】
実施例２
基板温度を制御するために、反応性イオンプレーティング法による成膜中の基板を支持するロール内部に加熱した液体を循環させた。この液体のロール入口及び出口での温度の平均値を９０℃となる以外は実施例１と同様にして光透過性導電性フィルムを得た。
【００７３】
このようにして得られた光透過性導電性フィルムの表面抵抗は５１．５Ω／□と非常に低いものであった。また、全光線透過率は８７％と高く、透明であった。
【００７４】
実施例１と同様に薄膜法にて測定したところ、図１０に示す通り、最も強いピークは３０°付近の（２２２）面のピークであり、このピークの半値幅は０．３１であった。４２°付近には（３３２）面のピークが（２２２）面のピーク強度に対して４．６２％の強さで観察された。また、４６°付近には（１３４）面のピークが（２２２）面のピーク強度に対して４．９５％の強さで観察された。
【００７５】
比較例１
基板温度を制御するために、反応性イオンプレーティング法による成膜中の基板を支持するロール内部に加熱した液体を循環させた。この液体のロール入口及び出口での温度の平均値を８０℃となる以外は実施例１と同様にして光透過性導電性フィルムを得た。
【００７６】
このようにして得られた光透過性導電性フィルムの表面抵抗は６９．０Ω／□と高かった。また、全光線透過率は８６％と高く、透明であった。
【００７７】
実施例１と同様に薄膜法にて測定したところ、図１１に示す通り、明確な（２２２）面のピークが観測されなかった。また、（３３２）面のピークおよび（１３４）面のピークも観察されなかった。
【００７８】
比較例２
１５０℃に制御された炉の中に１時間置く作業を行わなかった以外は実施例１と同様にして光透過性導電性フィルムを得た。
【００７９】
このようにして得られた光透過性導電性フィルムの表面抵抗は６２．０Ω／□と高かった。また、全光線透過率は８６％と高く、透明であった。
【００８０】
実施例１と同様に薄膜法にて測定したところ、図１２に示す通り、明確な（２２２）面のピークが観測されなかった。また、（３３２）面のピークおよび（１３４）面のピークも観察されなかった。
【００８１】
比較例３
膜厚が４２ｎｍとなるようにＩＴＯ（ＳｎＯ２は５重量％）を成膜した以外は実施例１と同様にして光透過性導電性フィルムを得た。
【００８２】
このようにして得られた光透過性導電性フィルムの表面抵抗は７７．１Ω／□と高かった。また、全光線透過率は８８％と高く、透明であった。
【００８３】
実施例１と同様に薄膜法にて測定したところ、図１３に示す通り、最も強いピークは３０°付近の（２２２）面のピークであり、このピークの半値幅は０．３６であった。また、（３３２）面のピークおよび（１３４）面のピークは観察されなかった。
【００８４】
本発明の要件を満たした実施例１および２の光透過性導電性フィルムは、低い表面抵抗を有しているが、本発明の要件を満たしていない比較例１〜３では、表面抵抗が高いことが認められた。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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