(57)【要約】【課題】回転機器の構成部品に付着する異物を低減しうる回転機器の生産技術の提供する。【解決手段】回転機器の生産方法は、ハブの載置面と円筒面と端面と孔とを切削する切削工程Ｓ２００と、切削されたハブを洗浄槽に溜めた洗浄液に浸して洗浄する洗浄工程Ｓ２０６と、洗浄されて洗浄液で濡れている状態のハブの切削面に流体を吹付ける吹付け工程Ｓ２０８と、ベースにハブを組み付ける組立工程と、を含む。吹付け工程Ｓ２０８においてハブの切削面に流体が吹付けられるとき、（Ａ）ハブの載置面に直交する方向と鉛直方向とがなす鋭角は４５度から９０度の範囲にあり、（Ｂ）ハブの載置面に直交する方向と流体が吹付けられる方向とがなす鋭角は、載置面に対し円筒部側から吹付けられる場合は４５度から９０度の範囲にあり、載置面に対し円筒部とは反対側から吹付けられる場合は６０度から９０度の範囲にあり、（Ｃ）ハブは移動されている。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
切削面を有するベースと、記録ディスクが載置されベースに対して回転自在に支持されるべきハブとを含む回転機器の生産方法であって、
ハブは、記録ディスクの内周と係合する円筒面と孔が形成された端面とを含む円筒部と、円筒面から半径方向外向きに張り出し、記録ディスクを載置するべき載置面を含む載置部と、を有し、載置面と円筒面と端面とに切削面を含むとき、本生産方法は、
ハブの載置面と円筒面と端面と孔とを切削する切削工程と、
切削されたハブを洗浄槽に溜めた洗浄液に浸して洗浄する洗浄工程と、
洗浄されて洗浄液で濡れている状態のハブの切削面に流体を吹付ける吹付け工程と、
ベースにハブを組み付ける組立工程と、を含み、
前記吹付け工程においてハブの切削面に流体が吹付けられるとき、
（Ａ）ハブの載置面に直交する方向と鉛直方向とがなす鋭角は４５度から９０度の範囲にあり、
（Ｂ）ハブの載置面に直交する方向と流体が吹付けられる方向とがなす鋭角は、載置面に対し円筒部側から吹付けられる場合は４５度から９０度の範囲にあり、載置面に対し円筒部とは反対側から吹付けられる場合は６０度から９０度の範囲にあり、
（Ｃ）ハブは移動されている、
ことを特徴とする回転機器の生産方法。
【請求項２】
前記吹付け工程は、流体を吹き出すノズル口の最大幅寸法がハブの縁部の直径より大きいことを特徴とする請求項１に記載の回転機器の生産方法。
【請求項３】
前記吹付け工程は、流体は窒素を含む気体であって洗浄槽から離れる方向に吹付けて実行されることを特徴とする請求項１または２に記載の回転機器の生産方法。
【請求項４】
前記吹付け工程は、洗浄槽の液面に対して、洗浄液の存在する側を下側、存在しない側を上側とするとき、ハブが洗浄槽から斜め上方向に移動される状態で実行されることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の回転機器の生産方法。
【請求項５】
前記切削工程と前記洗浄工程との間に、減圧室にハブを収容して６０ｔｏｒｒ以下の減圧状態に所定の時間保持する減圧工程をさらに含むことを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の回転機器の生産方法。
【請求項６】
前記減圧工程は、減圧保持したハブを減圧室内で別の洗浄槽に溜めた洗浄液に浸して洗浄する工程を含むことを特徴とする請求項５に記載の回転機器の生産方法。
【請求項７】
前記吹付け工程の後に、ハブに衝撃加速度を加えて、ハブの雰囲気を吸引しまたはハブに気体を吹付ける衝撃印加工程をさらに含むことを特徴とする請求項１から６のいずれかに記載の回転機器の生産方法。
【請求項８】
前記衝撃印加工程は、相対移動して衝突可能に構成された置き台と壁部材とが準備され、ハブを載置部に対して円筒部が下向きに置き台にセットして、置き台と壁部材とを衝突させることによってハブに衝撃加速度を加えて実行されることを特徴とする請求項７に記載の回転機器の生産方法。
【請求項９】
前記組立工程の前に、ベースをチャンバー内に収容して、チャンバー内の空気を排気して、ベースを加熱してチャンバー内の真空度におけるトリアコンタン（triacontane）の沸点より高い温度に所定の時間保持する真空加熱工程をさらに含むことを特徴とする請求項１から８のいずれかに記載の回転機器の生産方法。
【請求項１０】
前記真空加熱工程は、チャンバー内の真空度が０．０５ｔｏｒｒから５ｔｏｒｒの範囲で、ベースの温度が１２０℃から２２０℃の範囲に保持されて実行されることを特徴とする請求項９に記載の回転機器の生産方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、回転機器を生産する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ハードディスクドライブなどのディスク駆動装置は、小型化、大容量化が進み、種々の電子機器に搭載されている。特にノートパソコンや携帯型音楽再生機器などの携帯型の電子機器へのディスク駆動装置の搭載が進んでいる。特許文献１には、そのようなディスク駆動装置の生産方法が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１０−２４４６２７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ディスク駆動装置では、ハブやベースなどの構成部品に付着していた異物が振動などにより剥がれ、剥がれた異物が空気の流れなどにより磁気記録ディスクに付着する場合がある。磁気記録ディスクに付着した異物は、リード／ライト動作を阻害し、その性能に悪影響を及ぼすことがある。
【０００５】
ところで、ディスク駆動装置の大容量化を進めるひとつの手法として、記録トラックの幅を狭くし、磁気ヘッドを磁気記録ディスクの表面に近づけることがある。しかしながら、記録トラックの幅が狭くなると、記録トラックの幅に対して異物が相対的に大きくなるため、付着した異物によるリード／ライト性能への悪影響が顕著となってくる。また、磁気ヘッドと磁気記録ディスクの表面との隙間が狭くなると、付着した異物に記録再生ヘッドが接触してしまうことがあり、同じくリード／ライト性能への悪影響がより顕著となってくる。
【０００６】
このような課題は、ディスク駆動装置に限らずディスクを回転駆動する他の種類の回転機器でも起こりうる。
【０００７】
本発明はこうした状況に鑑みてなされたものであり、その目的は回転機器の構成部品に付着する異物を低減しうる回転機器の生産技術の提供にある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明のある態様の回転機器の生産方法は、切削面を有するベースと、記録ディスクが載置されベースに対して回転自在に支持されるべきハブとを含む回転機器の生産方法であって、ハブは、記録ディスクの内周と係合する円筒面と孔が形成された端面とを含む円筒部と、円筒面から半径方向外向きに張り出し、記録ディスクを載置するべき載置面を含む載置部と、を有し、載置面と円筒面と端面とに切削面を含むとき、本生産方法は、ハブの載置面と円筒面と端面と孔とを切削する切削工程と、切削されたハブを洗浄槽に溜めた洗浄液に浸して洗浄する洗浄工程と、洗浄されて洗浄液で濡れている状態のハブの切削面に流体を吹付ける吹付け工程と、ベースにハブを組み付ける組立工程と、を含む。吹付け工程においてハブの切削面に流体が吹付けられるとき、（Ａ）ハブの載置面に直交する方向と鉛直方向とがなす鋭角は４５度から９０度の範囲にあり、（Ｂ）ハブの載置面に直交する方向と流体が吹付けられる方向とがなす鋭角は、載置面に対し円筒部側から吹付けられる場合は４５度から９０度の範囲にあり、載置面に対し円筒部とは反対側から吹付けられる場合は６０度から９０度の範囲にあり、（Ｃ）ハブは移動されている。
【０００９】
この態様によると、洗浄液に含まれる異物がハブに付着するのを低減できる。
【００１０】
なお、以上の構成要素の任意の組み合わせや、本発明の構成要素や表現を方法、装置、システムなどの間で相互に置換したものもまた、本発明の態様として有効である。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、回転機器の構成部品に付着する異物を低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】図１（ａ）、（ｂ）は、実施の形態に係る生産方法により生産される回転機器を示す上面図および側面図である。
【図２】図１（ａ）のＡ−Ａ線断面図である。
【図３】実施の形態に係る生産方法におけるハブの生産工程を示す模式的な生産工程図である。
【図４】図３の洗浄工程と、吹付け工程と、乾燥工程とを示す模式図である。
【図５】図３の吹付け工程の様子を示す模式図である。
【図６】図６（ａ）、（ｂ）は、図５のエアノズルの正面図および上面図である。
【図７】図７（ａ）、（ｂ）は、図３の衝撃印加工程の様子を示す模式図である。
【図８】実施の形態に係る生産方法におけるベースの生産工程を示す模式的な生産工程図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、各図面に示される同一または同等の構成要素、部材には、同一の符号を付するものとし、適宜重複した説明は省略する。また、各図面における部材の寸法は、理解を容易にするために適宜拡大、縮小して示される。また、各図面において実施の形態を説明する上で重要ではない部材の一部は省略して表示する。
【００１４】
実施の形態に係る生産方法の概要は以下のとおりである。
洗浄液が付着したままハブを乾燥すると、洗浄液に含まれる異物がハブに強く付着してしまう。これを低減するのには手間がかかる。そこで、実施の形態に係る生産方法では、洗浄液で濡れている状態のハブに所定の角度から流体を吹き付ける。これにより、洗浄液もろともそれに含まれる異物を吹き飛ばすことができ、乾燥後に異物が残りにくい。また、洗浄液が吹き飛ばされるため、後の乾燥工程での乾燥時間を短くすることができる。
【００１５】
また、切削により形成されたハブの面（例えば端面、円筒面、ディスク載置面）には、アルミニウム素材およびステンレス素材に添加されている快削性を向上させるための成分（以下、「快削成分」ともいう）がマイクロ突起として付着していることがある。マイクロ突起は剥がれやすく、剥がれたマイクロ突起が記録再生ヘッドや磁気記録ディスクに付着するとリード／ライト性能に悪影響を及ぼすことがある。なお、本発明者は特にＭｎ，Ｓ，Ｔｅ，Ｐｂなどの成分が添加されている場合にマイクロ突起が付着している割合が高くなることを見いだした。そこで、実施の形態に係る生産方法では、ハブを減圧状態に一定時間保持する。これにより、ハブとマイクロ突起との間に入り込んだ空気が圧力差により膨らむ。その膨らむ力によりマイクロ突起がハブから剥がれる。あるいは、剥がれないまでもマイクロ突起とハブとの付着力を弱めることができ、後続の工程で容易に低減することができる。
【００１６】
また、切削で生じたマイクロ突起の中には減圧状態に一定時間保持したり流体を吹付けたりしても剥がれないものがある。また、洗浄でエロージョンが生じ、快削成分がダメージを受け、新たにマイクロ突起が生じてしまうことがある。そこで、実施の形態に係る生産方法では、ハブに対し衝撃加速度を加える。これにより、これらのマイクロ突起のうち、流通過程や使用環境で発生しうる落下や衝突により剥がれる虞のある突起を低減することができる。
【００１７】
また、一般に、ダイカストで形成したベースには鋳巣が含まれる。そのため、切削によりベースの表面に鋳巣が開口することがある。そして、この鋳巣に切削油剤などに含まれる炭化水素が付着することがある。鋳巣に付着した炭化水素を洗浄により所定のレベルまで低減しようとすると洗浄時間が長くなり、作業効率が悪い。そこで、実施の形態に係る生産方法では、ベースを真空加熱する。これにより、鋳巣に付着した炭化水素をより効果的に低減することができる。
【００１８】
（回転機器）
図１（ａ）、（ｂ）は、実施の形態に係る生産方法により生産される回転機器１を示す上面図および側面図である。図１（ａ）は、回転機器１の上面図である。図１（ａ）では、回転機器１の内側の構成を示すため、トップカバー２を外した状態が示される。回転機器１は、ベース４と、回転体６と、磁気記録ディスク８と、データリード／ライト部１０と、トップカバー２と、を備える。
以降ベース４に対して回転体６が搭載される側を上側として説明する。
【００１９】
磁気記録ディスク８は、直径が９５ｍｍのガラス製の３．５インチ型磁気記録ディスクであり、その中央の孔の直径は２５ｍｍ、厚みは１．２７ｍｍである。回転機器１はそのような磁気記録ディスク８を２枚搭載している。
各磁気記録ディスク８は、回転体６に載置され、回転体６の回転に伴って回転する。回転体６は、図１（ａ）では図示しない軸受ユニット１２を介してベース４に対して回転可能に取り付けられる。
【００２０】
ベース４はアルミニウムの合金をダイカストにより成型して形成される。ベース４は、回転機器１の底部を形成する底板部４ａと、磁気記録ディスク８の載置領域を囲むように底板部４ａの外周に沿って形成された外周壁部４ｂと、を有する。外周壁部４ｂの上面４ｃには、６つのねじ穴２２が設けられる。
【００２１】
データリード／ライト部１０は、記録再生ヘッド（不図示）と、スイングアーム１４と、ボイスコイルモータ１６と、ピボットアセンブリ１８と、を含む。記録再生ヘッドは、スイングアーム１４の先端部に取り付けられ、磁気記録ディスク８にデータを記録し、磁気記録ディスク８からデータを読み取る。ピボットアセンブリ１８は、スイングアーム１４をベース４に対してヘッド回転軸Ｓの周りに揺動自在に支持する。ボイスコイルモータ１６は、スイングアーム１４をヘッド回転軸Ｓの周りに揺動させ、記録再生ヘッドを磁気記録ディスク８の上面上の所望の位置に移動させる。ボイスコイルモータ１６およびピボットアセンブリ１８は、ヘッドの位置を制御する公知の技術を用いて構成される。
【００２２】
図１（ｂ）は回転機器１の側面図である。トップカバー２は、６つのねじ２０を用いてベース４の外周壁部４ｂの上面４ｃに固定される。６つのねじ２０は、６つのねじ穴２２にそれぞれ対応する。特にトップカバー２と外周壁部４ｂの上面４ｃとは、それらの接合部分から回転機器１の内側へリークが生じないように互いに固定される。
【００２３】
図２は、図１（ａ）のＡ−Ａ線断面図である。回転体６は、シャフト２６と、ハブ２８と、フランジ３０と、円筒状マグネット３２と、クランパ３６と、を含む。ハブ２８のディスク載置面２８ａ上に磁気記録ディスク８が載置される。シャフト２６の上端面にはディスク固定用ねじ穴２６ａが設けられている。クランパ３６は、ディスク固定用ねじ穴２６ａに螺合されるディスク固定用ねじ３８によってハブ２８の端面２８ｂに圧着されると共に、２枚の磁気記録ディスク８のうちの上側の磁気記録ディスク８をスペーサ３７に押しつける。スペーサ３７は下側の磁気記録ディスク８をハブ２８のディスク載置面２８ａに押しつける。
【００２４】
ハブ２８は、アルミニウム素材を鍛造して形成した母材や、ＳＵＳ４３０などのステンレス素材の棒材を切削することにより形成される。快削性を向上するため、これらの素材には例えばＭｎ，Ｓ，Ｔｅ，Ｐｂなどの成分が添加されている。
【００２５】
ハブ２８は、シャフト２６を環囲する円筒部２８ｇを有する。円筒部２８ｇは、磁気記録ディスク８の内周と係合する円筒面２８ｈと孔２８ｃが形成された端面２８ｂとを含む。また、ハブ２８は、円筒面２８ｈの下方から半径方向外側に張り出した載置部２８ｉを有する。載置部２８ｉは、磁気記録ディスク８を載置するべきディスク載置面２８ａを含む。円筒面２８ｈと、端面２８ｂと、ディスク載置面２８ａとは、切削により形成される。
【００２６】
シャフト２６は、ハブ２８の中心に設けられた孔２８ｃであって回転体６の回転軸Ｒと同軸に設けられた孔２８ｃに圧入と接着とを併用した状態で固着される。フランジ３０は円環形状を有し、フランジ３０の断面は逆Ｌ字形状を有する。フランジ３０は、ハブ２８の下垂部２８ｄの内周面２８ｅに接着により固定される。
【００２７】
円筒状マグネット３２は、ハブ２８の内側の円筒面に相当する円筒状内周面２８ｆに接着固定される。円筒状マグネット３２は、ネオジウム、鉄、ホウ素などの希土類材料によって形成され、積層コア４０の１２本の突極と半径方向に対向する。円筒状マグネット３２にはその周方向（回転軸Ｒを中心とし回転軸Ｒに垂直な円の接線方向）に１６極の駆動用着磁が施される。円筒状マグネット３２の表面には電着塗装やスプレー塗装などによる防錆処理が施される。
【００２８】
ベース４、積層コア４０、コイル４２、ハウジング４４およびスリーブ４６は回転機器１の固定体を構成する。積層コア４０は円環部とそこから半径方向（すなわち回転軸Ｒに直交する方向）外向きに伸びる１２本の突極とを有し、ベース４の上面４ｄ側に固定される。積層コア４０は、７枚の薄型電磁鋼板を積層しカシメにより一体化して形成される。積層コア４０の表面には電着塗装や粉体塗装などによる絶縁塗装が施される。それぞれの突極にはコイル４２が巻回される。このコイル４２に３相の略正弦波状の駆動電流が流れることにより突極に沿って駆動磁束が発生する。ベース４の上面４ｄには、回転体６の回転軸Ｒを中心とする円環状の環状壁部４ｅが設けられる。積層コア４０は環状壁部４ｅの外周面４ｇに圧入されもしくは隙間ばめによって接着固定される。
【００２９】
ベース４には、回転体６の回転軸Ｒを中心とする貫通孔４ｈが設けられる。軸受ユニット１２は、ハウジング４４と、スリーブ４６と、を含み、回転体６をベース４に対して回転自在に支持する。ハウジング４４はベース４の貫通孔４ｈに接着により固定される。ハウジング４４は、円筒部と底部とが一体に形成された有底カップ形状を有し、その底部を下にしてベース４に対して接着固定される。
【００３０】
スリーブ４６は、ハウジング４４の内側の側面に接着により固定される円筒状の部材である。スリーブ４６の上端には半径方向外向きに張り出した張出部４６ａが形成されている。この張出部４６ａは、フランジ３０と協働して回転体６の軸方向すなわち回転軸方向の移動を制限する。
【００３１】
スリーブ４６にはシャフト２６が収まる。シャフト２６およびハブ２８およびフランジ３０を含む回転体６の一部と軸受ユニット１２との隙間には潤滑剤４８が充填される。
スリーブ４６の内周面には、上下に離間した１組のヘリングボーン形状のラジアル動圧溝５０が形成される。ハウジング４４の上面に対向するフランジ３０の下面には、ヘリングボーン形状の第１スラスト動圧溝（不図示）が形成される。張出部４６ａの下面に対向するフランジ３０の上面には、ヘリングボーン形状の第２スラスト動圧溝（不図示）が形成される。回転体６の回転時には、これらの動圧溝が潤滑剤４８に生成する動圧によって、回転体６は半径方向および回転軸Ｒ方向に支持される。
【００３２】
なお、１組のヘリングボーン形状のラジアル動圧溝をシャフト２６に形成してもよい。また、第１スラスト動圧溝をハウジング４４の上面に形成してもよく、第２スラスト動圧溝を張出部４６ａの下面に形成してもよい。
【００３３】
（生産方法）
実施の形態に係る生産方法は回転機器を生産する方法である。回転機器は、例えばディスク駆動装置、特に磁気記録ディスクを搭載するハードディスクドライブである。以下では上述の回転機器１と同様の回転機器を生産する場合を例として説明する。
【００３４】
図３は、本実施の形態に係る生産方法におけるハブ２８の生産工程を示す模式的な生産工程図である。ハブ２８の生産工程は、切削工程Ｓ２００と、減圧工程Ｓ２０２と、予備洗浄工程Ｓ２０４と、洗浄工程Ｓ２０６と、吹付け工程Ｓ２０８と、乾燥工程Ｓ２１０と、衝撃印加工程Ｓ２１２と、を含む。
【００３５】
切削工程Ｓ２００では、まず、アルミニウム素材を鍛造して形成した母材や、ＳＵＳ４３０などのステンレス素材の棒材を切削し、ハブ２８を形成する。例えば端面２８ｂ、円筒面２８ｈ、ディスク載置面２８ａは切削により形成される。切削の際は冷却と潤滑とのために切削油剤を塗布する。水溶性の切削油剤を用いると残留する炭化水素の量を抑えることができる。次に、切削されたハブ２８を洗浄する。例えばノルマルパラフィンなどの炭化水素を使用してハブ２８を脱脂洗浄する。
【００３６】
減圧工程Ｓ２０２では、減圧室を使用する。減圧室は公知の技術を使用して構成され、雰囲気圧力を所定の圧力に下げることができる。また、減圧室には、後述の予備洗浄工程Ｓ２０４で使用する予備洗浄槽が準備されている。減圧工程Ｓ２０２では、まず、ハブ２８を所定数集めてバッチ籠に入れ、バッチ籠ごと減圧室に入れる。次に、減圧室内の雰囲気圧力を所定の圧力に下げ、そのまま一定時間維持する。すなわち、ハブ２８を減圧状態に一定時間保持する。所定の圧力は、大気圧より低い圧力であってもよく、切削工程における作業空間の雰囲気圧力より低い圧力であってもよい。なお、ここでは所定数量のハブ２８を同時に処理する場合について説明したが、ハブ２８を１つずつ処理してもよい。
【００３７】
ここで、切削により形成された端面２８ｂ、円筒面２８ｈ、ディスク載置面２８ａには、アルミニウム素材およびステンレス素材に添加されている快削成分がマイクロ突起として付着していることがある。
【００３８】
減圧工程Ｓ２０２においてハブ２８を減圧状態に一定時間保持すると、ハブ２８とマイクロ突起との間に入り込んでいた空気が圧力差により膨らむ。そして、その膨らむ力によりマイクロ突起がハブ２８から剥がれる。あるいは、剥がれないまでもマイクロ突起とハブ２８との付着力を弱めることができる。本発明者が行った実験によると、少なくともハブ２８を６０ｔｏｒｒ以下の減圧状態に４５〜１２０秒保持した場合に所望の効果が確認された。本実施の形態では、ハブ２８を３０〜４０ｔｏｒｒの減圧状態に４５〜１２０秒保持するものとして、効果の変動を吸収している。
【００３９】
予備洗浄工程Ｓ２０４では、所定量の洗浄液で満された予備洗浄槽にバッチ籠ごとハブ２８を漬け、洗浄液中で超音波洗浄する。例えば４０ＫＨｚの超音波を３〜１０分間ハブ２８に当てる。洗浄液としては、例えば純水を用いることができる。純水による洗浄は、洗浄後にすすぎを必要としない点で有利である。また、例えば界面活性剤を主な溶質とする水溶液を洗浄液に用いることもできる。この場合、異物の洗浄力が優れている点で有利である。
予備洗浄後は、バッチ籠ごとハブ２８を予備洗浄槽および減圧室から取り出す。
【００４０】
図４は、洗浄工程Ｓ２０６と、吹付け工程Ｓ２０８と、乾燥工程Ｓ２１０とを示す模式図である。これらの工程では、搬送装置３００が使用される。ここでは、搬送装置３００は、ハブ２８を支持する支持台が取り付けられたチェーンコンベアである。搬送装置３００は、時計回り方向にチェーン３１２を移動させ、支持台（不図示）ごとハブ２８を搬送する。
【００４１】
洗浄工程Ｓ２０６では、所定量の洗浄液で満された洗浄槽３０２が使用される。洗浄液としては、予備洗浄工程Ｓ２０４と同様に、例えば純水や界面活性剤を主な溶質とする水溶液を用いることができる。
【００４２】
洗浄工程Ｓ２０６では、ハブ２８は支持台に支持されて洗浄液中を移動しながら超音波洗浄される。例えば、ハブ２８が洗浄液中を移動する時間が５〜１０分となるよう搬送装置３００の搬送速度などを設定し、超音波発生器３０４から４０ＫＨｚの超音波をハブ２８に当てる。なお、波長の異なる複数の超音波をハブ２８に当ててもよい。
【００４３】
吹付け工程Ｓ２０８では、洗浄槽３０２から脱出したハブ２８であって、洗浄液で濡れている状態のハブ２８に対しエアノズル３０８から流体が吹き付けられる。より具体的には、洗浄槽３０２の液面３０６に対して洗浄液の存在する側を下側、存在しない側を上側とするとき、ハブ２８が洗浄槽３０２から斜め上方向（図４では右上方向）に移動される状態で流体が吹き付けられる。流体には、窒素や空気などの気体を用いることができる。また、気体とともにＩＰＡ（Isopropyl Alcohol、イソプロピルアルコール）などの液体を併用できる。気体だけの場合は扱いやすい点で有利である。ＩＰＡなどの液体を併用する場合は、ハブ２８に付着する水分を効率よく低減できる点で有利である。
【００４４】
図５は、吹付け工程Ｓ２０８の様子を示す模式図である。ハブ２８は、そのディスク載置面２８ａに直交する方向Ａ１と鉛直方向Ａ２とがなす鋭角θ１が４５度〜９０度の範囲となるよう支持された状態で洗浄槽３０２を脱出し、吹付け工程Ｓ２０８に搬送されてくる。この場合、端面２８ｂ、円筒面２８ｈ、ディスク載置面２８ａから洗浄液が落下しやすいため有利である。
そして、このように支持された状態で流体が吹き付けられる。このとき、ハブ２８のディスク載置面２８ａに直交する方向Ａ１と流体が吹付けられる方向Ａ３とがなす鋭角θ２は、ディスク載置面２８ａに対し円筒部２８ｇ側から流体が吹付けられる場合は４５度〜９０度の範囲にあり、ディスク載置面２８ａに対し円筒部２８ｇとは反対側から流体が吹付けられる場合は６０度から９０度の範囲にある。なお、図５は、ディスク載置面２８ａに対し円筒部２８ｇ側から吹付けられる場合を示している。
【００４５】
図５に示す例では、エアノズル３０８からの流体は、ハブ２８の孔２８ｃが設けられた端面２８ｂに対し、ほぼ平行または比較的緩やかな角度で吹き付けられる。これにより、ハブ２８の表面、例えば端面２８ｂ、円筒面２８ｈ、ディスク載置面２８ａに付着している洗浄液が効率よく吹き飛ばされる。加えて、ハブ２８の端面２８ｂに負圧が生じるため、孔２８ｃの周面に付着している洗浄液が引き出されて吹き飛ばされる。
【００４６】
また、流体は洗浄槽３０２から離れる方向に吹き付けられる。これにより、異物を含みうる吹き飛ばされた洗浄液が、洗浄槽３０２に戻ることを低減できる。なお、吹き飛ばされた洗浄液を受け止める洗浄液溜り（不図示）を設けてもよい。
【００４７】
なお、流体が吹き付けられることにより、減圧工程Ｓ２０２では剥がれなかったもののハブ２８との付着力が弱まったマイクロ突起が吹き飛ばされる。
【００４８】
ここで、エアノズル３０８について説明する。図６（ａ）、（ｂ）は、それぞれエアノズル３０８の正面図および上面図である。エアノズル３０８のノズル口は略長方形である。エアノズル３０８は、ノズル口の長辺、すなわちノズル口の最大幅寸法Ｗが、ハブ２８の縁部の直径より大きくなるよう構成される。ここで、ハブ２８の縁部とは、ハブ２８の中で最も半径方向外側に張り出た部分をいう。図２に示す例では直径Ｄがハブ２８の縁部の直径となる。したがって、本実施の形態では、エアノズル３０８の口の最大幅寸法Ｗはハブ２８の直径Ｄより大きくなるよう構成される。気体が吹付けられない死角を少なくできるため有利である。一方で、最大幅寸法Ｗが大きすぎると吹付け工程Ｓ２０８に必要なスペースも大きくなってしまう。したがって、最大幅寸法Ｗは直径Ｄの１〜２倍が望ましい。ここでは、最大幅寸法Ｗは直径Ｄの１．５倍とする。なお、ノズル口の形状は、その最大幅寸法Ｗがこれらの条件を満たすものであれば、略長方形以外であってもよい。
【００４９】
図４に戻り、乾燥工程Ｓ２１０では、端面２８ｂを上にして支持されるようハブ２８を支持する姿勢を変更する。そして、乾燥炉３１０内を移動するハブ２８に温風が吹付けられる。温風は、端面２８ｂ側とその反対側との両方から吹き付けられる。温風の温度と、その吹付け時間とは、実験で定めることができる。なお、これらはハブ２８に付着している洗浄液の量に影響を受ける。温風の温度は例えば６０から１２０℃の範囲で吹付け時間は３０秒から２分の範囲にすると乾燥の効率がよく生産タクト時間の範囲内で作業しうる。本実施の形態では、８０から１００℃の温風を３０秒吹き付けることとして、効果の変動を吸収するとともに生産タクト時間の範囲内で所定の乾燥状態を実現している。
【００５０】
図７は、衝撃印加工程Ｓ２１２の様子を示す模式図である。図７（ａ）は衝撃印加前の状態を示し、図７（ｂ）は衝撃印加したときの状態を示す。衝撃印加工程Ｓ２１２では、まず、ハブ２８を置き台４００に固定する。ハブ２８は、円筒部２８ｇが載置部２８ｉより鉛直方向下側に位置するよう置き台４００に固定される。この場合、ハブ２８から剥がれた異物が端面２８ｂや円筒面２８ｈやディスク載置面２８ａなどに再付着するのを抑えることができる。置き台４００は、例えば厚さが５〜１５ｍｍで辺の長さが７０〜１５０ｍｍの矩形の鋼材を用いて構成することができる。置き台４００には下向きに内開きチャック４０２が固定される。ハブ２８の下面側がチャック４０２に被せられ、チャック４０２を開くことでハブ２８が置き台４００に固定される。
【００５１】
置き台４００は側面がエアシリンダ４０４のロッド４０６に結合されている。このためロッド４０６の伸縮にしたがって置き台４００も移動する。置き台４００に対してロッド４０６が結合されている側とは反対側には壁部材４０８が設けられている。図７（ｂ）のごとく、ロッド４０６が伸びると、置き台４００はエアシリンダ４０４から離れる方向に移動し、壁部材４０８に衝突する。このときハブ２８に印加される衝撃加速度は、置き台４００の速度と置き台４００の質量との積に応じて決まる。発明者による実験では、少なくとも２０〜１００Ｇの衝撃加速度をハブ２８に加えることにより付着する異物を低減できることが確認された。
なお、衝撃が小さいと１回の衝突で低減できる異物の割合が小さい。この場合、衝突の繰り返し回数を多くすることで異物低減の効果が増大する。ただし、衝突の繰り返し回数が多いと作業時間が長くなり生産効率が低下する。したがって、実施形態では３０Ｇ〜４０Ｇで４回〜６回の繰り返し衝突を実行することとする。
【００５２】
衝撃印加工程Ｓ２１２ではハブ２８に気体を吹付けまたはハブ２８の周囲の雰囲気を吸引してもよい。これにより剥がれた異物の飛散を抑え、再付着するのを抑えることができる。実施の形態では置き台４００の底面に吸引穴４１２を設け、吸引ノズル４１０により、下方からハブの周囲の雰囲気を吸引して、生産設備の大型化を抑制している。
【００５３】
なお、本実施の形態では、壁部材４０８を固定し、置き台４００を移動して壁部材４０８に衝突させたが、置き台４００を固定し、壁部材４０８を移動して置き台４００に衝突させてもよい。また、置き台４００および壁部材４０８の両方を移動して衝突させても良い。つまり、置き台４００と壁部材４０８とが、相対的に移動することにより衝突されるよう構成されていればよい。
【００５４】
衝撃印加工程Ｓ２１２が終了したハブ２８は組立工程に進む。
【００５５】
図８は、ベース４の生産工程を示す模式的な生産工程図である。本実施の形態に係る生産方法は、形成工程Ｓ２５０と、第１洗浄工程Ｓ２５２と、第２洗浄工程Ｓ２５４と、真空加熱保持工程Ｓ２５６と、コア配線部材等固着工程Ｓ２５８と、第３洗浄工程Ｓ２６０と、乾燥工程Ｓ２６２と、を含む。
【００５６】
形成工程Ｓ２５０では、まず、アルミニウムの合金をダイカストにより成型する。次に、これを例えばフライス盤で切削し、所定の形状に形成する。切削の際は冷却と潤滑とのために切削油剤を塗布する。水溶性の切削油剤を用いると残留する炭化水素の量を抑えることができる。
【００５７】
第１洗浄工程Ｓ２５２では、洗浄液を溜めた洗浄槽にベース４を浸して洗浄する。洗浄液は炭化水素を含むと、ベース４に付着する切削油剤に含まれる炭化水素を低減しやすい。なお、ベース４に超音波を当てて洗浄してもよい。
【００５８】
第２洗浄工程Ｓ２５４では、水、例えば純水を溜めた洗浄槽にベース４を浸して洗浄する。これにより、残留する異物とともに第１洗浄工程Ｓ２５２で付着した洗浄液を低減する。
【００５９】
第１洗浄工程Ｓ２５２および第２洗浄工程Ｓ２５４は、ハブ２８の洗浄工程Ｓ２０６と同様に、搬送装置によりベース４を１つずつ移動させながら実行する。この場合、洗浄のムラを抑えうる点で有利である。なお、第１洗浄工程Ｓ２５２および第２洗浄工程Ｓ２５４のいずれも所定数のベース４をバッチ籠に重ねて入れて洗浄液に漬す、いわゆるバッチ洗浄で実行してもよい。この場合、小型の設備で実行できる点で有利である。
【００６０】
真空加熱保持工程Ｓ２５６では、まず、ベース４を所定数集めてバッチ籠に入れ、バッチ籠ごとチャンバーに入れる。次に、チャンバー内の空気が真空ポンプにより排気されて所定の真空度に維持される。また、赤外線ヒータでベース４が加熱されて所定の温度に維持される。より具体的には、低減すべき炭化水素のチャンバーの真空度での沸点より高い温度に維持し、炭化水素を揮発させる。
【００６１】
ここで、本発明者が行った実験によると、チャンバーの真空度が低すぎると炭化水素を低減する効果が低くなる。実験では、少なくとも真空度が５ｔｏｒｒ以下で所望の効果が確認された。しかしながら、一般に高い真空度を実現するには高額で特殊な設備が必要となる。また、真空度が高すぎると、未だ開口していない鋳巣が破裂し、内包していたダイカスト時の不純物が飛散してベース４の表面を汚染する場合がある。一方、真空度が０．０５ｔｏｒｒ以上であれば一般的な設備で実現でき、また、鋳巣の破裂による汚染は実用上問題のないレベルであることが確認された。したがって、真空度は、０．０５〜５ｔｏｒｒの範囲とすることが望ましい。本実施の形態では、０．２〜２ｔｏｒｒの範囲として、所定の作業時間内において効果の変動を吸収している。
【００６２】
また、本発明者が行った実験によると、少なくともベース４の保持温度が１２０〜２２０℃の範囲で所望の効果が確認された。また作業性が実用上問題のないレベルであることも確認された。ここで、炭素数が多く沸点が使用温度範囲に対して十分に高い炭化水素は、揮発してヘッドやディスクに付着する可能性が低い。そこで、実施の形態では大気圧での沸点が４５０℃より低い炭化水素を重点的に低減する。例えばトリアコンタン（Ｃ３０Ｈ６２、沸点４５０℃）は、真空度０．０５ｔｏｒｒにおいて沸点が１５０℃であり、ベース４の温度を１５０℃以上とすると短時間で揮発する。したがって、本実施の形態では保持温度を１５０〜１８０℃の範囲として、所定の作業時間内において効果の変動を吸収している。
【００６３】
また、真空度とベース４の温度とを所定状態に維持する時間が短すぎると、炭化水素を低減する効果が低くなる。一方、長すぎると作業効率が低下する。本発明者が行った実験によると、少なくともその時間が６０〜１８０分の範囲で、炭化水素を低減する効果と作業効率とは実用上で問題のないレベルであることが確認された。本実施の形態においてはその時間を９０〜１５０分の範囲に設定している。低減効果の変動を吸収し得る。
【００６４】
コア配線部材等固着工程Ｓ２５８では、コイル４２が巻かれた積層コア４０がベース４の上面に固定される。積層コア４０は、例えば接着や締り嵌めして固定される。また、配線部材がベース４の下面に固定される。配線部材、例えば接着剤や両面テープを用いて固定される。また、コイルの引出線がベース４の貫通孔を通じて下面に引き出され、配線部材に例えばはんだで固定される。
【００６５】
第３洗浄工程Ｓ２６０では、水、例えば純水を溜めた洗浄槽にベース４を浸して洗浄する。これにより、残留する異物とともにコア配線部材等固着工程で付着した異物を低減する。第３洗浄工程Ｓ２６０は、第１洗浄工程Ｓ２５２および第２洗浄工程Ｓ２５４と同様に、搬送装置によりベース４を１つずつ移動させながら実行する。この場合、洗浄のムラを抑えうる点で有利である。なお、ベース４に超音波を当てて洗浄してもよい。また、第３洗浄工程Ｓ２６０は、いわゆるバッチ洗浄で実行してもよい。
【００６６】
乾燥工程Ｓ２６２では、ハブ２８の乾燥工程Ｓ２１０と同様の構成で乾燥させる。乾燥工程Ｓ２１０と同様、温風の温度と、その吹付け時間とは、実験で定めることができる。また、同様に、ベース４に付着している洗浄液の量に影響を受ける。温風の温度は例えば６０から１２０℃の範囲で吹付け時間は３０秒から３分の範囲にすると乾燥の効率がよく生産タクト時間の範囲内で作業しうる。本実施の形態では、８０〜１００℃の温風を約４５秒間吹き付けることとして、効果の変動を吸収するとともに生産タクト時間の範囲内で所定の乾燥状態を実現している。
【００６７】
乾燥工程Ｓ２６２が終了したベース４は組立工程に進む。
【００６８】
ベース４とハブ２８は組立工程に移動される。ハブ２８が軸受ユニット１２に結合されて、その軸受ユニット１２がベース４に取り付けられる。また、その他の部材が取り付けられ、所定の検査を経てディスク駆動装置が生産される。
【００６９】
本実施の形態に係る生産方法によると、洗浄液で濡れている状態のハブ２８に流体が吹き付けられる。これにより、洗浄液もろともそれに含まれる異物が吹き飛ばされる。特に、ディスク載置面２８ａに対し円筒部２８ｇ側から吹付けられる場合は、ハブ２８の表面、例えば端面２８ｂ、円筒面２８ｈ、ディスク載置面２８ａに付着している洗浄液が吹き飛ばされる。また、ハブ２８の端面２８ｂに負圧が生じ、孔２８ｃの周面に付着している洗浄液が引き出され、吹き飛ばされる。このため、乾燥後に異物が残りにくい。
また、流体が吹き付けられることにより、減圧工程Ｓ２０２では剥がれなかったもののハブ２８との付着力が弱まったマイクロ突起が吹き飛ばされる。
これらにより、生産後のハブ２８に付着する異物の総量を低減でき、記録トラックの幅を狭くし、磁気ヘッドを磁気記録ディスクの表面に近づけた場合でもリード／ライト性能の高い回転機器１を提供できる。
【００７０】
以上、実施の形態に係る回転機器の生産方法について説明した。この実施の形態は例示であり、その各構成要素の組み合わせにいろいろな変形例が可能なこと、またそうした変形例も本発明の範囲にあることは当業者に理解されるところである。
【００７１】
実施の形態では、それぞれハブとベースを例に説明したが、これに限られない。例えば、ハブについて説明した工程をベースや他の部材について実施してもよい。また、ベースについて説明した工程をハブや他の部材について実施してもよい。同様の原理で付着物を低減できることは当業者に明白である。
【符号の説明】
【００７２】
１  回転機器、  ２  トップカバー、  ４  ベース、  ６  回転体、  ８  磁気記録ディスク、  １０  データリード／ライト部、  １２  軸受ユニット、  Ｓ２００  切削工程、  Ｓ２０２  減圧工程、  Ｓ２０４  予備洗浄工程、  Ｓ２０６  洗浄工程、  Ｓ２０８  吹付け工程、  Ｓ２１０  乾燥工程、  Ｓ２１２  衝撃印加工程、  Ｓ２５６  真空加熱保持工程。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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