(57)【要約】      （修正有）【課題】基板に有機物薄膜を蒸着する全体の工程時間を最小化できる平板パネル製造装置を提供する。【解決手段】少なくとも二つの基板１０が処理される複数の工程チャンバー１１０；第１の方向Ｌ１に沿って複数の工程チャンバーの間に配置され、第１の方向に直交する第２の方向Ｌ２に沿って直線状に往復移動しながら未処理の基板を工程チャンバーに供給したり、処理が完了した基板を工程チャンバーから排出する移送ロボット１２３を備える移送チャンバー１２０；移送チャンバーの一側に結合され、供給される基板を収容するローディングチャンバー１３０；及び移送チャンバーの他側に結合され、排出された基板を収容するアンローディングチャンバー１４０；を含み、工程チャンバーの内部では、第２の方向に沿っていずれか一つの基板に工程ガスが蒸着されると同時に、残りの基板に対する移送及び位置整列が行われることを特徴とする。【選択図】図１
2013104131.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも二つの基板が処理される内部空間が形成された複数の工程チャンバー；
第１の方向に沿って前記複数の工程チャンバーの間に配置され、前記第１の方向に直交する第２の方向に沿って直線状に往復移動しながら未処理の基板を前記工程チャンバーに供給したり、処理が完了した基板を前記工程チャンバーから排出する移送ロボットを備える移送チャンバー；
前記移送チャンバーの一側に結合され、前記移送チャンバーに供給される基板を収容するローディングチャンバー；及び
前記移送チャンバーの他側に結合され、前記移送チャンバーから排出された基板を収容するアンローディングチャンバー；を含み、
前記移送ロボットは、前記第２の方向に沿って直線状に往復移動しながら前記工程チャンバーに基板を順次供給又は排出し、
前記工程チャンバーの内部では、前記第２の方向に沿っていずれか一つの基板に工程ガスが蒸着されると同時に、残りの基板に対する移送及び位置整列が行われることを特徴とする平板パネル製造装置。
【請求項２】
前記工程チャンバーは、
第１の領域と、前記第１の領域と隣接した第２の領域とからなる内部空間が形成され、一側が開口されて前記移送チャンバーと連通した本体部材；
前記本体部材に移送された基板を支持し、位置を整列するために前記第１の領域及び前記第２の領域にそれぞれ設置される支持ユニット；
前記本体部材の内部空間に配置され、基板に工程ガスを噴射する蒸着源；
前記蒸着源を前記第２の方向に沿って直線状に往復移動させる駆動ユニット；及び
前記蒸着源が前記第１の領域と前記第２の領域との間を往復するように前記駆動ユニットを制御する制御部；を含むことを特徴とする、請求項１に記載の平板パネル製造装置。
【請求項３】
前記制御部は、
前記蒸着源を前記第１の領域の初期位置から前記第１の領域内で前記第２の方向に沿って移動させながら一つの基板を処理する過程と、前記蒸着源を前記第２の領域に移動させ、前記第２の領域内で前記第２の方向に沿って移動させながら残りの基板を処理した後、前記第１の領域の初期位置に復帰する過程とが繰り返して実行されるように前記駆動ユニットを制御し、
前記移送ロボットは、
前記第１の領域の基板及び前記第２の領域の基板が全て処理された後、前記第１の領域及び前記第２の領域から処理が完了した基板を排出し、前記第１の領域及び前記第２の領域に新しい基板を供給することを特徴とする、請求項２に記載の平板パネル製造装置。
【請求項４】
前記制御部は、
前記蒸着源を前記第２の方向に沿って前記第１の領域及び前記第２の領域に順次移動させながら前記第１の領域の基板と前記第２の領域の基板を処理する過程と、再び前記蒸着源を前記第２の方向に沿って前記第２の領域と前記第１の領域に順次移動させながら前記第２の領域の基板と前記第１の領域の基板を処理する過程とが繰り返して実行されるように前記駆動ユニットを制御し、
前記移送ロボットは、
前記第１の領域の基板が処理された後、前記第２の領域の基板が処理される間、前記第１の領域から処理が完了した基板を排出し、前記第１の領域に新しい基板を供給し、前記第２の領域の基板が処理された後、前記第１の領域の基板が処理される間、前記第２の領域から処理が完了した基板を排出し、前記第２の領域に新しい基板を供給することを特徴とする、請求項２に記載の平板パネル製造装置。
【請求項５】
前記移送ロボットは、
前記第２の方向に沿って直線状に往復移動しながら前記ローディングチャンバーから前記移送チャンバーを経て前記複数の工程チャンバーのうち一つの工程チャンバーに基板を供給し、前記一つの工程チャンバーで処理が完了した基板を前記一つの工程チャンバーから排出し、前記移送チャンバーを経て複数の工程チャンバーのうち他の一つの工程チャンバーに供給し、前記他の一つの工程チャンバーで処理が完了した基板を前記他の一つの工程チャンバーから排出し、前記移送チャンバーを経て前記アンローディングチャンバーに排出することを特徴とする、請求項１に記載の平板パネル製造装置。
【請求項６】
前記蒸着源は、一つ以上の材料を同時に蒸着するために各材料に対応する一つ以上の蒸発源を含むことを特徴とする、請求項２に記載の平板パネル製造装置。
【請求項７】
前記蒸着源は、前記第２の方向に沿って複数個が離隔するように配置されることを特徴とする、請求項６に記載の平板パネル製造装置。
【請求項８】
前記複数の工程チャンバーは、前記第２の方向に沿って前記移送チャンバーの側面に離隔するように配置されたことを特徴とする、請求項１に記載の平板パネル製造装置。
【請求項９】
前記移送チャンバーは二つの移送ロボットを含み、
前記各移送ロボットは、前記第１の方向に沿って離隔するように、そして、前記第２の方向に沿って直線状に往復移動するように配置されたことを特徴とする、請求項８に記載の平板パネル製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、平板パネル製造装置に関し、より詳細には、有機発光表示素子平板パネルに対して有機物薄膜の蒸着工程を行える平板パネル製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
平板パネルディスプレイ（ＦＰＤ：Ｆｌａｔ  Ｐａｎｅｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ）を製造する過程では、基板上に薄膜蒸着工程、フォトリソグラフィ工程、エッチング工程、工程進行時に発生した残留物を除去するための洗浄及び乾燥などの洗浄工程及び各種表面処理工程などの基板処理過程が数回繰り返される。それぞれの工程は、工程チャンバー（ＰＭ：Ｐｒｏｃｅｓｓ Ｍｏｄｕｌｅ）で進められる。
【０００３】
このような工程チャンバーは、移送チャンバーと共にクラスターを構成する。クラスターでは、一つの移送チャンバーに複数の工程チャンバーが連結されることが一般的である。すなわち、クラスターは、基板の処理工程を行う工程チャンバーと、基板を保存した後、これを工程チャンバーに移送し、工程チャンバーから処理された基板を回送する移送チャンバー（ＴＭ：Ｔｒａｎｓｆｅｒ  Ｍｏｄｕｌｅ）とで構成されることが一般的である。
【０００４】
一方、前記のような構造からなる従来のクラスターでは、製造可能な平板パネルとして有機発光表示素子（ＯＬＥＤ）平板パネルを提示することができる。有機発光表示素子は、蛍光又は燐光有機物薄膜に電流を流すと、電子と正孔が有機物層で結合しながら光が発生する原理を用いた自体発光型ディスプレイである。最近は、スマートフォンの普及が拡大されながら、低電力で動作する有機発光表示素子平板パネルの使用が増加しており、その結果、有機発光表示素子平板パネルの生産力を向上させる必要性も増加している。
【０００５】
有機発光表示素子平板パネルの製造工程では、基板上に有機物薄膜を蒸着する工程が必ず必要である。このような蒸着工程を行うためには、まず、チャンバー内に基板を移送する工程、基板とマスクをアラインするアライン工程などを行わなければならないが、従来の製造装置による場合、基板移送及びマスクアライン時には蒸着工程を進めることが不可能であった。すなわち、基板移送及びマスクアライン工程と蒸着工程とが分離されて行われることによって、全体の工程時間が増加するという問題がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
したがって、本発明の目的は、このような従来の問題を解決するために、一つの工程チャンバー内で２個の基板を収容し、一つの基板に対する基板移送及びアライン工程を行うと同時に、残りの他の基板に対する蒸着工程を行うことによって、基板に有機物薄膜を蒸着する全体の工程時間を最小化できる平板パネル製造装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記のような目的を達成するために、本発明の平板パネル製造装置は、少なくとも二つの基板が処理される内部空間が形成された複数の工程チャンバー；第１の方向に沿って前記複数の工程チャンバーの間に配置され、前記第１の方向に直交する第２の方向に沿って直線状に往復移動しながら未処理の基板を前記工程チャンバーに供給したり、処理が完了した基板を前記工程チャンバーから排出する移送ロボットを備える移送チャンバー；前記移送チャンバーの一側に結合され、前記移送チャンバーに供給される基板を収容するローディングチャンバー；及び前記移送チャンバーの他側に結合され、前記移送チャンバーから排出された基板を収容するアンローディングチャンバー；を含み、前記移送ロボットは、前記第２の方向に沿って直線状に往復移動しながら前記工程チャンバーに基板を順次供給又は排出し、前記工程チャンバーの内部では、前記第２の方向に沿っていずれか一つの基板に工程ガスが蒸着されると同時に、残りの基板に対する移送及び位置整列が行われる。
【０００８】
本発明に係る平板パネル製造装置において、望ましくは、前記工程チャンバーは、第１の領域と、前記第１の領域と隣接した第２の領域とからなる内部空間が形成され、一側が開口されて前記移送チャンバーと連通した本体部材；前記本体部材に移送された基板を支持し、位置を整列するために前記第１の領域及び前記第２の領域にそれぞれ設置される支持ユニット；前記本体部材の内部空間に配置され、基板に工程ガスを噴射する蒸着源；前記蒸着源を前記第２の方向に沿って直線状に往復移動させる駆動ユニット；及び前記蒸着源が前記第１の領域と前記第２の領域との間を往復するように前記駆動ユニットを制御する制御部；を含む。
【０００９】
本発明に係る平板パネル製造装置において、望ましくは、前記制御部は、前記蒸着源を前記第１の領域の初期位置から前記第１の領域内で前記第２の方向に沿って移動させながら一つの基板を処理する過程と、前記蒸着源を前記第２の領域に移動させ、前記第２の領域内で前記第２の方向に沿って移動させながら残りの基板を処理した後、前記第１の領域の初期位置に復帰する過程が繰り返して実行されるように前記駆動ユニットを制御し、前記移送ロボットは、前記第１の領域の基板及び前記第２の領域の基板が全て処理された後、前記第１の領域及び前記第２の領域から処理が完了した基板を排出し、前記第１の領域及び前記第２の領域に新しい基板を供給する。
【００１０】
本発明に係る平板パネル製造装置において、望ましくは、前記制御部は、前記蒸着源を前記第２の方向に沿って前記第１の領域及び前記第２の領域に順次移動させながら前記第１の領域の基板と前記第２の領域の基板を処理する過程と、再び前記蒸着源を前記第２の方向に沿って前記第２の領域と前記第１の領域に順次移動させながら前記第２の領域の基板と前記第１の領域の基板を処理する過程が繰り返して実行されるように前記駆動ユニットを制御し、前記移送ロボットは、前記第１の領域の基板が処理された後、前記第２の領域の基板が処理される間、前記第１の領域から処理が完了した基板を排出し、前記第１の領域に新しい基板を供給し、前記第２の領域の基板が処理された後、前記第１の領域の基板が処理される間、前記第２の領域から処理が完了した基板を排出し、前記第２の領域に新しい基板を供給する。
【００１１】
本発明に係る平板パネル製造装置において、望ましくは、前記移送ロボットは、前記第２の方向に沿って直線状に往復移動しながら前記ローディングチャンバーから前記移送チャンバーを経て前記複数の工程チャンバーのうち一つの工程チャンバーに基板を供給し、前記一つの工程チャンバーで処理が完了した基板を前記一つの工程チャンバーから排出し、前記移送チャンバーを経て複数の工程チャンバーのうち他の一つの工程チャンバーに供給し、前記他の一つの工程チャンバーで処理が完了した基板を前記他の一つの工程チャンバーから排出し、前記移送チャンバーを経て前記アンローディングチャンバーに排出する。
【００１２】
本発明に係る平板パネル製造装置において、望ましくは、前記蒸着源は、一つ以上の材料を同時に蒸着するために各材料に対応する一つ以上の蒸発源を含む。
【００１３】
本発明に係る平板パネル製造装置において、望ましくは、前記蒸着源は、前記第２の方向に沿って複数個が離隔するように配置される。
【００１４】
本発明に係る平板パネル製造装置において、望ましくは、前記複数の工程チャンバーは、前記第２の方向に沿って前記移送チャンバーの側面に離隔するように配置される。
【００１５】
本発明に係る平板パネル製造装置において、望ましくは、前記移送チャンバーは二つの移送ロボットを含み、前記各移送ロボットは、前記第１の方向に沿って離隔するように、そして、前記第２の方向に沿って直線状に往復移動するように配置される。
【発明の効果】
【００１６】
本発明に係る平板パネル製造装置によると、基板の処理と移送が同時に行われることによって、単位時間当たりにより多くの個数の基板が処理されるので、生産性を向上させることができる。
【００１７】
また、本発明に係る平板パネル製造装置によると、工程チャンバー内で基板を処理する２個の領域を隣接するように配置することによって、工程チャンバーの大きさを最小化して装置全体の大きさを減少させることができ、蒸着源の移送距離及び時間を減少させ、その結果、全体的に蒸着工程時間を減少させることができる。
【００１８】
また、本発明に係る平板パネル製造装置によると、複数の工程チャンバーを一列に配置したとしても、工程チャンバーの間を直線状に往復移動できる移送ロボットを備えることによって、工程チャンバーの数量及び配置関係において工場内部の状況に応じて多様な構成を組み合わせることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の一実施例に係る平板パネル製造装置を概略的に示した平面図である。
【図２】図１の平板パネル製造装置の工程チャンバーの内部を示した側面図である。
【図３】図１の平板パネル製造装置の工程チャンバーの外部を示した図である。
【図４Ａ】図１の平板パネル製造装置で基板が処理されながら移送される過程を順次示した図である。
【図４Ｂ】図１の平板パネル製造装置で基板が処理されながら移送される過程を順次示した図である。
【図４Ｃ】図１の平板パネル製造装置で基板が処理されながら移送される過程を順次示した図である。
【図４Ｄ】図１の平板パネル製造装置で基板が処理されながら移送される過程を順次示した図である。
【図４Ｅ】図１の平板パネル製造装置で基板が処理されながら移送される過程を順次示した図である。
【図４Ｆ】図１の平板パネル製造装置で基板が処理されながら移送される過程を順次示した図である。
【図４Ｇ】図１の平板パネル製造装置で基板が処理されながら移送される過程を順次示した図である。
【図５】図１の平板パネル製造装置の工程チャンバーの他の例を概略的に示した図である。
【図６】本発明の他の実施例に係る平板パネル製造装置を概略的に示した平面図である。
【図７】本発明の更に他の実施例に係る平板パネル製造装置を概略的に示した平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明に係る平板パネル製造装置の各実施例を添付の図面を参照して詳細に説明する。
【００２１】
図１は、本発明の一実施例に係る平板パネル製造装置を概略的に示した平面図で、図２は、図１の平板パネル製造装置の工程チャンバーの内部を示した側面図で、図３は、図１の平板パネル製造装置の工程チャンバーの外部を示した図で、図４Ａ〜図４Ｇは、図１の平板パネル製造装置で基板が処理されながら移送される過程を順次示した図で、図５は、図１の平板パネル製造装置の工程チャンバーの他の例を概略的に示した図である。
【００２２】
図１〜図５を参照すると、本実施例の平板パネル製造装置１００は、有機発光表示素子平板パネルに対して有機物薄膜の蒸着工程を行えるものであって、工程チャンバー１１０、移送チャンバー１２０と、ローディングチャンバー１３０及びアンローディングチャンバー１４０を含む。
【００２３】
前記工程チャンバー１１０では基板１０が処理され、工程チャンバー１１０には少なくとも二つの基板１０が処理される内部空間が形成される。工程チャンバー１１０では、有機発光表示素子の製造に必要な有機物薄膜が基板１０上に蒸着される。
【００２４】
前記移送チャンバー１２０には複数の工程チャンバー１１０が結合され、前記移送チャンバー１２０は、第１の方向Ｌ１に沿って複数の工程チャンバー１１０の間に配置される。移送チャンバー１２０は、第１の方向Ｌ１に直交する第２の方向Ｌ２に沿って往復移動しながら未処理の基板１０を工程チャンバー１１０に供給したり、処理された基板１０を工程チャンバー１１０から排出する移送ロボット１２３を備える。移送チャンバー１２０の内部は真空状態に維持されることが望ましい。このような移送チャンバー１２０については後で説明することにする。
【００２５】
前記ローディングチャンバー１３０は、移送チャンバー１２０の一側に結合され、移送チャンバー１２０に供給される未処理の基板１０を収容する。ローディングチャンバー１３０の内部空間には多数の基板１０が収容されているが、これら基板１０は、後方の工程チャンバー１１０で行われる処理工程が行われていない未処理の基板１０であり、ローディングチャンバー１３０で待機状態に置かれる。
【００２６】
前記アンローディングチャンバー１４０は、移送チャンバー１２０の他側に結合され、移送チャンバー１２０から排出される処理が完了した基板１０を収容する。アンローディングチャンバー１４０の内部空間にも多数の基板１０が収容されているが、前方の工程チャンバー１１０で処理された後、後方の工程チャンバー１１０で行われる処理工程のためにアンローディングチャンバー１４０で待機状態に置かれる。
【００２７】
本発明に係る平板パネル製造装置１００の工程チャンバー１１０は、少なくとも二つ以上の基板１０に対する処理を行う。また、工程チャンバー１１０は、少なくとも二つの基板１０が第１の方向Ｌ１に供給及び排出されるように形成されたもので、第１の方向Ｌ１に直交する第２の方向Ｌ２に沿っていずれか一つの基板１０に工程ガスが蒸着されると同時に、残りの基板１０に対する移送及び位置整列が行われるように構成される。このために、工程チャンバー１１０には、基板１０が出入り可能な大きさで貫通形成された少なくとも二つの開口部１１５が形成されている。
【００２８】
図２及び図３を参照すると、このための工程チャンバー１１０は、本体部材１１１、各支持ユニット１１２、蒸着源１１３、駆動ユニット１１４及び制御部（図示せず）を含む。
【００２９】
前記本体部材１１１には内部空間が形成される。内部空間は、第１の領域Ａと、第１の領域Ａと隣接した第２の領域Ｂとからなる。ここで、第１の領域Ａと第２の領域Ｂは、本体部材１１１の内部空間を垂直に半分に分けたとき、それぞれの空間になり得る。このような本体部材１１１の一側面には、上述した少なくとも二つの開口部１１５を形成することができる。開口部１１５は、本体部材１１１の底面から同一の高さに互いに並んで位置させることができる。このような開口部１１５を介して移送チャンバー１２０への基板１０の出入りが可能である。
【００３０】
前記支持ユニット１１２は、本体部材１１１に移送された基板１０を支持し、位置を整列する。ここで、一つの支持ユニット１１２は第１の領域Ａ上に配置され、残りの一つの支持ユニット１１２は第２の領域Ｂ上に配置される。二つの支持ユニット１１２は、可能な限り密着し、第２の方向Ｌ２に沿って隣接するように配置されることが望ましい。これは、支持ユニット１１２が占める空間を最小化することによって工程チャンバー１１０の大きさを最小化し、後述する駆動ユニット１１４が駆動されるストロークを最小化することによって、駆動ユニット１１４が蒸着源１１３を第１の領域Ａから第２の領域Ｂにより迅速に移動させるためである。
【００３１】
各支持ユニット１１２の間に多くの余裕空間が形成されたり、蒸着源１１３が一定時間停止できる空間が形成される場合、余裕空間だけ工程チャンバー１１０が大きくなるので、製造費用が増加し、駆動ユニット１１４が蒸着源１１３を移動させるにおいて、余裕空間を通過する時間だけ基板１０の処理が遅延されることによって、基板処理時間が増加し得る。しかし、本発明に係る平板パネル製造装置１００の工程チャンバー１１０には、各支持ユニット１１２の間に余裕空間が存在しないので、蒸着源１１３が第１の領域Ａと第２の領域Ｂとの間を迅速に移動し、工程ガスの蒸着作業を迅速に行うことができる。
【００３２】
前記蒸着源１１３は、本体部材１１１の内部空間に配置され、基板１０に工程ガスを噴射する。蒸着源１１３の一例としては線形蒸着源を挙げることができる。本実施例において、蒸着源１１３から噴射される工程ガスは、有機発光表示素子を製造する際に使用される有機物質である。
【００３３】
図２を参考にすると単一の蒸着源１１３が本体部材１１１の内部空間に配置されたが、図５を参考にすると、工程チャンバー１１０'内には、複数の蒸着源１１３を第２の方向Ｌ２に沿って離隔するように配置することができる。それぞれの蒸着源１１３は、工程ガスを同時に噴射し、工程チャンバー１１０'内で噴射量を増加させることによって、蒸着工程に要される時間を短縮させることができる。
【００３４】
また、工程チャンバー１１０'内で基板１０に一つ以上の材料を同時に蒸着するために、それぞれの蒸着源１１３には一つ以上の材料をそれぞれ収容する一つ以上の蒸発源１１３ａを含むことができる。蒸発源１１３ａを通して噴射される各材料が混合されることによって工程ガスを構成する。
【００３５】
前記駆動ユニット１１４は、蒸着源１１３を第２の方向Ｌ２に沿って直線状に往復させる。駆動ユニット１１４は、一例として、線形モーター及び直線運動ガイドで構成することができる。線形モーターは、蒸着源１１３を直線状に往復させる駆動力を提供し、駆動力を受けた蒸着源１１３は、直線運動ガイドによって第２の方向Ｌ２に沿って直線状に往復運動する。このような構成は、通常の技術者にとって自明であるので、これについての詳細な説明は省略する。
【００３６】
前記制御部は、蒸着源１１３が第１の領域Ａと第２の領域Ｂとの間を往復するように駆動ユニット１１４を制御する。制御部は、一つの基板１０が蒸着源１１３によって第１の領域Ａで処理された後、蒸着源１１３は停止せずに第２の領域Ｂに移動し、残りの基板１０が蒸着源１１３によって第２の領域Ｂで処理された後、蒸着源１１３は停止せずに再び第１の領域Ａに移動するように駆動ユニット１１４を制御することが望ましい。このような制御部によって蒸着源１１３が駆動ユニット１１４によって第１の領域Ａと第２の領域Ｂを移動しながら、遅延時間なく二つの基板１０を迅速に処理することができる。
【００３７】
図１を参照すると、移送チャンバー１２０は、第２の方向に沿って直線状に往復移動しながら基板１０を移送する移送ロボット１２３を含み、移送ロボット１２３は、移動ユニット１２１及びロボットアーム１２２を含んで構成される。
【００３８】
移動ユニット１２１は、第２の方向Ｌ２に沿って直線状に往復移動する。このような移動ユニット１２１は、ローディングチャンバー１３０とアンローディングチャンバー１４０との間で直線状に往復移動する。
【００３９】
ロボットアーム１２２は、移動ユニット１２１の上部に回転可能に結合され、工程チャンバー１１０に基板１０を第１の方向Ｌ１に供給したり、工程チャンバー１１０から第１の方向Ｌ１に基板１０を排出する。ロボットアーム１２２の上側に基板１０が載せられた状態でスライディング移動によって基板１０を工程チャンバー１１０に供給したり、工程チャンバー１１０から排出する。このような構造からなる移送チャンバー１２０により、工程チャンバー１１０内で基板１０の処理、供給及び排出を同時に行うことができる。
【００４０】
移送ロボット１２３は、第２の方向Ｌ２に沿って直線状に往復移動しながら工程チャンバー１１０に基板１０を順次供給又は排出する。工程チャンバー１１０の一つの開口部１１５を介して処理された基板１０と未処理の基板１０を移送し、第２の方向Ｌ２に沿って直線状に往復移動して移送チャンバー１２０内で位置を変更した後、他の開口部１１５を介して処理された基板１０と未処理の基板１０を移送する。すなわち、移送チャンバー１２０内で直線往復移動を繰り返しながら工程チャンバー１１０と基板１０を交換する作業を行う。
【００４１】
以下では、制御部と移送ロボット１２３を用いて基板１０を処理する方法を説明する。
【００４２】
第１の方法では、制御部は、蒸着源１１３を第１の領域Ａの初期位置から第１の領域Ａ内で第２の方向Ｌ２に沿って移動させながら一つの基板１０を処理する過程と、蒸着源１１３を第２の領域Ｂに移動させ、第２の領域Ｂ内で第２の方向Ｌ２に沿って移動させながら残りの基板１０を処理した後、再び第１の領域Ａの初期位置に復帰する過程が繰り返して実行されるように駆動ユニット１１４を制御する。ここで、第１の領域Ａの初期位置とは、第１の領域Ａの基板１０の蒸着を開始する位置であって、第１の領域Ａで工程チャンバー１１０の側壁に隣接した位置を意味する。
【００４３】
このとき、移送ロボット１２３は、第１の領域Ａの基板及び第２の領域Ｂの基板が全て処理された後、第１の領域Ａ及び第２の領域Ｂから処理が完了した基板１０を排出し、第１の領域Ａ及び第２の領域Ｂに新しい基板１０を供給する。全ての基板１０の処理が完了した後、処理された基板１０の排出と新しい基板１０の供給が順次行われる。
【００４４】
第２の方法では、制御部は、蒸着源１１３を第２の方向Ｌ２に沿って第１の領域Ａ及び第２の領域Ｂに順次移動させながら第１の領域Ａの基板と第２の領域Ｂの基板を処理する過程と、再び蒸着源１１３を第２の方向Ｌ２に沿って第２の領域Ｂと第１の領域Ａに順次移動させながら第２の領域Ｂの基板と第１の領域Ａの基板を処理する過程が繰り返して実行されるように駆動ユニット１１４を制御する。
【００４５】
このとき、移送ロボット１２３は、第１の領域Ａの基板が処理された後、第２の領域Ｂの基板が処理される間、第１の領域Ａから処理が完了した基板１０を排出し、第１の領域Ａに新しい基板１０を供給し、第２の領域Ｂの基板が処理された後、第１の領域Ａの基板が処理される間、第２の領域Ｂから処理が完了した基板１０を排出し、第２の領域Ｂに新しい基板１０を供給する。
【００４６】
一つの基板１０の処理が完了し、他の一つの基板１０の処理が進められる間、新しい基板１０の供給が行われるなど、基板の処理と移送が同時に行われることによって、従来の平板パネル製造装置に含まれた工程チャンバーより単位時間当たり多くの個数の基板を処理できるので、生産性を向上させることができる。
【００４７】
前記のような構造からなる本発明に係る平板パネル製造装置１００の動作過程を図１〜図５を参照して説明する。図４Ａに示したように、工程チャンバー１１０の第１の領域Ａで蒸着源１１３によって基板１０ｂの処理が完了すると、図４Ｂに示したように、ローディングチャンバー１３０に位置した未処理の基板１０ａは、移送ロボット１２３によって工程チャンバー１１０に移送される。第１の領域Ａで処理が完了した基板１０ｂは、移送ロボット１２３によって搬出され、処理される基板１０ａは、第１の領域Ａに位置した支持ユニット１１２に載せられる。支持ユニット１１２は、蒸着源１１３から噴射される工程ガスが基板１０に均一に蒸着されるようにマスクと共に位置整列する。これと同時に、蒸着源１１３は、駆動ユニット１１４によって第２の領域Ｂに迅速に移送され、第２の領域Ｂ内で直線状に往復移動しながら基板１０に蒸着される工程ガスを噴射する。そして、図４Ｃ及び図４Ｄに示したように、移送ロボット１２３は、搬出された基板１０をアンローディングチャンバー１４０に移送する。
【００４８】
そして、図４Ｅ〜図４Ｇに示したように、第２の領域Ｂで基板１０ｂが処理されている間、移送ロボット１２３はローディングチャンバー１３０に移動して基板１０ａを第２の領域Ｂに移送し、第２の領域Ｂで処理が完了した基板１０ｂは搬出し、処理される基板１０ａは第２の領域Ｂに供給する。すなわち、蒸着源１１３は、第１の領域Ａと第２の領域Ｂを移動しながら継続して基板１０ａを処理し、ローディングチャンバー１３０に位置した基板１０ａは、移送ロボット１２３によって工程チャンバー１１０の第１の領域Ａと第２の領域Ｂに交互に供給される。前記のような過程が繰り返されて実施される。
【００４９】
一方、本実施例では、工程チャンバー１１０で処理された基板１０をアンローディングチャンバー１４０に移送したが、一つの工程チャンバー１１０で処理された基板１０を他の一つの工程チャンバー１１０に移送して処理した後、これをアンローディングチャンバー１４０に移送することもできる。
【００５０】
すなわち、ローディングチャンバー１３０から移送チャンバー１２０を経て複数の工程チャンバー１１０のうち一つの工程チャンバー１１０（例えば、移送チャンバーの右側に位置する工程チャンバー）に基板１０を供給し、一つの工程チャンバー１１０で処理が完了した基板１０を一つの工程チャンバー１１０から排出し、移送チャンバー１２０を経て複数の工程チャンバー１１０のうち他の一つの工程チャンバー１１０（例えば、移送チャンバーの左側に位置する工程チャンバー）に供給し、他の一つの工程チャンバー１１０で処理が完了した基板１０を他の一つの工程チャンバー１１０から排出し、移送チャンバー１２０を経てアンローディングチャンバー１４０に排出することもできる。
【００５１】
上述したように構成された本実施例に係る平板パネル製造装置１００において、蒸着源１１３は、第１の領域Ａで基板１０の処理が完了すると、遅延時間なく第２の領域Ｂに移動されて他の基板１０を処理し、持続的に基板１０を処理するので、工程時間を最小化することによって生産性を向上させることができる。
【００５２】
また、上述したように構成された本実施例に係る平板パネル製造装置１００は、二つの支持ユニット１１２の間の空間がほとんどないように配置し、二つの基板１０を収容するとしても工程チャンバー１１０の大きさを最小化することによって、工程チャンバー１１０の製造費用を節減することができる。
【００５３】
一方、図６を参照すると、本発明の他の実施例に係る平板パネル製造装置２００において、工程チャンバー１１０は複数個であり、移送チャンバー１２０の側面に第２の方向Ｌ２に沿って離隔するように配置することができる。このような構造によって単位時間の間より多くの量の基板を処理できるので、図１に示した平板パネル製造装置１００よりも生産性を向上させることができる。
【００５４】
前記のように工程チャンバー１１０が複数個である場合、図７に示したように、移送チャンバー１２０は、二つの移送ロボット１２３を含むことができ、各移送ロボット１２３は、第１の方向Ｌ１に沿って互いに離隔するように配置され、第２の方向Ｌ２に沿って直線状に往復移動するように配置される。
【００５５】
いずれか一つの移送ロボット１２３は、移送チャンバー１２０の一側に結合された各工程チャンバー１１０ａに基板１０を供給したり、各工程チャンバー１１０ａから基板１０を排出し、残りの一つの移送ロボット１２３は、移送チャンバー１２０の他側に結合された各工程チャンバー１１０ｂに基板１０を供給したり、各工程チャンバー１１０ｂから基板１０を排出する。このような構造により、工程チャンバー１１０で処理された基板１０の排出速度のみならず、工程チャンバー１１０に基板１０が供給される速度もより向上させることができる。
【００５６】
本発明の権利範囲は、上述した実施例及び変形例に限定されるものではなく、添付の特許請求の範囲内で多様な形態の実施例に具現することができる。特許請求の範囲で請求する本発明の要旨を逸脱しなく、当該発明の属する技術分野で通常の知識を有する者であれば誰でも変形可能な多様な範囲まで本発明の特許請求の範囲の記載の範囲内にあると見なす。
【符号の説明】
【００５７】
１００：平板パネル製造装置、１１０：工程チャンバー、１１１：本体部材、１１２：支持ユニット、１１３：蒸着源、１１４：駆動ユニット、１２０：移送チャンバー、１２３：移送ロボット、１３０：ローディングチャンバー、１４０：アンローディングチャンバー
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図４Ｃ】
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【図４Ｄ】
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【図４Ｅ】
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【図４Ｆ】
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【図４Ｇ】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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