(57)【要約】【課題】酸素による重合阻害などの環境の影響を受けにくい活性エネルギー線硬化型インクジェットインクを、小液滴で射出することで、高精細で凹凸感の低減された高品質な画像を提供する。【解決手段】不飽和結合を有する重合性モノマーを２種以上含有する活性エネルギー線硬化型インクジェットインクの液滴を、０．１〜１２ｐｌのサイズで射出して、記録媒体に着弾させる工程と、前記記録媒体に着弾した液滴に活性光線を照射して硬化させる工程と、を含む画像形成方法であって、前記インクジェットインクに含まれる２種以上の重合性モノマーのうち、不飽和結合を構成する炭素原子の電荷の最大値Ｘと、不飽和結合を構成する炭素原子の電荷の最小値Ｙとするとき、最大値Ｘと最小値Ｙとの差が０．２４以上、０．４６以下であり、インクジェットインクの２５℃における粘度が２０〜５００ｍＰａである、画像形成方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
不飽和結合を有する重合性モノマーを２種以上含有する活性エネルギー線硬化型インクジェットインクの液滴を、０．１〜１２ｐｌのサイズで射出して、記録媒体に着弾させる工程と、
前記記録媒体に着弾した液滴に活性光線を照射して硬化させる工程と、を含む画像形成方法であって、
前記インクジェットインクに含まれる２種以上の重合性モノマーのうち、不飽和結合を構成する炭素原子の電荷の最大値Ｘと、不飽和結合を構成する炭素原子の電荷の最小値Ｙとするとき、最大値Ｘと最小値Ｙとの差が０．２４以上、０．４６以下であり、インクジェットインクの２５℃における粘度が２０〜５００ｍＰａである、画像形成方法。
【請求項２】
前記記録媒体に着弾したインク液滴に、着弾後０．００１〜１．０秒の間に、２００ｍＪ/ｃｍ２以下の積算光量の前記活性光線を照射する、請求項１に記載の画像形成方法。
【請求項３】
前記活性光線の照度が５Ｗ以下である、請求項１または２に記載の画像形成方法。
【請求項４】
前記活性光線は、ＬＥＤを光源とする光である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の画像形成方法。
【請求項５】
活性エネルギー線硬化型インクジェットインクの液滴を、０．１〜４ｐｌのサイズで射出する、請求項１〜４のいずれか１項に記載の画像形成方法。
【請求項６】
前記インクジェットインクの２５℃における表面張力が１５ｍＮ/ｍ以上３５ｍＮ／ｍ未満である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の画像形成方法。
【請求項７】
シリアルヘッド方式のインクジェット記録装置により行われる、請求項１〜６のいずれか１項に記載の画像形成方法。
【請求項８】
ラインヘッド方式インクジェット記録装置により行われる、請求項１〜６のいずれか１項に記載の画像形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、インクジェットインクを用いた画像形成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、インクジェット記録方式は、簡便でかつ安価に画像を作成できる観点から、写真、各種印刷、マーキング、カラーフィルター等の特殊印刷など、様々な印字分野に利用されている。インクジェット記録方式で用いられるインクジェットインクの例には、水を主溶媒とする水性インクジェットインクがある。また、室温では揮発しない不揮発性溶媒を主として実質的に水を含まない油性インクジェットインク、室温で揮発する溶媒を主として実質的に水を含まない非水系インクジェットインク、室温では固体のインクを加熱溶融して印字するホットメルトインクがある。さらには印字後に紫外線等の活性光線により硬化する活性エネルギー線硬化型インクジェットインクなどがあり、用途に応じて使い分けられている。
【０００３】
なかでも、活性エネルギー線硬化型インクジェットインクは、速硬化性を備えており、多種多様な記録媒体上にも印字ができるという特徴がある。そのため、乾燥負荷が大きく記録媒体が限定される水性インクジェットインクや、油性インクジェットインク、非水系インクジェットインクに代わる次世代インクジェットインクとして注目されており、その用途拡大の期待が大きい。
【０００４】
インクジェット記録方式の画質を高めるための手段として、射出されたインクのドット径を安定させるための基材（例えば、水系インク吸収性基材）を選択したり、濃淡インクセットを用いたり、インクの液滴サイズを小さくしたりすることが考えられる。活性エネルギー線硬化型インクジェットインクを用いたインクジェット記録方式では、基材を限定することができないため、濃淡インクを用いるか、インクの液滴サイズを小さくすることで、画質を高めることが好ましい。
【０００５】
近年のインクジェットの開発により、ヘッドのノズルを小さくすることができ、２ｐｌ未満の液滴サイズの射出が可能になっている。そのため、活性エネルギー線硬化型インクジェットインクにおいても、数ｐｌの液滴を射出して、画像を形成する試みがなされている。
【０００６】
活性エネルギー線硬化型インクジェットインクは、ラジカル重合型とカチオン重合型とに主に分類される。ラジカル重合型のインクジェットインクは、その素材選択の幅が広く、インク設計の自由度が高いことから、広く研究開発され、実用化されている。ところが、ラジカル重合型インクは酸素による重合阻害を受けやすい。液滴サイズを小さくすると、さらに酸素による重合阻害を受け、感度が大幅に低下する。その結果、未硬化インク同士の滲みが起こり、画質が劣化したり、未反応モノマーが残留してモノマー臭がしたり、耐溶剤性、耐擦過性が得られないなどの課題が生じる。
【０００７】
ラジカル重合型インクの酸素阻害を抑制する技術として、窒素パージや光源の高照度化が考えられる。しかしながら、これらの手段は、装置の大型化、光源の発熱、装置のコストアップ、熱に弱い基材の使用制限といった問題を生じさせる。また、重合開始剤の量を増やして高感度化を試みる方法が提案されているが、重合開始剤の残留や低温保存時の析出、低照度光源での硬化不良などの問題がある（特許文献１参照）。
【０００８】
一方、カチオン重合型のインクジェットインクは、酸素による重合阻害の影響を受けないものの、湿度の影響により重合反応が阻害される。そのため、高画質化のために液滴サイズを小さくすると、特に高湿下において感度が大幅に低下する（特許文献２参照）。
【０００９】
また、新たな重合方式として電荷移動錯体重合系化合物（ＣＴ重合系化合物と称される）を、活性エネルギー線硬化型組成物の重合モノマーに適用する試みがなされている（例えば、非特許文献１参照）。さらには、ビニルエーテルなどの電子過多モノマー（ドナーモノマー）とマレイミドなどの電子不足モノマー（アクセプターモノマー）との組み合わせを含むモノマー組成物を、ＣＴ重合させることも提案されている（特許文献３および４を参照）。
【００１０】
広告産業においては、使用する出力物（大判サインや商品ラベルなど）が屋外に長期間置かれるため、画像の色褪せなどを防止するために画像の耐候性が要求される。これらの出力物の基材としては熱に弱いプラスチックフィルムや塩化ビニルが多く用いられいる。しかし、このような基材上で耐候性を有する画像を形成する際に、インク硬化時の光照射を強くすると、基材が熱ダメージによりカールしてしまう。
【００１１】
熱に弱い基材上で耐候性を有する画像を形成するには、インクへの光照射は低照度かつ低積算光量であることが要求される。しかし、酸素や湿度などによる重合阻害を受けやすいラジカル重合型とカチオン重合型のインクジェットインクは、画像形成時の光照射が低照度かつ低積算光量の場合に耐候性を有する画像は得られないという問題があった（特許文献５参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１２】
【特許文献１】特開２００５−１５４５３７号公報
【特許文献２】特開２００５−１４４７９０号公報
【特許文献３】特許第３３５３０２０号公報
【特許文献４】特開平１１−１２４４０３号公報
【特許文献５】特開２００９−２６３６０３号公報
【非特許文献】
【００１３】
【非特許文献１】Sonny Jonsson,et.al, Polymer Materials Sci.＆Enginer. 1995, 72, 470-472
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
本発明の第一の目的は、酸素による重合阻害などの環境の影響を受けにくい活性エネルギー線硬化型インクジェットインクを、小液滴で射出することで、高精細で凹凸感の低減された高品質な画像を提供することである。さらには、インクを硬化させるための活性エネルギーの照射量を低減する。
本発明の第二の目的は、酸素や湿度などによる重合阻害を受けにくい活性線エネルギー線硬化型インクジェットインクを用いることで、画像形成時の光照射を低照度かつ低積算光量とした場合においても、耐候性を有する画像を提供することである。それにより、熱に弱い基材への熱ダメージを低減でき、基材のカールを抑制する。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明は以下の内容に関する。
［１］不飽和結合を有する重合性モノマーを２種以上含有する活性エネルギー線硬化型インクジェットインクの液滴を、０．１〜１２ｐｌのサイズで射出して、記録媒体に着弾させる工程と、前記記録媒体に着弾した液滴に活性光線を照射して硬化させる工程と、を含む画像形成方法であって、
前記インクジェットインクに含まれる２種以上の重合性モノマーのうち、不飽和結合を構成する炭素原子の電荷の最大値Ｘと、不飽和結合を構成する炭素原子の電荷の最小値Ｙとするとき、最大値Ｘと最小値Ｙとの差が０．２４以上、０．４６以下であり、インクジェットインクの２５℃における粘度が２０〜５００ｍＰａである、画像形成方法。
［２］前記記録媒体に着弾したインク液滴に、着弾後０．００１〜１．０秒の間に、２００ｍＪ/ｃｍ２以下の積算光量の前記活性光線を照射する、［１］に記載の画像形成方法。
［３］前記活性光線の照度が５Ｗ以下である、［１］または［２］に記載の画像形成方法。
［４］前記活性光線は、ＬＥＤを光源とする光である、［１］〜［３］のいずれか１つに記載の画像形成方法。
［５］活性エネルギー線硬化型インクジェットインクの液滴を、０．１〜４ｐｌのサイズで射出する、［１］〜［４］のいずれか１つに記載の画像形成方法。
［６］前記インクジェットインクの２５℃における表面張力が１５ｍＮ/ｍ以上３５ｍＮ／ｍ未満である、［１］〜［５］のいずれか１つに記載の画像形成方法。
［７］シリアルヘッド方式のインクジェット記録装置により行われる、［１］〜［６］のいずれか１つに記載の画像形成方法。
［８］ラインヘッド方式インクジェット記録装置により行われる、［１］〜［６］のいずれか１つに記載の画像形成方法。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、高精細で凹凸感の低減された高品質な画像を提供することができる。また、低照度の光源でインクを硬化できるため、システムのコンパクト化、省エネ化が実現される。
本発明によれば、熱に弱い基材に対しても熱ダメージを与えることなく、耐候性を有する画像を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明のシリアルヘッド方式のインクジェット記録装置の要部の構成の一例を示す正面図である。
【図２】本発明のラインヘッド方式のインクジェット記録装置の要部の構成の一例を示す上面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下に、実施形態を挙げて本発明の説明を行うが、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。
実施形態に係る画像形成方法は、１）活性エネルギー線硬化型インクジェットインクの液滴を射出して、記録媒体に着弾させる工程と、２）上記記録媒体に着弾した液滴に、活性光線を照射して硬化させる工程と、を含む。
【００１９】
活性エネルギー線硬化型インクジェットインクについて
活性エネルギー線硬化型インクジェットインクには、２種以上の重合性モノマーが含まれる。２種以上の重合性モノマーは、それぞれ不飽和結合（通常は炭素炭素二重結合）を有する。
【００２０】
活性エネルギー線硬化型インクジェットインクに含まれる２種以上の重合性モノマーは、それぞれ不飽和結合を有する。２種以上の重合性モノマーのうち、不飽和結合を構成する炭素原子の電荷が最大である重合性モノマーを「電子密度の高いモノマー」という。２種以上の重合性モノマーのうち、不飽和結合を構成する炭素原子の電荷が最小である重合性モノマーを「電子密度の低いモノマー」という。「電子密度の高いモノマー」の不飽和結合を構成する炭素原子の電荷を電荷Ｘとし、「電子密度の低いモノマー」の不飽和結合を構成する炭素原子の電荷を電荷Ｙとするとき、電荷Ｘと電荷Ｙとの差を０．２４以上、０．４６以下とする。
【００２１】
重合性モノマーにおける不飽和結合を構成する炭素原子の電荷とは、分子軌道法理論に基づいて計算によって得られる基底状態における原子上の電荷（atomic charge）をいう。重合性モノマーの基底状態における不飽和結合の炭素原子上の電荷は、コンピュータを用いた計算によって求めることができる。本発明では、分子軌道計算ソフトであるSPARTAN’08 for Windows（登録商標）を使用し、計算手法をEquilibrium Geometry at Ground state with Hartree-Fock 3-21G in Vacuumとすることができる。電荷の値はNatural atomic chargeとする。
【００２２】
電子密度の低いモノマーにおける「不飽和結合を構成する炭素」とは、電子吸引性基が結合した不飽和結合上の二つの炭素のうち電荷の値の大きい方の炭素を意味する。電子密度が高いモノマーにおける「不飽和結合を構成する炭素」とは、電子供与性基が結合した不飽和結合上の二つの炭素のうち電荷の値の小さい方の炭素を意味する。一分子の重合性モノマー中に不飽和結合が複数存在する場合には、「不飽和結合を構成する炭素」とは、各不飽和結合を構成する炭素の電荷の平均値をいう。
【００２３】
電荷Ｘと電荷Ｙとの差が０．２４以上であれば、ＣＴ重合が起こりやすくなる。また、電荷Ｘと電荷Ｙとの差が０．４６以下であれば、電荷移動錯体が過度に安定化することなく、重合速度が十分に速くなる。
【００２４】
また、電荷Ｘと電荷Ｙとの差を大きくするには、不飽和結合の電子密度が過剰に高いモノマーを用いるか、または不飽和結合の電子密度が過剰に低いモノマーを用いなければならない。電子密度が過剰に高いモノマーは、酸の存在下で加水分解を受けやすく、かつ重合も起こりやすい。一方で、電子密度が過剰に低いモノマーは、アルカリ（塩基）の存在下で、加水分解の影響を受けやすい。従って、電子密度が過剰に高いモノマーと電子密度が過剰に低いモノマーとを組み合わせたインクは、酸およびアルカリのいずれにも劣化しやすい場合がある。
【００２５】
本実施形態における、活性エネルギー線硬化型インクジェットインクには、不飽和結合を有する重合性モノマーを少なくとも２種以上含有し、電荷Ｘと電荷Ｙとの差が適切に調整されているので、光硬化性が高く（高感度）、インクを長期間にわたって保存したときの安定性（例えば、粘度安定性）とに優れる。
【００２６】
＜電子密度の低いモノマー＞
本実施形態における電子密度の低いモノマーとは、電子不足の不飽和結合を有するモノマーである。電子密度の低いモノマーにおける不飽和結合を構成する炭素原子の電荷（atomic charge）の値は、−０．３以上であることが好ましく、より好ましくは−０．２８以上である。
【００２７】
実施形態に係るインクジェットインクにおける電子密度の低いモノマー（不飽和結合を構成する炭素原子の電荷が最大である重合性モノマー）は、一般式（４）または一般式（５）で表される不飽和結合を有する化合物であることが好ましい。
【化１】
2013147023.tif 000002
【００２８】
上記一般式（４）または一般式（５）において、ＥＷＧ１及びＥＷＧ２は、各々電子吸引性基が不飽和結合に直結する部分構造を表す。ＥＷＧ１またはＥＷＧ２の一部が結合して環状構造を有していてもよい。電子吸引性基は、シアノ基、ハロゲン基、ピリジル基、ピリミジル基、ニトロ基、下記一般式（ａ）で表される基、または下記一般式（ｂ）で表される基を表す。
【００２９】
また、ＥＷＧ１とＥＷＧ２は互いに結合して以下に示す電子吸引性連結基を形成して環状構造を形成してもよい。該電子吸引性連結基の例には、-ＣＯ-Ｏ-ＣＯ-、-ＣＯ-Ｎ（ＲＸ）-ＣＯ-、-Ｓ（Ｏ）ｎ-Ｏ−ＣＯ-、-Ｓ（Ｏ）ｎ-Ｎ（Ｒ）-ＣＯ-、-Ｓ（Ｏ）ｎ-Ｏ-Ｓ（Ｏ）ｎ-、または-Ｓ（Ｏ）ｎ-Ｎ（ＲＸ）-Ｓ（Ｏ）ｎ-などが含まれる。
【００３０】
ＥＷＧ１とＥＷＧ２は直鎖アルキレン基、分岐アルキレン基、環状アルキレン基、水酸基を有するアルキレン基、アリーレン基またはアリールアルキレン基等の連結基を介して環状構造を形成しても良く、さらに置換基を有していても良い。また、ＥＷＧ１またはＥＷＧ２の一部が連結基を介し、２つ以上の不飽和結合部分を有する多官能重合性化合物を形成してもよい。
【００３１】
【化２】
2013147023.tif 000003
【００３２】
上記一般式（ａ）および（ｂ）において、Ｑ１はＯＨ、ＯＲ'、ＮＲ'Ｒ''またはＲ'を表す。Ｒ'及びＲ''は、各々水素原子、直鎖アルキル基、分岐アルキル基、環状アルキル基、水酸基を有するアルキル基、アリール基またはアリールアルキル基を表し、さらに置換基を有してもよい。
【００３３】
一般式（４）または一般式（５）で表される不飽和化合物の具体例には、ビニレンイミド化合物、ビニレンジカルボン酸、ビニレンジカルボン酸エステル、ビニレンモノカルボン酸アミドモノカルボン酸、ビニレンモノカルボン酸アミドモノカルボン酸エステル、ビニレンジカルボン酸アミド、ビニレン骨格両端にニトリル基が置換したビニレンニトリル化合物、ビニレン骨格両端にハロゲン基が置換したハロゲン化ビニル化合物、ビニレン骨格両端にカルボニルが置換したビニレンジケトン化合物、ビニレンジチオカルボン酸無水物、ビニレンチオイミド化合物、ビニレンジチオカルボン酸、ビニレンジチオカルボン酸エステル、ビニレンモノチオカルボン酸アミドモノチオカルボン酸、ビニレンモノチオカルボン酸アミドモノチオカルボン酸エステル、ビニレンジチオカルボン酸アミド、ビニレン骨格両端にピリジル基が置換した化合物、ビニレン骨格両端にピリミジル基が置換した化合物構造などが挙げられるが、これらに限定されない。
【００３４】
電子密度の低いモノマーである不飽和化合物の好ましい例には、無水マレイン酸、マレイミドなどのビニレンイミド、マレイン酸、フマル酸などのビニレンジカルボン酸、マレイン酸エステル、フマル酸エステルなどのビニレンジカルボン酸エステルなどが含まれる。より好ましくは、無水マレイン酸、マレイン酸、フマル酸、マレイン酸エステル類、フマル酸エステル類、マレイミド化合物が、高感度化の観点から好ましい。
【００３５】
また、本発明においては、一般式（４）または一般式（５）で表される不飽和化合物が、下記一般式（Ａ−１）〜一般式（Ａ−１３）から選ばれる少なくとも１種の不飽和化合物であることが好ましい。
【００３６】
【化３】
2013147023.tif 000004
【００３７】
一般式（Ａ−１）〜一般式（Ａ−１３）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は、各々独立に水素原子、直鎖アルキル基、又は、分岐アルキル基、環状アルキル基、水酸基を有するアルキル基、アリール基またはアリールアルキル基を表し、さらに置換基を有していても良く、２つ以上の不飽和結合部分を有する多官能重合性化合物を形成するための連結基とすることができる。Ｘ１はハロゲン原子を表す。
【００３８】
電子密度の低いモノマーは、一般式（Ａ−１）〜一般式（Ａ−１３）で表される不飽和化合物のうち、一般式（Ａ−１）、一般式（Ａ−２）または一般式（Ａ−６）で表される不飽和化合物であることがより好ましい。
【００３９】
以下に、一般式（Ａ−１）〜一般式（Ａ−１３）で表される不飽和化合物を以下に説明するが、これらに限定されるものではない。以下に説明する不飽和化合物が有する不飽和結合の炭素原子の電荷は、いずれも−０．３以上の値を示す。
【００４０】
一般式（Ａ−１）〜（Ａ−１３）で表される単官能の不飽和化合物の例には、ビニレンジカルボン酸無水物を有する化合物の例として無水マレイン酸；ビニレンイミドを有する化合物の例としてマレイミド、Ｎ-メチルマレイミド、Ｎ-エチルマレイミド、Ｎ−ブチルマレイミド、Ｎ-２-エチルヘキシルマレイミド、Ｎ-ドデシルマレイミド、Ｎ-オクタデシルマレイミド、Ｎ-フェニルマレイミド、Ｎ-シクロヘキシルマレイミド、Ｎ-（ｐ-カルボメトキシフェニル）マレイミド、４,４'-ジマレイミドビスフェノールＦ、Ｎ-ブチルマレイミド、Ｎ-（２-クロロフェニル）マレイミド、Ｎ-（４-クロロフェニル）マレイミド、２,３-ジメチル-１-Ｎ-（２-メタクリルオキシエチルマレイミド；ビニレンジカルボン酸の例として、マレイン酸、フマル酸；ビニレンジカルボン酸エステルの例として、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジイソプロピル、マレイン酸ジ-ｎ-ブチル、マレイン酸ジ-tert-ブチル、マレイン酸ジ（２-エチルヘキシル）、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジイソプロピル、フマル酸ジ-ｎ-ブチル、フマル酸ジ-tert-ブチル、フマル酸ジ（２-エチルヘキシル）などが含まれるが、いずれもこれら具体例には限定されない。
【００４１】
電子密度の低いモノマーである多官能重合性モノマーは、従来公知の連結基骨格を有する。例えば、米国特許第６，０３４，１５０号明細書、特開平１１−１２４４０３号公報などに記載されているような多官能マレイミド誘導体でありうる。
【００４２】
以下に、電子密度の低いモノマーとして好ましいマレイミド誘導体について説明する。電子密度の低いモノマーとしてのマレイミド誘導体は、インクジェットインクとして要求される溶解性、低粘度、射出安定性の観点から、分子中にキラル構造を有するマレイミド化合物であることが好ましい。
【００４３】
キラル基を有するマレイミド化合物は、分子中にキラル炭素原子を最低一つ以上有していれば特に限定されないが、この好ましいマレイミド化合物としては、下記一般式（１）で表される化合物が好ましい。
【００４４】
【化４】
2013147023.tif 000005
【００４５】
上記一般式（１）において、Ｒ１、Ｒ２は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｒ１、Ｒ２は連結して環を形成してもよい。Ｙ１、Ｙ３、Ｚは、アルキレン基、アルキレンオキシ基、フェニレン基、エステル基、エーテル基、チオエーテル基から選ばれる基が組み合わされた２価の有機連結基を表す。Ｙ２は不斉炭素を有する２価の基を表す。ｎは１〜６の整数、ｎ１は０または１、ｎ２は０または１を表す。
【００４６】
Ｒ１、Ｒ２で表されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基等を挙げることができる。またＲ１及びＲ２が結合して、シクロプロピレン環、シクロブチレン環、シクロペンテン環、シクロヘキセン環等を形成してもよい。
【００４７】
Ｙ１、Ｙ３で表される２価の有機連結基は、アルキレン基（例えば、メチレン基、エチレン基、ブチレン基、ヘキシレン基等）、アルキレンオキシ基（例えば、エチレンオキシ基、ポリエチレンオキシ基、ブチレンオキシ基、ポリブチレンオキシ基）、アルキレンオキシカルボニル基（例えば、エチレンオキシカルボニル基、ヘキシレンオキシカルボニル基等）、アルキレンエステル基（例えば、メチレンエステル基、ヘキシレンエステル基、フェニレン基）、フェニル基（例えば、メチルフェニレン基、オキシカルボニルフェニレンカルボニルオキシ基、カルボニルオキシフェニレンオキシカルボニル基などでありうる。
【００４８】
Ｙ２は不斉炭素（キラル炭素）を有する２価の基を表す。具体的には、下記式で表される。
【化５】
2013147023.tif 000006
【００４９】
上記式中、Ｘは炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数１〜１８のアルケニル基、炭素数１〜１８のアルキルオキシ基、炭素数１〜１８のアルキルカルボニルオキシ基または水酸基を表す。好ましくは、炭素数１〜４のメチル基、エチル基、プロピル基、イソブチル基が挙げられる。
【００５０】
上記一般式（１）においてＺは、ｎ価の連結基を表す。ｎ＝１の場合は、Ｚは水素原子、アルキル基（メチル基、エチル基、ヘキシル基）、水酸基、カルボキシル基、アルキルエステル基直である。ｎ＝２の場合は、Ｚは上記Ｙ１、Ｙ３で表される２価の有機連結基と同義である。ｎ＝３の場合は、Ｚはグリセリン基、トリメチロールアルキル基、トリアジン基などである。ｎ＝４の場合は、Ｚはペンタエリスリトール基などであり、ｎ＝６の場合は、Ｚはビストリメチロールアルキル基などである。
【００５１】
インクジェットインクをインクジェットヘッドから射出するためには、キラル基を有するマレイミド化合物の分子量は２００〜１０００であることが好ましく、より好ましくは２００〜８００である。２００より小さいと結晶化しやすく、射出時に目詰まりが起こりやすくなる。また、分子量は１０００より大きいと、粘度が高くなり、射出が難しくなる。
【００５２】
キラル基を有するマレイミド化合物のさらに好ましい例には、以下の構造式で表されるマレイミド化合物がある。
【化６】
2013147023.tif 000007
【００５３】
ｎ１１、ｎ１２は０〜６の整数であり、ｎ１３は１〜３０の整数が好ましい。Ｒ１、Ｒ２は、Ｚは、一般式（１）におけるＲ１、Ｒ２、Ｚと同義である。Ｘは、上記Ｙ２で表される不斉炭素（キラル炭素）を有する２価の基の例として挙げた式のＸと同義である。特に好ましくは、Ｒ１、Ｒ２は水素原子、Ｘは炭素数１〜４のアルキル基、ｎ１２は０、Ｚは炭素数１〜１８のアルキレン、ポリオキシアルキレンである。
【００５４】
以下に、一般式（１）で表されるキラル基を有するマレイミド化合物の具体例を示すが、これに限定されない。
【化７】
2013147023.tif 000008
【化８】
2013147023.tif 000009
【化９】
2013147023.tif 000010
【化１０】
2013147023.tif 000011
【化１１】
2013147023.tif 000012
【００５５】
これらのマレイミド化合物の合成法は公知であり、例えば特開平１１−１２４４０３号公報、あるいはMacromolecular Chemical and physics, 2009,210,269-278に記載の方法を用いて合成することができる。
【００５６】
実施形態に係るインクジェットインクにおいて、電子密度の低いモノマーとして適用可能なより好ましいマレイミド誘導体としては、低粘度、溶解性、射出安定性の観点から、下記一般式（２）で表されるマレイミド誘導体が挙げられる。
【化１２】
2013147023.tif 000013
【００５７】
上記一般式（２）において、Ｒ１１、Ｒ１２は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｒ１１、Ｒ１２はそれぞれ結合して環を形成してもよい。Ａ１１、Ａ１３は、それぞれ独立にアルキレン基を表し、Ａ１２は不斉中心を有する３価の炭化水素基を表す。Ｙは、カルボニルオキシ（-Ｃ(=Ｏ)-Ｏ-）またはオキシカルボニル（-Ｏ-Ｃ(=Ｏ)-）を表す。ｐは１または２を表す。Ｒ１３はｐが１の場合は分子量１５〜６００のアルキル基、アルキレンオキシ基、ｐが２の場合は、分子量１４〜６００のアルキレン基、アルキレンオキシ基を表す。ｍは０または１、ｎは０または１を表す。
【００５８】
一般式（２）において、Ｒ１１及びＲ１２で表されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基等を挙げることができる。またＲ１１及びＲ１２が結合して、シクロプロペン環、シクロブチレン環、シクロペンテン環、シクロヘキセン環等を形成してもよい。
【００５９】
Ａ１１、Ａ１３で表される２価の有機連結基としては、メチレン基、エチレン基、ブチレン基、ヘキシレン基エチレンオキシ基、ポリエチレンオキシ基、ブチレンオキシ基、ポリブチレンオキシ基、エチレンオキシカルボニル基、ヘキシレンオキシカルボニル基、メチレンエステル基、ヘキシレンエステル基、フェニレン基、メチルフェニレン基、オキシカルボニルフェニレンカルボニルオキシ基、カルボニルオキシフェニレンオキシカルボニル基が挙げられる。
【００６０】
Ａ１２は不斉炭素（キラル炭素）を有する３価の基を表す。
【００６１】
上記一般式（２）において、Ａ１１およびＡ１３がメチレン基、Ａ１２が-ＣＨＲ１４-、Ｒ１３が炭素数２〜１２のアルキル基、又はアルキレン基であることが好ましい。このとき、Ｒ１４は炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１８のアルケニル基、炭素数１〜１８のアルキルオキシ基、炭素数１〜１８のアルキルカルボニルオキシ基または水酸基を表す。好ましくは、Ｒ１４は炭素数１〜４のアルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基、イソブチル基等）などである。
【００６２】
ｐが１の場合のＲ１３で表される分子量１５〜６００のアルキル基とは、炭素数１〜１８の直鎖あるいは分岐のアルキル基であり、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル、基、ネオペンチル基、ドデシレル基、２,２,４-オクチル基などでありうる。
【００６３】
ｐが２の場合のＲ１３で表される分子量１４〜６００のアルキレン基とは、炭素数１〜１８の直鎖あるいは分岐のアルキレン基であり、具体的にはメチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキシレン、基、ネポペンチレン基、ドデシレン基、２,２,４-オクチレン基などでありうる。
【００６４】
ｐが１の場合のＲ１３で表されるアルキレンオキシ基の例には、ヒドロキシまたはアルコキシポリエチレンオキシ基、ヒドロキシまたはアルコキシポリプロレンオキシ基、ヒドロキシまたはアルコキシポリブチレンオキシ基などが含まれるが、これらに限定されない。
【００６５】
好ましいＲ１３は、炭素数１〜１８の直鎖あるいは分岐のアルキレン基、炭素数１〜１８の直鎖あるいは分岐のアルキル基であり、さらに好ましくは、炭素数４〜１２の直鎖あるいは分岐のアルキレン基、炭素数４〜１２の直鎖あるいは分岐のアルキル基である。
【００６６】
さらに好ましいマレイミド誘導体として、下記一般式（II）〜（IV）で表されるマレイミド誘導体を挙げることができる。
【化１３】
2013147023.tif 000014
【００６７】
上記一般式（II）〜（IV）において、Ｒ１４は、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１８のアルケニル基、炭素数１〜１８のアルキルオキシ基、炭素数１〜１８のアルキルカルボニルオキシ基または水酸基を表す。好ましくは、炭素数１〜４のアルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基、イソブチル基等）が挙げられる。ｐは、１または２を表す。Ｒ１５は直鎖の炭素数４〜１２のアルキル基、又はアルキレン基を表す。
【００６８】
以下に実施形態における一般式（２）で表されるマレイミド誘導体の具体例を示す。
【化１４】
2013147023.tif 000015
【化１５】
2013147023.tif 000016
【化１６】
2013147023.tif 000017
【化１７】
2013147023.tif 000018
【００６９】
＜電子密度の高いモノマー＞
本実施形態における電子密度の高いモノマーとは、電子過多の不飽和結合を有するモノマーであり、不飽和結合を構成する炭素原子の電荷（atomic charge）の値が−０．４５以下であることが好ましく、より好ましくは−０．５０以下である。
【００７０】
不飽和結合を有する２種以上の重合性モノマーにおいて、電子密度の高いモノマー（不飽和結合を構成する炭素原子の電荷が最小である重合性モノマー）は、下記一般式（６）で表される不飽和化合物であることが好ましい。
【化１８】
2013147023.tif 000019
【００７１】
上記一般式（６）において、Ｘは、-Ｏ-、-ＮＲ４-、-Ｓ-、または-ＳＯ-を表す。Ｙは、水素原子、直鎖アルキル基、分岐アルキル基、シクロアルキル基、水酸基を有するアルキル基、アリール基、またはアリールアルキル基を表し、さらに、置換基を有していてもよい。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は、各々独立に水素原子、直鎖アルキル基、分岐アルキル基、シクロアルキル基、水酸基を有するアルキル基、アリール基、またはアリールアルキル基を表し、さらに、置換基を有していてもよい。また、Ｒ２またはＲ３の一部とＹとが結合して環状構造を形成してもよい。また、Ｙの一部が連結基を介し、２つ以上の不飽和結合を有する多官能ドナーモノマーを形成してもよい。
【００７２】
一般式（６）で表される不飽和化合物の具体例としては、例えば、ビニルエーテル、プロペニルエーテル等のアルケニルエーテル類、ビニルチオエーテル、プロペニルチオエーテル等のアルケニルチオエーテル、ビニルスルホキシド、プロペニルスルホキシド等のアルケニルスルホキシド類、カルボン酸エステルの酸素原子にビニル基が結合したビニルエステル類、アミノ基の窒素原子にビニル基が結合したビニルアミン類、アミド基の窒素原子にビニル基が結合したビニルアミド類、イミダゾール環の窒素原子にビニル基が結合したビニルイミダゾール、カルバゾール環の窒素原子にビニル基が結合したビニルカルバゾール、ビニレン骨格と酸素原子を環内に含む環状５員環、環状６員環化合物等が挙げられる。
【００７３】
上記一般式（６）で表わされる化合物は、下記一般式（Ｄ−１）〜（Ｄ−９）で表わされる化合物であることがより好ましい。
【化１９】
2013147023.tif 000020
【００７４】
一般式（Ｄ−１）〜（Ｄ−９）において、Ｒ５からＲ９は、各々独立に水素原子、直鎖アルキル基、又は、分岐アルキル基、環状アルキル基、水酸基を有するアルキル基、アリール基またはアリールアルキル基を表し、さらに置換基を有していてもよい。Ｒ５からＲ９は、２つ以上の不飽和結合部分を有する多官能重合性化合物を形成するための連結基となっていてもよい。Ｚは、-Ｏ-、-Ｎ（Ｒ１０）-または-Ｓ-を示す。Ｒ１０は、水素原子、直鎖アルキル基、分岐アルキル基、環状アルキル基、水酸基を有するアルキル基、アリール基、またはアリールアルキル基を表し、さらに置換基を有していてもよい。
【００７５】
一般式（６）で表わされる不飽和化合物のうち単官能不飽和化合物においては、Ｙが、水素原子、直鎖アルキル基、分岐アルキル基、シクロアルキル基、水酸基を有するアルキル基、アリール基、またはアリールアルキル基を表わす。Ｘは-Ｏ-、-Ｎ（Ｒ１１）ＣＯ-、-ＮＲ４-、-Ｓ-、または-ＳＯ-を表わし、Ｒ１１は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、またはアリール基を表わし、Ｒ１１がＹと連結して環を形成しても良い。
【００７６】
一般式（６）で表わされる単官能不飽和化合物の具体例には、ビニルチオエーテル；ビニルスルホキシドを含有する重合性モノマーとしてビニルメチルスルホキシド；ビニル-tert-ブチルスルフィド、ビニルメチルスルフィド、ビニルエチルスルフィドなどが含まれる。
【００７７】
一般式（６）で表わされる単官能不飽和化合物は、ビニレン骨格と窒素原子または酸素原子を環内に含む５員環または６員環化合物を有する重合性モノマーであってもよい。５員環または６員環化合物の例には、イミダゾール、ピロール、フラン、ジヒドロフラン、ピラン、ジヒドロピランなどが含まれる。
【００７８】
窒素原子上にビニル基が置換した構造を有するＮ-ビニル化合物の具体例には、Ｎ-ビニルホルムアミド、Ｎ-ビニルカルバゾール、Ｎ-ビニルインドール、Ｎ-ビニルピロール、Ｎ-ビニルアセトアミド、Ｎ-ビニルピロリドン、Ｎ-ビニルカプロラクタム、Ｎ-ビニル-Ｎ-エチルウレア、Ｎ-ビニルオキサゾリドン、Ｎ-ビニルスクシンイミド、Ｎ-ビニルエチルカルバメートおよびそれらの誘導体が含まれる。これらの化合物の中でも特にＮ-ビニルカプロラクタム、Ｎ-ビニルホルムアミドが好ましい。Ｎ-ビニルホルムアミドは、例えば、荒川化学工業株式会社から入手することができる。
【００７９】
一般式（６）で示される化合物は、一般式（３）で表わされる単官能ビニルエーテル化合物であってもよい。単官能ビニルエーテル化合物は、インクジェットインクの保存安定性を高めることができるので特に好ましい。
【化２０】
2013147023.tif 000021
【００８０】
上記一般式（３）中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表わし、Ｒ６はアルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表わす。
【００８１】
単官能ビニルエーテル化合物の例には、ｎ-プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ｎ-ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、２-エチルヘキシルビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、アリルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、９-ヒドロキシノニルビニルエーテル、４-ヒドロキシシクロヘキシルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、トリエチレングリコールモノビニルエーテルなどが含まれる。
【００８２】
さらに、公知の種々のビニルエーテル化合物であってもよい。例えば、特許第３４６１５０１号公報に開示されている分子内に（メタ）アクリロイル基とビニルエーテル基を含む化合物、特許第４０３７８５６号公報に開示されている少なくとも酸素原子を含む脂環骨格を持つビニルエーテル化合物、特開２００５−０１５３９６号公報に開示されている脂環式骨格を有するビニルエーテル、特開２００８−１３７９７４号公報に開示されている１−インダニルビニルエーテル、特開２００８−１５０３４１号公報に開示されている４-アセトキシシクロヘキシルビニルエーテル等がある。
【００８３】
本実施形態におけるインクジェットインクは、単官能の電子密度の高いモノマーとともに、多官能の電子密度の高いモノマーを含有することが好ましい。それにより、硬化感度、耐候性および耐溶剤性を向上させうる。
【００８４】
一般式（６）で表される不飽和化合物において多官能の不飽和化合物の例は、上記一般式（Ｄ−１）〜一般式（Ｄ−９）で表され、Ｒ５〜Ｒ９が２つ以上の不飽和結合部分を有する多官能重合性化合物を形成するための連結基となる。なかでも、一般式（Ｄ−１）で表わされる化合物であることが特に好ましい。
【００８５】
一般式（Ｄ−１）〜一般式（Ｄ−９）で表される不飽和結合を有する多官能不飽和化合物の例を示すが、これに限定されない。以下に例示する重合性モノマーの不飽和結合を構成する炭素原子が有する電荷はいずれも−０．４０以下である。
【００８６】
２官能ビニルエーテル化合物の例には、１,４-ブタンジオールジビニルエーテル、１,６-ヘキサンジオールジビニルエーテル、ネオペンチルグリコールジビニルエーテル、ノナンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル（ＴＥＧＤＶＥ）、トリメチロールプロパンジビニルエーテル、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパンジビニルエーテル、ペンタエリスリトールジビニルエーテルなどが含まれる。
【００８７】
２官能ビニルエーテル化合物の例には、特許第４０３７８５６号公報に開示されている少なくとも酸素原子を含む脂環骨格を持つビニルエーテル化合物、特開２００５−０１５３９６号公報に開示されている脂環式骨格を有するビニルエーテル、特開２００８−１３７９７４号公報に開示されている１-インダニルビニルエーテル、特開２００８−１５０３４１号公報に開示されている４-アセトキシシクロヘキシルビニルエーテルなどもある。
【００８８】
上述した２官能ビニルエーテル化合物のビニルエーテル基を、プロペニルエーテル基、イソプロペニルエーテル基、ブテニルエーテル基またはイソブテニルエーテル基に置換するなどして、ビニルエーテル基のα位またはβ位に置換基を導入した化合物も、多官能不飽和化合物として用いられうる。
【００８９】
これらの２官能ビニルエーテル化合物のうち、硬化性、密着性、表面硬度を考慮すると、ジエチレングリコールジビニルエーテルおよびトリエチレングリコールジビニルエーテル、シクロヘキサンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテルなどが硬化性、種々の素材との相溶性、臭気、安全性の点で優れており好ましい。
【００９０】
３官能以上の多官能ビニルエーテル化合物の具体例には、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル、エチレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテルなどが含まれる。
【００９１】
３官能のビニルエーテル化合物は、下記一般式（Ａ）で表されうる。一般式（Ａ）で表されるように、分子内にオキシアルキレン基を有する化合物は、他のインク成分との相溶性や溶解性、基材との密着性を得る上で好ましい。一般式（Ａ）で表される化合物のオキシアルキレン基の総数は１０以下であることが好ましい。１０より多いと、硬化膜の耐水性が低下することがある。一般式（Ａ）で表される化合物はオキシエチレン基を有するが、オキシエチレン基を炭素数の異なる他のオキシアルキレン基としてもよい。オキシアルキレン基の炭素数は１〜４が好ましく、１または２であることがより好ましい。
【化２１】
2013147023.tif 000022
【００９２】
上記一般式（Ａ）において、Ｒ１１は水素または有機基を表す。Ｒ１１で表される有機基としては、メチル基、エチル基、プロピル基またはブチル基等の炭素数１〜６個のアルキル基、炭素数１〜６個のフルオロアルキル基、アリール基、フリル基またはチエニル基、アリル基、１-プロペニル基、２-プロペニル基、２-メチル-１-プロペニル基、２-メチル-２-プロペニル基、１-ブテニル基、２-ブテニル基または３-ブテニル基等の炭素数１〜６個のアルケニル基、フェニル基、ベンジル基、フルオロベンジル基、メトキシベンジル基またはフェノキシエチル基等のアリール基、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基、プロピルカルボニル基、ブチルカルボニル基またはペンチルカルボニル基等の炭素数１〜６個のアルキルカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基またはブトキシカルボニル基等の炭素数１〜６個のアルコキシカルボニル基、エトキシカルバモイル基、プロピルカルバモイル基またはブチルペンチルカルバモイル基等の炭素数１〜６個のアルコキシカルバモイル基等の基が挙げられるがこれらに限定されない。この中でも有機基としては、ヘテロ原子を含まない炭化水素基が硬化性の観点で好ましい。また、ｐ，ｑ，ｒは０または１以上の整数であり、ｐ＋ｑ＋ｒは３〜１０の整数である。
【００９３】
また、ビニルエーテル基を４つ以上有する多官能ビニルエーテル化合物の例には、下記一般式（Ｂ）および（Ｃ）に表される化合物が含まれる。
【化２２】
2013147023.tif 000023
【００９４】
一般式（Ｂ）において、Ｒ１２は、メチレン基、炭素数１〜６のアルキレン基、オキシアルキレン基、エステル基の何れかを含む連結基である。ｐ、ｑ、ｌ、ｍはそれぞれ０または１以上の整数であり、ｐ＋ｑ＋ｌ＋ｍの総数は３〜１０の整数である。
【化２３】
2013147023.tif 000024
【００９５】
一般式（Ｃ）において、Ｒ１３は、メチレン基、炭素数１〜６個のアルキレン基、オキシアルキレン基、エステル基の何れかを含む連結基を表す。ｐ１、ｑ１、ｒ１、ｌ１、ｍ１、ｓ１はそれぞれ０または１以上の整数であり、ｐ１＋ｑ１＋ｒ１＋ｌ１＋ｍ１＋ｓ１の総数は３〜１０の整数である。
【００９６】
上記一般式（Ｂ）、（Ｃ）においてはオキシエチレン基を例示しているが、炭素数の異なるオキシアルキレン基とすることも可能である。オキシアルキレン基の炭素数としては１〜４であることが好ましく、１または２であることがより好ましい。
【００９７】
＜その他の重合性化合物＞
実施形態に係るインクジェットインクには、他の重合性化合物が実施形態の効果を損なわない限り含まれていてもよい。他の重合性化合物の不飽和結合を構成する炭素原子の電荷は、−０．４０超であり、−０．３０未満であることが好ましい。他の重合性化合物を添加することで、硬化収縮性の低減、粘度調整、基材密着性の付与、柔軟性の付与などが達成されうる。
【００９８】
他の重合性化合物は、分子中にラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも１つ有する化合物であることが好ましく、モノマー、オリゴマー、ポリマーのいずれでもよい。ラジカル重合性モノマーは１種のみ用いてもよく、また目的とする特性を向上するために任意の比率で２種以上を併用してもよい。好ましくは２種以上併用して用いることが、反応性、物性などの性能を制御する上で好ましい。環状アリルスルフィドモノマーは、他のメタクリレートモノマーやアクリレートモノマーと共重合可能である。
【００９９】
ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する重合性モノマーの例に、アクリル酸、メタクリル酸等の不飽和カルボン酸及びそれらの塩；エチレン性不飽和基を有する無水物、アクリロニトリル、スチレン、更に種々の不飽和ポリエステル、不飽和ポリエーテル、不飽和ポリアミド、不飽和ウレタンなどが含まれる。
【０１００】
具体的には、２-ヒドロキシエチルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、カルビトールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、トリデシルアクリレート、２-フェノキシエチルアクリレート、ビス（４-アクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、オリゴエステルアクリレート、Ｎ-メチロールアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、エポキシアクリレート、イソボルニルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート等のアクリル酸誘導体；メチルメタクリレート、ｎ-ブチルメタクリレート、アリルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ジメチルアミノメチルメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、２,２-ビス（４-メタクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン等のメタクリル誘導体；その他、アリルグリシジルエーテル、ジアリルフタレート、トリアリルトリメリテート等のアリル化合物の誘導体などが挙げられる。
【０１０１】
更に具体的には、山下晋三編、「架橋剤ハンドブック」、（１９８１年大成社）；加藤清視編、「ＵＶ・ＥＢ硬化ハンドブック（原料編）」（１９８５年、高分子刊行会）；ラドテック研究会編、「ＵＶ・ＥＢ硬化技術の応用と市場」、７９頁、（１９８９年、シーエムシー）；滝山栄一郎著、「ポリエステル樹脂ハンドブック」、（１９８８年、日刊工業新聞社）等に記載の市販品若しくは業界で公知のラジカル重合性および架橋性のモノマー、オリゴマー及びポリマーを用いることができる。
【０１０２】
これらのアクリレート類及びメタクリレート類のなかでも、硬化性と硬化後の膜物性の観点から、テトラヒドロフルフリルアクリレート、２-フェノキシエチルアクリレート等のエーテル酸素原子を有するアルコールのアクリレートが密着性、柔軟性、硬化性の点から好ましい。また、同様の理由から、脂環構造を有するアルコールのアクリレートも好ましく、イソボルニルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート等のビシクロ環構造又はトリシクロ環構造を有するアクリレートが好ましい。なかでも、脂環構造内に二重結合を有するジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレートが特に好ましい。
【０１０３】
また、ラジカル重合性モノマーの例には、特開平７−１５９９８３号、特公平７−３１３９９号、特開平８−２２４９８２号、特開平１０−８６３号、特開平９−１３４０１１号、特表２００４−５１４０１４号等の各公報に記載されている光重合性組成物に用いられる光硬化型の重合性モノマーがあり、これらも本実施形態におけるインクインクジェットインクの重合性モノマーに適用することができる。
【０１０４】
さらに、他の重合性化合物は、（メタ）アクリル系モノマー或いはプレポリマー、エポキシ系モノマー或いはプレポリマー、ウレタン系モノマー或いはプレポリマー等の（メタ）アクリル酸エステル（以下、適宜、アクリレート化合物と称する）であってもよい。これらの具体例には、２-エチルヘキシル−ジグリコールアクリレート、２-ヒドロキシ-３-フェノキシプロピルアクリレート、２-ヒドロキシブチルアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、２-アクリロイロキシエチルフタル酸、メトキシ−ポリエチレングリコールアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、２-アクリロイロキシエチル-２-ヒドロキシエチルフタル酸、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート、エトキシ化フェニルアクリレート、２-アクリロイロキシエチルコハク酸、ノニルフェノールＥＯ付加物アクリレート、変性グリセリントリアクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルアクリル酸付加物、変性ビスフェノールＡジアクリレート、フェノキシ−ポリエチレングリコールアクリレート、２-アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、ビスフェノールＡのＰＯ付加物ジアクリレート、ビスフェノールＡのＥＯ付加物ジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートトリレンジイソシアナートウレタンプレポリマー、ラクトン変性可撓性アクリレート、ブトキシエチルアクリレート、プロピレングリコールジグリシジルエーテルアクリル酸付加物、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアナートウレタンプレポリマー、２-ヒドロキシエチルアクリレート、メトキシジプロピレングリコールアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアナートウレタンプレポリマー、ステアリルアクリレート、イソアミルアクリレート、イソミリスチルアクリレート、イソステアリルアクリレート、ラクトン変性アクリレートなどが含まれる。
【０１０５】
これらのアクリレート化合物は、従来のＵＶ硬化型インクに用いられている重合性化合物であり、皮膚刺激性や感作性（かぶれ易さ）が小さい。また、比較的低粘度であるためインク射出性を安定させることができ、重合感度、基材との密着性も良好である。さらに（メタ）アクリル系モノマーは、アクリル系モノマーよりも皮膚低刺激性が低い。
【０１０６】
なかでも単官能アクリレートは、低粘度なものが多く、射出性向上の観点からの粘度調整が可能であり、またフレキシブルな基材に対しても硬化膜を柔軟にすることができたり、硬化収縮の発生を防止できるため好ましい。
【０１０７】
単官能アクリレートと併用しうるオリゴマーとしては、エポキシアクリレートオリゴマー、ウレタンアクリレートオリゴマーが特に好ましい。多官能モノマーは感度、硬化膜強度が良好であり、このような多官能モノマーでは二官能モノマーとしては二官能アクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレートを挙げることができ、多官能モノマーとしては多官能アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、オリゴエステルアクリレートを挙げることができる。
【０１０８】
＜光重合開始剤＞
本実施形態におけるインクジェットは、高感度を得る観点から、光重合開始剤として光ラジカル重合開始剤または増感剤を含有することが好ましい。
【０１０９】
実施形態に係るインクジェットインクに含まれる光ラジカル重合開始剤は、分子開裂型または水素引き抜き型であることが好ましい。光ラジカル重合開始剤の具体例には、ベンゾインイソブチルエーテル、２,４-ジエチルチオキサントン、２-イソプロピルチオキサントン、ベンジル、２,４,６-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、２-ベンジル-２-ジメチルアミノ-１-（４-モルホリノフェニル）-ブタン-１-オン、ビス（２,６-ジメトキシベンゾイル）-２,４,４-トリメチルペンチルホスフィンオキシド、ビス（２,４,６−トリメチルベンゾイル）-フェニルホスフィンオキシド等が好適に用いられる。
【０１１０】
さらに分子開裂型光重合開始剤として、１-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、２-ヒドロキシ-２-メチル-１-フェニルプロパン-１-オン、１-（４-イソプロピルフェニル）-２-ヒドロキシ-２-メチルプロパン-１-オンおよび２-メチル-１-（４-メチルチオフェニル）-２-モルホリノプロパン-１-オン、１-［４-（２-ヒドロキシエトキシ）-フェニル］-２-ヒドロキシ-２-メチル-１-プロパン-１-オンなどを併用してもよい。
【０１１１】
さらに、水素引き抜き型光重合開始剤の例には、ベンゾフェノン、４-フェニルベンゾフェノン、イソフタルフェノン、４-ベンゾイル-４'-メチル-ジフェニルスルフィド、メタロセンタイプの重合開始剤であるビス（２,４-シクロペンタジエン-１-イル）-ビス（２,６-ジフルオロ-３-（１Ｈ-ピロール-１-イル）-フェニル）チタニウム、オキシムエステルタイプの重合開始剤である、１,２-オクタンジオン，１-（４-（フェニルチオ）-２-（Ｏ-ベンゾイルオキシム））、エタノン，１-（９-エチル-６-（２-メチルベンゾイル）-９Ｈ-カルバゾール-３-イル）-，１-（Ｏ-アセチルオキシム）なども含まれる。
【０１１２】
光ラジカル重合開始剤とともに、増感剤を併用することもできる。増感剤の例には、トリメチルアミン、メチルジメタノールアミン、トリエタノールアミン、ｐ-ジエチルアミノアセトフェノン、ｐ-ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ-ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、Ｎ,Ｎ-ジメチルベンジルアミンおよび４,４'-ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等のラジカル重合性モノマーと付加反応を起こさないアミン類が含まれる。もちろん、光ラジカル重合開始剤や増感剤は、重合性モノマーへの溶解性に優れるものを選択して用いることが好ましい。
【０１１３】
インクジェットインクにおける光ラジカル重合開始剤と増感剤の含有量は、インクジェットインクの全質量に対して０．１〜２０質量％であることが好ましく、より好ましくは１〜１２質量％である。
【０１１４】
光ラジカル重合開始剤の他の例には、欧州特許第１，６７４，４９９Ａ号明細書に記載のデンドリマーコアに開始剤構造としてアミン系開始助剤を結合させたタイプ、欧州特許第２，１６１，２６４Ａ号明細書、欧州特許第２，１８９，４７７Ａ号明細書に記載の重合性基を有する開始剤、アミン系開始助剤、欧州特許第１，９２７，６３２Ｂ１号明細書に記載の複数のアミン系開始助剤を１分子内に有するタイプ、ＷＯ第２００９／０６０２３５号明細書に記載の分子内に複数のチオキサントンを含有するタイプ、Ｌａｍｂｅｒｔｉ社より市販されているＥＳＡＣＵＲＥ  ＯＮＥ、ＥＳＡＣＵＲ  ＫＩＰ１５０に代表されるαヒドロキシプロピオフェノンが側鎖に結合したオリゴマータイプの重合開始剤なども含まれる。
【０１１５】
また、重合性モノマーであるマレイミド化合物は、それ自身が光重合開始剤として作用しうる。
【０１１６】
＜着色剤＞
実施形態に係るインクジェットインクを着色する場合は、着色剤として顔料を含むことが好ましい。顔料は、カーボンブラック、酸化チタン、炭酸カルシウム等の無色無機顔料又は有色有機顔料でありうる。
【０１１７】
有機顔料の例には、トルイジンレッド、トルイジンマルーン、ハンザイエロー、ベンジジンイエロー、ピラゾロンレッドなどの不溶性アゾ顔料、リトールレッド、ヘリオボルドー、ピグメントスカーレット、パーマネントレッド２Ｂ等の溶性アゾ顔料；アリザリン、インダントロン、チオインジゴマルーン等の建染染料からの誘導体；フタロシアニンブルー、フタロシアニングリーン等のフタロシアニン系有機顔料；キナクリドンレッド、キナクリドンマゼンタ等のキナクリドン系有機顔料；ペリレンレッド、ペリレンスカーレット等のペリレン系有機顔料；イソインドリノンイエロー、イソインドリノンオレンジ等のイソインドリノン系有機顔料；ピランスロンレッド、ピランスロンオレンジ等のピランスロン系有機顔料；チオインジゴ系有機顔料、縮合アゾ系有機顔料、ベンズイミダゾロン系有機顔料、キノフタロンイエロー等のキノフタロン系有機顔料；イソインドリンイエローなどのイソインドリン系有機顔料；その他の顔料として、フラバンスロンイエロー、アシルアミドイエロー、ニッケルアゾイエロー、銅アゾメチンイエロー、ペリノンオレンジ、アンスロンオレンジ、ジアンスラキノニルレッド、ジオキサジンバイオレットなどが含まれる。
【０１１８】
有機顔料をカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）番号で以下に例示する。
【０１１９】
Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１２、１３、１４、１７、２０、２４、７４、８３、８６、９３、１０９、１１０、１１７、１２０、１２５、１２８、１２９、１３７、１３８、１３９、１４７、１４８、１５０、１５１、１５３、１５４、１５５、１６６、１６８、１８０、１８５；
Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ１６、３６、４３、５１、５５、５９、６１；
Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド９、４８、４９、５２、５３、５７、９７、１２２、１２３、１４９、１６８、１７７、１８０、１９２、２０２、２０６、２１５、２１６、２１７、２２０、２２３、２２４、２２６、２２７、２２８、２３８、２４０；
Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１９、２３、２９、３０、３７、４０、５０；
Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５、１５：１、１５：３、１５：４、１５：６、２２、６０、６４；
Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７、３６；
Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２３、２５、２６。
【０１２０】
上記顔料のなかでも、キナクリドン系、フタロシアニン系、ベンズイミダゾロン系、イソインドリノン系、縮合アゾ系、キノフタロン系、イソインドリン系有機顔料等は耐光性が優れているため好ましい。
【０１２１】
有機顔料は、レーザ散乱による測定値でインク中の平均粒径が１０〜１５０ｎｍの微細粒子であることが好ましい。顔料の平均粒径が１０ｎｍ未満の場合は、粒径が小さくなることによる耐光性の低下が生じ、１５０ｎｍを超える場合は分散の安定維持が困難になり、顔料の沈澱が生じ易くなるとともに、射出安定性が低下し、サテライトと言われる微小のミストが発生する問題が起こる。ただし、酸化チタンの場合は白色度と隠蔽性を持たせるために平均粒径は１５０〜３００ｎｍ、好ましくは１８０〜２５０ｎｍとする。
【０１２２】
またインク中の顔料の最大粒径は、１．０μｍを越えないよう、十分に分散あるいは、ろ過により粗大粒子を除くことが好ましい。粗大粒子が存在すると射出安定性が低下する傾向にある。
【０１２３】
有機顔料の微細化は、以下の方法で行うことができる。即ち、有機顔料、有機顔料の３質量倍以上の水溶性無機塩及び水溶性溶剤の少なくとも３成分から成る混合物を粘土状とし、ニーダー等で練り込んで微細化した後、水中に投入し、ハイスピードミキサー等で攪拌してスラリー状とする。次いで、スラリーの濾過と水洗を繰り返して、水溶性の無機塩及び水溶性の溶剤を、水性処理により除去する。微細化工程において、樹脂、顔料分散剤等を添加してもよい。
【０１２４】
水溶性無機塩としては、塩化ナトリウム、塩化カリウム等が挙げられる。これらの無機塩は有機顔料の３〜２０質量倍の範囲で用いるが、分散処理を行った後に、塩素イオン（ハロゲンイオン）を水洗処理により除去する。無機塩の量が３質量倍よりも少ないと、所望の大きさの処理顔料が得られない。２０質量倍よりも多いと、後の工程における洗浄処理が多大であり、有機顔料の実質的な処理量が少なくなる。
【０１２５】
水溶性溶剤は、有機顔料と破砕助剤として用いられる水溶性無機塩との適度な粘土状態を作り、充分な破砕を効率よく行うために用いられ、水に溶解する溶剤であれば特に限定されないが、混練時に温度が上昇して溶剤が蒸発し易い状態になるため、安全性の点から沸点１２０〜２５０℃の高沸点の溶剤が好ましい。水溶性溶剤として、２-（メトキシメトキシ）エタノール、２-ブトキシエタノール、２-（ｉ-ペンチルオキシ）エタノール、２-（ヘキシルオキシ）エタノール、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、液体ポリエチレングリコール、１-メトキシ-２-プロパノール、１-エトキシ-２-プロパノール、ジプロピレングリコール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、低分子量ポリプロピレングリコールなどが挙げられる。
【０１２６】
顔料は、酸性処理または塩基性処理、シナージスト、各種カップリング剤など、公知の技術により表面処理されていてもよい。顔料分散剤との吸着を促進して、分散安定性を確保するためである。
【０１２７】
インクジェットインクにおける顔料の含有量は、十分な濃度及び十分な耐光性を得るため１．５〜８質量％であることが好ましいが、酸化チタンを顔料とする白色インクの場合には１０〜３０質量％の範囲で含まれることが好ましい。
【０１２８】
＜顔料分散剤＞
顔料分散剤とは、水酸基含有カルボン酸エステル、長鎖ポリアミノアマイドと高分子量酸エステルの塩、高分子量ポリカルボン酸の塩、長鎖ポリアミノアマイドと極性酸エステルの塩、高分子量不飽和酸エステル、高分子共重合物、変性ポリウレタン、変性ポリアクリレート、ポリエーテルエステル型アニオン系活性剤、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物塩、芳香族スルホン酸ホルマリン縮合物塩、ポリオキシエチレンアルキル燐酸エステル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ステアリルアミンアセテート、顔料誘導体等を挙げることができる。
【０１２９】
顔料分散剤の具体例には、ＢＹＫ  Ｃｈｅｍｉｅ社製の「Ａｎｔｉ−Ｔｅｒｒａ−Ｕ（ポリアミノアマイド燐酸塩）」、「Ａｎｔｉ−Ｔｅｒｒａ−２０３／２０４（高分子量ポリカルボン酸塩）」、「Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１０１（ポリアミノアマイド燐酸塩と酸エステル）、１０７（水酸基含有カルボン酸エステル）、１１０（酸基を含む共重合物）、１３０（ポリアマイド）、１６１、１６２、１６３、１６４、１６５、１６６、１７０（高分子共重合物）」、「４００」、「Ｂｙｋｕｍｅｎ」（高分子量不飽和酸エステル）、「ＢＹＫ−Ｐ１０４、Ｐ１０５（高分子量不飽和酸ポリカルボン酸）」、「Ｐ１０４Ｓ、２４０Ｓ（高分子量不飽和酸ポリカルボン酸とシリコーン系）」、「Ｌａｃｔｉｍｏｎ（長鎖アミンと不飽和酸ポリカルボン酸とシリコーン）」などが含まれる。
【０１３０】
Ｅｆｋａ  ＣＨＥＭＩＣＡＬＳ社製の「エフカ４４、４６、４７、４８、４９、５４、６３、６４、６５、６６、７１、７０１、７６４、７６６」、「エフカポリマー１００（変性ポリアクリレート）、１５０（脂肪族系変性ポリマー）、４００、４０１、４０２、４０３、４５０、４５１、４５２、４５３（変性ポリアクリレート）、７４５（銅フタロシアニン系）」；共栄化学社製の「フローレンＴＧ−７１０（ウレタンオリゴマー）」、「フローノンＳＨ−２９０、ＳＰ−１０００」、「ポリフローＮｏ．５０Ｅ、Ｎｏ．３００（アクリル系共重合物）」；楠本化成社製の「ディスパロンＫＳ−８６０、８７３ＳＮ、８７４（高分子分散剤）、＃２１５０（脂肪族多価カルボン酸）、＃７００４（ポリエーテルエステル型）」等も顔料分散剤となりうる。
【０１３１】
更には、花王社製の「デモールＲＮ、Ｎ（ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩）、ＭＳ、Ｃ、ＳＮ−Ｂ（芳香族スルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩）、ＥＰ」、「ホモゲノールＬ−１８（ポリカルボン酸型高分子）」、「エマルゲン９２０、９３０、９３１、９３５、９５０、９８５（ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル）」、「アセタミン２４（ココナッツアミンアセテート）、８６（ステアリルアミンアセテート）」；ゼネカ社製の「ソルスパーズ５０００（フタロシアニンアンモニウム塩系）、１３２４０、１３９４０（ポリエステルアミン系）、１７０００（脂肪酸アミン系）、２４０００、３２０００、７０００」；日光ケミカル社製の「ニッコールＴ１０６（ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート）、ＭＹＳ−ＩＥＸ（ポリオキシエチレンモノステアレート）、Ｈｅｘａｇｌｉｎｅ４−０（ヘキサグリセリルテトラオレート）」、味の素ファインテクノ製のアジスパー８２１、８２２、８２４等も顔料分散剤となりうる。
【０１３２】
インクジェットインクにおける顔料分散剤の含有量は、顔料１００質量部に対して５〜７０質量部、好ましくは１０〜５０質量部の範囲で含有させる。５質量部より少ないと分散安定性が得られにくい場合があり、７０室量部より多いと射出安定性が劣化する場合がある。
【０１３３】
＜ラジカル重合禁止剤＞
本実施形態におけるインクジェットインクは、保存安定性の観点から、ラジカル重合禁止剤を含んでいてもよい。インクジェットインクは、保存中に、熱や光の影響でラジカルが発生し、ラジカル重合反応がおこる場合がある。ラジカル重合禁止剤をインクジェットインクに添加することで、保存中に起きるラジカル重合を抑制する。本実施形態におけるインクジェットインクは光硬化性が極めて優れているので、ラジカル重合禁止剤を添加することは非常に好ましい。
【０１３４】
ラジカル重合禁止剤の例には、フェノール系水酸基含有化合物、メトキノン（ヒドロキノンモノメチルエーテル）、ハイドロキノン、４-メトキシ-１-ナフトール、ヒンダードアミン系酸化防止剤、１,１-ジフェニル-２-ピクリルヒドラジル  フリーラジカル、Ｎ-オキシド化合物類、ピペリジン  １-オキシル  フリーラジカル化合物類、ピロリジン  １-オキシル  フリーラジカル化合物類、Ｎ-ニトロソフェニルヒドロキシルアミン類、含窒素複素環メルカプト系化合物、チオエーテル系酸化防止剤、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、アスコルビン酸類、硫酸亜鉛、チオシアン酸塩類、チオ尿素誘導体、各種糖類、リン酸系酸化防止剤、亜硝酸塩、亜硫酸塩、チオ硫酸塩、ヒドロキシルアミン誘導体、ジシアンジアミドとポリアルキレンポリアミンの重縮合物、フェノチアジンなどが含まれる。
【０１３５】
ラジカル重合禁止剤の具体例には、以下の化合物を挙げられる。
【０１３６】
ラジカル重合禁止剤としてのフェノール性化合物の例には、フェノール、アルキルフェノール、例えば、ｏ-、ｍ-又はｐ-クレゾール（メチルフェノール）、２-ｔ-ブチル-４-メチルフェノール、６-ｔ-ブチル-２,４-ジメチルフェノール、２,６-ジ-ｔ-ブチル-４−メチルフェノール、２-ｔ-ブチルフェノール、４-ｔ-ブチルフェノール、２,４-ジ-ｔ-ブチルフェノール、２-メチル-４-ｔ-ブチルフェノール、４-ｔ-ブチル-２,６-ジメチルフェノール、又は２,２'-メチレン-ビス-（６-ｔ-ブチル-メチルフェノール）、４,４'-オキシジフェニル、３,４-メチレンジオキシジフェノール（ゴマ油）、３,４-ジメチルフェノール、ベンズカテキン（１,２-ジヒドロキシベンゾール）、２-（１'-メチルシクロヘキシ-１'-イル）-４,６-ジメチルフェノール、２-（１'-フェニルエチ-１'-イル）フェノール、４-（１'-フェニルエチ-１'-イル）フェノール、２-ｔ-ブチル-６-メチルフェノール、２,４,６-トリス-ｔ-ブチルフェノール、２,６-ジ-ｔ-ブチルフェノール、ノニルフェノール［ＣＡＳ−Ｎｒ．１１０６６−４９−２］、オクチルフェノール［ＣＡＳ−Ｎｒ．１４０−６６−９］、２,６-ジメチルフェノール、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＢ、ビスフェノールＣ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ、３,３',５,５'-テトラブロモビスフェノールＡ、２,６-ジ-ｔ-ブチル-ｐ-クレゾール、ＢＡＳＦ  Ａｋｔｉｅｎｇｅｓｅｌｌｓｃｈａｆｔのコレシン（Ｋｏｒｅｓｉｎ）、３,５-ジ-ｔ-ブチル-４-ヒドロキシ安息香酸メチルエステル、４-ｔ-ブチルベンズカテキン、２-ヒドロキシベンジルアルコール、２-メトキシ-４-メチルフェノール、２,３,６-トリメチルフェノール、２,４,５-トリメチルフェノール、２,４,６-トリメチルフェノール、２-イソプロピルフェノール、４-イソプロピルフェノール、６-イソプロピル-ｍ-クレゾール、ｎ-オクタデシル-β-（３,５-ジ-ｔ-ブチル-４-ヒドロキシフェニル）プロピオネート、１,１,３-トリス-（２-メチル-４-ヒドロキシ-５-ｔ-ブチルフェニル）ブタン、１,３,５-トリメチル-２,４,６-トリス-（３,５-ジ-ｔ-ブチル-４-ヒドロキシベンジル）ベンゾール、１,３,５-トリス-（３,５-ジ-ｔ-ブチル-４-ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１,３,５-トリス-（３,５-ジ-ｔ-ブチル-４-ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシエチル−イソシアヌレート、１,３,５-トリス-（２,６-ジメチル-３-ヒドロキシ-４-ｔ-ブチルベンジル）イソシアヌレート又はペンタエリスリット−テトラキス−［β-（３,５-ジ-ｔ-ブチル-４-ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２,６-ジ-ｔ-ブチル-４-ジメチルアミノメチルフェノール、６-ｓ-ブチル-２,４-ジニトロフェノール、Ｆｉｒｍａ  Ｃｉｂａ  Ｓｐｅｚｉａｌｉｔａｅｔｅｎｃｈｅｍｉｅのイルガノックス（Ｉｒｇａｎｏｘ）５６５、１０１０、１０７６、１１４１、１１９２、１２２２及び１４２５、３-（３',５'-ジ-ｔ-ブチル-４'-ヒドロキシフェニル）プロピオン酸オクタデシルエステル、３-（３',５'-ジ-ｔ-ブチル-４'-ヒドロキシフェニル）プロピオン酸ヘキサデシルエステル、３-（３',５'-ジ-ｔ-ブチル-４'-ヒドロキシフェニル）プロピオン酸オクチルエステル、３-チア-１,５-ペンタンジオール-ビス-［３',５'-ジ-ｔ-ブチル-４'-ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、４,８-ジオキサ-１,１１-ウンデカンジオール-ビス-［３',５'-ジ-ｔ-ブチル-４'-ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、４,８-ジオキサ-１,１１-ウンデカンジオール-ビス-［（３'-ｔ-ブチル-４'-ヒドロキシ-５'-メチルフェニル）プロピオネート］、１,９-ノナンジオール-ビス-［（３',５'-ジ-ｔ-ブチル-４'-ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１,７-ヘプタンジアミン-ビス［３-（３',５'-ジ-ｔ-ブチル-４'-ヒドロキシフェニル）プロピオン酸アミド］、１,１-メタンジアミン-ビス［３-（３',５'-ジ-ｔ-ブチル-４'-ヒドロキシフェニル）プロピオン酸アミド］、３-（３',５'-ジ-ｔ-ブチル-４'-ヒドロキシフェニル）プロピオン酸ヒドラジド、３-（３',５'-ジメチル-４'-ヒドロキシフェニル）プロピオン酸ヒドラジド、ビス-（３-ｔ-ブチル-５-エチル-２-ヒドロキシフェニ-１-イル）メタン、ビス-（３,５-ジ-ｔ-ブチル-４-ヒドロキシフェニ-１-イル）メタン、ビス-［３-（１'-メチルシクロヘキ-１'-イル）-５-メチル-２-ヒドロキシフェニ-１-イル］メタン、ビス-（３-ｔ-ブチル-２-ヒドロキシ-５-メチルフェニ-１-イル）メタン、１,１-ビス-（５-ｔ-ブチル-４-ヒドロキシ-２-メチルフェニ-１-イル）エタン、ビス-（５-ｔ-ブチル-４-ヒドロキシ-２-メチルフェニ-１-イル）スルフィド、ビス-（３-ｔ-ブチル-２-ヒドロキシ-５-メチルフェニ-１-イル）スルフィド、１,１-ビス-（３,４-ジメチル-２-ヒドロキシフェニ-１-イル）-２-メチルプロパン、１,１-ビス-（５-ｔ-ブチル-３-メチル-２-ヒドロキシフェニ-１-イル）ブタン、１,３,５-トリス-［１'-（３'',５''-ジ-ｔ-ブチル-４''-ヒドロキシフェニ-１''-イル）メチ-１'-イル］-２,４,６-トリメチルベンゾール、１，１，４-トリス-（５'-ｔ-ブチル-４'-ヒドロキシ-２'-メチルフェニ-１'-イル）ブタン、ｔ-ブチルカテコール、ｐ-アミノフェノールなどのアミノフェノールｐ-ニトロソフェノールやｐ-ニトロソ-ｏ-クレゾールなどのニトロソフェノール、２-メトキシフェノール（グアヤコール、ベンズカテキンモノメチルエーテル）、２-エトキシフェノール、２-イソプロポキシフェノール、４-メトキシフェノール（ヒドロキノンモノメチルエーテル）、モノ-又はジ-ｔ-ブチル-４-メトキシフェノール、３,５-ジ-ｔ-ブチル-４-ヒドロキシアニソール、３-ヒドロキシ-４-メトキシベンジルアルコール、２,５-ジメトキシ-４-ヒドロキシベンジルアルコール（シリンガアルコール）、４-ヒドロキシ-３-メトキシベンズアルデヒド（バニリン）、４-ヒドロキシ-３-エトキシベンズアルデヒド（エチルバニリン）、３-ヒドロキシ-４-メトキシベンズアルデヒド（イソバニリン）、１-（（４-ヒドロキシ-３-メトキシフェニル）エタノン（アセトバニリン）、オイゲノール、ジヒドロオイゲノール、イソオイゲノールなどのアルコキシフェノール、α-、β-、γ-、δ-及びε-トコフェロール、トコール、α-トコフェロールヒドロキノンなどのトコフェロール、および２,３-ジヒドロ-２,２-ジメチル-７-ヒドロキシベンゾフラン（２,２-ジメチル-７-ヒドロキシクマラン）などが含まれる。
【０１３７】
ラジカル重合禁止剤としてのキノン及びヒドロキノンの例には、ヒドロキノン又はヒドロキノンモノメチルエーテル（４-メトキシフェノール）、メチルヒドロキノン、２,５-ジ-ｔ-ブチルヒドロキノン、２-メチル-ｐ-ヒドロキノン、２,３-ジメチルヒドロキノン、トリメチルヒドロキノン４-メチルベンズカテキン、ｔ-ブチルヒドロキノン、３-メチルベンズカテキン、ベンゾキノン、２-メチル-ｐ-ヒドロキノン、２,３-ジメチルヒドロキノン、トリメチルヒドロキノン、ｔ-ブチルヒドロキノン、４-エトキシフェノール、４-ブトキシフェノール、ヒドロキノンモノベンジルエーテル、ｐ-フェノキシフェノール、２-メチルヒドロキノン、テトラメチル-ｐ-ベンゾキノン、ジエチル-１,４-シクロヘキサンジオン-２,５-ジカルボキシレート、フェニル-ｐ-ベンゾキノン、２,５-ジメチル-３-ベンジル-ｐ-ベンゾキノン、２-イソプロピル-５-メチル-ｐ-ベンゾキノン（チモキノン）、２,６-ジイソプロピル-ｐ-ベンゾキノン、２,５-ジメチル-３-ヒドロキシ-ｐ-ベンゾキノン、２,５-ジヒドロキシ-ｐ-ベンゾキノン、エンベリン、テトラヒドロキシ-ｐ-ベンゾキノン、２,５-ジメトキシ-１,４-ベンゾキノン、２-アミノ-５-メチル-ｐ-ベンゾキノン、２,５-ビスフェニルアミノ-１,４-ベンゾキノン、５,８-ジヒドロキシ-１,４-ナフトキノン、２-アニリノ-１,４-ナフトキノン、アントラキノン、Ｎ,Ｎ-ジメチルインドアニリン、Ｎ,Ｎ-ジフェニル-ｐ-ベンゾキノンジイミン、１,４-ベンゾキノンジオキシム、セルリグノン、３,３'-ジ-ｔ-ブチル-５,５'-ジメチルジフェノキノン、ｐ-ロゾール酸（オーリン）、２,６-ジ-ｔ-ブチル-４-ベンジリデン-ベンゾキノン、２,５-ジ-ｔ-ブチル-アミルヒドロキノンなどが含まれる。
【０１３８】
ラジカル重合禁止剤としてのＮ-オキシル化合物（ニトロキシル-又はＮ-オキシル-基、少なくとも１個の＞Ｎ−Ｏ・−基を有する化合物）の例には、４-ヒドロキシ-２,２,６,６-テトラメチルピペリジン-Ｎ-オキシル、４-オキソ-２,２,６,６-テトラメチルピペリジン-Ｎ-オキシル、４-メトキシ-２,２,６,６-テトラメチルピペリジン-Ｎ-オキシル、４-アセトキシ-２,２,６,６-テトラメチルピペリジン-Ｎ-オキシル、２,２,６,６-テトラメチルピペリジン-Ｎ-オキシル、ＢＡＳＦ  Ａｋｔｉｅｎｇｅｓｅｌｌｓｃｈａｆｔのウビヌル（Ｕｖｉｎｕｌ）４０４０Ｐ、４,４',４''-トリス-（２,２,６,６-テトラメチルピペリジン-Ｎ-オキシル）ホスフィット、３-オキソ-２,２,５,５-テトラメチルピロリジン-Ｎ-オキシル、１-オキシル-２,２,６,６-テトラメチル-４-メトキシピペリジン、１-オキシル-２,２,６,６-テトラメチル-４-トリメチルシリルオキシピペリジン、１-オキシル-２,２,６,６-テトラメチルピペリジン-４-イル-２-エチルヘキサノエート、１-オキシル-２,２,６,６-テトラメチルピペリジン-４-イル-セバケート、１-オキシル-２,２,６,６-テトラメチルピペリジン-４-イル-ステアレート、１-オキシル-２,２,６,６-テトラメチルピペリジン-４-イル-ベンゾエート、１-オキシル-２,２,６,６-テトラメチルピペリジン-４-イル-（４-ｔ-ブチル）ベンゾエート、ビス-（１-オキシル-２,２,６,６-テトラメチルピペリジン-４-イル）スクシネート、ビス-（１-オキシル-２,２,６,６-テトラメチルピペリジン-４-イル）アジペート、１,１０-デカンジ酸-ビス-（１-オキシル-２,２,６,６-テトラメチルピペリジン-４-イル）エステル、ビス-（１-オキシル-２,２,６,６-テトラメチルピペリジン-４-イル）ｎ-ブチルマロネート、ビス-（１-オキシル-２,２,６,６-テトラメチルピペリジン-４-イル）フタレート、ビス-（１-オキシル-２,２,６,６-テトラメチルピペリジン-４-イル）イソフタレート、ビス-（１-オキシル-２,２,６,６-テトラメチルピペリジン-４-イル）テレフタレート、ビス-（１-オキシル-２,２,６,６-テトラメチルピペリジン-４-イル）ヘキサヒドロテレフタレート、Ｎ,Ｎ'-ビス-（１-オキシル-２,２,６,６-テトラメチルピペリジン-４-イル）アジピンアミド、Ｎ-（１-オキシル-２,２,６,６-テトラメチルピペリジン-４-イル）カプロラクタム、Ｎ-（１-オキシル-２,２,６,６-テトラメチルピペリジン-４-イル）ドデシルスクシンイミド、２,４,６-トリス-［Ｎ-ブチル-Ｎ-（１-オキシル-２,２,６,６-テトラメチルピペリジン-４-イル］トリアジン、Ｎ,Ｎ'-ビス-（１-オキシル-２,２,６,６-テトラメチルピペリジン-４-イル）-Ｎ,Ｎ'-ビス-ホルミル-１,６-ジアミノヘキサン、４,４'-エチレン-ビス-（１-オキシル-２,２,６,６-テトラメチルピペラジン-３-オン）などが含まれる。
【０１３９】
ラジカル重合禁止剤としての芳香族アミン又はフェニレンジアミンの例には、Ｎ,Ｎ-ジフェニルアミン、Ｎ-ニトロソ-ジフェニルアミン、ニトロソジエチルアニリン、ｐ-フェニレンジアミン、Ｎ,Ｎ'-ジイソブチル-ｐ-フェニレンジアミン、Ｎ,Ｎ'-ジイソプロピル-ｐ-フェニレンジアミンなどのＮ,Ｎ'-ジアルキル-ｐ-フェニレンジアミン（２つのアルキル基は同じでも異なっていてもよく、各々１〜４個の炭素原子を含み、直鎖又は分岐鎖である）、イルガノックス５０５７（Firma Ciba Spezialitaetenchemie）、Ｎ-フェニル-ｐ-フェニレンジアミン、Ｎ,Ｎ'-ジフェニル-ｐ-フェニレンジアミン、Ｎ-イソプロピル-Ｎ-フェニル-ｐ-フェニレンジアミン、Ｎ,Ｎ'-ジ-ｓ-ブチル-ｐ-フェニレンジアミン（BASF Aktiengesellschaftのケロビット（Kerobit）ＢＰＤ）、Ｎ-フェニル-Ｎ'-イソプロピル-ｐ-フェニレンジアミン（Bayer AGのブルカノックス（Vulkanox）４０１０）、Ｎ-（１,３-ジメチルブチル）-Ｎ'-フェニル-ｐ-フェニレンジアミン、Ｎ-フェニル-２-ナフチルアミン、イミノジベンジル、Ｎ,Ｎ'-ジフェニルベンジジン、Ｎ-フェニルテトラアニリン、アクリドン、３-ヒドロキシジフェニルアミン、４-ヒドロキシジフェニルアミンなどが含まれる。
【０１４０】
ラジカル重合禁止剤としてのイミンの例には、メチルエチルイミン、（２-ヒドロキシフェニル）ベンゾキノンイミン、（２-ヒドロキシフェニル）ベンゾフェノンイミン、Ｎ,Ｎ-ジメチルインドアニリン、チオニン（７-アミノ-３-イミノ-３Ｈ-フェノチアジン）、メチレンバイオレット（７-ジメチルアミノ-３-フェニチアジノン）などが含まれる。
【０１４１】
ラジカル重合禁止剤としてのスルホンアミドの例には、Ｎ-メチル-４-トルオールスルホンアミド、Ｎ-ｔ-ブチル-４-トルオールスルホンアミド、Ｎ-ｔ-ブチル-Ｎ-オキシル-４-トルオールスルホンアミド、Ｎ,Ｎ'-ビス（４-スルファニルアミド）ピペリジン、３-｛［５-（４-アミノベンゾイル）-２,４-ジメチルベンゾールスルホニル］エチルアミノ｝-４-メチルベンゾールスルホン酸などが含まれる。
【０１４２】
ラジカル重合禁止剤としてのオキシムの例には、アルドキシム、ケトキシム又はアミドキシム、有利にジエチルケトキシム、アセトキシム、メチルエチルケトキシム、シクロヘキサノンオキシム、ベンズアルデヒドキシム、ベンジルジオキシム、ジメチルグリオキシム、２-ピリジンアルドキシム、サリチルアルドキシム、フェニル-２-ピリジルケトキシム、１,４-ベンゾキノンジオキシム、２,３-ブタンジオンジオキシム、２,３-ブタンジオンモノオキシム、９-フルオレノンオキシム、４-ｔ-ブチル-シクロヘキサノンオキシム、Ｎ-エトキシ-アセチミド酸エチルエステル、２,４-ジメチル-３-ペンタノンオキシム、シクロドデカノンオキシム、４-ヘプタノンオキシム及びジ-２-フラニルエタンジオンジオイキシムなどが含まれる。オキシムの他の例には、他の脂肪族又は芳香族オキシム又はアルキル転移剤、例えば、アルキルハロゲニド、−トリフレート、−スルホネート、−トシレート、−カルボネート、−スルフェート、−ホスフェート等とのその反応生成物であってよい。
【０１４３】
ラジカル重合禁止剤としてのヒドロキシルアミンの例には、Ｎ,Ｎ-ジエチルヒドロキシルアミン、ＰＣＴ／ＥＰ２００３／０３１３９の国際特許出願に記載されている化合物を挙げることができる。
【０１４４】
ラジカル重合禁止剤としての尿素誘導体は、例えば、尿素又はチオ尿素である。
【０１４５】
ラジカル重合禁止剤としての燐含有化合物の例には、トリフェニルホスフィン、トリフェニルホスフィット、次亜燐酸、トリノニルホスフィット、トリエチルホスフィット又はジフェニルイソプロピルホスフィンが含まれる。
【０１４６】
ラジカル重合禁止剤としての硫黄含有化合物の例には、ジフェニルスルフィド、フェノチアジン及び硫黄含有天然物質、例えば、システインが含まれる。
【０１４７】
ラジカル重合禁止剤としてのテトラアザアンヌレン（ＴＡＡ）をベースとする錯化剤は、例えば、Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｒｅｖ．１９９８，２７，１０５−１１５に挙げられている、例えば、ジベンゾテトラアザ［１４］環及びポルフィリンである。
【０１４８】
ラジカル重合禁止剤の他の例には、炭酸、塩化、ジチオカルバミン酸、硫酸、サリチル酸、酢酸、ステアリン酸、エチルヘキサン酸等の各金属塩（銅、マンガン、セリウム、ニッケル、クロム等）なども含まれる。
【０１４９】
また、Macromol.Rapid Commun.,28,1929(2007)に記載のビニルエーテル官能基を有するＮ-オキシル  フリーラジカル化合物は、重合性機能とラジカル捕捉機能を同一分子にあわせもつ。この化合物も、硬化性とインク保存性の観点から、実施形態に係るインクジェットインクに添加されうる。この化合物を重合して得られたポリマーは側鎖にフリーラジカルを有する。このポリマーも、耐溶剤性、擦過性、耐候性といった硬化膜物性や、インク保存性の観点から、実施形態に係るインクジェットインクに添加されうる。
【０１５０】
インクジェットインク（１ｇ当たり）におけるラジカル重合禁止剤の含有量は、１．０〜５０００μｇであることが好ましく、１０〜２０００μｇであることがより好ましい。１．０μｇ／ｇインク以上であれば、所望の保存安定性が得られ、インクの増粘やインクジェットノズルに対する撥液性を得ることができ、射出安定性の観点で好ましい。また、５０００μｇ／ｇインク以下であれば、重合開始剤の酸発生効率を損なうことがなく、高い硬化感度を維持することができる。
【０１５１】
＜その他の添加剤＞
インクジェットインクは、必要に応じて、さらに各種添加剤を含有してもよい。各種添加剤の例には、界面活性剤、滑剤、充填剤、消泡剤、ゲル化剤、増粘剤、比抵抗調整剤、皮膜形成剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、退色防止剤、防ばい剤、防錆剤等が含まれる。これらは、射出安定性、プリントヘッドやインク包装容器適合性、保存安定性、画像保存性、その他の諸性能向上の目的に応じて添加される。さらに、エステル系溶剤、エーテル系溶剤、エーテルエステル系溶剤、ケトン系溶剤、芳香族炭化水素溶剤、含窒素系有機溶剤など少量の溶剤を含みうる。
【０１５２】
溶媒の具体例には、ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシド、メチルエチルスルホキシド、ジフェニルスルホキシド、テトラエチレンスルホキシド、ジメチルスルホン、メチルエチルスルホン、メチル−イソプロピルスルホン、メチル−ヒドロキシエチルスルホン、スルホラン、或いは、Ｎ-メチル-２-ピロリドン、２-ピロリドン、β-ラクタム、Ｎ,Ｎ-ジメチルホルムアミド、Ｎ,Ｎ-ジエチルホルムアミド、Ｎ,Ｎ-ジメチルアセトアミド、１,３-ジメチル-２-イミダゾリジノン、３-メチル-２-オキサゾリジノン、γ-ブチロラクトン、γ-バレロラクトン、イソホロン、シクロヘキサノン、炭酸プロピレン、アニソール、メチルエチルケトン、アセトン、乳酸エチル、乳酸ブチル、ジオキサン、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、二塩基酸エステル、メトキシブチルアセテート、などが挙げられる。インク中に溶媒を１．５〜３０％、好ましくは、１．５〜１５％添加すると、ポリ塩化ビニルなどの樹脂記録媒体に対する密着性が向上する。
【０１５３】
溶媒の他の具体例には、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルキレングリコールモノアルキルエーテル類、エチレングリコールジブチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル等のアルキレングリコールジアルキルエーテル類、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のアルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジアセテート、プロピレングリコールジアセテートなどが含まれる。
【０１５４】
本実施形態におけるインクジェットインクに含まれる界面活性剤の例には、ジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、脂肪酸塩類等のアニオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル類、アセチレングリコール類、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類等のノニオン性界面活性剤、アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム塩類等のカチオン性界面活性剤、シリコーン系やフッ素系の界面活性剤などが含まれる。特にシリコーン系もしくはフッ素系の界面活性剤が好ましい。
【０１５５】
シリコーン系もしくはフッ素系の界面活性剤を添加することで、塩化ビニルシートをはじめ種々の疎水性樹脂からなる記録媒体や、印刷本紙などの吸収が遅い記録媒体に対して、インク混じりをより抑えることができ、高画質な印字画像を得られる。これらの界面活性剤は、低表面張力の水溶性有機溶剤と併用することが特に好ましい。
【０１５６】
シリコーン系の界面活性剤の好ましい例には、ポリエーテル変性ポリシロキサン化合物があり、例えば、信越化学工業製のＫＦ−３５１Ａ、ＫＦ−６４２、Ｘ−２２−４２７２やビッグケミー製のＢＹＫ３０７、ＢＹＫ３４５、ＢＹＫ３４７、ＢＹＫ３４８、東芝シリコーン社製のＴＳＦ４４５２などが挙げられる。
【０１５７】
フッ素系の界面活性剤は、通常の界面活性剤の疎水性基の炭素に結合した水素の一部または全部を、フッ素で置換したものを意味する。また、フッ素系の界面活性剤は、分子内にパーフルオロアルキル基を有することが好ましい。
【０１５８】
フッ素系の界面活性剤は、ＤＩＣ社からメガファック（Megafac）Ｆなる商品名で；旭硝子社からサーフロン（Surflon）なる商品名で；ミネソタ・マイニング・アンド・マニファクチュアリング・カンパニー社からフルオラッド（Fluorad）ＦＣなる商品名で；インペリアル・ケミカル・インダストリー社からモンフロール（Monflor）なる商品名で；イー・アイ・デュポン・ネメラス・アンド・カンパニー社からゾニルス（Zonyls）なる商品名で；ファルベベルケ・ヘキスト社からリコベット（Licowet）ＶＰＦなる商品名で；また、ネオス社からフタージェントなる商品名でそれぞれ市販されている。
【０１５９】
インクジェットインクにおける界面活性剤の添加量は、インク全質量に対して、０．１質量％以上、２．０質量％未満が好ましい。
【０１６０】
インクジェットインクの表面張力を１５ｍＮ/ｍ以上（２５℃）とすれば、インクジェットヘッドのノズル周りが濡れて射出能力が低下しにくい。またインクジェットインクの表面張力を３５ｍＮ／ｍ未満（２５℃）とすれば、表面エネルギーが通常の紙よりも低いコート紙や樹脂製の記録媒体によく濡れて白ぬけが発生しにくいため好ましい。
【０１６１】
＜インク物性＞
本実施形態におけるインクジェットインクは、通常の活性エネルギー線硬化型インクジェットインクと同様の物性を有することが好ましい。
【０１６２】
インクジェットインクの粘度は、２５℃において２０〜５００ｍＰａ・ｓであることが好ましい。または、２５℃において２０〜５００ｍＰａ・ｓであり、４０℃以上おいて５〜３０ｍＰａ・ｓであることが好ましい。さらに、シェアレート依存性ができるだけ小さいことが好ましい。
【０１６３】
室温でのインクジェットインクの粘度を上げることにより、吸収性のある記録媒体へのインクの浸透を抑制し、未硬化モノマーを低減し、臭気を低減させ、着弾時のドット滲みを抑えることができ、画質が改善される。また、基材の表面張力が変わっても、同様のドットが形成されるため、同じような画質を形成することができる。２０ｍＰａ・ｓ未満では、滲み防止効果が小さい。５００ｍＰａ・ｓより大きいと、インク液の供給に問題が生じる。さらに、インクの２５℃における粘度が本発明の範囲内にあることにより、吐出されたインクが記録媒体に着弾すると粘度が上昇して、酸素阻害を受けにくくなる。そのため、インク滴がより容易に硬化することができ、インク滴に対する表面積が比較的大きい小液滴インクであっても問題なく画像形成を行うことができる。一方、従来のインクは、小液滴による硬化阻害の影響が大きく、粘度範囲を本発明の範囲としただけでは、硬化不良の発生を防げなかった。また、射出時に安定な射出性を得るためにはインクが５〜３０ｍＰａ・ｓとなることが好ましい。
【０１６４】
本実施形態におけるインクジェットインクは、顔料の粒子を除いて、平均粒径が１．０μｍを超えるようなゲル状物質を含まないことが好ましい。
【０１６５】
本実施形態におけるインクジェットインクの電導度は１０μＳ/ｃｍ以下であることが好ましい。インクジェットヘッド内部での電気的な腐食を抑制するためである。コンティニュアスタイプにおいては、インクジェットインクの電導度は０．５ｍＳ/ｃｍ以上に調整される必要がある。この場合には、電解質による電導度の調整が必要である。
【０１６６】
実施形態に係るインクジェットインクは、毎分５℃の降下速度で２５℃から−２５℃の範囲でインクのＤＳＣ測定を行ったとき、単位質量あたりの発熱量が１０ｍＪ/ｍｇ以上の発熱ピークを示さないことが好ましい。このようにすることで、インクジェットインクを低温保存した場合においてゲルの発生や、析出物の発生を抑えることができる。上記ＤＳＣ測定における発熱量は、インクジェットインクの成分を選定することで調整される。
【０１６７】
＜インクの調製方法＞
インクジェットインクは、重合性モノマーと、光重合開始剤と、着色剤と、着色剤が顔料である場合には顔料分散剤とをサンドミル等の通常の分散機を用いて分散することにより製造される。
【０１６８】
好ましくは、予め顔料濃縮液を調製して、顔料濃縮液を重合性モノマーで希釈して、インクジェットインクを調製する。この手法によれば、通常の分散機で充分な分散が可能であり、過剰な分散エネルギー、多大な分散時間を必要としない。それにより、分散工程中にインク成分が変質しにくく、安定性に優れたインクを調製することができる。
【０１６９】
調製されたインクは、孔径３μｍ以下（好ましくは１μｍ以下）のフィルターで濾過されることが好ましい。
【０１７０】
＜記録媒体＞
実施形態に係る画像形成方法は、活性エネルギー線硬化型インクジェットインクを、インクジェット法にて液滴として記録媒体に射出する。射出された液滴は記録媒体に着弾し、着弾した液滴には、活性光線が照射される。
【０１７１】
実施形態に係る画像形成方法における記録媒体は、従来、各種の用途で使用されている広汎な合成樹脂のいずれでもよい。記録媒体の具体例には、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリウレタン、ポリプロピレン、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、アクリロニトリル-ブタジエン-スチレン共重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリブタジエンテレフタレートなどが含まれる。これらの合成樹脂基材の厚みや形状は何ら限定されない。この他にも金属類、ガラス、印刷用紙なども使用できる。
【０１７２】
実施形態に係る画像形成方法における記録媒体の一つであるポリ塩化ビニルの具体例には、ＫＳＭ−ＶＳ、ＫＳＭ−ＶＳＴ、ＫＳＭ−ＶＴ（以上、株式会社きもと製）、Ｐ−２２３ＲＷ、Ｐ−２２４ＲＷ、Ｐ−２４９ＺＷ、Ｐ−２８４ＺＣ（以上、リンテック株式会社製）、ＭＰＩ３０２３（株式会社トーヨーコーポレーション社製）、ＮＩＪ−ＣＡＰＶＣ、ＮＩＪ−ＳＰＶＣＧＴ（以上、ニチエ株式会社製）、ＪＴ５１２９ＰＭ、ＪＴ５７２８Ｐ、ＪＴ５８２２Ｐ、ＪＴ５８２９Ｐ、ＪＴ５８２９Ｒ、ＪＴ５８２９ＰＭ、ＪＴ５８２９ＲＭ、ＪＴ５９２９ＰＭ（以上、Ｍａｃｔａｃ社製）、ＶＧＬ−１３７、ＳＶＧＳ−１３７、ＭＤ３−２００、ＭＤ３−３０１Ｍ、ＭＤ５−１００、ＭＤ５−１０１Ｍ、ＭＤ５−１０５（以上、Ｍｅｔａｍａｒｋ社製）、６４０Ｍ、６４１Ｇ、６４１Ｍ、３１０５Ｍ、３１０５ＳＧ、３１６２Ｇ、３１６４Ｇ、３１６４Ｍ、３１６４ＸＧ、３１６４ＸＭ、３１６５Ｇ、３１６５ＳＧ、３１６５Ｍ、３１６９Ｍ、３４５１ＳＧ、３５５１Ｇ、３５５１Ｍ、３６３１、３６４１Ｍ、３６５１Ｇ、３６５１Ｍ、３６５１ＳＧ、３９５１Ｇ、３６４１Ｍ（以上、Ｏｒａｆｏｌ社製）、ＩＪ１８０ＣＶ２（３Ｍ社製）などが含まれる。
【０１７３】
記録媒体は、可塑剤を含有しない樹脂基材または非吸収性の無機基材であってもよい。基材の厚み、形状、色、軟化温度、硬さ等の諸特性について特に制限はない。
【０１７４】
可塑剤を含有しない樹脂基材の例には、ＡＢＳ樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）樹脂、ポリアセタール（ＰＯＭ）樹脂、ポリアミド（ＰＡ）樹脂、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）樹脂、ポリイミド（ＰＩ）樹脂、アクリル樹脂、ポリエチレン（ＰＥ）樹脂、ポリプロピレン（ＰＰ）樹脂、可塑剤を含有しない硬質ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）樹脂など含まれる。
【０１７５】
非吸収性の無機基材の例には、ガラス板、鉄やアルミニウムなどの金属板、セラミック板等が挙げられる。これらの無機基材は表面にインク吸収性の層を有していないことが特徴である。
【０１７６】
これらの基材を１種単独で、又は複数の種類の基材を組み合わせて、使用をすることができる。
【０１７７】
＜インクジェットインクの射出＞
インクジェットインクは、インクジェットヘッドのノズル（射出口）から液滴として記録媒体に射出される。インクジェットヘッドの方式は、オンデマンド方式でもコンティニュアス方式でもよい。また、射出方式は、電気−機械変換方式（例えば、シングルキャビティー型、ダブルキャビティー型、ベンダー型、ピストン型、シェアーモード型、シェアードウォール型等）、電気−熱変換方式（例えば、サーマルインクジェット型、バブルジェット（登録商標）型等）などのいずれでもよい。
【０１７８】
インクジェットヘッドのノズルから射出される液滴サイズは、ヘッドのノズル径や、インクジェットヘッドにかける電圧の大きさやパターンにより調整できる。例えば、ノズル開口に連通する圧力室を膨張させてから収縮させるという「引き打ち」方式を用いることで、インク滴の質量を少なくできるので、液滴サイズを小さくすることが可能である。
【０１７９】
高精細で凹凸感の少ない高画質な画像を形成するために、液滴サイズを０．１〜１２ｐｌとすることが好ましい。液滴サイズが０．１ｐｌより小さいと、画像形成のための液滴数が過剰になり、画像形成に必要な時間が長時間となり、ノズル詰りが発生しやすいなどの問題がある。また、液滴サイズが０．１ｐｌよりも小さいと、インクジェットインクがノズルから射出されるとき、または基材に着弾したときの単位体積当たりの表面積が大きくなるので、外気の影響を受けやすい。また、液滴サイズが１２ｐｌより大きいと、１ドットあたりのドット径が大きくなるため形成された画像の解像度が低くなる。そのため、間近から見た場合の画質の粗さや細かい文字の再現性に問題が生じる。
【０１８０】
実施形態に係る画像形成方法において、インクジェットインクは、加熱した状態で射出されてもよい。加熱によってインクジェットインクの粘度が低下するので、射出安定性が高まる。インクジェットインクの加熱温度は３５〜１００℃が好ましく、より好ましくは３５〜８０℃である。インクジェットインクを所定の温度に加熱および保温する方法は特に制限されない。例えば、インクジェットヘッドキャリッジを構成するインクタンク、供給パイプ、ヘッド直前の前室インクタンク等のインク供給系や、フィルター付き配管、ピエゾヘッド等を断熱して、パネルヒーター、リボンヒーター、保温水等により所定の温度に加熱する方法がある。
【０１８１】
インクジェットインクは、設定温度±５℃の制御幅で加熱および保温されることが好ましく、さらに好ましくは設定温度±２℃の制御幅に、特に好ましくは設定温度±１℃の制御幅に設定される。
【０１８２】
＜記録媒体に着弾したインクへの活性エネルギー線照射＞
記録媒体に射出されたインクジェットインクの液滴には、紫外線などの活性エネルギー線が照射され、インクに含まれる成分が硬化される。
【０１８３】
照射される活性エネルギー線の例には、紫外線、近紫外線、自然光（フィルターカット品含む）などが含まれるが、紫外線が好ましい。紫外線の照射光源の例には、発光ダイオード（Light Emitting Diode：ＬＥＤ）、メタルハライドランプ、キセノンランプ、カーボンアーク灯、ケミカルランプ、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ等のランプなどが含まれる。例えばFusion System社製のＨランプ、Ｄランプ、Ｖランプ等の市販されている。
【０１８４】
ＬＥＤは瞬時に点灯が可能であり、寿命が長く、輻射熱が少なく光量制御が容易であり、発光波長幅（半値幅）が極めて狭く、消費電力量が少ないなどの利点がある。ＬＥＤ光源も市販されている。照射光源の波長は３５０ｎｍ〜４５０ｎｍであることが好ましく、３６５ｎｍ〜４００ｎｍであることがより好ましい。光紫外域の中では長波長側であるため安全であるからである。
【０１８５】
本実施形態における画像形成方法において、記録媒体に着弾したインクジェットインクの液滴に照射される積算光量は、１滴あたり２００ｍＪ／ｃｍ２以下であることが好ましい。本実施形態におけるインクジェットインクは、１滴あたりの積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ２以下であっても、十分に硬化反応することができる。そのため、省エネ／省スペース、コストの観点から有利である。
【０１８６】
本実施形態における画像形成方法において、活性エネルギー線照射光源の照度は５Ｗ／ｃｍ２以下とすることが好ましい。５Ｗ／ｃｍ２より高い照度の光源は、発熱量が大きいため、耐熱性の弱い記録媒体が変形したり、漏れ光が多くなりヘッドノズル面上でインクが硬化してしまうなどの問題が生じうる。また、高い照度の光源は、消費エネルギーが高く、光源スペースが大きく、コストが上昇する。
【０１８７】
実施形態に係る画像形成方法において、活性エネルギー線は、インク液滴が記録媒体に着弾してから０．００１秒〜１．０秒の間に照射されることが好ましく、より好ましくは０．００１秒〜０．５秒の間に照射される。高精細な画像を形成するためには、着弾から照射までのインターバルができるだけ短いこと好ましい。
【０１８８】
活性エネルギー線の照射方法は特に限定されず、例えば下記の方法で行うことができる。ヘッドユニットの両側に光源を設け、シャトル方式でヘッドと光源を走査し、インク着弾から一定時間後に照射が行う。さらに、駆動を伴わない別の光源からも光を照射して硬化を完了させる（特開昭６０−１３２７６７号公報を参照）。あるは、光ファイバーを用いて光照射をしたり、コリメートされた光源からの紫外線をヘッドユニット側面に設けた鏡面にて反射させ、記録部へ光照射したりしてもよい（米国特許第６，１４５，９７９号明細書を参照）。
【０１８９】
また、活性エネルギー線の照射を２段階に分けてもよい。例えば、まずインク着弾後０．００１〜２．０秒の間に前述の方法で活性エネルギー線を照射し、かつ、全印字終了後、さらに活性エネルギー線を照射する方法も好ましい態様の１つである。活性エネルギー線の照射を２段階に分けることで、よりインク硬化の際に起こる記録材料の収縮を抑えることが可能となる。
【０１９０】
＜インク着弾後の総インク膜厚＞
実施形態に係るインクジェット記録方法では、記録媒体上にインクが着弾し、活性エネルギー線を照射して硬化した後の総インク膜厚が２〜２０μｍであることが好ましい。記録媒体のカールや皺、記録媒体の質感変化を抑制するためである。「総インク膜厚」とは、記録媒体に描画されたインクの膜厚の最大値を意味する。単色であっても、２色重ね（２次色）、３色重ね、４色重ね（白インクベース）であっても、それらの総インク膜厚が２〜２０μｍであることが好ましい。
【０１９１】
（１）総インク膜厚１
実施形態に係る画像形成方法では、１）重合性モノマーとして、電子密度の低いモノマーと電子密度の高いモノマーとを組み合わせていること、２）射出する液滴サイズを０．１〜１２ｐｌとすることで、印刷環境によらず、高精細で凹凸感の低減された高品質な画像を形成することができ、しかも照射光の光量を低減することができる。
【０１９２】
まず、１）重合性モノマーとして、電子密度の低いモノマーと電子密度の高いモノマーとを組み合わせているので光感度が高い。光感度が高い理由は、電荷移動錯体重合が生じるためであると考えられる。しかも、光感度が印刷環境によって劣化することもない。そのため、２）射出する液滴サイズを０．１ｐｌ〜１２ｐｌに微小化しても、容易に光硬化される。
【０１９３】
一方、ラジカル重合方式のインクジェットインクは、重合時の成長末端が印刷環境中の酸素と反応して、反応性の乏しいヒドロペルオキシラジカルを生成するため、重合反応の進行が阻害される。さらに、カチオン重合方式のインクジェットインクは、外気中の水分が重合開始剤から発生した酸と結合して重合反応の進行を阻害する。そのため、特に射出する液滴サイズを１２ｐｌ以下にしたときに、光硬化感度が大幅に低下し、画像品質も低下しやすい。
【０１９４】
これに対して、実施形態に係る画像形成方法は、電子密度の低いモノマーと電子密度の高いモノマーとを組み合わせているので、重合時の成長末端の酸素との反応性が遅い。つまり、酸素による重合阻害を受けにくい。また、水分による重合反応への影響も少ない。そのため、射出する液滴サイズを１２ｐｌ以下としても、高い硬化感度が維持され、高品質な画像が形成される。これは、実施形態に係る画像形成方法が、電荷移動錯体重合方式（ＣＴ重合方式）による活性エネルギー線硬化型インクジェットインクを用いているからと考えられる。
【０１９５】
（２）総インク膜厚２
実施形態に係る画像形成方法は、１）重合性モノマーとして、電子密度の低いモノマーと電子密度の高いモノマーとを組み合わせていること、２）画像形成時の活性線エネルギー線が波長３０５〜４１０ｎｍに照度８Ｗ／ｃｍ２以下かつ積算光量２０〜２００ｍＪ／ｃｍ２の範囲内であるとすることである。それにより、熱に弱い基材に対しても熱ダメージを与えることなく、耐候性を有する画像を提供することができる。
【０１９６】
まず、１）重合性モノマーとして、電子密度の低いモノマーと電子密度の高いモノマーとを組み合わせているので光感度が高い。光感度が高い理由は、電荷移動錯体重合が生じるためであると考えられる。しかも、光感度が印刷環境によって劣化することもない。そのため、２）照射する活性エネルギー線を低照度かつ低積算光量にしても、耐候性を有する画像を形成できる。
【０１９７】
一方、ラジカル重合方式のインクジェットインクは、重合時の成長末端が印刷環境中の酸素と反応して、反応性の乏しいヒドロペルオキシラジカルを生成するため、重合反応の進行が阻害される。さらに、カチオン重合方式のインクジェットインクは、外気中の水分が重合開始剤から発生した酸と結合して重合反応の進行を阻害する。そのため、活性エネルギー線を低照度にしたときに、光硬化感度が大幅に低下し、画像の耐候性も低下しやすい。
【０１９８】
これに対して、実施形態に係る画像形成方法は、電子密度の低いモノマーと電子密度の高いモノマーとを組み合わせているので、重合時の成長末端の酸素との反応性が遅い。つまり、酸素による重合阻害を受けにくい。また、水分による重合反応への影響も少ない。そのため、照射する活性エネルギー線を低照度にしても、高い硬化感度が維持され、低積算光量でも耐候性を有する画像が形成される。これは、実施形態に係る画像形成方法が、電荷移動錯体重合方式（ＣＴ重合方式）による活性エネルギー線硬化型インクジェットインクを用いているからと考えられる。
【０１９９】
＜インクジェット記録装置＞
実施形態に係るインクジェット記録方法は、インクジェット記録装置（インクジェットプリンタ）を用いて行うことができる。インクジェット記録装置の例には、シリアルヘッド方式の記録装置と、ラインヘッド方式の記録装置とが含まれるが、これらに限定されない。以下において、図面を参照しながら各記録装置を説明するが、インクジェット記録装置はこれらに限定されない。
【０２００】
図１は、シリアルヘッド方式のインクジェット記録装置の正面図であり、装置の要部構成を示している。記録装置１は、ヘッドキャリッジ２、記録ヘッド３、照射手段４、プラテン部５などを備える。記録装置１は、記録媒体Ｐの下にプラテン部５が設置されている。プラテン部５は、紫外線を吸収する機能を有しており、記録媒体Ｐを通過した紫外線を吸収する。その結果、高精細な画像を安定に再現できる。
【０２０１】
記録媒体Ｐは、ガイド部材６に案内され、搬送手段（図示せず）の作動により、図１の紙面における手前から奥に移動する。ヘッド走査手段（図示せず）は、ヘッドキャリッジ２をＹ方向に往復移動させることにより、ヘッドキャリッジ２に保持された記録ヘッド３の走査を行なう。
【０２０２】
ヘッドキャリッジ２は、記録媒体Ｐの上側に対向して設置され、記録媒体Ｐに印刷する画像の色の数に応じて、記録ヘッド３を複数個具備する。記録ヘッド３は、射出口３１を記録媒体Ｐに向けて配置される。図１の記録装置のヘッドキャリッジ２は、イエロー（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）、ブラック（Ｋ）の４種類の記録ヘッド３を収納しているが、ヘッドキャリッジ２に収納される記録ヘッド３の色数は適宜設定される。
【０２０３】
記録ヘッド３の内部には、複数のインク室が配置され、各インク室に射出手段が備えられている（図示せず）。射出手段とは、例えばピエゾ素子である。記録ヘッド３の内部に配置されたインク室には、インク供給手段（図示せず）によって活性エネルギー線硬化型インクが供給される。インク室に供給された活性エネルギー線硬化型インクは、射出手段の作動により、射出口３１から記録媒体Ｐに向けて射出される。
【０２０４】
記録ヘッド３の射出口３１から射出されるインクジェットインクは、前述の活性エネルギー線硬化型インクジェットインクであり、活性エネルギー線が照射されることで、重合開始剤の作用によって重合性モノマーの架橋や重合反応が生じて硬化する性質を有する。
【０２０５】
記録ヘッド３は、ヘッド走査手段の駆動により、Ｙ方向に沿って記録媒体Ｐの一端から他端まで走査することができる。記録ヘッド３は、走査しながら、記録媒体Ｐの一定領域（着弾可能領域）にインクジェットインクの液滴を射出し、着弾させる。
【０２０６】
記録ヘッド３の走査を適宜回数行ない、一の着弾可能領域にインクの射出を行なった後、搬送手段で記録媒体Ｐを図１の紙面における手前から奥に適宜移動させる。再び、記録ヘッド３の走査を行ないながら、記録ヘッド３により上記一の着弾可能領域に隣接する着弾可能領域にインクジェットインクの液滴を射出し、着弾させる。
【０２０７】
上述の操作を繰り返して、記録媒体Ｐにインクジェットインクの液滴の集合体からなる画像が形成される。
【０２０８】
照射手段４は、ヘッドキャリッジ２の両脇に、記録媒体Ｐに対してほぼ平行に固定して設置される。照射手段４は、前述の特定波長領域の紫外線を発光する照射光源８と、特定の波長の紫外線を透過するフィルター（不図示）とを備える。
【０２０９】
照射手段４の照射領域は、記録ヘッド３による着弾可能領域と同じか、またはそれよりも大きければよい。
【０２１０】
インク射出部３１に光があたることを抑制するために、記録ヘッド３全体を遮光したり、さらに、照射手段４と記録媒体Ｐの距離ｈ１よりも、記録ヘッド３のインク射出部３１と記録材料Ｐとの距離ｈ２を大きくしたり（ｈ１＜ｈ２）、記録ヘッド３と照射手段４との距離を大きくしたりすることが好ましい。また、記録ヘッド３と照射手段４の間を蛇腹構造７にすると好ましい。
【０２１１】
図２は、ラインヘッド方式のインクジェット記録装置の上面図であり、装置の要部構成を示している。記録装置１は、複数の記録ヘッド３が固定配置されたヘッドキャリッジ２と、照射手段４とを有する。
【０２１２】
ヘッドキャリッジ２に備えられた複数の記録ヘッド３は、記録媒体Ｐの全幅をカバーするように配置されている。
【０２１３】
照射手段４は、ヘッドキャリッジ２よりも記録媒体Ｐの搬送方向の下流側に配置されている。照射手段４は複数のＬＥＤ光源を有しており、複数のＬＥＤ光源は記録媒体Ｐの全幅をカバーするように配置されている。つまり照射手段４は、インク印字面全域をカバーするように配置されている。各ＬＥＤ光源は、例えば３９５ｎｍに最高照度を有する。
【０２１４】
ラインヘッド方式のインクジェット記録装置１では、ヘッドキャリッジ２及び照射手段４は固定されており、記録媒体Ｐのみが搬送される。搬送される記録媒体Ｐに、固定配置された記録ヘッド３から射出されたインク液滴が着弾し、着弾したインクに照射手段４からの光が照射され、インクが硬化する。それにより、画像が形成される。
【実施例】
【０２１５】
以下において、実施例を参照して本発明をより詳細に説明する。これらの実施例によって、本発明の範囲は限定して解釈されない。
【０２１６】
（合成例１）マレイミド化合物１の合成
【化２４】
2013147023.tif 000025
マレイミド化合物１
【０２１７】
文献「有機合成化学協会誌第２３巻第２号（１９６５）」に記載の方法で、Ｎ-β-ヒドロキシプロピルマレイミドを合成した。次いで、攪拌機、減圧装置およびトラップを備えた３００ｍＬナス型フラスコに、前述のＮ-β-オキシイソプロピルマレイミド５．０ｇ、セバシン酸３．０３ｇ、ｐ-トルエンスルホン酸一水和物０．７ｇ、２,６-tert-ブチル-ｐ-クレゾール０．０５ｇ、およびトルエン２０ｍＬを順次仕込んだ。そして、減圧下、生成する水とトルエンを共沸留去しながら、反応温度８０℃で１２時間攪拌して、反応させた。反応終了後の溶液を室温まで冷却し、酢酸エチル３００ｍＬに溶解させて、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１００ｍＬで３回、飽和食塩水１００ｍＬで１回洗浄した。得られた有機層を硫酸マグネシウムにて乾燥させた後、濃縮してマレイミド化合物１を３．３ｇ得た。マレイミド化合物１は、室温で固体であった。
【０２１８】
得られたマレイミド化合物１のＮＭＲの測定結果を以下に示す。
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）：６．７２（ｓ，４Ｈ，−ＣＨ＝ＣＨ−）、５．１２−５．１４（ｍ，２Ｈ，−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ−）、３．５８−３．７１（ｍ，４Ｈ，Ｎ−ＣＨ２−）、２．２２（ｔ，４Ｈ，−Ｏ−（Ｃ＝Ｏ）−ＣＨ２−）、１．５４（ｂｒｓ，４Ｈ，−ＣＨ２−）、１．２２−１．４２（ｍ，８Ｈ，−ＣＨ２−）、１．２４（ｄ，６Ｈ，−ＣＨ３）．
１３Ｃ  ＮＭＲ（１００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）：１７３．３［−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−］、１７０．５［Ｎ−（Ｃ＝Ｏ）］、１３４．１（−ＣＨ＝ＣＨ−）、６８．０［−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ−］、４１．９（−Ｎ−ＣＨ２−）、３４．２［−Ｏ−（Ｃ＝Ｏ）−ＣＨ２−］、２９．０（−ＣＨ２−）、２８．９（−ＣＨ２−）、２４．６（−ＣＨ２−）、１７．６（−ＣＨ３）．
【０２１９】
（合成例２）マレイミド化合物２の合成
【化２５】
2013147023.tif 000026
マレイミド化合物２
【０２２０】
前述のＮ-β-ヒドロキシプロピルマレイミド５．０ｇの代わりに、前述と同様の方法で合成したＮ-β-ヒドロキシエチルマレイミド４．５５ｇを用いた以外は合成例１と同様にしてマレイミド化合物２を３．３ｇ得た。このマレイミド化合物２は、室温で固体であった。
【０２２１】
得られたマレイミド化合物２のＮＭＲの測定結果を以下に示す。
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）：６．７３（ｓ，４Ｈ，−ＣＨ＝ＣＨ−）、４．２３（ｔ，４Ｈ，−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ２−）、３．７９（ｔ，４Ｈ，Ｎ−ＣＨ２−）、２．２６（ｔ，４Ｈ，−Ｏ−（Ｃ＝Ｏ）−ＣＨ２−）、１．５７（ｔ，４Ｈ，−ＣＨ２−）、１．２７（ｓ，８Ｈ，−ＣＨ２−）．
１３Ｃ  ＮＭＲ（１００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）：１７３．５［−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−］、１７０．４［Ｎ−（Ｃ＝Ｏ）］、１３４．２（−ＣＨ＝ＣＨ−）、６１．１［−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ２−］、３６．９（−Ｎ−ＣＨ２−）、３３．９［−Ｏ−（Ｃ＝Ｏ）−ＣＨ２−］、２８．９（２Ｃ）（−ＣＨ２−）、２４．６（−ＣＨ２−）．
【０２２２】
（合成例３）マレイミド化合物３の合成
【化２６】
2013147023.tif 000027
マレイミド化合物３
【０２２３】
特許第３５９９１６０号公報に記載の方法で、２-マレイミド-２-メチル酢酸を合成した。次いで、攪拌機、減圧装置およびトラップを備えた３００ｍＬナス型フラスコに、前述の２-マレイミド-２-メチル酢酸３３．８ｇ、ジエチレングリコール１０．２ｇ、ｐ-トルエンスルホン酸一水和物４．４７ｇ、２,６-tert-ブチル-ｐ-クレゾール０．３５ｇ、およびトルエン２０ｍＬを順次仕込んだ。そして、減圧下、生成する水とトルエンを共沸留去しながら、反応温度８０℃で５時間攪拌して反応させた。反応終了後、得られる溶液を室温まで冷却し、酢酸エチル３００ｍＬに溶解させて、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１００ｍＬで３回、飽和食塩水１００ｍＬで１回洗浄した。得られた有機層を硫酸マグネシウムにて乾燥させた後、濃縮してマレイミド化合物３を２４．７ｇ得た。このマレイミド化合物３は、室温で固体であった。
【０２２４】
得られたマレイミド化合物３のＮＭＲの測定結果を以下に示す。
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）：６．７５（ｓ，４Ｈ，−ＣＨ＝ＣＨ−）、４．８２（ｑ，２Ｈ，Ｎ−ＣＨ−）、４．２０−４．３２（ｍ，４Ｈ，−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ２−）、３．５８−３．６７（ｍ，４Ｈ，−ＣＨ２−Ｏ−）、１．５９（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ３）．
１３Ｃ  ＮＭＲ（１００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）：１６９．７［Ｎ−（Ｃ＝Ｏ）］、１６９．５［−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−］、１３４．３（−ＣＨ＝ＣＨ−）、６８．７［−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ２−］、６４．６（−ＣＨ２−Ｏ−）、４７．４（−ＣＨ−）、１５．１（−ＣＨ３）．
【０２２５】
（合成例４）マレイミド化合物４の合成
【化２７】
2013147023.tif 000028
マレイミド化合物４
【０２２６】
ジエチレングリコール１０．２ｇの代わりに、１,６-ヘキサンジオール１１．４ｇを用いた以外は合成例３と同様にしてマレイミド化合物４を２５．４ｇ得た。マレイミド化合物４は、室温で固体であった。
【０２２７】
得られたマレイミド化合物４のＮＭＲの測定結果を以下に示す。
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）：６．７５（ｓ，４Ｈ，−ＣＨ＝ＣＨ−）、４．７７（ｑ，２Ｈ，Ｎ−ＣＨ−）、４．０７−４．１７（ｍ，４Ｈ，−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ２−）、１．６３（ｄ，６Ｈ，−ＣＨ３）、１．５８−１．６３（ｍ，４Ｈ，−ＣＨ２−）、１．２４−１．３３（ｍ，４Ｈ，−ＣＨ２−）．
１３Ｃ  ＮＭＲ（１００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）：１６９．８［Ｎ−（Ｃ＝Ｏ）］、１６９．５［−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−］、１３４．２（−ＣＨ＝ＣＨ−）、６５．５［−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ２−］、４７．４（Ｎ−ＣＨ−）、２８．１（−ＣＨ２−）、２５．１（−ＣＨ２−）、１５．０（−ＣＨ３）．
【０２２８】
（合成例５）マレイミド化合物５の合成
【化２８】
2013147023.tif 000029
マレイミド化合物５
【０２２９】
ジエチレングリコール１０．２ｇの代わりに、１，１０−デカンジオール１６．７ｇを用いた以外は合成例３と同様にしてマレイミド化合物５を２２．３ｇ得た。マレイミド化合物５は、室温で固体であった。
【０２３０】
得られたマレイミド化合物５のＮＭＲの測定結果を以下に示す。
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）：６．７４（ｓ，４Ｈ，−ＣＨ＝ＣＨ−）、４．７８（ｑ，２Ｈ，Ｎ−ＣＨ−）、４．０８−４．１８（ｍ，４Ｈ，−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ２−）、１．５８−１．６５（ｍ，１０Ｈ，−ＣＨ２−，−ＣＨ３）、１．２０−１．２８（ｍ，１２Ｈ，−ＣＨ２−）．
１３Ｃ  ＮＭＲ（１００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）：１６９．８［Ｎ−（Ｃ＝Ｏ）］、１６９．６［−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−］、１３４．３（−ＣＨ＝ＣＨ−）、６５．８［−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ２−］、４７．５（Ｎ−ＣＨ−）、２９．１（−ＣＨ２−）、２８．９（−ＣＨ２−）、２８．０（−ＣＨ２−）、２５．４（−ＣＨ２−）、２５．０（−ＣＨ２−）、１５．１（−ＣＨ３）．
【０２３１】
（合成例６）マレイミド化合物６の合成
【化２９】
2013147023.tif 000030
マレイミド化合物６
【０２３２】
特開平１１−１２４４０３号公報の実施例に記載のマレイミド誘導体の合成方法、及びＭａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌａｒＣｈｅｍｉｃａｌ ａｎｄ ｐｈｙｓｉｃｓ，２００９，２１０，２６９−２７８記載の方法を用いて、マレイミド化合物６を合成した。
【０２３３】
＜インクの調製Ａ＞
表Ａ１に記載の組成からなるインク１〜９、およびインクセット１を構成するインク１０〜１３を、下記の方法に従って調製した。表Ａ１に記載の分散剤と塩基性化合物、光重合性化合物の一部をステンレスビーカーに入れ、６０℃のホットプレート上で加熱しながら１時間かけて撹拌、混合して溶解させた。次いで、この溶液に表１に記載の色材１〜４を添加した後、直径０．５ｍｍのジルコニアビーズと共にポリ瓶に入れ密栓し、ペイントシェーカーにて６時間分散処理を行ったあと、ジルコニアビーズを取り除き、顔料分散体を得た。
【０２３４】
得られた顔料分散体に、残りの光重合性化合物、重合開始剤、界面活性剤、重合禁止剤を混合溶解したモノマー溶液を撹拌しながら加えた。得られた溶液を、１μｍメンブランフィルターで濾過して、インク１〜１３を調製した。表Ａ１に示される組成のインク１〜１３において、マレイミド化合物の不飽和結合を構成する炭素原子の電荷と、ビニルエーテル化合物の不飽和結合を構成する炭素原子の電荷との差は０．２７〜０．４５である。
【０２３５】
表Ａ２に記載の組成からなるインク１４〜１７（インクセット２を構成する）と、表Ａ３に記載の組成からなるインク１８〜２１（インクセット３を構成する）とを、表Ａ１に記載の組成のからなるインクと同様にして調製した。
【０２３６】
表Ａ１〜Ａ３に記載のインクの各成分は以下の通りである。
【０２３７】
［色材］
色材１：Ｃ．Ｉ．ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｂｌａｃｋ  ７
色材２：Ｃ．Ｉ．ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｂｌｕｅ  １５：４
色材３：Ｃ．Ｉ．ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  １２２
色材４：Ｃ．Ｉ．ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  １５０
【０２３８】
［塩基性化合物］ＴＩＰＡ：トリイソプロパノールアミン
【０２３９】
［顔料分散剤］
Ｄ１：顔料分散剤  ソルスパース２４０００ＧＲ  ルーブリゾール社製
Ｄ２：顔料分散剤  ＢＹＫＪＥＴ−９１５０  ビックケミージャパン社製
Ｄ３：顔料分散剤  アジスパーＰＢ８２４  味の素ファインテクノ社製
【０２４０】
［マレイミド化合物］
マレイミド化合物１（不飽和結合を構成する炭素原子の電荷−０．２７）
マレイミド化合物２（不飽和結合を構成する炭素原子の電荷−０．２７）
マレイミド化合物３（不飽和結合を構成する炭素原子の電荷−０．２７）
マレイミド化合物４（不飽和結合を構成する炭素原子の電荷−０．２７）
マレイミド化合物５（不飽和結合を構成する炭素原子の電荷−０．２７）
マレイミド化合物６（不飽和結合を構成する炭素原子の電荷−０．０９）
ＤＥＭ：マレイン酸ジエチル（不飽和結合を構成する炭素原子の電荷−０．２７）
【０２４１】
［ビニルエーテル化合物］
ＴＥＧＤＶＥ：トリエチレングリコールジビニルエーテル（不飽和結合を構成する炭素原子の電荷−０．５４）
ＤＥＧＤＶＥ：ジエチレングリコールジビニルエーテル（不飽和結合を構成する炭素原子の電荷−０．５４）
ＤＤＶＥ：ドデシルビニルエーテル（不飽和結合を構成する炭素原子の電荷−０．５４）
ＤＥＧＶ：ジエチレングリコールモノビニルエーテル（不飽和結合を構成する炭素原子の電荷−０．５４）
【０２４２】
［カチオン光重合性化合物］
ＣＥＬ２０２１Ｐ：脂環式エポキシ化合物  ダイセル化学社製
ＯＸＴ−２２１：オキセタン化合物  東亞合成化学社製
ＯＸＴ−２１２：オキセタン化合物  東亞合成化学社製
ＯＸＴ−１０１：オキセタン化合物  東亞合成化学社製
【０２４３】
［ラジカル光重合性化合物］
Ａ−１：フェノキシエチルアクリレート
Ａ−２：テトラヒドロフルフリルアクリレート
Ａ−３：イソボルニルアクリレート
Ａ−４：ＰＯ変性ＮＰＧジアクリレート
【０２４４】
［光重合開始剤］
ＴＰＯ：２,４,６-トリメチルベンゾイル-ジフェニル-フォスフィンオキサイド（ＢＡＳＦ社製）
Ｉｒｇ８１９：ビス（２,４,６-トリメチルベンゾイル）-フェニルフォスフィンオキサイド（ＢＡＳＦ社製）
Ｉｒｇ３６９：２-ベンジル-２-ジメチルアミノ-１-（４-モルフォリノフェニル）-ブタノン-１（ＢＡＳＦ社製）
ＩＴＸ：２-イソプロピルチオキサントン（日本化薬社製）
ＣＰＩ−１００Ｐ：光酸発生剤（サンアプロ社製）
【０２４５】
［界面活性剤］
ＫＦ３５１：側鎖ポリエーテル変性シリコーンオイル  信越シリコーン社製
Ｗ２６０：エーテルエステル系可塑剤  ＤＩＣ社製
【０２４６】
［重合禁止剤］
Ｉｒｇａｓｔａｂ ＵＶ−１０（ＢＡＳＦ社製）
【表Ａ１】
2013147023.tif 000031
【表Ａ２】
2013147023.tif 000032
【表Ａ３】
2013147023.tif 000033
【０２４７】
得られたインク１〜９、インク１４およびインク１８について、ピエゾ型インクジェットノズルを備えたシリアル方式のインクジェット記録装置に、上記インク組成物を装填しインク射出直後の硬化性を評価した。
【０２４８】
インク供給系は、インクタンク、供給パイプ、ヘッド直前の前室インクタンク、フィルター付き配管、ピエゾヘッドからなる。前室タンクからヘッド部分までを、ヒーターによって温度制御して、インクジェットインクの粘度を射出可能な粘度（約１０ｍＰａ・ｓ）に調整した。
【０２４９】
ピエゾヘッドのノズルピッチは３６０ｄｐｉ（ｄｐｉとは１インチ辺りのドット数を表す）であり、液滴サイズは４ｐｌ、６ｐｌ、１４ｐｌまたは４２ｐｌとした。
【０２５０】
記録媒体をＰＥＴフィルムとして、画像解像度１４４０×１４４０ｄｐｉのベタ画像を形成した。画像形成は、２５℃／３０％ＲＨおよび２８℃／８０％ＲＨの環境下でそれぞれ行った。
【０２５１】
キャリッジの両端に、波長３９５ｎｍの空冷ＬＥＤ（フォセオン社製）を搭載し、ヘッドを走査しながら、インク着弾後０．５秒以内に活性光線を照射した。露光面照度は、２Ｗ／ｃｍ２とした。また、ヘッドキャリッジのスピードを変更することによって積算光量を調整し、各インクの硬化性を評価した。露光面照度および積算光量を、ＥＩＴ社製のＵＶ  ＰＯＷＥＲ  ＰＵＣＫ  IIを用いて、ＵＶＡ２領域にて測定した。
【０２５２】
キャリッジスピードを徐々に高めて、画像を形成した。硬化膜表面を指で擦ったときに擦り跡が付かない画像が得られるキャリッジスピードとしたときの、インク液滴への積算光量値を求めた。結果を表Ａ４に示す。
◎  ：５０ｍＪ／ｃｍ２未満
○  ：５０ｍＪ／ｃｍ２以上２００ｍＪ／ｃｍ２未満
△  ：２００ｍＪ／ｃｍ２以上５００ｍＪ／ｃｍ２未満
×  ：５００ｍＪ／ｃｍ２以上１０００ｍＪ／ｃｍ２未満
××：１０００ｍＪ／ｃｍ２以上でも擦り跡がついた
【表Ａ４】
2013147023.tif 000034
【０２５３】
次いで、６ｐｌの液滴サイズを射出できるインクノズルを有する４色ピエゾ型ヘッドを備えたシリアル方式のインクジェット記録装置に、インクセット１、２または３のインクジェットインクを装填した。
【０２５４】
記録媒体である塩化ビニルシートに、画像解像度１４４０×１４４０ｄｐｉのカラー画像（ＪＩＳＸ ９２０１−１９９５準拠の高精細カラーデジタル標準画像のＮ３「果物かご」）を印字した。キャリッジスピードを５００ｍｍ/ｓとした。着弾後０．５秒以内に、インク液滴に、キャリッジの両端に搭載されたＬＥＤ（フォセオン社製、波長３９５ｎｍ、２Ｗ/ｃｍ２）からの光を照射し、画像を形成した。画像の形成は、２５℃/３０％ＲＨおよび２５℃/８０％ＲＨの環境下でそれぞれ行った。基材上での積算光量は８０ｍＪ/ｃｍ２であった。
【０２５５】
得られた画像の画質評価を行った。インクセット１で出力した画像は、いずれの環境でも、印字直後に印字面を擦ったときに跡が付かず、また色間での滲みもなく、鮮明な画像であった。また、アルコール溶剤含有のクリーナー液を湿らせた不織布で表面を拭いても、色移りすることなく、画像の光沢等の変化も見られなかった。
【０２５６】
インクセット２で出力した画像は、２５℃３０％ＲＨの場合は良好な画像であったが、２８℃８０％ＲＨでは画像表面にタック感が残り、印字面を擦ると擦り跡が付いてしまった。また、上記クリーナー液で拭いたときに、不織布に薄く色移りし、画像表面の光沢が低下しているのが認められた。
【０２５７】
インクセット３で出力した画像は、いずれの環境でも、印字直後に印字面を擦ったときに擦り跡が付いてしまい、色間での滲みもみられた。結果、全体的にぼやけた画像であった。また、上記クリーナー液で拭いたときに、画像が取れてしまい白抜けしてしまった。
【０２５８】
次いで、６ｐｌの液滴サイズを射出できるインクノズルを有する４色ピエゾ型ヘッドを備えたラインヘッド方式のインクジェット記録装置に、インクセット１または３のインクジェットを装填した。
【０２５９】
解像度１４００ｄｐｉ×１４４０ｄｐｉで、４ポイント、５ポイントおよび６ポイントのＭＳ明朝体で、漢字「口、四、日、回、因、困、固、国、目、図、國」のＭ，Ｃ，Ｋ，Ｂ，Ｇ，Ｒ，３Ｃの文字および抜き文字と上記カラー画像をアート紙に印字した。目視にて文字再現性および画質の評価を行った。露光は、ヘッドの幅よりも広い幅のＬＥＤ（フォセオン社製、波長３９５ｎｍ、４Ｗ/ｃｍ２）を用いて行った。
【０２６０】
光源は、基材が搬送される下流の方向（印字後に活性光線が当たる）に、ヘッドに平行に配置した。積算光量が基材上で１００ｍＪ／ｃｍ２となるようなキャリッジスピードで基材を搬送し、印字を行った。
【０２６１】
インクセット１を用いた場合、４ポイントの文字および抜き文字全てが、細部にまで明瞭に記録されていた。また、カラー画像表面の擦り性も良好で鮮明な画像が形成された。
【０２６２】
インクセット３を用いて形成された画像は、６ポイントの文字および抜き文字が潰れてしまい、判読できないものがあった。また、カラー画像表面は擦り跡が残り、全体的にぼやけた画像であった。
【０２６３】
＜インクの調製Ｂ＞
表Ｂ１に記載の組成からなる実施例Ｂ１〜Ｂ８と比較例Ｂ１、Ｂ２の顔料分散体を、下記の方法に従って調製した。表Ｂ１に記載の顔料分散剤、重合性化合物および重合禁止剤をステンレスビーカーに入れ、６０℃のホットプレート上で加熱しながら１時間かけて撹拌、混合して溶解させた。次いで、この溶液に表Ａ１に記載の色材を添加した後、直径０．５ｍｍのジルコニアビーズと共にポリ瓶に入れ密栓し、ペイントシェーカーにて６時間分散処理を行ったあと、ジルコニアビーズを取り除き、顔料分散体を得た。
【表Ｂ１】
2013147023.tif 000035
【０２６４】
得られた顔料分散体９２．０ｇに重合開始剤（ＴＰＯ５．０ｇ、ＩＴＸ２．０ｇ）、を撹拌しながら加えた。得られた溶液を、１μｍメンブランフィルターで濾過して、実施例Ｂ１〜Ｂ８と比較例Ｂ１、Ｂ２のインクを調製した。
【０２６５】
実施例Ｂ１〜Ｂ８のインクにおいて、マレイミド化合物の不飽和結合を構成する炭素原子の電荷と、ビニルエーテル化合物の不飽和結合を構成する炭素原子の電荷との差は０．２４〜０．４５である。
【０２６６】
インクの調製に用いた成分は以下の通りである。
【０２６７】
［色材］
Ｃ．Ｉ．ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｂｌａｃｋ  ７
【０２６８】
［顔料分散剤］
ソルスパース２４０００ＧＲ：（ルーブリゾール社製）
【０２６９】
［電子受容性化合物］
マレイミド化合物１（不飽和結合を構成する炭素原子の電荷−０．２７）
マレイミド化合物２（不飽和結合を構成する炭素原子の電荷−０．２７）
マレイミド化合物３（不飽和結合を構成する炭素原子の電荷−０．２７）
マレイミド化合物４（不飽和結合を構成する炭素原子の電荷−０．２７）
マレイミド化合物５（不飽和結合を構成する炭素原子の電荷−０．２７）
無水マレイン酸（不飽和結合を構成する炭素原子の電荷−０．２９）
【０２７０】
［電子供与性化合物］
ＴＥＧＤＶＥ：トリエチレングリコールジビニルエーテル（不飽和結合を構成する炭素原子の電荷−０．５４）
【化３０】
2013147023.tif 000036
ＴＥＧＭＶＥ：トリエチレングリコールモノメチルビニルエーテル（不飽和結合を構成する炭素原子の電荷−０．５２）
【化３１】
2013147023.tif 000037
【０２７１】
［その他の重合性化合物］
テトラフルフリルアルコールオリゴアクリレート（ビスコートＶ＃１５０  大阪有機化学工業（株）製）
トリメチロールプロパンエトキシトリアクリレート
トリメチロールプロパントリアクリレート
トリメチロールプロパンホルマールアクリレート
フェノキシエチルアクリレート
ドデシルアクリレート
Ｎ−ビニルカプロラクタム
ＰＯ変性ＮＰＧジアクリレート（ダイセル・サイテック（株）社製）
【０２７２】
［重合開始剤］
ＴＰＯ（ホスフィンオキシド系光開始剤、ＢＡＳＦ社製）
ＩＴＸ（チオキサントン系光増感剤、Ａｃｅｔｏ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ社製）
【０２７３】
［重合禁止剤］
ＴＥＭＰＯ（２，２，６，６−テトラメチルピペリジニル−Ｎ−オキシル）
【０２７４】
＜評価方法＞
［耐候性］
上述の実施例Ｂおよび比較例Ｂのインクを、紫外線ランプを積んだインクジェットプリンターを用いて、７２０ｄｐｉ×７２０ｄｐｉ（４Ｐａｓｓ双方向印刷）の条件で軟質塩化ビニルシート（ＭＤ５  メタマーク社製）に印刷した。その印刷物に紫外線照射し、硬化させて画像を得た。紫外線ランプはＦｕｓｉｏｎ  Ｈバルブ（ＬＨ−６）またはＨｉ−Ｃｕｒｅ−Ｎ（ネオプト社製）を用い、フィルターにより照度を調節した。ＵＶＡ２領域（３２０ｎｍ〜３９０ｎｍ）の紫外線の積算光量は、硬化膜を指で擦った際に、白化やベタツキが生じない状態になるまで光照射した量とした。そのときの積算光量を表Ｂ２の「」内に記載した。また、ＵＶＡ２領域（３２０ｎｍ〜３９０ｎｍ）の照度および積算光量は積算光量計ＵＶ  Ｐｏｗｅｒ  Ｐｕｃｋ  Ｓ／Ｎ８２０２を用いて測定した。
【０２７５】
インクジェットプリンターを用いて得られた画像のＯＤ値αをＸ−ｒｉｔｅ  ５２８（Ｘ−Ｒｉｔｅ社製）を用いて測定した。さらに得られた画像を耐候性試験機（Ｘｅフェードメーター）に３００時間投入した。その後、耐候性試験後の画像のＯＤ値βを測定した。耐候性試験前後のＯＤ値の比「ＯＤ値β／ＯＤ値α」を残存率とした。下記評価結果を表Ｂ２に示す。
《評価基準》
○：残存率９５％以上
×：残存率９５％未満
−：インクが硬化しない
【０２７６】
［カール］
上述の実施例Ｂおよび比較例Ｂのインクを、紫外線ランプを積んだインクジェットプリンターを用いて、７２０ｄｐｉ×７２０ｄｐｉ（８Ｐａｓｓ双方向印刷）の条件で３５μｍＰＥＴに印刷した。その印刷物に１Ｐａｓｓで紫外線照射し画像を得た。紫外線ランプの照度は０．５〜５０Ｗの範囲で７段階に設定した。ＵＶＡ２領域の紫外線の光を画像に照射した。その際の積算光量は上記耐候性試験で硬化膜を指で擦った際に、白化やベタツキが生じない状態になるまでの量とした。そのときの積算光量を表２の「」内に記載した。なお紫外線ランプとしてはＦｕｓｉｏｎ  Ｈバルブ（ＬＨ−６）またはＨｉ−Ｃｕｒｅ−Ｎ（ネオプト社製）を用い、フィルターにより照度を調節した。また積算光量計ＵＶ  Ｐｏｗｅｒ  Ｐｕｃｋ  Ｓ／Ｎ８２０２を用いてＵＶＡ２領域（３２０ｎｍ〜３９０ｎｍ）の照度および積算光量を測定した。基材のカール状態を下記評価基準にて目視で評価した。下記評価結果を表Ｂ３に示す。
《評価基準》
◎：カールしていない
○：若干凹状にカールしている
△：大きく凹状にカールしている
×：波打ちカールしている
−：インクが硬化しない
【０２７７】
実施例Ｂ１〜Ｂ８と比較例Ｂ１、Ｂ２の耐候性についての評価結果を表Ｂ２に示す。
【表Ｂ２】
2013147023.tif 000038
【０２７８】
実施例Ｂ１〜Ｂ８と比較例Ｂ１、Ｂ２のカールについての評価結果を表Ｂ３に示す。
【表Ｂ３】
2013147023.tif 000039
【０２７９】
表Ｂ２の比較例Ｂ１、Ｂ２はいずれの照度においても、白化やベタツキがない画像を形成するには積算光量を２００ｍＪ／ｃｍ２以上とする必要があった。一方、実施例Ｂ１〜Ｂ８はいずれの照度においても、１５０ｍＪ／ｃｍ２以下の積算光量で白化やベタツキがない画像を形成できる。特に、実施例Ｂ１〜Ｂ５のようにインク中の重合性化合物が２官能のマレイミド化合物と２官能のビニルエーテル化合物のみである場合には、照度に係わらず５０ｍＪ／ｃｍ２の積算光量で画像形成できた。
【０２８０】
表Ｂ２の比較例Ｂ１、Ｂ２は照度が８Ｗ以下の場合には、耐候性試験における残存率が９５％未満となる結果を示し、積算光量を２００ｍＪ／ｃｍ２となるまで照射を続けたが、残存率が９５％以上となることは無かった。一方、実施例Ｂ１〜Ｂ８は照度が８Ｗ以下の場合においても、インクの残存率が９５％以上となる結果を示した。実施例Ｂ１〜Ｂ８のインクは低照度で硬化しても屋外環境に耐え得る画像を形成することができる。
【０２８１】
表Ｂ３の比較例Ｂ１、Ｂ２は照度８Ｗ以下の場合には、インクが硬化しなかった。また、照度が２５Ｗ以上の場合にはインクは硬化するが、基材が熱ダメージを受けてカールしてしまう。一方、実施例Ｂ１〜Ｂ８は照度８Ｗ以下の場合においても、インクを硬化させることができ、基材のカールを抑制することができる。また、照度が２５Ｗの場合にはインクを硬化させる積算光量が比較例Ｂ１、Ｂ２に比べ低いため、基材のカールを抑制できる。実施例Ｂ１〜Ｂ８のインクは、低照度で基材に熱ダメージを与えずに画像を形成するのに適している。
【産業上の利用可能性】
【０２８２】
本発明のインクジェットインクによれば、高精細で凹凸感の低減された高品質な画像を得ることができる。また、低照度の光源でインクを硬化できるため、システムのコンパクト化、省エネ化が実現される。
【符号の説明】
【０２８３】
１  記録装置
２  ヘッドキャリッジ
３  記録ヘッド
３１  射出口
４  照射手段
５  プラテン部
６  ガイド部材
７  蛇腹構造
８  照射光源
Ｐ  記録媒体
【図１】
2013147023.tif 000040
【図２】
2013147023.tif 000041