(57)【要約】【課題】カセットがカセット載置台に載置されている状態においてウェーハの飛び出しを防止可能なウェーハ処理装置を提供すること。【解決手段】カセット（４）を載置するカセット載置台（３１）と、ウェーハ（Ｗ１）を処理するウェーハ処理手段（８）と、ウェーハを搬送する搬送手段（５１）と、を備え、カセットは、一対の側板（４１ａ，４１ｂ）と、開口部（Ｏ１）と、ウェーハを背部（Ｅ１）で支持する背止部（４１ｆ）と、ウェーハを収容するための収容棚（４２）と、収容棚に収容されたウェーハの搬出を規制する閉状態及びウェーハを搬出可能な開状態に上下にスライド可能に開口部近傍に配設されたウェーハ規制部（４４）と、を有し、カセット載置台は、カセットが所定位置に載置された際にウェーハ規制部の下端に当接して位置づけられウェーハ規制部を開状態と閉状態とに選択的に位置づける上下駆動部（３３）を備えるようにした。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウェーハを収容するためのカセットを載置するカセット載置台と、ウェーハ処理領域に搬送されたウェーハを処理するウェーハ処理手段と、前記カセットと前記ウェーハ処理領域との間でウェーハを搬送する搬送手段と、を備えるウェーハの処理装置であって、
前記カセットは、対向して形成された一対の側板と、ウェーハを出し入れできる開口部と、ウェーハを背部で支持する背止部と、前記側板に複数形成されたウェーハを収容するための収容棚と、前記収容棚の一部が上下にずれて前記収容棚に収容されたウェーハの搬出を規制する閉状態及びウェーハを搬出可能な開状態に上下にスライド可能に前記開口部近傍に配設されたウェーハ規制部と、を有し、
前記カセット載置台は、前記カセットが所定位置に載置された際に前記ウェーハ規制部の下端に当接して位置づけられ前記ウェーハ規制部を開状態と閉状態とに選択的に位置づける上下駆動部を備えていることを特徴とするウェーハ処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウェーハを加工処理するウェーハ処理装置に関し、特に、ウェーハを収容するカセットを載置するためのカセット載置台を備えるウェーハ処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスの製造プロセスにおいては、集積回路毎にウェーハを切断分離するダイシング工程が行われる。ダイシング工程の前工程において、ウェーハは、粘着テープを介して環状のフレームに固定され、搬送用のカセットに収容される。ウェーハの収容されたカセットは、オペレータによって切削装置まで搬送され、カセット載置台に載置される。その後のダイシング工程において、ウェーハはカセットから搬出されて加工処理される。このカセットは、通常、複数枚のウェーハを収容できるように構成されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
特許文献１に記載されるカセットは、複数の水平な溝を有する一対の側板を対向させた構成を有しており、溝の一端側の挿入口から各溝に沿ってフレームが挿入されることで、複数枚のウェーハを収容できるようになっている。このカセットは、溝に保持されたフレーム（及びウェーハ）の脱落を防止するために、側板と同ピッチの溝を有するストッパー部材を備えている。ストッパー部材は、側板の溝に対してストッパー部材の溝が平行な状態で鉛直方向にスライドされるように、側板の挿入口側に取り付けられている。
【０００４】
例えば、搬送時などにおいてカセットが持ち上げられると、ストッパー部材は側板に対して下方にスライドされて、側板の溝とストッパー部材の溝とにずれが生じる。これにより、側板の溝に挿入されたフレームの一端はストッパー部材により係止され、フレームの脱落は防止される。一方、カセット載置台などの平面にカセットが載置されると、ストッパー部材は上方にスライドされ、側板の溝に対してストッパー部材の溝が段差なく連続される。この状態においては、ストッパー部材によるフレームの係止が解除されてフレームを搬出できる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】登録実用新案第３０１４８７０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上述のように、カセットの搬送時にカセットを持ち上げると、ストッパー部材によりフレームが係止され、挿入口からのフレームの脱落は防止される。しかしながら、カセットが平面に載置されている状態においては、ストッパー部材によるフレームの係止は解除されるため、僅かな衝撃が加わるだけでもフレームはカセットから飛び出してしまう。このため、例えば、カセット載置台からカセットを持ち上げる際に、オペレータや搬送手段などが誤ってカセットに接触すると、カセットからフレームが飛び出してウェーハが破損してしまう恐れがある。
【０００７】
本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、カセットがカセット載置台に載置されている状態においてウェーハの飛び出しを防止可能なウェーハ処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明のウェーハ処理装置は、ウェーハを収容するためのカセットを載置するカセット載置台と、ウェーハ処理領域に搬送されたウェーハを処理するウェーハ処理手段と、前記カセットと前記ウェーハ処理領域との間でウェーハを搬送する搬送手段と、を備えるウェーハの処理装置であって、前記カセットは、対向して形成された一対の側板と、ウェーハを出し入れできる開口部と、ウェーハを背部で支持する背止部と、前記側板に複数形成されたウェーハを収容するための収容棚と、前記収容棚の一部が上下にずれて前記収容棚に収容されたウェーハの搬出を規制する閉状態及びウェーハを搬出可能な開状態に上下にスライド可能に前記開口部近傍に配設されたウェーハ規制部と、を有し、前記カセット載置台は、前記カセットが所定位置に載置された際に前記ウェーハ規制部の下端に当接して位置づけられ前記ウェーハ規制部を開状態と閉状態とに選択的に位置づける上下駆動部を備えていることを特徴とする。
【０００９】
この構成によれば、カセット載置台が、カセットに設けられたウェーハ規制部を開状態と閉状態とに選択的に位置づける上下駆動部を備えているため、カセットがカセット載置台に載置されている状態においても、必要に応じてウェーハ規制部を閉状態に位置付けることができる。これにより、例えば、ウェーハを搬出又は搬入するタイミングのみにおいてウェーハ規制部を開状態に位置付け、それ以外において閉状態に位置付けるようにすれば、カセットがカセット載置台に載置されている状態においてウェーハの飛び出しを防止できる。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、カセットがカセット載置台に載置されている状態においてウェーハの飛び出しを防止可能なウェーハ処理装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本実施の形態に係る切削装置の構成例を示す斜視図である。
【図２】本実施の形態に係るカセットエレベータ及びカセットの構成例を示す模式図である。
【図３】ウェーハが収容された状態のカセットを示す模式図である。
【図４】カセット載置台に載置されたカセットからウェーハが搬出される様子を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、添付図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。なお、以下においては、切削ブレードによってウェーハを切削加工する切削装置について説明するが、本発明のウェーハ処理装置は切削装置に限定されるものではない。本発明のウェーハ処理装置は、レーザ発振器からのレーザ光を集光してウェーハを加工するレーザ加工装置であっても良い。また、本発明のウェーハ処理装置は、他の研削装置、研磨装置、洗浄装置、検査装置、ダイボンディング装置などであっても良い。
【００１３】
図１は、本実施の形態に係る切削装置の斜視図である。切削装置（ウェーハ処理装置）１は、カセット４に収容されるウェーハＷ１を搬送手段５１によって搬出し、チャックテーブル（ウェーハ処理領域）６２上に保持させて、切削ユニット（ウェーハ処理手段）８によって切削加工できるように構成されている。
【００１４】
切削装置１の加工対象となるウェーハＷ１は、略円板状の外形形状を有している。ウェーハＷ１の裏面側は、ダイシングテープＴ１を介して円環状のフレームＦ１に貼着されている。ウェーハＷ１の表面は、格子状に配列されたストリート（加工予定ライン）によって複数の領域に区画されている。ウェーハＷ１において、ストリートで区画された各領域には、デバイス（デバイスパターン）が形成されている。ウェーハＷ１は、各ストリートに沿って切削され、個々のデバイスに分割される。なお、切削装置１の加工対象は半導体ウェーハに限定されるものではない。
【００１５】
切削装置１は、上面形状が略平坦な基台２を有している。基台２は、略直方体状の基部２１と、その一部の角部において前方に突設された突設部２２とを備える。突設部２２には内部空間が形成されており、この内部空間には、カセットエレベータ３が上下動可能に設けられている。カセットエレベータ３の上面には、フレームＦ１に保持されたウェーハＷ１を収容するカセット４が載置される。カセットエレベータ３及びカセット４の構成については後に詳述する。
【００１６】
基部２１の上面には、カセットエレベータ３と隣接する位置に仮置き機構５が設けられている。仮置き機構５は、搬送手段５１と一対のレール５２とを備えている。搬送手段５１は第１方向（Ｙ軸方向）に移動可能に構成されており、カセットエレベータ３の上下動により搬送手段５１と同じ高さに位置付けられたウェーハＷ１（フレームＦ１）をレール５２側に引き出す。レール５２は略Ｌ字型の断面形状を有しており、第１方向に垂直な第２方向（Ｘ軸方向）において相互に離間接近可能に構成されている。ウェーハＷ１は、搬送手段５１によってレール５２上の所定位置まで引き出され、一対のレール５２の相互の接近によって第２方向において挟み込まれる。これにより、ウェーハＷ１は、Ｘ軸方向及びＹ軸方向において位置合わせされる。
【００１７】
基部２１の仮置き機構５に隣接する位置には、Ｘ軸方向に延在する開口が形成されている。開口は、テーブル移動基台６及び防水カバー６１により覆われている。防水カバー６１の下方には、テーブル移動基台６をＸ軸方向に移動可能なＸ軸移動機構（不図示）が設けられている。Ｘ軸移動機構は、Ｘ軸方向に平行な一対のガイドレール、ガイドレール間のＸ軸ボールねじ、及びＸ軸ボールねじを回転駆動するＸ軸パルスモータ（いずれも不図示）を備える。テーブル移動基台６は、ナット部（不図示）を介してＸ軸ボールネジと連結され、Ｘ軸ボールネジの回転によりガイドレールに沿って移動される。
【００１８】
テーブル移動基台６上には、チャックテーブル６２が設けられている。チャックテーブル６２は小径の円板状に形成されており、その上面中央部分にはポーラスセラミック材による吸着面６３が設けられている。吸着面６３においてウェーハＷ１を裏面側から吸着することで、ウェーハＷ１はチャックテーブル６２上の所定位置に保持される。チャックテーブル６２は、回転機構（不図示）によりテーブル移動基台６上でＺ軸周りに回転可能に支持されている。チャックテーブル６２には、仮置き機構５でＸ軸方向及びＹ軸方向に位置合わせされたウェーハＷ１が不図示の搬送手段によって搬送される。
【００１９】
Ｙ軸方向においてテーブル移動基台６と隣接する位置には、テーブル基台７が配置されている。テーブル基台７には、Ｙ軸移動機構７１が設けられている。Ｙ軸移動機構７１は、Ｙ軸方向に平行な一対のガイドレール７２、ガイドレール７２間のＹ軸ボールねじ（不図示）、及びＹ軸ボールねじを回転駆動するＹ軸パルスモータ７３を備える。テーブル基台７の上面には、Ｙ軸テーブル７４が支持されている。Ｙ軸テーブル７４は、テーブル基台７に接する基部７４ａと、基部７４ａに対して立設された壁部７４ｂとを備えている。Ｙ軸テーブル７４は、基部７４ａに設けたナット部（不図示）を介してＹ軸ボールネジと連結され、Ｙ軸ボールネジの回転によりガイドレール７２に沿って移動される。
【００２０】
Ｙ軸テーブル７４の壁部７４ｂには、Ｚ軸移動機構７５が設けられている。Ｚ軸移動機構７５は、壁部７４ｂの前面に配置されＺ軸方向に平行な一対のガイドレール７６と、ガイドレール７６間のＺ軸ボールねじ７７と、Ｚ軸ボールねじ７７と連結されるＺ軸パルスモータ７８とを備える。壁部７４ｂの前面には、Ｚ軸テーブル７９が支持されている。Ｚ軸テーブル７９は、壁部７４ｂに接する基部７９ａと、基部７９ａの端部において前方（Ｙ軸方向）に突設された壁部７９ｂとを備えている。Ｚ軸テーブル７９は、基部７９ａに設けたナット部を介してＺ軸ボールねじ７７と連結され、Ｚ軸ボールねじ７７の回転によりガイドレール７６に沿って移動される。
【００２１】
Ｚ軸テーブル７９の壁部７９ｂには、チャックテーブル６２の上方の位置において切削ユニット８が支持されている。切削ユニット８は、円筒状のスピンドル８１と、スピンドル８１の一端部に着脱可能に装着される切削ブレード８２とを備える。スピンドル８１の他端部側にはモータ８３が連結されており、スピンドル８１に装着された切削ブレード８２を回転できるようになっている。この切削ブレード８２を回転させてウェーハＷ１に接触させることで、ウェーハＷ１は切削される。切削ユニット８には、切削ブレード８２に隣接して撮像ユニット９が設けられている。
【００２２】
切削装置１の制御部（不図示）は、撮像ユニット９で撮像された撮像画像に基づいて、Ｘ軸移動機構及びＹ軸移動機構７１を制御して、切削ユニット８の切削ブレード８２をウェーハＷ１のストリートに位置合わせする。切削ブレード８２と位置合わせされたウェーハＷ１は、切削水を噴き付けられながら、回転された切削ブレード８２によって切り込まれる。切削されたウェーハＷ１は、搬送手段（不図示）によってピックアップされて、基部２１の上面に設けられた洗浄乾燥機構１０に移動される。
【００２３】
洗浄乾燥機構１０は、基台２に形成された円筒状の空間においてウェーハＷ１を保持するスピンナテーブル１０１を備えている。また、洗浄乾燥機構１０は、洗浄液噴射機構及び気体噴射機構（いずれも不図示）を備えている。スピンナテーブル１０１の下方には、回転機構（不図示）が設けられている。回転機構は、スピンナテーブル１０１に対して回転力を付与するスピンナテーブルモータ（不図示）を有しており、スピンナテーブル１０１を所定の速度で回転できるようになっている。スピンナテーブル１０１にウェーハＷ１が保持されると、円筒状の空間内においてスピンナテーブル１０１は回転される。この状態において、洗浄液噴射機構から洗浄液が噴射されることでウェーハＷ１は洗浄される。洗浄後において、ウェーハＷ１は、気体噴射機構から噴射されるエアによって乾燥される。
【００２４】
図２は、カセットエレベータ３及びカセット４の構成例を示す模式図である。図３は、ウェーハＷ１（フレームＦ１に保持されたウェーハＷ１）が収容された状態のカセット４を示す模式図であり、図３Ａはカセット４の上面を示し、図３Ｂは図３ＡのＡ−Ａ矢視断面を示し、図３Ｃは図３ＡのＢ−Ｂ矢視断面を示している。なお、図２及び図３においては、説明の便宜上、構成の一部を省略するなどして模式的に示している。
【００２５】
図２に示すように、カセットエレベータ３は、略平坦な上面形状を有するカセット載置台３１を備えている。カセット載置台３１の下方には、カセット載置台３１を上下に移動させる昇降機構（不図示）が設けられている。カセット載置台３１の上面側の一部には凹部３２が形成されており、凹部３２内には、カセット４に設けられたストッパー部材（ウェーハ規制部）４４を上下動させる駆動部（上下駆動部）３３が配置されている。この駆動部３３は、後述するように、カセット４のストッパー部材４４の下端に当接されて、ストッパー部材４４を上下にスライドさせる。駆動部３３は、例えば、シリンダで形成されている。
【００２６】
図２及び図３に示すように、カセット４は、左側板４１ａと右側板４１ｂとを対向配置させた構成を有している。左側板４１ａの上端部及び下端部と、右側板４１ｂの上端部及び下端部とは、それぞれ上板４１ｃ及び下板４１ｄにより連結されている。なお、図３においては、上板４１ｃなどの構成は省略されている。左側板４１ａ及び右側板４１ｂの内側面には、水平方向に延びる複数の横板４１ｅが略等間隔に設けられており、隣接する横板４１ｅの間に溝Ｄ１が形成されている。溝Ｄ１は、左側板４１ａ及び右側板４１ｂにおいて略等しい高さにそれぞれ形成されており、対向する溝Ｄ１の組によってウェーハＷ１を収容する収容棚４２が構成されている。
【００２７】
収容棚４２の一端には、フレームＦ１（ウェーハＷ１が保持されたフレームＦ１）を搬入、又は搬出するための開口部Ｏ１が設けられている。開口部Ｏ１から溝Ｄ１に沿ってフレームＦ１が挿入されることで、ウェーハＷ１は収容棚４２に収容される。収容棚４２の他端側には、上下方向に延在し、フレームＦ１の端部（背部）Ｅ１に当接される縦板（背止部）４１ｆが設けられている（図３Ａ及び図３Ｃ参照）。フレームＦ１が収容棚４２に収容された状態においては、縦板４１ｆにフレームＦ１の端部Ｅ１が当接される。このため、フレームＦ１は、縦板４１ｆと端部Ｅ１との当接位置より奥（収容棚４２の他端側）に移動されない。これにより、収容棚４２の他端側からウェーハＷ１が脱落しないようになっている。
【００２８】
左側板４１ａにおいて、横板４１ｅの開口部Ｏ１側の一部は切り欠かれており、収容棚４２の一端側において複数の溝Ｄ１を上下方向に連通する連通部４３が形成されている。連通部４３には、上下にスライド可能な縦長のストッパー部材（ウェーハ規制部）４４が配置されている。ストッパー部材４４は、水平方向に延在する複数の横板４４ａを略等間隔に備えており、隣接する横板４４ａの間に溝Ｄ２が形成されている。
【００２９】
横板４４ａは横板４１ｅに対して略平行に設けられており、また、横板４４ａのピッチは横板４１ｅのピッチと略等しくなっている。これにより、横板４１ｅと横板４４ａとの高さ位置を合わせるようにストッパー部材４４をスライドさせると、横板４１ｅと横板４４ａとは段差なく連続されて、溝Ｄ１と溝Ｄ２とでフレームＦ１の搬出経路（又は搬入経路）が形成される。上下に延在するストッパー部材４４の下端部には、カセット載置台３１にカセット４が載置された状態で、駆動部３３の上端部が当接される（図４Ｂ参照）。
【００３０】
図３Ｂ及び図３Ｃに示すように、左側板４１ａの上端部には、ストッパー部材４４に対応する凹部４５が設けられており、この凹部４５には、巻きばねにより構成される付勢部材４６が配置されている。付勢部材４６の上端部は凹部４５の内壁に当接されており、付勢部材４６の下端部はストッパー部材４４の上端部に当接されている。このようにして、ストッパー部材４４は、付勢部材４６によって下向きに付勢されている。
【００３１】
このストッパー部材４４は、連通部４３において上下にスライドされることで、溝Ｄ１と溝Ｄ２とが上下にずれる閉位置（閉状態）と、溝Ｄ１と溝Ｄ２とが連続される開位置（開状態）とを移動される。閉位置は、付勢部材４６の付勢力によりストッパー部材４４が下方側にスライドされた位置に相当する。この閉位置においては、左側板４１ａの横板４１ｅに対してストッパー部材４４の横板４４ａがずれた状態になる。これにより、収容棚４２に収容されるフレームＦ１の高さ位置と横板４４ａの高さ位置とが略等しくなって、横板４４ａにフレームＦ１の端部（開口部Ｏ１側の端部）Ｅ２が当接される。また、フレームＦ１は、横板４４ａと端部Ｅ１との当接位置よりも開口部Ｏ１側に移動されなくなる。つまり、閉位置においては、開口部Ｏ１からのウェーハＷ１の搬出は規制される。
【００３２】
付勢部材４６の付勢力に抗する上向きの力が加えられると、ストッパー部材４４は上方にスライドされて開位置に移動される。開位置においては、横板４１ｅと横板４４ａとの高さ位置が合わせられてこれらが段差なく連続され、横板４４ａとフレームＦ１の端部Ｅ２との当接は解除される。これにより、溝Ｄ１と溝Ｄ２とによるフレームＦ１の搬出経路が形成されて、収容棚４２に収容されたウェーハＷ１を、開口部Ｏ１を介して搬出可能になる。また、溝Ｄ１と溝Ｄ２とによる搬入経路が形成されて、収容棚４２にウェーハＷ１を搬入できるようになる。
【００３３】
このように構成されたカセット４は持ち上げられて運ばれるため、搬送時にはストッパー部材４４に上向きの力は加わらない。このため、ストッパー部材４４は付勢部材４６の付勢力により閉位置に位置付けられる。この状態において、収容棚４２に収容されるフレームＦ１は、左側板４１ａの縦板４１ｆとストッパー部材４４の横板４４ａとにより規定される位置に係止される。このように、カセット４が持ち上げられる搬送時には、ストッパー部材４４は閉位置に位置付けられるため、開口部Ｏ１からのフレームＦ１の脱落は防止される。
【００３４】
一方、カセット４がカセット載置台３１に載置された状態においては、ストッパー部材４４の下端部に駆動部３３の上端部が当接される。このため、ストッパー部材４４の位置は、駆動部３３によって制御されるようになる。つまり、カセット４がカセット載置台３１に載置された状態においては、任意のタイミングでストッパー部材４４を閉位置又は開位置のいずれかに位置付けることができる。
【００３５】
具体的には、例えば、基本状態として、ストッパー部材４４を閉位置に位置付けるようにしておく。これに対して、フレームＦ１の搬出時（又は搬入時）には、ストッパー部材４４を開位置に位置付けるようにする。このように、フレームＦ１を搬出又は搬入するタイミングにおいてのみストッパー部材４４を開位置に位置付けるようにすれば、カセット４がカセット載置台３１に載置されている状態においてもフレームＦ１の飛び出しを防止できる。
【００３６】
図４は、ダイシング工程において、カセット載置台３１に載置されたカセット４からウェーハＷ１が搬出される様子を示す模式図である。図４Ａはカセット４の上面を示し、図４Ｂ及び図４Ｃは、図４ＡのＢ−Ｂ矢視断面を示している。図４Ｂは、基本状態におけるカセットエレベータ３及びカセット４を示し、図４Ｂは、フレームＦ１の搬出時におけるカセットエレベータ３及びカセット４を示す。なお、図４においては、説明の便宜上、構成の一部を模式的に示している。
【００３７】
図４Ｂに示すように、ダイシング工程の前工程においては、オペレータによりウェーハＷ１の収容されたカセット４が搬送され、カセット載置台３１に載置される。搬送時には、付勢部材４６によって付勢されてストッパー部材４４は閉位置に位置付けられるため、開口部Ｏ１からのフレームＦ１の脱落は防止される。
【００３８】
カセット載置台３１の規定位置にカセット４が載置されると、ストッパー部材４４の下端部は駆動部３３の上端部に当接され、ダイシング工程が開始される。図４Ｂに示すように、カセット載置台３１にカセット４が載置された状態（基本状態）において、ストッパー部材４４は駆動部３３により閉位置に位置付けられる。これにより、フレームＦ１の飛び出しは防止される。
【００３９】
図４Ｃに示すように、フレームＦ１の搬出時には、搬送手段５１に対して加工対象となるウェーハＷ１の高さを合わせるようにカセット載置台３１が上下に移動される。カセット載置台３１の移動が完了されると、ストッパー部材４４は駆動部３３により付勢部材４６の付勢力に抗して上昇され、開位置に位置付けられる。これにより、横板４１ｅと横板４４ａとが段差なく連続されて、溝Ｄ１と溝Ｄ２とによりフレームＦ１の搬出経路が形成される。フレームＦ１は、搬送手段５１により収容棚４２から引き出されるようにして搬出される。
【００４０】
フレームＦ１がカセット４から搬出された後には、駆動部３３はストッパー部材４４を閉位置に位置付けるように制御される。これにより、付勢部材４６の付勢力によってストッパー部材４４は下降され閉位置に位置付けられて、再びフレームＦ１の搬出が規制された状態になる。このように、フレームＦ１を搬出又は搬入するタイミングのみにおいてストッパー部材４４を開位置に位置付けるようにすれば、ダイシング工程中においてもフレームＦ１の飛び出しを防止できる。
【００４１】
以上のように、本実施の形態に係る切削装置（ウェーハ処理装置）１は、カセット載置台３１が、カセット４に設けられたストッパー部材（ウェーハ規制部）４４を開状態と閉状態とに選択的に位置づける駆動部（上下駆動部）３３を備えているため、カセット４がカセット載置台３１に載置された状態においても、ストッパー部材４４を閉状態に位置付けてウェーハＷ１の搬出を規制できる。これにより、例えば、ウェーハＷ１を搬出又は搬入するタイミングのみにおいてストッパー部材４４を開位置に位置付け、それ以外において閉状態に位置付けるようにすれば、カセット４がカセット載置台３１に載置されている状態においてウェーハＷ１の飛び出しを防止できる。
【００４２】
なお、本発明は上記実施の形態の記載に限定されず、種々変更して実施可能である。例えば、上記実施の形態においては、ストッパー部材（ウェーハ規制部）を左側板に設ける構成を例示しているが、ストッパー部材は右側板に設けても良い。また、ストッパー部材を、右側板及び左側板の両方に設けても良い。この場合、右側板に設けられるストッパー部材と左側板に設けられるストッパー部材とを同期させてスライドさせるのが望ましい。
【００４３】
また、上記実施の形態においては、ストッパー部材が下方にスライドされた位置を閉位置とし、ストッパー部材が上方にスライドされた位置を開位置としているが、閉位置及び開位置の位置関係はこれに限定されない。ストッパー部材が上方にスライドされた位置を閉位置とし、ストッパー部材が下方にスライドされた位置を開位置としても良い。ストッパー部材の形状なども、閉位置（閉状態）においてウェーハの搬出を規制することができ、開位置（開状態）においてウェーハを搬出できるのであれば特に限られない。
【００４４】
また、上記実施の形態においては、フレームに保持されたウェーハをカセットに収容する構成について説明しているが、カセットに収容されるウェーハの態様はこれに限られない。例えば、フレームに保持されていないウェーハをカセットに直接収容する構成としても良い。また、ストッパー部材を付勢する付勢部材は巻きばねに限られない。板ばねなどを適用しても良い。その他、上記実施の形態に係る構成、方法などは、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施できる。
【産業上の利用可能性】
【００４５】
本発明は、切削装置やレーザ加工装置などのウェーハ処理装置に有用である。
【符号の説明】
【００４６】
１  切削装置（ウェーハ処理装置）
３  カセットエレベータ
４  カセット
５  仮置き機構
６  テーブル移動基台
８  切削ユニット（ウェーハ処理手段）
３１  カセット載置台
３２，４５  凹部
３３  駆動部（上下駆動部）
４１ａ  左側板
４１ｂ  右側板
４１ｅ，４４ａ  横板
４１ｆ  縦板（背止部）
４２  収容棚
４４  ストッパー部材（ウェーハ規制部）
４６  付勢部材
５１  搬送手段
５２  レール
６２  チャックテーブル（ウェーハ処理領域）
６３  吸着面
Ｄ１，Ｄ２  溝
Ｅ１  端部（背部）
Ｅ２  端部
Ｆ１  フレーム
Ｏ１  開口部
Ｔ１  ダイシングテープ
Ｗ１  ウェーハ
【図１】
2013157381.tif 000003
【図２】
2013157381.tif 000004
【図３】
2013157381.tif 000005
【図４】
2013157381.tif 000006