(57)【要約】      （修正有）【課題】赤外フィルターとしてフィルターガラスを含む光学系の製造を単純化し、その製造をより安価なものにし、同時にフィルターガラスで要求される空間を低減する方法の提供。【解決手段】銅イオンを含有するリン酸ガラス又はフルオロリン酸ガラスで作製されたガラスウェハ１であって、該ガラスウェハ１が１５センチメートルを超える直径と、０．４ミリメートル未満の厚さとを有し、該ガラスウェハ１の２つの面平行表面３，５の少なくとも一方が研磨される、銅イオンを含有するリン酸ガラス又はフルオロリン酸ガラスで作製されたガラスウェハ１が提供される。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
銅イオンを含有するリン酸ガラス又はフルオロリン酸ガラスで作製されたガラスウェハ（１）であって、該ガラスウェハ（１）が１５センチメートルを超える直径と、０．４ミリメートル未満の厚さとを有し、該ガラスウェハ（１）の２つの面平行表面（３、５）の少なくとも一方が研磨され、ウェーブ（１００）形態の該ガラスウェハ（１）の該表面（３、５）の高さ変調は、１ミリメートル以下の長さに対して２００ナノメートル未満、好ましくは１３０ナノメートル未満の高さを有する、銅イオンを含有するリン酸ガラス又はフルオロリン酸ガラスで作製されたガラスウェハ。
【請求項２】
請求項１に記載のガラスウェハ（１）であって、該ガラスウェハ（１）の厚さの変動が２５ｍｍ２の表面積に対して±５０μｍ未満である、ガラスウェハ。
【請求項３】
請求項２に記載のガラスウェハ（１）であって、該ガラスウェハ（１）の厚さが０．１８ミリメートル〜０．３２ミリメートルの範囲である、ガラスウェハ。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載のガラスウェハ（１）であって、気泡及び内包物が２００ｎｍ未満、より好ましくは１００ｎｍ未満である、ガラスウェハ。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載のガラスウェハ（１）であって、酸化物ベースの重量パーセントで以下の構成成分を含む組成を有する、ガラスウェハ：
Ｐ２Ｏ５：    ２５〜８０；
Ａｌ２Ｏ３：    １〜１３；
Ｂ２Ｏ３：      ０〜３；
Ｌｉ２Ｏ：      ０〜１３；
Ｎａ２Ｏ：      ０〜１０；
Ｋ２Ｏ：        ０〜１１；
ＭｇＯ：        １〜１０；
ＣａＯ：        ０〜１６；
ＢａＯ：        ０〜２６；
ＳｒＯ：        ０〜１６；
ＺｎＯ：        ０〜１０；
ＣｕＯ：        １〜７。
【請求項６】
請求項１〜３のいずれか一項に記載のガラスウェハ（１）であって、重量パーセント（酸化物ベース）で以下の構成要素を含む組成を有し：
Ｐ２Ｏ５：    ２５〜６０；
Ａｌ２Ｏ３：    １〜１３；
Ｌｉ２Ｏ：      ０〜１３；
Ｎａ２Ｏ：      ０〜１０；
Ｋ２Ｏ：        ０〜１１；
ＭｇＯ：        １〜１０；
ＣａＯ：        １〜１６；
ＢａＯ：        １〜２６；
ＳｒＯ：        ０〜１６；
ＺｎＯ：        ０〜１０；
ＣｕＯ：        １〜７；
Σ  ＲＯ（Ｒ＝Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ）  １５〜４０；
Σ  Ｒ２Ｏ（Ｒ＝Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ）  ３〜１８；
前記組成を元にして、前記ガラスにおける酸化物イオン（Ｏ２−）の１ｍｏｌ％〜３９ｍｏｌ％をフッ化物イオン（Ｆ−）に置き換える、ガラスウェハ。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載のガラスウェハ（１）を作製する方法であって、
少なくとも１．８ミリメートルの厚さを有するガラスシート（１０、１１）を、銅イオンを含有するリン酸ガラス又はフルオロリン酸ガラスから作製する工程と；
前記ガラスシート又は該ガラスシートから作製されたウェハ（１）が０．４ミリメートル以下の厚さになるまで、削磨プロセスにおいてガラス材料を除去する工程であって、該削磨プロセスが該ガラスシート（１０、１１）又は該ガラスシートから作製された該ウェハ（１）を研磨することを含む、除去する工程と；
を含む、方法。
【請求項８】
前記ガラスシートを作製する溶融ガラスが連続溶融プロセスにより調製される、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記ウェハ（１）が研磨前に前記ガラスシート（１０）から切り出される、請求項７又は８に記載の方法。
【請求項１０】
カメラモジュール（３２）を製造するための複数のオプトエレクトロニックアレイセンサ（２２）を備える半導体ウェハ（１２）と、該半導体ウェハ（１２）に結合した請求項１に記載のガラスウェハ（１）とを含むアセンブリ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は概して、ガラスウェハに関する。より具体的には、本発明は赤外吸収ガラスで作製されたガラスウェハに関する。
【背景技術】
【０００２】
知られているように、カメラチップは通常、チップのピクセルが赤外スペクトル領域においても感度があるという特性を有する。その上、光学部品が標準ガラス又はプラスチック材料から作製されたカメラモジュールの光学系は一般に或る特定量の赤外線透過を示す。しかしながら、チップに到達する赤外光によって、望ましくない色及び輝度歪みが生じる。
【０００３】
このため、カメラモジュールには通常、赤外フィルターが具備されている。最も一般的な赤外フィルターは干渉フィルターである。このようなフィルターでは、多層誘電層系が基板、通常ガラス基板上に堆積されている。物理的理由に基づき、多層誘電層系は赤外線放射を反射するが、可視光を透過するように設計されている。このようなフィルターは作製するのに比較的安価であるが、幾つかの欠点を有する。干渉フィルターは多くの場合、透過曲線に或る特定の変調を与える。この変調はコムフィルターと同様の効果があり、個々の色に影響を与え得る。
【０００４】
その上、干渉フィルターは、「色ガラス」又は吸収フィルターとも称される光学フィルターガラスよりも、光入射角に対するフィルター曲線（透過曲線）のかなり強い依存性を示す。コンパクトカメラは通常、最大３０度の全開口角を有し、多くの場合テレセントリックに配向されることがない。すなわち光線が或る特定の角度で（全開口角で）画像センサに衝突する。
【０００５】
さらに、赤外光が干渉層により光学系へと後方反射する。干渉フィルターは一般的に少なくとも近赤外領域においても一部（residual）透過を示すことから、多重反射により光学系において非常に厄介なゴースト（ghost images）が生じ得る。
【０００６】
その代替方法がフィルターガラスの形態の赤外フィルターにより与えられる。赤外光がフィルターガラスを通過する際に吸収されることから、フィルターガラスはその特質から上述のコムフィルター効果も多重反射した赤外光によるゴーストも示さない。
【０００７】
しかしながら、今までのところ干渉フィルターのコスト効率の高い製造はフィルターガラスと比較して干渉フィルターの唯一の利点ではない。干渉層は非常に薄く、また非常に薄型の基板上に堆積させることができる。これにより今では干渉フィルターを用いてよりコンパクトな光学系を作製することが可能になっている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
そのため、本発明の目的は、赤外フィルターとしてフィルターガラスを含む光学系の製造を単純化し、その製造をより安価なものにし、同時にフィルターガラスで要求される空間を低減することである。この目的は独立クレームの主題によって達成される。本発明の有益な実施形態及び変更形態は各従属クレームに記載されている。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
したがって、本発明は銅イオン（Ｃｕイオン）を含有するフルオロリン酸ガラス又はリン酸ガラスで作製されたガラスウェハを提供する。赤外光吸収のためのこのような銅イオン含有ガラスは、ブルーガラスとも称される。ガラスウェハは１５センチメートルを超える直径を有する。ガラスウェハの厚さは０．４ミリメートル未満である。ガラスウェハの表面の少なくとも一方が研磨されている。ウェーブ形態のガラスウェハの表面の高さ変調は、１ミリメートル以下の長さに対して２００ナノメートル未満、好ましくは１３０ナノメートル未満の高さに限定される。１ミリメートルという上述の関連尺度未満の幅を有するウェーブが、カメラセンサの光学的分解能に関して特に有効である。０．１ミリメートル〜１ミリメートルの長さ範囲内のウェーブ長、すなわちウェーブの平均周期が本明細書に関連する。
【００１０】
さらに本発明の１つの実施の形態によれば、ガラスウェハの厚さの変動は、５×５ｍｍ、すなわち２５ｍｍ２の表面積に対して±５０μｍ未満である。この厚さの僅かな変動が、フィルター曲線（透過曲線）をほぼ一定に保つ（すなわちほんの僅かしか変化しない）ようにするのに有益である。またガラスウェハのこの特徴は下記の本発明の作製方法により達成することができる。
【００１１】
好ましくは、ガラスウェハの厚さは、０．１８ミリメートル〜０．３２ミリメートル、より好ましくは０．２ミリメートル以上から０．３ミリメートル以下の範囲である。１つの例示的な実施の形態によれば、ガラスウェハは８インチの直径及び０．３０ｍｍの厚さを有する。
【００１２】
別の実施の形態によれば、ガラスウェハの厚さは０．０８ミリメートル〜０．１５ミリメートルの範囲であり、特に約０．１ミリメートルである。
【００１３】
当然のことながら、上述の厚さデータは、ガラスウェハの厚さが記載の値の間で変動することを意味するものではない。正確には、ガラスウェハは面平行形状であり、ガラスウェハの均一な厚さが上述の値の範囲内にある。
【００１４】
通常、ガラスウェハから作製される赤外フィルターはカメラチップの近くに設置されている。カメラチップに対する陰影効果を避けるために、ガラスウェハは、１００ｎｍより大きい又は２００ｎｍより大きい気泡及び／又は包含物を有しないのが好ましい。そのため、たとえピクセルのサイズを約１μｍへと小さくしたカメラセンサの小さいピクセルであっても、陰影効果は実質的に取るに足らないものである。
【００１５】
本発明によるガラスウェハは、銅イオンを含有していることから、赤外領域の光を吸収する。
【００１６】
ウェハは非常に薄型であり、０．４ミリメートル未満の厚さを有しており、そのため携帯電話に組み込まれているような小型のカメラの非常にコンパクトな光学系に特に適している。
【００１７】
しかしながら、薄型のガラスで通常生じる問題は、ガラス表面のリップル（ripple：波状化）及びガラスの厚さの均一性である。本発明によれば、この問題はより厚いガラス基板を０．４ｍｍ未満の厚さにする削磨プロセスによりウェハを薄くすることで解決される。削磨プロセスは、適切な表面を得るために唯一の工程として又は特に最終工程として研磨を含む。
【００１８】
具体的には、ガラスウェハを製造する方法であって、
少なくとも１．８ミリメートルの厚さを有する、銅イオンを含有するリン酸ガラス又はフルオロリン酸ガラスのガラスシートを作製する工程と；
ガラスシート又はガラスシートから予め作製されたウェハが０．４ミリメートル以下の厚さになるまで、削磨プロセスにおいてガラス材料を除去する工程であって、研磨プロセスがガラスシート又はガラスシートから既に作製されたウェハを研磨することを少なくとも含む、除去する工程と；
を含む、方法が提供される。ガラスシートからのウェハの作製は特に、その目的とする外形でガラスシートからウェハを加工することを含む。加工は例えば、切断、ソーイング、又は更には超音波振動研削等の研削により達成することができる。
【００１９】
本方法の代替方法によれば、削磨プロセスの終了時のガラスシートが依然としてウェハの最終外形を備えていない場合、削磨プロセスの後にガラスシートからウェハに加工する。
【００２０】
上記の厚さに従って、ウェハを製造するためにガラスを、研磨により又は研削後の研磨により少なくとも４．５倍まで薄くする。本方法は一見したところ複雑であるように見えるが、このようにしてガラスウェハの高い面平行性及び特に低い湾曲（「反り（warpage）」とも称される）を達成することができる。
【００２１】
これにより、このウェハと、カメラチップが上に配置された機能的ウェハ又はオプトエレクトロニックアレイセンサとを接続させた後に、チップを分割し、それによりカメラモジュールを作製することが可能になる。したがって本発明は、本発明によるガラスウェハと、オプトエレクトロニック機能的ウェハとを備えるウェハアセンブリ、又はカメラモジュールを作製するための複数のオプトエレクトロニックアレイセンサを上に備える半導体ウェハと、半導体ウェハに接続した本発明によるガラスウェハとのアセンブリにも関する。２つのウェハは必ずしも直接接続していなくてもよい。正確には、１つ又は複数の中間層を２つのウェハ層の間に設けることができる。例えば、マイクロレンズを備える層又はウェハを、本発明による赤外吸収ガラスウェハと、機能的ウェハとの間に設けることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明によるガラスウェハの製造を示す図である。
【図２】本発明によるガラスウェハの製造を示す図である。
【図３】本発明によるガラスウェハの製造を示す図である。
【図４】半導体ウェハと赤外吸収ガラスウェハとを含むウェハアセンブリを示す図である。
【図５】赤外フィルターを含むカメラチップを示す図である。
【図６】赤外フィルターを備えるカメラモジュールを示す図である。
【図７】０．３ｍｍの厚さを有する赤外吸収ガラスウェハの透過曲線を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
これより本発明を例示的な実施形態によって及び添付の図面を参照してより詳細に説明する。図面において、同じ参照符号は同じ又は対応する要素を指定するものである。
【００２４】
図１、図２及び図３を参照して、本発明によるガラスウェハの製造を概略的に説明する。初めに、ガラスシートが作製される溶融ガラスを、好ましくは連続溶融プロセスにより調製する。図１は、底にスロットノズルを備える坩堝１４を示す。坩堝はそれ自体が融液トラフにより形成され得るか、又は融液トラフ内で作製されるフルオロリン酸ガラス若しくはリン酸ガラスの融液１５で坩堝１４を満たす。スロットノズル１６から排出されるガラスのストリップ（strip）を、切断ツール１７を用いて個々のガラスシート１０へと分割する。したがってこの例示的な実施形態において、ガラスシートはいわゆるダウンドロープロセスで製造される。しかしながら代替的に、フロートプロセス又はオーバーフロー融解プロセスのような他のプロセスも可能である。
【００２５】
このようにして作製されたガラスシート１０は、少なくとも１．８ミリメートル、好ましくは１．８ミリメートル〜３．２ミリメートルの厚さ、より好ましくは２ミリメートル〜３ミリメートルの範囲の厚さを有する。これらのガラスの厚さでは、平らな表面及び比較的均一な厚さが達成される。他方で３ｍｍ以下のガラスの厚さでは、目的とする最終厚さを得るのに削磨するガラス材料の量が制限される。
【００２６】
続いて図２に示すように、ウェハ状のガラスシート１１をガラスシート１０から切り出す。
【００２７】
次いで図３に示されるように、１つ又は複数の削磨ツール１９を用いて、少なくとも１．８ミリメートルの元の厚さから０．４ミリメートル未満の厚さへと、これらのガラスシート１１を研削及び研磨する。したがってこのようにして作製されたガラスウェハ１は少なくとも１つの研磨された表面３を備える。好ましくはガラスウェハ１の２つの対向表面３、５が研磨されるように、ガラス材料が両面から除去される。研磨のために、例えば研磨プレート及び酸化セリウムスラリー等の好適な研磨剤を使用することができる。
【００２８】
図１〜図３において概略的に示される例示的な実施形態において、ガラスウェハ１をガラスシート１０から切り出した後に研磨する。これは除去される材料の量を低減するために有益である。しかしながら、何回かの削磨工程を行った後に切断することも可能である。さらにプレフォームを切り出し、ガラスを目的とする厚さまで薄くした後、最終形状のウェハを切り出すことも可能である。これは削磨プロセスにより引き起こされ得るガラスウェハ１の縁での不均質性を避けるという点で有益であり得る。
【００２９】
一般的に、ウェハを切り出した後に、材料を削磨除去することは、残ったものをガラスの製造のためのガラス片として再利用することにより、資源（環境、コスト、原材料）を守ることができることから有益である。
【００３０】
好ましくは、ガラスシートはできる限り筋（streaks）が少なくなるように作製する。筋（当該技術分野ではシュリーレンとも称される）は屈折率の不均質性を引き起こす。しかしながら、このようなシュリーレンは或る程度であれば、ガラスウェハ１から作製される赤外フィルターがセンサの近くに位置している場合にはカメラモジュールの光学特性にほとんど影響を与えない。この配置は原則、カメラモジュールに共通の配置である。
【００３１】
しかしながら、光学特性に悪影響を与え得る別の影響が存在する。シュリーレンはガラスにおいて局所的な化学変化及び／又は物理変化を示す。これらの変化は一般的に強度の変化を伴う。研削プロセスにおいて、このことが、シュリーレンがガラスの研磨中でのむら（unevennesses）に反映される原因となり得る。ガラスの体積を通過する光の光路に対するシュリーレンの影響は、屈折率がほんの少ししか局所的に変化しないことから比較的小さい。
【００３２】
しかしながら、これはガラスの表面上では異なる結果になる。シュリーレンが表面に生じると、研磨中にシュリーレンに生じるガラス表面上のウェーブがレンズのように作用することから、厚さの局所的な変動が起こり、これによりビーム路に対する多大な影響が引き起こされ、カメラモジュールの分解能に悪影響を及ぼし得る。
【００３３】
そのため、本発明によるウェハにおいて、ガラス内部のシュリーレンにより引き起こされる表面の変調は２００ｎｍ未満、より好ましくは１３０ｎｍ未満である。
【００３４】
しかしながら、本発明によるリン酸ガラス又はフルオロリン酸ガラスを削磨除去と合わせて使用することで、この影響を避けることができるとともに、均一な厚さの非常に薄型の大面積ガラスウェハ１を作製することが可能になる。
【００３５】
加えて、ガラスにおける気泡及び／又は包含物は、陰影効果を避けることによりカメラチップの良好な画像品質を確保するために、２００ｎｍ未満、より好ましくは１００ｎｍ未満とする。
【００３６】
以下の構成要素を含む化学組成（酸化物ベースのｗｔ％）の、銅を含有するリン酸ガラス又はフルオロリン酸ガラスが本発明に好適であることが分かっている：
Ｐ２Ｏ５：    ２５〜８０；
Ａｌ２Ｏ３：    １〜１３；
Ｂ２Ｏ３：      ０〜３；
Ｌｉ２Ｏ：      ０〜１３；
Ｎａ２Ｏ：      ０〜１０；
Ｋ２Ｏ：        ０〜１１；
ＣａＯ：        ０〜１６；
ＢａＯ：        ０〜２６；
ＳｒＯ：        ０〜１６；
ＭｇＯ：        １〜１０；
ＺｎＯ：        ０〜１０；
ＣｕＯ：        １〜７。
【００３７】
上記で与えられる組成から逸脱して、上記で挙げられるアルカリ土類酸化物の全ての酸化物を含有していなくてもよい。しかしながら、アルカリ土類酸化物ＣａＯ、ＢａＯ、ＳｒＯ及びＭｇＯの内の少なくとも２つをガラス組成に用いるのが好ましい。
【００３８】
一実施形態によれば、（酸化物ベースのｗｔ％で）以下の構成要素を含む化学組成を有する以下のフルオロリン酸ガラスが好ましい：
Ｐ２Ｏ５：    ２５〜６０；
Ａｌ２Ｏ３：    １〜１３；
Ｌｉ２Ｏ：      ０〜１３；
Ｎａ２Ｏ：      ０〜１０；
Ｋ２Ｏ：        ０〜１１；
ＭｇＯ：        １〜１０；
ＣａＯ：        １〜１６；
ＢａＯ：        １〜２６；
ＳｒＯ：        ０〜１６；
ＺｎＯ：        ０〜１０；
ＣｕＯ：        １〜７；
Σ  ＲＯ（Ｒ＝Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ）  １５〜４０；
Σ  Ｒ２Ｏ（Ｒ＝Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ）  ３〜１８；
ここでこの組成を元にして、ガラスにおける酸化物イオン（Ｏ２−）の１ｍｏｌ％〜３９ｍｏｌ％をフッ化物イオン（Ｆ−）に置き換える。
【００３９】
Ａｓ２Ｏ３は清澄剤（refining agent）として任意選択的なものである。Ａｓ２Ｏ３を使用する場合、その含量は好ましくは最大０．０２重量パーセントである。
【００４０】
ガラスに含有されるフッ化物が耐蝕性及び耐候性の点で有用であることが見出されていることから、本発明の一実施形態によればフルオロリン酸ガラスが好ましい。
【００４１】
さらに本発明に従って作製される薄型のガラスウェハ１によって、ウェハレベルで赤外フィルターを備える、カメラモジュール又は少なくともカメラセンサを作製することが可能になる。図４は、本発明によるガラスウェハ１と、複数のカメラセンサ２２を上に備える半導体ウェハ１２とを含み、ガラスウェハ１が半導体ウェハ１２のカメラセンサ２２が配置されている側で半導体ウェハ１２に結合している、ウェハアセンブリ１３を示す。半導体ウェハ１２もガラスウェハ１と同様に１５ｃｍを超える直径を有する。
【００４２】
削磨プロセスにおいてガラス材料を除去することにより、大型のガラスウェハ１を作製することができることから、相応に大量のカメラセンサ２２が上に配置された相応に大型の半導体ウェハ１２を使用することも可能である。それからカメラセンサ２２を備える個々のカメラチップをウェハアセンブリ１３からダイシング又はソーイングにより分割することができる。
【００４３】
先に上述されるように、ガラスウェハ１はウェハアセンブリにおいて半導体ウェハ１２と直接結合している必要はなく、更なるウェハまたは中間層が介在していてもよい。図５は、ウェハアセンブリ１３からの分割により得られるような光学機能層を備えるカメラチップの例示的な実施形態を示す。示される例において、マイクロレンズを備えるウィンドウ２７は、オプトエレクトロニックアレイセンサ２２が配置されている側でカメラチップ２５に設置されている。このウィンドウ２７上に、ガラスウェハ１から作製された赤外フィルター２９が配置される。最後に有益には、光学ローパスフィルター３１が用いられる。図５に示される例において、この光学ローパスフィルター３１は赤外フィルター２９に設置されている。光学ローパスフィルター３１は、周期がピクセルピッチに対応する周期構造を記録する際に生じる、取込み画像のモアレパターンを回避する働きがある。ローパスフィルター３１は、ウェハの形態でウェハアセンブリ１３のガラスウェハ１に取り付けることもでき、その後ウェハアセンブリ１３から切り出すことによりカメラチップ２５及び赤外フィルター２７とともに分割することができる。
【００４４】
これより、赤外フィルターのシュリーレン及びまた対応する表面の変形がカメラモジュールの分解能にどのように影響を与え得るかを例示的な実施形態により説明する。この目的のために、図６はレンズ３４、３５、３６、３７を用いてオプトエレクトロニックアレイセンサ２２上に光線３９の入射ビームを集束させる対物レンズ３３を備えるカメラモジュール３２を示す。
【００４５】
赤外フィルター２９のガラスに存在するシュリーレンが屈折率の局所的な変動により光路に差異を生じさせることから、シュリーレンの影響は、対応する光路の差異を生じる、赤外フィルター２９の表面の変形によりシミュレートすることができる。説明のために、ガラスウェハ１から切り出した赤外フィルター２９の表面３を波打っているように示す。当然のことながら、説明のために、ウェーブ１００の高さは誇張されて示されている。
【００４６】
シュリーレンにより与えられる表面上のウェーブ１００が、更なる負又は正の屈折力を局所的に引き起こす。両方の場合でその結果、光線の各ビームがアレイセンサ２２の感光性表面上に正確に集束しなくなる。したがって最大可能空間分解能の喪失が起こる。この悪影響は、低シュリーレンのリン酸ガラス、好ましくはフルオロリン酸ガラスを機械的に薄くすることにより作製される本発明によるガラスウェハ１から作製された赤外フィルターを使用することにより回避されるか又は少なくとも軽減される。シュリーレンに起因するウェーブ１００によって引き起こされる表面の変調は２００ナノメートル未満、好ましくは１３０ナノメートル未満である。この高さ指標はＰＶ（peak-to-valley）値を示す。ウェーブに関連する表面尺度は最大１ミリメートルの長さ範囲、典型的に０．１ミリメートル〜１ミリメートルの長さ範囲である。換言すると、１ミリメートル以下のウェーブの縦方向に対して横方向の平均的な周期又は幅を有するウェーブ構造に言及している。
【００４７】
加えて、好ましくは、ガラスウェハ１の厚さの変動は、透過曲線をほぼ一定に保つように、２５ｍｍ２の表面積に対して５０μｍ未満である。
【００４８】
図７は、本発明に使用することができるような、銅イオン含有フルオロリン酸ガラス（この場合、SCHOTT AGの商品名ＢＧ６０で市販され、０．３ｍｍの厚さを有するガラス）の透過曲線を例示的な実施形態として示す。曲線から明らかなように、銅イオンの吸収により、５６０ナノメートルというヒトの眼の最大赤感度を超える波長ではガラスの透過率が大幅に低減する。より短い波長の可視スペクトル領域では、透過は比較的一定である。より高い銅含量を選択すると、５６０ナノメートルを超える波長での透過の低下は更に急激なものになる。
【００４９】
本発明は図面で示される例示的な実施形態に限定されず、添付の特許請求の範囲内であれば様々な方法で変更することができることは、当業者にとって明らかであろう。例えばガラスウェハ１は更なる層を備えることができる。例えば、光学的反射防止コーティングが可能であり、及び／又は赤外線成分を反射するために更なる誘電干渉層系と組み合わせることが可能である。
【符号の説明】
【００５０】
１  ガラスウェハ
３、５  ガラスウェハの表面
１０  ガラスシート
１１  ウェハ状のガラスシート
１２  半導体ウェハ
１３  ウェハアセンブリ
１４  坩堝
１５  ガラス融液
１６  スロットノズル
１７  分割ツール
１９  削磨ツール
２２  カメラセンサ
２５  カメラチップ
２７  マイクロレンズを備えるウィンドウ
２９  赤外フィルター
３１  光学ローパスフィルター
３２  カメラモジュール
３３  対物レンズ
３４、３５、３６、３７  ３３のレンズ
３９  光線のビーム
１００  １の表面上のウェーブ
【図１】
2013216568.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【外国語明細書】
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