(57)【要約】      （修正有）【課題】易酸化性金属粒子の有機物汚れに加え、金属粒子表面に形成された酸化膜を効果的に除去することができ、さらに、好ましくはその後の再酸化を防止することができる表面処理剤および、これらの表面処理剤を用いた易酸化性金属粒子表面の表面処理方法を提供する。【解決手段】下式で表わされるグリコールエーテル系化合物から選ばれる少なくとも1種（Ａ）、特定式で表される非イオン性界面活性剤（Ｂ）、および有機酸類（Ｃ）、必要によりさらにイミダゾール系化合物またはトリアゾール系化合物（Ｄ）を含有することを特徴とする水系表面処理剤を用いて易酸化性金属粒子を表面を処理する。2013209682.tif 000011（式中、Ｒ１は炭素数１〜４のアルキル基またはアセチル基、Ｒ２は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ３は水素原子またはメチル基、ｋは１〜４の整数を表す。）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）：
【化１】
2013209682.tif 000009
（式中、Ｒ１は炭素数１〜４のアルキル基またはアセチル基、Ｒ２は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ３は水素原子またはメチル基、ｋは１〜４の整数を表す。）で表わされるグリコールエーテル系化合物（Ａ）、
一般式（２）：
【化２】
2013209682.tif 000010
（式中、Ｒ４は炭素数６〜２０の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基、フェニル基、または炭素数７〜１２の直鎖もしくは分岐鎖アルキル基で置換されたフェニル基を、Ｒ５は水素原子またはメチル基を示す、ｍは２〜２０の整数を表す。）で表される非イオン性界面活性剤（Ｂ）、および有機酸類（Ｃ）を含有することを特徴とする、易酸化性金属粒子の水系表面処理剤。
【請求項２】
前記グリコールエーテル化合物（Ａ）の含有量が０．１〜１０重量％であり、非イオン性界面活性剤（Ｂ）の含有量が０．１〜１０重量％であり、ｐＨ２．０〜４．０（２５℃）である請求項１に記載の水系表面処理剤。
【請求項３】
有機酸類（Ｃ）が、クエン酸、ギ酸、酢酸、プロパン酸、ブタン酸、シュウ酸、マレイン酸、フマル酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、グリコール酸、安息香酸、リンゴ酸およびアスコルビン酸からなる群より選らばれる少なくとも１種である請求項１または２のいずれかに記載の水系表面処理剤。
【請求項４】
易酸化性金属粒子が、銅、コバルト、鉄、亜鉛、アルミニウム、チタン、バナジウム、クロム、マンガン、ジルコニウム、モリブデン、インジウム、アンチモンおよびタングステンおよびこれらの合金からなる群より選ばれる少なくとも１種の金属である請求項１〜３のいずれかに記載の水系表面処理剤。
【請求項５】
さらに、イミダゾール系化合物またはトリアゾール系化合物（Ｄ）を含有する請求項１〜４のいずれかに記載の水系表面処理剤。
【請求項６】
易酸化性金属粒子に対し、請求項１〜５の水系表面処理剤を接触させることを特徴とする易酸化性金属粒子の表面処理方法。
【請求項７】
易酸化性金属粒子に対し、請求項１〜５の水系表面処理剤を接触させた後、イミダゾール系化合物またはトリアゾール系化合物（Ｄ）を接触させることを特徴とする易酸化性金属粒子の表面処理方法。
【請求項８】
請求項６または７に記載の表面処理方法で処理して得られた易酸化性金属粒子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、各種導電性材料として使用される銅、鉄、亜鉛、アルミニウム、チタンなどの易酸化性金属粒子の表面処理剤、表面処理方法およびこれらを用いて得られた金属粒子に関する。
【背景技術】
【０００２】
プリント基板や半導体素子その他の電子部品の製造には、微細回路や電極部の形成に用いられる導電性ペーストおよび導電性接着剤をはじめ、電子部品ハウジング内部の電磁遮蔽に用いられる電磁シールド、帯電防止等を目的とした導電性塗料など種々の導電性材料が使用されている。導電性材料としては、これまで、銀粒子が多用されてきた。例えば、導電性ペーストにおいては、銀粒子を樹脂溶液に混合し、基材上に所望の配線パターン状に塗布、焼成して、所望の配線パターンの銀薄膜を有するプリント基板等を製造する方法が知られている。しかし、銀の金属膜は、イオンマイグレーションを起こしやすいうえ、近年、銀価格が高騰していることから安価な金属への代替が求められている。
【０００３】
そのため、銀粒子の代わりに安価な銅などの易酸化性金属粒子を用いることが検討されているが、安価な金属粒子は酸化しやすいため、金属粒子の表面に生じる酸化被膜の影響で、金属粒子を塗布、焼成して得られる金属膜の体積抵抗率が高くなってしまうという問題があった。
【０００４】
そこで、体積抵抗率の低い金属膜を形成できる焼成型銅ペースト用銅粒子を還元性雰囲気下で熱処理して製造することも提案されている（特許文献１参照）。
しかし、還元性ガスを使用することに加えて高温での熱処理が必要であるために特別な設備が必要となり、高コスト化しやすいという問題点を有していた。
【０００５】
また、これらの金属粒子は、最終工程において有機物汚れの除去を行う場合があるが、除去工程において酸化被膜の形成を促進させてしまうというも問題もある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００５−２９８９０３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、易酸化性金属粒子表面に付着する油類などの有機物汚れに加え、その粒子表面に形成された酸化膜を効果的に除去することができる表面処理剤、さらに、その後の再酸化を防止することができる表面処理剤、これらの処理剤を用いた表面処理方法、ならびにこれら表面処理剤および表面処理方法により有機物含量が少なく、酸化膜の形成が低減された易酸化性金属粒子を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、前記課題を解決すべく検討を行ったところ、特定の非イオン性界面活性剤および有機酸類を含有する水系表面処理剤が有効であることを見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は、
一般式（１）：
【化１】
2013209682.tif 000002
（式中、Ｒ１は炭素数１〜４のアルキル基またはアセチル基、Ｒ２は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ３は水素原子またはメチル基、ｋは１〜４の整数を表す。）で表わされるグリコールエーテル系化合物（Ａ）、
一般式（２）：
【化２】
2013209682.tif 000003
（式中、Ｒ４は炭素数６〜２０の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基、フェニル基、または炭素数７〜１２の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基で置換されたフェニル基を、Ｒ５は水素原子またはメチル基を示す、ｍは２〜２０の整数を表す。）で表される非イオン性界面活性剤（Ｂ）、および有機酸類（Ｃ）を含有することを特徴とする、易酸化性金属粒子の水系表面処理剤；易酸化性金属粒子に対し、前記水系表面処理剤を接触させることを特徴とする易酸化性金属粒子の表面処理方法；前記表面処理剤および表面処理方法で処理して得られた易酸化性金属粒子、
に関するものである。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の易酸化性金属粒子の表面処理剤および表面処理方法によれば、易酸化性金属粒子の表面に付着する有機物などの不純物のみならず金属酸化膜をも効果的に除去することができる。さらに、本発明の易酸化金属粒子の表面処理方法によれば、前記不純物および金属酸化膜を除去のみならず、その後の再酸化を効果的に防止することができる。よって、本発明の表面処理剤および表面処理方法により処理された易酸化性金属粒子は、導電性材料の原料に好適なものとなる。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明の易酸化性金属微粒子の水系表面処理剤（以下、単に、水系表面処理剤という。）は、一般式（１）：
【化１】
2013209682.tif 000004
（式中、Ｒ１は炭素数１〜４のアルキル基またはアセチル基、Ｒ２は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ３は水素原子またはメチル基、ｋは１〜４の整数を表す。）で表わされるグリコールエーテル系化合物（Ａ）（以下、（Ａ）成分という）を有効成分として含有する。（Ａ）成分は、易酸化性金属粒子に付着した親油性不純物の除去に対して有効であり、特に、後述する非イオン性界面活性剤（Ｂ）と併用することで、有機物汚れの除去および水への置換性が良好となる。
【００１１】
（Ａ）成分の具体例としては、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールメチルプロピルエーテル、ジエチレングリコールエチルプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールメチルブチルエーテル、ジエチレングリコールエチルブチルエーテル、ジエチレングリコールプロピルブチルエーテル等のジエチレングリコールエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル等のモノエチレングリコールエーテル類；トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル等のトリエチレングリコールエーテル類；テトラエチレングリコールモノブチルエーテル等のテトラエチレングリコールエーテル類；プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル等のプロピレングリコールエーテル類；ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル等のジプロピレングリコールエーテル類；エチレングリコールメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールブチルエーテルアセテート等のエチレングリコールエーテルアセテート類；ジエチレングリコールメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールプロピルエーテルアセテート、ジエチレングリコールブチルエーテルアセテート等のジエチレングリコールエーテルアセテート類；プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールブチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールエーテルアセテート類；ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールブチルエーテルアセテート等のジプロピレングリコールエーテルアセテート類が挙げられ、これらは１種を単独で、または２種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、有機物汚れの除去効果、環境特性、引火性の点から、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテルを使用することが好ましい。
【００１２】
本発明の水系表面処理剤における（Ａ）成分の含有量は、特に限定されないが、有機物汚れの除去効果と水系表面処理剤の残留や廃液量の増大とのバランスから通常、０．１〜１０重量％、好ましくは０．３〜５重量％が好ましい。
【００１３】
本発明の水系表面処理剤は、一般式（２）：
【化２】
2013209682.tif 000005
（式中、Ｒ４は炭素数６〜２０の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基、フェニル基、または炭素数７〜１２の直鎖もしくは分岐鎖アルキル基で置換されたフェニル基を、Ｒ５は水素原子またはメチル基を示す、ｍは２〜２０の整数を表す。）で表される非イオン性界面活性剤（Ｂ）（以下、（Ｂ）成分という。）を有効成分として含有する。（Ｂ）成分は、金属粒子表面から不純物を除去することに加え、速やかに金属粒子表面から表面処理剤および有機物汚れを水に置換する効果（以下、水への置換性という）があり、特に、Ｒ４は炭素数８〜１６のアルキル基であり、ｍは３〜１６の整数のポリオキシエチレンアルキルエーテルが好ましい。
【００１４】
（Ｂ）成分の具体例としては、ポリオキシアルキレンモノアルキル（アルキル基の炭素数６以上）エーテル、ポリオキシアルキレンモノフェニルエーテル、ポリオキシアルキレンのアルキルフェノールモノエーテルなどのポリアルキレングリコールエーテル型非イオン性界面活性剤などが挙げられる。これらのなかでも特にＲ４は炭素数８〜１６のアルキル基であり、ｍは３〜１６の整数のポリオキシアルキレンモノアルキルエーテルが好ましい。
【００１５】
本発明の水系表面処理剤における（Ｂ）成分の含有量は、特に限定されないが、水への置換性および水系表面処理剤の残留や廃液量の増大とのバランスから、０．１〜１０重量％、好ましくは０．３〜５重量％である。
【００１６】
本発明の水系表面処理剤には、本発明の効果を損なわない程度において、（Ｂ）成分以外の非イオン性界面活性剤を使用してもよい。（Ｂ）成分以外の非イオン性界面活性剤の具体例としては、（Ｂ）成分以外のポリオキシアルキレンアルキル（アルキル基の炭素数６以上）エーテル、ポリオキシアルキレンフェニルエーテル、ポリオキシアルキレンアルキルフェノールエーテルなどのポリアルキレングリコールエーテル型非イオン性界面活性剤；ポリアルキレングリコールモノエステル、ポリアルキレングリコールジエステルなどのポリアルキレングリコールエステル型非イオン性界面活性剤；脂肪酸アミドのアルキレンオキサイド付加物；ソルビタン脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸エステルなどの多価アルコール型非イオン性界面活性剤；脂肪酸アルカノールアミド、ポリオキシアルキレンアルキルアミンなどをあげることができる。これら非イオン性界面活性剤は１種を単独でまたは２種以上を適宜に選択して組み合わせて使用できる。なお、前記アルキレンとは、エチレン、プロピレンまたはブチレンをいい、ポリオキシアルキレンとはポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレンまたはこれらが共重合したものをいう。
【００１７】
本発明の水系表面処理剤は、有機酸類（Ｃ）（以下、（Ｃ）成分という。）を有効成分として含有する。（Ｃ）成分は、易酸化性金属粒子表面に形成された酸化膜を効果的に除去するための必須成分である。（Ｃ）成分としては、特に限定されないが、通常、炭素数が１〜１２程度の有機酸が溶解性、安全性等の面で好ましい。（Ｃ）成分の具体例としては、クエン酸、ギ酸、プロパン酸、ブタン酸、シュウ酸、マレイン酸、フマル酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、グリコール酸、安息香酸、リンゴ酸、アスコルビン酸、酢酸、アジピン酸、オクチル酸などの１価または多価のカルボン酸類が挙げられる。
【００１８】
（Ｃ）成分の含有量としては、特に限定されないが、得られる水系表面処理剤のｐＨ（２５℃）を酸性に、好ましくは、ｐＨ（２５℃）を２．０〜４．０となる量とすればよい。通常、使用量としては、０．０１〜５．０重量％である。
【００１９】
また、得られる易酸化性金属粒子の酸化防止効果を付与するため、さらにイミダゾール系化合物またはトリアゾール系化合物（Ｄ）（以下、（Ｄ）成分という）を含有させてもよい。イミダゾール系化合物としては、ベンゾイミダゾールなど、トリアゾール系化合物としては、ヒドロキシベンゾトリアゾール、ベンゾトリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾールなどが挙げられる。
【００２０】
（Ｄ）成分の使用量は、特に限定されないが、通常、０．００１〜１．０重量％、好ましくは０．００５〜０．５重量％である。（Ｄ）成分は、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００２１】
さらに本発明の水系表面処理剤には、必要により、公知の消泡剤、防錆剤、酸化防止剤などの添加剤を含有させることもできる。該添加剤の使用量はその添加剤の効果を発揮し、表面処理剤に完全に溶解する量であれば、特に使用量は制限されないが、表面処理剤組成物に対して１重量％程度以下であることが好ましい。
【００２２】
本発明の水系表面処理剤の製造方法としては、特に限定されず、（Ａ）〜（Ｃ）成分、必要に応じてその他の添加剤をそれぞれ前記のとおりに水に混合して調製すればよい。また、水系表面処理剤を濃厚水溶液として製造し、これを原液として保管し、使用時に水で適宜希釈して各成分が上記の含有量となるようにしてもよい。
【００２３】
本発明の水系表面処理剤の対象となる易酸化性金属粒子とは、粒子表面が、銅または銅よりイオン化傾向が高く、銅より酸化を受けやすい元素から構成されるもの、およびこれらの元素が複数組み合わされた合金から構成されるものも含まれる。易酸化性金属の具体例としては、銅、コバルト、鉄、亜鉛、アルミニウム、チタン、バナジウム、クロム、マンガン、ジルコニウム、モリブデン、インジウム、アンチモンおよびタングステンおよびこれらの合金からなる群より選ばれる少なくとも１種の金属などが挙げられる。
【００２４】
易酸化性金属粒子の平均粒子径は、特に、限定されないが導電性ペースト等の回路形成時の作業性などの観点から０．１〜１００μｍ、好ましくは、０．３〜５０μｍとすることが好ましい。なお、本発明における平均粒子径は、レーザー回折・散乱法により測定された値である。
【００２５】
本発明の易酸化性金属粒子表面の表面処理方法は、上記の各水系表面処理剤を易酸化性金属粒子表面に接触させることを特徴とする。接触方法、すなわち表面処理の方法としては、特に、限定されないが、具体的には、水系表面処理剤に易酸化性金属粒子を直接浸漬して処理する方法、機械的手段によりブラッシングする方法、超音波、液中ジェット、揺動方法などの各種方法を適宜に選択することができる。
【００２６】
水系表面処理剤の使用量は、処理対象となる易酸化性金属粒子に含まれる不純物の量や、粒子径（すなわち表面処理面積）などを考慮し、また、前記表面処理の方法に応じて、適宜、設定すればよく、通常は、十分な不純物および酸化膜の除去効果を確保し、かつ、水への置換を効率的に行う観点から、易酸化性金属粒子１００重量部に対し、水系表面処理剤を固形分換算で０．２〜２０重量％の範囲、好ましくは、１〜１０重量％の範囲である。
【００２７】
本発明の水系表面処理剤の接触温度としては、特に限定されるものではないが、通常、４０〜８０℃程度である。接触温度が高い程、短時間で不純物や金属酸化膜を除去することができるが、高すぎると水系表面処理剤中の水分が蒸発するため、６０〜７０℃とすることが好ましい。また、水系表面処理剤の接触時間としては、例えば、直接浸漬して処理する方法を採用する場合、６０℃にて、１０分間程度攪拌浸漬することで良好な粉末を得ることができる。
【００２８】
また、得られる易酸化性金属粒子の酸化防止効果をより高め、かつより持続させるためには、本発明の水系表面処理剤を接触させた後、さらに（Ｄ）成分を接触させることが好ましい。この場合において、先に使用する水系表面処理剤中には、前記化合物を必ずしも含有させる必要はないが、含有させてもよいことはもちろんである。
【００２９】
本発明の水系表面処理方法における、（Ｄ）成分の使用量は、特に限定されないが、通常、（Ｄ）成分０．００１〜１．０重量％水溶液に、１０分間程度浸漬すればよい。また、（Ｄ）成分は、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００３０】
本発明の水系表面処理剤により表面処理された易酸化性金属粒子は、水（イオン交換水、または純水）、またはエタノールやイソプロピルアルコールなどの有機溶剤で処理を行い、必要により乾燥させた後、各種の導電性材料の製造に使用することができる。
【実施例】
【００３１】
以下に本発明を実施例により更に具体的に説明する。ただし、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。また実施例中、「％」および「部」は特に断りのない限り「重量％」、「重量部」を意味する。
【００３２】
［水系表面処理剤の調製］
表１および２に示す各成分を混合し（重量部基準）、実施例１〜１２および比較例１〜３の水系表面処理剤を調製し、以下に示す評価方法１および２で評価を行った。
【００３３】
［評価方法１］
平均粒子径約１０μｍの銅粒子を５０ｇ、２００ｍｌビーカーに入れ、当該容器にテフロン製の攪拌羽根を設置し、表１に示す組成の実施例１〜１２の水系表面処理剤および比較例１〜３の水系表面処理剤を２００ｍｌ加えて、６０℃で１０分間３００ｒｐｍにて攪拌した後、メンブランフィルターを用い吸引濾過による水への置換処理を行い、窒素下で乾燥させて表面処理した銅粒子を得た。得られた銅粒子をＥＳＥＭ−ＥＤＸ（環境制御型電子顕微鏡−エネルギー分散型Ｘ線分析装置、ＸＬ３０ＥＳＥＭ−ＦＥＧ（ＰＨＩＬＩＰＳ製）−ＰＨＯＥＮＩＸ（ＥＤＡＸ社製））を用い、５０００倍にて観察し、銅粒子の粒子表面の約２μｍ角の部分について、定量分析を実施した。
（評価１）
銅元素と酸素元素について定量分析を実施した。
＜評価基準＞
１：定量分析の結果、構成重量比率の銅／酸素の値が４９．０未満である。（酸化膜が除去
されていない状態）
２：定量分析の結果、構成重量比率の銅／酸素の値が４９．０以上９９．０以下である。
３：定量分析の結果、構成重量比率の銅／酸素の値が９９．０より大きい。（十分に酸化膜が除去された状態）
（評価２）
銅元素と炭素元素について定量分析を実施した。
＜評価基準＞
１：定量分析の結果、構成重量比率の銅／炭素の値が４９．０未満である。（有機物汚れが除去されていない状態）
２：定量分析の結果、構成重量比率の銅／炭素の値が４９．０以上９９．０以下である。
３：定量分析の結果、構成重量比率の銅／炭素の値が９９．０より大きい。（十分に有機物汚れが除去された状態）
【００３４】
【表１】
2013209682.tif 000006
【００３５】
【表２】
2013209682.tif 000007
【００３６】
なお、表１および２中、各成分の数値は、重量部であり、表中の記号および略号は、それぞれ以下のとおりである。
ＢＤＧ：ジエチレングリコールモノブチルエーテル
ＨｅＤＧ：ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル
ＢＴＧ：トリエチレングリコールモノブチルエーテル
ソフタノール７０：市販のポリオキシアルキレントリデシルエーテル（（株）日本触媒「ソフタノール」（登録商標）７０）、一般式（２）におけるＲ４炭素数＝１３、ｍ＝７）
ソフタノール９０：市販のポリオキシアルキレントリデシルエーテル（（株）日本触媒「ソフタノール」（登録商標）９０、一般式（２）におけるＲ４炭素数＝１３、ｍ＝９）
ソフタノール１５０：市販のポリオキシアルキレントリデシルエーテル（（株）日本触媒「ソフタノール」（登録商標）１５０、一般式（２）におけるＲ４炭素数＝１３、ｍ＝１５）
ノイゲンＳＤ−７０：市販のポリオキシアルキレンイソデシルエーテル（第一工業製薬（株）
「ノイゲン」（登録商標）ＳＤ−７０、一般式（２）におけるＲ４炭素数＝１０、ｍ＝７）
「ノイゲン」（登録商標）ＳＤ−１５０、一般式（２）におけるＲ４炭素数＝１０、ｍ＝１５）
【００３７】
［評価方法２］
評価方法１と同様にして、実施例1で使用した水系表面処理剤を用いて銅粒子を処理し、水への置換処理を実施した後、さらに表２に示す酸化防止成分を含んだ処理液２００ｍｌを加えて、テフロン製の攪拌羽根を用い２５℃で１０分間３００ｒｐｍにて攪拌した後、メンブランフィルターを用い吸引濾過した後、窒素下で乾燥させて表面処理および酸化防止処理された銅粒子を得た。この銅粒子を２５℃、５０％の室内に１０日間放置した後、評価１と同様にＥＳＥＭ−ＥＤＸを用い定量分析を実施した。また、酸化防止成分を含んだ処理液で処理しなかった銅粒子を比較例（比較例４）とし、これらを２５℃、５０％の室内に１０日間放置した後、評価１と同様にＥＳＥＭ−ＥＤＸを用い定量分析を実施した。
さらに、実施例１８として、実施例１１で得られた銅粒子（予め（Ｄ）成分としてベンゾトリアゾールを含む表面処理剤で処理した銅粒子）を酸化防止処理せずに同様の条件で放置した後、評価１と同様にして定量分析を実施した。結果を表３に示す。
【００３８】
【表３】
2013209682.tif 000008
【００３９】
なお、表３中、各成分の数値は、重量部である。