(57)【要約】【課題】筋むらの少ない有機ＥＬ素子を作製することのできる発光装置の製造方法を提供することである。【解決手段】列方向に所定の間隔を開けて列方向とは方向の異なる行方向に延びる複数本の行が基板上に設定されており、各行上において行方向に所定の間隔を開けて設けられる複数の有機ＥＬ素子を備える発光装置の製造方法において、一対の電極のうちの一方の電極がそのうえに形成された基板を用意する工程と、有機層となる材料を含む液柱状のインキを所定の行上に供給しつつ、インキの供給される位置を、行方向の一方または他方に移動することによって、所定の行の有機層を塗布成膜し、有機層を形成する工程と、一対の電極のうちの他方の電極を形成する工程とを含み、有機層を形成する工程において、インキの供給される位置を行方向の一方に移動するときの移動速度と、他方に移動するときの移動速度とを異ならせる、発光装置の製造方法。【選択図】図１
2013157171.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
列方向に所定の間隔を開けて前記列方向とは方向の異なる行方向に延びる複数本の行が基板上に設定されており、各前記行上において前記行方向に所定の間隔を開けて設けられる複数の有機ＥＬ素子を備え、各有機ＥＬ素子が、一対の電極と、該電極間に設けられる有機層とを含んで構成される発光装置の製造方法において、
一対の電極のうちの一方の電極がそのうえに形成された基板を用意する工程と、
有機層となる材料を含む液柱状のインキを所定の前記行上に供給しつつ、インキの供給される位置を、前記行方向の一方または他方に移動することによって、所定の前記行の有機層を塗布成膜し、前記有機層を形成する工程と、
一対の電極のうちの他方の電極を形成する工程とを含み、
前記有機層を形成する工程において、インキの供給される位置を前記行方向の一方に移動するときの移動速度と、他方に移動するときの移動速度とを異ならせる、発光装置の製造方法。
【請求項２】
所定の列方向に所定の間隔を開けて前記列方向とは方向の異なる行方向に延びる複数本の行が被塗布体上に設定されており、当該被塗布体上の各前記行に帯状の薄膜を製造する薄膜の製造方法において、
前記薄膜となる材料を含む液柱状のインキを所定の前記行上に供給しつつ、インキの供給される位置を、前記行方向の一方または他方に移動することによって、所定の前記行の有機層を塗布成膜し、前記薄膜を形成する工程を含み、
前記薄膜を形成する工程において、インキの供給される位置を前記行方向の一方に移動するときの移動速度と、他方に移動するときの移動速度とを異ならせる、薄膜の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は発光装置の製造方法および薄膜の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示装置のひとつとして、有機ＥＬ（Electro Luminescence）素子を画素の光源として用いた表示装置がある。この表示装置は、たとえば基板と、基板上に設けられる隔壁と、複数の有機ＥＬ素子とを含んで構成される。
【０００３】
隔壁は、たとえば複数の有機ＥＬ素子の設けられる領域を区分けするために設けられる。隔壁はたとえば基板上においてストライプ状に配置される。そして基板上には、隔壁によって規定される複数本の凹部が設けられる。この凹部は隔壁に沿ってストライプ状に延在する。
【０００４】
複数の有機ＥＬ素子はストライプ状に延在する各凹部にそれぞれ設けられる。すなわち有機ＥＬ素子は、各凹部において、隔壁の延在する方向に沿って所定の間隔を開けて配置される。以下、隔壁の延在する方向を行方向Ｘといい、この行方向に垂直な方向を列方向Ｙということがある。また所定の凹部を所定の行ということがある。
【０００５】
有機ＥＬ素子は、一対の電極と、この電極間に設けられる有機層とを含んで構成される。有機ＥＬ素子は、たとえば、まず一方の電極を形成し、つぎに有機層を形成し、さらに他方の電極を形成することにより形成される。
【０００６】
有機層は、たとえば有機層となる材料を含むインキを所定の凹部に供給し、これを固化することによって形成される。インキの供給方法としてはノズルプリンティング法が知られている。ノズルプリンティング法では、ノズルからインキを連続的に吐出しつつ、ノズルを行方向の一方、または他方に移動することにより、凹部にわたってインキを供給する。そして、ノズルの往復運動の折り返しのさいにノズルまたは基板を列方向に所定の行だけ移動させることにより、各行にインキが供給される（たとえば特許文献１参照。）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００２−７５６４０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
同じ製造条件で各行に有機ＥＬ素子を形成し、さらに同じ駆動条件で各行の有機ＥＬ素子を発光させた場合、全ての行の有機ＥＬ素子が同じ明るさで発光することが当然に期待されるところ、ノズルプリンティング法を用いて形成された有機ＥＬ素子では行ごとに明るさが異なるという現象が見られた。具体的には、ノズルプリンティング法ではノズルを行方向に往復させて各行の有機層を形成するが、ノズルの往路で有機層を形成した行と、ノズルの復路で有機層を形成した行とで、明るさが異なるという現象が見出された。この行ごとによる明るさの相違が筋むらとして視認されることになる。
【０００９】
したがって本発明の目的は、筋むらの少ない有機ＥＬ素子を作製することのできる発光装置の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、列方向に所定の間隔を開けて前記列方向とは方向の異なる行方向に延びる複数本の行が基板上に設定されており、各前記行上において前記行方向に所定の間隔を開けて設けられる複数の有機ＥＬ素子を備え、各有機ＥＬ素子が、一対の電極と、該電極間に設けられる有機層とを含んで構成される発光装置の製造方法において、
一対の電極のうちの一方の電極がそのうえに形成された基板を用意する工程と、
有機層となる材料を含む液柱状のインキを所定の前記行上に供給しつつ、インキの供給される位置を、前記行方向の一方または他方に移動することによって、所定の前記行の有機層を塗布成膜し、前記有機層を形成する工程と、
一対の電極のうちの他方の電極を形成する工程とを含み、
前記有機層を形成する工程において、インキの供給される位置を前記行方向の一方に移動するときの移動速度と、他方に移動するときの移動速度とを異ならせる、発光装置の製造方法に関する。
【００１１】
また本発明は、所定の列方向に所定の間隔を開けて前記列方向とは方向の異なる行方向に延びる複数本の行が被塗布体上に設定されており、当該被塗布体上の各前記行に帯状の薄膜を製造する薄膜の製造方法において、
前記薄膜となる材料を含む液柱状のインキを所定の前記行上に供給しつつ、インキの供給される位置を、前記行方向の一方または他方に移動することによって、所定の前記行の有機層を塗布成膜し、前記薄膜を形成する工程を含み、
前記薄膜を形成する工程において、インキの供給される位置を前記行方向の一方に移動するときの移動速度と、他方に移動するときの移動速度とを異ならせる、薄膜の製造方法に関する。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、筋むらの少ない有機ＥＬ素子を作製することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本実施形態の発光装置１を模式的に示す平面図である。
【図２】発光装置１を模式的に示す断面図である。
【図３】基板上でのノズルの軌跡を模式的に示す図である。
【図４】基板上でのノズルの軌跡を模式的に示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本発明の発光装置の製造方法は、列方向に所定の間隔を開けて前記列方向とは方向の異なる行方向に延びる複数本の行が基板上に設定されており、各前記行上において前記行方向に所定の間隔を開けて設けられる複数の有機ＥＬ素子を備え、各有機ＥＬ素子が、一対の電極と、該電極間に設けられる有機層とを含んで構成される発光装置の製造方法において、一対の電極のうちの一方の電極がそのうえに形成された基板を用意する工程と、有機層となる材料を含む液柱状のインキを前記所定の行上に供給しつつ、インキの供給される位置を、前記行方向の一方または他方に移動することによって、前記所定の行の有機層を塗布成膜し、前記有機層を形成する工程と、一対の電極のうちの他方の電極を形成する工程とを含み、前記有機層を形成する工程において、インキの供給される位置を前記行方向の一方に移動するときの移動速度と、他方に移動するときの移動速度とを異ならせる、発光装置の製造方法に関する。
【００１５】
発光装置はたとえば表示装置や照明装置として利用される。表示装置には主にアクティブマトリクス駆動型の装置と、パッシブマトリクス駆動型の装置とがあり、本発明は両方の型の表示装置に適用することが可能であるが、本実施形態では一例としてアクティブマトリクス駆動型の表示装置に適用される発光装置について説明する。
【００１６】
＜発光装置の構成＞
まず発光装置の構成について説明する。図１は本実施形態の発光装置１を模式的に示す平面図であり、図２は発光装置１を模式的に示す断面図である。本実施形態の発光装置１は主に基板２と、この基板２上に設けられる複数の有機ＥＬ素子１１と、複数本の行を規定する複数本の隔壁３と、各有機ＥＬ素子１１を電気的に絶縁する絶縁膜４とを含んで構成される。
【００１７】
基板２上には、列方向Ｙと、この列方向Ｙとは方向の異なる行方向Ｘとが設定されている。行方向Ｘと列方向Ｙとはそれぞれ基板２の厚み方向Ｚ（以下では、とくにことわらない限り「厚み方向」は「基板の厚み方向」を意味する。）に垂直な方向である。また本実施形態では行方向Ｘと列方向Ｙとは互いに垂直な方向である。基板２上には、行方向Ｘに延在する複数本の行が設定されている。この複数本の行は、列方向Ｙに互いに所定の間隔を開けて配置されている。
【００１８】
本実施形態では行方向Ｘに延在する複数本の隔壁３が基板２上に設けられる。この隔壁３は、列方向Ｙに互いに所定の間隔を開けて配置され、厚み方向Ｚの一方から見て（以下、「平面視で」ということがある。）、いわゆるストライプ状に設けられる。本実施形態では各行は複数の隔壁３によって規定される。各隔壁３は、列方向Ｙに隣り合う行と行との間に設けられる。換言すると、各行は、列方向Ｙに互いに隣り合う隔壁３と隔壁３との間に設定される。
【００１９】
基板２上には、列方向Ｙに隣り合う２本の隔壁３と基板２とによって規定される窪みが形成される。この窪みは隔壁３と同様に行方向Ｘに延在する。以下ではこの窪みを凹部５という。すなわち基板２上には行方向Ｘに延在する複数本の凹部５が設けられる。本実施形態では各凹部５がそれぞれ所定の行に対応する。
【００２０】
本実施形態では列方向Ｙの幅がそれぞれ等しい複数本の隔壁３が列方向Ｙに等間隔をあけて設けられる。換言すると、各行（本実施形態では各凹部５）の列方向Ｙの幅は互いに等しく、また各行は互いに等間隔を開けて設定される。
【００２１】
複数の有機ＥＬ素子１１は、各行上において行方向Ｘに所定の間隔を開けて設けられる。すなわち複数の有機ＥＬ素子１１は、各凹部５において行方向Ｘに所定の間隔を開けて設けられる。なお本実施形態では複数の有機ＥＬ素子１１はそれぞれ基板２上においてマトリクス状に整列して配置される。すなわち複数の有機ＥＬ素子１１はそれぞれ行方向Ｘに所定の間隔を開けるとともに、列方向Ｙに所定の間隔を開けて配置される。
【００２２】
本実施形態では基板２と隔壁３との間に絶縁膜４が設けられる。本実施形態では絶縁膜４は格子状に形成されている。すなわち絶縁膜４は、行方向Ｘに延在する複数本の帯状の部材と、列方向Ｙに延在する複数本の帯状の部材とが一体的に形成されて構成される。格子状の絶縁膜４の開口６は、平面視で有機ＥＬ素子に重なる位置に形成される。絶縁膜４の開口６は平面視でたとえば略矩形、小判形、略円形および略楕円形などに形成される。前述の隔壁３は、絶縁膜４の一部を構成する行方向Ｘに延在する部材上に設けられる。絶縁膜４は必要に応じて設けられ、たとえば行方向Ｘまたは列方向Ｙに隣り合う有機ＥＬ素子間の電気的な絶縁を確保するために設けられる。
【００２３】
有機ＥＬ素子１１は、一対の電極と、該電極間に設けられる有機層とを含んで構成される。なお電極間には、１層の有機層に限らず、複数の有機層が設けられることがある。有機ＥＬ素子１１は、１または複数の有機層として少なくとも１層の発光層を備える。本明細書では有機物を含む層を有機層という。なお有機ＥＬ素子は、有機物に加えて無機物を含む層や無機層などを具備していてもよい。一対の電極間には、たとえば正孔注入層、正孔輸送層、電子ブロック層、発光層、正孔ブロック層、電子輸送層、および電子注入層などが設けられる。
【００２４】
一対の電極は、陽極と陰極とから構成される。陽極および陰極のうちの一方の電極は、一対の電極のうちの一方の電極１２として基板２寄りに配置され、陽極および陰極のうちの他方の電極は、一対の電極のうちの他方の電極１３として、一方の電極１２よりも基板２から離間して配置される。
【００２５】
図２では一例として、一対の電極１２，１３のうちの一方の電極１２に相当する陽極１２、有機層に相当する正孔注入層１４、有機層に相当する発光層１５、一対の電極１２，１３のうちの他方の電極１３に相当する陰極１３が、基板２側からこの順で積層されて構成される有機ＥＬ素子１１を示している。
【００２６】
本実施形態の発光装置１はアクティブマトリクス型の装置なので、一方の電極１２は、有機ＥＬ素子１１ごとに個別に設けられる。すなわち有機ＥＬ素子１１の数と同数の一方の電極１２が基板２上に設けられる。たとえば一方の電極１２は板状であって、平面視で略矩形状に形成される。一方の電極１２は、各有機ＥＬ素子が設けられる位置に対応してマトリクス状に基板２上に設けられる。複数の一方の電極１２は、行方向Ｘに所定の間隔を開けるとともに、列方向Ｙに所定の間隔を開けて配置される。すなわち一方の電極１２は平面視で、列方向Ｙに隣り合う隔壁３の間に設けられ、各隔壁３間において、行方向Ｘに所定の間隔を開けて配置されている。
【００２７】
前述した格子状の絶縁膜４は平面視で一方の電極１２を除く領域に主に形成され、その一部が一方の電極１２の周縁を覆って形成されている（図２参照）。換言すると絶縁膜４には一方の電極１２上に開口６が形成されている。この開口６によって一方の電極１２の表面が絶縁膜４から露出する。また前述した複数本の隔壁３は、絶縁膜４の一部を構成する行方向Ｘに延在する複数本の帯状の部材上に設けられる。
【００２８】
有機層（本実施形態では正孔注入層および発光層）は隔壁３に挟まれた領域に行方向Ｘに延在して配置される。すなわち有機層は、列方向Ｙに隣り合う隔壁３によって規定される凹部５に、帯状に形成される。
【００２９】
基板には発光色の異なる複数種類の有機ＥＬ素子が設けられることがある。たとえばカラー表示装置の場合、赤色、緑色および青色のいずれか１種の光を放つ３種類の有機ＥＬ素子１１Ｒ，１１Ｇ，１１Ｂが基板２上に設けられる。
【００３０】
種類の異なる有機ＥＬ素子間では層構成が異なる。たとえば発光色の異なる複数種類の有機ＥＬ素子を形成する場合、素子の種類ごとに発光色の異なる発光層が設けられる。なお発光層ほどには発光色に影響を与えない正孔注入層などは、全種類の有機ＥＬ素子に共通する層として全種類の有機ＥＬ素子に設けられることがある。本実施形態では、有機層の一層に相当する正孔注入層を、全ての有機ＥＬ素子に共通する層として全ての有機ＥＬ素子に設ける。
【００３１】
なお、発光層とは異なる層（たとえば正孔注入層や電子注入層）であっても素子の種類ごとに種類の異なる層を形成してもよい。また３種類の有機ＥＬ素子１１Ｒ，１１Ｇ，１１Ｂに限らず、２種類または４種類以上の有機ＥＬ素子を備える形態も他の実施形態として採用しうる。
【００３２】
カラー表示装置はたとえば以下の（Ｉ）（ＩＩ）（ＩＩＩ）の行を、この順序で、列方向Ｙに繰り返し配置することにより実現することができる。
（Ｉ）赤色の光を放つ複数の有機ＥＬ素子１１Ｒが所定の間隔を開けて配置される行。
（ＩＩ）緑色の光を放つ複数の有機ＥＬ素子１１Ｇが所定の間隔を開けて配置される行。
（ＩＩＩ）青色の光を放つ有機ＥＬ素子１１Ｂが所定の間隔を開けて配置される行。
【００３３】
本実施形態では発光層の種類を異ならせることによって、赤色、緑色および青色のいずれか１種の光を放つ３種類の有機ＥＬ素子を構成する。そのため（ｉ）赤色の光を放つ発光層１５Ｒが設けられる行、（ｉｉ）緑色の光を放つ発光層１５Ｇが設けられる行、（ｉｉｉ）青色の光を放つ発光層１５Ｂが設けられる行の３種類の行を、この順序で、列方向Ｙに繰り返し配置する。すなわち行方向Ｘに延びる帯状の発光層１５Ｒ、発光層１５Ｇ、発光層１５Ｂを、それぞれ列方向Ｙに２行の間隔を開けて順次正孔注入層上に積層する。
【００３４】
一対の電極のうちの他方の電極１３は発光層１５上に設けられる。なお本実施形態では他方の電極１３は複数の有機ＥＬ素子にまたがって連続して形成され、複数の有機ＥＬ素子に共通の電極として設けられる。すなわち他方の電極１３は、発光層上だけでなく、隔壁３上にも形成され、発光層１５上の電極と隔壁３上の電極とが連なるように一面に形成される。
【００３５】
＜発光装置の製造方法＞
つぎに発光装置の製造方法について説明する。
【００３６】
まず基板２を用意する。アクティブマトリクス型の表示装置の場合、この基板２として、複数の有機ＥＬ素子を個別に駆動するための回路が予め形成された基板を用いることができる。たとえばＴＦＴ（Thin Film Transistor）基板を基板として用いることができる。
【００３７】
（一方の電極がそのうえに形成された基板を用意する工程）
つぎに、用意した基板２上に複数の一方の電極１２をマトリクス状に形成する。一方の電極１２は、たとえば基板２上に一面に導電性薄膜を形成し、これをフォトリソグラフィー法によってマトリクス状にパターニングすることにより形成される。またたとえば所定の部位に開口が形成されたマスクを基板２上に配置し、このマスクを介して基板２上の所定の部位に導電性材料を選択的に堆積することにより一方の電極１２をパターン形成してもよい。一方の電極１２の材料については後述する。なお本工程では一方の電極１２が予め形成された基板を用意してもよい。
【００３８】
つぎに本実施形態では基板２上に絶縁膜４を格子状に形成する。絶縁膜４は有機物または無機物によって構成される。絶縁膜を構成する有機物としてはアクリル樹脂、フェノール樹脂、およびポリイミド樹脂などの樹脂を挙げることができる。また絶縁膜を構成する無機物としてはＳｉＯ２やＳｉＮなどを挙げることができる。
【００３９】
有機物からなる絶縁膜を形成する場合、まずたとえばポジ型またはネガ型の感光性樹脂を一面に塗布し、所定の部位を露光、現像する。さらにこれを硬化することによって、所定の部位に開口６が形成された絶縁膜４が形成される。なお感光性樹脂としてはフォトレジストを用いることができる。また無機物からなる絶縁膜を形成する場合、無機物からなる薄膜をプラズマＣＶＤ法やスパッタ法などによって一面に形成する。さらに所定の部位に開口６を形成することにより絶縁膜４が形成される。開口６はたとえばフォトリソグラフィー法によって形成される。このように開口を形成することにより一方の電極１２の表面が露出する。
【００４０】
つぎに本実施形態では複数本のストライプ状の隔壁３を絶縁膜４上に形成する。隔壁３はたとえば絶縁膜の材料として例示した材料を用いて、絶縁膜を形成する方法と同様にしてストライプ状に形成することができる。
【００４１】
隔壁３および絶縁膜４の形状、並びにその配置は、画素数および解像度などの表示装置の仕様や製造の容易さなどに応じて適宜設定される。たとえば隔壁３の列方向Ｙの厚みＬ１は５μｍ〜５０μｍ程度であり、隔壁３の高さＬ２は０．５μｍ〜５μｍ程度であり、列方向Ｙに隣り合う隔壁３間の間隔Ｌ３、すなわち凹部５の列方向Ｙの幅Ｌ３は、２０μｍ〜２００μｍ程度である。また絶縁膜４に形成される開口の行方向Ｘおよび列方向Ｙの幅はそれぞれ１０μｍ〜４００μｍ程度である。
【００４２】
（有機層を形成する工程）
つぎに本実施形態では一方の電極１２上に有機層の１つとして正孔注入層を形成する。正孔注入層は所定の塗布法によって形成することができる。本工程では、有機層となる材料を含む液柱状のインキを所定の行（本実施形態では凹部５）上に供給しつつ、インキの供給される位置を、前記行方向Ｘの一方または他方に移動することによって、所定の行（本実施形態では凹部５）の有機層を塗布成膜し、前記有機層を形成する。本実施形態ではいわゆるノズルプリンティング法によって正孔注入層を形成する。
【００４３】
図３に示すように、ノズルプリンティング法では一筆書きで各行（凹部５）にインキを供給する。すなわち基板２の鉛直方向の上方に配置されるノズルから液柱状のインキを吐出したまま、ノズル１６を行方向Ｘに往復移動させつつ、ノズルの往復移動の折り返しのさいに、基板を列方向Ｙに１行分だけ移動させることによって、各行にインキを供給する。なおノズル１６が行方向に往復移動し、ノズル１６の往復移動の折り返しのさいに基板が列方向に移動するようにしてインキを供給してもよいが、逆に、基板が行方向に往復移動し、その折り返しのさいにノズルが列方向に移動するようにしてもよく、さらにはノズルおよび基板のうちの一方のみを所定の方向に移動することによって、インキを供給してもよい。
【００４４】
本実施形態では、単位時間当たりのインキの吐出量を一定に設定した上で、インキの供給される位置を行方向Ｘの一方に移動するときの移動速度Ｖ１と、他方に移動するときの移動速度Ｖ２とを異ならせる。以下、インキの供給される位置を行方向Ｘの一方に移動するときの行程を往路、他方に移動するときの行程を復路と記載することがある。
【００４５】
本発明者等は、装置の設定として単位時間当たりのインキの吐出量を一定にして有機層を形成したときに、往路において形成された有機層と復路において形成された有機層とで膜厚に違いが生じることを見出した。具体的には、往路で形成された有機層の膜厚と、復路で形成された有機層の膜厚との間に１．０６程度の違いが生じることを確認した。これは、往路と復路とでインキの単位時間あたりの吐出量が微妙に異なり、この吐出量の違いが有機層の膜厚の違いにあらわれているものと考えられる。
【００４６】
単位時間当たりのインキの吐出量を一定としてノズルを走査する場合、単位長さ当たりのインキの供給量は、インキの供給される位置の移動速度によって調整される。本実施形態では、往路の移動速度Ｖ１と復路の移動速度Ｖ２とを異ならせることによって、往路と復路との単位長さ当たりのインキの供給量を調整する。具体的には、往路と復路とでそれぞれ形成される有機層の膜厚が等しくなるように、移動速度Ｖ１と移動速度Ｖ２とをそれぞれ設定する。たとえば装置の設定として、単位時間当たりのインキの吐出量を一定にし、かつ往路の移動速度Ｖ１と復路の移動速度Ｖ２を同じにしたときに、往路において形成された有機層の膜厚が復路のそれよりも厚い場合には、往路の移動速度Ｖ１を復路の移動速度Ｖ２よりも速く設定する。たとえば、往路の移動速度Ｖ１と復路の移動速度Ｖ２比は、単位時間当たりのインキの吐出量を一定にし、かつ往路、復路の移動速度を同じにしたときに、往路において形成された有機層の膜厚と復路において形成された有機層の膜厚との比と、おおむね同じように設定すればよい。このように往路の移動速度Ｖ１と復路の移動速度Ｖ２とを異ならせることにより、往路と復路とで形成される有機層の膜厚を略等しくすることができる。
【００４７】
有機層（本実施形態では正孔注入層）は、隔壁間に供給されたインキが固化することによって形成される。インキの固化はたとえば溶媒を除去することによって行うことができる。溶媒の除去は、自然乾燥、加熱乾燥および真空乾燥などによって行うことができる。また使用するインキが、光や熱などのエネルギーを加えることによって重合する材料を含む場合、インキを供給した後に光や熱などのエネルギーを加えることによって有機層を固化してもよい。
【００４８】
つぎに発光層を形成する。前述したようにカラー表示装置を作製する場合、３種類の有機ＥＬ素子を作製するために、たとえば発光層の材料を塗りわける必要がある。たとえば３種類の発光層を行ごとに形成する場合、赤色の光を放つ材料を含む赤インキ、緑色の光を放つ材料を含む緑インキ、青色の光を放つ材料を含む青インキを、それぞれ列方向Ｙに２列の間隔を開けて塗布する必要がある。そして赤インキ、緑インキ、青インキを所定の行に順次塗布することによって各発光層を塗布成膜することができる。赤インキ、緑インキ、青インキを所定の行に順次塗布する方法としては、印刷法、インクジェット法、ノズルプリンティング法などの所定の塗布法が挙げられる。たとえばノズルプリンティング法では前述した正孔注入層を形成する方法と同様にしてインキを塗布することができる。
【００４９】
まず赤インキをノズルプリンティング法によって所定の行に供給し、さらにこれを固化することによって赤色の光を放つ発光層１５Ｒを形成する方法について説明する。
【００５０】
本工程では、有機層（本実施形態では発光層１５Ｒ）となる材料を含む液柱状のインキを所定の行（本実施形態では凹部５）上に供給しつつ、インキの供給される位置を、前記行方向Ｘの一方または他方に移動することによって、所定の行（本実施形態では凹部５）の有機層を塗布成膜し、前記有機層を形成する。
【００５１】
赤色の光を放つ発光層は、２行おきに設けられるため、赤インキも２行おきに供給する必要がある。図４に示すように、たとえば基板２の上方に配置されるノズルから液柱状のインキを吐出したまま、ノズル１６を行方向Ｘに往復移動させつつ、ノズルの往復移動の折り返しのさいに、基板を列方向Ｙに３行分だけ移動させることによって、２行おきに赤インキが供給される。
【００５２】
本実施形態では、単位時間当たりの赤インキの吐出量を一定に設定した上で、赤インキの供給される位置を行方向Ｘの一方に移動するときの移動速度Ｖ１と、他方に移動するときの移動速度Ｖ２とを異ならせる。
【００５３】
前述したように、有機層の膜厚が等しくなるように移動速度Ｖ１と移動速度Ｖ２とを異ならせることにより、往路と復路とでそれぞれ形成される有機層の膜厚を略等しくすることができる。
【００５４】
有機層（本実施形態では発光層）は、隔壁間に供給されたインキが固化することによって形成される。インキの固化はたとえば溶媒を除去することによって行うことができる。溶媒の除去は、自然乾燥、加熱乾燥および真空乾燥などによって行うことができる。また使用するインキが、光や熱などのエネルギーを加えることによって重合する材料を含む場合、インキを供給した後に光や熱などのエネルギーを加えることによって有機層を固化してもよい。
【００５５】
なお緑インキおよび青インキも、赤インキと同様に隔壁間に２行ごとに供給することによって、緑色の光を発する発光層１５Ｇ、青色の光を発する発光層１５Ｂをそれぞれ形成することができる。
【００５６】
発光層を形成した後、必要に応じて所定の有機層や無機層などを所定の方法によって形成する。これらは印刷法、インクジェット法、ノズルプリンティング法などの所定の塗布法、さらには所定の乾式法を用いて形成してもよい。
【００５７】
（他方の電極を形成する工程）
つぎに他方の電極を形成する。前述したように本実施形態では他方の電極を基板上の全面に形成する。これによって複数の有機ＥＬ素子を基板上に形成することができる。
【００５８】
以上説明した発光装置の製造方法では、単位時間当たりのインキの吐出量を一定に設定した上で、インキの供給される位置を行方向Ｘの一方に移動するときの移動速度Ｖ１と、他方に移動するときの移動速度Ｖ２とを異ならせてインキを供給する。これによって往路と復路において形成される有機層の膜厚を略等しくすることができる。その結果として、各行間で発光むらの少ない有機ＥＬ素子を作製することができる。
【００５９】
以上の実施形態では、１本のノズルを用いてインキを供給する形態について説明したが、他の実施形態として、複数本のノズルを用いてインキを供給してもよい。
【００６０】
また以上の実施形態では、１つの行に対して１回だけインキを供給する形態について説明したが、他の実施形態として、１つの行に対して奇数回インキを供給してもよい。この場合であっても本発明の上述の効果を奏することができる。なおタクトタイムを短縮するためには、インキは１つの行に対して１回だけ供給することが好ましい。
【００６１】
また以上の実施形態では、絶縁膜４を備える表示装置について説明したが、他の実施形態として絶縁膜４を備えない表示装置を構成してもよい。たとえば一対の電極間に設けられる所定の層（上述の実施形態では正孔注入層）を電気抵抗の高い材料によって構成してもよい。これによって行方向Ｘに隣り合う有機ＥＬ素子の電気的絶縁を確保することができる。
【００６２】
また以上の実施形態では行方向Ｘに延在する隔壁３を備える表示装置について説明したが、他の実施形態として、格子状に形成される隔壁を備える表示装置を構成してもよい。具体的には、隔壁は、行方向Ｘに延在する複数本の隔壁部材と列方向Ｙに延在する複数本の隔壁部材とによって構成され、平面視で、格子上に設けられる絶縁膜４に重なるように格子状に形成される。なお格子状の隔壁を備える表示装置では、当該隔壁によって有機ＥＬ素子間の電気的絶縁が確保されるため、絶縁膜を設けなくてもよい。
【００６３】
また以上の実施形態では全ての有機層を、ノズルプリンティング法によって形成する形態について説明したが、有機層が複数ある場合には少なくとも１つの有機層を、上述のノズルプリンティング法によって形成すればよい。
【００６４】
また以上の実施形態では、基板上に設定される複数本の行を規定するために、隔壁３が設けられた表示装置について説明したが、複数本の行を規定するものは隔壁に限られない。たとえば隔壁に代替するパターンとして、インキを排除するパターンを基板上に設けることによって複数本の行を規定してもよい。たとえば隔壁が設けられる部位に、インキを弾く部材を設けたり、撥液処理を施したりしてもよく、逆に、隔壁が設けられる部位を除く領域に、親液処理を施してもよい（特表２００９−５３３２５１号公報、特表２００９−５４０５０５号公報、特表２００９−５４０５０６号公報、特開２００４−７１４７３号公報、特開２００７−４４５８２号公報、特許第４６２８１０９号公報等参照）。
【００６５】
また以上の説明ではノズルプリンティング法によって有機ＥＬ素子の有機層を形成する方法について説明したが、本発明は有機ＥＬ素子の有機層に限らず、所定の薄膜を形成する薄膜の製造方法にも適用することができる。すなわち所定の列方向に所定の間隔を開けて前記列方向とは方向の異なる行方向に延びる複数本の行が被塗布体上に設定されており、当該被塗布体上の各前記行に帯状の薄膜を製造する薄膜の製造方法において、前記薄膜となる材料を含む液柱状のインキを所定の前記行上に供給しつつ、インキの供給される位置を、前記行方向の一方または他方に移動することによって、所定の前記行の有機層を塗布成膜し、前記薄膜を形成する工程を含み、前記薄膜を形成する工程において、インキの供給される位置を前記行方向の一方に移動するときの移動速度と、他方に移動するときの移動速度とを異ならせる、薄膜の製造方法に適用することができる。このような所定の薄膜としては、カラーフィルターなどを挙げることができる。
【００６６】
＜有機ＥＬ素子の構成＞
前述したように有機ＥＬ素子は種々の層構成をとりうるが、以下では有機ＥＬ素子の層構造、各層の構成、および各層の形成方法についてさらに詳しく説明する。
【００６７】
前述したように有機ＥＬ素子は、一対の電極と、該電極間に設けられる１または複数の有機層とを含んで構成され、１または複数の有機層として少なくとも１層の発光層を有する。なお有機ＥＬ素子は、無機物と有機物とを含む層、および無機層などを含んでいてもよい。有機層を構成する有機物としては、低分子化合物でも高分子化合物でもよく、また低分子化合物と高分子化合物との混合物でもよい。有機層は、高分子化合物を含むことが好ましく、ポリスチレン換算の数平均分子量が１０３〜１０８である高分子化合物を含むことが好ましい。有機層を塗布法によって形成する際には溶媒への溶解性が良好な有機物を用いることが好ましく、一般的に高分子化合物は低分子化合物に比べて溶媒への溶解性が良好なためである。
【００６８】
陰極と発光層との間に設けられる層としては、電子注入層、電子輸送層、正孔ブロック層などを挙げることができる。陰極と発光層との間に電子注入層と電子輸送層との両方の層が設けられる場合、陰極に近い層を電子注入層といい、発光層に近い層を電子輸送層という。陽極と発光層との間に設けられる層としては、正孔注入層、正孔輸送層、電子ブロック層などを挙げることができる。正孔注入層と正孔輸送層との両方の層が設けられる場合、陽極に近い層を正孔注入層といい、発光層に近い層を正孔輸送層という。これら陰極と発光層との間に設けられる層、および陽極と発光層との間に設けられる層は、共通層として、全ての有機ＥＬ素子に共通して設けることができる。なお有機層のうちで塗布法によって形成することが可能な有機層は、正孔注入層および発光層を形成する方法として前述の実施形態において説明した本発明の方法によって形成することが好ましい。
【００６９】
有機ＥＬ素子の素子構成の一例を以下に示す。
ａ）陽極／発光層／陰極
ｂ）陽極／正孔注入層／発光層／陰極
ｃ）陽極／正孔注入層／発光層／電子注入層／陰極
ｄ）陽極／正孔注入層／発光層／電子輸送層／陰極
ｅ）陽極／正孔注入層／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
ｆ）陽極／正孔輸送層／発光層／陰極
ｇ）陽極／正孔輸送層／発光層／電子注入層／陰極
ｈ）陽極／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／陰極
ｉ）陽極／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
ｊ）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／陰極
ｋ）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子注入層／陰極
ｌ）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／陰極
ｍ）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
ｎ）陽極／発光層／電子注入層／陰極
ｏ）陽極／発光層／電子輸送層／陰極
ｐ）陽極／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
（ここで、記号「／」は、記号「／」を挟む各層が隣接して積層されていることを示す。以下同じ。）
【００７０】
さらに有機ＥＬ素子は、２層以上の発光層を有していてもよく、また２層以上の発光層を有し、電荷を発生する電荷発生層を発光層間に介在させたいわゆるマルチフォトン型の素子を構成してもよい。
【００７１】
有機ＥＬ素子は、封止のための封止膜または封止板などの封止部材でさらに覆われていてもよい。
【００７２】
本実施形態の有機ＥＬ素子は、さらに電極との密着性向上や電極からの電荷注入性の改善のために、電極に隣接して膜厚２ｎｍ以下の絶縁層を設けてもよい。また界面での密着性向上や混合の防止などのために、前述した各層間に薄いバッファー層を挿入してもよい。
【００７３】
積層する層の順序、層数、および各層の厚さについては、発光効率や素子寿命を勘案して適宜設定することができる。また有機ＥＬ素子は、陽極および陰極のうちで、陽極を基板寄りに配置し、陰極を基板から離間した位置に配置してもよく、また逆に陰極を基板寄りに配置し、陽極を基板から離間した位置に配置してもよい。たとえば上記ａ）〜ｐ）の構成において、左側の層から順に基板に各層を積層してもよく、逆に右側の層から順に基板に各層を積層してもよい。
【００７４】
次に有機ＥＬ素子を構成する各層の材料および形成方法についてより具体的に説明する。
【００７５】
＜陽極＞
発光層から放たれる光が陽極を通って出射する構成の有機ＥＬ素子の場合、陽極には光透過性を示す電極が用いられる。光透過性を示す電極としては、電気伝導度の高い金属酸化物、金属硫化物および金属などの薄膜を用いることができ、光透過率の高いものが好適に用いられる。具体的には酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、金、白金、銀、および銅などから成る薄膜が用いられ、これらの中でもＩＴＯ、ＩＺＯ、または酸化スズから成る薄膜が好適に用いられる。陽極の作製方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、メッキ法などを挙げることができる。また陽極として、ポリアニリンもしくはその誘導体、ポリチオフェンもしくはその誘導体などの有機の透明導電膜を用いてもよい。
【００７６】
なお発光層から放たれる光が陰極を通って出射する構成の有機ＥＬ素子の場合、陽極には、光を反射する材料を用いてもよく、このような材料としては、仕事関数３．０ｅＶ以上の金属、金属酸化物、金属硫化物が好ましい。
【００７７】
陽極の膜厚は、光の透過性および電気抵抗などを考慮して、適宜選択することができ、例えば１０ｎｍ〜１０μｍであり、好ましくは２０ｎｍ〜１μｍであり、さらに好ましくは５０ｎｍ〜５００ｎｍである。
【００７８】
＜正孔注入層＞
正孔注入層を構成する正孔注入材料としては、酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化ルテニウム、および酸化アルミニウムなどの酸化物や、フェニルアミン系化合物、スターバースト型アミン系化合物、フタロシアニン系、アモルファスカーボン、ポリアニリン、およびポリチオフェン誘導体などを挙げることができる。
【００７９】
正孔注入層の成膜方法としては、例えば正孔注入材料を含む溶液からの成膜を挙げることができる。溶液からの成膜に用いられる溶液の溶媒としては、正孔注入材料を溶解させるものであれば特に制限はなく、例えば、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタンなどの塩素系溶媒、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチルセルソルブアセテートなどのエステル系溶媒、および水を挙げることができる。
【００８０】
溶液からの成膜方法としては、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェットプリント法、ノズルプリンティング法などの塗布法を挙げることができ、正孔注入層は、上述した本発明のノズルプリンティング法によって形成することが好ましい。
【００８１】
正孔注入層の膜厚は、電気的な特性や成膜の容易性などを勘案して適宜設定され、例えば１ｎｍ〜１μｍであり、好ましくは２ｎｍ〜５００ｎｍであり、さらに好ましくは５ｎｍ〜２００ｎｍである。
【００８２】
＜正孔輸送層＞
正孔輸送層を構成する正孔輸送材料としては、ポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、ポリシラン若しくはその誘導体、側鎖若しくは主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体、ピラゾリン誘導体、アリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、トリフェニルジアミン誘導体、ポリアニリン若しくはその誘導体、ポリチオフェン若しくはその誘導体、ポリアリールアミン若しくはその誘導体、ポリピロール若しくはその誘導体、ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）若しくはその誘導体、又はポリ（２，５−チエニレンビニレン）若しくはその誘導体などを挙げることができる。
【００８３】
これらの中で正孔輸送材料としては、ポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、ポリシラン若しくはその誘導体、側鎖若しくは主鎖に芳香族アミン化合物基を有するポリシロキサン誘導体、ポリアニリン若しくはその誘導体、ポリチオフェン若しくはその誘導体、ポリアリールアミン若しくはその誘導体、ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）若しくはその誘導体、又はポリ（２，５−チエニレンビニレン）若しくはその誘導体などの高分子正孔輸送材料が好ましく、さらに好ましくはポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、ポリシラン若しくはその誘導体、側鎖若しくは主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体である。低分子の正孔輸送材料の場合には、高分子バインダーに分散させて用いることが好ましい。
【００８４】
正孔輸送層の成膜方法としては、特に制限はないが、低分子の正孔輸送材料では、高分子バインダーと正孔輸送材料とを含む混合液からの成膜を挙げることができ、高分子の正孔輸送材料では、正孔輸送材料を含む溶液からの成膜を挙げることができる。
【００８５】
溶液からの成膜に用いられる溶液の溶媒としては、正孔輸送材料を溶解させるものであれば特に制限はなく、例えば正孔注入層を溶液から成膜する際に用いられる溶液の溶媒として例示したものを用いることができる。
【００８６】
溶液からの成膜方法としては、前述した正孔中注入層の成膜法と同様の塗布法を挙げることができ、正孔輸送層は、上述した本発明のノズルプリンティング法によって形成することが好ましい。
【００８７】
混合する高分子バインダーとしては、電荷輸送を極度に阻害しないものが好ましく、また可視光に対する吸収の弱いものが好適に用いられ、例えばポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリシロキサンなどを挙げることができる。
【００８８】
正孔輸送層の膜厚としては、電気的な特性や成膜の容易性などを勘案して適宜設定され、例えば１ｎｍ〜１μｍであり、好ましくは２ｎｍ〜５００ｎｍであり、さらに好ましくは５ｎｍ〜２００ｎｍである。
【００８９】
＜発光層＞
発光層は通常、主として蛍光及び／又はりん光を発光する有機物、またはこの有機物とこれを補助するドーパントとから構成される。ドーパントは、例えば発光効率の向上や、発光波長を変化させるために加えられる。なお有機物は、低分子化合物でも高分子化合物でもよく、発光層は、ポリスチレン換算の数平均分子量が、１０３〜１０８である高分子化合物を含むことが好ましい。発光層を構成する発光材料としては、例えば以下の色素系材料、金属錯体系材料、高分子系材料、ドーパント材料を挙げることができる。
【００９０】
（色素系材料）
色素系材料としては、例えば、シクロペンダミン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体化合物、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、ピロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、オキサジアゾールダイマー、ピラゾリンダイマー、キナクリドン誘導体、クマリン誘導体などを挙げることができる。
【００９１】
（金属錯体系材料）
金属錯体系材料としては、例えばＴｂ、Ｅｕ、Ｄｙなどの希土類金属、またはＡｌ、Ｚｎ、Ｂｅ、Ｉｒ、Ｐｔなどを中心金属に有し、オキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造などを配位子に有する金属錯体を挙げることができ、例えばイリジウム錯体、白金錯体などの三重項励起状態からの発光を有する金属錯体、アルミニウムキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾリル亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、フェナントロリンユーロピウム錯体などを挙げることができる。
【００９２】
（高分子系材料）
高分子系材料としては、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体、ポリフルオレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、上記色素系材料や金属錯体系発光材料を高分子化したものなどを挙げることができる。
【００９３】
上記発光性材料のうち、青色に発光する材料としては、ジスチリルアリーレン誘導体、オキサジアゾール誘導体、およびそれらの重合体、ポリビニルカルバゾール誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体などを挙げることができる。なかでも高分子材料のポリビニルカルバゾール誘導体、ポリパラフェニレン誘導体やポリフルオレン誘導体などが好ましい。
【００９４】
また緑色に発光する材料としては、キナクリドン誘導体、クマリン誘導体、およびそれらの重合体、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体などを挙げることができる。なかでも高分子材料のポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体などが好ましい。
【００９５】
また赤色に発光する材料としては、クマリン誘導体、チオフェン環化合物、およびそれらの重合体、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリフルオレン誘導体などを挙げることができる。なかでも高分子材料のポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリフルオレン誘導体などが好ましい。
【００９６】
（ドーパント材料）
ドーパント材料としては、例えばペリレン誘導体、クマリン誘導体、ルブレン誘導体、キナクリドン誘導体、スクアリウム誘導体、ポルフィリン誘導体、スチリル系色素、テトラセン誘導体、ピラゾロン誘導体、デカシクレン、フェノキサゾンなどを挙げることができる。なお、このような発光層の厚さは、通常約２ｎｍ〜２００ｎｍである。
【００９７】
発光材料の成膜方法としては、印刷法、インクジェットプリント法、ノズルプリンティング法などを挙げることができる。たとえば上述したように本発明のノズルプリンティング法によって複数種類のインキを塗り分けることができる。
【００９８】
＜電子輸送層＞
電子輸送層を構成する電子輸送材料としては、公知のものを使用でき、オキサジアゾール誘導体、アントラキノジメタン若しくはその誘導体、ベンゾキノン若しくはその誘導体、ナフトキノン若しくはその誘導体、アントラキノン若しくはその誘導体、テトラシアノアンスラキノジメタン若しくはその誘導体、フルオレノン誘導体、ジフェニルジシアノエチレン若しくはその誘導体、ジフェノキノン誘導体、又は８−ヒドロキシキノリン若しくはその誘導体の金属錯体、ポリキノリン若しくはその誘導体、ポリキノキサリン若しくはその誘導体、ポリフルオレン若しくはその誘導体などを挙げることができる。
【００９９】
これらのうち、電子輸送材料としては、オキサジアゾール誘導体、ベンゾキノン若しくはその誘導体、アントラキノン若しくはその誘導体、又は８−ヒドロキシキノリン若しくはその誘導体の金属錯体、ポリキノリン若しくはその誘導体、ポリキノキサリン若しくはその誘導体、ポリフルオレン若しくはその誘導体が好ましく、２−（４−ビフェニリル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、ベンゾキノン、アントラキノン、トリス（８−キノリノール）アルミニウム、ポリキノリンがさらに好ましい。
【０１００】
電子輸送層の成膜法としては特に制限はないが、低分子の電子輸送材料では、粉末からの真空蒸着法、または溶液若しくは溶融状態からの成膜を挙げることができ、高分子の電子輸送材料では溶液または溶融状態からの成膜を挙げることができる。なお溶液または溶融状態からの成膜する場合には、高分子バインダーを併用してもよい。溶液からの成膜方法としては、前述した正孔中注入層の成膜法と同様の塗布法を挙げることができる。
【０１０１】
電子輸送層の膜厚は、電気的な特性や成膜の容易性などを勘案して適宜設定され、例えば１ｎｍ〜１μｍであり、好ましくは２ｎｍ〜５００ｎｍであり、さらに好ましくは５ｎｍ〜２００ｎｍである。
【０１０２】
＜電子注入層＞
電子注入層を構成する材料としては、発光層の種類に応じて最適な材料が適宜選択され、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アルカリ金属およびアルカリ土類金属のうちの１種類以上含む合金、アルカリ金属若しくはアルカリ土類金属の酸化物、ハロゲン化物、炭酸塩、またはこれらの物質の混合物などを挙げることができる。アルカリ金属、アルカリ金属の酸化物、ハロゲン化物、および炭酸塩の例としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、酸化リチウム、フッ化リチウム、酸化ナトリウム、フッ化ナトリウム、酸化カリウム、フッ化カリウム、酸化ルビジウム、フッ化ルビジウム、酸化セシウム、フッ化セシウム、炭酸リチウムなどを挙げることができる。また、アルカリ土類金属、アルカリ土類金属の酸化物、ハロゲン化物、炭酸塩の例としては、マグネシウム、カルシウム、バリウム、ストロンチウム、酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム、酸化カルシウム、フッ化カルシウム、酸化バリウム、フッ化バリウム、酸化ストロンチウム、フッ化ストロンチウム、炭酸マグネシウムなどを挙げることができる。電子注入層は、２層以上を積層した積層体で構成されてもよく、例えばＬｉＦ／Ｃａなどを挙げることができる。電子注入層は、蒸着法、スパッタリング法、印刷法などにより形成される。電子注入層の膜厚としては、１ｎｍ〜１μｍ程度が好ましい。
【０１０３】
＜陰極＞
陰極の材料としては、仕事関数が小さく、発光層への電子注入が容易で、電気伝導度の高い材料が好ましい。また陽極側から光を取出す構成の有機ＥＬ素子では、発光層から放たれる光を陰極で陽極に向けて反射するために、陰極の材料としては可視光反射率の高い材料が好ましい。陰極には、例えばアルカリ金属、アルカリ土類金属、遷移金属および周期表１３族金属などを用いることができる。陰極の材料としては、例えばリチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、アルミニウム、スカンジウム、バナジウム、亜鉛、イットリウム、インジウム、セリウム、サマリウム、ユーロピウム、テルビウム、イッテルビウムなどの金属、前記金属のうちの２種以上の合金、前記金属のうちの１種以上と、金、銀、白金、銅、マンガン、チタン、コバルト、ニッケル、タングステン、錫のうちの１種以上との合金、またはグラファイト若しくはグラファイト層間化合物などが用いられる。合金の例としては、マグネシウム−銀合金、マグネシウム−インジウム合金、マグネシウム−アルミニウム合金、インジウム−銀合金、リチウム−アルミニウム合金、リチウム−マグネシウム合金、リチウム−インジウム合金、カルシウム−アルミニウム合金などを挙げることができる。また、陰極としては導電性金属酸化物および導電性有機物などから成る透明導電性電極を用いることができる。具体的には、導電性金属酸化物として酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、ＩＴＯ、およびＩＺＯを挙げることができ、導電性有機物としてポリアニリンもしくはその誘導体、ポリチオフェンもしくはその誘導体などを挙げることができる。なお、陰極は、２層以上を積層した積層体で構成されていてもよい。なお、電子注入層が陰極として用いられる場合もある。
【０１０４】
陰極の膜厚は、電気伝導度や耐久性を考慮して適宜設定され、例えば１０ｎｍ〜１０μｍであり、好ましくは２０ｎｍ〜１μｍであり、さらに好ましくは５０ｎｍ〜５００ｎｍである。
【０１０５】
陰極の作製方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、また金属薄膜を熱圧着するラミネート法などを挙げることができる。
【０１０６】
＜絶縁層＞
絶縁層の材料としては、金属フッ化物、金属酸化物、有機絶縁材料などを挙げることができる。膜厚２ｎｍ以下の絶縁層を設けた有機ＥＬ素子としては、陰極に隣接して膜厚２ｎｍ以下の絶縁層を設けたもの、陽極に隣接して膜厚２ｎｍ以下の絶縁層を設けたものを挙げることができる。
【符号の説明】
【０１０７】
１    発光装置
２    基板
３    隔壁
４    絶縁膜
５    凹部
６    開口
１１    有機ＥＬ素子
１２    陽極
１３    陰極
１４    正孔注入層
１５    発光層
１６    ノズル
【図１】
2013157171.tif 000003
【図２】
2013157171.tif 000004
【図３】
2013157171.tif 000005
【図４】
2013157171.tif 000006