(57)【要約】 【課題】  液晶モジュールを有する画像表示装置を提供する【解決手段】  液晶モジュールを含む画像表示装置であって、第１基板、および前記第１基板が平行して配置される第２基板、２つまたは３つのアクリル官能基を有する非極性モノマーを重合させることによって形成される複数の突出を含む、前記第１基板の上面に配置された第１の光配向層、および前記第２基板の底面に配置された第２の光配向層、および前記第１と第２の光配向層との間に配置された液晶層を含む画像表示装置。【選択図】  図１
2013156634.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶モジュールを含む画像表示装置であって、
第１基板、および前記第１基板が平行して配置される第２基板、
上面を有する第１基板、および前記上面を有する第１基板が相対して配置された底面を有する第２基板、
２つまたは３つのアクリル官能基を有する非極性モノマーを重合させることによって形成される複数の突出を含む、前記第１基板の上面に配置された第１の光配向層、および前記第２基板の底面に配置された第２の光配向層、および
前記第１と第２の光配向層との間に配置された液晶層を含む画像表示装置。
【請求項２】
前記非極性モノマーは、
2013156634.tif 000023
、または
2013156634.tif 000024
によって表される構造を有し、Ｒは、メチルまたはエチルである請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記非極性モノマーは、
2013156634.tif 000025
、
2013156634.tif 000026
、または
2013156634.tif 000027
によって表される構造を有し、ｍおよびｍ’は、１〜７の独立した整数であり、ｎは、１〜５の整数である請求項１に記載の表示装置。
【請求項４】
前記第１の光配向層および前記第２の光配向層は、光分解性化合物に第１の照射を受けさせることによって形成される請求項１に記載の表示装置。
【請求項５】
前記光分解性化合物は、
2013156634.tif 000028
によって表される繰り返し単位を有する化合物であり、Ａｒは、アリール基である請求項４に記載の表示装置。
【請求項６】
前記光分解性化合物は、
2013156634.tif 000029
によって表される繰り返し単位を有する化合物である請求項４に記載の表示装置。
【請求項７】
前記第１の光配向層および前記第２の光配向層は、光異性化性化合物に第１の照射を受けさせることによって形成される請求項１に記載の表示装置。
【請求項８】
前記光異性化性化合物は、
2013156634.tif 000030
によって表される構造を有し、Ｒ１は、水素、またはＣ１−６アルキルである請求項７に記載の表示装置。
【請求項９】
前記突出は、前記非極性モノマーに第１の照射を受けさせることによって形成され、且つ前記突出は、２０ｎｍ以下の高さおよび２００ｎｍ以下の幅を有する請求項１に記載の表示装置。
【請求項１０】
前記液晶モジュールは面内スイッチング液晶モジュールであり、前記第１基板の上面および前記第２基板の底面に配置された面内スイッチング電極を更に含む請求項１に記載の表示装置。
【請求項１１】
液晶モジュールを製造する方法であって、
上面を有する第１基板、および底面を有する第２基板を提供するステップ、
前記第１基板の上面に第１の光反応性化合物層をコーティングし、前記第２基板の底面に第２の光反応性化合物層をコーティングするステップ、
前記第１の光反応性化合物層および前記第２の光反応性化合物層に第１の照射を受けさせ、第１の光配向層および第２の光配向層をそれぞれ形成するステップ、
前記第１基板と前記第２基板を配向して結合し、その中の前記第１基板の上面が前記第２基板の底面に相対して配置されるステップ、
前記第１の光配向層および前記第２の光配向層の間の間隙に、液晶および２つまたは３つのアクリル官能基を有する非極性モノマーを含む液晶組成物を提供するステップ、および
前記液晶組成物に第２の照射を受けさせ、前記第１の光配向層と前記第２の光配向層の表面に、無極性モノマーに重合させることで形成された複数の突出を形成するステップを含む方法。
【請求項１２】
前記第１の光反応性化合物層および前記第２の光反応性化合物層は、光分解性化合物を含む請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記光分解性化合物は、
2013156634.tif 000031
によって表される繰り返し単位を有する化合物であり、Ａｒは、アリール基である請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記光分解性化合物は、
2013156634.tif 000032
によって表される繰り返し単位を有する化合物である請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
前記第１の照射は、２４０〜２８０ｎｍの波長を有する紫外線であり、前記第１の光反応性化合物層および前記第２の光反応性化合物層は、０.１〜３Ｊの全露光で、１０〜８０ｍＷ／ｃｍ２の照度において、１〜１００秒の間、前記第１の照射を受ける請求項１２に記載の方法。
【請求項１６】
前記第１の光反応性化合物層および前記第２の光反応性化合物層は、光異性化性化合物を含む請求項１１に記載の方法。
【請求項１７】
前記光異性化性化合物は、
2013156634.tif 000033
によって表される構造を有し、Ｒ１は、水素、またはＣ１−６アルキルである請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記第１の照射は、３６５ｎｍの波長を有する紫外線であり、前記第１の光反応性化合物層および前記第２の光反応性化合物層は、１〜１０秒の間、前記第１の照射を受ける請求項１６に記載の方法。
【請求項１９】
前記液晶組成物の重さに基づいて、前記非極性モノマーの重量パーセントは、０.０５〜３ｗｔ％である請求項１１に記載の方法。
【請求項２０】
前記第２の照射は、３１０〜４００ｎｍの波長を有する紫外線であり、前記液晶組成物は、５０秒〜５時間の間、第２の照射を受ける請求項１６に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、画像表示装置に関し、特に、液晶モジュールを有する画像表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、例えば、薄型、軽量、および低消費電力などのその特徴により、現在広く用いられている。液晶表示装置は、一対の基板およびその間に挟設された液晶層を含む。また、液晶表示装置は、電圧を基板の液晶層の側面に配置された電極に適切に印加することによって、液晶層に含まれる液晶分子の配向方向を制御することによって、表示機能を提供する。液晶表示装置は、通常、液晶分子の配向方向を制御する液晶配向膜（以下、配向膜という）を含む。配向膜は、基板の液晶層の側面に配置される。
【０００３】
液晶配向膜は、主に高分子材料でできている。液晶配向膜は、液晶分子の配向を導く。液晶分子が電場の影響によって移動されて画像を表示した時、液晶配向膜は、液晶分子が所定の方向に配向するようにさせる。一般的に、均一な輝度と高コントラスト比を液晶装置に提供するために、液晶分子を均一に配向する必要がある。
【０００４】
液晶分子を配向する従来の方法は、例えばガラスなどの材料でできている基板の上に、例えばポリイミドなどの高分子フィルムをコーティングし、例えばナイロンまたはポリエステルなどの繊維で特定の方向に基板の表面に擦ることを含む。しかしながら、このラビング方法は、液晶パネルを製造する時、繊維で高分子フィルムを擦る時に発生する可能性のある、ちりまたは静電放電（ＥＳＤ）により、深刻な問題を招く可能性がある。
【０００５】
このラビング方法に関する問題を解決するために、液晶分子を配向するように薄膜に光を照射することで高分子フィルムの異方性を誘導するように、近年、光照射法が研究されている。
【０００６】
従来の光配向のプロセスは、光硬化性官能基を有する高分子材料を用いている。光硬化性官能基を有する高分子材料は、偏光によって照射され、光異性化（ｐｈｏｔｏ−ｉｓｏｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ）、光架橋、または光分解を受けるため、その表面に光配向膜の降伏（ｙｉｅｌｄｉｎｇ）異方性を形成する。よって、液晶の液晶分子配向の配向は、光配向膜によって実現されることができる。
【０００７】
液晶表示装置の信頼性を確実にするために、光配向膜に用いる好適な材料は、高い光安定性と熱安定性を示すものでなければならない。しかしながら、従来の光硬化性官能基を有する高分子材料でできている光配向膜は、低い光安定性と熱安定性により、不安定な配向特性を示すため、液晶表示装置は信頼性試験にパスすることができない。また、一般的に、光配向プロセスによって製造された配向膜のアンカリングエネルギーは、ラビング配向プロセスによって製造された配向膜のアンカリングエネルギーより小さい。よって、従来の光配向膜を用いている液晶表示装置は、反応速度を低下させ、画像焼き付きの発生をより容易にさせる。
【０００８】
よって、向上された光安定性とアンカリング効果（ａｂｉｌｉｔｙ）を有する配向膜を形成する新しい光配向プロセスが必要である。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
液晶モジュールを有する画像表示装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の例示的な実施形態は、画像表示装置を提供する。画像表示装置は液晶モジュールを含み、画像表示装置は、第１基板、および第１基板が平行して配置される第２基板、２つまたは３つのアクリル官能基を有する非極性モノマーを重合させることによって形成される複数の突出を含む、第１基板の上面に配置された第１の光配向層、および第２基板の底面に配置された第２の光配向層、および第１と第２の光配向層との間に配置された液晶層を含む。
【００１１】
液晶モジュールを製造する方法を提供する本発明のもう１つの例示的な実施形態は、第１基板、および第１基板が平行して配置される第２基板を提供するステップ、第１基板の上面に第１の光反応性化合物層をコーティングし、第２基板の底面に第２の光反応性化合物層をコーティングするステップ、第１の光反応性化合物層および第２の光反応性化合物層に第１の照射を受けさせ、第１の光配向層および第２の光配向層をそれぞれ形成するステップ、第１の光配向層および第２の光配向層の間の間隙に、面内スイッチング液晶および２つまたは３つのアクリル官能基を有する非極性モノマーを含む液晶組成物を注入するステップ、および液晶組成物に第２の照射を受けさせ、第１の光配向層と第２の光配向層の表面に、無極性モノマーに重合させることで形成された複数の突出を形成するステップを含む。
【００１２】
詳細な説明は、添付の図面と併せて以下の実施形態に説明される。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
本発明は、添付の図面と併せて後に続く詳細な説明と実施例を解釈することによって、より完全に理解されることができる。
【図１】本発明の実施形態に基づく液晶モジュールの断面図を表している。
【図２】図１に表された液晶モジュールの領域の拡大図を表している。
【図３】図１に表された液晶モジュールの製造方法を示すフローチャートを表している。
【図４】その上に複数の突出を有する光配向層の走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）写真を表している。
【図５】本発明の液晶モジュールを含む画像表示システムを概略的に表している。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
これに鑑みて、本発明は、液晶モジュールを含む画像表示装置を提供し、液晶モジュールは、新しい光配向層を含む。従来の光配向層と比べ、本発明の光配向層は、向上された光安定性と配向力（ａｂｉｌｉｔｙ）を有する。本発明は、光配向プロセスの時間が減少されてコストを減少し、生産量が向上した画像表示装置を形成する方法も提供する。
【００１５】
図１に示されるように、本発明の実施形態は、液晶モジュール１００を提供し、液晶モジュール１００は、第１基板１２および第２基板１４を含む。第１基板１２および第２基板１４は、ガラス基板など、透明基板であることができる。第１の光配向層１６は、第１基板１２の上面１１に配置され、第２の光配向層１８は、第２基板１４の底面１３に配置される。第１の光配向層１６および第２の光配向層１８は、光分解性化合物に第１の照射を受けさせることによって形成され、光分解性化合物はシクロブタン二無水物部分（ｃｙｃｌｏｂｕｔａｎｅ  ｄｉａｎｈｙｄｒｉｄｅ  ｍｏｉｅｔｙ）を有する化合物であることができる。例えば、光分解性化合物は、
2013156634.tif 000003
によって表される繰り返し単位を有する化合物であることができ、Ａｒは、アリール基（例えば、フェニル基、β-ナフチル基、ジフェニル基、アントリル基、ピレニル基、フェナントリル基、フッ素置換基、または重合フェニル基（ｍｕｌｔｉ−ｐｈｅｎｙｌ  ｇｒｏｕｐ））である。ここでは、光分解性化合物は、
2013156634.tif 000004
本発明のもう１つの実施形態に基づいて表される繰り返し単位を有する化合物であることができ、第１の光配向層１６および第２の光配向層１８は、光異性化性化合物に第１の照射を受けさせることによって形成され、光異性化性化合物は、アゾ化合物であることができる。例えば、光異性化性化合物は、
2013156634.tif 000005
によって表される構造を有する化合物などのアゾベンゼン化合物であることができ、Ｒ１は、水素、またはＣ１−６アルキルである。
【００１６】
図２は、図１に表された液晶モジュールの領域２の拡大図を表している。注意するのは、第１の光配向層１６の上面１５および第２の光配向層１８の底面１７の上に配置される複数の突出を有し、突出は、２０ｎｍ以下の高さおよび２００ｎｍ以下の幅を有する。特に、突出２２は、第２の照射によって非極性モノマーを重合させることによって形成され、非極性モノマーは２つまたは３つのアクリル官能基を有することができる。例えば、非極性モノマーは、
2013156634.tif 000006
、または
2013156634.tif 000007
によって表される構造を有することができ、Ｒは、メチルまたはエチルである。また、本発明の他の実施形態に基づき、非極性モノマーは、
2013156634.tif 000008
、
2013156634.tif 000009
、または
2013156634.tif 000010
によって表される構造を有することができ、ｍおよびｍ’は、１〜７の独立した整数であり、ｎは、１〜５の整数である。
【００１７】
本発明の突出２２は、第１の光配向層１６および第２の光配向層１８の配向力を増加することができるため、第１の光配向層１６（または１８）と液晶層２０間のアンカリング強度を向上させる。また、本発明の突出２２は、光配向プロセスで作られた不純物から液晶層を分離することができる。本発明のいくつかの実施形態に基づき、面内スイッチング電極３０は、第１基板１２の上面に配置されることができる。即ち、面内スイッチング電極３０は、第１の光配向層１６と第１基板１２との間に配置されることができる。本発明のもう１つの実施形態に基づき、面内スイッチング電極３０は、第２の光配向層１８と第２基板１４との間に配置されることができる。
【００１８】
図１をまた参照に、液晶層２０（例えば、面内スイッチング液晶層）は、第１の光配向層１６および第２の光配向層１８の上に配置される。本発明の実施形態に基づき、液晶モジュールは面内スイッチング液晶モジュールであることができる。
【００１９】
図３は、図１に表された液晶モジュール１００の製造方法を示すフローチャートを表している。液晶モジュール１００の製造方法は、以下のステップを含むことができる。
【００２０】
まず、第１基板および第２基板が提供され、第１基板は、第２基板と平行して配置される（ステップ１０１）。次いで、第１の光反応性化合物層は、第１基板の上面上にコーティングされ、第２の光反応性化合物層は、第２基板の底面上にコーティングされる（ステップ１０２）。光反応性化合物は、光分解性化合物または、光異性化性化合物であることができる。光分解性化合物は、シクロブタン二無水物部分を有する化合物であることができる。例えば、光分解性化合物は、
2013156634.tif 000011
によって表される繰り返し単位を有する化合物であることができ、Ａｒは、アリール基（例えば、フェニル基、β-ナフチル基、ジフェニル基、アントリル基、ピレニル基、フェナントリル基、フッ素置換基、または重合フェニル基（ｍｕｌｔｉ−ｐｈｅｎｙｌ  ｇｒｏｕｐ））である。実施形態では、光分解性化合物は、
2013156634.tif 000012
によって表される繰り返し単位を有する化合物であることができる。光異性化性化合物は、アゾ化合物であることができる。例えば、光異性化性化合物は、
2013156634.tif 000013
によって表される構造を有する化合物などのアゾベンゼン化合物であることができ、Ｒ１は、水素、またはＣ１−６アルキルである。
【００２１】
次いで、光反応性化合物層の形成後、第１の光反応性化合物層および第２の光反応性化合物層は、第１の照射を受け、第１の光配向層および第２の光配向層をそれぞれ形成する（ステップ１０３）。注意するのは、光反応性化合物層が光分解性化合物の場合、第１の照射は、２４０〜２８０ｎｍの波長を有する紫外線（例えば２５０ｎｍの波長を有する紫外線または直線偏光）である。この状態では、第１の光反応性化合物層および第２の光反応性化合物層は、０.１〜３Ｊの全露光で、１０〜８０ｍＷ／ｃｍ２の照度において、１〜１００秒の間、第１の照射を受ける。
【００２２】
光反応性化合物が光異性化性化合物である場合、第１の照射は、３６５ｎｍの波長を有する紫外線または直線偏光である。この状態では、第１の光反応性化合物層および第２の光反応性化合物層は、０.０１〜０.８Ｊの全露光で、１０〜８０ｍＷ／ｃｍ２の照度において、１〜１０秒の間、第１の照射を受ける。
【００２３】
第１の光配向層および第２の光配向層の形成後、液晶組成物は、第１の光配向層と第２の光配向層の間の間隙に注入され（ステップ１０４）、液晶組成物は、面内スイッチング液晶および２つまたは３つのアクリル官能基を有する非極性モノマーを含む。例えば、非極性モノマーは、
2013156634.tif 000014
、または
2013156634.tif 000015
によって表される構造を有することができ、Ｒは、メチルまたはエチルである。また、本発明の他の実施形態に基づき、非極性モノマーは、
2013156634.tif 000016
、
2013156634.tif 000017
、または
2013156634.tif 000018
によって表される構造を有することができ、ｍおよびｍ’は、１〜７の独立した整数であり、ｎは、１〜５の整数である。液晶組成物では、非極性モノマーは、液晶組成物の重さに基づいて、０.０５〜３ｗｔ％（例えば０.３ｗｔ％、０.５ｗｔ％、１ｗｔ％、１.５ｗｔ％、または  ３ｗｔ％）の重量パーセントを有する。
【００２４】
過度に低い重量パーセント（０.０５ｗｔ％以下）を有する非極性モノマーは、低い配向力を有する配向膜となる。一方、過度に高い重量パーセント（３ｗｔ％以下）を有する非極性モノマーは、不規則な液晶の配向となる。
【００２５】
液晶組成物は、液晶滴下プロセスまたは従来の液晶注入プロセスによって、第１の光配向層と第２の光配向層の間の間隙に注入される。最後に、液晶組成物の注入後、液晶組成物は、第２の照射を受け、液晶組成物の無極性モノマーに重合させ、第１の光配向層と第２の光配向層の表面に接着させて複数の突出を形成する（ステップ１０５）。よって、液晶モジュールの製造が完成される。第２の照射は、３１０〜４００ｎｍの波長を有する紫外線または直線偏光であることができる。この状態では、第１の光反応性化合物層および第２の光反応性化合物層は、０.５〜１００Ｊの全露光で、１〜１００ｍＷ／ｃｍ２の照度において、５０秒〜５時間の間、第１の照射を受ける。
【００２６】
以下の実施例は、例示的なものにすぎず、本発明の範囲を限定するものではない。実施例を示して説明しているが、修正および変更ができることは当業者に明らかであろう。
【００２７】
実施例１
【００２８】
まず、第１のガラス基板および第２のガラス基板が提供され、第１のガラス基板は、第２のガラス基板と平行して配置される。具体的に言うと、第１の光分解性化合物層は、第１のガラス基板上に形成され、第２の光分解性化合物層は、第２のガラス基板上に形成される。第１の光分解性化合物層は、第２の光分解性化合物層に相対する。第１の光分解性化合物層と第２の光分解性化合物層は、
2013156634.tif 000019
によって表される繰り返し単位を有する光分解性化合物でできており、第１の光分解性化合物層と第２の光分解性化合物層の厚さは、４００〜８００ｍｍであることができる。次いで、第１の光分解性化合物層と第２の光分解性化合物層は、２４０〜２８０ｎｍの波長を有する紫外線を受け、第１光配向増および第２光配向層をそれぞれ形成する。この状態では、第１の光分解性化合物層および第２の光分解性化合物層は、０.５〜３Ｊの全露光で、１０〜８０ｍＷ／ｃｍ２の照度において、１〜１００秒の間、第１の照射を受ける。次いで、液晶組成物は、液晶滴下プロセスによって、第１の光配向層と第２の光配向層の間の間隙に注入され、液晶組成物に第１の光配向層と第２の光配向層の表面と直接接触させる。液晶組成物は、面内スイッチング液晶（Ｍｅｒｃｋによって製造販売される）を含み、非極性モノマーは、
2013156634.tif 000020
によって表される構造を有する。非極性モノマーは、液晶組成物の重量に基づいて、１ｗｔ％の重量パーセントを有する。最後に、液晶組成物は、０.５〜１００Ｊの全露光で、１〜１００ｍＷ／ｃｍ２の照度において、５０秒〜５時間の間、３１０〜３８０ｎｍの波長を有する紫外線を受け、第１の光配向層と第２の光配向層の表面上に複数の突出を形成する。
【００２９】
実施例２
【００３０】
まず、第１のガラス基板および第２のガラス基板が提供され、第１のガラス基板は、第２のガラス基板と平行して配置される。具体的に言うと、第１の光異性化性化合物層は、第１のガラス基板上に形成され、第２の光異性化性化合物層は、第２のガラス基板上に形成される。第１の光異性化性化合物層は、第２の光異性化性化合物層に相対する。第１の光異性化性化合物層と第２の光異性化性化合物層は、
2013156634.tif 000021
によって表される繰り返し単位を有する光異性化性化合物でできており、第１の光異性化性化合物層と第２の光異性化性化合物層の厚さは、４００〜８００ｍｍであることができる。次いで、第１の光異性化性化合物層と第２の光異性化性化合物層は、３５６ｎｍの波長を有する紫外線を受け、第１光配向増および第２光配向層をそれぞれ形成する。この状態では、第１の光異性化性化合物層および第２の光異性化性化合物層は、０.８〜５Ｊの全露光で、１０〜８０ｍＷ／ｃｍ２の照度において、１０〜５００秒の間、第１の照射を受ける。次いで、液晶組成物は、液晶滴下プロセスによって、第１の光配向層と第２の光配向層の間の間隙に注入され、液晶組成物に第１の光配向層と第２の光配向層の表面と直接接触させる。液晶組成物は、面内スイッチング液晶（Ｍｅｒｃｋによって製造販売される）を含み、非極性モノマーは、
2013156634.tif 000022
によって表される構造を有する。非極性モノマーは、液晶組成物の重量に基づいて、０.３ｗｔ％の重量パーセントを有する。最後に、液晶組成物は、０.５〜１８Ｊの全露光で、５〜１０ｍＷ／ｃｍ２の照度において、１００秒〜１８００秒の間、３１０〜４００ｎｍの波長を有する紫外線を受け、第１の光配向層と第２の光配向層の表面上に複数の突出を形成する。図４は、その上に複数の突出を有する光配向層の走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）写真である。
【００３１】
よって、特定の光反応性化合物層および突出の表面上に形成された突出により、本発明の液晶モジュールの配向膜は、向上された光安定性と配向力を表す。突出は、光配向膜と液晶層間のアンカリング強度を向上させることができるため、紫外線で光反応性化合物層を照射する時間が減少されることができる。また、本発明の突出は、光配向プロセスで作られた不純物から液晶層を分離することができる。
【００３２】
図５を参照すると、本発明の実施形態に基づく液晶モジュール１００を含む画像を表示する画像表示システム２００が表されている。画像表示システム２００は、例えばノート型パソコン、携帯電話、デジタルカメラ、ＰＤＡ、デスクトップパソコン、カーディスプレイ、またはポータブルＤＶＤプレーヤーなどの電子機器であることができる。画像表示システム２００の液晶モジュール１００は、入力ユニット５０に更に接続されることができる。入力ユニット５０は、液晶モジュール１００に入力を提供し、液晶モジュール１００が画像を表示するように動作する。
【００３３】
この発明は、実施例の方法及び望ましい実施の形態によって記述されているが、本発明は、これらを限定するものではないことは理解される。逆に、種々の変更及び同様の配置をカバーするものである（当業者には明白なように）。よって、添付の請求の範囲は、最も広義な解釈が与えられ、全てのこのような変更及び同様の配置を含むべきである。
【符号の説明】
【００３４】
２  液晶モジュールの領域
１１  第１基板の上面
１２  第１基板
１３  第２基板の底面
１４  第２基板
１５  第１の光配向層の上面
１６  第１の光配向層
１７  第２の光配向層の底面
１８  第２の光配向層
２０  液晶層
２２  突出
３０  面内スイッチング電極
５０  制御ユニット
１００  液晶モジュール
２００  画像表示システム
【図１】
2013156634.tif 000034
【図２】
2013156634.tif 000035
【図３】
2013156634.tif 000036
【図５】
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【図４】
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