(57)【要約】【課題】  露光ムラを低減した走査露光装置を提供する。【解決手段】  走査露光装置に使用する照明光学系は、光源から出射された光束を複数の光束に分割し、該分割された複数の光束を前記原版のパターンが形成された面と光学的に共役な位置に形成された出射面で隣接させて前記原版に向けて出射する分割部を含む。前記出射面で互いに隣接する光束は、前記原版の走査方向と交差する方向に沿って延びる間隙を介して隣接するように前記原版の上に投影される。【選択図】図１
2013143450.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
照明光学系によって照明された原版と基板とを走査しながら前記基板を露光する走査露光装置であって、
前記照明光学系は、光源から出射された光束を複数の光束に分割し、該分割された複数の光束を前記原版のパターンが形成された面と光学的に共役な位置に形成された出射面で隣接させて前記原版に向けて出射する分割部を含み、
前記出射面で互いに隣接する光束は、前記原版の走査方向と交差する方向に沿って延びる間隙を介して隣接するように前記原版の上に投影される、ことを特徴とする走査露光装置。
【請求項２】
前記間隙が延びる方向は、前記走査方向と６０°以上１２０°以下の角度をなす、ことを特徴とする請求項１に記載の走査露光装置。
【請求項３】
前記原版のパターンが形成された面と光学的に共役な位置に配置され、前記分割部により分割され前記原版の上に投影される複数の光束の形状を調整可能な開口を有する開口部材をさらに備え、
前記開口部材は、前記原版の上に投影される複数の光束を、前記間隙が延びる方向と前記間隙の両端において直交する直線によって分割した領域ごとに、前記開口の形状を調整する少なくとも３つの調整部材を含む、ことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の走査露光装置。
【請求項４】
前記原版のパターンが形成された面と光学的に共役な面の照度分布を計測する計測器をさらに備え、前記調整部材は、前記計測器の計測結果に基づいて前記照度分布を予め定められた範囲内とするように前記開口の形状を調整する、ことを特徴とする請求項３に記載の走査露光装置。
【請求項５】
前記分割部は、前記光源から出射された光束を入射面で複数の光束に分割し、前記分割された複数の光束のそれぞれを、光学的に継ぎ合された複数のライトパイプ及び偏向プリズムを含む複数の光伝達経路のそれぞれによって前記入射面から前記出射面まで伝達し、前記分割された複数の光束の集合体の前記出射面における断面形状が前記入射面における断面形状と異なる、ことを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の走査露光装置。
【請求項６】
各光伝達経路に含まれるライトパイプの総数および偏向プリズムの総数はそれぞれ、互いに等しいことを特徴とする請求項５に記載の走査露光装置。
【請求項７】
前記照明光学系は、前記複数の光源から出射された複数の光束をそれらの断面が互いに隣接するように合成する合成光学系と、前記合成光学系から出射された光束の強度分布を均一化するロッドインテグレータと、をさらに備え、
前記分割部は、前記ロッドインテグレータにより強度分布が均一化された光束を複数の光束に分割する、ことを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれか１項に記載の走査露光装置。
【請求項８】
デバイスを製造する方法であって、
請求項１乃至請求項７のいずれか１項に記載の走査露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光された基板を現像する工程と、
を含む、ことを特徴とする方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、走査露光装置及びデバイスの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
露光装置は、半導体デバイスや液晶表示装置等の製造工程であるリソグラフィ工程において、原版（レチクル、マスクともいう）のパターンを、投影光学系を介して感光性の基板（表面にレジスト層が形成されたウエハやガラスプレート等）に転写する。例えば、液晶基板にパターンを転写する投影露光装置では、近年、マスク上のより大きな面積パターンを基板上に一括転写する露光装置が求められている。
【０００３】
この要求に対応するために、高解像力が得られ、かつ、大画面を転写することができるステップ・アンド・スキャン方式の走査露光装置が提案されている。この走査露光装置は、スリット光束により照明されたパターンを、投影光学系を介してスキャン動作により基板上に転写する。このような走査露光装置として、円弧形状の光を用いて走査させる方式が存在する。この方式は、転写すべきパターンを持つ第１の物体と、転写される対象物である第２の物体との間に投影光学系が存在し、該投影光学系の特定の軸外像点のみを利用した円弧形状の露光領域で露光処理を行う。
【０００４】
第１の物体を円弧形状で照明するために、例えば、特許文献１で挙げられる照明光学系を用いることができる。この照明光学系は、光源より出射された光束の断面形状が、被照明面である第１の物体と光学的に共役な位置において矩形形状を成すように導き、矩形形状に照明した領域から円弧形状の開口部材を用いて円弧形状の照明分布を切り出すという手法を用いている。しかし、技術文献１に示す円弧切り出し方式によると、円弧開口部以外の光を露光光に用いることができない。そのため光の利用効率が低く、光源の出力を上げたとしても、照明光学系の被照明面の照度を高くすることが困難である。
【０００５】
特許文献２において、複数個のライトパイプを光学的に継ぎ合せた光伝達部を複数個用いることにより、光源より出た光束の断面形状を円弧形状に変換し、光の利用効率を上げる試みがなされている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特公平４−７８００２号公報
【特許文献２】特開平３−１７１６１４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし特許文献２に示された照明光学系には下記のような問題点がある。図１３の（Ａ）、（Ｂ）は、特許文献２に示された照明光学系で用いられている複数のライトパイプによって光を伝達する光伝達部の入射面と出射面の形状をそれぞれ表している。入射面は、図１３の（Ａ）のように、複数のライトパイプ１〜９を矩形状に集合させた形であり、出射面では、図１３の（Ｂ）のように、それぞれのライトパイプ１〜９を略円弧状に配置させている。円弧領域０内において、均一に光が照射されるのが望ましいが、実際には、各ライトパイプ１〜９間において微少の隙間が発生すると考えられるため、円弧領域０内において照度の筋ムラが発生する。
【０００８】
図１３の（Ｃ）は、図１３（Ｂ）で照明した略円弧形状のうち、円弧内に入る光の領域を示している。また、図１３の（Ｄ）はＸ位置に対するＹ方向（走査方向）の積算照度Ｉｙを表している。図１３の（Ｃ）のように、円弧内のＹ方向にそって筋状の照明されていない領域が発生するため、積算照度Ｉｙが不連続となる座標Ｘが存在する。このため、特許文献２に記載の照明光学系をステップ・アンド・スキャン方式の走査露光装置に搭載した場合、ある座標Ｘの位置で筋状の露光ムラが出るといった問題が発生する。また、ライトパイプ１〜９の境界領域において隙間がない場合でも、各ライトパイプ１〜９間で照度差（光のエネルギー密度差）があると、円弧領域０内の境界線上で急峻な照度分布が発生する。これらはまた、露光ムラを発生させる要因となりうる。
【０００９】
前述したような露光ムラを軽減するために、光伝達部の出射面に円弧状のインテグレータを配置する手法が特許文献２に記載されている。しかし、円弧状のインテグレータを用いて露光ムラをとるためには、円弧状のインテグレータを長くする必要がある。このような長い円弧状のインテグレータを製作するのは加工上困難であり、また走査露光装置の大型化を招くことになる。
【００１０】
本発明は、露光ムラを低減した走査露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、照明光学系によって照明された原版と基板とを走査しながら前記基板を露光する走査露光装置であって、前記照明光学系は、光源から出射された光束を複数の光束に分割し、該分割された複数の光束を前記原版のパターンが形成された面と光学的に共役な位置に形成された出射面で隣接させて前記原版に向けて出射する分割部を含み、前記出射面で互いに隣接する光束は、前記原版の走査方向と交差する方向に沿って延びる間隙を介して隣接するように前記原版の上に投影される、ことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、露光ムラを低減した走査露光装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】照明光学系を示した図
【図２】ロッドインテグレータを示した図
【図３】光伝達部の入射面を示した図
【図４】光伝達部の出射面を示した図
【図５】１つのライトパイプを示した図
【図６】走査方向の積算照度を示した図
【図７】本発明の効果を示した図
【図８】スリットを示した図
【図９】走査露光装置を示した図
【図１０】照度ムラセンサのスリットスキャン図
【図１１】照度ムラの補正方法を示した図
【図１２】スリット調整機構を示した図
【図１３】従来技術の光伝達部とその走査方向の積算照度を示した図
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明を実施するための形態について図面等を参照して説明する。
【００１５】
［照明光学系］
照明光学系１０の構成について説明する。本実施形態の照明光学系１０は、マスク（原版）と基板とを走査しながら基板を露光する走査露光装置に搭載されるものであり、光源からの光を照射対象物であるパターンが形成されたマスクへ導く。図１は、本実施形態に係る照明光学系１０の構成を示す概略図である。照明光学系１０は、２つの光源部５０（図には１つだけ表示）、合成光学系２１、第２ロッド光学系２３、光伝達部２５、スリット３２、第２光学系３３およびマスク３４により構成されている。各光源部５０は、光源１２、楕円ミラー１３、第１ロッド光学系１５、第１光学系１７により構成される。光源１２には、高圧水銀ランプを用いている。光源１２はキセノンランプやエキシマレーザーなどを用いることもできる。楕円ミラー１３は、光源１２から出射された光束を集光する光学系であり、楕円形状の一部を用いた形状をしている。光源１２は楕円の２つの焦点位置の一方に配置している。
【００１６】
光源１２から出射されて、楕円ミラー１３で反射した光束は、楕円のもう一方の焦点位置に集光される。本実施形態では、第１ロッド光学系１５の入射面１４が楕円のもう一方の焦点位置に配置されている。第１ロッド光学系１５は例えば、図２の(Ｃ)のような断面が六角形である六角柱のロッドインテグレータであり、合成石英等で作ることができる。第１ロッド光学系１５に入射した光束は、第１ロッド光学系１５内部を透過する間に、内壁で複数回反射して出射面３０に至る。
【００１７】
その結果、例えば入射面１４における光束の強度分布が不均一であっても、複数回反射することにより均一化され、出射面３０上では、光束は一様な強度分布になっている。第１ロッド光学系１５には六角柱ロッドの代わりに、図２(Ａ)のような断面が円形である円柱ロッド、図２(Ｂ)のように断面が四角形である四角柱ロッド、(Ｄ)のように断面が八角形である八角柱ロッドをロッドインテグレータとして用いてもよい。なお、本実施形態においては、出射面３０の近傍には開口絞りが配置されている。
【００１８】
出射面３０から出射した光束は、第１光学系１７により合成光学系２１に導かれる。第１光学系１７は、入射面が合成光学系２１の入射面の実質的なフーリエ変換面となるように配置されている。２つの光源部５０から出射し光束は２つのプリズムで構成された合成光学系２１により合成され、第３ロッド光学系２３の入射面２２に入射する。本実施形態では、合成光学系２１は２つの光束を合成するが、合成光学系２１は、３以上の複数の光束をそれらの断面が互いに隣接するように合成してもよい。
【００１９】
第２ロッド光学系２３は、例えば断面が四角形である四角柱ロッドインテグレータであり、合成石英等で作ることができる。第２ロッド光学系２３に入射した光束は、第２ロッド光学系２３内部を透過する間に、内壁で複数回反射して出射面に至る。例えば、２つの光源部５０のそれぞれから入射面２２に入射した光束の強度に差がある場合、入射面２２における光束の強度分布は不均一である。しかし、第３ロッド光学系２３内を複数回反射することにより光束の強度は均一化され、出射面上では、光束は一様な強度分布になっている。
【００２０】
第３ロッド光学系２３から出射した光束は、光伝達部２５に入射する。光伝達部２５は図３(Ａ)、(Ｂ)および図４(Ａ)、 (Ｂ)に示すように、複数のライトパイプ及び偏向プリズムを光学的に継ぎ合わせた構成をしている。図３(Ａ)の斜線模様部は入射面２４を表しており、図３(Ｂ)は光束の進行方向に見た断面図を表している。また、図４(Ａ)の斜線模様部は、原版のパターン面と光学的に共役な位置に形成された出射面３１を表しており、図４(Ｂ)は光束の進行方向に見た断面図を表している。光伝達部２５は、入射面２４で光束を複数の光束に分割し、分割された光束を出射面３１で隣接させて原版に向けて出射する分割部を構成している。
【００２１】
本実施形態では、光伝達部２５は１５個の光伝達経路からなっており、各光伝達経路の入射面１０１ａ〜１１５ａは、全体として矩形形状に配置され、出射面１０１ｂ〜１１５ｂは、全体として略円弧形状に配置されている。このように配置することにより、図３（Ａ）および図４（Ａ）の車線模様部に示されるように、分割された光束の集合体の光伝達部２５の入射面２４における断面形状と出射面３１における断面形状とは異なる。そのため、入射面１１１ａ〜１１５ａに入射した光束は、光伝達経路ごとに光伝達部２５内の異なる経路を通過し、出射面３１では入射面２４とは異なる光位置分布になる。なお、複数の光伝達経路の周りは空気が覆っており、使用する光の波長が２００ｎｍ〜５００ｎｍ、ライトパイプと偏向プリズムが石英であるとすると、入射面２４に入射する光はその入射角度にかかわらず、各光伝達経路の内壁で全反射する。
【００２２】
光伝達経路の一部にメカニックな接触が起こる可能性がある場合、ライトパイプと偏向プリズムの側面に石英よりも低い屈折率である薄膜を施すことにより、部分的に全反射を保つことが可能である。しかし、光伝達経路を構成する複数のライトパイプと偏向プリズムの透過面については、反射防止膜を付加し、ライトパイプと偏向プリズムがお互いに接触しないようにすることができる。
【００２３】
図５は、複数のライトパイプと偏向プリズムをつなぎ合わせた一つの光伝達経路６０を表しており、光伝達部２５の一部分を表現している。光束は入射面５１から光伝達経路６０に入射するとする。図５に示すようにライトパイプと偏向プリズムの間の透過面５２は接触を避けるために数十μｍ〜数百μｍほど間隙を開けている。また、反射面５３は偏向プリズムの反射面であり、反射膜を施している。薄膜面５４にはそれぞれ、ＭｇＦ２（フッ化マグネシウム）による厚みが数百ｎｍ〜数μｍ程度の薄膜が着けられている。薄膜面５４にはこのほか、ＬｉＦ（フッ化リチウム）やＣａＦ２（フッ化カルシウム）、ＡｌＦ３（フッ化アルミニウム）等のフッ化物系薄膜などを用いることができる。
【００２４】
例えば、波長３００ｎｍ〜５００ｎｍの領域ではＭｇＦ膜の屈折率は約１．４６０〜１．４７６程度である。ライトパイプおよび偏向プリズムは合成石英で、空気の屈折率を１とすると、入射面５１に約２７度以内で入射する光は、理論的に波長３００ｎｍ〜５００ｎｍにおいて全反射させることができる。光伝達部２５の出射面３１から出た光束の位置分布を均一とするために、光伝達部２５の１５個の各光伝達経路に含まれるライトパイプの総数及び偏向プリズムの総数は互いに等しくしている。そうすることで、偏向プリズムを反射する際に発生する光束のロスが同等になるからである。
【００２５】
図４(Ｂ)に示す光伝達部２５の各光伝達経路の出射面１０１ｂ〜１１５ｂは、理想的には、隣接して配置されているが、実際に光伝達部２５を保持する際に、各出射面１０１ｂ〜１１５ｂ間に間隙ができる。この場合、出射面３１の位置において筋状に照明光が抜けた領域(筋ムラ)が発生する。しかし、照明光学系１０を走査露光装置に用い、その走査方向が図４(Ｂ)の矢印の方向である場合、前述の筋ムラは走査方向と垂直になるように発生する。
【００２６】
図６（Ａ）は本実施形態の照明光学系１０で用いられている複数の光伝達経路の出射面の形状を表している。図６（Ｂ）は、図６（Ａ）で照明された略円弧形状のうち、円弧内に入る光束の領域を示している。図６（Ｃ）は走査方向（Ｙ方向）に対する積算照度Iyを表している。前記各光伝達経路の出射面が、各光伝達経路間の境界線（境界領域）が走査方向と垂直になるように配置されているので、積算照度Iyが不連続となる座標Ｘが存在することはない。
【００２７】
図７（Ａ）〜（Ｄ）を使ってその詳細を説明する。図７（Ａ）は光伝達部２５の出射面が、各光伝達経路間の境界線（境界領域）が走査方向と平行になるように配置されている場合を表している。各光伝達経路の出射面における照度はそれぞれＩ(１) 、Ｉ(２)、 Ｉ(３)、・・・である。また、光伝達経路間の境界線位置をＸ１、Ｘ２、・・・とし、各Ｘ座標における照射範囲のＹ方向の長さをＬとする。このとき、Ｙ方向の積算照度は図７（Ｂ）によって表され、Ｘ１、Ｘ２位置にてＩｙの不連続点が発生する。また、Ｘ１位置前後においてＩｙ=ＬＩ(１)からＩｙ=ＬＩ(２)に、Ｘ２位置前後においてＩｙ=ＬＩ(２)からＩｙ=ＬＩ(３)にＩｙの飛びがみられる。
【００２８】
一方、図７（Ｃ）は光伝達部２５の出射面が、各光伝達経路間の境界線（境界領域）が走査方向と垂直になるように配置されている場合を表している。各光伝達経路の出射面における照度はそれぞれＩ(１)、 Ｉ(２)、 Ｉ(３)、・・・ であり、また図７（Ｃ）のようにＸ３、Ｘ４、Ｘ５、・・・をとる。なお各伝達部のＹ方向の長さをＬとする。このとき、Ｙ方向の積算照度は図７（Ｄ）によって表される。図７（Ｃ）において、Ｘ＝０のときはＩｙ＝ＬＩ（１）である。０≦Ｘ≦Ｘ３においては、照度がＩ（１）である領域が連続的に減少し、Ｉ（２）である領域が連続的に増加するので、ＩｙはＬＩ（１）からＬＩ（２）に連続的に変化する。Ｘ３≦Ｘ≦Ｘ４においては、Ｉｙ＝ＬＩ（２）である。Ｘ４≦Ｘ≦Ｘ５においては、照度がＩ（２）である領域が連続的に減少し、Ｉ（３）である領域が連続的に増加するので、ＩｙはＬＩ（２）からＬＩ（３）に連続的に変化する。また、Ｘ４≦Ｘ≦Ｘ５においては、Ｉｙ＝ＬＩ（３）である。
【００２９】
このように、図７（Ｂ）に比べて、図７（Ｄ）においては、Ｉｙが不連続になるＸ座標がなく、また、Ｉｙの飛びが見られない。前述の説明を踏まえると、図６（Ｃ）において、Ｉｙが不連続となるＸ座標が存在しないことが理解できる。よって本実施形態の照明光学系１０を用いることにより、露光ムラが低減されて良好な露光性能を達成できうる走査露光装置を構成することができる。
【００３０】
なお、これまで本実施形態で特に言及していない光学素子の透過面には反射防止膜が、ミラーには反射膜が付けられている。また、本実施形態では、図８(Ａ)に示すような円弧形状の開口（透過部）を有する開口部材（スリット）３２を出射面３１付近に配置している。図８(Ａ)のように、スリット３２は円弧形状の透過部９１と遮光部９２を有する。スリット３２は、場所ごとに透過部９１の幅を調整可能である。透過部９１を通過した光束を用いて、スリット３２の位置と共役な位置であるマスク３４上の円弧領域を照明することができる。
【００３１】
被照明面を照明する照明領域が円弧形状の場合について説明をしたが、特に照明領域は円弧領域に限定されない。例えば、矩形領域を照明する場合は図８(Ｂ)のような矩形上の透過部を持ったスリットを用いることができる。また、光源１２は３つ以上であってもよい。ただし、光源１２が１つの場合、本実施形態で用いた第１ロッド光学系１５は、省略してもよい。本実施形態では、各光伝達経路間の境界領域における筋ムラの原因となる光束間の間隙が延びる方向は、原版の走査方向と直交している。しかし、直交に限らず、筋ムラが生じないように原版の走査方向と交差する方向に沿って間隙が延びていればよい。また、光束間の間隙が延びる方向が、原版の走査方向と６０°以上１２０°以下の角度をなして交差する状態であれば、筋ムラを充分に低減することができる。
【００３２】
［走査露光装置］
図９を用いて、走査露光装置の一例を説明する。走査露光装置４００は、照明光学系１０と、原版ステージ３００と、基板ステージ３０２と、原版３４のパターンを基板の上に投影する投影光学系３０１、照度ムラセンサ３０４を備え、原版と基板とを同期走査させることで基板を露光する。原版ステージ３００は原版を保持する。基板ステージ３０２は基板を保持する。投影光学系３０１は、例えば、物体面から像面に至る光路において、第一凹反射面、凸反射面、第二凹反射面が順に配列された投影光学系でありうる。照度ムラセンサ３０４は、照度分布を計測する計測器である。
【００３３】
照明光学系１０のスリット３２は円弧形状の開口を持ち、円弧位置ごとにスリットの幅を変えることができるような構造をしている。照度ムラセンサ３０４は、図９のように、スリット３０３と複数の光学素子とセンサ３０５により構成されている。図１０のように基板ステージ３０２に結像する光の領域４０１に対し、スリット３０３をスキャンさせる。このとき、領域４０１に結像する光のうち、スリット３０３の開口部３０６に結像した光のみが、照度ムラセンサ３０４内に入射する。照度ムラセンサ３０４内に入射した光は複数の光学素子によりセンサ３０５に導かれ、センサ３０５に到達する。スリット３０３を図１０の矢印の方向にスキャンさせながら、センサ３０５に到達する光のエネルギーを読み取ることで、領域４０１内の場所ごとの照度を計測でき、照度ムラを算出することができる。
【００３４】
照度ムラセンサ３０４の計測結果に基づいてスリット３２の開口の形状を調整することで、照度ムラを低減することができる。例えば、照度ムラセンサ３０４により、図１１の(Ａ)のように、円弧の中心では照度が高く、円弧の外側に向けて照度が低くなっているような照度ムラを計測したとする。この場合、図１１の(Ｂ)のように、円弧の中心に比べて円弧の外側に向けて、スリット３２の開口幅を広げることで、照度ムラセンサ３０４のセンサ３０５に入射する光の照度を円弧の場所に依らず、一定値にすることができる。図１２の符号１６０および１６１で表される矢印はスリット３２の開口幅を調整する調整部材が設置される箇所を表す。図１２では、原版の上に投影される光束の間隙の両端Ｘ４、Ｘ５において、間隙が延びる方向と直交する直線によって分割した領域（Ｘ４−Ｘ５間）毎に少なくとも３つの調整部材を設けることで、図６（Ｃ）に示されるブロードな照度ムラを補正することができる。
【００３５】
［デバイス製造方法］
次に、デバイス（半導体デバイス、液晶表示デバイス等）の製造方法について説明する。半導体デバイスは、ウエハに集積回路を作る前工程と、前工程で作られたウエハ上の集積回路チップを製品として完成させる後工程を経ることにより製造される。前工程は、前述の走査露光装置を使用して感光剤が塗布されたウエハを露光する工程と、ウエハを現像する工程を含む。後工程は、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）と、パッケージング工程（封入）を含む。液晶表示デバイスは、透明電極を形成する工程を経ることにより製造される。透明電極を形成する工程は、透明導電膜が蒸着されたガラス基板に感光剤を塗布する工程と、前述の走査露光装置を使用して感光剤が塗布されたガラス基板を露光する工程と、ガラス基板を現像する工程を含む。本実施形態のデバイス製造方法によれば、従来よりも高品位のデバイスを製造することができる。
【００３６】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。
【図１】
2013143450.tif 000003
【図２】
2013143450.tif 000004
【図３】
2013143450.tif 000005
【図４】
2013143450.tif 000006
【図５】
2013143450.tif 000007
【図６】
2013143450.tif 000008
【図７】
2013143450.tif 000009
【図８】
2013143450.tif 000010
【図９】
2013143450.tif 000011
【図１０】
2013143450.tif 000012
【図１１】
2013143450.tif 000013
【図１２】
2013143450.tif 000014
【図１３】
2013143450.tif 000015