(57)【要約】【課題】排ガス浄化性能の向上を図ることができる排ガス浄化システムを提供すること。【解決手段】排ガス浄化システム１に、排ガスが内部を通過する排気管２と、排気管２内に配置される排ガス浄化用触媒３と、排ガス浄化用触媒３に対して、排ガス通過方向において上流側に配置される第１電極４と、排ガス浄化用触媒３に対して、排ガス通過方向において下流側に配置される第２電極５と、第１電極４および第２電極５に接続され、第１電極４および第２電極５に対して、第１電極４が正極となり、第２電極５が負極となるように電圧を印加する直流電源６とを備える。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
排ガスが内部を通過する排気管と、
前記排気管内に配置される排ガス浄化用触媒と、
前記排ガス浄化用触媒に対して、排ガス通過方向において上流側に配置される第１電極と、
前記排ガス浄化用触媒に対して、排ガス通過方向において下流側に配置される第２電極と、
前記第１電極および前記第２電極に接続され、前記第１電極および前記第２電極に対して、前記第１電極が正極となり、前記第２電極が負極となるように電圧を印加する直流電源と
を備えることを特徴とする、排ガス浄化システム。
【請求項２】
前記排ガスが、窒素酸化物を含有し、
前記排ガス浄化用触媒が、窒素酸化物を浄化することを特徴とする、請求項１に記載の排ガス浄化システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、排ガス浄化システムに関し、詳しくは、内燃機関から排出される排気ガス中に含まれる一酸化炭素（ＣＯ）、炭化水素（ＨＣ）および窒素酸化物（ＮＯｘ）、とりわけ、窒素酸化物（ＮＯｘ）を効率よく浄化するための排ガス浄化システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
自動車などの内燃機関から排出される排気ガスには、炭化水素（ＨＣ）、窒素酸化物（ＮＯｘ）、および一酸化炭素（ＣＯ）などが含まれており、これらを浄化するための排ガス浄化用触媒が知られている。
【０００３】
また、このような排ガス浄化用触媒による排気ガスの浄化においては、例えば、電極と触媒コンテナとの間に、交流電源により電圧を印加し、形成された電場内に触媒を配置することにより、排気ガスの浄化を促進させる方法が、知られている（例えば、特許文献１参照。）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】実開昭６２−２７７２３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１に記載の方法では、触媒の浄化性能の向上が、いまだ十分ではなく、そのため、より一層、触媒の浄化性能の向上を図ることが求められている。
【０００６】
本発明の目的は、排ガス浄化性能の向上を図ることができる排ガス浄化システムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明の排ガス浄化システムは、排ガスが内部を通過する排気管と、前記排気管内に配置される排ガス浄化用触媒と、前記排ガス浄化用触媒に対して、排ガス通過方向において上流側に配置される第１電極と、前記排ガス浄化用触媒に対して、排ガス通過方向において下流側に配置される第２電極と、前記第１電極および前記第２電極に接続され、前記第１電極および前記第２電極に対して、前記第１電極が正極となり、前記第２電極が負極となるように電圧を印加する直流電源とを備えることを特徴と
している。
【０００８】
また、本発明の排ガス浄化システムでは、前記排ガスが、窒素酸化物を含有し、前記排ガス浄化用触媒が、窒素酸化物を浄化することが好適である。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の排ガス浄化システムでは、排ガス浄化用触媒に対して、排ガス通過方向において上流側に配置される第１電極が正極となり、排ガス通過方向において下流側に配置される第２電極が負極となるように電圧が印加されるので、より効率的に排ガス浄化性能の向上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の排ガス浄化システムの一実施形態を示す概略構成図である。
【図２】電場中にない金属薄膜の価電子の表面計算モデル図、および、金属薄膜のポテンシャルエネルギーを示すグラフである。
【図３】電場中にある金属薄膜の価電子の表面計算モデル図、および、金属薄膜のポテンシャルエネルギーを示すグラフである。
【図４】本発明の排ガス浄化システムの一実施形態が採用される車両を示す概略構成図である。
【図５】実施例１および比較例１における排ガス浄化用触媒の浄化率向上代（％）を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
図１は、本発明の排ガス浄化システムの一実施形態を示す概略構成図である。
【００１２】
図１において、排ガス浄化システム１は、排ガスが内部を通過する排気管２と、その排気管２内に配置される排ガス浄化用触媒３、第１電極４および第２電極５と、その第１電極４および第２電極５に接続される直流電源６とを備えている。
【００１３】
排気管２は、特に制限されないが、ラボスケールでは、例えば、石英などから形成される円筒形状（例えば、内径４〜１２ｍｍ）の放電管であって、その長手方向途中において互いに間隔を隔てて径方向に分岐する排ガス導入管２ａおよび排ガス排出口２ｂを備えている。
【００１４】
また、排気管２は、その長手方向が鉛直方向に沿うように、配置されている。
【００１５】
排ガス浄化用触媒３としては、例えば、セリウム系酸化物、プラセオジム系酸化物、テルビウム系酸化物、ペロブスカイト型複合酸化物などが挙げられる。
【００１６】
セリウム系酸化物としては、例えば、酸化セリウム（ＣｅＯ２）や、例えば、下記一般式（１）で表されるセリウム系複合酸化物が挙げられる。
【００１７】
Ｃｅ１-（ａ+ｂ）ＺｒａＬｂＯ２−ｃ      （１）
（式中、Ｌは、アルカリ土類金属および／または希土類元素（ただし、Ｃｅを除く。）を示し、ａは、Ｚｒの原子割合を示し、ｂは、Ｌの原子割合を示し、１−（ａ＋ｂ）は、Ｃｅの原子割合を示し、ｃは、酸素欠陥量を示す。）
一般式（１）において、Ｌで示されるアルカリ土類金属としては、例えば、Ｂｅ（ベリリウム）、Ｍｇ（マグネシウム）、Ｃａ（カルシウム）、Ｓｒ（ストロンチウム）、Ｂａ（バリウム）、Ｒａ（ラジウム）などが挙げられる。また、Ｌで示される希土類元素としては、例えば、Ｓｃ（スカンジウム）、Ｙ（イットリウム）、Ｌａ（ランタン）、Ｃｅ（セリウム）、Ｐｒ（プラセオジム）、Ｎｄ（ネオジム）、Ｐｍ（プロメチウム）、Ｓｍ（サマリウム）、Ｅｕ（ユーロピウム）、Ｇｄ（ガドリニウム）、Ｔｂ（テルビウム）、Ｄｙ（ジスプロシウム）、Ｈｏ（ホルミウム）、Ｅｒ（エルビウム）、Ｔｍ（ツリウム）、Ｙｂ（イッテルビウム）、Ｌｕ（ルテチウム）などが挙げられる。これらアルカリ土類金属および希土類元素は、単独で用いてもよく、また、２種以上併用してもよい。好ましくは、希土類元素、より好ましくは、Ｙ（イットリウム）が挙げられる。
【００１８】
また、ａで示されるＺｒの原子割合は、０．２〜０．７の範囲である。
【００１９】
また、ｂで示されるＬの原子割合は０〜０．３の範囲である（すなわち、Ｌは必須成分ではなく任意的に含まれる任意成分であり、含まれる場合には、０．３以下の原子割合である）。０．３を超えると、相分離や他の複合酸化物相を生成する場合がある。
【００２０】
また、１−（ａ＋ｂ）で示されるＣｅの原子割合は、０．２〜０．９の範囲である。
【００２１】
さらに、ｃは酸素欠陥量を示し、これは、Ｃｅ、ＺｒおよびＬの酸化物が形成する蛍石型の結晶格子において、その結晶格子にできる空孔の割合を意味する。
【００２２】
このようなセリウム系複合酸化物は、特に制限されることなく、例えば、特開２００４−２４３３０５号の段落番号〔００９０〕〜〔０１０２〕の記載に準拠して、複合酸化物を調製するための適宜の方法、例えば、共沈法、クエン酸錯体法、アルコキシド法などの製造方法によって、製造することができる。
【００２３】
プラセオジム系酸化物としては、例えば、酸化プラセオジム（Ｐｒ６Ｏ１１）や、例えば、下記一般式（２）で表されるプラセオジム系複合酸化物が挙げられる。
【００２４】
Ｐｒ１−（ｄ＋ｅ）ＺｒｄＬｅＯ２−ｆ      （２）
（式中、Ｌは、アルカリ土類金属および／または希土類元素（ただし、Ｃｅを除く。）を示し、ｄは、Ｚｒの原子割合を示し、ｅは、Ｌの原子割合を示し、１−（ｄ＋ｅ）は、Ｐｒの原子割合を示し、ｆは、酸素欠陥量を示す。）
一般式（２）において、Ｌで示されるアルカリ土類金属としては、一般式（１）で示したアルカリ土類金属が挙げられる。また、Ｌで示される希土類元素としては、一般式（１）で示した希土類金属が挙げられる。これらアルカリ土類金属および希土類元素は、単独で用いてもよく、また、２種以上併用してもよい。
【００２５】
また、ｄで示されるＺｒの原子割合は、０．２〜０．７の範囲である。
【００２６】
また、ｅで示されるＬの原子割合は、０〜０．３の範囲である（すなわち、Ｌは必須成分ではなく任意的に含まれる任意成分であり、含まれる場合には、０．３以下の原子割合である）。０．３を超えると、相分離や他の複合酸化物相を生成する場合がある。
【００２７】
また、１−（ｄ＋ｅ）で示されるＰｒの原子割合は、０．３〜０．９の範囲である。
【００２８】
さらに、ｆは酸素欠陥量を示し、これは、Ｐｒ、ＺｒおよびＬの酸化物が形成する蛍石型の結晶格子において、その結晶格子にできる空孔の割合を意味する。
【００２９】
このようなプラセオジム系複合酸化物は、上記したセリウム系複合酸化物の製造方法と同様の製造方法によって、製造することができる。
【００３０】
テルビウム系酸化物としては、例えば、酸化テルビウム（Ｔｂ２Ｏ３）や、例えば、下記一般式（３）で表されるテルビウム系複合酸化物が挙げられる。
【００３１】
Ｔｂ１−（ｇ＋ｈ）ＺｒｇＬｈＯ２−ｉ      （３）
（式中、Ｌは、アルカリ土類金属および／または希土類元素（ただし、Ｃｅを除く。）を示し、ｇは、Ｚｒの原子割合を示し、ｈは、Ｌの原子割合を示し、１−（ｇ＋ｈ）は、Ｔｂの原子割合を示し、ｉは、酸素欠陥量を示す。）
一般式（３）において、Ｌで示されるアルカリ土類金属としては、一般式（１）で示したアルカリ土類金属が挙げられる。また、Ｌで示される希土類元素としては、一般式（１）で示した希土類金属が挙げられる。これらアルカリ土類金属および希土類元素は、単独で用いてもよく、また、２種以上併用してもよい。
【００３２】
また、ｇで示されるＺｒの原子割合は、０．２〜０．７の範囲である。
【００３３】
また、ｈで示されるＬの原子割合は、０〜０．３の範囲である（すなわち、Ｌは必須成分ではなく任意的に含まれる任意成分であり、含まれる場合には、０．３以下の原子割合である）。０．３を超えると、相分離や他の複合酸化物相を生成する場合がある。
【００３４】
また、１−（ｇ＋ｈ）で示されるＴｂの原子割合は、０．３〜０．９の範囲である。
【００３５】
さらに、ｉは酸素欠陥量を示し、これは、Ｔｂ、ＺｒおよびＬの酸化物が形成する蛍石型の結晶格子において、その結晶格子にできる空孔の割合を意味する。
【００３６】
このようなテルビウム系複合酸化物は、上記したセリウム系複合酸化物の製造方法と同様の製造方法によって、製造することができる。
【００３７】
ペロブスカイト型複合酸化物は、下記一般式（４）で示される。
【００３８】
ＡＢＯ３      （４）
（式中、Ａは、Ｌａ、Ｓｒ、Ｂａ、ＣｅおよびＰｒから選ばれる少なくとも１種の元素を示し、Ｂは、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｍｎ、ＮｉおよびＴｉから選ばれる少なくとも１種の元素を示す。）
一般式（４）において、Ａで示される元素としては、Ｌａ（ランタン）、Ｓｒ（ストロンチウム）、Ｂａ（バリウム）、Ｃｅ（セリウム）およびＰｒ（プラセオジム）が挙げられる。これら元素は、単独で用いてもよく、また、２種以上併用してもよい。
【００３９】
一般式（４）において、Ｂで示される元素としては、Ｐｔ（白金）、Ｐｄ（パラジウム）、Ｒｈ（ロジウム）、Ｆｅ（鉄）、Ｃｏ（コバルト）、Ｃｕ（銅）、Ｍｎ（マンガン）、Ｎｉ（ニッケル）およびＴｉ（チタン）が挙げられる。これらは、単独で用いてもよく、また、２種以上併用してもよい。
【００４０】
このようなペロブスカイト型複合酸化物は、特に制限されることなく、例えば、特開２００４−２４３３０５号の段落番号〔００３９〕〜〔００５９〕の記載に準拠して、複合酸化物を調製するための適宜の方法、例えば、共沈法、クエン酸錯体法、アルコキシド法などの製造方法によって、製造することができる。
【００４１】
なお、Ｂで示される元素として、後述する遷移金属が選択される場合には、そのペロブスカイト型複合酸化物は、組成として遷移金属を含有するペロブスカイト型複合酸化物（後述）であるとされる。
【００４２】
また、排ガス浄化用触媒３は、さらに、遷移金属を含むことができる。
【００４３】
遷移金属としては、例えば、Ｐｔ（白金）、パラジウム（Ｐｄ）、Ｒｈ（ロジウム）などの貴金属や、例えば、Ｃｕ（銅）、Ｆｅ（鉄）、Ｃｏ（コバルト）、Ｎｉ（ニッケル）、Ｍｎ（マンガン）、Ａｇ（銀）などの貴金属以外の金属が挙げられる。
【００４４】
これら遷移金属は、単独使用または２種類以上併用することができる。
【００４５】
排ガス浄化用触媒３が、遷移金属を含んでいれば、優れた排ガス浄化性能を確保することができる。
【００４６】
遷移金属を含む排ガス浄化用触媒３としては、例えば、遷移金属を担持および／または組成として含有する排ガス浄化用触媒３が挙げられ、具体的には、遷移金属を担持および／または組成として含有する、セリウム系酸化物、プラセオジム系酸化物、テルビウム系酸化物、ペロブスカイト型複合酸化物などが挙げられる。
【００４７】
遷移金属を担持するセリウム系酸化物としては、例えば、下記一般式（５）で示される遷移金属を担持する酸化セリウムや、下記一般式（５’）で示される遷移金属を担持するセリウム系複合酸化物が挙げられる。
【００４８】
Ｎ／ＣｅＯ２      （５）
（式中、Ｎは、遷移金属を示す。）
Ｎ／Ｃｅ１-（ａ+ｂ）ＺｒａＬｂＯ２−ｃ      （５’）
（式中、Ｌは、アルカリ土類金属および／または希土類元素（ただし、Ｃｅを除く。）を示し、Ｎは、遷移金属を示し、ａは、Ｚｒの原子割合を示し、ｂは、Ｌの原子割合を示し、１−（ａ＋ｂ）は、Ｃｅの原子割合を示し、ｃは、酸素欠陥量を示す。）
このような、遷移金属が担持されたセリウム系酸化物は、例えば、酸化セリウムや、上記の方法により製造された一般式（１）で示されるセリウム系複合酸化物に、特開２００４−２４３３０５号の段落番号〔０１２２〕、〔０１２５〕の記載に準拠して、遷移金属を担持することによって、製造することができる。
【００４９】
このようにして得られるセリウム系酸化物の遷移金属の担持量は、例えば、セリウム系酸化物１００質量部に対して、通常０．０１〜１０質量部である。
【００５０】
一方、遷移金属が組成として含有されたセリウム系酸化物としては、下記一般式（６）で示される遷移金属が組成として含有されたセリウム系複合酸化物が挙げられる。
【００５１】
Ｃｅ１−（ｊ＋ｋ＋ｌ）ＺｒｊＬｋＮｌＯ２−ｍ      （６）
（式中、Ｌは、アルカリ土類金属および／または希土類元素（ただし、Ｃｅを除く。）を示し、Ｎは、遷移金属を示し、ｊは、Ｚｒの原子割合を示し、ｋは、Ｌの原子割合を示し、ｌは、Ｎの原子割合を示し、１−（ｊ＋ｋ＋ｌ）は、Ｃｅの原子割合を示し、ｍは、酸素欠陥量を示す。）
ｊで示されるＺｒの原子割合は、０．２〜０．７の範囲である。
【００５２】
また、ｋで示されるＬの原子割合は０〜０．３の範囲である（すなわち、Ｌは必須成分ではなく任意的に含まれる任意成分であり、含まれる場合には、０．３以下の原子割合である）。０．３を超えると、相分離や他の複合酸化物相を生成する場合がある。
【００５３】
また、ｌで示されるＮの原子割合は、０．００１〜０．３の範囲である。
【００５４】
また、１−（ｊ＋ｋ＋ｌ）で示されるＣｅの原子割合は、０．２〜０．９の範囲である。
【００５５】
さらに、ｍは酸素欠陥量を示し、これは、Ｃｅ、Ｚｒ、ＬおよびＮの酸化物が通常形成するホタル石型の結晶格子において、その結晶格子にできる空孔の割合を意味する。
【００５６】
このような遷移金属が組成として含有されたセリウム系複合酸化物は、例えば、上記したように、特開２００４−２４３３０５号の段落番号〔００９０〕〜〔０１０２〕の記載に準拠して得られたセリウム系複合酸化物に、遷移金属を含む塩の溶液（硝酸塩水溶液、ジニトロジアンミン硝酸溶液、塩化物水溶液など）を含浸させ、必要により乾燥させた後、例えば、３５０〜１０００℃で１〜１２時間焼成することにより、得ることができる。
【００５７】
なお、この遷移金属が組成として含有されたセリウム系複合酸化物に、さらに、上記のように遷移金属を担持させることもできる。
【００５８】
このようにして得られるセリウム系複合酸化物の遷移金属の含有量（担持された遷移金属と、組成として含有された遷移金属との合計量）は、例えば、セリウム系複合酸化物１００質量部に対して、通常０．０１〜１０質量部である。
【００５９】
遷移金属を担持するプラセオジム系酸化物としては、例えば、下記一般式（７）で示される遷移金属を担持する酸化プラセオジムや、下記一般式（７’）で示される遷移金属を担持するプラセオジム系複合酸化物が挙げられる。
【００６０】
Ｎ／Ｐｒ６Ｏ１１      （７）
（式中、Ｎは、遷移金属を示す。）
Ｎ／Ｐｒ１−（ｄ＋ｅ）ＺｒｄＬｅＯ２−ｆ      （７’）
（式中、Ｌは、アルカリ土類金属および／または希土類元素（ただし、Ｃｅを除く。）を示し、Ｎは、遷移金属を示し、ｄは、Ｚｒの原子割合を示し、ｅは、Ｌの原子割合を示し、１−（ｄ＋ｅ）は、Ｃｅの原子割合を示し、ｆは、酸素欠陥量を示す。）
このような、遷移金属が担持されたプラセオジム系酸化物は、例えば、酸化プラセオジムや、上記の方法により製造された一般式（２）で示されるプラセオジム系複合酸化物に、特開２００４−２４３３０５号の段落番号〔０１２２〕、〔０１２５〕の記載に準拠して、遷移金属を担持することによって、製造することができる。
【００６１】
このようにして得られるプラセオジム系酸化物の遷移金属の担持量は、例えば、プラセオジム系酸化物１００質量部に対して、通常０．０１〜１０質量部である。
【００６２】
一方、遷移金属が組成として含有されたプラセオジム系酸化物としては、下記一般式（８）で示される遷移金属が組成として含有されたプラセオジム系複合酸化物が挙げられる。
【００６３】
Ｐｒ１−（ｎ＋ｏ＋ｐ）ＺｒｎＬｏＮｐＯ２−ｑ      （８）
（式中、Ｌは、アルカリ土類金属および／または希土類元素（ただし、Ｃｅを除く。）を示し、Ｎは、遷移金属を示し、ｎは、Ｚｒの原子割合を示し、ｏは、Ｌの原子割合を示し、ｐは、Ｎの原子割合を示し、１−（ｎ＋ｏ＋ｐ）は、Ｐｒの原子割合を示し、ｑは、酸素欠陥量を示す。）
ｎで示されるＺｒの原子割合は、０．２〜０．７の範囲である。
【００６４】
また、ｏで示されるＬの原子割合は０〜０．３の範囲である（すなわち、Ｌは必須成分ではなく任意的に含まれる任意成分であり、含まれる場合には、０．３以下の原子割合である）。０．３を超えると、相分離や他の複合酸化物相を生成する場合がある。
【００６５】
また、ｐで示されるＮの原子割合は、０．００１〜０．３の範囲である。
【００６６】
また、１−（ｎ＋ｏ＋ｐ）で示されるＰｒの原子割合は、０．２〜０．９の範囲である。
【００６７】
さらに、ｑは酸素欠陥量を示し、これは、Ｐｒ、Ｚｒ、ＬおよびＮの酸化物が通常形成するホタル石型の結晶格子において、その結晶格子にできる空孔の割合を意味する。
【００６８】
このような遷移金属が組成として含有されたプラセオジム系複合酸化物は、例えば、上記したように得られたプラセオジム系複合酸化物に、遷移金属を含む塩の溶液（硝酸塩水溶液、ジニトロジアンミン硝酸溶液、塩化物水溶液など）を含浸させ、必要により乾燥させた後、例えば、３５０〜１０００℃で１〜１２時間焼成することにより、得ることができる。
【００６９】
なお、この遷移金属が組成として含有されたプラセオジム系複合酸化物に、さらに、上記のように遷移金属を担持させることもできる。
【００７０】
このようにして得られるプラセオジム系複合酸化物の遷移金属の含有量（担持された遷移金属と、組成として含有された遷移金属との合計量）は、例えば、プラセオジム系複合酸化物１００質量部に対して、通常０．０１〜１０質量部である。
【００７１】
遷移金属を担持するテルビウム系酸化物としては、例えば、下記一般式（９）で示される遷移金属を担持する酸化テルビウムや、下記一般式（９’）で示される遷移金属を担持するテルビウム系複合酸化物が挙げられる。
【００７２】
Ｎ／Ｔｂ２Ｏ３      （９）
（式中、Ｎは、遷移金属を示す。）
Ｎ／Ｔｂ１−（ｇ＋ｈ）ＺｒｇＬｈＯ２−ｉ      （９’）
（式中、Ｌは、アルカリ土類金属および／または希土類元素（ただし、Ｃｅを除く。）を示し、Ｎは、遷移金属を示し、ｇは、Ｚｒの原子割合を示し、ｈは、Ｌの原子割合を示し、１−（ｇ＋ｈ）は、Ｔｂの原子割合を示し、ｉは、酸素欠陥量を示す。）
このような、遷移金属が担持されたテルビウム酸化物は、例えば、酸化テルビウムや、上記の方法により製造された一般式（３）で示されるテルビウム系複合酸化物に、特開２００４−２４３３０５号の段落番号〔０１２２〕、〔０１２５〕の記載に準拠して、遷移金属を担持することによって、製造することができる。
【００７３】
このようにして得られるテルビウム系酸化物の遷移金属の担持量は、例えば、テルビウム系酸化物１００質量部に対して、通常０．０１〜１０質量部である。
【００７４】
一方、遷移金属が組成として含有されたテルビウム系酸化物としては、下記一般式（１０）で示される遷移金属が組成として含有されたテルビウム系複合酸化物が挙げられる。
【００７５】
Ｔｂ１−（ｒ＋ｓ＋ｔ）ＺｒｒＬｓＮｔＯ２−ｕ      （１０）
（式中、Ｌは、アルカリ土類金属および／または希土類元素（ただし、Ｃｅを除く。）を示し、Ｎは、遷移金属を示し、ｒは、Ｚｒの原子割合を示し、ｓは、Ｌの原子割合を示し、ｔは、Ｎの原子割合を示し、１−（ｒ＋ｓ＋ｔ）は、Ｔｂの原子割合を示し、ｕは、酸素欠陥量を示す。）
ｒで示されるＺｒの原子割合は、０．２〜０．７の範囲である。
【００７６】
また、ｓで示されるＬの原子割合は０〜０．３の範囲である（すなわち、Ｌは必須成分ではなく任意的に含まれる任意成分であり、含まれる場合には、０．３以下の原子割合である）。０．３を超えると、相分離や他の複合酸化物相を生成する場合がある。
【００７７】
また、ｔで示されるＮの原子割合は、０．００１〜０．３の範囲である。
【００７８】
また、１−（ｒ＋ｓ＋ｔ）で示されるＴｂの原子割合は、０．２〜０．９の範囲である。
【００７９】
さらに、ｕは酸素欠陥量を示し、これは、Ｔｂ、Ｚｒ、ＬおよびＮの酸化物が通常形成するホタル石型の結晶格子において、その結晶格子にできる空孔の割合を意味する。
【００８０】
このような遷移金属が組成として含有されたテルビウム系複合酸化物は、例えば、上記したように得られたテルビウム系複合酸化物に、遷移金属を含む塩の溶液（硝酸塩水溶液、ジニトロジアンミン硝酸溶液、塩化物水溶液など）を含浸させ、必要により乾燥させた後、例えば、３５０〜１０００℃で１〜１２時間焼成することにより、得ることができる。
【００８１】
なお、この遷移金属が組成として含有されたテルビウム系複合酸化物に、さらに、上記のように遷移金属を担持させることもできる。
【００８２】
このようにして得られるテルビウム系複合酸化物の遷移金属の含有量（担持された遷移金属と、組成として含有された遷移金属との合計量）は、例えば、テルビウム系複合酸化物１００質量部に対して、通常０．０１〜１０質量部である。
【００８３】
遷移金属が担持されたペロブスカイト型複合酸化物は、下記一般式（１１）で示される。
【００８４】
Ｎ／ＡＢＯ３      （１１）
（式中、Ａは、Ｌａ、Ｓｒ、Ｂａ、ＣｅおよびＰｒから選ばれる少なくとも１種の元素を示し、Ｂは、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｍｎ、ＮｉおよびＴｉから選ばれる少なくとも１種の元素を示し、Ｎは、遷移金属を示す。）
このような遷移金属が担持されたペロブスカイト型複合酸化物は、例えば、上記の方法により製造された一般式（４）で示されるペロブスカイト型複合酸化物に、特開２００４−２４３３０５号の段落番号〔００６３〕の記載に準拠して、遷移金属を担持することによって、製造することができる。
【００８５】
このようにして得られるペロブスカイト型複合酸化物の遷移金属の担持量は、例えば、ペロブスカイト型複合酸化物１００質量部に対して、通常２０質量部以下であり、好ましくは、０．２〜１０質量部である。
【００８６】
一方、遷移金属が組成として含有されたペロブスカイト型複合酸化物は、下記一般式（１２）で示される。
【００８７】
ＡＢＮＯ３      （１２）
（式中、Ａは、Ｌａ、Ｓｒ、ＢａおよびＣｅから選ばれる少なくとも１種の元素を示し、Ｂは、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｍｎ、ＮｉおよびＴｉから選ばれる少なくとも１種の元素を示し、Ｎは、遷移金属を示す。）
このような遷移金属が組成として含有されたペロブスカイト型複合酸化物は、例えば、上記したように、特開２００４−２４３３０５号の段落番号〔００３９〕〜〔００５９〕の記載に準拠して、製造することができる。
【００８８】
なお、ペロブスカイト型複合酸化物に遷移金属が組成として含有される場合には、上記式（１２）のＮで示される元素と、Ｂで示されるとが、互いに同一であってもよい。
【００８９】
そのような場合には、上記式（１２）において、ペロブスカイト型複合酸化物に組成として含有される遷移金属は、ＮまたはＢのいずれか一方で代表して表記することができる。
【００９０】
なお、この遷移金属が組成として含有されたペロブスカイト型複合酸化物に、さらに、上記のように遷移金属を担持させることもできる。
【００９１】
このようにして得られるペロブスカイト型複合酸化物の遷移金属の含有量（担持された遷移金属と、組成として含有された遷移金属との合計量）は、例えば、ペロブスカイト型複合酸化物１００質量部に対して、通常２０質量部以下であり、好ましくは、０．２〜１０質量部である。
【００９２】
これら排ガス浄化用触媒３は、単独使用または２種類以上併用することができる。
【００９３】
排ガス浄化用触媒３として、好ましくは、ペロブスカイト型複合酸化物（遷移金属を担持および／または組成として含有するペロブスカイト型複合酸化物を含む。）が挙げられる。排ガス浄化用触媒３がペロブスカイト型複合酸化物であれば、効率よく窒素酸化物（ＮＯｘ）を浄化（還元）することができる。
【００９４】
以下において、窒素酸化物（ＮＯｘ）の浄化について詳述する。
【００９５】
排ガスに含まれる窒素酸化物（ＮＯｘ）の浄化においては、通常、まず、窒素酸化物（ＮＯｘ）が排ガス浄化用触媒３に吸着され、排ガス浄化用触媒３から電子を授受するとともに窒素原子（Ｎ）と酸素原子（Ｏ）に解離される（解離吸着段階）。
【００９６】
その後、窒素原子（Ｎ）は、排ガス浄化用触媒３上で互いに結合して窒素ガス（Ｎ２）として無害化および放出され、また、酸素原子（Ｏ）は、排ガス浄化用触媒３上で互いに結合して酸素ガス（Ｏ２）として無害化および放出される（結合−脱離段階）。
【００９７】
そして、このような窒素酸化物（ＮＯｘ）の浄化では、上記の解離吸着段階が、律速段階とされる。
【００９８】
つまり、窒素酸化物（ＮＯｘ）の解離および吸着状態が安定であり、また、その状態になるための活性化障壁（エネルギー障壁）が低く、さらに、窒素原子（Ｎ）と酸素原子（Ｏ）とに電子を供与しやすい排ガス浄化用触媒３を用いれば、窒素酸化物（ＮＯｘ）を効率よく浄化できる。
【００９９】
窒素酸化物（ＮＯｘ）の解離吸着状態における安定性は、窒素酸化物（ＮＯｘ）が吸着し、窒素原子（Ｎ）と酸素原子（Ｏ）とに解離したエネルギー（以下、解離吸着エネルギーと称する。）を、第一原理計算（参考文献：笠井秀明、吉田博、赤井久純（編集）、「計算機マテリアルデザイン入門（大阪大学新世紀レクチャー）」、大阪大学出版会、２００５年１０月２０日発行、第１５６頁〜第１７３頁）により算出することにより、確認することができる。
【０１００】
また、その状態になるための活性化障壁、さらに、窒素原子（Ｎ）と酸素原子（Ｏ）とに供与する電子の量も、上記と同様、第一原理計算により算出することができる。
【０１０１】
より具体的には、一般に、解離吸着エネルギーが低く、また、活性化障壁が低く、さらには、窒素原子（Ｎ）と酸素原子（Ｏ）とに供与する電子の量が多い排ガス浄化用触媒３は、窒素酸化物（ＮＯｘ）を解離および吸着させやすいため、効率的に窒素酸化物（ＮＯｘ）を浄化（還元）することができる。
【０１０２】
第１電極４および第２電極５は、排ガス浄化用触媒３に電圧を印加するために備えられる電極であって、それらの間に排ガス浄化用触媒３を介在させるように、排気管２の排ガス導入管２ａおよび排ガス排出口２ｂの間において、鉛直方向に沿って（排気管２の長手方向に沿って）対向配置されている。
【０１０３】
また、第１電極４は、排気管２内において、排ガス浄化用触媒３に対して、排ガス通過方向において上流側に配置されており、第２電極５は、排気管２内において、排ガス浄化用触媒３に対して、排ガス通過方向において下流側に配置されている。詳しくは、第２電極５表面に排ガス浄化用触媒３が載置され、その排ガス浄化用触媒３から離間するように、第１電極４が配置されている。
【０１０４】
排ガス浄化用触媒３と第１電極４との距離は、特に制限されないが、例えば、０ｍｍを超過し６ｍｍ以下、好ましくは、０ｍｍを超過し３ｍｍ以下である。
【０１０５】
直流電源６は、導線７を備えており、導線７を介して第１電極４および第２電極５に電気的に接続されている。直流電源６は、詳しくは後述するが、第１電極４および第２電極５に対して、第１電極４が正極となり、第２電極５が負極となるように電圧を印加する。
【０１０６】
次いで、このような排ガス浄化システム１を用いた排ガス浄化方法について、詳述する。
【０１０７】
この方法では、まず、排ガス導入管２ａから排ガスを導入し、排気管２内を通過させるとともに、排ガス排出口２ｂから排出させる。
【０１０８】
排ガスは、例えば、窒素酸化物（ＮＯｘ）を含むガスであって、具体的には、自動車エンジンなどの内燃機関から排出される排ガスなど、一酸化炭素（ＣＯ）、炭化水素（ＨＣ）および窒素酸化物（ＮＯｘ）を含有する排ガスが挙げられる。
【０１０９】
また、この方法では、排ガスの導入とともに、直流電源６を稼働させ、第１電極４が正極となり、第２電極５が負極となるように、第１電極４および第２電極５に対して電圧を印加する。
【０１１０】
印加電圧は、例えば、電圧が、例えば、０．１〜１０００Ｖ、好ましくは、０．１〜５００Ｖ、電流が、例えば、０．１〜１００ｍＡ、好ましくは、０．１〜６０ｍＡ、また、このときの消費電力は、例えば、０．１〜１００Ｗ、好ましくは、０．１〜１０Ｗである。
【０１１１】
このような電圧の印加により、排ガス浄化システム１では、排ガス通過方向上流側から下流側に向かって、正極、排ガス浄化用触媒３、負極の順に配置される。
【０１１２】
このとき、第１電極４および第２電極５の間には電場が生じ、その第１電極４および第２電極５に介在される排ガス浄化用触媒３において、電子に偏りが生じる。
【０１１３】
すなわち、電場中に排ガス浄化用触媒３を配置すると、正極側に電子が引き寄せられ、正極側の表面が電子リッチ（電子過剰）状態とされ、負極側の表面が電子プア（電子不足）状態とされる。
【０１１４】
なお、このような電子の偏りは、価電子数の計算により確認される。
【０１１５】
図２は、電場中にない金属薄膜の価電子の表面計算モデル図、および、金属薄膜のポテンシャルエネルギー（電位）を示すグラフである。また、図３は、電場中にある金属薄膜の価電子の表面計算モデル図、および、金属薄膜のポテンシャルエネルギー（電位）を示すグラフである。
【０１１６】
電子の偏りを確認するため、図２および図３に示すように、一例として白金薄膜を用いて、その薄膜中の価電子数を計算する。なお、詳述しないが、以下の計算による電子の偏りは、白金以外の原子についても同様に確認することができる。
【０１１７】
具体的には、図２に示す５層の白金からなる金属薄膜の、各層における価電子数を、電場内に配置しない状態で、以下の参考文献に基づいた計算により求めると、図２に示す通りとなる。
【０１１８】
また、例えば、図３に示す５層の白金からなる金属薄膜の、各層における価電子数を、＋０．０５Ｖ／Åの電場内に配置した状態で、以下の参考文献に基づいた計算により求めると、図３に示す通りとなる。
【０１１９】
なお、図２および図３において、金属薄膜の前後は真空相であるとする。
＜参考文献＞
Ｂａｄｅｒ  ｃｈａｒｇｅ  ｄｅｎｓｉｔｙ  ａｎａｌｙｓｉｓ
（１）Ｗ．  Ｔａｎｇ，  Ｅ．  Ｓａｎｖｉｌｌｅ，  ａｎｄ  Ｇ．  Ｈｅｎｋｅｌｍａｎ  Ａ  ｇｒｉｄ−ｂａｓｅｄ  Ｂａｄｅｒ  ａｎａｌｙｓｉｓ  ａｌｇｏｒｉｔｈｍ  ｗｉｔｈｏｕｔ  ｌａｔｔｉｃｅ  ｂｉａｓ，  Ｊ．  Ｐｈｙｓ．：  Ｃｏｎｄｅｎｓ．  Ｍａｔｔｅｒ  ２１，  ０８４２０４  （２００９）．
（２）Ｅ．  Ｓａｎｖｉｌｌｅ，  Ｓ．  Ｄ．  Ｋｅｎｎｙ，  Ｒ．  Ｓｍｉｔｈ，  ａｎｄ  Ｇ．  Ｈｅｎｋｅｌｍａｎ  Ａｎ  ｉｍｐｒｏｖｅｄ  ｇｒｉｄ−ｂａｓｅｄ  ａｌｇｏｒｉｔｈｍ  ｆｏｒ  Ｂａｄｅｒ  ｃｈａｒｇｅ  ａｌｌｏｃａｔｉｏｎ，  Ｊ．  Ｃｏｍｐ．  Ｃｈｅｍ．  ２８，  ８９９−９０８  （２００７）．
（３）Ｇ．  Ｈｅｎｋｅｌｍａｎ，  Ａ．  Ａｒｎａｌｄｓｓｏｎ，  ａｎｄ  Ｈ．  Ｊｏｎｓｓｏｎ，  Ａ  ｆａｓｔ  ａｎｄ  ｒｏｂｕｓｔ  ａｌｇｏｒｉｔｈｍ  ｆｏｒ  Ｂａｄｅｒ  ｄｅｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎ  ｏｆ  ｃｈａｒｇｅ  ｄｅｎｓｉｔｙ，  Ｃｏｍｐｕｔ．  Ｍａｔｅｒ．  Ｓｃｉ．  ３６，  ２５４−３６０  （２００６）．
図２および図３が参照されるように、金属薄膜を電場内に配置すると、その価電子が、正極側に偏在する。すなわち、正極側表面が電子リッチ状態となり、負極側表面が電子プア状態となると確認される。
【０１２０】
そして、上記の金属薄膜に代えて排ガス浄化用触媒３を電場内に配置すると、上記と同様に正極側表面が電子リッチ状態となり、その結果、排ガス浄化用触媒３は、窒素原子（Ｎ）および酸素原子（Ｏ）に電子を供与しやすくなる。すなわち、上記した解離吸着を促進することができる。
【０１２１】
なお、このような解離および吸着の促進は、解離吸着エネルギーおよび価電子数の計算により確認される。
【０１２２】
すなわち、例えば、＋０．０５Ｖ／Å、０．００Ｖ／Åおよび−０．０５Ｖ／Åのそれぞれの電場内に白金を配置した場合における、一方側表面（電場を＋０．０５Ｖ／Åとした場合の正極側表面）の窒素酸化物の解離吸着エネルギー、窒素原子の価電子数、および、酸素原子の価電子数を、以下の参考文献に基づいて算出すると、表１に示す通りとなる。
＜参考文献＞
（１）Ｆｅｉｂｅｌｍａｎ，  Ｐ．  Ｊ．  Ｐｈｙｓ．  ＲｅＶ．  Ｂ  ２００１，  ６４１２．
（２）Ｐ．  Ｄｅｓｈｌａｈｒａ，  Ｅ．  Ｅ．  Ｗｏｌｆ  ａｎｄ  Ｗ．  Ｆ．  Ｓｃｈｎｅｉｄｅｒ，  Ｊ．  Ｐｈｙｓ．  Ｃｈｅｍ．  Ａ，  Ｖｏｌ．  １１３，  Ｎｏ．  １６，  ２００９  ４１３３
（３）Ｌ．  Ｂｅｎｇｔｓｓｏｎ，  Ｐｈｙｓ．  Ｒｅｖ．  Ｂ，  ５９  （１９９９）  １２３０１．
【０１２３】
【表１】
2013209921.tif 000003
表１に示されるように、電場を＋０．０５Ｖ／Åとした場合の一方側表面（正極側表面）では、その他の場合に比べ、解離吸着エネルギーが低く、また、窒素原子（Ｎ）と酸素原子（Ｏ）の価電子数が多い。
【０１２４】
つまり、電場を＋０．０５Ｖ／Åとした場合の正極側表面では、窒素酸化物（ＮＯｘ）を解離吸着させやすく、そのため、より効率的に窒素酸化物（ＮＯｘ）を浄化（還元）することができると確認される。
【０１２５】
以上述べたように、排ガス浄化用触媒３を電場内に配置すると、排ガス浄化用触媒３の電子に偏りが生じ、正極側表面が電子リッチ状態となる。そして、電子リッチ状態となった正極側表面において、より効率的に窒素酸化物（ＮＯｘ）を浄化（還元）することができる（活性補助効果）。
【０１２６】
そして、上記の排ガス浄化システム１では、排ガス浄化用触媒３に対して、排ガス通過方向において上流側に配置される第１電極４が正極となり、排ガス通過方向において下流側に配置される第２電極５が負極となるように電圧が印加される。
【０１２７】
そのため、このような排ガス浄化システム１では、排ガス浄化用触媒３と排ガスとの接触初期段階から、効率的に窒素酸化物（ＮＯｘ）を浄化することができ、より効率的に排ガス浄化性能の向上を図ることができる。
【０１２８】
その結果、貴金属の使用量を低減し、または、貴金属に代替して遷移金属（貴金属を除く）を用いた排ガス浄化用触媒３を用いた場合にも、優れた排ガス浄化性能を確保することができる。また、貴金属の使用量を低減しない場合には、より優れた排ガス浄化性能（活性補助効果）を確保することができる。
【０１２９】
なお、上記した説明では、排ガス浄化用触媒３と第２電極５とを接触させる一方、排ガス浄化用触媒３と第１電極４とを離間させたが、これらの配置は特に限定されず、例えば、図示しないが、第１電極４および第２電極５の両方を、排ガス浄化用触媒３に接触するように配置することができ、さらに、第１電極４および第２電極５の両方を、排ガス浄化用触媒３から離間するように設けることもできる。
【０１３０】
図４は、本発明の排ガス浄化システムの一実施形態が採用される車両を示す概略構成図である。
【０１３１】
上記した排ガス浄化システム１は、例えば、ガソリンエンジンが搭載される自動車などに搭載される。
【０１３２】
以下において、排ガス浄化システム１が搭載される自動車１０について、図４を参照して詳述する。
【０１３３】
図４において、自動車１０は、エンジン１１、上記した排ガス浄化システム１、マフラー１４および開放パイプ１５を備えている。
【０１３４】
エンジン１１は、多気筒（例えば、４気筒）型、多サイクル（例えば、４サイクル）方式が採用されるガソリンエンジンであって、各気筒に、排ガス浄化システム１の排気管２の上流側端部が接続されている。
【０１３５】
排気管２は、エキゾーストマニホールド１７、触媒搭載部１２およびエキゾーストパイプ１３を備えている。
【０１３６】
エキゾーストマニホールド１７は、エンジン１１の各気筒から排出される排気ガスを収束するために設けられる排気多岐管であって、詳しくは図示しないが、エンジン１１の各気筒に接続される複数（例えば、４つ）の分岐管と、それら分岐管の下流側において、各分岐管を１つに統合する集気管とを備えている。
【０１３７】
このようなエキゾーストマニホールド１７では、分岐管（図示せず）の上流側端部が、それぞれ、エンジン１１の各気筒に接続されるとともに、集気管（図示せず）の下流側端部が、触媒搭載部１２の上流側端部に接続されている。
【０１３８】
触媒搭載部１２は、上記した排ガス浄化用触媒３（図示せず）を備えており、エンジン１１から排出される排気ガスに含まれる炭化水素（ＨＣ）、窒素酸化物（ＮＯｘ）、一酸化炭素（ＣＯ）などの有害成分を浄化するために、エキゾーストマニホールド１７の下流側端部に接続されている。
【０１３９】
また、図示しないが、触媒搭載部１２には、排ガス浄化用触媒３を介在させるように、第１電極４および第２電極５が備えられている。また、それら第１電極４および第２電極５と、触媒搭載部１２の外部に設けられる直流電源６とが、導線７によって電気的に接続されている（破線参照）。
【０１４０】
エキゾーストパイプ１３は、触媒搭載部１２において浄化された排気ガスをマフラー１４に案内するために設けられており、上流側端部が触媒搭載部１２に接続されるとともに、下流側端部がマフラー１４に接続されている。
【０１４１】
マフラー１４は、エンジン１１において生じる騒音を静音化すために設けられており、その上流側端部がエキゾーストパイプ１３の下流側端部に接続されている。また、マフラー１４の下流側端部は、開放パイプ１５の上流側端部に接続されている。
【０１４２】
開放パイプ１５は、エンジン１１から排出され、エキゾーストマニホールド１７、触媒搭載部１２、エキゾーストパイプ１３およびマフラー１４を順次通過し、浄化および静音化された排気ガスを、外気に放出するために設けられており、その上流側端部がマフラー１４の下流側端部に接続されるとともに、その下流側端部が、外気に開放されている。
【０１４３】
そして、このような自動車１０では、エンジン１１から排気ガスがエキゾーストマニホールド１７に排気された後、触媒搭載部１２に供給され、その触媒搭載部１２に備えられる排ガス浄化用触媒３により浄化される。
【０１４４】
このとき、上記したように、排ガス浄化システム１では、排ガス浄化用触媒３に対して、排ガス通過方向において上流側に配置される第１電極４が正極となり、排ガス通過方向において下流側に配置される第２電極５が負極となるように電圧が印加される。
【０１４５】
そのため、このような排ガス浄化システム１では、排ガス浄化用触媒３と排ガスとの接触初期段階から、効率的に窒素酸化物（ＮＯｘ）を浄化することができ、より効率的に排ガス浄化性能の向上を図ることができる。
【０１４６】
なお、その後、排気ガスは、エキゾーストパイプ１３に供給され、マフラー１４において静音化された後、開放パイプ１５を介して、外気に排出される。
【実施例】
【０１４７】
次に、本発明を実施例および比較例に基づいて説明するが、本発明は下記の実施例によって限定されるものではない。
【０１４８】
製造例１（ＬａＦｅＯ３）
ランタンイソプロポキシド［Ｌａ（ＯＣＨ（ＣＨ３）２）３］をＬａ換算で０．１ｍｏｌと、鉄メトキシプロピレート［Ｆｅ（ＯＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＯＣＨ３）３］をＦｅ換算で０．１ｍｏｌと、トルエン２００ｍＬとを配合して、撹拌溶解することにより、混合アルコキシド溶液を調製した。
【０１４９】
さらに、この混合アルコキシド溶液に、脱イオン水８０ｍＬを滴下して、加水分解した。
【０１５０】
次いで、加水分解された溶液から、トルエンおよび脱イオン水を留去し、大気中、電気炉にて、８００℃、１時間熱処理（焼成）することにより、ＬａＦｅＯ３からなるペロブスカイト型複合酸化物の粉末を得た。これを排ガス浄化用触媒とした。
【０１５１】
参考例１（電圧無印加）
製造例１において得られた排ガス浄化用触媒の粒子（粉末）を、０．５〜１．１８ｍｍのサイズのペレットに成型して試験片を調製した。
【０１５２】
得られた試験片を、図１に示す排ガス浄化システムに設置し、第２電極に試験片を載置するとともに、その試験片と第１電極とを３ｍｍ離間させた。
【０１５３】
排ガスとして、表２に示す組成のモデルガス（空燃比Ａ／Ｆ＝１４．５相当、温度：５００℃、流速：２．５Ｌ／ｍｉｎ）を排気管に通過させ、試験片に供給し、試験片のＮＯｘの浄化率を測定した。
【０１５４】
【表２】
2013209921.tif 000004
実施例１（電圧印加）
直流電源によって、第１電極が正極となり、第２電極が負極となるように、第１電極および第２電極に電圧を印加した（電流値：１５ｍＡ固定）
以外は、参考例１と同様にして、試験片のＮＯｘの浄化率を測定した。
【０１５５】
そして、電圧を印加することによる浄化率の向上代（％）＝電圧印加条件下における浄化率（％）−電圧無印加条件下における浄化率（％）として、浄化率向上代（％）を算出した。その結果を、図５に示す。
【０１５６】
比較例１（逆電圧印加）
第１電極が負極となり、第２電極が正極となるように、第１電極および第２電極に電圧を印加した以外は、実施例１と同様にして、試験片のＮＯｘの浄化率を測定した。
【０１５７】
そして、電圧を印加することによる浄化率の向上代（％）＝電圧印加条件下における浄化率（％）−電圧無印加条件下における浄化率（％）として、浄化率向上代（％）を算出した。その結果を、図５に示す。
（評価）
図５に示すように、第１電極を正極とし、第２電極を負極として、それらの間に排ガス浄化用触媒を介在させた実施例１では、第１電極を負極とし、第２電極を正極として、それらの間に排ガス浄化用触媒を介在させた比較例１に比べ、浄化率向上代（％）が大きく、より効率的に排ガス浄化性能の向上を図ることができることが確認された。
【０１５８】
なお、交流電源を用いた場合には、上記実施例１と比較例１との状態が周期的に繰り返されるので、実施例１ほどの浄化率向上代（％）が得られないものと推察された。
【符号の説明】
【０１５９】
１      排ガス浄化システム
２      排気管
３      排ガス浄化用触媒
４      第１電極
５      第２電極
６      直流電源
７      導線
【図１】
2013209921.tif 000005
【図２】
2013209921.tif 000006
【図３】
2013209921.tif 000007
【図４】
2013209921.tif 000008
【図５】
2013209921.tif 000009