(57)【要約】【課題】本発明は、Ｘ線センサーの電気的ノイズを抑制して、正確なＸ線強度を取得することを目的とするものである。【解決手段】そしてこの目的を達成するために本発明は、一面側がＸ線入射面となったＸ線透過性基板１７と、Ｘ線透過性基板の他面上に設けた、複数の画素領域を含む所定の範囲に分割された薄膜状電極１８と、この薄膜状電極１８のＸ線透過性基板１７とは反対面側に設けた電荷増倍機能を持つ光導電性の光変換膜層２０と、この光変換膜層２０の薄膜状電極１８とは反対面に対向した位置に設けた、光変換膜層２０に電子線を照射する複数の電子放出素子を有する電子源１６と、この電子源１６の電子放出素子を制御する制御部２３と、を備え、制御部２３は、薄膜状電極１８の分割された境界２８をはさんで隣接する画素領域に対して、電子源１６の電子放出素子を同時に駆動し、電子を同時に放出するよう制御する構成とした。【選択図】図９
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
一面側がＸ線入射面となったＸ線透過性基板と、
前記Ｘ線透過性基板の他面上に設けた、複数の画素領域を含む所定の範囲に分割された薄膜状電極と、
この薄膜状電極の他面側に設けた電荷増倍機能を持つ光導電性の光変換膜層と、
この光変換膜層の薄膜状電極とは反対面に対向した位置に設けた、光変換膜層に電子線を照射する複数の電子放出素子を有する電子源と、
この電子源の電子放出素子を制御する制御部と、を備え、
前記制御部は、前記薄膜状電極の分割された境界をはさんで隣接する画素領域に対して、前記電子源の電子放出素子を同時に駆動し、電子を同時に放出するよう制御する構成としたＸ線センサー。
【請求項２】
前記制御部は、前記薄膜状電極分割された境界線に対して、線対称となる位置に設けた電子放出素子を同時に駆動するよう制御する構成とした請求項１に記載のＸ線センサー。
【請求項３】
前記光変換膜層の画素領域に流れる電流を、前記分割された薄膜状電極の所定の電極から読み取る光電信号読み取り部と、
この光電信号読み取り部が読み取った画素領域の電流を記録する記録部と、を設けるとともに、前記制御部は、前記記録部に記録された画素領域の電流値を所定の順序に並び替える構成とした請求項１または２に記載のＸ線センサー。
【請求項４】
取り付け基板の表面上に電子源を設け、この電子源上にＸ線透過性基板を、電子注入阻止層を下面側にして配置した請求項１から３のいずれか一つに記載のＸ線センサー。
【請求項５】
Ｘ線源と、このＸ線源に所定間隔おいて対向配置したＸ線センサーを備え、前記Ｘ線センサーとして、請求項１から４のいずれか一つに記載のＸ線センサーを用いたＸ線診断装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、Ｘ線センサーと、このＸ線センサーを用いたＸ線診断装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来のＸ線センサーは、Ｘ線透過性基板と、前記Ｘ線透過性基板の第１面上に設け、複数の画素領域を含む所定の範囲に分割された薄膜状電極と、この薄膜状電極の第１面上に設けた電荷増倍機能を持つ光導電性の光変換膜層と、この光変換膜層の第１面側に対向した位置に設けた、光変換膜層の第１面に電子線を照射する複数の電子放出素子を有する電子源と、この電子源の電子放出素子を制御する制御部と、を備えた構成となっていた。
【０００３】
前記制御部は、薄膜状電極の画素領域に対向した光変換膜層の画素領域での、Ｘ線強度に応じた電荷を電流として読み取るために電子源の複数の電子放出素子を並列に制御しながら、薄膜状電極の複数の電極に流れる電流を同時に読み取ることで、読み出し速度の高速化を行う構成としていた（例えば下記特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０００−０８１４８４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記従来のＸ線センサーの課題は、隣接する電極間に生じるノイズが発生して、正確なＸ線強度を取得できないことであった。
【０００６】
本課題を説明するために、従来のＸ線センサーの一例を図１４に示す。
【０００７】
図１４（ａ）は、電子源を上面から見た模式図である。この電子源は、４つのブロックに分割されており、それぞれのブロックには、縦５列横５行の計２５の電子放出素子がマトリックス状に割り当てられている。
【０００８】
各電子放出素子に付けられた番号は、電子放出素子の駆動の順番を表したものであり、同じ番号が付された電子放出素子は、時間的に同時に駆動される構成となっている。
【０００９】
図示していないが、この電子源の上方に対向したターゲット部１２は、電子源と同様に４つのブロックに薄膜状電極が分極されている構成となっている。
【００１０】
図１４（ｂ）は、図１４（ａ）のＡ枠部分について、ターゲット部１２を上方、電子源を下方としてのＸ線センサーの縦断面の模式図を表したものであり、１の番号が付された電子放出素子１０１を同時に駆動した状態を示している。
【００１１】
上記のような従来のＸ線センサーでは、図１４（ｂ）に示すように薄膜状電極の分割された境界１００をはさんで隣接する２つの画素領域（図のＢ枠）に対して、電子源の電子放出素子を同時に駆動しない走査をしていたので、薄膜状電極の分割された境界１００付近の画素領域を走査する場合は、電子放出素子から放出された電子の一部が、この画素領域に対して、電極分割された境界１００をはさんで隣接する画素領域に蓄積した電荷と結合して電流が発生してしまい、その結果、隣接する電極にノイズとしての電流を流すこととなるため、正確なＸ線強度を取得できなくなるのである。
図１４（ｂ）の例においては、電子放出素子１０１から放出された電子が、電極分割された境界１００をはさんで隣接する画素領域１０２に蓄積した電荷と結合して電流が発生してしまい、その結果、隣接する電極１０３にノイズとしての電流を流すこととなる。
【００１２】
この電流ノイズが原因となって、正確なＸ線強度を取得できなくなるのである。
【００１３】
これは、隣り合う各電子放出素子が読み出す画素領域が、オーバーラップすることも原因であるが、もしここで隣り合う各電子放出素子が読み出す画素領域がオーバーラップしないとすると、隣接する電極にノイズは発生しないが、発生した電荷をすべて読み出すことができなくなる。この読み残された電荷は残像として残り、画質劣化や、感度低下の原因となるため、隣り合う各電子放出素子が読み出す画素領域はかならずオーバーラップさせる必要がある。
【００１４】
そこで本発明は、隣接する電極間に生じるノイズを抑制して、正確なＸ線強度を取得することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
そしてこの目的を達成するために本発明のＸ線センサーは、一面側がＸ線入射面となったＸ線透過性基板と、前記Ｘ線透過性基板の他面上に設けた、複数の画素領域を含む所定の範囲に分割された薄膜状電極と、この薄膜状電極のＸ線透過性基板とは反対面側に設けた電荷増倍機能を持つ光導電性の光変換膜層と、この光変換膜層の薄膜状電極とは反対面に対向した位置に設けた、光変換膜層に電子線を照射する複数の電子放出素子を有する電子源と、この電子源の電子放出素子を制御する制御部と、を備え、前記制御部は、前記薄膜状電極の分割された境界をはさんで隣接する画素領域に対して、前記電子源の電子放出素子を同時に駆動し、電子を同時に放出するよう制御する構成とした。
【００１６】
これにより所期の目的を達成するものである。
【発明の効果】
【００１７】
以上のように、本発明のＸ線センサーは、一面側がＸ線入射面となったＸ線透過性基板と、前記Ｘ線透過性基板の他面上に設けた、複数の画素領域を含む所定の範囲に分割された薄膜状電極と、この薄膜状電極のＸ線透過性基板とは反対面側に設けた電荷増倍機能を持つ光導電性の光変換膜層と、この光変換膜層の薄膜状電極とは反対面に対向した位置に設けた、光変換膜層に電子線を照射する複数の電子放出素子を有する電子源と、この電子源の電子放出素子を制御する制御部と、を備え、前記制御部は、前記薄膜状電極の分割された境界をはさんで隣接する画素領域に対して、前記電子源の電子放出素子を同時に駆動し、電子を同時に放出するよう制御する構成としたものであり、隣接する電極間に生じるノイズを抑制して、正確なＸ線強度を取得することができる。
【００１８】
すなわち、本発明においては、薄膜状電極の分割された境界をはさんで隣接する画素領域に対して、電子源の電子放出素子を同時に駆動する走査をするので、薄膜状電極の分割された境界付近の画素領域を走査する場合は、この画素領域に対して、電極分割された境界をはさんで隣接する画素領域に蓄積した電荷と同時に結合して電流を発生するので、その結果、画素領域に対応した隣接する電極にノイズとしての電流は発生しないので、正確なＸ線強度を取得できるのである。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の実施の形態にかかるＸ線診断装置の構成図
【図２】本発明の実施の形態にかかるＸ線診断装置のブロック図
【図３】本発明の実施の形態にかかるＸ線センサーの外観を示す斜視図
【図４】本発明の実施の形態にかかるＸ線センサーの断面図
【図５】同Ｘ線センサーの正面図
【図６】同Ｘ線センサーの制御ブロック図
【図７】同Ｘ線センサーの薄膜状電極の上面図
【図８】同Ｘ線センサーの電子源の上面図
【図９】（ａ）同Ｘ線センサーの電子源の上面からの模式図  （ｂ）Ｘ線センサーの断面の模式図
【図１０】同Ｘ線センサーの電子源の上面からの模式図
【図１１】その制御部のフローチャート
【図１２】（ａ）その電子源制御部のブロック図  （ｂ）その電子源制御部のブロック図
【図１３】電子源制御部のタイミングチャート
【図１４】（ａ）先行技術のＸ線センサーの電子源の上面からの模式図  （ｂ）同Ｘ線センサーの断面の模式図
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明にかかるＸ線センサー、およびそのＸ線センサーを用いたＸ線診断装置の実施の一形態について、添付図面を交えて説明する。なお添付図面は、理解を容易にするために模式的な図を示している。
【００２１】
まず、この実施の形態にかかるＸ線診断装置の全体構成について、図１および図２を用いて説明する。
【００２２】
図１は本発明の実施の形態にかかるＸ線診断装置の構成図である。図１に示すように、Ｘ線診断装置は、Ｘ線源１と、Ｘ線源１から所定の間隔をおいて対向配置されるＸ線センサー２とを備え、Ｘ線源１から放射したＸ線を撮像対象者３に照射し、その撮像対象者３を透過したＸ線をＸ線センサー２に入射させることにより、撮像対象者３の内部の状態を可視化とするものである。
【００２３】
具体的には、側面視したときの形状が略半円状のアーム４の一端にＸ線源１が設けられ、アーム４の他端にＸ線センサー２が設けられている。このようにしてＸ線源１とＸ線センサー２が所定の間隔をおいて対向配置されている。したがってアーム４によって、ベッド５に横たわった撮像対象者３を挟んでＸ線源１とＸ線センサー２とを対向配置させることができるので、Ｘ線源１から照射されて撮像対象者３を透過したＸ線を、Ｘ線センサー２で検出することができる。
【００２４】
アーム４は、装置本体６に回動自在に取り付けられている。装置本体６は、アーム４を回動させる駆動装置（図示せず）を内蔵している。このようにすることで、撮像対象者３の内部の状態を様々な角度から可視化することが可能となる。
【００２５】
図２は本発明の実施の形態にかかるＸ線診断装置のブロック図である。
【００２６】
図２に示すように、Ｘ線源１はＸ線制御部７に接続されており、Ｘ線制御部７はコントローラ８に接続されている。コントローラ８は、Ｘ線診断装置全体の動作を統括的に制御するものである。Ｘ線制御部７は、コントローラ８からの指令信号に従って、Ｘ線源１によるＸ線の照射動作やＸ線の照射量を制御する。
【００２７】
Ｘ線センサー２は画像処理部９に接続されている。画像処理部９は、Ｘ線センサー２から取り出された電気信号（光電変換信号）を検出して画像処理する。画像処理部９により処理された信号はコントローラ８に送信される。コントローラ８は、Ｘ線センサー２が検出したＸ線の光量（強度）に基づく画像、すなわち撮像対象者３の内部の状態を表示する画像をモニタ１０に映し出す。
【００２８】
またＸ線センサー２は、電子源制御部１１にも接続されている。この電子源制御部１１もコントローラ８に接続されている。電子源制御部１１は、コントローラ８からの指令信号に従って、後述する電子源による電子線の照射動作や電子線の照射量を制御する。
【００２９】
装置本体６に内蔵されているアーム４を回動させる駆動装置（図示せず）は移動制御部１３に接続されており、移動制御部１３はコントローラ８に接続されている。移動制御部１３は、コントローラ８からの指令信号に従って、アーム４の回動動作を制御する。
【００３０】
コントローラ８には、さらに入力部１４が接続されている。コントローラ８は、入力部１４から入力された指令に従って、Ｘ線診断装置全体の動作を統括的に制御する。
【００３１】
続いて、この実施の形態にかかるＸ線センサー２について、図３ないし図６を用いて説明する。図３は本発明の実施の形態にかかるＸ線センサー２の外観を示す斜視図であり、図４は本発明の実施の形態にかかるＸ線センサー２の断面図であり、図５は本発明の実施の形態にかかるＸ線センサー２の光電変換膜であるターゲット部１２の正面図であり、図６は本発明の実施の形態にかかるＸ線センサー２の制御ブロック図である。
【００３２】
以下、Ｘ線センサー２の光電変換膜については、ターゲット部と称して説明を行う。
【００３３】
図３および図４に示すように、Ｘ線センサー２は、平面視したときの形状が矩形状の取り付け基板１５を備える。また図４に示すように、取り付け基板１５の主面上には、同じく矩形状の電子源１６が設けられており、その電子源１６の上部には、ターゲット部１２が配置されている。
【００３４】
ターゲット部１２は、Ｘ線入射面となったＸ線透過性基板１７と、このＸ線透過性基板１７のＸ線入射面の裏面側に順次設けた薄膜状電極１８と、正孔注入阻止層１９、電荷増倍機能を持つ光導電性の光変換膜層２０と、電子注入阻止層２１と、より構成されている。
【００３５】
ターゲット部１２の光変換膜層２０の主成分は、ａ−Ｓｅ（アモルファスセレン）で構成されている。また、薄膜状電極１８と、ＣｅＯ２（酸化セリウム）より形成された正孔注入阻止層１９と、光変換膜層２０との接合により、外部からの正孔注入が阻止され、また、Ｓｂ２Ｓ３（三硫化アンチモン）より形成された電子注入阻止層２１と、光変換膜層２０との接合により、外部からの電子注入が阻止される構造となっている。
【００３６】
ここで、薄膜状電極１８は複数の画素領域を含むブロックに分割された構成となっており、それぞれの薄膜状電極１８には電源が印加され、光電変換膜信号を検出する構成となっている。
【００３７】
Ｘ線透過性基板１７は、図４に示すように、電子注入阻止層２１が電子源１６に向くように、取り付け基板１５に対して対向配置される。これにより、電子源１６は電子注入阻止層２１側の面に向けて電子線を照射することができる。
【００３８】
そして、ターゲット部１２と電子源１６は、Ｘ線の照射エネルギーを光電変換可能とするために、図３に示すように、本体ケース２ａ内に真空密封された状態で構成されている。
【００３９】
図６に示すように、電子源１６には、Ｘ走査ドライバと、Ｙ走査ドライバにより構成されている電子源制御部２２が接続され、電子源制御部２２には、制御部２３が接続されている。つまり、電子源１６は、電子源制御部２２により、ターゲット部１２の下面に対して電子線を走査するようにしている。
【００４０】
また、この電子線の加速のために制御電極２４が設けられている。さらに、ターゲット部１２である光電変換部２５の薄膜状電極１８には、光電信号読み取り部２６が接続されている。
【００４１】
次に図５、図６を用いて、Ｘ線センサー２の動作について説明する。
【００４２】
まず、光電変換部２５の薄膜状電極１８は、+５〜２０ｋＶ程度の電源に接続される。
【００４３】
この状態において、光電変換部２５のＸ線入射面側（図６の上方）よりＸ線２７が入射すると、光変換膜層２０内部で光電変換により正孔と電子対が生成され、薄膜状電極１８にプラスの高電圧が印加されているため、そのうちの正孔が電子源１６側にイオン衝突を繰り返しながら移動し、光電変換部２５の電子源１６側（図５の右側）の光変換膜層面には、入射Ｘ線の強度に応じて生成、増倍された正孔の２次パターンが形成される。
【００４４】
次に、この正孔の２次パターンを電流値として読み取るために、電子源１６の電子ビームから光電変換部２５の下面に設けられた電子注入阻止層２１に向けて、画素ごとに走査して、電子を放出することになる。
【００４５】
この電子は電子注入阻止層２１に入射し、この電子注入阻止層２１上方近傍の膜内に生成された正孔と、電子注入阻止層２１より入射した電子が結合したときに流れる電流を、点順次で電子を放出した電子源の上部の薄膜状電極１８より読み出している。
【００４６】
このときに移動する電子の流れは、電子注入阻止層２１から薄膜状電極１８に向けて、ほぼ直進する（図５においては右から左方向に直進）性質をもっているので、結果として、電子源１６の電子放出素子の配置が、画素領域の配置に関わるものとなり、電子放出素子の配置を平行移動した光変換膜層２０および薄膜状電極１８面上の位置が画素領域の配置となっている。
【００４７】
ここで、図７を用いて、薄膜状電極１８の構成について説明する。
【００４８】
まず、薄膜状電極１８は、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）等の薄膜状電極で形成されたものであり、複数に分割された構成となっている。図７においては、縦方向に２分割、横方向に２分割の、電気的に４分割された構成となっている。分割されたそれぞれの薄膜状電極１８は、光電信号読み取り部２６に電気的に接続されており、それぞれの電極に流れる電流値を並列して読み取ることによって、読み出し速度の高速化を行う構成となっている。
【００４９】
図８に電子源１６を上面から見た模式図を示す。
【００５０】
電子源１６についても、上述した薄膜状電極１８と同様に複数のブロックに分割されており、それぞれのブロックには、画素領域に対応した複数の電子放出素子がマトリックス状に設けられている。
【００５１】
図９（ａ）は、本実施形態の電子源を上面から見た模式図である。この電子源は、４つのブロックに分割されており、それぞれのブロックには、縦５列横５行の計２５の電子放出素子がマトリックス状に割り当てられている。
【００５２】
各電子放出素子に付けられた番号は、電子放出素子の駆動の順番を表したものであり、同じ番号が付された電子放出素子は、時間的に同時に駆動される構成となっている。
【００５３】
図７に示すように、この電子源の上方に対向したターゲット部１２は、電子源と同様に４つのブロックに薄膜状電極１８が分極されている構成となっている。
【００５４】
図９（ｂ）は、図９（ａ）のＡ枠部分について、ターゲット部１２を上方、電子源１６を下方としてのＸ線センサーの縦断面の模式図を表したものであり、５の番号が付された電子放出素子を同時に駆動した状態を示している。
【００５５】
上記のような従来のＸ線センサでは、図９（ｂ）に示すように薄膜状電極１８の分割された境界２８をはさんで隣接する２つの画素領域（図のＢ枠）に対して、電子源の電子放出素子２９を同時に駆動する走査をしていたので、５の番号の電子放出素子から同時に放出された２つの電子は薄膜状電極１８の電極分割された境界２８をはさんで隣接する光変換膜層２０の画素領域に蓄積した電荷と同時に結合して電流を発生するので、その結果、隣接する画素領域に対して隣接する電極にノイズとしての電流は発生しないので、正確なＸ線強度を取得できるのである。
【００５６】
本実施形態においては、図９（ａ）に示すように、薄膜状電極１８の分割された境界２８に対応して分割された電子源のブロックの境界２８を線として、この線に対して、線対称となるように電子放出素子の走査する順番を設定しているが、この順番については、図９（ｂ）に示すように薄膜状電極１８の分割された境界２８をはさんで隣接する２つの画素領域（図のＢ枠）に対して、電子源の電子放出素子２９を同時に駆動する走査が行えるように電子源放出素子の走査する順番を設定すればよいので、図９（ａ）に示す順番づけに限定するものではない。
【００５７】
他の走査方法としては、たとえば、図１０のように、境界２８を薄膜状電極１８の分割された境界２８をはさんで隣接する２つの画素領域（図のＢ枠）に対して、電子源の電子放出素子２９を同時に駆動する走査をおこないつつ、水平方向の読み出し順序は常に左から右へ、上から下へと同一方向とすることで、走査方向が異なることによる、読み出し位置の差が無くなる。
【００５８】
これは、各電子源で読み出す画素領域がそれぞれ重なり合っているため、先に読まれる画素領域分が右か左かもしくは上か下かで、その画素で読み出される信号に違いがでるために、となり合う薄膜電極で、水平方向もしくは垂直方向で同じ位置の画素での情報がその影響によりずれることを防ぐことができる。
【００５９】
図６における制御ブロック図において、制御部２３の制御フローについて説明する。
【００６０】
図１１は、制御部２３の制御フローチャートである。
【００６１】
第１のステップ（Ｓ１）において、制御部２３は、薄膜状電極１８の分割された境界２８をはさんで隣接する画素領域に対向した光変換膜層２０のそれぞれの画素領域に対して、電子源１６の電子放出素子を同時に駆動し、電子を同時に放出するよう制御する。
【００６２】
第２のステップ（Ｓ２）において、制御部２３は、光電信号読み取り部２６より電流値を読み取り、記録部３０に記録する。
【００６３】
第３のステップ（Ｓ３）において、制御部２３は、記録部３０のデータを表示部３１に表示する順番に並び替える。
【００６４】
第４のステップ（Ｓ４）において、制御部２３は、記録部３０のデータを表示部３１に表示するように表示制御部３２を制御する。
【００６５】
以上の制御動作によって、Ｘ線強度を取得し、その強度を表示部３１に表示することによって、所望のＸ線画像が取得できることとなる。
【００６６】
次に電子源制御部２２による、電子源１６の制御方法について、説明する。
【００６７】
図１２（ａ）は、図９（a）の電子源の駆動順序に対応する、電子源制御部の制御ブロック図を示したものである。
【００６８】
Ｘ走査ドライバとしての水平駆動制御部３３と、Ｙ走査ドライバとしての垂直駆動制御部３４からなり、そのそれぞれの出力がＨ１〜Ｈ５、Ｖ１〜Ｖ５となって、電子源の駆動ドライバ３５に接続される。各画素に対応する電子放出素子はその画素に対応する、水平駆動制御部と垂直駆動制御部の信号がＯＮとなった場合に、電子を放出する。図９（a）において、Ｈ１とＶ１がＯＮとなり、それ以外出力であるＨ２〜Ｈ５、Ｖ２〜Ｖ５がＯＦＦとなると、１の電子放出素子から電子が放出される。
Ｈ１〜Ｈ５、Ｖ１〜Ｖ５について、ＯＮをＨＩレベル、ＯＦＦをＬｏレベルとして、制御のタイミングチャートを書くと図１３のようになり、１〜２５の順番で電子放出素子が連続で駆動される。
【００６９】
次に、前述した図１０の電子源１６の駆動順序に対応する、電子源制御部について説明する。
【００７０】
図１０に対応した電子源制御部２２は図１２（ｂ）のような構成となり、図９（a）と同様に、水平駆動制御部３３と垂直駆動制御部３４の信号がＯＮとなった場合に、電子を放出する。そのタイミングチャートも図１３のようになり、１〜２５の順番で電子放出素子が連続で駆動される。
【産業上の利用可能性】
【００７１】
以上のように、本発明のＸ線センサーは、一面側がＸ線入射面となったＸ線透過性基板と、前記Ｘ線透過性基板の他面上に設けた、複数の画素領域を含む所定の範囲に分割された薄膜状電極と、この薄膜状電極のＸ線透過性基板とは反対面側に設けた電荷増倍機能を持つ光導電性の光変換膜層と、この光変換膜層の薄膜状電極とは反対面に対向した位置に設けた、光変換膜層に電子線を照射する複数の電子放出素子を有する電子源と、この電子源の電子放出素子を制御する制御部と、を備え、前記制御部は、前記薄膜状電極の分割された境界をはさんで隣接する画素領域に対して、前記電子源の電子放出素子を同時に駆動し、電子を同時に放出するよう制御する構成としたものであり、隣接する電極間に生じるノイズを抑制して、正確なＸ線強度を取得することができる。
【００７２】
すなわち、本発明においては、薄膜状電極の分割された境界をはさんで隣接する画素領域に対して、電子源の電子放出素子を同時に駆動する走査をするので、薄膜状電極の分割された境界付近の画素領域を走査する場合は、この画素領域に対して、電極分割された境界をはさんで隣接する画素領域に蓄積した電荷と同時に結合して電流を発生するので、その結果、画素領域に対応した隣接する電極にノイズとしての電流は発生しないので、正確なＸ線強度を取得できるのである。
【００７３】
したがって、Ｘ線センサーとそれを用いたＸ線診断装置への適用が大いに期待されるものである。
【符号の説明】
【００７４】
１  Ｘ線源
２  Ｘ線センサー
３  撮像対象者
４  アーム
５  ベッド
６  装置本体
７  Ｘ線制御部
８  コントローラ
９  画像処理部
１０  モニタ
１１  電子源制御部
１２  ターゲット部
１３  移動制御部
１４  入力部
１５  取り付け基板
１６  電子源
１７  Ｘ線透過性基板
１８  薄膜状電極
１９  正孔注入阻止層
２０  光変換膜層
２１  電子注入阻止層
２２  電子源制御部
２３  制御部
２４  制御電極
２５  光電変換部
２６  光電信号読み取り部
２７  Ｘ線
２８  境界
２９  電子放出素子
３０  記録部
３１  表示部
３２  表示制御部
３３  水平駆動制御部
３４  垂直駆動制御部
３５  駆動ドライバ
【図１】
2013156237.tif 000003
【図２】
2013156237.tif 000004
【図３】
2013156237.tif 000005
【図４】
2013156237.tif 000006
【図５】
2013156237.tif 000007
【図６】
2013156237.tif 000008
【図７】
2013156237.tif 000009
【図８】
2013156237.tif 000010
【図９】
2013156237.tif 000011
【図１０】
2013156237.tif 000012
【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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