(57)【要約】【課題】タッチパネル及びタッチパネルを含む表示装置を提供すること。【解決手段】表示装置は表示パネル上に配置されるタッチパネルを具備することができる。前記タッチパネルは、少なくとも１つの位相遅延層、前記少なくとも１つの位相遅延層上に配置される偏光板、前記位相遅延層の少なくとも１つの面上、及び／または、前記偏光板の少なくとも１つの面上に直接形成される少なくとも一種類の感知パターンを含むタッチ感知構造物、前記偏光板上に配置される接着層、そして前記接着層上に配置されるウインドウを含むことができる。前記位相遅延層、及び／または、偏光板上に直接的に形成されるタッチ感知構造物を含むことができるから、厚い厚さを有するベースフィルムが要求されないのでタッチパネルの厚さを減少させることができる。また、前記タッチ感知構造物が前記位相遅延層、及び／または、偏光板上に直接形成されることができるので、表示装置の表示パネルから放出される光の損失を減少させることができる。【選択図】図１
2013156975.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの位相遅延層と、
前記少なくとも１つの位相遅延層上に配置される偏光板と、
前記位相遅延層の少なくとも１つの面及び前記偏光板の少なくとも１つの面のうち、少なくとも１つの面上に直接形成される少なくとも一種類の感知パターンを含むタッチ感知構造物と、
前記偏光板上に配置される接着層と、
前記接着層上に配置されるウインドウと、を具備するタッチパネル。
【請求項２】
前記タッチ感知構造物は、前記位相遅延層の底面上に直接形成される複数の第１感知パターンと、前記位相遅延層の上面上に直接形成される複数の第２感知パターンとを含むことを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項３】
前記第１感知パターンと前記第２感知パターンは、互いに直交する方向に沿って延びて、前記位相遅延層は、λ／４位相差フィルムを含むことを特徴とする請求項２に記載のタッチパネル。
【請求項４】
前記タッチ感知構造物は、前記位相遅延層の底面上に直接形成される複数の第１感知パターンと前記偏光板の底面上に直接形成される複数の第２感知パターンとを含むことを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項５】
前記タッチ感知構造物は、前記位相遅延層の上面上に直接形成される複数の第１感知パターンと前記偏光板の底面上に直接形成される複数の第２感知パターンとを含むことを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項６】
前記タッチ感知構造物は前記位相遅延層の上面上に直接形成される複数の第１感知パターンと前記偏光板の上面上に直接形成される複数の第２感知パターンとを含むことを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項７】
前記タッチ感知構造物は、前記位相遅延層の底面上に直接形成される複数の第１感知パターンと前記偏光板の上面上に直接形成される複数の第２感知パターンを含むことを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項８】
前記少なくとも１つの位相遅延層は、第１位相遅延層と前記第１位相遅延層上に配置される第２位相遅延層を含むことを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項９】
前記第１位相遅延層は、λ／４位相差フィルムを含み、前記第２位相遅延層は、λ／２位相差フィルムを含むことを特徴とする請求項８に記載のタッチパネル。
【請求項１０】
前記タッチ感知構造物は、前記第１位相遅延層の底面上に直接形成される複数の第１感知パターンと前記第１位相遅延層の上面上に直接形成される複数の第２感知パターンとを含むことを特徴とする請求項８に記載のタッチパネル。
【請求項１１】
前記タッチ感知構造物は、前記第１位相遅延層の底面上に直接形成される複数の第１感知パターンと前記第２位相遅延層の底面上に直接形成される複数の第２感知パターンとを含むことを特徴とする請求項８に記載のタッチパネル。
【請求項１２】
前記タッチ感知構造物は、前記第２位相遅延層の底面上に直接形成される複数の第１感知パターンと前記第２位相遅延層の上面上に直接形成される複数の第２感知パターンとを含むことを特徴とする請求項８に記載のタッチパネル。
【請求項１３】
前記タッチ感知構造物は、前記第１位相遅延層の上面上に直接形成される複数の第１感知パターンと前記第２位相遅延層の底面上に直接形成される複数の第２感知パターンとを含むことを特徴とする請求項８に記載のタッチパネル。
【請求項１４】
前記タッチ感知構造物は、前記第２位相遅延層の底面上に直接形成される複数の第１感知パターンと前記偏光板の底面上に直接形成される複数の第２感知パターンとを含むことを特徴とする請求項８に記載のタッチパネル。
【請求項１５】
前記タッチ感知構造物は、前記第１位相遅延層の上面上に直接形成される複数の第１感知パターンと前記偏光板の底面上に直接形成される複数の第２感知パターンとを含むことを特徴とする請求項８に記載のタッチパネル。
【請求項１６】
前記タッチ感知構造物は、前記第２位相遅延層の上面上に直接形成される複数の第１感知パターンと前記偏光板の底面上に直接形成される複数の第２感知パターンとを含むことを特徴とする請求項８に記載のタッチパネル。
【請求項１７】
前記タッチ感知構造物は、前記第２位相遅延層の上面上に直接形成される複数の第１感知パターンと前記偏光板の上面上に直接形成される複数の第２感知パターンとを含むことを特徴とする請求項８に記載のタッチパネル。
【請求項１８】
前記タッチ感知構造物は、前記第２位相遅延層の底面上に直接形成される複数の第１感知パターンと前記偏光板の上面上に直接形成される複数の第２感知パターンとを含むことを特徴とする請求項８に記載のタッチパネル。
【請求項１９】
前記タッチ感知構造物は、前記第１位相遅延層の底面上に直接形成される複数の第１感知パターンと前記偏光板の上面上に直接形成される複数の第２感知パターンとを含むことを特徴とする請求項８に記載のタッチパネル。
【請求項２０】
前記タッチ感知構造物は、前記第１位相遅延層の上面上に直接形成される複数の第１感知パターンと前記第２位相遅延層の上面上に直接形成される複数の第２感知パターンとを含むことを特徴とする請求項８に記載のタッチパネル。
【請求項２１】
前記タッチ感知構造物は、前記第２位相遅延層の上面上に直接形成される複数の感知パターンを含むことを特徴とする請求項８に記載のタッチパネル。
【請求項２２】
前記タッチ感知構造物は、前記第２位相遅延層の底面上に直接形成される複数の感知パターンを含むことを特徴とする請求項８に記載のタッチパネル。
【請求項２３】
前記タッチ感知構造物は、前記第１位相遅延層の上面上に直接形成される複数の第１感知パターンを含むことを特徴とする請求項８に記載のタッチパネル。
【請求項２４】
前記位相遅延層はλ／４位相差フィルムを含み、前記タッチ感知構造物は、前記位相遅延層の上面上に直接形成される複数の感知パターンを含むことを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項２５】
前記位相遅延層はλ／４位相差フィルムを含んで、前記タッチ感知構造物は前記位相遅延層の底面上に直接形成される複数の感知パターンを含むことを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項２６】
表示パネル上に配置されるタッチパネルを具備し、
前記タッチパネルは、
少なくとも１つの位相遅延層と、
前記少なくとも１つの位相遅延層上に配置される偏光板と、
前記位相遅延層の少なくとも１つの面及び前記偏光板の少なくとも１つの面のうち、少なくとも１つの面上に直接形成される少なくとも一種の感知パターンを含むタッチ感知構造物と、
前記偏光板上に配置される接着層と、
前記接着層上に配置されるウインドウと、を具備することを特徴とする表示装置。
【請求項２７】
前記少なくとも１つの位相遅延層は、λ／４位相差フィルムを具備する第１位相遅延層と、前記第１位相遅延層上に配置されてλ／２位相差フィルムを具備する第２位相遅延層とを含むことを特徴とする請求項２６に記載の表示装置。
【請求項２８】
前記タッチ感知構造物は、前記第１位相遅延層の底面上に直接形成される第１感知パターンと前記第１位相遅延層の上面上に直接形成される第２感知パターンとを含むことを特徴とする請求項２７に記載の表示装置。
【請求項２９】
前記タッチ感知構造物は前記第１位相遅延層の底面上に直接形成される第１感知パターンと前記第２位相遅延層の底面上に直接形成される第２感知パターンを含むことを特徴とする請求項２７に記載の表示装置。
【請求項３０】
前記タッチ感知構造物は、前記第２位相遅延層の上面上に直接形成される第１感知パターンと前記偏光板の上面上に直接形成される第２感知パターンとを含むことを特徴とする請求項２７に記載の表示装置。
【請求項３１】
前記タッチ感知構造物は、前記第２位相遅延層の上面上に直接形成される第１感知パターンと前記偏光板の底面上に直接形成される第２感知パターンとを含むことを特徴とする請求項２７に記載の表示装置。
【請求項３２】
前記タッチ感知構造物は、前記第２位相遅延層の底面上に直接形成される第１感知パターンと前記偏光板の上面上に直接形成される第２感知パターンとを含むことを特徴とする請求項２７に記載の表示装置。
【請求項３３】
前記タッチ感知構造物は、前記第１位相遅延層の上面上に直接形成される第１感知パターンと前記偏光板の上面上に直接形成される第２感知パターンとを含むことを特徴とする請求項２７に記載の表示装置。
【請求項３４】
前記タッチ感知構造物は、前記第１位相遅延層の底面上に直接形成される第１感知パターンと前記第２位相遅延層の底面上に直接形成される第２感知パターンとを含むことを特徴とする請求項２７に記載の表示装置。
【請求項３５】
前記タッチ感知構造物は、前記位相遅延層の上面上に直接形成される第１感知パターンと前記偏光板の上面上に直接形成される第２感知パターンとを含むことを特徴とする請求項２６に記載の表示装置。
【請求項３６】
前記タッチ感知構造物は、前記位相遅延層の底面上に直接形成される第１感知パターンと前記偏光板の底面上に直接形成される第２感知パターンとを含むことを特徴とする請求項２６に記載の表示装置。
【請求項３７】
前記タッチ感知構造物は、前記位相遅延層の底面上に直接形成される第１感知パターンと前記偏光板の上面上に直接形成される第２感知パターンとを含むことを特徴とする請求項２６に記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はタッチパネル及びタッチパネルを具備する表示装置に関する。より詳細に、本発明は少なくとも１つの地位位相遅延層、及び／または、偏光板上に直接形成できるタッチ感知構造物を含むタッチパネルとこのようなタッチパネルを具備する表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機発光表示（ＯＬＥＤ）装置、液晶表示（ＬＣＤ）装置などのような表示装置に適用可能なタッチスクリーンパネル（ＴＳＰ）は通常的に人の手、または、物体の接触を電気的信号に変換して接触する位置を把握することができる。このようなタッチパネルは表示パネルに付着されて表示装置を構成する。
【０００３】
従来のタッチパネルは光学的に高い透過度を具現するように通常的にＩＴＯ（ｉｎｄｉｕｍ  ｔｉｎ  ｏｘｉｄｅ）パターン、位相差層、偏光板、接着層などを具備する。例えば、韓国特許出願公開第２０１１−００３９０８８号には接着層、タッチセンサの伝導性フィルム（パターン化インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）層）、位相差層、偏光板などを具備して画像表示パネル上に配置されるタッチパネルが開示されている。しかし、従来のタッチパネルの場合には、表示パネル上に偏光板、位相差層、タッチセンサなどがそれぞれ別に配置されるのでタッチパネルの厚さを薄型化することが難しく、表示パネル上にいくつかの層を積層してタッチパネルを構成するので表示装置の製造工程の工程効率と収率が低下するという問題点がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の一目的は、位相遅延層、及び／または、偏光板に直接形成されることのできるタッチ感知構造物を具備して薄型化が可能であり、且つ、光の損失を減少させることのできるタッチパネルを提供することにある。
【０００５】
本発明の他の目的は、位相遅延層、及び／または、偏光板に直接形成されることのできるタッチ感知構造物を具備して薄型化が可能であり、且つ、光の損失を減少させることのできるタッチパネルを含む表示装置を提供することにある。
【０００６】
本発明が解決しようとする課題は前述した課題によって限定されるのではなく、本発明の思想及び領域から逸脱しない範囲内で多様に拡張することができる。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上述した本発明の一目的を達成するために、本発明の例示的な実施形態に係るタッチパネルは、少なくとも１つの位相遅延層、前記少なくとも１つの位相遅延層上に配置される偏光板、前記位相遅延層の少なくとも１つの面上に、及び／または、前記偏光板の少なくとも１つの面上に直接形成される少なくとも一種類の感知パターンを含むタッチ感知構造物、前記偏光板上に配置される接着層、そして前記接着層上に配置されるウインドウを具備することができる。
【０００８】
例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は前記位相遅延層の底面上に直接形成される複数の第１感知パターンと前記位相遅延層の上面上に直接形成される複数の第２感知パターンを含むことができる。この場合、前記第１感知パターンと前記第２感知パターンは、互いに直交する方向に沿って延長することができ、前記位相遅延層はλ／４位相差フィルムを含むことができる。
【０００９】
他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記位相遅延層の底面上に直接形成される複数の第１感知パターンと前記偏光板の底面上に直接形成される複数の第２感知パターンを含むことができる。
【００１０】
また他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記位相遅延層の上面上に直接形成される複数の第１感知パターンと前記偏光板の底面上に直接形成される複数の第２感知パターンを含むことができる。
【００１１】
また他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記位相遅延層の上面上に直接形成される複数の第１感知パターンと前記偏光板の上面上に直接形成される複数の第２感知パターンを含むことができる。
【００１２】
また他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記位相遅延層の底面上に直接形成される複数の第１感知パターンと前記偏光板の上面上に直接形成される複数の第２感知パターンを含むことができる。
【００１３】
また他の例示的な実施形態において、前記少なくとも１つの位相遅延層は、第１位相遅延層と前記第１位相遅延層上に配置される第２位相遅延層を含むことができる。例えば、前記第１位相遅延層はλ／４位相差フィルムを含むことができ、前記第２位相遅延層はλ／２位相差フィルムを含むことができる。
【００１４】
また他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記第１位相遅延層の底面上に直接形成される複数の第１感知パターンと前記第１位相遅延層の上面上に直接形成される複数の第２感知パターンを含むことができる。
【００１５】
また他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記第１位相遅延層の底面上に直接形成される複数の第１感知パターンと前記第２位相遅延層の底面上に直接形成される複数の第２感知パターンを含むことができる。
【００１６】
また他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記第２位相遅延層の底面上に直接形成される複数の第１感知パターンと前記第２位相遅延層の上面上に直接形成される複数の第２感知パターンを含むことができる。
【００１７】
また他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記第１位相遅延層の上面上に直接形成される複数の第１感知パターンと前記第２位相遅延層の底面上に直接形成される複数の第２感知パターンを含むことができる。
【００１８】
また他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記第２位相遅延層の底面上に直接形成される複数の第１感知パターンと前記偏光板の底面上に直接形成される複数の第２感知パターンを含むことができる。
【００１９】
また他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記第１位相遅延層の上面上に直接形成される複数の第１感知パターンと前記偏光板の底面上に直接形成される複数の第２感知パターンを含むことができる。
【００２０】
また他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記第２位相遅延層の上面上に直接形成される複数の第１感知パターンと前記偏光板の底面上に直接形成される複数の第２感知パターンを含むことができる。
【００２１】
また他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記第２位相遅延層の上面上に直接形成される複数の第１感知パターンと前記偏光板の上面上に直接形成される複数の第２感知パターンを含むことができる。
【００２２】
また他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記第２位相遅延層の底面上に直接形成される複数の第１感知パターンと前記偏光板の上面上に直接形成される複数の第２感知パターンを含むことができる。
【００２３】
また他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記第１位相遅延層の底面上に直接形成される複数の第１感知パターンと前記偏光板の上面上に直接形成される複数の第２感知パターンを含むことができる。
【００２４】
また他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記第１位相遅延層の上面上に直接形成される複数の第１感知パターンと前記第２位相遅延層の上面上に直接形成される複数の第２感知パターンを含むことができる。
【００２５】
また他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記第２位相遅延層の上面上に直接形成される複数の感知パターンを含むことができる。
【００２６】
また他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記第２位相遅延層の底面上に直接形成される複数の感知パターンを含むことができる。
【００２７】
また他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記第１位相遅延層の上面上に直接形成される複数の第１感知パターンを含むことができる。
【００２８】
また他の例示的な実施形態において、前記位相遅延層はλ／４位相差フィルムを含むことができ、前記タッチ感知構造物は前記位相遅延層の上面上に直接形成される複数の感知パターンを含むことができる。
【００２９】
また他の例示的な実施形態において、前記位相遅延層はλ／４位相差フィルムを含むことができ、前記タッチ感知構造物は前記位相遅延層の底面上に直接形成される複数の感知パターンを含むことができる。
【００３０】
上述した本発明の他の目的を達成するために本発明の例示的な実施形態に係る表示装置は、表示パネル上に配置されるタッチパネルを具備することができる。前記タッチパネルは、少なくとも１つの位相遅延層、前記少なくとも１つの位相遅延層上に配置される偏光板、前記位相遅延層の少なくとも１つの面上に、及び／または、前記偏光板の少なくとも１つの面上に直接形成される少なくとも一種類の感知パターンを含むタッチ感知構造物、前記偏光板上に配置される接着層、そして前記接着層上に配置されるウインドウを具備することができる。
【００３１】
例示的な実施形態において、前記少なくとも１つの位相遅延層はλ／４位相差フィルムを具備する第１位相遅延層と、前記第１位相遅延層上に配置されてλ／２位相差フィルムを具備する第２位相遅延層を含むことができる。
【００３２】
例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記第１位相遅延層の底面上に直接形成される第１感知パターンと、前記第１位相遅延層の上面上に直接形成される第２感知パターンを含むことができる。
【００３３】
他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記第１位相遅延層の底面上に直接形成される第１感知パターンと、前記第２位相遅延層の底面上に直接形成される第２感知パターンを含むことができる。
【００３４】
また他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記第２位相遅延層の上面上に直接形成される第１感知パターンと、前記偏光板の上面上に直接形成される第２感知パターンを含むことができる。
【００３５】
また他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記第２位相遅延層の上面上に直接形成される第１感知パターンと、前記偏光板の底面上に直接形成される第２感知パターンを含むことができる。
【００３６】
また他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記第２位相遅延層の底面上に直接形成される第１感知パターンと、前記偏光板の上面上に直接形成される第２感知パターンを含むことができる。
【００３７】
また他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記第１位相遅延層の上面上に直接形成される第１感知パターンと、前記偏光板の上面上に直接形成される第２感知パターンを含むことができる。
【００３８】
また他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記第１位相遅延層の底面上に直接形成される第１感知パターンと、前記第２位相遅延層の底面上に直接形成される第２感知パターンを含むことができる。
【００３９】
また他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記位相遅延層の上面上に直接形成される第１感知パターンと、前記偏光板の上面上に直接形成される第２感知パターンを含むことができる。
【００４０】
また他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記位相遅延層の底面上に直接形成される第１感知パターンと前記偏光板の底面上に直接形成される第２感知パターンを含むことができる。
【００４１】
また他の例示的な実施形態において、前記タッチ感知構造物は、前記位相遅延層の底面上に直接形成される第１感知パターンと、前記偏光板の上面上に直接形成される第２感知パターンを含むことができる。
【発明の効果】
【００４２】
本発明の例示的な実施形態に係るタッチパネルは、少なくとも１つの位相遅延層及び／または偏光板上に直接的に形成されるタッチ感知構造物を含むことができるから、厚い厚さを有するベースフィルムが要求されないので前記タッチパネルの厚さを減少させることができる。また、前記タッチ感知構造物が前記位相遅延層及び／または前記偏光板上に直接形成されることができるので、表示装置の表示パネルから放出される光の透過率を増加させることができ、光の反射率は相対的に減少させることができるので、光損失を大きく減少させることができる。さらに、従来のタッチパネルに比べて要求される層の数を減少させることができるので、タッチパネルを含む表示装置の工程収率と効率を大きく増加させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】本発明の例示的な実施形態に係るタッチパネルを含む表示装置を示す断面図である。
【図２】本発明の例示的な実施形態に係る表示装置の表示パネルを示す断面図である。
【図３】本発明の例示的な実施形態に係る位相遅延層とタッチ感知構造物を説明するための分解図である。
【図４】本発明の他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを含む表示装置を説明するための断面図である。
【図５】本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを具備する表示装置を示す断面図である。
【図６】本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを含む表示装置を説明するための断面図である。
【図７】本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを具備する表示装置を示す断面図である。
【図８】本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを具備する表示装置を示す断面図である。
【図９】本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを含む表示装置を説明するための断面図である。
【図１０】本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを具備する表示装置を説明するための断面図である。
【図１１】本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを含む表示装置を示す断面図である。
【図１２】本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを含む表示装置を説明するための断面図である。
【図１３】本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを具備する表示装置を説明するための断面図である。
【図１４】本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを含む表示装置を説明するための断面図である。
【図１５】本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを具備する表示装置を示す断面図である。
【図１６】本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを含む表示装置を示す断面図である。
【図１７】本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを含む表示装置を説明するための断面図である。
【図１８】本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを具備する表示装置を説明するための断面図である。
【図１９】本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを具備する表示装置を示す断面図である。
【図２０】本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを含む表示装置を説明するための断面図である。
【図２１】本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを具備する表示装置を説明するための断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００４４】
以下、添付する図面を参照して本発明の例示的な実施形態に係るタッチパネル、タッチパネルを具備する表示装置及びタッチパネルを具備する表示装置の製造方法について説明するが、本発明が下記実施形態によって制限されるのではなく、該当分野で通常の知識を有する者であれば、本発明の技術的思想を逸脱しなし範囲内で本発明を多様な他の形態で具現することができる。
【００４５】
本明細書において、特定の構造的ないし機能的説明は、単に本発明の実施形態を説明するための目的で例示されたものであり、本発明の実施形態は多様な形態で実施することができ、本明細書に説明された実施形態に限定されるものではなく、本発明の思想及び技術範囲に含まれるすべての変更、均等物ないし代替物を含むと理解するべきである。ある構成要素が他の構成要素に「接続されて」いる、または「接触されて」いると記載された場合には、他の構成要素に直接的に接続されていたり、接触されていることも意味するが、中間に他の構成要素が存在する場合も含むと理解するべきである。また、ある構成要素が他の構成要素に「直接接続されて」いる、または「直接接触されて」いると記載された場合には、中間に他の構成要素が存在しないと理解すべきである。構成要素の間の関係を説明する他の表現、例えば、「〜間に」と「直接〜間に」または「〜に隣接する」と「〜に直接隣接する」等も同じように解釈すべきである。
【００４６】
本明細書で使用した用語は単に特定の実施形態を説明するために使用したもので、本発明を限定するものではない。単数の表現は文脈上明白に異なるように意味しない限り、複数の表現を含む。本明細書で、「含む」または「有する」等の用語は明細書上に記載された特徴、数字、段階、動作、構成要素、部品または、これらを組み合わせたのが存在するということを示すものであって、１つまたはそれ以上の他の特徴や数字、段階、動作、構成要素、部品または、これらを組み合わせたものなどの存在、または、付加の可能性を予め排除するわけではないと理解すべきである。また、別に定義しない限り、技術的或いは科学的用語を含み、本明細書中において使用される全ての用語は本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者であれば、一般的に理解するのと同一の意味を有する。一般的に使用される辞書において定義する用語と同じ用語は関連技術の文脈上に有する意味と一致する意味を有するものと理解するべきであり、本明細書において明白に定義しない限り、理想的或いは過度に形式的な意味として解釈してはならない。
【００４７】
第１、第２、第３等の用語は多様な構成要素を説明するのに使用することができるが、これらの構成要素はこのような用語によって限定されてはならない。前記用語は１つの構成要素を他の構成要素から区別する目的で使われる。例えば、本発明の権利範囲から逸脱せずに第１構成要素は第２構成要素または第３構成要素等と命名することができ、類似に第２及び第３構成要素も交互に命名することができる。
【００４８】
図１は本発明の例示的な実施形態に係るタッチパネルを含む表示装置を示す断面図であり、図２は本発明の例示的な実施形態に係る表示装置の表示パネルを示す断面図である。
【００４９】
図１を参照すれば、前記表示装置は表示パネル１０と、表示パネル１０上に配置されるタッチパネルを具備することができる。例示的な実施形態において、前記タッチパネルは、位相遅延層２０、タッチ感知構造物（ｔｏｕｃｈ  ｓｅｎｓｉｎｇ  ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ）３０、偏光板３５、接着層４０、及びウインドウ４５を含むことができる。そこで、タッチ感知構造物３０は、第１感知パターン１５と第２感知パターン２５で構成されることができる。他の例示的な実施形態によれば、表示パネル１０と前記タッチパネルとの間の結合力を向上させるために、表示パネル１０と前記タッチパネルとの間には追加的な接着層（図示せず）が配置されることもできる。
【００５０】
図１及び図２を参照すれば、表示パネル１０は、第１基板５０、スイッチング素子（ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ  ｄｅｖｉｃｅ）、第１電極９５、発光構造物１０５、第２電極１１０、第２基板１２０等を具備することができる。
【００５１】
第１基板５０上には、バッファ層５５が配置することができる。第１基板５０は、透明絶縁基板を含むことができる。例えば、第１基板５０は、ガラス基板、石英基板、透明樹脂基板などで構成されることができる。この場合、前記透明樹脂基板は、ポリイミド系（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ−ｂａｓｅｄ）樹脂、アクリル系（ａｃｒｙｌ−ｂａｓｅｄ）樹脂、ポリアクリレート系（ｐｏｌｙａｃｒｙｌａｔｅ−ｂａｓｅｄ）樹脂、ポリカーボネート系（ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ−ｂａｓｅｄ）樹脂、ポリエーテル系（ｐｏｌｙｅｔｈｅｒ−ｂａｓｅｄ）樹脂、スルホン酸系（ｓｕｌｆｏｎｉｃ  ａｃｉｄ−ｂａｓｅｄ）樹脂、ポリエチレンテレフタラート系（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ−ｂａｓｅｄ）樹脂などを含むことができる。
【００５２】
例示的な実施形態において、バッファ層５５は、第１基板５０から金属原子や不純物が拡散される現象を防ぐことができ、アクティブ層６０を形成するための結晶化工程の間、熱の伝達速度を調節して実質的に均一なアクティブ層６０を収得できるようにすることができる。また、バッファ層５５は、第１基板５０が表面が均一でない場合、第１基板５０の表面の平坦度を向上させる役割を遂行することもできる。バッファ層５５はシリコン化合物を使って形成できる。例えば、バッファ層５５は、シリコン酸化物（ＳｉＯｘ）、シリコン窒化物（ＳｉＮｘ）、シリコン酸窒化物（ＳｉＯｘＮｙ）、シリコン酸炭化物（ＳｉＯｘＣｙ）、シリコン炭窒化物（ＳｉＣｘＮｙ）などを含むことができる。これらは単独または互いに組合わせて使うことができる。また、バッファ層５５は、スピンコーティング（ｓｐｉｎ  ｃｏａｔｉｎｇ）工程、化学気相蒸着（ＣＶＤ）工程、プラズマ増大化学気相蒸着（ＰＥＣＶＤ）工程、高密度プラズマ−化学気相蒸着（ＨＤＰ−ＣＶＤ）工程、プリンティング（ｐｒｉｎｔｉｎｇ）工程などを利用して収得することができる。バッファ層５５は、シリコン化合物を含む断層構造または多層構造を有することができる。例えば、バッファ層５５は、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜、シリコン酸窒化膜、シリコン酸炭化膜、及び／または、シリコン炭窒化膜を含む断層構造または多層構造で第１基板５０上に形成されることができる。
【００５３】
前記スイッチング素子は、バッファ層５５上には配置することができる。例示的な実施形態において、前記スイッチング素子はシリコンを含有するアクティブ層６０を具備する薄膜トランジスタＴＦＴを含むことができる。この場合、前記スイッチング素子は、アクティブ層６０、ゲート絶縁膜６５、ゲート電極７０、ソース電極８０、ドレーン電極８５などを含むことができる。他の例示的な実施形態によれば、前記スイッチング素子は半導体酸化物を含むアクティブ層を具備する酸化物半導体素子を含むこともできる。
【００５４】
前記スイッチング素子が薄膜トランジスタを含む場合、アクティブ層６０は、バッファ層５５上に配置することができる。アクティブ層６０は不純物がそれぞれドーピングされたソース領域とドレーン領域を含むことができ、このようなソースとドレーン領域との間に提供されるチャネル領域を具備することができる。
【００５５】
例示的な実施形態によれば、バッファ層５５上に半導体層（図示せず）を形成した後、前記半導体層をパターニングしてバッファ層５５上に予備アクティブ層（図示せず）を形成することができる。続いて、前記予備アクティブ層に対して結晶化工程を遂行することによって、バッファ層５５上にアクティブ層６０を形成することができる。ここで、前記半導体層は、化学気相蒸着工程、プラズマ増大化学気相蒸着工程、低圧化学気相蒸着工程、スパッタリング工程などを利用して形成することができる。前記半導体層がアモルファスシリコンを含む場合、アクティブ層６０は、ポリシリコンで構成されることができる。また、前記予備アクティブ層からアクティブ層６０を収得するための結晶化工程は、レーザー照射工程、熱処理工程、触媒を利用する熱処理工程などを含むことができる。他の例示的な実施形態において、前記半導体層及び／または前記予備アクティブ層を形成した後、前記半導体層及び／または前記予備アクティブ層に対して脱水素工程を遂行できる。このような脱水素工程により前記半導体層及び／または前記予備アクティブ層内の水素原子の濃度を減少させることができるので、結果的にアクティブ層６１０の電気的な特性を向上させることができる。
【００５６】
ゲート絶縁膜６５は、アクティブ層６０をカバーしながらバッファ層５５上に配置することができる。ゲート絶縁膜６５は、化学気相蒸着工程、スピンコーティング工程、プラズマ増大化学気相蒸着工程、スパッタリング工程、真空蒸着工程、高密度プラズマ−化学気相蒸着工程、プリンティング工程などを利用して収得されることができる。また、ゲート絶縁膜６５は、シリコン酸化物、金属酸化物などを使って形成することができる。例えば、ゲート絶縁膜６５を構成する金属酸化物はハフニウム酸化物（ＨｆＯｘ）、アルミニウム酸化物（ＡｌＯｘ）、ジルコニウム酸化物（ＺｒＯｘ）、チタン酸化物（ＴｉＯｘ）、タンタル酸化物（ＴａＯｘ）などを含むことができる。これらは単独または互いに組合わせて使うことができる。例示的な実施形態において、ゲート絶縁膜６５は、アクティブ層６０のプロファイル（ｐｒｏｆｉｌｅ）に沿ってバッファ層５５上に実質的に均一な厚さで形成されることができる。この場合、ゲート絶縁膜６５は、相対的に薄い厚さを有することができ、ゲート絶縁膜６５にはアクティブ層６０に隣接する段差部が生成されることができる。他の例示的な実施形態によれば、ゲート絶縁膜６５は、アクティブ層６０を充分にカバーしながら実質的に平坦な上面を有することができる。
【００５７】
ゲート電極７０はゲート絶縁膜６５上に配置することができる。ゲート電極７０はゲート絶縁膜６５中に、下にアクティブ層６０が位置する部分上に形成されることができる。例示的な実施形態によれば、ゲート絶縁膜６５上に第１導電膜（図示せず）を形成した後、写真エッチング工程または追加的なエッチングマスクを利用するエッチング工程などを利用して前記第１導電膜をパターニングすることによって、ゲート電極７０を収得することができる。ここで、前記第１導電膜はプリンティング工程、スパッタリング工程、化学気相蒸着工程、パルスレーザー蒸着（ＰＬＤ）工程、真空蒸着工程、原子層積層（ＡＬＤ）工程などを利用して形成することができる。ゲート電極７０は、金属、合金、金属窒化物、導電性金属酸化物、透明導電性物質などを使って形成することができる。例えば、ゲート電極７０は、アルミニウム（Ａｌ）、アルミニウムを含有する合金、アルミニウム窒化物（ＡｌＮｘ）、銀（Ａｇ）、銀を含有する合金、タングステン（Ｗ）、タングステン窒化物（ＷＮｘ）、銅（Ｃｕ）、銅を含有する合金、ニッケル（Ｎｉ）、クロム（Ｃｒ）、クロム窒化物（ＣｒＮｘ）、モリブデン（Ｍｏ）、モリブデンを含有する合金、チタン（Ｔｉ）、チタン窒化物（ＴｉＮｘ）、白金（Ｐｔ）、タンタル（Ｔａ）、タンタル窒化物（ＴａＮｘ）、ネオジム（Ｎｄ）、スカンジウム（Ｓｃ）、ストロンチウムルテニウム酸化物（ＳＲＯ）、亜鉛酸化物（ＺｎＯｘ）、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、錫酸化物（ＳｎＯｘ）、インジウム酸化物（ＩｎＯｘ）、ガリウム酸化物（ＧａＯｘ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）などを含むことができる。これらは単独または互いに組合わせて使うことができる。また、ゲート電極７０は、金属膜、合金膜、金属窒化物膜、導電性金属酸化物膜、及び／または、透明導電性物質膜を含む断層構造または多層構造を有することができる。
【００５８】
図示はしていないが、ゲート電極７０を形成する間、ゲート絶縁膜６５上にはゲートラインが形成されることができる。ゲート電極７０は、前記ゲートラインに接続されることができ、前記ゲートラインは、ゲート絶縁膜６５上で第１方向に沿って延びることができる。
【００５９】
ゲート絶縁膜６５上にはゲート電極７０をカバーする層間絶縁膜７５が配置することができる。層間絶縁膜７５は、ソース電極８０とドレーン電極８５からゲート電極７０を電気的に絶縁させることができる。層間絶縁膜７５は、ゲート電極７０のプロファイルに沿ってゲート絶縁膜６５上に実質的に均一な厚さで形成されることができ、これに伴い、層間絶縁膜７５にはゲート電極７０に隣接する段差部が生成されることができる。層間絶縁膜７５は、シリコン化合物を使って形成することができる。例えば、層間絶縁膜７５は、シリコン酸化物、シリコン窒化物、シリコン酸窒化物、シリコン酸窒化物、シリコン酸炭化物などを使って形成することができる。これらは、単独または互いに組合わせて使うことができる。また、層間絶縁膜７５は、スピンコーティング工程、化学気相蒸着工程、プラズマ増大化学気相蒸着工程、高密度プラズマ−化学気相蒸着工程などを利用して収得されることができる。例示的な実施形態において、層間絶縁膜７５は、シリコン酸化物膜、シリコン窒化物膜、シリコン酸窒化物膜、シリコン酸窒化物膜及び／またはシリコン酸炭化物膜を含む断層構造または多層構造を有することができる。
【００６０】
図２に図示したように、ソース電極８０及びドレーン電極８５は、層間絶縁膜７５上に配置することができる。ソース電極８０及びドレーン電極８５は、ゲート電極７０を中心に実質的に所定の間隔で互いに離隔されることができる。ソース電極８０及びドレーン電極８５は、層間絶縁膜７５を貫通してアクティブ層６０の前記ソース及びドレーン領域にそれぞれ接触することができる。例示的な実施形態によれば、層間絶縁膜７５を部分的にエッチングして前記ソース及びドレーン領域を露出させるホールを形成した後、このようなホールを満たしながら層間絶縁膜７５０上に第２導電膜（図示せず）を形成することができる。以後に、前記第２導電膜をパターニングしてソース電極８０及びドレーン電極８５を収得することができる。ここで、前記第２導電膜は、スパッタリング工程、化学気相蒸着工程、パルスレーザー蒸着工程、真空蒸着工程、原子層積層工程、プリンティング工程などを利用して収得されることができる。また、ソース電極８０及びドレーン電極８５は、それぞれ金属、合金、金属窒化物、導電性金属酸化物、透明導電性物質などで構成されることができる。例えば、ソース電極８０及びドレーン電極８５は、それぞれアルミニウム、アルミニウムを含有する合金、アルミニウム窒化物、銀、銀を含有する合金、タングステン、タングステン窒化物、銅、銅を含有する合金、ニッケル、クロム、クロム窒化物、モリブデン、モリブデンを含有する合金、チタン、チタン窒化物、白金、タンタル、タンタル窒化物、ネオジム、スカンジウム、ストロンチウムルテニウム酸化物、亜鉛酸化物、インジウム錫酸化物、錫酸化物、インジウム酸化物、ガリウム酸化物、インジウム亜鉛酸化物などを含むことができる。これらは単独または互いに組合わせて使うことができる。ソース電極８０及びドレーン電極８５は、それぞれ金属膜、合金膜、金属窒化物膜、導電性金属酸化物膜及び／または透明導電性物質膜を含む断層構造または多層構造で形成されることができる。
【００６１】
図示はしていないが、ソース電極８０及びドレーン電極８５を形成する間、層間絶縁膜７５上には第２方向に沿って延びるデータラインが形成されることができる。ここで、前記データラインが延長する第２方向は、前記ゲートラインが延長する第１方向と実質的に直交することができ、ソース電極８０が前記データラインに接続されることができる。
【００６２】
図２に図示したように、層間絶縁膜７５上にソース電極８０及びドレーン電極８５が形成されることによって、第１基板５０上には、前記表示装置のスイッチング素子としてアクティブ層６０、ゲート絶縁膜６５、ゲート電極７０、ソース電極８０及びドレーン電極８５を含む薄膜トランジスタが提供できる。
【００６３】
層間絶縁膜７５上にはソース電極８０及びドレーン電極８５をカバーする絶縁層９０が配置することができる。絶縁層９０は断層構造で形成できるが、少なくとも２つ以上の絶縁膜を含む多層構造で形成されることもできる。例示的な実施形態において、絶縁層９０の表面平坦度を向上させるために絶縁層９０に対して平坦化（ｐｌａｎａｒｉｚａｔｉｏｎ）工程を遂行できる。例えば、絶縁層９０に対して化学機械的研磨（ＣＭＰ）工程、エッチバック（ｅｔｃｈ−ｂａｃｋ）工程などを遂行することによって、絶縁層９０が実質的に平坦な上面を有することができる。絶縁層９０は、有機物質を使って形成することができる。例えば、絶縁層９０は、フォトレジスト、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、シロキサン系（ｓｉｌｏｘａｎｅ−ｂａｓｅｄ）樹脂などを含むことができる。これらは、単独または互いに組合わせて使うことができる。他の例示的な実施形態によれば、絶縁層９０は、シリコン化合物、金属、金属酸化物などの無機物質を使って形成されることもできる。例えば、絶縁層９０は、シリコン酸化物、シリコン窒化物、シリコン酸窒化物、シリコン酸炭化物、シリコン炭窒化物、アルミニウム、マグネシウム、亜鉛、ハフニウム、ジルコニウム、チタン、タンタル、アルミニウム酸化物、チタン酸化物、タンタル酸化物、マグネシウム酸化物、亜鉛酸化物、ハフニウム酸化物、ジルコニウム酸化物、チタン酸化物などを含むことができる。これらは単独または互いに組合わせて使うことができる。絶縁層９０の構成物質によりスピンコーティング工程、プリンティング工程、スパッタリング工程、化学気相蒸着工程、原子層積層工程、プラズマ増大化学気相蒸着工程、高密度プラズマ−化学気相蒸着工程、真空蒸着工程などを利用して絶縁層９０を収得することができる。
【００６４】
写真エッチング工程や追加的なマスクを使うエッチング工程を通じて絶縁層９０を部分的にエッチバックすることによって、絶縁層９０を貫いて前記スイッチング素子のドレーン電極８５を部分的に露出させるコンタクトホールを形成することができる。例示的な実施形態において、前記コンタクトホールは所定の角度に傾斜した側壁を有することができる。例えば、前記コンタクトホールは、下部幅より実質的に広い上部幅を有することができる。
【００６５】
第１電極９５は前記コンタクトホールを埋めつつ、絶縁層９０上に配置することができる。第１電極９５は前記コンタクトホールを通じて露出するドレーン電極８５に接触することができる。他の例示的な実施形態によれば、ドレーン電極８５上に前記コンタクトホールを埋めるコンタクト、プラグ、またはパッドを形成した後、第１電極９５を形成することもできる。この場合、第１電極９５は、前記コンタクト、前記プラグまたは、前記パッドを通じてドレーン電極８５に電気的に接触することができる。
【００６６】
前記表示装置の発光方式により、第１電極９５は反射性を有する物質または透光性を有する物質を使って形成することができる。例えば、第１電極９５はアルミニウム、アルミニウムを含有する合金、アルミニウム窒化物、銀、銀を含有する合金、タングステン、タングステン窒化物、銅、銅を含有する合金、ニッケル、クロム、クロム窒化物、モリブデン、モリブデンを含有する合金、チタン、チタン窒化物、白金、タンタル、タンタル窒化物、ネオジム、スカンジウム、ストロンチウムルテニウム酸化物、亜鉛酸化物、インジウム錫酸化物、錫酸化物、インジウム酸化物、ガリウム酸化物、インジウム亜鉛酸化物などを含むことができる。これらは単独または互いに組合わせて使うことができる。また、第１電極９５は、プリンティング工程、スパッタリング工程、化学気相蒸着工程、原子層積層工程、真空蒸着工程、パルスレーザー蒸着工程などを利用して形成されることができる。例示的な実施形態において、第１電極９５は、金属膜、合金膜、金属窒化物膜、導電性金属酸化物膜、及び／または、透明導電性物質膜を含む断層構造または多層構造で形成されることができる。
【００６７】
第１電極９５上には画素定義膜１００が配置することができる。画素定義膜１００は、有機物質、無機物質などを使って形成することができる。例えば、画素定義膜１００は、フォトレジスト、ポリアクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、アクリル系樹脂、シリコン化合物などを使って形成することができる。また、画素定義膜１００は、スピンコーティング工程、スプレー工程、プリンティング工程、化学気相蒸着工程などを利用して第１電極９５上に形成されることができる。例示的な実施形態によれば、画素定義膜１００をエッチングして第１電極９５を部分的に露出させる開口（ｏｐｅｎｉｎｇ）を形成することができる。このような画素定義膜１００の開口によって前記表示装置の表示領域と非表示領域が定義されることができる。例えば、画素定義膜１００の開口が位置する部分が前記表示領域に該当でき、前記非表示領域は画素定義膜１００の開口に隣接する部分に該当することができる。
【００６８】
発光構造物１０５は画素定義膜１００の開口を通じて露出する第１電極９５上に配置することができる。また、発光構造物１０５は画素定義膜１００の開口の側壁上に延びることができる。発光構造物１０５は、レーザー転写工程、プリンティング工程などを利用して収得することができる。例示的な実施形態において、発光構造物１０５は、有機発光層（ＥＬ）、正孔注入層（ＨＩＬ）、正孔輸送層（ＨＴＬ）、電子輸送層（ＥＴＬ）、電子注入層（ＥＩＬ）などを含む多層構造を有することができる。発光構造物１０５の有機発光層は、前記表示装置の各画素により赤色光、緑色光、青色光などのような、互いに異なる色光を発生させることのできる発光物質を使って形成することができる。他の例示的な実施形態によれば、発光構造物１０５の有機発光層は、赤色光、緑色光、青色光などの互いに異なる色光を具現できる複数の発光物質が積層されて白色光を発光する構造を有することもできる。
【００６９】
第２電極１１０は画素定義膜１００と発光構造物１０５上に配置することができる。前記表示装置の発光方式により、第２電極１１０も透光性を有する物質または、反射性を有する物質を含むことができる。例えば、第２電極１１０は、アルミニウム、アルミニウムを含有する合金、アルミニウム窒化物、銀、銀を含有する合金、タングステン、タングステン窒化物、銅、銅を含有する合金、ニッケル、クロム、クロム窒化物、モリブデン、モリブデンを含有する合金、チタン、チタン窒化物、白金、タンタル、タンタル窒化物、ネオジム、スカンジウム、ストロンチウムルテニウム酸化物、亜鉛酸化物、インジウム錫酸化物、錫酸化物、インジウム酸化物、ガリウム酸化物、インジウム亜鉛酸化物などを含むことができる。これらは単独または互いに組合わせて使うことができる。また、第２電極１１０は、プリンティング工程、スパッタリング工程、化学気相蒸着工程、原子層積層工程、真空蒸着工程、パルスレーザー蒸着工程などを利用して形成することができる。例示的な実施形態において、第２電極１１０も金属膜、合金膜、金属窒化物膜、導電性金属酸化物膜、及び／または、透明導電性物質膜を含む断層構造または多層構造で形成することができる。
【００７０】
第２電極１１０上には第２基板１２０が配置することができる。第２基板１２０は、透明絶縁基板を含むことができる。例えば、第２基板１２０は、ガラス、石英、透明絶縁樹脂などで構成されることができる。例示的な実施形態において、第２電極１１０と第２基板１２０との間には所定の空間が提供されることができ、このような第２電極１１０と第２基板１２０との間の空間には空気（ａｉｒ）或いは窒素（Ｎ２）のような不活性カスが充填されることができる。
【００７１】
他の例示的な実施形態によれば、第２電極１１０と第２基板１２０との間には保護膜（図示せず）が追加的に配置することができる。この場合、前記保護膜は、フォトレジスト、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、シロキサン系樹脂などで構成されることができる。
【００７２】
図２においては、表示パネル１０として有機発光表示装置の表示パネルを例示的に図示したが、電極間に介在される液晶層を具備する液晶表示装置の表示パネル上にも例示的な実施形態に係るタッチパネルが配置することができる。
【００７３】
また、図１を参照すれば、前記表示装置のタッチパネルは、有機発光表示パネルまたは、液晶表示パネルのような表示パネル１０上に配置することができる。前記タッチパネルは、位相遅延層２０、タッチ感知構造物３０、偏光板３５、接着層４０、ウインドウ４５などを含むことができる。上述した通り、前記タッチパネルと表示パネル１０の間の結合力を向上させるために、追加的な接着層が表示パネル１０と位相遅延層２０との間に介在することができる。前記追加的な接着層は、表示パネル１０と前記タッチパネルとの間の空間を埋めて表示パネル１０と前記タッチパネルの接合面積を増加させることができ、表示パネル１０と前記タッチパネルを固定することができる。例えば、前記追加的な接着層はゴム系（ｒｕｂｂｅｒ−ｂａｓｅｄ）接着剤、アクリル系接着剤、ビニールエーテル系（ｖｉｎｙｌ  ｅｔｈｅｒ−ｂａｓｅｄ）接着剤、シリコン系（ｓｉｌｉｃｏｎ−ｂａｓｅｄ）接着剤、ウレタン系（ｕｒｅｔｈａｎｅ−ｂａｓｅｄ）接着剤などを含むことができる。他の例示的な実施形態により、前記追加的な接着層が感圧性（ｐｒｅｓｓｕｒｅ−ｓｎｅｓｉｔｉｖｅ）接着剤を含む場合には、前記タッチパネル及び／または表示パネル１０に加えられる圧力に従がって、前記追加的な接着層が介在した前記タッチパネルと表示パネル１０との間の接着力がより増加することができる。
【００７４】
例示的な実施形態において、位相遅延層２０は、λ／４位相差フィルムを含むことができる。このようなλ／４位相差フィルムは、位相遅延層２０の光軸に実質的に平行し、互いに垂直する２つの偏光成分に対してλ／４程度の位相差を付与することができる。これに伴い、前記λ／４位相差フィルムは、線偏光を円偏光に変化させるか、または、円偏光を線偏光に変化させることができる。すなわち、位相遅延層２０は、表示パネル１０から放出される光を円偏光から線偏光に変化させるか、または、線偏光から円偏光に変化させることができる。位相遅延層２０は入射光に対して所定の位相遅延値を付与することができる。例えば、位相遅延層２０は、約１００ｎｍ〜約２００ｎｍ程度の位相遅延値を有することができる。
【００７５】
位相遅延層２０は、ポリマーからなる複屈折性フィルム、液晶配向フィルム、所定の機材上に形成された液晶ポリマーの配向層などを含むことができる。例えば、位相遅延層２０は、ポリカーボネート（ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ）、ポリビニルアルコール（ｐｏｌｙｖｉｎｙｌａｌｃｏｈｏｌ）、ポリスチレン（ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ）、ポリメチルメタクリレート（ｐｏｌｙｍｅｔｈｙｌｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）、ポリプロピレン（ｐｏｌｙｐｒｏｐｙｌｅｎｅ）、ポリオレフィン（ｐｏｌｙｏｌｅｆｉｎｅ）、ポリアリレート（ｐｏｌｙａｒｙｌａｔｅ）、ポリアミド（ｐｌｏｙａｍｉｄｅ）、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース（ｔｒｉａｃｅｔｙｌｃｅｌｌｕｏｓｅ）等を使って形成することができる。
【００７６】
例示的な実施形態によれば、第１及び第２感知パターン１５、２５は、位相遅延層２０の互いに対向する面上に集積形成されることができる。例えば、タッチ感知構造物３０の第１感知パターン１５は位相遅延層２０の第１面（例えば、底面）上に配置されることができ、第２感知パターン２５は、位相遅延層２０の第１面に実質的に対向する位相遅延層２０の第２面（例えば、上面）上に位置することができる。他の例示的な実施形態において、第１感知パターン１５が位相遅延層２０の第２面上に位置することができ、第２感知パターン２５が位相遅延層２０の第１面上に位置することもできる。また、他の例示的な実施形態によれば、第１感知パターン１５は位相遅延層２０の底面上に直接形成されることができ、第２感知パターン２５の偏光板３５の底面上に直接形成されることもできる。
【００７７】
図３は本発明の例示的な実施形態に係る位相遅延層とタッチ感知構造物を説明するための分解図である。
【００７８】
図１及び図３を参照すれば、タッチ感知構造物３０は位相遅延層２０の第１面上に配置される第１感知パターン１５と位相遅延層２０の第２面上に配置される第２感知パターン２５を含むことができる。例示的な実施形態において、第１感知パターン１５と第２感知パターン２５は、互いに異なる方向に沿って延びることができる。例えば、第１及び第２感知パターン１５、２５は、それぞれ実質的に直交する方向に沿って延びることができる。
【００７９】
図３に図示したように、第１感知パターン１５は複数の第１感知セル（ｓｅｎｓｉｎｇ  ｃｅｌｌｓ）１８、複数の第１接続部１７及び複数の第１パッド１６で構成されることができる。例示的な実施形態において、第１感知セル１８は、それぞれ菱状、または、ダイヤモンドのような形状を有することができる。隣接する第１感知セル１８は、１つの第１接続部１７を介在して離隔されることができ、このような方式で複数の第１感知セル１８が複数の第１接続部１７を介在して位相遅延層２０の第１面上に規則的に配列されることができる。第１接続部１７は、同じＸ座標またはＹ座標を有する第１感知セル１８を互いに接続することができる。他の例示的な実施形態によれば、第１感知セル１８は、それぞれ円形、楕円形または、多角形のような多様な形状を有することもできる。また、第１感知パターン１５は、列単位で第１感知セル１８に電気的に接続されるように第１パッド１６を含むことができる。第１感知パターン１５の第１パッド１６は、列単位で位相遅延層２０の第１面の上側または下側に互いに交互に配置することができる。また、第１パッド１６が位相遅延層２０の第１面の上側及び下側に全部備わることもできる。
【００８０】
例示的な実施形態において、第１感知パターン１５は透明導電性物質を使って形成することができる。例えば、位相遅延層２０の第１面上に第１透明導電膜（図示せず）を形成した後、このような第１透明導電膜をパターニングして位相遅延層２０の第１面上に上述した構造を有する第１感知パターン１５を直接形成することができる。この場合、前記第１透明導電膜は、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、亜鉛錫酸化物（ＺＴＯ）、ガリウム酸化物、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、亜鉛酸化物、錫酸化物などを使って形成することができる。また、前記第１透明導電膜は、スパッタリング工程、メッキ工程、パルスレーザー蒸着工程、真空蒸着工程、プリンティング工程などを利用して形成されることができる。
【００８１】
第２感知パターン２５は複数の第２感知セル２８、複数の第２接続部２７及び複数の第２パッド２６を含むことができる。例示的な実施形態によれば、第２感知セル２８もそれぞれ菱状または、ダイヤモンドの形状を有することができ、隣接する第２感知セル２８が第２接続部２７を介在して所定の間隔で離隔されることができる。このような方式で、複数の第２感知セル２８が複数の第２接続部２７を介在して位相遅延層２０の第２面上に規則的に配置することができる。この場合、第２感知セル２８は、第１感知セル１８と実質的に重ならないように配置することができる。例えば、第１感知セル１８と第２感知セル２８が、位相遅延層２０の第１面及び第２面上に交互的に配置することができる。また、第２接続部２７は、同一のＸ座標またはＹ座標を有する第２感知セル２８を互いに接続することができる。他の例示的な実施形態によれば、第２感知セル２８はそれぞれ円形、楕円形または、多角形のような多様な形状を有することもできる。また、第２感知パターン２５は列単位で第２感知セル２８に電気的に接続されるように第２パッド２６を含むことができる。第２感知パターン２５の第２パッド２６は列単位で位相遅延層２０の第２面の左側、または、右側に互いに交互に配置することができる。また、第２パッド２６が位相遅延層２０の第２面の左側及び右側に全部形成することもできる。
【００８２】
例示的な実施形態によれば、第２感知パターン２５も透明導電性物質を使って形成することができる。例えば、位相遅延層２０の第２面上に第２透明導電膜（図示せず）を形成した後、このような第２透明導電膜をパターニングして位相遅延層２０の第２面上に上述した構造を有する第２感知パターン２５を集積形成することができる。例えば、前記第２透明導電膜は、インジウム錫酸化物、亜鉛錫酸化物、ガリウム酸化物、インジウム亜鉛酸化物、亜鉛酸化物などを使って形成することができる。また、前記第２透明導電膜もスパッタリング工程、メッキ工程、パルスレーザー蒸着工程、真空蒸着工程、プリンティング工程などを利用して形成することができる。一方、第２感知パターン２５は、第１感知パターン１５と実質的に同一であるか、または、実質的に類似の物質からなることもできるが、第１及び第２感知パターン１５、２５が互いに相異する透明導電性物質で構成することもできる。
【００８３】
上述した構成を有するタッチ感知構造物３０を含むタッチパネルに人の手や物体が接触すれば、対応する第１及び第２感知パターン１５、２５、金属配線（図示せず）、位置検出ライン（図示せず）などを経由して駆動回路側で手や物体の接触位置による静電容量の変化が伝えられることができる。このような静電容量の変化を電気的信号に変換して前記タッチパネル上の接触位置を把握することができる。    
【００８４】
他の例示的な実施形態によれば、位相遅延層２０と第２感知パターン２５上に追加的な保護膜（図示せず）が配置することができる。このような追加的な保護膜は透明絶縁物質を使って形成することができる。
【００８５】
本発明の例示的な実施形態によって前記タッチパネルが位相遅延層２０上に直接的に形成されたタッチ感知構造物３０を含む場合には、従来のタッチパネルのタッチ感知センサのために約０.１ｍｍ〜約０.５ｍｍ程度の厚い厚さを有するベースフィルムが要求されないので前記タッチパネルの厚さを減少させることができる。また、タッチ感知構造物３０が位相遅延層２０上に直接形成される場合、表示パネル１０から放出される光の透過率を増加させることができ、光の反射率は相対的に減少させることがあるので、光損失を顕著に減少させることができる。さらに、従来のタッチパネルに比べて要求される層の数を減少させることができるので、前記タッチパネルを含む表示装置の工程収率と効率を大きく増加させることができる。
【００８６】
また、図１を参照すれば、第２感知パターン２５が形成された位相遅延層２０の第２面上に偏光板３５が配置することができる。偏光板３５は、外光反射を抑制して表示パネル１０により表示される画面の視認性を向上させることができる。偏光板３５は、位相遅延層２０を通過した光の方向を整列することができ、入射光を互いに直交する２種類の偏光成分に分け、その一成分のみを通過させて他の成分は吸収または、分散させることができる。例えば、偏光板３５はヨード系（ｉｏｄｉｎｅ  ｔｙｐｅ）偏光フィルム、染料系（ｄｙｅ−ｂａｓｅｄ）偏光フィルム、ポリエン系（ｐｏｌｙｅｎｅ−ｂａｓｅｄ）偏光フィルムなどを含むことができる。例示的な実施形態において、偏光板３５は吸収軸と偏光軸を具備することができる。ここで、前記吸収軸は、ヨードイオン鎖、または、異色性染料が延伸配向された軸であることができる。前記吸収軸において、入射された光が偏光板３５内の電子と相互作用し、光の電気的エネルギーが電子のエネルギーに変わって光の成分を消滅させることができる。前記偏光軸は、前記吸収軸に垂直の軸として前記偏光軸方向に振動する光を透過させることができる。
【００８７】
ウインドウ４５は、接着層４０を介在して偏光板３５上に配置することができる。接着層４０は、偏光板３５とウインドウ４０との間の結合力を増加させることができる。例えば、接着層４０は、ゴム系接着剤、アクリル系接着剤、ビニールエーテル系接着剤、シリコン系接着剤、ウレタン系接着剤、感圧性接着剤などからなることができる。
【００８８】
ウインドウ４５は、ガラス、石英、または、透明レジンと同じ透明な物質を含むことができる。ウインドウ４５は、表示パネル１０と前記タッチパネルを外部の衝撃、湿気、パーティクルなどから保護する役割を遂行することができる。
【００８９】
図４は、本発明の他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを含む表示装置を説明するための断面図である。図４に例示的に図示した表示装置は、第１位相遅延層２１０及び第２位相遅延層２２５を除けば、図１〜図３を参照して説明した表示装置と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
【００９０】
図４を参照すれば、前記表示装置は表示パネル２００とタッチパネルを具備することができ、前記タッチパネルは第１位相遅延層２１０、タッチ感知構造物２２０、第２位相遅延層２２５、偏光板２３０、接着層２３５及びウインドウ２４０を含むことができる。
【００９１】
タッチ感知構造物２２０の複数の第１感知パターン２０５は第１位相遅延層２１０の第１面（例えば、第１位相遅延層２１０の底面）上に配置されるか、または、タッチ感知構造物２２０の複数の第２感知パターン２１５は、第１位相遅延層２１０の第２面（例えば、第１位相遅延層２１０の上面）上に配置されるか、または、第２位相遅延層２２５の第１面（例えば、第２位相遅延層２２５の底面）上に位置することができる。例示的な実施形態によれば、第１及び第２感知パターン２０５、２１５を含むタッチ感知構造物２２０が第１位相遅延層２１０上に直接形成されることができる。他の例示的な実施形態において、タッチ感知構造物２２０の第１感知パターン２０５は、第１位相遅延層２１０上に直接形成されることができる一方、タッチ感知構造物２２０の第２感知パターン２１５は、第２位相遅延層２２５上に直接形成されることができる。ここで、タッチ感知構造物２２０の第１及び第２感知パターン２０５、２１５は、図３を参照して説明した第１及び第２感知パターン１５、２５と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
【００９２】
例示的な実施形態において、第１位相遅延層２１０は、λ／４位相差フィルムを含むことができ、第２位相遅延層２２５は、λ／２位相差フィルムを含むことができる。この場合、表示基板２００から放出される光のＸ軸成分とＹ軸成分が第１位相遅延層２１０を通過しながらλ／４程度の位相差を有することができるので、第１位相遅延層２１０は、線偏光を円偏光に変更させたり、または、円偏光を線偏光に変更させることができる。第２位相遅延層２２５は、入射される光のＸ軸成分とＹ軸成分が互いにλ／２程度の位相差を有するようにできるため、線偏光を円偏光または、楕円偏光に変更させることができる。
【００９３】
偏光板２３０、接着層２３５、及びウインドウ２４０は、第２位相差遅延層２２５上に次々と配置することができる。偏光板２３０、接着層２３５、及びウインドウ２４０は、図１を参照して説明した偏光板３５、接着層４０、及びウインドウ４５とそれぞれ実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
【００９４】
図５は本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを具備する表示装置を説明するための断面図である。図５に例示した表示装置は、タッチ感知構造物２６０を除けば、図１〜図３を参照して説明した表示装置と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
【００９５】
図５に図示したように、前記表示装置はタッチパネルが液晶表示パネル、または、有機発光表示パネルと同じ表示パネル２５０上に配置される構成を有することができる。前記タッチパネルは位相遅延層２５５、タッチ感知構造物２６０、偏光板２６５、接着層２７０及びウインドウ２７５を含むことができる。
【００９６】
例示的な実施形態において、位相遅延層２５５は、λ／４位相差フィルムを含むことができ、表示パネル２５０上に配置することができる。この場合、位相遅延層２５５と表示パネル２５０との間の結合力向上のために追加的な接着層（図示せず）が表示パネル２５０と位相遅延層２５５との間に形成されることができる。
【００９７】
タッチ感知構造物２６０は、位相遅延層２５５上に直接配置されることができ、図３を参照して説明した第１感知パターン１５及び第２感知パターン２５のうち、一種類の感知パターンと実質的に同一または実質的に類似の構造を有する複数の感知パターンを含むことができる。他の例示的な実施形態によれば、タッチ感知構造物２６０は、図３に例示した第１感知パターン１５及び第２感知パターン２５が混合した構造を有する複数の感知パターンを含むこともできる。例えば、タッチ感知構造物２６０は、図３に例示した第１及び第２感知パターン１５、２５が、列または行に沿って交互に反復される構造を有する複数の感知パターンを含むことができる。
【００９８】
タッチ感知構造物２６０が形成された位相遅延層２５５上には偏光板２６５、接着層２７０、及びウインドウ２７５が次々と配置されることができる。ここで、偏光板２６５、接着層２７０、及びウインドウ２７５は、それぞれ図１を参照して説明した偏光板３５、接着層４０、及びウインドウ４５と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
【００９９】
図６は本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを含む表示装置を示す断面図である。図６に図示した表示装置はタッチ感知構造物３０５を除けば、図１を参照して説明した表示装置の場合と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
【０１００】
図６を参照すれば、前記表示装置は表示パネル３００とタッチパネルを具備することができ、前記タッチパネルはタッチ感知構造物３０５、位相遅延層３１０、偏光板３１５、接着層３２０、及びウインドウ３２５を含むことができる。ここで、偏光板３１５、接着層３２０及びウインドウ３２５はそれぞれ図１を参照して説明した偏光板３５、接着層４０及びウインドウ４５と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
【０１０１】
タッチ感知構造物３０５は、表示パネル３００に対向する位相遅延層３１０の一面上に直接形成されることができる。この場合、タッチ感知構造物３０５は、図３を参照して説明した第１感知パターン１５及び第２感知パターン２５のうち、いずれか１つの種類の感知パターンと実質的に同一または実質的に類似の構成を有する複数の感知パターンを含むことができるが、第１及び第２感知パターン１５、２５が混合した構成を有する複数の感知パターンを含むこともできる。例えば、タッチ感知構造物３０５は、図３に例示した第１及び第２感知パターン１５、２５が列または行に沿って交互に反復される構造を有する複数の感知パターンで構成されることもできる。
【０１０２】
図７は本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを含む表示装置を説明するための断面図である。図７において、前記表示装置はタッチ感知構造物３７５の配置を除けば、図１を参照して説明した表示装置の場合と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
【０１０３】
図７を参照すれば、前記表示装置は表示パネル３５０とタッチパネルを含むことができ、前記タッチパネルは位相遅延層３５５、偏光板３６５、タッチ感知構造物３７５、接着層３８０、及びウインドウ３８５を具備することができる。ここで、位相遅延層３５５、偏光板３６５、接着層３８０、及びウインドウ３８５は、それぞれ図１を参照して説明した位相遅延層２０、偏光板３５、接着層４０、及びウインドウ４５と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。他の例示的な実施形態によれば、表示パネル３５０と位相遅延層３５５との間には表示パネル３５０と前記タッチパネルとの間の結合の安定性を増加させるために追加的な接着層（図示せず）が配置することができる。
【０１０４】
タッチ感知構造物３７５は、位相遅延層３５５上に配置される複数の第１感知パターン３６０と偏光板３６５上に位置する複数の第２感知パターン３７０を含むことができる。例示的な実施形態によれば、第１感知パターン３６０は位相遅延層３５５上に直接形成されることができ、第２感知パターン３７０は偏光板３６５上に直接形成されることができる。この場合、第１感知パターン３６０が図３に例示した第２感知パターン２５と実質的に同一または実質的に類似の構造を有することができ、第２感知パターン３７０が図３に例示した第１感知パターン１５と実質的に同一または実質的に類似の構造を有することもある。他の例示的な実施形態によれば、第１感知パターン３６０が図３に例示した第１感知パターン１５と実質的に同一または実質的に類似の構造を有することができ、第２感知パターン３７０が図３に例示した第２感知パターン２５と実質的に同一または実質的に類似の構造を有することもできる。
【０１０５】
図８は本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを具備する表示装置を説明するための断面図である。図８に例示した表示装置はタッチ感知構造物４２０を除けば、図１を参照して説明した表示装置の場合と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
【０１０６】
図８に図示したように、前記表示装置は表示パネル４００と表示パネル４００上に配置されるタッチパネルを具備することができる。前記タッチパネルは位相遅延層４０５、位相遅延層４０５上に配置されるタッチ感知構造物４２０、タッチ感知構造物４２０上に配置される偏光板４２５、偏光板４２５上に配置される接着層４３０、そして接着層４３０上に位置するウインドウ４３５を含むことができる。この場合、位相遅延層４０５、偏光板４２５、接着層４３０、及びウインドウ４３５は、それぞれ図１を参照して説明した位相遅延層２０、偏光板３５、接着層４０、及びウインドウ４５と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。一方、表示パネル４００と位相遅延層４０５との間には追加的な接着層が介在することができる。
【０１０７】
例示的な実施形態によれば、タッチ感知構造物４２０は、位相遅延層４０５上面上に位置する複数の第１感知パターン４１０と偏光板４２５の底面上に配置される複数の第２感知パターン４１５を含むことができる。例えば、第１感知パターン４１０は、位相遅延層４０５の上面上に直接形成されることができ、第２感知パターン４１５は、偏光板４２５の底面上に直接形成されることができる。ここで、第１感知パターン４１０及び第２感知パターン４１５は、それぞれ図３を参照して説明した第２感知パターン２５及び第１感知パターン１５と実質的に同一または実質的に類似の構造を有することができる。これとは異なって、第１及び第２感知パターン４１０、４１５は、それぞれ図３に例示した第１及び第２感知パターン１５、２５と実質的に同一または実質的に類似の構造を有することもできる。
【０１０８】
図９は本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを具備する表示装置を示す断面図である。図９に例示した表示装置はタッチ感知構造物４７０の第１及び第２感知パターン４５５、４６５の配置を除けば、図１を参照して説明した表示装置の場合と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
【０１０９】
図９に図示した通り、前記表示装置は表示パネル４５０に結合されるタッチパネルを具備し、前記タッチパネルはタッチ感知構造物４７０、位相遅延層４６０、偏光板４７５、接着層４８０、及びウインドウ４８５を含むことができる。位相遅延層４６０、偏光板４７５、接着層４８０、及びウインドウ４８５は、それぞれ図１を参照して説明した位相遅延層２０、偏光板３５、接着層４０、及びウインドウ４５と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
【０１１０】
タッチ感知構造物４７０は、それぞれ位相遅延層４６０の底面と上面上に直接形成される第１感知パターン４５５及び第２感知パターン４６５を含むことができる。この場合、第１感知パターン４５５及び第２感知パターン４６５は、それぞれ図３を参照して説明した第２感知パターン２５及び第１感知パターン１５と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。他の例示的な実施形態によれば、第１感知パターン４５５が位相遅延層４６０の底面上に直接形成されることができ、第２感知パターン４６５が偏光板４７５の底面上に直接形成されることができる。例えば、第１及び第２感知パターン４５５、４６５は、それぞれプリンティング工程、スプレー工程、真空蒸着工程、スパッタリング工程、パルスレーザー蒸着工程などを利用して収得されることができる。
【０１１１】
図１０は本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを含む表示装置を説明するための断面図である。図１０に例示的に図示した表示装置はタッチ感知構造物５２５の配置を除けば図１を参照して説明した表示装置の場合と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
【０１１２】
図１０を参照すれば、前記表示装置は表示パネル５００と上に配置されるタッチパネルを具備することができる。前記タッチパネルはタッチ感知構造物５２５、位相遅延層５１０、偏光板５１５、接着層５３０、及びウインドウ５３５を含むことができる。タッチ感知構造物５２５の第１感知パターン５０５は、位相遅延層５１０の底面上に直接形成されることができ、タッチ感知構造物５２５の第２感知パターン５２０は偏光板５１５の上面上に直接形成されることができる。これに従って、偏光板５１５と位相遅延層５１０が直接接触することができる。第１及び第２感知パターン５０５、５２０は、それぞれ図３を参照して説明した第２及び第１感知パターン２５、１５と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
【０１１３】
本発明の例示的な実施形態によれば、前記タッチパネルが位相遅延層５１０及び偏光板５１５上に直接的に形成される第１及び第２感知パターン５０５、５２０を含むタッチ感知構造物５２５を具備できるから、厚い厚さを有するベースフィルムが要求されないので前記タッチパネルの厚さを減少させることができる。また、タッチ感知構造物５２５が、位相遅延層５１０及び偏光板５１５上に直接形成されることがあるので、前記表示装置の表示パネル５００から放出される光の損失を減少させることができる。
【０１１４】
図１１は本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを含む表示装置を示す断面図である。図１１に図示した表示装置は第１及び第２位相遅延層５５５、５６５とタッチ感知構造物５７５を除けば、図１を参照して説明した表示装置の場合と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
【０１１５】
図１１を参照すれば、前記表示装置は表示パネル５５０とタッチパネルを具備することができる。前記タッチパネルは第１位相遅延層５５５、第２位相遅延層５６５、第１及び第２感知パターン５６０、５７０を具備するタッチ感知構造物５７５、偏光板５８０、接着層５８５及びウインドウ５９０を含むことができる。第１及び第２位相遅延層（５５５、５６５）はそれぞれ図４を参照して説明した第１位相遅延層２１０及び第２位相遅延層２２５と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。また、偏光板５８０、接着層５８５及びウインドウ５９０はそれぞれ図１を参照して説明した偏光板３５、接着層４０及びウインドウ４５と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
【０１１６】
例示的な実施形態によれば、タッチ感知構造物５７５の第１感知パターン５６０は第１位相遅延層５５５の上面上に直接形成されるか、または、第２位相遅延層５６５の底面上に直接形成されることができる。第２感知パターン５７０は、第２位相遅延層５６５の上面または偏光板５８０の底面上に直接形成されることができる。第１及び第２感知パターン５６０、５７０は、それぞれ図３を参照して説明した第１及び第２感知パターン１５、２５と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
【０１１７】
図１２は本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを具備する表示装置を示す断面図である。図１２において、前記表示装置はタッチ感知構造物６１５を除けば図４を参照して説明した表示装置の場合と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
【０１１８】
図１２を参照すれば、前記表示装置は表示パネル６００と表示パネル６００上に付着するタッチパネルを具備することができる。前記タッチパネルは第１位相遅延層６０５、第２位相遅延層６１０、タッチ感知構造物６１５、偏光板６２０、接着層６２５及びウインドウ６３０を含むことができる。第１及び第２位相遅延層６０５、６１０は、それぞれ図４を参照して説明した第１位相遅延層２１０及び第２位相遅延層２２５と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。偏光板６２０、接着層６２５、及びウインドウ６３０はそれぞれ図１を参照して説明した偏光板３５、接着層４０、及びウインドウ４５と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
【０１１９】
例示的な実施形態によれば、タッチ感知構造物６１５は、第２位相遅延層６１０の上面上に直接形成されるか、または、偏光板６２０の底面上に直接形成されることができる。ここで、タッチ感知構造物６１５は、図３を参照して説明した第１感知パターン１５及び第２感知パターン２５のうち、一種類の感知パターンと実質的に同一または実質的に類似の構造を有する複数の感知パターンを含むことができる。他の例示的な実施形態によれば、タッチ感知構造物６１５は、図３に例示的に図示した第１感知パターン１５及び第２感知パターン２５が混合した構造を有する複数の感知パターンを含むこともできる。例えば、タッチ感知構造物６１５は、図３に例示した第１及び第２感知パターン１５、２５が列または行に沿って交互に反復される構造を有する複数の感知パターンを含むことができる。
【０１２０】
図１３は本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを具備する表示装置を説明するための断面図である。図１３に例示的に図示した表示装置は、タッチ感知構造物６６０を除けば図４を参照して説明した表示装置の場合と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
【０１２１】
図１３に図示した通り、前記表示装置は表示パネル６５０と表示パネル６５０に結合されるタッチパネルを具備することができる。前記タッチパネルは第１位相遅延層６５５、タッチ感知構造物６６０、第２位相遅延層６６５、偏光板６７０、接着層６７５、及びウインドウ６８０を含むことができる。第１及び第２位相遅延層６５５、６６５は、それぞれ図４を参照して説明した第１位相遅延層２１０及び第２位相遅延層２２５と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。また、偏光板６７０、接着層６７５、及びウインドウ６８０は、それぞれ図１を参照して説明した偏光板３５、接着層４０、及びウインドウ４５と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
【０１２２】
例示的な実施形態において、タッチ感知構造物６６０は、第１位相遅延層６５５の上面上に直接形成されるか、または、第２位相遅延層６６５の底面上に直接形成されることができる。タッチ構造物６６０は、図５を参照して説明したタッチ感知構造物２６０と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
【０１２３】
図１４は本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを具備する表示装置を示す断面図である。図１４に例示的に図示した表示装置はタッチ感知構造物７３０の配置を除けば図４を参照して説明した表示装置の場合と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
【０１２４】
図１４を参照すれば、前記表示装置は表示パネル７００とタッチパネルを具備することができる。前記タッチパネルは、第１位相遅延層７０５、第２位相遅延層７１０、タッチ感知構造物７３０、偏光板７２０、接着層７３５、及びウインドウ７４０を含むことができる。第１位相遅延層７０５及び第２位相遅延層７１０は、それぞれ図４を参照して説明した第１位相遅延層２１０及び第２位相遅延層２２５と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。また、偏光板７２０、接着層７３５、及びウインドウ７４０は、それぞれ図１を参照して説明した偏光板３５、接着層４０、及びウインドウ４５と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
【０１２５】
例示的な実施形態によれば、タッチ感知構造物７３０は、第１感知パターン７１５及び第２感知パターン７２５で構成されることができる。第１感知パターン７１５は、第２位相遅延層７１０の上面上に直接形成されるか、または、偏光板７２０の底面上に直接形成されることができる。第２感知パターン７２５は、偏光板７２０の上面上に直接形成されることができる。第１感知パターン７１５及び第２感知パターン７２５は、それぞれ図３を参照して説明した第２感知パターン２５及び第１感知パターン１５と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
【０１２６】
図１５は本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを含む表示装置を説明するための断面図である。図１５において、前記表示装置はタッチ感知構造物７７５の配置を除けば、図８を参照して説明した表示装置の場合と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
【０１２７】
図１５を参照すれば、前記表示装置は表示パネル７５０とタッチパネルを具備することができる。前記タッチパネルは第１位相遅延層７５５、第２位相遅延層７６０、タッチ感知構造物７７５、偏光板７８０、接着層７８５、及びウインドウ７９０を含むことができる。第１位相遅延層７５５及び第２位相遅延層７６０は、それぞれ図４を参照して説明した第１位相遅延層２１０及び第２位相遅延層２２５と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。偏光板７８０、接着層７８５及びウインドウ７９０は、それぞれ図１を参照して説明した偏光板３５、接着層４０、及びウインドウ４５と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
【０１２８】
例示的な実施形態によれば、タッチ感知構造物７７５は、第１感知パターン７６５及び第２感知パターン７７０で構成されることができる。第１感知パターン７６５は、第２位相遅延層７６０の上面上に形成されることができて、第２感知パターン７７０は、偏光板７８０の底面上に直接形成されることができる。ここで、第１感知パターン７６５及び第２感知パターン７７０は、それぞれ図３を参照して説明した第２感知及び第１感知パターン１５と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
【０１２９】
図１６は本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを具備する表示装置を説明するための断面図である。図１６に例示的に図示した表示装置は、第１位相遅延層８０５及び第２位相遅延層８１５と、タッチ感知構造物８２５とを除けば図１を参照して説明した表示装置の場合と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
【０１３０】
図１６に図示した通り、前記表示装置は表示パネル８００とタッチパネルを具備することができ、前記タッチパネルは第１位相遅延層８０５、タッチ感知構造物８２５、第２位相遅延層８１５、偏光板８３０、接着層８３５、及びウインドウ８４０を含むことができる。第１位相遅延層８０５及び第２位相遅延層８１５は、それぞれ図４を参照して説明した第１位相遅延層２１０及び第２位相遅延層２２５と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。他の例示的な実施形態において、前記タッチパネルは表示パネル８００と第１位相遅延層８０５との間に配置される追加的な接着層を具備することもできる。また、偏光板８３０、接着層８３５、及びウインドウ８４０は、それぞれ図１を参照して説明した偏光板３５、接着層４０、及びウインドウ４５と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
【０１３１】
例示的な実施形態において、タッチ感知構造物８２５は、第１感知パターン８１０及び第２感知パターン８２０からなることができる。第１感知パターン８１０は、第１位相遅延層８０５の上面、または、第２位相遅延層８１５の底面上に直接形成されることができ、第２感知パターン８２０は、第２位相遅延層８１５の上面または、偏光板８３０の底面上に直接形成されることができる。第１感知パターン８１０及び第２感知パターン８２０は、それぞれ図３を参照して説明した第２感知パターン２５及び第１感知パターン１５と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
【０１３２】
図１７は本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを含む表示装置を説明するための断面図である。図１７に例示した表示装置はタッチ感知構造物８８０の配置を除けば、図４を参照して説明した表示装置の場合と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
【０１３３】
図１７を参照すれば、前記表示装置は表示パネル８５０とタッチパネルとを具備することができ、前記タッチパネルは第１位相遅延層８５５、タッチ感知構造物８８０、第２位相遅延層８６５、偏光板８７０、接着層８８５、及びウインドウ８９０を含むことができる。第１位相遅延層８５５及び第２位相遅延層８６５は、それぞれ図４を参照して説明した第１位相遅延層２１０及び第２位相遅延層２２５と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。他の例示的な実施形態において、前記タッチパネルは表示パネル８５０と第１位相遅延層８５５との間に配置される追加的な接着層を具備することもできる。一方、偏光板８７０、接着層８８５、及びウインドウ８９０は、それぞれ図１を参照して説明した偏光板３５、接着層４０、及びウインドウ４５と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
【０１３４】
例示的な実施形態によれば、タッチ感知構造物８８０の第１感知パターン８６０は、第１位相遅延層８５５の上面、または、第２位相遅延層８６５の底面上に直接形成されることができ、タッチ感知構造物８８０の第２感知パターン８７５は、偏光板８７０の上面上に直接形成されることができる。また、第１感知パターン８６０及び第２感知パターン８７５は、それぞれ図３を参照して説明した第２感知パターン２５及び第１感知パターン１５と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
【０１３５】
図１８は本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを含む表示装置を示す断面図である。図１８において、前記表示装置はタッチ感知構造物９２０の構造を除けば、図４を参照して説明した表示装置の場合と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
【０１３６】
図１８を参照すれば、前記表示装置は、表示パネル９００とタッチパネルを具備することができる。前記タッチパネルは、第１感知パターン９０５及び第２感知パターン９１５を有するタッチ感知構造物９２０、第１位相遅延層９１０、第２位相遅延層９２５、偏光板９３０、接着層９３５、及びウインドウ９４０を含むことができる。
【０１３７】
例示的な実施形態に係るタッチ感知構造物９２０において、第１感知パターン９０５は、第１位相遅延層９１０の底面上に直接形成されることができる。第２感知パターン９１５は、第１位相遅延層９１０の上面、または、第２位相遅延層９２５の底面上に直接形成されることができる。ここで、第１感知パターン９０５及び第２感知パターン９１５は、それぞれ図３を参照して説明した第２感知パターン２５及び第１感知パターン１５と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
【０１３８】
図１９は本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを具備する表示装置を示す断面図である。図１９に例示的に図示した表示装置はタッチ感知構造物９７０の構成を除けば、図４を参照して説明した表示装置の場合と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
【０１３９】
図１９に図示した通り、前記表示装置は表示パネル９５０とタッチパネルを具備することができる。前記タッチパネルは、第１位相遅延層９５５、第１感知パターン９６０及び第２感知パターン９６５を有するタッチ感知構造物９７０、第２位相遅延層９７５、偏光板９８０、接着層９８５、及びウインドウ９９０を具備することができる。
【０１４０】
例示的な実施形態に係るタッチ感知構造物９７０において、第１感知パターン９６０は、第１位相遅延層９５５の底面上に直接形成されることができて、第２感知パターン９６５は、第２位相遅延層９７５の底面上に直接形成されることができる。この場合、第１感知パターン９６０及び第２感知パターン９６５は、それぞれ図３を参照して説明した第２感知パターン２５及び第１感知パターン１５と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
【０１４１】
図２０は本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを含む表示装置を説明するための断面図である。図２０に例示した表示装置は第１位相遅延層１０１０及び第２位相遅延層１０１５とタッチ感知構造物１０２５の配置を除けば、図４を参照して説明した表示装置の場合と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
【０１４２】
図２０を参照すれば、前記表示装置は表示パネル（１０００）と表示パネル（１０００）に接合されるタッチパネルを含むことができる。前記タッチパネルは、第１感知パターン１００５及び第２感知パターン１０２０を含むタッチ感知構造物１０２５、第１位相遅延層１０１０、第２位相遅延層１０１５、偏光板１０３０、接着層１０３５、及びウインドウ１０４０を具備することができる。
【０１４３】
例示的な実施形態に係るタッチ感知構造物１０２５において、第１感知パターン１００５は、第１位相遅延層１０１０の底面上に直接形成され、第２感知パターン１０２０は、第２位相遅延層１０１５の上面、または、偏光板１０３０の底面上に直接形成されることができる。第１感知パターン１００５及び第２感知パターン１０２０は、それぞれ図３を参照して説明した第２感知パターン２５及び第１感知パターン１５と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
【０１４４】
図２１は本発明のまた他の例示的な実施形態に係るタッチパネルを含む表示装置を示す断面図である。図２１に例示的に図示した表示装置はタッチ感知構造物１０７５の構成を除けば、図４を参照して説明した表示装置の場合と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
【０１４５】
図２１を参照すれば、前記表示装置は、表示パネル１０５０と表示パネル１０５０に結合するタッチパネルを具備することができる。前記タッチパネルは第１位相遅延層１０５５、第１感知パターン１０６０及び第２感知パターン１０７０を含むタッチ感知構造物１０７５、第２位相遅延層１０６５、偏光板１０８０、接着層１０８５、及びウインドウ１０９０を含むことができる。第１位相遅延層１０５５及び第２位相遅延層１０６５は、それぞれ図４を参照して説明した第１位相遅延層２１０及び第２位相遅延層２２５と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。他の例示的な実施形態によれば、前記タッチパネルは、表示パネル１０５０と第１位相遅延層１０５５との間に配置される追加的な接着層を具備することもできる。また、偏光板１０８０、接着層１０８５、及びウインドウ１０９０は、それぞれ図１を参照して説明した偏光板３５、接着層４０、及びウインドウ４５と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
【０１４６】
例示的な実施形態に係るタッチ感知構造物１０７５において、第１感知パターン１０６０は、第１位相遅延層１０５５の上面、または、第２位相遅延層１０６５の底面上に直接形成されることができる。第２感知パターン１０７０は第２位相遅延層１０６５の上面、または、偏光板１０８０の底面上に直接形成されることができる。また、第１感知パターン１０６０及び第２感知パターン１０７０は、それぞれ図３を参照して説明した第２感知パターン２５及び第１感知パターン１５と実質的に同一または実質的に類似の構成を有することができる。
【０１４７】
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明はかかる例に限定されない。本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、これらについても、当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【産業上の利用可能性】
【０１４８】
本発明の例示的な実施形態に係る表示装置は、１つの位相遅延層、及び／または、偏光板上に直接的に配置されるタッチ感知構造物を含むタッチパネルを具備するから、前記タッチパネルの薄型化を通じて前記表示装置の厚さを減少させることができる。また、前記タッチ感知構造物を形成するための別途のベースフィルムが要求されないので、前記タッチ感知構造物の形成過程で発生されるむら（しみ）、パーティクルの残留などのような工程不良を防止することができる。さらに、前記タッチパネルを具備する前記表示装置は、表示パネルから放出される光の透過率を増加させることができるので、前記表示パネルの光損失を減少させることができる。これに伴い、前記表示装置をスリム化することができ、前記表示装置によって表示される画像の品質を向上させることができる。
【符号の説明】
【０１４９】
１０、２００、２５０、３００、３５０、４００、４５０、５００、５５０、６００、６５０、７００、７５０、８００、８５０、９００、９５０、１０００…表示パネル
１５、２０５、３６０、４１０、４５５、５０５、５６０、７１５、７６５、８１０、８６０、９０５、９６０、１００５、１０６０…第１感知パターン
１６…第１パッド
１７…第１接続部
１８…第１感知セル
２０、２５５、３１０、３５５、４０５、４６０、５１０…位相遅延層
２５、２１５、３７０、４１５、４６５、５２０、５７０、７２５、７７０、８２０、８７５、９１５、９６５、１０２０、１０７０…第２感知パターン
２６…第２パッド
２７…第２接続部
２８…第２感知セル
３０、２２０、２６０、３０５、３７５、４２０、４７０、５２５、５７５、６１５、６６０、７３０、７７５、８２５、８８０、９２０、９７０、１０２５…タッチ感知構造物
３５、２３０、２６５、３１５、３６５、４２５、４７５、５１５、５８０、６２０、６７０、７２０、７８０、８３０、８７０、９３０、９８０、１０３０、１０８０…偏光板
４０、２３５、２７０、３２０、３８０、４３０、４８０、５３０、５８５、６２５、６７５、７３５、７８５、８３５、８８５、９３５、９８５、１０３５、１０８５…接着層
４５、２４０、２７５、３２５、３８５、４３５、４８５、５３５、５９０.６３０、６８０、７４０、７９０、８４０、８９０、９４０、９９０、１０４０、１０９０…ウインドウ
５０…第１基板
５５…バッファ層
６０…アクティブ層
６５…ゲート絶縁膜
７０…ゲート電極
７５…層間絶縁膜
８０…ソース電極
８５…ドレーン電極
９０…絶縁層
９５…第１電極
１００…画素定義膜
１０５…発光構造物
１１０…第２電極
１２０…第２基板
２１０、５５５、６０５、６５５、７０５、７５５、８０５、、９１０、９５５、１０１０、１０５５…第１位相遅延層
２２５、５６５、６１０、６６５、７１０、７６０、８１５、８６５、９２５、９７５、１０１５、１０６５…第２位相遅延層 
【図１】
2013156975.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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