(57)【要約】【課題】継続的に水素を採集することができる水素発生装置等を提供する。【解決手段】無酸素状態雰囲気内に配置されたアルカリ金属及び酸素を含む反応剤と金属材料又は酸化物材料を加熱する加熱手段と、前記雰囲気内に水又は水蒸気を供給する水供給手段と、前記雰囲気内にて発生する水素の量が予め定められた量を下回った場合に水供給手段に水又は水蒸気を供給させるなどの処理を行う制御手段と、を備える水素発生装置とする。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
空気中の酸素を除去した無酸素状態雰囲気内に配置されたアルカリ金属及び酸素を含む反応剤と、前記雰囲気内に配置された表面に酸化物の膜を形成する金属材料又は酸化物から形成される酸化物材料を加熱する加熱手段と、
前記雰囲気内に水又は水蒸気を供給する水供給手段と、
前記雰囲気内にて発生する水素の量が予め定められた量を下回った場合に前記水供給手段に水又は水蒸気を供給させる制御手段と、
を備えることを特徴とする水素発生装置。
【請求項２】
空気中の酸素を除去した無酸素状態雰囲気内に配置されたアルカリ金属及び酸素を含む反応剤と、前記雰囲気内に配置された表面に酸化物の膜を形成する金属材料又は酸化物から形成される酸化物材料を加熱する加熱手段と、
前記雰囲気内に水又は水蒸気を供給する水供給手段と、
前記雰囲気内にて発生する水素の量が予め定められた量を下回った場合に前記加熱手段による加熱温度を上昇させる制御手段と、
を備えることを特徴とする水素発生装置。
【請求項３】
空気中の酸素を除去した無酸素状態雰囲気内に配置されたアルカリ金属及び酸素を含む反応剤と、前記雰囲気内に配置された表面に酸化物の膜を形成する金属材料又は酸化物から形成される酸化物材料を加熱する加熱手段と、
前記雰囲気内に水又は水蒸気を供給する水供給手段と、
前記雰囲気内に前記反応剤を供給する反応剤供給手段と、
前記雰囲気内にて発生する水素の量が予め定められた量を下回った場合に前記反応剤供給手段に反応剤を供給させる制御手段と、
を備えることを特徴とする水素発生装置。
【請求項４】
空気中の酸素を除去した無酸素状態雰囲気内に配置されたアルカリ金属及び酸素を含む反応剤と、前記雰囲気内に配置された表面に酸化物の膜を形成する金属材料又は酸化物から形成される酸化物材料を加熱する加熱手段と、
前記雰囲気内に水又は水蒸気を供給する水供給手段と、
前記雰囲気内にて発生する水素の量が予め定められた量を下回った場合にその旨を警告手段により警告させる制御手段と、
を備えることを特徴とする水素発生装置。
【請求項５】
請求項１乃至４の何れか一項に記載の水素発生装置であって、
前記反応剤は密閉性の反応容器内に収納され、
前記反応容器は前記金属材料又は前記酸化物材料により形成されていることを特徴とする水素発生装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、水素を発生させる水素発生装置の技術分野に関する。
【背景技術】
【０００２】
出願人は、空気中の酸素を除去した無酸素状態雰囲気内において、表面に酸化物の膜を形成する金属材料又は酸化物から形成される酸化物材料と、アルカリ金属溶融塩と、水を、無酸素状態雰囲気を減圧しながら加熱することにより、金属材料又は酸化物材料の表面から水素を発生させる技術に関して出願を行っている（例えば、特許文献１、２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】国際出願ＰＣＴ／ＪＰ２０１１／６６４７２
【特許文献２】特願２０１１−２６１４３０
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところが、上記出願の技術では、一定時間経過すると、無酸素状態雰囲気内の水（水蒸気）の量の減少、温度低下、アルカリ金属溶融塩の減少などにより、次第に水素の発生量が減少してきてしまうという問題があった。
【０００５】
本発明は、このような問題等に鑑みて為されたもので、継続的に水素を採集することができる水素発生装置等を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、請求項１に記載の発明は、空気中の酸素を除去した無酸素状態雰囲気内に配置されたアルカリ金属及び酸素を含む反応剤と、前記雰囲気内に配置された表面に酸化物の膜を形成する金属材料又は酸化物から形成される酸化物材料を加熱する加熱手段と、前記雰囲気内に水又は水蒸気を供給する水供給手段と、前記雰囲気内にて発生する水素の量が予め定められた量を下回った場合に前記水供給手段に水又は水蒸気を供給させる制御手段と、を備えることを特徴とする水素発生装置である。
【０００７】
この発明によれば、水素の発生量が減少すると水又は水蒸気が新たに供給されることから、無酸素状態雰囲気内の水又は水蒸気の量が減少したことによる水素発生量の減少を防ぐことができ、継続的に水素を採集することができる。
【０００８】
請求項２に記載の発明は、空気中の酸素を除去した無酸素状態雰囲気内に配置されたアルカリ金属及び酸素を含む反応剤と、前記雰囲気内に配置された表面に酸化物の膜を形成する金属材料又は酸化物から形成される酸化物材料を加熱する加熱手段と、前記雰囲気内に水又は水蒸気を供給する水供給手段と、前記雰囲気内にて発生する水素の量が予め定められた量を下回った場合に前記加熱手段による加熱温度を上昇させる制御手段と、を備えることを特徴とする水素発生装置である。
【０００９】
この発明によれば、水素の発生量が減少すると、反応剤と金属材料又は酸化物材料を加熱する加熱温度が上昇することから、無酸素状態雰囲気内の温度が低下したことによる水素発生量の減少を防ぐことができ、継続的に水素を採集することができる。
【００１０】
請求項３に記載の発明は、空気中の酸素を除去した無酸素状態雰囲気内に配置されたアルカリ金属及び酸素を含む反応剤と、前記雰囲気内に配置された表面に酸化物の膜を形成する金属材料又は酸化物から形成される酸化物材料を加熱する加熱手段と、前記雰囲気内に水又は水蒸気を供給する水供給手段と、前記雰囲気内に前記反応剤を供給する反応剤供給手段と、前記雰囲気内にて発生する水素の量が予め定められた量を下回った場合に前記反応剤供給手段に反応剤を供給させる制御手段と、を備えることを特徴とする水素発生装置である。
【００１１】
この発明によれば、水素の発生量が減少すると反応剤が新たに供給されることから、無酸素状態雰囲気内の反応剤の量が減少したことによる水素発生量の減少を防ぐことができ、継続的に水素を採集することができる。
【００１２】
請求項４に記載の発明は、空気中の酸素を除去した無酸素状態雰囲気内に配置されたアルカリ金属及び酸素を含む反応剤と、前記雰囲気内に配置された表面に酸化物の膜を形成する金属材料又は酸化物から形成される酸化物材料を加熱する加熱手段と、前記雰囲気内に水又は水蒸気を供給する水供給手段と、前記雰囲気内にて発生する水素の量が予め定められた量を下回った場合にその旨を警告手段により警告させる制御手段と、を備えることを特徴とする水素発生装置である。
【００１３】
この発明によれば、水素の発生量が減少すると、その旨が警告手段により警告されることから、オペレータがこれを把握して適切に対処することにより、長期間、水素の発生量が減少した状態が継続してしまうことを防ぐことができる。
【００１４】
請求項５に記載の発明は、請求項１乃至４の何れか一項に記載の水素発生装置であって、前記反応剤は密閉性の反応容器内に収納され、前記反応容器は前記金属材料又は前記酸化物材料により形成されていることを特徴とする。
【００１５】
この発明によれば、反応容器内に無酸素状態雰囲気を形成することができるとともに、別途、金属材料又は酸化物材料を反応容器内に配置する必要が無く、装置を簡単な構成とすることができる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、水素の発生量が減少すると、想定される減少要因に応じた対処がなされることから、水素発生量の減少を防ぐことができ、継続的に水素を採集することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】水素発生装置Ｍの一例を示す図である。
【図２】制御装置１の構成を示すブロック図である。
【図３】処理部１１による制御処理の一例を示すフローチャートである。
【図４】水素発生装置Ｍの一例を示す図である。
【図５】水素発生装置Ｍの一例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、図面を用いて本発明の実施形態について説明する。
【００１９】
図１に示すように、本実施形態における水素発生装置Ｍは、密閉性の反応容器２を備え、反応容器２は加熱手段としての加熱装置３（マントルヒーター、面状ヒーターを用いることができる。ガス加熱でもよい。）により少なくとも３５０℃以上に加熱される。なお、加熱装置３は反応容器２を５００℃程度の温度に加熱するのが好ましい。また、反応容器２内には温度計Ｔが設けられている。
【００２０】
反応容器２には水素排出管２２が設けられ、水素排出管２２は、酸素除去手段としての真空ポンプＰに接続されている。反応容器２内からは操作開始前に完全に空気、特に真空ポンプＰからの作動により空気中の酸素が除去される必要がある。操作開始前には反応容器２内が無酸素状態であっても、水素が反応容器２の内壁から発生してくると、完全な無酸素状態ではなくなるので、真空ポンプＰを常時作動させておいて、反応容器２内を−０．５〜−１気圧の減圧状態に保つようにする。このように、真空ポンプＰにより、反応容器２内は無酸素状態雰囲気が形成される。真空ポンプＰとしては、例えば、ドライポンプ６０を用いることとし、水素とともに排出される水蒸気によって作動不能にならないように耐水処理をなしておくのが好ましい。なお、真空ポンプＰの代わりに、吸引ファンを用いることとしてもよい。
【００２１】
反応容器２の少なくとも内壁は、表面に酸化被膜を作る金属材料で構成される。例えば、鉄（Ｆｅ）、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、チタン（Ｔｉ）、ニッケル（Ｎｉ）等の板状構造体となり得る単体金属、あるいは、ステンレス鋼（ＳＵＳ３０４、４３０、３１６等）、ニッケル合金（インコネル）、チタン合金（航空機用）、アルミニウム合金（ジェラルミン）、銅合金（黄銅、青銅、白銅）等の合金、更には、鉄に亜鉛（Ｚｎ）、スズ（Ｓｎ）をメッキしたトタン、ブリキ等が含まれる。これらは、その表面に酸化鉄（Ｆｅ２Ｏ３、Ｆｅ３Ｏ４）、酸化銅（ＣｕＯ）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、酸化クロム（Ｃｒ２Ｏ３）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化ニッケル（ＮｉＯ）の酸化膜をそれぞれ形成する。
【００２２】
また、合金としてのステンレス鋼は酸化クロムの不動態膜、ニッケル合金は酸化ニッケル（ＮｉＯ）チタン合金は酸化チタン（ＴｉＯ２）、アルミニウム合金は酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、銅合金又は酸化銅、トタンは酸化亜鉛（ＺｎＯ）、ブリキは酸化スズ（ＳｎＯ２）の膜をそれぞれ形成する。
【００２３】
さらに、金属材料で形成された反応容器２の内壁には、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）を主成分とする水性塗料又は酸化鉄（Ｆｅ２Ｏ３）、酸化クロム（Ｃｒ２Ｏ３）、酸化マンガン（ＭｎＯ２）、酸化銅（ＣｕＯ）、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）を均等に配分した塗料を塗布すると水素の発生量が増大する。
【００２４】
なお、反応容器２の材料は、金属ではなく、酸化物で構成されたセラミック材、例えば酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、又は酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）等を主成分とするものでもよい。
【００２５】
これらの材料が３５０℃以上、特に５００℃前後に加熱されると、反応容器２の内壁から水素が発生してくる。このとき、反応容器２内に空気中の酸素が存在すると、この酸素が反応容器２の内壁に当初から存在した酸化膜とは別の新たな酸化膜を生じ、反応を短時間で停止させてしまう。また、反応容器２内が常圧だと発生した水素が内壁付近に滞溜して反応を妨げるが、真空ポンプＰにより減圧すると、発生した水素がその内壁から除去され、反応が活性化する。
【００２６】
反応容器２には同様の材料で形成された水供給管２１が設けられ、水供給手段としての水供給装置４から水が供給される。反応容器２内に水が供給されると、水は直ちに１２０℃程度の水蒸気となり、反応容器２内の水蒸気は、反応容器２の内壁に接触し電離して水素を放出する。水供給装置４内には図示しない貯水タンクが設けられており、制御装置１からの制御の下、貯水タンクから水を抽出し、反応容器２内に水を供給する。なお、水供給装置４は、水を加熱して生成した水蒸気を反応容器２内に供給することとしてもよい。
【００２７】
反応容器２には、反応剤８を収納する収納皿７が出入自在に配置されている。反応剤８としては、３００℃以上で溶融塩を作る水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）、水酸化カリウム（ＫＯＨ）が最も好ましい。固体反応剤としては、チタン酸カリウム（Ｋ２ＴｉＯ３）、チタン酸ナトリウム（Ｎａ２ＴｉＯ３）が好ましい。これらの反応剤は大きな親水性を示す。すなわち、反応剤８はアルカリ金属と酸素を含むものである。反応剤８の表面からは、ナノオーダーの目には見えない無数の微細粒子が飛散し、この微細粒子が反応容器２の内壁と反応して水素が発生する。更に、水蒸気と親水性の微細粒子とが接触して著しく大量の水素を発生させる。なお、微細粒子の飛散量は、反応容器２内の温度が高い程増加するため、反応容器２内の温度が低下しないように管理することが重要となる。
【００２８】
本実施形態では、反応容器２が水素発生反応に寄与しているが、反応容器２を水素発生反応に寄与しない上述の材料以外の材料、例えば炭素（Ｃ）、あるいはコンクリートブロック等で形成されている場合には、反応容器２内に前述の金属材料又はセラミック材の収納物を収納する必要がある。
【００２９】
真空ポンプＰの下流には水タンク５が設けられている。反応容器２内で発生した水素と未反応の水蒸気は真空ポンプＰを通過し水タンク５内の水Ｗの中に流入する。水蒸気は水タンク５に入って水となる。一方、水素は水素採集管２３を介して更にその下流側に配置された流量計Ｆを通って水素タンク６に採集される。
【００３０】
水素発生装置Ｍを制御する制御装置１は、温度計Ｔ、流量計Ｆ、加熱装置３及び水供給装置４と接続されている。制御装置１は、例えば、パーソナルコンピュータ等により構成され、図２に示すように、制御手段の一例である処理部１１、記憶部１２、インターフェース部１３、表示部１４及び操作部１５を備えている。
【００３１】
記憶部１２は、例えば、ＨＤＤ（Hard disk drive）等により構成されており、オペレーティングシステムや、アプリケーションプログラム等の各種プログラムを記憶する。特に、本実施形態の記憶部１２には、水素発生装置Ｍを制御するための各種処理を実行するアプリケーションプログラムが記憶されている。なお、各種プログラムは、例えば、他のサーバ装置等からネットワークを介して取得されるようにしても良いし、記録媒体に記録されて外付けドライブ装置を介して読み込まれるようにしても良い。
【００３２】
インターフェース部１３は、他の装置、機器、計測器との間で送受信されるデータの窓口の役割を果たす。具体的には、インターフェース部１３は、温度計Ｔから送信された反応容器２内の温度を示す温度情報や、流量計Ｆから送信された水素採集管２３を通過した水素の量を示す水素量情報を処理部１１が処理可能なデータに変換する。また、インターフェース部１３は、加熱装置３や水供給装置４に対して各々を制御するための制御情報を送信する際のデータ変換を行う。
【００３３】
表示部１４は、例えば、液晶ディスプレイ等により構成されており、オペレータが水素発生装置Ｍ或いは制御装置１を操作する際の操作画面や、反応容器２内の温度、水素採集管２３を通過した水素の量などを逐次表示する画面等を表示する。また、操作部１５は、例えば、キーボードやマウス等により構成されており、オペレータの操作を受け付け、操作内容を示す操作信号を処理部１１に送信する。
【００３４】
処理部１１は、演算機能を有するＣＰＵ（Central Processing Unit）、ＲＯＭ（Read Only Memory）、作業用のＲＡＭ（Random Access Memory）、及び図示しない発振回路等を備えて構成されており、操作部１５から受信した操作信号に基づいて、オペレータの操作内容に応じた処理を行う。
【００３５】
ここで、図３を用いて、処理部１１が、温度計Ｔから受信した温度情報や流量計Ｆから受信した水素量情報に基づいて、水素発生装置Ｍを制御する制御処理について説明する。なお、本実施形態では、処理部１１は継続的に温度情報及び水素量情報を受信する。
【００３６】
まず、処理部１１は、水素量情報を参照し、水素の発生量が予め定められた所定量以下であるか否かを判定する（ステップＳ１１）。ここで、所定量は、実験的に得られる数値を設定する。例えば、反応容器２内の水（水蒸気）の量と反応剤８の量が十分であり、反応容器２内の温度が適正（３００℃以上）である最適条件下において発生する水素の量を実験により得て、この量から一定割合を差し引いた量を所定量に設定することとする。処理部１１は、水素の発生量が予め定められた所定量以下でないと判定した場合には（ステップＳ１１：ＮＯ）、ステップＳ１８の処理に移行する。一方、処理部１１は、水素の発生量が予め定められた所定量以下であると判定した場合には（ステップＳ１１：ＹＥＳ）、次いで、前回の水供給時刻から所定時間以上経過したか否かを判定する（ステップＳ１２）。ステップＳ１２における所定時間は、実験的に得られる時間を設定する。例えば、反応容器２内に水（水蒸気）を供給してから、反応容器２内の水（水蒸気）の量が、水素をステップＳ１１の処理における所定量を発生させるだけの量を下回るまでの時間を設定する。なお、処理部１１は、水供給装置４が水を供給した時刻を全て記憶部１２に記録することとする。
【００３７】
処理部１１は、前回の水供給から所定時間以上経過したと判定した場合には（ステップＳ１２：ＹＥＳ）、新たに水を供給させる指示内容を示す水供給指示情報を水供給装置４に送信し（ステップＳ１３）、ステップＳ１８の処理に移行する。水供給装置４は水供給指示情報を受信すると予め設定された量の水を反応容器２内に供給する。一方、処理部１１は、前回の水供給から所定時間以上経過していないと判定した場合には（ステップＳ１２：ＮＯ）、前回の反応剤供給時刻から所定時間以上経過したか否かを判定する（ステップＳ１４）。ステップＳ１４の処理における所定時間は、実験的に得られる時間を設定する。例えば、反応容器２内に反応剤８を供給してから、反応容器２内の反応剤の量が、水素をステップＳ１１の処理における所定量を発生させるだけの量を下回るまでの時間を設定する。なお、処理部１１は、反応剤８を供給した時刻を全て記憶部１２に記録することとする。
【００３８】
ところで、反応剤８の供給は、オペレータが反応容器２から収納皿７を一旦取り出して反応剤８を収納皿７に追加した上で再度、収納皿７を反応容器２に戻すことにより行うことができる。また、図４に示すように、反応剤供給手段としての反応剤供給装置９を設け、反応剤供給装置９が反応剤８を収納皿７に追加供給することとしてもよい。なお、反応剤供給装置９には反応剤８を貯蔵する貯蔵タンクが設けられている。
【００３９】
処理部１１は、前回の反応剤供給から所定時間以上経過したと判定した場合には（ステップＳ１４：ＹＥＳ）、新たに反応剤８を供給させる指示内容を示すメッセージ（例えば「反応剤を追加して下さい。」）を表示部１４に表示させ（ステップＳ１５）、ステップＳ１８の処理に移行する。オペレータはこのメッセージを視認した場合には、反応剤８を新たに追加することとする。なお、上述した反応剤供給装置９を設けた場合であれば、処理部１１は、ステップＳ１５の処理において、新たに反応剤８を供給させる指示内容を示す反応剤供給指示情報を反応剤供給装置９に送信する。反応剤供給装置９は反応剤供給指示情報を受信すると予め設定された量の反応剤８を反応容器２内の収納皿７に供給する。一方、処理部１１は、前回の反応剤供給から所定時間以上経過していないと判定した場合には（ステップＳ１４：ＮＯ）、次いで、温度情報を参照し、温度が予め定められた所定温度以下であるか否かを判定する（ステップＳ１６）。ここで、所定温度は、反応剤８が溶融する温度３００℃以上に設定するのが好ましい。処理部１１は、温度が予め定められた所定温度以下でないと判定した場合には（ステップＳ１６：ＮＯ）、警告メッセージ（例えば「エラー発生。各装置を確認して下さい。」）を表示部１４（「警告手段」の一例）に表示させる（ステップＳ１７）。すなわち、警告メッセージは、ステップＳ１１の処理における所定量の水素を発生させるために十分な水の量、反応剤８の量、温度といった条件が満たされているにもかかわらず、水素の発生量が当該所定値を下回った場合に表示される。
【００４０】
また、処理部１１は、ステップＳ１１の処理で「ＮＯ」と判定した場合、ステップＳ１３の処理又はステップＳ１５の処理を終えた場合に、次いで、温度情報を参照し、温度が予め定められた所定温度以下であるか否かを判定する（ステップＳ１８）。判定の内容はステップＳ１６の処理と同様なので説明を省略する。処理部１１は、温度が予め定められた所定温度以下でないと判定した場合には（ステップＳ１８：ＮＯ）、ステップＳ１１の処理に移行する。一方、処理部１１は、温度が予め定められた所定温度以下であると判定した場合には（ステップＳ１８：ＹＥＳ）、加熱温度を上昇させる指示内容を示す加熱指示情報を加熱装置３に送信し（ステップＳ１９）、ステップＳ１１の処理に移行する。加熱装置３は加熱指示情報を受信すると加熱温度を上昇させる。
【００４１】
以上説明したように、本実施形態の水素発生装置Ｍは、加熱装置３が、空気中の酸素を除去した無酸素状態雰囲気にある反応容器２内に配置されたアルカリ金属及び酸素を含む反応剤８と、表面に酸化物の膜を形成する金属材料又は酸化物から形成される酸化物材料を加熱し、水供給装置４が反応容器２内に水又は水蒸気を供給し、制御装置１の処理部１１が反応容器２内にて発生する水素の量が予め定められた量を下回った場合に水供給装置４に水又は水蒸気を供給させる。これにより、反応容器２内の水又は水蒸気の量が減少したことによる水素発生量の減少を防ぐことができ、継続的に水素を採集することができる。
【００４２】
また、水素発生装置Ｍは、制御装置１の処理部１１が、反応容器２内にて発生する水素の量が予め定められた量を下回った場合に加熱装置３による加熱温度を上昇させる。これにより、反応容器２内の温度が低下したことによる水素発生量の減少を防ぐことができ、継続的に水素を採集することができる。
【００４３】
さらに、水素発生装置Ｍは、制御装置１の処理部１１が、反応容器２内にて発生する水素の量が予め定められた量を下回った場合に反応剤供給装置９（又はオペレータ）に反応剤８を供給させる。これにより、反応容器２内の反応剤８の量が減少したことによる水素発生量の減少を防ぐことができ、継続的に水素を採集することができる。
【００４４】
なお、本実施形態では、ステップＳ１１の処理における所定量の水素を発生させるために十分な条件が満たされているにもかかわらず、水素の発生量が当該所定値を下回った場合に警告メッセージを表示することとしたが、処理部１１は、ステップＳ１１の処理において、水素の発生量が予め定められた所定量以下であると判定した場合に、例えば、「水素の発生量が減少しています。」といった内容の警告メッセージを表示部１４に表示させることとしてもよい。これにより、オペレータは何らかの原因により水素の発生量が減少していることを把握することができる。
【００４５】
また、図５に示すように、反応容器２内の反応剤８の残量を検出するためのカメラＣを更に設け、処理部１１がカメラＣから送信される収納皿７内を撮影した画像に基づいて反応剤８の残量を判定する（具体的には、複数のパターン画像と残量を対応付けたデータベースを記憶部１２に構築しておき、最も近似する画像をパターン認識により特定することにより残量を判定する）こととし、残量が所定量を下回った場合に、反応剤供給装置９（又はオペレータ）に反応剤８を供給させることとしてもよい。なお、ここでは、カメラＣにより撮影された画像に基づいて反応剤８の残量を判定することとしたが、他の方法により残量を特定することとしてもよい。例えば、反応容器２内に重量計を設けて残量を測定してもよい。
【００４６】
さらに、反応容器２内の水（水蒸気）の量を検知する水量検知装置Ｓを更に設け、処理部１１が水量検知装置Ｓから送信された反応容器２内の水（水蒸気）の量を示す水量情報を取得する構成として、処理部１１は、当該水素量情報を参照し、水素の発生量が予め定められた所定量以下であると判定した場合には、反応容器２内の反応剤８と水（水蒸気）の量に基づいて、水供給装置４に水（水蒸気）を供給させることとする。
【符号の説明】
【００４７】
Ｍ  水素発生装置
１  制御装置
１１  処理部
１２  記憶部
１３  インターフェース部
１４  表示部
１５  操作部
２  反応容器
３  加熱装置
４  水供給装置
５  水タンク
６  水素タンク
７  収納皿
８  反応剤
２１  水供給管
２２  水素排出管
２３  水素採集管
Ｐ  真空ポンプ
Ｆ  流量計
Ｔ  温度計
【図１】
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【図２】
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【図３】
2013147372.tif 000005
【図４】
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【図５】
2013147372.tif 000007