(57)【要約】【課題】光学的な記録層間隔の限界値よりも狭い間隔での信号の記録／再生を可能として、従来よりも記録容量の拡大を図る。【解決手段】回折格子層に消去マークを形成することで信号記録が行われるネガ型光記録媒体として、所定の深さ位置を境にその上下に格子ピッチの位相がずれた回折格子層が形成されたネガ型光記録媒体を製造し、該ネガ型光記録媒体の上記所定の深さ位置を境に形成された上側回折格子層と下側回折格子層とにそれぞれ消去マークを記録する。再生は、信号光と参照光とを用いたホモダイン検波を行うが、このとき、上側回折格子層の再生時と下側回折格子層の再生時とで参照光の位相をずらしてホモダイン検波を行う。このことで、上側回折格子層と下側回折格子層との層間隔が光学的な記録層間隔の限界値を超えて近接していても、再生対象とする層の記録信号を適切に抽出することができる。結果、光学的な記録層間隔の限界値よりも狭い間隔での信号の記録／再生を可能とし、従来よりも記録容量を拡大できる。【選択図】図１７
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の深さ位置を境に、その上下に格子ピッチの位相がずれた回折格子層が形成されているネガ型光記録媒体。
【請求項２】
上記回折格子層は、上記所定の深さ位置に合焦する第１の光と、上記所定の深さ位置から上下にそれぞれデフォーカスされた第２の光、第３の光とが照射されて、それらの干渉縞により形成されたものである
請求項１に記載のネガ型光記録媒体。
【請求項３】
上記回折格子層は、
それぞれの上記デフォーカス量の和が光学的な記録層間隔の限界値よりも小とされた上記第２,第３の光の照射に伴い形成されたものである
請求項２に記載のネガ型光記録媒体。
【請求項４】
上記格子ピッチの位相差が略１８０°である請求項１に記載のネガ型光記録媒体。
【請求項５】
上記格子ピッチの位相がずれた回折格子層の組が、光学的な記録層間隔の限界値以上の間隔を空けて複数位置に形成されている
請求項１に記載のネガ型光記録媒体。
【請求項６】
光記録媒体に対し、当該光記録媒体の所定の深さ位置に合焦する第１の光と、上記所定の深さ位置から上下にそれぞれデフォーカスさせた第２の光、第３の光とを照射して、それらの干渉縞により、上記所定の深さ位置を境にその上下に格子ピッチの位相がずれた回折格子層を形成する
ネガ型光記録媒体の製造装置。
【請求項７】
上記デフォーカス量の和を光学的な記録層間隔の限界値よりも小とした上記第２,第３の光を照射する
請求項６に記載のネガ型光記録媒体の製造装置。
【請求項８】
上記格子ピッチの位相差を略１８０°とする上記デフォーカス量により上記第２,第３の光を照射する
請求項６に記載のネガ型光記録媒体の製造装置。
【請求項９】
上記格子ピッチの位相がずれた回折格子層の組を、光学的な記録層間隔の限界値以上の間隔を空けて複数位置に形成する
請求項６に記載のネガ型光記録媒体の製造装置。
【請求項１０】
光記録媒体に対し、当該光記録媒体の所定の深さ位置に合焦する第１の光と、上記所定の深さ位置から上下にそれぞれデフォーカスさせた第２の光、第３の光とを照射して、それらの干渉縞により、上記所定の深さ位置を境にその上下に格子ピッチの位相がずれた回折格子層を形成する
ネガ型光記録媒体の製造方法。
【請求項１１】
所定の深さ位置を境に、その上下に格子ピッチの位相がずれた回折格子層が形成されているネガ型光記録媒体に対して光照射を行う光照射部と、
上記光照射部による発光動作を制御して上記ネガ型光記録媒体に形成された上記回折格子層における回折格子を一部消去することで、消去マークによる信号記録を行う記録部と
を備える記録装置。
【請求項１２】
上記ネガ型光記録媒体における上記回折格子層は、上記所定の深さ位置に合焦する第１の光と、上記所定の深さ位置から上下にそれぞれデフォーカスされた第２の光、第３の光とが照射されて、それらの干渉縞により形成されたものであり、
上記光照射部による照射光を上記所定の深さ位置から上側に上記第２の光のデフォーカス量だけデフォーカスさせた状態と、下側に上記第３の光のデフォーカス量だけデフォーカスさせた状態とで、それぞれ上記記録部による記録が実行されるように制御を行う制御部を備える
請求項１１に記載の記録装置。
【請求項１３】
所定の深さ位置を境に、その上下に格子ピッチの位相がずれた回折格子層が形成されていると共に、それぞれの上記回折格子層に対し消去マークによる信号記録が行われたネガ型光記録媒体に対し、同一光源より出射された光を分光して得た２つの光のうち一方の光を照射してその反射光を信号光として得ると共に、上記分光して得た２つの光のうち他方の光をミラーに対して照射してその反射光を参照光として得る信号光・参照光生成部と、
上記信号光・参照光生成部で得られた上記信号光と上記参照光とを用いたホモダイン検波を行うホモダイン検波部と、
上記他方の光の上記ミラーに対する入射光軸に平行な方向に上記ミラーを駆動して上記参照光の位相を変化させるミラー駆動部と、
上記ホモダイン検波部によるホモダイン検波の結果に基づき上記信号光に基づく再生信号を得る再生動作を、それぞれの上記回折格子層の再生ごとに上記参照光の位相を変化させて実行する再生部と
を備える再生装置。
【請求項１４】
上記ネガ型光記録媒体における上記回折格子層は、上記所定の深さ位置に合焦する第１の光と、上記所定の深さ位置から上下にそれぞれデフォーカスされた第２の光、第３の光とが照射されて、それらの干渉縞により形成されたものであり、
上記再生部は、
上記信号光の基となる上記一方の光を上記所定の深さ位置から上側に上記第２の光のデフォーカス量だけデフォーカスさせた状態で上側回折格子層についての再生動作を行い、上記一方の光を上記所定の深さ位置から下側に上記第３の光のデフォーカス量だけデフォーカスさせた状態で下側回折格子層についての再生動作を行う
請求項１３に記載の再生装置。
【請求項１５】
上記信号光と上記参照光とを受光する受光部による受光信号に基づき、上記信号光の受光強度を最大とするように上記ミラー駆動部を制御する光路長サーボ制御部を備える
請求項１４に記載の再生装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本技術は、光の照射により信号の記録／再生が行われる光記録媒体のうち、回折格子層に対する消去マークの形成により信号記録が行われるネガ型光記録媒体とその製造装置、製造方法に関する。また、ネガ型光記録媒体についてそれぞれ記録、再生を行う記録装置、再生装置に関する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００２】
【特許文献１】特開２００８−２４３２７３号公報
【特許文献２】特開２００８−２６９６８０号公報
【背景技術】
【０００３】
光の照射により信号の記録／再生が行われる光記録媒体として、例えばＣＤ（Compact Disc）、ＤＶＤ（Digital Versatile Disc）、ＢＤ（Blu-ray Disc：登録商標）などのいわゆる光ディスク記録媒体（以下、単に光ディスクとも表記）が普及している。
【０００４】
光ディスクを始めとして一般的に記録媒体については、記録密度を向上させて大記録容量化を図ることが望まれる。
大記録容量化を図る上では、記録マークを縮小化させて半径方向密度や線方向密度を詰める手法や、記録層の数を増やして層方向の記録密度を向上させるといった手法が採られている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ここで、記録層数を増やす手法は、１層当たりの記録容量を記録層の数で乗じた分の容量を確保することができ、非常に効率的である。
しかしながら、記録層の間隔は、記録再生波長をλ、対物レンズの開口数をＮＡ、光ディスクの屈折率をｎとしたとき、およそ
１２ｎλ／ＮＡ
が限界とされている。実際において、例えばＢＤの場合（λ＝０．４０５μｍ、ＮＡ＝０．８５）では１０μｍ程度が記録層間隔の限界とされる。
【０００６】
本技術は上記問題点に鑑み為されたもので、光学的な記録層間隔の限界値よりも狭い間隔での信号の記録／再生を可能として、従来よりも記録容量の拡大を図ることをその課題とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題の解決のため、本技術ではネガ型光記録媒体を以下のように構成することとした。
すなわち、本技術のネガ型光記録媒体は、所定の深さ位置を境に、その上下に格子ピッチの位相がずれた回折格子層が形成されているものである。
【０００８】
また、本技術ではネガ型光記録媒体の製造装置を以下のように構成することとした。
すなわち、本技術の製造装置は、光記録媒体に対し、当該光記録媒体の所定の深さ位置に合焦する第１の光と、上記所定の深さ位置から上下にそれぞれデフォーカスさせた第２の光、第３の光とを照射して、それらの干渉縞により、上記所定の深さ位置を境にその上下に格子ピッチの位相がずれた回折格子層を形成するものである。
【０００９】
また、本技術では記録装置を以下のように構成することとした。
すなわち、所定の深さ位置を境に、その上下に格子ピッチの位相がずれた回折格子層が形成されているネガ型光記録媒体に対して光照射を行う光照射部を備える。
また、上記光照射部による発光動作を制御して上記ネガ型光記録媒体に形成された上記回折格子層における回折格子を一部消去することで、消去マークによる信号記録を行う記録部を備えるものである。
【００１０】
また、本技術では再生装置を以下のように構成することとした。
つまり、所定の深さ位置を境に、その上下に格子ピッチの位相がずれた回折格子層が形成されていると共に、それぞれの上記回折格子層に対し消去マークによる信号記録が行われたネガ型光記録媒体に対し、同一光源より出射された光を分光して得た２つの光のうち一方の光を照射してその反射光を信号光として得ると共に、上記分光して得た２つの光のうち他方の光をミラーに対して照射してその反射光を参照光として得る信号光・参照光生成部を備える。
また、上記信号光・参照光生成部で得られた上記信号光と上記参照光とを用いたホモダイン検波を行うホモダイン検波部を備える。
また、上記他方の光の上記ミラーに対する入射光軸に平行な方向に上記ミラーを駆動して上記参照光の位相を変化させるミラー駆動部を備える。
また、上記ホモダイン検波部によるホモダイン検波の結果に基づき上記信号光に基づく再生信号を得る再生動作を、それぞれの上記回折格子層の再生ごとに上記参照光の位相を変化させて実行する再生部を備えるものである。
【００１１】
先ず前提として、本技術では、層方向の記録密度向上を図る上で、ネガ型のマイクロホログラム方式を採用するものとしている。後述もするようにネガ型マイクロホログラム方式は、予め光記録媒体に回折格子を形成しておき、その一部を記録光により消去することで、消去マークによる信号の記録を行う方式である。
上記のように本技術によれば、ネガ型光記録媒体には所定の深さ位置を境にその上下に格子ピッチの位相がずれた回折格子層が形成されており、このような回折格子層に消去マークを形成することで信号記録が行われる。
そして、本技術では、記録信号についての再生は、信号光と参照光とを用いたホモダイン検波方式により行うものとした上で、上記所定の深さ位置を境に形成された上側回折格子層、下側回折格子層のそれぞれの再生を、参照光の位相を変化させて行うものとしている。
ここで、本技術のネガ型光記録媒体では、上側回折格子層と下側回折格子層の格子ピッチ位相がずれているので、上側回折格子層からの反射光と下側回折格子層からの反射光とに所要の位相差が生じるものとなる。従って、ホモダイン検波において、上記のように上側回折格子層と下側回折格子層とで参照光の位相を変えて再生を行うものとすれば、上側回折格子層と下側回折格子層との層間隔が光学的な記録層間隔の限界値を超えて近接していても、再生対象とする層の記録信号を適切に抽出することができる。換言すれば、それぞれの層の記録信号を適正に読み分けることができる。
この結果、光学的な記録層間隔の限界値よりも狭い間隔での信号の記録／再生が可能となり、従来よりも記録容量の拡大を図ることができる。
【発明の効果】
【００１２】
上記のように本技術によれば、光学的な記録層間隔の限界値よりも狭い間隔での信号の記録／再生を可能として、従来よりも記録容量の拡大を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】実施の形態で用いる光記録媒体の断面構造図である。
【図２】基準面を用いた位置制御手法についての説明図である。
【図３】通常のネガ型マイクロホログラム記録方式における初期化処理についての説明図である。
【図４】通常のネガ型マイクロホログラム記録方式におけるネガ型光記録媒体の断面構造を示した図である。
【図５】通常のネガ型マイクロホログラム記録方式におけるネガ型光記録媒体に対する記録手法についての説明図である。
【図６】実施の形態の初期化手法についての説明図である。
【図７】図６に示した手法により初期化が行われて形成される回折格子層の様子を模式的に示した図である。
【図８】実施の形態の初期化手法で形成される回折格子層の格子ピッチの位相についての説明図である。
【図９】実施の形態としてのネガ型光記録媒体の断面構造を示した図である。
【図１０】実施の形態のネガ型光記録媒体に対する消去マークの記録手法についての説明図である。
【図１１】上側回折格子層と下側回折格子層とにそれぞれ消去マークが形成された様子を模式的に示した図である。
【図１２】通常のホモダイン方式による信号再生を行う再生装置が備える主に光ピックアップの内部構成について説明するための図である。
【図１３】ホモダイン検波光学系の構成例を示した図である。
【図１４】ホモダイン検波光学系に設けられたウォラストンプリズムによる分光方向についての説明図である。
【図１５】通常のホモダイン方式による信号再生を行う再生装置全体の内部構成についての説明図である。
【図１６】光路長サーボのエラー信号として用いる信号についての説明図である。
【図１７】上側回折格子層の再生について、参照光ミラー位相を変化させたときのジッター値と再生信号のアイパターンの変化をシミュレーションにより求めた結果を示した図である。
【図１８】下側回折格子層の再生について、参照光ミラー位相を変化させたときのジッター値と再生信号のアイパターンの変化をシミュレーションにより求めた結果を示した図である。
【図１９】実施の形態の初期化装置が備える主に光ピックアップの内部構成を示した図である。
【図２０】ＣＧＨの透過率パターンの例を示した図である。
【図２１】ＣＧＨの透過位相パターンの例を示した図である。
【図２２】実施の形態の初期化装置全体の内部構成を示した図である。
【図２３】実施の形態の記録再生装置が備える主に光ピックアップの内部構成を示した図である。
【図２４】実施の形態の記録再生装置の全体的な内部構成を示した図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、発明を実施するための最良の形態（以下実施の形態とする）について説明していく。
なお、説明は以下の順序で行うものとする。
＜１．実施の形態で用いる光記録媒体＞
［1-1．媒体構造］
［1-2．基準面を用いた位置制御手法について］
＜２．ネガ型マイクロホログラム記録方式について＞
［2-1．初期化処理］
［2-2．信号記録］
＜３．実施の形態の記録手法＞
［3-1．初期化処理］
［3-2．信号記録］
＜４．実施の形態の再生手法＞
［4-1.ホモダイン検波について］
［4-2.具体的な再生手法］
＜５．初期化装置の構成＞
＜６．記録再生装置の構成＞
＜７．変形例＞
【００１５】
＜１．実施の形態で用いる光記録媒体＞
［1-1．媒体構造］
図１は、実施の形態で用いる光記録媒体（バルク型記録媒体１）の断面構造図を示している。
先ず前提として、本実施の形態においては、ネガ型のマイクロホログラム方式を採用する。ネガ型マイクロホログラム方式は、予め初期化として、光記録媒体に回折格子を形成しておき、該初期化により形成された回折格子の一部を記録光により消去することで、消去マークによる信号の記録を行う方式である（図５により後述する）。
本実施の形態で用いるバルク型記録媒体１は、上記初期化の対象となる光記録媒体（初期化前の光記録媒体）となる。
【００１６】
バルク型記録媒体１は、いわゆるバルク記録型の光記録媒体である。ここで、バルク記録とは、通常の多層光ディスクのような複数の記録膜が形成された多層構造は採らずに、バルク状の記録層に対して逐次焦点位置を変えてレーザ光照射を行って多層記録を行う技術を指す。
なお、光記録媒体とは、光の照射により信号の記録又は再生が行われる記録媒体を総称したものである。
本実施の形態で用いるバルク型記録媒体１は、ディスク状の光記録媒体であるとする。
【００１７】
図１に示されるように、バルク型記録媒体１には、上層側から順にカバー層２、選択反射膜３が形成されると共に、その下層側には、中間層４を介してバルク層５が形成されている。
ここで、本明細書において「上層側」とは、後述する記録再生装置（記録再生装置５０）側からのレーザ光が入射する面を上面としたときの上層側を指す。
【００１８】
また、本明細書においては「深さ方向」という語を用いるが、この「深さ方向」とは、上記「上層側」の定義に従った上下方向と一致する方向（すなわち記録再生装置側からのレーザ光の入射方向に平行な方向：フォーカス方向）を指すものである。
【００１９】
カバー層２は、例えばポリカーボネートなどの樹脂で構成され、図示するようにその下面側には、記録／再生位置を案内するための位置案内子が形成されている。具体的に本例では、案内溝の形成に伴う凹凸の断面形状が与えられている。
上記案内溝としては、連続溝（グルーブ）、又はピット列で形成される。例えば案内溝がグルーブとされる場合は、当該グルーブを蛇行させて形成することで、該蛇行の周期情報により位置情報（半径位置情報や回転角度情報等）の記録を行うことができる。
カバー層２は、このような案内溝（凹凸形状）が形成されたスタンパを用いた射出成形などにより生成される。
【００２０】
また、上記案内溝が形成された上記カバー層２の下面側には、選択反射膜３が成膜される。
ここで、本実施の形態のバルク型記録媒体１には、バルク層５に対して初期化を行うための光（初期化光）と、さらに上記のような案内溝に基づきトラッキングやフォーカスのエラー信号を得るための光（基準面用レーザ光）とを照射するものとされている（図３を参照）。
基準面用レーザ光は、反射膜３にて反射されて、トラッキングやフォーカスのエラー信号の生成に供されるべきものとなる。一方、上記初期化光は、バルク層５に到達して初期化による回折格子の形成が可能とされるべきものとなる。このため、反射膜３としては、基準面用レーザ光は反射し、初期化光は透過するという選択性を有する反射膜が必要とされる。
従来よりバルク記録方式では、バルク層５を対象として照射されるべき光と基準面用レーザ光とはそれぞれ波長の異なるレーザ光を用いるようにされており、これに対応すべく、選択反射膜３としては、基準面用レーザ光と同一の波長帯の光は反射し、それ以外の波長による光は透過するという、波長選択性を有する反射膜が用いられる。
【００２１】
なお、上記説明からも理解されるように、位置案内子が形成された選択反射膜３の反射面は、バルク型記録媒体１についての位置制御を行う上で基準となる反射面となる。この意味で、選択反射膜３の反射面については、以下、「基準面Ｒｅｆ」と表記する。
【００２２】
中間層４は、例えばＵＶ硬化樹脂や熱可塑性樹脂などで構成され、選択反射膜３とバルク層５とを接着する接着層として機能する。具体的に、中間層４としての樹脂材料が選択反射膜３上に塗布され、そこにバルク層５を押し当てた状態で硬化処理が施されることで、選択反射膜３とバルク層５とを接着できる。
【００２３】
バルク層５は、いわゆるバルク状の記録層である。従って、その内部には位置案内子或いはそれが形成された反射膜は設けられていない。
バルク層５は、所定の記録パワーによるレーザ光照射に応じて屈折率の変調を来す記録材料（ホログラム記録材料）で構成される。ホログラム記録材料としては、例えば光重合型フォトポリマ等が広く知られ、これを用いることができる。
【００２４】
［1-2．基準面を用いた位置制御手法について］
図２は、基準面Ｒｅｆを用いた位置制御手法についての説明図である。具体的にこの図２では、バルク型記録媒体１の断面構造と、該バルク型記録媒体１に照射される各光とを主に示している。
前述もしたように、バルク型記録媒体１に対しては、バルク層５に回折格子を形成するための初期化光と、基準面用レーザ光とを照射するようにされる。
図示するように初期化光としては、バルク型記録媒体１の上側から照射する上側初期化光と、下側から照射する下側初期化光とを照射するものとされる。換言すれば、２つの初期化光を対向する向きで照射する。
回折格子は、これら上側初期化光と下側初期化光との干渉縞として形成されることになる。具体的に、通常のネガ型マイクロホログラム方式では、これら上側初期化光と下側初期化光とをバルク層５内の所定の同一深さ位置に合焦させるように照射して、該合焦点近傍にそれら２つの光の干渉縞を形成する。この干渉縞が、ホログラム記録材料としてのバルク層５において回折格子を形成する。
【００２５】
ここで、上側初期化光を集光するためにバルク型記録媒体１の上側に配置された対物レンズを対物レンズ１９とする。また、下側初期化光を集光するためにバルク型記録媒体１の下側に配置された対物レンズを対物レンズ２７とする。
図のように基準面用レーザ光は、上側初期化光と共に対物レンズ１９を介してバルク型記録媒体１に照射される。つまりこの場合、基準面用レーザ光はバルク型記録媒体１の上側から照射される。
【００２６】
前述のように、バルク層５には位置案内子や反射膜が形成されていない。このように位置案内子や反射膜の形成されていないバルク層５に対して多層状の記録（多層状の回折格子層の記録）を行うとしたときには、バルク層５内において、記録を行うべき深さ位置、すなわち記録面の位置を何れの位置とするかを予め定めておくことになる。
ここで以下、深さ位置については層位置Ｌとも表記する。
【００２７】
この場合におけるバルク層５には、記録を行うべき層位置Ｌ（情報記録層位置Ｌとも表記することがある）として、例えば図２に示されるように第１情報記録層位置Ｌ１〜第５情報記録層位置Ｌ５の計５つの情報記録層位置Ｌが設定されているとする。ここで、第１情報記録層位置Ｌ１は最も上層側に設定された層位置Ｌであり、以下、Ｌに付される数値が大となるに従ってより下層側に設定された層位置Ｌを意味する。本例の場合、各層位置Ｌの間隔は、後述する回折格子層ＨＬの組（上側回折格子層ＨＬ_uと下側回折格子層ＨＬ_dの組）同士の間隔が光学的な記録層間隔の限界値以上となるように設定される。
本例の場合、各情報記録層位置Ｌは、バルク層５の中央に設定された第３情報記録層位置Ｌ３を基準として、そこからのオフセット値ｏｆにより定義される。具体的に、第１情報記録層位置Ｌ１は、第３情報記録層位置Ｌ３からオフセット値ｏｆ-L(3・1)に応じた分だけ上方にオフセットされた位置として定義される。同様に、第２情報記録層位置Ｌ２は、第３情報記録層位置Ｌ３からオフセット値ｏｆ-L(3・2)に応じた分だけ上方にオフセットされた位置として定義される。また、第４情報記録層位置Ｌ４は、第３情報記録層位置Ｌ３からオフセット値ｏｆ-L(3・4)に応じた分だけ下方にオフセットされた位置として定義され、第５情報記録層位置Ｌ５は、第３情報記録層位置Ｌ３からオフセット値ｏｆ-L(3・5)に応じた分だけ下方にオフセットされた位置として定義される。
この場合、各オフセット値ｏｆ-Lは、後述する初期化装置１０や記録再生装置５０におけるコントローラ（４９,９５）に設定される。
【００２８】
なお、この図２では図示の都合上、情報記録層位置Ｌが５つであるものとしているが、情報記録層位置Ｌの数は５に限定されるべきものではない。
【００２９】
ここで、バルク型記録媒体１に対する初期化時には、図のように基準面用レーザ光を反射膜３（基準面Ｒｅｆ）に合焦させるように照射して、反射膜３からの当該基準面用レーザ光の反射光に基づき対物レンズ１９のトラッキングサーボ制御を行う。そして、対物レンズ２７については、対物レンズ１９を駆動するトラッキングドライブ信号の反転信号によりそのトラッキング方向位置を制御する。
これにより、上側初期化光及び下側初期化光のトラッキング方向における位置を一致させつつ、その位置は基準面Ｒｅｆ上の位置案内子に沿った位置となるように制御することができる。
【００３０】
このとき、対物レンズ１９のフォーカスサーボ制御は、基準面レーザ光を基準面Ｒｅｆ上に合焦させるようにして行われることになる。基準面用レーザ光が基準面Ｒｅｆに合焦していなければ上記のようなトラッキングサーボ制御を実現できないためである。
【００３１】
上側／下側の初期化光の合焦位置の制御は、対物レンズ１９,２７とは別途に設けた初期化光用のフォーカス機構を用いて行う（図１９における上側フォーカス機構１７、下側フォーカス機構２５を参照）。これらのフォーカス機構により、それぞれ対物レンズ１９に入射する上側初期化光、対物レンズ２７に入射する下側初期化光のコリメーション状態（収束／平行／発散の状態）をそれぞれ調整することで、上側初期化光、下側初期化光の合焦位置を所望の層位置Ｌに一致させる（つまり初期化対象の層位置Ｌを選択する）ことができる。
【００３２】
対物レンズ２７は、バルク型記録媒体１の面ブレに追従するために設けられ、該対物レンズ２７は、対物レンズ１９を駆動するフォーカスドライブ信号の反転信号によりそのフォーカス方向位置が制御されることになる。
【００３３】
ここで、初期化光を所望の層位置Ｌに合焦させるための具体的な手法を説明しておく。
先ず前提として、本例では、上側の対物レンズ１９を、基準面用レーザ光が基準面Ｒｅｆ上に合焦するように駆動し（このとき、下側の対物レンズ２７は前述のように対物レンズ１９と連動駆動される）、且つ上述の各フォーカス機構（上側フォーカス機構１７，下側フォーカス機構２５）を非駆動とした状態（ニュートラル状態）にて、上側初期化光と下側初期化光とがそれぞれ第３情報記録層位置Ｌ３に合焦するように光学系が設計されているとする。
この場合において、上側初期化光と下側初期化光とを所望の層位置Ｌに合焦させるにあたっては、上側フォーカス機構１７，下側フォーカス機構２５をそれぞれ選択すべき層位置Ｌに対応するオフセット値ｏｆ−Lに基づき駆動すればよい。具体的に、例えば第１情報記録層位置Ｌ１に合焦させるとしたときは、上側フォーカス機構１７をオフセット値ｏｆ-L(3・1)に基づき駆動し、下側フォーカス機構２５は該オフセット値ｏｆ-L(3・1)の反転値に基づき駆動するものとすればよい。これにより、上側初期化光と下側初期化光の焦点位置は、図中に示す第３情報記録層位置Ｌ３への一致状態から、それぞれ上層側にオフセット値ｏｆ-L(3・1)に応じた分だけシフトされ、第１情報記録層位置Ｌ１に一致させることができる。
【００３４】
＜２．ネガ型マイクロホログラム記録方式について＞
［2-1．初期化処理］
本実施の形態の記録手法がその基とするネガ型マイクロホログラム記録方式について説明しておく。
なお、以下図３〜図５による説明は、ネガ型マイクロホログラム記録方式の基本手法（通常のネガ型マイクロホログラム記録方式）についてのものである。ネガ型マイクロホログラム記録方式に基づく本実施の形態としての記録手法については、後に改めて説明を行う。
【００３５】
図３は、初期化処理についての説明図である。
先の説明からも理解されるように、初期化は、層位置Ｌごとに行われるものとなる。この初期化により、消去マークの記録を可能とするための回折格子が層位置Ｌごとに形成される。
【００３６】
本例の場合、初期化による回折格子は、基準面Ｒｅｆの位置案内子に沿った位置に形成する。
具体的にこの場合の初期化は、基準面用レーザ光による基準面Ｒｅｆの位置案内子を利用したトラッキングサーボ・フォーカスサーボ制御を実行しつつ、上側初期化光と下側初期化光とを対象とする層位置Ｌに合焦させて行うことになる。基準面Ｒｅｆ上の位置案内子に従ったトラッキングサーボ制御が実行されるので、バルク層５内における対象層位置Ｌにおいても、回折格子が上記位置案内子に沿った位置に形成されていくことになる。
【００３７】
このような初期化動作により、各層位置Ｌごとに回折格子を形成する。
図４は、初期化が実行された後のバルク型記録媒体１としての、ネガ型記録媒体１’の断面構造を示している。
ここで、初期化動作により各層位置Ｌごとに形成された回折格子を、図のように「回折格子層ＨＬ」と表記する。
【００３８】
上記で説明した通常のネガ型マイクロホログラム記録方式では、上側初期化光と下側初期化光とを同一層位置に合焦させるので、この場合の初期化で形成される回折格子は、以下で示す一定のピッチ（Pitch）を有するものとなる。
すなわち、初期化光の波長をλ、バルク層５の屈折率をｎとしたとき、通常のネガ型マイクロホログラム記録方式で形成される回折格子の「Pitch」は、
Pitch＝λ／２ｎ
となる。
【００３９】
ここで、本例では、上記のような初期化が行われて回折格子層ＨＬが形成されたネガ型光記録媒体が、製品として流通することを前提としている。換言すれば、初期化を行う装置（初期化装置）と、回折格子層ＨＬに消去マークを形成して信号記録を行う記録装置とが別装置となるものである。
【００４０】
［2-2．信号記録］
図５は、ネガ型記録媒体１’に対する記録手法についての説明図である。
上記のように本例の場合、消去マーク（以下、消去マークＥＭと表記）による信号記録は、初期化装置とは別途の記録装置を用いて行われることになる。
この記録装置において、回折格子層ＨＬに対する消去マークＥＭの記録は、記録層用レーザ光を用いて行う。
また、この場合の記録装置は、基準面Ｒｅｆに形成された位置案内子を利用した位置制御を行うための基準面用レーザ光も照射するものとされる。図のように基準面用レーザ光は、記録層用レーザ光と共に共通の対物レンズ（対物レンズ５８とする）を介してネガ型記録媒体１’に対して照射する。
なお、基準面Ｒｅｆを用いた具体的な位置制御の手法については後述する。
【００４１】
通常のネガ型マイクロホログラム記録方式では、記録層用レーザ光を記録対象とする層位置Ｌに合焦させた状態で、該記録層用レーザ光を記録信号に基づき所要の記録パワーにより発光させる。これにより、対象とする回折格子層ＨＬにおける回折格子を記録信号に応じて消去することができ、結果、消去マークＥＭによる信号記録が実現される。
【００４２】
なお確認のため述べておくと、回折格子層ＨＬは、バルク層５内における回折格子層ＨＬの非形成部分との屈折率差により、反射体として機能するものである。従って再生時には、該回折格子層ＨＬにおける回折格子の形成部分で受光強度が大となる。これに対し、消去マークＥＭの形成部分は反射体としては機能せず、該消去マークＥＭの形成部分では受光強度が小となる。
このように消去マークＥＭの形成有無に応じた受光強度の差を利用して、記録信号の再生が可能となる。
【００４３】
＜３．実施の形態の記録手法＞
［3-1．初期化処理］
図６は、本実施の形態の初期化手法についての説明図である。
先ず、図６では、バルク層５内に設定された各層位置Ｌのうち、初期化の対象とする層位置Ｌｎを破線により示している。
本実施の形態の初期化では、初期化対象とする層位置Ｌｎにそれぞれ上側初期化光と下側初期化光とを合焦させて回折格子層を形成するのではなく、初期化対象とする層位置Ｌｎを基準として、該層位置Ｌｎに合焦する第１の光と、該層位置Ｌｎから上下にそれぞれデフォーカスさせた第２の光、第３の光とを照射して、それらの干渉縞により、層位置Ｌｎを境にその上下に格子ピッチの位相がずれた回折格子層を形成する。
【００４４】
具体的に本例では、上側初期化光（図中実線による光線）として、層位置Ｌｎから上下にそれぞれデフォーカスさせた第１上側初期化光、第２上側初期化光の２光を照射するものとしている。
一方、下側初期化光（破線による光線）を、図のように層位置Ｌｎに合焦する光として照射する。
【００４５】
ここで、第１上側初期化光の層位置Ｌｎからのデフォーカス量をΔＦ１、第２上側初期化光の層位置Ｌｎからのデフォーカス量をΔＦ２とおく。
なお本例の場合、これらの関係はΔＦ１＝ΔＦ２であるとする。
【００４６】
図７は、図６に示した手法により初期化が行われて形成される回折格子層の様子を模式的に示している。
上記のように対象とする層位置Ｌｎに合焦する光と、該層位置Ｌｎから上下にそれぞれデフォーカスさせた２つの光とを照射して初期化を行うことで、図のように層位置Ｌｎの上側、下側に回折格子層ＨＬが形成されることになる。
具体的には、下側初期化光と第１上側初期化光との干渉縞により上側回折格子層ＨＬ_uが形成され、下側初期化光と第２上側初期化光との干渉縞により下側回折格子層ＨＬ_dが形成される。上側回折格子層ＨＬ_uは第１上側初期化光の焦点位置を中心深さ位置として形成された回折格子層ＨＬであり、下側回折格子層ＨＬ_dは第２上側初期化光の焦点位置を中心深さ位置として形成された回折格子層ＨＬとなる。
【００４７】
ここで、本実施の形態において、デフォーカス量ΔＦ１、ΔＦ２は、それらの和（ΔＦ１＋ΔＦ２）が光学的な記録層間隔の限界値を表す「１２ｎλ／ＮＡ」よりも小さくなるように設定される。従って、上側回折格子層ＨＬ_uと下側回折格子層ＨＬ_dとの層間隔は光学的な記録層間隔の限界値を超えて近接したものとなっている。
【００４８】
このとき、下側初期化光と第１上側初期化光との干渉縞により形成される上側回折格子層ＨＬ_u、下側初期化光と第２上側初期化光との干渉縞により形成される下側回折格子層ＨＬ_dのそれぞれの回折格子のピッチ（Pitch）の位相は、デフォーカス量ΔＦ１、ΔＦ２の値に応じたものとなる。
具体的に、通常のネガ型マイクロホログラム記録方式では、上側初期化光と下側初期化光とを対象とする層位置Ｌｎに合焦させて（つまり焦点位置を一致させて）回折格子層ＨＬを形成するが、この場合に形成される回折格子層ＨＬの格子ピッチの位相を基準位相とすると、本実施の形態で形成される上側回折格子層ＨＬ_uの格子ピッチ、下側回折格子層ＨＬ_dの格子ピッチの位相は、上記基準位相からΔＦ１、ΔＦ２に応じた分変化するものである。
【００４９】
図８は、本実施の形態の初期化手法で形成される回折格子層の格子ピッチの位相についての説明図である。
具体的に、図８Ａは通常のネガ型マイクロホログラム記録方式で形成される回折格子層ＨＬの屈折率分布を示しており、図８Ｂは本実施の形態で形成される回折格子層ＨＬの屈折率分布を示している。
なおこれら図８Ａ、図８Ｂにおいては、紙面横方向が深さ方向を表し、横軸の「０」が対象とする層位置Ｌｎを表す。また、横軸の値が負の領域は上層側、正の領域は下層側を意味する。
【００５０】
先ず、図８Ａに示す通常のネガ型マイクロホログラム記録方式の場合は、上側初期化光と下側初期化光の合焦位置を層位置Ｌｎに一致させて初期化を行うことから、この場合に形成される回折格子層ＨＬの屈折率分布は、図のように層位置Ｌｎ近傍で強度が最大となり、層位置Ｌｎから離れるに従って徐々に強度が低下する態様となる。
ここで、このように層位置Ｌｎを中心とした屈折率分布として表される、通常のネガ型マイクロホログラム記録方式の場合の回折格子のピッチの位相を上述のように基準位相とする。なおこのとき、格子ピッチ（Pitch）は前述のように「λ／２ｎ」である。
【００５１】
これに対し、図８Ｂに示す本実施の形態の場合は、第１上側初期化光、第２上側初期化光をそれぞれΔＦ１、ΔＦ２だけデフォーカスさせることから、上側回折格子層ＨＬ_uについては、屈折率変調の強度が最大となる深さ位置が層位置ＬｎからΔＦ１だけ上層側にずれた位置となり、下側回折格子層ＨＬ_dについては層位置ＬｎからΔＦ２だけ下層側にずれた位置となる。
この点からも理解されるように、上側回折格子層ＨＬ_uにおける格子ピッチの位相はΔＦ１に応じた分だけ基準位相から変化するものとなり、また下側回折格子層ＨＬ_dにおける格子ピッチの位相はΔＦ２に応じた分だけ基準位相から変化することになる。
なお、この場合も格子ピッチ自体については通常のネガ型マイクロホログラム記録方式の場合と同様に「λ／２ｎ」である。
【００５２】
本例においては、このようにデフォーカス量ΔＦ１、ΔＦ２に応じた分だけ上側回折格子層ＨＬ_uの格子ピッチ位相、下側回折格子層ＨＬ_dの格子ピッチ位相が変化する点を利用して、上側回折格子層ＨＬ_uの格子ピッチ位相を基準位相から「Pitch×１／４」だけ遅らせ（図中「＋Pitch×１／４」と表記）、また下側回折格子層ＨＬ_dの格子ピッチ位相を基準位相から「Pitch×１／４」だけ進ませる（図中「−Pitch×１／４」と表記）。換言すれば、本例では、上側回折格子層ＨＬ_uの格子ピッチ位相が基準位相に対して「Pitch×１／４」遅れる（すなわち９０°遅れる）ように設定したデフォーカス量ΔＦ１による第１上側初期化光と、下側回折格子層ＨＬ_dの格子ピッチ位相が基準位相に対して「Pitch×１／４」進む（９０°進む）ように設定したデフォーカス量ΔＦ２による第２上側初期化光とを照射して初期化を行うものである。
【００５３】
このように、上側回折格子層ＨＬ_uの格子ピッチ位相が基準位相に対して９０°遅れ、下側回折格子層ＨＬ_dの格子ピッチ位相が基準位相に対して９０°進むことによっては、上側回折格子層ＨＬ_uにて反射される光と下側回折格子層ＨＬ_dにて反射される光とに、９０°×２＝１８０°の位相差を与えることができる。
【００５４】
図９は、実施の形態としての初期化が行われて生成された、実施の形態としてのネガ型光記録媒体（ネガ型記録媒体１''とする）の断面構造を示している。
この図に示されるように、本実施の形態のネガ型記録媒体１''では、層位置Ｌ１〜Ｌ５に対して上述した手法による初期化が行われることで、各層位置Ｌｎに対して上側回折格子層ＨＬ_u、下側回折格子層ＨＬ_dが形成されることになる。
【００５５】
［3-2．信号記録］
図１０は、ネガ型記録媒体１''に対する消去マークの記録手法についての説明図である。
図１０Ａは、或る記録層Ｌｎを境にその上下に形成された上側回折格子層ＨＬ_uと下側回折格子層ＨＬ_dのうち、上側回折格子層ＨＬ_uに記録が行われる際の様子を示し、図１０Ｂは下側回折格子層ＨＬ_dに記録が行われる際の様子を示している。
【００５６】
上記説明からも理解されるように、本実施の形態のネガ型記録媒体１''には、各層位置Ｌｎごとに、光学的な記録層間隔の限界値を超える狭間隔で配置された上側回折格子層ＨＬ_uと下側回折格子層ＨＬ_dの組が形成されているものとなる。
本実施の形態の記録手法では、このように狭間隔に配された上側回折格子層ＨＬ_uと下側回折格子層ＨＬ_dとに信号を記録し分けることで、層方向における記録密度を向上させ、従来よりも記録容量の拡大が図られるようにする。
【００５７】
具体的に、対象とする層位置Ｌｎに対して形成された上側回折格子層ＨＬ_uに記録を行うとしたときは、図１０Ａに示されるように、記録層用レーザ光の焦点位置を該上側回折格子層ＨＬ_uに一致させる。
一方、対象とする層位置Ｌｎに対して形成された下側回折格子層ＨＬ_dに記録を行うとしたときは、図１０Ｂに示されるように、記録層用レーザ光の焦点位置を該下側回折格子層ＨＬ_dに一致させる。
【００５８】
ここで、本例の場合、このように記録層用レーザ光を対象とする上側回折格子層ＨＬ_u又は下側回折格子層ＨＬ_dに合焦させるにあたっては、基準面用レーザ光の反射光に基づき該基準面用レーザ光を基準面Ｒｅｆに合焦させるように対物レンズ５８のフォーカスサーボ制御を行いつつ、記録層用レーザ光について独立したフォーカス制御を行うフォーカス機構（図２３に示すフォーカス機構５５）を、対象とする層位置Ｌｎに対応するオフセット値ｏｆ-L(3・n)とデフォーカス量ΔＦ１又はΔＦ２とに基づき駆動する。
具体的に、対象とする上側回折格子層ＨＬ_uに記録層用レーザ光を合焦させるにあたっては、上記フォーカス機構５５を「ｏｆ-L(3・n)」−「ΔＦ１」による値に基づき駆動する（図１０Ａ）。一方、対象とする下側回折格子層ＨＬ_dに記録層用レーザ光を合焦させるにあたっては、フォーカス機構５５を「ｏｆ-L(3・n)」＋「ΔＦ２」による値に基づき駆動する（図１０Ｂ）。
【００５９】
このように、対象とする層位置Ｌｎに形成された上側回折格子層ＨＬ_u又は下側回折格子層ＨＬ_dに記録層用レーザ光の焦点を一致させた状態で、該記録層用レーザ光により、上側回折格子層ＨＬ_u又は下側回折格子層ＨＬ_dにそれぞれ消去マークＥＭを記録する。
【００６０】
図１１は、上側回折格子層ＨＬ_uと下側回折格子層ＨＬ_dとにそれぞれ消去マークＥＭが形成された様子を模式的に示している。
図示するように上側回折格子層ＨＬ_uにおいては、対象とする層位置Ｌｎから上層側にΔＦ１だけ離間した位置近傍を中心深さ位置とする消去マークＥＭが形成され、下側回折格子層ＨＬ_dにおいては層位置Ｌｎから下層側にΔＦ２だけ離間した位置近傍を中心深さ位置とする消去マークＥＭが形成されるものとなる。
【００６１】
このように、本実施の形態の記録手法によれば、光学的な記録層間隔の限界値を超えた狭間隔で消去マークＥＭを記録し分けることができ、その結果、光学的な記録層間隔の限界値よりも大きな間隔を空けて多層記録を行う従来との比較で、記録容量の拡大化を図ることができる。
【００６２】
＜４．実施の形態の再生手法＞
［4-1.ホモダイン検波について］
上記のように本実施の形態の記録手法によれば、光学的な記録層間隔の限界値を超えた狭間隔で消去マークＥＭを記録し分けることができ、それにより記録容量の拡大が図られるものとなる。
但し、再生時には、このように狭間隔で形成された消去マークＥＭを読み分けることが要請される。本実施の形態では、光学的な記録層間隔の限界値を超えた狭間隔により記録された消去マークＥＭの読み分けを可能とするべく、その再生手法として、ホモダイン検波方式を採用するものとしている。
【００６３】
以下では確認のため、図１２〜図１６により通常のホモダイン検波方式による信号再生について説明しておく。
【００６４】
図１２は、通常のホモダイン方式による信号再生を行う再生装置が備える主に光ピックアップＯＰ２の内部構成について説明するための図である。
なお図中において、ネガ型記録媒体１’とスピンドルモータ（ＳＰＭ）７３とを除いた部分が、光ピックアップＯＰ２となる。
ここで確認のため述べておくと、この場合において再生対象とする光記録媒体は、層位置Ｌｎごとに１つの回折格子層ＨＬが形成されそれら回折格子層ＨＬに消去マークＥＭが記録されたネガ型記録媒体１’であるとする。
【００６５】
図１２において、ネガ型記録媒体１’は、再生装置に装填されると、図中のスピンドルモータ７３によって回転駆動される。
光ピックアップＯＰ２は、このように回転駆動されるネガ型記録媒体１’についての再生を行うためのレーザ光を照射するように構成されている。
【００６６】
光ピックアップＯＰ２内には、再生のためのレーザ光源となるレーザ（半導体レーザ）５１が設けられている。
該レーザ５１より出射されたレーザ光は、コリメーションレンズ５２を介して平行光となるようにされた後、λ／２板（１／２波長板）５３を介してＰＢＳ（偏光ビームスプリッタ）５４に入射する。
【００６７】
このとき、ＰＢＳ５４は、例えばＰ偏光を透過しＳ偏光を反射するように構成されているとする。その上で、λ／２板５３の取り付け角度（レーザ光の入射面内において光軸を中心した回転角度）は、ＰＢＳ５４を透過して出力される光（Ｐ偏光成分）と反射して出力される光（Ｓ偏光成分）との比率（すなわちＰＢＳ５４による分光比）がほぼ１：１となるように調整されているとする。
【００６８】
ＰＢＳ５４にて反射されたレーザ光は、λ／４板（１／４波長板）５６を介した後、２軸アクチュエータ５９により保持された対物レンズ５８を介してネガ型記録媒体１’の対象とする層位置Ｌｎ（回折格子層ＨＬ）に集光するようにして照射される。
【００６９】
２軸アクチュエータ５９は、対物レンズ５８をフォーカス方向及びトラッキング方向に変位可能に保持する。
この場合の２軸アクチュエータ５９にはフォーカスコイル、トラッキングコイルが備えられており、これらフォーカスコイル、トラッキングコイルにそれぞれ後述するフォーカスドライブ信号ＦＤ、トラッキングドライブ信号ＴＤが供給されることで、対物レンズ５８が上記フォーカス方向、上記トラッキング方向にそれぞれ変位される。
【００７０】
回折格子層ＨＬに対してレーザ光が照射されることに応じては、該回折格子層ＨＬからの反射光（信号光）が得られる。該反射光は、対物レンズ５８→λ／４板５６を介した後、前述したＰＢＳ５４に入射する。
ＰＢＳ５４に入射した上記反射光（復路光）は、λ／４板５６による作用と回折格子層ＨＬにおける反射時の作用とにより、その偏光方向が、レーザ５１側から入射し該ＰＢＳ５４にて反射された光（往路光とする）の偏光方向に対して９０°異なったものとなっている。すなわち、上記反射光はＰ偏光でＰＢＳ５４に入射する。
このため、復路光としての上記反射光はＰＢＳ５４を透過する。
なお、このようにＰＢＳ５４を透過することになる、光記録媒体の記録信号を反映した反射光のことを、信号光と称する。
【００７１】
また、図２において、レーザ５１より出射されＰＢＳ５４を透過したレーザ光（Ｐ偏光）は、ホモダイン方式における参照光として機能する。
ＰＢＳ５４を透過した参照光は、図中のλ／４板６０を介した後、１軸アクチュエータ６２により保持されたミラー６１にて反射されて、再びλ／４板６０を通過する。その上で、図のようにＰＢＳ５４に入射する。
なお、１軸アクチュエータ６２は、後述する光路長サーボの実現のために設けられたものである。
【００７２】
ここで、上記のようにＰＢＳ５４に入射する参照光（復路光）は、λ／４板６０による作用とミラー６１での反射時の作用とにより、その偏光方向が往路光としての参照光とは９０°異なるものとされる（つまりＳ偏光となる）。従って、上記復路光としての参照光は、ＰＢＳ５４にて反射される。
【００７３】
図中では、このようにＰＢＳ５４にて反射された参照光を破線矢印により示している（図中「ｒｅｆ」）。
また図中では、前述のようにＰＢＳ５４を透過した信号光については実線矢印により示している（図中「ｓｉｇ」）。
【００７４】
図のように、ＰＢＳ５４によっては、これら信号光と参照光とが重ね合わされた状態で同方向に出射される。具体的にこの場合、信号光と参照光とはそれらの光軸が一致するように重ね合わされた状態で同方向に出射される。
【００７５】
ＰＢＳ５４から出力された信号光と参照光の重ね合わせ光は、ＰＢＳ６３に入射する。
ＰＢＳ６３は、Ｐ偏光の一部を透過させ、Ｓ偏光をほぼ１００％反射するように構成されている。これにより当該ＰＢＳ６３では、信号光の一部が透過、一部が反射し、参照光はほぼ１００％反射されることになる。
【００７６】
ここで、ＰＢＳ６３を透過した信号光は、集光レンズ６５を介して位置制御用受光部６６の受光面上に集光する。
位置制御用受光部６６は、対物レンズ５８のフォーカスサーボ、トラッキングサーボを行うためのフォーカスエラー信号ＦＥ、トラッキングエラー信号ＴＥを生成するための受光部として機能する。ここで、フォーカスエラー信号ＦＥやトラッキングエラー信号ＴＥについては、ネガ型記録媒体１’に記録された情報信号についての再生信号（ＲＦ信号）と比較してその周波数帯域が非常に低いため、検出光量が小であってもＳＮＲ（信号対ノイズ比）の悪化が抑制される。このため本例では、上記の光学系の構成により、エラー信号の検出用にネガ型記録媒体１’からの反射光を導き、これを独立に検出するものとしている。
なお、図示されているように、位置制御用受光部６６にて得られた受光信号については、受光信号Ｄ_psと表記する。
【００７７】
また、ＰＢＳ６３を反射した信号光と参照光は、ホモダイン検波光学系６４に入射する。
ホモダイン検波光学系６４は、ＰＢＳ６３から入射する信号光と参照光の重ね合わせ光に基づき、それぞれその位相差が異なるものとされる４組の信号光と参照光の組を生成し、それらの組をそれぞれ異なる位置に集光して、信号光・参照光の各組をそれぞれ対応する検出器（受光素子）上で光干渉させる。
具体的に、本例の場合は、図中に光線Ｌｉ１、Ｌｉ２、Ｌｉ３、Ｌｉ４と示す４組の信号光と参照光の組を生成・集光するように構成されている。
ここで、光線Ｌｉ１は、位相差が０°（つまり同位相）の信号光と参照光の組、光線Ｌｉ２は位相差が１８０°の信号光と参照光の組、光線Ｌｉ３は位相差が９０°の信号光と参照光の組、光線Ｌｉ４は位相差が２７０°の信号光と参照光の組をそれぞれ表す。
図示するように光線Ｌｉ１（位相差＝０°）としての信号光と参照光の組は第１光検出部ＰＤ１に導かれ、光線Ｌｉ２（位相差＝１８０°）としての信号光と参照光の組は第２光検出部ＰＤ２に導かれる。また、光線Ｌｉ３（位相差＝９０°）としての信号光と参照光の組は第３光検出部ＰＤ３に導かれ、光線Ｌｉ４（位相差＝２７０°）としての信号光と参照光の組は第４光検出部ＰＤ４に導かれる。
【００７８】
ここで、第１光検出部ＰＤ１により得られる受光信号については受光信号Ｄ_hm1と表記する。また、第２光検出部ＰＤ２により得られる受光信号については受光信号Ｄ_hm2と表記する。
一方、第３光検出部ＰＤ３により得られる受光信号については受光信号Ｄ_ds1、第４光検出部ＰＤ４により得られる受光信号については受光信号Ｄ_ds2と表記する。
【００７９】
図１３に、位相差が０°、９０°、１８０°、２７０°となる４つの信号光と参照光の組を生成・集光するためのホモダイン検波光学系６４の構成例を示す。
なお、この図１３ではホモダイン検波光学系６４の構成と共に、図１２に示される第１光検出部ＰＤ１〜第４光検出部ＰＤ４も併せて示している。
【００８０】
図１３に示されるように、ホモダイン検波光学系６４は、λ／２板７５、無偏光回折格子７６、角度選択性位相差板７７、ウォラストンプリズム７８、及び集光レンズ７９を有して構成される。
先の図１２による説明からも理解されるように、ホモダイン検波光学系６４には、ＰＢＳ６３から出射された信号光と参照光の重ね合わせ光が入射することになる。そして、このようにホモダイン検波光学系６４に入射する信号光と参照光は、平行光の状態とされ、且つ、互いの偏光方向が直交した関係にある（本例の場合、信号光はＰ偏光、参照光はＳ偏光となる）。
【００８１】
λ／２板７５には、上記のように互いの偏光方向が直交した関係となる信号光・参照光が入射する。λ／２板７５は、その取り付け角度（レーザ光の入射面内において光軸を中心とした回転角度）が調整されることで、信号光と参照光の偏光方向を図のように４５度回転させる。
【００８２】
無偏光回折素子７６は、λ／２板７５を介した平行光の状態の信号光と参照光との重ね合わせ光を分光して、２つの異なる進行方向の光線を出力する。本例の場合、一方は、直進する０次光、他方は所定の回折角で回折された１次光である。
【００８３】
無偏光回折素子７６で分光された上記２つの光線は、角度選択性位相差板７７に入射する。
角度選択性位相差板７７は、例えば水晶などの複屈折性をもった一軸の異方性結晶で構成され、その結晶の光学軸の方向が上記０次光の光軸に対して所定角度だけ傾いた方向に設定される。これにより、直進する上記０次光については、信号光と参照光とに９０°の位相差が与えられるものとなり、一方、上記１次光については、信号光と参照光に位相差は与えられない（位相差は変化しない）ものとなる。
【００８４】
角度選択性位相差板７７を介した上記０次光及び上記１次光は、ウォラストンプリズム７８に入射する。
ウォラストンプリズム７８は、上記０次光（位相差＝９０°）、上記１次光（位相差＝０°）をそれぞれ分光して、計４つの光線を生成する。すなわち、上記１次光を基に、位相差＝０°の信号光と参照光の組による光線（Ｌｉ１）と、位相差＝１８０°の信号光と参照光の組による光線（Ｌｉ２）を生成する。また、上記０次光を基に、位相差＝９０°の信号光と参照光の組による光線（Ｌｉ３）と、位相差＝２７０°の信号光と参照光の組による光線（Ｌｉ４）とを生成する。
【００８５】
なお、上記の構成により、ウォラストンプリズム７８から位相差０°、９０°、１８０°、２７０°による各光線が得られる原理は、下記の参考文献１で説明される原理（［００１５］の記載及び図３を参照）と同様である。
・参考文献１・・・特開２００９−１５９４４号公報
【００８６】
ここで、ウォラストンプリズム７８による分光方向は、無偏光回折素子７６による分光方向とは直交する関係となる。
図１４は、この点について説明するための図であり、図１４Ａは無偏光回折素子７６による分光方向に平行な面を切断面とした場合のホモダイン検波光学系６４の断面図を、図１４Ｂは無偏光回折素子７６による分光方向に平行な面に対して直交する面を切断面とした場合のホモダイン検波光学系６４の断面図をそれぞれ示している。
【００８７】
説明を図１３に戻す。
ウォラストンプリズム７８にて得られる上記４つの各光線は、集光レンズ７９を介することで、第１光検出部ＰＤ１〜第４光検出部ＰＤ４のうちそれぞれ対応する１つに形成されている受光素子上に集光する。
【００８８】
なお、ホモダイン検波光学系の構成は、上記により説明したホモダイン検波光学系６４の構成に限定されるべきものではない。
例えば上記説明では、無偏光回折素子７６による０次光を利用する光学系としたが、無偏光回折素子として、０次光を消光するように構成されたものを用い、±１次光を用いて光線Ｌｉ１〜光線Ｌｉ４を生成するように光学系を設計することもできる。
また、上記説明では、角度選択性位相差板として光軸に対して傾いた結晶光学軸を有するものを用いたが、光軸に平行な方向の結晶光学軸を有する角度選択性位相差板により位相差を付与するように構成することもできる。
【００８９】
図１５は、通常のホモダイン方式による信号再生を行う再生装置全体の内部構成について説明するための図である。
なお図１５において、光ピックアップＯＰ２については、２軸アクチュエータ５９、１軸アクチュエータ６２のみを抽出して示している。
またこの図では、スピンドルモータ７３の図示は省略している。
【００９０】
図示するように光ピックアップＯＰ２の外部には、図１２に示した第１光検出部ＰＤ１による受光信号Ｄ_hm1と第２光検出部ＰＤ２による受光信号Ｄ_hm2とに基づき再生データを得るための構成として、第１信号生成回路８０、第２信号生成回路８１、減算部８２、及び再生処理部８３が設けられる。
また、位置制御用受光部６６による受光信号Ｄ_psに基づき２軸アクチュエータ５９（対物レンズ５８）についてのサーボ制御を行うための構成として、エラー信号生成回路８４、サーボ回路８５、及び２軸ドライバ８６が設けられる。
さらに、光路長サーボを行うための構成として第１信号生成回路８７、第２信号生成回路８８、減算部８９、ＬＰＦ（ローパスフィルタ）９０、及び光路長サーボ回路９１が設けられている。
なお、光路長サーボ系については後に改めて説明する。
【００９１】
第１信号生成回路８０は、受光信号Ｄ_hm1を入力しＩ−Ｖ変換を行って、信号光に対して同位相の参照光が干渉した光についての再生信号を得る。
また、第２信号生成回路８１は、受光信号Ｄ_hm2を入力しＩ−Ｖ変換を行って、信号光に対して逆位相の参照光が干渉した光についての再生信号を得る。
【００９２】
第１信号生成回路８０、第２信号生成回路８１により得られたそれぞれの再生信号は、減算部８２に供給される。
減算部８２は、第１信号生成回路８０より供給される再生信号から、第２信号生成回路８１より供給される再生信号を減算する。換言すれば、当該減算部８２は、「信号光に同位相の参照光が干渉した光についての再生信号」−「信号光に逆位相の参照光が干渉した光についての再生信号」による演算を行うものである。
このような減算部８２による演算により、いわゆる差動検出が行われたことになる。当該差動検出により、ＤＣ成分としての参照光成分が除去（相殺）され、増幅された信号光の成分を得ることができる。
以下、当該減算部８２による差動検出で得られた信号光についての再生信号をＲＦ信号とも表記する。
【００９３】
減算部８２により得られたＲＦ信号は、再生処理部８３に供給される。
再生処理部８３は、ＲＦ信号について２値化処理や記録変調符号の復号化・エラー訂正処理などの所定の復調処理を行い、記録データを復元した再生データを得る。
【００９４】
エラー信号生成回路８４は、受光信号Ｄ_psに基づき、フォーカスエラー信号ＦＥ、トラッキングエラー信号ＴＥを生成する。
【００９５】
サーボ回路８５は、エラー信号生成回路８４にて生成されたフォーカスエラー信号ＦＥ、トラッキングエラー信号ＴＥに対して所定のサーボ演算処理（位相補償やループゲイン付与など）を行って、フォーカスサーボ信号ＦＳ、トラッキングサーボ信号ＴＳをそれぞれ生成する。
【００９６】
２軸ドライバ８６は、サーボ回路８５で得られたフォーカスサーボ信号ＦＳ、トラッキングサーボ信号ＴＳに基づきフォーカスドライブ信号ＦＤ、トラッキングドライブ信号ＴＤを生成し、これらのドライブ信号ＦＤ，ＴＤにより２軸アクチュエータ５９のフォーカスコイル、トラッキングコイルをそれぞれ駆動する。
これにより、対物レンズ５８についてのフォーカスサーボ制御、トラッキングサーボ制御が実現される。
【００９７】
ここで、ホモダイン方式は、信号光に対して参照光を干渉させて信号増幅を図る手法であるため、信号光と参照光との光路長差は、可干渉距離内で且つ位相差を適切に設定することが望ましいものとされている。具体的に、ホモダイン方式では、信号光と参照光との位相差の値に応じて光検出部上で検出される信号光（ＡＣ成分）の光強度が変化するため、該位相差を適切に設定することが望ましいものである。
この点より、ホモダイン方式を採用する場合には、信号光と参照光との光路長差を上記の条件が満たされるように一定に保つために、光路長サーボを行うようにされている。
なお確認のため述べておくと、信号光と参照光との光路長差は主にディスクの面振れに起因して発生するものである。
【００９８】
ここで、光路長サーボの目的は、上記のようにディテクタ上で検出される信号光成分の光強度を最大とすることにある。つまりは、「Ｄ_hm1−Ｄ_hm2」と表記することのできるＲＦ信号の振幅を最大とすることにある。
【００９９】
但し、サーボ制御にあたり、入力信号の最大値を目標値とするのは安定したサーボ制御を実現する上で好ましくない。
そこで本例では、光路長サーボのエラー信号として、「Ｄ_hm1−Ｄ_hm2」によるＲＦ信号ではなく、これに対し９０°の位相差を有するようにされた信号を用いるものとしている。
【０１００】
図１６は、この点について説明するための図であり、図１６Ａでは信号光と参照光の光路長差を変化させたときのＲＦ信号（Ｄ_hm1−Ｄ_hm2）の波形を示し、図１６ＢではＲＦ信号に対し位相が９０°ずれたものとなる「Ｄ_ds1−Ｄ_ds2」の波形を示している。
この図１６を参照して分かるように、受光信号Ｄ_ds1と受光信号Ｄ_ds2との差動検出結果である「Ｄ_ds1−Ｄ_ds2」を光路長エラー信号として用いれば、光路長サーボ制御の目標値は「０」とすることが可能となる。
【０１０１】
この点を踏まえた上で、図１５に示される光路長サーボ系について説明する。
光路長サーボ系において、第１信号生成回路８７は、図１２に示した第３光検出部ＰＤ３による受光信号Ｄ_ds1を入力しＩ−Ｖ変換を行って、信号光に対して位相差９０°となる参照光が干渉した光についての再生信号を得る。
また、第２信号生成回路８８は、第４光検出部ＰＤ４による受光信号Ｄ_ds2を入力しＩ−Ｖ変換を行って、信号光に対して位相差２７０°となる参照光が干渉した光についての再生信号を得る。
【０１０２】
第１信号生成回路８７、第２信号生成回路８８により得られたそれぞれの再生信号は、減算部８９に供給される。
減算部８９は、第１信号生成回路８７より供給される再生信号から、第２信号生成回路８８より供給される再生信号を減算する。この減算部８９の減算処理により、ＤＣ成分としての参照光成分が除去され、増幅された信号光の成分を得ることができる。
【０１０３】
減算部８９による減算結果は、ＬＰＦ９０を介して光路長サーボ回路９１に入力される。
ＬＰＦ９０は、減算部８９による減算結果として得られる再生信号（ＲＦ信号との位相差が９０°となる再生信号）の高周波成分を除去する。
なお、光路長サーボはフォーカスサーボと同程度の周波数特性を持つことが要求され、ＬＰＦ９０はこのために設けられたものとなる。
ここで、ＬＰＦ９０の出力を、以下、「光路長エラー信号」と称する。
【０１０４】
光路長サーボ回路９１は、ＬＰＦ９０より出力される光路長エラー信号を入力し、当該光路長エラー信号の値が所定の目標値で一定となるように１軸アクチュエータ６２を駆動するための駆動信号Ｄdsを生成する。具体的にこの場合は、上記入力される光路長エラー信号の値が０で一定となるようにするための駆動信号Ｄdsを生成し、当該駆動信号Ｄdsに基づき１軸アクチュエータ６２を駆動制御する。
ここで、１軸アクチュエータ６２は、ミラー６１を、該ミラー６１に入射する光の光軸に平行な方向に駆動信号Ｄdsに応じた分だけ変位させるように構成されている。
【０１０５】
以上のような光路長サーボ系の構成により、ＲＦ信号の振幅（ＲＦ信号全体の振幅）を最大とする光路長サーボ制御を実現できる。
【０１０６】
なお、光路長エラー信号が「０」となるようにミラー６１の位相を調整することは、信号光と参照光とが干渉した光の強度を最大とするということを意味する。
ここで、注意すべきは、真に最大としたいのは、信号光（ＡＣ成分）と参照光（ＤＣ成分）との干渉光の強度でなく、信号光の強度であるという点である。
ホモダイン検波方式を採用した再生システムでは、信号光の強度を最大とする信号光・参照光の位相差が、干渉光の強度を最大とする信号光・参照光の位相差（位相差＝「０」）と必ずしも一致しない場合がある。すなわちその場合には、上述のように光路長エラー信号を「０」とする光路長サーボを行ったとしても、信号光の強度を最大とすることはできないものとなる。
そこで、このように信号光の強度を最大とする信号光・参照光の位相差と干渉光の強度を最大とする信号光・参照光の位相差とが一致しない場合には、フォーカスサーボ系において適切なフォーカスバイアスを設定することと同様に、光路長サーボループに対して信号光成分を最大とするためのオフセット値を与えるものとすればよい。このオフセット値は、予め信号光と参照光の位相差と信号光成分の振幅との関係についての実験を行った結果などに基づき求めておくことができる。
【０１０７】
［4-2.具体的な再生手法］
上記のように通常のホモダイン検波方式では、光路長サーボが行われる下で、「信号光に同位相の参照光が干渉した光についての再生信号」−「信号光に逆位相の参照光が干渉した光についての再生信号」としての、「Ｄ_hm1−Ｄ_hm2」による信号を得ることで回折格子層ＨＬに消去マークＥＭで記録された信号を再生することが可能となる。
【０１０８】
但し、これは回折格子層ＨＬが光学的な記録層間隔の限界値よりも大となる間隔を空けて形成された場合を前提としたものであって、上記限界値を超えた狭間隔で回折格子層ＨＬが形成されている場合には、それらに記録された信号を正しく読み分けることができないものとなる。
具体的に、例えば上側の回折格子層ＨＬを対象として再生を行った場合には、ＲＦ信号には該上側の回折格子層ＨＬの記録信号成分に下側の回折格子層ＨＬの記録信号成分がクロストーク成分として重畳してしまい、適切な再生信号を得ることができない。或いは逆に、下側の回折格子層ＨＬを対象として再生を行った場合には、ＲＦ信号には該下側の回折格子層ＨＬの記録信号成分に上側の回折格子層ＨＬの記録信号成分がクロストーク成分として重畳してしまい、適切な再生信号を得ることができないこととなる。
【０１０９】
そこで本実施の形態では、前述のようにそれぞれの格子ピッチ位相がずれるように上側回折格子層ＨＬ_uと下側回折格子層ＨＬ_dとを形成したネガ型光記録媒体１''を用いるものとした上で、上側回折格子層ＨＬ_uと下側回折格子層ＨＬ_dとの再生を、それぞれ参照光の位相を変えて行う。
【０１１０】
ここで、前述のように本実施の形態のネガ型光記録媒体１''では、上側回折格子層ＨＬ_uと下側回折格子層ＨＬ_dの格子ピッチ位相をずらすものとしているので、上側回折格子層ＨＬ_uからの反射光と下側回折格子層ＨＬ_dからの反射光とに所要の位相差を生じさせることができる。具体的に本例では、上側回折格子層ＨＬ_uを対象として光照射を行って得られる信号光と下側回折格子層ＨＬ_dを対象として光照射を行って得られる信号光とに１８０°の位相差を生じさせるものとしている。
【０１１１】
この一方で、本例の場合におけるホモダイン検波方式では、参照光の位相（つまりミラー６１の駆動位置）は、光路長サーボにより調整されるものとなる。具体的に、上側回折格子層ＨＬ_uに再生光を合焦させて信号再生を行う際には、その際の信号光の光路長（位相）に合わせて、参照光の位相が適正に調整（信号光成分を最大とするように調整）されることになる。一方で、下側回折格子層ＨＬ_dに再生光を合焦させて信号再生を行う際には、その際の信号光の光路長（位相）に合わせて参照光の位相が適正に調整（信号光成分を最大とするように調整）されるものである。
【０１１２】
ここで、このように光路長サーボによって上側回折格子層ＨＬ_uを対象とした再生時には参照光位相が信号光位相に応じて適正に調整され、また下側回折格子層ＨＬ_dを対象とした再生時には参照光位相が信号光位相に応じて適正に調整されるという点と、上述のように上側回折格子層ＨＬ_uからの反射光と下側回折格子層ＨＬ_dからの反射光とに１８０°の位相差が生じるという点とを考慮すると、ネガ型光記録媒体１''について光路長サーボ制御下での再生を行うものとした本例においては、上側回折格子層ＨＬ_uを対象とした再生時には、上側回折格子層ＨＬ_uからの信号光（上側信号光とする）についてはホモダイン検波により適正にその再生信号を得ることができる一方で、該上側信号光に対して漏れ込むこととなる下側回折格子層ＨＬ_dからの信号光（下側信号光とする）については、その位相が上側信号光に対し逆相とされたことで、ホモダイン検波では検出されないようにできる。同様に、下側回折格子層ＨＬ_dを対象とした再生時には、下側信号光についてはホモダイン検波により適正にその再生信号を得ることができる一方で、該下側信号光に対して漏れ込むこととなる上側信号光については、その位相が下側信号光とは逆相とされたことで、ホモダイン検波では検出されないようにできる。
【０１１３】
上記説明からも理解されるように、例えば本例のように光路長サーボを行う等して、上側回折格子層ＨＬ_uと下側回折格子層ＨＬ_dとで参照光の位相を変えて再生を行うものとすれば、これら上側、下側の層が光学的な記録層間隔の限界値を超えて近接している場合に一方の層の再生時にクロストーク成分として漏れ込む他方の層の信号光成分が検出されないようにする（或いはクロストーク成分の重畳量を抑制する）ことができる。換言すれば、上側回折格子層ＨＬ_uと下側回折格子層ＨＬ_dとの層間隔が上記限界値を超えて近接していても、再生対象とする層の記録信号を適切に抽出することができ、それぞれの層の記録信号を適正に読み分けることができるものである。
この結果、光学的な記録層間隔の限界値よりも狭い間隔での信号記録を許容できるものとなり、従来よりも記録容量の拡大化を図ることができる。
【０１１４】
図１７，図１８は、参照光の位相を調整するためのミラー６１の位相（参照光ミラー位相）を変化させたときのジッター値（Jitter）と再生信号（ＲＦ信号）のアイパターンの変化をシミュレーションにより求めた結果を示している。
図１７は上側回折格子層ＨＬ_uを対象とした再生時、図１８は下側回折格子層ＨＬ_dを対象とした再生時についてそれぞれ示しており、Ａ図がジッター値、Ｂ図及びＣ図がアイパターンを示す。
ここで、シミュレーションでは、対象とする層位置Ｌｎを起点とした信号光の光路長（位相）と参照光の光路長（位相）とが一致するときの参照光ミラー位相を０°と設定した。
【０１１５】
先ず図１７に示す上側回折格子層ＨＬ_uの再生時には、参照光ミラー位相が５０°のとき、ジッター値が最大（最悪）となり、参照光ミラー位相が１５０°のときにジッター値が最小（最良）を示すものとなった（図１７Ａ）。
この結果より、参照光ミラー位相が５０°のときは、参照光の位相が最適位相から大幅にずれていることが分かる。つまりこの場合は、再生対象とする上側信号光の振幅が低下し、また下側信号光によるクロストークの影響が大となることに伴い、図１７Ｂに示すように再生信号のアイパターンが大幅に乱れ（「アイ」が潰れる）ものとなって、ジッター値が悪化するものである。
一方、参照光ミラー位相が１５０°のときは参照光の位相が最適となる。つまりこの場合は、再生対象とする上側信号光の振幅が大となり、また下側信号光によるクロストークの影響が低下することで、図１７Ｃに示すようにアイパターンの「アイ」が開き良好なジッター値が得られるものである。
【０１１６】
また、図１８に示す下側回折格子層ＨＬ_dの再生時には、参照光ミラー位相が０°のときジッター値が最大（最悪）となり、また参照光ミラー位相が９０°のときにジッター値が最小（最良）を示すものとなった（図１８Ａ）。
この結果より、下側回折格子層ＨＬ_dの再生時には、参照光ミラー位相が０°のときに参照光の位相が最適位相から大幅にずれ、参照光ミラー位相が９０°のとき参照光の位相が最適となることが分かる。
参照光ミラー位相が０°のときは、再生対象とする下側信号光の振幅が低下し、また下側信号光によるクロストークの影響が大となることに伴い、図１８Ｂに示すように再生信号のアイパターンが大幅に乱れ（「アイ」が潰れ）てジッター値が悪化する。一方、参照光ミラー位相が９０°のときは、再生対象とする上側信号光の振幅が大となり、また下側信号光によるクロストークの影響が低下することにより、図１８Ｃに示すようにアイパターンの「アイ」が開いて良好なジッター値が得られるものとなる。
【０１１７】
ここで、上記のシミュレーション結果からも理解されるように、上側回折格子層ＨＬ_uと下側回折格子層ＨＬ_dのうちの再生対象とする層の信号光成分の振幅を増大させ且つクロストーク成分の抑圧を図る上では、少なくとも、上側回折格子層ＨＬ_uを対象とした再生時と下側回折格子層ＨＬ_dを対象とした再生時とで、参照光の位相を変化させればよいということが分かる。
換言すれば、上側回折格子層ＨＬ_uと下側回折格子層ＨＬ_dとで参照光の位相を変えて再生を行うものとすれば、それらの層間隔が光学的な記録層間隔の限界値を超えて近接していても、再生対象とする層の記録信号を抽出可能となり、記録信号を読み分けることができるものである。
【０１１８】
以上のように本実施の形態の再生手法によれば、光学的な記録層間隔の限界値よりも狭い間隔での信号の記録／再生を可能とし、従来よりも記録容量の拡大を図ることができる。
【０１１９】
＜５．初期化装置の構成＞
前述した本実施の形態としての初期化手法を実現するための初期化装置１０の具体的な構成について説明する。
先ず図１９に、初期化装置１０が備える主に光ピックアップＯＰ１の内部構成を示す。なお図１９では、光ピックアップＯＰ１の内部構成と共に、バルク型記録媒体１、及びスピンドルモータ３６も併せて示している。
【０１２０】
図１９において、バルク型記録媒体１は、初期化装置１０に装填されると不図示のターンテーブル上に載置され、スピンドルモータ３６による回転駆動が可能な状態とされる。
光ピックアップＯＰ１は、スピンドルモータ３６により回転駆動されるバルク型記録媒体１に対して初期化光と基準面用レーザ光とを照射すると共に、基準面用レーザ光の反射光を受光するために設けられる。
【０１２１】
光ピックアップＯＰ１内には、初期化光の光源となる初期化用レーザ１１が設けられる。
ここで本例の場合、初期化用レーザ１１が発する初期化光としてのレーザ光の波長はλ＝４０５ｎｍ程度であるとする。また、本例の場合、対物レンズ１９,２７の初期化光についての実効的な開口数はＮＡ＝０．８５程度であるとする。
【０１２２】
初期化用レーザ１１より発せられた初期化用レーザ光は、コリメーションレンズ１２を介して平行光となるようにされた後、アナモプリズム１３を介してＰＢＳ１４に入射する。
【０１２３】
ここで、本例の初期化装置１０では、先の図２などに示した上側初期化光（第１上側初期化光、第２上側初期化光）と下側初期化光とを、初期化用レーザ１１としての共通光源が発するレーザ光を分光して得るものとされる。ＰＢＳ１４は、このような上側初期化光と下側初期化光との分光のために設けられている。
【０１２４】
ＰＢＳ１４は、入射した初期化用レーザ光について、その一部（Ｓ偏光成分）を反射、一部（Ｐ偏光成分）を透過する。
ＰＢＳ１４を透過した光が第１上側初期化光・第２上側初期化光の基となる光となり、ＰＢＳ１４にて反射された光が下側初期化光の基となる光となる。
【０１２５】
ＰＢＳ１４を透過したレーザ光は、ＣＧＨ（Computer Generated Hologram）１５に入射する。ＣＧＨ１５は、入射した光を基に、焦点位置の異なる２つの光を生成するために設けられる。
なお、ＣＧＨ１５の具体的な構造、及びその作用については後述する。
【０１２６】
ＣＧＨ１５を介して得られたレーザ光は、λ／４板１６を介した後、上側フォーカス機構１７に入射する。
上側フォーカス機構１７は、例えば光源である初期化用レーザ１１に近い側に固定レンズ、光源から遠い側に可動レンズがそれぞれ配置され、該可動レンズがレーザ光軸に平行な方向に駆動されるように構成されている。この可動レンズの駆動により、対物レンズ１９を介して照射される上側初期化光（第１,第２上側初期化光）の焦点位置を調整可能とされる。
なお、上側フォーカス機構１７は、オフセット値ｏｆ-L(3・n)に基づき駆動される。
【０１２７】
上側フォーカス機構１７を介したレーザ光は、ダイクロイックミラー１８に入射する。
ダイクロイックミラー１８は、その選択反射面が、初期化用レーザ１１を光源とするレーザ光と同波長帯の光は反射し、それ以外の波長による光は透過するように構成されている。従って上記のように上側フォーカス機構１７を介して入射したレーザ光は、ダイクロイックミラー１８にて反射される。
【０１２８】
ダイクロイックミラー１８で反射されたレーザ光は、対物レンズ１９を介してバルク型記録媒体１（バルク層５）の所要の層位置に集光する。
先の説明からも理解されるように、該対物レンズ１９を介してバルク層５に照射される初期化光は、上側初期化光となる。
【０１２９】
対物レンズ１９に対しては、該対物レンズ１９をフォーカス方向及びトラッキング方向に変位可能に保持する２軸アクチュエータ２０が設けられる。
２軸アクチュエータ２０には、フォーカスコイル、トラッキングコイルが備えられ、それぞれに駆動信号（後述するドライブ信号ＦＤ、ＴＤ）が与えられることで、対物レンズ１９がフォーカス方向、トラッキング方向にそれぞれ変位する。
【０１３０】
また、前述したＰＢＳ１４において、該ＰＢＳ１４で反射されたレーザ光は、λ／４板２１を介し、ミラー２２で反射された後、再びλ／４板２１を介してＰＢＳ１４に入射する。
このようにλ／４板２１を介して入射するレーザ光は、往路光（ＰＢＳ１４→λ／４板２１→ミラー２２）との比較でその偏光方向が９０°回転される（つまりこの場合はＰ偏光となる）ため、ＰＢＳ１４を透過することになる。
【０１３１】
このようにＰＢＳ１４を透過したレーザ光は、図のようにミラー２３でその光軸が９０°折り曲げられるようにして反射された後、λ／４板２４を介して下側フォーカス機構２５に入射する。
この下側フォーカス機構２５としても、例えば光源である初期化用レーザ１１に近い側に固定レンズ、光源から遠い側に可動レンズがそれぞれ配置され、該可動レンズがレーザ光軸に平行な方向に駆動されることで、対物レンズ２７を介して照射される下側初期化光の焦点位置を調整可能とされる。
なお、下側フォーカス機構２５は、オフセット値ｏｆ-L(3・n)の反転値であるｏｆ-L(3・n)’に基づき駆動される。
【０１３２】
下側フォーカス機構２５を介したレーザ光は、ガルバノミラー２６にて反射されて対物レンズ２７に導かれる。
ガルバノミラー２６は、対物レンズ２７を介してバルク層５に照射される下側初期化光の光軸角度を調整するために設けられる。具体的には、下側初期化光のトラッキング方向に直交する方向における光軸角度（タンジェンシャル方向の光軸角度：紙面奥行き方向の光軸角度）を調整可能とされる。
このガルバノミラー２６により、タンジェンシャル方向においても、上側初期化光の光軸に下側初期化光の光軸を一致させるための調整を行うことが可能とされる。
【０１３３】
ガルバノミラー２６で反射されたレーザ光は、対物レンズ２７を介して、バルク層５内の対象とする層位置Ｌｎに集光する下側初期化光として照射される。
【０１３４】
対物レンズ２７は、２軸アクチュエータ２８によってフォーカス方向及びトラッキング方向に変位可能に保持されている。
２軸アクチュエータ２８にはフォーカスコイル、トラッキングコイルが備えられ、それぞれに駆動信号（後述するドライブ信号ＦＤ’、ＴＤ’）が与えられることで、対物レンズ２７がフォーカス方向、トラッキング方向にそれぞれ変位する。
【０１３５】
また、光ピックアップＯＰ１内には、基準面用レーザ光の照射／受光光学系が設けられる。
基準面用レーザ２９は、基準面用レーザ光の光源となる。本例の場合、基準面用レーザ光の波長はλ＝６５０ｎｍ程度とされる。
なお、基準面用レーザ光についての対物レンズ１９の実効的な開口数はＮＡ＝０．６０程度である。
【０１３６】
基準面用レーザ２９より発せられた基準面用レーザ光は、コリメーションレンズ３０を介することで平行光となるようにされた後、ＮＢＳ（無偏光ビームスプリッタ）３１に入射し、分光比に応じてその一部が該ＮＢＳ３１を透過する。
ＮＢＳ３１を透過した基準面用レーザ光は、ダイクロイックミラー１８に入射する。
【０１３７】
上述のようにダイクロイックミラー１８は初期化光と同波長帯の光は反射しそれ以外の波長帯の光は透過するように構成されるため、基準面用レーザ光はダイクロイックミラー１８を透過する。
ダイクロイックミラー１８を透過した基準面用レーザ光は、対物レンズ１９を介してバルク型記録媒体１（基準面Ｒｅｆ）に集光する。
【０１３８】
また、バルク型記録媒体１に基準面用レーザ光が照射されることに応じては、基準面Ｒｅｆからの反射光が得られる。このように基準面Ｒｅｆで得られた基準面用レーザ光の反射光は、対物レンズ１９を介した後、ダイクロイックミラー１８を透過してＮＢＳ３１に入射する。
ＮＢＳ３１では、基準面用レーザ光の反射光の一部が反射される。
【０１３９】
ＮＢＳ３１で反射された基準面用レーザ光の反射光は、図のようにミラー３２にてその光軸が９０°折り曲げられるようにして反射された後、集光レンズ３３→シリンドリカルレンズ３４を介して基準面用受光部３５により受光される。
ここで、基準面用受光部３５で得られる、基準面用レーザ光の反射光についての受光信号を受光信号ＤＴ-Rと表記する。
【０１４０】
ここで、本例における第１上側初期化光、第２上側初期化光の生成手法について説明しておく。
先ず前提事項として、本例の光ピックアップＯＰ１は、基準面用レーザ光を基準面Ｒｅｆに合焦させるように対物レンズ１９の位置制御が為され、且つ上側フォーカス機構１７が対象とする層位置Ｌｎに応じたオフセット値ｏｆ-L(3・n)に基づき駆動されている状態（対象記録層が記録層Ｌ３のときは可動レンズがニュートラル位置）にある状態において、ＣＧＨ１５を設けないとした場合に対物レンズ１９を介して照射される上側初期化光の焦点位置が、対象とする層位置Ｌｎに一致するようにその光学系が設計されているとする。
この前提の下で、本例では上側初期化光の光路中にＣＧＨ１５を挿入するものとし、該ＣＧＨ１５により、層位置Ｌｎの上側にΔＦ１だけデフォーカスされた第１上側初期化光と、下側にΔＦ２だけデフォーカスされた第２上側初期化光とが生成されるようにしている。
【０１４１】
具体的に、この場合のＣＧＨ１５は、入射光の０次光成分を消光する一方で、±１次光としてそれぞれ上側／下側に焦点位置をずらした２つの光を出力するように構成されている。
図２０はＣＧＨ１５の透過率パターンの例を示し、図２１はＣＧＨ１５の透過位相パターンの例を示している。
図２０に示すように透過率パターンとしては、光束の中央部と最外周部とに透過率の高い領域を設定し、これら中央部と最外周部との間の輪状の中間部の透過率を低下させたパターンとする。具体的に、この場合の透過率の分布は、光束の中心が透過率「１」（最大）で、該中心から遠ざかるに連れて透過率が徐々に低下し、上記輪状の中間部の最外周部で透過率が「０」（最低）まで低下する。そして、その外周側に配された上記最外周部において、透過率が外周側に向けて徐々に「１」まで上昇するパターンとしている。
一方、図２１に示すように透過位相パターンとしては、光束の中央部分を位相０°（通過光前と後の位相差が０°）、最外周部分を位相１８０°（通過前と後の位相差が１８０°）としたパターンとする。具体的にこの場合は、上記中央部と上記中間部とを位相０°の領域とし、上記最外周部を位相１８０°の領域としている。
【０１４２】
例えばこのようなＣＧＨ１５のパターン設定により、対物レンズ１９を介してバルク型記録媒体１に照射される上側初期化光として、それぞれ焦点位置がずれた２つの光を得ることができる。
具体的に、この場合のパターンは、基準面用レーザ光を基準面Ｒｅｆに合焦させるように対物レンズ１９の位置制御が為され、且つ上側フォーカス機構１７がオフセット値ｏｆ-L(3・n)に基づき駆動されている状態（対象が記録層Ｌ３のときはニュートラル状態）において、対物レンズ１９より、対象とする層位置Ｌｎの上側にΔＦ１だけずれた位置に焦点を結ぶ光と、下側にΔＦ２だけずれた位置に焦点を結ぶ光とが照射されるように設定されるものである。
【０１４３】
このようにして、例えばＣＧＨ１５を用いることで、層位置Ｌｎから上層側にΔＦ１だけデフォーカスされた第１上側初期化光と、層位置Ｌｎから下層側にΔＦ２だけデフォーカスされた第２上側初期化光とを生成することができる。
【０１４４】
図２２は、初期化装置１０全体の内部構成を示している。
なお図２２において、光ピックアップＯＰ１の内部構成については、初期化用レーザ１１、基準面用レーザ２９、２軸アクチュエータ２０,２８、上側フォーカス機構１７、下側フォーカス機構２５のみを抽出して示している。
また図２２ではスピンドルモータ３６の図示は省略している。
【０１４５】
図２２において、発光駆動部４０は、後述するコントローラ４９からの指示に基づき、基準面用レーザ２９を再生パワーにより連続発光させるためのレーザ駆動信号Ｄ-Rを生成し、該駆動信号Ｄ-Rにより基準面用レーザ２９を発光駆動する。
【０１４６】
また、発光駆動部４１は、コントローラ４９からの指示に基づき、初期化用レーザ１１を所要の記録パワーで連続発光させるためのレーザ駆動信号Ｄ-Sを生成し、該駆動信号Ｄ-Sにより初期化用レーザ１１を発光駆動する。
先に説明した光ピックアップＯＰ１の構成の下で、このように初期化用レーザ１１が発光駆動されることにより、バルク層５内において、第１上側初期化光の焦点位置近傍に上側回折格子層ＨＬ_uを、また第２上側初期化光の焦点位置近傍に下側回折格子層ＨＬ_dをそれぞれ形成することができる。
【０１４７】
マトリクス回路４２は、図１９に示した基準面用受光部３５における複数の受光素子からの受光信号ＤＴ-Rに基づき、必要な信号を生成する。
具体的にマトリクス回路４２は、受光信号ＤＴ-Rに基づき、基準面Ｒｅｆに対する基準面用レーザ光のフォーカス誤差を表すフォーカスエラー信号ＦＥ、及び基準面Ｒｅｆに形成された位置案内子（トラック）に対する基準面用レーザ光のスポット位置の半径方向における位置誤差を表すトラッキングエラー信号ＴＥを生成する。
またマトリクス回路４２は、基準面Ｒｅｆに記録された位置情報（アドレス情報）を検出するための信号として、位置情報検出用信号Ｄｐｓを生成する。この位置情報検出用信号Ｄｐｓとしては、例えば位置案内子がピット列で形成される場合には和信号を生成し、位置案内子がウォブリンググルーブで形成される場合にはプッシュプル信号を生成する。
【０１４８】
マトリクス回路４２で得られた位置情報検出用信号Ｄｐｓは、位置情報検出部４７に供給される。位置情報検出部４７は、位置情報検出用信号Ｄｐｓに基づき基準面Ｒｅｆに記録された位置情報（アドレス情報ＡＤＲと表記）を検出する。検出されたアドレス情報ＡＤＲはコントローラ４９に供給される。
【０１４９】
マトリクス回路４２で得られたフォーカスエラー信号ＦＥ、トラッキングエラー信号ＴＥは、サーボ回路４３に供給される。
サーボ回路４３は、フォーカスエラー信号ＦＥ、トラッキングエラー信号ＴＥに対するサーボ演算処理を行ってフォーカスサーボ信号ＦＳ、トラッキングサーボ信号ＴＳを生成する。
【０１５０】
フォーカスサーボ信号ＦＳは、２軸ドライバ４４に供給される。２軸ドライバ４４は、フォーカスサーボ信号ＦＳに基づくフォーカスドライブ信号ＦＤ、トラッキングサーボ信号ＴＳに基づくトラッキングドライブ信号ＴＤを生成する。
フォーカスドライブ信号ＦＤに基づき２軸アクチュエータ２０のフォーカスコイルが駆動され、またトラッキングドライブ信号ＴＤに基づき２軸アクチュエータ２０のトラッキングコイルが駆動される。これにより、基準面用レーザ光についてのフォーカスサーボ制御（基準面用レーザ光を基準面Ｒｅｆに合焦させるサーボ制御）、及びトラッキングサーボ制御（基準面用レーザ光のスポット位置を基準面Ｒｅｆ上の位置案内子に追従させるサーボ制御）が実現される。
【０１５１】
また、２軸ドライバ４４より出力されたフォーカスドライブ信号ＦＤは、反転回路４５を介してフォーカスドライブ信号ＦＤ’として２軸アクチュエータ２８のフォーカスコイルに供給され、トラッキングドライブ信号ＴＤは反転回路４６を介してトラッキングドライブ信号ＴＤ’として２軸アクチュエータ２８のトラッキングコイルに供給される。
このように２軸アクチュエータ２８のフォーカスコイル、トラッキングコイルがそれぞれフォーカスドライブ信号ＦＤの反転信号であるフォーカスドライブ信号ＦＤ’、トラッキングドライブ信号ＴＤの反転信号であるトラッキングドライブ信号ＴＤ’により駆動されることで、対物レンズ１９を介して照射される上側初期化光（第１,第２初期化光）の焦点位置と対物レンズ２７を介して照射される下側初期化光の焦点位置とのフォーカス方向における距離が一定に保たれ（ΔＦ１とΔＦ２）、且つこれら上側初期化光と下側初期化光の焦点のトラッキング方向における位置が一致するように制御が為されることになる。
【０１５２】
ここで、図示による説明は省略したが、初期化装置１０においては、実際には光ピックアップＯＰ１全体をトラッキング方向にスライド駆動するためのスライド駆動部が設けられる。
サーボ回路４３は、該スライド駆動部による光ピックアップＯＰ１のスライド移動についての制御も行うものとされる。
具体的に、サーボ回路４３は、トラッキングエラー信号ＴＥの低域成分を抽出してスライドエラー信号を生成し、該スライドエラー信号に基づくスライドサーボ信号を生成する。そして、該スライドサーボ信号に基づき上記スライド駆動部が駆動されるようにすることで、光ピックアップＯＰ１のスライドサーボ制御を実現する。また、サーボ回路４３は、コントローラ４９からの指示に応じたスライド制御信号を生成し、該スライド制御信号に基づき上記スライド駆動部が駆動されるようにすることで、光ピックアップＯＰ１の所要のスライド移動動作を実現させる。
【０１５３】
また、サーボ回路４３は、コントローラ４９からの指示に応じ、トラッキングサーボをオフとして所要のジャンプパルスやブレーキパルスを２軸ドライバ４４に出力することでトラックジャンプ動作を実現する。
【０１５４】
コントローラ４９は、例えばＣＰＵ（Central Processing Unit）やＲＯＭ（Read Only Memory）、ＲＡＭ（Random Access Memory）などのメモリ（記憶装置）を備えたマイクロコンピュータで構成され、例えば上記ＲＯＭ等に記憶されたプログラムに従った制御・処理を実行することで、初期化装置１０の全体制御を行う。
例えばコントローラ４９は、位置情報検出部４７で得られたアドレス情報ＡＤＲに基づきサーボ回路４３に対する指示を行って、基準面用レーザ光のスポット位置を所定アドレスに移動させるシーク動作制御を行う。
【０１５５】
また、コントローラ４９は、予めバルク層５内の各層位置Ｌｎ（本例の場合、層位置Ｌ３は「０」であるため除く）ごとに設定されたオフセット値ｏｆ-L(3・n)に基づき上側フォーカス機構１７、下側フォーカス機構２５を駆動することで、初期化が行われるべき層位置Ｌを選択するようにされる。
【０１５６】
ここで、コントローラ４９からは、オフセット値ｏｆ-L(3・n)に基づく駆動信号が上側フォーカス機構１７に供給されると共に、反転回路４８に対しても入力される。反転回路４８は、オフセット値ｏｆ-L(3・n)に基づく駆動信号の反転信号（図中、ｏｆ-L(3・n)’と表記）を下側フォーカス機構２５に供給する。
【０１５７】
このような構成の下で、コントローラ４９は、オフセット値ｏｆ-L(3・n)の値を逐次「ｏｆ-L(3・1)」「ｏｆ-L(3・2)」「０」「ｏｆ-L(3・4)」「ｏｆ-L(3・5)」と変更して、発光駆動部４１への指示により各層位置Ｌｎごとの初期化動作を実行させる。
これにより、バルク層５内の層位置Ｌ１〜Ｌ５の全てに対して上側回折格子層ＨＬ_uと下側回折格子層ＨＬ_dとの組を形成することができる。
つまりこの結果、先の図９に示した実施の形態としてのネガ型記録媒体１''を生成できる。
【０１５８】
＜６．記録再生装置の構成＞
続いて、図２３及び図２４により、ネガ型記録媒体１''に対して消去マークＥＭの記録及び再生を行う記録再生装置５０の具体的な構成について説明する。
なお以下の説明において、既にこれまでで説明済みとなった部分と同様となる部分については同一符号を付して説明を省略する。
【０１５９】
図２３は、記録再生装置５０が備える主に光ピックアップＯＰ２’の内部構成を示した図である。
この図２３では、光ピックアップＯＰ２’の内部構成と共に、ネガ型記録媒体１''、及びスピンドルモータ７３を併せて示している。なお、図中においてこれらネガ型記録媒体１''とスピンドルモータ７３とを除いた部分が、光ピックアップＯＰ２’となる。
【０１６０】
記録再生装置５０が備える光ピックアップＯＰ２’は、先の図１２に示した通常のホモダイン検波を行う場合に用いた光ピックアップＯＰ２との比較で、フォーカス機構５５及びダイクロイックミラー５７と共に、基準面用レーザ光についての光学系（基準面用レーザ６７、コリメーションレンズ６８、ＮＢＳ６９、ミラー７０、集光レンズ７１、シリンドリカルレンズ７２、及び基準面用受光部７３）が追加された点が異なる。
【０１６１】
フォーカス機構５５は、レーザ５１を光源とする記録層用レーザ光ついて独立したフォーカス制御を行うために設けられたものとなる。
ここで、記録再生装置５０において、レーザ５１については、基準面用レーザ６７との区別をする意味で、その名称を「記録層用レーザ５１」と改めるものとする。
本例の場合、記録層用レーザ５１が発光する記録層用レーザ光の波長はλ＝４０５ｎｍ程度であるとする。この場合、記録層用レーザ５１は、後述する駆動信号Ｄ-wrにより発光駆動される。
また本例において、対物レンズ５８の記録層用レーザ光についての実効的な開口数はＮＡ＝０．８５程度であるとする。
【０１６２】
図示するようにフォーカス機構５５には、ＰＢＳ５４にて反射された記録層用レーザ光が入射する。
このフォーカス機構５５としても、先のフォーカス機構１７,２５と同様に、例えば光源に近い側に固定レンズ、光源に遠い側に可動レンズが配置され、該可動レンズがレーザ光の光軸に平行な方向に駆動可能とされているとする。この可動レンズの駆動により、対物レンズ５８に入射する記録層用レーザ光のコリメーション状態を変化させることができ、記録層用レーザ光について独立したフォーカス制御が可能とされる。
【０１６３】
なお、先の図１０の説明からも理解されるように、記録層用レーザ光を上側回折格子層ＨＬ_u又は下側回折格子層ＨＬ_dに合焦させるにあたっては、フォーカス機構５５をオフセット値ｏｆ-L(3・n)とデフォーカス量ΔＦ１又はΔＦ２に基づき駆動することになる（後述もするように記録層Ｌ３についてはΔＦ１又はΔＦ２のみ）。図中ではこのときの駆動信号の値を「ｏｆ-L・ΔＦ」と表記している。
【０１６４】
フォーカス機構５５を介した記録層用レーザ光は、λ／４板５６を介してダイクロイックミラー５７に入射する。
ダイクロイックミラー５７は、記録層用レーザ光と同波長帯の光は透過し、それ以外の波長帯の光は反射するように構成されている。従って上記のようにλ／４板５６を介して入射した記録層用レーザ光はダイクロイックミラー５７を透過する。
【０１６５】
ダイクロイックミラー５７を透過した記録層用レーザ光は、対物レンズ５８を介してネガ型記録媒体１''に照射される。
【０１６６】
ここで、再生時においては、ネガ型記録媒体１''に形成された上側回折格子層ＨＬ_u、下側回折格子層ＨＬ_dからの反射光が信号光として得られるが、信号光と、ミラー６１からの反射光としての参照光とがホモダイン検波光学系６４を介して第１光検出部ＰＤ１〜第４光検出部ＰＤ４にそれぞれ受光されて、受光信号Ｄ_hm1、Ｄ_hm2、Ｄ_ds1、Ｄ_ds2が得られる点については既に説明済みであるため重複説明は避ける。
【０１６７】
また、基準面用レーザ光についての光学系において、基準面用レーザ６７は、駆動信号Ｄ-Rに基づき基準面用レーザ光を発光する。
本例の場合、基準面用レーザ光の波長はλ＝６５０ｎｍ程度であるとする。また、対物レンズ５８の基準面用レーザ光についての実効的な開口数はＮＡ＝０．６０程度であるとする。
【０１６８】
基準面用レーザ６７より発せられた基準面用レーザ光は、コリメーションレンズ６８を介して平行光となるようにされた後、ＮＢＳ６９に入射する。
このように入射した基準面用レーザ光は、ＮＢＳ６９の分光比に応じてその一部が該ＮＢＳ６９を透過する。
ＮＢＳ６９を透過した基準面用レーザ光は、ダイクロイックミラー５７に入射する。
【０１６９】
上記のようにダイクロイックミラー５７は記録層用レーザ光と同波長帯の光は透過しそれ以外の波長帯の光は反射するように構成されるため、基準面用レーザ光はダイクロイックミラー５７にて反射される。
ダイクロイックミラー５７にて反射された基準面用レーザ光は、対物レンズ５８を介してネガ型記録媒体１''（基準面Ｒｅｆ）に照射される。
【０１７０】
また、ネガ型記録媒体１''に基準面用レーザ光が照射されることに応じては、基準面Ｒｅｆからの反射光が得られる。基準面用レーザ光の反射光は、対物レンズ５８を介した後、ダイクロイックミラー５７にて反射されてＮＢＳ６９に入射する。
ＮＢＳ６９では基準面用レーザ光の反射光の一部が反射され、該反射光が図のようにミラー７０にてその光軸が９０°折り曲げられるようにして反射された後、集光レンズ７１→シリンドリカルレンズ７２を介して基準面用受光部７３により受光される。
ここで、基準面用受光部７３で得られる基準面用レーザ光の反射光についての受光信号を受光信号ＤＴ-Rと表記する。
【０１７１】
図２４は、記録再生装置５０の全体的な内部構成を示している。
なおこの図２４において、光ピックアップＯＰ２’の内部構成については基準面用レーザ６７、記録層用レーザ５１、２軸アクチュエータ５９、１軸アクチュエータ６２、及びフォーカス機構５５のみを抽出して示している。またこの図では、スピンドルモータ７３の図示は省略している。
【０１７２】
発光駆動部９６は、後述するコントローラ９５からの指示に基づき、基準面用レーザ６７を再生パワーにより連続発光させるためのレーザ駆動信号Ｄ-Rを生成し、該駆動信号Ｄ-Rにより基準面用レーザ６７を発光駆動する。
【０１７３】
ここで、図２４においては、コントローラ９５が出力する制御信号（指示信号）を信号ｃｎｔと表記している。
【０１７４】
記録処理部９７は、入力される記録データに応じた記録変調符号を生成する。具体的に記録処理部９７は、入力される記録データに対してエラー訂正符号の付加や所定の記録変調符号化処理を施すなどして、上側回折格子層ＨＬ_u、下側回折格子層ＨＬ_dを対象として実際に記録されるべき例えば「０」「１」の２値データ列である記録変調符号列を得る。
記録処理部９７は、生成した記録変調符号列に基づく記録信号を発光駆動部９８に与える。
【０１７５】
発光駆動部９８は、コントローラ９５からの指示に基づき、記録時には記録処理部９７より入力される記録信号に基づくレーザ駆動信号Ｄ-wrを生成し、該駆動信号Ｄ-wrに基づき記録層用レーザ５１を発光駆動する。これにより、上側回折格子層ＨＬ_u、下側回折格子層ＨＬ_dに記録データに応じた消去マークＥＭの列を形成することができる。
また発光駆動部９８は、コントローラ９５からの指示に基づき、再生時には記録層用レーザ５１を再生パワーにより連続発光させるためのレーザ駆動信号Ｄ-wrを生成し、該駆動信号Ｄ-wrに基づき記録層用レーザ５１を発光駆動する。
【０１７６】
また、記録再生装置５０には、受光信号Ｄ_hm1，Ｄ_hm2に基づき再生データを得るための構成として第１信号生成回路８０、第２信号生成回路８１、減算部８２、及び再生処理部８３が設けられる。
また記録再生装置５０には、記録層用レーザ光の反射光を受光して得られる受光信号Ｄ_psに基づき対物レンズ５８についてのフォーカスサーボ制御、トラッキングサーボ制御を行うための構成としてエラー信号生成回路８４、記録層用サーボ回路８５、及び２軸ドライバ８６が設けられる。
さらに記録再生装置５０には、光路長サーボを行うための構成として第１信号生成回路８７、第２信号生成回路８８、減算部８９、ＬＰＦ９０、及び光路長サーボ回路９１が設けられる。
【０１７７】
ここで、これらの各構成については、先の図１５にて説明したものと同様となることから重複説明は避ける。
但しこの場合、サーボ回路８５については後述する基準面用サーボ回路９４と区別する意味で「記録層用サーボ回路８５」としている。
また、エラー信号生成回路８４が出力するトラッキングエラー信号ＴＥ、フォーカスエラー信号ＦＥについては、後述する基準面側のトラッキングエラー信号ＴＥ-ref、フォーカスエラー信号ＦＥ-refと区別するためにそれぞれトラッキングエラー信号ＴＥ-wr、フォーカスエラー信号ＦＥ-wrとしている。
同様に、記録層用サーボ回路８５が出力するトラッキングサーボ信号ＴＳ、フォーカスサーボ信号ＦＳについては、後述する基準面側のトラッキングサーボ信号ＴＳ-ref、フォーカスサーボ信号ＦＳ-refと区別するためにそれぞれトラッキングサーボ信号ＴＳ-wr、フォーカスサーボ信号ＦＳ-wrとしている。
なおこの場合、トラッキングサーボ信号ＴＳ-wr、フォーカスサーボ信号ＦＳ-wrは新たに設けられたスイッチＳＷ１、スイッチＳＷ２にそれぞれ供給されるが、これについては後述する。
【０１７８】
ここで、図示は省略したが、記録再生装置５０には、光ピックアップＯＰ２’をトラッキング方向にスライド駆動するスライド駆動部が設けられる。
【０１７９】
記録層用サーボ回路８５は、トラッキングサーボ信号ＴＳ-wr、フォーカスサーボ信号ＦＳ-wrの生成と共に、上記スライド駆動部による光ピックアップＯＰ２’のスライド移動についての制御も行うものとされる。
具体的に、記録層用サーボ回路８５は、トラッキングエラー信号ＴＥ-wrの低域成分を抽出してスライドエラー信号を生成し、該スライドエラー信号に基づくスライドサーボ信号を生成する。そして、該スライドサーボ信号に基づき上記スライド駆動部が駆動されるようにすることで、光ピックアップＯＰ２’のスライドサーボ制御を実現する。
【０１８０】
また、記録層用サーボ回路８５は、コントローラ９５からの指示に応じ、トラッキングサーボをオフとして所要のジャンプパルスやブレーキパルスをスイッチＳＷ１に出力することでトラックジャンプ動作を実現する。
【０１８１】
また、記録再生装置５０には、上記の構成に加えて、基準面用レーザ光の反射光を受光して得られる受光信号ＤＴ-Rに基づき対物レンズ５８のフォーカスサーボ制御及びトラッキングサーボ制御を行うと共に、基準面Ｒｅｆに記録された位置情報（アドレス情報）を再生するための構成として、マトリクス回路９２、位置情報検出部９３、及び基準面用サーボ回路９４が設けられている。
【０１８２】
マトリクス回路９２は、図２３に示した基準面用受光部７３における複数の受光素子からの受光信号ＤＴ-Rに基づき、必要な信号を生成する。
具体的にマトリクス回路９２は、受光信号ＤＴ-Rに基づき、基準面Ｒｅｆに対する基準面用レーザ光のフォーカス誤差を表すフォーカスエラー信号ＦＥ-ref、及び基準面Ｒｅｆに形成された位置案内子（トラック）に対する基準面用レーザ光のスポット位置の半径方向における位置誤差を表すトラッキングエラー信号ＴＥ-refを生成する。
またマトリクス回路９２は、基準面Ｒｅｆに記録された位置情報（アドレス情報）を検出するための信号として、位置情報検出用信号Ｄｐｓを生成する。この位置情報検出用信号Ｄｐｓとしては、例えば位置案内子がピット列で形成される場合には和信号を生成し、位置案内子がウォブリンググルーブで形成される場合にはプッシュプル信号を生成する。
【０１８３】
マトリクス回路９２で得られた位置情報検出用信号Ｄｐｓは、位置情報検出部９３に供給される。位置情報検出部９３は、位置情報検出用信号Ｄｐｓに基づき基準面Ｒｅｆに記録された位置情報（アドレス情報ＡＤＲと表記）を検出する。検出されたアドレス情報ＡＤＲはコントローラ９５に供給される。
【０１８４】
マトリクス回路９２で得られたフォーカスエラー信号ＦＥ-ref、トラッキングエラー信号ＴＥ-refは、基準面用サーボ回路９４に供給される。
基準面用サーボ回路９４は、フォーカスエラー信号ＦＥ-ref、トラッキングエラー信号ＴＥ-refに対するサーボ演算処理を行ってフォーカスサーボ信号ＦＳ-ref、トラッキングサーボ信号ＴＳ-refを生成する。
トラッキングサーボ信号ＴＳ-refはスイッチＳＷ１に供給され、フォーカスサーボ信号ＦＳ-refはスイッチＳＷ２に供給される。
【０１８５】
また基準面用サーボ回路９４は、上記スライド駆動部による光ピックアップＯＰ２’のスライド移動についての制御も行うものとされる。
具体的に、基準面用サーボ回路９４は、トラッキングエラー信号ＴＥ-refの低域成分を抽出してスライドエラー信号を生成し、該スライドエラー信号に基づくスライドサーボ信号を生成すると共に、該スライドサーボ信号に基づき上記スライド駆動部が駆動されるようにすることで光ピックアップＯＰ２’のスライドサーボ制御を実現する。また基準面用サーボ回路９４は、コントローラ９５からの指示に応じたスライド制御信号を生成し、該制御信号に基づき上記スライド駆動部が駆動されるようにすることで、光ピックアップＯＰ２’の所要のスライド移動動作を実現させる。
【０１８６】
また、基準面用サーボ回路９４は、コントローラ９５からの指示に応じ、トラッキングサーボをオフとして所要のジャンプパルスやブレーキパルスをスイッチＳＷ１に出力することでトラックジャンプ動作を実現する。
【０１８７】
スイッチＳＷ１は、コントローラ９５からの指示に基づき、記録層用サーボ回路８５から入力されるトラッキング制御信号（トラッキングサーボ信号ＴＳ-wrやトラックジャンプ信号）と基準面用サーボ回路９４から入力されるトラッキング制御信号（トラッキングサーボ信号ＴＳ-refやトラックジャンプ信号）のうちの何れか一方を択一的に２軸ドライバ８６に対して出力する。
またスイッチＳＷ２は、コントローラ９５からの指示に基づき、記録層用サーボ回路８５から入力されるフォーカス制御信号（フォーカスサーボ信号ＦＳ-wr）と基準面用サーボ回路９４から入力されるフォーカス制御信号（フォーカスサーボ信号ＦＳ-ref）のうちの何れか一方を択一的に２軸ドライバ８６に対して出力する。
【０１８８】
２軸ドライバ８６は、スイッチＳＷ１により選択出力されたトラッキング制御信号に基づくトラッキングドライブ信号ＴＤと、スイッチＳＷ２により選択出力されたフォーカス制御信号に基づくフォーカスドライブ信号ＦＤを生成する。
このようにして２軸ドライバ８６により生成されたフォーカスドライブ信号ＦＤに基づき２軸アクチュエータ５９のフォーカスコイルが駆動され、またトラッキングドライブ信号ＴＤに基づき２軸アクチュエータ５９のトラッキングコイルが駆動されることになる。
これにより、基準面用レーザ光の反射光に基づく対物レンズ５８のフォーカス、トラッキング制御と、記録層用レーザ光の反射光に基づく対物レンズ５８のフォーカス、トラッキング制御とを切り替えて行うことが可能とされる。
【０１８９】
コントローラ９５は、例えばＣＰＵやＲＯＭ、ＲＡＭなどのメモリ（記憶装置）を備えたマイクロコンピュータで構成され、例えば上記ＲＯＭ等に記憶されたプログラムに従った制御・処理を実行することで、記録再生装置５０の全体制御を行う。
例えばコントローラ９５は、位置情報検出部９３で得られたアドレス情報ＡＤＲに基づき基準面用サーボ回路９４に対する指示を行って、基準面用レーザ光のスポット位置を所定アドレスに移動させるシーク動作制御を行う。
【０１９０】
また、コントローラ９５は、予めネガ型光記録媒体１''の層位置Ｌごとに設定されたオフセット値ｏｆ-L(3・n)とデフォーカス量ΔＦ１、ΔＦ２の値とに基づき、所要の層位置Ｌｎに対して形成された上側回折格子層ＨＬ_u、下側回折格子層ＨＬ_dに記録層用レーザ光の焦点位置を合わせるための制御を行う。
具体的に、対象とする層位置Ｌｎ（記録層Ｌ３は除く）に形成された上側回折格子層ＨＬ_uに記録層用レーザ光の焦点を合わせるにあたっては、基準面用サーボ回路９４による対物レンズ５８のフォーカスサーボ制御が実行されている下で（つまりスイッチＳＷ２にフォーカスサーボ信号ＦＳ-refを選択させている下で）、フォーカス機構５５を「オフセット値ｏｆ-L(3・n)」−「ΔＦ１」による値に基づき駆動する（先の図１０Ａを参照）。
一方、対象とする層位置Ｌｎ（記録層Ｌ３は除く）に形成された下側回折格子層ＨＬ_dに記録層用レーザ光の焦点を合わせるにあたっては、基準面用サーボ回路９４による対物レンズ５８のフォーカスサーボ制御が実行されている下で、フォーカス機構５５を「オフセット値ｏｆ-L(3・n)」＋「ΔＦ２」による値に基づき駆動する（先の図１０Ｂを参照）。
なお確認のため述べておくと、本例の場合、バルク層５内の中央に配される層位置Ｌ３に形成された上側回折格子層ＨＬ_u又は下側回折格子層ＨＬ_dに記録層用レーザ光の焦点を合わせるにあたっては、オフセット値ｏｆ-L(3・n)は用いず、デフォーカス量ΔＦ１又はΔＦ２の値のみに基づきフォーカス機構５５を駆動することになる。
【０１９１】
コントローラ９５は、記録時においては、上記のような記録層用レーザ光についての焦点合わせ処理を実行した上で、記録処理部９７と発光駆動部９８に指示を出して記録動作を実行させる。これにより、光学的な記録層間隔の限界値を超えた狭間隔で配される上側回折格子層ＨＬ_u、下側回折格子層ＨＬ_dにそれぞれ信号を記録し分けることができる。
【０１９２】
またコントローラ９５は、上記のような記録層用レーザ光についての焦点合わせ処理を、再生時においても実行する。
ここで、再生時には、記録層用レーザ光の焦点が上側回折格子層ＨＬ_u又は下側回折格子層ＨＬ_dに合わされた後、光路長サーボ回路９１による光路長サーボがかかることで、上側回折格子層ＨＬ_uの再生時には、上側回折格子層ＨＬ_uに記録された信号に応じた再生データが適正に得られることとなり、また下側回折格子層ＨＬ_dの再生時には下側回折格子層ＨＬ_dに記録された信号に応じた再生データが適正に得られるものとなる。つまりこれにより、光学的な記録層間隔の限界値を超えた狭間隔で配される上側回折格子層ＨＬ_u、下側回折格子層ＨＬ_dの記録信号を適正に読み分けることができるものである。
【０１９３】
ここで、上述のようなフォーカス機構５５を用いた上側回折格子層ＨＬ_u又は下側回折格子層ＨＬ_dへの記録層用レーザ光の焦点合わせを行った後は、該記録層用レーザ光の上側回折格子層ＨＬ_u又は下側回折格子層ＨＬ_dからの反射光に基づき、対物レンズ５８のフォーカスサーボ制御を実行することができる。この点に鑑み本例では、スイッチＳＷ２を設けて、対物レンズ５８についてのフォーカス制御を基準面用レーザ光の反射光に基づく制御と記録層用レーザ光の反射光に基づく制御とで切り替えることができるようにしている。
具体的にコントローラ９５は、上述のようなフォーカス機構５５を用いた記録層用レーザ光の焦点合わせ処理を実行した後に、スイッチＳＷ２をそれまでのフォーカスサーボ信号ＦＳ-refの選択状態からフォーカスサーボ信号ＦＳ-wrの選択状態へと切り替えるようにする。これにより、以降、記録層用レーザ光が上側回折格子層ＨＬ_u又は下側回折格子層ＨＬ_dに合焦する状態を維持することができる。
【０１９４】
またコントローラ９５は、スイッチＳＷ１に対する指示により、必要に応じて対物レンズ５８のトラッキング制御を基準面用レーザ光の反射光に基づく制御と記録層用レーザ光の反射光に基づく制御とで切り替えるようにする。
例えば、基準面Ｒｅｆのアドレス情報ＡＤＲを利用したシーク時などアドレス情報ＡＤＲを読む必要がある場合には、スイッチＳＷ１に基準面用サーボ回路９４からの出力信号を選択させ、それ以外の場合（例えば消去マークＥＭによる記録信号を再生するときなど）にはスイッチＳＷ１に記録層用サーボ回路８５からの出力信号を選択させるなどの制御を行うことができる。
【０１９５】
＜７．変形例＞
以上、本技術に係る実施の形態について説明したが、本技術としてはこれまでで説明した具体例に限定されるべきものではない。
例えばこれまでの説明では、第１上側初期化光と第２上側初期化光とを得るにあたってＣＧＨ１５を用いる場合を例示したが、対象とする層位置Ｌｎの上下にそれぞれデフォーカスされた初期化光を生成するための構成はこれに限定されるべきものではなく、例えば液晶素子を用いるなど他の構成を採ることもできる。
【０１９６】
また、これまでの説明では、上側初期化光側で上下にデフォーカスされた光を生成するものとしたが、下側初期化側で生成してもよい（この場合、上側初期化光は層位置Ｌｎに合焦させることは言うまでもない）。
【０１９７】
またこれまでの説明では、初期化光を集光させることで上側回折格子層ＨＬ_u、下側回折格子層ＨＬ_dをトラック状に形成する場合を例示したが、例えば初期化光として平行光を照射することで上側回折格子層ＨＬ_u、下側回折格子層ＨＬ_dが面内方向全体（少なくとも記録に関与する領域の全体）に形成されるようにすることもできる。
【０１９８】
なお確認のため述べておくと、実施の形態で例示したように回折格子層ＨＬをトラック状に形成することによっては、回折格子層ＨＬからの反射光を利用してフォーカスサーボとトラッキングサーボとをかけることができるので、消去マークＥＭの記録／再生を行うにあたり、基準面Ｒｅｆを利用した位置制御のための構成は省略することも可能である。
【０１９９】
また、これまでの説明では、上側回折格子層ＨＬ_uについての記録（又は再生）と下側回折格子層ＨＬ_dについての記録（又は再生）とを分けて実行することを前提としたが、例えば２つの光ピックアップＯＰ２’を設け、一方に上側回折格子層ＨＬ_uについての記録（又は再生）、他方に下側回折格子層ＨＬ_dについての記録（又は再生）を行わせるなどして、上側回折格子層ＨＬ_uと下側回折格子層ＨＬ_dの記録（又は再生）が同時に行われるようにすることもできる。
【０２００】
また、これまでの説明では、光学的な記録層間隔の限界値を超えた狭間隔で配置される回折格子層ＨＬとして、１つの層位置Ｌｎにつき上側回折格子層ＨＬ_uと下側回折格子層ＨＬ_dの２つを形成する場合を例示したが、本技術において、光学的な記録層間隔の限界値を超えた狭間隔で配置される回折格子層ＨＬの数は、１つの層位置Ｌｎにつき３以上を形成することもできる。
ここで、光学的な記録層間隔の限界値を超えた狭間隔で３以上の回折格子層ＨＬを形成した場合にも、前述した再生手法のように、それらの回折格子層ＨＬについての再生にあたりそれぞれ参照光の位相を変化させれば、再生対象としている回折格子層ＨＬの信号光振幅を大としつつ他の層からのクロストーク成分の影響を小とすることが可能となるので、それにより各回折格子層ＨＬの記録信号の読み分けを行うことが可能となる。
このように本技術は、光学的な記録層間隔の限界値を超えた狭間隔で３以上の回折格子層ＨＬを形成する場合にも対応可能なものである。
【０２０１】
また、これまでの説明では、本技術の光記録媒体がディスク状の記録媒体とされる場合を例示したが、例えば矩形状など他の形状とされる場合も本技術は好適に適用可能なものである。
【０２０２】
また、本技術としては以下に示す構成を採ることもできる。
（１）
所定の深さ位置を境に、その上下に格子ピッチの位相がずれた回折格子層が形成されているネガ型光記録媒体。
（２）
上記回折格子層は、上記所定の深さ位置に合焦する第１の光と、上記所定の深さ位置から上下にそれぞれデフォーカスされた第２の光、第３の光とが照射されて、それらの干渉縞により形成されたものである
上記（１）に記載のネガ型光記録媒体。
（３）
上記回折格子層は、
それぞれの上記デフォーカス量の和が光学的な記録層間隔の限界値よりも小とされた上記第２,第３の光の照射に伴い形成されたものである
上記（２）に記載のネガ型光記録媒体。
（４）
上記格子ピッチの位相差が略１８０°である上記（１）乃至（３）何れかに記載のネガ型光記録媒体。
（５）
上記格子ピッチの位相がずれた回折格子層の組が、光学的な記録層間隔の限界値以上の間隔を空けて複数位置に形成されている
上記（１）乃至（４）何れかに記載のネガ型光記録媒体。
（６）
光記録媒体に対し、当該光記録媒体の所定の深さ位置に合焦する第１の光と、上記所定の深さ位置から上下にそれぞれデフォーカスさせた第２の光、第３の光とを照射して、それらの干渉縞により、上記所定の深さ位置を境にその上下に格子ピッチの位相がずれた回折格子層を形成する
ネガ型光記録媒体の製造装置。
（７）
上記デフォーカス量の和を光学的な記録層間隔の限界値よりも小とした上記第２,第３の光を照射する
上記（６）に記載のネガ型光記録媒体の製造装置。
（８）
上記格子ピッチの位相差を略１８０°とする上記デフォーカス量により上記第２,第３の光を照射する
上記（６）又は（７）何れかに記載のネガ型光記録媒体の製造装置。
（９）
上記格子ピッチの位相がずれた回折格子層の組を、光学的な記録層間隔の限界値以上の間隔を空けて複数位置に形成する
上記（６）乃至（８）何れかに記載のネガ型光記録媒体の製造装置。
（１０）
所定の深さ位置を境に、その上下に格子ピッチの位相がずれた回折格子層が形成されているネガ型光記録媒体に対して光照射を行う光照射部と、
上記光照射部による発光動作を制御して上記ネガ型光記録媒体に形成された上記回折格子層における回折格子を一部消去することで、消去マークによる信号記録を行う記録部と
を備える記録装置。
（１１）
上記ネガ型光記録媒体における上記回折格子層は、上記所定の深さ位置に合焦する第１の光と、上記所定の深さ位置から上下にそれぞれデフォーカスされた第２の光、第３の光とが照射されて、それらの干渉縞により形成されたものであり、
上記光照射部による照射光を上記所定の深さ位置から上側に上記第２の光のデフォーカス量だけデフォーカスさせた状態と、下側に上記第３の光のデフォーカス量だけデフォーカスさせた状態とで、それぞれ上記記録部による記録が実行されるように制御を行う制御部を備える
上記（１０）に記載の記録装置。
（１２）
所定の深さ位置を境に、その上下に格子ピッチの位相がずれた回折格子層が形成されていると共に、それぞれの上記回折格子層に対し消去マークによる信号記録が行われたネガ型光記録媒体に対し、同一光源より出射された光を分光して得た２つの光のうち一方の光を照射してその反射光を信号光として得ると共に、上記分光して得た２つの光のうち他方の光をミラーに対して照射してその反射光を参照光として得る信号光・参照光生成部と、
上記信号光・参照光生成部で得られた上記信号光と上記参照光とを用いたホモダイン検波を行うホモダイン検波部と、
上記他方の光の上記ミラーに対する入射光軸に平行な方向に上記ミラーを駆動して上記参照光の位相を変化させるミラー駆動部と、
上記ホモダイン検波部によるホモダイン検波の結果に基づき上記信号光に基づく再生信号を得る再生動作を、それぞれの上記回折格子層の再生ごとに上記参照光の位相を変化させて実行する再生部と
を備える再生装置。
（１３）
上記ネガ型光記録媒体における上記回折格子層は、上記所定の深さ位置に合焦する第１の光と、上記所定の深さ位置から上下にそれぞれデフォーカスされた第２の光、第３の光とが照射されて、それらの干渉縞により形成されたものであり、
上記再生部は、
上記信号光の基となる上記一方の光を上記所定の深さ位置から上側に上記第２の光のデフォーカス量だけデフォーカスさせた状態で上側回折格子層についての再生動作を行い、上記一方の光を上記所定の深さ位置から下側に上記第３の光のデフォーカス量だけデフォーカスさせた状態で下側回折格子層についての再生動作を行う
上記（１２）に記載の再生装置。
（１４）
上記信号光と上記参照光とを受光する受光部による受光信号に基づき、上記信号光の受光強度を最大とするように上記ミラー駆動部を制御する光路長サーボ制御部を備える
上記（１３）に記載の再生装置。
【符号の説明】
【０２０３】
１  バルク型記録媒体、1''  ネガ型記録媒体、２  カバー層、３  選択反射膜、４  中間層、５  バルク層、Ｌ１〜Ｌ５  第１〜第５層位置、ＨＬ_u  上側回折格子層、ＨＬ_d  下側回折格子層、ＯＰ１,ＯＰ２’  光ピックアップ、１０  初期化装置、１１  初期化用レーザ、１２,３０,５２,６８  コリメーションレンズ、１３  アナモプリズム、１４,５４,６３  ＰＢＳ、１５  ＣＧＨ、１６,２１,２４,５６,６０  λ／２板、１７  上側フォーカス機構、１８,５７  ダイクロイックミラー、１９,２７,５８  対物レンズ、２０,２８,５９  ２軸アクチュエータ、２２,２３,３２,６１,７０  ミラー、２５  下側フォーカス機構、２６  ガルバノミラー、２９,６７  基準面用レーザ、３１,６９  ＮＢＳ、３３,６５,７１  集光レンズ、３４,７２  シリンドリカルレンズ、３５,７３  基準面用受光部、３６,７３  スピンドルモータ、４０,４１,９６,９８  発光駆動部、４２,９２  マトリクス回路、４３  サーボ回路、４４,８６  ２軸ドライバ、４５,４６,４８  反転回路、４７,９３  位置情報検出部、４９,９５  コントローラ、５０  記録再生装置、５１  記録層用レーザ、５３  λ／２板、５５  フォーカス機構、６２  １軸アクチュエータ、６４  ホモダイン検波光学系、ＰＤ１〜ＰＤ４  第１〜第４光検出部、６６  位置制御用受光部、８０,８７  第１信号生成回路、８１,８８  第２信号生成回路、８２,８９  減算部、８３  再生処理部、８４  エラー信号生成回路、８５  記録層用サーボ回路、９０  ＬＰＦ、９１  光路長サーボ回路、９４  基準面用サーボ回路、９７  記録処理部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図７】
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【図１１】
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【図２０】
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【図２１】
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