(57)【要約】【課題】調光機能を有するフイルムまたはシート乃至はそれらをガラスに貼るなどした調光材に電界を与えるために使用する電極として用い、電界を階調した際に発生するムラが生じない、調光材用電極を提供する。【解決手段】  樹脂フイルム上に金属層を有し、該金属層が網目状構造であり、該金属層の厚みが３μｍ以下である調光材用電極【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂フイルム上に金属層を有し、該金属層が網目状構造であり、該金属層の厚みが３μｍ以下であることを特徴とする、調光材用電極。
【請求項２】
反射光について、Ｌａｂ系におけるＬ値が１９〜３０、ａ値が−４〜３、ｂ値が−４〜１であることを特徴とする、請求項１に記載の調光材用電極。
【請求項３】
黒化層を有し、該層が網目状構造であることを特徴とする、請求項１又は２に記載の調光材用電極。
【請求項４】
黒化層、金属層、黒化層（以下、黒化層２という）、樹脂フイルムを、この順に有する事を特徴とする、請求項３に記載の調光材用電極。
【請求項５】
チタン、ニッケル、クロムからなる群より選ばれる少なくとも１つの元素を含む密着層を有し、該層が網目状構造であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載の調光材用電極。
【請求項６】
黒化層２と樹脂フイルムの間に密着層を有することを特徴とする、請求項５に記載の調光材用電極。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載の調光材用電極を用いた調光材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、調光機能を有するフイルム（シート）、またはそれらをガラスに貼るなどした部材（以下、当該フイルム（シート）、当該部材を合わせて、調光材という）に電界を与えるために使用する電極（調光材用電極）に関する。また本発明は、該電極を用いた調光材に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、透過率やヘイズを任意に調節することが可能なガラス材やプラスチック材、つまり調光材が商品化され、太陽光などの外光の調整やプライバシー保護などに利用されている。これら調光材が調光機能を発現する方法としては、様々な方法がある。例えば、配向粒子を用いる方法（特許文献１）や、液晶等のアスペクト比の大きな粒子を用いる方法（特許文献２）、エレクトロクロミックを用いる方法（特許文献３）などが提案されている。調光機能を持つ材料を調光素子と称する。それらの調光素子はガラスなどの透明基材に固定されて使用する場合が多く、合わせて調光材と称する。
【０００３】
調光材の調光素子を駆動する方法は、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）など表面に塗布した透明導電フイルムや透明導電ガラス（透明電極と略す）を２枚使用して平行平板状に対向させて、その間に調光素子を封入し、対向する透明電極の間に直流または交流を印加し、その電界を調整することで透過率やヘイズを任意に調節する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平１１−２１８７８９号公報
【特許文献２】特開２００２−２６５９４５号公報
【特許文献３】特開２００３−３４４８７８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
建築ガラスはその大きさが横幅で１８００ｍｍ超、縦長で２０００ｍｍ超という大型の窓があり、調光材をそのような大型の窓に用いる場合、引き出し電極からの距離が長くなる位置において調光素子の駆動速度が遅くなり、調光の階調を変える過程で視覚的にムラが目立つようになるという問題がある。これは、従来の調光材に用いる透明電極（調光材用電極）の電気抵抗値が数十Ω／ｓｑであるため、引き出し電極からの距離が長くなると電圧降下が生じるためである。
【０００６】
この問題の解決手段としては、引き出し電極の数を増やすなどの方法があるが、引き出し電極の数に比例してコストが掛かる問題が残り、また、ガラスの中央部分で生じるムラについてはこの方法では解決できない。
【０００７】
ガラスの中央部分で生じるムラを解決する手段の一つには、金属などの電気抵抗の小さな線を補助電極として用いたり、金属粒子を調光材に混入するなどの方法があるが、視覚的に透明性を損ねることになる。
【０００８】
そこで本発明は、建築ガラスなどの大型の材料に対して調光素子を用いた場合でも、調光の階調を変える過程で視覚的なムラが生じることがなく、今後さらに大型化が進む建築ガラスなどに適用することが可能な調光材用電極を提供し、さらにはこのような調光材用電極を用いた調光材を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するための本発明は、以下である。
（１）  樹脂フイルム上に金属層を有し、該金属層が網目状構造であり、該金属層の厚みが３μｍ以下であることを特徴とする、調光材用電極。
（２）  反射光について、Ｌａｂ系におけるＬ値が１９〜３０、ａ値が−４〜３、ｂ値が−４〜１であることを特徴とする、前記（１）に記載の調光材用電極。
（３）  黒化層を有し、該層が網目状構造であることを特徴とする、前記（１）又は（２）に記載の調光材用電極。
（４）  黒化層、金属層、黒化層（以下、黒化層２という）、樹脂フイルムを、この順に有する事を特徴とする、前記（１）〜（３）のいずれかに記載の調光材用電極。
（５）  チタン、ニッケル、クロムからなる群より選ばれる少なくとも１つの元素を含む密着層を有し、該層が網目状構造であることを特徴とする、前記（１）〜（４）のいずれかに記載の調光材用電極。
（６）  黒化層２と樹脂フイルムの間に、密着層を有することを特徴とする、前記（５）に記載の調光材用電極。
（７）前記（１）〜（６）のいずれかに記載の調光材用電極を用いた調光材。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、以下に説明するとおり、大型ガラスなどに用いても階調時のムラなどにより視認性を損ねることなく、また透明性を損なわない透明導電性を有する調光材用電極、及びそれを用いた調光材を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の調光材用電極の実施例１の断面模式図である。
【図２】本発明の調光材用電極の実施例１の断面を網目状構造を上に見た模式図である。
【図３】本発明の調光材用電極の実施例５の断面模式図である。
【図４】本発明の実施例１の調光材用電極を用いた調光材の断面模式図。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本発明の調光材用電極は、樹脂フイルム上に金属層を有し、該金属層が網目状構造であり、該金属層の厚みが３μｍ以下であることを特徴とする。
【００１３】
樹脂フイルムとは、例えばポリエチレンテレフタレート（以降ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、或いは、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリブテン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン系樹脂、或いは、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース等のセルロース系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリアクリロニトリル系樹脂等を溶融または溶液製膜したものである。これらの中でも、透明性、耐熱性、耐薬品性、コスト等の点より、ＰＥＴフイルムが最も好ましい。
【００１４】
樹脂フイルムの厚みとしては、５０〜３００μｍの範囲が適当であるが、コストの点から８０〜２５０μｍの範囲が特に好ましい。また樹脂フイルムとしては、複数の層を積層した積層フイルムを用いることもできる。
金属層とは、金属が積層されてなる状態をいう。なお、金属層を形成する金属の組成については、後述する。
【００１５】
また金属層は、網目状構造であることが重要である。網目状構造とは、規則性の有無に関わらず、金属部分と下地（樹脂フイルムなど）が露出した部分が混在する状態であって、金属部分は繋がっている状態を示す。網目状構造は、前述の通り金属部分と下地（樹脂フイルムなど）の露出した部分とが混在する状態であり、金属部分は繋がっている状態であれば特に限定されないが、好ましくはメッシュ状構造やストライプ状構造であり、より好ましくはメッシュ状構造である。
【００１６】
また金属層の厚みは、３μｍ以下であることが重要である。厚みの下限は特に限定されないが、現実的な厚みの下限は０．１μｍ程度と思われる。金属層の厚みは、好ましくは０．５μｍ以上３μｍ以下である。
【００１７】
調光材用電極の金属層としては、チタン、ニッケル、及びクロムを除く金属が主成分として用いられさえすれば特にその種類に限定はされない。金属層として好ましくは、導電性が良い金属を主成分として用いることである。そして耐久性を考慮すれば、金属層としては、経時劣化が生じ難い金属を主成分として用いることが好ましい。例えば、金属層を形成する金属として、金、銀、銅、白金、パラジウム、アルミニウム、及びクロムからなる群より選ばれる少なくとも１つの金属を主成分とする方法を挙げることができる。そして、後述する黒化層を容易に形成できることから、金属層の主成分としては、銅が好適である。ここで主成分とは、金属層中の全成分１００質量％において、５０質量％以上１００質量％以下含まれる成分を意味する。
本発明にかかる金属層の網目状構造の製造方法について、以下に説明する。
【００１８】
本発明にかかる金属層の網目状構造は、樹脂フイルム上のほぼ全域に、面内に連続した金属層を形成した後、網目状に加工して形成することが好ましい。
【００１９】
本発明において、樹脂フイルム上に面内に連続した金属層を形成する方法として、気相製膜法、メッキ法が挙げられるが、環境上の問題や製膜の安定性の観点から気相製膜法が好ましく用いられる。特に本発明の金属層の網目状構造には気相製膜法を用いて形成することが好ましい。
本発明の調光材用電極は、樹脂フイルム上に金属層を有することが重要であるが、樹脂フイルム上に金属層を有する構成とするためには、樹脂フイルムと金属層の間に、接着剤（基材に銅箔を接着するための接着剤）やゼラチン乳剤層（感光性銀塩を用いた場合）を介在させる構成と、接着剤やゼラチン乳剤層を介在せずに金属層を樹脂フイルム上に積層する構成がある。しかし、接着剤を用いるとフイルム全体の厚みが増し、ゼラチン乳剤層を用いると網目化加工工程での金属層の密着性が低下することがあるため、本発明にかかる場合は後者の接着剤やゼラチン乳剤層を介在せずに金属層を樹脂フイルム上に積層した構成であることが好ましい。このような接着剤やゼラチン乳剤層を介在せずに金属層を樹脂フイルム上に積層した構成としては、樹脂フイルムと金属層とを直接積層した構成、樹脂フイルム／黒化層２／金属層／黒化層１をこの順に直接積層した構成、樹脂フイルム／密着層／黒化層２／金属層／黒化層１をこの順に直接積層した態様、などを挙げることができる。
【００２０】
樹脂フイルムと金属層を直接積層した構成とするために、本発明に好ましく用いられる気相製膜法とは、具体的には、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、電子ビーム蒸着、化学蒸着の中から選ばれる少なくとも１つの方法である。これらの気相製膜法の中でも、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法が好ましく用いられる。
【００２１】
金属層は複数の金属からなる複数の層で形成されていてもよい。この場合は、気相製膜法として、複数の方法を組み合わせて用いることもできる。例えば、面内に連続した金属層を真空蒸着法、その上に面内に連続した金属層をスパッタリング法で形成することができる。
【００２２】
樹脂フイルム上に形成された面内に連続した金属層を、その後に網目状構造に加工したとしても、得られる網目状構造の金属層の厚みは、網目状に加工する前の金属層の厚みと同程度の厚みを維持する。
【００２３】
面内に連続した金属層を網目状構造とするための方法（網目化加工方法）については、２つの好ましい加工方法が挙げられるが、それらについて以下に説明する。
【００２４】
金属層を網目状構造とするための好ましい１つの方法は、金属膜をエッチング法によって網目状に加工する方法である。
【００２５】
金属層を網目状構造とするためのもう１つの好ましい方法は、予め基材上に、溶剤に可溶な樹脂を用いて、最終目的とする網目のパターンとは逆パターンを形成し、次いで、樹脂フイルムのパターン形成面に金属層を形成し、溶剤にて逆パターンの樹脂とその上の金属層を除去することによって、金属層の網目構造を形成する方法である。
【００２６】
本発明では、金属層を網目状構造とするための方法として、前者のエッチングによるパターン加工方法が特に好ましく用いられる。
本発明の調光材用電極は、その反射光について、Ｌａｂ系におけるＬ値が１９〜３０、ａ値が−４〜３、ｂ値が−４〜１であることが好ましい。本発明の調光材用電極の反射光について、Ｌ値を１９〜３０、ａ値を−４〜３、ｂ値を−４〜１とすることで、反射光のギラツキ感が無く、視認性が良くなるために好ましい。Ｌ値が１９を下回ると暗く感じ、３０を超えると明るすぎて網目が目立つようになることがある。ａ値が−４〜３、及びｂ値が−４〜１の範囲であると、反射光が青緑色を呈して、金属層の網目状構造が目立ち難くて好ましい。ａ値が−４〜３の範囲から外れたり、ｂ値が−４〜１の範囲から外れると、金属層の網目状構造が目立ち易くなり、調光材の視認性が悪くなることがある。なお、反射光のＬ値、ａ値、ｂ値の測定方法は、後述する。
【００２７】
一般に金属層の表面は、大気等と反応して時間と共に変色していくが、金属層の表面に対して酸化や窒化などを施すと、反射光の色を調整する事が可能である。そのため、本発明の調光材用電極の反射光のＬ値を１９〜３０、ａ値を−４〜３、ｂ値を−４〜１とするための方法は、黒化層を形成することにより可能である。
本発明の調光材用電極は、黒化層を有することが好ましい。黒化層とは視覚的に反射色が黒色に見えればよく、例えば窒化銅、酸化銅、窒化ニッケル、及び酸化ニッケルからなる群より選ばれる少なくとも１つの金属化合物を含む層である。なお、黒化層としては、窒化銅、酸化銅、窒化ニッケル、及び酸化ニッケルからなる群より選ばれる少なくとも１つの金属化合物を主成分とすることが好ましい。ここで黒化層中の主成分とは、黒化層中の全成分１００質量％において、５０質量％以上１００質量％以下含まれる成分を意味する。なお、窒化銅、酸化銅、窒化ニッケル、及び酸化ニッケルからなる群より選ばれる少なくとも１つの金属化合物の中でも、黒化層としては窒化銅が特に好ましい。
【００２８】
窒化銅は窒素雰囲気中で銅をスパッタリングする方法や、蒸着直後の真空中で窒素ガスを吹き付ける方法などで形成できる。
【００２９】
また黒化層は、金属層と同様に網目状構造であることが好ましい。ここで網目状構造の意味は、前述の金属層と同様である。
本発明の調光材用電極について、各層の積層順序は、特に限定されないが、黒化層（以下、黒化層１という）、金属層、黒化層（以下、黒化層２という）、樹脂フイルムを、この順に有することが好ましい。本発明の調光材用電極が、このような積層構成であることにより、本発明の調光材用電極は、いずれの方向から見た場合でも金属光沢などにより視認性を低下させることないので好ましい。
また本発明の調光材用電極は、チタン、ニッケル、及びクロムからなる群より選ばれる少なくとも１つの元素を含む密着層を有することが好ましい。そして密着層としては、チタン、ニッケル、及びクロムからなる群より選ばれる少なくとも１つの元素を主成分とすることが好ましい。ここで密着層中の主成分とは、密着層中の全成分１００質量％において、５０質量％以上１００質量％以下含まれる成分を意味する。
【００３０】
また密着層は、金属層と同様に網目状構造であることが好ましい。ここで網目状構造の意味は、前述の金属層と同様である。
本発明の調光材用電極は、黒化層２と樹脂フイルムの間に、密着層を有する態様がより好ましい。つまり本発明の調光材用電極は、黒化層１、金属層、黒化層２、密着層、樹脂フイルムを、この順に直接積層することが好ましい。調光材用電極が、黒化層２と樹脂フイルムとの間に密着層を有することで、エッチングや保護フイルム剥離などの後工程において、黒化層２などが剥がれるのを防止することができる。
このようにして得られる本発明の調光材用電極は、その表面電気抵抗値が１０Ω／ｓｑ以下であることが好ましい。調光材の引き出し電極からの距離が１ｍを超える場合に階調時のムラが生じ易く、その原因は調光材用電極の表面抵抗値によるところである。そのため、調光材用電極の表面電気抵抗値は低い方が好ましい。下限は特に設けないが、2枚の調光材用電極で調光材を挟んで電圧を印加した場合に絶縁破壊を起こさないことを考慮すれば０．００１Ω／ｓｑ程度である。そのような表面電気抵抗値を達成するためには、金属層の材料を選択する事が重要で、金属層を形成する金属として、金、銀、銅、白金、パラジウム、アルミニウム、及びクロムからなる群より選ばれる少なくとも１つの金属を主成分とすれば達成可能することが出来る。
また、このようにして得られる本発明の調光材用電極は、その全光線透過率（以下、透過率）は６０％以上であることが好ましい。調光材は建築ガラスなどに用いる場合があり、透過率が高い方が視覚的に良い。本発明の調光材用電極の透過率は高いほど良い。このような６０％以上の透過率を達成するためには、調光材用電極に用いる樹脂フイルムの透過率と、網目状構造が重要である。樹脂フイルムの透過率は先にあげた樹脂群から選択すれば良く、網目状構造は表面電気抵抗値と比例関係にあるため単位面積当たりの網目を構成する線の面積を用いて計算される開口率で調整する。
本発明の調光材用電極は、調光材の基材となるガラスや透明樹脂板に貼り合わせることで、調光材として用いることができる。なお、ここでいう透明樹脂板とは、前述の樹脂フイルムと同様の物を意味する。
本発明の実施の一例を説明する。樹脂フイルムとしてＰＥＴフイルムを用いて、その上に窒素雰囲気中で銅をスパッタリングすることで窒化銅を堆積して黒化層２とし、その上に銅を真空蒸着で堆積して金属層とし、更に窒素雰囲気中で銅をスパッタリングすることで窒化銅を堆積して黒化層１を形成することで、黒化層１、金属層、黒化層２、樹脂フイルムを、この順に直接有する本発明の調光材用電極を製造することが出来る。
また、樹脂フイルムと黒化層の密着力を向上するために、樹脂フイルムと黒化層２の間に密着層として、アルゴン雰囲気中でニッケルをスパッタリングで堆積させることで、黒化層１、金属層、黒化層２、密着層、樹脂フイルムを、この順に直接有する、本発明の調光材用電極を得ることも出来る。
【実施例】
【００３１】
以下、本発明をその実施の形態を示す図面を参照して具体的に説明する。尚、本実施例で作製された各サンプルの評価方法を以下に示す。
【００３２】
（１）金属層、黒化層、密着層の厚み測定
ミクロトームにて、作製したサンプルの断面を切り出し、その断面を電界放射型走査電
子顕微鏡（（株）日本電子製ＪＳＭ−６７００Ｆ、加速電圧１０ｋＶ、観察倍率２０００
０倍）にて観察し、金属層、黒化層、密着層のそれぞれの厚みを測定した。測定は、２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのサンプル１枚から任意の５箇所について測定し、平均する。
【００３３】
（２）網目状構造のライン幅及びピッチの測定
（株）キーエンス製デジタルマイクロスコープ（ＶＨＸ−２００）を用いて、倍率４５０倍で表面観察を行った。その測長機能を用いて、網目状構造のライン幅とピッチを測長した。２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのサンプル１枚から、任意の１０箇所について計測し、平均する。
【００３４】
（３）Ｌａｂ系におけるＬ値、ａ値、ｂ値の測定
コニカミノルタ（株）製の分光測色計（CM-2500d）を用い、ＪＩＳ Ｚ ８７２２（２００９年改訂）に準拠し測定した。測定は、樹脂フイルムに対して金属層の側から光を入射させて測定した。受光光学系はSCI、光源はＣ、測定角は2°で測定した。
【００３５】
（４）表面電気抵抗値の測定
表面電気抵抗値は、三菱化学株式会社製ＭＣＰ−Ｔ３６０を用いて、８０ｍｍ×５０ｍｍサイズの試料の中央をＪＩＳ  Ｋ７１９４（１９９４年制定）準拠の四探針法で測定した。なお、プローブには三菱化学株式会社製のＥＳＰプローブ（電極間隔５ｍｍ、電極直径２ｍｍ）を用い、抵抗率補正係数（ＲＣＦ）は４．５３２とした。測定は調光用電極の表面に露出している金属層乃至は黒化層１の表面上から行なった。
【００３６】
（５）透過率の測定
（株）島津製作所製分光光度計（ＭＰＣ−３１００）を用いて、波長５００〜５５０ｎｍの範囲の透過率を測定し、最も透過率の高い波長の透過率を用いた。測定は樹脂フイルム側から光を入射させて測定した。
【００３７】
（６）調光の階調を変える過程での視覚的なムラの有無
実施例、比較例において作成したフイルム用いて一辺が１ｍの正方形シートを作成し、それを２枚使用して導電面を内側にして平行平板状に対向させて、その間に高分子液晶を封入し、対向するシートの導電面に６０Ｈｚ・３０Ｖの交流を印加して、印加開始から完全に透明になるまでの状態を観察し、均一に透明になれば○として判定し、部分的に透明になるのが遅い部分があるなど、○以外の場合を×と判定した。
［実施の形態の一例］
（実施例１）
以下の要領で網目状構造の金属層を有するフイルムを作製した。
【００３８】
ポリエステルフイルム（東レ（株）製のルミラー（登録商標）Ｕ４８、厚み１００μｍ）の片面に、真空蒸着法により金属層として銅層（厚み０．５μｍ）を形成した。
【００３９】
続いて、上記の銅層の表面にレジスト層を塗工形成し、正方形の格子状メッシュパターンのマスクを介してレジスト層を露光、現像し、次いでエッチング処理を施し、最後に導電性メッシュ上のレジストを剥離除去して、網目状構造の金属層を有するフイルムを作製した。
（実施例２）
ポリエステルフイルム（東レ（株）製のルミラー（登録商標）Ｕ４８、厚み１００μｍ）の片面に、スパッタリング法により密着層としてニッケル層（厚み０．０１μｍ）を製膜し、その上に真空蒸着法により金属層として銅層（厚み２．０μｍ）を製膜して、ニッケル層と銅層からなる層を形成した。
【００４０】
更に金属層の上に、スパッタリング法により窒化銅（厚み０．０４μｍ）を製膜して窒化銅層（黒化層１）を形成した。続いて、上記の黒化層１の表面にレジスト層を塗工形成し、正方形の格子状メッシュパターンのマスクを介してレジスト層を露光、現像し、次いでエッチング処理を施し、最後に導電性メッシュ上のレジストを剥離除去して、網目状構造の金属層を有するフイルムを作製した。
（実施例３）
ポリエステルフイルム（東レ（株）製のルミラー（登録商標）Ｕ４８、厚み１００μｍ）の片面に、スパッタリング法により密着層としてニッケル層（厚み０．０１μｍ）を製膜し、その上に真空蒸着法により金属層として銅層（厚み１．５μｍ）を製膜して、ニッケル層と銅層からなる層を形成した。
【００４１】
更に金属層の上に、スパッタリング法により窒化銅（厚み０．０４μｍ）を製膜して窒化銅層（黒化層１）を形成した。続いて、上記の黒化層１の表面にレジスト層を塗工形成し、正方形の格子状メッシュパターンのマスクを介してレジスト層を露光、現像し、次いでエッチング処理を施し、最後に導電性メッシュ上のレジストを剥離除去して、網目状構造の金属層を有するフイルムを作製した。
（実施例４）
ポリエステルフイルム（東レ（株）製のルミラー（登録商標）Ｕ４８、厚み１００μｍ）の片面に、スパッタリング法により密着層としてニッケル層（厚み０．０１μｍ）を製膜し、その上に真空蒸着法により金属層として銅層（厚み３．０μｍ）を製膜して、ニッケル層と銅層からなる層を形成した。
【００４２】
更に、スパッタリング法により黒化層１として窒化銅（厚み０．０４μｍ）を製膜してした。続いて、上記の黒化層１の表面にレジスト層を塗工形成し、正方形の格子状メッシュパターンのマスクを介してレジスト層を露光、現像し、次いでエッチング処理を施し、最後に導電性メッシュ上のレジストを剥離除去して、網目状構造の金属層を有するフイルムを作製した。
（実施例５）
ポリエステルフイルム（東レ（株）製のルミラー（登録商標）Ｕ４８、厚み１００μｍ）の片面に、スパッタリング法により密着層としてニッケル層（厚み０．０１μｍ）を製膜し、その上にスパッタリング法により黒化層２として窒化銅（厚み０．０４μｍ）を製膜して窒化銅層（黒化層２）を形成した。その上に、真空蒸着法により金属層として銅層（厚み１．８μｍ）を製膜して、ニッケル層と銅層からなる層を形成した。
【００４３】
更に、スパッタリング法により黒化層１として窒化銅（厚み０．０４μｍ）を製膜して窒化銅層（黒化層１）を形成した。
【００４４】
続いて、上記の黒化層１の表面にレジスト層を塗工形成し、正方形の格子状メッシュパターンのマスクを介してレジスト層を露光、現像し、次いでエッチング処理を施し、最後に導電性メッシュ上のレジストを剥離除去して、網目状構造の金属層を有するフイルムを作製した。
（比較例１）
ポリエステルフイルム（東レ（株）製のルミラー（登録商標）Ｕ４８、厚み１００μｍ）の片面に、スパッタリング法によりＩＴＯ層（厚み０．０３μｍ）を製膜した。
（比較例２）
ポリエステルフイルム（東レ（株）製のルミラー（登録商標）Ｕ４８、厚み１００μｍ）の片面に、スパッタリング法によりＩＴＯ層（厚み０．０６μｍ）を製膜した。
＜評価＞
上記のようにして作製したフイルムについて、それぞれの評価を行った。その結果を表１に示す。
【００４５】
表１の結果から、本発明の実施例１〜５のフイルムは、いずれも高分子液晶が透明になる際のムラは生じなかった。
しかしながら、比較例１および２は、高分子液晶が透明になる際に、シートの中央部分がシートの端部よりも遅れて透明になり、一時的に視覚的にムラを生じた。
【００４６】
【表１】
2013156411.tif 000003
【符号の説明】
【００４７】
１：金属層
２：黒化層１
３：樹脂フイルム
４：黒化層２
５：密着層
６：調光機能を有する調光素子（液晶など）
７：電源
【図１】
2013156411.tif 000004
【図２】
2013156411.tif 000005
【図３】
2013156411.tif 000006
【図４】
2013156411.tif 000007