(57)【要約】【課題】本発明の目的とするところは、導体層を支持するために使用される光学部材であって、良好な透明性を有し、且つ導体層が視認されにくくなる光学部材を提供することにある。【解決手段】光学部材は、基材１、第一の層２、第二の層３、及び第三の層４を備える。前記第一の層２の屈折率が、１．５２以上１．６５以下の範囲、前記第一の層２の厚みが、０．５μｍ以上１０．０μｍ以下の範囲である。前記第二の層３の屈折率が、１．７５以上１．９５以下の範囲であり、前記第二の層３の厚みが１５ｎｍ以上１００ｎｍ以下の範囲である。前記第三の層４の屈折率が、１．３５以上１．５０以下の範囲であり、前記第三の層４の厚みが、２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下の範囲である。前記第二の層３が、ルチル型酸化チタン粒子を３０質量％以上８０質量％以下の範囲で含有する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材、第一の層、第二の層、及び第三の層を備え、これらの要素が前記の順番に積層し、
前記第一の層の屈折率が、１．５２以上１．６５以下の範囲、前記第一の層の厚みが、０．５μｍ以上１０．０μｍ以下の範囲であり、
前記第二の層の屈折率が、１．７５以上１．９５以下の範囲であり、前記第二の層の厚みが１５ｎｍ以上１００ｎｍ以下の範囲であり、
前記第三の層の屈折率が、１．３５以上１．５０以下の範囲であり、前記第三の層の厚みが、２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下の範囲であり、
前記第二の層が、ルチル型酸化チタン粒子を３０質量％以上８０質量％以下の範囲で含有する
ことを特徴とする光学部材。
【請求項２】
前記第三の層が、フッ素置換アルキル基を備える加水分解性オルガノシラン縮重合物を含有する請求項１に記載の光学部材。
【請求項３】
前記基材の前記第一の層とは反対側の面を被覆する透明な第四の層を更に備える請求項１又は２に記載の光学部材。
【請求項４】
前記第三の層の前記第二の層とは反対側の面上に積層しており、且つ屈折率が１．８０以上２．３０以下の範囲の透明な導体層を更に備える請求項２又は３に記載の光学部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、導体層を支持するために使用される光学部材、並びに導体層を備える光学部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
透明な基材と、この基材上に支持されている透明な導体層とを備える導電性光学部材は、発光素子、太陽電池、ディスプレイ、タッチパネルなどの電極などのように、光学的機能と導電性とを必要とされる分野に広く利用されている（特許文献１参照）。
【０００３】
導体層の材料として一般的に使用されている酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）等の金属酸化物は、基材の材料として一般的に使用されるガラスやプラスチック基材に比べ、屈折率が高い。また、このような金属酸化物を光が透過する場合、短波長域での光の透過率が低下するため、導体層の透過色が黄色味を帯びやすくなる。このため、導電性光学部材において、導体層が視認されやすくなってしまう。特に、導電性光学部材がタッチパネルに適用される場合には、導体層がパターニングされるため、タッチパネルを見る者によって、このタッチパネルにおける導体層の形が視認されてしまう。そうすると、タッチパネルを備える画像表示機器で表示される画像等の視認性が悪くなってしまうなどの、不具合が生じてしまう。
【０００４】
しかし、従来、導電性光学部材の良好な透明性を維持しながら、導体層が視認されにくくすることは、達成されていなかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１１−２２１８４２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、導体層を支持するために使用される光学部材であって、良好な透明性を有し、且つ導体層が視認されにくくなる光学部材を提供することを、目的とする。
【０００７】
また、本発明は、導体層を備える光学部材であって、良好な透明性を有し、且つ導体層が視認されにくくなる光学部材を提供することも、目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明に係る光学部材は、基材、第一の層、第二の層、及び第三の層を備え、これらの要素が前記の順番に積層し、
前記第一の層の屈折率が、１．５２以上１．６５以下の範囲、前記第一の層の厚みが、０．５μｍ以上１０．０μｍ以下の範囲であり、
前記第二の層の屈折率が、１．７５以上１．９５以下の範囲であり、前記第二の層の厚みが１５ｎｍ以上１００ｎｍ以下の範囲であり、
前記第三の層の屈折率が、１．３５以上１．５０以下の範囲であり、前記第三の層の厚みが、２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下の範囲であり、
前記第二の層が、ルチル型酸化チタン粒子を３０質量％以上８０質量％以下の範囲で含有する。
【０００９】
前記第三の層が、フッ素置換アルキル基を備える加水分解性オルガノシラン縮重合物を含有することが好ましい。
【００１０】
本発明に係る光学部材は、前記基材の前記第一の層とは反対側の面を被覆する透明な第四の層を更に備えることが好ましい。
【００１１】
本発明に係る光学部材は、前記第三の層の前記第二の層とは反対側の面上に積層しており、且つ屈折率が１．８０以上２．３０以下の範囲の透明な導体層を更に備えてもよい。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、第一の層、第二の層、及び第三の層の屈折率及び厚みが特定の範囲に規制されることで、第三の層の上に導体層が支持されていても、導体層が視認されにくくなり、更に第二の層の屈折率がルチル型酸化チタン粒子によって調整されることで、光学部材の耐光性が高くなる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の第一の実施形態に係る光学部材を示す概略の断面図である。
【図２】本発明の第二の実施形態に係る光学部材を示す概略の断面図である。
【図３】前記第二の実施形態に係る光学部材を備える画像表示機器の例を示す概略の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
［第一の実施形態］
本実施形態に係る光学部材１１（導体層支持用光学部材）は、導体層５を備えない中間品である。本実施形態では、光学部材１１は、図１に示されるように、基材１、第一の層２（ハードコート層）、第二の層３（高屈折率層）、及び第三の層４（低屈折率層）を備える。基材１、第一の層２、第二の層３、及び第三の層４は、この順番に積層している。すなわち、基材１の第一の主面上に第一の層２が積層し、第一の層２の基材１とは反対側の主面上に第二の層３が積層し、第二の層３の第一の層２とは反対側の主面上に第三の層４が積層している。基材１、第一の層２、第二の層３、及び第三の層４のうちのいずれの要素も光透過性を有し、光学部材１１が全体として光透過性を有する。この光学部材１１は、第三の層４の上で導体層５を支持するために使用される（図２参照）。
【００１５】
基材１の光線透過率は、５０％以上であることが好ましく、７０％以上であればより好ましく、８０％以上であれば特に好ましい。
【００１６】
基材１の形状は、特に制限されないが、板状又はフィルム状であることが好ましい。特に、光学部材１１の生産性及び運搬性を向上する観点からは、基材１の形状はフィルム状であることが好ましい。
【００１７】
フィルム状の基材１の厚みは１０μｍ以上５００μｍ以下の範囲であることが好ましい。この場合、基材１の透明性が特に良好になり、また光学部材１１の生産時及び取り扱い時の作業性も良好になる。基材１の厚みは、更に２５μｍ以上２００μｍ以下の範囲であることが好ましい。特に基材１の厚みが２５μｍ以上１００μｍ以下であると、光学部材１１の薄型化、軽量化が可能となり、また光学部材１１の表裏における干渉の発生が抑制され、更に基材１が加熱される際の熱収縮が抑制されて基材１の熱収縮による加工性の悪化等の不具合が抑制される。
【００１８】
基材１の材質は、特に制限されない。基材１の材質の例としては、ガラス、透明樹脂等が挙げられる。透明樹脂の例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル共重合体、トリアセチルセルロース、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、非晶質ポリオレフィン、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマー等が挙げられる。
【００１９】
特に、基材１がポリエステルから形成されることが好ましい。ポリエステルフィルムのうち、特に、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）又はポリエチレンナフタレートからなる２軸延伸フィルムは、優れた機械的特性、耐熱性、耐薬品性等を有するため、磁気テープ、強磁性薄膜テープ、包装用フィルム、電子部品用フィルム、電気絶縁フィルム、ラミネート用フィルム、ディスプレイ等の表面に貼るフィルム、各種部材の保護用フィルム等の素材として好適である。特に、ディスプレイ用途に関しては、液晶表示装置の部材であるプリズムレンズシート、タッチパネル、バックライト等のベースフィルムや、テレビの光学フィルムのベースフィルム、プラズマテレビの前面光学フィルターに用いられる光学フィルム、近赤外線カットフィルム、電磁波シールドフィルムのベースフィルム等として好適である。
【００２０】
ポリエステルとして、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、２，６−ナフタリンジカルボン酸、４，４′−ジフェニルジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸成分と、エチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、１，６−ヘキサンジオール等のグリコール成分とが反応することで生成する芳香族ポリエステルが好ましい。特に、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタリンジカルボキシレートなどが、好ましい。またポリエステルは、前記例示した複数の成分等を共重合して生成したものでもよい。
【００２１】
基材１は有機または無機の粒子を含有してもよい。この場合、基材１の巻き取り性、搬送性等が向上する。基材１が含有することができる粒子として、炭酸カルシウム粒子、酸化カルシウム粒子、酸化アルミニウム粒子、カオリン、酸化珪素粒子、酸化亜鉛粒子、架橋アクリル樹脂粒子、架橋ポリスチレン樹脂粒子、尿素樹脂粒子、メラミン樹脂粒子、架橋シリコーン樹脂粒子等が挙げられる。
【００２２】
また、基材１は、更に着色剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、潤滑剤、触媒、他の樹脂等も、透明性を損なわない範囲で含有してもよい。
【００２３】
基材１のヘイズは３％以下であることが好ましい。この場合、光学部材１１を通した映像等の視認性が向上し、光学的用途の部材として特に適するようになる。ヘイズが１．５％以下であれば更に好ましい。
【００２４】
基材１の第一の主面上に第五の層（易接着層、図示せず）が積層していることも好ましい。すなわち、基材１と第一の層２との間に第五の層が介在していることも好ましい。第五の層は、光学部材１１の材料である基材１の単独膜がロール状に巻き回されるなどして重ねられる場合のブロッキングの発生を抑制したり滑性を向上したりするために形成される。更に第五の層は、基材１と第一の層２との間の接着性向上のためにも利用され得る。
【００２５】
第五の層の材質に制限はないが、特に第五の層がポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂等から形成されることが好ましい。
【００２６】
第五の層の表面での界面反射によって光学部材１１の反射率が増大することを抑制するためには、第五の層の屈折率が、基材１の屈折率及び第一の層２の屈折率に近いことが望ましく、特に１．５８以上１．７５以下の範囲であることが好ましい。また、第五の層の光学膜厚が１２０ｎｍ以上１６０ｎｍ以下の範囲であることが好ましい。この場合、基材１と第一の層２との間の高い密着性を確保しつつ、第五の層が存在することによる反射率の増大や干渉ムラの発生が抑制される。
【００２７】
基材１の、第一の主面とは反対側の第二の主面上には、透明な第四の層６が積層していることが好ましい。この場合、基材１が加熱されても基材１から低分子量成分が析出しにくくなり、このため基材１の白化が抑制される。このため、例えば第一の層２、第二の層３及び第三の層４のうち少なくとも一種が加熱処理を伴う方法により形成される場合や、後述するように導電層の低抵抗化のために光学部材１１が加熱される場合でも、基材１の白化が抑制される。このため、光学部材１１の良好な透明性が維持される。
【００２８】
第四の層６の材質は、特に制限されないが、例えばアクリレート樹脂、ウレタンアクリレート樹脂等から形成される。
【００２９】
また、第四の層６が、基材１からの低分子量成分の析出を充分に抑制するためには、第四の層６の厚みが、０．５μｍ以上１０μｍ以下の範囲であることが好ましい。
【００３０】
また、第四の層６は、アンチブロッキング性を有することが好ましい。すなわち、光学部材１１がロール状に巻き回されるなどして重ねられる場合に、第四の層６によってブロッキングが抑制されることが好ましい。第四の層６によってブロッキングを抑制するためには、第四の層６の表面が凹凸に形成されることが好ましい。そのためには、第四の層６の表面に機械的加工が施されることでこの表面が凹凸に形成されることが好ましい。また、第四の層６がシリカ粒子等のフィラーを含有することでこの第四の層６の表面に凹凸が形成されることも好ましい。この場合、第四の層６が、例えばアクリレート樹脂またはウレタンアクリレート樹脂を８０質量％以上９５質量％以下の範囲で含有し、更に平均粒子径２５０ｎｍのシリカ粒子を５質量％以上２０質量％以下の範囲で含有することが好ましい。
【００３１】
また、第四の層６によって光学部材１１の滑性を向上することも好ましく、そのためには、第四の層６が例えばシリコーン系のレベリング剤を含有することも好ましい。
【００３２】
第四の層６が形成される場合、基材１の、第四の層６と重なる面には、第四の層６が形成される前に、表面処理が施されることが好ましい。この場合、基材１と第四の層６との間の濡れ性、密着性等の向上が可能となる。また、基材１の、第一の層２と重なる面にも、第一の層２が形成される前に、表面処理が施されることが好ましい。この場合、基材１と第一の層２との間の濡れ性、密着性等の向上が可能となる。表面処理の方法としては、プラズマ処理、コロナ放電処理、フレーム処理などの物理的表面処理、カップリング剤、酸、アルカリによる化学的表面処理などが挙げられる。
【００３３】
第一の層２の屈折率は、１．５２以上１．６５以下であり、且つ、この第一の層２の厚みは０．５μｍ以上１０．０μｍ以下の範囲である。このような条件下において、光学部材１１に導体層５が重ねられた場合に、この導体層５が視認されにくくなる。第一の層２の屈折率は更に１．５２以上１．５７以下の範囲であることが好ましい。また、第一の層２の厚みは、更に１．０μｍ以上５．０μｍ以下の範囲であることが好ましい。
【００３４】
第一の層２は、基材１よりも高い硬度を有することが好ましい。これにより、光学部材１１の機械的強度が向上する。第一の層２の鉛筆硬度はＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であれば更に好ましい。
【００３５】
第一の層２は、反応性硬化型樹脂を含有する組成物から形成されることが好ましい。この場合、第一の層２を、湿式の成膜法により形成することができる。このため、第一の層２を蒸着法等の乾式の成膜法で形成する場合と比べて、光学部材１１の生産性を向上することができ、また光学部材１１の製造コストを低減することができる。反応性硬化型樹脂としては、例えば熱硬化型樹脂と電離放射線硬化型樹脂の少なくとも一方が用いられることが好ましい。
【００３６】
熱硬化型樹脂としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が、挙げられる。組成物は、熱硬化性樹脂と共に、必要に応じて架橋剤、重合開始剤、硬化剤、硬化促進剤、溶剤等を含有してもよい。このような熱硬化型樹脂を含有する組成物が、例えば基材１上或いは第五の層上に塗布され、続いてこの熱硬化型樹脂組成物が加熱されて熱硬化することで、第一の層２が形成され得る。組成物の塗布にあたっては、例えばロールコート法、スピンコート法、ディップコート法などの適宜の方法が採用される。
【００３７】
電離放射線硬化型樹脂としては、アクリレート系の官能基を有する樹脂が用いられることが好ましい。アクリレート系の官能基を有する樹脂としては、例えば比較的低分子量の多官能化合物の（メタ）アクリレート等のオリゴマー、プレポリマーなどが挙げられる。前記の多官能化合物としては、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等が挙げられる。電離放射線硬化型樹脂を含有する組成物は、更に反応性希釈剤を含有することも好ましい。反応性希釈剤としては、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能モノマー、並びにトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートの多官能モノマーが挙げられる。
【００３８】
電離放射線硬化型樹脂が紫外線硬化型樹脂などの光硬化型樹脂である場合には、組成物が更に光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤としてはアセトフェノン類、ベンゾフェノン類、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類などが挙げられる。光硬化型樹脂を含有する組成物が、光重合開始剤に加えて、或いは光重合開始剤に代えて、光増感剤を含有してもよい。光増感剤としては、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、チオキサントンなどが挙げられる。このような組成物が例えば基材１上或いは第五の層上に塗布され、続いてこの光硬化型樹脂組成物に紫外線などの光が照射されて光硬化することで、第一の層２が形成され得る。組成物の塗布にあたっては、例えばロールコート法、スピンコート法、ディップコート法などの適宜の方法が採用される。
【００３９】
第一の層２の屈折率は、第一の層２を形成するための組成物の組成によって、容易に調整され得る。例えば、組成物が屈折率調整用の樹脂を含有することで、第一の層２が屈折率調整用の粒子を含有すると共にその割合が調整されることで、第一の層２の屈折率が調整されることも好ましい。
【００４０】
屈折率調整用の粒子の粒径は十分に小さいこと、すなわち屈折率調整用の粒子がいわゆる超微粒子であるが好ましい。この場合、第一の層２の光透過性が十分に維持されるようになる。屈折率調整用の粒子の粒径は特に、０．５ｎｍ以上２００ｎｍ以下の範囲であることが好ましい。この屈折率調整用の粒子の粒径とは、粒子の電子顕微鏡写真画像から算出される投影面積と同一の面積を有する円（面積相当円）の径のことである。
【００４１】
屈折率調整用の粒子は、比較的屈折率の高い粒子であることが好ましく、特に屈折率が１．６以上の粒子であることが好ましい。この粒子は、金属や金属酸化物の粒子であることが好ましい。
【００４２】
第一の層２中の屈折率調整用の粒子の含有量は、第一の層２の屈折率が適切な値となるように適宜調整されるが、特に第一の層２中の屈折率調整用の粒子の割合が５体積％以上７０体積％以下となるように調整されることが好ましい。
【００４３】
屈折率調整用の粒子の具体例としては、チタン、アルミニウム、セリウム、イットリウム、ジルコニウム、ニオブ、アンチモンから選ばれる一種あるいは二種以上の酸化物を含有する粒子が挙げられる。酸化物の具体例としては、ＺｎＯ（屈折率１．９０）、ＴｉＯ2（屈折率２．３〜２．７）、ＣｅＯ2（屈折率１．９５）、Ｓｂ2Ｏ5（屈折率１．７１）、ＳｎＯ2、ＩＴＯ（屈折率１．９５）、Ｙ2Ｏ3（屈折率１．８７）、Ｌａ2Ｏ3（屈折率１．９５）、ＺｒＯ2（屈折率２．０５）、Ａｌ2Ｏ3（屈折率１．６３）等が挙げられる。
【００４４】
第一の層２の、第二の層３と重なる面には、第二の層３が形成される前に表面処理が施されることが好ましい。この場合、第一の層２と第二の層３との間の濡れ性、密着性等の向上が可能となる。表面処理の方法としては、プラズマ処理、コロナ放電処理、フレーム処理などの物理的表面処理、カップリング剤、酸、アルカリによる化学的表面処理などが挙げられる。
【００４５】
第二の層３の屈折率は１．７５以上１．９５以下の範囲であり、厚みは１５ｎｍ以上１００ｎｍ以下の範囲である。このような条件下において、光学部材１１に導体層５が重ねられた場合に、この導体層５が視認されにくくなる。第二の層３の屈折率は更に１．７８以上１．８５以下の範囲であることが好ましい。また、第二の層３の厚みは、更に２５ｎｍ以上６０ｎｍ以下の範囲であることが好ましい。
【００４６】
第二の層３は、ルチル型酸化チタン粒子を、第二の層３全体に対して３０質量％以上８０質量％以下の範囲で含有する。これにより、第二の層３の、１．７５以上１．９５以下の範囲という高い屈折率を達成することができる。更に、ルチル型酸化チタン粒子の光触媒活性は比較的低いため、第二の層３は光により劣化しにくくなる。このため光学部材１１の良好な透明性が長期に亘って維持される。ルチル型酸化チタン粒子の粒径は、特に制限されないが、第二の層３の透明性を向上する観点からは、ルチル型酸化チタン粒子の粒径は５ｎｍ以上１００ｎｍ以下の範囲であることが好ましい。この粒径は、粒子の電子顕微鏡写真画像から算出される投影面積と同一の面積を有する円（面積相当円）の径のことである。
【００４７】
第二の層３は、ルチル型酸化チタン粒子とバインダー材料を含有する組成物から形成されることが好ましい。この場合、第二の層３を、湿式の成膜法により形成することができる。このため、第二の層３を蒸着法等の乾式の成膜法で形成する場合と比べて、光学部材１１の生産性を向上することができ、また光学部材１１の製造コストを低減することができる。
【００４８】
第二の層３は、ルチル型酸化チタン粒子と、反応性硬化型樹脂とを含有する組成物から形成されることが好ましい。反応性硬化型樹脂として、例えば熱硬化型樹脂と電離放射線硬化型樹脂の少なくとも一方が用いられることが好ましい。
【００４９】
熱硬化型樹脂としては、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂等が挙げられる。この場合、組成物は、必要に応じて更に架橋剤、重合開始剤、硬化剤、硬化促進剤、溶剤等を含有してもよい。このような熱硬化型樹脂を含有する組成物が、第一の層２上に塗布され、続いてこの組成物が加熱されて熱硬化することで、第二の層３が形成され得る。組成物の塗布にあたっては、例えばロールコート法、スピンコート法、ディップコート法などの適宜の方法が採用される。
【００５０】
電離放射線硬化型樹脂としては、アクリレート系の官能基を有する樹脂が用いられることが好ましい。アクリレート系の官能基を有する樹脂としては、例えば比較的低分子量の多官能化合物の（メタ）アクリレート等のオリゴマー、プレポリマーなどが挙げられる。前記の多官能化合物としては、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等が挙げられる。電離放射線硬化型樹脂を含有する組成物は、更に反応性希釈剤を含有することも好ましい。反応性希釈剤としては、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能モノマー、並びにトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートの多官能モノマーが挙げられる。
【００５１】
電離放射線硬化型樹脂が、紫外線硬化型樹脂などの光硬化型樹脂である場合には、組成物が光重合開始剤を更に含有することが好ましい。光重合開始剤としてはアセトフェノン類、ベンゾフェノン類、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類などが挙げられる。組成物が、光重合開始剤に加えて、或いは光重合開始剤に代えて、光増感剤を含有してもよい。光増感剤としては、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、チオキサントンなどが挙げられる。このような組成物が第一の層２上に塗布され、続いてこの組成物に紫外線などの光が照射されて光硬化することで、第二の層３が形成され得る。組成物の塗布にあたっては、例えばロールコート法、スピンコート法、ディップコート法などの適宜の方法が採用される。
【００５２】
第二の層３が、メタクリル官能性シランと、アクリル官能性シランとのうち少なくとも一方を含有することも好ましい。この場合、第二の層３と第三の層４との密着性が向上する。メタクリル官能性シランとしては、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等が挙げられる。アクリル官能性シランとしては３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等が挙げられる。
【００５３】
第二の層３中のメタクリル官能性シランとアクリル官能性シランの含有量は特に制限されないが、第二の層３中のメタクリル官能性シランとアクリル官能性シランの総量の割合が５質量％以上３０質量％以下の範囲であることが好ましい。前記割合が５質量％以上であると第二の層３と第三の層４との密着性が十分に高くなり、また前記割合が３０質量％以下であると第二の層３中の架橋密度が十分に向上して第二の層３の硬度が十分に高くなる。
【００５４】
第二の層３の、第一の層２とは反対側の主面には、第三の層４が形成される前に表面処理が施されることが好ましい。この場合、第二の層３と第三の層４との間の濡れ性、密着性等の向上が可能となる。表面処理の方法としては、プラズマ処理、コロナ放電処理、フレーム処理などの物理的表面処理、カップリング剤、酸、アルカリによる化学的表面処理などが挙げられる。
【００５５】
第三の層４の屈折率は、１．３５以上１．５０以下の範囲である。また、第三の層４の厚みは２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下の範囲である。このような条件下において、光学部材１１に導体層５が重ねられた場合に、この導体層５が更に視認されにくくなる。第三の層４の屈折率は更に１．４以上１．４５以下の範囲であることが好ましい。また、第三の層４の厚みは、２５ｎｍ以上４５ｎｍ以下の範囲であればより好ましく、３０ｎｍ以上４０ｎｍ以下の範囲であれば更に好ましい。
【００５６】
第三の層４は、例えばバインダー材料を含有する組成物から形成される。この場合、第三の層４を、湿式の成膜法により形成することができる。この組成物は、必要に応じて更に屈折率調整用の粒子を含有してもよい。バインダー材料と屈折率調整用の粒子とが併用される場合には、バインダー材料との種類が選択されたり、屈折率調整用の粒子の種類が選択されたり、配合比等が調整されたりすることで、第三の層４の屈折率が適宜調整される。
【００５７】
バインダー材料としては、シリコンアルコキシド系樹脂、飽和炭化水素及びポリエーテルの少なくともいずれかを主鎖とするポリマー（例えばＵＶ硬化型樹脂組成物、熱硬化型樹脂組成物等）、ポリマー鎖中にフッ素原子を含む単位を含む樹脂などが挙げられる。
【００５８】
第三の層４は、上記のような組成物が第二の層３の上に塗布され、更にこの組成物がバインダー材料の性状に応じて加熱、加湿、紫外線照射、電子線照射等の処理が施されることで硬化することにより、形成され得る。組成物の塗布にあたっては、例えばロールコート法、スピンコート法、ディップコート法などの適宜の方法が採用される。
【００５９】
特に、第三の層４はフッ素置換アルキル基を備える加水分解性オルガノシラン重縮合物を含有することが好ましい。この場合、第三の層４上に、後述する第二の実施形態のように導体層５が形成されると、第三の層４と導体層５との間の密着性が向上する。また、第三の層４の耐水性及び耐アルカリ性が向上する。このため、第三の層４上の導体層５にエッチング処理が施されても、第三の層４が劣化しにくくなる。更に、このような特性を備える第三の層４を、湿式の成膜法によって形成することが可能になる。このため、蒸着法等の乾式の成膜法が採用される場合と比べて、製造設備の簡便化が可能となる。また、光学部材１１の製造効率が向上する。
【００６０】
フッ素置換アルキル基を備える加水分解性オルガノシラン重縮合物を含有する第三の層４を、バインダー材料を含有する組成物を用いて、湿式の成膜方により形成することについ、更に説明する。この場合、バインダー材料が、フッ素置換アルキル基を備える加水分解性シラン化合物と、その部分加水分解物とから選ばれる、少なくとも一種を含有することが好ましい。フッ素置換アルキル基を備える加水分解性シラン化合物としては、例えば一般式Ｘ3Ｓｉ−（ＣＦ2）n−ＳｉＸ3で示される化合物、一般式Ｘ3Ｓｉ−（ＣＨ2）2−（ＣＦ2）n−（ＣＨ2）2−ＳｉＸ3で示される化合物、一般式Ｘ3Ｓｉ−（ＣＦ2）m−ＣＦ3で示される化合物、一般式Ｘ3Ｓｉ−（ＣＨ2）2−（ＣＦ2）m−ＣＦ3で示される化合物などが、挙げられる。これらの式において、Ｘは加水分解縮合反応性を有する官能基を示す。このＸは、例えばＯＣＨ3、ＯＣＨ2ＣＨ3、ＯＣＨ（ＣＨ3）2等のアルコキシ基、Ｃｌ、Ｆ等のハロゲンなどから、選択されることができる。一分子中の複数のＸの種類は、各々独立に選択される。ｎは整数であり、特にｎが、１以上１０以下の整数であることが好ましい。また、ｍは整数であり、特にｍが、０以上９以下の整数であることが好ましい。
【００６１】
屈折率調整用の粒子としては、比較的低屈折率の粒子が使用されることが好ましい。屈折率調整用の粒子の材質としては、シリカ、フッ化マグネシウム、フッ化リチウム、フッ化アルミニウム、フッ化カルシウム、フッ化ナトリウム等が挙げられる。屈折率調整用の粒子が中空粒子を含むことが好ましい。中空粒子とは外殻によって包囲された空洞を有する粒子である。中空粒子の屈折率は１．２０以上１．４５以下の範囲であることが好ましい。
【００６２】
屈折率調整用の粒子には、必要に応じて、バインダー材料との濡れ性を向上するための表面処理が施されていることが好ましい。
【００６３】
屈折率調整用の粒子の粒径は十分に小さいこと、すなわち屈折率調整用の粒子がいわゆる超微粒子であることが好ましく、この場合、第三の層４の光透過性が十分に維持されるようになる。屈折率調整用の粒子の粒径は特に、０．５ｎｍ以上２００ｎｍ以下の範囲であることが好ましい。粒子の粒径とは、粒子の電子顕微鏡写真画像から算出される投影面積と同一の面積を有する円（面積相当円）の径のことである。
【００６４】
第三の層４中の屈折率調整用の粒子の含有量は、第三の層４の屈折率の値が適切な値となるように適宜調整されるが、特に第三の層４中の屈折率調整用の粒子の割合が２０体積％以上９９体積％以下の範囲となるように調整されることが好ましい。
【００６５】
組成物は、更に撥水、撥油性材料を含有してもよい。この場合、第三の層４に防汚性が付与され得る。撥水、撥油性材料としては、一般的なワックス系の材料等が使用され得る。特に含フッ素化合物が使用されると、第三の層４の汚れ、指紋等の除去性が特に向上すると共に、第三の層４の表面の摩擦抵抗が低減して第三の層４の耐摩耗性が向上する。
【００６６】
尚、第三の層４が、乾式の成膜法により形成されてもよい。例えば、酸化珪素、フッ化ランタン、フッ化マグネシウム、フッ化セリウム、フッ化マグネシウム等からなる第三の層４が、スパッタリング法、抵抗蒸着法、電子ビーム蒸着法等の、乾式の成膜法により形成されてもよい。
【００６７】
光学部材１１が、上記のように屈折率及び厚みが調整された第一の層２、第二の層３、及び第三の層４を備えるため、この第三の層４上に導体層５が重ねられることで、導体層５が光学部材１１に支持されても、この導体層５が視認されにくくなる。これは、導体層５が基材１よりも高い屈折率を有するにもかかわらず、この屈折率が人の視覚に与える影響が、第一の層２、第二の層３、及び第三の層４によって抑制されるためであると、考えられる。また、導体層５の黄色みがかった透過色が、第一の層２、第二の層３、第三の層４、及び導体層５の各界面での反射光の干渉によって目立たなくなるためでもあると、考えられる。一方、第一の層２、第二の層３、第三の層４、及び導体層５の屈折率及び厚みが所定の範囲から外れる場合には、導体層５の透過色が黄色みがかって見えてしまうこととなる。導体層５の色が目立たなくなるためには、ＣＩＥが規定する標準Ｃ光源からの光が光学部材に入射した場合、導体層を含む、光学部材を構成する全ての層を透過した透過光の色の、ＣＩＥ  １９７６Ｌ*ａ*ｂ*色空間による透過色度ｂ＊が、−１．５以上１．５以下となることが好ましい。
【００６８】
［第二の実施形態］
本実施形態に係る光学部材１２（導電性光学部材）は、透明な導体層５を備える完成品である。本実施形態では、光学部材１２は図２に示されるように、基材１、第一の層２（ハードコート層）、第二の層３（高屈折率層）、第三の層４（低屈折率層）、及び導体層５を備える。基材１、第一の層２、第二の層３、第三の層４、及び導体層５は、この順番に積層している。すなわち、基材１の第一の主面上に第一の層２が積層し、第一の層２の基材１とは反対側の主面上に第二の層３が積層し、第二の層３の第一の層２とは反対側の主面上に第三の層４が積層し、第三の層４の第二の層３とは反対側の主面上に導体層５が積層している。基材１、第一の層２、第二の層３、第三の層４、及び導体層５のうちのいずれの要素も光透過性を有し、光学部材１２が全体として光透過性を有する。
【００６９】
基材１、第一の層２、第二の層３、及び第三の層４の構成は、第一の実施形態の場合と同じであるため、その説明は省略する。また、本実施形態に係る光学部材１２は、図２に示すように、第四の層６を更に備えてもよい。この第四の層６の構成も、第一の実施形態の場合と同じであるため、その説明は省略する。
【００７０】
本実施形態に係る光学部材１２は、中間品である第一の実施形態に係る光学部材１１（導体層支持用光学部材）における第三の層４の上に、導体層５を形成することによって、得られる。
【００７１】
本実施形態に係る光学部材１２では、第三の層４上の導体層５が視認されにくくなる。このため、光学部材１２における導体層５が形成されている部分と、導体層５が形成されていない部分とが、目視により区別されにくくなる。このため、導体層５がパターニングされていても、この導体層５のパターンが視認されにくくなる。
【００７２】
導体層５の屈折率は、１．８０以上２．３０以下の範囲であることが好ましい。この場合、第三の層４上の導体層５が、より視認されにくくなる。このような導体層５の材料として、例えばＩＴＯ（酸化インジウムスズ）、ＡＺＯ（酸化亜鉛アルミニウム）、ＩＺＯ（酸化インジウム亜鉛）等の金属酸化物が挙げられる。
【００７３】
また、導体層５の厚みは、特に制限されないが、１５〜５０ｎｍの範囲であることが好ましく、この場合、導体層５が更に視認されにくくなる。
【００７４】
導体層５は、必要に応じて適宜のパターン状に形成される。例えば導体層５上にエッチングレジストを形成してから、この導体層５に塩化鉄を含むエッチング液などを用いた公知のエッチング処理を施し、続いてエッチングレジストをアルカリ性溶液等を用いて除去することで、導体層５をパターニングすることができる。
【００７５】
尚、上述のとおり、第三の層４がフッ素置換アルキル基を備える加水分解性オルガノシラン重縮合物を含有すると、第三の層４が高い耐エッチング性を発揮する。この場合、第三の層４上で導体層５にエッチング処理が施されても、第三の層４が劣化しにくくなる。このため、光学部材１２の良好な光透過性が維持される。
【００７６】
導体層５には加熱処理が施されることが好ましい。この場合、導体層５の導電性が向上する。加熱処理の条件は、特に制限されないが、例えば加熱温度を１５０℃、加熱時間を１時間とすることができる。このような加熱処理が施される場合に、光学部材１２が第四の層６を備えていると、上述の通り、基材１の白化が抑制される。このため、光学部材１２の良好な光透過性が維持される。
【００７７】
本実施形態に係る光学部材１２は、タッチパネル８の電極を構成するために、好適に用いられる。このようなタッチパネル８を備える画像表示機器２０の例の概略構成を、図３に示す。
【００７８】
図３に示される画像表示機器２０は、液晶表示装置などの画像表示装置７とタッチパネル８とを備える。タッチパネル８は、反射防止層１０と、二つの光学部材１２（以下、第一の光学部材１２１及び第二の光学部材１２２という）と、透明なカバー部材１５とを備える。反射防止層１０は、例えば公知の反射防止フィルムから形成される。尚、図３では、第一の光学部材１２１及び第二の光学部材１２２の構造の詳細についての図示を省略している。
【００７９】
カバー部材１５は、例えばガラス板、アイコンシート等から構成される。反射防止層１０、第一の光学部材１２１、第二の光学部材１２２、及びカバー部材１５は、この順番に積層している。反射防止層１０と、第一の光学部材１２１における導体層５とは反対側の面とは、透明粘着層（ＯＣＡ（optically clear adhesive）層）１１を介して接合されている。第一の光学部材１２１における導体層５側の面と、第二の光学部材１２２における導体層５とは反対側の面とは、透明粘着層（ＯＣＡ（optically clear adhesive）層）１３を介して接合されている。また、第二の光学部材１２２における導体層５側の面と、カバー部材１５とは、透明粘着層（ＯＣＡ（optically clear adhesive）層）１４を介して接合されている。
【００８０】
このタッチパネル８における反射防止層１０の外面と、画像表示装置７とが、粘着テープ９により固定されている。
【００８１】
このように構成される画像表示機器２０では、タッチパネル８を見る者がこのタッチパネル８における導体層５の形を視認しにくくなる。このため、画像表示機器２０で表示される画像等の視認性が高くなる。
【実施例】
【００８２】
［実施例１］
基材としては、厚み１００μｍのポリエステルフィルム（東洋紡績株式会社製、品名コスモシャイン（登録商標）Ａ４３００、易接着処理（両面）、表面反射率５．１％）を用いた。このポリエステルフィルムの両主面には易接着処理が施されており、これにより、ポリエステルフィルムの両主面上には、第五の層に相当する層が、設けられている。
【００８３】
このポリエチレンフィルムにおける易接着処理が施されている二つの主面のうちの一方の主面上に、次のようにして第四の層を形成した。アクリル系紫外線硬化型樹脂（大日精化工業株式会社製、品番ＰＥＴ−ＨＣ３０１、固形分６０質量％）とシリカ粒子（ＣＩＫナノテック株式会社製、品番ＳＩＲＭＩＢＫ１５ＷＴ％−Ｈ２４、平均粒子径５０ｎｍ）とを、シリカ粒子の割合（固形分換算）がアクリル系紫外線硬化型樹脂とシリカ粒子の合計量に対して１５質量％となるように配合し、これらを混合することで、紫外線硬化型の樹脂組成物を得た。この樹脂組成物を、基材上に、ワイヤーバーコーター＃１０を用いて塗布した。続いてこの樹脂組成物を８０℃で５分間加熱することにより乾燥させ、続いてこの樹脂組成物に紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ2の条件で照射した。これにより、樹脂組成物を硬化させて、厚み３μｍの第四の層を形成した。
【００８４】
次に、ポリエチレンフィルムにおける易接着処理が施されている二つの主面のうちの、第四の層とは反対側の主面上に、次のようにして第一の層（ハードコート層）を形成した。まず、アクリル系紫外線硬化型樹脂（大日精化工業株式会社製、商品名セイカビームＰＥＴ−ＨＣ３０１、有効成分（固形分）割合６０質量％）をトルエンで希釈することで、固形分割合３０質量％の組成物を得た。この組成物を、ワイヤーバーコーター＃１０を用いてポリエステルフィルムの上に塗布した。続いてこの組成物を８０℃で５分間加熱することで組成物を乾燥させ、更に紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ2の条件で照射することにより組成物を硬化させた。これにより、第一の層を形成した。このハードコート層の屈折率と厚みとを、後掲の表に示す。
【００８５】
続いて、第一の層の上に第二の層（高屈折率層）を、次のようにして形成した。まず、アクリル系紫外線硬化型樹脂（大日精化工業株式会社製、品名セイカビームＭＤ−２クリヤー、有効成分（固形分）割合６０質量％）と、酸化チタン粒子のトルエン分散液（テイカ株式会社製、品番７６０Ｔ、固形分割合４８質量％）とを、４０：６０の固形分質量比で混合することで、混合物を得た。この混合物をトルエンで希釈することで、固形分割合２質量％の組成物を得た。この組成物を、ワイヤーバーコーター＃４を用いて、第一の層の上に塗布した。続いて、この組成物を８０℃で５分間加熱することで乾燥させ、更に紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ2の条件で照射することで、組成物を硬化させた。これにより、第二の層を形成した。この第二の層の屈折率と厚みとを、後掲の表に示す。
【００８６】
続いて、第二の層の上に、真空成膜法により、ＳｉＯ2からなる第三の層（低屈折率層）を形成した。この第三の層の屈折率と厚みとを、後掲の表に示す。
【００８７】
続いて、第三の層の上に、真空成膜法によりＩＴＯからなる導体層を形成した。更に、この導体層に、加熱温度１５０℃、加熱時間１時間の条件で、加熱処理を施した。この導体層の屈折率と厚みとを、後掲の表に示す。
【００８８】
以上により、光学部材を得た。
【００８９】
［実施例２］
実施例１において、第二の層を形成する際に、ワイヤーバーコーター＃２を使用することで、第二の層の厚みを変更した。それ以外は実施例１と同じ方法及び同じ条件で、光学部材を得た。
【００９０】
［実施例３］
基材としては、厚み１００μｍのポリエステルフィルム（東洋紡績株式会社製、品名コスモシャイン（登録商標）Ａ４３００、易接着処理（両面）、表面反射率５．１％）を用いた。このポリエステルフィルムの両主面には易接着処理が施されており、これにより、ポリエステルフィルムの両主面上には、第五の層に相当する層が、設けられている。
【００９１】
このポリエチレンフィルムにおける易接着処理が施されている二つの主面のうちの一方の主面上に、実施例１の場合と同じ方法で、第四の層を形成した。
【００９２】
次に、ポリエチレンフィルムにおける易接着処理が施されている二つの主面のうちの、第四の層とは反対側の主面上に、次のようにして第一の層（ハードコート層）を形成した。まず、アクリル系紫外線硬化型樹脂（大日精化工業株式会社製、商品名セイカビームＰＥＴ−ＨＣ３０１、有効成分（固形分）割合６０質量％）をトルエンで希釈することで、固形分割合３０質量％の組成物を得た。この組成物を、ワイヤーバーコーター＃１０を用いてポリエステルフィルムの上に塗布した。続いてこの組成物を８０℃で５分間加熱することで組成物を乾燥させ、更に紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ2の条件で照射することにより組成物を硬化させた。これにより、第一の層を形成した。このハードコート層の屈折率と厚みとを、後掲の表に示す。
【００９３】
続いて、第一の層の上に第二の層（高屈折率層）を、次のようにして形成した。まず、アクリル系紫外線硬化型樹脂（大日精化工業株式会社製、品名セイカビームＭＤ−２クリヤー、有効成分（固形分）割合６０質量％）と、ルチル型酸化チタン粒子のトルエン分散液（テイカ株式会社製、品番７６０Ｔ、固形分割合４８質量％）とを、４０：６０の固形分質量比で混合することで、混合物を得た。この混合物をトルエンで希釈することで、固形分割合２質量％の組成物を得た。この組成物を、ワイヤーバーコーター＃１０を用いて、第一の層の上に塗布した。続いて、この組成物を８０℃で５分間加熱することで乾燥させ、更に紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ2の条件で照射することで、組成物を硬化させた。これにより、第二の層を形成した。この第二の層の屈折率と厚みとを、後掲の表に示す。
【００９４】
続いて、第二の層の上に第三の層（低屈折率層）を、次のようにして形成した。まず、加水分解性アルコキシシラン（三菱化学株式会社製、品番ＭＳ５６Ｓ）０．６質量部と、中空シリカ微粒子ゾル（日揮触媒化成株式会社製、品番ＣＳ６０−ＩＰＡ、固形分割合２０質量％）３．２質量部と、０．１Ｎ硝酸４．６質量部と、イソプロピルアルコール８９．６質量部と、２−ブトキシエタノール２．０質量部とを混合することで、第三の層を形成するための組成物を得た。この組成物を、第二の層上にワイヤーバーコーター＃２により塗布し、続いて１２０℃で１分間加熱することで乾燥させ、更に酸素雰囲気下で１２０℃で５分間加熱した。これにより、第三の層を形成した。この第三の層の屈折率と厚みとを、後掲の表に示す。
【００９５】
以上により、光学部材を得た。
【００９６】
［実施例４〜１５］
実施例３において、第一の層、第二の層、及び第三の層の、屈折率及び厚みを、後掲の表に示すように変更した。
【００９７】
尚、第一の層の屈折率の変更にあたっては、屈折率調整用の粒子として中空シリカ微粒子ゾル（日揮触媒化成株式会社製、品番ＣＳ６０−ＩＰＡ、固形分割合２０質量％）、又は酸化チタン粒子のトルエン分散液（テイカ株式会社製、品番７６０Ｔ、固形分割合４８質量％）を用い、その使用量を調整した。また、第二の層の屈折率の変更にあたっては、酸化チタン粒子の使用量を調整した。また、第三の層の屈折率の変更にあたっては、屈折率調整用の粒子として中空シリカ微粒子ゾル（日揮触媒化成株式会社製、品番ＣＳ６０−ＩＰＡ、固形分割合２０質量％）を用い、その使用量を調整した。
【００９８】
［比較例１］
実施例１において、第二の層を形成するための組成物の固形分割合を０．７質量％に調整した。それによって、第二の層の厚みを、後掲の表に示すように変更した。それ以外は実施例１と同じ方法及び同じ条件で、光学部材を得た。
【００９９】
［比較例２］
実施例１において、第二の層を形成するための組成物の固形分割合を６質量％に調整した。それによって、第二の層の厚みを、後掲の表に示すように変更した。それ以外は実施例１と同じ方法及び同じ条件で、光学部材を得た。
【０１００】
［比較例３］
実施例３において、第二の層を形成するにあたり、ルチル型酸化チタン粒子のトルエン分散液に代えて、アナターゼ型酸化チタンのＩＰＡ（イソプロピルアルコール）分散液（テイカ株式会社製、品番ＴＫＤ−７０２、固形分割合１６％）を、固形分７０質量比の割合で使用した。それ以外は実施例３と同じ方法及び同じ条件で、光学部材を得た。
【０１０１】
［評価試験］
各実施例及び比較例で得られた光学部材について、次の評価試験を実施した。その結果を、後掲の表に示す。
【０１０２】
（ヘイズ測定）
光学部材のヘイズを、ヘイズメータ（日本電色工業株式会社製、型番ＮＤＨ２０００）を使用して測定した。
【０１０３】
（全光線透過率測定）
光学部材の全光線透過率を、ヘイズメータ（日本電色工業株式会社製、型番ＮＤＨ２０００）を使用して測定した。
【０１０４】
（透過色評価）
光学部材に、ＣＩＥが規定する標準Ｃ光源からの光を低屈折率層側から入射し、光学部材を透過した透過光の色のＣＩＥ  １９７６Ｌ*ａ*ｂ*色空間による透過色度ｂ＊を、コニカミノルタ株式会社製分光測色計（型番ＣＭ３６００Ｄ）使用して測定した。
【０１０５】
（表面抵抗値測定）
導体層の表面抵抗値を、株式会社三菱化学アナリテック製の抵抗率計（ロレスタＥＰ  ＭＣＰ−Ｔ３６０型）を用いて測定した。
【０１０６】
（導体層のパターン視認性）
光学部材における導体層上にエッチングレジストを形成してから、塩化鉄水溶液を用いてエッチング処理を施した。続いて、アルカリ性溶液を用いてエッチングレジストを溶解させて除去した。これにより、導体層をパターニングした。
【０１０７】
続いて、光学部材に、導体層とは反対側から、光を照射した。光源としては、２７Ｗの３波長形蛍光灯（昼白色）を用いた。光の照射角度を種々変更しながら、光学部材を光源とは反対側から目視で観察し、それにより、導体層のパターン形状が視認できるか否かを確認した。その結果、パターン形状が全く視認されない場合を「◎」、光学部材を特定の方向から見た場合にのみパターン形状が視認される場合を「○」、パターン形状が容易に視認される場合を「×」と、評価した。
【０１０８】
（耐酸性）
耐エッチング性の指標の一つとして、次のように光学部材の耐酸性を評価した。光学部材における第三の層を、２５℃の１規定ＨＣｌ水溶液に１０分間浸漬した。続いて、第三の層の外観を目視で観察し、その結果を次のように評価した。
○：第三の層に変化が認められない。
△：第三の層の表面に、ＨＣｌ水溶液に浸漬されたことによる跡が認められる。
×：第三の層が剥離する。
【０１０９】
（耐アルカリ性）
耐エッチング性の指標の一つとして、次のように光学部材の耐アルカリ性を評価した。光学部材における第三の層を、２５℃の１規定ＮａＯＨ水溶液に１０分間浸漬した。続いて、第三の層の外観を目視で観察し、その結果を次のように評価した。
○：第三の層に変化が認められない。
△：第三の層の表面に、ＮａＯＨ水溶液に浸漬されたことによる跡が認められる。
×：第三の層が剥離する。
【０１１０】
（密着性）
ＪＩＳ−Ｋ−５６００で規定されているクロスカット法に準拠して、第三の層と導体層との間の密着性を評価した。その結果を、「（剥離しなかったマス目数）／（試験したマス目数）」で評価した。
【０１１１】
（耐光性）
光学部材に対し、ＪＩＳ−Ｋ−５６００−７−７に準拠して、キセノンアーク試験を実施した。試験条件は、６０Ｗ／ｍ２（３００〜４００ｎｍ）、５５０Ｗ／ｍ２（３００〜８００ｎｍ）、窓ガラスフィルター設置１００時間、ブラックパネル温度６３℃、とした。その結果、試験前後で光学部材に変化が認められない場合を「○」、試験後の光学部材内に層間剥離が生じてしまった場合を「×」と、評価した。
【０１１２】
【表１】
2013174787.tif 000003
【０１１３】
【表２】
2013174787.tif 000004
【０１１４】
【表３】
2013174787.tif 000005
【符号の説明】
【０１１５】
１１  光学部材
１２  光学部材
１    基材
２    第一の層
３    第二の層
４    第三の層
５    導電層
６    第四の層
【図１】
2013174787.tif 000006
【図２】
2013174787.tif 000007
【図３】
2013174787.tif 000008