(57)【要約】【課題】調整精度が高く、調整効率の良い光走査装置の調整方法及び調整装置を提供する。【解決手段】一定間隔で配置された複数の発光素子の各々から光ビームを出射する発光部３１０と、発光部３１０が出射した各光ビームを回転ミラーで反射させて走査方向に走査する走査部３４０と、走査部３４０が走査する各光ビームを照射位置に導く光学部と、を備えた光走査装置３０の調整方法であって、回転ミラー３４１を固定する工程と、発光部３１０の１つの発光素子に光ビームを出射させ、この光ビームの光軸方向に発光部３１０を移動させることで、各光ビームの径を調整するピント調整工程と、ピント調整工程後に、発光部３１０の２つの発光素子からそれぞれ光ビームを出射させ、発光部３１０を光ビームの光軸方向に垂直な面上で回動させることで、複数の発光素子の各々から出射する光ビームの走査方向に直交する方向の間隔を調整する工程と、を備えている。【選択図】図７
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
一定間隔で配置された複数の発光素子の各々から光ビームを出射する発光部と、
前記発光部が出射した各光ビームを回転ミラーで反射させて走査方向に走査する走査部と、
前記走査部が走査する各光ビームを照射位置に導く光学部と、
を備えた光走査装置の調整方法であって、
前記回転ミラーを固定するミラー固定工程と、
前記発光部の１つの発光素子に光ビームを出射させ、この光ビームの光軸方向に前記発光部を移動させることで、前記各光ビームの径を調整するピント調整工程と、
前記ピント調整工程後に、前記発光部の２つの発光素子からそれぞれ光ビームを出射させ、前記発光部を前記光ビームの光軸方向に垂直な面上で回動させることで、前記複数の発光素子の各々から出射する光ビームの前記走査方向に直交する方向の間隔を調整するピッチ調整工程と、
を備えた光走査装置の調整方法。
【請求項２】
前記発光部は、３つ以上の発光素子を備えており、
前記ピッチ調整工程は、隣り合わない２つの発光素子からそれぞれ光ビームを出射させる工程である、請求項１に記載の光走査装置の調整方法。
【請求項３】
前記発光部の１つの発光素子から光ビームを出射させながら、この光ビームの光軸方向に垂直な面上で前記発光部を移動させることで、前記回転ミラーの光ビーム反射位置を調整する反射位置調整工程を、前記ミラー固定工程と前記ピッチ調整工程の間に備えた、請求項１または２に記載の光走査装置の調整方法。
【請求項４】
一定間隔で配置された複数の発光素子の各々から光ビームを出射する発光部と、
前記発光部が出射した各光ビームを回転ミラーで反射させて走査方向に走査する走査部と、
前記走査部が走査する各光ビームを照射位置に導く光学部と、
を備えた光走査装置の調整装置であって、
前記回転ミラーを固定するミラー固定部と、
前記発光部の複数の発光素子の各々に光ビームを出射させるビーム制御部と、
前記発光部が出射する１つの光ビームの光軸方向に前記発光部を移動させる機能、及び前記発光部を前記光ビームの光軸方向に垂直な面上で回動させる機能を有する位置調整部と、
前記複数の光ビームの径及び間隔を測定する測定部と、
前記ビーム制御部、前記位置調整部、及び前記測定部を制御して、前記発光部の１つの発光素子に光ビームを出射させ、この光ビームの光軸方向に前記発光部を移動させることで、前記各光ビームの径を調整するピント調整工程と、前記ピント調整工程後に、前記発光部の２つの発光素子からそれぞれ光ビームを出射させ、前記発光部を前記光ビームの光軸方向に垂直な面上で回動させることで、前記複数の発光素子の各々から出射する光ビームの前記走査方向に直交する方向の間隔を調整するピッチ調整工程を行う制御部と、
を備えた光走査装置の調整装置。
【請求項５】
前記発光部は、３つ以上の発光素子を備えており、
前記制御部は、前記ピッチ調整工程において、隣り合わない２つの発光素子に光ビームを出射させる、請求項４に記載の光走査装置の調整装置。
【請求項６】
前記固定された回転ミラーが前記光ビームを反射する反射面を撮像する撮像部を備え、
前記測定部は、光ビームの照射位置を測定する機能を備え、
前記制御部は、
前記ビーム制御部、前記位置調整部、前記撮像部、及び前記測定部を制御して、前記発光部の１つの発光素子から光ビームを出射させながら、この光ビームの光軸方向に垂直な面上で前記発光部を移動させることで、前記回転ミラーの光ビーム反射位置を調整する反射位置調整工程を、前記ピッチ調整工程よりも前に行う、請求項４または５に記載の光走査装置の調整装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真方式の画像形成装置に用いられ、光ビームを走査する光走査装置の調整方法及び調整装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子写真方式の画像形成装置には、光走査装置から色相毎に複数の光ビームを同時に出射して、画像形成の高速化及び画像の高解像度化を実現しているものがある（特許文献１参照。）。この光走査装置は、１つの光源が複数の発光源素子を備えたものを使用している。
【０００３】
上記の光走査装置は、光ビームの走査方向と直交する方向における間隔を調整する際に、複数の発光源素子の各々に光ビームを出射させて、ポリゴンミラーにより光ビームを走査している。そして、光ビームの上記間隔の平均値を求めている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０００−２４１７２８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記の光走査装置は、ポリゴンミラーにより光ビームを走査しているため、ポリゴンミラーの各面の角度や平面度の誤差、回転誤差に起因して、光ビームの走査位置のばらつき、すなわちジッタが発生する。上記の光走査装置では、ジッタの影響により、光ビームの走査方向と直交する方向における間隔の調整精度が低くなるという問題があった。また、複数の発光源素子の各々に光ビームを出射させて調整を行っているので、調整時間が長くなり調整効率がよくないという問題があった。
【０００６】
そこで、本発明は、調整精度が高く、調整効率の良い光走査装置の調整方法及び光走査装置の調整装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
この発明は、一定間隔で配置された複数の発光素子の各々から光ビームを出射する発光部と、発光部が出射した各光ビームを回転ミラーで反射させて走査方向に走査する走査部と、走査部が走査する各光ビームを照射位置に導く光学部と、を備えた光走査装置の調整方法である。この調整方法は、ミラー固定工程と、ピント調整工程と、ピッチ調整工程と、を備えている。ミラー固定工程は、回転ミラーを固定する。ピント調整工程は、発光部の１つの発光素子に光ビームを出射させ、この光ビームの光軸方向に発光部を移動させることで、各光ビームの径を調整する。ピッチ調整工程は、ピント調整工程後に、発光部の２つの発光素子からそれぞれ光ビームを出射させ、発光部を光ビームの光軸方向に垂直な面上で回動させることで、複数の発光素子の各々から出射する光ビームの走査方向に直交する方向の間隔を調整する。
【０００８】
この構成では、光走査装置の走査部の回転ミラーを固定するので、ピッチ調整工程において、光ビームを回転ミラーで走査しながら調整を行う従来の方法のようにジッタの影響を受けることがない。そのため、光ビームの走査方向に直交する方向の間隔について、調整精度を高くできる。また、このように調整精度を高くできるので、全発光素子に光ビームを出射させる必要がなく、従来の方法と比較して、調整を効率良く行うことができる。
【０００９】
上記発明において、発光部は、３つ以上の発光素子を備えている。ピッチ調整工程は、隣り合わない２つの発光素子からそれぞれ光ビームを出射させる工程である。
【００１０】
形成する画像の解像度を高くするためには、各光ビームの走査方向に直交する方向の間隔を非常に狭くする必要がある。各光ビームの上記間隔を調整するために、隣り合う２つの発光素子からそれぞれ光ビームを出射させる場合、２つの光ビームの上記間隔が狭いので、調整精度を上げるには限界がある。また、調整精度を上げるために高性能の測定装置を用いると、コストが上昇する。この構成では、隣り合わない２つの発光素子、例えば、３つ以上の発光素子のうち両端の発光素子や、４つの発光素子の第１番目と第３番目の発光素子から、それぞれ光ビームを出射させる。このようにすることで、隣り合う２つの発光素子から光ビームを出射する場合と比較して、２つの光ビームの上記間隔が大きいので、この２つの光ビームについて上記間隔の調整を容易に行うことができる。また、発光部の複数の発光素子は一定間隔で配置されているので、結果的に、隣り合う２つの発光素子に出射させる光ビームの上記間隔が非常に狭い場合でも、各発光素子の上記間隔の調整精度を高くできる。また、このように高精度に調整できるので、高性能の測定装置を用いる必要がなく、コストの上昇を防止できる。
【００１１】
上記発明において、ミラー固定工程とピッチ調整工程の間に、反射位置調整工程を備えている。反射位置調整工程は、発光部の１つの発光素子から光ビームを出射させながら、この光ビームの光軸方向に垂直な面上で発光部を移動させることで、回転ミラーの光ビーム反射位置を調整する。
【００１２】
回転ミラーの反射面における光ビームは、光学部で光ビームの径が調整される途中段階であり、照射位置における光ビームと比較して径が非常に大きい。そのため、回転ミラーの光ビーム反射位置において光ビームの位置調整を行うことで、その位置調整を高精度かつ容易に行うことができる。また、このように調整精度を高くできるので、全発光素子に光ビームを出射させる必要がなく、従来の方法と比較して、調整を効率良く行うことができる。
【発明の効果】
【００１３】
この発明によれば、光走査装置の調整を、高精度に効率良く行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】光走査装置を備えた画像形成装置の構成を示す正面透視図である。
【図２】光走査ユニットの構成を示す上面図である。
【図３】光走査ユニットの構成を示す側面図である。
【図４】（Ａ）は、光走査ユニットにおけるレーザダイオードの配置と、各レーザダイオードから出射されるレーザビームの経路を示す図である。（Ｂ）は、光走査装置の筐体側面における各レーザダイオードの配置を示す図である。
【図５】（Ａ）は、レーザダイオードのレーザ素子の配置を示す図である。（Ｂ）は、走査部が走査する複数のレーザビームの間隔を示す図である。（Ｃ）は、レーザダイオードを所定角度だけ回動させた状態を示す図である。
【図６】（Ａ）は、ＬＤホルダの断面図である。（Ｂ）は、取り付け孔に挿入されたＬＤホルダの可動方向を示す図である。
【図７】光走査装置の調整装置の構成を示す図である。
【図８】（Ａ）は、調整装置のミラー固定部の構成を示す斜視図である。（Ｂ）は、調整装置の位置調整部の構成を示す斜視図である。
【図９】光走査装置の調整装置の制御系を示すブロック図である。
【図１０】光走査装置の調整方法を説明するためのフローチャートである。
【図１１】取り付け孔に挿入されたＬＤホルダに紫外線硬化樹脂を塗布した状態を示す図である。
【図１２】（Ａ）は、ＬＤホルダに取り付けるツマミ治具の取り付け位置を示す斜視図である。（Ｂ）は、ツマミ治具及びアームで保持したＬＤホルダを示す側面図である。
【図１３】ミラー固定部が固定した回転ミラーが反射するレーザビームの光路を示す図である。
【図１４】調整装置の位置調整部によりＬＤホルダを移動させる状態を示す斜視図である。
【図１５】ピッチ調整工程におけるレーザ素子の点灯タイミングチャートである。
【図１６】（Ａ）〜（Ｅ）は、ピッチ調整工程において、光ビームの検出位置を示す図である。
【図１７】ポリゴンユニットの設置位置に設けられた固定ミラーが反射するレーザビームの光路を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
まず、本発明の実施形態に係る調整方法及び調整装置により調整される光走査装置について説明する。光走査装置３０は、例えば、図１に示すカラーデジタル複合機１００のような画像形成装置に用いられる。光走査装置３０は、カラーデジタル複合機１００の画像形成部１４０の一部を構成する。光走査装置３０は、不図示の画像処理部により生成されたブラック、シアン、マゼンタ及びイエローの４つの色相の印刷画像データによって変調された光ビームであるレーザビームを、感光体ドラム５１Ｙ、５１Ｍ、５１Ｃ、５１Ｋ（以下、４つの感光体ドラムの総称を感光体ドラム５１と称する。）へ個別に照射して、静電潜像をそれぞれ形成する。
【００１６】
図２，３に示すように、光走査装置３０は、発光部である４つのレーザダイオード３１０Ｙ、３１０Ｍ、３１０Ｃ、３１０Ｋ（以下、４つのレーザダイオードの総称をレーザダイオード３１０と称する。）を備えている。光走査装置３０は、光学部である、コリメートレンズ３１５、アパーチャ（スリット）３１６、４つのミラー３２２Ｙ，３２２Ｍ，３２２Ｃ，３２２Ｋ（以下、これら４つのミラーの総称をミラー３２２と称する。）、ミラー３２６、シリンドリカルレンズ３３５、第１ｆθレンズ３５０、第２ｆθレンズ３６０、４つのミラー３７０Ｙ、３７０Ｍ、３７０Ｃ、３７０Ｋ（以下、これら４つのミラーの総称をミラー３７０と称する。）、４つのミラー３８０Ｙ、３８０Ｍ、３８０Ｃ、３８０Ｋ（以下、これら４つのミラーの総称をミラー３８０と称する。）、及び４つの第３ｆθレンズ３９０Ｙ、３９０Ｍ、３９０Ｃ、３９０Ｋ（以下、これら４つの第３ｆθレンズの総称を第３ｆθレンズ３９０と称する。）を備えている。光走査装置３０は、走査部であるポリゴンユニット３４０を備えている。ポリゴンユニット３４０は、回転ミラーであるポリゴンミラー３４１、ポリゴンミラー３４１を回転させる不図示のモータと回路基板、及び台座を備えている。
【００１７】
レーザダイオード３１０Ｙ、３１０Ｍ、３１０Ｃ、３１０Ｋは、それぞれイエロー、マゼンタ、シアン及びブラックの各色相に対応するレーザ光を出射する。レーザダイオード３１０Ｙ、３１０Ｍ、３１０Ｃ、３１０Ｋは、それぞれ所定の間隔で一列に配置された４つの発光素子３１１Ａ〜３１１Ｄ（不図示）を備えており、各発光素子から複数のレーザビームを同時に出射可能である。
【００１８】
コリメートレンズ３１５は、レーザダイオード３１０から出力されたレーザビームを平行光に変換する。
【００１９】
アパーチャ（スリット）３１６は、各コリメートレンズ３１５の後段に配置され、レーザビームの径を規制する。
【００２０】
ミラー３２２は、レーザダイオード３１０から出射されたレーザ光をミラー３２６に向けて反射する。ミラー３２６は、ミラー３２２が反射したレーザ光をポリゴンミラー３４１に向けて反射する。シリンドリカルレンズ３３５は、レーザダイオード３１０から出力されたビームを、副走査方向について集光させる。
【００２１】
ポリゴンユニット３４０は、光走査装置３０の筐体にネジで固定されている。ポリゴンミラー３４１は、正多角形柱状であり、画像形成時には不図示のモータと駆動回路により回転駆動され、ミラー３２６が反射したレーザ光を、その各ミラー面で反射しつつ主走査方向に等角度走査する。
【００２２】
第１のｆθレンズ３５０及び第２のｆθレンズ３６０は、ポリゴンミラー３４１において等角度走査されたレーザ光を感光体ドラム５１上で等速度走査されるようにレーザ光の主走査速度を変換する。また、第１のｆθレンズ３５０及び第２のｆθレンズ３６０は、レーザ光の主走査方向の径を絞る。
【００２３】
ミラー３７０は、第１のｆθレンズ３５０及び第２のｆθレンズ３６０を通過したレーザ光をミラー３８０に向けて反射する。ミラー３８０は、ミラー３７０が反射したレーザ光を第３のｆθレンズ３９０に向けて反射する。第３のｆθレンズ３９０は、ミラー３８０が反射したレーザ光の副走査方向の径を絞って、感光体ドラム５１の表面にこのレーザ光を照射する。
【００２４】
図４（Ａ）、（Ｂ）に示すように、レーザダイオード３１０Ｙ、３１０Ｍ、３１０Ｃ、３１０Ｋは、それぞれ、ＬＤホルダ３１２Ｙ，３１２Ｍ，３１２Ｃ，３１２Ｋ（以下、４つのＬＤホルダの総称をＬＤホルダ３１２と称する。）に取り付けられている。４つのＬＤホルダ３１２Ｙ，３１２Ｍ，３１２Ｃ，３１２Ｋは、それぞれ光走査装置３０の筐体の側壁３０Ｓに設けられた孔部４０２Ｙ，４０２Ｍ，４０２Ｃ，４０２Ｋ（以下、４つの孔部の総称を孔部４０２と称する。）に挿入されている。各孔部４０２は、各レーザダイオード３１０が出射するレーザビームＬが交差しないように、側壁３０Ｓにおいて異なる高さに形成されている。
【００２５】
図５（Ａ）に示すように、レーザダイオード３１０は、４つの発光素子３１１Ａ〜３１１Ｄが出射する各レーザビームの光軸方向に垂直な面である出射面３１１Ｍにおいて、その中心線に沿って４つレーザ素子３１１Ａ〜３１１Ｄが一定間隔（ピッチ１４μｍ）で配置されている。図５（Ｂ）に示すように、４つレーザ素子３１１Ａ〜３１１Ｄが出射する各レーザビームは、ポリゴンユニット４０により、感光体ドラム５１表面の照射位置において複数のレーザビームを主走査方向に走査される。複数のレーザ素子の各々から出射するレーザビームの副走査方向（レーザビームの走査方向と直交する方向）の間隔（ピッチ）はＰ１である。図５（Ｃ）に示すように、レーザダイオード３１０の各レーザ素子３１１を出射面３１１Ｍ上で、Ｃ点を中心としてＲ方向に回動させて間隔Ｐ１を調整する。
【００２６】
図６（Ａ）、（Ｂ）に示すように、ＬＤホルダ３１２は、孔部４０２に挿入すると、孔部４０２との間に隙間ができ、孔部４０２においてＬＤホルダ３１２を、Ｘ方向、Ｙ方向、Ｚ方向、及び回転方向（以下、Ｒ方向と称する。）に移動できる。
【００２７】
次に、光走査装置の製造装置の構成を説明する。
【００２８】
図７に示すように、光走査装置の調整装置４００は、基台４１０、支持ブロック４２０，４２１、ミラー固定部４３０、撮像部４４０、移動機構部４５０、位置調整部４６０、ビーム制御部４７０、紫外線照射部４８０、測定部４９０、表示部５００、操作部５１０、及び制御部５３０を備えている。
【００２９】
支持ブロック４２０，４２１は、基台４１０の上面に所定の間隔で配置されており、光走査装置３０を載置するブロックである。
【００３０】
ミラー固定部４３０は、光走査装置３０のポリゴンミラー３４１が走査領域のほぼ中央にレーザビームを反射するように、ポリゴンミラー３４１を固定する。図７及び図８（Ａ）に示すように、ミラー固定部４３０は、当接板４３１、回動機構４３２、アーム４３３、上下移動機構４３４を備えている。ミラー当接板４３１は、上下移動機構４３４により降下されると、ポリゴンミラー３４１の非ミラー面である上面に当接する。回動機構４３２は、当接板４３１を回動させる不図示のモータや駆動回路を備えており、当接板４３１に当接するポリゴンミラー３４１の反射面の向きを調整する。回動機構４３２は、アーム４３３内に設けられている。上下移動機構４３４は、移動機構部４５０の端部に取り付けられており、アーム４３３、回動機構４３２、及び当接板４３１を下降及び上昇させる。
【００３１】
撮像部４４０は、カメラ４４１と、ＣＣＤ４４３を備えている。カメラ４４１は、ポリゴンミラー３４１の反射面を撮影する。ＣＣＤ４４３は、レーザビームの照射位置に配置され、光走査装置３０のレーザダイオード３１０から出射されたレーザビームが照射される。レーザビームの照射位置は、図１及び図３に示す感光体ドラム５１の設置位置に相当する位置である。撮像部４４０は、４つのレーザダイオード３１０のいずれがレーザビームを出射するかに応じて、移動機構部４５０によりその位置が移動される。
【００３２】
図８（Ｂ）に示すように、位置調整部４６０は、３つのアーム４６２Ａ〜４６２Ｃ、回動ステージ４６３、Ｙステージ４６４、Ｚステージ４６５、及びＸステージ４６６を備えている。また、位置調整部４６０は、図７に示すようにツマミ４６１を備えている。
【００３３】
ツマミ４６１は、ＬＤホルダ３１２に取り付けられているレーザダイオード３１０を回転させるための補助治具である。
【００３４】
３つのアーム４６２Ａ〜４６２Ｃは、回動ステージ４６３に取り付けられており、調整時に、回動ステージ４６３の中心方向に移動して、ＬＤホルダ３１２に取り付けられているツマミ４６１を保持する。
【００３５】
回動ステージ４６３は、Ｙステージ４６４に取り付けられており、調整時に、その中心を軸として、レーザダイオード３１０の出射面３１１Ｍ上に回動し、３つのアーム４６２Ａ〜４６２Ｃが保持するツマミ４６１をＲ方向に回動させる。
【００３６】
Ｙステージ４６４は、Ｚステージ４６５に取り付けられており、調整時に、３つのアーム４６２Ａ〜４６２Ｃ及び回動ステージ４６３が保持するツマミ４６１を、レーザダイオード３１０の出射面３１１Ｍ上の方向であるＹ軸方向に移動させる。
【００３７】
Ｚステージ４６５は、Ｘステージ４６６上に取り付けられており、調整時に、Ｙステージ４６４、回動ステージ４６３及び３つのアーム４６２Ａ〜４６２Ｃが保持するツマミ４６１を、レーザビームの光軸方向であるＺ軸方向に移動させる。
【００３８】
Ｘステージ４６６は、基台４１０上に取り付けられており、調整時に、Ｚステージ４６５、Ｙステージ４６４、回動ステージ４６３及び３つのアーム４６２Ａ〜４６２Ｃが保持するツマミ４６１を、レーザダイオード３１０の出射面３１１Ｍ上の方向であるＸ軸方向に移動させる。また、Ｘステージ４６６は、４つのレーザダイオード３１０のいずれがレーザビームを出射するかに応じて、Ｚステージ４６５、Ｙステージ４６４、回動ステージ４６３及び３つのアーム４６２Ａ〜４６２Ｃが保持するツマミ４６１をＸ軸方向に移動させる。
【００３９】
位置調整部４６０は、上記構成により、レーザダイオード３１０の各レーザ素子から出射される複数のレーザビームの照射位置、ピント、及びピッチを所望の状態に調整する。
【００４０】
ビーム制御部４７０は、光走査装置３０のレーザダイオード３１０の各レーザ素子の点灯／消灯を制御する。
【００４１】
紫外線照射部４８０は、紫外線ランプから紫外線を照射する。
【００４２】
測定部４９０は、測定部にカメラ４４１が撮影した画像に基づいて、レーザビームの径と反射位置を測定する。また、測定部４９０は、ＣＣＤ４４３が撮影した画像に基づいて、副走査方向におけるレーザビームのピッチを測定する。
【００４３】
表示部５００は、調整装置４００のユーザに伝達するメッセージを表示する。また、撮像部４４０のカメラ４４１やＣＣＤ４４３が撮影した画像を表示する。
【００４４】
操作部５１０は、調整装置４００のユーザが光走査装置３０の調整を行うときに、調整装置４００の動作を指示するための複数のボタンを備えている。
【００４５】
図９に示すように、制御部５３０は、調整装置４００の各部と接続されており、操作部５１０の操作に応じて、調整装置４００の各部を制御して、光走査装置３０の調整を行う。
【００４６】
次に、光走査装置３０の製造方法について、図１０に示すフローチャートに基づいて説明する。調整装置４００で調整する光走査装置３０は、図２に示した状態まで組み立てられている。
【００４７】
ユーザは、調整装置４００で光走査装置３０を調整する前に、以下の事前処理を行っておく。
【００４８】
図７に示したように、支持ブロック４２０，４２１の上に光走査装置３０を置き、不図示の複数のクランプ（押さえ具）により光走査装置３０を基台４１０上に固定する。なお、光走査装置３０の上面は開放されている。そして、図４（Ａ）に示したように、光走査装置３０の筐体の側壁３０Ｓに形成された孔部４０２Ｙ〜４０２Ｋに、レーザダイオード３１０を取り付けたＬＤホルダ３１２を、予め設定した回転角となるように、角度を調整して挿入する。なお、予め設定された回転角は、ＬＤホルダ３１２の位置調整時に、ＬＤホルダ３１２の回動量がわずかとなるように設定されている。
【００４９】
ユーザは、図１１に示すようにＬＤホルダ３１２と光走査装置３０の筐体の側壁３０Ｓと、の間において３カ所に、紫外線硬化樹脂（接着剤）５０１を塗布する。なお、紫外線硬化樹脂５０１は、ＬＤホルダ３１２の位置調整後に硬化させる。
【００５０】
続いて、ユーザは、４つのＬＤホルダ３１２の各々にツマミ４６１を取り付ける。図１２（Ａ）に示すように、ＬＤホルダ３１２の外周部には切り欠き３１３が設けられている。ツマミ４６１は、円筒形で、ツマミ４６１の一方の端面には突起４６１Ｔが形成されている。図１２（Ｂ）に示すように、ツマミ４６１の突起４６１Ｔを、ＬＤホルダ３１２の切り欠き３１３に嵌合させる。このとき、図示は省略するが、調整装置４００からレーザダイオードに電力を供給するために、ユーザは、ツマミ４６１の内部に設けられているソケットに、レーザダイオードのピンを挿入しておく。
【００５１】
ユーザは、事前処理が完了したら操作部５１０を操作する。制御部５３０は、操作部５１０の操作を検出すると（Ｓ１）、ミラー固定工程を行う。すなわち、図８（Ａ）及び図１３に示すように、ミラー固定部４３０の上下移動機構４３４を駆動して当接板４３１を下降させ、ポリゴンユニット３４０のポリゴンミラー３４１を固定する。また、制御部５３０は、カメラ４４１でポリゴンミラー３４１の反射面を撮影しながら、回動機構４３２により当接板４３１を介してポリゴンミラー３４１を回動させることで、ポリゴンミラー３４１の１つの反射面の向きを所定の角度に調整する（Ｓ２）。
【００５２】
制御部５３０は、図１２（Ｂ）及び図１４に示すように、位置調整部４６０のアーム４６２Ａ〜４６２Ｃにより色相Ｋ用のＬＤホルダ３１２に取り付けられたツマミ４６１を保持する（Ｓ３）。
【００５３】
制御部５３０は、ポリゴンミラー３４１の反射面において、ビーム径調整工程（Ｓ４）と反射位置調整工程（Ｓ５）を行う。まず、制御部５３０は、カメラ４４１でポリゴンミラー３４１のレーザビームの反射面を撮影する。そして、制御部５３０は、ビーム制御部４７０に、レーザダイオード３１０Ｋの１つのレーザ素子３１１Ａにレーザビームを出射させる。また、制御部５３０は、位置調整部４６０のＺステージ４６５を駆動して、このレーザビームの光軸方向にＬＤホルダ３１２を移動させることで、測定部４９０により測定しながら、レーザビームの径を予め設定されたサイズに調整する。
【００５４】
ポリゴンミラー３４１の反射面が反射するレーザビームは、光走査装置３０の複数のミラーやレンズによりその径が調整される途中段階であり、レーザビームの照射位置（ＣＣＤ４４３上）に照射されるレーザビームと比較して径が非常に大きい。そのため、ポリゴンミラー３４１のレーザビーム反射位置（反射面）において、レーザビームの位置調整を行うことで、レーザビームの照射位置の調整を高精度かつ容易に行うことができる。また、このように調整精度を高くできるので、全発光素子に光ビームを出射させる必要がなく、従来の方法と比較して、調整を効率良く行うことができる。
【００５５】
続いて、制御部５３０は、位置調整部４６０のＸステージ４６６を駆動して、ＬＤホルダ３１２を移動させることで、測定部４９０により測定しながら、レーザビームのＸ方向の反射位置を予め設定した位置に調整する。また、制御部５３０は、位置調整部４６０のＹステージ４６４を駆動して、ＬＤホルダ３１２を移動させることで、測定部４９０により測定しながら、レーザビームのＹ方向の反射位置を予め設定した位置に調整する。
【００５６】
制御部５３０は、ＣＣＤ４４３上において、照射位置調整工程（Ｓ６）とピント調整工程（Ｓ７）を行う。制御部５３０は、ビーム制御部４７０に、レーザダイオード３１０Ｋの１つのレーザ素子３１１Ａにレーザビームを出射させる。そして、制御部５３０は、ＣＣＤ４４３で光走査装置３０が出射するレーザビームを撮影する。制御部５３０は、位置調整部４６０のＸステージ４６６、Ｙステージ４６４を駆動して、ＬＤホルダ３１２を移動させることで、測定部４９０により測定しながら、レーザビームの照射位置を予め設定された位置に調整する。
【００５７】
続いて、制御部５３０は、位置調整部４６０のＺステージ４６５を駆動して、ＬＤホルダ３１２をレーザビームの光軸方向、すなわちＺ方向に移動させることで、測定部４９０により測定しながら、レーザビームの径を予め設定したサイズに調整する。
【００５８】
制御部５３０は、ピッチ調整工程を行う（Ｓ８）。制御部５３０は、ＣＣＤ４４３で光走査装置３０が出射するレーザビームの撮影を開始する。そして、制御部５３０は、ビーム制御部４７０に、レーザダイオード３１０Ｋの２つのレーザ素子３１１Ａとレーザ素子３１１Ｄにレーザビームを出射させる。このとき、ビーム制御部４７０は、図１５に示すように、２つのレーザ素子３１１Ａとレーザ素子３１１Ｄが同時に点灯しないように、交互に点灯／消灯を繰り返させる。制御部５３０は、位置調整部４６０の回動ステージ４６３を駆動して、ＬＤホルダ３１２を出射面３１１Ｍ上で回動させることで、測定部４９０により測定しながら、レーザビームの走査方向と直交する方向における間隔を予め設定された値に調整する。
【００５９】
光走査装置３０により解像度１２００ｄｐｉの画像を形成するときには、図５（Ｂ）に示したように、レーザビームの走査方向と直交する方向（副走査方向）において、各レーザビームの間隔Ｐ１を２１．２μｍ（＝２．５４／１２００）にする必要がある。また、画像の解像度が２４００ｄｐｉのときには、各レーザビームの間隔Ｐ１を１０．６μｍ（＝２．５４／２４００）にする必要がある。このように、画像の解像度が高いと、間隔Ｐ１は非常に狭いので、調整精度を上げるには限界がある。また、調整精度を上げるために高性能の測定装置を用いると、コストが上昇する。そこで、本発明では、隣り合わない２つのレーザ素子からそれぞれレーザビームを出射させ、これらの間隔を調整する。
【００６０】
隣り合わない２つのレーザ素子としては、例えば、図５（Ａ）に示したレーザダイオード３１０の第１番目のレーザ素子３１１Ａと第３番目のレーザ素子３１１Ｃ、両端のレーザ素子３１１Ａと３１１Ｄから、それぞれレーザビームを出射させる。
【００６１】
図５（Ｂ）に示したように、光走査装置３０により解像度１２００ｄｐｉの画像を形成する場合、レーザ素子３１１Ａとレーザ素子３１１Ｃが出射するレーザビームの間隔Ｐ２＝２×Ｐ１＝４２．４（μｍ）である。また、レーザ素子３１１Ａとレーザ素子３１１Ｄが出射するレーザビームの間隔Ｐ３＝３×Ｐ１＝６３．６（μｍ）である。また、光走査装置３０により解像度２４００ｄｐｉの画像を形成する場合、間隔Ｐ２＝２１．２（μｍ）、間隔Ｐ３＝３１．８（μｍ）である。このように、隣り合わない２つのレーザ素子からレーザビームを出射することで、隣り合う２つのレーザ素子からレーザビームを出射する場合と比較して、２つのレーザビームの走査方向と直交する方向の間隔を大きくできる。これにより、この２つのレーザビームについて上記間隔の調整を容易に行うことができる。また、レーザダイオード３１０の複数のレーザ素子は一定間隔で配置されているので、結果的に、隣り合う２つのレーザ素子に出射させるレーザビームの上記間隔が非常に狭い場合でも、各レーザ素子の上記間隔の調整精度を高くできる。また、このように高精度に調整できるので、高性能の測定装置を用いる必要がなく、コストの上昇を防止できる。  また、本発明では、前記のように、光走査装置３０は、レーザビームを走査することなく、固定ミラー部４３５により固定したポリゴンミラー３４１によりレーザビームを反射させる。そのため、ジッタの影響を受けることがなく、従来の調整方法のように、各レーザビームの間隔を測定し、平均値を算出する必要がない。すなわち、レーザダイオードの全レーザ素子からレーザビームを出射させる必要がなく、隣り合わない２つのレーザ素子からレーザビームを出射させればよい。したがって、調整効率を良くすることができる。
【００６２】
なお、レーザビームを出射させる隣り合わない２つのレーザ素子としては、できるだけ離れたものを選択することで、調整精度をより高くできる。例えば、図５（Ａ）に示したレーザダイオード３１０の場合、レーザ素子３１１Ａとレーザ素子３１１Ｄにレーザビームを出射させることで、調整精度を最も高くできる。
【００６３】
レーザビームの走査方向と直交する方向における間隔を調整するときには、制御部５３０は、レーザ素子を点灯する毎に、ＣＣＤ４４３における光ビームの照射位置を測定部４９０測定する。制御部５３０は、これを複数回（例えば、５回）繰り返し、測定結果の平均値をレーザビームの照射位置とする。
【００６４】
光走査装置３０の調整時に、例えば、周囲の製造装置などの振動の影響を受けて、調整装置４００や光走査装置３０が振動したために、図１６（Ａ）〜（Ｅ）に示すように、光ビームの照射位置が毎回異なると、調整精度が低下するおそれがある。しかし、このような場合には、上記のようにレーザビームの照射位置の平均値を求めることで、調整精度の低下を防止できる。
【００６５】
制御部５３０は、調整が完了すると、紫外線照射部４８０を制御して、ステップＳ３で塗布した紫外線硬化樹脂に対して紫外線を予め設定した一定時間照射させ、紫外線硬化樹脂を硬化させる（Ｓ９）。なお、前述のように、事前処理時に、ＬＤホルダ３１２の回動量がわずかとなる角度で、ＬＤホルダ３１２を孔部４０２に挿入している。そのため、ＬＤホルダ３１２の位置調整前に紫外線硬化樹脂を塗布し、位置調整後に紫外線硬化樹脂を硬化させても、ＬＤホルダ３１２を孔部４０２に問題なく接着固定することができる。
【００６６】
制御部５３０は、紫外線の照射が完了すると、位置調整部４６０のアーム４６２Ａ〜４６２Ｃによるツマミ４６１の保持を解除して、ツマミ４６１を離す（Ｓ１０）。
【００６７】
制御部５３０は、４つのＬＤホルダ３１２の調整が完了していなければ（Ｓ１１：Ｎ）、位置調整するＬＤホルダ３１２を変更する（Ｓ１２）。制御部５３０は、ＬＤホルダ３１２Ｋ、３１２Ｃ、３１２Ｍ、３１２Ｙの順に、ステップＳ３〜ステップＳ１２の処理を繰り返し行う。
【００６８】
制御部５３０は、４つのＬＤホルダ３１２の位置調整が完了したら（Ｓ１１：Ｙ）、ミラー固定部４３０の上下移動機構４３４を駆動して、当接板４３１を上昇させて、ポリゴンミラー３４１の固定を解除して（Ｓ１３）、調整処理を終了する。
【００６９】
ユーザは、調整装置４００による調整が完了したら、各ＬＤホルダ３１２に接続しているツマミ４６１を取り外す。また、不図示の複数のクランプ（押さえ具）をゆるめて、固定していた光走査装置３０を基台４１０上から取り外す。
【００７０】
以上のように調整装置４００を用いることで、光走査装置３０を高精度かつ効率良く調整できる。
【００７１】
以上の説明では、ツマミ４６１を各ＬＤホルダ３１２に取り付ける例を示したが、ＬＤホルダ３１２の位置調整が完了する毎に、ツマミ４６１を付け替えるようにすることも可能である。
【００７２】
また、以上の説明では、ポリゴンミラー３４１をミラー固定部により固定する場合を説明したが、これに限らず、ポリゴンユニット３４０にポリゴンミラー３４１の反射面が所定の角度を向いて停止させる回路や電磁石を設けた構成とすることも可能である。
【００７３】
また、光走査装置３０の調整時には、図１７に示すように、ポリゴンミラー３４１に代えて、所定の角度に固定された固定ミラー４３６を備えた固定ミラー部４３５により、レーザビームを反射する構成とすることも可能である。この場合、光走査装置３０にポリゴンユニット３４０を取り付ける前に、固定ミラー部４３５を取り付けるように構成する。または、調整装置の基台上に、ポリゴンユニット３４０を取り付けていない光走査装置３０を置くときに、固定ミラー部４３５がポリゴンユニット３４０の代わりに位置するように、固定ミラー部４３５を調整装置４００の基台４１０上に予め設けておく。
【００７４】
このように構成しても、光走査装置３０が照射するレーザビームの照射位置や径を、高精度かつ効率良く調整できる。
【００７５】
なお、図１０に示したステップＳ４のピント調整工程においては、レーザダイオード３１０Ｋの４つのレーザ素子３１１Ａ〜３１１Ｄに順番にレーザビームを出射させて、ビーム径の調整を行うことも可能である。これにより、各レーザ素子の径がばらつく場合に、不具合の発生を防止できる。
【符号の説明】
【００７６】
３０…光走査装置  ５１…感光体ドラム  １００…カラーデジタル複合機  １４０…画像形成部  ３１０…レーザダイオード  ３１１…レーザ素子  ３１１Ｍ…出射面  ３１２…ＬＤホルダ  ３１３…切り欠き  ３４０…ポリゴンユニット  ３４０…走査部  ３４１…ポリゴンミラー  ４００…調整装置  ４０２…孔部  ４１０…基台  ４２０，４２１…支持ブロック  ４３０…ミラー固定部  ４３１…ミラー当接板  ４３２…回動機構  ４３３…アーム  ４３４…上下移動機構  ４３５…固定ミラー部  ４３６…固定ミラー  ４４０…撮像部  ４４１…カメラ  ４４３…ＣＣＤ  ４５０…移動機構部  ４６０…位置調整部  ４６１…ツマミ  ４６１Ｔ…突起  ４６２Ａ…アーム  ４７０…ビーム制御部  ４８０…紫外線照射部  ４９０…測定部  ５００…表示部  ５１０…操作部  ５３０…制御部
【図１】
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【図２】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図３】
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【図８】
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【図１３】
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【図１７】
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