(57)【要約】【課題】周辺領域に形成された配線で反射する光の迷光を減らすことを目的とする。【解決手段】表示装置は、光の透過及び遮蔽を制御して画像を表示するための表示パネル１０と、表示パネル１０に重ねられて光を供給するためのバックライト１２と、を有する。表示パネル１０は、画像が表示される表示領域２６及び表示領域２６の外側の周辺領域２８を含む基板１６を有する。基板１６は、バックライト１２側を向く下面及びバックライト１２とは反対側を向く上面を有する。基板１６の上面には、周辺領域２８に配線３０が形成されている。配線３０の基板１６側を向く面の少なくとも一部は、基板１６の下面に対する法線から基板１６の外側の方向に斜めに傾いている。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光の透過及び遮蔽を制御して画像を表示するための表示パネルと、
前記表示パネルに重ねられて前記光を供給するためのバックライトと、
を有し、
前記表示パネルは、前記画像が表示される表示領域及び前記表示領域の外側の周辺領域を含む基板を有し、
前記基板は、前記バックライト側を向く下面及び前記バックライトとは反対側を向く上面を有し、
前記基板の前記上面には、前記周辺領域に配線が形成され、
前記配線の前記基板側を向く面の少なくとも一部は、前記基板の前記下面に対する法線から前記基板の外側の方向に斜めに傾いていることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載された表示装置において、
前記配線は、開口を有し、
前記配線の前記開口の端から延びる部分が、前記基板の前記下面に対する前記法線から前記基板の外側の方向に斜めに傾いていることを特徴とする表示装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載された表示装置において、
前記基板の前記上面には、前記配線の下に、光透過性層が形成され、
前記光透過性層は、前記基板の前記上面に対する法線から前記基板の内側の方向に斜めに傾いた傾斜面を有し、
前記配線の前記基板側を向く前記面の一部が、前記傾斜面の上に配置されていることを特徴とする表示装置。
【請求項４】
請求項３に記載された表示装置において、
前記光透過性層の端部に、前記傾斜面が形成されていることを特徴とする表示装置。
【請求項５】
請求項３に記載された表示装置において、
前記光透過性層は、開口を有し、
前記光透過性層の前記開口の端から延びる部分に、前記傾斜面が形成されていることを特徴とする表示装置。
【請求項６】
請求項３から５のいずれか１項に記載された表示装置において、
前記光透過性層の下に少なくとも一部が位置する下層配線をさらに有することを特徴とする表示装置。
【請求項７】
請求項６に記載された表示装置において、
前記下層配線の一部は、前記配線の下に重なって電気的に接続されていることを特徴とする表示装置。
【請求項８】
請求項３から５のいずれか１項に記載された表示装置において、
前記基板の前記上面には、前記光透過性層の下に、光透過性の下地層が形成され、
前記下地層の上に、前記配線の一部及び前記光透過性層が形成されていることを特徴とする表示装置。
【請求項９】
請求項８に記載された表示装置において、
前記下地層の下に形成された下層配線をさらに有することを特徴とする表示装置。
【請求項１０】
請求項９に記載された表示装置において、
前記配線及び前記下層配線は、オーバーラップしないように配置されていることを特徴とする表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
バックライトを備える表示装置では、表示パネルへの迷光の対策が課題になっている。例えば、特許文献１には、表示パネルの表示領域での迷光によるトランジスタ特性の劣化を防止する方法が開示されている。しかしながら、特許文献１では、表示領域の外側の周辺領域での対策は考慮されていない。周辺領域には、金属からなる配線が形成されており、表示パネルの裏面側で配線に反射した光の一部は、バックライト側のガラス基板の内部を進行することが知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平８−５０３１０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
周辺領域にはブラックマトリクスが形成されているので、配線に開口を形成し、開口を通して光をブラックマトリクスに吸収させることで、配線で反射する光を減らすことが考えられる。しかし、その場合、ブラックマトリクスの遮光が十分でないと、ブラックマトリクスを光が透過することがある。
【０００５】
本発明は、周辺領域に形成された配線で反射する光の迷光を減らすことを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
（１）本発明に係る表示装置は、光の透過及び遮蔽を制御して画像を表示するための表示パネルと、前記表示パネルに重ねられて前記光を供給するためのバックライトと、を有し、前記表示パネルは、前記画像が表示される表示領域及び前記表示領域の外側の周辺領域を含む基板を有し、前記基板は、前記バックライト側を向く下面及び前記バックライトとは反対側を向く上面を有し、前記基板の前記上面には、前記周辺領域に配線が形成され、前記配線の前記基板側を向く面の少なくとも一部は、前記基板の前記下面に対する法線から前記基板の外側の方向に斜めに傾いていることを特徴とする。本発明によれば、バックライトからの光は、配線の基板側を向く面で反射して斜め外方向に進行するので、基板の内部に侵入しないようになっている。したがって、周辺領域に形成された配線で反射する光の迷光を減らすことができる。
【０００７】
（２）（１）に記載された表示装置において前記配線は、開口を有し、前記配線の前記開口の端から延びる部分が、前記基板の前記下面に対する前記法線から前記基板の外側の方向に斜めに傾いていることを特徴としてもよい。
【０００８】
（３）（１）又は（２）に記載された表示装置において、前記基板の前記上面には、前記配線の下に、光透過性層が形成され、前記光透過性層は、前記基板の前記上面に対する法線から前記基板の内側の方向に斜めに傾いた傾斜面を有し、前記配線の前記基板側を向く前記面の一部が、前記傾斜面の上に配置されていることを特徴としてもよい。
【０００９】
（４）（３）に記載された表示装置において、前記光透過性層の端部に、前記傾斜面が形成されていることを特徴としてもよい。
【００１０】
（５）（３）に記載された表示装置において、前記光透過性層は、開口を有し、前記光透過性層の前記開口の端から延びる部分に、前記傾斜面が形成されていることを特徴としてもよい。
【００１１】
（６）（３）から（５）のいずれか１項に記載された表示装置において、前記光透過性層の下に少なくとも一部が位置する下層配線をさらに有することを特徴としてもよい。
【００１２】
（７）（６）に記載された表示装置において、前記下層配線の一部は、前記配線の下に重なって電気的に接続されていることを特徴としてもよい。
【００１３】
（８）（３）から（５）のいずれか１項に記載された表示装置において、前記基板の前記上面には、前記光透過性層の下に、光透過性の下地層が形成され、前記下地層の上に、前記配線の一部及び前記光透過性層が形成されていることを特徴としてもよい。
【００１４】
（９）（８）に記載された表示装置において、前記下地層の下に形成された下層配線をさらに有することを特徴としてもよい。
【００１５】
（１０）（９）に記載された表示装置において、前記配線及び前記下層配線は、オーバーラップしないように配置されていることを特徴としてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の実施形態に係る表示装置を示す平面図である。
【図２】図１に示す表示装置のII−II線断面図である。
【図３】配線を拡大して示す平面図である。
【図４】配線を拡大して示す断面図である。
【図５】本発明の実施形態の変形例１に係る配線を示す平面図である。
【図６】本発明の実施形態の変形例１に係る配線を示す断面図である。
【図７】本発明の実施形態の変形例２に係る配線を示す断面図である。
【図８】本発明の実施形態の変形例３に係る配線を示す断面図である。
【図９】本発明の実施形態の変形例４に係る配線を示す平面図である。
【図１０】本発明の実施形態の変形例４に係る配線を示す断面図である。
【図１１】本発明の実施形態の変形例５に係る表示装置を示す平面図である。
【図１２】本発明の実施形態の変形例５に係る配線を示す平面図である。
【図１３】本発明の実施形態の変形例５に係る配線を示す断面図である。
【図１４】本発明の実施形態の変形例６に係る配線を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。本実施形態に係る表示装置は液晶表示装置であるが、それ以外の有機エレクトロルミネッセンス装置などの表示装置にも本発明は適用可能である。
【００１８】
図１は、本発明の実施形態に係る表示装置を示す平面図である。図２は、図１に示す表示装置のII−II線断面図である。表示装置は、表示パネル１０を有する。また、表示装置は、図２に示すように、表示パネル１０に重ねられて光を供給するためのバックライト１２を有する。表示パネル１０は、バックライト１２からの光の透過及び遮蔽を制御して画像を表示するようになっている。
【００１９】
表示パネル１０は、相互に対向する一対の基板１４，１６を有する。一対の基板１４，１６は、ガラスなどの透明な材料からなる。本実施形態では、表示パネル１０は、液晶表示パネルであって、一対の基板１４，１６の間で、シール１８によって図示しない液晶材料が封止されている。シール１８は光透過性（例えば透明）の材料からなる。液晶の駆動方式は、本実施形態ではＩＰＳ（In Plane Switching）方式であるが、これに限定されるものではなく、ＴＮ（Twisted Nematic）方式又はＶＡ（Vertical Alignment）方式などいずれの方式であってもよく、方式に応じた電極及び配線が形成される。あるいは、表示パネル１０は、有機ＥＬ（Electro Luminescence）パネルであってもよい。基板１４は、カラーフィルタ基板であり、図示しないカラーフィルタ及び図２に示すようにブラックマトリクス２０が形成されている。
【００２０】
基板１６は、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）基板である。基板１６の基板１４を向く面には、図示しない薄膜トランジスタ、配線及び電極が形成されている。基板１６の端部は、図２に示すように、基板１４の端部から突出しており、外部との電気的接続のために図示しない電極が露出するようになっている。
【００２１】
一対の基板１４，１６の相互に反対側の面には、図２に示すように、偏光板２２，２４がそれぞれ貼り付けられている。基板１６に貼り付けられた偏光板２４は、基板１４に貼り付けられた偏光板２２よりも小さい。したがって、偏光板２４から露出した基板１６の端部には、バックライト１２からの光Ｌが入射する。
【００２２】
基板１６は、図１に示すように、画像が表示される表示領域２６及び表示領域２６の外側の周辺領域２８を含む。基板１６の周辺領域２８は、偏光板２４から露出するようになっており、光Ｌが入射しやすい。
【００２３】
基板１６は、図２に示すように、バックライト１２側を向く下面及びバックライト１２とは反対側を向く上面を有する。基板１６の上面には、周辺領域２８に配線３０が形成されている。本実施形態では、配線３０は、静電気対策のために表示領域２６を囲むように配置されてＧＮＤに接続されている。図２の例では、配線３０と重なるようにシール１８が配置されているが、両者は重ならない構成であってもよい。例えば、シール１８よりも基板１６の外側に配線３０を配置してもよい。
【００２４】
図３は、配線３０を拡大して示す平面図である。図４は、配線３０を拡大して示す断面図である。基板１６の上面には、光透過性の下地層３２が形成されている。下地層３２は、例えば、ＳｉＮからなる。下地層３２は、図示しない薄膜トランジスタのゲート絶縁膜を形成するときに同時に形成してもよい。
【００２５】
下地層３２の上に光透過性層３４が形成されている。光透過性層３４は、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）からなる。ＩＴＯは光の反射が金属よりも少ない。ＩＰＳ（In Plane Switching）方式の液晶表示パネルでは、共通電極及び画素電極の一方を形成するときに、同時に光透過性層３４を形成することができる。光透過性層３４は、基板１６の上面に対する法線から基板１６の内側の方向に斜めに傾いた傾斜面３６を有する。光透過性層３４の端部に、傾斜面３６が形成されている。
【００２６】
光透過性層３４の上に載る部分を有するように配線３０が形成されている。配線３０の一部は、下地層３２の上にも載る。配線３０は金属（例えばクロム）からなり、光Ｌを反射するようになっている。配線３０は、図示しない薄膜トランジスタのドレイン電極及びソース電極を形成するときに、これらと同時に形成してもよい。配線３０の基板１６側を向く面の一部が、光透過性層３４の傾斜面３６の上に配置されている。
【００２７】
配線３０の少なくとも一部は、図２に示すように、基板１６の偏光板２４から露出した端部に配置されている。したがって、基板１６に光Ｌが入射し、入射した光Ｌが配線３０で反射する。配線３０で反射した光Ｌは、基板１６と偏光板２４の界面で反射して基板１６内に戻り、基板１６内を伝搬して行く。ただし、配線３０は、図３及び図４に示すように、開口３５を有する。開口３５を光が通ることで、配線３０で反射する光を減少させている。
【００２８】
図４に示すように、配線３０の開口３５の端から延びる部分が、基板１６の下面に対する法線から基板１６の外側の方向に斜めに傾いている。配線３０の基板１６側を向く面の少なくとも一部は、基板１６の下面に対する法線から基板１６の外側の方向に斜めに傾いている。配線３０及び光透過性層３４を覆うように、下地層３２の上にパッシベーション層３８が形成されている。
【００２９】
本実施形態によれば、図４に示すように、バックライト１２からの光Ｌは、配線３０の基板１６側を向く面で反射して斜め外方向に進行するので、基板１６の内部に侵入しないようになっている。したがって、周辺領域２８に形成された配線３０で反射する光の迷光を減らすことができる。
【００３０】
図５は、本発明の実施形態の変形例１に係る配線を示す平面図である。図６は、本発明の実施形態の変形例１に係る配線を示す断面図である。
【００３１】
この例では、上記実施形態の下地層３２から光透過性層１３４を形成している。したがって、光透過性層１３４は、上記実施形態の下地層３２について説明した材料からなる。図６に示す光透過性層１３４は、図４に示す光透過性層３４よりも厚く形成されているため、配線１３０の斜めに傾く部分の面積が大きくなっている。光透過性層１３４は、開口１３７を有する。開口１３７で基板１１６が露出している。光透過性層１３４の開口１３７の端から延びる部分に、傾斜面１３６が形成されている。
【００３２】
その他の構成は、上記実施形態で説明した内容が該当する。例えば、配線１３０は、開口１３５を有する。配線１３０の開口１３５の端から延びる部分が、基板１１６の下面に対する法線から基板１１６の外側の方向に斜めに傾いている。基板１１６の上面には、配線１３０の下に、光透過性層１３４が形成されている。光透過性層１３４は、基板１１６の上面に対する法線から基板１１６の内側の方向に斜めに傾いた傾斜面１３６を有する。配線１３０の基板１１６側を向く面の一部が、傾斜面１３６の上に配置されている。
【００３３】
図７は、本発明の実施形態の変形例２に係る配線を示す断面図である。この例では、配線２３０は、光透過性層２３４の傾斜面２３６に沿って斜めに傾いた傾斜部２４４の他に、光透過性層２３４の上に配置された第１平坦部２４０及び第２平坦部２４２を有する。第１平坦部２４０及び第２平坦部２４２は、いずれも、光透過性層２３４の表面に沿って形成されており、基板２１６の上面に平行な裏面２４６を有する。第１平坦部２４０は、傾斜部２４４と連続的かつ一体的に形成されている。第２平坦部２４２は、傾斜部２４４及び第１平坦部２４０から間隔をあけるように形成されている。
【００３４】
図８は、本発明の実施形態の変形例３に係る配線を示す断面図である。この例では、光透過性層３３４の下に少なくとも一部が配置されるように、下層配線３４８が設けられている。下層配線３４８の他の一部は、配線３３０の下に重なって電気的に接続されている。したがって、下層配線３４８及び配線３３０によって、立体的な配線が構成されている。
【００３５】
図９は、本発明の実施形態の変形例４に係る配線を示す平面図である。図１０は、本発明の実施形態の変形例４に係る配線を示す断面図である。この例では、配線４３０に開口が形成されていない。光透過性層４３４は傾斜面４３６を有するように形成されており、配線４３０の一部は、傾斜面４３６の上に配置されている。
【００３６】
図１１は、本発明の実施形態の変形例５に係る表示装置を示す平面図である。この例では、周辺領域５２８に複数の配線５３０が形成されている。配線５３０は、表示領域５２６に接続される走査線（ゲート配線）である。図１２は、本発明の実施形態の変形例５に係る配線５３０を示す平面図である。図１３は、本発明の実施形態の変形例５に係る配線５３０を示す断面図である。
【００３７】
この例では、下地層５３２の下に下層配線５４８が形成されている。そして、配線５３０及び下層配線５４８は、オーバーラップしないように配置されている。なお、下層配線５４８は、光透過性層５３４にもオーバーラップしないように配置されている。配線５３０と下層配線５４８は、下地層５３２を介して絶縁されていてもよいし、図示しない位置で電気的に接続されていてもよい。
【００３８】
図１４は、本発明の実施形態の変形例６に係る配線を示す断面図である。この例では、光透過性層６３４は傾斜面６３６を有している。傾斜面６３６を内側面として、光透過性層６３４の表面には凹部６５０が形成される。凹部６５０は光透過性層６３４を貫通しないので、基板６１６が光透過性層６３４によって覆われている。そして、光透過性層６３４の下に下層配線６４８が形成されている。配線６３０及び下層配線６４８は、オーバーラップしないように配置されている。配線６３０と下層配線６４８は、光透過性層６３４を介して絶縁されていてもよいし、図示しない位置で電気的に接続されていてもよい。
【００３９】
本発明は、上述した実施の形態に限定されるものではなく種々の変形が可能である。例えば、実施の形態で説明した構成は、実質的に同一の構成、同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成で置き換えることができる。
【符号の説明】
【００４０】
１０  表示パネル、１２  バックライト、１４  基板、１６  基板、１８  シール、２０  ブラックマトリクス、２２  偏光板、２４  偏光板、２６  表示領域、２８  周辺領域、３０  配線、３２  下地層、３４  光透過性層、３５  開口、３６  傾斜面、３８  パッシベーション層、１１６  基板、１３０  配線、１３４  光透過性層、１３５  開口、１３６  傾斜面、１３７  開口、２１６  基板、２３０  配線、２３４  光透過性層、２３６  傾斜面、２４０  第１平坦部、２４２  第２平坦部、２４４  傾斜部、２４６  裏面、３３０  配線、３３４  光透過性層、３４８  下層配線、４３０  配線、４３４  光透過性層、４３６  傾斜面、５２６  表示領域、５２８  周辺領域、５３０  配線、５３２  下地層、５３４  光透過性層、５４８  下層配線、６１６  基板、６３０  配線、６３４  光透過性層、６３６  傾斜面、６４８  下層配線、６５０  凹部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
2013088511.tif 000011
【図１０】
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【図１１】
2013088511.tif 000013
【図１２】
2013088511.tif 000014
【図１３】
2013088511.tif 000015
【図１４】
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