(57)【要約】【課題】被加工体を透過するレーザ光を処理することができるレーザ光の処理装置を提供する。【解決手段】本発明に一形態におけるレーザ光の処理装置は、レーザ光１を用いてガラス２の被加工体を加工する際に、被加工体を透過するレーザ光の処理装置において、被加工体を透過するレーザ光１を吸収する吸収部材２０を備える。このとき、被加工体と吸収部材２０との間の高さ位置に、被加工体を透過するレーザ光１の被加工体への再入射を遮蔽する遮蔽部材４０を備えることが好ましい。【選択図】図１
2013049066.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ光を用いてガラスの被加工体を加工する際に、前記被加工体を透過するレーザ光の処理装置において、
前記被加工体を透過するレーザ光を吸収する吸収部材を備えるレーザ光の処理装置。
【請求項２】
前記被加工体と前記吸収部材との間の高さ位置に、前記被加工体を透過するレーザ光の前記被加工体への再入射を遮蔽する遮蔽部材を備える請求項１に記載のレーザ光の処理装置。
【請求項３】
前記吸収部材は、前記被加工体を透過するレーザ光の入射方向に対して傾斜して配置されており、前記被加工体を透過するレーザ光を前記遮蔽部材に導く請求項２に記載のレーザ光の処理装置。
【請求項４】
前記レーザ光を前記被加工体に対して斜めから入射させ、前記被加工体を透過するレーザ光を前記吸収部材で反射させて、前記遮蔽部材に導く請求項２に記載のレーザ光の処理装置。
【請求項５】
前記被加工体を透過するレーザ光を前記吸収部材に導く反射部材を備え、
前記吸収部材は、前記被加工体と前記反射部材との間の高さ位置に配置される請求項１に記載のレーザ光の処理装置。
【請求項６】
前記吸収部材の冷却手段を備える請求項１〜５のいずれか一項に記載のレーザ光の処理装置。
【請求項７】
前記吸収部材は、カーボンプレートを含む請求項１〜６のいずれか一項に記載のレーザ光の処理装置。
【請求項８】
前記吸収部材は、前記レーザ光を吸収する液体であって、容器内に収容される請求項１に記載のレーザ光の処理装置。
【請求項９】
前記容器は、前記被加工体を透過するレーザ光が入射する開口部を有し、前記開口部から入射した前記レーザ光を内部で反射させて前記液体に吸収させる請求項８に記載のレーザ光の処理装置。
【請求項１０】
前記開口部は前記レーザ光を透過する部材で覆われており、前記容器が密閉される請求項９に記載のレーザ光の処理装置。
【請求項１１】
前記液体を循環させ濾過する循環手段を備える請求項８〜１０のいずれか一項に記載のレーザ光の処理装置。
【請求項１２】
レーザ光を用いてガラスの被加工体を加工する際に、前記被加工体を透過するレーザ光の処理装置において、
前記被加工体を透過するレーザ光を散乱させる散乱部材を備えるレーザ光の処理装置。
【請求項１３】
前記被加工体と前記散乱部材との間の高さ位置に、前記被加工体を透過するレーザ光の前記被加工体への再入射を遮蔽する遮蔽部材を備える請求項１２に記載のレーザ光の処理装置。
【請求項１４】
前記被加工体を透過するレーザ光を前記散乱部材に導く反射部材を備え、
前記散乱部材は、前記被加工体と前記反射部材との間の高さ位置に配置される請求項１２に記載のレーザ光の処理装置。
【請求項１５】
前記散乱部材の冷却手段を備える請求項１２〜１４のいずれか一項に記載のレーザ光の処理装置。
【請求項１６】
前記レーザ光の波長は２５０〜５０００ｎｍである請求項１〜１５のいずれか一項に記載のレーザ光の処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はレーザ光の処理装置に関し、特にレーザ光を用いてガラス等の被加工体を加工する際に、当該被加工体を透過するレーザ光の処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、レーザ光を用いて金属やガラス等の被加工体を加工する技術が実施されている（特許文献１）。このとき、金属等の被加工体は、レーザ光を殆ど反射又は吸収するため、レーザ光が被加工体を透過することがない。そのため、レーザ光を用いて金属等の被加工体を加工する際には、当該被加工体を透過するレーザ光の処理について検討する必要がない。
【０００３】
一方、ガラス等のレーザ光を透過する被加工体を、レーザ光を用いて加工する際には、被加工体をレーザ光が透過するため、被加工体を透過するレーザ光を減衰又は吸収等させて処理する必要がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】国際公開第２０１０／１２６９７７号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、被加工体を透過するレーザ光を良好に処理することができる技術は見聞することができない。
本発明の目的は、このような問題を解決するためになされたものであり、被加工体を透過するレーザ光を処理することができるレーザ光の処理装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の第１の形態に係るレーザ光の処理装置は、レーザ光を用いてガラスの被加工体を加工する際に、前記被加工体を透過するレーザ光の処理装置において、前記被加工体を透過するレーザ光を吸収する吸収部材を備える。
【０００７】
本発明の第２の形態に係るレーザ光の処理装置は、前記被加工体と前記吸収部材との間の高さ位置に、前記被加工体を透過するレーザ光の前記被加工体への再入射を遮蔽する遮蔽部材を備える。
【０００８】
本発明の第３の形態に係るレーザ光の処理装置は、前記吸収部材は、前記被加工体を透過するレーザ光の入射方向に対して傾斜して配置されており、前記被加工体を透過するレーザ光を前記遮蔽部材に導く。
【０００９】
本発明の第４の形態に係るレーザ光の処理装置は、前記レーザ光を前記被加工体に対して斜めから入射させ、前記被加工体を透過するレーザ光を前記吸収部材で反射させて、前記遮蔽部材に導く。
【００１０】
本発明の第５の形態に係るレーザ光の処理装置は、前記被加工体を透過するレーザ光を前記吸収部材に導く反射部材を備え、前記吸収部材は、前記被加工体と前記反射部材との間の高さ位置に配置される。
【００１１】
本発明の第６の形態に係るレーザ光の処理装置は、前記吸収部材の冷却手段を備える。
本発明の第７の形態に係るレーザ光の処理装置は、前記吸収部材は、カーボンプレートを含む。
本発明の第８の形態に係るレーザ光の処理装置は、前記吸収部材は、前記レーザ光を吸収する液体であって、容器内に収容される。
【００１２】
本発明の第９の形態に係るレーザ光の処理装置は、前記容器は、前記被加工体を透過するレーザ光が入射する開口部を有し、前記開口部から入射した前記レーザ光を内部で反射させて前記液体に吸収させる。
【００１３】
本発明の第１０の形態に係るレーザ光の処理装置は、前記開口部は前記レーザ光を透過する部材で覆われており、前記容器が密閉される。
本発明の第１１の形態に係るレーザ光の処理装置は、前記液体を循環させ濾過する循環手段を備える。
【００１４】
本発明の第１２の形態に係るレーザ光の処理装置は、レーザ光を用いてガラスの被加工体を加工する際に、前記被加工体を透過するレーザ光の処理装置において、前記被加工体を透過するレーザ光を散乱させる散乱部材を備える。
【００１５】
本発明の第１３の形態に係るレーザ光の処理装置は、前記被加工体と前記散乱部材との間の高さ位置に、前記被加工体を透過するレーザ光の前記被加工体への再入射を遮蔽する遮蔽部材を備える。
【００１６】
本発明の第１４の形態に係るレーザ光の処理装置は、前記被加工体を透過するレーザ光を前記散乱部材に導く反射部材を備え、前記散乱部材は、前記被加工体と前記反射部材との間の高さ位置に配置される。
【００１７】
本発明の第１５の形態に係るレーザ光の処理装置は、前記散乱部材の冷却手段を備える。
上記レーザ光の処理装置において、前記レーザ光の波長は２５０〜５０００ｎｍであること、が好ましい。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、被加工体を透過するレーザ光を処理することができるレーザ光の処理装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の実施の形態１に係るレーザ光の処理装置を概略的に示す図である。
【図２】本発明の実施の形態２に係るレーザ光の処理装置を概略的に示す図である。
【図３】本発明の実施の形態２に係る異なるレーザ光の処理装置を概略的に示す図である。
【図４】本発明の実施の形態２に係る異なるレーザ光の処理装置を概略的に示す図である。
【図５】本発明の実施の形態３に係るレーザ光の処理装置を概略的に示す図である。
【図６】本発明の実施の形態４に係るレーザ光の処理装置を概略的に示す図である。
【図７】水の吸収特性を示す図である。
【図８】本発明の実施の形態５に係るレーザ光の処理装置を概略的に示す図である。
【図９】本発明の実施の形態６に係るレーザ光の処理装置を概略的に示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明を実施するための最良の形態について、添付図面を参照しながら説明する。但し、本発明が以下の実施の形態に限定される訳ではない。また、説明を明確にするため、以下の記載及び図面は、適宜、簡略化されている。なお、以下の実施の形態のレーザ光の処理装置は、ガラス等のレーザ光を透過する被加工部材を、当該レーザ光を用いて加工する際に、被加工体を透過するレーザ光を処理するために好適に用いられる。
【００２１】
実施の形態１
図１は、本実施の形態のレーザ光の処理装置（以下、単に処理装置と省略する場合がある。）１００を概略的に示す図である。処理装置１００は、不図示のレーザ加工装置を格納する筐体１０、吸収部材２０、冷却手段３０を備える。ここで、レーザ加工装置は、一般的なレーザ加工装置と同様の構成とされており、レーザ光出力部、ガラス保持部、制御部等を備える。すなわち、例えば制御部によって出力等が制御されたレーザ光１がレーザ光出力部からガラス保持部に保持されたガラス２に向かって出射される。このとき、ガラス保持部は、制御部によってガラス２の所定の位置にレーザ光１が照射されるように当該ガラス２の面内方向に制御される。これにより、ガラス２はレーザ光１によって所定の位置が加工される。
【００２２】
筐体１０は、上述のようにレーザ光１を用いてガラス２を加工する際に、ガラス２や吸収部材２０等で反射又は散乱するレーザ光１が外部に漏れ出さないように遮蔽する。つまり、筐体１０内にレーザ加工装置及び吸収部材２０が収容されており、筐体１０内が密閉された状態でレーザ光１を用いたガラス２の加工が行われる。
【００２３】
筐体１０は、一般的なレーザ加工装置を覆う筐体と同様に、レーザ光を筐体内面で多重反射させることによって減衰させる。但し、筐体内面にレーザ光１を吸収するカーボンプレート等の吸収部材を配置して、レーザ光１を吸収してもよい。ちなみに、筐体１０は開閉部（図示を省略）を備えており、当該開閉部からガラス２が搬入又は搬出される。
【００２４】
吸収部材２０は、ガラス２を透過するレーザ光１を吸収する。ここで云う吸収部材２０のレーザ光１の吸収は、レーザ光１の全てのエネルギを吸収する場合だけでなく、レーザ光１の一部のエネルギを吸収する場合も含む。
【００２５】
吸収部材２０はレーザ光１の透過方向に配置されている。例えば、吸収部材２０は、ガラス２の切断縁の下方領域、詳細にはガラス板から製品形状のガラスを抜き取るための補助切断線の下方領域やガラス板から製品形状のガラスを抜き取るための切断線の下方領域等に配置される。但し、吸収部材２０は、レーザ光１の透過領域に配置されればよい。
【００２６】
吸収部材２０は、レーザ光１を吸収することができ、且つ熱伝導性に優れた部材であればよい。つまり、吸収部材２０は、一般的に被加工部材を加工する際に用いられる２５０〜５０００ｎｍ程度の波長のレーザ光を吸収することができる部材であることが好ましい。但し、吸収部材２０は、少なくとも８００〜３０００ｎｍ程度の波長のレーザ光を吸収することができる部材であればよい。本実施の形態では、吸収部材２０としてカーボンプレートを用いている。なお、吸収部材２０の厚さ等は、吸収するレーザ光の出力等を考慮して適宜設定される。ここで、吸収部材２０におけるレーザ光１が入射する側の面に凹凸形状を形成し、吸収部材２０で吸収できなかったレーザ光１を散乱させてもよい。
【００２７】
冷却手段３０は、レーザ光１を吸収することで発熱する吸収部材２０を冷却する。冷却手段３０は、吸収部材２０を支持する支持部３１、熱交換手段３２を備える。支持部３１におけるガラス２側の面には、吸収部材２０が設けられている。支持部３１の内部には、熱交換手段３２の一構成要素である冷却管３２ａが配置されている。つまり、支持部３１は、吸収部材２０から伝えられる熱を熱交換手段３２の冷却管３２ａに伝える。そのため、支持部３１は、熱伝導性に優れた部材を含むことが好ましい。本実施の形態の支持部３１は銅製である。
【００２８】
熱交換手段３２は、冷却管３２ａ、及び図示を省略した冷却媒体、熱交換器、ポンプ等を備える。つまり、冷却媒体がポンプによって冷却管３２ａ内に送り出され、冷却管３２ａに伝わった熱を吸収しつつ熱交換器に送られる。そして、冷却媒体は熱交換器によって冷却され、再びポンプによって冷却管３２ａ内に送り出される。これにより、冷却手段３０の支持部３１が冷却され、結果として吸収部材２０を良好に冷却することができる。なお、冷却媒体としては、液体、気体を問わず用いることができる。また、冷却管３２ａ内に冷却媒体を循環させることなく、ヒートパイプ等を熱交換手段３２として用いることもできる。
【００２９】
このような処理装置１００は、レーザ光１の透過方向に吸収部材２０を配置したので、ガラス２を透過するレーザ光１を良好に吸収することができる。そのため、レーザ光１がガラス２に再入射することを略防ぐことができ、ガラス２の品質を維持できる。さらに、筐体１０を簡易な構成にすることができる。
【００３０】
しかも、吸収部材２０を冷却手段３０で冷却するので、吸収部材２０の耐久性を向上させることができる。
【００３１】
なお、吸収部材２０でガラス２を透過するレーザ光１を略吸収することができる場合は、筐体１０を省略してもよい。また、冷却手段３０は、吸収部材２０が配置されている全領域に配置してもよく、部分的に（例えば間隔を開けて）配置してもよい。
【００３２】
実施の形態２
図２は、本実施の形態の処理装置１０１を概略的に示す図である。本実施の形態の処理装置１０１は、実施の形態１の処理装置１００と略同様の構成とされているので、重複する説明は省略する。
【００３３】
処理装置１０１は、ガラス２の下面（レーザ光が透過する側の面）へのレーザ光の再入射を略防ぐことができる構成とされている。すなわち、処理装置１０１は、実施の形態１の処理装置１００の構成に加えて、遮蔽部材４０を備える。遮蔽部材４０は、ガラス２の下面と吸収部材２０との間の高さ位置に配置されている。このとき、ガラス２を透過するレーザ光１の吸収部材２０への入射が遮蔽部材４０によって阻害されないように、遮蔽部材４０は、ガラス２を透過するレーザ光１が吸収部材２０に入射する入射経路Ｌ１を避けて配置される。例えば、遮蔽部材４０は少なくともガラス２における製品形状に抜き取られる領域（即ち、ガラス２の加工領域）内であって、且つ当該入射経路Ｌ１を避けた領域に配置される。これにより、吸収部材２０で散乱したレーザ光１がガラス２の加工領域内に再入射することを略防ぐことができる。
【００３４】
遮蔽部材４０は、吸収部材２０で反射するレーザ光１が略透過しない部材であればよい。本実施の形態の遮蔽部材４０は、散乱光に対し十分な強度を持つ金属製の板状部材から成る。ちなみに、遮蔽部材４０におけるレーザ光１が入射する側の面に凹凸形状を形成し、レーザ光１を散乱させるとよい。
【００３５】
このような処理装置１０１は、ガラス２の下面と吸収部材２０との間の高さ位置に遮蔽部材４０を配置したので、吸収部材２０で反射するレーザ光１がガラス２の下面に再入射することを略防ぐことができる。そのため、ガラス２の品質に優れた切断作業が可能となる。
【００３６】
ここで、図３に示すように、吸収部材２０から反射するレーザ光１を確実に遮蔽部材４０に導くことができるように、吸収部材２０を入射経路Ｌ１に対して傾斜させてもよい。例えば、レーザ光１を鉛直方向から照射し、ガラス２を透過したレーザ光１を傾斜した状態で配置した吸収部材２０に入射させ、吸収部材２０で反射するレーザ光１を遮蔽部材４０に導く。これにより、吸収部材２０で反射するレーザ光１を確実に遮蔽部材４０に導くことができ、加工中にガラス２の品質を損なうことがなく、特に吸収部材２０を反射するレーザ光１が、入射経路Ｌ１を辿ってガラス２に再入射することを略防ぐことができる。
【００３７】
このとき、吸収部材２０で反射するレーザ光１がガラス２の加工領域より外方に反射されるように、吸収部材２０を配置すると、吸収部材２０で散乱したレーザ光１がガラス２の加工領域内に再入射することを防ぐことができる。
【００３８】
または、図４に示すように、吸収部材２０から反射するレーザ光１を確実に遮蔽部材４０に導くことができるように、ガラス２に対して斜めからレーザ光１を照射してもよい。例えば、斜めからレーザ光１をガラス２に照射し、ガラス２を透過したレーザ光１を略水平に配置した吸収部材２０に入射させ、吸収部材２０で反射するレーザ光１を遮蔽部材４０に導く。これにより、吸収部材２０で反射するレーザ光１を確実に遮蔽部材４０に導くことができ、加工中にガラス２の品質を損なうことがなく、特に吸収部材２０を反射するレーザ光１が、入射経路Ｌ１を辿ってガラス２に再入射することを略防ぐことができる。
【００３９】
このとき、吸収部材２０で反射するレーザ光１がガラス２の加工領域より外方に反射されるように、レーザ光１のガラス２への照射角度を設定すると、吸収部材２０で散乱したレーザ光１がガラス２の加工領域内に再入射することを防ぐことができる。
【００４０】
実施の形態３
図５は、本実施の形態の処理装置１０２を概略的に示す図である。本実施の形態の処理装置１０２も、実施の形態１の処理装置１００と略同様の構成とされているので、重複する説明は省略する。
【００４１】
処理装置１０２も、ガラス２の下面（レーザ光が透過する側の面）へのレーザ光１の再入射を略防ぐことができる構成とされている。すなわち、処理装置１０２は、ガラス２を透過するレーザ光１を吸収部材２０に導くための反射部材５０を備える。
【００４２】
詳細には、レーザ光１の透過方向に反射部材５０が配置されている。例えば、反射部材５０は、ガラス２の切断縁の下方領域、詳細にはガラス板から製品形状のガラスを抜き取るための補助切断線の下方領域やガラス板から製品形状のガラスを抜き取るための切断線の下方領域等に配置される。このとき、反射部材５０は、ガラス２の加工領域より外方にレーザ光１が反射するように配置することが好ましい。これにより、レーザ光１がガラス２の加工領域内に再入射することを防ぐことができる。
【００４３】
この反射部材５０とガラス２の下面との間の高さ位置に吸収部材２０が配置されている。このとき、ガラス２を透過するレーザ光１の反射部材５０への入射が吸収部材２０によって阻害されないように、吸収部材２０は、ガラス２を透過するレーザ光１が反射部材５０に入射する入射経路Ｌ２を避けて配置される。例えば、吸収部材２０は、平面から見て、切断線の下方領域に断続的に配置される反射部材５０に沿って、当該入射経路Ｌ２を避けてガラス２の加工領域の外方に配置される。このとき、吸収部材２０をガラス２の加工領域内にも配置すると、散乱したレーザ光１がガラス２に再入射することを防ぐことができる。
【００４４】
ここで、反射部材５０は、ガラス２を透過するレーザ光１を良好に吸収部材２０に導くように配置角度・位置が設定される。つまり、ガラス２を透過するレーザ光１の反射部材５０への入射角度及び吸収部材２０の配置位置に応じて、反射部材５０の配置角度・位置を設定すればよい。
【００４５】
このような処理装置１０２は、ガラス２の下面と反射部材５０との間の高さ位置に吸収部材２０を配置し、この吸収部材２０に反射部材５０からガラス２を透過したレーザ光１を導くので、当該レーザ光１を略吸収することができるだけでなく、吸収部材２０が実施の形態２の遮蔽部材の役割を担ってガラス２の下面へのレーザ光の再入射を略防ぐことができる。
【００４６】
実施の形態４
図６は、本実施の形態の処理装置１０３を概略的に示す図である。本実施の形態の説明においても、上述の説明と重複部分については省略する。
【００４７】
本実施の形態では、吸収部材として液体６０がレーザ光１の透過方向に配置されている。詳細には、例えば液体６０として水を採用し、水の遠赤外や赤外光の吸収特性を利用して、ガラス２を透過するレーザ光１を吸収する。液体６０は、容器７０に収容されている。容器７０は、レーザ光１の透過方向に配置されており、液体６０を収容している。容器７０は、上面、側面及び底面を有し、上面に少なくともレーザ光１を入射させることができる幅寸法の開口部７１が形成されている。
【００４８】
ここで、水の吸収特性について、図７を参照しつつ説明する。一般的に吸収特性は、Ｉ＝Ｉ０ｅ−αｘ（Ｉ：吸収後の出射光強度、Ｉ０：入射光強度、ｘ：光通過距離、α：吸収係数）で表すことができ、光の波長が１０００ｎｍ帯域では、図７に示すように吸収係数αが０．１（ｃｍ−１）程度であり、入射強度を１／２程度にするには７０ｎｍの光路長が必要になる。
【００４９】
そこで、本実施の形態では、レーザ光１を容器７０内で多重反射させ、水中での光路長を確保する。そのため、容器７０内での多重反射を促進するために、容器７０の上面、側面及び底面を反射率の高い材質（例えばアルミニウムや銅）で構成することが好ましい。さらにレーザ光１を反射又は散乱させる部材３を容器７０内に配置し、開口部７１から入射したレーザ光１が良好に側面又は上面に反射又は散乱する構成とすることが好ましい。本実施の形態では、当該部材３を容器７０の底部に傾斜させた状態で配置している。但し、容器７０の底面を傾斜させたり、散乱を促すために凹凸形状を形成したりしてもよい。このようにレーザ光１を多重反射させることで、良好に光路長を確保することができ、液体６０でレーザ光１を吸収することができる。なお、本実施の形態では液体６０として水を用いているが、レーザ光を良好に吸収することができる液体であればよく、例えば水に添加材を添加してもよい。また、本実施の形態では、レーザ光１を容器７０内で多重反射させているが、容器７０の深さを十分に確保して、レーザ光１を容器７０内で反射させることなく、液体６０で吸収しても良い。
【００５０】
このような処理装置１０３は、レーザ光１の透過方向に当該レーザ光１を吸収する液体６０を配置したので、ガラス２を透過するレーザ光１を略吸収することができる。しかも、レーザ光１の熱は液体６０で吸収される。
【００５１】
ここで、液体６０はレーザ光１の熱を吸収して、当該液体６０の温度が上昇するので、図示を省略した冷却手段で液体６０を冷却する構成とされていることが好ましい。冷却手段の構成は、特に限定されず、液体６０を冷却することができる構成であれば、公知の冷却手段を用いることができる。
【００５２】
また、液体６０内に不純物が混入して反射率低下、熱伝導率の低下を防止するために、循環手段（図示を省略）によって液体６０を循環させて濾過する構成とされていることが好ましい。
【００５３】
さらに大気の介在により容器７０が腐食しないように、開口部７１がレーザ光を透過する部材で覆われて容器７０が密閉されていることが好ましい。このとき、容器７０内が液体６０で満たされていることが好ましい。
【００５４】
実施の形態５
図８は、本実施の形態の処理装置１０４を概略的に示す図である。本実施の形態の説明においても、上述の説明と重複部分については省略する。
【００５５】
本実施の形態では、レーザ光１の透過方向に吸収部材に代わって、レーザ光１を散乱させる散乱部材８０が配置されている。散乱部材８０は、レーザ光１の透過方向に配置されている。散乱部材８０は、熱伝導性に優れた部材であればよい。本実施の形態の散乱部材８０は銅製である。
【００５６】
ここで、散乱部材８０は、レーザ光１が入射する側の面に凹凸形状が形成され、レーザ光１を良好に散乱させることができる構成とされていることが好ましい。また、散乱部材８０は、レーザ光１が入射することで発熱するので、冷却手段９０を備えていることが好ましい。
【００５７】
冷却手段９０は、実施の形態１の冷却手段３０と略同様の構成とされており、散乱部材８０内に冷却手段９０の一構成要素である冷却管９０ａが配置されている。そして、冷却媒体がポンプによって冷却管９０ａ内に送り出され、冷却管９０ａに伝わった熱を吸収しつつ熱交換器に送られる。そして、冷却媒体は熱交換器によって冷却され、再びポンプによって冷却管９０ａ内に送り出される。これにより、散乱部材８０を良好に冷却することができる。なお、冷却媒体としては、液体、気体を問わず用いることができる。また、冷却管９０ａ内に冷却媒体を循環させることなく、ヒートパイプ等を冷却手段として用いることもできる。
【００５８】
このような処理装置１０４は、レーザ光１の透過方向に散乱部材８０を配置したので、ガラス２を透過するレーザ光１が散乱部材８０によって散乱して筐体１０内で多重反射する。これにより、ガラス２を透過するレーザ光１を減衰させることができる。ここで、散乱部材８０によって散乱するレーザ光１が、ガラス２の下面に再入射しないように、実施の形態２と同様にガラス２の下面と散乱部材８０との間の高さ位置に遮蔽部材４０を配置することが好ましい。
【００５９】
実施の形態６
図９は、本実施の形態の処理装置１０５を概略的に示す図である。本実施の形態の説明においても、上述の説明と重複部分については省略する。
【００６０】
処理装置１０５は、実施の形態３の処理装置１０２と略同様の構成とされているが、吸収部材２０に代わって散乱部材８０が配置されている。
このような処理装置１０５は、ガラス２の下面と反射部材５０との間の高さ位置に散乱部材８０を配置し、この散乱部材８０に反射部材５０からガラス２を透過したレーザ光１を導くので、当該レーザ光１を散乱させて筐体１０内で多重反射させることができるだけでなく、散乱部材８０が実施の形態５の遮蔽部材の役割を担ってガラス２の下面へのレーザ光１の再入射を略防ぐことができる。
【００６１】
このときも、反射部材５０で反射するレーザ光１がガラス２の加工領域内に反射しないように、反射部材５０を配置することが好ましい。
【００６２】
なお、本発明は上記実施の形態に限られたものではなく、趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更することが可能である。例えば、上記実施の形態では、被加工体としてガラスを例示したが、レーザ光を透過する部材であれば、ガラスに限定されない。
【符号の説明】
【００６３】
１  レーザ光
２  ガラス
３  レーザ光を反射又は散乱させる部材
１０  筐体
２０  吸収部材
３０  冷却手段
３１  支持部
３２  熱交換手段
３２ａ  冷却管
４０  遮蔽部材
５０  反射部材
６０  液体
７０  容器
７１  開口部
８０  散乱部材
９０  冷却手段
９０ａ  冷却管
１００  処理装置
１０１  処理装置
１０２  処理装置
１０３  処理装置
１０４  処理装置
１０５  処理装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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