(57)【要約】【課題】水滴滑落性に優れる撥水膜を備えた撥水性基体、及びそのような撥水性基体を用いた輸送機器を提供する。【解決手段】撥水性基体は、基体１とその少なくとも一方の面に形成された撥水膜２を備える。撥水膜２は、第１の撥水性領域１１と、この第１の撥水性領域に接する第２の撥水性領域１２とを含み、第１の撥水性領域１１の水接触角が４０°〜１１０°であり、第２の撥水性領域１２の水接触角が第１の撥水性領域１１の水接触角より２０°以上高い。【選択図】図１
2013133264.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体と、その少なくとも一方の面に形成された撥水膜とを備え、
前記撥水膜は、第１の撥水性領域と、この第１の撥水性領域に接する第２の撥水性領域とを含み、前記第１の撥水性領域の水接触角が４０°〜１１０°であり、前記第２の撥水性領域の水接触角が前記第１の撥水性領域の水接触角より２０°以上高いことを特徴とする撥水性基体。
【請求項２】
前記第１の撥水性領域と前記第２の撥水性領域は、これらの両領域間に跨って付着した水滴が、前記第１の撥水性領域に移動して少なくとも一方向に流動するようなパターン形状に形成されている請求項１に記載の撥水性基体。
【請求項３】
前記撥水膜に前記第１の撥水性領域と前記第２の撥水性領域を水平に横切る共通の直線を引くことができ、この直線が前記第２の撥水性領域によって切断される線分長が１ｍｍ〜５ｍｍである請求項１または２に記載の撥水性基体。
【請求項４】
前記直線が前記第１の撥水性領域によって切断される線分長が１ｍｍ〜５ｍｍである請求項３に記載の撥水性基体。
【請求項５】
前記第１の撥水性領域および前記第２の撥水性領域の合計面積が、撥水性基体全体の５０％以上である請求項１〜４のいずれかに記載の撥水性基体。
【請求項６】
前記第２の撥水性領域は、ストライプ状またはドット状のパターン形状を有し、前記第１の撥水性領域が、前記第２の撥水性領域の間隙を埋めるように形成されている請求項１〜５のいずれかに記載の撥水性基体。
【請求項７】
前記第１の撥水性領域が、帯状の略均一な幅（Ｓ１）の領域が複数、略均一な間隔をおいて平行に並ぶストライプ状のパターン形状を有し、前記第２の撥水性領域が、前記第１の撥水性領域の間隙を埋めるように形成された帯状の略均一な幅（Ｓ２）の領域が複数、略均一な間隔をおいて平行に並ぶストライプ状のパターン形状を有する請求項１〜５のいずれかに記載の撥水性基体。
【請求項８】
前記幅（Ｓ１）が１ｍｍ〜５ｍｍであり、かつ前記幅（Ｓ２）が１ｍｍ〜５ｍｍである請求項７に記載の撥水性基体。
【請求項９】
前記第１の撥水性領域と第２の撥水性領域の面積比が、２：１〜１：２である請求項１〜８のいずれかに記載の撥水性基体。
【請求項１０】
前記第１の撥水性領域は、ポリフルオロアルキル基またはポリフルオロエーテルアルキル基を有する化合物、ハフニウムを含む酸化物、ジルコニウムを含む酸化物、及びアルミニウムを含む酸化物から選ばれる少なくとも１種を含む層からなり、前記第２の撥水性領域は、ポリフルオロアルキル基またはポリフルオロエーテルアルキル基を有する化合物を含む層からなる請求項１〜９のいずれかに記載の撥水性基体。
【請求項１１】
請求項１に記載の撥水性基体を製造する方法であって、
（１）前記基体の少なくとも一方の面の所要部全体に第２の撥水性領域形成用有機材料を塗布し硬化させて硬化膜を形成する工程と、
（２）大気中で、前記硬化膜上に、前記第１の撥水性領域のパターン形状に対応する開口部を有するマスク板を重ね、このマスク板を介して、前記硬化膜表面に紫外線を照射して、照射部の硬化膜をオゾン（Ｏ３）により分解除去する工程と、
（３）前記硬化膜の一部が分解除去された基体の表面の所要部全体に、第１の撥水性領域形成用有機材料を塗布し硬化させる工程と
を順に含むことを特徴とする撥水性基体の製造方法。
【請求項１２】
請求項１に記載の撥水性基体を製造する方法であって、
（１）前記基体の少なくとも一方の面の所要部全体に第２の撥水性領域形成用有機材料を塗布し硬化させて硬化膜を形成する工程と、
（２）大気中で、前記硬化膜上に、前記第１の撥水性領域のパターン形状に対応する開口部を有するマスク板を重ね、このマスク板を介して、前記硬化膜表面に紫外線を照射して、照射部の硬化膜をオゾン（Ｏ３）により部分分解させる工程と
を含むことを特徴とする撥水性基体の製造方法。
【請求項１３】
請求項１に記載の撥水性基体を製造する方法であって、
（１）前記基体の少なくとも一方の面の所要部全体に、無機酸化物ゾルを塗布し乾燥してゲル化させた後、硬化させて無機硬化膜を形成する工程と、
（２）前記無機硬化膜の表面全体に、前記第１または第２の撥水性領域形成用有機材料を塗布し硬化させて有機硬化膜を形成する工程と、
（３）大気中で、前記有機硬化膜上に、前記第１または第２の撥水性領域のパターンに対応する形状の開口部を有するマスク板を重ね、このマスク板を介して、前記有機硬化膜の表面に紫外線を照射して、照射部の硬化膜をオゾン（Ｏ３）により分解除去する工程と
を含むことを特徴とする撥水性基体の製造方法。
【請求項１４】
請求項１〜１０のいずれかに記載の撥水性基体を窓材として用いたことを特徴とする輸送機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、撥水性基体及びその製造方法、並びに輸送機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
自動車等の輸送機器の窓ガラスや車体、建築物の窓や壁、台所設備、入浴設備等、表面の撥水処理が望まれる用途は少なくない。なかでも、自動車の窓ガラスは、降雨時に雨水が付着すると、運転者の視界を遮り運転の支障になることがある。そこで、窓ガラス表面に撥水性を付与し、表面に付着した雨水が容易に流れ落ちるようにすることが行われている。
【０００３】
従来、自動車の窓ガラスに撥水性を付与する方法としては、低分子フッ素化合物、フッ素樹脂、シリコーン等を塗布または化学蒸着することにより、表面に撥水性の薄膜を形成する方法が一般的である。しかしながら、このような方法では、大きな水滴は流れ落ちるものの、小さな水滴は流れ落ちずに留まり、視認性を低下させるという問題があった。このため、撥水性とともに、付着した水滴が速やかに流れ落ちる性質（滑水性）を備えた処理方法が求められている。
【０００４】
滑水性を高める技術としては、例えば、撥水性領域と親水性領域からなる皮膜を設ける方法が提案されている（例えば、特許文献１参照。）。しかしながら、このような皮膜では、親水性領域で水滴が形成されずに水膜が形成され、この水膜によって透視歪が生じるため、視認性は改善されない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１１−５７５２８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、表面に付着した水滴を速やかに滑落させることができるとともに、水膜の形成も抑制することができ、自動車の窓ガラスのような用途に適用した場合に、その視認性を向上させることができる撥水膜を表面に備えた撥水性基体及びその製造方法、さらに、そのような撥水性基体を用いた輸送機器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は上記の課題を解決するためになされたものであり、以下の構成を有する撥水膜及び撥水性基体を提供する。
【０００８】
［１］基体と、その少なくとも一方の面に形成された撥水膜とを備え、前記撥水膜は、第１の撥水性領域と、この第１の撥水性領域に接する第２の撥水性領域とを含み、前記第１の撥水性領域の水接触角が４０°〜１１０°であり、前記第２の撥水性領域の水接触角が前記第１の撥水性領域の水接触角より２０°以上高いことを特徴とする撥水性基体。
【０００９】
［２］前記第１の撥水性領域と前記第２の撥水性領域は、これらの両領域間に跨って付着した水滴が、前記第１の撥水性領域に移動して少なくとも一方向に流動するようなパターン形状に形成されている、［１］に記載の撥水性基体。
【００１０】
［３］前記撥水膜に前記第１の撥水性領域と前記第２の撥水性領域を水平に横切る共通の直線を引くことができ、この直線が前記第２の撥水性領域によって切断される線分長が１ｍｍ〜５ｍｍである、［１］または［２］に記載の撥水性基体。
【００１１】
［４］前記直線が前記第１の撥水性領域によって切断される線分長が１ｍｍ〜５ｍｍである、［３］に記載の撥水性基体。
【００１２】
［５］前記第１の撥水性領域および前記第２の撥水性領域の合計面積が、撥水膜全体の５０％以上である、［１］〜［４］のいずれかに記載の撥水性基体。
【００１３】
［６］前記第２の撥水性領域は、ストライプ状またはドット状のパターン形状を有し、前記第１の撥水性領域が、前記第２の撥水性領域の間隙を埋めるように形成されている、［１］〜［６］のいずれかに記載の撥水性基体。
【００１４】
［７］前記第１の撥水性領域が、帯状の略均一な幅（Ｓ１）の領域が複数、略均一な間隔をおいて平行に並ぶストライプ状のパターン形状を有し、前記第２の撥水性領域が、前記第１の撥水性領域の間隙を埋めるように形成された帯状の略均一な幅（Ｓ２）の領域が複数、略均一な間隔をおいて平行に並ぶストライプ状のパターン形状を有する、［１］〜［６］のいずれかに記載の撥水性基体。
【００１５】
［８］前記幅（Ｓ１）が１ｍｍ〜５ｍｍであり、かつ前記幅（Ｓ２）が１ｍｍ〜５ｍｍである、［７］に記載の撥水性基体。
【００１６】
［９］前記第１の撥水性領域と第２の撥水性領域の面積比が、２：１〜１：２である、［１］〜［８］のいずれかに記載の撥水性基体。
【００１７】
［１０］前記第１の撥水性領域は、ポリフルオロアルキル基またはポリフルオロエーテルアルキル基を有する化合物、ハフニウムを含む酸化物、ジルコニウムを含む酸化物、及びアルミニウムを含む酸化物から選ばれる少なくとも１種を含む層からなり、前記第２の撥水性領域は、ポリフルオロアルキル基またはポリフルオロエーテルアルキル基を有する化合物を含む層からなる、［１］〜［９］のいずれかに記載の撥水性基体。
【００１８】
［１１］請求項１に記載の撥水性基体を製造する方法であって、（１）前記基体の少なくとも一方の面の所要部全体に第２の撥水性領域形成用有機材料を塗布し硬化させて硬化膜を形成する工程と、（２）大気中で、前記硬化膜上に、前記第１の撥水性領域のパターン形状に対応する開口部を有するマスク板を重ね、このマスク板を介して、前記硬化膜表面に紫外線を照射して、照射部の硬化膜をオゾン（Ｏ３）により分解除去する工程と、（３）前記硬化膜の一部が分解除去された基体の表面の所要部全体に、第１の撥水性領域形成用有機材料を塗布し硬化させる工程とを順に含むことを特徴とする撥水性基体の製造方法。
【００１９】
［１２］請求項１に記載の撥水性基体を製造する方法であって、（１）前記基体の少なくとも一方の面の所要部全体に第２の撥水性領域形成用有機材料を塗布し硬化させて硬化膜を形成する工程と、（２）大気中で、前記硬化膜上に、前記第１の撥水性領域のパターン形状に対応する開口部を有するマスク板を重ね、このマスク板を介して、前記硬化膜表面に紫外線を照射して、照射部の硬化膜をオゾン（Ｏ３）により部分分解させる工程とを含むことを特徴とする撥水性基体の製造方法。
【００２０】
［１３］請求項１に記載の撥水性基体を製造する方法であって、（１）前記基体の少なくとも一方の面の所要部全体に、無機酸化物ゾルを塗布し乾燥してゲル化させた後、硬化させて無機硬化膜を形成する工程と、（２）前記無機硬化膜の表面全体に、前記第１または第２の撥水性領域形成用有機材料を塗布し硬化させて有機硬化膜を形成する工程と、（３）大気中で、前記有機硬化膜上に、前記第１または第２の撥水性領域のパターンに対応する形状の開口部を有するマスク板を重ね、このマスク板を介して、前記有機硬化膜の表面に紫外線を照射して、照射部の硬化膜をオゾン（Ｏ３）により分解除去する工程とを含むことを特徴とする撥水性基体の製造方法。
【００２１】
［１４］［１］〜［６］のいずれかに記載の撥水性基体を窓材として用いたことを特徴とする輸送機器。
【発明の効果】
【００２２】
本発明の撥水性基体は、表面に付着した水滴を速やかに滑落させることができるとともに、水膜の形成も抑制することができ、自動車の窓ガラスのような用途に適用した場合に、その視認性を向上させることができる撥水膜を備えることができ、自動車等の輸送機器の窓ガラス等に適用して、その視認性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明の一実施形態の撥水性基体の構成を示す図で、図１（ａ）は上面図、図１（ｂ）はそのＢ−Ｂ線に沿う断面図である。
【図２】図１に示す本発明の一実施形態の撥水性基体の変形例を示す上面図である。
【図３】図１に示す本発明の一実施形態の撥水性基体の製造方法の一例を説明する断面図である。
【図４】本発明の他の実施形態の撥水性基体の構成を示す上面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、本発明の実施形態について説明する。なお、以下では本発明の実施の形態を図面に基づいて説明するが、それらの図面は図解のために提供されるものであり、本発明はそれらの図面に何ら限定されるものではない。
【００２５】
（第１の実施形態）
図１（ａ）は本発明の第１の実施形態による撥水性基体の一部を示す上面図であり、図１（ｂ）はそのＢ−Ｂ線に沿う断面図である。
【００２６】
図１（ａ）及び図１（ｂ）に示すように、本実施形態の撥水性基体は、基体１と、その表面に形成された撥水膜２とを備える。
【００２７】
撥水膜２の表面には、第１の撥水性領域１１と、第１の撥水性領域１１よりも撥水性の高い、つまり水接触角が大きい第２の撥水性領域が形成されている。以下、撥水性が相対的に低い第１の撥水性領域１１を低撥水性領域と称し、撥水性が相対的に高い第２の撥水性領域１２を高撥水性領域と称する。
【００２８】
低撥水性領域１１と高撥水性領域１２は、それぞれ所定のパターン形状を有する。本実施形態では、低撥水性領域１１のパターン形状は、帯状の略均一な幅の領域が複数、略均一な間隔をおいて平行に並ぶストライプ状であり、高撥水性領域１２は、それらの間隙を埋めるようなパターン形状に形成されている。すなわち、高撥水性領域１２のパターン形状も、低撥水性領域１１と同様、帯状の略均一な幅の領域が複数、略均一な間隔をおいて平行に並ぶストライプ状である。
【００２９】
低撥水性領域１１及び高撥水性領域１２の各パターンのストライプ幅Ｓ１、Ｓ２、すなわち、低撥水性領域１１を形成する個々の帯状の領域の幅Ｓ１と、高撥水性領域１２を形成する個々の帯状の領域の幅Ｓ２は、水滴を撥水膜１に滴下したときに、水滴が低撥水性領域１１と高撥水性領域１２の領域に跨って付着するとともに、この付着した水滴が、後述するような理由によって、第２の撥水性領域１２から低撥水性領域１１に移動し、低撥水性領域１１上で、同様に移動してきた水滴及び／もしくは低撥水性領域１１に付着していた水滴と合体してより大きな水滴となるように形成されている。
【００３０】
本発明者は、自動車の窓ガラスに雨水が付着した際に視認性を大きく低下させるのは、直径が２ｍｍ以上の水滴であり、特に、直径が２ｍｍ以上３ｍｍ未満の水滴は従来の通常の撥水膜では流れ落ちずに留まって、視認性を低下させることを見出した。したがって、各パターンのストライプ幅Ｓ１、Ｓ２は、このような視認性の低下に大きく影響する直径が２ｍｍ以上３ｍｍ未満の水滴が、低撥水性領域１１と高撥水性領域１２の両領域に跨って付着しやすく、かつこの付着した水滴が高撥水性領域１２から低撥水性領域１１に移動して、低撥水性領域１１上で他の水滴と合体してより大きな水滴を形成しやすい大きさとすることが好ましい。
【００３１】
具体的には、低撥水性領域１１のストライプ幅Ｓ１は、１ｍｍ以上５ｍｍ以下の範囲が好ましく、２ｍｍ以上４ｍｍ以下の範囲がより好ましく、２ｍｍ以上３ｍｍ以下の範囲が特に好ましい。また、高撥水性領域１２のストライプ幅Ｓ２は、１ｍｍ以上５ｍｍ以下の範囲が好ましく、２ｍｍ以上４ｍｍ以下の範囲がより好ましく、２ｍｍ以上３ｍｍ以下の範囲が特に好ましい。
ストライプ幅Ｓ１及びストライプ幅Ｓ２が５ｍｍ超の場合には、水滴が、低撥水性領域１１と高撥水性領域１２の領域に跨って付着しない確率が高まり、撥水膜２上に留まる水滴が増加してしまう。
ストライプ幅Ｓ１及びストライプ幅Ｓ２が１ｍｍ未満の場合には、水滴の移動距離が短いために水滴が合体し難く、大きな水滴になりにくい。また、２つの低撥水性領域に接している水滴は滑落し難くなるが、ストライプ幅Ｓ１及びストライプ幅Ｓ２が１ｍｍ未満の場合には、水滴が２つの低撥水性領域に接する確率が高まってしまう可能性がある。
【００３２】
なお、低撥水性領域１１のストライプ幅Ｓ１と高撥水性領域１２のストライプ幅Ｓ２は、同一であっても、異なっていてもよい。また、図１の例では、低撥水性領域１１のストライプ幅Ｓ１と高撥水性領域１２のストライプ幅Ｓ２は、いずれも、長さ方向に略均一であるが、一方、または両方が、長さ方向に変動していてもよく、また、均一なものと変動したものが混在していてもよい。図２は、その一例を示したもので、例えば、撥水膜２を形成する基体１の形状に合わせるため、低撥水性領域１１のストライプ幅Ｓ１と高撥水性領域１２のストライプ幅Ｓ２を、いずれも一端側から他端側に向けて徐々に大きくした形状となっている。なお、図２（ａ）では、高撥水性領域１２のストライプ幅Ｓ２の拡がり率が、低撥水性領域１１のストライプ幅Ｓ１より大きくなるようにした例であり、図２（ｂ）では、低撥水性領域１１のストライプ幅Ｓ１の拡がり率が、高撥水性領域１２のストライプ幅Ｓ２より大きくなるようにした例である。このように低撥水性領域１１のストライプ幅Ｓ１の拡がり率と、高撥水性領域１２のストライプ幅Ｓ２の拡がり率も均一にする必要はない。さらに、図示は省略したが、ストライプは、波状ないしジグザグ状に蛇行した形状であってもよく、直線形状と蛇行形状が混在していてもよい。
【００３３】
このように本実施形態の低撥水性領域１１と高撥水性領域１２は、上記のような種々のパターン形状、パターンサイズを採り得るが、前述したような、雨水等が付着した際に視認性の低下に大きく影響する水滴が、低撥水性領域１１と高撥水性領域１２の両領域に跨って付着しやすく、かつこの付着した水滴が高撥水性領域１２から低撥水性領域１１に移動して、低撥水性領域１１上で他の水滴と合体してより大きな水滴を形成しやすくするためには、低撥水性領域１１と高撥水性領域１２の面積比を、２：１〜１：２とすることが好ましい。すなわち、低撥水性領域１１の面積の割合が前記範囲未満、または前記範囲を超えると、上記のような効果を有するパターン形状の低撥水性領域１１及び高撥水性領域１２の形成が困難になる。低撥水性領域１１と高撥水性領域１２の面積比は、３：２〜２：３の範囲がより好ましく、３：２〜１：１の範囲がより一層好ましい。
【００３４】
また、十分な視認性を確保するためには、低撥水性領域１１と高撥水性領域１２の合計面積は、撥水性基体全体の５０％以上であることができ、７０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。
【００３５】
本実施形態において、低撥水性領域１１と高撥水性領域１２の各領域は、いずれも撥水性である。その撥水性の程度は、水接触角による評価で、低撥水性領域１１が４０°〜１１０°、好ましくは６０°〜１００°、より好ましくは７０°〜９０°である。低撥水性領域１１の水接触角が４０°未満では、水滴が形成されないか、または、形成されても流れ落ちにくく、視認性を向上させることができない。他方、高撥水性領域１２の水接触角は、低撥水性領域１１より２０°以上、好ましくは２５°以上、より好ましくは３０°以上高い。高撥水性領域１２の水接触角と低撥水性領域１１の水接触角との差が２０°未満では、低撥水性領域１１と高撥水性領域１２の領域に跨って付着した水滴が、低撥水性領域１１に移動しないか、または移動しにくく、したがって、水滴の滑落性を向上させることができず、視認性を高めることができない。
【００３６】
なお、上記「水接触角」は、室温で水平な試料台に載置した撥水膜の被測定面（第１の撥水性領域及び第２の撥水性領域）に水滴を滴下し、水滴における空気と被測定面とに接する点から水滴の曲面に接線を引いたときの、この接線と被測定面との角度を接触角計を用いて測定することにより求めることができる。
【００３７】
撥水性基体を構成する撥水膜２は、上述したような低撥水性領域１１を形成する低撥水層３と、高撥水性領域１２を形成する高撥水層４から構成される。低撥水層３及び高撥水層４は、基体１上に互いの層が重ならないように形成されていてもよく、低撥水層３及び高撥水層４のいずれか一方を基体１表面全体に形成し、その上に他方の撥水層を、低撥水性領域１１と高撥水性領域１２とが上記パターン形状を有するように形成するようにしてもよい。本実施形態では、図１（ｂ）に示すように基体１上に互いの層が重ならないように形成されている。
【００３８】
低撥水層３及び高撥水層４の層厚は、形成材料や、基体の種類、用途等によって異なるが、通常、１ｎｍ〜２００ｎｍ、好ましくは２ｎｍ〜１５０ｎｍである。層厚が１ｎｍ未満では、撥水膜の耐久性が不十分になるおそれがある。また、材料によっては、所望の撥水性を有する層形成が困難になるおそれがある。層厚が２００ｎｍを超えると、層が不均一となりヘイズが上昇するおそれがある。また、層厚が１ｎｍ未満の場合と同様、材料によっては層形成が困難になるおそれがある。低撥水層３と高撥水層４の層厚は、必ずしも同一である必要はなく、異なっていてもよい。但し、その差があまり大きいと、表面の凹凸が大きくなり、水滴の移動が困難になるおそれがあることから、１５０ｎｍ以下であることが好ましい。
【００３９】
なお、低撥水層３及び高撥水層４のいずれか一方を基体１表面全体に形成し、その上に他方の撥水層を形成する場合には、撥水膜の耐久性、層形成の容易さ、水滴の移動性等を考慮すると、下層の撥水層の層厚は、１ｎｍ〜２００ｎｍであることが好ましく、上層の撥水層の層厚は、１ｎｍ〜１００ｎｍであることが好ましい。より好ましくは、下層の撥水層の層厚が５０ｎｍ〜１５０ｎｍであり、上層の撥水層の層厚は、２ｎｍ〜５０ｎｍである。
【００４０】
低撥水層３及び高撥水層４を形成する材料は、低撥水性領域１１と高撥水性領域１２が形成されれば、いかなるものであってもよく、ハフニア、ジルコニア、イットリア等の無機酸化物、ポリフルオロアルキルシラン基含有化合物、ポリフルオロポリエーテルアルキル基含有化合物等のフッ素含有有機化合物、ジメチルシリコーン化合物等のシリコーン化合物等の、従来より知られる各種撥水性材料を使用することができる。また、これらの撥水性材料の下地層として、シリカ、アルミナ等の金属酸化物微粒子を含む材料により、予め表面に微小凹凸を有する膜を形成しておき、このような下地層と撥水性材料からなる層、あるいは下地層と撥水性材料からなる層の間にこれらの層の密着性を高める層等を介在させた積層構造としてもよい。このような下地層と撥水性材料からなる層を含む層は、超撥水層または超撥水膜と一般に称されているものであり、低撥水層３及び高撥水層４は、このような超撥水構造とすることも可能である。このような超撥水構造を形成する材料を含め、低撥水層３及び高撥水層４を形成する材料については、後述の本実施形態の撥水性基体の製造方法においてさらに説明する。
【００４１】
本実施形態の撥水性基体を構成する基体１の材料としては、例えば、ガラス、プラスチック、金属、セラミック、またはこれらの組み合わせ（複合材料、積層材料等）等が挙げられる。ガラスとしては、例えば、ソーダライムガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、石英ガラス等が挙げられる。またプラスチックとしては、ポリエチレンテレフタレート等の芳香族ポリエステル系樹脂、ポリフェニレンカーボネート等の芳香族ポリカーボネート樹脂、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル系樹脂等が挙げられる。基体１は透明であっても不透明であってもよく、用途によって適宜選択される。例えば、本実施形態の撥水性基体を自動車等の輸送機器用の窓材や建築用の窓材、太陽電池用カバー等に用いる場合は、透明なガラス板またはプラスチック板であることが好ましい。
【００４２】
基体１は、その表面が酸化セリウム等の研磨剤で研磨されていてもよく、アルコール洗浄等により脱脂されていてもよく、酸素プラズマ処理、コロナ放電処理、オゾン処理等が施されていてもよい。基体１の形状は平板であっても、全面または一部に曲率を有していてもよい。基体１の表面は平坦であっても凹凸形状を有していてもよい。基体１の厚さは用途により適宜選択されるが、一般には１ｍｍ〜１０ｍｍが好ましい。基体１として、厚さが２５μｍ〜５００μｍ程度のプラスチックフィルムを用いることもできる。基体１には、予め無機物及び／または有機物からなる塗膜が形成されることで、ハードコート、アルカリバリア、着色、導電、帯電防止、光散乱、反射防止、集光、偏光、紫外線遮蔽、赤外線遮蔽、防汚、防曇、光触媒、抗菌、蛍光、蓄光、波長変換、屈折率制御、撥水、撥油、指紋除去、滑り性等より選ばれる１種以上の機能が付与されていてもよい。
【００４３】
本実施形態の撥水性基体は、基体１の両側表面に撥水膜２を有していてもよく、基体１の片側表面にのみ撥水膜２を有していてもよく、用途により適宜選択される。例えば、本実施形態の撥水性基体を自動車等の輸送機器用の窓材や、建築用窓材に使用する場合は、基体１の片側表面にのみ撥水膜２を有していることが好ましい。
【００４４】
次に、本実施形態の撥水性基体の製造方法について説明する。
図３は本実施形態の撥水性基体１の製造工程の一例を示す断面図である。
【００４５】
図３に示すように、本実施形態の撥水性基体１は、例えば、次の工程を順に行うことによって製造することができる。
（１）まず、基体１の片側表面の所要部、すなわち撥水膜２を形成すべき部分全体に、高撥水層形成用材料を塗布し、硬化させて硬化膜４Ａを形成する。（図３（ａ））。
（２）大気中で、上記硬化膜４Ａ上に、低撥水層３のパターン形状に対応する開口部を有するマスク板５を重ね、このマスク板５を介して、硬化膜４Ａ表面に紫外線６を照射して、照射部の硬化膜４Ａをオゾン（Ｏ３）により分解除去する（図３（ｂ））。これにより、ストライプ状のパターン形状を有する高撥水層４が形成される。この工程には、ＵＶ／Ｏ３洗浄装置を用いることができる。
（３）高撥水層４が形成された基体１の表面の所要部全体に、低撥水層形成用材料を塗布し、硬化させる（図３（ｃ））。低撥水層形成用材料は、高撥水層４上においてはその撥水性により弾かれて塗布されず、高撥水層４の間隙の基体１上にのみ塗布されるため、この塗布層を硬化させることにより、低撥水層３が形成される。
【００４６】
なお、上記（１）の工程で、低撥水層形成用材料を塗布し、上記（２）の工程で、その硬化膜をパターニングして低撥水層３を形成し、上記（３）の工程で、高撥水層形成用材料を塗布して、高撥水層４を形成するようにしても、同様の撥水性基体１を製造することができるが、  低撥水層３は撥液性が高くないために、その上から高撥水層形成用材料を塗布すると低撥水層３の上に高撥水層形成用材料が残留してしまい低撥水層３と高撥水層４の撥水性の差が小さくなる可能性があるため、上記（１）の工程で、高撥水層形成用材料を塗布し、上記（２）の工程で、その硬化膜をパターニングして高撥水層４を形成し、上記（３）の工程で、低撥水層形成用材料を塗布して、低撥水層３を形成することが好ましい。
【００４７】
上記製造工程において使用される低撥水層形成用材料及び高撥水層形成用材料としては、シリコーン化合物やフッ素含有有機化合物等の撥水剤の１種以上を含むものが挙げられる。そのうち、低撥水層形成用材料には、水接触角が４０°〜１１０°の撥水層が形成されるような材料が選択使用され、高撥水層形成用材料には、水接触角が低撥水層形成用材料より２０°以上高い撥水層が形成されるような材料が選択使用される。
【００４８】
ここで、シリコーン化合物としては、ジメチルポリシロキサン、メチルハイドロジェンポリシロキサン、アルコール変性ジメチルポリシロキサン、アルコキシ変性ジメチルポシロキシサン、フルオロアルキル変性ジメチルシリコーン等が挙げられる。
【００４９】
また、フッ素含有有機化合物としては、下記一般式で表される化合物等が挙げられる。
【００５０】
Ｆ（ＣＦ２）ｅ（ＣＨ２）ｆＳｉＸ１３
Ｆ（ＣＦ２）ｅ（ＣＨ２）ｆＳｉ（Ｒ１）Ｘ１２
Ｆ（ＣＦ２）ｅＣＯＮＨ（ＣＨ２）ｇＳｉＸ１３
Ｆ（ＣＦ２）ｅＣＯＮＨ（ＣＨ２）ｇＳｉ（Ｒ１）Ｘ１２
Ｆ（ＣＦ２）ｅＣＯＮＨ（ＣＨ２）ｈＮＨ（ＣＨ２）５−ｈＳｉＸ１３
Ｆ（ＣＦ２）ｅＣＯＮＨ（ＣＨ２）ｈＮＨ（ＣＨ２）５−ｈＳｉ（Ｒ１）Ｘ１２
Ｒｆ２-Ｏ-（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｅ-ＣＦ２-ＣＯＮＨ（ＣＨ２）３Ｓｉ（Ｒ２）ｐＸ２３−ｐ
Ｒｆ２-Ｏ-（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｅ-ＣＦ２-ＣＨ２ＯＣＯＮＨ（ＣＨ２）３Ｓｉ（Ｒ２）ｐＸ２３−ｐ
Ｒｆ２-Ｏ-（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｅ-ＣＦ２-ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（Ｒ２）ｐＸ２３−ｐ
Ｒｆ２-Ｏ-（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｅ-ＣＦ２-ＣＦ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（Ｒ２）ｐＸ２３−ｐ
Ｒｆ２-Ｏ-（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｅ-ＣＦ２-（ＣＨ２）２Ｓｉ（Ｒ２）ｐＸ２３−ｐ
Ｒｆ２-Ｏ-（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｅ-ＣＦ２-（ＣＨ２）３Ｓｉ（Ｒ２）ｐＸ２３−ｐ
【００５１】
ここで、上記各一般式中の記号は、以下の意味を示す。
Ｒ１、Ｒ２：それぞれ独立に、水素原子、または炭素数１〜６の炭化水素基
Ｒｆ２：炭素数１〜２０のペルフルオロアルキル基
Ｘ１、Ｘ２：それぞれ独立に、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基、またはイソシアネート基
ｅ：１〜２０の整数
ｆ：１〜６の整数
ｇ：１〜５の整数
ｈ：１〜４の整数
ｐ：０または１
【００５２】
なお、上記各一般式で表わされる化合物は、それぞれ単独で使用できるほか、上記化合物から選ばれる１種以上の化合物の部分加水分解縮合物であってもよい。部分加水分解縮合物とは、溶媒中で酸触媒やアルカリ触媒等の触媒と水の存在下に加水分解性シリル基の全部または一部が加水分解し、次いで脱水縮合することによって生成するオリゴマーをいう。但し、この加水分解縮合物の縮合度は、生成物が溶媒に溶解する程度である必要がある。
【００５３】
撥水剤としては、その他、市販の、有機系撥水剤、例えば、ダイキン社製のＯｐｔｏｏｌ  ＤＳＸ（商品名）等や、シリコーン系撥水剤、例えば、錦之堂社製のＲＡＩＮ-Ｘ（商品名）等も使用することができる。
【００５４】
低撥水層形成用材料及び高撥水層形成用材料は、上記撥水剤のみからなるものであってもよいが、経済性、作業性、形成される撥水層の厚さの制御のしやすさ等の点から、通常、有機溶剤を含む。有機溶剤としては、アルコール類、エーテル類、ケトン類、芳香族炭化水素類、パラフィン系炭化水素類、エステル類等が挙げられる。これらは１種を単独で使用してもよく、極性、蒸発速度等の異なる２種以上の有機溶剤を混合して使用してもよい。また、撥水剤として部分加水分解縮合物を含有する場合は、これを製造するために使用した溶媒を含んでもよい。低撥水層形成用材料及び高撥水層形成用材料には、必要に応じて他の成分が含まれていてもよい。このような他の成分としては、例えば、撥水剤の加水分解縮合反応の際に用いた触媒（塩酸、硝酸等の酸等）が挙げられる。さらに、本発明の効果を阻害しない範囲で、目的に応じて、機能性添加剤が含まれていてもよい。機能性添加剤としては、シリカ、アルミナ、ジルコニア、チタニア等の金属酸化物の超微粒子、染料、顔料等の着色用材料、防汚性材料、硬化触媒、各種樹脂等が挙げられる。
【００５５】
上記のような撥水層形成用材料を、基体１表面に塗布する方法としては、スキージコート、ローラコート、フレキソコート、バーコート、ダイコート、グラビアコート、ロールコート、フローコート、スプレーコート、インクジェット、ディップコート等の方法が挙げられる。また、この塗布に次いで行われる硬化は、例えば、温度２０〜５０℃、湿度５０〜９０％ＲＨの条件で行うことができる。硬化時間は、撥水層形成用材料の種類や濃度、硬化条件等にもよるが、通常、１〜７２時間で硬化させることができる。なお、処理方法によっては、余剰成分が発生し外観の品質を損なうおそれがあるが、その場合には、溶剤拭き、または乾拭き等で余剰成分を除去するようにすればよい。
【００５６】
上記方法では、２種類の撥水性能の異なる撥水層形成用材料を使用して低撥水層３及び高撥水層４を形成しているが、次の工程を順に行うことによって、１種類の撥水層形成用材料（以下、共通の撥水層形成用材料という）を使用して低撥水層３及び高撥水層４を形成することも可能である。
（１）まず、基体１の片側表面の所要部、すなわち撥水膜２を形成すべき部分全体に、共通の撥水層形成用材料を塗布し、乾燥硬化させて硬化膜を形成する。共通の撥水層形成用材料としては、前述の２種類の撥水性の異なる撥水層形成用材料を使用する方法で説明した材料と同様のものを用いることができる。また、共通の撥水層形成用材料を塗布する方法、硬化させる方法についても、前述の２種類の撥水性の異なる撥水層形成用材料を使用する場合と同様の方法、条件を用いることができる。
（２）大気中で、上記硬化膜の表面に、低撥水層３のパターン形状に対応する開口部を有するマスク板を重ね、このマスク板を介して、硬化膜の表面に紫外線を照射して、照射部の硬化膜をオゾン（Ｏ３）により部分分解させる。部分分解した硬化膜は、元の硬化膜に比べ撥水性の低い、つまり水接触角の小さい硬化膜となる。そして、その劣化の程度は、紫外線の照射度、照射時間によって制御可能である。この結果、基体１の表面には、前述したようなストライプ状のパターン形状を有する低撥水層３と高撥水層４が形成される。
【００５７】
本実施形態の撥水性基体は、低撥水層３及び高撥水層４の形成材料として、ハフニア、ジルコニア、イットリア等の無機酸化物を用いることもできる。
【００５８】
ハフニア、ジルコニア及びイットリアからなる撥水層は、それぞれハフニアゾル、ジルコニアゾル及びイットリアゾルを基体１等の表面に塗布し、乾燥してハフニアゲル膜、ジルコニアゲル膜及びイットリアゲル膜とした後、これを硬化させることにより形成することができる。
【００５９】
ハフニアゾルは、例えば、ハフニウムアルコキシド、ハフニウム塩等のハフニウム化合物を、アルコール等の溶媒に溶解し、次いで水を添加して必要なら加熱することにより調製される。ジルコニアゾルは、ジルコニウムアルコキシド、ジルコニウム塩等のジルコニウム化合物をアルコール等の溶媒に溶解し、次いで水を添加して必要なら加熱することにより調製される。イットリアゾルは、イットリウムアルコキシド、イットリウム塩等のイットリウム化合物をアルコール等の溶媒に溶解し、次いで水を添加して必要なら加熱することにより調製される。溶媒としては、水、メタノール、エタノール、ブタノール、イソプロパノール、ビニルアルコール等のアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、ジオキサン等のケトン、アミン、アミド等が挙げられる。これらのハフニアゾル、ジルコニアゾル及びイットリアゾルには、下層との密着性を高めるため、シランカップリング剤等が配合されていてもよい。
【００６０】
基体１表面に上記ハフニアゾル、ジルコニアゾル、イットリアゾルを塗布する方法としては、スキージコート、ローラコート、フレキソコート、バーコート、ダイコート、グラビアコート、ロールコート、スピンコート、フローコート、スプレーコート、インクジェット、ディップコート等の方法が挙げられる。また、この塗布に次いで行われる乾燥によって、ハフニアゲル膜、ジルコニアゲル膜及びイットリアゲル膜とした後、これを硬化させる方法としては、電磁波照射が好ましく、特に紫外線照射が好ましいが、加熱による硬化処理であってもよく、また、それらの組み合わせであってもよい。紫外線照射を用いる場合、光源として、例えば高圧水銀灯、低圧水銀灯、エキシマレーザー、Ｎｄ：ＹＡＧレーザー等を使用することができる。照射時間は、通常、１分〜１時間である。また、加熱により硬化させる場合、加熱温度は、通常、５０〜１０００℃、好ましくは５０℃〜６００℃であり、加熱時間は、通常、１分〜５時間、好ましくは１０分〜２時間である。
【００６１】
撥水層を上記のようなハフニア、ジルコニア、イットリア等の無機酸化物で形成する場合、低撥水層３及び高撥水層４のいずれか一方をこれらの材料で形成し、他方の撥水層を前述した撥水剤を含む撥水層形成用材料で形成することが好ましい。
【００６２】
以下、低撥水層３をハフニア、ジルコニア、イットリア等の無機酸化物で形成し、高撥水層４を前述した撥水剤を含む撥水層形成用材料で形成した撥水性基体の製造方法の一例を記載する。この製造方法においては、次の工程を順に行う。
（１）まず、基体１の片側表面の所要部、すなわち撥水膜２を形成すべき部分全体に、例えば、ハフニアゾルを塗布し、乾燥してゲル化させた後、硬化させてハフニアからなる硬化膜を形成する。
（２）上記硬化膜の表面全体に、前述の撥水剤を含む撥水層形成用材料を塗布し、硬化させて撥水剤からなる硬化膜を形成する。撥水剤を含む撥水層形成用材料には、ハフニアからなる硬化膜より水接触角で２０°以上高い撥水層を形成し得る材料を選択する。
（３）大気中で、撥水剤からなる硬化膜の表面に、低撥水層３のパターンに対応する形状の開口部を有するマスク板を重ね、このマスク板を介して、撥水剤からなる硬化膜の表面に紫外線を照射して、照射部の硬化膜をオゾン（Ｏ３）により分解除去する。この工程には、ＵＶ／Ｏ３洗浄装置を用いることができる。これにより、ハフニア硬化膜上に、前述したような所定のストライプ状のパターン形状を有する高撥水層４が形成された撥水膜が形成される。ハフニア硬化膜はいわゆる連続した膜であるが、その表面にはパターニングされた高撥水層４が形成されているため、表面から視た場合に、図１に示すような、低撥水性領域１１と高撥水性領域１２が所定のパターン形状で形成された撥水膜２が形成される。
【００６３】
なお、上記（２）の工程において、撥水剤を含む撥水層形成用材料に、ハフニア硬化膜より水接触角で２０°以上低い撥水層を形成し得る材料を選択すれば、ハフニア硬化膜からなる高撥水層４上に、撥水剤からなる低撥水層３が所定のパターン形状で形成された撥水膜を形成することができる。また、２０°以上低い撥水層を形成し得る材料を選択せずとも、上記（２）の工程の後、（３）の工程の前、または（３）の工程の後に、撥水剤からなる硬化膜の表面に紫外線を照射して、照射部の硬化膜をオゾン（Ｏ３）により部分分解させて、撥水剤からなる硬化膜の撥水性を制御するようにしてもよく、同様の、ハフニア硬化膜からなる高撥水層４上に、撥水剤からなる低撥水層３が所定のパターン形状で形成された撥水膜を形成することができる。
【００６４】
本実施形態の撥水性基体は、高撥水層４、または低撥水層３と高撥水層４をともに超撥水層とすることもできる。
【００６５】
超撥水層は、微小凹凸を有する下地層と、この下地膜上に形成された撥水層とを備える。
【００６６】
超撥水層は、下地層形成用材料を塗布し、乾燥して下地層を形成し、次いで、必要に応じて、下地層の表面に他の機能層を形成した後、その表面に撥水膜形成用材料を塗布し、乾燥することによって形成することができる。
【００６７】
下地膜形成用材料は、金属酸化物微粒子、金属酸化物バインダー前駆体、及び分散媒体を含む。金属酸化物微粒子としては、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化スズ等の金属酸化物の微粒子が挙げられる。これらの金属酸化物微粒子は水和水を有する水和物であってもよい。また、金属酸化物微粒子はゾルであってもよい。金属酸化物微粒子はアモルファスであってもよく、棒状、羽毛状、平板状、球状、針状等の形状を有する結晶であってもよい。金属酸化物微粒子がゾルである場合、その形状は棒状、羽毛状、平板状、球状、及び針状等のいずれであってもよい。
【００６８】
金属酸化物バインダー前駆体としては、加水分解性基が結合した加水分解性金属化合物、この加水分解性金属化合物の部分加水分解縮合物、配位子が配位した金属配位化合物等が挙げられる。加水分解性金属化合物は加水分解縮合反応により金属酸化物となり、金属配位化合物は熱分解して金属酸化物となる。金属原子としては、ケイ素原子、アルミニウム原子、チタン原子、スズ原子、セリウム原子等が挙げられる。
【００６９】
加水分解性金属化合物としては、例えば、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラントキシシラン、ｎ−ヘプチルトリエトキシシラン、ｎ−オクチルトリメトキシシラン、ｎ−オクチルトリエトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）メチルジメトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロメチル）トリメトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロメチル）メチルジメトキシシラン、３−（ヘプタフルオロエチル）プロピルトリメトキシシラン、３−（ノナフルオロヘキシル）プロピルトリメトキシシラン、３−（ノナフルオロヘキシル）プロピルトリエトキシシラン、３−（トリデカフルオロオクチル）プロピルトリメトキシシラン、３−（トリデカフルオロオクチル）プロピルトリエトキシシラン、３−（ヘプタデカフルオロデシル）プロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、アセトキシメチルトリメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトライソシアネートシラン、テトラクロロシラン等が挙げられる。
【００７０】
また、金属配位化合物としては、アルミニウムトリス（アセチルアセテート）、アルミニウム（エチルアセトアセテート）ジイソプロポキシド、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）、チタニウムビス（アセチルアセテート）ジイソプロポキシド、チタニウムテトラ（アセチルアセテート）、チタニウムビス（オクチレングリコレート）ジブトキシド、チタニウムビス（ラクテート）ジヒドロキシド、チタニウムビス（トリエタノールアミノレート）、チタニウムビス（エチルアセトアセテート）ジイソプロポキシド、ポリヒドロキシチタンステアレート、ジルコニウム（テトラアセチルアセテート）、ジルコニウム（アセチルアセテート）トリブトキシド、ジルコニウムビス（アセチルアセテート）ジブトキシド、ジルコニウム（アセチルアセテート）（エチルアセトアセテート）ジブトキシド等が挙げられる。
【００７１】
分散媒体としては、水、エタノール、メタノール等のアルコール類、ケトン類、エステル類、エーテル類、グリコールエーテル類、含窒素化合物類、含硫黄化合物類等が挙げられる。
【００７２】
下地層形成用材料を塗布する方法としては、スプレーコート法、フローコート法、スピンコート法等が挙げられる。また、この塗布に次いで行われる乾燥は、例えば、室温（２０℃程度）〜７００℃の温度で乾燥することによって行うことができる。
【００７３】
このように形成される下地層は、ＪＩＳ  Ｒ１６８３（２００７）に準拠して走査型プローブ顕微鏡（ＳＰＭ）により測定される表面の算術平均粗さ（Ｒａ）が１０〜５０ｎｍ程度、凹凸の最大高低差が、走査型プローブ顕微鏡（ＳＰＭ）により測定で、１５０〜５００ｎｍ程度であることが好ましい。
【００７４】
撥水層形成用材料としては、前述した低撥水層形成用材料及び高撥水層形成用材料として例示したものと同様のものが挙げられる。また、撥水膜形成用材料を塗布する方法、それに続く硬化条件も、前述した低撥水層形成用材料及び高撥水層形成用材料の塗布方法、硬化条件と同様である。
【００７５】
撥水層の表面は、下地層の表面の形状をほぼ反映して、概して、算術平均粗さ（Ｒａ）が１０ｎｍ〜５０ｎｍ程度、凹凸の最大高低差が１５０ｎｍ〜５００ｎｍ程度となる。
【００７６】
上記のような微小凹凸を有する下地層と、この下地層上に形成された上記撥水層とを備えた超撥水層は、表面に凹凸形状が形成されたことによって、水接触角が１２０°以上の高い撥水性能を具備することができる。
【００７７】
なお、超撥水層は、下地層と撥水層との間に、各種機能層が設けられていてもよい。このような機能層としては、下地層と撥水層との密着性を向上させるための密着層等が挙げられる。
【００７８】
密着層は、密着性向上成分及び溶媒を含む密着層形成用材料を、下地層の表面に塗布した後、溶媒を除去し、さらに、必要に応じて加熱することによって形成することができる。
【００７９】
密着性向上成分としては、ポリシラザン類以外のケイ素化合物（アルコキシ基、イソシアネート基、ハロゲン原子等の加水分解性基がケイ素原子に結合したケイ素化合物等）等が挙げられる。具体的には、テトラアルコキシシランやそのオリゴマー、オルガノトリアルコキシシランやそのオリゴマー等のアルコキシシラン類；オルガノトリクロロシランやそのオリゴマー等のクロロシラン類；イソシアネートシラン類からなる群から選ばれる少なくとも１種のケイ素化合物が挙げられる。
【００８０】
溶媒としては、水の他、アルコール類、ケトン類、エステル類、エーテル類、グリコールエーテル類、含窒素化合物類、含硫黄化合物類等の有機溶媒を用いることができる。密着層形成用材料には、必要に応じて、他の成分を加えてもよい。他の成分としては、例えば、上記ケイ素化合物の加水分解縮合反応のため触媒（塩酸、硝酸等の酸等）等が挙げられる。
【００８１】
密着層形成用材料を下地層の表面に塗布する方法としては、下地層形成用材料の場合と同様、前述した低撥水層形成用材料及び高撥水層形成用材料の塗布方法として例示した方法が挙げられる。また、溶媒の除去は、密着層形成用材料を塗布した後の基体を、室温〜２００℃で１０分〜６０分間程度保持することによって実施できる。
【００８２】
なお、下地層と撥水層との間に設けられる各種機能層は、それぞれの下部に位置する層の表面の全体を覆っている必要はなく、部分的に形成されていてもよい。
【００８３】
以上、本実施形態の撥水性基体の製造方法を、使用する材料とともにいくつか説明したが、これらは例として示したものであり、これらの方法に限定されるものではない。例えば、本実施形態の撥水性基体は、基体表面に低撥水層のパターン形状に対応する開口部を有するマスク板を重ね、このマスク板上に低撥水層形成用材料等を塗布し、硬化させる等の方法で低撥水層３を形成した後、前記マスク板を、高撥水層のパターン形状に対応する開口部を有するマスク板に換え、このマスク板上に高撥水層形成用材料等を塗布し、硬化させる等して高撥水層３を形成することによって製造することもできる。
【００８４】
本実施形態の撥水性基体は、基体１の表面に、ストライプ状のパターン形状に形成された水接触角が４０°〜１１０°の低撥水性領域と、この低撥水性領域より水接触角が２０°以上高い高撥水性領域を表面に有する撥水膜を備えているので、低撥水性領域１１高撥水性領域１２に跨って付着した水滴は、撥水性の低い低撥水性領域１１に移動し、低撥水性領域１１上で他の水滴と合体してより大きな水滴を形成するため、水滴を速やかに滑落除去させることができる。特に、低撥水性領域１１と高撥水性領域１２を、直径２〜３ｍｍの水滴が低撥水性領域１１と高撥水性領域１２に跨って付着するようなパターンで形成した場合には、視認性に影響する水滴を略滑落除させることができるため、自動車の窓ガラスのような用途に適用した場合に、その視認性を向上させることができる。
【００８５】
（その他の実施形態）
本発明は、以上説明した実施形態に限定されるものではなく、他の様々な形態で実施することが可能である。例えば、上記第１の実施形態では、低撥水性領域１１及び高撥水性領域１２がいずれもストライプ状のパターンで形成されているが、図４（ａ）〜図４（ｄ）に例示するように、高撥水性領域１２がドット（点）状にパターニングされ、それらの間隙を埋めるように低撥水性領域１１が形成されていてもよい。高撥水性領域１２を形成するドットの形状、大きさ、配置方法等は、特に限定されるものではなく、例えば、形状は、矩形（図４（ａ））、円形ないし楕円形（図４（ｂ））、六角形等の多角形（図４（ｃ））、星形、楔形等の異形（図４（ｄ））等、種々の形状をとることができる。この場合、各ドットの形状や大きさは同一であっても異なっていてもよい。但し、良好な視認性を得る観点からは、第１の実施形態の場合と同様、視認性の低下に大きく影響する直径が２ｍｍ以上３ｍｍ未満の水滴が、低撥水性領域１１と高撥水性領域１２の領域に跨って付着しやすく、また、この付着した水滴が高撥水性領域１２から低撥水性領域１１に移動して、低撥水性領域１１上で他の水滴と合体してより大きな水滴を形成しやすく、さらに、この合体して大きくなった水滴が低撥水性領域１１上を少なくとも一方向に移動しやすい大きさ、配列方法とすることが好ましい。
【００８６】
具体的には、例えば、図４（ａ）の例では、高撥水性領域１２のパターン形状は、一辺が１〜５ｍｍの矩形状ドットが１ｍｍ〜５ｍｍ間隔で配列されたパターン形状であることが好ましく、図４（ｂ）の例では、高撥水性領域１２のパターン形状は、直径が１ｍｍ〜５ｍｍの円形状ドットが１ｍｍ〜５ｍｍ間隔で配列されたパターン形状であることが好ましい。
【００８７】
また、上記第１の実施形態では、低撥水性領域１１及び高撥水性領域１２がそれぞれ他方の撥水性領域によって分断されているが、図４（ｅ）及び図４（ｆ）に例示するように、低撥水性領域１１及び高撥水性領域１２の一方、もしくは両方が、ストライプの一端側で連結する形状とすることも可能である。なお、ここで例示したいずれの場合も、低撥水性領域１１を形成する低撥水層と、高撥水性領域１２を形成する高撥水層は、共に同一平面上に形成されていてもよく、低撥水層３上に高撥水層４が、あるいは高撥水層４上に低撥水層３が積層されて形成されていてもよい。
【００８８】
これらの実施形態においても、第１の実施形態と同様、低撥水性領域１１と高撥水性領域１２に跨って付着した水滴は、撥水性の低い低撥水性領域１１に移動し、低撥水性領域１１上で他の水滴と合体してより大きな水滴を形成するため、水滴を速やかに滑落除去させることができる。特に、低撥水性領域１１と高撥水性領域１２を、直径２〜３ｍｍの水滴が低撥水性領域１１と高撥水性領域１２に跨って付着するようなパターンで形成した場合には、視認性に影響する水滴を略滑落除させることができるため、自動車の窓ガラスのような用途に適用した場合に、その視認性を向上させることができる。
なお、例えば、図１、図２または図４で示すパターン形状の低撥水性領域１１及び高撥水性領域１２を備えた撥水性基体を自動車の窓ガラスに適用する場合、それぞれの図の上辺及び下辺が自動車用窓ガラスの上辺及び下辺に一致するように搭載されることが好ましい。
【００８９】
本発明は以上説明した実施形態の記載内容に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で適宜変更や修正を加えることができることはいうまでもない。
【実施例】
【００９０】
次に、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。以下の記載において、「高撥水性領域」及び「低撥水性領域」とあるのは、２つの撥水性領域が形成されている場合に、相対的に撥水性の高い領域を「高撥水性領域」と称し、撥水性の低い領域を「低撥水性領域」と称する。また、ガラス基板の水接触角は、３μＬの水滴を滴下し、協和界面科学社製の接触角計ＣＡ−Ｘ１５０型を用いて測定した値であり、撥水膜の水接触角は、測定すべきそれぞれの領域に３μＬの水滴を滴下（領域の面積が小さく３μＬの水滴を滴下できない場合には、適宜水滴の水量を減らして滴下）し、同様の装置を用いて測定した値である。さらに、撥水層に対する紫外線の照射には、いずれも、セン特殊光源社製のＵＶ／Ｏ３洗浄装置ＰＨＯＴＯ  ＤＲＹ  ＣＬＥＡＮＥＲ  ＰＬ７−２００型を用いた。例１〜１５は実施例であり、その他の例は比較例である。
【００９１】
以下の各例で使用した撥水膜形成材料は、次の通りである。
［撥水膜形成材料（Ａ）］
攪拌機及び温度計がセットされたガラス容器に、Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣｌ３（７．７ｇ）、酢酸ブチル（４６．１５ｇ）、及びヘプタン（４６．１５ｇ）を投入し、２５℃で３０分間攪拌して撥水膜形成材料（Ａ）を調製した。
【００９２】
［撥水膜形成材料（Ｂ）］
攪拌機及び温度計がセットされたガラス容器に、ＣＦ３ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（５．０ｇ）、１ｗｔ％ＨＮＯ３水溶液（３．７５ｇ）、及びエタノール（９１．２５ｇ）を投入し、２５℃で３０分間攪拌して撥水膜形成材料（Ｂ）を調製した。
【００９３】
［撥水膜形成材料（Ｃ）］
攪拌機及び温度計がセットされたガラス容器に、ＣＦ３（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｘＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣｌ３（ｘの平均値は７）（２．６ｇ）、酢酸ブチル（１９．４ｇ）、及びハイドロフルオロエーテル（旭硝子社製  商品名 ＡＥ３０００）（７８．０ｇ）を投入し、２５℃で３０分間攪拌して撥水膜形成材料（Ｃ）を調製した。
【００９４】
［撥水膜形成材料（Ｄ−１）］
８０ｍＬのＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）製耐圧容器に、エタノール(６．７９ｇ)、水（４．４１ｇ）、酸化亜鉛水分散液（平均一次粒子径約２５ｎｍ、固形分濃度２０質量％）(７．０ｇ)、アルミニウムアセチルアセトナート(０．０７ｇ)、２８質量％アンモニア水溶液（０．１３ｇ）、テトラエトキシシラン(１．５９ｇ)を入れて混合し、原料液を調製した。
【００９５】
耐圧容器を密封した後、最大出力が１４００Ｗのマイクロ波加熱装置を用い、原料液が１５０℃に加熱される出力にて、周波数２．４５ＧＨｚのマイクロ波を原料液に３分間照射した。この操作により、コアが酸化亜鉛からなりシェルがシリカからなるコア−シェル型微粒子の分散液を得た。
【００９６】
このコア−シェル型微粒子の分散液（１９ｇ）に、強酸性カチオン交換樹脂（三菱化学社製、商品名 ダイヤイオン、総交換容量２．０ｍｅｑ／ｍＬ以上）を２０ｇ加え、６時間撹拌した後、ろ過により強酸性カチオン交換樹脂を除去し、中空状シリカ微粒子の凝集体分散液を得た。この中空状シリカ微粒子分散液の体積平均一次粒子径は３５ｎｍ、体積平均凝集粒子径は３９５ｎｍ、シェル厚は４．５ｎｍ、固形分濃度は２．３質量％であった。
【００９７】
なお、体積平均凝集粒子径は強酸性カチオン交換樹脂との攪拌時間によって制御した。シェルの厚みが１０ｎｍの場合はｐＨが４となっても酸化亜鉛コア微粒子は溶解しなかった。
【００９８】
また、エタノール(８４．０ｇ)にテトラエトキシシラン(７．５１ｇ)、メチルトリエトキシシラン(０．１３ｇ)、０．４６３質量％硝酸水溶液(８．３６ｇ)を加え１時間攪拌し、テトラエトキシシラン、メチルトリエトキシシランを加水分解縮合反応させてケイ酸オリゴマー溶液（酸化ケイ素換算固形分濃度２．５質量％）を得た。
２−プロパノール（１．７２ｇ）、上記ケイ酸オリゴマー溶液（０．３９ｇ）、日産化学社製ＩＰＡ−ＳＴ−ＳをＩＰＡで１０倍希釈した液（０．８３ｇ）、及び上記中空状シリカ微粒子の凝集体分散液（０．４１ｇ)を混合し、撥水膜形成材料（Ｄ−１）を調製した。
【００９９】
［撥水膜形成材料（Ｄ−２）］
Ｆ（ＣＦ２）８（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（３．３７ｇ）を、２−プロパノール（９５．６６ｇ）に溶かし、１質量％の硝酸水溶液（０．９７ｇ）を加えたうえで３時間撹拌した液を０．５ｇ分取し、旭硝子社製ＡＣ−６０００（５．５ｇ）と混合して、撥水膜形成材料（Ｄ−２）を調製した。
【０１００】
［撥水膜形成材料（Ｅ）］
ＲＡＩＮ-Ｘ（錦之堂社製  商品名）
【０１０１】
［撥水膜形成材料（Ｆ）］
窒素雰囲気下で四塩化ハフニウム（５．４４ｇ）を９９．５％エタノール（Ｃ２Ｈ５ＯＨ）（４１ｍＬ）に溶解した。この溶液に水（３．０６ｇ）、９８％ギ酸液（ＨＣＯＯＨ）（７．１８ｇ）、及び６０％硝酸（ＨＮＯ３）（１．７９ｇ）を添加した。この混合溶液を、５０±３℃で４時間、加熱撹拌して、ハフニアゾルを調製した。
【０１０２】
＜撥水性基体の製造＞
（例１）
酸化セリウムで研磨洗浄後、乾燥した清浄なソーダライムガラス基板（水接触角５°、１００ｍｍ×１００ｍｍ×３ｍｍ）の表面に、撥水膜形成材料（Ａ）１ｇをスキージコート法により塗布し、５０℃、６０％ＲＨに設定した恒温恒湿槽内に４８時間保持した後、イソプロパノールで余剰の撥水剤を除去して、水接触角１０８°の高撥水層を形成した。
【０１０３】
この高撥水層上に、幅２ｍｍ、長さ１００ｍｍのスリット（開口部）が２ｍｍ間隔で並んだメタルマスクを重ね、このメタルマスクを介して、高撥水層の表面に、高圧水銀ランプから紫外線を３００ｍＷ／ｃｍ２で５分間照射して、照射部の高撥水層を分解除去（ＵＶ／Ｏ３洗浄）した。なお、紫外線の照度は、ウシオ電機社製の紫外線積算光量計ＵＩＴ−１５０（ディテクターＵＶＤ−Ｓ２５４）による測定値である。照射部の基板表面の水接触角は５°以下であった。
【０１０４】
次いで、高撥水層形成面に、撥水膜形成材料（Ｂ）１ｇをスキージコート法により塗布したところ、高撥水層が残存している部分は弾かれ、高撥水層が分解除去された部分にのみ撥水膜形成材料（Ｂ）が塗布された。この撥水膜形成材料（Ｂ）が部分的に塗布されたガラス基板を、５０℃、６０％ＲＨに設定した恒温恒湿槽内に４８時間保持した後、イソプロパノールで余剰の撥水剤を除去して、水接触角８８°の低撥水層を形成し、幅２ｍｍの帯状の高撥水層と幅２ｍｍの帯状の低撥水層がストライプ状に交互に並んだ撥水膜が形成されたガラスを得た。
【０１０５】
（例２）
酸化セリウムで研磨洗浄後、乾燥した清浄なソーダライムガラス基板（水接触角５°、１００ｍｍ×１００ｍｍ×３ｍｍ）の表面に、撥水膜形成材料（Ａ）１ｇをスキージコート法により塗布し、５０℃、６０％ＲＨに設定した恒温恒湿槽内に４８時間保持した後、イソプロパノールで余剰の撥水剤を除去して、水接触角１０８°の高撥水層を形成した。
【０１０６】
この高撥水層の表面に、幅２ｍｍ、長さ１００ｍｍのスリットが２ｍｍ間隔で並んだメタルマスクを重ね、このメタルマスクを介して、高撥水層の表面に、高圧水銀ランプから紫外線を３００ｍＷ／ｃｍ２で２．５分間照射して、照射部の高撥水層を部分分解して劣化させ、水接触角６０°の低撥水層として、幅２ｍｍの帯状の高撥水層と幅２ｍｍの帯状の低撥水層がストライプ状に交互に並んだ撥水膜が形成されたガラスを得た。
【０１０７】
（例３）
高撥水層の表面に紫外線を照射する時間を３分間として、水接触角４０°の低撥水層を形成した以外は例２と同様にして、幅２ｍｍの帯状の高撥水層と幅２ｍｍの帯状の低撥水層がストライプ状に交互に並んだ撥水膜が形成されたガラスを得た。
【０１０８】
（例４）
酸化セリウムで研磨洗浄後、乾燥した清浄なソーダライムガラス基板（水接触角５°、１００ｍｍ×１００ｍｍ×３ｍｍ）の表面全体に、撥水膜形成材料（Ａ）１ｇをスキージコート法により塗布し、５０℃、６０％ＲＨに設定した恒温恒湿槽内に４８時間保持した後、イソプロパノールで余剰の撥水剤を除去して、水接触角１０８°の高撥水層を形成した後、この高撥水層の表面に、高圧水銀ランプから紫外線を３００ｍＷ／ｃｍ２で２．５分間照射して、高撥水層を部分分解して劣化させ、水接触角６０°の高撥水層とした。
【０１０９】
この高撥水層の表面に、幅２ｍｍ、長さ１００ｍｍのスリットが２ｍｍ間隔で並んだメタルマスクを重ね、このメタルマスクを介して、高撥水層の表面に、高圧水銀ランプから紫外線を３００ｍＷ／ｃｍ２で１分間照射して、照射部の高撥水層を部分分解して劣化させ、水接触角４０°の低撥水層として、幅２ｍｍの帯状の高撥水層と幅２ｍｍの帯状の低撥水層がストライプ状に交互に並んだ撥水膜が形成されたガラスを得た。
【０１１０】
（例５）
メタルマスクとして、幅１ｍｍ、長さ１００ｍｍのスリットが１ｍｍ間隔で並んだメタルマスクを用いた以外は例１と同様にして、幅１ｍｍの帯状の高撥水層と幅１ｍｍの帯状の低撥水層がストライプ状に交互に並んだ撥水膜が形成されたガラスを得た。
【０１１１】
（例６）
メタルマスクとして、幅１ｍｍ、長さ１００ｍｍのスリットが２ｍｍ間隔で並んだメタルマスクを用いた以外は例１と同様にして、幅２ｍｍの帯状の高撥水層と幅１ｍｍの帯状の低撥水層がストライプ状に交互に並んだ撥水膜が形成されたガラスを得た。
【０１１２】
（例７）
メタルマスクとして、幅２ｍｍ、長さ１００ｍｍのスリットが１ｍｍ間隔で並んだメタルマスクを用いた以外は例１と同様にして、幅１ｍｍの帯状の高撥水層と幅２ｍｍの帯状の低撥水層がストライプ状に交互に並んだ撥水膜が形成されたガラスを得た。
【０１１３】
（例８）
メタルマスクとして、幅２ｍｍ、長さ１００ｍｍのスリットが３ｍｍ間隔で並んだメタルマスクを用いた以外は例１と同様にして、幅３ｍｍの帯状の高撥水層と幅２ｍｍの帯状の低撥水層がストライプ状に交互に並んだ撥水膜が形成されたガラスを得た。
【０１１４】
（例９）
メタルマスクとして、幅３ｍｍ、長さ１００ｍｍのスリットが２ｍｍ間隔で並んだメタルマスクを用いた以外は例１と同様にして、幅２ｍｍの帯状の高撥水層と幅３ｍｍの帯状の低撥水層がストライプ状に交互に並んだ撥水膜が形成されたガラスを得た。
【０１１５】
（例１０）
メタルマスクとして、幅３ｍｍ、長さ１００ｍｍのスリットが３ｍｍ間隔で並んだメタルマスクを用いた以外は例１と同様にして、幅３ｍｍの帯状の高撥水層と幅３ｍｍの帯状の低撥水層がストライプ状に交互に並んだ撥水膜が形成されたガラスを得た。
【０１１６】
（例１１）
メタルマスクとして、幅４ｍｍ、長さ１００ｍｍのスリットが４ｍｍ間隔で並んだメタルマスクを用いた以外は例１と同様にして、幅４ｍｍの帯状の高撥水層と幅４ｍｍの帯状の低撥水層がストライプ状に交互に並んだ撥水膜が形成されたガラスを得た。
【０１１７】
（例１２）
メタルマスクとして、幅５ｍｍ、長さ１００ｍｍのスリットが５ｍｍ間隔で並んでいるメタルマスクを用いた以外は例１と同様にして、幅５ｍｍの帯状の高撥水層と幅５ｍｍの帯状の低撥水層がストライプ状に交互に並んだ撥水膜が形成されたガラスを得た。
【０１１８】
（例１３）
高撥水層の形成材料として、撥水膜形成材料（Ｃ）を用いた以外は例１と同様にして、幅２ｍｍの帯状の高撥水層（水接触角１１５°）と幅２ｍｍの帯状の低撥水層がストライプ状に交互に並んだ撥水膜が形成されたガラスを得た。
【０１１９】
（例１４）
酸化セリウムで研磨洗浄後、乾燥した清浄なソーダライムガラス基板（水接触角５°、１００ｍｍ×１００ｍｍ×３ｍｍ）の表面に、撥水膜形成材料（Ｅ）を布に沁み込ませ、ワイプ法により塗布した。乾燥後、余剰の撥水膜形成材料（Ｅ）を紙ウェスで乾拭きして除去し、水接触角１００°の低撥水層を形成した。
【０１２０】
この低撥水層の表面に、大気中で、幅２ｍｍ、長さ１００ｍｍのスリットが２ｍｍ間隔で並んだメタルマスクを重ね、このメタルマスクを介して、低撥水層の表面に、高圧水銀ランプから紫外線を３００ｍＷ／ｃｍ２で２０分間照射して、照射部の低撥水層を分解除去（ＵＶ／Ｏ３洗浄）した。照射部の基板表面の水接触角は５°以下であった。
【０１２１】
次いで、低撥水層形成面に、撥水膜形成材料（Ｄ−１）及び撥水膜形成材料（Ｄ−２）各２ｇを、この順に、スピンコート法（５００ｒｐｍ×２０秒）により塗布し、その後、下記に示す各層毎の条件で乾燥・加熱して、水接触角１３０°の高撥水層を形成し、幅２ｍｍの帯状の高撥水層と幅２ｍｍの低撥水層がストライプ状に交互に並んだ撥水膜が形成されたガラスを得た。
【０１２２】
乾燥・加熱条件は、撥水膜形成材料（Ｄ−１）は、大気中で約５分乾燥させた後、次の材料を塗布した。撥水膜形成材料（Ｄ−２）は、塗布後、１日大気中で放置した後、エタノールで余剰の撥水剤を洗い流した。
【０１２３】
（例１５）
酸化セリウムで研磨洗浄後、乾燥した清浄なソーダライムガラス基板（水接触角５°、１００ｍｍ×１００ｍｍ×３ｍｍ）の表面に、撥水膜形成材料（Ｆ）３ｍｌをスピンコート法（５００ｒｐｍ×５秒＋２０００ｒｐｍ×３０秒）により塗布し、乾燥後、５５０℃で６０分間焼成した後、大気中に７日間放置することで、水接触角７０°の低撥水層を形成した。
【０１２４】
この低撥水層の表面に、撥水膜形成材料（Ａ）１ｇをスキージコート法により塗布し、５０℃、６０％ＲＨに設定した恒温恒湿槽内に４８時間保持した後、イソプロパノールで余剰の撥水剤を除去して、水接触角１０８°の高撥水層を形成した。
【０１２５】
次いで、この高撥水層上に、幅２ｍｍ、長さ１００ｍｍのスリットが２ｍｍ間隔で並んだメタルマスクを重ね、このメタルマスクを介して、高撥水層の表面に、高圧水銀ランプから紫外線を３００ｍＷ／ｃｍ２で５分間照射して、照射部の高撥水層を分解除去（ＵＶ／Ｏ３洗浄）した後、５日間大気中に放置して、幅２ｍｍの帯状の高撥水層と幅２ｍｍの帯状の低撥水層がストライプ状に交互に並んだ撥水膜が形成されたガラスを得た。
【０１２６】
（例１６）
酸化セリウムで研磨洗浄後、乾燥した清浄なソーダライムガラス基板（水接触角５°、１００ｍｍ×１００ｍｍ×３ｍｍ）の表面全体に、撥水膜形成材料（Ａ）１ｇをスキージコート法により塗布し、５０℃、６０％ＲＨに設定した恒温恒湿槽内に４８時間保持した後、イソプロパノールで余剰の撥水剤を除去して、表面に水接触角１０８°の撥水膜が形成されたガラスを得た。
【０１２７】
（例１７）
酸化セリウムで研磨洗浄後、乾燥した清浄なソーダライムガラス基板（水接触角５°、１００ｍｍ×１００ｍｍ×３ｍｍ）の表面全体に、撥水膜形成材料（Ａ）１ｇをスキージコート法により塗布し、５０℃、６０％ＲＨに設定した恒温恒湿槽内に４８時間保持した後、イソプロパノールで余剰の撥水剤を除去して、水接触角１０８°の撥水層を形成した後、この撥水層の表面全体に、高圧水銀ランプから紫外線を３００ｍＷ／ｃｍ２で３分間照射して、撥水層全体を部分分解して劣化させ、表面に水接触角４０°の撥水膜が形成されたガラスを得た。
【０１２８】
（例１８）
撥水膜形成材料（Ｅ）を布に沁み込ませ、ワイプ法により高撥水層形成面に塗布し、乾燥後、余剰の撥水膜形成材料（Ｅ）を紙ウェスで乾拭きして除去し、水接触角１００°の低撥水層を形成するようにし、紫外線の照射する時間を２０分とし、撥水膜形成材料（Ｂ）の代わりに撥水膜形成材料（Ａ）を用いた以外は例１と同様にして、幅２ｍｍの帯状の高撥水層と幅２ｍｍの帯状の低撥水層がストライプ状に交互に並んだ撥水膜が形成されたガラスを得た。
【０１２９】
（例１９）
高撥水層の表面に紫外線を照射する時間を３．５分間として、水接触角３０°の低撥水層を形成した以外は例２と同様にして、幅２ｍｍの帯状の高撥水層と幅２ｍｍの帯状の低撥水層がストライプ状に交互に並んだ撥水膜が形成されたガラスを得た。
【０１３０】
（例２０）
高撥水層の表面に紫外線を照射する時間を１５分間として、水接触角４°の低撥水層を形成した以外は例２と同様にして、幅２ｍｍの帯状の高撥水層と幅２ｍｍの帯状の低撥水層がストライプ状に交互に並んだ撥水膜が形成されたガラスを得た。
【０１３１】
＜撥水性基体の評価＞
上記例１〜２０で製造されたガラスについて、下記に示す方法で、表面に形成された撥水膜の水滴滑落性を評価した。
［水滴滑落性］
ガラスを角度３０°に傾斜させた状態で、１０ｃｍ離れた位置からガラス表面（撥水膜形成面）全体に霧吹きにて５回純水を噴霧し、噴霧後のガラス越しに背景を観察し、以下の基準で目視評価を行った。
◎：水滴がほとんど付着しておらず、背景が非常に鮮明に見える
○：背景の一部が水滴により見えづらいが、実用上問題なし
△：背景の一部乃至半分程度が水滴により見えづらく、実用上問題あり
×：背景の半分以上が水滴により見えづらく、背景の観察が事実上できない
これらの評価結果を、撥水膜の構成・物性（パターン形状、パターンサイズ、形成材料、水接触角）とともに表１に示す。
【０１３２】
【表１】
2013133264.tif 000003
【０１３３】
表１から明らかなように、実施例に係る撥水膜はいずれも実用上問題のない視認性が得られるまでの水滴滑落性を備えており、特に、高撥水層と低撥水層のストライプ幅が２〜３ｍｍの範囲であって、かつ低撥水層の水接触角が６０°以上である例（例１、２、８〜１０、１３〜１５）では、極めて良好な視認性が得られている。これは、高撥水層と低撥水層のストライプ幅が２〜３ｍｍの範囲であれば、視認性に影響する水滴をほぼ完全に高撥水層から低撥水層に移動し、そして、低撥水層の水接触角が６０°以上であれば、そのように移動した水滴が低撥水層上を速やかに滑落するからと考えられる。
【産業上の利用可能性】
【０１３４】
本発明の撥水膜は、水滴滑落性に優れるとともに、水膜形成による透視歪の発生も防止されるので、高い視認性が要求される自動車、電車、船舶、航空機等の輸送機器の窓材、ミラー、建築物の窓材、浴室の鏡等の用途に有用である。その他、輸送機器のボディー、建築物の壁材等の撥水処理にも使用することができる。
【符号の説明】
【０１３５】
１…基体、２…撥水膜、３…低撥水層、４…高撥水層、１１…第１の撥水性領域（低撥水性領域）、１２…第２の撥水性領域（高撥水性領域）。
【図１】
2013133264.tif 000004
【図２】
2013133264.tif 000005
【図３】
2013133264.tif 000006
【図４】
2013133264.tif 000007