(57)【要約】【課題】ガラスブランクスの内部に歪みが少なく、ガラス基板の製造工程における高温熱処理工程において割れが生じにくいＨＤＤ用ガラス基板の製造方法、該製造方法により得られるガラスブランクスならびにガラス基板を提供すること。【解決手段】流出ノズルから垂下された溶融ガラスを、切断手段により切断してガラスゴブとし、ガラスゴブをプレス成型してガラスブランクスを得るブランクス成型工程を有し、切断手段により切断されたガラスゴブを、切断手段の下方に設けられた、加熱手段等により、ガラスゴブを加熱等する加熱保温工程と、ガラスゴブをプレス成型するプレス成型工程とを有するＨＤＤ用ガラス基板の製造方法、該製造方法により得られるガラスブランクスならびにガラス基板。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
流出ノズルから垂下された溶融ガラスを、切断手段により切断してガラスゴブとし、該ガラスゴブをテーブルで担持した後にプレス成型してガラスブランクスを得るブランクス成型工程を有するＨＤＤ用ガラス基板の製造方法であって、
前記切断手段により切断されたガラスゴブを、前記切断手段の下方に設けられた、加熱手段または保温手段により、ガラスゴブを加熱または保温する加熱保温工程と、
前記ガラスゴブをプレス成型するプレス成型工程と、を有するＨＤＤ用ガラス基板の製造方法。
【請求項２】
前記加熱手段が、ガスバーナまたはヒータの少なくとも一方である請求項１記載のＨＤＤ用ガラス基板の製造方法。
【請求項３】
前記保温手段が、断熱材である請求項１記載のＨＤＤ用ガラス基板の製造方法。
【請求項４】
前記ガラスゴブの１１００℃における粘度ｌｏｇηａと、１５００℃における粘度ｌｏｇηｂとの差Δが２．０ｄＰａ・ｓ以上である請求項１〜３のいずれか１項に記載のＨＤＤ用ガラス基板の製造方法。
【請求項５】
前記溶融ガラスのガラス転移温度（Ｔｇ）が、Ｔｇ＞６００℃である請求項１〜４のいずれか１項に記載のＨＤＤ用ガラス基板の製造方法。
【請求項６】
アシスト記録用ＨＤＤ用ガラス基板の製造方法である請求項１〜５のいずれか１項に記載のＨＤＤ用ガラス基板の製造方法。
【請求項７】
化学強化工程をさらに有する請求項１〜６のいずれか１項に記載のＨＤＤ用ガラス基板の製造方法。
【請求項８】
前記溶融ガラスを構成するガラス素材が、１５〜３０モル％のアルカリ土類金属酸化物を含む請求項１〜７のいずれか１項に記載のＨＤＤ用ガラス基板の製造方法。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載のＨＤＤ用ガラス基板の製造方法により製造されるＨＤＤ用ガラスブランクスであって、
中心孔を有し、該中心孔の半径をｒ０、ガラスブランクスの半径をｒ１としたとき、下記式（Ｉ）により定義される半径ｒの位置の全周において、記録面に対して垂直方向に直線偏光を入射したときのリタデーション量の最大値が２０ｎｍ／ｍｍ以下であるＨＤＤ用ガラスブランクス。
ｒ＝ｒ０＋（ｒ１−ｒ０）／２  ・・・  （Ｉ）
【請求項１０】
請求項１〜８のいずれか１項に記載のＨＤＤ用ガラス基板の製造方法により製造されるＨＤＤ用ガラス基板であって、
中心孔を有し、該中心孔の半径をｒ０’、ガラス基板の半径をｒ１’としたとき、下記式（ＩＩ）により定義される半径ｒ’の位置の全周において、記録面に対して垂直方向に直線偏光を入射したときのリタデーション量の最大値が１ｎｍ／ｍｍ以下であることを特徴とするＨＤＤ用ガラス基板。
ｒ’＝ｒ０’＋（ｒ１’−ｒ０’）／２  ・・・  （ＩＩ）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＨＤＤ用ガラス基板の製造方法、該製造方法により得られるＨＤＤ用ガラスブランクスならびにＨＤＤ用ガラス基板に関する。より詳細には、ガラスブランクスの内部に歪みが少なく、ガラス基板の製造工程における高熱が付与される工程において割れが生じにくいＨＤＤ用ガラス基板の製造方法、該製造方法により得られるＨＤＤ用ガラスブランクスならびにＨＤＤ用ガラス基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、情報記録媒体を搭載したディスク装置（たとえばハードディスクドライブ  ＨＤＤ）の高性能化に伴い、使用されるメディアに求められる品質水準が高まっている。なお、メディアとは、ＨＤＤ用ガラス基板（以下、単にガラス基板という場合がある）に磁性材料を成膜したディスクをいう。
【０００３】
ＨＤＤの記憶容量を飛躍的に増大させるために、微細な磁性粒子が使用されている。しかしながら、従来使用されているＣｏ系の磁性材料の微細な粒子は、保磁力が比較的弱いため、周囲の熱の影響を受けて記録データが消滅する、いわゆる「熱揺らぎ」を起こす可能性がある。そこで、保磁力の高い磁性材料を用いることが検討されている。保磁力の高い磁性材料は、成膜後に高温熱処理を施す方法（アシスト記録、熱アシスト方式）を採用することにより、耐熱性の高い磁性膜を形成することができ、「熱揺らぎ」を解消する。このように、磁性膜形成工程（特に熱アシスト方式を採用した場合）において、ガラス基板は高温の熱処理を受ける。
【０００４】
このような高温熱処理に耐え得るためには、ガラス基板の耐熱温度（ガラス転移温度、Ｔｇ）を高くする必要がある。そのための一つの手段として、ガラス基板を構成するガラス素材として、アルカリ土類金属酸化物の含有比率を大きくする方法などが挙げられるが、耐熱温度を高くしたガラス素材は一般的なガラス基板の材料と比較して、ガラスの粘度曲線の勾配が急になる傾向がある。すなわち、プレス成形において、溶融ノズルから溶融ガラスが吐出された後、プレス加工される過程において粘度が急激に上昇する。したがって、ガラスの粘度曲線の勾配が急であるガラスは、溶融ノズルより流出したガラス融液の固化が速いため、プレス成形時のガラスブランクスの形状制御が困難となるため、成形条件の見直しが必要であった。
【０００５】
一方、ガラス材料のプレス成形における成形条件（特に加熱条件）について検討された技術として、溶融ノズルからの溶融ガラスの吐出時におけるガラス材料の失透を低減するために、溶融ノズルの先端部をカバーで覆い、カバーをバーナーで加熱して間接的にガラス融液を加熱する技術が提案されている（特許文献１）。特許文献１の装置では、カバーからの輻射熱により、ノズルの先端部を均一に加熱して、ガラス融液の失透を抑制し、流量を調整している。
【０００６】
ところが、特許文献１に記載のような装置を用いても、上記したような耐熱温度の高い、足の短いガラス材料（すなわち、粘度曲線が急峻になるガラス材料）を用いた場合には、高温で磁性材料を製膜した場合において、わずかな変形が発生したり場合によってはガラス材料が割れる問題が発生する場合があった。ＨＤＤ用のガラス基板においてはこのようなわずかな変形も記録再生に問題となるため、良品率の低下となって問題となる。また、このような変形や割れの問題は、磁性層の製膜過程だけではなく、ガラス基板に対して化学強化工程を施す場合にも発生することが明らかになり、ガラス基板に残留する歪み（残留歪み）が原因となっていることが判明した。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平１０−１３１８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、このような従来の問題に鑑みてなされたものであり、ガラスブランクスの内部の残留歪みが少なく、ガラス基板の製造工程における高熱が付与される工程において変形や割れが生じにくいＨＤＤ用ガラス基板の製造方法、該製造方法により得られるＨＤＤ用ガラスブランクスならびにＨＤＤ用ガラス基板を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者による更なる検討の結果、このような残留歪みは大部分がプレス成形時に発生しており、非常に耐熱性が高いガラスにおいては通常のようにアニール加工（加熱による残留歪みを低減される工程）を施しても、充分に解消できていないことが明らかになった。このような残留歪みは従来は検出することが困難であり、問題として特定されていなかったが、透過光におけるリタデーション量（位相差）として検出することで残留歪みを検出することで課題を顕在化するに至った。
【００１０】
上記の課題を解決する為の本発明の一態様としては、流出ノズルから垂下された溶融ガラスを、切断手段により切断してガラスゴブとし、該ガラスゴブをテーブルで担持した後にプレス成型してガラスブランクスを得るブランクス成型工程を有するＨＤＤ用ガラス基板の製造方法であって、前記切断手段により切断されたガラスゴブを、前記切断手段の下方に設けられた、加熱手段または保温手段により、ガラスゴブを加熱または保温する加熱保温工程と、前記ガラスゴブをプレス成型するプレス成型工程と、を有するＨＤＤ用ガラス基板の製造方法である。
【００１１】
本態様によれば、このような構成を有することにより、プレス成型前のガラスゴブの温度を高くなるよう調整することができ、レス成型により得られるガラスブランクスに内部歪みが残存しにくい。その結果、高耐熱材料において、従来の手法で発生していた残留歪みを充分に解消し、後の工程において高温熱処理を経ても、変形や割れを生じにくいガラス基板とすることができる。
【００１２】
前記加熱手段は、ガスバーナまたはヒータの少なくとも一方であることが好ましい。
【００１３】
ガスバーナまたはヒータの少なくとも一方を用いることにより、切断手段により切断されたガラスゴブは、高い温度に加熱され、プレス成型時に内部に歪みを生じにくい。
【００１４】
前記保温手段は、断熱材であることが好ましい。
【００１５】
断熱材を用いることにより、切断手段により切断されたガラスゴブは、高い温度に保持され、プレス成型時に内部に歪みを生じにくい。
【００１６】
前記ガラスゴブの１１００℃における粘度ｌｏｇηａと、１５００℃における粘度ｌｏｇηｂとの差Δは、２．０ｄＰａ・ｓ以上であることが好ましい。
【００１７】
このような構成を有するガラスゴブは、プレス成型前に粘度が上昇する割合が大きく、プレス成型時には粘度が高くなり過ぎて、プレスにより内部に歪みを生じやすい。本発明は、このようなガラスゴブに対しても、プレス成型前に高温に調整できるため、得られるガラスブランクスの内部に歪みを生じにくい。
【００１８】
前記溶融ガラスのガラス転移温度（Ｔｇ）は、Ｔｇ＞６００℃であることが好ましい。
【００１９】
このような構成を有する溶融ガラスを用いて得られるガラス基板は、高温熱処理に耐え得る観点から、記憶容量の大きなディスクを製造するための材料として好ましく用いられる。本発明は、このような溶融ガラスを用いた場合において、得られるガラスブランクスの内部歪みの発生を抑制できるため、得られるガラス基板の不良が少なく、製造時の歩留まりを向上させることができる。また、このような溶融ガラスから得られるガラス基板は、高温熱処理工程である化学強化工程を行うことができ、より耐衝撃性や耐熱性等の諸物性に優れたガラス基板を得ることができる。
【００２０】
本発明のガラス基板の製造方法は、アシスト記録用ＨＤＤ用ガラス基板の製造方法であることが好ましい。
【００２１】
アシスト記録方式は、記憶容量の大きなディスクを得るために必須の記録方式である。アシスト記録方式は、高保磁力の磁性膜を備えたガラス基板を必要とする。高保磁力の磁性膜は、ガラス基板に成膜された後に、高温で熱処理される。本発明のガラス基板の製造方法により得られるガラス基板は、内部歪みが少ないため、高温熱処理において割れが少なく、効率的に熱アシスト方式により高保磁力の磁性膜を備えたガラス基板を作製し得る。そのため、アシスト記録用のＨＤＤガラス基板を製造する際に特に有用である。
【００２２】
本発明のガラス基板の製造方法は、化学強化工程をさらに有することが好ましい。
【００２３】
内部歪みの少ないガラスブランクスに対して化学強化を行うことにより、得られるガラス基板の表面が充分に強化される。その結果、ガラス基板は、耐熱性、耐衝撃性等の諸物性が向上する。
【００２４】
前記溶融ガラスを構成するガラス素材は、１５〜３０モル％のアルカリ土類金属酸化物を含むことが好ましい。
【００２５】
ガラス素材は、１５〜３０モル％のアルカリ土類金属酸化物を含むことにより、Ｔｇが向上し、かつ、溶融ガラスの溶融性が向上する。その結果、プレス成型時に粘度が低く、内部歪みがより少ないガラスブランクスを作製しやすい。
【００２６】
本発明のＨＤＤ用ガラスブランクスは、上記ＨＤＤ用ガラス基板の製造方法により製造されるＨＤＤ用ガラスブランクスであって、中心孔を有し、該中心孔の半径をｒ０、ガラスブランクスの半径をｒ１としたとき、下記式（Ｉ）により定義される半径ｒの位置の全周において、記録面に対して垂直方向に直線偏光を入射したときのリタデーション量の最大値が２０ｎｍ／ｍｍ以下であることが好ましい。
【００２７】
ｒ＝ｒ０＋（ｒ１−ｒ０）／２  ・・・  （Ｉ）
ガラスブランクスは、上記リタデーション量の最大値を有することにより、形状が安定し、高温熱処理が施された場合でも変形や割れが生じにくい。
【００２８】
本発明のＨＤＤ用ガラス基板は、上記ＨＤＤ用ガラス基板の製造方法により製造されるＨＤＤ用ガラス基板であって、中心孔を有し、該中心孔の半径をｒ０’、ガラス基板の半径をｒ１’としたとき、下記式（ＩＩ）により定義される半径ｒ’の位置の全周において、記録面に対して垂直方向に直線偏光を入射したときのリタデーション量の最大値が１ｎｍ／ｍｍ以下であることが好ましい。
【００２９】
ｒ’＝ｒ０’＋（ｒ１’−ｒ０’）／２  ・・・  （ＩＩ）
ガラス基板は、上記リタデーション量の最大値を有することにより、形状が安定し、衝撃等が加わった際に変形や割れが生じにくい。
【００３０】
リタデーション量（ｎｍ）とは、ガラスブランクスの歪み（内部歪み）を表す指標とすることができ、下記の式で表される。
【００３１】
Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
ただし、ｎｘは、ガラスブランクス（またはガラス基板）の平面方向における最も屈折率が大きい方向ｘの屈折率を表し、ｎｙは、ｘ方向と直交するｙ方向における屈折率を表し、ｄは、ガラスブランクス（またはガラス基板）の厚み（ｎｍ単位）を表す。
【００３２】
測定方法としては、前記ガラスブランクスの半径ｒ＝ｒ０＋（ｒ１−ｒ０）／２の位置の全周におけるリタデーション量を、ＰＡ−１００（フォトニクスラティス社）を用いてガラスブランクスに直線偏光を通過させ、通過後の偏光状態の変化を観察することで測定することが可能である。
【発明の効果】
【００３３】
本発明によれば、ガラスブランクスの内部に歪みが少なく、ガラス基板の製造工程における高熱が付与される工程において変形や割れが生じにくいＨＤＤ用ガラス基板の製造方法、該製造方法により得られるＨＤＤ用ガラスブランクスならびにＨＤＤ用ガラス基板を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】図１は、本発明の一実施形態（実施の形態１）のガラス基板の製造方法におけるブランクス成型工程の説明図である。
【図２】図２は、本発明の一実施形態（実施の形態１）のガラス基板の製造方法において使用するプレス機の説明図である。
【図３】図３は、本発明の一実施形態（実施の形態１）のガラス基板の製造方法において使用するプレス機の説明図である。
【図４】図４は、本発明の一実施形態（実施の形態１）のガラス基板の製造方法におけるブランクス成型工程の説明図である。
【図５】図５は、本発明の一実施形態（実施の形態１）のガラス基板の製造方法においてプレス機にプレス成型されたガラスゴブの説明図である。
【図６】図６は、本発明の一実施形態（実施の形態１）のガラスブランクスまたはガラス基板のリタデーションを測定する位置を説明する説明図である。
【図７】図７は、本発明の実施例１のガラス基板の製造方法において作製した溶融ガラスの粘度曲線である。
【発明を実施するための形態】
【００３５】
（実施の形態１）
以下、本実施形態のガラス基板の製造方法について、詳細に説明する。本実施形態は、図１に示されるように、溶融ノズル１から垂下される溶融ガラス２をブレード３で切断する際に、ブレード３よりも下方に設けられたガスバーナ４（加熱手段）で加熱し、加熱されたガラスゴブ５をプレス機６でプレス成型するブランクス成型工程を有することを特徴とする。ブランクス成型校定以外にも、本実施形態のガラス基板の製造方法は、たとえば、ブランクス成型工程の前にガラス溶融工程を有し、ブランクス成型工程の後に、熱処理工程、コアリング工程、研削工程、粗研磨工程、鏡面研磨工程、最終洗浄工程を有する。以下、本実施形態の特徴部分であるブランクス成型工程を詳述する。なお、本発明において、ガラスゴブとは、溶融ガラスがブレードにより切断された溶融ガラス塊をいう。また、ガラスブランクスとは、ガラス基板の中間成形体をいう。
【００３６】
＜ブランクス成型工程＞
ブランクス成型工程は、後述するガラス溶融工程により溶融された溶融ガラスを溶融ノズルから垂下し、ブレード（切断手段）により溶融ガラスを切断する位置よりも下方に設けられたガスバーナにより溶融ガラスを加熱する加熱工程（加熱保温工程）と、得られたガラスゴブをプレス成型するプレス成型工程とを有する。
【００３７】
溶融ガラスを構成するガラス素材の材料としては特に限定されない。たとえば、溶融ガラスを構成するガラス素材の材料としては、ソーダライムガラス、アルミノシリケートガラス、ボロシリケートガラス、Ｌｉ２Ｏ−ＳｉＯ２系ガラス、Ｌｉ２Ｏ−Ａｌ２Ｏ３−ＳｉＯ２系ガラス、Ｒ’Ｏ−Ａｌ２Ｏ３−ＳｉＯ２系ガラス（Ｒ’＝Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ）等を採用することができる。
【００３８】
なかでも、溶融ガラスを構成するガラス素材が１５〜３０モル％のアルカリ土類金属酸化物を含むことが好ましい。たとえば、５〜１５モル％のＭｇＯ、５〜１５モル％のＣａＯ、０〜５モル％のＳｒＯ、０〜５モル％のＢａＯを含むことが好ましい。また、アルカリ土類金属酸化物ではないが、ＺｎＯも同様の効果が得られるため必要に応じて含有させてもよい。以下、特に断りなく、本発明においてはＺｎＯをアルカリ土類金属酸化物として同様に扱う。
【００３９】
溶融ガラスを構成するガラス素材が上記範囲のアルカリ土類金属を含む場合、得られる溶融ガラスのＴｇが向上し、かつ、溶融ガラスの溶融性が向上する。その結果、プレス成型時に粘度が低く、内部歪みがより少ないガラスブランクスを作製しやすい。アルカリ土類金属酸化物の含有量が１５モル％未満の場合には、Ｔｇを向上させて溶融性も向上させる効果が十分に得られない傾向がある。一方、アルカリ土類金属酸化物の含有量が３０モル％を超える場合には、失透傾向が高まり、ガラスとして不安定になる傾向がある。
【００４０】
また、ガラスの溶融方法としては特に限定されず、通常は上記ガラス素材を公知の温度、時間にて高温で溶融する方法を採用することができる。
【００４１】
本実施形態のガラス基板の製造方法で使用する溶融ガラスのガラス転移温度（Ｔｇ）は、６００℃を超えることが好ましい。Ｔｇが６００℃を超える溶融ガラスを用いてガラス基板を製造した場合、得られるガラス基板は、高温熱処理に耐え得る。そのため、当該ガラス基板は、記憶容量の大きなディスクを製造するための材料として好ましく用いることができる。本実施形態のガラス基板の製造方法において、このような溶融ガラスを用いた場合には、得られるガラスブランクスの内部歪みの発生が抑制できる。そのため、得られるガラス基板は変形や割れなどの不良が少ない。その結果、本発明のガラス基板の製造方法は、製造時の歩留まりを向上させることができる。また、このような溶融ガラスから得られるガラス基板は、後述する高温熱処理工程である化学強化工程を行うことができ、より耐衝撃性や耐熱性等の諸物性に優れる。
【００４２】
溶融ガラスからガラスブランクスを得る工程について、図２〜図４により一例を説明する。図２〜図４は、ダイレクトプレス法において使用し得るプレス機を例示している。ダイレクトプレス法とは、溶融ガラスを供給し、加圧成形して製造する方法である。
【００４３】
まず、溶融ガラスは、図２に示されるように、回転テーブル６ａを有するプレス機６によりプレス成型される。溶融ガラス２は、回転テーブル６ａに並べられたプレス機下部６ｂの下型６ｃに、溶融ノズル１から垂下される。回転テーブル６ａは、制御機構（図示せず）により、矢印Ａ１の方向に回転可能に制御されている。プレス機下部６ｂは、図３に示されるように、回転テーブル６ａ上に設けられている。プレス機下部６ｂの上面には、下型６ｃがそれぞれ設けられている。
【００４４】
図４（ａ）および図４（ｂ）に示されるように、ブレード３は、溶融ノズル１から垂下された溶融ガラス２を、左右から挟んで切断する。切断された溶融ガラス２は、ガラスゴブ５となり、下型６ｃ上に載置される。ブレード３が溶融ガラス２を切断するタイミングは特に限定されない。ブレード３は、垂下される溶融ガラス２の速度および量に併せて、所定の時間間隔で駆動して、連続的に溶融ガラス２を切断し、ガラスゴブ５を作製する。下型６ｃ上に供給されたガラスゴブ５の形状は、軸対称性を有するように制御されることが好ましい。このような状態において、プレス成型されることにより、平坦度の優れた円盤状のガラスブランクス７が得られやすい。回転テーブル６ａは、下型６ｃにガラスゴブ５が載置されたことを確認してから回転する。
【００４５】
図１および図４に示されるように、本実施形態では、ブレード３の下方において、ガスバーナ４により溶融ガラス１を加熱している（加熱工程）。ガスバーナ４を設ける位置は、ブレード３により切断されたガラスゴブ５を加熱し得る位置であれば特に限定されない。ガスバーナ４は、たとえば、ブレード３の下方にのみ設けて加熱してもよく、回転テーブル６ａが回転した後に、ガラスゴブ５が移動する箇所にのみ設けて加熱してもよく、両方の位置に設けて加熱してもよい。また、ガスバーナ４の設置数は特に限定されず、１個でもよく、複数でもよい。ガスバーナ４は、プレス機６によりプレス成型される直前まで加熱し得る位置（ガスバーナ４ａ参照）に配置し、プレス成型時にプレス機と接触しないよう収容される構成を採用してもよい。
【００４６】
溶融ノズル１から垂下された、１３００〜１３５０℃の溶融ガラス２は、ガスバーナ４に加熱されて１２５０〜１３００℃程度に維持される。ガスバーナ４の噴出口の温度は、約１５００〜１６００℃である。下型６ｃを含む金型は、たとえば、５５０〜６５０℃程度に保温されている。そのため、プレス成型される時点（図５参照）において、ガラスゴブの温度は１１５０〜１２５０℃程度に維持される。図５に示されるように、ガラスゴブは、プレス機上部６ｄの上型６ｅと、ガラスゴブが載置されたプレス機下部の下型とでプレスされ、ガラスブランクスに成型される（プレス成型工程）。
【００４７】
プレス成型工程において、金型の熱伝導率が１２０Ｗ／ｍ・Ｋ以上であって、プレス時間が０．０５〜０．２０秒である突き当て成形を行うことが好ましい。このときのプレス時間としては、０．０５〜０．２０秒であることが好ましく、より好ましくは０．０８〜０．１７秒である。
【００４８】
下型と上型に加重を負荷して溶融ガラスを加圧するための加圧手段としては、公知の加圧手段を適宜採用することができる。たとえば、エアシリンダ、油圧シリンダ、サーボモータを用いた電動シリンダ等を採用することができる。
【００４９】
本実施形態のガラス基板の製造方法を用いてガラス基板を作製すれば、プレス成型前のガラスゴブの温度を上記温度に調整することができる。そのため、１１００℃における粘度ｌｏｇηａと、１５００℃における粘度ｌｏｇηｂとの差Δが２．０ｄＰａ・ｓ以上、より好ましくは２．２ｄＰａ・ｓ以上であるような、ガラスの粘度曲線の勾配が急なガラスゴブであっても、プレス成型時に内部に生じる歪みを少なくすることができる。そのため、本実施形態のガラス基板の製造方法によれば、高保磁力材料を用いて磁性膜を形成することができ、ディスクの大容量化に寄与し得る。
【００５０】
また、得られるガラス基板は、アシスト記録用ＨＤＤ用ガラス基板として使用しうる。ここで、アシスト記録方式は、記憶容量の大きなディスクを得るために必須の記録方式である。アシスト記録方式は、高保磁力の磁性膜を備えたガラス基板を必要とする。高保磁力の磁性膜は、ガラス基板に成膜された後に、高温で熱処理される。本発明のガラス基板の製造方法により得られるガラス基板は、内部歪みが少ないため、高温熱処理において変形や割れが少なく、効率的に熱アシスト方式により高保磁力の磁性膜を備えたガラス基板を作製し得る。そのため、アシスト記録用のＨＤＤガラス基板を製造する際に特に有用である。なお、熱アシスト方式については、後述する磁性膜形成工程において詳述する。
【００５１】
次に、本発明が採用し得るその他の工程について説明する。なお、本発明のガラス基板の製造方法は、上記したブランクス成型工程を有していればよく、その他の工程については、各工程において好ましい条件は存在するものの、特に限定されない。そのため、以下に説明するその他の工程は、例示であり、適宜設計変更を行うことができる。
【００５２】
＜ガラス溶融工程＞
ガラス溶融工程は、ガラス素材を溶融する工程である。ガラスの溶融方法としては特に限定されず、通常は上記したガラス素材を公知の温度、時間にて高温で溶融する方法を採用することができる。
【００５３】
＜ブランクス成型工程＞
ブランクス成型工程は、すでに上記したとおりである。本実施形態のガラス基板の製造方法によれば、プレス成型時にガラスゴブの温度が高く保持されているため、プレス成型により内部歪みを生じにくい。
【００５４】
＜熱処理工程＞
熱処理工程は、ガラスブランクスの平坦度の修正および内部歪みの除去を目的とする工程である。熱処理の方法としては特に限定されないが、たとえばセッター（アルミナ、ジルコニア等）を用いて、ガラスブランクスと交互に積み重ねて熱処理炉に入れて熱を加える方法を採用することができる。
【００５５】
熱処理の条件としては特に制限されない。たとえば、熱処理時の温度としては、ガラスブランクスのＴｇからＴｇ＋１００（℃）の温度範囲で行うことができる。当該温度範囲内で熱処理を行うことにより、ガラスブランクスの平坦度を充分に修正することができるとともに、ガラスブランクスの形状の悪化を低減し、さらにセッターとの間の融着に起因する粘着痕の発生する可能性を低減することができる。
【００５６】
＜コアリング工程＞
コアリング工程は、得られたガラスブランクスの表面の中心部にダイヤモンドコアドリルを用いて内孔（中心孔）を形成する工程である。このコアリング工程によって、ガラスブランクスの中心が決定される。なお、本実施形態において、ガラスブランクスとは、コアリング工程を終え、主平面の研削工程が行われる前のガラス成形物をいう。
【００５７】
本実施形態のガラスブランクスは、上記のとおり、ブランクス成型工程を経ることにより、内部歪みの少ないガラスブランクスである。具体的には、本実施形態のガラスブランクスは、図６（ａ）に示されるように、中心孔Ｐの半径をｒ０、ガラスブランクスの半径をｒ１としたとき、下記式（Ｉ）により定義される半径ｒの位置の全周において、主表面（記録面）に対して垂直方向に直線偏光を入射したときのリタデーション量の最大値が２０ｎｍ／ｍｍ以下である。より好ましくは、リタデーション量の最大値は、１５ｎｍ／ｍｍ以下である。
【００５８】
ｒ＝ｒ０＋（ｒ１−ｒ０）／２  ・・・  （Ｉ）
リタデーション量（Ｒｅ）とは、ガラスブランクスやガラス基板の歪み（内部歪み）を表す指標であり、下記の式で表される。
【００５９】
Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
（ただし、ｎｘは、ガラスブランクス（またはガラス基板）の平面方向における最も屈折率が大きい方向ｘの屈折率を表し、ｎｙは、ｘ方向と直交するｙ方向における屈折率を表し、ｄは、ガラスブランクス（またはガラス基板）の厚み（ｎｍ）を表す）。
【００６０】
ガラスブランクスやガラス基板の内部に歪み（応力バラツキ）があると、ガラスブランクスやガラス基板の各所で、方向によって屈折率が異なる。そのため、リタデーション量を測定することにより、内部歪みを測定することができる。
【００６１】
測定方法としては、前記ガラスブランクスの半径ｒの位置の全周におけるリタデーション量を、ＰＡ−１００（フォトニクスラティス社）を用いてガラスブランクスに直線偏光を通過させ、通過後の偏光状態の変化を観察すること方法を採用することができる。
【００６２】
また、リタデーション量を小さく抑えることで、通常のＨＤＤで一般に用いられるような周方向で線状にて押しつけるクランプ方式において、クランプによって発生する記録媒体の歪みを少なくすることができ、耐衝撃性をより一層向上させることができる。
【００６３】
以上のように、ガラスブランクスの作製時においてリタデーション量を所定の範囲内に作製すれば、それを用いて製造されたＨＤＤ用ガラス基板のリタデーション量は、おのずと小さくなる。その結果、ガラスブランクスの内部歪みが少なくなるため、ガラスブランクスの耐衝撃性が向上する。
【００６４】
＜研削工程＞
研削工程は、得られたガラス基板の両主表面について、形状測定工程と同様に、ラッピング加工を行う工程である。この研削工程を行うことにより、前工程であるコアリング工程や形状測定工程において、主表面に形成された微細な凹凸形状をあらかじめ除去することができ、後続する両主表面に対する研磨工程を短時間で完了させることができる。
【００６５】
＜粗研磨工程＞
粗研磨工程は、後続する鏡面研磨工程において最終的に必要とされる面粗さが効率よく得られるように、ガラス基板の両主表面を研磨剤スラリーを用いて研磨加工する工程である。この工程で採用される研磨方法としては特に限定されず、両面研磨機を用いて研磨することが可能である。
【００６６】
使用する研磨パッドは、研磨パッドの硬度が研磨による発熱により低下すると研磨面の形状変化が大きくなるため、硬質パッドを使用することが好ましく、たとえば発泡ウレタンを使用することが好ましい。研磨液は、平均一次粒子径が０．６〜２．５μｍの酸化セリウムを使用し、酸化セリウムを溶媒に分散させてスラリー状にしたものが好ましい。溶媒としては特に限定されず、中性の水や、酸性・アルカリ性の水溶液を採用することができる。また、これら溶媒には、分散剤を添加することができる。溶媒と酸化セリウムとの混合比率は、１：９〜３：７程度である。平均一次粒子径が０．６μｍ未満の場合には、研磨パッドは、両主表面を良好に研磨できない傾向がある。一方、平均一次粒子径が２．５μｍを超える場合には、研磨パッドは、端面の平坦度を悪化させたり、傷を発生する可能性がある。
【００６７】
研磨剤スラリーの供給量としては特に限定されず、たとえば、５〜１０Ｌ／分である。
【００６８】
粗研磨工程におけるガラス基板の研磨量は、２５〜４０μｍ程度とするのが好ましい。ガラス基板の研磨量が２５μｍ未満の場合には、キズや欠陥が充分に除去されない傾向がある。一方、ガラス基板の研磨量が４０μｍを超える場合には、ガラス基板は、必要以上に研磨されることになり、製造効率が低下する傾向がある。
【００６９】
粗研磨工程を終えたガラス基板は、中性洗剤、純水、ＩＰＡ等で洗浄することが好ましい。
【００７０】
＜鏡面研磨工程＞
鏡面研磨工程は、ガラス基板の両主表面をさらに精密に研磨加工する工程である。鏡面研磨工程では、粗研磨工程で使用する両面研磨機と同様の両面研磨機を使用することができる。
【００７１】
研磨パッドは、粗研磨工程で使用する研磨パッドよりも低硬度の軟質パッドを使用することが好ましく、例えば発泡ウレタンやスウェードを使用するのが好ましい。
【００７２】
研磨剤スラリーとしては、粗研磨工程と同様の酸化セリウム等を含有するスラリーを用いることができる。ただし、ガラス基板の表面をより滑らかにするために、砥粒の粒径がより細かくバラツキが少ない研磨剤スラリーを用いるのが好ましい。たとえば、平均粒径が４０〜７０ｎｍのコロイダルシリカを溶媒に分散させてスラリー状にしたものを研磨剤スラリーとして用いることが好ましい。溶媒としては特に限定されず、中性の水や、酸性・アルカリ性の水溶液を採用することができる。また、これら溶媒には、分散剤を添加することができる。溶媒とコロイダルシリカとの混合比率は、１：９〜３：７程度が好ましい。
【００７３】
研磨剤スラリーの供給量としては特に限定されず、たとえば、０．５〜１Ｌ／分である。
【００７４】
鏡面研磨工程での研磨量は、２〜５μｍ程度とするのが好ましい。研磨量をこのような範囲とすることにより、得られるガラス基板は、ガラス基板の表面に発生した微小な荒れやうねり、あるいはこれまでの工程で発生した微小なキズ痕といった微小欠陥が良好に除去される。その結果、本発明のガラス基板の製造方法は、得られるガラス基板の平坦度を向上させることができ、端部領域において磁気ヘッドがより安定して浮上し得るガラス基板を作製することができる。
【００７５】
また、本工程では、鏡面研磨工程の研磨条件を適宜調整することにより、ガラス基板の両主表面の平坦度を３μｍ以下、ガラス基板の両主表面の面粗さＲａを０．１ｎｍまで小さくすることができる。
【００７６】
＜化学強化工程＞
化学強化工程は、ガラス基板を強化処理液に浸漬し、ガラス基板の耐衝撃性、耐振動性及び耐熱性等を向上させる工程である。
【００７７】
化学強化工程は、ガラス基板に化学強化を施す工程である。化学強化に用いる強化処理液としては、たとえば、硝酸カリウム（６０％）と硝酸ナトリウム（４０％）の混合溶液などを挙げることができる。化学強化においては、強化処理液を３００℃〜４００℃に加熱し、ガラス基板を２００〜３００℃に予熱し、強化処理液中に３〜４時間浸漬することによって行うことができる。この浸漬の際に、ガラス基板の両主表面全体が化学強化されるように、複数のガラス基板の端面を保持するホルダに収納した状態で行うことが好ましい。
【００７８】
なお、化学強化工程後に、ガラス基板を大気中に待機させる待機工程や、水浸漬工程を採用して、ガラス基板の表面に付着した強化処理液を除去するとともに、ガラス基板の表面を均質化することが好ましい。このような工程を採用することにより、化学強化層が均質に形成され圧縮歪が均質となり変形が生じ難く平坦度が良好で、機械的強度も良好となる。待機時間や水浸漬工程の水温は特に限定されず、たとえば大気中に１〜６０秒待機させ、３５〜１００℃程度の水に浸漬させるとよく、製造効率を考慮して適宜決めればよい。
【００７９】
＜最終洗浄工程＞
最終洗浄工程は、ガラス基板を洗浄し、清浄にする工程である。洗浄方法としては特に限定されず、鏡面研磨工程後のガラス基板の表面を清浄にできる洗浄方法であればよい。本発明では、スクラブ洗浄を採用する。
【００８０】
洗浄されたガラス基板は、必要に応じて超音波による洗浄および乾燥工程を行う。乾燥工程は、ガラス基板の表面に残る洗浄液をイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）等により除去した後、ガラス基板の表面を乾燥させる工程である。たとえば、スクラブ洗浄後のガラス基板に水リンス洗浄工程を２分間行ない、洗浄液の残渣を除去する。次いで、ＩＰＡ洗浄工程を２分間行い、ガラス基板の表面に残る水をＩＰＡにより除去する。最後に、ＩＰＡ蒸気乾燥工程を２分間行い、ガラス基板の表面に付着している液状のＩＰＡをＩＰＡ蒸気により除去しつつ乾燥させる。ガラス基板の乾燥工程としては特に限定されず、たとえばスピン乾燥、エアーナイフ乾燥などの、ガラス基板の乾燥方法として公知の乾燥方法を採用することができる。
【００８１】
＜検査工程＞
検査工程は、上記工程を経たガラス基板に対して、キズ、割れ、異物の付着等の有無を検査する工程である。検査は、目視や光学表面アナライザ（たとえば、ＫＬＡ−ＴＥＮＣＯＬ社製の「ＯＳＡ６１００」）を用いて行う。検査後、ガラス基板は、異物等が表面に付着しないように、清浄な環境中で、専用収納カセットに収納され、真空パックされた後、出荷される。
【００８２】
以上、上記工程を経て得られた本実施形態のガラス基板は、上記のとおり、内部歪みの少ないガラスブランクスを研削、研磨等して得られたガラス基板である。そのため、本実施形態のガラス基板は、図６（ｂ）に示されるように、中心孔Ｐ’の半径をｒ’０、ガラス基板の半径をｒ’１としたとき、下記式（ＩＩ）により定義される半径ｒ’の位置の全周において、主表面（記録面）に対して垂直方向に直線偏光を入射したときのリタデーション量の最大値が１ｎｍ／ｍｍ以下である。より好ましくは、リタデーション量の最大値は、０．８ｎｍ／ｍｍ以下である。
【００８３】
ｒ’＝ｒ０’＋（ｒ１’−ｒ０’）／２  ・・・  （ＩＩ）
リタデーション量（Ｒｅ）の定義および測定方法としては、すでに上記したとおりである。
【００８４】
以上のように、ガラス基板の作製時においてリタデーション量を所定の範囲内に作製すれば、内部歪みが少なくなる。そのため、ガラス基板の耐衝撃性が向上し、変形や割れが生じにくい。
【００８５】
＜磁性膜形成工程＞
磁性膜形成工程は、蒸着装置を用いてガラス基板に磁性膜を形成する工程である。磁性膜の形成方法としては特に限定されず、従来公知の方法を採用することができる。たとえば、磁性粒子を分散させた熱硬化性樹脂を基板上にスピンコートして形成する方法や、スパッタリング、無電解めっきにより形成する方法を採用することができる。スピンコート法での膜厚は約０．３〜１．２μｍ程度、スパッタリング法での膜厚は０．０４〜０．０８μｍ程度、無電解めっき法での膜厚は０．０５〜０．１μｍ程度である。これらの形成方法により磁性膜を成膜する場合、ガラス基板は、２５０〜３５０℃程度に保持される。
【００８６】
磁性膜に用いる磁性材料としては特に限定されず、従来公知の磁性材料を用いることができる。高い保磁力を得るために、結晶異方性の高いＣｏを基本とし、残留磁束密度を調整する目的でＮｉやＣｒを加えたＣｏ系合金などを用いることができる。
【００８７】
また、アシスト記録用のメディアを作製する場合には、Ｃｏ−Ｐｔ合金のように、遷移金属元素と貴金属元素とからなる合金であって、遷移金属元素（Ｃｏ）と貴金属元素（Ｐｔ）との原子含有量がほぼ等しい合金や、遷移金属元素（Ｃｏ）と貴金属元素（Ｐｔ）との原子含有量がほぼ等しく、かつ、Ｎｉの原子含有量が０．１％以上５０％以下であるＣｏ−Ｎｉ−Ｐｔ合金や、遷移金属元素（Ｃｏ及びＮｉ）と貴金属元素（Ｐｔ）との原子含有量がほぼ等しいＣｏ−Ｎｉ−Ｐｔ合金や、Ｆｅ−Ｐｔ−Ａｇ合金、Ｆｅ−Ｐｔ合金と、Ｃｕ酸化物とを含有した薄膜を形成することが好ましい。この場合、薄膜の下部には、ソフト磁性層（保磁力の小さな材料、Ｃｏ系アモルファスなど）を積層することが好ましい。以下、たとえばＦｅ−Ｐｔ合金を採用する場合について説明する。
【００８８】
Ｆｅ−Ｐｔ合金と、Ｃｕ酸化物とを含有した薄膜において、薄膜中のＦｅとＰｔとの含有比率は、モル比でＦｅ：Ｐｔ＝４５〜５５：５５〜４５程度であることが好ましい。
【００８９】
また、Ｆｅ−Ｐｔ合金とＣｕ酸化物とを含有した薄膜をスパッタリング法で成膜する場合、たとえば、Ｆｅ、ＰｔおよびＣｕ酸化物をそれぞれターゲットとした同時スパッタリング製膜によって作製することができる。この際、ＦｅおよびＰｔにかえてＦｅ−Ｐｔ合金をターゲットとしてスパッタリング製膜してもよい。Ｆｅ−Ｐｔ合金をターゲットとしてスパッタリング製膜する場合は、Ｆｅ−Ｐｔの組成比を固定しやすい。
【００９０】
Ｃｕ酸化物は、Ｃｕの酸化物であれば特に限定されず、ＣｕＯやＣｕＯ２、またはこれらの混合物を用いることができる。Ｆｅ−Ｐｔ合金にＣｕ酸化物を添加することによって、製膜時の結晶粒サイズを低下させることができる。さらに、製膜時の結晶粒サイズを抑制し、結晶粒間に作用する引っ張り応力を誘起することによって、急速加熱による高配向、高規則化を促進することができる。Ｃｕ酸化物を添加する方法は特に限定されず、たとえば、あらかじめＣｕ酸化物を混合した材料をターゲットとしてスパッタリング製膜してもよく、別途Ｃｕ酸化物をターゲットとしてその他のターゲットと同時スパッタリング製膜してもよい。
【００９１】
薄膜を構成する材料のうち、Ｃｕ含有量は、Ｆｅ−Ｐｔ合金とＣｕ酸化物との合計量に対して、ＣｕＯ換算で１０体積％以上２０体積％以下となる量であることが好ましい。
【００９２】
アシスト記録用のメディアを作製する場合、成膜後のガラス基板は、加熱される。加熱により、薄膜は磁気記録層として機能し得る。
【００９３】
加熱工程における加熱速度は、３０℃／秒以上であることが好ましく、より好ましくは５０℃／秒以上である。加熱速度を速くすると、保磁力が減少する傾向がある。
【００９４】
加熱工程における加熱方法は特に限定されない。加熱方法としては、たとえば、赤外線加熱を挙げることができる。
【００９５】
加熱工程では、ガラス基板は、たとえば５５０〜６５０℃に加熱された後に、所定の時間保持することが好ましい。保持時間としては、たとえば１５分〜１時間である。
【００９６】
以上の方法により、ガラス基板に磁性膜を形成することができる。
【００９７】
また、磁気ヘッドの滑りをよくするために、磁性膜の表面に潤滑剤をコーティングしてもよい。
【００９８】
さらに必要に応じて、磁性膜には、下地層や保護層を設けてもよい。下地層および保護層は、磁性膜の種類に応じて選択される。
【００９９】
なお、本発明は、ＨＤＤの製造方法に限定されるものではなく、たとえば、光磁気ディスクや光ディスク等の製造方法としても用いることができる。
【０１００】
また、本発明は、必要に応じて、研削工程を２つの工程に分けて順次行ったり、化学強化工程をコアリング工程、研削工程、粗研磨工程、鏡面研磨工程のいずれの工程の後に行ってもよく、適宜設計変更が可能である。
【０１０１】
さらに、本発明は、ガラス基板に生じた傷のエッジ緩和処理として、ガラス基板をフッ化水素浸漬処理に供してもよい。
【０１０２】
以上、本実施形態のガラス基板の製造方法によれば、ガラスブランクスの内部に歪みが少なく、ガラス基板の製造工程における高熱が付与される工程において変形や割れが生じにくいガラス基板の製造方法を提供することができる。
（実施の形態２）
本実施形態のガラス基板の製造方法は、ブランクス成型工程の加熱工程（加熱保温工程）において、ブレードにより溶融ガラスを切断する位置よりも下方に設けられたヒータにより溶融ガラスを加熱している以外は、実施の形態１のガラス基板の製造方法と同じである。そのため、重複する工程については説明を省略する。
【０１０３】
ヒータとしては特に限定されず、公知の各種のヒータの中から適宜選択して用いることができる。たとえば、溶融ノズルから溶融している溶融ガラスの周囲に設けられた部材の内部に埋め込んで使用するカートリッジヒータや、当該部材の外側に接触させて使用するシート状のヒータなどを用いることができる。また、温度センサとしては、種々の熱電対のほか、白金測温抵抗体、各種サーミスタ等公知のセンサを用いることができる。具体的には、二珪化モリブデンヒータなどを使用することができる。
【０１０４】
ヒータは、実施の形態１のガスバーナと同様の位置に設けることができる。ブレードの下方にヒータを設ける場合、ヒータの設定温度としては、たとえば１５００〜１６００℃程度とすることが好ましい。また、ヒータの設置数は特に限定されず、１個でもよく、複数でもよい。ブレードの下方にのみ設けてもよく、回転移動した金型の周囲にのみ設けてもよく、それら両方の位置に設けてもよい。溶融ノズルから垂下された、１３００〜１３５０℃の溶融ガラスは、ブレードに切断されたのち、ヒータに加熱されるため、プレス成型される時点で、１１５０〜１２５０℃程度に維持される。
（実施の形態３）
本実施形態のガラス基板の製造方法は、ブランクス成型工程の加熱工程（加熱保温工程）において、ブレードにより溶融ガラスを切断する位置よりも下方に設けられた断熱材により溶融ガラスを保温している以外は、実施の形態１のガラス基板の製造方法と同じである。そのため、重複する工程については説明を省略する。なお、上記のとおり、本実施形態では、ガラスゴブを加熱ではなく保温している。そのため、加熱工程ではなく、保温工程（加熱保温工程）と称する。
【０１０５】
断熱材としては特に限定されず、気相を多く抱き込んで熱伝導率を低下させることができるものを採用することができる。たとえば、グラスウール、各種の繊維類、アルミナシリカ、多孔質セラミックス、ポリウレタンフォーム等を採用することができる。他にも、断熱材としては、熱遮断性のよい材料を採用することができる。たとえば、合成樹脂であれば、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリアミド、ポリフェニレンサルファイト、ポリブチレンテレフタレート、フェノール樹脂等を採用することができる。
【０１０６】
断熱材は、実施の形態１のガスバーナと同様の位置に設けることができる。すなわち、ブレードの下方のみを断熱材で覆ってもよく、回転移動した金型の周囲のみを覆ってもよく、それら両方の位置に設けてガラスゴブの周囲を覆ってもよい。ほかにも、金型の周囲を覆うように設けることができる。この場合、プレス成型前に、断熱材を取り外す機構を設けるか、プレス成型時に邪魔にならない位置に設けることが好ましい。
【０１０７】
溶融ノズルから垂下された、１３００〜１３５０℃の溶融ガラスは、ブレードに切断されたのち、断熱材に保温されるため、プレス成型される時点で、１１３０〜１２００℃程度に維持される。
【実施例】
【０１０８】
以下、本発明のガラス基板の製造方法を実施例により詳述する。なお、本発明のガラス基板の製造方法は、以下に示す実施例になんら限定されるものではない。
【０１０９】
＜実施例１＞
以下の方法によりガラス基板を作製した。
【０１１０】
［ガラス溶融工程］
ガラス素材として、６５モル％のＳｉＯ２、２モル％のＡｌ２Ｏ３、３モル％のＮａ２Ｏ、５モル％のＫ２Ｏ、６モル％のＭｇＯ、１４モル％のＣａＯ、５モル％のＺｒＯ２を含むアルミノシリケートガラスを溶融させて、溶融ガラス（Ｔｇ：６７０℃）を作製した。この溶融ガラスの粘度曲線を図７に示す。粘度曲線は、白金球引き上げ法により作成した。
【０１１１】
［ブランクス成型工程］
溶融ガラスを１３００℃で溶融ノズルより流出させた。この溶融ガラスの粘度は、２．７ｄＰａ・ｓであった。一対のブレードで、１０ｇごとに溶融ガラスを切断し、ガラスブランクスを得た。ブレードは平面視形状がＶ字形状となっているものを選択し、Ｖ字の内角を８０°とした。Ｖ字が交わる部分の平面視形状は円弧形状のものを用いた。ブレードの下方に設けた一対のガスバーナ（噴出口の設定温度：１５００℃）によりガラスゴブを両端から挟むように加熱した。得られたガラスゴブのプレス成型直前における粘度は３．５ｄＰａ・ｓであった。図７より、この時点におけるガラスゴブの温度は、約１１８０℃であった。ガラスゴブの温度は、放射温度計（コニカミノルタ（株）製、ＩＲ−６３０）を用いて測定した。
【０１１２】
プレス成型は、下型成形面の中央に供給したガラスゴブを下型に対向する上型を用い、上型および下型の金型には熱伝導率が１５０Ｗ／ｍ・Ｋのタングステン系材料を用いた。またプレス時間は１秒間とし、成形後のブランクスの板厚が均等となるように突き当て成形を行った。
【０１１３】
［熱処理工程］
得られたガラスブランクスに対して、内部歪みを除去するために６７０℃にて３時間の熱処理を行った。
【０１１４】
［コアリング工程］
円筒状のダイヤモンド砥石を備えたコアドリルを用いてブランクスの中心部に直径が約１９．６ｍｍの円形の中心孔を開けた。鼓状のダイヤモンド砥石を用いて、ブランクスの外周端面および内周端面を、外径６５ｍｍ、内径２０ｍｍに内・外径加工した。
【０１１５】
得られたガラスブランクスについて、中心孔からｒの位置におけるリタデーションを測定した。リタデーションの測定方法は、すでに上記したとおりである。ガラスブランクスのリタデーションは、１６ｎｍであった。
【０１１６】
［研削工程］
得られたガラス基板の両表面を、両面研削機（浜井産業（株）製、１６Ｂタイプ）を用いて研削加工した。研削条件として、ダイヤモンドペレットは＃１７００メッシュのものを用い、加重は１００ｇ／ｃｍ２とし、上定盤の回転数は２０ｒｐｍとし、下定盤の回転数は３０ｒｐｍとした。
【０１１７】
［粗研磨工程］
ガラス基板の両主表面を、両面研磨機（浜井産業（株）製、１６Ｂタイプ）を用いて粗研磨加工した。研磨パッドには発泡ウレタンパッドを、砥粒には平均一次粒子径１μｍの酸化セリウム砥粒を用い、水と酸化セリウムとの混合比率は、８０：２０とした。さらに硫酸を含有する調整液でｐＨを調整した。また、加重は１００ｇ／ｃｍ２とした。研磨剤スラリーの供給量は、５〜１０Ｌ／分とした。
【０１１８】
［鏡面研磨工程］
ガラス基板の両主表面を、両面研磨機（浜井産業（株）製、１６Ｂタイプ）を用いてさらに精密に研磨加工した。研磨剤スラリーは、平均一次粒子径が２０ｎｍのコロイダルシリカを砥粒として水に分散させてスラリー状にしたものを用い、水とコロイダルシリカとの混合比率は、８０：２０とした。さらに硫酸を含有する調整液でｐＨを調整した。また、加重は１２０ｇ／ｃｍ２とした。研磨剤スラリーの供給量は、０．５〜１Ｌ／分とした。本工程では、ガラス基板１００枚を１バッチとし、５バッチずつ加工した。得られたガラス基板のＲａは２Å以下であった。
【０１１９】
［化学強化工程］
硝酸カリウムを５００℃にて溶融し、ガラス基板を１時間浸漬させた。
【０１２０】
［最終洗浄工程］
ガラス基板をスクラブ洗浄した。洗浄液として、ＫＯＨとＮａＯＨとを質量比で１：１に混合したものを超純水（ＤＩ水）で希釈し、洗浄能力を高めるために非イオン界面活性剤を添加して得られた液体を用いた。洗浄液の供給は、スプレー噴霧によって行った。スクラブ洗浄後、ガラス基板の表面に残る洗浄液を除去するために、水リンス洗浄工程を超音波槽で２分間行い、ＩＰＡ洗浄工程を超音波槽で２分間行い、最後に、ＩＰＡ蒸気によりガラス基板の表面を乾燥させた。
【０１２１】
得られたガラス基板について、中心孔からｒ’の位置におけるリタデーションを測定した。リタデーションの測定方法は、すでに上記したとおりである。ガラス基板のリタデーションは、０．６ｎｍであった。
【０１２２】
［磁性膜形成工程］
Ｆｅ−Ｐｔ合金をスパッタリング法により成膜し、その後、熱処理（６００℃、１時間）を行って、磁性膜を形成した。
【０１２３】
＜実施例２＞
実施例１において上記した工程のうちブランクス成型工程における加熱方法を、二珪化モリブデンヒータ（ヒータ設定温度：１５００℃）に変更した以外は、実施例１と同様の方法によりガラス基板を作製した。得られたガラスゴブのプレス成型直前における粘度は３．４ｄＰａ・ｓであった。図７より、この時点におけるガラスゴブの温度は、約１２００℃であった。ガラスブランクスのリタデーションは、１５ｎｍであった。ガラス基板のリタデーションは、０．２ｎｍであった。
【０１２４】
＜実施例３＞
実施例１において上記した工程のうちブランクス成型工程における加熱方法を、アルミナシリカの断熱材に変更した以外は、実施例１と同様の方法によりガラス基板を作製した。得られたガラスゴブのプレス成型直前における粘度は３．９ｄＰａ・ｓであった。図７より、この時点におけるガラスゴブの温度は、約１１４０℃であった。ガラスブランクスのリタデーションは、１８ｎｍであった。ガラス基板のリタデーションは、０．９ｎｍであった。
【０１２５】
＜実施例４＞
実施例１において上記した工程のうちブランクス成型工程における加熱方法において、ガスバーナによる加熱位置をプレス機の左右とした以外は、実施例１と同様の方法によりガラス基板を作製した。得られたガラスゴブのプレス成型直前における粘度は３．３ｄＰａ・ｓであった。図７より、この時点におけるガラスゴブの温度は、約１２１０℃であった。ガラスブランクスのリタデーションは、１２ｎｍであった。ガラス基板のリタデーションは、０．１ｎｍであった。
【０１２６】
＜実施例５＞
実施例１において上記した工程のうちブランクス成型工程における加熱方法において、さらに、プレス機の左右にガスバーナを設置して加熱した以外は、実施例１と同様の方法によりガラス基板を作製した。得られたガラスゴブのプレス成型直前における粘度は３．１ｄＰａ・ｓであった。図７より、この時点におけるガラスゴブの温度は、約１２４０℃であった。ガラスブランクスのリタデーションは、７ｎｍであった。ガラス基板のリタデーションは、０．１ｎｍであった。
【０１２７】
＜比較例１＞
実施例１において上記した工程のうちブランクス成型工程における加熱方法において、ガスバーナによる加熱位置をブレードの上方である溶融ノズルの出口付近とした以外は、実施例１と同様の方法によりガラス基板を作製した。得られたガラスゴブのプレス成型直前における粘度は４．１ｄＰａ・ｓであった。図７より、この時点におけるガラスゴブの温度は、約１１２０℃であった。ガラスブランクスのリタデーションは、２１ｎｍであった。ガラス基板のリタデーションは、１．２ｎｍであった。
【０１２８】
＜比較例２＞
実施例１において上記した工程のうちブランクス成型工程における加熱方法において、アルミナシリカの断熱材を、ブレードの上方である溶融ノズルの出口付近に設置した以外は、実施例１と同様の方法によりガラス基板を作製した。得られたガラスゴブのプレス成型直前における粘度は４．４ｄＰａ・ｓであった。図７より、この時点におけるガラスゴブの温度は、約１０８０℃であった。ガラスブランクスのリタデーションは、３０ｎｍであった。ガラス基板のリタデーションは、３．７ｎｍであった。
【０１２９】
＜比較例３＞
実施例１において上記した工程のうちブランクス成型工程における加熱方法において、加熱および保温を行わなかった以外は、実施例１と同様の方法によりガラス基板を作製した。得られたガラスゴブのプレス成型直前における粘度は５．０ｄＰａ・ｓであった。図７より、この時点におけるガラスゴブの温度は、約１０３０℃であった。ガラスブランクスのリタデーションは、５３ｎｍであった。ガラス基板のリタデーションは、１０．６ｎｍであった。
【０１３０】
実施例１〜５および比較例１〜３で得られたガラス基板について、化学強化工程の良品率、成膜工程の良品率を測定した。試験方法を以下に示すとともに、結果を表１に示す。
【０１３１】
［化学強化工程の良品率］
化学強化工程後のガラス基板の変形発生有無と割れや欠けといった欠陥発生を検査した。変形有無については、微小うねりをＺｙｇｏ社製  光学計測機Ｎｅｗｖｉｅｗを用いて計測し、平坦度をＰｈａｓｅ  Ｓｈｉｆｔ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ社製  平坦度計測機Ｏｐｔｉｆｌａｔを用いて測定し、化学強化前のガラス基板と比較して形状に差がないものを良品としてカウントした。割れや欠けについては目視で検査した。良品率は、１００枚を１バッチとして検査を行い、全サンプル中の良品の数を良品率として表した。
【０１３２】
［成膜効率の良品率］
成膜工程後のガラス基板の変形発生有無と割れや欠けといった欠陥発生を検査した。変形については、上記と同様の方法で測定し、成膜前のガラス基板と比較して形状に差がないものを良品としてカウントした。割れや欠けについては目視で検査した。良品率は、１００枚を１バッチとして検査を行い、全サンプル中の良品の数を良品率として表した。
【０１３３】
【表１】
2013133249.tif 000003
【０１３４】
表１に示されるように、実施例１〜４の方法により作製したガラスブランクスおよびガラス基板は、リタデーション量が小さく、高温熱処置である化学強化工程や成膜工程において良品率が９８％以上であった。一方、ブレードの上方で加熱または保温した比較例１または比較例２の方法に作製したガラスブランクスおよびガラス基板は、リタデーション量が大きく、高温熱処置である化学強化工程や成膜工程において良品率が５２〜８７％と低くなった。加熱・保温工程を設けなかった比較例３の方法に作製したガラスブランクスおよびガラス基板は、リタデーション量が大きく、高温熱処置である化学強化工程や成膜工程において良品率がそれぞれ３％、４１％と低くなった。
【符号の説明】
【０１３５】
１  溶融ノズル
２  溶融ガラス
３  ブレード
４  ガスバーナ
５  ガラスゴブ
６  プレス機
６ａ  回転テーブル
６ｂ  プレス機下部
６ｃ  下型
６ｄ  プレス機上部
６ｅ  上型
７  ガラスブランクス
【図２】
2013133249.tif 000004
【図３】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図１】
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【図４】
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