(57)【要約】【課題】高精細なパターニングで印刷を行うことができるインキ組成物，印刷方法および表示装置の製造方法を提供する【解決手段】本技術のインキ組成物は、有機材料と、双極子モーメントが１．３以上３．０以下であると共に、分子骨格にπ共有結合を有する溶媒とを含む。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機材料と、
双極子モーメントが１．３以上３．０以下であると共に、分子骨格にπ共有結合を有する溶媒と
を含むインキ組成物。
【請求項２】
前記溶媒を５０％以上含有する、請求項１に記載のインキ組成物。
【請求項３】
前記有機材料として、分子量５０００以上のポリマーまたはオリゴマーを含む、請求項１に記載のインキ組成物。
【請求項４】
前記有機材料と溶媒とからなる溶液中における前記有機材料の重量は８０％以上９９．５％以内である、請求項１に記載のインキ組成物。
【請求項５】
前記溶媒は、アニソール、フェネトール、ジフェニルエーテル、１，２−ジメトキシベンゼン、１，３−ジメトキシベンゼン、アセトフェノン、シクロヘキサノン、２−ペンタノン、３−ペンタノンおよび４−ペンタノンのうちの少なくとも１種である、請求項１に記載のインキ組成物。
【請求項６】
前記溶媒は、１，２−ジメトキシベンゼン、１，３−ジメトキシベンゼン、アセトフェノン、シクロヘキサノン、２−ペンタノン、３−ペンタノン、４−ペンタノンのうちの少なくとも１種である、請求項１に記載のインキ組成物。
【請求項７】
有機材料および双極子モーメントが１．３以上３．０以下であると共に、分子骨格にπ共有結合を有する溶媒を含むインキ組成物をブランケットに塗布して転写層を形成する工程と、
前記転写層に所定のパターンを有する版を押し当てて、前記ブランケット上にパターン層を形成する工程と、
前記パターン層を被印刷基板に転写する工程と
を含む印刷方法。
【請求項８】
前記溶媒を前記ブランケットに１分間浸漬させた際の、前記ブランケットを構成するポリマーに対する前記溶媒の重量増加率が１％以上６％以内である、請求項７に記載の印刷方法。
【請求項９】
前記ブランケットはシリコーンゴムによって形成されている、請求項７に記載の印刷方法。
【請求項１０】
基板上に表示素子を形成する工程を含み、
前記表示素子を形成する工程は、
有機材料および双極子モーメントが１．３以上３．０以下であると共に、分子骨格にπ共有結合を有する溶媒を含むインキ組成物をブランケットに塗布して転写層を形成する工程と、
前記転写層に所定のパターンを有する版を押し当てて、前記ブランケット上にパターン層を形成する工程と、
前記パターン層を被印刷基板に転写する工程と
を含む表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、例えば有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置の有機層の形成に用いるインキ組成物、それを用いた印刷方法および表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
情報通信産業の発達の加速に伴い、高性能な表示素子が要求されている。例えば有機ＥＬ表示素子は、自発発光型表示素子であり視野角の広さ、コントラストおよび応答速度の点において優れている。
【０００３】
有機ＥＬ素子の発光層等の有機層に用いられる材料は、低分子材料と高分子材料とに大別される。この有機ＥＬ素子を画素として含む有機ＥＬ表示装置を作製する際には、その有機層の成膜手法として、低分子材料を用いる場合には、真空蒸着法等の乾式法が用いられている。一方、高分子材料を用いる場合には、スピンコーティング、インクジェット、ノズルジェット等の吐出系印刷法、あるいはフレキソ印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、反転オフセット印刷等の有版印刷法がそれぞれ用いられている。
【０００４】
有版印刷法の中でも反転オフセット印刷法は、ブランケットと呼ばれる中間転写体にインキ塗膜を形成したのち、凹版を接触させ、ブランケット上に残ったパターンをブランケットから被印刷基板に接触転写することで印刷を行うものである。このような反転オフセット印刷としては、ロール状のブランケットを用いたもの（例えば、特許文献１参照）や、平板状のブランケットを用いたもの（例えば、特許文献２参照）が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−３２７０６７号公報
【特許文献２】特開２０１０−１５８７９９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、ブランケットの表面に用いられているシリコーンゴム等の軟質材はインキ溶媒を吸収しやすいため、ブランケット上に塗布されたインキ塗膜が乾燥しやすい。このため、パターンのエッジにいわゆる糸引きが起きたり、インキ塗膜がフィルム状となってすべて版側に転写してしい、パターン精度が低下する、もしくはパターニング出来なくなるという問題があった。
【０００７】
本技術はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、高精細なパターニングでの印刷が可能なインキ組成物、それを用いた印刷方法および表示装置の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本技術によるインキ組成物は有機材料と、双極子モーメントが１．３以上３．０以下であると共に、分子骨格にπ共有結合を有する溶媒とを含むものである。
【０００９】
本技術による印刷方法は、有機材料および双極子モーメントが１．３以上３．０以下であると共に、分子骨格にπ共有結合を有する溶媒を含むインキ組成物をブランケットに塗布して転写層を形成する工程と、転写層に所定のパターンを有する版を押し当てて、ブランケット上にパターン層を形成する工程と、パターン層を被印刷基板に転写する工程とを含むものである。
【００１０】
本技術による表示装置の製造方法は、上記の印刷方法を用いたものである。
【００１１】
本技術のインキ組成物，印刷方法または表示装置の製造方法では、双極子モーメントが１．３以上３．０以下であると共に、分子骨格にπ共有結合を有する溶媒を用いることにより、ブランケットへの溶媒吸収が抑制される。
【発明の効果】
【００１２】
本技術のインキ組成物，印刷方法および表示装置の製造方法によれば、双極子モーメントが１．３以上３．０以下であると共に、分子骨格にπ共有結合を有する溶媒を用いるようにしたので、高精細なパターニングの印刷が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本開示の一実施の形態に係る印刷方法流れを説明する工程図である。
【図２】図２に続く工程図である。
【図３】各溶媒の双極子モーメントおよびブランケットに対する接触角を表した特性図である。
【図４】本開示の一実施の形態に係る表示装置の製造方法の流れ図である。
【図５】図４に示した表示装置の構成の一例を表す断面図である。
【図６】図４に示した表示装置の構成の他の例を表す断面図である。
【図７】図５に示した表示装置の画素駆動回路の一例を表す模式図である。
【図８】図７に示した画素回路の一例を表す回路図である。
【図９】上記実施の形態の表示装置を含むモジュールの概略構成を表す平面図である。
【図１０】上記実施の形態の表示装置の適用例１の外観を表す斜視図である。
【図１１】（Ａ）は適用例２の表側から見た外観を表す斜視図であり、（Ｂ）は裏側から見た外観を表す斜視図である。
【図１２】適用例３の外観を表す斜視図である。
【図１３】適用例４の外観を表す斜視図である。
【図１４】（Ａ）は適用例５の開いた状態の正面図、（Ｂ）はその側面図、（Ｃ）は閉じた状態の正面図、（Ｄ）は左側面図、（Ｅ）は右側面図、（Ｆ）は上面図、（Ｇ）は下面図である。
【図１５】本開示の実験例１〜５における特性図である。
【図１６】実験例１〜５における印刷パターンを表した模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本技術の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
１．実施の形態
１−１．インキ組成物
１−２．製造方法
１−３．有機ＥＬ表示装置の構成
２．適用例
３．実施例
【００１５】
＜１．実施の形態＞
（１−１．インキ組成物）
本開示の一実施の形態に係るインキ組成物は、例えば有機ＥＬ表示装置（表示装置１、図５参照）における赤色（Ｒ），緑色（Ｇ），青色（Ｂ）からなる発光層１４Ｃ（図５参照）を、版を用いて行う有版印刷法によって形成する際に用いるものである。有版印刷法、例えば反転オフセット印刷では、前述したように、ブランケット２１にインキ塗膜（転写層２２ａ）を形成した後、凹版（反転印刷用版２３）を接触させ、ブランケット２１上に残ったパターン（パターン層２２ｂ）をブランケット２１から被印刷基板（基板１１）に接触転写することで印刷を行う（いずれも図１，２参照）。本実施の形態では、有版印刷法において用いるインキ組成物の構成について詳細に説明する。
【００１６】
インキ組成物は、目的とする対象物を構成する材料（溶質）と、この材料を溶解する溶媒とから構成されている。
【００１７】
インキ組成物を構成する溶質としては、例えば有機ＥＬ表示装置１を構成する有機ＥＬ素子１０の有機層１４（図５参照）を形成する場合には有機材料を用いる。有版印刷法の場合、インキ組成物は印刷性の観点から粘度を上げる必要がある。このため、インキ組成物の有機材料（溶質）としては、例えば分子量が５０００以上のポリマーないしオリゴマーを用いることが好ましい。特に、発光層１４Ｃを形成する際には、蛍光あるいは燐光発光を示すためπ共役系を分子内に有する有機発光材料を用いることが望ましい。
【００１８】
インキ組成物を構成する溶媒としては、上記有機材料に対して優れた溶解性を有する溶媒を用いることが好ましい。溶解性に優れた溶媒としては、溶質との親和性の観点から双極子モーメントが所定の範囲を有する溶媒を用いることが好ましい。また、上述した蛍光あるいは燐光発光を示すためπ共役系を分子内に有する有機発光材料を用いる場合には、同様に溶質との親和性から分子骨格にπ共有結合を有する溶媒、具体的には酸素原子や窒素原子を有する溶媒を用いることが好ましい。
【００１９】
本実施の形態におけるインキ組成物を構成する溶媒の双極子モーメントの好ましい値について以下に説明する。
【００２０】
例えば、シリコーンゴムによって形成されたブランケット２１は、インキ溶媒としてシリコーンゴムに対して親和性の高い溶媒を使用すると、インキ溶媒を吸収しやすい。このため、ブランケット２１上に塗布されたインキは直ちに乾燥し、パターン形成が困難となる虞がある。このことから、本実施の形態におけるインキ組成物を構成する溶媒としては、有機材料の優れた溶解性を有すると共に、ブランケット２１に吸収されにくい溶媒を用いることが好ましい。
【００２１】
ブランケット、特に上述したシリコーンゴムによって形成されたブランケット２１は、一般的にポリジメチルシロキサンをベース（主成分）として形成されている。このポリメチルシロキサンはブランケット２１の表面に存在し極性をほぼ持たないため、極性の高い溶媒に対して膨潤されにくい。極性を表す指標としては一般的に双極子モーメントが用いられているが、ポリジメチルシロキサンの双極子モーメントは０〜０．５の範囲に含まれている。
【００２２】
よって、本実施の形態におけるインキ組成物の溶媒としては、ポリジメチルシロキサンよりも高い双極子モーメントを有する溶媒、具体的には双極子モーメントが０．５よりも大きな溶媒を用いることが好ましく、より好ましくは１．３以上である。
【００２３】
一方、ブランケット２１に対する塗布性を向上するためには、ブランケット２１に対する溶媒の接触角が小さい溶媒を用いることが好ましい。シリコーン製のブランケット２１は、上述したようにポリジメチルシロキサンをベースとして形成されている。このため、ポリジメチルシロキサンと極性、即ち、双極子モーメントが近い溶媒を補助溶媒として用いることで塗れ性を向上させることが可能となる。また、ポリジメチルシロキサンの双極子モーメントとインキ組成物を構成する溶媒の双極子モーメントとの差が大きい場合には、印刷パターンが保てなくなる虞がある。このため、溶媒の双極子モーメントは、好ましくは４以下、より好ましくは３．０以下となる。
【００２４】
以上のことから、好ましい双極子モーメントの値は、１．３以上３．０以下であるといえる。図３は、ヘキサン、オクタン、キシレン、テトラリン、フェネトール、ジフェニルエーテル、アニソール、アセトフェノン、シクロヘキサノン、N−メチルピロリドン、３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等の各種溶媒の双極子モーメントおよびブランケット２１に対する接触角を表したものである。図３から、本実施の形態におけるインキ組成物を構成する具体的な溶媒としては、フェノール、２−ペンタン、３−ペンタン、４−ペンタン、アセトフェノン、シクロヘキサノン、Ｎ−メチルピロリドンが挙げられる。
【００２５】
なお、本実施の形態におけるインキ組成物の溶媒は、数種類の溶媒を組み合わせても構わない。その際には、上記双極子モーメントの範囲以外の溶媒を用いてもよい。例えば、ブランケット２１に対する塗布性を向上するために、上述したようにブランケット２１に対する溶媒の接触角が小さい溶媒を補助溶媒として組み合わせてもよい。接触角は、共役系がなく、かつ分子間の相互作用が小さいものほど小さくなる傾向にある。具体的には、ポリジメチルシロキサンと極性が近い溶媒を補助溶媒、例えばヘキサンやオクタンのように直鎖炭化水素系やπ結合を持たないエーテル、アルコール溶媒を用いてもよい。インキ組成物のブランケット２１に対する接触角は３０°以下であることが好ましい。
【００２６】
（１−２．製造方法）
図１および図２は、反転オフセット印刷の工程を表したものである。まず、図１（Ａ）に示したようにブランケット２１を用意する。ブランケット２１は、例えばＰＥＴ（ポリエチレンテレフタラート）あるいは金属からなる基体上にシリコーンゴムからなる軟質材層が積層されたものである。このブランケット２１の軟質材層上に、図１（Ｂ）に示したように、インキ組成物２２を塗布して、例えばスピンコート法により、図１（Ｃ）に示したようインキ組成物２２からなる転写層２２ａを形成する。
【００２７】
続いて、図１（Ｄ）に示したように、この転写層２２ａが形成されたブランケット２１に反転印刷用版２３を押し当てる。この工程ではブランケット２１と反転印刷用版２３とが平行となるように設置し、ブランケット２１の背面側に圧力を加えることで均一にムラのない接触が可能となる。
【００２８】
反転印刷用版２３は、例えばガラスやシリコンなどの無機材料やステンレス、銅、ニッケルなどの金属で構成されており、目的とする印刷物に対応するパターンの凹部が設けられている。この反転印刷用版２３の凹部と転写層２２ａとが対向するように反転印刷用版２３とブランケット２１とを接触させることにより、図２（Ａ）に示したように、ブランケット２１側に反転印刷用版２３の凹部のパターンと同一パターンのインキ組成物２２からなるパターン層２２ｂが形成される。反転印刷用版２３側には、凹部と逆パターン（凸部と同一パターン）のインキ組成物２２からなる非印刷部２２ｃが形成される。反転印刷用版２３とブランケット２１との接触は、ブランケット２１上に転写層２２ａが形成されてから短時間、例えば１分以内に行うことが好ましい。あまり時間が経過してしまうと、インキ組成物２２に含有される溶媒が揮発して、転写層２２ａが乾燥してしまうからである。
【００２９】
次いで、図２（Ｂ）に示したように、基板１１を用意し、ブランケット２１のパターン層２２ｂと基板１１上におけるパターン形成位置とが対向するようにアラインメントを行う。続いて、図２（Ｃ）に示したように、例えば上述の圧縮気体加圧法によりブランケット２１に基板１１を押し当てた後、図２（Ｄ）に示したように、ブランケット２１を基板１１から引き離すと、基板１１にパターン層２２ｂが印刷される。ブランケット２１と基板１１との接触は、パターン層２２ｂが形成されてから３０分以内に行うことが好ましい。あまり時間が経過してしまうと、インキ組成物２２の溶媒が揮発してパターン層２２ｂがブランケット２１から転写（剥離）されにくくなるためである。
【００３０】
（１−３．有機ＥＬ表示装置の構成）
図４は、本開示の一実施の形態に係る表示装置１の製造方法を表す流れ図であり、図５はこの製造方法により得られる表示装置１の断面構成の一例を表したものである。表示装置１は基板１１の上にそれぞれ下部電極１２，有機層１４および上部電極１５を順に有する赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇおよび青色有機ＥＬ素子１０Ｂがマトリクス状に配置されたものである。この表示装置１は、図１，３に示した反転オフセット印刷によって赤色有機ＥＬ素子１０Ｒの赤色発光層１４ＣＲ、緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの緑色発光層１４ＣＧおよび青色有機ＥＬ素子１０Ｂの青色発光層１４ＣBを形成したものである。
【００３１】
（下部電極１２を形成する工程）
まず、画素駆動回路（図示せず）が形成された基板１１の全面に例えばＩＴＯ（インジウムとスズの酸化物）よりなる透明導電膜を形成し、この透明導電膜をパターニングすることにより、下部電極１２を赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂの各々ごとに形成する（ステップＳ１０１）。このとき、下部電極１２は画素駆動回路の駆動トランジスタと接続させる。基板１１には、例えば石英、ガラス、金属箔、もしくは樹脂製のフィルムやシートなどの公知のものを用いることができるが、石英やガラスを用いることが好ましい。下部電極１２には、クロム（Ｃｒ），金（Ａｕ），白金（Ｐｔ），ニッケル（Ｎｉ），銅（Ｃｕ），タングステン（Ｗ）あるいは銀（Ａｇ）等の金属元素の単体または合金、あるいはＩｎＺｎＯ（インジウム亜鉛オキシド）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）とアルミニウム（Ａｌ）との合金等の透明導電膜を用いてもよい。
【００３２】
（隔壁１３を形成する工程）
次いで、下部電極１２上および基板１１上に、例えばＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition；化学気相成長）法により、ＳｉＯ2等の無機絶縁膜を成膜し、フォトリソグラフィー技術およびエッチング技術を用いてパターニングすることにより、隔壁１３を形成する（ステップＳ１０２）。隔壁１３は、下部電極１２と上部電極１５との絶縁性を確保すると共に発光領域を所望の形状にするためのものでもあるので、発光領域に対応して開口を設けるようにする。隔壁１３を形成した後、基板１１の表面（隔壁１３および下部電極１２が形成された側の面）に酸素プラズマ処理を行い、下部電極１２の表面をクリーニングする。
【００３３】
（正孔注入層１４Ａおよび正孔輸送層１４Ｂを形成する工程）
酸素プラズマ処理を行った後、下部電極１２上および隔壁１３上に有機層１４のうち赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂに共通する正孔注入層１４Ａおよび正孔輸送層１４Ｂをこの順に形成する（ステップＳ１０３，Ｓ１０４）。
【００３４】
正孔注入層１４Ａおよび正孔輸送層１４Ｂには、詳細は後述するが、例えば以下の材料を用いることができる。正孔注入層１４Ａの材料としては、例えば、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリフェニレンビニレン、ポリチエニレンビニレン、ポリキノリン、ポリキノキサリンおよびそれらの誘導体、芳香族アミン構造を主鎖または側鎖に含む重合体等の導電性高分子、金属フタロシアニン（銅フタロシアニン等）またはカーボン等を用いることができる。この他、オリゴアニリンあるいはポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ）などのポリジオキシチオフェンを用いてもよい。また、エイチ・シー・スタルク製の商品名Nafion（商標）および商品名Liquion（商標）、日産化学製の商品名エルソース（商標）および綜研化学製の導電性ポリマーベラゾール等を使用することができる。
【００３５】
正孔輸送層１４Ｂの材料としては、例えば、ポリビニルカルバゾール、ポリフルオレン、ポリアニリン、ポリシラン、側鎖または主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体、ポリチオフェンおよびその誘導体あるいはポリピロール等の高分子材料を使用することができる。
【００３６】
（赤色発光層１４ＣＲ，緑色発光層１４ＣＧおよび青色発光層１４ＣＢを形成する工程）
正孔輸送層１４Ｂを形成した後、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒの赤色発光層１４ＣＲ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの緑色発光層１４ＣＧおよび青色有機ＥＬ素子１０Ｂの青色発光層１４ＣＢを反転オフセット印刷により形成する（ステップＳ１０５）。
【００３７】
具体的には、上記反転オフセット印刷（図１，２）を用いて赤色発光層１４ＣＲ（緑色発光層１４ＣＧ，青色発光層１４ＣＢ）を形成する。まず、図１（Ａ）に示したように基体上に軟質材料層を有するブランケット２１を用意する。次いで、このブランケット２１の軟質材層上に、図１（Ｂ）に示したように、インキ組成物２２（例えば、まず赤色発光層１４ＣＲ用のインキ）を塗布する。続いて、スピンコート法により、図１（Ｃ）に示したようインキ組成物２２からなる転写層２２ａを形成する。なお、大気中で赤色発光層１４ＣＲ，緑色発光層１４ＣＧおよび青色発光層１４ＣＢの形成を行うと、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの発光寿命を短縮してしまう虞があるので、窒素雰囲気下で印刷を行うことが好ましい。
【００３８】
このような赤色発光層１４ＣＲ用のインキ組成物２２からなる転写層２２ａをブランケット２１上に形成した後、図１（Ｄ）に示したように、この転写層２２ａに反転印刷用版２３を押し当てる。
【００３９】
反転印刷用版２３には、上述したように、一方の面に目的とするパターン（例えば、赤色発光層１４ＣＲ）に対応するパターンの凹部が設けられている。この反転印刷用版２３の凹部と転写層２２ａとが対向するように反転印刷用版２３とブランケット２１とを接触させることにより、図２（Ａ）に示したように、ブランケット２１側に反転印刷用版２３の凹部のパターンと同一パターン（例えば、赤色発光層１４ＣＲに対応するパターン）のインキ組成物２２からなるパターン層２２ｂが形成される。反転印刷用版２３側には、凹部と逆パターン（凸部と同一パターン）のインキ組成物２２からなる非印刷部２２ｃが形成される。
【００４０】
次いで、図２（Ｂ）に示したように、正孔輸送層１４Ｂまでが形成された基板１１を用意し、ブランケット２１のパターン層２２ｂと正孔輸送層１４Ｂとが対向するようにしてアラインメントを行う。ここでは、ブランケット２１のパターン層２２ｂは、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒに対応する位置に合わせる。続いて、図２（Ｃ）に示したように、ブランケット２１に基板１１を押し当てた後、図２（Ｄ）に示したように、ブランケット２１を基板１１から引き離すことで正孔輸送層１４Ｂ上にパターン層２２ｂが印刷される。この基板１１上のパターン層２２ｂを加熱し、溶媒を完全に除去することで、赤色発光層１４ＣＲが形成される。この後、新たなブランケット２１を用い、同様の工程を経て緑意と発光層１４ＣＧおよび青色発光層１４ＣＢをそれぞれ形成する。
【００４１】
赤色発光層１４ＣＲ，緑色発光層１４ＣＧおよび青色発光層１４ＣＢの形成方法としては、他にもインクジェット法やノズルプリンティング法がある。しかしながらこれらの方法では、インキが乾燥するまでの間、形成予定領域に液体のインキを保持しておかなければならないため、本実施の形態の隔壁１３を下部隔壁としてその上に上部隔壁を形成する必要がある。一方、反転オフセット印刷により赤色発光層１４ＣＲ，緑色発光層１４ＣＧおよび青色発光層１４ＣＢを形成する場合には、インキを保持するための上部隔壁は不要となり、図５に示したような表示装置１の構造を簡略化することができる。また、上部隔壁によって赤色発光層１４ＣＲ，緑色発光層１４ＣＧおよび青色発光層１４ＣＢが汚染されることもない。
【００４２】
ここで、インキ組成物２２は、上述したように、双極子モーメントが１．３以上３．０以下であると共に、分子骨格にπ共有結合を有する溶媒に、赤色発光層１４ＣＲまたは緑色発光層１４ＣＧを構成する高分子（発光）材料および低分子材料を混合させたものである。
【００４３】
インキ組成物２２の溶質である有機材料、特に高分子材料は、赤色発光層１４ＣＲ，緑色発光層１４ＣＧおよび青色発光層１４ＣＢを構成するものであり、電界をかけることにより電子と正孔との再結合が起こり、光を発生する。この高分子材料として、例えばポリフルオレン系高分子誘導体や、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、ポリチオフェン誘導体、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素、あるいは上記高分子に有機ＥＬ材料をドープしたものが挙げられる。ドープ材料としては、例えばルブレン、ペリレン、９,１０ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッドまたはクマリン６等を用いることができる。
【００４４】
また、インキ組成物２２は上記高分子材料の他に低分子材料を含んでいてもよい。低分子材料を用いることにより、基板１１にパターニングで赤色発光層１４ＣＲ，緑色発光層１４ＣＧおよび青色発光層１４ＣＢを高精細に形成することができ、表示装置１の解像度を向上させることが可能となる。
【００４５】
詳細には、ブランケット２１に転写層２２ａが形成された際（図１（Ｃ））、または後述のブランケット２１から基板１１（被印刷基板）へのパターン層２２ｂの転写前（図２（Ａ），（Ｂ））に、この低分子材料がインキ組成物２２（転写層２２ａ，パターン層２２ｂ）のブランケット２１上でのフィルム化を抑えるため、高精細なパターニングが可能となる。上記の高分子材料の立体配座は、濃度やスピンコートの条件により異なってくるが、インキ組成物２２に低分子材料が含まれない場合、これらの高分子材料の分子同士が絡み合い易く、ブランケット２１上で容易にフィルム化してしまうと推測される。低分子材料は、この高分子材料のフィルム化を抑制するため、基板１１に精細なラインアンドスペース（ライン解像度）で赤色発光層１４ＣＲおよび緑色発光層１４ＣＧを形成することが可能となる。表示装置１において、この低分子材料は上記高分子材料と共に赤色発光層１４ＣＲ，緑色発光層１４ＣＧおよび青色発光層１４ＣＢを構成する。
【００４６】
インキ組成物２２の低分子材料は、低分子化合物が同じ反応または類似の反応を連鎖的に繰り返すことにより生じた高分子量の重合体または縮合体の分子からなる化合物以外のものであって、分子量が実質的に単一であるものを指す。また、この低分子材料は加熱による分子間の新たな化学結合は生じず、単分子で存在する。
【００４７】
このような低分子材料の重量平均分子量（Ｍｗ）は５万以下であることが好ましく、１万５千以下であることがより好ましい。これは、分子量の大きい、例えば５万以上の材料に比べてある程度小さい分子量の材料の方が多様な特性を有するため、溶媒への溶解度やインキの粘度等の条件を調整し易いためである。
【００４８】
また、高分子材料と低分子材料との比率は、高分子材料：低分子材料（重量比）＝１０：１以上１：２以下であることが好ましく、２１以上１：２以下であることがより好ましい。高分子材料：低分子材料（重量比）が１０：１未満では、低分子材料による効果が表れにくく、１：２を超える場合には、膜形成が困難になる虞があるためである。
【００４９】
このような低分子材料としては、例えば、ベンゼン、スチリルアミン、トリフェニルアミン、ポルフィリン、トリフェニレン、アザトリフェニレン、テトラシアノキノジメタン、トリアゾール、イミダゾール、カルバゾール、オキサジアゾール、ポリアリールアルカン、フェニレンジアミン、アリールアミン、オキサゾール、アントラセン、フルオレノン、ヒドラゾン、スチルベンあるいはこれらの誘導体、またはポリシラン系化合物、ビニルカルバゾール系化合物、チオフェン系化合物あるいはアニリン系化合物等の複素環式共役系のモノマーあるいはオリゴマーを用いることができる。
【００５０】
上記の具体的な低分子材料として、α−ナフチルフェニルフェニレンジアミン、ポルフィリン、金属テトラフェニルポルフィリン、金属ナフタロシアニン、ヘキサシアノアザトリフェニレン、７,７,８,８−テトラシアノキノジメタン（ＴＣＮＱ）、７,７,８,８−テトラシアノ−２,３,５,６−テトラフルオロキノジメタン（Ｆ４−ＴＣＮＱ）、テトラシアノ４,４,４−トリス（３−メチルフェニルフェニルアミノ）トリフェニルアミン、Ｎ,
Ｎ,Ｎ’,Ｎ’,−テトラキス（ｐ−トリル）ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ,Ｎ,Ｎ’,Ｎ’,
−テトラフェニル−４,４’−ジアミノビフェニル、Ｎ−フェニルカルバゾール、４−ジ
−ｐ−トリルアミノスチルベン、ポリ（パラフェニレンビニレン）、ポリ（チオフェンビニレン）、ポリ（２,２’−チエニルピロール）などが挙げられるが、これらに限定され
るものではない。
【００５１】
更に好ましくは、下記の式（１）〜式（３）で表される低分子材料を用いることが好ましい。
【００５２】
【化１】
2013177499.tif 000003
（Ａ１〜Ａ３は芳香族炭化水素基、複素環基またはそれらの誘導体である。）
【００５３】
【化２】
2013177499.tif 000004
（但し、式（１）に含まれる化合物を除く。Ｚ１は含窒素炭化水素基あるいはその誘導体である。Ｌ１は２価の芳香族環基が１乃至４個結合した基、具体的には、２〜４個の芳香族環が連結した２価の基、またはその誘導体である。Ａ４およびＡ５は、芳香族炭化水素基、またはその誘導体である。但し、Ａ４およびＡ５は互いに結合して環状構造を形成してもよい。）
【００５４】
【化３】
2013177499.tif 000005
（但し、式（１）および式（２）に含まれる化合物を除く。Ｚ２は含窒素炭化水素基あるいはその誘導体である。Ｌ２は２価の芳香族環基が２乃至６個結合した基である。具体的には、２〜６個の芳香族環が連結した２価の基、またはその誘導体である。Ａ６〜Ａ９は、芳香族炭化水素基あるいは複素環基、またはその誘導体が１〜１０個結合した基である。）
【００５５】
式（１）に示した化合物の具体例としては、以下の式（１−１）〜式（１−４８）などの化合物が挙げられる。
【００５６】
【化４】
2013177499.tif 000006
【００５７】
【化５】
2013177499.tif 000007
【００５８】
【化６】
2013177499.tif 000008
【００５９】
式（２）に示した化合物の具体例としては、以下の式（２１）〜式（２１６３）などの化合物が挙げられる。
【００６０】
【化７】
2013177499.tif 000009
【００６１】
【化８】
2013177499.tif 000010
【００６２】
【化９】
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【００６３】
【化１０】
2013177499.tif 000012
【００６４】
【化１１】
2013177499.tif 000013
【００６５】
【化１２】
2013177499.tif 000014
【００６６】
【化１３】
2013177499.tif 000015
【００６７】
【化１４】
2013177499.tif 000016
【００６８】
【化１５】
2013177499.tif 000017
【００６９】
【化１６】
2013177499.tif 000018
【００７０】
【化１７】
2013177499.tif 000019
【００７１】
【化１８】
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【００７２】
【化１９】
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【００７３】
【化２０】
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【００７４】
【化２１】
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【００７５】
式（３）に示した化合物の具体例としては、以下の式（３−１）〜式（３−４５）などの化合物が挙げられる。
【００７６】
【化２２】
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【００７７】
【化２３】
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【００７８】
【化２４】
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【００７９】
【化２５】
2013177499.tif 000027
【００８０】
なお、青色発光層１４ＣＢは、図６に示したように共通層として形成してもよい。その場合には、赤色発光層１４ＣＲおよび緑色発光層１４ＣＧを形成した後、蒸着法により赤色発光層１４ＣＲ，緑色発光層１４ＣＧおよび正孔輸送層１４Ｂの全面に青色発光層１４ＣＢを形成する。共通層となる青色発光層１４ＣＢの材料としては、例えば、ホスト材料としてのアントラセン化合物に、青色もしくは緑色の蛍光性色素のゲスト材料がドーピングを用いる。これにより、青色もしくは緑色の発光光を発生する。
【００８１】
また、青色発光層１４ＣＢを共通層とする際に赤色発光層１４ＣＲおよび緑色発光層１４ＣＧを構成するインキ組成物２２に低分子材料を含有させることで、表示装置２の動作時に赤色発光層１４ＣＲおよび緑色発光層１４ＣＧ上に積層された青色発光層１４ＣＢから、各発光層１４ＣＲ，１４ＣＧへの正孔および電子の注入効率を向上させることができる。つまり、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒおよび緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの特性が向上する。
【００８２】
赤色発光層１４ＣＲおよび緑色発光層１４ＣＧが上記低分子材料を含有していない場合には、青色発光層１４ＣＢのエネルギー準位と、赤色発光層１４ＣＲ，緑色発光層１４ＣＧのエネルギー準位との差が大きくなる。つまり、青色発光層１４ＣＢと赤色発光層１４ＣＲ，緑色発光層１４ＣＧとの間の正孔または電子の注入効率が低くなり、所望の特性が得られない虞がある。これに対し、高分子材料と共に低分子材料により赤色発光層１４ＣＲおよび緑色発光層１４ＣＧを構成すると、このエネルギー準位の差が小さくなり、上記の正孔および電子の注入効率を向上させることが可能となる。
【００８３】
（電子輸送層１４Ｄ，電子注入層１４Ｅおよび上部電極１５を形成する工程）
青色発光層１４ＣＢを形成した後、この青色発光層１４ＣＢの全面に蒸着法により電子輸送層１４Ｄ，電子注入層１４Ｅおよび上部電極１５をこの順に形成する（ステップＳ１０６，Ｓ１０７，Ｓ１０８）。
【００８４】
電子輸送層１４Ｄは、赤色発光層１４ＣＲ，緑色発光層１４ＣＧおよび青色発光層１４ＣＢへの電子輸送効率を高めるものである。電子輸送層１４Ｄの材料としては、例えば、キノリン、ペリレン、フェナントロリン、ビススチリル、ピラジン、トリアゾール、オキサゾール、フラーレン、オキサジアゾール、フルオレノン、またはこれらの誘導体や金属錯体が挙げられる。具体的には、トリス（８−ヒドロキシキノリン）アルミニウム（略称Ａｌｑ３）、アントラセン、ナフタレン、フェナントレン、ピレン、ペリレン、ブタジエン、クマリン、Ｃ60、アクリジン、スチルベン、１,１０−フェナントロリンまたはそれ
らの誘導体や金属錯体等である。
【００８５】
電子注入層１４Ｅは、電子注入効率を高めるためのものである。電子注入層１４Ｅの材料として、例えば、リチウム（Ｌｉ）の酸化物である酸化リチウム（Ｌｉ2Ｏ）や、セシ
ウム（Ｃｓ）の複合酸化物である炭酸セシウム（Ｃｓ2ＣＯ3）、またはこれらの混合物を用いることができる。また、電子注入層１４Ｅの材料として、例えばカルシウム（Ｃａ）、バリウム（Ｂａ）等のアルカリ土類金属、リチウム、セシウム等のアルカリ金属、インジウム（Ｉｎ）、マグネシウム（Ｍｇ）等の仕事関数の小さい金属またはこれらの金属の酸化物、複合酸化物やフッ化物等を単体で、あるいは混合物や合金として使用してもよい。
【００８６】
上部電極１５は隔壁１３および有機層１４により下部電極１２とは絶縁された状態で基板１１上にベタ膜状に形成され、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇおよび青色有機ＥＬ素子１０Ｂの共通電極として機能する。上部電極１５は例えばアルミニウム、マグネシウム、カルシウムまたはナトリウム（Ｎａ）等の金属導電膜により形成される。薄膜での導電性が良好であり、かつ、光吸収の小さいマグネシウムと銀との合金（Ｍｇ−Ａｇ合金）により上部電極１５が形成されていることが好ましい。Ｍｇ−Ａｇ合金におけるマグネシウムと銀との比率は特に限定されないが、膜厚比でＭｇ：Ａｇ＝２０：１〜１：１の範囲であることが好ましい。上部電極１５の材料にアルミニウムとリチウムとの合金（Ａｌ−Ｌｉ合金）を用いてもよい。
【００８７】
上部電極１５は、アルミキノリン錯体、スチリルアミン誘導体またはフタロシアニン誘導体等の有機発光材料を含有した混合層により形成してもよい。この場合、更に第３層としてＭｇ−Ａｇ合金のような光透過性の層を形成してもよい。
【００８８】
上部電極１５を形成した後、例えば蒸着法やＣＶＤ法により透水性の低いアモルファス窒化シリコンからなる保護層１６を形成する。保護層１６を形成した後、最後に、遮光膜およびカラーフィルタ（図示せず）が設けられた封止用基板１７を接着層（図示せず）を間にして保護層１６の上に張り合わせる。以上により図５に示した表示装置１が完成する。
【００８９】
図７は、本実施の形態の有機ＥＬ素子１０を備えた表示装置１の平面構成を表したものである。この表示装置１は、有機ＥＬテレビジョン装置などとして用いられるものであり、例えば、基板１１の上に、表示領域１１０として、複数の有機ＥＬ素子１０（例えば、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂ）がマトリクス状に配置されたものである。表示領域１１０の周辺には、映像表示用のドライバである信号線駆動回路１２０および走査線駆動回路１３０が設けられている。なお、隣り合う有機ＥＬ素子１０の組み合わせが一つの画素（ピクセル）を構成している。
【００９０】
表示領域１１０内には画素駆動回路１４０が設けられている。図８は、画素駆動回路１４０の一例を表したものである。画素駆動回路１４０は、下部電極１２の下層に形成されたアクティブ型の駆動回路である。即ち、この画素駆動回路１４０は、駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２と、これらトランジスタＴｒ１，Ｔｒ２の間のキャパシタ（保持容量）Ｃｓと、第１の電源ライン（Ｖｃｃ）および第２の電源ライン（ＧＮＤ）の間において駆動トランジスタＴｒ１に直列に接続された有機ＥＬ素子１０（例えば、１１Ｒ，１１Ｇ，１１Ｂ）とを有する。駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２は、一般的なＴＦＴにより構成され、その構成は例えば逆スタガ構造（いわゆるボトムゲート型）でもよいしスタガ構造（トップゲート型）でもよく特に限定されない。
【００９１】
画素駆動回路１４０において、列方向には信号線１２０Ａが複数配置され、行方向には走査線１３０Ａが複数配置されている。各信号線１２０Ａと各走査線１３０Ａとの交差点が、各有機ＥＬ素子１０のいずれか１つ（サブピクセル）に対応している。各信号線１２０Ａは、信号線駆動回路１２０に接続され、この信号線駆動回路１２０から信号線１２０Ａを介して書き込みトランジスタＴｒ２のソース電極に画像信号が供給されるようになっている。各走査線１３０Ａは走査線駆動回路１３０に接続され、この走査線駆動回路１３０から走査線１３０Ａを介して書き込みトランジスタＴｒ２のゲート電極に走査信号が順次供給されるようになっている。
【００９２】
この表示装置１では、各画素に対して走査線駆動回路１３０から書き込みトランジスタＴｒ２のゲート電極を介して走査信号が供給されると共に、信号線駆動回路１２０から画像信号が書き込みトランジスタＴｒ２を介して保持容量Ｃｓに保持される。即ち、この保持容量Ｃｓに保持された信号に応じて駆動トランジスタＴｒ１がオンオフ制御され、これにより、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂに駆動電流Ｉｄが注入され、正孔と電子とが再結合して発光が起こる。この光は、下面発光（ボトムエミッション）の場合には下部電極１２および基板１１を透過して、上面発光（トップエミッション）の場合には上部電極１５，波長変換部および封止用基板１７を透過して取り出される。
【００９３】
有版印刷法では、ブランケットにインキ塗膜を形成した後、凹版を接触させ、ブランケット上に残ったパターンをブランケットから被印刷基板に接触転写することで印刷を行う。このブランケット２１には、ブランケット２１上に形成された有機膜（転写層２２ａ）が被印刷基板に接触した際に、接触面全てが転写させる離型性が求められる。優れた離型性を有するブランケット２１の材料としては、一般的にポリジメチルシロキサンをベースとしたシリコーンゴムが挙げられる。
【００９４】
しかしながら、ブランケットの表面に用いられているシリコーンゴム等の軟質材はインキ溶媒を吸収しやすく、ブランケット上に塗布されたインキ塗膜が乾燥しやすい。このため、前述したようにパターンのエッジに糸引きが起きたり、インキ塗膜がフィルム化してパターン精度が低下する、もしくはパターニング出来なくなるという問題があった。
【００９５】
この問題を解決する方法として、事前にブランケット２１を膨潤させる機構を追加したり（特開２００７−９０６９８号公報）、溶媒を除去する機構を追加（特開２００７−９５５１７号公報）する方法が提案されている。しかし、工程が繁雑になると共にコストが増大するという問題があった。また、溶媒が完全に取りきれない現象も発生した場合では、ブランケット２１上にパターニングされた有機物に対して溶媒の逆拡散現象が起こるため、乾燥過程とともにパターンが収縮する。その結果、寸法変動が生じ精細度が低下したり表示装置の輝度等にムラが発生するという問題があった。
【００９６】
これに対して本実施の形態のインキ組成物は、双極子モーメントが１．３以上３．０以下であると共に、分子骨格にπ共有結合を有する溶媒を用いるようにした。ブランケット２１表面にあるポリジメチルシロキサンは極性をほぼ持たない。このため、ジメチルシロキサンよりも極性の高い溶媒を用いることで、ブランケット２１への溶媒吸収を抑えられ、ブランケット２１の膨潤が抑制される。よって、ブランケット２１上で、転写層およびパターン層がフィルム化することが抑制される。
【００９７】
以上のように、本実施の形態によれば、双極子モーメントが１．３以上３．０以下であると共に、分子骨格にπ共有結合を有する溶媒を用いるようにした。これにより、シリコーンゴムブランケット２１の膨潤抑制するための新たな工程の追加等を行うことなく、高精細なパターニングの印刷が可能となる。よって、表示品位の高い表示装置を提供することができる。
【００９８】
＜２．適用例＞
（モジュールおよび適用例）
以下、上記実施の形態で説明した表示装置１，２の適用例について説明する。上記実施の形態の表示装置は、テレビジョン装置，デジタルカメラ，ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話等の携帯端末装置あるいはビデオカメラなど、外部から入力された映像信号あるいは内部で生成した映像信号を、画像あるいは映像として表示するあらゆる分野の電子機器の表示装置に適用することが可能である。
【００９９】
（モジュール）
上記実施の形態で説明した表示装置１，２は、例えば、図９に示したようなモジュールとして、後述する適用例１〜５などの種々の電子機器に組み込まれる。このモジュールは、例えば、基板１１の一辺に、保護層１６および封止用基板１７から露出した領域２１０を設け、この露出した領域２１０に、信号線駆動回路１２０および走査線駆動回路１３０の配線を延長して外部接続端子（図示せず）を形成したものである。外部接続端子には、信号の入出力のためのフレキシブルプリント配線基板（ＦＰＣ；Flexible Printed Circuit）２２０が設けられていてもよい。
【０１００】
（適用例１）
図１０は、上記実施の形態で説明した表示装置１，２が適用されるテレビジョン装置の外観を表したものである。このテレビジョン装置は、例えば、フロントパネル３１０およびフィルターガラス３２０を含む映像表示画面部３００を有しており、この映像表示画面部３００は、上記実施の形態に係る表示装置により構成されている。
【０１０１】
（適用例２）
図１１は、上記実施の形態で説明した表示装置１，２が適用されるデジタルカメラの外観を表したものである。このデジタルカメラは、例えば、フラッシュ用の発光部４１０、表示部４２０、メニュースイッチ４３０およびシャッターボタン４４０を有しており、その表示部４２０は、上記実施の形態に係る表示装置により構成されている。
【０１０２】
（適用例３）
図１２は、上記実施の形態で説明した表示装置１，２が適用されるノート型パーソナルコンピュータの外観を表したものである。このノート型パーソナルコンピュータは、例えば、本体５１０，文字等の入力操作のためのキーボード５２０および画像を表示する表示部５３０を有しており、その表示部５３０は、上記実施の形態に係る表示装置により構成されている。
【０１０３】
（適用例４）
図１３は、上記実施の形態で説明した表示装置１，２が適用されるビデオカメラの外観を表したものである。このビデオカメラは、例えば、本体部６１０，この本体部６１０の前方側面に設けられた被写体撮影用のレンズ６２０，撮影時のスタート／ストップスイッチ６３０および表示部６４０を有しており、その表示部６４０は、上記実施の形態に係る表示装置により構成されている。
【０１０４】
（適用例５）
図１４は、上記実施の形態で説明した表示装置１，２が適用される携帯電話機の外観を表したものである。この携帯電話機は、例えば、上側筐体７１０と下側筐体７２０とを連結部（ヒンジ部）７３０で連結したものであり、ディスプレイ７４０，サブディスプレイ７５０，ピクチャーライト７６０およびカメラ７７０を有している。そのディスプレイ７４０またはサブディスプレイ７５０は、上記実施の形態等に係る表示装置により構成されている。
【０１０５】
更に、本技術の具体的な実施例について説明する。
【０１０６】
＜３．実施例＞
有機ＥＬ素子１０の発光層１４Ｃを、上述した有版印刷法を用いて形成した。表１および図１５は、各実験例におけるインキ組成物を構成する溶媒組成、双極子モーメントおよび１分後の重量増加率を表したものである。また、各実験例１〜５における印刷パターンの模式図を図１６（Ａ）〜（Ｅ）に示した。なお、１分後の重量増加率とは、溶媒をブランケットに１分間浸漬させた際のシリコーンゴムの重量増加率である。
【０１０７】
【表１】
2013177499.tif 000028
【０１０８】
溶媒としてキシレンを１００％用いた実験例４（比較例１）では、シリコーンブランケットにキシレンが吸収されてブランケットの表面でフィルム化した。このため、図１６（Ｄ）に示したように、パターニングができなかった。キシレンを用いてパターニングするためには、上述したように、あらかじめ溶媒をブランケットに膨潤させることで、ブランケット上に形成された有機膜からの溶媒吸収抑制することができる。しかしながら、その場合には逆にブランケットから有機膜へ溶媒が逆拡散するため、得られたパターンは溶媒の揮発と共にシュリンクあるいは歪みが発生する虞がある。
【０１０９】
溶媒としてＮＭＰ：オクタン（５０：５０）を用いた実験例５（比較例２）では、双極子モーメントの大きさ（双極子モーメント４．０９）からインキがはじかれてしまい塗膜できず、図１６（Ｅ）に示したように部分液に液だまりが生じた状態となった。
【０１１０】
これに対して、双極子モーメントが１．３以上３．０以下範囲内の溶媒を用いた実験例１〜３（実施例１〜３）では、図１６（Ａ）〜（Ｃ）に示したように、正確にパターニングされていることがわかる。
【０１１１】
以上の結果からインキ組成物を構成する溶媒として双極子モーメントが１．２以上３．０以下の溶媒を用いることにより、高精細なパターニングの印刷が可能であることが確認できた。また、図１５の特性図からインク組成物を構成する溶媒は、溶媒をブランケットに１分間浸漬させた際の、ブランケットを構成するポリマーに対する溶媒の重量増加率が１％以上６％以内となる溶媒が好ましいともいえる。
【０１１２】
以上、実施の形態および実施例を挙げて本開示を説明したが、本開示は上記実施の形態等に限定されるものではなく、種々変形が可能である。例えば、上記実施の形態等では、インキ組成物２２を用いて赤色発光層１４ＣＲまたは緑色発光層１４ＣＧを形成する例を示したが、赤色発光層１４ＣＲおよび緑色発光層１４ＣＧ以外の発光層、あるいは正孔注入層１４Ａや正孔輸送層１４Ｂ等の他の有機層１４をパターニングして形成するようにしてもよい。特に、正孔注入層１４Ａをパターニングして形成すれば、リーク電流を抑えることができる。
【０１１３】
また、上記実施の形態等では、機能層の一部としての印刷パターン層が発光層１４Ｃである場合を例示したが、これに限定されず、他の有機層１４、例えば正孔注入層１４Ａ，正孔輸送層１４Ｂ，電子輸送層１４Ｄおよび電子供給層１４Ｅのうちの１層または２層以上を、印刷パターン層として、オフセット印刷により形成するようにしてもよい。
【０１１４】
更に、上記実施の形態等では、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの構成を具体的に挙げて説明したが、全ての層を備える必要はなく、他の層を更に備えていてもよい。また、上記実施の形態等では、青色以外の有機ＥＬ素子として赤色および緑色の有機ＥＬ素子を備えた表示装置について説明したが、本開示はこれに限定されず、印刷法を用いて機能層を形成可能な表示装置全般に適用可能である。例えば、青色有機ＥＬ素子と黄色有機ＥＬ素子からなる表示装置への適用も可能である。
【０１１５】
更にまた、上記実施の形態等では、アクティブマトリクス型の表示装置１，２の場合について説明したが、本開示はパッシブマトリクス型の表示装置への適用も可能である。更にまた、アクティブマトリクス駆動のための画素駆動回路の構成は、上記実施の形態で説明したものに限られず、必要に応じて容量素子やトランジスタを追加してもよい。その場合、画素駆動回路の変更に応じて、上述した信号線駆動回路１２０や走査線駆動回路１３０のほかに、必要な駆動回路を追加してもよい。
【０１１６】
また、上記実施の形態等では、表示装置１，２がトップエミッション型あるいはボトムエミッション型である場合について説明したが、上面および下面の両方から光を取り出すタイプの表示装置１，２にも本開示は適用可能である。
【０１１７】
なお、本技術は以下のような構成も取ることができる。
（１）有機材料と、双極子モーメントが１．３以上３．０以下であると共に、分子骨格にπ共有結合を有する溶媒とを含むインキ組成物。
（２）前記溶媒を５０％以上含有する、前記（１）に記載のインキ組成物。
（３）前記有機材料として、分子量５０００以上のポリマーまたはオリゴマーを含む、前記（１）または（２）に記載のインキ組成物。
（４）前記有機材料と溶媒とからなる溶液中における前記有機材料の重量は８０％以上９９．５％以内である、前記（１）乃至（３）のいずれか１つに記載のインキ組成物。
（５）前記溶媒は、アニソール、フェネトール、ジフェニルエーテル、１，２−ジメトキシベンゼン、１，３−ジメトキシベンゼン、アセトフェノン、シクロヘキサノン、２−ペンタノン、３−ペンタノンおよび４−ペンタノンのうちの少なくとも１種である、前記（１）乃至（４）のいずれか１つに記載のインキ組成物。
（６）前記溶媒は、１，２−ジメトキシベンゼン、１，３−ジメトキシベンゼン、アセトフェノン、シクロヘキサノン、２−ペンタノン、３−ペンタノン、４−ペンタノンのうちの少なくとも１種である、前記（１）乃至（５）のいずれか１つに記載のインキ組成物。
（７）有機材料および双極子モーメントが１．３以上３．０以下であると共に、分子骨格にπ共有結合を有する溶媒を含むインキ組成物をブランケットに塗布して転写層を形成する工程と、前記転写層に所定のパターンを有する版を押し当てて、前記ブランケット上にパターン層を形成する工程と、前記パターン層を被印刷基板に転写する工程とを含む印刷方法。
（８）前記溶媒を前記ブランケットに１分間浸漬させた際の、前記ブランケットを構成するポリマーに対する前記溶媒の重量増加率が１％以上６％以内である、前記（７）に記載の印刷方法。
（９）前記ブランケットはシリコーンゴムによって形成されている、前記（７）または（８）に記載の印刷方法。
（１０）基板上に表示素子を形成する工程を含み、前記表示素子を形成する工程は、有機材料および双極子モーメントが１．３以上３．０以下であると共に、分子骨格にπ共有結合を有する溶媒を含むインキ組成物をブランケットに塗布して転写層を形成する工程と、前記転写層に所定のパターンを有する版を押し当てて、前記ブランケット上にパターン層を形成する工程と、前記パターン層を被印刷基板に転写する工程とを含む表示装置の製造方法。
【符号の説明】
【０１１８】
１，２…表示装置、１０Ｒ…赤色有機ＥＬ素子、１０Ｇ…緑色有機ＥＬ素子、１０Ｂ…青色有機ＥＬ素子、１１…基板、１２…下部電極、１３…下部隔壁、１４…有機膜、１４Ａ…正孔注入層、１４Ｂ…正孔輸送層、１４ＣＲ…赤色発光層、１４ＣＧ…緑色発光層、１４ＣＢ…青色発光層、１４Ｄ…電子輸送層、１４Ｅ…電子注入層、１５…上部電極、１６…保護層、１７…封止用基板、２１…ブランケット、２２…反転印刷用インキ組成物、２２ａ…転写層、２２ｂ…パターン層、２２ｃ…非印刷部。
【図１】
2013177499.tif 000029
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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