(57)【要約】【課題】本発明は、疎水性溶媒に対する分散性に優れる粒子及び該粒子を含む化粧料を提供することを目的とする。【解決手段】化粧料は、金属酸化物が存在する表面に、一般式  −ＣＨ２Ｃ（Ｒ１）ＣＯＯＲ２−（式中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基であり、Ｒ２は、炭素数が８以上１８以下のアルキル基である。）で表される構成単位又は一般式  −ＣＨ２Ｃ（Ｒ１）ＣＯＮＨＲ２−（式中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基であり、Ｒ２は、炭素数が８以上１８以下のアルキル基である。）で表される構成単位を有する高分子鎖が導入されている粒子を含み、粒子は、金属酸化物が存在する表面に高分子鎖が導入されている密度が０．０４本／ｎｍ２以上０．３０本／ｎｍ２以下であり、高分子鎖は、数平均分子量が１００００以上５００００以下であり、数平均分子量に対する重量平均分子量の比が１．０以上１．７以下である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属酸化物が存在する表面に、一般式
−ＣＨ２Ｃ（Ｒ１）ＣＯＯＲ２−
（式中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基であり、Ｒ２は、炭素数が８以上１８以下のアルキル基である。）
で表される構成単位又は一般式
−ＣＨ２Ｃ（Ｒ１）ＣＯＮＨＲ２−
（式中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基であり、Ｒ２は、炭素数が８以上１８以下のアルキル基である。）
で表される構成単位を有する高分子鎖が導入されている粒子を含み、
前記粒子は、前記金属酸化物が存在する表面に前記高分子鎖が導入されている密度が０．０４本／ｎｍ２以上０．３０本／ｎｍ２以下であり、
前記高分子鎖は、数平均分子量が１００００以上５００００以下であり、数平均分子量に対する重量平均分子量の比が１．０以上１．７以下であることを特徴とする化粧料。
【請求項２】
前記高分子鎖は、一般式
−ＣＨ２Ｃ（Ｒ１）ＣＯＯＲ２−
（式中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基であり、Ｒ２は、炭素数が１２又は１３のアルキル基である。）
で表される構成単位を有することを特徴とする請求項１に記載の化粧料。
【請求項３】
前記金属酸化物は、酸化鉄であることを特徴とする請求項１又は２に記載の化粧料。
【請求項４】
金属酸化物が存在する表面に、一般式
−ＣＨ２Ｃ（Ｒ１）ＣＯＯＲ２−
（式中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基であり、Ｒ２は、炭素数が８以上１８以下のアルキル基である。）
で表される構成単位又は一般式
−ＣＨ２Ｃ（Ｒ１）ＣＯＮＨＲ２−
（式中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基であり、Ｒ２は、炭素数が８以上１８以下のアルキル基である。）
で表される構成単位を有する高分子鎖が導入されており、
前記金属酸化物が存在する表面に前記高分子鎖が導入されている密度が０．０４本／ｎｍ２以上０．３０本／ｎｍ２以下であり、
前記高分子鎖は、数平均分子量が１００００以上５００００以下であり、数平均分子量に対する重量平均分子量の比が１．０以上１．７以下であることを特徴とする粒子。
【請求項５】
金属酸化物が表面に存在する粒子に、ハロゲン化アルキル基又はハロゲン化スルホニル基を導入する工程と、
該ハロゲン化アルキル基又はハロゲン化スルホニル基が表面に導入された粒子を用いて、一般式
ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ１）ＣＯＯＲ２
（式中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基であり、Ｒ２は、炭素数が８以上１８以下のアルキル基である。）
で表される化合物又は一般式
ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ１）ＣＯＮＨＲ２
（式中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基であり、Ｒ２は、炭素数が８以上１８以下のアルキル基である。）
で表される化合物を含むモノマーを、原子移動ラジカル重合法により重合して高分子鎖を導入する工程を有し、
前記金属酸化物が存在する表面に前記高分子鎖が導入されている密度が０．０４本／ｎｍ２以上０．３０本／ｎｍ２以下であり、
前記高分子鎖は、数平均分子量が１００００以上５００００以下であり、数平均分子量に対する重量平均分子量の比が１．０以上１．７以下であることを特徴とする粒子の製造方法。
【請求項６】
請求項５に記載の粒子の製造方法を用いて粒子を製造する工程を有することを特徴とする化粧料の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、化粧料、粒子、粒子の製造方法及び化粧料の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、金属酸化物粒子は、種々の目的で化粧料に配合されているが、分散性を向上させるために、表面処理されている。
【０００３】
特許文献１には、酸化亜鉛、酸化チタン及び酸化セリウムから選ばれる少なくとも１種の金属酸化物の表面に導入された重合開始基を介して、重合性不飽和基を有する単量体を重合してなる、金属酸化物複合粉体を含有する化粧料が開示されている。
【０００４】
しかしながら、疎水性溶媒に対する分散性が不十分であるという問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００５−２９００３６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記の従来技術が有する問題に鑑み、疎水性溶媒に対する分散性に優れる粒子及び該粒子を含む化粧料を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の化粧料は、金属酸化物が存在する表面に、一般式
−ＣＨ２Ｃ（Ｒ１）ＣＯＯＲ２−・・・（１）
（式中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基であり、Ｒ２は、炭素数が８以上１８以下のアルキル基である。）
で表される構成単位又は一般式
−ＣＨ２Ｃ（Ｒ１）ＣＯＮＨＲ２−・・・（２）
（式中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基であり、Ｒ２は、炭素数が８以上１８以下のアルキル基である。）
で表される構成単位を有する高分子鎖が導入されている粒子を含み、前記粒子は、前記金属酸化物が存在する表面に前記高分子鎖が導入されている密度が０．０４本／ｎｍ２以上０．３０本／ｎｍ２以下であり、前記高分子鎖は、数平均分子量が１００００以上５００００以下であり、数平均分子量に対する重量平均分子量の比が１．０以上１．７以下である。
【０００８】
本発明の粒子は、金属酸化物が存在する表面に、一般式
−ＣＨ２Ｃ（Ｒ１）ＣＯＯＲ２−・・・（１）
（式中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基であり、Ｒ２は、炭素数が８以上１８以下のアルキル基である。）
で表される構成単位又は一般式
−ＣＨ２Ｃ（Ｒ１）ＣＯＮＨＲ２−・・・（２）
（式中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基であり、Ｒ２は、炭素数が８以上１８以下のアルキル基である。）
で表される構成単位を有する高分子鎖が導入されており、前記金属酸化物が存在する表面に前記高分子鎖が導入されている密度が０．０４本／ｎｍ２以上０．３０本／ｎｍ２以下であり、前記高分子鎖は、数平均分子量が１００００以上５００００以下であり、数平均分子量に対する重量平均分子量の比が１．０以上１．７以下である。
【０００９】
本発明の粒子の製造方法は、金属酸化物が表面に存在する粒子に、ハロゲン化アルキル基又はハロゲン化スルホニル基を導入する工程と、該ハロゲン化アルキル基又はハロゲン化スルホニル基が表面に導入された粒子を用いて、一般式
ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ１）ＣＯＯＲ２・・・（３）
（式中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基であり、Ｒ２は、炭素数が８以上１８以下のアルキル基である。）
で表される化合物又は一般式
ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ１）ＣＯＮＨＲ２・・・（４）
（式中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基であり、Ｒ２は、炭素数が８以上１８以下のアルキル基である。）
で表される化合物を含むモノマーを、原子移動ラジカル重合法により重合して高分子鎖を導入する工程を有し、前記金属酸化物が存在する表面に前記高分子鎖が導入されている密度が０．０４本／ｎｍ２以上０．３０本／ｎｍ２以下であり、前記高分子鎖は、数平均分子量が１００００以上５００００以下であり、数平均分子量に対する重量平均分子量の比が１．０以上１．７以下である。
【００１０】
本発明の化粧料の製造方法は、本発明の粒子の製造方法を用いて粒子を製造する工程を有する。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、疎水性溶媒に対する分散性に優れる粒子及び該粒子を含む化粧料を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
次に、本発明を実施するための形態を説明する。
【００１３】
本発明の粒子は、金属酸化物が存在する表面に、一般式（１）又は（２）で表される構成単位を有する高分子鎖が導入されており、一般式
−ＣＨ２Ｃ（Ｒ１）ＣＯＯＲ２−
（式中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基であり、Ｒ２は、炭素数が１２又は１３のアルキル基である。）
構成単位を有する高分子鎖が導入されていることが好ましい。
【００１４】
高分子鎖の数平均分子量は、１００００〜５００００であり、１００００〜３００００であることが好ましい。高分子鎖の数平均分子量が１００００未満である場合又は５００００を超える場合は、疎水性溶媒に対する分散性が低下する。
【００１５】
高分子鎖の数平均分子量に対する重量平均分子量の比は、１．０〜１．７であり、１．０〜１．５であることが好ましい。高分子鎖の数平均分子量に対する重量平均分子量の比が１．７を超えると、疎水性溶媒に対する分散性が低下する。
【００１６】
なお、高分子鎖の数平均分子量及び重量平均分子量は、金属酸化物が存在する表面に一般式（１）又は（２）で表される構成単位を有する高分子鎖を導入する際に、重合開始剤を添加することにより生成する遊離の高分子の数平均分子量及び重量平均分子量で代用することができる（例えば、Ｍ．Ｅｊａｚ，Ｓ．Ｙａｍａｍｏｔｏ，Ｋ．Ｏｈｎｏ，Ｙ．Ｔｓｕｊｉｉ，Ｔ．Ｆｕｋｕｄａ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，３１，５９３４（１９９８）、Ｋ．Ｎａｇａｓｅ，Ｊ．Ｋｏｂａｙａｓｈｉ，Ａ．Ｋｉｋｕｃｈｉ，Ｙ．Ａｋｉｙａｍａ，Ｈ．Ｋａｎａｚａｗａ，Ｔ．Ｏｋａｎｏ，Ｌａｎｇｍｕｉｒ，２４，５１１（２００８）参照）。
【００１７】
遊離の高分子の数平均分子量及び重量平均分子量は、ポリスチレン換算の数平均分子量及び重量平均分子量であり、ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ（東ソー社製）を用いて測定することができる。
【００１８】
本発明の粒子の金属酸化物が存在する表面に高分子鎖が導入されている密度（グラフト密度）は、０．０４〜０．３０本／ｎｍ２であり、０．０４〜０．２０本／ｎｍ２であることが好ましい。粒子の金属酸化物が存在する表面に高分子鎖が導入されている密度が０．０４本／ｎｍ２未満である場合又は０．３０本／ｎｍ２を超える場合は、疎水性溶媒に対する分散性が低下する。
【００１９】
なお、本発明の粒子の金属酸化物が存在する表面に高分子鎖が導入されている密度［本／ｎｍ２］は、本発明の粒子中の高分子鎖の含有量をＡ［質量％］、表面に金属酸化物が存在する粒子の比表面積をＢ［ｍ２／ｇ］、遊離の高分子の数平均分子量をＭｎ、アボガドロ定数をＮＡ［ｍｏｌ−１］とすると、式
［Ａ／Ｍｎ×ＮＡ］／［（１００−Ａ）×Ｂ×１０１８］
から算出することができる。
【００２０】
このとき、本発明の粒子中の高分子鎖の含有量は、本発明の粒子を元素分析することにより測定することができる。
【００２１】
なお、本発明の粒子を酸処理して金属酸化物を分解することにより、本発明の粒子から高分子鎖を単離することができる。
【００２２】
本発明の粒子のイソドデカン中のメディアン径は、通常、０．０１〜１００μｍであり、０．１〜１０μｍであることが好ましい。
【００２３】
なお、本発明の粒子のイソドデカン中のメディアン径は、本発明の粒子をイソドデカン中で超音波分散させた後、粒度分析計ＭＩＣＲＯＴＲＡＣ  ＨＲＡ（日機装社製）を用いて測定することができる。
【００２４】
表面に金属酸化物が存在する粒子としては、特に限定されないが、酸化鉄粒子、酸化チタン粒子、酸化セリウム粒子、酸化亜鉛粒子、パール顔料等が挙げられる。
【００２５】
表面に金属酸化物が存在する粒子の形状としては、特に限定されないが、球状、板状、不定形等が挙げられる。
【００２６】
本発明の粒子は、粒子の金属酸化物が存在する表面に、ハロゲン化アルキル基又はハロゲン化スルホニル基を導入した後、原子移動ラジカル重合法を用いて、一般式（３）又は（４）で表される化合物を含むモノマーを重合して高分子鎖を導入することにより製造することができる。
【００２７】
粒子の金属酸化物が存在する表面に、ハロゲン化アルキル基を導入することが可能な化合物としては、特に限定されないが、［４−（クロロメチル）フェネチル］トリメトキシシラン、［４−（クロロメチル）フェネチル］トリクロロシラン、２−ブロモイソ酪酸６−（トリエトキシシリル）ヘキシル、２−ブロモイソ酪酸６−（トリクロロシリル）ヘキシル等が挙げられる。
【００２８】
粒子の金属酸化物が存在する表面に、ハロゲン化スルホニル基を導入することが可能な化合物としては、特に限定されないが、２−（４−クロロスルホニルフェニル）エチルトリエトキシシラン、２−（４−クロロスルホニルフェニル）エチルトリクロロシラン等が挙げられる。
【００２９】
一般式（３）又は（４）で表される化合物としては、特に限定されないが、アクリル酸オクチル、アクリル酸ノニル、アクリル酸デシル、アクリル酸ウンデシル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸トリデシル、アクリル酸テトラデシル、アクリル酸ヘキサデシル、アクリル酸ヘプタデシル、アクリル酸オクタデシル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸ノニル、メタクリル酸デシル、メタクリル酸ウンデシル、メタクリル酸ドデシル、メタクリル酸トリデシル、メタクリル酸テトラデシル、メタクリル酸ヘキサデシル、メタクリル酸ヘプタデシル、メタクリル酸オクタデシル、Ｎ−オクチルアクリルアミド、Ｎ−ノニルアクリルアミド、Ｎ−デシルアクリルアミド、Ｎ−ドデシルアクリルアミド、Ｎ−テトラデシルアクリルアミド、Ｎ−ヘキサデシルアクリルアミド、Ｎ−オクタデシルアクリルアミド、Ｎ−オクチルメタクリルアミド、Ｎ−ノニルメタクリルアミド、Ｎ−デシルメタクリルアミド、Ｎ−ドデシルメタクリルアミド、Ｎ−テトラデシルメタクリルアミド、Ｎ−ヘキサデシルメタクリルアミド、Ｎ−オクタデシルメタクリルアミド等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【００３０】
一般式（３）又は（４）で表される化合物と共に、共重合することが可能なモノマーとしては、特に限定されないが、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、アクリルアミド、メタクリルアミド等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【００３１】
モノマーを重合する際に用いられる遷移金属錯体としては、特に限定されないが、モリブデン錯体、クロム錯体、レニウム錯体、ルテニウム錯体、鉄錯体、ロジウム錯体、ニッケル錯体、パラジウム錯体、銅錯体等が挙げられる（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｒｅｖｉｅｗ，２００１，１０１巻，２９３５−２９４０参照）。
【００３２】
また、モノマーを重合する系中に、ハロゲン化銅及び銅に配位することが可能な有機化合物を加えて、銅錯体とすることもできる。
【００３３】
銅に配位することが可能な有機化合物としては、特に限定されないが、スパルテイン、窒素酸化物等が挙げられる（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｒｅｖｉｅｗ，２００１，１０１巻，２９４１項参照）。
【００３４】
また、モノマーを重合する系中に、２−ブロモ酪酸エチル等の重合開始剤を加えることが好ましい。これにより、高分子鎖の構造を制御することができる。また、遊離の高分子の数平均分子量及び重量平均分子量を測定することもできる。
【００３５】
本発明の化粧料としては、本発明の粒子を含んでいれば、特に限定されないが、ファンデーション、頬紅、アイシャドー、マスカラ、アイライナー、口紅、ネイルエナメル等のメーキャップ化粧料；サンスクリーン化粧料；下地化粧料；ヘアスプレー、ヘアムース等の毛髪化粧料等が挙げられる。
【００３６】
本発明の化粧料の形態としては、特に限定されないが、固体化粧料、ワックス化粧料、乳液（油中水型、水中油型）化粧料、液体化粧料、ゲル化粧料、スプレー、フォーム等が挙げられる。
【００３７】
本発明の化粧料中の本発明の粒子の含有量は、通常、０．１〜６０質量％であり、１〜４０質量％であることが好ましい。
【００３８】
本発明の化粧料は、必要に応じて、体質顔料、有機顔料、パール顔料、天然鉱物、有機粉末、油分、紫外線防御剤、ゲル化剤、皮膜形成剤、固形・半固形油分、金属石鹸、界面活性剤、保湿剤、防腐剤、香料、増粘剤、酸化防止剤、殺菌剤、制汗剤等をさらに含んでいてもよい。
【００３９】
体質顔料としては、特に限定されないが、マイカ、タルク、セリサイト、硫酸バリウム等が挙げられる。
【００４０】
有機顔料としては、特に限定されないが、黄色４０１号、赤色２２６号等が挙げられる。
【００４１】
油分としては、特に限定されないが、ワセリン、ラノリン、セレシン、オリーブ油、ホホバ油、ヒマシ油、スクワラン、流動パラフィン、エステル油、ジグリセリド、シリコーン油、パーフルオロポリエーテル、フッ素変性シリコーン油等が挙げられる。
【００４２】
固形・半固形油分としては、特に限定されないが、マイクロクリスタリンワックス、高級脂肪酸、高級アルコール等が挙げられる。
【実施例】
【００４３】
［ハロゲン化メチル基が表面に導入されたベンガラ粒子の作製］
５００ｍＬ蓋付きガラス容器に、比表面積が４．４４ｍ２／ｇのベンガラ粒子４０ｇを入れ、６０％ＲＨの環境で４時間放置した後、［４−（クロロメチル）フェネチル］トリメトキシシラン２．７８８ｍＬ及びトルエン２００ｍＬを入れ、室温で２４時間攪拌した。次に、遠心分離により、ハロゲン化メチル基が表面に導入されたベンガラ粒子を分離した後、トルエン、メタノール、クロロホルム及びアセトンで洗浄し、１１０℃で２時間真空乾燥させ、ハロゲン化メチル基が表面に導入されたベンガラ粒子を得た。
【００４４】
なお、ベンガラ粒子の比表面積は、比表面積計Ｍａｃｓｏｒｂ  ＨＭ  ｍｏｄｅｌ−１２０８（マウンテック社製）を用いて測定した。
【００４５】
［実施例１］
５０ｍＬのナスフラスコに、塩化銅（Ｉ）０．０３４ｇ、アクリル酸ドデシル（ＤＡ）８．４ｇ及び脱水トルエン１０ｍＬを入れ、アルゴンで置換した後、４，４’−ビス（５−ノニル）−２，２’−ジピリジン（ｄＮｂｐｙ）０．２８ｇを加え、モノマーと金属錯体の混合溶液を得た。
【００４６】
１００ｍＬのナスフラスコに、ハロゲン化メチル基が表面に導入されたベンガラ粒子１．１ｇを入れ、窒素で置換した後、モノマーと金属錯体の混合溶液及び重合開始剤α−クロロ−ｐ−キシレン４６μＬを加え、９０℃で３６時間反応させた。次に、固形分を遠心分離して、トルエン、ジメチルホルムアミド及びヘキサンで洗浄した後、４０℃で１２時間真空乾燥させ、ポリアクリル酸ドデシル（ＰＤＡ）鎖が表面に導入されたベンガラ粒子を得た。ＰＤＡ鎖が表面に導入されたベンガラ粒子は、グラフト密度が０．０８本／ｍｍ２、ＰＤＡ鎖の含有量が１．０４質量％であり、ＰＤＡ鎖は、数平均分子量が１８９００、重量平均分子量が２６４００、数平均分子量に対する重量平均分子量の比が１．４０であった。
【００４７】
［実施例２］
５０ｍＬのナスフラスコに、塩化銅（Ｉ）０．０６８ｇ、アクリル酸ドデシル（ＤＡ）８．４ｇ及び脱水トルエン１０ｍＬを入れ、アルゴンで置換した後、４，４’−ビス（５−ノニル）−２，２’−ジピリジン（ｄＮｂｐｙ）０．５６ｇを加え、モノマーと金属錯体の混合溶液を得た。
【００４８】
１００ｍＬのナスフラスコに、ハロゲン化メチル基が表面に導入されたベンガラ粒子１．１ｇを入れ、窒素で置換した後、モノマーと金属錯体の混合溶液及び重合開始剤α−クロロ−ｐ−キシレン２３μＬを加え、９０℃で３８時間反応させた。次に、固形分を遠心分離して、トルエン、ジメチルホルムアミド及びヘキサンで洗浄した後、４０℃で１２時間真空乾燥させ、ポリアクリル酸ドデシル（ＰＤＡ）鎖が表面に導入されたベンガラ粒子を得た。ＰＤＡ鎖が表面に導入されたベンガラ粒子は、グラフト密度が０．０９本／ｍｍ２、ＰＤＡ鎖の含有量が１．６０質量％であり、ＰＤＡ鎖は、数平均分子量が２３４００、重量平均分子量が２８６００、数平均分子量に対する重量平均分子量の比が１．２２であった。
【００４９】
［比較例１］
２００ｍＬのナスフラスコに、塩化銅（Ｉ）０．２３３ｇ、アクリル酸ドデシル（ＤＡ）２８．１７ｇ及び脱水テトラヒドロフラン１２０ｍＬを入れ、アルゴンで置換した後、トリス［２−（ジメチルアミノ）エチル］アミン（Ｍｅ６ＴＲＥＮ）０．６０８ｇを加え、モノマーと金属錯体の混合溶液を得た。
【００５０】
２００ｍＬのナスフラスコに、ハロゲン化メチル基が表面に導入されたベンガラ粒子５．５ｇを入れ、窒素で置換した後、モノマーと金属錯体の混合溶液及び重合開始剤α−クロロ−ｐ−キシレン３１μＬを加え、室温で１６時間反応させた。次に、固形分を遠心分離して、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド及びヘキサンで洗浄した後、４０℃で１２時間真空乾燥させ、ポリアクリル酸ドデシル（ＰＤＡ）鎖が表面に導入されたベンガラ粒子を得た。ＰＤＡ鎖が表面に導入されたベンガラ粒子は、グラフト密度が０．１２本／ｍｍ２、ＰＤＡ鎖の含有量が０．５１質量％であり、ＰＤＡ鎖は、数平均分子量が５８００、重量平均分子量が１０６００、数平均分子量に対する重量平均分子量の比が１．８３であった。
【００５１】
［実施例３］
５０ｍＬのナスフラスコに、塩化銅（Ｉ）０．０３４ｇ、メタクリル酸トリデシル（ＴＤＭ）９．４ｇ及び脱水トルエン１０ｍＬを入れ、アルゴンで置換した後、４，４’−ビス（５−ノニル）−２，２’−ジピリジン（ｄＮｂｐｙ）０．２８ｇを加え、モノマーと金属錯体の混合溶液を得た。
【００５２】
１００ｍＬのナスフラスコに、ハロゲン化メチル基が表面に導入されたベンガラ粒子１．１ｇを入れ、窒素で置換した後、モノマーと金属錯体の混合溶液及び重合開始剤α−クロロ−ｐ−キシレン４６μＬを加え、９０℃で３８時間反応させた。次に、固形分を遠心分離して、トルエン、ジメチルホルムアミド及びヘキサンで洗浄した後、４０℃で１２時間真空乾燥させ、ポリメタクリル酸トリデシル（ＰＴＤＭ）鎖が表面に導入されたベンガラ粒子を得た。ＰＴＤＭ鎖が表面に導入されたベンガラ粒子は、グラフト密度が０．０４本／ｍｍ２、ＰＴＤＭ鎖の含有量が０．９６質量％であり、ＰＴＤＭ鎖は、数平均分子量が３４１００、重量平均分子量が４６５００、数平均分子量に対する重量平均分子量の比が１．３６であった。
【００５３】
［比較例２］
２００ｍＬのナスフラスコに、塩化銅（Ｉ）０．０９３ｇ、メタクリル酸トリデシル（ＴＤＭ）１２．５８ｇ及び脱水テトラヒドロフラン４８ｍＬを入れ、アルゴンで置換した後、トリス［２−（ジメチルアミノ）エチル］アミン（Ｍｅ６ＴＲＥＮ）０．２４３ｇを加え、モノマーと金属錯体の混合溶液を得た。
【００５４】
１００ｍＬのナスフラスコに、ハロゲン化メチル基が表面に導入されたベンガラ粒子２．２ｇを入れ、窒素で置換した後、モノマーと金属錯体の混合溶液及び重合開始剤α−クロロ−ｐ−キシレン１２μＬを加え、室温で８時間反応させた。次に、固形分を遠心分離して、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド及びヘキサンで洗浄した後、４０℃で１２時間真空乾燥させ、ポリメタクリル酸トリデシル（ＰＴＤＭ）鎖が表面に導入されたベンガラ粒子を得た。ＰＴＤＭ鎖が表面に導入されたベンガラ粒子は、グラフト密度が０．１３本／ｍｍ２、ＰＴＤＭ鎖の含有量が２．８９質量％であり、ＰＴＤＭ鎖は、数平均分子量が３１８００、重量平均分子量が６９２００、数平均分子量に対する重量平均分子量の比が２．１８であった。
【００５５】
［数平均分子量及び重量平均分子量］
固形分を遠心分離する際に得られる遊離の高分子を含む液を希釈した後、ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ（東ソー社製）を用いて、遊離の高分子のポリスチレン換算の数平均分子量及び重量平均分子量を測定した。このとき、カラムとしては、ＧＰＣカラムＴＳＫｇｅｌ  ＧＭＨ−Ｍ  、ＴＳＫｇｅｌ  Ｇ２０００Ｈ（東ソー社製）を、それぞれ２本ずつ用い、溶離液としては、テトラヒドロフランを用いた。
【００５６】
［イソドデカン中のメディアン径（スターラー）］
５０ｍＬのスクリュー管に、高分子鎖が表面に導入されたベンガラ粒子０．１ｇ及びイソドデカン９．９ｇを入れた後、直径が５ｍｍ、長さが２ｃｍの円筒形の撹拌子及びマグネティックスターラーＭＡＧＮＥＴＩＣ  ＳＴＩＲＲＥＲ  ＲＥＭＩＸ  ＲＳ−６Ｄ（ＡＳ  ＯＮＥ社製）を用いて、１５００ｒｐｍで３０分間撹拌した。
【００５７】
粒度分析計ＭＩＣＲＯＴＲＡＣ  ＨＲＡ（日機装株式会社）を用いて、高分子鎖が表面に導入されたベンガラ粒子のメディアン径を測定した。
【００５８】
［イソドデカン中のメディアン径（超音波）］
５０ｍＬのスクリュー管に、高分子鎖が表面に導入されたベンガラ粒子０．１ｇ及びイソドデカン９．９ｇを入れた後、超音波分散機Ｕｌｔｒａ  Ｓｏｎｉｃ  Ｃｌｅａｎｓｅｒ  ＡＵ−５０１ＣＯ（東京理化器械社製）を用いて、１８分間分散させた。
【００５９】
粒度分析計ＭＩＣＲＯＴＲＡＣ  ＨＲＡ（日機装株式会社）を用いて、高分子鎖が表面に導入されたベンガラ粒子のメディアン径を測定した。
【００６０】
表１に、高分子鎖が表面に導入されたベンガラ粒子の特性及びイソドデカン中のメディアン径の測定結果を示す。
【００６１】
【表１】
2013194040.tif 000002
表１から、実施例１〜３のＰＤＡ鎖又はＰＴＤＭ鎖が表面に導入されたベンガラ粒子は、イソドデカンに対する分散性が優れることがわかる。
【００６２】
一方、比較例１のＰＤＡ鎖が表面に導入されたベンガラ粒子は、ＰＤＡ鎖の含有量が０．５１質量％であることに加え、ＰＤＡ鎖のＭｎが５８００、Ｍｗ／Ｍｎが１．８３であるため、イソドデカンに対する分散性が低下する。
【００６３】
また、比較例２のＰＴＤＭ鎖が表面に導入されたベンガラ粒子は、ＰＴＤＭ鎖の含有量が２．８９質量％であることに加え、ＰＴＤＭ鎖のＭｗ／Ｍｎが２．１８であるため、イソドデカンに対する分散性が低下する。
【００６４】
［化粧料の調製］
水添ポリイソブテン６８ｇ、流動パラフィン１８ｇ、ポリエチレンワックス１０ｇ、疎水化処理パール剤１ｇ及び実施例１のＰＤＡ鎖が表面に導入されたベンガラ粒子３ｇを攪拌しながら９０℃に加熱した後、型に流し込み、冷却して、口紅を得た。