(57)【要約】【課題】十分な帯電防止機能を有し、湿度依存性がなく、耐候性を有し、高透過率の反射防止フィルムとその反射防止フィルムを備える偏光板、バックライト部材およびディスプレイを提供することを課題とする。【解決手段】透明基材上にハードコート層、低屈折率層を順に備える反射防止フィルムであって、該ハードコート層がカーボンナノチューブ、フラーレン、および導電性高分子を含むことを特徴とする反射防止フィルム。その反射防止フィルムを備える偏光板、バックライト部材およびディスプレイ。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材上にハードコート層、低屈折率層を順に備える反射防止フィルムであって、該ハードコート層がカーボンナノチューブ、フラーレン、および導電性高分子を含むことを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項２】
低屈折率層表面での平均視感反射率が０．５％以上１．５％以下であり、全光線透過率が９２．０％以上であり、低屈折率層表面での表面抵抗値が１×１０１２（Ω／□）以下であることを特徴とする請求項１記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
前記ハードコート層が導電性金属酸化物粒子を含み、且つ、温度１００℃、湿度５０％の環境下に５００時間サンプルを保管した後における低屈折率層表面の表面抵抗値が１×１０１２（Ω／□）以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の反射防止フィルム。
【請求項４】
前記ハードコート層にカーボンナノチューブ（A）、フラーレン（B）、導電性高分子（C）とバインダ樹脂（D）を含有する導電層が設けられており、該導電層に含まれる材料の比率は合計１００重量部に対して、（A）１．０〜１５．０重量部（B）１．０〜１５．０重量部（C）１．０〜３０．０重量部（D）４０．０〜９７．０重量部、で構成されることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項５】
前記低屈折率層が、バインダマトリクス中に低屈折率粒子を含むことを特徴とする、請求項１から４のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項６】
請求項１から５のいずれか１項に記載の反射防止フィルムを備える偏光板。
【請求項７】
請求項１から５のいずれか１項に記載の反射防止フィルムを備えるバックライト部材。
【請求項８】
請求項１から５のいずれか１項に記載の反射防止フィルムを備えるディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止性能及び帯電防止性能を備える反射防止フィルムに関する。さらには、LCD、PDP、CRT、プロジェクションディスプレイ、ELディスプレイ等のディスプレイの表示画面に適用される反射防止フィルムに関する。
【０００２】
一般にディスプレイは、室内外での使用を問わず、外光などが入射する環境下で使用される。この外光等の入射光は、ディスプレイ表面等で正反射され、それによる反射像が表示画像と混合することにより、画面表示品質を低下させてしまう。そのため、ディスプレイ表面等に反射防止機能を付与させる必要があり、反射防止機能の高性能化、反射防止機能以外の機能の複合化が求められている。
【０００３】
一般に反射防止機能は、透明基材上に金属酸化物等の透明薄膜からなる多層膜を反射防止層として形成することで得られる。これらの多層膜は、化学蒸着（CVD）法や、物理蒸着（PVD）法といったドライコーティング法により形成する方法が提案されている。また、反射防止層の形成方法として、大面積化、連続生産、低コスト化が可能であるウェットコーティング法も提案されている。
【０００４】
また、これらの反射防止層は、その表面が比較的柔軟であることから、表面硬度を付与するために、一般にハードコート層にはアクリル多官能化合物の重合体を使用している。このハードコート層はアクリル樹脂の特性により、高い表面硬度、光沢性、透明性、耐擦傷性を有するが、絶縁性が高いために帯電しやすく、ハードコート層を設けた製品表面への埃等の付着による汚れや、ディスプレイ製造工程において、帯電することにより障害が発生するといった問題を抱えている。
【０００５】
このため、透明基材上にハードコート層と反射防止層を備える反射防止フィルムにおいては、ハードコート層に帯電防止機能を付与する方法や、透明基材とハードコート層間もしくは反射防止層とハードコート層間に新たに帯電防止層を備える方法が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１０−１６０４６４号公報
【特許文献２】特開２０１０−７２４２３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
透明基材とハードコート層間もしくは反射防止層とハードコート層間に帯電防止機能を付与する方法では、製造工程が増えることにより、製造コストがアップしてしまう。そのため、ハードコート層に帯電防止機能を直接付与する方法が望まれている。
【０００８】
帯電防止機能の発現機構はイオン伝導型と電子伝導型の２種に大別される。イオン伝導型としては、四級アンモニウム塩に代表される界面活性剤を樹脂バインダ中に分散させ、帯電防止機能を発現させる手法が一般的である。また、電子伝導型としては、アンチモン含有酸化スズ（ＡＴＯ）に代表される金属酸化物粒子を樹脂バインダ中に分散させる手法、また導電性高分子による帯電防止手法が知られている。
【０００９】
しかしながら、四級アンモニウム塩においては、四級アンモニウム塩のイオン伝導型の帯電防止発現機構であることから、低湿度下で帯電防止性能が低下することが問題となる。ＡＴＯにおいては、バインダ中に金属粒子を分散させることにより、ハードコート層の屈折率が上昇してしまい、干渉縞の発生が問題となる。また、導電性高分子においては、光や熱を吸収することでラジカルを発生し、発生したラジカルが導電性高分子を破壊してしまうことから、耐候性の面で問題がある。
【００１０】
ハードコート層中へのカーボンナノチューブ、フラーレン等の炭素系材料の添加においては、ハードコート層への金属酸化物粒子フィラーの添加時と比較し、ハードコート層の屈折率の上昇を抑えることが可能であり、その結果干渉縞の発生を抑制できる。また、カーボンナノチューブおよびフラーレンの帯電防止発現機構は電子伝導型であり、低湿度下でも帯電防止性能の悪化は起こらないという特徴を有する。さらに、カーボンナノチューブおよびフラーレンは、電子の直接的な移動により、電子伝導を起こしているので、導電性高分子のような光による劣化は見られないという特徴を有する。しかしながら、これらの炭素系材料をハードコート層に添加した場合には、カーボンナノチューブにおいては分散性の悪さ、フラーレンにおいては多量の添加が必要となることから、全光線透過率が低下してしまうという問題があった。
【００１１】
これまでに、ハードコート層中へのカーボンナノチューブおよびフラーレンの同時添加により、カーボンナノチューブとフラーレンが絡み合うことで、添加量を減らすことが可能であり、それにより全光線透過率をある程度向上することができているが、さらなる全光線透過率の向上が期待されている。
【００１２】
本発明にあっては、十分な帯電防止機能を有し、湿度依存性がなく、耐候性を有し、高透過率の反射防止フィルムを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
課題としては、ハードコート層中へカーボンナノチューブを添加した場合には、カーボンナノチューブの分散性の悪さから全光線透過率が低下してしまう、ハードコート層中へフラーレンを添加した場合には、多量の添加フラーレン同士を接触させて導電性を得るために多量の添加が必要になってしまうということがあった。
【００１４】
そこで、カーボンナノチューブおよび分散性の良いフラーレンの両方を添加してハードコート層を形成することにより、カーボンナノチューブとフラーレンのハードコート層への添加量を少なくすることが出来る。それにより、十分な帯電防止機能を付与し、９０％程度の透過率を有するハードコート層の形成が可能であること、さらにカーボンナノチューブおよびフラーレンの添加に加えて導電性高分子の添加を行い、炭素系材料の添加量を減らすことによって更なる高透過率の反射防止フィルムとすることが可能であることを見出して本発明に到達した。
【００１５】
上記課題を解決するために、請求項１に係わる発明としては、透明基材上にハードコート層、低屈折率層を順に備える反射防止フィルムであって、該ハードコート層がカーボンナノチューブ、フラーレンおよび導電性高分子を含むことを特徴とする反射防止フィルムとした。  
【００１６】
また、請求項２に係わる発明としては、低屈折率層表面での平均視感反射率が０．５％以上１．５％以下であり、全光線透過率が９２．０％以上であり、低屈折率層表面での表面抵抗値が１×１０１２（Ω／□）以下であることを特徴とする請求項１記載の反射防止フィルムとした。
【００１７】
また、請求項３に係わる発明としては、前記ハードコート層が導電性金属酸化物粒子を含み、且つ、温度１００℃、湿度５０％の環境下に５００時間サンプルを保管した後における低屈折率層表面の表面抵抗値が１×１０１２（Ω／□）以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の反射防止フィルムとした。
【００１８】
また、請求項４に係わる発明としては、前記ハードコート層にカーボンナノチューブ（A）、フラーレン（B）、導電性高分子（C）とバインダ樹脂（D）を含有する導電層が設けられており、該導電層に含まれる材料の比率は合計１００重量部に対して、（A）１．０〜１５．０重量部（B）１．０〜１５．０重量部（C）１．０〜３０．０重量部（D）４０．０〜９７．０重量部、で構成されることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の反射防止フィルムとした。
【００１９】
また、請求項５に係わる発明としては、前記低屈折率層が、バインダマトリクス中に低屈折率粒子を含むことを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の反射防止フィルムとした。
【００２０】
また、請求項６に係わる発明としては、請求項１から５のいずれか１項に記載の反射防止フィルムを備える偏光板とした。
【００２１】
また、請求項７に係わる発明としては、請求項１から５のいずれかに１項に記載の反射防止フィルムを備えるバックライト部材とした。
【００２２】
また、請求項８に係わる発明としては、請求項１から５のいずれか１項に記載の反射防止フィルムを備えるディスプレイとした。
【００２３】
本発明におけるハードコート層はカーボンナノチューブ（A）、フラーレン（B）、導電性高分子（C）とバインダ樹脂（D）からなる。これらの材料の比率は合計１００重量部に対して、（A）１．０〜１５．０重量部（B）１．０〜１５．０重量部（C）１．０〜３０．０重量部（D）４０．０〜９７．０重量部、で構成される。全光線透過率の低下を抑えるため、また低湿度下における帯電防止性の劣化を抑えるためには、より好ましくは、（A）１．０〜５．０重量部（B）１．０〜５．０重量部（C）１．０〜１５．０重量部（Ｄ）８５．０〜９７．０重量部とすることが望ましい。
【発明の効果】
【００２４】
上記構成の反射防止フィルムとすることにより、十分な帯電防止機能を有し、湿度依存性がなく、耐候性を有し、高透過率の反射防止フィルムを提供することができた。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】図１は本発明の反射防止フィルムの模式断面図である。
【図２】図２は本発明の反射防止フィルムを用いた偏光板の模式断面図である。
【図３】図３は本発明の反射防止フィルムを備えた透過型液晶ディスプレイの模式断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
図１に本発明の反射防止フィルムの模式断面図を示した。本発明の反射防止フィルム１にあっては、透明基材１１上に、ハードコート層１２、低屈折率１３を順に備えることを特徴とする。
【００２７】
本発明の反射防止フィルム１にあっては、ハードコート層１２が帯電防止機能を有する。新たに帯電防止層を設けることなく、ハードコート層に帯電防止機能を付与させること
により、本発明の反射防止フィルムを安価に製造することができる。また、ハードコート層上に設けられる低屈折率層１３が反射防止フィルムに反射防止機能を付与する。
【００２８】
また、本発明の反射防止フィルムにあってはカーボンナノチューブ、フラーレンおよび導電性高分子がハードコート層中に含まれていることを特徴とする。
【００２９】
ハードコート層中へカーボンナノチューブを添加した場合には、カーボンナノチューブの分散性の悪さから全光線透過率が低下してしまうことが問題となる。また、ハードコート層中へフラーレンを添加した場合には、多量の添加フラーレン同士を接触させて導電性を得るために多量の添加が必要となってしまう。そこで、カーボンナノチューブおよび分散性のよいフラーレンの両方を添加してハードコート層を形成することにより、カーボンナノチューブとフラーレンのハードコート層への添加量を少なくすることができる。それにより、十分な帯電防止機能を付与し、９０％程度の透過率を有するハードコート層の形成が可能である。
【００３０】
本発明の反射防止フィルムにあっては、カーボンナノチューブおよびフラーレンの添加に加え、導電性高分子の添加を行い、炭素系材料の添加量を減らし、更なる高透過率の反射防止フィルムを作製した。導電性高分子においては、光や熱を吸収することでラジカルが発生し、発生したラジカルが導電性高分子を壊してしまうことが問題となるが、本発明の反射防止フィルムにおいては、カーボンナノチューブおよびフラーレンのラジカル捕捉能により、光や熱を吸収してラジカルを発生しても導電性高分子の破壊が起こらない。
【００３１】
本発明の反射防止フィルムは、低屈折率層表面での平均視感反射率が０．５％以上１．５％以下であることを特徴とする。低屈折率層表面の平均視感反射率が１．５％を超える場合にあっては、十分な反射防止機能を有する反射防止フィルムとすることができない。また、低屈折率層表面の平均視感反射率は低いほど高い反射防止機能を備えることから、低いほど好ましい。しかしながら、低屈折率層材料、ハードコート層材料の面から平均視感反射率は０．５％以上であることが好ましい。本発明の反射防止フィルムの分光反射率曲線は、反射防止フィルムの低屈折率層と反対側の面を黒色塗料で艶消し処理した後におこなわれ、低屈折率層表面に対しての垂直方向からの入射角度は５度に設定され、光源としてＣ光源を用い、２度視野の条件下で求められる。平均視感反射率は、可視光の各波長の反射率を比視感度により校正し、平均した反射率の値である。このとき、比視感度は明所視標準比視感度が用いられる。
【００３２】
本発明の反射防止フィルムは、低屈折率層表面の表面抵抗値が１×１０１２（Ω／□）以下であることを特徴とする。表面抵抗値が１×１０１２（Ω／□）以下といった高い帯電防止性をハードコート層に付与するにあっては、金属粒子や金属酸化物粒子といった導電性粒子のみを用いて帯電防止性を有するハードコート層を形成する場合には相当量の導電性粒子を添加する必要があり、このとき、ハードコート層の屈折率が上がることにより干渉縞が発生する。しかしながら、カーボンナノチューブおよびフラーレンを含む帯電防止性のハードコート層を形成するにあっては、ハードコート層の屈折率上昇を抑え、干渉縞の発生を抑えることができ、且つ、低湿度下においても帯電防止性能の劣化を防ぐことが可能である。すなわち、本発明の反射防止フィルムにあっては、高い帯電防止性を有しながらも、干渉縞が無く、表面の耐擦傷性が高く、低湿度下において帯電防止性能の劣化を防げ、全光線透過率の低下を抑制し、透明基材とハードコート層間の密着性も良好な反射防止フィルムとすることができる。 
【００３３】
本発明の反射防止フィルムにあっては、低屈折率層が湿式成膜法により形成されることが好ましい。さらには、バインダマトリクス中に低屈折率粒子を含む構造であることが好ましい。低屈折率層を形成する方法としては、低屈折率層形成用塗液をハードコート層表
面に塗布し反射防止層を形成する湿式成膜法による方法と、真空蒸着法やスパッタリング法やＣＶＤ法といった真空中で反射防止層を形成する真空成膜法による方法に分けられる。本発明の反射防止フィルムにあっては、低屈折率粒子とバインダマトリクスを含む低屈折率形成用塗液を用い、湿式成膜法により反射防止フィルムを形成することにより、安価に反射防止フィルムを製造することができる。
【００３４】
このとき、低屈折率層は、その膜厚（ｄ）に低屈折率層の屈折率（ｎ）をかけることによって得られる光学膜厚（ｎｄ）が可視光の波長の１／４と等しくなるように設計され形成される。
【００３５】
なお、本発明の反射防止フィルムにあっては、ハードコート層と低屈折率層の間に、他の機能層を設けても良い。他の機能層としては、防眩層、紫外線吸収層、赤外線吸収層、ハードコート層等を挙げることができる。ただし、全光線透過率の低下を考慮すると本発明の反射防止フィルムは他の機能層をもたない方が好ましい。
【００３６】
本発明の反射防止フィルムは、ディスプレイ表面に好適に用いることができる。ディスプレイとしてはＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、プロジェクションディスプレイ、ＥＬディスプレイ等を挙げることができる。また、ディスプレイ内部に用いることもできる。以下に本発明の反射防止フィルムを液晶ディスプレイの部材として用いる場合について説明する。
【００３７】
図２に本発明の反射防止フィルムを用いた偏光板の模式断面図を示した。本発明の偏光板にあっては、透明基材１１のハードコート層１２形成面と反対側の面に、偏光層２２と透明基材２１を順に備える。本発明の偏光板は、偏光層２２が２枚の透明基材１１、２１で狭持された構造をとる。なお、偏光層としてはヨウ素を添加した延伸ポリビニルアルコールフィルム等を用いることができる。 
【００３８】
図３に本発明の反射防止フィルムを備えた透過型液晶ディスプレイの模式断面図を示した。図３（ａ）の透過型液晶ディスプレイにおいては、バックライトユニット５、偏光板４、液晶セル３、偏光板２、反射防止フィルム１をこの順に備えている。このとき、反射防止フィルム１の反射防止層形成面１３側が観察側すなわちディスプレイ表面となる。
【００３９】
バックライトユニット５は、光源と光拡散板を備える。液晶セルは、一方の透明基材に電極が設けられ、もう一方の透明基材に電極及びカラーフィルターを備えており、両電極間に液晶が封入された構造となっている。液晶セル３を挟むように設けられる偏光板２、４にあっては、透明基材２１、２３、４１、４３間に偏光層２２、４２を挟持した構造となっている。
【００４０】
図３（ａ）にあっては、反射防止フィルム１の透明基材１１と偏光板２の透明基材を別々に備える透過型液晶ディスプレイとなっている。一方、図３（ｂ）にあっては、図２に示した偏光板を用いた透過型液晶ディスプレイであり、反射防止フィルム１の透明基材１１の反射防止層の反対側の面に偏光層２２が設けられており、透明基材１１が防眩フィルム１の透明基材と偏光板２の透明基材を兼ねる構造となっている。 
【００４１】
また、本発明の透過型液晶ディスプレイにあっては、他の機能性部材を備えても良い。他の機能性部材としては、例えば、バックライトから発せられる光を有効に使うための、拡散フィルム、プリズムシート、輝度向上フィルムや、液晶セルや偏光板の位相差を補償するための位相差フィルムが挙げられるが、本発明の透過型液晶ディスプレイはこれらに限定されるものではない。なお、これらは公知のものを使用できる。 
【００４２】
また、本発明の反射防止フィルムは、光源からの光の取り出し効率を向上させることを
目的として透過型液晶ディスプレイのバックライト部材の一部として用いることもできる。
【００４３】
以下に、さらに詳細に本発明の反射防止フィルムの製造方法について述べる。 
【００４４】
本発明の帯電防止フィルムにおける透明基材は、種々の有機高分子からなるフィルムまたはシートを用いることができる。例えば、ディスプレイ等の光学部材に通常使用される基材が挙げられ、透明性や光の屈折率等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性を考慮して、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等のセルロース系、６−ナイロン、６，６−ナイロン等のポリアミド系、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、エチレンビニルアルコール等の有機高分子からなるものが用いられる。特に、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートが好ましい。さらに、これらの有機高分子に公知の添加剤、例えば帯電防止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等を添加することにより機能を付加させたものも使用できる。また、透明基材は上記の有機高分子から選ばれる１種または２種以上の混合物、または重合体からなるものでもよく、複数の層を積層させたものであってもよい。
【００４５】
中でも、トリアセチルセルロースフィルムは複屈折が少なく、透明性が良好であることから、本発明の反射防止フィルムを液晶ディスプレイに用いるにあっては好適に使用することができる。トリアセチルセルロースフィルムの屈折率は約１．５０であって、他の透明基材と比較して屈折率が低い。例えば、透明基材として広範に用いられるポリエチレンテレフタレートフィルムは、１．６０程度である。
【００４６】
透明基材としてトリアセチルセルロースフィルムを用いた反射防止フィルムにあっては、透明基材の屈折率が低いことからハードコート層との屈折率差による干渉ムラが発生しやすい。本発明の反射防止フィルムにあっては、ハードコート層の屈折率の上昇を抑えることができるため、透明基材としてトリアセチルセルロースフィルムを用いた場合に好適に使用できる。 
【００４７】
本発明の反射防止フィルムにあっては、透明基材上にハードコート層が形成される。ハードコート層を形成するにあっては、カーボンナノチューブまたはフラーレンから選択される物質を１又は１以上含むハードコート層形成用塗液を湿式成膜法により塗布し、透明基材上に塗膜を形成し、該塗膜に紫外線を照射し、硬化することにより形成することができる。
【００４８】
また、ハードコート層形成用塗液にあっては、光重合開始剤を含んでいてもよい。透明基材上にハードコート層形成用塗液を湿式成膜法により塗布し塗膜を形成後、電離放射線として紫外線を用い、紫外線照射により塗膜を硬化するにあっては、塗液に光重合開始剤が加えられる。光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類等が挙げられる。また、光増感剤としてｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等を用いることができる。 
【００４９】
また、ハードコート層形成用塗液には、必要に応じて、溶媒が加えられる。溶媒を加えることにより、塗工適性を向上させることができる。溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサンなどの炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、エチレングリコール等のアルコール類、水等の中から塗工適性等を考慮して適宜選択される。 
【００５０】
ハードコート層形成用塗液にあっては、ハードコート層形成用塗液を塗布し、形成される塗膜においてハジキ、ムラといった塗膜欠陥の発生を防止するために、表面調整剤と呼ばれる添加剤を加えても良い。表面調整剤は、その働きに応じて、レベリング剤、消泡剤、界面張力調整剤、表面張力調整剤とも呼ばれるが、いずれも形成される塗膜表面の表面張力を低下させる働きを備える。 
【００５１】
また、ハードコート層形成用塗液においては、塗液中に先に述べた表面調整剤のほかにも、他の添加剤を加えても良い。機能性添加剤としては、帯電防止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、密着性向上剤、硬化剤などを用いることができる。 
【００５２】
以上の材料を調整して得られるハードコート層形成用塗液を湿式成膜法により透明基材上に塗布し、塗膜を形成し、必要に応じて塗膜の乾燥をおこなったあとに、電離放射線である紫外線もしくは電子線を照射することにより、ハードコート層が形成される。 
【００５３】
このとき、湿式成膜法としては、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーターを用いた塗布方法を用いることができる。 
【００５４】
ハードコート層形成用塗液を透明基材上に塗布することにより得られる塗膜に対し、電離放射線を照射することにより、ハードコート層が形成される。電離放射線としては、紫外線、電子線を用いることができる。紫外線硬化の場合は、高圧水銀灯、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク、キセノンアーク等の光源が利用できる。また、電子線硬化の場合はコックロフトワルト型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される電子線が利用できる。 
【００５５】
なお、硬化によりハードコート層を形成する工程の前後に乾燥工程もしくは加熱工程を設けてもよい。特に、塗液が溶媒を含む場合、形成された塗膜の溶媒を除去するために電離放射線を照射する前に乾燥工程を設ける必要がある。乾燥手段としては加熱、送風、熱風などが例示される。 
【００５６】
なお、本発明の反射防止フィルムにおいて、形成されるハードコート層の鉛筆硬度は、物理的な耐擦傷性を備えるために、Ｈ以上であることが好ましい。 
【００５７】
次に、反射防止層として、低屈折率粒子とバインダマトリクス形成材料を含む低屈折率層形成塗液をハードコート層表面に塗布し、湿式成膜法により低屈折率層を形成する方法について述べる。このとき反射防止層である低屈折率層単層の膜厚（ｄ）は、その膜厚（ｄ）に低屈折率層の屈折率（ｎ）をかけることによって得られる光学膜厚（ｎｄ）が可視
光の波長の１／４と等しくなるように設計される。
低屈折率層としてはバインダマトリクス中に低屈折率粒子を分散させたものを用いることができる。
【００５８】
低屈折率粒子としては、ＬｉＦ、ＭｇＦ、３ＮａＦ・ＡｌＦまたはＡｌＦ（いずれも、屈折率１．４）、または、Ｎａ３ＡｌＦ６（氷晶石、屈折率１．３３）等の低屈折材料からなる低屈折率粒子を用いることができる。また、粒子内部に空隙を有する粒子を好適に用いることができる。粒子内部に空隙を有する粒子にあっては、空隙の部分を空気の屈折率（≒１）とすることができるため、非常に低い屈折率を備える低屈折率粒子とすることができる。具体的には、多孔質シリカ粒子、内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子を用いることができる。 
【００５９】
本発明の低屈折率層に用いられる低屈折率粒子としては、粒径が１ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましい。粒径が１００ｎｍを超える場合、ミー散乱によって光が著しく反射され、低屈折率層が白化して反射防止フィルムの透明性が低下する傾向にある。一方、粒径が１ｎｍ未満の場合、粒子の凝集による低屈折率層における粒子の不均一性等の問題が生じる。 
【００６０】
本発明のバインダマトリクス形成材料としては電離放射線硬化型材料、熱硬化型材料を用いることができる。
【００６１】
また、バインダマトリクス形成材料として用いられる電離放射線硬化型材料としては、アクリル系材料を用いることができる。アクリル系材料としては、多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルのような多官能または多官能の（メタ）アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコール及びアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタン（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。またこれらの他にも、電離放射線型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。 
【００６２】
単官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、Ｎ−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリールアクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノール（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、ヘキサフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−アダマンタンおよびアダマンタンジオールから誘導される１価のモノ（メタ）アクリレートを有するアダマンチルアクリレートなどのアダマンタン誘導体モノ（メタ）アクリレート等が挙げられる。 
【００６３】
前記２官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートなどのジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。 
【００６４】
前記３官能以上の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス２−ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート等のトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等の３官能の（メタ）アクリレート化合物や、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ（メタ）アクリレート等の３官能以上の多官能（メタ）アクリレート化合物や、これら（メタ）アクリレートの一部をアルキル基やε−カプロラクトンで置換した多官能（メタ）アクリレート化合物等が挙げられる。 
【００６５】
アクリル系材料の中でも、所望する分子量、分子構造を設計でき、形成されるハードコート層の物性のバランスを容易にとることが可能であるといった理由から、多官能ウレタンアクリレートを好適に用いることができる。ウレタンアクリレートは、多価アルコール、多価イソシアネート及び水酸基含有アクリレートを反応させることによって得られる。
【００６６】
バインダマトリクス形成材料として用いられる熱硬化型材料としては、ケイ素アルコキシドの加水分解物を用いることができる。さらには、一般式（１）ＲｘＳｉ（ＯＲ）４−ｘ（但し、式中Ｒはアルキル基を示し、ｘは０≦ｘ≦３を満たす整数である）で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物を用いることができる。
【００６７】
一般式（１）で表されるケイ素アルコキシドとしては、たとえば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔ
ｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−プロキシシラン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等を用いることができる。ケイ素アルコキシドの加水分解物は、一般式（Ｉ）で示される金属アルコキシドを原料として得られるものであればよく、例えば塩酸にて加水分解することで得られるものである。
【００６８】
さらには、低屈折率層のバインダマトリクス形成材料としては、一般式（１）で表されるケイ素アルコキシドに、一般式（２）Ｒ´ｚＳｉ（ＯＲ）４−ｚ（但し、式中Ｒ´はアルキル基、フルオロアルキル基又はフルオロアルキレンオキサイド基を有する非反応性官能基を示し、ｚは１≦ｚ≦３を満たす整数である）で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物をさらに含有することにより反射防止フィルムの低屈折率層表面に防汚性を付与することができ、さらに、低屈折率層の屈折率をさらに低下することができる。
【００６９】
一般式（２）で示されるケイ素アルコキシドとしては、例えば、オクタデシルトリメトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリメトキシシラン等が挙げられる。 
【００７０】
なお、低屈折率層形成溶塗液には、必要に応じて、溶媒や各種添加剤を加えることができる。溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサンなどの炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、水等の中から塗工適正等を考慮して適宜選択される。また、塗液には添加剤として、表面調整剤、レベリング剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、光増感剤等を加えることもできる。 
【００７１】
また、バインダマトリクス形成材料として紫外線硬化型材料を用い、紫外線を照射することにより低屈折率層を形成する場合には、低屈折率層形成用塗液に光重合開始剤が加えられる。光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホストフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類等が挙げられる。
【００７２】
なお、低屈折率層形成用塗液においては一般式（２）で示されるケイ素アルコキシドのようなフッ素系材料、シリコーン系材料を含むことが好ましい。これにより、反射防止フィルムの低屈折率層表面に防汚性を付与することができ、ディスプレイ表面に好適に用いることができる。
【００７３】
以上の材料を調整して得られる低屈折率層形成用塗液を湿式成膜法により透明基材上に
塗布し、塗膜を形成し、低屈折率層を形成することができる。バインダマトリクス形成材料として電離放射線である紫外線もしくは電子線を照射することにより、低屈折率層が形成される。また、バインダマトリクス形成材料として熱硬化型材料である金属アルコキシドを用いた場合には、乾燥、加熱等により低屈折率層が形成される。
【００７４】
このとき、湿式成膜法としては、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーターを用いた塗布方法を用いることができる。
【００７５】
以上により、本発明の反射防止フィルムは製造される。
【実施例】
【００７６】
＜調整例１＞
（ハードコート層形成用塗液１）
ジペンタエリスリトールトリアクリレート２５重量部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート２５重量部、ウレタンアクリレート５０重量部、カーボンナノチューブ２重量部、フラーレン２重量部、導電性ポリマーを含有したＢａｙｔｒｏｎ  Ｐ  ＣＨ  ８０００（エイチ・シー・スタルク社製（固形分３％））１０重量部、イルガキュア１８４（チバスペシャリティケミカルズ社製（光重合開始剤））５重量部を用い、これをメチルエチルケトンに溶解してハードコート層形成塗液１を調整した。
＜調整例２＞
（ハードコート層形成用塗液２）
ジペンタエリスリトールトリアクリレート２５重量部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート２５重量部、ウレタンアクリレート５０重量部、カーボンナノチューブ４重量部、フラーレン４重量部、イルガキュア１８４（チバスペシャリティケミカルズ社製（光重合開始剤））５重量部を用い、これをメチルエチルケトンに溶解してハードコート層形成塗液２を調整した。
＜調整例３＞
（ハードコート層形成用塗液３）
ジペンタエリスリトールトリアクリレート２５重量部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート２５重量部、ウレタンアクリレート５０重量部、カーボンナノチューブ１０重量部、イルガキュア１８４（チバスペシャリティケミカルズ社製（光重合開始剤））５重量部を用い、これをメチルエチルケトンに溶解してハードコート層形成塗液３を調整した。＜調整例４＞
（ハードコート層形成用塗液４）
ジペンタエリスリトールトリアクリレート２５重量部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート２５重量部、ウレタンアクリレート５０重量部、フラーレン３０重量部、イルガキュア１８４（チバスペシャリティケミカルズ社製（光重合開始剤））５重量部を用い、これをメチルエチルケトンに溶解してハードコート層形成塗液４を調整した。
＜調整例５＞
（ハードコート層形成用塗液５）
ジペンタエリスリトールトリアクリレート２５重量部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート２５重量部、ウレタンアクリレート５０重量部、四級アンモニウムカチオンを含有するライトエステルＤＱ１００（共栄社化学製）５重量部、イルガキュア１８４（千葉スペシャリティケミカルズ社製（光重合開始剤））５重量部を用い、これをメチルエチルケトンに溶解してハードコート層形成塗液５を調整した。
＜調整例６＞
（ハードコート層形成用塗液６）
ジペンタエリスリトールトリアクリレート２５重量部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート２５重量部、ウレタンアクリレート５０重量部、ＡＴＯ２０重量部、イルガキ
ュア１８４（千葉スペシャリティケミカルズ社製（光重合開始剤））５重量部を用い、これをメチルエチルケトンに溶解してハードコート層形成塗液６を調整した。
＜調整例７＞
（ハードコート層形成用塗液７）
ジペンタエリスリトールトリアクリレート２５質量部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート２５質量部、ウレタンアクリレート５０質量部、導電性ポリマーを含有したＢａｙｔｒｏｎ  Ｐ  ＣＨ  ８０００（エイチ・シー・スタルク社製（固形分３％））３３重量部、イルガキュア１８４（千葉スペシャリティケミカルズ社製（光重合開始剤））５質量部を用い、これをメチルエチルケトンに溶解してハードコート層形成塗液７を調整した。
＜調整例８＞
（ハードコート層形成用塗液８）
ジペンタエリスリトールトリアクリレート２５質量部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート２５質量部、ウレタンアクリレート５０質量部、イルガキュア１８４（千葉スペシャリティケミカルズ社製（光重合開始剤））５質量部を用い、これをメチルエチルケトンに溶解してハードコート層形成塗液８を調整した。
【００７７】
＜調整例９＞ 
（低屈折率層形成用塗液） 
多孔質シリカ微粒子分散液（平均粒子径５０ｎｍ、固形分２０％、溶剤：メチルイソブチルケトン）１４．９４重量部、ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（商品名：ＤＰＥＡ−１２、日本化薬製）１．９９重量部、重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製、商品名；イルガキュア１８４）０．０７重量部、ＴＳＦ４４６０（商品名、ＧＥ東芝シリコーン（株）製：アルキルポリエーテル変性シリコーンオイル）０．２０重量部を、溶媒であるメチルイソブチルケトン８２重量部で希釈して低屈折率層形成用塗液を調整した。 
【００７８】
＜実施例１＞ 
（ハードコート層の形成） 
トリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム製：膜厚８０μｍ）の片面にハードコート層形成用塗液１を塗布し、８０℃・６０秒オーブンで乾燥し、乾燥後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２で紫外線照射をおこなうことにより乾燥膜厚５μｍの透明なハードコート層を形成させた。 
（低屈折率層の形成） 
上記方法にて形成した帯電防止層上に低屈折率層形成用塗液を乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。 
紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量１９２ｍＪ／ｍ２で紫外線照射をおこなって硬化させて低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製した。 
【００７９】
＜比較例１＞
ハードコート層形成用塗液２を使用した以外は実施例１と同様に、トリアセチルセルロースフィルム上にハードコート層及び低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを得た。
【００８０】
＜比較例２＞
ハードコート層形成用塗液３を使用した以外は実施例１と同様に、トリアセチルセルロースフィルム上にハードコート層及び低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを得た。
【００８１】
＜比較例３＞
ハードコート層形成用塗液４を使用した以外は実施例１と同様に、トリアセチルセルロースフィルム上にハードコート層及び低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを得た。
【００８２】
＜比較例４＞
ハードコート層形成用塗液５を使用した以外は実施例１と同様に、トリアセチルセルロースフィルム上にハードコート層及び低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを得た。
【００８３】
＜比較例５＞
ハードコート層形成用塗液６を使用した以外は実施例１と同様に、トリアセチルセルロースフィルム上にハードコート層及び低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを得た。
【００８４】
＜比較例６＞
ハードコート層形成用塗液７を使用した以外は実施例１と同様に、トリアセチルセルロースフィルム上にハードコート層及び低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを得た。
＜比較例７＞
ハードコート層形成用塗液８を使用した以外は実施例１と同様に、トリアセチルセルロースフィルム上にハードコート層及び低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを得た。
【００８５】
実施例１および比較例１〜比較例７で得られた反射防止フィルムについて、以下の方法で評価を行った。
（平均視感反射率）
得られた反射防止フィルムの低屈折率層表面について、自動分光光度計（日立製作所製、U-４０００）を用い、入射角５°における分光反射率を測定した。また、得られた分光反射率曲線から平均視感反射率を求めた。なお、測定の際には透明基材であるトリアセチルセルロースフィルムのうち低屈折率層の形成されていない面につや消し黒色塗量を塗布し、反射防止の処置をおこなった。
（表面抵抗値）
得られた反射防止フィルムの低屈折率層表面の表面抵抗値を、ＪＩＳ  Ｋ  ６９１１（1962年制定）に準拠して測定した。また、得られた反射防止フィルムを温度１００℃、湿度５０％の環境下に５００時間サンプルを保管し、保管後の反射防止フィルムの低屈折率層表面の表面抵抗値をＪＩＳ  Ｋ  ６９１１（1962年制定）に準拠して測定した。
（干渉縞）
得られた反射防止フィルムについて、透明基材であるトリアセチルセルロースフィルムのうち低屈折率層の形成されていない面につや消し黒色塗料を塗布したのち、蛍光灯直下で低屈折率層表面の干渉縞を確認した。干渉縞が確認されなかったものを○印、干渉縞が確認されたものを×印とした。
（全光線透過率およびヘイズ値）
得られた反射防止フィルムについて、写像性測定器（日本電色工業（株）製、ＮＤＨ−２０００）を使用して全光線透過率及びヘイズ値を測定した。
（耐光性）
得られた反射防止フィルムについて、ＪＩＳ  Ｂ  ７７５１に規定される紫外線カーボンアーク灯式の耐光試験機に反射防止フィルムを５００時間保管した後における低屈折率層表面の抵抗値（湿度５０％環境下）を耐光試験前の値と比較して評価を行った。
【００８６】
表１に評価結果を示す。
【表１】
2013205576.tif 000003
【符号の説明】
【００８７】
１ …     反射防止フィルム 
１１ …   透明基材 
１２…    ハードコート層 
１３…    反射防止層 
２…      偏光板 
２１…    透明基材 
２２…    偏光層 
２３…    透明基材 
３…      液晶セル 
４…      偏光板 
４１…    透明基材 
４２…    偏光層 
４３…    透明基材 
５…     バックライトユニット
【図１】
2013205576.tif 000004
【図２】
2013205576.tif 000005
【図３】
2013205576.tif 000006