(57)【要約】【課題】フィルタの寿命を延ばすことができる基板処理装置を提供する。【解決手段】基板処理装置１は、基板Ｗに供給される処理液をろ過するフィルタ１６を内部で保持するハウジング１７と、ハウジング１７に保持されている状態のフィルタ１６に液滴を衝突させるスプレーノズル２３とを含む。フィルタ１６に付着している異物は、液滴の衝突によって除去される。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に供給される処理液をろ過するフィルタを内部で保持するハウジングと、
前記ハウジングに保持されている状態の前記フィルタに液滴を衝突させるスプレーノズルとを含む、基板処理装置。
【請求項２】
前記フィルタによってろ過すべき処理液と同種の処理液を前記スプレーノズルに供給する同種液供給手段をさらに含む、請求項１記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記同種液供給手段は、前記フィルタによってろ過すべき処理液と同種で未使用の処理液を前記スプレーノズルに供給する未使用液供給手段を含む、請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記同種液供給手段は、前記フィルタによってろ過すべき処理液を前記ハウジングの内部から回収して、回収した処理液を前記スプレーノズルに供給する回収液供給手段を含む、請求項２または３に記載の基板処理装置。
【請求項５】
水を前記スプレーノズルに供給する水供給手段をさらに含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記ハウジングの内部に連通する排液配管と、前記排液配管に介装された排液バルブとをさらに含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項７】
基板を保持する基板保持手段と、
前記基板保持手段に保持されている基板に処理液を供給する処理液供給手段と、
前記処理液供給手段と前記ハウジングとを接続しており、基板に供給された処理液を前記ハウジングの内部に導く上流側配管と、
前記処理液供給手段と前記ハウジングとを接続しており、前記ハウジングの内部で前記フィルタによってろ過された処理液を前記処理液供給手段に導く下流側配管とをさらに含む、請求項１〜６のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項８】
前記スプレーノズルは、気体と液体とを衝突させて、液滴を生成する二流体ノズルを含む、請求項１〜７のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項９】
液体をろ過するフィルタに液滴を衝突させて前記フィルタを洗浄する洗浄ステップを含む、フィルタ洗浄方法。
【請求項１０】
前記洗浄ステップは、前記フィルタによってろ過すべき液体と同種の液体の液滴を前記フィルタに衝突させる液体噴霧ステップを含む、請求項９に記載のフィルタ洗浄方法。
【請求項１１】
前記液体噴霧ステップは、前記フィルタによってろ過すべき液体と同種で未使用の液体の液滴を前記フィルタに衝突させる未使用液噴霧ステップを含む、請求項１０に記載のフィルタ洗浄方法。
【請求項１２】
前記液体噴霧ステップは、前記フィルタを内部で保持するハウジングの内部から回収された、前記フィルタによってろ過すべき液体の液滴を前記フィルタに衝突させる回収液噴霧ステップを含む、請求項１０または１１に記載のフィルタ洗浄方法。
【請求項１３】
前記洗浄ステップは、水滴を前記フィルタに衝突させる水噴霧ステップを含む、請求項９〜１２のいずれか一項に記載のフィルタ洗浄方法。
【請求項１４】
前記洗浄ステップは、前記フィルタに液滴を衝突させる噴霧ステップと、前記噴霧ステップと並行して、前記フィルタに噴霧された液体を前記フィルタを内部で保持するハウジングの内部に貯留する貯留ステップと、前記貯留ステップが行われた後に、前記ハウジング内に貯留されている液体を排出させる排出ステップとを含む、請求項９〜１３のいずれか一項に記載のフィルタ洗浄方法。
【請求項１５】
前記洗浄ステップが行われる前に、前記フィルタを内部で保持するハウジングの内部を含む環状の循環経路で液体を循環させる循環ステップと、
前記洗浄ステップが行われる前に、前記循環経路での液体の循環を中断させる中断ステップと、
前記洗浄ステップが行われる前であって、前記中断ステップが行われた後に、前記ハウジングの内部から液体を排出させて、前記ハウジングに保持されている状態の前記フィルタを液体から露出させる排出ステップと、
前記洗浄ステップが行われた後に、前記循環経路での液体の循環を再開させる再開ステップとをさらに含む、請求項９〜１４のいずれか一項に記載のフィルタ洗浄方法。
【請求項１６】
液体をろ過するフィルタが取り付けられ、取り付けられた前記フィルタを内部で保持するハウジングと、
前記ハウジングに保持されている状態の前記フィルタに液滴を衝突させるスプレーノズルとを含む、フィルタ洗浄装置。
【請求項１７】
前記フィルタによってろ過すべき液体と同種の液体を前記スプレーノズルに供給する同種液供給手段をさらに含む、請求項１６に記載のフィルタ洗浄装置。
【請求項１８】
前記同種液供給手段は、前記フィルタによってろ過すべき液体と同種で未使用の液体を前記スプレーノズルに供給する未使用液供給手段を含む、請求項１７に記載のフィルタ洗浄装置。
【請求項１９】
水を前記スプレーノズルに供給する水供給手段をさらに含む、請求項１６〜１８のいずれか一項に記載のフィルタ洗浄装置。
【請求項２０】
前記ハウジングの内部に連通する排液配管と、前記排液配管に介装された排液バルブとをさらに含む、請求項１６〜１９のいずれか一項に記載のフィルタ洗浄装置。
【請求項２１】
前記スプレーノズルは、気体と液体とを衝突させて、液滴を生成する二流体ノズルを含む、請求項１６〜２０のいずれか一項に記載のフィルタ洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、基板処理装置、フィルタ洗浄方法、およびフィルタ洗浄装置に関する。基板処理装置によって処理される基板には、たとえば、半導体ウエハ、液晶表示装置用基板、プラズマディスプレイ用基板、ＦＥＤ（Field Emission Display）用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板、太陽電池用基板などが含まれる。
【背景技術】
【０００２】
半導体装置や液晶表示装置などの製造工程では、半導体ウエハや液晶表示装置用ガラス基板などの基板に処理液を供給して、当該基板を処理する基板処理装置が用いられる。
たとえば特許文献１には、複数枚の基板を一括して処理するバッチ式の基板処理装置と、基板を一枚ずつ処理する枚葉式の基板処理装置とが開示されている。各基板処理装置は、基板に供給される処理液を循環させる循環経路を備えている。基板に供給された処理液は、循環経路に介装されたフィルタによってろ過された後、再び基板に供給される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１１−０６１０３４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
基板に供給された処理液には、異物が含まれている。処理液に含まれる異物は、フィルタによって除去される。したがって、フィルタが、異物によって詰まってしまう場合がある。フィルタが詰まると、処理液がフィルタを通過し難くなるので、循環経路を循環する処理液の圧力が低下してしまう。処理液を送るポンプの出力を増加させれば、圧力の低下を補うことができるが、高負荷でポンプを使用し続けると、ポンプの寿命が短くなる。そのため、定期的にフィルタを交換する必要がある。しかし、フィルタの交換頻度が高いと、基板処理装置のランニングコストが増加してしまう。
【０００５】
そこで、この発明の目的は、フィルタの寿命を延ばすことができる基板処理装置を提供することである。
また、この発明の他の目的は、フィルタから異物を除去できるフィルタ洗浄方法およびフィルタ洗浄装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記目的を達成するための請求項１記載の発明は、基板（Ｗ）に供給される処理液をろ過するフィルタ（１６）を内部で保持するハウジング（１７）と、前記ハウジングに保持されている状態の前記フィルタに液滴を衝突させるスプレーノズル（２３）とを含む、基板処理装置（１）である。
この構成によれば、スプレーノズルから洗浄液を噴射させることにより、ハウジングに保持されている状態のフィルタに液滴を衝突させることができる。これにより、フィルタに付着している異物に衝撃を与えて、フィルタから異物を離脱させることができる。したがって、フィルタから異物を除去できる。また、異物がフィルタから離脱しなかったとしても、液滴の衝突によってフィルタに対する異物の結合力が低下するので、フィルタに沿って流れ落ちる洗浄液によって異物を容易に洗い流すことができる。これにより、フィルタから異物を除去できる。したがって、フィルタの目詰まりを軽減して、フィルタの寿命を延ばすことができる。さらに、フィルタがハウジングに保持されている状態で異物を除去できるので、ハウジングからフィルタを取り外すなどの作業が不要である。よって、フィルタの洗浄を簡単に行える。
【０００７】
請求項２記載の発明は、前記フィルタによってろ過すべき処理液と同種の処理液を前記スプレーノズルに供給する同種液供給手段（２８、３１）をさらに含む、請求項１記載の基板処理装置である。
この構成によれば、フィルタによってろ過すべき処理液と同種の処理液がスプレーノズルから噴射され、この同種の処理液が、ハウジングに保持されているフィルタに供給される。したがって、洗浄後のフィルタには、この同種の処理液が付着している。そのため、洗浄後のフィルタを使って処理液をろ過したときに、当該処理液とは異なる液体が、ろ過された処理液に混入して、処理液の濃度が変化することを抑制または防止できる。これにより、基板に供給される処理液の濃度変化を抑制または防止できる。
【０００８】
請求項３記載の発明は、前記同種液供給手段は、前記フィルタによってろ過すべき処理液と同種で未使用の処理液を前記スプレーノズルに供給する未使用液供給手段（２８）を含む、請求項２に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、未使用の処理液がスプレーノズルからハウジングに保持されているフィルタに供給されるので、処理液に含まれる異物がフィルタに付着してフィルタが汚染されることを抑制または防止できる。これにより、フィルタの清浄度を高めることができる。
【０００９】
請求項４記載の発明は、前記同種液供給手段は、前記フィルタによってろ過すべき処理液を前記ハウジングの内部から回収して、回収した処理液を前記スプレーノズルに供給する回収液供給手段（３１）を含む、請求項２または３に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、ハウジングの内部から回収された処理液がスプレーノズルからハウジングに保持されているフィルタに供給される。これにより、フィルタに付着している異物が除去される。このように、ハウジングの内部から回収した処理液を利用するので、処理液の消費量を低減できる。
【００１０】
請求項５記載の発明は、水を前記スプレーノズルに供給する水供給手段（２７）をさらに含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、水がスプレーノズルからハウジングに保持されているフィルタに供給される。これにより、フィルタに付着している異物が除去される。このように、水を使ってフィルタを洗浄するので、フィルタの洗浄に伴う異物の発生を抑制または防止できる。すなわち、たとえば酸性の液体がフィルタに付着している状態で、アルカリ性の液体をスプレーノズルからハウジングに保持されているフィルタに供給すると、塩が発生して、フィルタが汚染される場合がある。したがって、水を使ってフィルタを洗浄することにより、酸性またはアルカリ性の液体がフィルタに付着している場合でも、異物の発生を抑制または防止しつつ、フィルタを洗浄できる。
【００１１】
請求項６記載の発明は、前記ハウジングの内部に連通する排液配管（３８）と、前記排液配管に介装された排液バルブ（４０）とをさらに含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、排液バルブを閉じることにより、スプレーノズルから噴射された洗浄液をハウジングの内部に貯めることができる。これにより、フィルタだけでなく、ハウジングの内壁面にも、洗浄液を供給することができる。したがって、フィルタの周囲に飛び散ってハウジングの内壁面に付着した異物を洗浄液で洗い流すことができる。さらに、排液バルブを開いて、ハウジングの内部の洗浄液を排液配管に排出することにより、洗浄液に含まれる異物が、フィルタやハウジングの内壁面に再付着することを抑制または防止できる。これにより、フィルタの清浄度を高めることができる。
【００１２】
請求項７記載の発明は、基板を保持する基板保持手段（４）と、前記基板保持手段に保持されている基板に処理液を供給する処理液供給手段（２）と、前記処理液供給手段と前記ハウジングとを接続しており、基板に供給された処理液を前記ハウジングの内部に導く上流側配管（１８）と、前記処理液供給手段と前記ハウジングとを接続しており、前記ハウジングの内部で前記フィルタによってろ過された処理液を前記処理液供給手段に導く下流側配管（１９）とをさらに含む、請求項１〜６のいずれか一項に記載の基板処理装置である。
【００１３】
この構成によれば、処理液供給手段から基板保持手段に保持されている基板に処理液を供給することにより、基板を処理できる。また、処理液供給手段、上流側配管、ハウジング、および下流側配管が、環状の循環経路を形成しているので、この循環経路で処理液を循環させることができる。これにより、ハウジングの内部でフィルタによってろ過された処理液を再び基板に供給できる。したがって、処理液の消費量を低減できる。さらに、ハウジングから取り外さずにフィルタを洗浄できるので、フィルタの交換により発生する基板処理装置のダウンタイム（休止時間）を低減できる。そのため、基板処理装置の生産性を向上させることができる。
【００１４】
請求項８記載の発明は、前記スプレーノズルは、気体と液体とを衝突させて、液滴を生成する二流体ノズルを含む、請求項１〜７のいずれか一項に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、超音波が付与された液滴をハウジングに保持されているフィルタに衝突させる超音波ノズルなどの他の形式のノズルを用いる場合に比べて、洗浄に伴うフィルタのダメージを低減できる。したがって、フィルタのダメージを低減しながら、フィルタを洗浄することができる。これにより、フィルタの寿命をさらに延ばすことができる。
【００１５】
請求項９記載の発明は、液体をろ過するフィルタに液滴を衝突させて前記フィルタを洗浄する洗浄ステップ（Ｓ３〜Ｓ５）を含む、フィルタ洗浄方法である。この方法によれば、請求項１の発明に関して述べた効果と同様な効果を奏することができる。
請求項１０記載の発明は、前記洗浄ステップは、前記フィルタによってろ過すべき液体と同種の液体の液滴を前記フィルタに衝突させる液体噴霧ステップ（Ｓ４、Ｓ５）を含む、請求項９に記載のフィルタ洗浄方法である。この方法によれば、請求項２の発明に関して述べた効果と同様な効果を奏することができる。
【００１６】
請求項１１記載の発明は、前記液体噴霧ステップは、前記フィルタによってろ過すべき液体と同種で未使用の液体の液滴を前記フィルタに衝突させる未使用液噴霧ステップ（Ｓ５）を含む、請求項１０に記載のフィルタ洗浄方法である。この方法によれば、請求項３の発明に関して述べた効果と同様な効果を奏することができる。
請求項１２記載の発明は、前記液体噴霧ステップは、前記フィルタを内部で保持するハウジングの内部から回収された、前記フィルタによってろ過すべき液体の液滴を前記フィルタに衝突させる回収液噴霧ステップ（Ｓ４）を含む、請求項１０または１１に記載のフィルタ洗浄方法である。この方法によれば、請求項４の発明に関して述べた効果と同様な効果を奏することができる。
【００１７】
請求項１３記載の発明は、前記洗浄ステップは、水滴を前記フィルタに衝突させる水噴霧ステップ（Ｓ３）を含む、請求項９〜１２のいずれか一項に記載のフィルタ洗浄方法である。この方法によれば、請求項５の発明に関して述べた効果と同様な効果を奏することができる。
請求項１４記載の発明は、前記洗浄ステップは、前記フィルタに液滴を衝突させる噴霧ステップ（Ｓ５）と、前記噴霧ステップと並行して、前記フィルタに噴霧された液体を前記フィルタを内部で保持するハウジングの内部に貯留する貯留ステップ（Ｓ５）と、前記貯留ステップが行われた後に、前記ハウジングの内部に貯留されている液体を排出させる排出ステップ（Ｓ５）とを含む、請求項９〜１３のいずれか一項に記載のフィルタ洗浄方法である。
【００１８】
この方法によれば、フィルタを洗浄する洗浄液の液滴がフィルタに吹き付けられると共に、フィルタを内部で保持するハウジングの内部に洗浄液が貯められる。その後、ハウジングの内部に貯められた洗浄液が排出される。ハウジングの内部に洗浄液が貯められることにより、フィルタだけでなく、ハウジングの内壁面にも、洗浄液が供給される。したがって、フィルタの周囲に飛び散ってハウジングの内壁面に付着した異物を洗浄液で洗い流すことができる。さらに、ハウジングの内部の洗浄液を排出することにより、洗浄液に含まれる異物が、フィルタやハウジングの内壁面に再付着することを抑制または防止できる。これにより、フィルタの清浄度を高めることができる。
【００１９】
請求項１５記載の発明は、前記洗浄ステップが行われる前に、前記フィルタを内部で保持するハウジングの内部を含む環状の循環経路（Ｐ１）で液体を循環させる循環ステップと、前記洗浄ステップが行われる前に、前記循環経路での液体の循環を中断させる中断ステップ（Ｓ１）と、前記洗浄ステップが行われる前であって、前記中断ステップが行われた後に、前記ハウジングの内部から液体を排出させて、前記ハウジングに保持されている状態の前記フィルタを液体から露出させる排出ステップ（Ｓ２）と、前記洗浄ステップが行われた後に、前記循環経路での液体の循環を再開させる再開ステップ（Ｓ６）とをさらに含む、請求項９〜１４のいずれか一項に記載のフィルタ洗浄方法である。
【００２０】
この方法によれば、ハウジングの内部を含む環状の循環経路での液体の循環が中断される。その後、ハウジングの内部から液体が排出され、ハウジングに保持されている状態のフィルタが液体から露出される。その後、液滴の衝突によってフィルタが洗浄される。そして、ハウジングの内部に再び液体が供給され、循環経路での液体の循環が再開される。このように、ハウジングに保持されている状態でフィルタを洗浄できるので、フィルタの交換頻度を低下させることができる。したがって、ランニングコストを低減できる。
【００２１】
請求項１６記載の発明は、液体をろ過するフィルタ（１６）が取り付けられ、取り付けられた前記フィルタを内部で保持するハウジング（１７）と、前記ハウジングに保持されている状態の前記フィルタに液滴を衝突させるスプレーノズル（２３）とを含む、フィルタ洗浄装置（２０１）である。この構成によれば、請求項１の発明に関して述べた効果と同様な効果を奏することができる。
【００２２】
請求項１７記載の発明は、前記フィルタによってろ過すべき液体と同種の液体を前記スプレーノズルに供給する同種液供給手段（２８、３１）をさらに含む、請求項１６に記載のフィルタ洗浄装置である。この構成によれば、請求項２の発明に関して述べた効果と同様な効果を奏することができる。
請求項１８記載の発明は、前記同種液供給手段は、前記フィルタによってろ過すべき液体と同種で未使用の液体を前記スプレーノズルに供給する未使用液供給手段（２８）を含む、請求項１７に記載のフィルタ洗浄装置である。この構成によれば、請求項３の発明に関して述べた効果と同様な効果を奏することができる。
【００２３】
請求項１９記載の発明は、水を前記スプレーノズルに供給する水供給手段（２７）をさらに含む、請求項１６〜１８のいずれか一項に記載のフィルタ洗浄装置である。この構成によれば、請求項５の発明に関して述べた効果と同様な効果を奏することができる。
請求項２０記載の発明は、前記ハウジングの内部に連通する排液配管（３８）と、前記排液配管に介装された排液バルブ（４０）とをさらに含む、請求項１６〜１９のいずれか一項に記載のフィルタ洗浄装置である。この構成によれば、請求項６の発明に関して述べた効果と同様な効果を奏することができる。
【００２４】
請求項２１記載の発明は、前記スプレーノズルは、気体と液体とを衝突させて、液滴を生成する二流体ノズルを含む、請求項１６〜２０のいずれか一項に記載のフィルタ洗浄装置である。この構成によれば、請求項８の発明に関して述べた効果と同様な効果を奏することができる。
なお、この項において、括弧内の英数字は、後述の実施形態における対応構成要素の参照符号を表すものであるが、これらの参照符号により特許請求の範囲を限定する趣旨ではない。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明の第１実施形態に係る基板処理装置の概略構成を説明するための模式図である。
【図２】本発明の第１実施形態に係るフィルタ洗浄機構について説明するための模式図である。
【図３】本発明の第１実施形態に係る基板処理装置によってフィルタを洗浄するときの動作例を説明するための図である。
【図４】本発明の第２実施形態に係るフィルタ洗浄装置の概略構成を説明するための模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下では、この発明の実施の形態を、添付図面を参照して詳細に説明する。
［基板処理装置］
図１は、本発明の第１実施形態に係る基板処理装置１の概略構成を説明するための模式図である。
基板処理装置１は、たとえば、複数枚の基板Ｗを一括して処理するバッチ式の基板処理装置である。基板処理装置１は、処理液の一例である薬液を貯留する処理槽２（処理液供給手段）と、処理槽２に薬液を供給する薬液ノズル３と、処理槽２に貯留されている薬液に基板Ｗを浸漬させるリフター４（基板保持手段）と、処理槽２に貯留されている薬液を循環させる循環機構５と、基板処理装置１に備えられた各機器やバルブを制御する制御装置６とを含む。
【００２７】
処理槽２は、上向きに開いた内槽７および外槽８を含む。薬液ノズル３は、薬液バルブ９が介装された薬液配管１０に接続されている。制御装置６が薬液バルブ９を開くと、薬液ノズル３から吐出された薬液が、内槽７内に供給される。そして、内槽７から薬液が溢れると、溢れた薬液は、外槽８によって受け止められる。リフター４によって保持されている基板Ｗは、内槽７に貯留されている薬液に浸漬される。
【００２８】
リフター４は、水平に延びる複数の保持棒１１を含む。複数枚の基板Ｗは、複数の保持棒１１によって鉛直な姿勢で支持される。リフター４は、図示しない昇降機構を含む。昇降機構は、リフター４に保持されている基板Ｗが内槽７内に位置する処理位置（図１に示す位置）と、リフター４に保持されている基板Ｗが内槽７の上方に位置する退避位置との間でリフター４を昇降させる。したがって、昇降機構がリフター４を処理位置に移動させることにより、リフター４に保持されている複数枚の基板Ｗが薬液に浸漬される。これにより、基板Ｗが処理される。
【００２９】
循環機構５は、処理槽２から排出された薬液を処理槽２に導く循環配管１２と、循環配管１２に接続された複数の循環ノズル１３と、循環配管１２から循環ノズル１３に薬液を送る循環ポンプ１４と、循環配管１２を流れる薬液を加熱するヒータ１５とを含む。循環配管１２の上流側の端部は、外槽８に接続されており、循環配管１２の下流側の端部は、複数の循環ノズル１３に接続されている。循環ノズル１３は、内槽７に取り付けられている。循環ノズル１３は、内槽７内で薬液を吐出する。循環ポンプ１４およびヒータ１５は、循環配管１２に介装されている。また、循環配管１２を流れる薬液をろ過するフィルタ１６は、循環配管１２に介装されている。フィルタ１６は、循環配管１２に介装された後述するハウジング１７（図２参照）の内部で保持されている。
【００３０】
基板処理装置１は、処理槽２と、循環配管１２と、ハウジング１７とを含む環状の循環経路Ｐ１を備えている。処理槽２に貯留されている薬液は、この循環経路Ｐ１を循環する。具体的には、内槽７から溢れた薬液は、外槽８によって受け止められた後、循環ポンプ１４によって循環配管１２から循環ノズル１３に送られる。これにより、循環ノズル１３から薬液が吐出され、内槽７内に薬液が供給される。そのため、内槽７に貯留されている薬液が溢れる。この溢れた薬液は、外槽８によって受け止められた後、循環ポンプ１４によって循環配管１２から循環ノズル１３に送られる。そして、循環ノズル１３から薬液が吐出され、内槽７内に薬液が供給される。このようにして、薬液の循環が継続される。
【００３１】
薬液が循環配管１２を通過することにより、ヒータ１５によって薬液が加熱される。したがって、薬液の循環が継続されることにより、処理槽２に貯留されている薬液が高温（室温（２０〜３０℃）より高い温度）に保たれる。さらに、薬液が循環配管１２を通過することにより、フィルタ１６によって薬液がろ過される。これにより、薬液に含まれる異物が除去される。また、高温の薬液がフィルタ１６に供給されるので、薬液によってフィルタ１６が加熱される。したがって、薬液が循環経路Ｐ１を循環している状態では、フィルタ１６が高温に保たれる。
【００３２】
図２は、本発明の第１実施形態に係るフィルタ洗浄機構２２について説明するための模式図である。
基板処理装置１は、フィルタ１６を内部で保持するハウジング１７を含む。フィルタ１６は、ハウジング１７に保持されている。ハウジング１７は、開閉可能であり、フィルタ１６は、ハウジング１７に取り外し可能に取り付けられている。フィルタ１６は、たとえば、上端が閉塞された筒状である。ハウジング１７の内部は、フィルタ１６によって上流側空間Ｘ１と下流側空間Ｘ２とに仕切られている。上流側空間Ｘ１は、ろ過すべき液体が供給されるフィルタ１６の外側の空間であり、下流側空間Ｘ２は、フィルタ１６によってろ過された液体が供給されるフィルタ１６の内側の空間である。ハウジング１７は、上流側空間Ｘ１に連通する流入部１７ａと、下流側空間Ｘ２に連通する流出部１７ｂとを含む。
【００３３】
循環配管１２は、薬液の流通方向に関してハウジング１７より上流側に配置された上流側配管１８と、ハウジング１７より下流側に配置された下流側配管１９とを含む。循環機構５は、上流側配管１８に介装された上流側バルブ２０と、下流側配管１９に介装された下流側バルブ２１とをさらに含む。上流側配管１８の端部は、ハウジング１７の流入部１７ａに接続されており、下流側配管１９の端部は、ハウジング１７の流出部１７ｂに接続されている。したがって、上流側配管１８内を流れる薬液は、流入部１７ａを介して、上流側配管１８から上流側空間Ｘ１に流入する。また、フィルタ１６によってろ過された薬液は、流出部１７ｂを介して、下流側空間Ｘ２から下流側配管１９に流出する。
【００３４】
薬液が循環経路Ｐ１を循環している状態では、ハウジング１７の内部が薬液によって満たされている。したがって、この状態では、循環ポンプ１４の供給圧が、フィルタ１６の表面１６ａに加わっている。ハウジング１７内（上流側空間Ｘ１）の薬液は、循環ポンプ１４の供給圧によってフィルタ１６の表面１６ａを通過し、ろ過される。これにより、薬液が、上流側空間Ｘ１から下流側空間Ｘ２に移動する。そして、下流側空間Ｘ２に移動した薬液は、流出部１７ｂから下流側配管１９に排出され、循環ノズル１３に送られる。これにより、ろ過された薬液が、内槽７に供給される。
【００３５】
基板処理装置１は、フィルタ１６を洗浄するフィルタ洗浄機構２２を含む。フィルタ洗浄機構２２は、前述のハウジング１７と、ハウジング１７の内部でフィルタ１６に液滴を衝突させる複数のスプレーノズル２３とを含む。スプレーノズル２３は、たとえば、気体と液体とを衝突させて、液滴を生成する二流体ノズルである。各スプレーノズル２３は、ハウジング１７によって保持されている。複数のスプレーノズル２３は、フィルタ１６の周囲に配置されている。さらに、複数のスプレーノズル２３は、複数のスプレーノズル２３によって生成された多数の液滴が、フィルタ１６の表面１６ａ全域に均一に吹き付けられるように配置されている。
【００３６】
フィルタ洗浄機構２２は、スプレーノズル２３に気体を供給する気体配管２４と、スプレーノズル２３に液体を供給する液体配管２５と、気体配管２４に介装された気体バルブ２６とを含む。気体配管２４および液体配管２５は、スプレーノズル２３ごとに設けられており、気体配管２４および液体配管２５の端部は、共通のスプレーノズル２３に接続されている。図２では、１つのスプレーノズル２３に対応する気体配管２４および液体配管２５のみを図示しており、それ以外の気体配管２４および液体配管２５の図示を省略している。スプレーノズル２３は、気体配管２４および液体配管２５から供給された気体および液体を衝突させることにより、多数の液滴を生成し、これらの液滴をハウジング１７に保持されているフィルタ１６に衝突させる。
【００３７】
気体配管２４からスプレーノズル２３には、たとえば、窒素ガスなどの不活性ガスや、酸素ガスや、炭酸ガスや、清浄空気などが供給される。第１実施形態では、たとえば、窒素ガスが気体配管２４からスプレーノズル２３に供給される。また、液体配管２５からスプレーノズル２３には、たとえば、純水（脱イオン水：Ｄeionzied Ｗater）、およびフィルタ１６によってろ過すべき液体と同種の液体（第１実施形態では、薬液）が洗浄液として供給される。すなわち、フィルタ洗浄機構２２は、純水を液体配管２５に供給する水配管２７（水供給手段）と、フィルタ１６によってろ過すべき液体と同種で未使用の液体（未使用の薬液）を液体配管２５に供給する新液配管２８（同種液供給手段、未使用液供給手段）と、水配管２７に介装された水バルブ２９と、新液配管２８に介装された新液バルブ３０とを含む。制御装置６が水バルブ２９を開くと、水配管２７から液体配管２５に供給された水がスプレーノズル２３に供給される。同様に、制御装置６が新液バルブ３０を開くと、新液配管２８から液体配管２５に供給された新液（未使用の薬液）がスプレーノズル２３に供給される。
【００３８】
また、フィルタ洗浄機構２２は、ハウジング１７内から液体を回収して、回収した液体をスプレーノズル２３に供給する回収機構３１（同種液供給手段、回収液供給手段）を含む。回収機構３１は、ハウジング１７内から排出された液体を貯留するタンク３２と、ハウジング１７内の液体をタンク３２に導く第１回収配管３３と、タンク３２内の液体を液体配管２５に導く第２回収配管３４と、第１回収配管３３に介装された第１回収バルブ３５と、第２回収配管３４に介装された第２回収バルブ３６と、第２回収配管３４に介装された回収ポンプ３７とを含む。第１回収配管３３の一端部は、ハウジング１７の下端部に接続されており、第１回収配管３３の他端部は、タンク３２に接続されている。第２回収配管３４の一端部は、タンク３２の下端部に接続されており、第２回収配管３４の他端部は、液体配管２５に接続されている。
【００３９】
第１回収バルブ３５が開かれると、ハウジング１７内の液体が、第１回収配管３３に排出され、タンク３２内に供給される。これにより、ハウジング１７内の液体がタンク３２に回収される。また、第２回収バルブ３６が開かれ、回収ポンプ３７が駆動されると、タンク３２内の液体が、第２回収配管３４を介して液体配管２５に供給される。これにより、ハウジング１７から回収された液体（第１実施形態では、使用済みの薬液）が、スプレーノズル２３に供給される。そして、スプレーノズル２３に供給された使用済みの薬液は、スプレーノズル２３から吐出され、ハウジング１７内に戻される。このように、液体配管２５、タンク３２、第１回収配管３３、および第２回収配管３４は、ハウジング１７から回収された液体をハウジング１７内に戻す回収経路Ｐ２を構成している。
【００４０】
フィルタ洗浄機構２２は、ハウジング１７に接続された排液配管３８および大気連通配管３９と、排液配管３８に介装された排液バルブ４０と、大気連通配管３９に介装された連通バルブ４１とを含む。排液配管３８の一端部は、ハウジング１７の下端部に接続されており、排液配管３８の他端部は、図示しない廃液機構に接続されている。大気連通配管３９の一端部は、ハウジング１７の上端部に接続されており、大気連通配管３９の他端部は、大気に連通している。排液配管３８および大気連通配管３９は、ハウジング１７の内部に連通している。排液バルブ４０が開かれると、ハウジング１７内の液体が、排液配管３８に排出され、図示しない廃液機構に導かれる。また、連通バルブ４１が開かれると、ハウジング１７の内部が大気に連通する。
【００４１】
図３は、本発明の第１実施形態に係る基板処理装置１によってフィルタ１６を洗浄するときのフローチャートである。以下では、図２および図３を参照する。最初に図３の第１動作例について説明する。
フィルタ１６が洗浄されるときには、最初に、循環経路Ｐ１での薬液の循環が中断される（Ｓ１）。具体的には、制御装置６は、フィルタ洗浄機構２２の各バルブ２６、２９、３０、３５、３６、４０、４１が閉じられている状態で、上流側バルブ２０および下流側バルブ２１を閉じる。これにより、上流側配管１８からハウジング１７内への薬液の供給が停止され、循環経路Ｐ１での薬液の循環が停止される。薬液が循環経路Ｐ１を循環している状態では、フィルタ１６に一定の圧力（薬液の供給圧）が加わっている。したがって、循環経路Ｐ１での薬液の循環が停止されることにより、フィルタ１６に加わる液圧が減少する。そのため、薬液の循環が中断される前よりも、異物がフィルタ１６から離脱し易い状態になる。
【００４２】
次に、ハウジング１７内の薬液が排出される（Ｓ２）。具体的には、制御装置６は、第１回収バルブ３５および連通バルブ４１を開く。これにより、大気連通配管３９からハウジング１７内に空気が導入されながら、ハウジング１７内の薬液が第１回収配管３３に排出される。第１回収配管３３がタンク３２に接続されているので、ハウジング１７内の薬液は、タンク３２内に回収される。制御装置６は、ハウジング１７内の全ての薬液が排出されるまで、すなわち、ハウジング１７内が空になるまで、第１回収バルブ３５および連通バルブ４１が開いた状態を維持する。そして、ハウジング１７内が空になると、制御装置６は、第１回収バルブ３５および連通バルブ４１を閉じる。ハウジング１７内が空になることにより、フィルタ１６は、液体から露出される。
【００４３】
次に、水がフィルタ１６に吹き付けられる（Ｓ３）。具体的には、制御装置６は、水バルブ２９、気体バルブ２６、および排液バルブ４０を開く。これにより、純水と窒素ガスとが、各スプレーノズル２３に供給され、多数の水滴がフィルタ１６に吹き付けられる。そのため、フィルタ１６に付着している異物に衝撃が加わり、フィルタ１６から異物が剥がれ落ちる。また、純水がフィルタ１６に沿って流れ落ちることにより、フィルタ１６に付着している異物が純水によって洗い流される。水滴の衝突によって落下した異物や、純水によって洗い流された異物は、純水と共に排液配管３８から排出される。これにより、フィルタ１６に対する異物の再付着が抑制または防止される。制御装置６は、フィルタ１６の表面１６ａ全域に水滴を衝突させた後、水バルブ２９、気体バルブ２６、および排液バルブ４０を閉じる。
【００４４】
次に、タンク３２に回収された薬液がフィルタ１６に吹き付けられる（Ｓ４）。具体的には、制御装置６は、第２回収バルブ３６、気体バルブ２６、および排液バルブ４０を開くと共に、回収ポンプ３７を駆動する。これにより、薬液と窒素ガスとが、各スプレーノズル２３に供給され、多数の薬液の液滴がフィルタ１６に吹き付けられる。そのため、フィルタ１６から異物が落下すると共に、フィルタ１６に付着している異物が薬液によって洗い流される。そして、異物を含む薬液が、排液配管３８から排出される。制御装置６は、フィルタ１６の表面１６ａ全域に薬液の液滴を衝突させた後、第２回収バルブ３６、気体バルブ２６、および排液バルブ４０を閉じ、回収ポンプ３７を停止させる。このように、制御装置６は、フィルタ１６によってろ過すべき液体と同種の液体であり、ハウジング１７から回収された液体であるタンク３２内の薬液を、フィルタ１６を洗浄する洗浄液としてフィルタ１６に噴霧させる。したがって、洗浄液として使用される薬液の消費量を低減することができる。
【００４５】
次に、未使用の薬液がフィルタ１６に吹き付けられる（Ｓ５）。具体的には、制御装置６は、第１回収バルブ３５および排液バルブ４０が閉じられている状態で、新液バルブ３０、気体バルブ２６、および連通バルブ４１を開く。これにより、未使用の薬液と窒素ガスとが、各スプレーノズル２３に供給され、多数の薬液の液滴がフィルタ１６に吹き付けられる。そのため、フィルタ１６から異物が落下すると共に、フィルタ１６に付着している異物が薬液によって洗い流される。また、第１回収バルブ３５および排液バルブ４０が閉じられているので、各スプレーノズル２３から噴射された薬液は、ハウジング１７内に溜まっていく。制御装置６は、各スプレーノズル２３からの薬液の噴射を継続させることにより、ハウジング１７内を薬液で満たす。そして、制御装置６は、ハウジング１７内が薬液で満たされた後、新液バルブ３０および気体バルブ２６を閉じ、排液バルブ４０を開く。これにより、ハウジング１７内の薬液が、排液配管３８に排出され、ハウジング１７内が空になる。そして、制御装置６は、ハウジング１７内が空になった後、排液バルブ４０および連通バルブ４１を閉じる。
【００４６】
このように、制御装置６は、未使用の薬液の液滴をフィルタ１６に衝突させると共に、未使用の薬液によるフィルタ１６およびハウジング１７の仕上げ洗浄を行う。すなわち、液滴の衝突によってフィルタ１６から除去された異物は、薬液と共に排液配管３８に排出される。さらに、ハウジング１７内が薬液で満たされるので、ハウジング１７の内壁面にも薬液が供給される。したがって、ハウジング１７の内壁面に付着している異物は、当該内壁面に供給される薬液によって洗い流される。そして、これらの異物は、薬液と共に排液配管３８に排出される。これにより、フィルタ１６の表面１６ａだけでなく、ハウジング１７の内壁面からも異物が除去される。したがって、フィルタ１６に対する異物の再付着を抑制または防止できる。さらに、ハウジング１７から回収された薬液や、未使用の薬液が、フィルタ１６に供給されることにより、フィルタ１６に付着している純水が薬液に置換される。そのため、循環経路Ｐ１での薬液の循環が再開されたときに、純水が薬液に混入して、基板Ｗに供給される薬液の濃度が変化することを抑制または防止できる。
【００４７】
次に、循環経路Ｐ１での薬液の循環が再開される（Ｓ６）。具体的には、制御装置６は、フィルタ洗浄機構２２の各バルブ２６、２９、３０、３５、３６、４０、４１が閉じられている状態で、上流側バルブ２０および下流側バルブ２１を開く。さらに、制御装置６は、薬液ノズル３から内槽７に薬液を吐出させる。これにより、内槽７から薬液が溢れ、外槽８に薬液が供給される。そして、外槽８に供給された薬液は、上流側配管１８からハウジング１７内に供給される。これにより、ハウジング１７内が薬液で満たされ、薬液の供給圧がフィルタ１６に加わる。ハウジング１７内に供給された薬液は、フィルタ１６を通過した後、つまり、フィルタ１６によってろ過された後、下流側配管１９に排出される。これにより、循環経路Ｐ１での薬液の循環が再開される。
【００４８】
このように、第１動作例では、水スプレー（Ｓ３）が行われた後に、回収液のスプレー（Ｓ４）および新液のスプレー（Ｓ５）が順次行われ、その後、循環経路Ｐ１での薬液の循環が再開される場合について説明した。しかし、図３の第２動作例および第３動作例に示すように、回収液のスプレー（Ｓ４）または新液のスプレー（Ｓ５）が省略されてもよい。また、図３の第４動作例に示すように、水スプレー（Ｓ３）が省略され、ハウジング１７内の排液（Ｓ２）が行われた後に、回収液のスプレー（Ｓ４）および新液のスプレー（Ｓ５）が順次行われてもよい。さらに、図３の第５動作例に示すように、回収液のスプレー（Ｓ４）および新液のスプレー（Ｓ５）が省略され、水スプレー（Ｓ３）が行われた後に、循環経路Ｐ１での薬液の循環が再開されてもよい。
【００４９】
以上のように第１実施形態では、スプレーノズル２３から洗浄液を噴射させることにより、ハウジング１７に保持されている状態のフィルタ１６に液滴を衝突させることができる。これにより、フィルタ１６から異物を除去できる。したがって、フィルタ１６の寿命を延ばすことができ、フィルタ１６の交換頻度を低下させることができる。そのため、基板処理装置１のランニングコストを低減できる。さらに、フィルタ１６の目詰まりを抑制できるので、循環ポンプ１４の出力を増加させずに、安定した圧力で薬液を循環させることができる。これにより、循環ポンプ１４の寿命を延ばすことができる。したがって、基板処理装置１のランニングコストをさらに低減できる。また、ハウジング１７から取り外さずにフィルタ１６を洗浄できるので、洗浄に伴うフィルタ１６の取り外し作業や取り付け作業が不要である。したがって、フィルタ１６の交換により発生する基板処理装置１のダウンタイムを低減できる。これにより、基板処理装置１の生産性を向上させることができる。
【００５０】
［フィルタ洗浄装置］
図４は、本発明の第２実施形態に係るフィルタ洗浄装置２０１の概略構成を説明するための模式図である。
フィルタ洗浄装置２０１は、ハウジング１７を含む。フィルタ１６は、ハウジング１７に取り外し可能に取り付けられる。フィルタ１６は、ハウジング１７の内部で保持される。フィルタ洗浄装置２０１は、さらに、複数のスプレーノズル２３と、気体配管２４と、液体配管２５と、気体バルブ２６と、水配管２７と、新液配管２８と、水バルブ２９と、新液バルブ３０とを含む。さらに、フィルタ洗浄装置２０１は、排液配管３８および大気連通配管３９と、排液バルブ４０および連通バルブ４１とを含む。フィルタ洗浄装置２０１は、フィルタ洗浄装置２０１に備えられた各機器やバルブを制御する制御装置６を含む。
【００５１】
フィルタ洗浄装置２０１によってフィルタ１６が洗浄されるときには、フィルタ１６がハウジング１７に取り付けられる。その後、各バルブ２６、２９、３０、３５、３６、４０、４１が制御装置６によって開閉されることにより、図３を参照して説明したフィルタ１６の洗浄と同様に、洗浄液の液滴がハウジング１７に保持されている状態のフィルタ１６に吹き付けられる。ただし、第２実施形態では、回収機構３１が、フィルタ洗浄装置２０１に設けられていないので、純水および／または未使用の薬液がスプレーノズル２３に供給され、水滴および／または薬液の液滴が、ハウジング１７に保持されている状態のフィルタ１６に吹き付けられる。これにより、フィルタ１６に付着している異物が除去される。
【００５２】
この発明の実施の形態の説明は以上であるが、この発明は、前述の第１および第２実施形態の内容に限定されるものではなく、請求項記載の範囲内において種々の変更が可能である。
たとえば、前述の第１および第２実施形態では、スプレーノズル２３がハウジング１７に固定されている状態で、スプレーノズル２３から洗浄液を噴射させる場合について説明したが、スプレーノズル２３から洗浄液を噴射させながら、スプレーノズル２３を移動させてもよい。
【００５３】
また前述の第１および第２実施形態では、フィルタ１６によってろ過すべき薬液と同種の薬液がスプレーノズル２３に供給される場合について説明したが、フィルタ１６によってろ過すべき薬液とは異なる種類の薬液がスプレーノズル２３に供給されてもよい。さらに、前述の第１実施形態では、窒素ガスがスプレーノズル２３に供給される場合について説明したが、スプレーノズル２３に供給される気体は、窒素ガス以外の気体であってもよい。
【００５４】
具体的には、硫酸の液体と酸素ガスとをスプレーノズル２３に供給してもよいし、純水と炭酸ガスとをスプレーノズル２３に供給してもよい。硫酸の液体と酸素ガスとをスプレーノズル２３に供給した場合、フィルタ１６に付着している異物を酸化させて、フィルタ１６に対する異物の結合力を低下させることができる。また、純水と炭酸ガスとをスプレーノズル２３に供給した場合、フィルタ１６の帯電を抑制または防止できるので、フィルタ１６の帯電によって異物がフィルタ１６に付着することを抑制または防止できる。
【００５５】
また前述の第１および第２実施形態では、スプレーノズル２３が、二流体ノズルである場合について説明したが、スプレーノズル２３は、二流体ノズル以外のノズルであってもよい。
また前述の第１および第２実施形態では、フィルタ１６が洗浄されるときに、ポンプやバルブが制御装置６によって制御される場合について説明したが、ポンプからの送液の開始および停止、ならびにバルブの開閉は、手動操作により行われてもよい。
【００５６】
また前述の第１および第２実施形態では、フィルタ１６が筒状である場合について説明したが、フィルタ１６は、筒状以外の形状であってもよい。
また前述の第１実施形態では、基板処理装置１が、バッチ式の基板処理装置である場合について説明したが、基板処理装置１は、基板Ｗを一枚ずつ処理する枚葉式の基板処理装置であってもよい。
【００５７】
その他、特許請求の範囲に記載された事項の範囲で種々の設計変更を施すことが可能である。
【符号の説明】
【００５８】
１        基板処理装置
２        処理槽（処理液供給手段）
４        リフター（基板保持手段）
１６      フィルタ
１７      ハウジング
１８      上流側配管
１９      下流側配管
２３      スプレーノズル（二流体ノズル）
２７      水配管（水供給手段）
２８      新液配管（同種液供給手段、未使用液供給手段）
３１      回収機構（同種液供給手段、回収液供給手段）
３８      排液配管
４０      排液バルブ
２０１    フィルタ洗浄装置
Ｗ        基板
【図１】
2013027842.tif 000003
【図２】
2013027842.tif 000004
【図３】
2013027842.tif 000005
【図４】
2013027842.tif 000006