(57)【要約】【課題】表示品質を向上させることが可能な電気光学パネル、電気光学装置、及び電子機器を提供する。【解決手段】電気光学装置としての液晶装置は、素子基板１０と対向基板２０に挟持された液晶層１５と、素子基板１０を構成する第１基板１１の裏面に設けられた凹部５００と、を有する液晶パネルを備え、裏面１１ａは、表示領域Ｅの中央領域５１と、表示領域Ｅにおける中央領域５１の周囲にある周辺領域５２と、を有し、中央領域５１の第１溝部５０１は、周辺領域５２の第２溝部５０２と比較して、単位面積当たりの表面積が大きい。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板と、
前記一対の基板に挟持された電気光学材料層と、を備え、
前記一対の基板のうち一方の基板は、前記電気光学材料層とは反対側の第１面に凹部を有し、
前記第１面は、表示領域における中央領域と平面的に重なる第１領域と、前記表示領域における前記第１領域の周囲である第２領域と、を有し、
前記第１領域の凹部は、前記第２領域の凹部と比較して、単位面積当たりの表面積が大きいことを特徴とする電気光学パネル。
【請求項２】
請求項１に記載の電気光学パネルであって、
前記第２領域から前記第１領域にいくに従って、単位面積当たりの表面積が増えることを特徴とする電気光学パネル。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の電気光学パネルであって、
前記第１領域は、前記第２領域と比較して前記凹部の数量が多いことを特徴とする電気光学パネル。
【請求項４】
請求項１又は請求項２に記載の電気光学パネルであって、
前記第１領域の凹部は、前記第２領域の凹部と比較して、前記凹部の深さが深いことを特徴とする電気光学パネル。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の電気光学パネルであって、
前記凹部は、溝又は窪みであることを特徴とする電気光学パネル。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載の電気光学パネルの前記第１面側にヒートシンクが配置されていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項７】
請求項６に記載の電気光学装置を備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学パネル、電気光学装置、及び電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
上記電気光学装置の一つである液晶装置は、例えば、配向膜が形成された一対の基板間に、シール材を介して液晶が注入封止された構造となっている。このような液晶装置は、例えば、反射型の液晶パネルが実装ケースに実装や収容されるものがある。
【０００３】
この液晶装置が液晶プロジェクター等のライトバルブとして用いられる場合、液晶パネルには、スクリーン上に拡大投射を行うために、光源からの強力な光源光が集光された状態で入射する。これにより、液晶パネルの温度が上昇し、液晶パネルの表示性能が低下する恐れがある。
【０００４】
そこで、例えば、特許文献１には、液晶パネルに蓄積した熱を放熱するために、反射型の液晶パネルの裏面（表示光が入出射する面と反対側の面）にヒートシンクを配置する技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１０−２５６６６３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、液晶パネルにおける表示領域の中央に光源光が強く入射することから、液晶パネルの裏面にヒートシンクを配置しただけでは、表示領域の中央領域とその周辺領域との間で、表示性能にばらつきが発生するという課題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。
【０００８】
［適用例１］本適用例に係る電気光学パネルは、一対の基板と、前記一対の基板に挟持された電気光学材料層と、を備え、前記一対の基板のうち一方の基板は、前記電気光学材料層とは反対側の第１面に凹部を有し、前記第１面は、表示領域における中央領域と平面的に重なる第１領域と、前記表示領域における前記第１領域の周囲である第２領域と、を有し、前記第１領域の凹部は、前記第２領域の凹部と比較して、単位面積当たりの表面積が大きいことを特徴とする。
【０００９】
この構成によれば、表示領域における第１領域としての中央領域の単位面積当たりの表面積を、第２領域である周辺領域より大きくするので、中央領域の放熱性を高めることが可能となり、例えば、中央領域に強い光が照射する場合でも、第１領域と第２領域との間で、蓄積する熱の量の差を小さくすることが可能となり、表示性能にばらつきが生じることを抑えることができる。その結果、電気光学パネル全体の表示品質を向上させることができる。
【００１０】
［適用例２］上記適用例に係る電気光学パネルにおいて、前記第２領域から前記第１領域にいくに従って、単位面積当たりの表面積が増えることが好ましい。
【００１１】
この構成によれば、第２領域である周辺領域から第１領域である中央領域にいくに従って除々に単位面積当たりの表面積を増やすので、例えば、電気光学パネルの中央に光源光が照射され、周囲との間で温度勾配があった場合であっても、電気光学パネル全体の表示性能を均一にすることができる。
【００１２】
［適用例３］上記適用例に係る電気光学パネルにおいて、前記第１領域は、前記第２領域と比較して前記凹部の数量が多いことが好ましい。
【００１３】
この構成によれば、第２領域より第１領域の凹部の数量が多いので、第１領域である中央領域の表面積を、第２領域である周辺領域の表面積より大きくすることが可能となり、中央領域の放熱性を高めることができる。
【００１４】
［適用例４］上記適用例に係る電気光学パネルにおいて、前記第１領域の凹部は、前記第２領域の凹部と比較して、前記凹部の深さが深いことが好ましい。
【００１５】
この構成によれば、第１領域の凹部の深さが深いので、第１領域である中央領域の表面積を、第２領域である周辺領域の表面積より大きくすることが可能となり、中央領域の放熱性を高めることができる。
【００１６】
［適用例５］上記適用例に係る電気光学パネルにおいて、前記凹部は、溝又は窪みであることが好ましい。
【００１７】
この構成によれば、第２領域と比較して、第１領域の溝の本数を増やしたり、窪みの数量を増やしたりすることにより、単位面積当たりの表面積を大きくすることが可能となり、第１領域である中央領域の放熱性を高めることができる。
【００１８】
［適用例６］本適用例に係る電気光学装置は、上記に記載の電気光学パネルの前記第１面側にヒートシンクが配置されていることが好ましい。
【００１９】
この構成によれば、凹部が形成された第１面側に、例えば、接着層などを介してヒートシンクが配置されているので、凹部とヒートシンク（接着層など）との接触面積を増加させることが可能となり、電気光学パネルに蓄積した熱の放散性を高めることができる。
【００２０】
［適用例７］本適用例に係る電子機器は、上記に記載の電気光学装置を備えることを特徴とする。
【００２１】
この構成によれば、上記した電気光学装置を備えるので、表示ムラが抑えられ表示品質が向上する電子機器を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】液晶装置の構成を示す分解斜視図。
【図２】液晶装置を構成する液晶パネルの構造を示す模式平面図。
【図３】図２に示す液晶パネルのＨ−Ｈ’線に沿う模式断面図。
【図４】（ａ）は素子基板の裏面（ヒートシンクに対向する面）の構造を示す模式平面図、（ｂ）は（ａ）の素子基板のＡ−Ａ’線に沿う模式断面図。
【図５】液晶装置を備えた電子機器（投射型表示装置）の構成を示す模式図。
【図６】（ａ）は変形例の第１基板の裏面（特に表示領域）の構造を示す模式平面図、（ｂ）は（ａ）の第１基板のＡ−Ａ’線に沿う模式断面図。
【図７】（ａ）は変形例の第１基板の裏面（特に表示領域）の構造を示す模式平面図、（ｂ）は（ａ）の第１基板のＡ−Ａ’線に沿う模式断面図。
【図８】（ａ）は変形例の第１基板の裏面（特に表示領域）の構造を示す模式平面図、（ｂ）は（ａ）の第１基板のＡ−Ａ’線に沿う模式断面図。
【図９】（ａ）は変形例の第１基板の裏面（特に表示領域）の構造を示す模式平面図、（ｂ）は（ａ）の第１基板のＡ−Ａ’線に沿う模式断面図。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、本発明を具体化した実施形態について図面に従って説明する。なお、使用する図面は、説明する部分が認識可能な状態となるように、適宜拡大又は縮小して表示している。
【００２４】
なお、以下の形態において、例えば「基板上に」と記載された場合、基板の上に接するように配置される場合、又は基板の上に他の構成物を介して配置される場合、又は基板の上に一部が接するように配置され、一部が他の構成物を介して配置される場合を表すものとする。
【００２５】
本実施形態では、電気光学装置の一つとして、薄膜トランジスター（Thin Film Transistor：ＴＦＴ）を画素のスイッチング素子として備えたアクティブマトリックス型の液晶装置を例に挙げて説明する。この液晶装置は、例えば、投射型表示装置（液晶プロジェクター）の光変調素子（液晶ライトバルブ）として好適に用いることができるものである。
【００２６】
＜電気光学装置の構成＞
図１は、電気光学装置としての液晶装置の構成を示す分解斜視図である。以下、液晶装置の構成について、図１を参照しながら説明する。
【００２７】
図１に示すように、液晶装置１００は、液晶パネル２００と、液晶パネル２００を保持するフレーム３００と、液晶パネル２００に蓄積した熱を放散するためのヒートシンク４００とを備えている。なお、本実施形態の液晶パネル２００は、反射型の液晶パネルである。
【００２８】
フレーム３００には、液晶パネル２００を嵌め込むための窪み３０１が設けられている。この窪み３０１の中央領域には、開口部３０２が設けられている。フレーム３００は、投射型表示装置からの光（入射光及び反射光）が、開口部３０２を介して液晶パネル２００の表示面に入反射できるように構成されている。
【００２９】
具体的には、液晶パネル２００の第１面としての非表示面２００ａ側（素子基板の裏面）には、ヒートシンク４００が配置されている。液晶パネル２００の非表示面２００ａとヒートシンク４００とは、接着材からなる接着層（図示せず）によって互いが接着されている。ヒートシンク４００は、例えば、熱伝導率に優れたアルミニウムから構成されている。なお、ヒートシンク４００は、例えば、フレーム３００と共に液晶装置１００を液晶プロジェクターなどの電子機器に実装するための実装ケースとしても機能する。
【００３０】
また、液晶パネル２００とフレーム３００との間には、良好な熱伝導性を有する熱伝導部材（図示せず）が充填されている。そして、液晶パネル２００で発生した熱は、ヒートシンク４００に加えて、アルミニウムからなるフレーム３００からも放散される。
【００３１】
また、本実施形態では、液晶パネル２００の非表示面２００ａには、複数の凹部（溝部）が設けられている。複数の凹部の構成についての詳細な説明は後述する。複数の凹部が設けられた液晶パネル２００には、良好な熱伝導率を有する接着層を介して、ヒートシンク４００が接着されている。
【００３２】
＜電気光学パネルの構成＞
図２は、電気光学パネルとしての液晶パネルの構造を示す模式平面図である。図３は、図２に示す液晶パネルのＨ−Ｈ’線に沿う模式断面図である。以下、液晶パネルの構造を、図１及び図２を参照しながら説明する。
【００３３】
図２及び図３に示すように、液晶パネル２００は、対向配置された素子基板１０及び対向基板２０と、これら一対の基板によって挟持された電気光学材料層としての液晶層１５とを有する。素子基板１０を構成する第１基板１１、及び対向基板２０を構成する第２基板１２は、例えば、透明な石英基板やガラス基板などが用いられている。なお、第１基板１１は、シリコン基板を用いるようにしてもよい。
【００３４】
素子基板１０は、対向基板２０よりも一回り大きく形成されている。両基板１０，２０は、額縁状に配置されたシール材１４を介して接合されている。そして、その隙間に、例えば、負の誘電異方性を有する液晶が封入されて液晶層１５が構成されている。シール材１４は、例えば、熱硬化性又は紫外線硬化性のエポキシ樹脂などの接着剤が採用されている。シール材１４には、一対の基板１０，２０の間隔を一定に保持するためのスペーサー（図示省略）が混入されている。
【００３５】
額縁状に配置されたシール材１４の内側には、同じく額縁状に額縁遮光膜１８が設けられている。額縁遮光膜１８は、例えば、遮光性の金属あるいは金属酸化物などからなり、対向基板２０側に設けられている。但し、このような額縁遮光膜１８の一部又は全部は、素子基板１０側に内蔵遮光膜として設けられてもよい。
【００３６】
そして、額縁遮光膜１８の内側が表示領域Ｅとなっている。表示領域Ｅには、マトリックス状に画素Ｐが複数配置されている。なお、図２では図示省略したが、表示領域Ｅにおいても複数の画素Ｐを平面的に区分する遮光部が設けられている。
【００３７】
素子基板１０の１辺部には、１辺部に沿ったシール材１４との間にデータ線駆動回路２２が設けられている。また、該１辺部に対向する他の１辺部に沿ったシール材１４の内側に検査回路２５が設けられている。更に、該１辺部と交差し互いに対向する他の２辺部に沿ったシール材１４の内側には、走査線駆動回路２４が設けられている。
【００３８】
１辺部と対向する他の１辺部のシール材１４の内側には、２つの走査線駆動回路２４を繋ぐ複数の配線（図示せず）が設けられている。これらデータ線駆動回路２２、走査線駆動回路２４に繋がる配線は、該１辺部に沿って配列した複数の外部接続端子４１に接続されている。以降、１辺部に沿った方向をＸ方向とし、１辺部と交差し互いに対向する他の２辺部に沿った方向をＹ方向として説明する。
【００３９】
図３に示すように、第１基板１１の液晶層１５側の表面には、画素Ｐごとに設けられた光反射性を有する画素電極２７及びスイッチング素子としてのＴＦＴ３０と、信号配線と、これらを覆う配向膜２８とが形成されている。
【００４０】
画素電極２７は、例えば、アルミニウムなどの光反射性の材料により構成されており、画素毎に所定のパターンで島状に形成され、入射光を反射できるように設けられている。また、第１基板１１の表面には、ＴＦＴ３０における半導体層に光が入射して光リーク電流が流れ、不適切なスイッチング動作となることを防ぐ遮光構造が採用されている。
【００４１】
第２基板１２の液晶層１５側の表面には、額縁遮光膜１８と、これを覆うように成膜された層間膜（図示せず）と、層間膜を覆うように設けられた光透過性を有する共通電極３１と、共通電極３１を覆う配向膜３２とが設けられている。
【００４２】
額縁遮光膜１８は、図２に示すように、平面的に走査線駆動回路２４や検査回路２５と重なる位置において額縁状に設けられている。これにより、対向基板２０側から入射する光を遮蔽して、これらの駆動回路を含む周辺回路の光による誤動作を防止する役目を果たしている。また、不必要な迷光が表示領域Ｅに入射しないように遮蔽して、表示領域Ｅの表示における高いコントラストを確保している。
【００４３】
共通電極３１は、例えば、ＩＴＯなどの透明導電膜からなり、層間膜を覆うと共に、図２に示すように、対向基板２０の四隅に設けられた上下導通部２６により素子基板１０側の配線に電気的に接続されている。
【００４４】
画素電極２７を覆う配向膜２８及び共通電極３１を覆う配向膜３２は、例えば、酸化シリコン（ＳｉＯ2）などからなる無機配向膜によって構成されている。本実施形態では、例えば、負の誘電異方性を有する液晶分子が配向膜面に対してプレチルトを与えられて垂直配向するように、所定の方向に配向処理が施されたものである。
【００４５】
また、本実施形態では、表示領域Ｅは実効的な表示がなされる表示領域と、表示領域を囲む周辺領域とを含むものである。周辺領域に配置された画素Ｐはダミー画素として扱われている。
【００４６】
図４（ａ）は、素子基板の裏面（ヒートシンクに対向する面）の構造を示す模式平面図である。図４（ｂ）は、図４（ａ）の素子基板のＡ−Ａ’線に沿う模式断面図である。以下、素子基板の構造、特に裏面の構造について、図４を参照しながら説明する。
【００４７】
図４に示すように、素子基板１０を構成する第１基板１１は、裏面１１ａ（ヒートシンク４００に対向する面）に複数の凹部５００が設けられている。凹部５００は、例えば、格子状の溝である。具体的には、第１基板１１の裏面１１ａにおける表示領域Ｅにおいて、第１領域としての中央領域５１と、その周辺にある第２領域としての周辺領域５２とによって、溝の密度が異なっている。
【００４８】
このように、第１基板１１の裏面１１ａに格子状の溝部５０１，５０２を形成することにより、溝部を形成しない場合と比較して、表面積を大きくすることが可能となる。更に、表示領域Ｅにおける中央領域５１の第１溝部５０１の密度を、周辺領域５２の第２溝部５０２の密度と比較して高くすることにより（言い換えれば、格子状の第１溝部５０１を細かくすることにより）、中央領域５１の単位面積当たりの表面積を大きくすることができる。
【００４９】
第１溝部５０１及び第２溝部５０２の形成方法としては、例えば、フォトリソグラフィ技術及びエッチング技術を用いることによって形成することができる。
【００５０】
これにより、液晶パネル２００とヒートシンク４００（又はそれらを接続する接着層）との接触面積が増加し、液晶パネル２００の表示領域Ｅにおける中央領域５１に蓄積された熱を放熱させやすくすることが可能となる。よって、例えば、液晶プロジェクターなどの光源光が、特に中央領域に強く照射したとしても、周辺領域５２の温度と同程度の温度に近づけることが可能となり、その結果、表示ムラが発生することを抑えることができる。
【００５１】
液晶パネル２００に蓄積した熱は、良好な熱伝導率を有する接着層を介してヒートシンク４００に迅速に伝えられ、効果的に放熱効果を得ることができる。
【００５２】
＜電子機器の構成＞
図５は、上記した電気光学装置としての液晶装置を備えた電子機器（反射型の投射型表示装置：液晶プロジェクター）の構成を示す模式図である。以下、電子機器の構成について、図５を参照しながら説明する。
【００５３】
図５に示すように、本実施形態の電子機器としての液晶プロジェクター１５００は、システム光軸Ｌに沿って配置された偏光照明装置１１００と、３つのダイクロイックミラー１１１１，１１１２，１１１５と、２つの反射ミラー１１１３，１１１４と、３つの光変調素子としての反射型の液晶ライトバルブ１２５０，１２６０，１２７０と、クロスダイクロイックプリズム１２０６と、投射レンズ１２０７とを備えている。
【００５４】
偏光照明装置１１００は、ハロゲンランプなどの白色光源からなる光源としてのランプユニット１１０１と、インテグレーターレンズ１１０２と、偏光変換素子１１０３とから概略構成されている。
【００５５】
偏光照明装置１１００から射出された偏光光束は、互いに直交して配置されたダイクロイックミラー１１１１とダイクロイックミラー１１１２とに入射する。光分離素子としてのダイクロイックミラー１１１１は、入射した偏光光束のうち赤色光（Ｒ）を反射する。もう一方の光分離素子としてのダイクロイックミラー１１１２は、入射した偏光光束のうち緑色光（Ｇ）と青色光（Ｂ）とを反射する。
【００５６】
反射した赤色光（Ｒ）は反射ミラー１１１３により再び反射され、液晶ライトバルブ１２５０に入射する。一方、反射した緑色光（Ｇ）と青色光（Ｂ）とは反射ミラー１１１４により再び反射して光分離素子としてのダイクロイックミラー１１１５に入射する。ダイクロイックミラー１１１５は緑色光（Ｇ）を反射し、青色光（Ｂ）を透過する。反射した緑色光（Ｇ）は液晶ライトバルブ１２６０に入射する。透過した青色光（Ｂ）は液晶ライトバルブ１２７０に入射する。
【００５７】
液晶ライトバルブ１２５０は、反射型の液晶パネル１２５１（２００）と、反射型偏光素子としてのワイヤーグリッド偏光板１２５３とを備えている。
【００５８】
液晶ライトバルブ１２５０は、ワイヤーグリッド偏光板１２５３によって反射した赤色光（Ｒ）がクロスダイクロイックプリズム１２０６の入射面に垂直に入射するように配置されている。また、ワイヤーグリッド偏光板１２５３の偏光度を補う補助偏光板１２５４が液晶ライトバルブ１２５０における赤色光（Ｒ）の入射側に配置され、もう１つの補助偏光板１２５５が赤色光（Ｒ）の射出側においてクロスダイクロイックプリズム１２０６の入射面に沿って配置されている。なお、反射型偏光素子として偏光ビームスプリッターを用いた場合には、一対の補助偏光板１２５４，１２５５を省略することも可能である。
【００５９】
このような反射型の液晶ライトバルブ１２５０の構成と各構成の配置は、他の反射型の液晶ライトバルブ１２６０，１２７０においても同じである。
【００６０】
液晶ライトバルブ１２５０，１２６０，１２７０に入射した各色光は、画像情報に基づいて変調され、再びワイヤーグリッド偏光板１２５３，１２６３，１２７３を経由してクロスダイクロイックプリズム１２０６に入射する。クロスダイクロイックプリズム１２０６では、各色光が合成され、合成された光は投射レンズ１２０７によってスクリーン１３００上に投射され、画像が拡大されて表示される。
【００６１】
本実施形態では、液晶ライトバルブ１２５０，１２６０，１２７０における反射型の液晶パネル１２５１，１２６１，１２７１（２００）として上記実施形態における液晶装置１００が適用されている。
【００６２】
このような液晶プロジェクター１５００によれば、反射型の液晶装置１００を液晶ライトバルブ１２５０，１２６０，１２７０に用いているので、表示領域Ｅの表示ムラが低減され高い表示品質を有する反射型の液晶プロジェクター１５００を提供できる。
【００６３】
以上詳述したように、本実施形態の液晶装置１００、及び電子機器によれば、以下に示す効果が得られる。
【００６４】
（１）本実施形態の液晶装置１００によれば、第１基板１１の裏面１１ａにおいて、中央領域５１の第１溝部５０１の密度を、周辺領域５２の第２溝部５０２の密度と比較して高くすることにより（言い換えれば、格子状の第１溝部５０１を細かくすることにより）、中央領域５１の単位面積当たりの表面積を大きくすることができる。よって、液晶パネル２００とヒートシンク４００（又はそれらを接続する接着層）との接触面積が増加し、液晶パネル２００の表示領域Ｅにおける中央領域５１に蓄積された熱を放熱させやすくすることが可能となる。よって、例えば、液晶プロジェクターなどの光源光が、特に中央領域５１に強く照射したとしても、周辺領域５２の温度と同程度の温度に近づけることが可能となり（蓄積する熱の量を均一にすることが可能となり）、その結果、表示ムラが発生することを抑えることができる。加えて、表示領域Ｅ全体の表示品質を向上させることができる。
【００６５】
（２）本実施形態の電子機器によれば、上記した液晶装置１００を備えるので、表示ムラが抑えられ表示品質が向上する電子機器を提供することができる。
【００６６】
なお、本発明は、上記した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨あるいは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、本発明の技術範囲に含まれるものである。また、以下のような形態で実施することもできる。
【００６７】
（変形例１）
上記したように、第１基板１１の裏面１１ａの表示領域Ｅにおいて、中央領域５１とその周辺領域５２との間で、格子状の溝部５０１，５０２の密度を変えることに限定されず、例えば、図６に示すようにしてもよい。図６（ａ）は、第１基板の裏面（特に表示領域）の構造を示す模式平面図である。図６（ｂ）は、図６（ａ）の第１基板のＡ−Ａ’線に沿う模式断面図である。
【００６８】
図６に示す第１基板１１１は、裏面１１１ａの表示領域Ｅにおいて中央から外側に向かって除々に格子状の溝部５１０の密度が低くなっている。言い換えれば、表示領域Ｅの中央に近くなる程、溝部５１０の間隔が狭くなっている。このように溝部５１０を設けることによって、例えば、液晶プロジェクターの光源光における強さの分布（言い換えれば、熱の温度勾配）に合わせて溝部５１０の密度を変えているので、表示領域Ｅの表示ムラをより抑えることができる。その結果、表示品質を向上させることができる。
【００６９】
（変形例２）
上記したように、第１基板１１の裏面１１ａの表示領域Ｅにおいて、中央領域５１とその周辺領域５２との間で、格子状の凹部５００の密度を変えることに限定されず、例えば、図７に示すようにしてもよい。図７（ａ）は、第１基板の裏面（特に表示領域）の構造を示す模式平面図である。図７（ｂ）は、図７（ａ）の第１基板のＡ−Ａ’線に沿う模式断面図である。
【００７０】
図７に示す第１基板２１１は、裏面２１１ａの表示領域Ｅにおいて中央領域５１と周辺領域５２とによって格子状の溝部６００の深さが異なっている。中央領域５１の溝部６０１の深さは、周辺領域５２の溝部６０２の深さと比較して深くなっている。このように溝部６００を設けることによって、中央領域５１の単位面積当たりの表面積を、周辺領域５２の単位面積当たりの表面積と比較して、多くすることができる。よって、液晶パネル２００の中央領域５１に蓄積された熱を放散しやすくすることが可能となり、液晶パネル２００全体に亘って蓄積された熱の量を同程度にすることができる。これにより、表示領域Ｅの表示ムラを抑えることができ、その結果、表示品質を向上させることができる。
【００７１】
（変形例３）
上記したように、第１基板１１の裏面１１ａの表示領域Ｅにおいて、中央領域５１とその周辺領域５２との間で、格子状の凹部５００の密度を変えることに限定されず、例えば、図８に示すようにしてもよい。図８（ａ）は、第１基板の裏面（特に表示領域）の構造を示す模式平面図である。図８（ｂ）は、図８（ａ）の第１基板のＡ−Ａ’線に沿う模式断面図である。
【００７２】
図８に示す第１基板３１１は、裏面３１１ａの表示領域Ｅにおいて円形の凹部７００（窪み）を設け、中央領域５１と周辺領域５２とによって、凹部７００の数量を異ならせている。中央領域５１の凹部７０１の数量は、周辺領域５２の凹部７０２の数量と比較して多くなっている。このように凹部７００（７０１，７０２）を設けることによって、中央領域５１の単位面積当たりの表面積を、周辺領域５２の単位面積当たりの表面積と比較して、多くすることができる。よって、液晶パネル２００の中央領域５１に蓄積された熱を放散しやすくすることが可能となり、液晶パネル２００全体に亘って蓄積された熱の量を同程度にすることができる。また、円形の凹部７００に限定されず、四角形やその他の形状の凹部にしてもよい。
【００７３】
（変形例４）
上記したように、第１基板１１の裏面１１ａの表示領域Ｅにおいて、中央領域５１とその周辺領域５２との間で、格子状の凹部５００の密度を変えることに限定されず、例えば、図９に示すようにしてもよい。図９（ａ）は、第１基板の裏面（特に表示領域）の構造を示す模式平面図である。図９（ｂ）は、図９（ａ）の第１基板のＡ−Ａ’線に沿う模式断面図である。
【００７４】
図９に示す第１基板４１１は、裏面４１１ａの表示領域Ｅにおいて細長い溝部８００を設け、中央領域５１と周辺領域５２とによって、溝の本数を異ならせている。中央領域５１の溝部８０１の本数は、周辺領域５２の溝部８０２の本数と比較して多くなっている。このような溝部８００を設けることによって、中央領域５１の単位面積当たりの表面積を、周辺領域５２の単位面積当たりの表面積と比較して、多くすることができる。よって、液晶パネル２００の中央領域５１に蓄積された熱を放散しやすくすることが可能となり、液晶パネル２００全体に亘って蓄積された熱の量を同程度にすることができる。
【００７５】
また、図７〜図９に示す変形例は、図６に示す変形例のように、中央領域５１から周辺領域５２に向かって除々に深さ、凹部の数量、溝部の本数などを増減させることが望ましい。このようにすることにより、例えば、液晶パネル２００を液晶プロジェクターに適用した際、光源光における強さの分布に合わせて放散性を変えることが可能となり、表示領域Ｅの表示ムラをより抑えることができる。その結果、表示品質を向上させることができる。
【００７６】
（変形例５）
上記したように、第１基板１１の裏面１１ａの表示領域Ｅにおいて、中央領域５１とその周辺領域５２との間で、格子状の凹部５００の密度を変えることに加えて、第１基板１１とヒートシンク４００とを固定する接着層の熱伝導性を、中央領域５１と周辺領域５２との間において変えるようにしてもよい。例えば、中央領域５１に熱伝導性の高い接着層を配置し、周辺領域５２に、中央領域５１で配置した接着層より熱伝導性の低い接着層を配置するようにする。
【００７７】
（変形例６）
上記したように、電気光学装置として液晶装置１００を例に説明したが、これに限定されず、例えば、有機ＥＬ（Electro Luminessence）装置、電気泳動装置などの表示装置にも適用することができる。また、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ、ＳＥＤ）、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）にも適用可能である。
【００７８】
（変形例７）
上記したように、電子機器として液晶プロジェクター１５００（投射型表示装置）を例に説明してきたが、これに限定されず、例えば、ビューワー、ビューファインダー、ヘッドマウントディスプレイなどに適用するようにしてもよい。また、テレビ、携帯電話、電子手帳、ワードプロセッサー、ビューファインダー型又はモニター直視型のビデオテープレコーダー、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルなどの各種電子機器、また、電子ペーパーなどの電気泳動装置等に適用するようにしてもよい。
【符号の説明】
【００７９】
１０…素子基板、１１，１１１，２１１，３１１，４１１…第１基板、１１ａ，１１１ａ，２１１ａ，３１１ａ，４１１ａ…裏面、１２…第２基板、１４…シール材、１５…電気光学材料層としての液晶層、１８…額縁遮光膜、２０…対向基板、２２…データ線駆動回路、２４…走査線駆動回路、２５…検査回路、２６…上下導通部、２７…画素電極、２８，３２…配向膜、３０…ＴＦＴ、３１…共通電極、４１…外部接続端子、５１…第１領域としての中央領域、５２…第２領域としての周辺領域、１００…電気光学装置としての液晶装置、２００…電気光学パネルとしての液晶パネル、２００ａ…第１面としての非表示面、３００…フレーム、３０１…窪み、３０２…開口部、４００…ヒートシンク、５００…凹部、５０１…第１溝部、５０２…第２溝部、５１０，６００，６０１，６０２，８００，８０１，８０２…溝部、７００，７０１，７０２…凹部、１１００…偏光照明装置、１１０１…ランプユニット、１１０２…インテグレーターレンズ、１１０３…偏光変換素子、１１１１，１１１２，１１１５…ダイクロイックミラー、１１１３，１１１４…反射ミラー、１２０６…クロスダイクロイックプリズム、１２０７…投射レンズ、１２５０，１２６０，１２７０…液晶ライトバルブ、１２５１，１２６１，１２７１…反射型の液晶パネル、１２５３，１２６３，１２７３…ワイヤーグリッド偏光板、１２５４，１２５５…補助偏光板、１２６０，１２７０…液晶ライトバルブ、１３００…スクリーン、１５００…液晶プロジェクター。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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