(57)【要約】【課題】優れたハードコート性、帯電防止性、透明性、耐擦傷性を備え、耐ブロッキング性にも優れた反射防止フィルム、反射防止フィルム付偏光板および透過型液晶ディスプレイを提供する。【解決手段】透明基材の少なくとも片面に、該透明基材側よりハードコート層形成用塗液から形成されたハードコート層と低屈折率層形成用塗液から形成された低屈折率層とを順に備え、ハードコート層形成用塗液が四級アンモニウムカチオンと透明基材を溶解または膨潤させる溶剤とを含むものであり、低屈折率層形成用塗液が低屈折率粒子と低屈折率層の膜厚の０．７〜１．３倍の平均粒子径を有する微粒子とを含むものであり、微粒子が低屈折率層形成用塗液の全固形分１００重量部に対して０．５〜３．０重量部含有される反射防止フィルム、反射防止フィルム付偏光板および透過型液晶ディスプレイ。【選択図】図１
2013205645.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材の少なくとも片面に、該透明基材側より、ハードコート層形成用塗液から形成されたハードコート層と、低屈折率層形成用塗液から形成された低屈折率層とを順に備える反射防止フィルムであって、
前記ハードコート層形成用塗液が、四級アンモニウムカチオンと透明基材を溶解または膨潤させる溶剤とを含むものであり、
前記低屈折率層形成用塗液が、低屈折率粒子と低屈折率層の膜厚の０．７〜１．３倍の平均粒子径を有する微粒子とを含むものであり、
前記微粒子が、低屈折率層形成用塗液の全固形分１００重量部に対して０．５〜３．０重量部含有されることを特徴とする、反射防止フィルム。
【請求項２】
低屈折率層表面の中心線平均高さ（Ｒａ）が０．００３〜０．０２０μｍで、かつ、該低屈折率層表面の凹凸の平均間隔（Ｓｍ）が０．０３０〜１．０００ｍｍであり、
そのヘイズ値が０．３％以下である、請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
請求項１または２に記載の反射防止フィルムと偏光板とを備え、該反射防止フィルムのハードコート層が形成されていない面側に偏光板を配置したことを特徴とする、反射防止フィルム付偏光板。
【請求項４】
請求項３に記載の反射防止フィルム付偏光板と、液晶セルと、偏光板と、バックライトユニットとを順に備え、該反射防止フィルム付偏光板のハードコート層が形成されていない面側に、液晶セルが保持されていることを特徴とする、透過型液晶ディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、優れたハードコート性、帯電防止性、透明性および耐擦傷性を備え、さらに耐ブロッキング性にも優れた反射防止フィルム、ならびに該反射防止フィルムを使用した反射防止フィルム付偏光板および透過型液晶ディスプレイに関する。
【背景技術】
【０００２】
一般にディスプレイは、室内外を問わず、外光等が入射する環境下で使用される。この外光等の入射光は、ディスプレイ表面等において正反射され、それによる反射像が表示画像と混合することにより、画面表示品質を低下させてしまう。そのため、ディスプレイ表面等に反射防止機能を付与することは必須であり、反射防止機能の高性能化、反射防止機能以外の機能の複合化が求められている。
【０００３】
一般に反射防止機能は、透明基材上に金属酸化物等の透明薄膜からなる多層膜を反射防止層として形成することで得られる。これらの多層膜を形成する方法として、化学蒸着（ＣＶＤ）法や、物理蒸着（ＰＶＤ）法といったドライコーティング法が提案されている。また、反射防止層の形成方法として、大面積化、連続生産、低コスト化が可能であるウェットコーティング法も提案されている。
【０００４】
また、これらの反射防止層は、その表面が比較的柔軟であることから、表面硬度を付与するために、一般にアクリル多官能化合物の重合体からなるハードコート層を設け、その上に反射防止層を形成するという手法が用いられている。このハードコート層はアクリル樹脂の特性により、高い表面硬度、光沢性、透明性、耐擦傷性を有するが、絶縁性が高いために帯電しやすく、ハードコート層を設けた製品表面への埃等の付着による汚れや、ディスプレイ製造工程において、帯電することにより障害が発生するといった問題を抱えている。
【０００５】
このため、透明基材上に反射防止層とハードコート層とを備える反射防止フィルムにおいては、ハードコート層に帯電防止機能を付与する方法や、透明基材とハードコート層間もしくは反射防止層とハードコート層間に新たに帯電防止層を備える方法が提案されている。
【０００６】
また、ディスプレイ表面に用いられる場合、視認性を高くするために、反射防止フィルムは高い透明性が要求される。反射防止フィルムの透明性を向上させるために、反射防止フィルム表面を平滑にし、外光の散乱をなくす方法がある。
【０００７】
しかし、この方法では、その平滑さ故にフィルムの滑り性が悪く、フィルムを重ねたり、ロール状にした場合、ブロッキング（貼り付き）が発生してしまい、剥離する際にフィルム表面が粗れてしまう。そこで、このようなブロッキングの改良法としては、フィルムの両端にテープ等のスペーサーを挟む方法や、フィルム表面に微細な凹凸を付与する方法等がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平１１−０９２７５０号公報
【特許文献２】特開平０７−３１４６１９号公報
【特許文献３】特開２００３−０４５２３４号公報
【特許文献４】特開２００５−１４４８５８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかし、これらの方法では、フィルム加工時にテープを除去する工程が煩雑であるほか、フィルム表面の微細な凹凸によりフィルムの透明性が劣化するという問題が発生する。本発明は、このような課題を解決するためになされたものであり、優れたハードコート性、帯電防止性、透明性および耐擦傷性を備え、さらに耐ブロッキング性にも優れた反射防止フィルム、ならびに該反射防止フィルムを使用した反射防止フィルム付偏光板および透過型液晶ディスプレイを提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
前記課題を解決するために、本発明の反射防止フィルムは、透明基材の少なくとも片面に、該透明基材側より、ハードコート層形成用塗液から形成されたハードコート層と、低屈折率層形成用塗液から形成された低屈折率層とを順に備えるものであり、該ハードコート層形成用塗液が、四級アンモニウムカチオンと透明基材を溶解または膨潤させる溶剤とを含むものであり、該低屈折率層形成用塗液が、低屈折率粒子と低屈折率層の膜厚の０．７〜１．３倍の平均粒子径を有する微粒子とを含むものであり、該微粒子が、低屈折率層形成用塗液の全固形分１００重量部に対して０．５〜３．０重量部含有されることを特徴とする。
【００１１】
本発明の反射防止フォルムでは、低屈折率層表面の中心線平均高さ（Ｒａ）が０．００３〜０．０２０μｍで、かつ、該低屈折率層表面の凹凸の平均間隔（Ｓｍ）が０．０３０〜１．０００ｍｍであり、そのヘイズ値が０．３％以下であることが好ましい。
【００１２】
また本発明の反射防止フィルム付偏光板は、前記反射防止フィルムと偏光板とを備え、該反射防止フィルムのハードコート層が形成されていない面側に偏光板を配置したことを特徴とする。
【００１３】
さらに本発明の透過型液晶ディスプレイは、前記反射防止フィルム付偏光板と、液晶セルと、偏光板と、バックライトユニットとを順に備え、該反射防止フィルム付偏光板のハードコート層が形成されていない面側に、液晶セルが保持されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
本発明により、優れたハードコート性、帯電防止性、透明性および耐擦傷性を備え、さらに耐ブロッキング性にも優れた反射防止フィルム、ならびに該反射防止フィルムを使用した反射防止フィルム付偏光板および透過型液晶ディスプレイを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の実施の形態１に係る反射防止フィルムを示す概略断面図
【図２】本発明の実施の形態２に係る反射防止フィルム付偏光板を示す概略断面図
【図３】本発明の実施の形態３に係る、反射防止フィルム付偏光板を備えた透過型液晶ディスプレイを示す概略断面図
【図４】本発明の実施の形態４に係る、反射防止フィルム付偏光板を備えた透過型液晶ディスプレイを示す概略断面図
【発明を実施するための形態】
【００１６】
本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。
【００１７】
（実施の形態１）
図１に、本発明の実施の形態１に係る反射防止フィルムを示す概略断面図を示す。本実施の形態１に係る反射防止フィルム１は、図１に示すように、透明基材１１の少なくとも片面に、四級アンモニウムカチオンと溶剤とを含むハードコート層形成用塗液から形成されたハードコート層１２と、低屈折率粒子１３１と微粒子１３２とを含む低屈折率層形成用塗液から形成された低屈折率層１３とを順次積層した積層体である。
【００１８】
図１に示す反射防止フィルムは、透明基材の上面（表面）にだけハードコート層および低屈折率層を形成した例である。
【００１９】
まず、透明基材１１について説明する。透明基材としては、トリアセチルセルロースフィルム等のセルロース系フィルムが好適に用いられる。セルロース系フィルムは、複屈折が少なく、透明性、屈折率、分散等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性等の諸物性に優れており、さらに溶剤によって容易に溶解または膨潤するので、本発明においては他のフィルムよりも好ましい。
【００２０】
透明基材には、各種安定剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等が添加されていてもよい。また、透明基材の厚さは特に限定されるものではないが、２０μｍ以上、２００μｍ以下が好ましい。さらにトリアセチルセルロースフィルムの場合には、４０μｍ以上、８０μｍ以下が好ましい。
【００２１】
次に、透明基材１１上に形成されるハードコート層１２について説明する。ハードコート層は、四級アンモニウムカチオンと透明基材を溶解または膨潤させる溶剤とを含むハードコート層形成用塗液を、湿式成膜法により塗布し、透明基材上に塗膜を形成し、該塗膜に電離放射線を照射し、硬化することにより形成することができる。
【００２２】
ハードコート層形成用塗液には、前記四級アンモニウムカチオンを官能基として分子内に含むアクリル系材料を好適に用いることができる。四級アンモニウムカチオンは、−Ｎ+Ｘ-の構造であり、四級チッ素原子（−Ｎ+）とカチオン（Ｘ-）とを備えることにより、ハードコート層に導電性を発現させる。このとき、Ｘ-としては、例えば、Ｃｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-、Ｆ-、ＨＳＯ4-、ＳＯ42-、ＮＯ3-、ＰＯ43-、ＨＰＯ42-、Ｈ2ＰＯ4-、ＳＯ3-、ＯＨ-等を挙げることができる。
【００２３】
四級アンモニウムカチオンを含むハードコート層形成用塗液を用いてハードコート層を形成することにより、金属粒子や金属酸化物粒子といった導電性粒子のみを用いて帯電防止性を有するハードコート層を形成する場合と比較して、反射防止フィルムの全光線透過率の低下を防ぐことができ、さらには、反射防止フィルムの干渉ムラの発生を抑えることができる。
【００２４】
反射防止フィルムの干渉ムラは、透明基材とハードコート層との屈折率差が大きくなるにつれて顕著に発生する。四級アンモニウムカチオンを含むハードコート層形成用塗液を用いてハードコート層を形成することにより、金属粒子や金属酸化物粒子といった導電性粒子のみを用いて帯電防止性を有するハードコート層を形成する場合と比較して、ハードコート層の屈折率の上昇を防ぐことができ、干渉ムラのない反射防止フィルムとすることができる。また、金属粒子や金属酸化物粒子といった導電性粒子のみを用いてハードコート層を形成した場合には、低屈折率層表面の耐擦傷性の低下やハードコート層と透明基材との密着性の低下が確認される。
【００２５】
四級アンモニウムカチオンを官能基として分子内に含むアクリル系材料としては、四級アンモニウムカチオンを官能基として分子内に含む多価アルコールの（メタ）アクリル酸エステルのような単官能または多官能の（メタ）アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコールおよび（メタ）アクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタン（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。
【００２６】
四級アンモニウムカチオンを官能基として分子内に含むアクリル系材料として、具体的には、ライトエステルＤＱ−１００（共栄社化学（株）製）等を用いることができる。
【００２７】
なお、本明細書において「（メタ）アクリ」とは「アクリ」と「メタクリ」の両方を示している。例えば「ウレタン（メタ）アクリレート」は「ウレタンアクリレート」と「ウレタンメタアクリレート」の両方を示している。
【００２８】
四級アンモニウムカチオンを官能基として分子内に含むアクリル系材料を用いることにより、ハードコート層上により安定して低屈折率層を形成することができる。四級アンモニウムカチオンを含み（メタ）アクリル基を有さない材料を用いてハードコート層を形成した場合には、四級アンモニウムカチオンを含む材料が表面に偏析してしまい、これにより、ハードコート層上に低屈折率層形成用塗液を塗布した際に、低屈折率層形成用塗液をはじいてしまうことがある。また、四級アンモニウムカチオンを含まないアクリル系材料を用いてハードコート層を形成した場合には、形成される低屈折率層が白化してしまうことがある。四級アンモニウムカチオンを分子内に含むアクリル系材料はマトリクスを形成し、表面偏析を防ぐことができる。
【００２９】
ハードコート層形成用塗液は、バインダマトリックス形成材料として、例えば四級アンモニウムカチオンを含まない電離放射線硬化型材料であるアクリル系材料を含むことが好ましい。四級アンモニウムカチオンを含まないアクリル系材料としては、多価アルコールの（メタ）アクリル酸エステルのような単官能または多官能の（メタ）アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコール及び（メタ）アクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタン（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。またこれらの他にも、電離放射線型硬化型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。
【００３０】
単官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、Ｎ−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリールアクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノール（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、ヘキサフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−アダマンタンおよびアダマンタンジオールから誘導される１価のモノ（メタ）アクリレートを有するアダマンチルアクリレート等のアダマンタン誘導体モノ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００３１】
２官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等のジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００３２】
３官能以上の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス２−ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート等のトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等の３官能の（メタ）アクリレート化合物や、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ（メタ）アクリレート等の３官能以上の多官能（メタ）アクリレート化合物や、これら（メタ）アクリレートの一部をアルキル基やε−カプロラクトンで置換した多官能（メタ）アクリレート化合物等が挙げられる。
【００３３】
アクリル系材料の中でも、所望する分子量、分子構造を設計することができ、形成されるハードコート層の物性のバランスを容易にとることが可能である点から、多官能ウレタンアクリレートを好適に用いることができる。ウレタンアクリレートは、多価アルコール、多価イソシアネート及び水酸基含有アクリレートを反応させることによって得られる。
【００３４】
ハードコート層形成用塗液に含まれる溶剤は、透明基材を溶解または膨潤させる溶剤である。
【００３５】
透明基材を溶解または膨潤させる溶剤を含むハードコート層形成用塗液を用いてハードコート層を形成することにより、透明基材とハードコート層との密着性を向上させることができる。すなわち、透明基材成分とハードコート層成分とが混在したハードコート層を形成することができ、得られる反射防止フィルムの干渉ムラの発生を防ぐことができる。
【００３６】
溶剤としては、例えば透明基材としてセルロース系フィルムを用いた場合には、セルロース系フィルム表面を溶解または膨潤させる溶剤として、例えば、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，３，５−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、またアセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン醸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらにメチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類が挙げられ、これらを単独で、もしくは２種類以上組み合わせて用いてもよい。また、酢酸メチル、酢酸エチル、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、アセトンおよびシクロヘキサノンの少なくとも１種類を用いることが好ましい。
【００３７】
ハードコート層の形成方法としては、ウェットコーティング法とされる、ディップコーティング法、スピンコーティング法、フローコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、グラビアロールコーティング法、エアドクターコーティング法、プレードコーティング法、ワイヤードクターコーティング法、ナイフコーティング法、リバースコーティング法、トランスファロールコーティング法、マイクログラビアコーティング法、キスコーティング法、キャストコーティング法、スロットオリフィスコーティング法、カレンダーコーティング法、ダイコーティング法等が挙げられ、透明基材の少なくとも片面にハードコート層形成用塗液を塗布することにより形成することができる。特に薄く、均一に層を形成する必要性があることから、マイクログラビアコーティング法を用いることが好ましい。また、厚い層を構成する必要が生じた場合には、ダイコーティング法を用いることも可能である。
【００３８】
ハードコート層を形成する際の塗膜の硬化方法としては、例えば、紫外線照射、加熱等を採用することができる。紫外線照射の場合、高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、フュージョンランプ等を使用することができる。紫外線照射量は、通常１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることが好ましい。
【００３９】
かくして得られるハードコート層の膜厚は、３μｍ以上であれば十分な強度となるが、塗工精度、取扱いの点から、５μｍ以上、１０μｍ以下の範囲が好ましい。膜厚が１０μｍを超えると、硬化収縮による透明基材の反り、ゆがみ、折れが発生する恐れがある。さらに、膜厚が５μｍ以上、７μｍ以下の範囲であると、ハードコート層としては非常に好ましい。
【００４０】
次に、ハードコート層１２上に形成される低屈折率層１３について説明する。低屈折率層は、低屈折率粒子と低屈折率層の膜厚の０．７〜１．３倍の平均粒子径を有する微粒子とを含む低屈折率層形成塗液を、ハードコート層表面に塗布し、湿式成膜法により形成することができる。なお、このとき反射防止層である低屈折率層単層の膜厚（ｄ）は、その膜厚（ｄ）に低屈折率層の屈折率（ｎ）を乗じることによって得られる光学膜厚（ｎｄ）が可視光の波長の１／４と等しくなるように設計されることが好ましい。低屈折率層形成塗液としては、バインダマトリックス形成材料に低屈折率粒子及び低屈折率層の膜厚の０．７〜１．３倍の平均粒子径を有する微粒子を分散させたものを用いることができる。
【００４１】
低屈折率粒子としては、例えば、ＬｉＦ、ＭｇＦ、３ＮａＦ・ＡｌＦまたはＡｌＦ（いずれも、屈折率１．４）、もしくはＮａ3ＡｌＦ6（氷晶石、屈折率１．３３）等の低屈折率材料からなる低屈折率粒子を用いることができる。また、粒子内部に空隙を有するシリカ粒子を好適に用いることができる。粒子内部に空隙を有するシリカ粒子は、空隙の部分を空気の屈折率（約１）とすることができるので、非常に低い屈折率を備える低屈折率粒子となる。具体的には、多孔質シリカ粒子、シェル（殻）構造のシリカ粒子を用いることができる。
【００４２】
低屈折率粒子の平均粒子径は、１ｎｍ以上、１００ｎｍ以下であることが好ましい。平均粒子径が１００ｎｍを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、低屈折率層が白化して反射防止フィルムの透明性が低下する恐れがある。一方、平均粒子径が１ｎｍ未満の場合、粒子の凝集による低屈折率層における粒子の不均一性等の問題が生じる恐れがある。
【００４３】
微粒子の種類は、低屈折率層の膜厚の０．７〜１．３倍の平均粒子径を有し、好ましくは反射防止フィルムのヘイズ値が後述する範囲となるようにすることができるものであればよく、特に限定されない。例えば、ポリメチルメタクリレート微粒子、ポリメチルメタクリレート−ポリスチレン共重合体微粒子等の透光性の有機樹脂粒子や、シリカ等の可視光散乱を起こさない大きさの無機フィラー等でもよい。
【００４４】
微粒子の平均粒子径は、低屈折率層の膜厚の０．７〜１．３倍、好ましくは０．８〜１．２倍である。微粒子の平均粒子径が低屈折率層の膜厚の０．７倍未満の場合、バインダマトリックス内に微粒子が埋没してしまい、反射防止フィルム表面に凹凸を付与することができず、耐ブロッキング性の向上効果が発現しない。一方、微粒子の平均粒子径が低屈折率層の膜厚の１．３倍を超える場合、反射防止フィルム表面の凹凸が大きくなってしまい、この凸部により表面に傷が付きやすくなってしまう。
【００４５】
前記微粒子の含有量は、低屈折率層形成用塗液の全固形分１００重量部に対して０．５〜３．０重量部、好ましくは０．８〜２．５重量部である。微粒子の含有量が０．５重量部未満の場合、微粒子が少なく、ブロッキングを防ぐほどの凹凸を反射防止フィルム表面に付与することができない。一方、微粒子の含有量が３．０重量部を超える場合、微粒子を分散させることが困難となり、微粒子の偏在を引き起こしてしまう。
【００４６】
なお、平均粒子径が低屈折率層の膜厚の０．７〜１．３倍である微粒子を、四級アンモニウムカチオンを含むハードコート層形成用塗液に添加すると、微粒子表面に四級アンモニウムカチオンが吸着してしまい、微粒子を分散させることが困難となってしまう。また、ハードコート層はある程度膜厚を有していなければ、ハードコート性を発現しない。それ故に、反射防止フィルム表面に凹凸を付与しようとすると、添加する微粒子の粒子径も大きくなってしまい、この微粒子に起因して反射防止フィルムのヘイズ値が上昇してしまう。
【００４７】
低屈折率層形成用塗液は、バインダマトリックス形成材料として、例えば、電離放射線硬化型材料や熱硬化型材料を用いることができる。
【００４８】
前記電離放射線硬化型材料としては、例えばアクリル系材料を用いることができる。アクリル系材料としては、多価アルコールの（メタ）アクリル酸エステルのような単官能または多官能の（メタ）アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコール及び（メタ）アクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタン（メタ）アクリレート化合物等を使用することができる。またこれらの他にも、電離放射線硬化型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。
【００４９】
単官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、Ｎ−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリールアクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノール（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、ヘキサフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−アダマンタンおよびアダマンタンジオールから誘導される１価のモノ（メタ）アクリレートを有するアダマンチルアクリレート等のアダマンタン誘導体モノ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００５０】
２官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等のジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００５１】
３官能以上の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス２−ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート等のトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等の３官能の（メタ）アクリレート化合物や、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ（メタ）アクリレート等の３官能以上の多官能（メタ）アクリレート化合物や、これら（メタ）アクリレートの一部をアルキル基やε−カプロラクトンで置換した多官能（メタ）アクリレート化合物等が挙げられる。
【００５２】
アクリル系材料の中でも、所望する分子量、分子構造を設計することができ、形成される低屈折率層の物性のバランスを容易にとることが可能である点から、多官能ウレタンアクリレートを好適に用いることができる。ウレタンアクリレートは、多価アルコール、多価イソシアネート及び水酸基含有アクリレートを反応させることによって得られる。
【００５３】
前記熱硬化型材料としては、例えばケイ素アルコキシドの加水分解物を用いることができる。ケイ素アルコキシドの加水分解物としては、例えば、式（Ｉ）：ＲxＳｉ（ＯＲ）4-x（式中、Ｒはアルキル基、ｘは０≦ｘ≦３を満足する整数を示す）で表されるケイ素アルコキシドの加水分解物を用いることができる。
【００５４】
式（Ｉ）で表されるケイ素アルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−プロキシシラン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等を用いることができる。ケイ素アルコキシドの加水分解物は、式（Ｉ）で表される金属アルコキシドを原料として得られるものであればよく、例えば塩酸にて加水分解することで得られるものである。
【００５５】
また、低屈折率層のバインダマトリックス形成材料としては、前記式（Ｉ）で表されるケイ素アルコキシドに加えて、式（II）：Ｒ’zＳｉ（ＯＲ）4-z（式中、Ｒ’はアルキル基、フルオロアルキル基又はフルオロアルキレンオキサイド基を有する非反応性官能基、ｚは１≦ｚ≦３を満足する整数を示す）で表されるケイ素アルコキシドの加水分解物をさらに用いることにより、低屈折率層表面に防汚性を付与することができるほか、低屈折率層の屈折率をさらに低下させることができる。
【００５６】
式（II）で表されるケイ素アルコキシドとしては、例えば、オクタデシルトリメトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【００５７】
なお、低屈折率層形成用塗液には、必要に応じて、溶媒や各種添加剤を加えることができる。溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼン等の芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサン等の炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、水等の中から、塗工適性等を考慮して適宜選択される。また添加剤としては、例えば、表面調整剤、レベリング剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、光増感剤等が挙げられる。
【００５８】
また、バインダマトリックス形成材料として前記電離放射線硬化型材料を用い、紫外線を照射することにより低屈折率層を形成する場合には、低屈折率層形成用塗液に光重合開始剤が加えられる。光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類等が挙げられる。
【００５９】
なお、前記したように、低屈折率層形成用塗液には、前記式（II）で表されるケイ素アルコキシドのようなフッ素系材料、シリコーン系材料が含まれることが好ましい。これにより、低屈折率層表面に防汚性を付与することができるので、得られる反射防止フィルムをディスプレイ表面に好適に用いることができる。
【００６０】
低屈折率層を形成する方法としては、低屈折率層形成用塗液をハードコート層表面に塗布し、低屈折率層を形成する湿式成膜法による方法と、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法といった真空中で低屈折率層を形成する真空成膜法による方法とに分けられる。本発明においては、安価に反射防止フィルムを製造することができるという点から、湿式成膜法を採用することが好ましい。
【００６１】
なお、本発明の実施の形態１に係る反射防止フィルムにおいては、ハードコート層と透明基材との間、またはハードコート層と低屈折率層との間に、他の機能層を設けてもかまわない。他の機能層としては、例えば、電磁波シールド性能を有する電磁波シールド層、赤外線吸収性能を有する赤外線吸収層、紫外線吸収性能を有する紫外線吸収層、色補正性能を有する色補正層等を挙げることができる。
【００６２】
かくして得られる本発明の実施の形態１に係る反射防止フィルムは、低屈折率層表面の中心線平均高さ（Ｒａ）が０．００３〜０．０２０μｍ、さらには０．００５〜０．０１５μｍであることが好ましく、かつ、該低屈折率層表面の凹凸の平均間隔（Ｓｍ）が０．０３０〜１．０００ｍｍ、さらには０．０５０〜０．８００ｍｍであることが好ましく、またそのヘイズ値が０．３％以下、さらには０．２５％以下であることが好ましい。低屈折率層表面の中心線平均高さが０．００３μｍ未満の場合、または低屈折率層表面の凹凸の平均間隔が１．０００ｍｍを超える場合、反射防止フィルム表面が平坦となってしまい、ブロッキングが発生しやすくなる恐れがある。一方、低屈折率層表面の中心線平均高さが０．０２０μｍを超える場合、または低屈折率層表面の凹凸の平均間隔が０．０３０ｍｍ未満である場合、表面の凹凸により反射防止フィルムが白化しているように見える恐れがある。また、反射防止フィルムのヘイズ値が０．３％を超える場合、反射防止フィルムの透明性が低くなる恐れがある。
【００６３】
本発明の実施の形態１に係る反射防止フィルムは、ディスプレイ部材、画像装置の一部として好適に用いることができる。
【００６４】
（実施の形態２）
図２は、実施の形態１に係る反射防止フィルムを備えた、本発明の実施の形態２に係る反射防止フィルム付偏光板を示す概略断面図である。
【００６５】
図２に示すように、本発明の実施の形態２に係る反射防止フィルム付偏光板２００は、反射防止フィルム１と偏光板２とを備え、該反射防止フィルム１のハードコート層１２が形成されていない面側に、偏光層２３および透明基材２１からなる偏光板２が配置されている。すなわち、透明基材１１の一方の面（上面）に、透明基材１１側から順に、ハードコート層１２および低屈折率層１３が積層されており、透明基材１１のもう一方の面（下面）に、透明基材１１側から順に、偏光層２３および透明基材２１が積層されている。なお、これら偏光層２３および透明基材２１には特に限定がなく、通常反射防止フィルム付偏光板に用いられるものを適宜用いることができる。
【００６６】
（実施の形態３）
図３は、本発明の実施の形態３に係る、反射防止フィルム付偏光板を備えた透過型液晶ディスプレイの一例を示す概略断面図である。
【００６７】
図３に示す透過型液晶ディスプレイは、反射防止フィルム付偏光板と、液晶セル３と、偏光板４と、バックライトユニット５とを順に備え、該反射防止フィルム付偏光板のハードコート層１２が形成されていない面側に、液晶セル３が保持されている。反射防止フィルム付偏光板は、反射防止フィルム１と、該反射防止フィルム１の透明基材１１側に偏光板２’を備えており、該偏光板２’は、透明基材１１側から順に、透明基材２２と偏光層２３と透明基材２１とが積層されたものである。液晶セル３は、反射防止フィルム付偏光板のハードコート層１２が形成されていない面側、すなわち、透明基材２１側に保持されている。このとき、反射防止フィルム１側が観察側、すなわち、ディスプレイ表面となる。
【００６８】
図３に示す透過型液晶ディスプレイは、反射防止フィルム１の透明基材１１と、偏光板２’の透明基材２２とを別々に備えるディスプレイである。
【００６９】
バックライトユニット５は、光源と光拡散板とを備える。液晶セル３は、一方の透明基材に電極が設けられ、もう一方の透明基材に電極およびカラーフィルタを備えており、両電極間に液晶が封入された構造となっている。液晶セル３を挟むように設けられる偏光板２’、偏光板４においては、透明基材２１、２２間に偏光層２３が挟持され、透明基材４１、４２間に偏光層４３が挟持された構造となっている。
【００７０】
（実施の形態４）
図４は、本発明の実施の形態４に係る、反射防止フィルム付偏光板を備えた透過型液晶ディスプレイの他の一例を示す概略断面図である。
【００７１】
図４に示す透過型液晶ディスプレイは、反射防止フィルム付偏光板２００と、液晶セル３と、偏光板４と、バックライトユニット５とを順に備え、該反射防止フィルム付偏光板２００のハードコート層１２が形成されていない面側に、液晶セル３が保持されている。反射防止フィルム付偏光板２００は、反射防止フィルム１と、該反射防止フィルム１の透明基材１１側に偏光板２を備えており、該偏光板２は、透明基材１１側から順に、偏光層２３と透明基材２１とが積層されたものである。液晶セル３は、反射防止フィルム付偏光板２００のハードコート層１２が形成されていない面側、すなわち、透明基材２１側に保持されている。このとき、反射防止フィルム１側が観察側、すなわち、ディスプレイ表面となる。
【００７２】
図４に示す透過型液晶ディスプレイは、反射防止フィルム１のハードコート層１２が形成されていない面、すなわち、透明基材１１面に、偏光板２として、偏光層２３と透明基材２２とがこの順に設けられたディスプレイである。
【００７３】
図３に示す透過型液晶ディスプレイと同様に、バックライトユニット５は、光源と光拡散板とを備える。液晶セル３は、一方の透明基材に電極が設けられ、もう一方の透明基材に電極およびカラーフィルタを備えており、両電極間に液晶が封入された構造となっている。液晶セル３を挟むように設けられる偏光板２（反射防止フィルム付偏光板２００の一部）、偏光板４においては、透明基材２１、１１間に偏光層２３が挟持され、透明基材４１、４２間に偏光層４３が挟持された構造となっている。
【００７４】
なお、本発明の透過型液晶ディスプレイは、他の機能性部材を備えていてもよい。他の機能性部材としては、例えば、バックライトから発せられる光を有効に使うための、拡散フィルム、プリズムシート、輝度向上フィルムや、液晶セルや偏光板の位相差を補償するための位相差フィルム等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００７５】
（実施例）
以下に、ハードコート層形成用塗液および低屈折率層形成用塗液の調製例、ならびにこれらを用いた実施例および比較例を示す。
【００７６】
調製例１（ハードコート層形成用塗液１）
四級アンモニウムカチオンを官能基として分子内に含むアクリル系材料（ライトエステルＤＱ−１００、共栄社化学（株）製）１０重量部、ジペンタエリスリトールトリアクリレート２５重量部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート２５質量部、ウレタンアクリレート５０重量部、光重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）２重量部、フッ素系レベリング剤（ＢＹＫ−３４０、ビックケミー・ジャパン（株）製）０．２重量部を用い、これをメチルエチルケトンに溶解してハードコート層形成用塗液１を調製した。
【００７７】
調製例２（低屈折率層形成用塗液１）
多孔質シリカ微粒子分散液（平均粒子径５０ｎｍ、固形分２０％、溶剤メチルイソブチルケトン）１４．９６重量部、シリカ微粒子分散液（平均粒子径８０ｎｍ、固形分３０％、溶剤メチルイソブチルケトン）０．３５重量部、ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＥＡ−１２、日本化薬（株）製）２．１１重量部、重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）０．０９重量部、アルキルポリエーテル変性シリコーンオイル（ＴＳＦ４４６０、ＧＥ東芝シリコーン（株）製）０．２２重量部を、溶媒であるメチルイソブチルケトン８２．２７重量部で希釈して低屈折率層形成用塗液１を調製した。
【００７８】
調製例３（低屈折率層形成用塗液２）
多孔質シリカ微粒子分散液（平均粒子径５０ｎｍ、固形分２０％、溶剤メチルイソブチルケトン）１４．９６重量部、シリカ微粒子分散液（平均粒子径１２０ｎｍ、固形分３０％、溶剤メチルイソブチルケトン）０．１７重量部、ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＥＡ−１２、日本化薬（株）製）２．１１重量部、重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）０．０９重量部、アルキルポリエーテル変性シリコーンオイル（ＴＳＦ４４６０、ＧＥ東芝シリコーン（株）製）０．２２重量部を、溶媒であるメチルイソブチルケトン８２．４５重量部で希釈して低屈折率層形成用塗液２を調製した。
【００７９】
調製例４（低屈折率層形成用塗液３）
多孔質シリカ微粒子分散液（平均粒子径５０ｎｍ、固形分２０％、溶剤メチルイソブチルケトン）１４．９６重量部、シリカ微粒子分散液（平均粒子径３０ｎｍ、固形分３０％、溶剤メチルイソブチルケトン）０．３５重量部、ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＥＡ−１２、日本化薬（株）製）２．１１重量部、重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）０．０９重量部、アルキルポリエーテル変性シリコーンオイル（ＴＳＦ４４６０、ＧＥ東芝シリコーン（株）製）０．２２重量部を、溶媒であるメチルイソブチルケトン８２．２７重量部で希釈して低屈折率層形成用塗液３を調製した。
【００８０】
調製例５（低屈折率層形成用塗液４）
多孔質シリカ微粒子分散液（平均粒子径５０ｎｍ、固形分２０％、溶剤メチルイソブチルケトン）１４．９６重量部、シリカ微粒子分散液（平均粒子径１２０ｎｍ、固形分３０％、溶剤メチルイソブチルケトン）１．７５重量部、ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＥＡ−１２、日本化薬（株）製）２．１１重量部、重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）０．０９重量部、アルキルポリエーテル変性シリコーンオイル（ＴＳＦ４４６０、ＧＥ東芝シリコーン（株）製）０．２２重量部を、溶媒であるメチルイソブチルケトン８０．８７重量部で希釈して低屈折率層形成用塗液４を調製した。
【００８１】
実施例１（反射防止フィルムの作製）
図１に示す構成の反射防止フィルム１を作製した。透明基材１１には、膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム（株）製）を用いた。
【００８２】
（１）ハードコート層の形成
透明基材１１の片面に、ハードコート層形成用塗液１を塗布し、８０℃で６０秒間オーブンにて乾燥し、乾燥後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムズジャパン（株）製、光源Ｈバルブ）を用い、照射線量２００ｍＪ／ｍ2で紫外線照射を行うことにより、乾燥膜厚５μｍの透明なハードコート層１２を形成した。
【００８３】
（２）低屈折率層の形成
前記ハードコート層１２上に、乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように低屈折率層形成用塗液１を塗布し、塗膜を形成した。前記紫外線照射装置を用い、照射線量２００ｍＪ／ｍ2で紫外線照射を行って塗膜を硬化させて低屈折率層１３を形成し、反射防止フィルム１を得た。
【００８４】
実施例２（反射防止フィルムの作製）
低屈折率層形成用塗液１のかわりに、低屈折率層形成用塗液２を用いたほかは、実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た。
【００８５】
比較例１（反射防止フィルムの作製）
低屈折率層形成用塗液１のかわりに、低屈折率層形成用塗液３を用いたほかは、実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た。
【００８６】
比較例２（反射防止フィルムの作製）
低屈折率層形成用塗液１のかわりに、低屈折率層形成用塗液４を用いたほかは、実施例１と同様にして反射防止フィルムを得た。
【００８７】
実施例１〜２および比較例１〜２で得られた反射防止フィルムについて、以下の方法で評価を行った。その結果を表１に示す。
【００８８】
（ヘイズ値）
得られた反射防止フィルムについて、写像性測定器（日本電色工業（株）製、ＮＤＨ−２０００）を使用し、ＪＩＳ  Ｋ  ７１０５−１９８１に記載の方法に準拠してヘイズ値を測定した。
【００８９】
（平均視感反射率）
得られた反射防止フィルムの低屈折率層表面について、自動分光光度計（（株）日立製作所製、Ｕ−４０００）を用い、入射角５°における分光反射率を測定した。得られた分光反射率曲線から平均視感反射率を求めた。なお、測定の際には、透明基材であるトリアセチルセルロースフィルムのうち低屈折率層が形成されていない面につや消し黒色塗料を塗布し、反射防止の処置を行った。
【００９０】
（表面抵抗値）
得られた反射防止フィルムの低屈折率層表面の表面抵抗値を、高抵抗抵抗率計（（株）ダイアインスツルメンツ製、ハイレスターＭＣＰ−ＨＴ２６０）を使用し、ＪＩＳ  Ｋ  ６９１１−１９９４に記載の方法に準拠して測定した。
【００９１】
（耐擦傷性）
得られた反射防止フィルムの低屈折率層表面を、スチールウール（日本スチールウール（株）製、ボンスター＃００００）にて荷重２５０ｇ／ｃｍ2で１０往復擦り、傷の有無を目視にて観察して評価した。表１中、傷が確認されなかったものを○、傷が確認されたものを×で示す。
【００９２】
（低屈折率層表面の中心線平均高さ（Ｒａ））
得られた反射防止フィルムについて、非接触表面・層断面形状計測システム  ＶｅｒｔＳｃａｎ２．０高精度微細形状測定器（（株）小坂研究所製、サーフコーダーＥＴ４０００Ａ）を用い、低屈折率層表面の中心線平均高さ（Ｒａ）を測定した。
【００９３】
（低屈折率層表面の凹凸の平均間隔（Ｓｍ））
得られた反射防止フィルムについて、前記非接触表面・層断面形状計測システム  ＶｅｒｔＳｃａｎ２．０高精度微細形状測定器を用い、低屈折率層表面の凹凸の平均間隔（Ｓｍ）を測定した。
【００９４】
（耐ブロッキング性）
得られた反射防止フィルムを１０ｃｍ角にカットし、このカットしたフィルムをガラス板上に５枚重ね、５０℃で２４時間静置した。その後、フィルム面積（１００ｃｍ2）に占めるブロッキング部分の面積を目視にて観察して評価した。表１中、フィルム面積に占めるブロッキング部分の面積が５０％未満であるものを○、５０％以上であるものを×で示す。
【００９５】
なお、表１中、低屈折率層の膜厚に対する微粒子の平均粒子径の倍率と、低屈折率層形成用塗液の全固形分１００重量部に対する微粒子の量とを併せて示す。
【００９６】
【表１】
2013205645.tif 000003
【００９７】
表１に示す結果から、実施例１および２で得られた本発明の反射防止フィルムは、優れたハードコート性、帯電防止性、透明性および耐擦傷性を備え、しかも耐ブロッキング性にも優れたものであることが分かる。
【００９８】
これに対して、比較例１で得られた反射防止フィルムは、耐ブロッキング性に劣り、比較例２で得られた反射防止フィルムは、ヘイズ値が高く、耐擦傷性に劣ることが分かる。
【産業上の利用可能性】
【００９９】
本発明の反射防止フィルムは、例えば、ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、プロジェクションディスプレイ、ＥＬディスプレイ等のディスプレイの表示画面に好適に用いることができる。
【符号の説明】
【０１００】
１      反射防止フィルム
１１    透明基材
１２    ハードコート層
１３    低屈折率層
１３１  低屈折率粒子
１３２  粒子
２      偏光板
２’    偏光板
２１    透明基材
２２    透明基材
２３    偏光層
２００  反射防止フィルム付偏光板
３      液晶セル
４      偏光板
４１    透明基材
４２    透明基材
４３    偏光層
５      バックライトユニット
【図１】
2013205645.tif 000004
【図２】
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【図３】
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【図４】
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