(57)【要約】【課題】静電容量式タッチパネル基板を製造する際に、粘着シートや紫外線硬化型樹脂などの他の有機成分からの離型性がよいために、歩留まりを低下させることのなく安価に製造できる静電容量式タッチパネル基板を提供する。【解決手段】本発明に係る静電容量式タッチパネル基板は、透明基材上に形成された、第一の透明電極１と、第二の透明電極２と、第一の透明電極１を結ぶ第一の接続部３と、第二の透明電極２を結ぶ第二の接続部４と、第一の接続部３と第二の接続部４の交差する間に形成された絶縁層５と、第一の透明電極１および第二の透明電極２に接続された取出配線２０と、保護層６とを含んで構成される静電容量式タッチパネル基板において、保護層６と水との接触角は、６５度以上８５度以下の範囲内であり、保護層６表面のフッ素元素の含有量は、保護層６表面の炭素元素量を１００とした場合に、０．１以上３０．０以下の範囲内であることを特徴とする。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）第一の透明電極と、（Ｂ）第二の透明電極と、（Ｃ）前記（Ａ）第一の透明電極を結ぶ第一の接続部と、（Ｄ）前記（Ｂ）第二の透明電極を結ぶ第二の接続部と、（Ｅ）前記（Ｃ）第一の接続部と前記（Ｄ）第二の接続部の交差する間に形成された絶縁層と、（Ｆ）前記（Ａ）第一の透明電極および前記（Ｂ）第二の透明電極に接続された取出配線と、（Ｇ）保護層と、を含んで構成される、透明基材上に形成された静電容量式タッチパネル基板において、
前記（Ｇ）保護層と水との接触角は、６５度以上８５度以下の範囲内であり、
前記（Ｇ）保護層表面のフッ素元素の含有量は、前記（Ｇ）保護層表面の炭素元素量を１００とした場合に、０．１以上３０．０以下の範囲内であることを特徴とする透明基材上に形成された静電容量式タッチパネル基板。
【請求項２】
前記（Ｇ）保護層は、不飽和エチレン性二重結合を有するフッ素系添加剤を含有することを特徴とする請求項１に記載の透明基材上に形成された静電容量式タッチパネル基板。
【請求項３】
前記透明基材は、カバーガラスと同一であることを特徴とする請求項１または２に記載の透明基材上に形成された静電容量式タッチパネル基板。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項に記載の透明基材上に形成された静電容量式タッチパネル基板を有することを特徴とする表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明基材上に形成された静電容量式タッチパネル基板及び表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
タッチパネルは、表示画面上の透明な面を操作者が指またはペンでタッチすることにより、接触した位置を検出してデータ入力できる入力装置の構成要素となるものであって、キー入力より直接的、かつ直感的な入力を可能とすることから、近年、多用されるようになってきた。特に前記タッチパネルを液晶等の表示パネルと組み合わせて、情報の入出力を一体で行うことが多い。
タッチパネルの検出方式には、抵抗膜式、静電容量式、超音波式、光学式等があり、これまでは、製造コストの点で比較的優れていた抵抗膜式が主流であった。しかし、２枚の透明導電膜の間に空気層を設ける構造を有する抵抗膜式タッチパネルは、光学特性（例えば、透過率）が低く、耐久性や動作温度特性においても充分とは言えないため、改良が求められてきた。
【０００３】
一方、可動部分を有しない静電容量式タッチパネルは、光学特性（例えば、透過率）が高く、耐久性や動作温度特性においても抵抗膜式より優れているため、特に車載用等の高信頼性用途に向けて開発が進んでいる（例えば、特許文献１、２を参照）。
前記静電容量式タッチパネルは、表面型（ｓｕｒｆａｃｅ  ｃａｐａｃｉｔｉｖｅ  ｔｙｐｅ）と投影型（ｐｒｏｊｅｃｔｅｄ  ｃａｐａｃｉｔｉｖｅ  ｔｙｐｅ）に大別でき、１０型（２５．４ｃｍサイズ）以上の大型品には表面型が、携帯機器向けの６型以下の小型品には投影型が使われる場合が多い。電極板の構造が単純な表面型は、大型化し易いが、２点以上の接触点を同時に検知することは困難である。一方、電極板の構造が複雑な投影型は、大型化には不利であるが、２点以上の接触点を同時に検知することが可能である。
【０００４】
投影型静電容量式タッチパネル基板は、一般的に、透明基材上に、ｘ方向に配置された第一の透明電極と、ｙ方向に配置された第二の透明電極と、第一の透明電極同士を結合する第一の接続部と、第二の透明電極同士を結合する第二の接続部と、第一の接続部と第二の接続部が交差する部位に、第一の接続部と第二の接続部を電気的に絶縁するための絶縁層と、を備えている。また、透明基材上には、これらの透明電極と制御回路を繋ぐ取出配線が形成され、透明電極、接続部および取出配線を腐食や接触による傷から守るために、制御回路と繋がる、取出配線の接続部位以外のほぼ全面を覆うように、保護層が形成されて用いられることが多くなっている（例えば、特許文献３を参照）。
【０００５】
投影型静電容量式タッチパネルには、透明基材に、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等の樹脂製のフィルムを用いるフィルム式と、無アルカリガラスやソーダガラスを用いるガラス式があり、フィルム式は製造コストが安く割れにくい利点があるが、透明性が劣ることや、フィルム上の透明電極の抵抗値が高いために電極部を小さくできないこと等から、ガラス式が携帯端末等の小型品に多く使用されている。
【０００６】
前述の投影型静電容量式タッチパネルは、一般的に、操作面側から見て最表面に位置し、割れや傷付きを防止するためのカバーガラスと称する強化ガラスと、透明電極を備えたタッチパネル基板と、液晶表示装置や有機ＥＬディスプレイなどの表示装置とからなる。そして、この投影型静電容量式タッチパネルは、タッチパネルの操作面側から見たときにタッチパネル基板上の透明電極が視認される問題、および／または、タッチパネル基板と表示装置との間で生じるモアレが視認される問題、さらに、液晶表示装置や有機ＥＬディスプレイなどの表示装置から発生されるノイズによりタッチパネルの性能が低下する問題を回避するために、カバーガラスとタッチパネル基板間、および／または、タッチパネル基板と表示装置間に０．１〜１．０μｍ程度の間隔のギャップ層が形成されて用いられることが多かった。
【０００７】
近年、より薄型の投影型静電容量式タッチパネルが求められるようになり、前述の透明電極やモアレが視認される問題や、ノイズによるタッチパネルの性能低下の問題を回避しつつ、前記ギャップ層を除去して薄型化する方法が開示されている（例えば、特許文献４、５を参照）。
しかしながらこの方法では、前記ギャップ層を除去して薄型のタッチパネル基板を製造できても、粘着シートや紫外線硬化型樹脂などの他の有機成分を使用する貼り合せ工程において、泡がみやゴミ付着のために品質不良となったタッチパネル基板を効率よく再生、および／または、再利用できないために、歩留まりが悪くなり生産性を低下させる問題があった。すなわち、品質不良となったタッチパネル基板表面の保護層の、前記有機成分との剥離性（以下、『離型性』と称する）が悪く綺麗に剥がれないために、タッチパネル基板を再利用できず歩留まりが低下する問題が生じていた。
【０００８】
また、投影型静電容量式タッチパネルに要求される他の特性としてガラス端部の余白部分の最小化、およびガラス端部の強度アップがある。それを実現する生産性の良い効果的な方法として、該タッチパネル基板を複数個、紫外線硬化性、かつ、温水剥離性を有する紫外線硬化型樹脂で接着して積層体とし、該積層体のガラス端部の切削研磨やガラス強化を行うことで、複数個のタッチパネル基板をまとめて処理する方法が知られている（例えば、特許文献６、７を参照）。
【０００９】
該紫外線硬化型樹脂は、タッチパネル基板上に該紫外線硬化型樹脂を塗布後、所望する基材と貼り合せ、紫外光を照射することにより塗膜の露光部分を光架橋により硬化して接着を行い、所望する処理をまとめて実施した後に、温水に浸漬することにより該タッチパネル基板を元の個片に分断する方法である。この紫外線硬化型樹脂を用いることにより、タッチパネル基板をまとめて処理することができるので、個々に処理する場合と比べて安価に製造することが可能である。しかしながら、この方法を用いる際に、従来開示されているタッチパネル基板では、タッチパネル基板表面の保護層と紫外線硬化型樹脂との温水での剥離性が悪いためにタッチパネル基板表面に紫外線硬化型樹脂が残ってしまう問題を解決できなかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開昭６３−１７４１２０号公報
【特許文献２】特開２００６−２３９０４号公報
【特許文献３】特開２００７−２７９８１９号公報
【特許文献４】特開２０１１−２１３７９６号公報
【特許文献５】特開２０１１−１９２２７１号公報
【特許文献６】特開２０１０−２８５３２４号公報
【特許文献７】特開２０１０−１９２６１６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明の目的は、静電容量式タッチパネルを製造する際に、タッチパネル基板表面と、粘着シートや紫外線硬化型樹脂などの他の有機成分と粘着させる工程があっても、離型性がよいために、綺麗に剥がれずタッチパネル基板を再利用できないために歩留まりが低下する問題や、タッチパネル基板表面に該有機成分が残ってしまう問題を生じることなく、安価に製造できる静電容量式タッチパネル基板を提供することである。
また、透明基材にカバーガラスを用いることで、部品点数を減らしてさらに安価に製造できる、カバーガラス一体型の静電容量式タッチパネル基板を提供することである。
また、上記静電容量式タッチパネル基板を有する表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明は係る状況に鑑みてなされたものであり、静電容量式タッチパネル基板を製造する際に、粘着シートや紫外線硬化型樹脂などの他の有機成分からの離型性がよいために、歩留まりを低下させることのなく安価に製造できる静電容量式タッチパネル基板を提供する。
請求項１に係る第１の発明の一態様は、（Ａ）第一の透明電極と、（Ｂ）第二の透明電極と、（Ｃ）前記（Ａ）第一の透明電極を結ぶ第一の接続部と、（Ｄ）前記（Ｂ）第二の透明電極を結ぶ第二の接続部と、（Ｅ）前記（Ｃ）第一の接続部と前記（Ｄ）第二の接続部の交差する間に形成された絶縁層と、（Ｆ）前記（Ａ）第一の透明電極および前記（Ｂ）第二の透明電極に接続された取出配線と、（Ｇ）保護層と、を含んで構成される、透明基材上に形成された静電容量式タッチパネル基板において、前記（Ｇ）保護層と水との接触角は、６５度以上８５度以下の範囲内であり、前記（Ｇ）保護層表面のフッ素元素の含有量は、前記（Ｇ）保護層表面の炭素元素量を１００とした場合に、０．１以上３０．０以下の範囲内であることを特徴とする透明基材上に形成された静電容量式タッチパネル基板である。
【００１３】
請求項２に係る第２の発明の一態様は、前記（Ｇ）保護層が不飽和エチレン性二重結合を有するフッ素系添加剤を含有することを特徴とする透明基材上に形成された静電容量式タッチパネル基板である。
請求項３に係る第３の発明の一態様は、前記透明基材がカバーガラスと同一であることを特徴とする透明基材上に形成された静電容量式タッチパネル基板である。
請求項４に係る第４の発明の一態様は、前記記載の透明基材上に形成された静電容量式タッチパネル基板を有することを特徴とする表示装置である。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、静電容量式タッチパネル基板を製造する際に、粘着シートや紫外線硬化型樹脂などの他の有機成分からの離型性がよいために、歩留まりを低下させることのなく安価に製造できるタッチパネル基板を提供可能にする。
また、薄型の静電容量式タッチパネル基板を製造する際に、粘着シートや紫外線硬化型樹脂などの他の有機成分からの離型性がよいために、歩留まりを低下させることのなく安価に製造できるタッチパネル基板を提供可能にする。
【００１５】
また、ガラス端部の余白部分が最小化された静電容量式タッチパネル基板を製造する際に、粘着シートや紫外線硬化型樹脂などの他の有機成分からの離型性がよいために、歩留まりを低下させることのなく安価に製造できるタッチパネル基板を提供可能にする。
また、透明基材にカバーガラスを用いることで、部品点数を減らしてさらに安価に製造できる、カバーガラス一体型のタッチパネル基板を提供可能にする。
また、上記静電容量式タッチパネル基板を有する表示装置を提供可能にする。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】第一の透明電極、第二の透明電極、および第一の透明電極を結ぶ第一の接続部が形成された後、絶縁層を介して第二の接続部と取出配線が同時に形成された、本発明の静電容量式タッチパネル基板の一例を示す平面模式図。
【図２】第二の接続部と取出配線が同時に形成された後、第一の透明電極、第二の透明電極、および絶縁層を介して第一の透明電極を結ぶ第一の接続部が形成された、本発明の静電容量式タッチパネル基板の一例を示す平面模式図。
【図３】ａ）本発明の静電容量式タッチパネル基板の一例を示す投影模式図。ｂ）本発明のカバーガラス一体型静電容量式タッチパネル基板の一例を示す投影模式図。
【図４】ａ）従来のギャップ層を有する静電容量式タッチパネルの一例を示す断面模式図。ｂ）ギャップ層を除去した、本発明のカバーガラス一体型静電容量式タッチパネルの一例を示す断面模式図。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
本発明における投影型静電容量式タッチパネル基板について、その実施の形態に基づいて詳細に説明する。なお、本発明のタッチパネル基板はその要旨を超えない限り以下の構成に限定されるものではない。
本実施形態のタッチパネル基板は、透明基材上に、（Ａ）第一の透明電極と、（Ｂ）第二の透明電極と、（Ｃ）（Ａ）第一の透明電極を結ぶ第一の接続部と、（Ｄ）（Ｂ）第二の透明電極を結ぶ第二の接続部と、（Ｅ）（Ｃ）第一の接続部と（Ｄ）第二の接続部の交差する間に形成された絶縁層と、（Ｆ）（Ａ）第一の透明電極および（Ｂ）第二の透明電極に接続された取出配線と、（Ｇ）保護層と、を有し、（Ｇ）保護層と水との接触角が６５度以上８５度以下の範囲内であるタッチパネル基板である。
【００１８】
ここで、接触角は、ＪＩＳ Ｒ３２５７の６に規定される静滴法によって定められる、純水に対する室温での接触角である。
接触角が６５度より小さいと、粘着シートや紫外線硬化型樹脂などの有機成分との密着性がよくなるために、該有機成分が綺麗に剥がれず、再利用工程などの歩留まりを低下させる。接触角が８５度より大きいと、有機成分との密着性が悪くなり所望する粘着性や接着性が得られず、基板の脱落や剥がれによる破損などの不具合を生じてしまう。
【００１９】
また、本実施形態のタッチパネル基板は、該タッチパネル基板表面のフッ素元素の含有量をＸ線光電子分光法で分析して定量化し、該タッチパネル基板表面の炭素元素量を１００とした場合に、フッ素元素が０．１以上３０．０以下の範囲内となる比率でフッ素元素を含んでいる。
このような該タッチパネル基板表面のフッ素元素の含有量の測定は、Ｘ線光電子分光法（Ｘ−ｒａｙ  Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ、ＥＳＣＡ（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ  ｆｏｒ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ａｎａｌｙｓｉｓ）とも称される。）を用いて行われる。光電子Ｘ線分光法は、該タッチパネル基板の最表面から深さ数ｎｍの数十原子分の元素の定量が可能であり、本発明者らは、この元素量が、粘着シートや紫外線硬化型樹脂などの有機成分からの離型性に関係があることを見出した。
【００２０】
本発明者らは、Ｘ線光電子分光法により測定したポストベーク後のタッチパネル基板表面のフッ素元素が０．１以上３０．０以下の範囲内となる比率で該タッチパネル基板表面に含まれている場合に、粘着シートや紫外線硬化型樹脂などの有機成分からの離型性が良い表面を得ることができることを見出したものである。
フッ素元素量の炭素元素量に対する比率は０．１以上２０．０以下の範囲内であることが好ましく、さらに好ましくは１以上１０．０以下の範囲内である。フッ素元素が０．１より小さい場合には、粘着シートや紫外線硬化型樹脂などの有機成分との密着性が良好となるため綺麗に剥がれず、３０．０より大きい場合には、粘着シートや紫外線硬化型樹脂などの有機成分との所望する粘着性や接着性が得られず、基板の脱落や剥がれによる破損などの不具合を生じてしまう。
【００２１】
＜紫外線硬化型有機系コーティング組成物＞
本実施形態のタッチパネル基板の保護層に用いて好適な紫外線硬化型有機系コーティング組成物としては、前述の機能を満たすものであれば特に限定されないが、（i）光重合性モノマー、（ii）透明樹脂、（iii）光重合開始剤、（iv）添加剤及び（v）溶剤を含有する紫外線硬化型有機系コーティング組成物であって、前記（Ｇ）保護層と水との接触角が６５度以上８５度以下の範囲内となる、および／または、前記ポストベーク後のタッチパネル基板表面のフッ素元素が０．１以上３０．０以下の範囲内となる比率でフッ素元素を含むために、（i）光重合性モノマー、（ii）透明樹脂、（iv）添加剤の群から選ばれる少なくとも一つが、フッ素元素を含有することが好ましい。特に、前記（Ｇ）保護層に求められる機能が、保護層表面の水との接触角であることと、表面のフッ素元素含有量であることから、保護層の表面改質が可能で、かつ、添加量を調整しやすい点で、（iv）添加剤に、フッ素元素を含有する添加剤を使用することが好ましい。
【００２２】
上記含フッ素系化合物の例として、具体的には、フッ化ビニリデン、フッ化ビニル、三フッ化エチレン等や、これらの共重合体等のフッ化樹脂などが挙げられる。フッ素元素を含有する添加剤は、炭化水素基中の水素原子の全てあるいは一部をフッ素原子で置き換えたパーフルオロアルキル構造等を含有するものである。フッ素元素を含有する添加剤としては、市販のものを用いてもよく、たとえば、商品名：メガファックＦ−１１４、Ｆ−１７２Ｄ、Ｆ−１７８Ｋ、Ｆ−１７８ＲＭ、Ｆ−４１０、Ｆ−４４３、Ｆ−４４４、Ｆ−４４５、Ｆ−４７０、Ｆ−４７１、Ｆ−４７２ＳＦ、Ｆ−４７４、Ｆ−４７５、Ｆ−４７７、Ｆ−４７９、Ｆ−４８２、Ｆ−４８３、Ｆ−４８９、Ｆ−４９３、Ｆ−４９４、Ｒ−３０、Ｒ−６１、Ｒ−９０、ＭＯＦ−３５０ＳＦ（ＤＩＣ社製）、フタージェント１００Ｃ、１５０ＣＨ、２０８Ｇ、２１２ＭＨ、２１５Ｍ、２２２Ｆ、２４５Ｆ、２５０、２５１、３００、３１０、４００ＳＷ、５０１、７１０ＦＳ、７１０ＦＭ、７１０ＦＬ、Ａ−Ｋ、ＦＴＸ−２０６Ｄ、ＦＴＸ−２０７Ｓ、ＦＴＸ−２０８Ｇ、ＦＴＸ−２０９Ｆ、ＦＴＸ−２１１Ｓ、ＦＴＸ−２１２Ｄ、ＦＴＸ−２１３Ｆ、ＦＴＸ−２１８、ＦＴＸ−２１８Ｇ、ＦＴＸ−２２０Ｄ、ＦＴＸ−２２０Ｓ、ＦＴＸ−２３０Ｄ、ＦＴＸ−２３０Ｇ、ＦＴＸ−２３０Ｓ、ＦＴＸ−２３３Ｆ、ＦＴＸ−２４０Ｄ、ＦＴＸ−２４０Ｇ、ＦＴＸ−２４５Ｍ、ＦＴＸ−２９０Ｍ、ＦＴＸ−７１０ＬＬ、ＦＴＸ−７３０ＦＭ、ＦＴＸ−７３０ＦＬ、ＦＴＸ−７３０ＬＳ、ＦＴＸ−７３０ＬＭ、ＦＴＸ−７３０ＬＬ、ＦＴＸ−７５０ＦＭ、ＦＴＸ−７５０ＬＬ（ネオス社製）、ノベックＦＣ−４４３０、ＦＣ−４４３２（住友スリーエム社製）、エフトップＥＦ−３５１、ＥＦ−３５２、ＥＦ−８０１、ＥＦ−８０２（ジェムコ社製）などが挙げられる。
【００２３】
中でも、ノニオン性構造を有するものが、紫外線硬化型有機系コーティング組成物の安定性の点で好ましく、例えば、メガファックＦ−１７２Ｄ、Ｆ−１７８Ｋ、Ｆ−１７８ＲＭ、Ｆ−４４３、Ｆ−４４４、Ｆ−４４５、Ｆ−４７０、Ｆ−４７１、Ｆ−４７２ＳＦ、Ｆ−４７４、Ｆ−４７５、Ｆ−４７７、Ｆ−４７９、Ｆ−４８２、Ｆ−４８３、Ｆ−４８９Ｒ−３０、Ｒ−６１、Ｒ−９０、ＭＯＦ−３５０ＳＦ（ＤＩＣ社製）、フタージェント２０８Ｇ、２１２ＭＨ、２１５Ｍ、２２２Ｆ、２４５Ｆ、２５０、２５１、７１０ＦＳ、７１０ＦＭ、７１０ＦＬ、ＦＴＸ−２０６Ｄ、ＦＴＸ−２０７Ｓ、ＦＴＸ−２０８Ｇ、ＦＴＸ−２０９Ｆ、ＦＴＸ−２１１Ｓ、ＦＴＸ−２１２Ｄ、ＦＴＸ−２１３Ｆ、ＦＴＸ−２１８、ＦＴＸ−２１８Ｇ、ＦＴＸ−２２０Ｄ、ＦＴＸ−２２０Ｓ、ＦＴＸ−２３０Ｄ、ＦＴＸ−２３０Ｇ、ＦＴＸ−２３０Ｓ、ＦＴＸ−２３３Ｆ、ＦＴＸ−２４０Ｄ、ＦＴＸ−２４０Ｇ、ＦＴＸ−２４５Ｍ、ＦＴＸ−２９０Ｍ、ＦＴＸ−７１０ＬＬ、ＦＴＸ−７３０ＦＭ、ＦＴＸ−７３０ＦＬ、ＦＴＸ−７３０ＬＳ、ＦＴＸ−７３０ＬＭ、ＦＴＸ−７３０ＬＬ、ＦＴＸ−７５０ＦＭ、ＦＴＸ−７５０ＬＬ（ネオス社製）、ノベックＦＣ−４４３０、ＦＣ−４４３２（住友スリーエム社製）、エフトップＥＦ−３５１、ＥＦ−３５２、ＥＦ−８０１、ＥＦ−８０２（ジェムコ社製）などがある。
【００２４】
さらに、前記（iv）添加剤が、少なくとも一つ以上の不飽和エチレン性二重結合を有するフッ素系添加剤を含有することが好ましい。
不飽和エチレン性二重結合を有するフッ素系添加剤としては、市販のものを用いてもよく、たとえば、商品名：メガファックＲＳ−７５、メガファックＲＳ−７６−Ｅ、メガファックＲＳ−７６−ＮＳ、メガファックＲＳ−７２−Ｋ、ディフェンザＦＨ−７００（ＤＩＣ社製）、ＫＹ−１２０３（信越化学社製）、オプツールＡＲ−１１０、オプツールＤＡＣ−ＨＰ（ダイキン社製）などが挙げられる。
【００２５】
フッ素系添加剤の含有量は、紫外線硬化型有機系コーティング組成物の固形分に対し、０．１〜５．０重量％の範囲内であることが好ましく、さらに好ましくは０．１〜３．０重量％の範囲内である。不飽和エチレン性二重結合を有するフッ素系添加剤の含有量が０．１重量％より少ない場合には、粘着シートや紫外線硬化型樹脂などの有機成分との密着性が良好となるため綺麗に剥がれず、該含有量が５．０重量％より多い場合には、粘着シートや紫外線硬化型樹脂などの有機成分との所望する粘着性や接着性が得られず、基板の脱落や剥がれによる破損などの不具合を生じてしまう。
【００２６】
前記（i）光重合性モノマーは、光による架橋型の重合が可能なものであれば特に限定されるものではなく、一般的な紫外線硬化型有機系コーティング組成物において用いられる光重合性モノマーを使用することができる。本実施形態に用いて好適な紫外線硬化型有機系コーティング組成物は、（i）光重合性モノマーと、後述する（iii）光重合開始剤とを含有することによって、光照射後に組成物中で（i）光重合性モノマー同士、又は（i）光重合性モノマーと後述する（ii）透明樹脂とが重合することで、組成物からなる膜等を良好に硬化させることができる。また、光の照射をマスクを介して行うことにより、光が照射された部分（露光部）と光が照射されなかった部分（未露光部）との物性や現像液に対する溶解性が異なるものとなることにより、良好にパターンを得ることができる。
なお、本実施形態において「光」とは、可視光のみならず、赤外線、紫外線、各種放射線（Ｘ線、γ線、電子線等）も含む概念であって、本発明の（i）光重合性モノマーは、後述する各種の光線によって良好に重合するものであることが好ましい。
【００２７】
（i）光重合性モノマーとして具体的には、１，９−ノナンジオールジアクリレート、ＥＯ（エチレンオキサイド）変性ビスフェノールＡジアクリレート、ＰＯ（プロピレンオキサイド）変性ビスフェノールＡジアクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＦジアクリレート、ＥＣＨ（エピクロルヒドリン）変性フタル酸ジアクリレート、ＰＯ変性グリセロールトリアクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンのエチレンオキサイド付加物のトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンのプロピレンオキサイド付加物のトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールのエチレンオキサイド付加物のテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールのエチレンオキサイド付加物のペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールのカプロラクトン付加物のペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、グリセロールのエチレンオキサイド付加物のトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピルメタクリレート、ポリエチレングリコール♯２００ジアクリレート、ポリエチレングリコール♯４００ジアクリレート、ポリエチレングリコール♯６００ジアクリレート、ポリエチレングリコール♯１０００ジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、１，１０−デカンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコール♯４００ジアクリレート、ポリプロピレングリコール（♯７００）ジアクリレート、ポリテトラメチレングリコール♯６５０ジアクリレート、９，９−ビス［４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン、５−エチル−２−（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）−５−（ヒドロキシメチル）−１，３−ジオキサンジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールアクリル酸付加物、ビスフェノ−ルＦ４モルエチレンオキサイド付加体ジアクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸アクリレート、プロポキシ化エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート、プロポキシ化ビスフェノールＡジアクリレート、ビスフェノールＡ ＥＯ付加物アクリレート等がある。
【００２８】
この中でも、５−エチル−２−（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）−５−（ヒドロキシメチル）−１，３−ジオキサンジアクリレートとして「Ｒ−６０４」（日本化薬社製）、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールアクリル酸付加物として「ＦＭ−４００」（日本化薬社製）、ビスフェノ−ルＦ４モルエチレンオキサイド付加体ジアクリレートとして「Ｒ−７１２」（日本化薬社製）、エチレンオキサイド変性リン酸アクリレートとして「ＰＭ−２１」（日本化薬社製）、ビスフェノールＡ ＥＯ付加物アクリレートとしては「Ｖ＃７００」（大阪有機化学工業社製）等が好適に用いられる。
【００２９】
（i）光重合性モノマーは、１種のみを用いてもよく、２種以上を併用してもよい。本実施形態の感光性樹脂組成物における（i）光重合性モノマーの含有割合は特に限定されるものではないが、（ii）透明樹脂１００質量部に対して、（i）光重合性モノマーが３０〜１５０質量部の範囲内であることが好ましく、３０〜１００質量部の範囲内であることがより好ましく、４０〜８０質量部の範囲内であることがさらに好ましい。３０質量部以上とすることにより、パターン加工時の現像性及び感度を特に向上させることができ、１５０質量部以下とすることにより、無機材料表面との接着性を特に良好とすることができる。
【００３０】
前記（ii）透明樹脂には、透明基材や透明電極などの無機材料層表面と良好に接着し、下層となる無機材料層表面に保護層を形成した際の、機械的強度を高めることができ、かつ、熱及び薬品耐性、並びに高温高湿条件下における耐性を有するため、これらの膜がタッチパネル製造工程において熱や薬品に晒された場合や、製造後のタッチパネルが高温高湿下に置かれた場合であっても、良好に機能することが可能となる点で、アルコキシシランを有する化合物を含むことが好ましい。
前記（ii）透明樹脂を構成する、アルコキシシランを有する化合物は、該アルコキシシラン中のＳｉ原子が金属や無機物で構成される無機材料表面（基板表面）の原子と相互作用することで、接着性が向上すると考えられる。また、Ｓｉ原子を含有することにより、感光性樹脂組成物を硬化させて得られる膜の硬度が高いものとなる。
【００３１】
（ii）透明樹脂において、アルコキシシランを有する化合物としては、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン等が挙げられる。これらの中でも、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルリエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシランが好ましく、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランがより好ましい。アルコキシシランを有する化合物は、１種のみを用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００３２】
前記（iii）光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン、２，２’−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、ジクロロアセトフェノン、トリクロロアセトフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルアセトフェノン等のアセトフェノン類；ベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、ｐ，ｐ’−ビスジメチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン類；ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエーテル類；チオキサンソン、２−クロロチオキサンソン、２，４−ジエチルチオキサンソン、２−メチルチオキサンソン、２−イソプロピルチオキサンソン等の硫黄化合物；ベンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒロドキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１，２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル]−１−ブタノン等のアルキルフェノン類；１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（０−アセチルオキシム）、１−「４−（フェニルチオ）フェニル］−オクタン−１−オン−２−オンオキシム−Ｏ−ベンゾエ−ト（製品名「ＯＸＥ０１」（ＢＡＳＦジャパン社製））等のオキシムエステル類；２−エチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，２−ベンズアントラキノン、２，３−ジフェニルアントラキノン等のアントラキノン類；２，４−トリクロロメチル−（４’−メトキシフェニル）−６−トリアジン、２，４−トリクロロメチル−（４’−メトキシナフチル）−６−トリアジン、２，４−トリクロロメチル−（ピペロニル）−６−トリアジン、２，４−トリクロロメチル−（４’−メトキシスチリル）−６−トリアジン等のトリアジン類；等が挙げられる。
【００３３】
（iii）光重合開始剤は、１種のみを用いてもよく、２種以上を併用してもよい。本実施形態の感光性樹脂組成物における（iii）光重合開始剤の含有割合は特に限定されるものではないが、（ii）透明樹脂１００質量部に対して、（iii）光重合開始剤が５〜２０質量部の範囲内であることが好ましく、５〜１５質量部の範囲内であることがより好ましく、５〜１０質量部の範囲内であることがさらに好ましい。５質量部以上とすることにより、パターン加工時の感度を特に向上させることができ、２０質量部以下とすることにより、透明性を特に良好とすることができる。
【００３４】
前記（ｖ）溶剤としては、メタノール、エタノール、エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセテート、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、ジグライム、シクロヘキサノン、エチルベンゼン、キシレン、酢酸イソアミル、酢酸ｎ−アミル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、トリエチレングリコール、トリエチリングリコールモノメチルエーテル、トリエチリングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、液体ポリエチレングリコール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、乳酸エステル、メチルメトキシプロピオネート、エチルエトキシプロピオネートなどが挙げられる。
【００３５】
（ｖ）溶剤は、１種のみを用いてもよく、２種以上を併用してもよい。（ｖ）溶剤の含有割合は特に限定されるものではないが、全感光性樹脂組成物における固形分割合が２０〜３０質量％の範囲内となるように用いることが好ましい。固形分割合を上記範囲内とすることにより、感光性樹脂組成物の粘度を適度なものとすることができ、無機材料（基板）上に塗布して膜を形成する際の塗工性が特に向上する。
【００３６】
保護層に用いられる紫外線硬化型有機系コーティング組成物としては、保護層と水との接触角が６５度以上８５度以下の範囲内となる、および／または、前記ポストベーク後のタッチパネル基板表面のフッ素元素が０．１以上３０．０以下の範囲内となる比率でフッ素元素を含むものとするために、市販の紫外線硬化型有機系コーティング組成物に、不飽和エチレン性二重結合を有するフッ素系添加剤を添加して用いてもよい。これらの組成物からなる膜はパターン加工性を有し、且つ、これらの組成物を用いた場合、高い硬度と透明性を有する硬化膜を得ることができる。
【００３７】
市販の紫外線硬化型有機系コーティング組成物としては、たとえば、商品名：ＸＦ１１０１８０、ＸＦ１１０１８１Ａ、ＸＦ１１０１８１Ｂ、ＸＦ１１０１８２（ロームアンドハース社製）、ＮＳ−Ｅ２２００（東レ社製）、ＮＮ８０１、ＮＮ９０１（ＪＳＲ社製）、が挙げられる。
さらに本実施形態は、前記透明基材がカバーガラスと同一であることが、部品点数を削減でき安価に製造できる点で好ましい。
【００３８】
＜投影型静電容量式タッチパネル基板＞
図１および図２は、保護層６を透視した、本発明の一例を示すタッチパネル基板平面図である。ここで、図１および図２は第一の接続部３、第二の接続部４、および絶縁層５の位置関係が異なる例である。
本実施形態の投影型静電容量式タッチパネル基板は、図１に示すように、透明基材１０上に第一の透明電極１、第二の透明電極２、第一の接続部３、第二の接続部４、絶縁層５および取出配線２０を有する。絶縁層５は第一の接続部３と直交する第二の接続部４の導通を防止し、絶縁するために配設されている。また、本実施形態の投影型静電容量式タッチパネル基板はさらに、保護層６を有する。
【００３９】
図１は、第一の接続部３が最下層に形成され、その上に絶縁層５を備え、第二の接続部４が絶縁層５の上に形成される構造を示すが、図２のように、第二の接続部４が最下層に形成され、その上に絶縁層５を備え、第一の接続部３が絶縁層５の上に形成される構造であってもよく、第一の接続部３と第二の接続部４が透明基材１０に対して、ｘ方向、ｙ方向のいずれの向きであってもよい。
【００４０】
透明基材１０としては、特に限定されるものではないが、例えば、ソーダ石灰ガラス、低アルカリ硼珪酸ガラス、無アルカリアルミノ硼珪酸ガラス等のガラス板、あるいはポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）等からなるプラスチック板、プラスチックフィルムが用いられる。
【００４１】
図３ａ）は透明基材１０上に形成された、本実施形態のタッチパネル基板と、カバーガラス３０から成る投影型静電容量式タッチパネルの構造の一例を示す投影模式図である。図３ｂ）は、透明基材１０にカバーガラスを用いた、カバーガラス一体型投影型静電容量式タッチパネル基板の構造を示す図であり、透明基材１０に、アルミノ珪酸ガラス（例えば、商品名「Ｇｏｌｌｉｒａ（コーニング社製）」、「ＩＯＸ−ＦＳ（コーニング社製）」、「Ｄｒａｇｏｎｔｒａｉｌ（旭硝子社製）」）や化学的に強化されたソーダライムガラス等の特殊ガラス板を用いることができる。透明基材１０にカバーガラスを用いる場合、一枚のガラス上に、額縁層（ベゼル）（図示しない）とタッチパネルセンサー４０の両方を設けるために、透明基材一枚の部品点数を減らすことができ、低コストでタッチパネルが製造可能になる。
【００４２】
第一の透明電極１および第二の透明電極２としては、透明基材１０表面に配設することができるものであれば特に限定されるものではないが、ＩＴＯ、酸化亜鉛（ＺｎＯ）等の無機導電材料、ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルホン酸（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）、ポリアニリン、ポリピロール等の有機導電材料を用いることができる。これら材料は１種のみで用いてもよく、２種以上を併用してもよい。中でも、透明性と抵抗値の点でＩＴＯを用いることが好ましい。
【００４３】
第一の接続部３は、図１に示す構造の場合、すなわち、透明基材１０に対してｘ方向に配列された、隣接する第一の透明電極１を接続するための接続部である場合には、第一の透明電極１の材料と同一の透明導電材料を用いて第一の透明電極１と同時に形成される。言い換えれば、第一の透明電極１を形成する際に、第一の接続部３も同時に形成するので、ｘ方向には途切れることなく連なった透明電極パターンを形成することを意味する。
さらに、透明基材１０に対してｙ方向に配列された、第二の透明電極２も第一の透明電極１、および第一の接続部３と同時に形成されるが、第二の透明電極２は第二の接続部４と同時に形成されないので、この時点ではまだｙ方向には接続されていない状態となる。
【００４４】
第二の接続部４は、第一の透明電極１の材料と同一の透明導電材料を用いて第一の透明電極１とは別に形成されるが、絶縁層５を介して取出配線２０の材料と同一の導電材料を用いて、取出配線２０と同時に形成してもよい。また、図１および図２に示す例では、透明基材１０に対してｘ方向の接続部を第一の接続部３、ｙ方向の接続部を第二の接続部４としているが、前述したとおり、ｘ方向とｙ方向が逆であってもよい。すなわち、ｘ方向の接続部を第二の接続部３として、取出配線２０の材料と同一の導電材料を用いて、取出配線２０と同時に形成する構造であってもよい。
【００４５】
第二の接続部４および取出配線２０は、種々の金属材料を用いることができ、Ｍｏ（モリブデン）、Ａｌ（アルミニウム）、Ａｇ（銀）、Ｃｕ（銅）、Ｐｄ（パラジウム）等の金属が好ましく用いられ、Ｍｏ／Ａｌ／Ｍｏの３層構造でそれぞれ３５０Å／２０００Å／３５０Å程度の厚さでスパッタ法により成膜して、ポジレジストによるフォトリソ工程を経た後、エッチング・レジスト剥離を行う方法（以下“ＭＡＭ”と称する）が広く用いられている。
【００４６】
絶縁層５は、従来絶縁層や保護膜に用いられていた公知の材料を用いて形成でき、例えば、ＳｉＯ２、ＳｉＮｘ等の無機系膜や透明樹脂等の有機系材料が挙げられる。無機系膜は、ＳｉＯ２やＳｉＮｘをＣＶＤ法やスパッタリング法等により形成するために、エネルギー消費量が増加したり、工程数が増加したりする等、製造コストが高くなる課題があることから、有機系材料が好んで用いられる。有機系材料としては、重合性基含有オリゴマー、モノマー、光重合開始剤およびその他添加剤を含有する紫外線硬化型コーティング組成物を用いることができる。
【００４７】
保護層６は、前述のとおり、保護層６と水との接触角が６５度以上８５度以下の範囲内であり、保護層６表面のフッ素元素の含有量をＸ線光電子分光法で分析して定量化し、保護層６表面の炭素元素量を１００とした場合に、フッ素元素が０．１以上３０．０以下の範囲内となる比率でフッ素元素を含むものであれば、不飽和エチレン性二重結合を有するオリゴマー、モノマー、光重合開始剤およびその他添加剤を含有する、公知の紫外線硬化型有機系コーティング組成物を用いて形成できる。
【００４８】
＜投影型静電容量式タッチパネル＞
図４ａ）は、従来のギャップ層を有する静電容量式タッチパネルの一例を示す断面模式図であり、図４ｂ）は、前記図４ａ）に見られるようなギャップ層を除去した、本発明の実施形態に係るカバーガラス一体型静電容量式タッチパネルの一例を示す断面模式図である。
【００４９】
図４ａ）の静電容量式タッチパネルは、ＴＦＴ基板７３とカラーフィルタ７２で担持される液晶７４から成る液晶表示装置７０と、タッチパネルセンサー４０と、カバーガラス３０、および飛散防止フィルム５０から構成される。タッチパネルセンサー４０とカバーガラス３０は、図示しない高透明性接着層（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｃｌｅａｒ Ａｄｈｅｓｉｖｅ  Ｆｉｌｍ、以後「ＯＣＡ」と称する）により接着される。液晶表示装置７０の両面には偏光板７１が貼り合わせられており、タッチパネルセンサー４０の一方の面には、透明電極や金属配線が形成されている。さらにカバーガラス３０上、または飛散防止フィルム５０上に意匠（ベゼル）５１が形成されてなる。タッチセンサー４０と液晶表示装置７０間には、タッチパネルの操作面側から見たときに、タッチパネル基板上の透明電極が視認される問題、および／または、タッチパネル基板と表示装置との間で生じるモアレが視認される問題、さらに、液晶表示装置や有機ＥＬディスプレイなどの表示装置から発生されるノイズによりタッチパネルの性能が低下する問題、を回避するために、カバーガラスとタッチパネル基板間、および／または、タッチパネル基板と表示装置間には、０．１〜１．０μｍ程度の間隔のギャップ層６０が形成されている。また、意匠（ベゼル）５１がカバーガラス３０のタッチセンサー４０側に形成され、飛散防止フィルム５０を省略して使用されることもある。
【００５０】
図４ｂ）は、前記ギャップ層６０が除去され、液晶表示装置７０と、飛散防止フィルム５０とが図示しないＯＣＡにより貼り合わされた静電容量式タッチパネルの一例であり、カバーガラス３０には、液晶表示装置側に、光学調整層３１と、タッチパネル電極と、意匠（ベゼル）５１が形成されている。また飛散防止フィルム５０と、光学調整層３１やタッチパネル電極、意匠（ベゼル）５１が形成されたカバーガラス３０とは、図示しないＯＣＡにより貼り合わされている。また、図示しないＯＣＡが飛散防止フィルム５０の機能を兼ね備えるなどの工夫により、飛散防止フィルム５０が省略されて使用されることもある。
【００５１】
前記の投影型静電容量式タッチパネルには、ＯＣＡを用いる貼り合せ工程での気泡や異物の混入により生じる、貼り合せ不良品をリワークするため、また、最終タッチパネル製品での不良品を再利用するためにＯＣＡの再剥離性が求められている。これらのＯＣＡとしては、再剥離性を有するものであれば公知のものが使用でき、特に限定されないが、市販品としては、ＬＵＣＩＡＣＳ  ＣＲ９７０７（日東電工社製）、８１７１ＣＬ、８１７２ＣＬ、８１４６−１、８１４６−２、８１４６−３、８１４６−４（住友スリーエム社製）、ＳＡＮＣＵＡＲＹ  ＯＰ、ＳＡＮＣＵＡＲＹ  ＤＨ、ＳＡＮＣＵＡＲＹ  ＤＫ（サンエー化研社製）、ＮＥ-ｔａｋＭＨＭ―ＳＲ（日栄加工社製）などが挙げられる。
【００５２】
＜静電容量式タッチパネル基板の製造方法＞
第一の透明電極１、第二の透明電極２、第一の接続部３、および第二の接続部４としては、一般的に多く使用されるＩＴＯが好適であるが限定されない。静電容量式タッチパネル機能の具体的な仕様により、ＩＴＯの特性、また、透明電極パターンとしての特性を選択する。例えば、ＩＴＯ膜として、膜厚３０ｎｍでシート抵抗値１００Ω／□程度の膜をスパッタリング装置の薄膜形成手段により成膜する。次いで、耐エッチング性の感光性樹脂を用いて、レジスト塗布、露光、現像の一連の工程を含むフォトリソ法によりレジストパターンを形成する。その後、ＩＴＯエッチング、レジスト剥離工程を経て、パターン形成される。例えば、第一の接続部３として、幅５０μｍから１００μｍで長さ２００μｍから５００μｍのパターンを多数形成する。
【００５３】
第二の接続部４および取出配線２０としては、前述のＭｏ／Ａｌ／Ｍｏの３層構造積層膜をスパッタ装置等の薄膜形成手段により成膜し、前記フォトリソ法によりレジストパターンを形成する。その後、金属エッチング、レジスト剥離工程を経て、パターン形成される。各層の厚さは、本例の３層構造積層膜では例えば、下層から順に３５０Å／２０００Å／３５０Åとすることができ、それらの層のパターンエッチングには、リン酸、硝酸、酢酸を含むエッチング液を用いてウェットエッチングすることができる。
前記第二の接続部４および取出配線２０は、上記以外のＡｌ系、Ａｇ系等の金属薄膜をフォトリソ・エッチング工程により、パターン形成しても良いが、導電性インキを用いて印刷形成する等、電極板のパターン精度や導電性やサイズ等により、適宜選ぶことができる。
【００５４】
具体的には、第二の接続部４および取出配線２０の導電材料には、銀、銅、カーボン等の導電性粉末を有機バインダーに分散させ、感光性を持たせた導電ペースト等の感光性金属材料を好ましく用いることができる。第二の接続部４および取出配線２０の導電材料が感光性金属材料である場合には、第二の接続部４および取出配線２０の反射率を１０％以下に制御しやすいため、パターン見えの問題を回避しやすく、また製造コストを抑えることができるために好適に用いられる。銀、銅、カーボン等の導電性粉末の粒子径を適宜選択することで、スパッタ法で得られるＭｏ、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｐｄ等の金属膜より光を吸収、散乱、回折しやすいために、反射率を１０％以下に制御することが容易である。さらに、反射率を低減させる、他の公知の技術を適用してもよい。また、同材料は、同じ原理により反射明度Ｌ＊を１５以下に抑えることが可能である。
【００５５】
反射率を１０％以下に制御した導電ペースト等の感光性金属材料を、スクリーン印刷等の印刷法により成膜し、フォトリソ法によって微細パターン化することで、従来問題であった、表示エリアにある接続部を同時に形成した場合に、通常使用条件下において形成した接続部が目視で視認できてしまう問題を解決できる。フォトリソ法は、基材上に感光性導電ペーストを塗布後、所望する取出配線に対応するフォトマスクを介して、紫外光を照射することにより塗膜の露光部分を光架橋により硬化し、現像液を用いて塗膜の未露光部分を除去した後に焼成することにより取出配線パターンを形成する方法である。このフォトリソ法を用いることにより、蒸着法に比べて安価で、かつ、スクリーン印刷や、グラビアオフセット印刷で形成する印刷法に比べて高精細な導電パターンを得ることが可能である。
【００５６】
前記第二の接続部４および取出配線２０を、透明基材１０上に早い段階でパターン形成する場合は、透過光に対する充分な遮光性を有するので、光学的にパターンを検出し認識することは容易である。従って、金属電極パターン自身を以後のパターン形成される層に対する位置合わせの指標とすることができる。また、前記第二の接続部４および取出配線２０と同一層内に電極パターン以外に位置合わせマークを独立に設けることもできる。独立に位置合わせのためのマークを設ける方が、一般に、パターンの認識から位置補正量を決めて、位置補正させる動きを出力する位置合わせのための工程では、高い精度を得ることができる。
【００５７】
絶縁層５は、前記第一の接続部３または第二の接続部４の有効領域を含む範囲に被せて形成する。絶縁層５の製造方法としては、ＳｉＯ２膜を厚さ１００ｎｍ以上形成して絶縁機能を得ることはできるが、さらに容易な製造方法として、有機絶縁膜をフォトリソ法で形成することもできる。例えば、屈折率１．５３、体積固有抵抗値２×１０15Ω・ｃｍ、の紫外線硬化型有機系絶縁膜コーティング組成物を、スプレーコートやスピンコート、スリットダイコート、ロールコート、バーコート等の塗布方法により、乾燥膜厚が０．２〜１０μｍの範囲内、より好ましくは０．５〜５μｍの範囲内となるように塗布する。必要により乾燥された膜には、必要に応じてこの膜と接触あるいは非接触状態で設けられた所定のパターンを有するマスクを通して露光を行う。露光時の光線の種類は特に限定されるものではなく、可視光線、紫外線、遠赤外線、電子線、Ｘ線等が挙げられ、中でも紫外線が好ましい。光線の照度は特に限定されるものではないが、３６５ｎｍにおいて５〜１５０ｍＷ／ｃｍ２の範囲内であることが好ましく、１５〜３５ｍＷ／ｃｍ２の範囲内であることが特に好ましい。
【００５８】
その後、必要に応じて炭酸ナトリウムや水酸化ナトリウム等の水性アルカリ現像液に浸漬するか、もしくはスプレー等により現像液を噴霧して未硬化部を除去し所望のパターンを形成する。さらに、紫外線硬化型有機系絶縁膜コーティング組成物の重合を促進して硬膜するため、それぞれ必要に応じて加熱（ポストベーキング）を施す。これらの工程を経てパターン形成し、透過率９７％を超えるパターン状の絶縁層５とすることができる。
【００５９】
保護膜６は前記第一の透明電極１、前記第二の透明電極２、前記第一の接続部３、前記第二の接続部４、絶縁層５、および取出配線２０の有効領域を含む範囲に被せて形成する。保護膜６を形成する方法は特に限定されるものではないが、例えば、スプレーコートやスピンコート、スリットダイコート、ロールコート、バーコート等の塗布方法により、乾燥膜厚が０．５〜２０μｍの範囲内、より好ましくは１．０〜１０μｍの範囲内となるように、前記紫外線硬化型有機系コーティング組成物を塗布する。必要により乾燥された膜には、必要に応じてこの膜と接触あるいは非接触状態で設けられた所定のパターンを有するマスクを通して露光を行う。露光の際の光線の種類は特に限定されるものではなく、可視光線、紫外線、遠赤外線、電子線、Ｘ線等が挙げられ、中でも紫外線が好ましい。光線の照度は特に限定されるものではないが、３６５ｎｍにおいて５〜１５０ｍＷ／ｃｍ２の範囲内であることが好ましく、１５〜３５ｍＷ／ｃｍ２の範囲内であることが特に好ましい。その後、必要に応じて炭酸ナトリウムや水酸化ナトリウム等の水性アルカリ現像液に浸漬するか、もしくはスプレーなどにより現像液を噴霧して未硬化部を除去し所望のパターンを形成する。さらに、前記紫外線硬化型有機系コーティング組成物の重合を促進して硬膜するため、それぞれ必要に応じて加熱（ポストベーキング）を施す。なお、保護膜６は、静電容量式タッチパネル基板の最外層を形成するので、平坦化層を兼ねて、できるだけ広く配置することが望ましい。
【実施例１】
【００６０】
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明の趣旨を逸脱しない範囲においてこれに限定されるものではない。
［紫外線硬化型有機系コーティング組成物の合成］
市販の紫外線硬化型有機系コーティング組成物として、ＮＮ９０１（ＪＳＲ社製）に対し、添加剤（商品名：メガファックＲＳ−７５（ＤＩＣ社製））を、ＮＮ９０１の固形分重量に対して１重量％となるように加えて３０分攪拌して、紫外線硬化型有機系コーティング組成物２を得た。
【００６１】
同様にして、紫外線硬化型有機系コーティング組成物１と、添加剤を表１に記載のものに変えて、紫外線硬化型有機系コーティング組成物３〜１４を得た。
（市販の紫外線硬化型有機系コーティング組成物７）  ＮＳ−Ｅ２２００（東レ社製）
（市販の紫外線硬化型有機系コーティング組成物１３）  ＸＦ１１０１８２（ロームアンドハース社製）
（添加剤）
Ａ：メガファックＲＳ−７５（ＤＩＣ社製）
Ｂ：ディフェンザＦＨ−７００（ＤＩＣ社製）
Ｃ：オプツールＤＡＣ−ＨＰ（ダイキン社製）
Ｄ：メガファックＦ−４７０（ＤＩＣ社製）
Ｅ：Ｘ−２２−１６４Ｅ（信越シリコーン社製）
【００６２】
（実施例１）
＜静電容量式タッチパネル基板の作製＞
アルミノ珪酸ガラス上に、Ｍｏ、Ａｌ、Ｍｏの順にそれぞれ３５０Å／２０００Å／３５０Åの厚さでスパッタ法により成膜し、ポジレジスト（ローム・アンド・ハース電子材料製ＬＣ１００−１０ｃｐ）をスピン塗布し、ホットプレートにて１００℃で５分間乾燥を行い、塗膜を乾燥させた。その後、光源として高圧水銀灯を用いて１００ｍＪ/ｃｍ２で所望する開口部を有するフォトマスクを介して露光を実施した後、２．３重量％のテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド水溶液にて、２３℃で６０秒間シャワー現像を実施した。水洗後、リン酸、硝酸、酢酸、水を５：５：５：１の割合で配合してなるからなるエッチング液を用いてウェットエッチングを行い、２％水酸化カリウムのレジスト剥離液を用いてレジスト除去した後、熱風循環式オーブンにて２３０℃で３０分間加熱処理を実施して第二の接続部４および取出配線２０を作製した。得られた第二の接続部４は、幅８μｍ×長さ２００μｍの大きさであった。Ｍｏ／Ａｌ／Ｍｏ膜のシート抵抗は０．２Ω／□であった。
【００６３】
次に、ネガレジスト（ＪＳＲ社製ＮＮ９０１）をスピン塗布し、ホットプレートにて１００℃で５分間乾燥を行い、塗膜を乾燥させた。その後、光源として高圧水銀灯を用いて１００ｍＪ/ｃｍ２で所望する開口部を有するフォトマスクを介して露光を実施した後、０．２重量％の炭酸水素ナトリウム水溶液にて、３０秒間シャワー現像を実施した。水洗後、熱風循環式オーブンにて２３０℃で３０分間加熱処理を実施して絶縁層５を形成した。絶縁層５は、第二の接続部４の有効部分のみを覆うように、幅６０μｍ×長さ１２０μｍの大きさとした。
【００６４】
続いて、スパッタリング装置により膜厚３０ｎｍでＩＴＯ膜を成膜し、ポジレジスト（ローム・アンド・ハース社製ＬＣ１００−１０ｃｐ）をスピン塗布し、ホットプレートにて１００℃で５分間乾燥を行い、塗膜を乾燥させた。その後、光源として高圧水銀灯を用いて１００ｍＪ/ｃｍ2で所望する開口部を有するフォトマスクを介して露光を実施した後、２．３重量％のテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド水溶液にて、２３℃で６０秒間シャワー現像を実施した。水洗後、シュウ酸からなるエッチング液（瑞穂化学工業社製ＩＴＯエッチング液）を用いてウェットエッチングを行い、２％水酸化カリウムのレジスト剥離液を用いてレジスト除去した後、熱風循環式オーブンにて２３０℃で３０分間加熱処理を実施して第一の透明電極１、第二の透明電極２、および第一の接続部３を形成した。ＩＴＯ膜のシート抵抗は１００Ω／□であった。
【００６５】
さらに、ネガレジスト（ＪＳＲ社製ＮＮ９０１）をスピン塗布し、ホットプレートにて１００℃で５分間乾燥を行い、塗膜を乾燥させた。その後、光源として高圧水銀灯を用いて１００ｍＪ/ｃｍ２で所望する開口部を有するフォトマスクを介して露光を実施した後、０．２重量％の炭酸水素ナトリウム水溶液にて、３０秒間シャワー現像を実施した。水洗後、熱風循環式オーブンにて２３０℃で３０分間加熱処理を実施して保護層６を形成して、静電容量式タッチパネル基板１を得た。絶縁層５は、タッチパネル基板のガラス端部から内側２ｍｍの、取出配線２０と制御回路と繋がる接続部位を除く領域全面を覆うように形成して、タッチパネル基板１を得た。
【００６６】
［純水接触角評価］
ガラス基板上に、紫外線硬化型有機系コーティング組成物１〜１４をそれぞれ、スピンコート法により塗布し、ホットプレートにて１００℃で５分間乾燥を行い、塗膜を乾燥させた。その後、光源として高圧水銀灯を用いて１００ｍＪ/ｃｍ２で露光を実施した後、０．２重量％の炭酸水素ナトリウム水溶液にて、３０秒間シャワー現像を実施した。水洗後、熱風循環式オーブンにて２３０℃で３０分間加熱処理を実施して、膜厚２．３μｍの塗布膜を形成した。作製した評価用基板の常温での純水接触角を、協和界面科学株式会社製接触角測定装置ＣＡ−ＶＥ型にて測定した。測定は、ＪＩＳ Ｒ３２５７の６に規定される静滴法で実施し、接触角を得た。結果を表２に示す。
［塗膜表面フッ素元素量の測定］
塗膜表面のフッ素/炭素元素比率をＸ線光電子分光分析装置ＥＳＣＡ（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ  ｆｏｒ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ａｎａｌｙｓｉｓ）ＡＸＩＳ−ＨＳ（島津製作所／Ｋｒａｔｏｓ社製）により測定した。
【００６７】
［粘着シート剥離性評価］
ガラス基板上に、紫外線硬化型有機系コーティング組成物１〜１４をそれぞれ、スピンコート法により塗布し、ホットプレートにて１００℃で５分間乾燥を行い、塗膜を乾燥させた。その後、光源として高圧水銀灯を用いて１００ｍＪ/ｃｍ２で露光を実施した後、０．２重量％の炭酸水素ナトリウム水溶液にて、３０秒間シャワー現像を実施した。水洗後、熱風循環式オーブンにて２３０℃で３０分間加熱処理を実施して、膜厚２．３μｍの塗布膜を形成した。一方、他のガラス基板上に、偏光板（商品名「ＳＥＧ１４２５ＤＵ」日東電工社製）を貼り合わせ、オートクレーブで、５０℃且つ５気圧で１５分処理した。さらに、紫外線硬化型有機系コーティング組成物１〜１４の塗布膜が形成されたガラス基板の塗布膜側に、粘着シートとして、ＬＵＣＩＡＣＳ  ＣＲ９７０７（日東電工社製）を貼り、さらにその粘着シートの粘着面側に、偏光板を貼り合せたガラス基板を貼り合わせ、オートクレーブで、５０℃且つ５気圧で１５分処理し積層体を得た。得られた積層体を８０℃の温水に４８時間浸漬し、積層体を手で剥離した。手で積層体を剥離した後の紫外線硬化型有機系コーティング組成物の塗布膜面に、粘着剤の残りがあるかどうかの評価を行なった。積層体から紫外線硬化型有機系コーティング組成物の塗布膜のガラス基板を剥離できない場合を不可（×）、積層体から紫外線硬化型有機系コーティング組成物の塗布膜のガラス基板を剥離できるが糊がガラス面に残っている場合を可（△）、積層体から紫外線硬化型有機系コーティング組成物の塗布膜のガラス基板を剥離でき、かつ糊がガラス面に残っていない場合を良好（○）、８０℃の温水浸漬中に積層体から紫外線硬化型有機系コーティング組成物の塗布膜のガラス基板が自然に剥がれる場合をさらに良好（◎）、と評価した。結果を表２に示す。
【００６８】
（実施例２〜９、比較例１〜５）
紫外線硬化型有機系コーティング組成物１を、２〜１４に変えた以外は実施例１と同様にして、タッチパネル基板２〜１４を得て、同様の評価を実施した。
紫外線硬化型有機系コーティング組成物と物性評価結果を表１に、剥離性評価結果を表２に示す。
【００６９】
【表１】
2013205991.tif 000003
【００７０】
【表２】
2013205991.tif 000004
【００７１】
本実施形態における実施例１〜９より、紫外線硬化型有機系コーティング組成物の塗布膜の接触角が６５度以上８５度以下の範囲内であり、かつ、塗布膜表面のフッ素元素の含有量が塗布膜表面の炭素元素量を１００として０．１以上３０．０以下の範囲内である場合に、粘着シートの剥離性が良好であった。以上、比較例１〜５との比較より、本発明の効果が実証された。
【符号の説明】
【００７２】
１  …第一の透明電極
２  …第二の透明電極
３  …第一の接続部
４  …第二の接続部
５  …絶縁層
６  …保護層
１０…透明基材
２０…取出配線
３０…カバーガラス
３１…光学調整層
４０…タッチパネルセンサー
５０…飛散防止フィルム
５１…意匠（ベゼル）
６０…ギャップ層
７０…液晶表示装置
７１…偏光板
７２…カラーフィルタ
７３…ＴＦＴ基板
７４…液晶
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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