(57)【要約】【課題】パッシブ方式による３次元画像表示に適用するパターン位相差フィルムに関して、液晶層における配向の劣化を有効に回避して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上する。【解決手段】透明フィルムによる基材２と、この基材２の一方の面に作製された配向膜３と、この配向膜３の上に作製されて、配向膜３の配向規制力により配向して固化した液晶層４とを備える。配向膜３は、十点平均粗さ（Ｒｚ）が、１０ｎｍ以上、４５ｎｍ以下である。【選択図】図１
2013242508.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明フィルムによる基材と、
前記基材の一方の面に作製された配向膜と、
前記配向膜の上に作製されて、前記配向膜の配向規制力により配向して固化した液晶層とを備え、
前記配向膜は、
十点平均粗さ（Ｒｚ）が、１０ｎｍ以上、４５ｎｍ以下である
光学フィルム。
【請求項２】
前記配向膜は、
平均面粗さ（Ｒａ）が、１ｎｍ以上、４ｎｍ以下である
請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
前記液晶層は、
右目用画像データで駆動される画像表示パネルの画素からの出射光に対応する位相差を与える帯状による右目用領域と、左目用画像データで駆動される前記画像表示パネルの画素からの出射光に対応する位相差を与える帯状による左目用領域とが順次交互に設けられた
請求項１、又は請求項２に記載の光学フィルム。
【請求項４】
前記液晶層が、透過光に１／２波長分、又は１／４波長分の位相差を付与する
請求項１、又は請求項２に記載の光学フィルム。
【請求項５】
透明フィルムによる第１の基材と、
前記第１の基材の一方の面に作製された第１の配向膜と、
前記第１の配向膜の上に作製されて、前記第１の配向膜の配向規制力により配向して固化した第１の液晶層と、
前記第１の液晶層の上に作製された第２の配向膜と、
前記第２の配向膜の上に作製されて、前記第２の配向膜の配向規制力により配向して固化した第２の液晶層とを備え、
前記第１及び又は第２の配向膜は、
十点平均粗さ（Ｒｚ）が、１０ｎｍ以上、４５ｎｍ以下である
光学フィルム。
【請求項６】
透明フィルムによる基材と、
前記基材の一方の面に作製された第１の配向膜と、
前記第１の配向膜の上に作製されて、前記第１の配向膜の配向規制力により配向して固化した第１の液晶層と、
前記基材の他方の面に作製された第２の配向膜と、
前記第２の配向膜の上に作製されて、前記第２の配向膜の配向規制力により配向して固化した第２の液晶層とを備え、
前記第１及び又は第２の配向膜は、
十点平均粗さ（Ｒｚ）が、１０ｎｍ以上、４５ｎｍ以下である
光学フィルム。
【請求項７】
前記第１及び又は第２の配向膜は、
平均面粗さ（Ｒａ）が、１ｎｍ以上、４ｎｍ以下である
請求項５、又は請求項６に記載の光学フィルム。
【請求項８】
配向膜の配向規制力により配向して固化した液晶層を少なくとも有する転写層と、
前記転写層を保持する支持体とを備え、
前記配向膜が、
十点平均粗さ（Ｒｚ）が、１０ｎｍ以上、４５ｎｍ以下である
光学フィルム用転写体。
【請求項９】
前記配向膜は、
平均面粗さ（Ｒａ）が、１ｎｍ以上、４ｎｍ以下である
請求項８に記載の光学フィルム用転写体。
【請求項１０】
前記液晶層が、
透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長板用液晶層と、透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板用液晶層であり、
前記配向膜が、
前記１／２波長板用液晶層に係る１／２波長板用配向膜と、
前記１／４波長板用液晶層に係る１／４波長板用配向膜とであり、
前記転写層が、
前記１／２波長板用液晶層、前記１／２波長板用配向膜、前記１／４波長板用液晶層、前記１／４波長板用配向膜の積層体である
請求項８又は請求項９に記載の光学フィルム用転写体。
【請求項１１】
前記液晶層が、
透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長板用液晶層と、透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板用液晶層であり、
前記配向膜が、
前記１／２波長板用液晶層に係る１／２波長板用配向膜と、
前記１／４波長板用液晶層に係る１／４波長板用配向膜とであり、
前記転写層が、
前記１／２波長板用液晶層、前記１／２波長板用配向膜、前記１／４波長板用液晶層の積層体であり、
前記支持体に、前記１／４波長板用配向膜が含まれる
請求項８又は請求項９に記載の光学フィルム用転写体。
【請求項１２】
透明フィルムによる基材と、
直線偏光板としての機能を担う直線偏光板の光学機能層と、
円偏光板としての機能を担う円偏光板の光学機能層とが積層され、
前記円偏光板の光学機能層が、請求項８、請求項９、請求項１０、又は請求項１１の何れかに記載の光学フィルム用転写体に設けられた前記転写層による光学機能層である
光学フィルム。
【請求項１３】
請求項１、請求項２、請求項３、請求項４、請求項５、請求項６、請求項７、又は請求項１２の何れかに記載の光学フィルムを画像表示パネルの表側面に配置した
画像表示装置。
【請求項１４】
賦型により配向膜の作製に供する光学フィルムの製造用金型において、
賦型に供する部位の十点平均粗さ（Ｒｚ）が、１０ｎｍ以上、４５ｎｍ以下である
光学フィルムの製造用金型。
【請求項１５】
前記賦型に供する部位の平均面粗さ（Ｒａ）が、１ｎｍ以上、４ｎｍ以下である
請求項１４に記載の光学フィルムの製造用金型。
【請求項１６】
前記賦型に供する部位に、
ライン状の凹凸形状が作製された帯状による第１の領域と、前記第１の領域におけるライン状の凹凸形状とは延長方向が異なるライン状の凹凸形状が作製された帯状による第２の領域とが、順次、交互に作製された
請求項１４、又は請求項１５に記載の光学フィルムの製造用金型。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パッシブ方式による３次元画像表示に適用するパターン位相差フィルム、１／２位相差板、１／４位相差板等の光学フィルム、これらを使用した画像表示装置、これら光学フィルムの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、画像表示装置等に適用する光学フィルムに関して、配向膜により重合性液晶を配向させて所望の光学特性を確保する方法が提案されている。またこの配向膜の作製には、賦型用金型を使用した賦型処理、ポリイミド膜のラビング処理等が提案されている。
【０００３】
すなわちパッシブ方式の画像表示装置では、画像表示パネルの垂直方向に連続する画素を、順次交互に、右目用及び左目用に割り当て、それぞれ右目用及び左目用の画像データで駆動する。これによりパッシブ方式では、右目用の画像と左目用の画像とを同時に表示する。なおこれにより画像表示パネルの画面は、短辺が垂直方向で長辺が水平方向となる帯状の領域により、右目用の画像を表示する領域と左目用の画像を表示する領域とに交互に区分される。
【０００４】
パッシブ方式の画像表示装置では、配向膜と重合性液晶層とを備えた光学フィルムであるパターン位相差フィルムが表示画面に配置され、このパターン位相差フィルムにより画像表示パネルの右目用及び左目用の画素からの直線偏光による出射光を、右目用及び左目用で回転方向の異なる円偏光に変換して出射する。
【０００５】
このためパターン位相差フィルムは、透明フィルムによる基材の表面に、配向規制力を制御した配向膜が作製され、さらに液晶材料が塗布される。パターン位相差フィルムは、この液晶材料が配向膜の配向規制力によりパターンニングされて硬化され、これによりこの液晶材料層により、画像表示パネルからの出射光に対応する位相差を与える。この配向膜については、例えば賦型用金型の表面に形成された微細な凹凸形状を紫外線硬化性樹脂等による賦型用樹脂層に賦型して作製する方法が提案されている（特許文献１）。またこれに代えて、基材上のポリイミド膜をラビング処理して作製する方法も提案されている（特許文献２）。
【０００６】
しかしながらこのように透明基材上に、順次、配向膜、重合性液晶層を積層した光学フィルムは、配向膜と重合性液晶層との密着性が実用上未だ不十分な問題がある。すなわち配向膜にポリイミド膜を適用する場合には、そもそもポリイミドと重合性液晶との密着性が弱く、これにより充分に密着性を確保することが困難になる。この問題を解決する１つの方法として接着促進剤を重合性液晶に混入する方法も考えられるが、この方法では重合性液晶層の配向が劣化する問題がある。また賦型用金型を使用する場合でも、配向膜と重合性液晶層とで充分に密着性を確保することが困難である。この場合、コロナ処理、プラズマ処理等による表面処理を配向膜に施すことにより密着性を向上する方法も考えられるものの、この場合も重合性液晶層の配向が劣化する問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１０−１５２２９６号公報
【特許文献２】特表２００７−５０６８１３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、パッシブ方式による３次元画像表示に適用するパターン位相差フィルム等の光学フィルムに関して、液晶層における配向の劣化を有効に回避して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、液晶の配向に影響を与えない凹凸形状を配向膜に作製する、との着想に至り、本発明を完成するに至った。
【００１０】
（１）  透明フィルムによる基材と、
前記基材の一方の面に作製された配向膜と、
前記配向膜の上に作製されて、前記配向膜の配向規制力により配向して固化した液晶層とを備え、
前記配向膜は、
十点平均粗さ（Ｒｚ）が、１０ｎｍ以上、４５ｎｍ以下である。
【００１１】
（１）によれば、黒輝度に係る傾きθのばらつき３σを十分に小さくして、黒輝度を十分に小さくすることができ、これにより従来に比して一段と精度良く透過光に位相差を付与することができる。また概ね、配向膜の平均面粗さ（Ｒａ）を１ｎｍ以上、４ｎｍ以下に設定できることにより、液晶層である位相差層における配向の劣化を有効に回避して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上することができる。
【００１２】
（２）  （１）において、
前記配向膜は、
平均面粗さ（Ｒａ）が、１ｎｍ以上、４ｎｍ以下である。
【００１３】
（２）によれば、配向膜の平均面粗さ（Ｒａ）が、１ｎｍ以上、４ｎｍ以下であることにより、より具体的に、液晶層である位相差層における配向の劣化を有効に回避して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上することができる。
【００１４】
（３）  （１）又は（２）において、
前記液晶層は、
右目用画像データで駆動される画像表示パネルの画素からの出射光に対応する位相差を与える帯状による右目用領域と、左目用画像データで駆動される前記画像表示パネルの画素からの出射光に対応する位相差を与える帯状による左目用領域とが順次交互に設けられる。
【００１５】
（３）にれば、パターン位相差フィルムである光学フィルムに適用することができる。
【００１６】
（４）  （１）又は（２）において、
前記液晶層が、透過光に１／２波長分、又は１／４波長分の位相差を付与する。
【００１７】
（４）によれば、１／２位相差板、１／４位相板等の光学フィルムに適用することができる。
【００１８】
（５）  透明フィルムによる第１の基材と、
前記第１の基材の一方の面に作製された第１の配向膜と、
前記第１の配向膜の上に作製されて、前記第１の配向膜の配向規制力により配向して固化した第１の液晶層と、
前記第１の液晶層の上に作製された第２の配向膜と、
前記第２の配向膜の上に作製されて、前記第２の配向膜の配向規制力により配向して固化した第２の液晶層とを備え、
前記第１及び又は第２の配向膜は、
十点平均粗さ（Ｒｚ）が、１０ｎｍ以上、４５ｎｍ以下である。
【００１９】
（５）によれば、
第１及び第２液晶層により順次透過光に位相差を与える円偏光板等の構成に適用して、基材の一方の面にこれら第１及び第２の液晶層を積層する場合に、黒輝度を十分に小さくすることができ、また液晶層である位相差層における配向の劣化を有効に回避して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上することができる。
【００２０】
（６）  透明フィルムによる基材と、
前記基材の一方の面に作製された第１の配向膜と、
前記第１の配向膜の上に作製されて、前記第１の配向膜の配向規制力により配向して固化した第１の液晶層と、
前記基材の他方の面に作製された第２の配向膜と、
前記第２の配向膜の上に作製されて、前記第２の配向膜の配向規制力により配向して固化した第２の液晶層とを備え、
前記第１及び又は第２の配向膜は、
十点平均粗さ（Ｒｚ）が、１０ｎｍ以上、４５ｎｍ以下である。
【００２１】
（６）によれば、
第１及び第２液晶層により順次透過光に位相差を与える円偏光板等の構成に適用して、基材の両面にそれぞれ第１及び第２の液晶層を積層する場合に、黒輝度を十分に小さくすることができ、また液晶層である位相差層における配向の劣化を有効に回避して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上することができる。
【００２２】
（７）  （５）又は（６）において、
前記第１及び又は第２の配向膜は、
平均面粗さ（Ｒａ）が、１ｎｍ以上、４ｎｍ以下である。
【００２３】
（７）によればより具体的に、液晶層である位相差層における配向の劣化を有効に回避して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上することができる。
【００２４】
（８）  配向膜の配向規制力により配向して固化した液晶層を少なくとも有する転写層と、
前記転写層を保持する支持体とを備え、
前記配向膜が、
十点平均粗さ（Ｒｚ）が、１０ｎｍ以上、４５ｎｍ以下である。
【００２５】
（８）によれば、光学フィルムに供する光学フィルム用転写体に適用して、黒輝度に係る傾きθのばらつき３σを十分に小さくして、黒輝度を十分に小さくすることができ、これにより従来に比して一段と精度良く透過光に位相差を付与することができる。また配向膜の平均面粗さ（Ｒａ）を１ｎｍ以上、４ｎｍ以下に設定できることにより、液晶層である位相差層における配向の劣化を有効に回避して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上することができる。
【００２６】
（９）  （８）において、
前記配向膜は、
平均面粗さ（Ｒａ）が、１ｎｍ以上、４ｎｍ以下である。
【００２７】
（９）によれば、配向膜の平均面粗さ（Ｒａ）が、１ｎｍ以上、４ｎｍ以下であることにより、より具体的に、液晶層である位相差層における配向の劣化を有効に回避して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上することができる。
【００２８】
（１０）  （８）又は（９）において、
前記液晶層が、
透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長板用液晶層と、透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板用液晶層であり、
前記配向膜が、
前記１／２波長板用液晶層に係る１／２波長板用配向膜と、
前記１／４波長板用液晶層に係る１／４波長板用配向膜とであり、
前記転写層が、
前記１／２波長板用液晶層、前記１／２波長板用配向膜、前記１／４波長板用液晶層、前記１／４波長板用配向膜の積層体である。
【００２９】
（１０）によれば、１／２波長板、１／４波長板の積層構造にかかる円偏光板用の光学フィルム用転写体に適用して、１／２波長板用配向膜、１／４波長板用配向膜を一体に転写する場合に、液晶層である位相差層における配向の劣化を有効に回避して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上することができる。
【００３０】
（１１）  （８）又は（９）において、
前記液晶層が、
透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長板用液晶層と、透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板用液晶層であり、
前記配向膜が、
前記１／２波長板用液晶層に係る１／２波長板用配向膜と、
前記１／４波長板用液晶層に係る１／４波長板用配向膜とであり、
前記転写層が、
前記１／２波長板用液晶層、前記１／２波長板用配向膜、前記１／４波長板用液晶層の積層体であり、
前記支持体に、前記１／４波長板用配向膜が含まれる。
【００３１】
（１１）によれば、１／２波長板、１／４波長板の積層構造にかかる円偏光板用の光学フィルム用転写体に適用して、１／２波長板用配向膜のみを一体に転写する場合に、液晶層である位相差層における配向の劣化を有効に回避して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上することができる。
【００３２】
（１２）  透明フィルムによる基材と、
直線偏光板としての機能を担う直線偏光板の光学機能層と、
円偏光板としての機能を担う円偏光板の光学機能層とが積層され、
前記円偏光板の光学機能層が、（８）、（９）、（１０）、又は（１１）の何れかに記載の光学フィルム用転写体に設けられた前記転写層による光学機能層である。
【００３３】
（１２）によれば、（８）、（９）、（１０）、又は（１１）の何れかに記載の光学フィルム用転写体を使用して作成する光学フィルムに関して、黒輝度に係る傾きθのばらつき３σを十分に小さくして、黒輝度を十分に小さくすることができ、これにより従来に比して一段と精度良く透過光に位相差を付与することができる。また配向膜の平均面粗さ（Ｒａ）を１ｎｍ以上、４ｎｍ以下に設定できることにより、液晶層である位相差層における配向の劣化を有効に回避して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上することができる。
【００３４】
（１３）  （１）、（２）、（３）、（４）、（５）、（６）、（７）、又は（１２）の何れかに記載の光学フィルムを画像表示パネルの表側面に配置する。
【００３５】
（１４）  賦型により配向膜の作製に供する光学フィルムの製造用金型において、
賦型に供する部位の十点平均粗さ（Ｒｚ）が、１０ｎｍ以上、４５ｎｍ以下である。
【００３６】
（１４）によれば、この製造用金型により作製される配向膜については、充分な配向規制力を確保できるようにして、充分な表面粗さを確保することができ、これにより液晶層における配向の劣化を有効に回避して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上することができる。また黒輝度に係る傾きθのばらつき３σを十分に小さくして、黒輝度を十分に小さくすることができ、これにより従来に比して一段と精度良く透過光に位相差を付与することができる。
【００３７】
（１５）  （１４）において、
前記賦型に供する部位の平均面粗さ（Ｒａ）が、１ｎｍ以上、４ｎｍ以下である。
【００３８】
（１５）によれば、より具体的に、液晶層である位相差層における配向の劣化を有効に回避して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上することができる。
【００３９】
（１６）  （１４）又は（１５）において、
前記賦型に供する部位に、
ライン状の凹凸形状が作製された帯状による第１の領域と、前記第１の領域におけるライン状の凹凸形状とは延長方向が異なるライン状の凹凸形状が作製された帯状による第２の領域とが、順次、交互に作製された。
【００４０】
（１６）によれば、パターン位相差フィルムの製造用金型に適用して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上することができる。
【発明の効果】
【００４１】
液晶層における配向の劣化を有効に回避して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上することができる。また黒輝度に係る傾きθのばらつき３σを十分に小さくして、黒輝度を十分に小さくすることができ、これにより従来に比して一段と精度良く透過光に位相差を付与することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】本発明の第１実施形態に係るパターン位相差フィルムを示す図である。
【図２】図１のパターン位相差フィルムの製造工程を示すフローチャートである。
【図３】ロール版の製造工程を示す図である。
【図４】図３の続きを示す図である。
【図５】ラビング処理による表面形状の変化を示す図である。
【図６】図５の例について、さらに倍率を拡大した図である。
【図７】図５の例について、図６よりさらに倍率を拡大した図である。
【図８】ラビングの回数が少ない場合の表面形状を示す図である。
【図９】図８の例よりラビングの回数を増大させた場合の表面形状を示す図である。
【図１０】図９の例よりさらにラビングの回数を増大させた場合の表面形状を示す図である。
【図１１】図８の例における表面形状の測定結果を示す図である。
【図１２】図９の例における表面形状の測定結果を示す図である。
【図１３】図１０の例における表面形状の測定結果を示す図である。
【図１４】パターン位相差フィルムの断面を示す写真である。
【図１５】本発明の第２実施形態に係る位相差板を示す図である。
【図１６】図１５の位相差板の製造用金型の説明に供する図である。
【図１７】第３実施形態に係る計測装置の説明に供する図である。
【図１８】ラビング処理時間によりばらつきを示す図である。
【図１９】ラビング処理時間によりばらつきを示す図である。
【図２０】二乗平均粗さとばらつきとの関係を示す図である。
【図２１】十点平均粗さとばらつきとの関係を示す図である。
【図２２】配向膜の表面形状を示す写真である。
【図２３】図２２との対比により光学特性が劣る場合の配向膜の表面形状を示す写真である。
【図２４】第５実施形態に係る光学フィルムの断面図である。
【図２５】図２４の光学フィルムにおける各部材の配置の説明に供する図である。
【図２６】第６実施形態に係る光学フィルムの断面図である。
【図２７】第７実施形態に係る光学フィルムの断面図である。
【図２８】図２７の光学フィルムに適用される転写フィルムの断面図である。
【図２９】第８実施形態に係る光学フィルムの断面図である。
【図３０】図２９の光学フィルムに適用される転写フィルムの断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００４３】
〔第１実施形態〕
図１は、本発明の第１実施形態に係るパターン位相差フィルムを示す図である。この第１実施形態に係る画像表示装置は、垂直方向（図１においては左右方向に対応する方向である）に連続する液晶表示パネルの画素が、順次交互に、右目用の画像を表示する右目用画素、左目用の画像を表示する左目用画素に振り分けられ、それぞれ右目用及び左目用の画像データで駆動される。これにより画像表示装置は、右目用の画像を表示する帯状の領域と左目用の画像を表示する帯状の領域とに表示画面が交互に区分され、右目用の画像と左目用の画像とを同時に表示する。この画像表示装置は、この液晶表示パネルのパネル面に、この図１に示すパターン位相差フィルム１が配置され、このパターン位相差フィルム１により右目用及び左目用の画素からの出射光にそれぞれ対応する位相差を与える。これによりこの画像表示装置は、パッシブ方式により所望の立体画像を表示する。
【００４４】
パターン位相差フィルム１は、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）等の透明フィルムからなる基材２の一方の面上に、配向膜３、位相差層４が順次作製される。パターン位相差フィルム１では、この位相差層４がアクリル系等の重合性液晶材料による液晶層である。パターン位相差フィルム１は、この位相差層４の液晶材料が屈折率異方性を保持した状態で固化（硬化）され、この液晶材料の配向を配向膜３の配向規制力によりパターンニングする。なおこの液晶分子の配向を図１では細長い楕円により誇張して示す。このパターンニングにより、パターン位相差フィルム１は、液晶表示パネルにおける画素の割り当てに対応して、一定の幅により、右目用の領域Ａと、左目用の領域Ｂとが順次交互に帯状に形成され、右目用及び左目用の画素からの出射光にそれぞれ対応する位相差を与える。なおここでこの隣接する帯状領域の遅相軸方向は、通常、水平方向に対して、＋４５度と−４５度、０度と＋９０度、又は０度と−９０度の何れかの組み合わせが採用される。
【００４５】
パターン位相差フィルム１は、微細な凹凸形状の賦型に供する樹脂である賦型用樹脂が塗付され、この賦型用樹脂による賦型樹脂層５が作成される。パターン位相差フィルム１は、この賦型樹脂層５の表面の凹凸形状により配向膜３が形成される。なおこの実施形態では、この賦型用樹脂に紫外線硬化性樹脂が適用される。また紫外線硬化性樹脂としては、アクリレート系、メタクリレート系、エポキシ系等の単量体、プレポリマー、或いはこれらの混合物にベンゾフェノン、芳香族ヨードニウム等の光重合開始剤を添加したものを使用することができる。
【００４６】
すなわちパターン位相差フィルム１は、後述する金型の表面に作製された微小な凹凸形状を賦型樹脂層５に賦型して、配向膜３に係る微小な凹凸形状が作製され、この凹凸形状による配向規制力により位相差層４をパターンニングする。このため配向膜３は、右目用及び左目用の帯状領域Ａ及びＢにそれぞれ対応する帯状の領域が順次交互に形成され、それぞれ微小な凹凸形状が作製される。ここでこの微小な凹凸形状は、一方向に延長するライン状（線状）の凹凸形状により形成され、この一方向に延長する方向が右目用領域Ａと左目用領域Ｂとで９０度異なる方向となるように、かつ各領域の延長方向（表示画面では水平方向であり、図１に於いては右上と左下とを結ぶ方向に対応）に対して４５度傾くように形成される。パターン位相差フィルム１は、この図１に示す基本構成に加えて、粘着層、セパレータフィルム、反射防止フィルム等が必要に応じて設けられる。
【００４７】
〔パターン位相差フィルム製造工程〕
図２は、このパターン位相差フィルム１の製造工程を示す略線図である。この製造工程１０は、基材２がロールにより提供され、この基材２を供給リール１１から供給する。製造工程１０は、ダイ１２によりこの基材２に紫外線硬化性樹脂の塗布液を塗布する。この製造工程１０において、ロール版２０は、パターン位相差フィルム１の配向膜３に係る凹凸形状が周側面に形成された円筒形状の金型である。製造工程１０は、紫外線硬化性樹脂が塗布された基材２を加圧ローラ１４によりロール版２０に押圧し、高圧水銀燈からなる紫外線照射装置１５による紫外線の照射により紫外線硬化性樹脂を硬化させる。これにより製造工程１０は、ロール版２０の周側面に形成された凹凸形状を基材２に転写する。その後、剥離ローラ１６によりロール版２０から硬化した紫外線硬化性樹脂と一体に基材２を剥離し、ダイ１９により液晶材料を塗布する。またその後、紫外線照射装置１７による紫外線の照射により液晶材料を硬化させた後、巻き取りリール１８に巻き取る。パターン位相差フィルム１は、この巻き取りリール１８に巻き取ったシート材に、必要に応じて粘着層、反射防止層等を形成した後、所望の大きさに切断して作製される。これによりパターン位相差フィルム１は、ロール版２０を用いた凹凸形状の転写により、ロールにより提供される基材２を連続して処理して効率良く大量生産される。
【００４８】
〔ロール版製造工程〕
図３及び図４は、パターン位相差フィルムの製造用金型であるロール版２０の製造工程を示す図である。なおこの図３及び図４において、パターン位相差フィルム１の領域Ａ、Ｂに対応する領域を、それぞれ符号ＡＲＡ、ＡＲＢにより示す。この製造工程では、母材４０の周側面を研磨して平滑化する（図３（ａ））。続いてこの製造工程は、下地層４１が作製される（図３（ａ））。ここで母材４０は、ロール版２０の外形形状に対応する円筒形状の金属材料である。母材４０は、加工のしやすさや寸法安定性などから金属材料であることが好ましく、ニッケル、クロム、ステンレス、銅などであることがより好ましい。なおこの実施形態において、母材４０は、銅が適用される。
【００４９】
下地層４１は、上層に設けられる材料層について、母材４０に対する密着力を強化するために設けられる。この実施形態では、下地層４１は、無電解メッキにより、リンをドープしたニッケル層により膜厚５００ｎｍで作製される。
【００５０】
続いてこの工程は、下地層４１の上に、第１の無機材料層４２を作製する。この実施形態では、この第１の無機材料層４２にクロム層が適用され、スパッタリングにより膜厚１００ｎｍにより作製される。なおこの第１の無機材料層４２には、金属材料、無機酸化物、無機窒化物、無機炭化物などの各種無機材料を広く適用することができるものの、加工のしやすさなどから、クロム、チタン、ニッケル、タングステン、ステンレス系金属材料、アルミ、ＳｉＯ２、ＳｉＯｘ、Ａｌ２Ｏ３、Ｃｒ２Ｏ３、ＴｉＯ２、Ｓｉ３Ｎ４、ＡｌＮ、ＴｉＮ、ＳｉＯｘＮｙ、ＳｉＣ、ＷＣ、ＤＬＣなどを適用することができる。
【００５１】
続いてこの工程は、図３（ｂ）に示すように、第１の凹凸形状作製工程において、第１の無機材料層４２の全面に微小なライン状の凹凸形状を形成する。ここでこのライン状凹凸形状は、配向膜３の右目用領域の凹凸形状に対応する微小な凹凸形状である。この実施形態では、ラビング布を使用したラビング処理によりこの凹凸形状が作製される。なお図３及び図４では、便宜上、ラビングロールＲによりラビング処理を示す。
【００５２】
続いてこの工程は、マスク作製工程において、レジスト材料により、右目用領域Ａに対応する領域ＡＲＡを被覆し、かつ左目用領域Ｂに対応する領域ＡＲＢを露出させたマスク４３が作製される（図３（ｃ））。すなわちこの工程では、ポジ型のレジスト剤を全面に塗布した後、露光、現像処理することにより、左目用領域Ｂに対応する領域ＡＲＢを露出させたマスクが作製される。なおレジスト材料としては特に限定されるものではなく、ネガ型レジスト材料を適用しても良い。また塗布方法、露光方法にあっても種々の手法を広く適用することができる
【００５３】
続いて図４（ｄ）に示すように、薄膜作製工程において、全面に、第２の無機材料層４４が作製される。この実施形態では、スパッタリングにより膜厚１００ｎｍのクロム層を作製し、これによりこの第２の無機材料層４４にクロム層が適用される。なおこの第２の無機材料層４４は、金属材料、無機酸化物、無機窒化物、無機炭化物などの各種無機材料を広く適用することができるものの、加工のしやすさなどから、クロム、チタン、ニッケル、タングステン、ステンレス系金属材料、アルミ、ＳｉＯ２、ＳｉＯｘ、Ａｌ２Ｏ３、Ｃｒ２Ｏ３、ＴｉＯ２、Ｓｉ３Ｎ４、ＡｌＮ、ＴｉＮ、ＳｉＯｘＮｙ、ＳｉＣ、ＷＣ、ＤＬＣなどから選択される。
【００５４】
続いて図４（ｅ）に示すように、第２の凹凸形状作製工程において、第１の無機材料層４２におけるライン状の凹凸形状の延長方向とは異なる方向（この実施形態では第１の無機材料層４２におけるラビング方向とは９０度の角度をなす方向である）に全面をラビング処理し、第２の無機材料層（クロム層）４４の表面に凹凸形状を作製する。その後、製造工程は、図４（ｆ）に示すように、続くレジスト除去工程において、マスク４３を、その上層の第２の無機材料層４４と共に除去する。これらによりこの製造工程は、２回の凹凸形状作製処理により配向膜３の領域Ａ及びＢに対応する凹凸形状を作製し、ロール版２０を作製する。
【００５５】
〔ラビング工程〕
ところで上述のロール版製造工程におけるラビング処理を詳細に検討したところ、ラビング処理の繰り返しにより、ラビング処理対象の表面形状が徐々に平坦化することが判った。
【００５６】
すなわち図５、図６、図７は、順次倍率を増大させてラビング処理対象の表面形状を撮影した写真である。図５（ａ）、図６（ａ）、図７（ａ）は、研磨した銅の表面に、無電解メッキにより、膜厚５００ｎｍによるリンをドープしたニッケル層の下地層を作製し、その上に膜厚１００ｎｍによるチタン層をスパッタリングにより作製したものである。また図５（ｂ）、図６（ｂ）、図７（ｂ）は、この図５（ａ）、図６（ａ）、図７（ａ）によるチタン層の表面を一定の押圧力によりラビング布で押圧した状態で、ラビング処理した結果であり、水平方向がラビング方向である。なおラビングの回数は３０００回である。また図５（ｃ）、図６（ｃ）、図７（ｃ）は、図５（ｂ）、図６（ｂ）、図７（ｂ）と同一の条件により、ラビング処理の回数を５０００回に設定した結果である。
【００５７】
これら図５、図６、図７によれば、何らラビング処理しない場合には、チタンの粒界により表面が覆われており、これによりこのチタンの粒界による凹凸形状が表面に現れていることが判る。しかしながらラビングの回数の増大により、粒界が引き伸ばされたような表面形状に変形が見られ、全体的に表面が平坦になっているように観察される。これによりこれら図５、図６、図７によれば、金属粒界による凹凸形状がラビング処理により徐々に平坦化されているように見える。
【００５８】
このようにラビング処理の繰り返しにより、ラビング処理対象の表面形状が徐々に平坦化することを前提に、ラビング処理対象の表面形状による重合性液晶材料との密着力を検討した結果、平均面粗さ（Ｒａ）を１ｎｍ以上確保することが必要であることが判った。これにより密着力を強化する観点から、ラビング処理の回数は、一定回数以下に制限することが必要であることが判った。
【００５９】
しかしながらラビング処理の回数を少なくすると、配向膜３に充分な配向規制力を付与できない恐れがある。すなわち位相差層の配向に供する凹凸形状は、この図５〜図７では見て取ることができない程度の微細なものであり、ラビング処理の回数の増大により配向規制力が増大する。充分な配向規制力を確保する観点より、ラビング処理回数と配向規制力との関係を検討したところ、平均面粗さ（Ｒａ）が４ｎｍ以下となるまでラビング処理すると、充分な配向規制力を確保できることが判った。
【００６０】
なおこれらの平均面粗さ（Ｒａ）は、当然のことながらラビング処理した金型を使用した賦型処理により配向膜３を作製し、この配向膜３と重合性液晶材料との密着力を検討し、さらに配向規制力を検討したものである。また平均面粗さ（Ｒａ）は、規格JIS B 0601:2001に規定の算術平均粗さであり、ラビング方向と直交する方向に測定したものである。
【００６１】
これらにより配向膜３において、平均面粗さ（Ｒａ）が１ｎｍ以上、４ｎｍ以下となるように、ラビング処理回数を設定することが必要であることが判った。ここでこの種の賦型処理においては、充分に賦型用金型の表面形状を転写することができることにより、賦型用金型であるロール版２０の周側面にあっても、平均面粗さ（Ｒａ）が１ｎｍ以上用、４ｎｍ以下となるように、ラビング処理回数を設定することが必要である。なおラビング処理においては、ラビング布の押圧力等のラビング処理の条件によって、ラビング処理回数と表面粗さの変化との関係が変化する。従って平均粗さ（Ｒａ）を上述の範囲に設定する場合、ラビング処理回数は、ラビング処理の条件に応じて適宜選定することが必要である。
【００６２】
図８、図９、図１０は、具体的に、この実施形態の製造工程によりパターン位相差フィルムを作製した場合の配向膜の表面形状を示す写真である。図８は、ラビング処理回数が少なく、密着力は充分に確保することができるものの、配向規制力が不足する場合である。図８（ａ）は、第１の無機材料層４２により賦型される右目用領域Ａの表面形状であり、図８（ｂ）は、第２の無機材料層４４により賦型される左目用領域Ｂの表面形状である。なお図８（ａ）及び（ｂ）において、１回目及び２回目の矢印は、図３（ｂ）及び図４（ｅ）のラビング方向を示すものである。この図８（ｂ）においては、下層の第１の無機材料層４２の表面に形成されたラビング痕が、その上層である第２の無機材料層４４の表面に現れている。
【００６３】
図９は、密着力及び配向規制力の双方を充分に確保できる場合であり、図８の例に比してラビング処理回数を増大させた場合である。図９（ａ）及び図９（ｂ）は、それぞれ図８（ａ）及び図８（ｂ）に対応する写真である。また図１０は、図９の場合に比してさらにラビング処理回数を増大させたものであり、配向規制力は充分に確保することができるものの、密着力が不足する場合である。図１０（ａ）及び図１０（ｂ）は、それぞれ図８（ａ）及び図８（ｂ）に対応する写真である。
【００６４】
図１１、図１２、図１３は、それぞれ図８、図９、図１０に示した部位の表面形状の測定結果を示す図である。図１１〜図１３においては、ラビング方向と直交する方向についての測定結果であり、（ａ１）及び（ａ２）は、第１の無機材料層４２により賦型される右目用領域Ａの表面形状であり、（ｂ１）及び（ｂ２）は、第２の無機材料層４４により賦型される左目用領域の表面形状である。図１１（ａ１）及び（ａ２）の測定結果において、平均面粗さ（Ｒａ）は４．５ｎｍであり、図１１（ｂ１）及び（ｂ２）の測定結果において、平均面粗さ（Ｒａ）は４．５ｎｍであった。また。図１２の測定結果において、第１の無機材料層４２及び第２の無機材料層４４の平均面粗さ（Ｒａ）はそれぞれ２．０ｎｍ及び１．８ｎｍであった。また図１３の測定結果において、第１の無機材料層４２及び第２の無機材料層４４の平均面粗さ（Ｒａ）はそれぞれ０．８５ｎｍ及び０．７１ｎｍであった。これら図８〜図１３による結果によっても、配向膜３の平均面粗さ（Ｒａ）を１ｎｍ以上、４ｎｍ以下に設定して、液晶層における配向の劣化を有効に回避して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上できることが判った。
【００６５】
図１４（ａ）及び（ｂ）は、パターン位相差フィルムの断面を示す写真である。図１４（ａ）及び（ｂ）は、適切に凹凸形状が作成されている場合の、異なる個所の写真である。なおこの図１４の写真撮影に供したパターン位相差フィルムは、賦型樹脂層５にアクリル系樹脂を適用したものであり、包埋樹脂が位相差層４の樹脂層である。またこの包埋樹脂の部分に配置した記載は、表面形状の測定により把握された凹凸形状を模式的に示すものである。この図１４によれば、両端を矢印により示す位相差層（アクリル樹脂）と包埋樹脂との境界を詳細に観察すると、図１２の表面形状の測定結果に対応する凹凸形状を把握することができる。
【００６６】
以上の構成によれば、配向膜の平均面粗さ（Ｒａ）を１ｎｍ以上、４ｎｍ以下に設定したことにより、液晶層である位相差層における配向の劣化を有効に回避して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上することができる。
【００６７】
〔第２実施形態〕
この実施形態に係る画像表示装置は、液晶表示パネルのパネル面に順次偏光板、１／２波長板、１／４波長板を配置し、液晶表示パネルの視野角特性を改善する。図１５は、このパネル面に配置する１／４波長板を示す斜視図である。なお１／２波長板は、後述する位相差層の厚み、遅相軸の方向が異なる点を除いて、この図１５に示す１／４波長板と同一に構成されることにより、以下においては、詳細な説明は省略する。
【００６８】
ここで１／４波長板５１は、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）等の透明フィルムからなる基材５２の一方の面上に、配向膜５３、位相差層５４が順次作製される。１／４波長板５１は、パターン位相差フィルム１と同様に、位相差層５４が屈折率異方性を保持した状態で固化（硬化）された液晶材料により形成され、この液晶材料の配向を配向膜５３の配向規制力によりパターンニングし、これにより透過光に対応する位相差を与える。また１／４波長板５１は、パターン位相差フィルム１と同様の紫外線硬化性樹脂５５の表面形状により配向膜５３が作製され、この配向膜５３は、全面が、一様に垂直方向に対して斜め傾く方向に延長するライン状凹凸形状により作製される。
【００６９】
１／４波長板５１は、専用の製造用金型であるロール版を使用して、図２について上述したパターン位相差フィルム１の製造工程と同一の工程で生産される。これにより１／４波長板５１及び１／２波長板は、効率良く大量生産される。
【００７０】
図１６は、１／４波長板５１の製造に使用するロール版の製造工程を示す図である。この製造工程では、母材６０の周側面を切削により平滑化した後、下地層６１が作製される（図１６（ａ））。ここで母材６０は、ロール版の外形形状に対応する円筒形状の金属材料であり、パターン位相差フィルム１について上述したと同様に各種の金属材料等を広く適用することができるものの、この実施形態では、銅が適用される。また下地層６１は、無電解メッキにより、リンをドープしたニッケル層が膜厚５００ｎｍで作製される。
【００７１】
続いてこの工程は、下地層６１の表面に、無機材料層６２を作製する。この実施形態では、この無機材料層６２にクロム層が適用され、スパッタリングにより膜厚１００ｎｍにより作製される。続いてこの工程は、図１６（ｂ）に示すように、この無機材料層６２の全面にラビング処理により微小なライン状凹凸形状を形成する。なおこの実施形態では、液晶表示パネルのパネル面に配置される偏光板の透過軸と、１／２波長板、１／４波長板の遅相軸はそれぞれ時計回りに７５度、１５度となるような角度を成す方向であり、ライン状凹凸形状の延長方向はこの遅相軸の延長方向に一致する方向である。これにより１／４波長板５１は、この無機材料層６２の表面形状が賦型処理により転写されて配向膜５３が作製されることになる。
【００７２】
この実施形態では、この無機材料層６２におけるラビング処理回数の設定により、ラビング方向と直交する方向において、平均面粗さ（Ｒａ）を１ｎｍ以上、４ｎｍ以下に設定し、またこれにより賦型処理によりこの無機材料層６２の表面形状を転写する配向膜５３において、平均面粗さ（Ｒａ）を１ｎｍ以上、４ｎｍ以下に設定した。これによりこの実施形態においても、液晶層における配向の劣化を有効に回避して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上する。
【００７３】
この第２の実施形態によれば、１／２位相差板、１／４位相差板に本発明を適用して、第１実施形態と同一の効果を確保することができる。
【００７４】
〔第３実施形態〕
ところで上述の第１及び第２の実施形態の構成を前提に、さらに配向膜の表面粗さについて検討を試みた。図１７は、この配向膜の検討に供した測定装置の構成を示す図である。この測定装置では、直交ニコル配置による偏光板７０Ａ及び７０Ｂの間にパターン位相差フィルム１を配置する。この状態で、偏光板７０Ａ及び７０Ｂに対するパターン位相差フィルム１の傾きθを変化させながら、透過光量を計測し、最も透過光量が小さくなる傾きθを計測する。なおこの最も透過光量が小さくなる場合の光量は、黒輝度とも呼ばれる。この実施形態では、１つのパターン位相差フィルム１について、この黒輝度の光量、黒輝度に係る傾きを複数個所で計測し、計測結果を統計的に処理した。なおこの測定に係るラビング処理は、レーヨンを使用した植毛布を使用して押し込み量０．５ｍｍにより実行した。またパターン位相差フィルム１は、母材４０の周側面に計測用の試料を貼り付けて作成した試験用金型により作成した。
【００７５】
図１８及び図１９は、この計測結果を示す図である。図１８の測定結果は、ラビング処理の時間を横軸に取り、傾きθのばらつき３σを縦軸により示すものである。なおσは、標準偏差である。また符号Ｌ１により示す測定結果は、符号Ｌ２により示す測定結果に比して、ラビング処理時における母材に対するラビングクロスの変位速度を５倍に設定した場合の測定結果である。この図１８による計測結果によれば、母材に対するラビングクロスの変位速度が低い程、またラビング処理時間が短い程、黒輝度に係る角度θのばらつき３σが小さいことが判った。特に、処理時間を一定時間より短くすると、ばらつき３σが急激に小さくなることが判る。
【００７６】
また図１９は、黒輝度を横軸に取り、傾きθのばらつき３σを縦軸により示すものである。なお横軸の単位はカンデラであり、一定の光量により測定に供する光を照射した場合の透過光量である。この図１９によれば、ばらつき３σが小さい程、黒輝度も小さくなることが判る。特に、ばらつき３σのほぼ１．０度を境にして、これよりばらつき３σが小さくなると、ばらつき３σの変化に対する黒輝度の変化量が小さくなる。このばらつき３σの１．０度を境にした測定結果の変化は、図１８の測定結果でも見て取ることができる。
【００７７】
ここでこのばらつき３σが小さい場合、黒輝度が小さい場合には、パターン位相差フィルム１で付与される位相差量にばらつきが小さいと言え、パターン位相差フィルム１では、精度良く、画像表示パネルの出射光を右目用及び左目用で方向の異なる円偏光に変換することができる。従ってクロストークも十分に抑圧することができる。また１／２位相差板、１／４位相差板に適用する場合には、精度良く所望の位相差を付与することができる。
【００７８】
これらにより精度良く位相差層を作成するためには、母材とラビング布との相対速度を一定速度以下に設定して短い処理時間によりラビング処理することが必要であり、従来のラビング処理に係る考え方とは真逆の考え方によりラビング処理することが必要であることが判った。しかしてこのように相対速度を一定速度以下に設定して短い時間によりラビング処理する場合には、十分な深さによりライン状凹凸形状が作成されていないと考えられる。
【００７９】
図２０及び図２１は、このような観点より配向膜の表面形状とばらつき３σとの関係を測定した結果である。なおこの測定結果は、図１８及び図１９の測定に供したパターン位相差フィルムについて、紫外線硬化性樹脂を塗付する前の段階で配向膜の表面形状を測定したものである。図２０は、二乗平均粗さＲＭＳ（Ｒｑ）を横軸に取り、ばらつき３σを縦軸に取った測定結果である。この図１０の測定結果によれば、ばらつき３σが小さい場合には、二乗平均粗さによる粗さも小さいことが判るものの、図１８及び図１９の測定結果について上述したばらつき３σの１．０度に係る境界については、見て取ることができない。
【００８０】
これに対して図２１は、十点平均粗さＲｚを横軸に取り、ばらつき３σを縦軸に取った測定結果である。これら図２０及び図２１の測定結果によれば、表面粗さが粗い場合程、すなわち配向膜に係るライン状凹凸形状が十分な深さにより作成されている場合程、位相差層に係る光学特性が劣化することが判る。換言すれば、配向膜に係るライン状凹凸形状が浅い場合程、位相差層にかかる液晶分子が揃った状態で配向し易いと言える。
【００８１】
またさらにこの図２１の測定結果によれば、図１８及び図１９の測定結果との対比により、十点平均粗さＲｚが４５ｎｍ以下であるようにラビング処理すれば、ばらつき３σが１．２度以下であるようにラビング処理することができ、また黒輝度も十分に抑圧できることが判る。なお、十点平均粗さの下限値は、位相差層に適用される液晶分子の大きさの１０倍程度は必要であり、これにより１ｎｍ以上は必要である。しかしながらさらに実用的な余裕を確保する観点から、好ましくは下限値は、１０ｎｍ以上は必要である。
【００８２】
これらにより充分にばらつきを小さくして液晶層を十分に配向させるために、配向膜は、十点平均粗さＲｚが４５ｎｍ以下、１０ｎｍ以上であることが必要であることが判った。これによりこの実施形態では、第１及び第２の実施形態の構成を前提に、ラビングの処理回数、ラビング処理速度の設定により、十点平均粗さＲｚが４５ｎｍ以下、１０ｎｍ以上であるように設定した。またこれによりこの実施形態では、ロール版の周側面の十点平均粗さＲｚが４５ｎｍ以下、１０ｎｍ以上であるように作製される。
【００８３】
図２２及び図２３は、図２０及び図２１の測定に供した配向膜について、５μｍ×５μｍの領域の表面形状を示すAFM（Atomic Force Microscope：原子間力顕微鏡)による写真であり、上方から下方がラビング方向である。図２２は、上述の範囲に入る試料によるものであり、かろうじてラビング方向を見て取ることができる程度に、微弱なライン状凹凸形状が作成されている。図２３は、上述の範囲に入らない、ラビングし過ぎの試料によるものであり、ばらつき３σ及び黒輝度共に未だ不十分なものであった。この図２２及び図２３によれは、配向膜に係るライン状凹凸形状が十分な深さにより作成されている場合程、位相差層に係る光学特性が劣化することが判り、配向膜に係るライン状凹凸形状が浅い場合程、位相差層にかかる液晶分子が揃った状態で配向し易いことが判る。
【００８４】
この第３実施形態によれば、配向膜の十点平均粗さＲｚが４５ｎｍ以下、１０ｎｍ以上であることにより、充分にばらつきを低減して液晶層を配向させることができ、これにより高い品質でパターン位相差フィルム、位相差板を作製することができる。また図１１（ａ１）〜図１２（ｂ２）の計測結果による十点平均粗さＲｚとの対比によれば、十点平均粗さＲｚが４５ｎｍ以下、１０ｎｍ以上である場合には、概ね、配向膜の平均面粗さ（Ｒａ）を１ｎｍ以上、４ｎｍ以下に設定できることにより、液晶層である位相差層における配向の劣化を有効に回避して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上することができる。
【００８５】
〔第４実施形態〕
この実施形態では、上述の第３の実施形態の構成において、さらにラビングの処理回数、ラビング処理速度の設定により、配向膜の十点平均粗さＲｚが４５ｎｍ以下、１０ｎｍ以上であり、かつ配向膜の平均面粗さ（Ｒａ）を１ｎｍ以上、４ｎｍ以下に設定する。またこれによりこの実施形態では、ロール版の周側面の十点平均粗さＲｚが４５ｎｍ以下、１０ｎｍ以上であり、かつ平均面粗さ（Ｒａ）を１ｎｍ以上、４ｎｍ以下により作製される。
【００８６】
この実施形態では、配向膜の十点平均粗さＲｚが４５ｎｍ以下、１０ｎｍ以上であり、かつ配向膜の平均面粗さ（Ｒａ）を１ｎｍ以上、４ｎｍ以下に設定することにより、充分にばらつきを低減して液晶層を配向させることができ、さらに液晶層における配向の劣化を有効に回避して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上することができる。
【００８７】
〔第５実施形態〕
図２４は、本発明の第５実施形態に係る画像表示装置を示す図である。この画像表示装置７１では、画像表示パネル７２のパネル面に、光学フィルム７３が配置される。画像表示パネル７２は、可撓性を有するシート形状による有機ＥＬパネルであり、所望のカラー画像を表示する。光学フィルム７３は、偏光面の制御により、画像表示パネル７２に到来する外来光の反射を抑圧する。
【００８８】
このため光学フィルム７３は、直線偏光板７５、円偏光板７６の積層体により構成され、画像表示パネル７２側面に感圧接着剤による粘着層７４が設けられ、この粘着層７４により画像表示パネル７２のパネル面に貼り付けられて保持される。
【００８９】
光学フィルム７３は、画像表示パネル７２のパネル面に向かう外来光を直線偏光板７５により直線偏光に変換し、続く円偏光板７６により円偏光に変換する。ここでこの円偏光による外来光は、画像表示パネル７２の表面等で反射するものの、この反射の際に偏光面の回転方向が逆転する。その結果、この反射光は、到来時とは逆に、円偏光板７６より、直線偏光板７５により遮光される方向の直線偏光に変換された後、続く直線偏光板７５により遮光され、その結果、偏光面の制御により外部への出射が著しく抑制される。
【００９０】
この実施形態において、円偏光板７６は、１／２位相差板として機能する部位７７（１／２波長板用位相差層と呼ぶ）と、１／４位相差板として機能する部位７８（１／４波長板用位相差層と呼ぶ）との積層体により構成される。図２５に示すように、矢印により示す直線偏光板７５の透過軸に対して、これら１／２波長板用位相差層７７及び１／４波長板用位相差層７８は、遅相軸（それぞれ矢印により示す）が、それぞれ反時計回りに１５度、７３度の角度を成すように配置される。これにより画像表示装置７１は、カラー画像の表示に供する広い波長帯域で正の分散特性を確保し、十分に外来光の反射を抑圧する。
【００９１】
より具体的に、１／４波長板用位相差層７８は、面内位相差（Ｒｅ）が１２５ｎｍ以上、１５０ｎｍ以下により作成され、１／２波長板用位相差層７７は面内位相差（Ｒｅ）が２３５ｎｍ以上、２８５ｎｍ以下により作成される。これにより光学フィルム７３は、直線偏光板７５側より入射する可視光域波長域（４５０〜７５０ｎｍ）の透過光を、楕円率０．８以上の円偏光により出射する。
【００９２】
ここで円偏光板７６（図２４）は、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）等の透明フィルムからなる基材７９の下面側に、順次、１／４波長板用配向膜８１、１／４波長板用位相差層７８が設けられ、１／４波長板用位相差層７８の画像表示パネル７２側面に粘着層７４が設けられる。１／４波長板用位相差層７８は、屈折率異方性を保持した状態で固化（硬化）された液晶材料により形成され、円偏光板７６は、この液晶材料の配向を１／４波長板用配向膜８１の配向規制力によりパターンニングする。円偏光板７６は、基材７９の表面に、微細な凹凸形状の賦型に供する樹脂である賦型用樹脂が塗付され、この賦型用樹脂の賦型処理により微細な凹凸形状が作製される。円偏光板７６は、この賦型用樹脂に紫外線硬化性樹脂が適用され、これにより基材７９の表面に紫外線硬化性樹脂８２が塗布された後、この紫外線硬化性樹脂８２の表面に微小な凹凸形状が形成され、この微小な凹凸形状により１／４波長板用配向膜８１が形成される。なおこの紫外線硬化性樹脂８２については、例えばアクリル系等、賦型処理に供する各種の樹脂を広く適用することができる。
【００９３】
また円偏光板７６は、基材７９の上面側に、順次、１／２波長板用配向膜８０、１／２波長板用位相差層７７が設けられる。１／２波長板用位相差層７７は、屈折率異方性を保持した状態で固化（硬化）された液晶材料により形成され、この液晶材料の配向を１／２波長板用配向膜８０の配向規制力によりパターンニングする。円偏光板７６は、１／４波長板用配向膜８１と同様に、賦型用樹脂である紫外線硬化性樹脂８３を使用した賦型処理により紫外線硬化性樹脂８３の表面に微小な凹凸形状が形成され、この微小な凹凸形状により１／２波長板用配向膜８０が形成される。
【００９４】
ここでこれら１／２波長板用配向膜８０及び１／４波長板用配向膜８１に係る微細な凹凸形状は、一方向に延長するライン状（線）の凹凸形状により形成され、この一方向に延長する方向が直線偏光板７５の透過軸に対して、それぞれ反時計回りに１５度、７３度の角度を成すように作成される。
【００９５】
直線偏光板７５は、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）等の透明フィルムからなる基材８５の下面側が鹸化処理された後、光学機能層８６、粘着層８７が順次配置され、この粘着層８７により円偏光板７６と一体化される。ここで光学機能層８６は、直線偏光板としての光学的機能を担う部位であり、例えばポリビニルアルコール（ＰＶＡ）によるフィルム材に、ヨウ素化合物分子を吸着配向させて作製される。粘着層８７は、例えばＰＶＡ（ポリビニルアルコール）糊である。
【００９６】
しかして光学フィルム１における円偏光板７６側の各構成について、基材７９には厚み３０μｍ程度のフィルム材を適用することができ、１／４波長板用位相差層７８、１／２波長板用位相差層７７はそれぞれ厚み１μｍ、２μｍ程度により作成することができる。また紫外線硬化性樹脂８２、８３は、厚み２μｍ程度、粘着層７４は、１５μｍ以下により作成することができる。これらにより円偏光板７６に有っては、全体として厚みを５０μｍ程度により作成することができる。また直線偏光板７５については、光学機能層８６と基材８５との総合の厚みを３０μｍ程度により作成することができ、粘着層８７は、厚み２０μ以下により作成することができる。これにより直線偏光板７５にあっても、十分に厚みを薄くすることができる。これらにより光学フィルム７３にあっては、十分な可撓性を確保することができる。なお粘着層８７に紫外線硬化性樹脂を適用する場合、厚み１００ｎｍ程度とすることができ、一段と全体の厚みを薄くすることができる。
【００９７】
ここでこの実施形態に係る画像表示パネル７２にあっては、可撓性を有するシート形状であることにより、光学フィルム７３は、画像表示パネル７２に比して格段的に可撓性を有していると言える。しかしながらこの種の光学フィルム７３においては、画像表示パネル以外の、著しく曲率の大きな部材に配置される場合も予測され、この場合には一段と可撓性が求められる。
【００９８】
そこで光学フィルム７３、円偏光板７６について、それぞれＪＩＳ  Ｋ５６００−５−１に規定の円筒形マンドレル試験により耐屈曲性を試験した。試験した結果によれば、光学フィルム７３、円偏光板７６の双方において、マンドレルの直径が３ｍｍの場合であって、表面に、割れ及びはがれ等が発生しないこと、さらにはフィルムの屈曲が発生しないこと等が確認された。これによりこの直径３ｍｍによる耐屈曲性の試験を満足することが判った。ここでこの程度の耐屈曲性を備えている場合には、配置対象物が可撓性を有するシート形状による画像表示パネルであっても、十分に配置対象物の可撓性を損なわないことを確認することができた。また配置対象が一段と大きな曲率を備えた部材であっても、光学フィルム７３を損傷しないようにして配置することができる。
【００９９】
この実施形態では、このようにして基材７９の両面に作製される１／２波長板用配向膜８０、１／４波長板用配向膜８１が、それぞれ上述の実施形態と同様のロール版を使用した賦型処理により作製される。またこの賦型処理に係るロール版の一方又は双方は、周側面の十点平均粗さＲｚが４５ｎｍ以下、１０ｎｍ以上に作製され、これにより１／２波長板用配向膜８０、１／４波長板用配向膜８１の一方又は双方が、十点平均粗さＲｚが４５ｎｍ以下、１０ｎｍ以上に作製される。
【０１００】
この実施形態では、１／２位相差板及び１／４位相差板の積層構造に係る円偏光板に適用して、さらにはこの円偏光板と直線偏光板との積層による偏光面の制御により反射防止を図る光学フィルムに適用して、１／２波長板用配向膜、１／４波長板用配向膜の一方又は双方を、十点平均粗さＲｚを４５ｎｍ以下、１０ｎｍ以上とすることにより、これらの円偏光板、光学フィルムに関して上述の実施形態と同一の効果を得ることができる。
【０１０１】
またこれら、これら円偏光板、光学フィルムに係る金型の一方又は双方に適用して、十点平均粗さＲｚを４５ｎｍ以下、１０ｎｍ以上とすることにより、これらの円偏光板、光学フィルムに係る金型に関して上述の実施形態と同一の効果を得ることができる。
【０１０２】
〔第６実施形態〕
図２６は、図２４との対比により、本発明の第６実施形態に係る画像表示装置を示す図である。この図２６において、図２４の画像表示装置７１と同一の構成は、対応する符号を付して示し、重複した説明は省略する。ここでこの画像表示装置９１は、光学フィルム７３に代えて、光学フィルム９３が配置される点を除いて、第５実施形態に係る画像表示装置７１と同一に構成される。また光学フィルム９３は、円偏光板７６に代えて円偏光板９６が設けられる点を除いて光学フィルム７３と同一に構成される。
【０１０３】
光学フィルム９３は、基材７９の画像表示パネル７２側面に、順次、１／２波長板用位相差層７７、１／４波長板用位相差層７８が設けられ、基材７９の逆側面に、粘着層８７により直線偏光板７５が設けられる。ここで光学フィルム９３は、紫外線硬化性樹脂８３の賦型処理により１／２波長板用配向膜８０が作成され、この１／２波長板用配向膜８０の配向規制力により液晶材料を配向させた状態で硬化して１／２波長板用位相差層７７が作成される。また続いて紫外線硬化性樹脂８２が塗付された後、この紫外線硬化性樹脂８２の賦型処理により１／４波長板用配向膜８１が作成される。またこの１／４波長板用配向膜８１の配向規制力により液晶材料を配向させた状態で硬化して１／４波長板用位相差層７８が作成される。
【０１０４】
この実施形態では、これら１／２波長板用配向膜８０、１／４波長板用配向膜８１の一方又は双方が第５実施形態について上述したと同様にして十点平均粗さＲｚが４５ｎｍ以下、１０ｎｍ以上に作製される。またこれに対応して１／２波長板用配向膜８０、１／４波長板用配向膜８１の賦型処理に係るロール版の一方又は双方が、十点平均粗さＲｚが４５ｎｍ以下、１０ｎｍ以上に作製される。
【０１０５】
この実施形態のように、基材７９の一方の側の面に、順次、１／２波長板用位相差層７７、１／４波長板用位相差層７８を作成するようにしても、第５実施形態と同様の効果を得ることができる。
【０１０６】
〔第７実施形態〕
図２７は、図２４、図２６との対比により本発明の第８実施形態に係る画像表示装置を示す図である。この画像表示装置１０１では、画像表示パネル７２のパネル面に、光学フィルム１０３が配置される。この実施形態では、この光学フィルム１０３の構成が異なる点を除いて第５実施形態又は第６実施形態と同一に構成される。なおこの光学フィルム１０３において、図２４、図２６と同一の構成は対応する符号を付して示し、重複した説明は省略する。
【０１０７】
この光学フィルム１０３は、粘着層８７を介して直線偏光板７５、円偏光板７６を積層して構成され、粘着層７４により画像表示パネル７２に保持される。円偏光板７６は、画像表示パネル７２側から、１／４波長板用賦型樹脂層８２、１／４波長板用配向膜８１、１／４波長板用位相差層７８、１／２波長板用賦型樹脂層８３、１／２波長板用配向膜８０、１／２波長板用位相差層７７が順次設けられる。これによりこの光学フィルム１０３は、直線偏光板７５に直接、１／４波長板用賦型樹脂層８２、１／４波長板用位相差層７８、１／２波長板用賦型樹脂層８３、１／２波長板用位相差層７７が設けられて構成され、これにより第５実施形態について光学フィルム７３に比して、一段と全体の厚みを薄くして一段と可撓性を確保する。
【０１０８】
円偏光板７６は、これら１／４波長板用配向膜８１、１／２波長板用配向膜８０の一方又は双方が上述の実施形態について上述したと同様に、賦型処理により作製され、この賦型処理に供するロール版が十点平均粗さＲｚが４５ｎｍ以下、１０ｎｍ以上に作製され、これにより１／２波長板用配向膜８０、１／４波長板用配向膜８１の一方又は双方が十点平均粗さＲｚが４５ｎｍ以下、１０ｎｍ以上に作製される。
【０１０９】
円偏光板７６は、これら１／４波長板用賦型樹脂層８２、１／４波長板用配向膜８１、１／４波長板用位相差層７８、１／２波長板用賦型樹脂層８３、１／２波長板用配向膜８０、１／２波長板用位相差層７７を直線偏光板７５に一体化する処理に、転写法が適用される。
【０１１０】
ここで転写法は、例えば基材の上に所望の層を形成する場合に、この層を直接当該基材上に形成するのでは無く、一旦、離型性の支持体上に剥離可能に該層を積層形成して転写体を作成した後、工程、需要等に応じて、該支持体上に形成した層を、最終的に該層を積層すべき基材（被転写基材）上に接着、積層し、その後、該支持体を剥離除去することにより、該基材上に所望の層を形成する方法である。
【０１１１】
この実施形態では、直線偏光板７５に、円偏光板７６に係る層構成を転写法により積層する。従って被転写基材は、直線偏光板７５であり、転写に供する層（転写層）は、１／４波長板用賦型樹脂層８２、１／４波長板用配向膜８１、１／４波長板用位相差層７８、１／２波長板用賦型樹脂層８３、１／２波長板用配向膜８０、１／２波長板用位相差層７７の積層体である。
【０１１２】
図２８は、この転写体である転写フィルムの構成を示す図である。転写フィルム１１０は、支持体基材１１１上に、順次、円偏光板７６に係る１／４波長板用賦型樹脂層８２、１／４波長板用配向膜８１、１／４波長板用位相差層７８、１／２波長板用賦型樹脂層８３、１／２波長板用配向膜８０、１／２波長板用位相差層７７が設けられる。
【０１１３】
ここで支持体基材１１１は、転写に供する層（転写層）を剥離可能に担持し、転写層を被転写基材上に接着、積層した後は、適宜時機に剥離、除去に供される基材である。この実施形態では、透明フィルム材であるＰＥＴ（Polyethylene  terephthalate）フィルムが適用され、これにより転写フィルム１１０は、光学特性を検査可能に構成される。なおＰＥＴフィルムは、コロナ処理され、これにより後述する離型層との間の密着力を適切に設定する。なお支持体基材１１１は、全体の形状をシート形状としても良い。また支持体基材２１は、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンアフタレート等のポリエステル樹脂、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン樹脂等の樹脂からなる樹脂性フィルム材を適用してもよい。なお転写層との剥離性が不十分な場合は、支持体基材２１には、転写層側に、剥離を促進する離型層を設ける。
【０１１４】
離型層は、相対的に、支持体基材１１１との密着性は高く（剥離性は低く）、転写層との密着性は低い（剥離性は高い）材料を適用することができる。この実施形態では、転写層の最下層が紫外線硬化性樹脂による１／４波長板用賦型樹脂層８２であることにより、上述の支持体基材１１１に対して、例えばシリコン樹脂（有機珪素系高分子化合物）、弗素系樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、又はこれら樹脂と適宜の他の樹脂（アクリル樹脂、セルロース系樹脂、ポリエステル樹脂等）との混合物が用いられる。この実施形態では、上述したＰＥＴフィルムによる支持体基材２１上に、メラミン樹脂による離型層を設け、離型層の上に設ける紫外線硬化性樹脂の塗布液に対する濡れ性を確保する。
【０１１５】
なおこのように、コロナ処理したＰＥＴフィルムにメラミン樹脂による離型層を設ける代わりに、何ら表面処理してないＰＥＴフィルムを支持体基材に適用して離型層を省略してもよい。またこれに代えていわゆるノンソルと呼ばれる浸透層を設けていないＴＡＣフィルムを支持体基材に適用して、離型層を省略してもよい。このようにすると構成を簡略化することができる。
【０１１６】
因みに、離型層による剥離性が不十分な場合、支持体基材１１１と離型層との間に、剥離層を設け、この剥離層により離型層による剥離性を補うようにしてもよい。なお剥離層は、相対的に、支持体フィルムとの密着性が低く（剥離性は高く）、剥離層との密着性が高い（剥離性は低い）材料を適用することができる。より具体的には、この実施形態において、剥離層には、アクリル樹脂、セルロース系樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、又は以上の中から選択した２種以上の混合物、或いは以上のなかから選択した１種以上とその他の樹脂との混合物が用いられる。剥離層の厚みは、通常、１〜１０μｍ程度である。また剥離層は、支持体基材１１１に設けても良く、剥離層に設けてもよい。
【０１１７】
１／４波長板用賦型樹脂層８２は、この支持体基材１１１の上に、又は支持体基材１１１の上に形成された剥離層の上に、紫外線硬化性樹脂の塗付液を塗付して作成され、１／４波長板用配向膜８１は、賦型に供する微細凹凸形状を周側面に形成した賦型用金型（ロール版）を用いて１／４波長板用賦型樹脂層８２を賦型処理して作成される。１／４波長板用位相差層７８は、１／４波長板用配向膜８１上に、液晶材料を塗付して硬化させることにより作成される。
【０１１８】
１／２波長板用賦型樹脂層８３は、１／４波長板用位相差層７８の上に、１／４波長板用賦型樹脂層８２と同様に、紫外線硬化性樹脂の塗付液を塗付して作成され、１／２波長板用配向膜８０は、１／４波長板用配向膜８１と同様に、賦型用金型を用いて１／２波長板用賦型樹脂層８３を賦型処理して作成される。１／２波長板用位相差層７７は、１／２波長板用配向膜８０上に、液晶材料を塗付して硬化させることにより作成される。しかして転写体では、これら円偏光板に係る層構成である、１／４波長板用賦型樹脂層８２、１／４波長板用配向膜８１、１／４波長板用位相差層７８、１／２波長板用賦型樹脂層８３、１／２波長板用配向膜８０、１／２波長板用位相差層７７が転写に供する転写層である。
【０１１９】
さらに転写フィルム１１０は、円偏光板７６の層構成に係る転写層の上に、粘着層８７、セパレータフィルム１１３が設けられる。
【０１２０】
ここで粘着層８７は、転写層と被転写基材とを接着するための層である。転写層の材料と被転写基材の材料に応じて、両者に密着性の高い材料が適用される。この実施形態では、アセチルセルロース（酢酸纖維素）、ニトロセルロース（硝酸纖維素又は硝化綿）、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロース（纖維素）系樹脂、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸ブチル共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−スチレン共重合体等のアクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、アイオノマー、天然又は合成ゴム等の材料が用いられる。接着剤層の厚みは、１〜３０μｍ程度である。なおこの粘着層８７に紫外線硬化性樹脂を適用しても良く、この場合には全体の厚みをさらに薄くすることができる。
【０１２１】
セパレータフィルム１１３は、粘着層８７の表面を離型可能に被覆する離型シートである。セパレータフィルム１１３は、粘着層８７が露出して不要な物品と不要な接着をすることを防止するために設けられ、転写の直前に剥離除去される。
【０１２２】
光学フィルム１０３は、転写フィルム１１０からセパレータフィルム１１３を剥離して粘着層８７を露出させ、この粘着層８７により直線偏光板７５に転写フィルム１１０を貼り合わせた後、支持体基材１１１を剥離して作成される。またその後、粘着層７４、この粘着層７４を覆うセパレータフィルムが順次設けられて所望の大きさに切断された後、画像表示パネルへの組み込み工程において、セパレータフィルムを引き剥がして粘着層７４が露出された後、この粘着層７４により画像表示パネルに配置される。なおこれにより光学フィルム１０３において粘着層７４を覆うセパレータフィルムは、最終的に光学フィルム１０３から引き剥がされることにより、上述の支持体基材１１１に代えて、この粘着層７４に係るセパレータフィルムを支持体に適用するようにしてもよい。
【０１２３】
以上の構成によれば、転写の手法を適用して光学フィルム３を作成する場合であっても、上述の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【０１２４】
〔第８実施形態〕
図２９は、図２７との対比により本発明の第９実施形態に係る画像表示装置を示す断面図である。この画像表示装置１２１では、光学フィルム１０３に代えて光学フィルム１２３が配置される点を除いて、第８実施形態の画像表示装置と同一に構成される。また光学フィルム１２３は、１／４波長板用賦型樹脂層８２、１／４波長板用配向膜８１、１／４波長板用位相差層７８、１／２波長板用賦型樹脂層８３、１／２波長板用配向膜８０、１／２波長板用位相差層７７による円偏光板７６に代えて、円偏光板７６から１／４波長板用賦型樹脂層８２及び１／４波長板用配向膜８１を取り除いた構成である円偏光板１２６が適用される点を除いて、光学フィルム１０３と同一に構成される。これによりこの実施形態では、１／４波長板用賦型樹脂層８２を取り除いている分、さらに一段と全体の厚みを薄くして一段と可撓性を確保できるように構成される。
【０１２５】
図３０は、図２９との対比によりこの光学フィルム１２３の製造に使用される転写フィルムを示す断面図である。この転写フィルム１３０は、１／４波長板用位相差層７８、１／２波長板用賦型樹脂層８３、１／２波長板用位相差層７７が転写層に割り当てられ、１／４波長板用賦型樹脂層８２の表面である１／４波長板用配向膜８１が剥離層に割り当てられる。
【０１２６】
具体的に、１／４波長板用賦型樹脂層８２にあっては、その表面形状が、１／４波長板用配向膜８１として十分に機能し、かつ支持体を転写層から剥離する際に、離型層として十分に機能するように構成される。これにより１／４波長板用賦型樹脂層８２は、１／４波長板用配向膜８１を形成した状態で、支持体基材１１１の密着性は高く（剥離性は低く）、転写層の最下層である１／４波長板用位相差層７８との密着性は低い（剥離性は高い）材料が適用される。またさらに、転写フィルム１３０に形成される他の層間の密着力に比して、１／４波長板用位相差層７８との間の密着力が十分に小さい材料が適用される。
【０１２７】
１／４波長板用賦型樹脂層８２、１／４波長板用位相差層７８、１／２波長板用賦型樹脂層８３、１／２波長板用位相差層７７には、賦型処理に供する紫外線硬化性樹脂、光学フィルムに供される液晶材料からこれらの条件を満足する材料が選択されて、又はこれらの条件を満足するように調製されて適用される。
【０１２８】
なおこのような各材料の選定、調整に代えて、別途、１／４波長板用賦型樹脂層８２の表面に、離型層を設けるようにしてもよい。また離型層による剥離性が不十分な場合、離型層の支持体側に剥離層を設け、この剥離層により離型層による剥離性を補うようにしてもよい
【０１２９】
転写フィルム１３０は、これら１／４波長板用配向膜８１、１／２波長板用配向膜８０が上述の実施形態について上述したと同様に、賦型処理により作製され、この賦型処理に供するロール版の一方又は双方が十点平均粗さＲｚが４５ｎｍ以下、１０ｎｍ以上に作製され、これにより１／２波長板用配向膜８０、１／４波長板用配向膜８１の一方又は双方が十点平均粗さＲｚが４５ｎｍ以下、１０ｎｍ以上に作製される。
【０１３０】
この実施形態によれば、転写法により１／４波長板、１／２波長板の積層構造を供えた光学フィルムを生産する場合でも、配向膜の十点平均粗さＲｚが４５ｎｍ以下、１０ｎｍ以上であることにより、充分にばらつきを低減して液晶層を配向させることができ、これにより高い品質で光学フィルム、この光学フィルムの生産に供する転写フィルムを作製することができ、さらには液晶層である位相差層における配向の劣化を有効に回避して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上することができる。
【０１３１】
〔第９実施形態〕
この実施形態では、第５実施形態、第６実施形態、第７実施形態、又は第８実施形態の構成を前提に、さらに配向膜の十点平均粗さＲｚが４５ｎｍ以下、１０ｎｍ以上であり、かつ配向膜の平均面粗さ（Ｒａ）を１ｎｍ以上、４ｎｍ以下に設定する。またこれによりこの実施形態では、賦型処理に供するロール版の周側面の十点平均粗さＲｚが４５ｎｍ以下、１０ｎｍ以上であり、かつ平均面粗さ（Ｒａ）を１ｎｍ以上、４ｎｍ以下により作製される。
【０１３２】
この実施形態では、種々の手法により１／４波長板、１／２波長板の積層構造を供えた光学フィルムを生産する場合でも、配向膜の十点平均粗さＲｚが４５ｎｍ以下、１０ｎｍ以上であり、かつ配向膜の平均面粗さ（Ｒａ）を１ｎｍ以上、４ｎｍ以下に設定することにより、充分にばらつきを低減して液晶層を配向させることができ、さらに液晶層における配向の劣化を有効に回避して、従来に比して配向膜と液晶層との密着性を向上することができる。
【０１３３】
〔他の実施形態〕
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態を種々に組み合わせ、さらには上述の実施形態の構成を種々に変更することができる。
【０１３４】
すなわち上述の第１実施形態では、全面をラビング処理した後、レジストを使用したマスクラビングによりロール版を作製する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、ロール版の作製方法については、種々の手法を広く適用することができる。
【０１３５】
また上述の実施形態では、賦型処理により配向膜を作製する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、ポリイミド膜のラビング処理により配向膜を作製する場合にも広く適用することができる。
【０１３６】
また上述の実施形態では、賦型用樹脂に紫外線硬化性樹脂を適用する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、紫外線硬化性樹脂以外の各種賦型用樹脂を適用する場合、さらには加熱等により軟化させた基材を押し付けて賦型する場合等にも広く適用することができる。
【０１３７】
また上述の実施形態では、パターン位相差フィルム、位相差板に本発明を適用する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、これら以外の賦型処理により配向膜を作製する各種の光学フィルムの生産に広く適用することができる。
【０１３８】
また上述の実施形態では、ロール版により各種光学フィルムを生産する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、平板により生産する場合にも広く適用することができる。
【０１３９】
また上述の第１実施形態では、液晶表示パネルの使用を前提とする場合について述べたが、本発明はこれに限らず、有機ＥＬパネル、プラズマディスプレイパネルの使用を前提とする場合にも広く適用することができ、また偏光フィルタを一体に設ける場合にも広く適用することができる。
【符号の説明】
【０１４０】
１  パターン位相差フィルム
２、５２、７９、８５  基材
３、５３、８０、８１  配向膜
４、５４、７７、７８  位相差層
５、５５、８２、８３  紫外線硬化性樹脂
１０  製造工程
１１  供給リール
１２、１９  ダイ
１４  加圧ローラ
１５、１７  紫外線照射装置
１６  剥離ローラ
１８  リール
２０  ロール版
４０、６０  母材
４１、６１  下地層
４２、４４、６２  無機材料層
４３  レジスト層
５１  １／４波長板
７０Ａ、７０Ｂ  偏光板
７１、９１、１０１、１２１  画像表示装置
７２  画像表示パネル
７３、９３、１０３、１２３  光学フィルム
７４、８７  粘着層
７５  直線偏光板
７６、９６、１２６  円偏光板
８６  光学機能層
８７  粘着層
１１０、１３０  転写フィルム
１１１  支持体基材
１１３  セパレータフィルム
【図１】
2013242508.tif 000003
【図２】
2013242508.tif 000004
【図３】
2013242508.tif 000005
【図４】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１４】
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【図２２】
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【図２３】
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