(57)【要約】【課題】簡便な工程で作製することができ、水分の透過が少なく、封止も容易にできるＥＬ素子封止用フィルムを提供する。【解決手段】水蒸気透過度が４０℃９０％Ｒ．Ｈ．の条件下で０．０３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下のガスバリアフィルムを少なくとも２枚以上、接着剤層を介して貼り合わした積層体の一方の面に、封止用のシール層を有するエレクトロルミネッセンス素子封止用フィルムであって、前記ガスバリアフィルムは、基材フィルムの一方の面に、少なくとも1層以上の無機化合物からなるバリア性薄膜層とポリビニルアルコールを含むバリア性塗布膜層とを備え、且つ、前記透明バリア性薄膜層と前記バリア性塗布膜層とは、前記積層体のシール層側となる前記基材フィルムの一方の面に形成されている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
水蒸気透過度が４０℃９０％Ｒ．Ｈ．の条件下で０．０３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下のガスバリアフィルムを少なくとも２枚以上、接着剤層を介して貼り合わせた積層体の一方の面に、封止用のシール層を有するエレクトロルミネッセンス素子封止用フィルムであって、前記ガスバリアフィルムは、基材フィルムの一方の面に、少なくとも1層以上の無機化合物からなるバリア性薄膜層とポリビニルアルコールを含むバリア性塗布膜層とを備え、
且つ、前記透明バリア性薄膜層と前記バリア性塗布膜層とは、前記積層体のシール層側となる前記基材フィルムの一方の面に形成されていることを特徴とするエレクトロルミネッセンス素子封止用フィルム。
ここで、水蒸気透過度は、ＪＩＳ−Ｋ７１２９に準じた測定で得られる値である。
【請求項２】
前記基材フィルムは、厚みが６μｍ以上１００μｍ以下のポリエステル基材であることを特徴とする請求項１に記載するエレクトロルミネッセンス素子封止用フィルム。
【請求項３】
前記バリア性薄膜層は、真空成膜で形成された金属酸化物の薄膜からなることを特徴とする請求項１または２に記載するエレクトロルミネッセンス素子封止用フィルム。
【請求項４】
前記バリア性塗布膜層は、湿式塗布加工方式で形成された薄膜からなることを特徴とする請求項１〜３のいずれか1項に記載するエレクトロルミネッセンス素子封止用フィルム。
【請求項５】
前記接着剤層は、１液または２液反応型のポリウレタン樹脂と３官能イソシアネートとを重合硬化させたものからなることを特徴とする請求項１〜４のいずれか1項に記載するエレクトロルミネッセンス素子封止用フィルム。
【請求項６】
前記シール層は、使用時剥離する剥離フィルムに粘着剤を湿式塗布加工方式で塗布して形成され、前記積層体の前記バリア性塗布膜層または前記透明バリア性薄膜層に転写されていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか1項に記載するエレクトロルミネッセンス素子封止用フィルム。
【請求項７】
前記シール層は、８０℃以上で活性化して接着性を発揮する樹脂層で、接着剤を介して、または接着剤を介さずに直接、前記積層体の前記バリア性塗布膜層または前記透明バリア性薄膜層と貼り合せられていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか1項に記載するエレクトロルミネッセンス素子封止用フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エレクトロルミネッセンス素子（以下、ＥＬ素子と略称する）等の、水分に弱いデバイスを封止するためのフィルムに関し、高いガスバリア性を示し、且つ、透明性、耐久性に優れ、素子との貼り合わせ性に優れたＥＬ素子封止フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
ＥＬ素子は、テレビやパソコンモニタ、モバイル機器等に使用されるフラットパネルディスプレイ、照明などとして、幅広い用途が期待されている。ＥＬ素子は、液晶ディスプレイなどとは異なり、自発光型である。そのため、構造的に極薄化できること、表示画像が広視野角で見え、その表示画像の応答速度が速く、低消費電力であり、高コントラストが期待できるなどの利点から、ブラウン管や液晶ディスプレイにかわる替わるフラットパネルディスプレイとして期待されている。
【０００３】
従来一般には、ＥＬ素子は、ガラス、あるいはプラスチック等の基板上に、少なくともどちらか一方の電極が透光性を有する第一電極層と第二電極層があり、それら電極層間に、発光媒体層を挟持した構造である。両電極層間に電圧を印可し電流を流すことにより、発光媒体層で発光が生じる、自発光型の表示パネルである。
【０００４】
ここで、発光媒体層とは正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層を含む層である。それぞれの例としては、正孔注入層に銅フタロシアニン、正孔輸送層に（３，４−エチレンジオキシチオフェン）／ポリスチレンスルホン酸（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）、有機発光層にトリス（８―キノリノール）アルミニウム、電子輸送層に、２，５−ビス（１−ナフチル）−１，３，４オキサジアゾール、電子注入層にフッ化リチウムが挙げられる。また、発光層として赤、青、緑の三色に光る材料を用いて、隔壁を設けた中で塗りわけると、ディスプレイとして表現することができ、薄膜構造で極薄のディスプレイを製造することが可能である。
【０００５】
しかしながら、ＥＬ素子、特に有機ＥＬ素子は、水分に極めて弱く、発光材料が変質し発光が止まってしまう。また、電極も酸化により特性が劣化する問題がある。この大気中の酸素や水の影響により劣化するといった問題に対処するため、パッシベーション層により酸素や水を遮断し、更に、金属缶やガラスキャップを用いて、これを接着剤を介して封止して大気から遮断する方法が一般的に用いられている。しかしこれではフレキシブルではないため空間が生じ、その空間に不活性ガスや吸湿剤を必要とする。ここで、パッシベーション層とは、酸素や水に対するバリア性が高く、また陰極上に形成するため絶縁性があるものが望ましく、例えば、窒化珪素が挙げられる。また、接着層としては、エポキシ系樹脂が挙げられ、内包する乾燥剤としては酸化カルシウムが挙げられる。
【０００６】
近年、ＥＬ素子が構造的に極薄化できることを活かすために、フレキシブルなプラスチックを使用した封止用フィルムが提案されている。一般にプラスチックフィルムでは水蒸気の透過が大きく、ＥＬ素子の保護材料としてはバリア層の形成が必須となる。ガスバリアフィルムとして最も一般的なものは、プラスチックフィルムからなる基材の表面に、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム等からなる無機蒸着膜を形成した透明性の高いガスバリアフィルムであり、これらは数多く提案され、また実用化されているが、ＥＬ素子の保護材料として求められるバリアレベルとしては不十分なものが多かった。
【０００７】
そこで、ＥＬ素子に適したバリア性フィルムとして、例えば、特許文献１には、樹脂基材上に有機物層１、無機物層１、有機物層２、無機物層２を繰り返し積層し、有機物層２
としてアクリロイル基を有するモノマーを主成分とする樹脂組成物の架橋硬化を用いた透明バリアフィルムが開示されている。また、特許文献２には、ガスバリア性樹脂フィルムの表面にケイ素酸化物又はアルミニウムの蒸着膜を有し、裏面に吸湿剤を分散させた吸湿性樹脂フィルムを積層した構成のＥＬ素子封止フィルムが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００４−２４４６０６号公報
【特許文献２】特開２００２−２６０８４７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、上記特許文献１の構成ではフィルムそのものの水蒸気バリア性は非常に高いが、この積層構成ではフィルムが硬く弾力性に欠け、貼り合わせ時の応力やプラスチック基材の膨張・収縮などによりバリア層である無機物層に割れが生じてしまい、封止した後、水分がその割れた部分から浸入してしまう問題がある。また、特許文献２の構成はフレキシブル性は申し分ないが、吸湿性樹脂フィルムの表面に更に第２のガスバリア性樹脂フィルムを積層したとしてもまだ水蒸気バリア性が不十分である。
【００１０】
本発明は上記した課題を解決するためになされたものであり、簡便な工程で作製することができ、水分の透過が少なく、封止も容易にできるＥＬ素子封止用フィルムを提供することを課題としている。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の請求項１に係る発明は、水蒸気透過度が４０℃９０％Ｒ．Ｈ．の条件下で０．０３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下のガスバリアフィルムを少なくとも２枚以上、接着剤層を介して貼り合わせた積層体の一方の面に、封止用のシール層を有するエレクトロルミネッセンス素子封止用フィルムであって、
前記ガスバリアフィルムは、基材フィルムの一方の面に、少なくとも1層以上の無機化合物からなるバリア性薄膜層とポリビニルアルコールを含むバリア性塗布膜層とを備え、
且つ、前記バリア性薄膜層と前記バリア性塗布膜層とは、前記積層体のシール層側となる前記基材フィルムの一方の面に形成されていることを特徴とするエレクトロルミネッセンス素子封止用フィルムである。
ここで、水蒸気透過度は、ＪＩＳ−Ｋ７１２９に準じた測定で得られる値である。
【００１２】
また、本発明の請求項２に係る発明は、前記基材フィルムは、厚みが６μｍ以上１００μｍ以下のポリエステル基材であることを特徴とする請求項１に記載するエレクトロルミネッセンス素子封止用フィルムである。
【００１３】
また、本発明の請求項３に係る発明は、前記バリア性薄膜層は、真空成膜で形成された金属酸化物の薄膜からなることを特徴とする請求項１または２に記載するエレクトロルミネッセンス素子封止用フィルムである。
【００１４】
また、本発明の請求項４に係る発明は、前記バリア性塗布膜層は、湿式塗布加工方式で形成された薄膜からなることを特徴とする請求項１〜３のいずれか1項に記載するエレクトロルミネッセンス素子封止用フィルムである。
【００１５】
また、本発明の請求項５に係る発明は、前記接着剤層は、１液または２液反応型のポリウレタン樹脂と３官能イソシアネートとを重合硬化させたものからなることを特徴とする請求項１〜４のいずれか1項に記載するエレクトロルミネッセンス素子封止用フィルムである。
【００１６】
また、本発明の請求項６に係る発明は、前記シール層は、使用時剥離する剥離フィルムに粘着剤を湿式塗布加工方式で塗布して形成され、前記積層体の前記バリア性塗布膜層または前記透明バリア性薄膜層に転写されていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか1項に記載するエレクトロルミネッセンス素子封止用フィルムである。
【００１７】
また、本発明の請求項７に係る発明は、前記シール層は、８０℃以上で活性化して接着性を発揮する樹脂層で、接着剤を介して、または接着剤を介さずに直接、前記積層体の前記バリア性塗布膜層または前記透明バリア性薄膜層と貼り合せられていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか1項に記載するエレクトロルミネッセンス素子封止用フィルムである。
【発明の効果】
【００１８】
本発明のＥＬ素子封止用フィルムは、水蒸気透過度が４０℃９０％Ｒ．Ｈ．の条件下で０．０３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下のガスバリアフィルムを少なくとも２枚以上、接着剤層を介して貼り合わした積層体の一方の面に、封止用のシール層を有する構成であって、簡便な工程で作製することができる。また、本発明に係るガスバリアフィルムは、基材フィルムの一方の面に、少なくとも1層以上の無機化合物からなるバリア性薄膜層とポリビニルアルコールを含むバリア性塗布膜層とを備え、それ自身水分の透過が少ない。さらに、１枚のガスバリア性フィルムでは貼り合わせ時の応力やプラスチック基材の膨張・収縮などに耐えらず、微小な水分を通す部分が発生してしまうが、その点をもう１枚のガスバリア性フィルムを貼りあわせることで保護することができる。且つ、この透明バリア性薄膜層とバリア性塗布膜層とが、積層体のシール層側となる基材フィルムの一方の面に形成されていることで、水分の透過が少なく、封止も容易にできるＥＬ素子封止用フィルムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明のＥＬ素子封止用フィルムの、一実施形態の構成を示す断面模式図である。
【図２】本発明に係る、ガスバリアフィルムの、一実施形態の構成を示す断面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
本発明のＥＬ素子封止用フィルムを、一実施形態に基づいて以下に詳細に説明する。
【００２１】
図１は、本発明のＥＬ素子封止用フィルムの一実施形態例を断面で示した模式図である。図１に示すように、本発明のＥＬ素子封止用フィルムは、水蒸気透過度が４０℃９０％の条件下で０．０３ｇ／ｍ２・ｄaｙ以下で厚み６μｍ以上１００μｍ以下のガスバリアフィルム１０、２０を２枚以上、接着剤層３０を介して貼り合わせた積層体４０の一方の面に、封止用のシール層５０を有する構成である。図２(a)及び（ｂ）に示すように、ガスバリアフィルム１０，２０はそれぞれ、基材フィルム１１、２１の一方の面に、少なくとも1層以上の無機化合物からなるバリア性薄膜層１２，２２とポリビニルアルコールを含むバリア性塗布膜層１３，２３とを備え、且つ、図１に示すように、バリア性薄膜層１２，２２と前記バリア性塗布膜層１３，２３とは、積層体４０のシール層５０側となる基材フィルム１１，２１の一方の面に形成されている。
【００２２】
水蒸気透過度が４０℃９０％の条件下で０．０３ｇ／ｍ２・ｄaｙ以下のガスバリアフ
ィルムは、一枚でも高いバリア性を有するが、前述したように、貼り合わせ時の応力や封止時の圧力などでバリア性薄膜層に多少の割れが発生する場合がある。本発明では、２枚以上の高いバリア性を有するフィルムを接着剤層で貼り合わせてあり、また、バリア性薄膜層は、その表面にポリビニルアルコールを含むバリア性塗布膜層とを備え、且つ、積層体のシール層側となる基材フィルムの一方の面に形成されていることで、バリア性薄膜層は柔軟性のある接着剤層又はシール層と近接する状態であり、バリア性薄膜層には割れは生じにくい、また、一枚目のガスバリアフィルムのバリア性薄膜層に割れが生じた場合でも二枚目のガスバリアフィルムがカバーすることで貼り合わせた後でも低い水蒸気透過度を保つことができる。
【００２３】
前述したように、本発明に係るガスバリアフィルムは、基材フィルムの一方の面に、少なくとも1層以上の無機化合物からなるバリア性薄膜層とポリビニルアルコールを含むバリア性塗布膜層とを備え、且つ、バリア性薄膜層とバリア性塗布膜層とは、積層体のシール層側となる基材フィルムの一方の面に形成されている。
【００２４】
基材フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ），ポリシクロヘキサンジメタノール−テレフタレート（ＰＣＴ）などのポリエステル系樹脂フィルム、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテンなどのポリオレフィン系樹脂フィルム、ナイロン６、ナイロン１２などのポリアミド系樹脂フィルム、ポリビニルアルコールやエチレン−ビニルアルコール共重合体などのビニルアルコール系樹脂フィルム、パーフルオロアルコキシ樹脂（ＰＦＡ）、４フッ化エチレン−６フッ化プロピレン共重合体（ＦＥＰ）、パーフルオロエチレン−パーフルオロプロピレン−パーフルオロビニルエーテル三元共重合体（ＥＰＥ）、エチレン−４フッ化エチレン共重合体（ＥＴＦＥ）、塩化−３フッ化エチレン樹脂（ＰＣＴＦＥ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリフッ化ビニル（ＰＶＦ）等のフッ素樹脂フィルム、ポリカーボネート系樹脂フィルム、トリアセチルセルロースフィルム、シクロオレフィンフィルム、あるいはポリアクリルニトリル、アクリル系樹脂、メタクリル樹脂、ポリグリコール酸樹脂、ポリ乳酸樹脂から選択される樹脂フィルムが挙げられる。また、これらに限定されず、ポリサルホン系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアリレート系樹脂など、耐熱性、強度物性、電気絶縁性等を考慮して適宜選択することが可能である。
【００２５】
また基材フィルムは、上記した２種類以上の樹脂の混合物からなるフィルムや積層フィルムも用いられる。また、公知の添加剤、滑剤、可塑剤、安定剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤を添加することが可能であり、また、基材フィルムは延伸、未延伸のどちらでも良いが、連続的なバリア性薄膜の成膜加工への適性、他のガスバリアフィルムとの積層やシール層との積層等の後加工適性等を考慮すると、機械的強度や寸法安定性を有するものが良く、二軸方向に任意に延伸されたフィルムが好ましい。本発明においては、基材フィルムとしてより薄肉化できる点や強度、耐熱性、透明性ならびに安価なことから、厚みが６μｍ以上１００μｍ以下のポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルムが望ましい。
【００２６】
上記基材フィルムには、必要に応じてコロナ放電処理等の易接着処理、プラズマ処理やイオンエッチング、フレーム処理などを施しても差し支えない。また、別途フィルム基材上に密着性のあるアンカーコート層やハードコート層などのコーティング処理を施すこともできる。この場合工程は増えることになるが、耐久性を上げるために必要な場合もある。具体的にはアクリル樹脂やウレタン樹脂、エポキシ樹脂などが挙げられ、硬化方式は熱硬化、紫外線硬化、ＥＢ硬化などが挙げられる。
【００２７】
続いて上記基材フィルムに形成する無機化合物からなるバリア性薄膜層について説明す
る。無機化合物からなるバリア性薄膜層は、水蒸気や酸素等のガスの透過を防ぐものである。バリア性薄膜層を形成する材料は特に限定されるものではなく、珪素、アルミニウム、クロム、マグネシウム等の金属の酸化物、窒化物、フッ化物や、錫含有酸化インジウム（ＩＴＯ）などの複合酸化物、窒化物等、透明で且つ酸素、水蒸気等のガスバリア性を有するものが使用できる。なかでも、金属酸化物は好ましく用いることが出来、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、酸化珪素（ＳｉＯｘ）、インジウムとスズの複合酸化物（ＩＴＯ）が望ましく、その中でも、ＳｉＯｘやＩＴＯは透明性、防湿性とも他の金属酸化物より優れているためより好ましい。また若干窒素が入ったＳｉＯｘＮyでもよい。また混合された材料でもよい。
【００２８】
金属酸化物等からなるバリア性薄膜層を基材フィルム上に形成する方法としては種々在り、抵抗加熱式真空蒸着法、ＥＢ（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｂｅａｍ）加熱式真空蒸着法、誘導加熱式真空蒸着法等の真空蒸着法により形成することができる。また、その他の薄膜形成方法であるスパッタリング法やイオンプレーティング法、プラズマ化学気相堆積法（ＰＥＣＶＤ法）などを用いることも可能である。但し、生産性を考慮すれば、現時点では真空蒸着法が最も優れている。真空蒸着法の加熱手段としては電子線加熱方式や抵抗加熱方式、誘導加熱方式のいずれかの方式を用いることが好ましい。また蒸着薄膜層と基材の密着性及び蒸着薄膜層の緻密性を更に向上させるために、プラズマアシスト法やイオンビームアシスト法を用いて蒸着することも可能である。また、蒸着膜の透明性を上げるために蒸着の際、酸素等の各種ガスなど吹き込む反応蒸着を用いても一向に構わない。
【００２９】
ガスバリア性薄膜層の厚さは、用いられる無機化合物の種類・構成により最適条件が異なるが、一般的には１．０ｎｍ〜３００ｎｍの範囲内が望ましく、５ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましく、さらには、１０ｎｍ以上８０ｎｍ以下であることが特に好ましい。ただし膜厚が５ｎｍ未満であると均一な膜が得られないことや膜厚が十分ではないことがあり、ガスバリア材としての機能を十分に果たすことができない場合がある。また膜厚が１００ｎｍを越える場合は薄膜にフレキシビリティを保持させることができず、折り曲げ、引っ張り、あるいは温度変化による伸縮などの外的要因により、薄膜に亀裂（クラック）を生じるおそれがあるので問題がある。さらに、材料使用量の増加、膜形成時間の長時間化等に起因してコストが増加し、経済的観点からも好ましくない。
【００３０】
次に、バリア性薄膜層上に形成するポリビニルアルコールを含むバリア性塗布膜層について説明する。ポリビニルアルコールとしては一般的なポリ酢酸ビニルを鹸化して得られる市販のものを使用することができる。ポリビニルアルコールの具体例としては、株式会社クラレ製ＰＶＡ１１０（ケン化度＝９８〜９９％、重合度＝１１００）、ＰＶＡ１１７（ケン化度＝９８〜９９％、重合度＝１７００）、ＰＶＡ１２４（ケン化度＝９８〜９９％、重合度＝２４００）、ＰＶＡ１３５Ｈ（ケン化度＝９９.７％以上、重合度＝３５００）、同社製のＲＳポリマーＲＳ−１１０（ケン化度＝９９％、重合度＝１０００）、同社製のクラレポバールＬＭ−２０ＳＯ（ケン化度＝４０％、重合度＝２０００）、日本合成化学工業株式会社製のゴーセノールＮＭ−１４（ケン化度＝９９％、重合度＝１４００）及びゴーセノールＮＨ−１８（ケン化度＝９８〜９９％、重合度＝１７００）等を使用することができる。これらを適度な温度の水にて溶解させた後、コーティング剤として使用することが可能である。
【００３１】
また、ポリビニルアルコールだけでは金属酸化物膜との密着が不十分な場合、Ｒ１（Ｍ−ＯＲ２）（ただしＲ１、Ｒ２は炭素数１〜８の有機基、Ｍは金属原子）で表されるような金属アルコキシドを原料とする有機無機ハイブリッド材料を混合して使用しても差し支えない。ＭはＳｉ、Ａｌ、Ｔｉなどが望ましく、特にＳｉが望ましい。このポリビニルアルコールを金属酸化物層上に積層することで、貼り合わせ加工時に傷等が入りにくくなり、望ましい。
【００３２】
以上説明したようにして、基材フィルムの一方の面に、少なくとも1層以上の無機化合物からなるバリア性薄膜層とポリビニルアルコールを含むバリア性塗布膜層とを備えた本発明に係るガスバリアフィルムが得られる。このガスバリアフィルムの水蒸気透過度は、本発明のエレクトロルミネッセンス素子封止用フィルムを構成するために、水蒸気透過度が４０℃９０％Ｒ．Ｈ．の条件下で０．０３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下のガスバリアフィルムとして作製される。尚、水蒸気透過度は、ＪＩＳ−Ｋ７１２９に準じた測定で得られた値である。
【００３３】
次に、このガスバリアフィルムを少なくとも２枚以上、接着剤層を介して貼り合わせ積層体とする。この時、２枚以上のガスバリアフィルムのそれぞれのバリア性薄膜層とバリア性塗布膜層とが、積層体の後述する封止用のシール層側となるように積層する。
【００３４】
接着剤層としては、一般的にはゴム系、シリコーン系、アクリル系、ウレタン系などの水酸基を持つ主剤にイソシアネート硬化剤で硬化させる方式が用いられる。中でも、１液または２液反応型のポリウレタン樹脂と3官能イソシアネートとを重合硬化させたものが好ましい。加工はドライラミネート法が望ましく、塗工方式としてはグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター等である。そのコーティング量としては、０.１〜１０ｇ／ｍ２（乾燥状態）程度が望ましい。貼り合わせた後は４０〜６０℃でエージングすることが望ましい。
【００３５】
封止用のシール層は、接着剤によるドライラミネート法でのシール層の積層や、シール層の樹脂自体の押し出し成型による加工、もしくはコーティング法により形成することができる。
【００３６】
ドライラミネート法や押し出し成型で適用されるシール層としては、８０℃以上で活性化して接着性を発揮する樹脂層で、具体的には低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、直鎖状（線状）低密度ポリエチレン、ポリプロピレ、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−メタクリル酸共重合体、エチレン−プロピレン共重合体、メチルペンテンポリマー、酸変性ポリオレフィンなどが挙げられる。これらのフィルムを接着剤によって上記した積層体に貼り合わせる、もしくは押し出し成型により直接積層体に加工することにより形成することができる。ＥＬ素子の封止時は、ロールラミネーター、加熱バーあるいは超音波シーラー等を用いて上記したシール層の樹脂層を８０℃以上で活性化して使用する。
【００３７】
コーティング法では粘着剤を加工することでシール層を形成することができる。この場合溶剤系、水系等は問わない。シール層としての粘着剤層は、積層体に直接形成することも出来るが、使用時剥離するシリコーン系等の剥離フィルムに粘着剤を湿式塗布加工方式で塗布して形成され、積層体のバリア性塗布膜層またはバリア性薄膜層側に転写される形で形成されるのが一般的である。
【００３８】
粘着剤はアクリル系の粘着剤が光学的に望ましい。アクリル重合体は、過酸化物系重合開始剤を用いてアクリル単量体が重合されものである。アクリル単量体としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸アルキルエステル単量体、（メタ）アクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、フマル酸、無水フマル酸等のカルボキシル基含有単量体、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート等の水酸基含有単量体などが挙げられる。なお、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレートおよびメタクリレートの総称である。
【００３９】
過酸化物系重合開始剤は、単独で開裂して遊離ラジカルを生成するものである。生成したラジカルは不飽和二重結合への付加反応および水素引き抜き反応をすることで重合反応を起こす。過酸化物系重合開始剤は化学構造よりケトンパーオキサイド、パーオキシケタール、ハイドロパーオキサイド、ジアルキルパーオキサイド、ジアシルパーオキサイド、パーオキシエステル、パーオキシジカーボネートに分類され、例えば、メチルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、１，１−ジ（ｔ−ヘキシルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ジ（ｔ−ヘキシルパーオキシ）シクロヘキサン、１，１−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）−２−メチルシクロヘキサン、１，１−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、２，２−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタン、ｎ−ブチル４，４−ジ−（ｔ−ブチルパーオキシ）バレレート、２，２−ジ（４，４−ジ−（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキシル）プロパン、ｐ−メンタンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、１，１，３，３−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、ジ（２−ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン、ジクミルパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジ−ｔ−ヘキシルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、２，５−ジメチル−２．５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキシン−３、ジイソブチリルパーオキサイド、ジ（３，５，５−トリメチルヘキサノイル）パーオキサイド、ジアウロイルパーオキサイド、ジコハク酸パーオキサイド、ジ−（３−メチルベンゾイル）パーオキサイド、ジベンゾイルパーオキサイド、ジ（４−メチルゼンゾイル）パーオキサイド、ジ−ｎ−プロピルパーオキシジカーボネート、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ（４−ｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート、ジ（２−エチルヘキシル）パーオキシジカーボネート、ジ−ｓｅｃ−ブチルパーオキシジカーボネートなどが挙げられる。これら重合開始剤は１種を単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００４０】
アクリル単量体を重合する際には、例えば、溶液重合法を適用することができる。その際に使用される溶媒としては、例えば、酢酸エチル、トルエン、ヘキサン、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）などが挙げられる。また、溶液重合法以外の方法、具体的には、塊状重合法、懸濁重合法、乳化重合法で重合しても構わない。
【００４１】
また、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリカーボネートポリオール、これらのポリオールとジイソシアネートとの反応物であるポリウレタンポリオール、多価アルコールのポリエーテル付加物等を共に重合させても差し支えない。また架橋剤としてイソシアネートを使用しても差し支えない。イソシアネートでも特にヘキサメチレンジイソシアネートのプレポリマーであるアダクト体、ビゥレット体、ヌレート体が望ましい。
【００４２】
粘着剤層の塗工方式としては公知の方法を用いることができる。具体的にはグラビアコーター、コンマコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター等である。粘着剤の加工は、前述したように、一般には使用時剥離するシリコーン系等の剥離フィルムに粘着剤を湿式塗布加工方式で塗布して形成し、積層体のバリア性塗布膜層またはバリア性薄膜層側に転写される形で形成される。ＥＬ素子の封止時は、上記した剥離フィルムを除いて、粘着剤面を出して使用する。
【実施例】
【００４３】
以下に、本発明の具体的実施例について説明する。
【００４４】
＜実施例１＞
ＥＬ素子としては、有機ＥＬ素子を作製して評価を行った。真空成膜法によりガラス基板上に透明電極を成膜し、その上に正孔輸送層、発光層である有機ＥＬ層、背面電極を順次形成して有機ＥＬ素子を作製した。以下に、ガスバリアフィルム作成の方法を記す。東洋紡社製、１６μｍＰＥＴフィルム  Ｅ５１０７に真空蒸着法によりＳｉＯｘ層を５０ｎｍ形成した。その上層にポリビニルアルコールを含む膜を０．３μｍ加工し、ガスバリア性フィルムを作成した。このガスバリアフィルムの水蒸気透過度は０．０３ｇ／ｍ２・ｄａｙだった。このガスバリアフィルム２枚を、乾燥膜厚６μｍのポリエステル系接着剤で貼り合わせ、４０℃で１週間エージングを行った。その後、真空蒸着にて加工した面にアクリル系粘着剤を乾燥膜厚１０μｍの厚さでグラビアコーティングにて加工した。グローブボックス内でこのアクリル系粘着剤の面を有機ＥＬ素子の有機ＥＬ層に６０℃に加熱したロールラミネーターにより貼り合わせた後、真空ラミネーターにより８０℃でプレスし、封止した。このようにして得られた有機ＥＬ素子を、６０℃９０％Ｒ．Ｈ．の条件にて放置し、ＥＬ発光層のダークスポットの有無を確認した。ダークスポットの直径が０．０３ｍｍ未満のものを○、それ以上のもの×とした。評価結果を表１に記す。
【００４５】
＜実施例２＞
ＥＬ素子は、実施例１と同様に作製した。以下にバリアフィルム作成の方法を記す。東洋紡社製、１６μｍＰＥＴフィルム  Ｅ５１０７に真空蒸着法によりＳｉＯｘ層を５０ｎｍ形成した。その上層にテトラエトキシシランの加水分解物とポリビニルアルコールを含む膜を０．３μｍ加工し、ガスバリアフィルムを作成した。このガスバリアフィルムの水蒸気透過度は０．０２ｇ／ｍ２・ｄａｙだった。このガスバリアフィルム２枚を乾燥膜厚６μｍのポリエステル系接着剤で貼り合わせ、４０℃で１週間エージングを行った。その後、真空蒸着にて加工した面にアクリル系粘着シート（２０μｍ）をロールラミネートした。グローブボックス内でそのアクリル系粘着シート面を有機ＥＬ層に６０℃に加熱したロールラミネーターにより貼り合わせた後、真空ラミネーターにより８０℃でプレスし、封止した。このようにして得られた有機ＥＬ素子を、６０℃９０％Ｒ．Ｈ．の条件にて放置し、ＥＬ発光層のダークスポットの有無を確認した。ダークスポットの評価は実施例１と同様である。結果を表１に記す。
【００４６】
＜実施例３＞
ＥＬ素子は、実施例１と同様に作製した。以下にバリアフィルム作成の方法を記す。東洋紡社製、１６μｍＰＥＴフィルム  Ｅ５１０７に真空蒸着法によりＳｉＯｘ層を５０ｎｍ形成した。その上層にテトラエトキシシランの加水分解物とポリビニルアルコールを含む膜を０．３μｍ加工し、さらにその上層に真空蒸着法によりＳｉＯｘ層を５０ｎｍ形成し、ガスバリア性フィルムを作成した。このガスバリアフィルムの水蒸気透過度は０．０１ｇ／ｍ２・ｄａｙだった。このガスバリアフィルム２枚を乾燥膜厚６μｍのポリエステル系接着剤で貼り合わせ、４０℃で１週間エージングを行った。そして真空蒸着にて加工した面にアクリル系粘着シート（２０μｍ）をロールラミネートした。グローブボックス内でそのアクリル系粘着シート面を有機ＥＬ層に６０℃に加熱したロールラミネーターにより貼り合わせた後、真空ラミネーターにより８０℃でプレスし、封止した。このようにして得られた有機ＥＬ素子を、６０℃９０％Ｒ．Ｈ．の条件にて放置し、ＥＬ発光層のダークスポットの有無を確認した。ダークスポットの評価は実施例１と同様である。結果を表１に記す。
【００４７】
＜比較例１＞
ＥＬ素子は、実施例１と同様に作製した。以下にバリアフィルム作成の方法を記す。東洋紡社製、１６μｍＰＥＴフィルム  Ｅ５１０７に真空蒸着法によりＳｉＯｘ層を５０ｎｍ形成した。その上層ポリビニルアルコールを含む膜を０．３μｍ加工し、ガスバリア性フィルムを作成した。このガスバリアフィルムの水蒸気透過度は０．０２ｇ／ｍ２・ｄａｙだった。そのガスバリア性フィルム１枚のみを用いて、真空蒸着にて加工した面にアクリル系粘着シート（２０μｍ）をロールラミネートした。グローブボックス内でそのアクリル系粘着シート面を有機ＥＬ層に６０℃に加熱したロールラミネーターにより貼り合わせた後、真空ラミネーターにより８０℃でプレスし、封止した。このようにして得られた有機ＥＬ素子を、６０℃９０％Ｒ．Ｈ．の条件にて放置し、ＥＬ発光層のダークスポットの有無を確認した。ダークスポットの評価は実施例１と同様である。結果を表１に記す。
【００４８】
＜比較例２＞
ＥＬ素子は、実施例１と同様に作製した。以下にバリアフィルム作成の方法を記す。東洋紡社製、１６μｍＰＥＴフィルム  Ｅ５１０７に真空蒸着法によりＳｉＯｘ層を５０ｎｍ形成し、ガスバリア性フィルムを作成した。このガスバリアフィルムの水蒸気透過度は０．３０ｇ／ｍ２・ｄａｙだった。そのガスバリア性フィルム２枚を乾燥膜厚６μｍのポリエステル系接着剤で貼り合わせ、４０℃で１週間エージングを行った。真空蒸着にて加工した面にアクリル系粘着シート（２０μｍ）をロールラミネートした。グローブボックス内でそのアクリル系粘着シート面を有機ＥＬ層に６０℃に加熱したロールラミネーターにより貼り合わせた後、真空ラミネーターにより８０℃でプレスし、封止した。このようにして得られた有機ＥＬ素子を、６０℃９０％Ｒ．Ｈ．の条件にて放置し、ＥＬ発光層のダークスポットの有無を確認した。ダークスポットの評価は実施例１と同様である。結果を表１に記す。
【００４９】
＜比較例３＞
ＥＬ素子は、実施例１と同様に作製した。以下にバリアフィルム作成の方法を記す。東洋紡社製、１６μｍＰＥＴフィルム  Ｅ５１０７にポリビニルアルコールを１μｍ形成し、ガスバリア性フィルムを作成した。このガスバリアフィルムの水蒸気透過度は４５ｇ／ｍ２・ｄａｙ以上だった。そのガスバリア性フィルム２枚を乾燥膜厚６μｍのポリエステル系接着剤で貼り合わせ、４０℃で１週間エージングを行った。ポリビニルアルコールにて加工した面にアクリル系粘着シート（２０μｍ）をロールラミネートした。グローブボックス内でそのアクリル系粘着シート面を有機ＥＬ層に６０℃に加熱したロールラミネーターにより貼り合わせた後、真空ラミネーターにより８０℃でプレスし、封止した。このようにして得られた有機ＥＬ素子を、６０℃９０％Ｒ．Ｈ．の条件にて放置し、ＥＬ発光層のダークスポットの有無を確認した。ダークスポットの評価は実施例１と同様である。結果を表１に記す。
【００５０】
【表１】
2013054985.tif 000003
＜評価結果＞
表１に示した結果から、比較例１のように、それ自身が水蒸気透過度が４０℃９０％Ｒ．Ｈ．の条件下で０．０３ｇ／ｍ２・ｄaｙ以下の高性能ガスバリアフィルムを１枚使用した場合ではダークスポット発生を抑止できなかったが、実施例１〜３のように、水蒸気透過度が４０℃９０％Ｒ．Ｈ．の条件下で０．０３ｇ／ｍ２・ｄaｙ以下の高性能ガスバリアフィルムを２枚使用することにより、高温高湿の雰囲気下でダークスポットの発生を大幅に低減することができた。実施例１，２，３の比較からは、２枚以上のガスバリアフィルムを使用する場合でも、それを構成する１枚のガスバリア性が高いものを使用したほうがより効果が大きいことがわかる。
【符号の説明】
【００５１】
１０、２０・・・ガスバリアフィルム    １１，２１・・・基材フィルム    
１２、２２・・・バリア性薄膜層    １３，２３・・・バリア性塗布膜層    
３０・・・接着剤層    ４０・・・積層体    ５０・・・シール層
【図１】
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【図２】
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