(57)【要約】【課題】基板検査に要する時間を短縮化する。【解決手段】相対的に移動する基板又は受光手段の加速区間及び減速区間においては、移動速度が定速区間の速度よりも小さくなり、受光手段の検出空間分解能が移動方向に小さくなり、定速区間の分解能と加速区間及び減速区間の分解能に差が生じ、検出欠陥形状が面積にズレが生じる。この発明では、加速区間及び減速区間における受光手段の分解能が定速区間における受光手段の分解能とほぼ等しくなるように受光手段のシャッタ速度を加減速中に補正する。また、加速区間及び減速区間における受光手段の感度が定速区間における受光手段の感度とほぼ等しくなるように受光手段の感度を加減速中に補正する。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に対して検査光を相対的に移動させながら照射し、前記基板からの反射光又は散乱光を受光手段にて受光することによって前記基板を検査する基板検査方法において、前記相対的な移動速度が所定速度に到達するまでの加速区間、前記相対的な移動速度が前記所定速度を維持する定速区間、及び前記相対的な移動速度が前記所定速度から減速して停止するまでの減速区間のそれぞれの区間における前記受光手段の分解能が略一定となるように前記受光手段のシャッタ速度を調整しながら検査を行なうことを特徴とする基板検査方法。
【請求項２】
請求項１に記載の基板検査方法において、前記加速区間及び前記減速区間における前記基板の相対的な移動速度に基づいて前記受光手段のシャッタ速度を調整することを特徴とする基板検査方法。
【請求項３】
請求項１に記載の基板検査方法において、前記加速区間、前記定速区間及び前記減速区間のそれぞれの区間における前記受光手段の感度が略一定となるように前記受光手段の感度を調整しながら検査を行なうことを特徴とする基板検査方法。
【請求項４】
請求項３に記載の基板検査方法において、前記加速区間及び前記減速区間における前記受光手段の感度を実際に測定することによって作成した感度補正値に基づいて前記受光手段の感度を調整することを特徴とする基板検査方法。
【請求項５】
請求項１、２、３又は４に記載の基板検査方法において、前記加速区間及び前記減速区間における移動速度が前記定速区間における前記所定速度の約４分の１の速度以上の場合に前記検査を行なうことを特徴とする基板検査方法。
【請求項６】
基板を搭載するステージ手段と、
前記基板に対して検査光を照射し、前記基板からの反射光又は散乱光を受光する光学系手段と、
前記ステージ手段上に搭載された前記基板に対して前記光学系手段を相対的に移動させることによって得られた、前記光学系手段に受光した前記反射光又は前記散乱光の強度に基づいて、前記基板の表面を検査する検査手段と、
前記相対的な移動速度が所定速度に到達するまでの加速区間、前記相対的な移動速度が前記所定速度を維持する定速区間、及び前記相対的な移動速度が前記所定速度から減速して停止するまでの減速区間のそれぞれの区間における前記光学系手段の分解能が略一定となるように前記光学系手段のシャッタ速度を調整するシャッタ速度制御手段と
を備えたことを特徴とする基板検査装置。
【請求項７】
請求項６に記載の基板検査装置において、前記シャッタ速度制御手段は、前記加速区間及び前記減速区間における前記基板の相対的な移動速度に基づいて前記光学系手段のシャッタ速度を調整することを特徴とする基板検査装置。
【請求項８】
請求項６に記載の基板検査装置において、前記加速区間、前記定速区間及び前記減速区間のそれぞれの区間における前記光学系手段の受光感度が略一定となるように前記光学系手段の受光感度を調整しながら検査を行なう感度制御手段を備えたことを特徴とする基板検査装置。
【請求項９】
請求項８に記載の基板検査装置において、前記感度制御手段は、前記加速区間及び前記減速区間における前記光学系手段の受光感度を実際に測定することによって作成した感度補正値に基づいて前記光学系手段の受光感度を調整することを特徴とする基板検査装置。
【請求項１０】
請求項６、７、８又は９に記載の基板検査装置において、前記加速区間及び前記減速区間における移動速度が前記定速区間における前記所定速度の約４分の１の速度以上の場合に検査を行なうことを特徴とする基板検査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示用パネル等の製造に用いられる基板を検査する基板検査方法及び装置に係り、特に基板に対して相対的に移動しながら検査する際の加減速中においても検査を行なうことのできる基板検査方法及び装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示用パネルとして用いられる液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）基板やカラーフィルタ基板、プラズマディスプレイパネル用基板、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示パネル用基板等の製造は、フォトリソグラフィー技術によって、ガラス基板やプラスチック基板等の上にパターンを形成して行われる。その際、基板に傷や異物等の欠陥が存在すると、パターンが良好に形成されず、不良の原因となる。このため、基板検査装置を用いて、基板の傷や異物等の欠陥の検査が行われている。
【０００３】
基板検査装置は、基板を搭載するステージと、レーザービーム等の検査光をステージに搭載された基板へ照射し、基板からの反射光又は散乱光を受光する光学系とを備え、光学系で受光した反射光又は散乱光の強度から基板の傷や異物等の欠陥を検出する。この様な基板検査装置で基板全体を検査するためには、検査光により基板の全面を走査するため、基板全体の検査には時間が掛かる。検査光による基板の走査を行うため、従来、特許文献１に記載の基板検査装置のように光学系を固定してステージをＸＹ方向へ移動するものと、ステージを固定して光学系をＸＹ方向へ移動するものとがあった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平９−２５７６４２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１に記載の基板検査装置のように、光学系を固定してステージを移動する場合もステージを固定して光学系を移動する場合も共に基板と光学系との間の相対的な移動速度が一定速度にある時を、検査可能区間として検査を行なっている。従来は、基板検査装置で検査時間を短縮するために、ステージ又は光学系をより速く移動して、移動速度が一定速度となるようにして、基板の走査を短時間に行なうようにしていた。すなわち、生産性の向上を目的に、検査を行う速度を上昇させ高速化を図っていた。しかしながら、ステージ又は光学系の移動速度は、サーボモータやボールねじ等の移動機構の性能に依存するため、従来の基板検査装置では検査時間の短縮に限界があった。特に、基板が大型化して検査時間が長くなる程、検査時間の短縮化の要求が強くなってきた。
【０００６】
一方、検査速度を上昇させると、ステージ又は光学系の移動速度が実際の検査速度に到達するまでの加速区間、及び検査速度からステージ又は光学系の移動を停止させるまでの減速区間が増加する。この加速区間及び減速区間の増加は、基板検査装置自体の大型化につながり、クリーンルーム等のインフラ資源消費を増加させることとなり、問題である。かといって、従来と同じ加減速区間を維持するためには、サーボモータの駆動力を強化し、ステージ及び光学系の剛性を向上するが必要があり、基板検査装置自体のコストを上昇させるという問題がある。
【０００７】
本発明は、上述の点に鑑みてなされたものであり、基板検査に要する時間を短縮化することのできる基板検査方法及び装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明に係る基板検査方法の第１の特徴は、基板に対して検査光を相対的に移動させながら照射し、前記基板からの反射光又は散乱光を受光手段にて受光することによって前記基板を検査する基板検査方法において、前記相対的な移動速度が所定速度に到達するまでの加速区間、前記相対的な移動速度が前記所定速度を維持する定速区間、及び前記相対的な移動速度が前記所定速度から減速して停止するまでの減速区間のそれぞれの区間における前記受光手段の分解能が略一定となるように前記受光手段のシャッタ速度を調整しながら検査を行なうことにある。相対的に移動する基板又は受光手段の加速区間及び減速区間においては、移動速度が定速区間の速度よりも小さくなり、受光手段の検出空間分解能が移動方向に小さくなり、定速区間の分解能と加速区間及び減速区間の分解能に差が生じ、検出欠陥形状が面積にズレが生じる。そこで、この発明では、加速区間及び減速区間における受光手段の分解能が定速区間における受光手段の分解能とほぼ等しくなるように受光手段のシャッタ速度を加減速中に補正するようにした。これによって、相対的に移動する基板又は受光手段の加減速中でも検査を行なうことができるようになり、基板検査に要する時間を短縮化することが可能となった。
【０００９】
本発明に係る基板検査方法の第２の特徴は、前記第１の特徴に記載の基板検査方法において、前記加速区間及び前記減速区間における前記基板の相対的な移動速度に基づいて前記受光手段のシャッタ速度を調整することにある。受光手段の分解能は、基板の相対的な移動速度とシャッタ速度に関係するので、移動速度に対応したシャッタ速度の補正値を読み出し又は算出し、その値に基づいて受光手段のシャッタ速度を調整する。なお、シャッタ速度の補正値として移動速度に対応したものを用いてもよいし、基板の検査位置又は検査時間に対応したものを用いてもよい。
【００１０】
本発明に係る基板検査方法の第３の特徴は、前記第１の特徴に記載の基板検査方法において、前記加速区間、前記定速区間及び前記減速区間のそれぞれの区間における前記受光手段の感度が略一定となるように前記受光手段の感度を調整しながら検査を行なうことにある。相対的に移動する基板又は受光手段の加速区間及び減速区間においては、移動速度が定速区間の速度よりも小さくなると共に分解能を一定とするためにシャッタ速度を調整しているため、受光手段の感度が増加するようになる。そこで、この発明では、加速区間及び減速区間における受光手段の感度が定速区間における受光手段の感度とほぼ等しくなるように受光手段の感度を加減速中に補正するようにした。これによって、相対的に移動する基板又は受光手段の加減速中でも検査を行なうことができるようになり、基板検査に要する時間を短縮化することが可能となる。
【００１１】
本発明に係る基板検査方法の第４の特徴は、前記第３の特徴に記載の基板検査方法において、前記加速区間及び前記減速区間における前記受光手段の感度を実際に測定することによって作成した感度補正値に基づいて前記受光手段の感度を調整することにある。感度補正値は、実際に基板又は受光手段を移動させ、そのときの受光手段の出力である感度を実測し、その値に基づいて算出した感度補正値を感度補正マップとして準備する。感度を調整するときは、移動速度に対応した補正値を感度補正マップから連続的に切り替えて読み出し、読みだした感度補正値を受光手段からの出力に乗じて補正を行なう。なお、感度補正マップは、移動速度に対応したものでもよいし、基板の検査における現在位置又は検査における経過時間に対応したものを用いてもよい。
【００１２】
本発明に係る基板検査方法の第５の特徴は、前記第１、第２、第３又は第４の特徴に記載の基板検査方法において、前記加速区間及び前記減速区間における移動速度が前記定速区間における前記所定速度の約４分の１の速度以上の場合に前記検査を行なうことにある。これは、加速区間の移動直後及び減速区間の停止直前の速度過渡期は、検査を行なわないことで、加速区間及び減速区間における検査精度を向上させるようにしたものである。
【００１３】
本発明に係る基板検査装置の第１の特徴は、基板を搭載するステージ手段と、前記基板に対して検査光を照射し、前記基板からの反射光又は散乱光を受光する光学系手段と、前記ステージ手段上に搭載された前記基板に対して前記光学系手段を相対的に移動させることによって得られた、前記光学系手段に受光した前記反射光又は前記散乱光の強度に基づいて、前記基板の表面を検査する検査手段と、前記相対的な移動速度が所定速度に到達するまでの加速区間、前記相対的な移動速度が前記所定速度を維持する定速区間、及び前記相対的な移動速度が前記所定速度から減速して停止するまでの減速区間のそれぞれの区間における前記光学系手段の分解能が略一定となるように前記光学系手段のシャッタ速度を調整するシャッタ速度制御手段とを備えたことにある。これは、前記基板検査方法の第１の特徴を利用した基板検査装置の発明である。
【００１４】
本発明に係る基板検査装置の第２の特徴は、前記第１の特徴に記載の基板検査装置において、前記シャッタ速度制御手段は、前記加速区間及び前記減速区間における前記基板の相対的な移動速度に基づいて前記光学系手段のシャッタ速度を調整することにある。これは、前記基板検査方法の第２の特徴を利用した基板検査装置の発明である。
【００１５】
本発明に係る基板検査装置の第３の特徴は、前記第１の特徴に記載の基板検査装置において、前記加速区間、前記定速区間及び前記減速区間のそれぞれの区間における前記光学系手段の受光感度が略一定となるように前記光学系手段の受光感度を調整しながら検査を行なう感度制御手段を備えたことにある。これは、前記基板検査方法の第３の特徴を利用した基板検査装置の発明である。
【００１６】
本発明に係る基板検査装置の第４の特徴は、前記第３の特徴に記載の基板検査装置において、前記感度制御手段が、前記加速区間及び前記減速区間における前記光学系手段の受光感度を実際に測定することによって作成した感度補正値に基づいて前記光学系手段の受光感度を調整することにある。これは、前記基板検査方法の第４の特徴を利用した基板検査装置の発明である。
【００１７】
本発明に係る基板検査装置の第５の特徴は、前記第１、第２、第３又は第４の特徴に記載の基板検査装置において、前記加速区間及び前記減速区間における移動速度が前記定速区間における前記所定速度の約４分の１の速度以上の場合に検査を行なうことにある。これは、前記基板検査方法の第５の特徴を利用した基板検査装置の発明である。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、基板検査に要する時間を短縮化することができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明に係る基板検査装置を上側から見た上面図である。
【図２】図１の基板検査装置を紙面手前方向から見た側面図である。
【図３】本発明の基板検査方法の動作を説明するための図である。
【図４】本発明の基板検査方法を実現するための検出素子のシャッタ速度補正の概要を示す図である。
【図５】本発明に係る基板検査方法のシャッタ速度補正動作の一例を示すフローチャート図である。
【図６】本発明の基板検査方法を実現するための感度補正の概要を示す図である。
【図７】本発明に係る基板検査方法の検出感度補正動作の一例を示すフローチャート図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、図面に基づいて本発明の実施の形態を説明する。図１は、本発明に係る基板検査装置を上側から見た上面図であり、図２は、図１の基板検査装置を紙面手前方向から見た側面図である。ガラス基板検査装置１００は、大別して、基台フレーム１、検査ステージ２、光学部３、リフトピン９で構成されている。
【００２１】
基台フレーム１は、複数の角パイプの溶接構造体から構成され、下部に脚を持つことで床上に設置される。検査ステージ２は、基台フレーム１の上部の基板投入口側に寄って固定されている。光学部３は、門型のガントリ構造をしており、基台フレーム１の上部であって、ガラス基板の投入方向に沿って並列設置されているリニアガイド７ａ、７ｂ上に移動可能に搭載されている。光学部３は、基台フレーム１の側面に設けられた光学部Ｘ駆動部５によって、ガラス基板投入方向であるＸ方向へ往復動作を行う。光学ヘッド４ａ，４ｂは、ガラス基板表面の欠陥や異物の検査を行うものであり、光学部３の側面Ｙ方向に沿って設けられたガイド８ａ，８ｂに従って、光学部Ｙ駆動部（図示せず）によるＸ方向の動作１回につきＸ方向と直角方向であるＹ方向へシフト動作を行うようになっている。ガラス基板検査装置１００による検査は、検査光をガラス基板の表面又は内部に照射し、散乱された散乱光を受光することによって行われる。このとき光学ヘッド４ａ，４ｂがガラス基板の表面や内部を検査できるのは、検査ステージ２の載置バー間の凹み部分のみである。そのために、一度走査を完了したらガラス基板をＹ方向にずらして、残りの部分を検査している。光学部３のＸ方向往復動作及びＹ方向シフト動作、リフトピン９によるガラス基板Ｙ方向のシフト動作により、ガラス基板全面の検査を可能とする。
【００２２】
図２に示すように基台フレーム１の内部には、リニアガイド１２ａ、１２ｂがＹ方向並列に設置され、その上にピンＹ駆動部１１及びピン上下駆動部１０を搭載した第１リフタ上下基台１３が設置されている。検査ステージ２には、ガラス基板を持ち上げるためのリフトピン９を通過させるための複数の穴が設けられている。リフトピン９は、ピン上下駆動部１０上に搭載されたリフタユニット基台１４の上面側に複数本設置されている。リフトピン９は、ガラス基板の受け取り時に上昇し、受け取り後下降することで検査ステージ２へガラス基板の受け渡しを行う。また、リフトピン９が上昇し、ガラス基板を持ち上げ、Ｙ方向へシフト動作を行う。
【００２３】
リフタユニット基台１４は、第２リフタ上下基台１５上のボールベアリング１６上に乗っており、Ｘ方向及びＹ方向に自由に移動可能になっている。Ｘ方向及びＹ方向の移動は、図示していないリフタ上下基台１５上に取り付けられたＸ方向アライメントモータ、Ｙ方向ライメントモータの駆動により行われる。リフタ上下基台１５は、ピン上下駆動部１０の駆動によって上下方向に移動される。リフタ上下基台１５を上昇させることで、リフタユニット基台１４とリフトピン９も上昇し、検査ステージ２上のガラス基板を検査ステージ２を構成する載置バーから離反するように持ち上げ、アライメント及び検査動作時におけるガラス基板のシフト動作を行うことができるようになっている。
【００２４】
図３は、本発明の基板検査方法の動作を説明するための図である。図３（Ａ）は、従来の基板検査装置におけるガラス基板を搭載した検査ステージ２の移動速度（検査光と検査ステージ２との間の相対的な移動速度のことである）と時間の関係を示す図である。図３（Ａ）に示すように、検査ステージ２及びガスラ基板が移動を開始して、時刻ｔ２で検査可能な所定速度ｖ０に到達する。従来は、検査ステージ２の移動速度が所定速度ｖ０に到達してから、ガラス基板に検査光を照射して検査を実行している。この場合における実際の検査時間は、時刻ｔ２か時刻ｔ５までの時間（ｔ５−ｔ２）である。時刻ｔ５で検査が終了すると、検査ステージ２は減速して時刻ｔ７に停止する。検査ステージ２及びガラス基板を移動させてから所定の検査終了後、検査ステージ２が停止するまでに時間ｔ７を要することになる。図３（Ａ）において、検査時の所定速度ｖ０と検査時間（ｔ５−ｔ２）との積であるｖ０×（ｔ５−ｔ２）（時刻ｔ２から時刻ｔ５に囲まれる長方形の面積）がガラス基板の検査距離となる。この検査距離は、ガラス基板の大きさに応じた一定の大きさとなる。
【００２５】
図３（Ｂ）は、本発明に係る基板検査方法を適用した基板検査装置におけるガラス基板を搭載した検査ステージ２の移動速度と時間との関係を示す図であり、図３（Ａ）に対応してものである。図に示すように、検査ステージ２及びガスラ基板が移動を開始して、所定速度ｖ０に到達するまでの時間は、図３（Ａ）の従来と同じ時刻ｔ２である。従来は、この時刻ｔ２で検査を実行しているが、本発明に係る基板検査方法では、この所定速度ｖ０の約４分の１の速度ｖ１に到達した時刻ｔ１でガラス基板に検査光を照射して所定の検査を実行する。そして、検査ステージ２及びガスラ基板が所定速度ｖ０に到達してからは、通常通りの検査を実行し、時刻ｔ３で検査ステージ２及びガスラ基板を減速して、時刻ｔ６で停止する。このとき、時刻ｔ３から減速を開始してから、移動速度が所定速度ｖ０の約４分の１の速度ｖ１まで減速した時刻ｔ４で検査を終了する。
【００２６】
この場合における実際の検査時間は、時刻ｔ１から時刻ｔ４までの時間（ｔ４−ｔ１）である。検査終了後、検査ステージ２は、減速し時刻ｔ６で移動を停止する。本発明に係る基板検査方法の場合、検査ステージ２及びガラス基板を移動させてから所定の検査が終了して、検査ステージ２が停止するまでに要する時間は、時刻ｔ０から時刻ｔ６までの時間（ｔ６−ｔ０）となる。時刻ｔ６は、図３（Ａ）の時刻ｔ５よりも若干遅いが、時刻ｔ７よりも加速時間（ｔ２−ｔ０）又は減速時間（ｔ７−ｔ５）に相当する時間だけ早い時刻である。図３（Ｂ）において、時刻ｔ１から時刻ｔ４に囲まれる多角形の面積がガラス基板の検査距離となり、この多角形の面積が図３（Ａ）の時刻ｔ２から時刻ｔ５に囲まれる長方形の面積とほぼ同じとなる。すなわち、本発明に係る基板検査方法は、検査ステージ２及びガスラ基板が所定速度ｖ０に到達する前の加速区間及び減速区間においても、検査を実行することによって、実際の検査に要する時間を従来の加速時間（減速時間）に相当する時間分を短縮化することができる。
【００２７】
図４は、本発明の基板検査方法を実現するための検出素子のシャッタ速度補正の概要を示す図である。図４（Ａ）は、図３（Ｂ）に示した本発明の基板検査方法における検査ステージ２の移動速度と時間との関係を示す図と同じ図である。光学ヘッド４ａ，４ｂの検出素子がＣＣＤ及びＣＭＯＳ方式で構成されているので、検出素子のシャッタ速度を通常通り一定の状態で、検査光を照射して検査を実行した場合、図４（Ｂ）に示すように、検査ステージ２の加速区間及び減速区間すなわち設定速度ｖ０未満の領域では、移動方向における検出素子の分解能が移動速度の増加に応じて徐々に増加するという特性を示す。時刻ｔ２から時刻ｔ３までの領域、検査ステージ２の移動速度が所定速度ｖ０である領域では、検出素子の分解能は所定値ｒ０である。時刻ｔ３から時刻ｔ４までの減速区間では、検出素子の分解能は徐々に減少するという特性を示す。これは、加速区間及び減速区間のようにガラス基板の移動速度が変化しているにも関わらず、検出素子のシャッタ速度が一定のままだからである。
【００２８】
そこで、この実施の形態では、ガラス基板の移動速度に応じて検出素子のシャッタ速度を調整するようにした。すなわち、この実施の形態では、図４（Ｃ）に示すように、時刻ｔ２から時刻ｔ３までの分解能一定領域のシャッタ速度補正値１．０とし、その前後、すなわち時刻ｔ１から時刻ｔ２までの加速区間及び時刻ｔ３から時刻ｔ４までの減速区間において、図４（Ｂ）の検出素子の分解能に対応したシャッタ速度補正値を検出素子のシャッタ速度に乗じ、検査時間における検出素子のシャッタ速度が所定値ｒ０となるように補正を行なう。シャッタ速度補正値は、ガラス基板の実際の移動速度に対応したものを用いる。
【００２９】
図５は、本発明に係る基板検査方法のシャッタ速度補正動作の一例を示すフローチャート図である。最初のステップＳ５１では、ガラス基板の表面検査を行なうために、検出光学系である光学部３又はガラス基板（検査ステージ２）の移動を開始する。ステップＳ５２では、移動を開始した検出光学系である光学部３又はガラス基板（検査ステージ２）の現在位置を検出すると共に、そのときの移動速度を算出する。ステップＳ５３では、現在位置又は算出された移動速度に対応したシャッタ速度補正値を補正マップから読み込む又は算出する。ステップＳ５４では、シャッタ速度補正値を光学部３の光学ヘッド４ａ，４ｂを構成する検出素子の通常のシャッタ速度に乗じ、シャッタ速度の補正を行なう。これによって、基板検査装置は、検査ステージ２の加速区間及び減速区間においても、所定値ｒ０の分解能で検査を行なうことができる。
【００３０】
図６は、本発明の基板検査方法を実現するための感度補正の概要を示す図である。図６（Ａ）は、図３（Ｂ）の検査ステージ２の移動速度と時間との関係を示す図と同じ図である。光学ヘッド４ａ，４ｂの検出素子がＣＣＤ及びＣＭＯＳ方式で構成されているので、通常通り、検査光を照射して検査を実行した場合、図６（Ｂ）に示すように、検査ステージ２の加速区間及び減速区間すなわち設定速度ｖ０未満の領域では、検出素子の感度が移動速度に応じて増加するという特性を示す。時刻ｔ２から時刻ｔ３までの領域、検査ステージ２の移動速度が所定速度ｖ０である領域では、検出素子の感度は一定値ｓ０である。時刻ｔ３から時刻ｔ４までの減速区間では、検出素子の感度は徐々に増加するという特性を示す。これは、加速区間及び減速区間のようにガラス基板の移動速度が変化しているにも関わらず、検出素子の感度が一定のままだからである。
【００３１】
そこで、この実施の形態では、ガラス基板の移動速度に応じて検出素子の感度を調整するようにした。すなわち、図６（Ｃ）に示すように、時刻ｔ２から時刻ｔ３までの感度一定領域の感度補正値を０［％］とし、その前後、すなわち時刻ｔ１から時刻ｔ２までの加速区間及び時刻ｔ３から時刻ｔ４までの減速区間において、図６（Ｂ）の検出素子の感度に対応した感度補正値を検出素子の出力に乗じ、検査時間における検出素子の感度を所定値ｓ０となるように補正を行なう。感度補正値は、実際に基板検査装置を動作させ、検出素子の感度を実測し、その値に基づいて算出した感度補正マップを準備し、移動速度に対応した補正値を連続的に切り替え、検出素子からの出力に乗じて補正を行なう。なお、感度補正マップは、移動速度に対応したものでもよいし、ガラス基板の検査における現在位置、検査における経過時間に対応したものを用いてもよい。
【００３２】
図７は、本発明に係る基板検査方法の検出感度補正動作の一例を示すフローチャート図である。最初のステップＳ７１では、ガラス基板の表面検査を行なうために、検出光学系である光学部３又はガラス基板（検査ステージ２）の移動を開始する。ステップＳ７２では、移動を開始した検出光学系である光学部３又はガラス基板（検査ステージ２）の現在位置を検出すると共に、そのときの移動速度を算出する。ステップＳ７３では、算出された移動速度に対応した補正値を感度補正マップから読み込む。ステップＳ７４では、感度補正マップから読み込まれた補正値を光学部３の光学ヘッド４ａ，４ｂを構成する検出素子の出力信号に乗じ、補正を行なう。これによって、基板検査装置は、検出素子の出力信号の感度を所定値ｓ０として、検査を実行することができる。
【００３３】
検出素子の感度及びシャッタ速度の両方を補正することによって、加速区間及び減速区間における検査精度を向上することができるが、感度及びシャッタ速度のいずれか一方を補正するだけでもよいことは言うまでもない。
【符号の説明】
【００３４】
１…基台フレーム、
２…検査ステージ、
３…光学部、
４ａ，４ｂ…光学ヘッド、
５…光学部Ｘ駆動部、
７ａ，７ｂ…リニアガイド、
８ａ，８ｂ…ガイド、
９…リフトピン、
１０…ピン上下駆動部、
１１…ピンＹ駆動部、
１２ａ，１２ｂ…リニアガイド、
１３…リフタ上下基台、
１４…リフタユニット基台、
１５…リフタ上下基台、
１６…ボールベアリング、
１００…ガラス基板検査装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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