(57)【要約】【課題】  キャパシタの保持容量の均一化を確保した上で保持容量の増加を図る。【解決手段】  走査信号が入力される走査線と、画像信号が入力され走査線に直交して配置された信号線と、信号線に平行な状態で配置された保持容量線と、トランジスタのゲート電極を覆うゲート絶縁部を有する絶縁膜と、トランジスタに接続された画素電極と、保持容量線に接続された第１の電極と画素電極に接続された第２の電極とを有するキャパシタと、トランジスタのソース電極及びドレイン電極を覆う第１の絶縁部と、第１の電極と第２の電極の間に設けられた第２の絶縁部とを有する保護膜とを備え、第１の電極と第２の電極が保護膜の第２の絶縁部を挟んで対向して配置された。【選択図】        図３
2013242420.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
走査信号が入力される走査線と、
画像信号が入力され前記走査線に直交して配置された信号線と、
前記信号線に平行な状態で配置された保持容量線と、
トランジスタのゲート電極を覆うゲート絶縁部を有する絶縁膜と、
前記トランジスタに接続された画素電極と、
前記保持容量線に接続された第１の電極と前記画素電極に接続された第２の電極とを有するキャパシタと、
前記トランジスタのソース電極及びドレイン電極を覆う第１の絶縁部と、前記第１の電極と前記第２の電極の間に設けられた第２の絶縁部とを有する保護膜とを備え、
前記第１の電極と前記第２の電極が前記保護膜の第２の絶縁部を挟んで対向して配置された
表示装置。
【請求項２】
前記保護膜の第２の絶縁部の厚みが前記絶縁膜のゲート絶縁部の厚みより薄くされた
請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記保護膜の誘電率が前記絶縁膜の誘電率より高くされた
請求項１に記載の表示装置。
【請求項４】
前記キャパシタに、前記トランジスタに接続され前記絶縁膜を挟んで第１の電極の反対側に位置された第３の電極を設けた
請求項１に記載の表示装置。
【請求項５】
前記画素電極と前記保護膜の少なくとも第１の絶縁部との間に平坦化膜が設けられ、
前記平坦化膜に凹部が形成され、
前記凹部の底面部に前記キャパシタの第２の電極が設けられた
請求項１に記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本技術は表示装置についての技術分野に関する。詳しくは、キャパシタの第１の電極と第２の電極をゲート絶縁部を有する絶縁膜とは異なる保護膜を挟んで対向して配置してキャパシタの保持容量の均一化を確保した上で保持容量の増加を図る技術分野に関する。
【背景技術】
【０００２】
電気泳動ディスプレイや液晶ディスプレイや有機ＥＬ（Electro Luminescence）ディスプレイ等の表示部が用いられた表示装置として、例えば、テレビジョン受像器、パーソナルコンピューター、モニター、携帯電話、タブレット端末等の各種のものが開発又は製品化されている。
【０００３】
特に、近年は、書籍の内容等の情報がディスプレイに表示される電子書籍等の表示装置の普及も進んでいる。
【０００４】
このようなディスプレイは、ガラス基板やプラスチック基板上に走査線と信号線がマトリクス状に配置され、走査線と信号線によって区画された領域に配置された画素電極や走査線に平行な状態で配置された保持容量線等を有している。走査線と信号線の交差部分にはスイッチング素子として機能する薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Thin Film Transistor）が設けられ、走査線に接続されたゲート電極と信号線に接続されたソース電極及びドレイン電極との間には絶縁膜（ゲート絶縁膜）が設けられる。
【０００５】
ディスプレイのうち、上記のような走査線や信号線やトランジスタが設けられた部分はトランジスタ層として設けられ、例えば、電気泳動ディスプレイにおいては、トランジスタ層の画素電極と表面層である対向電極との間に複数の電気泳動素子が縦横に隙間なく配置されている。電気泳動素子は、それぞれ正と負に帯電した白色と黒色の顔料粒子がオイルとともに内部に収められた透明なマイクロカプセルとして構成されている。
【０００６】
トランジスタ層は一連のフォトリソグラフィ工程、即ち、成膜、フォトレジスト塗布、露光、現像、エッチング及びフォトレジスト剥離の工程が繰り返し行われることにより形成される。
【０００７】
上記のようなディスプレイには、直流電流の漏れや泳動の際の過渡電流の影響を抑制するためのキャパシタが設けられている。キャパシタは保持容量線に接続された第１の電極と薄膜トランジスタのドレイン電極に接続された第２の電極とが上記した絶縁膜（ゲート絶縁膜）を挟んで対向して配置されることにより構成されている。トランジスタ層の形成にあっては、所定の領域に走査線、信号線及びトランジスタが設けられ、残りの領域（面積）がキャパシタの形成が可能な領域とされる。
【０００８】
ディスプレイには、上記のような電荷を保持するためのキャパシタを設ける必要があるが、キャパシタには直流電流の漏れや過渡電流の影響を抑制してディスプレイの適正な動作を確保するために十分な保持容量が必要とされ、保持容量の増加を図ることが望ましい。電気泳動ディスプレイにあっては、液晶ディスプレイに比較してセルギャップ、即ち、電気泳動素子が配置される表示体層の厚みが大きく、直流電流の漏れや過渡電流の発生を抑制するために特にキャパシタにおける保持容量の増加の必要性が高い。
【０００９】
しかしながら、保持容量の増加を図るためにキャパシタの大きさ（面積）を大きくしようとすると、キャパシタが走査線、信号線及びトランジスタが設けられる以外の領域に設けられるため、ディスプレイの全体の大きさが大きくなり表示装置の小型化を阻害してしまう。従って、表示装置の小型化を確保し上でキャパシタの保持容量の増加を図るためには、単位面積当たりの保持容量の増加が必要とされる。
【００１０】
一方、トランジスタ層にあっては、走査線と信号線の交差部分においてもクロス容量と称される容量が生じるが、クロス容量は走査線や信号線における電気信号の遅延の原因となり得るため小さい方が好ましい。従って、クロス容量を小さくするために、走査線に接続されたゲート電極と信号線に接続されたソース電極との間に設けられた絶縁膜を厚くすると、キャパシタの第１の電極と第２の電極の距離が大きくなって保持容量が減少してしまう。
【００１１】
そこで、従来の表示装置には、絶縁膜を一部を除いて第１の絶縁膜と第２の絶縁膜の２層構造にしてクロス容量の減少とキャパシタの保持容量の増加を図るようにしたものがある（例えば、特許文献１参照）。
【００１２】
特許文献１に記載された表示装置にあっては、トランジスタのゲート電極とソース電極及びドレイン電極との間には第１の絶縁膜と第２の絶縁膜が積層された状態で設けられ、キャパシタの第１の電極と第２の電極の間には第１の絶縁膜に開口を形成し、この開口に第２の絶縁膜を設けることにより絶縁膜の厚みを薄くしている。
【００１３】
従って、ゲート電極とソース電極及びドレイン電極との間には２層構造の絶縁膜が設けられることによりクロス容量の減少が図られ、キャパシタの第１の電極と第２の電極の間には１層構造の絶縁膜が設けられることにより保持容量の増加が図られている。
【００１４】
【特許文献１】特開２０１１−１６４３０３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
ところが、特許文献１に記載された表示装置にあっては、絶縁膜を第１の絶縁膜と第２の絶縁膜の２層構造にしているため、絶縁膜の形成工程において成膜、パターニング、エッチング及び再度の成膜と言う工程が必要になる。
【００１６】
従って、絶縁膜を均一な厚みに形成することが困難であり、キャパシタの保持容量の均一化が阻害されるおそれがある。
【００１７】
そこで、本技術表示装置は、上記した問題点を克服し、キャパシタの保持容量の均一化を確保した上で保持容量の増加を図ることを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
第１に、表示装置は、上記した課題を解決するために、走査信号が入力される走査線と、画像信号が入力され前記走査線に直交して配置された信号線と、前記信号線に平行な状態で配置された保持容量線と、トランジスタのゲート電極を覆うゲート絶縁部を有する絶縁膜と、前記トランジスタに接続された画素電極と、前記保持容量線に接続された第１の電極と前記画素電極に接続された第２の電極とを有するキャパシタと、前記トランジスタのソース電極及びドレイン電極を覆う第１の絶縁部と、前記第１の電極と前記第２の電極の間に設けられた第２の絶縁部とを有する保護膜とを備え、前記第１の電極と前記第２の電極が前記保護膜の第２の絶縁部を挟んで対向して配置されたものである。
【００１９】
従って、表示装置においては、ゲート絶縁部と第２の絶縁部が異なる絶縁層として設けられる。
【００２０】
第２に、上記した表示装置においては、前記保護膜の第２の絶縁部の厚みが前記絶縁膜のゲート絶縁部の厚みより薄くされることが望ましい。
【００２１】
保護膜の第２の絶縁部の厚みが絶縁膜のゲート絶縁部の厚みより薄くされることにより、走査線と信号線の交差部分において形成されるクロス容量を大きくされることなくキャパシタの保持容量が大きくなる。
【００２２】
第３に、上記した表示装置においては、前記保護膜の誘電率が前記絶縁膜の誘電率より高くされることが望ましい。
【００２３】
保護膜の誘電率が絶縁膜の誘電率より高くされることにより、走査線と信号線の交差部分において形成されるクロス容量を大きくされることなくキャパシタの保持容量が大きくなる。
【００２４】
第４に、上記した表示装置においては、前記キャパシタに、前記トランジスタに接続され前記絶縁膜を挟んで第１の電極の反対側に位置された第３の電極を設けることが望ましい。
【００２５】
キャパシタに、トランジスタに接続され絶縁膜を挟んで第１の電極の反対側に位置された第３の電極を設けることにより、キャパシタが三つの電極とこられの三つの電極の間に設けられた保護層及び絶縁層によって構成される。
【００２６】
第５に、上記した表示装置においては、前記画素電極と前記保護膜の少なくとも第１の絶縁部との間に平坦化膜が設けられ、前記平坦化膜に凹部が形成され、前記凹部の底面部に前記キャパシタの第２の電極が設けられることが望ましい。
【００２７】
画素電極と保護膜の少なくとも第１の絶縁部との間に平坦化膜が設けられ、平坦化膜に凹部が形成され、凹部の底面部にキャパシタの第２の電極が設けられることにより、平坦化膜が存在しない位置に第２の電極が設けられる。
【発明の効果】
【００２８】
本技術表示装置は、走査信号が入力される走査線と、画像信号が入力され前記走査線に直交して配置された信号線と、前記信号線に平行な状態で配置された保持容量線と、トランジスタのゲート電極を覆うゲート絶縁部を有する絶縁膜と、前記トランジスタに接続された画素電極と、前記保持容量線に接続された第１の電極と前記画素電極に接続された第２の電極とを有するキャパシタと、前記トランジスタのソース電極及びドレイン電極を覆う第１の絶縁部と、前記第１の電極と前記第２の電極の間に設けられた第２の絶縁部とを有する保護膜とを備え、前記第１の電極と前記第２の電極が前記保護膜の第２の絶縁部を挟んで対向して配置されている。
【００２９】
従って、保護膜の形成が絶縁膜の形成に影響を受けることがなく、保護膜を均一な厚みに形成することができ、キャパシタの保持容量の均一化を確保した上で保持容量の増加を図ることができる。
【００３０】
請求項２に記載した技術にあっては、前記保護膜の第２の絶縁部の厚みが前記絶縁膜のゲート絶縁部の厚みより薄くされている。
【００３１】
従って、走査線と信号線の交差部分において形成されるクロス容量を大きくすることなくキャパシタの保持容量を大きくすることができ、電気信号の遅延の防止及び表示装置の動作の適正化を図ることができる。
【００３２】
請求項３に記載した技術にあっては、前記保護膜の誘電率が前記絶縁膜の誘電率より高くされている。
【００３３】
従って、走査線と信号線の交差部分において形成されるクロス容量を大きくすることなくキャパシタの保持容量を大きくすることができ、電気信号の遅延の防止及び表示装置の動作の適正化を図ることができる。
【００３４】
請求項４に記載した技術にあっては、前記キャパシタに、前記トランジスタに接続され前記絶縁膜を挟んで第１の電極の反対側に位置された第３の電極を設けている。
【００３５】
従って、保持容量の一層の増加を図ることができる。
【００３６】
請求項５に記載した技術にあっては、前記画素電極と前記保護膜の少なくとも第１の絶縁部との間に平坦化膜が設けられ、前記平坦化膜に凹部が形成され、前記凹部の底面部に前記キャパシタの第２の電極が設けられている。
【００３７】
従って、画素電極に接続されキャパシタを構成する第２の電極を容易に形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３８】
以下に、本技術表示装置を実施するための最良の形態を添付図面に従って説明する。
【００３９】
以下に示した最良の形態は、本技術表示装置をディスプレイとして電気泳動ディスプレイが用いられた電子書籍等のタブレット端末としての機能を有する表示装置に適用したものである。
【００４０】
尚、本技術表示装置の適用範囲は電気泳動ディスプレイが用いられた電子書籍等のタブレット端末としての機能を有する表示装置に限られることはない。本技術表示装置は、液晶ディスプレイや有機ＥＬ（Electro Luminescence）ディスプレイ等の他の種類のディスプレイを有する表示装置に広く適用することができ、また、例えば、電子書籍以外のタブレット端末、テレビジョン受像器、パーソナルコンピューター、モニター、携帯電話、カメラ等の撮像装置等のディスプレイを有する各種の表示装置に広く適用することができる。
【００４１】
［表示装置の概略構成］
以下に、表示装置の概略構成について説明する（図１参照）。
【００４２】
表示装置１は、例えば、電子書籍等のタブレット端末であり、薄型の筐体２と筐体２に保持されたディスプレイ３とを有している。
【００４３】
筐体２には各種の操作部４、４、・・・が配置されている。操作部４、４、・・・が操作されることにより、電源のオンオフやモードの切替、ディスプレイ３に対する画面の表示及び変更等の各種の操作が行われる。
【００４４】
ディスプレイ３は、例えば、電気泳動ディスプレイであり、前面が表示面３ａとして形成されている。
【００４５】
［ディスプレイの具体的構成］
次に、ディスプレイ３の具体的構成について説明する（図２及び図３参照）。
【００４６】
ディスプレイ３は厚み方向において順に積層された電極層５と表示体層６と粘着層７とトランジスタ層８を有している（図３参照）。
【００４７】
電極層５は表面層（カバー層）と表面層の内面に積層されたＩＴＯ層（透明電極層）とを有している。
【００４８】
表示体層６は縦横に隙間なく配置された複数のマイクロカプセル６ａ、６ａ、・・・を有している。マイクロカプセル６ａは電気泳動素子として機能し、内部に、例えば、白色と黒色の顔料粒子がオイルとともに収められて構成されている。白色と黒色の顔料粒子はそれぞれ正と負に帯電されている。
【００４９】
粘着層７は表示体層６とトランジスタ層８を接合する層であり、所定の粘着剤によって形成されている。
【００５０】
トランジスタ層８はガラス材料又はプラスチック材料によって形成されたベース板９に所定の各部が積層状に設けられて成る（図２及び図３参照）。
【００５１】
ベース板９上には所定の方向に延びる走査線１０が配置され、走査線１０にはゲート電極１０ａが接続されている。ベース板９上には絶縁膜１１が積層され、絶縁膜１１のうちゲート電極１０ａを覆う部分がゲート絶縁部１１ａとして設けられている。
【００５２】
絶縁膜１１上には保持容量線１２が配置され、保持容量線１２は走査線１０に直交する状態で設けられている。保持容量線１２には第１の電極１２ａが接続されている。また、絶縁膜１１上にはゲート絶縁部１１ａを挟んでゲート電極１０ａの反対側の位置に半導体１３が配置されている。
【００５３】
絶縁膜１１上には信号線１４が配置され、信号線１４は走査線１０に直交する状態で設けられている。信号線１４にはソース電極１４ａが接続され、ソース電極１４ａは半導体１３の一方の面に接続されている。また、絶縁膜１１上には接続線１５が配置され、接続線１５にドレイン電極１５ａが接続されている。ドレイン電極１５ａは半導体１３の一方の面にソース電極１４ａの側方において接続されている。
【００５４】
上記のように、ゲート絶縁部１１ａを挟んでゲート電極１０ａの反対側の位置に半導体１３が配置され、半導体１３の一方の面にソース電極１４ａとドレイン電極１５ａがそれぞれ接続されることによりトランジスタ（薄膜トランジスタ）１６が構成される。
【００５５】
絶縁膜１１上には保護膜１７が積層されている。保護膜１７によって保持容量線１２、半導体１３、信号線１４及び接続線１５が覆われる。保護膜１７のうち、ソース電極１４ａとドレイン電極１５ａを覆う部分は第１の絶縁部１７ａとして設けられ、第１の電極１２ａを覆う部分は第２の絶縁部１７ｂとして設けられている。保護膜１７には接続線１５の一部に連通される連通孔１７ｃが形成されている。
【００５６】
保護膜１７は、例えば、絶縁膜１１とは異なる材料によって形成され、誘電率が絶縁膜１１の誘電率より高くされている。尚、保護膜１７は絶縁膜１１と同じ材料によって形成されていてもよく、この場合には第２の絶縁部１７ｂの厚みがゲート絶縁部１１ａの厚みより薄くされる。また、保護膜１７は絶縁膜１１とは異なる材料によって形成され、誘電率が絶縁膜１１の誘電率より高くされ、かつ、第２の絶縁部１７ｂの厚みがゲート絶縁部１１ａの厚みより薄くされてもよい。
【００５７】
保護膜１７上には第２の絶縁部１７ｂを除いた部分に平坦化膜１８が積層されている。このように平坦化膜１８は保護膜１７のうち第２の絶縁部１７ｂを除いた部分に積層されているため、平坦化膜１８には第２の絶縁部１７ｂに対応する部分に凹部１８ａが形成されている。
【００５８】
平坦化膜１８上には画素電極１９が配置されている。画素電極１９には第２の絶縁部１７ｂ上に配置された第２の電極１９ａが接続されている。従って、第２の電極１９ａは凹部１８の底面部に位置され、第２の電極１９ａは第２の絶縁部１７ｂを挟んで第１の電極１２ａに対向した状態にされている。第１の電極１２ａと第２の絶縁部１７ｂと第２の電極１９ａによってキャパシタ２０が構成される。
【００５９】
画素電極１９は凹部１８ａ及び連通孔１７ｃを介して接続線１５に接続されたドレイン電極１５ａに接続されている。
【００６０】
上記のように、ディスプレイ３にあっては、平坦化膜１８に凹部１８ａが形成され、凹部１８ａの底面部にキャパシタ２０を構成する第２の電極１９ａが設けられている。
【００６１】
このようにディスプレイ３にあっては、平坦化膜１８に凹部１８ａを形成し、凹部１８ａに第２の電極１９ａを設けているため、画素電極１９に接続されキャパシタ２０を構成する第２の電極１９ａを容易に形成することができる。
【００６２】
［ディスプレイにおける動作］
上記のように構成されたディスプレイ３において、図示しない制御回路から駆動電流が供給され電極層５と画素電極１９の間に電界が生じると、表示体層６に配置された複数のマイクロカプセル６ａ、６ａ、・・・の白色と黒色の顔料粒子がそれぞれオイル中を泳動する。このとき正又は負の何れかの電圧によって白色又は黒色の顔料粒子がマイクロカプセル６ａ、６ａ、・・・内において電極層５側に集まることにより、白黒の表示が行われる。
【００６３】
［ディスプレイの製造工程］
次に、ディスプレイ３の製造工程について説明する（図３乃至図８参照）。尚、ディスプレイ３は一連のフォトリソグラフィ工程、即ち、成膜、フォトレジスト塗布、露光、現像、エッチング及びフォトレジスト剥離の工程が繰り返し行われることにより製造される。
【００６４】
先ず、ベース板９上に走査線１０が形成され、絶縁膜１１が積層されて走査線１０が覆われる（図４参照）。走査線１０の形成時には同時にゲート電極１０ａが形成される。
【００６５】
次に、絶縁膜１１上に保持容量線１２が形成され、絶縁膜１１上に半導体１３が搭載され信号線１４と接続線１５が形成される（図５参照）。このとき保持容量線１２は接続線１５に接続されない。保持容量線１２の形成時には同時に第１の電極１２ａが形成され、信号線１４と接続線１５の形成時には同時にそれぞれソース電極１４ａとドレイン電極１５ａが形成される。
【００６６】
次いで、絶縁膜１１上に保護膜１７が形成される（図６参照）。このとき保護膜１７には接続線１５に連通される連通孔１７ｃが形成される。
【００６７】
続いて、保護膜１７上に平坦化膜１８が形成される（図７参照）。このとき平坦化膜１８の第２の絶縁部１７ｂに対応する部分に凹部１８ａが形成される。凹部１８ａと連通孔１７ｃは連通される。
【００６８】
次に、平坦化膜１８上に画素電極１９が形成される（図８参照）。このとき画素電極１９の一部が連通孔１７ｃに形成されて画素電極１９が接続線１５に接続されたドレイン電極１５ａに接続される。画素電極１９の形成時には同時に第２の電極１９ａが形成される。
【００６９】
続いて、粘着層７と表示体層６と電極層５が順に形成されてディスプレイ３が製造される（図３参照）。
【００７０】
［まとめ］
以上に記載した通り、表示装置１にあっては、保持容量線１２に接続された第１の電極１２ａと画素電極１９に接続された第２の電極１９ａとを有するキャパシタ２０が構成され、第１の電極１２ａと第２の電極１９ａが絶縁膜１１とは異なる膜である保護膜１７を挟んで対向して配置されている。
【００７１】
従って、保護膜１７の形成が絶縁膜１１の形成に影響を受けることがなく、保護膜１７を均一な厚みに形成することができ、キャパシタ２０の保持容量の均一化を確保した上で保持容量の増加を図ることができる。
【００７２】
また、ディスプレイ３にあっては、トランジスタ１６を構成する膜とキャパシタ２０を構成する膜とが異なる膜である絶縁膜１１と保護膜１７にされているため、上記したように、保護膜１７の第２の絶縁部１７ｂの厚みを絶縁膜１１のゲート絶縁部１１ａの厚みより薄くすることが可能になる。
【００７３】
このように第２の絶縁部１７ｂの厚みがゲート絶縁部１１ａの厚みより薄くされることにより、走査線１０と信号線１４の交差部分において形成されるクロス容量を大きくすることなくキャパシタ２０の保持容量を大きくすることができ、電気信号の遅延の防止及び表示装置１の動作の適正化を図ることができる。
【００７４】
さらに、ディスプレイ３にあっては、トランジスタ１６を構成する膜とキャパシタ２０を構成する膜とが異なる膜である絶縁膜１１と保護膜１７にされているため、上記したように、保護膜１７の誘電率を絶縁膜１１の誘電率より高くすることが可能である。
【００７５】
このように保護膜１７の誘電率が絶縁膜１１の誘電率より高くされることにより、走査線１０と信号線１４の交差部分において形成されるクロス容量を大きくすることなくキャパシタ２０の保持容量を大きくすることができ、電気信号の遅延の防止及び表示装置１の動作の適正化を図ることができる。
【００７６】
［他の例］
上記には、第１の電極１２ａと第２の電極１９ａを有するキャパシタ２０が設けられた例を示したが、例えば、第１の電極１２ａと第２の電極１９ａに加えて第３の電極１５ｂの三つの電極を有するキャパシタ２０Ａを設けることが可能である（図９参照）。
【００７７】
第３の電極１５ｂはベース板９上に配置され絶縁膜１１に形成された接続用孔１１ｂを介して接続線１５に接続された状態で絶縁膜１１によって覆われ、絶縁膜１１を挟んで第１の電極１２に対向して配置されている。
【００７８】
このように絶縁膜１１を挟んで第１の電極１２ａに対向して位置された第３の電極１５ｂを設けてキャパシタ２０Ａを形成することにより、保持容量の一層の増加を図ることができる。
【００７９】
また、上記には、図３に示すように、平坦化膜１８に形成された凹部１８ａによって粘着層７にも凹部が形成された例を示したが、図１０に示すように、凹部１８ａに充填される部分の粘着剤の厚みを他の厚みより厚くして粘着層１７の表示体層６側の面を平面状に形成することが可能である。
【００８０】
このように粘着層１７の表示体層６側の面が平面状に形成されることにより、表示体層６の厚みが均一化され、表示体層６に配置されるマイクロカプセル６ａ、６ａ、・・・を厚み方向において同じ位置に配置することができる。
【００８１】
尚、凹部１８ａに充填される部分の粘着剤の厚みを他の厚みより厚くして粘着層１７の表示体層６側の面を平面状に形成することは、キャパシタ２０に代えてキャパシタ２０Ａが設けられた場合にも同様に行うことができる。
【００８２】
［本技術］
本技術は、以下のような構成にすることもできる。
【００８３】
（１）走査信号が入力される走査線と、画像信号が入力され前記走査線に直交して配置された信号線と、前記信号線に平行な状態で配置された保持容量線と、トランジスタのゲート電極を覆うゲート絶縁部を有する絶縁膜と、前記トランジスタに接続された画素電極と、前記保持容量線に接続された第１の電極と前記画素電極に接続された第２の電極とを有するキャパシタと、前記トランジスタのソース電極及びドレイン電極を覆う第１の絶縁部と、前記第１の電極と前記第２の電極の間に設けられた第２の絶縁部とを有する保護膜とを備え、前記第１の電極と前記第２の電極が前記保護膜の第２の絶縁部を挟んで対向して配置された表示装置。
【００８４】
（２）前記保護膜の第２の絶縁部の厚みが前記絶縁膜のゲート絶縁部の厚みより薄くされた前記（１）に記載の表示装置。
【００８５】
（３）前記保護膜の誘電率が前記絶縁膜の誘電率より高くされた前記（１）又は前記（２）に記載の表示装置。
【００８６】
（４）前記キャパシタに、前記トランジスタに接続され前記絶縁膜を挟んで第１の電極の反対側に位置された第３の電極を設けた前記（１）から前記（３）の何れかに記載の表示装置。
【００８７】
（５）前記画素電極と前記保護膜の少なくとも第１の絶縁部との間に平坦化膜が設けられ、前記平坦化膜に凹部が形成され、前記凹部の底面部に前記キャパシタの第２の電極が設けられた前記（１）から前記（４）の何れかに記載の表示装置。
【００８８】
上記した最良の形態において示した各部の具体的な形状及び構造は、何れも本技術を実施する際の具体化のほんの一例を示したものにすぎず、これらによって本技術の技術的範囲が限定的に解釈されることがあってはならないものである。
【図面の簡単な説明】
【００８９】
【図１】図２乃至図１０と共に本技術表示装置の最良の形態を示すものであり、本図は、表示装置の概略斜視図である。
【図２】ディスプレイのトランジスタ層を示す概略拡大平面図である。
【図３】図２のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿うディスプレイの拡大断面図である。
【図４】図５乃至図８と共にディスプレイの製造工程における各状態を示すものであり、本図は、ベース板上に走査線が形成された状態を示す拡大断面図である。
【図５】絶縁膜上に保持容量線が形成されると共に絶縁膜上に半導体が搭載され信号線と接続線が形成された状態を示す拡大断面図である。
【図６】絶縁膜上に保護膜が形成された状態を示す拡大断面図である。
【図７】保護膜上に平坦化膜が形成された状態を示す拡大断面図である。
【図８】平坦化膜上に画素電極が形成された状態を示す拡大断面図である。
【図９】三つの電極を有するキャパシタが設けられた例を示す拡大断面図である。
【図１０】粘着層の表示体層側の面が平面状に形成された例を示す拡大断面図である。
【符号の説明】
【００９０】
１…表示装置、１０…走査線、１０ａ…ゲート電極、１１…絶縁膜、１１ａ…ゲート絶縁部、１２…保持容量線、１２ａ…第１の電極、１４…信号線、１４ａ…ソース電極、１５ａ…ドレイン電極、１６…トランジスタ、１７…保護膜、１７ａ…第１の絶縁部、１７ｂ…第２の絶縁部、１８…平坦化膜、１８ａ…凹部、１９…画素電極、１９ａ…第２の電極、２０…キャパシタ、２０Ａ…キャパシタ、１５ｂ…第３の電極
【図１】
2013242420.tif 000003
【図２】
2013242420.tif 000004
【図３】
2013242420.tif 000005
【図４】
2013242420.tif 000006
【図５】
2013242420.tif 000007
【図６】
2013242420.tif 000008
【図７】
2013242420.tif 000009
【図８】
2013242420.tif 000010
【図９】
2013242420.tif 000011
【図１０】
2013242420.tif 000012