(57)【要約】【課題】本発明にあっては、製造コストが低く、また、優れた硬度を有する反射防止フィルムの硬化性組成物および製造方法を提供する。【解決手段】本発明の反射防止フィルムの硬化性組成物は、少なくとも、低屈折率粒子と、電離放射線硬化型材料からなるバインダーマトリックスと、分子中にヒドロキシル基との硬化反応性を有する熱硬化性基および電離放射線硬化性基を有する機能性化合物とを、透明基材を溶解または膨潤させる成分を含む溶媒に分散させた硬化性組成物である。この硬化性組成物より調整した塗液をトリアセチルセルロースからなる透明基材に塗工することにより、１回の塗工（ワンコート）で多層の積層体を形成でき、且つ、優れた硬度を有する反射防止フィルムの製造方法を提供することができる。【選択図】図１
2013205644.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材と、ハードコート層と、低屈折率層とを有する反射防止フィルムを形成するために前記透明基材に塗布する反射防止フィルム形成用の硬化性組成物であって、
低屈折率粒子と、
電離放射線硬化型材料からなるバインダーマトリックスと、
分子中にヒドロキシル基との硬化反応性を有する熱硬化性基および電離放射線硬化性基を有する機能性化合物と、
トリアセチルセルロースからなる前記透明基材を溶解または膨潤させる溶媒とを含む、反射防止フィルム用の硬化性組成物。
【請求項２】
全溶媒のうち、前記透明基材を溶解または膨潤させる溶媒の占める割合が、３０ｗｔ％以上９０ｗｔ％以下であることを特徴とする、請求項１に記載の反射防止フィルムの硬化性組成物。
【請求項３】
前記反射防止フィルム形成用の硬化性組成物に対する全溶媒の割合が、５５ｗｔ％以上８５ｗｔ％以下であることを特徴とする、請求項１または２に記載の反射防止フィルム形成用の硬化性組成物。
【請求項４】
透明基材と、ハードコート層と、低屈折率層とを有する反射防止フィルムの製造方法であって、
低屈折率粒子と、電離放射線硬化型材料からなるバインダーマトリックスと、分子中にヒドロキシル基との硬化反応性を有する熱硬化性基および硬化性基を有する機能性化合物とを、前記透明基材を溶解または膨潤させる溶媒に分散させた塗液を調整する塗液調整工程と、
前記塗液を前記透明基材上に塗布する塗布工程と、
前記透明基材上に塗布された前記塗液を乾燥させ、前記透明基材上に塗膜を形成する乾燥工程と、
前記塗膜に電離放射線を照射し、塗膜を硬化させる電離放射線照射工程とを備える、反射防止フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記乾燥工程は、
塗布直後に乾燥温度を２０℃以上３０℃以下として行う第１の乾燥工程と、
前記第１の乾燥工程後に、乾燥温度を５０℃以上１５０℃以下として行う第２の乾燥工程とを含むことを特徴とする、請求項４に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項６】
反射防止フィルムであって、
透明基材と、
ハードコート層と、
低屈折率層とを備え、
前記透明基材と、前記ハードコート層と、前記低屈折率層とが順に積層されており、
前記ハードコート層は、前記透明基材の成分とバインダーマトリックスとが混合した混合層であり、
前記低屈折率層に、低屈折率粒子が局在していることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項７】
前記混合層と、前記低屈折率層とは光学的に分離していることを特徴とする、請求項５または６に記載の反射防止フィルム。
【請求項８】
前記低屈折率層の屈折率が１．２９以上１．４３以下であり、
前記低屈折率層の光学膜厚が１００ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることを特徴とする、請求項５から７のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項９】
請求項５から８のいずれかに記載の反射防止フィルムに偏光層を設けたことを特徴とする偏光板。
【請求項１０】
請求項５から８のいずれかに記載の反射防止フィルムを備えた表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止フィルム、該反射防止フィルムを用いた偏光板、該反射防止フィルムを用いた表示装置、該反射防止フィルムの製造に適した反射防止フィルム形成用硬化性組成物および反射防止フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、画像表示装置は、外光が表示画面上に映りこむことによって画像が認識しづらくなるという問題がある。また、最近では、画像表示装置が屋内だけでなく屋外にも持ち出される機会が増加し、表示画面上への外光の映り込みの抑制や高度な耐久性が、より重要な課題になっている。そこで、屈折率の異なる層を反射防止層として積層した積層体を反射防止フィルムとし、該反射防止フィルムを表示装置表面に設けることが提案されている。
【０００３】
また、反射防止フィルムでは、表面硬度、耐擦傷性を付与するために、硬度に優れたハードコード層を積層体内部に配置することが行われている。
【０００４】
また、反射防止フィルムに偏光層を設け、表示装置などに用いる偏光板として用いることが提案されている。
【０００５】
液晶表示パネル（ＬＣＤパネル）に用いる偏光板として、反射防止フィルムに偏光層を設けた構成の偏光板が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００６】
上述のような反射防止フィルムの製造方法として、湿式成膜法を用いることが提案されている。湿式成膜法は、各層ごとに塗液を調整し、各層ごとに塗液を塗工することにより積層体を形成する方法である。
【０００７】
反射防止層と、ハードコート層と、透明基材とが、観察面からみてこの順で積層された反射防止フィルムを、湿式成膜法を用いて製造することが知られている（例えば、特許文献２参照）。
【０００８】
しかし、反射防止フィルムにあっては、多層構成とすることにより反射防止性能といった光学特性やその他の特性を良好とすることができる。したがって、湿式成膜法を用いてハードコート層を有する反射防止フィルムを製造する場合、ハードコート層、反射防止層など、各層ごとに材料を分散した塗液を調整し、塗液を塗工する必要があった。このため、製造工程数が増加し、製造効率が低下する問題があった。
【０００９】
そこで、製造効率を向上させた反射防止フィルムとして、１回の塗工で多層の積層体を形成できる反射防止フィルムが提案されている（例えば、特許文献３参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２０００−３２１４２８号公報
【特許文献２】特開２００５−１９９７０７号公報
【特許文献３】特開２０１０−２３７６４８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかしながら、従来提案されている１回の塗工で形成する反射防止フィルムでは塗膜形成時に、バインダーマトリックスと透明基材の混合層を形成するため、混合層全体としての架橋密度が低下し、塗膜の硬度が低下するという問題があった。
【００１２】
本発明は、上述の問題を解決するためになされたものであり、１回の塗工（ワンコート）で多層の積層体を形成でき、且つ、優れた硬度を有する反射防止フィルムの硬化性組成物および反射防止フィルムと、反射防止フィルムの製造方法とを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
透明基材と、ハードコート層と、低屈折率層とを有する反射防止フィルムを形成するために透明基材に塗布する反射防止フィルム形成用の硬化性組成物であって、低屈折率粒子と、電離放射線硬化型材料からなるバインダーマトリックスと、分子中にヒドロキシル基との硬化反応性を有する熱硬化性基および電離放射線硬化性基を有する機能性化合物と、トリアセチルセルロースからなる透明基材を溶解または膨潤させる溶媒とを含む、反射防止フィルムの硬化性組成物。
【００１４】
全溶媒のうち、透明基材を溶解または膨潤させる溶媒の占める割合が、３０ｗｔ％以上９０ｗｔ％以下であることが好ましい。
【００１５】
反射防止フィルム形成用の硬化組成物に対する全溶媒の割合が、５５ｗｔ％以上８５ｗｔ％以下であることが好ましい。
【００１６】
また、透明基材と、ハードコート層と、低屈折率層とを有する反射防止フィルムの製造方法であって、低屈折率粒子と、電離放射線硬化型材料からなるバインダーマトリックスと、分子中にヒドロキシル基との硬化反応性を有する熱硬化性基および硬化性基を有する機能性化合物とを、透明基材を溶解または膨潤させる溶媒に分散させた塗液を調整する塗液調整工程と、塗液を透明基材上に塗布する塗布工程と、透明基材上に塗布された塗液を乾燥させ、透明基材上に塗膜を形成する乾燥工程と、塗膜に電離放射線を照射し、塗膜を硬化させる電離放射線照射工程とを備える。
【００１７】
乾燥工程は、塗布直後に乾燥温度を２０℃以上３０℃以下として行う第１の乾燥工程と、第１の乾燥工程後に、乾燥温度を５０℃以上１５０℃以下として行う第２の乾燥工程とを含むことを特徴とする。
【００１８】
反射防止フィルムであって、透明基材と、ハードコート層と、低屈折率層とを備え、透明基材と、ハードコート層と、低屈折率層とが順に積層されており、ハードコート層は、透明基材の成分とバインダーマトリックスとが混合した混合層であり、低屈折率層に、低屈折率粒子が局在していることを特徴とする。
【００１９】
また、混合層と、低屈折率層とは光学的に分離していることを特徴とする。
【００２０】
また、低屈折率層の屈折率が１．２９以上１．４３以下であり、低屈折率層の光学膜厚が１００ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることを特徴とする。
【００２１】
また、上述の反射防止フィルムに偏光層を設けたことを特徴とする偏光板である。
【００２２】
また、上述の反射防止フィルムを備えた表示装置である。
【発明の効果】
【００２３】
本発明に係る反射防止フィルムの硬化性組成物によれば、効率よく反射防止フィルムを製造することが出来る。さらに、１回の塗工（ワンコート）で多層の積層体を形成でき、且つ、優れた硬度を有する反射防止フィルムの製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明の反射防止フィルムの断面模式図
【図２】本発明の反射防止フィルムを用いた本発明の偏光板の断面模式図
【図３】本発明の反射防止フィルムを備える本発明の透過型液晶ディスプレイの断面模式図
【発明を実施するための形態】
【００２５】
本発明に係る反射防止フィルムの硬化性組成物は、少なくとも、低屈折率粒子と、電離放射線硬化型材料からなるバインダーマトリックスと、分子中にヒドロキシル基との硬化反応性を有する熱硬化性基および電離放射線硬化性基を有する機能性化合物とを、透明基材を溶解または膨潤させる溶媒に分散させたものである。この分散液を、透明基材に塗工することにより、１回の塗工（ワンコート）で、透明基材と、透明基材が溶解または膨潤した混合層と、低屈折率粒子が局在した低屈折率層とが、この順で積層された積層体を形成することが出来る。また、塗液に含まれる機能性化合物によって、透明基材のヒドロキシル基と電離放射線硬化材料を含むバインダーマトリックスとが架橋される。このため、ワンコートで透明基材と、ハードコート層（混合層）と、低屈折率層とが積層された積層体を形成できる。したがって、優れた硬度を有する反射防止フィルムを効率よく製造することが出来る。
【００２６】
本発明の反射防止フィルム製造方法では、「透明基材を溶解または膨潤させる溶媒を含み、且つ、分子内にヒドロキシル基との硬化反応性を有する熱硬化性基及び電離放射線硬化性基を有する機能性化合物を含有する塗液」を透明基材上に塗布する。このとき、「透明基材を溶解または膨潤させる成分」が透明基材へと浸透すると同時にバインダーマトリックスの成分も、透明基材側へと浸透する。これにより、透明基材の成分とバインダーマトリックスとが混合した混合層が形成される。また、塗液内に分散した低屈折率粒子は、溶解・溶融したバインダーマトリックスと比較して、嵩高いため、透明基材側には浸透しにくい。よって、低屈折率粒子は表面側へと偏析し混合層と低屈折率層は層分離する。
【００２７】
また、本発明の反射防止フィルム製造方法では、塗液中に含有する機能性化合物のヒドロキシル基との熱硬化性を有する熱硬化性基が、形成された混合層内において、透明基材のヒドロキシル基と硬化反応し、架橋結合を形成し得る。また、電離放射線硬化性基はバインダーマトリックスに含まれる少なくとも一部の電離放射線硬化材料と硬化反応し、架橋結合を形成し得る。この２種類の硬化性基により、透明基材のヒドロキシル基およびバインダーマトリックスの架橋反応が可能となり、透明基材とバインダーマトリックスとが混合した混合層の硬度向上に寄与する。
【００２８】
上述したように、本発明の反射防止フィルム製造方法では、透明基材が溶解または膨潤した混合層を形成することにより、（１）ハードコート層（混合層）と低屈折率層とを好適に層分離出来、（２）ハードコート層が優れた硬度を有する、という効果を奏する。よって、ワンコートで優れた硬度を有する反射防止フィルムとして利用できる積層体を効率よく形成することが出来る。
【００２９】
なお、上述の説明のように層形成が行われるため、透明基材と、混合層と、低屈折率層との各層ごとの物理的境界は明瞭ではないが、本明細書では、便宜上、それぞれの成分が多く偏在している部位をそれぞれ「層」として呼称する。
【００３０】
以下、本発明の反射防止フィルムの硬化性組成物および製造方法について説明を行う。
【００３１】
＜硬化性組成物および塗液調整工程＞
まず、低屈折率粒子と、電離放射線硬化型バインダーマトリックスと、分子中にヒドロキシル基との硬化反応性を有する熱硬化性基および電離放射線硬化性基を有する機能性化合物とを、透明基材を溶解または膨潤させる溶媒に分散させ、塗液を調整する。
【００３２】
塗液中の全溶媒における、透明基材を溶解または膨潤させる溶媒の占める割合は、３０ｗｔ％以上９０ｗｔ％以下程度の範囲にあることが好ましい。３０ｗｔ％以上９０ｗｔ％以下程度の範囲にあることにより、混合層を形成すると同時に光学的に分離された低屈折率層を好適に形成出来る。透明基材を溶解または膨潤させる溶媒の占める割合が３０ｗｔ％より小さい場合、充分に透明基材を溶解または膨潤できず、混合層を充分に形成できないことから、光学的に分離された低屈折率層を形成できない。また、透明基材を溶解または膨潤させる溶媒の占める割合が９０ｗｔ％より大きい場合、低屈折率粒子が過度に凝集して必要以上のヘイズが発生するなどの理由で不適である。
【００３３】
また、塗液中に含まれる全溶媒の割合は、５５ｗｔ％以上８５ｗｔ％以下の範囲にあることが好ましい。塗液中に含まれる全溶媒の割合を５５ｗｔ％以上８５ｗｔ％以下の範囲にすることにより、塗膜中の低屈折率粒子が偏在する低屈折率層を充分に形成することができ、低屈折率層と混合層を備えた本発明の防止フィルムを容易に製造することができる。塗液中に含まれる全溶媒の割合が５５ｗｔ％に満たない場合にあっては、塗膜が急激に乾燥してしまい低屈折率層を充分に形成することができなくなってしまう虞がある。一方、塗液中に含まれる全溶媒の割合が８５ｗｔ％を超える場合にあっては、乾燥時間を長くする必要があり大量生産には不向きとなってしまう。
【００３４】
低屈折粒子として、例えば、シリカ粒子、ポリマー粒子、金属フッ化物粒子などを用いることができる。特に、多孔質シリカ粒子、中空シリカ粒子、中空ポリマー粒子、など空隙を有する粒子は、屈折率が低く、比重が小さいため、好ましい。また、金属フッ化物粒子として、ＭｇＦ2（屈折率：１．３８、比重３．１５）などが挙げられる。
【００３５】
また、低屈折率粒子の粒径は、１ｎｍ以上１００ｎｍ以下程度の範囲にあることが好ましく、４０ｎｍ以上８０ｎｍ以下程度の範囲にあることがより好ましい。粒径が１００ｎｍを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、低屈折率層が白化して反射防止フィルムの透明性が低下する傾向にある。一方、粒径が１ｎｍ未満の場合、粒子の凝集による低屈折率層における粒子の不均一性等の問題が生じる。
【００３６】
バインダーマトリックスは、透明性や光の屈折率等の光学特性、耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性を考慮して、適宜公知の材料より選択して用いればよい。また、バインダーマトリックスは、複数の樹脂材料が混合された樹脂組成物であってもよい。また、バインダーマトリックスは、電離放射線硬化型材料に加えて光重合開始剤を含有してもよい。光重合開始剤は、電離放射線が照射された際にラジカルを発生するものであればよい。例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、の光重合開始剤を用いることができる。また、光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化型材料１００重量部に対して０．１重量部以上１０重量部以下程度であることが好ましく、さらには１重量部以上７重量部以下程度であることが好ましい。
【００３７】
また、バインダーマトリックスは熱可塑性樹脂を含むことができる。熱可塑性樹脂を含むことにより、反射防止フィルム自体の反りの発生を抑制できる。熱可塑性樹脂としては、例えば、アセチルセルロース、ニトロセルロース、アセチルブチルセルロース、エチルセルロース、メチルセルロース等のセルロース誘導体、酢酸ビニルおよびその共重合体、塩化ビニルおよびその共重合体、塩化ビニリデンおよびその共重合体等のビニル系樹脂、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、アクリル樹脂およびその共重合体、メタクリル樹脂およびその共重合体等のアクリル系樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂、線状ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、などが挙げられる。
【００３８】
バインダーマトリックスとして用いる電離放射線硬化型材料としては、アクリル系材料を用いることができる。アクリル系材料としては、（メタ）アクリレート化合物、ウレタン（メタ）アクリレート化合物、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、などが挙げられる。なお、本明細書において、「（メタ）アクリレート」とは「アクリレート」と「メタクリレート」の両方を示すものとする。例えば、「ウレタン（メタ）アクリレート」は「ウレタンアクリレート」および「ウレタンメタクリレート」の両方を示す。
【００３９】
単官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、Ｎ−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリールアクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノール（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、ヘキサフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−アダマンタンおよびアダマンタンジオールから誘導される１価のモノ（メタ）アクリレートを有するアダマンチルアクリレートなどのアダマンタン誘導体モノ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００４０】
２官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートなどのジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００４１】
３官能以上の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス２−ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート等のトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等の３官能の（メタ）アクリレート化合物や、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ（メタ）アクリレート等の３官能以上の多官能（メタ）アクリレート化合物や、これら（メタ）アクリレートの一部をアルキル基やε−カプロラクトンで置換した多官能（メタ）アクリレート化合物等が挙げられる。
【００４２】
また、アクリル系材料として多官能ウレタンアクリレートを好適に用いることもできる。ウレタンアクリレートは、多価アルコール、多価イソシアネートおよび水酸基含有アクリレートを反応させることによって得られる。具体的には、共栄社化学社製、ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−３０６Ｔ、ＵＡ−３０６Ｉ等、日本合成化学社製、ＵＶ−１７００Ｂ、ＵＶ−６３００Ｂ、ＵＶ−７６００Ｂ、ＵＶ−７６０５Ｂ、ＵＶ−７６４０Ｂ、ＵＶ−７６５０Ｂ等、新中村化学社製、Ｕ−４ＨＡ、Ｕ−６ＨＡ、ＵＡ−１００Ｈ、Ｕ−６ＬＰＡ、Ｕ−１５ＨＡ、ＵＡ−３２Ｐ、Ｕ−３２４Ａ等、ダイセルユーシービー社製、Ｅｂｅｃｒｙｌ−１２９０、Ｅｂｅｃｒｙｌ−１２９０Ｋ、Ｅｂｅｃｒｙｌ−５１２９等、根上工業社製、ＵＮ−３２２０ＨＡ、ＵＮ−３２２０ＨＢ、ＵＮ−３２２０ＨＣ、ＵＮ−３２２０ＨＳ等を挙げることができるが、この限りではない。
【００４３】
溶媒は、バインダーマトリックスに用いた材料を分散・溶解可能な適宜公知の材料を用いることができる。また、溶媒は、複数の材料が混合された混合溶媒であることが好ましい。混合溶媒を用いることにより、混合層を好適に形成可能な塗液を調整することが出来る。
【００４４】
透明基材にトリアセチルセルロースフィルムを用いる場合、「透明基材を溶解または膨潤させる溶媒」としては、例えば、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、またアセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等の一部のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン醸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、その他としてＮ−メチル−２−ピロリドン（Ｎ−メチルピロリドン）、炭酸ジメチル、などが挙げられる。また、上記溶媒は１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００４５】
透明基材にトリアセチルセルロースフィルムを用いる場合、「透明基材を溶解または膨潤させない溶媒」としては、例えば、エタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサンなどの炭化水素類、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、ジアセトンアルコールなどの一部のケトン類などが挙げられる。また、上記溶媒は１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００４６】
透明基材には、例えば、トリアセチルセルロースフィルムを用いる。トリアセチルセルロースフィルムのアセチル化度は３未満であることが好ましい。アセチル化度が３未満であれば、トリアセチルセルロース分子中にヒドロキシル基が残存しているため、後述するように、機能性化合物が有するヒドロキシル基との硬化反応性を有する熱硬化性基と反応する。また、透明基材に用いる材料は、添加剤を添加された材料であってもよい。添加剤としては、例えば、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤、などが挙げられる。
【００４７】
機能性化合物は、分子中にヒドロキシル基との硬化反応性を有する熱硬化性基および電離放射型硬化性基を有し、当該熱硬化性基は、トリアセチルセルロース等の透明基材中のヒドロキシル基と硬化反応し、架橋結合を形成する。また、電離放射線硬化性基はバインダーマトリックスに含まれる少なくとも一部の電離放射線硬化材料と硬化反応し、架橋結合を形成し得る。この２種類の硬化性基により機能性化合物は、透明基材の水酸基およびバインダーマトリックスと架橋反応が可能となり、透明基材とバインダーマトリックスとが混合した混合層の硬度向上に寄与する。
【００４８】
機能性化合物は、１種又は２種以上を組み合わせて用いてもよい。また、機能性化合物の分子量は特に限定されない。しかしながら、透明基材として、トリアセチルセルロースを用いる場合、トリアセチルセルロースへの浸透性の点から分子量１０００以下であることが好ましく、５００以下であることがより好ましい。機能性化合物の分子量が１０００以下であれば、トリアセチルセルロースへの十分な浸透性が得られる。
【００４９】
熱硬化性基は、加熱によって同じ官能基同士又は他の官能基との間で重合反応若しくは架橋反応等を進行させて塗膜を硬化させることができる官能基を意味する。例えば、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基、イソシアネート基（−Ｎ＝Ｃ＝Ｏ）、アルコキシル基等を例示することができる。
【００５０】
電離放射線硬化性基は、電離放射線照射により重合反応又は架橋反応等を進行させて塗膜を硬化させることができる官能基であれば特に限定されない。好ましくは電離放射線硬化性不飽和基を用いる。電離放射線硬化性不飽和基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合基（−ＣＨ＝ＣＨ２）およびエポキシ基等が挙げられる。好ましくは、エチレン性不飽和結合基である。ラジカル反応するエチレン性不飽和結合基は、硬度の点から好ましい。
【００５１】
機能性化合物の市販品としては、例えば、昭和電工（株）製、カレンズＭＯＩ（分子量：１５５、電離放射線硬化性基数：１、熱硬化性基数：１）、カレンズＭＯＩ−ＥＧ（分子量：１９９、電離放射線硬化性基数：１、熱硬化性基数：１）、カレンズＡＯＩ（分子量：１４１、電離放射線硬化性基数：１、熱硬化性基数：１）、カレンズＭＯＩ−ＢＭ（分子量：２４０、電離放射線硬化性基数：１、熱硬化性基数：１）、カレンズＢＥＩ（分子量：２３９、電離放射線硬化性基数：２、熱硬化性基数：１）、カレンズＭＯＩ−ＢＰ（分子量：２５１、電離放射線硬化性基数：１、熱硬化性基数：１）等が挙げられる。
【００５２】
また、塗液に添加剤を添加してもよい。例えば、添加剤として、表面調整剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、硬化剤、などを用いてもよい。
【００５３】
＜塗布工程＞
次に、塗液を透明基材上に塗布する。
【００５４】
透明基材の厚みは２５μｍ以上２００μｍ以下程度であることが好ましく、４０μｍ以上８０μｍ以下程度であることがより好ましい。ただし、透明基材の厚みは上記範囲に限定されるものではない。
【００５５】
塗布方法は、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーター、などの塗布方法を採用できる。
【００５６】
＜乾燥工程＞
次に、透明基材上に塗布された塗液を乾燥させ、塗液内の溶媒を除去し、透明基材上に塗膜を形成する。乾燥は、適宜公知の乾燥手段を採用できる。例えば、乾燥手段として、加熱、送風、熱風、などを採用できる。
【００５７】
また、乾燥工程は、複数段階の乾燥を行うことが好ましい。塗液によって透明基材を溶解または膨潤することにより、混合層を形成するため、塗液を透明基材上に塗工後ただちに急激な乾燥を行うと、混合層の形成が阻害される。このため、複数段階の乾燥を行い、段階毎に乾燥条件を変更することで、混合層を形成しつつ、好適に乾燥を行うことができる。さらに、機能性化合物の熱硬化性基とトリアセチルセルロースの架橋結合を行うことができる。
【００５８】
例えば、第１の乾燥を行った後に、第２の乾燥を行っても良い。このとき、第１の乾燥は、乾燥温度を２０℃以上３０℃以下程度で行い、第２の乾燥は、乾燥温度を５０℃以上１５０℃以下程度で行うことが好ましい。
【００５９】
＜電離放射線照射工程＞
塗膜に電離放射線を照射することにより、塗膜を硬化する。電離放射線を照射し、塗膜を硬化させることにより、反射防止フィルム表面に、高い表面硬度を付与することができ、耐擦傷性に優れた反射防止フィルムとすることができる。さらに、機能性化合物の電離放射線硬化性基とバインダーマトリックスに含まれる少なくとも一部の電離放射線硬化材料と硬化反応により架橋して、混合層に硬度を付与できる。
【００６０】
電離放射線としては、紫外線、電子線などを採用できる。紫外線硬化の場合、高圧水銀灯、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク、キセノンアーク、などの光源を採用できる。また、電子線硬化の場合、コックロフトワルト型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型、などの各種電子線加速器から放出される電子線を採用できる。用いる電子線は、５０ＫｅＶ以上１０００ＫｅＶ以下程度のエネルギーを有するのが好ましく、１００ＫｅＶ以上３００ＫｅＶ以下程度のエネルギーを有する電子線がより好ましい。
【００６１】
また、本発明の反射防止フィルム製造方法は、（１）枚葉状の透明基材に塗布する枚葉方式、（２）ロール状の透明基材に塗布し、製造された反射防止フィルムを巻き取る、ロール・ツー・ロール方式、のいずれの方式を採用してもよい。特に、ロール・ツー・ロール方式は反射防止フィルムを連続的に形成できるため、好ましい。例えば、ロール・ツー・ロール方式を採用する場合、透明基材に、巻き出し部と、塗布ユニットと、乾燥ユニットと、電離放射線照射ユニットと、巻き取り部とをこの順で通過させ、連続走行させることにより連続的に反射防止フィルムを製造することができる。
【００６２】
以上より、透明基材と、透明基材が溶解または膨潤した混合層と、低屈折率粒子が局在した低屈折率層とがこの順で積層し、優れた硬度有する反射防止フィルムを製造することができる。
【００６３】
以下、本発明の反射防止フィルムについて説明を行う。図１に、本発明の反射防止フィルム１の一例を示す。図１は、透明基材２０の上層に積層され、ハードコート層として機能する混合層１２、混合層１２の上層に積層された低屈折率層１１を備える本発明の反射防止フィルム１の断面模式図である反射防止フィルム１の混合層１２では、透明基材２０の成分とバインダーマトリックスの成分とが混合しており、透明基材２０と混合層１２との物理的境界は明瞭ではない。このため、各層ごとに塗工して製造された従来の反射防止フィルムと比較して、（１）層界面による光干渉によって発生する干渉縞、（２）層界面における物理的剥離を抑制することができる。
【００６４】
また、反射防止フィルム１の混合層１２と、低屈折率層１１とは光学的に分離していることが好ましい。反射防止フィルム１製造方法によれば、混合層１２を形成することにより、混合層１２と低屈折率層１１との層分離を促進することが出来る。このため、光学測定を行ったとき混合層と低屈折率層１１とが光学的に分離する程に層分離させることが出来る。なお、本明細書において、「光学的に分離している」とは、反射防止フィルムの表面から５°の入射角で可視光（３８０ｎｍ以上８００ｎｍ以下）での分光反射率を求め、この分光反射率について光学シミュレーションを行った際に、低屈折率層に起因する分光スペクトルを観測することができる状態をいう。
【００６５】
また、反射防止フィルム１の低屈折率層１１の屈折率が１．２９以上１．４３以下であることが好ましい。また、低屈折率層１１の光学膜厚が１００ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましい。低屈折率層１１の光学膜厚を１００ｎｍ以上２００ｎｍ以下程度とすることにより、低屈折率層１１の光学膜厚を可視光波長の１／４波長程度とすることが出来る。よって、上記範囲内に低屈折率層１１を形成することにより、反射防止性能を有する低屈折率層１１とすることができる。さらに、低屈折率層１１の光学膜厚が１１０ｎｍ以上１４０ｎｍ以下の範囲であることが好ましい。低屈折率層１１の光学膜厚を上記範囲内に形成することにより、反射防止フィルム１の観察面側から求められる分光反射率曲線を、５００ｎｍ近傍で極小値をとる分光反射率曲線とすることができる。分光反射率曲線を、５００ｎｍ近傍で極小値をとる分光反射率曲線とすることで、可視光の波長領域での分光反射率曲線の急峻な上昇を抑制できるため、反射色相が小さく、且つ、色ムラの発生の少ない反射防止フィルム１とすることができる。
【００６６】
また、反射防止フィルム１の混合層１２と低屈折率層１１の合計膜厚は、２．５μｍ以上１５μｍ以下程度であることが好ましい。２．５μｍより小さい場合、十分なハードコート性を備えることができず、反射防止フィルムの硬度が不十分となってしまい好ましくない。一方、１５μｍより大きい場合、（１）用いる塗液の量増加によるコスト増、（２）可撓性の低下、（３）塗膜の硬化収縮による反射防止フィルムのカールの発生、などから好ましくない。ただし、混合層１２と低屈折率層１１との合計膜厚は上記範囲に限定されるものではない。
【００６７】
また反射防止フィルム１の観察面側の視感平均反射率は、０．３％以上２．０％以下程度であることが好ましく、０．３％以上１．５％以下程度であることがより好ましい。観察面側の反射防止フィルム表面での視感平均反射率が２．０％より大きい場合、十分な反射防止性能を備える反射防止フィルムとすることができない。一方、観察面側の反射防止フィルム表面での視感平均反射率が０．３％より小さい場合、光学干渉により反射防止フィルムとして機能することが困難である。
【００６８】
以下、本発明の偏光板について説明を行う。図２に、反射防止フィルム１の透明基材２０と偏光板透明基材２１との間に偏光層２２を積層した本発明の偏光板２の一例の断面模式図を示す。偏光板透明基材２１には、本発明の反射防止フィルム１に用いる透明基材２０と同様の材料を用いることができる。例えば、偏光板透明基材２１として、トリアセチルセルロースからなるフィルムを用いることができる。偏光板２は、上述に記載の反射防止フィルム１に偏光層２２を設けたことを特徴とする。
【００６９】
偏光層２２は、透過したとき偏光させる物性を示す材料を適宜公知の材料から選択して用いて形成することができる。例えば、ＰＶＡ偏光フィルムなどを用いることができる。ＰＶＡ偏光フィルムは、主として延伸配向したポリビニルアルコールフィルムおよびその誘導体にヨウ素を配向させて吸着させることにより偏光性能を示すフィルムである。
【００７０】
以下、本発明の表示装置について説明を行う。本発明の表示装置は、上述の反射防止フィルム１を備えた表示装置である。例えば、観察面側に反射防止フィルム１を貼り付けた表示装置や、上述の偏光板２を内部に組み込んだ表示装置、などが挙げられる。また、反射防止フィルム１および偏光板２の他に、他の機能性部材を備えてもよい。他の機能性部材としては、例えば、バックライトから発せられる光を有効に使うための、拡散フィルム、プリズムシート、輝度向上フィルム、液晶セルや偏光板の位相差を補償するための位相差フィルム、などが挙げられる。
【００７１】
図３に、本発明の表示装置の一例として、反射フィルム１を有する偏光板２と、液晶セル３と、第二偏光板４と、バックライトユニット５とが、この順で配置された透過型液晶ディスプレイの模式断面図を示す。偏光板２は、反射防止フィルム１の透明基材２０側と偏光板透明基材２１との間に偏光層２２を積層した構成である。また、第２の偏光板４は、第２の偏光層４２を第２の偏光板透明基材上層４０と第２の偏光板透明基材下層４１との間に積層した構成である。また、バックライトユニット５は観察面方向に向け光を投射する。バックライトユニット５から投射した光は、第２の偏光板４と、液晶セル３と、偏光板２とを順に透過し、観察面に図柄を表示する。
【実施例】
【００７２】
＜実施例１＞
まず、硬化性組成物を含む塗液を調整した。以下に組成を示す。
【００７３】
（塗液：実施例１）
・低屈折率粒子：中空シリカ微粒子分散液（平均粒子径４０ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／イソプロピルアルコール分散）１．２重量部
・バインダーマトリックス（電離放射線硬化型材料）：トリメチロールプロパンアクリレート１３．４重量部、ウレタンアクリレートＵＡ‐３０６Ｈ（共栄社化学社製）１３．４重量部
・光重合開始剤：イルガキュア１８４（チバ・ジャパン社製）１．５重量部
・機能性化合物：カレンズＭＯＩ（昭和電工社製）１．４重量部
・溶媒：酢酸メチルとイソプロピルアルコールを重量比で５：５の割合で混合した混合溶媒６９．０重量部
尚、塗液中の固形分：３０ｗｔ％、溶媒中に占める透明基材を溶解または膨潤させる成分の占める割合：４９．３ｗｔ％とした。
【００７４】
次に、調整した塗液を透明基材上に塗布した。透明基材は、トリアセチルセルロースフィルム（屈折率１．４９、厚さ８０μｍ）とした。また、ワイヤーバーコーターを用い透明基材上に塗液を塗布した。塗液の塗布量は、乾燥膜厚が５μｍとなるように調整した。
【００７５】
次に、塗布された塗液を乾燥させ、透明基材上に塗膜を形成した。このとき、第１の乾燥と、その後第２の乾燥との２段階の乾燥を行った。乾燥条件は、第１の乾燥を３０秒２３℃の室温乾燥とし、第２の乾燥はオーブンで１００℃１分の乾燥とした。
【００７６】
次に、塗膜に電離放射線を照射し、塗膜を硬化した。このとき、電離放射線として紫外線を照射した。また、紫外線の照射は、コンベア式紫外線硬化装置を用いて露光量３００ｍＪ／ｃｍ2とした。
【００７７】
以上より、透明基材と、混合層と、低屈折率層とがこの順で積層された反射防止フィルムを得た。
【００７８】
＜実施例２＞
機能性化合物をカレンズＭＯＩ（昭和電工社製）の代わりに、カレンズＡＯＩ（昭和電工社製）とする以外は、実施例１と同様に、反射防止フィルムを製造した。
【００７９】
＜実施例３＞
機能性化合物をカレンズＭＯＩ（昭和電工社製）の代わりに、カレンズＢＥＩ（昭和電工社製）とする以外は、実施例１と同様に、反射防止フィルムを製造した。
【００８０】
＜実施例４＞
塗液を以下の組成に置き換え、塗液の組成の変更に合わせて乾燥条件を変更した以外は、実施例１と同様に、反射防止フィルムを製造した。
【００８１】
（塗液：実施例４）
・低屈折率粒子：フッ化マグネシウム（ＭｇＦ）粒子分散液（平均粒子径２０ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／イソプロピルアルコール分散）２．７重量部
・バインダーマトリックス（電離放射線硬化型材料）：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）２０．０重量部、ウレタンアクリレートＵＡ‐３０６Ｈ（共栄社化学社製）２０．０重量部
・光重合開始剤：イルガキュア１８４（チバ・ジャパン社製）２．２重量部
・機能性化合物：カレンズＭＯＩ（昭和電工社製）２．１重量部
・溶媒：アセトンとイソプロピルアルコールとメチルイソブチルケトンを重量比で８：１：１の割合で混合した混合溶媒５３．０重量部
尚、塗液中の固形分：４５ｗｔ％、溶媒中に占める透明基材を溶解または膨潤させる成分の占める割合：７６．９ｗｔ％とした。
【００８２】
また、乾燥条件は、第１の乾燥を３０秒２５℃の室温乾燥とし、第２の乾燥はオーブンで１２０℃１分の乾燥とした。
【００８３】
＜比較例１＞
機能性化合物であるカレンズＭＯＩを、トリメチルプロパンアクリレートに置き換え、機能性化合物を含まない塗液としたこと以外は、実施例１と同様に、反射防止フィルムを製造した。
【００８４】
＜比較例２＞
溶媒を溶媒中に占める透明基材を溶解または膨潤させる成分が微量となるように、イソプロピルアルコールとメチルイソブチルケトンを１：９で混合した混合溶媒とし、混合層を形成しにくいものとしたこと以外は、実施例１と同様に、反射防止フィルムを製造した。
【００８５】
＜比較例３＞
機能性化合物であるカレンズＭＯＩを、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートに置き換え、機能性化合物を含まない塗液としたこと以外は、実施例４と同様に、反射防止フィルムを製造した。
【００８６】
＜測定・評価＞
得られた実施例１〜４および比較例１〜３の反射防止フィルムについて、（１）混合層の有無、（２）分光反射率の測定、（３）鉛筆硬度評価をそれぞれ行った。表１に結果をまとめて示す。
【００８７】
【表１】
2013205644.tif 000003
【００８８】
（混合層の有無）
反射防止フィルムについて、ミクロトームによる断面出しをし、断面について電子顕微鏡を用いて観察した。このとき、透明基材との境界が不明瞭であると混合層が形成されたものとした。
【００８９】
（分光反射率の測定）
反射防止フィルムについて、観察面と反対側の面を黒色艶消しスプレーにより黒色に塗装し、自動分光光度計（Ｕ−４０００、日立製作所製）を用いて、観察面側の分光反射率を測定した。測定条件は、光源としてＣ光源を用い、光源および受光器の入出射角を反射防止フィルム表面に対して垂直方向から５°に設定し、２°視野とした。また、得られた分光反射率曲線から光学シミュレーション法により、低屈折率層の有無、低屈折率層の光学膜厚、低屈折率層の屈折率、ハードコート層（混合層）の屈折率を求めた。反射防止フィルムにおいて、各層（混合層、低屈折率層）の厚みは塗液の組成と単位面積あたりの塗布量および断面観測図からの計測などから予測することができる（以下、予測された厚みを想定膜厚という）。また、光学膜厚（ｎｄ）は対象となる層の屈折率（ｎ）と層厚（ｄ）をかけることにより得られる値である。よって、光学シミュレーションにより求められた光学膜厚が想定膜厚よりも厚い場合、低屈折粒子が局在した低屈折率層が形成されたと判断した。
【００９０】
上記評価より、混合層の存在が確認され、低屈折率層の形成が確認された場合に反射防止フィルム化「○」、それ以外の場合を「×」として表１に示した。
【００９１】
（鉛筆硬度評価）
鉛筆硬度評価は、作製したハードコートフィルムを温度２３℃、相対湿度５０％の条件にて、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４（１９９９）に準じて評価を行った。評価基準として、鉛筆硬度が３Ｈ以上場合を「○」、鉛筆硬度が２Ｈ以下の場合を「×」として表１に示した。
【００９２】
表１より、混合層を形成するほど充分に透明基材を溶解または膨潤させる溶媒を含み、分子内にヒドロキシル基との硬化反応性を有する熱硬化性基および電離放射線硬化性基を有する機能性化合物を含有する塗液を用いた実施例１〜４では、透明基材と、混合層と、低屈折率層とがこの順で積層された反射防止フィルムをワンコートで製造できることが確認された。また、実施例１〜４の反射防止フィルムは、低屈折率層の屈折率が１．２９以上１．４３以下であり、低屈折率層の光学膜厚が１００ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが確認された。このため、反射防止フィルムとして好適に用いることが出来ることが確認された。さらに、鉛筆硬度が３Ｈ以上であり優れた硬度を有していることが確認された。
【００９３】
混合層を形成するほど充分に透明基材を溶解または膨潤させる成分を含む塗液を用
いなかった比較例２では、低屈折率粒子の偏析が不十分であり、低屈折率層が光学測定できるほどに層分離されなかった。よって、実施例１〜４と比較した場合、混合層を形成することにより、低屈折率層の層分離が促進される傾向があることが確認された。よって、実施例１〜４と比較した場合、反射防止フィルムとして用いるには不適であることが確認された。
【００９４】
混合層を形成するほど充分に透明基材を溶解または膨潤させる溶媒を含むが、分子内にヒドロキシル基との硬化反応性を有する熱硬化性基および電離放射線硬化性基を有する機能性化合物を含有しない塗液を用いた比較例１および３では、反射防止フィルム化は確認されたが、鉛筆硬度は２Ｈ以下であることが確認された。よって、実施例１〜４と比較した場合、塗液中に分子内にヒドロキシル基との硬化反応性を有する熱硬化性基および電離放射線硬化性基を有する機能性化合物を含有することにより形成された混合層が優れた硬度を有することが確認された。よって、実施例１〜４と比較した場合、ディスプレイ表面に使用される反射防止フィルムとして用いるには不適であることが確認された。
【産業上の利用可能性】
【００９５】
本発明の反射防止フィルムは、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の各種ディスプレイ等の光学物品の表面に用いられる反射防止フィルムとして利用できる。
【符号の説明】
【００９６】
１    反射防止フィルム
１１    低屈折率層
１２    混合層
２０    透明基材
２    偏光板
２１    偏光板透明基材
２２    偏光層
３    液晶セル
４    第２の偏光板
４０    第２の偏光板透明基材上層
４１    第２の偏光板透明基材下層
４２    第２の偏光層
５    バックライトユニット
【図１】
2013205644.tif 000004
【図２】
2013205644.tif 000005
【図３】
2013205644.tif 000006