(57)【要約】【課題】  製品の品質を低下させる等の要因を推定又は特定することができる稼働情報を算出する管理装置を提供する。【解決手段】  本発明の管理装置は、記憶手段と、生産プロセスの期間中に制御手段が制御機器群に出力した制御情報と、生産プロセスの期間中にセンサ群が検出した検出情報を取得する情報取得手段と、制御情報に含まれる第１制御機器に出力された代表制御情報から、生産プロセスの基準期間を決定し、基準期間に属している検出情報に基づく代表値と、基準期間に属している制御情報に基づく代表値を算出し、算出した各々の代表値を生産プロセスの特定情報と関連付けて、記憶手段に記憶する。【選択図】  図３
2013037409.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
センサ群と、
第１制御機器を有する制御機器群と、
前記制御機器群を制御するための情報が記憶されているレシピと、
前記レシピに基づいて前記制御機器群を制御する制御手段を有する製造装置が処理した生産プロセスを管理する管理装置であって、
記憶手段と、
前記生産プロセスの期間中に前記制御手段が前記制御機器群に出力した制御情報と、前記生産プロセスの期間中に前記センサ群が検出した検出情報を取得する情報取得手段と、
前記制御情報に含まれる前記第１制御機器に出力された代表制御情報から、前記生産プロセスの基準期間を決定し、
前記基準期間に属している前記検出情報に基づく代表値と、前記基準期間に属している前記制御情報に基づく代表値を算出し、
前記算出した各々の代表値を前記生産プロセスの特定情報と関連付けて、前記記憶手段に記憶することを特徴とする管理装置。
【請求項２】
前記検出情報に基づく代表値は、
前記検出情報に含まれる所定のセンサが検出した前記基準期間に属している検出情報の平均値であることを特徴とする請求項１に記載の管理装置。
【請求項３】
前記制御情報に基づく代表値は、
前記制御情報に含まれる所定の制御機器に出力された前記基準期間に属している制御情報の平均値であることを特徴とする請求項１または２のいずれかに記載の管理装置。
【請求項４】
前記基準期間は、
前記代表制御情報の時間的変化に特徴がある特徴時点を終了時点とし、前記終了時点より所定の時間遡った時点から始まり、前記終了時点で終わる期間であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の管理装置。
【請求項５】
前記基準期間の終了時点は、
前記生産プロセスの開始時点の代表制御情報よりも所定の閾値以上となる特徴時点のうち、最も前記生産プロセスの終了時点に近い特徴時点であることを特徴とする請求項４に記載の管理装置。
【請求項６】
前記管理装置は、
前記算出した各々の代表値と、異なる生産プロセスに関連付けられ前記記憶手段に記憶されている各々の代表値を比較し、比較結果を出力することを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載の管理装置。
【請求項７】
センサ群と、
第１制御機器を有する制御機器群と、
前記制御機器群を制御するための情報が記憶されているレシピと、
前記レシピに基づいて前記制御機器群を制御する制御手段を有する製造装置が処理した生産プロセスを管理する管理装置の管理方法であって、
前記管理装置は、
記憶手段と、
前記生産プロセスの期間中に前記制御手段が前記制御機器群に出力した制御情報と、前記生産プロセスの期間中に前記センサ群が検出した検出情報を取得する情報取得手段を有し、
前記管理方法は、
前記制御情報に含まれる前記第１制御機器に出力された代表制御情報から、前記生産プロセスの基準期間を決定するステップと、
前記基準期間に属している前記検出情報に基づく代表値と、前記基準期間に属している前記制御情報に基づく代表値を算出するステップと、
前記算出した各々の代表値を前記生産プロセスの特定情報と関連付けて、前記記憶手段に記憶するステップを有することを特徴とする管理方法。
【請求項８】
センサ群と、
第１制御機器を有する制御機器群と、
前記制御機器群を制御するための情報が記憶されているレシピと、
前記レシピに基づいて前記制御機器群を制御する制御手段を有する製造装置が処理した生産プロセスを管理する管理装置で実行させる管理プログラムであって、
前記管理装置は、
記憶手段と、
前記生産プロセスの期間中に前記制御手段が前記制御機器群に出力した制御情報と、前記生産プロセスの期間中に前記センサ群が検出した検出情報を取得する情報取得手段を有し、
前記管理プログラムは、
前記制御情報に含まれる前記第１制御機器に出力された代表制御情報から、前記生産プロセスの基準期間を決定するステップと、
前記基準期間に属している前記検出情報に基づく代表値と、前記基準期間に属している前記制御情報に基づく代表値を算出するステップと、
前記算出した各々の代表値を前記生産プロセスの特定情報と関連付けて、前記記憶手段に記憶するステップを有することを特徴とする管理プログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、さまざまな制御機器を制御する製造装置の生産プロセスを管理する管理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体デバイスの製造において、原料ガスを反応室内に供給し、化合物半導体結晶を成長させる気相成長装置が用いられている。
【０００３】
気相成長装置を用いて被処理基板上に化合物半導体結晶を成長させる場合、反応室内の基板保持体に被処理基板が載置される。その後、回転機によって基板保持体が回転させられるとともに、反応室に原料ガスが供給される。そして、供給された原料ガスは、被処理基板からの熱により加熱され、化学反応が起こり、被処理基板上に半導体結晶が成長し成膜される。
【０００４】
このような気相成長装置では、反応室内の温度状態を成膜に適した状態にするために、加熱ヒータに対する制御を行っている。さらに、反応室内の圧力状態を成膜に適した状態にするために原料ガスを供給または排出する各種制御機器に対する制御を行っている。さらに、半導体結晶がムラなく均一に成膜できる所定の回転速度で回転するように回転機に対する制御を行っているなど、さまざまな制御機器に対して制御を行っている。
【０００５】
このような気相成長装置に代表される製造装置では、生産を開始してから終了するまでの一連の生産プロセスに対して、各種制御機器を稼働させる時期や操作量などの各種情報を記憶している。そして、記憶されている当該各種情報に基づいて各種制御機器を制御している。なお、以下では、当該各種情報を記憶する記憶領域やファイルなどの当該各種情報を総称する実態を「レシピ」と呼称している。
【０００６】
ここで、レシピに記憶される各種情報の概要について、以下に説明する。
【０００７】
例えば気相成長装置の加熱ヒータに対するレシピの情報は、被処理基板を成膜に適した成膜温度にまで加熱する昇温段階と、成膜温度付近の温度状態を維持する保温段階に分割されている。また、昇温段階は、より細かな段階に分割されている。そして、各段階の移行時期や段階毎に規定されるヒータ操作量などの情報が記憶されている。
【０００８】
ここで、保温段階は、被処理基板上に半導体結晶が成長している成膜段階に相当し、昇温段階は成膜段階に至るまでの準備段階に相当する。
【０００９】
一方、加熱ヒータ以外の制御機器についても同様に、成膜段階や準備段階に相当する各段階の移行時期や段階毎に規定される操作量などの情報が記憶されている。
【００１０】
このような製造装置に対して、レシピに基づいて処理がなされた所定の生産プロセスに対して、反応室の温度状態や基板保持体の回転状態等の稼働情報を算出し、算出した稼働情報を当該生産プロセスと対応付けて記憶管理する。
【００１１】
また、品質の悪い製品が生産された時の生産プロセスの稼働情報と、良品が生産された時の生産プロセスの稼働情報とを比較して、製品の品質を低下させる等の要因を推定又は特定する。
【００１２】
さらに、推定又は特定した要因に係るレシピの情報を変更することによって生産プロセスの改善を行っている。
【００１３】
稼働情報の判別又は算出方法に関し、特許文献１には、図８に示す稼働情報出力装置が記載されている。当該稼働出力装置１００は、生産機器２００が処理を実行するときに消費する、または発生する物理量の時系列データを取得する電力データ取得部１１０と、電力データ取得部１１０が取得した時系列データから、所定時間の時系列データを検出する１サイクル検出部１２０と、１サイクル検出部１２０が検出した時系列データを用いて、生産機器２００の稼働情報を取得する稼働情報取得部１３０とを備えている。
【００１４】
また、稼働情報出力装置１００では、電力データ取得部１１０から取得した消費電力の時系列データから１サイクル部分を検出し、検出した１サイクル部分の情報から生産品種などの稼働情報を判別又は算出する。ここで、１サイクル部分はパターン認識などの手法を用いて特徴を抽出し、抽出した特徴と識別情報記憶部１４０に記憶されている１サイクルの特徴とを比較することにより判断する。
【００１５】
なお、特許文献１では、稼働状態時間、停止状態時間、負荷状態時間、生産品種、生産数、サイクルタイム等の稼働情報を算出又は判別し出力することが開示されている。さらに、稼働情報の１つである生産品種を１サイクルの時間によって判別することが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１６】
【特許文献１】特開２０１０−２５０３８２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１７】
しかしながら、さまざまな制御機器を制御する製造装置では、例えば保温段階に移行するまでにかかる時間等の段階移行の時期に係るレシピの情報を変更して生産プロセスの改善が成される場合がある。
【００１８】
そして、このような場合、各種時系列データの期間に係る特徴が、変更を行う前と後とで失われてしまう可能性がある。
【００１９】
このことから、所定の生産プロセスに対する各種時系列データから期間に係る稼働情報を算出し記憶管理しても、当該稼働情報だけでは、製品の品質を低下させる等の要因を推定又は特定することはできなかった。
【００２０】
さらに、例えば気相成長装置における反応室内の圧力状態等は、多くの制御機器の制御状態に影響を受ける。
【００２１】
このことから、異常な箇所が見受けられる圧力センサの時系列データだけを取得しても、異常を引き起こした要因を推定又は特定することはできなかった。
【００２２】
本発明は、上記の問題に鑑みてなされたものであり、その目的は、製品の品質を低下させる等の要因を推定又は特定することができる稼働情報を算出する管理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２３】
本発明の管理装置は、センサ群と、第１制御機器を有する制御機器群と、制御機器群を制御するための情報が記憶されているレシピと、レシピに基づいて制御機器群を制御する制御手段を有する製造装置が処理した生産プロセスを管理する管理装置であって、記憶手段と、生産プロセスの期間中に制御手段が制御機器群に出力した制御情報と、生産プロセスの期間中にセンサ群が検出した検出情報を取得する情報取得手段と、制御情報に含まれる第１制御機器に出力された代表制御情報から、生産プロセスの基準期間を決定し、基準期間に属している検出情報に基づく代表値と、基準期間に属している制御情報に基づく代表値を算出し、算出した各々の代表値を生産プロセスの特定情報と関連付けて、記憶手段に記憶することを特徴とする。
【００２４】
好ましくは、本発明の検出情報に基づく代表値は、検出情報に含まれる所定のセンサが検出した基準期間に属している検出情報の平均値であることを特徴とする。
【００２５】
また、好ましくは、本発明の制御情報に基づく代表値は、制御情報に含まれる所定の制御機器に出力された基準期間に属している制御情報の平均値であることを特徴とする。
【００２６】
また、好ましくは、本発明の管理装置の基準期間は、代表制御情報の時間的変化に特徴がある特徴時点を終了時点とし、終了時点より所定の時間遡った時点から始まり、終了時点で終わる期間であることを特徴とする。
【００２７】
また、好ましくは、本発明の管理装置の基準期間の終了時点は、生産プロセスの開始時点の代表制御情報よりも所定の閾値以上となる特徴時点のうち、最も生産プロセスの終了時点に近い特徴時点であることを特徴とする。
【００２８】
また、好ましくは、本発明の管理装置は、算出した各々の代表値と、異なる生産プロセスに関連付けられ記憶手段に記憶されている各々の代表値を比較し、比較結果を出力することを特徴とする。
【００２９】
さらに、本発明の管理方法は、センサ群と、第１制御機器を有する制御機器群と、制御機器群を制御するための情報が記憶されているレシピと、レシピに基づいて制御機器群を制御する制御手段を有する製造装置が処理した生産プロセスを管理する管理装置の管理方法であって、管理装置は、記憶手段と、生産プロセスの期間中に制御手段が制御機器群に出力した制御情報と、生産プロセスの期間中にセンサ群が検出した検出情報を取得する情報取得手段を有し、管理方法は、制御情報に含まれる第１制御機器に出力された代表制御情報から、生産プロセスの基準期間を決定するステップと、基準期間に属している検出情報に基づく代表値と、基準期間に属している制御情報に基づく代表値を算出するステップと、算出した各々の代表値を生産プロセスの特定情報と関連付けて、記憶手段に記憶するステップを有することを特徴とする。
【００３０】
さらに、本発明の管理プログラムは、センサ群と、第１制御機器を有する制御機器群と、制御機器群を制御するための情報が記憶されているレシピと、レシピに基づいて制御機器群を制御する制御手段を有する製造装置が処理した生産プロセスを管理する管理装置で実行させる管理プログラムであって、管理装置は、記憶手段と、生産プロセスの期間中に制御手段が制御機器群に出力した制御情報と、生産プロセスの期間中にセンサ群が検出した検出情報を取得する情報取得手段を有し、管理プログラムは、制御情報に含まれる第１制御機器に出力された代表制御情報から、生産プロセスの基準期間を決定するステップと、基準期間に属している検出情報に基づく代表値と、基準期間に属している制御情報に基づく代表値を算出するステップと、算出した各々の代表値を生産プロセスの特定情報と関連付けて、記憶手段に記憶するステップを有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００３１】
本発明の管理装置では、例えば加熱ヒータの操作量の時系列データから、成膜段階と推測される基準期間を決定している。
【００３２】
そして、決定した基準期間に属している各種時系列データに基づいて、例えば加熱ヒータに対する平均操作量、反応室内の平均温度、反応室内の平均圧力、回転機に対する平均操作量などの代表値を算出し記憶している。
【００３３】
このことから、例えば保温段階に移行するまでにかかる時間等の段階移行の時期に係る項目の変更が行われた場合においても、生産プロセス毎に算出し記憶された代表値を比較することによって、製品の品質を低下させる等の要因の推定又は特定することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】本発明の実施の形態に係る生産システムの全体構成を示す図である。
【図２】代表的なプロセスデータの時間的変化を例示する図である。
【図３】主制御コントローラの処理手順を示すフローチャート図である。
【図４】基準期間の決定手順の一例を示すフローチャート図である。
【図５】決定された基準期間ＢＰＲの一例を示す図である。
【図６】算出された各種プロセスデータ毎の代表値を示す図である。
【図７】稼働情報の比較処理手順の一例を示すフローチャート図である。
【図８】従来の稼働情報出力装置の要部構成を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００３５】
以下、図面を参照しつつ、本発明の実施の形態について説明する。なお、以下の説明において、各種制御機器を稼働させる時期や操作量などの各種情報を記憶する記憶領域やファイルなどの当該各種情報を総称する実態を「レシピ」と呼称している。また、生産の開始から終了までの一連の処理がなされた所定の生産プロセスを「バッチ処理」と呼称している。さらに、処理内容の説明においては、「ステップ」を「Ｓ」で表し、各々の処理を数字で区別している。
【００３６】
図１は、本発明の実施の形態に係る生産システム１の全体構成を示し、以下に説明する。
【００３７】
生産システム１は、所望する半導体基板を生産する気相成長装置５０と、当該気相成長装置５０によって処理がなされた所定のバッチ処理に対して、気相成長装置５０の各種センサのセンサ情報および各種制御機器に出力される制御情報である各種プロセスデータを管理する管理装置１０から構成される。
【００３８】
管理装置１０は、各種情報や利用者指示を入力するための入力手段１５、各種情報を表示するための表示手段１６、各種情報を記憶するための記憶手段１２、無線又は有線の通信手段やリムーバブルな記録媒体からデータを読込むことが可能な記録ドライブである情報取得手段１３、そしてこれら各部を制御する主制御コントローラ１１から構成される。
【００３９】
ここで、気相成長装置５０の各種プロセスデータは、通信データ又はリムーバブルな記録媒体に記録された記録データとして、情報取得手段１３を通じて気相成長装置５０から取得する。
【００４０】
気相成長装置５０は、ガス導入口５３から導入される原料ガスを、複数のガス流路５４から均一に反応室５６に供給するよう構成されている。
【００４１】
そして、反応室５６の下部中央には回転機６２によって回転自在の回転軸５９が設けられ、回転軸５９の先端には、複数のガス流路５４から原料ガスが供給される面と対向するようにして、被処理基板５８が載置された円盤状の基板保持体５７が取り付けられている。さらに、基板保持体５７の下方には基板保持体５７を加熱するための加熱ヒータ６０が取り付けられている。
【００４２】
加熱ヒータ６０は、ヒータ駆動回路６１を通じて発熱量の調整等の制御がなされる。また、回転機６２も同様に、回転機駆動回路６３によって回転速度の調整等の制御がなされる。さらに、ガス供給部やガス排出部等の不図示の制御機器についても同様に、各種駆動回路を通じて操作量の調整等の制御がなされる。
【００４３】
基板保持体５７周辺の温度又は加熱ヒータ６０の消費電力を計測する温度センサ７０、基板保持体５７の回転速度又は回転機６２の消費電力を計測する回転速度センサ７１、反応室５６内部の圧力を計測する圧力センサ７２、ガス流路５４から反応室５６に供給される原料ガスの流量を計測する流量センサ７３などの各種センサが各部要所に設けられている。
【００４４】
さらに、加熱ヒータ６０や回転機６２などの制御機器を制御するためのプロセス制御コントローラ８１、各種情報が記憶されている記憶手段８２、そして無線又は有線の通信手段やリムーバブルな記録媒体からデータを書込むことが可能な記録ドライブである情報伝達手段８３などの各種デバイスが設けられている。ここで、記憶手段８２には、加熱ヒータ６０などの各種制御機器を制御するための操作量や稼働条件などの各種情報が記憶されているレシピ８２１を含んで構成されている。
【００４５】
プロセス制御コントローラ８１は、レシピ８２１に基づいて各種制御機器の制御を行う。さらに、たとえば、利用者による生産プロセスの開始指示から生産プロセスが完了するまでの期間を生産プロセス期間とし、当該生産プロセス期間中のプロセスデータを所定の時間間隔で収集する。そして、収集したプロセスデータを、情報伝達手段８３を通じて管理装置１０に伝達する。
【００４６】
図２は、バッチＡとバッチＢの２種類のバッチ処理における、代表的なプロセスデータの時間的変化を例示している。
【００４７】
ここで、バッチＡは、被処理基板を成膜に適した成膜温度にまで加熱する昇温段階の初期において、所定の操作量で急激に加熱ヒータ６０を稼働させ制御するレシピのバッチ処理を例示している。
【００４８】
一方、バッチＢは、昇温段階の初期において、ＴＡ時間かけて徐々に操作量を所定の操作量になるまで上昇させて加熱ヒータ６０を稼働させ制御する昇温初期段階が、バッチＡに対して追加されている。そして、当該昇温初期段階が追加された点を除き同一であるレシピのバッチ処理を例示している。
【００４９】
ここで、バッチＡとバッチＢの各種プロセスデータの時間的変化の特徴の１つとして、例えばバッチＢの生産プロセス期間は、バッチＡに比べて昇温初期段階の期間ＴＡ分だけ長くなっている点が挙げられる。
【００５０】
図２（Ａ）はバッチＡに対して、図２（Ｅ）はバッチＢに対して、プロセス制御コントローラ８１がヒータ駆動回路６１に出力したヒータ操作量の時間的変化を示し、情報伝達手段８３では、生産プロセス期間中のヒータ操作量を管理装置１０に伝達する。
【００５１】
ここで、ヒータ操作量のプロセスデータに係り、被処理基板上に半導体結晶が成長している成膜段階と推定する期間中のヒータ操作量は、所定の操作量で安定し続ける保温段階にあるという特徴を有している。
【００５２】
図２（Ｂ）はバッチＡに対して、図２（Ｆ）はバッチＢに対して、プロセス制御コントローラ８１が回転機駆動回路６３に出力した回転機操作量の時間的変化を示し、情報伝達手段８３では、生産プロセス期間中の回転機操作量を管理装置１０に伝達する。
【００５３】
ここで、他の各種制御機器の駆動回路に出力した操作量の情報についても同様に、生産プロセス期間中の操作量を管理装置１０に伝達する。
【００５４】
図２（Ｃ）はバッチＡに対して、図２（Ｇ）はバッチＢに対して、温度センサ７０がプロセス制御コントローラ８１に出力した温度センサ情報の時間変化を示し、情報伝達手段８３では、生産プロセス期間中の温度センサ情報を管理装置１０に伝達する。
【００５５】
図２（Ｄ）はバッチＡに対して、図２（Ｈ）はバッチＢに対して、圧力センサ７２がプロセス制御コントローラ８１に出力した圧力センサ情報の時間変化を示し、情報伝達手段８３では、生産プロセス期間中の圧力センサ情報を管理装置１０に伝達する。
【００５６】
ここで、温度センサ７０、圧力センサ７２以外の各種センサから出力されたセンサ情報も同様に、生産プロセス期間中のセンサ情報を管理装置１０に伝達する。
【００５７】
図３は、主制御コントローラ１１の処理手順を示し、以下に説明する。
【００５８】
主制御コントローラ１１では、気相成長装置５０から伝達された所定のバッチ処理に対する各種プロセスデータを、情報取得手段１３を通じて取得する（Ｓ１００）。
【００５９】
ここで、当該処理において、取得した各種プロセスデータに対応するバッチ処理を特定するために、例えば当該バッチ処理の生産プロセスが開始された日付時刻や使用された気相成長装置を識別する識別コードなどのバッチ特定情報を、情報取得手段１３を通じて取得する、又はバッチ特定情報の入力を利用者に促し取得する。
【００６０】
上述のＳ１００に続いて、取得した各種プロセスデータの中から、ヒータ操作量のプロセスデータを選択して抽出する（Ｓ２００）。ここで、当該処理で抽出するプロセスデータは、ヒータ操作量以外の各種制御機器の駆動回路に出力した操作量を選択して抽出するものとしても構わない。
【００６１】
続いて、ヒータ操作量のプロセスデータから成膜段階と推定される一部期間を抽出し、バッチ処理の基準期間ＢＰＲに決定する（Ｓ３００）。
【００６２】
続いて、決定した基準期間ＢＰＲと各種プロセスデータに基づいて、ヒータ操作量の代表値ＢＨＯ、回転機操作量の代表値ＢＭＯ、温度センサ情報の代表値ＢＴ、圧力センサ情報の代表値ＢＰなどの各種プロセスデータ毎の代表値を、バッチ処理の稼働情報として算出する（Ｓ４００）。
【００６３】
続いて、上述した処理によって算出された各種稼働情報を、バッチ特定情報と対応付けて記憶手段１２に記憶、又は表示手段１６に表示して処理を終了する（Ｓ５００）。
【００６４】
図４は、図３に示したＳ３００において、ヒータ操作量のプロセスデータから成膜段階と推定される一部期間を基準期間ＢＰＲとして決定する場合の処理手順を示し、図５は、当該処理によって決定された基準期間ＢＰＲの一例を示している。
【００６５】
図４および図５を用いて、基準期間ＢＰＲの決定方法の一例について説明する。
【００６６】
最初に、プロセスデータの生産プロセスに直接関係しない無効期間を、生産プロセス期間から除外した有効期間ＴＰＲを抽出する（Ｓ３０１）。
【００６７】
ここで、無効期間には、たとえば、各種制御機器への電力供給などの事前処理を行う期間や、次の生産プロセスに影響を与えないようにするための各種制御機器の事後処理期間などが挙げられる。そして、このような無効期間は、ヒータ操作量のプロセスデータの特徴から推定して抽出する。
【００６８】
図５（Ａ）は、無効期間を除外した有効期間ＴＰＲの一例を示している。
【００６９】
本図によると、生産プロセスの開始時点から操作量ＶＢに到達するまでの期間と、操作量ＶＢ未満で移行し続けて生産プロセスが終了するまでの期間を無効期間とし、この無効期間を生産プロセス期間から除外した期間を有効期間ＴＰＲと定めている。なお、操作量ＶＢは、生産プロセスの開始時点の操作量ＶＩに比べ、予め定めたＶＤ分多い値として定められる。
【００７０】
上述のＳ３０１に続いて、有効期間ＴＰＲの範囲内に属しているプロセスデータの特徴点のうち、生産プロセスの終了時点に最も近い特徴点の時点ＰＥを、成膜段階の終了時点として抽出する（Ｓ３０２）。
【００７１】
ここで、プロセスデータの特徴点は、時間的変化の割合が予め定められる条件を超えて変化した時点を探索することで抽出することができる。
【００７２】
図５（Ｂ）は、有効期間ＴＰＲの範囲内に属し、プロセスデータの特徴点として抽出され得る特徴点Ｐ１〜Ｐ７を例示している。
【００７３】
特徴点Ｐ１は、急激に操作量が増加する状態から、操作量の変動がほとんどない状態に遷移した時点の探索によって抽出することができる。また、特徴点Ｐ２とＰ７は、操作量の変動がほとんどない状態から、急激に操作量が減少する状態に遷移した時点の探索によって抽出することができる。さらに、特徴点Ｐ３〜Ｐ６は、操作量の変動が上昇又は下降する第１変動状態から、第１変動状態とは正反対となる操作量の変動が下降又は上昇する第２変動状態に遷移した時点の探索によって抽出することができる。
【００７４】
当該Ｓ３０２では、このような特徴点Ｐ１〜Ｐ７の中から生産プロセスの終了時点に最も近い特徴点Ｐ７の時点ＰＥを、成膜段階の終了時点として抽出する。なお、特徴点Ｐ１〜Ｐ６の抽出を行わずに、有効期間ＴＰＲの終了時点から特徴点を探索し、最初に見つかった特徴点の時点を、成膜段階の終了時点として抽出しても構わない。
【００７５】
上述のＳ３０２に続いて、時点ＰＥより予め定めたＴＤ時間前のＰＳ時点より始まり、時点ＰＥで終わる期間を、基準期間ＢＰＲとして決定する（Ｓ３０３）。
【００７６】
ここで、ＴＤ時間は、基準期間ＢＰＲが成膜段階と推定される一部期間に決定されるように、予測又は期待される実際の成膜期間よりも十分に短い時間が定められる。
【００７７】
図５（Ｃ）は、決定された基準期間ＢＰＲを示し、本図によると、基準期間ＢＰＲの終了時点を特徴点Ｐ７の時点ＰＥとし、開始時点を終了時点ＰＥより予め定めたＴＤ時間前のＰＳ時点として定めている。
【００７８】
図６は、図３に示したＳ４００の処理によって算出された各種プロセスデータ毎の代表値を示している。
【００７９】
図６（Ａ）は、ヒータ操作量の時系列変化とヒータ操作量の代表値ＢＨＯを示し、当該代表値ＢＨＯは、基準期間ＢＰＲ内のヒータ操作量の平均をとって算出する。
【００８０】
図６（Ｂ）は、回転機操作量の時系列変化と回転機操作量の代表値ＢＭＯを示し、当該代表値ＢＭＯは、基準期間ＢＰＲ内の回転機操作量の平均をとって算出する。
【００８１】
図６（Ｃ）は、温度センサ情報の時系列変化と温度センサ情報の代表値ＢＴを示し、当該代表値ＢＴは、基準期間ＢＰＲ内の温度センサ情報の平均をとって算出する。
【００８２】
図６（Ｄ）は、圧力センサ情報の時系列変化と圧力センサ情報の代表値ＢＰを示し、当該代表値ＢＰは、基準期間ＢＰＲ内の圧力センサ情報の平均をとって算出する。
【００８３】
このように、本実施の形態に係る管理装置１０では、取得した各種プロセスデータの中から、所定の制御機器の駆動回路に出力した操作量のプロセスデータを選択し抽出して、抽出したプロセスデータから、成膜段階と推定される一部期間を基準期間として決定している。
【００８４】
そして、ヒータ操作量、回転機操作量、温度センサ情報、圧力センサ情報などの各種プロセスデータ毎の代表値を、例えば決定した基準期間のプロセスデータの平均値を求める等の統計的算出手法により、バッチ処理の稼働情報として算出している。
【００８５】
このことから、例えば保温段階に移行するまでにかかる時間等の段階移行の時期に係る項目の変更が行われた場合においても、本実施の形態に係る管理装置１０で記憶又は表示された、変更前のバッチ処理の稼働情報と変更後のバッチ処理の稼働情報を比較することによって、製品の品質を低下させる等の要因の推定又は特定することができる。
【００８６】
図７は、主制御コントローラ１１で処理がなされる稼働情報の比較処理手順の一例を示し、以下に説明する。
【００８７】
最初に、比較する２種類のバッチ処理を選択する（Ｓ８０１）。ここで、当該処理は、たとえば、記憶手段１２に記憶されているバッチ特定情報を読み出し、表示手段１６に当該バッチ特定情報を一覧表示し、表示されたバッチ処理の中から２種類のバッチ処理を利用者に選択させることによってなされる。
【００８８】
そして、選択された２種類のバッチ処理に関連付けられている稼働情報を表示手段１６に表示し、当該稼働情報を比較する（Ｓ８０２）。ここで、当該稼働情報の比較は、たとえば、稼働情報として記憶されている各種プロセスデータ毎の代表値の差分を算出することによってなされる。
【００８９】
ここで、上述したＳ８０１とＳ８０２の処理において、たとえば、良品が生産された時のバッチ処理の稼働情報を比較用の稼働情報として予め設定し、当該比較用の稼働情報と利用者によって選択された複数のバッチ処理の稼働情報を各々に比較するものとしても構わない。
【００９０】
続いて、Ｓ８０２における比較結果が、予め規定されている閾値以上になっているかどうかを判断する（Ｓ８０３）。ここで、当該処理は、たとえば、各種プロセスデータ毎に閾値が規定され、各種プロセスデータ毎に算出された差分が、各々規定された閾値以上になっているかどうかを判断することによってなされる。
【００９１】
続いて、Ｓ８０３における判断結果が、閾値以上になっている場合には、警告を表示又は警告音を出力する（Ｓ８０４）。ここで、たとえば、警告を表示する際には、閾値以上になっていると判断されたプロセスデータを特定するための情報、当該プロセスデータの代表値、そして当該プロセスデータの算出された代表値の差分値を、表示手段１６に表示することによってなされる。
【００９２】
ここで、本実施の形態に係る管理装置の主制御コントローラ１１は、上述した図３、図４及び図７に従う処理手順を制御プログラムとしてメモリから読み出して実行する。このような場合、主制御コントローラ１１に読み出される、上述した図３、図４及び図７に従う制御プログラムは、本実施の形態に係る管理装置に付属する記録媒体に予め記録させて、プログラム製品として提供することもできる。このような記録媒体としては、ＣＤ（Ｃｏｍｐａｃｔ  Ｄｉｓｃ）やメモリカードなどの管理装置で読取り可能な記録媒体がある。あるいは、本実施の形態に係る又は管理装置に内蔵するハードディスクなどの記録媒体に記録させて提供することもできる。さらに、インターネットを含む各種ネットワークを介するダウンロードによって提供することもできる。
【００９３】
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【符号の説明】
【００９４】
１  生産システム
１０  管理装置
１１  主制御コントローラ
１２  記憶手段
１３  情報取得手段
１５  入力手段
１６  表示手段
５０  気相成長装置
５３  ガス導入口
５４  ガス流路
５６  反応室
５７  基板保持体
５８  被処理基板
５９  回転軸
６０  加熱ヒータ
６１  ヒータ駆動回路
６２  回転機
６３  回転機駆動回路
７０  温度センサ
７１  回転速度センサ
７２  圧力センサ
７３  流量センサ
８１  プロセス制御コントローラ
８２  記憶手段
８３  情報伝達手段
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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