(57)【要約】【課題】  挿入管と、挿入管の遠位端に取り付けられる電極と、を備える、プローブを提供する。【解決手段】  挿入管の遠位端には力センサが取り付けられる。力センサは中央開口部を有し、遠位端に加わる力を測定するように構成される。プローブは中央開口部を通るチューブを更に備え、該チューブは、電極の開口を通して灌注流体を供給するように構成される。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
挿入管と、
前記挿入管の遠位端に取り付けられる電極と、
前記遠位端に取り付けられ、中央開口部を有し、かつ前記遠位端に加わる力を測定するように構成された力センサと、
前記中央開口部を通り、かつ前記電極の開口を通して灌注流体を供給するように構成されたチューブと、を備える、プローブ。
【請求項２】
前記電極が、それぞれの一連の開口を有する複数の個別電極を含む、請求項１に記載のプローブ。
【請求項３】
前記それぞれの一連の開口に供給する前記チューブに接続されるそれぞれの灌注管を備える、請求項２に記載のプローブ。
【請求項４】
前記それぞれの一連の開口に対する前記灌注流体のそれぞれの流量を実現するように構成されたコントローラを備える、請求項２に記載のプローブ。
【請求項５】
前記コントローラが、前記遠位端に加わる前記力に応答して前記それぞれの流量の少なくとも１つを設定するように構成される、請求項４に記載のプローブ。
【請求項６】
前記それぞれの灌注管に接続されるそれぞれの弁を含み、前記それぞれの弁が、前記それぞれの一連の開口に対する前記灌注流体のそれぞれの流量を設定することができる、請求項３に記載のプローブ。
【請求項７】
前記力センサが、中央空間を取り囲む管形状を有し、前記チューブが前記中央空間を横切る、請求項１に記載のプローブ。
【請求項８】
前記力センサが少なくとも１つのコイルを備え、前記チューブが前記少なくとも１つのコイルを通って経路が定められる、請求項１に記載のプローブ。
【請求項９】
挿入管を提供することと、
前記挿入管の遠位端上に電極を取り付けることと、
中央開口部を有し、かつ前記遠位端に加わる力を測定するように構成された力センサを前記遠位端に取り付けることと、
灌注流体を前記電極の開口を通して供給するように構成されたチューブを前記中央開口部に通すことと、を含む、方法。
【請求項１０】
前記電極が、それぞれの一連の開口を有する複数の個別電極を備える、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記それぞれの一連の開口に供給するように、それぞれの灌注管を前記チューブに接続することを含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記それぞれの一連の開口に対する前記灌注流体のそれぞれの流量を実現することを含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
前記遠位端に加わる前記力に応答して前記それぞれの流量の少なくとも１つを設定することを含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
それぞれの弁を前記それぞれの灌注管に接続することを含み、前記それぞれの弁が、前記それぞれの一連の開口に対する前記灌注流体のそれぞれの流量を設定することができる、請求項１１に記載の方法。
【請求項１５】
前記力センサが、中央空間を取り囲む管形状を有し、前記チューブが前記中央空間を横切る、請求項９に記載の方法。
【請求項１６】
前記力センサが少なくとも１つのコイルを備え、前記チューブが前記少なくとも１つのコイルを通って経路が定められる、請求項９に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一般に、電極を有するカテーテルに関し、特に、電極を灌注するカテーテルに関する。
【背景技術】
【０００２】
心臓の一部焼灼を含む医学的処置は、様々な心不整脈の治療、並びに心房細動の管理のために用いることができる。そのような処置は、当該技術分野において既知である。静脈瘤の治療など、体内組織の焼灼を用いたその他の医学的処置も、当該技術分野において既知である。これら処置のための焼灼エネルギーは、処置に使用されるカテーテルの１つ以上の電極を介して供給される高周波（ＲＦ）エネルギーの形態であり得る。
【０００３】
この焼灼エネルギーを体内組織に適用する場合、制御されていないと、組織の温度の望ましくない上昇が起こることがある。したがって、焼灼が関与するあらゆる医学的処置の最中に、組織の温度を制御することが重要である。制御のための１つの方法は、焼灼されている組織に灌注することである。
【０００４】
参照により本特許出願に組み込まれる文書は、組み込まれた文書内の用語が、本明細書で明示的又は暗黙的に行われる定義と相反するように定義される場合を除き、本出願の一体部分と見なされるべきであり、本明細書における定義のみが検討されるべきである。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の一実施形態は、プローブを提供するものであり、該プローブは、
挿入管と、
挿入管の遠位端に取り付けられる電極と、
遠位端に取り付けられ、中央開口部を有し、かつ遠位端に加わる力を測定するように構成された力センサと、
中央開口部を通り、かつ電極の開口を通して灌注流体を供給するように構成されたチューブと、を備える。
【０００６】
開示される実施形態において、電極は、それぞれの一連の開口を有する複数の個別電極を含む。典型的には、プローブは、それぞれの一連の開口に供給するチューブに接続される対応の灌注管を備える。プローブは、それぞれの一連の開口に対する灌注流体のそれぞれの流量を実現するように構成されたコントローラを更に備えていてもよい。いくつかの実施形態において、コントローラは、遠位端に加わる力に応答してそれぞれの流量の少なくとも１つを設定するように構成される。典型的には、プローブは、それぞれの灌注管に接続される対応する弁を含み、対応する弁は、それぞれの一連の開口に対する灌注流体のそれぞれの流量を設定することができる。
【０００７】
代替実施形態において、力センサは中央空間を取り囲む管形状を有し、チューブは中央空間を横切る。
【０００８】
更なる代替実施形態において、力センサは少なくとも１つのコイルを備え、チューブは、少なくとも１つのコイルを通って経路が定められる。
【０００９】
本発明の一実施形態によると、
挿入管を提供することと、
挿入管の遠位端に電極を取り付けることと、
中央開口部を有し、かつ遠位端に加わる力を測定するように構成された力センサを遠位端に取り付けることと、
灌注流体を電極の開口を通して供給するように構成されたチューブを中央開口部に通すことと、を含む、方法が更に提供される。
【００１０】
本開示は、以下のより詳細な実施形態と、その図面の記述により、より完全に理解され得る。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の一実施形態によるカテーテルプローブ焼灼システムの概略描写図。
【図２】本発明の一実施形態によるシステムに使用されるカテーテルプローブの遠位端の概略断面図。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
概論
本発明の一実施形態は、心臓組織の焼灼といった低侵襲的処置で典型的に使用されるカテーテルプローブを提供する。プローブは、侵襲を少なくするために、通常約２ｍｍの小さな外径を有する挿入管を備える。少なくとも１つの電極、典型的には２つ以上の個別電極は、挿入管の遠位端に取り付けられる（遠位端は挿入管とほぼ同じ直径を有する）。
【００１３】
力センサが該遠位端内に取り付けられ、この力センサは、該端部が組織と接触するときに遠位端に加わる力を測定する。（該力を制御することにより、組織の焼灼をより正確に行うことが可能となる。）力センサは、挿入管の外装と接触する管形状を有し得る。センサは中央開口部を有し、典型的には中央空間を画定する。
【００１４】
１つ以上の電極は、電極及び電極の近くの本体材料に灌注流体を供給するために使用される、それぞれの一連の開口を有する。灌注チューブは、力センサの中央開口部を通り、典型的にはセンサの中央空間を横切って、電極に接続される。チューブは、電極の開口部に灌注流体を供給する。
【００１５】
力センサ内の「空の」領域、即ち、中央開口部及び中央空間を灌注チューブのために使用することにより、本発明の実施形態は、遠位端における利用可能な（小さな直径の）空間を極めて効率的に使用する。この空間の効率的利用により、焼灼の間に遠位端の電極を灌注することができ、更に、カテーテルプローブの直径を増加させる必要なく焼灼の間の力を測定することができることを意味する。
【００１６】
システムの説明
ここで発明の実施形態による図を参照すると、図１は、カテーテルプローブ焼灼システム１０の概略描写図であり、図２は、このシステムに使用されるカテーテルプローブ１４の遠位端１２の概略断面図である。システム１０において、プローブ１４は、被験者２２の内腔１８（例えば、心臓２０の心室）に挿入される挿入管１６を備える。プローブは、典型的には体内組織２６の焼灼を実施することを含む処置中に、システム１０の操作者２４によって使用される。
【００１７】
心臓内操作について、挿入管１６及び遠位端１２は一般に、典型的には２〜３ｍｍ程度である非常に小さい外径を有するべきである。したがって、カテーテルプローブ１４の内部構成要素も全て、できる限り小型で細く製造され、小さな機械的ひずみによる破損をできる限り避けるよう配置される。
【００１８】
システム１０の機能は、システムコントローラ３０によって管理され、このシステムコントローラには、システム１０の動作のためのソフトウェアが保存されているメモリ３４と通信を行う処理装置３２が含まれている。コントローラ３０は典型的に、一般目的のコンピュータ処理装置を備える業界標準のパーソナルコンピュータである。しかしながら、いくつかの実施形態では、コントローラの機能の少なくとも一部分が、例えば、特定用途向け集積回路（ＡＳＩＣ）又は現場でプログラム可能なゲートアレイ（ＦＰＧＡ）などの、カスタム設計のハードウェア及びソフトウェアを使用して実施される。コントローラ３０は、典型的に、ポインティングデバイス３６及びグラフィカルユーザインタフェース（ＧＵＩ）３８（これらによってシステム１０のパラメータを操作者が設定することが可能になる）を使用して操作者２４によって管理される。更に、ＧＵＩ  ３８は、典型的には、処置の結果を操作者に対して表示する。
【００１９】
メモリ３４中のソフトウェアは、例えば、ネットワークを介して電子的形態でコントローラにダウンロードされることができる。あるいは又はこれに加えて、このソフトウェアは、光学的、磁気的、又は電子的記憶媒体など、非一過性の有形媒体上に提供され得る。
【００２０】
１つ以上の電極は遠位端１２に取り付けられる。一例として、図２は、かかる３つの電極である第１の電極４０、第２の電極４２、及び第３の電極４４を示しており、これら電極は互いに絶縁される。電極は、典型的には、管１６の絶縁外装４６の上に形成された金属薄層を備える。典型的には、この遠位端は、互いに及び電極４０、４２、及び４４から絶縁された他の電極を有するが、簡略化のため図には示されていない。一例として、遠位端の端にある電極４０は、平坦な底面を備えたカップの形状を有すると仮定されており、本明細書ではカップ電極とも呼ばれる。カップ電極４０は、典型的には、約０．１ｍｍ〜約０．２ｍｍの範囲の厚さを有する。
【００２１】
第２の電極４２はリングの形状であり、本明細書ではリング電極４２とも呼ばれる。リング電極４２は、典型的には、カップ電極と同様の厚さを有する金属から形成される。第３の電極４４は、外装４６の上方の突出部又はバンプの形状であり、バンプ電極４４とも呼ばれる。バンプ電極４４はカップ電極及びリング電極と同様の厚さを有してもよく、いくつかの実施形態では若干厚めであってもよい。本開示において、電極４０、４２、及び４４、並びに遠位端のその他の電極は、本明細書において総じて電極４０Ｃとも呼ばれる。
【００２２】
電極４０Ｃは、管１６の中の導線（図には示されず）によってシステムコントローラ３０に接続される。後述のように、電極のうちの少なくとも１つが、組織２６の焼灼に使用される。電極は、焼灼で使用されることに加えて、典型的には、当技術分野で周知の他の機能を行い、そうした機能のいくつかは以下に記載される。必要に応じて、他の機能に使用されるとき、コントローラ３０は、周波数多重化によって、違う機能の電流をそれぞれ区別することができる。例えば、高周波（ＲＦ）焼灼電力は数百ｋＨｚの桁の周波数で提供されてもよく、位置検出周波数は１ｋＨｚの桁の周波数であってもよい。電極に対して測定されるインピーダンスを用いて遠位端１２の位置を評価する方法は、参照により本明細書に組み込まれるＢａｒ−Ｔａｌらの米国特許出願第２０１０／００７９１５８号に開示されている。
【００２３】
システムコントローラ３０は、力モジュール４８と、ＲＦ焼灼モジュール５０と、灌注モジュール５２と、追跡モジュール５４と、を備える。処理装置３２は、遠位端に加わる力の大きさ及び方向を測定するために、力モジュールを使用して遠位端１２の中の力センサ５８に供給され、かつ力センサ５８から受信する信号を生成及び測定する。力センサ５８の動作及び構造は以下に詳述される。
【００２４】
処理装置３２は、焼灼モジュールを使用して、例えば、１つ以上の電極４０Ｃを介して印加される焼灼電力のレベルなどの焼灼パラメータを監視及び制御する。該モジュールは、施される焼灼の持続時間も監視及び制御する。
【００２５】
典型的には、焼灼の間、焼灼をもたらす電極（１つ又は複数）、並びに周辺領域に熱が生じる。熱を消散させ、かつ焼灼プロセスの効率を改善するために、システム１０は遠位端１２に灌注流体を供給する。以下により詳細に記載されるように、システム１０は、灌注モジュール５２を使用して、灌注流体の流量及び温度などの灌注パラメータを監視及び制御する。
【００２６】
装置３２は、追跡モジュール５４を使用して、患者２２に対する遠位端の位置及び配向を監視する。監視は、Ｂｉｏｓｅｎｓｅ  Ｗｅｂｓｔｅｒ（Ｄｉａｍｏｎｄ  Ｂａｒ，ＣＡ）製のＣａｒｔｏ３（登録商標）システムに提供されているもののような技術分野で知られた任意の追跡法によって実施され得る。かかるシステムは、患者２２の外部及び遠位端１２の内部にある高周波（ＲＦ）電磁送信及び受信要素を使用する。あるいは又はこれに加えて、追跡は、これもまたＣａｒｔｏ３（登録商標）システムに提供されているもののような、１つ以上の電極４０Ｃと、患者２２の皮膚に取り付けられるパッチ電極との間の測定インピーダンスによって実施され得る。簡略化のため、追跡に固有でありかつモジュール５４で使用される、例えば、前記の要素及びパッチ電極などの要素は、図１に示されていない。
【００２７】
図２に示されるように、遠位端１２は挿入管１６に接続される。遠位端の上には電極４０Ｃが取り付けられており、遠位端内には力センサ５８が取り付けられている。力センサ５８と類似した力センサの態様は、２００７年１０月８日出願の米国特許出願第２００９／００９３８０６号（Ｇｏｖａｒｉら）、及び２００９年１１月３０日出願の米国特許出願第２０１１／０１３０６４８号（Ｂｅｅｃｋｌｅｒら）に記載されており、当該特許出願の開示は共に参照により本明細書に組み込まれる。
【００２８】
図２は、力センサ５８の概略断面図である。センサ５８は、連結部材の両端の間のばね接続部６２を形成する弾性連結部材６０を備える。例として、連結部材６０は、第１の部分６４及び第２の部分６６の２つの部分で形成され、これら２つの部分が固定的に互いに接合されていると仮定される。連結部材６０のこの２つの部分は、一般に管状であり、連結部材も中央開口部６８を備えた管形状を有するように接合される。連結部材６０を２つの部分で形成する必要はないが、２つの部分で実施することにより、力センサ内に含まれる要素、並びに遠位端に取り付けられる他の要素を該部材に組み付けるのが簡単になる。典型的には、連結部材６０は、ニッケルチタン（ニチノール）などの超弾性合金で形成される。
【００２９】
該部材がばねとして挙動するように、連結部材６０は、典型的には、部材の第１の部分６４の長さ部分に切り込まれた１つ以上の螺旋７０を有する。本明細書に記載され、かつ図２に示される実施形態では、螺旋７０は、第１の切り込み螺旋７２及び第２の切り込み螺旋７４の２つの絡み合った螺旋として形成され、本明細書では二重螺旋とも呼ばれる。しかしながら、連結部材６０はあらゆる正の整数の螺旋を有していてもよく、当業者は、過度な実験をすることなしに、本発明の説明を２つ以外の螺旋の数を包含するように適合させることができるであろう。あるいは、連結部材は、前記の１つ以上の管状螺旋切り込みによって生成されるものと同様の可撓性及び強度特性を有する、コイルばね又は任意の他の好適な種類の弾性構成要素を備えてもよい。
【００３０】
連結部材６０は、典型的には可撓性プラスチック材料で形成される外装４６の内部に取り付けられ、かつ外装４６によって覆われる。部材６０は、典型的には、外装４６の内径とほぼ等しい外径を有する。連結部材の外径ができるだけ大きい構成は、力センサ５８の感度を増加させる。これに加えて及び以下に説明されるように、管状連結部材の比較的大きな直径、及び比較的薄い壁は、連結部材内に封入される中央空間６１を提供し、遠位端内の以下に記載される他の要素がこの中央空間６１を使用する。
【００３１】
例えば、カテーテルプローブ１４が、電極４０Ｃを通してＲＦ（高周波）電気エネルギーを送達することにより心臓内組織を焼灼するのに使用される場合、遠位端１２の領域でかなりの熱が発生する。この理由から、外装４６は、例えば、ポリウレタンなどの耐熱性プラスチック材料を備え、この形状及び弾性は、熱に対する曝露により大きな影響を受けないことが望ましい。
【００３２】
力センサ５８内、典型的には連結部材の中央空間内で、コイル７６、７８、８０、及び８２を備える接続部感知アセンブリは、接続部６２の寸法変化（接続部の軸方向変位及び角偏向など）の正確な読み取りを提供する。これらのコイルは、本発明の実施形態で用いられる磁気変換器の一種類である。本発明の出願明細書及び請求項の文脈中で「磁気変換器」は、加えられた電流に対応して磁場を発生させる機器、及び／又は、加えられた磁場に対応して電気信号を出力する機器の意味で使用される。本願の実施形態では、コイルを磁気変換器として記述しているが、代わりの実施形態では、当業者にとっては自明であるように、他の種類の磁気変換器を用いることができる。
【００３３】
感知アセンブリのコイルは、接続部６２の両側に存在する２つのサブアセンブリに分けられ、１つのサブアセンブリは、コントローラ３０及び力モジュール４８からケーブル（図示せず）を介して送られる電流により駆動されて磁場を発生させるコイル８２を備える。この磁場は、コイル８２から軸方向に離間する遠位端のセクションに位置するコイル７６、７８、及び８０を備える第２のサブアセンブリにより受信される。本出願及び特許請求の範囲の文脈で用いられる「軸方向」という用語は、遠位端１２の長手方向対称軸８４の方向を指す。軸平面とは、この長手方向の軸に対して垂直な平面であり、軸方向セクションとは、２つの軸平面間に含まれるカテーテルの一部分である。コイル８２は、典型的には、軸８４とほぼ平行であり、かつ軸８４と完全に一致する対称軸を有する。
【００３４】
コイル７６、７８、及び８０は、異なる半径方向位置に固定されている。（「半径方向」という用語は、軸８４に対する座標を指す。）具体的には、この実施形態では、コイル７６、７８、及び８０の全てが、カテーテルの軸に関して異なる方位角で同一の軸平面中に位置し、軸８４に対して略平行なそれぞれの対称軸を有する。例えば、これら３つのコイルは軸から同一の半径方向距離だけ離れて、方位角的に１２０°の間隔をあけて配置されることができる。
【００３５】
コイル７６、７８、及び８０は、コイル８２によって伝達される磁場に応答して電気信号を発する。これらの信号は、ケーブル（図示せず）によってコントローラ３０に伝達され、コントローラ３０は、軸８４に対して平行な接続部６２の変位、並びに該接続部６２の軸からの角偏向を測定するために、力モジュール４８を使用して信号を処理する。コントローラ３０は、測定した変位及び偏向から、典型的には力モジュール４８に保存されている予め決められた較正テーブルを使用して、接続部６２に加わる力の大きさ及び方向を評価することができる。
【００３６】
コントローラ３０は、遠位端１２の位置及び配向を測定するために追跡モジュール５４を使用する。測定方法は、当技術分野で知られた任意の便利な方法であってよい。一実施形態において、患者２２の外部で発生する磁場は、遠位端の中の要素において電気信号を生成し、コントローラ３０はこの電気信号レベルを用いて遠位端の位置及び配向を評価する。あるいは、磁場は遠位端の中で生じる場合があり、磁場によって生成された電気信号は患者２２の外部で測定されてもよい。簡略化のため、遠位端を追跡するために使用される遠位端１２の中の要素は、図２に示されていない。しかしながら、かかる要素がコイルを備える場合、コイル７６、７８、８０、及び８２の少なくともいくつかは、力センサ５８の要素として使用する他に、遠位端で必要とされる追跡要素として使用されてもよい。
【００３７】
電極４０Ｃの少なくともいくつかは、小さな灌注開口部を有して構成される。この開口部は典型的に、約０．１〜０．２ｍｍの範囲の直径を有する。本明細書に記載の実施形態では、カップ電極４０、リング電極４２、及びバンプ電極４４は、それぞれの一連の灌注開口部８６、８８、及び９０を有する。開口部に供給される灌注流体は、チューブ９２を使用して流体を一連の灌注開口部へ移動させる灌注モジュール５２によって供給される。
【００３８】
灌注流体は、典型的には生理食塩水であり、モジュール５２によって制御される流体の流量は、典型的には、およそ１０〜２０ｃｃ／分の範囲内であるが、この範囲よりも多くても又は少なくてもよい。
【００３９】
チューブ９２は、中央開口部６８を通過し、部材６０の中央空間６１を横切るように配置されて、電極まで経路が定められる。チューブ９２を開口部に通して連結部材の中央空間を横切るようにすることにより、力センサ５８に必要な寸法要件以外の遠位端の寸法要件（特に直径）に、チューブのための必要条件が加わらない。いくつかの実施形態では、チューブは、コイル７６、７８、８０、及び８２の１つ以上を通って経路が定められ、遠位端内の空間の使用効率を更に高めてもよい。
【００４０】
電極４０Ｃのそれぞれに供給するために、チューブ９２は、各電極４０、４２、及び４４の灌注開口部に供給する灌注管９４、９６、及び９８に接続する。
【００４１】
いくつかの実施形態では、灌注モジュール５２を使用してコントローラ３０により動作される弁が、管９４、９６、及び９８の少なくとも１つに設置され、コントローラが個々の管に対する灌注流体の流量を設定する及び／又は切り替えるのが可能となる。一例として、管９４、９６、及び９８は、対応する弁１００、１０２、及び１０４によって制御される、これら管を通過する灌注を有すると仮定される。図２に示されるように、典型的には、管９４、９６、及び９８並びに弁１００、１０２、及び１０４の少なくともいくつかは、中央空間６１内に位置する。
【００４２】
コントローラ３０は、弁を使用して、電極によって行われる機能に従って個々の電極への流量を設定することができる。例えば、電極が焼灼で使用されている場合、コントローラ３０は、電極を通過する流量を電極が焼灼で使用されていない場合に比べて増加させることができる。あるいは又はこれに加えて、コントローラ３０は、遠位端中のセンサによって測定されたパラメータの値に従って、特定の電極に対する流量を変更することができる。かかるパラメータとしては、力センサ５８により測定された力の大きさ、並びに力センサにより測定された力の方向が挙げられる。流量を変更するためにコントローラを使用することができる他のセンサとしては、遠位端中の温度センサが挙げられる。
【００４３】
典型的には、コントローラ３０及び灌注モジュール５２は、血液が管、チューブ、及び電極の灌注開口部に入るのを防止するために、管９４、９６、及び９８、並びにそれらの対応の電極を通過する灌注流体の最低流量を維持する。
【００４４】
いくつかの実施形態では、各電極用の個別の管に接続する共通のチューブ９２を通して灌注流体を個別電極に供給するのではなく、モジュール５２から出てプローブ１４を通って各電極のそれぞれまで個別の灌注管が延びる。管９４、９６、及び９８と同様に、コントローラ３０は、個々の管のそれぞれを通して灌注流量を調整することができる。
【００４５】
上述した実施形態は一例として記載されたものであり、本発明は、本明細書において上に具体的に図示及び説明した内容に限定されないことが明らかとなろう。むしろ本発明の範囲には、上記に述べた様々な特徴の組み合わせ及び下位の組み合わせ、並びに当業者であれば上記の説明文を読むことで想到されるであろう、先行技術に開示されていないそれらの変更及び改変が含まれるものである。
【００４６】
〔実施の態様〕
（１）  挿入管と、
前記挿入管の遠位端に取り付けられる電極と、
前記遠位端に取り付けられ、中央開口部を有し、かつ前記遠位端に加わる力を測定するように構成された力センサと、
前記中央開口部を通り、かつ前記電極の開口を通して灌注流体を供給するように構成されたチューブと、を備える、プローブ。
（２）  前記電極が、それぞれの一連の開口を有する複数の個別電極を含む、実施態様１に記載のプローブ。
（３）  前記それぞれの一連の開口に供給する前記チューブに接続されるそれぞれの灌注管を備える、実施態様２に記載のプローブ。
（４）  前記それぞれの一連の開口に対する前記灌注流体のそれぞれの流量を実現するように構成されたコントローラを備える、実施態様２に記載のプローブ。
（５）  前記コントローラが、前記遠位端に加わる前記力に応答して前記それぞれの流量の少なくとも１つを設定するように構成される、実施態様４に記載のプローブ。
【００４７】
（６）  前記それぞれの灌注管に接続されるそれぞれの弁を含み、前記それぞれの弁が、前記それぞれの一連の開口に対する前記灌注流体のそれぞれの流量を設定することができる、実施態様３に記載のプローブ。
（７）  前記力センサが、中央空間を取り囲む管形状を有し、前記チューブが前記中央空間を横切る、実施態様１に記載のプローブ。
（８）  前記力センサが少なくとも１つのコイルを備え、前記チューブが前記少なくとも１つのコイルを通って経路が定められる、実施態様１に記載のプローブ。
（９）  挿入管を提供することと、
前記挿入管の遠位端上に電極を取り付けることと、
中央開口部を有し、かつ前記遠位端に加わる力を測定するように構成された力センサを前記遠位端に取り付けることと、
灌注流体を前記電極の開口を通して供給するように構成されたチューブを前記中央開口部に通すことと、を含む、方法。
（１０）  前記電極が、それぞれの一連の開口を有する複数の個別電極を備える、実施態様９に記載の方法。
【００４８】
（１１）  前記それぞれの一連の開口に供給するように、それぞれの灌注管を前記チューブに接続することを含む、実施態様１０に記載の方法。
（１２）  前記それぞれの一連の開口に対する前記灌注流体のそれぞれの流量を実現することを含む、実施態様１０に記載の方法。
（１３）  前記遠位端に加わる前記力に応答して前記それぞれの流量の少なくとも１つを設定することを含む、実施態様１２に記載の方法。
（１４）  それぞれの弁を前記それぞれの灌注管に接続することを含み、前記それぞれの弁が、前記それぞれの一連の開口に対する前記灌注流体のそれぞれの流量を設定することができる、実施態様１１に記載の方法。
（１５）  前記力センサが、中央空間を取り囲む管形状を有し、前記チューブが前記中央空間を横切る、実施態様９に記載の方法。
【００４９】
（１６）  前記力センサが少なくとも１つのコイルを備え、前記チューブが前記少なくとも１つのコイルを通って経路が定められる、実施態様９に記載の方法。
【図１】
2013192947.tif 000003
【図２】
2013192947.tif 000004
【外国語明細書】
2013192947000001.pdf