(57)【要約】 【課題】処理対象となる部材の同一箇所を長時間支持してしまうことが防止でき、かつ、処理装置の構造の複雑化を防止する技術を提供すること。【解決手段】第一支持体１１１は、平板状の部材の板面と平行に延在するとともに、回転軸となる第一ロッド１１２と、第一ロッド１１２の周囲に設けられ、平板状の部材を支持する複数の第一支持部１１３Ａとを有する。第一ロッド１１２を中心とし、第一ロッド１１２の長手方向に沿って離間配置された複数の仮想円Ｒ上に、第一支持部１１３Ａが位置している。平板状の部材Ｓを第一ロッド１１２上部に配置した際に、一部の仮想円Ｒ上に配置された一部の第一支持部１１３Ａが部材Ｓに当接した状態となり、他の仮想円Ｒ上に配置された第一支持部１１３Ａは、部材Ｓに当接しない。第一ロッド１１２を回転させたとき、一部の仮想円Ｒ上に配置された一部の第一支持部１１３Ａと部材Ｓとは当接せずに、回転前とは異なる他の仮想円Ｒ上に配置された他の一部の第一支持部１１３Ａが部材Ｓに当接する。【選択図】図４
2013118305.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
平板状の部材を支持し、前記部材に対して所定の処理を行なう処理装置において、
前記部材に対して処理を行なう処理部と、
前記部材を下方側から支持する第一支持体とを備え、
前記第一支持体は、
前記平板状の部材と平行に延在するとともに、回転軸となる第一ロッドと、
前記第一ロッドの周囲に設けられ、前記平板状の部材を支持する複数の第一支持部とを有し、
前記回転軸となる第一ロッドを取り囲むとともに、前記第一ロッドの長手方向に沿って離間配置された複数の仮想円上に、それぞれ前記第一支持部が位置し、
前記平板状の部材を前記第一ロッド上部に配置した際に、一部の前記仮想円上に配置された一部の前記第一支持部が前記平板状の部材に当接した状態となり、
前記第一ロッドを回転させたとき、前記一部の仮想円とは異なる他の前記仮想円上に配置された前記他の一部の第一支持部が前記平板状の部材に当接するように構成された処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の処理装置において、
前記複数の第一支持部は、前記第一ロッドを取り囲む螺旋上に配置されている処理装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の処理装置において、
前記平板状の部材を下方側から支持する第二支持体を備え、
前記第一支持体の前記第一ロッドを、前記第二支持体に対し、相対的に上下方向に駆動する駆動部を備える処理装置。
【請求項４】
請求項３に記載の処理装置において、
前記第二支持体は、前記第一ロッドと平行に延在するとともに、第二の回転軸となる第二ロッドと、前記第二ロッドの周囲に設けられ、前記部材を支持する複数の第二支持部とを有し、
前記第二ロッドの長手方向に沿って離間配置された複数の仮想円上に、それぞれ前記第二支持部が位置し、
前記平板状の部材を前記第二ロッド上部に配置した際に、一部の前記仮想円上に配置された一部の前記第二支持部が前記平板状の部材に当接した状態となり、
前記第二ロッドを回転させたとき、前記一部の仮想円とは異なる他の前記仮想円上に配置された前記他の一部の第二支持部が前記平板状の部材に当接するように構成されており、
前記駆動部は、前記第一支持体の前記第一ロッドを、前記第二支持体の前記第二ロッドに対し、相対的に上下方向に駆動するように構成されている処理装置。
【請求項５】
請求項３または４に記載の処理装置において、
前記第一支持体の一部の前記第一支持部で前記部材を支持した後、
前記第二支持体または前記第一支持体を前記駆動部で駆動して、前記第一支持体の前記部材を支持する前記第一支持部よりも上方に前記第二支持体を移動させて、前記第二支持体により前記部材を支持させ、
その後、前記第一支持体の第一ロッドを回転させるとともに、前記第二支持体または前記第一支持体を前記駆動部で駆動して、前記第二支持体よりも、上方に前記第一支持体を移動させ、
前記一部の第一支持部が配置された仮想円とは異なる他の仮想円上に配置された他の第一支持部により、前記部材を支持するように構成された処理装置。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれかに記載の処理装置において、
前記第一支持部は、前記第一ロッドを取り囲む螺旋上に配置されており、
複数の前記第一支持体を備える第一支持ユニットを含み、
前記第一支持ユニットの複数の第一ロッドは互いに平行に配置され、
各第一支持体における前記各螺旋のピッチが同じであり、
各第一支持体において、前記各螺旋上に配置される前記第一支持部のピッチも同じである処理装置。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれかに記載の処理装置において、
前記第一支持部は、前記第一ロッドを取り囲む螺旋上に配置されており、
前記第一ロッドの周囲には、前記複数の第一支持部を含んで構成される螺旋形状の１本の突起が設けられている処理装置。
【請求項８】
請求項１乃至６のいずれかに記載の処理装置において、
前記第一支持部は、前記第一ロッドを取り囲む螺旋上に配置されており、
前記第一ロッドの周囲には、前記複数の第一支持部となる複数の突起が離間配置されている処理装置。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれかに記載の処理装置において、
前記第一ロッド内部には、前記平板状の部材の温度を調節するための、温度調整用流体が供給される処理装置。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれかに記載の処理装置において、
前記処理部は、前記平板状の部材を加熱するための加熱部である処理装置。
【請求項１１】
請求項１乃至９のいずれかに記載の処理装置において、
前記処理部は、前記平板状の部材の減圧乾燥を行なうものである処理装置。
【請求項１２】
請求項１乃至１１のいずれかに記載の処理装置において、
当該処理装置は、前記平板状の部材である基板を処理する処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ガラス基板等に対し、熱処理等の処理を行なう際、ピンによりガラス基板等の基板を支持する装置が使用されている。たとえば、特許文献１には、複数の可動ピンにより、基板等を支持する処理装置が開示されている。
特許文献１においては、可動ピンそれぞれに対し、可動ピンを水平方向に変位させる水平変位機構を設けており、可動ピンを水平移動させることで、可動ピンで基板の同一箇所が長時間支持されてしまうことが防止されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００９−９４１８２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、このような特許文献１に開示された処理装置では、各可動ピンに対し、水平変位機構を設ける必要があるため、可動ピンの数だけ水平変位機構が必要となり、処理装置の構造が複雑化してしまう。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明によれば、
平板状の部材を支持し、前記部材に対して所定の処理を行なう処理装置において、
前記部材に対して処理を行なう処理部と、
前記部材を下方側から支持する第一支持体とを備え、
前記第一支持体は、
前記平板状の部材と平行に延在するとともに、回転軸となる第一ロッドと、
前記第一ロッドの周囲に設けられ、前記平板状の部材を支持する複数の第一支持部とを有し、
前記回転軸となる第一ロッドを取り囲むとともに、前記第一ロッドの長手方向に沿って離間配置された複数の仮想円上に、それぞれ前記第一支持部が位置し、
前記平板状の部材を前記第一ロッド上部に配置した際に、一部の前記仮想円上に配置された一部の前記第一支持部が前記平板状の部材に当接した状態となり、
前記第一ロッドを回転させたとき、前記一部の仮想円とは異なる他の前記仮想円上に配置された前記他の一部の第一支持部が前記平板状の部材に当接するように構成された処理装置が提供される。
【０００６】
この発明によれば、回転軸となる第一ロッドの周囲を囲む複数の仮想円上にそれぞれ第一支持部が位置し、平板状の部材を前記第一ロッド上部に配置した際に、一部の仮想円上に配置された第一支持部が前記平板状の部材に当接した状態となる。次に、第一ロッドを回転させたとき、一部の仮想円とは異なる他の仮想円上に配置された他の一部の第一支持部が前記平板状の部材に当接する。すなわち、第一ロッドを回転させるだけで、回転前と回転後とで、平板状の部材の異なる箇所が異なる第一支持部により支持されることとなるので、平板状の部材の同じ箇所を、長時間、支持部で支持してしまうことが防止できる。これにより、平板状の部材への支持部の支持の影響を低減させることができる。
さらに、本発明の処理装置では、第一ロッドを回転させ、回転前と回転後とで、平板状の部材の異なる箇所が第一支持部により支持されることとなる。長時間、同じ箇所を支持部で支持してしまうことを防止するためには、第一ロッドの周囲の所定の箇所に第一支持部を配置して、第一ロッドを回転すればよい。従来のように、各支持部に対して水平変位機構をそれぞれ設ける必要がないので、処理装置の構造の複雑化を防止できる。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、処理対象となる部材の同一箇所を長時間支持してしまうことが防止でき、かつ、処理装置の構造の複雑化を防止する技術が提供される。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の一実施形態にかかる処理装置を示す斜視図である。
【図２】処理装置の側面図である。
【図３】処理装置の平面図である。
【図４】処理装置の支持体の回転状態を模式的に示す図である。
【図５】処理装置の要部の断面図である。
【図６】処理装置の要部の断面図である。
【図７】処理装置において部材を処理する工程を模式的に示した図である。
【図８】本発明の変形例にかかる図である。
【図９】本発明の変形例にかかる図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。なお、すべての図面において、同様な構成要素には同一符号を付し、その詳細な説明は重複しないように適宜省略される。
図１〜図６を参照して、はじめに、本実施形態の処理装置１の概要を説明する。
処理装置１は、平板状の部材Ｓを支持し、部材Ｓに対して所定の処理を行なう処理装置である。本実施形態では平板状の部材Ｓは、基板である。より具体的には、平板状の部材Ｓは、ガラス基板であり、処理装置１は、ガラス基板上に塗布された塗膜を熱処理する熱処理装置である。ヒータ１３からのふく射伝熱と処理装置１内を流れる風からの対流伝熱の組合せで、揮発物（有機溶剤など）を揮発させ、排気しながら、前記塗膜を乾燥させる。本実施形態では、処理装置１における乾燥は大気圧下で行われる。
【００１０】
この処理装置１は、部材Ｓに対して処理を行なう処理部（ヒータ）１３と、部材Ｓを下方側から支持する第一支持体１１１とを備える。第一支持体１１１は、平板状の部材Ｓの板面と平行に延在するとともに、回転軸となる第一ロッド１１２と、第一ロッド１１２の周囲に設けられ、平板状の部材Ｓを支持する複数の第一支持部１１３Ａ（図４参照）とを有する。前記回転軸となる第一ロッド１１２を中心とし、第一ロッド１１２の長手方向に沿って離間配置された複数の仮想円Ｒの円周上に、それぞれ第一支持部１１３Ａが位置している。平板状の部材Ｓを前記第一ロッド１１２上部に配置した際に、一部の仮想円Ｒ上に配置された一部の第一支持部１１３Ａが部材Ｓに当接した状態となり、他の仮想円Ｒ上に配置された第一支持部１１３Ａは、部材Ｓに当接しない。第一ロッド１１２を３６０°未満の回転角で回転させたとき、一部の仮想円Ｒ上に配置された一部の第一支持部１１３Ａと部材Ｓとは当接せずに、回転前とは異なる他の仮想円Ｒ上に配置された他の一部の第一支持部１１３Ａが部材Ｓに当接する。
【００１１】
次に、本実施形態の処理装置１について詳細に説明する。
処理装置１は、図１〜３に示すように、第一支持ユニット１１と、第二支持ユニット１２と、処理部であるヒータ１３とを備える。図１は、処理装置１の斜視図であり、図２は、処理装置１の側面図であり、図３は処理装置１の一部の平面図である。図１においては、見易さを考慮して、ヒータ１３を省略している。
第一支持ユニット１１は、複数の第一支持体１１１と、複数対の支柱１１４，１１５と、モータ１１６と、昇降台１１０とを備える。
第一支持体１１１は、部材Ｓを裏面側から支持するものであり、第一ロッド１１２と、第一ロッド１１２の周囲に設けられた複数の第一支持部１１３Ａ（図３、４参照）とを備える。
第一ロッド１１２は、部材Ｓの板面と平行に延在している。この第一ロッド１１２は、回転軸となるものであり、本実施形態では、円柱状の棒状の部材である。第一ロッド１１２の内部は中空状であり、第一ロッド１１２の内部には、部材Ｓの温度を調整するための、温度調整用の流体が供給される。たとえば、流体としては、空気等の気体、水等の液体があげられる。
ここでは、図示していないが、処理装置１は第一ロッド１１２内に前記流体を供給するとともに、前記第一ロッド１１２内から前記流体を排出し、再度、第一ロッド１１２内に前記流体を供給する循環手段を備えている。このような循環手段を設けることで、第一ロッド１１２から排出された流体の温度を調整した後、再度、第一ロッド１１２内に流体を供給することができる。
ここで、第一ロッド１１２としては、金属管、樹脂管、ガラス管のいずれかを使用することができる。
【００１２】
第一支持部１１３Ａは、図４に示すように、第一ロッド１１２の周囲に配置されている。図４において、点線で囲んだ円は仮想円Ｒであり、この仮想円Ｒは、回転軸となる第一ロッド１１２を中心とした円である。第一支持部１１３Ａは、それぞれ複数の仮想円Ｒ上に位置している。複数の仮想円Ｒは、第一ロッド１１２上にその中心点があり、第一ロッド１１２の長手方向に沿って離間配置されている。仮想円Ｒ間の間隔は等しい。なお、すべての第一支持部１１３Ａはそれぞれ仮想円Ｒ上に位置しているが、図４では、見やすさを考慮して、一部の仮想円Ｒのみ記載している。
ひとつの仮想円Ｒ上には、ひとつの第一支持部１１３Ａが配置されており、本実施形態では、同一の仮想円Ｒ上には、複数の第一支持部１１３Ａは配置されていない。
また、各仮想円Ｒの半径は同じであり、各第一支持部１１３Ａの厚み（第一ロッド１１２表面からの高さ）は同じである。
【００１３】
さらに、本実施形態では、ひとつの仮想円Ｒ上に、支持部１１３Ａを一つのみ設けている。そして第一ロッド１１２の端部側からの側面視（Ｘ軸方向（ロッドの長手方向）から見た側面視）において、３以上（好ましくは３以上、６以下、本実施形態では４）の第一支持部１１３Ａが等間隔でひとつの第一ロッド１１２の周囲に配置されている。
すなわち、第一ロッド１１２を所定角度、たとえば、９０°回転させると、回転前とは異なる第一支持部１１３Ａが部材Ｓに接触するように構成されている。
図４を参照して説明する。
図４（Ｄ）は、図４（Ｅ）の状態において、第一ロッド１１２の上部に位置する第一支持部１１３ＡのＸ軸方向における位置を示したものである。換言すると、部材Ｓを支持する第一支持部１１３ＡのＸ軸方向における位置を示したものである。図４（Ａ）〜（Ｄ）は、第一ロッド１１２を９０°づつ回転させた状態における第一ロッド１１２の上部に位置する第一支持部１１３ＡのＸ軸方向における位置を示したものである。
図４（Ｅ）の状態で第一支持体１１１上に部材Ｓを配置すると、第一ロッド１１２の上方に位置する第一支持部１１３Ａが接触する（図４（Ｄ））。
次に、第一ロッド１１２をさらに９０°回転させると、第一ロッド１１２の側方に位置していた他の第一支持部１１３Ａが第一ロッド１１２の上方に位置することとなる。そして、第一ロッド１１２の上方に位置する他の第一支持部１１３Ａが部材Ｓに接触することとなる（図４（Ｃ））。
ここで、他の第一支持部１１３Ａは、図４（Ｄ）の状態で部材Ｓと接触していた第一支持部１１３Ａとは異なる仮想円Ｒ上に位置しているため、部材Ｓの同一箇所が第一支持部１１３Ａで支持されてしまうことはない。
【００１４】
その後、さらに、第一ロッド１１２を９０°回転させると、第一ロッド１１２の側方に位置していた他の第一支持部１１３Ａが第一ロッド１１２の上方に位置することとなる。そして、第一ロッド１１２の上方に位置する他の第一支持部１１３Ａが部材Ｓに接触することとなる（図４（Ｂ））。図４（Ｂ）の状態で部材Ｓと接触する第一支持部１１３Ａは、図４（Ｄ）、図４（Ｃ）の状態で部材Ｓと接触していた第一支持部１１３Ａとは異なる仮想円Ｒ上に位置しているため、部材Ｓの同一箇所が第一支持部１１３Ａで支持されてしまうことはない。
その後、さらに、第一ロッド１１２を９０°回転させると、第一ロッド１１２の側方に位置していた他の第一支持部１１３Ａが第一ロッド１１２の上方に位置することとなる。そして、第一ロッド１１２の上方に位置する他の第一支持部１１３Ａが部材Ｓに接触することとなる（図４（Ａ））。図４（Ａ）の状態で部材Ｓと接触する第一支持部１１３Ａは、図４（Ｄ）、図４（Ｃ）、図４（Ｂ）の状態で部材Ｓと接触していた第一支持部１１３Ａとは異なる仮想円Ｒ上に位置しているため、部材Ｓの同一箇所が第一支持部１１３Ａで支持されてしまうことはない。
【００１５】
本実施形態においては、複数の第一支持部１１３Ａは、第一ロッド１１２を取り囲むひとつの仮想の螺旋上に配置されている。複数の第一支持部１１３Ａをつなぐことで、１回巻き以上、好ましくは複数回巻きの螺旋を描くことができる。
なお、本実施形態では、第一ロッド１１２の周囲には、複数の第一支持部１１３Ａを含んで構成される螺旋形状の１本の突起１１３が設けられている。突起１１３は、複数回巻きの螺旋形状である。
このような突起１１３の材料としては、テトラフルオロエチレン樹脂（テフロン（登録商標））等の樹脂を採用することができる。第一ロッド１１２を構成する管を樹脂製のチューブ内に通し、熱収縮等で固着させる。前記チューブは、テフロン等の柔軟でパーティクルを生じにくい樹脂で構成されていることが好ましい。その後、このチューブの外表面が螺旋状となるように切削加工することで、突起１１３を形成することができる。なお、チューブを切削加工する際に、第一ロッド１１２を構成する管が露出するようにしてもよく、また、図５に示すように、チューブの外表面のみを切削加工して、突起１１３を形成し、前記管がチューブにより覆われている状態としてもよい。この場合には、第一ロッド１１２は、管と樹脂製のチューブとで構成されることとなる。管は、第一ロッド１１２のたわみを防止するために、金属管、ガラス管等の剛性の高いものであることが好ましい。なお、後述する第二支持部１２３Ａも同様の方法で作成できる。
【００１６】
ここで、第一支持部１１３Ａの断面形状（第一ロッド１１２の長手方向と直交する方向の断面）は、図５に示すように矩形形状であってもよく、図６に示すように台形形状であってもよい。
第一支持部１１３Ａの断面形状を台形形状とすることで、部材Ｓとの接触面積を小さくしつつ、部材Ｓの荷重に対する耐性を高くすることができる。
なお、後述する第二支持部１２３Ａにおいても同様である。
【００１７】
また、第一支持ユニット１１は、複数の第一支持体１１１を備えるが、各第一支持体１１１において、突起１１３の描く螺旋のピッチ、螺旋の半径は同じであり、各螺旋上に配置される第一支持部１１３Ａ間ピッチも同じである。第一支持部１１３Ａのピッチとは前記螺旋に沿った第一支持部１１３Ａ間の間隔である。すなわち、複数の第一支持体１１１は同一の構造のものである。
また、図３の平面図に示すように、複数の第一支持体１１１は平行配置され、複数の第一支持体１１１において、Ｙ軸方向に隣り合う第一支持部１１３Ａは、同一の直線Ｌ２上に位置するように配置されている。これにより安定的に部材Ｓを支持できる。さらに、隣り合う第一支持体１１１間の間隔は、同一である。
【００１８】
図１〜４に示すように、モータ１１６は、第一ロッド１１２を回転駆動させるための駆動手段である。モータ１１６は、第一ロッド１１２の一方の端部に接続され、このモータ１１６を駆動することで第一ロッド１１２が回転することとなる。各第一ロッド１１２に対応してモータ１１６が設けられている。
モータ１１６は、支柱１１４の上端部に固定され、第一ロッド１１２の一方の端部はモータ１１６を介して支柱１１４に固定されることとなる。
一方で、第一ロッド１１２の他方の端部は、軸受部１１７を介して支柱１１５に固定される。支柱１１５，１１４は対向配置され、第一ロッド１１２の端部をそれぞれ支持する支持部材となる。
この支柱１１５，１１４は、昇降台１１０に固定されている。
【００１９】
昇降台１１０は、第一支持体１１１を第二支持体１２１に対して上下方向（図面Ｚ軸方向）に駆動させるためのものである。昇降台１１０は、昇降機構であるねじ軸１４を介してベース１５に固定され、ボールねじ機構により、Ｚ軸方向に上下駆動する。昇降台１１０とねじ軸１４とねじ軸１４を回転させるモータＭ１とで第一支持体１１１を駆動する駆動部が構成される。
【００２０】
なお、昇降台１１０には後述する第二支持ユニット１２の支柱１２４，１２５が貫通する貫通孔が形成されている。
【００２１】
次に、第二支持ユニット１２について説明する。第二支持ユニット１２は、複数の第二支持体１２１と、複数対の支柱１２４，１２５と、モータ１２６と、昇降台１２０とを備える。
第二支持体１２１は、第一支持体１１１と同様のものである。説明のしやすさを考慮して、第一支持体１１１とは別の符号を付しているが、第二支持体１２１は第一支持体１１１と同様の構成である。具体的には、第二支持体１２１は、部材Ｓを裏面側から支持するものであり、第二ロッド１２２と、第二ロッド１２２の周囲に設けられた複数の第二支持部１２３Ａ（図３、４参照）とを備える。第二ロッド１２２は第一ロッド１１２と同じものであり、部材Ｓの板面と平行に延在している。
第二支持部１２３Ａは、第一支持部１１３Ａと同様の構成であり、第二支持部１２３Ａは、第二ロッド１２２を取り囲むひとつの仮想の螺旋上に配置されている。複数の第二支持部１２３Ａをつなぐことで、第一支持部１１３Ａと同様、１回巻き以上、好ましくは複数回巻きの螺旋を描くことができる。
そして、突起１１３と同様の１本の突起１２３が第二ロッド１２２の周囲に設けられている。
また、第二支持ユニット１２は、複数の第二支持体１２１を備えるが、各第二支持体１２１において、突起１２３の描く螺旋のピッチは同じであり、各螺旋上に配置される第二支持部１２３Ａ間ピッチも同じである。第二支持部１２３Ａのピッチとは前記螺旋に沿った第二支持部１２３Ａ間の間隔である。すなわち、複数の第二支持体１２１は同一の構造のものである。
【００２２】
さらに、本実施形態では、第一支持部１１３Ａと同様、第二ロッド１２２を９０°回転させると、回転前とは異なる他の第二支持部１２３Ａが部材Ｓに接触するように構成されている。第二ロッド１２２を回転させた際の第二支持部１２３Ａと部材Ｓとの当接は、第一ロッド１１２を回転させた際の第一支持部１１３Ａと部材Ｓとの当接の場合と同じであるため、説明は省略するが、図４に示すとおりである。
さらに、第二ロッド１２２内部には、第一ロッド１１２と同様に、部材Ｓの温度を調整するための、温度調整用の流体が供給される。処理装置１は、図示しないが、第二ロッド１２２内部へ流体を供給するとともに、第二ロッド１２２から前記流体を排出し、再度、第二ロッド１２２内に前記流体を供給する循環手段を備えている。
【００２３】
図３に示すように、処理装置１を平面視した状態において、第一支持体１１１と第二支持体１２１とは交互に配置され、第一支持体１１１と第二支持体１２１とは平行に配置されている。第一支持体１１１と第二支持体１２１との間の間隔は等間隔となっている。
さらに、図３の平面図に示すように、複数の第二支持体１２１は平行配置され、複数の第二支持体１２１において、Ｙ軸方向に隣り合う第二支持部１２３Ａは、同一の直線Ｌ１上に位置するように配置されている。
【００２４】
図１〜図４に示すように、モータ１２６は、第二ロッド１２２を回転駆動させるための駆動手段であり、モータ１１６と同様の構造および配置となっている。モータ１２６は、第二ロッド１２２の一方の端部に接続されている。
モータ１２６は、支柱１２４の上端部に固定されている。支柱１２４は支柱１１４と同様のものである。
一方で、第二ロッド１２２の他方の端部は、軸受部１２７を介して支柱１２５に固定される。支柱１２５、軸受部１２７は、支柱１１５、軸受部１１７とそれぞれ同じものである。支柱１２５，１２４は対向配置され、第二ロッド１２２の端部をそれぞれ支持する支持部材となる。
この支柱１２５，１２４は、昇降台１２０に固定されている。
昇降台１２０は、第一支持体１１１に対して、第二支持体１２１を上下方向（図面Ｚ軸方向）に駆動させるためのものである。昇降台１２０は、昇降機構であるねじ軸１６を介してベース１５に固定され、ボールねじ機構により、Ｚ軸方向に昇降台１２０が上下駆動する。昇降台１２０とねじ軸１６とねじ軸１６を回転させるモータＭ２とで、第二支持体１２１を駆動する駆動部が構成される。
なお、昇降台１２０は昇降台１１０の下方に位置しており、支柱１２５，１２４は、昇降台１１０に形成された貫通孔を貫通し、貫通孔内を上下に駆動することとなる。
【００２５】
本実施形態では、第一支持体１１１を上下方向に駆動する駆動部および第二支持体１２１を上下方向に駆動する駆動部の少なくともいずれか一方を駆動することで、第一支持体１１１が第二支持体１２１に対して、相対的に上下方向に駆動することとなる。第一支持体１１１が第二支持体１２１に対して相対的に上下方向に駆動するとは、第一支持体１１１が第二支持体１２１よりも上方に位置する状態と、第一支持体１１１が第二支持体１２１よりも下方に位置する状態の２状態をとることができることを意味する。
【００２６】
次に、図４，７を参照して、本実施形態の処理装置１を使用した部材Ｓの処理方法について説明する。図７は、処理装置１の駆動状態を模式的に示したものである。
【００２７】
はじめに、昇降台１２０を上方に移動させて、第二支持体１２１が第一支持体１１１よりも上方に位置するように第二支持体１２１を配置する（処理Ｓ１）。次に、図７（Ａ）に示すように、部材Ｓを第二支持体１２１の突起１２３上に配置する（処理Ｓ２）。部材Ｓは、突起１２３の一部の第二支持部１２３Ａに支持されることとなる。第二支持体１２１の初期の状態が図４（Ｅ）に示す状態であった場合、部材Ｓの裏面に当接する第二支持部１２３Ａの配置は図４（Ｄ）のようになる。なお、平面視において、部材Ｓは、複数の第一支持体１１１、複数の第二支持体１２１にまたがるように配置される。
【００２８】
次に、ヒータ１３により部材Ｓを所定時間加熱した後、昇降台１１０を上昇させて、第一支持体１１１と第二支持体１２１のＺ軸方向の高さ位置を同じ位置とする（図７（Ｂ））。そして、部材Ｓの裏面に第二支持部１２３Ａおよび第一支持部１１３Ａを当接させる（処理Ｓ３）。
【００２９】
その後、昇降台１２０を下降させて、第一支持体１１１が第二支持体１２１よりも上方に配置されるようにする。これにより、部材Ｓは、第二支持体１２１から第一支持体１１１に引き渡されて、第一支持体１１１にのみ支持されることとなる（処理Ｓ４、図７（Ｃ））。
この状態で、さらにヒータ１３による部材Ｓの加熱を続ける。
【００３０】
ここで、各第二支持体１２１において、第二ロッド１２２をモータ１２６により回転させる（処理Ｓ５）。ここでは、すべての第二ロッド１２２を図４（Ｅ）の状態から同一角度（９０°）回転させる。これにより、第二ロッド１２２の上方に位置していた第二支持部１２３Ａが、第二ロッド１２２の側方に位置し、第二ロッド１２２の側方に位置していた他の第二支持部１２３Ａが第二ロッド１２２の上方に位置することとなる（図４（Ｃ）参照）。
次に、昇降台１２０を上方に移動させて、第一支持体１１１と第二支持体１２１のＺ軸方向の高さ位置を同じ位置とし、部材Ｓの裏面に第二支持部１２３Ａおよび第一支持部１１３Ａを当接させる（処理Ｓ６）。
【００３１】
その後、昇降台１１０を下降させて、第二支持体１２１が第一支持体１１１よりも上方に配置されるようにする（処理Ｓ７）。これにより、部材Ｓは、第一支持体１１１から第二支持体１２１に引き渡されて、第二支持体１２１にのみ支持されることとなる。
前述したように、第二ロッド１２２を予め９０°回転させていたため、第二ロッド１２２を回転させる前とは異なる他の第二支持部１２３Ａが部材Ｓに接触することとなる。
【００３２】
一方で、各第一支持体１１１において、第一ロッド１１２をモータ１１６により回転させる（処理Ｓ８）。ここでは、第一ロッド１１２を図４（Ｅ）の状態から９０°回転させる。これにより、第一ロッド１１２の上方に位置していた第一支持部１１３Ａが、第一ロッド１１２の側方に位置し、第一ロッド１１２の側方に位置していた他の第一支持部１１３Ａが第一ロッド１１２の上方に位置することとなる（図４（Ｃ）参照）。
【００３３】
その後、昇降台１１０を上方に移動させて、第一支持体１１１と第二支持体１２１のＺ軸方向の高さ位置を同じ位置とし、部材Ｓの裏面に第二支持部１２３Ａおよび第一支持部１１３Ａを当接させる（処理Ｓ９）。
次に、昇降台１２０を下降させて、第一支持体１１１が第二支持体１２１よりも上方に配置されるようにする。これにより、部材Ｓは、第二支持体１２１から第一支持体１１１に引き渡されて、第一支持体１１１にのみ支持されることとなる（処理Ｓ１０）。
【００３４】
その後、処理Ｓ５〜Ｓ１０を繰り返し、部材Ｓに当接していない支持体におけるロッドを９０°づつ回転させることで、図４（Ｂ）、（Ａ）に示すように、部材Ｓと接触する支持部１１３Ａ、１２３Ａをロッドの回転前とは異なるものとすることができ、部材Ｓを同一箇所で支持してしまうことが防止されることとなる。
【００３５】
次に、本実施形態の作用効果について説明する。
回転軸となるロッド１１２（１２２）の周囲の仮想円Ｒの円周上に支持部１１３Ａ（１２３Ａ）が位置し、平板状の部材Ｓをロッド１１２（１２２）上部に配置した際に、一部の仮想円Ｒの円周上に配置された支持部１１３Ａ（１２３Ａ）が平板状の部材Ｓに当接した状態となる。次に、ロッド１１２（１２２）を回転させたとき、回転前とは異なる他の仮想円Ｒの円周上に配置された他の一部の支持部１１３Ａ（１２３Ａ）が平板状の部材Ｓに当接する。すなわち、ロッド１１２（１２２）を回転させるだけで、回転前と回転後とで、部材Ｓの異なる箇所が支持部１１３Ａ（１２３Ａ）により支持されることとなるので、長時間、同じ箇所を支持部１１３Ａ（１２３Ａ）で支持してしまうことが防止できる。これにより、板状の部材Ｓへの支持部１１３Ａ（１２３Ａ）からの熱影響を低減させることができる。
【００３６】
さらに、処理装置１では、ロッド１１２（１２２）を回転させ、回転前と回転後とで、部材Ｓの異なる箇所が異なる支持部１１３Ａ（１２３Ａ）により支持されることとなる。部材Ｓの同じ箇所を、長時間、支持部１１３Ａ（１２３Ａ）で支持してしまうことを防止するためには、ロッド１１２（１２２）の周囲の所定の箇所に支持部１１３Ａ（１２３Ａ）を配置して、ロッド１１２（１２２）を回転させるだけでよい。従来のように、各支持部に対して水平変位機構をそれぞれ設ける必要がなく、処理装置１の構造の複雑化を防止できる。
これに加え、本実施形態では、ロッド１１２（１２２）の周囲に支持部１１３Ａ（１２３Ａ）を含んで構成される１本の螺旋状の突起１１３（１２３）を設けており、複数の１１３Ａ（１２３Ａ）が一体的に構成されているので、処理装置１を構成する部材点数の削減も図ることができる。
【００３７】
処理装置１において、部材Ｓを載せた状態でロッド１１２（１２２）を回転させてもよいが、この場合、部材Ｓが水平方向に移動してしまう可能性がある。これに対し、本実施形態では、第一支持ユニット１１と第二支持ユニット１２とを設け、第一支持ユニット１１の第一支持体１１１と第二支持ユニット１２の第二支持体１２１との間で部材Ｓの引渡しを行なっている。これにより、部材Ｓを支持していない方の支持体のロッドを回転させることができ、ロッドの回転に伴い部材Ｓが水平方向に移動してしまうことを防止できる。
【００３８】
また、本実施形態では、複数の第一支持体１１１において、第一ロッド１１２の周囲を取り囲む螺旋状の突起１１３のピッチを同一としている。さらに、第一支持部１１３Ａのピッチも同じとしている。
そして、各第一ロッド１１２を回転させる際に、同一角度で回転させている。これにより、第一ロッド１１２の回転前における隣接する第一支持体１１１間の部材Ｓを支持する第一支持部１１３Ａ間の間隔と、第一ロッド１１２の回転後における隣接する第一支持体１１１間の部材Ｓを支持する第一支持部１１３Ａ間の間隔とを同じ程度とすることができる。
そのため、第一ロッド１１２の回転前後において、隣接する第一支持体１１１間における第一支持部１１３Ａ間の間隔が極度に狭くなったり、極度に広くなったりするようなことが防止でき、部材Ｓを安定的に支持することができる。
なお、第二支持体１２１においても同様の効果がある。
【００３９】
さらに、本実施形態では、各ロッド１１２（１２２）を９０°づつ回転させている。９０°づつ回転させることで、回転前に支持部１１３Ａ（１２３Ａ）が部材Ｓと当接していた箇所と、回転後に支持部１１３Ａ（１２３Ａ）が部材Ｓに当接する箇所とを一定程度、離間させることができ、部材Ｓへの熱影響を低減させることができる。
【００４０】
本実施形態では、支持部１１３Ａ（１２３Ａ）を螺旋上に配置している。各ロッド１１２（１２２）を回転させることで、部材Ｓを支持する支持部１１３Ａ（１２３Ａ）および部材Ｓの支持箇所が互いに異なる４つの形態をとることができる（図４（Ａ）〜（Ｄ））。そのため、部材Ｓの同一箇所が多数回、同一の支持部１１３Ａ（１２３Ａ）に支持されてしまうことが防止でき、部材Ｓへの支持による影響を確実に低減させることができる。
【００４１】
さらに、本実施形態では、各ロッド１１２（１２２）の周囲に螺旋状に突起１１３（１２３）を設けている。そのため、ロッド１１２（１２２）の回転角度を正確に精密に制御しなくても、部材Ｓを支持することができる。換言すると、ロッド１１２（１２２）を３６０°未満で回転させれば、突起１１３（１２３）のうち、回転前に部材Ｓを支持していた部分とは異なる部分で、部材Ｓを支持することができる。そして、部材Ｓも、回転前とは異なる箇所で支持されることとなる。
本実施形態では、ロッド１１２（１２２）をおおよそ９０°回転できればよく、ロッド１１２（１２２）の回転角度を正確に精密に制御するようなモータを使用しなくてもよく、処理装置１にかかるコストを低減させることができる。
【００４２】
さらに、本実施形態では、図３に示すように、第一支持体１１１と、第二支持体１２１とを交互に配置している。これにより、部材Ｓを安定的に支持することができる。
【００４３】
また、本実施形態では、部材Ｓが第一支持ユニット１１の第一支持体１１１で支持され、加熱処理されている状態、第一支持ユニット１１から第二支持ユニット１２へ部材Ｓを引き渡す際、部材Ｓが第二支持ユニット１２の第二支持体１２１で支持され、加熱処理されている状態において、部材Ｓの高さ位置は同じであり、部材Ｓの高さ位置が変動しない。
そのため、部材Ｓを動かすことで周囲に対流が生じ、部材Ｓの温度分布が変化してしまうことを防止でき、効率よく、部材Ｓを加熱処理することができる。
【００４４】
さらに、本実施形態では、第一支持体１１１および第二支持体１２１の双方において、ロッド１１２、１２２を回転させるだけで、回転前と回転後とで、部材Ｓの異なる箇所が異なる支持部１１３Ａ、１２３Ａにより支持される構造となっている。
ここで、第一支持体で部材Ｓを支持した後（１回目の支持）、第二支持体へ部材Ｓを引き渡し、その後、第二支持体から部材Ｓを第一支持体に引き渡して再度第一支持体で部材Ｓを支持する（２回目の支持）ことを考える。この場合、１回目の支持の際の部材Ｓと第一支持体との当接箇所と、２回目の支持の際の部材Ｓと第一支持体との当接箇所が同じである場合には、２回目の支持時間を短くする必要がある。
これに対し、本実施形態では、１回目の支持が終了し、第一支持体１１１から第二支持体１２１へ部材Ｓを引き渡した後、第一支持体１１１のロッド１１２を所定角度回転させているので、１回目の支持の際の部材Ｓと第一支持体１１１との当接箇所と、２回目の支持の際の部材Ｓと第一支持体１１１との当接箇所とを異なるものとすることができ、２回目の支持時間を短くしなくてもよい。同様の効果は第二支持体１２１でも奏することができる。
これにより、第一支持体１１１、第二支持体１２１間での引き渡しを頻繁に行う必要がなく、作業性に優れた処理装置１とすることができる。
【００４５】
さらに、本実施形態では、ロッド１１２（１２２）内部には、部材Ｓの温度を調整するための、温度調整用の流体が供給される。これにより部材Ｓの温度を適切なものに保つことができる。流体は部材Ｓを冷却する冷却用の流体であってもよく、また、部材Ｓを加熱する加熱用の流体であってもよい。ロッド１１２（１２２）内に前記流体を通す場合には熱伝導性の高いものが好ましい。
【００４６】
なお、本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
たとえば、前記実施形態では、ロッド１１２（１２３）の周囲には、螺旋状の突起１１３（１２３）が設けられているとしたが、螺旋状の突起はなくてもよい。たとえば、図８（Ａ）、（Ｂ）に示すように、ロッド１１２の周囲に複数の第一支持部３３３Ａを離間配置してもよい。複数の第一支持部３３３Ａはロッド１１２を取り囲む仮想の螺旋上に位置している。また、複数の第一支持部３３３Ａは、それぞれ異なる仮想円Ｒ上に位置しており、ひとつの仮想円Ｒ上には支持部３３３Ａがひとつのみ存在する。そして、図８（Ｂ）に示すように、ロッド１１２の端部側からの側面視（Ｘ軸方向からの側面視）において、第一支持部３３３Ａが３以上（好ましくは３以上、６以下、ここでは４）ひとつのロッド１１２の周囲に等間隔で配置されている。
ロッド１１２を９０°回転させることで、回転前後で異なる第一支持部３３３Ａで部材Ｓを支持できるとともに、部材Ｓにおける支持位置も異なる箇所とすることができる。ここでは、第一支持部３３３Ａは円錐形状、あるいは円錐台形状となっている。
なお、第二支持部も図８に示すような構造としてもよい。
【００４７】
さらに、前記実施形態では、複数の支持部１１３Ａ（１２３Ａ）がひとつの螺旋上に配置されているとしたが、これに限らず、螺旋上に配置されていなくてもよい。たとえば、図９に示すように、ロッド１１２を挟んで対向する位置に、支持部３３３Ａが配置されていてもよい。この場合においても、ロッド１１２を９０°回転させることで、回転前後で異なる第一支持部３３３Ａで部材Ｓを支持できるとともに、部材Ｓにおける支持位置も異なる箇所とすることができる。
【００４８】
さらに、前記実施形態では、部材Ｓを第二支持体１２１から第一支持体１１１に引き渡す際に、昇降台１１０を上昇させて、第一支持体１１１を第二支持体１２１のＺ軸方向の高さ位置まで上昇させたが、これに限らず、第二支持体１２１を下降させて、第一支持体１１１と第二支持体１２１との高さ位置をそろえてもよい。
さらには、部材Ｓを第二支持体１２１から第一支持体１１１に引き渡す際に、昇降台１１０を上昇させて、第一支持体１１１を第二支持体１２１のＺ軸方向の高さ位置まで上昇させ、さらに、第一支持体１１１を上昇させることで、第一支持体１１１に部材Ｓを支持させてもよい。
【００４９】
また、前記実施形態では、ロッド１１２（１２２）を一方向に９０°づつ回転させていたが、これに限らず、ロッドを一定角度（たとえば、９０°）回転させたのち、一定角度（たとえば、９０°）逆回転させるものとしてもよい。
また、ロッドの回転角度は９０°に限られるものではなく、３６０°未満であればよい。
【００５０】
さらに、前記実施形態では、第二支持体１２１は、第一支持体１１１と同様のものであるとしたが、これに限らず、たとえば、第二支持体は、支柱１２４，１２５間に架張され、支柱１２４、１２５に固定されたワイヤ等であってもよい。この場合には、第二支持体のワイヤよりも、第一支持体１１１が上方に位置するように、あらかじめ第一支持体１１１の高さを調整しておく。第一支持体１１１上に部材Ｓを載せた後、所定時間、部材Ｓの熱処理を行う。その後、昇降台１２０を駆動して第二支持体であるワイヤを部材Ｓに接触させる。次に、第一支持体１１１が前記ワイヤよりも下方に位置するように、昇降台１１０を駆動する。これにより、部材Ｓが前記ワイヤに引き渡されワイヤに支持されることとなる。部材Ｓがワイヤに支持されている間に、ロッド１１２を９０°回転させる。その後、昇降台１１０を駆動して、部材Ｓに、第一支持部１１３Ａを接触させる。次に、昇降台１２０を駆動して、ワイヤが第一支持体１１１よりも下方に位置するように、ワイヤを下降させる。このような作業を繰り返すことで、部材Ｓを処理することができる。
ただし、この場合には、ワイヤと部材Ｓとが長時間接触しないように、制御することが好ましい。
【００５１】
さらに、前記実施形態では、処理装置１を大気圧下で、熱処理して、乾燥させる装置としたが、減圧乾燥装置としてもよい。たとえば、処理装置１からヒータ１３を除去した構成の装置を真空ポンプ等の減圧手段に接続されたチャンバ内に配置し、減圧乾燥装置を構成してもよい。この場合、処理部は、基板を減圧乾燥させるものであり、真空ポンプ等で構成されることとなる。
【符号の説明】
【００５２】
１    処理装置
１１    第一支持ユニット
１２    第二支持ユニット
１３    ヒータ
１４    ねじ軸
１５    ベース
１６    ねじ軸
１１０    昇降台
１１１    第一支持体
１１２    第一ロッド
１１３    突起
１１３Ａ    第一支持部
１１４    支柱
１１５    支柱
１１６    モータ
１１７ 軸受部
１２０    昇降台
１２１    第二支持体
１２２    第二ロッド
１２３    突起
１２３Ａ    第二支持部
１２４    支柱
１２５    支柱
１２６    モータ
１２７ 軸受部
３３３Ａ    支持部
Ｌ１    直線
Ｌ２    直線
Ｒ    仮想円
Ｍ１    モータ
Ｍ２    モータ
【図１】
2013118305.tif 000003
【図２】
2013118305.tif 000004
【図３】
2013118305.tif 000005
【図４】
2013118305.tif 000006
【図５】
2013118305.tif 000007
【図６】
2013118305.tif 000008
【図７】
2013118305.tif 000009
【図８】
2013118305.tif 000010
【図９】
2013118305.tif 000011