(57)【要約】【課題】高い遮光性を有する遮光層形成用樹脂組成物を提供する。【解決手段】カラーフィルタ１０は、基板１１と、所定の間隙を空けて第１方向に沿って並ぶよう基板１１上に設けられた複数の着色層２０，３０，４０と、各着色層２０，３０，４０間の間隙に設けられたＢＭ層５０と、を備えている。ＢＭ層５０を構成する遮光層形成用樹脂組成物は、黒色組成物および分散剤を含む黒色組成物分散体と、熱硬化性を有するバインダーとを有している。ここで、黒色組成物の含有比率は、遮光層形成用樹脂組成物の固形分１００重量部当り３０〜７５重量部の範囲内となっている。また、バインダーの含有比率は、遮光層形成用樹脂組成物の固形分１００重量部当り２５〜７０重量部の範囲内となっている。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を準備する工程と、
前記基板上に、所定の間隙を空けて所定の位置に複数の着色層を形成する着色層形成工程と、
各着色層の表面を撥液化する撥液処理工程と、
各着色層間の前記間隙に遮蔽層形成用樹脂組成物を含む塗工液を塗布する塗布工程と、
前記塗工液を乾燥させ、これによって各着色層間に遮光層を形成する工程と、を備えるカラーフィルタの製造方法に使用される遮蔽層形成用樹脂組成物であって、
前記遮蔽層形成用樹脂組成物は、黒色組成物および分散剤を含む黒色組成物分散体と、熱硬化性を有するバインダーとを有し、
前記黒色顔料の含有比率は、遮蔽層形成用樹脂組成物の固形分１００重量部当り３０〜７５重量部の範囲内となっており、
前記バインダーの含有比率は、遮蔽層形成用樹脂組成物の固形分１００重量部当り２５〜７０重量部の範囲内となっていることを特徴とする遮光層形成用樹脂組成物。
【請求項２】
前記黒色組成物は、カーボンブラック、チタンブラック、赤色顔料、緑色顔料、青色顔料、黄色顔料、シアン色顔料またはマゼンタ色顔料の少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項１に記載の遮光層形成用樹脂組成物。
【請求項３】
前記遮光層形成用樹脂組成物は、乾燥後における前記遮光層形成用樹脂組成物の光学濃度が膜厚１．０μｍあたり２．５〜４．５の範囲内になるよう設定されていることを特徴とする請求項１または２に記載の遮光層形成用樹脂組成物。
【請求項４】
前記塗布工程は、インクジェット法を用いて前記塗工液を塗布する工程を含み、
前記塗工液は、その粘度が５〜２５ｍＰａ・ｓの範囲内になるよう設定されていることを特徴とする請求項1乃至３のいずれかに記載の遮光層形成用樹脂組成物。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項に記載の前記遮光層形成用樹脂組成物から構成される遮光層を備えたことを特徴とするカラーフィルタ。
【請求項６】
カラーフィルタと、
前記カラーフィルタに対向するよう配置され、前記カラーフィルタへ向けて光を出射する表示部と、を備え、
前記カラーフィルタは、請求項５に記載のカラーフィルタからなることを特徴とする表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板と、所定の間隙を空けて前記基板上に設けられた複数の着色層と、各着色層間の前記間隙に設けられた遮光層と、を備えたカラーフィルタに関する。また本発明は、カラーフィルタを備えた表示装置、および、カラーフィルタの遮光層を形成するための遮光層形成用樹脂組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、平面ディスプレイとして液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置などが実用化されている。これらの表示装置においては、一般に、光源からの光のうち所望の波長の光のみを取り出すため、または、光源からの光の色純度を向上させるため、カラーフィルタが設けられている。カラーフィルタは、一般に、基板上に所定のパターンで設けられ、光源からの光を遮蔽する遮光層と、遮光層の間の開口部に設けられ、光源からの光のうち所望の波長を有する光のみを透過させる着色層と、を備えている。
【０００３】
カラーフィルタを製造する方法として、例えば特許文献１において、フォトリソグラフィー法を用いて基板上に遮光層を形成する工程と、遮光層の間の開口部に着色層を形成する工程と、を備えたカラーフィルタの製造方法が提案されている。フォトリソグラフィー法を用いて遮光層を形成する工程においては、一般に、はじめに、黒色組成物、分散剤、バインダーおよび光開始剤を含むネガ型の遮光層形成用樹脂組成物を基板上に全面にわたって設け、次に、遮光層形成用樹脂組成物を所定の露光マスクを介して露光し、その後、現像処理および焼成処理を施す。これによって、所定のパターンを有する遮光層が得られる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００７−２５６６９９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
遮光層における遮光特性は、主に、遮光層の厚みと、遮光層を構成する遮光層形成用樹脂組成物自体の遮光性とによって決定される。このうち遮光層形成用樹脂組成物遮光層形成用樹脂組成物自体の遮光性は、遮光層形成用樹脂組成物中の黒色組成物の含有比率が大きくなるほど高くなる。しかしながら、上述のようにフォトリソグラフィー法によるパターニングが実施される場合、遮光層形成用樹脂組成物に光開始剤が含まれる必要がある。この場合、光開始剤が存在することにより、遮光層形成用樹脂組成物中の黒色組成物の含有比率が制限され、この結果、遮光層形成用樹脂組成物自体の遮光性を十分に高くすることができないことがある。
【０００６】
本発明は、このような課題を解決することができるカラーフィルタを提供することを目的とする。また本発明は、カラーフィルタを備えた表示装置、および、カラーフィルタの遮光層を形成するための遮光層形成用樹脂組成物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、基板を準備する工程と、前記基板上に、所定の間隙を空けて所定の位置に複数の着色層を形成する着色層形成工程と、各着色層の表面を撥液化する撥液処理工程と、各着色層間の前記間隙に遮蔽層形成用樹脂組成物を含む塗工液を塗布する塗布工程と、前記塗工液を乾燥させ、これによって各着色層間に遮光層を形成する工程と、を備えるカラーフィルタの製造方法に使用される遮蔽層形成用樹脂組成物であって、前記遮蔽層形成用樹脂組成物は、黒色組成物および分散剤を含む黒色組成物分散体と、熱硬化性を有するバインダーとを有し、前記黒色顔料の含有比率は、遮蔽層形成用樹脂組成物の固形分１００重量部当り３０〜７５重量部の範囲内となっており、前記バインダーの含有比率は、遮蔽層形成用樹脂組成物の固形分１００重量部当り２５〜７０重量部の範囲内となっていることを特徴とする遮光層形成用樹脂組成物である。
【０００８】
本発明による遮光層形成用樹脂組成物において、前記黒色組成物は、カーボンブラック、チタンブラック、赤色顔料、緑色顔料、青色顔料、黄色顔料、シアン色顔料、マゼンタ色顔料または染料の少なくとも１つを含んでいてもよい。
【０００９】
本発明による遮光層形成用樹脂組成物は、乾燥後における前記遮光層形成用樹脂組成物の光学濃度が膜厚１．０μｍあたり２．５〜４．５の範囲内になるよう設定されていてもよい。
【００１０】
本発明による遮光層形成用樹脂組成物において、前記塗布工程は、インクジェット法を用いて前記塗工液を塗布する工程を含んでいてもよい。この場合、前記塗工液は、その粘度が５〜２５ｍＰａ・ｓの範囲内になるよう設定されていてもよい。
【００１１】
本発明は、上記記載の前記遮光層形成用樹脂組成物から構成される遮光層を備えたことを特徴とするカラーフィルタである。
【００１２】
本発明は、カラーフィルタと、前記カラーフィルタに対向するよう配置され、前記カラーフィルタへ向けて光を出射する表示部と、を備え、前記カラーフィルタは、上記記載のカラーフィルタからなることを特徴とする表示装置である。
【００１３】
本発明は、遮光層形成用樹脂組成物と溶剤とを含むカラーフィルタの遮光層用塗工液において、前記遮光層形成用樹脂組成物は、黒色組成物および分散剤を含む黒色組成物分散体と、熱硬化性を有するバインダーとを有し、前記黒色組成物の含有比率は、遮光層形成用樹脂組成物の固形分１００重量部当り３０〜７５重量部の範囲内となっており、前記バインダーの含有比率は、遮光層形成用樹脂組成物の固形分１００重量部当り２５〜７０重量部の範囲内となっていることを特徴とする遮光層用塗工液である。
【００１４】
本発明による遮光層用塗工液において、前記黒色組成物は、カーボンブラック、チタンブラック、赤色顔料、緑色顔料、青色顔料、黄色顔料、シアン色顔料、マゼンタ色顔料または染料の少なくとも１つを含んでいてもよい。
【００１５】
本発明による遮光層用塗工液において、前記バインダーは、遮光層形成用樹脂組成物の固形分１００重量部当り０．５〜１５重量部の開始助剤を含んでいてもよい。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、遮光層を構成する遮光層形成用樹脂組成物は、黒色組成物および分散剤を含む黒色組成物分散体と、熱硬化性を有するバインダーとを有している。ここで、黒色組成物顔料の含有比率は、遮光層形成用樹脂組成物の固形分１００重量部当り３０〜７５重量部の範囲内となっており、バインダーの含有比率は、遮光層形成用樹脂組成物の固形分１００重量部当り２５〜７０重量部の範囲内となっている。このように遮光層形成用樹脂組成物における黒色組成物の含有比率を大きくすることによって、遮光層形成用樹脂組成物自体の遮光性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】図１は、本発明の実施の形態における表示装置を示す縦断面図。
【図２】図２は、本発明の実施の形態におけるカラーフィルタを示す平面図。
【図３】図３は、カラーフィルタの着色層および遮光層を拡大して示す縦断面図。
【図４】図４（ａ）〜（ｄ）は、本実施の形態におけるカラーフィルタ製造方法を示す図。
【図５】図５（ａ）〜（ｉ）は、基板上に複数の着色層を形成する着色層形成工程を示す平面図。
【図６】図６（ａ）〜（ｅ）は、各着色層間の間隙に遮光層を形成する工程を示す縦断面図。
【図７】図７（ａ）〜（ｄ）は、比較の形態におけるカラーフィルタ製造方法を示す図。
【図８】図８は、比較の形態において、基板上に形成された遮光層を示す縦断面図。
【図９】図９は、本発明の実施の形態におけるカラーフィルタの変形例を示す平面図。
【図１０】図１０は、本発明の実施の形態におけるカラーフィルタのその他の変形例を示す平面図。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、図１乃至図６を参照して、本発明の実施の形態について説明する。まず図１により、本実施の形態における表示装置６０全体について説明する。
【００１９】
表示装置
図１に示すように、表示装置６０は、カラーフィルタ１０と、カラーフィルタ１０に対向するよう配置され、カラーフィルタ１０へ向けて光を出射する表示部１８と、を備えている。
【００２０】
このうちカラーフィルタ１０は、基板１１と、所定の第１方向、例えば図１に示すｘ方向に沿って並ぶよう基板１１に設けられた複数の着色層２０，３０，４０と、各着色層２０，３０，４０間に設けられた遮光層（以下ＢＭ層と表記する）５０と、を有している。また表示部１８は、ＴＦＴ基板１５と、ＴＦＴ基板１５とカラーフィルタ１０との間に介在され、ＴＦＴ基板１５からの電圧により制御される液晶１７と、を有している。また表示部１８は、図示はしないが、バックライトユニットや偏光板をさらに有している。このような表示部１８を用いることにより、カラーフィルタ１０へ向けて選択的に光を出射することができる。なお「選択的に光を出射する」とは、表示装置６０の単位画素に応じて光の強度が調整されていることを意味する。
【００２１】
図１に示すように、カラーフィルタ１０の各着色層２０，３０，４０およびＢＭ層５０は、オーバーコート膜１２によって覆われていてもよい。これによって、各着色層２０，３０，４０およびＢＭ層５０を外部環境から保護するとともに、各着色層２０，３０，４０およびＢＭ層５０に含まれる不純物などが外部に流出することを防ぐことができる。また図１に示すように、オーバーコート膜１２上にフォトスペーサー１３が形成されていてもよい。これによって、液晶１７が充填される空間の厚み、いわゆるセルギャップを一定に保持することができる。
【００２２】
カラーフィルタ
次に図２を参照して、カラーフィルタ１０について詳細に説明する。図２は、カラーフィルタ１０を図１の矢印II方向から見た場合を示す平面図である。なお説明の都合上、図２およびそれ以降の図において、カラーフィルタ１０のオーバーコート膜１２は省略されている。
【００２３】
（基板）
はじめに、カラーフィルタ１０の基板１１について説明する。基板１１としては、各着色層２０，３０，４０およびＢＭ層５０を適切に支持することができ、かつ透明性を有する様々な材料が用いられ、例えばガラスやポリマーなどが用いられる。
【００２４】
（着色層）
次に、カラーフィルタ１０の各着色層２０，３０，４０について説明する。各着色層２０，３０，４０の具体的なパターンは特には限定されないが、本実施の形態においては、各着色層２０，３０，４０がストライプ状に形成されている形態について説明する。この場合、図２に示すように、各着色層２０，３０，４０は、所定の間隙ｓ１を空けてｘ方向に沿って並ぶよう基板１１に設けられている。図２に示すように、各着色層２０，３０，４０間の間隙ｓ１は、ｘ方向に直交するｙ方向に延びている。
【００２５】
各着色層２０，３０，４０は、ｘ方向に沿って順に配置された第１着色層２０、第２着色層３０および第３着色層４０からなっている。このうち第１着色層２０は、例えば赤色光を透過させる赤色着色層からなっており、第２着色層３０は、緑色光を透過させる緑色着色層からなっており、第３着色層４０は、青色光を透過させる青色着色層からなっている。各着色層２０，３０，４０は、後述するように、感光性を有する着色層用材料を、露光処理および現像処理を含むフォトリソグラフィー法によりパターニングすることによって形成される層である。フォトリソグラフィー法によりパターニングされる着色層用材料としては、ネガ型およびポジ型のいずれの着色層用材料も使用され得るが、例えばネガ型の着色層用材料が使用される。
【００２６】
〔着色層用材料〕
次に、各着色層２０，３０，４０を構成する第１着色層用材料（以下、第１材料）、第２着色層用材料（以下、第２材料）、第３着色層用材料（以下、第３材料）について説明する。各第１〜第３材料は、各色の顔料や染料および分散剤を含む顔料分散体、光開始剤、ポリマーやモノマーを含むバインダー成分、および界面活性剤などを含んでいる。このうち光開始剤は、光を照射されることによりラジカル成分を発生するものである。またバインダー成分には、光開始剤によって発生されたラジカルにより重合反応を起こして硬化する成分と、その後の現像により未露光部が溶解可能となる成分とが少なくとも含まれている。
【００２７】
（ＢＭ層）
次に、カラーフィルタ１０のＢＭ層５０について説明する。ＢＭ層５０は、表示部１８からの光を遮蔽するよう構成されたものである。本実施の形態において、ＢＭ層５０は、図２に示すように、一の着色層とその他の着色層との間の間隙ｓ１に設けられている。具体的には、ＢＭ層５０は、第１着色層２０と第２着色層３０との間の間隙ｓ１、第２着色層３０と第３着色層４０との間の間隙ｓ１、および第３着色層４０と第１着色層２０との間の間隙ｓ１に設けられている。後述するように、ＢＭ層５０は、はじめに各着色層２０，３０，４０間の間隙ｓ１に、固形分としての遮光層形成用樹脂組成物と溶剤とを混合することにより得られる遮光層用塗工液（以下、ＢＭ塗工液と表記する）を塗布し、その後にＢＭ塗工液を硬化させることによって形成される層である。
【００２８】
〔遮光層形成用樹脂組成物〕
次に、ＢＭ層５０を構成する遮光層形成用樹脂組成物について説明する。遮光層形成用樹脂組成物は、黒色組成物、黒色組成物を均一に分散させるための分散剤、および、熱硬化性を有するバインダーなどを含んでいる。このうち黒色組成物および分散剤により、黒色組成物分散体が構成されている。なお本実施の形態において、「黒色組成物」とは、ＢＭ層５０を黒色に着色するために用いられる様々な成分、例えば黒色の顔料や黒色の染料などを含む概念となっている。
【００２９】
次に、遮光層形成用樹脂組成物の黒色組成物、分散剤およびバインダーとして用いられる材料について具体的に説明する。
【００３０】
（黒色組成物）
黒色組成物としては、ＢＭ層５０に所望の遮光性を付与することができるもののであれば特に限定されるものではない。このような黒色組成物として、例えば、直径３〜５００ｎｍ程度の炭素の微粒子、いわゆるカーボンブラックや、金属酸化物や金属窒化物または金属炭化物の微粒子などの黒色顔料を挙げることができる。金属酸化物または金属窒化物としては、例えば、酸化チタン、酸窒化チタン、窒化チタン、炭窒化チタン、炭化チタンなどを挙げることができる。また赤色顔料、緑色顔料、青色顔料、黄色顔料、シアン色顔料やマゼンタ色顔料などの着色顔料をなどの着色顔料を複数混合して黒色としたものを用いてもよい。さらに黒色染料や赤色染料、緑色染料、青色染料を単体若しくは混合して黒色としたものを用いてもよい。
【００３１】
次に、遮光層形成用樹脂組成物における黒色組成物の含有比率について説明する。上述のように本実施の形態において、ＢＭ層５０は、遮光層形成用樹脂組成物と溶剤とからなるＢＭ塗工液を各着色層２０，３０，４０間の間隙ｓ１に塗布し、その後にＢＭ塗工液を硬化させることによって形成される。すなわち、ＢＭ層５０は、フォトリソグラフィー法によるパターニングを実施することなく形成される。従って、ＢＭ層５０を構成する遮光層形成用樹脂組成物に、光が照射されることによりラジカルを発生させる光開始剤や、現像によって溶解する成分などが含まれる必要がない。このため本実施の形態によれば、従来の遮光層形成用樹脂組成物に比べて、光開始剤や現像により溶解する成分を不要とした分だけ遮光層形成用樹脂組成物中の黒色組成物の含有比率を大きくすることができる。具体的には、本実施の形態による遮光層形成用樹脂組成物において、黒色組成物の含有比率は、好ましくは遮光層形成用樹脂組成物の固形分１００重量部当り３０〜７５重量部の範囲内となっており、より好ましくは遮光層形成用樹脂組成物の固形分１００重量部当り４０〜７０重量部の範囲内となっている。これによって、遮光層形成用樹脂組成物自体の遮光性を、従来の遮光層形成用樹脂組成物に比べて向上させることができる。
【００３２】
（分散剤）
分散剤としては、上記黒色組成物を均一に分散することができるものであれば良く、公知の分散剤を使用することができる。例えば、変性ポリウレタン、変性ポリアクリレート、変性ポリエステル、変性ポリアミド等の高分子分散剤、リン酸エステル、アルキルアミン、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル等の界面活性剤や顔料誘導体を挙げることができる。本発明においては、これらの中でも、高分子分散剤が好ましく用いられる。具体的な商品名としては、Ｃｉｂａ  ＥＦＫＡ−４０４６、Ｃｉｂａ  ＥＦＫＡ−４０４７、Ｃｉｂａ  ＥＦＫＡ−４３００、Ｃｉｂａ  ＥＦＫＡ−４３３０、Ｃｉｂａ  ＥＦＫＡ−４３４０（以上、チバスペシャルティケミカルズ社製）、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ１１１、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ１６１、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ１６５、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ１８２、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ２０００、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ２００１（以上、ビックケミー社製）、ＳＯＬＳＰＥＲＳＥ２４０００、ＳＯＬＳＰＥＲＳＥ２７０００、ＳＯＬＳＰＥＲＳＥ２８０００（以上、ルーブリゾール社製）、アジスパーＰＢ８２１、アジスパーＰＢ８２２（味の素ファインテクノ（株）製）等を挙げることができる。
【００３３】
分散剤の含有比率としては、黒色組成物を均一に分散することができるものであれば特に限定されるものではないが、好ましくは、遮光層形成用樹脂組成物の固形分１００重量部当り、０．１〜１０重量部の範囲内となっており、より好ましくは２〜８重量部の範囲内となっている。上記範囲より小さいと、黒色組成物を均一に分散することが困難になり、上記範囲より大きいと、遮光層形成用樹脂組成物における、熱硬化バインダー樹脂の含有比率が相対的に低下し、硬化性や密着性が低下する恐れがあるからである。なお、黒色組成物と分散剤とから構成される黒色組成物分散体の含有比率は、好ましくは、遮光層形成用樹脂組成物の固形分１００重量部当り４０〜７０重量部の範囲内となっている。
【００３４】
（バインダー）
熱硬化性を有するバインダーとしては、加熱されることにより重合反応を起こして硬化する成分を含むものであれば良く、公知の熱硬化性のバインダーを用いることができる。例えば、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂、ヒドロキシエチルセルロース樹脂、カルボキシメチルセルロース樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等を挙げることができる。
【００３５】
次に、遮光層形成用樹脂組成物におけるバインダーの含有比率について説明する。上述のように本実施の形態において、ＢＭ層５０は、フォトリソグラフィー法によるパターニングを実施することなく形成される。従って、本実施の形態による遮光層形成用樹脂組成物のバインダーには、現像によって溶解する成分が含まれている必要がない。すなわち、遮光層形成用樹脂組成物のバインダーの組成を、熱硬化性を実現することに主に着目して設計することができる。このため本実施の形態によれば、従来の遮光層形成用樹脂組成物に比べて、現像により溶解する成分を不要とした分だけ遮光層形成用樹脂組成物中のバインダーの含有比率を小さくすることができる。具体的には、本実施の形態による遮光層形成用樹脂組成物において、バインダーの含有比率は、好ましくは遮光層形成用樹脂組成物の固形分１００重量部当り２５〜７０重量部の範囲内となっており、より好ましくは遮光層形成用樹脂組成物の固形分１００重量部当り３５〜５０重量部の範囲内となっている。このようにバインダーの含有比率を小さくした分だけ、上述のように黒色組成物の含有比率をさらに大きくすることが可能となっている。
【００３６】
なお、重合反応が開始され易くするための開始助剤として、カルボン酸無水物などの低分子化合物がバインダーに含まれていてもよい。低分子化合物から構成される開始助剤の含有比率は、バインダー全体の含有比率やカラーフィルタ１０の製造条件などに応じて適宜設定されるが、好ましくは遮光層形成用樹脂組成物の固形分１００重量部当り０．５〜１５重量部の範囲内となっており、より好ましくは遮光層形成用樹脂組成物の固形分１００重量部当り１〜１０重量部の範囲内となっている。
【００３７】
上述の黒色組成物、分散剤およびバインダーなどの含有比率は、ＢＭ層５０に求められる特性や、遮光層形成用樹脂組成物と溶剤とからなるＢＭ塗工液を基板１１上に塗布するために採用される塗布方法などに応じて、上記範囲内で適宜調整され得る。
【００３８】
例えば、ＢＭ塗工液の塗布方法としては、ＢＭ塗工液の液滴を各着色層２０，３０，４０間の間隙に向けて吐出する吐出法、例えばインクジェット法や、ＢＭ塗工液を基板１１上の全域に行き渡らせるコート法、例えばスピンコート法などが用いられる。このうちインクジェット法が用いられる場合、好ましくは、ＢＭ塗工液は、その粘度が５〜２５ｍＰａ・ｓの範囲内になるよう設定される。
【００３９】
（光学濃度）
次に、本実施の形態によるＢＭ層５０において実現される光学濃度について説明する。上述のように本実施の形態においては、遮光層形成用樹脂組成物中の黒色組成物の含有比率が従来の遮光層形成用樹脂組成物に比べて大きくなっている。この結果、本実施の形態によれば、ＢＭ層５０の光学濃度（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｄｅｎｓｉｔｙ）を、従来のＢＭ層の光学濃度に比べて高くすることができる。例えば、乾燥膜厚１．０μｍのＢＭ層５０における光学濃度を２．５〜４．５の範囲内にすることができる。これによって、従来と同等の厚みからなるＢＭ層５０によって、従来よりも高い光学濃度を実現することができる。若しくは、従来よりも小さい厚みからなるＢＭ層５０によって、従来と同等の光学濃度を実現することができる。なお「乾燥膜厚」とは、ＢＭ層５０が、固形分である遮光層形成用樹脂組成物からなる場合の、ＢＭ層５０の厚みのことである。すなわち、ＢＭ層５０は、後述するように遮光層形成用樹脂組成物と溶媒とを混合することにより得られるＢＭ塗工液を基板１１上に塗布し、その後、ＢＭ塗工液から溶媒を除去することにより形成されるが、「乾燥膜厚」とは、溶媒が除去された後のＢＭ層５０の厚みのことである。
なお光学濃度をＤとし、ＢＭ層５０における透過率をＴとするとき、光学濃度Ｄは以下の関係式により算出される。
【数１】
2013164457.tif 000003
【００４０】
（開口率）
次に、各着色層２０，３０，４０およびＢＭ層５０の寸法に基づいて、カラーフィルタ１０における開口率について説明する。なお、以下に説明する例においては、各着色層２０，３０，４０の形状が互いに等しくなっている場合について説明する。しかしながら、これに限られることはなく、カラーフィルタ１０に求められる特性などに応じて各着色層２０，３０，４０の形状が各々異なっていてもよい。
【００４１】
図２において、各着色層２０，３０，４０のｘ方向における幅が符号ｄ２により表されており、各着色層２０，３０，４０の間隙ｓ１に形成されるＢＭ層５０のｘ方向における幅が符号ｄ１により表されている。ここで、ＢＭ層５０の幅ｄ１と間隙ｓ１の幅とは一致している。
【００４２】
各着色層２０，３０，４０のｘ方向における幅ｄ２の値は特には限られないが、好ましくは１０〜２００μｍの範囲内となっており、例えば２０μｍとなっている。一方、ＢＭ層５０のｘ方向における幅ｄ１の値は１〜１０μｍの範囲内となっており、例えば５μｍとなっている。このように、本実施の形態におけるカラーフィルタ１０のＢＭ層５０の幅は、従来のカラーフィルタ１０のＢＭ層の幅よりも狭くなるよう設定されている。このようにＢＭ層５０の幅を従来よりも狭くすることにより、カラーフィルタ１０における開口率を高めることができる。例えば、カラーフィルタ１０における開口率を５０〜８０の範囲にすることができる。
【００４３】
カラーフィルタの製造方法
次に、このような構成からなる本実施の形態の作用について説明する。ここでは、図４乃至図６を参照して、カラーフィルタ１０の製造方法について説明する。
【００４４】
はじめに図４（ａ）〜（ｄ）を参照して、カラーフィルタ１０の製造方法全体について説明する。カラーフィルタ１０の製造方法は、基板１１上に、所定の間隙ｓ１を空けてｘ方向に沿って並ぶよう各着色層２０，３０，４０を形成する着色層形成工程（図４（ａ）〜図４（ｃ）参照）と、各着色層２０，３０，４０間の間隙ｓ１にＢＭ層５０を形成するＢＭ層形成工程（図４（ｄ）参照）と、を備えている。このうち着色層形成工程は、基板１１上に、所定のピッチｐ１でｘ方向に沿って並ぶよう複数の第１着色層２０を形成する第１着色層形成工程（図４（ａ）参照）と、第１着色層形成工程の後、基板１１上に、各第１着色層２０との間に間隙ｓ１が設けられるよう所定のピッチｐ１でｘ方向に沿って複数の第２着色層３０を形成する第２着色層形成工程（図４（ｂ）参照）と、第２着色層形成工程の後、基板１１上に、各第２着色層２０との間に間隙ｓ１が設けられるよう所定のピッチｐ１でｘ方向に沿って複数の第３着色層４０を形成する第３着色層形成工程（図４（ｃ）参照）と、を含んでいる。なお図４（ａ）〜（ｄ）においては、右側に、各工程において実施される具体的な処理が示されており、左側に、各工程による処理が実施された後の、基板１１に形成された各層の断面図が示されている。
【００４５】
図４（ｃ）に示すように、上述のピッチｐ１は、第２着色層３０と第３着色層４０との間の間隙だけでなく、第３着色層４０と第１着色層２０との間の間隙も所定の間隙ｓ１となるよう適宜設定されている。
【００４６】
（第１着色層形成工程）
以下、各着色層形成工程およびＢＭ層形成工程について詳細に説明する。はじめに図５（ａ）〜（ｃ）を参照して、第１着色層形成工程について詳細に説明する。
【００４７】
〔塗布処理〕
まず、図５（ａ）に示すように、上述の第１材料と溶剤とを混合することにより得られる第１着色層用塗工液（以下、第１塗工液）２１を基板１１上に塗布する。第１塗工液２１を基板１１上に塗布する方法が特に限られることはなく、スピンコート法、インクジェット法、キャスティング法、ディッピング法、バーコート法、ブレードコート法、ロールコート法、グラビアコート法、フレキソ印刷法、スプレーコート法などを適宜用いることができる。その後、第１塗工液２１中の溶剤を除去することにより、基板１１上に第１材料２２が得られる。
【００４８】
〔露光処理〕
次に、図５（ｂ）に示すように、開口部２６および遮光部２７を有する第１露光マスク２５を介して、第１材料２２に対して露光光を照射する。この場合、第１露光マスク２５の開口部２６は、第１着色層２０のパターンに対応するよう、上述のピッチｐ１でｘ方向に沿って並ぶよう配置されている。露光処理の結果、第１材料２２のうち露光光が照射された部分が硬化する。なお、露光光として用いられる光が特に限られることはなく、第１材料２２の感光特性に応じて様々な光が適宜用いられ得る。
【００４９】
〔現像処理〕
その後、現像処理を実施し、これによって、第１材料２２のうち露光光が照射されなかった部分を現像液中に溶解させる。これによって、図５（ｃ）に示すように、所定のピッチｐ１でｘ方向に沿って並ぶ複数の第１着色層２０が基板１１に形成される。
【００５０】
（第２着色層形成工程）
図５（ｄ）〜（ｆ）に示す第２着色層形成工程は、塗工液として、上述の第２材料と溶剤とを混合することにより得られる第２着色層用塗工液（第１塗工液）３１が用いられる点、および、第１着色層２０と第２着色層３０との間に所定の間隙ｓ１が形成されるよう第２露光マスク３５の開口部３６が配置されている点が異なるのみであり、その他の点は、上述の図５（ａ）〜（ｃ）に示す第１着色層形成工程と略同一である。従って、第２着色層形成工程に関する詳細な説明は省略する。
【００５１】
（第３着色層形成工程）
また図５（ｇ）〜（ｉ）に示す第３着色層形成工程は、塗工液として、上述の第３材料と溶剤とを混合することにより得られる第３着色層用塗工液（第３塗工液）４１が用いられる点、および、第２着色層３０と第３着色層４０との間に所定の間隙ｓ１が形成されるよう第３露光マスク４５の開口部４６が配置されている点が異なるのみであり、その他の点は、上述の図５（ａ）〜（ｃ）に示す第１着色層形成工程と略同一である。従って、第３着色層形成工程に関する詳細な説明は省略する。
【００５２】
なお図５（ｉ）に示されているように、着色層形成工程により得られる各着色層２０，３０，４０は、従来のカラーフィルタにおける間隙よりも狭い間隙ｓ１を空けてｘ方向に沿って並んでいる。一方、各第１着色層形成工程、第２着色層形成工程および第３着色層形成工程について個別に見てみると、図５（ｂ）（ｅ）（ｈ）に示される各露光処理において、各露光マスク２５，３５，４５の開口部２６，３６，４６間の間隔ｓ２は、上述の間隙ｓ１に比べて十分に大きくなっている。すなわち、結果として得られる各着色層２０，３０，４０間の間隙ｓ１は従来よりも狭くなっているが、各第１着色層形成工程、第２着色層形成工程および第３着色層形成工程において実施される露光処理や現像処理に求められる分解能は従来と同等である。このことから、結果として得られる各着色層２０，３０，４０間の間隙ｓ１は、従来のカラーフィルタの着色層形成工程において達成されている精度と同等の精度で精密に制御され得ると言える。
【００５３】
（ＢＭ層形成工程）
次に図６（ａ）〜（ｅ）を参照して、ＢＭ層形成工程について詳細に説明する。
【００５４】
ところで、フォトリソグラフィー法を用いたパターニングにおいて、不要な部分を完全に除去することは一般に困難であり、このため、除去しきれなかった残留物、いわゆる残渣が基板上に残ってしまうことがある。本実施の形態においても、図６（ａ）に示すように、各着色層２０，３０，４０を構成する第１〜第３材料の残渣６２が基板１１上に残っていると仮定する。
【００５５】
〔酸素プラズマ処理〕
はじめに、基板１１上に残っている残渣６２を取り除くための処理を実施する。ここでは、酸素を含むガスを導入ガスとして用いた酸素プラズマＬｏを発生させ、この酸素プラズマＬｏを、図６（ｂ）に示すように各着色層２０，３０，４０間の間隙において基板１１上に照射する。これによって、基板１１上に残っている残渣６２がＣＯ２やＨ２Ｏに分解されて除去される。
【００５６】
なお、酸素プラズマＬｏを各着色層２０，３０，４０間の間隙にのみ選択的に照射するための具体的な方法が特に限られることはない。例えば、各着色層２０，３０，４０間の間隙に対応する開口部を有するマスク（図示せず）を介して酸素プラズマを基板１１に照射することにより、酸素プラズマＬｏを各着色層２０，３０，４０間の間隙にのみ選択的に照射することができる。また、酸素プラズマ処理を実施する環境条件が特に限られることはなく、基板１１上に残っている残渣６２を除去することが可能である限りにおいて、様々な圧力および温度の下で酸素プラズマ処理が実施され得る。また、残渣６２を分解するための反応ガスとして酸素が用いられる例を示したが、これに限られることはなく、基板１１上に残っている残渣６２を除去することが可能である限りにおいて、様々な反応ガスが用いられ得る。また具体例として酸素プラズマ処理を記載したが、同様の効果が得られる方法であれば、酸素プラズマ処理に限らず、適用できる。
【００５７】
〔フッ化プラズマ処理〕
次に、各着色層２０，３０，４０の露出側の表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂを撥液化するための撥液処理を実施する。ここでは、フッ素もしくはフッ素化合物を含むガスを導入ガスとして用いたフッ化プラズマＬｆを発生させ、このフッ化プラズマＬｆを、図６（ｃ）に示すように基板１１上の各着色層２０，３０，４０の表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂに照射する。これによって、各着色層２０，３０，４０の表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂにフッ素基を導入することができる。具体的には、各着色層２０，３０，４０を構成する第１〜第３材料の分子の一部をフッ素基に置換することができる。このことにより、各着色層２０，３０，４０の表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂを撥液化することができる。
【００５８】
なお「撥液化」とは、各着色層２０，３０，４０の表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂと後述するＢＭ塗工液との間の接触角が、基板１１の表面１１ａとＢＭ塗工液との間の接触角よりも大きくなるよう、各着色層２０，３０，４０の表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂが処理されていることを意味している。接触角の具体的な値は特には限られないが、好ましくは、各着色層２０，３０，４０の表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂにおいて、表面張力４０ｍＮ／ｍの液体との接触角が１０度以上となっており、より好ましくは、表面張力２０ｍＮ／ｍの液体との接触角が１０度以上となっている。
【００５９】
なお、フッ化プラズマ処理において導入ガスとして用いられるフッ素化合物が特に限られることはなく、例えば、ＣＦ４、ＳＦ６、ＣＨＦ３、Ｃ２Ｆ６、Ｃ３Ｆ８、Ｃ５Ｆ８等が用いられ得る。また、フッ化プラズマ処理の導入ガスに、フッ素もしくはフッ素化合物を含有するガスだけでなくその他のガスが混合されていてもよい。例えば、窒素、酸素、アルゴン、ヘリウム等が混合されていてもよい。また、フッ化プラズマ処理を実施する環境条件が特に限られることはなく、各着色層２０，３０，４０の表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂを撥液化することができる限りにおいて、様々な圧力および温度の下でフッ化プラズマ処理が実施され得る。また具体例としてフッ化プラズマ処理を記載したが、同様の効果が得られる方法であれば、フッ化プラズマ処理に限らず、適用できる。
【００６０】
フッ化プラズマ処理を実施した後の、各着色層２０，３０，４０の表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂにおけるフッ素の存在は、例えば、Ｘ線光電子分光分析装置による分析を用いて、表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂにおいて検出される全元素中のフッ素元素の割合、すなわちフッ素濃度を測定することにより確認され得る。
【００６１】
なお、各着色層２０，３０，４０間の間隙において残渣６２が基板１１上に残っている場合、フッ化プラズマ処理により残渣６２が撥液化されることになる。しかしながら、本実施の形態によれば、上述の酸素プラズマ処理により基板１１上の残渣６２が除去されている。このため、基板１１の表面１１ａにフッ化プラズマＬｆが照射される場合であっても、残渣６２が撥液化され、これによって各着色層２０，３０，４０間の間隙にＢＭ塗工液を塗布することが困難になる、ということはない。
【００６２】
〔塗布処理〕
次に、図６（ｄ）に示すように、各着色層２０，３０，４０間の間隙にＢＭ塗工液５１を塗布する。ＢＭ塗工液５１としては、上述の遮光層形成用樹脂組成物と適切な溶剤とを混合することにより得られる塗工液が用いられる。
【００６３】
ＢＭ塗工液５１を各着色層２０，３０，４０間の間隙に塗布する方法が特に限られることはなく、スピンコート法、インクジェット法などを適宜用いることができる。
【００６４】
例えば塗布方法としてインクジェット法が用いられる場合、ＢＭ塗工液５１の液滴を吐出することができるノズルを１つまたは複数有するインクジェットヘッドを用いて、各着色層２０，３０，４０間の間隙にＢＭ塗工液５１を塗布する。ここで、ノズルから吐出されるＢＭ塗工液５１の液滴の寸法が特に限られることはなく、ＢＭ塗工液５１の組成や各着色層２０，３０，４０間の間隙の寸法に応じて適宜設定される。
【００６５】
なお上述のように、各着色層２０，３０，４０の表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂは、上述のフッ化プラズマ処理により撥液化されている。このため、仮にＢＭ塗工液５１の液滴の直径が各着色層２０，３０，４０間の間隙の幅よりも大きい場合であっても、各着色層２０，３０，４０の表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂ上に塗布されたＢＭ塗工液５１が自然に各着色層２０，３０，４０間の間隙に導かれる。これによって、各着色層２０，３０，４０間の間隙にのみＢＭ塗工液５１を塗布することができる。
【００６６】
また塗布方法としてスピンコート法が用いられる場合、基板１１を所定の速度で回転させることにより、ＢＭ塗工液５１が基板１１の全面にわたって塗布される。ここで上述のように、各着色層２０，３０，４０の表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂは撥液化されている。このため、各着色層２０，３０，４０間の間隙にのみＢＭ塗工液５１を塗布することができる。
【００６７】
〔焼成処理〕
次にＢＭ塗工液５１に対して焼成処理を施す。これによって、図６（ｅ）に示すように、各着色層２０，３０，４０間の間隙にＢＭ層５０が形成される。
【００６８】
（得られたカラーフィルタの特徴）
上述の製造方法により得られたカラーフィルタ１０の特徴について説明する。
【００６９】
〔遮光性〕
はじめに、ＢＭ層５０の遮光性について説明する。上述のように、ＢＭ層５０は、フォトリソグラフィー法によるパターニングを実施することなく形成される。従って、ＢＭ層５０を構成する遮光層形成用樹脂組成物に、光が照射されることによりラジカルを発生させる光開始剤や、現像によって溶解する成分などが含まれる必要がない。このため本実施の形態によれば、従来の遮光層形成用樹脂組成物に比べて、光開始剤や現像により溶解する成分を不要とした分だけ遮光層形成用樹脂組成物中の黒色組成物の含有比率を大きくすることができる。これによって、遮光層形成用樹脂組成物自体の遮光性を、従来の遮光層形成用樹脂組成物に比べて向上させることができる。加えて、光開始剤を不要とすることにより、遮光層形成用樹脂組成物のコストを低減することができる。
【００７０】
〔フッ素濃度〕
次に、各着色層２０，３０，４０におけるフッ素濃度について説明する。上述のように、各着色層２０，３０，４０の露出側の表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂにはフッ化プラズマ処理が施されている。このため、各着色層２０，３０，４０において、露出側の表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂにおけるフッ素濃度は、露出側の表面２０ｂ，３０ｂ，４０ｂよりも内側にある部分、すなわち基板１１側にある部分におけるフッ素濃度よりも高くなっている。このようなフッ素濃度の差は、例えば上述のＸ線光電子分光分析装置を用いて各着色層２０，３０，４０におけるフッ素濃度を測定することにより確認され得る。
【００７１】
（本実施の形態によるカラーフィルタの製造方法の効果）
次に、本実施の形態によるカラーフィルタの製造方法の効果について説明する。
【００７２】
〔ＢＭ層の細線化〕
はじめに、ＢＭ層５０の幅に関する効果について説明する。上述のように、ＢＭ層５０は、既に形成されている各着色層２０，３０，４０間の間隙に形成される。この場合、ＢＭ層５０の幅は、各着色層２０，３０，４０間の間隙の寸法によって定められることになる。このため、各着色層２０，３０，４０間の間隙を精度良く定めることにより、所望の幅を有するＢＭ層５０を形成することができる。
【００７３】
ところで一般に、着色層の幅はＢＭ層の幅よりも大きくなっている。例えば従来のカラーフィルタにおいて、着色層の幅が２０μｍになっており、一方、ＢＭ層の幅が７μｍになっているとする。ここで、カラーフィルタの開口率を高めるためにＢＭ層の幅を５μｍに低減することが求められている場合について考える。この場合、ＢＭ層の幅を７μｍ→５μｍにすることは、ＢＭ層単体で考えると約３割の削減である。従って、従来のように着色層よりも前に基板上にＢＭ層がフォトリソグラフィー法により形成される場合、このような削減は容易ではない。
【００７４】
一方、本実施の形態によれば、ＢＭ層の幅を７μｍ→５μｍにすることは、着色層の幅を従来の２０μｍから２２μｍに増加させることを意味している。この場合、着色層の幅を２０μｍ→２２μｍにすることは、１割の増加に過ぎない。また、元々着色層の幅はＢＭ層よりも大きくなっている。このため、着色層の幅を従来の場合から２μｍ増加させることは、ＢＭ層の幅を従来の場合から２μｍ減少させることに比べて遥かに容易である。従って本実施の形態によれば、ＢＭ層５０の幅を狭くすることを容易に実現することができる。これによって、カラーフィルタ１０の透過率を高めることができ、このことにより、表示装置６０における消費電力を低減することができる。
【００７５】
また本実施の形態によれば、上述の間隙ｓ１を介して近接する２つの着色層は、互いに異なる色の着色層となっている。このため上述のように、各着色層２０，３０，４０を形成するための露光処理において、各露光マスク２５，３５，４５の開口部２６，３６，４６間の間隔ｓ２は、間隙ｓ１に比べて十分に大きくなっている。従って、各着色層２０，３０，４０間の間隙ｓ１を、従来のカラーフィルタの着色層形成工程において達成されている精度と同等の精度で精密に制御することができる。
【００７６】
〔製造設備の簡略化〕
次に、カラーフィルタ１０の製造工程が簡略になるという効果について説明する。上述のように、本実施の形態によれば、ＢＭ層５０は、各着色層２０，３０，４０間の間隙にＢＭ塗工液５１を塗布し、その後、ＢＭ塗工液５１を乾燥させることにより形成される。すなわち、露光処理および現像処理を実施することなくＢＭ層５０を形成することができる。このため、ＢＭ層５０を形成するための露光機および現像機を準備する必要がなく、このことにより、カラーフィルタ１０の製造設備のコストを低減することができる。また、露光のための露光マスクを不要にすることができる。このことにより、製造コストを低減することができ、また、ＢＭ層５０のパターンの変更に柔軟に対応することが可能となる。
【００７７】
比較の形態
次に、図７および図８を参照して、本実施の形態の効果を比較の形態と比較して説明する。
【００７８】
はじめに図７（ａ）〜（ｄ）を参照して、比較の形態によるカラーフィルタ１０の製造方法全体について説明する。比較の形態によるカラーフィルタ１０の製造方法は、基板１１上に所定のパターンでＢＭ層１５０を形成する工程（図７（ａ）参照）と、ＢＭ層１５０間に第１着色層１２０、第２着色層１３０および第３着色層１４０を順次形成する工程（図７（ｂ）〜図７（ｄ）参照）と、を備えている。比較の形態において、ＢＭ層１５０および各着色層１２０，１３０，１４０は、いずれもフォトリソグラフィー法によりパターニングされて形成される。なお図７（ａ）〜（ｄ）においては、右側に、各工程において実施される具体的な処理が示されており、左側に、各工程による処理が実施された後の、基板１１に形成された各層の断面図が示されている。
【００７９】
（ＢＭ層）
次に、上述の比較の形態により得られるＢＭ層１５０について説明する。なおＢＭ層１５０用の材料は、フォトリソグラフィー法によるパターニングを可能とするため、光開始剤を含んでいる。図８は、比較の形態において、基板１１上に形成されるＢＭ層１５０を示す開縦断面図である。
【００８０】
上述のように、比較の形態において、ＢＭ層１５０用の材料は光開始剤を含んでいる。このため、ＢＭ層の材料に光開始剤が含まれない場合に比べて、ＢＭ層１５０用の材料における黒色組成物の含有比率は小さくなっている。このため、ＢＭ層１５０用の材料自体の遮光性が低くなっている。
これに対して本実施の形態によれば、比較の形態に比べて、光開始剤を不要とした分だけ遮光層形成用樹脂組成物中の黒色組成物の含有比率を大きくすることができる。これによって、比較の形態に比べて、遮光層形成用樹脂組成物自体の遮光性を向上させることができる。
【００８１】
また比較の形態によれば、上述のようにＢＭ層１５０用の材料自体の遮光性が低くなっている。この結果、比較の形態においては、所望の遮光性や光学濃度を実現するため、ＢＭ層１５０の厚みｈ３（図８参照）を大きくする必要がある。
これに対して本実施の形態によれば、上述のように、遮光層形成用樹脂組成物自体の遮光性が高くなっている。このため、従来よりも小さい厚みｈ１（図３参照）からなるＢＭ層５０によって、従来と同等の遮光性や光学濃度を実現することができる。
【００８２】
ところで比較の形態において、ＢＭ層１５０は上述のように、各着色層１２０，１３０，１４０よりも先に基板１１上に形成される。このため図８に示すように、基板１１上にＢＭ層１５０が形成される際、各ＢＭ層１５０は、基板１１側の面のみが基板１１によって支持されている。このため比較の形態によれば、ＢＭ層１５０が形成されてからその後に各着色層１２０，１３０，１４０が形成されるまでの間、ＢＭ層１５０が構造的に不安定になっている。さらに比較の形態によれば、所望の遮光性や光学濃度を実現するために上述のようにＢＭ層１５０の厚みｈ３が大きくなっており、これによってＢＭ層１５０がさらに構造的に不安定になっている。この不安定さは、ＢＭ層１５０の幅ｄ３を狭くすることによってさらに助長される。このため比較の形態によれば、ＢＭ層の形成工程またはその後の着色層の形成工程において、例えば現像処理において、ＢＭ層１５０が基板１１から部分的に剥離されてしまうことが考えられる。このような剥離が生じると、カラーフィルタ１０に白抜け領域が形成されることになる。白抜け領域が多数形成されたカラーフィルタ１０は不良品と判定されるため、比較の形態によれば、歩留りが低下してしまうことが考えられる。
【００８３】
これに対して本実施の形態によれば、上述のように、ＢＭ層５０は、各着色層２０，３０，４０間の間隙にＢＭ塗工液５１を塗布することにより形成される。このため、ＢＭ層５０は、基板１１によって支持されるだけでなく、各着色層２０，３０，４０によって側方から支持されている。このため本実施の形態によれば、比較の形態に比べて、ＢＭ層５０の構造的な安定性が高くなっている。さらに本実施の形態によれば、上述のように遮光層形成用樹脂組成物自体の遮光性が高くなっており、このため、ＢＭ層５０の厚みｈ１を小さくすることができる。これによって、ＢＭ層５０の構造的な安定性をさらに高めることができる。このため本実施の形態によれば、構造的な安定性を十分に確保しながら、ＢＭ層５０の幅を狭くすることが可能となる。従って、カラーフィルタ１０に白抜け領域が形成されることを防ぐことができ、このことにより、歩留りを向上させることができる。
【００８４】
また比較の形態によれば、遮光層形成用樹脂組成物に対するフォトリソグラフィー法によるパターニングの精度に基づいて、ＢＭ層の幅が定められる。一方、本実施の形態によれば、着色層用材料に対するフォトリソグラフィー法によるパターニングの精度に基づいて、ＢＭ層の幅が定められる。ここで着色層用材料における光の透過率は、遮光層形成用樹脂組成物における光の透過率よりも大きくなっている。このため本実施の形態によれば、着色層用材料の内部にまで十分に露光光を到達させることができ、このことにより、より高い精度で、かつ短い時間で着色層用材料をパターニングすることができる。従って本実施の形態によれば、ＢＭ層５０の幅が狭い場合であっても、高い精度で成形されたＢＭ層５０をより容易に得ることができる。
【００８５】
（変形例）
なお本実施の形態において、各着色層２０，３０，４０間の間隙にＢＭ塗工液５１が塗布される前に、フッ化プラズマ処理により各着色層２０，３０，４０の表面が撥液化される例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、ＢＭ塗工液５１の塗布方法に応じて、各着色層２０，３０，４０の表面の撥液化が適宜省略されてもよい。例えば、各着色層２０，３０，４０間の間隙の幅よりも小さな直径で液滴を吐出することができるノズルを有するインクジェットヘッドが用いられる場合、各着色層２０，３０，４０の表面を撥液化することなく、各着色層２０，３０，４０間の間隙に精度良くＢＭ塗工液５１を塗布することができる。
【００８６】
また本実施の形態において、フッ化プラズマ処理が実施される前に、酸素プラズマにより基板１１上の残渣６２が除去される例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、酸素プラズマ処理が適宜省略されてもよい。例えば、各着色層２０，３０，４０の形成工程において発生する残渣６２が少ない場合、酸素プラズマ処理が省略されてもよい。また、上述のようにフッ化プラズマ処理が省略され得る場合、酸素プラズマ処理も省略されてよい。この場合、酸素プラズマ処理は、フッ化プラズマ処理との組合せで実施される処理であり、撥液化のための工程の一部分であると考えることができる。
【００８７】
また本実施の形態において、カラーフィルタ１０の各着色層２０，３０，４０がストライプ状に形成されている例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、図９に示すように、カラーフィルタ１０の各着色層２０，３０，４０を格子状に形成してもよい。また図１０に示すように、各着色層２０，３０，４０がくの字状の形状を有していてもよい。
【００８８】
図９および図１０に示す変形例においても、各着色層２０，３０，４０は、所定の間隙ｓ１を空けてｘ方向に沿って並ぶよう基板１１に設けられている。また、間隙ｓ１を介して近接する２つの着色層は、互いに異なる色の着色層となっている。また、ｙ方向において近接する２つの着色層の間の間隔ｓ３は、ｘ方向における上述の間隙ｓ１よりも十分に大きくなっている。従って、図９および図１０に示す変形例においても、各着色層２０，３０，４０を精度良く形成することができ、このことにより、所望の幅を有するＢＭ層５０を形成することができる。
【符号の説明】
【００８９】
１０  カラーフィルタ
１１  基板
１２  オーバーコート膜
１３  フォトスペーサー
１５  ＴＦＴ基板
１７  液晶
１８  表示部
２０  第１着色層
２０ｂ  露出側の表面
２１  第１着色層用塗工液（第１塗工液）
２２  第１着色層用材料（第１材料）
２５  第１着色層用露光マスク（第１露光マスク）
２６  開口部
２７  遮光部
３０  第２着色層
３０ｂ  露出側の表面
３１  第２着色層用塗工液（第２塗工液）
３２  第２着色層用材料（第２材料）
３５  第２着色層用露光マスク（第２露光マスク）
３６  開口部
３７  遮光部
４０  第３着色層
４０ｂ  露出側の表面
４１  第３着色層用塗工液（第３塗工液）
４２  第３着色層用材料（第３材料）
４５  第３着色層用露光マスク（第３露光マスク）
４６  開口部
４７  遮光部
５０  遮光層（ＢＭ層）
５１  遮光層用塗工液（ＢＭ塗工液）
６０  表示装置
６２  残渣
【図１】
2013164457.tif 000004
【図２】
2013164457.tif 000005
【図３】
2013164457.tif 000006
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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