(57)【要約】【課題】パラメタライズドセルを用いた半導体のレイアウト設計において、レイアウトされたパラメタライズドセルを変形する際の操作性を向上させること。【解決手段】セルの属性がパラメータによって表されるパラメタライズドセルを用いて半導体装置のレイアウトを設計する半導体装置設計方法であって、パラメタライズドセルを変位させる場合に、変位すべきパラメタライズドセルと変位量のユーザによる指定を、ＧＵＩを介して受け付ける工程と、変位すべきパラメタライズドセルを、変位量に応じてＧＵＩ上で変位させる工程と、を含む。【選択図】図６
2013143000.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
セルの属性がパラメータによって表されるパラメタライズドセルを用いて半導体装置のレイアウトを設計する半導体装置設計方法であって、
パラメタライズドセルを変位させる場合に、変位すべきパラメタライズドセルと変位量のユーザによる指定を、グラフィカルユーザインタフェース（ＧＵＩ）を介して受け付ける工程と、
前記変位すべきパラメタライズドセルを、前記変位量に応じて前記ＧＵＩ上で変位させる工程と、を含むことを特徴とする半導体装置設計方法。
【請求項２】
前記パラメタライズドセルは、前記パラメタライズドセルと少なくとも一部において重なり合う基準線を基準として拡大または縮小されることを特徴とする、請求項１に記載の半導体装置設計方法。
【請求項３】
パラメタライズドセルを変位させた後、該パラメタライズドセルを拡大または縮小する場合に、変位すべきパラメタライズドセル、変位量および前記基準線のユーザによる指定を、前記ＧＵＩを介して受け付ける工程と、
前記変位すべきパラタライズドセルと前記基準線を、前記変位量に応じて前記ＧＵＩ上で変位させる工程と、
変位後の前記基準線を基準として変位後の前記パラメタライズドセルを拡大または縮小する工程と、を含むことを特徴とする、請求項２に記載の半導体装置設計方法。
【請求項４】
前記変位量は、変位ベクトルの向きと大きさによって指定されることを特徴とする、請求項１ないし３のいずれか１項に記載の半導体装置設計方法。
【請求項５】
前記変位量は、変位ベクトルの成分によって指定されることを特徴とする、請求項１ないし３のいずれか１項に記載の半導体装置設計方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は半導体装置の設計方法に関し、特に、半導体装置のレイアウトを設計する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体装置の設計においては、ＣＡＤ（Ｃｏｍｐｕｔｅｒ  Ａｉｄｅｄ  Ｄｅｓｉｇｎ）が一般的なツールとして用いられており、類似の形状のセルを自動生成するためにパラメタライズドセルと呼ばれる機能が使用されている（特許文献１）。パラメタライズドセルとは、予め登録された基本形状に対してパラメータを与えることにより、セルの伸縮や発生、削除を行い、単一の基本形状から目的とする複数の形状のセルを生成することができるようにしたセルをいう。
【０００３】
半導体装置の設計に用いられるＣＡＤツールのうち、パラメタライズドセルの機能を有するものとして、例えば、Ｃａｄｅｎｃｅ社のＶｉｒｔｕｏｓｏ、ＪＥＤＡＴ社のα−ＳＸ等が知られている。パラメタライズドセルによると、上述のように、登録された基本形状を元に、定義されたパラメータに応じて図形を変形させ、単一の基本形状から類似の複数の形状を容易に生成することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】米国特許出願公開第２０１１／００６１０３４号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
以下の分析は、本発明者によってなされたものである。
【０００６】
図１は、パラメタライズドセルを用いたＣＡＤに基づいて、レイアウトパターンを作成するフローの概要を示す。元となる形状をレイアウトした後（ステップＡ１）、パラメータの定義を含む変形（例えば、拡大・縮小、変位等）を設定する（ステップＡ２）。これをベースとして、定義されたパラメータに必要な値を設定することにより（ステップＡ３）、図形を変形させ（ステップＡ４）、でき上がった形状が出力される（ステップＡ５）。
【０００７】
図２は、図１の変形設定（ステップＡ２）の詳細を示すフロー図である。図２を参照すると、変形に用いるパラメータを定義し（ステップＢ１）、変形を行う対象とする図形を選択して（ステップＢ２）、変形に用いる基準と変形動作とを設定する（ステップＢ３、Ｂ４）。他にも設定項目がある場合には（ステップＢ５のＹｅｓ）、ステップＢ１に戻り、それ以外の場合には、変形設定を終了する。
【０００８】
図１および図２に示したフローによると、複数のパラメータ、複数の変形動作を組み合わせることにより、単一の基本形状に対して複雑な変形を施して、様々な形状の出力図形が得られる。
【０００９】
上記の変形（ステップＡ４）における、図形の拡大・縮小および変位（移動）は、基本形状に対して設定される基準線に基づいて行われる。図３は、「基準線に基づく伸縮」機能により、図形の拡大・縮小および図形の変位を行う様子を概略的に示す図である。図３（ａ）は、「基準線に基づく伸縮」により、図形の拡大・縮小を行う場合を示す。一方、図３（ｂ）は、「基準線に基づく伸縮」により、図形の変位を行う場合を示す。
【００１０】
基準線に対して伸縮する方向と伸縮量に相当するパラメータを定義し、パラメータに応じた伸縮を行うことで、図形の拡大・縮小と図形の変位とが同一の機能、すなわち「基準線に基づく伸縮」機能で処理される。図３（ａ）に示すように、変形対象の図形Ｘ１が基準線Ｙ１と重なっている場合には、「基準線に基づく伸縮」により、図形Ｘ１の拡大・縮小が行われて図形Ｘ１’となる。一方、図３（ｂ）に示すように、変形対象の図形Ｘ２が基準線Ｙ１と重なっていない場合には、「基準線に基づく伸縮」により、図形Ｘ２は拡大・縮小されることなく、変位されて図形Ｘ２’となる。
【００１１】
図４は、基準線の両側または片側に伸縮を行う様子を概略的に示す図である。図４（ａ）は、「基準線の両側に伸縮」する機能を用いることで、図形の拡大・縮小または図形の変位を行う様子を示す。図４（ａ）を参照すると、「基準線の両側に伸縮」機能によると、図形Ｘ３と基準線Ｙ３とが重なっている場合には、図形Ｘ３は基準線の両側に拡大・縮小されてＸ３’となり、それ以外の場合には、図形Ｘ４、Ｘ５は拡大・縮小されることなく、基準線Ｙ４を基準として変位され、それぞれ、図形Ｘ４’、Ｘ５’となる。
【００１２】
一方、図４（ｂ）は、「基準線の片側に伸縮」する機能を用いることで、図形の拡大・縮小または図形の変位を行う様子を示す。図４（ｂ）を参照すると、「基準線の片側（例えば右側）に伸縮」機能によると、図形Ｘ３と基準線Ｙ３とが重なっている場合には、図形Ｘ３は基準線Ｙ３の右側に拡大・縮小されて図形Ｘ３’となり、それ以外の場合には、図形Ｘ５は拡大・縮小されることなく、基準線Ｙ４を基準として変位されて図形Ｘ５’となる。
【００１３】
以上のように、パラメタライズドセルを用いたレイアウト設計においては、パラメタライズドセルを表す図形に対して、伸縮の基準となる線の位置と伸縮方向を定義し、伸縮量を与えることで、目的とする拡大・縮小または変位が実現される。なお、上記の図３および図４では、縦方向の線を基準とした横方向の伸縮の場合について説明したが、横方向の線を基準とした縦方向の伸縮や、両者を組み合わせた伸縮もできる。
【００１４】
上述の「基準線に基づく伸縮」機能を用いて図形の拡大・縮小および変位を行う場合に生じうる問題点について、図面を参照して説明する。図５は、「基準線に基づく伸縮」機能を用いたときに生じうる問題について説明するための図である。図５（ａ）および（ｂ）は、「基準線に基づく伸縮」機能により、対象図形の変位を行った後、同一の対象図形の拡大を行う場合を例示している。一方、図５（ｃ）は、「基準線に基づく伸縮」機能により、対象図形の拡大を行った後、同一の対象図形の変位を行う場合を例示している。
【００１５】
図５（ａ）を参照すると、図形Ｘ６を変位させた後に拡大する場合には、図形Ｘ６とともに、拡大の基準となる基準線Ｙ６（破線）を、変位の対象として設定する（ステップＣ１）。次に、基準線Ｙ６とともに図形Ｘ６の位置を変位させて、基準線Ｙ６’および図形Ｘ６’が得られる（ステップＣ２）。次に、基準線Ｙ６’を基準として対象図形Ｘ６’を拡大して図形Ｘ６”が得られる（ステップＣ３）。図５（ａ）の図形Ｘ６”を得るには、ステップＣ１からＣ２の変位において、後の拡大で必要とされる基準線Ｙ６（破線）を対象図形Ｘ６とともに変形対象として設定しておく必要がある。なお、ステップＣ２からＣ３の拡大においては、すでに終了している変位に用いた基準線Ｙ５（実線）を対象とする必要はない。
【００１６】
図５（ｂ）を参照すると、ステップＣ１からＣ２に至る変位の対象を図形Ｘ６のみとして、拡大の変形動作に用いる基準線Ｙ６（破線）を変位させない場合、図形Ｘ６の変位によって図形Ｘ６’と基準線Ｙ６（破線）との重なりが失われると、ステップＣ３において、意図した図形Ｘ６’の拡大が行われず、図形Ｘ６’の変位が行われ、図形Ｘ６”となってしまう。
【００１７】
図５（ｃ）を参照すると、図形Ｘ６の拡大後に変位を行う場合には、拡大に用いる基準線Ｙ６（破線）は、後の変位において使用されないため、変位の操作対象として設定する必要はない。しかしながら、拡大によって拡大された図形Ｘ６’と変位のための基準線Ｘ５（実線）とが重ならないように、拡大量と基準線Ｘ５（実線）の位置とを調節する必要がある。図５（ｃ）に示すように、ステップＣ１、Ｃ２において、先に行われた拡大によって、拡大された図形Ｘ６’と変位に用いる基準線Ｙ５との重なりが生じた場合には、ステップＣ３において、意図した図形Ｘ６’の変位ではなく、図形Ｘ６’の拡大が行われ、図形Ｘ６”となってしまう。
【００１８】
以上のように、同一の対象図形に対して、「基準線を用いた伸縮」機能という共通した機能を用いて拡大と変位を行う場合、
（１）図形を変位後に拡大するときには、図形と、拡大操作に用いる基準線とを変位させた後、図形の拡大を行う必要があり、
（２）図形を拡大後に変位させるときには、図形を拡大した後、拡大後の図形と重ならないように配置された基準線を用いて図形の変位を行う必要がある。
【００１９】
（１）に関しては、後に行う変形操作である拡大のための基準線を予め変位対象として設定した後、変位の変形動作設定を行わねばならない。
【００２０】
一方、（２）に関しては、予め図形の拡大量が限定されない限り、拡大後の図形と重なり合わない位置に基準線を設定することは一般に困難であり、任意の拡大量に対応することは不可能となる。なお、基準線の位置を、設計に用いる環境内における領域端とすることで、実効的に基準線を拡大後の図形と重なり合わないように設定することが可能となる。しかし、このような方法によると、図形と基準線とを同一の表示領域に表示して、変形の設定を確認する等の操作が不可能となり、レイアウトや設定の妥当性の確認を含めたデータ作成のＴＡＴ（ターンアラウンドタイム）が増大するという問題がある。
【００２１】
このように、変形操作の順序や設定が制限されることにより、セル開発の困難さが増大する。単純なレイアウト設計においては重大な問題となりにくいものの、多数のパラメータを含有する多階層の複雑なレイアウトを変形する場合には、複数の図形に対して連動する形で変位・拡大を定義する必要があり、重大な問題となる。例えば、拡大する図形は事前に必ず変位させなければならないという制限が課された場合、単に変形設定を作成するＴＡＴを増加させる要因となるばかりでなく、設定された変形群がその制限を満たしていない場合には、意図しない誤動作を誘発する。したがって、制限を満たしていることを検証する工数も別途必要となる。
【００２２】
以上のように、関連技術のパラメタライズドセルに基づくレイアウト設計装置によると、図形の拡大・縮小または変位（以下、これらをまとめて「変形」という。）の操作が困難となり、意図しない変形が行われるおそれがある。そこで、パラメタライズドセルを用いた半導体のレイアウト設計において、レイアウトされたパラメタライズドセルを変形する際の操作性を向上させることが課題となる。
【課題を解決するための手段】
【００２３】
本発明の一視点に係る半導体装置設計方法は、セルの属性がパラメータによって表されるパラメタライズドセルを用いて半導体装置のレイアウトを設計する半導体装置設計方法であって、
パラメタライズドセルを変位させる場合に、変位すべきパラメタライズドセルと変位量のユーザによる指定を、グラフィカルユーザインタフェース（ＧＵＩ）を介して受け付ける工程と、
前記変位すべきパラメタライズドセルを、前記変位量に応じて前記ＧＵＩ上で変位させる工程と、を含む。
【発明の効果】
【００２４】
本発明に係る半導体装置設計方法によると、パラメタライズドセルを用いた半導体のレイアウト設計において、レイアウトされたパラメタライズドセルを変形する際の操作性を向上させることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】関連技術における、パラメタライズドセルを用いたパターン作成の流れを示すフロー図である。
【図２】関連技術における、変形設定の流れを示すフロー図である。
【図３】関連技術における、「基準線を用いた伸縮」機能による、図形の拡大・縮小および図形の変位の様子を概略的に示す図である。
【図４】関連技術における、基準線の両側または片側に伸縮する機能による、図形の拡大・縮小および図形の変位の様子を概略的に示す図である。
【図５】関連技術における、「基準線に基づく伸縮」機能を用いた図形の拡大・縮小および変位における問題点について説明するための図である。
【図６】第１の実施形態に係る半導体装置設計方法において、基準線を用いることなく、図形の元位置を基準として図形を変位させたときの変形後の図形の形状を例示する図である。
【図７】第２の実施形態に係る半導体装置設計方法において、基準線を用いることなく、図形の元位置を基準として図形を変位させる動作を一例として示すフロー図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
はじめに、本発明の概要について説明する。なお、この概要に付記する図面参照符号は、専ら理解を助けるための例示であり、本発明を図示の態様に限定することを意図するものではない。
【００２７】
本発明に係る半導体装置設計方法は、セルの属性がパラメータによって表されるパラメタライズドセルを用いて半導体装置のレイアウトを設計する半導体装置設計方法である。ここで、半導体装置設計方法は、パラメタライズドセルを変位させる場合に、変位すべきパラメタライズドセルと変位量のユーザによる指定を、グラフィカルユーザインタフェース（ＧＵＩ）を介して受け付ける工程と、変位すべきパラメタライズドセルを、変位量に応じてＧＵＩ上で変位させる工程とを含む（展開形態１）。
【００２８】
かかる半導体装置設計方法によると、パラメタライズドセルを用いた半導体のレイアウト設計において、レイアウトされたパラメタライズドセルを変形する際の操作性を向上させることが可能となる。
【００２９】
また、上記半導体装置設計方法において、パラメタライズドセルは、パラメタライズドセルと少なくとも一部において重なり合う基準線を基準として拡大または縮小されるようにしてもよい（展開形態２）。
【００３０】
かかる半導体装置設計方法によると、パラメタライズドセルの形状を表す図形を、拡大後に変位させる場合においても、拡大後の図形と重ならないように配置された基準線を用いて図形を変位させる必要がなくなる。したがって、設計者は、拡大後の図形と変位用の基準線とが重なることがないように留意する必要がなくなり、パラメタライズドセルを変形する際の操作性が向上する。
【００３１】
さらに、上記半導体装置設計方法は、パラメタライズドセルを変位させた後、当該パラメタライズドセルを拡大または縮小する場合に、変位すべきパラメタライズドセル、変位量および上記基準線のユーザによる指定を、ＧＵＩを介して受け付ける工程と、変位すべきパラタライズドセルと基準線を、変位量に応じてＧＵＩ上で変位させる工程と、変位後の基準線を基準として変位後のパラメタライズドセルを拡大または縮小する工程と、を含むようにしてもよい（展開形態３）。
【００３２】
かかる半導体装置設計方法によると、パラメタライズドセルを変位させた後、当該パラメタライズドセルを拡大または縮小する場合に、拡大または縮小に用いられる基準線とパラメタライズドセルとの重なりが失われないようにすることができる。
【００３３】
また、上記半導体装置設計方法において、上記変位量は、変位ベクトルの向きと大きさによって指定されるようにしてもよい（展開形態４）。
【００３４】
例えば、変位ベクトルの向きをＧＵＩ画面上における縦方向または横方向として指定するとともに、指定した方向における変位量を指定することで、パラメタライズドセルまたは基準線をＧＵＩ上で縦方向または横方向に変位させることが可能となる。
【００３５】
さらに、上記半導体装置設計方法において、上記変位量は、変位ベクトルの成分によって指定されるようにしてもよい（展開形態５）。
【００３６】
関連技術のように基準線を用いて図形を変位させる場合には（図３ないし図５参照）、図形の変位方向は縦方向または横方向に制限される。したがって、図形を斜め方向に変位させる場合には、横方向の変位と縦方向の変位とを組み合わせる必要がある。一方、本展開形態の半導体装置設計方法によると、１つの変形操作に基づいて、パラメタライズドセルまたは基準線をＧＵＩ上で斜め方向に変位させることが可能となり、パラメタラズドセルを変位させるための工数を大幅に削減することが可能となる。
【００３７】
本発明によると、さらに以下の展開形態が可能となる。すなわち、定義されるパラメータに基づいて、内包する図形に対する変形を施す設定を視覚的な表示を用いて行い、入力される該パラメータによって前記図形の変形を行い、変形されたレイアウトを出力する半導体装置設計方法が提供される。ここで、半導体装置設計方法は、前記図形の変形動作の設定の一部として、視覚的な表示による変位対象の図形の選択と、変位対象となる図形の元位置からの変位量をパラメータとして図形を変位させることからなる、図形変位の設定を含む（展開形態６）。
【００３８】
また、上記半導体装置設計方法において、前記変位対象となる図形の元位置からの変位量をパラメータとして図形を変位させる図形変位の設定において、縦位置および横位置の変位量を同時に設定するようにしてもよい（展開形態７）。
【００３９】
さらに、上記の半導体装置設計方法の各工程をコンピュータに実行させるプログラムが提供される（展開形態８）。ここで、プログラムは、非トランジエントなコンピュータ読み取り可能な記録媒体に記録されたものであってもよい。
【００４０】
また、かかるプログラムをコンピュータにインストールすることにより、半導体装置設計システム（ＣＡＤシステム）が提供される（展開形態９）。
【００４１】
以上のように、本発明に係る半導体装置設計方法では、基準線を用いることなく、図形の元の位置からの変位（シフト）量で定義される図形の変位を行う。これにより、レイアウトされたパラメタライズドセルを変形する際の操作性を向上させることが可能となる。具体的には、図６（ｂ）に示すように、図形（Ｘ７）を拡大後に変位させるときに、図形（Ｘ７）を拡大した後、拡大後の図形（Ｘ７’）と重ならないように配置された基準線を用いて図形の変位を行う必要がなくなる。このとき、設計者は、図５（ｃ）に示すように、拡大後の図形（Ｘ６’）と変位用の基準線（Ｙ５、実線）とが重なることがないように留意する必要がなくなり、パラメタライズドセルを変形する際の設計者の操作性が向上する。
【００４２】
以下では、実施形態に係る半導体装置設計方法について、図面を参照しつつ説明する。
【００４３】
（実施形態１）
第１の実施形態に係る半導体装置設計方法について、図面を参照して説明する。
【００４４】
図６は、本実施形態に係る半導体装置設計方法を例示する図である。図６を参照すると、基準線を用いることなく、図形の元位置を基準として図形を変位させたときの変形後の図形の形状が例示されている。図６（ａ）は、パラメタライズドセルを変位させた後に拡大する場合を示す。一方、図６（ｂ）は、パラメタライズドセルを拡大した後に変位させる場合を示す。
【００４５】
本実施形態によると、拡大操作と変位操作の順序に関わりなく、操作後のパラメタライズドセルの形状として同一の形状が得られる。
【００４６】
図６（ａ）を参照すると、パラメタライズドセルを変位させた後に拡大する場合には、図５（ａ）に示した場合と同様に、パラメタライズドセルを表す図形Ｘ７とともに、拡大に用いる基準線Ｙ７（点線）を変位対象として設定する（ステップＤ１）。次に、変位対象として設定した図形Ｘ７と基準線Ｙ７とを、基準線を用いることなく変位させ、図形Ｘ７’と基準線Ｙ７’とが得られる（ステップＤ２）。次に、変位後の基準線Ｙ７’に基づいて、図形Ｘ７’を拡大し、図形Ｘ７”が得られる（ステップＤ３）。
【００４７】
図６（ｂ）を参照すると、パラメタライズドセルを拡大した後に変位させる場合には、まず、基準線Ｙ７に基づいて、パラメタライズドセルを表す図形Ｘ７を拡大する（ステップＤ１）。次に、変位対象として、パラメタライズドセルを表す図形Ｘ７’を選択する（ステップＤ２）。このとき、拡大に用いた基準線Ｙ７を変位対象とする必要はない。次に、変位対象として選択した拡大後の図形Ｘ７’を基準線を用いることなく変位させ、図形Ｘ７”が得られる（ステップＤ３）。
【００４８】
本実施形態によると、図６（ｂ）の各ステップにおいて、変位に用いる基準線と拡大された図形との干渉（重なり合い）を考慮したり、確認したりする必要がなくなる。したがって、パラメタライズドセルの変形設定が容易化され、半導体装置のレイアウト設計のＴＡＴを削減することが可能となる。
【００４９】
（実施形態２）
第２の実施形態に係る半導体装置設計方法について、図面を参照して説明する。
【００５０】
図７は、本実施形態に係る半導体装置設計方法において、基準線を用いることなく、図形の元位置を基準として図形を変位させる動作を一例として示すフロー図である。
【００５１】
図７（ａ）は、図３（ｂ）に示した関連技術における「基準線を用いた伸縮」機能に基づく図形の変位のフローを示す。一方、図７（ｂ）は、本実施形態の半導体装置設計方法、すなわち、基準線を用いることなく、図形の元位置を基準とした図形の変位のフローを示す。
【００５２】
図７（ａ）を参照すると、「基準線を用いた伸縮」機能による図形の変位においては、基準線Ｙ１が縦方向または横方向の一方向に設定されるため、縦横方向の変位を個別に設定する必要がある。
【００５３】
一方、図７（ｂ）を参照すると、基準線を用いることなく、図形の元位置を基準とする変位においては、パラメータ値入力（ステップＡ３）において、横方向の変位量ＰＸと縦方向の変位量ＰＹとを、ぞれぞれ、図形の横位置および縦位置の変化に対応するように、独立に設定することができる。このとき、変形（ステップＡ４）において、選択された図形Ｘ９を、縦方向および横方向に同時に変位させて、図形Ｘ９’とすることが可能となる。したがって、本実施形態の半導体装置設計方法によると、設定や確認のＴＡＴを削減することができる。
【００５４】
以上のとおり、第１および第２の実施形態に係る半導体装置設計方法では、基準線を用いることなく、パラメタライズドセルを表す図形の元位置を基準として図形を変位させることで、パラメタライズドセルの変形の設定と確認を容易化し、レイアウト設計を含む開発のＴＡＴを削減するとともに、これに付随するコストを削減することが可能となる。
【００５５】
なお、上記の特許文献の開示を、本書に引用をもって繰り込むものとする。本発明の全開示（請求の範囲を含む）の枠内において、さらにその基本的技術思想に基づいて、実施形態の変更・調整が可能である。また、本発明の請求の範囲の枠内において種々の開示要素（各請求項の各要素、各実施形態の各要素、各図面の各要素等を含む）の多様な組み合わせ、ないし、選択が可能である。すなわち、本発明は、請求の範囲を含む全開示、技術的思想にしたがって当業者であればなし得るであろう各種変形、修正を含むことは勿論である。
【符号の説明】
【００５６】
ＰＸ、ＰＹ    変位量
Ｘ１〜Ｘ９、Ｘ１’〜Ｘ７’、Ｘ９’、Ｘ６”、Ｘ７”    図形
Ｙ１〜Ｙ７、Ｙ６’、Ｙ７’    基準線
【図１】
2013143000.tif 000003
【図２】
2013143000.tif 000004
【図３】
2013143000.tif 000005
【図４】
2013143000.tif 000006
【図５】
2013143000.tif 000007
【図６】
2013143000.tif 000008
【図７】
2013143000.tif 000009