(57)【要約】【課題】アブレーションによって生成された試料エアロゾルの濃度を低くすることなく、２以上の成分元素をマッピング分析する際のテーリングの発生を抑制することのできるレーザーアブレーション質量分析装置を提供する。【解決手段】LA装置１０とICP-MS装置２０からなるLA-ICP-MS装置１００において、アブレーションチャンバー２は、容器３、管路４、キャリアガスＣＧを容器３内に提供する流入路３ａと第１の開閉弁７ａ、第２の開閉弁７ｂを有する導入路３ｂを備え、レーザーＬの照射によって生成された試料エアロゾルＡＥをレーザー照射位置から拡散させる拡散用ガスＤＧを容器３内に提供する第１の制御、各弁７ａ，７ｂが閉制御された状態で第１の制御が実行され、容器３内の試料エアロゾルＡＥが所定の濃度となった段階でキャリアガスＣＧを容器３内に提供し、試料エアロゾルＡＥをICP-MS装置２０に導く第２の制御が実行される。【選択図】図２
2013024806.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザー発信器と固体試料が収容されるアブレーションチャンバーとからなるレーザーアブレーション装置（LA装置）と、このアブレーションチャンバーに流体連通し、気化された試料エアロゾルがキャリアガスとともに導入されて試料エアロゾルの質量分析がおこなわれる誘導結合プラズマ質量分析装置（ICP-MS装置）からなるレーザーアブレーション質量分析装置において、
前記アブレーションチャンバーは、固体試料が収容される容器と、容器内に流体連通する管路と、第１の開閉弁を介して該容器に流体連通してキャリアガスを容器内に提供する流入路と、第２の開閉弁を介して容器とICP-MS装置の双方に流体連通して試料エアロゾルを容器からICP-MS装置に導入する導入路と、を備えており、
レーザー発信器から発信されるレーザーを前記管路を介して固体試料に提供し、かつ、生成された試料エアロゾルを少なくともレーザー照射位置から拡散させるための拡散用ガスを前記管路を介して容器内に提供する第１の制御が実行されるようになっており、
前記第１、第２の開閉弁が閉制御された状態で前記第１の制御が実行され、容器内の試料エアロゾルが所定の濃度となった段階で第１、第２の開閉弁を開制御し、流入路からキャリアガスを容器内に提供し、このキャリアガスで容器内の試料エアロゾルを導入路を介してICP-MS装置に導く第２の制御が実行されるようになっているレーザーアブレーション質量分析装置。
【請求項２】
前記LA装置は制御部をさらに備えており、
前記第２の制御では、容器内に装備された濃度センサによって試料エアロゾルの濃度が検知され、検知データが前記制御部に送信されるようになっており、
前記制御部には、試料エアロゾルの濃度の閾値となる前記所定の濃度に関するデータが記憶されていて、濃度センサから送信される検知データが該閾値以上となった段階で閉じた状態の第１、第２の開閉弁に開制御信号を送信するようになっている請求項１に記載のレーザーアブレーション質量分析装置。
【請求項３】
前記管路は一重管であり、レーザーと拡散用ガスは共通の該管路を介して同軸状で容器内に提供されるようになっている請求項１または２に記載のレーザーアブレーション質量分析装置。
【請求項４】
前記管路は内管と外管からなる二重管であり、レーザーが内管を介し、拡散用ガスが内管と外管の間の空間を介してそれぞれ容器内に提供されるようになっている請求項１または２に記載のレーザーアブレーション質量分析装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レーザーアブレーション質量分析装置に係り、特にレーザーを固体試料に照射して気化させ、キャリアガスとともにICP-MS装置に気化試料を導入するレーザーアブレーション装置（LA装置）に特徴を有するレーザーアブレーション質量分析装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
誘導結合プラズマ質量分析（Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry: ICP-MS）法は、超微量元素を高感度で、しかも多元素を同時定量分析できる手法として現在注目されている。中でも、固体試料を直接局所的に分析できるレーザーアブレーション（LA）法を適用した、レーザーアブレーション誘導結合プラズマ質量分析（LA-ICP-MS）法が特に注目されており、地質学や材料化学の分野で利用されている。
【０００３】
このLA-ICP-MS法適用の際に使用されるLA-ICP-MS装置は、固体試料を収容するアブレーションチャンバーと、この固体試料表面にNd-YAGレーザー等の高強度のレーザーを照射するレーザー発信器と、から構成されるLA装置と、アブレーションチャンバー内でレーザーによって固体試料が熱的に気化した試料エアロゾル（試料微粒子、アブレーションガス）がキャリアガスとともに導入されて質量分析が実施されるICP-MS装置と、から大略構成されている。
【０００４】
様々な分野で利用されているLA-ICP-MS法であるが、上記LA-ICP-MS装置においては、固体試料がアブレーションされてできた試料エアロゾルを可及的に高い濃度でICP-MS装置に導入することが当該分野における解決課題の一つとなっている。より具体的に説明するに、LA-ICP-MS分析では、固体試料のエリアごとの質量分析からそのエリアの主たる形成元素を特定し、固体試料の全体でマッピング分析をおこなうことから、試料エアロゾルの濃度が低いとマッピング分析精度が低下することになる。
【０００５】
この分析に使用される従来のLA-ICP-MS装置においては、レーザーを連続的に照射するとともにアブレーションチャンバー内へキャリアガスを連続的に提供する制御やICP-MS装置への試料エアロゾルの連続的な払い出し制御がおこなわれており、このことによって固体試料中の元素量を可及的迅速に分析することを可能としている。しかしながら、アブレーションチャンバー内へキャリアガスを連続的に提供することによって試料エアロゾルの濃度が往々にして低くなり易く、感度不足によって精度のよいマッピング分析がおこない難いという上記課題が顕在化している。
【０００６】
また、貴金属を２層コーティングした排ガス触媒においては、２層コートされた貴金属の拡散状態が触媒性能へ大きな影響を与える要因の一つであり、この拡散状態を正しく把握するために、固体試料の各位置における貴金属量の正確な把握をライン分析によっておこなうことが必要となる。しかしながら、上記するようにアブレーションチャンバー内へキャリアガスを連続的に提供することによって、ライン分析時にいわゆるテーリングが生じてしまい、正しい位置情報を得難いという課題も生じている。
【０００７】
このことを図面を参照して説明する。図８ａは、従来のLA-ICP-MS装置を使用した際に得られる、貴金属２層コーティング排ガス触媒のライン分析結果の一例である。同図からも明らかなように、強度の異なる２種類の貴金属が160〜250μmの範囲でラップしており、このように異なる成分がラップすることをテーリングと称している。
【０００８】
図８ｂは図８ａを模擬した図であるが、現状のマッピング分析では、成分Ａ，Ｂの各成分検出量においてテーリングが発生し易く、上記するように正しい位置情報が得られ難くなっている。これは、アブレーションチャンバー内へキャリアガスを連続的に提供することにより、固体試料の異なる部位で異なる時間にアブレーションされて生成されたはずの試料エアロゾルのそれぞれがICP-MS装置へ到達するまでに拡散しながら混合されることによるものであると考えられる。
【０００９】
したがって、アブレーションによって生成された試料エアロゾルの濃度を低くすることなく、しかも、２以上の成分元素をマッピング分析する際のテーリングの発生を抑制することのできるLA-ICP-MS装置の開発が当該技術分野における急務の課題である。
【００１０】
ところで、固体試料のみならず液体試料にも適用可能なLA-ICP-MS法と装置が特許文献１に開示されている。これは、液体試料を凍結固化させて固体試料とすることにより、液体試料に対してレーザーアブレーションを可能とした方法と装置である。装置を構成する試料ホルダを低温冷却可能とすることにより、試料温度を低温に維持してレーザー光によるアブレーションを可能としている。
【００１１】
このように特許文献１に開示のLA-ICP-MS装置は、試料ホルダを低温冷却可能とすることが特徴構成であるが、そのほかの装置構成は上記する従来の装置と実質的に同じであり、したがって、アブレーションによって生成された試料エアロゾルの濃度を低くすることなく、しかも、２以上の成分元素をマッピング分析する際のテーリングの発生を抑制することを何等保証するものではない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１２】
【特許文献１】特開平１１−５１９０４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
本発明は上記する問題に鑑みてなされたものであり、LA装置内においてアブレーションによって生成された試料エアロゾルの濃度を低くすることなく、しかも、２以上の成分元素をマッピング分析する際のテーリングの発生を抑制することのできるレーザーアブレーション質量分析装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
前記目的を達成すべく、本発明によるレーザーアブレーション質量分析装置は、レーザー発信器と固体試料が収容されるアブレーションチャンバーとからなるレーザーアブレーション装置（LA装置）と、このアブレーションチャンバーに流体連通し、気化された試料エアロゾルがキャリアガスとともに導入されて試料エアロゾルの質量分析がおこなわれる誘導結合プラズマ質量分析装置（ICP-MS装置）からなるレーザーアブレーション質量分析装置において、前記アブレーションチャンバーは、固体試料が収容される容器と、容器内に流体連通する管路と、第１の開閉弁を介して該容器に流体連通してキャリアガスを容器内に提供す流入路と、第２の開閉弁を介して容器とICP-MS装置の双方に流体連通して試料エアロゾルを容器からICP-MS装置に導入する導入路と、を備えており、レーザー発信器から発信されるレーザーを前記管路を介して固体試料に提供し、かつ、生成された試料エアロゾルを少なくともレーザー照射位置から拡散させるための拡散用ガスを前記管路を介して容器内に提供する第１の制御が実行されるようになっており、前記第１、第２の開閉弁が閉制御された状態で前記第１の制御が実行され、容器内の試料エアロゾルが所定の濃度となった段階で第１、第２の開閉弁を開制御し、流入路からキャリアガスを容器内に提供し、このキャリアガスで容器内の試料エアロゾルを導入路を介してICP-MS装置に導く第２の制御が実行されるようになっているものである。
【００１５】
本発明のレーザーアブレーション質量分析装置は、従来装置のようにキャリアガスを連続的に容器内に提供するといった制御を廃し、容器内で試料エアロゾルが所定の濃度となった段階でキャリアガスによって試料エアロゾルをICP-MS装置に払い出す制御をおこなうとともに、レーザー照射による試料エアロゾルの生成に際し、生成された試料エアロゾルをレーザー照射位置から拡散させて該試料エアロゾルがレーザー照射の妨げとなるのを防止するための拡散用ガスを容器内に提供する制御を合わせておこなうものである。
【００１６】
このように、絶えずキャリアガスを流し続ける制御を廃したことによって容器内で試料エアロゾルの濃度が低くなることを解消することができる。
【００１７】
アブレーションチャンバーを、固体試料が収容される容器と、容器にレーザーを照射するための管路と、第１の開閉弁を介して容器に流体連通してキャリアガスを容器内に提供する流入路と、第２の開閉弁を介して容器とICP-MS装置の双方に流体連通して試料エアロゾルを容器からICP-MS装置に導入する導入路から構成し、容器内で試料エアロゾルが所定の濃度となるまでは第１、第２の開閉弁を閉制御しておき、したがって、容器内へのキャリアガスの提供はおこなわれない。
【００１８】
容器内で生成される試料エアロゾルが所定の濃度となった段階で第１、第２の開閉弁が開制御され、容器内へキャリアガスが提供されるとともに、このキャリアガスによって容器内で溜まった試料エアロゾルは一気にICP-MS装置へ払い出されることになる（第２の制御）。
【００１９】
たとえば固体試料の所定エリアごとに上記する第２の制御が実行されることにより、固体試料の異なるエリアで異なる時間にアブレーションされて生成されたはずの試料エアロゾルのそれぞれがICP-MS装置へ到達するまでに拡散しながら混合されることが効果的に解消され、このことによってマッピング分析におけるテーリングの発生が効果的に解消されることになる。
【００２０】
ここで、容器内に試料エアロゾルを一定時間溜めおくことから、この試料エアロゾルがレーザー照射の妨げになる可能性が高くなる。そこで、本発明の装置では、生成された試料エアロゾルを少なくともレーザー照射位置から拡散させるための拡散用ガスが管路を介して容器内に提供されるようになっている（第１の制御）。
【００２１】
この拡散用ガスは、キャリアガスと同様に、ヘリウムやアルゴンなどの不活性ガスが適用される。
【００２２】
レーザーが照射される管路を介して拡散用ガスも容器内へ提供されることにより、容器内で生成された試料エアロゾルは拡散用ガスによって瞬時に容器の隅へ押しやられ、試料エアロゾルが以後のレーザー照射の妨げとなるのが解消される。
【００２３】
ここで、前記LA装置は制御部をさらに備えており、前記第２の制御では、容器内に装備された濃度センサによって試料エアロゾルの濃度が検知され、検知データが前記制御部に送信されるようになっており、前記制御部には、試料エアロゾルの濃度の閾値となる前記所定の濃度に関するデータが記憶されていて、濃度センサから送信される検知データが該閾値以上となった段階で閉じた状態の第１、第２の開閉弁に開制御信号を送信するようになっている実施の形態であってもよい。
【００２４】
試料エアロゾルを構成する元素ごとに、質量は勿論のこと、アブレーションのし易さや分析の際の最適な感度が相違しており、したがって、各元素の感度に応じた濃度は予め特定されているのが望ましい。
【００２５】
そこで、元素ごとに好ましい濃度を予め特定しておき、これを第１、第２の開閉弁に開制御信号を送信する際の閾値としてLA装置を構成する制御部内に記憶させておく。
【００２６】
一方、容器内には濃度センサを装備しておき、容器内の試料エアロゾルの濃度を絶えず検知するとともに検知データを制御部に送信するようにしておく。
【００２７】
濃度センサから送信される検知データが閾値以上となった段階で閉じた状態の第１、第２の開閉弁に開制御信号を送信することにより、試料エアロゾルの濃度に応じた弁の開閉制御を自動制御することが可能となる。
【００２８】
なお、この制御部においては、その他の制御、たとえば容器内で固体試料を載置するテーブルを移動させてレーザー照射位置を変更したり、キャリアガスの流量や流速を調整する等の制御が実行されるようになっていてもよい。
【００２９】
ここで、アブレーションチャンバーを構成して固体試料が収容される容器と連通する管路の実施の形態として、以下２つの実施の形態を挙げることができる。
【００３０】
その一つは、管路が一重管であり、レーザーと拡散用ガスは共通の該管路を介して同軸状で容器内に提供されるようになっている形態である。
【００３１】
また、他の一つは、管路が内管と外管からなる二重管であり、レーザーが内管を介し、拡散用ガスが内管と外管の間の空間を介してそれぞれ容器内に提供されるようになっている形態である。この形態の管路においては、たとえば内管の断面を容器側に向かって縮径するように構成しておくことで、内管の外側の空間を流れる拡散用ガスも内管の表面に沿って流れ、固体試料におけるレーザー照射位置の周囲に拡散用ガスを案内することができる。
【００３２】
上記いずれの形態の管路であっても、拡散用ガスによって固体試料の少なくともレーザー照射位置から試料エアロゾルを効果的に拡散させることができ、容器内で溜め置かれる試料エアロゾルがレーザー照射の妨げとなることを抑止することができる。
【発明の効果】
【００３３】
以上の説明から理解できるように、本発明のレーザーアブレーション質量分析装置によれば、容器内で試料エアロゾルが所定の濃度になった段階で該容器内にキャリアガスを提供し、このキャリアガスによって所定濃度の試料エアロゾルをICP-MS装置へ一気に払い出すことにより、容器内で試料エアロゾルの濃度が低くなることを解消することができ、固体試料の異なるエリアで異なる時間にアブレーションされて生成されたはずの試料エアロゾルのそれぞれがICP-MS装置へ到達するまでに拡散しながら混合されることが効果的に解消され、もってマッピング分析におけるテーリングの発生を効果的に解消することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】本発明のレーザーアブレーション質量分析装置の一実施の形態を示す模式図であって、装置の第１の制御を説明する図である。
【図２】図１とともに、第１の制御を説明する図である。
【図３】第２の制御を説明する図である。
【図４】図８ｂに対応する図であって、図１で示すレーザーアブレーション質量分析装置によって得られると考えられる、貴金属２層コーティング排ガス触媒マッピング分析結果を示す模式図である。
【図５】本発明のレーザーアブレーション質量分析装置の他の実施の形態を示す模式図であって、装置の第１の制御を説明する図である。
【図６】図５とともに、第１の制御を説明する図である。
【図７】第２の制御を説明する図である。
【図８】（ａ）は従来のレーザーアブレーション質量分析装置を使用した際に得られる、貴金属２層コーティング排ガス触媒のライン分析結果の一例を示す図であり、（ｂ）は図８ａを模擬したマッピング分析図である。
【発明を実施するための形態】
【００３５】
以下、図面を参照して本発明のレーザーアブレーション質量分析装置の実施の形態を説明する。
（レーザーアブレーション質量分析装置の実施の形態１）
図１は本発明のレーザーアブレーション質量分析装置の一実施の形態を示す模式図であってその第１の制御を説明する図であり、図２は図１とともに第１の制御を説明する図であり、図３は第２の制御を説明する図である。
【００３６】
図示するレーザーアブレーション質量分析装置１００（以下、LA-ICP-MS装置１００）は、レーザーアブレーション装置１０（以下、LA装置１０）と、誘導結合プラズマ質量分析装置２０（以下、ICP-MS装置２０）から大略構成されており、LA装置１０を構成するアブレーションチャンバー２とICP-MS装置２０を構成する質量分析チャンバーがアブレーションチャンバー２を構成する導入路３ｂを介して接続されている。
【００３７】
LA装置１０は、Nd-YAGレーザー等の高強度のレーザーを照射するレーザー発信器１と、レーザーを屈折させる屈折レンズ１１と屈折後のレーザーを集光する集光レンズ１２とからなる光学系と、アブレーションチャンバー２と、から大略構成されている。なお、図示例では、屈折レンズ１１の上方にＣＣＤカメラ１３が搭載され、ここでの撮像データが不図示のＴＶモニターに送信されるようになっており、アブレーションポイントにおけるレーザー合焦等の確認をＴＶモニターにておこなうことができるようになっている。
【００３８】
アブレーションチャンバー２は、固体試料Ｓが収容される容器３と、容器３内に流体連通する管路４と、第１の開閉弁７ａを介して容器３に流体連通してキャリアガスを容器３内に提供する流入路３ａと、第２の開閉弁７ｂを介して容器３とICP-MS装置２０の双方に流体連通して試料エアロゾルＡＥを容器３からICP-MS装置２０に導入する導入路３ｂと、制御部６と、から構成されている。そして、アルゴンやヘリウムといった不活性ガスからなるキャリアガスを収容するガスタンクとこれを提供するポンプから構成された不図示のキャリアガス供給系が流入路３ａに流体連通している。また、キャリアガスと同様にアルゴンやヘリウムといった不活性ガスからなる拡散用ガスを収容するガスタンクとこれを提供するポンプから構成された拡散用ガス供給系４ａが、管路４の途中位置で該管路４と流体連通している。
【００３９】
容器３の内部には平面（Ｘ軸およびＹ軸）を移動自在なＸ−ＹテーブルからなるステージＳＴが設けてあり、この上に分析対象の固体試料Ｓが載置される。固体試料の任意ポイントもしくは任意エリアのアブレーションと質量分析が実行されたら、ステージＳＴが可動し（図示例ではＸ方向）、別途ポイントもしくは別途エリアのアブレーションと質量分析が実行される。なお、このステージＳＴは、平面（Ｘ軸およびＹ軸）を移動自在なＸ−Ｙテーブルであり、面的に広がる固体試料表面の各ポイントもしくは各エリアを所望順序でレーザーアブレーションするように移動制御される。
【００４０】
なお、LA-ICP-MS装置１００の特徴構成がLA装置１０にあることから、ICP-MS装置２０は従来公知のものを適用することができ、その具体的な内部構成の図示は省略する。たとえば、導入路３ｂと連通する質量分析チャンバー内に固体試料に由来する試料エアロゾルがキャリアガスによって運ばれて導入されると、プラズマトーチに巻装されたコイルに高周波電力が供給され、これによってプラズマトーチ内に誘導結合型のプラズマを発生させ、このプラズマによって試料エアロゾルがイオン化された後に質量分析計にて質量分析が実行されるようになっている。なお、固体試料表面のエリアごとに質量分析が実行され、これをマッピング分析することによって固体試料表面の質量分析マップが作成される。
【００４１】
容器３の内部には濃度センサ５が装備されており、この濃度センサ５、第１の開閉弁７ａ、第２の開閉弁７ｂはそれぞれ、制御部６にデータ送受信自在に接続されている。
【００４２】
制御部６はコンピュータ内部に内蔵されており、制御部６には、容器３内に溜められた試料エアロゾルＡＥの濃度の閾値データがその記憶手段にデータ入力されており、濃度センサ５から随時送信されてくる濃度の検知データを受信し、その比較演算部で濃度の検知データと閾値データの大小比較演算が随時おこなわれる。
【００４３】
そして、濃度センサ５から送信される検知データが閾値データ以上となった段階で図１で示す閉じた状態の第１、第２の開閉弁７ａ，７ｂに開制御信号を送信するようになっている。
【００４４】
また、制御部６では、上記するステージＳＴの移動制御やレーザー発信器１の作動ＯＮ−ＯＦＦ制御、レーザー強度の調整やキャリアガスの流量（もしくは流速）の調整、不図示のキャリアガス供給機のキャリアガス導入ＯＮ−ＯＦＦ制御やそれらの相対的な制御タイミングのほか、高周波電力の供給制御、質量分析計の実行制御なども実行されるようになっている。
【００４５】
ここで、図１で示すLA-ICP-MS装置１００を使用したレーザーアブレーション質量分析の概要を説明する。
【００４６】
まず、図１で示すように、第１、第２の開閉弁７ａ，７ｂを閉制御し、容器３内へのキャリアガスの提供が停止された状態とする。
【００４７】
この状態でレーザー発信器１を稼動させると、照射されたレーザーＬは、屈折レンズ１１と集光レンズ１２を介し、管路４を通って容器３内に入射し、ステージＳＴ上に載置された固体試料Ｓの所定エリアに照射されてレーザーアブレーションをおこない、試料エアロゾルＡＥが生成される。
【００４８】
このレーザーアブレーションと同時に、図２で示すように、拡散用ガス供給系４ａから拡散用ガスＤＧが管路４内に提供され、この拡散用ガスＤＧは、管路４を介してレーザーＬと同軸状で容器３内に進入し、固体試料Ｓのアブレーションスポットの周囲に提供されることで、アブレーションスポットやその近傍から試料エアロゾルＡＥを容器３の隅側へ押しやって拡散させる（第１の制御）。
【００４９】
この第１の制御が実行されながら容器３内が所定濃度の試料エアロゾルＡＥで充満するまで試料エアロゾルＡＥの生成が継続される。なお、この継続時間は、分析対象の元素の質量やアブレーションのし易さ、分析の際の最適な感度に基づく濃度となるまでの時間であり、元素ごとに予め設定されている。
【００５０】
容器３内の試料エアロゾルＡＥが所定の濃度に達した段階で、制御部６から第１、第２の開閉弁７ａ，７ｂに開制御信号が送信され、図３で示すように双方の開閉弁７ａ，７ｂが開制御される（Ｙ方向）。
【００５１】
第１の開閉弁７ａが開くことにより、流入路３ａに流体連通しているキャリアガス供給系からキャリアガスＣＧが容器３内に提供され、容器３内で溜め置かれた試料エアロゾルＡＥが第２の開閉弁７ｂを介し、導入路３ｂを通ってICP-MS装置２０へ払い出される。
【００５２】
ICP-MS装置２０に提供された試料エアロゾルＡＥは、質量分析チャンバー内に運ばれ、発生されたプラズマによってイオン化された後に質量分析計にて質量分析が実行される。なお、この質量分析（マッピング分析）の際には、検出器にICP-TOF-MSを使用して短時間検出をおこなうのが望ましい。
【００５３】
上記する一連の分析フローが実行されたら、ステージＳＴを所望に移動させ、固体試料Ｓの別途エリアにおけるレーザーアブレーションと質量分析が同様のフローで実行される。
【００５４】
図４は、LA-ICP-MS装置１００によって得られると考えられる、貴金属２層コーティング排ガス触媒マッピング分析結果を示す模式図である。同図においては、２つの成分Ａ，Ｂが明確に分離された状態でマッピングされており、図８ｂで示すようなテーリングも生じない。
【００５５】
図示するLA-ICP-MS装置１００によれば、容器３内で試料エアロゾルＡＥが所定の濃度になった段階で容器３内にキャリアガスＣＧが提供されることから、絶えずキャリアガスＣＧが容器内に提供される従来装置のように容器３内で試料エアロゾルＡＥの濃度が低くなるといった問題は生じ得ない。
【００５６】
また、固体試料Ｓの異なるエリアで異なる時間にアブレーションされて生成されたはずの試料エアロゾルのそれぞれがICP-MS装置２０へ到達するまでに拡散しながら混合されることが効果的に解消され、もってマッピング分析におけるテーリングの発生を効果的に解消することができる。
【００５７】
（レーザーアブレーション質量分析装置の実施の形態２）
図５は本発明のレーザーアブレーション質量分析装置の他の実施の形態を示す模式図であってその第１の制御を説明する図であり、図６は図５とともに第１の制御を説明する図であり、図７は第２の制御を説明する図である。
【００５８】
図示するLA-ICP-MS装置１００Ａと既述するLA-ICP-MS装置１００の相違は、LA-ICP-MS装置１００を構成する管路４が一重管であるのに対して、LA-ICP-MS装置１００Ａを構成する管路４Ａが内管４’と外管４”からなる二重管である点であり、この管路４Ａと容器３からアブレーションチャンバー２Ａが構成され、このアブレーションチャンバー２Ａとレーザー発信器１等からLA装置１０Ａが構成される。
【００５９】
レーザーＬは内管４’を介し、拡散用ガスＤＧは内管４’と外管４”の間の空間を介してそれぞれ容器３内に提供されるようになっている。
【００６０】
図示する内管４’は、その断面が容器３側に向かって縮径するように構成されており、このような構成の内管４'を適用することで、その外側の空間を流れる拡散用ガスＤＧも内管４’の表面に沿って流れ、固体試料Ｓにおけるレーザー照射位置の周囲に拡散用ガスＤＧを案内することができる。
【００６１】
図示するLA-ICP-MS装置１００Ａによっても、容器３内で試料エアロゾルＡＥが所定の濃度になった段階で容器３内にキャリアガスＣＧが提供されることから、絶えずキャリアガスＣＧが容器内に提供される従来装置のように容器３内で試料エアロゾルＡＥの濃度が低くなるといった問題は生じ得ない。また、固体試料Ｓの異なるエリアで異なる時間にアブレーションされて生成されたはずの試料エアロゾルのそれぞれがICP-MS装置２０へ到達するまでに拡散しながら混合されることが効果的に解消され、もってマッピング分析におけるテーリングの発生を効果的に解消することができる。
【００６２】
以上、本発明の実施の形態を図面を用いて詳述してきたが、具体的な構成はこの実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲における設計変更等があっても、それらは本発明に含まれるものである。
【符号の説明】
【００６３】
１…レーザー発信器、２，２Ａ…アブレーションチャンバー、３…容器、３ａ…流入路、３ｂ…導入路、３ｃ…ステージ、４，４Ａ…管路、５…濃度センサ、６…制御部、７ａ…第１の開閉弁、７ｂ…第２の開閉弁、１０，１０Ａ…レーザーアブレーション装置（LA装置）、２０…誘導結合プラズマ質量分析装置（ICP-MS装置）、１００，１００Ａ…レーザーアブレーション質量分析装置（LA-ICP-MS装置）、Ｌ…レーザー、ＤＧ…拡散用ガス、ＣＧ…キャリアガス、Ｓ…固体試料、ＡＥ…試料エアロゾル
【図１】
2013024806.tif 000003
【図２】
2013024806.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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