(57)【要約】【課題】本発明は、吐出法を用いて発光領域内に均一な膜厚を有する有機層を形成することができる有機ＥＬ素子の製造方法を提供することを主目的とする。【解決手段】基材および上記基材上に形成された第１電極層を有する有機ＥＬ基材を準備し、上記有機ＥＬ基材の発光領域を画定する画定工程と、上記発光領域内に発光層を含む有機ＥＬ層を構成する有機層のうち、少なくとも１層の有機層を吐出法により形成する有機層形成工程とを有し、上記有機層形成工程が、上記発光領域内に高沸点溶媒を塗布してプールを形成する高沸点溶媒塗布工程と、有機層材料および溶媒を含有する有機層用塗工液を上記プールが形成された上記発光領域内に吐出法により塗布し、上記プール中に上記有機層材料を拡散させて有機層形成用層を形成する有機層用塗工液塗布工程と、上記有機層形成用層を乾燥させて上記有機層を形成する乾燥工程と、を有する工程であることを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法を提供することにより上記課題を解決する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材および前記基材上に形成された第１電極層を有する有機エレクトロルミネッセンス基材を準備し、前記有機エレクトロルミネッセンス基材の発光領域を画定する画定工程と、
前記発光領域内に発光層を含む有機エレクトロルミネッセンス層を構成する有機層のうち、少なくとも１層の有機層を吐出法により形成する有機層形成工程とを有し、
前記有機層形成工程が、
前記発光領域内に高沸点溶媒を塗布してプールを形成する高沸点溶媒塗布工程と、
有機層材料および溶媒を含有する有機層用塗工液を前記プールが形成された前記発光領域内に吐出法により塗布し、前記プール中に前記有機層材料を拡散させて有機層形成用層を形成する有機層用塗工液塗布工程と、
前記有機層形成用層を乾燥させて前記有機層を形成する乾燥工程と、
を有する工程であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項２】
前記画定工程が、前記有機エレクトロルミネッセンス基材上に前記発光領域を画定する隔壁を形成する工程であることを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス層を構成する有機層を発光領域内に均一な膜厚で形成することができる有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
有機層を一対の電極の間に挟み、両電極間に電圧をかけて発光させる有機エレクトロルミネッセンス（以下、エレクトロルミネッセンスをＥＬと略す場合がある。）素子は、自己発色により視認性が高いこと、液晶素子と異なり全固体素子であるため耐衝撃性に優れていること、応答速度が速いこと、温度変化による影響が少ないこと、および、視野角が大きいことなどの利点を有しており、表示装置や照明装置における発光素子としての利用が注目されている。
【０００３】
有機ＥＬ素子としては、陽極および陰極の間に、正孔注入輸送層、発光層、電子注入輸送層等の複数層の有機層が積層されたものが知られている。
このような有機層の成膜方法としては、蒸着法および塗布法が一般的に広く採用されており、このうち塗布法はコスト面で上記蒸着法よりも有利であり、大面積化が容易であるといった利点を有する。また、種々の塗布法のなかでも、インクジェット法等の吐出法を用いた有機層の形成方法は、有機層材料の使用量を少なくすることができる、印刷版を用いた場合に比べて下層へのダメージを小さくすることができる等の利点を有することから着目されている（例えば、特許文献１〜７参照）。
【０００４】
しかしながら、吐出法を用いた有機層の形成方法においては、以下の問題が生じるおそれがある。
すなわち、吐出法はドット状に有機層用塗工液を吐出するものであることから、形成される有機層はドットの集合により構成されるものとなる。そのため、有機層の膜厚を均一に形成することが難しく、膜厚ムラを生じてしまうという問題がある。なお、上記膜厚ムラは有機ＥＬ素子の発光ムラの要因となる。
また、上述した膜厚ムラを抑制するために、有機層用塗工液のドット同士のつながりを良くするため、レベリング時間を長くした場合またはインキ粘度を下げた場合は、所望の発光領域よりも広い領域にまで、有機層用塗工液が濡れ広がって有機層が形成されてしまうという問題がある。
また、上記吐出法においては、経時的に有機層用塗工液の塗布位置を変化させて塗布が行われることから、時間経過とともに先に有機層用塗工液を塗工した領域での溶媒の乾燥に伴って、有機層形成用層中の溶媒量が変化してしまい、その結果、均一な膜厚を有する有機層を得ることができないという問題がある。
これらの問題は特に、有機ＥＬ素子の発光領域が大きくなるほど生じやすい問題である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−３１１１９６号公報
【特許文献２】特開２００３−３１８５１６号公報
【特許文献３】特開２００４−２９８８４４号公報
【特許文献４】特開２００５−２８５６１６号公報
【特許文献５】特開２００６−２６０７７９号公報
【特許文献６】特開２００７−０７５７１９号公報
【特許文献７】特開２００７−０８７６１９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は上記実情に鑑みてなされたものであり、吐出法を用いて発光領域内に均一な膜厚を有する有機層を形成することができる有機ＥＬ素子の製造方法を提供することを主目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、上記課題を解決するために、基材および上記基材上に形成された第１電極層を有する有機ＥＬ基材を準備し、上記有機ＥＬ基材の発光領域を画定する画定工程と、上記発光領域内に発光層を含む有機ＥＬ層を構成する有機層のうち、少なくとも１層の有機層を吐出法により形成する有機層形成工程とを有し、上記有機層形成工程が、上記発光領域内に高沸点溶媒を塗布してプールを形成する高沸点溶媒塗布工程と、有機層材料および溶媒を含有する有機層用塗工液を上記プールが形成された上記発光領域内に吐出法により塗布し、上記プール中に上記有機層材料を拡散させて有機層形成用層を形成する有機層用塗工液塗布工程と、上記有機層形成用層を乾燥させて上記有機層を形成する乾燥工程と、を有する工程であることを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。
【０００８】
本発明によれば、上記有機層形成工程が高沸点溶媒塗布工程および有機層用塗工液塗布工程を有することにより、有機層材料をプール中で十分に拡散させることが可能となることから、吐出法を用いてドット状に有機層用塗工液を塗布した場合であっても、発光領域内に均一な膜厚を有する有機層を形成することが可能となる。したがって、膜厚ムラに起因する発光ムラが生じにくい有機ＥＬ素子を製造することが可能となる。
【０００９】
本発明においては、上記画定工程が、上記有機ＥＬ基材上に上記発光領域を画定する隔壁を形成する工程であることが好ましい。高沸点溶媒塗布工程および有機層用塗工液塗布工程において、高沸点溶媒および有機層用塗工液が発光領域の外側へ漏れることを好適に防止することができるからである。また、有機層形成工程を繰り返し行うことで複数の有機層を積層させて形成する場合に、同一の隔壁を繰り返して用いることが可能となるからである。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、吐出法を用いて発光領域内に均一な膜厚を有する有機層を形成することができる有機ＥＬ素子の製造方法を提供することができるといった作用効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の有機ＥＬ素子の製造方法の一例を示す工程図である。
【図２】本発明の製造方法により製造される有機ＥＬ素子の一例を示す概略断面図である。
【図３】本発明の有機ＥＬ素子の製造方法において形成されるプールを有する有機ＥＬ基材の概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明の有機ＥＬ素子の製造方法について説明する。
本発明の有機ＥＬ素子の製造方法は、基材および上記基材上に形成された第１電極層を有する有機ＥＬ基材を準備し、上記有機ＥＬ基材の発光領域を画定する画定工程と、上記発光領域内に発光層を含む有機ＥＬ層を構成する有機層のうち、少なくとも１層の有機層を吐出法により形成する有機層形成工程とを有し、上記有機層形成工程が、上記発光領域内に高沸点溶媒を塗布してプールを形成する高沸点溶媒塗布工程と、有機層材料および溶媒を含有する有機層用塗工液を上記プールが形成された上記発光領域内に吐出法により塗布し、上記プール中に上記有機層材料を拡散させて有機層形成用層を形成する有機層用塗工液塗布工程と、上記有機層形成用層を乾燥させて上記有機層を形成する乾燥工程と、を有する工程であることを特徴とする製造方法である。
【００１３】
ここで、本発明の有機ＥＬ素子の製造方法について図を用いて説明する。図１は本発明の有機ＥＬ素子の製造方法の一例を示す工程図である。本発明の有機ＥＬ素子の製造方法は、まず図１（ａ）に例示するように、基材１および基材１上に形成された第１電極層２を有する有機ＥＬ基材３を準備し、有機ＥＬ基材３上に発光領域を画定する隔壁４を形成する（画定工程）。
次に、上記発光領域内に発光層を含む有機ＥＬ層を構成する有機層のうち、少なくとも１層の有機層を吐出法により形成する（有機層形成工程）。具体的には、図１（ｂ）に例示するように、発光領域内に高沸点溶媒を塗布してプール５を形成する（高沸点溶媒塗布工程）。次に、図１（ｃ）、（ｄ）に例示するように、有機材料および溶媒を含有する有機層用塗工液６”をプール５が形成された発光領域内にインクジェットノズル２０により塗布し、プール５中に有機層材料を拡散させて有機層形成用層６’を形成する（有機層用塗工液塗布工程）。次に、図１（ｅ）に示すように、有機層形成用層６’を乾燥させて有機層６を形成する（乾燥工程）。なお、図１においては、有機層６として発光層６１を形成する例について示している。
また、図示はしないが、有機ＥＬ素子は有機ＥＬ層上に第２電極層を有することから、本発明においては、通常、有機ＥＬ層上に第２電極層を形成する第２電極層形成工程を有する。
【００１４】
次に、本発明の製造方法により製造される有機ＥＬ素子について説明する。図２は、本発明により製造される有機ＥＬ素子の一例を示す概略断面図である。図２に例示するように、有機ＥＬ素子１０は、基材１および基材１上に形成された第１電極層２を有する有機ＥＬ基材３と、有機ＥＬ基材３上に形成され、少なくとも発光層６１を有する有機ＥＬ層と、有機ＥＬ層（発光層６１）上に形成された第２電極層７とを有するものである。
【００１５】
本発明によれば、上記有機層形成工程が高沸点溶媒塗布工程および有機層用塗工液塗布工程を有することにより、有機層材料をプール中で十分に拡散させることが可能となることから、吐出法を用いてドット状に有機層用塗工液を塗布した場合であっても、発光領域内に均一な膜厚を有する有機層を形成することが可能となる。したがって、膜厚ムラに起因する発光ムラが生じにくい有機ＥＬ素子を製造することが可能となる。
【００１６】
以下、本発明の有機ＥＬ素子の製造方法における各工程について説明する。
【００１７】
Ｉ．画定工程
本発明における画定工程は、基材および上記基材上に形成された第１電極層を有する有機ＥＬ基材を準備し、上記有機ＥＬ基材の発光領域を画定する工程である。
【００１８】
１．発光領域
本発明における発光領域は、有機ＥＬ層が形成される領域である。なお、上記発光領域は、本発明により製造される有機ＥＬ素子が表示装置に用いられる場合においては、個々の画素を構成する発光領域だけでなく、複数の画素における発光領域が設けられる領域を含む概念である。
【００１９】
本発明における発光領域の大きさとしては、吐出法により有機層を形成することが可能な程度の大きさであれば特に限定されず、有機ＥＬ素子の種類に応じて適宜選択することができる。上記発光領域の大きさとしては、１ｍｍ×１ｍｍ以上、なかでも１０ｍｍ×１０ｍｍ〜１００ｍｍ×１００ｍｍの範囲内、特に３０ｍｍ×３０ｍｍ〜６０ｍｍ×６０ｍｍの範囲内であることが好ましい。上記範囲に満たない場合は、吐出法を用いて有機層自体を形成することが困難となるからである。また、発光領域の大きさの上限としては、特に限定されないが、例えば、１５０ｍｍ×１５０ｍｍ程度である。
本発明の有機ＥＬ素子の製造方法においては、上記発光領域はより大面積であることが好ましい。発光領域が大面積である程、吐出法を用いて有機層用塗工液をより多くのドット状で塗布する必要があることから、膜厚ムラが生じやすくなるため、本発明の有機ＥＬ素子の製造方法の作用効果を大きく発揮することが可能となるからである。
【００２０】
２．画定工程
上記画定工程としては、所望の発光領域に有機層を形成することが可能となるように有機ＥＬ基材を画定することが可能であれば特に限定されない。具体的には、有機ＥＬ基材上に発光領域を画定する隔壁を形成する態様（第１態様）と、有機ＥＬ基材上に後述する高沸点溶媒および有機層用塗工液との接触角が小さい濡れ性を呈する親液性領域ならびに上記高沸点溶媒等との接触角が上記親液性領域よりも大きい濡れ性を呈する撥液性領域を有するパターン形成層を形成する態様（第２態様）とを挙げることができる。本発明においては、なかでも第１態様であることが好ましい。後述する高沸点溶媒塗布工程や有機層用塗工液塗布工程において、高沸点溶媒や有機層用塗工液が発光領域の外側へ漏れることを好適に防止することができるからである。また、本発明における有機層形成工程を複数回行って、複数の有機層を積層させて形成する場合に、隔壁を繰り返して使用することが可能となるからである。
以下、各態様について説明する。
【００２１】
（１）第１態様
上記画定工程の第１態様は、有機ＥＬ基材上に発光領域を画定する隔壁を形成する工程である。
【００２２】
本態様に用いられる隔壁としては、所望の大きさを有する発光領域を画定することができれば特に限定されず、有機ＥＬ基材から剥離不可能なものであってもよく、剥離可能なものであってもよい。
【００２３】
上記隔壁が剥離不可能なものである場合、隔壁の形成材料としては、例えば、感光性ポリイミド樹脂、アクリル系樹脂、ノボラック系樹脂、スチレン系樹脂、フェノール系樹脂、メラミン系樹脂等の光硬化型樹脂、または熱硬化型樹脂、および無機材料等を挙げることができる。
この場合、隔壁の形成方法としては、フォトリソグラフィー法、印刷法等の一般的な方法を用いることができる。
【００２４】
一方、上記隔壁が剥離可能なものである場合、隔壁の形成材料としては、例えば、テフロン（登録商標）、シリコンゴム、ポリイミドワニス、ドライフィルムなどを挙げることができる。
この場合の隔壁の形成方法としては、ラミネーション法、フォトリソグラフィー法、印刷法等の一般的な方法を用いることができる。また、鋳型等を用いて隔壁を別途形成し、有機ＥＬ基材上に剥離可能な接着剤等を用いて貼り合わせる方法を挙げることができる。
【００２５】
上記隔壁の高さとしては、後述する高沸点溶媒塗布工程および有機層用塗工液塗布工程において塗布される高沸点溶媒および有機層用塗工液を発光領域内に保持することが可能な程度の高さであれば特に限定されない。上記隔壁の高さとしては、具体的に、０．５μｍ〜１００μｍの範囲内、なかでも０．５μｍ〜３０μｍの範囲内、特に、０．５μｍ〜１０μｍの範囲内であることが好ましい。上記隔壁の高さが上記範囲に満たない場合は、高沸点溶媒および有機層用塗工液を発光領域内に保持することが困難となる可能性があるからである。一方、上記隔壁の高さが上記範囲を超える場合は、後述する高沸点溶媒塗布工程および有機層用塗工液塗布工程において、高沸点溶媒および有機層用塗工液を塗布しにくくなる可能性や、画定工程において隔壁が安定に形成されない可能性があるからである。また、隔壁が剥離不可能なものである場合は、有機ＥＬ素子を薄膜に形成することが困難となる場合や、有機ＥＬ層を構成する層や有機ＥＬ層上に形成される第２電極層の形成の妨げになる可能性があるからである。
【００２６】
上記隔壁の幅については、後述する高沸点溶媒塗布工程および有機層用塗工液塗布工程において塗布される高沸点溶媒および有機層用塗工液を発光領域内に保持することが可能な程度の幅であれば特に限定されない。
【００２７】
また上記隔壁は、その表面が後述する高沸点溶媒、および有機層用塗工液に対して撥液性を有していてもよい。上記撥液性は、例えば上記隔壁に表面エネルギー（濡れ性）を変化させる表面処理を行うことにより付与することができる。その他、あらかじめ隔壁材料にフッ素化合物等の撥液材料を添加して、撥液性を付与してもよい。
【００２８】
（２）第２態様
上記画定工程の第２態様は、有機ＥＬ基材上に後述する高沸点溶媒および有機層用塗工液との接触角が小さい濡れ性を呈する親液性領域ならびに上記高沸点溶媒等との接触角が上記親液性領域よりも大きい濡れ性を呈する撥液性領域を有するパターン形成層を形成する工程である。本態様において形成されるパターン形成層としては、濡れ性の差によるパターンが形成されているものであれば特に限定されないが、光触媒の作用からエネルギー照射により濡れ性が変化する性質を有する濡れ性変化層を用いて形成されたものであることが好ましい。また、このような濡れ性変化層としては、パターン形成体層として使用可能な光触媒を含有しない濡れ性変化層であってもよく、光触媒を含有する光触媒含有層であってもよい。上記濡れ性変化層および光触媒含有層について、詳しくは特開２００７−０００８６７号公報に記載されたものと同様とすることができる。
【００２９】
３．有機ＥＬ基材
本工程に用いられる有機ＥＬ基材は、基材と、第１電極層とを有するものである。
【００３０】
（１）第１電極層
本発明に用いられる第１電極層は、陽極であっても陰極であってもよいが、通常は陽極として形成される。
【００３１】
第１電極層は、透明性を有していても有していなくてもよい。第１電極層の透明性は、光の取り出し面等によって適宜選択される。例えば、第１電極層側から光を取り出す場合は、第１電極層は透明または半透明である必要がある。
【００３２】
第１電極層（陽極）としては、正孔が注入し易いように仕事関数の大きい導電性材料を用いることが好ましく、具体的には、ＩＴＯ、酸化インジウム、金のような仕事関数の大きい金属、ポリアニリン、ポリアセチレン、ポリアルキルチオフェン誘導体、ポリシラン誘導体のような導電性高分子等を挙げることができる。
【００３３】
第１電極層は抵抗が小さいことが好ましく、一般には金属材料が用いられるが、有機化合物または無機化合物を用いてもよい。
【００３４】
第１電極層は、基板上にパターン状に形成されていてもよく、取り出し電極等が形成されている領域を除いて基板上にほぼ全面に形成されていてもよい。第１電極層が、取り出し電極等が形成されている領域を除いて基板上にほぼ全面に形成されている場合には、隔壁によって発光領域を所望のパターンに区画することができる。
【００３５】
第１電極層の成膜方法としては、一般的な電極の成膜方法を用いることができ、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のＰＶＤ法や、ＣＶＤ法等を挙げることができる。また、第１電極層のパターニング方法としては、所望のパターンに精度よく形成することができる方法であれば、特に限定されるものではなく、具体的にはフォトリソグラフィー法等を挙げることができる。
【００３６】
（２）基材
本発明に用いられる基材は、上述の隔壁、第１電極層などを支持するものであり、所定の強度を有するものであれば、特に限定されない。本発明においては、第１電極層が所定の強度を有する場合には、第１電極層が基材を兼ねるものであってもよいが、通常は、所定の強度を有する基材上に第１電極層が形成される。
【００３７】
基材としては、上記の隔壁や第１電極層等が形成可能であれば、特に限定されるものではないが、例えば、光の取り出し面により光透過性が必要か否かで適宜決定される。一般的には、基材側を光の取り出し面とすることが好ましいことから、基材は透明な材料で形成されることが好ましい。
【００３８】
このような基材の形成材料としては、例えば、ソーダ石灰ガラス、アルカリガラス、鉛アルカリガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミノケイ酸ガラス、シリカガラス等のガラス板、またはフィルム状に成形が可能な樹脂基材等を用いることができる。この樹脂基材に用いる樹脂としては、耐溶媒性および耐熱性の比較的高い高分子材料であることが好ましい。具体的には、フッ素系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリフッ化ビニル、ポリスチレン、ＡＢＳ樹脂、ポリアミド、ポリアセタール、ポリエステル、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル、ポリスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリエーテルサルフォン、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリフェニレンスルフィド、液晶性ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリミクロイキシレンジメチレンテレフタレート、ポリオキシメチレン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアクリレート、アクリロニトリル−スチレン樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、シリコーン樹脂、非晶質ポリオレフィン等が挙げられる。また、上記の他にも所定の条件を満たす高分子材料であれば、使用可能であり、２種類以上の共重合体を用いることもできる。さらに、必要に応じて水分、酸素等のガスを遮断するガスバリア性を有する基材を用いてもよい。
【００３９】
（３）その他の構成
本発明における有機ＥＬ基材は、上述した基材と、第１電極層とを有していれば特に限定されない。
【００４０】
例えば、本発明により製造される有機ＥＬ素子が表示装置に用いられるものである場合は、以下の構成を形成することができる。
【００４１】
例えば、基材上に第１電極層がパターン状に形成されている場合には、第１電極層のパターンの端部を覆うように絶縁層が形成されていてもよい。また、絶縁層は画素を画定するように形成されていてもよい。絶縁層としては、有機ＥＬ素子における一般的なものを用いることができる。
【００４２】
また、例えば基材上にＴＦＴ素子が形成されていてもよい。ＴＦＴ素子としては、有機ＥＬ素子における一般的なものを用いることができる。
【００４３】
また、上記有機ＥＬ素子がフルカラーまたはマルチカラーの表示装置に用いられる場合には、基材上に画素用隔壁が形成されていてもよい。画素用隔壁が形成されている場合には、メタルマスク等を用いなくとも陰極をパターン状に形成することが可能となる。
画素用隔壁の材料としては、上述した隔壁の材料と同様とすることができる。
発光層をパターン状に形成するに際して、画素用隔壁には表面エネルギー（濡れ性）を変化させる表面処理を予め行ってもよい。
【００４４】
上述した絶縁層、ＴＦＴ素子、および画素用隔壁は、上記発光領域内に複数形成されていてもよい。
【００４５】
ＩＩ．有機層形成工程
本発明における有機層形成工程は、上記発光領域内に発光層を含む有機ＥＬ層を構成する有機層のうち、少なくとも１層の有機層を吐出法により形成する工程である。また、上記有機層形成工程は高沸点溶媒塗布工程と、有機層用塗工液塗布工程と、乾燥工程とを有する工程である。以下、本工程により形成される有機層と、各工程とに分けて説明する。
【００４６】
１．有機層
本工程において形成される有機層は、少なくとも発光層を有する有機ＥＬ層を構成するものである。ここで本発明における、有機ＥＬ層とは、少なくとも発光層を含む層であり、その層構成が有機層１層以上の層をいう。
このような有機層としては具体的には、発光層、正孔注入層、電子注入層、正孔輸送層、電子輸送層等を挙げることができる。正孔輸送層は、正孔注入層に正孔輸送の機能を付与することにより、正孔注入層と一体化される場合がある。また、電子輸送層は、電子注入層に電子輸送の機能を付与することにより、電子注入層と一体化される場合がある。さらに、有機ＥＬ層を構成する有機層としては、キャリアブロック層のような正孔もしくは電子の突き抜けを防止し、再結合効率を高めるための層等を挙げることができる。
以下、各層についてそれぞれ説明する。
【００４７】
（１）発光層
本発明における発光層に用いられる材料としては、例えば、色素系材料、金属錯体系材料、高分子系材料等の発光材料を挙げることができる。
【００４８】
色素系材料としては、シクロペンタジエン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、シロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、トリフマニルアミン誘導体、オキサジアゾールダイマー、ピラゾリンダイマー等を挙げることができる。
【００４９】
また、金属錯体系材料としては、アルミキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾール亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、ユーロビウム錯体等、中心金属にＡｌ、Ｚｎ、Ｂｅ等、または、Ｔｂ、Ｅｕ、Ｄｙ等の希土類金属を有し、配位子にオキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造等を有する金属錯体等を挙げることができる。
【００５０】
さらに、高分子系材料としては、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体、ポリビニルカルバゾール等、ポリフルオレン誘導体、ポリキノキサリン誘導体、およびそれらの共重合体等を挙げることができる。
【００５１】
上記発光層中には、発光効率の向上、発光波長を変化させる等の目的でドーピング剤を添加してもよい。このようなドーピング剤としては、例えば、ペリレン誘導体、クマリン誘導体、ルブレン誘導体、キナクリドン誘導体、スクアリウム誘導体、ポルフィリン誘導体、スチリル系色素、テトラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、デカシクレン、フェノキサゾン、キノキサリン誘導体、カルバゾール誘導体、フルオレン誘導体等を挙げることができる。
【００５２】
発光層の厚みとしては、電子と正孔との再結合の場を提供して発光する機能を発現することができる厚みであれば、特に限定されるものではなく、例えば、１ｎｍ〜５００ｎｍ程度とすることができる。
【００５３】
（２）正孔注入層
上述したように、正孔輸送層は、正孔注入層に正孔輸送の機能を付与することにより、正孔注入層と一体化される場合がある。すなわち、正孔注入層は、正孔注入機能のみを有していてもよく、正孔注入機能および正孔輸送機能の両機能を有していてもよい。
【００５４】
正孔注入層に用いられる材料としては、発光層内への正孔の注入を安定化させることができる材料であれば、特に限定されるものではなく、上記発光層の発光材料に例示した化合物の他、フェニルアミン系、スターバースト型アミン系、フタロシアニン系、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリフェニレンビニレン誘導体等を用いることができる。具体的には、ビス（Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニル）ベンジジン（α−ＮＰＤ）、４，４，４−トリス（３−メチルフェニルフェニルアミノ）トリフェニルアミン（ＭＴＤＡＴＡ）、ポリ３，４エチレンジオキシチオフェン−ポリスチレンスルホン酸（ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＣｚ）等が挙げられる。
【００５５】
また、正孔注入層の厚みとしては、正孔注入機能や正孔輸送機能が十分に発揮される厚みであれば、特に限定されないが、具体的には、０．５ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内、中でも、１０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内であることが好ましい。
【００５６】
（３）電子注入層
上述したように、電子輸送層は、電子注入層に電子輸送の機能を付与することにより、電子注入層と一体化される場合がある。すなわち、電子注入層は、電子注入機能のみを有していてもよく、電子注入機能および電子輸送機能の両機能を有していてもよい。
【００５７】
電子注入層に用いられる材料としては、発光層内への電子の注入を安定化させることができる材料であれば、特に限定されるものではなく、上記発光層の発光材料に例示した化合物等を用いることができる。
また、電子輸送性の有機材料にアルカリ金属あるいはアルカリ土類金属をドープした金属ドープ層を形成し、これを電子注入層とすることもできる。上記電子輸送性の有機材料としては、例えば、バソキュプロイン、バソフェナントロリン、フェナントロリン誘導体等を挙げることができ、ドープする金属としては、Ｌｉ、Ｃｓ、Ｂａ、Ｓｒ等が挙げられる。
【００５８】
上記電子注入層の厚みとしては、電子注入機能や電子輸送機能が十分に発揮される厚み
であれば、特に限定されない。
【００５９】
（４）電子輸送層
電子輸送層に用いられる材料としては、陰極から注入された電子を発光層内へ輸送することが可能な材料であれば、特に限定されるものではなく、例えば、バソキュプロイン、バソフェナントロリン、フェナントロリン誘導体、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム錯体（Ａｌｑ３）の誘導体等を挙げることができる。
【００６０】
上記電子輸送層の厚みとしては、電子輸送機能が十分に発揮される厚みであれば、特に限定されない。
【００６１】
２．有機層形成工程における各工程
（１）高沸点溶媒塗布工程
本発明における高沸点溶媒塗布工程は、上記発光領域内に高沸点溶媒を塗布してプールを形成する工程である。本工程においては、発光領域内にプールを形成することができればよく、プールの下層としては第１電極層であってもよく、有機ＥＬ層を構成する層であってもよい。
【００６２】
ここで、「高沸点溶媒」とは、後述する有機層材料を溶解または分散させることができ、本発明における高沸点溶媒塗布工程および有機層用塗工液塗布工程における温度・湿度条件で発光領域内のプールを所定の深さに保持することができる程度の沸点を有する溶媒を指す。
【００６３】
このような高沸点溶媒については、高沸点溶媒塗布工程および有機層用塗工液塗布工程における温度・湿度条件、有機層材料の種類等に応じて適宜選択され、特に限定されるものではないが、極性溶媒の場合、沸点が７０℃〜３００℃の範囲内、なかでも８０℃〜２５０℃の範囲内、特に９０℃〜２３０℃の範囲内の溶媒であることが好ましい。一方、非極性溶媒の場合、沸点が１００℃〜３００℃の範囲内、なかでも１３０℃〜２８０℃の範囲内、特に１５０℃〜２７０℃の範囲内の溶媒であることが好ましい。沸点が上記範囲に満たない場合は、高沸点溶媒塗布工程および有機層用塗工液塗布工程における温度・湿度条件が制限され、生産性が低下する可能性があるからである。一方、沸点が上記範囲を超える場合は、後述する乾燥工程において有機層を劣化させることなく、高沸点溶媒を除去することが困難となる可能性があるからである。
【００６４】
また、上記高沸点溶媒の蒸気圧としては、高沸点溶媒塗布工程および有機層用塗工液塗布工程における温度・湿度条件においてプールを所定の深さに維持することが可能な程度であれば特に限定されないが、０．０５ｈＰａ〜１０ｈＰａの範囲内、なかでも、０．０５ｈＰａ〜４．５ｈＰａの範囲内、特に０．０５ｈＰａ〜１．０ｈＰａの範囲内であることが好ましい。
【００６５】
このような高沸点溶媒としては、極性溶媒であってもよく、非極性溶媒であってよい。
極性溶媒としては、例えば、水、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール等の１価アルコール類、エチレングリコール、プロピレングリコール等の２価アルコール類、グリセリン等の３価アルコール類が挙げられ、水酸基と炭素の付き方によって、第一級、第二級、第三級の３種類の級数に分類されるが特に限定されるものではない。その他、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリドン、シクロヘキサノン等挙げることができる。これらは１種単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
一方、非極性溶媒としては、トルエン、キシレン、メシチレン、１，２，４−トリメチルベンゼン、トリエチルベンゼン、ヘキシルベンゼン、シクロヘキシルベンゼン、アニソール、安息香酸ブチル、安息香酸エチル、安息香酸メチル、テトラリン、１−メチルナフタレン、ジフェニルエーテル、ジフェニルメタン、ジフェニルエチレン、ジフェニルスルフィド等の芳香族炭化水素類を挙げることができる。
【００６６】
本工程においては、必要に応じて、上記高沸点溶媒中に界面活性剤を添加してもよい。界面活性剤については、一般的な有機ＥＬ素子の製造方法において用いられているものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
【００６７】
本工程により形成されるプールの深さとしては、後述する有機層用塗工液塗布工程において塗布される有機層用塗工液中の有機層材料を均一に拡散させることが可能な程度の深さであれば特に限定されず、発光領域の大きさや、後述する有機層用塗工液に用いられる有機材料および溶媒等により適宜選択することができる。
上記プールの深さとしては、具体的には、０．５μｍ〜５０μｍの範囲内、なかでも０．５μｍ〜１５μｍの範囲内、特に０．５μｍ〜５μｍの範囲内とすることができる。上記プールの深さが上記範囲に満たない場合は、後述する有機層用塗工液塗布工程において塗布された有機層用塗工液中の有機層材料を均一に拡散させることが困難となる可能性があるからであり、上記プールの深さが上記範囲を超える場合は、乾燥工程にかかる時間が長くなることから、製造効率が低下する可能性があるからである。
本工程におけるプールの深さとは、プールの下層表面からプールの最大深さまでの距離を指し、例えば図３（ａ）、（ｂ）において、Ｑで示される距離を指す。なお、図３（ａ）、（ｂ）は、図１（ｂ）のＡ−Ａ線断面図である。
また、上記プールの深さは、例えば、ウェットフィルム膜厚計により直接測定する、または非接触膜厚計(光干渉、レーザー方式)で測定することにより求めることができる。
【００６８】
また、本工程において発光領域が隔壁で区画されている場合、プールの深さと隔壁の高さの関係としては、プールの深さが隔壁の高さよりも小さくてもよく（図３（ａ）参照）、プールの深さと隔壁の高さとが同等であってもよく（図示なし）、プール深さが隔壁の高さよりも大きくてもよい（図３（ｂ）参照）。ここで、プールの深さが隔壁の高さよりも大きい場合は、プールの深さは、後述する有機層用塗工液を吐出法により塗布した場合にプールが決壊して有機層用塗工液が発光領域外へ広がらない程度の深さであれば特に限定されず、隔壁材料や高沸点溶媒を選択することにより調整することができる。
一方、発光領域が親液性領域および撥液性領域を有するパターン形成層で区画されている場合も、プールの深さは、後述する有機層用塗工液を吐出法により塗布した場合にプールが決壊して有機層用塗工液が発光領域外へ広がらない程度の深さであれば特に限定されず、撥液性領域の撥液性の度合いや、高沸点溶媒を選択することにより調整することができる。
【００６９】
本工程に用いられる高沸点溶媒の塗布方法としては、発光領域内に高沸点溶媒を塗布することが可能な方法であれば特に限定されない。本工程においては、インクジェット法、ディスペンサ法等の吐出法を好適に用いることができ、なかでもインクジェット法であることが好ましい。
【００７０】
（２）有機層用塗工液塗布工程
本発明における有機層用塗工液塗布工程は、上記有機層材料および溶媒を含有する有機層用塗工液を上記プールが形成された上記発光領域内に吐出法により塗布し、上記プール中に上記有機層材料を拡散させて有機層形成用層を形成する工程である。
【００７１】
本工程においては、通常、有機層材料と溶媒とを含有する有機層用塗工液が調製される。
上記有機層材料としては、形成される有機層に応じて適宜選択することができる。具体的には上述した「１．有機層」の項で説明したため、ここでの説明は省略する。
【００７２】
上記溶媒としては、上述した高沸点溶媒と相溶性を有し、有機層材料を溶解または分散させることができ、吐出法を用いて所望の有機層を形成することが可能な溶媒であれば特に限定されない。
ここで、本発明において「溶媒が高沸点溶媒と相溶性を有する」とは、例えば、室温（または有機層用塗工液塗布工程を行う温度）において３００ｍｌビーカーに上記高沸点溶媒５０ｍｌと上記溶媒５０ｍｌとを入れ、スターラーを用いて３００ｒｐｍで１分間攪拌した後に混合溶媒を１分間静置した場合に、上記混合溶媒の分離が観察されないことを指す。
【００７３】
また、上記溶媒としては、上述した高沸点溶媒と同種の溶媒であってもよく、異種の溶媒であってもよい。
上記溶媒として異種溶媒を用いた場合、本発明においては、例えば上記溶媒が比較的沸点が低い溶媒（以下、低沸点溶媒と称する。）である場合も、プール中に有機層用塗工液を塗布するため、有機層材料を高沸点溶媒中で均一に拡散させることができることから、発光領域に均一に有機層材料が分散された有機層用着色層を形成することが可能となる。
したがって、プールを形成しない従来の吐出法による有機層の形成工程において用いることができなかった低溶媒についても用いることができるため、材料選択の幅を広げることが可能となる。
【００７４】
なお、本発明における低沸点溶媒とは、極性溶媒である場合は沸点が７０℃未満の溶媒を指し、非極性溶媒である場合は沸点が１００℃未満の溶媒を指すものとする。
【００７５】
なお、上記溶媒が高沸点溶媒と異種溶媒である場合は、低沸点溶媒に限られない。
【００７６】
上記溶媒としては、有機層材料の種類により適宜選択され、具体的には上述した高沸点溶媒と同様の溶媒を用いることができる。また、上記高沸点溶媒の項で例示した溶媒以外にも、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、テトラヒドロフラン等の低沸点溶媒を用いることができる。
【００７７】
また、例えば有機層材料が発光材料である場合は、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、テトラヒドロフラン、トルエン、キシレン、テトラリン、メシチレン等を好適に用いることができる。
【００７８】
本工程に用いられる有機層用塗工液中の粘度については、吐出法を用いて有機層用塗工液と塗布することが可能な程度であれば特に限定されない。また、上記有機層用塗工液の粘度については、有機層材料、溶媒の種類や、有機層用塗工液の固形分量等により適宜調整することができる。
【００７９】
本工程に用いられる吐出方法としては、発光領域内に所望の膜厚を有する有機層を形成することが可能な量の有機層用塗工液を塗布することが可能な方法であればよく、具体的にはインクジェット法やディスペンサ法等を挙げることができる。本発明においては、なかでもインクジェット法であることが好ましい。
【００８０】
本工程においては有機層用塗工液の塗布後に、有機層形成用層中への有機層材料の分散を促進するために、有機ＥＬ基材に超音波振動を与える処理を行ってもよい。
また、有機層用塗工液の塗布後に、有機層形成用層の膜厚を均一にしたり、有機層形成用層中への有機材料の分散を十分に行うために有機層形成層を一定時間保持する保持工程を行ってもよい。またこの際、有機層形成用層の乾燥を防止するために、有機層形成用層を覆うキャップを配置する、加圧条件下に置く、温度条件を有機層用塗工液塗布中の温度よりも下げる等の乾燥防止処置を行ってもよい。なお、上記乾燥防止処置における加圧条件や温度条件については、有機層材料、溶媒、および高沸点溶媒等の種類により適宜調整することができる。
【００８１】
（３）乾燥工程
本発明における乾燥工程は、上記有機層形成用層を乾燥させて上記有機層を形成する工程である。
【００８２】
本工程に用いられる乾燥方法としては、有機層形成用層から溶媒、高沸点溶媒を除去することが可能な方法であれば特に限定されない。本工程においては、有機ＥＬ基材を加熱して乾燥してもよく、加熱しないで乾燥してもよいが、有機ＥＬ基材を加熱することが好ましい。減圧条件、加熱条件については、溶媒および高沸点溶媒の種類等に応じて適宜選択することができる。
【００８３】
有機ＥＬ基材が剥離可能な隔壁を有する場合は、有機ＥＬ層形成用層の乾燥後に上記隔壁を剥離してもよい。
【００８４】
（４）有機層形成工程
本発明における有機層形成工程においては、上述した正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子注入層、電子輸送層のいずれか１層を形成することができれば特に限定されないが、なかでも発光層を形成することが好ましい。
【００８５】
また、本発明においては、上記有機層形成工程を繰り返すことにより、複数の有機層を形成することも可能である。
本発明において複数の有機層を形成する場合は、隣接する二の有機層を形成する際に用いられる高沸点溶媒および溶媒の性質を異ならせることが好ましい。より具体的には、２層の有機層の積層体を形成する場合には、１層目の有機層を第１電極層上に形成する際に用いられる高沸点溶媒および溶媒としては極性溶媒であることが好ましく、２層目の有機層を１層目の有機層上に形成する際に設けられる高沸点溶媒および溶媒としては非極性溶媒であることが好ましい。
【００８６】
ＩＩＩ．有機ＥＬ素子の製造方法
本発明における有機ＥＬ素子の製造方法は、上述した画定工程および有機層形成工程を有していれば特に限定されない。また、本発明においては、通常、上記有機層形成工程を含む有機ＥＬ層形成工程、および第２電極層形成工程を有する。以下、各工程について説明する。
【００８７】
１．有機ＥＬ層形成工程
本発明における有機ＥＬ層形成工程は、上述した有機層形成工程を含む工程である。
また、上記有機ＥＬ層形成工程においては、有機ＥＬ層を構成する有機層のうち少なくとも１層の有機層を上述した有機層形成工程で形成すればよく、吐出法以外の方法を用いて有機ＥＬ層を構成する他の層を形成してもよい。
本発明において、吐出法以外の方法で形成する他の層としては、発光層以外の層であることが好ましい。このような層としては、例えば、正孔注入層、電子注入層、電子輸送層等が挙げられる。
【００８８】
正孔注入層に用いられる材料としては、発光層内への正孔の注入を安定化させることができる材料であれば、特に限定されるものではなく、上述した正孔注入層の材料の他にも、酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化ルテニウム、酸化アルミニウム、酸化チタン等の酸化物を挙げることができる。
【００８９】
電子注入層に用いられる材料としては、発光層内への電子の注入を安定化させることができる材料であれば、特に限定されるものではなく、上述した電子注入層の材料の他にも、アルミリチウム合金、フッ化リチウム、ストロンチウム、酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム、フッ化ストロンチウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム、酸化アルミニウム、酸化ストロンチウム、カルシウム、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレンスルホン酸ナトリウム、リチウム、セシウム、フッ化セシウム等のようにアルカリ金属類、およびアルカリ金属類のハロゲン化物、アルカリ金属の有機錯体等を用いることができる。
電子注入輸送層について上述した点以外は、有機層形成工程の項で説明したものと同様とすることができる。
【００９０】
電子輸送層の材料については、上述した「１．有機層」の項で説明したものと同様とすることができる。
【００９１】
吐出法以外の方法としては、湿式法であってもよく乾式法であってもよい。
【００９２】
湿式法としては、塗工液を塗布する方法が挙げられる。塗布方法としては、例えば、ディップコート法、ロールコート法、ブレードコート法、スピンコート法、バーコート法、ワイヤーバーコート法、キャスト法、ＬＢ法等を挙げることができる。また、熱転写法等の転写法や、印刷版を用いた印刷法などを挙げることができる。
【００９３】
乾式法としては、真空蒸着法等の一般的な蒸着方法を用いることができる。
【００９４】
２．第２電極層形成工程
本発明における第２電極層形成工程は、有機ＥＬ層上に第２電極層を形成する工程である。
【００９５】
第２電極層は、陽極であっても陰極であってもよいが、通常は陰極として形成される。
【００９６】
また、第２電極層は、透明性を有していても有していなくてもよく、光の取り出し面等によって適宜選択される。例えば、第２電極層側から光を取り出す場合は、第２電極層は透明または半透明である必要がある。
【００９７】
第２電極層（陰極）としては、電子が注入し易いように仕事関数の小さい導電性材料を用いることが好ましく、例えば、ＭｇＡｇ等のマグネシウム合金、ＡｌＬｉ、ＡｌＣａ、ＡｌＭｇ等のアルミニウム合金、Ｌｉ、Ｃａをはじめとするアルカリ金属類およびアルカリ土類金属類、または、アルカリ金属類およびアルカリ土類金属類の合金などが挙げられる。
【００９８】
また、第２電極層は抵抗が小さいことが好ましく、一般には金属材料が用いられるが、有機化合物または無機化合物を用いてもよい。
【００９９】
本工程においては、上記有機ＥＬ層上に、金属材料を成膜して第２電極層を形成することが好ましい。第２電極層の材料としては抵抗が低いものであればよく、金属材料が最も適しているからである。
【０１００】
金属材料の成膜方法としては、一般的な電極の形成方法を用いることができ、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の一般的な蒸着法や、金属ペーストを塗布する方法等が挙げられる。中でも、真空蒸着法、金属ペーストを塗布する方法が好ましい。真空蒸着法は、ドライプロセスで有機ＥＬ層へのダメージが少ない方法であり、積層に適している。また、金属ペーストを塗布する方法はウェットプロセスであり、ウェットプロセスはドライプロセスよりも大面積の対応に適している。ウェットプロセスであっても、有機ＥＬ層に影響を与えない溶媒が配合された金属ペーストは使用可能である。すなわち、有機ＥＬ層の耐溶剤性などによって有機ＥＬ層に影響を与えないように工夫することで、ウェットプロセスも適用可能となる。
【０１０１】
３．その他の工程
本発明においては、上述した有機ＥＬ層形成工程、第２電極層形成工程以外の工程についても必要に応じて行うことができる。例えば、上記有機ＥＬ基材を形成する工程等を挙げることができる。
【０１０２】
ＩＶ．有機ＥＬ素子
本発明の製造方法により製造される有機ＥＬ素子について説明する。
上記有機ＥＬ素子は、基材および上記基材上に形成された第１電極層を有する有機ＥＬ基材と、少なくとも発光層を有する有機ＥＬ層と、有機ＥＬ層上に形成された第２電極層とを有するものである。上記有機ＥＬ層としては、少なくとも発光層を有していればよく、必要に応じて、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層を有していてもよい。
【０１０３】
本発明により製造される有機ＥＬ素子は、陽極側から光を取出すボトムエミッション型であってもよく、陰極側から光を取出すトップエミッション型であってもよく、陽極および陰極の両側から光を取出す両面発光型であってもよい。
上記有機ＥＬ素子は、表示装置および照明装置に好適に用いることができる。本発明においては、特に上記有機ＥＬ素子は照明装置に用いる有機ＥＬパネルであることが好ましい。
【０１０４】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【０１０５】
以下、本発明について、実施例および比較例を挙げて説明する。
【０１０６】
［実施例１］
（評価用有機ＥＬパネルの作製）
ＩＴＯからなる透明電極層を長方形に形成した透明基板上に、フォトレジストからなる厚さ３μｍの隔壁形成用層をスピンコート法により形成した。隔壁形成用層のパターニングは、フォトリソグラフィー法により行い、発光領域５０ｍｍ角、隔壁幅３ｍｍとなるマスクパターンを用い、露光・現像により隔壁のパターニングを行った。
【０１０７】
次に、発光領域内にグラビア印刷法を用いて、厚さ６０ｎｍの正孔注入層（ＰＥＤＯＴ）を形成した。
次いで、発光領域内に高沸点溶媒としてテトラリン(沸点：２０６℃‐２０８℃)を用いて、厚さ３μｍの隔壁と同等となるようプールを形成した。このとき、装置にはインクジェット装置ＤＭＰ３０００（Ｄｉｍａｔｉｘ製）を用いた。
【０１０８】
さらに、プールが乾燥する前に、発光領域内にＤＭＰ３０００で発光層用塗工液を塗布した。発光層用塗工液はプール内で拡散し、均一なウェット膜を形成した。
次に、ＩＲヒーターを用い８０℃で仮乾燥、その後ホットプレートを用い１８０℃で本乾燥させドライ膜として発光層を得た。
なお、発光層用塗工液は、溶媒にメシチレン（沸点：１６５℃）、有機発光材料にはＡＤＳ２３２ＧＥ(American Dye Source, Inc.社製)を用い、固形分１．０ｗｔ％で溶液化したものを使用した。
【０１０９】
続いて、上記発光層上に、厚さ１０ｎｍの金属カルシウムと厚さ５００ｎｍの銀を真空蒸着法により積層させて対向電極層を形成した。以上の手順により、評価用有機ＥＬパネルを得た。
【０１１０】
（評価）
評価用有機ＥＬパネルの発光状態を観察した結果、発光領域内が均一に発光していることが分かった。
【０１１１】
［比較例１］
高沸点溶媒によるプールを形成しないで、発光層用塗工液を塗布したこと以外は、実施例と同様にして評価用有機ＥＬパネルを作製した。得られた評価用有機ＥＬパネルの発光状態を観察したところ、インクジェットの塗布方向に沿ったスジ状のムラが観察された。
【０１１２】
［比較例２］
テトラヒドロフラン（沸点６６℃）でプールを形成し、発光層用塗工液を塗布したこと以外は、実施例と同様にして評価用有機ＥＬパネルを作製したところ、上記発光層用塗工液の塗布完了までプールを保持出来なかった。また得られた評価用有機ＥＬパネルの発光状態を観察したところ、インクジェットの塗布方向に沿ったスジ状のムラが観察された。
【符号の説明】
【０１１３】
１  …  基材
２  …  第１電極層
３  …  有機ＥＬ基材
４  …  隔壁
５  …  プール
６  …  有機層（発光層）
６’  …  有機層形成用層
６”  …  有機層用塗工液
７  …  第２電極層
１０  …  有機ＥＬ素子
２０  …  インクジェットノズル
【図１】
2013118095.tif 000003
【図２】
2013118095.tif 000004
【図３】
2013118095.tif 000005