(57)【要約】【課題】大きさや配設ピッチが異なる被着弾領域を有する電気光学装置に対して、容易に対応して機能液を配置することができる電気光学装置の製造方法を提供する。【解決手段】電気光学装置の製造方法は、ノズル列を備える液滴吐出ヘッドを用いて電気光学装置の機能膜を形成する電気光学装置の製造方法であって、液溜領域に機能膜を構成する材料を含む機能液の液溜りを形成する機能液配置工程と、液溜りから液溜領域機能膜を形成し、液溜領域機能膜を分割して画素機能膜を形成する画素機能膜形成工程と、を有し、液溜領域は、ノズル列の延在方向における幅が、ノズルピッチ以上であるとともにノズル列の長さ以下であり、機能液配置工程では、液溜領域に対向可能な複数の吐出ノズルの少なくとも一部から液溜領域に向けて機能液を吐出することによって、液溜領域に一連する液溜りを形成する。【選択図】図１０
2013148748.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液状体を吐出する吐出ノズルが所定のノズルピッチで配列されたノズル列を備える液滴吐出ヘッドを用いて、電気光学装置が備える機能膜を形成する電気光学装置の製造方法であって、
前記液状体を貯留可能に区画形成された液溜領域に、前記機能膜を構成する材料を含む機能液の液溜りを形成する機能液配置工程と、
前記液溜りから前記液溜領域に位置する液溜領域機能膜を形成し、前記液溜領域機能膜を分割して、前記電気光学装置の画素に対応する画素機能膜を形成する画素機能膜形成工程と、を有し、
前記液溜領域は、前記ノズル列の延在方向における幅が、前記ノズルピッチ以上であるとともに、前記ノズル列の長さ以下であり、
前記機能液配置工程では、前記液溜領域に対向可能な複数の前記吐出ノズルの少なくとも一部から前記液溜領域に向けて前記機能液を吐出することによって、前記液溜領域に一連する前記液溜りを形成する、
ことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項２】
前記画素機能膜形成工程は、前記液溜領域を前記画素に対応する画素領域に分割する分割壁を形成する分割壁形成工程を有し、
前記機能液配置工程では、前記分割壁を越えて一連する前記液溜りを形成する、
ことを特徴とする、請求項１に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項３】
前記画素機能膜形成工程は、前記液溜領域機能膜を前記画素機能膜に分割する領域分割膜を形成する分割膜形成工程を有する、
ことを特徴とする、請求項１に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項４】
前記液溜領域を区画形成する区画壁を形成する区画壁形成工程をさらに有する、
ことを特徴とする、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、液状体を液滴として吐出する液滴吐出ヘッドを備え、吐出した液滴を被吐出媒体上の任意の位置に着弾させることによって被吐出媒体上の任意の位置に液状体を配置する液滴吐出装置が知られている。液滴吐出ヘッドは液滴を吐出する吐出ノズルを複数備えており、被吐出媒体と液滴吐出ヘッドとを吐出走査方向に相対移動させるとともに、複数の吐出ノズルのそれぞれから選択的に液滴を吐出させることによって、被吐出媒体上の任意の位置に液滴を着弾させることができる。
このような液滴吐出装置を用いて、電気光学装置が備える機能膜の材料を含む機能液を、当該機能膜を配設する微細な領域に着弾させて、当該領域に機能膜を形成することができる。電気光学装置としては、例えば、液晶装置や、有機ＥＬ（Electro Luminescence）装置等が知られている。これらの装置が備える機能膜は、例えば、液晶表示装置におけるカラーフィルター膜や、有機ＥＬ表示装置における発光層などである。液滴吐出装置を用いて、有機ＥＬ表示装置の画素領域のような微細な領域に発光層などの材料を含む機能液を着弾させて、当該領域に発光層などを形成することができる。
【０００３】
近年、液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置などは高精細な画像を表示することが求められている。高精細な画像の表示を実現するためには、微細な画素を形成することが必要であり、被吐出媒体上に微細な配設ピッチで形成された微細な被着弾領域に機能液を着弾させることが必要である。被着弾領域の配設ピッチが吐出ノズルのピッチより小さい場合、１回の吐出走査において吐出ノズルを対向させて液滴を着弾させることができる被着弾領域と、吐出ノズルを対向させることができない被着弾領域とが存在する。このため、吐出走査を複数回実施するなど、被着弾領域の大きさや配設ピッチに個別に対応した吐出方法で液状体の配置を実施する必要があった。
特許文献１には、所定のノズルピッチで配列された複数のノズルをそれぞれ備える複数のヘッドと、ヘッド間の相対位置を変更して、複数のヘッドにおけるノズルピッチを調整可能なヘッド可変機構部と、を備えた液滴吐出装置が開示されている。当該液滴吐出装置を用いることで、被着弾領域の大きさや配設ピッチに対応したノズルピッチを構成して、効率よく機能液などの液状体を配置することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００５−１６１２１５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、適切なノズルピッチを実現するためには、ヘッドの相対位置を精密に調整し、調整した状態を確実に維持する必要がある。したがって、ヘッド可変機構部は、ヘッドの相対位置を精密に調整可能な精度と、調整した状態を確実に維持できる強度とを実現する必要がある。このようなヘッド可変機構部を備えるために、ヘッド周りの装置が大きくなり、吐出装置が大きくなってしまうという課題があった。また、吐出装置のコストが増大するという課題もあった。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
【０００７】
［適用例１］本適用例にかかる電気光学装置の製造方法は、液状体を吐出する吐出ノズルが所定のノズルピッチで配列されたノズル列を備える液滴吐出ヘッドを用いて、電気光学装置が備える機能膜を形成する電気光学装置の製造方法であって、前記液状体を貯留可能に区画形成された液溜領域に、前記機能膜を構成する材料を含む機能液の液溜りを形成する機能液配置工程と、前記液溜りから前記液溜領域に位置する液溜領域機能膜を形成し、前記液溜領域機能膜を分割して、前記電気光学装置の画素に対応する画素機能膜を形成する画素機能膜形成工程と、を有し、前記液溜領域は、前記ノズル列の延在方向における幅が、前記ノズルピッチ以上であるとともに、前記ノズル列の長さ以下であり、前記機能液配置工程では、前記液溜領域に対向可能な複数の前記吐出ノズルの少なくとも一部から前記液溜領域に向けて前記機能液を吐出することによって、前記液溜領域に一連する前記液溜りを形成することを特徴とする。
【０００８】
本適用例にかかる電気光学装置の製造方法によれば、機能液配置工程において、液溜領域に機能液の液溜りを形成し、画素機能膜形成工程において、液溜りから液溜領域機能膜を形成し、液溜領域機能膜を分割して画素機能膜を形成する。これにより、画素機能膜の大きさより広い液溜領域を、設定することができる。大きさが異なる画素機能膜に対して、同じ大きさの液溜領域を、設定することもできる。
液溜領域は、ノズル列の延在方向における幅がノズルピッチ以上であるため、ノズル列の長さの範囲に存在する液溜領域に対して、それぞれ１個以上の吐出ノズルを対向させることができる。このため、ノズル列の延在方向におけるノズル列の長さの範囲に存在する液溜領域に、ノズル列と液溜領域とのノズル列の延在方向における相対移動を介在させることなく、機能液を配置することができる。
また、液溜領域は、ノズル列の延在方向における幅がノズル列の長さ以下であるため、１個の液溜領域に、ノズル列と液溜領域とのノズル列の延在方向における相対移動を介在させることなく、機能液を配置することができる。
【０００９】
［適用例２］上記適用例にかかる電気光学装置の製造方法において、前記画素機能膜形成工程は、前記液溜領域を前記画素に対応する画素領域に分割する分割壁を形成する分割壁形成工程を有し、前記機能液配置工程では、前記分割壁を越えて一連する前記液溜りを形成することが好ましい。
【００１０】
この電気光学装置の製造方法によれば、分割壁形成工程において形成された分割壁によって、液溜領域に形成される液溜領域機能膜を画素機能膜に分離させることができる。機能液配置工程では、分割壁を越えて一連する液溜りを形成するため、機能液配置工程では、分割壁の存在に関わらず、液溜領域に機能液を配置することができる。
【００１１】
［適用例３］上記適用例にかかる電気光学装置の製造方法において、前記画素機能膜形成工程は、前記液溜領域機能膜を前記画素機能膜に分割する領域分割膜を形成する分割膜形成工程を有することが好ましい。
【００１２】
この電気光学装置の製造方法によれば、分割膜形成工程において形成された領域分割膜によって、液溜領域に形成される液溜領域機能膜を画素機能膜に区切ることができる。
【００１３】
［適用例４］上記適用例にかかる電気光学装置の製造方法において、前記液溜領域を区画形成する区画壁を形成する区画壁形成工程をさらに有することが好ましい。
【００１４】
この電気光学装置の製造方法によれば、区画壁形成工程において形成された区画壁によって、液溜領域に配置された機能液が流出することを抑制して、液溜領域に、機能液からなる一連の液溜りを形成し易くすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】（ａ）は、液滴吐出装置全体の概略構成を示す外観斜視図。（ｂ）は、液滴吐出装置が備える液滴吐出ヘッドの概略構成を示す外観斜視図。
【図２】（ａ）は、吐出ノズルの配置位置を示す説明図。（ｂ）は、液滴をノズル列の延在方向に直線状に着弾させた状態を示す説明図。（ｃ）は、液滴を吐出走査方向に直線状に着弾させた状態を示す説明図。（ｄ）は、液滴を面状に着弾させた状態を示す説明図。
【図３】（ａ）は、表示装置の外観斜視図。（ｂ）は、（ａ）にＡＡで示した断面における断面図。
【図４】表示装置における複数の画素の一部を示す平面図。
【図５】表示装置の回路構成を示す図。
【図６】（ａ）は、図４にＣＣで示した断面における断面図。（ｂ）は、図４にＤＤで示した断面における断面図。
【図７】素子基板を形成する工程における素子基板の断面形状を示す説明図。
【図８】（ｃ）は、液滴吐出ヘッドの吐出ノズルを示す模式図。（ｄ）は、素子基板を形成する工程における素子基板の断面形状を示す説明図。
【図９】素子基板を形成する工程における素子基板の断面形状を示す説明図。
【図１０】素子基板を形成する工程における素子基板の断面形状を示す説明図。
【図１１】表示装置における複数の画素の一部を示す平面図。
【図１２】素子基板における画素の断面形状を示す断面図。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明に係る電気光学装置の製造方法の一実施形態について、図面を参照して説明する。本実施形態は、液滴吐出装置を用いて、有機ＥＬ表示装置の発光層などを形成する工程を例にして説明する。液滴吐出装置は、液滴吐出ヘッドと被描画媒体とを相対移動させると共に、液滴吐出ヘッドの吐出ノズルから機能液の液滴を吐出して、被描画媒体上の所定の位置に着弾させることによって、所定の画像などを形成する装置である。本実施形態の液滴吐出装置は、インクジェット方式の液滴吐出ヘッドを備えている。なお、以下の説明において参照する図面では、図示の便宜上、部材又は部分の縦横の縮尺を実際のものとは異なるように表す場合がある。
【００１７】
＜液滴吐出装置＞
最初に、発光層などを形成するための機能液を吐出して発光層などを形成する位置に配置する液滴吐出装置１００について、図１を参照して説明する。図１は、液滴吐出装置の概略構成を示す外観斜視図である。図１（ａ）は、液滴吐出装置全体の概略構成を示す外観斜視図であり、図１（ｂ）は、液滴吐出装置が備える液滴吐出ヘッドの概略構成を示す外観斜視図である。
【００１８】
図１に示すように、液滴吐出装置１００は、ヘッド機構部１０２と、ワーク機構部１０３と、機能液供給部１０４と、メンテナンス装置部１０５と、吐出装置制御部１０７と、を備えている。ヘッド機構部１０２は、機能液を液滴として吐出する液滴吐出ヘッド１２０を備えている。ワーク機構部１０３は、液滴吐出ヘッド１２０から吐出された液滴の吐出対象（描画対象物）であるワークＷを載置するワーク載置台１２９を備えている。機能液供給部１０４は、液滴吐出ヘッド１２０へ機能液を供給する。メンテナンス装置部１０５は、液滴吐出ヘッド１２０の保守を行う。吐出装置制御部１０７は、これら各機構部などを総括的に制御する。さらに、液滴吐出装置１００は、床上に設置された複数の支持脚の上側に設置された定盤１０９を備えている。
【００１９】
定盤１０９の上面には、ワーク機構部１０３が配設されている。ワーク機構部１０３は、定盤１０９の長手方向（Ｘ軸方向）に延在している。ワーク機構部１０３の上方には、定盤１０９に固定された２本の支持柱で支持されているヘッド機構部１０２が配設されている。ヘッド機構部１０２は、ワーク機構部１０３と略直交する方向（Ｙ軸方向）に延在している。定盤１０９の傍らには、ヘッド機構部１０２の液滴吐出ヘッド１２０に連通する供給管を有する機能液供給部１０４の機能液タンクなどが配置されている。ヘッド機構部１０２の一方の支持柱の近傍には、メンテナンス装置部１０５がワーク機構部１０３と並んでＸ軸方向に延在して配設されている。さらに、定盤１０９の下側に、吐出装置制御部１０７が収容されている。
【００２０】
ヘッド機構部１０２は、液滴吐出ヘッド１２０を有するヘッドユニット１２１と、ヘッドユニット１２１を支持するヘッドキャリッジ１２２とを備えている。ヘッドキャリッジ１２２をＹ軸方向に移動させることで、液滴吐出ヘッド１２０をＹ軸方向に自在に移動させる。また、移動した位置に保持する。ワーク機構部１０３は、ワーク載置台１２９をＸ軸方向に移動させることで、ワーク載置台１２９に載置されたワークＷをＸ軸方向に自在に移動させる。また、移動した位置に保持する。
【００２１】
液滴吐出ヘッド１２０を、Ｙ軸方向の吐出位置まで移動させて停止させ、下方にあるワークＷのＸ軸方向の移動に同調させて、機能液を液滴として吐出させる。液滴吐出ヘッド１２０からの機能液の吐出をともなう、液滴吐出ヘッド１２０とワークＷとの相対移動を吐出走査と表記する。吐出走査における相対移動方向（走査方向）であるＸ軸方向を、吐出走査方向と表記する。
Ｘ軸方向に移動させるワークＷと、Ｙ軸方向に移動させる液滴吐出ヘッド１２０とを相対的に制御することにより、ワークＷ上の任意の位置に液滴を着弾させることで、所望する描画などを行うことが可能である。
【００２２】
図１（ｂ）に示すように、液滴吐出ヘッド１２０は、ノズル基板１２５を備えている。ノズル基板１２５には、多数の吐出ノズル１２４が略一直線状に並んだノズル列１２４Ａが３列形成されている。吐出ノズル１２４から機能液を液滴として吐出し、対向する位置にあるワークＷなどに着弾させることで、当該位置に機能液を配置する。ノズル列１２４Ａは、液滴吐出ヘッド１２０が液滴吐出装置１００に装着された状態で、図１（ａ）に示したＹ軸方向に延在している。ノズル列１２４Ａにおいて吐出ノズル１２４は等間隔のノズルピッチで並んでおり、３列のノズル列１２４Ａ間で、吐出ノズル１２４の位置がＹ軸方向に１／３ノズルピッチずれている。したがって、液滴吐出ヘッド１２０としては、Ｙ軸方向に１／３ノズルピッチ間隔で機能液の液滴を配置することができる。
【００２３】
＜着弾位置＞
次に、液滴吐出ヘッド１２０の吐出ノズル１２４と、それぞれの吐出ノズル１２４から吐出された液滴の着弾位置と、の関係について、図２を参照して説明する。図２は、吐出ノズルと、それぞれの吐出ノズルから吐出された液滴の着弾位置と、の関係を示す説明図である。図２（ａ）は、吐出ノズルの配置位置を示す説明図であり、図２（ｂ）は、液滴をノズル列の延在方向に直線状に着弾させた状態を示す説明図であり、図２（ｃ）は、液滴を吐出走査方向に直線状に着弾させた状態を示す説明図であり、図２（ｄ）は、液滴を面状に着弾させた状態を示す説明図である。図２に示したＸ軸方向及びＹ軸方向は、液滴吐出ヘッド１２０が液滴吐出装置１００に取り付けられた状態において、図１に示したＸ軸方向又はＹ軸方向と一致している。Ｘ軸方向が吐出走査方向であって、図２に示した矢印ａの方向に吐出ノズル１２４（液滴吐出ヘッド１２０）を相対移動させながら、任意の位置において機能液の液滴を吐出することによって、Ｘ軸方向の任意の位置に液滴を着弾させることができる。
【００２４】
図２（ａ）に示すように、ノズル列１２４Ａを構成する吐出ノズル１２４は、Ｙ軸方向にノズルピッチＰの中心間距離で配列されている。上述したように、３列のノズル列１２４Ａをそれぞれ構成する吐出ノズル１２４同士は、Ｙ軸方向において、相互に、ノズルピッチＰの１／３ずつ位置がずれている。
【００２５】
図２（ｂ）に示すように、着弾位置を示す着弾点１７１と、着弾した液滴の濡れ広がり状態を示す着弾円１７１Ａとで、着弾した１滴の液滴の状態を示している。３列のノズル列１２４Ａの全部の吐出ノズル１２４から、図２（ｂ）に二点鎖線で示した仮想線Ｌ上に着弾させるタイミングで、それぞれ液滴を吐出させることによって、ノズルピッチＰの１／３の中心間間隔で着弾円１７１Ａが連なる直線が形成される。
【００２６】
図２（ｃ）に示すように、一つの吐出ノズル１２４から連続して液滴を吐出させることによって、Ｘ軸方向に着弾円１７１Ａが連なる直線が形成される。Ｘ軸方向における着弾点１７１間の中心間距離の最小値を、最小着弾距離ｄと表記する。最小着弾距離ｄは、主走査方向の相対移動速度と、吐出ノズル１２４の最小吐出間隔（時間）との積である。
【００２７】
図２（ｄ）に示すように、二点鎖線で示した仮想線Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３上に着弾させるタイミングで、それぞれ液滴を吐出させることによって、ノズルピッチＰの１／３の中心間間隔で着弾円１７１Ａが連なる直線が、Ｘ軸方向に並列した着弾面が形成される。図２（ｄ）に示した仮想線Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３間の距離が最小着弾距離ｄの場合のそれぞれの着弾点１７１が、液滴吐出装置１００によって機能液の液滴を配置可能な位置である。
【００２８】
画像の描画に際しては、画像の情報に従って、図２（ｄ）に示したそれぞれの着弾点１７１の位置について、液滴を配置する位置を定める。例えば、当該配置位置、及び配置位置に液滴を吐出する吐出ノズル１２４を指定した配置表を形成し、配置表に従って機能液を着弾させることによって、画像の情報によって規定される画像を描画する。なお、図２（ｄ）に示した例では、着弾円１７１Ａの間に隙間が存在するが、ノズルピッチＰや最小着弾距離ｄに対して、吐出する液滴の１滴あたりの吐出重量を適切に定めることによって、隙間なく機能液を配置することが可能である。もちろん、他の液滴と重ねることなく、１滴を独立させて配置することも可能である。
【００２９】
＜表示装置＞
次に、電気光学装置としての表示装置１について、図３、図４、図５、及び図６を参照して説明する。表示装置１は、有機ＥＬ素子を備える有機ＥＬ表示装置である。図３は、表示装置の全体構成の概略を示す図である。図３（ａ）は、表示装置の外観斜視図であり、図３（ｂ）は、図３（ａ）にＡＡで示した断面における断面図である。図４は、表示装置における複数の画素の一部を示す平面図である。図５は、表示装置の回路構成を示す図である。図６は、画素の断面形状を示す断面図である。図６（ａ）は、図４にＣＣで示した断面における断面図であり、図６（ｂ）は、図４にＤＤで示した断面における断面図である。
【００３０】
図３に示すように、表示装置１は、素子基板３と、封止基板５と、を有している。素子基板３と封止基板５とは、互いに対向している。表示装置１では、封止基板５の素子基板３側とは反対側の面である表示面７に、画像などを表示することができる。
表示装置１には、複数の画素９が設定されている。複数の画素９は、表示領域１１内で、図中のＶ軸方向及びＷ軸方向に配列しており、Ｖ軸方向を行方向とし、Ｗ軸方向を列方向とするマトリクスＭを構成している。Ｖ軸方向及びＷ軸方向は、平面視で互いに交差する方向である。本実施形態では、Ｖ軸方向は、後述する走査線ＧＴ（図５参照）が延在する方向でもある。また、Ｗ軸方向は、後述する信号線ＳＩ（図５参照）が延在する方向でもある。また、本実施形態では、Ｖ軸方向及びＷ軸方向は、平面視で互いに略直交している。
表示装置１は、複数の画素９から選択的に表示面７を介して表示装置１の外に光を射出することで、表示面７に画像などを表示する。なお、表示領域１１とは、画像が表示され得る領域である。図３（ａ）では、構成をわかりやすく示すため、画素９が誇張され、且つ画素９の個数が減じられている。
【００３１】
表示装置１において、素子基板３は、図３（ａ）にＡ−Ａで示した断面における断面図である図３（ｂ）に示すように、封止基板５側とは反対側の面である底面１４を有している。
素子基板３には、表示面７側すなわち封止基板５側に、後述する有機ＥＬ素子３７（図５又は図６参照）などが設けられている。表示装置１において、表示面７と底面１４とは、互いに表裏の関係にある。
【００３２】
封止基板５は、素子基板３よりも表示面７側で素子基板３に対向した状態で設けられている。素子基板３と封止基板５とは、接着剤１６を介して接合されている。表示装置１では、有機ＥＬ素子３７は、接着剤１６によって表示面７側から覆われている。
また、素子基板３と封止基板５との間は、表示装置１の周縁よりも内側で表示領域１１を囲むシール材１７によって封止されている。つまり、表示装置１では、有機ＥＬ素子３７と接着剤１６とが、素子基板３及び封止基板５並びにシール材１７によって封止されている。
【００３３】
図４に示すように、表示装置１における複数の画素９は、それぞれ、表示面７から射出する光の色が、赤系（Ｒ）、緑系（Ｇ）及び青系（Ｂ）のうちの１つに設定されている。マトリクスＭを構成する複数の画素９は、Ｒの光を射出する画素９Ｒと、Ｇの光を射出する画素９Ｇと、Ｂの光を射出する画素９Ｂとを含んでいる。
なお、以下においては、画素９という表記と、画素９Ｒ、画素９Ｇ及び画素９Ｂという表記とが、適宜、使いわけられる。
【００３４】
ここで、Ｒの色は、純粋な赤の色相に限定されず、橙等を含む。Ｇの色は、純粋な緑の色相に限定されず、青緑や黄緑等を含む。Ｂの色は、純粋な青の色相に限定されず、青紫や青緑等を含む。他の観点から、Ｒの色を呈する光は、光の波長のピークが、可視光領域で５７０ｎｍ以上の範囲にある光であると定義され得る。また、Ｇの色を呈する光は、光の波長のピークが５００ｎｍ〜５６５ｎｍの範囲にある光であると定義され得る。Ｂの色を呈する光は、光の波長のピークが４１５ｎｍ〜４９５ｎｍの範囲にある光であると定義され得る。
【００３５】
マトリクスＭでは、Ｗ軸方向に沿って一列に並ぶ複数の画素９が、１つの画素列２１を構成している。また、Ｖ軸方向に沿って一列に並ぶ複数の画素９が、１つの画素行２３を構成している。
隣り合う画素列２１の間には、Ｗ軸方向に延在する絶縁膜（第２隔壁）５９が設けられており、Ｖ軸方向において隣り合う画素９を隔てている。Ｗ軸方向に並ぶ３個の画素９ごとに、Ｖ軸方向に延在する絶縁膜５９が設けられている。すなわち、絶縁膜５９に囲まれる領域に、３個の画素９が形成されている。Ｗ軸方向において、絶縁膜５９と絶縁膜５９との間には、Ｖ軸方向に延在する絶縁膜（第３隔壁）５６が、２本設けられている。絶縁膜５９に囲まれてＷ軸方向に並ぶ３個の画素９は、絶縁膜５６によって互いに隔てられている。
なお、詳細には後述するが、画素９、絶縁膜５９、及び絶縁膜５６は、電子注入層６７（図６参照）によって覆われているが、構成をわかりやすく示すために、図４では電子注入層６７を省略した状態を示してある。また、絶縁膜５９と絶縁膜５６とは、同じ材料を用いて略一体に形成されるが、絶縁膜５９と絶縁膜５６とをそれぞれ明示するために、図４では互いに異なるパターンで塗りつぶしてある。
【００３６】
１つの画素列２１内の各画素９は、光の色がＲ、Ｇ及びＢのうちの１つに設定されている。つまり、マトリクスＭは、複数の画素９ＲがＷ軸方向に配列した画素列２１Ｒと、複数の画素９ＧがＷ軸方向に配列した画素列２１Ｇと、複数の画素９ＢがＷ軸方向に配列した画素列２１Ｂとを有している。そして、表示装置１では、画素列２１Ｒ、画素列２１Ｇ及び画素列２１Ｂが、この順でＶ軸方向に沿って反復して並んでいる。
なお、以下においては、画素列２１という表記と、画素列２１Ｒ、画素列２１Ｇ及び画素列２１Ｂという表記とが、適宜、使いわけられる。
【００３７】
回路構成を示す図である図５に示すように、表示装置１は、画素９ごとに、選択トランジスター３１と、駆動トランジスター３３と、容量素子３５と、有機ＥＬ素子３７とを有している。有機ＥＬ素子３７は、画素電極３９と、有機層４１と、共通電極４３とを有している。選択トランジスター３１及び駆動トランジスター３３は、それぞれ、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）素子で構成されており、スイッチング素子としての機能を有する。
また、表示装置１は、走査線駆動回路４５と、信号線駆動回路４７と、複数の走査線ＧＴと、複数の信号線ＳＩと、複数の電源線ＰＷとを有している。
【００３８】
複数の走査線ＧＴは、それぞれ走査線駆動回路４５につながっており、Ｗ軸方向に互いに間隔をあけた状態でＶ軸方向に延びている。
複数の信号線ＳＩは、それぞれ信号線駆動回路４７につながっており、Ｖ軸方向に互いに間隔をあけた状態でＷ軸方向に延びている。
複数の電源線ＰＷは、Ｖ軸方向に互いに間隔をあけた状態で、且つ各電源線ＰＷと各信号線ＳＩとがＶ軸方向に間隔をあけた状態でＷ軸方向に延びている。
【００３９】
各画素９は、各走査線ＧＴと各信号線ＳＩとの交差に対応して設定されている。各走査線ＧＴは、図４に示す各画素行２３に対応している。各信号線ＳＩ及び各電源線ＰＷは、それぞれ、図４に示す各画素列２１に対応している。
図５に示す各選択トランジスター３１のゲート電極は、対応する各走査線ＧＴに電気的につながっている。各選択トランジスター３１のソース電極は、対応する各信号線ＳＩに電気的につながっている。各選択トランジスター３１のドレイン電極は、各駆動トランジスター３３のゲート電極及び各容量素子３５の一方の電極に電気的につながっている。
【００４０】
容量素子３５の他方の電極と、駆動トランジスター３３のソース電極は、それぞれ、対応する各電源線ＰＷに電気的につながっている。
各駆動トランジスター３３のドレイン電極は、各画素電極３９に電気的につながっている。各画素電極３９と共通電極４３とは、画素電極３９を陽極とし、共通電極４３を陰極とする一対の電極を構成している。
ここで、共通電極４３は、マトリクスＭを構成する複数の画素９間にわたって一連した状態で設けられており、複数の画素９間にわたって共通して機能する。
各画素電極３９と共通電極４３との間に介在する有機層４１は、後述する発光層６５（図６参照）を含んでいる。有機層４１では、画素電極３９と共通電極４３との間に発生する電流によって、発光層６５が発光する。
【００４１】
選択トランジスター３１は、この選択トランジスター３１につながる走査線ＧＴに選択信号が供給されるとＯＮ状態となる。このとき、この選択トランジスター３１につながる信号線ＳＩからデータ信号が供給され、駆動トランジスター３３がＯＮ状態になる。駆動トランジスター３３のゲート電位は、データ信号の電位が容量素子３５に一定の期間だけ保持されることによって、一定の期間だけ保持される。これにより、駆動トランジスター３３のＯＮ状態が一定の期間だけ保持される。なお、各データ信号は、階調表示に応じた電位に生成される。
【００４２】
駆動トランジスター３３のＯＮ状態が保持されているときに、駆動トランジスター３３のゲート電位に応じた電流が、電源線ＰＷから画素電極３９と有機層４１を経て共通電極４３に流れる。そして、有機層４１に含まれる発光層６５が、有機層４１を流れる電流量に応じた輝度で発光する。これにより、表示装置１では、階調表示が行われ得る。
表示装置１は、有機層４１に含まれる発光層６５が発光し、発光層６５からの光が封止基板５を介して表示面７から射出されるトップエミッション型の有機ＥＬ装置である。なお、表示装置１では、表示面７側という表現が上側とも表現され、底面１４側という表現が下側とも表現される。
【００４３】
ここで、素子基板３及び封止基板５のそれぞれの構成について、詳細を説明する。
図４にＣ−Ｃ線又はＤ−Ｄ線で示した断面における断面図である図６に示すように、素子基板３は、基板５１と、素子層５３と、を有している。素子層５３は、駆動素子層５５を含んでいる。
なお、図６では、構成をわかりやすく示すため、図５に示す選択トランジスター３１、駆動トランジスター３３、容量素子３５、走査線ＧＴ、信号線ＳＩ及び電源線ＰＷが省略されている。選択トランジスター３１、駆動トランジスター３３、容量素子３５、走査線ＧＴ、信号線ＳＩ及び電源線ＰＷは、駆動素子層５５に含まれている。
【００４４】
基板５１は、表示面７側に向けられた第１面５２ａと、底面１４側に向けられた第２面５２ｂとを有している。基板５１の材料としては、例えば、ガラスや石英などの光透過性を有する無機材料が採用され得る。本実施形態では、基板５１の材料として、ガラスが採用されている。
駆動素子層５５は、基板５１の第１面５２ａに設けられている。
駆動素子層５５の表示面７側には、画素電極３９が設けられている。画素電極３９の材料としては、例えば、銀、白金、アルミニウム、銅などの光反射性を有する金属や、これらを含む合金などが採用され得る。
【００４５】
画素電極３９を陽極として機能させる場合には、画素電極３９の材料として、銀、白金などの仕事関数が比較的高い材料を用いることが好ましい。また、画素電極３９の材料としてＩＴＯ（Indium Tin Oxide）やインジウム亜鉛酸化物（Indium Zinc Oxide）などを用い、光反射性を有する部材を画素電極３９と駆動素子層５５との間に設けた構成も採用され得る。本実施形態では、画素電極３９の材料としてＩＴＯが採用されている。
【００４６】
隣り合う画素電極３９同士の間には、各画素９を区画する絶縁膜（第１隔壁）５７が領域５８にわたって設けられている。絶縁膜５７は、例えば、酸化シリコン、窒化シリコン、アクリル系の樹脂などの光透過性を有する材料で構成されている。絶縁膜５７は、平面視で、表示領域１１にわたって格子状に設けられている。このため、表示領域１１は、絶縁膜５７によって複数の画素９の領域に区画されている。１つの画素９に着目すると、絶縁膜５７は、平面視で環状に設けられている。なお、各画素電極３９は、絶縁膜５７によって囲まれた各画素９の領域に平面視で重なっている。本実施形態では、絶縁膜５７の材料として酸化シリコンが採用されている。
【００４７】
絶縁膜５７の表示面７側には、各画素９の領域を囲む絶縁膜（第２隔壁）５９及び絶縁膜（第３隔壁）５６が設けられている。絶縁膜５９及び絶縁膜５６は、例えば、カーボンブラックやクロムなどの光吸収性が高い材料を含有するアクリル系の樹脂やポリイミド樹脂などの有機材料で構成されている。
図４を参照して説明したように、図６（ａ）に示したＶ軸方向に平行な断面においては、画素９は、絶縁膜５９によって、個別の画素９ごとに隔てられている。図６（ｂ）に示したＷ軸方向に平行な断面においては、画素９は、絶縁膜５９によって、３個ごとに区切られている。絶縁膜５９の間に位置する３個の画素９は、絶縁膜５６によって、個別の画素９ごとに隔てられている。平面視で、絶縁膜５９は、絶縁膜５７に沿って、格子状に設けられている。絶縁膜５９によって区画された領域には、３個の画素９が位置している。３個の画素９は、２個の絶縁膜５６によって、個別の画素９に区切られている。１つの画素９に着目すると、絶縁膜５９は、平面視で各画素９の領域の３方又は２方を規定しており、残りの１方又は２方を、絶縁膜５６が規定している。絶縁膜５９と絶縁膜５６とで、平面視で各画素９の領域を囲んでいる。絶縁膜５９は、Ｗ軸方向に並ぶ３個の画素９ごとに、環状に設けられているとみなされ得る。
本実施形態では、絶縁膜５９及び絶縁膜５６の材料としてアクリル系の樹脂が採用されている。
画素電極３９の表示面７側には、絶縁膜５９と絶縁膜５６とで囲まれた領域内に、有機層４１が設けられている。
【００４８】
有機層４１は、各画素９に対応して設けられており、正孔注入層６１と、正孔輸送層６３と、発光層６５と、を有している。
正孔注入層６１は、有機材料で構成されており、平面視で絶縁膜５９と絶縁膜５６とによって囲まれた領域内で、画素電極３９の表示面７側に設けられている。
正孔注入層６１の有機材料としては、３，４−ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）等のポリチオフェン誘導体と、ポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）等との混合物が採用され得る。正孔注入層６１の有機材料としては、ポリスチレン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリアセチレンやこれらの誘導体なども採用され得る。
【００４９】
正孔輸送層６３は、有機材料で構成されており、平面視で絶縁膜５９と絶縁膜５６とによって囲まれた領域内で、正孔注入層６１の表示面７側に設けられている。
正孔輸送層６３の有機材料としては、例えば、下記化合物１として示されるＴＦＢなどのトリフェニルアミン系ポリマーを含んだ構成が採用され得る。
【００５０】
【化１】
2013148748.tif 000003
【００５１】
発光層６５は、有機材料で構成されており、平面視で絶縁膜５９と絶縁膜５６とによって囲まれた領域内で、正孔輸送層６３の表示面７側に設けられている。
画素９Ｒに対応する発光層６５の有機材料としては、例えば、下記化合物２として示されるＦ８（ポリジオクチルフルオレン）と、ペリレン染料とを混合したものが採用され得る。
【００５２】
【化２】
2013148748.tif 000004
【００５３】
画素９Ｇに対応する発光層６５の有機材料としては、例えば、下記化合物３として示されるＦ８ＢＴと、上記化合物１として示されるＴＦＢと、上記化合物２として示されるＦ８とを混合したものが採用され得る。
【００５４】
【化３】
2013148748.tif 000005
【００５５】
画素９Ｂに対応する発光層６５の有機材料としては、例えば、上記化合物２として示されるＦ８が採用され得る。
【００５６】
有機層４１の表示面７側には、図６に示すように、絶縁膜５９と絶縁膜５６とによって囲まれた領域内に、電子注入層６７が設けられている。電子注入層６７の材料としては、例えば、マグネシウムと銀とを含む合金や、カルシウムなどが採用され得る。本実施形態では、電子注入層６７の材料として、マグネシウムと銀とを含む合金が採用されている。
電子注入層６７の表示面７側には、共通電極４３が設けられている。共通電極４３は、例えば、アルミニウム等の金属を薄膜化して光透過性を付与したものなどが採用され得る。また、共通電極４３は、例えば、マグネシウムと銀とを含む合金等を薄膜化して光透過性を付与したものなどによっても構成され得る。本実施形態では、共通電極４３として、アルミニウムの薄膜が採用されている。共通電極４３は、電子注入層６７、絶縁膜５９、及び絶縁膜５６を表示面７側から複数の画素９間にわたって覆っている。
【００５７】
なお、表示装置１では、各画素９において発光する領域（以下、発光領域と呼ぶ）は、平面視で画素電極３９と有機層４１と共通電極４３とが重なる領域であると定義され得る。また、画素９ごとに発光領域を構成する要素の一群が１つの有機ＥＬ素子３７であると定義され得る。表示装置１では、１つの有機ＥＬ素子３７は、１つの画素電極３９と、１つの有機層４１と、１つの電子注入層６７と、１つの画素９に対応する共通電極４３とを含んだ構成を有している。
【００５８】
封止基板５は、例えばガラスや石英などの光透過性を有する材料で構成されており、表示面７側に向けられた外向面５ａと、底面１４側に向けられた対向面５ｂとを有している。
上記の構成を有する素子基板３及び封止基板５は、素子基板３の共通電極４３と封止基板５の対向面５ｂとの間が、接着剤１６を介して接合されている。
【００５９】
表示装置１では、図３に示すシール材１７は、図６に示す基板５１の第１面５２ａと、封止基板５の対向面５ｂとによって挟持されている。つまり、表示装置１では、有機ＥＬ素子３７及び接着剤１６が、基板５１及び封止基板５並びにシール材１７によって封止されている。なお、シール材１７は、対向面５ｂ及び共通電極４３の間に設けられていてもよい。この場合、有機ＥＬ素子３７及び接着剤１６は、素子基板３及び封止基板５並びにシール材１７によって封止されているとみなされ得る。
【００６０】
＜表示装置の製造工程＞
次に、表示装置１の製造方法について、図７、図８、図９、及び図１０を参照して説明する。表示装置１の製造方法は、素子基板３を製造する工程と、表示装置１を組み立てる工程とに大別される。
本実施形態では、主に、液滴吐出装置１００を用いて、素子基板３における機能膜を形成する工程について説明する。図７、図８、図９、及び図１０は、素子基板を形成する工程における素子基板の断面形状を示す説明図である。
【００６１】
素子基板３を製造する工程では、図７（ａ）に示すように、まず、基板５１の第１面５２ａに駆動素子層５５を形成する。
次いで、駆動素子層５５の表面に、各画素９に対応した画素電極３９を形成する。画素電極３９を形成する駆動素子層５５の表面は、素子基板３が表示装置１として組み立てられた状態において、表示面７側の面である。
画素電極３９の形成では、例えばスパッタリング技術や真空蒸着技術などの成膜技術や、フォトリソグラフィー技術及びエッチング技術などのパターニング技術が活用され得る。画素電極３９の形成では、まず、例えばスパッタリング技術や真空蒸着技術などを活用して、駆動素子層５５の表面にＩＴＯの膜を形成する。次いで、フォトリソグラフィー技術及びエッチング技術などのパターニング技術を活用して、ＩＴＯの膜をパターニングすることによって画素電極３９が形成され得る。
【００６２】
次に、図７（ｂ）に示すように、隣り合う画素電極３９間に、絶縁膜５７を、各画素電極３９の周縁に重ねて形成する。
絶縁膜５７の形成では、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）技術や、ＰＶＤ（Physical Vapor Deposition）技術などの成膜技術や、フォトリソグラフィー技術及びエッチング技術などのパターニング技術が活用され得る。絶縁膜５７の形成では、まず、例えばＣＶＤ技術やＰＶＤ技術などを活用して酸化シリコンの膜を形成する。次いで、フォトリソグラフィー技術及びエッチング技術などのパターニング技術を活用して、酸化シリコンの膜をパターニングすることによって絶縁膜５７が形成され得る。
【００６３】
次いで、絶縁膜５７の表示面７側に絶縁膜５９及び絶縁膜５６を形成する。上述したように、表示装置１において、絶縁膜５９によって区画された領域には、３個の画素９が位置しており、３個の画素９は、２個の絶縁膜５６によって、個別の画素９に区切られている。画素９が形成される区画を、画素形成区画１９０と表記する。画素形成区画１９０がＷ軸方向に３個並んだ区画を、機能液区画１９１と表記する。機能液区画１９１は、絶縁膜５９によって区画形成された領域である。画素形成区画１９０は、機能液区画１９１が２個の絶縁膜５６によって３分割された区画であり、絶縁膜５９及び絶縁膜５６によって区画形成された領域である。図７（ｂ）に示すように、絶縁膜５９及び絶縁膜５６の絶縁膜５７からの高さ（厚さ）は、絶縁膜５９の方が絶縁膜５６より高く（厚く）なるように形成する。図６（ｂ）に示したように、絶縁膜５６の高さは、有機層４１の上に形成された電子注入層６７の表面よりわずかに高い高さである。
機能液区画１９１が、液溜領域に相当する。絶縁膜５６が、分割壁に相当する。画素形成区画１９０が、画素領域に相当する。
【００６４】
絶縁膜５９及び絶縁膜５６の形成では、まず、ネガ型の感光物質を含むアクリル系の樹脂で、平面視で画素電極３９及び絶縁膜５７を覆う樹脂膜を形成する。この樹脂膜の形成では、スピンコート技術や印刷技術などが活用され得る。次いで、例えばフォトリソグラフィー技術を活用することによって、樹脂膜をパターニングする。これにより、絶縁膜５９、及び平面方向において絶縁膜５６が形成される位置に位置し、高さが絶縁膜５９と同じ高さの壁が形成される。次いで、絶縁膜５６が形成される位置の壁をハーフエッチングして高さを減ずることによって、絶縁膜５９及び絶縁膜５６が形成され得る。
なお、駆動素子層５５から絶縁膜５９までの構成が形成された基板５１は、以下において基板５１ａと呼ばれる。
【００６５】
次いで、基板５１ａにプラズマ処理を施す。このプラズマ処理では、基板５１ａに酸素プラズマ処理を施してから、基板５１ａにＣＦ4プラズマ処理を施す。基板５１ａに酸素プラズマ処理を施すことにより、画素電極３９や絶縁膜５７に、後述する機能液６１ａ、機能液６３ａ、機能液６５ａ等に対する親液性が付与される。また、基板５１ａにＣＦ4プラズマ処理を施すことにより、絶縁膜５９及び絶縁膜５６に、後述する機能液６１ａ、機能液６３ａ、機能液６５ａ等に対する撥液性が付与される。
本実施形態では、処理室内を所定の真空度に保った状態で処理室内に処理ガスを導入しながら、処理室内にプラズマを発生させる方法が採用されている。本実施形態では、酸素プラズマ処理において、処理ガスとして酸素を含むガスが採用されている。また、ＣＦ4プラズマ処理において、処理ガスとして、フッ素化合物を含むガスであるＣＦ4ガスが採用されている。なお、ＣＦ4プラズマ処理では、処理ガスは、ＣＦ4ガスに限定されず、ＳＦ6やＣＨＦ3などのハロゲンガスや、フッ素ガスなども採用され得る。
【００６６】
基板５１ａにプラズマ処理を施す工程に次いで、図８（ｄ）に示すように、絶縁膜５９によって囲まれた機能液区画１９１に機能液６１ａを配置する。機能液６１ａには、正孔注入層６１を構成する有機材料が含まれている。機能液６１ａの配置には、上述した液滴吐出ヘッド１２０を利用したインクジェット法が活用され得る。
液滴吐出ヘッド１２０から機能液６１ａなどを液滴６１ｂとして吐出する技術は、インクジェット技術と呼ばれる。そして、インクジェット技術を活用して機能液６１ａなどを所定の位置に配置する方法は、インクジェット法と呼ばれる。このインクジェット法は、塗布法の１つである。
【００６７】
液滴吐出装置１００の液滴吐出ヘッド１２０を用いて、基板５１ａに機能液６１ａなどを配置する場合、基板５１ａを液滴吐出装置１００のワーク載置台１２９にセットする。セットされた基板５１ａは、Ｗ軸方向が図１に示したＹ軸方向に一致するように、アライメントする。図８（ｃ）は、液滴吐出ヘッド１２０の吐出ノズル１２４を示す模式図である。図８（ｃ）に示した吐出ノズル１２４は、図８（ｄ）に示した基板５１ａの機能液区画１９１に対するＷ軸方向（Ｙ軸方向）における位置を示している。Ｗ軸方向がＹ軸方向に一致するようにアライメントされた基板５１ａにおいて、機能液区画１９１は、機能液区画１９１のＷ軸方向における幅（Ｗ軸方向の長さ）が、吐出ノズル１２４のノズルピッチより長くなるように形成されている。なお、本実施形態では、１列の画素列２１には、１列のノズル列１２４Ａを用いて機能液６１ａなどを配置するため、図８（ｃ）に示した吐出ノズル１２４のノズルピッチは、図２を参照して説明したノズル列１２４ＡにおけるノズルピッチＰである。Ｙ軸方向において、１個所の機能液区画１９１に対して、概ね２個の吐出ノズル１２４が対向可能であり、１個所の機能液区画１９１に対して、概ね２個の吐出ノズル１２４から機能液６１ａなどを吐出して着弾させることができる。
【００６８】
機能液６１ａに含まれる固形成分は、例えば数パーセントである。３個所の正孔注入層６１を形成するために必要な機能液６１ａを機能液区画１９１に供給すると、図８（ｄ）に示すように、機能液６１ａは、画素形成区画１９０から溢れて、機能液区画１９１に一連する液溜りとなる。絶縁膜５９には、機能液６１ａに対する撥液性が付与されているため、機能液６１ａは、絶縁膜５９を越えることが抑制され、機能液区画１９１に溜められる。
なお、機能液６１ａには、ＰＥＤＯＴとＰＳＳとの混合物を、溶媒に溶解させた構成が採用され得る。溶媒としては、例えば、ジエチレングリコール、イソプロピルアルコール、ノルマルブタノールなどが採用され得る。
【００６９】
機能液区画１９１に配置された機能液６１ａを減圧乾燥法で乾燥させてから焼成を行うことによって、図９（ｅ）に示す正孔注入層６１が形成され得る。正孔注入層６１の体積は、対応する機能液６１ａの体積の数パーセントである。このため、機能液区画１９１に一連する機能液６１ａの液溜りが乾燥させられて、３個所の画素形成区画１９０のそれぞれに位置する、３個の正孔注入層６１が形成される。絶縁膜５６には、機能液６１ａに対する撥液性が付与されている。これにより、機能液６１ａは絶縁膜５６に付着し難いため、機能液６１ａの液溜りが乾燥させられる過程において液溜りの体積が減少すると、機能液６１ａは絶縁膜５６によって画素形成区画１９０ごとに分離されて、画素形成区画１９０の底に位置する。機能液６１ａが画素形成区画１９０の底に位置した状態で乾燥させられて、当該位置に正孔注入層６１が形成される。
なお、減圧乾燥法は、減圧環境下で行う乾燥方法であり、真空乾燥法とも呼ばれる。減圧環境とは、大気圧よりも低い圧力が保たれる環境である。また、機能液６１ａの焼成条件は、環境温度が約２００℃で、保持時間が約１０分間である。
画素形成区画１９０に形成された正孔注入層６１が、画素機能膜に相当する。機能液区画１９１における３個所の画素形成区画１９０に形成された正孔注入層６１が、液溜領域機能膜に相当する。
【００７０】
次いで、図９（ｆ）に示すように、絶縁膜５９によって囲まれた機能液区画１９１内に、機能液６３ａを配置する。機能液６３ａには、正孔輸送層６３を構成する有機材料が含まれている。機能液６３ａは、上述した機能液６１ａと同様に、液滴吐出ヘッド１２０の吐出ノズル１２４から機能液６３ａを液滴として吐出することによって配置される。上述したように、１個所の機能液区画１９１に対して、概ね２個の吐出ノズル１２４から機能液６３ａを吐出して着弾させることができる。
【００７１】
機能液６３ａに含まれる固形成分は、例えば数パーセントである。３個所の正孔輸送層６３を形成するために必要な機能液６３ａを機能液区画１９１に供給すると、図９（ｆ）に示すように、機能液６３ａは、画素形成区画１９０から溢れて、機能液区画１９１に一連する液溜りとなる。絶縁膜５９には、機能液６３ａに対する撥液性が付与されているため、機能液６３ａは、絶縁膜５９を越えることが抑制され、機能液区画１９１に溜められる。
機能液区画１９１に一連する液溜りが形成されたとき、正孔注入層６１は、機能液６３ａによって覆われる。なお、機能液６３ａには、ＴＦＢを溶媒に溶解させた構成が採用され得る。溶媒としては、例えば、シクロヘキシルベンゼンなどが採用され得る。
【００７２】
機能液区画１９１に配置された機能液６３ａを減圧乾燥法で乾燥させてから、不活性ガス中で焼成を行うことによって、図１０（ｇ）に示す正孔輸送層６３が形成され得る。正孔輸送層６３の体積は、対応する機能液６３ａの体積の数パーセントである。このため、機能液区画１９１に一連する機能液６３ａの液溜りが乾燥させられて、３個所の画素形成区画１９０のそれぞれに位置する、３個の正孔輸送層６３が形成される。絶縁膜５６には、機能液６３ａに対する撥液性が付与されている。これにより、機能液６３ａは絶縁膜５６に付着し難いため、機能液６３ａの液溜りが乾燥させられる過程において液溜りの体積が減少すると、機能液６３ａの液溜りは絶縁膜５６によって画素形成区画１９０ごとに分離されて、画素形成区画１９０の底に位置する。機能液６３ａが画素形成区画１９０の底に位置した状態で乾燥させられて、当該位置に正孔輸送層６３が形成される。なお、機能液６３ａの焼成条件は、環境温度が約１３０℃で、保持時間が約１時間である。
画素形成区画１９０に形成された正孔輸送層６３が、画素機能膜に相当する。機能液区画１９１における３個所の画素形成区画１９０に形成された正孔輸送層６３が、液溜領域機能膜に相当する。
【００７３】
次いで、図１０（ｇ）に示すように、絶縁膜５９によって囲まれた機能液区画１９１内に、機能液６５ａを配置する。機能液６５ａには、発光層６５を構成する有機材料が含まれている。機能液６５ａは、上述した機能液６１ａや機能液６３ａと同様に、液滴吐出ヘッド１２０の吐出ノズル１２４から機能液６５ａを液滴として吐出することによって配置される。上述したように、１個所の機能液区画１９１に対して、概ね２個の吐出ノズル１２４から機能液６５ａを吐出して着弾させることができる。
【００７４】
機能液６５ａに含まれる固形成分は、例えば数パーセントである。３個所の発光層６５を形成するために必要な機能液６５ａを機能液区画１９１に供給すると、図１０（ｇ）に示すように、機能液６５ａは、画素形成区画１９０から溢れて、機能液区画１９１に一連する液溜りとなる。絶縁膜５９には、機能液６５ａに対する撥液性が付与されているため、機能液６５ａは、絶縁膜５９を越えることが抑制され、機能液区画１９１に溜められる。
機能液区画１９１に一連する機能液６５ａの液溜りが形成されたとき、正孔輸送層６３は、機能液６５ａによって覆われる。なお、機能液６５ａには、画素９Ｒ、画素９Ｇ及び画素９Ｂのそれぞれに対応する発光層６５を構成する有機材料を溶媒に溶解させた構成が採用され得る。溶媒としては、例えば、シクロヘキシルベンゼンなどが採用され得る。
【００７５】
次に、機能液区画１９１に一連する機能液６５ａの液溜りを減圧乾燥法で乾燥させてから、不活性ガス中で焼成を行うことによって、図１０（ｈ）に示す発光層６５が形成され得る。発光層６５の体積は、対応する機能液６５ａの体積の数パーセントである。このため、機能液区画１９１に一連する機能液６５ａの液溜りが乾燥させられて、３個所の画素形成区画１９０のそれぞれに位置する、３個の発光層６５が形成される。絶縁膜５６には、機能液６５ａに対する撥液性が付与されている。これにより、機能液６５ａは絶縁膜５６に付着し難いため、機能液６５ａの液溜りが乾燥させられる過程において、液溜りの体積が減少すると、機能液６５ａの液溜りは絶縁膜５６によって画素形成区画１９０ごとに分離されて、画素形成区画１９０の底に位置する。機能液６５ａが画素形成区画１９０の底に位置した状態で乾燥させられて、当該位置に発光層６５が形成される。機能液６５ａの焼成条件は、環境温度が約１３０℃で、保持時間が約１時間である。
画素形成区画１９０に形成された発光層６５が、画素機能膜に相当する。機能液区画１９１における３個所の画素形成区画１９０に形成された発光層６５が、液溜領域機能膜に相当する。
【００７６】
次いで、蒸着技術などを活用してマグネシウムと銀とを含む合金の膜を、絶縁膜５９によって囲まれた各画素９の領域内に形成することにより、図１０（ｈ）に示す電子注入層６７が形成され得る。このとき、電子注入層６７は、絶縁膜５９及び絶縁膜５６をマスクで表示面７側から覆った状態で形成され得る。
次いで、蒸着技術を活用してアルミニウム等の膜を形成することにより、図６に示した共通電極４３が形成され得る。これにより、素子基板３が製造され得る。
【００７７】
表示装置１を組み立てる工程では、図３を参照して説明したように、素子基板３及び封止基板５を、接着剤１６及びシール材１７を介して接合する。
このとき、素子基板３及び封止基板５は、図６を参照して説明したように、基板５１の第１面５２ａと、封止基板５の対向面５ｂとが向き合った状態で接合される。これにより、表示装置１が製造され得る。
【００７８】
ここで、上述した素子基板３の製造工程、及び表示装置１の組立工程は、それぞれ、マザー基板の状態で実施される。組立工程が終了した後、マザー基板を個別の表示装置１に分割する。
【００７９】
＜表示装置の他の例＞
次に、表示装置１とは一部の構成が異なる表示装置２０１について、図１１、及び図１２を参照して説明する。図１１は、表示装置における複数の画素の一部を示す平面図である。図１２は、図１１にＦＦで示した断面における断面図であり、素子基板における画素の断面形状を示す断面図である。
表示装置２０１は、素子基板２０３を備えている。
【００８０】
図１１に示すように、表示装置２０１は、画素２０９を備えている。画素２０９は、Ｒの光を射出する画素２０９Ｒ、Ｇの光を射出する画素２０９Ｇ、又はＢの光を射出する画素２０９Ｂのいずれかである。
画素２０９Ｒ、画素２０９Ｇ、及び画素２０９Ｂは、画素間を区切る構成が、画素９Ｒ、画素９Ｇ、又は画素９Ｂと異なっている。
画素２０９Ｒ、画素２０９Ｇ、及び画素２０９Ｂから射出される光は、画素９Ｒ、画素９Ｇ、又は画素９Ｂから射出される光と同様である。Ｗ軸方向に沿って一列に並ぶ複数の画素２０９Ｒ、画素２０９Ｇ、又は画素２０９Ｂが、１つの画素列２２１（２２１Ｒ、２２１Ｇ、又は２２１Ｂ）を構成している。また、Ｖ軸方向に沿って一列に並ぶ複数の画素２０９Ｒ、画素２０９Ｇ、及び画素２０９Ｂが、１つの画素行２２３を構成している。
【００８１】
隣り合う画素列２２１の間には、表示装置１と同様に、Ｗ軸方向に延在する絶縁膜（第２隔壁）５９が設けられており、Ｖ軸方向において隣り合う画素２０９を隔てている。Ｗ軸方向に並ぶ３個の画素２０９ごとに、Ｖ軸方向に延在する絶縁膜５９が設けられている。すなわち、絶縁膜５９に囲まれる領域に、３個の画素２０９が形成されている。Ｗ軸方向において、絶縁膜５９と絶縁膜５９との間には、Ｖ軸方向に延在する分離帯膜２５６が、２本設けられている。表示面７（図３参照）側から観ると、絶縁膜５９に囲まれてＷ軸方向に並ぶ３個の画素２０９は、分離帯膜２５６によって、画素２０９に分けられている。
【００８２】
図１２に示すように、素子基板２０３において、絶縁膜５９によって区画された機能液区画２９１には、画素電極３９が３個、形成されている。隣り合う画素電極３９同士の間には、絶縁膜（第１隔壁）５７が設けられている。画素電極３９及び絶縁膜５７を覆う状態で、正孔注入層２６１と、正孔輸送層２６３と、発光層２６５とが積層して形成されている。発光層２６５の上には、電子注入層２６７が設けられている。電子注入層２６７及び絶縁膜５９を覆う状態で、共通電極４３が形成されている。機能液区画２９１内の画素電極３９と、絶縁膜５７と、正孔注入層２６１と、正孔輸送層２６３と、発光層２６５と、共通電極４３とで、３個の画素２０９を構成している。機能液区画２９１内の３個の画素２０９は、表示面７（図３参照）側から観ると、共通電極４３の上に形成された分離帯膜２５６によって、個別の画素２０９に分けられている。
それぞれの画素２０９には、画素電極３９が１個、配設されている。正孔注入層２６１と正孔輸送層２６３と発光層２６５とにおける、１個の画素電極３９に重なる部分で、１個の画素２０９に対応する有機層２４１を形成している。
【００８３】
表示装置２０１の素子基板２０３は、表示装置１の素子基板３と同様にして形成することができる。素子基板２０３を形成する過程において駆動素子層５５から絶縁膜５９までの構成が形成された基板５１を、基板２５１ａと表記する。基板２５１ａは、基板５１ａから絶縁膜５６を除いた構成を有している。基板２５１ａにおける絶縁膜５９によって区画された領域を、機能液区画２９１と表記する。機能液区画２９１が、液溜領域に相当する。
正孔注入層２６１、正孔輸送層２６３、及び発光層２６５は、機能液区画２９１に、機能液６１ａ、機能液６３ａ、又は機能液６５ａの液溜りを形成し、当該液溜りを乾燥させることによって形成することができる。機能液区画２９１には、基板５１ａの機能液区画１９１における絶縁膜５６は存在しない。このため、正孔注入層２６１、正孔輸送層２６３、及び発光層２６５は、機能液区画２９１内で連続した膜である。正孔注入層２６１、正孔輸送層２６３、及び発光層２６５が、液溜領域機能膜に相当する。
【００８４】
次いで、蒸着技術などを活用してマグネシウムと銀とを含む合金の膜を、絶縁膜５９によって囲まれた機能液区画２９１の領域内に形成することにより、図１２に示す電子注入層２６７が形成され得る。
次いで、蒸着技術を活用してアルミニウム等の膜を形成することにより、図１２に示した共通電極４３が形成され得る。
次いで、機能液区画２９１における絶縁膜５７と略重なる部分（３個の画素電極３９の間の部分と重なる部分）に、分離帯膜２５６を形成する。分離帯膜２５６は遮光性を有する膜である。２個所の分離帯膜２５６によって、機能液区画２９１に形成された正孔注入層２６１、正孔輸送層２６３、発光層２６５、及び電子注入層２６７は、表示面７側から観て、３個の画素２０９に分割される。３個に分割された発光層２６５などからなるそれぞれの画素２０９には、独立した画素電極３９が配置されており、それぞれの画素２０９は、１個の画素として機能する。
これにより、素子基板２０３が製造され得る。
分離帯膜２５６が、領域分割膜に相当する。正孔注入層２６１、正孔輸送層２６３、及び発光層２６５における、１個の画素２０９に対応する部分が、画素機能膜に相当する。
【００８５】
画素電極３９と、当該画素電極３９に重なる有機層２４１と、電子注入層２６７における当該有機層２４１に重なる部分と、共通電極４３における当該有機層２４１に重なる部分とで、１個の画素２０９が形成される。機能液区画２９１に形成された３個の画素２０９は、分離帯膜２５６によって、個別の画素２０９に分離されている。
【００８６】
表示装置２０１を組み立てる工程では、上述した表示装置１と同様に、素子基板２０３及び封止基板５を、接着剤１６及びシール材１７を介して接合する。
このとき、素子基板２０３及び封止基板５は、図６を参照して説明したように、基板５１の第１面５２ａと、封止基板５の対向面５ｂとが向き合った状態で接合される。これにより、表示装置２０１が製造され得る。
【００８７】
以下、実施形態による効果を記載する。本実施形態によれば、以下の効果が得られる。
（１）機能液区画１９１及び機能液区画２９１は、Ｗ軸方向における幅（Ｗ軸方向の長さ）が、吐出ノズル１２４のノズルピッチより長くなるように形成されている。これにより、１回の吐出走査の間に、機能液区画１９１及び機能液区画２９１には、１個以上の吐出ノズル１２４を臨ませることができる。機能液区画１９１又は機能液区画２９１に臨んだ吐出ノズル１２４から吐出させた機能液を、機能液区画１９１又は機能液区画２９１に着弾させることができる。
【００８８】
（２）機能液区画１９１及び機能液区画２９１は、Ｗ軸方向における幅が、２個の吐出ノズル１２４が臨むことができる程度の幅であって、ノズル列１２４Ａの長さより短い。このため、１個所の機能液区画１９１又は機能液区画２９１に、１回の吐出走査において、機能液を配置することができる。異なる吐出走査において配置された機能液は、配置される時点が異なるため、乾燥する時点が異なり、境界が明確になる可能性が高い。明確な境界は筋状のむらとして視認され易い。１回の吐出走査において、機能液を配置することができることで、むらとして視認されやすい境界を形成することなく、機能液６１ａなどを配置することができる。
【００８９】
（３）１列の画素列２１には、１列のノズル列１２４Ａを用いて機能液６１ａなどを配置していた。液滴吐出ヘッド１２０が備える３本のノズル列から、それぞれ異なる機能液を吐出することで、１回の吐出走査において、３種類の機能液を配置することができる。例えば、１回の吐出走査において、画素９Ｒの画素列２１、画素９Ｇの画素列２１、及び画素９Ｂの画素列２１に、画素９Ｒ、画素９Ｇ、又は画素９Ｂに対応する機能液６５ａをそれぞれ配置することができる。
【００９０】
（４）機能液区画１９１を区画形成する絶縁膜５９は、機能液６１ａなどを溜められる高さを有している。絶縁膜５６は、有機ＥＬ素子３７の厚さていどの高さを有しており、機能液区画１９１に機能液６１ａなどが満たされて液溜りが形成された状態では、絶縁膜５６は、機能液６１ａなどの中に没している。これにより、機能液区画１９１に機能液６１ａなどの一連の液溜りを形成することができる。加えて、液溜りを乾燥させて形成する正孔注入層６１などを、個別の画素９ごとに分離された膜にすることができる。
【００９１】
以上、添付図面を参照しながら好適な実施形態について説明したが、好適な実施形態は、前記実施形態に限らない。実施形態は、要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論であり、以下のように実施することもできる。
【００９２】
（変形例１）前記実施形態においては、表示装置１や表示装置２０１は、有機ＥＬ素子３７を備える有機ＥＬ表示装置であった。しかし、上述した電気光学装置の製造方法を用いて好適に製造できる電気光学装置は有機ＥＬ装置に限らない。製造工程において液状体を配置して機能膜を形成する工程を有する電気光学装置であれば、どのような電気光学装置であってもよい。例えば、上述した電気光学装置の製造方法を用いてカラーフィルター膜を形成し、カラーフィルターを備える液晶装置を好適に製造することができる。
【００９３】
（変形例２）前記実施形態においては、蒸着技術などを活用してマグネシウムと銀とを含む合金の膜を、絶縁膜５９によって囲まれた領域内に形成することにより、電子注入層６７や電子注入層２６７を形成していた。しかし、電子注入層も、機能液を配置して形成してもよい。マグネシウムと銀とを含む合金の微粒子を含有する機能液を、機能液６１ａなどと同様に、機能液区画１９１のような液溜領域に配置し、当該機能液を乾燥させることで、電子注入層を形成することができる。
この場合、画素形成区画１９０に形成された電子注入層６７が、画素機能膜に相当する。機能液区画１９１における３個所の画素形成区画１９０に形成された電子注入層６７が、液溜領域機能膜に相当する。
電子注入層２６７が、液溜領域機能膜に相当する。分離帯膜２５６が、領域分割膜に相当する。電子注入層２６７における、分離帯膜２５６によって分割されて１個の画素に対応する部分が、画素機能膜に相当する。
【００９４】
（変形例３）前記実施形態においては、機能液区画１９１や機能液区画２９１は画素９などを３個形成する領域であった。しかし、機能液区画１９１などの液溜領域が電気光学装置の３個の画素に対応する大きさであることは必須ではない。液溜領域は、液滴吐出ヘッドが備えるノズル列の延在方向における幅が、ノズル列におけるノズルピッチ以上であるとともに、ノズル列の長さ以下であれば、画素をいくつ含む大きさであってもよい。
【００９５】
（変形例４）前記実施形態においては、１列の画素列２１には、１列のノズル列１２４Ａを用いて機能液６１ａなどを配置していた。しかし、例えば、液滴吐出ヘッド１２０が備える３本のノズル列１２４Ａに含まれる全ての吐出ノズル１２４を用いて、１列の画素列２１に機能液を配置してもよい。この場合、Ｙ軸方向におけるノズルピッチが１／３Ｐになるため、表示装置１や表示装置２０１より小さい画素を備える電気光学装置にも、容易に対応することができる。
【００９６】
（変形例５）前記実施形態においては、有機ＥＬ素子３７は、正孔注入層６１と正孔輸送層６３と発光層６５と電子注入層６７とが、画素電極３９と共通電極４３とに挟まれた構成であったが、有機ＥＬ素子は、このような構成に限らない。有機ＥＬ素子は、発光層のみが画素電極と対向電極とに挟まれた構成のものや、正孔輸送層と発光層と電子輸送層とが挟まれた構成のものや、正孔輸送層と発光層と電子輸送層と正孔注入層と電子注入層とが挟まれた構成のものなどが知られている。本発明の電気光学装置の製造方法は、これらの電子輸送層や正孔注入層や電子注入層の形成にも適用することができる。
【００９７】
（変形例６）前記実施形態においては、液滴吐出装置１００において、１回の吐出走査におけるＹ軸方向の描画範囲は、液滴吐出ヘッド１２０における、ノズル列１２４Ａの長さである。Ｙ軸方向の描画範囲を広げるためには、複数の液滴吐出ヘッド１２０をＹ軸方向に連ねてもよい。複数の液滴吐出ヘッド１２０をＹ軸方向に連ねることで、１回の吐出走査において機能液を配置することができる幅を、複数の液滴吐出ヘッド１２０が備える複数のノズル列１２４Ａを連ねた長さに相当する幅にすることができる。
【００９８】
（変形例７）前記実施形態においては、表示装置１は有機層４１からの光を封止基板５を介して表示面７から射出するトップエミッション型の有機ＥＬ装置であったが、有機ＥＬ装置はトップエミッション型に限定されない。有機ＥＬ装置は、有機層４１からの光を素子基板３を介して底面１４から射出するボトムエミッション型も採用され得る。ボトムエミッション型では、有機層４１からの光は、素子基板の面から射出される。
【符号の説明】
【００９９】
１…表示装置、３…素子基板、５…封止基板、７…表示面、９…画素、９Ｂ，９Ｇ，９Ｒ…画素、２１…画素列、２１Ｂ，２１Ｇ，２１Ｒ…画素列、２３…画素行、３７…有機ＥＬ素子、３９…画素電極、４１…有機層、４３…共通電極、５１…基板、５１ａ…基板、５２ａ…第１面、５２ｂ…第２面、５３…素子層、５５…駆動素子層、５６…絶縁膜、５７…絶縁膜、５９…絶縁膜、６１…正孔注入層、６１ａ…機能液、６３…正孔輸送層、６３ａ…機能液、６５…発光層、６５ａ…機能液、６７…電子注入層、１００…液滴吐出装置、１０２…ヘッド機構部、１２０…液滴吐出ヘッド、１２４…吐出ノズル、１２４Ａ…ノズル列、１９０…画素形成区画、１９１…機能液区画、２０１…表示装置、２０３…素子基板、２０９…画素、２０９Ｂ，２０９Ｇ，２０９Ｒ…画素、２２１…画素列、２２３…画素行、２４１…有機層、２５１ａ…基板、２５６…分離帯膜、２６１…正孔注入層、２６３…正孔輸送層、２６５…発光層、２６７…電子注入層、２９１…機能液区画。
【図１】
2013148748.tif 000006
【図２】
2013148748.tif 000007
【図３】
2013148748.tif 000008
【図４】
2013148748.tif 000009
【図５】
2013148748.tif 000010
【図６】
2013148748.tif 000011
【図７】
2013148748.tif 000012
【図８】
2013148748.tif 000013
【図９】
2013148748.tif 000014
【図１０】
2013148748.tif 000015
【図１１】
2013148748.tif 000016
【図１２】
2013148748.tif 000017