(57)【要約】【課題】ディスプレイに組み込んだ表面処理フィルムであって、隠蔽層を厚みが観察者側から凹凸として認識されない表面処理フィルムを提供することを課題とする。【解決手段】透明基材上に少なくとも隠蔽層を有する表面処理フィルムにおいて、前記隠蔽層形成された透明基材の面と同一の面の上で、かつ前記隠蔽層で囲まれる部分が透明樹脂層により補間されていることを特徴とする表面処理フィルムとした。さらには、前記隠蔽層および前記透明樹脂層からなる層の上に平坦層を有することを特徴とする表面処理フィルムとした。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材上に少なくとも隠蔽層を有する表面処理フィルムにおいて、前記隠蔽層形成された透明基材の面と同一の面の上で、かつ前記隠蔽層で囲まれる部分に透明樹脂層が形成されていることを特徴とする表面処理フィルム。
【請求項２】
前記隠蔽層および前記透明樹脂層からなる層の上に平坦層を有することを特徴とする請求項１に記載の表面処理フィルム。
【請求項３】
前記隠蔽層および前記透明樹脂層の端部がオーバーラップしており、隠蔽層および透明樹脂層のオーバーラップ部の幅が１００μｍ以上３００μｍ以下であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の表面処理フィルム。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の表面処理フィルムであって、さらに、ハードコート層を有し、前記ハードコート層が透明基材の隠蔽層および透明樹脂層が形成されている面の側の最表面もしくは隠蔽層および透明樹脂層が形成されている面の反対側の面に形成されていることを特徴とするハードコートフィルム。
【請求項５】
請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の表面処理フィルムであって、さらに、ハードコート層および低屈折率層を透明基材の隠蔽層および透明樹脂層が形成されている面の側もしくは隠蔽層および透明樹脂層が形成されている面の反対側の面に有し、前記低屈折率層がハードコート層よりも表面側に形成されていることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項６】
表面処理フィルムの製造方法であって、透明基材上に熱硬化型材料及び顔料を含む隠蔽層形成塗液を塗布し塗膜を形成する工程と、前記塗膜に対し加熱し隠蔽層を形成する工程と、透明基材上に熱硬化型材料を含む透明樹脂層形成塗液を塗布し塗膜を形成する工程と、前記塗膜に対し加熱し透明樹脂層を形成する工程を備えることを特徴とする表面処理フィルムの製造方法。
【請求項７】
表面処理フィルムの製造方法であって、透明基材上に熱硬化型材料を含む透明樹脂層形成塗液を塗布し塗膜を形成する工程と、前記塗膜に対し加熱し透明樹脂層を形成する工程と、透明基材上に熱硬化型材料及び顔料を含む隠蔽層形成塗液を塗布し塗膜を形成する工程と、前記塗膜に対し加熱し隠蔽層を形成する工程を備えることを特徴とする表面処理フィルムの製造方法。
【請求項８】
透明基材上に熱硬化型材料を含む透明樹脂層形成塗液を塗布し塗膜を形成し前記塗膜に対し加熱し透明樹脂層を形成する工程および、前記透明基材上に熱硬化型材料及び顔料を含む隠蔽層形成塗液を塗布し塗膜を形成し前記塗膜に対し加熱し隠蔽層を形成する工程を少なくとも2回以上繰り返すことで前記隠蔽層および前記透明樹脂層を形成することを特徴とする請求項６または請求項７に記載の表面処理フィルムの製造方法。
【請求項９】
長方形の凸部を有し前記長方形の凸部の内部に長方形の凹部を有する額縁版と長方形の凸部を有する中抜き版であって、前記額縁版の上記凹部の長辺の長さと中抜き版の上記凸部の長辺の長さが、両端で額縁版の上記凸部の方がそれぞれ１００μｍから６００μｍ短く、前記額縁版の上記凹部の短辺の長さと中抜き版の上記凸部の短辺の長さが、両端で額縁版の上記凸部の方がそれぞれ１００μｍから６００μｍ短いことを特徴とする額縁版および中抜き版。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、プロジェクションディスプレイ、ＥＬディスプレイ等のディスプレイの表示画面に適用される表面処理フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ディスプレイの画像表示部の外縁、いわゆる額縁部の意匠を向上させるために種々の技術が提案されている。
【０００３】
その背景としては、額縁部にはディプレイを駆動させるための配線が施されており、その配線が観察者から隠す必要がある。そのため、現在、上記配線を筐体で隠す方法、額縁部分を隠蔽する目的で形成された印刷層で隠す方法などが提案されている。（例えば、特許文献１参照）
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】ＫＲ１０１０２７７９６Ｂ１
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
一方、額縁部分を印刷層で隠す方法の場合、隠蔽層を表面処理フィルムに直接印刷する場合であっても、別のフィルムに印刷しラミネートする場合であっても、隠蔽層の厚みが観察者側から凹凸として認識されてしまい、せっかくの意匠が損なわれてしまうという課題があった。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、額縁部分を印刷層で隠す方法の場合の隠蔽層を表面処理フィルムに直接印刷する場合であっても、別のフィルムに印刷してラミネートする場合であっても、隠蔽層を厚みが観察者側から凹凸として認識されない表面処理フィルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上記課題を解決するためになされたもので、額縁部に印刷された隠蔽層の凹凸をなくした表面処理フィルムおよびその製造方法を提供するものである。
【０００７】
具体的には、上記課題を解決するため請求項１にかかる発明としては、透明基材上に少なくとも隠蔽層を有する表面処理フィルムにおいて、前記隠蔽層形成された透明基材の面と同一の面の上で、かつ前記隠蔽層で囲まれる部分に透明樹脂層が形成されていることを特徴とする表面処理フィルムを提供する。
【０００８】
請求項２にかかる発明としては、前記隠蔽層および前記透明樹脂層からなる層の上に平坦層を有することを特徴とする請求項１に記載の表面処理フィルムを提供する。
【０００９】
請求項３にかかる発明としては、前記隠蔽層および前記透明樹脂層の端部がオーバーラップしており、隠蔽層および透明樹脂層のオーバーラップ部の幅が１００μｍ以上３００μｍ以下であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の表面処理フィルムを提供する。
【００１０】
請求項４にかかる発明としては、請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の表面処理フィルムであって、さらに、ハードコート層を有し、前記ハードコート層が透明基材の隠蔽層および透明樹脂層が形成されている面の側の最表面もしくは隠蔽層および透明樹脂層が形成されている面の反対側の面に形成されていることを特徴とするハードコートフィルムを提供する。
【００１１】
請求項５にかかる発明としては、請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の表面処理フィルムであって、さらに、ハードコート層および低屈折率層を透明基材の隠蔽層および透明樹脂層が形成されている面の側もしくは隠蔽層および透明樹脂層が形成されている面の反対側の面に有し、前記低屈折率層がハードコート層よりも表面側に形成されていることを特徴とする反射防止フィルムを提供する。
【００１２】
請求項６にかかる発明としては、表面処理フィルムの製造方法であって、透明基材上に熱硬化型材料及び顔料を含む隠蔽層形成塗液を塗布し塗膜を形成する工程と、前記塗膜に対し加熱し隠蔽層を形成する工程と、透明基材上に熱硬化型材料を含む透明樹脂層形成塗液を塗布し塗膜を形成する工程と、前記塗膜に対し加熱し透明樹脂層を形成する工程を備えることを特徴とする表面処理フィルムの製造方法を提供する。
【００１３】
請求項７にかかる発明としては、表面処理フィルムの製造方法であって、透明基材上に熱硬化型材料を含む透明樹脂層形成塗液を塗布し塗膜を形成する工程と、前記塗膜に対し加熱し透明樹脂層を形成する工程と、透明基材上に熱硬化型材料及び顔料を含む隠蔽層形成塗液を塗布し塗膜を形成する工程と、前記塗膜に対し加熱し隠蔽層を形成する工程を備えることを特徴とする表面処理フィルムの製造方法を提供する。
【００１４】
請求項８にかかる発明としては、透明基材上に熱硬化型材料を含む透明樹脂層形成塗液を塗布し塗膜を形成し前記塗膜に対し加熱し透明樹脂層を形成する工程および、前記透明基材上に熱硬化型材料及び顔料を含む隠蔽層形成塗液を塗布し塗膜を形成し前記塗膜に対し加熱し隠蔽層を形成する工程を少なくとも2回以上繰り返すことで前記隠蔽層および前記透明樹脂層を形成することを特徴とする請求項６または請求項７に記載の表面処理フィルムの製造方法を提供する。
【００１５】
請求項９にかかる発明としては、長方形の凸部を有し前記長方形の凸部の内部に長方形の凹部を有する額縁版と長方形の凸部を有する中抜き版であって、前記額縁版の上記凹部の長辺の長さと中抜き版の上記凸部の長辺の長さが、両端で額縁版の上記凸部の方がそれぞれ１００μｍから６００μｍ短く、前記額縁版の上記凹部の短辺の長さと中抜き版の上記凸部の短辺の長さが、両端で額縁版の上記凸部の方がそれぞれ１００μｍから６００μｍ短いことを特徴とする額縁版および中抜き版を提供する。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によると、透明樹脂層により隠蔽層の厚みによる凹凸が平坦化された表面処理フィルムが提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明に係る表面処理フィルムの断面の説明図
【図２】本発明に係るハードコートフィルムの断面の説明図
【図３】本発明に係る反射防止フィルムの断面の説明図
【図４】本発明に係る隠蔽層および透明樹脂層の印刷版の説明図
【図５】本発明に係る隠蔽層および透明樹脂層の重ね塗りによる製造方法の説明図
【図６】本発明に係る隠蔽層および透明樹脂層のオーバーラップ部分の説明図
【図７】反射防止フィルムに本発明に係る表面処理フィルムをラミネートしたものの説明図
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。なお、下記実施の形態については一例であり、これらに限定されるものではない。
【００１９】
図１に、本発明に基づく実施形態に係る表面処理フィルムの断面模式図を示した。本発明の表面処理フィルム１１は、図１に示すように、透明基材１２の少なくとも片面に隠蔽層１３と、上記隠蔽層形成された透明基材の面と同一の面の上で、かつ上記隠蔽層に囲まれた部分を覆う透明樹脂層１４を備える。上記隠蔽層１２はすくなくとも熱硬化型材料と顔料を含む塗液を用いて、上記透明基材１２上に塗液を塗布し、加熱により熱硬化型材料を硬化することにより形成される。上記透明樹脂層１４は、少なくとも熱硬化型材料を含む塗液を用いて、上記透明基材１２の上の上記隠蔽層１３に囲まれた部分に塗液を塗布し、加熱により熱硬化型材料を硬化することにより形成される。
また、本発明の表面処理フィルムにあっては、隠蔽層１３及び透明樹脂層１４の設けられた透明基材の面、もしくは隠蔽層１３及び透明樹脂層１４が設けられた透明基材１２の面とは反対側の透明基材の面上にハードコート層２２を設けることでハードコートフィルム２１（図２）、上記ハードコートフィルムのハードコート層２２の上に低屈折率層３２を設けることで反射防止フィルム３１（図３）、隠蔽層及び透明樹脂層の設けられた透明基材の面、もしくは隠蔽層及び透明樹脂層が設けられた透明基材の面とは反対側の透明基材上に防眩性ハードコート層を設けることで防眩性フィルム等とすることができる。
【００２０】
本発明の表面処理フィルムにあっては、上記隠蔽層の厚みは、隠蔽層形成用塗布液に含まれる顔料の濃度によって決まる。上記隠蔽層は厚みが２μｍ以上５μｍ以下であり光透過率が１０％未満であることを特徴とする。
【００２１】
本発明の表面処理フィルムにあっては、上記隠蔽層の厚みと上記透明樹脂層の厚みの差が０．５μｍ以内であることを特徴とする。上記隠蔽層の厚みと上記透明樹脂層の厚みの差が０．５μｍを超える場合には、ディスプレイに表面処理フィルムを組み込んだ際に隠蔽層の厚みが観察者側から凹凸として認識されてしまい意匠が損なわれる。
【００２２】
本発明の表面処理フィルムにあっては、上記隠蔽層の線幅が０．５ｃｍ以上１０．０ｃｍ以下であることを特徴とする。上記隠蔽層の線幅が０．５ｃｍに満たない場合には、モバイルディプレイ等の小型のディスプレイにおいてもディスプレイを駆動させるための配線を十分に隠蔽することができない。一方、上記隠蔽層の線幅が１０．０ｃｍを超える場合には、ディプレイの額縁部が大きくなり意匠に劣る。
【００２３】
図１に示す通り、本発明の表面処理フィルムにあっては、上記隠蔽層１３および透明樹脂層１４からなる層の上に平坦層１５を設けるのが望ましい。上記平坦層１５を設けることで、隠蔽層１３による凹凸の解消がより促進され、ディスプレイに表面処理フィルムを組み込んだ際に隠蔽層の厚みが観察者側から凹凸として認識されず意匠に優れたものとなる。
【００２４】
次に、図２に本発明に基づく実施形態に係るハードコートフィルムの断面模式図を示した。本発明の表面処理フィルムにあっては、図２に示すように、隠蔽層１３及び透明樹脂層１４の設けられた透明基材の面もしくは隠蔽層及び透明樹脂層が設けられた透明基材の面とは反対側の透明基材の面上にハードコート層２２を設けることでハードコートフィルム２１とすることができる。上記ハードコート層はすくなくとも電離放射線硬化型材料と４級アンモニウム塩材料を含む塗液を用いて、隠蔽層および透明樹脂層の上もしくは隠蔽層及び透明樹脂層が設けられた面とは反対側の透明基材上に塗液を塗布し、電離放射線により電離放射線硬化型材料を硬化することにより形成される。
【００２５】
次に、図３に本発明に基づく実施形態に係る反射防止フィルムの断面模式図を示した。本発明の表面処理フィルムにあっては、図３（ａ）に示すように、図２に示されたハードコートフィルム上に低屈折率層３２を設けることで反射防止フィルムとすることができる。上記低屈折率層はすくなくとも電離放射線硬化型材料と低屈折率粒子を含む塗液を用いて、ハードコート層上に塗液を塗布し、電離放射線により電離放射線硬化型材料を硬化することにより形成される。
【００２６】
また、上記反射防止フィルムにあっては、図３（ｂ）に示すように、透明基材１２、ハードコート層２２、隠蔽層１３および透明樹脂層１４からなる層、平坦層１５、低屈折率層３２の順に積層されていてもよいし、図３（ｃ）に示すように、平坦層１５、隠蔽層１３および透明樹脂層１４からなる層、透明基材１２、ハードコート層２２、低屈折率層３２の順に積層されていてもよい。さらに、複数のハードコート層および複数の低屈折率層を有する反射防止フィルムにあっては、隠蔽層および透明樹脂層からなる層は最表面でなければ、どの位置に積層されていてもよい。
【００２７】
また、これらの場合においては、平坦層１５を介して上記隠蔽層１３および上記透明樹脂層１４の上に他の層を設けるのが望ましい。上記平坦層を設けることで、隠蔽層による凹凸の解消がより促進され、ディスプレイに上記ハードフィルムもしくは上記反射防止フィルムを組み込んだ際に隠蔽層の厚みが観察者側から凹凸として認識されず意匠に優れたものとなる。
【００２８】
上記に示した事例と同様に、上記表面処理フィルムにあっては、防眩性ハードコート層を組み合わせることで防眩性フィルムとすることができる。また、同様に、上記表面処理フィルムに防眩性ハードコート層および低屈折率層を組み合わせることによる防眩性フィルムとすることもできる。
【００２９】
さらに詳細に本発明の表面処理フィルム、ハードコートフィルム、反射防止フィルムについて説明する。
【００３０】
本発明の表面処理フィルムに用いられる透明基材としては、トリアセチルセルロースフィルム等のセルロース系フィルムを好適に用いることができる。複屈折が少なく、透明性、屈折率、分散などの光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性の点に優れており、液晶表示装置に対し好適に用いることができる。さらに、直接ハードコート層を透明基材の上に形成する実施の形態においては、ハードコート層形成用塗液を透明基材上に塗布する際に溶剤によってセルロース系フィルムは容易に溶解または膨潤させることができるため、透明基材上にハードコート層を形成する際に形成されるハードコート層の膜厚起因による干渉ムラの発生を効果的に防ぐことができる。
【００３１】
また、透明基材には、各種安定剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等が添加されていても良い。また、透明基材の厚さは特に限定されるものではないが、２０μｍ以上２００μｍ以下の範囲内であることが好ましい。さらに透明基材がトリアセチルセルロースフィルムである場合には、透明基材の暑さは４０μｍ以上８０μｍ以下の範囲内であることが好ましい。
【００３２】
本発明の透明基材上に設けられる隠蔽層としては、少なくとも熱硬化型材料と顔料を含む隠蔽層形成用塗液を湿式成膜法により塗布し、透明基材もしくはハードコート層の上に塗膜を形成し、該塗膜を乾燥し、該塗膜を加熱して硬化することにより形成することができる。
【００３３】
隠蔽層形成用塗液に含まれる熱硬化型材料としては、アクリル系樹脂材料、エポキシ系樹脂材料、アミノーアルキド系樹脂材料、メラミン系樹脂材料、ウレタン系樹脂材料、ポリエステル系樹脂材料、ビニル系樹脂材料等を用いることができる。また、ビニル系樹脂材料の塩素化ビニル酢酸ビニル共重合を使用することが望ましい。透明性等の光学特性に優れるためである。
【００３４】
隠蔽層形成用塗液に含まれる顔料の色は特に限定されるものではないが、黒色であることが望ましい。隠蔽層の隠蔽性の向上が図れるためである。ここで、黒色顔料としては、カーボンブラック、ランプブラック、ボーン黒、黒鉛、鉄黒等が用いられる。隠蔽性に優れる他の色としては白色もしくは銀色などがあり、白色の場合には酸化チタン白色顔料などからなる白インキ、銀色の場合にはアルミペーストからなる銀インキなどが用いられる。
【００３５】
本発明の透明基材上に設けられる透明樹脂層としては、少なくとも熱硬化型材料を含む透明樹脂層形成用塗液を湿式成膜法により塗布し、透明基材もしくはハードコート層の上に塗膜を形成し、該塗膜を乾燥し、該塗膜を加熱して硬化することにより形成することができる。
【００３６】
透明樹脂層形成用塗液に含まれる熱硬化型材料としては、アクリル系樹脂材料、エポキシ系樹脂材料、アミノーアルキド系樹脂材料、メラミン系樹脂材料、ウレタン系樹脂材料、ポリエステル系樹脂材料、ビニル系樹脂材料等を用いることができる。また、透明樹脂層に用いられる熱硬化型材料としては、隠蔽層に用いられる熱硬化型材料と同一のものであることが望ましい。透明性等の光学特性に優れるとともに隠蔽層との密着力も優れたものとなるためである。
【００３７】
隠蔽層形成用塗液および透明樹脂層形成用塗液を塗布する湿式成膜法としては、ディップコーティング法、スピンコーティング法、フローコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、グラビアロールコーティング法、エアドクターコーティング法、プレードコーティング法、ワイヤードクターコーティング法、ナイフコーティング法、リバースコーティング法、トランスファロールコーティング法、マイクログラビアコーティング法、キスコーティング法、キャストコーティング法、スロットオリフィスコーティング法、カレンダーコーティング法、ダイコーティング法等などにより透明基材１１の少なくとも片面に塗布することにより形成することができる。特に薄く、均一に層を形成する必要性があることより、マイクログラビアコーティング法を用いることが好ましい。また、厚い層を構成する必要が生じた場合には、ダイコーティング法を用いることも可能である。
【００３８】
印刷機については、特に限定はないが、後述するように隠蔽層と透明樹脂層の重ね塗りを行う場合にあっては、２色から７色印刷機を用いるのが好ましい。連続して印刷を行うことで、後述する隠蔽層および透明樹脂層の重ね塗りを行う際の位置合わせが容易となるとともに１パスにて隠蔽層および透明樹脂層、平坦層を形成できるため生産性の向上を図ることができる。
【００３９】
また、印刷機に用いる版としては、隠蔽層を形成するための額縁版４１および透明樹脂層を形成するための中抜き版４４を用いる。図４に示すように、額縁版および中抜き版は少なくとも１つ以上の長方形の凸部４２を有しており、さらに額縁版は上記凸部４２の内部において長方形の凹部４３を有している。
【００４０】
額縁版の上記凹部の長辺の長さと中抜き版の上記凸部の長辺の長さは、両端で額縁版の上記凸部の方がそれぞれ１００μｍから６００μｍ短いことが望ましい。同様に、額縁版の上記凹部の短辺の長さと中抜き版の上記凸部の短辺の長さも、両端で額縁版の上記凸部の方がそれぞれ１００μｍから６００μｍ短いことが望ましい。これはマイクログラビアコーティング法等の印刷法によっては塗膜を形成する際に、隠蔽層および透明樹脂層の塗膜の端部が広がるため、額縁版の凹部の長辺の長さと中抜き版の凸部の長辺の長さ、および額縁版の凹部の短辺の長さと中抜き版の凸部の短辺の長さをそれぞれ同一とすると、隠蔽層と透明樹脂層がオーバーラップする部分で隠蔽層および透明樹脂層の膜厚を超えてしまい表面処理フィルムの表面に凹凸ができるためである。
【００４１】
また、透明基材もしくはハードコート層の上に形成される塗膜の乾燥方法としては、送風乾燥、熱風乾燥、加熱乾燥およびこれらの組み合わせによっておこなうことができる。
【００４２】
次に、透明基材もしくはハードコート層の上に形成される塗膜は加熱されることで硬化する。このときの加熱温度は６０℃以上１００℃以下であることが望ましい。加熱温度が６０℃に満たない場合は硬化が不十分となり、加熱温度が１００℃を超える場合には透明基材等にダメージを与えるおそれがあるためである。
【００４３】
本発明の隠蔽層および透明樹脂層にあっては、各層形成用塗液を塗工し、乾燥し、熱硬化するサイクルを複数回おこない同一の層を重ね塗りすることで形成してもよい。これにより隠蔽層および透明樹脂層において所望の膜厚をより制度よく実現することができる。また、重ね塗りの回数については特に制限はないが、製造方法が複雑になるのを防止する観点から３回以下であることが望ましい。
【００４４】
隠蔽層と透明樹脂層の形成の順序としては、特に制限はなく、上記の通り、３回の重ね塗りを行う場合においては、図５（ａ）に示す通り隠蔽層、透明樹脂層、隠蔽層、透明樹脂層、隠蔽層、透明樹脂層の順に形成してもよいし、図５（ｂ）に示す通り隠蔽層、隠蔽層、隠蔽層、透明樹脂層、透明樹脂層、透明樹脂層の順に形成してもよい。
【００４５】
また、本発明における表面処理フィルムの隠蔽層および透明樹脂層にあっては、図６（ａ）に示すように、隠蔽層および透明樹脂層の端部がオーバーラップすることが望ましい。これは、マイクログラビアコーティング法等の印刷法によっては隠蔽層および透明樹脂層の塗膜を形成する際に、隠蔽層および透明樹脂層の塗膜の端部が広がるために起こる。このとき隠蔽層および透明樹脂層のオーバーラップ部の幅は１００μｍ以上３００μｍ以下であることが望ましい。上記オーバーラップ部の幅が１００μｍ未満の場合には、オーバーラップ部の膜厚が隠蔽層および透明樹脂層の膜厚より薄くなり凹凸が大きくなる。また、上記オーバーラップ部の幅が３００μｍ以上の場合には、オーバーラップ部の膜厚が隠蔽層および透明樹脂層の膜厚より厚くなり凹凸が大きくなる。ここでオーバーラップ部の幅６３は、隠蔽層もしくは透明樹脂層のいずれかの第一の層が透明基材もしくはハードコート層に接触する端部６１と、他方の第二の層が上記第一の層に接触する端部６２の距離をいう。
【００４６】
また、例えば、図５（ａ）に示す通り隠蔽層、透明樹脂層、隠蔽層、透明樹脂層、隠蔽層、透明樹脂層の順に重ね塗りを行い隠蔽層および透明樹脂層を形成する場合にあっては、図６（ｂ）に示す通り、２層目以降の隠蔽層と透明樹脂層のオーバーラップ部の幅６６は、隠蔽層もしくは透明樹脂層のいずれかの第一の層が他方の第二の層の１層目の層に接触する端部６４と、他方の第二の層の２層目の層が上記第一の層に接触する端部６５の距離をいう。
【００４７】
本発明の隠蔽層および透明樹脂層からなる層の上に設けられる平坦層にあっては、少なくとも熱硬化型材料を含む平坦層形成用塗液を湿式成膜法により塗布し、隠蔽層および透明樹脂層からなる層の上に塗膜を形成し、該塗膜を乾燥し、該塗膜を加熱して硬化することにより形成することができる。
【００４８】
平坦層形成用塗液に含まれる熱硬化型材料としては、アクリル系樹脂材料、エポキシ系樹脂材料、アミノーアルキド系樹脂材料、メラミン系樹脂材料、ウレタン系樹脂材料、ポリエステル系樹脂材料、ビニル系樹脂材料等を用いることができる。また、透明樹脂層に用いられる熱硬化型材料としては、隠蔽層および透明樹脂層に用いられる熱硬化型材料と同一のものであることが望ましい。隠蔽層および透明樹脂層からなる層と平坦層の密着力が良好なものとなるためである。
【００４９】
本発明のハードコートフィルムおよび反射防止フィルムにあっては、透明基材、もしくは隠蔽層および透明樹脂層からなる層、もしくは平坦層の上にハードコート層（以下、透明基材等とする）が形成される。ハードコート層は、少なくとも電離放射線硬化型材料と四級アンモニウム塩材料を含むハードコート層形成用塗液を湿式成膜法により塗布し、透明基材上に塗膜を形成し、該塗膜を乾燥し、該塗膜に電離放射線を照射して硬化することにより形成することができる。
【００５０】
ハードコート層形成用塗液に含まれる電離放射線硬化型材料としては、アクリル系材料を用いることができる。アクリル系材料としては、多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルのような単官能または多官能の（メタ）アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコール及びアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタン（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。またこれらの他にも、アクリル系材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。
【００５１】
なお、本発明において「（メタ）アクリレート」とは「アクリレート」と「メタクリレート」の両方を示している。たとえば、「ウレタン（メタ）アクリレート」は「ウレタンアクリレート」と「ウレタンメタアクリレート」の両方を示している。
【００５２】
単官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、Ｎ−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリールアクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノール（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、ヘキサフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−アダマンタンおよびアダマンタンジオールから誘導される１価のモノ（メタ）アクリレートを有するアダマンチルアクリレートなどのアダマンタン誘導体モノ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００５３】
前記２官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートなどのジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００５４】
前記３官能以上の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス２−ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート等のトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等の３官能の（メタ）アクリレート化合物や、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ（メタ）アクリレート等の３官能以上の多官能（メタ）アクリレート化合物や、これら（メタ）アクリレートの一部をアルキル基やε−カプロラクトンで置換した多官能（メタ）アクリレート化合物等が挙げられる。
【００５５】
アクリル系材料の中でも、所望する分子量、分子構造を設計でき、形成されるハードコート層の物性のバランスを容易にとることが可能であるといった理由から、多官能ウレタンアクリレートを好適に用いることができる。ウレタンアクリレートは、多価アルコール、多価イソシアネート及び水酸基含有アクリレートを反応させることによって得られる。
【００５６】
ハードコート層形成用塗液に含まれる４級アンモニウム塩材料としては、−Ｎ＋Ｘ−の構造を示し、四級窒素原子（−Ｎ＋）とアニオン（Ｘ−）を備えることによりハードコート層に導電性を発現させる。このとき、Ｘ−としては、Ｃｌ−、Ｂｒ−、Ｉ−、Ｆ−、ＨＳＯ４−、ＳＯ４２−、ＮＯ３−、ＰＯ４３−、ＨＰＯ４２−、Ｈ２ＰＯ４−、ＳＯ３−、ＯＨ−等を挙げることができる。
【００５７】
中でも４級アンモニウム塩材料として、４級アンモニウムカチオンを官能基として分子内に含むアクリル系材料を好適に用いることができる。四級アンモニウムカチオンを官能基として分子内に含むアクリル系材料としては、四級アンモニウムカチオンを官能基として分子内に含む多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルのような多官能または多官能の（メタ）アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコール及びアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタン（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。またこれらの他にも、電離放射線型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。
【００５８】
４級アンモニウムカチオンを官能基として分子内に含むアクリル系材料として具体的には、ライトエステルＤＱ−１００（共栄社化学製）等を用いることができる。
【００５９】
４級アンモニウムカチオンを官能基として分子内に含むアクリル系材料を用いることにより、ハードコート層上に安定して低屈折率層を形成することができる。４級アンモニウムカチオンを有しアクリル基及び／またはメタクリル基を有さない材料と４級アンモニウムカチオンを有さないアクリル系材料を用いてハードコート層を形成した場合には、四級アンモニウムカチオンを含む材料が表面に偏析してしまい、これによりハードコート層上に低屈折率層形成用塗液を塗布した際に低屈折率層形成用塗液をはじいてしまう場合がある。また、形成される低屈折率層が白化してしまう場合がある。４級アンモニウムカチオンを分子内に含むアクリル系材料を用いることにより、４級アンモニウムカチオンを分子内に含むアクリル系材料はマトリックスを形成し、表面偏析を防ぐことができる。
【００６０】
４級アンモニウム塩材料を用いてハードコート層を形成することにより、ハードコート層に帯電防止機能を付与することができる。導電性材料の中でも４級アンモニウム塩材料を用いてハードコート層を形成することにより、金属粒子や金属酸化物粒子といった導電性材料のみを用いて帯電防止性を有するハードコート層を形成する場合と比較して、全光線透過率の低下を防ぐことができ、さらには、干渉ムラの発生を抑えることができる。
【００６１】
なお、本発明にあっては、ハードコート層を形成するための塗液は少なくとも電離放射線硬化型材料と４級アンモニウム塩材料を含む塗液を用いることを特徴とするが、４級アンモニウム塩材料として４級アンモニウムカチオンを官能基として分子内に含むアクリル系材料を用いた場合には、４級アンモニウムカチオンを持たない電離放射線硬化型材料は必要に応じて塗液に加えられる。４級アンモニウムカチオンを官能基として分子内に含むアクリル系材料が、１つの材料で電離放射線硬化型材料と４級アンモニウム塩材料を兼ねる形であってもかまわない。
【００６２】
ハードコート層形成用塗液からなる塗膜に電離放射線として紫外線を用い硬化してハードコート層を形成する場合には、塗液に光重合開始剤が加えられる。光重合開始剤はハードコート層形成用塗液の固形分１００重量部に対して０．５以上１０．０重量部以下の範囲内で加えられることが好ましい。電離放射線硬化型材料を紫外線により硬化させる際に、光重合開始剤がハードコート層形成材料１００重量部に対して０．５重量部に満たない場合、重合反応が不十分となり樹脂が効果しないためハードコート層の硬度が低くなってしまう。また、光重合開始剤がハードコート層形成材料１００重量部に対して１０．０重量部を超える場合、光重合後の樹脂の重合度が低くなってしまい、その結果、ハードコート層が脆くなってしまい表面の耐擦傷性が弱くなってしまう。
【００６３】
光重合開始剤としては、例えば、２，２−エトキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ジベンゾイル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ｐ−クロロベンゾフェノン、ｐ−メトキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、アセトフェノン、２−クロロチオキサントン等が挙げられる。これらを単独、もしくは２種類以上合わせて用いても良い。
【００６４】
また、ハードコート層形成用塗液には、光重合開始剤と合わせ光増感剤を用いることができる。光増感剤としては、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、２−ジメチルアミノエタノール等の３級アミン、トリフェニルホスフィン等のアルキルフォスフィン系、β−チオジグリコール等のチオエーテル系をあげることが出来、これらを１種類あるいは２種類以上を混合して使用することもできる。
【００６５】
また、ハードコート層形成用塗液には、フッ素系レベリング剤をハードコート層形成材料１００重量部に対し０．０５〜５．０重量部添加することが好ましい。フッ素系レベリング剤としては、パーフルオロアルキル基またはフッ素化アルケニル基を主鎖ないし側鎖に有する化合物を用いることができる。パーフルオロアルキル基はＣｎＦ２ｎ＋１（ｎ＝自然数）の構造を有し、疎水・疎油基として機能する。そのため、表面に整然と配列する特徴を持つため、少量で表面を覆うレベリング材料として機能することができる。このとき、親油基と組み合わせることで、さらにレベリング材料としての効果を増加させることが可能となる。フッ素系レベリング剤としては、具体的には、ビックケミージャパン社製ＢＹＫ−３４０、ネオス社製フタージェント２２２Ｆ、ＤＩＣ社製Ｆ４７０、大阪有機化学工業社製 Ｖ−８ＦＭ等を用いることができるが、これらに限定されるものではない。
【００６６】
ハードコート層形成用塗液にあっては、さらなる性能改良のため、消泡剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤等を含有することもできる。
【００６７】
調液されたハードコート層形成用塗液は湿式成膜法により透明基材等の上に塗布され、透明基材等の上に塗膜が形成され、該塗膜を乾燥し、乾燥後の塗膜に電離放射線を照射し、硬化することによりハードコート層を形成することができる。このとき塗布方法としては、隠蔽層形成用塗液および透明樹脂層形成用塗液を塗布する際に例示した湿式成膜法を用いることができる。さらに乾燥方法についても、隠蔽層および透明樹脂層の形成方法で例示した方法を用いることができる。
【００６８】
塗膜を硬化する方法としては、例えば、紫外線照射、電子線商社を用いることができる。紫外線照射の場合、高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、フュージョンランプ等を使用することができる。なお、紫外線照射する際の紫外線照射量は１００ｍＪ／ｃｍ２以上８００ｍＪ／ｃｍ２ 以下であることが好ましい。
【００６９】
形成されるハードコート層の膜厚は３μｍ以上あれば十分な強度となるが、塗工精度、取扱いから５μｍ以上１０μｍ以下の範囲が好ましい。１０μｍを超える場合では硬化収縮による基材の反り、ゆがみ、基材折れが発生してしまうことがあるためである。さらに、膜厚としては、５μｍ以上７μｍ以下の範囲内であるとハードコート層としては非常に好ましい。
【００７０】
次に、低屈折率層について説明する。本発明の反射防止フィルムにあっては、低屈折率層が湿式成膜法により形成される。低屈折率層を形成するための塗液には、少なくとも電離放射線硬化型材料と低屈折率粒子を含む。低屈折率層形成用塗液を湿式成膜法によりハードコート層上に塗布し、ハードコート層上に塗膜を形成し、該塗膜を乾燥し、該塗膜に電離放射線を照射して硬化することにより形成することができる。
【００７１】
低屈折率層を形成する方法としては、低屈折率層形成用塗液をハードコート層表面に塗布し反射防止層を形成する湿式成膜法による方法と、真空蒸着法やスパッタリング法やＣＶＤ法といった真空中で反射防止層を形成する真空成膜法による方法に分けられる。本発明の反射防止フィルムにあっては、電離放射線硬化型材料と低屈折率粒子を含む低屈折率形成用塗液を用い、湿式成膜法により反射防止フィルムを形成することにより、安価に反射防止フィルムを製造することができる。
【００７２】
このとき低屈折率層の膜厚（ｄ）は、その膜厚（ｄ）に低屈折率層の屈折率（ｎ）をかけることによって得られる光学膜厚（ｎｄ）が可視光の波長の１／４と等しくなるように設計される。低屈折率層としてはバインダマトリックス中に低屈折率粒子を分散させたものを用いることができる。
【００７３】
低屈折率粒子としては、ＬｉＦ、ＭｇＦ、３ＮａＦ・ＡｌＦまたはＡｌＦ（いずれも、
屈折率１．４）、または、Ｎａ３ ＡｌＦ６ （氷晶石、屈折率１．３３）等の低屈折材料か
らなる低屈折率粒子を用いることができる。また、粒子内部に空隙を有する粒子を好適に
用いることができる。粒子内部に空隙を有する粒子にあっては、空隙の部分を空気の屈折
率（≒１）とすることができるため、非常に低い屈折率を備える低屈折率粒子とすること
ができる。具体的には、多孔質シリカ粒子や、内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子を
用いることができる。
【００７４】
本発明の低屈折率層に用いられる低屈折率粒子としては、粒径が１ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましい。粒径が１００ｎｍを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、低屈折率層が白化して反射防止フィルムの透明性が低下する傾向にある。一方、粒径が１ｎｍ未満の場合、粒子の凝集による低屈折率層における粒子の不均一性等の問題が生じる。
【００７５】
また、低屈折率形成用塗液には、電離放射線硬化型材料が含まれる。電離放射線硬化型材料としては、ハードコート層形成用塗液に含まれる電離放射線硬化型材料として例示したアクリル系材料を使用することができる。
【００７６】
なお、低屈折率層形成用塗液には、必要に応じて、溶媒や各種添加剤を加えることができる。溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサンなどの炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、水等の中から塗工適正等を考慮して適宜選択される。また、塗液には添加剤として、表面調整剤、レベリング剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、光増感剤等を加えることもできる。
【００７７】
なお、バインダマトリックスとして電離放射線硬化型材料を用い、紫外線を照射することにより低屈折率層を形成する場合には、塗液に光重合開始剤が加えられる。光重合開始剤としては、ハードコート層形成用塗液に含まれる光重合開始剤として例示した光重合開始剤を使用することができる。
【００７８】
調液された低屈折率層形成用塗液はハードコート層上に塗布され塗膜を形成し、該塗膜に対し、必要に応じて乾燥をおこない、その後、紫外線、電子線といった電離放射線を照射することにより電離放射線硬化型材料の硬化反応をおこなうことによりバインダマトリックスとすることができ、低屈折率層を形成することができる。このとき塗布方法としては、ハードコート層形成用塗液を塗布する際に例示した湿式成膜法を用いることができる。さらに乾燥方法、硬化方法についても、ハードコート層の形成方法で例示した方法を用いることができる。
【００７９】
また、図７に示すように、上記ハードコートフィルムおよび上記反射防止フィルムにあっては、従来のハードコートフィルムおよび従来の反射防止フィルムに、本発明における表面処理フィルムを接着層７１を介して貼り合せることで作製してもよい。
【実施例１】
【００８０】
＜調整例１＞
（隠蔽層形成用塗液）
黒色顔料である市販のカーボンブラックを５重量部、市販の塩化ビニル酢酸ビニル共重合１５重量部を用い、これを市販の酢酸２−（２エトキシエトキシ）エチルおよびシクロヘキサノンからなる溶剤８０重量部に溶解して隠蔽層形成用塗液を調整した。
＜調整例２＞
（透明樹脂層形成用塗液）
市販の塩化ビニル酢酸ビニル共重合２０重量部を用い、これを市販の酢酸２−（２エトキシエトキシ）エチルおよびシクロヘキサノンからなる溶剤８０重量部に溶解して透明樹脂層形成用塗液を調整した。
＜調整例３＞
（平坦層形成用塗液）
市販の塩化ビニル酢酸ビニル共重合２０重量部を用い、これを市販の酢酸２−（２エトキシエトキシ）エチルおよびシクロヘキサノンからなる溶剤８０重量部に溶解して平坦層形成用塗液を調整した。
＜調整例４＞
（ハードコート層形成用塗液）
四級アンモニウムカチオンを含有するアクリル系材料であるライトエステルＤＱ１００（共栄社化学製）１０重量部、ジペンタエリスリトールトリアクリレート２５重量部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート２５質量部、ウレタンアクリレート５０重量部、イルガキュア１８４（チバスペシャリティケミカルズ社製（光重合開始剤））５重量部を用い、これをメチルエチルケトンに溶解してハードコート層形成塗液２を調整した。
＜調整例５＞
（低屈折率層形成用塗液）
多孔質シリカ微粒子分散液（平均粒子径５０ｎｍ、固形分２０％、溶剤：メチルイソブチルケトン）１４．９４重量部、ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（商品名：ＤＰＥＡ−１２、日本化薬製）１．９９重量部、重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製、商品名；イルガキュア１８４）０．０７重量部、ＴＳＦ４４６０（商品名、ＧＥ東芝シリコーン（株）製：アルキルポリエーテル変性シリコーンオイル）０．２０重量部を、溶媒であるメチルイソブチルケトン８２重量部で希釈して低屈折率層形成用塗液を調整した。
＜実施例１＞
（表面処理フィルム１）
トリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム製：膜厚８０μｍ）の片面に隠蔽層形成用塗液を塗布し、８０℃・６０秒オーブンで乾燥し、乾燥後、加熱装置を用いて８０℃・０．５秒で加熱を行うことにより乾燥膜厚４．５μｍの隠蔽層を形成させた（工程１）。次に、トリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム製：膜厚８０μｍ）の上記隠蔽層に囲まれた部分に透明樹脂層形成用塗液を塗布し、８０℃・６０秒オーブンで乾燥し、乾燥後、加熱装置を用いて８０℃・０．５秒で加熱を行うことにより乾燥膜厚４．５μｍの透明樹脂層を形成させた（工程２）。また、本実施例で用いた額縁版の凹部の長辺および短辺と中抜き版の凸部の長辺と短辺のそれぞれの差は３００μｍであった。このときの隠蔽層と透明樹脂層のオーバーラップ部の幅は、１５０μｍであった。
＜実施例２＞
（表面処理フィルム２）
上記工程１および上記工程２を上記順番で行うことを工程３とし、６色印刷機にて、工程３を連続で３回繰り返すことで隠蔽層および透明樹脂層をそれぞれ３回の重ね塗りにて形成した。また、本実施例で用いた額縁版の凹部の長辺および短辺と中抜き版の凸部の長辺と短辺のそれぞれの差は３００μｍであった。このときの隠蔽層と透明樹脂層のオーバーラップ部の幅は、１層目、２層目、３層目ともに１３０μｍであった。
＜実施例３＞
（表面処理フィルム３）
７色印刷機にて、上記工程１を連続で３回繰り返し、次に、上記工程２を連続で３回繰り返すことで隠蔽層および透明樹脂層をそれぞれ３回の重ね塗りにて形成した。また、本実施例で用いた額縁版の凹部の長辺および短辺と中抜き版の凸部の長辺と短辺のそれぞれの差は３００μｍであった。このときの隠蔽層と透明樹脂層のオーバーラップ部の幅は、２１０μｍであった。
＜実施例４＞
（表面処理フィルム４）
実施例１に記載の方法で形成した隠蔽層および透明樹脂層であって、本実施例で用いた額縁版の凹部の長辺および短辺と中抜き版の凸部の長辺と短辺のそれぞれの差は４００μｍであり、隠蔽層と透明樹脂層のオーバーラップ部の幅は、１１０μｍであった。
＜実施例５＞
（表面処理フィルム５）
実施例１で形成した隠蔽層および透明樹脂層からなる層に平坦層形成用塗液を塗布し、８０℃・６０秒オーブンで乾燥し、乾燥後、加熱装置を用いて８０℃・０．５秒で加熱を行うことにより乾燥膜厚４．３μｍの平坦層を形成させた。
＜実施例６＞
（表面処理フィルム６）
実施例２で形成した隠蔽層および透明樹脂層からなる層に平坦層形成用塗液を７色印刷機にて塗布し、８０℃・６０秒オーブンで乾燥し、乾燥後、加熱装置を用いて８０℃・０．５秒で加熱を行うことにより乾燥膜厚４．６μｍの平坦層を形成させた。
＜実施例７＞
（表面処理フィルム７）
実施例３で形成した隠蔽層および透明樹脂層からなる層に平坦層を形成した。形成法は実施例６と同様である。
＜実施例８＞
（ハードコートフィルム１）
実施例１で形成した隠蔽層および透明樹脂層からなる層の上にハードコート層形成用塗液１を塗布し、８０℃・６０秒オーブンで乾燥し、乾燥後、酸素濃度０．１体積％の雰囲気下で紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量２００ｍＪ／ｍ２で紫外線照射をおこなうことにより乾燥膜厚５μｍの透明なハードコート層を形成させた。
＜実施例９＞
（ハードコートフィルム２）
実施例１で形成した表面処理フィルムの隠蔽層および透明樹脂層からなる層が設けられた透明基材の面とは反対の面上にハードコート層を形成した。形成法は実施例８と同様である。
＜実施例１０＞
（ハードコートフィルム３）
トリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム製：膜厚８０μｍ）の片面に実施例８と同様の方法で、ハードコート層を形成したハードコートフィルムのハードコート層が形成されていない側の透明基材の面に接着層を介し実施例１の表面処理フィルムの隠蔽層および透明樹脂層が形成されている面を貼り付けた。
＜実施例１１＞
（反射防止フィルム１）
実施例１の表面処理フィルムの隠蔽層および透明樹脂層からなる層の上に実施例８と同同様の方法でハードコート層を形成し、さらに上記ハードコート層の上に、低屈折率層形成用塗液を乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量２００ｍＪ／ｍ２で紫外線照射をおこなって硬化させて低屈折率層を形成した。
＜実施例１２＞
（反射防止フィルム２）
トリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム製：膜厚８０μｍ）の片面に実施例８と同様の方法でハードコート層を形成し、上記ハードコート層の上に実施例１と同様の方法で隠蔽層および透明樹脂層を形成し、さらに、上記隠蔽層および透明樹脂層からなる層の上に実施例１１と同様の方法で低屈折率層を形成した。
＜実施例１３＞
（反射防止フィルム３）
実施例１の表面処理フィルムの隠蔽層および透明樹脂層が形成されている面とは反対側の透明基材の面上に、実施例８と同様の方法でハードコート層を形成し、次に、上記ハードコート層上に実施例１１と同様の方法で低屈折率層を形成した。
＜実施例１４＞
（反射防止フィルム４）
トリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム製：膜厚８０μｍ）の片面に実施例８と同様の方法でハードコート層を形成し、次に、上記ハードコート層上に実施例１１と同様の方法で低屈折率層を形成した反射防止フィルムの低屈折率層が形成されていない側の透明基材の面に接着層を介し実施例１の表面処理フィルムの隠蔽層および透明樹脂層が形成されている面を貼り付けた。
＜比較例１＞
（表面処理フィルム１）
トリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム製：膜厚８０μｍ）の片面に隠蔽層のみを実施例１の方法で形成した。
＜比較例２＞
（表面処理フィルム２）
実施例１に記載の方法で形成した隠蔽層および透明樹脂層であって、本実施例で用いた額縁版の凹部の長辺および短辺と中抜き版の凸部の長辺と短辺のそれぞれの差は５０μｍであり、隠蔽層と透明樹脂層のオーバーラップ部の幅は、４２０μｍであった。
＜比較例３＞
（表面処理フィルム３）
実施例１に記載の方法で形成した隠蔽層および透明樹脂層であって、本実施例で用いた額縁版の凹部の長辺および短辺と中抜き版の凸部の長辺と短辺のそれぞれの差は７００μｍであり、隠蔽層と透明樹脂層のオーバーラップ部は見られなかった。
【００８１】
実施例１から１４に係る表面処理フィルム、ハードコートフィルム、反射防止フィルムにおいては、目視によるフィルムの表面の凹凸は確認されず意匠に優れるものであった。これに対し比較例１に係る表面処理フィルムにおいては、目視によるフィルムの表面の凹凸が確認され実施例１から１４に係る表面処理フィルム、ハードコートフィルム、反射防止フィルムと比較し意匠に劣るものであった。また、比較例２および３に係る表面処理フィルムにおいては目視によるフィルム表面の凹凸が若干見られ実施例１から１４に係る表面処理フィルム、ハードコートフィルム、反射防止フィルムと比較し意匠に劣るものの、比較例１に係る表面処理フィルムと比較し意匠に優れるものであった。
【産業上の利用可能性】
【００８２】
本願に係る発明は、ディスプレイの画像表示部の外縁、いわゆる額縁部の意匠を向上させるための技術として、産業上利用され得るものである。
【符号の説明】
【００８３】
１１…表面処理フィルム
１２…透明基材
１３…隠蔽層
１４…透明樹脂層
１５…平坦層
２１…ハードコートフィルム
２２…ハードコート層
３１…反射防止フィルム
３２…低屈折率層
４１…額縁版
４２…凸部
４３…凹部
４４…中抜き版
６１…１層目の第１の層の端部
６２…１層目の第２の層の端部
６３…１層目の隠蔽層および透明樹脂層のオーバーラップ部分の幅
６４…２層目の第１の層の端部
６５…２層目の第２の層の端部
６６…２層目の隠蔽層および透明樹脂層のオーバーラップ部分の幅
７１…密着層
【図１】
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【図２】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図３】
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【図７】
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