(57)【要約】【課題】メニスカスを移動させる予備パルスを、吐出パルスに先立って発生させることによって、吐出状態を適切に維持するとともに、予備パルスを発生させることに起因して吐出パルスの発生周期が長くなることを抑制することができる液滴吐出方法、及び電気光学装置の製造方法を提供する。【解決手段】液滴吐出方法は、吐出ノズルと、吐出ノズルに連通する圧力発生室と、圧力発生室内の圧力変化を生じさせる圧力発生手段と、を備える吐出ヘッドを用いて、液滴を吐出する液滴吐出方法であって、吐出ノズルから液滴を吐出させる吐出工程と、圧力発生手段に、吐出ノズルから液滴を吐出させることなく圧力発生室内の圧力変化を生じさせる予備振動信号を印加することによって、圧力発生室内に圧力変化を生じさせる予備振動工程と、を有し、予備振動工程を、吐出工程において、１個の被着弾領域に向けて、１個の吐出ノズルから複数の液滴を吐出する前に実施する。【選択図】図１０
2013163164.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
吐出ノズルと、前記吐出ノズルに連通する圧力発生室と、前記圧力発生室内の圧力変化を生じさせる圧力発生手段と、を備える吐出ヘッドを用いて、液状体を液滴として吐出する液滴吐出方法であって、
前記圧力発生手段に、吐出駆動信号を印加することによって、前記吐出ノズルから液滴を吐出させる吐出工程と、
前記圧力発生手段に、前記吐出ノズルから液滴を吐出させることなく前記圧力発生室内の圧力変化を生じさせる予備振動信号を印加することによって、前記圧力発生室内に圧力変化を生じさせる予備振動工程と、を有し、
前記予備振動工程を、前記吐出工程において、１個の被着弾領域に向けて、１個の前記吐出ノズルから複数の液滴を吐出する前に実施する、
ことを特徴とする液滴吐出方法。
【請求項２】
前記予備振動工程を、前記吐出工程において１個の被着弾領域に向けて１個の前記吐出ノズルから複数の液滴を吐出する際の、最初の液滴を吐出する前にのみ実施することを特徴とする、請求項１に記載の液滴吐出方法。
【請求項３】
前記予備振動工程を、前記吐出工程において液滴を連続して吐出する前に実施することを特徴とする、請求項１又は２に記載の液滴吐出方法。
【請求項４】
前記予備振動工程を、前記吐出工程において液滴を連続して吐出する際の最初の液滴を吐出する前にのみ実施することを特徴とする、請求項３に記載の液滴吐出方法。
【請求項５】
前記吐出工程及び前記予備振動工程は、前記吐出工程又は前記予備振動工程において前記圧力発生手段に印加する前記吐出駆動信号又は前記予備振動信号を選択する信号選択工程を含むことを特徴とする、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の液滴吐出方法。
【請求項６】
前記吐出駆動信号及び前記予備振動信号を記憶する駆動信号記憶工程をさらに有し、
前記信号選択工程では、前記駆動信号記憶工程において記憶された前記吐出駆動信号及び前記予備振動信号の中から、前記吐出駆動信号又は前記予備振動信号を選択する、
ことを特徴とする、請求項５に記載の液滴吐出方法。
【請求項７】
前記圧力発生手段が圧電素子であることを特徴とする、請求項１乃至６のいずれか一項に記載の液滴吐出方法。
【請求項８】
吐出ノズルと、前記吐出ノズルに連通する圧力発生室と、前記圧力発生室内の圧力変化を生じさせる圧力発生手段と、を備える吐出ヘッドを用いて、電気光学装置が備える機能膜を形成する電気光学装置の製造方法であって、
前記圧力発生手段に、吐出駆動信号を印加することによって、前記吐出ノズルから前記機能膜の材料を含む液状体の液滴を吐出させる吐出工程と、
前記圧力発生手段に、前記吐出ノズルから液滴を吐出させることなく前記圧力発生室内の圧力変化を生じさせる予備振動信号を印加することによって、前記圧力発生室内に圧力変化を生じさせる予備振動工程と、を有し、
前記予備振動工程を、前記吐出工程において、１個の被着弾領域に向けて、１個の前記吐出ノズルから複数の液滴を吐出する前に実施する、
ことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項９】
前記予備振動工程を、前記吐出工程において、１個の被着弾領域に向けて、１個の前記吐出ノズルから複数の液滴を吐出する前にのみ実施することを特徴とする、請求項８に記載の電気光学装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液滴吐出方法、及び電気光学装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、液状体を液滴として吐出する液滴吐出ヘッドを備え、吐出した液滴を被吐出媒体上の任意の位置に着弾させることによって被吐出媒体上の任意の位置に液状体を配置する液滴吐出装置が知られている。液滴吐出ヘッドは液滴を吐出する吐出ノズルを備えており、被吐出媒体と液滴吐出ヘッドとを吐出走査方向に相対移動させるとともに、吐出ノズルから選択的に液滴を吐出させることによって、被吐出媒体上の任意の位置に液滴を着弾させることができる。
このような液滴吐出装置を用いて、電気光学装置が備える機能膜の材料を含む機能液を、当該機能膜を配設する微細な領域に着弾させて、当該領域に機能膜を形成することができる。電気光学装置としては、例えば、液晶装置や、有機ＥＬ（Electro Luminescence）装置等が知られている。これらの装置が備える機能膜は、例えば、液晶表示装置におけるカラーフィルター膜や、有機ＥＬ表示装置における発光層などである。液滴吐出装置を用いて、有機ＥＬ表示装置の画素領域のような微細な領域に発光層などの材料を含む機能液を着弾させて、当該領域に発光層などを形成することができる。
【０００３】
近年、液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置などは高精細な画像を表示することが求められている。高精細な画像を表示するためには、精密な機能膜を形成することが必要である。精密な機能膜を形成するためには、適切な量の機能液を適切な位置に配置することが必要である。液滴吐出装置は、機能液の量及び配置位置を精密に制御することができる。しかし、吐出ノズルからからの吐出状態が適切に維持されない場合には、吐出量や着弾位置がばらつく場合がある。
特許文献１には、液滴を吐出させない程度の圧力変動を圧力室内の液体に生じさせて吐出パルスでの吐出の液滴速度が増大するタイミングでメニスカスを移動させる予備パルスを、吐出パルスに先立って発生させることによって、吐出状態を適切に維持することができる液体噴射装置及び液体噴射ヘッドの駆動方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−２３４１３４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１に開示された装置及び駆動方法では、吐出パルスの前に予備パルスを発生させるため、吐出パルスを発生させた後、次の吐出パルスを発生させる前に、予備パルスを発生させる時間が必要である。このため、吐出パルスの発生周期を短くできないという課題があった。すなわち、液滴の吐出周期を短くすることが困難であるという課題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
【０００７】
［適用例１］本適用例にかかる液滴吐出方法は、吐出ノズルと、前記吐出ノズルに連通する圧力発生室と、前記圧力発生室内の圧力変化を生じさせる圧力発生手段と、を備える吐出ヘッドを用いて、液状体を液滴として吐出する液滴吐出方法であって、前記圧力発生手段に、吐出駆動信号を印加することによって、前記吐出ノズルから液滴を吐出させる吐出工程と、前記圧力発生手段に、前記吐出ノズルから液滴を吐出させることなく前記圧力発生室内の圧力変化を生じさせる予備振動信号を印加することによって、前記圧力発生室内に圧力変化を生じさせる予備振動工程と、を有し、前記予備振動工程を、前記吐出工程において、１個の被着弾領域に向けて、１個の前記吐出ノズルから複数の液滴を吐出する前に実施することを特徴とする。
【０００８】
本適用例にかかる液滴吐出方法によれば、圧力発生手段に、吐出ノズルから液滴を吐出させることなく圧力発生室内の圧力変化を生じさせる予備振動信号を印加することによって、圧力発生室内に圧力変化を生じさせる予備振動工程を実施する。液滴を吐出させることなく圧力発生室内に圧力変化を生じさせることで、吐出ノズル内に形成されているメニスカスを振動させることができる。メニスカスを振動させることで、メニスカスが静止している場合にくらべて、吐出ノズルからの吐出を、所定の適切な状態に維持し易くすることができる。予備振動工程を、１個の被着弾領域に向けて、１個の吐出ノズルから複数の液滴を吐出する前に実施することで、１個の被着弾領域に向けて１個の吐出ノズルから複数の液滴を吐出する際の吐出を、所定の適切な状態に維持し易くすることができる。
【０００９】
［適用例２］上記適用例にかかる液滴吐出方法において、前記予備振動工程を、前記吐出工程において１個の被着弾領域に向けて１個の前記吐出ノズルから複数の液滴を吐出する際の、最初の液滴を吐出する前にのみ実施することが好ましい。
【００１０】
この液滴吐出方法によれば、吐出工程において１個の被着弾領域に向けて１個の前記吐出ノズルから複数の液滴を吐出する際の、最初の液滴を吐出する前にのみ、予備振動工程を実施する。したがって、１個の被着弾領域に向けて液滴を吐出する際は、吐出駆動信号を印加する間に、予備振動信号を印加する機会が挿入されることがない。これにより、予備振動信号を印加することに起因して吐出駆動信号を印加できる周期が長くなることを抑制することができる。
【００１１】
［適用例３］上記適用例にかかる液滴吐出方法において、前記予備振動工程を、前記吐出工程において連続して液滴を吐出する前に実施することが好ましい。
【００１２】
この液滴吐出方法によれば、連続して液滴を吐出する前に予備振動工程を実施することで、連続して液滴を吐出する際の吐出を、所定の適切な状態に維持し易くすることができる。
【００１３】
［適用例４］上記適用例にかかる液滴吐出方法において、前記予備振動工程を、前記吐出工程において液滴を連続して吐出する際の最初の液滴を吐出する前にのみ実施することが好ましい。
【００１４】
この液滴吐出方法によれば、液滴を連続して吐出する際の最初の液滴を吐出する前にのみ、予備振動工程を実施する。したがって、液滴を連続して吐出する際に、吐出駆動信号を印加する間に、予備振動信号を印加することを実施しない。これにより、予備振動信号を印加することに起因して吐出駆動信号を印加できる周期が長くなることを抑制することができる。
【００１５】
［適用例５］上記適用例にかかる液滴吐出方法において、前記吐出工程及び前記予備振動工程は、前記吐出工程又は前記予備振動工程において前記圧力発生手段に印加する前記吐出駆動信号又は前記予備振動信号を選択する信号選択工程を含むことが好ましい。
【００１６】
この液滴吐出方法によれば、吐出駆動信号及び予備振動信号を選択する。これにより、吐出駆動信号及び予備振動信号が一律に固定されている場合にくらべて、状況により適合する吐出駆動信号又は予備振動信号を選択して、圧力発生手段に印加することができる。
【００１７】
［適用例６］上記適用例にかかる液滴吐出方法において、前記吐出駆動信号及び前記予備振動信号を記憶する駆動信号記憶工程をさらに有し、前記信号選択工程では、前記駆動信号記憶工程において記憶された前記吐出駆動信号及び前記予備振動信号の中から、前記吐出駆動信号又は前記予備振動信号を選択することが好ましい。
【００１８】
この液滴吐出方法によれば、吐出駆動信号及び予備振動信号を記憶する駆動信号記憶工程を有する。駆動信号記憶工程において吐出駆動信号及び予備振動信号を予め記憶しておくことで、信号選択工程を迅速に実施することができる。
【００１９】
［適用例７］上記適用例にかかる液滴吐出方法において、前記圧力発生手段が圧電素子であることが好ましい。
【００２０】
この液滴吐出方法によれば、圧電素子によって圧力発生室内の圧力変化を生じさせる。圧電素子（ピエゾ素子）は、電気信号を印加されると変形する性質を有し、当該変形を利用して圧力発生室内の圧力変化を生じさせる。圧力変化が大きいほど、吐出される液滴の大きさを大ききすることができる。変形量は印加される電気信号の電圧によって異なるため、電気信号の電圧を調整することによって、吐出される液滴の大きさを調整することができる。また、圧力発生室内の圧力変化を、液滴が吐出されない程度の圧力変化にとどめることもできる。圧力発生室内の圧力変化を生じさせる圧力発生手段として圧電素子を用いることによって、圧電素子に印加する駆動電圧を調整するだけで、容易に予備振動信号を生成することができる。
【００２１】
［適用例８］本適用例にかかる電気光学装置の製造方法は、吐出ノズルと、前記吐出ノズルに連通する圧力発生室と、前記圧力発生室内の圧力変化を生じさせる圧力発生手段と、を備える吐出ヘッドを用いて、電気光学装置が備える機能膜を形成する電気光学装置の製造方法であって、前記圧力発生手段に、吐出駆動信号を印加することによって、前記吐出ノズルから前記機能膜の材料を含む液状体の液滴を吐出させる吐出工程と、前記圧力発生手段に、前記吐出ノズルから液滴を吐出させることなく前記圧力発生室内の圧力変化を生じさせる予備振動信号を印加することによって、前記圧力発生室内に圧力変化を生じさせる予備振動工程と、を有し、前記予備振動工程を、前記吐出工程において、１個の被着弾領域に向けて、１個の前記吐出ノズルから複数の液滴を吐出する前に実施することを特徴とする。
【００２２】
本適用例にかかる電気光学装置の製造方法によれば、圧力発生手段に、吐出ノズルから液滴を吐出させることなく圧力発生室内の圧力変化を生じさせる予備振動信号を印加することによって、圧力発生室内に圧力変化を生じさせる予備振動工程を実施する。液滴を吐出させることなく圧力発生室内に圧力変化を生じさせることで、吐出ノズル内に形成されているメニスカスを振動させることができる。メニスカスを振動させることで、メニスカスが静止している場合にくらべて、吐出ノズルからの吐出を、所定の適切な状態に維持し易くすることができる。予備振動工程を、１個の被着弾領域に向けて、１個の吐出ノズルから複数の液滴を吐出する前に実施することで、１個の被着弾領域に向けて１個の吐出ノズルから複数の液滴を吐出する際の吐出を、所定の適切な状態に維持し易くすることができる。
【００２３】
［適用例９］上記適用例にかかる電気光学装置の製造方法において、前記予備振動工程を、前記吐出工程において、１個の被着弾領域に向けて、１個の前記吐出ノズルから複数の液滴を吐出する前にのみ実施することが好ましい。
【００２４】
この電気光学装置の製造方法によれば、吐出工程において１個の被着弾領域に向けて１個の前記吐出ノズルから複数の液滴を吐出する際の、最初の液滴を吐出する前にのみ、予備振動工程を実施する。したがって、１個の被着弾領域に向けて液滴を吐出する際は、吐出駆動信号を印加する間に、予備振動信号を印加する機会が挿入されることがない。これにより、予備振動信号を印加することに起因して吐出駆動信号を印加できる周期が長くなることを抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】液滴吐出装置全体の概略構成を示す外観斜視図。
【図２】（ａ）は、液滴吐出ヘッドの概略構成を示す外観斜視図。（ｂ）は、液滴吐出ヘッドの構造を示す斜視断面図。（ｃ）は、液滴吐出ヘッドの吐出ノズルの部分の構造を示す断面図。
【図３】液滴吐出ヘッドの電気的構成と信号の流れを示す説明図。
【図４】（ａ）は、圧電素子に印加する駆動信号の駆動波形の基本波形を示す図。（ｂ）は、駆動波形に対応した圧電素子の動作による液滴吐出ヘッドの吐出動作を示す模式断面図。
【図５】（ａ）は、吐出ノズルの配置位置を示す説明図。（ｂ）は、液滴をノズル列の延在方向に直線状に着弾させた状態を示す説明図。（ｃ）は、液滴を主走査方向に直線状に着弾させた状態を示す説明図。（ｄ）は、液滴を面状に着弾させた状態を示す説明図。
【図６】（ａ）は、表示装置の外観斜視図。（ｂ）は、（ａ）にＡ−Ａで示した断面における断面図。
【図７】（ａ）は、表示装置が備える複数の画素の一部分を示す平面図。（ｂ）は、（ａ）にＣ−Ｃで示した断面における断面図。
【図８】液滴吐出装置を用いて、素子基板における機能膜を形成する工程を示すフローチャート。
【図９】（ａ）及び（ｃ）は、吐出波形を示す模式図。（ｂ）及び（ｄ）は、吐出波形に対応する液滴を示す模式図。（ｅ）は、予備振動波形を示す模式図。
【図１０】（ａ）は、素子基板における絶縁膜及び画素形成区画の配列を示す模式図。（ｂ）は、画素形成区画に対応させて予備振動波形及び吐出波形を示す説明図。
【図１１】画素形成区画に対応させて吐出ノズルと液滴を示す説明図。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下、本発明に係る液滴吐出方法、及び電気光学装置の製造方法の一実施形態について、図面を参照して説明する。本実施形態は、液滴吐出装置を用いて、有機ＥＬ表示装置の発光層などを形成する工程を例にして説明する。液滴吐出装置は、液滴吐出ヘッドと被描画媒体とを相対移動させると共に、液滴吐出ヘッドの吐出ノズルから機能液の液滴を吐出して、被描画媒体上の所定の位置に着弾させることによって、所定の画像などを形成する装置である。本実施形態の液滴吐出装置は、インクジェット方式の液滴吐出ヘッドを備えている。機能液は、画像などを構成する膜などの材料を含み、液滴吐出ヘッドを用いて液滴として吐出可能に調整された液状体である。
なお、以下の説明において参照する図面では、図示の便宜上、部材又は部分の縦横の縮尺を実際のものとは異なるように表す場合がある。
【００２７】
＜液滴吐出法＞
最初に、液状体を液滴として吐出する液滴吐出法について説明する。液滴吐出法の吐出技術としては、帯電制御方式、加圧振動方式、電気機械変換方式、電気熱変換方式、静電吸引方式などが挙げられる。
帯電制御方式は、液状体に帯電電極で電荷を付与し、偏向電極で液状体の飛翔方向を制御して吐出ノズルから吐出させるものである。また、加圧振動方式は、液状体に３０ｋｇ／ｃｍ2程度の超高圧を印加して吐出ノズル先端側に液状体を吐出させるものであり、制御電圧をかけない場合には液状体が直進して吐出ノズルから吐出され、制御電圧をかけると液状体間に静電的な反発が起こり、液状体が飛散して吐出ノズルから吐出されない。
また、電気機械変換方式は、ピエゾ素子（圧電素子）がパルス的な電気信号を受けて変形する性質を利用したもので、ピエゾ素子が変形することによって液状体を貯留した空間に可撓物質を介して圧力を与え、この空間から液状体を押し出して吐出ノズルから吐出させるものである。
【００２８】
また、電気熱変換方式は、液状体を貯留した空間内に設けたヒーターにより、液状体を急激に気化させてバブル（泡）を発生させ、バブルの圧力によって空間内の液状体を吐出させるものである。静電吸引方式は、液状体を貯留した空間内に微小圧力を加え、吐出ノズルに液状体のメニスカスを形成し、この状態で静電引力を加えてから液状体を引き出すものである。この他に、電場による流体の粘性変化を利用する方式や、放電火花で飛ばす方式などの技術も適用可能である。
【００２９】
液滴吐出法は、液状体の使用に無駄が少なく、しかも所望の位置に所望の量の液状体を的確に配置できるという利点を有する。このうち、ピエゾ素子を用いるピエゾ方式は、液状体に熱を加えないため、液状体の組成などに影響を与えないなどの利点を有する。本実施形態では、液状体選択の自由度の高さ、及び液滴の制御性の良さの点から上記ピエゾ方式を用いる。
【００３０】
＜液滴吐出装置＞
次に、液滴吐出ヘッド２０（図２参照）を備える液滴吐出装置１の構成の全般について、図１を参照して説明する。図１は、液滴吐出装置の概略構成を示す外観斜視図である。
【００３１】
図１に示すように、液滴吐出装置１は、ヘッド機構部２と、媒体機構部３と、機能液供給部４と、保守装置部５とを備えている。ヘッド機構部２は、機能液を液滴として吐出する液滴吐出ヘッド２０を有している。媒体機構部３は、液滴吐出ヘッド２０から吐出された液滴の吐出対象であるワークＷを載置する媒体載置台３０を有している。機能液供給部４は、貯留タンクと、中継タンクと、給液チューブとを有し、当該給液チューブが、液滴吐出ヘッド２０に接続されている。給液チューブを介して、機能液供給部４から液滴吐出ヘッド２０に、機能液が供給される。保守装置部５は、液滴吐出ヘッド２０の検査又は保守を実施する各装置を備えている。液滴吐出装置１は、また、これら各機構部などを総括的に制御する吐出装置制御部７を備えている。
【００３２】
さらに、液滴吐出装置１は、床上に設置された複数の支持脚８と、支持脚８の上側に設置された定盤９とを備えている。定盤９の上側には、媒体機構部３が定盤９の長手方向（Ｘ軸方向）に延在する状態で配設されている。媒体機構部３の上方には、定盤９に立設された２本の支持柱で支持されているヘッド機構部２が、媒体機構部３と直交する方向（Ｙ軸方向）に延在する状態で配設されている。また、定盤９の傍らには、ヘッド機構部２の液滴吐出ヘッド２０に連通する給液チューブを有する機能液供給部４の貯留タンクなどが配置されている。ヘッド機構部２の一方の支持柱の近傍には、保守装置部５が媒体機構部３と並んでＸ軸方向に配設されている。さらに、定盤９の下側に、吐出装置制御部７が収容されている。
【００３３】
ヘッド機構部２は、液滴吐出ヘッド２０を有するヘッドユニット２１と、ヘッドユニット２１を有するヘッドキャリッジと、ヘッドキャリッジが吊設された移動枠２２と、移動枠２２をＹ軸方向に移動させるＹ軸走査機構とを、備えている。
移動枠２２を、Ｙ軸走査機構によってＹ軸方向に移動させることで、液滴吐出ヘッド２０をＹ軸方向に自在に移動させる。また、移動した位置に保持する。
媒体機構部３は、媒体載置台３０と、Ｘ軸走査機構とを備えている。媒体機構部３は、媒体載置台３０を、Ｘ軸走査機構によって、Ｘ軸方向に移動させることで、媒体載置台３０に載置されたワークＷをＸ軸方向に自在に移動させる。また、移動した位置に保持する。
【００３４】
液滴吐出ヘッド２０は、Ｙ軸方向の吐出位置まで移動して停止し、下方にあるワークＷのＸ軸方向の移動に同調して、機能液を液滴として吐出する。Ｘ軸方向に移動するワークＷと、Ｙ軸方向に移動する液滴吐出ヘッド２０とを相対的に制御することにより、ワークＷ上の任意の位置に液滴を着弾させることで、所望する平面形状の描画を実施することが可能である。
【００３５】
保守装置部５は、各種検査装置、各種保守装置、及び保守装置走査機構を備えている。検査装置は、液滴吐出ヘッド２０の吐出状態の検査を実施する吐出検査ユニットなどの、液滴吐出ヘッド２０の検査を実施する装置である。保守装置は、液滴吐出ヘッド２０の各種の保守を実施する装置である。保守装置走査機構は、これらの各装置をＸ軸方向に移動可能であって、任意の位置に保持可能に支持する装置である。
液滴吐出ヘッド２０の検査や保守を実施する際には、ヘッドユニット２１（液滴吐出ヘッド２０）が、Ｙ軸走査機構を用いて保守装置部５に臨む位置に移動させられる。また、実施する検査又は保守に対応する検査装置又は保守装置が、保守装置走査機構によって、ヘッドユニット２１（液滴吐出ヘッド２０）に臨む位置に移動させられる。
【００３６】
＜液滴吐出ヘッド＞
次に、液滴吐出ヘッド２０について、図２を参照して説明する。図２は、液滴吐出ヘッドの概略構成を示す図である。図２（ａ）は、液滴吐出ヘッドの概略構成を示す外観斜視図であり、図２（ｂ）は、液滴吐出ヘッドの構造を示す斜視断面図であり、図２（ｃ）は、液滴吐出ヘッドの吐出ノズルの部分の構造を示す断面図である。図２に示したＹ軸方向、及びＺ軸方向は、液滴吐出ヘッド２０が液滴吐出装置１に装着された状態において、図１に示したＹ軸方向、又はＺ軸方向と一致している。
【００３７】
図２（ａ）に示したように、液滴吐出ヘッド２０は、ノズル基板２５を備えている。ノズル基板２５には、多数の吐出ノズル２４が略一直線状に並んだノズル列２４Ａが２列形成されている。吐出ノズル２４から機能液を液滴として吐出し、対向する位置にある描画対象物などに着弾させることで、当該位置に機能液を配置する。ノズル列２４Ａは、液滴吐出ヘッド２０が液滴吐出装置１に装着された状態で、図１に示したＹ軸方向に延在している。ノズル列２４Ａにおいて吐出ノズル２４は等間隔のノズルピッチで並んでおり、２列のノズル列２４Ａ間で、吐出ノズル２４の位置がＹ軸方向に半ノズルピッチずれている。したがって、液滴吐出ヘッド２０としては、Ｙ軸方向に半ノズルピッチ間隔で機能液の液滴を配置することができる。
【００３８】
図２（ｂ）及び（ｃ）に示すように、液滴吐出ヘッド２０は、ノズル基板２５に圧力室プレート５１が積層されており、圧力室プレート５１に振動板５２が積層されている。
圧力室プレート５１には、液滴吐出ヘッド２０に供給される機能液が常に充填される液たまり５５が形成されている。液たまり５５は、振動板５２と、ノズル基板２５と、圧力室プレート５１の壁とに囲まれた空間である。機能液は、機能液供給部４から液滴吐出ヘッド２０に供給され、振動板５２の液供給孔５３を経由して液たまり５５に供給される。また、圧力室プレート５１には、複数のヘッド隔壁５７によって区切られた圧力室５８が形成されている。振動板５２と、ノズル基板２５と、２個のヘッド隔壁５７とによって囲まれた空間が圧力室５８である。
【００３９】
圧力室５８は吐出ノズル２４のそれぞれに対応して設けられており、圧力室５８の数と吐出ノズル２４の数とは同じである。圧力室５８には、２個のヘッド隔壁５７の間に位置する供給口５６を経由して、液たまり５５から機能液が供給される。ヘッド隔壁５７と圧力室５８と吐出ノズル２４と供給口５６との組は、液たまり５５に沿って１列に並んでおり、１列に並んだ吐出ノズル２４がノズル列２４Ａを形成している。図２（ｂ）では図示省略したが、図示した吐出ノズル２４を含むノズル列２４Ａに対して液たまり５５に関して略対称位置に、１列に並んで配設された吐出ノズル２４がもう１列のノズル列２４Ａを形成している。当該ノズル列２４Ａに対応するヘッド隔壁５７と圧力室５８と供給口５６との組が、１列に並んでいる。
【００４０】
振動板５２の圧力室５８を構成する部分には、それぞれ圧電素子５９の一端が固定されている。圧電素子５９の他端は、固定板５４（図４参照）を介して液滴吐出ヘッド２０全体を支持する基台（図示省略）に固定されている。
圧電素子５９は、電極層と圧電材料とを積層した活性部を有している。圧電素子５９は、電極層に駆動電圧を印加することで、活性部が長手方向（図２（ｂ）又は（ｃ）における振動板５２の厚さ方向）に縮む。電極層に印加されていた駆動電圧が解除されることで、活性部が元の長さに戻る。
【００４１】
電極層に駆動電圧が印加されて、圧電素子５９の活性部が縮むことで、圧電素子５９の一端が固定された振動板５２が圧力室５８と反対側に引張られる力を受ける。振動板５２が圧力室５８と反対側に引張られることで、振動板５２が圧力室５８の反対側に撓む。これにより、圧力室５８の容積が増加することから、機能液が液たまり５５から供給口５６を経て圧力室５８に供給される。次に、電極層に印加されていた駆動電圧が解除されると、活性部が元の長さに戻ることで、圧電素子５９が振動板５２を押圧する。振動板５２が押圧されることで、圧力室５８側に戻る。これにより、圧力室５８の容積が急激に元に戻る。すなわち増加していた容積が減少することから、圧力室５８内に充填されていた機能液に圧力が加わり、当該圧力室５８に連通して形成された吐出ノズル２４から機能液が液滴となって吐出される。
圧電素子５９が、圧力発生手段に相当する。圧力室５８が、圧力発生室に相当する。液滴吐出ヘッド２０が、吐出ヘッドに相当する。
【００４２】
＜液滴の吐出＞
次に、液滴吐出装置１における液滴吐出ヘッド２０からの液滴の吐出制御方法について、図３を参照して説明する。図３は、液滴吐出ヘッドの電気的構成と信号の流れを示す説明図である。
【００４３】
上述したように、液滴吐出装置１は、液滴吐出装置１の各部の動作を制御する吐出装置制御部７を備えている。吐出装置制御部７は、制御信号を出力するＣＰＵ８４と、液滴吐出ヘッド２０の電気的な駆動制御を行うヘッドドライバー２０ｄとを備えている。
図３に示すように、ヘッドドライバー２０ｄは、ＦＦＣケーブルを介して各液滴吐出ヘッド２０と電気的に接続されている。また、液滴吐出ヘッド２０は、吐出ノズル２４（図２参照）ごとに設けられた圧電素子５９に対応して、シフトレジスター（ＳＬ）８５と、ラッチ回路（ＬＡＴ）８６と、レベルシフター（ＬＳ）８７と、スイッチ（ＳＷ）８８とを備えている。
【００４４】
液滴吐出装置１における吐出制御は次のように行われる。最初に、ＣＰＵ８４がワークＷなどの描画対象物における機能液の配置パターンをデータ化したドットパターンデータをヘッドドライバー２０ｄに伝送する。そして、ヘッドドライバー２０ｄは、ドットパターンデータをデコードして吐出ノズル２４ごとのＯＮ／ＯＦＦ（吐出／非吐出）情報であるノズルデータを生成する。ノズルデータは、シリアル信号（ＳＩ）化されて、クロック信号（ＣＫ）に同期して各シフトレジスター８５に伝送される。
【００４５】
シフトレジスター８５に伝送されたノズルデータは、ラッチ信号（ＬＡＴ）がラッチ回路８６に入力されるタイミングでラッチされ、さらにレベルシフター８７でスイッチ８８用のゲート信号に変換される。即ち、ノズルデータが「ＯＮ」の場合にはスイッチ８８が開いて、圧電素子５９に駆動信号（ＣＯＭ）が供給され、ノズルデータが「ＯＦＦ」の場合にはスイッチ８８が閉じられて、圧電素子５９に駆動信号（ＣＯＭ）は供給されない。そして、「ＯＮ」に対応する吐出ノズル２４からは機能液が液滴となって吐出され、吐出された機能液の液滴がワークＷなどの描画対象物の上に着弾して、描画対象物の上に機能液が配置される。
【００４６】
＜駆動波形＞
次に、圧電素子５９に印加する駆動信号（ＣＯＭ）の駆動波形、及び当該駆動波形の駆動信号を印加された圧電素子５９の動作による吐出動作について、図４を参照して説明する。図４は、駆動波形の基本波形及び駆動波形に対応した圧電素子の動作を示す図である。図４（ａ）は、圧電素子に印加する駆動信号の駆動波形の基本波形を示す図であり、図４（ｂ）は、駆動波形に対応した圧電素子の動作による液滴吐出ヘッドの吐出動作を示す模式断面図である。
【００４７】
図４（ａ）に示すように、駆動信号を印加する前の待機状態では、圧電素子５９には一定の電圧が印加されている（図４（ａ）のＡ）。この電圧を中間電位と表記する。描画を実施する際は、描画開始前に、圧電素子５９に印加する電圧を中間電位に引き上げ、描画終了後に、グランドレベルに戻す。
圧電素子５９を中間電位に維持した待機状態では、圧電素子５９がわずかに縮んでいる。上述したように、圧電素子５９は、一端が振動板５２に固定されており、もう一端が固定板５４に固定されている。図４（ｂ）に示すように、圧電素子５９がわずかに縮むことによって、振動板５２が圧電素子５９の側に引張られることで、振動板５２が圧力室５８の反対側に撓んでいる（図４（ｂ）のＡ）。
【００４８】
駆動周期の最初の工程は、圧電素子５９に印加する電圧を、中間電位から始まって、高電位に引き上げる（昇圧、図４（ａ）のＢ）。圧電素子５９に印加される電圧が高くなることで、圧電素子５９がさらに縮んで、振動板５２が圧力室５８と反対側に引張られる力を受ける。振動板５２が圧力室５８と反対側に引張られることで、可撓性を有する材料で形成された振動板５２が圧力室５８の反対側に撓む。これにより、圧力室５８の容積が増加することから、機能液が液たまり５５から供給口５６を経て圧力室５８に供給される（給液、図４（ｂ）のＢ）。この工程を、昇圧給液工程と表記する。昇圧給液工程では、吐出ノズル２４から空気が圧力室に入り込まないように、圧電素子５９をゆっくり変位させる。圧電素子５９に印加される高電位の電圧が、液滴吐出ヘッド２０を駆動するために印加される駆動電圧に相当する。
【００４９】
昇圧給液工程後、圧電素子５９に印加する電圧を高電位に保った状態を維持する。この状態を、吐出前待機状態と表記する（図４（ａ）のＣ）。圧電素子５９を構成する圧電材料は、電圧変化が終了した後でも機械的な振動が残留しているため、その機械振動が収まるまで待機する工程が、吐出前待機状態である。
【００５０】
機械振動が収まる時間だけ吐出前待機状態を維持した後、圧電素子５９に印加する電圧を、一気に降圧させる（図４（ａ）のＤ）。圧電素子５９に印加する電圧を、一気に降圧させることによって、圧電素子５９の変位が一気に零になり、圧力室５８は急激に狭くなる。これにより、圧力室５８内の圧力が急激に高くなり、圧力室５８の内部に充填されていた機能液が、吐出ノズル２４から吐出される（図４（ｂ）のＤ）。この工程を、降圧吐出工程と表記する。
【００５１】
圧電素子５９は、高電位の電圧値によって縮む量が異なる。圧電素子５９が縮む量が異なることで、圧力室５８の容積が増加する量も異なる。このため、当該高電位の電圧値を変えることによって、圧力室５８に充填されて吐出される機能液の量、すなわち液滴吐出ヘッド２０の吐出ノズル２４からの吐出量を調整することができる。
また、圧力室５８の容積が増加する量を小さくして、機能液が吐出ノズル２４から吐出しないような増加量にすることもできる。機能液が吐出ノズル２４から吐出しない程度に圧力室５８内の圧力を変動させた場合は、圧力室５８内の圧力の変動に対応して、吐出ノズル２４内に形成されているメニスカス３２４（図１１参照）が振動する。
【００５２】
降圧吐出工程の次に、圧電素子５９に印加する電圧を低電位に保った状態を維持する。この状態を、吐出後待機状態と表記する（図４（ａ）のＥ）。圧電素子５９の機械振動が収まる時間だけ低電位状態を維持する工程が、吐出後待機状態である。
圧電素子５９の機械振動が収まる時間だけ吐出後待機状態を維持した後、圧電素子５９に印加する電圧を中間電位に引き上げて（図４（ａ）のＦ）、再び待機状態（中間電位）にする。
【００５３】
＜着弾位置＞
次に、液滴吐出ヘッド２０の吐出ノズル２４と、それぞれの吐出ノズル２４から吐出された液滴の着弾位置と、の関係について、図５を参照して説明する。図５は、吐出ノズルと、それぞれの吐出ノズルから吐出された液滴の着弾位置と、の関係を示す説明図である。図５（ａ）は、吐出ノズルの配置位置を示す説明図であり、図５（ｂ）は、液滴をノズル列の延在方向に直線状に着弾させた状態を示す説明図であり、図５（ｃ）は、液滴を主走査方向に直線状に着弾させた状態を示す説明図であり、図５（ｄ）は、液滴を面状に着弾させた状態を示す説明図である。図５に示したＸ軸方向及びＹ軸方向は、ヘッドユニット２１が液滴吐出装置１に取り付けられた状態において、図１に示したＸ軸方向及びＹ軸方向と一致している。Ｘ軸方向が主走査方向であって、図５に示した矢印ａの方向に吐出ノズル２４（液滴吐出ヘッド２０）を相対移動させながら、任意の位置において機能液の液滴を吐出することによって、Ｘ軸方向の任意の位置に液滴を着弾させることができる。
【００５４】
図５（ａ）に示すように、ノズル列２４Ａを構成する吐出ノズル２４は、Ｙ軸方向にノズルピッチＰの中心間距離で配列されている。上述したように、２列のノズル列２４Ａをそれぞれ構成する吐出ノズル２４同士は、Ｙ軸方向において、相互に、ノズルピッチＰの１／２ずつ位置がずれている。
【００５５】
図５（ｂ）に示すように、着弾位置を示す着弾点９１と、着弾した液滴の濡れ広がり状態を示す着弾円９１Ａとで、着弾した１滴の液滴の状態を示している。２列のノズル列２４Ａの全部の吐出ノズル２４から、図５（ｂ）に二点鎖線で示した仮想線Ｌ上に着弾させるタイミングで、それぞれ液滴を吐出させることによって、ノズルピッチＰの１／２の中心間間隔で着弾円９１Ａが連なる直線が形成される。
【００５６】
図５（ｃ）に示すように、一つの吐出ノズル２４から連続して液滴を吐出させることによって、Ｘ軸方向に着弾円９１Ａが連なる直線が形成される。Ｘ軸方向における着弾点９１間の中心間距離の最小値を、最小着弾距離ｄと表記する。最小着弾距離ｄは、主走査方向の相対移動速度と、吐出ノズル２４の最小吐出間隔との積である。
【００５７】
図５（ｄ）に示すように、二点鎖線で示した仮想線Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３上に着弾させるタイミングで、それぞれ液滴を吐出させることによって、ノズルピッチＰの１／２の中心間間隔で着弾円９１Ａが連なる直線が、Ｘ軸方向に並列した着弾面が形成される。図５（ｄ）に示した仮想線Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３間の距離が最小着弾距離ｄの場合のそれぞれの着弾点９１が、液滴吐出装置１によって機能液の液滴を配置可能な位置である。
【００５８】
画像の描画に際しては、画像の情報に従って、図５（ｄ）に示したそれぞれの着弾点９１の位置について、液滴を配置する位置を定める。例えば、当該配置位置、及び当該配置位置に液滴を吐出する吐出ノズル２４を指定した配置表を形成し、配置表に従って機能液を着弾させることによって、画像の情報によって規定される画像を描画する。なお、図５（ｄ）に示した例では、着弾円９１Ａの間に隙間が存在するが、ノズルピッチＰや最小着弾距離ｄに対して、吐出する液滴の１滴あたりの吐出重量を適切に定めることによって、隙間なく機能液を配置することが可能である。もちろん、他の液滴と重ねることなく、１滴を独立させて配置することも可能である。
【００５９】
＜表示装置＞
次に、電気光学装置としての表示装置２０１について、図６及び図７を参照して説明する。表示装置２０１は、有機ＥＬ素子を備える有機ＥＬ表示装置である。図６は、表示装置の全体構成の概略を示す図である。図６（ａ）は、表示装置の外観斜視図であり、図６（ｂ）は、図６（ａ）にＡ−Ａで示した断面における断面図である。図７は、表示装置における画素の構成を示す説明図である。図７（ａ）は、表示装置が備える複数の画素の一部分を示す平面図であり、図７（ｂ）は、図７（ａ）にＣ−Ｃで示した断面における断面図である。
【００６０】
図６に示すように、表示装置２０１は、素子基板２０３と、封止基板２０５と、を有している。素子基板２０３と封止基板２０５とは、互いに対向している。表示装置２０１では、封止基板２０５の素子基板２０３側とは反対側の面である表示面２０７に、画像などを表示することができる。
表示装置２０１には、複数の画素２０９が設定されている。複数の画素２０９は、表示領域２１１内で、図中のＶ軸方向及びＷ軸方向に配列しており、Ｖ軸方向を行方向とし、Ｗ軸方向を列方向とするマトリクスＭを構成している。Ｖ軸方向及びＷ軸方向は、平面視で互いに交差する方向である。本実施形態では、Ｖ軸方向は、走査線が延在する方向でもある。また、Ｗ軸方向は、信号線が延在する方向でもある。また、本実施形態では、Ｖ軸方向及びＷ軸方向は、平面視で互いに略直交している。
表示装置２０１は、複数の画素２０９から選択的に表示面２０７を介して表示装置２０１の外に光を射出することで、表示面２０７に画像などを表示する。なお、表示領域２１１とは、画像が表示され得る領域である。図６（ａ）では、構成をわかりやすく示すため、画素２０９が誇張され、且つ画素２０９の個数が減じられている。
【００６１】
表示装置２０１において、素子基板２０３は、図６（ａ）にＡ−Ａで示した断面における断面図である図６（ｂ）に示すように、封止基板２０５側とは反対側の面である底面２１４を有している。
素子基板２０３には、表示面２０７側すなわち封止基板２０５側に、後述する有機ＥＬ素子２３７（図７参照）などが設けられている。表示装置２０１において、表示面２０７と底面２１４とは、互いに表裏の関係にある。
【００６２】
封止基板２０５は、素子基板２０３よりも表示面２０７側で素子基板２０３に対向した状態で設けられている。素子基板２０３と封止基板２０５とは、接着剤２１６を介して接合されている。表示装置２０１では、有機ＥＬ素子２３７は、接着剤２１６によって表示面２０７側から覆われている。
また、素子基板２０３と封止基板２０５との間は、表示装置２０１の周縁よりも内側で表示領域２１１を囲むシール材２１７によって封止されている。つまり、表示装置２０１では、有機ＥＬ素子２３７と接着剤２１６とが、素子基板２０３及び封止基板２０５並びにシール材２１７によって封止されている。
【００６３】
図７（ａ）に示すように、表示装置２０１における複数の画素２０９は、それぞれ、表示面２０７から射出する光の色が、赤系（Ｒ）、緑系（Ｇ）及び青系（Ｂ）のうちの１つに設定されている。マトリクスＭを構成する複数の画素２０９は、Ｒの光を射出する画素２０９Ｒと、Ｇの光を射出する画素２０９Ｇと、Ｂの光を射出する画素２０９Ｂとを含んでいる。
なお、以下においては、画素２０９という表記と、画素２０９Ｒ、画素２０９Ｇ及び画素２０９Ｂという表記とが、適宜、使いわけられる。
【００６４】
ここで、Ｒの色は、純粋な赤の色相に限定されず、橙等を含む。Ｇの色は、純粋な緑の色相に限定されず、青緑や黄緑等を含む。Ｂの色は、純粋な青の色相に限定されず、青紫や青緑等を含む。他の観点から、Ｒの色を呈する光は、光の波長のピークが、可視光領域で５７０ｎｍ以上の範囲にある光であると定義され得る。また、Ｇの色を呈する光は、光の波長のピークが５００ｎｍ〜５６５ｎｍの範囲にある光であると定義され得る。Ｂの色を呈する光は、光の波長のピークが４１５ｎｍ〜４９５ｎｍの範囲にある光であると定義され得る。
【００６５】
マトリクスＭでは、Ｗ軸方向に沿って一列に並ぶ複数の画素２０９が、１つの画素列２２１を構成している。また、Ｖ軸方向に沿って一列に並ぶ複数の画素２０９が、１つの画素行２２３を構成している。
隣り合う画素列２２１の間には、Ｗ軸方向に延在する絶縁膜（第２隔壁）２５９が設けられており、Ｖ軸方向において隣り合う画素２０９を隔てている。隣り合う画素行２２３の間には、Ｖ軸方向に延在する絶縁膜２５９が設けられており、Ｗ軸方向において隣り合う画素２０９を隔てている。すなわち、絶縁膜２５９に囲まれる領域に、画素２０９が形成されている。画素２０９は、絶縁膜２５９によって互いに隔てられている。絶縁膜２５９に囲まれる領域を、画素形成区画２９１と表記する。
なお、詳細には後述するが、画素２０９、及び絶縁膜２５９は、共通電極２４３（図７（ｂ）参照）によって覆われているが、構成をわかりやすく示すために、図７（ａ）では共通電極２４３を省略した状態を示してある。
画素形成区画２９１が、被着弾領域に相当する。
【００６６】
１つの画素列２２１内の各画素２０９は、光の色がＲ、Ｇ及びＢのうちの１つに設定されている。つまり、マトリクスＭは、複数の画素２０９ＲがＷ軸方向に配列した画素列２２１Ｒと、複数の画素２０９ＧがＷ軸方向に配列した画素列２２１Ｇと、複数の画素２０９ＢがＷ軸方向に配列した画素列２２１Ｂとを有している。そして、表示装置２０１では、画素列２２１Ｒ、画素列２２１Ｇ及び画素列２２１Ｂが、この順でＶ軸方向に沿って反復して並んでいる。
なお、以下においては、画素列２２１という表記と、画素列２２１Ｒ、画素列２２１Ｇ及び画素列２２１Ｂという表記とが、適宜、使いわけられる。
【００６７】
ここで、素子基板２０３及び封止基板２０５のそれぞれの構成について、詳細に説明する。
図７（ａ）にＣ−Ｃ線で示した断面における断面図である図７（ｂ）に示すように、素子基板２０３は、基板２５１と、素子層２５３と、を有している。素子層２５３は、駆動素子層２５５を含んでいる。
なお、図７（ｂ）では、構成をわかりやすく示すため、有機ＥＬ素子２３７の有機層２４１を駆動するための、選択トランジスター、駆動トランジスター、容量素子、走査線、信号線、及び電源線が省略されている。選択トランジスター、駆動トランジスター、容量素子、走査線、信号線、及び電源線は、駆動素子層２５５に含まれている。
【００６８】
基板２５１は、表示面２０７側に向けられた第１面２５２ａと、底面２１４側に向けられた第２面２５２ｂとを有している。基板２５１の材料としては、例えば、ガラスや石英などの光透過性を有する無機材料が採用され得る。本実施形態では、基板２５１の材料として、ガラスが採用されている。
駆動素子層２５５は、基板２５１の第１面２５２ａに設けられている。
駆動素子層２５５の表示面２０７側には、画素電極２３９が設けられている。画素電極２３９の材料としては、例えば、銀、白金、アルミニウム、銅などの光反射性を有する金属や、これらを含む合金などが採用され得る。
【００６９】
画素電極２３９を陽極として機能させる場合には、画素電極２３９の材料として、銀、白金などの仕事関数が比較的高い材料を用いることが好ましい。また、画素電極２３９の材料としてＩＴＯ（Indium Tin Oxide）やインジウム亜鉛酸化物（Indium Zinc Oxide）などを用い、光反射性を有する部材を画素電極２３９と駆動素子層２５５との間に設けた構成も採用され得る。本実施形態では、画素電極２３９の材料としてＩＴＯが採用されている。
【００７０】
隣り合う画素電極２３９同士の間には、各画素２０９を区画する絶縁膜（第１隔壁）２５７が領域２５８にわたって設けられている。絶縁膜２５７は、例えば、酸化シリコン、窒化シリコン、アクリル系の樹脂などの光透過性を有する材料で構成されている。絶縁膜２５７は、平面視で、表示領域２１１にわたって格子状に設けられている。このため、表示領域２１１は、絶縁膜２５７によって複数の画素２０９の領域に区画されている。１つの画素２０９に着目すると、絶縁膜２５７は、平面視で環状に設けられている。なお、各画素電極２３９は、絶縁膜２５７によって囲まれた各画素２０９の領域に平面視で重なっている。本実施形態では、絶縁膜２５７の材料として酸化シリコンが採用されている。
【００７１】
絶縁膜２５７の表示面２０７側には、各画素２０９の領域を囲む絶縁膜（第２隔壁）２５９が設けられている。絶縁膜２５９は、例えば、カーボンブラックやクロムなどの光吸収性が高い材料を含有するアクリル系の樹脂やポリイミド樹脂などの有機材料で構成されている。図７（ａ）を参照して説明したように、絶縁膜２５９は、平面視で格子状に設けられている。平面視で格子状に設けられている絶縁膜２５９は、絶縁膜２５７に沿って設けられている。１つの画素２０９に着目すると、絶縁膜２５９は、平面視で各画素２０９の領域を囲んでいる。このため、絶縁膜２５９は、画素２０９ごとに環状に設けられているとみなされ得る。
本実施形態では、絶縁膜２５９の材料としてアクリル系の樹脂が採用されている。
画素電極２３９の表示面２０７側には、絶縁膜２５９で囲まれた画素形成区画２９１内に、有機層２４１が設けられている。
表示装置２０１は、有機層２４１に含まれる発光層２６５が発光し、発光層２６５からの光が封止基板２０５を介して表示面２０７から射出されるトップエミッション型の有機ＥＬ表示装置である。なお、表示装置２０１では、表示面２０７側という表現が上側とも表現され、底面２１４側という表現が下側とも表現される。
【００７２】
有機層２４１は、各画素２０９に対応して設けられており、正孔注入層２６１と、正孔輸送層２６３と、発光層２６５と、を有している。
正孔注入層２６１は、有機材料で構成されており、平面視で絶縁膜２５９によって囲まれた領域内で、画素電極２３９の表示面２０７側に設けられている。
正孔注入層２６１の有機材料としては、３，４−ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）等のポリチオフェン誘導体と、ポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）等との混合物が採用され得る。正孔注入層２６１の有機材料としては、ポリスチレン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリアセチレンやこれらの誘導体なども採用され得る。
【００７３】
正孔輸送層２６３は、有機材料で構成されており、平面視で絶縁膜２５９によって囲まれた領域内で、正孔注入層２６１の表示面２０７側に設けられている。
正孔輸送層２６３の有機材料としては、例えば、下記化合物１として示されるＴＦＢなどのトリフェニルアミン系ポリマーを含んだ構成が採用され得る。
【００７４】
【化１】
2013163164.tif 000003
【００７５】
発光層２６５は、有機材料で構成されており、平面視で絶縁膜２５９によって囲まれた領域内で、正孔輸送層２６３の表示面２０７側に設けられている。
画素２０９Ｒに対応する発光層２６５の有機材料としては、例えば、下記化合物２として示されるＦ８（ポリジオクチルフルオレン）と、ペリレン染料とを混合したものが採用され得る。
【００７６】
【化２】
2013163164.tif 000004
【００７７】
画素２０９Ｇに対応する発光層２６５の有機材料としては、例えば、下記化合物３として示されるＦ８ＢＴと、上記化合物１として示されるＴＦＢと、上記化合物２として示されるＦ８とを混合したものが採用され得る。
【００７８】
【化３】
2013163164.tif 000005
【００７９】
画素２０９Ｂに対応する発光層２６５の有機材料としては、例えば、上記化合物２として示されるＦ８が採用され得る。
【００８０】
有機層２４１の表示面２０７側には、図７（ｂ）に示すように、絶縁膜２５９によって囲まれた領域内に、電子注入層２６７が設けられている。電子注入層２６７の材料としては、例えば、マグネシウムと銀とを含む合金や、カルシウムなどが採用され得る。本実施形態では、電子注入層２６７の材料として、マグネシウムと銀とを含み、光透過性を有する合金が採用されている。
電子注入層２６７の表示面２０７側には、共通電極２４３が設けられている。共通電極２４３は、例えば、アルミニウム等の金属を薄膜化して光透過性を付与したものなどが採用され得る。また、共通電極２４３は、例えば、マグネシウムと銀とを含む合金等を薄膜化して光透過性を付与したものなどによっても構成され得る。本実施形態では、共通電極２４３として、アルミニウムの薄膜が採用されている。共通電極２４３は、電子注入層２６７、及び絶縁膜２５９を表示面２０７側から複数の画素２０９間にわたって覆っている。
【００８１】
なお、表示装置２０１では、各画素２０９において発光する領域（以下、発光領域と呼ぶ）は、平面視で画素電極２３９と有機層２４１と電子注入層２６７と共通電極２４３とが重なる領域であると定義され得る。また、画素２０９ごとに発光領域を構成する要素の一群が１つの有機ＥＬ素子２３７であると定義され得る。表示装置２０１では、１つの有機ＥＬ素子２３７は、１つの画素電極２３９と、１つの有機層２４１と、１つの電子注入層２６７と、１つの画素２０９に対応する共通電極２４３とを含んだ構成を有している。
【００８２】
封止基板２０５は、例えばガラスや石英などの光透過性を有する材料で構成されており、表示面２０７側に向けられた外向面２０５ａと、底面２１４側に向けられた対向面２０５ｂとを有している。
上記の構成を有する素子基板２０３及び封止基板２０５は、素子基板２０３の共通電極２４３と封止基板２０５の対向面２０５ｂとの間が、接着剤２１６を介して接合されている。
【００８３】
表示装置２０１では、図６（ｂ）に示したシール材２１７は、図７（ｂ）に示した基板２５１の第１面２５２ａと、封止基板２０５の対向面２０５ｂとによって挟持されている。つまり、表示装置２０１では、有機ＥＬ素子２３７及び接着剤２１６が、基板２５１及び封止基板２０５並びにシール材２１７によって封止されている。なお、シール材２１７は、対向面２０５ｂ及び共通電極２４３の間に設けられていてもよい。この場合、有機ＥＬ素子２３７及び接着剤２１６は、素子基板２０３及び封止基板２０５並びにシール材２１７によって封止されているとみなされ得る。
【００８４】
＜表示装置の製造工程＞
次に、表示装置２０１の製造方法について、図８、図９、図１０、及び図１１を参照して説明する。表示装置２０１の製造方法は、素子基板２０３を製造する工程と、表示装置２０１を組み立てる工程とに大別される。
本実施形態では、主に、液滴吐出装置１を用いて、素子基板２０３が備える有機層２４１を構成する機能膜を形成する工程について説明する。図８は、液滴吐出装置を用いて、素子基板における機能膜を形成する工程を示すフローチャートである。図９は、駆動波形と吐出される液滴の大きさとを示す説明図である。図９（ａ）及び図９（ｃ）は、吐出波形を示す模式図であり、図９（ｂ）及び図９（ｄ）は、吐出波形に対応する液滴を示す模式図であり、図９（ｅ）は、予備振動波形を示す模式図である。図１０は、液滴吐出装置を用いて、素子基板における機能膜を形成する工程を示す説明図である。図１０（ａ）は、素子基板における絶縁膜及び画素形成区画の配列を示す模式図であり、図１０（ｂ）は、画素形成区画に対応させて予備振動波形及び吐出波形を示す説明図である。図１１は、画素形成区画に対応させて吐出ノズルと液滴を示す説明図である。
【００８５】
素子基板２０３を製造する工程では、まず、基板２５１の第１面２５２ａに駆動素子層２５５を形成する。
次いで、駆動素子層２５５の表面に、各画素２０９に対応した画素電極２３９を形成する。画素電極２３９を形成する駆動素子層２５５の表面は、素子基板２０３が表示装置２０１として組み立てられた状態において、表示面２０７側の面である。
次に、隣り合う画素電極２３９間に、絶縁膜２５７を、各画素電極２３９の周縁に重ねて形成する。
次に、絶縁膜２５７の表示面２０７側に絶縁膜２５９を形成する。絶縁膜２５９を形成することで、上述したように、画素形成区画２９１が形成される。
【００８６】
次に、液滴吐出装置１を用いて、画素形成区画２９１に機能液を配置し、有機層２４１を構成する正孔注入層２６１と、正孔輸送層２６３と、発光層２６５とを、形成する。機能液は、正孔注入層２６１、正孔輸送層２６３、又は発光層２６５の材料を含み、液滴吐出ヘッド２０を用いて液滴として吐出可能に調整された液状体である。
【００８７】
図８のステップＳ１では、圧電素子５９に印加する駆動信号（ＣＯＭ）の駆動波形を入力して、吐出装置制御部７が備える記憶部に記憶する。
駆動波形は、図４を参照して説明した駆動波形と基本的に同様の構成であり、例えば図９に示したような波形である。波形は、電圧の時間変化として表されている。図９に示した駆動波形は、簡易的に、吐出量を規定する昇圧、高電位、及び降圧の部分のみを示してある。
図９（ａ）に示した吐出波形７９は、図９（ｂ）に示した吐出液滴７８を吐出させる吐出駆動信号の駆動波形である。吐出液滴７８は、液滴吐出ヘッド２０から吐出する液滴の基本の大きさの液滴である。
図９（ｃ）に示した吐出波形７６は、図９（ｄ）に示した吐出液滴７５を吐出させる吐出駆動信号の駆動波形である。吐出液滴７５は、吐出液滴７８より小さい液滴であり、液滴吐出ヘッド２０から吐出する補助の液滴である。吐出液滴７５は、例えば、吐出液滴７８によって形成される着弾円９１Ａより小さい点を形成する場合などに用いられる。図４を参照して説明したように、高電位の電圧（以降、駆動電圧と表記する。）を調整することによって吐出される液滴の大きさを調整することができる。吐出波形７６の駆動電圧は、吐出波形７９の駆動電圧より低く設定されている。
【００８８】
図９（ｅ）に示した予備振動波形７１は、予備振動を発生させるための予備振動信号の駆動波形である。予備振動波形７１の駆動電圧は、吐出ノズル２４からの吐出が発生しない値に設定されている。駆動波形が予備振動波形７１である予備振動信号が圧電素子５９に印加されると、図４を参照して説明したように、圧力室５８内の機能液は、吐出ノズル２４に押し出される。しかし、予備振動波形７１の駆動電圧が低く設定されており、圧力室５８の変形が小さいことから、吐出ノズル２４に送られる機能液が少ないため、吐出ノズル２４からの吐出は発生しない。吐出ノズル２４内のメニスカス３２４（図１１参照）の振動が発生する。
圧電素子５９に印加する駆動信号（ＣＯＭ）の駆動波形を入力して記憶部に記憶するステップＳ１が、駆動信号記憶工程に相当する。
【００８９】
次に、図８のステップＳ２では、画像情報を取得する。画像情報は、描画対象物に描画する形状の情報であって、描画対象物における機能液の配置パターンである。基板２５１（素子基板２０３）における機能液を配置する位置は、画素形成区画２９１の位置である。
図１０（ａ）は、基板２５１（素子基板２０３）における絶縁膜２５９及び画素形成区画２９１の配列を示す模式図である。図１０（ａ）におけるＷ軸方向の幅は、１個の吐出ノズル２４で機能液を配置可能な範囲である。
【００９０】
次に、図８のステップＳ３では、画像情報をデータ化したドットパターン予備データを生成する。
図１０（ｂ）は、画素形成区画２９１に対応させて、予備振動波形７１、吐出波形７６、及び吐出波形７９を示す説明図である。図１０（ｂ）は、図の縦方向が時間軸であり、横線の間隔で、液滴吐出装置１を用いて画素形成区画２９１に機能液を配置するための吐出走査の際の最小吐出間隔ｔ０を示している。最小吐出間隔ｔ０の間に、１個の吐出ノズル２４から、１個の液滴を吐出することが可能である。最小吐出間隔ｔ０の期間を吐出周期と表記する。図１０（ｂ）に示した吐出周期に対応する図１０（ａ）における距離が、最小着弾距離ｄである。
なお、基板２５１（素子基板２０３）に対する吐出ノズル２４の相対移動の方向は、図１０（ａ）に示した矢印ａの方向である。図１０（ｂ）における上側の吐出周期が、早い時点における吐出周期である。
図１０（ｂ）の吐出周期番号の列に示した、番号ｋ０，ｋ１，ｋ２，ｋｍ２，ｋｍ１，ｋｍ０，ｌ０，ｌ１，ｌ２，ｌｎ２，ｌｎ１，ｌｎ０は、吐出周期に付した番号である。吐出有無の列に記載した○印は、○印が記載された吐出周期が、ドットパターン予備データにおいて液滴を吐出する吐出周期に設定されていることを示している。
【００９１】
次に、図８のステップＳ４では、駆動波形の割付を実施する。
図１０（ｂ）の駆動信号の信号番号の列に示した番号は、駆動波形に付された番号である。当該列に記載された番号７１，７６，７９は、それぞれ当該番号が記載された吐出周期において圧電素子５９に印加される駆動信号の波形として、予備振動波形７１、吐出波形７６、又は吐出波形７９が割り付けられたことを示している。
駆動波形の列に示した波形形状は、図９に示した波形を対応する吐出周期ごとに示したものである。
【００９２】
図１０（ｂ）に示すように、吐出を実施する吐出周期には、吐出波形７６、又は吐出波形７９が割り付けられている。吐出波形７６は、画素形成区画２９１における端の位置に対応する吐出周期ｋ１、吐出周期ｋｍ１、吐出周期ｌ１、吐出周期ｌｎ１に割り付けられている。画素形成区画２９１の端に着弾する液滴を、吐出液滴７８にくらべて体積が小さい吐出液滴７５にすることで、液滴が着弾する際に、液滴における画素形成区画２９１から外れた部分が絶縁膜２５９上に付着することを抑制することができる。
【００９３】
吐出周期ｋ１、吐出周期ｋ２から、吐出周期ｋｍ１までは、吐出を実施する吐出周期である。したがって、吐出周期ｋ１から、吐出周期ｋｍ１までは、吐出ノズル２４から連続して液滴が吐出される。吐出周期ｌ１、吐出周期ｌ２から、吐出周期ｌｎ１までも、吐出を実施する吐出周期である。したがって、吐出周期ｌ１から、吐出周期ｌｎ１までも、吐出ノズル２４から連続して液滴が吐出される。吐出周期ｋ１又は吐出周期ｌ１の前の吐出周期ｋ０及び吐出周期ｌ０には、予備振動波形７１が割付けられている。
ドットパターン予備データに駆動信号の割付が付加されて、ドットパターンデータが形成される。
ステップＳ４は、予備振動波形７１、吐出波形７６、又は吐出波形７９の中から駆動波形を選択して割付を実施する工程であり、信号選択工程に相当する。
【００９４】
次に、図８のステップＳ５では、ドットパターンデータに基づいて、描画吐出を実施する。
図１１に示すように、媒体載置台３０に保持された基板２５１（素子基板２０３）に対して、吐出ノズル２４が、図１１に示した矢印ａの方向に相対移動しながら機能液の吐出を実施する。上述したように、吐出周期ごとに、ドットパターンデータに規定された駆動信号が圧電素子５９に印加され、吐出ノズル２４からの吐出又はメニスカス３２４の振動が実施される。
【００９５】
図１１に示した、吐出ノズル２４ａは、図１０に示した吐出周期ｋ０における吐出ノズル２４を示している。吐出周期ｋ０においては、圧電素子５９に、波形が予備振動波形７１である駆動信号（予備振動信号）が印加されている。吐出ノズル２４ａにおいては、予備振動信号によって圧電素子５９が駆動されることで、圧力室５８内の圧力が変動し、メニスカス３２４が矢印ｂの方向に振動する。
予備振動信号を印加してメニスカス３２４を振動させる工程が、予備振動工程に相当する。予備振動信号を印加してメニスカス３２４を振動させる工程と、予備振動波形７１を記憶する工程と、予備振動波形７１を選択して吐出周期ｋ０などに割り付ける工程とを含む工程も、予備振動工程に相当する。
【００９６】
図１１に示した、吐出ノズル２４ｂは、図１０に示した吐出周期ｋ１における吐出ノズル２４を示している。吐出周期ｋ１においては、圧電素子５９に、波形が吐出波形７６である駆動信号（吐出駆動信号）が印加されている。吐出ノズル２４ｂからは、吐出駆動信号によって圧電素子５９が駆動されることで、吐出液滴７５が画素形成区画２９１に向けて吐出される。
図１１に示した、吐出ノズル２４ｃは、図１０に示した吐出周期ｋ２における吐出ノズル２４を示している。吐出周期ｋ２においては、圧電素子５９に、波形が吐出波形７９である駆動信号（吐出駆動信号）が印加されている。吐出ノズル２４ｂからは、吐出駆動信号によって圧電素子５９が駆動されることで、吐出液滴７８が画素形成区画２９１に向けて吐出される。
図１１に示した、吐出ノズル２４ｄは、図１０に示した吐出周期ｋｍ１における吐出ノズル２４を示している。吐出周期ｋｍ１においては、圧電素子５９に、波形が吐出波形７６である駆動信号（吐出駆動信号）が印加されている。吐出ノズル２４ｄからは、吐出駆動信号によって圧電素子５９が駆動されることで、吐出液滴７５が画素形成区画２９１に向けて吐出される。
吐出ノズル２４ｂと吐出ノズル２４ｄとの間の位置における吐出ノズル２４では、吐出ノズル２４ｃと同様に、圧電素子５９に、波形が吐出波形７９である吐出駆動信号が印加されており、吐出ノズル２４からは、吐出液滴７８が画素形成区画２９１に向けて吐出される。
画素形成区画２９１に着弾した吐出液滴７５及び吐出液滴７８によって、機能液の液溜７０が形成される。当該液溜７０を乾燥させることで、画素形成区画２９１に、正孔注入層２６１などが形成される。
【００９７】
ステップＳ５を実施して、液滴吐出装置１を用いて、画素形成区画２９１に機能液を配置し、有機層２４１を構成する機能膜を形成する工程を終了する。
正孔注入層２６１を形成する工程と、正孔輸送層２６３を形成する工程と、発光層２６５を形成する工程とは、配置する機能液が異なっており、それぞれ個別に実施する。予備振動波形７１、吐出波形７６、及び吐出波形７９は、機能液の特性に対応して、適切な波形を設定することが必要である。
なお、同じ機能液を配置するための吐出を繰り返す場合には、ステップＳ１の駆動波形を記憶部に記憶するは、最初の１回のみ実施してもよい。また、同様の描画吐出を繰返す場合には、ステップＳ１乃至ステップＳ４は最初の１回のみ実施して、ステップＳ５の描画吐出のみを繰返して実施してもよい。
【００９８】
以下、実施形態による効果を記載する。本実施形態によれば、以下の効果が得られる。
（１）吐出周期ｋ０及び吐出周期ｌ０においては、波形が予備振動波形７１である予備振動信号が、圧電素子５９に印加される。予備振動波形７１の駆動電圧は、吐出ノズル２４からの吐出が発生しない値に設定されている。これにより、吐出周期ｋ０及び吐出周期ｌ０において、液滴を吐出させることなく、吐出ノズル２４におけるメニスカスを振動させることができる。
【００９９】
（２）吐出周期ｋ１及び吐出周期ｌ１では、吐出ノズル２４からの液滴の吐出が実施される。吐出周期ｋ１又は吐出周期ｌ１の直前の吐出周期ｋ０及び吐出周期ｌ０においては、波形が予備振動波形７１である予備振動信号が、圧電素子５９に印加される。これにより、吐出周期ｋ１及び吐出周期ｌ１において吐出を実施する前に、吐出周期ｋ０及び吐出周期ｌ０において、液滴を吐出させることなく、吐出ノズル２４におけるメニスカスを振動させることができる。メニスカスを振動させた状態に続けて吐出を実施することによって、メニスカスが静止した状態から吐出を実施する場合にくらべて、吐出状態を安定させることができる。したがって、吐出周期ｋ１又は吐出周期ｌ１の直前の吐出周期ｋ０及び吐出周期ｌ０において、予備振動信号を圧電素子５９に印加することによって、吐出周期ｋ１及び吐出周期ｌ１において実施される吐出ノズル２４からの液滴の吐出状態を安定させることができる。
【０１００】
（３）液滴吐出ヘッド２０の駆動源である圧電素子５９は、駆動電圧の電圧値によって縮む量が異なる。このため、波形が低い駆動電圧の予備振動波形７１である予備振動信号を圧電素子５９に印加して、機能液が吐出ノズル２４から吐出しない程度に、圧力室５８内の圧力を変動させることができる。これにより、液滴を吐出させることなく、吐出ノズル２４におけるメニスカスを振動させることができる。
【０１０１】
（４）ステップＳ４では、駆動波形の割付を実施し、駆動信号の波形として、予備振動波形７１、吐出波形７６、又は吐出波形７９が割り付けられる。吐出駆動信号の波形として、吐出波形７６、又は吐出波形７９を選択できる。このため、着弾位置などに応じて、より適切な駆動波形の吐出駆動信号を選択することができる。
【０１０２】
（５）ステップＳ１では、圧電素子５９に印加する駆動信号（ＣＯＭ）の駆動波形を入力して、吐出装置制御部７が備える記憶部に記憶する。駆動波形の割付を実施する際に、記憶された駆動波形の中から選択することで、割付を迅速に実施することができる。
【０１０３】
以上、添付図面を参照しながら好適な実施形態について説明したが、好適な実施形態は、前記実施形態に限らない。実施形態は、要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論であり、以下のように実施することもできる。
【０１０４】
（変形例１）前記実施形態においては、表示装置２０１は、有機ＥＬ素子２３７を備える有機ＥＬ表示装置であった。しかし、上述した電気光学装置の製造方法を用いて好適に製造できる電気光学装置は有機ＥＬ装置に限らない。製造工程において機能液を配置して機能膜を形成する工程を有する電気光学装置であれば、どのような電気光学装置であってもよい。例えば、上述した電気光学装置の製造方法を用いてカラーフィルター膜を形成し、カラーフィルターを備える液晶装置を好適に製造することができる。
【０１０５】
（変形例２）前記実施形態においては、液滴吐出装置１を用いて、画素形成区画２９１に機能液を配置し、有機層２４１を構成する正孔注入層２６１と、正孔輸送層２６３と、発光層２６５とを、形成していた。電子注入層２６７も、液滴吐出装置１を用いて、機能液を配置して形成してもよい。マグネシウムと銀とを含む合金の微粒子を含有する機能液を、画素形成区画２９１に配置し、当該機能液を乾燥させることで、電子注入層２６７を形成することができる。
【０１０６】
（変形例３）前記実施形態においては、液滴を吐出させる吐出駆動信号の駆動波形として記憶されている波形は、吐出波形７９と吐出波形７６との２種類であった。しかし、液滴吐出装置において適用できる吐出駆動信号（吐出波形）の種類は、１種類であってもよいし、３種類以上であってもよい。異なる吐出駆動信号によって異なる大きさの液滴を吐出することが可能であり、より多種類の液滴を吐出可能にすることで、緻密な画像を形成し易くすることができる。
【０１０７】
（変形例４）前記実施形態においては、吐出を実施する吐出周期の前の１個の吐出周期において、予備振動信号を圧電素子５９に印加して、予備振動を発生させていた。しかし、吐出周期の前に実施する予備振動は、１回に限らない。複数回の予備振動を連続して実施してもよい。複数回の予備振動を連続して実施することによって、吐出ノズルにおけるメニスカスが静止していた状態の影響をうける可能性をより小さくすることができる。
【０１０８】
（変形例５）前記実施形態においては、予備振動を発生させる予備振動信号の駆動波形として記憶されている波形は、予備振動波形７１のみであった。しかし、液滴吐出装置において適用できる予備振動信号（予備振動信号の波形）の種類は、複数種類であってもよい。多数種類の予備振動信号（予備振動信号の波形）の中から選択可能であれば、前のメニスカスが静止していた状態や、後に実施する吐出の状態などの状況に応じてより適切な予備振動信号（予備振動信号の波形）を選択することが可能である。
【０１０９】
（変形例６）前記実施形態においては、吐出周期の境界と画素形成区画２９１の境界とが合致していた。しかし、吐出周期の境界と液状体を配置する領域の境界とは、必ずしも合致しない。吐出周期が領域の境界と重なると、効率よく液滴を配置できなくなる場合がある。そのような場合には、液滴吐出装置における吐出周期に対応させて、効率よく液滴を配置できる位置に、被描画対象物をセットすることが好ましい。
【０１１０】
（変形例７）前記実施形態においては、有機ＥＬ素子２３７は、正孔注入層２６１と正孔輸送層２６３と発光層２６５と電子注入層２６７とが、画素電極２３９と共通電極２４３とに挟まれた構成であったが、有機ＥＬ素子は、このような構成に限らない。有機ＥＬ素子は、発光層のみが画素電極と対向電極とに挟まれた構成のものや、正孔輸送層と発光層と電子輸送層とが挟まれた構成のものや、正孔輸送層と発光層と電子輸送層と正孔注入層と電子注入層とが挟まれた構成のものなどが知られている。本発明の電気光学装置の製造方法は、これらの電子輸送層や正孔注入層や電子注入層の形成にも適用することができる。
【０１１１】
（変形例８）前記実施形態においては、液滴吐出ヘッド２０は、ノズル列２４Ａを２列備える構成であったが、液滴吐出ヘッドにおける吐出ノズルの構成は液滴吐出ヘッド２０におけるような構成に限らない。液滴吐出ヘッドにおける吐出ノズルの配列は、例えば１列に配列したり３列以上の列に配列したりするなど、どのような配列であってもよい。
【０１１２】
（変形例９）前記実施形態においては、液滴吐出装置１は、液滴吐出ヘッド２０を有するヘッドユニット２１をＹ軸方向に移動させるＹ軸走査機構を備えていた。しかし、液滴吐出ヘッドを改行方向（上記実施形態でのＹ軸方向）に移動させることは必須ではない。液滴吐出装置は、被描画媒体の全幅に向けて吐出可能な吐出ノズル列を備える構成であってもよい。
【０１１３】
（変形例１０）前記実施形態においては、液滴吐出装置１において、１回の吐出走査におけるＹ軸方向の描画範囲は、液滴吐出ヘッド２０における、ノズル列２４Ａの長さである。Ｙ軸方向の描画範囲を広げるためには、複数の液滴吐出ヘッドをノズル列の延在方向に連ねてもよい。複数の液滴吐出ヘッドをノズル列の延在方向に連ねることで、１回の吐出走査において機能液を配置することができる幅を、複数の液滴吐出ヘッドが備える複数のノズル列を連ねた長さに相当する幅にすることができる。
【０１１４】
（変形例１１）前記実施形態においては、液滴吐出装置１が備える液滴吐出ヘッドの数は特に規定していない。液滴吐出装置は、何個の吐出ヘッドを備える構成であってもよい。
【０１１５】
（変形例１２）前記実施形態においては、液滴吐出装置１は１組のヘッドユニット２１を備えていたが、液滴吐出装置が備えるヘッドユニットは１組に限らない。液滴吐出装置は、何組のヘッドユニットを備える構成であってもよい。
【０１１６】
（変形例１３）前記実施形態においては、液滴吐出装置１は、基板２５１などを載置した媒体載置台３０をＸ軸方向に移動させると共に、液滴吐出ヘッド２０から機能液を吐出させることによって機能液を配置していた。また、ヘッドユニット２１をＹ軸方向に移動することによって、基板２５１などに対する液滴吐出ヘッド２０（吐出ノズル２４）の位置を合わせこんでいた。しかし、液滴吐出ヘッドと被描画媒体との、吐出走査方向（上記実施形態でのＸ軸方向）の相対移動を被描画媒体を移動させることで実施することも、改行方向（上記実施形態でのＹ軸方向）の相対移動を吐出ヘッドを移動させることで実施することも、必須ではない。
吐出ヘッドと被描画媒体との吐出走査方向の相対移動を、吐出ヘッドを吐出走査方向に移動させることで実施してもよい。吐出ヘッドと被描画媒体との改行方向の相対移動を、被描画媒体を改行方向に移動させることで実施してもよい。あるいは、吐出ヘッドと被描画媒体との、吐出走査方向及び改行方向の相対移動を、吐出ヘッド、又は被描画媒体のどちらか一方を、吐出走査方向及び改行方向に移動させることで実施してもよいし、吐出ヘッド、及び被描画媒体の両方を、吐出走査方向及び改行方向に移動させることで実施してもよい。
【０１１７】
（変形例１４）前記実施形態においては、表示装置２０１は有機層２４１からの光を封止基板２０５を介して表示面２０７から射出するトップエミッション型の有機ＥＬ表示装置であったが、有機ＥＬ表示装置はトップエミッション型に限定されない。有機ＥＬ表示装置は、有機層２４１からの光を素子基板２０３を介して底面２１４から射出するボトムエミッション型も採用され得る。ボトムエミッション型では、有機層２４１からの光は、素子基板の面から射出される。
【０１１８】
（変形例１５）前記実施形態においては、１個所の画素形成区画２９１に対して着弾させることが可能な吐出周期の全てにおいて液滴を吐出させていた。しかし、画素形成区画２９１に供給することが必要な量の機能液を供給可能であれば、吐出を実施させない吐出周期を設定してもよい。
吐出を実施させない吐出周期を設定する場合、吐出を実施させない吐出周期の後に実施する最初の吐出の前に、予備振動工程を実施してもよい。また、１個所の画素形成区画２９１のような領域に向けて実施する全ての吐出における最初の吐出の前にのみ、予備振動工程を実施してもよい。
【０１１９】
（変形例１６）前記実施形態においては、上記実施形態において説明した液滴吐出方法を用いて、液滴吐出装置１によって機能液を配置することで製造する対象物の一例として、表示装置２０１を例に挙げて説明した。表示装置２０１は、有機ＥＬ素子を備える有機ＥＬ表示装置であって、電気光学装置の一例である。しかし、上記実施形態において説明した液滴吐出方法を用いて好適に液滴を配置できる対象物は電気光学装置に限らない。上述した液状体吐出方法は、製造に際して様々な液状体を配置して加工を実施する様々な加工対象物を加工するための製造方法として利用できる。例えば、導電性材料からなる配線を有する配線基板を製造するために液状の導電材料を吐出する配線導電膜の加工方法、半導体ウェハ又は半導体装置の配線導電膜を製造するために液状の導電材料を吐出する半導体ウェハ又は半導体装置の加工方法、半導体ウェハ又は半導体装置の絶縁層を形成するために液状の絶縁材料を吐出する半導体ウェハ又は半導体装置の加工方法などとして、利用することもできる。
【符号の説明】
【０１２０】
１…液滴吐出装置、２…ヘッド機構部、２０…液滴吐出ヘッド、２４…吐出ノズル、２４Ａ…ノズル列、２４ａ，２４ｂ，２４ｃ，２４ｄ…吐出ノズル、３０…媒体載置台、５２…振動板、５７…ヘッド隔壁、５８…圧力室、５９…圧電素子、７１…予備振動波形、７５…吐出液滴、７６…吐出波形、７８…吐出液滴、７９…吐出波形、９１…着弾点、９１Ａ…着弾円、２０１…表示装置、２０３…素子基板、２０９…画素、２０９Ｂ，２０９Ｇ，２０９Ｒ…画素、２２１…画素列、２２３…画素行、２３７…有機ＥＬ素子、２３９…画素電極、２４１…有機層、２４３…共通電極、２５９…絶縁膜、２６１…正孔注入層、２６３…正孔輸送層、２６５…発光層、２６７…電子注入層、２９１…画素形成区画、３２４…メニスカス。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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