(57)【要約】      （修正有）【課題】反応性メソゲン化合物、これを含む液晶組成物、表示パネルの製造方法及び表示パネルの提供。【解決手段】光反応効率を向上させることができる反応性メソゲン化合物、これを含む液晶組成物及び表示パネルの製造方法。反応性メソゲン化合物は下記化学式（１−１）で示す。2013163672.tif 000079（１−１）前記化学式（１−１）中、Ａ１及びＡ２は独立的に、2013163672.tif 000080又は単結合であり、ｎ及びｍはそれぞれ０〜３の整数であり（但し、ｍとｎは同時に０ではない）、Ｂ１及びＢ２は独立的に単結合又は−（ＣＨ２）ｋ−であり（ｋは、０〜６の整数）、Ｂ１及びＢ２それぞれの一つ以上の−（ＣＨ２）−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＣＯ−に置換されてもよく、Ｄ１及びＤ２は独立的にメタクリレートまたはアクリレートであり、Ａ１、Ａ２及び２,５−チオフェンのそれぞれの少なくとも１つの水素原子は、Ｆ、Ｃｌ、ＯＣＨ３、炭素数１〜６のアルキル基に置換されてもよい。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記化学式（１−１）で示す反応性メソゲン化合物。
【化１】
2013163672.tif 000049
（１−１）
（化学式（１−１）中、Ａ１及びＡ２はそれぞれ独立的に、
【化２】
2013163672.tif 000050
または、単結合であり、「ｎ」及び「ｍ」のそれぞれは０〜３の整数であり（但し、ｍとｎは同時に０ではない）、Ｂ１及びＢ２はそれぞれ独立的に単結合、または、−（ＣＨ２）ｋ−であり（ｋは、０〜６の整数）、Ｂ１及びＢ２それぞれの一つ以上の−（ＣＨ２）−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または、−ＣＯ−に置換することができ、Ｄ１及びＤ２はそれぞれ独立的にメタクリレート、または、アクリレートであり、Ａ１、Ａ２及び２,５−チオフェンのそれぞれの少なくとも１つの水素原子は、Ｆ、Ｃｌ、ＯＣＨ３または、炭素数１〜６のアルキル基に置換することができる。）
【請求項２】
下記化学式（２−１）、化学式（２−２）及び化学式（２−３）からなる群から選択されたいずれか一つであることを特徴とする請求項１に記載の反応性メソゲン化合物。
【化３】
2013163672.tif 000051
（２−１）
【化４】
2013163672.tif 000052
（２−２）
【化５】
2013163672.tif 000053
（２−３）
（ａ１及びａ２はそれぞれ独立的に０〜６の整数であり、ｂ１及びｂ２はそれぞれ独立的に１〜５の整数である。）
【請求項３】
下記化学式（３−１）、化学式（３−２）、化学式（３−３）及び化学式（３−４）からなる群から選択されたいずれか一つであることを特徴とする請求項１に記載の反応性メソゲン化合物。
【化６】
2013163672.tif 000054
（３−１）
【化７】
2013163672.tif 000055
（３−２）
【化８】
2013163672.tif 000056
（３−３）
【化９】
2013163672.tif 000057
（３−４）
（ａ１及びａ２はそれぞれ独立的に０〜６の整数であり、ｂ１及びｂ２はそれぞれ独立的に１〜５の整数である。）
【請求項４】
下記化学式（４−１）、化学式（４−２）、化学式（４−３）及び化学式（４−４）で示す化合物からなる群から選択されたいずれか一つを含むことを特徴とする請求項１に記載の反応性メソゲン化合物。
【化１０】
2013163672.tif 000058
（４−１）
【化１１】
2013163672.tif 000059
（４−２）
【化１２】
2013163672.tif 000060
（４−３）
【化１３】
2013163672.tif 000061
（４−４）
（ａ１及びａ２はそれぞれ独立的に０〜６の整数であり、ｂ１及びｂ２はそれぞれ独立的に１〜５の整数である。）
【請求項５】
下記化学式（５−１）、化学式（５−２）、化学式（５−３）及び化学式（５−４）で示す化合物からなる群から選択された一つを含むことを特徴とする請求項１に記載の反応性メソゲン化合物。
【化１４】
2013163672.tif 000062
（５−１）
【化１５】
2013163672.tif 000063
（５−２）
【化１６】
2013163672.tif 000064
（５−３）
【化１７】
2013163672.tif 000065
（５−４）
（ａ１及びａ２はそれぞれ独立的に０〜６の整数であり、ｂ１及びｂ２はそれぞれ独立的に１〜５の整数である。）
【請求項６】
下記化学式（６−１）、化学式（６−２）、化学式（６−３）及び化学式（６−４）で示す化合物からなる群から選択されたいずれか一つを含むことを特徴とする請求項１に記載の反応性メソゲン化合物。
【化１８】
2013163672.tif 000066
（６−１）
【化１９】
2013163672.tif 000067
（６−２）
【化２０】
2013163672.tif 000068
（６−３）
【化２１】
2013163672.tif 000069
（６−４）
（ａ１及びａ２はそれぞれ独立的に０〜６の整数であり、ｂ１及びｂ２はそれぞれ独立的に１〜５の整数である。）
【請求項７】
３００ｎｍ〜７００ｎｍの光によって活性化することを特徴とする請求項１に記載の反応性メソゲン化合物。
【請求項８】
少なくとも一つの炭素環を含む化合物を含む液晶分子と、
下記化学式（１−１）で示す反応性メソゲン化合物と、を含む液晶組成物。
【化２２】
2013163672.tif 000070
（１−１）
（化学式（１−１）中、Ａ１及びＡ２はそれぞれ独立的に、
【化２３】
2013163672.tif 000071
または、単結合を示し、「ｎ」及び「ｍ」のそれぞれは０〜３の整数であり（但し、ｍとｎは同時に０ではない）、Ｂ１及びＢ２はそれぞれ独立的に単結合、または、−（ＣＨ２）ｋ−であり（ｋは、０〜６の整数）、Ｂ１及びＢ２それぞれの一つ以上の−（ＣＨ２）−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または、−ＣＯ−に置換することができ、Ｄ１及びＤ２はそれぞれ独立的にメタクリレート、または、アクリレートであり、Ａ１、Ａ２及び２,５−チオフェンのそれぞれの少なくとも１つの水素原子は、Ｆ、Ｃｌ、ＯＣＨ３または、炭素数１〜６のアルキル基に置換することができる。）
【請求項９】
前記液晶分子は、全体重量に対して９５重量％〜９９．９重量％であり、前記反応性メソゲン化合物は０．１重量％〜５重量％であることを特徴とする請求項８に記載の液晶組成物。
【請求項１０】
前記反応性メソゲン化合物は、３００ｎｍ〜７００ｎｍの光に対して活性化することを特徴とする請求項８に記載の液晶組成物。
【請求項１１】
画素電極及び前記画素電極上に形成された第１配向膜を含む第１表示基板を形成し、
前記第１表示基板と対向する、第２配向膜を含む第２表示基板を形成し、
前記第１及び第２表示基板の間に少なくとも一つの炭素環を含む化合物を含む液晶分子と、下記化学式（１−１）で示す反応性メソゲン化合物を含む液晶組成物を配置し、
前記第１及び第２表示基板の間の電界によって前記液晶分子が傾いた状態で前記液晶組成物に光を走査すること、を含むことを特徴とする表示パネルの製造方法。
【化２４】
2013163672.tif 000072
（１−１）
（化学式（１−１）中、Ａ１及びＡ２はそれぞれ独立的に、
【化２５】
2013163672.tif 000073
または、単結合であり、「ｎ」及び「ｍ」のそれぞれは０〜３の整数であり（但し、ｍとｎは同時に０ではない）、Ｂ１及びＢ２はそれぞれ独立的に単結合、または、−（ＣＨ２）ｋ−であり（ｋは、０〜６の整数）、Ｂ１及びＢ２それぞれの一つ以上の−（ＣＨ２）−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または、−ＣＯ−に置換することができ、Ｄ１及びＤ２はそれぞれ独立的にメタクリレート、または、アクリレートであり、Ａ１、Ａ２及び２,５−チオフェンのそれぞれの少なくとも１つの水素原子は、Ｆ、Ｃｌ、ＯＣＨ３、または、炭素数１〜６のアルキル基に置換することができる。）
【請求項１２】
前記液晶組成物に光を走査した後に、前記第１及び第２表示基板の間の無電界状態で２次的に光を走査することをさらに含むことを特徴とする請求項１１に記載の表示パネルの製造方法。
【請求項１３】
前記液晶組成物に走査される光は、３００ｎｍ〜７００ｎｍの波長を有することを特徴とする請求項１１に記載の表示パネルの製造方法。
【請求項１４】
前記液晶組成物は、前記液晶組成物の全体重量に対して９５重量％〜９９．９重量％の前記液晶分子を含み、０．１重量％〜５重量％の前記反応性メソゲン化合物を含むことを特徴とする請求項１１に記載の表示パネルの製造方法。
【請求項１５】
前記反応性メソゲン化合物は、下記化学式（２−１）で示されることを特徴とする請求項１１に記載の表示パネルの製造方法。
【化２６】
2013163672.tif 000074
（２−１）
（ａ１及びａ２はそれぞれ独立的に０〜６の整数である。）
【請求項１６】
前記光を走査することは、
前記反応性メソゲン化合物を光反応させて、前記第１配向膜の表面で前記第１表示基板と隣接した前記液晶分子がプレチルト角を有するように固定させる第１メソゲン硬化層を形成し、
前記反応性メソゲン化合物を光反応させて、前記第２配向膜の表面で前記第２表示基板と隣接した前記液晶分子がプレチルト角を有するように固定させる第２メソゲン硬化層を形成すること、を含むことを特徴とする請求項１１に記載の表示パネルの製造方法。
【請求項１７】
第１表示基板の画素電極上に下記化学式（１−２）で示す作用基を含む配向ポリマーを含む配向膜製造用組成物を使用して第１配向膜を形成し、
前記配向膜製造用組成物を使用して前記第１表示基板と対向する第２表示基板の第２配向膜を形成し、
前記第１及び第２表示基板の間に液晶組成物を配置させ、
前記第１及び第２表示基板の間に電界が形成された状態で光を走査して前記第１及び第２配向膜のそれぞれに含まれた前記作用基を光反応させること、を含む表示パネルの製造方法。
【化２７】
2013163672.tif 000075
（１−２）
（化学式（１−２）中、Ａ１及びＡ２はそれぞれ独立的に、
【化２８】
2013163672.tif 000076
または、単結合であり、「ｎ」及び「ｍ」のそれぞれは０〜３の整数であり（但し、ｍとｎは同時に０ではない）、Ｂ１及びＢ２はそれぞれ独立的に単結合、または、−（ＣＨ２）ｋ−であり（ｋは、０〜６の整数）、Ｂ１及びＢ２それぞれの一つ以上の−（ＣＨ２）−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または、−ＣＯ−に置換することができ、Ｄはメタクリレート、または、アクリレートであり、Ａ１、Ａ２及び２,５−チオフェンのそれぞれの少なくとも１つの水素原子は、Ｆ、Ｃｌ、ＯＣＨ３、または、炭素数１〜６のアルキル基に置換することができる。）
【請求項１８】
前記光反応させることは、
前記第１配向膜の表面で前記第１表示基板と隣接した前記液晶分子がプレチルト角を有するように固定させる第１メソゲン硬化層を形成し、
前記第２配向膜の表面で前記第２表示基板と隣接した前記液晶分子がプレチルト角を有するように固定させる第２メソゲン硬化層を形成すること、を含むことを特徴とする請求項１７に記載の表示パネルの製造方法。
【請求項１９】
前記配向ポリマーにおいて、側鎖と連結された主鎖は、ポリイミド、ポリアミック酸、ポリシロキサン、ポリビニルシンナメート、ポリアクリレート、及びポリメチルメタクリレートからなる群から選択された少なくとも一つを含むことを特徴とする請求項１７に記載の表示パネルの製造方法。
【請求項２０】
画素電極、前記画素電極上に形成された第１配向膜及び前記第１配向膜上に形成された第１メソゲン硬化層を含む第１表示基板と、
前記第１表示基板と対向して、第２配向膜及び前記第２配向膜上に形成された第２メソゲン硬化層を含む第２表示基板と、
前記第１及び第２メソゲン硬化層の間に配置された液晶層を含む表示パネルと、を含み、
前記第１及び第２メソゲン硬化層のそれぞれは下記化学式（１−２）で示す作用基が光反応して形成されたことを特徴とする表示パネル。
【化２９】
2013163672.tif 000077
（１−２）
（化学式（１−２）中、Ａ１及びＡ２はそれぞれ独立的に、
【化３０】
2013163672.tif 000078
または、単結合であり、「ｎ」及び「ｍ」のそれぞれは０〜３の整数であり（但し、ｍとｎは同時に０ではない）、Ｂ１及びＢ２はそれぞれ独立的に単結合、または、−（ＣＨ２）ｋ−であり（ｋは、０〜６の整数）、Ｂ１及びＢ２それぞれの一つ以上の−（ＣＨ２）−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または、−ＣＯ−に置換することができ、Ｄはメタクリレート、または、アクリレートであり、Ａ１、Ａ２及び２,５−チオフェンのそれぞれの少なくとも１つの水素原子は、Ｆ、Ｃｌ、ＯＣＨ３、または、炭素数１〜６のアルキル基に置換することができる。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は反応性メソゲン化合物、これを含む液晶組成物、表示パネルの製造方法及び表示パネルに関し、より詳細には、光によって硬化する反応性メソゲン化合物、これを含む液晶組成物、表示パネルの製造方法、及び表示パネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
一般的に、液晶表示パネルは、各画素領域を駆動するためのスイッチング素子が形成された第１表示基板と、第１表示基板と対向する第２表示基板と、第１及び第２表示基板の間に介在された液晶層とを含む。液晶層に電圧を印加して液晶層の液晶分子が光透過率を制御することによって液晶表示パネルは画像を表示する。
【０００３】
ＳＶＡ（Ｓｕｐｅｒ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モードは、第１及び第２表示基板の間で反応性メソゲン（ｒｅａｃｔｉｖｅ  ｍｅｓｏｇｅｎ）と呼ばれる光硬化化合物を利用して液晶分子のプレチルト角を制御する技術である。例えば、液晶分子と光硬化化合物である反応性メソゲン化合物を第１及び第２表示基板の間に配置し、第１及び第２表示基板に電圧を印加した状態で第１及び第２表示基板に光を走査して液晶分子を傾ける（ｐｒｅｔｉｌｔ）ことができる。即ち、反応性メソゲン化合物が紫外線波長の光によって硬化（重合）されて液晶分子を傾ける（ｐｒｅｔｉｌｔ）ことができる。
【０００４】
しかし、反応性メソゲン化合物の硬化（重合）のために紫外線を走査する場合、紫外線は第１及び第２表示基板のベースになるガラス基板を通過して反応性メソゲン化合物に到達する。このとき、反応性メソゲン化合物が吸収する主な波長範囲の紫外線をガラス基板が吸収及び／または反射することによって反応性メソゲン化合物の光反応効率が低くなる。主に利用される反応性メソゲン化合物が吸収する主な波長範囲は、短波長の紫外線、約２００ｎｍ以上約３００ｎｍ未満である。ガラス基板の紫外線吸収及び／または反射によって、反応性メソゲン化合物の硬化（重合）のための光走査時間が長くなって、表示装置の全体的な製造工程の時間が長くなる。これによって、表示装置の生産性が低下するという問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】米国特許７，６７４，３９７号明細書
【特許文献２】米国特許出願公開２０１０／０２０８１９１号明細書
【特許文献３】米国特許５，５３８，６６６号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、上記問題点に鑑みてなされたものであって、長波長の紫外線に対する光吸収率の高い反応性メソゲン化合物を提供することにある。
【０００７】
本発明の他の目的は、前記反応性メソゲン化合物を含む液晶組成物を提供することにある。
【０００８】
本発明のまた他の目的は、前記反応性メソゲン化合物を利用した表示パネルの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を実現するためになされた本発明による反応性メソゲン化合物（ｒｅａｃｔｉｖｅ  ｍｅｓｏｇｅｎ  ｃｏｍｐｏｕｎｄ）は、下記化学式（１−１）で示される。
【００１０】
【化１】
2013163672.tif 000002
（１−１）
【００１１】
前記化学式（１−１）中、Ａ１及びＡ２はそれぞれ独立的に、
【化２】
2013163672.tif 000003
または、単結合であり、「ｎ」及び「ｍ」のそれぞれは０〜３の整数であり（但し、ｍとｎは同時に０ではない）、Ｂ１及びＢ２はそれぞれ独立的に単結合、または、−（ＣＨ２）ｋ−であり（ｋは、０〜６の整数）、Ｂ１及びＢ２それぞれの一つ以上の−（ＣＨ２）−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または、−ＣＯ−に置換することができ、Ｄ１及びＤ２はそれぞれ独立的にメタクリレート、または、アクリレートであり、Ａ１、Ａ２及び２,５−チオフェンのそれぞれの少なくとも１つの水素原子は、Ｆ、Ｃｌ、ＯＣＨ３または、炭素数１〜６のアルキル基に置換することができる。
【００１２】
一実施形態において、前記反応性メソゲン化合物は、約３００ｎｍ〜約７００ｎｍ波長を有する光によって活性化される。
【００１３】
上述した本発明の他の目的を実現するための実施形態に係る液晶組成物は、少なくとも一つの炭素環を含む化合物を含む液晶分子と、下記の化学式（１−１）で示す反応性メソゲン化合物を含む。
【００１４】
【化３】
2013163672.tif 000004
（１−１）
【００１５】
前記化学式（１−１）中、Ａ１及びＡ２はそれぞれ独立的に、
【化４】
2013163672.tif 000005
または、単結合であり、「ｎ」及び「ｍ」のそれぞれは０〜３の整数であり（但し、ｍとｎは同時に０ではない）、Ｂ１及びＢ２はそれぞれ独立的に単結合、または、−（ＣＨ２）ｋ−であり（ｋは、０〜６の整数）、Ｂ１及びＢ２それぞれの一つ以上の−（ＣＨ２）−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または、−ＣＯ−に置換することができ、Ｄ１及びＤ２はそれぞれ独立的にメタクリレート、または、アクリレートであり、Ａ１、Ａ２及び２,５−チオフェンのそれぞれの少なくとも１つの水素原子は、Ｆ、Ｃｌ、ＯＣＨ３、または、炭素数１〜６のアルキル基に置換することができる。
【００１６】
一実施形態において、前記液晶分子は、全体重量に対して約９５重量％〜約９９．９重量％であってもよく、前記反応性メソゲン化合物は、約０．１重量％〜約５重量％であってもよい。
【００１７】
一実施形態において、前記反応性メソゲン化合物は、約３００ｎｍ〜約７００ｎｍ波長を有する光によって活性化される。
【００１８】
本発明のさらに別の目的を実現するための一実施形態に係る表示パネルの製造方法が提供される。前記製造方法において、画素電極及び前記画素電極上に形成された第１配向膜を含む第１表示基板を形成し、前記第１表示基板と対向し、第２配向膜を含む第２表示基板を形成する。次いで、前記第１及び第２表示基板の間に少なくとも一つの炭素環を含む化合物を含む液晶分子と、下記化学式（１−１）で示す反応性メソゲン化合物を含む液晶組成物を配置する。前記第１及び第２表示基板の間の電界によって前記液晶分子が傾いた（プレチルト角を有した）状態で前記液晶組成物に光を走査する。
【００１９】
【化５】
2013163672.tif 000006
（１−１）
【００２０】
前記化学式（１−１）中、Ａ１及びＡ２はそれぞれ独立的に、
【化６】
2013163672.tif 000007
または、単結合であり、「ｎ」及び「ｍ」のそれぞれは０〜３の整数であり（但し、ｍとｎは同時に０ではない）、Ｂ１及びＢ２はそれぞれ独立的に単結合、または、−（ＣＨ２）ｋ−であり（ｋは、０〜６の整数）、Ｂ１及びＢ２それぞれの一つ以上の−（ＣＨ２）−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または、−ＣＯ−に置換することができ、Ｄ１及びＤ２はそれぞれ独立的にメタクリレート、または、アクリレートであり、Ａ１、Ａ２及び２,５−チオフェンのそれぞれの少なくとも１つの水素原子は、Ｆ、Ｃｌ、ＯＣＨ３、または、炭素数１〜６のアルキル基に置換することができる。
【００２１】
一実施形態において、前記液晶組成物に光を走査した後に前記第１及び第２表示基板の間を無電界にした状態で２次的に前記液晶組成物に光を走査してもよい。
【００２２】
一実施形態において、前記光走査によって、前記反応性メソゲン化合物が光反応して前記第１配向膜上に前記第１表示基板と隣接した前記液晶分子がプレチルト角を有するように固定させる第１メソゲン硬化層を形成することができる。同時に、前記反応性メソゲン化合物が光反応して前記第２配向膜上に前記第２表示基板と隣接した前記液晶分子がプレチルト角を有するように固定させる第２メソゲン硬化層を形成することができる。
【００２３】
本発明のさらに別の目的を実現するための一実施形態に係る表示パネルの製造方法が提供される。前記製造方法において、第１表示基板の画素電極上に配向ポリマー及び下記化学式（１−２）で示す作用基が側鎖として結合された配向ポリマー（反応性メソゲン化合物）を含む配向膜製造用組成物を使用して第１配向膜を形成する。前記第１表示基板と対向する第２表示基板の第２配向膜を形成し、前記第１及び第２表示基板の間に液晶組成物を配置する。前記第１及び第２表示基板の間に電界が形成された状態で光を第１及び第２表示基板に走査して前記第１及び第２配向膜に含まれた前記作用基（反応性メソゲン化合物）を光反応で硬化させる。
【００２４】
【化７】
2013163672.tif 000008
（１−２）
【００２５】
前記化学式（１−２）中、Ａ１及びＡ２はそれぞれ独立的に、
【化８】
2013163672.tif 000009
または、単結合であり、「ｎ」及び「ｍ」のそれぞれは０〜３の整数であり（但し、ｍとｎは同時に０ではない）、Ｂ１及びＢ２はそれぞれ独立的に単結合、または、−（ＣＨ２）ｋ−であり（ｋは、０〜６の整数）、Ｂ１及びＢ２それぞれの一つ以上の−（ＣＨ２）−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または、−ＣＯ−に置換することができ、Ｄはメタクリレート、または、アクリレートであり、Ａ１、Ａ２及び２,５−チオフェンのそれぞれの少なくとも１つの水素原子は、Ｆ、Ｃｌ、ＯＣＨ３、または、炭素数１〜６のアルキル基に置換することができる。
【００２６】
一実施形態において、前記反応性メソゲン化合物が光反応して前記第１配向膜上で前記第１表示基板と隣接した前記液晶分子がプレチルト角を有するように固定させる第１メソゲン硬化層を形成することができる。同時に、前記反応性メソゲン化合物が光反応して前記第２配向膜上で前記第２表示基板と隣接した前記液晶分子がプレチルト角を有するように固定させる第２メソゲン硬化層を形成することができる。
【００２７】
一実施形態において、前記第２配向膜は前記配向膜製造用組成物を利用して形成することができる。
【発明の効果】
【００２８】
本発明によれば、ベース基板としてガラス基板を利用しても、メソゲン化合物に光を走査する工程で前記ベース基板が吸収する光の波長より長い波長の光に対する前記反応性メソゲン化合物の光反応効率を向上させることができる。即ち、前記反応性メソゲン化合物を、約３００ｎｍ〜約７００ｎｍ波長を有する光によって活性化させることができ、特に約３００ｎｍ〜約３７０ｎｍ波長の光に対する前記反応性メソゲン化合物の感度を最大化させることができる。これによって、前記反応性メソゲン化合物の硬化（重合）時間を短縮させることによって全体的な製造時間を短縮させて生産性を向上させることができる。また、前記反応性メソゲン化合物の大部分を光反応させることによって液晶層に残留する前記反応性メソゲン化合物の量を最小化させて製造工程の信頼性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】本発明の第１の実施例に係る反応性メソゲン化合物の合成例によって製造された化合物の核磁気共鳴（ＮＭＲ）グラフである。
【図２】本発明の第１の実施例に係る反応性メソゲン化合物の合成例によって製造された質量分析（ＭＳ）グラフである。
【図３】本発明の第１の実施例及び第２の実施例に係る反応性メソゲン化合物の波長による光吸収率を示したグラフである。
【図４】本発明の一実施形態によって製造された表示パネルの平面図である。
【図５】図４のＩ−Ｉ’ラインに沿って切断した断面図である。
【図６】図５に示した表示パネルの一製造方法を説明するための断面図である。
【図７】図５に示した表示パネルの一製造方法を説明するための断面図である。
【図８】図５に示した表示パネルの他の製造方法を説明するためのフローチャートである。
【図９】本発明の他の実施形態によって製造された表示パネルの断面図である。
【図１０】本発明のさらに他の実施形態によって製造された表示パネルの平面図である。
【図１１】図１０のＩＩ−ＩＩ’ラインに沿って切断した断面図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
反応性メソゲン化合物
本発明に係る反応性メソゲン化合物は、チオフェン(ｔｈｉｏｐｈｅｎｅ)を含む化合物として、下記化学式（１−１）で示される。
【００３１】
【化９】
2013163672.tif 000010
（１−１）
【００３２】
前記化学式（１−１）中、Ａ１及びＡ２はそれぞれ独立的に、
【化１０】
2013163672.tif 000011
または、単結合であり、「ｎ」及び「ｍ」のそれぞれは０〜３の整数である。但し、この時、ｍとｎとは同時に０ではない。化学式（１−１）において、Ａ１、Ａ２及び２,５−チオフェンが前記反応性メソゲン化合物の骨格を決定する。
【００３３】
Ｂ１及びＢ２はそれぞれ独立的に単結合、または、−（ＣＨ２）ｋ−であり、ｋは０〜６の整数である。Ｂ１及びＢ２それぞれの一つ以上の−（ＣＨ２）−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または、−ＣＯ−に置換することができる。
【００３４】
前記化学式（１−１）中、Ｄ１及びＤ２はそれぞれ前記反応性メソゲン化合物において実質的に光によって活性化される光反応基である。前記光反応基の活性化によって前記反応性メソゲン化合物が重合する。Ｄ１及びＤ２はそれぞれ独立的にメタクリレートまたはアクリレートなどといったエチレン性不飽和部分（ｅｔｈｙｌｅｎｉｃａｌｌｙ  ｕｎｓａｔｕｒａｔｅｄ  ｍｏｉｅｔｙ）を示す。Ｄ１及びＤ２はそれぞれＢ１及びＢ２を介して前記反応性メソゲン化合物の骨格部と結合される。即ち、Ｂ１及びＢ２が前記反応性メソゲン化合物においてスペーサ（ｓｐａｃｅｒ）の役割を果たす。
【００３５】
前記化学式（１−１）中、Ａ１、Ａ２及び２,５−チオフェンのそれぞれの少なくとも１つの水素原子は、Ｆ、Ｃｌ、ＯＣＨ３または、炭素数１〜６のアルキル基に置換することができる。
【００３６】
前記反応性メソゲン化合物は、非共有電子対を有している硫黄（Ｓ）を有するチオフェンを含むため、硫黄（Ｓ）の前記非共有電子対によって共役（ｃｏｎｊｕｇａｔｉｏｎ）効果が、フェニル基（ｐｈｅｎｙｌ  ｇｒｏｕｐ）に比べて大きい。前記共役効果が大きいほど前記反応性メソゲン化合物のエネルギーギャップ（ｅｎｅｒｇｙ  ｇａｐ）が減少するので、前記反応性メソゲン化合物が吸収する光の波長が増加する。即ち、前記反応性メソゲン化合物が吸収する光の波長が、約３００ｎｍ以上増加することができる。本発明に係る反応性メソゲン化合物は、チオフェンを含むことによって、約３００ｎｍ〜約７００ｎｍ波長を有する光によって活性化され、特に約３００ｎｍ〜約３７０ｎｍで光吸収率が最大になる。
【００３７】
このように、前記反応性メソゲン化合物がチオフェンを含むことによって、前記反応性メソゲン化合物の共役効果が増加し、前記反応性メソゲン化合物が吸収する光の波長が増加する。前記反応性メソゲン化合物がベース基板としてのガラス基板の一面に配置された状態で、前記一面から他の面に光が走査される時、前記ガラス基板が光の一部を吸収しても前記反応性メソゲン化合物が光によって活性化される波長範囲は、前記ガラス基板が吸収する波長範囲と異なるので前記反応性メソゲン化合物の光反応効率を向上させることができる。
【００３８】
前記反応性メソゲン化合物の具体的な例として、前記化学式（１−１）中、Ａ１及びＡ２がそれぞれ独立的に
【化１１】
2013163672.tif 000012
であり、ｍ及びｎもそれぞれ１である場合、前記反応性メソゲン化合物は、下記化学式（２−１）、（２−２）及び（２−３）で示す化合物を含んでもよい。
【００３９】
【化１２】
2013163672.tif 000013
（２−１）
【化１３】
2013163672.tif 000014
（２−２）
【化１４】
2013163672.tif 000015
（２−３）
【００４０】
それぞれの化学式（２−１）、（２−２）及び（２−３）中、ａ１及びａ２はそれぞれ独立的に０〜６の整数であり、ｂ１及びｂ２はそれぞれ独立的に１〜５の整数である。化学式（１−１）のスペーサ基であるＢ１及びＢ２は−Ｏ−構造を含んでもよいが、光反応基であるＤ１及びＤ２と結合されるＢ１及びＢ２それぞれの末端部が−Ｏ−構造を含む場合には、光反応基であるメタクリレートの−Ｏ−と結合されて−Ｏ−Ｏ−の構造となる。前記反応性メソゲン化合物が、酸素原子２つが連続して結合された構造を含む場合、−Ｏ−Ｏ−構造によって前記反応性メソゲン化合物の安定性が低下することがある。従って、化学式（１−１）のスペーサ基であるＢ１及びＢ２は−Ｏ−構造を含んでもよいが、光反応基であるＤ１及びＤ２と結合されるＢ１及びＢ２それぞれの末端部は、少なくとも−ＣＨ２−を含むことが望ましい。従って、それぞれの化学式（２−１）、（２−２）及び（２−３）中、ｂ１及びｂ２は、「０」ではなく、１〜５の整数である。
【００４１】
それぞれの化学式（２−１）、（２−２）及び（２−３）中、光反応基がメタクリレートであることを一例として説明したが、光反応基はアクリレートであってもよい。即ち、前記光反応基は露光によって前記組成物の重合を誘導することのできるエチレン性不飽和グループを有する。
【００４２】
前記反応性メソゲン化合物の他の具体的な例として、前記化学式（１−１）中、Ａ１は
【化１５】
2013163672.tif 000016
であり、Ａ２は
【化１６】
2013163672.tif 000017
であり、ｍ及びｎがそれぞれ１である場合、前記反応性メソゲン化合物は下記化学式（３−１）、（３−２）、（３−３）、及び（３−４）で示す化合物を含んでもよい。
【００４３】
【化１７】
2013163672.tif 000018
（３−１）
【００４４】
【化１８】
2013163672.tif 000019
（３−２）
【００４５】
【化１９】
2013163672.tif 000020
（３−３）
【００４６】
【化２０】
2013163672.tif 000021
（３−４）
【００４７】
それぞれの化学式（３−１）、（３−２）、（３−３）、及び（３−４）中、ａ１及びａ２はそれぞれ独立的に０〜６の整数であり、ｂ１及びｂ２はそれぞれ独立的に１〜５の整数である。それぞれの化学式（３−１）、（３−２）、（３−３）、及び（３−４）中、ｂ１及びｂ２は、化学式（２−１）〜（２−３）について上述した説明と実質的に同じ理由で、０ではない。従って、ｂ１及びｂ２はそれぞれ独立的に１〜５の整数である。それぞれの化学式（３−１）〜（３−４）中、光反応基がメタクリレートである例を示したが、アクリレートであってもよい。
【００４８】
前記反応性メソゲン化合物の他の具体的な例として、前記化学式（１−１）中、Ａ１は
【化２１】
2013163672.tif 000022
であり、Ａ２は単結合であり、ｍは２であり、ｎは１である場合、前記反応性メソゲン化合物は下記化学式（４−１）、（４−２）、（４−３）、及び（４−４）で示す化合物を含んでもよい。
【００４９】
【化２２】
2013163672.tif 000023
（４−１）
【００５０】
【化２３】
2013163672.tif 000024
（４−２）
【００５１】
【化２４】
2013163672.tif 000025
（４−３）
【００５２】
【化２５】
2013163672.tif 000026
（４−４）
【００５３】
化学式（４−１）、（４−２）、（４−３）、及び（４−４）中、ａ１及びａ２は、それぞれ独立的に０〜６の整数であり、ｂ１及びｂ２はそれぞれ独立的に１〜５の整数である。前記それぞれの化学式（４−１）〜（４−４）中、光反応基がメタクリレートである例を説明したが、アクリレートであってもよい。
【００５４】
前記反応性メソゲン化合物の他の具体的な例として、前記化学式（１−１）中、Ａ１は
【化２６】
2013163672.tif 000027
であり、Ａ２は単結合であり、ｍ及びｎがそれぞれ１である場合、前記反応性メソゲン化合物は下記化学式（５−１）、（５−２）、（５−３）、及び（５−４）で示す化合物を含んでもよい。
【００５５】
【化２７】
2013163672.tif 000028
（５−１）
【００５６】
【化２８】
2013163672.tif 000029
（５−２）
【００５７】
【化２９】
2013163672.tif 000030
（５−３）
【００５８】
【化３０】
2013163672.tif 000031
（５−４）
【００５９】
それぞれの化学式（５−１）〜（５−４）中、ａ１及びａ２はそれぞれ独立的に０〜６であり、ｂ１及びｂ２はそれぞれ独立的に１〜５の整数である。
【００６０】
前記反応性メソゲン化合物の他の具体的な例として、前記化学式（１−１）中、Ａ１は
【化３１】
2013163672.tif 000032
であり、Ａ２は
【化３２】
2013163672.tif 000033
であり、ｍ及びｎがそれぞれ１である場合、前記反応性メソゲン化合物は下記化学式（６−１）、（６−２）、（６−３）、及び（６−４）で示す化合物を含んでもよい。
【００６１】
【化３３】
2013163672.tif 000034
（６−１）
【００６２】
【化３４】
2013163672.tif 000035
（６−２）
【００６３】
【化３５】
2013163672.tif 000036
（６−３）
【００６４】
【化３６】
2013163672.tif 000037
（６−４）
【００６５】
それぞれの化学式（６−１）〜（６−４）中、ａ１及びａ２はそれぞれ独立的に０〜６の整数であり、ｂ１及びｂ２はそれぞれ独立的に１〜５の整数である。
【００６６】
上述した説明によれば、反応性メソゲン化合物の骨格がチオフェンを含むことによって、フェニル基及び／またはシクロヘキシル基を含む反応性メソゲン化合物に比べて前記反応性メソゲン化合物が反応する光の波長を増加させることができる。前記反応性メソゲン化合物は約３００ｎｍ〜約７００ｎｍ波長を有する光によって活性化され、特に約３００ｎｍ〜約３７０ｎｍ波長の光に対する前記反応性メソゲン化合物の感度が最大になる。
【００６７】
以下においては、本発明に係る反応性メソゲン化合物の具体的な合成例を通じて反応性メソゲン化合物の光反応性について説明する。
【００６８】
反応性メソゲン化合物の製造
下記反応式（１）のように分子量が約２４１．９３のジブロモチオフェン（ｄｉｂｒｏｍｏｔｈｉｏｐｈｅｎｅ）約５５ｇと、分子量が約１５１．９６の４−メチルフェニルボロン酸水和物（４−ｍｅｔｈｙｌｐｈｅｎｙｌｂｏｒｏｎｉｃ  ａｃｉｄ  ｈｙｄｒａｔｅ）約５０ｇを使用してチオフェンを含む化学式（２−４）で示した本発明の第１の実施例に係る反応性メソゲン化合物を製造した。下記の化学式（２−４）で示した反応性メソゲン化合物が約１０ｇ製造された。
【００６９】
【化３７】
2013163672.tif 000038
反応式（１）
【００７０】
【化３８】
2013163672.tif 000039
（２−４）
【００７１】
前記反応式（１）中、「Ｐｄ（ＰＰｈ３）４」は、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム（Ｔｅｔｒａｋｉｓ（ｔｒｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉμｍ）であり、「ＤＭＦ」は、ジメチルホルムアミド（ｄｉｍｅｔｈｙｌｆｏｒｍａｍｉｄｅ）である。前記反応式（１）によって合成された生成物を測定溶媒であるクロロホルム−Ｄ（ＣＤＣｌ３）に分散させた後、核磁気共鳴（ＮＭＲ）装置を利用して生成物の構造を確認し、質量分析（ＭＳ）を実行した。その結果を、それぞれ図１及び図２に示す。
【００７２】
ＮＭＲ分析結果
図１は本発明の第１の実施例に係る反応性メソゲン化合物の合成例によって製造された化合物の核磁気共鳴（ＮＭＲ）グラフである。図１において、ｘ軸はデルタ（ｄｅｌｔａ、単位ｐｐｍ）を示し、ｙ軸は吸収強度を示す。
【００７３】
図１を参照すれば、デルタ（δ）値が約７．６３ｐｐｍ及び約７．１５ｐｐｍにおいてのピークが、フェニル環の水素が存在することを示し、約７．２５ｐｐｍにおいてのピークが、チオフェン環の水素及び測定溶媒が存在することを示す。また、約６．３７ｐｐｍ及び約５．７８ｐｐｍのピークが、メタクリレートの二重結合の炭素に結合された水素が存在することを示し、約２．０８ｐｐｍのピークがメタクリレートの二重結合の炭素に結合されたメチル基の水素が存在することを示す。
【００７４】
質量分析結果
図２は本発明の第１の実施例に係る反応性メソゲン化合物の合成例によって製造された質量分析（ＭＳ）グラフである。
【００７５】
図２において、ｘ軸は電荷（ｃｈａｒｇｅ）に対する質量の比率である「ｍ／ｚ」を示し、ｙ軸は分解された物質の量（ａｂｕｎｄａｎｃｅ）を示す。図２を参照すれば、ｍ／ｚが約３９５．２、約４０５．５、及び約４２３．２の付近で、ｙ軸の値が他の範囲に比べて相対的に大きいことが分かる。
【００７６】
図１及び図２のグラフから、前記反応式（１）のような工程を介して実際に前記化学式（２−４）で示した反応性メソゲン化合物が製造されることを確認することができる。特に、図２のグラフでは、ｍ／ｚ値が約４０５で現れるピークから、前記化学式（２−４）で示した化合物を、約４２３．２〜約４２７付近で現れるピークから前記化学式（２−４）の化合物（Ｍ）にナトリウム（Ｎａ）が結合された形態の化合物（Ｍ−Ｎａ）が存在することがわかる。従って、前記化学式（２−４）で示し、理論的な分子量が約４０４．４の本発明の第１の実施例に係る反応性メソゲン化合物が製造されたことを類推することができる。
【００７７】
光吸収率の測定
上記製造された本発明の第１の実施例に係る化学式（２−４）で示した反応性メソゲン化合物の波長による光吸収率を測定した。その結果を図３に示す。
【００７８】
図３は、本発明の第１の実施例及び第２の実施例に係る反応性メソゲン化合物の波長に従った光吸収率を示したグラフである。
【００７９】
図３において、「Ｇ１」が前記化学式（２−４）で示した本発明の第１の実施例に係る反応性メソゲン化合物に対するグラフである。図３において、「Ｇ２」は下記の化学式（４−５）で示す本発明の第２の実施例に係る反応性メソゲン化合物の反応性メソゲン化合物に対して波長に応じた光吸収率をシミュレーションしたグラフである。
【００８０】
【化３９】
2013163672.tif 000040
（４−５）
【００８１】
図３を参照すれば、前記化学式（２−４）で示した反応性メソゲン化合物は、約３２０ｎｍ〜約３５０ｎｍで最大吸収率を示す。また、前記化学式（４−５）で示した反応性メソゲン化合物は、約３００ｎｍ〜約３２０ｎｍで最大吸収率を示す。一般的に、フェニル基−フェニル基の結合をメイン環構造として含む反応性メソゲン化合物の最大吸収率を示す波長は約３００ｎｍ未満、具体的に約２６０ｎｍ〜約２８０ｎｍであることに比べて本発明に係る反応性メソゲン化合物の最大吸収率を示す波長が増加したことを実験及びシミュレーションは示している。
【００８２】
上述の説明によれば、本発明に他の反応性メソゲン化合物は、前記約３００ｎｍ〜約７００ｎｍ波長を有する光によって活性化され、特に約３００ｎｍ〜約３７０ｎｍ波長の光に対する感度が向上する。これによって、前記反応性メソゲン化合物の硬化時間（重合時間）、即ち、前記反応性メソゲン化合物の光反応時間を短縮させることによって、全体的な製造時間を短縮させて生産性を向上させることができる。また、前記反応性メソゲン化合物の大部分を光反応させることによって残留する前記反応性メソゲン化合物の量を最小化させ製造工程の信頼性を向上させることができる。
【００８３】
液晶組成物
本発明に係る液晶組成物は、液晶分子及び下記化学式（１−１）で示す反応性メソゲン化合物を含む。
【００８４】
【化４０】
2013163672.tif 000041
（１−１）
【００８５】
前記化学式（１−１）中、Ａ１及びＡ２はそれぞれ独立的に、
【化４１】
2013163672.tif 000042
または、単結合であり、「ｎ」及び「ｍ」のそれぞれは０〜３の整数であり（但し、ｍとｎは同時に０ではない）、Ｂ１及びＢ２はそれぞれ独立的に単結合、または、−（ＣＨ２）ｋ−であり（ｋは、０〜６の整数）、Ｂ１及びＢ２それぞれの一つ以上の−（ＣＨ２）−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または、−ＣＯ−に置換することができ、Ｄ１及びＤ２はそれぞれ独立的にメタクリレート、または、アクリレートであり、Ａ１、Ａ２及び２,５−チオフェンのそれぞれの少なくとも１つの水素原子は、Ｆ、Ｃｌ、ＯＣＨ３または、炭素数１〜６のアルキル基に置換することができる。
【００８６】
前記液晶組成物に使用される前記化学式（１−１）で示す反応性メソゲン化合物は、上記説明した本発明に係る反応性メソゲン化合物と実質的に同一である。従って、重複する詳細な説明は省略する。
【００８７】
前記液晶分子は、少なくとも一つの炭素環を含む化合物を含む。前記炭素環の例としては、フェニル基、シクロヘキシル基などを挙げることができ、前記液晶分子それぞれは、フェニル基−フェニル基構造、フェニル基−シクロヘキシル基構造、シクロヘキシル基−シクロヘキシル基構造を含んでもよい。前記液晶分子の種類は、特に限定されず、表示装置用液晶組成物として知られているものであれば利用できる。
【００８８】
前記反応性メソゲン化合物の含有量が、前記液晶組成物の全体重量に対して約０．１重量％未満である場合、前記液晶組成物を使用して液晶層を形成する工程において、反応性メソゲン化合物によるプレチルト角を有して液晶分子は安定的に配置されることはできない。また、前記反応性メソゲン化合物の含有量が前記液晶組成物の全体重量に対して約５重量％超過する場合、前記反応性メソゲン化合物が前記液晶分子の動きに影響を与えることになり液晶分子の制御が難しい。従って、前記反応性メソゲン化合物の含有量は、前記液晶組成物の全体重量に対して約０．１重量％〜約５重量％であることが望ましい。
【００８９】
前記液晶組成物を利用した表示パネルの製造方法について、図４乃至図７を参照して後述する。
【００９０】
配向膜製造用組成物
本発明に係る配向膜製造用組成物は、側鎖として結合された下記化学式（１−２）で示す作用基を含む配向ポリマーを含む。
【００９１】
【化４２】
2013163672.tif 000043
（１−２）
【００９２】
前記化学式（１−２）中、Ａ１及びＡ２はそれぞれ独立的に、
【化４３】
2013163672.tif 000044
または、単結合であり、「ｎ」及び「ｍ」それぞれは０〜３の整数であり（但し、ｍとｎは同時に０ではない）、Ｂ１及びＢ２はそれぞれ独立的に単結合、または、−（ＣＨ２）ｋ−であり（ｋは、０〜６の整数）、Ｂ１及びＢ２それぞれの一つ以上の−（ＣＨ２）−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または、−ＣＯ−に置換することができ、Ｄはメタクリレート、または、アクリレートを示し、Ａ１、Ａ２及び２,５−チオフェンのそれぞれの少なくとも１つの水素原子は、Ｆ、Ｃｌ、ＯＣＨ３、または、炭素数１〜６のアルキル基に置換することができる。
【００９３】
化学式（１−２）中、Ｄが実質的に光によって活性化される光反応基である。前記光反応基の活性化によって前記反応性メソゲン化合物が重合される。ＤはＢ１を通じて前記作用基の骨格部と結合されることができる。
【００９４】
前記作用基が、−Ｏ−Ｏ−のような連続的に酸素原子が結合する構造を有する場合、光反応性が低下する問題があるので、化学式（１−２）中、Ｂ１及びＢ２は、−Ｏ−構造を含んでもよいが、光反応基であるＤ、または、前記主鎖と結合される末端部は少なくとも−ＣＨ２−を含むことが望ましい。
【００９５】
前記化学式（１−２）で示す作用基は、前記化学式（１−２）中、「Ｂ２」が主鎖（ｍａｉｎ  ｃｈａｉｎ）のポリマーに結合されていることを除いては、作用基自体の光特性は、化学式（１−１）で示した本発明に係る反応性メソゲン化合物の特性と実質的に同一である。特に、前記化学式（１−２）で示す作用基は、本発明に係る前記反応性メソゲン化合物と同様に、約３００ｎｍ〜約７００ｎｍ波長を有する光によって活性化することができ、約３００ｎｍ〜約３７０ｎｍ波長の光に対して最大吸収率を有する。従って、前記化学式（１−２）で示す作用基の光特性についての重複する詳細な説明は省略する。
【００９６】
前記配向ポリマーで、前記主鎖の具体的な例としては、ポリイミド、ポリアミック酸、ポリシロキサン、ポリビニルシンナメート、ポリアクリレート、ポリメチルメタクリレートなどを挙げられる。ただし、前記主鎖の種類は、上記に例示した種類に限定されない。前記配向ポリマーは、上記に例を挙げたポリマーなどを主鎖にし、前記主鎖に前記化学式（１−２）で示す作用基が側鎖として結合された構造を有する。
【００９７】
前記配向膜製造用組成物は、前記配向ポリマーを分散させる溶媒をさらに含む。一例として、前記配向膜製造用組成物の全体重量に対して、前記配向ポリマーを約３０重量％以下含み、残りは前記溶媒であってもよい。
【００９８】
前記配向膜製造用組成物を利用した表示パネルの製造方法については、図８を参照して後述する。
【００９９】
表示パネルの製造方法
以下、図面を参照して、本発明に係る表示パネルの製造方法について説明する。先ず、図４及び図５を参照して本発明によって製造された表示パネルの構造を簡単に説明した後、前記表示パネルを製造する第１の方法を図６及び図７を参照して説明し、第２の方法を図８を参照して説明する。
【０１００】
図４は本発明の一実施形態によって製造された表示パネルの平面図である。図５は図４のＩ−Ｉ’ラインに沿って切断した断面図である。
【０１０１】
図４及び図５を参照すると、表示パネル５００は、第１表示基板１００、第２表示基板２００及び液晶層３００を含む。
【０１０２】
第１表示基板１００は、第１ベース基板１１０上に形成されたゲートラインＧＬ、第１絶縁層１２０、データラインＤＬ、スイッチング素子ＳＷ、第２絶縁層１３０、有機層１４０、画素電極ＰＥ、第１配向膜１５０、及び第１メソゲン硬化層１６０を含む。
【０１０３】
ゲートラインＧＬは、第１ベース基板１１０上に第１方向Ｄ１に沿って延伸する。データラインＤＬは、ゲートラインＧＬと交差する第２方向Ｄ２に沿って延伸する。第１絶縁層１２０がゲートラインＧＬ上に形成され、ゲートラインＧＬとデータラインＤＬとを絶縁させる。
【０１０４】
スイッチング素子ＳＷは、ゲートラインＧＬと接続されたゲート電極ＧＥ、ゲート電極ＧＥに対応する第１絶縁層１２０上に形成されたアクティブパターンＡＰ、データラインＤＬと接続されたソース電極ＳＥ、及び画素電極ＰＥとコンタクトするドレイン電極ＤＥを含む。ソース電極ＳＥ及びドレイン電極ＤＥは、アクティブパターンＡＰ上に互いに離隔して配置される。ドレイン電極ＤＥは、第２絶縁層１３０及び有機層１４０を貫通するコンタクトホールＣＮＴを介して画素電極ＰＥとコンタクトする。
【０１０５】
第２絶縁層１３０は、データラインＤＬ及びスイッチング素子ＳＷをカバーする。有機層１４０は、第２絶縁層１３０と画素電極ＰＥとの間に形成される。
【０１０６】
画素電極ＰＥは、有機層１４０の上に形成され、透明な導電性物質で形成されてもよい。画素電極ＰＥは、コンタクトホールＣＮＴを介してドレイン電極ＤＥとコンタクトする。これによって、スイッチング素子ＳＷが、画素電極ＰＥと接続されることができる。画素電極ＰＥは、接続電極部ＲＥ及び微細電極部ＳＬ１、ＳＬ２を含む。
【０１０７】
接続電極部ＲＥは、コンタクトホールＣＮＴを介してスイッチング素子ＳＷのドレイン電極ＤＥと接続される。接続電極部ＲＥは、一つの画素を複数のサブ領域に分割する。例えば、接続電極部ＲＥは、十字状を有してもよい。このとき、画素は、接続電極部ＲＥによって４つのサブ領域に区分されることができる。
【０１０８】
微細電極部ＳＬ１、ＳＬ２は、接続電極部ＲＥから画素の端部に向かって延伸してもよい。微細電極部ＳＬ１、ＳＬ２は、接続電極部ＲＥによって互いに接続される。例えば、微細電極部ＳＬ１、ＳＬ２それぞれの幅は、約０．１μｍ〜約１０μｍを有してもよい。微細電極部ＳＬ１、ＳＬ２のうち、互いに隣接して離隔されている第１微細電極ＳＬ１及び第２微細電極ＳＬ２によって、液晶層３００の液晶分子の配向方向を制御する「スリット」が画定される。画素が、切青く電極部ＲＥによって４つのサブ領域に分割された場合、微細電極部ＳＬ１、ＳＬ２は、ゲートラインＧＬと平行した方向に延伸した接続電極部ＲＥに対して、約４５°、１３５°、２２５°及び３１５°の方向にそれぞれ延伸されてもよい。
【０１０９】
第１配向膜１５０は、画素電極ＰＥ上に形成される。第１配向膜１５０は、配向膜製造用組成物を画素電極ＰＥが形成された第１ベース基板１１０上にコーティングすることによって形成されてもよい。
【０１１０】
第１メソゲン硬化層１６０は、第１配向膜１５０上に形成される。第１メソゲン硬化層１６０は、第１配向膜１５０と液晶層３００との間に形成される。第１メソゲン硬化層１６０は、第１配向膜１５０上に形成されて、第１表示基板１００と隣接するように配置された液晶層３００の液晶分子が第１メソゲン硬化層１６０上でプレチルト角を有するように固定させることができる。
【０１１１】
第２表示基板２００は、第１表示基板１００と対向し、第１表示基板１００と共に液晶分子を挟む。第２表示基板２００は、第２ベース基板２１０上に形成された第２配向膜２５０及び第２メソゲン硬化層２６０を含む。第２表示基板２００は、第２配向膜２５０の下部に形成された遮光パターン２２０、カラーフィルタ２３０、オーバーコーティング層２４０、及び共通電極ＣＥをさらに含んでもよい。
【０１１２】
遮光パターン２２０は、第１表示基板１００のゲートラインＧＬ、データラインＤＬ、及びスイッチング素子ＳＷが形成された領域に対応する第２ベース基板２１０上に形成される。カラーフィルタ２３０は、画素電極ＰＥが形成された領域に対応する第２ベース基板２１０上に形成される。オーバーコーティング層２４０は、遮光パターン２２０及びカラーフィルタ２３０が形成された第２ベース基板２１０と共通電極ＣＥとの間に形成される。共通電極ＣＥは透明な導電性物質から形成され、共通電極ＣＥは第２ベース基板２１０上に全体的に形成される。即ち、共通電極ＣＥは、第２ベース基板２１０を全体的にカバーするパターンレス（ｐａｔｔｅｒｎｌｅｓｓ）電極である。
【０１１３】
第２配向膜２５０は、共通電極ＣＥ上に形成される。第２配向膜２５０は、第２ベース基板２１０上に形成されることを除いては第１配向膜１５０と実質的に同一である。従って、重複する説明は省略する。
【０１１４】
第２メソゲン硬化層２６０は、第２配向膜２５０上に形成される。第２メソゲン硬化層２６０は、第２配向膜２５０上に形成され、第２表示基板２００と隣接した液晶分子がプレチルト角を有するように固定させることができる。
【０１１５】
液晶分子を含む液晶層３００は、第１及び第２表示基板１００、２００の間に配置される。液晶分子それぞれは、少なくとも１つの炭素環を含む化合物を含む。
【０１１６】
図６及び図７は、図５に示した表示パネルの一製造方法を説明するための断面図である。図６及び図７において、図５に示した第１配向膜１５０の下に形成された第１表示基板１００の層は、便宜上省略して示し、第２配向膜２５０の下に形成された第２表示基板２００の層も便宜上省略して示す。
【０１１７】
図５及び図６を参照すると、第１ベース基板１１０上にゲートラインＧＬ及びゲート電極ＧＥを形成し、第１絶縁層１２０及びアクティブパターンＡＰを形成する。アクティブパターンＡＰが形成された第１ベース基板１１０上にデータラインＤＬ、ソース電極ＳＥ、及びドレイン電極ＤＥを形成した後、第２絶縁層１３０、有機層１４０、及び画素電極ＰＥを順次に形成する。
【０１１８】
画素電極ＰＥが形成された第１ベース基板１１０上に配向膜製造用組成物を使用して第１配向膜１５０を形成する。配向膜製造用組成物は、ポリイミド、ポリアミック酸、ポリシロキサン、ポリビニルシンナメート、ポリアクリレート、ポリメチルメタクリレートなどの配向ポリマーを含んでもよい。これらはそれぞれ単独、または、２つ以上を混合して使用してもよい。
【０１１９】
図示はしていないが、第１表示基板１００において、アクティブパターンＡＰ、ソース電極ＳＥ、及びドレイン電極ＤＥは、一つのマスクを利用して形成されてもよい。例えば、第１絶縁層１２０上に半導体層及びソース金属層を順次に形成し、ソース金属層上に第１厚さ部及び第１厚さ部より薄い第２厚さ部を含むフォトパターンを形成する。フォトパターンをエッチング防止膜として利用し半導体層及びソース金属層をパターニングすることによってアクティブパターンＡＰ、ソース電極ＳＥ、及びドレイン電極ＤＥを形成することができる。このとき、アクティブパターンＡＰのエッチング面は、ソース電極ＳＥの一側壁面及びドレイン電極ＤＥの一側壁面と一致してもよい。
【０１２０】
一方、第２ベース基板２１０上に遮光パターン２２０、カラーフィルタ２３０、オーバーコーティング層２４０、及び共通電極ＣＥを順次に形成する。共通電極ＣＥが形成された第２ベース基板２１０上に第１配向膜１５０を形成する配向膜製造用組成物と実質的に同じ組成物を使用して第２配向膜２５０を形成する。
【０１２１】
第１配向膜１５０を含む第１表示基板１００と第２配向膜２５０を含む第２表示基板２００との間に液晶組成物を配置する。液晶組成物は液晶分子３１０及び下記化学式（１−１）で示す反応性メソゲン化合物を含む。反応性メソゲン化合物を図６では符号「３２０」と示す。
【０１２２】
【化４４】
2013163672.tif 000045
（１−１）
【０１２３】
前記化学式（１−１）中、Ａ１及びＡ２はそれぞれ独立的に、
【化４５】
2013163672.tif 000046
または、単結合であり、「ｎ」及び「ｍ」のそれぞれは０〜３の整数であり（但し、ｍとｎは同時に０ではない）、Ｂ１及びＢ２はそれぞれ独立的に単結合、または、−（ＣＨ２）ｋ−であり（ｋは、０〜６の整数）、Ｂ１及びＢ２それぞれの一つ以上の−（ＣＨ２）−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または、−ＣＯ−に置換することができ、Ｄ１及びＤ２はそれぞれ独立的にメタクリレート、または、アクリレートであり、Ａ１、Ａ２及び２,５−チオフェンのそれぞれの少なくとも１つの水素原子は、Ｆ、Ｃｌ、ＯＣＨ３または、炭素数１〜６のアルキル基に置換することができる。
【０１２４】
液晶組成物に使用される反応性メソゲン化合物３２０は、上記説明した本発明に係る反応性メソゲン化合物と実質的に同一である。また、液晶組成物に使用される液晶分子３１０は、上記説明した本発明に係る液晶組成物で説明した液晶分子と実質的に同一である。従って、重複する詳細な説明は省略する。
【０１２５】
液晶組成物が第１及び第２配向膜１５０、２５０の間に配置され、液晶層３００が無電界の状態で液晶分子３１０と反応性メソゲン化合物３２０が第１及び第２配向膜１５０、２５０によって所定の方向性を有するように配置される。
【０１２６】
液晶組成物は、第１配向膜１５０または第２配向膜２５０のうち、いずれか一つ、例えば、第１配向膜１５０上に配置された後、第２表示基板２００を第１表示基板１００と結合させることによって、第１及び第２表示基板１００、２００の間に配置することができる。これとは異なり、液晶組成物は第１及び第２表示基板１００、２００が結合した状態でそれらの間に注入されてもよい。
【０１２７】
図７を参照すると、第１及び第２表示基板１００、２００の間に電界を形成した後、液晶層３００に光を走査する。例えば、光は紫外線であってもよい。例えば、光は約３５０ｎｍ〜約３７０ｎｍで最大強度を示す高圧水銀ランプによって生成されてもよい。電界は、画素電極ＰＥと共通電極ＣＥそれぞれに、互いに異なる電圧を印加することによって形成できる。
【０１２８】
電界によって液晶分子３１０は、第１及び第２配向膜１５０、２５０の間で方向性を有して配列される。同時に、反応性メソゲン化合物３２０は光によって化学反応する。従って、反応性メソゲン化合物３２０の硬化（重合）反応によって第１配向膜１５０上に第１メソゲン硬化層１６０が形成される。また、反応性メソゲン化合物３２０の硬化（重合）反応によって第２配向膜２５０上に第２メソゲン硬化層２６０が形成される。
【０１２９】
第１及び第２メソゲン硬化層１６０、２６０それぞれは、反応性メソゲン化合物の硬化反応の結果である硬化物質（ポリマー）３２２を含む。光を走査する時間を調節することによって反応性メソゲン化合物３２０は、ほとんど硬化（重合）されて第１及び第２メソゲン硬化層１６０、２６０を形成することができる。硬化物質３２２によって第１表示基板１００と隣接した液晶分子３１０は、傾斜角を有するように配列され、第２表示基板２００と隣接した液晶分子３２０も傾斜角（プレチルト角）を有するように配列される。反応性メソゲン化合物がチオフェンを含むため、高圧水銀ランプを光源として利用して光を走査しても、既存反応性メソゲン化合物を含む場合に比べて相対的に硬化時間が速くて光走査時間を短縮させることができる。液晶層３００に残留する反応性メソゲン化合物の含有量が最小になるように光を走査する。
【０１３０】
引き続き、画素電極ＰＥと共通電極ＣＥに印加される電圧を変更して液晶層３００を無電界状態にする。液晶層３００が無電界状態になっても第１及び第２メソゲン硬化層１６０、２６０によって、第１及び第２表示基板１００、２００それぞれと隣接した液晶分子３１０は、所定の傾斜角を有する状態で、安定的に維持される。従って、液晶分子３１０は無電界状態でもプレチルト角を有するようになる。
【０１３１】
追加的に、電界状態で硬化されずに液晶層３００に残留する反応性メソゲン化合物を最大限に硬化（重合）させるために無電界状態で追加的に紫外線を走査してもよい。
【０１３２】
上記説明によれば、本発明に係る反応性メソゲン化合物はチオフェンを含むことによって約３００ｎｍ〜約７００ｎｍ波長を有する光によって活性化されることができ、約３００ｎｍ〜約３７０ｎｍ波長の光吸収率が最大となる。従って、前記波長に対する光反応性が最大化されて、第１及び第２メソゲン硬化層１６０、２６０を形成する工程時間を減少させることができる。また、最終的に製品化される表示パネル５００の液晶層３００に残留する反応性メソゲン化合物３２０の含有量を最小化させることができ、表示パネル５００が画像を表示する場合、反応性メソゲン化合物３２０が液晶分子３１０の制御に及ぼす影響を最小化することができる。
【０１３３】
以下においては、上記説明した本発明に係る配向膜製造用組成物を使用して図４及び図５に示した表示パネル５００を製造する方法について説明する。
【０１３４】
図８は図５に示した表示パネルの他の製造方法を説明するためのフローチャートである。図５と共に図８を参照すると、画素電極ＰＥが形成された第１ベース基板１１０上に図６及び図７を参照して説明したものとは異なる配向膜製造用組成物を使用して第１配向膜１５０を形成する（ステップＳ６１０）。
【０１３５】
配向膜製造用組成物は、図６及び図７を参照した説明とは異なって、下記化学式（１−２）で示す作用基を含む配向ポリマーを含む。
【０１３６】
【化４６】
2013163672.tif 000047
（１−２）
【０１３７】
化学式（１−２）中、Ａ１及びＡ２はそれぞれ独立的に、
【化４７】
2013163672.tif 000048
または、単結合を示し、「ｎ」及び「ｍ」それぞれは０〜３の整数であり（但し、ｍとｎは同時に０ではない）、Ｂ１及びＢ２はそれぞれ独立的に単結合、または、−（ＣＨ２）ｋ−であり（ｋは、０〜６の整数）、Ｂ１及びＢ２それぞれの一つ以上の−（ＣＨ２）−は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または、−ＣＯ−に置換することができ、Ｄは独立的にメタクリレート、または、アクリレートであり、Ａ１、Ａ２及び２,５−チオフェンのそれぞれの少なくとも１つの水素原子は、Ｆ、Ｃｌ、ＯＣＨ３、または、炭素数１〜６のアルキル基に置換することができる。
【０１３８】
配向膜製造用組成物を画素電極ＰＥが形成された第１ベース基板１１０上にコーティングすることによって、第１配向膜１５０を形成することができる。この時、配向ポリマーの主鎖が所定の厚さを有する膜として第１配向膜１５０のベースになり、化学式（１−２）で示す作用基は前記主鎖が形成する膜の表面に突出してもよく、または、膜の内部に配置されてもよい。
【０１３９】
同様に、第１配向膜１５０の形成に使用した配向膜製造用組成物を共通電極ＣＥが形成された第２ベース基板２１０上にコーティングすることによって、第２配向膜２５０を形成する（ステップＳ６２０）。
【０１４０】
次いで、第１配向膜１５０が形成された第１表示基板１００と第２配向膜２５０が形成された第２表示基板２００との間に液晶層３００を形成する。液晶層３００は液晶分子を含む液晶組成物を使用して形成する。液晶層３００は、図６に示したものとは異なり、反応性メソゲン化合物３２０無しで液晶分子３１０を含んでもよい。
【０１４１】
液晶層３００が形成された後、第１表示基板１００と第２表示基板２００との間に電界を形成し、液晶層３００に光を走査する。これによって、第１及び第２メソゲン硬化層１６０、２６０が形成される（ステップＳ６４０）。
【０１４２】
即ち、第１メソゲン硬化層１６０は第１配向膜１５０の表面に配置された前記作用基が光によって硬化して形成される。また、第２メソゲン硬化層２６０は、第２配向膜２５０の表面に配置された前記作用基が光によって硬化して形成される。第１及び第２メソゲン硬化層１６０、２６０によって、液晶層３００が無電界状態になっても液晶分子３２０がプレチルト角を有することができるようになる。
【０１４３】
本実施例では、反応性メソゲン作用基を有する配向ポリマーを利用することによって、液晶組成物が反応性メソゲンを含む必要がない。従って、液晶層内に残留する反応性メソゲンによる品質低下を防ぐことができる。
【０１４４】
図９は本発明のさらに別の実施形態によって製造された表示パネルの断面図である。図９を参照すると、表示パネル５０１は、第１表示基板１０１、第１表示基板１０１と対向する第２表示基板２０１、及び液晶層３００を含む。図９に示した表示パネル５０１の平面図は、図４に示した表示パネル５００の平面図と実質的に同一であるので、図９に示した表示パネル５０１は図４を共に参照して説明する。
【０１４５】
第１表示基板１０１は、第１ベース基板１１０上に形成されたゲートラインＧＬ、第１絶縁層１２０、データラインＤＬ、スイッチング素子ＳＷ、第２絶縁層１３０、カラーフィルタ層１４２、画素電極ＰＥ、第１配向膜１５０、及び第１メソゲン硬化層１６０を含む。第１表示基板１０１が有機層１４０の代わりにカラーフィルタ層１４２を含むことを除いては、図５に示した第１表示基板１００と実質的に同一であるので、重複する説明は省略する。図示はしないが、カラーフィルタ層１４２と第２絶縁層１３０との間には、図５に示した第１表示基板１００の有機層１４０が追加的に配置されてもよい。
【０１４６】
第２表示基板２０１は、第２ベース基板２１０上に形成された遮光パターン２２０、オーバーコーティング層２４０、第２配向膜２５０、及び第２メソゲン硬化層２６０を含む。第２表示基板２０１は、カラーフィルタ２３０が省略されたことを除いては、図５に示した第２表示基板２００と実質的に同一であるので重複する説明は省略する。
【０１４７】
液晶層３００は、第１メソゲン硬化層１６０及び第２メソゲン硬化層２６０の間に配置された複数の液晶分子を含む。液晶分子は、第１及び第２メソゲン硬化層１６０、２６０によって電界が無くても所定角度のプレチルト角を有するように配置される。
【０１４８】
以下において、図９に示した表示パネル５０１の製造方法について、図６及び図７と共に図９を参照して説明する。
【０１４９】
先ず、第１ベース基板１１０上にゲート電極ＧＥを形成し、第１絶縁層１２０及びアクティブパターンＡＰを形成する。アクティブパターンＡＰが形成された第１ベース基板１１０上にソース電極ＳＥ及びドレイン電極ＤＥを形成した後、第２絶縁層１３０、カラーフィルタ層１４２及び画素電極ＰＥを順次に形成する。
【０１５０】
画素電極ＰＥが形成された第１ベース基板１１０上に配向膜製造用組成物を使用して第１配向膜１５０を形成する。配向膜製造用組成物は、ポリイミド、ポリアミック酸、ポリシロキサン、ポリビニルシンナメート、ポリアクリレート、ポリメチルメタクリレートなどの配向ポリマーを含んでもよい。これらはそれぞれ単独的、または、２つ以上を混合して使用することができる。
【０１５１】
第２ベース基板２１０上に遮光パターン２２０、オーバーコーティング層２４０及び共通電極ＣＥを順次に形成する。共通電極ＣＥが形成された第２ベース基板２１０上に第１配向膜１５０を形成する配向膜製造用組成物と実質的に同じ組成物を使用して第２配向膜２５０を形成する。
【０１５２】
第１配向膜１５０を含む第１表示基板１０１と第２配向膜２５０を含む第２表示基板２０１との間に液晶組成物を配置させる。液晶組成物は、通常使用される液晶分子及び反応性メソゲン化合物を含む。液晶組成物に使用される反応性メソゲン化合物は、上記説明した本発明に係る反応性メソゲン化合物と実質的に同一である。また、液晶組成物に使用される液晶分子は上記説明した本発明に係る液晶組成物で説明した液晶分子と実質的に同一である。従って、重複する詳細な説明は省略する。
【０１５３】
続いて、反応性メソゲン化合物を使用して第１及び第２メソゲン硬化層１６０、２６０を形成する工程は、図６及び図７での説明と実質的に同一である。従って、重複する詳細な説明は省略する。
【０１５４】
一方、図９に示した表示パネル５０１で、第１配向膜１５０及び第１メソゲン硬化層１６０は、図８で説明した方法と実質的に同じ方法によって、チオフェンを含む作用基を側鎖として有する配向ポリマーを含む配向膜製造用組成物を使用して形成することができる。また、図９に示した第２配向膜２５０及び第２メソゲン硬化層２６０も、配向膜製造用組成物を使用して形成
することができる。
【０１５５】
図示はしないが、図５に示した表示パネル５００で遮光パターン２２０が第２ベース基板２１０ではなく第１ベース基板１１０上に配置された構造を有する表示パネルについても、本発明に係るメソゲン化合物を含む液晶組成物を使用して図６及び図７で説明した方法と実質的に同じ方法、または、図８で説明した方法を適用して製造することができる。
【０１５６】
また、図９に示した表示パネル５０１で遮光パターン２２０が第１ベース基板１１０上に配置された構造を有する表示パネルについても、本発明に係るメソゲン化合物を含む液晶組成物を使用して図６及び図７で説明した方法と実質的に同じ方法、または、図８で説明した方法を適用して製造することができる。
【０１５７】
図１０は、本発明のさらに別の実施形態によって製造された表示パネルの断面図である。図１１は、図１０のＩＩ−ＩＩ’ラインに沿って切断した断面図である。
【０１５８】
図１０及び図１１を参照すれば、表示パネル５０２は、第１表示基板１０３、第２表示基板２０３、及び液晶層３００を含む。液晶層３００は、負の誘電率異方性を有する液晶組成物を含んでもよい。
【０１５９】
第１表示基板１０３は、第１ベース基板１１０上に形成されたゲートラインＧＬ１、ＧＬ２、ＧＬ３、ＧＬ４、第１データラインＤＬ１、第２データラインＤＬ２、第１、第２及び第３スイッチング素子ＳＷ１、ＳＷ２、ＳＷ３）、カラーフィルタ層１４２、第１画素電極ＰＥ１、第２画素電極ＰＥ２、第１配向膜１５０、並びに、第１メソゲン硬化層１６０を含む。
【０１６０】
ゲートラインＧＬ１、ＧＬ２、ＧＬ３、ＧＬ４は、第１ベース基板１１０の第１方向Ｄ１に延伸し、互いに隣接するように配置された第１及び第２ゲートラインＧＬ１、ＧＬ２と、第１ゲートラインＧＬ１の第２方向Ｄ２に配置された第３ゲートラインＧＬ３、並びに、第２ゲートラインＧＬ２の第３方向Ｄ３に配置された第４ゲートラインＧＬ４を含む。第２及び第３方向Ｄ２、Ｄ３のそれぞれは、第１方向Ｄ１と交差して、互いに反対方向である。第１〜第４ゲートラインＧＬ１、ＧＬ２、ＧＬ３、ＧＬ４は、第１及び第２データラインＤＬ１、ＤＬ２のそれぞれと第１絶縁層１２０によって絶縁される。
【０１６１】
第１スイッチング素子ＳＷ１は、第１ゲートラインＧＬ１と接続された第１ゲート電極ＧＥ１、第１データラインＤＬ１と接続された第１ソース電極ＳＥ１、並びに、第１ソース電極ＳＥ１と離隔した第１ドレイン電極ＤＥ１を含む。第１ドレイン電極ＤＥ１は、第１コンタクトホールＣＮＴ１を介して第１画素電極ＰＥ１と接続される。
【０１６２】
第２スイッチング素子ＳＷ２は、第１ゲートラインＧＬ１と接続された第２ゲート電極ＧＥ２、第１データラインＤＬ１と接続された第２ソース電極ＳＥ２、並びに、第２ソース電極ＳＥ２と離隔した第２ドレイン電極ＤＥ２を含む。第２ソース電極ＳＥ２は、第１ソース電極ＳＥ１とも接続される。第２ドレイン電極ＤＥ２は、第２コンタクトホールＣＮＴ２を介して第２画素電極ＰＥ２と接続される。
【０１６３】
第３スイッチング素子ＳＷ３は、第２ゲートラインＧＬ２と接続された第３ゲート電極ＧＥ３、第１データラインＤＬ１及び第２ドレイン電極ＤＥ２と接続された第３ソース電極ＳＥ３、並びに、第３ソース電極ＳＥ３と離隔した第３ドレイン電極ＤＥ３を含む。第３ドレイン電極ＤＥ３が、第１画素電極ＰＥ１とオーバーラップする。第３ドレイン電極ＤＥ３と第１画素電極ＰＥ１がオーバーラップする部分がダウンキャパシタを画定することができる。
【０１６４】
図示はしないが、第１、第２、及び第３スイッチング素子ＳＷ１、ＳＷ２、ＳＷ３のそれぞれは半導体パターンを含む。
【０１６５】
第１スイッチング素子ＳＷ１及び第２スイッチング素子ＳＷ２は、第１ゲートラインＧＬ１に印加される第１ゲート信号に応答してターンオンされ、第３スイッチング素子ＳＷ３は、第２ゲートラインＧＬ２に印加される第２ゲート信号に応答してターンオンされる。これに従って、第３スイッチング素子ＳＷ３がターンオンされると、ダウンキャパシタは、第２画素電極ＰＥ２によって充電されたデータ電圧を放電する。即ち、第１画素電極ＰＥ１が形成された領域が表示パネル５０２のハイピクセルになり、第２画素電極ＰＥ２が形成された領域がロウピクセルになる。
【０１６６】
カラーフィルタ層１４２は、第１〜第３スイッチング素子ＳＷ１、ＳＷ２、ＳＷ３上に形成される。第１及び第２画素電極ＰＥ１、ＰＥ２がカラーフィルタ層１４２上に形成される。
【０１６７】
第１画素電極ＰＥ１は、第１画素電極ＰＥ１の形状に沿って形成された第１開口部ＯＰ１を含む。例えば、第１画素電極ＰＥ１が四角形状を有する場合、四隅のそれぞれに互いに交差する２つの辺に沿って形成された４つの第１開口部ＯＰ１が形成されてもよい。第１開口部ＯＰ１を全部連結すると、第１画素電極ＰＥ１の形状と実質的に同一または類似の形状になることができるが、第１開口部ＯＰ１それぞれは互いに離隔して形成される。
【０１６８】
第２画素電極ＰＥ２は、第２画素電極ＰＥ２の形状に沿って形成された第２開口部ＯＰ２を含む。第２画素電極ＰＥ２で第２開口部ＯＰ２が配置された構造は、第１画素電極ＰＥ１で第１開口部ＯＰ１が配置された構造と実質的に同一であるので重複する具体的な説明は省略する。
【０１６９】
第１及び第２画素電極ＰＥ２上に第１配向膜１５０及び第１メソゲン硬化層１６０が形成される。第１配向膜１５０及び第１メソゲン硬化層１６０は、図５で説明したのと実質的に同一であってもよい。従って、重複する詳細な説明は省略する。第１配向膜１５０は垂直配向膜であってもよい。
【０１７０】
第２表示基板２０３は、第２ベース基板２１０上に形成された遮光パターン２２０、オーバーコーティング層２４０、共通電極ＣＥ、第２配向膜２５０、及び第２メソゲン硬化層２６０を含む。第２表示基板２０３は共通電極ＣＥを除いては、図９で説明した第２表示基板２０１と実質的に同一である。従って、重複する詳細な説明は省略する。第２配向膜２５０は垂直配向膜であってもよい。
【０１７１】
共通電極ＣＥは、第２ベース基板２１０の全面に形成され、第３開口部ＣＯ１及び第４開口部ＣＯ２を含む。第３及び第４開口部ＣＯ１、ＣＯ２のそれぞれは、十字型を有してもよい。第３開口部ＣＯ１は、第１画素電極ＰＥ１と重なり、第４開口部ＣＯ２は第２画素電極ＰＥ２とオーバーラップする。
【０１７２】
平面から見ると、第３開口部ＣＯ１の中心部を基準にする場合、第３開口部ＣＯ１の２時、５時、７時、及び１１時方向にそれぞれ第１開口部ＯＰ１が配置されてもよい。また、第４開口部ＣＯ２の中心部を基準とする場合、第４開口部ＣＯ２の２時、５時、７時、及び１１時方向にそれぞれ第２開口部ＯＰ２が配置されてもよい。図１０では、第４開口部ＣＯ２が単一の十字形状を有することと示したが、第４開口部ＣＯ２は、２つ以上の十字架が連結された形状を有していてもよい。
【０１７３】
第１画素電極ＰＥ１及び共通電極ＣＥの第３開口部ＣＯ１によって、第１、第２、第３、及び第４ドメイン領域ＤＯ１、ＤＯ２、ＤＯ３、ＤＯ４が画定されてもよい。即ち、ハイピクセルは、第１〜第４ドメイン領域ＤＯ１、ＤＯ２、ＤＯ３、ＤＯ４に区分されることができる。また、第２画素電極ＰＥ２及び共通電極ＣＥの第４開口部ＣＯ２によって、第５、第６、第７及び第８ドメイン領域ＤＯ５、ＤＯ６、ＤＯ７、ＤＯ８が画定されてもよい。即ち、ロウピクセルは第５〜第８ドメイン領域ＤＯ５、ＤＯ６、ＤＯ７、ＤＯ８に区分されることができる。第１画素電極ＰＥ１、第２画素電極ＰＥ２及び共通電極ＣＥによって区分される第１〜第８ドメイン領域ＤＯ１〜ＤＯ８において液晶層３００の液晶分子がドメインを形成することによって、表示パネル５０２の視野角を向上させることができる。
【０１７４】
以下では、図１１を参照して表示パネル５０２の製造方法を説明する。
【０１７５】
先ず、第１ベース基板１１０に前記第１〜第４ゲートラインＧＬ１〜ＧＬ４、並びに、第１〜第３ゲート電極ＧＥ１、ＧＥ２、ＧＥ３を形成し、その上に前記第１絶縁層１２０を形成する。
【０１７６】
第１絶縁層１２０が形成された第１ベース基板１１０上に半導体パターンを形成し、半導体パターンが形成された第１ベース基板１１０上に第１〜第３ソース電極ＳＥ１、ＳＥ２、ＳＥ３、第１〜第３ドレイン電極ＤＥ１、ＤＥ２、ＤＥ３、並びに、第１及び第２データラインＤＬ１、ＤＬ２を形成する。これとは異なり、半導体パターンは、第１〜第３ソース電極ＳＥ１、ＳＥ２、ＳＥ３、第１〜第３ドレイン電極ＤＥ１、ＤＥ２、ＤＥ３、並びに、第１及び第２データラインＤＬ１、ＤＬ２を形成する工程で形成されてもよい。このとき、第１及び第２データラインＤＬ１、ＤＬ２と、第１絶縁層１２０との間には、半導体パターンと実質的に同じ層を含むダミーパターンが形成されてもよい。
【０１７７】
第１〜第３ソース電極ＳＥ１、ＳＥ２、ＳＥ３、第１〜第３ドレイン電極ＤＥ１、ＤＥ２、ＤＥ３、並びに、第１及び第２データラインＤＬ１、ＤＬ２が形成された第１ベース基板１１０上に第２絶縁層１３０を形成し、第２絶縁層１３０が形成された第１ベース基板１１０上にカラーフィルタ層１４２を形成する。
【０１７８】
カラーフィルタ層１４２上に第１及び第２画素電極ＰＥ１、ＰＥ２を形成する。
【０１７９】
続いて、第１及び第２画素電極ＰＥ１、ＰＥ２が形成された第１ベース基板１１０上に第１配向膜１５０を形成する。第１配向膜１５０は、通常的に使用される配向ポリマーを含む配向膜製造用組成物を使用して形成されることができる。
【０１８０】
一方、第２ベース基板２１０には、遮光パターン２２０、オーバーコーティング層２４０、及び共通電極ＣＥを順次に形成した後、共通電極ＣＥが形成された第２ベース基板２１０上に第２配向膜２５０を形成する。第２配向膜２５０は、第１配向膜１５０の形成に使用した配向膜製造用組成物を使用して形成されることができる。
【０１８１】
続いて、第１配向膜１５０が形成された第１ベース基板１１０と、第２配向膜２５０が形成された第２ベース基板２１０との間に液晶組成物を配置する。液晶組成物は、複数の液晶分子及び反応性メソゲン化合物を含んでもよい。液晶組成物は、全体的に負の誘電率異方性を有してもよい。反応性メソゲン化合物は、化学式（１−１）で示す本発明に係る反応性メソゲン化合物と実質的に同一であるので重複する具体的な説明は省略する。
【０１８２】
液晶組成物が配置された状態で、第１ベース基板１１０、または、第２ベース基板２１０の外部から液晶組成物に向かって光を走査して第１配向膜１５０上に第１メソゲン硬化層１６０を、第２配向膜２５０上に第２メソゲン硬化層２６０を形成する。
【０１８３】
これとは異なり、図１０及び図１１に示した表示パネル５０２について、第１配向膜１５０及び第２配向膜２５０のそれぞれを光に反応する作用基を含む配向ポリマーを使用して形成することができる。配向ポリマーは化学式（１−２）で示した作用基を側鎖として含んでもよく、配向ポリマーは上記説明した配向膜製造用組成物と実質的に同一であるので重複する具体的な説明は省略する。
【０１８４】
この場合、液晶層３００は、反応性メソゲン化合物を含まない通常の液晶組成物を使用して形成し、液晶層３００が形成された状態で第１及び第２配向膜１５０、２５０に光を走査する。これによって、図８での説明と実質的に同じように配向ポリマーの側鎖が反応して第１配向膜１５０上に第１メソゲン硬化層１６０が、第２配向膜２５０上に第２メソゲン硬化層２６０が形成される。
【０１８５】
これによって、図１０及び図１１に示した表示パネル５０２が製造されることができる。第１及び第２メソゲン硬化層１６０、２６０によって、液晶組成物の液晶分子がプレチルト角を有することができ、表示パネル５０２の応答速度を向上させることができる。
【０１８６】
一方、図１０及び図１１では、カラーフィルタ層１４２が第１ベース基板１１０上に形成された場合を一例として説明したが、カラーフィルタ層１４２は、図５に示した第２表示基板２００と共に第２ベース基板２１０上に形成されてもよい。また、図１０及び図１１に示した第２ベース基板２１０上に形成された遮光パターン２２０も、第１ベース基板１１０上に形成されてもよい。
【０１８７】
また、図示はしないが、第１表示基板１０３で第１及び第２画素電極ＰＥ１、ＰＥ２と、第２絶縁層１３０との間には図５に示した有機層１４０がさらに形成されてもよい。
【０１８８】
以上、図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明はかかる例に限定されない。本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、これらについても、当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【産業上の利用可能性】
【０１８９】
以上、詳細な説明によれば、ベース基板としてガラス基板を利用しても、メソゲン化合物に光を走査する工程においてベース基板が吸収する光の波長より長い波長の光に対する反応性メソゲン化合物の光反応効率を向上させることができる。即ち、反応性メソゲン化合物を、約３００ｎｍ〜約７００ｎｍ波長を有する光によって活性化させることができ、特に、約３００ｎｍ〜約３７０ｎｍ波長の光に対する反応性メソゲン化合物の感度が最大になる。これによって、反応性メソゲン化合物の硬化時間を短縮させることができ、表示パネルの全体的な製造時間を短縮させ生産性を向上させることができる。また、反応性メソゲン化合物の大部分を光反応させることによって、残留する反応性メソゲン化合物の量を最小化させて製造工程の信頼性を向上させることができる。
【符号の説明】
【０１９０】
５００  表示パネル
１００  第１基板
２００  第２基板
３００  液晶層
ＰＥ  画素電極
１５０  第１配向膜
１６０  第１メソゲン硬化層
２５０  第２配向膜
２６０  第２メソゲン硬化層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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