(57)【要約】      （修正有）【課題】洗浄ブレードとの摩擦を下げ、印刷品質および印刷性能を高めることができる画像形成部材を製造するための方法を提供する。【解決手段】表面に形成された構造化有機フィルムのナノサイズからミクロンサイズのパターンを含む外側層を組み込んだ、画像形成部材（例えば、感光体）。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像形成部材であって、
基材と；
基材の上に配置された感光層と；
感光層の上に配置された外側層とを備え、画像形成部材の外側層は、外側層表面に複数の微細特徴を備え、複数の微細特徴は、少なくとも第１のセグメントタイプを含む複数のセグメントと、共有結合性有機骨格（ＣＯＦ）として整列した少なくとも第１のリンカータイプを含む複数のリンカーとを含む１つ以上の構造化有機フィルム（ＳＯＦ）微細特徴を含む、画像形成部材。
【請求項２】
前記１つ以上のＳＯＦ微細特徴が突起部である、請求項１に記載の画像形成部材。
【請求項３】
前記１つ以上のＳＯＦの微細特徴である突起部が、線、隆線、円、棒状物、卵形、方形、三角形、多角形、およびこれらの混合物からなる群から選択される形状を有する、請求項１に記載の画像形成部材。
【請求項４】
前記１つ以上のＳＯＦの微細特徴である突起部は、高さが約５００ナノメートル〜約１０ミクロンである、請求項３に記載の画像形成部材。
【請求項５】
前記１つ以上のＳＯＦの微細特徴である突起部が、疎水性である追加の機能、超疎水性である追加の機能、親水性である追加の機能、疎油性である追加の機能、超疎油性である追加の機能、親油性である追加の機能、電気活性である追加の機能からなる群から選択される追加の機能を有する、請求項２に記載の画像形成部材。
【請求項６】
前記１つ以上のＳＯＦ微細特徴の少なくとも一部分が、画像形成部材の外側層表面の刻み目に形成される、請求項１に記載の画像形成部材。
【請求項７】
前記１つ以上のＳＯＦの微細特徴である突起部の追加の機能は、刻み目に作られるＳＯＦ微細特徴の追加の機能とは異なっている、請求項６に記載の画像形成部材。
【請求項８】
前記画像形成部材が、ベルト、ドラムまたは平板の形態である、請求項２に記載の画像形成部材。
【請求項９】
前記１つ以上のＳＯＦの微細特徴である突起部が、ベルト、ドラムまたは平板の外側層表面の約１％〜約５０％を覆っている、請求項８に記載の画像形成部材。
【請求項１０】
前記ＳＯＦの微細特徴である突起部が、ベルト、ドラムまたは平板の表面に均一に配置されている、請求項９に記載の画像形成部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本明細書に開示されている実施形態は、一般的に、デジタルを含む電子写真装置で使用するための画像形成装置の部材および構成要素で有用な層に関する。例えば、ある実施形態は、その表面にナノサイズからミクロンサイズのパターンを有する外側層を備える改良された電子写真式画像形成部材、例えば、洗浄ブレードとの摩擦が小さくなり、画像形成部材の印刷品質、性能、寿命が向上する電子写真式画像形成部材に関する。また、実施形態は、改良された電子写真式画像形成部材を製造する方法にも関する。
【背景技術】
【０００２】
ゼログラフィ、電子写真式画像形成または静電複写式画像形成としても知られる電子写真において、導電性層上に光伝導性絶縁層を含有する電子写真式プレート、ドラム、ベルトなど（画像形成部材または感光体）の表面は、最初に均一に帯電される。
【０００３】
感光体の表面を帯電させるために、スコロトロン帯電デバイスまたは接触型の帯電デバイスが使用されてきた。接触型の帯電デバイスは、直流電圧と、直流電圧のレベルの２倍には満たない交流電圧とを重ね合わせた電源からの電圧が供給される導電性部材を備えている。この帯電デバイスは、帯電される部材である画像が生成する部材（感光体）の表面に接している。画像が生成する部材の外側表面は、この接触領域で擦ることによる摩擦で帯電する。接触型帯電デバイスは、画像が生成する部材を所定の電位に帯電する。典型的には、接触型帯電器は、米国４，３８７，９８０号に開示されているように、ロール型帯電器の形態であり、この開示内容は、その全体が本明細書に参考として組み込まれる。
【０００４】
次いで画像形成部材は、活性化電磁放射線、例えば光のパターンに曝される。この放射線は、光伝導性絶縁層の照射領域において電荷を選択的に消散させると同時に、非照射領域に静電潜像を残す。次いでこの静電潜像は現像されて、微粉化された検電マーキング粒子を光伝導性絶縁層の表面に堆積させることによって、視覚可能な画像を形成し得る。
【０００５】
静電潜像は、一般的に、トナーとして知られる微粉化された電気的に引き付けられ得る粉末と静電潜像とを接触させることによって現像される。トナーは、感光体表面にある静電電荷によって、画像領域に保持される。したがって、複製または印刷される元々の画像の光像に一致するようにトナー画像が作られる。次いで、トナー画像は、直接的、または中間転写体の使用を介して基材または支持部材（例えば、紙）に転写され、基材または支持部材に画像が固着し、複製または印刷されるべき画像の永久的な記録が作られてもよい。
【０００６】
現像の後に、電荷保持表面に残った過剰量のトナーを表面から洗浄する。このプロセスは、元々の画像、またはラスターアウトプットスキャナ（ＲＯＳ）を用いた場合のように印刷によって電気的に作成または保存した元々の画像から複製する光レンズに有用であり、帯電した表面は、種々の様式で画像の状態に放電され得る。
【０００７】
画像形成部材は、一般に反復性電子写真サイクルに曝され、それが、曝されて帯電した輸送層またはそれらの代替頂部（または外側）層を機械的摩耗、化学的攻撃および熱に供する。こうした反復性サイクルは、曝された電荷輸送層の機械的特徴および電気的特徴を徐々に劣化させる。長期間の使用中における物理的損傷および機械的損傷、特に表面引掻欠陥の形成は、感光体（例えば、ベルト感光体）の故障の主な原因の１つである。故に、感光体の機械的ロバスト性を改善し、特にそれらの耐引掻性を増大させることによって、それらの耐用年数を延ばすことが所望されている。加えて、画像ゴースト発生、背景陰影などがプリント中で最小限となるように軽衝撃耐性を増大させることが望ましい。
【０００８】
洗浄の失敗に起因する印刷欠陥は、ゼログラフィサブシステムの別の主な課題の１つである。従来では、例えば引掻防止およびクラック防止ポリマーオーバーコート層が、感光体のライフスパンを延ばすためにロバスト性のオーバーコート設計として利用されている。しかし、従来のオーバーコート層配合物は、プリント中のゴースト発生および背景陰影を示す。
【０００９】
このような欠陥は、典型的には、低摩耗性のオーバーコートでコーティングされた感光体を用いたときに観察される。例えば、欠陥は、非常に初期の段階で多く発生し、洗浄ブレードと感光体との摩擦が大きく、相互作用が不良であることに起因して、感光体のブレード損傷および不均一な摩耗によって生じる。別の例では、ペーパーエッジゴースト（ＰＥＧ）として知られる印刷アーチファクトは、ゼログラフィの転写ステーションからの差分の正電荷ストレスに関連している。目に見えるゴーストであるアーチファクトは、光放電曲線（ＰＩＤＣ）の測定可能な差と相関関係がある。
【００１０】
画像形成部材を形成するために採用されている種々の手法にかかわらず、改善された画像形成性能および長い寿命を提供し、ヒトおよび環境への健康リスクを低減するためなどに、改善された画像形成部材設計が必要とされ続けている。
【００１１】
本明細書に記載される構造化有機フィルム（ＳＯＦ）組成物を含むパターニングされた画像形成部材は、化学的および機械的に非常にロバスト性の材料であり、従来の感光体材料よりも優れた多くの特性を示し、ゼログラフィプロセスによって生じる化学的分解経路を阻止することによって感光体の寿命を延ばす。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【００１２】
画像形成部材であって、感光層の上に配置される外側層を備え、この画像形成部材の外側層は、外側層の表面に複数の微細特徴を有しており、この複数の微細特徴は、１つ以上の構造化有機フィルム（ＳＯＦ）を含む。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１Ａ】図１Ａは、例示的なビルディングブロックの図である。
【図１Ｂ】図１Ｂは、例示的なビルディングブロックの図である。
【図１Ｃ】図１Ｃは、例示的なビルディングブロックの図である。
【図１Ｄ】図１Ｄは、例示的なビルディングブロックの図である。
【図１Ｅ】図１Ｅは、例示的なビルディングブロックの図である。
【図１Ｆ】図１Ｆは、例示的なビルディングブロックの図である。
【図１Ｇ】図１Ｇは、例示的なビルディングブロックの図である。
【図１Ｈ】図１Ｈは、例示的なビルディングブロックの図である。
【図１Ｉ】図１Ｉは、例示的なビルディングブロックの図である。
【図１Ｊ】図１Ｊは、例示的なビルディングブロックの図である。
【図１Ｋ】図１Ｋは、例示的なビルディングブロックの図である。
【図１Ｌ】図１Ｌは、例示的なビルディングブロックの図である。
【図１Ｍ】図１Ｍは、例示的なビルディングブロックの図である。
【図１Ｎ】図１Ｎは、例示的なビルディングブロックの図である。
【図１Ｏ】図１Ｏは、例示的なビルディングブロックの図である。
【図２】図２は、ＳＯＦを組み込んだ感光体の側面図を表す。
【図３】図３は、ＳＯＦを組み込んだ感光体の側面図を表す。
【図４】図４は、ＳＯＦを組み込んだ感光体の側面図を表す。
【図５Ａ】図５Ａは、硬化前のパターニングされたＳＯＦの微細特徴の電子顕微鏡画像である。
【図５Ｂ】図５Ｂは、硬化後のパターニングされたＳＯＦの微細特徴の電子顕微鏡画像である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
「構造化された有機フィルム」（ＳＯＦ）は、巨視的な見方だとフィルムである、ＣＯＦを指す。
【００１５】
インクジェット法を利用することによって作られる少なくとも１つのＳＯＦのナノサイズからミクロンサイズの表面構造を有する外側層を備える感光体が記載されている。ＳＯＦのナノサイズからミクロンサイズの表面構造を製造するためにインクジェット法を使用することで、外側層に均一な粗い表面を作成することができ、つまり、表面が所定の不規則性、隆起部分または隆線によってマーキングされるように粗くなり、平滑ではない。パターニングされた画像形成部材の表面は、洗浄ブレードとの摩擦を低くするため、印刷品質を高め、相互作用がより滑らかになり、ブレードによる損傷を最小限にする。パターニングされた画像形成部材の表面は、画像形成部材（例えば、ゼログラフィ感光体）のペーパーエッジゴースト生成（周期的な帯電ストレス）も減らす。パターニングされた画像形成部材の表面は、周期的な正電荷ストレスを受けても、差のある経変が少なくなる。
【００１６】
インクジェット法によって作られるパターニングされた画像形成部材の表面は、外側層表面に均一で周期的な広いパターンを与えることができる。ＳＯＦのナノサイズからミクロンサイズの表面構造の望ましい配置に依存して、トルクを下げ、ブレードの損傷を最小限にし、不均一な感光体の摩耗を最小限にするといったシステムの相互作用を向上させるために、表面の形態を制御してもよい。
【００１７】
画像形成部材は、１つ以上のＳＯＦのナノサイズからミクロンサイズの表面構造をもつ外側層を使用し、改良されたペーパーエッジゴースト（ＰＥＧ）挙動を示す。ＳＯＦのナノサイズからミクロンサイズの表面構造の製造工程は、液体ＳＯＦ反応混合物を（任意の従来のインクジェット装置による）インクジェット印刷することと、基材表面に液滴を整列させ、ナノサイズまたはミクロンサイズの液滴パターンを基材の上に作成することとを含む。その後に、基材表面に吐出されたＳＯＦ反応混合物中で帯電を促進し、ナノサイズまたはミクロンサイズのＳＯＦ表面構造パターンを有する外側層が生じる。液体ＳＯＦ反応混合物を含む液滴を基材の上に堆積させた後、乾燥ＳＯＦを作成する工程を行ってもよい。
【００１８】
帯電をＳＯＦ反応混合物中で促進させ、ＳＯＦのナノサイズからミクロンサイズの表面構造を作成する前に、液体ＳＯＦ反応混合物を含む液滴の望ましいパターン全体を基材の上に堆積してもよい。または、一連の工程でパターンを形成してもよい。ＳＯＦのナノサイズからミクロンサイズの表面構造の表面パターンは、１つ以上の隆線、線、円、棒状物、方形、三角形、多角形、およびこれらの混合物のような特殊な形状および寸法を含んでいてもよい。このような構造の寸法は、数ナノメートルから数千ミクロンであってもよい。ＳＯＦのナノサイズからミクロンサイズの表面構造の表面パターンは、高さが約５０ナノメートル〜約１５ミクロン、または約８００ナノメートル〜約５ミクロン、または約１ミクロン〜約２ミクロンのこのようなＳＯＦ突起部または隆起部の集合体を含んでいてもよい。
【００１９】
それぞれの突起部または隆起部は、周囲の長さが約５０ナノメートル〜約１００ミクロン、または約５００ナノメートル〜約２５ミクロンであってもよい。突起部は、隆線、線、円、棒状物、方形、三角形、多角形、およびこれらの混合物の形状であってもよい。
【００２０】
集合体は、直径が画像形成部材の表面積の約１％から画像形成部材のほぼ表面積全体まで、例えば、画像形成部材の表面積の約１０％から画像形成部材の表面積の約９０％までの複数の突起部を備えていてもよい。
【００２１】
集合体は、個々の突起部それぞれが、最も近い隣接する突起部から、中心部から中心部までの距離が約５００ナノメートル〜２００ミクロンであるような複数の突起部を備えていてもよい。
【００２２】
表面パターンは、突起部または隆起部のさまざまな集合体の組み合わせを含んでいてもよい。１つ以上のＳＯＦの微細特徴である突起部は、高さが約５０ナノメートル〜約１００ミクロンであり、周囲の長さが約２５０ナノメートル〜約５０ミクロンであってもよい。
【００２３】
ＳＯＦの微細特徴である突起部は、疎水性である追加の機能、超疎水性である追加の機能、親水性である追加の機能、疎油性である追加の機能、超疎油性である追加の機能、親油性である追加の機能、電気活性である追加の機能からなる群から選択される追加の機能を有していてもよい。
【００２４】
１つ以上のＳＯＦの微細特徴の一部が、画像形成部材の外側層表面に刻み目に形成されてもよい。刻み目に形成されるＳＯＦの微細特徴は、追加の機能を有していてもよい。１つ以上のＳＯＦの微細特徴である突起部の追加の機能は、刻み目に形成されるＳＯＦの微細特徴の追加の機能と同じであってもよく、異なっていてもよい。ＳＯＦの微細特徴は、画像形成部材の外側層表面の約５％より多く、または画像形成部材の外側層表面の約４０％より多くを覆っていてもよい。１つ以上のＳＯＦの微細特徴（例えば、ＳＯＦを含む突起部および／または刻み目）は、ベルト、ドラムまたは平板の形態であってもよい画像形成部材の外側層表面の約１％〜約９９％を覆っていてもよく、画像形成部材の外側層表面の約２５％〜約７５％を覆っていてもよい。
【００２５】
また、上述のような画像形成部材（例えば、ＳＯＦのナノサイズからミクロンサイズの表面構造のパターンを有する表面を含む画像形成部材）と、画像形成部材の上に静電電荷を与える帯電ユニットと、画像形成部材の上にあるトナー画像を現像する現像ユニットと、トナー画像を画像形成部材から媒体に転写する転写ユニットと、画像形成部材を洗浄するクリーニングユニットとを備える画像形成装置も提供される。ＳＯＦ突起部または隆起部の表面パターンは、高さが約０．１マイクロメートル〜約５ミクロンであってもよく、突起部または隆起部の集合体は、それぞれ、周囲の長さが約０．１マイクロメートル〜約２００ミクロンであってもよい。画像形成装置のクリーニングユニットは、弾性ポリマーで構成されるブレード型クリーナーを備えていてもよい。
【００２６】
ＳＯＦは、巨視的なレベルでは実質的にピンホールのないＳＯＦまたはピンホールのないＳＯＦであり、大きな長さにわたって広がる連続した共有結合性有機骨格を含む。ＳＯＦは、典型的には、ＳＯＦの２つの寸法が第３の寸法よりもかなり大きくなる、大きなアスペスト比を有する傾向があることも理解されるだろう。ＳＯＦは、ＣＯＦ粒子の集合体よりも巨視的な縁部および不連続な外側表面が顕著に少ないだろう。
【００２７】
「実質的にピンホールのないＳＯＦ」または「ピンホールのないＳＯＦ」は、下層基材の表面に堆積した反応混合物から形成されてもよい。用語「実質的にピンホールのないＳＯＦ」は、平方ｃｍあたりの２つの隣接セグメントコア間の距離を超えるピンホール、孔またはギャップが実質的にない、またはｃｍ２あたり約２５０ナノメートルを超える直径のピンホール、孔またはギャップが１０個未満であるＳＯＦを指す。用語「ピンホールのないＳＯＦ」は、平方ミクロンあたりの２つの隣接セグメントのコア間の距離を超えるピンホール、孔またはギャップがない、または平方ミクロンあたり約５００オングストロームを超える直径のピンホール、孔またはギャップがないＳＯＦを指す。
【００２８】
ＳＯＦは、炭素でない少なくとも１つの元素原子、例えば、水素、酸素、窒素、ケイ素、リン、セレニウム、フッ素、ホウ素、および硫黄からなる群から選択される少なくとも１つの原子を含んでいてもよい。
【００２９】
ＳＯＦは、セグメント（Ｓ）（セグメント型とも呼ばれることがある）と、官能基（Ｆｇ）とを有する分子ビルディングブロックを含む。
【００３０】
官能基としては、ハロゲン、アルコール、エーテル、ケトン、カルボン酸、エステル、カーボネート、アミン、アミド、イミン、尿素、アルデヒド、イソシアネート、トシレート、アルケン、アルキンなどを挙げることができる。
【００３１】
ＳＯＦにキャッピングユニットが導入される場合、ＳＯＦ骨格は、キャッピングユニットが存在する部分で局所的に「中断」される。これらのＳＯＦ組成物は、キャッピングユニットが存在するときは、外来分子がＳＯＦ骨格に結合するため、「共有結合的にドープ」される。
【００３２】
セグメントは、官能基を保持し、官能基には関係しないすべての原子を含む分子ビルディングブロックの一部である。ＳＯＦは、複数の孔を有する共有結合性有機骨格（ＣＯＦ）として整列された、少なくとも第１のセグメントタイプを含む複数のセグメントおよび第１のリンカータイプを少なくとも含む複数のリンカーを含み、ここで第１のセグメントタイプおよび／または第１のリンカータイプが、炭素でない少なくとも１つの原子を含む。ＳＯＦのセグメントは、炭素でない少なくとも１つの元素原子を含み、例えばセグメント構造は、水素、酸素、窒素、ケイ素、リン、セレニウム、フッ素、ホウ素、および硫黄からなる群から選択される少なくとも１つの原子を含む。
【００３３】
リンカーは、分子ビルディングブロックおよび／またはキャッピングユニットに存在する官能基間での化学反応時にＳＯＦ中に現れる化学部分である。
【００３４】
リンカーは、共有結合、単一原子、または共有結合された原子の群を含んでいてもよい。化学部分リンカーは、エステル、ケトン、アミド、イミン、エーテル、ウレタン、カーボネートなどのような基であってもよい。ＳＯＦのリンカーは、炭素ではない少なくとも１つの元素原子を含んでいてもよく、例えば、リンカーの構造は、水素、酸素、窒素、ケイ素、リン、セレニウム、フッ素、ホウ素、および硫黄からなる群から選択される少なくとも１つの原子を含む。
【００３５】
ＳＯＦは、任意の適切なアスペクト比を有している。ＳＯＦは、アスペクト比が、例えば約３０：１より大きく、または約１００：１より大きくてもよい。ＳＯＦのアスペクト比は、その平均厚さ（すなわち、最も短い寸法）に対する、その平均の幅または直径（厚さに対して次に大きな寸法）の比であると定義される。ＳＯＦの最も長い寸法は、長さであり、ＳＯＦアスペクト比の計算では考慮されない。ＳＯＦは、単一層または複数の層（すなわち、２つ、３つ、またはそれ以上の層）を含んでいてもよい。複数の層で構成されるＳＯＦは、物理的に接続していてもよく（例えば、双極子および水素結合）、または化学的に接続していてもよい。
【００３６】
「厚み」は、膜の最も小さな寸法を指す。「単一層」ＳＯＦは、最も単純な場合であり、例えば、膜が１セグメントの厚みであるものを指す。２つ以上のセグメントがこの軸に沿って存在するＳＯＦは、「複数セグメント」の厚みのＳＯＦであると称される。
【００３７】
化学的および／または物理的に積み重なった複数層のＳＯＦのナノサイズからミクロンサイズの表面構造を調製する例示的な方法は、（１）第１の硬化サイクルによって硬化されてもよいＳＯＦベース層を形成することを含んでいてもよい、基材（例えば、感光体の外側層）を準備することと、（２）これらのベース層の上に、第２の濡れた反応層を作成することとを含んでいてもよく、この第２の濡れた反応層は、インクジェット法の後、第２の硬化サイクルによって堆積し、所望な場合、この第２の工程を繰り返して第３の層、第４の層などを作成してもよい。これらの工程は、ＳＯＦ反応混合物が、初期段階で堆積し、あらかじめ形成されたＳＯＦのナノサイズからミクロンサイズの１つ以上の表面構造の上部にインクジェットにより塗布されるように繰り返してもよい。このような堆積するＳＯＦ反応混合物の組成は、その前の工程で堆積したＳＯＦ反応混合物の組成と同じであってもよいし、異なっていてもよい。
【００３８】
分子ビルディングブロックの対称性は、分子ビルディングブロックセグメントの周辺付近の官能基（Ｆｇ）の位置決めに関連する。対称型のビルディングブロックの使用は、（１）規則的な形状の連結が網目状構造化学においてよく理解されたプロセスであるので、分子ビルディングブロックのパターニングは問題なく利用できる、および（２）分子ビルディングブロック間の完全な反応は、対称性の劣るビルディングブロックについては、ＳＯＦ内に複数の連結欠陥を起こし得る可能性がある逸脱したコンホメーション／配向を採用し得るために促進されるという２つの理由から実施される。
【００３９】
図１Ａ〜Ｏは、例示的なビルディングブロックについて、対称型の成分の概略を示す。こうした対称型要素は、使用され得るビルディングブロックに見出される。
【００４０】
ＳＯＦの分子ビルディングブロックとして役立つであろうさまざまな種類の例示的な分子部分の非限定的な例としては、炭素またはケイ素の原子コアを含有するビルディングブロック；アルコキシコアを含有するビルディングブロック；窒素またはリンの原子コアを含有するビルディングブロック、；アリールコアを含有するビルディングブロック；カーボネートコアを含有するビルディングブロック；炭素環式、炭素二環式、または炭素三環式コアを含有するビルディングブロック；およびオリゴチオフェンコアを含有するビルディングブロックが挙げられる。ＣＯＦは、高い熱安定性（典型的には、周囲条件下、４００℃より高い）、有機溶媒への溶解度が低い（化学薬品安定性）、多孔性（可逆的にゲストを取り込むことができる）という固有の性質をもつ。いくつかの実施形態では、ＳＯＦも、これらの固有の性質をもっていてもよい。
【００４１】
用語「偏った特性」および「追加の機能」は、同じ一般的特性（例えば疎水性、電気活性など）を指すが、「偏った特性」は、分子ビルディングブロックの内容で使用され、「追加の機能」は、ＳＯＦの内容で使用される。
【００４２】
疎水性（超疎水性）との用語は、水、または他の極性種をはじく特性を指す。疎水性材料は、接触角ゴニオメータまたは関連装置を用いて測定される場合に、９０°を超える水接触角を有する。高い疎水性は、約１３０°〜約１８０°の水接触角を有する。超疎水性は、約１５０°を超える水接触角を有する。
【００４３】
親水性との用語は、水または他の極性種、またはこのような種によって簡単に濡れる表面を引き付ける、吸着または吸収する特性を指す。
【００４４】
疎油性（撥油性）との用語は、油または他の非極性種、例えばアルカン、脂肪およびワックスをはじく特性を指す。疎油性は、接触角ゴニオメータまたは関連装置を用いて測定される場合に、９０°を超える油接触角を有する。撥油性との用語は、ＵＶ硬化性インク、固体インク、ヘキサデカン、ドデカン、炭化水素などに関して、およそ約５５°以上の油接触角を有する表面の濡れ性を指す。高度に撥油性は、炭化水素系液滴が表面に関して高い接触角、例えば約１３０°、または約１３５°〜約１７０°の接触角を形成する場合と記載される。超撥油性は、炭化水素系液滴が表面に関して高い接触角、例えば１５０°を超える接触角を形成する場合と記載される。
【００４５】
超撥油性はまた、炭化水素系液滴が表面に関して約１°〜約３０°未満、または約１０°未満のスライディング角度を形成する場合と記載される。親油性（オレオフィリック）との用語は、油または他の非極性種、例えばアルカン、脂肪、およびワックスを引き付ける特性またはこうした種によって容易に濡らされる表面を指す。親油性材料は、低〜無油接触角を有する。
【００４６】
電気活性との用語は、電荷（電子および／または正孔）を輸送する特性を指す。電気活性材料としては、導体、半導体、電荷輸送材料が挙げられる。
【００４７】
電荷輸送材料は、さらに、飛行時間技術を用いて測定すると、電子および／または正孔移動性が１０−１０〜約１０６ｃｍ２Ｖ−１ｓ−１の範囲にある材料であると定義されてもよい。高度にフッ素化されたセグメントを含むか、または生じる分子ビルディングブロックは、偏った特性として疎水性を有し、追加の機能として疎水性を有するＳＯＦを導くだろう。
【００４８】
上述のフッ素化されたセグメントとしては、例えば、テトラフルオロヒドロキノン、ペルフルオロアジピン酸水和物、４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸無水物、４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフェノールなどを挙げることができる。
【００４９】
追加の機能として親水性を有するＳＯＦは、偏った性質として親水性を有し、および／または極性の接続基を含む分子ビルディングブロックを用いて調製されてもよい。
【００５０】
極性の置換基を生じるセグメントを含む分子ビルディングブロックは、偏った性質として親水性を含み、追加の機能として親水性を有するＳＯＦを導くだろう。極性置換基との用語は、例えば、水と水素結合を形成可能な置換基を指し、例えば、ヒドロキシル、アミノ、アンモニウムおよびカルボニル（例えば、ケトン、カルボン酸、エステル、アミド、カーボネート、尿素）が挙げられる。
【００５１】
追加の機能として電気活性を有するＳＯＦは、偏った性質として電気活性を有し、および／または共役セグメントおよびリンカーの集合体から得られる電気活性性の分子ビルディングブロックを用いて調製されてもよい。追加の機能として正孔輸送性を有するＳＯＦは、例えば、トリアリールアミン、ヒドラゾン（Ｔｏｋａｒｓｋｉらの米国特許第７，２０２，００２  Ｂ２号）およびエナミンのようなセグメントコアを選択することによって得てもよい。トリアリールアミンを含むセグメントコアは、以下の一般式によって表され、
【化１】
2013148885.tif 000002
式中、Ａｒ１、Ａｒ２、Ａｒ３、Ａｒ４およびＡｒ５は、それぞれ独立して、置換または非置換のアリール基を表すか、または、Ａｒ５は、独立して、置換または非置換のアリーレン基を表し、ｋは、０または１を表し、ここで、Ａｒ１、Ａｒ２、Ａｒ３、Ａｒ４、およびＡｒ５のうち、少なくとも２つはＦｇ（すでに定義されている）を含む。Ａｒ５は、さらに、例えば、置換フェニル環、置換／非置換のフェニレン、置換／非置換の一価の接続した芳香族環（例えば、ビフェニル、ターフェニルなど）、または置換／非置換の縮合芳香族環（例えば、ナフチル、アントラニル、フェナントリルなど）であると定義されてもよい。
【００５２】
追加の機能として正孔輸送性を有する、アリールアミンを含むセグメントコアとしては、アリールアミン、例えば、トリフェニルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−（１，１’−ビフェニル）−４，４’−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−（１，１’−ビフェニル）−４，４’−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−［ｐ−ターフェニル］−４，４’’−ジアミン、ヒドラゾン、例えば、Ｎ−フェニル−Ｎ−メチル−３−（９−エチル）カルバジルヒドラゾン、４−ジエチルアミノベンズアルデヒド−１，２−ジフェニルヒドラゾン、およびオキサジアゾール、例えば、２，５−ビス（４−Ｎ，Ｎ’−ジエチルアミノフェニル）−１，２，４−オキサジアゾールおよびスチルベンが挙げられる。
【００５３】
ヒドラゾンを含むセグメントコアは、以下の一般式によって表され、
【化２】
2013148885.tif 000003
式中、Ａｒ１、Ａｒ２およびＡｒ３は、それぞれ独立して、場合によって１個以上の置換基を含むアリール基を表し、Ｒは、水素原子、アリール基、または場合によって置換基を含むアルキル基を表し；Ａｒ１、Ａｒ２およびＡｒ３のうち、少なくとも２つはＦｇ（すでに定義されている）を含む。エナミンを含むセグメントコアは、以下の一般式によって表され、
【化３】
2013148885.tif 000004
式中、Ａｒ１、Ａｒ２、Ａｒ３およびＡｒ４は、それぞれ独立して、場合によって１個以上の置換基を含むアリール基、または場合によって１個以上の置換基を含むヘテロ環を表し、Ｒは、水素原子、アリール基、または場合によって置換基を含むアルキル基を表し；Ａｒ１、Ａｒ２、Ａｒ３およびＡｒ４のうち、少なくとも２つはＦｇ（すでに定義されている）を含む。
【００５４】
ＳＯＦは、ｐ型半導体、ｎ型半導体、または両極性半導体であってもよい。
【００５５】
多孔性ＳＯＦを製造するプロセスは、多くの作業または工程、例えば、
（ａ）反応混合物を含有する液体を調製すること；
（ｂ）反応混合物を濡れた膜として堆積させること；
（ｃ）濡れた膜の帯電を促進すること；
（ｄ）場合により、コーティング基材からＳＯＦを取り除き、自立性ＳＯＦを得ること；
（ｅ）場合により、自立性ＳＯＦをロールの形に処理すること；
（ｆ）場合により、ＳＯＦを切断し、つなぎ合わせてベルトにすること；および
（ｇ）場合により、上記ＳＯＦ形成プロセスを、続くＳＯＦ形成プロセスのための基材としてＳＯＦ上にて行うことを含んでいてもよい。
【００５６】
反応混合物は、液体中に溶解、懸濁、または混合される複数の分子ビルディングブロックを含む。触媒は、場合により、上述の作業Ｃの間に、ＳＯＦ形成を可能にするため、またはＳＯＦ形成の動力学を変更するために反応混合物に添加されてもよい。添加剤または第２の成分は、場合により反応混合物に添加されて、得られたＳＯＦの物理的特性を変更してもよい。
【００５７】
ビルディングブロックの保有量は、約１〜５０％、例えば、約３〜約３０％、または約５〜約１５％の範囲であってもよい。反応混合部中で使用される液体は、純粋な液体（例えば溶媒）および／または溶媒混合物であってもよい。適切な液体は、約３０〜約３００℃の沸点を有していてもよい。
【００５８】
液体としては、アルカン、混合アルカン、分岐アルカン、芳香族化合物、エーテル、環状エーテル、エステル、ケトン、環状ケトン、アミン、アミド、アルコール、ニトリル、ハロゲン化芳香族、ハロゲン化アルカン、および水などの種類の分子を挙げることができる。
【００５９】
場合により、添加剤または第２の成分、例えば、ドーパントが、反応混合物および濡れた層に存在していてもよい。また、このような添加剤または第２の成分を、乾燥ＳＯＦに組み込んでもよい。「添加剤」または「第２の成分」は、ＳＯＦ中に共有結合していないが、組成物にランダムに分布している原子または分子を指す。
【００６０】
反応混合物を、ＳＯＦ微細特徴を生み出すインクジェット法を含め、多くの液体堆積技術を用い、任意の所望な大きさ（個々のインクが吐出される液滴と同程度に小さくてもよい）の濡れたフィルムとして種々の基材に適用してもよい。
【００６１】
望ましい特徴（例えば、微細特徴）の大きさおよび形状は、基材の上に反応混合物を堆積させるのに使用される液滴の大きさとともに、反応混合物の粘度、表面張力、および／または組成を変えることによって得られてもよい。粘度が低い反応混合物の液滴を、（反応混合物に対して）液滴がさらに容易に広がることができるような表面張力を有する基材表面に堆積させ、例えば、液滴が、基材表面の谷部分の刻み目に堆積する場合、液滴が堆積する基材部分の形状に沿っていてもよい薄くて平坦なＳＯＦ微細特徴を作成してもよい。粘度が大きい反応混合物の液滴を、（反応混合物に対して）液滴がさらに容易に広がることができないような表面張力を有する基材表面に堆積させ、その結果、場合により、基材表面からもっと突出した特徴を作成してもよい。
【００６２】
構造化有機フィルム（ＳＯＦ）の微細特徴を作成する方法は、インクジェット法によって第１（または第２、第３、第４など）の液滴を基材に向けて放出することと、第１の液滴の少なくとも１つを第１の所定の位置の表面に堆積させることとを含んでいてもよい。第１の液滴は、第１の複数の分子ビルディングブロック（同じ化学構造を有していてもよく、同じ化学構造を有していなくてもよい）第１の反応混合物を含んでいてもよい。
【００６３】
第１の反応混合物の粘度は、約２ｃＰ〜約３０ｃＰ、または約６ｃＰ〜約１４ｃＰであってもよく、適切なインクジェット法によって基材に塗布されてもよい。
【００６４】
多くの液体堆積技術を用い（例えば、スピンコーティング、ブレードコーティング、ウェブコーティング、浸漬コーティング、カップコーティング、ロッドコーティング、スクリーン印刷、インクジェット印刷、スプレーコーティング、スタンピングなどを含む）、反応混合物を基材に適用してもよい。濡れた層の厚みは、約５ｎｍ〜約５００μｍ、または約５０ｎｍ〜約１０μｍの範囲であってもよい。
【００６５】
場合により、キャッピングユニットおよび／または第２の成分は、上述のプロセスの作業Ｂが終わった後に導入されてもよい。
【００６６】
「促進する」は、分子ビルディングブロックの反応を容易にする任意の適切な技術を指す。また、「促進する」は、液体を除去することも指す。「乾燥ＳＯＦ」は、液体の含有量がＳＯＦの２重量％未満の、実質的に乾燥したＳＯＦを指す。
【００６７】
濡れた層から乾燥ＳＯＦを形成するのを促進することは、典型的には、４０〜３５０℃の範囲の温度でオーブンによる乾燥、赤外線照射（ＩＲ）を含む熱処理を含む。合計加熱時間は、約４秒〜約２４時間の範囲であってもよい。
【００６８】
炭素ＩＲエミッタまたは短波ＩＲエミッタに関する情報を以下の表にまとめている。
【表１】
2013148885.tif 000005
【００６９】
ＳＯＦベルトは、単一ＳＯＦ、多層ＳＯＦまたはウェブから切断されたＳＯＦシートから製作されてもよい。
【００７０】
電子写真式画像形成部材（例えば感光体）の代表的な構造を図２から図４に示す。これらの画像形成部材は、カール防止層１、支持基材２、導電性地板３、電荷ブロッキング層４、接着剤層５、電荷発生層６、電荷輸送層７、オーバーコーティング層８、および接地ストリップ９を備える。図４において、画像形成層１０（電荷発生材料および電荷輸送材料の両方を含有する）は、別個の電荷発生層６および電荷輸送層７と交換される。
【００７１】
感光体を製作する際、電荷発生材料（ＣＧＭ）および電荷輸送材料（ＣＴＭ）は、ＣＧＭおよびＣＴＭが異なる層にある積層体タイプの構成（例えば図２および図３）、またはＣＧＭおよびＣＴＭが同一層にある単一層構成（例えば図４）のいずれかにおいて、基材表面上に堆積されてもよい。感光体は、導電性層上にわたって電荷発生層６および場合により電荷輸送層７を適用することによって調製されてもよい。電荷発生層および存在する場合、電荷輸送層は、いずれかの順序で適用されてもよい。
【００７２】
いくつかの用途について、任意のカール防止層１が提供され得るが、それは、電気的に絶縁性またはわずかに半導電性であるフィルムを形成する有機ポリマーまたは無機ポリマーを含む。
【００７３】
カール防止層の厚みは、典型的には、約３マイクロメートル〜約３５マイクロメートルである。
【００７４】
基材は、不透明または実質的に透明であってもよく、任意の追加の好適な材料を含んでいてもよい。
【００７５】
基材は、非電導性の材料の層、または電導性材料の層を含んでいてもよい。
【００７６】
基材は、可撓性または硬質であってもよく、いずれかの多数の異なる構成、例えばシート、スクロール、エンドレス可撓性ベルト、ウェブ、シリンダーなどを有していてもよい。感光体は、硬質の不透明導電性基材、例えばアルミニウムドラムにコーティングされてもよい。
【００７７】
非導電性の材料として樹脂を使用してもよい。基材は、つなぎ目があってもよく、つなぎ目がなくてもよい。
【００７８】
導電性基材が利用される場合、任意の適切な導電性材料を使用してもよい。基材の厚みは、必要な機械性能および経済的な考慮事項を含め、多くの因子によって変わる。基材の厚みは、典型的には、約６５マイクロメートル〜約１５０マイクロメートルの範囲である。可撓性ベルトの基材は、かなりの厚みを有していてもよい。ドラムが使用される場合、厚みは、必要な剛性を与えるのに十分なものでなければならない。この厚みは、通常は、約１〜６ｍｍである。
【００７９】
非導電性基材が使用される場合、電導性地板３が使用されなければならず、地板は導電性層として作用する。導電性基材が使用される場合、基材は、導電性層として作用し得る。任意の導電性地板層を堆積させた後、電荷遮断層４をこれに塗布してもよい。遮断層が使用される場合、遮断層は、導電性層の上に配置されてもよい。
【００８０】
遮断層は、連続していてもよく、厚みが約０．０１〜約１０マイクロメートルの範囲であってもよい。
【００８１】
接着を促進するために遮断層と電荷発生層との間に中間層５が提供されてもよい。このような任意要素の接着層は、厚みが約０．００１マイクロメートル〜約０．２マイクロメートルであってもよい。画像形成層とは、電荷発生材料、電荷輸送材料、または電荷発生材料と電荷輸送材料を両方とも含む１つ以上の層を指す。
【００８２】
電荷発生材料と電荷輸送材料が異なる層（例えば、電荷発生層と電荷輸送層）にある場合、電荷発生層は、ＳＯＦを含んでいてもよく、この層で、ＳＯＦは、ＳＯＦのナノサイズからミクロンサイズの表面構造を有するように製造され、キャップされたＳＯＦおよび／またはコンポジットＳＯＦであってもよい。さらに、電荷発生材料と電荷輸送材料が同じ層にある場合、この層は、ＳＯＦを含んでいてもよく、この層で、ＳＯＦは、ＳＯＦのナノサイズからミクロンサイズの表面構造を有するように製造され、キャップされたＳＯＦおよび／またはコンポジットＳＯＦであってもよい。
【００８３】
組成物中の電荷発生材料の量は、例えば、溶媒を含む組成物の重量を基準として約０．５重量％〜約３０重量％の範囲である。乾燥した光伝導性コーティングに分散した光伝導性粒子（すなわち、電荷発生材料）の量は、選択される具体的な光伝導性顔料粒子によってある程度変わる。
【００８４】
電荷発生層（本明細書では光伝導性層とも称される）および電荷輸送層を含む多層感光体について、乾燥した光伝導性層コーティングの厚さが約０．１マイクロメートル〜約１０マイクロメートルであるという満足のいく結果が得られるだろう。
【００８５】
電荷輸送材料としては、有機ポリマー、非ポリマー性材料、またはキャップされたＳＯＦおよび／またはコンポジットＳＯＦであってもよいＳＯＦが挙げられ、それらは光励起された正孔の注入を支持でき、または光伝導性材料から電子を輸送でき、これらの正孔または電子を有機層を通して輸送し、表面電荷を選択的に消散できる。
【００８６】
実例となる電荷輸送材料としては、例えば主鎖または側鎖に多環式芳香族環（例えば、アントラセン、ピレン、フェナントレン、コロネンなど）または窒素含有ヘテロ環（例えば、インドール、カルバゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イミダゾール、ピラゾール、オキサジアゾール、ピラゾリン、チアジアゾール、トリアゾール、ヒドラゾン化合物）を有する化合物から選択される、正の正孔輸送材料が挙げられる。電荷輸送層に任意の適切な不活性樹脂バインダーを使用してもよい。
【００８７】
電荷輸送層において、バインダーに対する電荷輸送材料（「ＣＴＭ」）の重量比は、３０（ＣＴＭ）：７０（バインダー）〜７０（ＣＴＭ）：３０（バインダー）の範囲である。
【００８８】
電荷輸送層および電荷発生層を基板に塗布するために、任意の適切な技術を利用してもよい。固体含有量は、分散物の合計重量を基準として約２重量％〜約３０重量％である。一般的に、輸送層の厚みは、約５マイクロメートル〜約１００マイクロメートルである。電荷発生層に対する電荷輸送層の厚みの比率は、約２：１〜２００：１に維持されてもよい。
【００８９】
例示的な電荷輸送ＳＯＦとしては、多環芳香族環（例えばアントラセン、ピレン、フェナントレン、コロネンなど）、または窒素を含有するヘテロ環（例えばインドール、カルバゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イミダゾール、ピラゾール、オキサジアゾール、ピラゾリン、チアジアゾール、トリアゾールおよびヒドラゾン化合物）を含むセグメントを含む化合物から選択される正の正孔輸送材料が挙げられる。好適な電子輸送ＳＯＦセグメントとしては、電子受容体、例えば２，４，７−トリニトロ−９−フルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−フルオレノン、ジニトロアントラセン、ジニトロアクリデン、テトラシアノピレン、ジニトロアントラキノン、ブチルカルボニルフルオレンマロノニトリル、アリールアミン（例えば、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（アルキルフェニル）−（１，１’−ビフェニル）−４，４’−ジアミン）が挙げられ、ここでアルキルは、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシルなどからなる群から選択される。一般的に、電荷輸送ＳＯＦ層の厚みは、約５マイクロメートル〜約１００マイクロメートル、または１０マイクロメートル〜約４０マイクロメートルである。電荷発生層に対する電荷輸送層の厚みの比率は、約２：１〜２００：１、または４００：１程度の大きさに維持されてもよい。
【００９０】
本明細書に記載される材料および手順は、電荷発生材料および電荷輸送ＳＯＦを含有し、ＳＯＦがＳＯＦのナノサイズからミクロンサイズの表面構造を有するように製造された単一画像形成層タイプの感光体を製作するために使用されてもよい。単層画像形成層のための分散液における固体含有量は、分散液の重量に基づいて約２重量％〜約３０重量％の範囲であってもよい。
【００９１】
画像形成層が、電荷発生層および電荷輸送層の機能を組み合わせた単層である場合、そこに含有される成分の例示的な量は、次の通りである：電荷発生材料（約２重量％〜約４０重量％）、偏った追加の電荷輸送機能を有する分子ビルディングブロック（約２０重量％〜約７５重量％）。
【００９２】
１つ以上のオーバーコーティング層８は、電荷発生層上にわたって、または電荷輸送層上にわたって配置されてもよい。この層は、電気的に絶縁性またはわずかに半導電性であってもよいＳＯＦのナノサイズからミクロンサイズの表面構造を含む。
【００９３】
こうした保護オーバーコーティング層は、ＳＯＦがＳＯＦのナノサイズからミクロンサイズの表面構造を含むように製造された、キャップされたＳＯＦおよび／またはコンポジットＳＯＦを含んでいてもよい。
【００９４】
添加剤は、オーバーコーティング層において、オーバーコーティング層の約０．５〜約４０重量％の範囲で存在してもよい。添加剤としては、有機および無機粒子を挙げることができ、これがさらに、耐摩耗性を改善でき、および／または電荷緩和特性を提供できる。約２マイクロメートル〜約１５マイクロメートルのオーバーコーティング層は、耐引掻性および耐摩耗性に加え、電荷輸送分子の漏れ、結晶化、電荷輸送層の亀裂を防ぐのに有効である。
【００９５】
接地ストリップ９は、フィルム形成バインダーおよび電導性粒子を含んでいてもよい。導電性接地ストリップ層８で任意の適切な導電性粒子を使用してもよい。導電性粒子は、任意の適切な形状を有していてもよい。
【００９６】
接地ストリップ層は、厚みが約７マイクロメートル〜約４２マイクロメートルであってもよい。
【００９７】
画像形成部材は、場合により、ＳＯＦがＳＯＦのナノサイズからミクロンサイズの表面構造を有するように製造された表面層（ＯＣＬまたはＣＴＬ）としてＳＯＦを含んでいてもよい。この画像形成部材は、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ−（メチレンフェニレン）ビフェニル−４，４’−ジアミンおよびセグメントであるＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−ターフェニル−４，４’−ジアミンセグメントを含むＳＯＦであってもよい。このようなキャップされたＳＯＦは、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス−［（４−ヒドロキシメチル）フェニル］−ビフェニル−４，４’−ジアミンおよびＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス−（３−ヒドロキシフェニル）−ターフェニル−４，４’−ジアミン分子ビルディングブロックから調製されてもよい。また、ＳＯＦ画像形成部材は、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ−（メチレンフェニレン）ビフェニル−４，４’−ジアミンおよびセグメントであるＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−ビフェニル−４，４’−ジアミンセグメントを含んでいてもよい。いくつかの実施形態では、画像形成部材のＳＯＦは、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス−［（４−ヒドロキシメチル）フェニル］−ビフェニル−４，４’−ジアミンおよびＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス−（３−ヒドロキシフェニル）−ビフェニル−４，４’−ジアミン分子ビルディングブロックから調製されてもよい。
【００９８】
ＳＯＦは、電子写真式感光体、接触帯電デバイス、曝露デバイス、現像デバイス、転写デバイス、および／または洗浄ユニットに組み込まれてもよい。
【００９９】
接触帯電デバイスは、ロール型の接触帯電部材を備えていてもよい。接触帯電部材は、感光体の表面と接するように配置されていてもよく、電圧が印加されるため、感光体表面に特定の電位を与えることができる。いくつかの実施形態では、接触帯電部材は、ＳＯＦおよび／またはキャップされたＳＯＦおよび／または金属、導電性ポリマー材料、またはエラストマー材料中の微細粒子の分散物から作られてもよい。
【０１００】
感光体は、ＳＯＦがＳＯＦのナノサイズからミクロンサイズの表面構造を有するように製造されたＳＯＦを含む外側被覆層を備えていてもよい。このようなＳＯＦも、接触帯電部材の表面に提供されてもよい。抵抗をさらに調節するために、このようなＳＯＦのナノサイズからミクロンサイズの表面構造は、コンポジットＳＯＦまたはキャップされたＳＯＦまたはこれらの組み合わせであってもよく、ＳＯＦのナノサイズからミクロンサイズの表面構造は、劣化を抑制するために、この構造に結合または付加された酸化防止剤を含むように修正されてもよい。
【０１０１】
接触帯電部材の抵抗は、任意の望ましい範囲、例えば、約１００〜約１０１４Ωｃｍであってもよい。
【０１０２】
接触帯電デバイスの接触帯電部材、場合により、ＳＯＦ（例えば、ナノサイズからミクロンサイズの表面構造を有するＳＯＦ）を含む接触帯電部材は、ローラーの形状であってもよい。しかし、このような接触帯電部材は、ブレード、ベルト、ブラシなどの形状であってもよい。使用可能な画像を形成する材料（例えば、トナー、インクなど、液体または固体）には特に限定はない。
【０１０３】
ベルト、ローラー、フィルム、ゴムブレードなどを用いる接触型の転写帯電デバイス、またはスコロトロン転写帯電器またはコロナ放電を利用するスコロトロン転写帯電器を転写デバイスとして使用してもよい。
【０１０４】
洗浄デバイスは、転写工程の後に電子写真感光体の表面に付着した、残留する画像を形成する材料（例えば、トナーまたはインク（液体または固体））を除去するデバイスであってもよく、上述の画像形成プロセスに繰り返し曝される電子写真感光体を、これによって洗浄してもよい。洗浄デバイスは、洗浄ブレード、洗浄ブラシ、洗浄ロールなどであってもよい。洗浄ブレードのための材料としては、ＳＯＦまたはウレタンゴム、ネオプレンゴムおよびシリコーンゴムが挙げられる。
【０１０５】
帯電し、露光し、現像し、転写し、洗浄するそれぞれの工程は、順に電子写真感光体の回転工程で行われ、それによって、画像形成が繰り返し行われる。電子写真感光体は、ＳＯＦを含む特定の層および望ましいＳＯＦを含む感光層（感光体の外側層は、ＳＯＦのナノサイズからミクロンサイズの表面構造を含む）とともに与えられてもよく、したがって、優れた放出気体耐性、機械強度、耐引掻性、粒子分散性などをもつ感光体が提供され得る。したがって、感光体が接触帯電デバイスまたは洗浄ブレードとともに用いられる実施形態であっても、またはさらに化学重合によって得られる球状トナーとともに用いられる実施形態であっても、曇りのような画像の欠陥が発生することなく、良好な画質が得られるだろう。したがって、長期間にわたって良好な画質を安定に提供することができる、画像を形成する装置が実現する。
【０１０６】
Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）中、固形保有量２５％になるように表２で特定される成分を用い、ウェット状態の構造化有機フィルム配合物を調製した。得られた配合物の粘度は１４ｃＰであった。
【表２】
2013148885.tif 000006
【０１０７】
Ｄｉｍａｔｉｘインクジェットプリンターにこの配合物を入れた。インクジェットプリンターを使用し、オーバーコート層を含まない状態（実施例１および実施例２）で、またオーバーコート層を含む状態で（実施例３および実施例４）、Ｍｙｌａｒ（登録商標）および商業的なＸｅｒｏｘベルト感光体基材の試験配置にウェット状態のＳＯＦ配合物を堆積させた。オーバーコート層を含む感光体基材の場合、オーバーコートは、米国特許出願第１３／２４６，２６８号に記載されるＳＯＦであった。得られたウェット状態のＳＯＦ層を１４０℃で３０分間硬化させ、乾燥ＳＯＦ微細特徴を生成した。得られたＳＯＦ微細特徴の大きさおよび形状を決定し、表３に報告している。硬化前後の微細特徴の光学顕微鏡画像および光学式粗さ計を図５Ａおよび図５Ｂに与えている。
【表３】
2013148885.tif 000007
【０１０８】
試験結果：電気的な評価（ＰＩＤＣ）
インクジェット印刷したサンプルを電気的に試験し（ＰＩＤＣ）、印刷／硬化プロセスから負の影響があるかどうかを試験した。電荷輸送層（実施例１）およびオーバーコーティングされた（実施例２）サンプルに直接的に表面パターンを適用すると、電気特性にほとんど影響はなかった。この試験の結果を表４に報告している。
【表４】
2013148885.tif 000008
【０１０９】
暗状態で、表面電位が初期Ｖｄｄｐ約７００ボルトに達するまでコロナ放電デバイスを用いてこれらの表面を静電的に帯電し、電位計に容量的に接続したプローブによって、後で１００ｍｓ測定することによってゼログラフィ電気特性を決定した。次いで、帯電した部材を、フィルタリングしたキセノンランプからの光に曝した（７８５ｎｍ、帯電後２００ｍｓ）。光放電効果に起因して、露光してから５００ｍｓで表面電位がバックグラウンド電位Ｖｂｇまで低下するのが観察された。光放電特徴をＥ１／２値およびＥ７／８値によって表す。Ｅ１／２は、光放電をＶｄｄｐから１／２Ｖｄｄｐにするのに必要な露光エネルギーであり、Ｅ７／８は、Ｖｄｄｐから１／８Ｖｄｄｐに放電するためのエネルギーである。露光工程中に画像形成部材を光放電するのに用いられる光エネルギーを、露出計を用いて測定した。感光性が高いほど、Ｅ１／２値およびＥ７／８値が小さくなる。デバイスを第２のフィルタリングしたキセノンランプからの高強度白色光にさらに曝した後に、消去Ｖｒの後に残る電位を測定した。
【図１Ａ】
2013148885.tif 000009
【図１Ｂ】
2013148885.tif 000010
【図１Ｃ】
2013148885.tif 000011
【図１Ｄ】
2013148885.tif 000012
【図１Ｅ】
2013148885.tif 000013
【図１Ｆ】
2013148885.tif 000014
【図１Ｇ】
2013148885.tif 000015
【図１Ｈ】
2013148885.tif 000016
【図１Ｉ】
2013148885.tif 000017
【図１Ｊ】
2013148885.tif 000018
【図１Ｋ】
2013148885.tif 000019
【図１Ｌ】
2013148885.tif 000020
【図１Ｍ】
2013148885.tif 000021
【図１Ｎ】
2013148885.tif 000022
【図１Ｏ】
2013148885.tif 000023
【図２】
2013148885.tif 000024
【図３】
2013148885.tif 000025
【図４】
2013148885.tif 000026
【図５Ａ】
2013148885.tif 000027
【図５Ｂ】
2013148885.tif 000028