(57)【要約】【課題】  金型による賦形のような煩雑なプロセスを経ずに、簡便な方法で各種画像表示装置の輝度を向上し、視認性を改善することができる輝度向上フィルムを提供すること。【解決手段】  透明基材フィルムの少なくとも片面に、無機コア粒子と、該無機コア粒子表面の少なくとも一部に結合した有機重合体とを有する複合微粒子層を有する輝度向上フィルムとする。複合微粒子層を透明基材フィルムよりも低屈折率化することにより、光の透過効率を向上することができる。これにより、本発明の輝度向上フィルムは、微粒子層を、透明基材フィルムに対して、画像表示装置の光源側または発光側に配置することで、画像表示装置の輝度が上昇し、視認性を向上することができる。【選択図】  図１
2013014125.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材フィルムの少なくとも片面に、微粒子層を有する輝度向上フィルム。
【請求項２】
前記微粒子層が、無機コア粒子と、該無機コア粒子表面の少なくとも一部に結合した有機重合体とを有する複合微粒子層である請求項１に記載の輝度向上フィルム。
【請求項３】
前記有機重合体がフッ素原子を含有する単量体を含む単量体成分を重合してなる重合体である請求項１または２に記載の輝度向上フィルム。
【請求項４】
前記透明基材フィルムが、アクリル樹脂（Ａ）を主成分とする請求項１から３のいずれか１項に記載の輝度向上フィルム。
【請求項５】
前記アクリル樹脂（Ａ）が、主鎖に環構造を有するアクリル樹脂である請求項４に記載の輝度向上フィルム。
【請求項６】
前記透明基材フィルムが偏光子保護フィルムである請求項１から５のいずれか１項に記載の輝度向上フィルム。
【請求項７】
請求項１から６のいずれか１項に記載の輝度向上フィルムを有する偏光板。
【請求項８】
請求項１から６のいずれか１項に記載の輝度向上フィルムを有する画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、画像表示装置に使用される輝度向上フィルム、および該輝度向上フィルムを備えた偏光板、画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、液晶表示装置に代表されるような画像表示装置の分野では、バックライトや発光部からの光取り出し効率を向上させることが、輝度を高めるのみならず、消費電力の低減においても重要な技術課題となっていた。このような課題に対して、液晶表示装置においては、拡散板やプリズムシート、３Ｍ社製ＤＢＥＦに代表される輝度向上フィルムを用いることで光利用効率の向上や輝度ムラの解消が図られてきている。
【０００３】
一方、画像表示装置の薄型化や低コスト化に対応して、これら光学部品の薄肉化や部品点数の低減が必要となってきている。このような要請に対し、液晶パネルのバックライト側に配置される偏光板の保護フィルムとして、集光性プリズムシートを用いる方法（たとえば特許文献１、２）により、１つまたは複数の部材を除き、部品点数を削減する技術が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１０−２６６６５４号公報
【特許文献２】特開２００８−２６２１３３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記特許文献では、フィルムにプリズムを賦形するために特別な金型を必要とするためにコストがかかること、さらに高速で連続生産する際にプリズムの賦形率が低くなって、光学性能が不十分となるおそれがあるなどの問題があった。
【０００６】
本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであって、簡便な方法で、輝度向上効果を付与できる輝度向上フィルム、および該輝度向上フィルムを備えた偏光板や画像表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の輝度向上フィルムは、透明基材フィルムの少なくとも片面に、微粒子層を有する輝度向上フィルムである。
【０００８】
本発明の輝度向上フィルムは、上記微粒子層が、無機コア粒子と、該無機コア粒子表面の少なくとも一部に結合した有機重合体とを有する複合微粒子層であることが好ましい。
【０００９】
本発明の輝度向上フィルムは、上記有機重合体がフッ素原子を含有する単量体を含む単量体成分を重合してなる重合体であることが好ましい。
【００１０】
本発明の輝度向上フィルムは、上記透明基材フィルムが、アクリル樹脂（Ａ）からなることが好ましい。
【００１１】
本発明の輝度向上フィルムは、上記アクリル樹脂（Ａ）が、主鎖に環構造を有するアクリル樹脂であることが好ましい。
【００１２】
本発明の輝度向上フィルムは、上記透明基材フィルムが偏光子保護フィルムであることが好ましい。
【００１３】
本発明の偏光板は、上記輝度向上フィルムを有する偏光板である。
【００１４】
本発明の画像表示装置は上記輝度向上フィルムを有する画像表示装置である。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の輝度向上フィルムを用いることにより、低コストで画像表示装置の輝度を向上することができ、視認性の向上や消費電力の低減を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の輝度向上フィルムの一例を示す。
【図２】本発明の偏光板の一例を示す。
【図３】本発明の画像表示装置の一例を示す。
【符号の説明】
【００１７】
１：複合微粒子層
２：透明基材フィルム
３：偏光子
４：偏光子保護フィルム
５：液晶セル
６：輝度上昇シート
７：プリズムシート
８：プリズムシート
９：拡散板
１０：バックライト
１１：視認側偏光板
１２：光源側偏光板
【発明を実施するための形態】
【００１８】
これ以降の説明において特に記載がない限り、「％」は「質量％」を、「部」は「質量部」を、それぞれ意味する。また、範囲を示す「Ａ〜Ｂ」は、Ａ以上Ｂ以下であることを示す。
［透明基材フィルム］
本発明の輝度向上フィルムにおける透明基材フィルムの種類は、特に限定されない。例えば、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル樹脂；ポリスチレン、ポリビニルトルエン、ポリスチレン、スチレン−メタクリル酸メチル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、ポリ（ｐ−メチルスチレン）などのスチレン樹脂；ポリカーボネート樹脂；ポリアリレート樹脂；ポリエーテルスルホン樹脂；ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレンなどのポリオレフィン樹脂；ノルボルネン樹脂などの環状オレフィン樹脂；塩化ビニル、塩素化ビニル樹脂などのハロゲン含有樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル樹脂；ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン６１０などのポリアミド；セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートなどのセルロース樹脂；ポリアセタール樹脂；ポリフェニレンオキシド樹脂；ポリフェニレンスルフィド樹脂；ポリエーテルエーテルケトン樹脂；ポリエーテルニトリル樹脂；ポリサルホン樹脂；ポリエーテルサルホン樹脂；ポリオキシベンジレン樹脂；ポリアミドイミド樹脂等が挙げられ、これらのうち２種以上の混合樹脂などを用いることができる。好適にはアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、スチレン樹脂、セルロース樹脂、環状オレフィン樹脂が用いられる。中でも、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、セルロース樹脂が好ましく、特にアクリル樹脂は、透明性、高い光線透過率や低い屈折率の波長依存性などの優れた光学特性や加工性に優れているため、透明基材フィルム用の樹脂として特に好ましい。
【００１９】
本発明の透明基材フィルムの厚みは特に限定されないが、５〜３５０μｍの範囲が好ましく、１０〜２５０μｍがより好ましく、２０〜１５０μｍがさらに好ましい。５μｍ以下であるとフィルムとしての強度が不十分であり、３５０μｍ以上であると画像表示装置の薄膜化の効果が不十分となる。
【００２０】
本発明の透明基材フィルムのＪＩＳ  Ｋ７３６１−１に準拠して測定した全光線透過率は、８５％以上が好ましく、９０％以上がより好ましく、９２％以上がさらに好ましい。
【００２１】
本発明の透明基材フィルムのＪＩＳ  Ｋ７１２１の規定に準拠して求めたガラス転移温度（Ｔｇ）は、１００℃以上が好ましく、１１０℃以上がより好ましく、１１５℃以上がさらに好ましく、１２０℃以上が特に好ましい。本発明の透明基材フィルムは、Ｔｇが高いことにより、光源付近で使用することがより容易となる。Ｔｇの上限は特に限定されないが、成形加工がしやすいことから２００℃以下が好ましく、１８０℃以下がより好ましい。
【００２２】
本発明における透明基材フィルムを製造する方法は特に限定されず、例えば、溶液製膜法（溶液流延法、キャスト成形法）、溶融製膜法（溶融押出法、押出成形法）、プレス成形法などの公知の手法を用いることができるが、環境負荷が小さく生産性に優れることから溶融製膜法が好ましい。
【００２３】
溶液製膜法を用いてフィルムを得ようとする場合は、熱可塑性樹脂と必要によりその他の重合体やその他の添加剤などとの樹脂組成物を良溶媒中に撹拌混合して均一混合液とし、支持フィルムやドラムにキャストして自己支持性を有するまで予備乾燥した後、支持フィルムやドラムから剥がして乾燥すると得ることができる。溶液製膜法に用いられる溶媒としては、例えば、クロロホルム、ジクロロメタンなどの塩素系溶媒；トルエン、キシレン、ベンゼン、およびこれらの混合溶媒などの芳香族系溶媒；メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、２−ブタノールなどのアルコール系溶媒；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルフォキシド、ジオキサン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、アセトン、酢酸エチル、ジエチルエーテル；などが挙げられる。これら溶媒は１種のみ用いても良いし、２種以上を併用しても良い。溶液製膜法を行うための装置としては、例えば、ドラム式キャスティングマシン、ベルト式キャスティングマシンなどが挙げられる。
【００２４】
溶融製膜法の具体的な例としては、樹脂組成物を構成する各成分をオムニミキサーなどの混合機でプレブレンドした後、得られた混合物を混練機から押出混練してもよい。押出混練に用いる混練機は特に限定されず、例えば、単軸押出機、二軸押出機などの押出機、あるいは加圧ニーダーなどの公知の混練機を用いることができる。
【００２５】
また、別途形成した熱可塑性樹脂を溶融押出成形してもよい。溶融製膜法には、例えば、Ｔダイ法、インフレーション法などがあり、その際の成形温度は、好ましくは２００〜３５０℃、より好ましくは２５０〜３２０℃、さらに好ましくは２５５℃〜３２０℃、特に好ましくは２６０℃〜３００℃である。
【００２６】
Ｔダイ法を用いる場合、押出機の先端部にＴダイを取り付け、このＴダイから押し出したフィルムを巻き取ることで、ロール状に巻回させた透明基材フィルムを得ることができる。このとき、巻き取りの温度および速度を制御して、フィルムの押し出し方向に延伸（一軸延伸）を加えることも可能である。
【００２７】
押出成形に押出機を用いる場合、その種類は特に限定されず、単軸であっても二軸であっても多軸であってもよいが、そのＬ／Ｄ値は（Ｌは押出機のシリンダの長さ、Ｄはシリンダ内径）、熱可塑性樹脂を十分に可塑化して良好な混練状態を得るために、好ましくは１０以上１００以下であり、より好ましくは１５以上８０以下であり、さらに好ましくは２０以上６０以下である。Ｌ／Ｄ値が１０未満の場合、熱可塑性樹脂を十分に可塑化できず、良好な混練状態が得られないことがある。一方、Ｌ／Ｄ値が１００を超えると、熱可塑性樹脂に対して過度に剪断発熱が加わることで、組成物中の樹脂が熱分解する可能性がある。
【００２８】
またこの場合、シリンダの設定温度は、好ましくは２００℃以上３５０℃以下であり、より好ましくは２５０℃以上３２０℃以下である。設定温度が２００℃未満では、熱可塑性樹脂の溶融粘度が過度に高くなって、透明基材フィルムの生産性が低下する。一方、設定温度が３５０℃を超えると、熱可塑性樹脂が熱分解する可能性がある。
【００２９】
押出成形に押出機を用いる場合、その形状は特に限定されないが、押出機が１個以上の開放ベント部を有することが好ましい。このような押出機を用いることによって、開放ベント部から分解ガスを吸引することができ、得られた透明基材フィルムに残存する揮発成分の量を低減できる。開放ベント部から分解ガスを吸引するためには、例えば、開放ベント部を減圧状態にすればよく、その減圧度は、開放ベント部の圧力にして、９３１〜１．３ｈＰａの範囲が好ましく、７９８〜１３．３ｈＰａの範囲がより好ましい。開放ベント部の圧力が９３１ｈＰａより高い場合、揮発成分、あるいは樹脂の分解により発生する単量体成分などが、樹脂中に残存しやすい。一方、開放ベント部の圧力を１．３ｈＰａより低く保つことは工業的に困難である。
【００３０】
本発明における透明基材フィルムは、ポリマーフィルターで濾過した熱可塑性樹脂を成形してフィルムとすることが好ましい。ポリマーフィルターにより、熱可塑性樹脂中に存在する異物を除去できるため、得られたフィルムの外観上の欠点を低減できる。なお、ポリマーフィルターによる濾過時には、熱可塑性樹脂は高温の溶融状態となる。このため、ポリマーフィルターを通過する際に熱可塑性樹脂が劣化し、劣化により形成されたガス成分や着色劣化物が組成物中に流れだして、得られたフィルムに、穴あき、流れ模様、流れスジなどの欠点が観察されることがある。この欠点は、特に長尺フィルムの連続成形時に観察されやすい。このため、ポリマーフィルターで濾過した熱可塑性樹脂を成形する際には、その成形温度は、樹脂の溶融粘度を低下させ、ポリマーフィルターにおける樹脂の滞留時間を短くするために、例えば２５５〜３２０℃であり、２６０〜３００℃が好ましい。
【００３１】
ポリマーフィルターの構成は特に限定されないが、ハウジング内に多数枚のリーフディスク型フィルターを配したポリマーフィルターを好適に用いることができる。リーフディスク型フィルターの濾材は、金属繊維不織布を焼結したタイプ、金属粉末を焼結したタイプ、金網を数枚積層したタイプ、あるいはそれらを組み合わせたハイブリッドタイプのいずれでもよいが、金属繊維不織布を焼結したタイプが最も好ましい。
【００３２】
ポリマーフィルターによる濾過精度は特に限定されないが、通常１５μｍ以下、好ましくは１０μｍ以下、より好ましくは５μｍ以下である。濾過精度が１μｍ以下になると、樹脂の滞留時間が長くなることで当該組成物の熱劣化が大きくなる他、長尺フィルムの生産性が低下する。一方、濾過精度が１５μｍを超えると、熱可塑性樹脂中の異物を除去することが難しくなる。
【００３３】
ポリマーフィルターの形状は特に限定されず、例えば、複数の樹脂流通口を有し、センターポール内に樹脂の流路を有する内流型；断面が複数の頂点もしくは面においてリーフディスクフィルタの内周面に接し、センターポールの外面に樹脂の流路がある外流型；などがある。特に、樹脂の滞留箇所の少ない外流型を用いることが好ましい。
【００３４】
ポリマーフィルターにおける樹脂の滞留時間に特に制限はないが、好ましくは２０分以下であり、より好ましくは１０分以下であり、さらに好ましくは５分以下である。また、濾過時におけるフィルター入口圧およびフィルター出口圧は、例えば、それぞれ、３〜１５ＭＰａおよび０．３〜１０ＭＰａであり、圧力損失（フィルターの入口圧と出口圧の圧力差）は、１ＭＰａ〜１５ＭＰａの範囲が好ましい。圧力損失が１ＭＰａ以下になると、樹脂がフィルターを通過する流路に偏りが生じやすく、得られた樹脂フィルムの品質が低下する傾向がある。一方、圧力損失が１５ＭＰａを超えると、ポリマーフィルターの破損が起こり易くなる。
【００３５】
ポリマーフィルターに導入される樹脂の温度は、その溶融粘度に応じて適宜設定すればよく、例えば２５０〜３５０℃であり、好ましくは２５５〜３２０℃であり、さらに好ましくは２６０〜３００℃である。
【００３６】
ポリマーフィルターを用いた濾過処理により、異物、着色物の少ない光学フィルムを得る具体的な工程は、特に限定されない。例えば、（１）クリーン環境下で熱可塑性樹脂の形成および濾過処理を行い、引き続いてクリーン環境下で熱可塑性樹脂の成形を行うプロセス、（２）異物または着色物を有する熱可塑性樹脂を、クリーン環境下で濾過処理した後、引き続いてクリーン環境下で熱可塑性樹脂の成形を行うプロセス、（３）異物または着色物を有する熱可塑性樹脂を、クリーン環境下で濾過処理すると同時に成形を行うプロセス、などが挙げられる。それぞれの工程毎に、複数回、ポリマーフィルターによる熱可塑性樹脂の濾過処理を行ってもよい。
【００３７】
ポリマーフィルターによって熱可塑性樹脂を濾過する際には、押出機とポリマーフィルターとの間にギアポンプを設置して、フィルター内の樹脂の圧力を安定化することが好ましい。
【００３８】
本発明の透明基材フィルムは、未延伸フィルムまたは延伸フィルムのいずれでもよいが、延伸フィルムの方が好ましい。延伸フィルムである場合は、１軸延伸フィルムまたは２軸延伸フィルムのいずれでもよく、長尺フィルムに対し斜め方向に延伸する斜め延伸フィルムであってもよい。２軸延伸フィルムである場合は、同時２軸延伸フィルムまたは逐次２軸延伸フィルムのいずれでもよい。２軸延伸した場合は、機械的強度が向上し、フィルム性能が向上する。
【００３９】
延伸温度は、上記フィルムのガラス転移温度近傍であることが好ましく、具体的には、好ましくは（ガラス転移温度−３０℃）〜（ガラス転移温度＋１００℃）、より好ましくは（ガラス転移温度−２０℃）〜（ガラス転移温度＋８０℃）の範囲内である。延伸温度が（ガラス転移温度−３０℃）未満であると、充分な延伸倍率が得られないおそれがある。逆に、延伸温度が（ガラス転移温度＋１００℃）超えると、樹脂組成物の流動（フロー）が起こり、安定な延伸が行えないおそれがある。
【００４０】
面積比で定義した延伸倍率は、好ましくは１．１〜２５倍、より好ましくは１．３〜１０倍である。延伸倍率が１．１倍未満であると、延伸に伴う靭性の向上につながらないおそれがある。延伸倍率が２５倍を超えると、延伸倍率を上げるだけの効果が認められないおそれがある。
【００４１】
延伸速度は、一方向で、好ましくは１０〜２０，０００％／ｍｉｎ、より好ましく１００〜１０，０００％／ｍｉｎである。延伸速度が１０％／ｍｉｎ未満であると、充分な延伸倍率を得るために時間がかかり、製造コストが高くなるおそれがある。延伸速度が２０，０００％／ｍｉｎを超えると、延伸フィルムの破断等が起こるおそれがある。
【００４２】
延伸したフィルムは、その光学的等方性や機械的特性を安定化させるために、延伸処理後に熱処理（アニーリング）等を行うことができる。熱処理の条件は、任意の適切な条件を採用することができる。
【００４３】
本発明における透明基材フィルムの表面には、必要に応じて、各種の機能性コーティング層が形成されていてもよい。機能性コーティング層は、例えば、帯電防止層、粘接着剤層、接着層、易接着層、防眩（ノングレア）層、光触媒層などの防汚層、反射防止層、ハードコート層、紫外線遮蔽層、熱線遮蔽層、電磁波遮蔽層、ガスバリヤー層などである。これら、機能性コーティング層は、透明基材フィルムの延伸前に形成しても良いし、延伸後に形成しても良く、入射光面側、出光面側のいずれに形成してもよい。必要に応じて、両面に同じ機能性コーティング層を形成してもよく、異なる機能性コーティング層を形成してもよい。また、機能性コーティング層を積層した多層構造を形成してもよい。
［アクリル樹脂（Ａ）］
本発明の透明基材フィルムはアクリル樹脂（Ａ）からなることが好ましい。アクリル樹脂（Ａ）は、構成単位に（メタ）アクリル酸エステル単位を有する熱可塑性アクリル系重合体を主成分とする樹脂であり、本発明の効果を損なわない限り特に限定されず、公知の熱可塑性アクリル系重合体を用いることが出来る。アクリル系重合体の（メタ）アクリル酸エステル単位の含有量は１０質量％以上が好ましく、更に好ましくは３０質量％以上、特に好ましくは５０質量％以上である。また、アクリル系重合体が主鎖に環構造を有する場合には、全構成単位に占める（メタ）アクリル酸エステル単位の割合と環構造の含有率との合計は３０質量％以上が好ましく、より好ましくは５０質量％以上、さらに好ましくは７０質量％以上、特に好ましくは９０％重量以上である。
【００４４】
（メタ）アクリル酸エステル単量体の好ましい具体例としては、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシルなどの（メタ）アクリル酸アルキルエステル；（メタ）アクリル酸ベンジル；（メタ）アクリル酸クロロメチル；（メタ）アクリル酸２−クロロエチル；（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニルオキシエチル；（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル；（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル；（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル；（メタ）アクリル酸２，３，４，５，６−ペンタヒドロキシヘキシルおよび（メタ）アクリル酸２，３，４，５−テトラヒドロキシペンチルなどが挙げられ、これらの（メタ）アクリル酸エステル単量体由来の構造単位のうち１種を単独で含んでいてもよいし、２種以上併存してもよい。中でも、熱安定性や光学特性に優れる点で（メタ）アクリル酸アルキルエステルが好ましく、メタクリル酸メチルが最も好ましい。
【００４５】
アクリル系重合体は主鎖に環構造を有していてもよい。この場合、アクリル樹脂（Ａ）のＴｇが高くなり、当該樹脂からなる透明基材フィルムの耐熱性が向上する。このように主鎖に環構造を有するアクリル系重合体を含むアクリル樹脂（Ａ）からなるフィルムは画像表示装置における光源などの発熱部近傍への配置が容易になるなど光学部材としての用途に好適である。
【００４６】
環構造の種類は特に限定されないが、例えば、ラクトン環構造、無水グルタル酸構造、グルタルイミド構造、Ｎ−置換マレイミド構造および無水マレイン酸構造から選ばれる少なくとも１種である。
【００４７】
以下の一般式（１）に無水グルタル酸構造およびグルタルイミド構造を示す。
【００４８】
【化１】
2013014125.tif 000003
【００４９】
上記一般式（１）におけるＲ１、Ｒ２は互いに独立して水素原子、またはメチル基であり、Ｘ１は酸素原子または窒素原子である。Ｘ１が酸素原子であるとき、Ｒ３は存在せず、Ｘ１が窒素原子のとき、Ｒ３は、水素原子、炭素数１から６の直鎖アルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基またはフェニル基である。
【００５０】
Ｘ１が酸素原子のとき一般式（１）により示される環構造は無水グルタル酸構造となる。無水グルタル酸構造は、例えば、（メタ）アクリル酸エステルと（メタ）アクリル酸との共重合体を分子内で脱アルコール環化縮合させて形成できる。
【００５１】
Ｘ１が窒素原子のとき、一般式（１）により示される環構造はグルタルイミド構造となる。グルタルイミド構造は、例えば、（メタ）アクリル酸エステル重合体をメチルアミンなどのイミド化剤によりイミド化して形成できる。
【００５２】
以下の一般式（２）に、無水マレイン酸構造およびＮ−置換マレイミド構造を示す。
【００５３】
【化２】
2013014125.tif 000004
【００５４】
上記一般式（２）におけるＲ４、Ｒ５は互いに独立して水素原子、またはメチル基であり、Ｘ２は酸素原子または窒素原子である。Ｘ２が酸素原子であるとき、Ｒ６は存在せず、Ｘ２が窒素原子のとき、Ｒ６は、水素原子、炭素数１から６の直鎖アルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基またはフェニル基である。
【００５５】
Ｘ２が酸素原子のとき一般式（２）により示される環構造は無水マレイン酸構造となる。無水マレイン酸構造は、例えば、無水マレイン酸と（メタ）アクリル酸エステルとを共重合体して形成できる。
【００５６】
Ｘ２が窒素原子のとき、一般式（２）により示される環構造はＮ−置換マレイミド構造となる。Ｎ−置換マレイミド構造は、例えば、フェニルマレイミドなどのＮ−置換マレイミドと（メタ）アクリル酸エステルとを重合体して形成できる。
【００５７】
なお、一般式（１）、（２）の説明において例示した環構造を形成する各方法では、各々の環構造を形成に用いる重合体が全て（メタ）アクリル酸エステル単位を構成単として有するため、当該方法により得た樹脂はアクリル樹脂（Ａ）となる。
【００５８】
アクリル系重合体が主鎖に有していてもよいラクトン環構造は特に限定されず、例えば、４から８員環であってもよいが、環構造の安定性に優れることから５員環または６員環であることが好ましく、６員環であることがより好ましい。６員環であるラクトン環構造は、例えば、特開２００４−１６８８８２号公報に開示されている構造であるが、前駆体の重合収率が高いこと、前駆体の環化縮合反応により、高いラクトン環含有率を有するアクリル系重合体が得られること、メタクリル酸メチル単位を構成単位として有する重合体を前駆体にできること、などの理由から以下の一般式（３）に示される構造が好ましい。
【００５９】
【化３】
2013014125.tif 000005
【００６０】
上記一般式（３）において、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９は、互いに独立して、水素原子または炭素数１から２０の範囲の有機残基である。当該有機残基は酸素原子を含んでいてもよい。
【００６１】
一般式（３）における有機残基は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基などの炭素数１から２０の範囲のアルキル基、エテニル基、プロペニル基などの炭素数１から２０の範囲の不飽和脂肪族炭化水素基、フェニル基、ナフチル基などの炭素数１から２０の範囲の芳香族炭化水素基であり、上記アルキル基、上記不飽和脂肪族炭化水素基、上記芳香族炭化水素基は、水素原子の一つ以上が、水酸基、カルボキシル基、エーテル基、およびエステル基から選ばれる少なくとも１種類の基により置換されていてもよい。
【００６２】
アクリル系重合体におけるラクトン環構造を除く上記環構造の含有率は特に限定されないが、例えば５〜９０％であり、好ましくは１０〜７０％であり、よりこの好ましくは１０〜６０％であり、さらに好ましくは１０〜５０％である。
【００６３】
アクリル系重合体が主鎖にラクトン環構造を有する場合、当該樹脂におけるラクトン環構造の含有率は特に限定はされないが、例えば５〜９０％であり、好ましくは１０〜８０％であり、より好ましくは１０〜７０％であり、さらに好ましくは２０〜６０％である。
【００６４】
アクリル系重合体における環構造の含有率が過渡に小さくなると、フィルムの耐熱性の低下や、耐溶剤性および表面硬度が不十分となることがある。一方、上記含有率が過渡に大きくなると、フィルムの成形性や機械的特性が低下する。
【００６５】
主鎖に環構造を有するアクリル系重合体は公知の方法により製造できる。環構造が無水グルタル酸構造あるいはグルタルイミド構造であるアクリル系熱可塑性樹脂は、例えば、ＷＯ２００７／２６６５９号公報あるいはＷＯ２００５／１０８４３８号公報に記載の方法により製造できる。環構造が無水マレイン酸構造あるいはＮ−置換マレイミド構造であるアクリル系熱可塑性樹脂は、例えば、特開昭５７−１５３００８号公報、特開２００７−３１５３７号公報に記載の方法により製造できる。環構造がラクトン環構造であるアクリル系熱可塑性樹脂は、例えば、特開２００６−９６９６０号公報、特開２００６−１７１４６４号公報あるいは特開２００７−６３５４１号公報に記載の方法により製造できる。
【００６６】
アクリル系重合体は、上述した（メタ）アクリル酸エステル単量体由来以外の構造単位を含んでも良く、（メタ）アクリル酸エステル単量体以外の単量体を含む単量体混合物を重合して得られる。（メタ）アクリル酸エステル単量体以外の単量体としては、例えば、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、α−ヒドロキシメチルスチレン、α−ヒドロキシエチルスチレン、クロロスチレン、アクリロニトリル、メチルビニルケトン、エチレン、プロピレン、４−メチル−１−ペンテン、酢酸ビニル、メタリルアルコール、アリルアルコール、２−ヒドロキシメチル−１−ブテンなどのアリルアルコール、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸などの（メタ）アクリル酸、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸エチルなどの２−（ヒドロキシアルキル）アクリル酸エステル、２−（ヒドロキシエチル）アクリル酸などの２−（ヒドロキシアルキル）アクリル酸、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾールなどが挙げられ、これらの単量体は１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００６７】
アクリル系重合体の重量平均分子量は、例えば１，０００〜５００，０００の範囲であり、好ましくは５，０００〜３００，０００の範囲であり、より好ましくは１０，０００〜２５０，０００の範囲であり、さらに好ましくは５０，０００〜２００，０００の範囲である。
【００６８】
アクリル系重合体のガラス転移温度は、例えば１００℃以上であり、好ましくは１１０℃以上であり、より好ましくは１２０℃以上であり、さらに好ましくは１３０℃以上である。ガラス転移温度の上限としては成形加工性が乏しくなることから２００℃以下が好ましい。
【００６９】
アクリル樹脂（Ａ）は耐熱性、物性、光学特性と損なわない範囲で紫外線吸収能を有してもよい。具体的には、アクリル樹脂（Ａ）を製造する時の単量体成分として紫外線吸収性単量体および／または紫外線安定性単量体を用いる方法や、紫外線吸収剤および／または紫外線安定剤を上記アクリル樹脂（Ａ）に配合する方法がある。またこれらは、アクリル樹脂（Ａ）を含む光学フィルムに支障がない限り、これらの方法を併用してもかまわない。また、上記紫外線吸収機能を持続させるためには、紫外線吸収性単量体と紫外線安定性単量体を併用することや、紫外線吸収剤と紫外線安定剤を併用する事が好ましい。また、紫外線吸収性単量体および／または紫外線安定性単量体と合わせて、紫外線吸収剤および／または紫外線安定剤を併用することも好ましい。
【００７０】
上記紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系化合物、サリシケート系化合物、ベンゾエート系化合物、トリアゾール系化合物およびトリアジン系化合物等が挙げられる。ベンゾフェノン系化合物としては、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、４−ｎ−オクチルオキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクチルオキシベンゾフェノン、ビス（５−ベンゾイル−４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）メタン、１，４−ビス（４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェノン）−ブタン等が挙げられる。サリシケート系化合物としては、ｐ−ｔ−ブチルフェニルサリシケート等が挙げられる。ベンゾエート系化合物としては、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンゾエート等が挙げられる。また、トリアゾール系化合物としては、２，２’−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］、２−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−ｐ−クレゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール、２−ベンゾトリアゾール−２−イル−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２−［５−クロロ（２Ｈ）−ベンゾトリアゾール−２−イル］−４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−メチル−６−（３，４，５，６−テトラヒドロフタルイミジルメチル）フェノール、メチル３−（３−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート／ポリエチレングリコール３００の反応生成物、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、２−（５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、３−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシ−Ｃ７−９側鎖及び直鎖アルキルエステルが挙げられる。さらに、トリアジン系化合物としては、２−モノ（ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン化合物や２，４−ビス（ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン化合物、２，４，６−トリス（ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン化合物が挙げられ、具体的には、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−エトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−（２−ヒドロキシ−４−プロポキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニ��−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシエトキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−６−（２，４−ジブトキシフェニル）−１，３−５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−エトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−プロポキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−エトキシエトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−ブトキシエトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−プロポキシエトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−メトキシカルボニルプロピルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−エトキシカルボニルエチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−（１−（２−エトキシヘキシルオキシ）−１−オキソプロパン−２−イルオキシ）フェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−３−メチル−４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−３−メチル−４−エトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−３−メチル−４−プロポキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−３−メチル−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−３−メチル−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−３−メチル−４−ヘキシルオキシフェニル）��１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−３−メチル−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−３−メチル−４−ドデシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−３−メチル−４−ベンジルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−３−メチル−４−エトキシエトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−３−メチル−４−ブトキシエトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−３−メチル−４−プロポキシエトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−３−メチル−４−メトキシカルボニルプロピルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−３−メチル−４−エトキシカルボニルエチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−３−メチル−４−（１−（２−エトキシヘキシルオキシ）−１−オキソプロパン−２−イルオキシ）フェニル）−１，３，５−トリアジン等が挙げられる。その中でも、非晶性の熱可塑性樹脂、特にアクリル系樹脂と相溶性が高く吸収特性が優れている点から、２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−［２−ヒドロキシ−４−（３−アルキルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）−５−α−クミルフェニル］−ｓ−トリアジン骨格（アルキルオキシ；オクチルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシなどの長鎖アルキルオキシ基）を有する紫外線吸収剤が挙げられる。また、２，４，６−トリス（ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン骨格を有する紫外線吸収剤が好ましく用いられ、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−長鎖アルキルオキシ基置換フェニル）−１，３，５−トリアジン骨格や２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−３−アルキル−４−長鎖アルキルオキシ基置換フェニル）−１，３，５−トリアジン骨格を有する紫外線吸収剤が特に好ましいトリアジン系紫外線吸収剤である。市販品としては、例えば、トリアジン系紫外線吸収剤として「チヌビン１５７７」「チヌビン４６０」「チヌビン４７７」（ＢＡＳＦジャパン製）、トリアゾール系紫外線吸収剤として「アデカスタブＬＡ−３１」（ＡＤＥＫＡ製）等が挙げられる。
【００７１】
これらは単独で、または２種類以上の組み合わせて使用することができる。また、紫外線吸収剤と合わせて、上記紫外線吸収性単量体を共重合する手法を併用することも好ましい。紫外線安定性単量体紫外線吸収剤の配合量は特に限定されないが、非晶性の熱可塑性樹脂を含むフィルム中に０．０１〜２５質量％であることが好ましく、さらに好ましくは０．０５〜１０質量％である。添加量が少なすぎると耐候性向上の寄与が低く、また多すぎると機械的強度の低下や黄変を引き起こす場合がある。
【００７２】
アクリル樹脂（Ａ）は、本発明の効果を損なわない範囲で、その他の樹脂を含んでいてもよい。その他の樹脂の含有割合は、好ましくは０〜５０質量％、より好ましくは０〜２５質量％、さらに好ましくは０〜１０質量％である。
【００７３】
その他の樹脂成分としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、ポリ（４−メチル−１−ペンテン）等のオレフィン系樹脂；塩化ビニル、塩素化ビニル樹脂等の含ハロゲン系樹脂；ポリメタクリル酸メチル等のアクリル系樹脂；ポリスチレン、スチレン−メタクリル酸メチル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンブロック共重合体等のスチレン系樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂；ポリ乳酸、ポリブチレンサクシネートなどの生分解性ポリエステル樹脂；セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートなどのセルロース系樹脂；ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン６１０等のポリアミド樹脂；ポリアセタール：ポリカーボネート；ポリフェニレンオキシド；ポリフェニレンスルフィド：ポリエーテルエーテルケトン；ポリエーテルニトリル；ポリサルホン；ポリエーテルサルホン：ポリオキシペンジレン；ポリアミドイミド；ポリブタジエン系ゴム、アクリル系ゴムを配合したＡＢＳ樹脂やＡＳＡ樹脂等のゴム質重合体；などが挙げられる。相溶性の観点からは、スチレン−アクリロニトリル共重合体が好ましい。また、ゴム質重合体は、表面にアクリル樹脂（Ａ）と相溶し得る組成のグラフト部を有するのが好ましく、ゴム質重合体の平均粒子径は、フィルムとした際の透明性向上の観点から、３００ｎｍ以下である事が好ましく、２００ｎｍ以下である事がより好ましい。
【００７４】
アクリル樹脂（Ａ）は、その他の添加剤を含んでいてもよい。アクリル樹脂（Ａ）中のその他の添加剤の含有割合は、好ましくは０〜５質量％、より好ましくは０〜２質量％、さらに好ましくは０〜０．５質量％である。その他の添加剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系、リン系、イオウ系等の酸化防止剤；耐光安定剤、耐候安定剤、熱安定剤等の安定剤；位相差上昇剤、位相差低減剤、位相差安定剤等の位相差調整剤；ガラス繊維、炭素繊維等の補強材；近赤外線吸収剤；トリス（ジブロモプロピル）ホスフェート、トリアリルホスフェート、酸化アンチモン等の難燃剤；アニオン系、カチオン系、ノニオン系の界面活性剤等の帯電防止剤；無機顔料、有機顔料、染料等の着色剤；有機フィラーや無機フィラー；樹脂改質剤；可塑剤；滑剤などが挙げられる。
【００７５】
上記酸化防止剤は、公知の酸化防止剤が使用できる。フェノール系酸化防止剤としては、例えば、ｎ−オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ｎ−オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アセテート、ｎ−オクタデシル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ｎ−ヘキシル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルベンゾエート、ｎ−ドデシル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルベンゾエート、ネオドデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ドデシル−β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、エチル−α−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）イソブチレート、オクタデシル−α−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）イソブチレート、オクタデシル−α−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２−（ｎ−オクチルチオ）エチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−（ｎ−オクチルチオ）エチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−（２−ヒドロキシエチルチオ）エチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ジエチルグリコールビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニル）プロピオネート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ステアルアミド−Ｎ，Ｎ−ビス−［エチレン−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ｎ−ブチルイミノ−Ｎ，Ｎ−ビス−［エチレン−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２−（２−ステアロイルオキシエチルチオ）エチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−（２−ステアロイルオキシエチルチオ）エチル−７−（３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ヘプタノエート、１，２−プロピレングリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、エチレングリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ネオペンチルグリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、エチレングリコールビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート）、グリセリン−１−ｎ−オクタデカノエート−２，３−ビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート）、ペンタエリスリトールテトラキス−［３−（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，１，１−トリメチロールエタントリス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー���］、ソルビトールヘキサ−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２−ヒドロキシエチル−７−（３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２−ステアロイルオキシエチル−７−（３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ヘプタノエート、１，６−ｎ−ヘキサンジオールビス−［（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ペンタエリトリトールテトラキス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）、３，９−ビス［１，１−ジメチル−２−［β−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ］エチル］２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］−ウンデカン、２，４−ジ−ｔ−アミル−６−［１−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニル）エチル］フェニルアクリレート及び２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレートが挙げられる。
【００７６】
チオエーテル系酸化防止剤としては、例えば、ペンタエリスリチルテトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）、ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネートが挙げられる。
【００７７】
リン系酸化防止剤としては、例えば、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスファイト、２−［［２，４，８，１０−テトラキス（１，１−ジメチルエチル）ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサフォスフェピン−６−イル］オキシ］−Ｎ，Ｎ−ビス［２−［［２，４，８，１０−テトラキス（１，１ジメチルエチル）ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサフォスフェピン−６−イル］オキシ］−エチル］エタナミン、ジフェニルトリデシルフォスファイト、トリフェニルフォスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリストールジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジフォスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）フォスファイトが挙げられる。
［微粒子層］
本発明の微粒子層は、透明基材フィルムの片面に有する限り特に限定されず、透明基材フィルム上に直接形成されてもよいし、上記機能性コーティング層を介して形成されてもよい。
【００７８】
本発明の微粒子層は、無機微粒子層、有機微粒子層、有機無機複合微粒子層のいずれでもよいが、無機コア粒子と、該無機コア粒子表面の少なくとも一部に結合した有機重合体とを有する有機無機複合微粒子（以下、複合微粒子ともいう）から成る有機無機複合微粒子層（以下、複合微粒子層ともいう）であることが好ましい。本明細書において「無機コア粒子と有機重合体との結合」とは、物理的な付着ではなく、有機重合体と無機コア粒子との間に化学結合が生成していることを意味する。
【００７９】
上記無機コア粒子は、例えば、金属単体、無機酸化物、無機炭酸塩、無機硫酸塩、無機リン酸塩などの任意の適切な無機物から構成される粒子である。無機物は、好ましくは無機酸化物である。本明細書において「無機酸化物」とは、金属元素が主に酸素原子との結合を介して３次元のネットワークを構成した種々の含酸素金属化合物をいう。無機酸化物を構成する金属元素としては、たとえば、元素周期律表ＩＩ〜ＶＩ族から選ばれる元素が好ましく、ＩＩＩ〜Ｖ族から選ばれる元素がさらに好ましい。その中でも、Ｓｉ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｒから選ばれる元素が特に好ましく、製造し易く、入手が容易なことから金属元素がＳｉであるシリカが最も好ましい。無機コア粒子は、１種の無機酸化物で構成されてもよく、２種以上の無機酸化物で構成されてもよい。なお、本明細書においては、便宜上、金属および半金属を総称して金属と称することがある。
【００８０】
無機コア粒子は、例えば、球状、針状、板状、鱗片状、破砕粒状などの任意の適切な形状を有する。無機コア粒子の平均粒子径は、好ましくは５〜１００ｎｍ、さらに好ましくは５〜７０ｎｍ、最も好ましくは５〜５０ｎｍである。無機コア粒子の平均粒子径が５ｎｍ未満であると、複合微粒子の表面エネルギーが高くなり、複合微粒子の凝集が起こりやすくなる。無機コア粒子の平均粒子径が１００ｎｍを超えると、得られる複合微粒子層の輝度向上効果が得られなくなるおそれがある。
【００８１】
無機コア粒子の粒子径の変動係数（粒子径分布）は、好ましくは５０％以下、さらに好ましくは４０％以下、最も好ましくは３０％以下である。変動係数が５０％を超えると（無機コア粒子の粒子径分布が大きすぎると）、得られる複合微粒子層表面の凹凸が激しくなり、本発明の輝度向上フィルムの平滑性が失われるおそれがある。
【００８２】
上記有機重合体は、上記無機コア粒子の表面の少なくとも一部に結合している。有機重合体が無機コア粒子の表面に結合していることにより、透明基材フィルム層との密着強度の向上や成膜性の高い複合微粒子層を得ることができる。本発明においては、有機重合体は、その一部が無機コア粒子に内包されていてもよい。この場合、無機コア粒子に適度な柔軟性と靱性を付与することができる。無機コア粒子内の有機重合体の有無は、例えば、複合微粒子を５００〜７００℃で加熱して有機重合体を熱分解した後の無機コア粒子の比表面積の測定値を、例えば、ＴＥＭ等で測定される無機コア粒子の直径より算出される無機コア粒子の比表面積の理論値と比較することにより、確認することができる。具体的には、有機重合体が無機コア粒子に内包されている場合には、有機重合体の熱分解により無機コア粒子内に多数の細孔が生じるので、熱分解後の無機コア粒子の比表面積が理論値よりもかなり大きい値となる。
【００８３】
有機重合体は、例えば、直鎖状、分枝状、架橋構造などの任意の適切な構造を有し得る。有機重合体の具体例としては、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル系重合体；ポリスチレン、スチレン−メタクリル酸メチル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンブロック共重合体等のスチレン系重合体；ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、ポリ（４−メチル−１−ペンテン）などのオレフィン系重合体；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル；ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル等のビニル系重合体；ポリ塩化ビニリデンおよびこれらの共重合体が挙げられる。これらをアミノ基、エポキシ基、水酸基、カルボキシル基等の官能基で一部変性した重合体を用いてもよい。これらの中でも、適切な塗膜形成能を有し、複合微粒子層の形成に好適であることから、アクリル系重合体が好ましい。上記アクリル系重合体を構成するアクリル系単量体としては、例えば、（メタ）アクリル酸等のアクリル系カルボン酸；（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ラウリルトリデシル等の（メタ）アクリル酸エステル；（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシブチル、カプロラクトン変性ヒドロキシ（メタ）アクリル酸エステル、フタル酸とプロピレングリコールから得られるエステルジオールの（メタ）アクリル酸モノエステル等の水酸基含有（メタ）アクリル酸エステル；（メタ）アクリル酸グリシジル等のエポキシ基含有（メタ）アクリル酸エステル；（メタ）アクリロニトリル、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチルアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、（メタ）アクリル酸２−スルホン酸エチルが挙げられる。アクリル系単量体は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００８４】
上記有機重合体の数平均分子量は、好ましくは３，０００以上、２００，０００以下であり、さらに好ましくは４，０００以上、５０，０００以下であり、特に好ましくは５，０００以上、３０，０００以下である。分子量が２００，０００を越えると、有機溶剤に溶解しない場合がある。分子量が３，０００より小さいと、複合微粒子の分散安定性が悪く、複合微粒子層の成膜性も悪くなる。
【００８５】
本発明において、上記有機重合体は、フッ素原子を有する単量体を含む単量体成分を重合してなる重合体であることが好ましい。すなわち本発明における複合微粒子の好ましい形態としては、フッ素系単量体と無機コア粒子とを複合化させてなる形態であり、より屈折率を低くすることが可能となり、本発明の輝度向上フィルムにおける輝度向上効果が大きくなる。また、より好ましくは、フッ素原子を有する単量体を１０〜９５質量％含む単量体成分を重合してなる重合体であり、さらに好ましくは、２０〜８５質量％含む単量体成分を重合してなる重合体である。１０質量％未満では、低屈折率化および輝度向上に大きく寄与しないおそれがあり、９５質量％を超えると、粒子が凝集しやすい傾向にあり好ましくない。フッ素原子を有する単量体としては、パーフルオロアルキル基と重合性２重結合基とを有する単量体が好ましく、パーフルオロアルキル基としては、パーフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロデシル基、パーフルオロドデシル基、パーフルオロテトラデシル基が好ましい。このような単量体は、１種又は２種以上を用いることができる。
【００８６】
上記フッ素原子を有する単量体（フッ素モノマー）の市販品としては、ライトエステルＦＭ−１０８、ライトエステルＭ−３Ｆ、（いずれも商品名、共栄社化学社製）；ビスコート３Ｆ、ビスコート３ＦＭ、ビスコート４Ｆ、ビスコート８Ｆ、ビスコート８ＦＭ（いずれも商品名、大阪有機化学工業社製）；ＣＨＥＭＩＮＯＸ  ＦＡＡＣ、ＣＨＥＭＩＮＯＸ  ＦＡＭＡＣ、ＣＨＥＭＩＮＯＸ  ＦＡＡＣ−Ｍ、ＣＨＥＭＩＮＯＸＦＡＭＡＣ−Ｍ、ＣＨＥＭＩＮＯＸ  ＰＦＡＥ、ＣＨＥＭＩＮＯＸ  ＰＦＯＥ（いずれも商品名、日本メクトロン社製）等が挙げられる。
【００８７】
上記複合微粒子の製造方法としては、ポリシロキサン基を側鎖に有する含珪素重合体を合成し、次いで、含珪素重合体を単独で又は加水分解可能な金属化合物と共に加水分解・縮合する方法が好適である。
【００８８】
上記含珪素重合体の主鎖は、炭素を主体とするものであり、主鎖結合にあずかる炭素原子が主鎖の５０〜１００モル％を占め、残部がＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、Ｐ等の元素からなるものが入手の容易さ等の理由で好ましい。含珪素重合体の主鎖の構造および具体例については、上記有機重合体に関して説明したとおりである。上記有機重合体は含珪素重合体の主鎖に由来する。
【００８９】
本明細書において「ポリシロキサン基」とは、本発明の効果が得られる無機コア粒子を形成し得る数のシロキサン結合を含む基をいう。したがって、「ポリシロキサン基」は、２個以上のＳｉ原子がポリシロキサン結合（Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ−Ｏ結合）により直鎖状または分枝状に連結してなる基のみならず、多官能シロキサン結合を構成する１個のＳｉ原子を含む基（例えば、（連結鎖）−Ｒ−Ｓｉ−（ＯＲ）３：Ｒは任意の適切な置換基）をも包含する。好ましくは、ポリシロキサン基は、ポリシロキサン結合を含み、かつ、少なくとも１個のＳｉ−ＯＲ１０基を含有する構造を有する。ここで、Ｒ１０は、水素原子、置換または非置換のアルキル基、ならびに、置換または非置換のアシル基から選ばれる少なくとも一種の基であり、Ｒ１０が１分子中に複数ある場合、Ｒ１０は同一であってもよく異なっていてもよい。Ｒ１０としてのアルキル基またはアシル基の炭素数は、目的に応じて適切な数が採用され得る。当該炭素数は、Ｒ１０Ｏ基の加水分解速度が速いことから、好ましくは１〜５である。炭素数１〜５のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基が挙げられる。炭素数１〜５のアシル基の具体例としては、アセチル基、プロピオニル基が挙げられる。アルキル基またはアシル基に対する置換基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基；アセチル基、プロピオニル基等のアシル基；塩素、臭素等のハロゲンが挙げられる。Ｒ１０としては、Ｒ１０Ｏ基の加水分解・縮合速度がさらに速くなることから、水素原子、メチル基、エチル基が好ましく、メチル基が最も好ましい。
【００９０】
上記ポリシロキサン基に含まれるＳｉ原子の個数は、目的に応じて任意の適切な個数が採用され得る。Ｓｉ原子の個数は、ポリシロキサン基１個当たりの平均で、４個以上が好ましく、１１個以上がさらに好ましい。上記Ｓｉ−ＯＲ１０基を数多く含有させることが可能となるからである。Ｓｉ−ＯＲ１０基中のＲ１０Ｏ基は、含珪素重合体１分子当たり平均５個以上あるのが好ましく、２０個以上あるのがさらに好ましい。Ｒ１０Ｏ基は加水分解および／または縮合可能な官能基であるので、Ｒ１０Ｏ基の個数が多いほど加水分解・縮合する反応点が増加し、有機重合体と無機コア粒子の結合が強固となる。
【００９１】
上記ポリシロキサン基の具体例としては、ポリメチルメトキシシロキサン基、ポリエチルメトキシシロキサン基、ポリメチルエトキシシロキサン基、ポリエチルエトキシシロキサン基、ポリフェニルメトキシシロキサン基、ポリフェニルエトキシシロキサン基が挙げられる。
【００９２】
上記ポリシロキサン基中のＳｉ原子は、有機鎖との結合またはポリシロキサン結合（Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合）にあずかるほかはすべてＲ１０Ｏ基とのみ結合していることが好ましい。Ｓｉ原子のイオン性がより高まり、その結果、Ｒ１０Ｏ基の加水分解・縮合速度がより速くなるとともに、含珪素重合体中の反応点が増加し、より強固な骨格を有する無機コア粒子が得られるからである。このようなポリシロキサン基の具体例としては、ポリジメトキシシロキサン基、ポリジエトキシシロキサン基、ポリジｉｓｏ−プロポキシシロキサン基、ポリｎ−ブトキシシロキサン基が挙げられる。
【００９３】
上記ポリシロキサン基中のＳｉ原子は、有機鎖と直接結合してもよく（例えば、Ｓｉ−Ｃ結合を形成してもよく）、任意の適切な基または原子を介して結合してもよい（例えば、Ｓｉ−Ｏ−Ｃ結合を形成してもよい）。当該結合部位が所望でない反応（例えば、加水分解、交換反応）を受けにくくなることから、Ｓｉ原子は、有機鎖と直接結合していることが好ましい。
【００９４】
含珪素重合体における上記ポリシロキサン基の含有量は、好ましくは０．５〜１０モル％、さらに好ましくは０．５〜５モル％である。このような範囲であれば、所望の強度、形状、サイズ等を有する無機コア粒子が得られる。
【００９５】
上記含珪素重合体の数平均分子量は、好ましくは３，０００以上、２００，０００以下であり、さらに好ましくは４，０００以上、５０，０００以下であり、特に好ましくは５，０００以上、３０，０００以下である。分子量が２００，０００を越えると、有機溶剤に溶解しない場合がある。分子量が３，０００より小さいと、複合微粒子の分散安定性が悪く、複合微粒子層の成膜性も悪くなる。
【００９６】
含珪素重合体は、任意の適切な方法により製造され得る。具体例としては、重合性ポリシロキサンの存在下、ラジカル重合性モノマーをラジカル（共）重合する方法が挙げられる。ここで、重合性ポリシロキサンは、シラン化合物と重合性官能基含有シランカップリング剤とを部分的に加水分解・縮合して得られる。
【００９７】
上記シラン化合物としては、所望の無機コア粒子が得られる限りにおいて任意の適切なシラン化合物が採用され得る。シラン化合物の具体例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、エトキシトリメトキシシラン、トリエトキシメトキシシラン、ジエトキシジメトキシシラン、テトラｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラブトキシシラン、トリメトキシヒドロキシシラン、トリエトキシヒドロキシシラン、メトキシトリアセトキシシラン、ジメトキシジアセトキシシラン、トリメトキシアセトキシシラン、テトラアセトキシシランが挙げられる。テトラメトキシシランが特に好ましい。シラン化合物は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００９８】
上記重合性官能基含有シランカップリング剤の具体例としては、アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリエトキシシランが挙げられる。重合性官能基含有シランカップリング剤は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００９９】
上記シラン化合物と重合性官能基含有シランカップリング剤との加水分解・縮合反応は、任意の適切な条件下で行われ得る。代表的には、加水分解・縮合反応は溶液中で行われる。ここで、溶液とは、シラン化合物および重合性官能基含有シランカップリング剤を水および／または有機溶媒に溶解した液である。有機溶媒の具体例としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類；テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチルエーテル等のエーテル類；メタノール、エタノール、ｉｓｏ−プロピルアルコール、ｎ−ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール類；塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類が挙げられる。有機溶媒は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１００】
上記加水分解・縮合反応は、無触媒で行ってもよく、触媒を用いて行ってもよい。好ましくは、触媒が用いられる。触媒としては、酸性触媒および塩基性触媒が挙げられる。酸性触媒の具体例としては、塩酸、硫酸、硝酸、燐酸等の無機酸類；酢酸、プロピオン酸、シュウ酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の有機酸類；酸性イオン交換樹脂が挙げられる。塩基性触媒の具体例としては、アンモニア；トリエチルアミン、トリプロピルアミン等の有機アミン化合物；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属化合物；塩基性イオン交換樹脂等が挙げられる。部分的な加水分解・縮合反応の制御が容易なことから、酸性触媒が好ましい。触媒は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１０１】
上記加水分解・縮合反応の反応温度は好ましくは６０〜１００℃であり、総反応時間は好ましくは３〜６時間である。反応温度は、一定に制御してもよく、段階的に変化させてもよい。以上のようにして、重合性ポリシロキサンが得られる。
【０１０２】
次に、上記重合性ポリシロキサンの存在下、ラジカル重合性モノマーをラジカル（共）重合して、含珪素重合体が得られる。ラジカル重合性単量体としては、例えば、アクリル系単量体、スチレン系単量体、オレフィン系単量体、ビニル系単量体、ポリエステルを形成する単量体（例えば、ジカルボン酸とジアミン）が挙げられる。この中でも、適切な塗膜形成能を有する複合微粒子が得られることから、アクリル系単量体が好ましい。アクリル系単量体の具体例としては、上記有機重合体に関して説明したとおりである。また、上記含珪素重合体は、フッ素原子を有する単量体を含む単量体成分を重合してなる重合体であることが好ましい。
【０１０３】
アクリル系単量体などのラジカル重合性単量体の重合条件としては、任意の適切な条件が採用され得る。このようにして、ポリシロキサン基を側鎖に有する含珪素重合体が得られる。
【０１０４】
最後に、上記含珪素重合体と、加水分解により金属酸化物を生成し得る金属化合物とを反応させて、複合微粒子を得る。金属化合物が加水分解により金属酸化物となり、さらに、重合体側鎖のポリシロキサン基と縮合することにより、３次元的にネットワークを形成することができる。その結果、強固な骨格を有する無機コア粒子が形成され、複合微粒子が得られる。このような金属化合物の具体例としては、金属ハロゲン化物、硝酸金属塩、硫酸金属塩、金属アンモニウム塩、有機金属化合物、アルコキシ金属化合物またはこれらの誘導体が挙げられる。金属化合物は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１０５】
上記金属化合物は、下記の一般式（４）で表される化合物またはその誘導体であることが好ましい。
【０１０６】
（Ｒ１１Ｏ）ｍＭＲ１２３ｎ−ｍ  ・・・（４）
一般式（４）において、Ｍは、周期律表のＩＩＩ族、ＩＶ族またはＶ族の金属元素であり、好ましくは、Ｓｉ、Ａｌ、ＴｉおよびＺｒから選ばれる少なくとも１つの金属元素である。Ｒ１１は、それぞれ独立して、水素原子、あるいは、置換または非置換のアルキル基またはアシル基である。アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基等が挙げられる。アシル基の具体例としては、アセチル基、プロピオニル基等が挙げられる。Ｒ１１Ｏ基の加水分解・縮合速度が速くなることから、Ｒ１１は、特に好ましくは水素原子、メチル基、エチル基であり、最も好ましくはメチル基である。Ｒ１２は、それぞれ独立して、置換または非置換のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基またはアラルキル基である。アルキル基は上記と同様である。シクロアルキル基の具体例としてはシクロヘキシル基が挙げられる。アリール基の具体例としては、フェニル基、トリル基、キシリル基が挙げられる。アラルキル基の具体例としては、ベンジル基が挙げられる。上記アルキル基、シクロアルキル基、アリール基およびアラルキル基に対する置換基としては、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、アミノ基、ニトロ基、エポキシ基、ハロゲンが挙げられる。ｎは金属元素Ｍの価数、ｍは１〜ｎの整数である。Ｒ１１および／またはＲ１２が１分子中に複数ある場合、Ｒ１１および／またはＲ１２は、それぞれ、同一であってもよく異なっていてもよい。
【０１０７】
上記金属化合物の具体例としては、メチルトリアセトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、トリメチルアセトキシシラン、テトラアセトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラｉｓｏ−プロキシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメトキシジメチルシラン、ジメトキシメチルフェニルシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメトキシジエトキシシラン、アルミニウムトリメトキシド、アルミニウムトリエトキシド、アルミニウムトリｉｓｏ−プロポキシド、アルミニウムトリブトキシド、ジメチルアルミニウムメトキシド、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラｉｓｏ−プロポキシチタン、テトラブトキシチタン、テトラ（２−エチルヘキシロキシ）チタン、ジエキトシジブトキシチタン、ｉｓｏ−プロキシチタントリオクタレート、ジｉｓｏ−プロポキシチタンジアクリレート、トリブトキシチタンステアレート、ジルコニウムアセテート、テトラメトキシジルコニウム、テトラエトキシジルコニウム、テトラｉｓｏ−プロポキシジルコニウム、テトラブトキシジルコニウムが挙げられる。一般式（４）で示される金属化合物の誘導体の具体例としては、ジｉｓｏ−プロポキシチタンジアセチルアセトネート、オキシチタンジアセチルアセトネート、ジブトキシチタンビストリエタノールアミネート、ジヒドロキシチタンジラクチート、ジルコニウムアセチルアセトネート、アセチルアセトンジルコニウムブトキシド、トリエタノールアミンジルコニウムブトキシド、アルミニウムアセチルアセトネートが挙げられる。
【０１０８】
上記金属化合物は、特に好ましくは、一般式（４）においてＭがＳｉであるシラン化合物およびその誘導体である。は、入手が容易で、かつ、ハロゲン等を含まないので製造装置および最終製品の諸物性に悪影響を及ぼさないことから、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシランが最も好ましい。
【０１０９】
上記含珪素重合体と上記金属化合物との反応条件としては、任意の適切な条件が採用され得る。代表的には、当該反応は、有機溶媒および／または水の存在下で行われる。したがって、複合微粒子は、代表的には分散体の形態で得られる。溶媒の具体例としては、上記で列挙したとおりである。
【０１１０】
上記のようにして得られる複合微粒子における無機コア粒子／有機重合体の比率は、好ましくは９０／１０〜４０／６０、さらに好ましくは８０／２０〜５０／５０である。無機コア粒子の比率が高すぎる場合には、透明基材フィルム層との密着強度や複合微粒子の成膜性が不十分となる場合がある。有機重合体の比率が高すぎる場合には、得られる複合微粒子層の屈折率が高くなり、輝度向上効果が不十分となる場合がある。
【０１１１】
本発明の複合微粒子層は、上記複合微粒子と、溶媒と、必要に応じて、バインダー樹脂とを含むコーティング組成物から形成されることが好ましい。
【０１１２】
上記溶媒としては、複合微粒子を分散可能である限りにおいて任意の適切な溶媒が採用され得る。溶媒の具体例としては、水、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類；テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチルエーテル等のエーテル類；メタノール、エタノール、ｉｓｏ−プロピルアルコール、ｎ−ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール類；塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類が挙げられる。溶媒は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１１３】
本発明における複合微粒子層のコーティング組成物は、目的に応じて任意の適切なバインダー樹脂をさらに含有し得る。バインダー樹脂の具体例としては、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル系重合体；ポリスチレン、スチレン−メタクリル酸メチル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンブロック共重合体等のスチレン系重合体；ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、ポリ（４−メチル−１−ペンテン）などのオレフィン系重合体；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル；ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル等のビニル系重合体；ポリ塩化ビニリデン、およびこれらの共重合体が挙げられる。これらをアミノ基、エポキシ基、水酸基、カルボキシル基等の官能基で一部変性した重合体を用いてもよい。これらの中でも、複合微粒子の分散性が良好であり、透明基材フィルムと複合微粒子層との密着強度も高くなることから、アクリル系重合体が好ましい。上記アクリル系重合体を構成するアクリル系単量体としては、例えば、（メタ）アクリル酸等のアクリル系カルボン酸；（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ラウリルトリデシル等の（メタ）アクリル酸エステル；（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシブチル、カプロラクトン変性ヒドロキシ（メタ）アクリル酸エステル、フタル酸とプロピレングリコールから得られるエステルジオールの（メタ）アクリル酸モノエステル等の水酸基含有（メタ）アクリル酸エステル；（メタ）アクリル酸グリシジル等のエポキシ基含有（メタ）アクリル酸エステル；（メタ）アクリロニトリル、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチルアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、（メタ）アクリル酸２−スルホン酸エチルが挙げられる。アクリル系単量体は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１１４】
本発明における複合微粒子層のコーティング組成物は、該コーティング組成物により形成される皮膜やフィルム等の耐溶剤性、耐スリ傷性、耐候性、耐薬品性等の皮膜物性が向上することから、複合微粒子および／またはバインダー樹脂中に導入した官能基（Ｘ）と反応することができる官能基（Ｙ）を１分子中に２個以上有する架橋剤を含有し得る。上記官能基（Ｘ）としては、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基、メルカプト基、オキサゾリン基、アルデヒド基、加水分解性シリル基、（メタ）アクリロイル基、ビニル基が好適であり、これらの中でも、水酸基、（メタ）アクリロイル基、ビニル基が好ましい。官能基（Ｘ）と反応する官能基（Ｙ）としては、イソシアネート基、エポキシ基、水酸基、メルカプト基、アミノ基、不飽和基、カルボキシル基、加水分解性シリル基、（メタ）アクリロイル基、ビニル基が好適である。例えば、複合微粒子および／またはバインダー樹脂が水酸基を有する場合、多官能イソシアネート化合物、メラミン化合物、アミノプラスト樹脂が好適である。（メタ）アクリロイル基、ビニル基を有する場合は、多官能アクリル系樹脂等が挙げられる。多官能アクリル系樹脂としては、ポリオールアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート等の樹脂を挙げることができる。
【０１１５】
本発明における複合微粒子層のコーティング組成物は、目的に応じて任意の適切な添加剤をさらに含有し得る。添加剤の具体例としては、レベリング剤、顔料、顔料分散剤、紫外線吸収剤、抗酸化剤、粘性改質剤、耐光安定剤、金属不活性化剤、過酸化物分解剤、充填剤、補強剤、可塑剤、潤滑剤、防食剤、防錆剤、乳化剤、鋳型脱型剤、蛍光性増白剤、有機防炎剤、無機防炎剤、滴下防止剤、溶融流改質剤、静電防止剤、すべり付与剤、密着性付与剤、防汚剤、界面活性剤、消泡剤、重合禁止剤、光増感剤、表面改良剤、シランカップリング剤が挙げられる。
【０１１６】
本発明における複合微粒子層のコーティング組成物は、任意の適切な有機または無機微粒子をさらに含有してもよい。代表的には、このような有機または無機微粒子は、得られる複合微粒子層に目的に応じた機能（例えば、屈折率調整、導電性、防眩性）を付与するために用いられる。複合微粒子層の高屈折率化および導電性付与に有用な微粒子の具体例としては、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化スズ、スズドープ酸化インジウム、アンチモンドープ酸化スズ、インジウムドープ酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化アンチモンが挙げられる。複合微粒子層の低屈折率化に有用な微粒子の具体例としては、フッ化マグネシウム、シリカ、中空シリカが挙げられる。防眩性付与に有用な微粒子の具体例としては、上記の微粒子に加えて、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、タルク、カオリンなどの無機粒子；シリコン樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアミン樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂およびこれらの共重合樹脂などの有機微粒子が挙げられる。これらの微粒子は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１１７】
本発明の複合微粒子層は、低屈折率層として機能することが好ましい。複合微粒子層の波長５５０ｎｍでの屈折率は、好ましくは１．１０〜１．４０であり、より好ましくは１．１５〜１．３５であり、さらに好ましくは１．１５〜１．２５である。本発明の複合微粒子層は、複合微粒子中の、および／または、複合微粒子を含むコーティング組成物から形成される複合微粒子層中の空隙により、このような屈折率が発現する。
【０１１８】
本発明の複合微粒子層を形成するコーティング組成物の塗布方法としては、任意の適切な塗布方法が採用され得る。具体例としては、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、スライドコート法、バーコート法、ロールコート法、グラビアコート法、メニスカスコート法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ビードコート法が挙げられる。
【０１１９】
上記乾燥および硬化方法としては、任意の適切な方法および条件が採用され得る。代表的には、コーティング組成物塗布後、０〜２００℃で溶剤を蒸発させて乾燥し、熱および／または放射線で硬化処理を行う。放射線による場合には、紫外線または電子線を用いることが好ましい。
［輝度向上フィルム］
本発明の輝度向上フィルムは、透明基材フィルムの少なくとも片面に、微粒子層を有する輝度向上フィルムである。透明基材フィルム単独よりも、少なくとも片面に微粒子層を設けることにより、光の取り出し効率が向上するため、当該フィルムを偏光子保護フィルムや位相差フィルム、光学フィルターフィルムとして用いることにより、画像表示装置の輝度を向上することができる。
【０１２０】
本発明の輝度向上フィルムは、画像表示装置に透明基材フィルム単独で用いた場合の輝度を１００％とした場合、１０１％以上が好ましく、１０２％以上がよりに好ましい。輝度の上限は制限されないが、通常１１０％である。
【０１２１】
本発明の輝度向上フィルムは、微粒子層が、無機コア粒子と、該無機コア粒子表面の少なくとも一部に結合した有機重合体とを有する複合微粒子層であることが好ましい。複合微粒子層とすることにより、微粒子層の透明基材フィルム層との密着強度の向上や硬度の上昇、低屈折率化を実現することができる。
【０１２２】
本発明の輝度向上フィルムにおける、微粒子層の厚みは特に制限されないが、１０ｎｍ〜１０００ｎｍであり、２０〜４００ｎｍが好ましく、３０〜２００ｎｍがより好ましい。上記範囲を外れると、輝度向上効果が十分に発揮されないおそれがある。
【０１２３】
本発明の輝度向上フィルムは、ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１に準拠して測定した全光線透過率が、８５％以上が好ましく、９０％以上がより好ましく、９２％以上がさらに好ましく、９４％以上が特に好ましい。
【０１２４】
本発明の輝度向上フィルムは、微粒子層を、透明基材フィルム層に対して、画像表示装置の光源側または発光側（以下、入射光面側ともいう）に有することが好ましい。入射光面側に微粒子層を有することにより、透明基材フィルム表面での光の反射を抑制するため、透明基材フィルム単独よりも光線透過率を高くすることができる。
【０１２５】
本発明の輝度向上フィルムは、両面に上記複合微粒子層を有していてもよい。
【０１２６】
本発明の偏光板は、上記輝度向上フィルムを偏光子保護フィルムとして含む。本発明の偏光板は、上記輝度向上フィルムの微粒子層を入射光面側に有していることが好ましく、偏光子の両面に本発明の輝度向上フィルムを積層してもよい。上記輝度向上フィルム以外は、公知の構成が可能で有り、公知の製法を用いて製造が可能である。本発明の偏光板の好ましい実施形態としては、例えば、ポリビニルアルコ−ル系脂フィルムを二色性物質（ヨウ素や二色性染料など）で染色して一軸延伸した偏光子の片面あるいは両面に、接着剤層あるいはアンカ−層を介して、上記輝度向上フィルムを接着してなる形態である。
【０１２７】
本発明の偏光板に用いる偏光子としては、特定の振動方向をもつ光のみを透過する機能を有する偏光子であれば如何なるものでもよく、例えばポリビニルアルコ−ル系フィルム等を延伸し、ヨウ素や二色性染料などで染色したポリビニルアルコ−ル系偏光子；ポリビニルアルコ−ルの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等のポリエン系偏光子；多層積層体あるいはコレステリック液晶を用いた反射型偏光子；薄膜結晶フィルム系偏光子等が挙げられ、これらのなかでもポリビニルアルコ−ル系脂フィルムを二色性物質で染色して一軸延伸した偏光子が好適に用いられる。これら偏光子の厚さは特に制限されず、一般的に、５〜１００μｍ程度である。
【０１２８】
本発明の偏光板においては、本発明の輝度向上フィルムが偏光子に接着剤層を介して接着されてなることが好ましい。好ましい接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコ−ル系樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂の接着剤、紫外線や電子線などの活性エネルギ−線で硬化する接着剤やアクリル系、シリコン系、ゴム系等の粘着剤が挙げられる。尚、偏光子の偏光機能が低下しない条件で加熱圧着してもよいことはいうまでもなく、その場合は、ゆるやかな加熱圧着条件で接着することができる。
【０１２９】
接着剤がポリビニルアルコ−ル系樹脂の場合、ポリビニルアルコ−ル系樹脂は、特に限定されないが、例えば、ポリ酢酸ビニルをケン化して得られたポリビニルアルコ−ル；その誘導体；更に酢酸ビニルと共重合性を有する単量体との共重合体のケン化物；ポリビニルアルコ−ルをアセタ−ル化、ウレタン化、エ−テル化、グラフト化、リン酸エステル化等した変性ポリビニルアルコ−ル；などが挙げられる。上記単量体としては、（無水）マレイン酸、フマ−ル酸、クロトン酸、イタコン酸、（メタ）アクリル酸等の不飽和カルボン酸及びそのエステル類；エチレン、プロピレン等のα−オレフィン、（メタ）アリルスルホン酸（ソ−ダ）、スルホン酸ソ−ダ（モノアルキルマレ−ト）、ジスルホン酸ソ−ダアルキルマレ−ト、Ｎ−メチロ−ルアクリルアミド、アクリルアミドアルキルスルホン酸アルカリ塩、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルピロリドン誘導体等が挙げられる。これらポリビニルアルコ−ル系樹脂は１種のみ用いても良いし２種以上を併用しても良い。
【０１３０】
上記ポリビニルアルコ−ル系樹脂は、接着性の点からは、平均重合度が好ましくは１００〜３０００、より好ましくは５００〜３０００であり、平均ケン化度が好ましくは８５〜１００モル％、より好ましくは９０〜１００モル％である。
【０１３１】
上記ポリビニルアルコ−ル系樹脂としては、アセトアセチル基を有するポリビニルアルコ−ル系樹脂を用いることができる。アセトアセチル基を有するポリビニルアルコ−ル系樹脂は、反応性の高い官能基を有するポリビニルアルコ−ル系接着剤であり、偏光板の耐久性が向上する点で好ましい。
【０１３２】
アセトアセチル基を含有するポリビニルアルコ−ル系樹脂は、ポリビニルアルコ−ル系樹脂とジケテンとを公知の方法で反応して得られる。例えば、ポリビニルアルコ−ル系樹脂を酢酸等の溶媒中に分散させておき、これにジケテンを添加する方法、ポリビニルアルコ−ル系樹脂をジメチルホルムアミドまたはジオキサン等の溶媒にあらかじめ溶解しておき、これにジケテンを添加する方法等が挙げられる。また、ポリビニルアルコ−ルにジケテンガスまたは液状ジケテンを直接接触させる方法が挙げられる。
【０１３３】
アセトアセチル基を有するポリビニルアルコ−ル系樹脂のアセトアセチル基変性度は、０．１モル％以上であれば特に制限はない。０．１モル％未満では接着剤層の耐水性が不十分であり不適当である。アセトアセチル基変性度は、好ましくは０．１〜４０モル％、さらに好ましくは１〜２０モル％である。アセトアセチル基変性度が４０モル％を超えると架橋剤との反応点が少なくなり、耐水性の向上効果が小さい。アセトアセチル基変性度はＮＭＲにより測定した値である。
【０１３４】
上記架橋剤としては、ポリビニルアルコ−ル系接着剤に用いられているものを特に制限なく使用できる。架橋剤は、ポリビニルアルコ−ル系樹脂と反応性を有する官能基を少なくとも２つ有する化合物を使用できる。例えば、エチレンジアミン、トリエチレンアミン、ヘキサメチレンジアミン等のアルキレン基とアミノ基を２個有するアルキレンジアミン類（なかでもヘキサメチレンジアミンが好ましい）；トリレンジイソシアネ−ト、水素化トリレンジイソシアネ−ト、トリメチレンプロパントリレンジイソシアネ−トアダクト、トリフェニルメタントリイソシアネ−ト、メチレンビス（４−フェニルメタントリイソシアネ−ト、イソホロンジイソシアネ−トおよびこれらのケトオキシムブロック物またはフェノ−ルブロック物等のイソシアネ−ト類；エチレングリコ−ルジグリシジルエ−テル、ポリエチレングリコ−ルジグリシジルエ−テル、グリセリンジまたはトリグリシジルエ−テル、１，６−ヘキサンジオ−ルジグリシジルエ−テル、トリメチロ−ルプロパントリグリシジルエ−テル、ジグリシジルアニリン、ジグリシジルアミン等のエポキシ類；ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド等のモノアルデヒド類；グリオキザ−ル、マロンジアルデヒド、スクシンジアルデヒド、グルタルジアルデヒド、マレインジアルデヒド、フタルジアルデヒド等のジアルデヒド類；メチロ−ル尿素、メチロ−ルメラミン、アルキル化メチロ−ル尿素、アルキル化メチロ−ル化メラミン、アセトグアナミン、ベンゾグアナミンとホルムアルデヒドとの縮合物等のアミノ−ホルムアルデヒド樹脂；更にナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、アルミニウム、鉄、ニッケル等の二価金属、又は三価金属の塩及びその酸化物；などが挙げられる。架橋剤としては、メラミン系架橋剤が好ましく、特にメチロ−ルメラミンが好適である。
【０１３５】
記架橋剤の配合量は、ポリビニルアルコ−ル系樹脂１００重量部に対して、好ましくは０．１〜３５重量部、より好ましくは１０〜２５重量部である。一方、耐久性をより向上させるには、ポリビニルアルコ−ル系樹脂１００重量部に対して、架橋剤を３０重量部以上４６重量部以下の範囲で配合することができる。特に、アセトアセチル基を含有するポリビニルアルコ−ル系樹脂を用いる場合には、架橋剤の使用量を３０重量部以上用いるのが好ましい。架橋剤を３０重量部以上４６重量部以下の範囲で配合することにより、耐水性が向上する。
【０１３６】
なお、上記ポリビニルアルコ−ル系接着剤には、さらに金属化合物コロイド、シランカップリング剤、チタンカップリング剤などのカップリング剤、各種粘着付与剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、耐熱安定剤、耐加水分解安定剤などの安定剤等を配合することもできる。
【０１３７】
上記の接着剤を用いて接着する方法は、特に限定されず、例えば、キスコ−ト、スピンコ−ト、ロ−ルコ−ト、ディップコ−ト、カ−テンコ−ト、バ−コ−ト、ドクタ−ブレ−ドコ−ト、ナイフコ−ト、エアナイフコ−ト、ダイコ−ト、グラビアコ−ト、マイクログラビアコ−ト、オフセットグラビアコ−ト、リップコ−ト、スプレ−コ−ト、コンマコ−トなどの各種の方法を用い、偏光子及び／又は接合されるフィルムの接着面に接着剤を塗布し、両者を重ね合わせる方法などが可能である。接着剤を塗布した後、偏光子とそれに接合されるフィルムをニップロ−ルなどにより挟んで、貼り合わせる。貼り合せる場合は、上記輝度向上フィルムの光軸と偏光子の吸収軸を直交または平行に配置することが好ましい。
【０１３８】
本発明の輝度向上フィルムは、偏光子と接する面に接着性向上のために易接着処理を施すことができる。易接着処理としては、プラズマ処理、コロナ処理、紫外線照射処理、フレ−ム（火炎）処理、ケン化処理やアンカ−層を形成する方法が挙げられ、これらを併用することもできる。これらの中でも、コロナ処理、アンカ−層を形成する方法、およびこれらを併用する方法が好ましい。アンカ−層としては、特に限定されず、公知のアンカ−層が使用され、アクリル系、セルロ−ス系、ウレタン系、シリコ−ン系、ポリエステル系、ポリエチレンイミン系や分子中にアミノ基を含んだポリマ−等が使用される。これらのアンカ−層は、単独で用いても２種以上を併用・積層してもよい。
【０１３９】
アンカ−層の厚さは、乾燥・硬化または乾燥後の厚さで、例えば、好ましくは０．０１〜１０μｍ、より好ましくは０．０５〜３μｍ、さらに好ましくは０．１〜１μｍである。アンカ−層の厚さが０．０１μｍ未満であると、偏光子と保護フィルムとの接着強度が不充分になることがある。逆に、アンカ−層の厚さが１０μｍを超えると、耐水性または耐湿性試験において、偏光板の色抜けや変色が起こりやすくなることがある。
【０１４０】
保護フィルムの偏光子と対向する面にアンカ−層コ−ティング組成物を塗布する方法は、バ−コ−タ−、ロ−ルコ−タ−、グラビアコ−タ−などを用いた通常のコ−ティング技術を採用すればよく、特に限定されるものではない。また、塗布したアンカ−層コ−ティング組成物を乾燥させる方法や条件は、特に限定されるものではないが、例えば、熱風乾燥機や赤外線乾燥機を用いて、好ましくは５０〜１３０℃、より好ましくは７５〜１１０℃の温度で、乾燥させればよい。また、アンカ−層コ−ティング組成物のウレタン結合生成反応および／または硬化に関して、養生工程を設けても何ら問題ない。養生工程が必要な場合、養生温度は、例えば、好ましくは２０〜１００℃、より好ましくは２０〜５０℃であるが、上記組成物の乾燥に使用した熱である程度は進行し、接着剤を用いた偏光子と保護フィルムとの接着工程でさらに進行するので、常温養生でも充分な物性が得られる。
【０１４１】
なお、表面の濡れ張力を調整するために、アンカ−層を設けた保護フィルムの上記アンカ−層の表面には、後の接着工程の前に、例えば、コロナ放電処理、プラズマ処理、オゾン吹き付け、紫外線照射、火炎処理、化学薬品処理、その他の従来公知の表面処理を施すことができる。
【０１４２】
本発明の偏光板は、最外層の少なくとも一方として粘着剤層を有していても良い。他の偏光子保護フィルムや液晶セル等の他部材と接着するための粘着剤層を設けることができる。粘着剤層を形成する粘着剤は、特に限定されないが、例えばアクリル系重合体、シリコ−ン系ポリマ−、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエ−テル、フッ素系やゴム系などのポリマ−をベ−スポリマ−とするものを適宜に選択して用いることができる。
【０１４３】
上記粘着剤層の付設は、適宜な方式で行いうる。その例としては、例えばトルエンや酢酸エチル等の適宜な溶剤の単独物又は混合物からなる溶媒にベ−スポリマ−またはその組成物を溶解又は分散させた１０〜４０質量％程度の粘着剤溶液を調製し、それを流延方式や塗工方式等の適宜な展開方式で偏光板上または偏光子保護フィルム上に直接付設する方式、あるいは上記に準じセパレ−タ上に粘着剤層を形成してそれを偏光子保護フィルム面に移着する方式などがあげられる
本発明の偏光板は、片方／または両方の表面にセパレ−トフィルムなどの表面保護フィルムを積層して表面保護フィルム付き偏光板としてもよい。積層方法としては、特に限定されず、例えば、偏光板を作製した後に、ラミネ−トロ−ル等を用いて任意の適切な方法によって貼り合わせれば良い。
【０１４４】
表面保護フィルムとしては任意の適切なフィルムを採用し得る。表面保護フィルムの材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリカ−ボネ−ト、ポリオレフィンなどが挙げられる。好ましくは、離型処理されたポリエチレンテレフタレ−トである。特に好ましくは、曲げ弾性率が５０００ＭＰａ以上のポリエチレンテレフタレ−トが挙げられる。
【０１４５】
本発明において、表面保護フィルムの厚みは、好ましくは１５〜２００μｍ、より好ましくは３０〜１５０μｍ、さらに好ましくは５０〜１００μｍである。表面保護フィルムの厚みが１５μｍ未満であると、本発明の効果が十分に発現できないおそれがある。表面保護フィルムの厚みが２００μｍより大きいと、経済的ではなく、また、ロ−ル搬送性が悪くなるおそれがある。
【０１４６】
本発明の偏光板において、偏光子の本発明の上記輝度向上フィルムと反対側の面に、本発明の輝度向上フィルム以外の偏光子保護フィルムを積層することもできる。他樹脂からなるフィルムとしては、例えばトリアセチルセルロ−スなどのセルロ−ス系樹脂系フィルム、ポリカ−ボネ−ト樹脂フィルム、環状ポリオレフィン樹脂フィルム、アクリル系樹脂フィルム、スチレン系樹脂フィルム、ポリエチレンテレフタレ−ト樹脂フィルム、ポリナフタレンテレフタレ−ト樹脂フィルム、等が挙げられる。光学特性や偏光板のカ−ルが抑制できる点から、アクリル系樹脂フィルムが好ましい。
【０１４７】
本発明の偏光板は、表面性、耐傷付き性を向上させる為に、少なくとも一層以上のハ−ドコ−ト層を積層することが出来る。上記ハ−ドコ−ト層としては、例えばシリコ−ン系樹脂、アクリル系樹脂、アクリルシリコン系樹脂、紫外線硬化型樹脂、ウレタン系ハ−ドコ−ト剤等よりなるハ−ドコ−ト層が挙げられる。紫外線硬化型樹脂としては、例えば紫外線硬化型アクリルウレタン、紫外線硬化型エポキシアクリレ−ト、紫外線硬化型（ポリ）エステルアクリレ−ト、紫外線硬化型オキセタン等から選ばれる一種類以上の紫外線硬化樹脂が挙げられる。ハ−ドコ−ト層の厚みは、０．１〜１００μｍである。また、ハ−ドコ−ト層の間にプライマ−処理をすることもできる。また、反射防止や低反射処理など公知の防眩処理を行うこともできる。
【０１４８】
本発明の偏光板は種々の画像表示装置への使用が可能である。本発明の偏光板を用いた液晶パネルなどの画像形成素子を、表示装置に組み込むことによって、種々の視認性に優れた本発明の画像表示装置を作製することが出来る。本発明の偏光板が適用可能な画像表示装置の具体例としては、反射型、透過型、半透過型ＬＣＤあるいはＴＮ型、ＳＴＮ型、ＯＣＢ型、ＨＡＮ型、ＶＡ型、ＩＰＳ型等の各種駆動方式の液晶表示装置（ＬＣＤ）で好ましく用いられ、また、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイ、プラズマディスプレイ（ＰＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ：Ｆｉｅｌｄ  Ｅｍｉｓｓｉｏｎ  Ｄｉｓｐｌａｙ）の各種画像表示装置にも好ましく用いられる。
［実施例］
以下に、実施例および比較例によって本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。以下の説明では、便宜上、「質量部」を単に「部」と、「リットル」を単に「Ｌ」と記すことがある。
尚、実施例において便宜上、下記略称を用いて説明する。
【０１４９】
ＭＭＡ：メタクリル酸メチル
ＲＨＭＡ：２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル
Ｓｔ：スチレン
ＡＮ：アクリロニトリル
＜含珪素重合体およびバインダー樹脂の分子量＞
含珪素重合体およびバインダー樹脂の数平均分子量および重量平均分子量は、含珪素重合体溶液またはバインダー樹脂溶液にテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を加えて、０．２重量％の溶液とし、ゲル浸透クロマトグラフィーを用いて、ポリスチレン換算により、以下の測定条件で求めた。
【０１５０】
システム：東ソー社製ＧＰＣシステム  ＨＬＣ−８２２０
展開溶媒：テトラヒドロフラン、流量：１．０ｍｌ／分
標準試料：ＴＳＫ標準ポリスチレン（東ソー社製、ＰＳ−オリゴマーキット）
カラム：東ソー社製、ＴＳＫｇｅｌ  Ｇ５０００ＨＸＬ、ＴＳＫｇｅｌ  ＧＭＨＸＬ−Ｌ直列接続
カラム温度：４０℃
サンプル注入量：２００μＬ
検出器：示差屈折計
＜含珪素重合体溶液およびバインダー樹脂溶液の不揮発分＞
含珪素重合体溶液またはバインダー樹脂溶液（試料）１．０ｇをアルミニウム箔の皿に精秤し、熱風循環式恒温槽を用いて、１５０℃で３０分間乾燥させた後、デシケーター中で放冷した。乾燥後の含珪素重合体溶液またはバインダー樹脂溶液（試料）の質量を精秤し、次式により、不揮発分を計算した。
【０１５１】
不揮発分（％）＝［（Ｗｄ）／（Ｗｓ）］×１００
ただし、Ｗｄは乾燥後の試料の質量（ｇ）；Ｗｓは乾燥前の試料の質量（ｇ）である。
【０１５２】
＜有機無機複合微粒子濃度＞
有機無機複合微粒子分散体を１．３３×１０ｋＰａの圧力下、１３０℃で２４時間乾燥し、下記の式より求めた。
【０１５３】
［有機無機複合微粒子濃度（質量％）］＝［Ｄ／Ｗ］×１００
式中の記載は、以下のとおりである。
【０１５４】
Ｄ：乾燥後の有機無機複合微粒子の質量（ｇ）
Ｗ：乾燥前の有機無機複合微粒子分散体の質量（ｇ）
＜有機無機複合微粒子中の無機微粒子と有機重合体の比率＞
有機無機複合微粒子分散体を１．３３×１０ｋＰａの圧力下、１３０℃で２４時間乾燥したものについて元素分析を行い、灰分を有機無機複合微粒子中の無機微粒子含有量、試験前の試料質量と灰分質量との差分を有機無機複合微粒子中の有機重合体含有量として、各々の含有量比から無機微粒子と有機重合体の比率を求めた。
【０１５５】
＜平均粒子径＞
透過型電子顕微鏡により粒子を撮影し、任意の１００個の粒子の直径を読み取り、その平均を平均粒子径とした。
【０１５６】
＜ガラス転移温度＞
各サンプルのガラス転移温度（Ｔｇ）はＪＩＳ  Ｋ７１２１の規定に準拠して求めた。具体的には、示差走査熱量計（リガク製、ＤＳＣ−８２３０）を用い、窒素ガス雰囲気下、約１０ｍｇのサンプルを常温から２００℃まで昇温速度２０℃／分で昇温して得られたＤＳＣ曲線から始点法により算出した。リファレンスには、α−アルミナを用いた。
【０１５７】
＜アクリル樹脂（Ａ）の重量平均分子量＞
アクリル樹脂（Ａ）の重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により以下の条件で求めた。
【０１５８】
システム：東ソー社製ＧＰＣシステム  ＨＬＣ−８２２０
展開溶媒：クロロホルム（和光純薬工業製、特級）、流量：０．６ｍｌ／分
標準試料：ＴＳＫ標準ポリスチレン（東ソー社製、ＰＳ−オリゴマーキット）
測定側カラム構成：ガードカラム（東ソー社製、ＴＳＫｇｕａｒｄｃｏｌｕｍｎ  ＳｕｐｅｒＨＺ−Ｌ）、分離カラム（東ソー社製、ＴＳＫｇｅｌ  ＳｕｐｅｒＨＺＭ−Ｍ）２本直列接続
リファレンス側カラム構成：リファレンスカラム（東ソー社製、ＴＳＫｇｅｌ  ＳｕｐｅｒＨ−ＲＣ）
カラム温度：４０℃
検出器：示差屈折計
＜複合微粒子層の屈折率、膜厚＞
干渉式膜厚測定装置（Ｆ２０、フィルメトリックス社製）を用いてフィルムの反射率を４００〜８００ｎｍの範囲で測定し、ｎｋ−Ｃａｕｃｈｙの分散式を引用し、未知のパラメーターを反射率スペクトルの実測値から非線形最小二乗法によって求めて、複合微粒子層の波長５５０ｎｍでの屈折率および膜厚を求めた。
【０１５９】
＜屈折率異方性＞
波長４００ｎｍ、５８９ｎｍ、７５０ｎｍの各波長における、フィルムの面内位相差Ｒｅ、厚さ方向の位相差Ｒｔｈは、大塚電子社製ＲＥＴＳ−１００を用いて測定した。
【０１６０】
また、厚さ方向の位相差値Ｒｔｈは、アッベ屈折率計で測定したフィルムの平均屈折率、フィルムの厚さｄ、４０°傾斜させて測定した位相差値（Ｒｅ（４０°））、三次元屈折率ｎｘ、ｎｙ、ｎｚの値を得た後、下記式から求めた。なお、フィルムの面内における遅相軸方向の屈折率をｎｘ、進相軸方向の屈折率をｎｙ、フィルムの厚さ方向の屈折率をｎｚとした。
【０１６１】
厚さ方向位相差Ｒｔｈ（ｎｍ）＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
＜フィルムの厚さ＞
透明基材フィルムの厚さｄは、デジマチックマイクロメーター（（株）ミツトヨ製）を用いて測定した。
【０１６２】
＜フィルムの全光線透過率＞
フィルムの全光線透過率は、濁度計（日本電色工業製、ＮＤＨ−５０００）を用いて、ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１に準拠して測定した。
【０１６３】
＜輝度＞
シャープ製ＬＥＤ  ＡＱＵＯＳ  ＬＣ−３２ＳＣ１を光源として拡散板、プリズムが直交する２枚のプリズムシート、３Ｍ製輝度上昇シート（商品名：ＤＢＥＦ）を配置した上に、複合微粒子層を入射光側になるようにフィルムを置いて、画面中心部分の正面からの輝度を２次元色彩輝度計（コニカミノルタ  ＣＡ−２０００）を用いて測定し、下記製造例１の透明基材フィルムの輝度を１００％として算出した。
【０１６４】
＜偏光板における輝度＞
シャープ製ＬＥＤ  ＡＱＵＯＳ  ＬＣ−３２ＳＣ１を光源として拡散板、プリズムが直交する２枚のプリズムシート、３Ｍ製輝度上昇シート（商品名：ＤＢＥＦ）を配置した上に、複合微粒子層を入射光側になるようにフィルムを置いて、画面中心部分の正面からの輝度を２次元色彩輝度計（コニカミノルタ  ＣＡ−２０００）を用いて測定し、下記比較例３の偏光板の輝度を１００％として算出した。
【０１６５】
〔調製例１〕  重合性ポリシロキサン（Ｍ−１）の合成
攪拌機、温度計および冷却管を備えた３００ｍＬの四ツ口フラスコにテトラメトキシシラン１４４．５ｇ、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン２３．６ｇ、水１９．０ｇ、メタノール３０．０ｇ、アンバーリスト１５（商品名、ダウ・ケミカル社製の陽イオン交換樹脂）５．０ｇを入れ、６５℃で２時間攪拌し、反応させた。反応混合物を室温まで冷却した後、冷却管に代えて蒸留塔、これに接続させた冷却管および留出口を設け、常圧下でフラスコ内温を約８０℃まで２時間かけて昇温し、メタノールが留出しなくなるまで同温度で保持した。さらに、２．６７×１０ｋＰａの圧力、９０℃の温度で、メタノールが留出しなくなるまで保持し、反応をさらに進行させた。反応混合物を再び室温まで冷却した後、アンバーリスト１５を濾別し、数平均分子量が１，８００の重合性ポリシロキサン（Ｍ−１）を得た。
【０１６６】
〔調製例２〕  含珪素重合体（Ｐ−１）の合成
攪拌機、滴下口、温度計、冷却管及び窒素ガス導入口を備えた１Ｌの四ツ口フラスコに、酢酸ブチル１９０ｇを入れ窒素ガスを導入し、攪拌しながらフラスコ内温を１１０℃まで加熱した。次いで調製例１で得られた重合性ポリシロキサン（Ｍ−１）１０ｇ、２−ヒドロキシエチルメタクリレート３０ｇ、トリフルオロエチルメタクリレート１６０ｇ、２，２′−アゾビスイソブチロニトリル１．５ｇを混合した溶液を滴下口より３時間かけて滴下した。滴下後も同温度で３０分攪拌を続けた後、１，１′−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロへキサン０．２ｇを３０分おきに２回添加し、更に２時間加熱して共重合を行い、含珪素重合体（Ｐ−１）が酢酸ブチルに溶解した溶液を得た。得られた含珪素重合体（Ｐ−１）の、数平均分子量は１７，０００、重量平均分子量は４５，０００、含珪素重合体（Ｐ−１）の酢酸ブチル溶液の不揮発分は４５．５％であった。
【０１６７】
〔調製例３〕  有機無機複合微粒子分散体（Ｓ−１）の合成
攪拌機、２つの滴下口（滴下口（イ）及び滴下口（ロ））、温度計を備えた１Ｌの四ツ口フラスコに、酢酸エチル４５０ｇ、メタノール１００ｇを入れておき、内温を４０℃に調整した。次いでフラスコ内を攪拌しながら、調製例２で得た含珪素重合体（Ｐ−１）の酢酸ブチル溶液２５ｇ、テトラメトキシシラン６５ｇ、メタノール１０ｇの混合液（原料液Ａ）を滴下口（イ）から、脱イオン水１３ｇ、２５％アンモニア水８ｇ、メタノール３５ｇの混合液（原料液Ｂ）を滴下口（ロ）から、２時間かけて滴下した。滴下後、滴下口に代えて留出口を設けた蒸留塔を接続して、同温度で３０分間攪拌を続けた。更に、４０ｋＰａの圧力下、５０℃の温度でメタノール及び酢酸エチルの一部を不揮発分が３０％となるまで留去し、有機無機複合微粒子が酢酸エチルに分散した有機無機複合微粒子分散体（Ｓ−１）を得た。得られた分散体の有機無機複合微粒子濃度は３０．３％、有機無機複合微粒子中の無機微粒子と有機重合体の比率（質量比）は６７／３３、平均粒子径は１６．４ｎｍであった。
【０１６８】
〔調製例４〕  バインダー樹脂（Ｒ−１）の合成
攪拌機、滴下口、温度計、冷却管および窒素ガス導入口を備えた容量５００ｍＬの四ツ口フラスコに、酢酸エチル１２０ｇを入れ、窒素ガスを導入し、攪拌しながら、フラスコ内温を７５℃まで加熱した。次いで、２−ヒドロキシエチルアクリレート５３ｇ、メチルメタクリレート５６ｇ、ｎ−ブチルアクリレート２９ｇ、２−エチルヘキシルアクリレート３４ｇ、２，２’−アゾビス−（２，４−ジメチルバレロニトリル）３ｇを混合した溶液を滴下口より１２０分間かけて滴下した。滴下後も同温度で３０分間攪拌を続けた後、２，２’−アゾビス−（２，４−ジメチルバレロニトリル）０．２ｇを３０分おきに３回添加し、さらに１８０分間加熱して共重合を行い、バインダー樹脂（Ｒ−１）が酢酸エチルに溶解した溶液を得た。得られたバインダー樹脂（Ｒ−１）の数平均分子量は２２，３００、重量平均分子量は５０，６００、得られた酢酸エチル溶液の不揮発分は５０．８％であった。
【０１６９】
〔調製例５〕  含珪素重合体（Ｐ−２）の合成
攪拌機、滴下口、温度計、冷却管及び窒素ガス導入口を備えた１Ｌの四ツ口フラスコに、酢酸ブチル２４０ｇを入れ窒素ガスを導入し、攪拌しながらフラスコ内温を１１０℃まで加熱した。次いで調製例１で得られた重合性ポリシロキサン（Ｍ−１）１０ｇ、２−ヒドロキシエチルメタクリレート３７ｇ、トリフルオロエチルアクリレート１００ｇ、ブチルアクリレート５３ｇ、２，２′−アゾビスイソブチロニトリル１．５ｇを混合した溶液を滴下口より３時間かけて滴下した。滴下後も同温度で３０分攪拌を続けた後、１，１′−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロへキサン０．２ｇを３０分おきに２回添加し、更に２時間加熱して共重合を行い、含珪素重合体（Ｐ−２）が酢酸ブチルに溶解した溶液を得た。得られた含珪素重合体（Ｐ−２）の、数平均分子量は１９，０００、重量平均分子量は６７，０００、含珪素重合体（Ｐ−２）の酢酸ブチル溶液の不揮発分は４５．２％であった。
【０１７０】
〔調製例６〕  含珪素重合体（Ｐ−３）の合成
攪拌機、滴下口、温度計、冷却管及び窒素ガス導入口を備えた１Ｌの四ツ口フラスコに、酢酸ブチル２４０ｇを入れ窒素ガスを導入し、攪拌しながらフラスコ内温を１１０℃まで加熱した。次いで調製例１で得られた重合性ポリシロキサン（Ｍ−１）１０ｇ、２−ヒドロキシエチルメタクリレート３７ｇ、ｔ−ブチルメタクリレート５８ｇ、ｎ−ブチルアクリレート９５ｇ、２，２′−アゾビスイソブチロニトリル１．５ｇを混合した溶液を滴下口より３時間かけて滴下した。滴下後も同温度で３０分攪拌を続けた後、１，１′−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロへキサン０．２ｇを３０分おきに２回添加し、更に２時間加熱して共重合を行い、含珪素重合体（Ｐ−３）が酢酸ブチルに溶解した溶液を得た。得られた含珪素重合体（Ｐ−３）の、数平均分子量は１６，０００、重量平均分子量は４６，０００、含珪素重合体（Ｐ−３）の酢酸ブチル溶液の不揮発分は４４．９％であった。
【０１７１】
〔調製例７〕  有機無機複合微粒子分散体（Ｓ−２）の合成
攪拌機、２つの滴下口（滴下口（イ）及び滴下口（ロ））、温度計を備えた１Ｌの四ツ口フラスコに、酢酸エチル４５０ｇ、メタノール１００ｇを入れておき、内温を４０℃に調整した。次いでフラスコ内を攪拌しながら、調製例２で得た含珪素重合体（Ｐ−１）の酢酸ブチル溶液４０ｇ、テトラメトキシシラン５５ｇ、メタノール１０ｇの混合液（原料液Ａ）を滴下口（イ）から、脱イオン水２２ｇ、２５％アンモニア水７ｇ、メタノール３０ｇの混合液（原料液Ｂ）を滴下口（ロ）から、２時間かけて滴下した。滴下後、滴下口に代えて留出口を設けた蒸留塔を接続して、同温度で３０分間攪拌を続けた。更に、４０ｋＰａの圧力下、５０℃の温度でメタノール及び酢酸エチルの一部を不揮発分が３０％となるまで留去し、有機無機複合微粒子が酢酸エチルに分散した有機無機複合微粒子分散体（Ｓ−２）を得た。得られた分散体の有機無機複合微粒子濃度は３０．１％、有機無機複合微粒子中の無機微粒子と有機重合体の比率（質量比）は５４／４６、平均粒子径は１８．６ｎｍであった。
【０１７２】
〔調製例８〕  有機無機複合微粒子分散体（Ｓ−３）の合成
攪拌機、２つの滴下口（滴下口（イ）及び滴下口（ロ））、温度計を備えた１Ｌの四ツ口フラスコに、酢酸エチル４５０ｇ、メタノール１００ｇを入れておき、内温を４０℃に調整した。次いでフラスコ内を攪拌しながら、調製例２で得た含珪素重合体（Ｐ−１）の酢酸ブチル溶液１５ｇ、テトラメトキシシラン６８ｇ、メタノール１０ｇの混合液（原料液Ａ）を滴下口（イ）から、脱イオン水２０ｇ、２５％アンモニア水１４ｇ、メタノール３５ｇの混合液（原料液Ｂ）を滴下口（ロ）から、２時間かけて滴下した。滴下後、滴下口に代えて留出口を設けた蒸留塔を接続して、同温度で３０分間攪拌を続けた。更に、４０ｋＰａの圧力下、５０℃の温度でメタノール及び酢酸エチルの一部を不揮発分が３０％となるまで留去し、有機無機複合微粒子が酢酸エチルに分散した有機無機複合微粒子分散体（Ｓ−３）を得た。得られた分散体の有機無機複合微粒子濃度は２９．８％、有機無機複合微粒子中の無機微粒子と有機重合体の比率（質量比）は７８／２２、平均粒子径は１７．２ｎｍであった。
【０１７３】
〔調製例９〕  有機無機複合微粒子分散体（Ｓ−４）の合成
攪拌機、２つの滴下口（滴下口（イ）及び滴下口（ロ））、温度計を備えた１Ｌの四ツ口フラスコに、酢酸エチル４５０ｇ、メタノール１００ｇを入れておき、内温を２５℃に調整した。次いでフラスコ内を攪拌しながら、調製例２で得た含珪素重合体（Ｐ−１）の酢酸ブチル溶液４７ｇ、テトラメトキシシラン５２ｇ、メタノール１０ｇの混合液（原料液Ａ）を滴下口（イ）から、脱イオン水２０ｇ、２５％アンモニア水７ｇ、メタノール３０ｇの混合液（原料液Ｂ）を滴下口（ロ）から、２時間かけて滴下した。滴下後、滴下口に代えて留出口を設けた蒸留塔を接続して、同温度で３０分間攪拌を続けた。更に、４０ｋＰａの圧力下、５０℃の温度でメタノール及び酢酸エチルの一部を不揮発分が３０％となるまで留去し、有機無機複合微粒子が酢酸エチルに分散した有機無機複合微粒子分散体（Ｓ−４）を得た。得られた分散体の有機無機複合微粒子濃度は３０．３％、有機無機複合微粒子中の無機微粒子と有機重合体の比率（質量比）は４８／５２、平均粒子径は２３．９ｎｍであった。
【０１７４】
〔調製例１０〕  有機無機複合微粒子分散体（Ｓ−５）の合成
攪拌機、２つの滴下口（滴下口（イ）及び滴下口（ロ））、温度計を備えた１Ｌの四ツ口フラスコに、酢酸エチル４５０ｇ、メタノール１００ｇを入れておき、内温を４０℃に調整した。次いでフラスコ内を攪拌しながら、調製例７で得た含珪素重合体（Ｐ−２）の酢酸ブチル溶液２５ｇ、テトラメトキシシラン６５ｇ、メタノール１０ｇの混合液（原料液Ａ）を滴下口（イ）から、脱イオン水１３ｇ、２５％アンモニア水８ｇ、メタノール３５ｇの混合液（原料液Ｂ）を滴下口（ロ）から、２時間かけて滴下した。滴下後、滴下口に代えて留出口を設けた蒸留塔を接続して、同温度で３０分間攪拌を続けた。更に、４０ｋＰａの圧力下、５０℃の温度でメタノール及び酢酸エチルの一部を不揮発分が３０％となるまで留去し、有機無機複合微粒子が酢酸エチルに分散した有機無機複合微粒子分散体（Ｓ−５）を得た。得られた分散体の有機無機複合微粒子濃度は３０．３％、有機無機複合微粒子中の無機微粒子と有機重合体の比率（質量比）は６９／３１、平均粒子径は１４．７ｎｍであった。
【０１７５】
〔調製例１１〕  有機無機複合微粒子分散体（Ｓ−６）の合成
攪拌機、２つの滴下口（滴下口（イ）及び滴下口（ロ））、温度計を備えた１Ｌの四ツ口フラスコに、酢酸エチル４５０ｇ、メタノール１００ｇを入れておき、内温を４０℃に調整した。次いでフラスコ内を攪拌しながら、調製例９で得た含珪素重合体（Ｐ−３）の酢酸ブチル溶液２５ｇ、テトラメトキシシラン６５ｇ、メタノール１０ｇの混合液（原料液Ａ）を滴下口（イ）から、脱イオン水１３ｇ、２５％アンモニア水８ｇ、メタノール３５ｇの混合液（原料液Ｂ）を滴下口（ロ）から、２時間かけて滴下した。滴下後、滴下口に代えて留出口を設けた蒸留塔を接続して、同温度で３０分間攪拌を続けた。更に、４０ｋＰａの圧力下、５０℃の温度でメタノール及び酢酸エチルの一部を不揮発分が３０％となるまで留去し、有機無機複合微粒子が酢酸エチルに分散した有機無機複合微粒子分散体（Ｓ−６）を得た。得られた分散体の有機無機複合微粒子濃度は３０．３％、有機無機複合微粒子中の無機微粒子と有機重合体の比率（質量比）は７１／２９、平均粒子径は１５．１ｎｍであった。
【０１７６】
〔調製例１２〕  バインダー樹脂（Ｒ−２）の合成
攪拌機、滴下口、温度計、冷却管および窒素ガス導入口を備えた容量５００ｍＬの四ツ口フラスコに、酢酸ブチル１０５ｇを入れ、窒素ガスを導入し、攪拌しながら、フラスコ内温を９０℃まで加熱した。次いで、メタクリル酸１ｇ、２−ヒドロキシエチルメタクリレート３２ｇ、シクロヘキシルメタクリレート２６ｇ、メチルメタクリレート５ｇ、ｎ−ブチルアクリレート１０８ｇ、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）１．５ｇを混合した溶液を滴下口より１２０分間かけて滴下した。滴下後も同温度で２４０分間加熱・攪拌を続けた後、酢酸ブチル７０ｇで希釈し、バインダー樹脂（Ｒ−２）が酢酸ブチルに溶解した溶液を得た。得られたバインダー樹脂（Ｒ−２）の数平均分子量は５４，０００、重量平均分子量は１２８，０００、得られた酢酸エチル溶液の不揮発分は４９．６％であった。
【０１７７】
〔製造例１〕アクリル樹脂（Ａ−１）および透明基材フィルムの製造
攪拌装置、温度計、冷却器、窒素導入管を備えた反応釜に、ＭＭＡ４０部、ＲＨＭＡ１０部、トルエン５０部、アデカスタブ２１１２（ＡＤＥＫＡ製）０．０２５部を仕込み、これに窒素を通じつつ、１０５℃まで昇温させ、還流したところで、開始剤とｔ−アミルパーオキシイソノナノエート（アトフィナ吉富製、商品名：ルパゾール５７０）を０．０５部添加すると同時に、０．１０部のｔ−アミルパーオキシイソノナノエートを２時間かけて滴下しながら、還流下（約１０５〜１１０℃）で溶液重合を行い、さらに４時間かけて熟成を行った。
【０１７８】
上記重合体溶液に、リン酸ステアリル（堺化学工業製、商品名：Ｐｈｏｓｌｅｘ  Ａ−１８）を０．０５部加え、還流下（約９０〜１１０℃）において２時間環化縮合反応を進行させた。
【０１７９】
次いで、上記環化縮合反応で得られた重合体溶液を、２４０℃に加熱した多管式熱交換器を通して環化縮合反応を完結させた後、バレル温度２４０℃、回転数１２０ｒｐｍ、減圧度１３．３〜４００ｈＰａ、リアベント数１個、フォアベント数４個（上流側から第１、第２、第３、第４ベントと称する）第３ベントと第４ベントの間にサイドフィーダーを有するのベントタイプスクリュー二軸押出機（Ｌ／Ｄ＝５２）に、樹脂量換算で２０部／時間の処理速度で導入し、脱揮を行った。そのとき、別途準備しておいた酸化防止剤・失活剤混合溶液を、第２ベントの後から高圧ポンプを用いて０．３部／時間の投入速度で注入した。また、第１ベントの後およびサイドフィーダーの後から高圧ポンプを用いてイオン交換水をそれぞれ０．３３部／時間の投入速度で注入した。
【０１８０】
また、サイドフィーダーからＡＳ樹脂（旭化成ケミカルズ製、商品名：スタイラックＡＳ７８３Ｌ）を２．１２部／時間の供給速度で添加した。
【０１８１】
さらに、溶融混練した樹脂をリーフディスク型のポリマーフィルター（長瀬産業製、濾過精度５μｍ）でろ過した。
【０１８２】
酸化防止剤・失活剤混合溶液はイルガノックス１０１０（ＢＡＳＦジャパン製）５０部、アデカスタブＡＯ−４１２Ｓ（ＡＤＥＫＡ製）５０部、オクチル酸亜鉛（日本化学産業製、ニッカオクチクス亜鉛３．６％）４０部をトルエン１６０部に溶解して調製した。
【０１８３】
上記脱揮操作により、熱可塑性アクリル樹脂組成物（Ａ−１）のペレットを得た。樹脂部の重量平均分子量は１３２０００、ガラス転移温度は１２５℃であった。
【０１８４】
得られたペレットをリーフディスク型のポリマーフィルター（長瀬産業製、濾過精度５μｍ）を備えた単軸押出機を用いて、２８０℃でＴダイから溶融押出を行い、１１０℃の冷却ロール上に吐出して、未延伸フィルムを製膜した。次に、製膜したフィルムを、縦横とも延伸倍率が２．０倍となるように逐次２軸延伸して、厚みが５０μｍの透明基材フィルム（Ｂ−１）を得た。透明基材フィルム（Ｂ−１）は、ガラス転移温度が１２５℃、全光線透過率は９２．３％、面内位相差Ｒｅは１ｎｍ、厚さ方向位相差Ｒｔｈは２ｎｍであった。
【０１８５】
〔製造例２〕アクリル樹脂（Ａ−２）および透明基材フィルムの製造
グルタルイミド樹脂（エボニック・デグサ製、商品名：プレキシイミド８８１３）７８部、ＡＳ樹脂（旭化成ケミカルズ製、商品名：スタイラックＡＳ７８３Ｌ）２２部、アデカスタブＡＯ−６０（ＡＤＥＫＡ製）０．０５部、アデカスタブＡＯ−４１２Ｓ（ＡＤＥＫＡ製）０．０５部を、２軸押出機を用いて混練して、熱可塑性アクリル樹脂組成物（Ａ−２）のペレットを得た。得られた樹脂組成物の平均分子量は１２８０００、ガラス転移温度は１２９℃であった。
【０１８６】
得られたペレットをリーフディスク型のポリマーフィルター（長瀬産業製、濾過精度５μｍ）を備えた単軸押出機を用いて、２８０℃でＴダイから溶融押出を行い、１１０℃の冷却ロール上に吐出して、未延伸フィルムを製膜した。次に、製膜したフィルムを、縦横とも延伸倍率が２．０倍となるように逐次２軸延伸して、厚みが４８μｍの透明基材フィルム（Ｂ−２）を得た。透明基材フィルム（Ｂ−２）は、ガラス転移温度が１２９℃、全光線透過率は９１．８％、面内位相差Ｒｅは２ｎｍ、厚さ方向位相差Ｒｔｈは２ｎｍであった。
【０１８７】
〔製造例３〕偏光子の製造 
ケン化度９９％、厚み７５マイクロメーターのポリビニルアルコ−ル未延伸フィルムを室温の水で洗浄した後、縦一軸に５倍延伸を行った。このフィルムをヨウ素０．５重量％、ヨウ化カリウム５重量％からなる水溶液に浸漬し二色性色素を吸着させた。更に、ホウ酸１０重量％とヨウ化カリウム１０重量％からなる５０℃の水溶液で５分間、架橋処理し偏光子を得た。
【０１８８】
〔製造例４〕
ウレタン系樹脂（第一工業製薬社製、ス−パ−フレックス２１０）１０重量部および、架橋剤としてオキサゾリン系化合物（日本触媒社製、エポクロスＷＳ７００）１．２重量部からなる組成物を、脱イオン水４３．５重量部で希釈し、塗布液を得た。得られた塗布液をバ−コ−タ−＃３を用いて、実施例３で得られた輝度向上フィルム（Ｃ−３）の複合微粒子層とは反対側の面に、塗布後の乾燥膜厚が０．２マイクロメーターとなるように塗布し、１００℃で１分間乾燥し、易接着層を有する輝度向上フィルム（ＣＡ−３）を得た。
【０１８９】
〔製造例５〕
製造例４において、輝度向上フィルム（Ｃ−３）に代えて、塗布液を製造例１で得られた透明基材フィルム（Ｂ−１）の偏光子を接着する側に塗布したこと以外は、製造例４と同様にして、易接着層を有する透明基材フィルム（ＢＡ−１）を得た。
【０１９０】
〔比較例１〕
製造例１で得られた透明基材フィルムの全光線透過率は９２．３％、輝度は１００．０％であった。
【０１９１】
〔実施例１〕
調製例３で得られた有機無機複合微粒子の酢酸エチル分散体（Ｓ−１）２０ｇ、エタノール１３０ｇを混合して塗布液とした。この塗布液を製造例１で得られた透明基材フィルム（Ｂ−１）に膜厚約１００ｎｍとなるようにバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で３０分乾燥し、輝度向上フィルム（Ｃ−１）を得た。得られた塗膜の波長５５０ｎｍでの屈折率は１．２０、膜厚は１０８ｎｍであった。また、得られた輝度向上フィルム（Ｃ−１）の全光線透過率は９５．１％、輝度は１０２．４％であった。
【０１９２】
〔実施例２〕
調製例３で得られた有機無機複合微粒子の酢酸エチル分散体（Ｓ−１）１９ｇ、調製例４で得られたバインダー樹脂（Ｒ−１）の酢酸エチル溶液０．６ｇ、エタノール１３０．４ｇを混合して塗布液とした。この塗布液を製造例１で得られた透明基材フィルム（Ｂ−１）に膜厚膜厚約１００ｎｍとなるようにバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で３０分乾燥し、輝度向上フィルム（Ｃ−２）を得た。得られた塗膜の波長５５０ｎｍでの屈折率は１．２１、膜厚は１１２ｎｍであった。また、得られた輝度向上フィルム（Ｃ−２）の全光線透過率は９５．０％、輝度は１０２．７％であった。
【０１９３】
【表１】
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【０１９４】
〔実施例３〕
調製例３で得られた有機無機複合微粒子の酢酸エチル分散体（Ｓ−１）１８ｇ、調製例１２で得られたバインダー樹脂（Ｒ−２）の酢酸ブチル溶液１ｇ、イソシアネート硬化剤デスモジュールＮ３２００（商品名、住化バイエルウレタン社製）０．２ｇ、メチルイソブチルケトン１８０ｇを混合して塗布液とした。この塗布液を製造例１で得られた透明基材フィルム（Ｂ−１）に膜厚約１００ｎｍとなるようにバーコーターを用いて塗布し、８０℃で２０分乾燥し、輝度向上フィルム（Ｃ−３）を得た。得られた塗膜の波長５５０ｎｍでの屈折率は１．２２、膜厚は１０３ｎｍであった。また、得られた輝度向上フィルム（Ｃ−３）の全光線透過率は９５．２％、輝度は１０２．８％であった。
【０１９５】
〔実施例４〕
調製例７で得られた有機無機複合微粒子の酢酸エチル分散体（Ｓ−２）１８ｇ、調製例１２で得られたバインダー樹脂（Ｒ−２）の酢酸ブチル溶液０．９ｇ、イソシアネート硬化剤デスモジュールＮ３２００（商品名、住化バイエルウレタン社製）０．１５ｇ、メチルイソブチルケトン１８０ｇを混合して塗布液とした。この塗布液を製造例１で得られた透明基材フィルム（Ｂ−１）に膜厚約１００ｎｍとなるようにバーコーターを用いて塗布し、８０℃で２０分乾燥し、輝度向上フィルム（Ｃ−４）を得た。得られた塗膜の波長５５０ｎｍでの屈折率は１．２９、膜厚は１０４ｎｍであった。また、得られた輝度向上フィルム（Ｃ−４）の全光線透過率は９４．４％、輝度は１０１．５％であった。
【０１９６】
〔実施例５〕
調製例８で得られた有機無機複合微粒子の酢酸エチル分散体（Ｓ−３）１８ｇ、調製例１２で得られたバインダー樹脂（Ｒ−２）の酢酸ブチル溶液０．９ｇ、イソシアネート硬化剤デスモジュールＮ３２００（商品名、住化バイエルウレタン社製）０．１５ｇ、メチルイソブチルケトン１８０ｇを混合して塗布液とした。この塗布液を製造例１で得られた透明基材フィルム（Ｂ−１）に膜厚約１００ｎｍとなるようにバーコーターを用いて塗布し、８０℃で２０分乾燥し、輝度向上フィルム（Ｃ−５）を得た。得られた塗膜の波長５５０ｎｍでの屈折率は１．２１、膜厚は９８ｎｍであった。また、得られた輝度向上フィルム（Ｃ−５）の全光線透過率は９５．１％、輝度は１０２．６％であった。
【０１９７】
〔実施例６〕
調製例９で得られた有機無機複合微粒子の酢酸エチル分散体（Ｓ−４）１８ｇ、調製例１２で得られたバインダー樹脂（Ｒ−２）の酢酸ブチル溶液０．９ｇ、イソシアネート硬化剤デスモジュールＮ３２００（商品名、住化バイエルウレタン社製）０．１５ｇ、メチルイソブチルケトン１８０ｇを混合して塗布液とした。この塗布液を製造例１で得られた透明基材フィルム（Ｂ−１）に膜厚約１００ｎｍとなるようにバーコーターを用いて塗布し、８０℃で２０分乾燥し、輝度向上フィルム（Ｃ−６）を得た。得られた塗膜の波長５５０ｎｍでの屈折率は１．３７、膜厚は１０６ｎｍであった。また、得られた輝度向上フィルム（Ｃ−６）の全光線透過率は９３．３％、輝度は１００．６％であった。
【０１９８】
〔実施例７〕
調製例１０で得られた有機無機複合微粒子の酢酸エチル分散体（Ｓ−５）１５ｇ、調製例１２で得られたバインダー樹脂（Ｒ−２）の酢酸ブチル溶液２．３ｇ、イソシアネート硬化剤デスモジュールＮ３２００（商品名、住化バイエルウレタン社製）０．４ｇ、メチルイソブチルケトン１８０ｇを混合して塗布液とした。この塗布液を製造例１で得られた透明基材フィルム（Ｂ−１）に膜厚約１００ｎｍとなるようにバーコーターを用いて塗布し、８０℃で２０分乾燥し、輝度向上フィルム（Ｃ−７）を得た。得られた塗膜の波長５５０ｎｍでの屈折率は１．３４、膜厚は１０９ｎｍであった。また、得られた輝度向上フィルム（Ｃ−７）の全光線透過率は９４．２％、輝度は１０１．７％であった。
【０１９９】
〔実施例８〕
調製例１１で得られた有機無機複合微粒子の酢酸エチル分散体（Ｓ−６）１８ｇ、調製例１２で得られたバインダー樹脂（Ｒ−２）の酢酸ブチル溶液１ｇ、イソシアネート硬化剤デスモジュールＮ３２００（商品名、住化バイエルウレタン社製）０．２ｇ、メチルイソブチルケトン１８０ｇを混合して塗布液とした。この塗布液を製造例１で得られた透明基材フィルム（Ｂ−１）に膜厚約１００ｎｍとなるようにバーコーターを用いて塗布し、８０℃で２０分乾燥し、輝度向上フィルム（Ｃ−８）を得た。得られた塗膜の波長５５０ｎｍでの屈折率は１．２６、膜厚は１０１ｎｍであった。また、得られた輝度向上フィルム（Ｃ−８）の全光線透過率は９４．７％、輝度は１０２．２％であった。
【０２００】
〔実施例９〕
調製例８で得られた有機無機複合微粒子の酢酸エチル分散体（Ｓ−３）１８ｇ、調製例１２で得られたバインダー樹脂（Ｒ−２）の酢酸ブチル溶液１ｇ、イソシアネート硬化剤デスモジュールＮ３２００（商品名、住化バイエルウレタン社製）０．２ｇ、メチルイソブチルケトン１８０ｇを混合して塗布液とした。この塗布液を製造例１で得られた透明基材フィルム（Ｂ−１）に膜厚約１００ｎｍとなるようにバーコーターを用いて塗布し、８０℃で２０分乾燥し、輝度向上フィルム（Ｃ−９）を得た。得られた塗膜の波長５５０ｎｍでの屈折率は１．３４、膜厚は１０６ｎｍであった。また、得られた輝度向上フィルム（Ｃ−９）の全光線透過率は９４．３％、輝度は１０１．９％であった。
【０２０１】
〔実施例１０〕
透明基材フィルム（Ｂ−１）の代わりにトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ−８０Ｕ、富士フィルム社製）を利用した以外は、実施例３と同様にして、輝度向上フィルム（Ｃ−１０）を得た。得られた塗膜の波長５５０ｎｍでの屈折率は１．２１、膜厚は１１５ｎｍであった。また、得られた輝度向上フィルム（Ｃ−１０）の全光線透過率は９４．９％、輝度は１０２．０％であった。
【０２０２】
〔実施例１１〕
透明基材フィルム（Ｂ−１）の代わりにシクロオレフィンポリマーフィルム（ゼオノア、日本ゼオン社製）を利用した以外は、実施例３と同様にして、輝度向上フィルム（Ｃ−１１）を得た。得られた塗膜の波長５５０ｎｍでの屈折率は１．２１、膜厚は１０５ｎｍであった。また、得られた輝度向上フィルム（Ｃ−１１）の全光線透過率は９５．０％、輝度は１０２．１％であった。
【０２０３】
【表２】
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【０２０４】
〔比較例２〕
製造例２で得られた透明基材フィルム（Ｂ−２）の全光線透過率は９１．８％、輝度は９９．５％であった。
【０２０５】
〔実施例１２〕
調製例３で得られた有機無機複合微粒子の酢酸エチル分散体（Ｓ−１）１９ｇ、調製例４で得られたバインダー樹脂（Ｒ−１）の酢酸エチル溶液０．６ｇ、エタノール１３０．４ｇを混合して塗布液とした。この塗布液を製造例２で得られた透明基材フィルム（Ｂ−２）に膜厚膜厚約１００ｎｍとなるようにバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で３０分乾燥し、輝度向上フィルム（Ｃ−３）を得た。得られた塗膜の波長５５０ｎｍでの屈折率は１．２２、膜厚は１１５ｎｍであった。また、得られた輝度向上フィルム（Ｃ−１２）の全光線透過率は９４．６％、輝度は１０２．２％であった。
【０２０６】
【表３】
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【０２０７】
〔比較例３〕
製造例３で作製した偏光子の両面に、偏光子保護フィルムとして製造例４で得られた易接着層を有する透明基材フィルム（ＢＡ−１）を、易接着層側が偏光子との接着面となるように、接着剤としてポリビニルアルコ−ルの７．５重量％水溶液を用いて、ウェットラミネ−ションにより貼り合わせた。貼合した積層体を熱風乾燥機で６０℃で１０分間乾燥させて、偏光板（ＰＡＣ−１）を得た。得られた偏光板（ＰＡＣ−１）の全光線透過率は４３．３％、輝度は１００．０％であった。
【０２０８】
〔実施例１３〕
製造例３で作製した偏光子の片面に、偏光子保護フィルムとして製造例４で得られた易接着層を有する輝度向上フィルム（ＣＡ−３）を、また、偏光子の輝度向上フィルムを貼合する側とは反対側の面に、偏光子保護フィルムとして製造例５で得られた易接着層を有する透明基材フィルム（ＢＡ−１）を、それぞれ易接着層側が偏光子との接着面となるように、接着剤としてポリビニルアルコ−ルの７．５重量％水溶液を用いて、ウェットラミネ−ションにより貼り合わせた。貼合した積層体を熱風乾燥機で６０℃で１０分間乾燥させて、偏光板（ＰＡ−１）を得た。得られた偏光板（ＰＡ−１）の全光線透過率は４４．７％、輝度は１０１．９％であった。
【０２０９】
〔実施例１４〕
製造例３で作製した偏光子の両面に、偏光子保護フィルムとして製造例４で得られた易接着層を有する輝度向上フィルム（ＣＡ−３）を、易接着層側が偏光子との接着面となるように、接着剤としてポリビニルアルコ−ルの７．５重量％水溶液を用いて、ウェットラミネ−ションにより貼り合わせた。貼合した積層体を熱風乾燥機で６０℃で１０分間乾燥させて、偏光板（ＰＡ−２）を得た。得られた偏光板（ＰＡ−２）の全光線透過率は４５．８％、輝度は１０３．４％であった。
【０２１０】
【表４】
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【産業上の利用可能性】
【０２１１】
本発明の輝度向上フィルムは、複合微粒子層を透明基材フィルム上に塗工するという簡便な工程で優れた輝度向上効果を発揮できることから、偏光子保護フィルムや位相差フィルム、光学フィルターフィルムなどの各種光学フィルムとして各種画像表示装置に好適に用いることができる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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