(57)【要約】【課題】１つの画素に４つのサブ画素を有する液晶表示パネルにおいて、輝度を向上するためのサブ画素における穴の面積比率のばらつきを低減する。【解決手段】カラーフィルタ層は、互いに色の異なる第1フィルタ２１Ａと第２フィルタ２１Ｂと第３フィルタ２１Ｃとを含む。また、カラーフィルタ層はいずれかのフィルタと同色の第４フィルタ２１Ｄと、４つのフィルタを区画するブラックマトリクス２２とを含む。第４フィルタ２１Ｄには穴２３が形成されている。穴２３はブラックマトリクス２２の第１の線部２２ａに沿った方向に延びており、第１の線部２２ａが穴２３の縁の一部を構成している。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
４つのサブ画素を各画素に有し、且つ、カラーフィルタ層を有する液晶表示パネルにおいて、
前記カラーフィルタ層は、
前記４つのサブ画素のうち３つのサブ画素の位置にそれぞれ配置された、互いに色の異なる第1のカラーフィルタと第２のカラーフィルタと第３のカラーフィルタと、
前記４つのサブ画素のうち残りの１つのサブ画素の位置に形成された、前記３つのカラーフィルタのいずれかと同色の第４のカラーフィルタと、
前記４つのカラーフィルタを区画するブラックマトリクスと、を含み、
前記ブラックマトリクスは、前記第４のカラーフィルタに隣接するカラーフィルタと、当該第４のカラーフィルタとを仕切る第１の線部を含み、
前記第４のカラーフィルタには少なくとも１つの穴が形成され、
前記少なくとも１つの穴は前記ブラックマトリクスの前記第１の線部に沿った方向に延びており、前記第１の線部が前記少なくとも１つの穴の縁の一部を構成している、
ことを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項２】
請求項１に記載の液晶表示パネルにおいて、
走査信号が印加されるゲート電極線と、映像信号が印加されるドレイン電極線とが格子状に形成された基板をさらに備え、
前記ブラックマトリクスの前記第１の線部は前記ドレイン電極線に沿って形成された部分である、
ことを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項３】
請求項２に記載の液晶表示パネルにおいて、
前記ブラックマトリクスは前記ゲート電極線に沿って形成される第２の線部をさらに含み、
前記ドレイン電極線の延伸方向における前記少なくとも１つの穴の端部は、前記第２の線部から離れている、
ことを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項４】
請求項２又は３に記載の液晶表示パネルにおいて、
前記第４のカラーフィルタには、前記少なくとも１つの穴として、前記ゲート電極線の延伸方向で隣り合う複数の穴が形成されている、
ことを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項５】
請求項４に記載の液晶表示パネルにおいて、
前記第４のカラーフィルタには、前記少なくとも１つの穴として、２つの穴が形成され、
前記ブラックマトリクスは前記第１の線部として前記第４のカラーフィルタを挟んで互いに反対側に位置する２つの第１の線部を含み、
前記２つの穴は、それぞれ前記２つの第１の線部に沿って形成されている、
ことを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれかに記載の液晶表示パネルにおいて、
前記ブラックマトリクスは、その厚さにおいて、前記第４のカラーフィルタよりも大きく、
前記カラーフィルタ層上にはオーバーコート層が形成されている、
ことを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項７】
請求項２乃至４のいずれかに記載の液晶表示パネルにおいて、
前記４つのサブ画素は平面視でＶ字状であり、
前記第１の線部は、その中途部で、前記残りの１つのサブ画素の形状に合わせてＶ字状に屈曲しており、
前記少なくとも１つの穴は前記第１の線部に合わせて屈曲している、
ことを特徴とする液晶表示パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶表示パネルの輝度を向上するための技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示パネルの輝度を向上するために、赤、緑、青のサブ画素に加えて、白のサブ画素を有する液晶表示パネルの開発が進められている。下記特許文献１の液晶表示パネルでは、白サブ画素に白のカラーフィルタが配置されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平１１−２９５７１７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記特許文献１の技術では白のカラーフィルタを使用するので、製造工程が増え、コストが増す。そこで、他の３色のカラーフィルタのいずれか１つと同色のカラーフィルタを、上述の白サブ画素に相当するサブ画素に形成し、そのカラーフィルタに複数の穴を形成する構造が検討されている。このような構造によれば、コストを抑えながら、穴を透過する光によって輝度を向上できる。また、カラーフィルタに形成された穴の内側にはカラーフィルタを覆うオーバーコート層を形成できるので、穴の形成に起因する液晶層の厚さの増大を、抑えることができ、その結果、液晶層の応答速度の低下をも防ぐことができる。
【０００５】
ところが、穴はエッチングなどの処理においてカラーフィルタに形成される。そのような処理で形成された穴の縁の形状、すなわち穴の大きさは、意図したものからずれやすい。そのため、輝度を向上するためのサブ画素における穴の面積比率（ブラックマトリクスとカラーフィルタとが存在しない領域の割合）にばらつきが生じやすい。
【０００６】
本発明の目的は、輝度向上用のサブ画素における穴の面積比率のばらつきを抑えることのできる液晶表示パネルを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係る液晶表示パネルは、４つのサブ画素を各画素に有し、且つ、カラーフィルタ層を有する。前記カラーフィルタ層は、前記４つのサブ画素のうち３つのサブ画素の位置にそれぞれ配置された、互いに色の異なる第1のカラーフィルタと第２のカラーフィルタと第３のカラーフィルタと、前記４つのサブ画素のうち残りの１つのサブ画素の位置に形成された、前記３つのカラーフィルタのいずれかと同色の第４のカラーフィルタと、前記４つのカラーフィルタを区画するブラックマトリクスと、を含む。前記ブラックマトリクスは、前記第４のカラーフィルタに隣接するカラーフィルタと、当該第４のカラーフィルタと仕切る第１の線部を含む。前記第４のカラーフィルタには少なくとも１つの穴が形成され、前記少なくとも１つの穴は前記ブラックマトリクスの前記第１の線部に沿った方向に延びており、前記第１の線部が前記少なくとも１つの穴の縁の一部を構成している。ブラックマトリクスの第1の線部が穴の縁の一部を構成するので、穴の大きさのばらつきを低減することが可能となり、輝度を向上するためのサブ画素における穴の面積比率のばらつきを抑えることができる。
【０００８】
前記液晶表示パネルは、走査信号が印加されるゲート電極線と、映像信号が印加されるドレイン電極線とが格子状に形成された基板をさらに備えてもよい。そして、前記ブラックマトリクスの前記第１の線部は前記ドレイン電極線に沿って形成された部分であってもよい。ドレイン電極線に沿って形成される第１の線部は、ゲート電極線に沿って形成される線部に比べて長い。そのため、この構造によれば、穴の縁におけるブラックマトリクスによって構成される部分の割合を増すことができる。
【０００９】
また、前記ブラックマトリクスは前記ゲート電極線に沿って形成される第２の線部をさらに含み、前記ドレイン電極線の延伸方向における前記少なくとも１つの穴の端部は、前記第２の線部から離れていてもよい。この構造によれば、ゲート電極線の近傍の液晶層が、黒表示時に十分な光の遮蔽機能を果たしていない場合であっても、第４のカラーフィルタによってその光の透過を抑えることができる。
【００１０】
また、前記第４のカラーフィルタには、前記少なくとも１つの穴として、前記ゲート電極線の延伸方向で隣り合う複数の穴が形成されてもよい。この構造によれば、輝度を向上するためのサブ画素における穴の面積比率を増すことができる。
【００１１】
また、前記第４のカラーフィルタには、前記少なくとも１つの穴として、２つの穴が形成され、前記ブラックマトリクスは前記第１の線部として前記第４のカラーフィルタを挟んで互いに反対側に位置する２つの第１の線部を含み、前記２つの穴は、それぞれ前記２つの第１の線部に沿って形成されてもよい。この構造によれば、輝度を向上するためのサブ画素における穴の面積比率を増しながら、面積比率のばらつきを抑えることができる。
【００１２】
また、前記ブラックマトリクスは、その厚さにおいて前記第４のカラーフィルタよりも大きくてもよい。そして、前記カラーフィルタ層上にはオーバーコート層が形成されてもよい。この態様によれば、穴を形成することに起因する液晶層の厚さの増大を、抑えることができる。
【００１３】
また、前記４つのサブ画素は平面視でＶ字状であってもよい。そして、前記第１の線部は、その中途部で、前記残りの１つのサブ画素の形状に合わせてＶ字状に屈曲し、前記少なくとも１つの穴は前記第１の線部に合わせて屈曲してもよい。この構造によれば、視野角による波長依存性を低減しながら、穴の大きさのばらつきを低減することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の実施形態に係る液晶表示パネルを構成するＴＦＴ基板の平面図である。
【図２】図１に示すＩＩ−ＩＩ線を切断面とする上記液晶表示パネルの断面図である。
【図３】図１に示すＩＩＩ−ＩＩＩ線を切断面とする液晶表示パネルの断面図である。
【図４】図４は上記液晶表示パネルを構成するカラーフィルタ基板の平面図である。
【図５】本発明の他の例による液晶表示パネルを構成するＴＦＴ基板の平面図である。
【図６】図５に示す変形例の液晶表示パネルが備えるカラーフィルタ基板の平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明の一実施形態について図面を参照しながら説明する。図１は本発明の実施形態に係る液晶表示パネル１を構成するＴＦＴ基板１０の平面図である。図２は図１に示すＩＩ−ＩＩ線を切断面とする液晶表示パネル１の断面図である。図３は図１に示すＩＩＩ−ＩＩＩ線を切断面とする液晶表示パネル１の断面図である。図４は液晶表示パネル１を構成するカラーフィルタ基板２０の平面図である。
【００１６】
図２に示すように、液晶表示パネル１は互いに向き合うＴＦＴ基板１０とカラーフィルタ基板２０とを有している。ＴＦＴ基板１０とカラーフィルタ基板２０は透明基板（例えばガラス基板）である。ＴＦＴ基板１０とカラーフィルタ基板２０との間には、液晶層３が配置されている。ＴＦＴ基板１０の液晶層３とは反対側の面には偏光板４が貼り付けられ、カラーフィルタ基板の液晶層３とは反対側の面には偏光板５が貼り付けられている。
【００１７】
図１に示すように、液晶表示パネル１では１画素に４つのサブ画素Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４が形成されている。図１及び図２に示すように、ＴＦＴ基板１０には液晶を駆動するためのスイッチとして機能する薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）が形成され、ＴＦＴはサブ画素のそれぞれに設けられている。
【００１８】
図１に示すように、ＴＦＴ基板１０には、ＴＦＴをオン／オフするための走査信号が印加される複数のゲート電極線１１が形成されている。また、ＴＦＴ基板１０には、各サブ画素の階調値に対応した映像信号が印加される複数のドレイン電極線１２が形成されている。ゲート電極線１１とドレイン電極線１２は格子状に形成されている。
【００１９】
この例の液晶表示パネル１はＩＰＳ（Ｉｎ  Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式の液晶表示パネルであり、ＴＦＴ基板１０の各サブ画素には、図２に示すように、共通電極１３と、共通電極１３と対向する画素電極１８とが形成されている。共通電極１３と画素電極１８はＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）などの透明導電膜で形成されている。
【００２０】
この例の液晶表示パネル１では、共通電極１３は、ゲート電極線１１とともに、ＴＦＴ基板１０上に形成されている。共通電極１３とゲート電極線１１上には、これらを覆うゲート絶縁膜１４が形成されている。なお、ゲート電極線１１とＴＦＴ基板１０との間にも、共通電極１３と同様の透明導電膜が形成されている。図２に示すように、ゲート絶縁膜１４上には上述のドレイン電極線１２と、アモルファスシリコンや微結晶シリコンなどの半導体層１５とが形成されている。半導体層１５はゲート電極線１１の上方に位置している（図１及び図２参照）。半導体層１５上には、ソース電極１６と、ドレイン電極線１２から半導体層１５上に延びるドレイン電極１２ａと、が形成されている。ドレイン電極線１２、ソース電極１６、及び半導体層１５上には、ＳｉＯ２などの半導体酸化物又はＳｉＮなどの半導体窒化物で形成され、これらを覆う保護絶縁膜１７が形成されている。保護絶縁膜１７上に上述した画素電極１８が形成されている。画素電極１８は保護絶縁膜１７に形成されたスルーホール１７ａを通してソース電極１６に接続されている。図１及び図２に示すように、画素電極１８には複数のスリット１８ａが形成されている。この例では、スリット１８ａは、図１に示すように、一方のドレイン電極線１２から他方のドレイン電極線１２に向かって延び、また、ゲート電極線１１に対して斜めに形成されている。なお、本明細書ではゲート電極線１１と格子状に形成される電極線１２をドレイン電極線と称するが、この電極線１２はソース電極線と称されてもよい。この場合、電極１２ａはソース電極であり、電極１６がドレイン電極である。
【００２１】
ＴＦＴ基板１０の構造は以上説明したものに限られない。例えば、保護絶縁膜１７上には、画素電極１８に加えて、ドレイン電極線１２を覆い且つ共通電極１３と同電位に設定される第２の共通電極が形成されてもよい。このような第２の共通電極によれば、ドレイン電極線１２を流れる信号によって液晶層３に生じる不要な電界を遮蔽できる。また、画素電極１８がゲート電極線１１とともにＴＦＴ基板１０上に形成され、共通電極１３が液晶層３側に形成されてもよい。また、この説明では、液晶表示パネル１はＩＰＳ方式であるが、本発明はＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式などその他の駆動方式に適用されてもよい。
【００２２】
上述したように、液晶表示パネル１はＴＦＴ基板１０と対向するカラーフィルタ基板２０を有している。図３及び図４に示すように、カラーフィルタ基板２０上には、すなわちカラーフィルタ基板２０の液晶層３側の面には、カラーフィルタ層２１が形成されている。カラーフィルタ層２１は互いに色の異なる３つのカラーフィルタを含んでいる。すなわち、カラーフィルタ層２１は第１フィルタ２１Ａと第２フィルタ２１Ｂと第３フィルタ２１Ｃとを含んでいる。第１フィルタ２１Ａと第２フィルタ２１Ｂと第３フィルタ２１Ｃはそれぞれ赤、緑、青のフィルタである。第１フィルタ２１Ａと第２フィルタ２１Ｂと第３フィルタ２１Ｃは、１画素を構成する４つのサブ画素Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４のうち３つのサブ画素Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３の位置にそれぞれ配置されている。なお、フィルタ２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃには染料や顔料などいずれの材料が用いられてもよい。
【００２３】
また、カラーフィルタ層２１は、図３及び図４に示すように、残りのサブ画素Ｐ４の位置に形成される第４フィルタ２１Ｄを有している。第４フィルタ２１Ｄは上述の３つのフィルタ２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃのいずれかと同色のフィルタである。この例では、第４フィルタ２１Ｄは青の色材からなる第３フィルタ２１Ｃと同色のフィルタである。これにより、第３フィルタ２１Ｃを形成する工程と同じ工程で第４フィルタ２１Ｄを形成することが可能となる。
【００２４】
この例では、図４に示すように、サブ画素Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４はストライプ配列を有している。すなわち、サブ画素Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４は１方向（ゲート電極線１１の延伸方向）に並んでいる。第４フィルタ２１Ｄが配置されるサブ画素Ｐ４は１画素における端部に位置するサブ画素である。
【００２５】
カラーフィルタ層２１は、さらに４つのフィルタ２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃ，２１Ｄを区画するブラックマトリクス２２を含んでいる。ブラックマトリクス２２には、例えば、金属クロムや、カーボンやチタンを含む樹脂ブラック、ニッケルなどの金属材料を用いることができる。図４に示すように、ブラックマトリクス２２は、隣接する２つのサブ画素を区画する複数の第１線部２２ａを有している。換言すると、第1線部２２ａは隣接する２つのフィルタを仕切っている。この例では、複数の第１線部２２ａはそれぞれドレイン電極線１２に沿って形成され、ゲート電極線１１の延伸方向に並ぶフィルタ２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃ，２１Ｄを仕切っている（図３参照）。ブラックマトリクス２２は、複数の第１線部２２ａと交差して格子状をなす複数の第２線部２２ｂをさらに含んでいる。複数の第２線部２２ｂはそれぞれゲート電極線１１に沿って形成されている。第２線部２２ｂはドレイン電極線１２の延伸方向に並ぶフィルタ２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃ，２１Ｄを仕切っている。
【００２６】
図３及び図４に示すように、第４フィルタ２１Ｄには、当該第４フィルタ２１Ｄをその厚さ方向に貫通するスリット状の穴２３が形成されている。穴２３は第１線部２２ａに沿った方向に延びている。穴２３は第１線部２２ａに近接して形成されており、第１線部２２ａが穴２３の縁の一部を構成している。この例では、穴２３の、第１線部２２ａ側の縁の全体が、第１線部２２ａによって構成されている。ブラックマトリクスの線幅は、一般的に、フィルタの形状よりも高い精度を得ることができる。そのため、上述のように第１線部２２ａを穴２３の縁として機能させる構造によれば、穴２３を第１線部２２ａと第２線部２２ｂとから離れた位置に形成する構造に比べて、穴２３の大きさのばらつきを抑えることができる。
【００２７】
なお、第４フィルタ２１Ｄは、上述したように、第３フィルタ２１Ｃと同色である。この例ではこれらのフィルタ２１Ｄ，２１Ｃは青のカラーフィルタである。青のカラーフィルタは他の２色のフィルタに比べて光の透過率が低い。そのため、第４フィルタ２１Ｄが画像に与える影響を低減できている。
【００２８】
図３に示すように、カラーフィルタ層２１上にはオーバーコート層２４が形成されている。すなわち、カラーフィルタ層２１の液晶層３側の面はオーバーコート層２４が塗布されている。オーバーコート層２４を形成するオーバーコート剤は穴２３の内側にも形成されている。そのため、サブ画素Ｐ４の全体が開口した構造に比べて、すなわち第４フィルタ２１Ｄが全く存在しない構造に比べて、穴２３の位置に形成される、オーバーコート層２４の凹部２４ａの深さを低減できる。その結果、液晶層３の応答速度の低下を抑えることができる。
【００２９】
上述したように、第１線部２２ａはドレイン電極線１２に沿って形成されている。サブ画素がストライプ配列される液晶表示パネルでは、各サブ画素はドレイン電極線１２に沿った方向に細長いため、第１線部２２ａは図４に示すように第２線部２２ｂよりも長くなる。そのため、第１線部２２ａを穴２３の縁の一部として機能させることによって、穴２３の縁におけるブラックマトリクス２２で構成される部分の割合を、増し易くなる。
【００３０】
なお、この例の液晶表示パネル１では、図４に示すように、サブ画素Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４は矩形であり、第１線部２２ａとドレイン電極線１２は直線的に形成されている。穴２３は第１線部２２ａに沿って直線的に延びており、略矩形である。
【００３１】
図４に示すように、穴２３の一方の端部２３ｂと他方の端部２３ｃは、ドレイン電極線１２の延伸方向におけるサブ画素の中心線Ｃを挟んで互いに反対側に位置している。穴２３は一方の端部２３ｂから他方の端部２３ｃまで続く１つの穴である。すなわち、１つの第１線部２２ａに沿って１つの穴２３だけが形成され、当該穴２３が一方の端部２３ｂから他方の端部２３ｃまで延びている。その構造によれば、穴２３がドレイン電極線１２の延伸方向の途中で切れている構造に比べて、穴２３の縁におけるブラックマトリクス２２で構成される部分の割合を、さらに増すことができる。
【００３２】
第４フィルタ２１Ｄには、ゲート電極線１１の延伸方向（図４においてＸ方向）で隣り合う複数（この例では２つ）の穴２３が形成されている。これにより、サブ画素Ｐ４における穴２３の面積比率を増すことができる。２つの穴２３は、第４フィルタ２１Ｄを挟んで互いに反対側に位置する２つの第１線部２２ａに沿ってそれぞれ形成されている。そして、２つの第１線部２２ａが、２つの穴２３の縁の一部としてそれぞれ機能している。
【００３３】
図４に示すように、２つの穴２３は同じ形状を有し、且つ、平行に形成されている。この例の穴２３は、上述したように、第１線部２２ａに沿った方向に細長い矩形の穴である。そのため、２つ穴２３の間に位置する第４フィルタ２１Ｄの幅は、ドレイン電極線１２の延伸方向（図４においてＹ方向）において概ね均一である。その結果、穴２３の幅を大きくしながらサブ画素Ｐ４における穴２３の面積比率を向上することが、容易となっている。また、穴２３が矩形であるので、穴２３の面積を確保することが容易となっている。
【００３４】
図４に示すように、穴２３の端部２３ｂ，２３ｃは、ブラックマトリクス２２の第２線部２２ｂから離れている。すなわち、穴２３の端部２３ｂ，２３ｃと第２線部２２ｂとの間には、第４フィルタ２１Ｄの端部２１ａが形成されている。そのため、第４フィルタ２１Ｄの端部２１ａは第２線部２２ｂに沿って形成されている。また、第４フィルタ２１Ｄの端部２１ａは、一方の第１線部２２ａから、それとは反対側に位置する第１線部２２ａまで続いている。そのため、ゲート電極線１１の近傍の液晶層３が、黒表示時に十分な光の遮蔽機能を果たしていない場合であっても、第４フィルタ２１Ｄによってその光の透過を抑えることができる。
【００３５】
上述したように、カラーフィルタ層２１上にはオーバーコート層２４が形成されている。図３に示すように、ブラックマトリクス２２の厚さは、第４フィルタ２１Ｄの厚さよりも大きい。この例では、ブラックマトリクス２２の厚さは、他の３つのフィルタ２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃの厚さよりも大きく、ブラックマトリクス２２はフィルタ２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃ，２１Ｄよりも液晶層３に向かって突出している。この構造によれば、オーバーコート層２４の凹部２４ａの深さをさらに低減でき、サブ画素Ｐ４での液晶層３の応答速度の低下を抑えることができる。
【００３６】
さらに、この例では、第４フィルタ２１Ｄの厚さは、フィルタ２１Ａ，２１Ｂの厚さよりも大きい。そのため、サブ画素Ｐ４での液晶層３の応答速度が凹部２４ａの存在によって遅くなることを、さらに効果的に抑えることができる。なお、上述したように、第４フィルタ２１Ｄは第３フィルタ２１Ｃと同じ工程で形成されるため、第４フィルタ２１Ｄの厚さと第３フィルタ２１Ｃの厚さは同じである。
【００３７】
図５及び図６は液晶表示パネル１の変形例を示す図である。図５は当該変形例の液晶表示パネルを構成するＴＦＴ基板１１０の平面図である。図６は当該変形例を構成するカラーフィルタ基板１２０の平面図である。なお、これらの図では、これまで説明した箇所と同一の箇所には同一符号を付している。以下では液晶表示パネル１と異なる点についてのみ説明し、その他の点は液晶表示パネル１と同様である。
【００３８】
図５に示すように、この例のＴＦＴ基板１１０では、各サブ画素Ｐ１,Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４は平面視において略Ｖ字状である。詳細には、各サブ画素Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４はゲート電極線１１の延伸方向に開いたＶ字状となっている。そのため、画素電極１１８も平面視で略Ｖ字状となっている。また、ドレイン電極線１１２は、サブ画素Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４がＶ字状となるように、その中途部で屈曲している。なお、この例では、画素電極１１８に形成されたスリット１１８ａは一方のゲート電極線１１から他方のゲート電極線１１に向かって延びている。また、スリット１１８ａはドレイン電極線１２と同様に屈曲している。
【００３９】
図６に示すように、ブラックマトリクス１２２が有する第１線部１２２ａはサブ画素Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４の形状に合わせて屈曲している。すなわち第１線部１２２ａはドレイン電極線１１２に沿って形成され、ドレイン電極線１１２と同様にその中途部で屈曲している。
【００４０】
この例においても、第４フィルタ２１Ｄには穴１２３が形成されている。穴１２３は第１線部１２２ａに沿って形成され、第１線部１２２ａに合わせてその中途部で屈曲している。そのため、穴１２３も略Ｖ字状となっている。
【００４１】
穴２３と同様に、穴１２３は第１線部１２２ａに近接しており、穴１２３の縁の一部、すなわち第１線部１２２ａ側の縁は、当該第１線部１２２ａによって構成されている。この例においても、第４フィルタ２１Ｄには２つの穴１２３が形成されている。２つの穴１２３は、それぞれ、第４フィルタ２１Ｄを挟んで互いに反対側に位置する２つの第１線部１２２ａに沿って形成されている。２つの穴１２３は同じ形状である。すなわち、２つの穴１２３は共に略Ｖ字状である。そのため、２つの穴１２３の間の部分では、第４フィルタ２１Ｄの幅はドレイン電極線１１２の延伸方向において均等である。
【００４２】
なお、本発明は以上説明した実施形態に限られず、種々の変更が可能である。
【００４３】
例えば、以上の説明ではブラックマトリクス２２，１２２の厚さはフィルタ２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃ，２１Ｄの厚さよりも大きかった。しかしながら、ブラックマトリクス２２の厚さはフィルタ２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃ，２１Ｄの厚さよりも小さくてもよい。
【００４４】
また、以上の説明では、第４フィルタ２１Ｄには２つの穴２３，１２３が形成されていた。しかしながら、第４フィルタ２１Ｄにはさらに多くの穴が形成されてもよい。
【００４５】
また、第４フィルタ２１Ｄに形成される複数の穴は、ドレイン電極線１２の延伸方向に並んでもよい。
【符号の説明】
【００４６】
１  液晶表示パネル、４，５  偏光板、３  液晶層、１０  ＴＦＴ基板、１１  ゲート電極線、１２  ドレイン電極線、１３  共通電極、１４  ゲート絶縁膜、１５  半導体層、１６  ソース電極、１７  保護絶縁膜、１８  画素電極、２０  カラーフィルタ基板、２１  カラーフィルタ層、２１Ａ  第１フィルタ、２１Ｂ  第２フィルタ、２１Ｃ  第３フィルタ、２１Ｄ  第４フィルタ、２１ａ  端部、２２  ブラックマトリクス、２２ａ  第１線部、２２ｂ  第２線部、２３  穴、２３ｂ，２３ｃ  端部、２４  オーバーコート層、Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４  サブ画素、１１０  ＴＦＴ基板、１１２  ドレイン電極線、１１８  画素電極、１２０  カラーフィルタ基板、１２２  ブラックマトリクス、１２２ａ  第１線部、１２３  穴。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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