(57)【要約】【課題】本発明の課題は、基体上に低屈折率層および高屈折層を備える赤外線抑制フィルムの断熱性を高めることにある。【解決手段】基体と、該基体上に形成された、高分子化合物および無機化合物粒子を含む低屈折率層と、該基体および該低屈折率層の間または該低屈折率層上に該低屈折率層に接して形成された、高分子化合物および無機化合物粒子を含み、該低屈折率層の屈折率よりも高い屈折率を示す高屈折率層と、を備え、該低屈折率層および該高屈折率層の少なくともいずれか一つの層が、中空粒子を含み、可視光透過性を示すことを特徴とする赤外線抑制フィルム。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体と、
該基体上に形成された、高分子化合物および無機化合物粒子を含む低屈折率層と、
該基体および該低屈折率層の間または該低屈折率層上に該低屈折率層に接して形成された、高分子化合物および無機化合物粒子を含み、該低屈折率層の屈折率よりも高い屈折率を示す高屈折率層と、
を備え、
該低屈折率層および該高屈折率層の少なくともいずれか一つの層が、中空粒子を含み、
可視光透過性を示すことを特徴とする赤外線抑制フィルム。
【請求項２】
該低屈折率層および該高屈折率層の少なくともいずれか一つの層に含まれる無機化合物粒子が、中空粒子であることを特徴とする、請求項１に記載の赤外線抑制フィルム。
【請求項３】
該低屈折率層が、中空粒子を含むことを特徴とする、請求項１または請求項２に記載の可視光透過性の赤外線抑制フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、赤外線抑制フィルムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
可視光透過性を示す赤外線抑制フィルムは、赤外線の透過を抑制して室内温度の上昇を防ぐ目的で、建物や乗り物、例えば、自動車、電車、バス、航空機、船舶などの窓ガラスに貼着されて使用されるほか、農業ハウス用としても使用され、特に、夏の冷房に費やすエネルギーの削減に有効である。
【０００３】
特許文献１には、透明なフィルムの表面に、低屈折率層と高屈折率層を交互に積層した赤外線反射フィルムが記載されている。
【０００４】
また、断熱性を備えたフィルムを窓ガラスに貼着すれば、冬の暖房に費やすエネルギーの削減にも有効である。特許文献２にはシリカの殻部からなる中空粒子を用いた断熱層フィルムと、赤外線カットフィルムと、紫外線カットフィルムを積層した、三層積層フィルムが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１１‐２２４９６４号公報
【特許文献２】特開２０１１‐１２６２８４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、赤外線抑制フィルム自体の断熱性を高めることができれば、簡易な構成で赤外線を抑制して断熱性を示すフィルムが得られるので、夏冬ともにエネルギーの削減に寄与する赤外線抑制フィルムを低コストで提供可能になることが期待できる。
そこで、本発明の課題は、基体上に低屈折率層および高屈折率層を備える赤外線抑制フィルムの断熱性を高めることにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
第１の発明は、基体と、該基体上に形成された、高分子化合物および無機化合物粒子を含む低屈折率層と、該基体および該低屈折率層の間または該低屈折率層上に該低屈折率層に接して形成された、高分子化合物および無機化合物粒子を含み、該低屈折率層の屈折率よりも高い屈折率を示す高屈折率層と、を備え、該低屈折率層および該高屈折率層の少なくともいずれか一つの層が、中空粒子を含み、可視光透過性を示すことを特徴とする赤外線抑制フィルムである。
【０００８】
第２の発明は、該低屈折率層および該高屈折率層の少なくともいずれか一つの層に含まれる無機化合物粒子が、中空粒子であることを特徴とする、第１の発明に記載の赤外線抑制フィルムである。
【０００９】
第３の発明は、該低屈折率層が、中空粒子を含むことを特徴とする、第１の発明または第２の発明に記載の赤外線抑制フィルムである。
【発明の効果】
【００１０】
本発明では、簡易な構成で、断熱性を高めた赤外線抑制フィルムを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】赤外線抑制フィルムの一例を示す断面図
【図２】赤外線抑制フィルムの一例を示す断面図
【図３】赤外線抑制フィルムの一例を示す断面図
【発明を実施するための形態】
【００１２】
図１は本発明の実施態様の一例を説明する赤外線抑制フィルム４０の断面図である。赤外線抑制フィルム４０は、可視光透過性を示し、基体１と、該基体１上に形成された、高分子化合物および無機化合物粒子を含む低屈折率層２と、該基体１および該低屈折率層２の間に該低屈折率層２に接して形成された、高分子化合物および無機化合物粒子を含む、該低屈折率層２の屈折率よりも高い屈折率を示す高屈折率層３と、を備え、高屈折率層３および低屈折率層２の少なくともいずれか一つの層が、中空粒子を含むことを特徴としている。該赤外線抑制フィルム４０は、高屈折率層３と低屈折率層２を積層した構造が赤外線反射性を示し、かつ中空粒子を含む層が断熱性を示す簡易な構成である。
【００１３】
図２は、本発明の実施態様の他の例を説明する赤外線抑制フィルム５０の断面図である。赤外線抑制フィルム５０は、可視光透過性を示し、基体１と、該基体１上に形成された高分子化合物および無機化合物粒子を含む低屈折率層２と、低屈折率層２上に該低屈折率層２に接して形成された、高分子化合物および無機化合物粒子を含む、該低屈折率層２よりも高い屈折率を示す高屈折率層３と、を備え、低屈折率層２および高屈折率層３の少なくともいずれか一つの層が、中空粒子を含むことを特徴としている。該赤外線抑制フィルム５０は、低屈折率層２と高屈折率層３を積層した構造が赤外線反射性を示し、かつ中空粒子を含む層が断熱性を示す、簡易な構成の赤外線抑制フィルムである。
【００１４】
図３は、本発明の実施態様のさらに他の例を説明する赤外線抑制フィルム６０の断面図である。赤外線抑制フィルム６０は、可視光透過性を示し、基体１の上に、低屈折率層２と高屈折率層３とを交互に７層積層した赤外線抑制フィルムであり、少なくともいずれか一つの層が、中空粒子を含む赤外線抑制フィルムである。該赤外線抑制フィルム６０は、低屈折率層２と高屈折率層３を交互に７層積層した構造が赤外線反射性を示し、かつ中空粒子を含む層が断熱性を示す、簡易な構成の赤外線抑制フィルムである。
【００１５】
本発明の実施態様では、該低屈折率層および該高屈折率層の少なくともいずれか一つの層に含まれる無機化合物粒子が、中空粒子であることが好ましい。屈折率を調整するために含まれる無機化合物粒子が、断熱性を高めるために含まれる中空粒子を兼ねるので、より簡易な構成の赤外線抑制フィルムを得ることができるからである。
【００１６】
本発明の実施態様では、低屈折率層に中空粒子を含むことが好ましい。中空粒子の内部には通常、その外殻部よりも屈折率が低い気体成分や液体成分が充填されているので、低屈折率層に中空粒子を含ませることにより低屈折率層の屈折率をより低くすることができるからである。
【００１７】
下記に、本発明に係る赤外線抑制フィルムの各構成について詳しく説明する。
【００１８】
＜基体＞
基体は、仕様または用途に応じて適宜選定されるものであり、特に制限はない。基体の材料としては、例えば、ガラスや高分子化合物を好適に用いることができる。高分子化合物としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル；ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン；ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、アセチルセルロースブチレートなどのセルロース；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどの塩化ビニル；ポリビニルアルコール；エチレン−酢酸ビニル共重合体などのビニル系共重合体；ポリスチレン；ポリカーボネート；ポリメチルペンテン；ポリスルホン；ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルイミドなどのポリエーテル；ポリイミド；フッ素高分子化合物；ポリアミド；アクリル高分子化合物；ノルボルネン高分子化合物；シクロオレフィン高分子化合物、などが挙げられる。これらの中でも、強度、可視光透過性および製造コストの観点から、ポリエチレンテレフタレートが好ましい。
【００１９】
基体は、その表面に設けられる層との密着性を向上させる目的で、所望により片面または両面に、表面酸化法や表面凹凸化法等により表面処理を施すことができる。表面酸化法としては、例えばコロナ放電処理、火炎処理、熱風処理、オゾン処理、紫外線照射処理、プラズマ照射処理、クロム酸処理などが挙げられ、表面凹凸化法としては、サンドブラスト法、溶剤処理法などが挙げられる。これらの表面処理法は、基体の種類に応じて適宜選ばれるが、一般にはコロナ放電処理法が好ましく用いられる。
【００２０】
基体の厚さは、仕様または用途に応じて適宜選定され、特に制限はない。通常、１０μｍ〜３００μｍ、好ましくは３０μｍ〜２００μｍ、より好ましくは５０μｍ〜２００μｍである。
【００２１】
＜高屈折率層、低屈折率層＞
高屈折率層および低屈折率層は、高分子化合物および屈折率を調整するために無機化合物粒子を有するものである。さらに、該低屈折率層および該高屈折率層の少なくともいずれか一つの層が中空粒子を含む。高屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率よりも高くなるように調整される。屈折率は、無機化合物粒子の種類や含有量を適宜選択することで主に調整することができる。
【００２２】
（高分子化合物）
低屈折率層または高屈折率層に含まれる高分子化合物は、無機化合物粒子を保持することができれば特に制限はなく、油溶性高分子化合物、水溶性高分子化合物、水性エマルジョンなどが利用できる。用途や塗布方法に合せて適宜利用される。また、高分子化合物は、有機合成高分子化合物でも天然有機高分子化合物でもよい。有機合成高分子化合物の例として、例えば、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアクリル、ポリメタクリル、ポリイミド、ポリアミド、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリオレフィン、ポリシクロオレフィン、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリエーテル、ポリアセタールなどの重合体、またはこれらの共重合体、あるいは変性したセルロース樹脂などが挙げられ、可視光透過性の高い樹脂が好ましい。また、天然有機高分子化合物の例として、ゼラチン、寒天、カラギナン、キサンタンガム、アラビアガム、グアガムが挙げられる。
【００２３】
低屈折率層または高屈折率層に含まれる高分子化合物は、無機化合物で変性された高分子化合物であってもよい。無機化合物粒子は、高分子化合物が無機化合物で変性された部位を有することで、無機化合物粒子と高分子化合物の親和性が向上して、無機化合物粒子を良好に保持することができるからである。さらに、低屈折率層または高屈折率層の屈折率を無機化合物粒子で調整する場合に、高分子化合物が層の屈折率に与える影響を減らすことができるからである。
【００２４】
無機化合物による変性の例としては、シリコーン変性などのケイ素化合物変性、スズ化合物変性、チタン化合物変性、アルミニウム化合物変性などが挙げられる。無機化合物で変性された高分子化合物は、無機化合物と高分子化合物とのグラフト重合体でもよいし、無機化合物と高分子化合物との共重合体でもよい。特に、シリコーンアクリル高分子化合物が無機化合物との親和性と可視光透過性の観点から好ましい。
【００２５】
高分子化合物の重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算の値で５，０００〜１，０００，０００の範囲であることが好ましい。高分子化合物の低屈折率層または高屈折率層中の含有量は、２０重量％〜８０重量％であることが好ましく、４０重量％〜６０重量％であることがより好ましい。
【００２６】
低屈折率層あるいは高屈折率層の厚みは、反射させようとする赤外線の波長により選択されるが、１００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲が好ましく、２００ｎｍ〜３５０ｎｍの範囲であることがさらに好ましい。
【００２７】
（無機化合物粒子）
低屈折率層または高屈折率層の屈折率を調整する粒子には、特に制限はないが無機化合物粒子が好んで使用される。無機化合物粒子の屈折率は、特に限定されないが、１．３〜５．０の範囲であることが好ましい。粒子径を小さく調製した無機化合物粒子が、低屈折率層または高屈折率層に分散されることで、可視光透過性が示される。
【００２８】
無機化合物粒子としては、金属や半金属、またはそれらの酸化物、リン酸化物、窒化物、炭化物、ハロゲン化物などが挙げられる。無機化合物粒子の粒子径は、特に制限はなく、可視光透過性や屈折率の観点より適宜選定されるが、通常、１ｎｍ〜１μｍの範囲、好ましくは５ｎｍ〜１００ｎｍの範囲である。
【００２９】
屈折率が高い高屈折率層の調整に用いる無機化合物として、例えば、酸化チタン、酸化鉛、酸化鉄、酸化タングステン、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化ビスマス、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、およびこれらの複合化合物、さらにこれらに他の元素がドープされた化合物が挙げられ、酸化チタン、酸化スズが特に好ましい。
【００３０】
また、屈折率が低い低屈折率層の調整に用いる無機化合物として、例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、フッ化ナトリウム、フッ化マグネシウム、フッ化リチウム、フッ化カルシウム、およびこれらの複合化合物、さらにこれらに他の元素がドープされた化合物が挙げられ、酸化ケイ素、酸化アルミニウムが特に好ましい。
【００３１】
（中空粒子）
低屈折率層または高屈折率層の少なくともいずれか一つの層に含まれる中空粒子は、外殻部と、該外殻部で仕切られた中空の内部とから構成される。中空粒子の内部には、気体成分および液体成分の両方またはいずれか一方が充填されている。中空粒子の内部に充填されている気体成分や液体成分は通常、中空粒子の外殻部よりも伝熱性が低いので、低屈折率層または高屈折率層の少なくともいずれか一つの層が中空粒子を含むことで、赤外線抑制フィルムの断熱性を高めることができる。
【００３２】
中空粒子としては、外殻部に有機化合物を用いた有機系中空粒子であっても、外殻部に無機化合物を用いた無機系中空粒子であってもよい。
【００３３】
無機系中空粒子の外殻部としては、特に制限はないが、例えば、上述した無機化合物粒子で挙げた無機化合物と同じものを用いることができる。
【００３４】
無機系中空粒子の外殻部としては、酸化ケイ素の中空粒子を使用することが好ましい。酸化ケイ素の中空粒子は、粒子径が小さく可視光透過性への影響が小さいものが分散液として市販されており、入手しやすいからである。また、酸化ケイ素の中空粒子を用いる場合には、低屈折率層に含ませることが好ましい。酸化ケイ素は低屈折率層の屈折率を調整するために好適なので、酸化ケイ素の中空粒子は、低屈折率層の屈折率を調整するために含まれる無機化合物粒子と断熱性を高めるために含まれる中空粒子とを好適に兼ねることができるからである。
【００３５】
有機系中空粒子の外殻部としては、特に制限はないが、例えば、アクリル樹脂、ポリメタクリル樹脂、スチレン‐アクリル樹脂、芳香族ビニル系樹脂、あるいはこれらを架橋させたものなどを用いることができる。
【００３６】
中空粒子の内部に充填される気体成分としては、例えば空気や希ガスが挙げられ、また、中空粒子の内部に充填される液体成分としては、水や有機系溶剤が挙げられる。空気が内部に充填された中空粒子は、断熱性が高く取り扱いが容易なので、好ましく用いることができる。
【００３７】
中空粒子の平均粒子径は、可視光透過性や屈折率に与える影響を抑制するため、通常、１ｎｍ〜１μｍの範囲、好ましくは５ｎｍ〜１００ｎｍの範囲である。なお、粒子径が所望範囲の中空粒子を得る方法としては、例えば、粒子径の違う中空粒子どうしでは見かけの比重が異なることを利用して、下方が密度が高く上方が密度が低くなるように密度勾配を作った溶剤のなかに中空粒子を入れて、粒子径の小さい中空粒子を溶剤の下方に粒子径の大きな中空粒子を溶剤の上方に分離することで、粒子径が所望範囲の中空粒子を得る方法が挙げられる。
【００３８】
中空粒子の低屈折率層または高屈折率層中の含有量は、無機化合物粒子と中空粒子との合計が２０重量％〜８０重量％であることが好ましく、４０重量％〜６０重量％であることがより好ましい。中空粒子や無機化合物粒子の含有量が少なすぎると、断熱性や屈折率の調整が不十分になるおそれがあり、無機化合物粒子の含有量が多すぎると、高分子化合物の含有量が減って、基体と赤外線吸収層との間の密着性が不十分になるおそれがあるからである。また、無機化合物粒子と中空粒子とをそれぞれ含有させる場合には、断熱性と屈折率調整の観点より、無機化合物粒子と中空粒子との比率は、２０：８０〜８０：２０であることが好ましい。なお、無機化合物粒子と中空粒子とを兼ねる粒子を含有させる場合には、その粒子の低屈折率層または高屈折率層中の含有量が、好ましくは２０重量％〜８０重量％、より好ましくは４０重量％〜６０重量％である。
【００３９】
（添加剤）
低屈折率層や高屈折率層には、さらに必要に応じて、例えば酸化防止剤、赤外線吸収剤、紫外線吸収剤、光安定剤などの各種添加剤を含有させることができる。
【００４０】
＜その他の層＞
赤外線抑制フィルムには、低屈折率層や高屈折率層の他に、任意の機能層が形成されていてもよい。該機能層としては、例えば、粘着性を示す粘着層、離型性を示す離型層、赤外線吸収性を示す赤外線吸収層、紫外線吸収性を示す紫外線吸収層、などが挙げられる。
【００４１】
＜赤外線抑制フィルム＞
本発明の赤外線抑制フィルムは、基体、低屈折率層、および高屈折率層を少なくとも一つずつ備え、低屈折率層、および高屈折率層の少なくともいずれか一つの層に中空粒子を含み、可視光透過性が良好で、かつ、赤外線を反射して、断熱性を示すものである。
【００４２】
高分子化合物に無機化合物粒子および／または中空粒子を分散させた層において、分散された粒子の大きさが可視光の特定波長λｏの１／４以下であると、該フィルムはλｏの波長の可視光を透過するといわれている。青の光の波長の１／４、すなわち約１００ｎｍ以下の粒子サイズの粒子が分散されたフィルムは、青から赤までの全可視光を透過しやすくなる。
【００４３】
赤外線反射性を示す構造は、少なくとも１組の高屈折率層および低屈折率層が基体に積み重ねられたものである。また、基体自体が低屈折率層や高屈折率層としての機能をもつこともある。赤外線反射性は、高屈折率層から低屈折率層に向かって赤外線が入射されるときに高屈折率層と低屈折率層の界面で得られ易い。
【００４４】
積層された各層のうち三以上連続した層で屈折率の高低が繰り返されている、つまり各層の相対的な屈折率が「高−低−高．．．」または「低−高−低．．．」となる関係にあることが好ましい。赤外線が、基体のどちら側から入射されても赤外線反射性を示す赤外線抑制フィルムが得られるからである。層数が増すにしたがって赤外線反射性は向上するが、逆に可視光線透過性は低下するため、使用用途に合わせて、適当な層数を選択するのがよく、赤外線抑制フィルムに含まれる低屈折率層と高屈折率層との総数は、３〜２０の範囲が好ましく、５〜１３の範囲がより好ましい。
【００４５】
高屈折率層の屈折率と低屈折率層の屈折率の差は、特に限定されないが、０．１〜０．４の範囲であることが好ましい。屈折率差が０．１よりも小さいときは赤外線反射性が十分に得られないおそれがあり、０．４よりも大きいときは干渉縞が発生する恐れがある。
なお、３層以上積層した赤外線反射性フィルムの場合、隣り合った層の屈折率の差が前記範囲内であればよく、隣接する全ての層における屈折率の差が同じである必要はない。
【００４６】
反射される赤外線の波長λと、積層された層の光学厚み（層の厚さｄ×層の屈折率ｎ）と、の間には、
ｄ×ｎ＝λ／４
の関係がある。低屈折率層２の厚みが１００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲、好ましくは２００ｎｍ〜３５０ｎｍの範囲であると、赤外線を選択的に反射しやすくなる。
【００４７】
＜製造方法＞
本発明に係る赤外線抑制フィルムの製造方法は、特に制限はないが、下記に、本発明に係る赤外線抑制フィルムの製造方法の一例について詳しく説明する。
【００４８】
赤外線抑制フィルムの製造方法は、例えば、基体の準備工程、低屈折率層の形成工程、高屈折率層の形成工程を備える、可視光透過性を示す赤外線抑制フィルムを製造する方法である。なお、低屈折率層を形成する工程と高屈折率層を形成する工程は、下記の同時多層形成法によって同時に行ってもよい。また、逐次に行ってもよい。基体の準備工程は、基体を準備する工程である。低屈折率層や高屈折率層の形成工程は、基体の準備工程で準備された基体上に、高分子化合物および無機化合物粒子を含む低屈折率層や高屈折率層の少なくともいずれか一つの層に中空粒子を含む層を形成する工程である。
【００４９】
（基体の準備工程）
基体の準備工程は、上記した基体を準備する工程である。基体は、市販品を用いてもよいし、適宜作製してもよい。
【００５０】
（低屈折率層、高屈折率層の形成工程）
低屈折率層や高屈折率層の形成工程は、例えば、上記した高分子化合物、上記した無機化合物粒子、および必要に応じて溶剤を含有させた低屈折率層形成用インキや高屈折率層形成用インキを準備し、中空粒子を両方のインキまたは少なくともいずれか一つのインキ中に添加した低屈折率層形成用インキおよび高屈折率層形成用インキを基体上に塗布した後、固化することで、基体上に低屈折率層や高屈折率層を形成する工程である。
【００５１】
インキで必要に応じて用いられる溶剤は、高分子化合物、無機化合物粒子、中空粒子を溶解させたり分散させたりできるものを公知の溶剤から適宜選択して用いることができる。インキの塗布法としては、ダイ塗布法、グラビア塗布法、スクリーン塗布法などの公知の塗布法を適宜選択して用いることができる。インキの固化法としては、乾燥、冷却、硬化などの公知の方法を適宜選択して用いることができる。
【００５２】
無機化合物粒子は、多種多様な分散液が市販されており、これらの市販品を適宜用いるのが簡便であり好ましい。市販品としては、例えば、日本アエロジル株式会社製のＡＥＲＯＤＩＳＰ（登録商標）製品シリーズ、日産化学工業株式会社製のサンコロイド（登録商標）製品シリーズ、日揮触媒化成株式会社製のオプトレイク（登録商標）製品シリーズ、デュポン社製のルドックス（登録商標）製品シリーズなどを挙げることができる。
【００５３】
赤外線抑制フィルムが複数の低屈折率層や高屈折率層を含む場合、低屈折率層や高屈折率層を形成する工程では、いわゆる同時多層形成法を用いてもよいし、逐次多層形成法を用いてもよい。
【００５４】
同時多層形成法は、複数のインキを準備し、該複数のインキからそれぞれインキ液層を複数形成させた後、これらの複数のインキ液層を積み重ねて、積み重ねられた複数のインキ液層を基体に同時に塗布した後、固化することで、複数の低屈折率層や高屈折率層を基体上に形成する方法である。同時多層形成法では、積み重ねられたインキ液層を同時に基体に塗布した後で固化するので、固化後の層にインキを塗布したときにインキが層を溶かしてしまう問題が起こらない。そのため、層どうしの界面が明確に形成されやすいので、赤外線抑制フィルムで赤外線反射性を示すようにする場合に、好適に用いることができる。
【００５５】
同時多層形成法では、一つのインキ液層に含有させた成分と反応して難溶性生成物が生じる成分を、積み重ねたときに該一つのインキ液層に接することになる他のインキ液層に含有させておくことが好ましい。これらのインキ液層を積み重ねた時に、両インキ液層の接触界面で難溶性生成物が生じてこれらのインキ層どうしが混合することが妨げられ、安定的に層どうしの界面を明確に形成させることができるからである。難溶性生成物が生じる成分の組み合わせとしては、例えば、有機チタン化合物とポリビニルアルコールが挙げられる。
【００５６】
同時多層形成法では、冷却するとゲル化するゲル化成分をインキに含有させておくことが好ましい。インキ液層を積み重ねた後速やかに冷却することで、ゲル化成分を含有させたインキ液層の流動性が低下してインキ液層どうしが混合することが妨げられ、安定的に層どうしの界面を明確に形成させることができるからである。ゲル化成分としては、例えば、ゼラチン、寒天、カラギナン、キサンタンガム、アラビアガム、グアガムが挙げられる。
【００５７】
逐次多層形成法は、例えば低屈折率層形成用インキを塗布し固化して形成した後、高屈折率層形成用インキを塗布し固化して形成することを繰り返すことで、複数の層を基体上に形成する方法である。
【実施例】
【００５８】
本発明に係る赤外線抑制フィルムについて、実施例によりさらに具体的に説明する。
【００５９】
（測定方法）
屈折率は、屈折率計（株式会社溝尻光学工業所製の「ＤＶＡ−３６Ｌ型」）を用いて測定し、波長５８９ｎｍで測定した結果とした。なお、複数の層が積層されている状態での各層の屈折率の測定は、その積層体を構成する各層の分光反射と透過スペクトルとを得た後、光干渉式反射分光膜厚計（例えば大塚電子株式会社製の「ＦＥ−３０００ＹＩＴ」）を用いて測定することができる。各層の分光反射と透過スペクトルは、各層の成分分析を行って各層を特定することによって準備できる。
【００６０】
可視光線透過率は、ＪＩＳ  Ｒ３１０６（１９９８）に準拠して測定した。可視光線は、赤外線遮蔽フィルムの基体とは反対側から照射した。可視光透過率が大きいほど、可視光透過性に優れる。一方、赤外線透過率（日射透過率）は、ＪＩＳ  Ｒ３１０６（１９９８）に準拠して測定した。赤外線は、赤外線遮蔽フィルムの光透過性基体とは反対側から照射した。赤外線透過率が小さいほど、赤外線遮蔽性に優れる。
【００６１】
断熱性は、赤外線抑制フィルムと厚さ３ｍｍのフロートガラスとを、赤外線抑制フィルムの赤外線反射層側とは反対側に厚さ２５μｍのアクリル系粘着材を介して、貼り合わせた後、ガラス側からガラス面に垂直の方向への熱貫流率をＪＩＳ  Ｒ３１０７（１９９８）に準拠して測定することで、評価した。熱貫流率が低いほど、断熱性に優れる。
【００６２】
（実施例１）
基体として、厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム「コスモシャイン（登録商標）Ａ４１００」（東洋紡績株式会社製）を準備し、その片面にコロナ処理をおこなった。
【００６３】
下記の組成の高屈折率層形成用インキＡを調整した。
酸化チタン粒子の水分散液                                      ：６０重量部
「ＡＥＲＯＤＩＳＰ（登録商標）−Ｗ７４０」
（日本アエロジル株式会社製、固形分４０％）
シリコーンアクリル高分子化合物の水分散液                      ：１２０重量部
「シャリーヌ（登録商標）ＦＥ−２３０Ｎ」
（日信化学工業株式会社製、固形分１０％）
ゼラチン                                                      ：１２重量部
「アルカリ処理牛由来ゼラチンタイプＢ」
（新田ゼラチン株式会社、固形分１００％）
有機チタン化合物                                              ：３重量部
「オルガチックス（登録商標）ТＣ−３１０」
（マツモトファインケミカル株式会社製、固形分４２％）
イオン交換水                                                  ：６００重量部
【００６４】
インキＡを厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム「コスモシャイン（登録商標）Ａ４１００」（東洋紡績株式会社製）上にワイヤーバーを用いて塗布した後、１２０℃のオーブン中で３分間乾燥させて厚さ３μｍの層を形成し、この層の屈折率を測定したところ、屈折率は１．６であった。
【００６５】
下記の組成の低屈折率層形成用インキＢを調整した。
酸化ケイ素中空粒子の水分散液                                  ：１００重量部
「ＥＬＣＯＭ（登録商標）  ＮＹ−１００１ＳＩＶ」
（日揮触媒化成製、固形分２５％）
シリコーンアクリル水分散液                                    ：１２０重量部
「シャリーヌ（登録商標）ＦＥ−２３０Ｎ」
（日信化学工業株式会社製、固形分１０％）
ゼラチン                                                      ：７重量部
「アルカリ処理牛由来ゼラチンタイプＢ」
（新田ゼラチン株式会社、固形分１００％）
ポリビニルアルコール                                          ：６重量部
「ゴーセノール（登録商標）ＫＬ−０３」
（日本合成化学工業株式会社製、固形分１００％）
イオン交換水                                                  ：５５０重量部
【００６６】
インキＢを厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム「コスモシャイン（登録商標）Ａ４１００」（東洋紡績株式会社製）上にワイヤーバーを用いて塗布した後、１２０℃のオーブン中で３分間乾燥させて厚さ３μｍの層を形成し、この層の屈折率を測定したところ、屈折率は１．３７であった。
【００６７】
調整されたインキＡ、インキＢは、４０℃の恒温水槽中でメカニカルスターラーにて加温撹拌し、温度を下げないよう注意しながら、５μｍメッシュのフィルター「ミニザルト（登録商標）  １７５９４Ｋ」（株式会社ハイテック製）に通して異物を除去した。
【００６８】
４０℃に加温した、インキＢ、インキＡ、インキＢ、インキＡ、インキＢ、インキＡ、およびインキＢを、スライドコーターを用いてこの順番で基体のコロナ処理面側に同時塗布した後、５℃の冷却および８０℃の乾燥をおこなうことで、基体上に、基体側；中空粒子を含む低屈折率層／高屈折率層／中空粒子を含む低屈折率層／高屈折率層／中空粒子を含む低屈折率層／高屈折率層／中空粒子を含む低屈折率層；外側の７層の赤外線反射層を形成した。７つの層の総厚みは２．１μｍであった。
【００６９】
（比較例１）
下記の組成の比較用の低屈折率層形成用のインキＣを調整した。
酸化ケイ素粒子の水分散液                                      ：６０重量部
「ルドックス（登録商標）ＨＳ―４０」
（デュポン社製、固形分４０％）
シリコーンアクリル高分子化合物の水分散液                      ：１２０重量部
「シャリーヌ（登録商標）ＦＥ−２３０Ｎ」
（日信化学工業株式会社製、固形分１０％）
ゼラチン                                                      ：６重量部
「アルカリ処理牛由来ゼラチンタイプＢ」
（新田ゼラチン株式会社、固形分１００％）
ポリビニルアルコール                                          ：６重量部
「ゴーセノール（登録商標）ＫＬ−０３」
（日本合成化学工業株式会社製、固形分１００％）
イオン交換水                                                  ：６００重量部
【００７０】
インキＣを厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム「コスモシャイン（登録商標）Ａ４１００」（東洋紡績株式会社製）上にワイヤーバーを用いて塗布した後、１２０℃のオーブン中で３分間乾燥させて厚さ３μｍの層を形成し、この層の屈折率を測定したところ、屈折率は１．４であった。
【００７１】
調整されたインキＡ、インキＣは、４０℃の恒温水槽中でメカニカルスターラーにて加温撹拌し、温度を下げないよう注意しながら、５μｍメッシュのフィルター「ミニザルト（登録商標）  １７５９４Ｋ」（株式会社ハイテック製）に通して異物を除去した。
【００７２】
４０℃に加温したインキＣ、インキＡ、インキＣ、インキＡ、インキＣ、インキＡ、およびインキＣをスライドコーターを用いてこの順番で基体のコロナ処理面側に同時塗布した後、５度の冷却および８０℃の乾燥をおこなうことで、基体上に、基体側；低屈折率層／高屈折率層／低屈折率層／高屈折率層／低屈折率層／高屈折率層／低屈折率層；外側の７層の赤外線反射層を形成した。７つの層の総厚みは２．１μｍであった。
【００７３】
波長３５０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲の全可視光線透過率は、実施例１の赤外線抑制フィルムは８６％で、比較例１の赤外線抑制フィルムは８７％で、ほとんど差がなく同等であった。また赤外線の反射率は、実施例１の赤外線抑制フィルムは、波長１０００ｎｍの赤外線反射率が６０％、７８０ｎｍ〜２１００ｎｍの範囲の全赤外線反射率が２２％であり、比較例１の赤外線抑制フィルムは、波長１０００ｎｍの赤外線反射率が５６％、７８０ｎｍ〜２１００ｎｍの範囲の全赤外線反射率が２０％で、実施例１の赤外線反射率がわずかに高かった。
【００７４】
実施例１の赤外線抑制フィルムが貼付されたガラス板の熱貫流率は４．２であり、比較例の赤外線抑制フィルムが貼付されたガラス板の熱貫流率は６．１で、実施例１の赤外線抑制フィルムの断熱性の方が、比較例１の赤外線抑制フィルムの断熱性よりも良好であった。
【００７５】
（実施例２）
実施例１および比較例１と同様の手順でインキＡ、インキＢ、インキＣを調整した後、調整されたインキＡ、インキＢ、インキＣについて、４０℃の恒温水槽中でメカニカルスターラーにて加温撹拌し、温度を下げないよう注意しながら、５μｍメッシュのフィルター「ミニザルト（登録商標）  １７５９４Ｋ」（株式会社ハイテック製）に通して異物を除去した。
【００７６】
４０℃に加温したインキＣ、インキＡ、インキＣ、インキＡ、インキＣ、インキＡ、およびインキＢをスライドコーターを用いてこの順番で基体のコロナ処理面側に同時塗布した後、５度の冷却および８０℃の乾燥をおこなうことで、基体上に、基体側；低屈折率層／高屈折率層／低屈折率層／高屈折率層／低屈折率層／高屈折率層／中空粒子を含む低屈折率層；外側の７層の赤外線反射層を形成した。７つの層の総厚みは２．１μｍであった。
【００７７】
実施例２の赤外線抑制フィルムは、波長３５０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲の全可視光線透過率が８７％、波長１０００ｎｍの赤外線反射率が５７％、７８０ｎｍ〜２１００ｎｍの範囲の全赤外線反射率が２１％であった。また、実施例２の赤外線抑制フィルムが貼付されたガラス板の熱貫流率は５．５であり、実施例２の赤外線抑制フィルムの断熱性の方が、比較例１の赤外線抑制フィルムの断熱性よりも良好であった。
【符号の説明】
【００７８】
１：基体
２：低屈折率層
３：高屈折率層
４０、５０、６０：赤外線抑制フィルム
【図１】
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【図２】
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【図３】
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