(57)【要約】【課題】電磁波シールド膜を効率よく形成するのに用いることができ、最終製品の小型化、薄型化に寄与することができる電磁波シールド膜形成用組成物を提供すること。【解決手段】本発明の電磁波シールド膜形成用組成物は、電磁波を発生する部材および／またはそれを覆う部材に電磁波シールド効果を有する膜を形成するのに用いるものであって、液状をなし、インクジェット方式により吐出されるものであり、電磁波抑制材料で構成された粉末を含むことを特徴とする。前記粉末は、鱗片状をなすものであることが好ましい。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
電磁波を発生する部材および／またはそれを覆う部材に電磁波シールド効果を有する膜を形成するのに用いる電磁波シールド膜形成用組成物であって、
液状をなし、インクジェット方式により吐出されるものであり、
電磁波抑制材料で構成された粉末を含むことを特徴とする電磁波シールド膜形成用組成物。
【請求項２】
前記粉末は、鱗片状をなすものである請求項１に記載の電磁波シールド膜形成用組成物。
【請求項３】
前記電磁波抑制材料で構成された粉末として、Ｎｉ−Ｆｅ合金を含む材料で構成された粉末、および／または、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金を含む材料で構成された粉末を含有するものである請求項１または２に記載の電磁波シールド膜形成用組成物。
【請求項４】
電磁波シールド膜形成用組成物は、前記粉末に加え、紫外線の照射により重合する重合性化合物を含むものである請求項１ないし３のいずれか一項に記載の電磁波シールド膜形成用組成物。
【請求項５】
電磁波シールド膜形成用組成物は、揮発性の溶剤を含まないものである請求項４に記載の電磁波シールド膜形成用組成物。
【請求項６】
前記重合性化合物として、フェノキシエチルアクリレートを含むものである請求項４または５に記載の電磁波シールド膜形成用組成物。
【請求項７】
前記重合性化合物として、前記フェノキシエチルアクリレートに加え、Ｎ−ビニルカプロラクタム、Ｎ−ビニルピロリドン、アクリル酸２−（２−ビニロキシエトキシ）エチル、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、２−ヒドロキシ３−フェノキシプロピルアクリレート、および、４−ヒドロキシブチルアクリレートよりなる群から選択される少なくとも１種を含むものである請求項６に記載の電磁波シールド膜形成用組成物。
【請求項８】
前記重合性化合物として、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート、ジメチロールジシクロペンタンジアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、イソボルニルアクリレート、アクリロイルモルホリン、テトラヒドロフルフリルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、および、メトキシトリエチレングリコールアクリレートよりなる群から選択される少なくとも１種を含むものである請求項４ないし７のいずれか一項に記載の電磁波シールド膜形成用組成物。
【請求項９】
前記粉末の平均粒径が、５００ｎｍ以上３．０μｍ以下である請求項１ないし８のいずれか一項に記載の電磁波シールド膜形成用組成物。
【請求項１０】
請求項１ないし９のいずれか一項に記載の電磁波シールド膜形成用組成物を用いて形成されたことを特徴とする電磁波シールド膜。
【請求項１１】
請求項１ないし９のいずれか一項に記載の電磁波シールド膜形成用組成物を、インクジェット方式により部材上に吐出する組成物付与工程と、
前記電磁波シールド膜形成用組成物を固化させる固化工程とを有することを特徴とする電磁波シールド膜の製造方法。
【請求項１２】
前記電磁波シールド膜形成用組成物は、紫外線の照射により重合する重合性化合物を含むものであり、
前記固化工程は、前記部材上に付与された前記電磁波シールド膜形成用組成物に紫外線を照射することにより行うものである請求項１１に記載の電磁波シールド膜の製造方法。
【請求項１３】
電磁波を発生する部材と、
請求項１０に記載の電磁波シールド膜とを備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電磁波シールド膜形成用組成物、電磁波シールド膜、電磁波シールド膜の製造方法および電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
電位差があり電流が流れることによって電磁波が発生することが知られている。携帯電話のように自らも電磁波を発生し、また他からの電磁波影響も受ける電子機器においては、ＥＭＣ（Electro Magnetic Compatibility）規格が大切である。すなわち、自らも電磁波ノイズ発生源にならず、かつ外部からの電磁波によって誤作動を起さないような対策が求められている。このような電子機器の回路設計は、電磁波によるノイズを考慮した上で行われるが、電子部品を取り付けて実際に回路を組むと想定外の電磁波ノイズが発生することがある。このような場合、電磁波抑制シートを対象箇所に貼り付けることで調整を行っている（例えば、特許文献１参照）。
しかし、このような電磁波抑制シートは、適切な部位に好ましい大きさに切断した上で一つずつへ貼りつけることが必要であり、電子機器の製造の歩留まりが低くなり、生産性が著しく低下するという問題があった。また、上記のようなシート材では、部材に貼着するために粘着層が必要となるため、最終製品の小型化、薄型化に不利であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第３５２８４２７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の目的は、電磁波シールド膜を効率よく形成するのに用いることができ、最終製品の小型化、薄型化に寄与することができる電磁波シールド膜形成用組成物を提供すること、最終製品の小型化、薄型化に寄与することができ、電磁波シールド膜を効率よく形成することができる電磁波シールド膜の製造方法を提供すること、前記電磁波シールド膜形成用組成物を用いて形成される電磁波シールド膜を提供すること、および、前記電磁波シールド膜を備える電子機器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の電磁波シールド膜形成用組成物は、電磁波を発生する部材および／またはそれを覆う部材に電磁波シールド効果を有する膜を形成するのに用いるものであって、
液状をなし、インクジェット方式により吐出されるものであり、
電磁波抑制材料で構成された粉末を含むことを特徴とする。
【０００６】
これにより、電磁波シールド膜を効率よく形成するのに用いることができ、最終製品の小型化、薄型化に寄与することができる電磁波シールド膜形成用組成物を提供することができる。また、任意の形状の電磁波シールド膜を好適に形成することができ、オンデマンド性に優れている。また、本発明では、従来のシート材を用いる場合に必要であった版が不要となる。
【０００７】
本発明の電磁波シールド膜形成用組成物では、前記粉末は、鱗片状をなすものであることが好ましい。
これにより、電磁波シールド膜形成用組成物を用いて形成される電磁波シールド膜による電磁波シールド効果を特に優れたものとすることができる。また、十分な電磁波シールド効果を得るのに必要な電磁波シールド膜形成用組成物の量をより少ないものとすることができるため、コスト面、電磁波シールド膜の生産性等の観点からも有利である。また、電磁波シールド膜の部材に対する密着性を特に優れたものとすることができる。
【０００８】
本発明の電磁波シールド膜形成用組成物は、前記電磁波抑制材料で構成された粉末として、Ｎｉ−Ｆｅ合金を含む材料で構成された粉末、および／または、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金を含む材料で構成された粉末を含有するものであることが好ましい。
これにより、電磁波シールド膜形成用組成物を用いて形成される電磁波シールド膜による電磁波シールド効果を特に優れたものとすることができる。また、電磁波シールド膜形成用組成物の保存安定性、吐出安定性を特に優れたものとすることができる。
【０００９】
本発明の電磁波シールド膜形成用組成物は、前記粉末に加え、紫外線の照射により重合する重合性化合物を含むものであることが好ましい。
これにより、電磁波シールド膜の生産性を特に優れたものとすることができる。また、電磁波シールド膜の耐久性（部材に対する密着性等）を特に優れたものとすることができる。また、電磁波シールド膜を形成すべき部材の表面の素材の選択の幅をより広いものとすることができる。
【００１０】
本発明の電磁波シールド膜形成用組成物は、揮発性の溶剤を含まないものであることが好ましい。
これにより、電磁波シールド膜を形成すべき部材への悪影響（例えば、短絡等）の発生をより効果的に防止することができる。
本発明の電磁波シールド膜形成用組成物は、前記重合性化合物として、フェノキシエチルアクリレートを含むものであることが好ましい。
これにより、電磁波シールド膜形成用組成物の保存安定性、吐出安定性を優れたものとしつつ、インクジェット法による吐出後の電磁波シールド膜形成用組成物の反応性を特に優れたものとし、電磁波シールド膜の生産性を特に優れたものとすることができる。また、電磁波シールド膜の部材に対する密着性等を特に優れたものとすることができる。
【００１１】
本発明の電磁波シールド膜形成用組成物は、前記重合性化合物として、前記フェノキシエチルアクリレートに加え、Ｎ−ビニルカプロラクタム、Ｎ−ビニルピロリドン、アクリル酸２−（２−ビニロキシエトキシ）エチル、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、２−ヒドロキシ３−フェノキシプロピルアクリレート、および、４−ヒドロキシブチルアクリレートよりなる群から選択される少なくとも１種を含むものであることが好ましい。
【００１２】
これにより、電磁波シールド膜形成用組成物の保存安定性、吐出安定性を優れたものとしつつ、インクジェット法による吐出後の電磁波シールド膜形成用組成物の反応性をさらに優れたものとし、電磁波シールド膜の生産性をさらに優れたものとすることができる。また、電磁波シールド膜の部材に対する密着性等をさらに優れたものとすることができる。
【００１３】
本発明の電磁波シールド膜形成用組成物は、前記重合性化合物として、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート、ジメチロールジシクロペンタンジアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、イソボルニルアクリレート、アクリロイルモルホリン、テトラヒドロフルフリルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、および、メトキシトリエチレングリコールアクリレートよりなる群から選択される少なくとも１種を含むものであることが好ましい。
【００１４】
これにより、電磁波シールド膜形成用組成物の保存安定性、吐出安定性をより優れたものとしつつ、インクジェット法による吐出後の電磁波シールド膜形成用組成物の反応性をさらに優れたものとし、電磁波シールド膜の生産性をさらに優れたものとすることができる。また、電磁波シールド膜の部材に対する密着性等をさらに優れたものとすることができる。
【００１５】
本発明の電磁波シールド膜形成用組成物では、前記粉末の平均粒径が、５００ｎｍ以上３．０μｍ以下であることが好ましい。
これにより、電磁波シールド膜形成用組成物を用いて形成される電磁波シールド膜による電磁波シールド効果を特に優れたものとすることができる。また、電磁波シールド膜形成用組成物の保存安定性、吐出安定性を特に優れたものとすることができる。
【００１６】
本発明の電磁波シールド膜は、本発明の電磁波シールド膜形成用組成物を用いて形成されたことを特徴とする。
これにより、電磁波シールド効果に優れた電磁波シールド膜を提供することができる。
本発明の電磁波シールド膜の製造方法は、本発明の電磁波シールド膜形成用組成物を、インクジェット方式により部材上に吐出する組成物付与工程と、
前記電磁波シールド膜形成用組成物を固化させる固化工程とを有することを特徴とする。
これにより、最終製品の小型化、薄型化に寄与することができ、電磁波シールド膜を効率よく形成することができる電磁波シールド膜の製造方法を提供することができる。
【００１７】
本発明の電磁波シールド膜の製造方法では、前記電磁波シールド膜形成用組成物は、紫外線の照射により重合する重合性化合物を含むものであり、
前記固化工程は、前記部材上に付与された前記電磁波シールド膜形成用組成物に紫外線を照射することにより行うものであることが好ましい。
これにより、電磁波シールド膜の生産性を特に優れたものとすることができる。また、電磁波シールド膜の耐久性を特に優れたものとすることができる。また、電磁波シールド膜を形成すべき部材の表面の素材の選択の幅をより広いものとすることができる。
本発明の電子機器は、電磁波を発生する部材と、
本発明の電磁波シールド膜とを備えることを特徴とする。
これにより、電磁波シールド効果に優れた電磁波シールド膜を備えた電子機器を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。
《電磁波シールド膜形成用組成物》
まず、本発明の電磁波シールド膜形成用組成物について説明する。
本発明の電磁波シールド膜形成用組成物は、電磁波を発生する部材および／またはそれを覆う部材に電磁波シールド効果を有する膜（電磁波シールド膜）を形成するのに用いるものである。
【００１９】
ところで、電位差があり電流が流れることによって電磁波が発生することが知られている。携帯電話のように自らも電磁波を発生し、また他からの電磁波影響も受ける電子機器においては、ＥＭＣ（Electro Magnetic Compatibility）規格が大切である。すなわち、自らも電磁波ノイズ発生源にならず、かつ外部からの電磁波によって誤作動を起さないような対策が求められている。このような電子機器の回路設計は、電磁波によるノイズを考慮した上で行われるが、電子部品を取り付けて実際に回路を組むと想定外の電磁波ノイズが発生することがある。このような場合、電磁波抑制シートを対象箇所に貼り付けることで調整を行っている。
しかし、このような電磁波抑制シートは、適切な部位に好ましい大きさに切断した上で一つずつへ貼りつけることが必要であり、電子機器の製造の歩留まりが低くなり、生産性が著しく低下するという問題があった。また、上記のようなシート材では、部材に貼着するために粘着層が必要となるため、最終製品の小型化、薄型化に不利であった。
【００２０】
そこで、発明者は、上記のような問題を解決する目的で鋭意研究を行った結果、本発明に至った。すなわち、本発明の電磁波シールド膜形成用組成物は、液状をなし、インクジェット方式により吐出されるものであり、電磁波抑制材料で構成された粉末を含むものである。これにより、電磁波シールド膜を効率よく形成するのに用いることができ、最終製品の小型化、薄型化に寄与することができる電磁波シールド膜形成用組成物を提供することができる。また、任意の形状の電磁波シールド膜を好適に形成することができ、オンデマンド性に優れている。また、本発明では、従来のシート材を用いる場合に必要であった版が不要となる。また、従来のシート材を用いた方法では、部材に貼着しない部分を廃棄していたが、本発明では、インクジェット法を用いるため、このような無駄がなく、省資源等の観点からも有利である。また、従来のシート材を用いた方法では、困難であった微細なパターンの電磁波シールド膜も好適に形成することができる。
【００２１】
＜粉末＞
上述したように、本発明の電磁波シールド膜形成用組成物は、電磁波抑制材料で構成された粉末を含むものである。
なお、本発明において、電磁波抑制材料とは、不要な電磁波ノイズをカットする材料のことをいう。
【００２２】
粉末を構成する電磁波抑制材料としては、例えば、金属材料、金属酸化物（セラミックス等）等が挙げられ、より具体的には、Ｆｅ基アモルファス、Ｃｏ基アモルファス、Ｍｎ−Ｚｎ系フェライト、Ｎｉ−Ｚｎ系フェライト、Ｍｎ−Ｍｇ−Ｚｎ系フェライト、Ｚｎ２−Ｗ型フェライト、Ｎｉ−Ｆｅ合金、Ｆｅ−Ｃｒ−Ｓｉ−Ａｌ合金、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金、パーマロイ、ケイ素鋼等の軟磁性材料；鉄・炭素焼結体；マイクロエキスパンドメタル；酸化チタン、炭化ケイ素等のセラミックス；軟磁性材料（金属）とセラミックスとを複合化したナノコンポジット粒子；炭素・カーボンマイクロコイル；炭素と発泡ポリエチレンとの複合体；炭素とＧＦＲＰ（ガラス繊維強化複合体）との複合体；希土類磁石化合物；Ｂｉ系超電導体等を用いることができるが、電磁波シールド膜形成用組成物は、電磁波抑制材料で構成された粉末として、Ｎｉ−Ｆｅ合金を含む材料で構成された粉末、および／または、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金を含む材料で構成された粉末を含有するものであるのが好ましい。これにより、電磁波シールド膜形成用組成物を用いて形成される電磁波シールド膜による電磁波シールド効果を特に優れたものとすることができる。また、電磁波シールド膜形成用組成物の保存安定性、吐出安定性を特に優れたものとすることができる。
【００２３】
電磁波シールド膜形成用組成物がＮｉ−Ｆｅ合金を含む材料で構成された粉末を含有するものである場合、Ｎｉ−Ｆｅ合金中のＮｉの含有率をＸＮｉ［質量％］、Ｎｉ−Ｆｅ合金中のＦｅの含有率をＸＦｅ［質量％］としたとき、０．５≦ＸＮｉ／ＸＦｅ≦１．５の関係を満足するのが好ましく、０．６≦ＸＮｉ／ＸＦｅ≦１．４の関係を満足するのがより好ましく、０．９≦ＸＮｉ／ＸＦｅ≦１．２の関係を満足するのがさらに好ましい。これにより、電磁波シールド膜形成用組成物を用いて形成される電磁波シールド膜による電磁波シールド効果をさらに優れたものとすることができる。また、電磁波シールド膜形成用組成物の保存安定性、吐出安定性をさらに優れたものとすることができる。
【００２４】
電磁波シールド膜形成用組成物がＮｉ−Ｆｅ合金を含む材料で構成された粉末を含有するものである場合、Ｎｉ−Ｆｅ合金は、特に限定されないが、Ｎｉの含有率が４８．０質量％以上５５．０質量％以下であり、かつ、Ｆｅの含有率が４０．０質量％以上５２．０質量％以下であるのが好ましい。これにより、電磁波シールド膜形成用組成物を用いて形成される電磁波シールド膜による電磁波シールド効果をさらに優れたものとすることができる。また、電磁波シールド膜形成用組成物の保存安定性、吐出安定性をさらに優れたものとすることができる。
【００２５】
上記のように、Ｎｉ−Ｆｅ合金中におけるＮｉの含有率は、４８．０質量％以上５５．０質量％以下であるのが好ましいが、４９．０質量％以上５３．０質量％以下であるのがより好ましく、４９．５質量％以上５０．５質量％以下であるのがさらに好ましい。これにより、上述したような効果をより顕著に発揮させることができる。
また、上記のように、Ｎｉ−Ｆｅ合金中におけるＦｅの含有率は、４０．０質量％以上５２．０質量％以下であるのが好ましいが、４５．０質量％以上５１．０質量％以下であるのがより好ましく、４８．０質量％以上５０．５質量％以下であるのがさらに好ましい。これにより、上述したような効果をより顕著に発揮させることができる。
【００２６】
Ｎｉ−Ｆｅ合金は、ＮｉおよびＦｅ以外の成分を含むものであってもよいが、ＮｉおよびＦｅ以外の成分の含有率の和が、２．０質量％以下のものであるのが好ましく、１．０質量％以下のものであるのがより好ましく、０．６質量％以下のものであるのがさらに好ましい。これにより、電磁波シールド膜形成用組成物を用いて形成される電磁波シールド膜による電磁波シールド効果をさらに優れたものとすることができる。また、電磁波シールド膜形成用組成物の保存安定性、吐出安定性をさらに優れたものとすることができる。
【００２７】
電磁波シールド膜形成用組成物がＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金を含む材料で構成された粉末を含有するものである場合、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金は、Ｆｅを主成分とし、８．２ｗｔ％以上１１．２ｗｔ％以下のＳｉ、および、４．０ｗｔ％以上７．０ｗｔ％以下のＡｌを含むものであるのが好ましい。これにより、電磁波シールド膜形成用組成物を用いて形成される電磁波シールド膜による電磁波シールド効果を特に優れたものとすることができる。また、電磁波シールド膜形成用組成物の保存安定性、吐出安定性を特に優れたものとすることができる。
【００２８】
電磁波シールド膜形成用組成物がＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金を含む材料で構成された粉末を含有するものである場合、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金中におけるＦｅの含有率は、８０．０ｗｔ％以上８７．８ｗｔ％以下であるのが好ましく、８１．３ｗｔ％以上８６．８ｗｔ％以下であるのがより好ましく、８２．５ｗｔ％以上８５．８ｗｔ％以下であるのがさらに好ましい。これにより、上述したような効果をより顕著に発揮させることができる。
【００２９】
電磁波シールド膜形成用組成物がＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金を含む材料で構成された粉末を含有するものである場合、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金中におけるＳｉの含有率は、８．２ｗｔ％以上１１．２ｗｔ％以下であるのが好ましいが、８．７ｗｔ％以上１０．７ｗｔ％以下であるのがより好ましく、９．２ｗｔ％以上１０．２ｗｔ％以下であるのがさらに好ましい。これにより、上述したような効果をより顕著に発揮させることができる。
【００３０】
電磁波シールド膜形成用組成物がＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金を含む材料で構成された粉末を含有するものである場合、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金中におけるＡｌの含有率は、４．０ｗｔ％以上７．０ｗｔ％以下であるのが好ましいが、４．５ｗｔ％以上６．５ｗｔ％以下であるのがより好ましく、５．０ｗｔ％以上６．０ｗｔ％以下であるのがさらに好ましい。これにより、上述したような効果をより顕著に発揮させることができる。
【００３１】
電磁波シールド膜形成用組成物がＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金を含む材料で構成された粉末を含有するものである場合、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金は、Ｆｅ、ＳｉおよびＡｌ以外の成分を含むものであってもよいが、Ｆｅ、ＳｉおよびＡｌ以外の成分の含有率の和が、２．０ｗｔ％以下のものであるのが好ましく、１．０ｗｔ％以下のものであるのがより好ましく、０．６ｗｔ％以下のものであるのがさらに好ましい。これにより、電磁波シールド膜形成用組成物を用いて形成される電磁波シールド膜による電磁波シールド効果を特に優れたものとすることができる。また、電磁波シールド膜形成用組成物の保存安定性、吐出安定性を特に優れたものとすることができる。
【００３２】
また、電磁波シールド膜形成用組成物を構成する粉末（粒子）は、表面処理が施されたものであってもよい。これにより、電磁波シールド膜形成用組成物の保存安定性、吐出安定性等を特に優れたものとすることができる。また、表面処理が施された粉末（粒子）を含むことにより、後に詳述する重合性化合物に対する粉末（粒子）の親和性を好適なものとすることができ、形成される電磁波シールド膜において、粉末を構成する粒子同士が接触することを確実に防止し、絶縁性を確保することができるとともに、形成される電磁波シールド膜において、粉末を好適に配列させることができ、電磁波シールド膜による電磁波シールド効果を特に優れたものとすることができる。
【００３３】
上記表面処理に用いられる表面処理剤は、特に限定されないが、フッ素系リン酸エステルであるのが好ましい。これにより、電磁波シールド膜形成用組成物の保存安定性、吐出安定性を特に優れたものとすることができる。また、電磁波シールド膜形成用組成物を用いて形成される電磁波シールド膜の電磁波シールド効果、部材に対する密着性等を特に優れたものとすることができる。
【００３４】
以下、表面処理剤としてのフッ素系リン酸エステルについて詳細に説明する。
フッ素系リン酸エステルとしては、分子内に少なくとも１個のフッ素原子を有するリン酸エステルを用いることができる。
特に、フッ素系リン酸エステルは、下記式（２）で表される化学構造を有するものであるのが好ましい。
【００３５】
ＰＯＲｎ（ＯＨ）３−ｎ      （２）
（式（２）中、Ｒは、ＣＦ３（ＣＦ２）ｍ−、ＣＦ３（ＣＦ２）ｍ（ＣＨ２）ｌ−、ＣＦ３（ＣＦ２）ｍ（ＣＨ２Ｏ）ｌ−、ＣＦ３（ＣＦ２）ｍ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｌ−、ＣＦ３（ＣＦ２）ｍＯ−、または、ＣＦ３（ＣＦ２）ｍ（ＣＨ２）ｌＯ−であり、ｎは１以上３以下の整数であり、ｍは５以上１７以下の整数であり、ｌは１以上１２以下の整数である。）
【００３６】
これにより、電磁波シールド膜形成用組成物の保存安定性、吐出安定性を特に優れたものとすることができる。また、電磁波シールド膜形成用組成物を用いて形成される電磁波シールド膜の電磁波シールド効果、部材に対する密着性等を特に優れたものとすることができる。
式（２）中、ｍは、５以上１７以下の整数であるのが好ましいが、５以上１２以下の整数であるのがより好ましい。これにより、上述したような効果がより顕著に発揮される。
【００３７】
また、式（２）中、ｌは、１以上１２以下の整数であるのが好ましいが、１以上１０以下の整数であるのがより好ましい。これにより、上述したような効果がより顕著に発揮される。
また、フッ素系リン酸エステル（表面処理剤）は、パーフルオロアルキル構造（ＣｎＦ２ｎ＋１）を有するものであるのが好ましい。これにより、電磁波シールド膜形成用組成物の保存安定性、吐出安定性をさらに優れたものとすることができる。また、電磁波シールド膜形成用組成物を用いて形成される電磁波シールド膜の電磁波シールド効果、部材に対する密着性等をさらに優れたものとすることができる。
【００３８】
上記のような表面処理剤は、母粒子に直接処理するものであってもよいが、前記母粒子に対して酸または塩基を処理させた後に、当該母粒子に対して表面処理剤による処理を行うのが好ましい。これにより、母粒子表面に、表面処理剤による化学的な結合による修飾をより確実に行うことができ、上述したような表面処理剤を用いることによる効果をより効果的に発揮させることができる。酸としては、例えば、塩酸、硫酸、リン酸、硝酸、酢酸、炭酸、蟻酸、安息香酸、亜塩素酸、次亜塩素酸、亜硫酸、次亜硫酸、亜硝酸、次亜硝酸、亜リン酸、次亜リン酸等のプロトン酸を用いることができる。中でも、塩酸、リン酸、酢酸が好適である。一方、塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム等を用いることができる。中でも、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好適である。
【００３９】
電磁波シールド膜形成用組成物を構成する粉末（粒子）は、球状、紡錘形状、針状等、いかなる形状のものであってもよいが、鱗片形状をなすものであるのが好ましい。これにより、電磁波シールド膜形成用組成物を用いて形成される電磁波シールド膜による電磁波シールド効果を特に優れたものとすることができる。また、十分な電磁波シールド効果を得るのに必要な電磁波シールド膜形成用組成物の量をより少ないものとすることができるため、コスト面、電磁波シールド膜の生産性等の観点からも有利である。また、電磁波シールド膜の部材に対する密着性を特に優れたものとすることができる。
【００４０】
本発明において、鱗片状とは、平板状、湾曲板状等のように、所定の角度から観察した際（平面視した際）の面積が、当該観察方向と直交する角度から観察した際の面積よりも大きい形状のことをいい、特に、投影面積が最大となる方向から観察した際（平面視した際）の面積Ｓ１［μｍ２］と、当該観察方向と直交する方向のうち観察した際の面積が最大となる方向から観察した際の面積Ｓ０［μｍ２］に対する比率（Ｓ１／Ｓ０）が、好ましくは２以上であり、より好ましくは５以上であり、さらに好ましくは８以上である。この値としては、例えば、任意の１０個の粒子について観察を行い、これらの粒子についての算出される値の平均値を採用することができる。
【００４１】
電磁波シールド膜形成用組成物を構成する粉末（粒子）の平均粒径は、５００ｎｍ以上３．０μｍ以下であるのが好ましく、８００ｎｍ以上１．８μｍ以下であるのがより好ましい。これにより、電磁波シールド膜形成用組成物を用いて形成される電磁波シールド膜による電磁波シールド効果を特に優れたものとすることができる。また、電磁波シールド膜形成用組成物の保存安定性、吐出安定性を特に優れたものとすることができる。
電磁波シールド膜形成用組成物中における粉末の含有率は、０．５質量％以上１０．０質量％以下であるのが好ましく、１．０質量％以上５．０質量％以下であるのがより好ましい。
【００４２】
＜重合性化合物＞
電磁波シールド膜形成用組成物は、上述したような電磁波抑制材料で構成された粉末を含み、液状をなすものであればよいが、上述したような粉末に加え、紫外線の照射により重合する重合性化合物を含むものであるのが好ましい。これにより、電磁波シールド膜の生産性を特に優れたものとすることができる。また、電磁波シールド膜の耐久性（部材に対する密着性等）を特に優れたものとすることができる。また、電磁波シールド膜を形成すべき部材の表面の素材の選択の幅をより広いものとすることができる。
【００４３】
以下の説明では、電磁波シールド膜形成用組成物が、紫外線の照射により重合する重合性化合物を含むものである場合について中心的に説明する。
重合性化合物は、液状をなすものであり、電磁波シールド膜形成用組成物において、前記粉末を分散する分散媒として機能するものであるのが好ましい。これにより、別途、電磁波シールド膜の製造過程において除去される（蒸発する）分散媒を用いる必要がなく、電磁波シールド膜の製造においても、分散媒を除去する工程を設ける必要がないため、電磁波シールド膜の生産性を特に優れたものとすることができる。また、分散媒として一般に有機溶媒として用いられているものを使用する必要がないため、揮発性有機化合物（ＶＯＣ）の問題の発生を防止することができる。
【００４４】
重合性化合物としては、紫外線の照射により重合する成分であればよく、例えば、各種モノマー、各種オリゴマー（ダイマー、トリマー等を含む）等を用いることができるが、電磁波シールド膜形成用組成物は、重合性化合物として、少なくともモノマー成分を含むものであるのが好ましい。モノマーは、オリゴマー成分等に比べて、一般に、低粘度の成分であるため、電磁波シールド膜形成用組成物の吐出安定性を特に優れたものとする上で有利である。
【００４５】
重合性化合物としてのモノマーとしては、例えば、イソボニルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、ラウリルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ステアリルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、ベンジルアクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチルアクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチルメタアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、２，２，２−トリフルオロエチルアクリレート、２，２，２−トリフルオロエチルメタアクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、ＰＯ変性ノニルフェノールアクリレート、ＥＯ変性ノニルフェノールアクリレート、ＥＯ変性２エチルヘキシルアクリレート、ＥＯ変性ノニルフェノールアクリレート、フェニルグリシジルエーテルアクリレート、フェノキシジエチレングリコールアクリレート、ＥＯ変性フェノールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ＥＯ変性フェノールアクリレート、ＥＯ変性クレゾールアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、ジプロピレングリコールアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、１．９−ノナンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、ビスフェノールＡ  ＥＯ変性ジアクリレート、１．６−ヘキサンジオールジアクリレート、ポリエチレングリコール２００ジアクリレート、ポリエチレングリコール３００ジアクリレート、ネオペンチルグリコールヒドロキシピパレートジアクリレート、２−エチル−２−ブチル−プロパンジオールジアクリレート、ポリエチレングリコール４００ジアクリレート、ポリエチレングリコール６００ジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、１．９−ノナンジオールジアクリレート、１．６−ヘキサンジオールジアクリレート、ビスフェノールＡ  ＥＯ変性ジアクリレート、ビスフェノールＡ  ＥＯ変性ジアクリレート、ビスフェノールＡ  ＥＯ変性ジアクリレート、ＰＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート、ＥＯ変性水添ビスフェノールＡジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ変性トリアクリレート、グリセリンＰＯ付加トリアクリレート、トリスアクリロイルオキシエチルフォスフェート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、トリス（アクリロキ���エチル）イソシアヌレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、アクリル酸２−（２−ビニロキシエトキシ）エチル、１−アダマンチルメチルアクリレート、１−アダマンチルアクリレート、２−アクリロイロキシエチルフタレート、イソボルニルアクリレート、３−アクリロイロキシプロピルアクリレート、アクリロイルモルホリン、リポキシ  ＳＰシリーズ、ジシクロペンタニルアクリレート、２−ヒドロキシ３−フェノキシプロピルアクリレート、ｗ−カルボキシアクリロイルオキシエチルフタレート、ジメチロールジシクロペンタンジアクリレート、ジアクリル化イソシアルレート／トリアクリル化混合物、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ／ヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリメチロールプロパンＰＯ変性トリアクリレート、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられる。中でも、４−ヒドロキシブチルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ変性トリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、アクリル酸２−（２−ビニロキシエトキシ）エチルが好ましい。
【００４６】
特に、電磁波シールド膜形成用組成物は、重合性化合物として、フェノキシエチルアクリレートを含むものであるのが好ましい。これにより、電磁波シールド膜形成用組成物の保存安定性、吐出安定性を優れたものとしつつ、インクジェット法による吐出後の電磁波シールド膜形成用組成物の反応性を特に優れたものとし、電磁波シールド膜の生産性を特に優れたものとすることができる。また、電磁波シールド膜の部材に対する密着性等を特に優れたものとすることができる。
【００４７】
また、電磁波シールド膜形成用組成物は、重合性化合物として、フェノキシエチルアクリレートに加え、アクリル酸２−（２−ビニロキシエトキシ）エチル、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、２−ヒドロキシ３−フェノキシプロピルアクリレート、および、４−ヒドロキシブチルアクリレートよりなる群から選択される少なくとも１種を含むものであるのが好ましい。これにより、電磁波シールド膜形成用組成物の保存安定性、吐出安定性を優れたものとしつつ、インクジェット法による吐出後の電磁波シールド膜形成用組成物の反応性をさらに優れたものとし、電磁波シールド膜の生産性をさらに優れたものとすることができる。また、電磁波シールド膜の部材に対する密着性等をさらに優れたものとすることができる。
【００４８】
また、電磁波シールド膜形成用組成物は、前記重合性化合物として、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート、ジメチロールジシクロペンタンジアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、イソボルニルアクリレート、アクリロイルモルホリン、テトラヒドロフルフリルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、および、メトキシトリエチレングリコールアクリレートよりなる群から選択される少なくとも１種を含むのが好ましい。これにより、電磁波シールド膜形成用組成物の保存安定性、吐出安定性をより優れたものとしつつ、インクジェット法による吐出後の電磁波シールド膜形成用組成物の反応性をさらに優れたものとし、電磁波シールド膜の生産性をさらに優れたものとすることができる。また、電磁波シールド膜の部材に対する密着性等をさらに優れたものとすることができる。
【００４９】
また、電磁波シールド膜形成用組成物は、重合性化合物として、モノマー以外に、オリゴマーを含むものとしてもよい。特に多官能のオリゴマーを含むものであるのが好ましい。これにより、電磁波シールド膜形成用組成物の保存安定性を優れたものとしつつ、電磁波シールド膜の部材に対する密着性等を特に優れたものとすることができる。なお、本発明では、重合性化合物の中でも、分子の骨格中に繰り返し構造を有し、分子量が６００以上のものをオリゴマーと呼ぶ。オリゴマーとしては、繰り返し構造がウレタンであるウレタンオリゴマー、繰り返し構造がエポキシであるエポキシオリゴマー等が好ましく用いられる。
また、電磁波シールド膜形成用組成物は、重合性化合物として、臭素原子やリン原子等を含む化学構造のものを用いてもよい。これにより、電磁波シールド膜の難燃性を特に優れたものとすることができる。
【００５０】
電磁波シールド膜形成用組成物中における重合性化合物の含有率は、７０質量％以上９９質量％以下であるのが好ましく、８０質量％以上９８質量％以下であるのがより好ましい。これにより、電磁波シールド膜形成用組成物の保存安定性、吐出安定性、硬化性をさらに優れたものとすることができるとともに、電磁波シールド膜形成用組成物を用いて製造される電磁波シールド膜による電磁波シールド効果、電磁波シールド膜の部材に対する密着性等をさらに優れたものとすることができる。なお、電磁波シールド膜形成用組成物は、重合性化合物として２種以上の化合物を含むものであってもよい。この場合、これらの化合物の含有率の総和が前記範囲内の値であるのが好ましい。
【００５１】
＜分散剤＞
また、電磁波シールド膜形成用組成物は、分散剤として、塩基性で重合体構造を有するもの（以下、「塩基性高分子分散剤」ともいう）を含むものであるのが好ましい。これにより、電磁波シールド膜の耐久性をさらに優れたものとすることができる。また、電磁波シールド膜形成用組成物の保存安定性、吐出安定性を、特に優れたものとすることができる。
なお、本発明において、塩基性高分子分散剤は、塩基性を示し、重合体構造を有するものであればよく、具体的な分子量は限定されない。
【００５２】
塩基性高分子分散剤を構成する重合体構造は、特に限定されないが、例えば、アクリル系の重合体構造（共重合体を含む）、メタクリル系の重合体構造（共重合体を含む）、ポリウレタン系の重合体構造、水酸基含有カルボン酸エステル構造、ポリエーテル系の重合体構造、シリコーン系の重合体構造等が挙げられる。
塩基性高分子分散剤のアミン価は、特に限定されないが、３ｍｇＫＯＨ／ｇ以上８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であるのが好ましく、１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であるのがより好ましい。
【００５３】
塩基性高分子分散剤の具体例としては、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１１６（ビックケミー社製）、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１８２（ビックケミー社製）、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１８３（ビックケミー社製）、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１８４（ビックケミー社製）、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２１５５（ビックケミー社製）、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２１６４（ビックケミー社製）、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１０８（ビックケミー社製）、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１１２（ビックケミー社製）、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１９８（ビックケミー社製）、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２１５０（ビックケミー社製）、ＰＡＡ−１１１２（日東紡社製）等を挙げることができる。
【００５４】
電磁波シールド膜形成用組成物中における塩基性高分子分散剤の含有率は、０．０１質量％以上５．０質量％以下であるのが好ましく、０．１質量％以上２．０質量％以下であるのがより好ましい。これにより、電磁波シールド膜形成用組成物の保存安定性、吐出安定性、硬化性をさらに優れたものとすることができるとともに、電磁波シールド膜の耐久性等をさらに優れたものとすることができる。なお、電磁波シールド膜形成用組成物は、塩基性高分子分散剤として２種以上の化合物を含むものであってもよい。この場合、これらの化合物の含有率の総和が前記範囲内の値であるのが好ましい。
【００５５】
＜物質Ａ＞
また、電磁波シールド膜形成用組成物は、下記式（６）で示される部分構造を有する物質Ａを含むものであるのが好ましい。
【００５６】
【化１】
2013168399.tif 000002
【００５７】
電磁波シールド膜形成用組成物が、このような化学構造を有する物質Ａを含むこと（特に、上記のような表面処理が施された粉末および塩基性高分子分散剤とともに含むこと）により、電磁波シールド膜形成用組成物の保存安定性、硬化性を特に優れたものとすることができる。また、電磁波シールド膜においては、粉末を好適に配列させることができ、電磁波シールド効果を特に優れたものとすることができる。また、電磁波シールド膜の耐久性を特に優れたものとすることができる。
【００５８】
式（６）中、Ｒ１は、水素原子、炭化水素基またはアルコキシル基（酸素原子に鎖式または脂環式の炭化水素基が結合したもの）であればよいが、特に、水素原子、メチル基、または、オクチルオキシ基であるのが好ましい。これにより、電磁波シールド膜形成用組成物の保存安定性、吐出安定性をさらに優れたものとすることができるとともに、電磁波シールド膜の耐久性、電磁波シールド効果等をさらに優れたものとすることができる。
【００５９】
また、式（６）中、Ｒ２〜Ｒ５は、それぞれ独立に、水素原子または炭化水素基であればよいが、炭素数１以上３以下のアルキル基であるのが好ましく、メチル基であるのがより好ましい。これにより、電磁波シールド膜形成用組成物の保存安定性、吐出安定性をさらに優れたものとすることができるとともに、電磁波シールド膜の耐久性、電磁波シールド効果等をさらに優れたものとすることができる。
【００６０】
電磁波シールド膜形成用組成物中における物質Ａの含有率は、０．１質量％以上５質量％以下であるのが好ましく、０．５質量％以上３．０質量％以下であるのがより好ましい。これにより、電磁波シールド膜形成用組成物の保存安定性、吐出安定性、硬化性をさらに優れたものとすることができるとともに、電磁波シールド膜の耐久性、電磁波シールド効果等をさらに優れたものとすることができる。なお、電磁波シールド膜形成用組成物は、物質Ａとして２種以上の化合物を含むものであってもよい。この場合、これらの化合物の含有率の総和が前記範囲内の値であるのが好ましい。
【００６１】
物質Ａの含有率をＸＡ［質量％］、前記粉末の含有率をＸＭ［質量％］としたとき、０．０１≦ＸＡ／ＸＭ≦０．８の関係を満足するのが好ましく、０．０５≦ＸＡ／ＸＭ≦０．４の関係を満足するのがより好ましい。このような関係を満足することにより、電磁波シールド膜形成用組成物の保存安定性、吐出安定性をさらに優れたものとすることができるとともに、電磁波シールド膜の耐久性、電磁波シールド効果等をさらに優れたものとすることができる。
【００６２】
＜その他の成分＞
本発明の電磁波シールド膜形成用組成物は、上述した以外の成分（その他の成分）を含むものであってもよい。このような成分としては、例えば、塩基性高分子分散剤以外の分散剤、光重合開始剤、スリップ剤（レベリング剤）、重合促進剤、重合禁止剤、浸透促進剤、湿潤剤（保湿剤）、着色剤、定着剤、防黴剤、防腐剤、酸化防止剤、キレート剤、増粘剤、増感剤（増感色素）等が挙げられる。
【００６３】
光重合開始剤は、紫外線照射によってラジカルやカチオン等の活性種を発生し、上記重合性化合物の重合反応を開始させるものであれば特に制限されない。光重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤や光カチオン重合開始剤を使用することができるが、光ラジカル重合開始剤を使用することが好ましい。光重合開始剤を用いる場合、当該光重合開始剤は、紫外線領域に吸収ピークを有していることが好ましい。
【００６４】
光ラジカル重合開始剤としては、例えば、芳香族ケトン類、アシルホスフィンオキサイド化合物、芳香族オニウム塩化合物、有機過酸化物、チオ化合物（チオキサントン化合物、チオフェニル基含有化合物等）、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、ケトオキシムエステル化合物、ボレート化合物、アジニウム化合物、メタロセン化合物、活性エステル化合物、炭素ハロゲン結合を有する化合物、アルキルアミン化合物等が挙げられる。
これらの中でも、重合性化合物への溶解性および硬化性の観点から、アシルホスフィンオキサイド化合物およびチオキサントン化合物から選択される少なくとも１種が好ましく、アシルホスフィンオキサイド化合物およびチオキサントン化合物を併用することがより好ましい。
【００６５】
光ラジカル重合開始剤の具体例としては、アセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレノン、べンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−プロパン−１−オン、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド、２，４−ジエチルチオキサントン、およびビス−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド等が挙げられ、これらのうちから選択される１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００６６】
電磁波シールド膜形成用組成物中における光重合開始剤の含有量は、０．５質量％以上１０質量％以下であるのが好ましい。光重合開始剤の含有量が前記範囲であると、紫外線硬化速度が十分大きく、且つ、光重合開始剤の溶け残りや光重合開始剤に由来する着色がほとんどない。
電磁波シールド膜形成用組成物がスリップ剤を含むものであると、レベリング作用により電磁波シールド膜の表面が平滑になり、耐擦性が向上する。その結果、電磁波シールド膜の耐久性が向上する。
【００６７】
スリップ剤としては、特に限定されないが、例えば、ポリエステル変性シリコーンやポリエーテル変性シリコーン等のシリコーン系界面活性剤を用いることができ、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサンまたはポリエステル変性ポリジメチルシロキサンを用いることが好ましい。
なお、電磁波シールド膜形成用組成物は、重合禁止剤を含むものであってもよいが、重合禁止剤を含む場合であっても、電磁波シールド膜形成用組成物中における重合禁止剤の含有率は、０．６質量％以下であるのが好ましく、０．２質量％以下であるのがより好ましい。これにより、相対的に、電磁波シールド膜形成用組成物中における重合性化合物の含有率を高いものとすることができるため、電磁波シールド膜の耐久性等を特に優れたものとすることができる。
【００６８】
また、電磁波シールド膜形成用組成物は、電磁波シールド膜の製造工程において除去される（蒸発する）溶剤（揮発性の溶剤）を含まないものであるのが好ましい。これにより、電磁波シールド膜を形成すべき部材への悪影響（例えば、短絡等）の発生をより効果的に防止することができる。また、揮発性有機化合物（ＶＯＣ）の問題の発生を効果的に防止することができる。なお、本明細書中において、揮発性の溶剤とは、室温（２０℃）における蒸気圧が０．３Ｐａ以上のもののことをいう。
本発明の電磁波シールド膜形成用組成物の室温（２０℃）での粘度は、２０ｍＰａ・ｓ以下であるのが好ましく、３ｍＰａ・ｓ以上１５ｍＰａ・ｓ以下であるのがより好ましい。これにより、インクジェット法による液滴吐出を好適に行うことができる。
【００６９】
《電磁波シールド膜の製造方法》
次に、本発明の電磁波シールド膜の製造方法について説明する。
本発明の電磁波シールド膜の製造方法は、上述したような本発明の電磁波シールド膜形成用組成物を、インクジェット方式により部材上に吐出する組成物付与工程（１ａ）と、前記電磁波シールド膜形成用組成物を固化させる固化工程（１ｂ）とを有する。これにより、最終製品の小型化、薄型化に寄与することができ、電磁波シールド膜を効率よく形成することができる電磁波シールド膜の製造方法を提供することができる。
【００７０】
＜組成物付与工程＞
本工程では、上述したような本発明の電磁波シールド膜形成用組成物を、インクジェット方式により部材上に吐出する（１ａ）。
インクジェット法による電磁波シールド膜形成用組成物の吐出は、公知の液滴吐出装置を用いて行うことができる。
【００７１】
液滴吐出方式（インクジェット法の方式）としては、ピエゾ方式や、インクを加熱して発生した泡（バブル）によりインクを吐出させる方式等を用いることができるが、電磁波シールド膜形成用組成物の変質のし難さ等の観点から、ピエゾ方式が好ましい。
電磁波シールド膜形成用組成物が付与される部材は、電磁波を発生するもの、および／または、それを覆うものである。このような部材としては、例えば、半導体装置（例えば、ＩＣチップ等）等の実装部品、半導体実装基板内の配線（例えば、Ｃｕ配線、Ａｇ配線等）、半導体装置等が実装される基板、電子機器の筐体等が挙げられる。
【００７２】
＜固化工程＞
その後、部材上に付与された電磁波シールド膜形成用組成物を固化させる（１ｂ）。これにより、電磁波シールド膜が形成される。
本工程は、電磁波シールド膜形成用組成物の組成等に応じた方法で行われる。
例えば、電磁波シールド膜形成用組成物が紫外線の照射により重合する重合性化合物を含むものである場合、本工程は、紫外線の照射により行うことができる。これにより、電磁波シールド膜の生産性を特に優れたものとすることができる。また、電磁波シールド膜の耐久性を特に優れたものとすることができる。また、電磁波シールド膜を形成すべき部材の表面の素材の選択の幅をより広いものとすることができる。
【００７３】
この場合、紫外線源としては、例えば、水銀ランプ、メタルハライドランプ、紫外線発光ダイオード（ＵＶ−ＬＥＤ）、紫外線レーザダイオード（ＵＶ−ＬＤ）等を用いることができる。中でも、小型、高寿命、高効率、低コストの観点から、紫外線発光ダイオード（ＵＶ−ＬＥＤ）および紫外線レーザダイオード（ＵＶ−ＬＤ）が好ましい。
また、電磁波シールド膜形成用組成物が熱硬化性の成分を含むものである場合、本工程は、加熱の処理を施すことにより行うことができる。
また、電磁波シールド膜形成用組成物が揮発性の溶剤を含むものである場合、本工程は、加熱および／または減圧の処理を施すことにより行うことができる。
【００７４】
《電磁波シールド膜》
次に、本発明の電磁波シールド膜について説明する。
本発明の電磁波シールド膜は、上述した本発明の電磁波シールド膜形成用組成物を用いて形成されたものである。これにより、電磁波シールド効果に優れた電磁波シールド膜を提供することができる。
電磁波シールド膜の厚さは、特に限定されないが、５．０μｍ以上８００μｍ以下であるのが好ましく、１０．０μｍ以上３００μｍ以下であるのがより好ましい。これにより、電磁波シールド効果を特に優れたものとすることができるとともに、最終製品の小型化、薄型化にも有利である。
【００７５】
《電子機器》
次に、本発明の電子機器について説明する。
本発明の電子機器は、電磁波を発生する部材と、本発明の電磁波シールド膜とを備えるものである。これにより、電磁波シールド効果に優れた電磁波シールド膜を備えた電子機器を提供することができる。
【００７６】
本発明の電子機器は、いかなる用途のものであってもよく、例えば、携帯電話機、インクジェット式吐出装置（例えばインクジェットプリンター）、テレビや、ディジタルスチルカメラ、ビデオカメラ、ビューファインダー型、モニタ直視型のビデオテープレコーダー、パーソナルコンピューター、カーナビゲーション装置、ページャー、電子手帳（通信機能付も含む）、電子辞書、電卓、電子ゲーム機器、電子新聞、ワードプロセッサー、ワークステーション、テレビ電話、防犯用テレビモニター、電子双眼鏡、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器（例えば金融機関のキャッシュディスペンサー、自動券売機）、医療機器（例えば電子体温計、血圧計、血糖計、心電表示装置、超音波診断装置、内視鏡用表示装置）、魚群探知機、各種測定機器、計器類（例えば、車両、航空機、船舶の計器類）、フライトシュミレーター、その他各種モニタ類、プロジェクター等の投射型表示装置等を挙げることができる。
以上、本発明について、好適な実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれらに限定されるものではない。
例えば、本発明の製造方法では、上述したような工程に加え、さらに他の工程（前処理工程、中間処理工程、後処理工程）を有するものであってもよい。
【実施例】
【００７７】
次に、本発明の具体的実施例について説明する。
［１］電磁波シールド膜形成用組成物の製造
（実施例１）
まず、Ｎｉ−Ｆｅ合金の溶湯を用いて、水アトマイズ法により、球形状をなし、平均粒径が９．９μｍの粉末を製造した。製造された粉末は、Ｎｉ：５０．１質量％、Ｆｅ：４９．６質量％、Ｓｉ：０．３質量％の組成を有するものであった。
【００７８】
次に、上記のようにして得られた略球形状の粉末をフッ素系リン酸エステルとしてのＣＦ３（ＣＦ２）５（ＣＨ２）２Ｏ（Ｐ）（ＯＨ）２とＣＦ３（ＣＦ２）５（ＣＨ２）２Ｏ（Ｐ）（ＯＨ）（ＯＣＨ２ＣＨ３）との混合物（質量比で５：９５）の１質量％プロパノール溶液中に投入し、１０秒間攪拌することにより、フッ素系リン酸エステルによる表面処理を行った。
【００７９】
次に、フッ素系リン酸エステルによる表面処理が施された略球形状の粉末を、ジルコニアビーズ（直径：５ｍｍ）を用いた遊星ボールミルにより、鱗片形状に異形化（鱗片化）した。本処理は、フェノキシエチルアクリレート中で行った。
次に、上記のような処理により得られた混合物を超音波分散機に導入し、微細処理を行い、さらにその後、３μｍメンブレンフィルターにて濾過を行い、ジルコニアビーズを除去するとともに、粉末の粗大粒子をカットした。このようにして得られた粉末の平均粒径は０．８μｍ、平均厚さは、６０ｎｍであった。
【００８０】
次に、鱗片化した粉末を分離し、その後、塩基性で重合体構造を有する分散剤（塩基性高分子分散剤）としてのＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１８３（ビックケミー社製）、フェノキシエチルアクリレート、光重合開始剤としてのＩｒｇａｃｕｒｅ８１９（チバ・ジャパン社製）、光重合開始剤としてのＳｐｅｅｄｃｕｒｅ  ＴＰＯ（ＡＣＥＴＯ社製）、光重合開始剤としてのＳｐｅｅｄｃｕｒｅ  ＤＥＴＸ（Ｌａｍｂｓｏｎ社製）、および、下記式（７）で表される化学構造を有する物質Ａと混合することにより、電磁波シールド膜形成用組成物を得た。
【００８１】
【化２】
2013168399.tif 000003
【００８２】
（実施例２〜１１）
電磁波シールド膜形成用組成物の調製に用いる原料の種類・比率を変更することにより、表１に示すような組成となるようにした以外は、前記実施例１と同様にして電磁波シールド膜形成用組成物を製造した。
（比較例１）
本比較例では、電磁波シールド膜形成用組成物として、電磁波抑制シート（ノイズ抑制シート）としてのバスタレイドＲ４Ｎ（ＮＥＣトーキン社製）を用意した。
【００８３】
前記各実施例について、電磁波シールド膜形成用組成物の構成を、表１にまとめて示した。なお、表中、フェノキシエチルアクリレートを「ＰＥＡ」、アクリル酸２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチルを「ＶＥＥＡ」、トリプロピレングリコールジアクリレートを「ＴＰＧＤＡ」、ジプロピレングリコールジアクリレートを「ＤＰＧＤＡ」、Ｎ−ビニルカプロラクタムを「ＶＣ」、ベンジルメタクリレートを「ＢＭ」、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレートを「ＤＭＴＣＤＤＡ」、ウレタンアクリレートを「ＵＡ」、Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ８１９（チバ・ジャパン社製）を「ｉｃ８１９」、Ｓｐｅｅｄｃｕｒｅ  ＴＰＯ（Ｌａｍｂｓｏｎ社製）を「ｓｃＴＰＯ」、Ｓｐｅｅｄｃｕｒｅ  ＤＥＴＸ（Ｌａｍｂｓｏｎ社製）を「ｓｃＤＥＴＸ」、ＵＶ−３５００（ビックケミー社製）を「ＵＶ３５００」、４−ヒドロキシブチルアクリレートを「ＨＢＡ」、２−ヒドロキシ３−フェノキシプロピルアクリレートを「ＨＰＰＡ」、ジメチロールジシクロペンタンジアクリレートを「ＤＭＤＣＰＴＡ」、ジシクロペンテニルアクリレートを「ＤＣＰＴｅＡ」、ジシクロペンタニルアクリレートを「ＤＣＰＴａＡ」、イソボルニルアクリレートを「ＩＢＡ」、アクリロイルモルホリンを「ＡＭ」、テトラヒドロフルフリルアクリレートを「ＴＨＦＡ」、エチルカルビトールアクリレートを「ＥＣＡ」、メトキシトリエチレングリコールアクリレートを「ＭＴＥＧＡ」、ヒドロキノンモノメチルエーテルを「ＭＥＨＱ」、ＣＦ３（ＣＦ２）５（ＣＨ２）２Ｏ（Ｐ）（ＯＨ）２とＣＦ３（ＣＦ２）５（ＣＨ２）２Ｏ（Ｐ）（ＯＨ）（ＯＣＨ２ＣＨ３）との混合物（質量比で５：９５）を「Ｓ１」、ＣＦ３（ＣＦ２）４（ＣＨ２）２Ｏ−ＰＯ（ＯＨ）２を「Ｓ２」、ＣＦ３（ＣＦ２）５（ＣＨ２）２Ｏ（Ｐ）（ＯＨ）２を「Ｓ３」、ＣＦ３（ＣＦ２）５（ＣＨ２）２Ｏ（Ｐ）（ＯＨ）（ＯＣＨ２ＣＨ３）を「Ｓ４」、ＣＦ３（ＣＦ２）１（ＣＨ２）３Ｐ（Ｏ）（ＯＣＨ２ＣＨ３）を「Ｓ５」、ＣＦ３（ＣＦ２）５（ＣＨ２）２Ｏ−ＰＯ（ＯＨ）（ＯＣ２Ｈ５）を「Ｓ６」、ＣＦ３（ＣＦ２）１４（ＣＨ２）４Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）（ＯＣＨ２ＣＨ３）を「Ｓ７」、ジルコンフッ化水素酸を「Ｓ８」、Ｈ３ＰＯ４を「Ｓ９」、過酸化水素３０質量％を含む過酸化水素水１０質量部に金属モリブデン粉末１．５質量部を少しずつ加え反応させて得られた溶液をイソプロピルアルコール１７５質量部に溶解させて得られた溶液を「Ｓ１０」、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１８３（ビックケミー社製、アミン価：１７ｍｇＫＯＨ／ｇ）を「Ｄ１」、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１８２（ビックケミー社製、アミン価：１３ｍｇＫＯＨ／ｇ）を「Ｄ２」、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１８４（ビックケミー社製、アミン価：１５ｍｇＫＯＨ／ｇ）を「Ｄ３」、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１１６（ビックケミー社製、アミン価：６５ｍｇＫＯＨ／ｇ）を「Ｄ４」、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２１５５（ビックケミー社製、アミン価：４８ｍｇＫＯＨ／ｇ）を「Ｄ５」、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２１６４（ビックケミー社製、アミン価：１４ｍｇＫＯＨ／ｇ）を「Ｄ６」、ＰＡＡ−１１１２（日東紡社製）を「Ｄ７」、エマノーン  ４１１０（重合体構造を有するものの塩基性ではない分散剤、花���株式会社製）を「Ｄ’１」、ノニオン  Ｐ−２０８（重合体構造を有さない分散剤、日油株式会社製）を「Ｄ’２」、上記式（７）で表される化合物（物質Ａ）を「Ａ１」、下記式（８）で表される化合物（物質Ａ）を「Ａ２」、下記式（９）で表される化合物（物質Ａ）を「Ａ３」、下記式（１０）で表される物質Ａを「Ａ４」で示した。また、表１中、母粒子の組成は、構成元素の含有率を重量部で示した。また、前記各実施例の電磁波シールド膜形成用組成物中に含まれるそれぞれ任意の１０個の金属粒子について観察を行い、投影面積が最大となる方向から観察した際（平面視した際）の面積Ｓ１［μｍ２］と、当該観察方向と直交する方向のうち観察した際の面積が最大となる方向から観察した際の面積Ｓ０［μｍ２］に対する比率（Ｓ１／Ｓ０）を求め、これらの平均値を、表１にあわせて示した。また、表中、「粘度」の欄には、振動式粘度計を用いて、ＪＩＳ  Ｚ８８０９に準拠して測定された電磁波シールド膜形成用組成物の２０℃における粘度を示した。なお、Ｄ１〜Ｄ７は、いずれも、塩基性で重合体構造を有するもの（塩基性高分子分散剤）である。また、前記各実施例の電磁波シールド膜形成用組成物は、いずれも揮発性の溶剤を含まないものであった。
【００８４】
【化３】
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【００８５】
【化４】
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【００８６】
【化５】
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【００８７】
【表１】
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【００８８】
［２］液滴吐出の安定性評価（吐出安定性評価）
前記各実施例の電磁波シールド膜形成用組成物を用いて、下記に示すような試験による評価を行った。
まず、チャンバー（サーマルチャンバー）内に設置した液滴吐出装置および前記各実施例の電磁波シールド膜形成用組成物を用意し、ピエゾ素子の駆動波形を最適化した状態で、２５℃、５５％ＲＨの環境下で、各電磁波シールド膜形成用組成物について、液滴吐出ヘッドの各ノズルから、２００００００発（２００００００滴）の液滴の連続吐出を行った。その後、液滴吐出装置の運転を停止し、液滴吐出装置の流路に各電磁波シールド膜形成用組成物が充填された状態で、２５℃、５５％ＲＨの環境下に、２４０時間放置した。
【００８９】
その後、液滴吐出ヘッドの各ノズルから、２５℃、５５％ＲＨの環境下で、４００００００発（４００００００滴）の液滴の連続吐出を行った。上記１５０時間放置した後の、液滴吐出ヘッドの中央部付近の指定したノズルから吐出された４００００００発の液滴について、着弾した各液滴の中心位置の中心狙い位置からのズレ量ｄの平均値を求め、以下の５段階の基準に従い、評価した。この値が小さいほど飛行曲がりの発生が効果的に防止されていると言える。
【００９０】
Ａ：ズレ量ｄの平均値が０．０７μｍ未満。
Ｂ：ズレ量ｄの平均値が０．０７μｍ以上０．１４μｍ未満。
Ｃ：ズレ量ｄの平均値が０．１４μｍ以上０．１７μｍ未満。
Ｄ：ズレ量ｄの平均値が０．１７μｍ以上０．２１μｍ未満。
Ｅ：ズレ量ｄの平均値が０．２１μｍ以上。
【００９１】
［３］電磁波シールド膜形成用組成物の周波数特性
チャンバー（サーマルチャンバー）内に設置した液滴吐出装置および前記各実施例の電磁波シールド膜形成用組成物を用意し、ピエゾ素子の駆動波形を最適化した状態で、２５℃、５５％ＲＨの環境下で、各電磁波シールド膜形成用組成物について、液滴吐出ヘッドの全ノズルから、ピエゾ素子の振動数（周波数）を変化させつつ、液滴吐出を行った。各周波数での液滴吐出時間は１０分間とした。１０分間の吐出後時点で未吐出のノズル数が全ノズル数の１％未満の周波数までを実使用可能な最高周波数として、実使用可能な周波数範囲を以下の４段階の基準に従い、評価した。この値が大きいほど周波数特性に優れていると言える。
Ａ：１５ｋＨｚ以上。
Ｂ：１０ｋＨｚ以上１５ｋＨｚ未満。
Ｃ：５ｋＨｚ以上１０ｋＨｚ未満。
Ｄ：５ｋＨｚ未満。
【００９２】
［４］電磁波シールド膜形成用組成物の保存安定性評価（長期安定性評価）
前記各実施例の電磁波シールド膜形成用組成物について、４０℃の環境下に、４０日間放置した後、振動式粘度計を用いて、ＪＩＳ  Ｚ８８０９に準拠して測定された前記各実施例の電磁波シールド膜形成用組成物の２０℃における粘度を測定し、製造直後からの粘度の上昇率を求め、以下の基準に従い、評価した。
【００９３】
Ａ：粘度の上昇率が５％未満。
Ｂ：粘度の上昇率が５％以上１０％未満。
Ｃ：粘度の上昇率が１０％以上１８％未満。
Ｄ：粘度の上昇率が１８％以上２３％未満。
Ｅ：粘度の上昇率が２３％以上、または、異物の発生が認められる。
【００９４】
［５］硬化性
前記各実施例の電磁波シールド膜形成用組成物について、エプソン製インクジェットプリンター；ＰＭ８００Ｃへ導入し、記録媒体（電磁波シールド膜形成用組成物を付与する部材）として三菱樹脂（株）製、ダイアホイル  Ｇ４４０Ｅ（厚さ３８μｍ）を用いて、インク量ｗｅｔ  ９ｇ／ｍ２にて、ベタ印刷を行い、印刷後、ただちにＬＥＤ−ＵＶランプ；フォセオン社製  ＲＸ  ｆｉｒｅｆｌｙ（ギャップ６ｍｍ  ピーク波長３６５ｎｍ  １０００ｍＷ／ｃｍ２）を用いて紫外線の照射を行い、電磁波シールド膜形成用組成物が硬化したか否かを確認し、以下の５段階の基準に従い、評価した。硬化したか否かは、綿棒にて表面をこすって、未硬化の電磁波シールド膜形成用組成物が付着しないか否かで判断した。なお、下記Ａ〜Ｅの照射量に該当するかどうかは、ランプを何秒照射したかによって算出できる。
【００９５】
Ａ：１００ｍＪ/ｃｍ２未満の紫外線照射量にて硬化した。
Ｂ：１００ｍＪ/ｃｍ２以上２００ｍＪ/ｃｍ２未満の紫外線照射量にて硬化した。
Ｃ：２００ｍＪ/ｃｍ２以上５００ｍＪ/ｃｍ２未満の紫外線照射量にて硬化した。
Ｄ：５００ｍＪ/ｃｍ２以上１０００ｍＪ/ｃｍ２未満の紫外線照射量にて硬化した。
Ｅ：１０００ｍＪ/ｃｍ２以上の紫外線照射量にて硬化する。もしくはまったく硬化
しない。
【００９６】
［６］電磁波シールド膜（電子機器）の製造
以下のようにして、各実施例の電磁波シールド膜形成用組成物を用いて、電磁波シールド膜を備えた電子機器としての携帯電話を製造した。
まず、電磁波シールド膜が設けられていない携帯電話を用意した。
次に、この携帯電話のカバーを取り外し、ＩＣチップ等の電磁波を発生する部材の表面に、インクジェット法により、電磁波シールド膜形成用組成物を所定のパターンで付与した。
【００９７】
その後、３６５ｎｍ、３８０ｎｍ、３９５ｎｍの波長に極大値を有するスペクトルの紫外線を、照射強度１８０ｍＷ／ｃｍ２で１５秒間照射し、電磁波シールド膜形成用組成物を硬化させ、厚さ３０μｍの電磁波シールド膜を形成した。
その後、カバーを取り付け、電磁波シールド膜を備えた携帯電話を得た。
また、比較例１については、シート材を所定の形状（前記各実施例の電磁波シールド膜形成用組成物を用いて形成した電磁波シールド膜に対応する形状）に切り取り、携帯電話のＩＣチップ等の電磁波を発生する部材の表面に貼着し、その後、カバーを取り付けることにより、電磁波シールド膜を備えた携帯電話を得た。
【００９８】
［７］電磁波シールド膜（電子機器）の生産性評価
上記［６］で製造された電磁波シールド膜を備えた携帯電話（電子機器）の生産性（電磁波シールド膜の形成効率）を、以下の基準に従い評価した。
Ａ：電磁波シールド膜を備えた携帯電話の生産性が非常に優れている。
Ｂ：電磁波シールド膜を備えた携帯電話の生産性が優れている。
Ｃ：電磁波シールド膜を備えた携帯電話の生産性がやや劣っている。
Ｄ：電磁波シールド膜を備えた携帯電話の生産性が劣っている。
Ｅ：電磁波シールド膜を備えた携帯電話の生産性が非常に劣っている。
【００９９】
［８］電磁波抑制効果
ＰＥＴフィルム（長さ１０．０ｃｍ×幅５ｍｍ）の表面に、前記各実施例の電磁波シールド膜形成用組成物を、線幅が２５μｍ、厚み２０μｍ、長さが１０．０ｃｍのラインを間隔０で順次２００本描画した。その後、３６５ｎｍ、３８０ｎｍ、３９５ｎｍの波長に極大値を有するスペクトルの紫外線を、照射強度１８０ｍＷ／ｃｍ２で１５秒間照射し、インクを硬化させ電磁波シールド膜を形成した。
【０１００】
また、比較例１については、シート材を長さ１０．０ｃｍ×幅５ｍｍに切り取り、これをＰＥＴフィルム（長さ１０．０ｃｍ×幅５ｍｍ）の表面に貼着し、電磁波シールド膜とした。
上記のようにして形成された前記実施例および比較例の電磁波シールド膜が設けられたＰＥＴフィルムについて、電磁波シールド膜が上側を向くように、マイクロストリップラインの上に設置し、その上から５００ｇｆの加重で押さえつけた。この状態でネットワークアナライザを用いて周波数３ＧＨｚにおいてマイクロストリップラインの伝送損失を測定し、以下の基準に従い評価した。
【０１０１】
Ａ：伝送損失が−８ｄＢ以上の減衰特性を示す。
Ｂ：伝送損失が−８ｄＢ以上−６ｄＢ未満の減衰特性を示す。
Ｃ：伝送損失が−６ｄＢ以上−４ｄＢ未満の減衰特性を示す。
Ｄ：伝送損失が−４ｄＢ以上−２ｄＢ未満の減衰特性を示す。
Ｅ：伝送損失が−２ｄＢ未満であって、減衰特性をほとんど示さない。
【０１０２】
［９］密着性評価
ＩＣ向けモールド樹脂（ダウコーニング社製、３０７）で構成された板状の部材の表面に、前記各実施例の電磁波シールド膜形成用組成物を、線幅が２５μｍ、厚み２０μｍ、長さが１０．０ｃｍのラインを間隔０で順次２００本描画した。その後、３６５ｎｍ、３８０ｎｍ、３９５ｎｍの波長に極大値を有するスペクトルの紫外線を、照射強度１８０ｍＷ／ｃｍ２で１５秒間照射し、電磁波シールド膜形成用組成物を硬化させ電磁波シールド膜を形成した。
【０１０３】
また、比較例１については、シート材を長さ１０．０ｃｍ×幅５ｍｍに切り取り、これをＩＣ向けモールド樹脂（ダウコーニング社製、307）で構成された板状の部材の表面に貼着し、電磁波シールド膜とした。
上記のようにして形成された前記実施例および比較例の電磁波シールド膜について、ＪＩＳ  Ｋ５６００に準拠し、クロスカット法により、以下の４段階の基準に従い評価し、電磁波シールド膜と板状の部材との密着性の評価とした。
【０１０４】
Ａ：剥離が認められない。
Ｂ：刃を入れた部分がギザギザしている。
Ｃ：極僅かに剥離が生じる。
Ｄ：剥離がはっきりと認められる。
これらの結果を表２に示す。
【０１０５】
【表２】
2013168399.tif 000008
【０１０６】
表２から明らかなように、本発明では、電磁波シールド膜を効率よく形成することができた。また、十分に薄い電磁波シールド膜を好適に形成することができ、十分な電磁波シールド効果が得られた。また、本発明では、任意の形状の電磁波シールド膜を好適に形成することができ、オンデマンド性に優れていた。また、本発明の電磁波シールド膜形成用組成物は、吐出安定性、保存安定性等にも優れていた。
これに対して、比較例では、満足な結果が得られなかった。