(57)【要約】【課題】所望の表示パターンを実現する。【解決手段】液晶表示装置１は、対向配置された第１及び第２の基板１０，１１と、第１及び第２の基板１０，１１に挟持された高分子分散型液晶層１２と、第１の基板１０に設けられ、第１の表示パターンを有する表示電極１８と、第２の基板１１に設けられ、第２の表示パターンを有する低反射膜２０と、低反射膜２０を覆うようにして第２の基板１１に設けられた共通電極１９とを含む。【選択図】図２
2013182202.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対向配置された第１及び第２の基板と、
前記第１及び第２の基板に挟持された高分子分散型液晶層と、
前記第１の基板に設けられ、第１の表示パターンを有する表示電極と、
前記第２の基板に設けられ、第２の表示パターンを有する低反射膜と、
前記低反射膜を覆うようにして前記第２の基板に設けられた共通電極と、
を具備することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記低反射膜を覆うようにして前記第２の基板に設けられた平坦化膜をさらに具備し、
前記共通電極は、前記平坦化膜上に設けられることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
対向配置された第１及び第２の基板と、
前記第１及び第２の基板に挟持された高分子分散型液晶層と、
前記第１の基板に設けられ、第１の表示パターンを有する低反射膜と、
前記低反射膜を覆うようにして前記第１の基板に設けられた絶縁層と、
前記絶縁層上に設けられ、第２の表示パターンを有する表示電極と、
前記第２の基板に設けられた共通電極と、
を具備することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
対向配置された第１及び第２の基板と、
前記第１及び第２の基板に挟持された高分子分散型液晶層と、
前記第１の基板に設けられ、第１の表示パターンを有する表示電極と、
前記第２の基板に設けられた共通電極と、
前記共通電極上に設けられ、第２の表示パターンを有する低反射膜と、
を具備することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項５】
前記表示電極は、前記低反射膜と交差していることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項６】
対向配置された第１及び第２の基板と、
前記第１及び第２の基板に挟持された高分子分散型液晶層と、
前記第１の基板に設けられ、表示パターンを有する表示電極と、
前記第２の基板に設けられた共通電極と、
前記第２の基板の前記液晶層側に設けられ、表示領域を囲む低反射膜と、
を具備することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項７】
前記低反射膜は、金属又は金属を含む合金からなることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記低反射膜は、金属と金属酸化物とが積層された積層膜からなることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記低反射膜は、金属酸化物と、金属と、金属酸化物とが積層された積層膜からなることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記金属は、クロム（Ｃｒ）であることを特徴とする請求項７乃至９のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
前記低反射膜は、樹脂からなることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項１２】
前記低反射膜の反射率は、２０％以下であることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれかに記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に係り、特に、高分子分散型液晶（ＰＤＬＣ：Polymer Dispersed Liquid Crystal）を用いた液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
高分子分散型液晶は、三次元の網状に形成された高分子（高分子ネットワーク）内において液晶が相分離した構造を有し、高分子ネットワークの側壁に沿って液晶分子がランダムに配置している状態と、電界を印加して液晶分子が電界方向に配列した状態とで光の散乱状態と光の透過状態とをそれぞれ作り出す。散乱度合いは、液晶に印加される電圧により決定され、液晶に印加される電圧は、高分子材料と液晶との分圧により決定される。
【０００３】
高分子分散型液晶を用いた液晶表示装置にパターンを表示させるには、液晶層を挟む共通電極と表示電極との電圧を制御する。液晶表示装置の表示パターンの一例として、円と、この円を横切る２つの横線とからなるパターンを表示する場合を考える。円のパターンと横線のパターンとは、表示（すなわち散乱状態）と非表示（すなわち透過状態）とを個別に切り替えられるものとする。このような表示パターンを形成するには、円と横線とを別々に電圧制御する必要があるため、図１４のような表示電極を形成しなければならない。
【０００４】
図１４において、円が表示電極１０１及び１０２で表現され、２つの横線が表示電極１０３及び１０４で表現される。表示電極１０５は、表示電極１０１〜１０４の領域以外を透過状態にするための電極である。図１４の表示電極を用いて高分子分散型液晶層の電界を制御すると、図１５のようなパターンが表示される。図１５（ａ）は、表示電極１０１〜１０４のパターンを散乱状態、表示電極１０５のパターンを透過状態とした場合の表示である。図１５（ｂ）は、表示電極１０１及び１０２のパターンを散乱状態、表示電極１０３〜１０５のパターンを透過状態とした場合の表示である。
【０００５】
このように、円と横線とが重なるパターンを表示させようとしても、図１５のように円が分断された表示となってしまう。従って、図１４の構成例では、所望の表示を実現することができない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】実開平５−１７６２６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、所望の表示パターンを実現することが可能な液晶表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一態様に係る液晶表示装置は、対向配置された第１及び第２の基板と、前記第１及び第２の基板に挟持された高分子分散型液晶層と、前記第１の基板に設けられ、第１の表示パターンを有する表示電極と、前記第２の基板に設けられ、第２の表示パターンを有する低反射膜と、前記低反射膜を覆うようにして前記第２の基板に設けられた共通電極とを具備することを特徴とする。
【０００９】
本発明の一態様に係る液晶表示装置は、対向配置された第１及び第２の基板と、前記第１及び第２の基板に挟持された高分子分散型液晶層と、前記第１の基板に設けられ、第１の表示パターンを有する低反射膜と、前記低反射膜を覆うようにして前記第１の基板に設けられた絶縁層と、前記絶縁層上に設けられ、第２の表示パターンを有する表示電極と、前記第２の基板に設けられた共通電極とを具備することを特徴とする。
【００１０】
本発明の一態様に係る液晶表示装置は、対向配置された第１及び第２の基板と、前記第１及び第２の基板に挟持された高分子分散型液晶層と、前記第１の基板に設けられ、第１の表示パターンを有する表示電極と、前記第２の基板に設けられた共通電極と、前記共通電極上に設けられ、第２の表示パターンを有する低反射膜とを具備することを特徴とする。
【００１１】
本発明の一態様に係る液晶表示装置は、対向配置された第１及び第２の基板と、前記第１及び第２の基板に挟持された高分子分散型液晶層と、前記第１の基板に設けられ、表示パターンを有する表示電極と、前記第２の基板に設けられた共通電極と、前記第２の基板の前記液晶層側に設けられ、表示領域を囲む低反射膜とを具備することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、所望の表示パターンを実現することが可能な液晶表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】第１の実施形態に係る液晶表示装置１の概略図。
【図２】液晶表示装置１の断面図。
【図３】電圧制御時における高分子分散型液晶層１２の状態を説明する概略図。
【図４】表示電極１８及び低反射膜２０が表示するパターンの一例を示す平面図。
【図５】図４に示したパターンの表示状態を説明する図。
【図６】第２の実施形態に係る液晶表示装置１の断面図。
【図７】分断された導通配線とこれらを接続する接続配線とを抽出して示した液晶表示装置１の平面図。
【図８】図７に示したＡ−Ａ´線に沿った液晶表示装置１の断面図。
【図９】変形例に係る液晶表示装置１の断面図。
【図１０】第３の実施形態に係る液晶表示装置１の平面図。
【図１１】図１０に示したＢ−Ｂ´線に沿った液晶表示装置１の断面図。
【図１２】第４の実施形態に係る液晶表示装置１の断面図。
【図１３】第５の実施形態に係る液晶表示装置１の断面図。
【図１４】従来の表示電極のパターンを説明する平面図。
【図１５】図１４の表示電極による表示を説明する図。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。ただし、図面は模式的または概念的なものであり、各図面の寸法および比率などは必ずしも現実のものと同一とは限らないことに留意すべきである。また、図面の相互間で同じ部分を表す場合においても、互いの寸法の関係や比率が異なって表される場合もある。特に、以下に示す幾つかの実施形態は、本発明の技術思想を具体化するための装置および方法を例示したものであって、構成部品の形状、構造、配置などによって、本発明の技術思想が特定されるものではない。本発明の技術思想は、その要旨を逸脱しない範囲において、種々の変更を加えることができる。なお、以下の説明において、同一の機能及び構成を有する要素については、同一符号を付し、重複説明は必要な場合にのみ行う。
【００１５】
［第１の実施形態］
図１は、第１の実施形態に係る液晶表示装置１の概略図である。本実施形態に係る液晶表示装置１は、文字や図形などの複数のパターンを表示するパターン表示型の液晶表示装置である。
【００１６】
表示電極が形成された基板１０と共通電極が形成された基板１１とが対向配置されている。基板１０及び１１は、ガラス、石英、又はプラスチック等からなる透明基板である。高分子分散型液晶層１２は、基板１０及び１１によって挟持されている。シール材１３は、基板１０及び１１を貼り合わるとともに、高分子分散型液晶層１２を基板１０及び１１間に封止している。シール材１３で囲まれた領域が液晶表示装置１の表示領域ＤＡであり、この表示領域ＤＡに高分子分散型液晶層１２が設けられる。表示電極及び共通電極は、基板１０に形成された端子１４まで引き出されている。複数の端子１４は、表示電極及び共通電極の電圧を制御する駆動回路に電気的に接続される。
【００１７】
液晶表示装置１は、基板１１の高分子分散型液晶層１２と反対側の面から観察者によって観察される。つまり、観察者は、液晶表示装置１の基板１１側から、液晶層１２の光学的特性による明暗を視認することができる。
【００１８】
図２は、液晶表示装置１の断面図である。基板１０の主面（液晶層側の面）には、表示電極１８と端子１４、及び共通電極１９と端子１４とを電気的に接続するための導通配線１５が設けられている。基板１０の主面上には、導通配線１５を覆うように、絶縁層１７が設けられている。絶縁層１７は、基板１０の全面に形成されている。絶縁層１７は、光透過性を有する絶縁材料からなり、例えばシリコン窒化物が用いられる。絶縁層１７の膜厚は、例えば５００ｎｍ程度である。
【００１９】
絶縁層１７上には、任意のパターン（キャラクタを含む）を有する表示電極１８が設けられている。表示電極１８は、絶縁層１７を貫通するコンタクトプラグ１６によって導通配線１５と電気的に接続される。表示電極１８、コンタクトプラグ１６及び導通配線１５は、いずれも透明電極で構成され、例えばＩＴＯ（インジウム錫酸化物）が用いられる。表示電極１８及び導通配線１５の膜厚それぞれは、例えば２５ｎｍ程度である。
【００２０】
基板１１の主面（液晶層側の面）には、任意のパターン（キャラクタを含む）を有する低反射膜２０が設けられている。低反射膜２０は、遮光性を有し、かつ黒色を有する材料が用いられる。低反射膜２０の反射率は、２０％以下であることが望ましい。低反射膜２０としては、以下の（１）〜（４）の材料が用いられる。  
（１）金属やその合金からなる単層
（２）金属酸化物及び金属が積層された積層膜
（３）金属酸化物、金属及び金属酸化物が順に積層された積層膜
（４）樹脂
低反射膜２０を構成する金属としては、クロム（Ｃｒ）、チタン（Ｔｉ）、及びモリブデン（Ｍｏ）などが挙げられる。本実施形態では、低反射膜２０としては、酸化クロム膜２０Ａ及びクロム膜２０Ｂが積層された積層膜を用いている。この場合、液晶表示装置１を観察者が見た場合、低反射膜２０は、常に黒表示となる。低反射膜２０は、基板１１に低反射膜材料を成膜した後、この低反射膜材料を所望のパターンに加工して形成される。
【００２１】
基板１１の主面上には、低反射膜２０を覆うように共通電極１９が設けられている。共通電極１９は、表示領域ＤＡの全面、若しくは基板１１の全面に形成されている。共通電極１９は、透明電極で構成され、例えばＩＴＯが用いられる。共通電極１９の膜厚は、例えば２５ｎｍ程度である。共通電極１９は、基板１０に形成された共通電極１９用の導通配線１５にリード線やコンタクトなどによって電気的に接続され、さらにこの導通配線１５を介して端子１４に電気的に接続される。
【００２２】
高分子分散型液晶層１２は、表示電極１８と共通電極１９とが向き合うように配置された基板１０及び１１によって挟持されている。高分子分散型液晶層１２の厚さ（ギャップ）は、例えば７μｍ程度である。
【００２３】
高分子分散型液晶層１２は、例えば、誘電率異方性が正のネマティック液晶と、光によって重合反応する高分子材料との混合溶液を基板間に封入し、光照射により上記混合溶液の高分子材料を光重合させて高分子と液晶とを相分離させる方法で形成される。これにより、高分子分散型液晶層１２は、三次元の網状に形成された高分子（高分子ネットワーク）内において液晶が相分離した構造を有する。高分子分散型液晶層１２を用いた光散乱型の液晶表示装置は、ＴＮ液晶表示装置などで使用される偏光板が不要である。また、液晶分子を配向させるための配向膜を形成する必要がない。このため、光の損失が極めて少なく、明るい表示が可能となる。
【００２４】
液晶表示装置１の画像表示動作は、駆動回路２１によって制御される。駆動回路２１は、各パターンに対応する表示電極１８と共通電極１９とに電気的に接続されており、表示電極１８及び共通電極１９に２値の電圧を印加する。
【００２５】
図３は、電圧制御時における高分子分散型液晶層１２の状態を説明する概略図である。図３（ａ）は、高分子分散型液晶層１２の散乱状態を説明する図であり、図３（ｂ）は、高分子分散型液晶層１２の透過状態を説明する図である。なお、図３には、共通電極１９と表示電極１８とに挟まれた高分子分散型液晶層１２の一部を抽出して示している。
【００２６】
図３（ａ）に示すように、高分子分散型液晶層１２に電圧を印加していない（電圧を略０Ｖにする）場合、液晶分子に電界が印加されず、液晶分子がランダムに配置されるので、白色光を液晶表示装置１に入射すると入射した光が散乱する。この時、観察者に観察される光量が少なくなり、パターンの表示が暗表示になる。液晶層１２による暗表示のパターンは、低反射膜２０よる黒表示に近い色で観察者に観察される。
【００２７】
一方、図３（ｂ）に示すように、高分子分散型液晶層１２に高電圧（例えば５Ｖ）を印加した場合、液晶分子が電界方向に配列する。このため、入射光を透過して外部からは透明な状態として観察される。
【００２８】
図４は、表示電極１８及び低反射膜２０が表示するパターンの一例を示す平面図である。低反射膜２０の平面形状は、円である。表示電極１８Ａ及び１８Ｂの平面形状はそれぞれ、低反射膜２０を横断する直線である。すなわち、表示領域ＤＡを見た場合に、表示電極１８Ａ及び１８Ｂは、低反射膜２０と交差している。表示電極（周囲電極）１８Ｃは、表示電極１８Ａ及び１８Ｂと所定の間隔空けかつ表示電極１８Ａ及び１８Ｂを囲むように形成されている。表示電極１８Ａ、１８Ｂ及び１８Ｃはそれぞれ、電気的に分離されている。
【００２９】
図５は、図４に示したパターンの表示状態を説明する図である。図５の斜線は、黒表示を表しており、それ以外は透過状態を表している。低反射膜２０による円のパターンは、常に黒表示である。
【００３０】
駆動回路２１は、共通電極１９に０Ｖを印加した状態で、表示電極１８Ａ及び１８Ｂに０Ｖを印加し、表示電極１８Ｃに５Ｖを印加する。これにより、表示電極１８Ａ及び１８Ｂの部分は暗表示（黒表示）となり、表示電極１８Ｃの部分は透過状態となる。よって、図５（ａ）のパターンが表示領域ＤＡに表示される。
【００３１】
一方、駆動回路２１は、共通電極１９に０Ｖを印加した状態で、表示電極１８Ａ、１８Ｂ及び１８Ｃに５Ｖを印加する。これにより、表示電極１８Ａ、１８Ｂ及び１８Ｃの部分は透過状態となる。よって、低反射膜２０のみが黒表示され、図５（ｂ）のパターンが表示領域ＤＡに表示される。
【００３２】
（効果）
以上詳述したように第１の実施形態では、液晶表示装置１は、対向配置された基板１０及び１１と、基板１０及び１１に挟持された高分子分散型液晶層１２とを備えている。基板１０には、第１の表示パターンを有する表示電極１８が設けられ、基板１１には、第２の表示パターンを有する低反射膜２０と共通電極１９とが設けられる。
【００３３】
従って第１の実施形態によれば、低反射膜２０で形成したパターンは、電圧を制御する必要がないため、このパターンに対応する表示電極及び導通配線が必要ない。よって、表示電極及び導通配線を削減できるため、液晶表示装置１の製造コストを低減することができる。
【００３４】
また、低反射膜２０で形成したパターンと、表示電極で形成したパターンとを重ねて表示することができる。これにより、より複雑なパターンを精度よく表示することができる。
【００３５】
なお、図４では、低反射膜２０と表示電極１８とが交差する実施例を示しているが、このような実施例に限定されるものではなく、低反射膜２０と表示電極１８とが交差していなくてもよい。
【００３６】
［第２の実施形態］
第２の実施形態は、常に黒表示される低反射膜を導通配線が形成される基板（下側の基板）に配置する。そして、低反射膜で形成したパターンと、表示電極で形成したパターンとを重ねて表示するようにしている。
【００３７】
図６は、第２の実施形態に係る液晶表示装置１の断面図である。基板１０の主面（液晶層側の面）には、表示電極１８と端子１４、及び共通電極１９と端子１４とを電気的に接続するための導通配線１５が設けられている。また、基板１０の主面には、任意のパターンを有する低反射膜２０が設けられている。低反射膜２０は、基板１０に低反射膜材料を成膜した後、この低反射膜材料を所望のパターンに加工して形成される。
【００３８】
また、基板１０上には、導通配線１５及び低反射膜２０を覆うように、絶縁層１７が設けられている。基板１１の主面（液晶層側の面）には、共通電極１９が設けられている。その他の構成は、第１の実施形態と同じである。
【００３９】
図６のように構成された液晶表示装置１は、第１の実施形態で説明した図４及び図５と同じパターンを表示することができる。
【００４０】
なお、低反射膜２０及び導通配線１５がともに基板１０上に形成されるので、低反射膜２０のレイアウトによっては導通配線１５が低反射膜２０を横断する場合がある。この場合は、低反射膜２０によって分断された導通配線を、表示電極１８と同じレベルの配線を用いて電気的に接続する。図７は、分断された導通配線とこれらを接続する接続配線とを抽出して示した液晶表示装置１の平面図である。図８は、図７に示したＡ−Ａ´線に沿った液晶表示装置１の断面図である。
【００４１】
導通配線１５Ａ及び１５Ｂは、低反射膜２０によって分断されている。絶縁層１７上には、低反射膜２０を横断する接続配線２２が設けられている。接続配線２２は、表示電極１８と同じレベルの配線層で構成される。接続配線２２の一方の端部は、絶縁層１７を貫通するコンタクトプラグ２３Ａによって導通配線１５Ａの端部に電気的に接続されている。接続配線２２の他方の端部は、絶縁層１７を貫通するコンタクトプラグ２３Ｂによって導通配線１５Ｂの端部に電気的に接続されている。接続配線２２、コンタクトプラグ２３Ａ及び２３Ｂはそれぞれ、透明電極で構成され、例えばＩＴＯが用いられる。
【００４２】
このように、導通配線１５を低反射膜２０が横断した場合でも、導通配線１５を端子１４まで引き出すことができる。
【００４３】
（変形例）
導通配線１５は例えばＩＴＯで構成されるが、このＩＴＯは比較的抵抗が高い。また、導通配線１５は細くかつ長く配線されるため、導通配線１５の抵抗がより高くなってしまう。そこで、本変形例では、表示電極１８（又は共通電極１９）と端子１４とを接続する配線の抵抗を低くする手法について説明する。
【００４４】
液晶表示装置１は、表示電極１８に直接接続された導通配線１５以外に、表示領域ＤＡの外側に配置された入力配線を有している。入力配線は、例えば、表示領域ＤＡの内側に配置された導通配線と端子１４とを電気的に接続する。本変形例では、導通配線とは、表示電極に電気的に接続されかつ表示領域ＤＡの内側に配置された配線を意味し、入力配線とは、表示領域ＤＡの外側に配置された配線を意味するものとする。
【００４５】
図９は、変形例に係る液晶表示装置１の断面図である。基板１０の主面のうち表示領域ＤＡの外側の領域には、入力配線２４が設けられている。入力配線２４は、低反射膜２０と同じ材料、すなわち金属酸化膜（例えば酸化クロム膜）２４Ａ及び金属膜（例えばクロム膜）２４Ｂと、酸化クロム膜２４Ａ及びクロム膜２４Ｂを覆う透明電極膜（例えばＩＴＯ）２４Ｃとから構成されている。一方、導通配線１５は、例えばＩＴＯで構成されている。
【００４６】
クロム膜２４Ｂの抵抗は低いため、入力配線２４は、ＩＴＯのみで形成した場合と比べて、その抵抗を低くすることができる。これにより、液晶表示装置１の消費電力を低減することが可能となる。
【００４７】
なお、入力配線２４にクロム（Ｃｒ）や酸化クロム（ＣｒＯ）を使用することで、入力配線２４が外部から黒く見えることになる。しかしながら、入力配線２４は、表示領域ＤＡの外側に配置されるため、外部から黒く見えても問題はない。
【００４８】
（効果）
以上詳述したように第２の実施形態では、基板１０に、第１の表示パターンを有する低反射膜と、第２の表示パターンを有する表示電極とを配置し、基板１１に共通電極を配置するようにしている。このようにして液晶表示装置１を構成した場合でも、第１の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【００４９】
［第３の実施形態］
第３の実施形態は、表示領域ＤＡを囲むように外枠を形成し、この外枠を低反射膜で構成する。そして、外枠を基板の液晶層側に配置することで、外枠を液晶表示装置の内部に組み込むようにしている。
【００５０】
図１０は、第３の実施形態に係る液晶表示装置１の平面図である。図１１は、図１０に示したＢ−Ｂ´線に沿った液晶表示装置１の断面図である。
【００５１】
基板１１の主面（液晶層側の面）には、表示領域ＤＡの外周を囲むように外枠３０が設けられている。外枠３０は、低反射膜から構成される。低反射膜は、第１の実施形態で説明した低反射膜２０と同じ材料が用いられる。外枠３０は、基板１０に低反射膜材料を成膜した後、この低反射膜材料を所望のパターンに加工して形成される。基板１１上には、外枠３０を覆うようにして共通電極１９が設けられている。
【００５２】
基板１０には、第１の実施形態と同様に、導通配線１５、絶縁層１７、及び表示電極１８が形成される。表示電極１８は、任意のパターンに加工される。その他の構成は、第１の実施形態と同じである。
【００５３】
このように構成された液晶表示装置１では、外枠３０を低反射膜を成膜して形成することができる。これにより、外枠３０と表示領域ＤＡとのアライメント精度を向上させることができる。
【００５４】
また、外枠３０を液晶表示装置１の内部に組み込むことが可能となるため、外枠を単体部品として製造する必要がない。これにより、部品点数が削減できるとともに製造工程が簡略化できるため、液晶表示装置１の製造コストを低減することができる。
【００５５】
［第４の実施形態］
図１２は、第４の実施形態に係る液晶表示装置１の断面図である。基板１１の主面（液晶層側の面）には、任意のパターンを有する低反射膜２０が設けられている。低反射膜２０としては、黒色の樹脂膜が用いられる。樹脂膜からなる低反射膜２０の膜厚は、１０００ｎｍ程度である。低反射膜２０を樹脂膜で形成した場合、この樹脂膜は、金属膜に比べて膜厚が厚くなる。よって、低反射膜２０上に直接、ＩＴＯからなる共通電極１９を成膜すると、低反射膜２０の段差によって共通電極１９が部分的に分断される可能性がある。共通電極１９が部分的に分断されると、表示品位が低下したり、不良が発生したりする。
【００５６】
そこで、この対策として、低反射膜２０の段差を緩和するために、基板１１の主面に、低反射膜２０を覆うように平坦化膜３１を形成する。平坦化膜３１は、基板１１の全面に設けられる。平坦化膜３１は、透明な絶縁膜から構成される。平坦化膜３１上には、共通電極１９が設けられている。その他の構成は、第１の実施形態と同じである。
【００５７】
このように構成された液晶表示装置１において、平坦化膜３１は、低反射膜２０の段差を緩和することができる。よって、共通電極１９を平坦化膜３１上に形成することで、共通電極１９が部分的に分断されたり、共通電極１９に亀裂が入ったりするのを防ぐことができる。この結果、低反射膜２０及び共通電極１９に起因して表示品位が低下したり、不良が発生したりするのを防ぐことができる。
【００５８】
［第５の実施形態］
図１３は、第５の実施形態に係る液晶表示装置１の断面図である。基板１１の主面（液晶層側の面）には、共通電極１９が設けられている。共通電極１９は、表示領域ＤＡの全面、若しくは基板１１の全面に形成されている。共通電極１９上には、任意のパターンを有する低反射膜２０が設けられている。本実施形態では、低反射膜２０としては、酸化クロム膜２０Ａ及びクロム膜２０Ｂが積層された積層膜が用いられる。その他の構成は、第１の実施形態と同じである。
【００５９】
このように構成された液晶表示装置１では、共通電極１９を基板１１の主面に配置することができるため、共通電極１９を平坦化できる。これにより、共通電極１９が部分的に分断されたり、共通電極１９に亀裂が入ったりするのを防ぐことができる。この結果、共通電極１９に起因して表示品位が低下したり、不良が発生したりするのを防ぐことができる。
【００６０】
上記各実施形態の液晶表示装置は、カメラなどのファインダに文字や図形を重ねて表示するパターン表示型の液晶表示装置に適用することができる。その他、デジタル時計、調光ガラス、セグメント表示が可能な液晶表示装置、マトリクス表示が可能な液晶表示装置などに適用することも可能である。
【００６１】
本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲内で、構成要素を変形して具体化することが可能である。さらに、上記実施形態には種々の段階の発明が含まれており、１つの実施形態に開示される複数の構成要素の適宜な組み合わせ、若しくは異なる実施形態に開示される構成要素の適宜な組み合わせにより種々の発明を構成することができる。例えば、実施形態に開示される全構成要素から幾つかの構成要素が削除されても、発明が解決しようとする課題が解決でき、発明の効果が得られる場合には、これらの構成要素が削除された実施形態が発明として抽出されうる。
【符号の説明】
【００６２】
１…液晶表示装置、１０，１１…基板、１２…高分子分散型液晶層、１３…シール材、１４…端子、１５…導通配線、１６，２３…コンタクトプラグ、１７…絶縁層、１８…表示電極、１９…共通電極、２０…低反射膜、２１…駆動回路、２２…接続配線、２４…入力配線、３０…外枠、３１…平坦化膜、１０１〜１０５…表示電極。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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