(57)【要約】  【課題】  金属蒸着あるいはスパッタなどの工程を省くことが可能であり、かつ、意匠性、耐擦傷性、ハンドリング性、成型性に優れた高い選択反射性能を有する積層フィルムをもちいたエレクトロルミネッセンスデバイスを提供することを課題とする。  【解決手段】  積層フィルム、電極層、発光体層、誘電体層を含み、該積層フィルムが層厚み５ｎｍから５００ｎｍの範囲にある樹脂Ａからなる層（Ａ層）と層厚み５ｎｍから５００ｎｍの範囲にある樹脂Ｂからなる層（Ｂ層）とが交互にそれぞれ５０層以上積層された構造を有し、波長４００〜８００ｎｍの領域において、入射角１０度の無偏光の白色光、入射角１０度の直線偏光を有する白色光および前記直線偏光を有する白色光とは直交する直線偏光面を有する入射角１０度の白色光のすべてに対する平均反射率が１０〜７５％であることを特徴とするエレクトロルミネッセンスデバイスとする。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
積層フィルム、電極層、発光体層、誘電体層を含むエレクトロルミネッセンスデバイスであって、該積層フィルムが層厚み５ｎｍから５００ｎｍの範囲にある樹脂Ａからなる層（Ａ層）と層厚み５ｎｍから５００ｎｍの範囲にある樹脂Ｂからなる層（Ｂ層）とが交互にそれぞれ５０層以上積層された構造を有し、波長４００〜８００ｎｍの領域において、入射角１０度の無偏光の白色光（以下、無偏光白色光という）、入射角１０度の直線偏光を有する白色光（以下、第１偏光白色光という）および前記直線偏光を有する白色光とは直交する直線偏光面を有する入射角１０度の白色光（以下、第２偏光白色光という）のすべてに対する平均反射率が１０〜７５％であることを特徴とするエレクトロルミネッセンスデバイス。
【請求項２】
さらに、背面電極を有し、積層フィルム、電極層、発光体層、誘電体層、背面電極、積層フィルムがこの順で配置されていることを特徴とする請求項１に記載のエレクトロルミネッセンスデバイス。
【請求項３】
さらに、背面電極と透明フィルム層を有し、透明フィルム層、電極層、発光体層、誘電体層、背面電極、積層フィルムがこの順で配置されることを特徴とする請求項１に記載のエレクトロルミネッセンスデバイス。
【請求項４】
前記積層フィルムの波長４００〜８００ｎｍの領域における無偏光白色光、第１偏光白色光および第二偏光白色光のすべてに対する平均反射率が１０〜６０％であることを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載のエレクトロルミネッセンスデバイス。
【請求項５】
前記積層フィルムの波長４００〜８００ｎｍの領域における無偏光白色光、第１偏光白色光および第二偏光白色光のすべてに対する平均反射率が５０〜７５％であることを特徴とする請求項２〜４のいずれかに記載のエレクトロルミネッセンスデバイス。
【請求項６】
発光体層が無機物からなる請求項１〜５のいずれかに記載のエレクトロルミネッセンスデバイス。
【請求項７】
分散型交流電圧式駆動で駆動する請求項１〜６のいずれかに記載のエレクトロルミネッセンスデバイス。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載のエレクトロルミネッセンスデバイスを用いた照明器具。
【請求項９】
請求項１〜７のいずれかに記載のエレクトロルミネッセンスデバイスを用いた携帯情報端末。
【請求項１０】
層厚み５ｎｍから５００ｎｍの範囲にある樹脂Ａからなる層（Ａ層）と層厚み５ｎｍから５００ｎｍの範囲にある樹脂Ｂからなる層（Ｂ層）とが交互にそれぞれ５０層以上積層された構造を有し、波長４００〜８００ｎｍの領域において、入射角１０度の無偏光の白色光、入射角１０度の直線偏光を有する白色入射光および前記直線偏光を有する白色光とは直交する直線偏光面を有する入射角１０度の白色光のすべての平均反射率が１０〜７５％である積層フィルム。
【請求項１１】
フィルム総厚みが３０μｍ以上３００μｍ以下であることを特徴とする請求項１０に記載の積層フィルム。
【請求項１２】
１５０℃雰囲気下での熱収縮率が、フィルムの長手方向（ＭＤ方向）および横手方向（ＴＤ方向）ともに１．５％以下であることを特徴とする請求項１０または１１に記載の積層フィルム。
【請求項１３】
ヤング率がフィルムの長手方向（ＭＤ方向）および横手方向（ＴＤ方向）ともに４．０ＧＰａ以下であることを特徴とする請求項１０から１２のいずれかに記載の積層フィルム。
【請求項１４】
前記積層フィルムの一方の表面に電極層を形成してなる請求項１０〜１３に記載の積層フィルム。
【請求項１５】
請求項１１〜１４の何れかに記載の積層フィルムの最表面に樹脂Ｃからなる層（Ｃ層）が一体成形によりもうけられ、該積層フィルムとＣ層間の剥離強度が１５ｇｆ／ｃｍ以下であることを特徴とする積層体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エレクトロルミネッセンスデバイスおよびこれを用いた照明器具、携帯情報端末に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶をはじめとする各種ディスプレイや携帯電話などの電子デバイスにおいては、軽薄短小化の動きが加速しており、それに伴って従来用いられてきたガラス基板をプラスチックフィルムに代替えする研究が盛んに行われている。プラスチックフィルムは軽量かつフレキシビリティに優れているため、プラスチックフィルムを、液晶表示素子、有機エレクトロルミネッセンスデバイス、無機分散型エレクトロルミネッセンスデバイスなどに適用できれば極めて軽量かつフレキシブルな機能性素子を得ることが可能となる。特にエレクトロルミネッセンスは液晶やプラズマディスプレイに代わる薄型ディスプレイとして期待されており、市場が拡大している。また、面発光が可能であり、かつ、形状に制約がない、薄型であるという点から照明用途向けパネルや、ハーフミラーとして通常使用時は鏡として機能し、エレクトロルミネッセンスを発光させることで映像等が表示されるような電飾広告などの意匠性用途としても広く使用されつつある。しかし、金属蒸着またはスパッタによるハーフミラー調の意匠性の付与では、金属と印刷の密着性不良や、種々の加工が加わることによる歩留まりの悪化、工程複雑化、環境面での問題があった。また、照明用途向けパネルでは使用されているフィルムには偏光性があるため、組立時に偏光方向を調整する必要があるうえに、偏光に対する反射性能あるいは透過性能が低下するという問題があった。（特許文献１〜５）
また、近年意匠フィルムとして、屈折率差のある樹脂を交互に１００層以上積層した多層フィルムが登場したが、従来の基材フィルムに比べて擦り傷などの表面欠点が認識されやすいために外観不良の問題が懸念されて、意匠用途には適用が限定的であった。（特許文献６）
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００７−１３４１９３号公報
【特許文献２】特開２０１０−１００５４号公報
【特許文献３】特開２０１１−１２９１１０号公報
【特許文献４】特開２０１１−２０４６１８号公報
【特許文献５】特表平１１−５１０９４８号公報
【特許文献６】特開２００９−１４３２２５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、上記の従来技術の問題に鑑み、金属蒸着あるいはスパッタなどの工程を用いることなく、かつ、意匠性、耐擦傷性、ハンドリング性、成型性に優れた高い選択反射性能を有する積層フィルムをもちいたエレクトロルミネッセンスデバイスを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決するため、本発明は次のような構成をとり、また、種々の好ましい態様をとる。すなわち、本発明の要旨とするところは、積層フィルム、電極層、発光体層、誘電体層を含むエレクトロルミネッセンスデバイスであって、該積層フィルムが層厚み５ｎｍから５００ｎｍの範囲にある樹脂Ａからなる層（Ａ層）と層厚み５ｎｍから５００ｎｍの範囲にある樹脂Ｂからなる層（Ｂ層）とが交互にそれぞれ５０層以上積層された構造を有し、波長４００〜８００ｎｍの領域において、入射角１０度の無偏光の白色光（以下、無偏光白色光という）、入射角１０度の直線偏光を有する白色光（以下、第１偏光白色光という）および前記直線偏光を有する白色光とは直交する直線偏光面を有する入射角１０度の白色光（以下、第２偏光白色光という）のすべてに対する平均反射率が１０〜７５％であることを特徴とするエレクトロルミネッセンスデバイスである。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、金属蒸着あるいはスパッタなどの工程を省くことが可能であり、かつ、意匠性、耐擦傷性、ハンドリング性にも優れ、また、形状的にも自由度の高いエレクトロルミネッセンスデバイスを得ることができる。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
以下、本発明の実施の形態を詳細に説明する。
【０００８】
本発明のエレクトロルミネッセンスデバイスは、積層フィルム、電極層、発光体層、誘電体層を含み、該積層フィルムが層厚み５ｎｍから５００ｎｍの範囲にある樹脂Ａからなる層（Ａ層）と層厚み５ｎｍから５００ｎｍの範囲にある樹脂Ｂからなる層（Ｂ層）とが交互にそれぞれ５０層以上積層された構造を有し、波長４００〜８００ｎｍの領域において、無偏光白色光、第１偏光白色光および第２偏光白色光のすべてに対する平均反射率が１０〜７５％であることが必要である。
【０００９】
ここで、無偏光白色光、第１偏光白色光および第２偏光白色光について説明する。無偏光白色光とは、波長２４０〜３５０ｎｍの範囲においては重水素ランプ、波長３５１〜１７５０ｎｍの範囲においてはタングステンランプのスペクトルを有する光であり、かつ、電場が全ての方向に均一に分布している波の集合体のことをいう。第１偏光白色光とは、該白色光の偏光面が一つの平面に限られる直線偏光白色光のことである。第２偏光白色光とは、該第１偏光白色光の偏光面に対して直交する偏光面を有する直線偏光白色光のことである。
【００１０】
本発明のエレクトロルミネッセンスデバイスは、積層フィルム、電極層、発光体層、誘電体層を含むが、種々の構成が可能である。例えば、意匠性を重視する場合は、発光面側から、透明フィルム／積層フィルム／電極層１／発光体層／誘電体層／電極層２／基板の順で構成するものである。薄膜軽量化、工程簡略化のために、積層フィルム／電極層１／発光体層／誘電体層／電極層２／基板の順で構成することも好ましい。また、さらなる意匠性付与のために、積層フィルムの発光面側もしくは各構成の間に印刷層をもうけることが好ましく、透明フィルム／印刷層／積層フィルム／電極層１／発光体層／誘電体層／電極層２／基板、または透明フィルム／印刷層／積層フィルム／印刷層／電極層１／発光体層／誘電体層／電極層２／基板、透明フィルム／印刷層／積層フィルム／印刷層／電極層１／発光体層／誘電体層／印刷層／電極層２／基板、または印刷層／積層フィルム／電極層１／発光体層／誘電体層／電極層２／基板、または印刷層／積層フィルム／印刷層／電極層１／発光体層／誘電体層／電極層２／基板、または印刷層／積層フィルム／印刷層／電極層１／発光体層／誘電体層／電極層／印刷層／基板の順で構成されることが好ましい。なお、これらは、接着剤を介して、もしくは物理的に直接接合しても良い。また、照明器具として使用する場合は、発光面側から透明フィルム／電極層１／発光体層／誘電体層／電極層２／積層フィルムの順で構成されることが好ましい。
【００１１】
電極層は金、銀、白金、パラジウム、ロジウム、インジウム、銅、アルミニウム、ニッケル、クロム、チタン、鉄、コバルト、スズ、などの金属およびこれらの合金や、酸化錫、酸化インジウム、酸化チタン、酸化アンチモン、酸化亜鉛、酸化カドミウム、フッ素モンドープ酸化錫（ＡＴＯ），フッ素ドープ酸化亜鉛（ＦＺＯ），アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＧＺＯ）、ホウ素ドープ酸化亜鉛（ＢＺＯ）、インジウムティンオキサイド（ＩＴＯ）などの金属酸化物膜、ヨウ化銅などの複合膜によって形成することができる。また、これら電極層は真空蒸着、スパッタリング、反応性ＲＦスパッタリング、イオンプレーディング、スプレー熱分解法、化学メッキ法、電気メッキ法、ＣＶＤ（ケミカル・ベーパー・デポジション）法、コーティング法、あるいはこれらの組み合わせで得ることができる。その他、電極層の材質としては導電性高分子も例示できる。具体的にはポリピロール、ポリアニリン、ポリアセチレン、ポリチオフェン、ポリフェニレン、ビニレン、ポリフェニレンスルフィド、ポリーｐ−フェニレン、ポリへテロサイクル・ビニレン、３，４−エチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）がある。その他、カーボンナノチューブ、ナノ銀なども高い導電性を示すため好ましい。特に電極層は意匠性の観点から透明であることが好ましく、インジウムティンオキサイド（ＩＴＯ）が好ましい。電極層の厚みは特に限定されないが、通常５〜５００ｎｍであることが好ましい。背面電極層については前記の電極層と同じでもよく、用途によっては不透明のものでもかまわない。例えば、金、銀、銅、アルミニウム、ベリリウム、コバルト、クロム、鉄、ゲルマニウム、イリジウム、カリウム、リチウム、マグネシウム、モリブデン、ナトリウム、ニッケル、白金、ケイ素、錫、タンタル、タングステン、亜鉛等の金属、及びグラファイト等の導電性炭素材料が例示できる。なかでも、金、銀、銅、アルミニウム、グラファイト等が好ましい。電極層２は誘電体層の面上の導電性シートを貼り付けたり、導電性ペーストを印刷・塗布形成できる、特に、導電性ペーストを使用する場合にはＲｏｌｌ−ｔｏ―Ｒｏｌｌによる連続プロセスが容易に適用できるため好ましい。
【００１２】
発光体層に用いられる材料としては特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。また、前記発光体層としては発光材料も含み、発光材料のみで構成されてもよいし、ホスト材料と発光材料の混合層であってもよい。前記発光材料としては蛍光発光材料でも燐光発光材料であってもよく、２種以上が混合されていてもよいが、高い効率が得られるという点で燐光発光材料を用いることが好ましい。燐光発光材料としては特に制限はなく、例えば、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、タングステン、レニウム、オスミウム、イリジウム、金、銀、銅、白金などがあげられる。これらの中でもレニウム、イリジウム、白金がより好ましい。
【００１３】
また、発光体層は無機発光体粒子を分散含有して形成された層が好ましく、無機発光体は無機エレクトロルミネッセンスパネルに通常使用されている物で良く、必要な発光波長領域に応じて適宜選択すればよい。具体的には硫化カドミウム（ＣｄＳ）、セレン化カドミウム（ＣｄＳｅ）、テルル化カドミウム（ＣｄＴｅ）、硫化亜鉛（ＺｎＳ）、セレン化亜鉛（ＺｎＳｅ）、Ｚｎテルル化亜鉛（ＺｎＴｅ）、銅、マンガン、ヒ化ガリリウム（ＧａＡｓ）およびこれらの二種以上の混晶などがある。特に硫化亜鉛（ＺｎＳ）が好ましい。無機発光体粒子の分散に使用するバインダー樹脂としては活性エネルギー線硬化樹脂、熱硬化性樹脂、熱乾燥性樹脂などが使用できる。活性エネルギー線硬化樹脂としてはアクリレート系樹脂、熱硬化性樹脂としてはエポキシ系樹脂、熱乾燥性樹脂としてはシアノエチルセルロース系樹脂、フッ化ビニリデン系樹脂系樹脂がそれぞれ挙げられる。発光体層の厚さは１０〜１５０μｍであることが好ましく、特に好ましくは２０〜７０μｍである。発光体層は公知の方法で形成できる。なかでもスクリーン印刷法、スライドコート法、スピンコート法、スプレー塗布法を適用して塗工液を塗布する工程を有する方法が好ましい。また、発光体層が無機物であることが好ましい。発光体層が無機物であれば構造をシンプルとでき、超寿命、温度範囲が広いという利点を享有できる。
【００１４】
誘電体層に用いられる材料としては特に制限はなく、特に高い誘電率を実現する場合には無機誘電体を含有する層であることが好ましく、各種の金属酸化物および窒化物を用いることができる。好ましいものとして二酸化ケイ素（ＳｉＯ２），二酸化チタン（ＴｉＯ２）、チタン酸バリウム（ＢａＴｉＯ３）、チタン酸ストロンチウム（ＳｒＴｉＯ３）、チタン酸鉛（ＰｂＴｉＯ３），五酸化タルタル（Ｔａ２Ｏ３）、タンタル酸バリウム（ＢａＴａ２Ｏ６）、タルタル酸リチウム（ＬｉＴａＯ３），酸化イットリウム（Ｙ２Ｏ３）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、ＡＩＯＮ等が挙げられる。なかでもチタン酸バリウム（ＢａＴｉＯ３）、チタン酸ストロンチウム（ＳｒＴｉＯ３）、が特に好ましい。また、これらの複数種を組み合わせて使用することも可能である。
【００１５】
また、誘電体層は無機誘電体粒子を分散含有して形成された層であることが好ましい。無機誘電体粒子の分散に使用するバインダー樹脂としては活性エネルギー線硬化樹脂、熱硬化性樹脂、熱乾燥性樹脂などが使用できる。活性エネルギー線硬化樹脂としてはアクリレート樹脂、熱硬化性樹脂としてはエポキシ系樹脂、熱乾燥性樹脂としてはシアノエチルセルロース系樹脂、フッ化ビニリデン系樹脂系樹脂等の中で比較的誘電率の高いポリマーが好ましい。
【００１６】
誘電体層の誘電率は５〜２００であることが好ましく、より好ましくは１５〜１００、さらに好ましくは５０〜８０である。誘電体層の厚さは絶縁破壊を起こさない範囲で薄い方が好ましく、１〜５０μｍであることが好ましく、より好ましくは１〜３０μｍである。
【００１７】
本発明に用いる積層フィルムは、層厚み５ｎｍから５００ｎｍの範囲にある樹脂Ａからなる層（Ａ層）と層厚み５ｎｍから５００ｎｍの範囲にある樹脂Ｂからなる層（Ｂ層）とが交互にそれぞれ５０層以上積層された構造を有し、波長４００〜８００ｎｍの領域において、無偏光白色光、第１偏光白色光および第２偏光白色光のすべてに対する平均反射率が１０〜７５％であることを特徴とする。このような積層フィルムを用いたとき、エレクトロルミネッセンスデバイス製造工程において従来のような金属蒸着品のようにクラックが入る心配がなく、フレキシブル性、成型性、意匠性に優れるものである。また、エレクトロルミネッセンス素子からの光が偏光光であっても設置方向を考慮する必要がないものである。
【００１８】
本発明のエレクトロルミネッセンスデバイスに用いる積層フィルムは異なる２種の樹脂の界面で生じる光の干渉現象を利用しているため、層厚みが５ｎｍから５００ｎｍの範囲にある樹脂Ａからなる層（Ａ層）と層厚みが５ｎｍから５００ｎｍの範囲にある樹脂Ｂからなる層（Ｂ層）を交互にそれぞれ５０層以上積層した構造を有している。また、Ａ層とＢ層以外の第３の層、樹脂ＤからなるＤ層を有する場合にはＤＡ（ＢＡ）ｎ、ＤＡ（ＢＡ）ｎＤ、Ａ（ＢＡ）ｎＤＡ（ＢＡ）ｍなど、Ｄ層が最外層もしくは中間層に積層される構成であっても良い。ここでｎおよびｍは整数であり、例えばＡ（ＢＡ）ｎにおいてｎ＝３の場合、厚み方向にＡＢＡＢＡＢＡの順で積層されていることを表す。
【００１９】
また、前記積層フィルムは層厚みが５ｎｍから５００ｎｍの範囲にある樹脂Ａからなる層（Ａ層）と層厚みが５ｎｍから５００ｎｍの範囲にある樹脂Ｂからなる層（Ｂ層）を交互にそれぞれ５０層以上積層されている必要がある。より好ましくはそれぞれ２００層以上であり、さらに好ましくはそれぞれ８００層以上である。Ａ層とＢ層をそれぞれ５０層以上積層した構造を含まなければ波長４００〜８００ｎｍにおける無偏光白色光、第１偏光白色光および第２偏光白色光のすべてに対する平均反射率が１０％以上とすることが困難である。Ａ層とＢ層がそれぞれ２００層以上であると、反射帯域を広幅化することが可能となるため、ミラー調の外観を得ることが可能となり好ましい。Ａ層とＢ層がそれぞれ８００層以上であると波長４００〜８００ｎｍの領域における無偏光白色光、第１偏光白色光および第２偏光白色光のすべてに対する平均反射率が５０％以上とし易くなるため、いっそうの金属調の外観を有する積層フィルムを得ることができる。平均反射率を調整し、ハーフミラー調の外観とし、エレクトロルミネッセンスデバイスの最表面にもってくることで、通常使用時は鏡として機能し、エレクトロルミネッセンスを発光させることで映像等が表示されるような電飾広告などの意匠性用途としての性能が高くなる。また、平均反射率が高くなるよう調整すれば、エレクトロルミネッセンスの最背面に積層フィルムを設置することで反射指向性に優れた反射板として使用することもできる。積層数の上限値としては特に限定するものではないが、装置の大型化や層数が多くなりすぎることによる積層精度の低下に伴う波長選択性の低下を考慮すると、Ａ層、Ｂ層それぞれ１５００層以下であることが好ましい。なお、ここでいう平均反射率とは１ｎｍ毎測定された反射率を波長区間[４００，８００]（ｎｍ）にわたって足し合わせ、その値を波長区間の数、すなわち４００で割った値のことである。
【００２０】
また、無偏光白色光、第１偏光白色光および第２偏光白色光のすべてに対する平均反射率が１０〜７５％とする必要があるため、本発明の積層フィルムは二軸配向フィルムが好ましく、二軸延伸時のフィルム流れ方向と幅方向の延伸倍率が同じであることがより好ましい。
【００２１】
また、本発明では樹脂Ａからなる層（Ａ層）と樹脂Ｂからなる層（Ｂ層）の各層厚みが５ｎｍから５００ｎｍの範囲でなければならない。各層厚みが５ｎｍ未満、５００ｎｍ以上の場合、実質的に光の反射が起きないため好ましくない。さらに好ましくは３０ｎｍから３００ｎｍ以下である。この場合、反射帯域内の反射率がより高い反射率となるため好ましい。
なお、反射帯域は各各層の層厚みを、下記式１に基づいて反射が起こるように設計される。また、反射率についてはＡ層とＢ層の屈折率差と、Ａ層とＢ層の層数にて制御することができる。
２×（ｎａ・ｄａ＋ｎｂ・ｄｂ）＝λ   式１ 
ｎａ：Ａ層の面内平均屈折率
ｎｂ：Ｂ層の面内平均屈折率
ｄａ：Ａ層の層厚み（ｎｍ）
ｄｂ：Ｂ層の層厚み（ｎｍ）
λ：主反射波長（１次反射波長）        。
【００２２】
本発明の積層フィルムに用いる樹脂Ａまたは樹脂Ｂは熱可塑性樹脂が好ましく、具体的にはポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ（４−メチルペンテン−１）、ポリアセタールなどのポリオレフィン、シクロオレフィンとしてはノルボルネン類の開環メタセシス重合、付加重合、他のオレフィン類との付加共重合体である脂肪族ポリオレフィン、ポリ乳酸・ポリブチルサクシネートなどの生分解性ポリマー、ナイロン６，１１，１２，６６などのポリアミド、アラミド、ポリメチルメタクリレート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、エチレン酢酸ビニルコポリマー、ポリアセタール、ポリグリコール酸、ポリスチレン、スチレン共重合ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、ポリプロピレンテレフタレート・ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレートなどのポリエステル、ポリエーテルサルフォン、ポリエーテルケトン、変性ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルイミド、ポリイミド、ポリアリレート、４フッ化エチレンー６フッ化プロピレン共重合体、ポリフッ化ビニリデン、アクリルニトリル・ブタジエン・スチレン共重合コポリマーなどを用いることができる。この中でも強度、透明性および汎用性の観点からポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリエステルを用いることが好ましい。特に好ましくはポリエステルである。これらはホモポリマーでも共重合ポリマー、さらには熱可塑性樹脂の混合物であってもよい。また、各熱可塑性樹脂中には、各種添加剤、例えば、酸化防止剤、帯電防止剤、結晶核剤、無機粒子、有機粒子、減粘剤、熱安定剤、滑剤、赤外線吸収剤、紫外線吸収剤、屈折率調整のためのドープ剤などが添加されていてもよい。
【００２３】
このポリエステルとしては、芳香族ジカルボン酸または脂肪族ジカルボン酸とジオールを主たる構成成分とする単量体からの重合により得られるポリエステルが好ましい。ここで、芳香族ジカルボン酸として、例えばテレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、４，４’−ジフェニルジカルボン酸、４，４’−ジフェニルスルホンジカルボン酸、４，４‘−ジフェニルジカルボン酸などが挙げられる。脂肪族ジカルボン酸としては例えばアジピン酸、セバシン酸、ダイマー酸、ドデカンジオン酸、シクロヘキサンジカルボン酸とそれらのエステル誘導体などが挙げられる。中でも高い屈折率を発現するテレフタル酸と２，６ナフタレンジカルボン酸を用いることが好ましい。これらの酸成分は１種のみを用いてもよく、２種以上併用してもよく、さらにはヒドロキシ安息香酸のオキシ酸などを一部共重合してもよい。
【００２４】
また、ジオール成分としては、例えば、エチレングリコール、１，２―プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，２−シクロヘキサンジメタノール、１，３−シクロヘキサンジメタノール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリアルキレングリコール、２，２―ビス（４−ヒドロキシエトキシフェニル）プロパン、イソソルベート、スピログリコールなどを挙げることができる。中でもエチレングリコールが好ましく用いられる。これらのジオール成分は１種のみで用いてもよく、２種以上併用してもよい。
【００２５】
上記ポリエステルのうち、ポリエチレンテレフタレートおよびその重合体、ポリエチレンナフタレートおよびその共重合体、ポリブチレンテレフタレートおよびその共重合体、ポリブチレンナフタレートおよびその共重合体、さらにはポリヘキサメチレンテレフタレートおよびその共重合体、ポリヘキサメチレンナフタレートおよびその共重合体などを用いることが好ましい。
【００２６】
本発明における樹脂Ａと樹脂Ｂの好ましい樹脂の組み合わせは、ＳＰ値（ヒルデブラントにより導入された正則溶液論により定義された溶解性パラメータ）の差の絶対値が１．０以下となる樹脂を用いることが好ましい。この場合、層間剥離が生じにくくなる。より好ましくは樹脂Ａと樹脂Ｂが同一の繰り返し単位を主に含んでなることが好ましい。ここでいう繰り返し単位とは、樹脂を構成する繰り返し単位のことであり、主に含んでなるとは最も多い繰り返し単位のことを指す。例えば、一方の樹脂がポリエチレンテレフタレートの場合は、エチレンテレフタレート単位あり、この場合の他の樹脂としてはエチレンテレフタレート単位とシクロヘキサンー１，４−ジメチレンテレフタレート単位からなる重合体（共重合体）が例として上げられる。また、別の例としては、一方の樹脂がポリエチレンの場合はエチレン単位がである。同一の繰り返し単位を主に含んでなる樹脂を組み合わせて用いると、フローマークなどの積層不良や層間剥離などの問題が生じにくくなる。
【００２７】
また、本発明でいうＡ層とＢ層については面内平均屈折率差が０．０３以上であることが好ましい。より好ましくは０．０５以上であり、さらに好ましくは０．１以上である。屈折率差が０．０３より小さい場合には、十分な反射率が得られず好ましくないものである。これを達成するには、Ｂ層の樹脂が非晶性であるとよい。この場合、テンターでの熱処理によりＢ層の配向緩和が起き、より面内平均屈折率差が広がる方向となるため好ましい。
【００２８】
本発明の積層フィルムは、積層フィルム最表層に樹脂Ｃからなる層（Ｃ層）を一体成形により設け、このＣ層を剥離して使用することが好ましい。このようにすると、製膜工程および運送工程において積層フィルムに傷などの欠点がはいらないため好ましい。また、積層フィルム自体に製膜巻き取り時に必要な滑り性付与のための粒子を添加する必要がなくなるためヘイズ値が低下し、光沢度がＵＰするため好ましい。樹脂Ｃとして使用される樹脂は積層フィルムと一体成形してなることから、前記した熱可塑性樹脂が好ましい。より好ましくは樹脂ＡとのＳＰ値の差の絶対値が１．２以上となる樹脂を用いることが好ましい。樹脂ＣからなるＣ層は一体成形によりもうけるが、エレクトロルミネッセンスデバイスに使用する際は剥離して使用することとなる。そのためＳＰ値の差の絶対値が１．０以下となると積層フィルムに密着してしまい、剥離が困難となるため好ましくない。また、Ｃ層の厚みは０．１μｍ以上であることが好ましい。より好ましくは１μｍ以上である。Ｃ層厚みが０．１μｍ未満の場合、積層フィルムへの傷や押し跡などの欠点を十分に防ぐことができない可能性がある。また、剥離も困難となるため好ましくない。上限厚みについては特に限定するものではないが、製造コストや装置設計上の限界があるため５０μｍ未満が好ましい。
【００２９】
また、積層フィルムとＣ層間の剥離強度は１５ｇｆ／ｃｍ以下であることが好ましい。より好ましくは１〜１２ｇｆ／ｃｍ、更に好ましくは１〜８ｇｆ／ｃｍである。剥離強度が１５ｇｆ／ｃｍ以上であると、積層フィルムと剥離しずらくなり、積層フィルムに皺や傷が入る可能性があるため好ましくない。剥離強度の下限値についてはとくに限定するものではないが、剥離工程までにＣ層が剥離せず、積層フィルムと密着している必要があるため１ｇｆ／ｃｍ以上であることが好ましい。
【００３０】
積層フィルムの厚みは３０μｍ以上３００μｍ以下であることが好ましい。この範囲にあることで、平均反射率１０％以上の達成は容易であり、また、意匠性にも優れる。また、適度なコシを有することでハンドリング性が良くなり、一方でエレクトロルミネッセンスデバイスの利点であるフレキシブル性を損なうこともない。
【００３１】
本積層フィルムの一方の表面に電極層を形成することは好ましい態様である。電極層の材質や形成方法は前記のとおりである。電極層を積層フィルムとは異なる基材に形成させ、それをエレクトロルミネッセンスデバイス組み込むという方法も可能であるが、別途基材を組み込むことになるためデバイスそのものの厚みが厚くなる。また、別工程にて積層フィルムを貼り付ける必要性がでてくるため、本態様によれば、そうしたコスト、歩留まりの上昇を抑えることができる。
【００３２】
本発明の積層フィルムは１５０℃雰囲気下での熱収縮率が、フィルム長手方向（ＭＤ方向）および横手方向（ＴＤ方向）ともに１．５％以下が好ましい。より好ましくは１．２％以下である。積層フィルムには意匠性付与のための印刷工程、あるいは電極層付与の工程がはいる可能性がある。印刷・乾燥・加熱硬化などの工程が繰り返された場合に熱収縮率が１．５％を超えると印刷ずれやカールが生じ、これがエレクトロルミネッセンスデバイス製造における許容範囲を超えるため好ましくない。従って、熱収縮率が０％である場合が最も好ましい。
【００３３】
本発明の積層フィルムはヤング率が長手方向（ＭＤ方向）および横手方向（ＴＤ方向）ともに４．０ＧＰａ以下であることが好ましい。この場合、エレクトロルミネッセンスデバイスのフレキシブル性が保持される。
【００３４】
本発明のエレクトロルミネッセンスデバイスでは、積層フィルム、電極層、発光体層、誘電体層、背面電極、積層フィルムがこの順で構成されることは好ましい態様である。積層フィルムが最表面に設けられることで、全面金属調シートの発光体となる。
【００３５】
また、本発明のエレクトロルミネッセンスデバイスでは、透明フィルム、電極層、発光体層、誘電体層、背面電極、積層フィルムの順で構成されることが好ましい態様である。このようにすると、エレクトロルミネッセンスデバイスを面発光照明用途として使用することが可能となる。
【００３６】
本発明のエレクトロルミネッセンスデバイスは電極層に隣接する積層フィルムの波長４００〜８００ｎｍにおける無偏光白色光、第１偏光白色光および第２偏光白色光のすべてに対する平均反射率が１０〜６０％であることが好ましい。より好ましくは３０％〜６０％である。このようにすると、エレクトロルミネッセンスデバイスが発光していないときはミラー調であり、発光すると映像や文字が浮かび上がる等の意匠性に優れたハーフミラー調シートが可能となる。
【００３７】
また、本発明のエレクトロルミネッセンスデバイスは背面電極に隣接する積層フィルムの波長４００〜８００ｎｍにおける無偏光白色光、第１偏光白色光および第２偏光白色光のすべてに対する平均反射率が５０〜７５％であることが好ましい。より好ましくは６０〜７５％、さらに好ましくは６５％以上である。このようにすると、発光層から積層フィルムに入射した光の大半を反射することになるため輝度が上がり、ディスプレイの反射板としての用途で使用することが可能となる。
【００３８】
また、本発明のエレクトロルミネッセンスデバイスは液晶表示用のバックライトや感光体消去ランプなどで使用すると、輝度、指向性が向上するため分散型交流電圧式駆動であることが好ましい。
【００３９】
本発明のエレクトロルミネッセンスデバイスは無偏光白色光、第１偏光白色光および第２偏光白色光のすべてにおいて同等の平均反射率をもつことから照明器具、例えばエレクトロルミネッセンスランプにも好適である。
【００４０】
また、本発明のエレクトロルミネッセンスデバイスは薄型、フレキシブル性、意匠性が高いため携帯情報端末の発光素子として適用することができる。
【００４１】
なお、本発明のエレクトロルミネッセンスデバイスに用いる積層フィルム表面にはハードコート層、着色層、易滑層、帯電防止層、耐摩耗性層、反射防止層、紫外線吸収層、印刷層、透明導電層、ガスバリア層、ホログラム層、剥離層、粘着層、エンボス層、接着層などの機能性層を形成してもよい。特に、延伸追従性のあるハードコート層を設けることにより、表面硬度と表面復元性を両立できる面から好ましい。延伸追従性とは、成形や湾曲させたりなどフィルムが引き延ばされる工程においても、ハードコートがフィルムとの剥離やクラックを生じないことを指す。
【００４２】
次に、本発明に使用される積層フィルムの好ましい製造方法について樹脂Ａおよび樹脂Ｂにポリエステル樹脂を用いた例で以下に説明する。まずは、一般的なポリエステルフィルムの具体的な製造方法について記載する。まず、本発明に用いる二軸配向フィルムに用いられるポリエステル樹脂Ａ（樹脂Ａに相当）およびポリエステル樹脂Ｂ（樹脂Ａに相当）については、市販のポリエチレンテレフタレート樹脂やポリブチレンテレフタレート樹脂を用いたり、公知の方法で重縮合して得ることができるが、たとえば、ポリエチレンテレフタレート樹脂の場合、以下のように重合することができる。
【００４３】
テレフタル酸ジメチル、およびエチレングリコールの混合物に、酢酸マグネシウムと三酸化アンチモンとを添加して、徐々に昇温し、最終的には２２０℃でメタノールを留出させながらエステル交換反応を行う。ついで、該エステル交換反応生成物に、リン酸８５％水溶液を添加した後、重縮合反応釜に移行する。重合釜内で加熱昇温しながら反応系を徐々に減圧して１ｈＰａの減圧下、２９０℃で重縮合反応を行い、所望の極限粘度のポリエチレンテレフタレート樹脂を得ることができる。粒子を添加する場合は、エチレングリコールに粒子を分散させたスラリーを所定の粒子濃度となるように重合反応釜に添加して、重合を行うことが好ましい。
【００４４】
また、ポリブチレンテレフタレート樹脂の製造は、たとえば以下のように行うことができる。テレフタル酸、および１，４−ブタンジオールの混合物を窒素雰囲気下で１４０℃まで昇温して均一溶液とした後、オルトチタン酸テトラ−ｎ−ブチルと、モノヒドロキシブチルスズオキサイドとを添加しエステル化反応を行う。ついで、オルトチタン酸テトラ−ｎ−ブチルを添加して、減圧下で重縮合反応を行い、所望の極限粘度のポリブチレンテレフタレート樹脂を得ることができる。
【００４５】
以上のようにして得られたポリエステル樹脂を用いての本発明の積層フィルムを製造する際の好ましい方法について、具体的に記述する。まず、使用するポリエステル樹脂を混合する場合は所定の割合となるように計量し混合する。ついで、窒素雰囲気、真空雰囲気などで、たとえば１５０℃５時間の乾燥を行い、ポリエステル樹脂中の水分率を好ましくは５０ｐｐｍ以下とする。その後、押出機に供給し溶融押出する。なお、ベント式二軸押出機を用いて溶融押出を行う場合は樹脂の乾燥工程を省略してもよい。ついで、フィルタやギアポンプを通じて、異物の除去、押出量の均整化を行い、Ｔダイより冷却ドラム上にシート状に吐出する。その際、たとえば、ワイヤー状電極もしくはテープ状電極を使用して静電印加する方法、キャスティングドラムと押出したポリマーシート間に水膜を設けるキャスト法、キャスティングドラム温度をポリエステル樹脂のガラス転移点〜（ガラス転移点−２０℃）にして押出したポリマーを粘着させる方法、もしくは、これらの方法を複数組み合わせた方法により、シート状ポリマーをキャスティングドラムに密着させ、冷却固化し、未延伸フィルムを得る。これらのキャスト法の中でも、ポリエステルを使用する場合は、生産性や平面性の観点から、静電印加する方法が好ましく使用される。
【００４６】
ついで、かかる未延伸フィルムを長手方向に延伸した後、幅方向に延伸する、あるいは、幅方向に延伸した後、長手方向に延伸する逐次二軸延伸方法により、または、フィルムの長手方向、幅方向をほぼ同時に延伸していく同時二軸延伸方法などにより延伸を行う。
【００４７】
かかる延伸方法における延伸倍率としては、それぞれの方向に、好ましくは、２．５〜３．５倍、さらに好ましくは２．８〜３．５倍、特に好ましくは３〜３．４倍が採用される。また、延伸速度は１，０００〜２００，０００％／分であることが望ましい。また延伸温度は、ガラス転移点〜（ガラス転移点＋５０℃）の温度が採用されるが、さらに好ましくは９０〜１３０℃、特に好ましくは長手方向の延伸温度を１００〜１２０℃、幅方向の延伸温度を９０〜１１０℃とするのがよい。また、延伸は各方向に対して複数回行ってもよい。
【００４８】
さらに二軸延伸の後にフィルムの熱処理を行う。熱処理はオーブン中、加熱したロール上など従来公知の任意の方法により行うことができる。この熱処理は１２０℃以上ポリエステルの融点以下の温度で行われるが、２００〜２４０℃の熱処理温度とするのが好ましい。フィルムの透明性、寸法安定性の点からは２１０〜２３５℃であればより好ましい。また、熱処理時間は特性を悪化させない範囲において任意とすることができ、好ましくは１〜６０秒間、より好ましくは１〜３０秒間行うのがよい。さらに、熱処理はフィルムを長手方向および／または幅方向に弛緩させて行ってもよい。さらに、横延伸工程の前で、インク印刷層や接着剤、蒸着層との接着力を向上させるため、少なくとも片面にコロナ処理を行ったり、コーティング層を設けることもできる。このときの塗工液はロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、バーコーター、ダイコーター、ディップコーター等の公知の塗工手段を用いて、前記透明基材に塗布する。
【００４９】
同時二軸延伸の場合について次に説明する。同時二軸延伸の場合には、得られたキャストフィルムに、必要に応じてコロナ処理やフレーム処理、プラズマ処理などの表面処理を施した後、易滑性、易接着性、帯電防止性などの機能をインラインコーティングにより付与してもよい。
【００５０】
次に、キャストフィルムを、同時二軸テンターへ導き、フィルムの両端をクリップで把持しながら搬送して、長手方向と幅方向に同時および／または段階的に延伸する。同時二軸延伸機としては、パンタグラフ方式、スクリュー方式、駆動モーター方式、リニアモーター方式があるが、任意に延伸倍率を変更可能であり、任意の場所で弛緩処理を行うことができる駆動モーター方式もしくはリニアモーター方式が好ましい。延伸の倍率としては樹脂の種類により異なるが、通常、面積倍率として６〜５０倍が好ましく、積層フィルムを構成する樹脂のいずれかにポリエチレンテレフタレートを用いた場合には、面積倍率として８〜３０倍が特に好ましく用いられる。特に同時二軸延伸の場合には、面内の配向差を抑制するために、長手方向と幅方向の延伸倍率を同一とするとともに、延伸速度もほぼ等しくなるようにすることが好ましい。また、延伸温度としては積層フィルムを構成する樹脂のガラス転移温度〜ガラス転移温度＋１２０℃が好ましい。
【００５１】
こうして二軸延伸されたフィルムは、平面性、寸法安定性を付与するために、引き続きテンター内で延伸温度以上融点以下の熱処理を行うのが好ましい。この熱処理の際に、幅方向での主配向軸の分布を抑制するため、熱処理ゾーンに入る直前および／あるいは直後に瞬時に長手方向に弛緩処理することが好ましい。このようにして熱処理された後、均一に徐冷後、室温まで冷やして巻き取られる。また、必要に応じて、熱処理から徐冷の際に長手方向および／あるいは幅方向に弛緩処理を行っても良い。熱処理ゾーンに入る直前および／あるいは直後に瞬時に長手方向に弛緩処理する。
【００５２】
次に、多層積層押出法によるポリエステルフィルムの製造方法について詳細に説明する。２種類のポリエステル樹脂Ａおよびポリエステル樹脂Ｂをペレットなどの形態で用意する。ペレットは、必要に応じて、熱風中あるいは真空下で乾燥された後、別々の押出機に供給される。押出機内において、融点以上に加熱溶融された樹脂は、ギアポンプ等で樹脂の押出量を均一化され、フィルタ等を介して異物や変性した樹脂などを取り除かれる。
【００５３】
これらの２台以上の押出機を用いて異なる流路から送り出されたポリエステル樹脂Ａおよびポリエステル樹脂Ｂは、次に多層積層装置に送り込まれる。多層積層装置としては、マルチマニホールドダイやフィールドブロックを用いることができる。また、これらを任意に組み合わせても良い。そのフィードブロックの構造は、多数の微細スリットを有する櫛形のスリット板に部材を少なくとも１個有しており、２つの押出機から押し出された樹脂Ａと樹脂Ｂが、各マニホールドを経由して、スリット板に導入される。ここでは導入板を介して、樹脂Ａと樹脂Ｂが選択的に交互にスリットに流入するため、最終的にはＡ／Ｂ／Ａ／Ｂ／Ａ・・・といった多層膜を形成することができる。また、スリット板をさらに重ね合わせることにより、層数を増やすことも可能である。また、両表層部に樹脂Ｃを設ける場合は、３つ目の押出機から樹脂Ｃを３層複合装置（フィードブロック）の表層側に導入し、中央層に多層膜を導入することによって、Ｃ／Ａ／Ｂ／Ａ・・・Ａ／Ｂ／Ａ／Ｃといった多層膜を形成することができる。また、各層の厚みを精度良く制御するためには、加工精度０．１ｍｍ以下の放電加工、ワイヤー放電加工にて、各層の流量を調整する微細スリットを設けたフィードブロックが好ましい。また、この際、樹脂温度の不均一性を低減するため、熱媒循環方式による加熱が好ましい。また、フィードブロック内の壁面抵抗を抑制するため、壁面の粗さを０．４Ｓ以下にするか、室温下における水との接触角が３０°以上であると良い。
【００５４】
このようにして多層積層された溶融体を、上述のポリエステルフィルムの製造方法と同様に行い、積層フィルムを得ることができる。
【実施例】
【００５５】
本発明に使用した物性値の評価法を記載する。
（物性値の評価法）
（１）積層厚み、積層数
フィルムの層構成は、ミクロトームを用いて断面を切り出したサンプルについて、電子顕微鏡（ＴＥＭ）観察により求めた。すなわち、透過型電子顕微鏡Ｈ−７１００ＦＡ型（（株）日立製作所製）を用い、加速電圧７５ｋＶでフィルムの断面を１００００〜４００００倍に拡大観察し、断面写真を撮影、層構成および各層厚みを測定した。尚、場合によっては、コントラストを高く得るために、公知のＲｕＯ４やＯｓＯ４などを使用した染色技術を用いても良い。
【００５６】
積層構造の具体的な求め方を、説明する。上記装置から得た約４万倍のＴＥＭ写真画像を、ＣａｎｏｎＳｃａｎＤ１２３Ｕを用いて画像サイズ７２０ｄｐｉで取り込んだ。画像をビットマップファイル（ＢＭＰ）もしくは、圧縮画像ファイル（ＪＰＥＧ）形式でパーソナルコンピュータに保存し、次いで画像処理ソフトＩｍａｇｅ−Ｐｒｏ  Ｐｌｕｓ  ｖｅｒ．４（販売元  プラネトロン（株））を用いて、このファイルを開き、画像解析を行った。画像解析処理は、垂直シックプロファイルモードで、厚み方向位置と幅方向の２本のライン間で挟まれた領域の平均明るさとの関係を、数値データとして読み取った。表計算ソフト（Ｅｘｃｅｌ２０００）を用いて、位置（ｎｍ）と明るさのデータに対してサンプリングステップ６（間引き６）でデータ採取後に、３点移動平均の数値処理を施した。さらに、この得られた周期的に明るさが変化するデータを微分し、ＶＢＡ（ビジュアル・ベーシック・フォア・アプリケーションズ）プログラムにより、その微分曲線の極大値と極小値を読み込み、隣り合うこれらの間隔を１層の層厚みとして層厚みを算出した。この操作を写真毎に行い、全ての層の層厚みを算出した。
（２）平均反射率
積層フィルムのフィルム幅方向から中央部にて５ｃｍ四方のサンプルを切り出した。ついで株式会社日立ハイテクノロジーズ製分光光度計（Ｕ４１００  Ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍａｔｅｒ）を用いて入射角度φ＝１０度における相対反射率を測定した。付属の積分球はφ６０ｍｍ、内壁は硫酸バリウムであり、標準板は酸化アルミニウムである。サンプルはフィルム横手（ＴＤ）方向がサンプル台に対して垂直となるようにし、積分球に積層フィルムの最表面のどちらか一方が接触するよう設置した。
測定は下記の条件とした。
【００５７】
光    源：波長２４０〜３５０ｎｍは重水素ランプ
波長３５１〜１７５０ｎｍはタングステンランプ
検出速度：波長２４０〜８５０ｎｍは６００ｎｍ／ｍｉｎ
波長８５０〜１７５０ｎｍは７５０ｎｍ／ｍｉｎ
サンプリング間隔：１．００ｎｍ
スリット：波長２４０〜８５０ｎｍは２．００ｎｍ
波長８５０〜１７５０ｎｍは自動制御
ＰｂＳ感度：２
また、サンプル裏面からの反射による干渉をなくすため、日東電工株式会社製の脱鉛タイプビニールテープＮｏ．２１  黒  （厚み０．２ｍｍ、幅５０ｍｍ、長さ２０ｍ）を積層フィルムサンプルの裏面に気泡が入らないようローラー等を用い貼り合わせた。
次いで、波長４００〜８００ｎｍの平均反射率を算出した。平均反射率の算出方法は、波長１ｎｍ毎の相対反射率のデータを用いて、シンプソン法の公式に基づき、反射曲線と波長範囲で囲まれた面積を計算し、波長範囲の幅である４００で除することにより求めた。シンプソン法についての詳細な説明は、山内二郎他著書の「電子計算機のための数値計算法Ｉ」（培風館）（昭和４０年）に記載されている。
上記方法にて算出した平均反射率を無偏光の白色光の平均反射率とする。
次いで、入射光が偏光光線となるよう、サンプルと光源の間に偏光方向がサンプル台と平行になるよう偏光子を設置し、この状態にてキャリブレーションを実施した以外は上記方法と同条件にて測定し、平均反射率の算出を行った。（第１偏光白色光の平均反射率）
次いで、偏光子を第１偏光白色光とは偏光面が直交する偏光が取り出されるよう設置し、この状態にてキャリブレーションを実施した以外は上記方法と同条件にて測定、平均反射率の算出を行った。（第２偏光白色光の平均反射率）。
（３）固有粘度
固有粘度は、被測定物を３ｇオルソクロロフェノールに溶解し、オストワルド粘度計を用いて２５℃にて次式から計算される値を用いて測定した。
【００５８】
ηｓｐ／Ｃ＝［η］＋Ｋ［η］２×Ｃ
ηｓｐ：（溶解濃度／溶媒粘度）−１
Ｃ：溶解ポリマ重量（ｇ／１００ｍｌ）
（４）ポリエステルの組成
被測定物をヘキサフルオロイソプロパノール（ＨＦＩＰ）もしくはＨＦＩＰとクロロホルムの混合溶媒に溶解し、１Ｈ−ＮＭＲおよび１３ Ｃ−ＮＭＲを用いて各モノマー残基や副生ジエチレングリコールについて含有量を定量した。
（５）フィルムの隣接する層の面内屈折率差
積層フィルムを構成する熱可塑性樹脂を単独で用いて、積層フィルムと同じ製膜条件で単膜フィルムを製膜した。この際の製膜方法は、キャスティングまでは同じ方法で未延伸フィルムを製膜した。次いで、未延伸フィルムからサンプルを１０ｃｍ×１０ｃｍの寸法に切り出し、二軸延伸装置（東洋精機（株））を用いて積層フィルムと同倍率で延伸し、さらに、得られた延伸フィルムを２０ｃｍ×２０ｃｍの金枠に貼り付けてトンネルオーブン（泰伸製作所製）を用いて、積層フィルムと同様の温度で熱処理を施し、単膜フィルムを得た。なお、製膜時の熱処理温度が熱可塑性樹脂を溶融する温度の場合は、ポリイミドフィルムなどの支持体で挟みトンネルオーブンで熱処理を施した。得られた単膜フィルムのフィルム巾方向中央部からサンプルを長さ４×巾３．５ｃｍの寸法で切り出し、アッベ屈折率計４Ｔ（アタゴ（株）製）を用いて、ＭＤ、ＴＤの屈折率を求めた。光源は、ナトリウムＤ線  波長５８９ｎｍを用いた。ＭＤとＴＤの屈折率の平均を面内屈折率とし、異なる熱可塑性樹脂間での面内屈折率の差を面内屈折率差（絶対値）として、求めた（｜熱可塑性樹脂Aの面内屈折率―熱可塑性樹脂Ｂの面内屈折率｜）。なお、浸液には、ヨウ化メチレン、テストピースの屈折率は、１．７４のものを用いた。
（６）剥離強度
積層体を長さ１５ｃｍ、幅２．５ｃｍの寸法に切り出す。その後、長さ５ｃｍまでＣ層を剥離させる。積層フィルムの両面にＣ層がある場合は片面のＣ層のみ剥離させる。剥離させたＣ層と積層フィルムをそれぞれの両端を試験器のつかみ具に取り付け、下記条件にて引っ張り、剥離強度を算出した。なお、引っ張り時のサンプル角度はＪＩＳ−Ｋ６８５４（１９９４年）に規定された９．２  Ｔ剥離試験に準じる。
測定装置：オリエンテック（株）製フィルム強伸度自動測定装置“テンシロンＡＭＦ／ＲＴＡー１００”
引張り速度：１００ｍｍ／ｍｉｎ
測定環境：温度２３℃、湿度６５％ＲＨ。
なお、剥離荷重曲線上から初期の剥離長さ２５ｍｍを除いた点から剥離距離５０ｍｍ分の剥離強度の平均値を該サンプルの剥離強度とした。
（７）ヘイズ
ヘイズ測定は常態（２３℃、相対湿度６５％）において積層フィルムを２時間放置した後、スガ試験機（株）製全自動直読ヘイズコンピューター「ＨＧＭ−２ＤＰ」を用いてＪＩＳ規格にて行った。３回測定した平均値を該サンプルのヘイズ値とした。
（８）熱収縮率
フィルムを幅１０ｍｍ、長さ１５０ｍｍにサンプリングし、サンプルに約１００ｍｍ間隔の標線をマークした後、万能投影機を用いて正確にこの標線の間隔を測定した。次に、フィルムサンプルを長さ方向に吊し、３ｇの荷重を長さ方向に加えて、１５０℃の雰囲気に保たれた熱風オーブン中で３０分間加熱した。この加熱後の標線の間隔を測定し、フィルムの収縮量を原寸法に対する割合として百分率で表した。
（９）ヤング率
ＪＩＳ−Ｋ７１２７（１９９９年）に規定された方法に従って、インストロンタイプの引張試験機を用いて測定した。測定は下記の条件とした。
測定装置：オリエンテック（株）製フィルム強伸度自動測定装置“テンシロンＡＭＦ／ＲＴＡー１００”
試料サイズ：幅１０ｍｍ×試長間５０ｍｍ
引張り速度：３００ｍｍ／ｍｉｎ
測定環境：温度２３℃、湿度６５％ＲＨ。
（樹脂）
積層フィルムの樹脂Ａとして以下のものを準備した。
（樹脂Ａ）
テレフタル酸ジメチル１００重量部、エチレングリコール６０重量部の混合物に、テレフタル酸ジメチル量に対して酢酸マグネシウム０．０９重量部、三酸化アンチモン０．０３重量部を添加して、常法により加熱昇温してエステル交換反応を行う。次いで、該エステル交換反応生成物にテレフタル酸ジメチル量に対してリン酸８５％水溶液０．０２０重量部を添加した後、重縮合反応層に移行する。さらに、加熱昇温しながら反応系を徐々に減圧して１ｍｍＨｇの減圧下、２９０℃で常法により重縮合反応を行いＩＶ＝０．６３のポリエチレンテレフタレートを得た。
一方、樹脂Ｂとしては以下のものを準備した。
（樹脂Ｂ−１）
ＩＶ＝０．５５（スピログリコール成分２１ｍｏｌ％、シクロヘキサンジカルボン酸成分２９ｍｏｌ％）を共重合したポリエチレンテレフタレート。
（樹脂Ｂ−２）
樹脂―１とＩＶ＝０．８９のポリブチレンテレフタレート、ＩＶ＝１．１９のポリブチレンテレフタレート、樹脂Ａを７：１：１：１の比率で混合した共重合ポリエチレンテレフタレート
（樹脂Ｂ−３）
ＩＶ＝０．７４（シクロヘキサンジメタノール３０ｍｏｌ％）を共重合したポリエチレンテレフタレート。
（樹脂Ｂ−４）
樹脂Ａと樹脂Ｂ−３を１：３で混合した共重合ポリエチレンテレフタレート。
（樹脂Ｂ−５）
樹脂Ａと樹脂Ｂ−３を１：１で混合した共重合ポリエチレンテレフタレート。
なお、樹脂Ａ、樹脂Ｂ（樹脂Ｂ−１からＢ−５）ともに調整時に粒子を添加していない。
樹脂Ｃとしては以下のものを準備した。
（樹脂Ｃ）
ＩＶ＝０．７３のポリシクロヘキシレンジメチレンテレフタレーとポリイソフタレートの共重合体。
【００５９】
（実施例１）
樹脂Ａを１８０度、３時間の真空乾燥後、一方、樹脂Ｂ−１を１００度の窒素下の乾燥後、それぞれ２台の二軸押出機に投入し、２８０で溶融させて混練した。なお、ホッパー下部は窒素パージを行った。ついで、ＦＳＳ（Ｆｉｂｅｒ  Ｓｉｎｔｅｒｅｄ  Ｓｔｅｒｅｏ）タイプのリーフディスクフィルタを５枚介した後、ギアポンプにて吐出比が１樹脂Ａ／樹脂Ｂ−１＝１．５／１になるよう計量しながらスリット数２６７個のスリット板１とスリット数２６９個のスリット板２とスリット数２６７個のスリット板３によって樹脂Ａおよび樹脂Ｂ−１を交互に積層し、フィードブロックにて合流させて８０１層に積層された積層体とした。合流した樹脂Ａおよび樹脂Ｂ−１はフィードブロック内にて各層の厚みが表面側から反対表面側に向かうにつれて徐々に厚くなるように変化させ（このときのＡ層とＢ層の層厚みの傾きは０．４６）、樹脂Ａが４００層、樹脂Ｂ−１が４０１層からなる厚み方向に交互に積層された構造とした。また、隣接するＡ層とＢ層の層厚みはほぼ同じになるようにスリット形状を設計した。この設計において、フィルム厚み１００μｍでＡ層とＢ層の積層比を１．５とすると、４００ｎｍ〜８００ｎｍの波長範囲に反射帯域が生じるものとなる。このようにして得られた計８０１層からなる積層体を、マルチマニホールドダイに供給、シート状に成形した後、ワイヤーで８ｋＶの静電印加にて表面温度２５℃に保たれたキャスティングドラム上で急冷固化した。得られたキャストフィルムを、７５℃に設定したロール群で加熱した後、延伸区間長１００ｍｍの間で、フィルム両面からラジエーションヒーターにより急速加熱しながら、縦方向に３．０倍延伸し、その後一旦冷却した。次に、この一軸延伸フィルムをテンターに導き、１００℃の熱風で予熱後、１１０℃の温度で横方向に３．３倍延伸した。延伸したフィルムは、そのまま、テンター内で２４０℃の熱風にて熱処理を行い、続いて同温度にて幅方向に３％の弛緩処理を施し、その後、室温まで徐冷後、巻き取った。得られたフィルムの厚みは１００μｍであり、Ａ層の平均厚みは１４３．３ｎｍ、Ｂ層の平均厚みは１０６．３ｎｍであった。また、分光光度計による波長４００〜８００ｎｍにおいて反射率がほぼ一定となり、平均反射率は無偏光白色光に対して７４％、第１偏光白色光に対して７１％、第２偏光白色光に対して７５％であり、ミラー調の積層フィルムが得られた。得られた結果を表１に示す。
【００６０】
次いで、エレクトロルミネッセンスデバイスの作製を行った。まず、厚み２５μｍの透明のポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製  商品名“ルミラー”タイプＴ６０）にコロナ放電処理を施した後、その処理面上に真空度１０-７ｔｏｒｒのスパッタ蒸着によりＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ−ｔｉｎ−ｏｘｉｄｅ：１０％錫を添加した酸化インジウム）を蒸着して透明導電膜を形成させた。ついで、この透明導電膜上に硫化亜鉛粒子を、フッ素ポリマーを主成分とする樹脂溶液中に分散させた蛍光体ペースト（デュポン社製、７１５３）を２００メッシュポリエステルスクリーンを用いてスクリーン印刷し、１２０℃雰囲気下で３０分乾燥を行い発光体層を形成した。この発光体層の上にフッ素ポリマーを主成分とする樹脂溶液中にチタン酸バリウム粒子を分散させた誘電体ペースト（デュポン社製  ７１５３）を２００メッシュポリエステルスクリーンによりスクリーン印刷し、１２０度雰囲気下で３０分乾燥させた。この工程を２度繰り返し、誘電体層を形成した。次に、この誘電体層上にカーボン導電ペースト（藤倉化成社製  ＦＥＣ−１９８）を２００メッシュポリエステルスクリーンによりスクリーン印刷し、１３０度雰囲気下で３０分乾燥させ、背面電極層を形成した。上記透明導電層、および背面電極層の一端に電圧印可用Ａｇリード線を銀導電ペーストを用いて形成し、次いで背面電極層の上に上記積層フィルムをラミネートした。
【００６１】
このように作成したエレクトロルミネッセンスデバイスの電圧印可用リード線間に１００Ｖ、４００Ｈｚの電圧を印可したところ、高い輝度で均一に面発光し、背面電極側に設けた積層フィルムが光を高効率で反射し携帯情報端末に用いられるバックライトや、面発光を利用した照明器具、に好適であることを確認した。
【００６２】
（実施例２）
実施例１において、積層フィルムに用いる樹脂Ｂを樹脂Ｂ−２に変更した以外は実施例１と同様の条件にて積層フィルムを製膜した。樹脂Ｂを変更したことで、無偏光白色光に対する平均反射率が７１．９％、第１偏光白色光に対する平均反射率が６９％、第２偏光白色光に対する平均反射率が７３％と、実施例１とは平均反射率の異なるミラー調の積層フィルムが得られた。得られた結果を表１に示す。また、本積層フィルムを実施例１と同様の構成でエレクトロルミネッセンスデバイスに用いた結果、実施例１にくらべると光の反射は小さいが、携帯情報端末や照明器具に用いるには十分な発光量であることを確認した。
【００６３】
（実施例３）
実施例１において、積層フィルムに用いる樹脂Ｂを樹脂Ｂ−３に変更した。樹脂Ｂ−３は１５０度にて３時間真空乾燥を実施した後、押出機に投入した。上記以外は実施例１と同様の条件にて積層フィルムを製膜した。得られた積層フィルムは無偏光白色光に対する平均反射率が４９．６％、第１偏光白色光に対する平均反射率が４８％、第２偏光白色光に対する平均反射率が５１％であった。結果を表１に示す。
【００６４】
また、得られた積層フィルムにスクリーン印刷により黒のべた塗りで「ＴＯＲＡＹ」のロゴ部分が無色透明（印刷抜き）になるよう印刷した。次いで印刷面側に実施例１と同様の方法にてＩＴＯ透明導電膜、発光体層、誘電体層、背面電極層を形成し、背面電極層側に厚み３８μｍの黒色のポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製  商品名“ルミラー”タイプＸ３０）をラミネートした。
【００６５】
このようにして構成したエレクトロルミネッセンスデバイスは電圧を印可していない状態、つまり、発光していない状態では全面ミラー調の外観を有し、電圧を印可させ発光させると印刷が施された箇所はミラー調、印刷抜きをした箇所（「ＴＯＲＡＹ」のロゴ部分）は光が透過し、文字が浮かび上がるといった非常に意匠性の優れるものとなった。
【００６６】
（実施例４）
実施例３において、積層フィルムの樹脂Ｂを樹脂Ｂ−４に変更した以外は実施例３と同様の条件にて積層フィルム、およびエレクトロルミネッセンスデバイスを作成した。樹脂Ｂを変更したことで積層フィルムの無偏光白色光に対する平均反射率が３４．２％、第１偏光白色光に対する平均反射率が３１％、第２偏光白色光に対する平均反射率が３７％となり、実施例３とは異なる反射率のハーフミラー調の積層フィルム、およびこれを用いたエレクトロルミネッセンスデバイスとなった。結果を表１に示す。
【００６７】
（実施例５）
実施例３において、積層フィルムの樹脂Ｂを樹脂Ｂ−５に変更した以外は実施例３と同様の条件にて積層フィルム、およびエレクトロルミネッセンスデバイスを作成した。樹脂Ｂを変更したことで積層フィルムの無偏光白色光に対する平均反射率が１２．６％、第１偏光白色光に対する平均反射率が１１％、第２偏光白色光に対する平均反射率が１３％となり、実施例３とは異なる反射率の積層フィルム、およびこれを用いたエレクトロルミネッセンスデバイスとなった。結果を表１に示す。
【００６８】
（実施例６）
実施例３において、Ａ層とＢ層の平均厚みを略半減させて、積層フィルムのフィルム厚みを５０μｍとした以外は実施例３と同様の条件にて積層フィルムおよびエレクトロルミネッセンスデバイスを作成した。層厚みを変更したことで積層フィルムの反射帯域が低波長側にシフトし、積層フィルムの反射色がＢｌｕｅ調となった。本積層フィルムを用いたエレクトロルミネッセンスデバイスは、電圧印可前はデバイス全面がＢｌｕｅ調であるが、電圧印可させることで印刷抜き部分から光が発光され、透過色（この場合ＹＥＬＬＯＷ調）で文字が浮かび上がる意匠性に優れたものとなった。結果を表１に示す。
【００６９】
（実施例７）
実施例２において、３台目の押出機を用い、本押出機から樹脂Ｃを３層複合装置（フィードブロック）の表層側に導入し、中央層に樹脂Ａと樹脂Ｂの積層を導入することでＣ／Ａ／Ｂ／Ａ・・・Ａ／Ｂ／Ａ／Ｃの構成の積層体を得た以外は実施例２と同様の条件にて延伸を行い、積層体をえた。ただし、樹脂Ｃは１２０度にて３時間真空乾燥を実施したのち、３台目押出機のホッパーに投入した。得られた積層体のＣ層厚みは３μｍであり、剥離強度は２．４ｇｆ／ｃｍで容易に剥離でき、かつ、積層フィルムは元もとＣ層を設けずに製膜した実施例２と同等レベルの平均反射率を有し、また、Ｃ層は積層フィルムを保護する役割も十分に果たしていることを確認した。
【００７０】
エレクトロルミネッセンスデバイスは実施例２と同様の方法にて透明のポリエチレンテレフタレートフィルムに透明導電膜、発光体層、誘電体層、背面電極層を設け、背面電極層の上にＣ層を剥離した積層フィルムをラミネートした。なお、積層フィルムへの傷つき防止のため、Ｃ層の剥離は片面だけでもよいし、両面でもよく、使用場所、時期、用途において適宜対応するものとする。
【００７１】
（実施例８）
実施例７において、樹脂Ｂを樹脂Ｂ−３に変更した以外は実施例７と同様の条件にて積層体を製膜した。得られた積層体のＣ層は厚みが２．９μｍであり、剥離強度が２．２ｇｆ／ｃｍで容易に剥離でき、かつ、積層フィルムは元もとＣ層を設けずに製膜を行った実施例３と同等の反射率であることを確認した。結果を表１に示す。
【００７２】
エレクトロルミネッセンスデバイスの製作は、積層体の片面のＣ層を剥離し、剥離面に実施例３と同様の方法にて印刷層、ＩＴＯ透明導電膜、発光体層、誘電体層、背面電極層を形成し、背面電極層側に厚み３８μｍの黒色のポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製  商品名“ルミラー”タイプＸ３０）をラミネートした。そして、最後に最表面にあるＣ層を剥がした。
得られたエレクトロルミネッセンスデバイスはフィルム表面に傷、欠点がなく意匠性に優れるものであった。
【００７３】
（比較例１）
実施例８において、３台目押出機の吐出量を減少させ、積層体のＣ層厚みを０．５μｍとした以外は実施例８と同様の方法にて積層体を製膜した。得られた積層体はＣ層の厚みが薄いためにＣ層が積層フィルムから剥がれないという結果となった。
【００７４】
（比較例２）
屈折率差のある樹脂を交互に１００層以上積層した多層積層フィルムである住友スリーエム（株）製  のＤＢＥＦを用い、実施例２と同様の方法にてエレクトロルミネッセンスデバイスを作成した。ＤＢＥＦの無偏光白色光に対する平均反射率は６３％、第１偏光白色光に対する平均反射率が１２％、第２偏光白色光に対する平均反射率が９４％という結果であり、非常に偏光性が高いことを確認した。本フィルムを用いたエレクトロルミネッセンスデバイスはフィルムの偏光性が高いためにフィルム設置方向によって印刷抜け部分の透過光量が異なる結果となり、組立時にフィルムの偏光性に注意する必要があることがわかった。特に、液晶など偏光性のある発光素子の前に設置するにはフレキシブル性に欠けるものである。
【００７５】
【表１】
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【産業上の利用可能性】
【００７６】
本発明は、光照明の用途などに好適に用いうる意匠性の改善されたエレクトロルミネッセンスデバイスとして用いることができる。