(57)【要約】【課題】  ＩＴＯ等の透明導電性物質の微粒子を含む分散材料を用いた多層回折光学素子等の光学素子の耐光および素子外周からの経時変化による変動をなくし、可視域全体の高い回折効率を経時変化することなく維持できる光学素子および光学素子の製造方法を提供する。【解決手段】  透明基材の上に、透明導電性物質の微粒子を含む第一の材料を配置し、その上部に透明基材を組み合わせた光学素子において、第一の材料と大気の接する端部に酸素拡散を阻害する層を配置する事により、素子外周から酸素拡散による経時変化による長波長の屈折率・透過率の変動を抑制することが出来る。また、前記、素子を熱処理した後、第一の材料の硬化物に再度の光照射を行う素子の製造方法により達成される。【選択図】  図１０
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材の上に、透明導電性物質の微粒子を含む第一のエネルギー硬化型樹脂の前駆体からなる第一の材料を設け、前記第一の材料を光照射により硬化させた後、熱処理を行う工程を有する光学素子の製造方法において、前記熱処理をした第一の材料の硬化物に再度の光照射を行うことを特徴とする光学素子の製造方法。
【請求項２】
透明基材の上に、透明導電性物質の微粒子を含む第一のエネルギー硬化型樹脂の前駆体からなる第一の材料を設け、前記第一の材料を光照射により硬化させる工程、前記硬化させた第一の材料の上に第二のエネルギー硬化型樹脂の前駆体からなる第二の材料を設け、前記第二の材料を光照射により硬化させる工程、前記硬化させた第一の材料および第二の材料に熱処理を行う工程を有する光学素子の製造方法において、前記熱処理をした第一の材料および第二の材料の硬化物に再度の光照射を行うことを特徴とする光学素子の製造方法。
【請求項３】
透明基材の上に、第二のエネルギー硬化型樹脂の前駆体からなる第二の材料を設け、前記第二の材料を光照射により硬化させる工程、前記硬化させた第二の材料の上に透明導電性物質の微粒子を含む第一のエネルギー硬化型樹脂の前駆体からなる第一の材料を設け、前記第一の材料を光照射により硬化させる工程、前記硬化させた第一の材料および第二の材料に熱処理を行う工程を有する光学素子の製造方法において、前記熱処理をした第一の材料および第二の材料の硬化物に再度の光照射を行うことを特徴とする光学素子の製造方法。
【請求項４】
前記再度の光照射が、波長３００ｎｍ以上４００ｎｍ以下の光を含み、波長３００ｎｍ以上４００ｎｍ以下の光の照射量が１２Ｊ以上１５０Ｊ以下であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の光学素子の製造方法。
【請求項５】
前記再度の光照射が、波長３００ｎｍ以上４００ｎｍ以下の光を含み、波長３００ｎｍ以上３５０ｎｍ以下の光の割合が波長３００ｎｍ以上４００ｎｍ以下の光全体に対し０％以上１０％以下であり、かつ３００ｎｍ以上４００ｎｍ以下の波長の光の照射量が１２Ｊ以上１５０Ｊ以下であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の光学素子の製造方法。
【請求項６】
第一の透明基材の上に、透明導電性物質の微粒子を含む第一の部材、第二の透明基材を順に有する光学素子であって、
前記第一の部材は、大気と接する部分に、酸素の透過率が高真空圧力差法で２．０×１０−１１Ｐ／ｃｍ３・ｃｍ・（ｃｍ２・ｓ・ｃｍＨｇ）−１以下である酸素の透過を阻害する層を有することを特徴とする光学素子。
【請求項７】
前記第一の透明基材の上に、前記透明導電性物質の微粒子を含む第一の部材、第二の部材、前記第二の透明基材を順に有することを特徴とする請求項６に記載の光学素子。
【請求項８】
前記第二の部材と、前記酸素の透過を阻害する層とが、同一の材料であることを特徴とする請求項７に記載の光学素子。
【請求項９】
前記第二の部材への酸素の溶解度は、１．４×１０−３Ｓ／ｃｍ３・（ｃｍ３・ｃｍＨｇ）−１）以上であり、
前記第二の部材への酸素の溶解度は、前記第一の部材への酸素の溶解度より大きいことを特徴とする請求項７又は８に記載の光学素子。
【請求項１０】
前記第二の部材は、酸素の透過率が高真空圧力差法で２．０×１０−１１Ｐ／ｃｍ３・ｃｍ・（ｃｍ２・ｓ・ｃｍＨｇ）−１以下であることを特徴とする請求項７乃至９のいずれか一項に記載の光学素子。
【請求項１１】
前記透明導電性物質は、インジウム錫酸化物、アンチモンドーピング酸化錫、酸化亜鉛のいずれかを含むことを特徴とする請求項６乃至１０のいずれか一項に記載の光学素子。
【請求項１２】
前記透明導電性物質の微粒子は、個数平均粒径が１ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項６乃至１１のいずれか一項に記載の光学素子。
【請求項１３】
前記第一の部材における前記透明導電性物質の微粒子の含有量は、前記第一の部材に対して１ｖｏｌ％以上２９ｖｏｌ％以下であることを特徴とする請求項６乃至１２のいずれか一項に記載の光学素子。
【請求項１４】
前記第一の材料は、アクリル系樹脂、ビニル系樹脂、又はエポキシ系樹脂の少なくとも一種を含有することを特徴とする請求項６乃至１３のいずれかの一項に記載の光学素子
【請求項１５】
前記第一の部材の屈折率をｎｄ１、前記第一の部材のアッベ数をν１、前記第二の部材の屈折率をｎｄ２、前記第二の部材のアッベ数をν２としたときに、ｎｄ１＜ｎｄ２及びν１＜ν２を満たすことを特徴とする請求項７乃至１０のいずれか一項に記載の光学素子。
【請求項１６】
前記光学素子が多層回折光学素子であることを特徴とする請求項７乃至１０のいずれか一項に記載の光学素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カメラやビデオ等に使用される光学素子および光学素子の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、光の屈折を用いた屈折光学系では、分散特性の異なる硝材からなるレンズを組み合わせることによって色収差を減らしている。例えば、望遠鏡等の対物レンズでは、分散の小さい硝材を正レンズとして、分散の大きい硝材を負レンズとして組み合わせて用いることで軸上に現れる色収差を補正している。しかしながら、レンズの構成や枚数が制限される場合や、使用される硝材が限られている場合などでは、色収差を十分に補正することが困難な場合があった。
【０００３】
非特許文献１には、屈折面を有する屈折光学素子と、回折格子を有する回折光学素子とを組み合わせて用いることで、少ないレンズの枚数で色収差を抑制することが開示されている。ここで開示されている技術は、光学素子としての屈折面と回折面とでは、ある基準波長の光線に対する色収差の発生する方向が逆になるという物理現象を用いたものである。また回折光学素子に連続して形成された回折格子の周期を変化させることで、非球面レンズと同等の特性を発現することができる。
【０００４】
しかしながら、回折光学素子に入射した１本の光線は、回折作用により各次数の複数の光に分かれる。この時、設計次数以外の回折光は、設計次数の光線とは別な所に結像してフレアの発生要因となる。
【０００５】
特許文献１には、相対的に低屈折率高分散な光学材料と、高屈折率低分散な光学材料を用いて、使用波長領域の光束を特定の次数（以後、設計次数と言う）に集中させることで、それ以外の回折次数の回折光の強度を低く抑え、フレアの発生を防止している。
【０００６】
特許文献１では、相対的に低屈折率高分散な光学材料に、屈折率が低く（ｎｄが１．４８＜ｎｄ＜１．５７）かつ屈折率分散が高く（アッベ数《νｄ》が１４＜νｄ＜２８）かつ２次分散特性の低い（《θｇＦ》が０．３４＜θｇＦ＜０．４７）性質の材料を用いている。また、相対的に高屈折率低分散な光学材料に、屈折率が高く（ｎｄが１．５４＜ｎｄ＜１．６３）かつ屈折率分散が低い（アッベ数《νｄ》が４４＜νｄ＜５７）性質の材料を用いている。特許文献１では、上記の相対的に低屈折率高分散な光学材料と、高屈折率低分散な光学材料を紫外線硬化等により、形状を付与することにより可視領域全域における広い波長範囲で回折効率を向上させることができる。
【０００７】
特許文献１における低屈折率高分散な光学材料は、屈折率分散が高く、２次分散特性の低い性質を示す透明導電性金属酸化物を、低屈折率のバインダー樹脂に微粒子として混合・分散させた複合材料を紫外線により硬化することにより得られる。また、透明導電性金属酸化物としては、ＩＴＯ等の透明導電性金属酸化物が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００８−２０３８２１号公報
【非特許文献】
【０００９】
【非特許文献１】Ａ．Ｄ．Ｋａｔｈｍａｎ  ａｎｄ  Ｓ．Ｋ．Ｐｉｔａｌｏ、「Ｂｉｎａｒｙ  Ｏｐｔｉｃｓ  ｉｎ  Ｌｅｎｓ  Ｄｅｓｉｇｎ」、Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ  Ｌｅｎｓ  Ｄｅｓｉｇｎ  Ｃｏｎｆｅｒｅｎｃｅ１９９０、ＳＰＩＥ  Ｖｏｌ．１３５４、ｐ．２９７から３０９
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
ＩＴＯ等の透明導電性物質の微粒子を含む分散材料を一部に用いた多層回折光学素子等の光学素子は、可視域全体の高い回折効率状態を示す。しかしながら、使用環境下で、透明導電性物質の微粒子を含む分散材料の光学特性、すなわち屈折率が変動する。屈折率の変動により、光学素子は光学特性が低下する。たとえば、多層回折光学素子の場合、可視域全体の高い回折効率が低下する。
【００１１】
本発明は、このような背景技術に鑑みてなされたものであり、ＩＴＯ等の透明導電性物質の微粒子を含む分散材料を用いた多層回折光学素子等の光学素子の環境（耐光性、経時変化）による変動を抑制した光学素子および光学素子の製造方法を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記の課題を解決する第１の光学素子の製造方法は、透明基材の上に、透明導電性物質の微粒子を含む第一のエネルギー硬化型樹脂の前駆体からなる第一の材料を設け、前記第一の材料を光照射により硬化させた後、熱処理を行う工程を有する光学素子の製造方法において、前記熱処理をした第一の材料の硬化物に再度の光照射を行うことを特徴とする。
【００１３】
上記の課題を解決する第２の光学素子の製造方法は、透明基材の上に、透明導電性物質の微粒子を含む第一のエネルギー硬化型樹脂の前駆体からなる第一の材料を設け、前記第一の材料を光照射により硬化させる工程、前記硬化させた第一の材料の上に第二のエネルギー硬化型樹脂の前駆体からなる第二の材料を設け、前記第二の材料を光照射により硬化させる工程、前記硬化させた第一の材料および第二の材料に熱処理を行う工程を有する光学素子の製造方法において、前記熱処理をした第一の材料および第二の材料の硬化物に再度の光照射を行うことを特徴とする。
【００１４】
上記の課題を解決する第３の光学素子の製造方法は、透明基材の上に、透明導電性物質の微粒子を含んでいてもよい第二のエネルギー硬化型樹脂の前駆体からなる第二の材料を設け、前記第二の材料を光照射により硬化させる工程、前記硬化させた第二の材料の上に透明導電性物質の微粒子を含む第一のエネルギー硬化型樹脂の前駆体からなる第一の材料を設け、前記第一の材料を光照射により硬化させる工程、前記硬化させた第一の材料および第二の材料に熱処理を行う工程を有する光学素子の製造方法において、前記熱処理をした第一の材料および第二の材料の硬化物に再度の光照射を行うことを特徴とする。
【００１５】
また、上記の課題を解決する第１の光学素子は透明基材の上に、透明導電性物質の微粒子を含む第一の材料を配置し、その上部に透明基材を組み合わせた光学素子において、第一の材料と大気の接する端部に酸素拡散を阻害する層を配置する事を特徴とする。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、ＩＴＯ等の透明導電性物質の微粒子を含む分散材料を用いた多層回折光学素子等の光学素子の環境（耐光性、経時変化）による変動を抑制した光学素子及び光学素子の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明における光学素子の実施態様を示す模式図である。
【図２】本発明における屈折率測定用光学素子の作製方法を示す模式図である。
【図３】本発明における屈折率測定用光学素子の再度の光照射工程を示す模式図である。
【図４】本発明の実施例の光学素子の高圧水銀ランプの石英基板およびＳ−ＴＩＨ１１基板を通した際のスペクトルの図である。
【図５】本発明における屈折率測定用光学素子の作製方法を示す模式図である。
【図６】本発明における多層回折光学素子の作製方法を示す模式図である。
【図７】本発明における多層回折光学素子の作製方法を示す模式図である。
【図８】耐光試験のスペクトル及び３９０ｎｍカットフィルターを通した際のスペクトルの図である。
【図９】実施例１０の光学素子の作製方法を示す模式図である。
【図１０】本発明の第２の実施形態の光学素子の一例を示す模式図である。
【図１１】本発明の第２の実施形態の光学素子の一例を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
【００１９】
（第１の実施形態）
第１の実施の形態に係る光学素子の製造方法は、透明基材の上に、透明導電性物質の微粒子を含む第一のエネルギー硬化型樹脂の前駆体からなる第一の材料を設け、前記第一の材料を光照射により硬化させた後、熱処理を行う工程を有する光学素子の製造方法において、前記熱処理をした第一の材料の硬化物に再度の光照射を行うことを特徴とする。本発明の製造方法により得られた透明導電性物質を分散した材料を用いた光学素子は、紫外線等の光による、長波長の屈折率・透過率の変動を抑制することが出来る。
【００２０】
また、第１の実施の形態に係る光学素子の製造方法は、下記の２つの多層回折光学素子の製造方法を含む。
【００２１】
（１）透明基材の上に、透明導電性物質の微粒子を含む第一のエネルギー硬化型樹脂の前駆体からなる第一の材料を設け、前記第一の材料を光照射により硬化させる工程、前記硬化させた第一の材料の上に第二のエネルギー硬化型樹脂の前駆体からなる第二の材料を設け、前記第二の材料を光照射により硬化させる工程、前記硬化させた第一の材料および第二の材料に熱処理を行う工程を有する光学素子の製造方法において、前記熱処理をした第一の材料および第二の材料の硬化物に再度の光照射を行うことを特徴とする光学素子の製造方法。
【００２２】
（２）透明基材の上に、第二のエネルギー硬化型樹脂の前駆体からなる第二の材料を設け、前記第二の材料を光照射により硬化させる工程、前記硬化させた第二の材料の上に透明導電性物質の微粒子を含む第一のエネルギー硬化型樹脂の前駆体からなる第一の材料を設け、前記第一の材料を光照射により硬化させる工程、前記硬化させた第一の材料および第二の材料に熱処理を行う工程を有する光学素子の製造方法において、前記熱処理をした第一の材料および第二の材料の硬化物に再度の光照射を行うことを特徴とする光学素子の製造方法。
【００２３】
本実施形態の製造方法により得られた多層回折光学素子は、透明導電性物質の微粒子を分散した材料を用いた複層層が、紫外線等の光による、長波長の屈折率・透過率の変動を抑制することが出来る。前記多層回折光学素子は、第一の材料の硬化物の光学特性が相対的に低屈折率高分散であり、かつ第二の材料の硬化物の光学特性が相対的に高屈折率低分散である多層回折光学素子であることが好ましい。
【００２４】
本発明者らは、ＩＴＯ等の透明導電性物質の微粒子を含む分散材料は、通常の使用下で光学素子にあたる紫外線および短波長の可視光による樹脂の光化学反応により、ラジカルが発生することを見出した。発生したラジカルは透明導電性物質の微粒子にトラップされ、透明導電性物質のキャリアとして作用する。そのために光学特性に影響を与える。具体的には、可視域の長波長側（λ＝５００から７００ｎｍ）の屈折率・吸収が大きく変化することを本発明者らは見出した。その結果、初期の光学素子の高回折効率状態が透明導電性物質の微粒子の分散材料の屈折率変動により、回折条件からずれるという課題を本発明者らは見出した。
【００２５】
本発明者らは、ＩＴＯ等の透明導電性物質の微粒子を含む分散材料を用いた光学素子の作成の際、紫外線等のエネルギー硬化の際に発生したラジカルの一部が、ＩＴＯ微粒子のラジカルがトラップされ、キャリアとして、光学特性に寄与する事を見出した。また、そのラジカルのトラップの増加によるキャリアの増加以外に、励起によるキャリアの増加があることを見出した。この励起によるキャリアが、ラジカルによるトラップによるキャリアが飽和に達するのを阻害していることを見出した。そして、熱処理（アニール）等により、励起によるキャリアを消滅させた後、更に再度の光照射は、例えば紫外線等によりエネルギー照射を行うことにより、透明導電性物質の微粒子にトラップされるラジカルによるキャリアがほぼ飽和に達することを見出した。このようなエネルギー照射を行うことにより、光学素子は、紫外線等の環境下におかれても、光学特性の変動を抑えることが可能となる。
【００２６】
本実施形態は透明導電性物質の微粒子を含む分散材料を用いた光学素子の製造方法において、光照射のエネルギー硬化により、分散材料を光学素子の最終形状に成形した後、熱処理を行う。更に再度の光照射を行うことにより、紫外線等の環境下に置かれても、光学素子の光学特性の変動を小さく抑えることがきる光学素子の製造方法を提案する。
【００２７】
＜透明導電性物質＞
本発明における第一の材料には透明導電性物質の微粒子（以降、微粒子と略記することもある）を含有する。第二の材料には、透明導電性物質の微粒子を含んでいてもよいし、含んでいなくてもよい。
【００２８】
本発明におけるエネルギー硬化型樹脂の前駆体に含有される透明導電性物質の微粒子の好適な例としては、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化インジウム、酸化錫、酸化アンチモン、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、アンチモンをドープした酸化スズ（ＡＴＯ）、亜鉛をドープした酸化インジウム（ＩＺＯ）、アルミニウムをドープした酸化亜鉛（ＡＺＯ）、及び、フッ素をドープした酸化スズ（ＦＴＯ）が挙げられる。好ましくはインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、アンチモンドーピング酸化錫（ＡＴＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）を用いることが好ましい。インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）は現存する物質の中で２次分散特性（θｇＦ）が小さく中で最も透明性を有する物質である。ただし、これは将来、２次分散特性（θｇＦ）が小さくインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）よりも透明性な物質が出現した際、その使用を限定するものではない。
【００２９】
また、前駆体のベース樹脂となる単量体、前記微粒子を、あらかじめ分散させておく溶媒に応じて、微粒子表面に種々の表面処理剤、分散剤を用いることが好適である。
【００３０】
透明導電性物質の微粒子の平均粒径としては、光透過率、光学散乱等に悪影響を及ぼさない大きさの粒子径であることが望ましく、平均粒径が１ｎｍ以上１００ｎｍ以下、好ましくは２ｎｍ以上３０ｎｍ以下、さらに好ましくは２ｎｍ以上２０ｎｍ以下の範囲であることが望ましい。しかし例えば平均粒径が２０ｎｍ以下であっても、微粒子の凝集した場合も含めて、粒子径の分布が幅広く３０ｎｍより大きな粒子径の粒子が体積分率で全微粒子の５％以上の割合になると光学散乱に大きな悪化の影響を及ぼす。その場合は、取り除きたい粒子サイズより比較的小さな細孔を持つフィルターで濾過処理して、不要な大きな微粒子を取り除くことが好ましい。微粒子を取り除く時の状態は、ベース樹脂となる単量体を混ぜる前の溶媒に微粒子が分散した状態（微粒子分散液）か、若しくは微粒子分散液にベース樹脂を溶解させた状態か、若しくは粘度により可否はあるが、前記状態で溶媒を除去してベース樹脂と微粒子の無溶媒系にした状態が好ましい。
【００３１】
前記第一の材料の硬化物に含有される透明導電性物質の微粒子の含有量は、第一の材料全体に対して１ｖｏｌ％以上２９ｖｏｌ％以下、好ましくは５ｖｏｌ％以上２０ｖｏｌ％以下が望ましい。１ｖｏｌ％未満では光学特性の効果が出ないために好ましくない。また、２９ｖｏｌ％より多いと成形性が悪化するために好ましくない。
【００３２】
透明導電性物質の微粒子には必要に応じて表面処理を施しておくことが望ましい。表面処理は微粒子の合成、作製段階で行っても良いし、微粒子を得た後に別途行っても良い。
【００３３】
また、透明導電性物質の微粒子を凝集しないように均一に分散させるための表面処理剤、分散剤（界面活性剤）を用いるのが望ましい。一般に表面処理剤、分散剤を用いて微粒子を溶媒、樹脂等に分散する場合、添加する表面処理剤、分散剤の種類、添加量、分子量、極性、親和性等によって異なった分散状態を示すことが知られている。本発明に使用する表面処理剤、分散剤としては顔料の誘導体や樹脂型や活性剤型のものを好適に用いることができる。ここで表面処理剤、分散剤としては、カチオン系、弱カチオン系、ノニオン系あるいは両性界面活性剤が有効である。特にポリエステル系、ε−カプロラクトン系、ポリカルボン酸塩、ポリリン酸塩、ハイドロステアリン酸塩、アミドスルホン酸塩、ポリアクリル酸塩、オレフィンマレイン酸塩共重合物、アクリル−マレイン酸塩共重合物、アルキルアミン酢酸塩、アルキル脂肪酸塩、脂肪酸ポリエチレングリコールエステル系、シリコーン系、フッ素系を用いることができるが、本発明においてはアンモニアよび有機アミン類から選択される少なくとも一種の塩基系のものを用いることが好適である。具体的にはディスパービックシリーズ（ビッグケミー・ジャパン社製）の中ではディスパービック１６１、１６２、１６３、１６４、ソルスパースシリーズ（ゼネガ社製）の中ではソルスパース３０００、９０００、１７０００、２００００、２４０００、４１０９０あるいはＴＡＭＮシリーズ（日光ケミカル社製）の中ではＴＡＭＮ−１５等のアルキルアミンのＰＯ若しくはＥＯ変成物がある。かかる表面処理剤、分散剤の添加量は、大きく分けて表面処理剤、分散剤の種類、微粒子の種類、微粒子の表面積（微粒子径）、微粒子を混合する分散樹脂の種類等、分散溶媒の種類に応じて異なる。表面処理剤、分散剤の添加量としては微粒子の重量に対して０．１重量％以上３５．０重量％以下の範囲であることが望ましい。分散剤の添加量が多すぎると白濁の原因となり光学的散乱が生じ、また微粒子を含有して得られた組成物の特性（屈折率、アッベ数、２次分散特性、弾性率等）が必要以上に低下する。好ましくは４．０重量％以上２５．０重量％以下の範囲である。また、表面処理剤、分散剤は１種類のみで使用することもできるし、２種類以上を併用して使用することもできる。
【００３４】
＜分散溶媒＞
本発明に用いる分散溶媒としては、エネルギー硬化型樹脂の前駆体の樹脂組成成分である単量体及びオリゴマー等を溶解するため若しくは透明導電性物質の微粒子を溶媒に分散させておくため、必要に応じて表面処理剤、分散剤を溶解させるために用いる。
【００３５】
分散溶媒としては、例えばトルエン、ベンゼン、キシレン等の芳香族炭化水素、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素、酢酸エチル、酢酸ブチル等の酢酸エステル類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、ＤＭＦ、ＤＭＡｃ、ＮＭＰ等のアミド系、ヘキサン、オクタン等の脂肪族炭化水素、ジエチルエーテル、ブチルカルビトール等のエーテル類、ジクロロメタン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。用いる微粒子の親和性、表面処理剤、分散剤の親和性に合わせて分散溶媒を選択することができる。また分散溶媒は１種類のみで使用することもできるし、分散性を損なわない範囲において２種類以上を併用して使用することもできる。
【００３６】
＜エネルギー硬化型樹脂の前駆体＞
次に、本発明におけるエネルギー硬化型樹脂の前駆体について説明する。第一の材料には、第一のエネルギー硬化型樹脂の前駆体が用いられ、第二の材料には、第二のエネルギー硬化型樹脂の前駆体が用いられる。第一のエネルギー硬化型樹脂の前駆体の樹脂組成物（単量体およびオリゴマー）と、第二のエネルギー硬化型樹脂の前駆体の樹脂組成物（単量体およびオリゴマー）とは同じでも、または異なっていてもよいが、光学素子の酸素拡散による第一の材料の特性の経時変化を抑える場合は、第二の材料の酸素の透過率の透過率及び酸素の溶解度を制御する為に、組成及びその割合を調整する必要がある。
【００３７】
本発明において、エネルギー硬化型樹脂の前駆体は、ベース樹脂としてのバインダー成分である単量体又はオリゴマーが用いられる。単量体又はオリゴマーは、前記透明導電性物質の微粒子が分散等している溶媒、表面処理剤、分散剤に良好に相溶するものが望ましい。
【００３８】
上記の単量体としては分子内に１個以上の２重結合や３重結合を有する不飽和基含有化合物であれば、特に限定はされない。不飽和基含有化合物の単量体又はオリゴマーの具体的な例としては、１，４−ジビニルシクロヘキサン、１，４−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、４，４−ジメチル−ヘプタ−１−エン−６−イン、ジビニルベンゼン、１，６−ジビニルナフタレン、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、エトキシ化ビスフェノールＡジビニルエーテル、プロポキシ化ビスフェノールＡジビニルエーテル、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート等の単官能のアクリレートやメタクリレート；ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ネオベンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリ（アクリロイロキシエチル）イソシアヌレート、クリセリンやトリメチロールエタン等の多価アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後（メタ）アクリレート化したもの、特公昭４８−４１７８号、特公昭５０−６０３４号、特開昭５１−３７１９３号の各公報に記載されているようなウレタンアクリレート類、特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４９０号の各公報に記載されているポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。
【００３９】
フッ素系の場合、好適な樹脂の例としては、フッ素アクリル系、フッ素メタクリル系、フッ素エポキシ系、フッ素ビニル系の単量体が挙げられる。具体的には２，２，２−トリフルオロエチルアクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルアクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチルアクリレート、３−パーフルオロブチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチルアクリレート、３−パーフルオロヘキシル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチルアクリレート、３−パーフルオロオクチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチルアクリレート、２−（パーフルオロ−３−メチルブチル）エチルアクリレート、３−（パーフルオロ−３−メチルブチル）−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−（パーフルオロ−５−メチルヘキシル）エチルアクリレート、３−（パーフルオロ−５−メチルヘキシル）−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−（パーフルオロ−７−メチルオクチル）エチルアクリレート、３−（パーフルオロ−７−メチルオクチル）−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−テトラフルオロプロピルアクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチルアクリレート、１Ｈ，１Ｈ，７Ｈ−ドデカフルオロヘプチルアクリレート、１Ｈ，１Ｈ，９Ｈ−ヘキサデカフルオロノニルアクリレート、１Ｈ−１−（トリフルオロメチル）トリフルオロエチルアクリレート、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−ヘキサフルオロブチルアクリレート、２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロへキサン１，６−ジアクリレート、２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルメタクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチルメタクリレート、３−パーフルオロブチル−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチルメタクリレート、３−パーフルオロヘキシル−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチルメタクリレート、３−パーフルオロオクチル−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチルメタクリレート、２−（パーフルオロ−３−メチルブチル）エチルメタクリレート、３−（パーフルオロ−３−メチルブチル）−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−（パーフルオロ−５−メチルヘキシル）エチルメタクリレート、３−（パーフルオロ−５−メチルヘキシル）−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−（パーフルオロ−７−メチルオクチル）エチルメタクリレート、３−（パーフルオロ−７−メチルオクチル）−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−テトラフルオロプロピルメタクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチルメタクリレート、１Ｈ，１Ｈ，７Ｈ−ドデカフルオロヘプチルメタクリレート、１Ｈ，１Ｈ，９Ｈ−ヘキサデカフルオロノニルメタクリレート、１Ｈ−１−（トリフルオロメチル）トリフルオロエチルメタクリレート、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−ヘキサフルオロブチルメタクリレート、２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロへキサン１，６−ジメタクリレート、ヘキサフルオロエポキシプロパン、３−パーフルオロブチル−１，２−エポキシプロパン、３−パーフルオロヘキシル−１，２−エポキシプロパン、３−パーフルオロオクチル−１，２−エポキシプロパン、３−パーフルオロデシル−１，２−エポキシプロパン、３−（パーフルオロ−３−メチルブチル）−１，２−エポキシプロパン、３−（パーフルオロ−５−メチルヘキシル）−１，２−エポキシプロパン、３−（パーフルオロ−７−メチルオクチル）−１，２−エポキシプロパン、３−（２，２，３，３−テトラフルオロプロポキシ）−１，２−エポキシプロパン、３−（１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチロキシ）−１，２−エポキシプロパン、３−（１Ｈ，１Ｈ，７Ｈ−ドデカフルオロヘプチロキシ）−１，２−エポキシプロパン、３−（１Ｈ，１Ｈ，９Ｈ−ヘキサデカフルオロノニロキシ）−１，２−エポキシプロパン、１，４−ビス（２’，３’−エポキシプロピル）−パーフルオロ−ｎ−ブタン等の単量体、及びそれらに類するものが挙げられる。
【００４０】
それら単量体は、一種または、二種類以上を併用して使用することもできる。樹脂組成物としては重合体のフッ素樹脂を選択しても良い。またコポリマーとしてはセントラル硝子（株）の中では、Ｎｏ．７０２Ｃ、７０３Ｃ、７０４Ｃ、７０５Ｃ、７０６Ｃ、７０７Ｃに類するものが挙げられる。
【００４１】
第一の材料の樹脂組成物の単量体の分子内に重合官能基を有するフッ素系単量体は一種類のみで使用することもできるし、二種類以上を併用して使用することもできる。また、先に述べたアクリレートやメタクリレートとの二種類以上を併用して用いることもできる。
【００４２】
前記第一の材料を構成するエネルギー硬化型樹脂が、アクリル系樹脂、ビニル系樹脂、エポキシ系樹脂から選ばれる少なくとも一種からなるラジカル硬化型の樹脂であることが好ましい。
【００４３】
前記第一の材料に含有されるエネルギー硬化型樹脂の前駆体の樹脂組成物（単量体およびオリゴマー）の含有量は、第一の材料全体に対して３０ｖｏｌ％以上９８％以下、好ましくは５０ｖｏｌ％以上９０ｖｏｌ％以下が望ましい。３０ｖｏｌ％未満では成形性が悪くなるために好ましくない。また、９８ｖｏｌ％より多いと相対的に導電性微粒子の割合が減少し、光学特性が十分に得られないため好ましくない。
【００４４】
エネルギー硬化型樹脂の前駆体のエネルギー硬化の方法としては、プラズマ処理、熱処理、放射線、紫外線等の光のエネルギーにより開始剤を刺激して重合させることが可能であるが、レンズ等のレプリカ成形を考えた場合、光硬化であることが好ましい。具体的に利用可能な光重合開始剤としては、例えば、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−１−ブタノン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、ビス（２，４６，−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、４−フェニルベンゾフェノン、４−フェノキシベンゾフェノン、４，４’−ジフェニルベンゾフェノン、４，４’−ジフェノキシベンゾフェノン等を好適なものとして挙げることができる。硬化した樹脂の透明性を考慮した場合、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンを用いるのが好ましい。
【００４５】
光重合開始剤の添加量は、可視光に吸収を有する微粒子の添加量によっても異なるが、材料の樹脂組成物全体に対して０．０１重量％以上１０．００重量％以下の範囲に選択することが好ましい。光重合開始剤は単量体およびオリゴマー等との反応性、光照射の波長によって１種類のみで使用することもできるし、２種類以上を併用して使用することもできる。
【００４６】
次に、本発明における第一の材料および第二の材料の調製工程について述べる。
【００４７】
まず選択した溶媒に表面処理剤若しくは分散剤を適量溶解させ、微粒子を加えせん断力を加え、微粒子の凝集体を破砕し、残った凝集体を遠心分離とフィルター処理により取り除き、均一な微粒子分散液を得る。その後、光重合可能な単量体およびオリゴマー及び光重合開始剤を溶解させる。単量体およびオリゴマーを微粒子分散液に溶解させるにあたっては、単量体およびオリゴマーの添加で微粒子の分散状態の悪化が生じにくい溶媒、表面処理剤、分散剤の組み合わせにすることが望ましい。また必要に応じてフィルタリング処理を行い、凝集微粒子を除去することができる。
【００４８】
微粒子の沈殿等なく好適に分散していることを確認した後、エバポレーターを用いて溶媒を除去する。この際、溶媒の沸点、残留溶媒量等に応じて減圧度を適宜調整することが望ましい。急激な溶媒の蒸発、除去により微粒子の凝集の程度を悪化させ、分散性を損なうことがある。また減圧による溶媒除去の際、必要に応じて分散性を損なわない程度に加熱することも可能である。このようにして本発明で用いる前駆体の第一の材料または第二の材料を得る。
【００４９】
得られた第一の材料または第二の材料には除去し切れなかった残留溶剤を含有することがある。その含有量が０．１重量％よりも大きいとエネルギー硬化時の微粒子移動を助長する作用により、屈折率勾配（ＧＩ）や光散乱が大きくなる。そのため残留溶媒の含有量は０．１重量％以下であることが望ましい。ただし、減圧度が高すぎると、または減圧と同時に加熱を伴うことで、若しくは長時間にわたる減圧工程を経ることで、溶媒と共に添加した表面処理剤、分散剤およびバインダー成分等の単量体類も留去される恐れがある。そのため個々の分子量、沸点、昇華性等を考慮した減圧度、温度、時間等の調整が必要である。
【００５０】
＜光照射による硬化、熱処理、再度の光照射＞
先ず、樹脂の前駆体の第一の材料および第二の材料を光照射による硬化する方法について説明する。
【００５１】
本発明にかかる光学素子の成形、具体的な例として回折光学素子の成形においては、光重合法を用いて、前駆体の第一の材料により型成形体層を形成する過程を示す。透明基板に利用する光透過性材料上に膜厚の薄い層構造を形成する際には、例えば、ガラス平板を基板に利用し、一方、微細な回折格子構造に対応する型に金属材料を利用する。前記型とガラス平板の両者の間に、流動性を示す前駆体の第一の材料を流し込み、軽く抑えることで、型成形を成す。その状態に保ったまま第一の材料の光重合を行う。
【００５２】
かかる光重合反応に供する光照射は、光重合開始剤を用いたラジカル生成に起因する機構に対応して、好適な波長の光、通常紫外光もしくは可視光を利用して行う。例えば、前記基板に利用する光透過性材料、具体的には、ガラス平板を介して、成形されている前駆体の第一の材料に対して、均一に光照射を行う。照射される光量は、光重合開始剤を用いたラジカル生成に起因する機構に応じて、また、含有される光重合開始剤の含有量に応じて、適宜選択される。
【００５３】
続いて、前駆体の第二の材料を用いて積層する。可視域全体で高効率な回折光学素子として用いる場合、積層する第二の材料は、第一の材料の第一層の光学定数により決定され、第一層に対して硬化後に高屈折率低分散な値を示す。第二の材料としては、樹脂の単量体を用いたり、単量体に、例えばジルコニアやアルミナの微粒子を混合したものを用いもよい。
【００５４】
ただし、第二の材料に酸素拡散を阻害する特性や酸素吸収の機能を用いる際には、その単量体の組成およびジルコニアやアルミナの微粒子の表面処理剤及び分散剤は限定される。具体的には一般的な高分子量の分散剤を用いる事は出来ず、低分子量で、単量体と強固な共有結合を表面処理剤等が好ましい。第二の材料のガラス転移温度を上昇させ、酸素の拡散を阻害する為である。  前駆体の第二の材料を透明基材に配置し、上記第一の材料の重合成形体（回折格子等）を軽く押し付け、その状態に保ったまま第二の材料の光重合を行う。かかる光重合反応に供する光照射は、光重合開始剤を用いたラジカル生成に起因する機構に対応して、好適な波長の光、通常、紫外光もしくは可視光を用いて行う。例えば、前記基板に用いる光透過性材料、具体的には、第一の材料の透明基板側もしくは第二の材料の透明基板側から、成形されている前駆体の第二の材料に対して、均一に光照射を実施する。照射される光量は、光重合開始剤を用いたラジカル生成に起因する機構に応じて、また、含有される光重合開始剤の含有比率に応じて、適宜選択される。  上記方法にて第二の材料を硬化する事により、図１（ａ）や図１（ｂ）示す様な光学素子が得られる。
【００５５】
上記の説明は、第一の材料の硬化物の上に前駆体の第二の材料を硬化させて光学素子を作成しているが、逆に第二の材料の硬化物の上に前駆体の第一の材料を硬化させて、図１（ａ）や図１（ｂ）に示す光学素子を作成してもよい。
【００５６】
図中、１は第二の材料の硬化物の相対的に高屈折低分散層、２は第一の材料の硬化物の相対的に低屈折高分散層、３は透明基板層、１６は酸素拡散を阻害する層を表す。図１（ａ）は積層型回折光学素子１００を、図１（ｂ）は光学素子１１０を表す。
【００５７】
次に、第一の材料および第二の材料の前駆体を光照射による硬化した後の熱処理について説明する。
【００５８】
通常、図１（ａ）や図１（ｂ）に示す第一の材料および第二の材料を光照射による硬化した硬化物は、硬化時の応力が残っている為、熱処理により、残留応力の緩和を行う。熱処理は、具体的には６０℃以上１２０℃以下にて２４時間以上１２０時間で行う。好ましくは、７０℃以上９０℃以下である。
【００５９】
次に、熱処理をした後の再度の光照射について説明する。
【００６０】
以上の熱処理工程を経たのち、再度の光照射（以下「後照射」と記す）を行う工程を経る事により、紫外線や短波長の可視光等により光学特性の変化が小さい光学素子を作成する事が可能となる。
【００６１】
前記再度の光照射が、波長３００ｎｍ以上４００ｎｍ以下の光を含み、波長３００ｎｍ以上４００ｎｍ以下の光の照射量が１２Ｊ以上１５０Ｊ以下であることが好ましい。
【００６２】
また、前記再度の光照射が、波長３００ｎｍ以上４００ｎｍ以下の光を含み、波長３００ｎｍ以上３５０ｎｍ以下の光の割合が波長３００ｎｍ以上４００ｎｍ以下の光全体に対し０％以上１０％以下であり、かつ３００ｎｍ以上４００ｎｍ以下の波長の光の照射量が１２Ｊ以上１５０Ｊ以下であることが好ましい。これにより、紫外線や短波長の可視光等により光学特性の変化が小さい光学素子を作成する事が可能となる。
【００６３】
本発明の製造方法で作成した光学素子を用いることで、屈折率波長分散の異なる材料からなる層複数を基板上に積層し、使用波長域全域で特定次数（設計次数）の回折効率を高くする設計とし、かつ、可視光もしくは紫外線よる特性の変化や外周部からの酸素拡散による経時変化することの無い回折光学素子の製造方法を提供する事が可能となる。
【００６４】
（第２の実施形態）
第２の実施形態に係る光学素子は、第一の透明基材の上に、透明導電性物質の微粒子を含む第一の部材、第二の透明基材を順に有する光学素子であって、前記第一の部材は、大気と接する部分に、酸素の透過率が高真空圧力差法で２．０×１０−１１Ｐ／ｃｍ３・ｃｍ・（ｃｍ２・ｓ・ｃｍＨｇ）−１以下である酸素の透過を阻害する層を有することを特徴とする。図１０を用いて第２の実施形態の光学素子を説明する。図１０において、第１の透明部材２１の上に、透明導電性物質の微粒子を含む第一の部材２２、第２の透明部材２３を有している。透明性導電性物質の微粒子を含む第一の部材２２は、大気と接しないように、酸素の透過を阻害する層２４を有している。
【００６５】
第２の実施形態の透明導電性物質を分散した材料を用いた光学素子は、透明性導電性物質の酸化に起因した、長波長の屈折率・透過率の経時変化を抑制することが出来る。
【００６６】
本発明者らは、ＩＴＯ等の透明導電性物質の微粒子を用いた光学材料が素子周囲から可視域の長波長側（λ＝５００から７００ｎｍ）の屈折率・吸収が大きく変化し、それが経時的に内部へ進行していくことを見出した。その屈折率変動により、回折条件からずれ、素子性能が低下する。特に再度の光照射する製造方法を施した素子の素子性能の低下が大きいことを見出した。
【００６７】
ＩＴＯ等の透明導電性物質の微粒子を含む分散材料を用いた光学素子の作成の際、紫外線等のエネルギー硬化の際に発生したラジカルの一部や、硬化後に紫外線等のエネルギーにより発生したラジカルがＩＴＯ等の透明導電性物質の微粒子にトラップされ、キャリアとして、透明導電性物質の微粒子を含む分散材料の光学特性に寄与すると考えられる。また、本発明者らは、ＩＴＯ等の透明導電性物質の微粒子において、上記の様にラジカルがＩＴＯ等の透明導電性物質の微粒子にトラップされた光学材料が素子周囲からの酸素の拡散により、ＩＴＯにくっついたラジカルを消滅させ、ＩＴＯの微粒子を元の状態に戻ると考えている。それにより透明導電物質のキャリアの量が変動し、その為光学特性に影響を与えると考えられる。
【００６８】
発明者らは、光学素子の大気と接する外周部に酸素の拡散を阻害する層を設けるにより、ＩＴＯ等の透明導電性物質の微粒子を用いた光学材料が素子周囲から可視域の長波長側（λ＝５００から７００ｎｍ）の屈折率・吸収が大きく変化し、それが経時的に内部へ進行していく事が抑えられることを見出した。また、第二の材料での酸素の溶解度が第一の材料の１倍（１．４×１０−３Ｓ／ｃｍ３・（ｃｍ３・ｃｍＨｇ）−１）以上であることが好ましい。第二の材料の膜厚は、第一の材料の平均膜厚の１．５倍以上であることが好ましい。また、第二の材料の酸素の透過率が高真空圧力差法において、２．０×１０−１１Ｐ／ｃｍ３・ｃｍ・（ｃｍ２・ｓ・ｃｍＨｇ）−１以下にすることが好ましい。
【００６９】
第２の実施形態では、透明導電性物質の微粒子を含む分散材料を用いた光学素子において、その外周部に酸素の拡散を阻害する層を設ける事により、通常の環境下において、光学素子の経時的な変動を抑えること出来る光学素子に関する。
【００７０】
第２の実施形態に係る光学素子は、第一の透明基材の上に、透明導電性物質の微粒子を含む第一の部材、第二の部材、第二の透明基材を順に有してもよい。また、第二の部材と、酸素の透過を阻害する層とが、同一の材料であってもよい。図１１を用いて説明する。図１１（ａ）において、第１の透明部材２１の上に、透明導電性物質の微粒子を含む第一の部材２２、第２の部材２５、第２の透明部材２３を順に有している。透明性導電性物質の微粒子を含む第一の部材２２は、大気と接しないように、大気と接する部分に酸素の透過を阻害する層２４を有している。図１２（ｂ）のように、酸素の透過を阻害する層２４と第２の部材は、同一の材料であってもよい。図１２（ｂ）では、酸素の透過を阻害する層２４と第２の部材は分離して記載されているが、一体となっていてもよい。
【００７１】
第二の部材への酸素の溶解度は、１．４×１０−３Ｓ／ｃｍ３・（ｃｍ３・ｃｍＨｇ）−１）以上であることが好ましい。酸素の溶解度が１．４×１０−３Ｓ／ｃｍ３・（ｃｍ３・ｃｍＨｇ）−１）未満であると、素子性能が低下する。また、第二の部材への酸素の溶解度は、前記第
第二の部材は、酸素の透過率が高真空圧力差法で２．０×１０−１１Ｐ／ｃｍ３・ｃｍ・（ｃｍ２・ｓ・ｃｍＨｇ）−１以下であることが好ましい。
【００７２】
＜透明導電性物質＞
透明導電性物質は、第１の実施形態で記載したものを用いることができる。
【００７３】
第一の部材における前記透明導電性物質の微粒子の含有量は、第一の部材に対して１ｖｏｌ％以上２９ｖｏｌ％以下であることが好ましい。
【００７４】
＜第一の部材＞
第一の部材は、アクリル系樹脂、ビニル系樹脂、又はエポキシ系樹脂の少なくとも一種を含有することが好ましい。
【００７５】
＜光学素子＞
第２の実施形態の光学素子は、第一の部材の屈折率をｎｄ１、前記第一の部材のアッベ数をν１、前記第二の部材の屈折率をｎｄ２、前記第二の部材のアッベ数をν２としたときに、ｎｄ１＜ｎｄ２及びν１＜ν２を満たすことが好ましい。
光学素子は、多層回折光学素子であることが好ましい。
【００７６】
＜光学素子の製造方法＞
第２の実施形態の光学素子の製造方法は、第１の実施形態の光学素子と同様に製造することができる。ただし、第２の実施形態の光学素子の製造方法は、再度の光照射を必ずしも必要としない。しかし、再度の光照射をした方が好ましい。
【００７７】
また、第２の実施形態の光学素子では、第１の実施形態で記載した材料を用いることができる。
【実施例】
【００７８】
以下に本発明における光学材料の調製について具体的に説明する。
【００７９】
〔低屈折率高分散材料の調整〕
〔低屈折率高分散材料１１の調整〕
まず、キシレン溶媒にインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）を分散した微粒子分散液（平均粒経２０ｎｍ、インジウム錫酸化物濃度９．９６ｗ％、分散剤量２．１９ｗ％：分散剤種［高分子量分散剤］  ＣＩＫナノテック製）を５１．６３ｇと、紫外線硬化型アクリル系樹脂として、トリス（２−アクリロキシエチル）イソシアヌレート２０ｗ％、ペンタエリスリトールトリアクリレート２５ｗ％、ジシクロペンテニルオキシエチルメタアクリレート４０ｗ％、ウレタン変性ポリエステルアクリレート１３ｗ％、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン２ｗ％の混合物３．７２ｇとを混合した。この混合溶液をエバポレーターに入れ、最終的にはオイルバス温度４５℃  設定気圧２ｈＰａｓ、２０時間にてキシレン溶剤を除去し、低屈折率高分散材料１１を調製した。
【００８０】
なお、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）の粒径は、レーザー方式の粒度分布計（ＥＬＳ：大塚電子）で測定を行った。
【００８１】
また、ＴＧＡ（パーキンエルマー製）にて、低屈折率高分散材料１１を焼成し、低屈折率高分散材料１１中の無機固形分量を定量した。５１．２重量％であった。
【００８２】
残留溶剤（キシレン）はガスクロマトグラフィー（５８９０  ｓｅｒｉｅｓＩＩ：Ｈｅｗｌｅｔｔ  Ｐａｃｋａｒｄ製）に行い０．０１０ｗ％であった。
【００８３】
〔高屈折率低分散材料２１の調整〕
トルエン溶媒に酸化ジルコニウムを分散した微粒子分散液（微粒子の平均粒経１０ｎｍ、酸化ジルコニウム濃度１０．０２ｗ％、表面処理剤２．７２ｗ％：表面処理剤種［低分子量  重合基の付いたシランカップリング剤］  住友大阪セメント製）を１６３．３ｇと、紫外線硬化型アクリル系樹脂として、トリス（２−アクリロキシエチル）イソシアヌレート２０ｗ％、ペンタエリスリトールトリアクリレート２５ｗ％、ジシクロペンテニルオキシエチルメタアクリレート４０ｗ％、ウレタン変性ポリエステルアクリレート１３ｗ％、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン２ｗ％の混合物９．２０ｇとを混合した。この混合溶液をエバポレーターに入れ、最終的にはオイルバス温度４５℃  設定気圧３ｈＰａｓ、１５時間にてトルエン溶剤を除去し、高屈折率低分散材料２１を調製した。
【００８４】
なお、酸化ジルコニウムの粒径は、レーザー方式の粒度分布計（ＥＬＳ：大塚電子）で測定を行った。（住友大阪セメントの値は３〜５ｎｍであるが、レーザー式の粒度分布は表面処理剤を含めた粒径を測定する為、測定方法によるギャップがあると推測される。）
また、ＴＧＡ（パーキンエルマー製）にて、高屈折率低分散材料２１を焼成し、高屈折率低分散材料２１中の無機固形分量を定量した。５４．５重量％であった。
【００８５】
残留溶剤（キシレン）はガスクロマトグラフィー（５８９０  ｓｅｒｉｅｓＩＩ：Ｈｅｗｌｅｔｔ  Ｐａｃｋａｒｄ製）に行い０．００５ｗ％以下であり検出限界以下であった。
【００８６】
上記、高屈折率低分散材料２１を厚さ１ｍｍの高屈折ガラス（Ｓ−ＴＩＨ１１：ＨＯＹＡ社製）の上に、厚さ５０μｍのスペーサーと高屈折率低分散材料２１を配置した。その上に厚みが１ｍｍの石英ガラスをスペーサーを介して載せ、高屈折率低分散材料２１を押し広げた。これを、２０ｍＷ／ｃｍ２（石英ガラスを通した照度  照度計  ＵＩＴ−２５０  受光部ＵＶＤ−Ｓ３６５）、１３００秒の条件（２６Ｊ）で高圧水銀ランプ（ＵＬ７５０、ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯ  ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））を照射し、測定材料を硬化した。硬化した後、８０℃、７２時間で熱処理を行った。
【００８７】
硬化したサンプルは、屈折計（ＫＰＲ−３０、（株）島津製作所）を用いて、高屈折率ガラス４側からｇ線４３５．８ｎｍ、ｆ線４８６．１ｎｍ、ｅ線５４６．１ｎｍ、ｄ線５８７．６ｎｍ、ｃ線６５６．３ｎｍの屈折率を測定した。また、測定した屈折率より、アッペ数を算出した。
【００８８】
高屈折率低分散材料２１の硬化物の屈折率および光学特性は
屈折率（ｎｇ，ｎＦ，ｎｅ，ｎｄ，ｎＣ）＝（１．６３８，１．６３０，１．６２３，１．６２０，１．６１６）
（νｄ，θｇＦ）＝（４３．２，０．５６）
であった。
【００８９】
（実施例１）
＜屈折率測定用光学素子２００の作成＞
屈折率測定用光学素子２００は下記の様にして作成した。
【００９０】
まず、図２（ａ）に示すように、厚さ１ｍｍの高屈折ガラス（Ｓ−ＴＩＨ１１：ＨＯＹＡ社製）４の上に、厚さ１２．５μｍのスペーサー７とＩＴＯ分散材料５（低屈折率高分散材料１１）を配置した。その上に厚みが１ｍｍの石英ガラス６をスペーサー７を介して載せ、ＩＴＯ分散材料５を押し広げた。これを、２０ｍＷ／ｃｍ２（石英ガラスを通した照度  照度計  ＵＩＴ−２５０  受光部ＵＶＤ−Ｓ３６５）、１３００秒の条件（２６Ｊ）で高圧水銀ランプ（ＵＬ７５０、ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯ  ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））を照射し、測定材料を硬化した。硬化した後、８０℃、７２時間で熱処理を行った。
【００９１】
その後、石英ガラス６側から後照射として、図３（ａ）に示す様に高圧水銀ランプ（ＵＬ７５０、ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯ  ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））８を用いて石英６を介して３００ｎｍ以上４００ｎｍ以下のエネルギーが１００Ｊになる様に照度を調整し照射した。（４０ｍＷ、２５００秒）
照度は高圧水銀ランプ（ＵＬ７５０、ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯ  ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））の光が石英ガラス６を介してスペクトルラディオメーター（ＵＳＲ−４５Ｄ−１３、ウシオ電機（株））にて２５０ｎｍ以上７００ｎｍ以下の範囲を１ｎｍ幅で測定して決定した。図４（ａ）にデータを示す。
【００９２】
３００ｎｍ以上３５０ｎｍ以下の積算値  １７．３ｍＷ、３５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下の積算値  ２２．７ｍＷ  総計４０ｍＷであった。
３００ｎｍ以上３５０ｎｍ以下の積算値の３００ｎｍ以上４００ｎｍ以下の積算値全体に対する割合は４３．４％であった。
【００９３】
それを屈折率測定用光学素子２００とした。図２（ｂ）に屈折率測定用光学素子２００を示す。
【００９４】
（実施例２）
＜屈折率測定用光学素子２１０の作成＞
屈折率測定用光学素子２１０は下記の様にして作成した。
【００９５】
後照射の前までの工程は屈折率測定用光学素子２００と同じではある。
８０℃、７２時間でアニール後、石英ガラス６側から後照射として高圧水銀ランプ（ＵＬ７５０、ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯ  ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））で図３（ｂ）に示す様にＳ−ＴＩＨ１１ガラス基板９を介して３００ｎｍ以上４００ｎｍ以下のエネルギーが１００Ｊになる様に照度を調整し照射した。（１３．２ｍＷ  ７５７６秒）
照度は高圧水銀ランプ（ＵＬ７５０、ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯ  ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））の光がＳ−ＴＩＨ１１ガラス基板９を介してスペクトルラディオメーター（ＵＳＲ−４５Ｄ−１３、ウシオ電機（株））にて２５０ｎｍ以上７００ｎｍ以下の範囲を１ｎｍ幅で測定して決定した。図４（ｂ）にデータを示す。
【００９６】
３００ｎｍ以上３５０ｎｍ以下の積算値  ０．０５ｍＷ、３５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下の積算値  １３．１５ｍＷ  総計１３．２ｍＷであった。
【００９７】
３００ｎｍ以上３５０ｎｍ以下の積算値の３００ｎｍ以上４００ｎｍ以下の積算値全体に対する割合は０．４％であった。
【００９８】
それを屈折率測定用光学素子２１０とした。図２（ｂ）に屈折率測定用光学素子２１０を示す（屈折率測定光学素子２００と同じ素子構成である）。
【００９９】
（実施例３）
＜屈折率測定用光学素子３００の作成＞
屈折率測定用光学素子３００は下記の様にして作成した。
【０１００】
まず、図５（ａ）に示すように、厚さ１ｍｍの高屈折ガラス（Ｓ−ＴＩＨ１１：ＨＯＹＡ社製）４の上に、厚さ１２．５μｍのスペーサー７とＩＴＯ微粒子分散材料５（低屈折率高分散材料１１）を配置した。その上に厚みが１ｍｍの石英ガラス６をスペーサー７を介して載せ、ＩＴＯ微粒子分散材料５を押し広げた。これを、２０ｍＷ／ｃｍ２（石英ガラスを通した照度、照度計  ＵＩＴ−２５０  受光部ＵＶＤ−Ｓ３６５）、１３００秒の条件（２６Ｊ）で高圧水銀ランプ（ＵＬ７５０、ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯ  ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））を照射し、ＩＴＯ微粒子分散材料５を硬化した。硬化した後、石英ガラス６をはがし、８０℃、７２時間でアニールした後、図５（ｂ）の様に５０μｍのスペーサー１１と高屈折率材料１０（高屈折率低分散材料２１）を配置し、その上に厚みが１ｍｍの石英ガラス６をスペーサー１１を介して載せ、高屈折率材料１０を押し広げて図５ｅに示す様に空気界面から、ＩＴＯ微粒子分散材料５までの長さ３００μｍの高屈折率材料１０による酸素ブロック層とＩＴＯ微粒子分散材料５上部に高屈折率材料１０による酸素吸収層を持つ構成とした。これを、２０ｍＷ／ｃｍ２（石英ガラスを通した照度、照度計  ＵＩＴ−２５０  受光部ＵＶＤ−Ｓ３６５）、１３００秒の条件（２６Ｊ）で高圧水銀ランプ（ＵＬ７５０、ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯ  ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））を照射し、高屈折率材料１０を硬化した。硬化した後、８０℃、７２時間でアニールした。その後、図５（ｃ）に示す様に石英ガラス６側から後照射として高圧水銀ランプ８（ＵＬ７５０、ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））を用いて石英６を介して３００ｎｍ以上４００ｎｍ以下のエネルギーが１００Ｊになる様に照度を調整し照射した。（４０ｍＷ、２５００秒）
照度は高圧水銀ランプ（ＵＬ７５０、ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯ  ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））の光が石英ガラス６を介してスペクトルラディオメーター（ＵＳＲ−４５Ｄ−１３、ウシオ電機（株））にて２５０ｎｍ以上７００ｎｍ以下の範囲を１ｎｍ幅で測定して決定した。図４（ａ）にデータを示す。
【０１０１】
３００ｎｍ以上３５０ｎｍ以下の積算値  １７．３ｍＷ、３５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下の積算値  ２２．７ｍＷ  総計４０ｍＷであった。
【０１０２】
屈折率測定用光学素子３００とした。図５（ｅ）に屈折率測定用光学素子３００の構成を示す。
【０１０３】
（実施例４）
＜屈折率測定用光学素子３１０の作成＞
屈折率測定用光学素子３１０は下記の様にして作成した。
【０１０４】
後照射の前までの工程は屈折率測定用光学素子３００と同じではある。
８０℃，７２時間でアニールした後、図５（ｃ）に示す様に石英ガラス６側から後照射として高圧水銀ランプ８（ＵＬ７５０、ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯ  ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））石英６を介して３００−４００ｎｍのエネルギーが５０Ｊになる様に照度を調整し照射した。（４０ｍＷ、１２５０秒）
照度は高圧水銀ランプ８（ＵＬ７５０、ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯ  ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））の光が石英ガラス６を介してスペクトルラディオメーター（ＵＳＲ−４５Ｄ−１３、ウシオ電機（株））にて２５０以上７００ｎｍ以下の範囲を１ｎｍ幅で測定して決定した。図４（ａ）にデータを示す。
【０１０５】
３００ｎｍ以上３５０ｎｍ以下の積算値  １７．３ｍＷ、３５０以上４００ｎｍ以下の積算値  ２２．７ｍＷ  総計４０ｍＷであった。
【０１０６】
３００ｎｍ以上３５０ｎｍ以下の積算値の３００ｎｍ以上４００ｎｍ以下の積算値全体に対する割合は４３．４％であった。
【０１０７】
それを屈折率測定用光学素子３１０とした。図５（ｅ）に屈折率測定用光学素子３１０の構成を示す（屈折率測定素子３００と同一構成である）。
【０１０８】
（実施例５）
＜屈折率測定用光学素子３２０の作成＞
屈折率測定用光学素子３２０は下記の様にして作成した。
【０１０９】
後照射の前までの工程は屈折率測定用光学素子３００と同じではある。
８０℃、７２時間でアニール後、石英ガラス６側から後照射として高圧水銀ランプ８（ＵＬ７５０、ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯ  ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））を図５（ｄ）に示す様にＳ−ＴＩＨ１１ガラス基板９を介して３００ｎｍ以上４００ｎｍ以下のエネルギーが１００Ｊになる様に照度を調整し照射した。（１３．２ｍＷ  ７５７６秒）
照度は高圧水銀ランプ８（ＵＬ７５０、ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯ  ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））の光がＳ−ＴＩＨ１１９ガラス基板を介してスペクトルラディオメーター（ＵＳＲ−４５Ｄ−１３、ウシオ電機（株））にて２５０ｎｍ以上７００ｎｍ以下の範囲を１ｎｍ幅で測定して決定した。図４（ｂ）にデータを示す。
【０１１０】
３００ｎｍ以上３５０ｎｍ以下の積算値  ０．０５ｍＷ、３５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下の積算値  １３．１５ｍＷ  総計１３．２ｍＷであった。
【０１１１】
３００ｎｍ以上３５０ｎｍ以下の積算値の３００ｎｍ以上４００ｎｍ以下の積算値全体に対する割合は０．４％であった。
【０１１２】
それを屈折率測定用光学素子３２０とした。図５（ｅ）に屈折率測定用光学素子３２０の構成を示す。（屈折率測定用光学素子３００と構成は同一である。）
【０１１３】
（実施例６）
＜屈折率測定用光学素子３３０の作成＞
屈折率測定用光学素子３３０は下記の様にして作成した。
【０１１４】
後照射の前までの工程は屈折率測定用光学素子３００と同じではある。
８０℃、７２時間でアニール後、石英ガラス６側から後照射として高圧水銀ランプ８（ＵＬ７５０、ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯ  ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））を図５（ｄ）に示す様にＳ−ＴＩＨ１１ガラス基板９を介して３００ｎｍ以上４００ｎｍ以下のエネルギーが５０Ｊになる様に照度を調整し照射した。（１３．２ｍＷ、３７８８秒）
照度は高圧水銀ランプ８（ＵＬ７５０、ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯ  ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））の光がＳ−ＴＩＨ１１９ガラス基板を介してスペクトルラディオメーター（ＵＳＲ−４５Ｄ−１３、ウシオ電機（株））にて２５０ｎｍ以上７００ｎｍ以下の範囲を１ｎｍ幅で測定して決定した。図４（ｂ）にデータを示す。図４（ｂ）は  本発明の実施例の光学素子の高圧水銀ランプのＳ−ＴＩＨ１１基板を通した際のスペクトルの図である。
【０１１５】
３００ｎｍ以上３５０ｎｍ以下の積算値  ０．０５ｍＷ、３５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下の積算値  １３．１５ｍＷ  総計１３．２ｍＷであった。
【０１１６】
３００ｎｍ以上３５０ｎｍ以下の積算値の３００ｎｍ以上４００ｎｍ以下の積算値全体に対する割合は０．４％であった。
【０１１７】
それを屈折率測定用光学素子３３０とした。図５（ｅ）に屈折率測定用光学素子３３０の構成を示す。（屈折率測定用光学素子３００と構成は同一である。）
【０１１８】
（実施例１０）
＜屈折率測定用光学素子５００の作成＞
屈折率測定用光学素子５００は下記の様にして作成した。
【０１１９】
まず、図９（ａ）に示すように、厚さ１ｍｍの高屈折ガラス（Ｓ−ＴＩＨ１１：ＨＯＹＡ社製）４の上に、厚さ１２．５μｍのスペーサー７とＩＴＯ微粒子分散材料５（低屈折率高分散材料１１）を配置した。その上に厚みが１ｍｍの石英ガラス６をスペーサー７を介して載せ、ＩＴＯ微粒子分散材料５を押し広げた。これを、２０ｍＷ／ｃｍ２（石英ガラスを通した照度、照度計  ＵＩＴ−２５０  受光部ＵＶＤ−Ｓ３６５）、１３００秒の条件（２６Ｊ）で高圧水銀ランプ（ＵＬ７５０、ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯ  ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））を照射し、ＩＴＯ微粒子分散材料５を硬化した。硬化した後、石英ガラス６をはがし、８０℃、７２時間でアニールした後、図９（ｂ）の様に高屈折率材料１０（高屈折率低分散材料２１）を配置し、その上に厚みが１ｍｍの石英ガラス６で高屈折率材料１０を押し広げて図５ｅに示す様に空気界面から、ＩＴＯ微粒子分散材料５までの長さ３００μｍの高屈折率材料１０による酸素ブロック層と持つ構成のとした。これを、２０ｍＷ／ｃｍ２（石英ガラスを通した照度、照度計  ＵＩＴ−２５０  受光部ＵＶＤ−Ｓ３６５）、１３００秒の条件（２６Ｊ）で高圧水銀ランプ（ＵＬ７５０、ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯ  ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））を照射し、高屈折率材料１０を硬化した。硬化した後、８０℃、７２時間でアニールした。その後、図９（ｃ）に示す様に石英ガラス６側から後照射として高圧水銀ランプ８（ＵＬ７５０、ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））を用いて石英６を介して３００ｎｍ以上４００ｎｍ以下のエネルギーが１００Ｊになる様に照度を調整し照射した。（４０ｍＷ、２５００秒）
照度は高圧水銀ランプ（ＵＬ７５０、ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯ  ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））の光が石英ガラス６を介してスペクトルラディオメーター（ＵＳＲ−４５Ｄ−１３、ウシオ電機（株））にて２５０ｎｍ以上７００ｎｍ以下の範囲を１ｎｍ幅で測定して決定した。図４（ａ）にデータを示す。
【０１２０】
３００ｎｍ以上３５０ｎｍ以下の積算値  １７．３ｍＷ、３５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下の積算値  ２２．７ｍＷ  総計４０ｍＷであった。
【０１２１】
屈折率測定用光学素子５００とした。図９（ｅ）に屈折率測定用光学素子５００の構成を示す。
【０１２２】
（実施例１１）
＜屈折率測定用光学素子５１０の作成＞
屈折率測定用光学素子５１０は下記の様にして作成した。
【０１２３】
後照射の前までの工程は屈折率測定用光学素子５００と同じではある。
８０℃、７２時間でアニール後、石英ガラス６側から後照射として高圧水銀ランプ８（ＵＬ７５０、ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯ  ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））を図９（ｄ）に示す様にＳ−ＴＩＨ１１ガラス基板９を介して３００ｎｍ以上４００ｎｍ以下のエネルギーが１００Ｊになる様に照度を調整し照射した。（１３．２ｍＷ  ７５７６秒）
照度は高圧水銀ランプ８（ＵＬ７５０、ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯ  ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））の光がＳ−ＴＩＨ１１９ガラス基板を介してスペクトルラディオメーター（ＵＳＲ−４５Ｄ−１３、ウシオ電機（株））にて２５０ｎｍ以上７００ｎｍ以下の範囲を１ｎｍ幅で測定して決定した。図４（ｂ）にデータを示す。
【０１２４】
３００ｎｍ以上３５０ｎｍ以下の積算値  ０．０５ｍＷ、３５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下の積算値  １３．１５ｍＷ  総計１３．２ｍＷであった。
【０１２５】
３００以上３５０ｎｍｎｍ以下の積算値の３００ｎｍ以上４００ｎｍ以下の積算値全体に対する割合は０．４％であった。
【０１２６】
それを屈折率測定用光学素子５１０とした。図９（ｅ）に屈折率測定用光学素子５１０の構成を示す。（屈折率測定用光学素子５００と構成は同一である。）
〔屈折率測定用光学素子２００、２１０、３００、３１０、３２０、３３０、５００、５１０の光学特性（屈折率）の評価〕
硬化したサンプルは、屈折計（ＫＰＲ−３０、（株）島津製作所）を用いて、高屈折率ガラス４側からｇ線４３５．８ｎｍ、ｆ線４８６．１ｎｍ、ｅ線５４６．１ｎｍ、ｄ線５８７．６ｎｍ、ｃ線６５６．３ｎｍの屈折率を測定した。また、測定した屈折率より、アッペ数を算出した。
【０１２７】
＜多層回折光学素子＞
次に、低屈折率高分散材料１１で回折光学形状を成形し、空間を空ける事無く、高屈折率低分散材料２１を積層し多層回折光学素子を作成し、その評価を行なった。
【０１２８】
（実施例１２）
＜多層回折光学素子４００の作成＞
まず、図６（ａ）に示す様に、回折格子形状の金型１２の上にＩＴＯ微粒子分散材料５（低屈折率高分散材料１１）、その上に２ｍｍガラス基板１３を配置した。１４．２ｍＷ／ｃｍ２、２１１秒の条件と２０ｍＷ／ｃｍ２、６００秒の条件（ガラス基板１３を通した照度  照度計  ＵＩＴ−２５０  受光部ＵＶＤ−Ｓ３６５）で高圧水銀ランプ（ＥＸＥＣＵＲＥ２５０、ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯ  ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））を照射し、硬化した後、図６（ｂ）に示す様に型から離型した。その後、８０℃、７２時間、大気中でアニールして、回折格子を作成した。アニール後に測定した回折格子の格子高さは１０．８μｍ、また、高ガラスから格子谷部までの距離が２μｍ（ＩＴＯ微粒子分散材料５の平均の膜厚７．４μｍ）、ピッチは８０μｍであった。
【０１２９】
次に、平板ガラス１３上に成形されたＩＴＯ微粒子分散材料５を、平板ガラス１３とともに成形治具１５にセットし、次いでＩＴＯ微粒子分散材料５上に高屈折率材料１０（高屈折率低分散材料２１）を滴下した（図７（ａ））。その上に平板ガラス１３をのせ、押し広げ、図７ｅに示す様に空気界面から、ＩＴＯ微粒子分散材料５までの長さ３００μｍの高屈折率材料１０による酸素ブロック層とＩＴＯ微粒子分散材料５の格子の高さよりも高い高屈折率材料１０による３５μｍ厚の酸素吸収層を持つ構成とした。（図７（ｂ））。このサンプルに、１４．２ｍＷ／ｃｍ２、２１１秒の条件と２０ｍＷ／ｃｍ２、６００秒の条件（平板ガラス１３を通した照度  照度計  ＵＩＴ−２５０  受光部ＵＶＤ−Ｓ３６５）で高圧水銀ランプ（ＥＸＥＣＵＲＥ２５０、ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯ  ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））を照射し、サンプルを硬化した後、８０℃７２時間にアニールした。
【０１３０】
その後、平板ガラス１３側から図７（ｄ）に示す様に後照射として高圧水銀ランプ８（ＵＬ７５０、ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯ  ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））を平板ガラス１３を介して３００ｎｍ以上４００ｎｍ以下のエネルギーが１００Ｊになる様に照度を調整し照射した。（４２ｍＷ、２３８１秒）
照度は高圧水銀ランプ（ＵＬ７５０、ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯ  ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））の光が平板ガラス１３を介してスペクトルラディオメーター（ＵＳＲ−４５Ｄ−１３、ウシオ電機（株））にて２５０ｎｍ以上７００ｎｍ以下の範囲を１ｎｍ幅で測定して決定した。図４（ａ）にデータを示す。
【０１３１】
３００ｎｍ以上３５０ｎｍ以下の積算値  １４．４ｍＷ、３５０以上４００ｎｍ以下の積算値  ２５．６ｍＷ  総計４２ｍＷであった。
【０１３２】
３００ｎｍ以上３５０ｎｍ以下の積算値の３００ｎｍ以上４００ｎｍ以下の積算値全体に対する割合は３６．１％であった。
【０１３３】
多層回折光学素子４００を作成した。図７（ｃ）に多層回折光学素子４００の構成を示す。
【０１３４】
（実施例１３）
＜多層回折光学素子４１０の作成＞
多層回折光学素子４１０は下記の様にして作成した。
【０１３５】
後照射の前までの工程は屈折率測定用光学素子４００と同じではある。
８０℃、７２時間にアニールした後、平板ガラス１３側から図７（ｅ）に示す様に後照射として高圧水銀ランプ８（ＵＬ７５０、ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯ  ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））をＳ−ＴＩＨ１１ガラス基板９を介して３００ｎｍ以上４００ｎｍ以下のエネルギーが１００Ｊになる様に照度を調整し照射した（１３．９ｍＷ、７１９４秒）。
【０１３６】
照度は高圧水銀ランプ（ＵＬ７５０、ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯ  ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））の光がＳ−ＴＩＨ１１ガラス基板９を介してスペクトルラディオメーター（ＵＳＲ−４５Ｄ−１３、ウシオ電機（株））にて２５０ｎｍ以上７００ｎｍ以下の範囲を１ｎｍ幅で測定して決定した。図３（ｂ）にデータを示す。
【０１３７】
３００ｎｍ３５０ｎｍ以下の積算値  ０．０５ｍＷ、３５０以上４００ｎｍ以下の積算値  １３．１５ｍＷ  総計１３．２ｍＷであった。
【０１３８】
３００ｎｍ以上３５０ｎｍ以下の積算値の３００ｎｍ以上４００ｎｍ以下の積算値全体に対する割合は０．４％であった。
【０１３９】
多層回折光学素子４１０を作成した。図７（ｃ）に多層回折光学素子４１０を示す（多層回折光学素子４００と同じ構成）。
【０１４０】
＜回折効率の評価＞
回折効率は、スポット光を上記の多層回折光学素子にあて、受光部密着して、すべての透過光の光量を測定した後、設計次数（１次の回折光）の光量を測定し、その光量比（設計次数の光量／全透過光光量）を回折効率と定義した。
【０１４１】
＜耐光性の評価＞
低屈折率高分散材料１１と高屈折率低分散材料２１より作成される屈折率測定用光学素子２００、２１０、３００、３１０、３２０、３３０、５００、５１０および、多層回折光学素子４００、４１０を耐光試験機（キセノンウェザーメーターＸ７５、スガ試験機株式会社製）にて５ｍＷ（３００から４００ｎｍの照射強度）、２００時間にて耐光試験を行った。
【０１４２】
その際、各サンプルには３９０ｎｍカットフィルター（実際には３６０ｎｍまで漏れ光がある）を付けて、通った光である。図８に３９０ｎｍカットフィルターを通したキセノンアークランプのスペクトルを示す。３９０ｎｍカットフィルターを介した照射強度は０．８ｍＷ（３００から４００ｎｍの照射強度）であった。
【０１４３】
その後、屈折率測定用光学素子の屈折率、および多層回折光学素子の回折効率を測定した。
【０１４４】
＜材料の酸素透過率・溶解度の測定＞
図９（ａ）に示すように、厚さ１ｍｍの石英ガラス１７の上に、厚さ１００μｍのスペーサー１８とＩＴＯ分散材料５（低屈折率高分散材料１１）もしくは高屈折率材料１０（高屈折率低分散材料２１、２２）を配置した。その上に厚みが１ｍｍの石英ガラス１７にスペーサー１８を介して載せ、ＩＴＯ分散材料５（低屈折率高分散材料１１）もしくは高屈折率材料１０（高屈折率低分散材料２１）をを押し広げた。これを、２０ｍＷ／ｃｍ２（石英ガラスを通した照度  照度計  ＵＩＴ−２５０  受光部ＵＶＤ−Ｓ３６５）、１３００秒の条件（２６Ｊ）で高圧水銀ランプ（ＵＬ７５０、ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯ  ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））を照射し、測定材料を硬化した。硬化した後、石英ガラス基板から膜をはがし、８０℃、７２時間で熱処理を行った。
【０１４５】
上記に様に作成した膜において、差圧式ガス透過率測定装置（ＧＴＲ  テック（株）製  ＧＴＲ−３０ＸＡＴＲ）にて、２３±２℃（後の加速試験の為の加速係数換算の為に５０±２℃、８０±２℃）で、酸素の透過率および酸素の溶解度を測定した。
【０１４６】
ただ、上記屈折率測定用光学素子２１０の差圧式ガス透過率測定により求められる酸素透過率と実際の屈折率測定用光学素子２１０における酸素の進行距離を比較すると差圧式ガス透過率測定により求められる酸素透過率の値に対して、実際の屈折率測定用光学素子２１０における酸素の進行から予測される酸素透過率の値はおおよそ１００倍である。その為、差圧式ガス透過率測定により求められる酸素透過率は、それぞれの膜の相対的な酸素透過率・酸素溶解度を示すが、実際に膜中の酸素拡散挙動を考える場合はその透過率を１／１００として計算する必要がある。
【０１４７】
＜経時変化（酸化加速装置による測定）＞
酸化の進行は光学素子の端部からのＩＴＯ分散材料５（低屈折率高分散材料１１）に変色の境目までの距離を酸化の進行距離とした。
【０１４８】
屈折率測定用光学素子２１０を３６５日放置したサンプルの酸化の進行距離は３ｍｍであった。一方、酸化加速装置を作成し（酸素１００％  ６気圧  ６０℃）で屈折率測定用光学素子２１０を６６ｈ入れた際の酸化の進行距離も３ｍｍであった。
【０１４９】
加速係数はおおよそ１３２倍である。一方、酸素濃度５倍（１００％←２０％）×圧力６倍（６ａｔｍ←１ａｔｍ）×透過率の温度係数（４．３０＝Ｐ（６０℃）／Ｐ（２３℃））＝１２９倍と理論的に求められる加速係数と一致するから他の材料の加速係数も同様に理論的に求め、時間を求めた。
【０１５０】
今回、７２日間、酸化加速試験機の素子を入れた。
【０１５１】
ＩＴＯ分散材料５（低屈折率高分散材料１１）のみ構成では２５．４年、
ＩＴＯ微粒子分散材料５までの長さ３００μｍの高屈折率材料１０による酸素ブロック層の構成では２４．６年と計算される為、この試験結果を通常の使用下で２５年相当とした。
【０１５２】
＜評価結果＞
・初期評価結果
低屈折率高分散材料１１と高屈折率低分散材料２１より作成される多層回折光学素子４００および４１０は可視域全体の回折効率が９９．５％以上となる。
屈折率測定用光学素子２００の低屈折率高分散材料１１は
屈折率（ｎｇ，ｎＦ，ｎｅ，ｎｄ，ｎＣ）＝（１．５９９，１．５８６，１．５７５，１．５６７，１．５５６）
（νｄ，θｇＦ）＝（１８．６，０．４１）
屈折率測定用光学素子２１０の低屈折率高分散材料１１は
屈折率（ｎｇ，ｎＦ，ｎｅ，ｎｄ，ｎＣ）＝（１．５９９，１．５８７，１．５７５，１．５６８，１．５５７）
（νｄ，θｇＦ）＝（１８．９，０．４１）
屈折率測定用光学素子３００の低屈折率高分散材料１１は
屈折率（ｎｇ，ｎＦ，ｎｅ，ｎｄ，ｎＣ）＝（１．６００，１．５８８，１．５７６，１．５６８，１．５５７）
（νｄ，θｇＦ）＝（１８．８，０．４０）
屈折率測定用光学素子３１０の低屈折率高分散材料１１は
屈折率（ｎｇ，ｎＦ，ｎｅ，ｎｄ，ｎＣ）＝（１．６００，１．５８７，１．５７６，１．５６８，１．５５７）
（νｄ，θｇＦ）＝（１９．０，０．４２）
屈折率測定用光学素子３２０の低屈折率高分散材料１１は
屈折率（ｎｇ，ｎＦ，ｎｅ，ｎｄ，ｎＣ）＝（１．６００，１．５８８，１．５７７，１．５６９，１．５５８）
（νｄ，θｇＦ）＝（１９．１，０．４１）
屈折率測定用光学素子３３０の低屈折率高分散材料１１は
屈折率（ｎｇ，ｎＦ，ｎｅ，ｎｄ，ｎＣ）＝（１．６００，１．５８８，１．５７６，１．５６９，１．５５８）
（νｄ，θｇＦ）＝（１９．２，０．４２）
【０１５３】
＜材料の酸素透過率・溶解度の結果＞
以下で、『Ｅ』は底を１０とする指数関数を示す。
低屈折率高分散材料１１
（酸素透過率Ｐ／ｃｍ３・ｃｍ・（ｃｍ２・ｓ・ｃｍＨｇ）−１，酸素溶解度Ｓ／ｃｍ３・（ｃｍ３・ｃｍＨｇ）−１）
＝（４．０６Ｅ−１１，１．４Ｅ−３）
高屈折率低分散材料２１
（酸素透過率Ｐ／ｃｍ３・ｃｍ・（ｃｍ２・ｓ・ｃｍＨｇ）−１，酸素溶解度Ｓ／ｃｍ３・（ｃｍ３・ｃｍＨｇ）−１）
＝（８．５８Ｅ−１２、３．３Ｅ−３）
であった。
【０１５４】
耐光試験後の結果耐光性の結果の一覧を表１に示す。
【０１５５】
【表１】
2013083965.tif 000003
【０１５６】
耐光性の結果として、回折効率の変動が０．５％以下、もしくは屈折率の変動が０．００２未満を○、回折効率の変動が０．５％より大きい、もしくは屈折率変動が０．００２以上を×とした。低屈折率高分散材料１１と高屈折率低分散材料２１より作成される多層回折光学素子４００，４１０は可視域全体の回折効率が９９．５％以上と初期に対して大きな変動はない。
【０１５７】
（屈折率および光学定数）
屈折率測定用光学素子２００の低屈折率高分散材料１１は
屈折率（ｎｇ，ｎＦ，ｎｅ，ｎｄ，ｎＣ）＝（１．５９９，１．５８６，１．５７５，１．５６７，１．５５６）
（νｄ，θｇＦ）＝（１８．６，０．４１）
初期に対して屈折率変動はほとんどなかった。
【０１５８】
屈折率測定用光学素子２１０の低屈折率高分散材料１１は
屈折率（ｎｇ，ｎＦ，ｎｅ，ｎｄ，ｎＣ）＝（１．５９９，１．５８６，１．５７５，１．５６７，１．５５６）
（νｄ，θｇＦ）＝（１８．７，０．４１）初期に対して屈折率変動は０．０００から−０．００１０であった。
【０１５９】
屈折率測定用光学素子３００の低屈折率高分散材料１１は
屈折率（ｎｇ，ｎＦ，ｎｅ，ｎｄ，ｎＣ）＝（１．６００，１．５８７，１．５７６，１．５６８，１．５５７）
（νｄ，θｇＦ）＝（１８．７，０．４１）
初期に対して屈折率変動はほとんどなかった。
【０１６０】
屈折率測定用光学素子３１０の低屈折率高分散材料１１は
屈折率（ｎｇ，ｎＦ，ｎｅ，ｎｄ，ｎＣ）＝（１．６００，１．５８８，１．５７６，１．５６８，１．５５７）
（νｄ，θｇＦ）＝（１８．６，０．４０）
初期に対して屈折率変動はほとんどなかった。
【０１６１】
屈折率測定用光学素子３２０の低屈折率高分散材料１１は
屈折率（ｎｇ，ｎＦ，ｎｅ，ｎｄ，ｎＣ）＝（１．６００，１．５８７，１．５７６，１．５６８，１．５５７）
（νｄ，θｇＦ）＝（１８．９，０．４１）初期に対して屈折率変動が０．０００から−０．００１０であった。
【０１６２】
屈折率測定用光学素子３３０の低屈折率高分散材料１１は
屈折率（ｎｇ，ｎＦ，ｎｅ，ｎｄ，ｎＣ）＝（１．６００，１．５８７，１．５７６，１．５６８，１．５５７）
（νｄ，θｇＦ）＝（１８．７，０．４０）初期に対して屈折率変動が０．０００から−０．００１であった。
【０１６３】
屈折率測定用光学素子５００の低屈折率高分散材料１１は
屈折率（ｎｇ，ｎＦ，ｎｅ，ｎｄ，ｎＣ）＝（１．６００，１．５８８，１．５７６，１．５６８，１．５５７）
（νｄ，θｇＦ）＝（１８．８，０．４０）
屈折率測定用光学素子５１０の低屈折率高分散材料１１は
屈折率（ｎｇ，ｎＦ，ｎｅ，ｎｄ，ｎＣ）＝（１．６００，１．５８８，１．５７７，１．５６９，１．５５８）
（νｄ，θｇＦ）＝（１９．１，０．４１）
【０１６４】
＜酸化加速試験の結果＞
（酸化の進行速度  屈折率および光学定数）酸化加速試験の結果の一覧を表１に示す。
酸化の進行距離が２．５ｍｍ以下（≦２．５ｍｍ）を○、２．５ｍｍよりも長く、１０ｍｍ以下を△、１０ｍｍよりも長い場合を×とした。
【０１６５】
屈折率測定用光学素子２００における、端部からの酸化の進行距離は１５．３ｍｍであり有効外２．５ｍｍより大きく、有効径内に１２．８ｍｍ進行している。
【０１６６】
低屈折率高分散材料１１の酸化した部分の屈折率は
屈折率（ｎｇ，ｎＦ，ｎｅ，ｎｄ，ｎＣ）＝（１．６００、１．５８８  、１．５７８  、１．５７１  、１．５６０）
（νｄ，θｇＦ）＝（２０．０，０．４２）
初期に対して屈折率変動は＋０．００２から＋０．００４と許容の範囲外であった。
【０１６７】
屈折率測定用光学素子２１０における端部からの酸化の進行距離は１５．３ｍｍであり有効外２．５ｍｍより大きく、有効径内に１２．８ｍｍ進行している。
低屈折率高分散材料１１は
屈折率（ｎｇ，ｎＦ，ｎｅ，ｎｄ，ｎＣ）＝（１．６００、１．５８８  、１．５７８  、１．５７１  、１．５６０）
（νｄ，θｇＦ）＝（２０．０，０．４２）
初期に対して屈折率変動は＋０．００１から＋０．００３と許容の範囲外であった。
【０１６８】
屈折率測定用光学素子３００における端部からの酸化の進行距離は２．３ｍｍであり有効外２．５ｍｍの範囲である。端部が小さい為、屈折率の測定は出来なかった。
【０１６９】
屈折率測定用光学素子３１０における端部からの酸化の進行距離は２．３ｍｍであり有効外２．５ｍｍの範囲である。端部が小さい為、屈折率の測定は出来なかった。
【０１７０】
屈折率測定用光学素子３２０における端部からの酸化の進行距離は２．３ｍｍであり有効外２．５ｍｍの範囲である。端部が小さい為、屈折率の測定は出来なかった。
【０１７１】
屈折率測定用光学素子３３０における端部からの酸化の進行距離は２．３ｍｍであり有効外２．５ｍｍの範囲である。端部が小さい為、屈折率の測定は出来なかった。
【０１７２】
屈折率測定用光学素子５００における端部からの酸化の進行距離は５．０ｍｍであり有効外２．５ｍｍより大きく、有効径内に２．５ｍｍ進行している。端部が小さい為、屈折率の測定は出来なかった。
【０１７３】
屈折率測定用光学素子５１０における端部からの酸化の進行距離は５．０ｍｍであり有効外２．５ｍｍより大きく、有効径内に２．５ｍｍ進行している。端部が小さい為、屈折率の測定は出来なかった。
【０１７４】
屈折率測定用光学素子４００における端部からの酸化の進行距離は２．３ｍｍであり有効外２．５ｍｍの範囲である。回折効率の変動、素子全体の不具合は無かった。
【０１７５】
屈折率測定用光学素子４１０における端部からの酸化の進行距離は２．３ｍｍであり有効外２．５ｍｍの範囲である。回折効率の変動、素子全体の不具合は無かった。
【０１７６】
（比較例１）
比較例１では、屈折率測定素子の後照射を行わなかった。
【０１７７】
＜屈折率測定用光学素子２２０の作成＞
屈折率測定用光学素子２２０は屈折率測定用素子２００、２１０と同じ構成で、下記に示す様に、後照射を行わず作成した。
【０１７８】
まず、図２（ａ）に示すように、厚さ１ｍｍの高屈折ガラス（Ｓ−ＴＩＨ１１：ＨＯＹＡ社製）４の上に、厚さ１２．５μｍのスペーサー７とＩＴＯ分散材料５（低屈折率高分散材料１１）を配置した。その上に厚みが１ｍｍの石英ガラス６をスペーサー７を介して載せ、ＩＴＯ分散材料５を押し広げた。これを、２０ｍＷ／ｃｍ２（石英ガラスを通した照度  照度計  ＵＩＴ−２５０  受光部ＵＶＤ−Ｓ３６５）、１３００秒の条件（２６Ｊ）で高圧水銀ランプ（ＵＬ７５０、ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯ  ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））を照射し、測定材料８を硬化した。硬化した後、８０℃７２時間でアニールした。
【０１７９】
それを屈折率測定用光学素子２２０とした。図２（ｂ）に屈折率測定用光学素子２２０を示す（屈折率測定光学素子２００と同じ素子構成である）。
【０１８０】
（実施例７）
＜屈折率測定用光学素子３４０の作成＞
屈折率測定用光学素子３４０を下記の様に作成した。
【０１８１】
屈折率測定用光学素子３４０は屈折率測定用素子３００と同じ構成で、下記に示す様に、後照射を行わず作成した。
【０１８２】
まず、図５（ａ）に示すように、厚さ１ｍｍの高屈折ガラス（Ｓ−ＴＩＨ１１：ＨＯＹＡ社製）４の上に、厚さ１２．５μｍのスペーサー７とＩＴＯ微粒子分散材料５（低屈折率高分散材料１１）を配置した。その上に厚みが１ｍｍの石英ガラス６をスペーサー７を介して載せ、ＩＴＯ微粒子分散材料５を押し広げた。これを、２０ｍＷ／ｃｍ２（石英ガラスを通した照度  照度計  ＵＩＴ−２５０  受光部ＵＶＤ−Ｓ３６５）、１３００秒の条件（２６Ｊ）で高圧水銀ランプ（ＵＬ７５０、ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯ  ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））を照射し、ＩＴＯ微粒子分散材料５を硬化した。硬化した後、石英ガラス６をはがし、８０℃７２時間でアニールした後、図５（ｂ）の様に５０μｍのスペーサー１１と高屈折率材料１０（高屈折率低分散材料２１）を配置し、その上に厚みが１ｍｍの石英ガラス６をスペーサー１１を介して載せ、高屈折率材料１０を押し広げて図５ｅに示す様に空気界面から、ＩＴＯ微粒子分散材料５までの長さ３００μｍの高屈折率材料１０による酸素ブロック層と持つ構成とした。これを、２０ｍＷ／ｃｍ２（石英ガラスを通した照度  照度計  ＵＩＴ−２５０  受光部ＵＶＤ−Ｓ３６５）、１３００秒の条件（２６Ｊ）で高圧水銀ランプ（ＵＬ７５０、ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯ  ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））を照射し、高屈折率材料１０を硬化した。硬化した後、８０℃７２時間でアニールした。
【０１８３】
それを屈折率測定用光学素子３４０とした。図５（ｅ）に屈折率測定用光学素子３４０の構成を示す（屈折率測定素子３００と同一構成である）。
【０１８４】
〔高屈折率低分散材料２２の調整〕
エタノール溶媒に酸化ジルコニウムを分散した微粒子分散液（微粒子の平均粒経１０ｎｍ、酸化ジルコニウム濃度１０ｗ％、表面処理剤なし  住友大阪セメント製）をアセトンに溶媒置換した後、分散剤としてＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１６３（  ビックケミー社製：高分子量ブロック共重合体）を添加し、トルエン置換し、トルエン溶液に分散した酸化ジルコニウム溶液（酸化ジルコニウム濃度  ９．５０ｗ％  表面処理剤２．５７ｗ％）を作成した。
【０１８５】
上記で作成した酸化ジルコニウム溶液１６１．２ｇと、紫外線硬化型アクリル系樹脂として、トリス（２−アクリロキシエチル）イソシアヌレート２０ｗ％、ペンタエリスリトールトリアクリレート２５ｗ％、ジシクロペンテニルオキシエチルメタアクリレート４０ｗ％、ウレタン変性ポリエステルアクリレート１３ｗ％、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン２ｗ％の混合物１０．５７ｇとを混合した。この混合溶液をエバポレーターに入れ、最終的にはオイルバス温度４５℃  設定気圧２ｈＰａｓ、２０時間にてトルエンを除去し、高屈折率低分散材料２２を調製した。
【０１８６】
なお、酸化ジルコニウムの粒径は、レーザー方式の粒度分布計（ＥＬＳ：大塚電子）で測定を行った。（住友大阪セメントの値は３ｎｍ以上５ｎｍ以下であるが、レーザー式の粒度分布は表面処理剤を含めた粒径を測定する為、測定方法によるギャップがあると推測される。）
また、ＴＧＡ（パーキンエルマー製）にて、高屈折率低分散材料２２を焼成し、高屈折率低分散材料２１中の無機固形分量を定量した。５３．７重量％であった。
残留溶剤（キシレン）はガスクロマトグラフィー（５８９０  ｓｅｒｉｅｓＩＩ：Ｈｅｗｌｅｔｔ  Ｐａｃｋａｒｄ製）に行い０．００５ｗ％以下であり検出限界以下であった。
【０１８７】
上記、高屈折率低分散材料２２を厚さ１ｍｍの高屈折ガラス（Ｓ−ＴＩＨ１１：ＨＯＹＡ社製）の上に、厚さ５０μｍのスペーサーと高屈折率低分散材料２２を配置した。その上に厚みが１ｍｍの石英ガラスをスペーサーを介して載せ、高屈折率低分散材料２２を押し広げた。これを、２０ｍＷ／ｃｍ２（石英ガラスを通した照度  照度計  ＵＩＴ−２５０  受光部ＵＶＤ−Ｓ３６５）、１３００秒の条件（２６Ｊ）で高圧水銀ランプ（ＵＬ７５０、ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯ  ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））を照射し、測定材料を硬化した。硬化した後、８０℃、７２時間で熱処理を行った。
【０１８８】
硬化したサンプルは、屈折計（ＫＰＲ−３０、（株）島津製作所）を用いて、高屈折率ガラス４側からｇ線４３５．８ｎｍ、ｆ線４８６．１ｎｍ、ｅ線５４６．１ｎｍ、ｄ線５８７．６ｎｍ、ｃ線６５６．３ｎｍの屈折率を測定した。また、測定した屈折率より、アッペ数を算出した。
【０１８９】
高屈折率低分散材料２２の硬化物の屈折率および光学特性は
屈折率（ｎｇ，ｎＦ，ｎｅ，ｎｄ，ｎＣ）＝（１．６３８，１．６３０，１．６２３，１．６２０，１．６１５）
（νｄ，θｇＦ）＝（４３．５，０．５６）
であった。
【０１９０】
（実施例８）
＜屈折率測定用光学素子３５０の作成＞
屈折率測定用光学素子３５０は下記の様にして作成した。
【０１９１】
まず、図５（ａ）に示すように、厚さ１ｍｍの高屈折ガラス（Ｓ−ＴＩＨ１１：ＨＯＹＡ社製）４の上に、厚さ１２．５μｍのスペーサー７とＩＴＯ微粒子分散材料５（低屈折率高分散材料１１）を配置した。その上に厚みが１ｍｍの石英ガラス６をスペーサー７を介して載せ、ＩＴＯ微粒子分散材料５を押し広げた。これを、２０ｍＷ／ｃｍ２（石英ガラスを通した照度、照度計  ＵＩＴ−２５０  受光部ＵＶＤ−Ｓ３６５）、１３００秒の条件（２６Ｊ）で高圧水銀ランプ（ＵＬ７５０、ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯ  ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））を照射し、ＩＴＯ微粒子分散材料５を硬化した。硬化した後、石英ガラス６をはがし、８０℃、７２時間でアニールした後、図５（ｂ）の様に５０μｍのスペーサー１１と屈折率測定用光学素子３００と異なり、高屈折率低分散材料２１の代わりに高屈折率低分散材料２２を高屈折率材料１０として配置し、その上に厚みが１ｍｍの石英ガラス６をスペーサー１１を介して載せ、高屈折率材料１０を押し広げて図５ｅに示す様に空気界面から、ＩＴＯ微粒子分散材料５までの長さ３００μｍの高屈折率材料１０による酸素ブロック層と持つ構成のサンプルとした。これを、２０ｍＷ／ｃｍ２（石英ガラスを通した照度、照度計  ＵＩＴ−２５０  受光部ＵＶＤ−Ｓ３６５）、１３００秒の条件（２６Ｊ）で高圧水銀ランプ（ＵＬ７５０、ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯ  ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））を照射し、高屈折率材料１０を硬化した。硬化した後、８０℃、７２時間でアニールした。その後、図５（ｃ）に示す様に石英ガラス６側から後照射として高圧水銀ランプ８（ＵＬ７５０、ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））を用いて石英６を介して３００ｎｍ以上４００ｎｍ以下のエネルギーが１００Ｊになる様に照度を調整し照射した。（４０ｍＷ、２５００秒）
照度は高圧水銀ランプ（ＵＬ７５０、ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯ  ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））の光が石英ガラス６を介してスペクトルラディオメーター（ＵＳＲ−４５Ｄ−１３、ウシオ電機（株））にて２５０ｎｍ以上７００ｎｍ以下の範囲を１ｎｍ幅で測定して決定した。図４（ａ）にデータを示す。
【０１９２】
３００ｎｍ以上３５０ｎｍ以下の積算値  １７．３ｍＷ、３５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下の積算値  ２２．７ｍＷ  総計４０ｍＷであった。
【０１９３】
屈折率測定用光学素子３５０とした。図５（ｅ）に屈折率測定用光学素子３５０の構成を示す。
【０１９４】
（実施例９）
＜屈折率測定用光学素子３６０の作成＞
屈折率測定用光学素子３６０は下記の様にして作成した。
【０１９５】
後照射の前までの工程は屈折率測定用光学素子３５０と同じではある。
８０℃、７２時間でアニール後、石英ガラス６側から後照射として高圧水銀ランプ８（ＵＬ７５０、ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯ  ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））を図５（ｄ）に示す様にＳ−ＴＩＨ１１ガラス基板９を介して３００ｎｍ以上４００ｎｍ以下のエネルギーが５０Ｊになる様に照度を調整し照射した。（１３．２ｍＷ、３７８８秒）
照度は高圧水銀ランプ８（ＵＬ７５０、ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯ  ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））の光がＳ−ＴＩＨ１１９ガラス基板を介してスペクトルラディオメーター（ＵＳＲ−４５Ｄ−１３、ウシオ電機（株））にて２５０ｎｍ以上７００ｎｍ以下の範囲を１ｎｍ幅で測定して決定した。図４（ｂ）にデータを示す。図４（ｂ）は  本発明の実施例の光学素子の高圧水銀ランプのＳ−ＴＩＨ１１基板を通した際のスペクトルの図である。
【０１９６】
３００ｎｍ以上３５０ｎｍ以下の積算値  ０．０５ｍＷ、３５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下の積算値  １３．１５ｍＷ  総計１３．２ｍＷであった。
【０１９７】
３００ｎｍ以上３５０ｎｍ以下の積算値の３００ｎｍ以上４００ｎｍ以下の積算値全体に対する割合は０．４％であった。
【０１９８】
それを屈折率測定用光学素子３６０とした。図５（ｅ）に屈折率測定用光学素子３３０の構成を示す。（屈折率測定用光学素子３６０と構成は同一である。）
【０１９９】
（比較例２）
＜屈折率測定用光学素子３７０の作成＞
屈折率測定用光学素子３７０は下記の様にして作成した。
【０２００】
まず、図５（ａ）に示すように、厚さ１ｍｍの高屈折ガラス（Ｓ−ＴＩＨ１１：ＨＯＹＡ社製）４の上に、厚さ１２．５μｍのスペーサー７とＩＴＯ微粒子分散材料５（低屈折率高分散材料１１）を配置した。その上に厚みが１ｍｍの石英ガラス６をスペーサー７を介して載せ、ＩＴＯ微粒子分散材料５を押し広げた。これを、２０ｍＷ／ｃｍ２（石英ガラスを通した照度、照度計  ＵＩＴ−２５０  受光部ＵＶＤ−Ｓ３６５）、１３００秒の条件（２６Ｊ）で高圧水銀ランプ（ＵＬ７５０、ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯ  ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））を照射し、ＩＴＯ微粒子分散材料５を硬化した。硬化した後、石英ガラス６をはがし、８０℃、７２時間でアニールした後、図５（ｂ）の様に５０μｍのスペーサー１１と屈折率測定用光学素子３００と異なり、高屈折率低分散材料２１の代わりに高屈折率低分散材料２２を高屈折率材料１０として配置し、その上に厚みが１ｍｍの石英ガラス６をスペーサー１１を介して載せ、高屈折率材料１０を押し広げて図５ｅに示す様に空気界面から、ＩＴＯ微粒子分散材料５までの長さ３００μｍの高屈折率材料１０による酸素ブロック層と持つ構成にした。これを、２０ｍＷ／ｃｍ２（石英ガラスを通した照度、照度計  ＵＩＴ−２５０  受光部ＵＶＤ−Ｓ３６５）、１３００秒の条件（２６Ｊ）で高圧水銀ランプ（ＵＬ７５０、ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯ  ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））を照射し、高屈折率材料１０を硬化した。硬化した後、８０℃、７２時間でアニールした。
【０２０１】
それを屈折率測定用光学素子３７０とした。図５（ｅ）に屈折率測定用光学素子３７０の構成を示す（屈折率測定素子３５０と同一構成である）。
【０２０２】
〔屈折率測定用光学素子２２０、３４０、３５０、３６０、３７０光学特性（屈折率）の評価〕
硬化したサンプルは、実施例１と同様に屈折計（ＫＰＲ−３０、（株）島津製作所）を用いて、屈折率を測定し、測定した屈折率より、アッペ数を算出した。
【０２０３】
〔高屈折率低分散材料２２の材料の酸素透過率・溶解度の測定＞〕
実施例１と同様に差圧式ガス透過率測定装置（ＧＴＲ  テック（株）製  ＧＴＲ−３０ＸＡＴＲ）にて、２３±２℃（後の加速試験の為の加速係数換算の為に５０±２℃、８０±２℃）で、酸素の透過率および酸素の溶解度を測定した。
【０２０４】
＜多層回折光学素子＞
次に、低屈折率高分散材料１１で回折光学形状を成形し、空間を空ける事無く、高屈折率低分散材料２１を積層し多層回折光学素子を作成し、その評価を行なった。
実施例１２、１３と異なり、多層回折光学素子の後照射を行わなかった。
【０２０５】
（実施例１４）
＜多層回折光学素子４２０の作成＞
図６（ａ）に示す様にまず、回折格子形状の金型１２の上にＩＴＯ微粒子分散材料５（低屈折率高分散材料１１）、その上に２ｍｍガラス基板１３を配置した。１４．２ｍＷ／ｃｍ２、２１１秒の条件と２０ｍＷ／ｃｍ２、６００秒の条件（ガラス基板１３を通した照度、照度計  ＵＩＴ−２５０  受光部ＵＶＤ−Ｓ３６５）で高圧水銀ランプ（ＥＸＥＣＵＲＥ２５０、ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯ  ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））を照射し、硬化した後、図６（ｂ）に示す様に型から離型した。その後、８０℃、７２時間、大気中でアニールして、回折格子を作成した。
【０２０６】
アニール後に測定した回折格子の格子高さは１０．８μｍ、また、高ガラスから格子谷部までの距離が２μｍ（ＩＴＯ微粒子分散材料５の平均の膜厚７．４μｍ）としピッチは８０μｍであった。
【０２０７】
次に、平板ガラス１３上に成形されたＩＴＯ微粒子分散材料５を、平板ガラス１３とともに成形治具１５にセットし、次いでＩＴＯ微粒子分散材料５上に高屈折率材料１０（高屈折率低分散材料２１）を滴下した（図７（ａ））。その上に平板ガラス１３をのせ、樹脂の厚みが格子の高さよりも３０μｍ高くになるように押し広げピッチは８０μｍであった。
【０２０８】
次に、平板ガラス１３上に成形されたＩＴＯ微粒子分散材料５を、平板ガラス１３とともに成形治具１５にセットし、次いでＩＴＯ微粒子分散材料５上に高屈折率材料１０（高屈折率低分散材料２１）を滴下した（図７（ａ））。その上に平板ガラス１３をのせ、押し広げ、図７ｅに示す様に空気界面から、ＩＴＯ微粒子分散材料５までの長さ３００μｍの高屈折率材料１０による酸素ブロック層とＩＴＯ微粒子分散材料５の格子の高さよりも高屈折率材料１０による３５μｍ厚の酸素吸収層を持つ構成のサンプルとした。（図７（ｂ））。このサンプルに、１４．２ｍＷ／ｃｍ２、２１１秒の条件と２０ｍＷ／ｃｍ２、６００秒の条件（平板ガラス１３を通した照度、照度計  ＵＩＴ−２５０  受光部ＵＶＤ−Ｓ３６５）で高圧水銀ランプ（ＥＸＥＣＵＲＥ２５０、ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯ  ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））を照射し、サンプルを硬化した後、８０℃７２時間にアニールした。
【０２０９】
それにより多層回折光学素子４２０を作成した。図７（ｃ）に多層回折光学素子４２０を示す（多層回折光学素子４００と同じ構成）。
【０２１０】
（比較例３）
＜多層回折光学素子４３０の作成＞
図６（ａ）に示す様にまず、回折格子形状の金型１２の上にＩＴＯ微粒子分散材料５（低屈折率高分散材料１１）、その上に２ｍｍガラス基板１３を配置した。１４．２ｍＷ／ｃｍ２、２１１秒の条件と２０ｍＷ／ｃｍ２、６００秒の条件（ガラス基板１３を通した照度、照度計  ＵＩＴ−２５０  受光部ＵＶＤ−Ｓ３６５）で高圧水銀ランプ（ＥＸＥＣＵＲＥ２５０、ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯ  ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））を照射し、硬化した後、図６（ｂ）に示す様に型から離型した。その後、８０℃、７２時間、大気中でアニールして、回折格子を作成した。
【０２１１】
アニール後に測定した回折格子の格子高さは１０．８μｍ、また、高ガラスから格子谷部までの距離が２μｍ（ＩＴＯ微粒子分散材料５の平均の膜厚７．４μｍ）とし、ピッチは８０μｍであった。
【０２１２】
次に、平板ガラス１３上に成形されたＩＴＯ微粒子分散材料５を、平板ガラス１３とともに成形治具１５にセットし、次いでＩＴＯ微粒子分散材料５上に屈折率測定用光学素子４２０と異なり、高屈折率低分散材料２１の代わりに高屈折率低分散材料２２を高屈折率材料１０としてを滴下した（図７（ａ））。その上に平板ガラス１３をのせ、樹脂の厚みが格子の高さよりも３０μｍ高くになるように押し広げサンプルとした。（図７（ｂ））。このサンプルに、１４．２ｍＷ／ｃｍ２、２１１秒の条件と２０ｍＷ／ｃｍ２、６００秒の条件（平板ガラス１３を通した照度、照度計  ＵＩＴ−２５０  受光部ＵＶＤ−Ｓ３６５）で高圧水銀ランプ（ＥＸＥＣＵＲＥ２５０、ＨＯＹＡ  ＣＡＮＤＥＯ  ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））を照射し、サンプルを硬化した後、８０℃７２時間にアニールした。
【０２１３】
それにより多層回折光学素子４３０を作成した。図７（ｃ）に多層回折光学素子４３０を示す（多層回折光学素子４２０と同じ構成）。
【０２１４】
＜多層回折光学素子の回折効率の評価＞
屈折率測定用光学素子の評価方法に準ずる。
【０２１５】
＜多層回折光学素子の耐光性の評価＞
屈折率測定用光学素子の評価方法に準ずる。
【０２１６】
＜多層回折光学素子の経時変化（酸素加速試験によるの評価）＞
屈折率測定用光学素子の評価方法に準ずる。
【０２１７】
＜評価結果＞
・初期評価結果
低屈折率高分散材料１１と高屈折率低分散材料２１より作成される多層回折光学素子４２０、４３０は可視域全体の回折効率が９９．５％以上となる。
【０２１８】
屈折率測定用光学素子２２０の低屈折率高分散材料１１は
屈折率（ｎｇ，ｎＦ，ｎｅ，ｎｄ，ｎＣ）＝（１．６００，１．５８８，１．５７７，１．５６９，１．５５８）
（νｄ，θｇＦ）＝（１９．４，０．４１）
屈折率測定用光学素子３４０の低屈折率高分散材料１１は
屈折率（ｎｇ，ｎＦ，ｎｅ，ｎｄ，ｎＣ）＝（１．６０１，１．５８９，１．５７８，１．５７０，１．５６０）
（νｄ，θｇＦ）＝（１９．６，０．４１）
屈折率測定用光学素子３５０の低屈折率高分散材料１１は
屈折率（ｎｇ，ｎＦ，ｎｅ，ｎｄ，ｎＣ）＝（１．６００，１．５８８，１．５７６，１．５６８，１．５５７）
（νｄ，θｇＦ）＝（１８．８，０．４０）
屈折率測定用光学素子３６０の低屈折率高分散材料１１は
屈折率（ｎｇ，ｎＦ，ｎｅ，ｎｄ，ｎＣ）＝（１．６００，１．５８８，１．５７７，１．５６９，１．５５８）
（νｄ，θｇＦ）＝（１９．１，０．４１）
屈折率測定用光学素子３７０の低屈折率高分散材料１１は
屈折率（ｎｇ，ｎＦ，ｎｅ，ｎｄ，ｎＣ）＝（１．６０１，１．５８９，１．５７８，１．５７０，１．５６０）
（νｄ，θｇＦ）＝（１９．６，０．４１）
・耐光性評価結果耐光性の結果の一覧を表１に示す。
【０２１９】
耐光性の結果として、回折効率の変動が０．５％以下、もしくは屈折率の変動が０．００２未満を○、回折効率の変動が０．５％より大きい、もしくは屈折率変動が０．００２以上を×とした。
【０２２０】
低屈折率高分散材料１１と高屈折率低分散材料２１より作成される多層回折光学素子４２０、４３０は可視域一部の回折効率が９８．８％以下と初期に対して変動し、許容の９９．０％以上の素子許容に対して外れる。
【０２２１】
（屈折率および光学定数）
屈折率測定用光学素子２２０の低屈折率高分散材料１１は
屈折率（ｎｇ，ｎＦ，ｎｅ，ｎｄ，ｎＣ）＝（１．５９９，１．５８６，１．５７４，１．５６７，１．５５６）
（νｄ，θｇＦ）＝（１８．６，０．４０）初期に対して屈折率変動が−０．００１から−０．００２と大きく変化し、許容の範囲外である
屈折率測定用光学素子３４０の低屈折率高分散材料１１は
屈折率（ｎｇ，ｎＦ，ｎｅ，ｎｄ，ｎＣ）＝（１．６００，１．５８７，１．５７６，１．５６８，１．５５７）
（νｄ，θｇＦ）＝（１８．８，０．４１）初期に対して屈折率変動が−０．００１から−０．００２と大きく変化し、許容の範囲外である。
【０２２２】
屈折率測定用光学素子３５０の低屈折率高分散材料１１は
屈折率（ｎｇ，ｎＦ，ｎｅ，ｎｄ，ｎＣ）＝（１．６００  、１．５８７  、１．５７６  、１．５６８  、１．５５７）
（νｄ，θｇＦ）＝（１８．９，０．４１）初期に対して屈折率変動はほとんどなく、許容の範囲内である。
【０２２３】
屈折率測定用光学素子３６０の低屈折率高分散材料１１は
屈折率（ｎｇ，ｎＦ，ｎｅ，ｎｄ，ｎＣ）＝（１．６００  、１．５８７  、１．５７６  、１．５６８  、１．５５７）
（νｄ，θｇＦ）＝（１８．８，０．４１）初期に対して屈折率変動が−０．０００から−０．００１と許容の範囲内である。
【０２２４】
屈折率測定用光学素子３７０の低屈折率高分散材料１１は
屈折率（ｎｇ，ｎＦ，ｎｅ，ｎｄ，ｎＣ）＝（１．６００  、１．５８８  、１．５７６  、１．５６８  、１．５５７）
（νｄ，θｇＦ）＝（１８．６，０．４１）初期に対して屈折率変動が−０．００１から−０．００３と大きく変化し、許容の範囲外である。
【０２２５】
＜酸化加速試験の結果＞
酸化加速試験の結果の一覧を表１に示す。
【０２２６】
酸化の進行距離が２．５ｍｍ以下（≦２．５ｍｍ）を○、２．５ｍｍよりも長く、１０ｍｍ以下を△、１０ｍｍよりも長い場合を×とした。
【０２２７】
（酸化の進行速度  屈折率および光学定数）
屈折率測定用光学素子２２０における、端部からの酸化の進行距離は１５．３ｍｍであり有効外２．５ｍｍより大きく、有効径内に１２．８ｍｍ進行している。
【０２２８】
低屈折率高分散材料１１の酸化した部分の屈折率は
屈折率（ｎｇ，ｎＦ，ｎｅ，ｎｄ，ｎＣ）＝（１．６０１  、１．５８９  、１．５７８  、１．５７２  、１．５６１）
（νｄ，θｇＦ）＝（２０．３，０．４２）
初期に対して屈折率変動は＋０．００１から＋０．００２と許容の範囲外であった。
【０２２９】
屈折率測定用光学素子３４０における端部からの酸化の進行距離は２．３ｍｍであり有効外２．５ｍｍの範囲である。端部が小さい為、屈折率の測定は出来なかった。
【０２３０】
屈折率測定用光学素子３５０における端部からの酸化の進行距離は１５．３ｍｍであり有効外２．５ｍｍより大きく、有効径内に１２．８ｍｍ進行している。
【０２３１】
酸化した低屈折率高分散材料１１は、屈折率（ｎｇ，ｎＦ，ｎｅ，ｎｄ，ｎＣ）＝（１．６０２  、１．５９０  、１．５８０  、１．５７３  、１．５６２）
（νｄ，θｇＦ）＝（２０．５，０．４２）
初期に対して屈折率変動は＋０．００２から＋０．００５と許容の範囲外であった。
【０２３２】
屈折率測定用光学素子３６０における端部からの酸化の進行距離は１５．３ｍｍであり有効外２．５ｍｍより大きく、有効径内に１２．８ｍｍ進行している。
【０２３３】
酸化した低屈折率高分散材料１１は、屈折率（ｎｇ，ｎＦ，ｎｅ，ｎｄ，ｎＣ）＝（１．６０２  、１．５９０  、１．５８０  、１．５７３  、１．５６２）
（νｄ，θｇＦ）＝（２０．５，０．４２）
初期に対して屈折率変動は＋０．００２から＋０．００４と許容の範囲外であった。
【０２３４】
屈折率測定用光学素子３７０における端部からの酸化の進行距離は１５．３ｍｍであり有効外２．５ｍｍより大きく、有効径内に１２．８ｍｍ進行している。
【０２３５】
酸化した低屈折率高分散材料１１は、屈折率（ｎｇ，ｎＦ，ｎｅ，ｎｄ，ｎＣ）＝（１．６０２  、１．５９０  、１．５８０  、１．５７３  、１．５６２）
（νｄ，θｇＦ）＝（２０．５，０．４２）
初期に対して屈折率変動は＋０．００１から＋０．００３と許容の範囲外であった。
【０２３６】
屈折率測定用光学素子４２０における端部からの酸化の進行距離は２．３ｍｍであり有効外２．５ｍｍの範囲である。回折効率の変動、素子全体の不具合は無かった。
【０２３７】
屈折率測定用光学素子４３０における端部からの酸化の進行距離は１５．３ｍｍであり有効外２．５ｍｍより大きく、有効径内に１２．８ｍｍ進行している。
【０２３８】
酸化した素子部の回折効率を測定すると可視域一部の回折効率が９８．８％以下と初期に対して変動し、許容の９９．０％以上の素子許容に対して外れる。
【産業上の利用可能性】
【０２３９】
本発明の光学素子の製造方法は、屈折率波長分散の異なる材料からなる層複数を基板上に積層し、使用波長域全域で特定次数（設計次数）の回折効率を高くする設計とし、かつ、可視光もしくは紫外線による特性に変化、および、吸湿による特性変化がない、回折光学素子を提供することが可能となる。これにより、本発明は、光学素子、回折光学素子、多層回折光学素子および光学系、特にカメラ、ビデオカメラ等の撮像光学系に利用することが出来る。
【符号の説明】
【０２４０】
１  高屈折低分散層
２  低屈折高分散層
３  透明基板層
４  高屈折ガラス（裏側）
５  ＩＴＯ微粒子分散材料
６  石英ガラス（照射側）
７  スペーサー
８  高圧水銀ランプ
９  Ｓ−ＴＩＨ１１基板
１０  高屈折率材料
１１  スペーサー
１２  金型
１３  平板ガラス
１４  離型治具
１５  成形治具
１６  酸素拡散を阻害する層
１００  積層型回折光学素子
１１０  光学素子
２００  屈折率測定用光学素子
２１０  屈折率測定用光学素子
３００  屈折率測定用光学素子
３１０  屈折率測定用光学素子
４００  多層回折光学素子
４１０  多層回折光学素子
【図１】
2013083965.tif 000004
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2013083965.tif 000010
【図８】
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【図９】
2013083965.tif 000012
【図１０】
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【図１１】
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