(57)【要約】【課題】  ノズルを十分清浄に洗浄でき、かつ、そのメンテナンスが容易なノズル洗浄装置および該ノズル洗浄装置を備えた塗布装置を提供する。【解決手段】  洗浄機構６０は、超音波振動子１５を収納するとともに、この超音波振動子１５を冷却するための冷却水１３を貯留する冷却水貯留部１１を備える。また、洗浄機構６０は、冷却水貯留部１１に貯留された冷却水１３中にその下面が浸漬された状態で配設され、その内部に溶液１４を貯留する溶液貯留部１２を備える。スリットノズル４１を溶液１４中に浸漬した状態で超音波振動子１５が超音波振動を発振した場合には、この超音波振動は、冷却水１３および溶液貯留部１２を介して溶液１４に伝達される。【選択図】        図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ノズルの下端部に形成された塗布液の吐出口を洗浄するためのノズル洗浄装置であって、
液体を貯留するとともに、この液体中に浸漬された超音波振動子を収納する液体貯留部と、
前記液体貯留部に貯留された液体中に浸漬された状態で配設され、塗布液を溶解する溶液を内部に貯留するとともに、前記ノズルの下端部を前記溶液中に浸漬可能とする上部開口部を備え、前記液体を介して付与される前記超音波振動子による超音波振動を、前記溶液に伝達する溶液貯留部と、
を備えたことを特徴とするノズル洗浄装置。
【請求項２】
請求項１に記載のノズル洗浄装置において、
前記溶液貯留部の底部には傾斜面が形成され、前記塗布液から析出した固形物を回収するための凹部が形成されるとともに、当該凹部付近には、前記溶液貯留部より溶液を排出するための溶液排出部が形成されるノズル洗浄装置。
【請求項３】
請求項２に記載のノズル洗浄装置において、
前記ノズルは、下端部に形成された吐出口がスリット状のスリットノズルであり、
前記溶液貯留部の底部は、前記スリット状の吐出口の長手方向に向けて傾斜する傾斜面および前記スリット状の吐出口の長手方向と直交する方向に向けて傾斜する傾斜面を備え、これらの傾斜面の下端部付近に前記溶液排出部が形成されるノズル洗浄装置。
【請求項４】
請求項３に記載のノズル洗浄装置において、
前記傾斜面の上端部付近には、前記溶液貯留部内に溶液を供給するための溶液供給部が配設されるノズル洗浄装置。
【請求項５】
請求項４に記載のノズル洗浄装置において、
前記溶液排出部と前記溶液供給部とを接続する溶液の循環路を備えるノズル洗浄装置。
【請求項６】
請求項３から請求項５のいずれかに記載のノズル洗浄装置において、
前記溶液貯留部の上方において、前記スリットノズルの下端部に形成されたスリット状の塗布液の吐出口に向けて溶液を吐出する溶液吐出部を有するノズル洗浄ブロックをさらに備えるノズル洗浄装置。
【請求項７】
請求項６に記載のノズル洗浄装置において、
前記ノズル洗浄ブロックは、前記スリットノズルの下端部に形成されたスリット状の吐出口に向けて気体を噴出する気体噴出部を備えるノズル洗浄装置。
【請求項８】
請求項６に記載のノズル洗浄装置において、
前記ノズル洗浄ブロックを、前記スリットノズルにおけるスリット状の塗布液の吐出口に沿って往復移動させる移動機構を備えるノズル洗浄装置。
【請求項９】
請求項１から請求項８のいずれかに記載のノズル洗浄装置を備えた塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、ノズルの下端部に形成された塗布液の吐出口を洗浄するためのノズル洗浄装置および該ノズル洗浄装置を備えた塗布装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ表示装置用ガラス基板、液晶表示装置用ガラス基板、太陽電池用パネル基板、ＰＤＰ用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板、半導体ウエハ等の基板に対して塗布液を塗布する塗布装置においては、長尺のスリットノズルの下端部に形成されたスリット状の吐出口から塗布液を吐出することにより、基板の表面に塗布液を塗布している。この塗布装置においては、塗布液の塗布により汚染したノズルを、ノズル洗浄装置により洗浄する構成となっている。
【０００３】
このようなノズル洗浄装置としては、スリットノズルの下端部に対して洗浄液を供給するとともに、スリットノズルの下端部をブラシにより洗浄し、しかる後、スリットノズルの下端部に向けて不活性ガスを噴出することにより、スリットノズルの下端部から洗浄液を除去する構成を採用している（特許文献１参照）。
【０００４】
また、スリットノズルの下端部を液体中に浸漬し、この液体に対して超音波振動を付与することにより、スリットノズルを洗浄する塗布装置も提案されている（特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特願２００８−２９００３１号公報
【特許文献２】特願２００５−２０５３２９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
塗布液として、例えば、フォトレジスト等が使用される場合においては、特許文献１に記載されたように、スリットノズルの下端部にフォトレジストの溶剤からなる洗浄液を供給した後、ブラシで洗浄を行うことで、スリットノズルを十分清浄に洗浄することが可能となる。しかしながら、例えば、太陽電池用パネル基板に塗料としてのナノメタルインクを塗布する場合においては、このナノメタルインクが吐出口で乾燥、固着した場合、容易に溶解しないことから、十分な洗浄が行い得ないという問題がある。
【０００７】
一方、特許文献２に記載されたように、スリットノズルに対して超音波振動を付与した場合には、ナノメタルインク等の塗料を除去することは可能である。しかしながら、特許文献２に記載されたように、スリットノズルの下端部を洗浄槽に貯留された液体中に浸漬し、この液体に対して超音波振動を付与することにより、スリットノズルを洗浄する構成を採用した場合には、塗布液から析出し、スリットノズルから除去された塗料の固形物が、超音波振動子を備えた洗浄槽内に堆積することになり、洗浄槽のメンテナンスに時間がかかるという問題が生ずる。
【０００８】
この発明は上記課題を解決するためになされたものであり、ノズルを十分清浄に洗浄でき、かつ、そのメンテナンスが容易なノズル洗浄装置および該ノズル洗浄装置を備えた塗布装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
請求項１に記載の発明は、ノズルの下端部に形成された塗布液の吐出口を洗浄するためのノズル洗浄装置であって、液体を貯留するとともに、この液体中に浸漬された超音波振動子を収納する液体貯留部と、前記液体貯留部に貯留された液体中に浸漬された状態で配設され、塗布液を溶解する溶液を内部に貯留するとともに、前記ノズルの下端部を前記溶液中に浸漬可能とする上部開口部を備え、前記液体を介して付与される前記超音波振動子による超音波振動を、前記溶液に伝達する溶液貯留部とを備えたことを特徴とする。
【００１０】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記溶液貯留部の底部には傾斜面が形成され、前記塗布液から析出した固形物を回収するための凹部が形成されるとともに、当該凹部付近には、前記溶液貯留部より溶液を排出するための溶液排出部が形成される。
【００１１】
請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の発明において、前記ノズルは、下端部に形成された吐出口がスリット状のスリットノズルであり、前記溶液貯留部の底部は、前記スリット状の吐出口の長手方向に向けて傾斜する傾斜面および前記スリット状の吐出口の長手方向と直交する方向に向けて傾斜する傾斜面を備え、これらの傾斜面の下端部付近に前記溶液排出部が形成される。
【００１２】
請求項４に記載の発明は、請求項３に記載の発明において、前記傾斜面の上端部付近には、前記溶液貯留部内に溶液を供給するための溶液供給部が配設される。
【００１３】
請求項５に記載の発明は、請求項４に記載の発明において、前記溶液排出部と前記溶液供給部とを接続する溶液の循環路を備える。
【００１４】
請求項６に記載の発明は、請求項３から請求項５のいずれかに記載の発明において、前記溶液貯留部の上方において、前記スリットノズルの下端部に形成されたスリット状の塗布液の吐出口に向けて溶液を吐出する溶液吐出部を有するノズル洗浄ブロックをさらに備える。
【００１５】
請求項７に記載の発明は、請求項６に記載の発明において、前記ノズル洗浄ブロックは、前記スリットノズルの下端部に形成されたスリット状の吐出口に向けて気体を噴出する気体噴出部を備える。
【００１６】
請求項８に記載の発明は、請求項６に記載の発明において、前記ノズル洗浄ブロックを、前記スリットノズルにおけるスリット状の塗布液の吐出口に沿って往復移動させる移動機構を備える。
【００１７】
請求項９に記載の発明は、請求項１から請求項８のいずれかに記載のノズル洗浄装置を備えた塗布装置である。
【発明の効果】
【００１８】
請求項１に記載の発明によれば、溶液貯留部により超音波振動子と溶液とを分離するとともに、超音波振動を液体を介してノズルに付与する構成であることから、ノズルを十分清浄に洗浄でき、かつ、そのメンテナンスを容易なものとすることが可能となる。
【００１９】
請求項２および請求項３に記載の発明によれば、塗布液から析出し、ノズルから除去された塗布液の固形物を傾斜面に沿って凹部に回収し、溶液排出部から外部に排出することが可能となる。
【００２０】
請求項４に記載の発明によれば、傾斜面に沿って溶液の流れを形成することにより、塗布液から析出し、スリットノズルから除去された塗布液の固形物を傾斜面に沿って回収することが可能となる。
【００２１】
請求項５に記載の発明によれば、溶液の循環路を利用して傾斜面に沿った溶液の流れを連続的に形成することにより、塗布液から析出し、スリットノズルから除去された塗布液の固形物の滞留を防止して、これを回収することが可能となる。
【００２２】
請求項６に記載の発明によれば、超音波を利用した洗浄後のスリットノズルを、溶液吐出部から供給される溶液によりさらに清浄に洗浄することが可能となる。
【００２３】
請求項７に記載の発明によれば、気体噴出部から噴出される気体の作用により、スリットノズルを清浄な状態に維持したままで、スリットノズルから溶液を除去することが可能となる。
【００２４】
請求項８に記載の発明によれば、ノズル洗浄ブロックのスリットノズルに沿った移動に伴って、スリット状の塗布液の吐出口を洗浄することが可能となる。
【００２５】
請求項９に記載の発明によれば、ノズルに形成された塗布液の吐出口を十分清浄に洗浄することができることから、塗布液の吐出を安定させることができ、これにより、塗布液を正確に塗布することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】この発明に係るノズル洗浄装置６を適用する塗布装置の斜視図である。
【図２】この発明に係るノズル洗浄装置６を適用する塗布装置の側面図である。
【図３】スリットノズル４１による塗布液の供給動作を模式的に示す説明図である。
【図４】スリットノズル４１を一部破断して示す正面図である。
【図５】洗浄機構６０をスリットノズル４１とともに示す正面概要図である。
【図６】洗浄機構６０をスリットノズル４１とともに示す側面概要図である。
【図７】洗浄ブロック６１の移動機構を、待機ポッド６２およびスリットノズル４１とともに示す正面図である。
【図８】洗浄ブロック６１の平面図である。
【図９】洗浄ブロック６１を分解して示す斜視図である。
【図１０】洗浄ブロック６１による仕上げ洗浄を実行するときのスリットノズル４１と、洗浄ブロック６１と、洗浄機構６０との配置を示す側面概要図である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図１はこの発明に係るノズル洗浄装置６を適用する塗布装置の斜視図であり、図２はその側面図である。なお、図１においては、プリディスペンス機構２およびノズル洗浄装置６等の図示を省略している。また、図２においては、キャリッジ４等の図示を省略している。
【００２８】
この塗布装置は、矩形状をなす太陽電池用パネル基板（以下「基板」という）Ｓに対して、例えば、ナノメタルインクからなる塗料を塗布液として塗布するためのものである。
【００２９】
この塗布装置は、基板Ｓを保持するためのステージ３を備える。このステージ３は、直方体形状を有する石製であり、その上面は水平面とされており、基板Ｓの保持面３０となっている。保持面３０には図示しない多数の真空吸着口が分布して形成されており、塗布装置において基板Ｓを吸着保持する構成となっている。また、図示は省略するが、保持面３０には、上下に昇降自在な複数のリフトピンが、適宜の間隔をおいて設けられている。このリフトピンは、基板Ｓの搬入、搬出時に、基板Ｓをその下方より支持して、ステージ３の表面より上方に上昇させる。
【００３０】
ステージ３の上方には、このステージ３の両側部分から略水平に掛け渡されたキャリッジ４が設けられている。このキャリッジ４は、スリットノズル４１を支持するためのノズル支持部４０と、このノズル支持部４０の両端を支持する左右一対の昇降機構４３とを備える。また、ステージ３の両端部には、略水平方向に平行に伸びる一対の走行レール３１が配設される。これらの走行レール３１は、キャリッジ４の両端部をガイドすることにより、キャリッジ４を、図１に示すＸ方向に往復移動させる。
【００３１】
ステージ３およびキャリッジ４の両側部分には、ステージ３の両側の縁側に沿って、それぞれ固定子（ステータ）５０ａと移動子５０ｂを備える一対のＡＣコアレスリニアモータ（以下、単に、「リニアモータ」と略する。）５０が固設される。また、ステージ３およびキャリッジ４の両側部分には、それぞれスケール部と検出子とを備えた一対のリニアエンコーダ５２が固設される。リニアエンコーダ５２は、キャリッジ４の位置を検出する。
【００３２】
図２に示すように、ステージ３における保持面３０の側方には、プリディスペンス機構２が配設されている。このプリディスペンス機構２は、貯留槽２１内に貯留された洗浄液中にその一部を浸漬したプリディスペンスローラ２２と、ドクターブレード２３とを備える。プリディスペンスローラ２２とドクターブレード２３とは、Ｙ方向に対して、スリットノズル４１と同等以上の長さを有する。また、プリディスペンスローラ２２は、図示しないモータの駆動により回転する。
【００３３】
この塗布装置においては、処理動作を実行する前に、プリディスペンスローラ２２の上方に移動したスリットノズル４１から少量の塗布液を吐出することにより、後述するノズル洗浄工程において塗布液を溶解するための溶液を含有した塗布液をスリットノズル４１内から除去する工程を実行するようにしている。
【００３４】
図２に示すように、ステージ３における保持面３０の側方には、この発明に係るノズル洗浄装置６が配設されている。なお、このノズル洗浄装置６の構成については、後述する。
【００３５】
図３はスリットノズル４１による塗布液の供給動作を模式的に示す説明図であり、図４はスリットノズル４１を一部破断して示す正面図である。
【００３６】
本実施形態においては、このスリットノズル４１は、その長手方向（図３における紙面に垂直な方向／図４における左右方向）に延びるスリット状の吐出口４４を有する。この吐出口４４の長手方向の長さは、例えば、基板Ｓにおける矩形状の素子形成部分の短辺の長さ以上の長さである。なお、短辺の長さ未満でもよい。塗布液供給配管４６により供給された塗布液４５は、図３に示すように、このスリット状の吐出口４４を介して基板Ｓの表面に供給される。
【００３７】
塗布装置により基板Ｓに塗布液４５を塗布する塗布動作について説明する。塗布液４５の塗布動作を実行する前の状態においては、スリットノズル４１は、この発明に係るノズル洗浄装置６と対向する位置に配置されている。この状態において、塗布液４５の塗布動作を開始するときには、ノズル洗浄装置６の上方にスリットノズル４１を待機させた状態から、リニアモータ５０の駆動により、スリットノズル４１をプリディスペンス機構２の上部まで移動させ、プリディスペンス動作を実行させる。
【００３８】
次に、スリットノズル４１を基板Ｓの一端上方まで水平移動させた後、左右一対の昇降機構により、スリットノズル４１を基板Ｓへの塗布位置に配置する。このとき基板Ｓの表面とスリットノズル４１の吐出口４４との間隔は、塗布液４５の塗布に適した所定の値となっている。
【００３９】
この状態において、スリットノズル４１におけるスリット状の吐出口４４から塗布液４５を吐出させるとともに、リニアモータ５０の駆動により、スリットノズル４１を基板Ｓの表面に沿って水平移動させる。この状態においては、図３に示すように、スリットノズル４１におけるスリット状の吐出口４４から吐出された塗布液４５が基板Ｓの表面に薄膜状に塗布される。
【００４０】
スリットノズル４１におけるスリット状の吐出口４４が基板Ｓの他端部と対向する位置まで移動すれば、スリットノズル４１におけるスリット状の吐出口４４からの塗布液４５の吐出を停止させ、スリットノズル４１をノズル洗浄装置６の上方にまで移動させる。しかる後、ノズル洗浄装置６によりスリットノズル４１における吐出口４４を洗浄する。
【００４１】
次に、この発明に係るノズル洗浄装置６について説明する。この発明に係るノズル洗浄装置６は、超音波振動を利用してスリットノズル４１を洗浄する洗浄機構６０と、この洗浄機構６０により洗浄されたスリットノズル４１に対して、直接、溶液と不活性ガスを供給することにより、スリットノズル４１を仕上げ洗浄する洗浄ブロック６１と、洗浄ブロック６１により仕上げ洗浄されたスリットノズル４１を収納する待機ポッド６２とを備える。
【００４２】
最初に、超音波振動を利用してスリットノズル４１を洗浄する洗浄機構６０の構成について説明する。図５は、洗浄機構６０をスリットノズル４１とともに示す正面概要図であり、図６は、その側面概要図である。
【００４３】
この洗浄機構６０は、超音波振動子１５（図６参照）を収納するとともに、この超音波振動子１５を冷却するための冷却水１３を貯留する冷却水貯留部１１を備える。この冷却水貯留部１１は、有底箱状の形状を有する。この冷却水貯留部１１の底部には、図５に示すように、冷却水貯留部１１内の冷却水を排出可能な管路９２ａが配設されている。この管路９２ａは、管路９２ｂと管路９２ｃとに分岐している。管路９２ｂは、開閉弁９６を介して図示しないドレインと接続されている。一方、管路９２ｃは、冷却水１３を冷却するための冷却器９７と、ポンプ９５とを介して、冷却水貯留部１１に至る冷却水１３の循環路を構成している。また、冷却水貯留部１１内には、冷却水１３の液位を一定に維持するための、管路９２ａに接続されたオーバフロー管１８が配設されており、冷却水貯留部１１の側方には、冷却水１３の液位を検出するためのセンサ９９が配設されている。
【００４４】
また、この洗浄機構６０は、冷却水貯留部１１に貯留された冷却水１３中にその下面が浸漬された状態で配設され、その内部に溶液１４を貯留する溶液貯留部１２を備える。この溶液１４は、塗布液４５を溶解可能な液体である。塗布液４５として、ナノメタルインクからなる塗料が使用される場合には、この溶液１４としては、例えば、水または溶剤が使用される。
【００４５】
この溶液貯留部１２は、金属または樹脂製の薄板から構成される。この溶液貯留部１２は、冷却水１３を介して付与される超音波振動子１５による超音波振動を、溶液１４に伝達する機能を有する。このため、この溶液貯留部１２の材質や厚みは、超音波振動の伝達に適したものとなるように選択される。また、この溶液貯留部１２の内側の表面、つまり、溶液１４に接触する面は、塗布液から析出した固形分の付着を防止するため、フッ素樹脂によるコーティングが施されている。
【００４６】
この溶液貯留部１２には、スリットノズル４１の下端部を溶液１４中に浸漬可能とする上部開口部１９が形成される。一方、この溶液貯留部１２の底部は、図６に示すように、スリットノズル４１におけるスリット状の吐出口４４の長手方向と直交する方向に向けて、互いに異なる傾斜角度で傾斜する二つの傾斜面１２ａ、１２ｂが形成された谷状の形状を有する。また、谷状に形成された溶液貯留部１２の底に位置する部分には、図５に示すように、スリットノズル４１におけるスリット状の吐出口４４の長手方向に向けて傾斜する傾斜面１２ｃが形成されている。そして、溶液貯留部１２を構成するこれらの傾斜面の下端部には、図５に示すように、溶液貯留部１２内の溶液１４を排出可能な管路９１ａが配設されている。また、溶液貯留部１２を構成するこれらの傾斜面の上端部付近には、溶液貯留部１２内に溶液１４を供給するための溶液供給管１６が配設されている。この溶液供給管１６は、パイプ状部材に対して一定ピッチで溶液１４の吐出口が穿設された構成を有する。
【００４７】
このように、溶液貯留部１２を構成するこれらの傾斜面の下端部に溶液１４を排出する管路９１ａを設け、これらの傾斜面の上端部付近に溶液１４を供給するための溶液供給管１６を設けた構成とすることで、溶液貯留部１２において、上端部から下端部への溶液１４の流れを形成し、スリットノズル４１から除去された塗布液の固形物の滞留を防止することができる。
【００４８】
上述した管路９１ａは、管路９１ｂと管路９１ｃとに分岐している。管路９１ｂは、開閉弁９４を介して図示しないドレインと接続されている。一方、管路９１ｃは、ポンプ９３とを介して溶液供給管１６に至る溶液１４の循環路を構成している。このように、循環路を設けることで、溶液１４の使用量を削減することができる。また、溶液貯留部１２内には、溶液１４の液位を一定に維持するための、管路９１ａに接続されたオーバフロー管１７が配設されており、溶液貯留部１２の側方には、溶液１４の液位を検出するためのセンサ９８が配設されている。
【００４９】
次に、洗浄ブロック６１および待機ポッド６２の構成について説明する。図７は、洗浄ブロック６１の移動機構を、待機ポッド６２およびスリットノズル４１とともに示す正面図である。
【００５０】
このノズル洗浄装置６は、上述したスリットノズル４１と平行に配設されたレール６３に沿って移動可能なブラケット６４と、このブラケット６４と連結された同期ベルト６５を往復回転させることによりブラケット６４をスリットノズル４１と平行に往復移動させるモータ６６と、ブラケット６４の上方に配設された洗浄ブロック６１とを備える。この洗浄ブロック６１は、スリットノズル４１におけるスリット状の吐出口４４付近を仕上げ洗浄するためのものである。この洗浄ブロック６１は、モータ６６の駆動により、上述した洗浄機構６０の上方において、図７において実線で示す位置と二点鎖線で示す位置との間を往復移動する。
【００５１】
ここで、図７において実線で示す位置は、後述する下面洗浄ブラシ８２、右側面洗浄ブラシ８３および左側面洗浄ブラシ８１がスリットノズル４１から離隔した待機位置である。また、図７におけるこの待機位置の右側の位置は、下面洗浄ブラシ８２、右側面洗浄ブラシ８３および左側面洗浄ブラシ８１によりスリットノズル４１の下端部を洗浄する洗浄領域である。なお、待機位置に移動した洗浄ブロック６１の上方には、飛散防止カバー７１が配設されている。
【００５２】
一方、待機ポッド６２は、塗布液を塗布しない状態において、スリットノズル４１におけるスリット状の吐出口４４付近の塗布液が乾燥して変質することを防止するためのものである。この待機ポッド６２の内部には、例えば、塗布液を溶解する溶液等が貯留されている。この待機ポッド６２は、エアシリンダ６７の駆動により、図７において二点鎖線で示すその上端の開口部がスリットノズル４１におけるスリット状の吐出口４４と対向する上昇位置と、実線で示す下降位置との間を昇降可能な構成となっている。このため、スリットノズル４１をノズル洗浄装置６の上方に待機させた状態で待機ポッド６２が上昇位置をとると、スリットノズル４１の吐出口４４は待機ポッド６２内の溶液中に浸漬され、吐出口４４付近の塗布液が乾燥することが防止される。
【００５３】
次に、上述した洗浄ブロック６１の構成について説明する。図８は、洗浄ブロック６１の平面図である。また、図９は、この洗浄ブロック６１を分解して示す斜視図である。なお、図９においては、仕切板７４の図示を省略している。
【００５４】
この洗浄ブロック６１は、一対の飛散防止板７３と、不活性ガス噴出用スリット７７、７８を備えた４個の不活性ガス噴出用ブロック７５と、仕切板７４と、下面洗浄ブラシ８２、右側面洗浄ブラシ８３および左側面洗浄ブラシ８１と、第１ノズル８７、第２ノズル８４および第３ノズル８５、８６を支持する一対のノズル用ブロック７６とを備える。
【００５５】
下面洗浄ブラシ８２は、洗浄ブロック６１が洗浄領域に配置されたときに、スリットノズル４１の下端部下面、すなわち、図３に示す吐出口４４が形成された領域に当接可能となっている。また、右側面洗浄ブラシ８３は、洗浄ブロック６１が洗浄領域に配置されたときに、スリットノズル４１の長手方向（洗浄ブロック６１の進行方向）に向かって下端部右側面に当接可能となっている。さらに、左側面洗浄ブラシ８１は、洗浄ブロック６１が洗浄領域に配置されたときに、スリットノズル４１の長手方向に向かって下端部左側面に当接可能となっている。
【００５６】
第１ノズル８７は、洗浄ブロック６１が洗浄領域に配置されたときに、スリットノズル４１を挟んで右側面洗浄ブラシ８３と対向する位置に配設されている。また、第２ノズル８４は、洗浄ブロック６１が洗浄領域に配置されたときに、スリットノズル４１を挟んで左側面洗浄ブラシ８１と対向する位置に配設されている。さらに、第３ノズル８５、８６は、下面洗浄ブラシ８２と対向する位置に配置されている。図８に示すように、第１、第２、第３ノズル８７、８４、８５、８６は、スリットノズル４１の仕上げの洗浄に使用する溶液を貯留した溶液供給部１００と接続されている。
【００５７】
不活性ガス噴出用ブロック７５に形成された不活性ガス噴出用スリット７７、７８は、第１、第２、第３ノズル８７、８４、８５、８６から供給されスリットノズル４１の下端部に残存する塗布液を、窒素ガスにより吹き飛ばすためのものである。洗浄ブロック６１が図８に示す（＋）Ｙ方向に移動するときには、不活性ガス噴出用スリット７７、７８のうち右側面用ブラシ８３と左側面用ブラシ８１の移動方向の後ろ側に位置する不活性ガス噴出用スリット７７、７８（図８における（−）Ｙ側の不活性ガス噴出用スリット７７、７８）のみが使用され、洗浄ブロック６１が図８に示す（−）Ｙ方向に移動するときには、不活性ガス噴出用スリット７７、７８のうち右側面用ブラシ８３と左側面用ブラシ８１の移動方向の後ろ側に位置する不活性ガス噴出用スリット７７、７８（図８における（＋）Ｙ側の不活性ガス噴出用スリット７７、７８）のみが使用される。
【００５８】
次に、この発明に係るノズル洗浄装置６によるスリットノズル４１の洗浄動作について説明する。なお、上述したノズル洗浄装置６によるスリットノズル４１の洗浄時には、洗浄機構６０による超音波振動を利用した洗浄と、洗浄ブロック６１による仕上げ洗浄とが、この順で実行される。
【００５９】
洗浄機構６０による超音波振動を利用した洗浄を開始するときには、リニアモータ５０の駆動により、スリットノズル４１を洗浄機構６０における溶液貯留部１２の上部まで移動させる。そして、昇降機構４３の作用によりスリットノズル４１を下降させ、図５および図６に示すように、スリットノズル４１の下端部を溶液貯留部１２に貯留された溶液１４中に浸漬する。この状態においては、スリットノズル４１におけるスリット状の吐出口４４は、溶液１４中に配置されることになる。
【００６０】
この状態において、超音波振動子１５により超音波振動を発生される。この超音波振動は、冷却水１３および溶液貯留部１２を介して、溶液貯留部１２内に貯留された溶液１４に伝達され、溶液１４に超音波振動が付与される。このため、塗布液から析出し、スリットノズル４１におけるスリット状の吐出口４４付近に固着した塗布液の固形物は、超音波が付与された溶液１４の作用により、スリットノズル４１から除去される。
【００６１】
このときには、溶液貯留部１２内の溶液１４は、ポンプ９３の作用により、溶液貯留部１２から管路９１ａ、９１ｃを介して溶液供給管１６に至る循環路を常に循環している。このため、スリットノズル４１から除去された塗布液の固形分は、溶液供給管１６から吐出された溶液１４の流れに沿って、溶液貯留部１２の傾斜面に沿って移動する。このため、塗布液の固形分が貯留部１２内に停留することを軽減できる。
【００６２】
また、このときには、冷却水貯留部１１内の冷却水１３は、ポンプ９５の作用により、冷却水貯留部１１から管路９２ａ、９２ｃおよび冷却器９７を介して冷却水貯留部１１に戻る循環路を常に循環している。このため、超音波振動子１５が冷却水１３に超音波振動を付与することにより冷却水１３の温度が上昇する現象を、未然に防止することが可能となる。
【００６３】
スリットノズル４１におけるスリット状の吐出口４４付近が、溶液１４により所定の時間超音波振動を付与されて洗浄されれば、昇降機構４３の作用によりスリットノズル４１を上昇させ、スリットノズル４１を洗浄ブロック６１による仕上げ洗浄を実行可能な位置に配置する。
【００６４】
なお、溶液貯留部１２内の溶液１４は、一定時間ごとに廃棄され、新しい液と交換される。この場合には、管路９１ｂに配設された開閉弁９４が開放され、溶液貯留部１２内の溶液１４が図示しないドレインに排出される。このときには、溶液貯留部１２内の塗布液の固形分は、溶液１４の流れとともに、管路９１ｂに向けて移動する。このため、溶液貯留部１２内の塗布液の固形分を好適に回収してドレインに排出することが可能となる。
【００６５】
この場合において、超音波振動子１５は冷却水貯留部１１内の冷却水１３中に浸漬されており、溶液１４と超音波振動子１５を浸漬した冷却水１３とは、溶液貯留部１２により分離されている。このため、塗布液の固形分の除去をより容易に実行することができ、ノズル洗浄装置６のメンテナンスをより容易に実行することが可能となる。
【００６６】
次に、洗浄ブロック６１による仕上げ洗浄を実行する。図１０は、洗浄ブロック６１による仕上げ洗浄をを実行するときのスリットノズル４１と、洗浄ブロック６１と、洗浄機構６０との配置を示す側面概要図である。
【００６７】
洗浄機構６０による超音波振動を利用した洗浄に引き続き、洗浄ブロック６１による仕上げ洗浄を開始するときには、洗浄ブロック６１は図７において実線で示す待機位置に配置されている。また、このときには、スリットノズル４１は、昇降機構４３の作用により、その下端部が下面洗浄ブラシ８２、右側面洗浄ブラシ８３および左側面洗浄ブラシ８１の上端より上方となる位置に配置されている。
【００６８】
この状態において、第１、第２、第３ノズル８７、８４、８５、８６から溶液を吐出させる。そして、昇降機構４３の作用によりスリットノズル４１を下降させ、スリットノズル４１の下端部と下面洗浄ブラシ８２、右側面洗浄ブラシ８３および左側面洗浄ブラシ８１とを当接させる。この状態において、洗浄ブロック６１を図７に示す右方向（例えば図８における（＋）Ｙ方向）に移動させる。この状態においては、スリットノズル４１の下端部は、第１、第２、第３ノズル８７、８４、８５、８６から吐出した溶液と下面洗浄ブラシ８２、右側面洗浄ブラシ８３および左側面洗浄ブラシ８１との作用により洗浄される。
【００６９】
洗浄ブロック６１が洗浄領域の端部まで移動すれば、洗浄ブロック６１の移動を停止させる。そして、昇降機構４３の作用によりスリットノズル４１を上昇させ、スリットノズル４１の下端部と下面洗浄ブラシ８２、右側面洗浄ブラシ８３および左側面洗浄ブラシ８１とを離隔させる。しかる後、洗浄ブロック６１を上記とは逆方向（図８における（−）Ｙ方向）に移動させる。このときにも、第１、第２、第３ノズル８７、８４、８５、８６からの溶液の吐出は継続している。これにより、スリットノズル４１の下端部は、第１、第２、第３ノズル８７、８４、８５、８６から吐出した新しい溶液により、その仕上げの洗浄が実行される。
【００７０】
このときには、不活性ガス噴出用スリット７７、７８のうち右側面用ブラシ８３と左側面用ブラシ８１の移動方向の後ろ側に位置する不活性ガス噴出用スリット７７、７８から不活性ガスを噴出する。これにより、スリットノズル４１における吐出口４４付近に残存する溶液が吹き飛ばされ、スリットノズル４１から除去される。
【００７１】
洗浄ブロック６１が図７において実線で示す待機位置に復帰すれば、第１、第２、第３ノズル８７、８４、８５、８６からの溶液の吐出と、不活性ガス噴出用スリット７７、７８からの不活性ガスの噴出とを停止する。
【００７２】
以上によりスリットノズル４１の洗浄動作が完了すれば、次に、下面洗浄ブラシ８２、右側面洗浄ブラシ８３および左側面洗浄ブラシ８１の洗浄を実行する。洗浄ブロック６１が図７において実線で示す待機位置に復帰した状態においては、図７に示すように、洗浄ブロック６１の上方には飛散防止カバー７１が配置されている。この状態において、再度、第１、第２、第３ノズル８７、８４、８５、８６からの溶液を吐出する。これにより、下面洗浄ブラシ８２、右側面洗浄ブラシ８３および左側面洗浄ブラシ８１は、第１、第２、第３ノズル８７、８４、８５、８６から吐出した溶液により洗浄される。
【００７３】
ここで、図１０に示すように、洗浄ブロック６１は、洗浄機構６０の上方に配置されている。このため、上述した洗浄ブロック６１による仕上げ洗浄時において洗浄に供された溶液は、洗浄ブロック６１から洗浄機構６０における溶液貯留部１２内に滴下する。このため、溶液が外部に飛散することが防止されるとともに、仕上げ洗浄に使用した溶液を洗浄機構６０による洗浄に再利用することが可能となる。
【００７４】
なお、上述した実施形態においては、洗浄機構６０において、溶液貯留部１２内の溶液１４を溶液貯留部１２から管路９１ａ、９１ｃを介して溶液供給管１６に至る循環路を常に循環させている。しかしながら、溶液供給管１６から常に新しい溶液１４を供給し、洗浄に使用した溶液１４を管路９１ｂからドレインに排出するようにしてもよい。
【００７５】
また、上述した実施形態においては、洗浄ブロック６１において、スリットノズル４１に対して不活性ガスとしての窒素ガスを噴出しているが、不活性ガスに代えて空気を噴出してもよい。また不活性ガスや空気等の気体を噴出するかわりに、可撓性のブレード等によりスリットノズル４１に付着した溶液を除去する構成としてもよい。
【００７６】
また、上述した実施形態においては、洗浄ブロック６１において下面洗浄ブラシ８２、右側面洗浄ブラシ８３および左側面洗浄ブラシ８１を使用してスリットノズル４１を洗浄しているが、洗浄ブロック６１による仕上げ洗浄時には、溶液の吐出と不活性ガス等の噴出のみで仕上げ洗浄を行うようにしてもよい。
【００７７】
さらに、上述した実施形態においては、ノズルとして吐出口がスリット状のスリットノズル４１を用いているが、塗布液を吐出するノズルであれば、他の形態を有するノズルを用いてもよい。例えば、ポンプ等から圧送された高圧の塗布液を噴霧状に吐出するインジェクションノズル等を用いることができる。
【符号の説明】
【００７８】
６        ノズル洗浄装置
１１      冷却水貯留部
１２      溶液貯留部
１２ａ    傾斜面
１２ｂ    傾斜面
１２ｃ    傾斜面
１３      冷却水
１４      溶液
１５      超音波振動子
１６      溶液供給管
１９      上部開口部
４１      スリットノズル
４４      吐出口
６０      洗浄機構
６１      洗浄ブロック
６２      待機ポッド
７１      飛散防止カバー
７３      飛散防止板
７４      仕切板
８１      左側面洗浄ブラシ
８２      下面洗浄ブラシ
８３      右側面洗浄ブラシ
８４      第２ノズル
８５      第３ノズル
８６      第３ノズル
８７      第１ノズル
９２      管路
９５      ポンプ
９６      開閉弁
９７      冷却器
１００    溶液供給部
Ｓ        基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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