(57)【要約】      （修正有）【課題】ストライプパターンの延在方向に沿って大きなサイズを有するパターンを高精度で形成する技術を提供する。【解決手段】印刷装置１０は、印刷版１７のパターンを被印刷体である基板Ｗに転写する転写部１９と、基板Ｗを保持するステージ２２と、版胴１４の回転軸１４１に直交する主走査方向に沿って、ステージ２２を版胴１４に対して相対的に移動させる主走査方向駆動部２５ａと、を備える。この転写部１９では、所定のストライプパターンＰＴを表す凸部Ｔｂが形成された印刷版１７が、ストライプの延在方向が版胴１４の回転軸１４１に対して直交し、かつストライプが版胴１４の外周面の全周を覆うようにして版胴１４に装着された状態である。版胴１４を連続して回転させながら、塗布液が供給された印刷版１７を基板Ｗに押圧させることでパターンを転写する。【選択図】図１
2013175394.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定のストライプパターンが形成された印刷版が、前記ストライプパターンの延在方向が版胴の回転軸に対して直交し、かつ前記ストライプパターンが前記版胴の外周面の全周を覆うようにして前記版胴に装着された状態で、前記版胴を連続して回転させながら、印刷材料が塗布された前記印刷版を被印刷体に押圧させることにより、前記印刷版のパターンを前記被印刷体に転写する転写部と、
前記被印刷体を保持する基板保持部と、
前記回転軸に直交する主走査方向に沿って、前記基板保持部を前記版胴に対して相対的に移動させる移動機構と、
を備える印刷装置。
【請求項２】
請求項１に記載の印刷装置であって、
前記移動機構は、
前記主走査方向に沿って、前記基板保持部を前記版胴に対して相対的に移動させる主走査移動機構と、
前記回転軸に平行な副走査方向に沿って、前記基板保持部を前記版胴に対して相対的に移動させる副走査移動機構と、を備えることを特徴とする印刷装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の印刷装置であって、
前記ストライプパターンが、ディスプレイの発光部に使用される発光体パターンであることを特徴とする印刷装置。
【請求項４】
所定のストライプパターンが形成された印刷版が、前記ストライプパターンの延在方向が版胴の回転軸に対して直交し、かつ前記ストライプパターンが前記版胴の外周面の全周を覆うようにして前記版胴に装着された状態で、前記版胴を連続して回転させながら、印刷材料が塗布された前記印刷版を被印刷体に押圧させることにより、前記印刷版のパターンを前記被印刷体に転写する工程と、
前記版胴の回転軸に直交する方向に沿って、前記被印刷体を前記版胴に対して相対的に移動させる工程と、
を備える印刷方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被印刷体に所定のパターンを形成する技術に関する。特に、回転する版胴に装着された印刷版から有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）の発光材料のパターンを被印刷体に転写することで、パターンを形成する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬデバイスが照明又はディスプレイに利用される機会が増えてきている。有機ＥＬ材料は、ポリマー状の分子を用いた高分子材料とそれ以外の分子を用いた低分子材料とに分けられる。いずれの発光材料も下地膜の制約などからフォトリソグラフィ法を用いたパターン形成が困難である。従って、低分子材料を用いたパターン形成は、基板上に低分子材料を真空蒸着させる方法を用いて行われる。また、高分子材料を用いたパターン形成は、凸版印刷法又は凹版印刷法などの各種印刷法を用いて行われる。
【０００３】
近年、小型サイズのディスプレイの製造には低分子材料を使用した蒸着による方法が採用されている。しかしながら、大型サイズのディスプレイの場合には、マスクの精度又は熱膨張の影響から蒸着による製造方法を採用することは難しいため、高分子材料を用いた印刷方式による製造方法の確立が進められている。
【０００４】
印刷方式を採用して有機ＥＬの発光パターンを大サイズで形成するためには、大サイズの印刷版が必要であり、当該印刷版が取り付けられる版胴のサイズについても大きくする必要がある。しかしながら、版胴を大サイズ化した場合には、版胴の重量が増すため、版胴に撓みが生じ、均一な押し込み量で印刷版を基板に押し当てることが難しくなる。つまり、パターンの印刷精度が低下する恐れがある。
【０００５】
例えば、特許文献１に記載されている技術が用いられることで、上記課題は解決できる。特許文献１では、有機ＥＬ発光層の発光パターンに対応するストライプパターンを有する凸版が版胴に装着されており、この版胴が連続して回転することによって、デバイス基板上に発光パターンを形成する技術が開示されている。版胴を連続して回転させるため、版胴のサイズを大きくすることなく、大きいサイズのパターンが描かれる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００７−２２７０２３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１に記載の技術では、ストライプパターンの延在方向が版胴の回転軸心に対して平行に形成されるため、ストライプパターンの延在方向に沿う方向にはパターンを大きく描くことができなかった。
【０００８】
本発明は上記課題に鑑みなされたものであり、ストライプパターンの延在方向に沿って、大きなサイズを有するパターンを高精度で形成する技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
この発明の第１の態様は、印刷装置であって、所定のストライプパターンが形成された印刷版が、前記ストライプパターンの延在方向が版胴の回転軸に対して直交し、かつ前記ストライプパターンが前記版胴の外周面の全周を覆うようにして前記版胴に装着された状態で、前記版胴を連続して回転させながら、印刷材料が塗布された前記印刷版を被印刷体に押圧させることにより、前記印刷版のパターンを前記被印刷体に転写する転写部と、前記被印刷体を保持する基板保持部と、前記回転軸に直交する主走査方向に沿って、前記基板保持部を前記版胴に対して相対的に移動させる移動機構と、を備える。
【００１０】
第２の態様は、第１の態様に係る印刷装置であって、前記移動機構は、前記主走査方向に沿って、前記基板保持部を前記版胴に対して相対的に移動させる主走査移動機構と、前記回転軸に平行な副走査方向に沿って、前記基板保持部を前記版胴に対して相対的に移動させる副走査移動機構と、を備えることを特徴とする。
【００１１】
第３の態様は、第１の態様又は第２の態様に係る印刷装置であって、前記ストライプパターンが、ディスプレイの発光部に使用される発光体パターンであることを特徴とする。
【００１２】
第４の態様は、印刷方法であって、所定のストライプパターンが形成された印刷版が、前記ストライプパターンの延在方向が版胴の回転軸に対して直交し、かつ前記ストライプパターンが前記版胴の外周面の全周を覆うようにして前記版胴に装着された状態で、前記版胴を連続して回転させながら、印刷材料が塗布された前記印刷版を被印刷体に押圧させることにより、前記印刷版のパターンを前記被印刷体に転写する工程と、前記版胴の回転軸に直交する方向に沿って、前記被印刷体を前記版胴に対して相対的に移動させる工程と、を備える。
【発明の効果】
【００１３】
第１の態様から第４の態様によれば、所定のストライプパターンが形成された印刷版が、ストライプパターンの延在方向が版胴の回転軸に対して直交し、かつストライプパターンが版胴の外周面の全周を覆うようにして版胴に装着された状態で、版胴が連続して回転することにより被印刷体にパターンが形成される。このため、ストライプパターンの延在方向に沿って、大サイズのストライプパターンが得られる。また、径が比較的小さい版胴を採用できるため、版胴に撓みが生じることを抑えられる。従って、版胴の部分毎に押圧の不均一が生じることを抑えられるため、パターンの印刷精度を向上させることができる。
【００１４】
特に、第２の態様によれば、移動機構は基板保持部を、主走査方向だけではなく副走査方向に沿っても、相対的に移動させることが可能である。従って、長さが比較的小さい版胴を使用することが可能になるため、版胴の部分毎に押圧の不均一が生じにくくなり、パターンの印刷精度をより向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の実施形態に係る印刷装置の側面図である。
【図２】版胴の概略斜視図である。
【図３】制御部のハードウェア構成が示された図である。
【図４】処理の流れを示すフローチャートである。
【図５】第１の実施形態における印刷結果を表した図である。
【図６】第２の実施形態における印刷結果を表した図である。
【図７】第２の実施形態における印刷結果の拡大図である。
【図８】変形例における印刷結果を表した図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、添付の図面を参照しながら、本発明の実施形態について説明する。以下の実施形態は、本発明を具体化した一例であって、本発明の技術的範囲を限定する事例ではない。
【００１７】
＜１．第１の実施形態＞
図１には、印刷装置１０の概略側面図が示されている。印刷装置１０は、有機ＥＬディスプレイに使用される基板（ガラス基板）Ｗ上に、それぞれが平行に配置された複数の直線状パターンで構成されたストライプパターンＰＴを形成する。このストライプパターンＰＴは有機ＥＬの発光材料（有機材料）で描かれており、有機ＥＬディスプレイの発光部に使用される有機ＥＬ発光層の発光体パターンとして使用される。基板Ｗの表面には図示しないバンク（隔壁）が所定の方向に沿って複数形成されている。このようなバンクとバンクとの間に、ストライプの延在方向がバンクの延在方向に沿うようにして、ストライプパターンＰＴが形成される。
【００１８】
印刷装置１０は、基台２０と、基板Ｗが載置された状態で基台２０上を移動するステージ２２と、その外周面を全周にわたって印刷版１７に覆われた版胴１４と、軸芯が版胴１４の回転軸１４１の軸芯と平行に配置され、印刷版１７の表面に塗布液を供給する塗布液供給ローラ１２と、この塗布液供給ローラ１２の回転軸１２１の軸芯方向に延びるスリットを有し、塗布液供給ローラ１２に塗布液を供給する塗布液供給ノズル１１とを備える。このステージ２２が本実施形態における基板保持部に相当する。また、印刷版１７が装着された版胴１４、塗布液供給ローラ１２及び塗布液供給ノズル１１を総じて、転写部１９と称する。
【００１９】
なお、以下において、版胴１４の回転軸１４１に直交する方向を主走査方向と称し、版胴１４の回転軸１４１に沿う方向を副走査方向と称する。また、基板Ｗが載置されるステージ２２の面に直交する方向を高さ方向と称する。このＸ軸及びＹ軸により構成される面が水平面であるとともに、Ｚ軸が水平面に対する鉛直軸である。
【００２０】
また、印刷装置１０は、装置の各動作機構を制御して印刷処理を実行させるとともに、所定のプログラムＰに則って、印刷処理に関するデータを設定することができる制御部９０（図３参照）を備える。本実施形態では制御部９０は印刷装置１０の一部となっているが、印刷装置１０は別体に構成されたコンピュータであってもよい。
【００２１】
ステージ２２は、ステージ駆動部２５によって所定の方向に沿って移動することができる。このステージ駆動部２５は、ステージ２２を主走査方向に沿って移動させる主走査方向駆動部２５ａを備える。具体的には、主走査方向駆動部２５ａは、例えばモータとボールネジとを主体とする水平移動機構で構成されており、ボールネジの延在方向が主走査方向に沿うようにして配置されている。
【００２２】
ステージ駆動部２５には検出器２６が設置されている。例えば、検出器２６として、主走査方向駆動部２５ａのモータの回転数を検出する第１エンコーダ２６ａが設置されている。この第１エンコーダ２６ａがステージ２２の主走査方向における移動量を検出する。検出された信号は制御部９０に送信され、制御部９０がステージ駆動部２５を制御し、ステージ２２の主走査方向への移動量を制御する。
【００２３】
ステージ２２の上面には複数の図示しない吸引孔が形成されており、この吸引孔に負圧（吸引圧）を形成することによって、ステージ２２上に載置された基板Ｗは水平姿勢に固定保持される。
【００２４】
版胴１４は、円筒形状を有するローラであり、副走査方向に沿って延設された回転軸１４１を中心にしてモータ１４２によって回転可能に配置されている。この版胴１４は、基板Ｗの搬送路を跨ぐようにして設置されており、版胴１４の回転軸１４１の両端に設けられた一対の支持部１４０によって支持されている。
【００２５】
版胴１４の外周面の全周を覆うようにして、ポリエステル系樹脂又はゴム製の印刷版１７が装着される。印刷版１７はパターンに応じて形成された凸部Ｔｂを構成する樹脂層と、樹脂層を支持するベース層と、を備える凸版である。
【００２６】
凸部Ｔｂは、基板Ｗに形成されるストライプパターンＰＴのストライプの部分に相当し、印刷版１７において、等間隔に複数の凸部Ｔｂが平行配置されている。つまり、印刷版１７には凸部ＴｂでストライプパターンＰＴが形成されている。なお、印刷版１７に形成されるストライプパターンＰＴは、凸部Ｔｂに限られず、凹部などで形成されていても構わない。つまり、印刷版１７が凹版などの形態であってもよい。
【００２７】
この印刷版１７に形成された凸部Ｔｂで表されるパターンは、有機ＥＬディスプレイのマトリクス状の画素配列の各列に対応して設計された設計データ上のパターンに一致する。設計データは、例えば、ＣＡＤなどによってコンピュータ上に作成される。レーザ光が、この設計データに基づいて、版胴１４の外側に装着された円筒状の版材の外周面に直接出力を行うことによって、外周面の全周を覆うようにして凸部Ｔｂがシームレスに形成された印刷版１７が作製される。
【００２８】
図２には、印刷版１７が装着された版胴１４の斜視図が示されている。図２に示されるように、凸部Ｔｂで表されるストライプパターンＰＴの延在方向が版胴１４の回転軸１４１に直交し、かつストライプパターンＰＴが版胴１４の外周面の全周を覆うようにして、印刷版１７が版胴１４に装着されている。なお、図２に示される版胴１４に装着された印刷版１７では、凸部Ｔｂが６本形成されているが、あくまでの図示の都合によるものであり、実際は、より細かい幅で複数の凸部Ｔｂが形成されている。
【００２９】
塗布液供給ローラ１２は、回転可能な円筒形状のローラであり、その回転軸１２１の方向が版胴１４の回転軸１４１の方向と平行に（つまりＸ軸方向に沿って）なるように配置されている。この塗布液供給ローラ１２の回転軸１２１の一端にはモータ１２２が設けられており、塗布液供給ローラ１２を回転軸１２１の周りに回転させる。
【００３０】
塗布液供給ローラ１２の上方には塗布液の貯留源に連結された塗布液供給ノズル１１が設置されている。塗布液供給ノズル１１は、塗布液供給ローラ１２の回転軸１２１の軸心方向（Ｘ軸方向）に延びるスリットから、塗布液供給ローラ１２の表面に塗布液として有機ＥＬの高分子材料を吐出する。塗布液供給ローラ１２の表面に吐出された塗布液が、塗布液供給ローラ１２と版胴１４に装着された印刷版１７との接触により、印刷版１７に供給される。このようにして、塗布液が供給された印刷版１７が、版胴１４の回転に伴って基板Ｗの表面に押し当てられることにより、基板ＷにはストライプパターンＰＴが形成される。
【００３１】
図３には、制御部９０のハードウェア構成を示すブロック図が示されている。制御部９０のハードウェアとしての構成は、一般的なコンピュータと同様である。即ち、制御部９０は各種演算処理を行うＣＰＵ９１、プログラムＰを記憶する読み出し専用のメモリであるＲОＭ９２、各種情報を記憶する読み書き自在のメモリであるＲＡＭ９３、記録媒体（より具体的には、ＣＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ（Digital Versatile Disk））、フレキシブルディスクなどの可搬性記録媒体）Ｍからその中に記憶されている情報を読み出すメディアドライブ９４、キーボード、マウスなどで構成される入力デバイスであり、コマンドや各種データの入力といったユーザ操作を受け付ける入力部９５及びカラーＬＣＤのようなディスプレイ等を備え、各種のデータや動作状態を可変表示する表示部９６をバスライン９９に接続して構成されている。また、バスライン９９には、版胴１４を回転させるモータ１４２、塗布液供給ローラ１２を回転させるモータ１２２、ステージ２２を移動させるステージ駆動部２５、ステージ２２の位置を検出する検出器２６などが電気的に接続されている。
【００３２】
上記の構成以外にも印刷装置１０は、版胴１４及び塗布液供給ローラ１２をそれぞれ洗浄する洗浄機構を備えている。
【００３３】
図４には、処理の流れを示すフローチャートが示されている。このフローチャートに沿って、上述の構成を有する印刷装置１０における処理動作について説明する。
【００３４】
はじめに、塗布液供給ローラ１２及び版胴１４の回転が開始される（ステップＳ１）。つまり、制御部９０が、モータ１４２、モータ１２２に対してそれぞれ駆動信号を送信し、塗布液供給ローラ１２及び版胴１４を回転させる。
【００３５】
塗布液供給ノズル１１から回転している塗布液供給ローラ１２に対して塗布液が吐出される（ステップＳ２）。吐出された塗布液は、塗布液供給ローラ１２の表面で薄膜を形成する。
【００３６】
また、基板Ｗが載置された状態のステージ２２がステージ駆動部２５の主走査方向駆動部２５ａによって版胴１４に向けて搬送される（ステップＳ３）。
【００３７】
回転している塗布液供給ローラ１２と、回転している版胴１４を覆う印刷版１７と、が接触することにより、塗布液供給ローラ１２に吐出された塗布液が版胴１４の印刷版１７に供給される（ステップＳ４）。
【００３８】
版胴１４の直下位置において、版胴１４とともに回転する印刷版１７が基板Ｗに当接する（ステップＳ５）。これによって、基板Ｗに設けられた図示しないバンクの間にストライプパターンＰＴが形成される。
【００３９】
版胴１４の回転は複数回連続して行われる（ステップＳ６）。なお、この間においても、塗布液供給ローラ１２による印刷版１７への塗布液の供給は継続して行われる。従って、基板Ｗに形成されるストライプパターンＰＴは、ストライプの延在方向が主走査方向に沿うとともに、延在方向における長さが大サイズ化されて形成される。なお、ここでいう大サイズ化されたパターンとは、主走査方向におけるストライプパターンＰＴの長さが、印刷版１７の外周寸法よりも大きく形成されたパターンをいう。
【００４０】
具体的に、図５には、形成されたストライプパターンＰＴの概略図が示されている。例えば、ストライプパターンＰＴの主走査方向における目標長さがＮ２で、印刷版１７の外周寸法（印刷版１７の凸部Ｔｂの部分の外周寸法）がＮ１（ただし、Ｎ１＜Ｎ２）である場合、版胴１４をＮ２／Ｎ１回連続して回転させる。これによって、ストライプの延在方向が主走査方向に沿うとともに、ストライプの延在方向の長さがＮ２であるストライプパターンＰＴが基板Ｗに形成される。
【００４１】
以上のように、本実施形態における印刷装置１０では、所定のストライプパターンＰＴが形成された印刷版１７が、延在方向が版胴１４の回転軸に対して直交し、かつストライプパターンＰＴが版胴１４の外周面の全周を覆うようにして版胴１４に装着されている。このような状態の版胴１４が連続して回転することにより被印刷体である基板ＷにストライプパターンＰＴが形成される。これによって、ストライプの延在方向に沿って大サイズのストライプパターンＰＴが得られる。
【００４２】
また、このようなパターンの印刷処理が行われる場合には、版胴１４の径に関係なく、大きなサイズのパターンが得られる。従って、径が比較的小さい版胴１４を採用できるため、版胴１４は軽量化され、撓みが生じにくくなる。従って、版胴１４の部分毎に押圧の不均一が生じることを抑えられ、パターンの印刷精度を向上させることができる。
【００４３】
＜２．第２の実施形態＞
第１の実施形態では、版胴１４が連続して回転することにより、基板Ｗの主走査方向に沿って延在方向を有するストライプパターンＰＴが大サイズで形成されていたが、このような形態には限られない。主走査方向のみならず、副走査方向においても大きなサイズでパターンが形成される形態であっても構わない。
【００４４】
図６には、主走査方向及び副走査方向に大サイズ化されたストライプパターンＰＴが示されている。また、図７には、図６で示されるストライプパターンＰＴの拡大図が示されている。
【００４５】
本実施形態では、ステージ２２は、主走査方向と副走査方向とに移動可能である。即ち、ステージ駆動部２５は、主走査方向にステージ２２を駆動させる主走査方向駆動部２５ａのみならず、副走査方向にステージ２２を駆動させる副走査方向駆動部２５ｂも備える。副走査方向駆動部２５ｂについても、主走査方向駆動部２５ａと同様に、例えばモータとボールネジとを主体とする水平移動機構で構成されており、ボールネジの延在方向が副走査方向に沿うようにして配置されている。つまり、ステージ駆動部２５は所謂ＸＹステージで構成されている。なお、副走査方向に移動するステージ２２の位置を検出するために、検出器２６として、副走査方向駆動部２５ｂには第２エンコーダ２６ｂが設置されている。
【００４６】
具体的な処理の流れを説明する。はじめに、第１の実施形態と同様に、ストライプの延在方向が主走査方向に沿って形成されている、大サイズ化されたストライプパターンＰＴが基板Ｗに形成される。このとき形成されるストライプパターンＰＴを第１ストライプパターンＰＴ１と称する。第１ストライプパターンＰＴ１は、ステージ２２が版胴１４よりも（−Ｙ）側に位置する上流側から（＋Ｙ）側に位置する下流側に搬送されることによって形成される。
【００４７】
第１ストライプパターンＰＴ１が形成されると、ステージ２２は版胴１４の下流側から上流側に搬送される。つまり、基板Ｗ上における第１ストライプパターンＰＴ１の形成開始位置が版胴１４の直下位置よりも上流側に位置するまで、ステージ２２は移動する。このとき、第１ストライプパターンＰＴ１が形成された基板Ｗとステージ２２とが接触しないように、例えば版胴１４をやや上方の退避位置に移動させるなどの処理が行われる。
【００４８】
そして、ステージ２２を副走査方向駆動部２５ｂの駆動により副走査方向に移動させる。移動量は予め制御部９０によって算出されており、ステージ２２が所定位置に到達したことは第２エンコーダ２６ｂの検出信号により検出される。
【００４９】
ステージ２２が副走査方向における所定位置に到達すると、主走査方向駆動部２５ａがステージ２２を上流側から下流側に向けて搬送させて、印刷処理が行われる。これによって、第１ストライプパターンＰＴ１の隣に第２ストライプパターンＰＴ２が形成される。
【００５０】
図７に示されるように、第１ストライプパターンＰＴ１を構成するストライプとストライプとの副走査方向における間隔ＳＰ１と第１ストライプパターンＰＴ１の端部に位置するストライプと、それに隣り合う第２ストライプパターンＰＴ２の端部に位置するストライプとの間隔ＳＰ２とは一致する。
【００５１】
このように、副走査方向における第１ストライプパターンＰＴ１の長さＬ１と同じ長さを有する第２ストライプパターンＰＴ２が形成されることによって、基板Ｗには、副走査方向に長さＬ２（＝第１ストライプパターンＰＴ１の長さＬ１＋第２ストライプパターンＰＴ２の長さＬ１）のストライプパターンＰＴが形成される。このようにして、主走査方向に沿って延在方向を有するストライプパターンＰＴが、主走査方向及び副走査方向に沿って大きなサイズで形成される。
【００５２】
以上のように、第２の実施形態では、ステージ駆動部２５は、ステージ２２を主走査方向だけではなく、副走査方向に沿っても、相対的に移動させることが可能である。従って、主走査方向に沿ってストライプの延在方向を有するストライプパターンＰＴが、主走査方向のみならず、副走査方向においても大きなサイズで形成される。
【００５３】
また、一般に副走査方向においても大きなサイズでストライプパターンＰＴを形成するためには、版胴の長さを大きくすればよい。しかしながら、版胴の長さが長くなることによって、版胴に撓みが生じるため、基板Ｗにパターンを転写する際に、押圧の不均一が生じる恐れがある。本実施形態では、ステージ２２を版胴１４に対して副走査方向に相対的に移動させつつ、パターンを形成する。従って、比較的長さの小さい印刷版を採用することが可能であり、版胴の長さを短くすることができるため、版胴に撓みが生じることを抑えられる。よって、版胴の押圧が不均一になることを抑えられ、パターンの印刷精度をより向上させることができる。
【００５４】
なお、第２の実施形態では、基板Ｗが所定の方向に搬送されるときのみに印刷処理が行われる形態、即ち片道塗布が行われる形態であったが、このような形態には限られず、基板Ｗが往復で搬送される都度、印刷処理が行われる形態、即ち往復塗布が行われる形態であってもよい。
【００５５】
＜３．変形例＞
なお、本発明の実施形態は上記実施の形態に限られるものではなく、以下に記載の形態であっても構わない。
【００５６】
例えば、ストライプパターンＰＴの延在方向が版胴１４の回転軸１４１の方向に沿う方向、即ち副走査方向に沿うようにして、印刷版１７が版胴１４の外周面の全周にわたって装着されていても構わない。この場合には、ストライプの延在方向が副走査方向に沿って形成されたストライプパターンが、第１の実施形態と同様の処理が行われることによって、主走査方向に大きなサイズで形成され、第２の実施形態と同様の処理が行われることによって、主走査方向及び副走査方向に大きなサイズで形成される。
【００５７】
また、例えば、図８に示されるように、複数個の版胴（単位版胴）が副走査方向に並べられており、各単位版胴が基板Ｗ上のそれぞれの担当領域にパターンを形成することによって、ストライプパターンＰＴの全体構造を形成する形態であっても構わない。なお、図８では単位版胴１４ａ〜１４ｄが配置された形態であるが、単位版胴の個数については適宜最適な個数が設定される。
【００５８】
第１の実施形態、又は第２の実施形態では、一つの版胴１４に設けられた印刷版１７によってストライプパターンＰＴの全体構造が形成されていたが、ここでは複数の単位版胴１４ａ〜１４ｄ各々に設けられた図示しない印刷版が当該所定の領域をそれぞれで分割してパターン形成を行うことにより、ストライプパターンＰＴの全体構造が形成される。なお、塗布液供給ローラ及び塗布液供給ノズルについては各単位版胴１４ａ〜１４ｄに対して設けられているものとする。
【００５９】
このように、複数の版胴（単位版胴）が設置され、ステージ２２を移動させることによっても、大サイズのストライプパターンＰＴを形成することが可能である。これによって、版胴を一つ使用する場合と比較して、版胴（単位版胴）一つあたりの重量は軽くなるとともに長さが短くなる。従って、より確実に版胴の撓みを抑えられるため、押圧力の不均衡が生じにくくなる。
【００６０】
また、このような単位版胴１４ａ〜１４ｄが複数並べられた装置構成であって、ステージ２２が副走査方向に沿って、各単位版胴１４ａ〜１４ｄに対して相対的に移動することによって、副走査方向においても大きなサイズでストライプパターンＰＴが形成される形態であってもよい。
【００６１】
また、印刷版１７は、有機ＥＬの発光材料の印刷を行うための凸版に限定されるものではなく、凹版などの他の版式であっても良いし、他の種類の塗布液を転写する版であっても良い。また、印刷版１７の材質もポリエステル系樹脂以外であっても良い。すなわち、本発明に係る印刷技術は、回転する版胴１４の上に装着された印刷版１７を用いるものであれば、有機ＥＬの発光材料の印刷装置のみならず他の種類の印刷装置に適用することができる。
【符号の説明】
【００６２】
１０  印刷装置
１４  版胴
１７  印刷版
１９  転写部
２２  ステージ
２５  ステージ駆動部
２５ａ  主走査駆動部
２５ｂ  副走査駆動部
１４１  版胴の回転軸
ＰＴ  ストライプパターン
Ｔｂ  凸部
Ｗ    基板
【図１】
2013175394.tif 000003
【図２】
2013175394.tif 000004
【図３】
2013175394.tif 000005
【図４】
2013175394.tif 000006
【図５】
2013175394.tif 000007
【図６】
2013175394.tif 000008
【図７】
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【図８】
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