(57)【要約】【課題】磁気記録テープの走行性、耐摩擦性を好適なものとしながら、ボイドを制御することでクッション性を付与し、フィルム表面突起の転写跡を防止することで、易滑性、耐久性、電気特性に優れた磁気記録媒体用ポリエステルフィルムを提供すること。【解決手段】基材層の片面にボイド層を有してなる積層フィルムであって、ボイド層の中心線表面粗さＳＲａが１０ｎｍ〜３０ｎｍであり、ボイド層の空隙率が２％〜１０％であり、ボイド層の層厚み（Ｌ１）とボイド層のフィルム厚み方向における空隙の長さ（Ｌ２）とが下記式（１）を満足する磁気記録媒体用ポリエステルフィルムとする。    ０．１≦Ｌ２／Ｌ１≦０．３    ・・・（１）【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材層の片面にボイド層を有してなり、ボイド層の中心線表面粗さＳＲａが１０ｎｍ〜３０ｎｍであり、ボイド層の空隙率が２％〜１０％であり、ボイド層の層厚み（Ｌ１）とボイド層のフィルム厚み方向における空隙の長さ（Ｌ２）とが下記式（１）を満足する磁気記録媒体用ポリエステルフィルム。
０．１≦Ｌ２／Ｌ１≦０．３    ・・・（１）
【請求項２】
前記ボイド層は大径粒子（Ｋ）と小径粒子（Ｍ）とを有し、大径粒子の粒子径（Ｋα）と小径粒子の粒子径（Ｍα）が下記式（２）および（３）を満足する、請求項１に記載の磁気記録媒体用ポリエステルフィルム。
Ｍα＜Ｌ１    ・・・（２）
０．３μｍ≦（Ｋα−Ｍα）    ・・・（３）
【請求項３】
前記ボイド層中における前記大径粒子の含有量（Ｋβ）と小径粒子の含有量（Ｍβ）が下記式（４）を満足する、請求項２に記載の記録媒体用ポリエステルフィルム。
５≦Ｍβ／Ｋβ≦１０    ・・・（４）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気記録媒体用に好適に用いられるポリエステルフィルムに関する。詳しくは、フィルム表面突起の転写跡を防止しつつ、易滑性、耐久性、電気特性に優れた磁気記録媒体用ポリエステルフィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
ポリエステルフィルムは、加工性、耐熱性、耐久性、表面特性等の性能に優れているので、様々な用途において使用される。特にポリエステルフィルムの表面に磁性金属薄膜を塗布した磁気記録媒体テープ用途や、金属類を蒸着して電極層とするコンデンサ用途、ガスバリア層を有する包装用途などのフィルム材料として用いられているが、例えば磁気記録媒体テープ用途に用いられている塗布方法は、ポリエステルフィルム製造時に巻き取られたポリエステルフィルムロールを巻き出しながら溶融した磁性金属被膜を塗布し、鏡面処理された後、巻き取られ製品化されるといった方法が一般的である。
【０００３】
ポリエステルフィルムの片面に大きな突起が存在すると、ポリエステルフィルムロールとなったときに、ポリエステルフィルムロールの内層において、フィルムが有する表面突起が次の巻き層となるフィルムに転写し、フィルム表面が変形する問題がある。このフィルム表面の変形により形成された凹凸部は、最終製品となった磁気記録テープにおいて、読み取りヘッドとの空間、すなわちスペーシングロスを生じ、凹凸が激しい場合には、データを正しく読み取りができなくなってしまうという問題を有している。
【０００４】
また、フィルムロールに変形がなくとも大きな突起が存在した場合には、塗布工程において、フィルム表面の変形が塗布後も同様にテープ表面で変形が残ってしまい、最終製品となった磁気記録テープにおいて、読み取りヘッドとの空間、スペーシングロスが生じ、凹凸が激しい場合には、データを正しく読み取りができなくなってしまうという問題を有している。一方、磁気記録媒体用途における磁性層塗布工程などの工程における加工速度の増大に伴い、あるいは最終製品の要求品質の高度化に伴い、近年磁気記録テープには、一層良好な走行性、耐摩擦性等の表面特性が求められるため、上記２点を両立する表面設計が求められていた。
【０００５】
例えば、特許文献１に記載される発明では、フィルム表面に微細な突起を均一に形成させるために、実質的に有機粒子を含有せしめたポリエステルフィルムを提案しているが、フィルム表面が単一な表面突起であるため、良好な走行性が得られない問題を有している。
【０００６】
また、特許文献２に記載される発明では、フィルムの表面粗さを平坦にして、フィルム間の転写を抑制しているが、フィルムの表面が平滑すぎるため、良好な走行性、耐摩擦性が得られないという問題を有している。
【０００７】
特許文献３に記載される発明では、フィルムに大きな粒子を含有させ、上記した走行性、耐摩擦性の問題を改善しているが、大きな粒子の含有量が多く、フィルムロールとなる際、また塗布加工後巻き取られる際に転写が発生してしまい、電気特性が低下してしまうという問題を有している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平８−１４７６７２号公報
【特許文献２】特開２００５−２１６３６８号公報
【特許文献３】特開２００９−１６６４２５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、磁気記録テープの走行性、耐摩擦性を好適なものとしながら、ボイドを制御することでクッション性を付与し、フィルム表面突起の転写跡を防止することで、易滑性、耐久性、電気特性に優れた磁気記録媒体用ポリエステルフィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するための本発明は、下記の構成からなる。
【００１１】
（イ）基材層の片面にボイド層を有してなり、ボイド層の中心線表面粗さＳＲａが１０ｎｍ〜３０ｎｍであり、ボイド層の空隙率が２％〜１０％であり、ボイド層の層厚み（Ｌ１）とボイド層のフィルム厚み方向における空隙の長さ（Ｌ２）とが下記式（１）を満足する磁気記録媒体用ポリエステルフィルム。
【００１２】
０．１≦Ｌ２／Ｌ１≦０．３    ・・・（１）
さらに好ましくは、本発明は、下記の構成を有する。
【００１３】
（ロ）前記ボイド層は大径粒子（Ｋ）と小径粒子（Ｍ）とを有し、大径粒子の粒子径（Ｋα）と小径粒子の粒子径（Ｍα）が下記式（２）および（３）を満足する上記（イ）に記載の磁気記録媒体用ポリエステルフィルム。
【００１４】
Ｍα＜Ｌ１    ・・・（２）
０．３μｍ≦（Ｋα−Ｍα）    ・・・（３）
（ハ）前記ボイド層中における前記大径粒子の含有量（Ｋβ）と小径粒子の含有量（Ｍβ）が下記式（４）を満足する上記（ロ）に記載の記録媒体用ポリエステルフィルム。
【００１５】
５≦Ｍβ／Ｋβ≦１０    ・・・（４）
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、磁気記録テープの走行性、耐摩擦性を好適なものとしながら、ボイドを制御することでクッション性を付与し、フィルム表面突起の転写跡を防止することで、易滑性、耐久性、電気特性に優れた磁気記録媒体用ポリエステルフィルムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明のポリエステルフィルムのボイド層の断面模式図である。
【図２】本発明のポリエステルフィルムのボイド層の断面模式図において、空隙部分を塗りつぶした概略図である。
【図３】空隙長さ等の算出手法を説明するための概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明の磁気記録媒体用ポリエステルフィルムについて、詳細に説明する。
【００１９】
本発明において基材層とは、特に限定はされないが、ポリエステルなどの熱可塑性樹脂を構成成分とするものが好ましい。具体的には、ポリエステルとしては、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂などを用いることができる。ポリエステルとは、ジオールとジカルボン酸とから縮合重合によって得られるポリマーである。さらに、ジカルボン酸は、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、ナフタレンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸等で代表されるものであり、またジオールは、エチレングリコール、トリメチレングリコール、テトラメチレングリコール、シクロヘキサンジメタノール等で代表されるものである。このようなポリエステルの具体例としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−ｐ−オキシベンゾエート、ポリ−１，４−シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレート（ポリエチレン−２，６−ナフタレート）等を使用することができる。
【００２０】
もちろん、これらのポリエステルは、ホモポリエステルであっても、コポリエステルであってもよく、コポリエステルの共重合成分としては、例えば、ジエチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ポリアルキレングリコール等のジオール成分、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、イソフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、５−ナトリウムスルホイソフタル酸等のジカルボン酸成分を用いることもできる。
【００２１】
また、強度、耐熱性、耐水性および耐薬品性等の観点から、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレン−２，６−ナフタレートが、特に好ましく用いられる。
【００２２】
本発明において、ボイド層とは層中に空隙（ボイド）を含有する層をいい、上述した基材層と同様の樹脂に空隙を含有させた層であることが好ましい。空隙を含有させる方法は、特に限定されないが、無機粒子や有機粒子やマトリックス樹脂に非相溶な樹脂を含有させて、フィルム製造時における延伸工程でのマトリックス樹脂とこれらの粒子または非相溶な樹脂との界面に空隙を発生させる方法があげられる。また、樹脂中に揮発剤を添加して微細な空隙を発生させることも可能である。
【００２３】
無機粒子としては、凝集シリカ、球状シリカ、コロイダルシリカ、ケイ酸アルミ、酸化チタン、炭酸カルシウム、リン酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化アルミ、マイカ、カオリン、クレー、有機粒子としては、スチレン、シリコーン、アクリル酸類、メタクリル酸類、ポリエステル類、ジビニル化合物、などを構成成分とする粒子を使用することができる。なかでも、凝集シリカ、球状シリカ、コロダイルシリカ、アルミナなどの無機粒子、スチレン、シリコーン、アクリル酸、メタクリル酸、ポリエステル、ジビニルベンゼンなどの有機粒子などを構成成分とする粒子を使用することが好ましい。さらに、これらの無機粒子および有機粒子は二種以上を併用してもよい。
【００２４】
本発明は、基材層の片面にボイド層を有してなる積層フィルムである。ボイド層の中心線表面粗さＳＲａは１０ｎｍ〜３０ｎｍである。本発明のフィルムは、磁気記録媒体用として好適に用いることができるが、磁気記録媒体は記録や書き込みを何度も行うため、走行性が求められる。中心線表面粗さＳＲａが１０ｎｍより低い場合には、易滑性が損なわれてしまい、走行性、耐摩擦性が損なわれてしまう。また、中心線表面粗さＳＲａが３０ｎｍよりも大きいと表面突起が多すぎて、磁性層が設けられる基材層側における転写跡が多くなってしまうため、電気特性が損なわれてしまう。
【００２５】
通常、フィルムは、巻きズレがないように、ある程度の張力をかけながらフィルムロールとして巻き取られるが、その張力の強さによって、フィルムが表裏で強く接し、片側表面の表面突起が他方の表面に転写されてしまう。また、フィルムロールを長期保管する場合、フィルムロールが外気温や湿度により巻き締まりという変形を引き起こすため、その転写跡はいっそう顕著となる。
【００２６】
この転写跡は、基材層表面の凹凸の起伏として観察することができる。この転写跡を有したフィルムに磁性層を設けると、読み取りヘッドとの空間にスペーシングロスが生じ、データを正しく読み取ることができない、という問題を発生させる。また、基材層中にポリエステル樹脂中で生成される環状三量体（オリゴマー）や、フィルムの製膜工程中で含有される塵埃などによる異物が無い良好な基材層に磁性層を積層しても、フィルムロールとして巻き取り、基材層とは反対の面の表面突起が磁性層面に強く接するため、ボイド層の表面粗さＲａは３０ｎｍ以下であることが重要である。
【００２７】
また、基材層側の中心線表面粗さＳＲａが１０ｎｍ以下であることが好ましい。基材層側は、磁性層が設けられるため、磁性層に基材層側の表面影響を極力及ぼさないためである。
【００２８】
本発明においてボイド層の空隙率は２％〜１０％である。ボイド層の空隙率が２％未満であると、良好なクッション性を得ることができず、転写跡を軽減することが困難である。ボイド層の空隙率が１０％より多いと、表面粗さが粗くなって転写跡が悪化したり、添加されている無機粒子等がボイド層表面より脱落し、走行性、生産性が低下する傾向となる。
【００２９】
空隙を含有させる方法は上述した通り特に限定されないが、例えば無機粒子や有機粒子やマトリックス樹脂に非相溶な樹脂を含有させて、フィルム製造時における延伸工程でのマトリックス樹脂とこれらの粒子または非相溶な樹脂との界面に空隙を発生させる場合においては、後述する大径粒子と小径粒子の粒径及び、含有量を調整し、フィルムとして製造する際の延伸倍率で空隙率を調整することができる。延伸倍率は面積倍率（縦延伸倍率×横延伸倍率）で１５〜３０倍であることが好ましい。面積倍率が１５倍未満であると得られるフィルム強度が不十分となり、逆に面積倍率が３０倍を超えると延伸時に破れを生じ易くなる傾向がある。延伸倍率が１５倍未満であると、延伸時の応力が足らず、空隙が形成されにくい。延伸倍率が３０倍以上であると、破れが多発してしまい、生産性が落ちてしまうことがある。
【００３０】
本発明のポリエステルフィルムは、ボイド層の層厚み（Ｌ１）と、ボイド層のフィルム厚み方向における空隙の長さ（Ｌ２）とが０．１≦Ｌ２／Ｌ１≦０．３の式を満たしている。Ｌ２／Ｌ１が０．１未満では、良好なクッション性を得ることができず、転写跡を軽減することが困難である。またＬ２／Ｌ１が０．３よりも大きいと、クッション性が不均一となって十分な転写跡の軽減が難しくなるとともに、磁気記録媒体とした際に記録や書き込みを何度も行うため、耐久性が悪化する傾向となる。
【００３１】
Ｌ１の好ましい範囲は、０．３μｍ以上１．５μｍ以下である。さらに好ましくは０．４μｍ以上１．３μｍ以下である。０．３μｍ未満の場合には後述する小径粒子の大きさよりも薄くなるため、ボイド層発現のための層に適用させることが難しい。１．５μｍ以上であると、層厚みが厚すぎるために後述する大径粒子よりも厚くなり、大径粒子の添加する意味が薄れてしまう傾向にある。
【００３２】
フィルムの好ましい全厚みとしては１〜１２μｍである。より好ましくは２〜１１μｍであり、さらに好ましくは３〜１０μｍである。なお、全厚みをＬ３とした場合、Ｌ１はＬ３の３％〜１０％であることが好ましい。
【００３３】
本発明のボイド層には、大径粒子（Ｋ）と小径粒子（Ｍ）とを含有することが好ましい。小径粒子の粒子径（Ｍα）はＭα＜Ｌ１であることが好ましい。ＭαがＬ１以上であると、ボイド層の空隙が形成されにくくなる。Ｍα＜Ｌ１を満足していたとしても、本発明の中心線表面粗さＳＲａを満足しないと、易滑性は満足することができず、Ｍα＜Ｌ１とＳＲａの両方を満足していることが本発明にとって好ましい態様である。また、大径粒子の粒子径（Ｋα）とＭαは０．３μｍ≦（Ｋα−Ｍα）であることが好ましい。（Ｋα−Ｍα）が０．３μｍ未満であると、ＫαとＭαが近似するため、易滑性が付与されにくくなる。ＫαはＬ１よりも大きく、Ｌ１の２倍の大きさよりも小さいことが好ましい。Ｌ１よりも大きいことで、表面形成がされやすく、易滑性に大きく付与することができる。ＫαがＬ１の２倍の大きさ以上であると、粒子が脱落しやすくなり、易滑性のために付与した粒子の機能を発現できなくなる傾向にある。
【００３４】
大径粒子（Ｋ）の大きさとしては、易滑性および粒子脱落防止の観点から０．５μｍ以上１．５μｍ以下であることが好ましい。また、小径粒子（Ｍ）の好ましい大きさとしては、０．２μｍ以上１．２μｍ以下であることが上述した大径粒子と小径粒子の関係から好ましい。
【００３５】
本発明においてボイド層の空隙率を２％〜１０％とする方法としては、例えば、小径粒子の径が大径となる場合に粒子の添加量を少なくして延伸倍率を高くするか、粒子の添加量を多くして延伸倍率を低くするとよい。逆に小径粒子の径が小径となる場合には粒子の添加量を多くして、延伸倍率を高くすることで調整することができる。
【００３６】
大径粒子（Ｋ）の含有量（Ｋβ）と小径粒子（Ｍ）の含有量（Ｍβ）は５≦Ｍβ／Ｋβ≦１０であることが好ましい。Ｍβ／Ｋβが５よりも小さいと大径粒子と小径粒子のバランスが悪く、易滑性と電気特性を両立しにくくなる傾向がある。例えば、大径粒子を多く添加しすぎた場合には、小径粒子によって形成されるボイド層が大径粒子の表面突起により、クッション性が損なわれ、電気特性が悪化する傾向がある。逆に大径粒子を少なく添加した場合には易滑性が損なわれ、走行性が低下してしまう傾向がある。Ｋβはボイド層に対して、０．０１質量％以上０．２０質量％以下であり、好ましくは０．０３質量％以上０．１５質量％以下である。Ｍβはボイド層に対して、０．０５質量％以上２．０質量％以下であり、好ましくは０．１５質量％以上０．７５質量％以下である。
【００３７】
次に、本発明のポリエステルフィルムの製造方法の一例を説明する。
【００３８】
本発明で用いられるポリエステル原料は、通常用いられる種々のエステル化反応、エステル交換反応およびそれに引き続く重縮合反応により製造することができる。例えば、ポリエチレンテレフタレートは、通常テレフタル酸またはジメチルテレフタレートとエチレングリコールとを、エステル化またはエステル交換せしめ、しかる後減圧下に重縮合せしめる方法で製造できる。ここで、触媒として、例えば、マンガン、マグネシウム、カルシウム、チタン、ゲルマニウム、アンチモン、コバルトなどの元素を含む化合物やリン化合物などを使用することができる。また、安定剤、顔料、染料、核剤、充填剤などを使用してもよい。
【００３９】
かくして得られたポリエステルを、シートカット法、ストランドカット法などにより粒子状（チップ形状）に成形する。チップの形状は任意でよいが、あまりに小さすぎて微粉末状となったものは熱処理工程やその後の成形工程（特に押出工程）でのトラブルの原因となる。また形状が大きい場合には、環状化合物を減少させる意味では特に問題にはならないが、操作性の点からは問題が生じやすい。これらの観点から、ポリエステルチップの大きさは、等価球直径で１ｍｍ〜５０ｍｍが好ましく、より好ましくは２ｍｍ〜２０ｍｍである。なお、ここで等価球直径とは粒子と同じ体積を有する球の直径である。
【００４０】
磁性層加工面側の基材層形成のため、乾燥したポリエステルのチップを押出機Ａに供給し、走行面側のボイド層形成のためポリエステルのチップと平均粒子径３００ｎｍ以上１，５００ｎｍ未満の不活性粒子を０．０１質量％〜２．００質量％となるように混合したものを押出機Ｂに供給し、溶融してＴダイ複合口金内に導入して口金内で基材層／ボイド層の２層に積層されるよう合流せしめた後、シート状に共押出して溶融積層シートとする。
【００４１】
この溶融積層シートを、表面温度１０〜６０℃に冷却されたドラム上で静電気により密着冷却固化し、未延伸フィルムを作製する。該未延伸フィルムを７０〜１２０℃に加熱したロール群に導き、長手方向（縦方向、すなわちフィルムの進行方向）に３〜８倍延伸し、２０〜３０℃のロール群で冷却する。
【００４２】
続いてフィルムの両端をクリップで把持しながらテンターに導き９０〜１５０℃に加熱した雰囲気中で長手方向に垂直な方向（横方向）に３〜６倍に延伸し、二軸延伸フィルムを得る。
【００４３】
延伸倍率は、縦、横それぞれ３〜６倍とすることが好ましいが、その面積倍率（縦延伸倍率×横延伸倍率）は１５〜３０倍であることが好ましい。面積倍率が１５倍未満であると得られるフィルム強度が不十分となり、逆に面積倍率が３０倍を超えると延伸時に破れを生じ易くなる傾向がある。
【００４４】
このようにして得られた二軸延伸フィルムの結晶配向を完了させて平面性、寸法安定性を付与するために、引き続きテンター内にて１５０〜２３０℃で１〜３０秒間の熱処理を行ない、均一に徐冷後、室温まで冷却して巻き取ることにより、本発明のポリエステルフィルムを得ることができる。なお、上記熱処理工程中では、必要に応じて横方向あるいは縦方向に１〜１２％の弛緩処理（リラックス）を施してもよい。また、二軸延伸は上述の逐次延伸の他に同時二軸延伸でもよく、同時二軸延伸の場合のインラインコートは、溶融シートをドラム上に密着冷却固化した未延伸フィルム表面に必要に応じてコロナ放電処理を施した後、易滑層形成塗液を塗布し、延伸すればよい。また二軸延伸後に縦、横いずれかの方向に再延伸してもよい。
【００４５】
このようにして得た本発明のポリエステルフィルムは、中間製品として、スリッターを用いて製品幅にスリットし巻き返しながらフィルムロールを得ることができる。フィルムロールのフィルム幅は５００〜１，５００ｍｍが好ましく、巻き長さは５，０００〜５０，０００ｍが好ましい。
【実施例】
【００４６】
以下、本発明の実施例を用いて説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００４７】
［測定方法］
（１）ボイド層の厚み（Ｌ１）測定
本発明のポリエステルフィルムの断面を、走査型電子顕微鏡Ｓ−２１００Ａ形（（株）日立製作所製）を用いて１０，０００倍に拡大観察して撮影した。断面写真より、ボイド層の厚み方向の長さを計測し、拡大倍率から逆算してボイド層の厚みを求めた。なお、ボイド層の厚みを求めるに当たっては、互いに異なる測定視野から任意に選んだ計１０箇所の断面写真を使用し、その平均値をボイド層の厚み（Ｌ１）とした。なお、ボイド層と基材層の境界は、ボイドが観測される最も内側とする。
【００４８】
（２）ボイド層の空隙率およびボイド層のフィルム厚み方向における空隙長さ（Ｌ２）
ボイド層を有するフィルムの縦延伸方向（ＭＤ）に切った断面を走査型顕微鏡で５，０００倍に拡大したＬ版断面写真を図１のように採取する。撮影したＬ版断面写真をＢ４サイズに拡大コピーし、コピーした画像に既製のＡ４サイズのＯＨＰフィルムを画像からはみ出ないように貼り、油性マジックで図２のようにＯＨＰ上から空洞（画像で空隙の奥行き方向に空隙では無いところが見えている箇所は空隙とする）を塗りつぶした。次いで油性マジックで空隙を塗りつぶしたＯＨＰフィルムを断面画像から剥がし、ボイド層内において、ボイド層の厚み方向中心部からボイド層表層と基材層のそれぞれ厚み方向に０．１５μｍづつ（計０．３μｍ厚みの部分）切り出し、測定対象とした。イメージアナライザー（ニレコ株式会社製：“ルーゼックス”（登録商標）ＩＩＤ）を使用し、該測定対象のマジックで塗りつぶした面積（Ｓｖｍ）と塗りつぶさなかった面積（Ｓｄｍ）を二値化し、下記の式により全面積中のマジック塗りつぶし部６の比率（Ｖｖｍ）を求め、これを１０試料測定し、長手方向と幅方向のそれぞれの断面の平均値を空隙率とした。
【００４９】
マジック塗りつぶし部６の比率  Ｖｖｍ（％）  ＝  １００×Ｓｖｍ／（Ｓｖｍ＋Ｓｄｍ）。
【００５０】
同様にフィルムの横延伸方向（ＴＤ）に切った断面についても空隙断面積分率（Ｖｖｔ）を求め、空隙率とした。
【００５１】
Ｖｖｍ及びＶｖｔの大きい方の値を、その試料の空隙率とする。
【００５２】
上記の空隙率の測定で用いた１０試料をそれぞれ油性マジックで空隙を塗りつぶしたＯＨＰフィルムを上記のイメージアナライザーに画像として取り込み、図３に示すように、各試料について、中心線から厚み方向にそれぞれ０．１μｍの領域を計測対象として、観察される各空隙の厚み方向の長さをそれぞれＬ２ａ、Ｌ２ｂ、Ｌ２ｃ、・・・とし、その平均値を算出した。同様に、横延伸方向（ＴＤ）に切った断面についても測定し、得られた計２０個の平均値のうち、最も大きな値をＬ２とした。
【００５３】
（３）フィルム厚み（Ｌ３）測定
マイクロメータを用いて、フィルムの幅と長さ方向にそれぞれ１０点を測定しその平均値を用いた。
【００５４】
（４）粒子径
微分干渉顕微鏡で５００倍に拡大したフィルム表面画像をＭＶＴｅｃ社製画像処理ソフト“ＨＡＬＣＯＮ”を用い、ポリエステル領域と粒子領域を２値化し、粒子領域内で粒子径の値を０．０１μｍピッチで分析して粒子径毎の度数分布を作成した。度数分布の山のうち最も高いピークでの粒子径をＡ、そのピークＡから０．１μｍ未満を除外した領域のうち次に高いピークでの粒子径Ｂを求め、ＡとＢのうち大きい方を大径粒子の粒子径（Ｋα）、小さい方を小径粒子の粒子径（Ｍα）とした。
【００５５】
（５）中心線平均表面粗さＳＲａ
セイコーインスツルメンツ（株）製卓上プローブ顕微鏡“ナノピクス”（測定ヘッドＮ
ＰＸ１００［ＮＰＸ１ＭＡＰ００１］およびコントローラＮａｎｏｐｉｃｓ１０００［Ｎ
ＰＸ１ＥＢＰ００１］）を用いて測定した。なお、測定面積は１００μｍ角とした。その他の測定条件は次のとおりである。
【００５６】
スキャン速度：３８０ｓｅｃ／ＦＲＡＭＥ
スキャン回数：５１２本
振幅度合い：ＨＨモード
カットオフ：０．０２５μｍ
（６）電気変換特性の評価
ポリエステルフィルムの基材層側に磁性層を塗布した磁気記録媒体を巻き取ったロールから、ロールの表層部、ロールの中心部、巻き取りコアの直近部からそれぞれＡ４サイズで５枚ずつサンプリングを行う。転写跡欠点は、ＺＹＧＯ（ＺＹＧＯ社、型式ＮＶ２００）で０．３５２ｍｍ×０．２６４ｍｍの範囲で２値化を行い、１０点の平均を取った。
【００５７】
◎・・・転写跡欠点  ４個未満
○・・・転写跡欠点  ４個以上、６個未満
△・・・転写跡欠点  ６個以上、１１個未満
×・・・転写跡欠点  １１個以上
（７）易滑性・耐久性の評価
後述の方法で作製した磁気記録媒テープを市販のビデオテープレコーダーを用いて、１００時間走行させ、次の基準でテープのテープ走行性を評価した。
【００５８】
◎：テープ端面の伸び、折れ曲がりがなく、削れ跡が見られない。
【００５９】
○：テープ端面の伸び、折れ曲がりはないが、一部削れ跡が見られる。
【００６０】
△：テープ端面の一部が伸び、ワカメ状の変形が見られ、削れ跡が見られる。
【００６１】
×：走行テスト中にテープ走行がストップする。
【００６２】
［実施例１］
ジカルボン酸成分としてテレフタル酸ジメチル８２．５質量部、イソフタル酸ジメチル１７．５質量部、グリコール成分としてエチレングリコールを１００質量部、触媒として酢酸マグネシウム０．０５質量部を反応容器に仕込みエステル交換反応を行った。続いて、反応生成物に三酸化アンチモン０．０３質量部、トリメチルフォスフェート０．０５質量部を加え、２８０℃で４時間、反応系を徐々に０．５ｍｍＨｇまで減圧し重縮合反応を行い、ポリエチレンテレフタレート原料Ａを得た。
【００６３】
基材層（以下、Ａ層という）の原料（原料Ａ）として、実質的に不活性粒子を含有しないポリエチレンテレフタレート原料Ａ（固有粘度ＩＶ０．６６）に平均粒径２００ｎｍの球状シリカを０．２５質量％含有させた原料Ａと、ボイド層（以下、Ｂ層という）として、同一のポリエチレンテレフタレート原料Ａに平均粒径３００ｎｍの球状シリカを０．２６質量％、平均粒径８００ｎｍの球状シリカを０．０１質量％含有させた原料Ｂを準備し、Ａ層とＢ層との厚み比が６．１：０．４の割合となるよう共押出しした。原料Ａ、Ｂ合計の吐出量は、ポリエステルフィルムの全体の厚みが表１の全体厚みとなるように調整した。
【００６４】
これをキャスティングドラム上で冷却固化し未延伸フィルムを得た後、１０５℃で４．２倍に長手方向に延伸した。テンターにて９８℃で幅方向に５．０倍に延伸し、２１０℃で熱処理し、本発明のポリエステルフィルムを得、巻き取りながらポリエステルフィルムロールを得た。得られたポリエステルフィルムロールから、後述するように磁気記録媒体を得た。特性等を表１に示した。
【００６５】
［実施例２〜１１、比較例１〜３］
表１に記載される以外は実施例１と同様にして、ポリエステルフィルムを得た。その後、実施例１と同様に磁気記録媒体を得た。これらの結果を表１に示した。
【００６６】
[磁気記録媒体としての評価]
得られたポリエステルフィルムロールを巻き返し、ポリエステルフィルムのＡ層の表面に下記に記載する塗液Ｃを、メタリングバー方式にて塗布厚み４．０μｍで塗布しＣ層を設けた。また、Ｂ層の表面に下記に記載する塗液Ｄを、エアーナイフ方式にて塗布厚み２．５μｍで塗布しＤ層を設け、さらに、このポリエステルフィルムのＣ層上に強磁性金属薄膜として、真空蒸着によりコバルト−酸素薄膜を１５０ｎｍの膜厚で形成し、コバルト−酸素薄膜層上に、スパッタリング法によりダイヤモンド状カーボン膜を１０ｎｍの厚みで形成させ、ダイヤモンド状カーボン膜上に潤滑剤としてトップコートを施した。
【００６７】
続いて、Ｄ層表面に、カーボンブラック、ポリウレタン、シリコーンからなるバックコート層を４００ｎｍ厚さで設け、磁気記録媒体を得た。
【００６８】
Ｃ層用塗液（溶液Ｃ）：
メチルセルロース（メトキシル基置換度１．８）：０．１０質量％
水溶性ポリエステル（テレフタル酸７０モル％、５−ナトリウムスルホイソフタル酸３０モル％の酸成分とエチレングリコールとの１：１の共重合体）：０．３０質量％
アミノエチルシランカップリング剤（３−アミノプロピルトリメトキシシラン）：０．０１質量％
微細粒子（平均粒径１８ｎｍ（長径／短径比１．１、相対標準偏差０．１）のシリカ）：０．０３質量％。
【００６９】
純水：９９．５６質量％
またＢ層側の表面に易滑被覆層Ｄ層を形成するための塗液（塗液Ｄ）として、下記組成・濃度の水溶液を調製した。
【００７０】
Ｄ層用塗液（溶液Ｄ）：
メチルセルロース（メトキシル基置換度１．８）：０．１５質量％
水溶性ポリエステル（テレフタル酸７０モル％、５−ナトリウムスルホイソフタル酸３０モル％の酸成分とエチレングリコールとの１：１の共重合体）：０．２５質量％
アミノエチルシランカップリング剤（３−アミノプロピルトリメトキシシラン）：０．０３質量％
ポリジメチルシロキサン（重合度１００のジメチルポリシロキサン、２０２個のメチル基の２個をアミノ基にかえたもの）：０．０１質量％。
【００７１】
純水：９９．５６質量％
磁気記録媒体をスリッターにより幅６．３５ｍｍ、長さ７３ｍにスリットして磁気記録テープを得た。比較例にかかるポリエステルフィルムから得たものは、ところどころ読み取りエラーが確認されたが、本発明にかかる磁気記録媒体用ポリエステルフィルムから得たものは、読み取り良好なものであった。
【００７２】
【表１】
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【符号の説明】
【００７３】
１  ポリエステルフィルム
２  基材層
３  ボイド層
４  空隙
５  無機粒子／有機粒子／非相溶性樹脂
６  油性マジック塗りつぶし部
Ｌ２  ボイド層のフィルム厚み方向における空隙の長さ
【産業上の利用可能性】
【００７４】
本発明によれば、走行性を維持したまま、表面転写跡を軽減させることができ、特に磁気記録媒体用に用いた際の磁性層と読み取りヘッドとのスペーシングロスを抑制するといった電気特性向上を可能とする磁気記録媒体用ポリエステルフィルムを提供することができる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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