(57)【要約】 【課題】製造工程中における凸パターンの凝集及び光吸収層の窪みの発生の少なくとも一方を抑制し得る光学素子を提供する。【解決手段】マイクロルーバ１００は、透明基板１１０と、透明基板１１０の表面１１１に形成された透明層１２０と、透明層１２０の透明基板１１０に接する面を下面１２１、下面１２１の反対側を上面１２２としたとき、透明層１２０に形成されるとともに上面１２２を頂面とする互いに離間した複数の凸パターン１３０と、これらの凸パターン１３０の相互間に形成された光吸収層１４０とを備えている。そして、透明基板１１０の表面１１１に垂直な面である凸パターン１３０の断面は、下面１２１側の幅１３１よりも上面１２２側の幅１３２が広い。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板と、
この透明基板の表面に形成された透明層と、
この透明層の前記透明基板に接する面を下面、この下面の反対側を上面としたとき、当該透明層に形成されるとともに当該上面を頂面とする互いに離間した複数の凸パターンと、
これらの凸パターンの相互間に形成された光吸収層とを備え、
前記透明基板の表面に垂直な面である前記凸パターンの断面は、前記下面側の幅よりも前記上面側の幅が広い、
光学素子。
【請求項２】
前記透明層上及び前記光吸収層上に設けられた他の透明基板を、
更に備えた請求項１記載の光学素子。
【請求項３】
前記透明層上及び前記光吸収層上に設けられた透明なカバー層を更に備え、
このカバー層は前記光吸収層と密着して形成された、
請求項１記載の光学素子。
【請求項４】
前記カバー層上に設けられた他の透明基板を更に備えた、
請求項３に記載の光学素子。
【請求項５】
前記カバー層の屈折率は前記光吸収層の屈折率と同等かそれよりも大きい、
請求項３又は４記載の光学素子。
【請求項６】
前記カバー層は樹脂からなり、
前記光吸収層は、前記カバー層を構成する樹脂と遮光成分との混合物である、
請求項３乃至５のいずれか一つに記載の光学素子。
【請求項７】
前記遮光成分は染料若しくは顔料又は染料と顔料の混合物である、
請求項６記載の光学素子。
【請求項８】
前記カバー層は、ビスフェノールＡエポキシ樹脂からなり、加熱により硬化させたものである、
請求項３乃至７のいずれか一つに記載の光学素子。
【請求項９】
前記透明層は、透明感光性樹脂を露光及び現像し、加熱により硬化させたものである、
請求項１乃至８のいずれか一つに記載の光学素子。 
【請求項１０】
透明基板と、
この透明基板の表面に形成されるとともに、前記透明基板に接する面を下面、この下面の反対側を上面としたとき、当該上面を頂面とする互いに離間した複数の凸パターンと、
これらの凸パターンの相互間に形成された光吸収層とを備え、
前記透明基板の表面に垂直な面である前記凸パターンの断面は、前記下面側の幅よりも前記上面側の幅が広い、
光学素子。
【請求項１１】
前記凸パターン上及び前記光吸収層上に設けられた透明な接着層と、
この接着層の上に設けられた他の透明基板とを更に備え、
前記接着層は前記凸パターン及び前記光吸収層並びに前記他の透明基板と密着して形成された、
請求項１０に記載の光学素子。
【請求項１２】
前記接着層は３８０ｎｍ以下の波長域での光吸収率が概ね９０％以上である、
請求項１１に記載の光学素子
【請求項１３】
前記凸パターン上及び前記光吸収層上に設けられた透明なカバー層と、
このカバー層の上に設けられた他の透明基板とを更に備え、
前記カバー層は前記凸パターン及び前記光吸収層及び前記他の透明基板と密着して形成された、
請求項１０に記載の光学素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透過光の射出方向の範囲を制限するマイクロルーバなどの光学素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、携帯電話機、ＰＤＡ（Personal Digital Assistant）、ＡＴＭ（Automatic Teller Machine）、パーソナルコンピュータなど、種々の情報処理装置の表示装置として用いられており、最近では、可視範囲の広い液晶表示装置が実用化されている。また、液晶表示装置は、大型ディスプレイ化、多目的化に伴い、様々な配光特性が要求されるようになってきている。特に、情報漏洩の観点から、他人に覗き込まれないように可視範囲を制限したい要求や、不必要な方向には光を出射しない要求が、高まってきている。この要求に応えるものとして、ディスプレイの可視範囲（又は出射範囲）を制限することが可能な光学フィルムである、マイクロルーバが提案され一部実用化されている。
【０００３】
マイクロルーバは、高アスペクト比の光透過領域と遮光領域とを基板上に平面的に交互に配列して光の出射方向を制限するものである。例えば、ポリマーフィルムを基板として使用し、透明感光性樹脂を露光・加熱により硬化させて光透過領域を形成したマイクロルーバが提案されている。図１８は関連技術のマイクロルーバを示す断面図であり、図１８［Ａ］は関連技術１であり、図１８［Ｂ］は関連技術２である。
【０００４】
関連技術１のマイクロルーバ８００は、透明基板８１０と、透明基板８１０の表面８１１に形成された透明層８２０と、透明層８２０の透明基板８１０に接する面を下面８２１、下面８２１の反対側を上面８２２としたとき、透明層８２０に形成されるとともに上面８２２を頂面とする互いに離間した複数の凸パターン８３０と、これらの凸パターン８３０の相互間に形成された光吸収層８４０とを備えている。そして、透明基板８１０の表面８１１に垂直な面である凸パターン８３０の断面は、下面８１１側の幅８３１よりも上面８２２側の幅８３２が狭い（以下、この断面形状を「順テーパ形状」と呼ぶ。）。マイクロルーバ８００は、例えば特許文献１の図３、特許文献２の図２、特許文献３の図３、特許文献４の図１２（ｂ）に開示されている。
【０００５】
関連技術２のマイクロルーバ９００は、透明基板９１０と、透明基板９１０の表面９１１に形成された透明層９２０と、透明層９２０の透明基板９１０に接する面を下面９２１、下面９２１の反対側を上面９２２としたとき、透明層９２０に形成されるとともに上面９２２を頂面とする互いに離間した複数の凸パターン９３０と、これらの凸パターン９３０の相互間に形成された光吸収層９４０とを備えている。そして、透明基板９１０の表面９１１に垂直な面である凸パターン９３０の断面は、下面９１１側の幅９３１と上面９２２側の幅９３２とが等しい（以下、この断面形状を「垂直形状」と呼ぶ。）。マイクロルーバ９００は、例えば特許文献５の図２に開示されている。
【０００６】
関連技術２のマイクロルーバ９００の製造方法は、次の工程を含む。透明基板９１０の表面９１１にフォトレジストからなる透明層９２０を形成する工程。透明層９２０の透明基板９１０に接する面を下面９２１、下面９２１の反対側を上面９２２としたとき、フォトマスク（図示せず）を通して透明層９２０に光を照射することにより透明層９２０を露光する工程。露光された透明層９２０を現像液９５３（図１９［Ａ］）に浸すことによって、上面９２２を頂面とする互いに離間した複数の凸パターン９３０を形成する工程。これらの凸パターン９３０の相互間を含む上面９２２に光吸収層９４０となる液状樹脂９４１（図２１［Ａ］）を塗布する工程。余分な液状樹脂９４１（図２１［Ｂ］）を上面９２２から拭き取る工程。
【０００７】
また、特許文献６の図１には、多数の球状の透明ビーズを用いた光拡散フィルムが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２０１０−０８５９１９号公報
【特許文献２】特開２００８−２４２２３２号公報
【特許文献３】特表２０１１−５０１２１９号公報
【特許文献４】特開２００７−２７２１６１号公報
【特許文献５】特開２０１０−１３９８８４号公報
【特許文献６】特開２００２−２６７８１３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、関連技術１、２には次のような問題があった。
【００１０】
第一の問題は、凸パターン同士が凝集することにより、光吸収層を形成できなくなることである。図１９は、関連技術２において凸パターン同士が凝集する現象を説明するための断面図である。現像直後は、凸パターン９３０の相互間に現像液９５３が残っている（図１９［Ａ］）。現像液９５３は洗浄液を兼ねている。残った現像液９５３は乾燥によって除去される。そのとき、現像液９５３の減少に伴い、凸パターン９３０同士を引き寄せる力が増加する（図１９［Ｂ］）。この力は、現像液９５３が凸パターン９３０に吸着しようとする分子間力に、現像液９５３の表面積を最小にしようとする表面張力が加わったもの、と考えられる。その結果、乾燥後に凸パターン９３０同士が凝集してしまう（図１９［Ｃ］）。
【００１１】
凸パターン９３０同士を引き寄せる力は、現像液９５３の残っている領域におけるスペースＳ１２に依存し、スペースＳ１２が狭いほど大きくなる。そのため、図２０に示すように、関連技術１では、凸パターン８３０が順テーパ形状であることから、この問題がより顕著になる。すなわち、スペースＳ１１の根元Ｓ１１’が更に狭くなることから、根元Ｓ１１’で凸パターン８３０同士が凝集してしまう。
【００１２】
また、近年の微細化・小型化の要求によって、スペースＳ１１，Ｓ１２が年を追うごとに狭小化しており、この問題は今後ますます深刻になるものと予想される。なお、凸パターン８３０同士又は凸パターン９３０同士が凝集する現象は、現像直後に限らず、スペースＳ１１，Ｓ１２の狭小化に起因する分子間力などによって他の工程でも生じ得る。
【００１３】
第二の問題は、凸パターンの相互間に液状樹脂を十分に充填できないことにより、光吸収層の一部が欠けてしまうことである。図２１は、関連技術２において凸パターンの相互間に液状樹脂を十分に充填できなくなる現象を説明するための断面図である。まず、凸パターン９３０の相互間を含む上面９２２に液状樹脂９４１を塗布する（図２１［Ａ］）。続いて、ポリウレタン等の柔らかいスポンジ９５４を使って、余分な液状樹脂９４１を上面９２２から拭き取る（図２１［Ｂ］）。このとき、スポンジ９５４の一部が、凸パターン９３０の相互間のスペースＳ１２の開口部から入り込み、凸パターン９３０の相互間に充填された液状樹脂９４１の一部を除去してしまう。その結果、凸パターン９３０の相互間に液状樹脂９４１を十分に充填できないため、スペースＳ１２の開口部に無視できない大きさの窪み９４２が生じることになる（図２１［Ｃ］）。この窪み９４２の発生は、光吸収層９４０の一部が欠けてしまうことに繋がるので、マイクロルーバ９００の性能を低下させる。
【００１４】
凸パターン９３０の相互間から除去される液状樹脂９４１の量は、スペースＳ１２の開口部に依存し、スペースＳ１２の開口部が大きいほど多くなる。そのため、図２０に示す関連技術１では、凸パターン８３０のスペースＳ１１の開口部が大きくなる構造であることから、この問題がより顕著になる。
【００１５】
そこで、本発明は、製造工程中における凸パターンの凝集及び光吸収層の窪みの発生の少なくとも一方を抑制し得る光学素子を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明に係る光学素子は、
透明基板と、
この透明基板の表面に形成された透明層と、
この透明層の前記透明基板に接する面を下面、この下面の反対側を上面としたとき、当該透明層に形成されるとともに当該上面を頂面とする互いに離間した複数の凸パターンと、
これらの凸パターンの相互間に形成された光吸収層とを備え、
前記透明基板の表面に垂直な面である前記凸パターンの断面は、前記下面側の幅よりも前記上面側の幅が広い。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、凸パターンの断面を下面側の幅よりも上面側の幅が広い形状にしたことにより、製造工程中における凸パターンの凝集及び光吸収層の窪みの発生の少なくとも一方を抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】実施形態１のマイクロルーバを示す断面図である。
【図２】実施形態１のマイクロルーバの製造方法を示す断面図（その１）であり、図２［Ａ］→図２［Ｂ］→図２［Ｃ］→図２［Ｄ］の順に工程が進行する。
【図３】実施形態１のマイクロルーバの製造方法を示す断面図（その２）であり、図３［Ｅ］→図３［Ｆ］→図３［Ｇ］の順に工程が進行する。
【図４】実施形態１において凸パターン同士が凝集しない現象を説明するための断面図であり、図４［Ａ］は現像直後の状態を示し、図４［Ｂ］は現像液が除去される状態を示し、図４［Ｃ］は凸パターン同士が凝集しない状態を示す。
【図５】実施形態１において凸パターンの相互間に液状樹脂を十分に充填できる現象を説明するための断面図であり、図５［Ａ］は光吸収層となる液状樹脂を塗布した状態を示し、図５［Ｂ］は余分な液状樹脂を拭き取る状態を示し、図５［Ｃ］は凸パターンの相互間に液状樹脂を十分に充填できる状態を示す。
【図６】実施形態１における透明層（凸パターン）と光吸収層との配置例を示す部分斜視図であり、図６［Ａ］は第一例、図６［Ｂ］は第二例、図６［Ｃ］は第三例である。
【図７】実施形態２のマイクロルーバを示す断面図である。
【図８】実施形態２のマイクロルーバによる効果を説明するための断面図であり、図８［Ａ］はカバー層が無い場合であり、図８［Ｂ］はカバー層が有る場合である。
【図９】実施形態３のマイクロルーバを示す断面図である。
【図１０】実施形態４のマイクロルーバを示す断面図である。
【図１１】実施形態５のマイクロルーバの製造方法を示す断面図であり、図１１［Ａ］→図１１［Ｂ］→図１１［Ｃ］→図１１［Ｄ］の順に工程が進行する。
【図１２】実施形態６のマイクロルーバを示す断面図である。
【図１３】実施形態６のマイクロルーバの製造方法を示す断面図（その１）であり、図１３［Ａ］→図１３［Ｂ］→図１３［Ｃ］の順に工程が進行する。
【図１４】実施形態６のマイクロルーバの製造方法を示す断面図（その２）であり、図１４［Ｄ］→図１４［Ｅ］の順に工程が進行する。
【図１５】実施形態７のマイクロルーバを示す断面図である。
【図１６】凸パターンにおける分光吸収率を示す図である。
【図１７】実施形態８のマイクロルーバを示す断面図である。
【図１８】関連技術のマイクロルーバを示す断面図であり、図１８［Ａ］は関連技術１であり、図１８［Ｂ］は関連技術２である。
【図１９】関連技術２において凸パターン同士が凝集する現象を説明するための断面図であり、図１９［Ａ］は現像直後の状態を示し、図１９［Ｂ］は現像液が除去される状態を示し、図１９［Ｃ］は凸パターン同士が凝集した状態を示す。
【図２０】関連技術１において凸パターン同士が凝集する現象を説明するための断面図である。
【図２１】関連技術２において凸パターンの相互間に液状樹脂を十分に充填できなくなる現象を説明するための断面図であり、図２１［Ａ］は光吸収層となる液状樹脂を塗布した状態を示し、図２１［Ｂ］は余分な液状樹脂を拭き取る状態を示し、図２１［Ｃ］は凸パターンの相互間に液状樹脂を十分に充填できなかった状態を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、添付図面を参照しながら、本発明を実施するための形態（以下「実施形態」という。）について説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の構成要素については同一の符号を用いる。図面に描かれた形状は、当業者が理解しやすいように描かれているため、実際の寸法及び比率とは必ずしも一致していない。以下の各実施形態では、本発明に係る光学素子の一例として、マイクロルーバを採り上げて説明する。
【００２０】
［実施形態１］
図１は、実施形態１のマイクロルーバを示す断面図である。以下、この図面に基づき、本実施形態１のマイクロルーバの概要を説明する。
【００２１】
本実施形態１のマイクロルーバ１００は、透明基板１１０と、透明基板１１０の表面１１１に形成された透明層１２０と、透明層１２０の透明基板１１０に接する面を下面１２１、下面１２１の反対側を上面１２２としたとき、透明層１２０に形成されるとともに上面１２２を頂面とする互いに離間した複数の凸パターン１３０と、これらの凸パターン１３０の相互間に形成された光吸収層１４０とを備えている。そして、透明基板１１０の表面１１１に垂直な面である凸パターン１３０の断面は、下面１２１側の幅１３１よりも上面１２２側の幅１３２が広い（以下、この断面形状を「逆テーパ形状」と呼ぶ。）。
【００２２】
図１８［Ａ］に示す関連技術１における凸パターン８３０の断面が順テーパ形状であり、図１８［Ｂ］に示す関連技術２における凸パターン９３０の断面が垂直形状であるのに対し、本実施形態１における凸パターン１３０の断面は逆テーパ形状である。
【００２３】
図２及び図３は、本実施形態１のマイクロルーバの製造方法を示す断面図である。以下、これらの図面に基づき、本実施形態１のマイクロルーバを製造する方法の一例について、その概要を説明する。
【００２４】
本実施形態１のマイクロルーバの製造方法は、次の工程を含む。
透明基板１１０の表面１１１に、透明層１２０となるネガ型のフォトレジスト膜としての下地層１２３及び透明感光性樹脂層１２４を、形成する工程（図２［Ａ］［Ｂ］）。ここで、下地層１２３及び透明感光性樹脂層１２４からなるフォトレジスト膜の透明基板１１０に接する面を下面１２１、下面１２１の反対側を上面１２２と定義しておく。
フォトマスク１５０を通して透明感光性樹脂層１２４に光１５２を照射することにより透明感光性樹脂層１２４を露光する工程（図２［Ｃ］）。
露光された透明感光性樹脂層１２４を現像液１５３に浸すことによって、上面１２２を頂面とする互いに離間した複数の凸パターン１３０を形成する工程（図２［Ｄ］、図３［Ｅ］）。
凸パターン１３０の相互間を含む上面１２２に、光吸収層１４０となる液状樹脂としての黒色硬化性樹脂１４１を塗布し、余分な黒色硬化性樹脂１４１を上面１２２から拭き取る工程（図３［Ｆ］）。
【００２５】
そして、透明感光性樹脂層１２４を露光する工程（図２［Ｃ］）において、透明基板１１０の表面１１１に垂直な面である凸パターン１３０の断面が逆テーパ形状になるように、露光量を調整する。このとき、透明感光性樹脂層１２４はネガ型（感光した部分が残る）であり、フォトマスク１５０を通して上面１２２側から透明感光性樹脂層１２４に光１５２を照射する。このときの露光量は、例えば、凸パターン１３０の断面を垂直形状にする場合よりも少なくする。その理由は、次のとおりである。
【００２６】
フォトマスク１５０を透過した一つのスポットビームとなる光１５２は、回折によってその周縁で強度が低くなる。一方、透明感光性樹脂層１２４は、フォトマスク１５０に近い方から光１５２が吸収されるため、フォトマスク１５０から遠くなるほど光１５２の強度が低くなる。そのため、露光量を少なくすると、透明感光性樹脂層１２４にはフォトマスク１５０から遠くなるほどかつ光１５２の周縁になるほど感光しない部分が形成される。凸パターン１３０の断面を垂直形状にする場合は、感光しにくい部分も十分に感光するように、露光量を多くする。したがって、凸パターン１３０の断面を垂直形状にする場合よりも露光量を少なくすことにより、凸パターン１３０の断面を逆テーパ形状に形成できる。
【００２７】
次に、本実施形態１の効果について説明する。
【００２８】
本実施形態１の第一の効果は、凸パターン１３０の断面において下面１２１側の幅１３１よりも上面１２２側の幅１３２が広いことにより、関連技術１、２に比べて、凸パターン１３０同士の凝集を抑制できることである。
【００２９】
その第一の理由は、凸パターン１３０の上面１２２側の幅１３２が広いことにより、凸パターン１３０の重心が上面１２２側になるので、凸パターン１３０が外力を受けて動きやすいため、と考えられる。したがって、仮に凸パターン１３０同士が凝集したとしても、これらに振動を与えることにより、凸パターン１３０同士が容易に離れることになる。
【００３０】
その第二の理由を図４に基づき説明する。図４は、本実施形態１において凸パターン１３０同士が凝集しなくなる現象を説明するための断面図である。現像直後は、凸パターン１３０の相互間に現像液１５３が残っている（図４［Ａ］）。現像液１５３は洗浄液を兼ねている。残った現像液１５３は乾燥によって除去される。そのとき、現像液１５３が減少しても、凸パターン１３０同士を引き寄せる力は増加しない（図４［Ｂ］）。その結果、乾燥後に凸パターン１３０同士が凝集することは抑えられる（図４［Ｃ］）。
【００３１】
前述したように、凸パターン１３０同士を引き寄せる力は、現像液１５３の残っている領域におけるスペースＳ１に依存し、スペースＳ１が狭いほど大きくなる。ところが、凸パターン１３０の断面が逆テーパ形状であることから、現像液１５３の減少に伴い、現像液１５３の残っている領域におけるスペースＳ１は広くなる（図４［Ｂ］）。これは、現像液１５３が大気圧又は重力に押されて凸パターン１３０の幅広の根元に残るためである。したがって、凸パターン１３０同士を引き寄せる力は、現像液１５３が減少しても増加しない
【００３２】
本実施形態１の第二の効果は、凸パターン１３０の相互間に液状樹脂としての黒色硬化性樹脂１４１を十分に充填できることである。図５は、本実施形態１において凸パターン１３０の相互間に黒色硬化性樹脂１４１を十分に充填できる現象を説明するための断面図である。まず、凸パターン１３０の相互間を含む上面１２２に、液状樹脂としての黒色硬化性樹脂１４１を塗布する（図５［Ａ］）。続いて、ポリウレタン等の柔らかいスポンジ１５４を使って、余分な黒色硬化性樹脂１４１を上面１２２から拭き取る（図５［Ｂ］）。このとき、凸パターン１３０の相互間のスペースＳ１の開口部は小さいので、その開口部に入り込むスポンジ１５４はほとんど無視できる。その結果、凸パターン１３０の相互間に黒色硬化性樹脂１４１を十分に充填できる（図５［Ｃ］）。
【００３３】
以上のように、本実施形態１によれば、凸パターン１３０の断面を逆テーパ形状にしたことにより、製造工程中における凸パターン１３０の凝集及び光吸収層１４０の窪みの発生の少なくとも一方を抑制できる。
【００３４】
次に、マイクロルーバ１００について、更に詳細に説明する。
【００３５】
図１は、マイクロルーバ１００の厚み方向の断面図を示す。マイクロルーバ１００は透明基板１１０を有している。透明基板１１０はＰＥＴ（Poly Ethylene Terephthalate）製又はＰＣ（Poly Carbonate）製である。透明基板１１０の上には透明層１２０が形成されている。透明層１２０は平坦な部分の上に凸パターン１３０を有する形状をしている。透明層１２０の各凸パターン１３０は、上側が広く下側が狭い断面形状すなわち逆テーパ形状となっている。透明層１２０の凸パターン１３０の相互間には光吸収層１４０が形成されている。凸パターン１３０の高さは、３０［μｍ］〜３００［μｍ］の範囲が妥当であり、本実施形態１では６０［μｍ］である。凸パターン１３０の幅は、５［μｍ］〜１５０［μｍ］の範囲が妥当であり、本実施形態１では、その表面側（すなわち幅１３２）で２０［μｍ］であり、透明基板１１０側（すなわち幅１３１）で１８［μｍ］である。また、光吸収層１４０の幅は、１［μｍ］〜３０［μｍ］の範囲が妥当であり、本実施形態１では、その表面側では５［μｍ］であり、透明基板１１０側では７［μｍ］である。このように、透明層１２０が逆テーパ形状の凸パターン１３０を有するため、凸パターン１３０の先端形状は透明基板１１０側よりも２［μｍ］程度広くなっており、光吸収層１４０の先端形状は凸パターン１３０の先端形状が広くなっている分狭くなっている。また、透明層１２０と光吸収層１４０との界面での光反射を防止するために、光吸収層１４０の屈折率は透明層１２０と同等かそれ以上の値となっている。マイクロルーバ１００は、透明基板１１０に光を入射させて用いるように、意図されている。
【００３６】
図６は実施形態１における透明層（凸パターン）と光吸収層との配置例を示す部分斜視図であり、図６［Ａ］は第一例、図６［Ｂ］は第二例、図６［Ｃ］は第三例である。以下、これらの図面に基づき説明する。
【００３７】
透明層１２０（凸パターン１３０）と光吸収層１４０との配置例として、図６に三つの例を示す。図６［Ａ］の第一例は平面が正方形の格子状であり、図６［Ｂ］の第二例は平面が長方形の格子状であり、図６［Ｃ］の第三例は平面がストライプ状である。図６の各図に示すａ−ｂ方向の可視角度は、約±３０°に制限される。
【００３８】
図２及び図３は、本実施形態１のマイクロルーバの製造工程を示す断面図である。以下、これらの図面に基づき、マイクロルーバの製造工程について更に詳しく説明する。
【００３９】
まず、ＰＥＴ又はＰＣからなる透明基板１１０の表面１１１に下地層１２３を形成し（図２［Ａ］）、その上に透明感光性樹脂層１２４を形成する（図２［Ｂ］）。下地層１２３は、透明感光性樹脂層１２４と同じネガ型の透明感光性樹脂を用いる。つまり、透明基板１１０上に透明感光性樹脂を塗布した後に、ＵＶ（Ultra Violet）光による露光及び加熱により全面を硬化させることにより、下地層１２３を形成する。下地層１２３の膜厚は、５［μｍ］〜３０［μｍ］の範囲が妥当であり、本実施形態１では１０［μｍ］である。
【００４０】
透明感光性樹脂層１２４の形成方法としては、例えば、スリットダイコータ、ワイヤコータ、アプリケータ、ドライフィルム転写、スプレイ塗布、スクリーン印刷などのいずれかの成膜方法を用いることができる。透明感光性樹脂層１２４の厚さは、３０［μｍ］〜３００［μｍ］の範囲が妥当であり、本実施形態１では６０［μｍ］である。下地層１２３及び透明感光性樹脂層１２４に用いる透明感光性樹脂は、化薬マイクロケム（Microchem）社の化学増幅型フォトレジスト（商品名「ＳＵ−８」）である。
【００４１】
この透明感光性樹脂の特徴は、次のとおりである。１．紫外線を照射することで光開始剤が酸を発生し、このプロトン酸を触媒として硬化性モノマーを重合させるエポキシ系（具体的にはビスフェノールＡノボラックのグリシジルエーテル誘導体）のネガレジストである。２．可視光領域において非常に透明性の高い特性を有している。３．透明感光性樹脂に含まれる硬化性モノマーは、硬化前の分子量が比較的小さいため、シクロペンタノン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート（ＰＥＧＭＥＡ）、ガンマブチルラクトン（ＧＢＬ）やイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）などの溶媒に非常に良く溶けることから、厚膜形成が容易である。４．近紫外領域の波長においても光透過性が非常に良いので、厚膜であっても紫外線を透過させる特徴を有している。５．これらのような特徴を有することからアスペクト比が３以上の高アスペクト比のパターンを形成できる。６．硬化性モノマーには官能基が多く存在していることから、硬化後、非常に高密度な架橋となり、熱的にも化学的にも非常に安定である。７．このため、パターン形成後の加工も容易となる。
【００４２】
もちろん、下地層１２３及び透明感光性樹脂層１２４は、ここで述べた透明感光性樹脂（商品名「ＳＵ−８」）に限られるわけではなく、同様の特性を有するものであれば、どのような光硬化性材料を用いてもよい。
【００４３】
続いて、フォトマスク１５０のマスクパターン１５１を用いて透明感光性樹脂層１２４をパターニングする（図２［Ｃ］）。この露光に用いる光１５２は平行光である。光源としてはＵＶ光源を用いており、波長３６５［ｎｍ］のＵＶ光を光１５２として照射する。この際の露光量は、５０［ｍＪ／ｃｍ２］〜５００［ｍＪ／ｃｍ２］の範囲が妥当であり、本実施形態１では３００［ｍＪ／ｃｍ２］である。
【００４４】
露光後に現像すると、透明感光性樹脂層１２４に凸パターン１３０が形成される（図２［Ｄ］）。凸パターン１３０の断面は、基板側から表面側に向かうに従って広くなる逆テーパ形状である。各凸パターン１３０間のスペース幅は、その表面側が５［μｍ］であり、下地層１２３側が９［μｍ］である。このように凸パターン１３０を逆テーパ形状とすることにより、各凸パターン１３０間の表面側のスペース幅が５［μｍ］という狭小な形状であっても、現像後の乾燥及び熱アニールの際に凸パターン１３０同士の凝集等は発生しない（図４）。
【００４５】
続いて、熱アニールを１２０［℃］かつ３０［分］の条件で実施する。この熱アニールにより、下地層１２３と凸パターン１３０とが界面で結合して透明層１２０が形成される（図３［Ｅ］）。また、ＳＵ−８で形成した透明層１２０の屈折率は１．５となる。
【００４６】
最後に、各凸パターン１３０間のスペースに黒色硬化性樹脂１４１を充填し（図３［Ｆ］）、黒色硬化性樹脂１４１を硬化させて光吸収層１４０を形成する（図３［Ｇ］）。黒色硬化性樹脂１４１は、4,4’-イソプロピリデンジフェノール・1-クロロ-2,3-エポキシプロパン重縮合物と黒色成分との混合物を用いる。黒色成分には顔料や染料や顔料と染料の混合物が用いられ、黒色成分の混合比率は５［ｗｔ％］〜３０［ｗｔ％］とする。本実施形態１では、黒色成分としてカーボンブラックを用い、その混合比率は１０［ｗｔ％］とする。この場合の黒色硬化性樹脂１４１の屈折率は、１．５５となり、ＳＵ−８で形成した透明層１２０よりも若干高い値となる。このとき、透明層１２０の表面に黒色硬化性樹脂１４１を塗布し、透明層１２０上の余分な黒色硬化性樹脂１４１をウレタンゴム製のスポンジ１５４（図５［Ｂ］）等で拭取ることにより、黒色硬化性樹脂１４１を各凸パターン１３０間のスペースに充填する。
【００４７】
この際にスポンジ１５４（図５［Ｂ］）にアセトンやエタノールやイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）等の溶剤を含浸させると、凸パターン１３０上の黒色硬化性樹脂１４１をきれいに拭き取ることができる。黒色硬化性樹脂１４１の硬化方法としては、一般的には熱アニールやＵＶ照射を用いる。本実施形態１では、８０［℃］かつ６０［分］の条件で熱アニールを実施した。光吸収層１４０の透明基板１１０に近い側の幅は、凸パターン１３０が狭くなっている分広くなっている。
【００４８】
［実施形態２］
図７は、実施形態２のマイクロルーバを示す断面図である。図８は、実施形態２のマイクロルーバによる効果を説明するための断面図である。以下、これらの図面に基づき説明する。図７及び図８において、図１と同じ部分は図１と同じ符号を付す。
【００４９】
図７に、本実施形態２のマイクロルーバ２００の厚み方向の断面図を示す。本実施形態２では、実施形態１と同様に透明基板１１０上に形成した透明層１２０及び光吸収層１４０の上に、カバー層２１０を配置している。カバー層２１０の膜厚は、５［μｍ］〜５０［μｍ］の範囲が妥当であり、本実施形態２では２０［μｍ］である。
【００５０】
カバー層２１０は、黒色硬化性樹脂１４１（図３［Ｆ］）の母材である透明樹脂（具体的にはビスフェノールＡエポキシ樹脂）を用い、透明層１２０及び光吸収層１４０の表面に直接形成する。カバー層２１０の形成方法としては、例えば、スリットダイコータ、ワイヤコータ、アプリケータ、ドライフィルム転写、スプレイ塗布、スクリーン印刷などのいずれかの方法で透明樹脂層を成膜した後に、その透明樹脂層を熱アニールにより硬化させる。本実施形態２における熱アニールの条件は、８０［℃］かつ６０［分］である。
【００５１】
光吸収層１４０の上面には、関連技術１、２の場合に比べればわずかではあるが、小さな窪み１４２が生ずることがある。そのため、図８［Ａ］に示すように、カバー層２１０が無い場合、マイクロルーバ２００を透過する光２２０は、窪み１４２と空気２３０との界面で屈折することにより、マイクロルーバ２００の法線方向から大きくずれる。そこで、本実施形態２では、図８［Ｂ］に示すように、光吸収層１４０と同じ屈折率のカバー層２１０で窪み１４２を埋め込むことにより、窪み１４２での光２２０の屈折を抑制できるので、光漏れを低減できる。
【００５２】
また、カバー層２１０の屈折率は、光吸収層１４０の屈折率と同等かそれよりも大きくすることが好ましい。その場合、カバー層２１０の屈折率が大きくなるほど、光２２０がマイクロルーバ２００の法線側へ屈折するからである。更に、光吸収層１４０は、カバー層２１０を構成する樹脂と遮光成分との混合物である。その遮光成分は、染料や、カーボンブラックといった顔料からなる、
【００５３】
本実施形態２におけるその他の構成、作用及び効果は、実施形態１で述べたとおりである。
【００５４】
［実施形態３］
図９は、実施形態３のマイクロルーバを示す断面図である。以下、この図面に基づき説明する。図９において、図１と同じ部分は図１と同じ符号を付す。
【００５５】
図９に、本実施形態３のマイクロルーバ３００の厚み方向の断面図を示す。本実施形態３では、実施形態１と同様に透明基板１１０上に形成した透明層１２０及び光吸収層１４０の上に、接着層３１０を介して透明基板３２０が取り付けられている。接着層３１０の膜厚は５［μｍ］〜５０［μｍ］の範囲が妥当であり、本実施形態３では１０［μｍ］である。接着層３１０の屈折率は透明層１２０と同等とし、透明層１２０及び光吸収層１４０の表面に接着層３１０を直接形成する。本実施形態３では、接着層３１０に屈折率が１．５であるアクリル系粘着剤を用いる。こうすることにより、透明層１２０及び光吸収層１４０の表面の強度が向上するので、傷等による不良発生率を低下できると同時に、透明層１２０と接着層３１０との界面で光が反射することによる透過率の低下を防止する。
【００５６】
本実施形態３におけるその他の構成、作用及び効果は、実施形態１で述べたとおりである。
【００５７】
［実施形態４］
図１０は、実施形態４のマイクロルーバを示す断面図である。以下、この図面に基づき説明する。図１０において、図１、図７及び図９と同じ部分は図１と同じ符号を付す。
【００５８】
図１０に、本実施形態４のマイクロルーバ４００の厚み方向の断面図を示す。本実施形態４では、実施形態１と同様に透明基板１１０上に形成した透明層１２０及び光吸収層１４０の上に、実施形態２と同様にカバー層２１０を塗布形成する。続いて、形成したカバー層２１０の上に透明基板３２０を重ねる。このとき、カバー層２１０と透明基板３２０の界面に気泡が入らないように注意する。最後に、熱アニールによりカバー層２１０を硬化させる。透明基板３２０を重ねた状態でカバー層２１０を熱アニールすることにより、透明基板３２０がカバー層２１０で固定される。このため、接着層が不要となるので、コストダウンが可能となる。
【００５９】
本実施形態４におけるその他の、構成、作用及び効果は、実施形態１で述べたとおりである。
【００６０】
［実施形態５］
図１１は、実施形態５のマイクロルーバの製造方法を示す断面図である。以下、この図面に基づき説明する。図１１において、図２と同じ部分は図２と同じ符号を付す。
【００６１】
本実施形態５の製造方法は、次の特徴を有する。フォトレジスト膜としての透明感光性樹脂層５２４は、ポジ型（感光した部分が抜ける）である（図１１［Ｂ］）。透明感光性樹脂層５２４を露光する際に、透明基板１１０及びフォトマスク５５０を通して下面１２１側から透明感光性樹脂層５２４に光５５２を照射する（図１１［Ｃ］）。露光量は、透明基板１１０の表面１１１に垂直な面である凸パターン１３０の断面が垂直形状となる場合よりも少なくする（図１１［Ｃ］）。その理由は、実施形態１の製造方法と同様である。
【００６２】
次に、本実施形態５の製造方法について更に詳細に説明する。
【００６３】
まず、ＰＥＴ又はＰＣからなる透明基板１１０の表面１１１に下地層５２３を形成し、その上に透明感光性樹脂層５２４を形成する（図１１［Ａ］［Ｂ］）。下地層５２３は透明感光性樹脂層５２４と同じポジ型の透明感光性樹脂を用いる。つまり、透明基板１１０上に透明感光性樹脂を塗布した後に、加熱により全面を硬化させることにより、下地層５２３を形成する。下地層５２３の膜厚は、５［μｍ］〜３０［μｍ］の範囲が妥当であり、本実施形態５では１０［μｍ］である。透明感光性樹脂層５２４の厚さは、３０［μｍ］〜３００［μｍ］の範囲が妥当であり、本実施形態５では６０［μｍ］である。
【００６４】
続いて、フォトマスク５５０のマスクパターン５５１を用いて、透明感光性樹脂層５２４をパターニングする（図１１［Ｃ］）。このとき、フォトマスク５５０は透明基板１１０の裏面１１２に配置し、フォトマスク５５０及び透明基板１１０を通して光５５２を透明感光性樹脂層５２４に照射する。この露光及び現像を実施すると、透明感光性樹脂層５２４に凸パターン１３０が形成される（図１１［Ｄ］）。その後の工程は、実施形態１の製造方法と同様である（図３）。
【００６５】
本実施形態５におけるその他の、構成、作用及び効果は、実施形態１で述べたとおりである。
【００６６】
［実施形態６］
図１２は、実施形態６のマイクロルーバ６００を示す断面図である。以下、この図面に基づき説明する。図１２において、図１と同じ部分は図１と同じ符号を付す。
【００６７】
本実施形態６のマイクロルーバ６００は、透明基板１１０と、透明基板１１０の表面１１１に形成された互いに離間した複数の凸パターン１３０と、これらの凸パターン１３０の相互間に形成された光吸収層１４０とを備えている。そして、透明基板１１０の表面１１１に垂直な面である凸パターン１３０の断面は、下面１２１側の幅１３１よりも上面１２２側の幅１３２が広い逆テーパ形状となっている。その理由は、実施形態１と同様である。
【００６８】
次に図１３及び図１４において、本実施形態６の製造方法について更に詳細に説明する。
【００６９】
まず、ＰＥＴ又はＰＣからなる透明基板１１０の表面１１１に透明感光性樹脂層１２４を形成する（図１３［Ａ］）。透明感光性樹脂層１２４の厚さは、３０［μｍ］〜３００［μｍ］の範囲が妥当であり、本実施形態６では１００［μｍ］である。
【００７０】
続いて、フォトマスク１５０のマスクパターン１５１を用いて、透明感光性樹脂層１２４をパターニングする（図１３［Ｂ］）。このとき、フォトマスク１５０は透明感光性樹脂層１２４の表面２１２に配置し、フォトマスク１５０を通して光１５２を透明感光性樹脂層１２４に照射する。
【００７１】
この露光及び現像を実施すると、透明基板１１０の表面１１１に凸パターン１３０が形成される（図１３［Ｃ］）。続いて図示しないが、熱アニールを１２０［℃］かつ３０［分］の条件で実施する。この熱アニールにより、透明基板１１０と凸パターン１３０との界面での結合が強固になる。
【００７２】
その後の工程は、実施形態１の製造方法と同様に、各凸パターン１３０間のスペースに黒色硬化性樹脂１４１を充填し（図１２［Ｄ］）、黒色硬化性樹脂１４１を硬化させて光吸収層１４０を形成する（図１２［Ｅ］）。
【００７３】
こうすることにより、透明基板１１０に凸パターン１３０が直接形成されるので、透過率の向上が可能となると同時に、製造工程の短縮により不良発生率の低下が可能となる。
【００７４】
本実施形態６におけるその他の、構成、作用及び効果は、実施形態１で述べたとおりである。
【００７５】
［実施形態７］
図１５は、実施形態７のマイクロルーバ７００を示す断面図である。以下、この図面に基づき説明する。図１５において、図１、図７、図９及び図１２と同じ部分は同じ符号を付す。
【００７６】
本実施形態７では、実施形態６と同様に透明基板１１０上に形成した凸パターン１３０及び光吸収層１４０の上に、接着層３１０を介して透明基板３２０が取り付けられている。接着層３１０の膜厚は、５［μｍ］〜５０［μｍ］の範囲が妥当であり、本実施形態７では１０［μｍ］である。接着層３１０の屈折率は凸パターン１３０と同等とし、凸パターン１３０及び光吸収層１４０の表面に接着層３１０を直接形成する。また接着層３１０には、３８０ｎｍ以下の波長域の光の吸収率が概ね９０％以上のものを用いることが望ましい。
【００７７】
図１６に示すように、凸パターン１３０は３８０ｎｍ以下の波長域での光吸収が大きくなるため、透明基板３２０側から入射するこの波長域の太陽光を接着層３１０で吸収することで、光吸収による凸パターン１３０の劣化が抑制される。本実施形態７では、接着層３１０に屈折率が１．５であるアクリル系粘着剤を用いる。こうすることにより、凸パターン１３０及び光吸収層１４０の表面の強度が向上するので、傷等による不良発生率を低減できると同時に、凸パターン１３０と接着層３１０との界面で光が反射することによる透過率の低下を防止する。
【００７８】
本実施形態７におけるその他の構成、作用及び効果は、実施形態６で述べたとおりである。
【００７９】
［実施形態８］
図１７は、実施形態８のマイクロルーバ８００を示す断面図である。以下、この図面に基づき説明する。図１７において、図１、図７、図９及び図１２と同じ部分は同じ符号を付す。
【００８０】
本実施形態８では、実施形態６と同様に透明基板１１０上に形成した凸パターン１３０及び光吸収層１４０の上に、実施形態２と同様にカバー層２１０を塗布形成する。続いて、形成したカバー層２１０の上に透明基板３２０を重ねる。このとき、カバー層２１０と透明基板３２０との界面に気泡が入らないように注意する。最後に、熱アニールによりカバー層２１０を硬化させる。
【００８１】
透明基板３２０を重ねた状態でカバー層２１０を熱アニールすることにより、透明基板３２０がカバー層２１０で固定される。このため、接着層が不要となるので、コストダウンが可能となる。また、カバー層２１０の屈折率は、光吸収層１４０の屈折率と同等かそれよりも大きくすることが好ましい。
【００８２】
本実施形態８におけるその他の構成、作用及び効果は、実施形態６で述べたとおりである。
【００８３】
［総括］
本発明は次のように説明することもできる。
【００８４】
本発明の目的は、凸パターン同士が重なってしまうことなく、また凸パターンの形成プロセス中に凸パターン同士の凝集といった不具合が発生することなく、透明層の凸パターン相互間のスペース幅を狭くすることにより、光吸収層の拭き取り過ぎといった不具合の発生を防止可能であるマイクロルーバを提供することにある。これにより、特性のばらつきの低減及び歩留まりの向上による、マイクロルーバのコストダウンを実現する。
【００８５】
本発明の光学素子は、透明層の凸パターンを透過する光の出射方向の範囲を凸パターン間のスペースに形成した光吸収層によって制限するものであって、凸パターンの形状を基板側から表面側に向かうに従って広くなる逆テーパ形状とすることを特徴とする。
【００８６】
上記形状によれば、透明層の凸パターン同士が重なってしまうこともなく、また透明層の形成プロセス中に凸パターン同士が凝集することなく、逆テーパ形状の凸パターンの表面付近における凸パターン相互間のスペース幅を狭くして、黒色インクの拭き取り過ぎによる光吸収層の形成不良を防止することができる。
【００８７】
本発明によれば、透明層の凸パターンの不良発生を防止し、光吸収層のパターン不良による特性不良発生を防止することができるため、高機能化、歩留まり向上及びコストダウンの実現が可能となる。
【００８８】
以上、上記各実施形態を参照して本発明を説明したが、本発明は上記各実施形態に限定されるものではない。本発明の構成や詳細については、当業者が理解し得るさまざまな変更を加えることができる。また、本発明には、上記各実施形態の構成の一部又は全部を相互に適宜組み合わせたものも含まれる。
【００８９】
上記の実施形態の一部又は全部は以下の付記のようにも記載され得るが、本発明は以下の構成に限定されるものではない。
【００９０】
［付記１］透明基板と、
この透明基板の表面に形成された透明層と、
この透明層の前記透明基板に接する面を下面、この下面の反対側を上面としたとき、当該透明層に形成されるとともに当該上面を頂面とする互いに離間した複数の凸パターンと、
これらの凸パターンの相互間に形成された光吸収層とを備え、
前記透明基板の表面に垂直な面である前記凸パターンの断面は、前記下面側の幅よりも前記上面側の幅が広い、
光学素子。
【００９１】
［付記２］前記透明層上及び前記光吸収層上に設けられた他の透明基板を、
更に備えた付記１記載の光学素子。
【００９２】
［付記３］前記透明層上及び前記光吸収層上に設けられた透明なカバー層を更に備え、
このカバー層は前記光吸収層と密着して形成された、
付記１記載の光学素子。
【００９３】
［付記４］前記カバー層上に設けられた他の透明基板を更に備えた、
付記３に記載の光学素子。
【００９４】
［付記５］前記カバー層の屈折率は前記光吸収層の屈折率と同等かそれよりも大きい、
付記３又は４記載の光学素子。
【００９５】
［付記６］前記カバー層は樹脂からなり、
前記光吸収層は、前記カバー層を構成する樹脂と遮光成分との混合物である、
付記３乃至５のいずれか一つに記載の光学素子。
【００９６】
［付記７］前記遮光成分は染料又は顔料である、
付記６記載の光学素子。
【００９７】
［付記８］前記カバー層は、ビスフェノールＡエポキシ樹脂からなり、加熱により硬化させたものである、
付記３乃至７のいずれか一つに記載の光学素子。
【００９８】
［付記９］前記透明層は、透明感光性樹脂を露光及び現像し、加熱により硬化させたものである、
付記１乃至８のいずれか一つに記載の光学素子。
【００９９】
［付記１０］透明基板と、
この透明基板の表面に形成されるとともに、前記透明基板に接する面を下面、この下面の反対側を上面としたとき、当該上面を頂面とする互いに離間した複数の凸パターンと、
これらの凸パターンの相互間に形成された光吸収層とを備え、
前記透明基板の表面に垂直な面である前記凸パターンの断面は、前記下面側の幅よりも前記上面側の幅が広い、
光学素子。
【０１００】
［付記１１］前記凸パターン上及び前記光吸収層上に設けられた透明な接着層と、
この接着層の上に設けられた他の透明基板とを更に備え、
前記接着層は前記凸パターン及び前記光吸収層並びに前記他の透明基板と密着して形成された、
付記１０に記載の光学素子。
【０１０１】
［付記１２］前記接着層は３８０ｎｍ以下の波長域での光吸収率が概ね９０％以上である、
付記１１に記載の光学素子
【０１０２】
［付記１３］前記凸パターン上及び前記光吸収層上に設けられた透明なカバー層と、
このカバー層の上に設けられた他の透明基板とを更に備え、
前記カバー層は前記凸パターン及び前記光吸収層及び前記他の透明基板と密着して形成された、
付記１０に記載の光学素子。
【０１０３】
［付記１４］透明基板の表面に透明層となるフォトレジスト膜を形成し、
このフォトレジスト膜の前記透明基板に接する面を下面、この下面の反対側を上面としたとき、
フォトマスクを通して前記フォトレジスト膜に光を照射することにより当該フォトレジスト膜を露光し、
露光された前記フォトレジスト膜を現像液に浸すことによって、前記上面を頂面とする互いに離間した複数の凸パターンを形成し、
これらの凸パターンの相互間を含む前記上面に光吸収層となる液状樹脂を塗布し、
余分な前記液状樹脂を前記上面から拭き取る、
光学素子を製造する方法であって、
前記フォトレジスト膜を露光する際に、前記透明基板の表面に垂直な面である前記凸パターンの断面において前記下面側の幅よりも前記上面側の幅が広くなるように、露光量を調整する、
光学素子の製造方法。
【０１０４】
［付記１５］前記フォトレジスト膜はネガ型であり、
前記フォトレジスト膜を露光する際に、前記フォトマスクを通して前記上面側から前記フォトレジスト膜に光を照射し、
前記露光量は、前記透明基板の表面に垂直な面である前記凸パターンの断面において前記下面側の幅と前記上面側の幅とが等しくなる場合よりも、少なくする、
付記１４記載の光学素子の製造方法。 
【０１０５】
［付記１６］前記フォトレジスト膜はポジ型であり、
前記フォトレジスト膜を露光する際に、前記透明基板及び前記フォトマスクを通して前記下面側から前記フォトレジスト膜に光を照射し、
前記露光量は、前記透明基板の表面に垂直な面である前記凸パターンの断面において前記下面側の幅と前記上面側の幅とが等しくなる場合よりも、少なくする、
付記１４記載の光学素子の製造方法。
【０１０６】
［付記２１］互いに離間した複数の凸パターンが表面に存在する透明層が透明基板の表面に形成されており、
前記透明層の前記凸パターンの相互間に光吸収層が形成されており、
前記凸パターンの側面形状は、前記透明基板側よりも前記透明層の表面側が広くなっている、
ことを特徴とする光学素子。
【０１０７】
［付記２２］互いに離間した複数の凸パターンが表面に存在する透明層が透明基板の表面に形成されており、
前記透明層の前記凸パターンの間に光吸収層が形成されており、
前記凸パターンの表面は平坦な形状であり、
前記凸パターンの側面形状は、前記透明基板側よりも前記透明層の表面側が広くなっている、
ことを特徴とする光学素子。
【０１０８】
［付記２３］前記透明層及び前記光吸収層の表面に他の透明基板が配置されている、
ことを特徴とする付記２１又は２２記載の光学素子。
【０１０９】
［付記２４］前記透明層及び前記光吸収層の表面にカバー層が形成されており、
前記カバー層は前記光吸収層の表面と密着して形成されている、
ことを特徴とする付記２１又は２２記載の光学素子。
【０１１０】
［付記２５］前記カバー層の表面に他の透明基板が配置されている、
ことを特徴とする付記２４記載の光学素子。
【０１１１】
［付記２６］
前記カバー層は、透明で屈折率が前記光吸収層と同等かそれより大きい樹脂で構成されている、
ことを特徴とする付記２４又は２５記載の光学素子。
【０１１２】
［付記２７］前記光吸収層は、前記カバー層を構成する樹脂と遮光成分との混合物である、
ことを特徴とする付記２１乃至２６のいずれか一つに記載の光学素子。
【０１１３】
［付記２８］前記光吸収層の遮光成分は、染料やカーボンブラックといった顔料からなる、
ことを特徴とする付記２１乃至２７のいずれか一つに記載の光学素子。
【０１１４】
［付記２９］前記カバー層は、ビスフェノールＡエポキシ樹脂からなり、加熱により硬化させて形成されている、
ことを特徴とする付記２１乃至２８のいずれか一つに記載の光学素子。
【０１１５】
［付記３０］前記透明層は、透明レジストを露光・加熱により硬化させて形成されている、
ことを特徴とする付記２１乃至２９のいずれか一つに記載の光学素子。
【産業上の利用可能性】
【０１１６】
本発明は、透過光の射出方向の範囲を制限する光学素子であればどのようなものにでも利用可能である。そのような光学素子の一例として、液晶表示装置、ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレイ、照明光学装置などに用いられるマイクロルーバが挙げられる。
【符号の説明】
【０１１７】
１００  マイクロルーバ（光学素子）
１１０  透明基板
１１１  透明基板の表面
１１２  透明基板の裏面
１２０  透明層
１２１  透明層の下面
１２２  透明層の上面
１２３  下地層（フォトレジスト膜）
１２４  透明感光性樹脂層（フォトレジスト膜）
１３０  凸パターン
１３１  凸パターンの下面側の幅
１３２  凸パターンの上面側の幅
１４０  光吸収層
１４１  黒色硬化性樹脂（液状樹脂）
１４２  窪み
１５０  フォトマスク
１５１  マスクパターン
１５２  光
１５３  現像液
１５４  スポンジ
Ｓ１  スペース
２００  マイクロルーバ（光学素子）
２１０  カバー層
２２０  光
２３０  空気
３００  マイクロルーバ（光学素子）
３１０  接着層
３２０  透明基板
４００  マイクロルーバ（光学素子）
５２３  下地層（フォトレジスト膜）
５２４  透明感光性樹脂層（フォトレジスト膜）
５５０  フォトマスク
５５１  マスクパターン
５５２  光 
６００  マイクロルーバ（光学素子）
７００  マイクロルーバ（光学素子）
８００  マイクロルーバ（光学素子）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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