(57)【要約】  【課題】  エレクトロマイグレーションによる、半導体素子の電極における空隙の発生を抑制することが可能な実装基板、半導体装置および半導体装置の製造方法を提供する。  【解決手段】  銅を主成分としてなり、絶縁基板１の搭載部１ａに設けられた接続パッド２と、接続パッド２上に設けられたはんだバンプ３とを備えており、ニッケル、鉄、コバルト、白金、およびパラジウムのうち少なくとも１種の金属材料からなる金属層５で被覆された銅粒子４が、はんだバンプ３に添加されている実装基板９である。銅粒子４の銅成分によって形成される銅−スズ合金で電極が被覆され得るため、エレクトロマイグレーションによる電極の空隙が抑制される。【選択図】  図２
2013168628.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体素子の搭載部を含む上面を有する絶縁基板と、
銅を主成分としてなり、前記搭載部に設けられた接続パッドと、
該接続パッド上に設けられたはんだバンプとを備えており、
ニッケル、鉄、コバルト、白金、およびパラジウムのうち少なくとも１種の金属材料からなる金属層で被覆された銅粒子が、前記はんだバンプに添加されていることを特徴とする実装基板。
【請求項２】
前記金属層が前記銅粒子を部分的に被覆していることを特徴とする請求項１記載の実装基板。
【請求項３】
前記接続パッドの上面に、ニッケルまたはニッケルを主成分とする合金からなる被覆層が設けられていることを特徴とする請求項１または請求項２記載の実装基板。
【請求項４】
半導体素子の搭載部を含む上面を有する絶縁基板と、
銅を主成分としてなり、前記搭載部に設けられた接続パッドと、
電極を有しているとともに、前記搭載部に搭載された半導体素子と、
前記接続パッドと前記電極との間に介在しているはんだバンプとを備えており、
前記はんだバンプに銅粒子が添加されているとともに、前記はんだバンプのうち少なくとも前記電極との界面部分に、銅とスズとの合金層が形成されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
半導体素子の搭載部を含む上面を有する絶縁基板と、前記搭載部に設けられた接続パッドとを備えた配線基板を準備する第１工程と、
銅粒子を準備するとともに、該銅粒子の表面をニッケル、鉄、コバルト、白金、およびパラジウムのうち少なくとも１種からなる金属層で被覆する第２工程と、
前記接続パッド上に、前記表面を前記金属層で被覆した前記銅粒子を添加したはんだペーストを付着させる第３工程と、
前記はんだペーストを加熱して、前記絶縁基板の前記搭載部に設けられた接続パッド上にはんだバンプが設けられてなる実装基板を作製する第４工程と、
電極を有する半導体素子を準備するとともに、該半導体素子の前記電極を前記実装基板の前記接続パッドに前記はんだバンプを介して接合する第５工程とを備えており、
前記５工程において、前記はんだバンプのうち少なくとも前記電極との界面部分に、銅−スズ合金層を形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項６】
前記第１工程において、前記実装基板用部材の前記接続パッドの上面に、ニッケルまたはニッケルを主成分とする合金からなる被覆層を設けることを特徴とする請求項５記載の半導体装置の製造方法。
【請求項７】
前記第２工程において、前記銅粒子を被覆する前記金属層を、金または金を主成分とする合金の層でさらに被覆することを特徴とする請求項５または請求項６記載の半導体装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体素子が実装される実装基板、および実装基板に半導体素子が実装されてなる半導体装置、ならびに半導体装置の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体集積回路素子（ＩＣ）等の半導体素子は、通常、半導体素子搭載用のセラミック配線基板等の配線基板に実装されて半導体装置となり、コンピュータや通信機器，センサ機器等を構成する外部の電気回路（マザーボード等）において部品として使用されている。
【０００３】
半導体素子は、一般に、シリコン等の半導体基板の一主面に電子回路が形成され、この電子回路と電気的に接続された円形状等の電極が一主面に配置された構造である。
【０００４】
配線基板は、セラミック基板等の絶縁基板の主面に、半導体素子の電極の配置に対応して接続パッドが形成された構造である。半導体素子の電極と配線基板の接続パッドとを互いに対向させて、両者の間に介在させたはんだバンプを介して両者を互いに接合させれば、半導体装置を作製することができる。半導体装置が上記電子機器に部品として搭載され、半導体素子と電子機器との間で電流が送受される。
【０００５】
なお、一般に、半導体素子の電極はニッケルを含む金属材料からなり、はんだバンプはスズ−銀やスズ−銀−銅等のはんだからなる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開2010-103501号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、このような従来の配線基板および半導体装置においては、半導体素子が配線基板にはんだを介して実装されたときに、上記電流に応じて、接続パッドまたは電極を形成している銅またはニッケル等の金属材料がはんだ中に拡散移動するエレクトロマイグレーションを生じやすいという問題点があった。このようなエレクトロマイグレーションが生じると、電極の一部に空隙（ボイド）が生じ、電極とはんだバンプとの間で局部的な電気抵抗の増加や断線等の不具合を生じる。
【０００８】
特に、近年、半導体素子の高速化に伴い、電極からはんだバンプに流れる電流がさらに大きくなる傾向にあるため、この電流の密度（電流密度）の増加が顕著であり、エレクトロマイグレーションが発生しやすくなってきている。
【０００９】
本発明は、上記従来技術の問題点に鑑み完成されたものであり、半導体素子の電極がはんだバンプを介して接続パッドに電気的に接続されるときに、エレクトロマイグレーションによる接続パッドおよび電極のボイドを抑制することが可能な実装基板、および半導体装置、ならびに半導体装置の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の一つの態様の実装基板は、半導体素子の搭載部を含む上面を有する絶縁基板と、銅を主成分としてなり、前記搭載部に設けられた接続パッドと、該接続パッド上に設け
られたはんだバンプとを備えている。また、ニッケル、鉄、コバルト、白金、およびパラジウムのうち少なくとも１種の金属材料からなる金属層で被覆された銅粒子が、前記はんだバンプに添加されている。
【００１１】
本発明の一つの態様の半導体装置は、半導体素子の搭載部を含む上面を有する絶縁基板と、銅を主成分としてなり、前記搭載部に設けられた接続パッドと、電極を有しているとともに、前記搭載部に搭載された半導体素子と、前記接続パッドと前記電極との間に介在しているはんだバンプとを備えている。また、前記はんだバンプに銅粒子が添加されているとともに、前記はんだバンプのうち少なくとも前記電極との界面部分に、銅とスズとの合金層が形成されている。
【００１２】
本発明の一つの態様の半導体装置の製造方法は、以下の第１〜第５の各工程を含む。すなわち、半導体素子の搭載部を含む上面を有する絶縁基板と、前記搭載部に設けられた接続パッドとを備えた実装基板用部材を準備する第１工程。銅粒子を準備するとともに、該銅粒子の表面をニッケル、鉄、コバルト、白金、およびパラジウムのうち少なくとも１種からなる金属層で被覆する第２工程。前記接続パッド上に、前記表面を前記金属層で被覆した前記銅粒子を添加したはんだペーストを付着させる第３工程。前記はんだペーストを加熱して、前記絶縁基板の前記搭載部に設けられた接続パッド上にはんだバンプが設けられてなる実装基板を作製する第４工程。電極を有する半導体素子を準備するとともに、該半導体素子の前記電極を前記実装基板の前記接続パッドに前記はんだバンプを介して接合する第５工程。また、前記５工程において、前記はんだバンプのうち少なくとも前記電極との界面部分に、銅−スズ合金層を形成する。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の一つの態様の実装基板によれば、上記金属層で被覆された銅粒子がはんだバンプに添加されていることから、半導体素子が実装されるときに、少なくとも半導体素子の電極の表面において、銅粒子の銅とはんだバンプのスズとの間で銅−スズ合金が形成される。そのため、接続パッドおよび電極におけるエレクトロマイグレーションの発生が抑制される。
【００１４】
この場合、銅−スズ合金の層によって、電極を形成しているニッケル等の拡散が抑制できる。また、銅−スズ合金がはんだバンプ中に形成されることによって、はんだバンプ中のスズ成分が減少するため、このスズ成分と接続パッドの銅成分との合金化が抑制できる。
【００１５】
したがって、エレクトロマイグレーションによる接続パッドおよび電極のボイドを抑制することが可能な実装基板を提供することができる。
【００１６】
本発明の一つの態様の半導体装置によれば、はんだバンプに銅粒子が添加されているとともに、はんだバンプのうち少なくとも電極との界面部分に、銅とスズとの合金が層状等の形態で形成されていることから、この合金の層によって、電極（ニッケル）のエレクトロマイグレーションによる拡散が抑制される。また、はんだバンプのスズ成分と接続パッドの銅成分との合金化が抑制できる。したがって、エレクトロマイグレーションによる接続パッドおよび電極のボイドを抑制することが可能な半導体装置を提供することができる。
【００１７】
本発明の一つの態様の半導体装置の製造方法によれば、上記各工程を含むことから、エレクトロマイグレーションによる接続パッドおよび電極のボイドを抑制することが可能な半導体装置を製造する方法を提供することができる。
【００１８】
すなわち、第５工程において、はんだバンプのうち少なくとも前記電極との界面部分に銅とスズとの合金層を形成することから、製造後の半導体装置における接続パッドおよび電極（ニッケル）のエレクトロマイグレーションを効果的に抑制することができる。
【００１９】
また、銅−スズ合金層を形成させるために銅粒子を添加しており、その銅粒子の表面を上記金属層で被覆することから、半導体素子を実装する過程において銅粒子の銅が不要にはんだバンプ中に拡散することを抑制することができる。そのため、はんだバンプの電極に対する濡れ性が良好であり、接続が容易である。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の第１の実施形態の実装基板を示す断面図である。
【図２】図１の要部を拡大して示す断面図である。
【図３】本発明の第１の実施形態の半導体装置を示す断面図である。
【図４】図３の要部を拡大して示す断面図である。
【図５】本発明の第２の実施形態の実装基板における要部を示す断面図である。
【図６】本発明の第２の実施形態の半導体装置における要部を示す断面図である。
【図７】（ａ）は図２に示す実装基板の要部における変形例を示す断面図であり、（ｂ）は図５に示す実装基板の要部における変形例を示す断面図である。
【図８】本発明の半導体装置の製造方法を示す。
【図９】（ａ）は本発明の実施形態の半導体装置の製造方法における一工程を示す断面図であり、（ｂ）は（ａ）の要部を拡大して示す断面図である。
【図１０】（ａ）および（ｂ）はそれぞれ本発明の実施形態の半導体装置の製造方法を工程順に示す断面図である。
【図１１】（ａ）および（ｂ）はそれぞれ本発明の実施形態の半導体装置の製造方法の他の例における要部を工程順に示す断面図である。
【図１２】図10および図11に示す半導体装置の製造方法の要部における変形例をさらに拡大して示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
本発明の実装基板、半導体装置および半導体装置の製造方法を、添付の図面を参照して説明する。なお、以下の説明における上下は便宜的なものであり、実装基板および半導体装置等が実際に使用される際の上下を特定するものではない。
【００２２】
（実装基板および半導体装置、第１の実施形態）
図１は本発明の実施形態の実装基板を示す断面図であり、図２は図１の要部を拡大して示す断面図である。また、図３は本発明の第１の実施形態の半導体装置を示す断面図であり、図４は図３の要部を拡大して示す断面図である。絶縁基板１の上面の搭載部１ａに接続パッド２が設けられ、接続パッド２上にはんだバンプ３が設けられて実装基板９が基本的に形成されている。はんだバンプ３に銅粒子４が添加され、銅粒子４は金属層５で被覆されている。また、実装基板９の接続パッド２に半導体素子６の下面の電極７がはんだバンプ３を介して接合されて半導体装置10が基本的に形成されている。
【００２３】
実装基板９は、半導体素子６を搭載して半導体装置10を作製するためのものであり、例えばセラミック配線基板等の配線基板（符号なし）に、半導体素子６を接続するためのはんだバンプ３が接合されて形成されている。
【００２４】
絶縁基板１は、例えば、酸化アルミニウム質焼結体やガラスセラミック焼結体，ムライト質焼結体，窒化アルミニウム質焼結体等のセラミック材料や、エポキシ樹脂，ポリイミド樹脂等の樹脂材料、セラミック材料やガラス材料等と樹脂材料との複合材料等の絶縁材料によって形成されている。
【００２５】
絶縁基板１は、例えば、ガラスセラミック焼結体からなる場合、次のようにして製作される。すなわち、酸化アルミニウムにガラス，焼結助剤を添加した原料粉末に適当な有機バインダおよび有機溶剤を添加混合して泥漿状とし、これをドクターブレード法やリップコータ法等のシート成形技術を採用してシート状に成形することにより複数枚のセラミックグリーンシートを得て、その後、セラミックグリーンシートを切断加工や打ち抜き加工により適当な形状とするとともにこれを複数枚積層し、最後にこの積層されたセラミックグリーンシートを還元雰囲気中において約800〜1000℃の温度で焼成することによって製
作される。
【００２６】
絶縁基板１は、例えば平面視において四角形状等の平板状であり、半導体素子６の搭載部１ａを含む上面を有している。搭載部１ａは、例えば絶縁基板１の上面の中央部の四角形状のエリア等である。搭載部１ａには、半導体素子６の電極７を接続するための接続パッド２が設けられている。
【００２７】
接続パッド２は、半導体素子６の電極７がはんだバンプ３を介して接合される部位である。接続パッド２は、例えば半導体素子６の下面に配置された電極７と対向するように配置されている。接続パッド２と半導体素子６の電極７とがはんだバンプ３を介して互いに接合されていることによって、半導体素子６と実装基板９とが電気的および機械的に接続され、半導体装置10が作製されている。
【００２８】
接続パッド２は、電気抵抗を低く抑えること、はんだバンプ３との接合の強度を確保すること、および経済性等を考慮して、銅を主成分として形成されている。この場合、接続パッド２は、銅の含有率が99.99質量％以上の、いわゆる純銅からなるものであってもよ
い。接続パッド２における銅以外の成分としては、例えば、ガラス成分、酸化アルミニウム等のセラミック粉末（いわゆるフィラー粒子）およびニッケル等の金属成分等が挙げられる。
【００２９】
接続パッド２に電気的に接続された半導体素子６の電極７は、例えば絶縁基板１の内部および下面等に設けられた配線導体８を介して絶縁基板１の下面等に電気的に導出される。配線導体８のうち絶縁基板１の下面に形成された部分が外部の電気回路（図示せず）に電気的に接続されれば、半導体素子６の電極７が外部の電気回路と電気的に接続される。
【００３０】
配線導体８は、例えば、銅，ニッケル，銀，パラジウム，金，白金，タングステン，モリブデン，マンガンまたはチタン、もしくはこのような金属を主成分とする合金等の金属材料により形成されている。
【００３１】
なお、この第１の実施形態においては、接続パッド２の上面に、ニッケルまたはニッケルを主成分とする合金からなる被覆層２ａが設けられている。被覆層２ａについては、後に詳しく説明する。
【００３２】
接続パッド２は、例えば平面視で円形状や楕円形状，四角形状等であり、対向して接続される電極７の形状や寸法に応じて適宜、形状および寸法が設定されている。接続パッド２は、例えば電極７が上記のように直径が約20〜150μｍの円形状等の場合であれば、こ
れよりも若干大きな円形状（直径が約30〜200μｍ）等に形成される。
【００３３】
また、接続パッド２および配線導体８は、メタライズ層やめっき層、蒸着層等の形態で、絶縁基板１に付着されて形成されている。接続パッド２および配線導体８は、例えば次のような方法で、絶縁基板１に設けられている。すなわち、銅の粉末に有機溶剤およびバインダを添加するとともに混練して金属ペーストを作製し、この金属ペーストを絶縁基板
１となるセラミックグリーンシートにスクリーン印刷法で所定パターンに印刷し、次に、セラミックグリーンシートと金属ペーストとを同時焼成してメタライズ層を形成する。その後、必要に応じてメタライズ層の表面にニッケル等のめっき層を上記被覆層２ａとして被着させることによって、接続パッド２および配線導体８を形成することができる。
【００３４】
接続パッド２上に設けられたはんだバンプ３は、前述したように、接続パッド２と半導体素子６の電極７とを接合するためのものである。はんだバンプ３は、スズ−鉛やスズ−銀やスズ−銀−銅，スズ−銀−ビスマス等のはんだ材料によって形成されている。はんだバンプ３は、環境への悪影響を避ける上では、鉛等の有害物質を含有しない、いわゆる鉛フリーはんだであることが好ましい。なお、はんだバンプ３に添加されている銅粒子４については後述する。
【００３５】
はんだバンプ３は、上記のようなはんだ材料のペースト（はんだクリーム等）を接続パッド２上に塗布し、これを加熱することによって設けることができる。はんだバンプ３は、溶融したはんだ材料の表面張力によって半球状等の形状になっている。なお、第１の実施形態においては、接続パッド２の上面に被覆層２ａが設けられているので、実際には、この被覆層２ａ上にはんだ材料のペーストが塗布される。
【００３６】
はんだバンプ３上に半導体素子６の電極７をそれぞれに位置合わせした後、リフロー炉等を用いてはんだバンプ３を溶融させることによって、はんだバンプ３を介して接続パッド２と電極７とが接合される。つまり、半導体素子６が実装基板９に実装される。すなわち、作製された半導体装置10において、半導体素子６の電極７と、実装基板９の接続パッド２との間にはんだバンプ３が介在している。
【００３７】
前述したように、接続パッド２の上面に、ニッケルまたはニッケルを主成分とする合金からなる被覆層２ａが設けられている。この実施形態の場合には、接続パッド２に上記のようにはんだバンプ３を接合する際のはんだ材料の濡れ性を高める上で有利である。したがって、接続パッド２に対するはんだバンプ３の接合の強度をより大きく確保する上で有利な実装基板９とすることができる。
【００３８】
ニッケルを主成分とする合金としては、例えば、ニッケル−リンやニッケル−ホウ素、ニッケル−コバルト等が挙げられる。
【００３９】
ニッケルまたはニッケルを主成分とする合金は、例えば前述したようにニッケルのめっき層として形成することができる。すなわち、例えば銅のメタライズ層からなる接続パッド２の上面に、ニッケルのめっき層を被着させることによって、被覆層２ａを接続パッド３上に設けることができる。
【００４０】
なお、接続パッド２および被覆層２ａにはんだバンプ３を接合する前に、ニッケルのめっき層の酸化を抑制するために、ニッケルめっき層の露出する表面に金めっき層（図示せず）を被着させておいてもよい。この金めっき層は、接続パッド２および被覆層２ａにはんだバンプ３が接合される際にはんだバンプ３中に拡散するため、実装基板９においては残留していない。
【００４１】
半導体素子６は、シリコンやガリウム砒素リン，ゲルマニウム，ヒ化ガリウム，窒化ガリウム，炭化珪素等の半導体材料からなり、このような半導体材料のウエハが所定の形状および寸法に切断されて作製されている。半導体素子６は、例えば、１辺の長さが約３〜10ｍｍ程度の四角板状のシリコン基板である。
【００４２】
半導体素子６の下面には、アルミニウムや銅，金等の金属材料からなる電子回路（図示
せず）が配置されている。電子回路は、例えばトランジスタやダイオード等の機能を備える部分も含み、半導体素子６の主面に集積回路として形成している。
【００４３】
この電子回路が電極７に接続されていて、電極７を介して実装基板９の接続パッド２に電気的に接続される。電極７は、例えばニッケルやアルミニウム等の金属材料によって形成されている。
【００４４】
半導体素子６は、上記のように実装基板９と電気的および機械的に接続されて半導体装置10となり、コンピュータや通信機器，検査装置等の各種の電子機器に部品として実装される。電子機器が備えるマザーボード等の回路が外部の電気回路に相当する。
【００４５】
前述したように、はんだバンプ３には、銅粒子４が添加されている。また、銅粒子４は、ニッケル、鉄、コバルト、白金、およびパラジウムのうち少なくとも１種からなる金属層５で被覆されている。ニッケル、鉄、コバルト、白金、およびパラジウムは、はんだ材料の濡れ性が良好である。そのため、銅粒子４のはんだバンプ３中への添加が容易であり、また、銅粒子がはんだバンプ３中に安定して分散し得る。
【００４６】
このような、金属層５で被覆された銅粒子４がはんだバンプ３に添加されていることから、半導体素子６が実装基板９に実装されたときに、少なくとも半導体素子６の電極７の表面において、例えば図４に示しているように、銅粒子４の銅とはんだバンプ３のスズとの間で銅−スズ合金が生成する反応が生じ、銅−スズ合金11が層状等の形態で形成される。この銅−スズ合金11が電極７を被覆して、エレクトロマイグレーションによる電極（ニッケル）７の拡散を抑制する。
【００４７】
銅−スズ合金11は、半導体素子６の電極７の表面以外の、はんだバンプ３本体中に形成されていてもよい。
【００４８】
また、銅−スズ合金11がはんだバンプ３中に形成されていることによって、はんだバンプ３中のスズ成分が相対的に少なくなっている、そのため、このはんだバンプ３中のスズ成分と接続パッド２の銅成分との合金化が抑制できる。これにより、接続パッド２におけるエレクトロマイグレーションも抑制され得る。
【００４９】
したがって、エレクトロマイグレーションによる接続パッド２および電極７のボイドを抑制することが可能な、実装基板９および半導体装置10を提供することができる。
【００５０】
銅−スズ合金11は、例えばＣｕ６Ｓｎ５を主成分とする組成である。このＣｕ６Ｓｎ５成分は、耐マイグレーション性が高い。そのため、銅−スズ合金11は、電極７から接続パッド２に流れる電流による、電極７の成分であるニッケルのエレクトロマイグレーションに対してバリア層として機能し得る。
【００５１】
半導体素子６が実装された後、つまり半導体装置10において、はんだバンプ３中には銅粒子４の一部が残留していてもよい。この銅粒子４は、銅−スズ銅金層11に対する銅成分の供給源として機能することができる。
【００５２】
実装基板９におけるはんだバンプ３中の銅粒子４を被覆している金属層５は、銅粒子４の銅成分がはんだバンプ３中に拡散し過ぎることを抑制している。金属層５を形成している上記の金属材料がスズと合金化しにくいため、銅成分の拡散が抑制され得る。すなわち、単に銅粒子４がはんだバンプ３中に添加されていると、実装基板９を製作する途中で、はんだバンプ３の広い範囲で銅成分とはんだのスズ成分との合金化が進み、はんだバンプ３としての融点が高くなって、はんだバンプ３の電極７に対する濡れ性が低下する可能性
がある。これに対して、銅粒子４が金属層５で被覆されていれば、はんだバンプ３を接続パッド２に接合するための加熱や、半導体素子６の電極７に接続するための加熱の際に銅成分がはんだバンプ３中に拡散することが抑制され得る。そのため、はんだバンプ３の電極７に対する接続が容易である。
【００５３】
また、金属層５は、はんだバンプ３を電極７に接続する際の加熱において徐々にはんだバンプ３中に拡散するため、銅粒子４がはんだバンプ３中に露出する。露出した銅成分とはんだバンプ３のスズ成分とによて、上記の銅−スズ合金11が生成し、リフロー等で溶融したはんだバンプ中を上方に移動する。そのため、実装後の半導体装置10において、はんだバンプ３の上端部分、つまり電極７の表面部分を覆うように銅−スズ合金11が層状に形成される。銅−スズ合金は、この層状に形成されたもの以外に、はんだバンプ３本体中に形成されるものも含む。
【００５４】
（実装基板および半導体装置、第２の実施形態）
図５は、本発明の第２の実施形態の実装基板における要部を示す断面図である。また、図６は、本発明の第２の実施形態の半導体装置における要部を示す断面図である。図５および図６において、図１〜図４と同様の部位には同様の符号を付している。
【００５５】
第２の実施形態の実装基板９ａおよび半導体装置10ａにおいては、接続パッド２の上面に上記被覆層２ａが設けられていない。これ以外の点において、第２の実施形態の実装基板９ａおよび半導体装置10ａは、上記第１の実施形態の実装基板９および半導体装置10と同様である。以下の説明において、第１の実施形態の実装基板９および半導体装置10と同様の点についての説明は省略する。
【００５６】
第２の実施形態の実装基板９ａは、上記のように接続パッド２の上面に被覆層２ａが設けられていない。そのため、はんだバンプ３は、直接に、銅を主成分としてなる接続パッド２の上面に接合される。また、この実装基板９ａに半導体素子６が実装されてなる第２の実施形態の半導体装置10ａにおいて、接続パッド２の上面に半田バンプ３が直接に接合されている。この場合にも、接続パッド２および電極７におけるけるエレクトロマイグレーションの発生が抑制される。
【００５７】
すなわち、はんだバンプ３に含まれる銅粒子によって銅−スズ合金11が生成する。この銅−スズ合金11が、例えば電極７の表面に層状に形成されて、電極７におけるエレクトロマイグレーションが抑制される。また、銅−スズ合金11がはんだバンプ３中に形成されることによって、はんだバンプ３中のスズ成分が相対的に少なくなり、このスズ成分と接続パッド２の銅成分との合金化が抑制できる。したがって、接続パッド２および電極７におけるけるエレクトロマイグレーションの発生が抑制される。
【００５８】
なお、この第２の実施形態の実装基板においては、銅を主成分としてなる接続パッド２の上面が被覆層で保護されていない。そのため、接続パッド２に対する、はんだバンプ３となるはんだクリーム等の塗布の際には、はんだの濡れ性を高めるように考慮することが望ましい。この場合、例えば接続パッド２の上面に金めっき層（図示せず）を被着させておいてもよい。金めっき層によって、接続パッド２上面の酸化の抑制、およびはんだの濡れ性の向上等の効果が期待できる。
【００５９】
被覆層２ａが不要であることによって、例えばニッケルめっきの工程が不要であり、実装基板９ａおよび半導体装置10ａの生産性を高める上でも有効である。
【００６０】
第２の実施形態の実装基板９ａおよび半導体装置10ａは、例えば接続パッド２から電極７に向かって電子が流れるようなときにも、エレクトロマイグレーションを抑制する効果
を得る上で有効である。すなわち、電子の流れが上記の方向であるときには、被覆層２ａが設けられている場合に比べて、接続パッド２側においてエレクトロマイグレーションが発生しやすい傾向がある。これに対して、はんだバンプ３中に銅粒子４が添加されていることによって、はんだバンプ３におけるスズ成分量が相対的に少なくなる。そのため、接続パッド２の銅成分とはんだバンプ３のスズ成分との合金化、つまりはエレクトロマイグレーションによる接続パッド２の銅成分の拡散を抑制できる。
【００６１】
図７（ａ）は、上記第１の実施形態の実装基板９の変形例における要部を拡大して示す断面図である。また、図７（ｂ）は、上記第２の実施形態の実装基板９ａの変形例における要部を拡大して示す断面図である。図７において図１〜図６と同様の部位には同様の符号を付している。図７（ａ）および（ｂ）に示す例において、金属層５は、銅粒子４を部分的に被覆している。言い換えれば、銅粒子４は、その表面の一部がはんだバンプ３中に露出している。銅粒子４の銅成分と、はんだバンプ３のスズ成分とが直接接し合っている部分が含まれている。
【００６２】
この場合には、上記銅成分のスズとの反応がより容易であるため、銅−スズ合金11の形成がより容易かつ確実である。また、銅粒子４の一部のみがはんだバンプ３中に露出しているので、前述したように銅成分がはんだバンプ３中に拡散し過ぎてはんだバンプ３の電極７に対する接合性が低下するようなことも効果的に抑制されている。
【００６３】
なお、銅粒子４は、表面の全面が金属層５で被覆されているものと、表面が部分的に金属層５で被覆されているものとの両方が含まれていても構わない。
【００６４】
（半導体装置の製造方法）
次に、本発明の実施形態の半導体装置の製造方法について説明する。図８に、本発明の実施形態における半導体装置の製造方法を示す。以下の説明において、前述した実装基板および半導体装置における説明と同様の事項については省略する。
【００６５】
まず、第１工程として、図９（ａ）および（ｂ）に示すように配線基板21を準備する。なお、図９（ａ）は本発明の実施形態の半導体装置の製造方法における一工程を示す断面図であり、図９（ｂ）は図９（ａ）の要部を拡大して示す断面図である。図９において図１および図２と同様の部位には同様の符号を付している。
【００６６】
配線基板21は、半導体素子の搭載部１ａを含む上面を有する絶縁基板１と、搭載部１ａに設けられた接続パッド２とを有している。この配線基板21の接続パッド２上にはんだバンプ（図９では図示せず）を設けたものが、例えば上記のような実装基板９である。
【００６７】
配線基板21において、絶縁基板１および接続パッド２は、上記実装基板９と同様の形態であり、上記と同様の材料を用い、同様の方法で製作することができる。また、この図９に示す例においては、第１工程において準備する配線基板21の接続パッド２の上面に被覆層２ａを設けている。被覆層２ａは、ニッケルまたはニッケルを主成分とする合金により形成されている。
【００６８】
被覆層２ａおよび接続パッド２は、例えば上記実装基板９の場合と同様に、銅のメタライズ層によって接続パッド２を設けた後、その接続パッド２の露出する表面（上面）にニッケルまたはニッケルの合金からなるめっき層を被着させることによって形成することができる。接続パッド２上に被着させためっき層が被覆層２ａになる。このように被覆層２ａをニッケルまたはニッケルの合金のめっき層として形成することにより、上記構成の接続パッド２および被覆層２ａを形成することができる。
【００６９】
なお、この工程においては、接続パッド２の表面（上面）に被覆層２ａを設けなくても構わない。被覆層２ａを設けない例については後述する。
【００７０】
ニッケルの合金としては、前述したような合金（ニッケル−リン等）が挙げられる。例えば、リン系の還元剤を用いた無電解めっき法でめっき層を被着させれば、接続パッド２の上の被覆層２ａはニッケル−リン合金層になる。また、ニッケルとコバルトとを含むめっき液を用いた電解めっき法でめっき層を被着させれば、接続パッド２上の被覆層２ａはニッケル−コバルト合金層になる。
【００７１】
なお、配線基板21においても、はんだバンプ３を接合する前に、接続パッド２の露出する表面または上記ニッケルめっき層（被覆層２ａ）の表面（上面）を、金めっき層または金を主成分とする合金等のめっき層で被覆してもよい。金めっき層等による被覆で、接続パッド２またはの露出する表面の酸化の抑制や、はんだバンプ３となるはんだ材料の濡れ性等の特性を向上させることができる。金の合金としては、金−パラジウム等が挙げられる。
【００７２】
次に、第２工程として、銅粒子４を準備する。銅粒子４の表面はニッケル、鉄、コバルト、白金、およびパラジウムのうち少なくとも１種からなる金属層５で被覆する。続いて第３工程として、図10（ａ）に示すように、接続パッド２上に、表面を金属層５で被覆した銅粒子４を添加したはんだペースト22を付着させる。なお、図10（ａ）および図10（ｂ）はそれぞれ本発明の実施形態の半導体装置の製造方法を工程順に示す断面図である。図10において図１、図２および図９と同様の部位には同様の符号を付している。
【００７３】
準備する銅粒子４は、例えば銅の粉末である。粉末中の個々の粒子は、例えば平均粒径が５〜50μｍであり、球状またはフレーク状等である。
【００７４】
はんだペースト22は、例えばいわゆるクリームはんだであり、上記実装基板９におけるはんだバンプ３を形成するはんだ材料（スズ−鉛やスズ−銀等）と同様のはんだ材料の粉末と、適当な有機溶剤やフラックス等とを混合して作製する。
【００７５】
銅粒子４は、アトマイズ法、湿式還元法等の方法で作製することができる。また、銅粒子４の表面への上記ニッケル等の金属層５の被着は、例えば無電解ニッケルめっき法等の方法で行なうことができる。
【００７６】
金属層５の厚みは、次の、はんだペースト22を加熱する第４工程において、銅粒子４の銅成分がはんだバンプ３中に拡散し過ぎることを抑制する上では厚い方が好ましい。しかし、金属層５が厚過ぎると。さらに次の半導体素子（図10では図示せず）を実装する第５工程において、銅粒子４の銅成分とはんだペースト22のスズ成分とによる銅−スズ合金の生成が妨げられやすくなる。このような条件や、金属層５を被着させる作業の作業性および経済性等を考慮すれば、金属層５の厚みは0.05〜0.5μｍ程度が好ましい。0.05μｍ未
満の場合は、はんだペースト22をリフロー炉等で加熱する時に金属層５が拡散して消失しやすい。そのため、実装基板９におけるはんだバンプ３中に拡散することを抑制する機能（いわゆる保護層としての機能）が低くなる可能性がある。また、0.5μｍを超える場合
は、実装基板９に半導体素子６を実装する時に、銅成分のはんだバンプ３中への拡散が抑えられる傾向がある。そのため、電極７を被覆する層状の銅−スズ合金11の形成が不十分になる可能性がある。
【００７７】
はんだペースト22に添加する銅粒子４の割合は、次の工程ではんだペースト22を加熱した後のはんだバンプ３において銅粒子４が10〜60質量％含まれているように設定する。なお、銅粒子４は、はんだペースト22中に均一に分散させるようにしておく。すなわち、は
んだペースト22を接続パッド３に塗布する前に、はんだペースト22に上記銅粉末を添加し、その後にかくはんして上記ペースト中に上記粉末を分散させる。
【００７８】
次に、第４工程として、図10（ｂ）に示すように、はんだペースト22を加熱して、絶縁基板１の搭載部１ａに設けた接続パッド２上にはんだバンプ３を接合して実装基板９を作製する。加熱温度は、はんだペースト22の組成や量、粒径等に応じて適宜設定する。例えば、はんだペースト22の主成分がスズ−銀はんだの場合であれば、加熱温度は240〜260℃に設定すればよい。
【００７９】
上記加熱によってはんだペースト22における有機成分等が除去され、はんだバンプ３が形成されて、配線基板21の接続パッド２上にはんだバンプ３が設けられてなる実装基板９が作製される。なお、銅粒子４を被覆している金属層５も、一部がはんだバンプ３中に拡散する。
【００８０】
金属層５の拡散に応じて、銅粒子４の一部がはんだバンプ３中に露出するようになっても構わない。すなわち、前述したように、実装基板９において銅粒子４が金属層５で部分的に被覆された状態であってもよい。この第４工程においては、銅粒子４の銅成分のはんだバンプ３中への拡散が抑制されていることが好ましい。
【００８１】
次に、第５工程として、電極を有する半導体素子を準備するとともに、半導体素子の電極と実装基板９の接続パッド２とをはんだバンプ３を介して接合する。これにより、例えば図３および図４に示すような半導体装置10を作製することができる。また、この第５工程においては、例えば図４に示していたような銅−スズ合金11を、少なくともはんだバンプ３の電極７との界面部分に層状等の形態で形成する。
【００８２】
図３および図４に示す半導体素子６は、シリコンやガリウム砒素リン、ゲルマニウム、ヒ化ガリウム、窒化ガリウム、炭化珪素等の半導体材料からなる半導体基板によって形成されている。半導体素子６は、例えば、１辺の長さが約３〜10ｍｍ程度の四角板状のシリコン基板であり、その主面にニッケルやアルミニウム等からなる電極７が形成されている。電極７は、半導体素子６の電子回路（集積回路）（図示せず）を外部の電気回路に電気的に接続させるためのものである。
【００８３】
上記作製した半導体装置10は、例えばコンピュータや通信機器，検査装置等の各種の電子機器に部品として実装される。電子機器が備えるマザーボード等の回路が外部の電気回路に相当する。
【００８４】
このような半導体装置の製造方法によれば、上記各工程を含むことから、エレクトロマイグレーションによる電極７のボイドを抑制することが可能な半導体装置を製造する方法を提供することができる。
【００８５】
すなわち、接続パッド２のはんだバンプ３が接合される上面に、ニッケルまたはニッケルを主成分とする合金からなる被覆層２ａを設けることから、はんだバンプ３の接続パッド２に対する接続信頼性を高くすることができる。また、第５工程において、はんだバンプ３のうち、少なくとも電極７との界面部分に銅とスズとの合金層（銅−スズ合金層）11を形成することから、製造後の半導体装置10における電極７（ニッケル）のエレクトロマイグレーションを効果的に抑制することができる。
【００８６】
層状等の銅−スズ合金11は、前述したように、例えばＣｕ６Ｓｎ５を主成分とする組成であり、耐マイグレーション性が高いため、電極７（ニッケル）のエレクトロマイグレーションに対してバリア層として機能し得る。すなわち、銅−スズ合金11の層をはんだバン
プ３の電極７との界面部分に形成することから、ニッケルのエレクトロマイグレーションによるボイドの発生を抑制できる。
【００８７】
実装基板９に半導体素子６を実装して作製した半導体装置10において、はんだバンプ３中に銅粒子４の一部が残留している。この銅粒子４は、銅−スズ銅金11に対する銅成分の供給源として機能することができる。
【００８８】
また、はんだバンプ３に添加する銅粒子４の表面を金属層５で被覆することから、半導体素子６を実装する過程における銅粒子４の銅がはんだバンプ３中に拡散し過ぎることを抑制できる。そのため、はんだバンプ３の電極７に対する濡れ性が良好であり、半導体素子６と実装基板９との電気的および機械的な接続が容易である。
【００８９】
図11（ａ）および（ｂ）は、それぞれ本発明の実施形態の半導体装置の製造方法の他の例における要部を工程順に示す断面図である。図11において図10と同様の部位には同様の符号を付している。図11に示す例においては、接続パッド２の上面に被覆層２ａを設けていない。これ以外の点は、図10に示す例と同様である。
【００９０】
被覆層２ａは、例えばはんだバンプ３を形成する工程において、はんだバンプ３となるはんだペースト22の濡れ性を向上させる機能を有する。ただし、被覆層２ａが設けられていなくても、例えばフラックスを適宜選定すること等により、接続パッド２に対するはんだペースト22の濡れ性等の特性を確保することはできる。したがって、被覆層２ａが設けられていない、図11に示す例においても、接続パッド２上にはんだバンプ３を容易に設けることができる。
【００９１】
図11に示す例においては、ニッケルまたはニッケル合金等をめっきする工程等が不要であるため、半導体装置としての製造工程を短くして生産性を高める上では有利である。
【００９２】
この例の製造方法で製作する半導体装置は、前述した、第２の実施形態の実装基板９ａに半導体素子（図11では図示です）が実装されてなる第２の半導体装置10ａに相当する。したがって、この製造方法の例においても、接続パッド２および電極７におけるけるエレクトロマイグレーションの抑制が可能な半導体装置を製作することができる。
【００９３】
この例において製作した半導体装置10ａは、前述したように、例えば接続パッド２から電極７に向かって電子が流れるようなときにも、エレクトロマイグレーションを抑制する効果を得る上で有効である。はんだバンプ３中に銅粒子４が添加されていることによって、はんだバンプ３におけるスズ成分量が相対的に少なくなる。そのため、はんだバンプ3
と直接に接している接続パッド２の銅成分と、はんだバンプ３のスズ成分との合金化、つまりはエレクトロマイグレーションによる接続パッド２の銅成分の拡散を抑制できる。
【００９４】
図12は、図10および図11に示す半導体装置の製造方法の変形例における要部をさらに拡大して示す断面図である。図12において図10および図11と同様の部位には同様の符号を付している。この例では、上記第２工程において、銅粒子４を被覆する金属層５を、金または金を主成分とする合金の層（以下、金層という）23でさらに被覆している。
【００９５】
金層23は金属層５の酸化を防止する効果を有する。また、はんだペースト22を形成しているはんだ材料との濡れ性が良好な金層23で金属層５が被覆されているため、銅粒子４および金属層５のはんだペースト22への添加および分散がより容易である。
【００９６】
金層23は、無電解金めっき法で金属層５の表面に被着させることができる。金層23の厚みは、生産性や経済性等を考慮すれば0.05〜0.1μｍ程度とすることが好ましい。
【実施例】
【００９７】
（実施例１）
下記の、実施例の実装基板および比較例の実装基板を準備し、それぞれの実装基板の接続パッドと下記の半導体素子の電極とをスズ−銀はんだからなるはんだバンプを介して接合して半導体装置を作製した。実施例の実装基板は、はんだバンプに下記の銅粒子を添加し、比較例の実装基板では銅粒子を添加しなかった。
【００９８】
実装基板：ガラスセラミック焼結体を用いて作製した、辺の長さが約10×10×１ｍｍの正方形板状の絶縁基板の主面（上面）に、タングステン（銅）のメタライズ層によって、直径が約150μｍの円形状の接続パッドを形成した。接続パッドの個数は半導体素子の電
極の個数と同じ64個であり、各接続パッドは、半導体素子の電極に対応する位置に形成した。接続パッド上には下記のはんだバンプを設けた。接続パッドの上面には、被覆層として、厚みが約２〜６μｍのニッケルめっき層を電解めっき法によって設けた。
【００９９】
はんだバンプ：スズ−銀−銅（Ｓｎ−３Ａｇ−0.5Ｃｕ）はんだを用いた。はんだバン
プは、上記組成のはんだペーストを上記接続パッド上に載せて、約260℃で加熱して溶融
接合させて行なった。
【０１００】
銅粒子：平均粒径が約10μｍの球状のものを、アトマイズ法で作製して準備した。はんだバンプへの銅粒子の添加量が、約10質量％程度になるようにした。
【０１０１】
半導体素子：半導体基板として、辺の長さが５×５ｍｍの正方形板状のシリコン基板を用い、この半導体基板の主面にシリコンの酸化膜を介してアルミニウムからなる電子回路と銅からなる電極を配置したものを用いた。電極の個数は64個であり、半導体基板の主面に縦横の並びに配列させた。電極は、直径が約100μｍの円形状であり、電極に流れる電
流は８ｋＡ/ｃｍ２であった。
【０１０２】
以上の実施例１および比較例、それぞれの実装基板について半導体素子を実装して半導体装置とした後、プリント回路基板に実装した。実装後、半導体素子とプリント回路基板の回路（外部の電気回路）との間で電流の通電を500時間行なった後、電極における通電
前後の抵抗値の上昇率を算出し、上昇率20％以上で故障と判定した。
【０１０３】
以上の結果、上記実施例１の実装基板を用いて作製した半導体装置では故障発生が見られなかったのに対し、比較例の実装基板を用いて作製した半導体装置では20％の電極において故障が発生していた。これにより、本発明の実施例１の実装基板、およびそれを用いて作製した半導体装置における、電極での空隙の発生を抑制する効果を確認することができた。
【０１０４】
（実施例２）
被覆層を設けないこと以外は、上記実施例１と同様にして、実施例２の実装基板を製作した。この実施例２の実装基板に、実施例１の場合と同様に半導体素子を実装し、同様の方法で信頼性を検査した。
【０１０５】
その結果、実施例２の実装基板、およびその実施例２の実装基板を用いて製作した半導体装置においても、上記実施例１の場合と同様に故障発生が見られず、電極での空隙の発生を抑制する効果を確認することができた。
【符号の説明】
【０１０６】
１・・・絶縁基板
１ａ・・搭載部
２・・・接続パッド
２ａ・・被覆層
３・・・はんだバンプ
４・・・銅粒子
５・・・金属層
６・・・半導体素子
７・・・電極
８・・・配線導体
９・・・実装基板（第１の実施形態）
９ａ・・実装基板（第２の実施形態）
10・・・半導体装置（第１の実施形態）
10ａ・・半導体装置（第２の実施形態）
11・・・銅−スズ合金
21・・・配線基板
22・・・はんだペースト
23・・・金層
【図１】
2013168628.tif 000003
【図２】
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【図３】
2013168628.tif 000005
【図４】
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【図５】
2013168628.tif 000007
【図６】
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【図７】
2013168628.tif 000009
【図８】
2013168628.tif 000010
【図９】
2013168628.tif 000011
【図１０】
2013168628.tif 000012
【図１１】
2013168628.tif 000013
【図１２】
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