(57)【要約】      （修正有）【課題】反応性の異なる金属及びホウ素部位を有する新規金属−ホウ素化アルケン類化合物、その製造方法及びその利用技術を提供する。【解決手段】アルケンの炭素−炭素二重結合に、金属原子（例えば、スズ等）とホウ素を有する金属−ホウ素化アルケン類化合物は、金属部位とホウ素部位とで反応性が異なるため、それぞれの部位に異なる官能基を導入した下式で示される化合物を製造できる。2013155138.tif 000021Ｒ１〜Ｒ７は水素、アルキル基等、ＭはＳｎ等を示す。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で示される金属−ホウ素化アルケン類化合物。
【化１】
2013155138.tif 000014
（式（１）中、Ｍは、Ｓｎ、Ｓｉ、Ｇｅのいずれかの金属原子を表す。Ｒ１〜Ｒ７はそれぞれ独立して、水素、置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換されていてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリール基、置換されていてもよい炭素数７〜２０のアラルキル基、置換されていてもよい炭素数４〜２０のヘテロアリール基、置換されていてもよい炭素数５〜２０のヘテロアラルキル基、置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキレン基、置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリーレン基、又は置換されていてもよい炭素数１〜２０のアリーレン−アルキレン基を表す。Ｒ１とＲ２とが環を形成していてもよい。Ｒ６，Ｒ７はそれぞれ独立して、ケイ素含有基であってもよい。）
【請求項２】
下記一般式（２）で示される請求項１に記載の化合物。
【化２】
2013155138.tif 000015
（式（２）中、Ｍ及びＲ３〜Ｒ７は式（１）と同じ。）
【請求項３】
下記の式（３）で示される化合物群のいずれかの化合物である、請求項１又は２に記載の化合物。
【化３】
2013155138.tif 000016
【請求項４】
（Ａ）下記一般式（４）で示される化合物と、
【化４】
2013155138.tif 000017
（式（４）中、Ｒ６，Ｒ７はそれぞれ独立して、水素、置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換されていてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリール基、置換されていてもよい炭素数７〜２０のアラルキル基、置換されていてもよい炭素数４〜２０のヘテロアリール基、置換されていてもよい炭素数５〜２０のヘテロアラルキル基を表す。また、ケイ素含有基であってもよい。）
（Ｂ）下記一般式（５）で示される化合物と、
【化５】
2013155138.tif 000018
（式（５）中、Ｍは、Ｓｎ、Ｓｉ、Ｇｅのいずれかの金属原子を表す。Ｒ３〜Ｒ５，Ｒ８はそれぞれ独立して、水素、置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換されていてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリール基、置換されていてもよい炭素数７〜２０のアラルキル基、置換されていてもよい炭素数４〜２０のヘテロアリール基、置換されていてもよい炭素数５〜２０のヘテロアラルキル基を表す。Ｘは、酸素、硫黄、又は窒素を表す。）
（Ｃ）ホウ素−ホウ素結合を有するジボロン化合物と、を、
（Ｄ）下記一般式（６）で示される化合物又はＮ−環状ヘテロカルベンを配位子とする、銅錯体を含む触媒、
の存在下にて反応させる工程を有する、金属−ホウ素化アルケン類化合物の製造方法。
【化６】
2013155138.tif 000019
（式（６）中、Ｒ１１〜Ｒ１３はそれぞれ独立して、置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換されていてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリール基、置換されていてもよい炭素数７〜２０のアラルキル基、置換されていてもよい炭素数４〜２０のヘテロアリール基、置換されていてもよい炭素数５〜２０のヘテロアラルキル基、置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキレン基、置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリーレン基、又は置換されていてもよい炭素数１〜２０のアリーレン−アルキレン基を表す。）
【請求項５】
上記銅は、酸素原子を含む脱離基を有する銅化合物である請求項４に記載の化合物の製造方法。
【請求項６】
上記Ｒ１１〜Ｒ１３は、シクロヘキシル基、ｔ−ブチル基、又はオクチル基である請求項４又は５に記載の化合物の製造方法。
【請求項７】
上記ジボロン化合物は、下記一般式（７）で示される化合物である請求項４〜６のいずれか１項に記載の化合物の製造方法。
【化７】
2013155138.tif 000020
（式（７）中、Ｒ２１〜Ｒ２４はそれぞれ独立して、置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換されていてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリール基、置換されていてもよい炭素数７〜２０のアラルキル基、置換されていてもよい炭素数４〜２０のヘテロアリール基、置換されていてもよい炭素数５〜２０のヘテロアラルキル基、置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキレン基、置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリーレン基、又は置換されていてもよい炭素数１〜２０のアリーレン−アルキレン基を表す。Ｒ２１とＲ２２とが、及び、Ｒ２３とＲ２４とが環を形成していてもよい。）
【請求項８】
上記ジボロン化合物は、ビス（ピナコール）ジボロン、ビス（ネオペンチルグリコレート）ジボロン、ビス（ヘキシレングリコレート）ジボロン、ビス（カテコール）ジボロン、ビス（Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−Ｌ−タルタルアミドグリコレート）ジボロン、ビス（Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−Ｄ−タルタルアミドグリコレート）ジボロン、ビス（ジエチル−Ｄ−タルタレートグリコレート）ジボロン、ビス（ジイソプロピル−Ｄ−タルタレートグリコレート）ジボロン、ビス（ジエチル−Ｌ−タルタレートグリコレート）ジボロン、ビス〔（＋）−ピナンジオレート〕ジボロン、ビス〔（−）ピナンジオレート〕ジボロン、及びビス（ジイソプロピル−Ｌ−タルタレートグリコレート）ジボロンからなる群より選ばれる化合物である請求項４〜７のいずれか１項に記載の化合物の製造方法。
【請求項９】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の金属−ホウ素化アルケン類化合物におけるホウ素部位と金属部位とを、それぞれ別の官能基に変換する工程を含む、化合物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規金属−ホウ素化アルケン類化合物、その製造方法及びその利用に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
有機ホウ素化合物は、単に有機合成における中間体としてのみならず、ルイス酸触媒能や糖認識能を有する機能性分子、また癌に対する中性子捕捉療法における医薬品などとしても利用されており、近年その重要性が再認識されている。特に、ジボロンの炭素−炭素不飽和結合への付加は、有機分子にホウ素基を２つ同時に導入するための魅力的な反応として注目を集めている。
【０００３】
本発明者らはこれまで、白金−イソシアン化物複合体を触媒とし、フッ化物イオンの存在下にてアラインとビス（ピナコレート）ジボロンとを反応させることによりオルトジホウ素化アレーン化合物を合成する方法を開発し報告している（特許文献１，非特許文献１）。また、アルキン等の炭素−炭素不飽和多重結合へのジボロンの付加が白金触媒を用いることにより効率よく進行し、対応するジホウ素化アルケンを位置及び立体選択的に製造できることが報告されている（非特許文献２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−４４８９３号公報（平成２０年２月２８日公開）
【非特許文献】
【０００５】
【非特許文献１】H. Yoshida et. al., Chem. Commun., 46, 1763 (2010)
【非特許文献２】T. Ishiyama et. al., Organometallics, 15, 713 (1995)
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上述したジホウ素化アルケンにおけるホウ素部位を他の官能基に変換することにより、構造が複雑・多様な化合物が得られる。しかしながら、ジホウ素化アルケンの二つのホウ素部位は反応性に違いがない。このため、それぞれのホウ素部位に、異なる官能基を導入した化合物を製造することは困難であるという問題がある。
【０００７】
本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、反応性の異なる金属及びホウ素部位を有する新規金属−ホウ素化アルケン類化合物、その製造方法及びその利用技術を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結果、アルキン類の炭素−炭素不飽和三重結合へ金属（例えば、スズ等）とホウ素を導入した金属−ホウ素化アルケン類化合物を作製したところ、当該化合物における金属部位とホウ素部位とでその反応性が異なることから、それぞれの部位に異なる官能基を導入できるという新規知見を見出し、本発明を完成させるに至った。すなわち本発明は、以下の構成を含む。
【０００９】
１．下記一般式（１）で示される金属−ホウ素化アルケン類化合物。
【００１０】
【化１】
2013155138.tif 000002
【００１１】
（式（１）中、Ｍは、Ｓｎ、Ｓｉ、Ｇｅのいずれかの金属原子を表す。Ｒ１〜Ｒ７はそれぞれ独立して、水素、置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換されていてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリール基、置換されていてもよい炭素数７〜２０のアラルキル基、置換されていてもよい炭素数４〜２０のヘテロアリール基、置換されていてもよい炭素数５〜２０のヘテロアラルキル基、置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキレン基、置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリーレン基、又は置換されていてもよい炭素数１〜２０のアリーレン−アルキレン基を表す。Ｒ１とＲ２とが環を形成していてもよい。Ｒ６，Ｒ７はそれぞれ独立して、ケイ素含有基であってもよい。）
２．下記一般式（２）で示される１に記載の化合物。
【００１２】
【化２】
2013155138.tif 000003
【００１３】
（式（２）中、Ｍ及びＲ３〜Ｒ７は式（１）と同じ。）
３．下記の式（３）で示される化合物群のいずれかの化合物である、１又は２に記載の化合物。
【００１４】
【化３】
2013155138.tif 000004
【００１５】
４．（Ａ）下記一般式（４）で示される化合物と、
【００１６】
【化４】
2013155138.tif 000005
【００１７】
（式（４）中、Ｒ６，Ｒ７はそれぞれ独立して、水素、置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換されていてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリール基、置換されていてもよい炭素数７〜２０のアラルキル基、置換されていてもよい炭素数４〜２０のヘテロアリール基、置換されていてもよい炭素数５〜２０のヘテロアラルキル基を表す。また、それぞれ独立して、ケイ素含有基であってもよい。）
（Ｂ）下記一般式（５）で示される化合物と、
【００１８】
【化５】
2013155138.tif 000006
【００１９】
（式（５）中、Ｍは、Ｓｎ、Ｓｉ、Ｇｅのいずれかの金属原子を表す。Ｒ３〜Ｒ５，Ｒ８はそれぞれ独立して、水素、置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換されていてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリール基、置換されていてもよい炭素数７〜２０のアラルキル基、置換されていてもよい炭素数４〜２０のヘテロアリール基、置換されていてもよい炭素数５〜２０のヘテロアラルキル基を表す。Ｘは、酸素、硫黄、又は窒素を表す。）
（Ｃ）ホウ素−ホウ素結合を有するジボロン化合物と、を、
（Ｄ）下記一般式（６）で示される化合物又はＮ−環状ヘテロカルベンを配位子とする、銅錯体を含む触媒、
の存在下にて反応させる工程を有する、金属−ホウ素化アルケン類化合物の製造方法。
【００２０】
【化６】
2013155138.tif 000007
【００２１】
（式（６）中、Ｒ１１〜Ｒ１３はそれぞれ独立して、置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換されていてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリール基、置換されていてもよい炭素数７〜２０のアラルキル基、置換されていてもよい炭素数４〜２０のヘテロアリール基、置換されていてもよい炭素数５〜２０のヘテロアラルキル基、置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキレン基、置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリーレン基、又は置換されていてもよい炭素数１〜２０のアリーレン−アルキレン基を表す。）
５．上記銅は、酸素原子を含む脱離基を有する銅化合物である４に記載の化合物の製造方法。
【００２２】
６．上記Ｒ１１〜Ｒ１３は、シクロヘキシル基、ｔ−ブチル基、又はオクチル基である４又は５に記載の化合物の製造方法。
【００２３】
７．上記ジボロン化合物は、下記一般式（７）で示される化合物である４〜６のいずれかに記載の化合物の製造方法。
【００２４】
【化７】
2013155138.tif 000008
【００２５】
（式（７）中、Ｒ２１〜Ｒ２４はそれぞれ独立して、置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換されていてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリール基、置換されていてもよい炭素数７〜２０のアラルキル基、置換されていてもよい炭素数４〜２０のヘテロアリール基、置換されていてもよい炭素数５〜２０のヘテロアラルキル基、置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキレン基、置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリーレン基、又は置換されていてもよい炭素数１〜２０のアリーレン−アルキレン基を表す。Ｒ２１とＲ２２とが、及び、Ｒ２３とＲ２４とが環を形成していてもよい。）
８．上記ジボロン化合物は、ビス（ピナコール）ジボロン、ビス（ネオペンチルグリコレート）ジボロン、ビス（ヘキシレングリコレート）ジボロン、ビス（カテコール）ジボロン、ビス（Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−Ｌ−タルタルアミドグリコレート）ジボロン、ビス（Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−Ｄ−タルタルアミドグリコレート）ジボロン、ビス（ジエチル−Ｄ−タルタレートグリコレート）ジボロン、ビス（ジイソプロピル−Ｄ−タルタレートグリコレート）ジボロン、ビス（ジエチル−Ｌ−タルタレートグリコレート）ジボロン、ビス〔（＋）−ピナンジオレート〕ジボロン、ビス〔（−）ピナンジオレート〕ジボロン、及びビス（ジイソプロピル−Ｌ−タルタレートグリコレート）ジボロンからなる群より選ばれる化合物である４〜７のいずれかに記載の化合物の製造方法。
【００２６】
９．上記１〜３のいずれかに記載の金属−ホウ素化アルケン類化合物におけるホウ素部位と金属部位とを、それぞれ別の官能基に変換する工程を含む、化合物の製造方法。
【発明の効果】
【００２７】
本発明に係る金属−ホウ素化アルケン類化合物は、金属部位とホウ素部位とで反応性が異なるため、それぞれの部位に異なる官能基を導入した化合物を製造できるという効果を奏する。このため、種々の機能・活性を有する化合物の製造に有用である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
本発明の実施の一形態について、以下に詳細に説明する。本明細書中に記載された学術文献及び特許文献の全てが、本明細書中において参考として援用される。なお、本明細書において特記しない限り、数値範囲を表す「Ａ〜Ｂ」は、「Ａ以上Ｂ以下」を意味する。また、「％」は「重量％」を、「部」は「重量部」を意味する。
【００２９】
＜１．金属−ホウ素化アルケン類化合物＞
本発明に係る金属−ホウ素化アルケン類化合物は、上記一般式（１）で示される金属−ホウ素化アルケン類化合物である。
【００３０】
ここで、式（１）中、Ｍは、Ｓｎ（スズ）、Ｓｉ（ケイ素）、Ｇｅ（ゲルマニウム）のいずれかの金属原子を表す。なかでも、Ｓｎは、ホウ素部位と反応性が異なり、また反応について研究が進んでいることから汎用性も高いため、特に好ましい。また、Ｓｉは原材料が安価に取得できる点で好ましい。
【００３１】
また、式（１）中、Ｒ１〜Ｒ７はそれぞれ独立して、水素、置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換されていてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリール基、置換されていてもよい炭素数７〜２０のアラルキル基、置換されていてもよい炭素数４〜２０のヘテロアリール基、置換されていてもよい炭素数５〜２０のヘテロアラルキル基、置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキレン基、置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリーレン基、又は置換されていてもよい炭素数１〜２０のアリーレン−アルキレン基を表す。Ｒ１とＲ２とが環を形成していてもよい。
【００３２】
「アルキル基」としては、例えば、直鎖、分枝鎖又は環状のアルキル基が挙げられる。例えば、炭素数１〜２０の直鎖もしくは分枝鎖状のアルキル基又は環状のアルキル基が挙げられるが、なかでも、炭素数１〜１２のアルキル基が好ましく、さらに炭素数１〜１０のアルキル基が好ましい。具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、シクロペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、シクロヘプチル基、オクチル基、シクロオクチル基等が挙げられる。
【００３３】
「アルケニル基」としては、例えば、直鎖又は分枝鎖状のアルケニル基が挙げられる。例えば、炭素数２〜２０の直鎖もしくは分枝鎖状のアルケニル基が挙げられるが、なかでも、炭素数２〜１２のアルケニル基が好ましく、さらに炭素数２〜１０のアルケニル基が好ましい。具体的には、ビニル基、プロペニル基、イソプロペニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ゲラニル基、ファルネシル基などが挙げられる。
【００３４】
「アリール基」としては、例えば、炭素数６〜２０のアリール基があげられ、具体的には、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナントリル基などが挙げられる。なかでも、炭素数６〜１２のアリール基が好ましく、さらに炭素数６〜１０のアリール基が好ましい。
【００３５】
「アラルキル基」としては、例えば、炭素数７〜２０のアラルキル基が挙げられ、具体的には、ベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基、ナフチルエチル基などが挙げられる。なかでも、炭素数７〜１２のアラルキル基が好ましく、さらに炭素数７〜１０のアラルキル基が好ましい。
【００３６】
「ヘテロアリール基」としては、例えば環構成原子として炭素原子以外に酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選ばれるヘテロ原子を１〜５個含有するヘテロアリール基などが挙げられ、具体的には、例えば、フリル基、チエニル基、ピロリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサジアゾリル基、フラザニル基、チアジアゾリル基、トリアゾリル基、テトラゾリル基、ピリジル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラジニル基、トリアジニル基、ベンゾフラニル基、イソベンゾフラニル基、ベンゾ［ｂ］チエニル基、インドリル基、イソインドリル基、１Ｈ−インダゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、１Ｈ−ベンゾトリアゾリル基、キノリル基、イソキノリル基、シンノリル基、キナゾリル基、キノキサリニル基、フタラジニル基、ナフチリジニル基、プリニル基、プテリジニル基、カルバゾリル基、アクリジニル基、フェノキサジニル基、フェノチアジニル基、フェナジニル基、フェノキサチイニル基、チアントレニル基、インドリジニル基などが挙げられる。なかでも、フリル基、チエニル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラジニル基、インドリル基、イソインドリル基、キノリル基、イソキノリル基、キナゾリル基などが好ましい。
【００３７】
「ヘテロアラルキル基」としては、例えば環構成原子として炭素原子以外に酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選ばれるヘテロ原子を１〜５個含有するヘテロアラルキル基などが挙げられ、特に限定されない。
【００３８】
「アルキレン基」としては、例えば、直鎖又は分枝鎖状のアルキレン基が挙げられる。例えば、炭素数１〜２０の直鎖もしくは分枝鎖状のアルキレン基が挙げられるが、なかでも炭素数１〜１２のアルキレン基が好ましく、さらに炭素数６〜１０のアルキレン基が好ましい。具体的には、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基などが挙げられる。
【００３９】
「アリーレン基」としては、例えば、炭素数６〜２０アリーレン基があげられ、具体的には、フェニレン基、ナフチレン基、アントラセニレン基、フェナントレニレン基などが挙げられる。なかでも、炭素数６〜１２のアリーレン基が好ましく、さらに炭素数６〜１０のアリーレン基が好ましい。
【００４０】
「アリーレン−アルキレン基」における「アリーレン基」及び「アルキレン基」としては、上述したものと同様のものが挙げられ、同様のものが好ましい。
【００４１】
「置換されていてもよい」置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子；メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、シクロペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、シクロヘプチル基、オクチル基、シクロオクチル基、トリフルオロメチル基などのアルキル基；ビニル基、プロペニル基、イソプロペニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ゲラニル基、ファルネシル基などのアルケニル基；エチニル基、プロピニル基、ブチニル基などのアルキニル基；フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナントリル基などのアリール基；メチルフェニル基、エチルフェニル基、ｓ−ブチルフェニル基、ｔ−ブチルフェニル基、１−メチルナフチル基、２−メチルナフチル基、４−メチルナフチル基、１，６−ジメチルナフチル基、４−ｔ−ブチルナフチル基などのアルキルアリール基；４−ヒドロキシフェニル基などのヒドロキシアリール基；メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ｓ−ブトキシフェニル基、ｔ−ブトキシフェニル基、１−メトキシナフチル基、２−メトキシナフチル基、４−メトキシナフチル基、１，６−ジメトキシナフチル基、４−ｔ−ブトキシナフチル基などのアルコキシアリール基；ピリジル基、キナゾリニル基、キノリル基、ピリミジニル基、フリル基、チエニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、テトラゾリル基、インドリル基、フェナントロリニル基などのヘテロ環基；ベンジル基、フェネチル基などのアラルキル基；ヒドロキシ基；メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基などのアルコキシ基；フェノキシ基などのアリールオキシ基；メルカプト基；メチルチオ基などのアルキルチオ基；フェニルチオ基などのアリールチオ基；シアノ基；ニトロ基；アミノ基；メチルアミノ基、エチルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジブチルアミノ基、アセチルアミノ基などの置換アミノ基；ｔ−ブチルカルバメート基、メチルカルバメート基などのカルバメート基；アミド基；ベンゼンスルホンアミド基、メンタンスルホンアミド基などのスルホンアミド基；イミノ基；フタルイミド基などのイミド基；グアニジノ基；ホルミル基；カルボニル基；アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基などのアシル基；カルボキシ基；メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基などのアルコキシカルボニル基；フェノキシカルボニル基などのアリールオキシカルボニル基、アルキルアリール基、アルコキシアリール基などが挙げられる。置換基の数は、例えば、１〜最大置換可能な数であり、好ましくは１〜２個である。
【００４２】
また、Ｒ６，Ｒ７として、炭素−炭素二重結合に結合する部分に、炭素原子以外にケイ素原子を含む、ケイ素含有基も本願発明に含まれる。例えば、「−ＳｉＲ３」を挙げることができる。ここで、Ｓｉに結合する３つのＲはそれぞれ独立して、上述した同様の「アルキル基」、「アルケニル基」、「アリール基」、「アラルキル基」、「ヘテロアリール基」及び「ヘテロアラルキル基」等を例示できる。
【００４３】
また、詳細については製造方法の＜２＞欄で説明するが、式（１）中のホウ素部位は、ピナコールジボロン由来であることが好ましい。特に、Ｒ１，Ｒ２はそれぞれ独立して、炭素数１〜６のアルキル基であることがさらに好ましく、またＲ１とＲ２とが環を形成していることが好ましい。
【００４４】
例えば、上記一般式（２）で示される化合物を挙げることができる。なお、式（２）中、Ｍ及びＲ３〜Ｒ７は式（１）と同じである。
【００４５】
また、Ｒ３〜Ｒ５はそれぞれ独立して、炭素数１〜６のアルキル基であることが好ましい。特に、原材料の入手容易性の観点から、ブチル基であることが好ましい。
【００４６】
また、本発明に係る化合物は、上記の式（３）で示されるいずれかの化合物であることが好ましい。これらの化合物は、実施例に示すように高効率で取得可能である。
【００４７】
本発明に係る金属−ホウ素化アルケン類化合物は、ホウ素部位と金属部位とで反応性が異なるため、それぞれの部位に異なる官能基を導入した化合物を製造できる。上記化合物は、種々の化学物製造のための中間体、ルイス酸触媒能や糖認識能を有する機能性分子、また癌に対する中性子捕捉療法における医薬品等として利用できるため、非常に有用性が高い。例えば、本発明に係る化合物を用いることにより、炭素−炭素二重結合に付加する４つの官能基が全て異なる四置換アルケンを容易に取得できる。それゆえ、種々の機能・活性（薬理活性等）を有する化合物の製造に有用である。
【００４８】
＜２．金属−ホウ素化アルケン類化合物の製造方法＞
本発明に係る金属−ホウ素化アルケン類化合物の製造方法は、
（Ａ）上記一般式（４）で示される化合物と、
（Ｂ）上記一般式（５）で示される化合物と、
（Ｃ）ホウ素−ホウ素結合を有するジボロン化合物と、を、
（Ｄ）上記一般式（６）で示される化合物又はＮ−環状ヘテロカルベンを配位子とする、銅錯体を含む触媒、
の存在下にて反応させる工程を有するものであればよく、その他の具体的な条件、工程、材料等は特に限定されるものではない。以下、各要素について説明する。
【００４９】
＜２−１．（Ａ）一般式（４）で示される化合物＞
一般式（４）は、いわゆるアルキン類化合物であるが、特に、主鎖の内部に炭素−炭素三重結合を有する内部アルキン類化合物であることが好ましい。例えば、上記式（４）中、Ｒ６，Ｒ７はそれぞれ独立して、置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換されていてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリール基、置換されていてもよい炭素数７〜２０のアラルキル基、置換されていてもよい炭素数６〜２０のヘテロアリール基、置換されていてもよい炭素数６〜２０のヘテロアラルキル基を表す。また、Ｒ６，Ｒ７として、ケイ素含有基であってもよい。
【００５０】
「アルキル基」、「アルケニル基」、「アリール基」、「アラルキル基」、「ヘテロアリール基」及び「ヘテロアラルキル基」、「ケイ素含有基」としては、上記＜１＞欄にて記載したものと同様であるため、説明を省略する。なお、Ｒ６，Ｒ７としては、特に、電子的に中性の有機基あるいは電子供与性の有機基であることが好ましい。
【００５１】
＜２−２．（Ｂ）一般式（５）で示される化合物＞
一般式（５）で示される化合物は、金属原子Ｍを含む化合物である。ここで、式（５）中、Ｍは、Ｓｎ、Ｓｉ、Ｇｅのいずれかの金属原子を表す。Ｒ３〜Ｒ５，Ｒ８はそれぞれ独立して、水素、置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換されていてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリール基、置換されていてもよい炭素数７〜２０のアラルキル基、置換されていてもよい炭素数４〜２０のヘテロアリール基、置換されていてもよい炭素数５〜２０のヘテロアラルキル基を表す。「アルキル基」、「アルケニル基」、「アリール基」、「アラルキル基」、「ヘテロアリール基」及び「ヘテロアラルキル基」としては、上記＜１＞欄にて記載したものと同様であるため、説明を省略する。また、Ｒ３〜５についても、上記＜１＞欄にて記載した有機基であることが好ましい。
【００５２】
また、Ｘは、酸素、硫黄、又は窒素のヘテロ元素を表す。つまり、「Ｘ−Ｒ８」は、脱離基として機能するものであると換言できる。なかでも、Ｘは酸素であることが好ましい。またＸが窒素である場合は、Ｒ８に加えて、もう１つ他の有機基Ｒ９がＸに付加されていてもよい。この場合のＲ９はＲ３〜Ｒ５，Ｒ８について例示したものと同じ有機基を挙げることができる。
【００５３】
一般式（５）で示される化合物としては、原材料の入手容易性等の観点から、Ｒ３〜Ｒ５、Ｒ８がそれぞれ独立して、いずれも炭素を含む有機基であって、Ｘが酸素であるものが好ましい。特に、ＭがＳｎである第三級スズアルコキシド化合物であることが好ましい。
【００５４】
＜２−３．（Ｃ）ホウ素−ホウ素結合を有するジボロン化合物＞
また、上記ジボロン化合物は、ホウ素−ホウ素の単結合を有するジボロン化合物であればよく、その具体的な構成については特に限定されない。例えば、上記ジボロン化合物は、上記一般式（７）で示される化合物を例示できる。
【００５５】
ここで、式（７）中、Ｒ２１〜Ｒ２４はそれぞれ独立して、置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換されていてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリール基、置換されていてもよい炭素数７〜２０のアラルキル基、置換されていてもよい炭素数４〜２０のヘテロアリール基、置換されていてもよい炭素数５〜２０のヘテロアラルキル基、置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキレン基、置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリーレン基、又は置換されていてもよい炭素数１〜２０のアリーレン−アルキレン基を表す。「アルキル基」、「アルケニル基」、「アリール基」、「アラルキル基」、「ヘテロアリール基」及び「ヘテロアラルキル基」としては、上記＜１＞欄にて記載したものと同様であるため、説明を省略する。
【００５６】
なかでも特に、Ｒ２１とＲ２２とが、及び、Ｒ２３とＲ２４とが環を形成しているピナコールジボロン類であることが好ましい。
【００５７】
具体的には、例えば、以下のジボロン化合物を挙げることができる。なお、これらの化合物は、１種で用いてもよいし、複数を組み合わせて用いることもできる。
・ビス（ピナコール）ジボロン（Bis(pinacolato)diboron）
・ビス（ネオペンチルグリコレート）ジボロン（Bis(neopentyl glycolato)diboron）
・ビス（ヘキシレングリコレート）ジボロン（Bis(hexylene glycolato)diboron）
・ビス（カテコール）ジボロン（Bis(catecholato)diboron）
・ビス（Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−Ｌ−タルタルアミドグリコレート）ジボロン（Bis(N,N,N',N'-tetramethyl-L-tartaramide glycolato)diboron）
・ビス（Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−Ｄ−タルタルアミドグリコレート）ジボロン（Bis(N,N,N',N'-tetramethyl-D-tartaramide glycolato)diboron）
・ビス（ジエチル−Ｄ−タルタレートグリコレート）ジボロン（Bis(diethyl-D-tartrate glycolato)diboron）
・ビス（ジイソプロピル−Ｄ−タルタレートグリコレート）ジボロン（Bis(diisopropyl-D-tartrate glycolato)diboron）
・ビス（ジエチル−Ｌ−タルタレートグリコレート）ジボロン（Bis(diethyl-L-tartrate glycolato)diboron）
・ビス〔（＋）−ピナンジオレート〕ジボロン（Bis[(+)-pinanediolato]diboron）
・ビス〔（−）ピナンジオレート〕ジボロン〕（BIS[(-)PINANEDIOLATO]DIBORON）
・ビス（ジイソプロピル−Ｌ−タルタレートグリコレート）ジボロン（Bis(diisopropyl-L-tartrate glycolato)diboron）
なお、上記ピナコールジボロンは市販されているため、原料調達の面からも優れている（アルドリッチ社製や和光純薬社製のビス（ピナコラート）ジボロン等）。
【００５８】
＜２−４．（Ｄ）一般式（６）で示される化合物又はＮ−環状ヘテロカルベンを配位子とする、銅錯体を含む触媒＞
本触媒は、一般式（６）で示される化合物を配位子とする銅錯体、又はＮ−環状ヘテロカルベンを配位子とする銅錯体を含むものであればよく、その他の構成については特に限定されない。
【００５９】
ここで、式（６）中、Ｒ１１〜Ｒ１３はそれぞれ独立して、置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換されていてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリール基、置換されていてもよい炭素数７〜２０のアラルキル基、置換されていてもよい炭素数４〜２０のヘテロアリール基、置換されていてもよい炭素数５〜２０のヘテロアラルキル基、置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキレン基、置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリーレン基、又は置換されていてもよい炭素数１〜２０のアリーレン−アルキレン基を表す。「アルキル基」、「アルケニル基」、「アリール基」、「アラルキル基」、「ヘテロアリール基」及び「ヘテロアラルキル基」としては、上記＜１＞欄にて記載したものと同様であるため、説明を省略する。
【００６０】
また、リンに直接結合する原子はヘテロ原子ではなく炭素であることが好ましい。
【００６１】
一般式（６）で示す化合物は、いわゆる第３級ホスフィン化合物であるが、Ｒ１１〜Ｒ１３はルイス塩基性（電子供与性）が強い有機基であることが好ましい。また、Ｒ１１〜Ｒ１３は立体構造として嵩高い有機基であることが好ましい。これらの点及び入手容易性の観点より、特に好ましいＲ１１〜Ｒ１３として、シクロへキシル基、ｔ−ブチル基又はオクチル基、フェニル基等を挙げることができる。
【００６２】
また、「Ｎ−環状ヘテロカルベン」とは、カルベン（Ｒ２Ｃ：）炭素に、ヘテロ原子として窒素を結合した環状のものであればよい。例えば、以下の式（８）で示されるものを挙げることができる。
【００６３】
【化８】
2013155138.tif 000009
【００６４】
ここで、式（８）中、Ｒ３１，Ｒ３２はそれぞれ独立して、置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換されていてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリール基、置換されていてもよい炭素数７〜２０のアラルキル基、置換されていてもよい炭素数４〜２０のヘテロアリール基、置換されていてもよい炭素数５〜２０のヘテロアラルキル基、置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキレン基、置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリーレン基、又は置換されていてもよい炭素数１〜２０のアリーレン−アルキレン基を表す。「アルキル基」、「アルケニル基」、「アリール基」、「アラルキル基」、「ヘテロアリール基」及び「ヘテロアラルキル基」としては、上記＜１＞欄にて記載したものと同様であるため、説明を省略する。
【００６５】
例えば、実施例で使用しているＩＭｅｓ（1,3-bis(2,4,6-trimethylphenyl)imidazol-2-ylidene）を好適に使用できる。
【００６６】
また、上記銅錯体は、金属化合物として銅を有するものであればよく、その構成は特に限定されない。例えば、銅化合物としては、１価もしくは２価の銅化合物が挙げられ、具体的には、トリフルオロメタンスルホン酸銅（Ｉ）、トリフルオロメタンスルホン酸銅（ＩＩ）、酢酸銅（Ｉ）、酢酸銅（ＩＩ）、臭化銅（Ｉ）、臭化銅（ＩＩ）、塩化銅（Ｉ）、塩化銅（ＩＩ）、銅（ＩＩ）アセチルアセトナート、テトラキスアセトニトリル銅（Ｉ）ヘキサフルオロリン酸塩などが挙げられる。
【００６７】
銅化合物としては、特に、脱離基として酸素原子を含む脱離基を有するものであることが好ましい。「酸素原子を含む脱離基」としては、例えば、ヒドロキシ基、アセトキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、カルボキシ基などが挙げられ、これらは無置換であっても、置換されていてもよい。置換基としては、＜１＞欄で上述した置換基と同様のものが挙げられる。アルコキシ基としては、例えば、直鎖、分枝鎖または環状のアルコキシ基が挙げられ、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基などが挙げられる。なかでも、炭素数１〜６の直鎖もしくは分子鎖状のアルコキシ基が好ましく、さらに炭素数１〜４の直鎖もしくは分子鎖状のアルコキシ基が好ましい。アリールオキシ基としては、具体的にはフェノキシ基、１−ナフトキシ基、２−ナフトキシ基などが挙げられる。なかでも、炭素数６〜１２のアリールオキシ基が好ましく、さらに炭素数６〜１０のアリールオキシ基が好ましい。酸素原子を含む基としては、なかでもアセトキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基が好ましく、さらにアセトキシ基、ヒドロキシ基、メトキシ基、エトキシ基、フェノキシ基が好ましく、特にアセトキシ基が好ましい。なお、これらの銅化合物は、それぞれ単独で用いてもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。
【００６８】
銅錯体の製造方法について説明する。上記第３級ホスフィン化合物が金属に配位した銅錯体は、通常の金属錯体を合成する方法と同様の方法に従って製造することができる。例えば、第３級ホスフィン化合物を新たに金属に配位させる方法、予め配位していた配位子を第３級ホスフィン化合物と配位子交換させる方法などが挙げられる。具体的には、例えば、銅化合物と第３級ホスフィン化合物を、溶媒中で接触させることにより、目的とする第３級ホスフィン化合物が銅に配位した銅錯体を製造することができる。Ｎ−環状ヘテロカルベンを配位子とするものも同様に製造できる。
【００６９】
第３級ホスフィン化合物又はＮ−環状ヘテロカルベンの使用量は、金属に対する化合物の配位数によっても異なるが、通常、金属に対して、約０．８〜１０当量の範囲から適宜選択することができる。なかでも、実施例での使用量である、金属化合物１当量に対して、３．５当量の第３級ホスフィン化合物又は１当量のＮ−環状ヘテロカルベンを用いることが好ましい。
【００７０】
溶媒としては、メタノール、エタノールなどのアルコール類、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの炭化水素化合物類、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類、ジエチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類、ＤＭＦ、ＤＭＳＯ、ＤＭＩなどの非プロトン性極性溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素類などを好適に用いることができる。
【００７１】
反応温度は、約−７８℃から溶媒の沸点までの範囲から適宜選択することができる。接触時間には特に制限はないが、通常、０．１秒〜９６時間の範囲から適宜選択することができる。
【００７２】
錯体は固体として得ることもできる。錯体を固体として得る方法としては、例えば、反応溶媒および第３級ホスフィン化合物又はＮ−環状ヘテロカルベンを留去した後、錯体の溶解度が低い溶媒を添加することにより固体として単離する方法などが挙げられる。また、必要に応じて再結晶化を行うことにより、より純度の高い錯体を得ることもできる。カラムクロマトグラフィーによって単離、精製することも可能である。
【００７３】
なお、本銅錯体を含む触媒を触媒反応に用いる場合には、錯体の前駆体である金属化合物と第３級ホスフィン化合物とを別々に調製した後、触媒反応に用いる反応液中で接触させて、そのまま不斉触媒反応を行うこともできる。かかる態様も本発明に当然に含まれ得る。
【００７４】
また、本発明に係る金属−ホウ素化アルケン類化合物の製造方法においては溶媒を用いることが好ましい。溶媒としては、反応に対して不活性なものであればよく、特に制限はないが、例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの炭化水素類、エチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類等が挙げられる。これらの溶媒は、銅錯体（上記配位子と銅化合物の混合物である場合も含む）１重量部に対して、通常１〜１０００重量部、好ましくは５０〜５００重量部使用することが好ましい。
【００７５】
また、銅錯体の使用量は、原料化合物に対して、通常約０．１〜２０モル％、好ましくは約０．５〜１０モル％、より好ましくは約１〜５モル％である。なお、銅錯体はそのまま触媒として使用してもよいし、又は銅錯体の前駆体である銅化合物と配位子とを別々に反応系に投入し、反応液中で接触させて触媒として使用してもよい。
【００７６】
反応温度は、通常約−１００℃〜１５０℃、好ましくは約０℃〜１００℃、より好ましくは約５０℃〜９０℃である。反応時間は、反応速度に応じて適宜設定することができ、特に制限はないが、通常約１〜２００時間である。反応圧力は特に制限はなく、常圧、加圧のいずれでもよいが、通常は１〜３気圧下、好ましくは大気圧下で行われる。また、反応は、窒素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。
【００７７】
反応の進行状況は、例えば薄層クロマトグラフィー、カラムクロマトグラフィーなどによって判定することができる。反応後、水、メタノールなどを加えて反応を停止した後、必要に応じて有機溶媒で抽出し、溶媒を留去することにより目的とする化合物を単離することができる。また、必要に応じて、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの手段により目的化合物をさらに精製することもできる。得られた化合物の純度は、高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）やガスクロマトグラフィーなどによって測定することができる。
【００７８】
なお、触媒量、配位子量、基質モル比（原料化合物のモル比）、溶媒等については、当業者であれば本明細書の記載に基づき適宜設定でき、最適化することができる。
【００７９】
また、後述する実施例に示すように、アルキル（アリール）アルキン類の金属ホウ素化反応では、位置選択性が高く、金属含有基がアリール基と同じ炭素に結合する。このため、反応を制御しやすいという利点もある。
【００８０】
以上のように、本発明に係る金属−ホウ素化アルケン類化合物の製造方法によれば、金属−ホウ素化アルケン類化合物を効率よく製造できる。
【００８１】
＜３．本発明の利用技術＞
本発明には、上述した金属−ホウ素化アルケン類化合物におけるホウ素部位と金属部位とを、それぞれ別の官能基に変換する工程を含む、化合物の製造方法が含まれる。具体的な工程、条件、材料等については特に限定されず、公知の技術、例えば、クロスカップリング反応を好適に利用できる。
【００８２】
また、金属−ホウ素化アルケン類化合物に導入する官能基としては任意のものを挙げることができ、特に限定されない。例えば、それぞれ独立して、置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換されていてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリール基、置換されていてもよい炭素数７〜２０のアラルキル基、置換されていてもよい炭素数４〜２０のヘテロアリール基、置換されていてもよい炭素数５〜２０のヘテロアラルキル基、置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキレン基、置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリーレン基、又は置換されていてもよい炭素数１〜２０のアリーレン−アルキレン基を表す。「アルキル基」、「アルケニル基」、「アリール基」、「アラルキル基」、「ヘテロアリール基」及び「ヘテロアラルキル基」としては、上記＜１＞欄にて記載したものと同様であるため、説明を省略する。
【００８３】
本方法によれば、種々の機能・活性、例えば薬理活性等を有する化合物を容易に製造できる。特に、炭素−炭素二重結合に結合する４つの官能基が全て異なる四置換アルケンを容易に取得できる。
【００８４】
本発明は、以上説示した各構成に限定されるものではなく、明細書に記載した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。また、本明細書中に記載された文献の全てが参考として援用される。以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明はかかる実施例のみに限定されるものではない。
【実施例】
【００８５】
以下、実施例により、本発明をさらに詳細に説明する。本発明は、以下の実施例に限定されない。
【００８６】
〔実施例１〕
以下の手順にしたがい、ボリルスタニル化アルケンを製造した。
【００８７】
まず、セプタム、撹拌子を取り付けたシュレンクをフレームドライした後、アルゴン置換した。次に、酢酸銅（ＩＩ）（０．００６ｍｍｏｌ，２ｍｏｌ％，関東化学社製）、トリシクロヘキシルホスフィン（２５％トルエン溶液，０．０２１ｍｍｏｌ，７ｍｏｌ％，関東化学社製）、メタノール（１ｍｌ）をシュレンク内に入れ、セプタムをグリース付き玉栓に替え密封系にした後に、８０℃のオイルバスに浸け３０分撹拌した。
【００８８】
シュレンクを冷ました後に真空ラインにつなぎ、撹拌しつつ減圧してメタノールを揮発させた。約１時間減圧し続け、銅錯体を調製した。次いで、アルゴンをふかしつつ玉栓を外してシュレンクに付着したグリースを拭い取り、セプタムを取り付けた。
【００８９】
トリブチルスズアルコキシド（トリブチルスズメトキシド，０．３９ｍｍｏｌ，１．３ｅｑ、アルドリッチ社製）、ジフェニルアセチレン（０．３ｍｍｏｌ，１ｅｑ，東京化成社製）、ビス（ピナコラート）ジボロン（０．３９ｍｍｏｌ，１．３ｅｑ，boron molecular社製）、トルエン（１ｍｌ）を加え、再びセプタムをグリース付き玉栓と交換し密封系とした後、室温で撹拌した。
【００９０】
反応終了後、酢酸エチルで希釈しつつ、セライトを詰めた桐山ロートを用いて濾過した。濾液を分液ロートに入れ、酢酸エチルと飽和食塩水を用いて洗浄し、有機層をマイヤーに回収し、硫酸マグネシウムを用いて乾燥させた。その後セライトを詰めた桐山ロートを用いて濾過し、エバポレーターを用いて濾液を濃縮した後、真空ラインにつなげて乾燥させた。最後に、シリカゲルカラムを用いて目的物を単離した。
【００９１】
反応のスキームは以下の通りである。
【００９２】
【化９】
2013155138.tif 000010
【００９３】
反応時間６ｈで、得られたボリルスタニル化合物の収率は７２％であった。
【００９４】
また、触媒として、上述した物以外に、酢酸銅（ＩＩ）（０．００３ｍｍｏｌ）、トリシクロヘキシルホスフィン（２５％トルエン溶液，０．０１１ｍｍｏｌ）を用いた場合、反応時間３ｈで、得られたボリルスタニル化合物の収率は６９％であった。また、酢酸銅（ＩＩ）（０．００９ｍｍｏｌ）、トリシクロヘキシルホスフィン（２５％トルエン溶液，０．０３２ｍｍｏｌ）を用いた場合、反応時間１３ｈで、得られたボリルスタニル化合物の収率は６９％であった。
【００９５】
トリス（トリフェニルホスフィン）酢酸銅（Ｉ）（０．００３ｍｍｏｌ）、を用いた場合、反応時間７ｈで、得られたボリルスタニル化合物の収率は５８％であった。また、Ｎ−環状へテロカルベンであるＩＭｅｓＣｕＣｌ（０．００３ｍｍｏｌ）を用いた場合、反応時間１２ｈで、得られたボリルスタニル化合物の収率は５５％であった。
【００９６】
〔実施例２〕
ジフェニルアルキンに変えて、所定の内部アルキン（０．３ｍｍｏｌ，１ｅｑ，東京化成社製）を用いたこと以外は、実施例１と同様の手法で行った。なお、触媒は、酢酸銅（ＩＩ）（０．００６ｍｍｏｌ，２ｍｏｌ％，関東化学社製）、トリシクロヘキシルホスフィン（２５％トルエン溶液，０．０２１ｍｍｏｌ，７ｍｏｌ％，関東化学社製）を用いた。
【００９７】
反応スキームを以下に示す。
【００９８】
【化１０】
2013155138.tif 000011
【００９９】
内部アルキンのＲ，Ｒ’の組み合わせを以下の表に示す。
【０１００】
【表１】
2013155138.tif 000012
【０１０１】
得られたボリルスタニル化アルケンと、収率、反応時間を示す。また異性体が存在する場合は、その割合も記載する。
【０１０２】
【化１１】
2013155138.tif 000013
【０１０３】
上述の結果より、アルキル（アリール）アルキン類のボリルスタニル化反応では、位置選択性が高く、スズ含有基がアリール基と同じ炭素に結合する傾向があることがわかる。また、４−オクチン（Ｒ，Ｒ’がともにｎ−Ｐｒ（プロピル）基）は、アリール置換アルキンに比べて、トリブチルスズメトキシドを用いた標準条件の下ではボリルスタニル化への反応性が低かった（収率４８％，６ｈ）が、トリブチルスズメトキシドに替えて、トリブチルスズtert-ブトキシドを用いた場合、収率が顕著に向上した（収率７２％、２５ｈ）。
【産業上の利用可能性】
【０１０４】
本発明は、有機合成における中間体としてのみならず、ルイス酸触媒能や糖認識能を有する機能性分子、また癌に対する中性子捕捉療法における医薬品などのように、化学産業のみならず、医療、環境等の種々の分野に広く利用することができる。