(57)【要約】【課題】混色が低減されたパターン膜形成部材の製造方法を提供する。【解決手段】パターン膜の材料を含む機能液を液滴として吐出する吐出ヘッドと基材とを相対的に移動させながら前記基材上に前記液滴を吐出するパスを所定回数行い、前記基板上にパターン膜を形成するパターン膜形成部材の製造方法であって、前記基材上に前記パターン膜が形成されるパターン膜形成領域に対して前記吐出ヘッドの移動方向側に、前記パスにおける前記液滴の着弾を禁止する着弾禁止領域を設定する着弾禁止領域設定工程と、設定された前記着弾禁止領域に応じて、前記液滴を吐出して、前記パターン膜形成領域に前記機能液を塗布する機能液塗布工程と、を含み、前記着弾禁止領域設定工程では、前記パスの回数に応じて前記着弾禁止領域の広さを設定する。【選択図】図７
2013086068.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パターン膜の材料を含む機能液を液滴として吐出する吐出ヘッドと基材とを相対的に移動させながら前記基材上に前記液滴を吐出するパスを所定回数行い、前記基板上にパターン膜を形成するパターン膜形成部材の製造方法であって、
前記基材上に前記パターン膜が形成されるパターン膜形成領域に対して前記吐出ヘッドの移動方向側に、前記パスにおける前記液滴の着弾を禁止する着弾禁止領域を設定する着弾禁止領域設定工程と、
設定された前記着弾禁止領域に応じて、前記液滴を吐出して、前記パターン膜形成領域に前記機能液を塗布する機能液塗布工程と、を含み、
前記着弾禁止領域設定工程では、
前記パスの回数に応じて前記着弾禁止領域の広さを設定することを特徴とするパターン膜形成部材の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載のパターン膜形成部材の製造方法において、
前記着弾禁止領域設定工程では、
前記所定回数のパスにおける初回のパスに対応する着弾禁止領域よりも前記所定回数のパスにおける最終回のパスに対応する着弾禁止領域の方が広くなるように、前記着弾禁止領域の広さを設定することを特徴とするパターン膜形成部材の製造方法。
【請求項３】
請求項１または２に記載のパターン膜形成部材の製造方法において、
前記着弾禁止領域設定工程では、
前記初回のパスから前記最終回のパスにかけて前記着弾禁止領域を徐々に広げることを特徴とするパターン膜形成部材の製造方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載のパターン膜形成部材の製造方法において、
前記機能液塗布工程では、
前記初回のパスから前記最終回のパスにかけて徐々に前記機能液の塗布量を減らしながら、前記機能液を塗布することを特徴とするパターン膜形成部材の製造方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載のパターン膜形成部材の製造方法において、
前記機能液塗布工程では、
前記初回のパスから前記最終回のパスにかけて徐々に前記機能液のドット径を小さくしながら、前記機能液を塗布することを特徴とするパターン膜形成部材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パターン膜形成部材の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、パターン膜形成部材としてのカラーフィルターの製造方法では、基材上に形成された区画部によって区画された色素膜形成領域に向けて、色素膜の材料を含む機能液を液滴として吐出して、機能液を色素膜形成領域に付着させる方法が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平１０−１４２４１７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記のカラーフィルターの製造方法では、液滴を吐出する吐出ヘッドと基材とを相対的に移動させながら、液滴を吐出して、当該液滴を基材面に着弾させ、機能液を基板上に付着させている。ところで、吐出ヘッドのノズルから機能液を液滴として吐出した際、液滴の主滴に追随して尾引き部やサテライト等が発生することがある。この場合、吐出ヘッドと基材とを相対的に移動させながら液滴を吐出するため、尾引き部やサテライトは、主滴が基材に着弾する位置からずれて基材側に付着する。その結果、尾引き部やサテライトは、主滴が着弾された位置からずれた位置に付着することになる。すなわち、所望した位置からずれた位置に付着してしまうことになる。この場合、例えば、尾引き部やサテライトが位置ずれによって隣接する他の領域に付着してしまい、混色等を発生させてしまう、という課題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
【０００６】
［適用例１］本適用例にかかるパターン膜形成部材の製造方法は、パターン膜の材料を含む機能液を液滴として吐出する吐出ヘッドと基材とを相対的に移動させながら前記基材上に前記液滴を吐出するパスを所定回数行い、前記基板上にパターン膜を形成するパターン膜形成部材の製造方法であって、前記基材上に前記パターン膜が形成されるパターン膜形成領域に対して前記吐出ヘッドの移動方向側に、前記パスにおける前記液滴の着弾を禁止する着弾禁止領域を設定する着弾禁止領域設定工程と、設定された前記着弾禁止領域に応じて、前記液滴を吐出して、前記パターン膜形成領域に前記機能液を塗布する機能液塗布工程と、を含み、前記着弾禁止領域設定工程では、前記パスの回数に応じて前記着弾禁止領域の広さを設定することを特徴とする。
【０００７】
この構成によれば、パターン膜形成領域に対して吐出ヘッドの相対的な移動方向側に液滴の着弾が禁止される着弾禁止領域が設定され、当該着弾禁止領域に応じて、液滴が吐出される。ここで、パスの回数に応じて着弾禁止領域の広さが設定される。このため、例えば、パスを繰り返す毎にパターン膜形成領域内に蓄積される機能液の量を考慮して着弾禁止領域の広さを設定することが可能となる。例えば、パターン膜形成領域内に蓄積される機能液の量が少ない場合には着弾禁止領域の広さを比較的狭く設定し、パターン膜形成領域内に蓄積された機能液の量が比較的多くなった場合には着弾禁止領域をより広くすることが可能となる。これにより、液滴を吐出した際に発生する尾引き部やサテライト等が付着する領域が確保されるため、隣接する他のパターン膜形成領域の機能液との接触が防止され、パターン膜同士の混色不良等の不具合発生を低減することができる。
【０００８】
［適用例２］上記適用例にかかるパターン膜形成部材の製造方法の前記着弾禁止領域設定工程では、前記所定回数のパスにおける初回のパスに対応する着弾禁止領域よりも前記所定回数のパスにおける最終回のパスに対応する着弾禁止領域の方が広くなるように、前記着弾禁止領域の広さを設定することを特徴とする
【０００９】
この構成によれば、最終回のパスに対応する着弾禁止領域は、初回のパスに対応する着弾禁止領域よりも領域が広く設定される。従って、最終回のパスにおいて、液滴が吐出された際、液滴の主滴に追随する尾引き部やサテライト等がパターン膜形成領域に付着する領域が広くなる。すなわち、液滴の主滴が着弾した後に、遅れて着弾する尾引き部やサテライト等の付着領域が確保される。特に、最終回のパスにおける液滴の吐出時には、これまでのパスによりパターン膜形成領域には機能液の量が比較的多く塗布された状態である。このため、さらに液滴を付着させた場合、隣接する他のパターン膜形成領域に塗布された機能液と接触するおそれ生じるが、最終回のパスの着弾禁止領域が広く設定されるため、隣接する他のパターン膜形成領域の機能液との接触が防止され、パターン膜同士の混色不良等の不具合発生を低減することができる。
【００１０】
［適用例３］上記適用例にかかるパターン膜形成部材の製造方法の前記着弾禁止領域設定工程では、前記初回のパスから前記最終回のパスにかけて前記着弾禁止領域を徐々に広げることを特徴とする。
【００１１】
この構成によれば、初回のパスから最終回のパスにかけてパターン形成領域内に徐々に機能液が増加していくのに対して、着弾禁止領域が広がるように設定される。すなわち、隣接する他のパターン膜形成領域との距離が広がっていく。このため、吐出された液滴が既に塗布された機能液に衝突した際の衝撃波等による隣接するパターン膜形成領域の機能液同士の接触が低減され、混色を防止することができる。
【００１２】
［適用例４］上記適用例にかかるパターン膜形成部材の製造方法の前記機能液塗布工程では、前記初回のパスから前記最終回のパスにかけて徐々に前記機能液の塗布量を減らしながら、前記機能液を塗布することを特徴とする。
【００１３】
この構成によれば、初回のパスから最終回のパスにかけて吐出される機能液の塗布量が少なくなるので、例えば、最終回のパスにおいて液滴が吐出され、当該液滴がパターン膜形成領域に既に塗布されている機能液に到達した際の衝撃力は低いものとなる。これにより、液滴の衝撃波等による隣接するパターン膜形成領域の機能液同士の接触が低減され、混色を防止することができる。
【００１４】
［適用例５］上記適用例にかかるパターン膜形成部材の製造方法の前記機能液塗布工程では、前記初回のパスから前記最終回のパスにかけて徐々に前記機能液のドット径を小さくしながら、前記機能液を塗布することを特徴とする。
【００１５】
この構成によれば、初回のパスから最終回のパスにかけて吐出される機能液のドット径が小さくなるので、例えば、最終回のパスにおいて液滴が吐出され、当該液滴がパターン膜形成領域に既に塗布されている機能液に到達した際の衝撃力は低いものとなる。これにより、液滴の衝撃波等による隣接するパターン膜形成領域の機能液同士の接触が低減され、混色等の不具合発生を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】パターン膜形成部材としてのカラーフィルターの構成を示し、（ａ）は平面図、（ｂ）は断面図。
【図２】液滴吐出装置の構成を示す斜視図。
【図３】吐出ヘッドの構成を示す断面図。
【図４】液滴吐出装置の制御部の構成を示すブロック図。
【図５】液滴の吐出状態及び着弾状態を示す説明図。
【図６】パターン膜形成部材の製造方法の一部を説明する説明図。
【図７】第１実施形態にかかるパターン形成部材としてのカラーフィルターの製造方法の一部を説明する説明図。
【図８】電気光学装置としての液晶ディスプレイの構成を示す断面図。
【図９】電子機器としてのテレビ受像機の構成を示す斜視図。
【図１０】第２実施形態にかかるパターン形成部材としてのカラーフィルターの製造方法の一部を示す説明図。
【図１１】第３実施形態にかかるパターン形成部材としてのカラーフィルターの製造方法の一部を示す説明図。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明を具体化した第１〜第３実施形態について図面に従って説明する。なお、各図面における各部材は、各図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各部材ごとに縮尺を異ならせて図示している。
【００１８】
［第１実施形態］
（パターン膜形成部材の構成）
まず、パターン膜形成部材の構成について説明する。なお、本実施形態では、パターン膜形成部材としてのカラーフィルターの構成について説明する。図１は、カラーフィルターの構成を示し、図１（ａ）は、平面図であり、同図（ｂ）は、同図（ａ）のＡ−Ａ断面図である。
【００１９】
図１（ａ）、図１（ｂ）において、カラーフィルター１は、基材１０と、基材１０の上に形成された区画部１１と、区画部１１によって区画されたパターン膜形成領域としての色素膜形成領域１６と、色素膜形成領域１６に形成されたパターン膜としての色素膜１４と、区画部１１と色素膜１４の上に形成された保護膜１８等で構成されている。
【００２０】
基材１０は、透明性を有し、一般にガラス基材が用いられるが、他にプラスチック等も使用可能であり、カラーフィルター機能として透過率、強度等の必要特性を有するものであれば特に限定されるものではない。区画部１１は、遮光性を有し、金属、樹脂等を用いることができる。
【００２１】
（液滴吐出装置の構成）
次に、パターン膜形成部材の製造に用いられる液滴吐出装置の構成について説明する。図２は、液滴吐出装置の構成を示す斜視図である。
【００２２】
図２において、液滴吐出装置３０は、色素膜１４の材料となる液状体を液滴として吐出する吐出ヘッド５０を有するヘッド機構部３２と、吐出ヘッド５０から吐出された液滴の吐出対象である基材１０を載置するワーク機構部３３と、吐出ヘッド５０に液状体を供給する材料供給部３４と、吐出ヘッド５０の保守を行うメンテナンス機構部３５と、これら各機構部および供給部を統括的に制御する制御部３６等を備えている。
【００２３】
液滴吐出装置３０は、床上に設置された複数の支持脚４１と、支持脚４１の上側に設置された定盤４２を備えている。定盤４２の上側には、ワーク機構部３３が定盤４２の長手方向（Ｘ軸方向）に延在するように配置されている。ワーク機構部３３の上方には、定盤４２に固定された２本の支持柱５２で支持されているヘッド機構部３２が、ワーク機構部３３と直交する方向（Ｙ軸方向）に延在して配置されている。また、定盤４２の一方の端部には、ヘッド機構部３２の吐出ヘッド５０から連通して液状体を供給する材料供給部３４が配置されている。そして、ヘッド機構部３２の一方の支持柱５２近傍には、メンテナンス機構部３５がワーク機構部３３と並んでＸ軸方向に延在するように配置されている。さらに、定盤４２の下側には、制御部３６が備えられている。
【００２４】
ヘッド機構部３２は、液状体を吐出する吐出ヘッド５０と、吐出ヘッド５０を懸架したヘッドキャリッジ５１と、ヘッドキャリッジ５１のＹ軸方向への移動をガイドするＹ軸ガイド５３と、Ｙ軸ガイド５３の側方にＹ軸ガイド５３と平行に設置されたＹ軸リニアモーター５４等を備えている。
【００２５】
ワーク機構部３３は、ヘッド機構部３２の下方に位置し、ヘッド機構部３２とほぼ同様の構成でＸ軸方向に延在するように配置されており、基材１０を載置している載置台６１と、載置台６１の移動をガイドするＸ軸ガイド６３と、Ｘ軸ガイド６３の側方にＸ軸ガイド６３と平行に設置されたＸ軸リニアモーター６４等を備えている。
【００２６】
これらの構成により、吐出ヘッド５０と基材１０とは、それぞれＹ軸方向およびＸ軸方向に往復自在に移動することができる。最初に、吐出ヘッド５０の移動について説明する。吐出ヘッド５０を懸架したヘッドキャリッジ５１は、Ｙ軸ガイド５３に移動可能に取り付けられている。図示しないが、ヘッドキャリッジ５１からＹ軸リニアモーター５４側へ張り出している突起部が、Ｙ軸リニアモーター５４と係合して駆動力を得ることにより、ヘッドキャリッジ５１がＹ軸ガイド５３に沿って任意の位置に移動する。同様に、載置台６１に搭載された基材１０もＸ軸方向に自在に移動する。
【００２７】
このように、吐出ヘッド５０は、Ｙ軸方向の吐出位置まで移動して停止し、下方にある基材１０のＸ軸方向の移動に同調して、液滴を吐出する構成となっている。Ｘ軸方向に移動する基材１０と、Ｙ軸方向に移動する吐出ヘッド５０とを相対的に制御することにより、基材１０上に機能液を吐出することができる。
【００２８】
吐出ヘッド５０に液状体を供給する材料供給部３４は、タンク７５と、ポンプ７４と、タンク７５からポンプ７４を経て吐出ヘッド５０までを接続する流路チューブ７９とを備えている。
【００２９】
図３は、吐出ヘッドの構成を示す断面図である。図３に示すように、吐出ヘッド５０は、ノズルプレート１１５を備え、ノズルプレート１１５には、ノズル１２０が形成されている。ノズルプレート１１５の上側であってノズル１２０と相対する位置には、ノズル１２０に連通するキャビティ１１１が形成されている。そして、キャビティ１１１には、材料供給部３４から機能液が供給される。
【００３０】
キャビティ１１１の上側には、上下方向（Ｚ方向：縦振動）に振動して、キャビティ１１１内の容積を拡大縮小する振動板１１４と、上下方向に伸縮して振動板１１４を振動させる加圧手段としての圧電素子１１３が配設されている。そして、吐出ヘッド５０が圧電素子１１３を制御駆動するための駆動信号を受けると、圧電素子１１３が伸張して、振動板１１４がキャビティ１１１内の容積を縮小する。その結果、ノズル１２０から縮小した容積分の機能液が液滴１２１として吐出される。なお、本実施形態では、加圧手段として、縦振動型の圧電素子１１３を用いたが、特に、これに限定されず、例えば、下電極と圧電体層と上電極とを積層形成した撓み変形型の圧電素子を用いてもよい。また、圧力発生手段として、振動板と電極との間に静電気を発生させて、静電気力によって振動板を変形させてノズルから液滴を吐出させるいわゆる静電式アクチュエーターなどを使用してもよい。さらには、発熱体を用いてノズル内に泡を発生させ、その泡によって機能液を液滴として吐出させる構成を有する吐出ヘッドであってもよい。
【００３１】
図２に戻り、次に、メンテナンス機構部３５について説明する。メンテナンス機構部３５は、キャッピングユニット８６、ワイピングユニット８７、およびフラッシングユニット８８のメンテナンスユニットを備えている。さらに、メンテナンスユニットを載置するメンテキャリッジ８１と、メンテキャリッジ８１の移動をガイドするメンテキャリッジガイド８２と、メンテキャリッジ８１と一体の螺合部８５と、螺合部８５が螺合するボールねじ８４と、ボールねじ８４を回転させるメンテモーター８３とを備えている。これにより、メンテモーター８３が正逆回転すると、ボールねじ８４が回転し、螺合部８５を介してメンテキャリッジ８１が、Ｘ軸方向に移動する。メンテキャリッジ８１が吐出ヘッド５０のメンテナンスのために移動するときには、Ｙ軸ガイド５３に沿って吐出ヘッド５０が移動して、メンテナンスユニットの直上部に臨んでいる。
【００３２】
メンテナンスユニットのキャッピングユニット８６は、液滴吐出装置３０が稼動していない時に、吐出ヘッド５０に密着してキャッピングし、液状体が乾燥してノズル１２０が詰まるなどの不具合が生じないようにする。ワイピングユニット８７は、液状体の連続吐出後やキャッピング時にノズル１２０に付着した液状体などを、洗浄液を含むワイピング布で拭い、全ノズルの清浄な状態を維持する。フラッシングユニット８８は、液滴吐出装置３０の稼動開始時や基材１０への加工前に、ノズル１２０から吐出される液状体を受け、ノズル１２０の吐出状態を常に良好な状態にする。
【００３３】
これらのメンテナンスユニットにより、液滴吐出装置３０の非稼動時や基材１０を交換載置している加工待ち時などに、吐出ヘッド５０の状態を保全して良好な吐出状態を保つことができる。
【００３４】
次に、以上述べた構成を制御する制御部３６の構成について説明する。図４は、制御部３６の構成を示すブロック図である。制御部３６は、指令部１３０と駆動部１４０とを備え、指令部１３０は、ＣＰＵ１３２，記憶手段としてのＲＯＭ１３３，ＲＡＭ１３４および入出力インターフェイス１３１からなり、ＣＰＵ１３２が入出力インターフェイス１３１を介して入力される各種信号を、ＲＯＭ１３３、ＲＡＭ１３４のデータに基づき処理し、入出力インターフェイス１３１を介して駆動部１４０へ制御信号を出力する。
【００３５】
駆動部１４０は、ヘッドドライバー１４１、モータードライバー１４２、ポンプドライバー１４３、メンテドライバー１４５を備えている。モータードライバー１４２は、指令部１３０の制御信号により、Ｘ軸リニアモーター６４、Ｙ軸リニアモーター５４を制御し、基材１０、吐出ヘッド５０の移動を制御する。さらに、メンテモーター８３を制御してメンテナンス機構部３５の必要なユニットをメンテナンス位置へ移動させる。ヘッドドライバー１４１は、吐出ヘッド５０からの液状体の吐出を制御し、モータードライバー１４２の制御と同調して、基材１０上の所定位置に吐出などが行えるようにする。また、ポンプドライバー１４３は、液状体の吐出状態に対応してポンプ７４制御し、吐出ヘッド５０への供給を最適に制御する。そして、メンテドライバー１４５は、メンテナンス機構部３５のキャッピングユニット８６、ワイピングユニット８７およびフラッシングユニット８８を制御する。
【００３６】
ここで、吐出ヘッド５０から液滴１２１が吐出される状態等について説明する。図５は、液滴の吐出状態及び着弾状態を示す説明図である。なお、図５では、基材１０に対して、吐出ヘッド５０をＹ軸方向に移動させながら液滴１２１を吐出させた場合を例にして説明する。
【００３７】
まず、図５（ａ）は、吐出ヘッド５０のノズル１２０から液滴１２１が吐出された状態を示している。液滴１２１は、主滴１２１ａと、主滴１２１ａに追随して形成された尾引き部１２１ｂが形成される。また、尾引き部１２１ｂに追随してサテライト１２１ｃ等が形成される場合もある。
【００３８】
次に、図５（ｂ）〜図５（ｅ）は、吐出された液滴が基材１０の面に着弾する状態を示したものである。また、図５（ｂ）〜（ｅ）において、基材１０に着弾した液滴１２１、主滴１２１ａ、尾引き部１２１ｂ、サテライト１２１ｃを液滴１２１’、主滴１２１ａ’、尾引き部１２１ｂ’、サテライト１２１ｃ’として表している。
【００３９】
図５（ｂ）は、基材１０の表面に液滴１２１が着弾した状態を示している。図５（ｂ）に示すように、まず、主滴１２１ａが基材１０の面に着弾する。このとき、尾引き部１２１ｂやサテライト１２１ｃは、主滴１２１ａに比べて遅れて進んでいるため、基材１０の面に付着していない。
【００４０】
次に、図５（ｃ）に示すように、主滴１２１ａに続いて尾引き部１２１ｂが基材１０の面に付着する。主滴１２１ａが基材１０に着弾して尾引き部１２１ｂが基材１０に付着するまでの間、吐出ヘッド５０がＹ軸方向に相対的に移動しているため、尾引き部１２１ｂは、主滴１２１ａの着弾位置に対して、Ｙ軸方向側にずれて着弾される。換言すれば、吐出ヘッド５０の移動方向側にずれて付着される。
【００４１】
次に、図５（ｄ）に示すように、尾引き部１２１ｂに続いてサテライト１２１ｃが基材１０の面に付着する。尾引き部１２１ｂが基材１０に付着してサテライト１２１ｃが基材１０に着弾するまでの間、吐出ヘッド５０がＹ軸方向に相対的に移動しているため、サテライト１２１ｃは、尾引き部１２１ｂの着弾位置に対して、Ｙ軸方向側にずれて付着される。換言すれば、吐出ヘッド５０の移動方向側にずれて付着される。また、図５（ｅ）は、図５（ｄ）の液滴１２１の着弾状態を平面視したものである。図５（ｅ）に示すように、尾引き部１２１ｂやサテライト１２１ｃは、主滴１２１ａ対して吐出ヘッド５０の走査方向側にずれた位置に付着する。
【００４２】
以上、図５に示したように、吐出ヘッド５０と基材１０とを相対的に移動させながら液滴を吐出する場合、主滴１２１ａの着弾位置に対して尾引き部１２１ｂやサテライト１２１ｃが、吐出ヘッド５０の走査方向側にずれて付着してしまう傾向にある。従って、例えば、吐出ヘッド５０をカラーフィルター１等のパターン膜形成部材の製造に適用して吐出した場合に、尾引き部１２１ｂやサテライト１２１ｃが区画部１１上や隣接する他のパターン膜形成領域に付着してしまうと、隣接するパターン膜形成領域に塗布された機能液と接触し、混色を起こしてしまう。そこで、本実施形態では、このような不具合の発生を防止する。以下、パターン膜形成部材の製造方法において具体的に説明する。
【００４３】
（パターン膜形成部材の製造方法）
次に、パターン形成部材の製造方法について説明する。パターン膜形成部材の製造方法は、パターン膜の材料を含む機能液を液滴として吐出する吐出ヘッドと基材とを相対的に移動させながら基材上に液滴を吐出するパスを所定回数行い、基板上にパターン膜を形成するパターン膜形成部材の製造方法であって、基材上に前記パターン膜が形成されるパターン膜形成領域に対して吐出ヘッドの移動方向側に、パスにおける液滴の着弾を禁止する着弾禁止領域を設定する着弾禁止領域設定工程と、設定された着弾禁止領域に応じて、液滴を吐出して、パターン膜形成領域に機能液を塗布する機能液塗布工程と、を含み、着弾禁止領域設定工程では、パスの回数に応じて着弾禁止領域の広さを設定するものである。なお、本実施形態では、パターン膜形成部材としてのカラーフィルターの製造方法について説明する。
【００４４】
まず、着弾禁止領域設定工程について説明する。本実施形態の着弾禁止領域設定工程では、所定回数のパスにおける初回のパスに対応する着弾禁止領域よりも所定回数のパスにおける最終回のパスに対応する着弾禁止領域の方が広くなるように、着弾禁止領域の広さを設定する。図６は、パターン形成部材としてのカラーフィルターの製造方法の一部を説明する説明図である。具体的には、着弾禁止領域設定工程を示す説明図である。なお、本実施形態では、液滴の着弾を許可する着弾許可領域設定方法を含めて説明する。
【００４５】
図６に示すように、基材１０上に形成された区画部１１によって区画されたパターン膜形成領域としての色素膜形成領域１６のうち、区画部１１の近傍を除く領域であって、液滴１２１の着弾を許可する着弾許可領域２０１と、着弾許可領域２０１以外の領域であって、液滴１２１の着弾を禁止する着弾禁止領域２０２とを設定する。本実施形態では、着弾許可領域２０１は、所定回数のパスにおける初回のパスに対応する着弾許可領域としての第１着弾許可領域２０１ａと、所定回数のパスにおける最終回のパスに対応する着弾許可領域としての第２着弾許可領域２０１ｂと、を設定する。なお、着弾許可領域２０１は、液滴１２１の主滴１２１ａの着弾を許可する領域である。
【００４６】
図６（ａ）は、所定回数のパスのうち初回のパスにおける第１着弾許可領域２０１ａと第１着弾禁止領域２０２ａの設定を示している。本実施形態では、色素膜形成領域１６において、区画部１１の近傍を除く領域に第１着弾許可領域２０１ａを設定する。本実施形態の第１着弾許可領域２０１ａは、模式的に矩形で示されている。そして、色素膜形成領域に対して吐出ヘッド５０の移動方向側に第１着弾禁止領域２０２ａを設定する。本実施形態では、吐出ヘッド５０の移動方向（Ｙ軸方向）であって、第１着弾許可領域２０１ａの両側に第１着弾禁止領域２０２ａが設定される。そして、各第１着弾禁止領域２０２ａのＹ軸方向に対応する幅Ｗ１が同じに設定される。
【００４７】
図６（ｂ）は、最終回のパスにおける第２着弾許可領域２０１ｂと第２着弾禁止領域２０２ｂの設定を示している。なお、同図では、吐出ヘッド５０が相対的にＹ軸方向（プラス方向）に移動した場合について示している。本実施形態では、色素膜形成領域１６において、区画部１１の近傍を除く領域に矩形の第２着弾許可領域２０１ｂが設定されている。本実施形態では、第２着弾許可領域２０１ｂは、第１着弾許可領域２０１ａに比べ、Ｙ軸方向の幅が狭く設定される。そして、色素膜形成領域１６における第２着弾許可領域２０１ｂ以外の領域が着弾禁止領域２０２として設定されている。さらに、着弾禁止領域２０２において、吐出ヘッド５０の相対的な移動方向（Ｙ軸方向）側に第２着弾禁止領域２０２ｂを設定する。なお、本実施形態では、吐出ヘッド５０の移動方向（Ｙ軸方向）であって、第２着弾許可領域２０１ｂの一方側（吐出ヘッド５０の移動方向側）に第２着弾禁止領域２０２ｂが設定される。また、他方側には、図６（ａ）と同様にして、第１着弾禁止領域２０２ａと同じ領域が設定される。そして、第２着弾禁止領域２０２ｂが、初回のパスにおける第１着弾禁止領域２０２ａよりも広くなるように設定される。さらに具体的には、吐出ヘッド５０の走査方向（Ｙ軸方向）における第２着弾禁止領域２０２ｂの幅Ｗ２が、第１着弾禁止領域２０２ａの幅Ｗ１よりも広く設定される。
【００４８】
図６（ｃ）は、所定回数のパスのうち最終回のパスにおける第２着弾許可領域２０１ｂと第２着弾禁止領域２０２ｂとの設定を示している。なお、同図では、吐出ヘッド５０が相対的にＹ軸方向（マイナス方向）に移動した場合について示している（図６（ｂ）と逆の条件である）。本実施形態では、色素膜形成領域１６において、区画部１１の近傍を除く領域に矩形の第２着弾許可領域２０１ｂが設定されている。本実施形態では、第２着弾許可領域２０１ｂは、第１着弾許可領域２０１ａに比べ、Ｙ軸方向の幅が狭く設定される。そして、色素膜形成領域１６における第２着弾許可領域２０１ｂ以外の領域が着弾禁止領域２０２として設定されている。さらに、着弾禁止領域２０２において、吐出ヘッド５０の相対的な移動方向（Ｙ軸方向のマイナス方向）側に第２着弾禁止領域２０２ｂを設定する。なお、本実施形態では、吐出ヘッド５０の移動方向（Ｙ軸方向のマイナス方向）であって、第２着弾許可領域２０１ｂの一方側（吐出ヘッド５０の移動方向側）に第２着弾禁止領域２０２ｂが設定される。また、他方側には、図６（ａ）と同様にして、第１着弾禁止領域２０２ａと同じ領域が設定される。そして、第２着弾禁止領域２０２ｂが、初回のパスにおける第１着弾禁止領域２０２ａよりも広くなるように設定される。さらに具体的には、吐出ヘッド５０の走査方向（Ｙ軸方向のマイナス方向）における第２着弾禁止領域２０２ｂの幅Ｗ２が、第１着弾禁止領域２０２ａの幅Ｗ１よりも広く設定される。
【００４９】
なお、第１及び第２着弾禁止領域２０２ａ，２０２ｂの広さや幅は適宜設定が可能である。例えば、図５（ａ）に示した様に、液滴１２１の尾引き部１２１ｂの長さ分に応じて第１及び第２着弾禁止領域２０２ａ，２０２ｂの広さや幅Ｗ１，Ｗ２を設定してもよい。また、図５（ｅ），（ｆ）に示した様に、吐出ヘッド５０と基材１０とが相対的に移動した際に吐出した液滴１２１が基材１０の面に着弾した形状や色素膜形成領域１６に塗布される機能液の塗布量に応じて第１及び第２着弾禁止領域２０２ａ，２０２ｂの広さや幅Ｗ１，Ｗ２を適宜設定してもよい。
【００５０】
次に、機能液塗布工程について説明する。図７は、本実施形態にかかるパターン形成部材としてのカラーフィルターの製造方法の一部を説明する説明図である。具体的には、機能液塗布工程を示す説明図である。なお、本実施形態では、色素膜形成領域１６に対して吐出ヘッド５０をＹ軸方向（プラス方向）に移動させながら液滴１２１を吐出するパスを所定回数として４回行い、設定された第１及び第２着弾許可領域２０１ａ，２０１ｂに機能液を塗布する場合について説明する。また、図中において、各液滴１２１’には、液滴１２１を吐出したパスの回数に対応する番号を付している。
【００５１】
まず、図７（ａ）は、初回（第１回目）のパスにおける液滴１２１’の塗布方法を示している。図７（ａ）に示すように、色素膜形成領域１６には、第１着弾許可領域２０１ａと第１着弾禁止領域２０２ａが設定されており（図６（ａ）参照）、基材１０に対して吐出ヘッド５０をＹ軸方向に移動させながら液滴１２１を吐出する。これにより、色素膜形成領域１６内に設定された第１着弾許可領域２０１ａに液滴１２１’が着弾される。同図の例では、第１着弾許可領域２０１ａ内にＹ軸方向に平行して４列、各列に対して４ドットの液滴１２１’が塗布される。
【００５２】
次いで、図７（ｂ）は、第２回目のパスにおける液滴１２１’の塗布方法を示している。図７（ｂ）に示すように、図７（ａ）における初回のパスと同様にして、色素膜形成領域１６には、第１着弾許可領域２０１ａと第１着弾禁止領域２０２ａが設定されている。そして、基材１０に対して吐出ヘッド５０をＹ軸方向に移動させながら液滴１２１を吐出する。これにより、色素膜形成領域１６内に設定された第１着弾許可領域２０１ａに液滴１２１’が着弾される。同図の例では、第１着弾許可領域２０１ａ内にＹ軸方向に平行して４列、各列に対して４ドットの液滴１２１’が塗布される。
【００５３】
次いで、図７（ｃ）は、第３回目のパスにおける液滴１２１’の塗布方法を示している。図７（ｂ）に示すように、図７（ａ）における初回のパスと同様にして、色素膜形成領域１６には、第１着弾許可領域２０１ａと第１着弾禁止領域２０２ａが設定されている。そして、基材１０に対して吐出ヘッド５０をＹ軸方向に移動させながら液滴１２１を吐出する。これにより、色素膜形成領域１６内に設定された第１着弾許可領域２０１ａに液滴１２１’が着弾される。同図の例では、第１着弾許可領域２０１ａ内にＹ軸方向に平行して３列、各列に対して４ドットの液滴１２１’が塗布される。
【００５４】
次いで、図７（ｄ）は、最終回（第４回目）のパスにおける液滴１２１’の塗布方法を示している。図７（ｄ）に示すように、最終回（第４回目）のパスでは、色素膜形成領域１６内に第２着弾許可領域２０１ｂと第２着弾禁止領域２０２ｂとが設定される。本実施形態では、吐出ヘッド５０の相対的な移動方向側に第２着弾禁止領域２０２ｂが設けられ、当該移動方向（Ｙ軸方向）に対応する幅Ｗ２が初回〜第３回目のパスに対応する第１着弾禁止領域２０２ａにおける幅Ｗ１よりも広くなるように設定されている。そして、基材１０に対して吐出ヘッド５０をＹ軸方向に移動させながら液滴１２１を吐出する。これにより、色素膜形成領域１６内に設定された第２着弾許可領域２０１ｂに液滴１２１が着弾される。また、第２着弾許可領域２０１ｂは、第１着弾許可領域２０１ａよりも、Ｙ軸方向に対応する幅が狭く設定される。そして、Ｙ軸方向に平行して３列、各列に対して２ドットの液滴１２１’が塗布される。
【００５５】
以上、機能液塗布工程が終了した後、固化工程に移行する。固化工程では、塗布された機能液を、例えば、乾燥等により固化する。これにより、パターン膜としての色素膜１４が形成される。その後、必要に応じて、区画部１１と色素膜１４の上に保護膜１８を形成する。保護膜１８の形成方法としては、スピンコート法等が用いられ、材料としては、光硬化タイプ、熱硬化タイプあるいは光熱併用タイプの樹脂材料、蒸着、スパッタ等によって形成された無機膜等を用いることができる。以上、上記の製造方法によって、カラーフィルター１（図１参照）が形成される。
【００５６】
（電気光学装置）
次に、本実施形態にかかる電気光学装置について説明する。図８は、電気光学装置としての液晶ディスプレイの構成を示す断面図である。
【００５７】
図８において、液晶ディスプレイ１５０は、カラーフィルター１と、カラーフィルター１に対向して配置された素子基材１５１と、シール材１５２によって接着されたカラーフィルター１と素子基材１５１の隙間に充填された液晶１５３等で構成されている。
【００５８】
カラーフィルター１の保護膜１８の上には共通電極１６１が形成され、共通電極１６１の上には配向膜１６２が形成されている。また、基材１０の色素膜１４が形成された面の反対面には偏光板１７５が備えられている。
【００５９】
素子基材１５１は、透明性を有する基材１７０と、基材１７０の上に形成されたＴＦＴ（Thin  Film  Transistor）素子１７１と、基材１７０とＴＦＴ素子１７１の上に形成された配向膜１７２等で構成されている。また、基材１７０のＴＦＴ素子１７１が形成された面の反対面には偏光板１７６が備えられている。
【００６０】
（電子機器）
次に、本実施形態にかかる電子機器について説明する。図９は、電子機器としてのテレビ受像機の構成を示す斜視図である。図９において、テレビ受像機１８０の表示部に液晶ディスプレイ１５０が搭載されている。
【００６１】
従って、上記の第１実施形態によれば、以下に示す効果がある。
【００６２】
初回（第１回目）のパス〜第３回目のパスにおいて、第１着弾許可領域２０１ａと第１着弾禁止領域２０２ａを設定して液滴１２１を塗布し、最終回（第４回目）のパスにおいて、第２着弾許可領域２０１ｂと第２着弾禁止領域２０２ｂを設定して液滴１２１を塗布した。ここで、第２着弾禁止領域２０２ｂの領域や幅Ｗ２は第１着弾禁止領域２０２ａの領域や幅Ｗ１よりも広い。従って、液滴１２１を吐出した際に発生する尾引き部１２１ｂ’やサテライト１２１ｃが基材１０に付着する領域が確保される。特に、最終回のパスにおける液滴の吐出時には、第１〜第３回目までのパスにより既に色素膜形成領域１６には多量の機能液が塗布されている状態である。このため、さらに液滴を付着させた場合、隣接する他のパターン膜形成領域に塗布された機能液と接触するおそれ生じるが、第２着弾禁止領域２０２ｂが広く設定されるため、隣接する他の色素膜形成領域１６の機能液との接触が防止され、混色等の不具合発生を低減することができる。
【００６３】
［第２実施形態］
次に、第２実施形態について説明する。なお、パターン膜形成部材の構成、電気光学装置の構成、電子機器の構成、液滴吐出装置の構成、着弾禁止領域設定工程に関しては、第１実施形態と同様なので説明を省略し、主に、本実施形態におけるパターン膜形成部材としてのカラーフィルターの製造方法にかかる機能液塗布工程について説明する。
【００６４】
図１０は、本実施形態にかかるパターン形成部材としてのカラーフィルターの製造方法の一部を説明する説明図である。具体的には、機能液塗布工程を示す説明図である。本実施形態の機能液塗布工程では、初回のパスから最終回のパスにかけて徐々に前記機能液のドット径を小さくしながら、機能液を塗布するものである。なお、本実施形態では、色素膜形成領域１６に対して吐出ヘッド５０をＹ軸方向（プラス方向）に移動させたときに液滴１２１を吐出するパスを所定回数として４回行い、設定された第１及び第２着弾許可領域２０１ａ，２０１ｂに機能液を塗布する場合について説明する。また、図中において、各液滴１２１’には、液滴１２１を吐出したパスの回数に対応する番号を付している。
【００６５】
まず、図１０（ａ）は、初回（第１回目）のパスにおける液滴１２１’の塗布方法を示している。図１０（ａ）に示すように、色素膜形成領域１６には、第１着弾許可領域２０１ａと第１着弾禁止領域２０２ａが設定されており（図６（ａ）参照）、基材１０に対して吐出ヘッド５０をＹ軸方向に移動させながら液滴１２１を吐出する。これにより、色素膜形成領域１６内に設定された第１着弾許可領域２０１ａに液滴１２１’が着弾される。そして、初回（第１回目）のパスでは、比較大きなドット（大ドット１２１ａ’）で吐出する。同図の例では、Ｙ軸方向に平行して４列、各列に対して４ドットの機能液１２１’が塗布される。
【００６６】
次いで、図１０（ｂ）は、第２回目のパスにおける液滴１２１’の塗布方法を示している。図１０（ｂ）に示すように、図１０（ａ）における初回のパスと同様にして、色素膜形成領域１６には、第１着弾許可領域２０１ａと第１着弾禁止領域２０２ａが設定されている。そして、基材１０に対して吐出ヘッド５０をＹ軸方向に移動させながら液滴１２１を吐出する。これにより、色素膜形成領域１６内に設定された第１着弾許可領域２０１ａに液滴１２１’が着弾される。そして、第２回目のパスでは、大ドット１２１ａ’よりも小さいドット（中ドット１２１ｂ’）で吐出する。同図の例では、Ｙ軸方向に平行して４列、各列に対して３ドットの機能液１２１’が塗布される。
【００６７】
次いで、図１０（ｃ）は、第３回目のパスにおける液滴１２１’の塗布方法を示している。図１０（ｃ）に示すように、図１０（ａ）における初回のパスと同様にして、色素膜形成領域１６には、第１着弾許可領域２０１ａと第１着弾禁止領域２０２ａが設定されている。そして、基材１０に対して吐出ヘッド５０をＹ軸方向に移動させながら液滴１２１を吐出する。これにより、色素膜形成領域１６内に設定された第１着弾許可領域２０１ａに液滴１２１’が着弾される。そして、第２回目のパスでは、大ドット１２１ａ’よりも小さいドット（中ドット１２１ｂ’）で吐出する。同図の例では、Ｙ軸方向に平行して３列、各列に対して３ドットの機能液１２１’が塗布される。
【００６８】
次いで、図１０（ｄ）は、最終回（第４回目）のパスにおける液滴１２１’の塗布方法を示している。図１０（ｄ）に示すように、最終回（第４回目）のパスでは、色素膜形成領域１６に、第２着弾許可領域２０１ｂと第２着弾禁止領域２０２ｂとが設定される。本実施形態では、吐出ヘッド５０の相対的な移動方向側に第２着弾禁止領域２０２ｂが設けられ、当該移動方向（Ｙ軸方向）に対応する幅Ｗ２が第１着弾禁止領域２０２ａにおける幅Ｗ１よりも広くなるように設定され、第２着弾許可領域２０１ｂに液滴１２１が塗布される。また、第２着弾許可領域２０１ｂは、第１着弾許可領域２０１ａよりも、Ｙ軸方向に対応する幅が狭く設定される。この場合、Ｙ軸方向に平行して３列、各列に対して２ドットの機能液１２１’が塗布される。そして、最終回のパスでは、中ドット１２１ｂ’よりも小さいドット（小ドット１２１ｃ’）で吐出する。同図の例では、Ｙ軸方向に平行して３列、各列に対して２ドットの機能液１２１’が塗布される。
【００６９】
以上、機能液塗布工程が終了した後、固化工程に移行する。固化工程では、塗布された機能液を、例えば、乾燥等により固化する。これにより、パターン膜としての色素膜１４が形成される。その後、必要に応じて、区画部１１と色素膜１４の上に保護膜１８を形成する。保護膜１８の形成方法としては、スピンコート法等が用いられ、材料としては、光硬化タイプ、熱硬化タイプあるいは光熱併用タイプの樹脂材料、蒸着、スパッタ等によって形成された無機膜等を用いることができる。以上、上記の製造方法によって、カラーフィルター１（図１参照）が形成される。
【００７０】
従って、上記の第２実施形態によれば、第１実施形態の効果に加え、以下に示す効果がある。
【００７１】
初回のパスから最終回のパスにかけて吐出される機能液のドット径が小さくなるので、例えば、最終回のパスにおいて液滴１２１ｃ’が吐出され、当該液滴１２１ｃ’がパターン膜形成領域に既に塗布されている機能液１２１に到達した際の衝撃力は低いものとなる。これにより、液滴１２１ｃ’の衝撃波等による隣接する他の色素膜形成領域１６の機能液同士の接触が低減され、混色等の不具合発生を防止することができる。
【００７２】
［第３実施形態］
次に、第３実施形態について説明する。なお、パターン膜形成部材の構成、電気光学装置の構成、電子機器の構成、液滴吐出装置の構成、着弾禁止領域設定工程に関しては、第１実施形態と同様なので説明を省略し、主に、本実施形態におけるパターン膜形成部材としてのカラーフィルターの製造方法にかかる機能液塗布工程について説明する。
【００７３】
図１１は、本実施形態にかかるパターン形成部材としてのカラーフィルターの製造方法の一部を説明する説明図である。具体的には、機能液塗布工程を示す説明図である。また、図中において、各液滴１２１’には、液滴１２１を吐出したパスの回数に対応する番号を付している。
【００７４】
まず、図１１（ａ）は、初回（第１回目）のパスにおける液滴１２１’の塗布方法を示している。図１１（ａ）に示すように、色素膜形成領域１６には、第１着弾許可領域２０１ａと第１着弾禁止領域２０２ａが設定されており（図６（ａ）参照）、基材１０に対して吐出ヘッド５０をＹ軸方向（プラス方向）に移動させながら液滴１２１を吐出する。これにより、色素膜形成領域１６内に設定された第１着弾許可領域２０１ａに液滴１２１’が着弾される。同図の例では、Ｙ軸方向に平行して４列、各列に対して４ドットの機能液１２１’が塗布される。
【００７５】
次いで、図１１（ｂ）は、第２回目のパスにおける液滴１２１’の塗布方法を示している。図１１（ｂ）に示すように、色素膜形成領域１６には、第１着弾許可領域２０１ａと第１着弾禁止領域２０２ａが設定されており（図６（ａ）参照）、基材１０に対して吐出ヘッド５０をＹ軸方向（マイナス方向）に移動させながら液滴１２１を吐出する。これにより、色素膜形成領域１６内に設定された第１着弾許可領域２０１ａに液滴１２１’が着弾される。同図の例では、Ｙ軸方向に平行して４列、各列に対して４ドットの機能液１２１’が塗布される。
【００７６】
次いで、図１１（ｃ）は、第３回目のパスにおける液滴１２１’の塗布方法を示している。図１１（ｃ）に示すように、色素膜形成領域１６には、第１着弾許可領域２０１ａと第１着弾禁止領域２０２ａが設定されており（図６（ａ）参照）、基材１０に対して吐出ヘッド５０をＹ軸方向（プラス方向）に移動させながら液滴１２１を吐出する。これにより、色素膜形成領域１６内に設定された第１着弾許可領域２０１ａに液滴１２１’が着弾される。同図の例では、Ｙ軸方向に平行して３列、各列に対して４ドットの機能液１２１’が塗布される。
【００７７】
次いで、図１１（ｄ）は、最終回（第４回目）のパスにおける液滴１２１’の塗布方法を示している。基材１０に対して吐出ヘッド５０をＹ軸方向（マイナス方向）に移動させながら液滴１２１を吐出し、色素膜形成領域１６内に設定された第１着弾許可領域２０１ａに液滴１２１’が塗布される。ここで、図１１（ｄ）に示すように、最終回（第４回目）のパスでは、第２着弾許可領域２０１ｂと第２着弾禁止領域２０２ｂとが設定される。本実施形態では、吐出ヘッド５０の相対的な移動方向側に第２着弾禁止領域２０２ｂが設けられ、当該移動方向（Ｙ軸方向のマイナス方向）に対応する幅Ｗ２が第１着弾禁止領域２０２ａにおける幅Ｗ１よりも広くなるように設定される（図６（ｃ）参照）。そして、第２着弾許可領域２０１ｂは、第１着弾許可領域２０１ａよりも、Ｙ軸方向に対応する幅が狭く設定される。この場合、Ｙ軸方向に平行して３列、各列に対して２ドットの機能液１２１’が塗布される。
【００７８】
以上、機能液塗布工程が終了した後、固化工程に移行する。固化工程では、塗布された機能液を、例えば、乾燥等により固化する。これにより、パターン膜としての色素膜１４が形成される。その後、必要に応じて、区画部１１と色素膜１４の上に保護膜１８を形成する。保護膜１８の形成方法としては、スピンコート法等が用いられ、材料としては、光硬化タイプ、熱硬化タイプあるいは光熱併用タイプの樹脂材料、蒸着、スパッタ等によって形成された無機膜等を用いることができる。以上、上記の製造方法によって、カラーフィルター１（図１参照）が形成される。
【００７９】
従って、上記の第３実施形態によれば、第１及び第２実施形態の効果に加え、以下に示す効果がある。
【００８０】
吐出ヘッド５０が双方向（往路及び復路）に移動しながら液滴１２１を吐出するので、効率よく色素膜形成領域１６内に機能液を塗布することができる。さらに、吐出ヘッド５０が移動方向に応じて、第１及び第２着弾許可領域２０１ａ，２０１ｂ、第１及び第２着弾禁止領域２０２ａ，２０２ｂが設定されるため、隣接する他の色素膜形成領域１６の機能液との混色を防止することができる。
【００８１】
なお、上記の実施形態に限定されるものではなく、以下のような変形例が挙げられる。
【００８２】
（変形例１）上記の第１〜第３実施形態では、基材１０に対する吐出ヘッド５０の相対的な移動方向側とは反対側における着弾禁止領域２０２を第１着弾禁止領域２０２ａとして設定したが、これに限定されない。当該着弾禁止領域２０２は任意に設定してもよい。この場合において、基材１０に対する吐出ヘッド５０の相対的な移動方向側の着弾禁止領域に関し、初回のパスにおける着弾禁止領域よりも、最終回のパスにおける着弾禁止領域の方が広くなるように設定すればよい。このようにしても、上記同様の効果を得ることができる。
【００８３】
（変形例２）上記の第１〜第３実施形態では、初回のパスから第３回目のパスにおいて吐出ヘッド５０の移動方向側の着弾禁止領域２０２（第１着弾禁止領域２０２ａ）を同じ広さに設定したが、これに限定されない。例えば、液滴着弾領域設定工程において、着弾許可領域に対する吐出ヘッド５０の相対的な同一移動方向側の着弾禁止領域を、初回のパスから最終回のパスにかけて徐々に広げてもよい。このようにすれば、初回のパスから最終回のパスにかけてパターン形成領域内に徐々に機能液が増加していくのに対して、着弾禁止領域が広がる。すなわち、隣接する他のパターン膜形成領域との距離が広がる。このため、吐出された液滴が既に塗布された機能液に衝突した際の衝撃波等による隣接するパターン膜形成領域の機能液同士の接触が低減され、混色を防止することができる。
【００８４】
（変形例３）上記の第１実施形態では、初回のパスから第３回目のパスの各パスにおける機能液の塗布量を同じとしたが、これに限定されない。例えば、機能液塗布工程では、初回のパスから最終回のパスにかけて徐々に機能液の塗布量を減らしながら、設定された着弾許可領域に機能液を塗布してもよい。このようにすれば、初回のパスから最終回のパスにかけて吐出される機能液の塗布量が少なくなるので、例えば、最終回のパスにおいて液滴が吐出され、当該液滴がパターン膜形成領域に既に塗布されている機能液に到達した際の衝撃力は低いものとなる。これにより、液滴の衝撃波等による隣接するパターン膜形成領域の機能液同士の接触が低減され、混色を防止することができる。
【００８５】
（変形例４）上記の第１〜第３実施形態では、基材１０に対して吐出ヘッド５０を移動させながら液滴１２１を吐出するパスを行ったが、吐出ヘッド５０に対して基材１０を移動させながら液滴１２１を吐出してもよい。このようにしても、上記同様の効果を得ることができる。
【００８６】
（変形例５）上記の第１〜第３実施形態では、パターン膜形成部材としてカラーフィルター１を例として説明したが、これに限定されることなく、例えば、ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）発光部材、シリカガラス前駆体、金属化合物等の導電部材、誘電体部材等についても適用することができる。
【符号の説明】
【００８７】
１…パターン膜形成部材としてのカラーフィルター、１０…基材、１１…区画部、１４…パターン膜としての色素膜、１６…パターン膜形成領域としての色素膜形成領域、３０…液滴吐出装置、５０…吐出ヘッド、１５０…電気光学装置としての液晶ディスプレイ、１８０…電子機器としてのテレビ受像機、２０１…着弾許可領域、２０１ａ…第１着弾許可領域、２０１ｂ…第２着弾許可領域、２０２…着弾禁止領域、２０２ａ…第１着弾禁止領域、２０２ｂ…第２着弾禁止領域。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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