(57)【要約】【課題】電気的導通状態を維持したままでの圧縮量を十分に確保しつつ、十分な耐久性を確保する。【解決手段】基板１１における各電極１２が形成された電極形成面１３と、各電極１２に対応して検査ヘッド４に配設された各プローブ３２との間に配設されて、電極１２と電極１２に対応するプローブ３２との間で挟まれて圧縮される部位がエラストマーで形成される絶縁層２１に導電性粒子２２，２３を分散させて構成されると共に、この部位が圧縮された状態において厚み方向に導電性を発現する導電性シート３であって、導電性粒子２２，２３のうちの絶縁層２１の表面に分散している導電性粒子２２は金属粒子で構成され、絶縁層２１の内部に分散している導電性粒子２３はエラストマー粒子２３ａの表面に導電性めっき層２３ｂが形成されて構成されている。【選択図】図２
2013161553.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
検査対象基板における複数の電極が形成された電極形成面と、前記複数の電極に対応して検査ヘッドに配設された複数のプローブとの間に配設されて、少なくとも前記電極と当該電極に対応するプローブとの間で挟まれて圧縮される部位がエラストマーで形成される絶縁層に導電性粒子を分散させて構成されると共に当該部位が圧縮された状態において厚み方向に導電性を発現する導電性シートであって、
前記導電性粒子のうちの前記絶縁層の表面に分散している導電性粒子は金属粒子で構成され、当該絶縁層の内部に分散している導電性粒子はエラストマー粒子の表面に導電性めっきが施されて構成されている導電性シート。
【請求項２】
検査対象基板の電極形成面に形成された複数の電極に対応して複数のプローブが配設されると共に当該検査対象基板に対して相対的に接離動させられる検査ヘッドと、
前記電極形成面と前記複数のプローブとの間に配設されて、少なくとも前記電極と当該電極に対応するプローブとの間で挟まれて圧縮される部位がエラストマーで形成される絶縁層に導電性粒子を分散させて構成されると共に当該部位が圧縮された状態において厚み方向に導電性を発現する導電性シートと、
前記導電性を発現した前記部位を介して前記電極と電気的に接続された前記プローブに検査用信号を供給することによって前記検査対象基板を検査する検査部とを備えた基板検査装置であって、
前記導電性粒子のうちの前記絶縁層の表面に分散している導電性粒子は金属粒子で構成され、当該絶縁層の内部に分散している導電性粒子はエラストマー粒子の表面に導電性めっきが施されて構成されている基板検査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、検査装置側のプローブと検査対象基板側の電極との間に配設されて、そのプローブおよび電極の間で押圧（圧縮）された部位において導電性を発現して両者を導通させる導電性シート、およびこの導電性シートを備えた基板検査装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
この種の導電性シートとして、下記特許文献１において従来の技術として開示された半導体素子実装用シートが知られている。このシートは、エポキシ系樹脂材料など熱硬化性樹脂から形成された封止用絶縁シートの膜厚方向に複数の貫通孔を設け、これらの貫通孔の中に、エラストマーに導電性粒子を分散させた導電路形成用材料を充填して導電路を形成して構成されている。この場合、導電性粒子としては、例えば、金属や合金の粒子、あるいはポリマー粒子の表面を導電性金属でめっきした構造のカプセル型導電性粒子などが使用されている。
【０００３】
このシートは、半導体ウェハのバーンイン試験を行う場合に、半導体ウェハ表面のアルミニウムなどからなる電極パッドと測定装置のヘッド電極との間の電極高さのバラツキによる接触不良を補うため、これらの半導体ウェハとヘッド電極との間に挟んで使用される。このシートでは、半導体ウェハの電極パッドとヘッド電極とによって膜厚方向に押圧された際に、導電路のエラストマーが圧縮されて各導電性粒子が連結することにより、導電路の膜厚方向のみに電気的導通が得られるようになっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００４−２６５８４４号公報（第４−５頁、第７図）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところが、上記の導電性シートには、以下のような解決すべき課題が存在している。すなわち、この導電性シートでは、半導体ウェハ表面の電極パッドと測定装置のヘッド電極との間の電極高さのバラツキを吸収するために、圧縮されて電気的導通が得られる状態から、電気的導通状態を維持したままさらに圧縮（弾性変形）可能に構成されている必要がある。この場合、電気的導通が得られてからの更なる圧縮量（弾性変形量）は、上記電極高さのバラツキを確実に吸収するためには、弾性変形の殆ど無い金属や合金で構成される金属粒子を導電性粒子として使用するよりは、弾性変形可能なポリマー粒子の表面を導電性金属でめっきした構造のカプセル型導電性粒子を使用するのが好ましいと考えられる。
【０００６】
しかしながら、上記のカプセル型導電性粒子のみを使用する構成を採用した導電性シートでは、カプセル型導電性粒子が、半導体ウェハの電極パッドや測定装置のヘッド電極と接触するシートの表面に、めっき部分がエラストマーに覆われた状態ではなく、エラストマーから露出した状態で配設される構成となることから、電極パッドやヘッド電極との直接接触により、めっきが剥離することがある。このため、この構成を採用した導電性シートには、十分な耐久性を確保することが困難であるという解決すべき課題が存在している。
【０００７】
本発明は、かかる課題を解決するためになされたものであり、電気的導通状態を維持したままでの圧縮量（弾性変形量）を十分に確保しつつ、十分な耐久性を確保し得る導電性シートを提供することを主目的とする。また、この導電性シートを備えた基板検査装置を提供することを他の主目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成すべく請求項１記載の導電性シートは、検査対象基板における複数の電極が形成された電極形成面と、前記複数の電極に対応して検査ヘッドに配設された複数のプローブとの間に配設されて、少なくとも前記電極と当該電極に対応するプローブとの間で挟まれて圧縮される部位がエラストマーで形成される絶縁層に導電性粒子を分散させて構成されると共に当該部位が圧縮された状態において厚み方向に導電性を発現する導電性シートであって、前記導電性粒子のうちの前記絶縁層の表面に分散している導電性粒子は金属粒子で構成され、当該絶縁層の内部に分散している導電性粒子はエラストマー粒子の表面に導電性めっきが施されて構成されている。
【０００９】
請求項２記載の基板検査装置は、検査対象基板の電極形成面に形成された複数の電極に対応して複数のプローブが配設されると共に当該検査対象基板に対して相対的に接離動させられる検査ヘッドと、前記電極形成面と前記複数のプローブとの間に配設されて、少なくとも前記電極と当該電極に対応するプローブとの間で挟まれて圧縮される部位がエラストマーで形成される絶縁層に導電性粒子を分散させて構成されると共に当該部位が圧縮された状態において厚み方向に導電性を発現する導電性シートと、前記導電性を発現した前記部位を介して前記電極と電気的に接続された前記プローブに検査用信号を供給することによって前記検査対象基板を検査する検査部とを備えた基板検査装置であって、前記導電性粒子のうちの前記絶縁層の表面に分散している導電性粒子は金属粒子で構成され、当該絶縁層の内部に分散している導電性粒子はエラストマー粒子の表面に導電性めっきが施されて構成されている。
【発明の効果】
【００１０】
請求項１記載の導電性シートでは、導電性シートに分散されている導電性粒子のうちの絶縁層の表面に分散している導電性粒子が金属粒子で構成され、絶縁層の内部に分散している導電性粒子がエラストマー粒子の表面に導電性めっきが施されて構成されている。
【００１１】
したがって、この導電性シートによれば、基板の各電極と検査ヘッドの各プローブとの間で挟まれて圧縮された部位において厚み方向に導電性を発現した状態から、絶縁層の内部に分散されている導電性粒子を弾性変形させることで、電気的導通状態を維持したまま基板の各電極と検査ヘッドの各プローブとをさらに大きく接近させることができるため（電気的導通が得られてからの導電性シートのさらなる圧縮量を十分に確保できるため）、各プローブの長さや電極の厚みにバラツキが存在していたとしても、これらのバラツキを上記の各電極と各プローブとのさらなる接近（電気的導通状態を維持した状態での導電性シートのさらなる圧縮）によって吸収することができる結果、各電極と各プローブとを導電性シートを介して電気的に確実に接続することができる。
【００１２】
また、各電極および各プローブと直接接触する絶縁層の表面側には、金属粒子で形成されていて固い導電性粒子が分散されている。したがって、この導電性シートおよび導電性シートを備えた基板検査装置によれば、各電極および各プローブの表面に酸化皮膜が形成されていたとしても、固い導電性粒子によって酸化皮膜を破壊することができるため、各電極および各プローブを良好な状態（接触抵抗の少ない状態）で電気的に接続することができる。また、破損のおそれのない固い金属粒子で形成された導電性粒子のみが各電極および各プローブと直接接触し、破損のおそれのある導電性めっきで形成された導電性めっき層を有する導電性粒子は電極およびプローブと直接接触しない構成のため、導電性めっき層が電極やプローブと直接接触して破損してエラストマー粒子から剥離するという不具合の発生が回避されていることから、導電性シートについて十分な耐久性を確保することができる。
【００１３】
また、エラストマー粒子の表面に導電性めっき層が形成されて構成された導電性粒子はすべて絶縁層内に埋設されて、各導電性粒子の導電性めっき層は周囲の絶縁層によって内側のエラストマー粒子側に常に押圧された状態となっている。したがって、この導電性シートおよび導電性シートを備えた基板検査装置によれば、導電性粒子が弾性変形を繰り返した際に、エラストマー粒子の表面から導電性めっき層が剥離するという不具合の発生が確実に回避されるため、この点からも十分な耐久性を確保することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】基板検査装置１の構成を示す構成図である。
【図２】導電性シート３の非圧縮状態での構成を示す厚み方向に沿った断面図である。
【図３】導電性シート３が厚み方向に沿った導電性の発現を開始した状態での導電性シート３の構成を示す厚み方向に沿った断面図である。
【図４】図３の状態からさらに圧縮した状態での導電性シート３の構成を示す厚み方向に沿った断面図である。
【図５】他の導電性シート３Ａの構成を示す厚み方向に沿った断面図である。
【図６】他の導電性シート３Ｂの構成を示す厚み方向に沿った断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、基板検査装置１の実施の形態について、添付図面を参照して説明する。
【００１６】
最初に、基板検査装置１の構成について、図面を参照して説明する。
【００１７】
基板検査装置１は、図１に示すように、載置台２、導電性シート３、検査ヘッド４、接離動機構５、測定部６、処理部７および出力部８を備え、載置台２に載置されている検査対象基板１１（以下、単に基板１１ともいう）を検査可能に構成されている。
【００１８】
載置台２は、一例として、上面に不図示の保持機構が配設されて、上面に載置された基板１１をこの保持機構で保持可能に構成されている。この場合、基板１１は、複数の電極１２が形成された電極形成面１３を上にした状態で載置台２に載置される。
【００１９】
導電性シート３は、本例では、一例として、図２に示すように、エラストマー（例えばゴム）を用いて均一の厚みに形成された絶縁層（絶縁シート体）２１と、この絶縁層２１全体に分散（本例では、整列させずに、ランダムな状態で分散）させられた２種類の導電性粒子２２，２３とを備えている。
【００２０】
具体的には、導電性粒子２２は、導電性金属材料を用いて粒体に形成されて（つまり、金属粒子で形成されて）、絶縁層２１の表面（上面および下面）全域に亘って、表面の一部が絶縁層２１から露出（突出）した状態（残りの部位が絶縁層２１に埋設された状態）で分散されている。他の導電性粒子２３は、エラストマー粒子２３ａおよび導電性めっき層（導電性めっき膜）２３ｂを備えている。この場合、導電性めっき層２３ｂは、エラストマー粒子２３ａの表面に導電性めっき（例えば、導電性を有する金属めっき）が施されて形成されている。また、導電性粒子２３は、絶縁層２１の内部（つまり、導電性粒子２２が分散されている絶縁層２１における上面側の上側表面領域Ａと下面側の下側表面領域Ｂとで挟まれた中間領域Ｃ）に分散されている。この場合、エラストマー粒子２３ａの材料としては、絶縁層２１よりも弾性変形し難いエラストマー（絶縁層２１よりもヤング率の大きなエラストマー）が使用される。
【００２１】
検査ヘッド４は、図１に示すように、載置台２の上面と対向した状態で配設されている。また、検査ヘッド４における載置台２の上面との対向面３１には、載置台２の上面に載置される基板１１の電極形成面１３に形成されている複数の電極１２に対応して、複数のプローブ３２が配設されている。接離動機構５は、処理部７によって制御されることにより、載置台２の上面と検査ヘッド４の対向面３１とが対向する状態を維持したまま、載置台２と検査ヘッド４とを相対的に接離動させる。
【００２２】
測定部６は、処理部７と共に検査部を構成し、検査ヘッド４の各プローブ３２と配線を介して接続されて、例えば、各プローブ３２のうちの処理部７によって指定された一対のプローブ３２間に検査用電流Ｉ１を出力しつつ、この一対のプローブ３２間の電位差Ｖ１を測定可能に構成されている。また、測定部６は、検査用電流Ｉ１の電流値と測定した電位差Ｖ１とに基づいて一対のプローブ３２間の抵抗値Ｒ１を測定して処理部７に出力可能に構成されている。
【００２３】
処理部７は、一例として不図示のＣＰＵおよびメモリを備えて構成されて、接離動機構５および測定部６に対する制御処理、および測定部６から出力される抵抗値Ｒ１に基づいて基板１１を検査する検査処理を実行する。メモリには、良品の基板１１において測定される各一対のプローブ３２間の抵抗値Ｒ１が含まれる範囲を規定する数値がしきい値として予め記憶されている。
【００２４】
出力部８は、一例として、液晶ディスプレイなどの表示装置で構成されて、処理部７によって実行された検査処理の結果を画面上に表示する。なお、表示装置に代えて、外部装置とデータ通信を行うインターフェース装置で構成して、この外部装置に処理部７での検査処理の結果を出力する構成を採用することもできる。
【００２５】
次に、基板検査装置１の動作について図面を参照して説明する。なお、予め、載置台２上には検査対象の基板１１が載置され、基板１１の電極形成面１３上には導電性シート３が配設（敷設）されているものとする。この場合、電極形成面１３上に形成されている各電極１２は、導電性シート３と接触している状態にある。
【００２６】
この状態において基板検査装置１では、処理部７が、接離動機構５に対する制御処理を実行することにより、載置台２と検査ヘッド４とを相対的に予め規定された距離だけ接近させる。
【００２７】
この場合、図２に示すように、基板１１における電極形成面１３上の各電極１２の表面（同図では上面）と、検査ヘッド４の各プローブ３２の先端面（同図では下面）との間の距離Ｌ１が、導電性シート３の厚みＬｄとほぼ同じ長さに達したときには、各電極１２および各プローブ３２が共に導電性シート３に接触する状態となるものの、各電極１２および各プローブ３２による導電性シート３の圧縮は行われていない。このため、導電性シート３に分散している導電性粒子２２および導電性粒子２３は導電性シート３の厚み方向に沿って不連続の状態のままであることから、導電性シート３は、各電極１２と各電極に対応するプローブ３２とで挟まれた部位において導電性を発現してない状態（電気的導通状態に至っていない状態）にある。したがって、各電極１２と各電極に対応するプローブ３２とは、電気的に接続されていない状態にある。
【００２８】
この状態から載置台２と検査ヘッド４とがさらに接近して、図３に示すように、基板１１の各電極１２の表面と検査ヘッド４の各プローブ３２の先端面との間の距離Ｌ２が、導電性シート３の厚みＬｄよりも短い所定の長さに達したときには、導電性シート３における各電極１２および各プローブ３２によって挟まれた部位が圧縮された状態に移行する。この際に、この各部位において、絶縁層２１の上側表面領域Ａに分散されている各導電性粒子２２がプローブ３２の先端面と接触して導電性シート３の厚み方向に沿った中心部側（同図中の下方側）に押圧され、かつ絶縁層２１の下側表面領域Ｂに分散されている各導電性粒子２２が電極１２の表面と接触して導電性シート３の厚み方向に沿った中心部側（同図中の上方側）に押圧されることで、上側表面領域Ａおよび下側表面領域Ｂに分散されている導電性粒子２２により、絶縁層２１の中間領域Ｃが圧縮される。
【００２９】
このため、上側表面領域Ａおよび下側表面領域Ｂに分散されている導電性粒子２２が中間領域Ｃに分散されている導電性粒子２３に接近して接触し、かつ中間領域Ｃに分散されている導電性粒子２３同士も互いに接近して接触することで、導電性粒子２２および導電性粒子２３が導電性シート３の厚み方向に沿って互いに接触して連続する状態に移行する。したがって、導電性シート３は、各電極１２と各電極に対応するプローブ３２とで挟まれた部位において導電性を発現し（電気的導通状態になり）、全電極１２と各電極に対応する全プローブ３２とは、導電性シート３を介して電気的に一対一で接続された状態になる。
【００３０】
なお、この場合、各電極１２および各プローブ３２と直接接触する導電性粒子２２は金属粒子で形成されていて固いため、各電極１２および各プローブ３２の表面に酸化皮膜が形成されていたとしても、この酸化皮膜を破壊して、各電極１２および各プローブ３２と良好（接触抵抗の少ない状態で）に接触する。一方、導電性粒子２３は、内側領域がエラストマー粒子２３ａで構成されているため、上側表面領域Ａおよび下側表面領域Ｂに分散されている導電性粒子２２によって絶縁層２１の中間領域Ｃが圧縮された際に自らも弾性変形するものの、その弾性変形量は、ヤング率のより小さいエラストマーで形成されている絶縁層２１の弾性変形量よりも少ないことから、互いに接近して接触する。また、導電性粒子２３は、電極１２およびプローブ３２と直接接触しない構成のため、導電性めっき層２３ｂが電極１２やプローブ３２と直接接触して破損してエラストマー粒子２３ａから剥離するという不具合の発生が回避されていることから、導電性シート３の耐久性が高められている。
【００３１】
また、本例の基板検査装置１では、載置台２と検査ヘッド４とは、図３に示す状態から、さらに図４に示すように、基板１１の各電極１２の表面と検査ヘッド４の各プローブ３２の先端面との間の距離がＬ３（＜Ｌ２）になるまで接近させられる。この導電性シート３では、絶縁層２１の中間領域Ｃに分散されている導電性粒子２３の内側領域が弾性変形可能なエラストマー粒子２３ａで形成されているため、導電性粒子２３が絶縁層２１の中間領域Ｃにおいて互いに接触する状態（図３に示す状態）から、基板１１の各電極１２と検査ヘッド４の各プローブ３２とをさらに接近させることが可能となっている。
【００３２】
これにより、各プローブ３２の長さや電極１２の厚みにバラツキが存在していたとしても、これらのバラツキの合計が上記した各距離Ｌ２，Ｌ３の差分（Ｌ２−Ｌ３）の範囲内である限り、この差分（Ｌ２−Ｌ３）によって上記のバラツキが吸収され、この結果、全電極１２と各電極に対応する全プローブ３２とが導電性シート３を介して電気的に一対一で確実に接続される。また、各導電性粒子２３は、そのエラストマー粒子２３ａが上記のようにして弾性変形することにより、エラストマー粒子２３ａの表面に形成されている導電性めっき層２３ｂも変形する。しかしながら、この導電性シート３では、すべての導電性粒子２３が絶縁層２１内に埋設されているため、各導電性粒子２３の導電性めっき層２３ｂは周囲の絶縁層２１によって内側のエラストマー粒子２３ａ側に常に押圧された状態となっている。したがって、導電性粒子２３が弾性変形した際に、エラストマー粒子２３ａの表面から導電性めっき層２３ｂが剥離するという不具合の発生が回避されている。
【００３３】
処理部７は、上記のようにして、接離動機構５に対して載置台２と検査ヘッド４とを相対的に予め規定された距離だけ接近させて、基板１１の全電極１２と検査ヘッド４の全プローブ３２とを導電性シート３を介して電気的に一対一で接続させた後に、測定部６に対する制御処理を実行することにより、測定部６に対して指定した一対のプローブ３２間の抵抗値Ｒ１（すなわち、一対のプローブ３２に導電性シート３を介して接続されている一対の電極１２間の抵抗値）を測定させて処理部７に出力させる動作を、予め規定された一対のプローブ３２の組み合わせがすべて完了するまで実行する。また、処理部７は、測定部６から出力される抵抗値Ｒ１を入力すると共に、この抵抗値Ｒ１が測定された一対のプローブ３２の識別情報に対応させてメモリに記憶する。
【００３４】
次いで、処理部７は、検査処理を実行する。この検査処理では、処理部７は、一例として、検査中の基板１１についての各一対のプローブ３２間の抵抗値Ｒ１と、各抵抗値Ｒ１に対応するしきい値とをメモリから読み出しつつ比較して、対応するしきい値で規定される範囲に測定された抵抗値Ｒ１が含まれているときには、この抵抗値Ｒ１が測定された一対のプローブ３２に接続されている一対の電極１２間は正常であると判別してその検査結果をメモリに記憶し、一方、対応するしきい値で規定される範囲に測定された抵抗値Ｒ１が含まれていないときには、この抵抗値Ｒ１が測定された一対のプローブ３２に接続されている一対の電極１２間に異常が発生していると判別してその検査結果をメモリに記憶する。処理部７は、すべての一対のプローブ３２間の抵抗値Ｒ１とそのしきい値との比較が完了したときには、メモリに記憶されている検査結果を出力部８に出力して、画面に表示させる。これにより、検査処理が完了する。
【００３５】
最後に、処理部７は、接離動機構５に対する制御処理を実行して、載置台２と検査ヘッド４とを相対的に予め規定された距離（接近させた距離と同じ距離）だけ離反させる。これにより、基板１１に対する検査が完了する。この場合、基板１１の各電極１２と検査ヘッド４の各プローブ３２との間で挟まれて圧縮されていた導電性シート３は、基板１１の各電極１２と検査ヘッド４の各プローブ３２との離反に伴い弾性変形の度合いが徐々に減少して、図４に示す状態から図３に示す状態を経由して、図２に示す元の状態（弾性変形のない状態）に戻る。
【００３６】
このように、この導電性シート３および導電性シート３を備えた基板検査装置１では、導電性シート３に分散されている導電性粒子のうちの絶縁層２１の表面（上面および下面）に分散している導電性粒子２２が金属粒子で構成され、絶縁層２１の内部に分散している導電性粒子２３がエラストマー粒子２３ａの表面に導電性めっき層２３ｂが形成されて（導電性めっきが施されて）構成されている。
【００３７】
したがって、この導電性シート３および導電性シート３を備えた基板検査装置１によれば、基板１１の各電極１２と検査ヘッド４の各プローブ３２との間で挟まれて圧縮された部位において厚み方向に導電性を発現した状態（図３に示す状態）から、絶縁層２１の内部に分散されている導電性粒子２３を弾性変形させることで、電気的導通状態を維持したまま基板１１の各電極１２と検査ヘッド４の各プローブ３２とをさらに大きく接近させることができるため（電気的導通が得られてからの導電性シート３のさらなる圧縮量（弾性変形量）を十分に確保できるため）、各プローブ３２の長さや電極１２の厚みにバラツキが存在していたとしても、これらのバラツキを上記の各電極１２と各プローブ３２とのさらなる接近（電気的導通状態を維持した状態での導電性シート３のさらなる圧縮）によって吸収することができる結果、各電極１２と各プローブ３２とを導電性シート３を介して電気的に確実に接続することができる。
【００３８】
また、この導電性シート３および導電性シート３を備えた基板検査装置１では、各電極１２および各プローブ３２と直接接触する絶縁層２１の表面側には、金属粒子で形成されていて固い導電性粒子２２が分散されている。したがって、この導電性シート３および導電性シート３を備えた基板検査装置１によれば、各電極１２および各プローブ３２の表面に酸化皮膜が形成されていたとしても、固い導電性粒子２２によって酸化皮膜を破壊することができるため、各電極１２および各プローブ３２を良好な状態（接触抵抗の少ない状態）で電気的に接続することができる。また、破損のおそれのない固い金属粒子で形成された導電性粒子２２のみが各電極１２および各プローブ３２と直接接触し、破損のおそれのある導電性めっき層２３ｂを有する導電性粒子２３は電極１２およびプローブ３２と直接接触しない構成のため、導電性めっき層２３ｂが電極１２やプローブ３２と直接接触して破損してエラストマー粒子２３ａから剥離するという不具合の発生が回避されていることから、導電性シート３について十分な耐久性を確保することができる。
【００３９】
また、この導電性シート３および導電性シート３を備えた基板検査装置１では、エラストマー粒子２３ａの表面に導電性めっき層２３ｂが形成されて（導電性めっきが施されて）構成された導電性粒子２３はすべて絶縁層２１内に埋設されて、各導電性粒子２３の導電性めっき層２３ｂは周囲の絶縁層２１によって内側のエラストマー粒子２３ａ側に常に押圧された状態となっている。したがって、この導電性シート３および導電性シート３を備えた基板検査装置１によれば、導電性粒子２３が弾性変形を繰り返した際に、エラストマー粒子２３ａの表面から導電性めっき層２３ｂが剥離するという不具合の発生が確実に回避されるため、この点からも十分な耐久性を確保することができる。
【００４０】
なお、上記の導電性シート３では、絶縁層２１の上側表面領域Ａと下側表面領域Ｂとに導電性粒子２２をランダムに分散させ、かつ絶縁層２１の中間領域Ｃに導電性粒子２３をランダムに分散させる構成を採用しているが、例えば磁場の印加を利用することにより、図５に示す導電性シート３Ａのように、各導電性粒子２２，２３を導電性シート３の厚み方向に沿って整列させた状態で分散させる構成を採用することもできる。なお、導電性シート３と同一の構成については同一の符号を付して重複する説明を省略する。
【００４１】
また、上記の導電性シート３では、導電性シート３の全体に導電性粒子２２，２３を分散させる構成を採用しているが、図６に示す導電性シート３Ｂのように、電極１２とプローブ３２によって挟まれて圧縮される部位のみを、上記した導電性シート３，３Ａと同様の構成（導電性粒子２２，２３を分散させる構成）にし、他の部位については導電性粒子２２，２３を分散させない構成にすることもできる。なお、導電性シート３と同一の構成については同一の符号を付して重複する説明を省略する。
【符号の説明】
【００４２】
１  基板検査装置
３，３Ａ，３Ｂ  導電性シート
４  検査ヘッド
６  測定部
７  処理部
１１  基板
１２  電極
１３  電極形成面
２２，２３  導電性粒子
２３ａ  エラストマー粒子
２３ｂ  導電性めっき層
３２  プローブ
【図１】
2013161553.tif 000003
【図２】
2013161553.tif 000004
【図３】
2013161553.tif 000005
【図４】
2013161553.tif 000006
【図５】
2013161553.tif 000007
【図６】
2013161553.tif 000008