(57)【要約】【課題】素子の製造に際して、発光層の形成領域に撥液性が付与されることを抑えつつ、塗布液が隣接する発光層の形成領域に流れ込むことを抑制することの可能な有機エレクトロルミネッセンス素子、及び、その製造方法を提供する。【解決手段】有機エレクトロルミネッセンス素子１の製造方法では、発光材料を含む塗布液が吐出される領域である吐出領域を基板の表面にて突出して区切る区画部を形成する。そして、撥液剤が付着した表面を有する支持体を基板に押し付けることにより該支持体の表面に付着した撥液剤を区画部の頂部に転写して頂部に撥液層１６を形成する。そして、吐出領域に塗布液を吐出して発光層１７を形成する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光材料を含む塗布液が吐出される領域である吐出領域を基板の表面にて突出して区切る区画部を形成する工程と、
撥液剤が付着した表面を有する支持体を前記基板に押し付けることにより該支持体の表面に付着した撥液剤を前記区画部の頂部に転写して前記頂部に撥液層を形成する工程と、
前記吐出領域に塗布液を液柱状に吐出して発光層を形成する工程とを備える
有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項２】
前記基板の表面には、互いに交差する２つの方向に配列された複数の画素電極が含まれ、
前記画素電極の配列される前記２つの方向のいずれか一方に沿って並ぶ複数の前記画素電極を画素列とし、
前記区画部を形成する工程では、互いに隣接する前記画素列を区切るストライプ状に前記区画部を形成する
請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項３】
前記区画部を形成する工程は、
前記基板の表面のうちで互いに隣接する前記画素列間から突出して前記画素列に沿って延びる隔壁を形成する工程と、
前記隔壁の表面が含まれる前記基板の表面に輸送機能層を形成して、前記隔壁と前記輸送機能層との積層体として前記区画部を形成する工程とを備える
請求項２に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項４】
前記区画部を第１区画部とし、
前記画素電極の配列される前記２つの方向のうちで前記画素列が延びる方向とは異なる方向を交差方向とし、
前記基板の表面には、前記交差方向にて互いに隣接する前記画素電極を区切り前記交差方向に延びる凸部である複数の第２区画部が含まれ、
前記撥液層を形成する工程では、前記基板に対する前記支持体の押し付けによって前記第１の区画部にのみ前記撥液剤を転写し、
前記発光層を形成する工程では、前記画素列が延びる方向に並ぶ前記吐出領域に同じ色用の塗布液を吐出する
請求項２または３に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項５】
前記支持体が、前記画素列の延びる方向に沿って搬送されるフィルムであり、
前記撥液層を形成する工程では、表面が基板に向けられた前記フィルムの裏面を回転するローラーで前記基板に向かって押し付けることにより該フィルムの表面に付着した撥液剤を転写する
請求項２〜４のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項６】
前記撥液層を形成する工程では、前記支持体を前記基板に押し付けるときに該支持体を加熱する
請求項１〜５のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項７】
前記撥液層を形成する工程では、前記支持体を前記基板に押し付けるときに前記区画部の形成される面を鉛直方向の下方に向ける
請求項１〜６のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項８】
基板の表面にて互いに交差する２つの方向に配列された複数の画素電極と、
前記画素電極の配列される前記２つの方向のいずれか一方に沿って並ぶ複数の前記画素電極が画素列として設定されて、前記基板の表面にて突出して互いに隣接する前記画素列を区切る隔壁と、
前記画素電極と前記隔壁とを覆い前記画素電極と前記隔壁とに共通する輸送機能層と、
前記輸送機能層のうちで前記隔壁の頂部を覆う部位に積層された撥液層と、
前記輸送機能層のうちで互いに隣接する前記隔壁によって挟まれる部位に積層された発光層と、
複数の前記発光層の各々の上面に積層されて複数の前記発光層の各々に共通する共通電極と、
を備える有機エレクトロルミネッセンス素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示の技術は、有機エレクトロルミネッセンス素子、及び、その製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、表示装置等に用いられる素子として、有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）素子が注目されている。有機エレクトロルミネッセンス素子は、有機発光材料からなる発光層が２つの対向する電極の間に挟まれた発光素子であり、２つの電極に電圧が印加されることにより発光層が発光する。従来から、こうした有機エレクトロルミネッセンス素子の製造工程では、インクジェット法やノズルプリント法が用いられ、発光材料を含む液状の塗布液を基板上に塗布することによって上記発光層が形成されている。この場合、まず基板上に画素を区画する隔壁が凸状に形成され、隔壁で区画された領域の各々に、赤色、緑色、青色のいずれかの色の発光材料を含む塗布液が塗布されて発光層が形成される。このとき、塗布液が隣接する他の色の区画領域に流れ込むことを抑制するために、隔壁の形成材料にフッ素成分を添加し、隔壁に撥液性を付与することが知られている（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１２−１８９３９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、上記特許文献１に記載のように隔壁の形成材料自体に撥液性を備える成分が添加されると、発光層と接する隔壁の側面にも撥液性が付与される。そして、発光層の形成時に隔壁の内側面で塗布液が撥液される結果、隔壁の内側面と接する部分で発光層の膜厚が薄くなってしまい、こうした膜厚の分布が発光に際しての発光ムラや発光効率の低下を招く要因となっている。
【０００５】
本開示は、このような実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、素子の製造に際して、発光層の形成領域に撥液性が付与されることを抑えつつ、塗布液が隣接する発光層の形成領域に流れ込むことを抑制することの可能な有機エレクトロルミネッセンス素子、及び、その製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本開示における有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法の一態様は、発光材料を含む塗布液が吐出される領域である吐出領域を基板の表面にて突出して区切る区画部を形成する工程と、撥液剤が付着した表面を有する支持体を前記基板に押し付けることにより該支持体の表面に付着した撥液剤を前記区画部の頂部に転写して前記頂部に撥液層を形成する工程と、前記吐出領域に塗布液を液柱状に吐出して発光層を形成する工程とを備えることを要旨とする。
【０００７】
上記の態様によれば、撥液剤が付着した表面を有する支持体が基板に押し付けられることによって撥液層が形成されるため、発光層が形成される領域である吐出領域には撥液性が付与されず、基板の表面部分にて吐出領域を区画する区画部の頂部にのみ撥液層が形成される。したがって、発光層の形成工程においては、区画部の頂部の撥液層によって塗布液がはじかれるため、塗布液が隣接する発光層の形成領域に流れ込むことを抑制することができる。一方、発光層の形成領域内では塗布液がはじかれることがないため、形成される発光層の膜厚の均一性が低下することを抑えることができる。すなわち、素子の製造に際して、発光層の形成領域に撥液性が付与されることを抑えつつ、塗布液が隣接する発光層の形成領域に流れ込むことを抑制することが可能となる。
【０００８】
本開示における有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法の一態様は、前記基板の表面には、互いに交差する２つの方向に配列された複数の画素電極が含まれ、前記画素電極の配列される前記２つの方向のいずれか一方に沿って並ぶ複数の前記画素電極を画素列とし、前記区画部を形成する工程では、互いに隣接する前記画素列を区切るストライプ状に前記区画部を形成することを要旨とする。
【０００９】
上記の態様によれば、基板の表面にて突出する区画部がストライプ状に形成されるため、区画部の頂部に形成される撥液層もストライプ状となる。したがって、塗布液を液柱状に吐出して発光層を形成するにあたり、塗布液が隣接する発光層の形成領域に流れ込むことを適切に抑制することができる。
【００１０】
本開示における有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法の一態様は、前記区画部を形成する工程は、前記基板の表面のうちで互いに隣接する前記画素列間から突出して前記画素列に沿って延びる隔壁を形成する工程と、前記隔壁の表面が含まれる前記基板の表面に輸送機能層を形成して、前記隔壁と前記輸送機能層との積層体として前記区画部を形成する工程とを備えることを要旨とする。
【００１１】
区画部の頂部に撥液層を形成することは、区画部を含む基板の表面の全体に撥液剤からなる撥液膜を形成し、その撥液膜の一部をエッチングすることによっても実現できる。ただし、こうした撥液膜をエッチングする際には、撥液膜の下地となる輸送機能層に少なからず化学的なダメージが加えられてしまう。この点、上記の態様によれば、機能層の上面の一部に支持体を押圧することで撥液層が形成できるから、上述のように輸送機能層に化学的なダメージが加わることが抑えられる。
【００１２】
本開示における有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法の一態様は、前記区画部を第１区画部とし、前記画素電極の配列される前記２つの方向のうちで前記画素列が延びる方向とは異なる方向を交差方向とし、前記基板の表面には、前記交差方向にて互いに隣接する前記画素電極を区切り前記交差方向に延びる凸部である複数の第２区画部が含まれ、前記撥液層を形成する工程では、前記基板に対する前記支持体の押し付けによって前記第１の区画部にのみ前記撥液剤を転写し、前記発光層を形成する工程では、前記画素列が延びる方向に並ぶ前記吐出領域に同じ色用の塗布液を吐出することを要旨とする。
【００１３】
画素列が延びる方向に並ぶ吐出領域の各々に対して切れ目なく同じ色用の塗布液を吐出することは、製造工程の簡素化や工程時間の短縮を図る観点から有効である。一方で、有機エレクトロルミネッセンス素子では、複数の画素電極から単一の画素電極を選択するための走査線や発光層の輝度に応じた駆動電流を単一の画素電極に供給するための信号線等が形成されている。これら複数の配線の各々は、通常、画素電極の周囲の下層として形成されている。それゆえに、基板の表面における画素電極の周囲には、画素列に沿って延びる凸部として第１区画部が形成され、交差方向に延びる凸部として第２区画部が形成されている。この点、上記の態様によれば、第１区画部と第２区画部とのうちで第１区画部にのみ撥液層が形成できるため、同じ色用の発光層が並ぶ方向では、撥液層による塗布液の撥液が抑えられる。結果として、同じ色用の発光層が並ぶ方向において発光層の膜厚の均一性を高めることが可能となる。
【００１４】
本開示における有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法の一態様は、前記支持体が、前記画素列の延びる方向に沿って搬送されるフィルムであり、前記撥液層を形成する工程では、表面が基板に向けられた前記フィルムの裏面を回転するローラーで前記基板に向かって押し付けることにより該フィルムの表面に付着した撥液剤を転写することを要旨とする。
【００１５】
上記の態様によれば、撥液剤の転写が区画部の延びる方向に進んでいく。したがって、撥液剤の転写が隔壁の延びる方向と直交する方向に進む場合と比較して、形成される撥液層の厚みの均一性を高めることができる。
【００１６】
本開示における有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法の一態様は、前記撥液層を形成する工程では、前記支持体を前記基板に押し付けるときに該支持体を加熱することを要旨とする。
【００１７】
上記の態様によれば、撥液剤が転写される際に、支持体から撥液剤に熱が伝わって撥液剤の接着力が高まるため、撥液層と下層との接着性を高めることができる。
本開示における有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法の一態様は、前記撥液層を形成する工程では、前記支持体を前記基板に押し付けるときに前記区画部の形成される面を鉛直方向の下方に向けることを要旨とする。
【００１８】
上記の態様によれば、基板を支持体に押し付ける方向に基板の重力が働くため、撥液剤の接着に必要な支持体への押圧力を小さくすることができる。
本開示における有機エレクトロルミネッセンス素子の一態様は、基板の表面にて互いに交差する２つの方向に配列された複数の画素電極と、前記画素電極の配列される前記２つの方向のいずれか一方に沿って並ぶ複数の前記画素電極が画素列として設定されて、前記基板の表面にて突出して互いに隣接する前記画素列を区切る隔壁と、前記画素電極と前記隔壁とを覆い前記画素電極と前記隔壁とに共通する輸送機能層と、前記輸送機能層のうちで前記隔壁の頂部を覆う部位に積層された撥液層と、前記輸送機能層のうちで互いに隣接する前記隔壁によって挟まれる部位に積層された発光層と、複数の前記発光層の各々の上面に積層されて複数の前記発光層の各々に共通する共通電極と、を備えることを要旨とする。
【００１９】
上記の態様によれば、基板の表面にて突出して画素列を区切る隔壁の頂部における輸送機能層に撥液層が積層されているため、発光層の形成領域には撥液性が付与されず、発光層の形成領域を区画する区画部の頂部にのみ撥液性が付与される。したがって、素子の製造に際しては、区画部の頂部の撥液層によって塗布液がはじかれるため、塗布液が隣接する発光層の形成領域に流れ込むことを抑制することができる。一方、発光層の形成領域内では塗布液がはじかれることがないため、形成される発光層の膜厚の均一性が低下することを抑えることができる。すなわち、素子の製造に際して、発光層の形成領域に撥液性が付与されることを抑えつつ、塗布液が隣接する発光層の形成領域に流れ込むことを抑制することが可能となる。
【発明の効果】
【００２０】
本開示の有機エレクトロルミネッセンス素子、及び、その製造方法によれば、素子の製造に際して、発光層の形成領域に撥液性が付与されることを抑えつつ、塗布液が隣接する発光層の形成領域に流れ込むことを抑制することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本開示における有機ＥＬ素子の一実施形態の各階層における平面構造の一部を示す部分平面図であって、各階層の境界が破断線で示される図である。
【図２】図１のＡ−Ａ線断面図であり、有機ＥＬ素子の断面構造の一部を示す部分断面図である。
【図３】（ａ）〜（ｄ）は、本開示における有機ＥＬ素子の製造方法の一実施形態の製造工程を有機ＥＬ素子の断面構造を用いて示す工程図。
【図４】（ａ），（ｂ）は、同実施形態の製造工程を有機ＥＬ素子の断面構造を用いて示す工程図。
【図５】同実施形態の撥液層の形成工程を図１のＢ−Ｂ線における断面構造を用いて模式的に示す工程図。
【図６】変形例の有機ＥＬ素子の断面構造の一部を示す部分断面図。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本開示における有機エレクトロルミネッセンス素子、及び、その製造方法における一実施形態について、図１〜図５を参照して説明する。なお、本実施形態の有機ＥＬ素子は、アクティブマトリクス駆動型の有機ＥＬ素子である。まず、本実施形態の有機ＥＬ素子の構造について図１，図２を参照して説明する。
【００２３】
図１に示されるように、有機ＥＬ素子１には、１つの方向である配列方向に延びる複数の画素列２が、配列方向と直交する交差方向に沿って配列されている。画素列２には、赤色用画素列２Ｒと緑色用画素列２Ｇと青色用画素列２Ｂとが含まれ、これら赤色用画素列２Ｒと緑色用画素列２Ｇと青色用画素列２Ｂとがこの順に繰り返して配列されている。赤色用画素列２Ｒでは、複数の赤色の画素領域２Ｓが配列方向に並べられ、緑色用画素列２Ｇでは、複数の緑色の画素領域２Ｓが配列方向に並べられ、青色用画素列２Ｂでは、複数の青色の画素領域２Ｓが配列方向に並べられている。
【００２４】
有機ＥＬ素子１には、その全体に広がる陰極１８が形成されている。陰極１８の下地のうち、互いに隣り合う２つの画素列２の間には、画素列２における配列方向の全体にわたって配列方向に延びるストライプ状の第１区画部３が形成されている。第１区画部３は、互いに隣接する２つの画素列２を交差方向で区切る。複数の画素列２の各々にて、互いに隣り合う画素領域２Ｓの間には、交差方向に延びるストライプ状の第２区画部４が形成されている。
【００２５】
図２に示されるように、有機ＥＬ素子１を構成する基材１０の上面には、ＴＦＴ層１０ａが積層されている。ＴＦＴ層１０ａには、走査方向と交差方向とに並ぶ島形状をなす複数の陽極１１と、互いに隣接する２つの陽極１１間を埋めて陽極１１同士を絶縁する絶縁層１２とが形成されている。本実施形態では、基材１０と、ＴＦＴ層１０ａと、陽極１１と、絶縁層１２とによって基板が構成されている。
【００２６】
ＴＦＴ層１０ａには、配列方向に延びる複数の信号線が画素列２ごとに形成され、交差方向に延びる複数の走査線が陽極１１ごとに形成されている。また、ＴＦＴ層１０ａには、信号線と走査線とが交差する部分に、薄膜トランジスターからなる画素回路が形成されている。信号線や走査線等の配線の各々は、陽極１１の周囲の下層として形成されている。それゆえに、基板の表面を構成する絶縁層１２の上面のうち、陽極１１の周囲には、配列方向に沿って延びる凸部と交差方向に延びる凸部とが形成されている。上述の第１区画部３は、これら２種類の凸部のうち配列方向に延びる凸部上に形成され、上述の第２区画部４は、これら２種類の凸部のうち交差方向に延びる凸部上に形成されている。
【００２７】
陽極１１は、画素領域ごとに形成されて画素領域ごとの上記画素回路に接続される画素電極であり、例えば、インジウムスズ複合酸化物（ＩＴＯ）等の仕事関数の高い材料から形成される。絶縁層１２は、例えば、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）や窒化ケイ素（ＳｉＮ）等の絶縁性の材料から形成される。
【００２８】
絶縁層１２の上面には、基板の表面にて突出して配列方向に延びる隔壁３ａが形成されている。隔壁３ａでは、配列方向と対向する側面視での断面形状が、基材１０の上面に向けて幅が広がるテーパ形状をなす。隔壁３ａの下面は、絶縁層１２の上面からはみ出すかたちをなし、隔壁３ａの側面と陽極１１の上面とにより凹部１３が形成されている。隔壁３ａは、例えば、感光性樹脂材料等の絶縁性の材料から形成される。
【００２９】
凹部１３の内側面と隔壁３ａの頂部とには、凹部１３の内側面と隔壁３ａの上面とを覆う共通の輸送機能層が積層されている。輸送機能層は、例えば、正孔注入層１４と正孔輸送層１５とから構成されている。正孔注入層１４は、遷移金属酸化物等のイオン化エネルギーの大きい材料から形成される。正孔輸送層１５は、芳香族アミン等の正孔輸送性を有する材料から形成される。
【００３０】
正孔輸送層１５の上面のうち、隔壁３ａの頂部上の部位にのみ、撥液性を有する撥液層１６が形成されている。撥液層１６は、フッ素系化合物やシリコン含有化合物等から形成される。上述の第１区画部３は、上記隔壁３ａと正孔注入層１４と正孔輸送層１５との積層体であり、撥液層１６は、第１区画部３の頂部にのみ形成されている。なお、上述の第２区画部４は、絶縁層１２の上面に形成される交差方向に延びる凸部と正孔注入層１４と正孔輸送層１５との積層体であり、撥液層１６は、第２区画部４には形成されていない。
【００３１】
正孔輸送層１５の上面のうち、凹部１３の内側の部位には、発光層１７が形成されている。なお、赤色用画素列２Ｒにおける凹部１３の内側には、赤色を発光する赤色発光層１７Ｒが形成されている。緑色用画素列２Ｇにおける凹部１３の内側には、緑色を発光する緑色発光層１７Ｇが形成されている。青色用画素列２Ｂにおける凹部１３の内側には、青色を発光する青色発光層１７Ｂが形成されている。
【００３２】
複数の発光層１７の各々の上面には、共通する１つの陰極１８が形成されている。陰極１８は、マグネシウム等の仕事関数の低い金属材料から形成される電極であり、素子全面を覆うように形成されている。
【００３３】
陰極１８の上には、例えば、窒化ケイ素等の水分や酸素の透過性が低い材料からなる封止剤と光硬化型接着性樹脂等からなる樹脂層とから構成される封止体が形成される。封止体によって、大気中の水分や酸素に起因した発光層１７の劣化が抑制される。
【００３４】
次に、上記の有機ＥＬ素子の製造方法について、図３，図４を参照して説明する。
図３（ａ）に示されるように、まず、基材１０の上面に、ＴＦＴ層１０ａが形成され、次いで、ＴＦＴ層１０ａ上に陽極１１と絶縁層１２とが形成される。陽極１１は、ＴＦＴ層１０ａの上面に成膜された膜が、所定の開口形状を有するマスクを用いてエッチングされることにより形成される。成膜方法及びエッチング方法は、陽極１１の形成材料に応じて、蒸着法やスパッタリング法等の各種の成膜方法及びドライエッチング等の各種のエッチング方法から選択される。絶縁層１２は、陽極１１が形成されたＴＦＴ層１０ａの上面に成膜された膜がエッチングされることにより形成される。絶縁層１２の成膜方法及びエッチング方法も、絶縁層１２の形成材料に応じて、各種の成膜方法及びエッチング方法から選択される。
【００３５】
図３（ｂ）に示されるように、絶縁層１２の上面に隔壁３ａが形成される。隔壁３ａは、例えば、形成材料の溶液がスリットコート法やスピンコート法により陽極１１と絶縁層１２との上面の全面に塗布された後、露光や現像といったフォトリソグラフィ法を用いてパターニングされることにより形成される。これにより、隔壁３ａによって凹部１３が区画される。
【００３６】
図３（ｃ）に示されるように、凹部１３の内壁と隔壁３ａの上面に正孔注入層１４が積層され、正孔注入層１４の上面に正孔輸送層１５がさらに積層される。正孔注入層１４と正孔輸送層１５とは、各々の層の形成材料に応じて、蒸着法やスピンコート法等の各種の成膜方法によって形成される。これら正孔注入層１４と正孔輸送層１５とは、基板上に露出される陽極１１及び隔壁３ａの全面に形成される。
【００３７】
図３（ｄ）に示されるように、正孔輸送層１５の上面に、撥液層１６が形成される。撥液層１６は、撥液剤が付着した表面を有するフィルムから撥液剤が転写されることにより形成される。
【００３８】
図４（ａ）に示されるように、正孔注入層１４と正孔輸送層１５とが積層された凹部１３の内方に、発光層１７が形成される。発光層１７は、各色を発光する有機発光材料が溶媒に溶解または分散された塗布液が、正孔注入層１４及び正孔輸送層１５を介して隔壁３ａによって区画される領域に塗布されることにより形成される。この塗布方法としては、ノズルから塗布液を液柱状に切れ目なく吐出して塗布を行うノズルプリント法が用いられる。すなわち、第１区画部３によって区画される領域が、塗布液が吐出される吐出領域となる。
【００３９】
図４（ｂ）に示されるように、発光層１７の上面に陰極１８が形成される。陰極１８は、基板上に露出する部分の全面を覆うように形成される。陰極１８は、陰極の形成材料に応じて、蒸着法やスパッタリング法等の各種の成膜方法を用いて成膜される。さらに、陰極１８の上に封止剤と樹脂層とからなる封止体が形成されて有機ＥＬ素子１が製造される。
【００４０】
ここで、先の図３（ｄ）に示される撥液層１６の形成方法について、図５を参照して詳細に説明する。
図５に示されるように、フィルム２０に塗布された撥液剤がローラー３０の押圧によって転写されることにより、上述の撥液層１６は形成される。すなわち、撥液層１６を形成する転写装置には、表面に撥液剤の塗布されたフィルム２０が供給装置２１から供給されるとともに、正孔輸送層１５が最上層となる基材１０が投入される。そして、基材１０上の正孔輸送層１５とフィルム２０の表面とが互いに向かい合う状態で基材１０とフィルム２０とがセットされる。基材１０とフィルム２０とは、第１区画部３が延びる方向である配列方向に沿って搬送される。
【００４１】
ゴム製のローラー３０は、ローラー３０を回転させる駆動機構３１とローラー３０を加熱する加熱機構３２とを備えており、駆動機構３１と加熱機構３２との協働によって、加熱された状態で回転される。ローラー３０は、フィルム２０の裏面側に配置され、且つ、ローラー３０の回転軸は、第２区画部４が延びる方向である交差方向に沿って配置される。
【００４２】
ローラー３０は、所定の押圧力でフィルム２０を基材１０に押し付けながら、フィルム２０及び基材１０の搬送と同期して回転される。この際に、ローラー３０には、フィルム２０が第１区画部３の頂部に当接し、且つ、フィルム２０が第２区画部４の頂部に当接しない程度の押圧力が加えられる。これにより、フィルム２０の表面の撥液剤が、第１区画部３の頂部にのみ、配列方向の一端から他端に向けて転写されて、撥液層１６が形成される。さらに、ローラー３０の回転軸の軸方向が交差方向に設定されて、基材１０とフィルム２０とが配列方向に搬送されることにより、撥液剤の転写が配列方向に進んでいく。それゆえに、例えば、第１区画部３の頂部に凸凹がある場合であっても、撥液性の確保が求められる第１区画部３の配列方向の全体にわたって、撥液層１６の厚みの均一性を高めることができる。また、ローラー３０が加熱されていることにより、撥液剤の転写時にフィルム２０が加熱されて撥液剤に熱が伝わる。したがって、撥液剤の接着力が高まる結果、撥液層１６と撥液層１６の下層となる正孔輸送層１５との接着性を高めることができる。
【００４３】
なお、ローラー３０の押圧力は、基材１０に形成される素子の特性に影響を与えない範囲で、撥液剤を下層と接着させることが可能な大きさに設定される。また、加熱によるローラー３０の温度は、撥液剤の構成材料に応じて、撥液剤の接着力が高められる温度に設定される。
【００４４】
以上説明したように、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子、及び、その製造方法によれば、以下に列挙する効果を得ることができる。
（１）撥液剤の転写によって第１区画部３の頂部にのみ撥液層１６が形成される。それゆえに、有機ＥＬ素子の製造に際して、発光層１７の形成領域に撥液性が付与されることを抑えつつ、第１区画部３を挟んで互いに向い合う２つの発光層１７の形成領域で塗布液が流れ込むことを抑制することが可能になる。
【００４５】
（２）第１区画部３の頂部に撥液層１６を形成することは、第１区画部３を含む基板上の部分の全体に撥液剤からなる撥液膜を形成し、その撥液膜の一部をエッチングすることによっても実現できる。ただし、こうした撥液膜をエッチングする際には、撥液膜の下地となる正孔注入層１４や正孔輸送層１５に少なからず化学的なダメージが加えられてしまう。この点で、上述の製造方法であれば、正孔輸送層１５の上面の一部にフィルム２０を押圧することで撥液層１６が形成できるから、正孔輸送層１５に化学的なダメージが加わることが抑えられる。
【００４６】
（３）第１区画部３と第２区画部４とのうちで第１区画部３にのみ撥液層が形成できるため、同じ色用の発光層１７が並ぶ交差方向では、撥液層１６による塗布液の撥液が抑えられる。結果として、発光層１７の交差方向における膜厚の均一性を高めることが可能となる。
【００４７】
（４）第１区画部３が、互いに隣接する画素列２を区切る部位としてストライプ状に形成される。これによれば、第１区画部３の上面に積層される撥液層１６も、ストライプ状に形成されることとなる。したがって、ノズルから塗布液を液柱状に吐出して塗布を行うことにより発光層１７を形成するにあたり、塗布液が隣接する発光層１７の形成領域に流れ込むことを適切に抑制することができる。
【００４８】
（５）撥液層１６が、配列方向に搬送されるフィルム２０を回転するローラー３０で基材１０に押し付けることにより形成される。これによれば、撥液剤の転写が第１区画部３の延びる方向に進んでいくため、撥液剤の転写が第１区画部３の延びる方向と直交する方向に進む場合と比較して、撥液層１６の厚みの均一性を高めることができる。
【００４９】
（６）フィルム２０が、基材１０に押し付けられるときに加熱される。これによれば、撥液剤の転写時に撥液剤に熱が伝わって撥液剤の接着力が高まるため、撥液層１６と下層との接着性を高めることができる。
【００５０】
なお、上記実施形態は、例えば以下のような形態にて実施することもできる。
・第１区画部３が隔壁３ａのみからなる構成でもよく、第１区画部３が隔壁３ａと輸送機能層の一部とからなる構成でもよい。
【００５１】
・第１区画部３が上記のような構成となる製造方法として、例えば、隔壁３ａが形成された後、正孔注入層１４と正孔輸送層１５とが形成される前に、撥液層１６が形成されてもよい。この場合、正孔注入層１４及び正孔輸送層１５も、形成材料を含む液状体を隔壁３ａによって区画される領域に液柱状に吐出して形成するようにすると、液状体が撥液層１６ではじかれて形成される層の厚みが不均一となることを抑制することができる。こうした方法によれば、図６に示されるように、隔壁３ａによって区画される凹部１３内に、陽極１１側から正孔注入層１４と正孔輸送層１５と発光層１７がこの順に積層される構造となる。
【００５２】
・第１区画部３が上記のような構成となる製造方法として、例えば、隔壁３ａが形成される前に、正孔注入層１４と正孔輸送層１５とが形成されてもよい。隔壁３ａの形成方法に対して正孔注入層１４と正孔輸送層１５とが十分に耐性を有するのであれば、上述のような方法を採用することも可能である。
【００５３】
・第１区画部３が上記のような構成となる製造方法として、例えば、隔壁３ａが形成される前に、正孔注入層１４が形成され、隔壁３ａが形成された後に、正孔輸送層１５が形成されてもよい。要するに、正孔注入層１４と正孔輸送層１５とは、陽極１１と発光層１７とに挟まれる部分以外では正孔注入層１４の上面に直接に正孔輸送層１５が積層されていなくてもよい。すなわち、基材１０側から正孔注入層１４と隔壁３ａと正孔輸送層１５とがこの順に積層されてもよい。
【００５４】
・輸送機能層は、正孔注入層１４と正孔輸送層１５とのいずれか一方としてもよく、他の層を加えて三層以上としてもよい。
・隔壁３ａの頂部は、曲面であってもよい。こうした形状であっても、第１区画部３のうちで発光層１７と接触する部位に撥液層１６が形成されることを抑えることは可能である。この場合、撥液層１６が形成される領域は、フィルム２０に塗布する撥液剤の厚みやローラー３０の押圧力を調整することによって調節することができる。
【００５５】
・上記実施形態では、隔壁３ａを絶縁性の材料から形成したが、基板の表面にて突出して発光層１７の形成領域を区画する部分であれば、例えば、絶縁層１２の表面に形成される配列方向に延びる凸部を隔壁としてもよいし、絶縁層１２の表面に形成される交差方向に延びる凸部を隔壁としてもよいし、これら２つの凸部の双方を隔壁としてもよい。さらには、絶縁層１２の表面に形成される配列方向に延びる凸部を区画部としてもよいし、絶縁層１２の表面に形成される交差方向に延びる凸部を区画部としてもよいし、これら２つの凸部の双方を区画部としてもよい。すなわち、区画部は、交差方向に延びるストライプ状であってもよいし、配列方向と交差方向とに延びる格子状であってもよい。
【００５６】
・上記実施形態では、撥液剤が転写される際に、隔壁の形成される面が鉛直方向の上方に向けられるものとしたが、隔壁の形成される面が鉛直方向の下方に向けられるようにしてもよい。これによれば、基板をフィルム２０に押し付ける方向に基板の重力が働くため、撥液剤の接着に必要なローラー３０の押圧力を小さくすることができる。
【００５７】
・撥液剤の転写に際して、ローラー３０の軸方向を配列方向とし、フィルム２０を配列方向と直交する方向に搬送するようにしてもよい。これによっても、第１区画部３のうちで発光層１７と接触する部位に撥液層１６が形成されることを抑えることは可能である。
【００５８】
・撥液剤の転写は、例えばフィルム２０に代えてガラス基板を支持体とし、表面に撥液剤が塗布されたガラス基板を基板に押し付けることによって行うようにしてもよい。
・発光層１７を挟む２つの電極のうちで基板側の電極が陰極であってもよい。この構成において輸送機能層が形成される場合には、輸送機能層は、電子輸送性を有する層である。
【００５９】
・上記実施形態では、有機ＥＬ素子をアクティブマトリクス駆動型としたが、陽極１１及び陰極１８が直交するストライプ状に形成されたパッシブマトリクス駆動型としてもよい。
【符号の説明】
【００６０】
１…有機ＥＬ素子、２…画素列、３…第１区画部、３ａ…隔壁、４…第２区画部、１０…基材、１０ａ…ＴＦＴ層、１１…陽極、１２…絶縁層、１３…凹部、１４…正孔注入層、１５…正孔輸送層、１６…撥液層、１７…発光層、１８…陰極、２０…フィルム、３０…ローラー。  
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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