(57)【要約】【課題】ウエブにエンボス加工を施す際に、エンボスロールと当接ロールの平行が常に保たれた状態にする事で、巻き取られたウエブロールの端面のずれ、しわの発生が少なくできるエンボスウエブ加工装置を提供すると共に、その製造方法、その製造方法によって製造されるエンボスウエブロールを提供することにある。【解決手段】エンボスロール４ないし当接ロール５の両端面に有する加圧手段により、エンボスロール４と当接ロール５は均一に接触し、ウエブ３に転写されるエンボス加工による凸部の高さが均一化される効果、および巻き取られたウエブのロール端面がずれることを防止し、巻き取られたロールにしわが発生することを防止する効果を有し、さらに巻き取られたロール状の端部が中央部より高くなることによる欠陥を防止する効果も有するエンボスウエブ加工装置、エンボスウエブの製造方法およびエンボスウエブロール。【選択図】図１
2013220638.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外周面に凹凸を有し回転可能に設けられたエンボスロールを有するロール機構１と、このエンボスロールにウエブを介して接する当接ロールを回転可能に有するロール機構２とを一対有するウエブのエンボスウエブ加工装置において、エンボスロールと当接ロールは、回転軸の両端の軸受部を連結する支持手段を有し、ロール機構１またはロール機構２のいずれか一方の該支持手段がロール軸方向側面に対して両端面に加圧手段を有し、他方の該支持手段がロール軸方向側面に対して中心面または両端面に加圧手段を有し、両端面に加圧手段を有している該支持手段には支持手段の中心部に回転可能な支持ピンを有していることを特徴とするエンボスウエブ加工装置。
【請求項２】
前記両端面に加圧手段を有している支持手段に寸法変化を電気信号として検出する歪みセンサーを有し、該歪みセンサーは両端面の寸法変化を検出し、該検出した値を用いてロール両端面の加圧手段を調整することでエンボスロールと当接ロールの接触の均一を図ることを特徴とする請求項１に記載のエンボスウエブ加工装置。
【請求項３】
前記ロール機構１の支持手段が両端面に加圧手段を有し、前記ロール機構２の支持手段が中心面に加圧手段を有することを特徴とする請求項１または２に記載のエンボスウエブ加工装置。
【請求項４】
前記加圧手段が油圧シリンダーまたは空圧シリンダーであることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のエンボスウエブ加工装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載のエンボスウエブ加工装置をウエブの少なくとも一方の端部に用いてなるエンボスウエブの製造方法であって、該エンボスウエブに転写されるエンボス加工面がエンボスロールの接触面積に対して面積率が５〜２０％であることを特徴とするエンボスウエブの製造方法。
【請求項６】
エンボスウエブ加工装置をウエブの両端部に用いるとともに、一方の端部と他方の端部のエンボス加工面の面積率の差が１０％以下であることを特徴とする請求項５に記載のエンボスウエブの製造方法。
【請求項７】
請求項５または６に記載のエンボスウエブの製造方法で得られるエンボスウエブの、ウエブ厚みが２５μｍから５００μｍであり、ウエブの長さが１００ｍから５，０００ｍである該ウエブを巻き取ってなるエンボスウエブロールであって、エンボスウエブロール表面に形成される凸部高さと凸部のない部分の高さの差がエンボスウエブロールの直径に対して０．０４５％以下であることを特徴とするエンボスウエブロール。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エンボスウエブ加工装置、およびそれを用いたエンボスウエブの製造方法とエンボスウエブロールに関し、特に、ウエブに転写されるエンボス加工による凸部高さが均一に成型し、巻き取られたウエブロールの端面ずれ、しわの発生を防止することができる、エンボスウエブ加工装置、エンボスウエブの製造方法およびエンボスウエブロールに関する。
【背景技術】
【０００２】
エンボスウエブ加工装置は、熱可塑性樹脂フィルム等の種々のフィルム端部の加工に用いられている。
【０００３】
熱可塑性樹脂フィルムの中でもポリエステルフィルム、とりわけポリエチレンテレフタレートフィルムは、機械的特定、電気的特性、耐薬品性、寸法安定性などの点で優れているため、磁気テープ用、コンデンサ用、包装材料用、製版用、電気絶縁材料用、飲料缶ラミネート用、写真フィルム用、光学用等多様な分野で基材として使用されている。熱可塑性樹脂原料は、たとえば溶融押出法により口金から吐出され、キャステングドラムなどにより冷却固化される。その後、適当な温度、延伸倍率にて二軸延伸され、巻取機でロール状に巻き取られる。この後工程では、顧客の必要な幅、長さに巻き取る工程、すなわちスリット工程がある。
【０００４】
巻取機およびスリット工程において、巻き取られたロール状のフィルム端面がずれたり、フィルムにしわなどが発生し、巻姿欠点となることがある。従来から、これらの対策として、多数の突起を持ったエンボスロールと当接ロールから成るエンボスウエブ加工装置でフィルム端部を圧接させることにより、エンボス加工し、フィルムに突起を形成して巻き取る方法が知られている。（例えば、特許文献１）
前述の方法により、適度な巻取り条件にてウエブを巻き取った場合には、ロール状に巻き込まれた空気を適度に排除でき、しわ防止およびロール端部のずれを防止するなどには一定の効果はあった。しかしながら、ウエブにエンボス加工を施す場合に、突起部の高さ分布を均一に行うためには、エンボスロールと当接ロールの平行度を調整するか、もしくはエンボスロールと当接ロールの圧着力を高くしてウエブを挟む、または両方を併用してエンボス加工をする必要があり、十分な効果を安定的に得ることは困難であった。特にエンボスロールと当接ロールの平行が保たれていない場合、ウエブに施すエンボス加工は均一にならず、巻き取られたロール状の端面がずれたり、巻き取られたロールにしわが発生したり、巻き取られたロール状の端部が中央部より高くなるなど、生産性を悪化させていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１０−２２１６２０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的はかかる従来技術の問題点に鑑み、エンボスロールと当接ロールの平行が常に保たれた状態にする事で、巻き取られたウエブロールの端面のずれ、しわの発生が少なくできるエンボスウエブ加工装置を提供すると共に、その製造方法、その製造方法によって製造されるエンボスウエブロールを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、かかる課題を解決するために、次のような手段を採用するものである。
１）  外周面に凹凸を有し回転可能に設けられたエンボスロールを有するロール機構１と、このエンボスロールにウエブを介して接する当接ロールを回転可能に有するロール機構２とを一対有するウエブのエンボスウエブ加工装置において、エンボスロールと当接ロールは、回転軸の両端の軸受部を連結する支持手段を有し、ロール機構１またはロール機構２のいずれか一方の該支持手段がロール軸方向側面に対して両端面に加圧手段を有し、他方の該支持手段がロール軸方向側面に対して中心面または両端面に加圧手段を有し、両端面に加圧手段を有している該支持手段には支持手段の中心部に回転可能な支持ピンを有していることを特徴とするエンボスウエブ加工装置。
２）  前記両端面に加圧手段を有している支持手段に寸法変化を電気信号として検出する歪みセンサーを有し、該歪みセンサーは両端面の寸法変化を検出し、該検出した値を用いてロール両端面の加圧手段を調整することでエンボスロールと当接ロールの接触の均一を図ることを特徴とする１）に記載のエンボスウエブ加工装置。
３）  前記ロール機構１の支持手段が両端面に加圧手段を有し、前記ロール機構２の支持手段が中心面に加圧手段を有することを特徴とする１）または２）に記載のエンボスウエブ加工装置。
４）  前記加圧手段が油圧シリンダーまたは空圧シリンダーであることを特徴とする１）〜３）のいずれかに記載のエンボスウエブ加工装置。
５）  １）〜４）のいずれかに記載のエンボスウエブ加工装置をウエブの少なくとも一方の端部に用いてなるエンボスウエブの製造方法であって、該エンボスウエブに転写されるエンボス加工面がエンボスロールの接触面積に対して面積率が５〜２０％であることを特徴とするエンボスウエブの製造方法。
６）  エンボスウエブ加工装置をウエブの両端部に用いるとともに、一方の端部と他方の端部のエンボス加工面の面積率の差が１０％以下であることを特徴とする５）に記載のエンボスウエブの製造方法。
７）  ５）または６）に記載のエンボスウエブであって、ウエブ厚みが２５μｍから５００μｍであり、ウエブの長さが１００ｍから５，０００ｍである該ウエブを巻き取ってなるエンボスウエブロールであって、エンボスウエブロール表面に形成される凸部高さと凸部のない部分の高さの差がエンボスウエブロールの直径に対して０．０４５％以下であることを特徴とするエンボスウエブロール。
【発明の効果】
【０００８】
本発明のエンボスウエブ加工装置によれば、エンボスロールないし当接ロールの両端面に有する加圧手段により、エンボスロールと当接ロールは均一に接触する。その結果、ウエブに転写されるエンボス加工による凸部高さが均一化される効果、および巻き取られたウエブのロール端面がずれることを防止し、巻き取られたロールにしわが発生することを防止する効果を有する。さらに巻き取られたロール状の端部が中央部より高くなることによる欠陥を防止する効果も有する。本発明のエンボスウエブの製造方法によれば、これらの効果により高品位のウエブを提供することが可能になり、さらに生産性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明のエンボスウエブ加工装置の一例を示す。
【図２】図１のエンボスウエブ加工装置を用いてウエブ両端部にエンボス加工を施した図である。
【図３】図２の、両端部にエンボス加工を施したウエブをロール状に巻き取った図である。
【図４】エンボスウエブ加工装置によって、変形した凸部の面積を示した図である。
【図５】エンボスウエブロール凸部高さと凸部のない部分の高さの差の測定方法を示した図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明のエンボスウエブ加工装置によれば、図１に示す外周面に凹凸を有し回転可能に設けられたエンボスロール４を有するロール機構１と、このエンボスロール４にウエブを介して接する当接ロール５を回転可能に有するロール機構２を一対に有するウエブ３のエンボスウエブ加工装置において、エンボスロール４と当接ロール５は、回転軸６の両端の軸受部を連結する支持手段７を有し、ロール機構１またはロール機構２のいずれか一方の該支持手段７がロール軸方向側面に対して両端面に加圧手段９を有し、他方の該支持手段がロール軸方向側面に対して中心面または両端面に加圧手段を有し、両端面に加圧手段９を有している該支持手段７は支持手段７の中心部に円筒状の穴が設けられ、該穴に円筒状の支持ピン８を挿入することで軸方向に該支持手段７が回転可能であることを特徴とするエンボスウエブ加工装置を用いることが、前記の問題を解決する手段として有効であることを見出した。
【００１１】
なお、本発明の装置は、ロール機構１またはロール機構２のいずれか一方の該支持手段７がロール軸方向側面に対して両端面に加圧手段９を有し、他方の該支持手段は、ロール軸方向側面に対して中心面または両端面に加圧手段を有するが、より好ましくは、他方の該支持手段は、ロール軸方向側面に対して中心面に加圧手段を有する態様である。
【００１２】
さらに、前記エンボスウエブ加工装置の両端面に加圧手段９を有している支持手段７に寸法変化を電気信号として検出する歪みセンサー１０を設け、該歪みセンサー１０で両端面の寸法変化を検出し、該検出した値を用いてロール両端面の寸法変化が同一になるようにロール両端面の加圧手段９を調整することでエンボスロール４が軸方向に対して当接ロール５と均一に接触するように制御することができる。
【００１３】
また、前記ロール機構１の支持手段７が両端面に加圧手段９を有し、前記ロール機構２の支持手段７が中心面に加圧手段９を有するエンボスウエブ加工装置を用いても、同様の効果が得られる。
【００１４】
前記エンボスウエブ加工装置に用いられるエンボスロール４はウエブにエンボスを形成させるための接圧や熱に耐え、長期間の使用に耐えるものであり、ステンレス、鉄等の金属やセラミックなどが好ましい。当接ロール５は金属ロールまたは表面をゴムライニングされた金属ロールを使用する。さらに、前記エンボスウエブ加工装置に用いられる加圧手段９は油圧シリンダーまたは空圧シリンダーでも良いが、油圧シリンダーは作動油が漏れた際にエンボスウエブロール１５を汚染する場合もあることから、圧縮空気を使用する空圧シリンダーがより好ましい。また、エンボスロール４と当接ロール５との接圧の好ましい範囲は、５００〜３，０００Ｎであり、好ましくは８００〜１，８００Ｎであり、さらに好ましくは、１，０００〜１，２００Ｎである。エンボスロール４と当接ロール５との接圧が５００Ｎ未満では、加圧が低いためエンボス突起の凸部高さを十分に得ることができず、３，０００Ｎを越えると機械強度が必要となり、装置が大型化する必要性が生じる。また、機械強度が不足した場合、支持手段７の変形により、エンボスロール４と当接ロール５の接圧の均一性が損なわれる。
【００１５】
図２に示す前記エンボスウエブ加工装置をウエブ３の少なくとも一方の端部に用いてエンボス加工を施すエンボスウエブの製造方法によって、該ウエブ３に転写されるエンボス加工面はエンボスの刻印部分１２の突起接触部が凹み、それ以外の個所が凸部になり、当接ロール５が接触しているエンボス加工面と反対面は変形が見られず凹凸は生じない形状の刻印パターン１３が得られる。エンボス加工を施すことで得られる図４に示すウエブ３の刻印パターン１３の凸部の高さを凸部高さとし、エンボスロール４の刻印部分１２の周方向１０ｍｍとエンボスロール４の刻印部分１２の軸方向全幅による接触面積１７に対して変形した凸部の面積割合を面積率とすると、エンボスウエブに転写されるエンボス加工面がエンボスロールの接触面積に対して面積率が５〜２０％が好ましく、さらに好ましくは５〜１５％である。エンボスロール４によるエンボス加工の面積率が５％未満では、形成するエンボスの突起一つの面にかかる圧力が大きくなるために突起が形成されやすくなるが、ウエブ３をロール状にした場合に突起同士の間隔が広いため、ロール状に巻き取る際にウエブ３間に巻き込まれる空気の排除が不均一になることで端部がずれたり、しわが生じるなどの欠点が発生する傾向がある。逆に、エンボスロール４によるエンボス加工の面積率が２０％を越えると、形成するエンボス突起一つの面積にかかる圧力が分散され小さくなりすぎるため、突起が形成されにくくなる。
【００１６】
図３に示すようにエンボスウエブ加工装置をウエブの両端部に用いるとともに、エンボスウエブの製造方法より得られたエンボスウエブにおいて、エンボスロール４により形成される刻印パターン１３の変形した凸部の高さを凸部高さとし、エンボスロール４の刻印部分１２の周方向１０ｍｍとエンボスの刻印部分１２の軸方向全幅による接触面積に対して変形した凸部の面積割合を面積率として一方の端部と他方の端部について面積率を求め、さらに前記で求めた一方の端部の面積率を１とした場合の他方の端部の面積率の比を求め、両者の差の絶対値のパーセンテージを両端部の面積率の差と定義した場合、両端部の面積率の差を１０％以下にすると、ウエブ３をロール状に巻き取った際にエンボスウエブロール１５の端面がずれたり、ウエブ３にしわが発生することが大幅に減少する。なお、両端部の面積率の差は小さい程好ましく、下限は０％である。両端部の面積率の差は５％以下であればより好ましい。
【００１７】
前記エンボスウエブ加工装置を用いたエンボスウエブの製造方法より得られたエンボスウエブにおいて、ウエブ３厚みを２５μｍから５００μｍとし、ウエブ３の長さが１００ｍから５，０００ｍとする該ウエブ３を巻き取ったエンボスウエブロール１５であって、エンボスウエブロール１５は両端部の刻印パターン１３による凸部によって、刻印パターン１３部分以外よりも直径が大きくなる。このエンボスウエブロール１５の両端部の刻印パターン１３により形成された凸部の高さである凸部高さと刻印パターン１３により形成された凸部のない部分の高さの差がエンボスウエブロール１５の直径に対して０．０４５％以下であると、エンボスウエブロール１５の端部のみ高くなることがなくなりエンボスウエブロール１５の巻き取った外観が良好になり、表面にしわ発生が非常に少なくなる。また、刻印パターン１３により形成された凸部の高さである凸部高さと刻印パターン１３により形成された凸部のない部分の高さの差は図５に示すエンボスウエブロール１５の上に、台１８とスライド可能なリニアガイド１９で構成された装置のリニアガイド１９にダイヤルゲージ２０を設置し、エンボスウエブロール１５の軸方向にダイヤルゲージ２０をスライドさせることで刻印パターン１３により形成された凸部高さと刻印パターン１３により形成された凸部のない部分の高さの差を測定することで得られる。ここで、エンボス加工を施し、ロール状に巻き取るウエブ３の好ましい厚みは２５μｍから５００μｍであり、さらに好ましくは２５μｍから１８８μｍである。ウエブ３の厚みが２５μｍ以下ではウエブ３に施したエンボス加工による巻きずれ、しわ発生防止効果が低く、厚みが５００μｍを超えるとウエブ３自体の剛性のため、ウエブ３に施したエンボス加工の効果が低く巻きずれ発生防止効果が低くなる。また、エンボス加工したウエブ３をロール状に巻き取るのに好ましいウエブ３長さは１００ｍから５，０００ｍである。ロール状に巻き取る長さが１００ｍ未満では巻き取りコア１６に巻き取り始めたウエブ３のしわが表面から確認できるため、エンボスウエブロール１５の製品と成り得ず、５，０００ｍ以上では巻きずれ防止効果が小さくなる。
【００１８】
また、本発明におけるウエブ３は、特に限定されないが、代表的な例を挙げれば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート、ナイロン−６、ポリフェニリンサルファイドなどである。
【実施例】
【００１９】
以下、実施例に基づき本発明の実施態様を説明するが、本発明はこれらの態様に限られるものではない。各実施例、比較例における条件、結果は、まとめて表１に示した。また、表１に示した各物性の測定方法および効果の評価方法は、次のとおりである。
【００２０】
（ａ）凸部高さ
ソニー・プレシジョン・テクノロジー株式会社製のデジタルマイクロメータ  μメイトＭ−３０を用いてウエブの端部のエンボスが形成された部分とエンボスが形成されていない部分を１０点ずつ測定して平均し、その差を凸部高さとした。ここで、前記凸部とは、エンボス突起が接触したウエブ面が変形して凹み、その周りが盛り上がり変形して凸部になった部分のことである。
【００２１】
（ｂ）面積率
エンボスロール４の刻印部分１２の周方向１０（ｍｍ）と、刻印部分の軸方向全幅による接触面積Ｓに対してエンボス加工により形成した接触面積Ｓの範囲内の全ての凸部の面積をＳ１とし、凸部の面積Ｓ１を接触面積Ｓで割り、パーセンテージで表した。なお、エンボス加工が両端にある場合は、一方の端部の値である。凸部の面積は画像処理により２値化して求める。
面積率（％）＝Ｓ１／Ｓ×１００
（ｃ）両端部の面積率の差
（ｂ）に従って求めた凸部の面積Ｓ１と、同様にして他方の端部の凸部の面積Ｓ２を求め、下記式で算出した。
両端部の面積率の差（％）＝｜１−（Ｓ２／Ｓ１）｜×１００
（ｄ）(凸部高さと凸部のない部分の高さの差)／(ウエブロール直径)
ウエブロールの上に、台とスライド可能なリニアガイドで構成された装置のリニアガイドに株式会社ミツトヨ製のダイヤルゲージを設置し、ウエブロールの幅方向にリニアガイドをスライドさせることで、ウエブロール軸方向中心部から端部のダイヤルゲージ測定値の最大差をウエブロール凸部高さと凸部のない部分の高さの差として測定した。このウエブロール凸部高さと凸部のない部分の高さの差をウエブロールの直径で割り、パーセンテージで表した。
なお、ウエブロール直径は以下の方法で求めた。
ウエブをロール状に巻き取る前にウエブを巻き取った長さをローラエンコーダで測定し、また、ウエブ幅方向中央位置でフィルム厚みを測定した平均値、および、巻取コアの径から、ウエブロール直径を算出した。
【００２２】
（ｅ）ウエブ巻きずれ
エンボスウエブロール端面より、巻き取り時のウエブ蛇行により一部のウエブが２ｍｍより大きくずれている場合が×、１ｍｍより大きく２ｍｍ以下の場合が△、０．５ｍｍより大きく１ｍｍ以下が○、０．５ｍｍ以下を◎として評価した。
【００２３】
（ｆ）ウエブしわ
エンボスウエブロールのしわが発生が確認できないものを◎、最表層から５ｍのみに確認される場合は○、最表層から１０ｍに亘って確認される場合は△、表層部に加えて中層部でも、しわが確認にされる場合は×として評価した。
【００２４】
（実施例１）
実質的に不活性粒子を含まないポリエチレンテレフタレートを、１６０℃の温度で６時間、４００Ｐａの減圧下で乾燥し、押出機に投入して２８０℃の温度で溶融した後、濾過精度８μｍのフィルターで濾過させ、口金からシート状に押し出した。押し出されたシート状物を、静電印加キャスト法により表面温度２０℃の温度の冷却ロール上で冷却固化し、実質的に非晶質の未延伸フィルムを得た。この未延伸フィルムを、ロール群からなる長手方向延伸機で９０℃の温度で３．１倍延伸し、冷却して一軸延伸フィルムを得た。この一軸延伸フィルムの両面に、バーコーターを用いて、下記の組成からなる塗液を塗工した後、ステンターオーブンにより９７℃の温度で３．７倍幅方向に延伸し、引き続いて同オーブン内で２２８℃の温度で２０秒熱処理し、厚み１２５μｍ、幅４２００ｍｍの二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの中間製品を得た。
【００２５】
このようにして得られた二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを、スリッターにより、巻出し張力２５０Ｎ／ｍ、巻取り張力２４０Ｎ／ｍ、巻取り面圧１００Ｎ／ｍ、スリット速度１００ｍ／分で１，０００ｍｍの幅にスリットして、長さ３，０００ｍの二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを、プラスチックの外径１６７ｍｍ、厚み７．３ｍｍ、幅はフィルム幅＋２０ｍｍの円筒状のコアに巻き取りフィルムロールを得た。スリッターの巻出しから巻取りの間でスリットする前の位置に、凸形成用のエンボスウエブ加工装置を設置し、スリット前のフィルム幅方向両端部分に、幅１０ｍｍの凸形を形成させた。このエンボスウエブ加工装置は、図１に示す構造を有しているが、歪みセンサーおよび歪みセンサーから得られた信号を空圧に変換する制御装置を有していない。また、該エンボスウエブ加工装置のエンボスロール４と当接ロール５は、１，０００Ｎの接圧でフィルム両端部を挟み込んだ。
【００２６】
この二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの両端部分に形成された面積率が８％のフィルムが得られた。この形成された凸部の両端部の面積率の差は１０％以内であったが、フィルムロール凸部高さと凸部のない部分の高さの差とフィルムロールの直径の比は、０．０４６％となった。フィルムロールにしわの発生はないが、端部が若干巻きずれる結果となった。
［塗液の処方］
下記のポリエステル樹脂エマルジョン１００質量部に対し、下記のメラミン系架橋剤液を５質量部と、平均粒径が０．１μｍのコロイダルシリカ粒子を１質量部添加したものを塗液とした。
〔ポリエステル樹脂エマルジョン〕
下記組成の酸成分とジオール成分を共重合して得られたポリエステル共重合体のエマルジョン。
＜酸成分＞    
・テレフタル酸                              ５０モル％
・イソフタル酸                              ４０モル％
・５−ナトリウムスルホイソフタル酸          １０モル％
＜ジオール成分＞
・エチレングリコール                        ９６モル％
・ネオペンチルグリコール                      ３モル％
・ジエチレングリコール                        １モル％。
【００２７】
〔メラミン系架橋剤〕
イミノ基型メチル化メラミンを、イソプロピルアルコールと水との混合溶媒（１０／９０（質量比））で希釈した液。
【００２８】
（実施例２）
図１のような歪みセンサーとその歪みセンサーのから得られた信号を空圧に変換する制御装置を有するエンボスウエブ加工装置を用いて、実施例１と同じ方法でポリエチレンテレフタレートのフィルムロールを得た。この二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの両端部分に形成された面積率は８％であった。この形成された凸部の両端部の面積率の差は１０％以内であり、フィルムロール凸部高さと凸部のない部分の高さの差とフィルムロールの直径の比は、０．０３５％となった。フィルムロールにはしわの発生がなく、端部の巻きずれもない良好な結果が得られた。
【００２９】
（実施例３）
図１のロール機構１のエンボスロール４の支持手段７を、中心部に回転可能な支持ピン８を有し、両端面に加圧手段９を有するものに、ロール機構２の当接ロール５の支持手段７の中心部に回転可能な支持ピン８が無く、中心部に加圧手段９を有するもの変更したエンボスウエブ加工装置を用いて、実施例１と同じ方法でポリエチレンテレフタレートのフィルムロールを得た。その結果、表１に示すように実施例２と同じくフィルムロールに巻きずれ、しわの発生が見られない良好なフィルムロールを得ることができた。
【００３０】
（実施例４）
エンボスロール接触面積に対する面積率を２５％としたエンボスロール４を用いた図１に示すエンボスウエブ加工装置で、実施例１と同じ方法でポリエチレンテレフタレートのフィルムロールを得た。この二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの両端部分に形成された面積率は２５％であった。この形成された凸部の両端部の面積率の差は１０％以内であり、フィルムロール凸部高さと凸部のない部分の高さの差とフィルムロールの直径の比は、０．０４５％となった。得られたフィルムロールにしわの発生はないが、端部に若干の巻きずれが認められた。
【００３１】
（実施例５）
実施例２と同じエンボスウエブ加工装置を用いて、実施例１と同じ方法でポリエチレンテレフタレートのフィルムロールを得た。ただし、故意に端部と他端部の凸部面積差が生じるように歪みセンサー１０より得られた信号を調整した。この得られたフィルムロール両端部の凸部の両端部の面積率の差は１２％となり、フィルムロールの巻きずれが発生する方向に変化した。
【００３２】
（実施例６）
実施例２と同じエンボスウエブ加工装置を用いて、実施例１と同じ方法でポリエチレンテレフタレートのフィルムロールを得た。ただし、フィルムロールの巻き長さを５５００ｍとした。この得られたフィルムロール両端部の凸部の両端部の面積率の差は実施例２と同様の結果であるが、フィルムロール凸部高さと凸部のない部分の高さの差とフィルムロールの直径の比は悪化した。
【００３３】
（実施例７，８）
実施例２と同じエンボスウエブ加工装置を用いて、実施例１と同じ方法でポリエチレンテレフタレートのフィルムロールを得た。この得られたフィルムロールは表１に示す、巻きずれ、しわの発生のない良好なものとなった。
【００３４】
（比較例１）
エンボスウエブ加工装置において、図１とは異なりロール機構２に当接ロール５の支持手段７に回転可能な支持ピン８を有しないエンボスウエブ加工装置を用いて、実施例１と同じ方法でポリエチレンテレフタレートのフィルムロールを得た。この得られたフィルムロールは、表１の特性となった。ロール機構２の当接ロール５の支持手段７に回転可能な支持ピン８を有しないエンボスウエブ加工装置のため、エンボスロール４と当接ロール５が均一に接触せず結果として、形成された凸部が均一とならずフィルムロールの巻きずれ、しわが発生した。
【００３５】
（比較例２）
エンボスウエブ加工装置において、図１とは異なりロール機構２の当接ロール５の支持手段７に回転可能な支持ピン８を有せず中心部に一つの加圧手段９を有する調節機構を持たない従来のエンボスウエブ加工装置を用いて、実施例１と同じ方法でポリエチレンテレフタレートのフィルムロールを得た。この得られたフィルムロールは、表１の特性となった。ロール機構２に当接ロール５の支持手段７に回転可能な支持ピン８を有せず中心部に一つの加圧手段９を有する調節機構を持たない従来のエンボスウエブ加工装置のため、エンボスロール４と当接ロール５が均一に接触せず結果として、形成された凸部が均一とならず比較例１よりもさらにフィルムロールの巻きずれ、しわが発生した。
【００３６】
【表１】
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【産業上の利用可能性】
【００３７】
以上詳述したように、本発明は、ウエブの側縁部に、エンボスを帯状に形成するためのエンボスウエブ加工装置およびそれを用いたエンボスウエブの製造方法に係わるものであり、本発明により、エンボスウエブの両端部に加工されたのエンボス加工面の面積率の差が１０％以内である均一なエンボス加工が得られ、ウエブをロール状に巻き取った際に巻きずれがない、およびロール端面のずれがなく、ロール中央部よりも端部が高くなることによる欠陥のない高品位のエンボスウエブロールを得ることができる。このエンボスウエブロールは、光学用フィルム、表面保護材、磁気記録媒体、感熱転写材、電気絶縁材料、離型材および包装材料等の用途に好適である。
【符号の説明】
【００３８】
１．ロール機構１
２．ロール機構２
３．ウエブ
４．エンボスロール
５．当接ロール
６．回転軸
７．支持手段
８．支持ピン
９．加圧手段
１０．歪みセンサー
１１．制御装置
１２．刻印部分
１３．刻印パターン
１４．ウエブ進行方向
１５．エンボスウエブロール
１６．巻き取りコア
１７．接触面積
１８．台
１９．リニアガイド
２０．ダイヤルゲージ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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