(57)【要約】【課題】色素吸着装置において、従来よりも色素吸着時間を大幅に短縮して生産性を向上し、且つ、色素溶液を効率的に使用してコストを低減する。【解決手段】被処理基板Ｇを収容し、処理空間Ｔを形成するチャンバ１０と、前記処理空間に色素溶液２０を供給する色素溶液供給手段６，７，８と、前記処理空間内を減圧吸引する減圧手段１２，１３，１４とを備え、前記減圧手段により前記処理空間内の色素溶液が減圧乾燥され、前記色素溶液の溶媒が揮発して前記半導体多孔質層に色素が吸着される。【選択図】図１
2013161699.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理基板上に形成された半導体多孔質層に所定の色素を吸着させる色素吸着装置であって、
前記被処理基板を収容し、処理空間を形成するチャンバと、前記処理空間に色素溶液を供給する色素溶液供給手段と、前記処理空間内を減圧吸引する減圧手段とを備え、
前記減圧手段により前記処理空間内の色素溶液が減圧乾燥され、前記色素溶液の溶媒が揮発して前記半導体多孔質層に色素が吸着されることを特徴とする色素吸着装置。
【請求項２】
前記色素溶液供給手段は、前記処理空間に少なくとも前記被処理基板の全体が浸漬される量の色素溶液を供給することを特徴とする請求項１に記載された色素吸着装置。
【請求項３】
前記色素溶液が供給された処理空間を加熱する加熱手段を備えることを特徴とする請求項１に記載された色素吸着装置。
【請求項４】
前記チャンバは、前記処理空間を形成する上部チャンバと下部チャンバとからなり、前記加熱手段は、前記上部チャンバと下部チャンバとにそれぞれ設けられることを特徴とする請求項３に記載された色素吸着装置。
【請求項５】
前記処理空間の底部に前記被処理基板を載置するステージが設けられ、前記被処理基板は、半導体多孔質層を上側にして、前記ステージ上に載置されることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載された色素吸着装置。
【請求項６】
複数の貫通孔が設けられ、前記処理空間において前記被処理基板の上方に配置される分散板を備え、
前記色素溶液供給手段により供給される前記色素溶液は、前記分散板の貫通孔を通ってシャワー状に前記被処理基板上に供給されることを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれかに記載された色素吸着装置。
【請求項７】
前記減圧手段により減圧された前記処理空間内にパージガスを供給するパージガス供給手段を備えることを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれかに記載された色素吸着装置。
【請求項８】
被処理基板上に形成された半導体多孔質層に所定の色素を吸着させる色素吸着方法であって、
チャンバ内に前記被処理基板を収容し、密閉された処理空間を形成するステップと、
前記処理空間に色素溶液を供給するステップと、
前記処理空間内を減圧吸引することにより前記処理空間内の色素溶液を減圧乾燥し、前記色素溶液の溶媒を揮発させて前記半導体多孔質層に色素を吸着させるステップとを含むことを特徴とする色素吸着方法。
【請求項９】
前記処理空間に色素溶液を供給するステップにおいて、
少なくとも前記被処理基板の全体が浸漬される量の色素溶液を供給することを特徴とする請求項８に記載された色素吸着方法。
【請求項１０】
前記処理空間内を減圧吸引するステップと共に、
前記処理空間を加熱するステップを実行することを特徴とする請求項８または請求項９に記載された色素吸着方法。
【請求項１１】
前記処理空間を加熱するステップにおいて、
前記処理空間の上方側に設けられたヒータと下方側に設けられたヒータとにより加熱を行うことを特徴とする請求項１０に記載された色素吸着方法。
【請求項１２】
前記処理空間内を減圧吸引することにより前記処理空間内の色素溶液を減圧乾燥し、前記色素溶液の溶媒を揮発させて前記半導体多孔質層に色素を吸着させるステップの後、
前記処理空間内を大気圧に戻すステップと、
前記処理空間に、少なくとも前記被処理基板の全体が浸漬される量の色素溶液を供給するステップと、
前記処理空間内を減圧吸引することにより前記処理空間内の色素溶液を減圧乾燥し、前記色素溶液の溶媒を揮発させて前記半導体多孔質層に色素を吸着させるステップとを一又は複数回繰り返すことを特徴とする請求項８乃至請求項１１のいずれかに記載された色素吸着方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、色素吸着装置及び色素吸着方法に関し、特に被処理基板の表面に形成された半導体多孔質層に所定の色素を吸着させる色素吸着装置及び色素吸着方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
次世代太陽電池の一つとして、色素増感型太陽電池がある。この色素増感型太陽電池は、シリコン材料を用いた太陽電池の構造に比べ、安価な材料を用いるために低コストで実現でき、また、発電性能の高さから注目されている。
図６に色素増感型太陽電池の概略構成を示す。この色素増感型太陽電池５０は、例えばルテニウム色素（Ｚ９０７色素など）を担持する酸化チタン層（半導体多孔質層）５２が基板面に形成された透明電極（負極）基板（ＩＴＯ膜ガラス基板など）５３と、これに対向する電極（正極）基板５４と、それらに狭持された電解質層５５（ゲル状のヨウ素溶液など）とを有している。
【０００３】
この色素増感型太陽電池５０においては、透明電極（負極）基板５３側から可視光が照射されると、酸化チタン層５２に担持されている色素が励起状態となり電子を放出する。放出された色素の電子は、酸化チタン層５２の伝導帯へ注入され、外部回路５７を通って正極である電極基板５４側に移動する。
電極基板５４側に移動した電子は、電解質層５５中のイオンによって運ばれて色素に戻る。このような過程の繰り返しにより電気エネルギーが取り出される。
【０００４】
ところで、この色素増感型太陽電池５０において発電性能を高めるためには、酸化チタン層５２への色素の吸着量を増加させ、より多くの光を吸収可能な構成とすればよい。
酸化チタン層５２への色素の吸着は、例えば特許文献１に開示されるように、図７に示す酸化チタン層５２が形成された透明電極基板５３を、容器６０に収容された色素溶液６１に所定時間浸漬することにより行われている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１１−２１０６７２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、図８に示すように色素溶液６１中の色素５１を酸化チタン層５２の奥（下部）まで充分に吸着させるには、長時間（例えば１２〜４８時間）浸漬しなければならず、生産性が低下するという課題があった。
一方、量産を効率的に行うには多数の容器６０を用意し、それら容器６０の色素溶液６１に透明電極基板５３を浸漬しなければならず、高価な色素溶液６１が大量に必要となってコストが嵩む上、広大なフットプリントが必要になるという課題があった。
【０００７】
本発明は、上記のような従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、被処理基板に形成された半導体多孔質層に所定の色素を吸着させる色素吸着装置において、従来よりも色素吸着時間を大幅に短縮して生産性を向上することができ、且つ、色素溶液を効率的に使用してコストを低減することのできる色素吸着装置及び色素吸着方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記した課題を解決するために、本発明に係る色素吸着装置は、被処理基板上に形成された半導体多孔質層に所定の色素を吸着させる色素吸着装置であって、前記被処理基板を収容し、処理空間を形成するチャンバと、前記処理空間に色素溶液を供給する色素溶液供給手段と、前記処理空間内を減圧吸引する減圧手段とを備え、前記減圧手段により前記処理空間内の色素溶液が減圧乾燥され、前記色素溶液の溶媒が揮発して前記半導体多孔質層に色素が吸着されることに特徴を有する。
尚、前記色素溶液供給手段は、前記処理空間に少なくとも前記被処理基板の全体が浸漬される量の色素溶液を供給することが望ましい。
【０００９】
このような構成によれば、色素溶液中の溶媒が効果よく揮発し、半導体多孔質層に浸透した色素溶液の色素濃度を高くすることができる。そして、前記溶媒を短時間で全て揮発させ、半導体多孔質層に多量の色素を吸着させることができる。
その結果、従来よりも色素吸着時間が大幅に短縮され、生産性を向上することができる。また、色素溶液中に含まれる色素の大部分を半導体多孔質層に吸着させることができるため、従来よりも色素溶液の消費量を低減することができ、コストを低く抑えることができる。更には、１台の色素吸着装置で効率的に吸着処理を行うことができるため、小フットプリントで量産対応することができる。
【００１０】
また、前記色素溶液が供給された処理空間を加熱する加熱手段を備えることが望ましい。
尚、前記チャンバは、前記処理空間を形成する上部チャンバと下部チャンバとからなり、前記加熱手段は、前記上部チャンバと下部チャンバとにそれぞれ設けられることが望ましい。
このように加熱手段を備えることにより、さらに効率よく溶媒を揮発させることができる。
また、前記処理空間の底部に前記被処理基板を載置するステージが設けられ、前記被処理基板は、半導体多孔質層を上側にして、前記ステージ上に載置されることが望ましい。
更には、複数の貫通孔が設けられ、前記処理空間において前記被処理基板の上方に配置される分散板を備え、前記色素溶液供給手段により供給される前記色素溶液は、前記分散板の貫通孔を通ってシャワー状に前記被処理基板上に供給されることが望ましい。
このように構成することにより半導体多孔質層で色素濃度が偏ることなく色素を吸着させることができる。
【００１１】
また、前記した課題を解決するために、本発明に係る色素吸着方法は、被処理基板上に形成された半導体多孔質層に所定の色素を吸着させる色素吸着方法であって、チャンバ内に前記被処理基板を収容し、密閉された処理空間を形成するステップと、前記処理空間に色素溶液を供給するステップと、前記処理空間内を減圧吸引することにより前記処理空間内の色素溶液を減圧乾燥し、前記色素溶液の溶媒を揮発させて前記半導体多孔質層に色素を吸着させるステップとを含むことに特徴を有する。
尚、前記処理空間に色素溶液を供給するステップにおいて、少なくとも前記被処理基板の全体が浸漬される量の色素溶液を供給することが望ましい。
【００１２】
このような方法によれば、色素溶液中の溶媒が効果よく揮発し、半導体多孔質層に浸透した色素溶液の色素濃度を高くすることができる。そして、前記溶媒を短時間で全て揮発させ、半導体多孔質層に多量の色素を吸着させることができる。
その結果、従来よりも色素吸着時間が大幅に短縮され、生産性を向上することができる。また、色素溶液中に含まれる色素の大部分を半導体多孔質層に吸着させることができるため、従来よりも色素溶液の消費量を低減することができ、コストを低く抑えることができる。更には、１台の色素吸着装置で効率的に吸着処理を行うことができるため、小フットプリントで量産対応することができる。
【００１３】
また、前記処理空間内を減圧吸引するステップと共に、前記処理空間を加熱するステップを実行することが望ましい。
尚、前記処理空間の上方側に設けられたヒータと下方側に設けられたヒータとにより加熱を行うことが望ましい。
このように加熱するステップを行うことにより、さらに効率よく溶媒を揮発させることができる。
【００１４】
また、前記処理空間内を減圧吸引することにより前記処理空間内の色素溶液を減圧乾燥し、前記色素溶液の溶媒を揮発させて前記半導体多孔質層に色素を吸着させるステップの後、前記処理空間内を大気圧に戻すステップと、前記処理空間に、少なくとも前記被処理基板の全体が浸漬される量の色素溶液を供給するステップと、前記処理空間内を減圧吸引することにより前記処理空間内の色素溶液を減圧乾燥し、前記色素溶液の溶媒を揮発させて前記半導体多孔質層に色素を吸着させるステップとを一又は複数回繰り返してもよい。
このように色素溶液の減圧乾燥処理を繰り返し行うことにより、半導体多孔質層に所望量（多量）の色素を吸着させることができる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、被処理基板に形成された半導体多孔質層に所定の色素を吸着させる色素吸着装置において、従来よりも色素吸着時間を大幅に短縮して生産性を向上することができ、且つ、色素溶液を効率的に使用してコストを低減することのできる色素吸着装置及び色素吸着方法を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】図１は、本発明に係る色素吸着装置の一実施形態の概略構成を示す断面図である。
【図２】図２は、図１の色素吸着装置の平面図である。
【図３】図３は、図１の色素吸着装置における一連の動作の流れを示すフローである。
【図４】図４は、図３のフローに対応する色素吸着装置の動作状態を示す断面図である。
【図５】図５は、図３の動作フローの変形例を示すフローである。
【図６】図６は、色素増感型太陽電池の概略構成を示す断面図である。
【図７】図７は、酸化チタン層に色素を吸着させる工程を説明するための断面図である。
【図８】図８は、色素溶液中の色素が酸化チタン層の下部まで吸着した状態を示す図７の一部拡大図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明にかかる実施の形態につき、図に基づいて説明する。図１は、本発明に係る色素吸着装置の一実施形態の概略構成を示す断面図である。図２は、図１の色素吸着装置の平面図である。
この色素吸着装置１は、色素増感型太陽電池の製造工程において用いられ、透明電極基板（例えばＦＴＯ膜ガラス基板）の基板面に形成された半導体多孔質層としての例えば酸化チタン層（厚さ寸法２０〜３０μｍ）に、ルテニウム色素（例えばＺ９０７色素）を吸着させるための装置である。
【００１８】
色素吸着装置１は、方形状の透明電極基板Ｇ（被処理基板）を収容可能なチャンバ１０を備える。尚、前記透明電極基板Ｇの表面には、半導体多孔質層としての酸化チタン層２が成膜されている。
前記チャンバ１０は、前記透明電極基板Ｇを載置可能な下部チャンバ１０Ａと、下部チャンバ１０Ａに対して昇降移動可能な上部チャンバ１０Ｂとからなる。前記上部チャンバ１０Ｂは昇降駆動部３により昇降移動され、それによりチャンバ開閉がなされる。尚、下部チャンバ１０Ａと上部チャンバ１０Ｂのいずれも図２に示すように、透明電極基板Ｇの形状に相似して平面視で方形状に形成されている。
【００１９】
図１に示すように前記下部チャンバ１０Ａは、厚板状に形成されると共に、その中央に透明電極基板Ｇを載置するステージ４が設けられている。
また、前記上部チャンバ１０Ｂは、天板部１０Ｂ１とその周縁から下方に延びる所定高さの周壁部１０Ｂ２とからなり、これにより下方に開口を有する底浅の容器状となっている。前記下部チャンバ１０Ａに接する周壁部１０Ｂ２の下端には、シール部材５が設けられ、下部チャンバ１０Ａに対して上部チャンバ１０Ｂが閉じることにより密閉された処理空間Ｔが形成されるようになっている。
【００２０】
また、上部チャンバ１０Ｂの天板部１０Ｂ１には、チャンバ１０が閉じられて形成された処理空間Ｔに色素溶液２０を注入するための溶液注入管６が挿通されている。この実施形態では、図２に示すように２本の溶液注入管６が上部チャンバ１０Ｂの上下面において対角をなす角隅付近に上下に挿通されている。
前記溶液注入管６は、電動バルブ７を介して色素溶液供給ユニット８に接続され、電動バルブ７が開いた状態で、色素溶液供給ユニット８から所定温度の色素溶液２０が供給されるようになっている。また、天板部１０Ｂ１において、溶液注入管６の周囲には、シール部材９が設けられ、処理空間Ｔ内の密閉度が維持されている。
尚、溶液注入管６の先端（下端）６ａにはオリフィスバルブ（図示せず）を設けることが望ましく、それにより色素溶液２０の吐出勢いが減衰され、飛沫の発生等を防止することができる。また、溶液注入管６と電動バルブ７と色素溶液供給ユニット８とにより溶液供給手段が構成される。
【００２１】
また、処理空間Ｔ内において、溶液注入管６の下方には、全面に多数の貫通孔１１ａが形成された分散板１１が設けられている。この分散板１１は、その上方の溶液注入管６から供給された色素溶液２０を板全面に拡げると共に、色素溶液２０を前記多数の貫通孔１１ａを介して下方に流すものであり、それによりステージ４上の透明電極基板Ｇにシャワー状に色素溶液２０が供給されるようになっている。このようにするのは、透明電極基板Ｇの上面に対し略均等なタイミングで色素溶液２０を供給し、酸化チタン層２に吸着される色素量の（基板面における）偏りを防止するためである。
尚、色素溶液２０は、例えばルテニウム色素（Ｚ９０７色素など）を所定の溶媒（エタノールなど）に溶解したものであり、少なくとも図示するように透明電極基板Ｇが完全に浸漬される所定量が色素溶液供給ユニット８から供給されるようになっている。
【００２２】
また、上部チャンバ１０Ｂの天板部１０Ｂ１には、処理空間Ｔ内の気圧を調整するためのガス配管１２が挿通されている。この実施形態では、図２に示すように２本のガス配管１２が上部チャンバ１０Ｂの上下面において対角をなす角隅付近であって、前記溶液注入管６が設けられていない側の角隅付近に上下に挿通されている。
【００２３】
前記ガス配管１２は、３方向弁である電動バルブ１３を介して、吸引手段である真空ポンプ１４とパージガス（不活性ガス）を供給するパージガス供給部２１とに接続されている。天板部１０Ｂ１において、ガス配管１２の周囲には、シール部材１５が設けられ、処理空間Ｔ内の密閉度が維持されている。また、ガス配管１２の先端は、分散板１１の下方に配置されている。
【００２４】
これによりチャンバ１０が閉じ、電動バルブ１３が真空ポンプ１４側に開いた状態で真空ポンプ１４が駆動されると、処理空間Ｔ内が減圧吸引され、処理空間Ｔ内が減圧乾燥処理状態となる。また、処理空間Ｔ内が減圧された後、電動バルブ１３がパージガス供給部２１側に開いた状態でパージガス供給部２１が駆動されると、ガス配管１２を介して処理空間Ｔ内にパージガスが供給され、処理空間Ｔ内が大気圧に戻されるようになっている。
尚、ガス配管１２と電動バルブ１３と真空ポンプ１４とにより減圧手段が構成される。また、ガス配管１２と電動バルブ１３とパージガス供給部２１とによりパージガス供給手段が構成される。
【００２５】
さらに、下部チャンバ１０Ａ内には、所定の電流が流されることにより発熱するヒータ１６が設けられ、上部チャンバ１０Ｂの天板部１０Ｂ１には、同様にヒータ１７が設けられている。それらヒータ１６、１７には、ヒータ駆動部１８により所定の電流が供給され、発熱することによって処理空間Ｔ内を所定温度に加熱するように構成されている。尚、ヒータ１６，１７とヒータ駆動部１８とにより加熱手段が構成される。
【００２６】
また、前記昇降駆動部３、色素溶液供給ユニット８、真空ポンプ１４、ヒータ駆動部１８、パージガス供給部２１、電動バルブ７、１３は、それぞれコンピュータからなる制御部１９からの命令により動作するように構成されている。
【００２７】
続いて、このように構成された色素吸着装置１による酸化チタン層２への色素の吸着工程について図３、図４を用いて説明する。
尚、図３は色素吸着装置１における一連の動作の流れを示すフローであり、図４は図３のフローに対応する色素吸着装置１の動作状態を示す断面図である。
【００２８】
先ず、図４（ａ）に示すように、チャンバ１０が開いた状態で、透明電極基板Ｇ（例えばＦＴＯ膜ガラス基板）をステージ４上に載置する（図３のステップＳ１）。尚、透明電極基板Ｇの上面（ＦＴＯ膜の上面）には、半導体多孔質層としての酸化チタン層２が予め成膜されている。
次いで、制御部１９の制御により昇降駆動部３が上部チャンバ１０Ｂを下降させ、下部チャンバ１０Ａに対して上部チャンバ１０Ｂが閉じられ、図４（ｂ）に示すようにチャンバ１０内部に処理空間Ｔが形成される（図３のステップＳ２）。
【００２９】
密閉された処理空間Ｔが形成されると、制御部１９の制御により溶液注入管６上の電動バルブ７が開かれ、図４（ｂ）に示すように、色素溶液供給ユニット８から供給された所定温度、所定濃度の色素溶液２０が溶液注入管６から分散板１１上に供給される。
そして、色素溶液２０は、分散板１１の全面に拡がると共に、多数の貫通孔１１ａを通って透明電極基板Ｇ上にシャワー状に供給される（図３のステップＳ３）。このように透明電極基板Ｇの上面に対し、略均等に色素溶液２０を供給することによって酸化チタン層２に吸着される色素量の基板面における偏りが防止される。
【００３０】
透明電極基板Ｇ上に供給された色素溶液２０は、基板上に成膜された酸化チタン層２の微粒子間まで浸透する。
そして、処理空間Ｔ内に供給される色素溶液２０は、その貯留量が次第に増加し、図４（ｃ）に示すように透明電極基板Ｇの全体が浸漬される量（例えば、処理空間Ｔ内において深さ５ｍｍ程度）で供給停止される（電動バルブ７が閉じられる）。
【００３１】
また、制御部１９によりガス配管１２の電動バルブ１３が真空ポンプ１４側に開かれると共に真空ポンプ１４が駆動され、処理空間Ｔ内が減圧吸引開始される（図３のステップＳ４）。これにより処理空間Ｔ内は所定気圧まで減圧され、色素溶液２０の溶媒を揮発させる減圧乾燥処理が開始される。また、揮発した溶媒は、ガス配管１２に吸引され排気される。
【００３２】
また、制御部１９の制御によりヒータ駆動部１８からヒータ１６，１７に所定の電流が供給され、チャンバ１０内の処理空間Ｔが所定温度に加熱される（図３のステップＳ５）。この加熱処理により、前記減圧乾燥処理に加え、色素溶液２０における溶媒の揮発が加速され、より効率的に前記溶媒の揮発が進行する。
【００３３】
このようにして色素溶液２０の溶媒の揮発が進行すると、処理空間Ｔ内の色素溶液２０は次第に減少し、酸化チタン層２に浸透している色素溶液２０の色素濃度が高くなる。
そして、色素溶液２０の溶媒が全て揮発する直前には、酸化チタン層２に浸透している色素溶液２０は、その色素濃度が非常に高くなり、溶媒が全て揮発することにより、酸化チタン層２に多量の色素が吸着する。
【００３４】
所定時間の経過により、或いは、フロート式の液面センサ等の残液検出手段（図示せず）により、図４（ｄ）に示すように色素溶液２０の溶媒が全て揮発したことが確認されると（図３のステップＳ６）、制御部１９により電磁バルブ１３がパージガス供給部２１側に開かれる。そして、パージガス供給部２１からガス配管１２を介して処理空間Ｔ内にパージガス（不活性ガス）が供給され、処理空間Ｔ内が緩やかに大気圧に戻される（図３のステップＳ７）。
【００３５】
ここで、使用した色素溶液２０の色素濃度に基づき、透明電極基板Ｇ上の酸化チタン層２への色素の吸着量が目標とする所定の吸着量である場合（図３のステップＳ８）、ヒータ駆動部１８からヒータ１６，１７への電流供給が停止される。
また、昇降駆動部１７により上部チャンバ１０Ｂが上昇移動されてチャンバ１０が完全に開かれる（図３のステップＳ９）。そして、ステージ４上に載置されている透明電極基板Ｇが搬出され、透明電極基板Ｇ上の酸化チタン層２への色素の吸着処理が完了する（図３のステップＳ１０）。
【００３６】
また、前記ステップＳ８において、使用した色素溶液２０の色素濃度に基づき、透明電極基板Ｇ上の酸化チタン層２への色素の吸着量が目標とする所定の吸着量に達していない場合、再びステップＳ３の処理に戻り、処理空間Ｔ内に所定量の色素溶液２０が供給される。
そして、ステップＳ８において色素の吸着量が所定量に達するまで、ステップＳ３〜Ｓ８の処理が繰り返される。
【００３７】
以上のように、本発明に係る色素吸着装置の一実施形態によれば、チャンバ１０の処理空間Ｔ内において、酸化チタン層２が成膜された透明電極基板Ｇを色素溶液２０に浸漬させると共に、処理空間Ｔ内を減圧し、且つ加熱する処理が施される。
これにより、色素溶液２０中の溶媒が効果よく揮発し、酸化チタン層２に浸透した色素溶液２０の色素濃度を高くすることができる。そして、前記溶媒を短時間で全て揮発させ、酸化チタン層２に多量の色素を吸着させることができる。
その結果、従来よりも色素吸着時間が大幅に短縮され、生産性を向上することができる。また、色素溶液２０中に含まれる色素の大部分を酸化チタン層２に吸着させることができるため、従来よりも色素溶液２０の消費量を低減することができ、コストを低く抑えることができる。更には、１台の色素吸着装置１で効率的に吸着処理を行うことができるため、小フットプリントで量産対応することができる。
【００３８】
尚、前記実施の形態においては、処理空間Ｔ内に収容された色素溶液２０の溶媒が全て揮発するまで減圧乾燥処理を行うものとして説明したが、処理空間Ｔ内の色素溶液２０を排水する機構（図示せず）を設け、色素溶液２０の残液量が所定量に達すると排水するようにしてもよい。
【００３９】
また、前記実施の形態においては、図２に示したように上部チャンバ１０Ｂの（対角をなす）隅部に２本の溶液注入管６を設け、他の（対角をなす）隅部に２本のガス配管１２を設ける構成とした。しかしながら、本発明に係る色素吸着装置にあっては、溶液注入管６やガス配管１２の配設位置及び本数は限定されるものではない。
また、チャンバ１０に溶液注入管６とガス配管１２とを別個に設けたが、色素溶液２０の注入と、減圧吸引（或いはパージガス供給）とは同時に行わないため、前記全ての管を共用し、バルブにより各機能（溶液注入、吸引、ガス供給）を切り替えてもよい。
【００４０】
また、前記実施の形態においては、透明電極基板Ｇに形成された酸化チタン層２を上側にしてステージ４上に載置し、処理空間Ｔ内において基板全体が色素溶液２０に浸漬されるものとした。
しかしながら、本発明にあっては、その形態に限らず、透明電極基板Ｇに形成された酸化チタン層２を下側にして処理空間Ｔ内に保持し、基板下面の酸化チタン層２が色素溶液２０に浸漬されるように構成してもよい。
【００４１】
また、前記実施の形態においては、図３のフローに示したようにステップＳ４において減圧開始したが、それに限らず、図５のフローに示すように、チャンバ１０を閉じる工程（図５のステップＳ２）の後、色素溶液２０を注入する工程（図５のステップＳ３）の前に、処理空間Ｔ内の減圧吸引を開始する工程（図５のステップＳ１１）を行ってもよい。
【符号の説明】
【００４２】
１          色素吸着装置
２          酸化チタン層
３          昇降駆動部
４          ステージ
５          シール部材
６          溶液注入管（色素溶液供給手段）
７          電動バルブ（色素溶液供給手段）
８          色素溶液供給ユニット（色素溶液供給手段）
９          シール部材
１０        チャンバ
１０Ａ      下部チャンバ
１０Ｂ      上部チャンバ
１１        分散板
１２        ガス配管（減圧手段、パージガス供給手段）
１３        電動バルブ（減圧手段、パージガス供給手段）
１４        真空ポンプ（減圧手段）
１５        シール部材
１６        ヒータ（加熱手段）
１７        ヒータ（加熱手段）
１８        ヒータ駆動部（加熱手段）
１９        制御部
２１        パージガス供給部（パージガス供給手段）
Ｇ          透明電極基板（被処理基板）
Ｔ          処理空間
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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