(57)【要約】【課題】有機機能性材料からなるインキを用いて、高精細、高品質、低コストな有機機能性素子を形成できる凸版印刷装置、それを用いた機機能性素子の製造方法、及び有機機能性素子を提供することを目的とする。【解決手段】凸版と版胴とアニロックスロールを具備する凸版印刷装置であって、前記アニロックスロールが、版胴に装着された前記凸版の凸部に接触してインキを供給する機能を有するものであり、かつ、前記凸版の凸部の１ピッチ幅に前記アニロックスロールの１ピッチを対応させたとき、このアニロックスロールの１ピッチが複数の異なるセル構造で形成されており、前記版胴もしくはアニロックスロールの少なくともどちらか一方を回転軸方向にスライドさせることで、前記アニロックスロールと前記凸部との接触位置を調整する機能を有することを特徴とする凸版印刷装置である。【選択図】図９
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
凸版と版胴とアニロックスロールを具備する凸版印刷装置であって、
前記アニロックスロールが、版胴に装着された前記凸版の凸部に接触してインキを供給する機能を有するものであり、
かつ、前記凸版の凸部の１ピッチ幅に前記アニロックスロールの１ピッチを対応させたとき、このアニロックスロールの１ピッチが複数の異なるセル構造で形成されており、
前記版胴もしくはアニロックスロールの少なくともどちらか一方を回転軸方向にスライドさせることで、前記アニロックスロールと前記凸部との接触位置を調整する機能を有することを特徴とする凸版印刷装置。
【請求項２】
前記アニロックスロールのセル構造が、線数、セル深度、セル口径、セル壁厚、表面パターンの並びの向き（セル角度）、彫刻パターン、セル形状の少なくともいずれか一つから形成されていることを特徴とする、請求項１に記載の凸版印刷装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の凸版印刷装置を用いて、基板上に有機化合物を含む有機機能層を形成することを特徴とする有機機能性素子の製造方法。
【請求項４】
請求項３に記載の製造方法を用いて作製されたことを特徴とする有機機能性素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機機能性材料をインキとして高精細なパターン形成をする凸版印刷装置と、それを用いた有機機能性素子の製造方法及び有機機能性素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子部材の薄層軽量化やフレキシブル化を目指した、有機機能性材料を用いた有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）素子や有機太陽電池、有機薄膜トランジスタなどの有機機能性素子の開発が盛んに行われている。これらの有機機能性素子は、一般に数ｎｍから数μｍ程度の膜厚を有する有機機能層を基板上にパターン形成する必要がある。
【０００３】
有機ＥＬ素子を一例として詳しく述べる。有機ＥＬ素子は二つの対向する電極間に有機ＥＬ材料を有する有機発光層が形成された構造をもつ発光素子であり、電圧の印加により発光するものである。
【０００４】
有機発光層に用いられる有機ＥＬ材料は、低分子系材料と高分子系材料に区分されており、有機発光層の形成方法は材料の種類によって異なる。
【０００５】
一般に低分子系材料は、基板に抵抗加熱蒸着法（真空蒸着法）等によって薄膜形成される。この方法は、均一な薄膜形成には優れており、膜厚コントロールに有利な方法であるが、基板が大型になるとパターン精度を保ち難くなるという問題がある。
【０００６】
一方、高分子系材料では、有機発光材料を溶剤に溶解あるいは分散させてインキ化し、ウェットコーティング法によって薄膜を形成する。ウェットコーティング法としては、スピンコート法、バーコート法、突出コート法、ディップコート法等があるが、パターニングや色の塗り分けに用いることは困難であり、高精細なパターニング等を行うには、インキジェット法や印刷法等によるパターン印刷を用いることが必要となる。
【０００７】
例えば、（特許文献１）に開示されているようなインキジェット法によるパターン形成方法では、インキジェットノズルから溶剤に溶かした有機発光材料を基板上に噴出させ、基板上で乾燥させることでパターンを形成する。しかしながら、ノズルから噴出されたインキ液滴は球状をしている為、基板上に着弾する際にインキが円形状に広がり、形成されたパターンの形状が直線性に欠けたり、あるいは着弾精度が悪くなってパターンの直線性が得られなかったりするという問題点がある。
【０００８】
また、印刷法によるパターン形成方法には様々な種類があるが、基板としてガラス基板を用いることが多い有機ＥＬ素子については、ゴム製の印刷用ブランケットを用いたオフセット印刷法や、ゴムやその他の樹脂を主成分とした感光性樹脂版を用いる凸版印刷法等が適正な印刷法と考えられる。実際に、オフセット印刷によるパターン印刷方法（特許文献２）、凸版印刷によるパターン印刷方法（特許文献３）などが提唱されている。中でも、特に凸版印刷による方法はパターン形成精度や膜厚均一性などに優れ、印刷による有機ＥＬ素子の製造方法として最も適している。
【０００９】
凸版印刷法による有機発光層を形成する工程の一例を説明する。有機ＥＬ材料を溶剤に溶解あるいは分散させたインキを、微細な孔を有するアニロックスロールの表面に塗布する。次に、ロール表面の余分なインキをドクターブレードで掻き取るによって、アニロックスロールの単位面積あたりのインキの塗布量を均一にする。そして、有機ＥＬ素子の画
素の形状に対応して設けられている画像形成部を有する印刷用凸版の画像形成部にアニロックスロール上のインキを転移させ、最後にこの印刷版の画像形成部上のインキ薄膜を基板上に転移させることで有機発光層を形成する。
【００１０】
効率の良い発光を得るためには、有機発光層の膜厚が非常に重要な要素であり、数ｎｍから数十ｎｍ程度で膜厚をコントロールする必要がある。有機発光層の膜厚は、主にインキ固形分濃度、アニロックスロールから印刷用凸版に転移されるインキ液量（版転移量）、印刷用凸版と基板への転移するインキ液量（基板転移量）の三つによって決まる。この中で、基板転移量は基板表面状態や材質等によって変化するが、インキ固形分濃度や版転移量に対して正の相関関係を持っている。そのため膜厚の制御は、主にインキ濃度か転写されるインキ量を調整することが可能である。
【００１１】
インキ濃度の変更による膜厚コントロールは、調整手法としては容易である。しかしながら、インキ粘度には印刷に適正な範囲があり、極端に低粘度、もしくは高粘度になった場合、印刷不良が起きる、もしくは安定性・再現性が無くなるなどの不具合が発生しやすくなる。そのため、実際に調整を行うことができる膜厚範囲は使用する材料の種類、分子量分布等によって規定される。
【００１２】
一方、版上転移量は、印刷用凸版の画像形成部（凸部）の寸法、インキ種類（有機ＥＬ材料、溶媒）、インキ粘度、アニロックスロールの微細孔（セル）容積、形状等の多くのパラメータによって規定されるため、調整可能な範囲としては広い。しかしながら、凸部の寸法は目的印刷物の幅、インキ種類はＥＬ特性といったようにその他の要求事項から限定されるものが多く、さらに起因するパラメータの多くが設備、部材によるものであるため、実際に調整を行うことは容易では無い。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１３】
【特許文献１】特開平１０−１２３７７号公報
【特許文献２】特開２００１−９３６６８号公報
【特許文献３】特開２００１−１５５８５８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
本発明は、上述のような問題を解決するためになされたものであり、有機機能性材料からなるインキを用いて、高精細、高品質、低コストな有機機能性素子を形成できる凸版印刷装置、それを用いた機機能性素子の製造方法、及び有機機能性素子を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上述のような課題を解決するために検討を行った結果、次のような手段が有効であることを見出した。
【００１６】
本発明の請求項１記載の発明は、凸版と版胴とアニロックスロールを具備する凸版印刷装置であって、
前記アニロックスロールが、版胴に装着された前記凸版の凸部に接触してインキを供給する機能を有するものであり、
かつ、前記凸版の凸部の１ピッチ幅に前記アニロックスロールの１ピッチを対応させたとき、このアニロックスロールの１ピッチが複数の異なるセル構造で形成されており、
前記版胴もしくはアニロックスロールの少なくともどちらか一方を回転軸方向にスライドさせることで、前記アニロックスロールと前記凸部との接触位置を調整する機能を有す
ることを特徴とする凸版印刷装置である。
【００１７】
本発明の請求項２記載の発明は、前記アニロックスロールのセル構造が、線数、セル深度、セル口径、セル壁厚、表面パターンの並びの向き（セル角度）、彫刻パターン、セル形状の少なくともいずれか一つから形成されていることを特徴とする請求項１に記載の凸版印刷装置である。
【００１８】
本発明の請求項３記載の発明は、請求項１または２に記載の凸版印刷装置を用いて、基板上に有機化合物を含む有機機能層を形成することを特徴とする有機機能性素子の製造方法である。
【００１９】
本発明の請求項４記載の発明は、請求項３に記載の製造方法を用いて作製されたことを特徴とする有機機能性素子である。
【発明の効果】
【００２０】
本発明の請求項１または２によれば、前記凸版にインキを供給する前記アニロックスロールの１ピッチが、複数の異なるセル構造で形成され、前記版胴もしくはアニロックスロールの少なくともどちらか一方を回転軸方向にスライドするで、前記アニロックスロールと前記凸部との接触位置を調整できるため、凸版上に転移するインキ量を膜厚や印刷ムラのないように容易に調整できる。
また、請求項３及び４に記載によれば、例えば、発光ムラの無い有機ＥＬ素子などの高精細な有機機能性素子を、低コスト、高品質で製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】凸版印刷法で用いられる印刷装置の一実施例を示す概略断面図である。
【図２】本発明で用いられる印刷用凸版の一実施例を示す断面図、及び上面視による模式図である。
【図３】本発明で製造される有機ＥＬ素子の一実施例を示す断面図である。
【図４】本発明の有機ＥＬ素子の製造に用いるアクティブマトリックス方式の基板の一実施例の断面図である。
【図５】一般的なアニロックスロールの概略構成の一例を示し、（ａ）は表面を表す平面図、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ’線に沿っての断面図である。
【図６】本発明で一実施形態に使用されるアニロックスロールの概略構成を示し、（ａ）は表面を表す平面図、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ’線に沿っての断面図である。
【図７】本発明で一実施形態に使用されるアニロックスロールの概略構成を示し、（ａ）は表面を表す平面図、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ’線に沿っての断面図である。
【図８】一般的なアニロックスロールを用いたインキング工程の説明図である。
【図９】本発明における一実施形態のアニロックスロールを用いたインキング工程の説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。なお、本発明はこれに限るものではない。
【００２３】
本発明は、有機材料からなる発光層と発光補助層からなる有機ＥＬ層のうち少なくとも１層を、有機ＥＬ材料を溶媒に溶解、または分散させたインキを用い、基材上に樹脂からなる凸部パターンを有する樹脂凸版を印刷版とした凸版印刷法により形成する際に適用することができる。発光補助層としては、正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層、電子注入層、電荷発生層等を積層させて用いる。以降、本発明において、有機ＥＬ材料を溶媒に溶
解、または分散させた有機ＥＬ材料インキを用いた場合について示す。
【００２４】
図１に本発明の印刷物の製造に用いられる一例の凸版印刷装置の概略図を示した。ステージ１には被印刷基板２が固定されており、本発明によってパターン形成された印刷用凸版８は版胴７に固定され、印刷用凸版はインキ供給体であるアニロックスロール６と接しており、アニロックスロールはインキ補充装置３とドクター４を備えている。
【００２５】
まず、インキ補充装置からアニロックスロールへインキ５を補充し、アニロックスロールに供給されたインキのうち余分なインキは、ドクターにより除去され、アニロックスロールには形成されたセル構造により均一にインキを保持する。アニロックスロールへのインキ補充が適切に行われるのであれば、インキ補充装置はどのようなものを選択してもよい。また、余分なインキの除去が適切に行われるのであれば、ドクターにはドクターロール等どのようなものを選択してもよい。
【００２６】
アニロックスロールに保持されたインキは、版胴に取り付けられた印刷用凸版の凸部に転移され、凸版にインキが供給される。この時、アニロックスロールのセル構造により凸版に供給されるインキ液量が変化する。アニロックスロールのセル構造を構成するパラメータは、一例として、線数、セル深度、表面パターンの並びの向き（セル角度）、彫刻パターン、セル形状などがある。
【００２７】
図５に、従来のアニロックスロールの一例の説明図を示した。一般的なアニロックスロールは、ロール表面に均一なセル構造によるパターニングが行われている。図８に、図５に示した一般的なアニロックスロールを用いて印刷用凸版にインキを転写する様子の説明図を示す。一般的なアニロックスロールには、同一なセル構造が均一に設置されているために、アニロックスロールと印刷用凸版が接触する位置に関わらず版転移量は常に一定である。
【００２８】
図６、図７に本発明によるアニロックスロールの一例についての説明図を示した。図６に示したセル構造では、凸部ピッチ幅毎にセル深度が異なるパターニングが繰り返し作られており、図７に示したセル構造では、凸部ピッチ幅毎に線数及び彫刻パターンが異なるパターニングが繰り返し作られている。
【００２９】
図９に図６に示したアニロックスロールを用いて印刷用凸版にインキを転写する様子の説明図を示す。図６に示すように、本発明に係るアニロックスロールは、対応する凸部ピッチ幅毎に１ピッチを構成するセルの深度が異なるため、アニロックスロールと印刷用凸版が接触する位置によって版転移量を変えることができる。すなわち、従来のアニロックスロールでは、前記版転移量を変える度にそれに対応したアニロックスロールを作製する必要があったが、本発明に係るアニロックスロールでは一本のアニロックスロールを作製することで対応できる。
【００３０】
図７に示したセル構造では、凸部ピッチ幅毎に１ピッチを構成するセルの線数及び彫刻パターンが異なるため、同様にして一本のアニロックスロールを作製することで、前記版転移量を変えることができる。なお、図６ではセル深度、図７ではセルの線数及び彫刻パターンを例としたが、セルの構造の形成方法は、線数、セル深度、セル口径、セル壁厚、表面パターンの並びの向き（セル角度）、彫刻パターン、セル形状の少なくともいずれか一つから形成することができる。
【００３１】
具体的な前記版転移量の調整は、版胴の回転に合わせて印刷用凸版の凸パターンと基板は接しながら相対的に移動し、凸パターンに供給されたインキはステージ上にある被印刷基板の所定位置に転移し被印刷基板に転写パターン９を形成する。パターン形成後は、必
要に応じてオーブンなどによる乾燥工程を設けることができる。
【００３２】
なお、図１は１枚毎に被印刷基板にインキパターンを形成する枚葉式の凸版印刷装置であるが、被印刷基板が対応する場合には、ロール・トゥー・ロール方式の凸版印刷装置を用いることもできる。
【００３３】
図２に本発明の印刷用凸版の一実施例を示した。図２（ａ）が凸版断面図、（ｂ）が凸版上面から見た説明模式図である。版基材１１上に樹脂層により形成される凸パターン１０が形成されている。版基材は、必要に応じて凸パターンと版基材との間に可視光線反射防止効果など機能性を付与するための層を加えて積層体としても良い。
【００３４】
本発明の印刷用凸版に用いられる版材において、凸パターンが形成される版基材としては、印刷に対する機械的強度を有すれば良く、合成樹脂、金属、またはそれらの積層体を用いることができ、中でも寸法安定性を保持するものが望ましい。
【００３５】
本発明の凸版の凸パターンを形成する樹脂の一成分となるポリマーは、合成樹脂やそれらの共重合体、セルロースなどの天然高分子などから一種類以上を選択することができるが、有機発光材料などといった塗工液を塗布する場合、有機溶剤に対する耐溶剤性の観点から、フッ素系樹脂が望ましい。
【００３６】
また、少なくとも、ポリビニルアルコール、ポリアミド、ポリウレタン、酢酸セルロースコハク酸エステル、部分ケン化ポリ酢酸ビニル、カチオン型ピペラジン含有ポリアミドやこれらの誘導体といった水溶性溶剤に可溶なものを一種類以上含有することによっても耐溶剤性を付与することが可能となるため、これらの内から一つ以上を選択し用いることも望ましい。
【００３７】
本発明における樹脂層による凸パターンは、フォトリソグラフィー法、印刷法等の種々のパターン成型法を用いることができるが、パターンの高精細さの観点から、感光性樹脂を用いたフォトリソグラフィー法が望ましい。
【００３８】
感光性樹脂を用いたフォトリソグラフィー法を凸部の形成方法として適用する場合、基材層、感光性樹脂層が順次積層されている板状感光性樹脂積層体から凸版の凸パターンを形成することが最も望ましい。感光性樹脂層の成型方法は、公知の方法を用いることができる。
【００３９】
本発明における板状感光性樹脂積層体の成型方法を示す。基材上に反射防止層等を形成する場合には、ウェットコーティング法もしくはドライコーティング法により成膜し、積層体とする。次に積層体または基材に感光性樹脂層を公知の方法で成膜し、板状感光性樹脂積層体とする。
【００４０】
形成された板状感光性樹脂積層体に対してフォトリソグラフィー法を用い、公知の露光、現像の工程を経て、目的とする凸パターンを形成する。
【００４１】
次に、本発明による隔壁基板を用いた有機ＥＬ素子の製造工程の一例を説明する。図３に本発明の有機ＥＬ素子、図４に本発明の隔壁基板の説明断面図を示す。なお、本発明による製造工程はこれに限るものではない
【００４２】
基板上に薄型トランジスタ（ＴＦＴ）３０を形成することで、アクティブマトリックス方式の有機ＥＬ素子用の基板とすることが可能である。本発明の駆動方式はアクティブマトリックスに限るものではない。
【００４３】
ＴＦＴや、その上層は支持体２１で支持される。支持体としては機械的強度や、寸法安定性に優れていることが好ましい。支持体としては、絶縁性を有する基板であればいかなる基板も使用することができる。この支持体側から光を取り出すボトムエミッション方式の有機ＥＬ素子とする場合には、支持体として透明なものを使用する必要がある。
【００４４】
例えば、ガラス基板や石英基板が支持体として使用できる。また、フレキシブル性を求める場合などにはプラスチックフィルムやシートを用いても良い。これらに水分等の侵入を防ぐことを目的として、金属酸化物薄膜や高分子樹脂膜等を積層してもよい。
【００４５】
支持体上に設けるＴＦＴは、公知の薄膜トランジスタを用いることができる。具体的には、主として、ソース／ドレイン領域及びチャネル領域が形成される活性層、ゲート絶縁膜及びゲート電極から構成される薄膜トランジスタが挙げられる。薄膜トランジスタの構造としては、特に限定されるものではない。
【００４６】
本発明の有機ＥＬ素子用の隔壁基板としては、ＴＦＴに平坦化層２７が形成してあるとともに、平坦化層上に有機ＥＬ素子の下部電極（第一電極１３）が設けられており、かつ、ＴＦＴと第一電極とが平坦化層に設けたコンタクトホール２８を介して電気接続してあることが好ましい。このように構成することにより、ＴＦＴと、有機ＥＬ素子との間で、優れた電気絶縁性を得ることができる。
【００４７】
活性層２２は、特に限定されるものではなく、例えば、非晶質シリコン、多結晶シリコン等の無機半導体材料やチオフェンオリゴマー等の有機半導体材料により形成することができる。
【００４８】
ゲート絶縁膜２３としては、通常、ゲート絶縁膜として使用されているものを用いることができ、例えば、ＰＥＣＶＤ法、ＬＰＣＶＤ法等により形成されたＳｉＯ２、ポリシリコン膜を熱酸化して得られるＳｉＯ２等を用いることができる。
【００４９】
ゲート電極２４としては、通常、ゲート電極として使用されているものを用いることができ、例えば、アルミ、銅、チタン、タンタル、タングステン、ポリシリコン、シリサイド、ポリサイド等が挙げられる。
【００５０】
表示装置は薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）が有機ＥＬ素子のスイッチング素子として機能するように接続されている必要があり、トランジスタのドレイン電極２６と有機ＥＬ素子の画素電極（第一電極）が電気的に接続されている。
【００５１】
ＴＦＴとドレイン電極と有機ＥＬ素子の画素電極（第一電極）との接続は、平坦化膜を貫通するコンタクトホール内に形成された接続配線を介して行われる。
【００５２】
平坦化膜の材料についてはＳｉＯ２、スピンオンガラス、ＳｉＮ（Ｓｉ３Ｎ４）、ＴａＯ（Ｔａ２Ｏ５）等の無機材料、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、フォトレジスト材料、ブラックマトリックス材料等の有機材料等を用いることができる。形成方法については、材料に合わせて選択する。
【００５３】
基板上には第一電極が設けられる。第一電極を陽極とした場合、その材料としては、ＩＴＯ（インジウムスズ複合酸化物）、ＩＺＯ（インジウム亜鉛複合酸化物）等の金属複合酸化物や金、クロムなどの金属材料を単層または積層したものをいずれも使用できる。第一電極の形成方法は、材料に応じて選択される。
【００５４】
低抵抗であること、溶剤耐性があること、また、ボトムミッション方式としたときには透明性が高いことなどからＩＴＯが好ましく使用できる。ＩＴＯはスパッタ法によりガラス基板上に形成され、フォトリソ法によりパターニングされて第一電極１３となる。
【００５５】
第一電極を形成後、第一電極縁部を覆うようにして隔壁１２が形成される。隔壁は絶縁性を有する必要があり、感光性材料等を用いることができる。感光性材料としては、ポジ型であってもネガ型であってもよく、光ラジカル重合系、光カチオン重合系の光硬化性樹脂、あるいはアクリロニトリル成分を含有する共重合体、ポリビニルフェノール、ポリビニルアルコール、ノボラック樹脂、ポリイミド樹脂、及びシアノエチルプルラン等を用いることができる。また、隔壁形成材料として、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２等を用いることもできる。
【００５６】
隔壁形成材料が感光性材料の場合、形成材料溶液をスリットコート法やスピンコート法により全面コーティングしたあと、露光、現像といったフォトリソ法によりパターニングがおこなわれる。感光性材料を用いてフォトリソ法により隔壁を形成する場合、その形状は露光、現像条件により制御可能である。
【００５７】
また、隔壁形成材料がＳｉＯ２、ＴｉＯ２の場合、スパッタリング法、ＣＶＤ法といった乾式成膜法で形成可能である。この場合、隔壁のパターニングはマスクやフォトリソ法により行うことができる。
【００５８】
次に、発光層及び発光補助層からなる有機ＥＬ層を形成する。電極間に挟まれる有機ＥＬ層としては、発光層単独から構成されたものでもよいし、発光層に正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層、電子注入層、電荷発生層といった発光補助層を加えた積層構造としてもよい。なお、発光補助層の有無は、必要に応じて適宜選択される。それぞれ用いられる材料は、特性に応じて選択ができる。
【００５９】
有機ＥＬ材料とそれを溶解または分散する溶媒は、それぞれインキ化が可能な組み合わせであればどれを用いてもよく、特性に応じて単独又は混合して用いる。また、溶媒には必要に応じて界面活性剤、粘度調整剤等を添加してもよい。
【００６０】
次に、第二電極１８を形成する。第二電極を陰極とした場合、その材料としては電子注入効率の高い物質を用いる。形成方法としては、材料に応じて、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、スパッタリング法等の乾式成膜法を用いることができる。また、第二電極をパターンとする必要がある場合には、マスク等によりパターニングすることができる。なお、本発明では第一の電極を陰極、第二の電極を陽極とすることも可能である。
【００６１】
有機ＥＬ素子としては電極間に発光層を挟み、電流を流すことで発光させることが可能であるが、有機ＥＬ材料や電極形成材料の一部は大気中の水分や酸素によって容易に劣化してしまうため通常は外部と遮断するための封止体を設ける。
【００６２】
封止体は、例えば第一電極、発光層、発光補助層、第二電極が形成された基板に対して、凹部を有するガラスキャップ、金属キャップを用いて、第一電極、有機ＥＬ層、第二電極上空に凹部があたるようにして、その周辺部についてキャップと基板とを接着剤１９を介して接着させることにより封止がおこなわれる。パッシベーション膜として、ＣＶＤ法等を用いて、窒化珪素膜等を成膜することで、無機薄膜による封止体とすることも可能であり、またこれらを組み合わせることも可能である。
【００６３】
以下に、実施例及び比較例を示すが、本発明はこれに限られるものではない。
【実施例】
【００６４】
＜実施例１＞
（感光性樹脂凸版１０４の作製）
厚さ２５０μｍの４２ニッケル材を印刷用凸版の版基材として、この基材の上に黒色顔料を混錬したアクリルバインダー樹脂溶液を乾燥膜厚が１０μｍになるように塗布して乾燥し、反射防止層を形成した。
【００６５】
水溶性ポリアミドを主成分とし、ラジカル重合性モノマーとしてとしてジペンタエリスリトールヘキサキスアクリレート、光重合開始剤として２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）を混錬した感光性樹脂組成物が、基材の表面に版材の総厚が３１０μｍとなるように溶融塗工したものを感光性樹脂層とし、ポリビニルアルコール溶液を乾燥膜厚１μｍになるように塗布したポリエチレンテレフタレートフィルム（フィルム厚み１２５μｍ：帝人デュポンフィルム社製）をラミネートした。
【００６６】
合成石英基材のクロムマスクを樹脂凸版パターンの原版とし、このマスクをプロキシミティ露光装置にセットしたものを用いて樹脂凸版を露光し、図２のようなストライプパターンの印刷用凸版を作製した。作製した凸部幅は２５μｍ、凸部ピッチは１５０μｍである。
【００６７】
（被印刷基板の作製）
被印刷基板として、支持体上に設けられたスイッチング素子として機能する薄膜トランジスタと、その情報に形成された平坦化層と、平坦化層状にコンタクトホールによって前記薄膜トランジスタと導通が図られている画素電極とを備えたアクティブマトリクス基板を用いた。画素サイズの１辺は、１５０μｍ角であり、ＲＧＢのサブピクセルのサイズは５０×１５０μｍである。
【００６８】
このアクティブマトリクス基板の上に設けられている画素電極の端部を被覆し画素を区画するような形状で隔壁を形成した。この隔壁の形成は、日本ゼオン社製ポジレジストＺＷＤ６２１６−６をスピンコータにてアクティブマトリクス基板の全面に乾燥厚みが２μｍであるように塗布した後、フォトリソグラフィーによって各隣接するサブピクセルの短辺方向に線幅２５μｍ、長辺方向に線幅７５μｍの隔壁を形成した。
【００６９】
画素電極の上にスピンコート法により正孔輸送層として、ポリ−（３，４）−エチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルホン酸（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）１．５ｗｔ％水溶液が１００ｎｍの膜厚で成膜した。さらに、この成膜されたＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ薄膜は、減圧下１００℃で１時間乾燥することで、被印刷基板を作製した。
【００７０】
（有機発光層形成用のインキの作製）
赤色、緑色、青色（Ｒ、Ｇ、Ｂ）の３色からなる以下の有機発光インキは、キシレンに溶解し調整した。赤色発光インキ（Ｒ）は、ポリフルオレン系誘導体のトルエン溶液（住友化学社製赤色発光材料、商品名Ｒｅｄ１１００）である。緑色発光インキ（Ｇ）は、ポリフルオレン系誘導体のトルエン溶液（住友化学社製緑色発光材料、商品名Ｇｒｅｅｎ１３００）である。青色発光インキ（Ｂ）は、ポリフルオレン系誘導体のトルエン溶液（住友化学社製青色発光材料、商品名Ｂｌｕｅ１１００）である。それぞれのインキ溶液の粘度は、おおよそ４０ｍＰａ・ｓである。
【００７１】
（印刷工程）
印刷用凸版を枚葉式の凸版印刷機の版胴に固定した。次に、上記の有機発光インキを凸版印刷機のインキチャンバーに供給し、アニロックスロールをインキに浸漬してアニロッ
クスロールセル内にインキ供給を行った。インキ吐出部からアニロックスロールに塗工し、ドクターでかき取られた後、凸版の凸部をインキングした。用いたアニロックスロールは、ハニカムパターンであり、セル口径２７μｍ／セル壁厚３μｍであり、セル深度１５μｍ、１０μｍ、５μｍの３種類が２つ毎に順番に配置されている。つまり、凸パターン間隔である１５０μｍ間隔中に、セル深度が１５μｍ、１５μｍ、１０μｍ、１０μｍ、５μｍ、５μｍの６つのセルが並んで配置されている。
【００７２】
次に、上記アニロックスロールによりインキングされた凸版は被印刷基板に押し当てて転動され被印刷基板の上にストライプパターンを印刷した。その際、被印刷基板上で膜厚が６０ｎｍになるように、アニロックスロールと凸版が接する位置を調整しながら１０枚の被印刷基板へ印刷を行なった。この工程を赤色有機発光層、緑色有機発光層、青色有機発光層それぞれに繰り返すことで有機発光層パターンを得た。各色について印刷をおこなった後、オーブン内にて１３０℃で１時間乾燥を行った。
【００７３】
乾燥の後、印刷により形成した有機発光層の上にカルシウムを１０ｎｍ成膜し、さらにその上に銀を３００ｎｍ真空蒸着し、最後にガラスキャップを用い封止をおこない有機エレクトロルミネッセンス表示素子を作製した。
【００７４】
＜実施例２＞
実施例２として、用いたアニロックスロールが、セル深度１５μｍであり、セル口径２７μｍ／セル壁厚３μｍ、セル口径２５μｍ／セル壁厚５μｍ、セル口径２２μｍ／セル壁厚８μｍの３種類が２つ毎に順番に配置されている。つまり、凸パターン間隔である１５０μｍ間隔中に、セル口径／セル壁厚が２７μｍ／３μｍ、２７μｍ／３μｍ、２５μｍ／５μｍ、２５μｍ／５μｍ、２２μｍ／８μｍ、２２μｍ／８μｍの６つのセルが並んで配置されていること以外は、実施例１と同様に素子を作製した。
【００７５】
＜比較例１＞
比較例１として、同一なセル構造が均一に設置されているアニロックスロールを用いたこと以外は、実施例１と同様に素子を作製した。
【００７６】
＜比較例２＞
比較例２として、アニロックスロールと印刷用凸版の凸部との接触位置が実施例１より１００μｍ横にずれていること以外は、実施例１と同様に素子を作製した。
【００７７】
＜比較例３＞
比較例３として、アニロックスロールと印刷用凸版の凸部との接触位置が実施例１より７５μｍ横にずれていること以外は、実施例１と同様に素子を作製した。
【００７８】
＜比較例４＞
比較例４として、アニロックスロールと印刷用凸版の凸部との接触位置が実施例１より５０μｍ横にずれていること以外は、実施例２と同様に素子を作製した。
【００７９】
＜比較例５＞
比較例５として、アニロックスロールと印刷用凸版の凸部との接触位置が実施例１より１００μｍ横にずれていること以外は、実施例２と同様に素子を作製した。
【００８０】
＜比較例６＞
比較例６として、アニロックスロールと印刷用凸版の凸部との接触位置が実施例１より７５μｍ横にずれていること以外は、実施例２と同様に素子を作製した。
【００８１】
実施例１及び２と比較例１乃至６について、作製した素子のパネル面内１０点の膜厚測定結果について測定した結果を表１に示す。
【００８２】
【表１】
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【００８３】
＜比較結果＞
表１によると、実施例１と比較例１乃至３との比較及び実施例２と比較例４乃至６との比較から、凸部ピッチ間隔中にセル構造を変化させてあるアニロックスロールを用いて、アニロックスロールと印刷用凸版の凸部の接触位置を変化させることで、印刷物の膜厚をコントロールすることができる結果が得られた。
【符号の説明】
【００８４】
１・・・ステージ
２・・・基板
３・・・インキ補充装置
４・・・ドクター
５・・・インキ
６・・・アニロックスロール
７・・・版胴
８・・・印刷用凸版
９・・・転写パターン
１０・・・凸部
１１・・・版基材
１２・・・隔壁
１３・・・第一電極
１４・・・正孔輸送層
１５・・・赤色発光層
１６・・・緑色発光層
１７・・・青色発光層
１８・・・第二電極
１９・・・接着剤
２０・・・ガラスキャップ
２１・・・支持体
２２・・・活性層
２３・・・ゲート絶縁膜
２４・・・ゲート電極
２５・・・トランジスタ絶縁膜
２６・・・ドレイン電極
２７・・・平坦化層
２８・・・コンタクトホール
２９・・・走査線
３０・・・ＴＦＴ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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