(57)【要約】【課題】  粉塵の発生を防止しつつ、真空室の内部で発生した熱を真空室の外へ放熱できる放熱機構および真空処理装置の提供。【解決手段】  大気圧より低い圧力下で被処理体を取り扱うための真空室と該真空室の内部に配置された発熱部とを備えた真空処理装置における、前記発熱部で発生した熱を真空室の外へ放熱するための放熱機構が、前記発熱部に接触するよう固定されて該発熱部から熱が伝えられる第一放熱部と、該第一放熱部から伝えられた熱を真空室の外へ放熱するための第二放熱部と、前記第一放熱部と第二放熱部との間にあって、第一放熱部からの熱を第二放熱部に輻射によって伝熱する伝熱領域とを備え、前記第一放熱部および第二放熱部は、各々放熱面を備えており、前記伝熱領域に、前記第一放熱部の放熱面から第二放熱部に向けて突出する第一突出部と、第二放熱部の放熱面から第一放熱部に向けて突出する第二突出部とが設けられ、前記第一突出部と第二突出部とが所定空間を置いて対向している。【選択図】  図３
2013135040.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
大気圧より低い圧力下で被処理体を取り扱うための真空室と該真空室の内部に配置された発熱部とを備えた真空処理装置における、前記発熱部で発生した熱を真空室の外へ放熱するための放熱機構であって、
前記発熱部に接触するよう固定されて該発熱部から熱が伝えられる第一放熱部と、該第一放熱部から伝えられた熱を真空室の外へ放熱するための第二放熱部と、前記第一放熱部と第二放熱部との間にあって、第一放熱部からの熱を第二放熱部に輻射によって伝熱する伝熱領域とを備え、
前記第一放熱部および第二放熱部は、各々の放熱面を備えており、
前記伝熱領域に、前記第一放熱部の放熱面から第二放熱部に向けて突出する第一突出部と、第二放熱部の放熱面から第一放熱部に向けて突出する第二突出部とが設けられ、
前記第一突出部と第二突出部とが所定空間を置いて対向していることを特徴とする放熱機構。
【請求項２】
前記第二突出部は第二放熱部の放熱面の面方向に間隔を置いて複数配置され、前記第一突出部は少なくとも一つ設けられるとともに、二つの第二突出部の間に一つの第一突出部が挿入されていることを特徴とする請求項１記載の放熱機構。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の放熱機構を備えていることを特徴とする真空処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空処理装置に用いられる放熱機構、および真空処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、半導体ウエハ基板やガラス基板等の被処理体を、大気圧より低い圧力に維持された真空室の内部において扱うための真空処理装置が提案されている。このような真空処理装置は、真空室の内部に、例えば、被処理体を真空室内で搬送するための搬送台を備えている。搬送台は搬送装置によって移動可能とされ、搬送装置を駆動制御するための制御部が真空室の内部に配置されている。
【０００３】
ところで、制御部に通電されると制御部は発熱する。しかしながら、真空室の内部は大気圧より低い圧力に維持されている。このため、制御部で発生した熱を真空室の外部へ充分に放熱することができない。そうなると、制御部を構成する回路素子や回路基板等に、熱による悪影響が発生する。
【０００４】
そこで、下記特許文献１に、制御部で発生した熱を真空室の外部へ放熱可能とする真空処理装置が提案されている。この従来の真空処理装置は、制御部を内装した容器を真空室に配置して容器の内部を大気圧とすることで、制御部で発生した熱を容器の内部の大気に放熱するようにしており、容器（大気）の熱を真空室の外部に放熱するための放熱機構を、さらに備えている。
【０００５】
放熱機構は、真空室の壁に取り付けられ、容器の外面に接触する姿勢と、容器の外面から離れた姿勢とに切り替え自在に構成されている。そして放熱機構は、容器の外面から離れた姿勢から容器に接触するよう切り替えられて容器に接触することで、容器から熱を受け取り、受け取った熱は真空室の外へ放熱される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１０−４０９４７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、熱伝導の原理を用いて容器の熱を真空室の外部へ放熱可能とした放熱機構では、放熱機構が容器に対して離着座自在に接触するから、接触した際に接触部分において粉塵（パーティクル）が発生し易い。そしてこのような粉塵は、半導体ウエハ基板やガラス基板等の繊細な部品である被処理体に付着すると、被処理体の機能低下を発生させてしまうといった課題がある。
【０００８】
そこで本発明は、粉塵の発生を防止しつつ、真空室の内部で発生した熱を真空室の外へ放熱できる放熱機構および真空処理装置の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、大気圧より低い圧力下で被処理体を取り扱うための真空室と該真空室の内部に配置された発熱部とを備えた真空処理装置における、前記発熱部で発生した熱を真空室の外へ放熱するための放熱機構であって、前記発熱部に接触するよう固定されて該発熱部から熱が伝えられる第一放熱部と、該第一放熱部から伝えられた熱を真空室の外へ放熱するための第二放熱部と、前記第一放熱部と第二放熱部との間にあって、第一放熱部からの熱を第二放熱部に輻射によって伝熱する伝熱領域とを備え、前記第一放熱部および第二放熱部は、各々放熱面を備えており、前記伝熱領域に、前記第一放熱部の放熱面から第二放熱部に向けて突出する第一突出部と、第二放熱部の放熱面から第一放熱部に向けて突出する第二突出部とが設けられ、前記第一突出部と第二突出部とが所定空間を置いて対向していることを特徴としている。
【００１０】
上記構成において、発熱部の熱は発熱部から第一放熱部に伝達され、第一放熱部に伝達された熱は第二放熱部へ輻射され、第二放熱部から真空室の外へ放熱される。すなわち、第一放熱部は発熱部に接触するよう固定されているから、第一放熱部に伝達された熱は第一突出部に伝達され、第一突出部と第二突出部とは伝熱領域において所定空間を介して対向しているから、第一突出部に伝達された熱は、放熱面間のみならず、所定空間を介して輻射によって第二突出部に伝達され、第二突出部に伝達された熱は、第二突出部から第二放熱部に伝達され、第二放熱部に伝達された熱は真空室の外へ放熱される。
【００１１】
本発明の放熱機構では、前記第二突出部は第二放熱部の放熱面の面方向に間隔を置いて複数配置され、前記第一突出部は少なくとも一つ設けられるとともに、二つの第二突出部の間に一つの第一突出部が挿入されている構成を採用できる。
【００１２】
上記構成において、発熱部から第一放熱部に伝達された熱は第一突出部に伝達され、第一突出部に伝達された熱は、所定空間を介して輻射によって第二突出部に伝達され、第二突出部に伝達された熱は、第二突出部から第二放熱部に伝達され、第二放熱部に伝達された熱は真空室の外へ放熱される。
【００１３】
本発明の真空処理装置は、前記何れかの放熱機構を備えていることを特徴としている。本発明の真空処理装置によれば、発熱部の熱は、放熱機構によって輻射の原理を用いて真空室の外へ放熱される。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の放熱機構によれば、第一突出部と第二突出部とが所定空間を置いて対向しているから、放熱機構には接触・離間する部材がなく、このため粉塵の発生を防止しつつ、真空室の内部で発生した熱を真空室の外へ放熱できる。
【００１５】
また、本発明の真空処理装置によれば、第一突出部と第二突出部とが所定空間を置いて対向しているから、放熱機構には接触・離間する部材がなく、このため粉塵の発生を防止しつつ、真空室の内部で発生した熱を真空室の外へ放熱できる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の一実施形態の真空処理装置の全体構成を表す上方からの斜視図である。
【図２】同真空処理装置の概略構成を表す幅方向からの側面図である。
【図３】同真空処理装置の放熱機構を表す側面図である。
【図４】同真空処理装置の放熱機構を表す、第一放熱部側からの斜視図である。
【図５】本発明の他の実施形態の放熱機構を表す側面図である。
【図６】同放熱機構における第一放熱部側からの斜視図である。
【図７】本発明のさらに他の実施形態を表す放熱機構の側面断面図である。
【図８】同放熱機構における第一放熱部側からの正面図である。
【図９】本発明のさらに他の実施形態を表す放熱機構の側面断面図である。
【図１０】同放熱機構における側面図である。
【図１１】本発明のさらに他の実施形態を表す放熱機構の側面図である。
【図１２】同放熱機構における第一放熱部側からの斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下本発明の一実施形態に真空処理装置を、図１および図２を参照しつつ説明する。本実施形態における真空処理装置１は、被処理物の一例である半導体ウエハ等の電子部品２を取り扱うための真空室３を備えている。真空室３は、大気圧より低い圧力下で被処理体を取り扱うための空間である。真空室３は、その形成壁である底壁３０、四方の側壁３１，３２，３３，３４、および天壁３５を隔壁として囲繞されることで、直方体形状に形成されている。形成壁の外側は大気圧であり、真空室３は、大気圧より低い圧力に維持されている。
【００１８】
真空処理装置１は、真空室３の内部に、搬送テーブル装置４および大気ボックス５を備えている。搬送テーブル装置４および大気ボックス５は、真空室３の内部をその長手方向Ｌに移動可能に構成されている。具体的には、搬送テーブル装置４および大気ボックス５は、リニア搬送装置（リニアモータ）６によって、底壁３０の面方向（この場合、長手方向Ｌ）に沿って往復移動可能に構成されている。
【００１９】
搬送テーブル装置４は、板状のテーブル４０と、テーブル４０を支持する脚体部４１とを備えている。テーブル４０には、電子部品２を取り扱うためのロボットアーム７が取り付けられている。ロボットアーム７は、テーブル４０に載置された駆動部７０と、駆動部７０に旋回軸７１によって縦軸７２回りに旋回可能に支持された平板状のアーム部７３とを備えている。
【００２０】
大気ボックス５は直方体形状に形成されており、形成壁の長手方向Ｌの側壁３１と平行な縦壁５０を備える。大気ボックス５は密閉されており、内部は大気圧に維持されている。大気ボックス５には、ロボットアーム７の駆動部７０に電力を供給したりアーム部７３の動作を制御したりするための制御装置５１が内装されている。したがって、駆動部７０と制御装置５１とは、送電ケーブル８によって電気的に接続されている。このような大気ボックス５は、脚体部４１に一体的に取り付けられている。
【００２１】
真空処理装置１は、制御装置５１に電力を供給するための給電部５２をさらに備えている。給電部５２は、真空室内に配置された被給電体を備え、被給電体は、大気ボックス５の縦壁５０に固定された給電コア５３と、給電コア５３に巻回された給電コイル５４とを備える。給電コア５３として、Ｅ型コアが用いられている。給電部５２は、給電コイル５４を励磁させる給電体を備え、給電体として、給電線５５を備えている。給電線５５はＥ型コアの両側の凹部に亘るよう、給電コア５３とは非接触で配置されている。そして給電線５５は、真空室３の長手方向Ｌに沿って配置され、大気ボックス５の、長手方向Ｌへの移動ストロークに応じた長さを有している。
【００２２】
リニア搬送装置６は、底壁３０に、真空室３の長手方向Ｌに沿って配置されたリニアガイドレール６１と、真空室３の外部に配置された一次側磁極部（電機子）６２と、真空室３内で搬送台に連結された二次側磁極部６３とを備えている。
【００２３】
リニアガイドレール６１は、各脚体部４１、大気ボックス５の床壁５６に対応する位置で、底壁３０上に設置されている。すなわち、本実施形態では、リニアガイドレール６１は底壁３０上に三本平行に並べて配置されている。
【００２４】
一次側磁極部６２は、コアとコアに巻回されたコイルとを備える。一次側磁極部６２は、底壁３０の一部に形成した矩形の孔を真空室３の内部側で覆うようにした一次側箱体６４に内装されている。このような一次側箱体６４は、テーブル４０の位置に対応するよう配置されている。さらに具体的には、一次側箱体６４は、真空室３の幅方向Ｂに離間して二列に並ぶよう配置されている。そして、一次側箱体６４は各列に、真空室３の長手方向Ｌに沿って所定間隔置きに配置されることで複数個設けられている。
【００２５】
二次側磁極部６３は、コアとコアに巻回されたコイルとを備える。二次側磁極部６３は、テーブル４０の下面に取り付けられた二次側箱体６５に内装されている。二次側箱体６５は、テーブル４０の下面で、各列の一次側箱体６４の対向面側に対応する位置に配置されている。
【００２６】
真空処理装置１は、真空室３の内部で発生した熱を真空室３の外へ放熱するための、輻射の原理を用いた放熱機構９を、さらに備える。本実施形態の場合、熱を発生する発熱部として、例えば、大気ボックス５（内部の制御装置５１）、二次側磁極部６３、ロボットアーム７の駆動部７０が挙げられる。このような発熱部は、長手方向Ｌに移動可能ないし、縦軸７２回りに回転するものである。
【００２７】
以下では、発熱部を大気ボックス５として、放熱機構９の構成をさらに具体的に説明する。図２に示すように、放熱機構９は、大気ボックス５の縦壁５０と形成壁のうち大気ボックス５側の側壁３１との間に配置されている。図３および図４に示すように、放熱機構９は、第一放熱部（高温部）と第二放熱部（低温部）との組み合わせによって構成されている。第一放熱部および第二放熱部はともに熱伝導性の良好な金属から形成されている。
【００２８】
第一放熱部は、第一放熱壁９０と第一伝熱壁９１とを備える。第二放熱部は、第二放熱壁９２と、第二伝熱壁９３とを備える。第一放熱壁９０と第二放熱壁９２との間は、伝熱領域Ｄ１とされる。さらに具体的には、第一放熱壁９０の壁面９０ａおよび第二放熱壁９２の壁面９２ａは平面に形成され、第一放熱壁９０の壁面９０ａおよび第二放熱壁９２の壁面９２ａの間の空間が伝熱領域Ｄ１である。そして、第一伝熱壁９１および第二伝熱壁９３は、伝熱領域Ｄ１に配置されている。
【００２９】
第一放熱壁９０は板状に形成され、大気ボックス５の縦壁５０に接触するよう固定されている。具体的には、第一放熱壁９０は上下方向Ｈおよび長手方向Ｌに略等しい正方形形状の板状に形成されている（図４参照）。第一伝熱壁９１は、第一放熱壁９０の放熱面である壁面９０ａに直交する方向に、壁面９０ａから幅方向Ｂ一方側に向けて突出するよう一体的に形成されている。第一伝熱壁９１は、第一放熱壁９０の壁面９０ａに、壁面９０ａの上下方向Ｈに所定間隔置きに配置されることで複数設けられている。第一伝熱壁９１どうしは互いに平行になるよう配置されている。
【００３０】
第二放熱壁９２は板状に形成され、形成壁のうち大気ボックス５側の側壁３１に接触するよう固定されている。具体的には、第二放熱壁９２は上下方向Ｈに比べて長手方向Ｌが長い長方形形状の板状に形成されている（図４参照）。また、第二放熱壁９２は第一放熱壁９０に、真空室３の幅方向Ｂで対向する位置に配置されている。
【００３１】
第二伝熱壁９３は、第二放熱壁９２の放熱面である壁面９２ａに直交する方向に、壁面９２ａから幅方向Ｂ他方側に向けて突出するよう一体的に形成されている。第二伝熱壁９３は、第二放熱壁９２の壁面９２ａに、上下方向Ｈに所定間隔置きに配置されることで複数設けられている。第二伝熱壁９３どうしは互いに平行になるよう配置されている。また、第一放熱壁９０および第二放熱壁９２どうしは互いに平行になるよう配置されている。
【００３２】
上下方向Ｈで隣り合う第二伝熱壁９３の間には、一個の第一伝熱壁９１が挿入されている。したがって、第一伝熱壁９１の数は、第二伝熱壁９３の数に比べて一個少ない。そして、各第一伝熱壁９１の上面９１ａ、下面９１ｂ、および、第二放熱壁９２側の厚み方向面９１ｃは輻射伝熱面とされている。上下方向Ｈで隣り合う第二伝熱壁９３において、各第二伝熱壁９３どうしの対向面９３ａ，９３ａ、および第一放熱壁９０側の厚み方向面９３ｂは、第一放熱部からの熱が、輻射によって伝わる輻射伝熱面とされている。
【００３３】
また、第一伝熱壁９１の厚みは第二伝熱壁９３どうしの離間距離に比べて小さく設定され、第二伝熱壁９３の厚みは第一伝熱壁９１どうしの離間距離に比べて小さく設定されている。このため、一個の第一伝熱壁９１が上下方向Ｈに隣り合う第二伝熱壁９３の間に挿入された状態では、第一伝熱壁９１と第二伝熱壁９３の間には、幅方向Ｂおよび長手方向Ｌで均一の高さの高さ方向隙間（所定空間に相当する）１００が形成されている。すなわち、第一伝熱壁９１と第二伝熱壁９３とは、高さ方向隙間１００を挟んで対向している。ここで、高さ方向隙間１００の条件として、第一伝熱壁９１と第二伝熱壁９３とが接触せず、しかも輻射が可能な距離を有した輻射空間としていることである。
【００３４】
さらに、各第一伝熱壁９１、各第二伝熱壁９３の幅方向Ｂ長さは、第一放熱壁９０の壁面９０ａと第二放熱壁９２の壁面９２ａとの幅方向Ｂの離間距離に比べて小さく設定されている。したがって、各第一伝熱壁９１の第二放熱壁９２側の厚み方向面９１ｃと第二放熱壁９２の壁面９２ａとの間には幅方向Ｂの隙間である幅方向隙間１０１が形成され、各第二伝熱壁９３の第一放熱壁９０側の厚み方向面９３ｂと第一放熱壁９０の壁面９０ａとの間には幅方向隙間１０２が形成されている。
【００３５】
このように、放熱機構９は、互いに非接触状態とした第一放熱部と第二放熱部との組み合わせによって構成されている。そして第一放熱部と第二放熱部とは、櫛歯形状の第一伝熱壁９１および第二伝熱壁９３を備えて、これらが高さ方向隙間１００で対向し、壁面９０ａ，９２ａどうしが幅方向Ｂで対向している。さらに、第一伝熱壁９１の厚み方向面９１ｃが幅方向隙間１０１を輻射空間として、第二放熱壁９２の壁面９２ａに対向し、第二伝熱壁９３の厚み方向面９３ｂが幅方向隙間１０２を輻射空間として、第一放熱壁９０の壁面９０ａに対向している。
【００３６】
上記構成の真空処理装置１において、電子部品２はロボットアーム７のアーム部７３に載置されており、搬送テーブル装置４のテーブル４０がリニア搬送装置６によって長手方向Ｌに移動することで、電子部品２は、真空室３の内部を長手方向に移動して所定の位置まで搬送される。また、大気ボックス５はテーブル４０と一体であるから、テーブル４０の移動に伴って大気ボックス５も移動する。
【００３７】
ところで、テーブル４０を移動させるためにはリニア搬送装置６を駆動させる必要がある。また、テーブル４０の移動量等を決定するために、制御装置５１に通電して駆動する必要がある。リニア搬送装置６の駆動のためには、一次側磁極部６２に通電をして二次側磁極部６３を励磁させる。また、制御装置５１を駆動するためには、給電部５２の給電線５５に通電して給電線５５に磁界を発生させることで給電コイル５４を励磁して、大気ボックス５内の制御装置５１に給電する。
【００３８】
二次側磁極部６３が励磁され、給電コイル５４が励磁され、制御装置５１の駆動（通電）等が行われると、それぞれが発熱する。特に、大気ボックス５に収納された制御装置５１は、高温になるとその機能に支障が生じるため、大気ボックス５の内部を冷却する必要がある。
【００３９】
そして、本実施形態では、大気ボックス５の内部で発生した熱は、放熱機構９によって形成壁の外へ放熱される。すなわち、大気ボックス５の内部に発生して大気ボックス５の縦壁５０に伝達された熱は、放熱機構９の第一放熱部から第二放熱部に輻射によって伝達されて、側壁３１から真空室３の外へ放熱される。
【００４０】
具体的に、第一放熱壁９０は縦壁５０に接触して固定されているから、縦壁５０に伝達された熱の一部は、第一放熱壁９０に直接的に伝達（伝導）される。第一放熱壁９０に伝達された熱の一部は、第一放熱壁９０から各第一伝熱壁９１に直接的に伝達される。そして、各第一伝熱壁９１に伝達された熱の一部は、各第一伝熱壁９１の上面９１ａ、下面９１ｂから輻射され、輻射空間である高さ方向隙間１００から、上面９１ａ、下面９１ｂに対向している各第二伝熱壁９３の対向面９３ａ，９３ａに輻射によって伝達され、各第二伝熱壁９３、第二放熱壁９２に順に伝達される。
【００４１】
輻射空間である高さ方向隙間１００を介して一方向（この場合、上下方向Ｈ）で行われる輻射は、第一伝熱壁９１および第二伝熱壁９３の表面を形成する面のうち、それぞれ大きな面積を占める面（上面９１ａ、下面９１ｂ、対向面９３ａ）で行われるから、主たる輻射である。
【００４２】
また、各第一伝熱壁９１に伝達された熱の一部は、各第一伝熱壁９１の厚み方向面９１ｃからも輻射されて、輻射空間である幅方向隙間１０１から第二放熱壁９２に伝達される。さらに、第一放熱壁９０の熱の一部は、幅方向隙間１０２から第二伝熱壁９３の厚み方向面９３ｂに輻射により伝達され、第二伝熱壁９３から第二放熱壁９２に伝達される。
【００４３】
さらに、第一放熱壁９０の熱の一部は壁面９０ａから第二放熱壁９２の壁面９２ａにも輻射により伝達される。そして、第二放熱壁９２は側壁３１に接触して固定されているから、第二放熱壁９２に輻射により伝達された熱は、側壁３１に直接的に伝達されて、側壁３１から真空室３の外へ放熱される。結果、大気ボックス５の熱が真空室３の外へ放熱され、大気ボックス５内が冷却され、制御装置５１が高温下にさらされるのを防止できる。
【００４４】
輻射空間である幅方向隙間１０１、幅方向隙間１０２を介して別方向（この場合、主たる輻射の方向と交差する幅方向Ｂ）で行われる輻射は、第一伝熱壁９１および第二伝熱壁９３の表面を形成する面のうち、それぞれ小さな面積を占める面（厚み方向面９１ｃ、厚み方向面９３ｂ）で行われるから、従たる輻射である。
【００４５】
また、第一放熱壁９０は上下方向Ｈおよび長手方向Ｌに略等しい正方形形状の板状に形成されているのに対して、第二放熱壁９２は上下方向Ｈに比べて長手方向Ｌが長い長方形形状の板状に形成されている。すなわち、第一放熱壁９０に比べて第二放熱壁９２の面積は大きく設定されており、第一放熱壁９０の放熱能力に比べて第二放熱壁９２の放熱能力が大きい。このため、第一放熱壁９０に、放熱すべき熱が溜まるといった状態を回避でき、放熱は滞ることなく円滑に行われる。
【００４６】
しかも、放熱機構９において、第一放熱部における第一伝熱壁９１の数は、第二放熱部における第二伝熱壁９３の数に比べて少ない。すなわち、第二放熱部に比べて第一放熱部のほうが軽量である。そして、第一放熱部を長手方向Ｌに移動可能な発熱部に装着してあるから、その分だけ発熱部の移動のために使用する電力が少なくてすむ。
【００４７】
なお、発熱は大気ボックス５（制御装置５１）のみではなく、二次側磁極部６３が励磁され、給電コイル５４が励磁される（通電される）と、これらも発熱する。しかしながら、これらの発熱は、大気ボックス５が冷却されることで、大気ボックス５に伝導されるから、結果、真空室３の内部もまた、高温化するのを防止できる。
【００４８】
そして、第一放熱部と第二放熱部は、輻射空間を置いて対向しているから、第一放熱部が第二放熱部に対して長手方向Ｌに移動したとしても、第一放熱部と第二放熱部とは互いは接触することはない。このため、放熱機構９において粉塵（パーティクル）が発生しない。したがって、電子部品２を扱う真空処理装置１において、粉塵によって電子部品２の機能低下が発生することがなく、しかも大気ボックス５の熱は、輻射の原理を用いて、第一放熱部から第二放熱部へ伝わり、真空室３の外へ放熱される。
【００４９】
なお、第一放熱部から第二放熱部に輻射により熱を伝達させる際に、第二放熱部の長手方向Ｌに対する第一放熱部の位置（真空室３における大気ボックス５の位置）は、特に限定されるものではない。
【００５０】
本発明は上記実施形態に限定されず、本発明の範囲内で多くの変形が可能であり、各部についても変形が可能である。例えば、上記実施形態では、放熱機構９は、大気ボックス５の縦壁５０と形成壁のうちの側壁３１との間にのみ配置した。しかしながら、上記実施形態と同様の構成の放熱機構９を、大気ボックス５を形成する上壁５７と形成壁のうちの天壁３５との間に配置することが考えられる。
【００５１】
この場合では、第一放熱部は大気ボックス５の上壁５７に取り付けられ、第二放熱部は形成壁の天壁３５に取り付けられる。すなわち、第一放熱部は、長手方向Ｌに移動する部材（発熱部）に取り付けられる。このようにすることにより、発熱部の移動のために使用する電力が少なくてすむ。
【００５２】
放熱機構９は、その他、ロボットアーム７の駆動部７０（内部の駆動装置により発熱する発熱部）の側面と形成壁における駆動部７０側の側壁３２との間に配置し、あるいは脚体部４１（リニア搬送装置６の駆動により発熱する発熱部）の側面と側壁３２との間に配置することも好ましい。何れにしても、第一放熱部は移動する部材に取り付けられるように、第二放熱部は形成壁に取り付けられるようにする。
【００５３】
放熱機構９の構成は上記実施形態に限定されない。図５および図６は、放熱機構９の別の実施形態を表している。これらの図に示した放熱機構９では、第一放熱部の第一伝熱壁９１の厚みが、第二放熱壁９２側ほど次第に薄くなるよう、上面９１ａおよび下面９１ｂが傾斜している。また、第二放熱部の第二伝熱壁９３の厚みが、第一放熱壁９０側ほど次第に薄くなるよう対向面９３ａ，９３ａが傾斜している。なお、第一伝熱壁９１および第二伝熱壁９３は、壁面９０ａと壁面９２ａの間の空間である伝熱領域Ｄ２に配置されている。
【００５４】
そして、各上面９１ａとその上側の各対向面９３ａとは平行に配置され、上面９１ａとその上側の対向面９３ａとの間には高さ方向隙間１００が形成されている。下面９１ｂとその下側の対向面９３ａとは平行に配置され、下面９１ｂとその下側の対向面９３ａとの間には高さ方向隙間１００が形成されている。また、第一伝熱壁９１の厚み方向面９１ｃと第二放熱壁９２との間には、幅方向隙間１０１が形成され、第二伝熱壁９３の厚み方向面９３ｂと第一放熱壁９０との間には幅方向隙間１０２が形成されている。他の構成は、図３および図４の放熱機構９と同様であるので、同一の符号を付してその説明を省略する。
【００５５】
この実施形態のように、第一放熱部の第一伝熱壁９１の厚みを、第二放熱壁９２側ほど次第に薄くなるようにしていることで、第一伝熱壁９１において、その基端側（第一放熱壁９０側）と、先端側（第二放熱壁９２側）との温度分布が均等化される。すなわち、第一伝熱壁９１では、基端側から先端側へ熱が伝達されるから、基端側の断面積を先端側に比べて大きくするほうが、全体の温度分布として均等化される。温度分布が均等化されると、その分だけ第二伝熱壁９３に対する輻射効率を向上させられる。
【００５６】
放熱機構９の他の実施形態として、図７および図８に示す構成が考えられる。この放熱機構９は、発熱部が直線的な移動をするものではなく、例えば、ロボットアーム７の関節部のように、部材どうしが相対的に軸心回りに回転（旋回）する回転構造部分に使用可能である。
【００５７】
すなわち、放熱機構９は、第一放熱部と第二放熱部とから構成され、第一放熱部は、第一放熱壁９００と、第一放熱壁９００の壁面（放熱面）９００ａから、壁面９００ａに直交する方向に一体的に突出する複数の第一伝熱壁９０１とを備えている。第一放熱壁９００は円板状に形成されている。また、第一放熱壁９００の中心に、前記軸心上に配置される回転軸９０２が形成されている。そして各第一伝熱壁９０１は、回転軸９０２を中心（同心）にした、他の第一伝熱壁９０１とは径の異なる環状（筒状）の部材である。
【００５８】
第二放熱部は、第二放熱壁９０３と、第二放熱壁９０３の壁面（放熱面）９０３ａから、壁面９０３ａに直交する方向に一体的に突出する複数の第二伝熱壁９０４とを備えている。第二放熱壁９０３は円板状に形成されている。また、各第二伝熱壁９０４は、回転軸９０２を中心（同心）に配置された、他の第二伝熱壁９０４とは径の異なる環状（筒状）の部材である。そして一つの第一伝熱壁９０１が、径方向の内外方向で対向する第二伝熱壁９０４どうしの間に、輻射空間である径方向隙間（所定空間に相当する）１１０を置いて挿入されている。なお、伝熱領域Ｄ３は、第一放熱部における回転軸９０２と、第二放熱部における最も外側にある第二伝熱壁９０４との間の空間である。
【００５９】
第一伝熱壁９０１における第二放熱壁９０３側の径方向面９０１ａと第二放熱壁９０３のとの間に、輻射空間である軸方向隙間９００ｂが形成されている。さらに、第二伝熱壁９０４における第一放熱壁９００側の径方向面９０４ａと第一放熱壁９００との間に、輻射空間である軸方向隙間９００ｃが形成されている。なお、第一伝熱壁９０１と第二伝熱壁９０４とは互いに平行である。なお、回転軸９０２は、最も内側（内径側）に配置された第二伝熱壁９０４の内側に径方向隙間１１０を置いて挿入されている。
【００６０】
上記構成の放熱機構９では、第一放熱部の回転軸９０２が前記回転構造部分のうちの回転可能部に取り付けられ、第二放熱部が回転構造部分のうちの固定部に取り付けられる。このような構成の放熱機構９であっても、発熱部から第一放熱部に伝達された熱が、輻射空間である径方向隙間１１０および軸方向隙間９００ｂ，９００ｃを介して、輻射により第二放熱部に伝達され、発熱部を冷却することができる。
【００６１】
図９および図１０に示した放熱機構９も、発熱部が直線的な移動をするものではなく、部材どうしが相対的に軸心回りに回転（旋回）する回転構造部分に使用可能である。
【００６２】
すなわち、放熱機構９は、第一放熱部と第二放熱部とから構成され、第一放熱部は、第一放熱軸９０５と、第一放熱軸９０５の放熱面である外周面９０５ａから、外周面９０５ａに直交する径方向に一体的に突出する複数の第一伝熱壁９０６とを備えている。各第一伝熱壁９０６は円板状に形成されるとともに、第一放熱軸９０５上に、軸心方向に所定間隔置きに配置されている。
【００６３】
第二放熱部は、第二放熱体９０７を備えている。第二放熱体９０７は中空の円柱状に形成されており、その環状の内周面９０７ａが第一放熱軸９０５の外周面９０５ａに対向する放熱面とされている。また、第二放熱体９０７の幅方向Ｂの一方側および他方側が、それぞれ円板状の蓋壁９０８，９０９によって閉じられている。他方側の蓋壁９０９には、第一放熱軸９０５が非接触で挿通されている。
【００６４】
第二放熱体９０７の内部は、複数の第二伝熱壁９１０によって複数の領域に仕切られている。第二伝熱壁９１０は、内周面９０７ａから、内周面９０７ａに直交する方向に突出する円板状に形成されている。これら第二伝熱壁９１０は、第一放熱軸９０５の軸心方向に所定間隔置きに配置されている。各第二伝熱壁９１０の中心には、第一放熱軸９０５が非接触で挿通されている。
【００６５】
また、前記各領域に、第一伝熱壁９０６が一つずつ内装されている。第一伝熱壁９０６と第二伝熱壁９１０は、輻射空間である軸方向隙間（所定空間に相当する）１２０を置いて非接触に配置されている。伝熱領域Ｄ４は、第一放熱部における第一放熱軸９０５と第二放熱部における第二放熱体９０７の内周面９０７ａとの間の空間である。第一伝熱壁９０６の外周面９０６ａと第二放熱体９０７の内周面９０７ａとは、径方向隙間９０７ｂを置いて非接触に配置されている。なお、第一伝熱壁９０６と第二伝熱壁９１０とは平行に配置されている。
【００６６】
図１ないし図１０に示した各実施形態における放熱機構９は、第一放熱壁と第二放熱壁とを、幅方向や高さ方向で対向させた場合で説明した。しかしながら、第一放熱壁と第二放熱壁とは必ずしも対向させる必要はない。例えば、図１１、図１２で示した実施形態における放熱機構９では、板状の第一放熱壁９０００と第二放熱壁９２００とを直交する方向で、且つ非接触に配置している。
【００６７】
第一放熱壁９０００は、例えば大気ボックス５の縦壁５０に固定され、第二放熱壁９２００は、真空室３の形成壁である底壁３０に固定されている。第一放熱壁９０００および第二放熱壁９２００はともに矩形に形成され、第一放熱壁９０００の長手方向Ｌの長さは、第二放熱壁９２００の長手方向の長さに比べて短く設定されている。
【００６８】
第一伝熱壁９１００は、第一放熱壁９０００の壁面９０００ａに、その壁面９０００ａから第二放熱壁９２００の壁面９２００ａに向かって傾斜（下傾斜）するよう一体的に形成されている。具体的には、第一伝熱壁９１００は、壁面９０００ａから４５°で傾斜しており、第一伝熱壁９１００は複数枚（本実施形態では十五枚）形成されている。そして、各第一伝熱壁９１００の先端面である厚み方向面９１００ａは、第二放熱壁９２００の壁面９２００ａからの離間間隔を同一としているから、下位の第一伝熱壁９１００ほど傾斜距離が短くなっている。また、第一伝熱壁９１００の厚みは、第一放熱壁９０００の厚みに比べて薄く設定されている。
【００６９】
第二伝熱壁９３００は、第二放熱壁９２００の壁面９２００ａに、その壁面９２００ａから第一放熱壁９０００の壁面９０００ａに向かって傾斜（上傾斜）するよう一体的に形成されている。具体的には、第二伝熱壁９３００は、壁面９２００ａから４５°で傾斜しており、第二伝熱壁９３００は複数枚（本実施形態では十六枚）形成されている。そして、各第二伝熱壁９３００の先端面である厚み方向面９３００ａは、第一放熱壁９０００の壁面９０００ａからの離間間隔を同一としているから、下位の第二伝熱壁９３００ほど傾斜距離が短くなっている。また、第二伝熱壁９３００の厚みは、第二放熱壁９２００の厚みに比べて薄く設定されている。
【００７０】
第一伝熱壁９１００は、一対の第二伝熱壁９３００の間に挿入されている。そして、第一伝熱壁９１００と第二伝熱壁９３００とは、所定空間である傾斜方向隙間１１００を介して壁面どうしが対向している。傾斜方向隙間１１００の条件として、第一伝熱壁９１００と第二伝熱壁９３００とが接触せず、しかも輻射が可能な距離を有した輻射空間としていることである。また、第一伝熱壁９１００の厚み方向面９１００ａと第二放熱壁９２００の壁面９２００ａとの間に、下方隙間１１１０が形成されている。さらに、第二伝熱壁９３００の厚み方向面９３００ａと第一放熱壁９０００の壁面９０００ａとの間に、側方隙間１１２０が形成されている。伝熱領域Ｄ５は、第一放熱壁９０００の壁面９０００ａと第二放熱壁９２００の壁面９２００ａとの間の空間である。
【００７１】
上記構成を備えた放熱機構９において、第一放熱壁９０００の熱は、各第一伝熱壁９１００に伝わり、各第一伝熱壁９１００から傾斜方向隙間１１００を介して各第二伝熱壁９３００に輻射され、各第二伝熱壁９３００に輻射された熱は、第二放熱壁９２００に伝わり、底壁３０から真空室の外へ放熱される。
【００７２】
また、図３ないし図６に示した櫛歯形状の放熱機構とする場合、第一放熱部と第二放熱部を、次のように構成することも可能である。すなわち、
（１）第一放熱壁（第二放熱壁）と第一伝熱壁（第二伝熱壁）とを、別体に形成したものを一体に形成した放熱機構。
（２）第一放熱壁（第二放熱壁）を、別体に形成したパーツどうしを一体に形成するよう組み付けた放熱機構。この場合、第一伝熱壁（第二伝熱壁）は、第一放熱壁（第二放熱壁）に一体であっても別体であってもよい。
【００７３】
また、図３ないし図６に示した櫛歯形状の放熱機構では、一対の第二伝熱壁の間の全てに、それぞれ第一伝熱壁が挿入される形態を説明した。しかしながら、必ずしも、一対の第二伝熱壁の間の全てに、それぞれ第一伝熱壁が挿入されなくてもよい。この場合、上記（１）、（２）で記載したように、第一放熱壁（第二放熱壁）と第一伝熱壁（第二伝熱壁）とを、別体に形成したものを一体に形成してもよいし、第一放熱壁（第二放熱壁）を、別体に形成したパーツどうしを一体に形成するよう組み付けてもよい。
【００７４】
さらに、図示しないが、第一放熱部を矩形や円形の第一放熱壁から形成し、該第一放熱壁の壁面に、該壁面に直交する方向の杆状の突起を複数本、所定間隔置きに並べ、第二放熱部を、各突起が輻射空間を置いて非接触で挿入される孔部を有した構成とすることも可能である。
【００７５】
また、第一放熱部（高温部）にペルチェ素子を配置し、第一放熱部側の温度を高く設定して、第二放熱部の温度差を大きくすることで、第一放熱部から第二放熱部への熱の輻射を高効率にすることができる。
【００７６】
上記各実施形態では、対になった第二伝熱壁の間のそれぞれに、第一伝熱壁を第二伝熱壁に非接触に挿入した。しかしながら、第一伝熱壁は、必ずしも対になった第二伝熱壁のそれぞれ（全て）に挿入しなくてもよい。すなわち、充分な輻射効果が期待できるのであれば、例えば、複数の第一伝熱壁から、特定の第一伝熱壁を間引く形態とすることも可能である。このようにすることにより、移動する第一伝熱部を軽量化することができる。
【符号の説明】
【００７７】
１…真空処理装置、３…真空室、４…搬送テーブル装置、５…大気ボックス、６…リニア搬送装置、７…ロボットアーム、９…放熱機構、３０…底壁、３１…側壁、４０…テーブル、５０…縦壁、５１…制御装置、７０…駆動部、７１…旋回軸、７２…縦軸、７３…アーム部、９０…第一放熱壁、９０ａ…壁面、９１…第一伝熱壁、９２…第二放熱壁、９２ａ…壁面、９３…第二伝熱壁、９３ａ…対向面、９３ｂ…厚み方向面、１００…高さ方向隙間、１０１，１０２…幅方向隙間
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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