(57)【要約】      （修正有）【課題】インドール‐３-トリフロン類の直接的製造法及び新規なビインドリルトリフロン誘導体の提供。【解決手段】インドール誘導体に対して、トリフルオロメタンスルホン酸無水物と少なくとも１種の塩基又は酸の存在下、溶媒中において反応させてインドールトリフロン誘導体を合成する製造方法。さらに、該インドールトリフロン誘導体を、塩基の存在下溶媒中において反応させて得られる下記一般式（３）で表されるビインドリルトリフロン誘導体、及びその製造方法。2013170151.tif 000029【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（２）で示されるインドール誘導体に対して，トリフルオロメタンスルホン酸無水物と少なくとも１種の塩基１又は酸の存在下，溶媒中において下記一般式（１）で表されるインドールトリフロン誘導体を合成する製造方法。
【化１】
2013170151.tif 000026
（式中，Ｒ１は水素原子，置換もしくは未置換のアルキル基，アルケニル基，アラルキル基，アルキニル基，カルボニル基，置換基を有していてもよいカルバモイル基，アリール基，アリールオキシ基又はシリル基を示す。Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４及びＲ５はそれぞれ独立に水素原子，アルキル基，アルコキシ基，アラルキル基，ハロゲン原子，置換基を有していてもよいアミノ基，ヒドロキシル基，アルキルチオ基，カルボニル基，置換基を有していてもよいカルバモイル基，シアノ基，ニトロ基，アリール基，アリールオキシ基，アルケニル基，アルキニル基又はシリル基を示す。なおＲ１およびＲ２，Ｒ１およびＲ６，Ｒ３およびＲ４，Ｒ４およびＲ５又はＲ５およびＲ６が一体となって，ヘテロ原子の介在もしくは非介在で環状構造の一部を形成してもよい。）
塩基１は、無機塩基，有機塩基，有機金属試薬等が使用できるが，例えば，炭酸カリウム，炭酸セシウム等の炭酸塩；水酸化ナトリウム，水酸化カリウム等の水酸化物；ナトリウム  メトキシド，カリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルコキシド化合物；ＤＢＵ，ＤＡＢＣＯ，トリエチルアミン，Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン，２，６−ルチジン等の有機塩基；ｎ−ブチルリチウム，ｓｅｃ−ブチルリチウム，ｔｅｒｔ−ブチルリチウム，リチウムジイソプロピルアミド，ヘキサメチルジシラザン  リチウム塩，ヘキサメチルジシラザン  ナトリウム塩，ヘキサメチルジシラザン  カリウム塩などの群から選らばれる１または２以上の物質が挙げられ、特に好ましくは２，４，６−トリ−tert−ブチルピリジンである。使用量は一般的に式（２）に対して，１〜１０当量で，好ましくは１〜５当量である。
酸としては，特に制限するわけではないが，例えば四塩化チタン，四塩化すず，三塩化アルミニウム，三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯塩，トリフルオロメタンスルホン酸銅（II），過塩素酸ニッケル（II），酢酸亜鉛（II），酢酸パラジウム（II），酢酸銅（II），フッ化銀（I），フッ化亜鉛（II），フッ化銅（II），フッ化インジウム（III），塩化マグネシウム，フッ化チタン（ＩＶ），チタンテトライソプロポキシド等酸としては，特に制限するわけではないが，例えば四塩化チタン，四塩化すず，三塩化アルミニウム，三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯塩，トリフルオロメタンスルホン酸銅（II），過塩素酸ニッケル（II），酢酸亜鉛（II），酢酸パラジウム（II），酢酸銅（II），フッ化銀（I），フッ化亜鉛（II），フッ化銅（II），フッ化インジウム（III），塩化マグネシウム，フッ化チタン（ＩＶ），チタンテトライソプロポキシド等の群から選らばれる１または２以上の物質が挙げられる。
【化２】
2013170151.tif 000027
（式中，Ｒ１，Ｒ2，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５及びＲ６は式（１）記載の通りである。）
【請求項２】
下記一般式（３）で表されるビインドリルトリフロン誘導体。
【化３】
2013170151.tif 000028
（式中，Ｒ１，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５及びＲ６は式（１）記載の通りである。）
【請求項３】
前記一般式（３）で表されるビインドリルトリフロン誘導体の合成法であって，前記一般式（１）で表されるインドールトリフロン誘導体に対して，塩基２の存在下溶媒中において前記一般式（３）で表されるビインドリルトリフロン誘導体を合成する製造方法。
塩基２は無機塩基，有機塩基，有機金属試薬等が使用できるが，例えば，炭酸カリウム，炭酸セシウム等の炭酸塩；水酸化ナトリウム，水酸化カリウム等の水酸化物；ナトリウム  メトキシド，カリウム tert−ブトキシド等のアルコキシド化合物；ＤＢＵ，ＤＡＢＣＯ，トリエチルアミン，Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン，２，６−ルチジン等の有機塩基；ｎ−ブチルリチウム，sec−ブチルリチウム，tert−ブチルリチウム，リチウムジイソプロピルアミド，ヘキサメチルジシラザン  リチウム塩，ヘキサメチルジシラザン  ナトリウム塩，ヘキサメチルジシラザン  カリウム塩などの群から選らばれる１または２以上の物質が挙げられ、特に好ましくはカリウムtert−ブトキシドである。使用量は一般的に式（１）に対して，１〜１０当量で，好ましくは１〜５当量である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は，インドールに対して直接トリフルオロメタンスルホン酸無水物を反応させインドール‐３-トリフロン類を合成する製造法及びインドールトリフロン誘導体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
芳香族トリフロンは医薬品，農薬の母骨格として大きな成功を修めており，その合成法も多岐にわたっている (非特許文献１，２，３，４)。近年では1つの分子中に２つのトリフルオロメタンスルホニル基をもつ化合物の合成とそれを用いた反応も報告されている(非特許文献５)。しかしながら，これらの方法では複素環であるインドール骨格に直接トリフルオロメチル化を行うことはできず，インドールトリフロンの合成例は非常に限られている。(特許文献１，２)さらにこれらの報告例ではいずれも合成に多段階が必要であり，直接的に合成することはできない。インドール骨格は生理活性物質の母骨格に非常に多くみられることから，インドールトリフロンは医薬品，農薬として成功を修めている母骨格同士の組み合わせであり，その直接的かつ簡便な製造法が求められている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】Gange, D. M. 1996, EP 697172.
【特許文献２】Kumamoto, K.; Miyazaki, H. 2009, WO 2009028727.
【非特許文献】
【０００４】
【非特許文献１】Charmant, J. P. H.; Dyke, A. M.; Lloyd-Jones, G. C. Chem. Commun. 2003, 380.
【非特許文献２】Creary, X. J. Org. Chem. 1980, 45, 2727.
【非特許文献３】Chen, Q-y.; Duan, J-x. J. Chem. Soc., Chem. Commun. 1993, 918.
【非特許文献４】Hendrickson, J. B.; Bair, K. W. J. Org. Chem.1977, 42, 3875.
【非特許文献５】Yanai, H.; Fujita, M.; Taguchi, T. Chem. Commun. 2011, 47, 7245.
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は上記点に鑑みて，インドールに対して，最も簡単で入手容易なトリフルオロメタンスルホニル基源であるトリフルオロメタンスルホン酸無水物を用い，直接的にインドールトリフロンを構築できる製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するため，発明者らは下記一般式（２）で示されるインドール誘導体に対して，トリフルオロメタンスルホン酸無水物を塩基又は酸の存在下にてフリーデル・クラフツを行うことで，直接的に下記一般式（１）に示すインドールトリフロン誘導体を合成できることを見出した。また得られたインドールトリフロン誘導体に対して，塩基１を作用させることによって下記一般式（３）に示すビインドリルトリフロン誘導体の合成にも成功した。すなわち請求項１に記載の発明は，下記一般式（２）で示されるインドール誘導体に対して，トリフルオロメタンスルホン酸無水物と少なくとも１種の塩基１又は酸の存在下，溶媒中において下記一般式（１）で表されるインドールトリフロン誘導体を合成する製造方法にある。
【０００７】
【化１】
2013170151.tif 000002
【０００８】
（式中，Ｒ１は水素原子，置換もしくは未置換のアルキル基，アルケニル基，アラルキル基，アルキニル基，カルボニル基，置換基を有していてもよいカルバモイル基，アリール基，アリールオキシ基又はシリル基を示す。Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４及びＲ５はそれぞれ独立に水素原子，アルキル基，アルコキシ基，アラルキル基，ハロゲン原子，置換基を有していてもよいアミノ基，ヒドロキシル基，アルキルチオ基，カルボニル基，置換基を有していてもよいカルバモイル基，シアノ基，ニトロ基，アリール基，アリールオキシ基，アルケニル基，アルキニル基又はシリル基を示す。なおＲ１およびＲ２，Ｒ１およびＲ６，Ｒ３およびＲ４，Ｒ４およびＲ５又はＲ５およびＲ６が一体となって，ヘテロ原子の介在もしくは非介在で環状構造の一部を形成してもよい。）
【０００９】
【化２】
2013170151.tif 000003
【００１０】
（式中，Ｒ１，Ｒ2，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５及びＲ６は式（１）記載の通りである。）
請求項２に記載の発明は，下記一般式（３）で表されるビインドリルトリフロン誘導体にある。
【００１１】
【化３】
2013170151.tif 000004
【００１２】
（式中，Ｒ１，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５及びＲ６は式（１）記載の通りである。）
請求項３に記載の発明は，前記一般式（３）で表されるビインドリルトリフロン誘導体の合成法であって，前記一般式（１）で表されるインドールトリフロン誘導体に対して，塩基２の存在下溶媒中において前記一般式（３）で表されるビインドリルトリフロン誘導体を合成する製造方法にある。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本明細書において，Ｒ１，Ｒ2，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５及びＲ６が示すアルキル基としては，例えば，炭素数１乃至２０程度のアルキル基を用いることができる。具体的には，メチル基，エチル基，プロピル基，ブチル基，プロピル基，ペンチル基，ヘキシル基，ヘプチル基，オクチル基，ノニル基，デシル基，ウンデシル基，ドデシル基，トリデシル基，テトラデシル基，ペンタデシル基，ヘキサデシル基，ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基，イコシル基，又はこれらの環状アルキル基，分鎖アルキル基などを用いることができる。アルキル基はハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アリール基、アシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基などの置換基で置換されていてもよい。
Ｒ１，Ｒ2，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５及びＲ６が示すアルケニル基又はアルキニル基に含まれる不飽和結合の数は特に限定されないが，好ましくは１乃至２個程度である。該アルケニル基又はアルキニル基は，直鎖状又は分枝鎖状のいずれでもよい。
Ｒ１，Ｒ2，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５及びＲ６が示すアラルキル基は，例としてベンジル基，ペンタフルオロベンジル基，ｏ−メチルベンジル基，ｍ−メチルベンジル基，ｐ−メチルベンジル基，ｐ−ニトロベンジル基，ナフチルメチル基，フルフリル基，α−フェネチル基等が挙げられる。
Ｒ１，Ｒ2，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５及びＲ６が示すアリール基としては，ヘテロアリール基も含有し，具体例としては，例えば炭素数2〜30のアリール基，具体的にはフェニル基，ナフチル基，アンスラニル基，ピレニル基，ビフェニル基，インデニル基，テトラヒドロナフチル基，ピリジル基，ピリミジニル基，ピラジニル基，ピリダニジル基，ピペラジニル基，ピラゾリル基，イミダゾリル基，キニリル基，ピロリル基，インドリル基，フリル基などが挙げることができる。
Ｒ１，Ｒ2，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５及びＲ６が示すアリールオキシ基としては，ヘテロアリールオキシ基も含有し，具体例としては，例えば炭素数2〜30のアリール基，具体的にはフェニルオキシ基，ナフチルオキシ基，アンスラニルオキシ基，ピレニルオキシ基，ビフェニルオキシ基，インデニルオキシ基，テトラヒドロナフチルオキシ基，ピリジルオキシ基，ピリミジニルオキシ基，ピラジニルオキシ基，ピリダニジルオキシ基，ピペラジニルオキシ基，ピラゾリルオキシ基，イミダゾリルオキシ基，キニリルオキシ基，ピロリルオキシ基，インドリルオキシ基，フリルオキシ基などが挙げることができる。
Ｒ2，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５及びＲ６が示すアルコキシ基としては，例えば，炭素数１〜６程度のアルコキシ基を用いることができる。より具体的には，メトキシ基，エトキシ基，ｎ−プロポキシ基，イソプロポキシ基，ｎ−ブトキシ基，ｓｅｃ−ブトキシ基，ｔｅｒｔ−ブトキシ基，シクロプロピルメチルオキシ基，ｎ−ペントキシ基，ｎ−ヘキソキシ基，トリエチレングリコシル基などを挙げることができる。
Ｒ2，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５及びＲ６が示すハロゲン原子はフッ素原子，塩素原子，臭素原子，又はヨウ素原子のいずれでもよい。
Ｒ2，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５及びＲ６が示すアミノ基が置換基を有する場合，置換基として，例えば，上記に説明した炭素数１〜１０程度のアルキル基又はハロゲン化アルキル基等を有していてもよい。より具体的には，炭素数１〜６程度のアルキル基で置換されたモノアルキルアミノ基，又は炭素数１〜６程度の２個のアルキル基で置換されたジアルキルアミノ基（２個のアルキル基は同一でも異なっていてもよい）などを挙げることができる。
Ｒ2，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５及びＲ６が示すアルキルチオ基としては，上記に説明した炭素数１〜１０程度のアルキルチオ基を用いることができる。例えば，メチルチオ基，エチルチオ基などを挙げることができる。
Ｒ１，Ｒ2，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５及びＲ６が示すカルボキシ基としては，例えば，アルキル基，アルコキシ基，アルケニル基，アルキニル基，又はアリール基を有するカルボキシ基を用いることができる。具体的には，アセトキシ基，プロピオノキシ基，ブタノキシ基，ペンタノキシ基，ヘキサノキシ基，メトキシカルボニル基，エトキシカルボニル基などが挙げられる。
Ｒ１，Ｒ2，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５及びＲ６が示すカルバモイル基が置換基を有する場合，置換基として，例えば，上記に説明した炭素数１〜１０程度のアルキル基又はハロゲン化アルキル基等を有していてもよい。カルバモイル基が２個の置換基を有する場合には，それらは同一でも異なっていてもよい。
Ｒ１，Ｒ2，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５及びＲ６が示すシリル基としては例えば，２個又は３個の，上記に説明した炭素数１〜１０程度のアルキル基，ヘテロアリール基を含むアリール基，炭素数１〜６程度のアルコキシ基で置換されたシリル基（２個又は３個の置換基は同一でも異なっていてもよい）を用いることができる。具体的には，トリメチルシリル基，トリエチルシリル基，トリイソプロピルシリル基，tert-ブチルジメチルシリル基，tert-ブチルジフェニルシリル基，トリメトキシシリル基，トリエトキシシリル基，などが挙げられる。
Ｒ１，Ｒ2，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５及びＲ６を組み合わせて形成されうる前記環状構造の例としては，３員環から２０員環でなる単環，双環，またはそれ以上の多環の構造を示すことができる。これらの環状構造はヘテロ原子を有してもよい。
アルキル基又はアルキル部分を含む置換基（例えば，アルコキシ基，アルキルチオ基，アルコキシカルボニル基など）のアルキル部分，アリール基又はアリール部分を含む置換基(例えば,アリールオキシ基など)のアリール部分は，フッ素原子，塩素原子，臭素原子，及びヨウ素原子からなる群から選ばれる１又は２個以上のハロゲン原子有していてもよく，２個以上のハロゲン原子が置換している場合には，それらは同一でも異なっていてもよい。
Ｒ１，Ｒ2，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に上記に定義されたいずれかの置換基を示すが，全部が同一の置換基であってもよい。
塩基１は無機塩基，有機塩基，有機金属試薬等が使用できるが，例えば，炭酸カリウム，炭酸セシウム等の炭酸塩；水酸化ナトリウム，水酸化カリウム等の水酸化物；ナトリウム  メトキシド，カリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルコキシド化合物；ＤＢＵ，ＤＡＢＣＯ，トリエチルアミン，Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン，２，６−ルチジン等の有機塩基；ｎ−ブチルリチウム，ｓｅｃ−ブチルリチウム，ｔｅｒｔ−ブチルリチウム，リチウムジイソプロピルアミド，ヘキサメチルジシラザン  リチウム塩，ヘキサメチルジシラザン  ナトリウム塩，ヘキサメチルジシラザン  カリウム塩などが挙げられ，特に好ましくは２，４，６−トリ−tert−ブチルピリジンである。使用量は一般的に式（２）に対して，１〜１０当量で，好ましくは１〜５当量である。
塩基２は無機塩基，有機塩基，有機金属試薬等が使用できるが，例えば，炭酸カリウム，炭酸セシウム等の炭酸塩；水酸化ナトリウム，水酸化カリウム等の水酸化物；ナトリウム  メトキシド，カリウム tert−ブトキシド等のアルコキシド化合物；ＤＢＵ，ＤＡＢＣＯ，トリエチルアミン，Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン，２，６−ルチジン等の有機塩基；ｎ−ブチルリチウム，sec−ブチルリチウム，tert−ブチルリチウム，リチウムジイソプロピルアミド，ヘキサメチルジシラザン  リチウム塩，ヘキサメチルジシラザン  ナトリウム塩，ヘキサメチルジシラザン  カリウム塩などが挙げられ，特に好ましくはカリウム tert−ブトキシドである。使用量は一般的に式（１）に対して，１〜１０当量で，好ましくは１〜５当量である。
酸としては，特に制限するわけではないが，例えば四塩化チタン，四塩化すず，三塩化アルミニウム，三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯塩，トリフルオロメタンスルホン酸銅（II），過塩素酸ニッケル（II），酢酸亜鉛（II），酢酸パラジウム（II），酢酸銅（II），フッ化銀（I），フッ化亜鉛（II），フッ化銅（II），フッ化インジウム（III），塩化マグネシウム，フッ化チタン（ＩＶ），チタンテトライソプロポキシド等が挙げられる。これらは単独で使用し得るのみならず，２種類以上を混合して用いることも可能である。用いる金属化合物の形態はガス状，溶液状，塩状，どれでも使用可能であり,特に好ましくは塩上，溶液状である。
溶媒の種類は特に限定されないが，ジエチルエーテル，ジイソプロピルエーテル，ｎ−ブチルメチルエーテル，ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル，テトラヒドロフラン，ジオキサン等のエーテル系溶媒；ヘプタン，ヘキサン，シクロペンタン，シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒；クロロホルム，四塩化炭素，塩化メチレン，ジクロロエタン，トリクロロエタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒；ベンゼン，トルエン，キシレン，クメン，シメン，メシチレン，ジイソプロピルベンゼン，ピリジン,ピリミジン,ピラジン,ピリダジン等の芳香族系溶媒；酢酸エチル等のエステル系溶媒；アセトン，メチルエチルケトン等のケトン系溶媒；ジメチルスルホキシド，ジメチルホルムアミド等の溶媒；メタノール,エタノール,プロパノール，i-プロピルアルコール，アミノエタノール，N,N-ジメチルアミノエタノール等のアルコール系溶媒；１，１，１，３，３−ペンタフルオロブタン，１，１，１，２，３，３，３−ヘプタフルオロプロパン等のフルオロカーボン系溶媒；超臨界二酸化炭素，イオン性液体が挙げられるが，塩化メチレンが最も好ましい。これらは単独で使用し得るのみならず，２種類以上を混合して用いることも可能である。
前記式（１）の製造は加圧下に行うこともできるが，通常は常圧で行う。反応温度は−８０℃から溶媒の沸点までの間で行うことができるが，好ましくは−２０℃乃至室温付近である。反応時間は特に限定されるものではないが，通常５時間〜５日で反応は完結する。
前記式（３）の製造は加圧下に行うこともできるが，通常は常圧で行う。反応温度は−８０℃から溶媒の沸点までの間で行うことができるが，好ましくは−６０℃乃至室温付近である。反応時間は特に限定されるものではないが，通常５時間〜５日で反応は完結する。
反応後、前記式（１）で示されるインドールトリフロン誘導体は一般的な手法によって反応液から単離および精製することができ，例えば反応液を濃縮した後，蒸留精製またはシリカゲル，アルミナ等の吸着剤を用いたカラムクロマトグラフ法での精製，塩析，再結晶等が挙げられる。
反応後、前記式（３）で示されるビインドリルトリフロン誘導体は一般的な手法によって反応液から単離および精製することができ，例えば反応液を濃縮した後，蒸留精製またはシリカゲル，アルミナ等の吸着剤を用いたカラムクロマトグラフ法での精製，塩析，再結晶等が挙げられる。
以下，実施形態により本発明をさらに具体的に説明するが，本発明の範囲は下記の実施形態に限定されることはない。
【００１４】
（実施形態１）  前記一般式（１）の一般的な製造方法：
インドール誘導体２（１．００ｍｍｏｌ），２，４，６，‐トリ‐tert‐ブチルピリジン(１．２０ｍｍｏｌ)をニトロメタン２．４ｍｌに溶かし，０℃で，トリフルオロスルホン酸無水物（１．１０ｍｍｏｌ）を加えた。その後ゆっくりと室温に昇温したのち，反応終了まで撹拌した。反応溶液にジエチルエーテルを加え，有機層をNH４OH，飽和食塩水で洗浄した後，Na2SO4を用いて乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し、インドールトリフロン誘導体１を得た。
【００１５】
【化４】
2013170151.tif 000005
【００１６】
Compound １a: １‐メチル‐３‐（トリフルオロメタンスルホニル）‐１Ｈ‐インドール
mp = 160-162 ℃; 1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 3.95 (s, 3H), 7.39-7.46 (m, 3H), 7.88 (s, 1H), 7.97 (d, J = 8.1 Hz, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282.3 MHz) δ -80.6 (s, 3F); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 34.2, 103.5, 110.8, 120.0, 120.2 (q, J = 324.7 Hz), 123.8, 124.6, 125.2, 137.5, 138.2; IR (KBr) 3031, 1743, 1522, 1352, 1209, 1101, 987, 744 cm-1; MS (ESI, m/z) 286.1 [M+Na]+; HRMS cala’d for [C10H8F3NO2S+Na]+: 286.0126, Found: 286.0125; 収率88%.
【００１７】
【化５】
2013170151.tif 000006
【００１８】
Compound １b: １‐エチル‐３‐（トリフルオロメタンスルホニル）‐１Ｈ‐インドール
mp = 104-106 ℃; 1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 1.60 (t, J = 7.2 Hz, 3H), 4.30 (q, J = 7.2 Hz, 2H), 7.36-7.50 (m, 3H), 7.94 (s, 1H), 7.96-7.99 (m, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282.3 MHz) δ -80.6 (s, 3F); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 14.7, 42.5, 103.3, 110.9, 120.0, 120.2 (q, J = 324.7 Hz), 123.7, 124.4, 125.4, 136.6, 136.7; IR (KBr) 3126, 2988, 1741, 1516, 1351, 1184, 1006, 744 cm-1; MS (ESI, m/z) 300.1 [M+Na]+; HRMS cala’d for [C11H10F3NO2S+Na]+: 300.0282, Found: 300.0286; 収率94%.
【００１９】
【化６】
2013170151.tif 000007
【００２０】
Compound １c: １‐ベンジル‐３‐（トリフルオロメタンスルホニル）‐１Ｈ‐インドール
mp = 142-144 ℃; 1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 5.40 (s, 2H), 7.18-7.21 (m, 2H), 7.37-7.43 (m, 6H), 7.90 (s, 1H), 7.98 (d, J = 9.0 Hz, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282.3 MHz) δ -80.5 (s, 3F); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 51.5, 104.1, 111.3, 120.1, 120.2 (q, J = 324.6 Hz), 123.9, 124.7, 125.4, 127.3, 128.8, 129.3, 134.0, 137.0, 137.7; IR (KBr) 3135, 1577, 1512, 1352, 1197, 1120, 988, 745 cm-1; MS (ESI, m/z) 362.2 [M+Na]+; HRMS cala’d for [C16H12F3NO2S+Na]+: 362.0439, Found: 362.0437; 収率86%.
【００２１】
【化７】
2013170151.tif 000008
【００２２】
Compound １d: １‐フェニル‐３‐（トリフルオロメタンスルホニル）‐１Ｈ‐インドール
mp = 86-88 ℃; 1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 7.40-7.44 (m, 2H), 7.51-7.64 (m, 6H), 8.03-8.05 (m, 1H), 8.10 (s, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282.3 MHz) δ -80.4 (s, 3F); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 106.0, 111.9, 120.1, 120.2 (q, J = 324.7 Hz), 124.2, 124.9, 125.1, 129.2, 130.2, 136.9, 137.1, 137.2; IR (KBr) 3136, 1598, 1515, 1350, 1200, 1128, 1018, 757 cm-1; MS (ESI, m/z) 348.1 [M+Na]+; HRMS cala’d for [C15H10F3NO2S+Na]+: 348.0282, Found: 300.0279; 収率85%.
【００２３】
【化８】
2013170151.tif 000009
【００２４】
Compound １e: １‐（４‐メトキシフェニル）‐３‐（トリフルオロメタンスルホニル）‐１Ｈ‐インドール
mp = 138-140 ℃; 1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 3.91 (s, 3H), 7.08-7.12 (m, 2H), 7.38-7.46 (m, 5H), 8.00-8.05 (m, 2H); 19F NMR (CDCl3, 282.3 MHz) δ -80.4 (s, 3F); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 55.5, 105.3, 111.9, 115.1, 119.9, 120.2 (q, J = 324.6 Hz), 124.0, 124.9, 126.4, 129.5, 137.5, 137.6, 160.0; IR (KBr) 3468, 3116, 1516, 1348, 1200, 1105, 1019, 755 cm-1; MS (ESI, m/z) 378.1 [M+Na]+; HRMS cala’d for [C16H12F3NO3S+Na]+: 378.0388, Found: 378.0380; 収率86%.
【００２５】
【化９】
2013170151.tif 000010
【００２６】
Compound １f: １，２‐ジメチル‐３‐（トリフルオロメタンスルホニル）‐１Ｈ‐インドール
mp = 193-195 ℃; 1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 2.75 (s, 3H), 3.79 (s, 3H), 7.32-7.38 (m, 3H), 7.98-8.01 (m, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282.3 MHz) δ -81.1 (s, 3F); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 11.3, 30.4, 99.9, 110.0, 119.8, 120.6 (q, J = 325.0 Hz), 123.5, 123.8, 125.7, 136.5, 138.0; IR (KBr) 3472, 1478, 1352, 1210, 1101, 1032, 899, 758 cm-1; MS (ESI, m/z) 300.1 [M+Na]+; HRMS cala’d for [C11H10F3NO2S+Na]+: 300.0282, Found: 300.0292; 収率91%.
【００２７】
【化１０】
2013170151.tif 000011
【００２８】
Compound １g: １‐メチル‐２‐フェニル‐３‐（トリフルオロメタンスルホニル）‐１Ｈ‐インドール
mp = 126-128 ℃; 1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 3.61 (s, 3H), 7.41-7.47 (m, 5H), 7.50-7.58 (m, 3H), 8.11 (d, J = 8.7 Hz, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282.3 MHz) δ -80.4 (s, 3F); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 31.5, 101.6, 110.6, 120.3 (q, J = 325.8 Hz), 120.5, 123.9, 124.5, 125.7, 127.7, 128.2, 130.2, 130.3, 136.6, 149.8; IR (KBr) 3442, 1467, 1363, 1205, 1102, 980, 803, 751 cm-1; MS (ESI, m/z) 362.2 [M+Na]+; HRMS cala’d for [C16H12F3NO2S+Na]+: 362.0439, Found: 362.0432; 収率88%.
【００２９】
【化１１】
2013170151.tif 000012
【００３０】
Compound １ｈ: １，４‐ジメチル‐３‐（トリフルオロメタンスルホニル）‐１Ｈ‐インドール
mp = 156-158 ℃; 1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 2.75 (s, 3H), 3.91 (s, 3H), 7.17 (d, J = 6.6 Hz, 1H), 7.27-7.36 (m, 2H), 7.98 (s, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282.3 MHz) δ -79.2 (s, 3F); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 21.1, 34.2, 104.3, 108.5, 120.2 (q, J = 324.7 Hz), 123.4, 124.7, 126.0, 131.7, 138.6, 141.3; IR (KBr) 3134, 1527, 1350, 1208, 1118, 1036, 909, 740 cm-1; MS (ESI, m/z) 300.1 [M+Na]+; HRMS cala’d for [C11H10F3NO2S+Na]+: 300.0282, Found: 300.0287; 収率92%.
【００３１】
【化１２】
2013170151.tif 000013
【００３２】
Compound １ｉ: １‐ベンジル‐５‐メチル‐３‐（トリフルオロメタンスルホニル）‐１Ｈ‐インドール
mp = 123-125 ℃; 1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 2.48 (s, 3H), 5.37 (s, 2H), 7.16-7.19 (m, 3H), 7.29 (d, J = 8.4 Hz, 1H), 7.36-7.38 (m, 3H), 7.76 (s, 1H), 7.84 (s, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282.3 MHz) δ -80.5 (s, 3F); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 21.4, 51.4, 103.2, 111.1, 119.1, 120.2 (q, J = 324.9 Hz), 125.6, 126.3, 127.2, 128.6, 129.1, 133.9, 134.2, 135.3, 137.4; IR (KBr) 3445, 3112, 1718, 1509, 1357, 1194, 1008, 799 cm-1; MS (ESI, m/z) 376.2 [M+Na]+; HRMS cala’d for [C17H14F3NO2S+Na]+: 376.0595, Found: 362.0591; 収率91%.
【００３３】
【化１３】
2013170151.tif 000014
【００３４】
Compound １ｊ: １‐ベンジル‐５‐メトキシ‐３‐（トリフルオロメタンスルホニル）‐１Ｈ‐インドール
mp = 106-108 ℃; 1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 3.87 (s, 3H), 5.36 (s, 2H), 6.98 (dd, J = 9.0 Hz, J = 2.4 Hz, 1H), 7.16-7.19 (m, 2H), 7.29 (s, 1H), 7.36-7.39 (m, 4H), 7.82 (s, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282.3 MHz) δ -80.6 (s, 3F); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 51.7, 55.7, 101.0, 103.2, 112.3, 115.4, 120.2 (q, J = 324.7 Hz), 126.4, 127.2, 128.7, 129.2, 131.8, 134.0, 137.2, 157.1; IR (KBr) 3418, 3135, 1621, 1509, 1354, 1223, 1028, 845 cm-1; MS (ESI, m/z) 392.1 [M+Na]+; HRMS cala’d for [C17H14F3NO3S+Na]+: 392.0544, Found: 392.0545; 収率84%.
【００３５】
【化１４】
2013170151.tif 000015
【００３６】
Compound １ｋ: １‐メチル‐５‐フルオロ‐３‐（トリフルオロメタンスルホニル）‐１Ｈ‐インドール
mp = 136-138 ℃; 1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 3.95 (s, 2H), 7.17 (dt, J = 9.0 Hz, J = 2.4 Hz, 1H), 7.39 (dd, J = 9.0 Hz, J = 3.9 Hz, 1H), 7.62 (dd, J = 8.7 Hz, J = 2.4 Hz, 1H), 7.89 (s, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282.3 MHz) δ -118.3 (d, J = 3.9 Hz, 1F), -80.6 (s, 3F); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 34.5, 103.3, 105.5 (d, J = 26.1 Hz), 112.1 (d, J = 9.8 Hz), 113.4 (d, J = 26.6 Hz), 120.1 (q, J = 324.6 Hz), 126.0 (d, J = 11.5 Hz), 134.0, 139.1, 160.0 (d, J = 241.6 Hz); IR (KBr) 3418, 3141, 1626, 1521, 1356, 1213, 1104, 889 cm-1; MS (ESI, m/z) 304.2 [M+Na]+; HRMS cala’d for [C10H7F4NO2S+Na]+: 304.0031, Found: 304.0037; 収率84%.
【００３７】
【化１４】
2013170151.tif 000016
【００３８】
Compound １ｌ: １‐メチル‐５‐クロロ‐３‐（トリフルオロメタンスルホニル）‐１Ｈ‐インドール
mp = 116-118 ℃; 1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 5.39 (s, 2H), 7.16-7.19 (m, 2H), 7.32-7.40 (m, 5H), 7.89 (s, 1H), 7.96 (s, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282.3 MHz) δ -80.4 (s, 3F); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 51.8, 103.8, 112.6, 119.6, 120.1 (q, J = 324.6 Hz), 125.3, 126.3, 127.3, 128.9, 129.4, 130.1, 133.6, 135.4, 138.4; IR (KBr) 3428, 3104, 1721, 1512, 1355, 1220, 1092, 830 cm-1; MS (ESI, m/z) 396.0 [M+Na]+; HRMS cala’d for [C16H11ClF3NO2S+Na]+: 396.0049, Found: 396.0053; 収率87%.
【００３９】
【化１４】
2013170151.tif 000017
【００４０】
Compound １ｍ: １‐メチル‐５‐ブロモ‐３‐（トリフルオロメタンスルホニル）‐１Ｈ‐インドール
mp = 130-132 ℃; 1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 5.39 (s, 2H), 7.15-7.19 (m, 2H), 7.29-7.40 (m, 4H), 7.46 (dd, J = 9.0 Hz, J = 1.8 Hz, 1H), 7.88 (s, 1H), 8.12 (d, J = 1.8 Hz, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282.3 MHz) δ -80.4 (s, 3F); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 51.8, 103.6, 112.9, 117.7, 120.0 (q, J = 324.6 Hz), 123.6, 126.8, 127.3, 127.9, 128.9, 129.3, 133.6, 135.7, 138.2; IR (KBr) 3422, 3114, 1607, 1513, 1359, 1217, 989, 807 cm-1; MS (ESI, m/z) 440.0 [M+Na]+; HRMS cala’d for [C16H11BrF3NO2S+Na]+: 439.9544, Found: 439.9537; 収率83%.
【００４１】
【化１５】
2013170151.tif 000018
【００４２】
Compound １ｎ: １，７‐ジメチル‐３‐（トリフルオロメタンスルホニル）‐１Ｈ‐インドール
mp = 161-163 ℃; 1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 2.79 (s, 3H), 4.18 (s, 3H), 7.11 (d, J = 7.2 Hz, 1H), 7.22 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 7.76 (s, 1H), 7.80 (d, J = 8.1 Hz, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282.3 MHz) δ -80.6 (s, 3F); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 19.4, 38.4, 102.8, 117.9, 120.2 (q, J = 324.7 Hz), 122.9, 123.9, 126.2, 127.2, 136.2, 139.6; IR (KBr) 3125, 1525, 1248, 1212, 1111, 783 cm-1; MS (ESI, m/z) 300.2 [M+Na]+; HRMS cala’d for [C11H10F3NO2S+Na]+: 300.0282, Found: 300.0289; 収率96%.
【００４３】
（実施形態２）  前記一般式（１）の窒素原子上の脱保護を伴う製造方法：
窒素原子上をtert‐ブチルジメチル保護したインドール誘導体２（０．５０ｍｍｏｌ），２，４，６，‐トリ‐tert‐ブチルピリジン(１．１０ｍｍｏｌ)をニトロメタン１．６ｍｌに溶かし，０℃で，トリフルオロスルホン酸無水物（１．２０ｍｍｏｌ）を加えた。その後ゆっくりと室温に昇温したのち，反応終了まで撹拌した。反応溶液にジエチルエーテルを加え，有機層をＮＨ４ＯＨ，飽和食塩水で洗浄した後，Ｎａ2ＳＯ4を用いて乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し、インドールトリフロン誘導体１を得た。
【００４４】
【化１６】
2013170151.tif 000019
【００４５】
Compound １o:３‐（トリフルオロメタンスルホニル）‐１Ｈ‐インドール
mp = 120-122 ℃; 1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 7.36-7.45 (m, 2H), 7.52-7.56 (m, 1H), 7.96-7.99 (m, 1H), 8.02 (d, J = 3.3 Hz, 1H), 9.18 (br s, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282.3 MHz) δ -80.5 (s, 3F); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 105.3, 112.6, 119.7, 120.2 (q, J = 324.4 Hz), 124.0, 124.2, 125.1, 135.0, 136.2; IR (KBr) 3360, 3136, 1497, 1351, 1202, 1119, 1022, 744 cm-1; MS (ESI, m/z) 272.1 [M+Na]+; HRMS cala’d for [C9H6F3NO2S+Na]+: 271.9969, Found: 271.9968; 収率92%.
【００４６】
【化１７】
2013170151.tif 000020
【００４７】
Compound １ｐ:２‐メチル‐３‐（トリフルオロメタンスルホニル）‐１Ｈ‐インドール
mp = 117-119 ℃; 1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 2.77 (s, 3H), 7.29-7.34 (m, 2H), 7.38-7.42 (m, 1H), 7.92-7.96 (m, 1H), 8.89 (br s, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282.3 MHz) δ -81.0 (s, 3F); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 13.1, 100.0, 111.7, 119.3, 120.5 (q, J = 324.7 Hz), 123.5, 124.2, 126.0, 134.4, 147.8; IR (KBr) 3310, 1530, 1400, 1354, 1201, 1075, 929, 746 cm-1; MS (ESI, m/z) 386.1 [M+Na]+; HRMS cala’d for [C10H8F3NO2S+Na]+: 286.0126, Found: 286.0124; 収率82%.
【００４８】
【化１８】
2013170151.tif 000021
【００４９】
Compound １ｑ:５‐ブロモ‐３‐（トリフルオロメタンスルホニル）‐１Ｈ‐インドール
mp = 175-177 ℃; 1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 7.41 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 7.52 (dd, J = 9.0 Hz, J = 1.8 Hz, 1H), 8.03 (d, J = 3.0 Hz, 1H), 8.12 (s, 1H), 9.23 (br s, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282.3 MHz) δ -80.4 (s, 3F); 13C NMR (acetone-D6, 150.9 MHz) δ 104.4, 116.4, 117.4, 121.2 (q, J = 324.7 Hz), 122.2, 127.1, 128.4, 136.7, 139.1; IR (KBr) 3343, 3121, 1496, 1348, 1208, 1108, 1021, 807 cm-1; MS (ESI, m/z) 328.0 [M+Na]+; HRMS cala’d for [C9H5BrF3NO2S-H]-: 325.9098, Found: 325.9095; 収率88%.
【００５０】
（実施形態３）  前記一般式（１）の１，１，１，３，３−ペンタフルオロブタン/１，１，１，２，３，３，３−ヘプタフルオロプロパン(体積比９３/７)混合溶媒を用いる製造方法：
インドール誘導体２（０．５０ｍｍｏｌ），２，４，６，‐トリ‐tert‐ブチルピリジン(０．６０ｍｍｏｌ)を１，１，１，３，３−ペンタフルオロブタン/１，１，１，２，３，３，３−ヘプタフルオロプロパン(体積比９３/７)混合溶媒１．５ｍｌに溶かし，０℃で，トリフルオロスルホン酸無水物（０．５５ｍｍｏｌ）を加えた。その後ゆっくりと室温に昇温したのち，反応終了まで撹拌した。反応溶液にジエチルエーテルを加え，有機層をNH４OH，飽和食塩水で洗浄した後，Na2SO4を用いて乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し、インドールトリフロン誘導体１を得た。
【００５１】
実施例３の方法に従って１５時間反応を行い，インドールトリフロン誘導体１aを収率８９％で得た。
実施例３の方法に従って２４時間反応を行い，インドールトリフロン誘導体１ｃを収率７８％で得た。
実施例３の方法に従って１５時間反応を行い，インドールトリフロン誘導体１ｆを収率８９％で得た。
実施例３の方法に従って２４時間反応を行い，インドールトリフロン誘導体１ｊを収率８２％で得た。
実施例３の方法に従って１５時間反応を行い，インドールトリフロン誘導体１aを収率８９％で得た。
【００５２】
（実施形態４）  前記一般式（３）の一般的な製造方法：
インドールトリフロン誘導体１（２．００ｍｍｏｌ）をＤＭＦ１０．００ｍｌに溶かし，−５０℃にてカリウム tert−ブトキシド（４．００ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（６．００ｍｌ）溶液を加えた。反応終了まで同温度で撹拌した後，室温に昇温し飽和塩化アンモニウム水溶液を加えてジエチルエーテルで抽出した。その後，有機層を水，飽和食塩水で洗浄した後，Na2SO4を用いて乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し、ビインドリルトリフロン誘導体３を得た。
【００５３】
【化１９】
2013170151.tif 000022
【００５４】
Compound ３ａ: １，１´‐ジメチル‐３‐（トリフルオロメタンスルホニル）‐１Ｈ，１´Ｈ‐２，２´‐ビインドリル
mp = 177-179 ℃; 1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 3.61 (s, 3H), 3.64 (s, 3H), 6.75 (s, 1H), 7.21 (t, J = 7.8 Hz, 1H), 7.35 (t, J = 7.8 Hz, 1H), 7.38-7.53 (m, 4H), 7.72 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 8.16 (d, J = 6.6 Hz, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282.3 MHz) δ -80.1 (s, 3F); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 30.9, 31.4, 104.7, 106.8, 109.9, 110.9 (d, J = 5.1 Hz), 120.2 (q, J = 324.9 Hz), 120.3, 120.5, 121.4, 123.2, 124.3, 125.0, 125.1, 125.7, 127.2, 136.9, 137.9, 140.4; IR (KBr) 3434, 2946, 1585, 1466, 1357, 1211, 1102, 982 cm-1; MS (ESI, m/z) 415.1 [M+Na]+; HRMS cala’d for [C19H15F3N2O2S+Na]+: 415.0704, Found: 415.0709; 収率81%.
【００５５】
【化２０】
2013170151.tif 000023
【００５６】
Compound ３ｂ: １，１´‐ジエチル‐３‐（トリフルオロメタンスルホニル）‐１Ｈ，１´Ｈ‐２，２´‐ビインドリル
mp = 180-182 ℃; 1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 1.26-1.40 (m, 6H), 3.96 (ddd, J = 28.8 Hz, J = 14.7 Hz, J = 7.5 Hz, 2H), 3.96 (ddd, J = 28.8 Hz, J = 14.4 Hz, J = 7.5 Hz, 2H), 6.69 (s, 1H), 7.20 (t, J = 8.1 Hz, 1H), 7.33 (t, J = 8.1 Hz, 1H), 7.43-7.56 (m, 4H), 7.71 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 8.15 (dd, J = 7.2 Hz, J = 2.7 Hz, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282.3 MHz) δ -80.0 (s, 3F); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 15.0, 15.2, 39.6, 40.2, 104.6, 106.5, 110.3, 111.2, 120.2, 120.2 (q, J = 325.6 Hz), 120.8, 121.6, 123.1, 124.1, 124.4, 125.0, 126.0, 127.6, 135.8, 136.7, 140.0; IR (KBr) 2987, 1587, 1435, 1362, 1209, 1109, 1001, 821 cm-1; MS (ESI, m/z) 443.0 [M+Na]+; HRMS cala’d for [C21H19F3N2O2S+Na]+: 443.1017, Found: 443.1012; 収率76%.
【００５７】
【化２１】
2013170151.tif 000024
【００５８】
Compound ３ｃ: １，１´‐ジベンジル‐５，５´‐ジメトキシ‐３‐（トリフルオロメタンスルホニル）‐１Ｈ，１´Ｈ‐２，２´‐ビインドリル
mp = 176-178 ℃; 1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 3.84 (s, 3H), 3.91 (s, 3H), 4.34 (d, J = 16.2 Hz, 1H), 4.64 (d, J = 16.2 Hz, 1H), 5.06 (d, J = 16.2 Hz, 1H), 5.38 (d, J = 16.2 Hz, 1H), 6.59 (s, 1H), 6.75-6.82 (m, 4H), 6.90-6.98 (m, 3H), 7.06-7.12 (m, 3H), 7.16-7.31 (m, 5H), 7.56 (d, J = 1.5 Hz, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282.3 MHz) δ -79.8 (s, 3F); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 48.2, 48.4, 55.7, 55.8, 101.2, 102.3, 103.8, 106.9, 111.4, 113.0, 114.5, 116.2, 120.3 (q, J = 325.9 Hz), 125.0, 125.8, 126.8, 127.1, 127.4, 127.6, 127.9, 128.5, 128.9, 130.9, 133.1, 135.2, 137.1, 140.1, 154.5, 157.2; IR (KBr) 3433, 2950, 1623, 1452, 1357, 1222, 1027, 798 cm-1; MS (ESI, m/z) 627.0 [M+Na]+; HRMS cala’d for [C33H27F3N2O4S+Na]+: 627.1541, Found: 627.1543.; 収率51%.
【００５９】
【化２２】
2013170151.tif 000025
【００６０】
Compound ３ｄ: １，１´，７，７´‐テトラメチル‐３‐（トリフルオロメタンスルホニル）‐１Ｈ，１´Ｈ‐２，２´‐ビインドリル
mp = 233-235 ℃; 1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 2.82 (s, 3H), 2.85 (s, 3H), 3.82 (s, 3H), 3.84 (s, 3H), 6.66 (s, 1H), 7.02-7.05 (m, 2H), 7.19 (d, J = 7.2 Hz, 1H), 7.31 (d, J = 7.5 Hz, 1H), 7.51 (d, J = 6.6 Hz, 1H), 8.00 (d, J = 8.1 Hz, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282.3 MHz) δ -80.0 (s, 3F); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 20.0, 20.2, 34.2, 34.8, 105.0, 107.3, 118.6, 119.6, 120.2 (q, J = 325.6 Hz), 120.4, 121.6, 122.6, 124.1, 126.0, 126.1, 126.5, 128.0, 128.2, 136.0, 136.9, 141.4; IR (KBr) 3433, 2935, 1591, 1450, 1354, 1213, 1108, 814 cm-1; MS (ESI, m/z) 443.0 [M+Na]+; HRMS cala’d for [C21H19F3N2O2S+Na]+: 443.1017, Found: 443.1012; 収率57%.