(57)【要約】【課題】マスクのパターンを基板に投影する投影光学系を構成するのに有利な技術を提供する。【解決手段】露光装置であって、円弧状の照明領域を形成し、マスクのパターンを基板に投影する投影光学系を有し、前記投影光学系は、第１反射面と第１裏面とを含む第１凹面ミラーを有する第１光学系と、第２反射面と第２裏面とを含む第２凹面ミラーを有する第２光学系と、を含み、前記第１凹面ミラー及び前記第２凹面ミラーは、前記投影光学系の物体面から前記投影光学系の像面に向かう第１方向に、前記第１裏面と前記第２裏面とが対向するように配置され、前記第１光学系は、前記第１方向に直交する第２方向における前記第１凹面ミラーより外側の位置であって、前記第１方向における前記第１裏面と前記第２裏面との間に、前記投影光学系の物体面の結像面が形成されるように構成され、前記第２光学系は、前記結像面を前記第２光学系の物体面として、前記投影光学系の前記像面が形成されるように構成されていることを特徴とする露光装置を提供する。【選択図】図１
2013182946.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光装置であって、
円弧状の照明領域を形成し、マスクのパターンを基板に投影する投影光学系を有し、
前記投影光学系は、第１反射面と第１裏面とを含む第１凹面ミラーを有する第１光学系と、第２反射面と第２裏面とを含む第２凹面ミラーを有する第２光学系と、を含み、
前記第１凹面ミラー及び前記第２凹面ミラーは、前記投影光学系の物体面から前記投影光学系の像面に向かう第１方向に、前記第１裏面と前記第２裏面とが対向するように配置され、
前記第１光学系は、前記第１方向に直交する第２方向における前記第１凹面ミラーより外側の位置であって、前記第１方向における前記第１裏面と前記第２裏面との間に、前記投影光学系の物体面の結像面が形成されるように構成され、
前記第２光学系は、前記結像面を前記第２光学系の物体面として、前記投影光学系の前記像面が形成されるように構成されていることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記第１光学系は、前記第１凹面ミラーで反射された光を順に反射して前記結像面に導くための第１平面ミラー及び第２平面ミラーを含み、
前記第２光学系は、前記結像面からの光を順に反射して前記第２凹面ミラーに導くための第３平面ミラー及び第４平面ミラーを含むことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記第１凹面ミラーの光軸と前記第１平面ミラーの法線とのなす角は、４５度以下であり、
前記第１凹面ミラーの光軸と前記第２平面ミラーの法線とのなす角は、４５度以上であり、
前記第２凹面ミラーの光軸と前記第３平面ミラーの法線とのなす角は、４５度以上であり、
前記第２凹面ミラーの光軸と前記第４平面ミラーの法線とのなす角は、４５度以下であることを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記第１凹面ミラーの光軸と前記第２凹面ミラーの光軸とは一致することを特徴とする請求項３に記載の露光装置。
【請求項５】
前記第１光学系は、拡大光学系であり、
前記第２光学系は、縮小光学系であることを特徴とする請求項１乃至４のうちいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項６】
前記投影光学系の物体面からの光は、前記第１光学系において、前記第１凹面ミラーに最初に入射することを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項７】
円弧状の照明領域を形成する投影光学系であって、
第１反射面と第１裏面とを含む第１凹面ミラーを有する第１光学系と、
第２反射面と第２裏面とを含む第２凹面ミラーを有する第２光学系と、を含み、
前記第１凹面ミラー及び前記第２凹面ミラーは、前記投影光学系の物体面から前記投影光学系の像面に向かう第１方向に、前記第１裏面と前記第２裏面とが対向するように配置され、
前記第１光学系は、前記第１方向に直交する第２方向における前記第１凹面ミラーより外側の位置であって、前記第１方向における前記第１裏面と前記第２裏面との間に、前記投影光学系の物体面の結像面が形成されるように構成され、
前記第２光学系は、前記結像面を前記第２光学系の物体面として、前記投影光学系の前記像面が形成されるように構成されていることを特徴とする投影光学系。
【請求項８】
請求項１乃至６のうちいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光するステップと、
露光した前記基板を現像するステップと、
を有することを特徴とするデバイスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置、投影光学系及びデバイスの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
フォトリソグラフィ技術を用いて、半導体デバイス、液晶表示デバイス、フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）などを製造する際に、露光装置が使用されている。露光装置は、マスク又はレチクルなどの原版に形成されたパターンを、投影光学系を介して、基板（レジスト（感光剤）が塗布されたガラスプレートやシリコンウエハ）に投影してパターンを転写する。例えば、液晶表示デバイスやＦＰＤの製造に使用される露光装置では、半円弧状の断面を有する照明光でマスクが照明され、反射屈折光学系（ミラープロジェクション方式の光学系）を投影光学系として用いている（特許文献１参照）。
【０００３】
また、近年のＦＰＤの大型化及び低価格化に対応するために、露光装置には、一回の走査露光で露光可能な面積の拡大や単位時間当たりに露光可能な基板の枚数（スループット）の向上への要求が高くなってきている。そこで、露光装置では、露光領域（の幅）の拡大、マスクのサイズ（走査方向のサイズ）の拡大、基板のサイズの拡大、走査速度の高速化などが図られている。例えば、露光領域を拡大するための技術として、複数の投影光学系を用いる、所謂、つなぎ露光が知られている。つなぎ露光は、複数の投影光学系のそれぞれが規定する露光領域を、隣接する露光領域の一部が走査方向に直交する方向おいて重なるように配置することで、少なくとも、単体の投影光学系に対応する露光領域（の幅）の約２倍以上の露光領域を得ることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特公平５−３３３６９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、つなぎ露光では、基板に良好にパターンを転写するためには、露光領域の一部が重なる領域において、隣接する投影光学系が形成する像の位置合わせを高精度に行わなければならない。従って、複数の投影光学系のそれぞれに、投影光学系のフォーカス位置や投影光学系が形成する像のシフト及び回転を補正するための補正光学系を組み込む必要がある。また、このような補正光学系は、組み込み機構や駆動機構の配置の容易さやメンテナンス時の作業の容易さを考慮して、投影光学系の物体面の直下の空間、或いは、投影光学系の最終光学素子の基板側の面から像面との間の空間に配置することが好ましい。但し、従来の反射屈折光学系をつなぎ露光に適用すると、投影光学系の物体面の直下の空間や投影光学系の最終光学素子の基板側の面から像面との間の空間が狭いため、補正光学系を組み込むことが困難となっている。
【０００６】
本発明は、このような従来技術の課題に鑑みてなされ、マスクのパターンを基板に投影する投影光学系を構成するのに有利な技術を提供することを例示的目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての露光装置は、露光装置であって、円弧状の照明領域を形成し、マスクのパターンを基板に投影する投影光学系を有し、前記投影光学系は、第１反射面と第１裏面とを含む第１凹面ミラーを有する第１光学系と、第２反射面と第２裏面とを含む第２凹面ミラーを有する第２光学系と、を含み、前記第１凹面ミラー及び前記第２凹面ミラーは、前記投影光学系の物体面から前記投影光学系の像面に向かう第１方向に、前記第１裏面と前記第２裏面とが対向するように配置され、前記第１光学系は、前記第１方向に直交する第２方向における前記第１凹面ミラーより外側の位置であって、前記第１方向における前記第１裏面と前記第２裏面との間に、前記投影光学系の物体面の結像面が形成されるように構成され、前記第２光学系は、前記結像面を前記第２光学系の物体面として、前記投影光学系の前記像面が形成されるように構成されていることを特徴とする。
【０００８】
本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される好ましい実施形態によって明らかにされるであろう。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、例えば、マスクのパターンを基板に投影する投影光学系を構成するのに有利な技術を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の一側面としての露光装置の構成を示す概略図である。
【図２】図１に示す露光装置において、複数の投影光学系の配置の一例を示す概略斜視図である。
【図３】図１に示す露光装置において、複数の投影光学系のそれぞれが規定する露光領域の位置関係を示す図である。
【図４】図１に示す露光装置の投影光学系の構成の一例を示す図である。
【図５】図１に示す露光装置の投影光学系の構成の一例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施の形態について説明する。なお、各図において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。
【００１２】
図１は、本発明の一側面としての露光装置１の構成を示す概略図である。露光装置１は、ステップ・アンド・スキャン方式でマスクのパターンを基板に転写する走査型の露光装置（スキャナー）である。露光装置１は、照明光学系２０と、マスク３０を保持して移動するマスクステージ（不図示）と、投影光学系４０と、基板５０を保持して移動する基板ステージ（不図示）とを有する。また、図１では、投影光学系４０が１つしか図示されていないが、露光装置１は、実際には、複数の投影光学系４０を有し、つなぎ露光を実現して露光領域の拡大を図っている。
【００１３】
照明光学系２０は、光源部１０からの光を用いてマスク３０を照明する光学系である。照明光学系２０は、例えば、第１コンデンサーレンズ２０２と、オプティカルインテグレータ２０４と、第２コンデンサーレンズ２０６と、スリット部材２０８と、結像光学系２１０と、平面ミラー２１２とを含む。また、光源部１０は、例えば、水銀ランプ１０２と、楕円ミラー１０４とを含む。
【００１４】
第１コンデンサーレンズ２０２は、光源部１０からの光を平行光に変換する。オプティカルインテグレータ２０４は、例えば、複数の微小なレンズを含むハエの目レンズで構成され、射出面近傍に２次光源を形成する。オプティカルインテグレータ２０４の射出面近傍に形成された２次光源からの光は、第２コンデンサーレンズ２０６を介して、スリット部材２０８を照明する。スリット部材２０８は、マスク３０を照明する範囲（即ち、照明領域）を規定する。結像光学系２１０は、スリット部材２０８で規定されるスリットを投影光学系４０の物体面ＯＰに結像する。平面ミラー２１２は、照明光学系２０において光路を折り曲げる。
【００１５】
マスク３０は、基板５０に転写すべきパターン（回路パターン）を有する。マスク３０は、マスクステージに支持されて投影光学系４０の物体面に配置される。マスク３０（のパターン）で回折された回折光は、投影光学系４０を介して、基板５０に投影される。露光装置１は、走査型の露光装置であるため、マスク３０と基板５０とを走査することによって、マスク３０のパターンを基板５０に転写する。
【００１６】
投影光学系４０は、マスク３０のパターンを基板５０に投影する光学系である。投影光学系４０は、本実施形態では、円弧状の結像領域を投影光学系の軸外に形成する。換言すれば、投影光学系４０は、基板５０の上に円弧状の露光領域を規定する。
【００１７】
上述したように、露光装置１は、つなぎ露光を実現するために、複数の投影光学系４０を有する。また、複数の投影光学系４０は、図２及び図３に示すように、各投影光学系４０が規定する複数の露光領域のうち隣接する露光領域の一部が走査方向に直交する方向において重なるように、即ち、重なり領域を形成するように配置されている。これにより、単体の投影光学系が規定する露光領域（の幅）の約２倍以上の露光領域を得ることができる。なお、図３では、３つの露光領域をつないでいる（即ち、３つの投影光学系４０を用いている）が、つなぎ露光を実現するためにつなぐ露光領域の数は３つに限定されるものではなく、２つ以上の任意の数の露光領域をつなぐことが可能である。ここで、図２は、複数の投影光学系４０の配置の一例を示す概略斜視図であり、図３は、複数の投影光学系４０のそれぞれが規定する露光領域の位置関係を示す図である。
【００１８】
また、つなぎ露光を実現するためには、複数の投影光学系４０のそれぞれが規定する露光領域に関して、物体と像とが走査方向に直交する方向において連続性を維持するために、隣接する露光領域の物体と像とが走査方向に対して左右が正立する必要がある。これを実現するための投影光学系４０として、例えば、図４に示すような構成が考えられる。
【００１９】
図４に示す投影光学系４０は、例えば、第１光学系４００Ａと、第２光学系４００Ｂとを有する。図４に示す投影光学系４０は、第１光学系４００Ａと第２光学系４００Ｂとを第１光学系４００Ａの像面ＩＰＡと第２光学系４００Ｂの物体面ＯＰＢとが一致するように配置した２回結像光学系である。
【００２０】
第１光学系４００Ａは、平面ミラー４０１Ａと、凹面ミラー４０２Ａと、凸面ミラー４０３Ａと、平面ミラー４０４Ａとを含む。第１光学系４００Ａの物体面（マスク３０が配置される面）ＯＰＡからの光は、平面ミラー４０１Ａ、凹面ミラー４０２Ａ、凸面ミラー４０３Ａ、凹面ミラー４０２Ａ、平面ミラー４０４Ａの順に反射されて第１光学系４００Ａの像面ＩＰＡに導かれる。
【００２１】
第２光学系４００Ｂは、平面ミラー４０１Ｂと、凹面ミラー４０２Ｂと、凸面ミラー４０３Ｂと、平面ミラー４０４Ｂとを含む。第２光学系４００Ｂの物体面ＯＰＢからの光は、平面ミラー４０１Ｂ、凹面ミラー４０２Ｂ、凸面ミラー４０３Ｂ、凹面ミラー４０２Ｂ、平面ミラー４０４Ｂの順に反射されて第２光学系４００Ｂの像面（基板５０が配置される面）ＩＰＢに導かれる。
【００２２】
上述したように、つなぎ露光では、投影光学系４０に、投影光学系４０のフォーカス位置や投影光学系４０が形成する像のシフト及び回転を補正するための補正光学系を組み込む必要がある。また、このような補正光学系は、組み込み機構や駆動機構の配置の容易さやメンテナンス時の作業の容易さを考慮すると、第１光学系４００Ａの物体面ＯＰＡの直下の空間、又は、第２光学系４００Ｂの像面ＩＰＢの直上の空間に配置するとよい。但し、図４に示す投影光学系４０では、第１光学系４００Ａの物体面ＯＰＡと凹面ミラー４０２Ａの上端との間隔Ｓ１、及び、凹面ミラー４０２Ｂの下端と第２光学系４００Ｂの物体面ＯＰＢとの間隔Ｓ２が狭くなる傾向にある。従って、第１光学系４００Ａの物体面ＯＰＡの直下の空間や第２光学系４００Ｂの像面ＩＰＢの直上の空間が不足し、補正光学系を配置できなくなる可能性がある。
【００２３】
そこで、補正光学系を容易に組み込むことが可能な投影光学系４０として、例えば、図１に示すような構成を提案する。図１に示す投影光学系４０は、第１光学系４００Ｃと、第２光学系４００Ｄとを有する。図１に示す投影光学系４０は、第１光学系４００Ｃと第２光学系４００Ｄとを第１光学系４００Ｃの像面ＩＰＣと第２光学系４００Ｄの物体面ＯＰＤとが一致するように配置した２回結像光学系である。
【００２４】
第１光学系４００Ｃは、第１反射面４１２と第１反射面４１２の反対側の第１裏面４１４とを含む第１凹面ミラー４１０と、第１凸面ミラー４２０と、第１平面ミラー４３０と、第２平面ミラー４４０とを含む。第１光学系４００Ｃの物体面（マスク３０が配置される面）ＯＰＣからの光は、第１凹面ミラー４１０、第１凸面ミラー４２０、第１凹面ミラー４１０、第１平面ミラー４３０、第２平面ミラー４４０の順に反射されて第１光学系４００Ｃの像面ＩＰＣに導かれる。このように、第１光学系４００Ｃの物体面ＯＰＣからの光は、第１凹面ミラー４１０に最初に入射する。また、第１平面ミラー４３０及び第２平面ミラー４４０は、第１凹面ミラー４１０で反射された光を順に反射して像面ＩＰＣ（結像面）に導くためのミラーである。図１に示す投影光学系４０において、第１光学系４００Ｃの像面ＩＰＣは、マスク３０のパターンの像が形成される中間結像面でもある。
【００２５】
第２光学系４００Ｄは、第３平面ミラー４５０と、第４平面ミラー４６０と、第２反射面４７２と第２反射面４７２の反対側の第２裏面４７４とを含む第２凹面ミラー４７０と、第２凸面ミラー４８０とを含む。第２光学系４００Ｄの物体面ＯＰＤからの光は、第３平面ミラー４５０、第４平面ミラー４６０、第２凹面ミラー４７０、第２凸面ミラー４８０、第２凹面ミラー４７０の順に反射されて第２光学系４００Ｄの像面（基板５０が配置される面）ＩＰＤに導かれる。第３平面ミラー４５０及び第４平面ミラー４６０は、物体面ＯＰＤ（結像面）からの光を順に反射して第２凹面ミラー４７０に導くためのミラーである。また、図１に示す投影光学系４０において、第２光学系４００Ｄの像面ＩＰＤには、マスク３０のパターンが投影（結像）され、基板５０が露光される。
【００２６】
第１凹面ミラー４１０及び第２凹面ミラー４７０は、投影光学系４０の物体面（物体面ＯＰＣ）から像面（像面ＩＰＤ）に向かう第１方向に沿って、第１反射面４１２、第１裏面４１４、第２裏面４７４及び第２反射面４７２の順となるように配置される。換言すれば、第１凹面ミラー４１０及び第２凹面ミラー４７０は、第１凹面ミラー４１０の第１裏面４１４と第２凹面ミラー４７０の第２裏面４７４とが対向する（向かい合う）ように配置される。
【００２７】
また、第１光学系４００Ｃは、第２方向において第１凹面ミラー４１０の外側の領域（位置）であって、第１方向において第１裏面４１４の最も第２光学系側の位置に接する平面Ｐ１よりも第２光学系側の領域に像面ＩＰＣが形成されるように構成される。なお、第２方向とは、第１方向に直交する方向である。第２光学系４００Ｄは、第２方向において第２凹面ミラー４７０の外側の領域（位置）であって、第１方向において第２裏面４７４の最も第１光学系側の位置に接する平面Ｐ２よりも第１光学系側の領域に物体面ＯＰＤが形成されるように構成される。本実施形態では、投影光学系の物体面から像面に向かう第１方向において、物体面ＯＰＣ及び物体面ＯＰＤは、第１裏面４１４と第２裏面４７４との間に形成されている。
【００２８】
第１光学系４００Ｃにおいて、第１凹面ミラー４１０の光軸ＡＸ１と第１平面ミラー４３０の法線ＮＬ１とのなす角θ１は４５度以下であり、第１凹面ミラー４１０の光軸ＡＸ１と第２平面ミラー４４０の法線ＮＬ２とのなす角θ２は４５度以上である。同様に、第２光学系４００Ｄにおいて、第２凹面ミラー４７０の光軸ＡＸ２と第３平面ミラー４５０の法線ＮＬ３とのなす角θ３は４５度以上であり、第２凹面ミラー４７０の光軸ＡＸ２と第４平面ミラー４６０の法線ＮＬ４とのなす角θ４は４５度以上である。また、本実施形態では、第１凹面ミラー４１０の光軸ＡＸ１（第１光学系の軸）と第２凹面ミラー４７０の光軸ＡＸ２（第２光学系の軸）とが一致する。
【００２９】
図１に示す投影光学系４０では、第１光学系４００Ｃの物体面ＯＰＣの直下の空間、即ち、物体面ＯＰＣと第１凸面ミラー４２０の裏面との間隔Ｓ１を十分に確保することができる。同様に、第２光学系４００Ｄの像面ＩＰＤの直上の空間、即ち、像面ＩＰＤと第２凸面ミラー４８０の裏面との間隔Ｓ２を十分に確保することができる。従って、図１に示す投影光学系４０では、第１光学系４００Ｃの物体面ＯＰＣの直下の空間や第２光学系４００Ｄの像面ＩＰＤの直上の空間に補正光学系を配置することが可能となる。なお、図４に示す投影光学系４０では、平面ミラー４０１Ａ及び４０４Ｂの位置を第１方向に沿って変更させても、凹面ミラー４０２Ａ及び４０２Ｂ（の半径）によって、補正光学系を配置するための空間を十分に確保できるとは限らない。
【００３０】
また、図１に示す投影光学系４０では、第１凹面ミラー４１０と第２凹面ミラー４７０とを近接させて配置することができる。更には、第１凹面ミラー４１０の第１裏面４１４と第２凹面ミラー４７０の第２裏面４７４とを一体化させて、第１凹面ミラー４１０と第２凹面ミラー４７０とを１つの反射部材で構成することも可能である。このような場合、物体面ＯＰＣ及び物体面ＯＰＤは、第１方向において、第１反射面４１２と第２反射面４７２との間に形成される。また、このような場合にも、第１凹面ミラー４１０の第１裏面と第２凹面ミラー４７０の第２裏面とは対向して配置されているものとする。従って、図１に示す投影光学系４０は、図４に示す投影光学系４０と比較して、コストの削減や空間の有効利用も可能となる点で有利である。
【００３１】
また、図５に示すように、第１光学系４００Ｃを拡大光学系、第２光学系４００Ｄを縮小光学系で構成して、投影光学系４０の全体として、マスク３０のパターンを等倍で基板５０に投影（結像）するようにしてもよい。図５に示す投影光学系４０において、中間結像面（第１光学系４００Ｃの像面ＩＰＣ及び第２光学系４００Ｄの物体面ＯＰＤ）における開口数を図１に示す投影光学系４０と同じにすることを考える。この場合、図５に示す投影光学系４０では、第１光学系４００Ｃ及び第２光学系４００Ｄのそれぞれを拡大光学系及び縮小光学系で構成しているため、マスク３０が配置される物体面及び基板５０が配置される像面における開口数を大きくすることができる。従って、図５に示す投影光学系４０は、マスク３０のパターンを基板５０に投影する際に、より高精細なパターンの像を得ることができる。
【００３２】
図５に示すように、第１凹面ミラー４１０及び第２凹面ミラー４７０のそれぞれは、２つに分割されている。このような場合にも、第１凹面ミラー４１０の第１裏面４１４と第２凹面ミラー４７０の第２裏面４７４とが対向するように配置されているものとする。第１凹面ミラー４１０及び第２凹面ミラー４７０のそれぞれが２つに分割されているため、第１裏面４１４Ｌと第２裏面４７４Ｒとは必ずしも対向しておらず、同様に、第１裏面４１４Ｒと第２裏面４７４Ｌとは必ずしも対向していない。但し、第１凹面ミラー４１０の裏面と第２凹面ミラー４７０の裏面との少なくとも一部が対向するように配置されていればよい。
【００３３】
例えば、図４に示す投影光学系４０では、物体面及び像面における開口数を大きくすると、凹面ミラー４０２Ａ及び４０２Ｂの有効径が大きくなるため、凹面ミラー４０２Ｂの下端と第２光学系４００Ｂの物体面ＯＰＢとの間隔Ｓ２が狭くなる。一方、図５に示す投影光学系４０では、物体面及び像面における開口数を図１に示す投影光学系４０と同じにすると、中間結像面の近傍を通過する光の径が小さくなる。従って、第１平面ミラー４３０、第２平面ミラー４４０、第３平面ミラー４５０及び第４平面ミラー４６０の配置の自由度を向上させることができる。
【００３４】
本実施形態の投影光学系４０は、上述したような構成によって、第１光学系４００Ｃの物体面ＯＰＣの直下の空間や第２光学系４００Ｄの像面ＩＰＤの直上の空間に補正光学系を配置することが可能となり、優れた光学性能を実現することができる。
【００３５】
基板５０は、マスク３０のパターンが転写される基板である。基板５０は、基板ステージに支持されて投影光学系４０の像面に配置される。基板５０は、例えば、ガラスプレートやシリコン基板などを含む。基板５０には、フォトレジストが塗布されている。
【００３６】
露光において、光源部１０からの光は、照明光学系２０によってマスク３０を照明する。マスク３０のパターンを反映する光は、投影光学系４０によって基板５０に結像する。この際、露光装置１は、上述したように、複数の投影光学系４０を有しているため、つなぎ露光を実現することが可能であり、単位時間当たりの露光可能面積を大幅に拡大することができる。また、投影光学系４０は、投影光学系４０が形成する像のシフト及び回転を補正するための補正光学系を組み込むことが可能であるため、つなぎ露光においても優れた光学性能を実現することができる。従って、露光装置１は、高いスループットで経済性よく高品位なデバイス（半導体デバイス、液晶表示デバイス、フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）など）を提供することができる。かかるデバイスは、露光装置を用いてフォトレジスト（感光剤）が塗布された基板（ウエハ、ガラスプレート等）を露光する工程と、露光された基板を現像する工程と、その他の周知の工程と、を経ることによって製造される。
【００３７】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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