(57)【要約】  【課題】厳密な膜厚制御をせずに、界面反射による再生光または記録光の干渉を抑制することができる光情報記録媒体を提供する。  【解決手段】光情報記録媒体は、積層された複数の樹脂層を備える。樹脂層間の界面のうちの少なくとも一つは、樹脂層の厚さ方向に徐々に変化する屈折率を有している。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
積層された複数の樹脂層を備え、
上記樹脂層間の界面のうちの少なくとも一つは、上記樹脂層の厚さ方向に徐々に変化する屈折率を有している光情報記録媒体。
【請求項２】
上記屈折率の変化が連続的な変化である請求項１に記載の光情報記録媒体。
【請求項３】
上記複数の樹脂層は、交互に設けられた複数の中間層および記録層である請求項１に記載の光情報記録媒体。
【請求項４】
上記記録層の両側に設けられた界面のうち、一方の界面の屈折率の変化は連続的であるのに対して、他方の界面の屈折率の変化は不連続的である請求項３に記載の光情報記録媒体。
【請求項５】
上記他方の界面は、記録マークを形成可能に構成されている請求項３に記載の光情報記録媒体。
【請求項６】
上記記録層の平均厚さは、３０ｎｍ以上５μｍ以下の範囲内である請求項３に記載の光情報記録媒体。
【請求項７】
屈折率が徐々に変化する上記界面を形成する２つの樹脂層は、当該界面において相溶している請求項１に記載の光情報記録媒体。
【請求項８】
上記樹脂層は、紫外線硬化樹脂または熱硬化性樹脂を主成分としている請求項１に記載の光情報記録媒体。
【請求項９】
上記樹脂層間の界面は、記録マークを形成可能に構成されている請求項１に記載の光情報記録媒体。
【請求項１０】
積層された複数の樹脂層を備え、
上記複数の樹脂層の界面に記録マークを形成可能な構成を有し、
上記樹脂層間の界面のうちの少なくとも一つは、上記樹脂層の厚さ方向に徐々に変化する屈折率を有する光情報記録媒体用積層体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本技術は、光情報記録媒体およびそれに用いる光情報記録媒体用積層体に関する。詳しくは、光の照射により記録マークを形成可能な光情報記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、光情報記録媒体としては、ＣＤ（Compact Disc）、ＤＶＤ（Digital Versatile Disc）およびＢｌｕ−ｒａｙ Ｄｉｓｃ（登録商標）などが広く普及している。しかし、近年では、テレビのハイビジョン化やＰＣ（Personal Computer）で取り扱うデータの急激な増大に伴い、光情報記録媒体の更なる大容量化が求められている。
【０００３】
そこで、光情報記録媒体を大容量化する方法の一つとして、光情報記録媒体の厚み方向に３次元的に情報を記録する方法が提案されている。このような方法を採用した光情報記録媒体として、記録層中に光子吸収によって発泡する記録材料を含有させておき、光ビームを照射することによりボイド（空孔）としての記録マークを形成する方式（以下、「ボイド記録方式」という。）のものがある（例えば特許文献１参照）。
【０００４】
しかしながら、ボイド記録方式は、上述のようにボイドを記録マークとして形成する方式であるため、情報信号の記録には非常に高いレーザパワーが必要になる。そこで、情報信号の記録に必要なレーザパワーを低減すべく、積層した複数の樹脂層間の界面に記録マークを形成する方式（以下、「界面記録方式」という。）が提案されている（例えば特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００８−１７６９０２号公報
【０００６】
【特許文献２】特開２０１１−８６３２７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上述の界面記録方式では、樹脂層の厚さが波長程度の厚さであると、樹脂層の上側（入射側）の界面で反射された再生光または記録光と、下側（裏側）の界面で反射された再生光または記録光との干渉の影響が顕著となる。これはレンズによる収束・発散光においては各界面からそれぞれの反射光の光路差が小さいほど干渉の影響が大きいことに由来する。このような干渉の影響を抑制するためには、厳密な樹脂層の膜厚制御が必要になる。厳密な膜厚制御は樹脂層形成に高い技術が必要となり形成コストの増加につながる。
【０００８】
したがって、本技術の目的は、厳密な膜厚制御をせずとも、近接する２つ以上の界面反射による再生光または記録光の干渉を抑制することができる光情報記録媒体およびそれを用いる光情報記録媒体用積層体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上述の課題を解決するために、第１の技術は、
積層された複数の樹脂層を備え、
樹脂層間の界面のうちの少なくとも一つは、樹脂層の厚さ方向に徐々に変化する屈折率を有している光情報記録媒体である。
【００１０】
第２の技術は、
積層された複数の樹脂層を備え、
複数の樹脂層の界面に情報マークを形成可能な構成を有し、
樹脂層間の界面のうちの少なくとも一つは、樹脂層の厚さ方向に徐々に変化する屈折率を有する光情報記録媒体用積層体である。
【００１１】
本技術では、樹脂層の厚さ方向に徐々に変化する屈折率を有する界面では、再生光または記録光の反射を抑制することができる。したがって、樹脂層の膜厚を制御せずとも、界面反射による再生光または記録光の干渉を抑制することができる。
【発明の効果】
【００１２】
以上説明したように、本技術によれば、厳密な膜厚制御をせずに、界面反射による再生光または記録光の干渉を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】図１は、本技術の第１の実施形態に係る光情報記録媒体の一構成例を示す概略断面図である。
【図２】図２は、バルク層の一構成例を示す概略断面図である。
【図３】図３Ａ〜図３Ｃは、本技術の第１の実施形態に係る光情報記録媒体の製造方法の一例を説明するための工程図である。
【図４】図４Ａ〜図４Ｃは、本技術の第１の実施形態に係る光情報記録媒体の製造方法の一例を説明するための工程図である。
【図５】図５は、本技術の第１の実施形態に係る光情報記録媒体の他の構成例を示す概略断面図である。
【図６】図６Ａ〜図６Ｃは、本技術の第２の実施形態に係る光情報記録媒体の製造方法の一例を説明するための工程図である。
【図７】図７は、バルク層の形成方法の一例を説明するための略線図である。
【図８】図８は、試験例１のシミュレーションのモデルを示す図である。
【図９】図９Ａ〜図９Ｃは、試験例２−１〜２−３のシミュレーションのモデルを示す図である。
【図１０】図１０Ａ〜図１０Ｃは、試験例３−１〜３−３のシミュレーションのモデルを示す図である。
【図１１】図１１Ａ〜図１１Ｃは、試験例４−１〜４−３のシミュレーションのモデルを示す図である。
【図１２】図１２Ａ〜図１２Ｄは、試験例５−１〜５−４のシミュレーションのモデルを示す図である。
【図１３】図１３Ａ〜図１３Ｄは、試験例５−５のシミュレーションのモデルを示す図である。
【図１４】図１４Ａ〜図１４Ｄは、本技術の第３の実施形態に係る光情報記録媒体の製造方法の一例を説明するための工程図である。
【図１５】図１５Ａ〜図１５Ｃは、本技術の第３の実施形態に係る光情報記録媒体の製造方法の一例を説明するための工程図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本技術の実施形態について図面を参照しながら以下の順序で説明する。
１．第１の実施形態（界面に情報信号を記録する光情報記録媒体の例）
２．第２の実施形態（ロール・ツー・ロール方式を用いた製造方法の例）
３．第３の実施形態（紫外線照射を用いた製造方法の例）
【００１５】
＜１．第１の実施形態＞
［光情報記録媒体の構成］
図１は、本技術の第１の実施形態に係る光情報記録媒体の一構成例を示す概略断面図である。光情報記録媒体１０は、図１に示すように、バルク層１と、バルク層１上設けられた選択反射層２と、選択反射層２上に設けられたカバー層３とを備える。光情報記録媒体１０が、カバー層３とは反対側の面に基板４をさらに備えるようにしてもよい。光情報記録媒体１０は、全体として略円板状の形状を有し、その中央部にはチャッキング用の開口部（以下センターホールと称する。）が設けられている。
【００１６】
この第１の実施形態に係る光情報記録媒体１０では、当該光情報記録媒体１０を回転駆動させるとともに、そのカバー層３側の表面からレーザ光をバルク層１内の界面Ｂに照射することにより、情報信号の記録または再生が行われる。以下では、レーザ光が入射される側の面を入射面と称し、それとは反対側の面を裏面と称する。
【００１７】
以下、光情報記録媒体１０を構成するカバー層３、選択反射層２、バルク層１および基板４について順次説明する。
【００１８】
（カバー層）
カバー層３は、透明性を有するものであればよく特に限定されるものではなく種々の材料を用いることができ、例えば、透明性を有するプラスチック材料などの有機材料、ガラスなどの無機材料を用いることができる。プラスチック材料としては、例えば、公知の高分子材料を用いることができる。公知の高分子材料としては、例えば、ポリカーボネート（ＰＣ）、アクリル樹脂（ＰＭＭＡ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリエステル（ＴＰＥＥ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリアミド（ＰＡ）、アラミド、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリアクリレート、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン（ＰＰ）、ジアセチルセルロース、ポリ塩化ビニル、エポキシ樹脂、尿素樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂などが挙げられる。無機材料としては、例えば、石英、サファイア、ガラスなどが挙げられる。
【００１９】
カバー層３は、例えば、中央にセンターホールが形成された略円板形状を有する。このカバー層３の一主面は、例えば、凹凸面となっており、この凹凸面上に選択反射層２が設けられている。凹凸面は、記録または再生位置を案内するための案内溝により形成されている。光情報記録媒体１０の一主面側から見たときの案内溝の全体形状としては、例えば、スパイラル状、同心円状などの各種形状が挙げられる。
【００２０】
案内溝としては、例えば、連続溝（グルーブ）、ピット列またはそれらの組合せを用いることができる。線速の安定化や位置情報（例えば回転角度情報や半径位置情報など）を付加するために案内溝を蛇行させるようにしてもよい。
【００２１】
（選択反射層）
選択反射層２は、カバー層３の凹凸面側に設けられている。この光情報記録媒体１０では、バルク層１に対してマーク記録を行うための記録光（第１レーザ光）とは別に、上記カバー層３の案内溝に基づきトラッキングやフォーカスのエラー信号を得るためのサーボ光（第２レーザ光）が選択反射層２に別途照射される。記録光の照射に際して、選択反射層が記録光を反射あるいは吸収してしまうとバルク層１内に達する記録光量が減衰し見かけの記録感度を低下させてしまう。このため、選択反射層２としては、サーボ光は反射し、記録光はほぼ全て透過するという選択性を有する反射層を用いることが好ましい。
【００２２】
この光情報記録媒体１０では、例えば、記録光とサーボ光としてはそれぞれ、波長の異なるレーザ光が用いられる。選択反射層２としては、例えば、サーボ光と同一の波長帯の光は反射するのに対して、それ以外の波長による光（例えば記録光）は透過するという、波長選択性を有する選択反射層が用いられる。
【００２３】
選択反射層２としては、例えば、屈折率の異なる低屈折率層および高屈折率層を交互に複数積層した積層膜を用いることができる。低屈折率層および高屈折率層としては、例えば、誘電体層を用いることができる。誘電体層の材料としては、例えば、窒化シリコン、酸化シリコン、酸化タンタル、酸化チタン、フッ化マグネシウム、酸化亜鉛などを用いることができる。
【００２４】
（バルク層）
バルク層１は、複数の樹脂層が積層された積層体（光情報記録媒体用積層体）であり、樹脂層間には界面が形成されている。バルク層１は、複数の樹脂層の界面に情報マークを形成可能な構成を有している。隣接する樹脂層同士は、例えば、互いに異なる屈折率を有している。樹脂層間の界面のうちの少なくとも一つは、樹脂層の厚さ方向に徐々に変化する屈折率を有している。この屈折率の変化は、再生光または記録光の反射率の低減および透過率の向上の観点からすると、連続的な変化であることが好ましく、界面を形成する一方の樹脂層の屈折率から他方の樹脂層の屈折率に傾斜する変化であることがより好ましい。
【００２５】
バルク層１内の複数の界面が、隣り合う２つの界面で１つの組を形成しているとみなした場合、１つの組を形成する界面のうち一方は、樹脂層の厚さ方向に連続的に変化する屈折率を有しているのに対して、他方は不連続的に変化していることが好ましい。これにより、１つの組を形成する界面による記録光または再生光の多重干渉を抑制することができる。上述の界面の構成を採用する場合、記録マークは、例えば、不連続的に変化している界面に形成される。
【００２６】
より具体的には、バルク層１は、図１に示すように、複数の樹脂層１１ａ、１１ｂが積層された積層体（光情報記録媒体用積層体）であり、積層する順に樹脂層１１ａ−１１ｂ間には界面Ｂ１が、同様に樹脂層１１ｂ−１１ａ間には界面Ｂ２がそれぞれ形成されている。バルク層１は、たとえば界面Ｂ１に情報マークを形成可能な構成を有している。隣接する樹脂層１１ａ、１１ｂ同士は、例えば、互いに異なる屈折率を有している。また例えば界面Ｂ１においては、樹脂層１１ａから１１ｂへ厚さ方向に徐々に変化する屈折率を有している。屈折率が徐々に変化するという状況は、再生光または記録光の反射率の低減および透過率の向上の観点からすると、連続的な変化であることが好ましく、界面を形成する一方の樹脂層１１ａの屈折率から他方の樹脂層１１ｂの屈折率に傾斜する変化であることがより好ましい。界面Ｂ１において屈折率が徐々に変化する遷移領域の幅は、１００ｎｍ程度以上、１μｍ程度以下であることが好ましい。
【００２７】
バルク層１内において樹脂層１１ａあるいは１１ｂの少なくとも一方の厚さが集光された記録光または再生光の波長において干渉し得るほどの薄さ（おおよそ５μｍ以下）である場合、界面Ｂ１が、樹脂層１１の厚さ方向に連続的に変化する屈折率を有しているのに対して、界面Ｂ２は不連続的に変化していることが好ましい。これにより、隣り合う界面Ｂ１と界面Ｂ２による記録光または再生光の多重干渉を抑制することができる。上述の界面Ｂの構成を採用する場合、記録マークは、例えば、不連続的に変化している界面Ｂ２に形成される。
【００２８】
屈折率が徐々に変化する界面を形成する２つの樹脂層１１ａおよび１１ｂは、当該界面において相溶していることが好ましい。この場合相溶とは、これら２つの樹脂層１１ａと１１ｂの材料組成が、１１ａから１１ｂへ向かう膜厚方向の１００ｎｍ程度以上の遷移領域において連続的に組成が変化していることを表す。これにより、樹脂層１１ａと１１ｂの界面において厚さ方向に屈折率を徐々に変化させることができる。
【００２９】
図２は、バルク層の構成の一例を示す断面図である。図２に示すように、バルク層１は、第１樹脂層である記録層１１ａと、第２樹脂層である中間層１１ｂとを交互に複数積層した積層体である。バルク層１は、記録層１１ａと中間層１１ｂとにより形成される複数の第１の界面Ｂ１および第２の界面Ｂ２を有している。第１の界面Ｂ１は、記録層１１ａとその入射面側の中間層１１ｂとにより形成される界面であり、第２の界面Ｂ２は、記録層１１ａとその裏面側の中間層１１ｂとにより形成される界面である。第１の界面Ｂ１および第２の界面Ｂ２のうち一方の界面の屈折率の変化は連続的であるのに対して、他方の界面の屈折率の変化は不連続的であることが好ましい。これにより、第１の界面Ｂ１および第２の界面Ｂ２による記録光または再生光の干渉の影響を抑制することができる。上述の第１の界面Ｂ１および第２の界面Ｂ２の構成を採用する場合、記録マークは、例えば、第１の界面Ｂ１および第２の界面Ｂ２のうち不連続的に変化する界面に形成される。
【００３０】
記録層１１ａの平均厚さは、好ましくは３０ｎｍ以上５μｍ以下、より好ましくは３０ｎｍ以上１μｍ以下の範囲内である。記録層１１ａの平均厚さが５μｍ以下、特に１μｍ以下であると、記録層１１ａの入射面側の界面Ｂ１と裏面側の界面Ｂ２との反射光の干渉の影響が無視できない程度とする傾向がある。一方、記録層１１ａの平均厚さが５μｍを超えると、記録層１１ａの入射面側の界面Ｂ１と裏面側の界面Ｂ２との反射光の干渉の影響が無視できる程度、すなわち、フォーカスエラー信号として分離し得る程度となる傾向がある。
【００３１】
例えば、波長４０５ｎｍの再生光を用い、記録層１１ａの屈折率を１．３〜１．８の範囲に設定した場合、干渉による光学的エンハンスメント効果によって見かけの反射光が極大となる膜厚は屈折率ｎ＝１．３では約８０ｎｍであり、屈折率ｎ＝１．８では約５５ｎｍとなる。そこで、屈折率ｎ＝１．８の場合の約半分の膜厚３０ｎｍより薄い厚さの薄膜では、表面と裏面の光学的な干渉を気にする必要がなく本発明のような施策を取る必要がない。したがって３０ｎｍを記録層１１ａの平均厚さの下限値としておけばよい。
【００３２】
記録層１１ａの平均厚さは第１の界面Ｂ１と第２の界面Ｂ２との間の平均距離となるが、これらの界面のうち一方の界面において、当該界面を形成する記録層１１ａおよび中間層１１ｂの材料が相溶している場合には、以下のようにして界面の位置を規定するものとする。すなわち、記録層１１ａの材料の組成をＡ、中間層の材料の組成をＢとした場合、組成Ｂが平均して９０ｍｏｌ％となる位置を界面の位置と規定するものとする。
【００３３】
記録層１１ａおよび中間層１１ｂの材料としては、例えば、互いに異なる屈折率を有する材料が用いられる。記録層１１ａおよび中間層１１ｂの材料としては、例えば、有機材料、有機無機複合材料を用いることができる。記録層１１ａおよび中間層１１ｂの少なくとも一方が、必要に応じて添加剤を含んでいてもよい。記録層１１ａおよび中間層１１ｂの少なくとも一方が添加剤を含む場合には、第１の界面Ｂ１または第２の界面Ｂ２において添加剤の濃度を変化させることにより、第１の界面Ｂ１または第２の界面Ｂ２における屈折率を徐々に変化させるようにしてもよい。
【００３４】
有機材料としては、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂およびエネルギー線硬化性樹脂などからなる群より選ばれる少なくとも１種を用いることができる。
【００３５】
熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン２，６−ナフタレート、ポリブチレンテレフタレートのような芳香族ポリエステルや、ポリエチレン、ポリプロピレンのようなポリオレフィンを用いることができる。或いは、ポリスチレンのようなポリビニル、ナイロン６６（ポリ(ヘキサメチレンジアミン-ｃｏ-アジピン酸)）のようなポリアミド、ビスフェノールＡポリカーボネートのような芳香族ポリカーボネートを用いることができる。また、ポリスルフォンなどの単独重合体やそれらの共重合体を主成分とする樹脂、フッ素樹脂などを用いることもできる。また、これら例示した樹脂の混合体を用いてもよい。
【００３６】
熱硬化性樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、エポキシ樹脂などを用いることができる。特に汎用性（例えば、光学設計や光吸収機能など）の点ではエポキシ基を末端に有する樹脂が好ましい。
【００３７】
エネルギー線硬化性樹脂は、エネルギー線を照射することによって硬化させることができる樹脂である。エネルギー線とは、電子線、紫外線、赤外線、レーザー光線、可視光線、電離放射線（Ｘ線、α線、β線、γ線など）、マイクロ波、高周波などのラジカル、カチオン、アニオンなどの重合反応の引き金と成りうるエネルギー線を示す。エネルギー線硬化性樹脂組成物は、有機無機複合材料であってもよい。また、２種以上のエネルギー線硬化性樹脂組成物を混合して用いるようにしてもよい。エネルギー線硬化性樹脂組成物としては、紫外線により硬化する紫外線硬化樹脂を用いることが好ましい。
【００３８】
紫外線硬化樹脂としては、例えば、１または２以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物を用いることができる。ここで、（メタ）アクリロイル基は、アクリロイル基またはメタアクリロイル基を意味する。紫外線硬化樹脂としては、具体的には例えば、東亞合成株式会社製のARONIXシリーズから、任意にモノマー量を調合した紫外線硬化樹脂を用いることができる。紫外線硬化樹脂の単官能モノマーとしては、例えば、大阪ガスケミカル社製のイソブチルアクリレート、t-ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレートなどを用いることができる。フッ素元素や硫黄元素を有することで表面性(表面張力)が異なる樹脂材料を用いた場合でも、第１の界面Ｂ１または第２の界面Ｂ２において樹脂材料を相溶させて、第１の界面Ｂ１または第２の界面Ｂ２付近の膜厚方向の遷移領域における屈折率を徐々に変化させることができる。
【００３９】
有機無機複合材料としては、例えば、有機材料と無機材料とをナノレベルで複合化したナノコンポジットを用いることができる。ナノコンポジット材料の組成を調製することにより第１の界面Ｂ１または第２の界面Ｂ２における屈折率を徐々に変化させるようにしてもよい。
【００４０】
上述の構成を有する光情報記録媒体１０では、以下のようにして情報信号が記録される。記録層１１ａがレーザ光を吸収すると、熱を発生し、その発熱を利用して自身が変形（例えば熱膨張して凸形状になるなど）する。そして、その変形に中間層１１ｂが倣って界面が平面から曲面へと変形することで、記録マーク（位相ピット）が形成される。レーザ光を集光して記録する位置は界面よりやや記録層１１ａよりが好ましいが、記録位置はこの例に限定されるものではなく、例えば、レーザ光を集光して記録する位置は界面よりやや中間層１１ｂよりにすることも可能である。
【００４１】
（基板）
基板４は、例えば、中央部にセンターホールが設けられた略円板形状を有する。基板４の材料としては、透明性または不透明性を有する材料のいずれも用いることが可能であり、例えば、プラスチック材料またはガラスを用いることができ、成形性の観点から、プラスチック材料を用いることが好ましい。プラスチック材料としては、例えば、ポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂などを用いることができ、コストの観点から、ポリカーボネート系樹脂を用いることが好ましい。
【００４２】
［光情報記録媒体の製造方法］
以下、図３Ａ〜図３Ｃを参照しながら、本技術の第１の実施形態に係る光情報記録媒体１０の製造方法の一例について説明する。
【００４３】
（第１の塗布工程）
まず、図３Ａに示すように、塗布装置２１ａにより基板４の内周部に第１の樹脂組成物１２ａに滴下し、滴下された第１の樹脂組成物１２ａをスピンコート法により基板４の外周方向に延伸して、均一厚さの塗膜を基板４上に形成する。第１の樹脂組成物１２ａとしては、例えば、熱硬化性樹脂または紫外線硬化樹脂を用いることができる。なお、本製造方法に使用可能な樹脂組成物はこれに限定されるものではなく、上述したように紫外線硬化樹脂以外のエネルギー線硬化性樹脂や熱可塑性樹脂などを用いることも可能である。
【００４４】
（半硬化工程）
次に、図３Ｂに示すように、線源２２ａからの赤外線照射または紫外線照射により、基板４上に形成した塗膜を半硬化させる。これにより、均一厚さの半硬化膜１３が基板４上に形成される。赤外線照射用の線源２２ａとしては、例えばＩＲランプを用いることができ、紫外線照射用の線源２２ａとしては、例えばＵＶランプを用いることができる。
【００４５】
第１の樹脂組成物１２ａとして熱硬化性樹脂を用いる場合には、赤外線の照射時間および照射後の待機時間を調整することにより、塗膜を半硬化状態にすることができる。第１の樹脂組成物１２ａとして紫外線硬化樹脂を用いる場合には、紫外線のＤｏｓｅ量（積算光量）を調整することにより、塗膜を半硬化状態にすることができる。紫外線のＤｏｓｅ量は、好ましくは、塗膜を全硬化するときのＤｏｓｅ量の８割以下に設定される。
【００４６】
（第２の塗布工程）
次に、図３Ｃに示すように、塗布装置２１ｂにより基板４の内周部に第２の樹脂組成物１２ｂに滴下し、滴下された第２の樹脂組成物１２ｂをスピンコート法により基板４の外周方向に延伸して、均一厚さの塗膜を半硬化膜１３上に形成する。第２の樹脂組成物１２ｂとしては、例えば、熱硬化性樹脂または紫外線硬化樹脂を用いることができる。なお、本製造方法に使用可能な樹脂組成物はこれに限定されるものではなく、上述したように紫外線硬化樹脂以外のエネルギー線硬化性樹脂や熱可塑性樹脂などを用いることも可能である。
【００４７】
（全硬化工程）
次に、図４Ａに示すように、線源２２ｂからの赤外線照射または紫外線照射により、半硬化膜１３上に形成した第２の樹脂組成物１２ｂからなる塗膜を全硬化させるとともに、第１の樹脂組成物１２ａからなる半硬化膜１３を全硬化させる。これにより、基板４上に記録層１１ａおよび中間層１１ｂが形成される。その際、第１の樹脂組成物１２ａと第２の樹脂組成物１２ｂの間には屈折率が徐々に変化する界面Ｂ１が形成される。赤外線照射用の線源２２ｂとしては、例えばＩＲランプを用いることができ、紫外線照射用の線源２２ｂとしては、例えばＵＶランプを用いることができる。
【００４８】
（積層工程）
次に、「第１の塗布工程」から「全硬化工程」までの工程を複数回繰り返す。これにより、図４Ｂに示すように、記録層１１ａおよび中間層１１ｂが基板４上に交互に複数積層されて、基板４上にバルク層１が形成される。その際、記録層１１ａと中間層１１ｂの間には屈折率が徐々に変化する界面Ｂ１が形成され、中間層１１ｂと記録層１１ａの間には屈折率が不連続に変化する界面Ｂ２が形成される。
【００４９】
次に、図４Ｃに示すように、選択反射層２が形成されたカバー層３を、基板４上に形成したバルク層１の一主面に貼り合わせる。以上により、目的とする光情報記録媒体１０が得られる。
【００５０】
［効果］
第１の実施形態によれば、樹脂層１１ａ上に形成された樹脂層１１ｂの厚さ方向に連続的に変化する屈折率を有する界面Ｂ１では、記録光または再生光の反射を抑制できる。したがって、樹脂層１１ｂの膜厚を厳密に制御せずとも、樹脂層１１ｂの上面と下面の２つの界面による反射光の干渉の影響を抑制することができる。また、複数の樹脂層１１ｂ上に形成された樹脂層１１ａの間の不連続に屈折率が変化する境界Ｂ２に記録マークを形成することができる。これにより、界面Ｂ２へ再生光を照射しその戻り光を再生信号とすることで、前記記録マークの存在の有無を検出することが可能となる。
【００５１】
記録層１１の両側に設けられた第１の界面Ｂ１および第２の界面Ｂ２のうち一方の界面の屈折率を連続的に変化させるのに対して、他方の界面の屈折率の変化を不連続的に変化させた場合には、第１の界面Ｂ１および第２の界面Ｂ２による界面反射光の干渉を抑制することができる。
【００５２】
（変形例）
図５は、本技術の第１の実施形態に係る光情報記録媒体の他の構成例を示す概略断面図である。光情報記録媒体１０の構成として、図５に示すように、基板４の一主面上に、選択反射層２、バルク層１およびカバー層３が順次積層された積層構造を採用するようにしてもよい。この構成では、記録または再生位置を案内するための案内溝となる凹凸面が基板４の表面に設けられる。
【００５３】
選択反射層２としては、サーボ光を効率よく反射し、記録光の反射を抑制するものが好ましい。記録光の反射を抑制する理由として、選択反射層２で反射した迷光が記録動作に影響を及ぼすことを防ぐことが挙げられる。このような構成で用いられる選択反射層２としては、例えば前述の低屈折率層および高屈折率層を交互に複数積層した積層膜以外にも、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｕなどによる合金の薄膜や、窒化チタンなどの薄膜なども用いることができる。
【００５４】
＜２．第２の実施形態＞
以下、図６Ａ〜図６Ｃを参照して、本技術の第２の実施形態に係る光情報記録媒体１０の製造方法の一例を説明する。
【００５５】
まず、図６Ａに示すように、記録層１１ａおよび中間層１１ｂが交互に複数積層されたバルク層（光情報記録媒体用積層体）１を形成する。このバルク層１は、例えば、帯状の積層フィルム（光情報記録媒体用積層体）を円板状に打ち抜くことにより形成される。このバルク層１の形成方法の詳細については後述する。
【００５６】
次に、図６Ｂに示すように、選択反射層２が形成されたカバー層３をバルク層１の一主面に貼合剤を介して貼り合わせる。貼合剤としては、例えば、紫外線硬化樹脂などの感光性樹脂、感圧性粘着剤（ＰＳＡ：Pressure Sensitive Adhesive）などを用いることができる。
【００５７】
次に、必要に応じて、図６Ｃに示すように、基板４をバルク層１の他主面に貼合剤を介して貼り合わせる。貼合剤としては、例えば、紫外線硬化樹脂などの感光性樹脂、感圧性粘着剤などを用いることができる。
以上により、目的とする光情報記録媒体１０が得られる。
【００５８】
次に、図７を参照して、バルク層の形成方法の一例を説明する。
【００５９】
（第１の塗布工程）
まず、塗布ロール４１ａの一部を、液溜め部４４ａに溜められた第１の樹脂組成物１２ａに浸し、塗布ロール４１ａを回転することで第１の樹脂組成物１２ａを塗布ロール４１ａの表面により引き上げる。次に、塗布ロール４１ａの表面により引き上げた第１の樹脂組成物１２ａのうち余分な部分を、ドクターブレード４３ａにより掻き取る。次に、圧着ロール４２ａと塗布ロール４１ａとにより保護シート３１を挟み込み、第１の樹脂組成物１２ａを保護シート３１に均一に移るように、圧着ロール４２ａを塗布ロール４１ａ上で保護シート３１を押す。これにより、保護シート３１の表面に均一の塗膜が形成される。なお、保護シート３１の塗布面側に記録シートが予め設けられている構成としてもよい。
記録シートを構成する樹脂層１１ａ、１１ｂは、上述したスピンコート法で積層する際に用いた樹脂層１１ａ、１１ｂと機能や材料は同様である。
【００６０】
（半硬化工程）
次に、保護シート３１を半硬化処理部４５ａに搬送し、保護シート３１上に形成された塗膜を半硬化させる。これにより、保護シート３１の表面に均一の半硬化層が形成される。
半硬化処理部４５ａは、例えば、紫外線照射または赤外線照射可能に構成されたユニットである。第１の樹脂組成物が紫外線硬化樹脂である場合には、半硬化処理部４５ａとしては、例えば、ＵＶ照射ユニットを用いることができる。第１の樹脂組成物が熱硬化樹脂である場合には、半硬化処理部４５ａとしては、例えば、ドライヤー（ヒータ）を用いることができる。
【００６１】
第１の樹脂組成物１２ａとして熱硬化性樹脂を用いる場合には、赤外線の照射時間および照射後の待機時間を調整することにより、塗膜を半硬化状態にすることができる。第１の樹脂組成物１２ａとして紫外線硬化樹脂を用いる場合には、紫外線のＤｏｓｅ量（積算光量）を調整することにより、塗膜を半硬化状態にすることができる。紫外線のＤｏｓｅ量は、好ましくは、塗膜を全硬化するときのＤｏｓｅ量の８割以下に設定される。
【００６２】
（第２の塗布工程）
次に、塗布ロール４１ｂの一部を、液溜め部４４ｂに溜められた第２の樹脂組成物１２ｂに浸し、塗布ロール４１ｂを回転することで第２の樹脂組成物１２ｂを塗布ロール４１ｂの表面により引き上げる。次に、塗布ロール４１ｂの表面により引き上げた第２の樹脂組成物１２ｂのうち余分な部分を、ドクターブレード４３ｂにより掻き取る。次に、圧着ロール４２ｂと塗布ロール４１ｂとにより、半硬化層が形成された保護シート３１を挟み込み、第２の樹脂組成物１２ａを保護シート３１に均一に移るように、圧着ロール４２ａを塗布ロール４１ａ上で保護シート３１を押す。これにより、半硬化層の表面に均一の塗膜が形成される。
【００６３】
（全硬化工程）
次に、保護シート３１を硬化処理部４５ｂに搬送し、半硬化層上に形成された塗膜を硬化させると共に、半硬化層を全硬化させる。これにより、保護シート３１の表面に記録層１１ａおよび中間層１１ｂが形成される。硬化処理部４５ｂは、例えば、紫外線照射または赤外線照射可能に構成されたユニットである。第２の樹脂組成物が紫外線硬化樹脂である場合には、硬化処理部４５ｂとしては、例えば、ＵＶ照射ユニットを用いることができる。第２の樹脂組成物が熱硬化樹脂である場合には、硬化処理部４５ｂとしては、例えば、ドライヤー（ヒータ）を用いることができる。
【００６４】
（積層工程）
次に、搬送ロール４５を介して、記録層１１ａおよび中間層１１ｂが形成された保護シート３１を次工程に搬送する。次に、次工程として上述の「第１の塗布工程」から「全硬化工程」までの工程を複数回繰り返す。これにより、記録層１１ａおよび中間層１１ｂが保護シート３１上に交互に複数積層されて、保護シート３１上にバルク層１が形成される。最終工程にて、バルク層１から保護シート３１を剥離し、バルク層１と保護シート３１とを別ロールに巻き取るようにしてもよい。
以上により、目的とするフィルム状のバルク層（光情報記録媒体用積層体）が得られる。
【００６５】
＜３．第３の実施形態＞
以下、図１４Ａ〜図１５Ｃを参照して、本技術の第３の実施形態に係る光情報記録媒体１０の製造方法の一例について説明する。
【００６６】
（第１の塗布工程）
まず、図１４Ａに示すように、塗布装置２１ａにより基板４の内周部に第１の樹脂組成物１２ａに滴下し、滴下された第１の樹脂組成物１２ａをスピンコート法により基板４の外周方向に延伸して、均一厚さの塗膜を基板４上に形成する。第１の樹脂組成物１２ａとしては、例えば、熱硬化性樹脂または紫外線硬化樹脂を用いることができる。なお、本製造方法に使用可能な樹脂組成物はこれに限定されるものではなく、紫外線硬化樹脂以外のエネルギー線硬化性樹脂や熱可塑性樹脂などを用いることも可能である。
【００６７】
（第１の硬化工程）
次に、図１４Ｂに示すように、線源２３ａからの赤外線照射または紫外線照射により、基板４上に形成した第１の樹脂組成物１２ａからなる塗膜を硬化させる。これにより、均一厚さの記録層１１ａが基板４上に形成される。赤外線照射用の線源２３ａとしては、例えばＩＲランプを用いることができ、紫外線照射用の線源２３ａとしては、例えばＵＶランプを用いることができる。ＵＶランプとしては、例えば高圧水銀灯、フラッシュＵＶまたはＨバルブなどを用いることができる。
【００６８】
（照射工程）
次に、図１４Ｃに示すように、線源２３ｂからの紫外線照射により、記録層１１ａの表面に線形吸収を有する酸化層を形成する。酸化層は、その表面から厚さ方向に向かって酸素濃度が連続的に減少する濃度分布を有している。また、この酸化層では、厚さ方向に屈折率が連続的に変化している。紫外線照射用の線源２３ｂとしては、例えば高圧水銀灯、フラッシュＵＶまたはＨバルブなどのＵＶランプを用いることができる。なお、線源２３ｂからの紫外線照射の照射パワーは、線源２３ａからの紫外線照射の照射パワーに比して高く設定される。
【００６９】
（第２の塗布工程）
次に、図１４Ｄに示すように、塗布装置２１ｂにより基板４の内周部に第２の樹脂組成物１２ｂに滴下し、滴下された第２の樹脂組成物１２ｂをスピンコート法により基板４の外周方向に延伸して、均一厚さの塗膜を記録層１１ａ上に形成する。第２の樹脂組成物１２ｂとしては、例えば、熱硬化性樹脂または紫外線硬化樹脂を用いることができる。なお、本製造方法に使用可能な樹脂組成物はこれに限定されるものではなく、紫外線硬化樹脂以外のエネルギー線硬化性樹脂や熱可塑性樹脂などを用いることも可能である。
【００７０】
（第２の硬化工程）
次に、図１５Ａに示すように、線源２３ｃからの赤外線照射または紫外線照射により、記録層１１ａ上に形成した第２の樹脂組成物１２ｂからなる塗膜を硬化させる。これにより、基板４上に記録層１１ａおよび中間層１１ｂが形成される。赤外線照射用の線源２３ｃとしては、例えばＩＲランプを用いることができ、紫外線照射用の線源２３ｃとしては、例えばＵＶランプを用いることができる。
【００７１】
（積層工程）
次に、「第１の塗布工程」から「第２の硬化工程」までの工程を複数回繰り返す。これにより、図１５Ｂに示すように、記録層１１ａおよび中間層１１ｂが基板４上に交互に複数積層されて、基板４上にバルク層１が形成される。
【００７２】
次に、図１５Ｃに示すように、選択反射層２が形成されたカバー層３を、基板４上に形成したバルク層１の一主面に貼り合わせる。以上により、目的とする光情報記録媒体１０が得られる。
【００７３】
上述のようにして製造された光情報記録媒体１０では、記録マークは、酸化層が設けられた記録層１１ａと中間層１１ｂとの界面に形成されることが好ましい。酸化層が光吸収層として機能し、記録マークの形成が容易だからである。
【実施例】
【００７４】
以下、実施例により本技術を具体的に説明するが、本技術はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
【００７５】
実施例および試験例について以下の順序で説明する。
１．作製サンプルによる検討（１）
２．作製サンプルによる検討（２）
３．シミュレーションによる検討
【００７６】
＜１．作製サンプルによる検討（１）＞
界面において屈折率が連続的に変化するサンプルと、界面において屈折率が不連続的に変化するサンプルとを作製して、反射光量を評価した。
【００７７】
（実施例１）
まず、基板として、直径１２０ｍｍ、中心に直径１５ｍｍのセンターホールを有するガラス基板を準備した。次に、スピンコート法により、記録層形成用のアクリル系紫外線硬化樹脂Ｂをガラス基板上に塗布し、約５０μｍの厚さの塗膜を形成した後、紫外線を０．３７Ｊ／ｃｍ2照射して半硬化させた。これにより、ガラス基板上に半硬化層が形成された。ここで、紫外線のＤｏｓｅ量は、塗膜を全硬化するときのＤｏｓｅ量の８割以下に設定した。
【００７８】
次に、スピンコート法により、樹脂薄膜形成用のアクリル系紫外線硬化樹脂Ａを半硬化層上に塗布し、約２μｍの厚さの塗膜を形成した。これにより、樹脂薄膜形成用のアクリル系紫外線硬化樹脂Ａと半硬化状態にある記録層形成用のアクリル系紫外線硬化樹脂Ｂとを、界面ａ２にて相溶させた。次に、紫外線照射により、半硬化層上に形成した塗膜を硬化させると共に、上述の半硬化層を全硬化させることにより、ガラス基板上に記録層および樹脂薄膜が形成された。
【００７９】
次に、無色透明な厚さ２５μｍの粘着剤樹脂層Ｃが片面に形成され、中心にセンターホールを有する厚さ７５μｍのポリカーボネート製フィルムを準備した。次に、このフィルムを粘着剤層を介して樹脂薄膜上に貼り合わせることにより、記録層上にカバー層を形成した。
【００８０】
なお、基板と記録層との屈折率差が０．０５以下、記録層と樹脂薄膜との屈折率差が０．１以上、樹脂薄膜と粘着層との屈折率差が０．２以上となるように、基板、記録層、樹脂薄膜および粘着層の材料を選択した。
以上により、目的とする光情報記録媒体が得られた。
【００８１】
（比較例１）
アクリル系紫外線硬化樹脂Ｂをガラス基板上に塗布し、塗膜を形成した後、紫外線を照射して全硬化させることにより、ガラス基板上に記録層を形成する以外のことは実施例１と同様にして光情報記録媒体を得た。
【００８２】
（反射光量の評価）
上述のようにして得られた実施例１、比較例１の光情報記録媒体の反射光量を以下のようにして評価した。樹脂薄膜Ａと粘着剤樹脂層Ｃとの界面ａ１に再生光を合焦し、フォーカスをかけながら光情報記録媒体を回転させた際の反射光量をモニタした。その結果、比較例１では、界面ａ２からの反射光の影響と思われる光量変動が確認された。上述の評価の場合、界面からの反射としては、記録層Ｂ−樹脂薄膜Ａの界面ａ２、樹脂薄膜Ａ−粘着剤樹脂層Ｃの界面ａ１の２つの界面反射が考えられ、これら２つの界面からの反射光により光量変動が生じたと考えられる。一方、実施例１では、界面反射による反射光の干渉の影響と思われる光量変動はほとんど確認されなかった。これは、実施例１では、比較例１と同様に記録層と樹脂薄膜との屈折率差は０．１以上あるが、記録層と樹脂薄膜との界面にて屈折率が連続的に変化しているため、記録層と樹脂薄膜との界面では再生光の反射が低減されているためと考えられる。なお、記録層と樹脂薄膜との界面における屈折率の連続的な変化は、当該界面において記録層と樹脂薄膜との材料が相溶しているためと考えられる。
【００８３】
＜２．作製サンプルによる検討（２）＞
Ｄｏｓｅ量（積算光量）の調整により記録層の半硬化状態を変えてサンプルを作製し、記録層と樹脂薄膜との界面反射の反射率を評価した。
【００８４】
（実施例２−１）
記録層、樹脂薄膜の屈折率をそれぞれｎ＝１．６５〜１．７２、ｎ＝１．４５〜１．５の範囲内に調整した。また、半硬化層を形成するときの紫外線のＤｏｓｅ量を、塗膜を全硬化するときのＤｏｓｅ量の４０％以下に設定した。これ以外のことは実施例１と同様にして光情報記録媒体を得た。
【００８５】
（実施例２−２）
半硬化層を形成するときの紫外線のＤｏｓｅ量を、塗膜を全硬化するときのＤｏｓｅ量の６０％に設定する以外のことは、実施例２−１と同様にして光情報記録媒体を得た。
【００８６】
（実施例２−３）
半硬化層を形成するときの紫外線のＤｏｓｅ量を、塗膜を全硬化するときのＤｏｓｅ量の８０％以上に設定する以外のことは、実施例２−１と同様にして光情報記録媒体を得た。
【００８７】
（反射率の評価）
上述のようにして得られた実施例２−１〜２−３の光情報記録媒体について、記録層と樹脂薄膜との界面反射の反射率を評価した。その結果を表１に示す。
【００８８】
表１は、実施例２−１〜２−３の光情報記録媒体の評価結果を示す。
【表１】
2013178866.tif 000003
【００８９】
表１から、Ｄｏｓｅ量の調整により記録層形成用のアクリル系紫外線硬化樹脂の硬化度を変えると、記録層と樹脂薄膜との界面反射の反射率が変化することがわかる。これは、Ｄｏｓｅ量の調整により界面における相溶状態が変化し、その結果、界面での屈折率の状態が変化したためと考えられる。
【００９０】
＜３．シミュレーションによる検討＞
屈折率が連続的に変化する遷移領域（界面）を、屈折率を少しずつ変化させた積層膜でモデリングし、その積層膜の層数や厚さを変化させて、反射率および透過率をシミュレーションにより求めた。
【００９１】
（試験例１−１）
図８に示すように、厚さ方向に屈折率ｎが増加する２層の積層体をモデリングし、この積層体の反射率および透過率をシミュレーションにより求めた。
【００９２】
（試験例２−１）
図９Ａに示すように、厚さ方向に屈折率ｎが増加する３層の積層体をモデリングし、この積層体の反射率および透過率をシミュレーションにより求めた。
【００９３】
（試験例２−２）
図９Ｂに示すように、屈折率ｎ＝１．５５の層の厚さを３０ｎｍに減少させる以外は試験例２−１と同様にして、積層体の反射率および透過率をシミュレーションにより求めた。
【００９４】
（試験例２−３）
図９Ｃに示すように、屈折率ｎ＝１．５５の層の厚さを７５０ｎｍに増加させる以外は試験例２−１と同様にして、積層体の反射率および透過率をシミュレーションにより求めた。
【００９５】
（試験例３−１）
図１０Ａに示すように、厚さ方向に屈折率ｎが増加する４層の積層体をモデリングし、この積層体の反射率および透過率をシミュレーションにより求めた。
【００９６】
（試験例３−２）
図１０Ｂに示すように、屈折率ｎ＝１．４０の層の厚さを５０ｎｍに減少させ、屈折率ｎ＝１．６０の樹脂層の厚さを１００ｎｍに増加させる以外は試験例３−１と同様にして、積層体の反射率および透過率をシミュレーションにより求めた。
【００９７】
（試験例３−３）
図１０Ｃに示すように、屈折率ｎ＝１．４０の層の厚さを１００ｎｍに増加させ、屈折率ｎ＝１．６０の樹脂層の厚さを５０ｎｍに減少させる以外は試験例３−１と同様にして、積層体の反射率および透過率をシミュレーションにより求めた。
【００９８】
（試験例４−１）
図１１Ａに示すように、厚さ方向に屈折率ｎが増加する７層の積層体をモデリングし、この積層体の反射率および透過率をシミュレーションにより求めた。
【００９９】
（試験例４−２）
図１１Ｂに示すように、屈折率ｎ＝１．４５〜１．６５の層の厚さを９０ｎｍに増加させる以外は試験例４−１と同様にして、積層体の反射率および透過率をシミュレーションにより求めた。
【０１００】
（試験例４−３）
図１１Ｃに示すように、屈折率ｎ＝１．４５〜１．６５の層の厚さを１５０ｎｍに増加させる以外は試験例４−１と同様にして、積層体の反射率および透過率をシミュレーションにより求めた。
【０１０１】
（試験例５−１）
図１２Ａに示すように、厚さ方向に屈折率ｎが増加する積層体をモデリングし、この積層体の反射率および透過率をシミュレーションにより求めた。なお、屈折率ｎ＝１．６９〜１．４１の層は、屈折率ｎを厚さ５ｎｍ毎に０．０１ずつ増加させた総厚１５０ｎｍの積層膜である。
【０１０２】
（試験例５−２）
図１２Ｂに示すように、屈折率ｎ＝１．６９〜１．４１の層を、屈折率ｎを厚さ１５ｎｍ毎に屈折率ｎを０．０１ずつ増加させた総厚４５０ｎｍの積層膜とする以外は試験例５−１と同様にして、積層体の反射率および透過率をシミュレーションにより求めた。
【０１０３】
（試験例５−３）
図１２Ｃに示すように、屈折率ｎ＝１．６９〜１．４１の層を、屈折率ｎを厚さ５０ｎｍ毎に屈折率ｎを０．０１ずつ増加させた総厚１．５μｍの積層膜とする以外は試験例５−１と同様にして、積層体の反射率および透過率をシミュレーションにより求めた。
【０１０４】
（試験例５−４）
図１２Ｄに示すように、屈折率ｎ＝１．４５〜１．６５の層を、屈折率ｎを厚さ９０ｎｍ毎に屈折率ｎを０．０１ずつ増加させた総厚２．７μｍの積層膜とする以外は試験例５−１と同様にして、積層体の反射率および透過率をシミュレーションにより求めた。
【０１０５】
（試験例５−５）
屈折率が１．４→１．７と徐々に変化する界面構造において遷移領域の厚さを横軸に、波長４００ｎｍの光を入射角度をそれぞれ０°、１５°、３０°、４５°とした場合の当該界面構造からの反射率を縦軸にとったグラフを図１３Ａ〜図１３Ｄに示す。遷移領域において、屈折率の変化は遷移領域厚を１５分割して０．０２ずつ単調増加するものとして計算した。
【０１０６】
図８〜図１２Ｄに、上述のシミュレーションの結果のうち、屈折率ｎ＝１．４０の層の側から波長４００ｎｍの光を積層体に垂直入射させる条件で求めた反射率および透過率を代表して示す。
【０１０７】
また図１３Ａ〜図１３Ｄの結果から、光の入射角が３０°程度以下であれば、屈折率ｎ＝１．４０の層と屈折率ｎ＝１．７０の層との間の領域（以下、「遷移領域」という。）の幅が１００ｎｍ程度以上であれば反射率低減の効果が十分に得られることがわかった。
遷移領域を形成する層の層数を増やすほど、すなわち遷移領域の屈折率の変化を滑らかにするほど、反射率を低減し、透過率を向上することができる。
遷移領域の厚さによる反射率の周期性は、遷移領域の層数が多くなるほど、消失していく傾向にある。
したがって、樹脂層間の界面の屈折率を、樹脂層の厚さ方向に徐々に変化させることで、樹脂層間の界面反射を低減できるとともに、樹脂層間の透過率を向上できる。
【０１０８】
遷移領域においては異種の樹脂の相溶性があまりよくないとミクロドメイン構造（ミクロな領域で幾何学的に複雑に入り組んだ構造）を形成する場合が考えられる。膜厚方向に遷移領域が大きくなると界面内のミクロドメインサイズも大きくなり、それが光学的な変化として検出されてノイズとなってしまう可能性が考えられる。本技術おける再生光スポットのサイズを勘案すると遷移領域の上限値は１μｍ程度が望ましい。
【０１０９】
以上、本技術の実施形態について具体的に説明したが、本技術は、上述の実施形態に限定されるものではなく、本技術の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。
【０１１０】
例えば、上述の実施形態において挙げた構成、方法、工程、形状、材料および数値などはあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なる構成、方法、工程、形状、材料および数値などを用いてもよい。
【０１１１】
また、上述の実施形態の構成、方法、工程、形状、材料および数値などは、本技術の主旨を逸脱しない限り、互いに組み合わせることが可能である。
【０１１２】
また、バルク層（積層体）を形成する樹脂層の種類は、２種類に限定されるものではなく、３種以上の樹脂層を組み合わせてバルク層を形成するようにしてもよい。
【０１１３】
また、本技術を用いれば、互いに異なる屈折率を有する複数の樹脂層を積層して形成される任意の界面において、光学的な反射を抑制したい界面においては屈折率変化を連続的なものとすればよい。従って屈折率の組合せは例示した「高屈層−低屈層−・・・高屈層−低屈層」に限定されるものではなく、例えば膜厚の薄い高屈層Ｂおよび低屈層Ｂとをさらに積層構造に組み入れたような、「高屈層Ａ−高屈層Ｂ−低屈層Ａ−低屈層Ｂ−高屈層Ａ−高屈層Ｂ−・・・高屈層Ａ−高屈層Ｂ−低屈層Ａ−低屈層Ｂ」という組合せにおいて、高屈層Ａ−Ｂ間、低屈層Ａ−Ｂ間、低屈層Ｂ−高屈層Ａ間を必要に応じて連続的な屈折率変化として界面反射を抑制し、高屈層Ｂ−低屈層Ａ間でのみ界面反射を生じさせる、とした変形例も可能である。さらに上記の例から積層構造の周期性を崩した構造においても、同様に任意の界面において界面反射を抑制させる本技術の適用は可能である。
【０１１４】
本技術は以下のような構成もとることができる。
（１）
積層された複数の樹脂層を備え、
上記樹脂層間の界面のうちの少なくとも一つは、上記樹脂層の厚さ方向に徐々に変化する屈折率を有している光情報記録媒体。
（２）
上記屈折率の変化が連続的な変化である（１）に記載の光情報記録媒体。
（３）
上記複数の樹脂層は、交互に設けられた複数の中間層および記録層である（１）または（２）に記載の光情報記録媒体。
（４）
上記記録層の両側に設けられた界面のうち、一方の界面の屈折率の変化は連続的であるのに対して、他方の界面の屈折率の変化は不連続的である（３）に記載の光情報記録媒体。
（５）
上記他方の界面は、記録マークを形成可能に構成されている（３）または（４）に記載の光情報記録媒体。
（６）
上記記録層の平均厚さは、３０ｎｍ以上５μｍ以下の範囲内である（３）〜（５）のいずれかに記載の光情報記録媒体。
（７）
屈折率が徐々に変化する上記界面を形成する２つの樹脂層は、当該界面において相溶している（１）〜（６）のいずれかに記載の光情報記録媒体。
（８）
上記樹脂層は、紫外線硬化樹脂または熱硬化性樹脂を主成分としている（１）〜（７）のいずれに記載の光情報記録媒体。
（９）
上記樹脂層間の界面は、記録マークを形成可能に構成されている（１）〜（３）のいずれかに記載の光情報記録媒体。
（１０）
積層された複数の樹脂層を備え、
上記複数の樹脂層の界面に記録マークを形成可能な構成を有し、
上記樹脂層間の界面のうちの少なくとも一つは、上記樹脂層の厚さ方向に徐々に変化する屈折率を有する光情報記録媒体用積層体。
【符号の説明】
【０１１５】
１    バルク層（積層体）
１１    樹脂層
１１ａ    記録層（第１樹脂層）
１１ｂ    中間層（第２樹脂層）
２    選択反射層
３    カバー層
４    基板
１０    光情報記録媒体
【図１】
2013178866.tif 000004
【図２】
2013178866.tif 000005
【図３】
2013178866.tif 000006
【図４】
2013178866.tif 000007
【図５】
2013178866.tif 000008
【図６】
2013178866.tif 000009
【図７】
2013178866.tif 000010
【図８】
2013178866.tif 000011
【図９】
2013178866.tif 000012
【図１０】
2013178866.tif 000013
【図１１】
2013178866.tif 000014
【図１２】
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【図１３】
2013178866.tif 000016
【図１４】
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【図１５】
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