(57)【要約】【課題】高ヘイズであり、さらには全光線透過率も高い光学フィルム及びその利用技術を提供する。【解決手段】フィルム（Ａ）の少なくとも片面に、平均粒子径が３ｎｍ以上５０ｎｍ以下の微粒子を含む層（Ｂ）を備え、全光線透過率が８５％以上、ヘイズが４０％以上である光学フィルムによれば、高ヘイズと高い全光線透過率を両立し得る。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
フィルム（Ａ）の少なくとも片面に、平均粒子径が３ｎｍ以上５０ｎｍ以下の微粒子を含む層（Ｂ）を備え、
全光線透過率が８５％以上、ヘイズが４０％以上であることを特徴とする光学フィルム。
【請求項２】
前記層（Ｂ）の膜厚が、１８０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
前記層（Ｂ）が、前記微粒子とバインダー樹脂とを含むものであり、
当該微粒子：バインダー樹脂の質量比が、９５：５〜６０：４０であることを特徴とする請求項１又は２に記載の光学フィルム。
【請求項４】
前記フィルム（Ａ）が、アクリル樹脂を含む樹脂組成物から構成されるものであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項５】
前記層（Ｂ）が形成されたフィルム（Ａ）を延伸して得られるものであることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項６】
全光線透過率が８５％以上、ヘイズが４０％以上である光学フィルムの製造方法であり、
少なくとも片面に、平均粒子径が３ｎｍ以上５０ｎｍ以下の微粒子を含む層（Ｂ）が形成されたフィルム（Ａ）を延伸する延伸工程を有することを特徴とする光学フィルムの製造方法。
【請求項７】
さらに、前記フィルム（Ａ）上に、前記層（Ｂ）を形成する工程を有し、
前記工程後に、前記延伸工程を連続的に実施することを特徴とする請求項６に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項８】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学フィルムを用いることを特徴とする偏光子保護フィルム。
【請求項９】
偏光子と、請求項８に記載の偏光子保護フィルムと、を備えることを特徴とする偏光板。
【請求項１０】
請求項９に記載の偏光板を備えることを特徴とする画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルム及びその利用に関し、特に高ヘイズと高い全光線透過率とを兼ね備えた光学フィルム及びその利用に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置には、視認性向上のために、位相差フィルム、偏光子保護フィルム、拡散フィルム等の種々の光学フィルムが用いられている。
【０００３】
近年、液晶表示装置の薄型化、製造工程の短縮によるコスト削減を目的として、液晶表示装置の部材を削減する試みがなされている。例えば、特許文献１には、位相差フィルムの機能を偏光子保護フィルムに付与し、位相差フィルムと偏光子保護フィルムを一層化した光学フィルムが開示されている。
【０００４】
また、光学表示用のバックライトに備えられる光拡散性の光学フィルムとして、例えば、特許文献２には、フィルムの一方の面を第一の面、第一の面と反対側の面を第二の面とし、第一の面に露出し、高さ及び大きさが不均一なランダム凸凹形状が形成された光拡散層を有し、第二の面にレンズ層を有さない光学フィルムであって、前記光拡散層のランダム凸凹形状は、塗工時の表面加工によって、ランダムな大きさおよび形状が略球形の凸部が不均一に四方連接された構造からなり、この略球形凸部は、１００μｍ平方あたりの形成個数が７５個以下である光学フィルムが提案されている。本光学フィルムによれば、ニュートンリング解消、ソフトカットオフ性の向上を果たしながら、輝度向上およびヘイズ値の調整を果たすことができ、外観上の不具合を軽減する効果が得られると記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００８−２９９０９６号公報
【特許文献２】特開２０１０−１７６１３３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
液晶表示装置等の画像表示装置の薄型化等のためには、前記特許文献１，２以外にも、まだ改良の余地が残されている。特に、拡散フィルムの機能を有する偏光子保護フィルムは、ヘイズと全光線透過率とがともに高くなければならないが、このような光学特性を満たす光学フィルムのさらなる開発が強く求められている。
【０００７】
本発明は、前記の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、高ヘイズであり、さらには全光線透過率も高い光学フィルム及びその利用技術を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、前記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結果、透明基材フィルム上に、所定の平均粒子径の微粒子を含む層を形成した後、延伸することにより、高ヘイズでありながら、全光線透過率も高い光学フィルムを得ることができるという新規知見を見出し、本発明を完成させるに至った。すなわち本発明は、以下の構成からなるものである。
【０００９】
（１）フィルム（Ａ）の少なくとも片面に、平均粒子径が３ｎｍ以上５０ｎｍ以下の微粒子を含む層（Ｂ）を備え、全光線透過率が８５％以上、ヘイズが４０％以上である光学フィルム。
【００１０】
（２）前記層（Ｂ）の膜厚が、１８０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下である（１）に記載の光学フィルム。
【００１１】
（３）前記層（Ｂ）が、前記微粒子とバインダー樹脂とを含むものであり、当該微粒子：バインダー樹脂の質量比が、９５：５〜６０：４０である（１）又は（２）に記載の光学フィルム。
【００１２】
（４）前記フィルム（Ａ）が、アクリル樹脂を含む樹脂組成物から構成されるものである（１）〜（３）のいずれかに記載の光学フィルム。
【００１３】
（５）前記層（Ｂ）が形成されたフィルム（Ａ）を延伸して得られるものである（１）〜（４）のいずれかに記載の光学フィルム。
【００１４】
（６）全光線透過率が８５％以上、ヘイズが４０％以上である光学フィルムの製造方法であり、少なくとも片面に、平均粒子径が３ｎｍ以上５０ｎｍ以下の微粒子を含む層（Ｂ）が形成されたフィルム（Ａ）を延伸する延伸工程を有する光学フィルムの製造方法。
【００１５】
（７）さらに、前記フィルム（Ａ）上に、前記層（Ｂ）を形成する工程を有し、前記工程後に、前記延伸工程を連続的に実施する（６）に記載の光学フィルムの製造方法。
【００１６】
（８）前記（１）〜（５）のいずれかに記載の光学フィルムを用いる偏光子保護フィルム。
【００１７】
（９）偏光子と、前記（８）に記載の偏光子保護フィルムと、を備える偏光板。
【００１８】
（１０）前記（９）に記載の偏光板を備える画像表示装置。
【発明の効果】
【００１９】
本発明に係る光学フィルムは、高ヘイズであり、さらには全光線透過率も高い。このため、例えば、拡散フィルムの機能を付与した偏光子保護フィルムとして使用することができる。これにより、例えば、画像表示装置において、別途拡散フィルムを設ける必要がなくなるため、装置の薄型化、部材品数の削減及び製造工程の短縮によるコスト削減を達成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の一実施形態に係る液晶表示装置の概略構造を模式的に示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
本発明の実施の一形態について、以下に詳細に説明する。本明細書中に記載された学術文献及び特許文献の全てが、本明細書中において参考として援用される。なお、本明細書において特記しない限り、数値範囲を表す「Ａ〜Ｂ」は、「Ａ以上（Ａを含みかつＡより大きい）Ｂ以下（Ｂを含みかつＢより小さい）」を、「％」は「質量％」を、「部」は「質量部」を、それぞれ意味する。
【００２２】
＜１．光学フィルム＞
本発明に係る光学フィルムは、フィルム（Ａ）の少なくとも片面に、平均粒子径が３ｎｍ以上５０ｎｍ以下の微粒子を含む層（Ｂ）を備え、全光線透過率が８５％以上、ヘイズが４０％以上であればよく、その他の構成については限定されない。
【００２３】
また、前記光学フィルムは、前記層（Ｂ）が形成されたフィルム（Ａ）を延伸して得られるものであることが好ましい。なお、製法については後述の＜４＞欄において説明することとし、ここでは省略する。
【００２４】
上述のように、前記層（Ｂ）は、平均粒子径が３ｎｍ以上５０ｎｍ以下の微粒子を含む層であるが、好ましくは、前記フィルム（Ａ）上に層（Ｂ）を形成した後、延伸して得られるものである。本光学フィルムにおいて、フィルム（Ａ）に設けられた微粒子を含む層（Ｂ）は、延伸処理によって引き伸ばされるため、層（Ｂ）表面に溝、スジ、及び／又は凹凸といった微細構造が形成される。この微細構造によって、高い全光線透過率を維持しつつ、高ヘイズを達成できるものと推測される。例えば、層（Ｂ）が微粒子とバインダー樹脂とを含有する構成である場合、層（Ｂ）において“糊”の機能を果たすバインダー樹脂が、延伸処理によりひび割れることにより、前記微細構造が生じるものと考えられる。
【００２５】
換言すれば、本光学フィルムにおいては、層（Ｂ）表面に凹凸が形成されていることが好ましいといえる。つまり、本光学フィルムは、従来の光拡散コート（ＡＧコート）のように乱反射によってヘイズを高めているのではなく、本光学フィルムでは、光は層（Ｂ）を散乱しながら透過している（拡散透過率が高い）と推測される。
【００２６】
また、本光学フィルムは、全光線透過率が８５％以上であればよいが、さらには全光線透過率が８７％以上であることが好ましく、９０％以上がより好ましく、９２％以上であることがさらに好ましい。全光線透過率が前記範囲であれば、光学フィルムとして優れた機能を発揮できる。
【００２７】
また、本光学フィルムは、ヘイズが４０％以上（例えば、４５％以上、５０％以上、５５％以上、６０％以上、７０％以上、８０％以上）であることが好ましい。上限については特に規定しないが、９９％を超えると全光線透過率が低下するおそれがあるので９９％以下（例えば、９５％以下、９０％以下）が好ましい。ヘイズが前記範囲内であれば、良好な光拡散機能を付与することができる。
【００２８】
「全光線透過率」、「ヘイズ」の測定方法は、後述する実施例に記載の手法を用いて測定したものである。なお、「全光線透過率」及び「ヘイズ」の値は、延伸後のものである。
【００２９】
また、上述した推定メカニズムより、本光学フィルムの拡散透過率は高いことが好ましい。なお、「ヘイズ＝（拡散透過率／全光線透過率）×１００」である。
【００３０】
層（Ｂ）は、フィルム（Ａ）上に直接形成されてもよいし、フィルム（Ａ）と層（Ｂ）の間に他の層（例えば、後述する＜２＞欄で説明する機能性コーティング層等）を介して形成されてもよい。また、前記光学フィルムは、フィルム（Ａ）の両面に層（Ｂ）を有していてもよい。
【００３１】
以下、さらに、本発明の各構成について詳細に説明する。
【００３２】
＜２．フィルム（Ａ）＞
フィルム（Ａ）は、光学フィルムに使用できる各種フィルムであればよく、特に限定されないが、全光線透過率が高いものが好ましいことから、透明基材フィルムが好適に用いられる。
【００３３】
透明基材フィルムの種類は、特に限定されない。例えば、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル樹脂；ポリスチレン、ポリビニルトルエン、ポリスチレン、スチレン−メタクリル酸メチル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、ポリ（ｐ−メチルスチレン）などのスチレン樹脂；ポリカーボネート樹脂；ポリアリレート樹脂；ポリエーテルスルホン樹脂；ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレンなどのポリオレフィン樹脂；ノルボルネン樹脂などの環状オレフィン樹脂；塩化ビニル、塩素化ビニル樹脂などのハロゲン含有樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル樹脂；ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン６１０などのポリアミド；セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートなどのセルロース樹脂；ポリアセタール樹脂；ポリフェニレンオキシド樹脂；ポリフェニレンスルフィド樹脂；ポリエーテルエーテルケトン樹脂；ポリエーテルニトリル樹脂；ポリサルホン樹脂；ポリエーテルサルホン樹脂；ポリオキシベンジレン樹脂；ポリアミドイミド樹脂等が挙げられ、これらのうち単独で、あるいは２種以上の混合樹脂などを用いることができる。
【００３４】
好適にはアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、スチレン樹脂、セルロース樹脂、環状オレフィン樹脂が用いられる。中でも、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、セルロース樹脂が好ましく、特にアクリル樹脂は、透明性、高い光線透過率や低い屈折率の波長依存性などの優れた光学特性や加工性に優れているため、透明基材フィルム用の樹脂として特に好ましい。
【００３５】
フィルム（Ａ）の厚みは特に限定されないが、５〜３５０μｍの範囲が好ましく、１０〜２５０μｍがより好ましく、２０〜１５０μｍがさらに好ましい。５μｍ以下であるとフィルムとしての強度が不十分であり、３５０μｍ以上であると画像表示装置の薄膜化の効果が不十分となる。
【００３６】
フィルム（Ａ）のＪＩＳ  Ｋ７３６１−１に準拠して測定した全光線透過率は、８５％以上が好ましく、９０％以上がより好ましく、９２％以上がさらに好ましい。
【００３７】
フィルム（Ａ）のＪＩＳ  Ｋ７１２１の規定に準拠して求めたガラス転移温度（Ｔｇ）は、１００℃以上が好ましく、１１０℃以上がより好ましく、１１５℃以上がさらに好ましく、１２０℃以上が特に好ましい。フィルム（Ａ）は、Ｔｇが高いことにより、光源付近で使用することがより容易となる。Ｔｇの上限は特に限定されないが、成形加工がしやすいことから２００℃以下が好ましく、１８０℃以下がより好ましい。
【００３８】
フィルム（Ａ）を製造する方法は特に限定されず、例えば、溶液製膜法（溶液流延法、キャスト成形法）、溶融製膜法（溶融押出法、押出成形法）、プレス成形法などの公知の手法を用いることができるが、環境負荷が小さく生産性に優れることから溶融製膜法が好ましい。
【００３９】
溶液製膜法を用いてフィルムを得ようとする場合は、熱可塑性樹脂と必要によりその他の重合体やその他の添加剤などとの樹脂組成物を良溶媒中に撹拌混合して均一混合液とし、支持フィルムやドラムにキャストして自己支持性を有するまで予備乾燥した後、支持フィルムやドラムから剥がして乾燥すると得ることができる。溶液製膜法に用いられる溶媒としては、例えば、クロロホルム、ジクロロメタンなどの塩素系溶媒；トルエン、キシレン、ベンゼン、及びこれらの混合溶媒などの芳香族系溶媒；メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、２−ブタノールなどのアルコール系溶媒；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルフォキシド、ジオキサン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、アセトン、酢酸エチル、ジエチルエーテル；などが挙げられる。これら溶媒は１種のみ用いても良いし、２種以上を併用しても良い。溶液製膜法を行うための装置としては、例えば、ドラム式キャスティングマシン、ベルト式キャスティングマシンなどが挙げられる。
【００４０】
溶融製膜法の具体的な例としては、樹脂組成物を構成する各成分をオムニミキサーなどの混合機でプレブレンドした後、得られた混合物を混練機から押出混練してもよい。押出混練に用いる混練機は特に限定されず、例えば、単軸押出機、二軸押出機などの押出機、あるいは加圧ニーダーなどの公知の混練機を用いることができる。
【００４１】
また、別途形成した熱可塑性樹脂を溶融押出成形してもよい。溶融製膜法には、例えば、Ｔダイ法、インフレーション法などがあり、その際の成形温度は、好ましくは２００〜３５０℃、より好ましくは２５０〜３２０℃、さらに好ましくは２５５℃〜３２０℃、特に好ましくは２６０℃〜３００℃である。
【００４２】
Ｔダイ法を用いる場合、押出機の先端部にＴダイを取り付け、このＴダイから押し出したフィルムを巻き取ることで、ロール状に巻回させた透明基材フィルムを得ることができる。このとき、巻き取りの温度及び速度を制御して、フィルムの押し出し方向に延伸（一軸延伸）を加えることも可能である。
【００４３】
押出成形に押出機を用いる場合、その種類は特に限定されず、単軸であっても二軸であっても多軸であってもよいが、そのＬ／Ｄ値は（Ｌは押出機のシリンダの長さ、Ｄはシリンダ内径）、熱可塑性樹脂を十分に可塑化して良好な混練状態を得るために、好ましくは１０以上１００以下であり、より好ましくは１５以上８０以下であり、さらに好ましくは２０以上６０以下である。Ｌ／Ｄ値が１０未満の場合、熱可塑性樹脂を十分に可塑化できず、良好な混練状態が得られないことがある。一方、Ｌ／Ｄ値が１００を超えると、熱可塑性樹脂に対して過度に剪断発熱が加わることで、組成物中の樹脂が熱分解する可能性がある。
【００４４】
またこの場合、シリンダの設定温度は、好ましくは２００℃以上３５０℃以下であり、より好ましくは２５０℃以上３２０℃以下である。設定温度が２００℃未満では、熱可塑性樹脂の溶融粘度が過度に高くなって、透明基材フィルムの生産性が低下する。一方、設定温度が３５０℃を超えると、熱可塑性樹脂が熱分解する可能性がある。
【００４５】
押出成形に押出機を用いる場合、その形状は特に限定されないが、押出機が１個以上の開放ベント部を有することが好ましい。このような押出機を用いることによって、開放ベント部から分解ガスを吸引することができ、得られた透明基材フィルムに残存する揮発成分の量を低減できる。開放ベント部から分解ガスを吸引するためには、例えば、開放ベント部を減圧状態にすればよく、その減圧度は、開放ベント部の圧力にして、９３１〜１．３ｈＰａの範囲が好ましく、７９８〜１３．３ｈＰａの範囲がより好ましい。開放ベント部の圧力が９３１ｈＰａより高い場合、揮発成分、あるいは樹脂の分解により発生する単量体成分などが、樹脂中に残存しやすい。一方、開放ベント部の圧力を１．３ｈＰａより低く保つことは工業的に困難である。
【００４６】
フィルム（Ａ）は、ポリマーフィルターで濾過した熱可塑性樹脂を成形してフィルムとすることが好ましい。ポリマーフィルターにより、熱可塑性樹脂中に存在する異物を除去できるため、得られたフィルムの外観上の欠点を低減できる。なお、ポリマーフィルターによる濾過時には、熱可塑性樹脂は高温の溶融状態となる。このため、ポリマーフィルターを通過する際に熱可塑性樹脂が劣化し、劣化により形成されたガス成分や着色劣化物が組成物中に流れだして、得られたフィルムに、穴あき、流れ模様、流れスジなどの欠点が観察されることがある。この欠点は、特に長尺フィルムの連続成形時に観察されやすい。このため、ポリマーフィルターで濾過した熱可塑性樹脂を成形する際には、その成形温度は、樹脂の溶融粘度を低下させ、ポリマーフィルターにおける樹脂の滞留時間を短くするために、例えば２５５〜３２０℃であり、２６０〜３００℃が好ましい。
【００４７】
ポリマーフィルターの構成は特に限定されないが、ハウジング内に多数枚のリーフディスク型フィルターを配したポリマーフィルターを好適に用いることができる。リーフディスク型フィルターの濾材は、金属繊維不織布を焼結したタイプ、金属粉末を焼結したタイプ、金網を数枚積層したタイプ、あるいはそれらを組み合わせたハイブリッドタイプのいずれでもよいが、金属繊維不織布を焼結したタイプが最も好ましい。
【００４８】
ポリマーフィルターによる濾過精度は特に限定されないが、通常１５μｍ以下、好ましくは１０μｍ以下、より好ましくは５μｍ以下である。濾過精度が１μｍ以下になると、樹脂の滞留時間が長くなることで当該組成物の熱劣化が大きくなる他、長尺フィルムの生産性が低下する。一方、濾過精度が１５μｍを超えると、熱可塑性樹脂中の異物を除去することが難しくなる。
【００４９】
ポリマーフィルターの形状は特に限定されず、例えば、複数の樹脂流通口を有し、センターポール内に樹脂の流路を有する内流型；断面が複数の頂点もしくは面においてリーフディスクフィルタの内周面に接し、センターポールの外面に樹脂の流路がある外流型；などがある。特に、樹脂の滞留箇所の少ない外流型を用いることが好ましい。
【００５０】
ポリマーフィルターにおける樹脂の滞留時間に特に制限はないが、好ましくは２０分以下であり、より好ましくは１０分以下であり、さらに好ましくは５分以下である。また、濾過時におけるフィルター入口圧及びフィルター出口圧は、例えば、それぞれ、３〜１５ＭＰａ及び０．３〜１０ＭＰａであり、圧力損失（フィルターの入口圧と出口圧の圧力差）は、１ＭＰａ〜１５ＭＰａの範囲が好ましい。圧力損失が１ＭＰａ以下になると、樹脂がフィルターを通過する流路に偏りが生じやすく、得られた樹脂フィルムの品質が低下する傾向がある。一方、圧力損失が１５ＭＰａを超えると、ポリマーフィルターの破損が起こり易くなる。
【００５１】
ポリマーフィルターに導入される樹脂の温度は、その溶融粘度に応じて適宜設定すればよく、例えば２５０〜３５０℃であり、好ましくは２５５〜３２０℃であり、さらに好ましくは２６０〜３００℃である。
【００５２】
ポリマーフィルターを用いた濾過処理により、異物、着色物の少ない光学フィルムを得る具体的な工程は、特に限定されない。例えば、（１）クリーン環境下で熱可塑性樹脂の形成及び濾過処理を行い、引き続いてクリーン環境下で熱可塑性樹脂の成形を行うプロセス、（２）異物又は着色物を有する熱可塑性樹脂を、クリーン環境下で濾過処理した後、引き続いてクリーン環境下で熱可塑性樹脂の成形を行うプロセス、（３）異物又は着色物を有する熱可塑性樹脂を、クリーン環境下で濾過処理すると同時に成形を行うプロセス、などが挙げられる。それぞれの工程毎に、複数回、ポリマーフィルターによる熱可塑性樹脂の濾過処理を行ってもよい。
【００５３】
ポリマーフィルターによって熱可塑性樹脂を濾過する際には、押出機とポリマーフィルターとの間にギアポンプを設置して、フィルター内の樹脂の圧力を安定化することが好ましい。
【００５４】
フィルム（Ａ）は、未延伸フィルム又は延伸フィルムのいずれでもよいが、フィルムの可とう性を考慮すると延伸フィルムがより好ましい。後述する＜４＞欄において説明するように、層（Ｂ）を形成する際に乾燥のために加熱処理を行う場合があるが、その際の熱により、延伸の配向が緩和されてしまうことを回避できるため、層（Ｂ）の形成後に延伸を行うことが好ましい。
【００５５】
フィルム（Ａ）の表面には、必要に応じて、各種の機能性コーティング層が形成されていてもよい。機能性コーティング層は、例えば、帯電防止層、粘接着剤層、接着層、易接着層、防眩（ノングレア）層、光触媒層などの防汚層、反射防止層、ハードコート層、紫外線遮蔽層、熱線遮蔽層、電磁波遮蔽層、ガスバリヤー層などである。これら、機能性コーティング層は、透明基材フィルムの延伸前に形成しても良いし、延伸後に形成しても良く、入射光面側、出光面側のいずれに形成してもよい。必要に応じて、両面に同じ機能性コーティング層を形成してもよく、異なる機能性コーティング層を形成してもよい。また、機能性コーティング層を積層した多層構造を形成してもよい。
【００５６】
＜２−１．アクリル樹脂＞
本発明におけるフィルム（Ａ）は、アクリル樹脂を含む樹脂組成物から構成されるものであることが好ましく、特にアクリル樹脂からなるものであることが好ましい。なお、本明細書において、アクリル樹脂は、アクリル系重合体、アクリル系樹脂、及びアクリル重合体と同義で使用する。
【００５７】
アクリル樹脂は、構成単位に（メタ）アクリル酸エステル単位を有する熱可塑性アクリル系重合体を主成分とする樹脂であり、本発明の効果を損なわない限り特に限定されず、公知の熱可塑性アクリル系重合体を用いることが出来る。アクリル系重合体の（メタ）アクリル酸エステル単位の含有量は１０質量％以上が好ましく、更に好ましくは３０質量％以上、特に好ましくは５０質量％以上である。また、アクリル系重合体が主鎖に環構造を有する場合には、全構成単位に占める（メタ）アクリル酸エステル単位の割合と環構造の含有率との合計は３０質量％以上が好ましく、より好ましくは５０質量％以上、さらに好ましくは７０質量％以上、特に好ましくは９０％重量以上である。
【００５８】
（メタ）アクリル酸エステル単量体の好ましい具体例としては、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシルなどの（メタ）アクリル酸アルキルエステル；（メタ）アクリル酸ベンジル；（メタ）アクリル酸クロロメチル；（メタ）アクリル酸２−クロロエチル；（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニルオキシエチル；（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル；（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル；（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル；（メタ）アクリル酸２，３，４，５，６−ペンタヒドロキシヘキシル及び（メタ）アクリル酸２，３，４，５−テトラヒドロキシペンチルなどが挙げられ、これらの（メタ）アクリル酸エステル単量体由来の構造単位のうち１種を単独で含んでいてもよいし、２種以上併存してもよい。中でも、熱安定性や光学特性に優れる点で（メタ）アクリル酸アルキルエステルが好ましく、メタクリル酸メチルが最も好ましい。
【００５９】
アクリル系重合体は主鎖に環構造を有していてもよい。この場合、アクリル樹脂のＴｇが高くなり、当該樹脂からなる透明基材フィルムの耐熱性が向上する。このように主鎖に環構造を有するアクリル系重合体を含むアクリル樹脂からなるフィルムは画像表示装置における光源などの発熱部近傍への配置が容易になるなど光学部材としての用途に好適である。
【００６０】
環構造の種類は特に限定されないが、例えば、ラクトン環構造、無水グルタル酸構造、グルタルイミド構造、Ｎ−置換マレイミド構造及び無水マレイン酸構造から選ばれる少なくとも１種である。
【００６１】
以下の一般式（１）に無水グルタル酸構造及びグルタルイミド構造を示す。
【００６２】
【化１】
2013190577.tif 000002
【００６３】
前記一般式（１）におけるＲ１、Ｒ２は互いに独立して水素原子、又はメチル基であり、Ｘ１は酸素原子又は窒素原子である。Ｘ１が酸素原子であるとき、Ｒ３は存在せず、Ｘ１が窒素原子のとき、Ｒ３は、水素原子、炭素数１から６の直鎖アルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基又はフェニル基である。
【００６４】
Ｘ１が酸素原子のとき一般式（１）により示される環構造は無水グルタル酸構造となる。無水グルタル酸構造は、例えば、（メタ）アクリル酸エステルと（メタ）アクリル酸との共重合体を分子内で脱アルコール環化縮合させて形成できる。
【００６５】
Ｘ１が窒素原子のとき、一般式（１）により示される環構造はグルタルイミド構造となる。グルタルイミド構造は、例えば、（メタ）アクリル酸エステル重合体をメチルアミンなどのイミド化剤によりイミド化して形成できる。
【００６６】
以下の一般式（２）に、無水マレイン酸構造及びＮ−置換マレイミド構造を示す。
【００６７】
【化２】
2013190577.tif 000003
【００６８】
前記一般式（２）におけるＲ４、Ｒ５は互いに独立して水素原子、又はメチル基であり、Ｘ２は酸素原子又は窒素原子である。Ｘ２が酸素原子であるとき、Ｒ６は存在せず、Ｘ２が窒素原子のとき、Ｒ６は、水素原子、炭素数１から６の直鎖アルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基又はフェニル基である。
【００６９】
Ｘ２が酸素原子のとき一般式（２）により示される環構造は無水マレイン酸構造となる。無水マレイン酸構造は、例えば、無水マレイン酸と（メタ）アクリル酸エステルとを共重合体して形成できる。
【００７０】
Ｘ２が窒素原子のとき、一般式（２）により示される環構造はＮ−置換マレイミド構造となる。Ｎ−置換マレイミド構造は、例えば、フェニルマレイミドなどのＮ−置換マレイミドと（メタ）アクリル酸エステルとを重合体して形成できる。
【００７１】
なお、一般式（１）、（２）の説明において例示した環構造を形成する各方法では、各々の環構造を形成に用いる重合体が全て（メタ）アクリル酸エステル単位を構成単として有するため、当該方法により得た樹脂はアクリル樹脂となる。
【００７２】
アクリル系重合体が主鎖に有していてもよいラクトン環構造は特に限定されず、例えば、４から８員環であってもよいが、環構造の安定性に優れることから５員環又は６員環であることが好ましく、６員環であることがより好ましい。６員環であるラクトン環構造は、例えば、特開２００４−１６８８８２号公報に開示されている構造であるが、前駆体の重合収率が高いこと、前駆体の環化縮合反応により、高いラクトン環含有率を有するアクリル系重合体が得られること、メタクリル酸メチル単位を構成単位として有する重合体を前駆体にできること、などの理由から以下の一般式（３）に示される構造が好ましい。
【００７３】
【化３】
2013190577.tif 000004
【００７４】
前記一般式（３）において、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は、互いに独立して、水素原子又は炭素数１から２０の範囲の有機残基である。当該有機残基は酸素原子を含んでいてもよい。
【００７５】
一般式（３）における有機残基は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基などの炭素数１から２０の範囲のアルキル基、エテニル基、プロペニル基などの炭素数２から２０の範囲の不飽和脂肪族炭化水素基、フェニル基、ナフチル基などの炭素数６から２０の範囲の芳香族炭化水素基であり、前記アルキル基、前記不飽和脂肪族炭化水素基、前記芳香族炭化水素基は、水素原子の一つ以上が、水酸基、カルボキシル基、エーテル基、及びエステル基から選ばれる少なくとも１種類の基により置換されていてもよい。
【００７６】
アクリル系重合体におけるラクトン環構造を除く前記環構造の含有率は特に限定されないが、例えば５〜９０％であり、好ましくは１０〜７０％であり、よりこの好ましくは１０〜６０％であり、さらに好ましくは１０〜５０％である。
【００７７】
アクリル系重合体が主鎖にラクトン環構造を有する場合、当該樹脂におけるラクトン環構造の含有率は特に限定はされないが、例えば５〜９０％であり、好ましくは１０〜８０％であり、より好ましくは１０〜７０％であり、さらに好ましくは２０〜６０％である。
【００７８】
アクリル系重合体における環構造の含有率が過渡に小さくなると、フィルムの耐熱性の低下や、耐溶剤性及び表面硬度が不十分となることがある。一方、前記含有率が過渡に大きくなると、フィルムの成形性や機械的特性が低下する。
【００７９】
主鎖に環構造を有するアクリル系重合体は公知の方法により製造できる。環構造が無水グルタル酸構造あるいはグルタルイミド構造であるアクリル系熱可塑性樹脂は、例えば、ＷＯ２００７／２６６５９号公報あるいはＷＯ２００５／１０８４３８号公報に記載の方法により製造できる。環構造が無水マレイン酸構造あるいはＮ−置換マレイミド構造であるアクリル系熱可塑性樹脂は、例えば、特開昭５７−１５３００８号公報、特開２００７−３１５３７号公報に記載の方法により製造できる。環構造がラクトン環構造であるアクリル系熱可塑性樹脂は、例えば、特開２００６−９６９６０号公報、特開２００６−１７１４６４号公報あるいは特開２００７−６３５４１号公報に記載の方法により製造できる。
【００８０】
アクリル系重合体は、上述した（メタ）アクリル酸エステル単量体由来以外の構造単位を含んでも良く、（メタ）アクリル酸エステル単量体以外の単量体を含む単量体混合物を重合して得られる。（メタ）アクリル酸エステル単量体以外の単量体としては、例えば、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、α−ヒドロキシメチルスチレン、α−ヒドロキシエチルスチレン、クロロスチレン、アクリロニトリル、メチルビニルケトン、エチレン、プロピレン、４−メチル−１−ペンテン、酢酸ビニル、メタリルアルコール、アリルアルコール、２−ヒドロキシメチル−１−ブテンなどのアリルアルコール、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸などの（メタ）アクリル酸、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸エチルなどの２−（ヒドロキシアルキル）アクリル酸エステル、２−（ヒドロキシエチル）アクリル酸などの２−（ヒドロキシアルキル）アクリル酸、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾールなどが挙げられ、これらの単量体は１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００８１】
アクリル系重合体の重量平均分子量は、例えば１，０００〜５００，０００の範囲であり、好ましくは５，０００〜３００，０００の範囲であり、より好ましくは１０，０００〜２５０，０００の範囲であり、さらに好ましくは５０，０００〜２００，０００の範囲である。
【００８２】
アクリル系重合体のガラス転移温度は、例えば１００℃以上であり、好ましくは１１０℃以上であり、より好ましくは１２０℃以上であり、さらに好ましくは１３０℃以上である。ガラス転移温度の上限としては成形加工性が乏しくなることから２００℃以下が好ましい。
【００８３】
アクリル樹脂は耐熱性、物性、光学特性と損なわない範囲で紫外線吸収能を有してもよい。具体的には、アクリル樹脂を製造する時の単量体成分として紫外線吸収性単量体及び／又は紫外線安定性単量体を用いる方法や、紫外線吸収剤及び／又は紫外線安定剤を前記アクリル樹脂に配合する方法がある。またこれらは、アクリル樹脂を含む光学フィルムに支障がない限り、これらの方法を併用してもかまわない。また、前記紫外線吸収機能を持続させるためには、紫外線吸収性単量体と紫外線安定性単量体を併用することや、紫外線吸収剤と紫外線安定剤を併用する事が好ましい。また、紫外線吸収性単量体及び／又は紫外線安定性単量体と合わせて、紫外線吸収剤及び／又は紫外線安定剤を併用することも好ましい。
【００８４】
前記紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系化合物、サリシケート系化合物、ベンゾエート系化合物、トリアゾール系化合物及びトリアジン系化合物等が挙げられる。ベンゾフェノン系化合物としては、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、４−ｎ−オクチルオキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクチルオキシベンゾフェノン、ビス（５−ベンゾイル−４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）メタン、１，４−ビス（４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェノン）−ブタン等が挙げられる。サリシケート系化合物としては、ｐ−ｔ−ブチルフェニルサリシケート等が挙げられる。ベンゾエート系化合物としては、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンゾエート等が挙げられる。また、トリアゾール系化合物としては、２，２’−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］、２−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−ｐ−クレゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール、２−ベンゾトリアゾール−２−イル−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２−［５−クロロ（２Ｈ）−ベンゾトリアゾール−２−イル］−４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−メチル−６−（３，４，５，６−テトラヒドロフタルイミジルメチル）フェノール、メチル３−（３−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート／ポリエチレングリコール３００の反応生成物、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、２−（５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、３−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシ−Ｃ７−９側鎖及び直鎖アルキルエステルが挙げられる。さらに、トリアジン系化合物としては、２−モノ（ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン化合物や２，４−ビス（ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン化合物、２，４，６−トリス（ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン化合物が挙げられ、具体的には、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−エトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−（２−ヒドロキシ−４−プロポキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル��（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシエトキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−６−（２，４−ジブトキシフェニル）−１，３−５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−エトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−プロポキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−エトキシエトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−ブトキシエトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−プロポキシエトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−メトキシカルボニルプロピルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−エトキシカルボニルエチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−（１−（２−エトキシヘキシルオキシ）−１−オキソプロパン−２−イルオキシ）フェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−３−メチル−４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−３−メチル−４−エトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−３−メチル−４−プロポキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−３−メチル−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−３−メチル−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−３−メチル−４−ヘキシルオキシフェニル）−��，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−３−メチル−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−３−メチル−４−ドデシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−３−メチル−４−ベンジルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−３−メチル−４−エトキシエトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−３−メチル−４−ブトキシエトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−３−メチル−４−プロポキシエトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−３−メチル−４−メトキシカルボニルプロピルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−３−メチル−４−エトキシカルボニルエチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−３−メチル−４−（１−（２−エトキシヘキシルオキシ）−１−オキソプロパン−２−イルオキシ）フェニル）−１，３，５−トリアジン等が挙げられる。その中でも、非晶性の熱可塑性樹脂、特にアクリル系樹脂と相溶性が高く吸収特性が優れている点から、２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−［２−ヒドロキシ−４−（３−アルキルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）−５−α−クミルフェニル］−ｓ−トリアジン骨格（アルキルオキシ；オクチルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシなどの長鎖アルキルオキシ基）を有する紫外線吸収剤が挙げられる。また、２，４，６−トリス（ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン骨格を有する紫外線吸収剤が好ましく用いられ、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−長鎖アルキルオキシ基置換フェニル）−１，３，５−トリアジン骨格や２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−３−アルキル−４−長鎖アルキルオキシ基置換フェニル）−１，３，５−トリアジン骨格を有する紫外線吸収剤が特に好ましいトリアジン系紫外線吸収剤である。市販品としては、例えば、トリアジン系紫外線吸収剤として「チヌビン１５７７」「チヌビン４６０」「チヌビン４７７」（ＢＡＳＦジャパン製）、トリアゾール系紫外線吸収剤として「アデカスタブＬＡ−３１」（ＡＤＥＫＡ製）等が挙げられる。
【００８５】
これらは単独で、又は２種類以上の組み合わせて使用することができる。また、紫外線吸収剤と合わせて、前記紫外線吸収性単量体を共重合する手法を併用することも好ましい。紫外線安定性単量体紫外線吸収剤の配合量は特に限定されないが、非晶性の熱可塑性樹脂を含むフィルム中に０．０１〜２５質量％であることが好ましく、さらに好ましくは０．０５〜１０質量％である。添加量が少なすぎると耐候性向上の寄与が低く、また多すぎると機械的強度の低下や黄変を引き起こす場合がある。
【００８６】
アクリル樹脂は、本発明の効果を損なわない範囲で、その他の樹脂を含んでいてもよい。その他の樹脂の含有割合は、好ましくは０〜５０質量％、より好ましくは０〜２５質量％、さらに好ましくは０〜１０質量％である。
【００８７】
その他の樹脂成分としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、ポリ（４−メチル−１−ペンテン）等のオレフィン系樹脂；塩化ビニル、塩素化ビニル樹脂等の含ハロゲン系樹脂；ポリメタクリル酸メチル等のアクリル系樹脂；ポリスチレン、スチレン−メタクリル酸メチル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンブロック共重合体等のスチレン系樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂；ポリ乳酸、ポリブチレンサクシネートなどの生分解性ポリエステル樹脂；セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートなどのセルロース系樹脂；ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン６１０等のポリアミド樹脂；ポリアセタール：ポリカーボネート；ポリフェニレンオキシド；ポリフェニレンスルフィド：ポリエーテルエーテルケトン；ポリエーテルニトリル；ポリサルホン；ポリエーテルサルホン：ポリオキシペンジレン；ポリアミドイミド；ポリブタジエン系ゴム、アクリル系ゴムを配合したＡＢＳ樹脂やＡＳＡ樹脂等のゴム質重合体；などが挙げられる。相溶性の観点からは、スチレン−アクリロニトリル共重合体が好ましい。また、ゴム質重合体は、表面にアクリル樹脂と相溶し得る組成のグラフト部を有するのが好ましく、ゴム質重合体の平均粒子径は、フィルムとした際の透明性向上の観点から、３００ｎｍ以下である事が好ましく、２００ｎｍ以下である事がより好ましい。
【００８８】
アクリル樹脂は、その他の添加剤を含んでいてもよい。アクリル樹脂中のその他の添加剤の含有割合は、好ましくは０〜５質量％、より好ましくは０〜２質量％、さらに好ましくは０〜０．５質量％である。その他の添加剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系、リン系、イオウ系等の酸化防止剤；耐光安定剤、耐候安定剤、熱安定剤等の安定剤；位相差上昇剤、位相差低減剤、位相差安定剤等の位相差調整剤；ガラス繊維、炭素繊維等の補強材；近赤外線吸収剤；トリス（ジブロモプロピル）ホスフェート、トリアリルホスフェート、酸化アンチモン等の難燃剤；アニオン系、カチオン系、ノニオン系の界面活性剤等の帯電防止剤；無機顔料、有機顔料、染料等の着色剤；有機フィラーや無機フィラー；樹脂改質剤；可塑剤；滑剤などが挙げられる。
【００８９】
前記酸化防止剤は、公知の酸化防止剤が使用できる。フェノール系酸化防止剤としては、例えば、ｎ−オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ｎ−オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アセテート、ｎ−オクタデシル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ｎ−ヘキシル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルベンゾエート、ｎ−ドデシル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルベンゾエート、ネオドデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ドデシル−β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、エチル−α−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）イソブチレート、オクタデシル−α−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）イソブチレート、オクタデシル−α−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２−（ｎ−オクチルチオ）エチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−（ｎ−オクチルチオ）エチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−（２−ヒドロキシエチルチオ）エチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ジエチルグリコールビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニル）プロピオネート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ステアルアミド−Ｎ，Ｎ−ビス−［エチレン−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ｎ−ブチルイミノ−Ｎ，Ｎ−ビス−［エチレン−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２−（２−ステアロイルオキシエチルチオ）エチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−（２−ステアロイルオキシエチルチオ）エチル−７−（３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ヘプタノエート、１，２−プロピレングリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、エチレングリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ネオペンチルグリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、エチレングリコールビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート）、グリセリン−１−ｎ−オクタデカノエート−２，３−ビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート）、ペンタエリスリトールテトラキス−［３−（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，１，１−トリメチロールエタントリス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー���］、ソルビトールヘキサ−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２−ヒドロキシエチル−７−（３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２−ステアロイルオキシエチル−７−（３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ヘプタノエート、１，６−ｎ−ヘキサンジオールビス−［（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ペンタエリトリトールテトラキス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）、３，９−ビス［１，１−ジメチル−２−［β−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ］エチル］２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］−ウンデカン、２，４−ジ−ｔ−アミル−６−［１−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニル）エチル］フェニルアクリレート及び２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレートが挙げられる。
【００９０】
チオエーテル系酸化防止剤としては、例えば、ペンタエリスリチルテトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）、ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネートが挙げられる。
【００９１】
リン系酸化防止剤としては、例えば、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスファイト、２−［［２，４，８，１０−テトラキス（１，１−ジメチルエチル）ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサフォスフェピン−６−イル］オキシ］−Ｎ，Ｎ−ビス［２−［［２，４，８，１０−テトラキス（１，１ジメチルエチル）ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサフォスフェピン−６−イル］オキシ］−エチル］エタナミン、ジフェニルトリデシルフォスファイト、トリフェニルフォスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリストールジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジフォスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）フォスファイトが挙げられる。
【００９２】
＜３．層（Ｂ）＞
本発明における層（Ｂ）は、平均粒子径が３ｎｍ以上５０ｎｍ以下の微粒子を含む層であればよく、その他の構成については限定されない。
【００９３】
また、層（Ｂ）の屈折率は低いことが好ましい。例えば、延伸前の屈折率が１．１０〜１．４５であることが好ましい。ここで、「屈折率」とは、層（Ｂ）の波長５５０ｎｍでの屈折率を意図し、好ましくは１．１１〜１．４０であり、さらに好ましくは１．１１〜１．３８である。かかる低屈折率の層（Ｂ）を形成した後、延伸して、表面に微細構造（例えば、凹凸）を作製することが好ましい。
【００９４】
また、前記層（Ｂ）は、前記フィルム（Ａ）の少なくとも片面に形成された後、延伸して得られるものであることが好ましい。
【００９５】
フィルム（Ａ）上に層（Ｂ）を形成する工程は、特に限定されない。例えば、層（Ｂ）を構成する原材料を溶媒に可溶化及び／又は分散させたコーティング組成物（Ｂ’）を用いれば簡易に形成できる。例えば、フィルム（Ａ）上に、層（Ｂ）形成用のコーティング組成物（Ｂ’）をインライン塗工した後、必要に応じて乾燥及び／又は加熱し、層（Ｂ）を形成する方法を挙げることができる。その後、層（Ｂ）が積層されたフィルム（Ａ）を延伸する延伸工程を実施すればよい。
【００９６】
層（Ｂ）形成用のコーティング組成物（Ｂ’）を塗工する工程についても特に限定されず、任意の適切な塗布方法が採用され得る。具体例としては、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、スライドコート法、バーコート法、ロールコート法、グラビアコート法、メニスカスコート法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ビードコート法が挙げられる。
【００９７】
コーティング組成物（Ｂ’）をフィルム（Ａ）上に塗工した後、層（Ｂ）を形成する方法についても、特に限定されない。一般的な乾燥又は硬化方法を実施すればよく、任意の適切な方法及び条件が採用され得る。例えば、コーティング組成物（Ｂ’）を塗布後、０〜２００℃で溶剤を蒸発させて乾燥し、熱及び／又は放射線で硬化処理を行う。放射線による場合には、紫外線又は電子線を用いることが好ましい。
【００９８】
また、層（Ｂ）の膜厚は１８０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下であることが好ましいが、１９０ｎｍ〜１８００ｎｍであることがより好ましく、１９５ｎｍ〜１５００ｎｍであることがさらに好ましく、２００ｎｍ〜１２００ｎｍであることが特に好ましい。また、上限値として、１０００ｎｍとすることもできる。この範囲内であれば、層（Ｂ）を安定して形成でき、高全光線透過率及び高ヘイズを達成できる。なお、層（Ｂ）の厚みは、延伸処理された後の厚みを意図する。この範囲内であれば、層（Ｂ）を安定して形成でき、高全光線透過率及び高ヘイズを達成できる。
【００９９】
さらに、層（Ｂ）が、微粒子とバインダー樹脂とを含むものであることが好ましく、当該微粒子：バインダー樹脂の質量比は、９５：５〜６０：４０であることが好ましい。この場合、コーティング組成物（Ｂ’）における微粒子：バインダー樹脂の比も前記比率と同様である。微粒子の配合量がこの範囲内であれば、層（Ｂ）とフィルム（Ａ）との密着強度や、層（Ｂ）の成膜性が十分となる。また、バインダー樹脂の比率がこの範囲内であれば、得られる層（Ｂ）の高全光線透過率及び高ヘイズを達成できる。
【０１００】
特に、後述する実施例に示すように、層（Ｂ）における微粒子：バインダー樹脂の比と、層（Ｂ）の厚みを適切に調整することにより、高い全光線透過率と高いヘイズを両立させることが可能となる。
【０１０１】
以下、層（Ｂ）の各構成についてさらに説明する。
【０１０２】
＜３−１．微粒子＞
微粒子は、（ｉ）無機微粒子、（ｉｉ）有機微粒子、（ｉｉｉ）有機無機複合微粒子（以下、複合微粒子ともいう）、のいずれであってもよい。特に、水系の溶媒に分散し得る無機微粒子とバインダー樹脂を使用することは防爆設備を追加する必要がない等の点でコスト／工程の低減を図ることができるため好ましい。ただし、防爆設備付きの乾燥機（例えば、延伸機のオーブン）があれば、水系溶媒にこだわる必要性は少なくなる。
【０１０３】
（ｉ）無機微粒子は、例えば、金属単体、無機酸化物、無機炭酸塩、無機硫酸塩、無機リン酸塩などの任意の適切な無機物から構成される粒子であればよい。無機物は、好ましくは無機酸化物である。本明細書において「無機酸化物」とは、金属元素が主に酸素原子との結合を介して３次元のネットワークを構成した種々の含酸素金属化合物をいう。無機酸化物を構成する金属元素としては、たとえば、元素周期律表ＩＩ〜ＶＩ族から選ばれる元素が好ましく、ＩＩＩ〜Ｖ族から選ばれる元素がさらに好ましい。その中でも、Ｓｉ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｒから選ばれる元素が特に好ましく、製造し易く、入手が容易なことから金属元素がＳｉであるシリカが最も好ましい。無機微粒子は、１種の無機酸化物で構成されてもよく、２種以上の無機酸化物で構成されてもよい。なお、本明細書においては、便宜上、金属及び半金属を総称して金属と称することがある。
【０１０４】
無機微粒子は、例えば、球状、針状、板状、鱗片状、破砕粒状などの任意の適切な形状を有する。無機微粒子の平均粒子径は、好ましくは３〜５０ｎｍである。無機微粒子の平均粒子径が３ｎｍ未満であると、複合微粒子の表面エネルギーが高くなり、複合微粒子の凝集が起こりやすくなる。無機コア粒子の平均粒子径が５０ｎｍを超えると、得られる層（Ｂ）の高透過率性が不十分となるおそれがある。
【０１０５】
無機微粒子の粒子径の変動係数（粒子径分布）は、好ましくは５０％以下、さらに好ましくは４０％以下、最も好ましくは３０％以下である。変動係数が５０％を超えると（無機微粒子の粒子径分布が大きすぎると）、得られる層（Ｂ）表面の凹凸が激しくなり、本発明のフィルムの高透過率性が失われるおそれがある。
【０１０６】
（ｉｉ）有機微粒子としては、例えば、ベンゾグアナミン、メラミンおよび尿素から選ばれる少なくとも１種のアミノ化合物とホルムアルデヒドとの縮合反応により得られるアミノ樹脂の硬化粒子（特開昭６２−０６８８１１号公報参照）；ジビニルベンゼンを単独で重合あるいは他のビニル単量体と共重合させて得られるジビニルベンゼン架橋樹脂粒子（特開平１−１４４４２９号公報参照）を挙げることができる。また、微粒子の表面の少なくとも一部を被覆して得られるコアシェル構造を有する微粒子であってもよい。
【０１０７】
（ｉｉｉ）複合微粒子は、有機質部分と無機質部分とからなる粒子であり、例えば、有機重合体と、有機重合体の少なくとも１つの炭素原子にケイ素原子が直接化学結合した有機ケイ素を分子内に有するポリシロキサン骨格とを含む複合体粒子である。前記無機コア粒子としては、例えば、上述した（ｉ）無機微粒子を好適に使用し得る。このような複合体粒子は、縮合工程と重合工程と熱処理工程とを有する公知の製造方法により得ることができる。
【０１０８】
有機重合体は、例えば、直鎖状、分枝状、架橋構造などの任意の適切な構造を有し得る。有機重合体の具体例としては、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル系重合体；ポリスチレン、スチレン−メタクリル酸メチル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンブロック共重合体等のスチレン系重合体；ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、ポリ（４−メチル−１−ペンテン）などのオレフィン系重合体；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル；ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル等のビニル系重合体；ポリ塩化ビニリデン及びこれらの共重合体が挙げられる。これらをアミノ基、エポキシ基、水酸基、カルボキシル基等の官能基で一部変性した重合体を用いてもよい。
【０１０９】
本発明において、フッ素原子を有する単量体を含む単量体成分を重合してなる重合体を用いることは、より屈折率を低くすることが可能となり、本発明のフィルムにおいて入射光の低反射化、および高透過化が大きくなるため好ましい。フッ素原子を有する単量体としては、パーフルオロアルキル基と重合性２重結合基とを有する単量体が好ましく、パーフルオロアルキル基としては、パーフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロデシル基、パーフルオロドデシル基、パーフルオロテトラデシル基が好ましい。このような単量体は、１種又は２種以上を用いることができる。
【０１１０】
前記フッ素原子を有する単量体（フッ素モノマー）の市販品としては、ライトエステルＦＭ−１０８、ライトエステルＭ−３Ｆ、（いずれも商品名、共栄社化学社製）；ビスコート３Ｆ、ビスコート３ＦＭ、ビスコート４Ｆ、ビスコート８Ｆ、ビスコート８ＦＭ（いずれも商品名、大阪有機化学工業社製）；ＣＨＥＭＩＮＯＸ  ＦＡＡＣ、ＣＨＥＭＩＮＯＸ  ＦＡＭＡＣ、ＣＨＥＭＩＮＯＸ  ＦＡＡＣ−Ｍ、ＣＨＥＭＩＮＯＸＦＡＭＡＣ−Ｍ、ＣＨＥＭＩＮＯＸ  ＰＦＡＥ、ＣＨＥＭＩＮＯＸ  ＰＦＯＥ（いずれも商品名、日本メクトロン社製）等が挙げられる。
【０１１１】
前記のようにして得られる複合微粒子における無機コア粒子／有機重合体の比率は、好ましくは９０／１０〜４０／６０、さらに好ましくは８０／２０〜５０／５０である。無機コア粒子の比率が高すぎる場合には、透明基材フィルム層との密着強度や複合微粒子の成膜性が不十分となる場合がある。有機重合体の比率が高すぎる場合には、得られる複合微粒子層の屈折率が高くなり、入射光の反射率が上昇して高透過率性が不十分となる場合がある。
【０１１２】
＜３−２．バインダー樹脂＞
本発明において使用可能なバインダー樹脂の具体例としては、ポリメタクリル酸メチル等の（メタ）アクリル系重合体；ポリスチレン、スチレン−メタクリル酸メチル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンブロック共重合体等のスチレン系重合体；ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、ポリ（４−メチル−１−ペンテン）などのオレフィン系重合体；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル；ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル等のビニル系重合体；ポリ塩化ビニリデン、ポリウレタン、（メタ）アクリルウレタン重合体及びこれらの共重合体が挙げられる。これらをアミノ基、エポキシ基、水酸基、カルボキシル基等の官能基で一部変性した重合体を用いてもよい。
【０１１３】
これらの中でも、微粒子の分散性が良好であり、フィルム（Ａ）と層（Ｂ）との密着強度も高くなることから、（メタ）アクリル系重合体、ポリウレタン、（メタ）アクリルウレタン重合体が好ましい。
【０１１４】
＜３−３．溶媒＞
層（Ｂ）が前記微粒子とバインダー樹脂とを含む構成である場合、コーティング組成物（Ｂ’）は、微粒子、バインダー樹脂、溶媒を含むものであることが好ましい。
【０１１５】
本発明のコーティング組成物（Ｂ’）において使用可能な溶媒としては、微粒子及びバインダー樹脂を分散可能である限りにおいて任意の適切な溶媒が採用され得る。溶媒の具体例としては、水、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類；テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチルエーテル等のエーテル類；メタノール、エタノール、ｉｓｏ−プロピルアルコール、ｎ−ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール類；塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類が挙げられる。溶媒は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。なかでも、防爆設備を必要としない観点から水系溶媒（例えば、水と相溶性が高い溶媒）を用いることが好ましい。
【０１１６】
＜３−４．その他＞
本発明における層（Ｂ）又はコーティング組成物（Ｂ’）は、層（Ｂ）の耐溶剤性、耐スリ傷性、耐候性、耐薬品性等の皮膜物性が向上することから、微粒子及び／又はバインダー樹脂中に導入した官能基（Ｘ）と反応することができる官能基（Ｙ）を１分子中に２個以上有する架橋剤を含有し得る。前記官能基（Ｘ）としては、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基、メルカプト基、オキサゾリン基、アルデヒド基、加水分解性シリル基、（メタ）アクリロイル基、ビニル基が好適であり、これらの中でも、水酸基、（メタ）アクリロイル基、ビニル基が好ましい。官能基（Ｘ）と反応する官能基（Ｙ）としては、イソシアネート基、エポキシ基、水酸基、メルカプト基、アミノ基、不飽和基、カルボキシル基、加水分解性シリル基、（メタ）アクリロイル基、ビニル基が好適である。例えば、微粒子及び／又はバインダー樹脂が水酸基を有する場合、多官能イソシアネート化合物、メラミン化合物、アミノプラスト樹脂が好適である。（メタ）アクリロイル基、ビニル基を有する場合は、多官能アクリル系樹脂等が挙げられる。多官能アクリル系樹脂としては、ポリオールアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート等の樹脂を挙げることができる。
【０１１７】
また、本発明における層（Ｂ）又はコーティング組成物（Ｂ’）は、目的に応じて任意の適切な添加剤をさらに含有し得る。添加剤の具体例としては、レベリング剤、顔料、顔料分散剤、紫外線吸収剤、抗酸化剤、粘性改質剤、耐光安定剤、金属不活性化剤、過酸化物分解剤、充填剤、補強剤、可塑剤、潤滑剤、防食剤、防錆剤、乳化剤、鋳型脱型剤、蛍光性増白剤、有機防炎剤、無機防炎剤、滴下防止剤、溶融流改質剤、静電防止剤、すべり付与剤、密着性付与剤、防汚剤、界面活性剤、消泡剤、重合禁止剤、光増感剤、表面改良剤、表面調整剤、シランカップリング剤が挙げられる。
【０１１８】
本発明における層（Ｂ）又はコーティング組成物（Ｂ’）は、任意の適切な有機又は無機微粒子をさらに含有してもよい。代表的には、このような有機又は無機微粒子は、得られる複合微粒子層に目的に応じた機能（例えば、屈折率調整、導電性、防眩性）を付与するために用いられる。複合微粒子層の高屈折率化及び導電性付与に有用な微粒子の具体例としては、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化スズ、スズドープ酸化インジウム、アンチモンドープ酸化スズ、インジウムドープ酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化アンチモンが挙げられる。複合微粒子層の低屈折率化に有用な微粒子の具体例としては、フッ化マグネシウム、シリカ、中空シリカが挙げられる。防眩性付与に有用な微粒子の具体例としては、前記の微粒子に加えて、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、タルク、カオリンなどの無機粒子；シリコン樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアミン樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂及びこれらの共重合樹脂などの有機微粒子が挙げられる。これらの微粒子は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１１９】
＜４．光学フィルムの製造方法＞
本発明に係る光学フィルムの製造方法は、全光線透過率が８５％以上、ヘイズが４０％以上である光学フィルムの製造方法であり、少なくとも片面に、平均粒子径が３ｎｍ以上５０ｎｍ以下の微粒子を含む層（Ｂ）が形成されたフィルム（Ａ）を延伸する延伸工程を有するものであればよく、その他の構成は特に限定されない。また、本方法は、フィルム（Ａ）の少なくとも片面に、平均粒子径が３ｎｍ以上５０ｎｍ以下の微粒子を含む層（Ｂ）を備える光学フィルムの製造方法であって、層（Ｂ）の塗工後に延伸する光学フィルムの製造方法とも換言できる。
【０１２０】
また、本光学フィルムの製造方法は、さらに、前記フィルム（Ａ）上に、前記層（Ｂ）を形成する工程を有し、前記工程後に、前記延伸工程を連続的に実施するものであることが好ましい。フィルム（Ａ）上に層（Ｂ）を形成する工程等について、前記＜３＞欄で説明した方法を好適に利用できる。
【０１２１】
延伸工程で行う延伸処理は、縦延伸又は横延伸のいずれでもよく、同時二軸延伸であってもよい。また、長尺フィルムに対し斜め方向に延伸する斜め延伸であってもよい。なお、縦延伸である場合は、層（Ｂ）の表面擦傷などの悪影響を回避するためにも加熱ロールなどと延伸中のフィルムと接触しないゾーン延伸が好ましい。ゾーン延伸法は、２つのニップロール間に加熱ゾーンを有する縦一軸延伸である。
【０１２２】
また、横延伸である場合は、従来公知の任意の延伸方法が採用されてもよく、テンター延伸等が挙げられる。
【０１２３】
さらに、同時二軸延伸法についても、特に限定されない。例えば、チェーンリンクによって無端に連結された等長リンク装置にフィルムを把持するクリップが設けられたものが平面視で左右対称に配置され、左右のクリップ間の距離をガイドレールによって徐々に拡大して横延伸（ＴＤ延伸）を行うと同時に、等長リンク装置の伸長によってクリップのピッチを徐々に拡大することにより縦延伸（ＭＤ延伸）を行うことにより、同時二軸延伸を行う方法を例示できる。かかる同時二軸延伸のフィルム延伸装置としては、例えば、特開２００８−３０３９３号公報や特開２００８−４４３３９号公報に記載のものを例示できる。
【０１２４】
逐次二軸延伸又は同時二軸延伸により、フィルムの機械的強度が向上し、フィルム性能が向上する。なお、二軸延伸後のフィルムに層（Ｂ）を形成した場合、乾燥のために加熱処理を行う場合があるが、その際の熱により、延伸の配向が緩和されてしまうことがある。このため、層（Ｂ）の形成後に延伸されていればよく、未延伸フィルムに層（Ｂ）を形成した後に逐次、あるいは同時二軸延伸を行う方法、縦延伸したフィルムに層（Ｂ）を形成した後、横延伸、あるいは同時二軸延伸を行う方法などが選ばれる。
【０１２５】
延伸工程における延伸温度は、前記フィルムのガラス転移温度近傍であることが好ましく、具体的には、好ましくは（ガラス転移温度−３０℃）〜（ガラス転移温度＋１００℃）、より好ましくは（ガラス転移温度−２０℃）〜（ガラス転移温度＋８０℃）の範囲内である。延伸温度が（ガラス転移温度−３０℃）未満であると、充分な延伸倍率が得られないおそれがある。逆に、延伸温度が（ガラス転移温度＋１００℃）超えると、樹脂組成物の流動（フロー）が起こり、安定な延伸が行えないおそれがある。
【０１２６】
面積比で定義した延伸倍率は、好ましくは１．１〜２５倍、より好ましくは１．３〜１０倍である。延伸倍率が１．１倍未満であると、延伸に伴う靭性の向上につながらないおそれがある。延伸倍率が２５倍を超えると、延伸倍率を上げるだけの効果が認められないおそれがある。
【０１２７】
延伸速度は、一方向で、好ましくは１０〜２０，０００％／ｍｉｎ、より好ましく１００〜１０，０００％／ｍｉｎである。延伸速度が１０％／ｍｉｎ未満であると、充分な延伸倍率を得るために時間がかかり、製造コストが高くなるおそれがある。延伸速度が２０，０００％／ｍｉｎを超えると、延伸フィルムの破断等が起こるおそれがある。
【０１２８】
延伸したフィルムは、その光学的等方性や機械的特性を安定化させるために、延伸処理後に熱処理（アニーリング）等を行うことができる。熱処理の条件は、任意の適切な条件を採用することができる。
【０１２９】
本光学フィルムの製造方法によれば、簡便な方法かつ安定的に光学フィルムを製造することができる。例えば、本製造方法では、層（Ｂ）を延伸後のフィルム（Ａ）に塗布する形態ではなく、延伸前のフィルム（Ａ）に、層（Ｂ）を塗工し、乾燥のための加熱処理を行うと共に延伸工程を実施するものである。このため、本製造方法によれば、塗工設備の追加のみで事足り、層（Ｂ）形成のためだけの乾燥炉を追加する必要がない等の点でコスト／工程の低減を図ることができる。
【０１３０】
加えて、フィルム（Ａ）として、アクリル樹脂のように脆い透明基材フィルムを使用する場合、従来、二軸延伸によって強度を向上させていた。しかし、この場合、延伸後のフィルム（Ａ）に層（Ｂ）を塗工した後、乾燥させると、乾燥処理の際の熱によって、一旦延伸されたフィルム（Ａ）の配向が緩和されてしまい、強度が低下するという問題があった。しかし、本製造方法によれば、かかる問題は解決できる。具体的には、本製造方法では、（ｉ）層（Ｂ）を塗工し乾燥（加熱）させた後、フィルム（Ａ）の延伸処理を実施する、あるいは（ｉｉ）層（Ｂ）の乾燥（加熱）と同時に延伸処理を実施するため、延伸後のフィルム（Ａ）を再加熱することによる配向の緩和、強度の低下といった問題を回避できる。
【０１３１】
＜５．光学フィルムの利用＞
本発明に係る光学フィルムは、例えば、偏光板のための偏光子保護フィルムとして利用できる。すなわち、本発明には、上述した本発明に係る光学フィルムを用いた偏光子保護フィルムが含まれる。
【０１３２】
さらに、偏光子と、前記偏光子保護フィルムと、を備える偏光板も本発明に包含される。かかる偏光板は、前記光学フィルムの層（Ｂ）を入射光面側に有していることが好ましく、偏光子の両面に前記光学フィルムを積層してもよい。前記光学フィルム以外は、公知の構成が可能で有り、公知の製法を用いて製造が可能である。
【０１３３】
本発明に係る偏光板の好ましい実施形態としては、例えば、ポリビニルアルコール系脂フィルムを二色性物質（ヨウ素や二色性染料など）で染色して一軸延伸した偏光子の片面あるいは両面に、接着剤層あるいはアンカー層を介して、前記光学フィルムを接着してなる形態である。
【０１３４】
本偏光板に用いる偏光子としては、特定の振動方向をもつ光のみを透過する機能を有する偏光子であれば如何なるものでもよく、例えばポリビニルアルコール系フィルム等を延伸し、ヨウ素や二色性染料などで染色したポリビニルアルコール系偏光子；ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等のポリエン系偏光子；多層積層体あるいはコレステリック液晶を用いた反射型偏光子；薄膜結晶フィルム系偏光子等が挙げられ、これらのなかでもポリビニルアルコール系脂フィルムを二色性物質で染色して一軸延伸した偏光子が好適に用いられる。これら偏光子の厚さは特に制限されず、一般的に、５〜１００μｍ程度である。
【０１３５】
本偏光板においては、光学フィルムが偏光子に接着剤層を介して接着されてなることが好ましい。好ましい接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂の接着剤、紫外線や電子線などの活性エネルギー線で硬化する接着剤やアクリル系、シリコン系、ゴム系等の粘着剤が挙げられる。なお、偏光子の偏光機能が低下しない条件で加熱圧着してもよいことはいうまでもなく、その場合は、ゆるやかな加熱圧着条件で接着することができる。
【０１３６】
接着剤がポリビニルアルコール系樹脂の場合、ポリビニルアルコール系樹脂は、特に限定されないが、例えば、ポリ酢酸ビニルをケン化して得られたポリビニルアルコール；その誘導体；更に酢酸ビニルと共重合性を有する単量体との共重合体のケン化物；ポリビニルアルコールをアセタール化、ウレタン化、エーテル化、グラフト化、リン酸エステル化等した変性ポリビニルアルコール；などが挙げられる。前記単量体としては、（無水）マレイン酸、フマール酸、クロトン酸、イタコン酸、（メタ）アクリル酸等の不飽和カルボン酸及びそのエステル類；エチレン、プロピレン等のα−オレフィン、（メタ）アリルスルホン酸（ソーダ）、スルホン酸ソーダ（モノアルキルマレート）、ジスルホン酸ソーダアルキルマレート、Ｎ−メチロールアクリルアミド、アクリルアミドアルキルスルホン酸アルカリ塩、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルピロリドン誘導体等が挙げられる。これらポリビニルアルコール系樹脂は１種のみ用いても良いし２種以上を併用してもよい。
【０１３７】
前記ポリビニルアルコール系樹脂は、接着性の点からは、平均重合度が好ましくは１００〜３０００、より好ましくは５００〜３０００であり、平均ケン化度が好ましくは８５〜１００モル％、より好ましくは９０〜１００モル％である。
【０１３８】
前記ポリビニルアルコール系樹脂としては、アセトアセチル基を有するポリビニルアルコール系樹脂を用いることができる。アセトアセチル基を有するポリビニルアルコ−ル系樹脂は、反応性の高い官能基を有するポリビニルアルコール系接着剤であり、偏光板の耐久性が向上する点で好ましい。
【０１３９】
アセトアセチル基を含有するポリビニルアルコール系樹脂は、ポリビニルアルコール系樹脂とジケテンとを公知の方法で反応して得られる。例えば、ポリビニルアルコール系樹脂を酢酸等の溶媒中に分散させておき、これにジケテンを添加する方法、ポリビニルアルコール系樹脂をジメチルホルムアミド又はジオキサン等の溶媒にあらかじめ溶解しておき、これにジケテンを添加する方法等が挙げられる。また、ポリビニルアルコールにジケテンガス又は液状ジケテンを直接接触させる方法が挙げられる。
【０１４０】
アセトアセチル基を有するポリビニルアルコール系樹脂のアセトアセチル基変性度は、０．１モル％以上であれば特に制限はない。０．１モル％未満では接着剤層の耐水性が不十分であり不適当である。アセトアセチル基変性度は、好ましくは０．１〜４０モル％、さらに好ましくは１〜２０モル％である。アセトアセチル基変性度が４０モル％を超えると架橋剤との反応点が少なくなり、耐水性の向上効果が小さい。アセトアセチル基変性度はＮＭＲにより測定した値である。
【０１４１】
前記架橋剤としては、ポリビニルアルコール系接着剤に用いられているものを特に制限なく使用できる。架橋剤は、ポリビニルアルコール系樹脂と反応性を有する官能基を少なくとも２つ有する化合物を使用できる。例えば、エチレンジアミン、トリエチレンアミン、ヘキサメチレンジアミン等のアルキレン基とアミノ基を２個有するアルキレンジアミン類（なかでもヘキサメチレンジアミンが好ましい）；トリレンジイソシアネート、水素化トリレンジイソシアネート、トリメチレンプロパントリレンジイソシアネートアダクト、トリフェニルメタントリイソシアネート、メチレンビス（４−フェニルメタントリイソシアネート、イソホロンジイソシアネート及びこれらのケトオキシムブロック物又はフェノ−ルブロック物等のイソシアネート類；エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセリンジ又はトリグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ジグリシジルアニリン、ジグリシジルアミン等のエポキシ類；ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド等のモノアルデヒド類；グリオキザール、マロンジアルデヒド、スクシンジアルデヒド、グルタルジアルデヒド、マレインジアルデヒド、フタルジアルデヒド等のジアルデヒド類；メチロール尿素、メチロールメラミン、アルキル化メチロール尿素、アルキル化メチロ−ル化メラミン、アセトグアナミン、ベンゾグアナミンとホルムアルデヒドとの縮合物等のアミノ−ホルムアルデヒド樹脂；更にナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、アルミニウム、鉄、ニッケル等の二価金属、又は三価金属の塩及びその酸化物；などが挙げられる。架橋剤としては、メラミン系架橋剤が好ましく、特にメチロールメラミンが好適である。
【０１４２】
記架橋剤の配合量は、ポリビニルアルコール系樹脂１００重量部に対して、好ましくは０．１〜３５重量部、より好ましくは１０〜２５重量部である。一方、耐久性をより向上させるには、ポリビニルアルコール系樹脂１００重量部に対して、架橋剤を３０重量部以上４６重量部以下の範囲で配合することができる。特に、アセトアセチル基を含有するポリビニルアルコール系樹脂を用いる場合には、架橋剤の使用量を３０重量部以上用いるのが好ましい。架橋剤を３０重量部以上４６重量部以下の範囲で配合することにより、耐水性が向上する。
【０１４３】
なお、前記ポリビニルアルコール系接着剤には、さらに金属化合物コロイド、シランカップリング剤、チタンカップリング剤などのカップリング剤、各種粘着付与剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、耐熱安定剤、耐加水分解安定剤などの安定剤等を配合することもできる。
【０１４４】
前記の接着剤を用いて接着する方法は、特に限定されず、例えば、キスコート、スピンコート、ロ−ルコート、ディップコート、カーテンコート、バーコート、ドクターブレードコート、ナイフコート、エアナイフコート、ダイコート、グラビアコート、マイクログラビアコート、オフセットグラビアコート、リップコート、スプレーコート、コンマコートなどの各種の方法を用い、偏光子及び／又は接合されるフィルムの接着面に接着剤を塗布し、両者を重ね合わせる方法などが可能である。接着剤を塗布した後、偏光子とそれに接合されるフィルムをニップロ−ルなどにより挟んで、貼り合わせる。貼り合せる場合は、前記輝度向上フィルムの光軸と偏光子の吸収軸を直交又は平行に配置することが好ましい。
【０１４５】
前記光学フィルムは、偏光子と接する面に接着性向上のために易接着処理を施すことができる。易接着処理としては、プラズマ処理、コロナ処理、紫外線照射処理、フレーム（火炎）処理、ケン化処理やアンカー層を形成する方法が挙げられ、これらを併用することもできる。これらの中でも、コロナ処理、アンカー層を形成する方法、及びこれらを併用する方法が好ましい。アンカー層としては、特に限定されず、公知のアンカー層が使用され、アクリル系、セルロース系、ウレタン系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリエチレンイミン系や分子中にアミノ基を含んだポリマー等が使用される。これらのアンカー層は、単独で用いても２種以上を併用・積層してもよい。
【０１４６】
アンカー層の厚さは、乾燥・硬化又は乾燥後の厚さで、例えば、好ましくは０．０１〜１０μｍ、より好ましくは０．０５〜３μｍ、さらに好ましくは０．１〜１μｍである。アンカー層の厚さが０．０１μｍ未満であると、偏光子と保護フィルムとの接着強度が不充分になることがある。逆に、アンカー層の厚さが１０μｍを超えると、耐水性又は耐湿性試験において、偏光板の色抜けや変色が起こりやすくなることがある。
【０１４７】
保護フィルムの偏光子と対向する面にアンカー層コーティング組成物を塗布する方法は、バーコーター、ロールコーター、グラビアコーターなどを用いた通常のコーティング技術を採用すればよく、特に限定されるものではない。また、塗布したアンカー層コーティング組成物を乾燥させる方法や条件は、特に限定されるものではないが、例えば、熱風乾燥機や赤外線乾燥機を用いて、好ましくは５０〜１３０℃、より好ましくは７５〜１１０℃の温度で、乾燥させればよい。また、アンカー層コーティング組成物のウレタン結合生成反応及び／又は硬化に関して、養生工程を設けても何ら問題ない。養生工程が必要な場合、養生温度は、例えば、好ましくは２０〜１００℃、より好ましくは２０〜５０℃であるが、前記組成物の乾燥に使用した熱である程度は進行し、接着剤を用いた偏光子と保護フィルムとの接着工程でさらに進行するので、常温養生でも充分な物性が得られる。
【０１４８】
なお、表面の濡れ張力を調整するために、アンカー層を設けた保護フィルムの前記アンカー層の表面には、後の接着工程の前に、例えば、コロナ放電処理、プラズマ処理、オゾン吹き付け、紫外線照射、火炎処理、化学薬品処理、その他の従来公知の表面処理を施すことができる。
【０１４９】
前記偏光板は、最外層の少なくとも一方として粘着剤層を有していても良い。他の偏光子保護フィルムや液晶セル等の他部材と接着するための粘着剤層を設けることができる。粘着剤層を形成する粘着剤は、特に限定されないが、例えばアクリル系重合体、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエーテル、フッ素系やゴム系などのポリマーをベースポリマーとするものを適宜に選択して用いることができる。
【０１５０】
前記粘着剤層の付設は、適宜な方式で行いうる。その例としては、例えばトルエンや酢酸エチル等の適宜な溶剤の単独物又は混合物からなる溶媒にベースポリマー又はその組成物を溶解又は分散させた１０〜４０質量％程度の粘着剤溶液を調製し、それを流延方式や塗工方式等の適宜な展開方式で偏光板上又は偏光子保護フィルム上に直接付設する方式、あるいは前記に準じセパレータ上に粘着剤層を形成してそれを偏光子保護フィルム面に移着する方式などがあげられる。
【０１５１】
前記偏光板は、片方／又は両方の表面にセパレートフィルムなどの表面保護フィルムを積層して表面保護フィルム付き偏光板としてもよい。積層方法としては、特に限定されず、例えば、偏光板を作製した後に、ラミネートロール等を用いて任意の適切な方法によって貼り合わせれば良い。
【０１５２】
表面保護フィルムとしては任意の適切なフィルムを採用し得る。表面保護フィルムの材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリオレフィンなどが挙げられる。好ましくは、離型処理されたポリエチレンテレフタレートである。特に好ましくは、曲げ弾性率が５０００ＭＰａ以上のポリエチレンテレフタレートが挙げられる。
【０１５３】
本発明において、表面保護フィルムの厚みは、好ましくは１５〜２００μｍ、より好ましくは３０〜１５０μｍ、さらに好ましくは５０〜１００μｍである。表面保護フィルムの厚みが１５μｍ未満であると、本発明の効果が十分に発現できないおそれがある。表面保護フィルムの厚みが２００μｍより大きいと、経済的ではなく、また、ロール搬送性が悪くなるおそれがある。
【０１５４】
前記偏光板において、偏光子における光学フィルムと反対側の面に、光学フィルム以外の偏光子保護フィルムを積層することもできる。他樹脂からなるフィルムとしては、例えばトリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂系フィルム、ポリカーボネート樹脂フィルム、環状ポリオレフィン樹脂フィルム、アクリル系樹脂フィルム、スチレン系樹脂フィルム、ポリエチレンテレフタレート樹脂フィルム、ポリナフタレンテレフタレート樹脂フィルム、等が挙げられる。光学特性や偏光板のカールが抑制できる点から、アクリル系樹脂フィルムが好ましい。
【０１５５】
前記偏光板は、表面性、耐傷付き性を向上させる為に、少なくとも一層以上のハードコート層を積層することが出来る。前記ハードコート層としては、例えばシリコーン系樹脂、アクリル系樹脂、アクリルシリコン系樹脂、紫外線硬化型樹脂、ウレタン系ハードコート剤等よりなるハードコート層が挙げられる。紫外線硬化型樹脂としては、例えば紫外線硬化型アクリルウレタン、紫外線硬化型エポキシアクリレート、紫外線硬化型（ポリ）エステルアクリレート、紫外線硬化型オキセタン等から選ばれる一種類以上の紫外線硬化樹脂が挙げられる。ハードコート層の厚みは、０．１〜１００μｍである。又はハードコート層の間にプライマー処理をすることもできる。また、反射防止や低反射処理など公知の防眩処理を行うこともできる。
【０１５６】
前記偏光板は種々の画像表示装置への使用が可能である。かかる偏光板を用いた液晶パネルなどの画像形成素子を、表示装置に組み込むことによって、種々の視認性に優れた本発明の画像表示装置を作製することができる。前記偏光板が適用可能な画像表示装置の具体例としては、反射型、透過型、半透過型ＬＣＤあるいはＴＮ型、ＳＴＮ型、ＯＣＢ型、ＨＡＮ型、ＶＡ型、ＩＰＳ型等の各種駆動方式の液晶表示装置（ＬＣＤ）で好ましく用いられ、また、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイ、プラズマディスプレイ（ＰＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ：Ｆｉｅｌｄ  Ｅｍｉｓｓｉｏｎ  Ｄｉｓｐｌａｙ）の各種画像表示装置にも好ましく用いられる。
【０１５７】
液晶表示装置の場合、偏光板は液晶セルの両側に配置されるが、前記偏光板は、バックライトと液晶セルとの間に配置されることが好ましい。さらには、前記偏光板に設けられる本発明に係る光学フィルムがバックライト側に設けられる、すなわち光学フィルムが、バックライトと対向するように、前記偏光板が、バックライトと液晶セルとの間に配置される構成が好ましい。バックライト側から順に構成をいうと、バックライトユニット、偏光板（本発明に係る光学フィルム（偏光子保護フィルム）、偏光子、偏光子保護フィルムの順）、液晶セル、偏光板（偏光子保護フィルム、偏光子、偏光子保護フィルム）となることが好ましい。なお、液晶表示装置の形成に際しては、例えば位相差板、光学補償シート、バックライト部（光源、反射シート、導光板、拡散板等）などの適宜な部品を適宜な位置に１層又は２層以上配置することができる。
【０１５８】
次に、本発明の画像表示装置の一実施形態として、液晶表示装置を例に挙げて説明する。図１は、本発明の実施形態に係る液晶表示装置の概略構成を模式的に示す図である。同図に示すように、液晶表示装置１０は、液晶セル４、２つの偏光板１１・１２、バックライトユニット１３を備える。液晶セル４は、液晶層、ガラス基板、透明電極、配向膜、等を含むものである（不図示）。２つの偏光板１１・１２は、液晶セル４を挟んで配置されている。バックライトユニット１３は、拡散板８、光源９を備える。
【０１５９】
偏光板１１は、２つの偏光子保護フィルム１・３に挟まれた偏光子２の３層構造である。偏光板１２も同様に、２つの偏光子保護フィルム５・７に挟まれた偏光子６の３層構造であるが、偏光子保護フィルム７として、本発明に係る偏光子保護フィルムを採用している。それ以外の３つの偏光子保護フィルム１・３・５は、従来公知の偏光子保護フィルムを用いている。なお、必要に応じて、液晶セル４と偏光板１１・１２の間に、位相差板や光学補償シートを設置することができる。
【０１６０】
前記の構成によれば、偏光板１２に設けられた偏光子保護フィルム７が拡散フィルムとしても機能するため、光源からの光を拡散するための光学フィルムを省略できる。このため、画像表示装置において、装置の薄型化、部材品数の削減及び製造工程の短縮によるコスト削減を達成することができる。
【０１６１】
本発明は、以上説示した各構成に限定されるものではなく、明細書に記載した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。また、本明細書中に記載された文献の全てが参考として援用される。以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明はかかる実施例のみに限定されるものではない。
【実施例】
【０１６２】
以下に、実施例および比較例によって本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。以下の説明では、便宜上、「質量部」を単に「部」と、「リットル」を単に「Ｌ」と記すことがある。なお、実施例において便宜上、下記略称を用いて説明する。
【０１６３】
ＭＭＡ：メタクリル酸メチル
ＲＨＭＡ：２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル
Ｓｔ：スチレン
ＡＮ：アクリロニトリル
＜平均粒子径＞
透過型電子顕微鏡により粒子を撮影し、任意の１００個の粒子の直径を読み取り、その平均を平均粒子径とした。
【０１６４】
＜ガラス転移温度＞
各サンプルのガラス転移温度（Ｔｇ）はＪＩＳ  Ｋ７１２１の規定に準拠して求めた。具体的には、示差走査熱量計（リガク製、ＤＳＣ−８２３０）を用い、窒素ガス雰囲気下、約１０ｍｇのサンプルを常温から２００℃まで昇温速度２０℃／分で昇温して得られたＤＳＣ曲線から始点法により算出した。リファレンスには、α−アルミナを用いた。
【０１６５】
＜層（Ｂ）の屈折率、膜厚＞
干渉式膜厚測定装置（Ｆ２０、フィルメトリックス社製）を用いてフィルムの反射率を４００〜８００ｎｍの範囲で測定し、ｎｋ−Ｃａｕｃｈｙの分散式を引用し、未知のパラメーターを反射率スペクトルの実測値から非線形最小二乗法によって求めて、層（Ｂ）の波長５５０ｎｍでの屈折率および膜厚を求めた。
【０１６６】
＜フィルムの厚さ＞
透明基材フィルムの厚さｄは、デジマチックマイクロメーター（（株）ミツトヨ製）を用いて測定した。
【０１６７】
＜フィルムの全光線透過率・ヘイズ＞
フィルムの全光線透過率及びヘイズは、濁度計（日本電色工業製、ＮＤＨ−５０００）を用いて、ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１に準拠して測定した。
【０１６８】
＜塗布液の不揮発分＞
塗布液（試料）１．０ｇをアルミニウム箔の皿に精秤し、イオン交換水２ｇと混合した。次に、熱風循環式恒温槽を用いて、１５０℃で３０分間乾燥させた後、デシケーター中で放冷した。乾燥後の塗布液（試料）の質量を精秤し、次式により、不揮発分を計算した。
【０１６９】
不揮発分（％）＝［（Ｗｄ）／（Ｗｓ）］×１００
ただし、Ｗｄは乾燥後の試料の質量（ｇ）；Ｗｓは乾燥前の試料の質量（ｇ）である。
【０１７０】
＜製造例１＞
撹拌装置、温度センサー、冷却管、窒素導入管を付した１ｍ２の反応釜に、２０４ｋｇのメタクリル酸メチル（ＭＭＡ）、５１ｋｇの２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル（ＭＨＭＡ）、２４９ｋｇのトルエンを仕込み、これに窒素を通じつつ、１０５℃まで昇温し、還流したところで、重合開始剤として２８１ｇのターシャリーアミルパーオキシイソノナノエート（アトフィナ吉富製、商品名：ルペロックス５７０）を添加すると同時に、５６１ｇの重合開始剤と５．４ｋｇのトルエンからなる溶液を２時間かけて滴下しながら、還流下（約１０５〜１１０℃）で溶液重合を行い、さらに４時間かけて熟成を行った。
【０１７１】
得られた重合体溶液に、２５５ｇのリン酸ステアリル／リン酸ジステアリル混合物（堺化学製、商品名：Ｐｈｏｓｌｅｘ  Ａ−１８）を加え、還流下（約９０〜１１０℃）で５時間、環化縮合反応を行った。
【０１７２】
次いで、上記環化縮合反応で得られた重合体溶液を、バレル温度２５０℃、回転数１５０ｒｐｍ、減圧度１３．３〜４００ｈＰａ（１０〜３００ｍｍＨｇ）、リアベント数１個、フォアベント数４個のベントタイプスクリュー二軸押出し機（Φ＝４２ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝４２）に、樹脂量換算で１５ｋｇ／時間の処理速度で導入し、該押出し機内で環化縮合反応と脱揮を行い、押出すことにより、透明なペレットを得た。
【０１７３】
次いでΦ５０ｍｍ、多条フライト構造のミキシング部を有するフルフライト型スクリューからなるＬ／Ｄ＝３６の単軸押出し機を用い、耐熱アクリル樹脂ペレット９０部、ＡＳ樹脂（旭化成ケミカルズ社製スタイラックＡＳ７８３）１０部および酢酸亜鉛０．０４部をシリンダ設定温度２７０℃にて５０ｋｇ／時間の処理速度で溶融押出しをおこない、樹脂ペレット（１Ａ）を作成した。得られた樹脂ペレット（１Ａ）の質量平均分子量は１３２０００、ラクトン環含有割合は２８．５％であり、ガラス転移温度は１２５℃であった。
【０１７４】
得られたペレット（１Ａ）をリーフディスク型のポリマーフィルター（長瀬産業製、濾過精度５μｍ）を備えた単軸押出機を用いて、２８０℃でＴダイから溶融押出を行い、１１０℃の冷却ロール上に吐出して、厚みが２２０μｍの未延伸フィルム（１Ｂ）を製膜した。
【０１７５】
＜製造例２＞
攪拌装置、温度センサー、冷却管および窒素導入管を備えた反応容器に、４０重量部のメタクリル酸メチル（ＭＭＡ）、１０重量部の２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル（ＭＨＭＡ）、および重合溶媒としての５０重量部のトルエンを仕込み、これに窒素を通じつつ、１０５℃まで昇温させた。
【０１７６】
昇温に伴う還流が始まったところで、重合開始剤として０．０３重量部のｔ−アミルパーオキシイソノナノエート（アルケマ吉富製、商品名：ルペロックス５７０）を添加するとともに、０．０６重量部の上記ｔ−アミルパーオキシイソノナノエートを２時間かけて滴下しながら、約１０５〜１１０℃の還流下で溶液重合を進行させ、さらに４時間の熟成を行った。
【０１７７】
次に、得られた重合溶液に、環化縮合反応の触媒（環化触媒）として、０．０５重量部のステアリルアシッドホスフェート（堺化学工業製、商品名：Ｐｈｏｓｌｅｘ Ａ−１８）を加え、約９０〜１１０℃の還流下において２時間、環化縮合反応を進行させ、重合溶液を得た。
【０１７８】
一連の反応によって主鎖にラクトン環構造を有するアクリル系樹脂が形成されたことは、本実施例で最終的に形成した樹脂ペレットの組成を別途、核磁気共鳴（ＮＭＲ）および赤外分光（ＩＲ）を用いて分析することにより、確認した。
【０１７９】
次に、得られた重合溶液を熱交換器に通して２４０℃まで昇温し、当該温度において環化縮合反応をさらに進行させた後、その重合溶液をベントタイプスクリュー二軸押出機（Ｌ／Ｄ＝５２）に、樹脂量換算で２４重量部／時の処理速度で導入し、脱揮を行った。
上記ベントタイプスクリュー二軸押出機は、１個のリアベントおよび４個のフォアベント（上流側から第１、第２、第３、第４ベントと称する）を備え、第３ベントと第４ベントとの間にサイドフィーダーが設けられており、先端部にギアポンプとリーフディスク型のポリマーフィルター（ろ過精度５μｍ）が配置されている。上記脱揮の条件は、バレル温度２４０℃、回転速度１２０ｒｐｍ、減圧度１３．３〜４００ｈＰａ（１０〜３００ｍｍＨｇ）であった。
【０１８０】
このとき、別途準備しておいた酸化防止剤／環化触媒を中和するための塩基性物質／紫外線吸収剤の混合溶液を０．７２４重量部／時の投入速度で第１ベントの後ろから投入した。
【０１８１】
上記酸化防止剤／環化触媒を中和するための塩基性物質／紫外線吸収剤の混合溶液としては、酸化防止剤として０．９重量部のイルガノックス１０１０（ＢＡＳＦジャパン製）および０．９重量部のアデカスタブＡＯ−４１２Ｓ（ＡＤＥＫＡ製）、紫外線吸収剤として６８重量部のチヌビン４７７（ＢＡＳＦジャパン製）、並びに、環化触媒を中和するための塩基性物質として９．１重量部のオクチル酸亜鉛（日本化学産業製、商品名：ニッカオクチクス亜鉛 亜鉛含有量１８重量％）１０重量％トルエン溶液を、トルエン２１重量部に溶解させた溶液を用いた。
【０１８２】
この時、投入した環化触媒を中和するための塩基性物質の量は、環化触媒の０．３モル当量であった。これに加えて、スチレン−アクリロニトリル共重合体（スチレン／アクリロニトリルの共重合比が７３重量％／２７重量％、重量平均分子量が２２万）を、３重量部／時の投入速度でサイドフィーダーから投入した。
脱揮完了後、上記押出機内に残された熱溶融状態にある重合体を当該押出機の先端からポリマーフィルター（長瀬産業株式会社製）によりろ過しながら排出し、ペレタイザーによりペレット化して、主鎖にラクトン環構造を有する（メタ）アクリル重合体の透明なペレット（２Ａ）を得た。
【０１８３】
＜調整例１＞
シリカ微粒子の水分散液（スノーテックスＯ（商品名）、日産化学工業製）２５０部、イオン交換水７５０部、表面調整剤（サーフィノール４４０（商品名）、エアープロダクツアンドケミカルズ社製）１部を混合して塗布液とした。得られた塗布液の不揮発分は４．８％であった。シリカ微粒子の平均粒子径は、１５ｎｍであった。微粒子とバインダー樹脂の比率は１００：０であった。
【０１８４】
＜調整例２＞
シリカ微粒子の水分散液（スノーテックスＯ（商品名）、日産化学工業製）２３８部、バインダー樹脂（水系ウレタン樹脂、スーパーフレックス３００（商品名）、第一工業製薬製）８部、イオン交換水７５４部、表面調整剤（サーフィノール４４０（商品名）、エアープロダクツアンドケミカルズ社製）１部を混合して塗布液とした。得られた塗布液の不揮発分は４．９％であった。シリカ微粒子の平均粒子径は、１５ｎｍであった。微粒子とバインダー樹脂の比率は９５：５であった。
【０１８５】
＜調整例３＞
シリカ微粒子の水分散液（スノーテックスＯ（商品名）、日産化学工業製）２００部、バインダー樹脂（水系ウレタン樹脂、スーパーフレックス３００（商品名）、第一工業製薬製）３３部、イオン交換水７６６部、表面調整剤（サーフィノール４４０（商品名）、エアープロダクツアンドケミカルズ社製）１部を混合して塗布液とした。得られた塗布液の不揮発分は５．０％であった。シリカ微粒子の平均粒子径は、１５ｎｍであった。微粒子とバインダー樹脂の比率は８０：２０であった。
【０１８６】
＜調整例４＞
シリカ微粒子の水分散液（スノーテックスＯ（商品名）、日産化学工業製）１５０部、バインダー樹脂（水系ウレタン樹脂、スーパーフレックス３００（商品名）、第一工業製薬製）６７部、イオン交換水７８３部、表面調整剤（サーフィノール４４０（商品名）、エアープロダクツアンドケミカルズ社製）１部を混合して塗布液とした。得られた塗布液の不揮発分は４．９％であった。シリカ微粒子の平均粒子径は、１５ｎｍであった。微粒子とバインダー樹脂の比率は６０：４０であった。
【０１８７】
＜調整例５＞
シリカ微粒子の水分散液（スノーテックスＯ（商品名）、日産化学工業製）１２５部、バインダー樹脂（水系ウレタン樹脂、スーパーフレックス３００（商品名）、第一工業製薬製）８３部、イオン交換水７９１部、表面調整剤（サーフィノール４４０（商品名）、エアープロダクツアンドケミカルズ社製）１部を混合して塗布液とした。得られた塗布液の不揮発分は５．０％であった。シリカ微粒子の平均粒子径は、１５ｎｍであった。微粒子とバインダー樹脂の比率は５０：５０であった。
【０１８８】
＜参考例１＞
製造例１で得られた透明基材フィルム（Ｂ１）を二軸延伸装置（東洋精機製作所社製ＴＹＰＥ  ＥＸ４）により、ＭＤ方向の延伸倍率が２倍となるように１３５℃で延伸し、厚さ約１１０μｍの延伸フィルムを得た。得られた延伸フィルムの全光線透過率は９２．０％、ヘイズは０．５％であった。
【０１８９】
＜実施例１＞
製造例１で得られた透明基材フィルム（Ｂ１）に、調整例３で得られた微粒子の分散体を、バーコーターを用いて塗布し、１００℃で２分間乾燥して塗布フィルムを作製した。得られた塗膜の波長５５０ｎｍでの屈折率は１．２４、膜厚は５００ｎｍであった。
【０１９０】
【表１】
2013190577.tif 000005
【０１９１】
次いで、参考例と同様の方法で延伸し、厚さ約１１０μｍの延伸フィルムを得た。得られた延伸フィルムの特性は以下の通りであり、全光線透過率、ヘイズ共に高いフィルムであった。
【０１９２】
【表２】
2013190577.tif 000006
【０１９３】
＜実施例２〜４、比較例１〜５＞
使用する塗液と塗布膜厚を以下表のように変えた以外は実施例１と同様の方法にて行い、塗布フィルムを作製した。
【０１９４】
【表３】
2013190577.tif 000007
【０１９５】
塗布フィルムを参考例と同様の方法で延伸し、厚さ約１１０μｍの延伸フィルムを得た。得られたフィルムの特性を以下に示す。実施例のフィルムは全光線透過率、ヘイズ共に高いフィルムであることがわかった。これに対し、比較例１、４〜５のフィルムは全光線透過率とヘイズを両立できなかった。また、比較例２のフィルムは塗膜の厚みが厚すぎたためか均一な塗工を行うことができなかった。さらに、比較例３の塗膜は膜状態を維持できず、すぐに剥がれる塗膜であった。
【０１９６】
【表４】
2013190577.tif 000008
【０１９７】
＜実施例５＞
製造例２で得られた樹脂（２Ａ）のペレットを、ポリマーフィルター（濾過精度５μｍ）及びＴダイを先端部に備えた単軸押出機により２７０℃で溶融押出し、厚さ１７５μｍの帯状のフィルムを製膜した。その際、処理速度は、樹脂量にして２００ｋｇ／時とした。次に、製膜したフィルムを、溶融押出に続いて連続的にオーブン縦延伸機に供給し、当該延伸機にて当該フィルムの縦方向（溶融押出時の流れ方向、帯状のフィルムの長手方向）に延伸温度１３８℃、延伸倍率２．２倍で延伸（縦延伸）した。
【０１９８】
さらに連続して、縦延伸後のフィルムの一方の主面に、調整例３の塗液をグラビアコート法により乾燥後の塗布膜の厚さが４４０ｎｍとなるように塗布した（インライン塗工）後、そのままフィルムをテンター横延伸機に供給して、延伸温度１３８℃、延伸倍率２．２倍でその幅方向に延伸（横延伸）し、約４０μｍの延伸フィルムをロール状に巻き取った。
【０１９９】
このようにして、得られた延伸フィルムの特性は以下の通りであり、全光線透過率、ヘイズ共に高いフィルムであった。
【０２００】
【表５】
2013190577.tif 000009
【産業上の利用可能性】
【０２０１】
本発明に係る光学フィルムは、高い全光線透過率かつ高ヘイズであるため、偏光子保護フィルムや位相差フィルム、光学フィルターフィルムなどの各種光学フィルムとして、各種画像表示装置に好適に用いることができる。
【符号の説明】
【０２０２】
１，３，５    偏光子保護フィルム
２，６        偏光子
４            液晶セル
７            偏光子保護フィルム（本発明に係る偏光子保護フィルム）
８            拡散板
９            光源
１０            液晶表示装置
１１，１２      偏光板
１３            バックライトユニット
【図１】
2013190577.tif 000010