(57)【要約】【課題】基板上に塗布されたインクの乾燥ムラを抑制する。【解決手段】本発明の一形態に係るインクジェット塗布装置は、第１のヘッド群１２Ａと第２のヘッド群１２Ｂとを有するインクヘッドモジュール１２を備える。第１のヘッド群１２Ａは、基板Ｓの表面全域をＸ軸方向に沿って配列された複数列の領域Ｒ１〜Ｒ６で区画したときに、所定の第１の領域群（Ｒ１，Ｒ３，Ｒ５）にインクの液滴を塗布する。第２のヘッド群１２Ｂは、第１のヘッド群１２Ａに対してＹ軸方向に所定距離（Ｈ）オフセットした位置に配置され、上記複数列の領域のうち残余の第２の領域群（Ｒ２，Ｒ４，Ｒ６）にインクの液滴を塗布する。このとき、第１のヘッド群１２Ａからの液滴が基板Ｓ上に着弾してから、第２のヘッド群１２Ｂからの液滴が基板上に着弾するまでの時間が所定時間以内となるように、基板Ｓを支持するステージ１１の移動が制御される。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の軸方向と、前記第１の軸方向に直交する第２の軸方向とにそれぞれ平行な支持面を有し、前記支持面上に基板を支持することが可能なステージと、
前記支持面上の基板の表面全域を前記第１の軸方向に沿って配列された複数列の領域で区画したときに、前記複数列の領域のうち所定の第１の領域群にインクの液滴を塗布するように構成された第１のヘッド群と、前記第１のヘッド群に対して前記第２の軸方向に所定距離オフセットした位置に配置され、前記複数列の領域のうち残余の第２の領域群にインクの液滴を塗布するように構成された第２のヘッド群とを有する第１のインクヘッドモジュールと、
前記ステージを前記第２の軸方向に移動させるように構成された移動機構と
前記第１のヘッド群からの前記液滴が前記基板上に着弾してから、前記第２のヘッド群からの前記液滴が前記基板上に着弾するまでの時間が所定時間以内となるように、前記移動機構を制御するコントローラと
を具備するインクジェット塗布装置。
【請求項２】
請求項１に記載のインクジェット塗布装置であって、
前記所定時間は、１０秒以内である
インクジェット塗布装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載のインクジェット塗布装置であって、
前記ステージは、前記支持面上の基板を所定温度以下に冷却するように構成された冷却機構をさらに有する
インクジェット塗布装置。
【請求項４】
請求項３に記載のインクジェット塗布装置であって、
前記所定温度は２０℃以下である
インクジェット塗布装置。
【請求項５】
請求項１から請求項４のいずれか一項に記載のインクジェット塗布装置であって、
前記第１の領域群は、前記複数列の領域のうち一列おきに選択された複数の領域で構成される
インクジェット塗布装置。
【請求項６】
請求項１から請求項５のいずれか一項に記載のインクジェット塗布装置であって、
前記第１のヘッド群及び前記第２のヘッド群はそれぞれ、
複数の液滴吐出ノズルを有する複数のインクヘッドと、
前記複数の液滴吐出ノズルから吐出される液滴が前記基板上に前記第１の軸方向に沿って所定ピッチで着弾するように、前記複数のインクヘッドの前記基板に対する相対位置を調整可能な調整機構とを有する
インクジェット塗布装置。
【請求項７】
請求項１から請求項６のいずれか一項に記載のインクジェット塗布装置であって、
前記インクは、有機ＥＬ（Electro-Luminescence）素子を形成するための有機ＥＬ材料を含む
インクジェット塗布装置。
【請求項８】
請求項７に記載のインクジェット塗布装置であって、
前記第２の軸方向に前記第１のヘッドモジュールと直列に配置され、前記第１のヘッドモジュールと同一の構成を有する第２のヘッドモジュールと、
前記第２の軸方向に前記第１及び第２のヘッドモジュールと直列に配置され、前記第１のヘッドモジュールと同一の構成を有する第３のヘッドモジュールとをさらに具備し、
前記第２のヘッドモジュールは、前記第１のヘッドモジュールから吐出される第１の有機ＥＬ材料とは異なる色の第２の有機ＥＬ材料を含むインク液滴を吐出するように構成され、
前記第３のヘッドモジュールは、前記第１及び第２のヘッドモジュールからそれぞれ吐出される第１及び第２の有機ＥＬ材料とは異なる色の第３の有機ＥＬ材料を含むインク液滴を吐出するように構成される
インクジェット塗布装置。
【請求項９】
第１の軸方向と、前記第１の軸方向に直交する第２の軸方向とにそれぞれ平行な支持面上に基板を配置し、
前記支持面上の基板の表面全域を、前記第１の軸方向に沿って配列された複数列の領域で区画したときに、前記複数列の領域に対応するように配置された複数列のヘッド部各々から吐出されるインクの液滴が前記基板上において前記第１の軸方向に所定ピッチで着弾するように前記複数列のヘッド部各々のノズルピッチを調整し、
前記複数列のヘッド部に対して前記支持面を前記第２の軸方向へ相対移動させ、
前記複数列の領域のうち一列おきに選択された第１の領域群に前記液滴を吐出し、
前記第１の領域群にインクの液滴を吐出してから所定時間以内に、前記複数列の領域のうち残余の第２の領域群に前記液滴を吐出する
インクジェット塗布方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば基板上に有機ＥＬ素子を形成するための有機ＥＬ材料を含むインク液滴を吐出するためのインクジェット塗布装置及びインクジェット塗布方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
インクジェット法は、基板上の所定位置に精度よくインクを滴下することができるため、例えばスペーサ粒子や有機発光材料を含有したインクを用いて液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイを製造する工程に広く採用されている。例えば下記特許文献１には、インクジェット法によるスペーサの形成方法が記載されており、下記特許文献２には、インクジェット法によりＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各有機発光材料層を形成する方法が記載されている。
【０００３】
インクジェット塗布装置は、典型的には、インクを吐出するノズルが所定ピッチで形成された単数又は複数のインクヘッドを有し、当該インクヘッドに対して基板を一軸方向に水平に相対移動させながら、インクヘッドから基板上の複数箇所にインクの液滴を塗布する。
【０００４】
一方、比較的大型の基板にインクジェット法を適用する場合には、上記一軸方向に基板を移動させた後、上記一軸方向に直交する水平方向に基板を移動させることでインクヘッドとの相対位置を変化させ、再び上記一軸方向へ基板を移動させる。このような操作を必要なだけ繰り返すことで、基板の全面に液滴を塗布するようにしていた（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１１−１４７８６１号公報
【特許文献２】特開２００３−７７６７８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら上述のようにインクヘッドに対する基板の往復移動を繰り返す方法では、先に液滴が塗布された領域と後に液滴が塗布された領域との間で液滴の乾燥ムラが生じることがある。このような問題は、例えば有機ＥＬ材料を含むインクのような比較的乾燥し易いインクを用いた場合により顕著に発生する。乾燥ムラは、有機ＥＬ層の厚みや形状のバラツキを引き起こし、画質の低下を招くことになる。
【０００７】
以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、基板上に塗布されたインクの乾燥ムラを抑制することができるインクジェット塗布装置及びインクジェット塗布方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するため、本発明の一形態に係るインクジェット塗布装置は、ステージと、第１のインクヘッドモジュールと、移動機構と、コントローラとを具備する。
上記ステージは、第１の軸方向と、上記第１の軸方向に直交する第２の軸方向とにそれぞれ平行な支持面を有し、上記支持面に基板を支持することが可能に構成される。
上記第１のインクヘッドモジュールは、第１のヘッド群と、第２のヘッド群とを有する。上記第１のヘッド群は、上記支持面上の基板の表面全域を上記第１の軸方向に沿って配列された複数列の領域で区画したときに、上記複数列の領域のうち所定の第１の領域群にインクの液滴を塗布するように構成される。上記第２のヘッド群は、上記第１のヘッド群に対して上記第２の軸方向に所定距離オフセットした位置に配置され、上記複数列の領域のうち残余の第２の領域群にインクの液滴を塗布するように構成される。
上記移動機構は、上記ステージを上記第２の軸方向に移動させるように構成される。
上記コントローラは、上記第１のヘッド群からの上記液滴が上記基板上に着弾してから、上記第２のヘッド群からの上記液滴が上記基板上に着弾するまでの時間が所定時間以内となるように、上記移動機構を制御する。
【０００９】
本発明の一形態に係るインクジェット塗布方法は、第１の軸方向と、上記第１の軸方向に直交する第２の軸方向とにそれぞれ平行な支持面上に基板を配置することを含む。
上記支持面上の基板の表面全域を、前記第１の軸方向に沿って配列された複数列の領域で区画したときに、上記複数列の領域に対応するように配置された複数列のヘッド部各々から吐出されるインクの液滴が上記基板上において上記第１の軸方向に所定ピッチで着弾するように上記複数列のヘッド部各々のノズルピッチが調整される。
上記複数列のヘッド部に対して上記支持面が上記第２の軸方向へ相対移動させられる。
上記複数列の領域のうち一列おきに選択された第１の領域群に上記液滴が吐出される。
上記第１の領域群にインクの液滴を吐出してから所定時間以内に、上記複数列の領域のうち残余の第２の領域群に上記液滴が吐出される。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の一実施形態に係るインクジェット塗布装置を示す概略平面図である。
【図２】上記インクジェット塗布装置を示す概略側面図である。
【図３】上記インクジェット塗布装置におけるインクヘッドのインク吐出面を示す要部の拡大図である。
【図４】上記インクジェット塗布装置の作用を説明する概略平面図である。
【図５】本発明の他の実施形態に係るインクジェット塗布装置を示す概略平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明の一実施形態に係るインクジェット塗布装置は、ステージと、第１のインクヘッドモジュールと、移動機構とを具備する。
【００１２】
上記ステージは、第１の軸方向と、上記第１の軸方向に直交する第２の軸方向とにそれぞれ平行な支持面を有し、上記支持面に基板を支持することが可能に構成される。したがって支持面上に配置される基板の表面は、上記第１の軸方向及び第２の軸方向にそれぞれ平行な平面内に属することになる。
【００１３】
上記第１のインクヘッドモジュールは、第１のヘッド群と第２のヘッド群とを有する。上記第１のヘッド群は、上記支持面上の基板の表面全域を上記第１の軸方向に沿って配列された複数列の領域で区画したときに、上記複数列の領域のうち所定の第１の領域群にインクの液滴を塗布するように構成される。上記第２のヘッド群は、上記第１のヘッド群に対して上記第２の軸方向に所定距離オフセットした位置に配置され、上記複数列の領域のうち残余の第２の領域群にインクの液滴を塗布するように構成される。
【００１４】
上記移動機構は、上記ステージを上記第２の軸方向に移動させるように構成される。上記コントローラは、上記第１のヘッド群からの上記液滴が上記基板上に着弾してから、上記第２のヘッド群からの上記液滴が上記基板上に着弾するまでの時間が所定時間以内となるように、上記移動機構を制御する。
【００１５】
上記インクジェット塗布装置によれば、第１のヘッドモジュールに対する基板の一回の移動操作で、基板の表面全域にインクの液滴を塗布することができる。これにより、生産性を向上させることができる。また、第１のヘッド群からの液滴が基板上に着弾してから第２のヘッド群からの液滴が基板上に着弾するまでの時間を所定時間以内にすることで、基板上に塗布されたインクの乾燥ムラを抑制することができる。これにより、インク層の厚みや形状のバラツキが抑制された、高品質な印刷工程を実現することができる。
【００１６】
上記所定時間の調整には、ステージの移動速度を調整したり、第１のヘッド群と第２のヘッド群との間の上記オフセットの大きさを調整したりする等の適宜の方法が採用可能である。また、上記所定時間はインクの乾燥ムラが生じない適宜の時間が設定可能であり、典型的にはインクの乾燥速度に応じて設定される。上記所定時間としては例えば１０秒以下とすることができる。
【００１７】
上記ステージは、上記支持面上の基板を所定温度以下に冷却するように構成された冷却機構をさらに有してもよい。これにより、基板上に塗布された液滴の乾燥速度を調整することができるため、基板上に塗布された液滴の乾燥ムラをより容易に抑制することができる。上記冷却機構は、典型的には、ステージの内部に冷却水を循環させる機構が採用可能である。
【００１８】
基板の冷却温度は特に限定されず、インクの乾燥速度等に応じて適宜設定可能である。基板温度が過度に高いとインクの乾燥が促進され、基板温度が過度に低いと基板への結露が生じるおそれがある。典型的には、基板温度は例えば２０℃以下に設定される。
【００１９】
支持面上の基板表面を仮想的に区画する複数列の領域は、第１のヘッド群によって処理される第１の領域群と、第２のヘッド群によって処理される第２の領域群とに分けられる。第１の領域及び第２の領域はどのように選定されてもよく、例えば一列おきに選択された複数の領域でそれぞれ構成される。これにより、第１及び第２のヘッド群を構成する個々のインクヘッドの大きさの制限を小さくでき、各インクヘッドの設置レイアウトの自由度を高めることができる。
【００２０】
第１のヘッド群及び第２のヘッド群を構成する各インクヘッドはどのように配置されてもよく、上記第１の軸方向に沿って配置されてもよいし、上記第１の軸方向に対して斜めに交差する水平方向に沿って配置されてもよい。
【００２１】
第１のヘッド群及び第２のヘッド群をそれぞれ構成する複数のインクヘッドは、複数の液滴吐出ノズルをそれぞれ有する。この場合、上記複数の液滴吐出ノズルから吐出される液滴が基板上に上記第１の軸方向に沿って所定ピッチで着弾するように、上記複数のインクヘッドの基板に対する相対位置を調整可能な調整機構を有してもよい。上記調整機構としては、典型的には、基板の法線方向を軸としてインクヘッドを個々に回転させることができる機構で構成される。これにより、基板上に第１の軸方向に沿って所望のピッチで液滴を塗布することができる。
【００２２】
上記インクは、有機ＥＬ（Electro-Luminescence）素子を形成するための有機ＥＬ材料を含んでもよい。これにより、有機ＥＬ層の厚みや形状のバラツキが抑制された、高画質な有機ＥＬディスプレイを安定に製造することができる。
【００２３】
上記インクジェット塗布装置は、第２のヘッドモジュールと、第３のヘッドモジュールとをさらに具備してもよい。
上記第２のヘッドモジュールは、第２の軸方向に第１のヘッドモジュールと直列に配置され、第１のヘッドモジュールと同一の構成を有する。上記第３のヘッドモジュールは、第２の軸方向に第１及び第２のヘッドモジュールと直列に配置され、第１のヘッドモジュールと同一の構成を有する。
この場合、第２のヘッドモジュールは、第１のヘッドモジュールから吐出される第１の有機ＥＬ材料とは異なる色の第２の有機ＥＬ材料を含むインク液滴を吐出するように構成される。第３のヘッドモジュールは、第１及び第２のヘッドモジュールからそれぞれ吐出される第１及び第２の有機ＥＬ材料とは異なる色の第３の有機ＥＬ材料を含むインク液滴を吐出するように構成される。
これにより、上記第２の軸方向への基板の一回の移動操作のみで、例えば、Ｒ，Ｇ，Ｂの有機ＥＬ層を基板上に連続して形成することができるので、有機ＥＬディスプレイの生産性を向上させることができる。
【００２４】
本発明の一実施形態に係るインクジェット塗布方法は、第１の軸方向と、上記第１の軸方向に直交する第２の軸方向とにそれぞれ平行な支持面上に基板を配置することを含む。
上記支持面上の基板の表面全域を、前記第１の軸方向に沿って配列された複数列の領域で区画したときに、上記複数列の領域に対応するように配置された複数列のヘッド部各々から吐出されるインクの液滴が上記基板上において上記第１の軸方向に所定ピッチで着弾するように上記複数列のヘッド部各々のノズルピッチが調整される。
上記複数列のヘッド部に対して上記支持面が上記第２の軸方向へ相対移動させられる。
上記複数列の領域のうち一列おきに選択された第１の領域群に上記液滴が吐出される。
上記第１の領域群にインクの液滴を吐出してから所定時間以内に、上記複数列の領域のうち残余の第２の領域群に上記液滴が吐出される。
【００２５】
上記インクジェット塗布方法によれば、第１のヘッドモジュールに対する基板の一回の移動操作で、基板の表面全域にインクの液滴を塗布することができる。これにより、生産性を向上させることができる。また、第１の領域群にインクの液滴を吐出してから所定時間以内に、第２の領域群に液滴を吐出することで、基板上に塗布されたインクの乾燥ムラを抑制することができる。これにより、インク層の厚みや形状のバラツキが抑制された、高品質な印刷工程を実現することができる。
【００２６】
以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態を説明する。
【００２７】
＜第１の実施形態＞
図１は、本発明の一実施形態に係るインクジェット塗布装置を示す概略平面図であり、図２はその概略側面図である。各図においてＸ軸及びＹ軸は相互に直交する水平方向を示し、Ｚ軸はＸ軸及びＹ軸にそれぞれ直交する鉛直方向を示している。
【００２８】
本実施形態のインクジェット塗布装置１は、基板Ｓを支持するステージ１１と、ステージ１１上の基板Ｓにインクの液滴を塗布するヘッドモジュール１２と、ステージ１１を一軸方向に移動させる移動機構１３とを有する。
【００２９】
基板Ｓは、略矩形状のガラス基板で構成される。基板Ｓの大きさは特に限定されず、例えば横１８５０ｍｍ、縦１５００ｍｍである。基板Ｓとしては、上記以外にも、金属、プラスチック、紙等のプレート状、シート状あるいはフィルム状の基材で構成されてもよい。また、基板Ｓは単一層の構成されたものに限られず、表面に絶縁膜や導電膜等のベタ膜あるいは所定形状にパターニングされた機能膜が積層された多層構造を有していてもよい。
【００３０】
ステージ１１は、ベース部１０の上にＹ軸方向に移動可能に設置される。ステージ１１は、基板Ｓが支持する支持面１１ａを有する。支持面１１ａは、Ｘ軸方向及びＹ軸方向にそれぞれ平行な平面（ＸＹ平面）に属し、本実施形態では略矩形の平坦な面で構成される。ステージ１１は、支持面１１ａ上に基板Ｓを保持するための各種チャック機構を備えていてもよい。
【００３１】
インクジェット塗布装置１は、ステージ１１の支持面１１ａを所定温度以下に冷却するための冷却機構１４を有する。冷却機構１４は、例えば、ステージ１１の内部に形成された冷却水の循環通路と、当該循環通路に冷却水を循環させるポンプユニットを含む。冷却機構１４は、支持面１１ａを２０℃以下、好ましくは１８℃以下に維持することで、支持面１１ａ上に支持された基板Ｓを当該温度に冷却する機能を有する。上記ポンプユニットは、ステージ１１に一体的に取り付けられてもよいし、冷却水が通過するフレキシブル性の管部材を介してベース部１０あるいはこれ以外の部位に設置されてもよい。
【００３２】
移動機構１３は、ベース部１０の上に敷設された一対のガイドレール１３ａ，１３ｂと、ステージ１１をガイドレール１３ａ，１３ｂに沿って移動させるリニアモータ等の駆動源と、上記駆動源を制御する制御部等を含む。一対のガイドレール１３ａ，１３ｂはＹ軸方向に平行に延び、ステージ１１はガイドレール１３ａ，１３ｂの上に設置される。上記駆動源はステージ１１の内部に配置され、上記制御部によってガイドレールに沿ったステージ１１の高精度な移動制御が行われる。
【００３３】
ヘッドモジュール１２は複数のインクヘッド１２１，１２２，１２３，１２４，１２５，１２６を有する。インクヘッド１２１〜１２６は、ガイドレール１３ａ，１３ｂに沿ってＹ軸方向に移動するステージ１１上の基板Ｓの表面全域に、所定のインクの液滴Ｄを塗布するように構成される。
【００３４】
インクヘッド１２１〜１２６は、ステージ１１上の基板Ｓの表面全域をＸ軸方向に沿って配列された複数列の領域Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６で仮想的に区画したときに、上記複数列の領域Ｒ１〜Ｒ６の各々に対応するように配置されている。基板Ｓの表面に区画された領域Ｒ１〜Ｒ６はそれぞれＹ軸方向に平行な長手方向、Ｘ軸方向に幅方向を有する矩形状に形成され、インクヘッド１２１〜１２６はこれら各領域Ｒ１〜Ｒ６にインクの液滴ＤをＸ軸方向及びＹ軸方向にそれぞれ所定ピッチで塗布する。
【００３５】
上記複数列の領域Ｒ１〜Ｒ６は、第１の領域群ＲＡと、第２の領域群ＲＢとに分けられる。本実施形態において第１の領域群ＲＡは、複数列の領域Ｒ１〜Ｒ６のうち一列おきに選択された複数の領域Ｒ１，Ｒ３，Ｒ５で構成され、第２の領域群ＲＢは、複数列の領域Ｒ１〜Ｒ６のうち残余の複数の領域Ｒ２、Ｒ３，Ｒ５で構成される。
【００３６】
第１の領域群ＲＡは、インクヘッド１２１，１２３，１２５によって処理される。すなわちインクヘッド１２１，１２３，１２５は、第１の領域群ＲＡを構成する領域Ｒ１，Ｒ３，Ｒ５にそれぞれ液滴Ｄを塗布する。一方、第２の領域群ＲＢは、インクヘッド１２２，１２４，１２６によって処理される。すなわちインクヘッド１２２，１２４，１２６は、第２の領域群ＲＢを構成する領域Ｒ２，Ｒ４，Ｒ６にそれぞれ液滴Ｄを塗布する。
【００３７】
インクヘッド１２１，１２３，１２５は、第１のヘッド群１２Ａを構成する。第１のヘッド群１２Ａは、支持フレーム１２０Ａを介してベース部１０の直上位置に設置され、インクヘッド１２１，１２３，１２５がそれぞれ基板Ｓ上の第１の領域群ＲＡ（Ｒ１，Ｒ３，Ｒ５）に対向するように位置決め配置されている。一方、インクヘッド１２２，１２４，１２６は、第２のヘッド群１２Ｂを構成する。第２のヘッド群１２Ｂは、支持フレーム１２０Ｂを介してベース部１０の直上位置に設置され、インクヘッド１２２，１２４，１２６がそれぞれ基板Ｓ上の第２の領域群ＲＢ（Ｒ２，Ｒ４，Ｒ６）に対向するように位置決め配置されている。
【００３８】
ヘッドモジュール１２は、インクヘッド１２１〜１２６をそれぞれＺ軸まわりに回動させることが可能な複数の回転機構部Ｍ（調整機構）を有する。これら回転機構部Ｍは、支持フレーム１２０Ａ．１２０Ｂにそれぞれ設けられ、インクヘッド１２１〜１２６を各々個別にＺ軸まわりに所定角度範囲にわたって回転させることが可能に構成されている。これら回転機構部Ｍは、コントローラ１５によって制御される。
【００３９】
コントローラ１５は、典型的にはＣＰＵや各種メモリを含むコンピュータで構成される。コントローラ１５は、ヘッドモジュール１２、移動機構１３、冷却機構１４等の各種機構部の駆動を制御する。コントローラ１５は、ベース部１０に設置されるが、ベース部１０とは異なる位置に設置されてもよい。
【００４０】
各インクヘッド１２１〜１２６は、複数の液滴吐出ノズルが形成されたインクの吐出面を有する。図３は、インクヘッド１２１のインク吐出面１２１ｓを示す要部の拡大図である。インク吐出面１２１ｓは、略長方形状を有し、その長手方向に沿って複数の液滴吐出ノズルＮが所定ピッチｐ０で形成されている。各々の液滴吐出ノズルＮは、図示しないインクタンクに接続されており、各々の液滴吐出ノズルＮには所定量のインクを吐出するための圧電駆動部Ｖが配置されている。インク吐出面１２１ｓは、その直下を通過する基板Ｓの表面に対して所定の距離を介して対向するように配置される。
【００４１】
回転機構部Ｍは、インクヘッド１２１をＺ軸まわりに回転させることで、Ｘ軸方向に沿った液滴の吐出ピッチを調整する。例えば図３（Ａ）は、Ｘ軸に対してＺ軸まわりに角度θ１だけインクヘッド１２１を傾けたときのＸ軸方向に沿った液滴の吐出ピッチがｐ０からｐ１に変換される様子を示し、図３（Ｂ）は、Ｘ軸に対してＺ軸まわりに角度θ２（θ２＞θ１）だけインクヘッド１２１を傾けたときのＸ軸方向に沿った液滴の吐出ピッチがｐ０からｐ２（ｐ２＜ｐ１）に変換される様子を示している。このようにインクヘッド１２１の回動角度によってＸ軸方向に沿った液滴の吐出ピッチを連続的に変化させることができる。
【００４２】
インクヘッド１２２〜１２６もインクヘッド１２１と同様に構成される。各インクヘッド１２１〜１２６のＸ軸方向に沿った液滴の吐出ピッチは同一に設定される。Ｘ軸方向に沿った液滴の吐出ピッチは、基板Ｓ上に塗布される液滴の種類や工程に応じて適宜調整される。
【００４３】
第１のヘッド群１２Ａを構成するインクヘッド１２１，１２３，１２５は、これらの長手方向に沿って同一の直線上に配列されている。同様に、第２のヘッド群１２Ｂを構成するインクヘッド１２２，１２４，１２６は、これらの長手方向に沿って同一の直線上に配列されている。これに代えて、第１及び第２のヘッド群１２Ａ，１２Ｂを構成する各々のインクヘッドは、Ｘ軸方向に沿って配列されてもよい。
【００４４】
第２のヘッド群１２Ｂは、第１のヘッド群１２Ａよりも基板Ｓの移動方向（Ｙ軸方向）に関してオフセット（離間）した位置に配置されている。このようにインクヘッド１２１〜１２６が基板Ｓ上の全領域Ｒ１〜Ｒ６に対応して配置されることで、Ｙ軸方向への基板Ｓの一回の移動操作で、基板Ｓの表面全域にインクの液滴を塗布することが可能となる。これにより、基板Ｓに対する液滴塗布工程の効率が高まり、生産性を向上させることができる。
【００４５】
図４は、ヘッドモジュール１２によって基板Ｓの表面に液滴を塗布する様子を示す概略平面図である。基板Ｓはヘッドモジュール１２の直下をＹ軸方向に沿って矢印Ａで示す方向に所定速度で移動する。基板Ｓの表面には、その始端Ｓ１から終端Ｓ２に向かってヘッドモジュール１２から吐出される液滴Ｄが塗布される。
【００４６】
液滴Ｄは、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に一定のピッチｐｘ，ｐｙで塗布される。ピッチｐｘは、回転機構部Ｍによるインクヘッド１２１〜１２６の回転角度で調整され、ピッチｐｙは、インクヘッド１２１〜１２６からの液滴Ｄの吐出タイミングで調整される。基板Ｓ上に形成される液滴層は、一回の液滴Ｄの吐出によって形成されてもよいし、複数回の液滴Ｄの吐出によって形成されてもよい。
【００４７】
本実施形態では上述のようにヘッドモジュール１２が第１のヘッド群１２Ａと第２のヘッド群１２Ｂとで構成されており、第１のヘッド群１２Ａが第２のヘッド群１２Ｂよりも上流側に配置される。したがって図４に示すように、基板Ｓには先ず、第１のヘッド群１２Ａ（インクヘッド１２１，１２３，１２５）により第１の領域群ＲＡ（Ｒ１，Ｒ３，Ｒ５）へ液滴Ｄの吐出が開始され、その後、第２のヘッド群１２Ｂ（インクヘッド１２２，１２４，１２６）により第２の領域群ＲＢ（Ｒ２，Ｒ４，Ｒ６）へ液滴Ｄの吐出が開始される。
【００４８】
ここで、基板上の一つの領域に単一のインクヘッドで複数の液滴群を所定ピッチで塗布する場合、液滴群の中央側と液滴群の端部側とでは液滴の乾燥速度に差が生じやすい。これは、液滴群から揮発する溶剤成分の蒸気密度が液滴群の場所によって異なるためであり、通常では、液滴群の外方側の方が液滴群の内方側よりも乾燥が速い傾向がある。したがって液滴群の外方側に位置する液滴から乾燥が始まると、未だ乾燥が始まっていない液滴群の内方側の液滴が外方側に引き寄せられるように形状が変化しながら乾燥が始まることになる。このような乾燥ムラは液滴層の形状や高さのバラツキを招くため、品質の高い液滴塗布処理を実現することが困難となる。
【００４９】
そこでコントローラ１５は、第１のヘッド群１２Ａから吐出される液滴が基板Ｓ上に着弾してから、第２のヘッド群１２Ｂから吐出される液滴が基板Ｓ上に着弾するまでの時間が所定時間以内となるように、移動機構１３を制御する。上記所定時間としては、第１の領域群ＲＡに塗布された液滴Ｄの乾燥ムラが生じない適宜の時間が設定される。
【００５０】
本実施形態では、第１の領域群ＲＡは一列おきに選択された複数の領域Ｒ１，Ｒ３，Ｒ５で構成されているため、これら各々の領域に液滴が塗布された後、上記所定時間以内にこれらに隣接する第２の領域群ＲＢ（Ｒ２，Ｒ４，Ｒ６）に液滴が塗布される。これにより先に塗布された液滴群の外方側に位置する液滴の乾燥を遅らせることができるので、基板Ｓの表面全域において乾燥ムラを生じさせることなく一様な形態で液滴層を形成することができる。
【００５１】
上記所定時間は、第１のヘッド群１２Ａと第２のヘッド群１２Ｂとの間のオフセット量（離間距離）Ｈ、ステージ１１の移動速度等によって調整される。本実施形態では上記所定時間が１０秒以内、好ましくは７秒以内となるように、ステージ１１の移動が制御される。この場合、オフセット量Ｈを６００ｍｍ以下、ステージ１１の移動速度を７０ｍｍ／ｓｅｃ以上とすることで、上記所定時間を確保することができる。
【００５２】
上記所定時間はまた、液滴Ｄを構成するインクの種類や塗布ピッチ等によって適宜選択することができる。上記所定時間を１０秒以下とすることで、有機ＥＬ層を構成するインク材料に本発明を適用した場合でも、インク層の厚みや形状のバラツキを抑制することができる。特に有機ＥＬ層は厚みによって輝度が変化するため、上記構成により基板Ｓの面内全域にわたって一様な輝度を有する有機ＥＬ層を形成することができる。
【００５３】
また本実施形態では、ステージ１１の支持面１１ａを所定温度以下に冷却可能な冷却機構１４を備えているため、基板Ｓ上に塗布された液滴の乾燥速度を基板温度によって調整することができる。これにより基板上に塗布された液滴の乾燥ムラをより容易に抑制することができる。
【００５４】
さらに本実施形態において、基板Ｓの表面全域は、一列おきに選択された複数の領域からなる第１の領域群ＲＡと残余の第２の領域群とで区画されている。これにより、これら各領域群に対応するように配置されたヘッド群１２Ａ，１２Ｂを構成する個々のインクヘッド１２１〜１２６の大きさの制限を小さくできるとともに、これらの設置レイアウトの自由度を高めることができる。
【００５５】
＜第２の実施形態＞
図５は、本発明の第２の実施形態に係るインクジェット塗布装置を示す概略平面図である。以下、第１の実施形態と異なる構成について主に説明し、上述の実施形態と同様の構成については同様の符号を付しその説明を省略または簡略化する。
【００５６】
本実施形態のインクジェット塗布装置２は、基板Ｓ上に、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の有機発光材料からなる液滴層を塗布するための装置であり、第１のヘッドモジュール２１と、第２のヘッドモジュール２２と、第３のヘッドモジュール２３とを有する。
【００５７】
第１のヘッドモジュール２１は、基板Ｓの表面全域にＲ発光層を所定ピッチで塗布するように構成され、基板Ｓの表面全域を区画する複数列の領域（Ｒ１〜Ｒ６、図４参照）に対応する複数のインクヘッドを有する。第１のヘッドモジュール２１は、第１のヘッド群２１Ａと、第２のヘッド群２１Ｂとを有する。第１のヘッドモジュール２１は支持フレーム２２１を介して基台２０の直上位置に設置されている。
【００５８】
第１のヘッド群２１Ａ及び第２のヘッド群２１Ｂは、Ｙ軸方向に関して所定距離（Ｈ）オフセットした位置に配置されており、その詳細は、上述の第１の実施形態におけるヘッドモジュール１２の第１のヘッド群１２Ａ及び第２のヘッド群１２Ｂと同一の構成を有しているため、ここでは詳細な説明は省略する。
【００５９】
第２のヘッドモジュール２２は、基板Ｓの表面全域にＧ発光層を所定ピッチで塗布するように構成され、基板Ｓの表面全域を区画する複数列の領域（Ｒ１〜Ｒ６）に対応する複数のインクヘッドを有する。第２のヘッドモジュール２２は、第１のヘッド群２２Ａと、第２のヘッド群２２Ｂとを有する。第１のヘッド群２２Ａ及び第２のヘッド群２２Ｂは、第１のヘッドモジュール２１の第１のヘッド群２１Ａ及び第２のヘッド群２１Ｂと同一の構成を有している。第２のヘッドモジュール２２は支持フレーム２２２を介して基台２０の直上位置に設置されている。
【００６０】
第３のヘッドモジュール２３は、基板Ｓの表面全域にＢ発光層を所定ピッチで塗布するように構成され、基板Ｓの表面全域を区画する複数列の領域（Ｒ１〜Ｒ６）に対応する複数のインクヘッドを有する。第３のヘッドモジュール２３は、第１のヘッド群２３Ａと、第２のヘッド群２３Ｂとを有する。第１のヘッド群２３Ａ及び第２のヘッド群２３Ｂは、
第１のヘッドモジュール２１の第１のヘッド群２１Ａ及び第２のヘッド群２１Ｂと同一の構成を有している。第３のヘッドモジュール２３は支持フレーム２２３を介して基台２０の直上位置に設置されている。
【００６１】
第１〜第３のヘッドモジュール２１〜２３は、Ｙ軸方向に沿って各々直列的に配置されている。これによりステージ１１上の基板Ｓは、図５に示す位置から矢印Ａで示す方向に移動しながら、第１のヘッドモジュール２１によりＲ発光層が、第２のヘッドモジュール２２によりＧ発光層が、そして第３のヘッドモジュール２３によりＢ発光層が順次塗布される。
【００６２】
以上のように本実施形態によれば、Ｙ軸方向への基板Ｓの一回の移動操作のみで、基板Ｓの表面全域にＲ，Ｇ，Ｂ発光層を連続して形成することができるので、有機ＥＬディスプレイの生産性を向上させることができる。また本実施形態においても乾燥ムラを生じさせることなく各色のＥＬ層を形成することができるので、高画質の有機ＥＬディスプレイを安定して製造することができる。
【００６３】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上述の実施形態にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。
【００６４】
例えば以上の実施形態では、基板Ｓの表面全域を区画する複数列の領域に、インクヘッドが各々１つずつ配置されるようにヘッドモジュールが構成されたが、これに代えて、基板上の各領域にインクヘッドが複数個ずつ配置されてもよい。
【００６５】
また以上の実施形態では、基板Ｓの表面全域が６列の領域（Ｒ１〜Ｒ６）に区画されたが、領域の数は勿論これに限られず、基板の大きさやインクヘッドの形態に応じて適宜変更することが可能である。
【００６６】
さらに以上の実施形態では、１つのヘッドモジュールを２つのヘッド群で構成したが、３つ以上のヘッド群で構成されてもよい。例えば基板Ｓの表面全域を区画する複数列の領域のうち、２列おきに選択された第１の領域群と、他の２列おきに選択された第２の領域群と、残余の第３の領域群とに分け、これら各領域群に対応して３つのヘッド群を配置することができる。この場合も各ヘッド群のＹ軸方向に沿ったオフセット量が上記Ｈ以内に設定されることで、乾燥ムラを生じさせることなく基板上に所定の液滴層を形成することができる。
【符号の説明】
【００６７】
１，２…インクジェット塗布装置
１１…ステージ
１２…ヘッドモジュール
１２Ａ…第１のヘッド群
１２Ｂ…第２のヘッド群
１３…移動機構
１４…冷却機構
１５…コントローラ
２１…第１のヘッドモジュール
２２…第２のヘッドモジュール
２３…第３のヘッドモジュール
１２１，１２２，１２３，１２４，１２５，１２６…インクヘッド
Ｄ…液滴
Ｍ…回転機構部
Ｎ…液滴吐出ノズル
ＲＡ…第１の領域群
ＲＢ…第２の領域群
Ｓ…基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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