(57)【要約】【課題】クロメート製膜量を正確にコントロールできるＦＰＣ用銅箔のクロメート処理装置及びそのＦＰＣ用銅箔を提供する。【解決手段】下地金属処理をしたＦＰＣ用銅箔１０をクロメート処理槽２０内に浸漬してクロメート処理するクロメート処理装置において、前記ＦＰＣ用銅箔１０をクロメート処理槽２０に案内するコンタクトローラ１２に、そのコンタクトローラ１２にアルカリ溶液からなる薬液２２を供給する薬液浸漬下皿２１を設けたものである。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
下地金属処理をしたＦＰＣ用銅箔をクロメート処理槽内に浸漬してクロメート処理するクロメート処理装置において、前記ＦＰＣ用銅箔をクロメート処理槽に案内するコンタクトローラに、そのコンタクトローラにアルカリ溶液からなる薬液を供給する薬液浸漬下皿を設けたことを特徴とするＦＰＣ用銅箔のクロメート処理装置。
【請求項２】
前記コンタクトローラの上流側に、前記ＦＰＣ用銅箔に水洗水スプレーされた水洗水を除去するスリットエアーナイフを設けた請求項１記載のＦＰＣ用銅箔のクロメート処理装置。
【請求項３】
前記コンタクトローラは、その表面に溝加工が施される請求項１又は２記載のＦＰＣ用銅箔のクロメート処理装置。
【請求項４】
前記コンタクトローラは、その表面に前記薬液浸漬下皿からの薬液を噴射する穴が形成される請求項１〜３いずれかに記載のＦＰＣ用銅箔のクロメート処理装置。
【請求項５】
前記コンタクトローラが昇降装置で上下移動可能に設けられる請求項１〜４いずれかに記載のＦＰＣ用銅箔のクロメート処理装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載のクロメート処理装置でクロメート処理がなされたことを特徴とするＦＰＣ用銅箔。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ポリイミド樹脂との高密着強度を有するＦＰＣ（フレキシブルプリント配線基板）用銅箔のクロメート処理装置及びそのＦＰＣ用銅箔に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、デジタル家電の小型化、薄型化、軽量化、高機能化に伴い、それらに使用されているＦＰＣ（フレキシブルプリント配線基板）の小型化、高密度化が進んでいる。
【０００３】
これらの要求にこたえるため、ＦＰＣ材料への要求特性も厳しいものになっている。
【０００４】
銅箔に対しては、銅箔とポリイミド樹脂との接着強度の向上、パターン形成時に用いる薬品耐性の向上、加工時にかかる熱への耐性の向上が求められている。
【０００５】
特許文献１では、ＦＰＣ基材との接着面となる圧延銅箔に粗化めっき層、ニッケル−コバルトめっき層、亜鉛めっき層、クロメート処理層、シランカップリング処理層を形成することが提案されている。
【０００６】
パターンの細線化が進む中において、特に銅箔−樹脂間の密着強度及び、銅箔−樹脂間への加工時の処理液の滲みこみ抑止は重要となる。
【０００７】
ＦＰＣ用銅箔には特性向上のために種々の表面処理が施されるが、クロメート処理では、処理により基材表面に得られるクロム系皮膜により防錆及び接着力向上の効果が期待できる。
【０００８】
図８は従来のクロメート処理装置を示したもので、圧延銅箔に粗面化を施し、亜鉛等の下地金属を施した銅箔３０が、搬送ローラ３１、３２、３３、３４で搬送されクロメート処理槽３５に浸漬されてクロメート処理される。この際、銅箔３０は、搬送ローラ３１、３２で上向きに搬送され、その間に銅箔３０の表裏に水洗スプレーノズル３６、３６で水スプレーされ、銅箔３０の表裏が水洗水３７で洗浄され、搬送ローラ３２に対向して設けた水洗水液きりローラ３８にて、水洗水３７の水切りが行われて、搬送ローラ３２、３３で下向きに搬送されてクロメート処理槽３５に浸漬され、搬送ローラ３３、３４にてクロメート処理槽３５から引き上げられ、その後、水洗、加熱乾燥される。
【０００９】
この図８のクロメート処理では、クロメート処理槽３５内のクロメート処理液で銅箔３０の下地金属（亜鉛めっき層）を溶解し、基材界面近傍のｐＨを上昇させて、処理液中のクロム系皮膜を沈着させるという工法であるため、その製膜量および下地金属との比率変更のコントロールが困難であり、製造方法にも工夫が必要である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００６−３１９２８７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
そこで、クロメート処理をする前にアルカリ溶液に銅箔を浸漬してクロメート処理することが提案されている。このアルカリ溶液への浸漬を追加したクロメート処理のフローは以下のようになる。
亜鉛めっき→水洗→アルカリ浸漬→クロメート処理→水洗→加熱乾燥
【００１２】
下地金属めっき後の基材をアルカリに浸漬させることで、後のクロメート処理時に基材表面のｐＨを強制的に上げ、効率良く、速やかにクロメート皮膜を沈着させることが可能になる。
【００１３】
また、浸漬させるアルカリ溶液の濃度・クロメート液中のＣｒ濃度を変化させることで、比較的容易にクロメート皮膜の製膜量をコントロールできる。
【００１４】
しかし、水洗→アルカリ浸漬では、水洗水の持ち込みによりアルカリ濃度の低下が起きる問題を残している。
【００１５】
したがって、アルカリ濃度を低下せずにクロメート処理を行う機構が必要である。また、Ｃｒ皮膜の製膜量をコントロールするためには、銅箔の搬送速度制御以外の機構を用いる必要がある。
【００１６】
そこで、本発明の目的は、上記課題を解決しクロメート製膜量を正確にコントロールできるＦＰＣ用銅箔のクロメート処理装置及びそのＦＰＣ用銅箔を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
上記目的を達成するために請求項１の発明は、下地金属処理をしたＦＰＣ用銅箔をクロメート処理槽内に浸漬してクロメート処理するクロメート処理装置において、前記ＦＰＣ用銅箔をクロメート処理槽に案内するコンタクトローラに、そのコンタクトローラにアルカリ溶液からなる薬液を供給する薬液浸漬下皿を設けたことを特徴とするＦＰＣ用銅箔のクロメート処理装置である。
【００１８】
請求項２の発明は、前記コンタクトローラの上流側に、前記ＦＰＣ用銅箔に水洗水スプレーされた水洗水を除去するスリットエアーナイフを設けた請求項１記載のＦＰＣ用銅箔のクロメート処理装置である。
【００１９】
請求項３の発明は、前記コンタクトローラは、その表面に溝加工が施される請求項１又は２記載のＦＰＣ用銅箔のクロメート処理装置である。
【００２０】
請求項４の発明は、前記コンタクトローラは、その表面に前記薬液浸漬下皿からの薬液を噴射する穴が形成される請求項１〜３いずれかに記載のＦＰＣ用銅箔のクロメート処理装置である。
【００２１】
請求項５の発明は、前記コンタクトローラが昇降装置で上下移動可能に設けられる請求項１〜４いずれかに記載のＦＰＣ用銅箔のクロメート処理装置である。
【００２２】
請求項６の発明は、請求項１〜５のいずれかに記載のクロメート処理装置でクロメート処理がなされたことを特徴とするＦＰＣ用銅箔である。
【発明の効果】
【００２３】
本発明は、クロメート処理前にアルカリ溶液による薬液処理する際に、クロメート処理槽にＦＰＣ銅箔を案内するコンタクトローラに、薬液浸漬下皿を設けることで、クロメート処理のＣｒ皮膜の製膜量を正確にコントロールすることができるという優れた効果を発揮する。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明の第１実施の形態を示す図である。
【図２】本発明の第２の実施の形態を示す図である。
【図３】本発明の第３の実施の形態を示す図である。
【図４】本発明の第４の実施の形態を示す図である。
【図５】図３、図４の搬送ローラの詳細を示す図である。
【図６】図５の搬送ローラの他の形態を示す図である。
【図７】図５の搬送ローラのさらに他の形態を示す図である。
【図８】従来のクロメート処理装置を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、本発明の好適な一実施の形態を添付図面に基づいて詳述する。
【００２６】
図１は本発明のＦＰＣ用銅箔のクロメート処理装置の第１実施の形態を示すものである。
【００２７】
図１において１０は、圧延銅箔に粗面化を施し、その粗面化層にニッケル−コバルト合金めっき層、亜鉛めっき層が形成されたＦＰＣ用銅箔（以下単に銅箔という）であり、２０は、銅箔１０をクロメート処理するクロメート処理槽である。
【００２８】
銅箔１０は、入口搬送ローラ１１からクロメート処理槽２０の入口側上部に設けたコンタクトローラ１２で上方に搬送され、クロメート処理槽２０内に設けた浸漬ローラ１３で下方に搬送され、クロメート処理槽２０の出口側上部に設けた引上ローラ１４で上向きに搬送される。引上ローラ１４より下流側は、図示していないが、クロメート処理後の銅箔１０は、水洗装置、加熱乾燥装置に搬送されるようになっている。
【００２９】
銅箔１０は、ＦＰＣ基材と接着する粗化面と下地金属層が形成された面１０ａが下面となるよう、また配線側の面１０ｂが上面となるように入口搬送ローラ１１に案内され、入口搬送ローラ１１とコンタクトローラ１２間で上方に搬送され、その間に、その搬送路の表裏に設けた水洗スプレーノズル１６ａ、１６ｂで水スプレーがなされ、銅箔１０の表裏が水洗水１７で洗浄される。コンタクトローラ１２には、そのコンタクトローラ１２と対向して銅箔１０の面１０ｂの水洗水１７を除去する水洗水液きりローラ１８が設けられる。
【００３０】
この第１実施の形態においては、コンタクトローラ１２の下部に、そのコンタクトローラ１２の面にアルカリ溶液を供給する薬液浸漬下皿２１が設けられる。
【００３１】
この第１実施の形態においては、そのコンタクトローラ１２の下面が薬液浸漬下皿２１の薬液（アルカリ溶液）に浸漬され、そのコンタクトローラ１２に薬液が塗布されることで、水洗スプレーノズル１６ａから、銅箔１０の粗化面と下地金属層が形成された面１０ａの水洗水１７がコンタクトローラ１２に付着することなく水洗水１７の持ち込みが防止され、代わりにコンタクトローラ１２に塗布された薬液２２が銅箔１０の面１０ａに塗布される。この薬液２２により、クロメート処理槽２０によるクロメート処理前に、銅箔１０の面１０ａのｐＨが強制的に上げられ、クロメート処理槽２０のクロメート液２３に浸漬した際に、速やかにクロメート皮膜を沈着させることが可能となる。
【００３２】
この第１実施の形態においては、薬液浸漬下皿２１で浸漬・塗布させる薬液（アルカリ溶液）２２の濃度とクロメート液２３中のＣｒ濃度を、適宜選定することで、クロメート皮膜の製膜量をコントロールすることができる。
【００３３】
薬液２２としては、例えば濃度５０％、粘度１．１０ｃｐの水酸化ナトリウム溶液を用いる。
【００３４】
図２は、本発明の第２実施の形態を示したものである。
【００３５】
図１の第１実施の形態では、銅箔１０の面１０ａに塗布される薬液２２は、水洗水１７の持ち込みが一部あるためアルカリ濃度の低下が起きやすい。そこで本実施の形態では、図２に図示するように、コンタクトローラ１２に銅箔１０が案内される手前となる上流側に、水洗スプレーノズル１６ａからの水洗水１７を、スリットエアーナイフ２４から吹き出されるエアー２５で、水洗水液きりを行うようにしたものである。
【００３６】
このスリットエアーナイフ２４からのエアー２５の風量は、銅箔１０の幅当たり１０Ｌ／ｍｉｎ以上１５０Ｌ／ｍｉｎ以下にして水洗水液きりを行う。
【００３７】
これにより、銅箔１０の面１０ａに塗布される薬液２２は水洗水の影響がなくなり、銅箔１０の面１０ａに塗布する薬液２２の濃度を適正に制御することができる。
【００３８】
図３は、本発明の第３実施の形態を示したものである。
【００３９】
図１、図２に示した実施の形態では、銅箔１０の面１０ａに薬液２２を塗布するコンタクトローラ１２は、他の搬送用のローラ１１、１４と同じ構造であるが、本実施の形態ではローラ表面に溝や穴などの加工を施したコンタクトローラ１２Ａ、１２В、１２Ｃで構成するようにしたものである。
【００４０】
このコンタクトローラ１２Ａ、１２В、１２Ｃは、表面がＳＵＳや樹脂（ＰＰ、ＰＥＥＫ、デルリン（登録商標、ポリオキシメチレン）、ゴム等の材質を使用し、表面に微細な溝やローレット加工溝を施したもので、図５に示すように表面の円周方向に沿って直線溝２７を形成し、この直線溝２７を軸方向に多数形成したコンタクトローラ１２Ａとしたり、図６に示すように表面をローレット加工（或いはマイクロブラスト処理加工）２８にてギザギザにしたコンタクトローラ１２Вとしたり、図７に示すようにローラ表面に薬液を噴射する穴２９を多数形成し、その穴２９から直接薬液を噴射するコンタクトローラ１２Ｃとする。
【００４１】
この図５、図６に示したコンタクトローラ１２Ａ、１２Ｂを用いた場合には、ローラの表面の溝形状により薬液が毛細管現象で付着するため、銅箔１０の面１０ａに効率よく薬液を塗布することができる。この直線溝２７やローレット加工２８の溝幅、深さ範囲は、共に０．１ｍｍ以上１．０ｍｍがよい。
【００４２】
また図７に示したコンタクトローラ１２Ｃを用いた場合には、薬液浸漬下皿２１からの薬液２２をコンタクトローラ１２Ｃ内に一旦溜め、穴２９からその薬液２２を噴射することで、銅箔１０の面１０ａに効率よく薬液を塗布することができる。
【００４３】
図４は、本発明の第４実施の形態を示したものである。
【００４４】
図１〜図３の実施の形態では、コンタクトローラ１２、１２Ａ〜Ｃを固定して設ける例を示したが、本実施の形態では、昇降手段２６にて、コンタクトローラ１２Ａ〜Ｃを、薬液浸漬下皿２１と共に上下動できるようにして、その上下位置を調整できるようにしたものである。
【００４５】
このようにコンタクトローラ１２Ａ〜Ｃを上下動できるようにすることで、コンタクトローラ１２Ａ〜Ｃで薬液が塗布された銅箔１０がクロメート処理槽２０のクロメート液２３に浸漬されるまでの時間を調整でき、その間のｐＨ調整時間を自在に調整することができ、クロメート皮膜の製膜量制御が簡単に行える。
【００４６】
この図４では、溝加工を施したコンタクトローラ１２Ａ〜Ｃの例で説明したが、図１、図２で説明した溝加工なしのコンタクトローラ１２に変更してもよい。
【符号の説明】
【００４７】
１０  ＦＰＣ用銅箔
１２  コンタクトローラ
２０  クロメート処理槽
２１  薬液浸漬下皿
２２  薬液
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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