(57)【要約】【課題】ゴースト光による散乱光が被走査面に到達することを防止でき、異常画像の発生を高精度に抑制できる光走査装置を提供する。【解決手段】ポリゴンミラー21で偏向されて走査レンズ23Rを通過した第１の光束LBkと第２の光束LBcは、光路分割素子26Rで光路を分割されてそれぞれの感光体ドラムに入射する。光路分割素子26Rを通過すべきレーザビームLBk（第１の光束）が光路分割素子26Rにより光路を略90°折り返される成分、すなわち第2のゴースト光LBk-Gが発生しても、遮光手段53により遮光され、LBk-Gの一部が折り返しミラー43の角部で反射して散乱光となり、開口28cを通って第２の光束LBcの信号光LBc-Sで走査される感光体ドラムに到達するのが防止される。【選択図】図８
2013190562.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第1の光束を射出する第1の発光部及び第2の光束を射出する第2の発光部を含む光源と、
第1の光束及び第2の光束を偏向する偏向器と、
前記偏向器により偏向された第1の光束及び第2の光束を、各々第1の被走査面及び第2の被走査面上に走査するための走査光学素子と、
第1の光束を第1の被走査面上に導くための折り返しミラー及び第2の光束を第2の被走査面上に導くための折り返しミラーと、
これらを収容する筐体と、
を備えた光走査装置において、
第2の光束から発生し、前記折り返しミラーを介して第1の被走査面に到達する不要な光束を第1のゴースト光とし、第1の光束から発生し、前記折り返しミラーを介して第2の被走査面に到達する不要な光束を第2のゴースト光とするとき、
第1のゴースト光と第2のゴースト光のうち、少なくとも一方のゴースト光の一部が前記折り返しミラーの角部に入射して散乱するのを抑制する遮光手段を備えたことを特徴とする光走査装置。
【請求項２】
請求項１に記載の光走査装置において、
前記走査光学素子を通過した第1の光束を透過させ、第2の光束を反射させることで、第1の光束及び第2の光束の光路を分離する光路分割素子を有し、
第1の光束と第2の光束は、それらの主光線が主走査方向に直交する面内で互いに非平行な状態で前記光路分割素子に入射し、
第1のゴースト光は、第2の光束の前記光路分割素子での透過光であり、第2のゴースト光は、第1の光束の前記光路分割素子での反射光であることを特徴とする光走査装置。
【請求項３】
請求項２に記載の光走査装置において、
前記折り返しミラーが、前記光路分割素子を透過した第1の光束及び反射された第2の光束を各々折り返す第1の折り返しミラーと、第1の折り返しミラーにより折り返された光路を各々第1の被走査面及び第2の被走査面に導く第2の折り返しミラーとから構成され、
前記遮光手段は、第1の折り返しミラーと第2の折り返しミラーとの間に配置されていることを特徴とする光走査装置。
【請求項４】
請求項３に記載の光走査装置において、
前記遮光手段は、第1の折り返しミラーで折り返された第1の光束又は第2の光束と、第1のゴースト光又は第2のゴースト光とが重なり合わない位置に配置されていることを特徴とする光走査装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１つに記載の光走査装置において、
前記遮光手段は、前記走査光学素子を支持する支持部材に一体に設けられていることを特徴とする光走査装置。
【請求項６】
請求項３に記載の光走査装置において、
前記遮光手段は、第2の折り返しミラーの角部を含む領域をマスキングするように設けられていることを特徴とする光走査装置。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１つに記載の光走査装置において、
前記遮光手段では遮光されなかった成分を遮光する第2の遮光手段を有していること光走査装置。
【請求項８】
請求項７に記載の光走査装置において、
前記遮光手段又は第2の遮光手段のうち少なくとも一方は、位置調整可能であることを特徴とする光走査装置。
【請求項９】
請求項１〜４のいずれか１つに記載の光走査装置において、
前記遮光手段は、前記筐体に一体に形成されていることを特徴とする光走査装置。
【請求項１０】
請求項２に記載の光走査装置において、
前記光路分割素子は、レーザビームの偏光特性を利用して光路を分離する偏光分離素子であることを特徴とする光走査装置。
【請求項１１】
像担持体に画像情報に基づいて光走査装置により静電潜像を形成し、該静電潜像を現像装置により可視像化し、該可視像を記録媒体に間接にあるいは直接に転写して画像形成を行う画像形成装置において、
前記光走査装置が請求項１〜１０のいずれか１つに記載のものであることを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被走査面に静電潜像を形成する光走査装置、該光走査装置を有する複写機、プリンタ、ファクシミリ、プロッタ、これらのうち少なくとも１つを備えた複合機等の画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子写真の画像記録では、レーザを用いた画像形成装置が広く用いられている。この場合、画像形成装置は光走査装置を備え、感光性を有するドラム（以下、「感光体ドラム」ともいう）の軸方向に光偏向器（例えば、ポリゴンミラー）を用いてレーザ光を走査しつつ、感光体ドラムを回転させ、感光体ドラムの表面に潜像を形成する方法が一般的である。
近年、画像形成装置において、カラー化、高速化が進み、感光性を有するドラムを複数（通常は４つ）有するタンデム方式の画像形成装置が普及してきている。
タンデム方式では感光体ドラム数の増加に伴い画像形成装置が大型化する傾向にあり、光走査装置を含め小型化が求められている。光走査装置の小型化（特に、薄型化）には、光偏向器から各感光体ドラムに向かう走査光の複数の光路を重ね合わせることが有効である。
【０００３】
光走査装置の薄型化を達成するためには、装置内部における光偏向器から感光体ドラム表面までのレーザビームの光路レイアウト(副走査断面)を工夫する必要がある。
例えば、特許文献１や２では、偏光特性を利用して光路を分離したレーザビームを各々異なる感光体ドラムに導光する構成において、光路レイアウトを「2段構成」とする方法が提案されている。
【０００４】
特許文献１及び２では、光路レイアウトを2段構成とするため、偏光ビームスプリッタのような「分離光学素子」を利用して、直交する偏光面をもつ2本のレーザビームの光路を、直進方向とこれに直交する方向に分離する構成としている。
そのため、2本のレーザビームの直線偏光が偏光ビームスプリッタ面に対して正確にP偏光やS偏光ではない場合には、完全に2本のレーザビームの光路が分離できず、偏光ビームスプリッタ面を直進すべきレーザビームの一部の成分が偏光ビームスプリッタ面にて反射されることにより、これがゴースト光となり、本来とは異なる感光体ドラム表面に到達する虞があった。
このゴースト光による異常画像の発生を回避するため、特許文献２には、ゴースト光を遮光する構成について列挙されている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献２で列挙されている遮光方式は、分離光学素子で発生したゴースト光の「主光線」に着目しており、この主光線を遮光することでゴースト光の全てを除去できるような状況に対しては有効な手段である。
しかしながら、本来感光体ドラム表面を走査すべきレーザビームと同様に、このゴースト光も、主光線に直交する平面において、ある程度の幅(領域)をもつ「光束」であり、主光線を遮光するだけでは不十分なことが多い。
例えば、主光線を遮光しても必ずしも光束の全てが遮光されるとは限らないため、遮光されなかったゴースト光が感光体ドラムに到達する虞があった。
ゴースト光の主光線以外の成分が、例えば折り返しミラーのエッジ部に入射し、それが散乱光となる場合がある。このような場合には、ゴースト光の主光線を遮光するだけでは不十分であり、散乱光が感光体ドラム表面に到達し、異常画像発生の原因となる虞があった。
【０００６】
本発明は、このような現状に鑑みて創案されたもので、ゴースト光による散乱光が被走査面に到達することを防止でき、異常画像の発生を高精度に抑制できる光走査装置の提供を、その主な目的する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明は、第1の光束を射出する第1の発光部及び第2の光束を射出する第2の発光部を含む光源と、第1の光束及び第2の光束を偏向する偏向器と、前記偏向器により偏向された第1の光束及び第2の光束を、各々第1の被走査面及び第2の被走査面上に走査するための走査光学素子と、第1の光束を第1の被走査面上に導くための折り返しミラー及び第2の光束を第2の被走査面上に導くための折り返しミラーと、これらを収容する筐体と、を備えた光走査装置において、第2の光束から発生し、前記折り返しミラーを介して第1の被走査面に到達する不要な光束を第1のゴースト光とし、第1の光束から発生し、前記折り返しミラーを介して第2の被走査面に到達する不要な光束を第2のゴースト光とするとき、第1のゴースト光と第2のゴースト光のうち、少なくとも一方のゴースト光の一部が前記折り返しミラーの角部に入射して散乱するのを抑制する遮光手段を備えたことを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、ゴースト光が折り返しミラーの角部に入射することで発生する散乱光が被走査面に到達することを防止でき、異常画像の発生を高精度に抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る画像形成装置の概要構成図である。
【図２】光走査装置の構成を示す概要平面図である。
【図３】光源ユニットの構成を示す概要平面図である。
【図４】本発明を適用しない状態での光走査装置の副走査方向の概要断面図である。
【図５】散乱光の発生状態を説明するための副走査方向の概要断面図である。
【図６】折り返しミラーの斜視図である。
【図７】散乱光が発生する部位の拡大断面図である。
【図８】本発明を適用した第１の実施形態における光走査装置の副走査方向の概要断面図である。
【図９】第２の実施形態における光走査装置の副走査方向の概要断面図である。
【図１０】第３の実施形態における光走査装置の副走査方向の概要断面図である。
【図１１】第３の実施形態の変形例に係る光走査装置の副走査方向の概要断面図である。
【図１２】第４の実施形態における光走査装置の副走査方向の概要断面図である。
【図１３】第５の実施形態における光走査装置の副走査方向の概要断面図である。
【図１４】第６の実施形態における散乱光の発生状態を説明するための副走査方向の概要断面図である。
【図１５】本発明を適用した第６の実施形態における光走査装置の副走査方向の概要断面図である。
【図１６】第７の実施形態における散乱光の発生状態を説明するための副走査方向の概要断面図である。
【図１７】本発明を適用した第７の実施形態における光走査装置の副走査方向の概要断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明の実施形態を図を参照して説明する。
図１乃至図８に基づいて第１の実施形態を説明する。まず、図１に基づいて、本実施形態に係るフルカラー画像形成が可能な画像形成装置の構成の概要を説明する。
図１に示すように、本実施形態に係る画像形成装置は、像担持体ユニットまたはプロセスユニットとしての４色分の作像装置１５Ｙ（イエロー）、１５Ｍ（マゼンタ）、１５Ｃ（シアン）、１５Ｋ（黒）を有しており、各ステーションとしての作像装置１５は装置本体８０に対して着脱自在に設けられている。
各作像装置１５の他に、レーザ光を照射可能な露光手段としての光走査装置２０、中間転写体ユニット３０、給紙ユニット６０、及び定着手段としての定着ユニット５０等を備えている。
【００１１】
各作像装置１５Ｙ、１５Ｃ、１５Ｍ、１５Ｋの構造は現像色が異なるだけで同一である。イエローの作像装置１５Ｙを代表して説明すると、それぞれ像担持体としての感光体ドラム９Ｙと、感光体ドラムを帯電する帯電装置１３Ｙと、感光体ドラムに残留した現像剤等を除去するクリーニング装置１４Ｙと、感光体ドラムに形成された潜像を現像する現像装置１６Ｙとを一体に備えている。
また、各作像装置は、装置本体の操作面側に設けられた図示しない開閉式面板の開閉方向、すなわち感光体ドラムの回転軸方向に装置本体に対して着脱自在な構成になっている。
【００１２】
中間転写体ユニット３０は、中間転写体としての無端状の転写ベルト３１と、各感光体ドラム９に形成されたトナー像を転写ベルト３１に転写する一次転写手段としての４本の一次転写ローラ３５と、転写ベルト３１上に転写されたトナー像を更に記録媒体としての記録紙Ｐに転写する二次転写手段としての二次転写ローラ３６とを備えている。
転写ベルト３１は、支持ローラ３２、３３、３４、３７間に掛け回されており、支持ローラ３２は転写ベルト３１を挟んで二次転写ローラ３６と対向し、二次転写ローラ３６との間で二次転写ニップ部を形成している。
支持ローラ３３に対向する部位には、転写後の転写ベルト３１の表面をクリーニングするベルトクリーニング装置３８が設けられている。
【００１３】
給紙ユニット６０は、図示しない上昇モータにて給紙カセット４１内部に設置したアーム４８を稼動させてトレイ底板４７を上昇させることで、記録紙Ｐの束を呼び出しコロ６１に当接させる構成を有している。
呼び出しコロ６１を回転させることによって記録紙Ｐの束を給紙方向下流にずらし、給紙コロ６２と逆転コロ６３とによって最上紙の一枚を分離し、搬送コロ対６４、レジストローラ対６５によって二次転写領域に搬送する。
定着ユニット５０は、定着ローラ５１及び加圧ローラ５２を備え、記録紙Ｐ上のトナー像に熱と圧を加えることで定着を行う。
【００１４】
上記構成において、まず１色目のイエローの作像装置１５Ｙにおいて、感光体ドラム９が帯電装置１３によって一様に帯電された後、光走査装置２０から照射されたレーザ光によって潜像が形成され、該潜像は現像装置１６によってトナー像として可視像化される。
感光体ドラム９上に形成されたトナー像は、一次転写ローラ３５の作用によって転写ベルト３１上に転写される。一次転写が終了した感光体ドラム１２はクリーニング装置１４によってクリーニングされ、次の画像形成に備える。
クリーニング装置１４によって回収された残留トナーは、作像装置の取り出し方向に設置された図示しない廃トナー回収ボトルに貯蔵される。この廃トナー回収ボトルは満杯になると交換できるように装置本体に対し着脱自在になっている。
【００１５】
同様の画像形成工程が作像装置１５Ｍ、１５Ｃ、１５Ｋにおいても行われて各色のトナー像が形成され、先に形成されたトナー像に順次重ねて転写される。
一方、記録紙Ｐが給紙カセット４１から二次転写領域に搬送され、二次転写ローラ３６の作用によって転写ベルト３１上に形成されたトナー像が記録紙Ｐに二次転写される。
トナー像を転写された記録紙Ｐは定着ユニット５０に搬送され、該定着ユニット５０の定着ローラ５１と加圧ローラ５２とのニップ部にてトナー像が定着され、排紙ローラ対５５によって排紙トレイ５６に排紙される。
手差しトレイ５９にも記録紙Ｐがセットされており、給紙ローラ５８にて同様に給紙・搬送されるとともに、転写、定着され、排紙トレイ５６に排出される。
画像形成によって各作像装置１５Ｙ、１５Ｍ、１５Ｃ、１５Ｋのトナーは消費される。これに応じて新しいトナーがトナーボトル５７Ｙ、５７Ｍ、５７Ｃ、５７Ｋから補給される。トナー補給時には、トナーボトル５７Ｙ、５７Ｍ、５７Ｃ、５７Ｋが回転され、図示しないパイプを通してトナーが各作像装置に搬送される。
【００１６】
以下に、光走査装置２０の構成を詳細に説明する。
光走査装置２０は、上記のように、4色のトナー像に対応する感光体ドラム9Y、9M、9C、9Kを同時に走査してカラー画像を形成するタンデム式カラー画像形成装置の露光装置としてなる。
図２は、偏向器としてのポリゴンミラー21から感光体ドラム9Y〜9Kまでの光路内に配備され、その光路を折り返すための折り返しミラーを省略し、光路を展開して図示した平面図である。
本光学系(平面図)は、ポリゴンミラー21の回転軸を通りY-Z平面に平行な平面に対して略対称形状であるため、ここでは、光源ユニットLU2から感光体ドラム9C、9Kまでの光学系について説明する。図２において、感光体ドラム9C、9Kに対応する右側の構成要素にはＲを、感光体ドラム9Y、9Mに対応する左側の構成要素にはＬの符号を付して区別している。
光源ユニットLU2を出射した2本のレーザビームLBc及びLBkは、シリンドリカルレンズ22Rの作用によりポリゴンミラー21の偏向反射面上に副走査方向に結像した線像を形成する。
一定の角速度で回転するポリゴンミラー21の共通の偏向反射面で偏向反射されたレーザビームLBc及びLBkは、共通の走査光学素子としての走査レンズ23Rの作用により、各々感光体ドラム9C及び9K上をビームスポットとして略一定の速度で走査する。
【００１７】
図３に示すように、光源ユニットLU2は、少なくとも2つの発光部としての半導体レーザ24c、24kと、この2つの半導体レーザからの出射光を以降の光学系の特性に応じて平行光束又は弱い発散光束又は弱い収束光束に変換する2つのカップリングレンズ25c、25kとから構成されている。
半導体レーザは、シングルビームだけではなく、複数の発光部が直線的に配列した半導体レーザアレイや、複数の発光部が二次元的に配列したVCSELであっても構わない。すなわち、本実施形態における「光束」とは、1本のレーザビームだけではなく、複数のレーザビームも含む概念である。
【００１８】
後述するように、光路分割素子26Rに対して各々S偏光及びP偏光の直線偏光で入射するように、2つの半導体レーザからの出射光の偏光面が設定されている。
光源ユニットLU2の構成としては、2つの半導体レーザからのレーザビームを合成手段(偏光ビームスプリッタ面をもつビーム合成プリズム)により合成する構成や、偏光変換マルチチャンネルLD、1can2LD等、どのような構成でも構わない。
【００１９】
図４に示すように、ポリゴンミラー21と感光体ドラム9C及び9Kの間の光路には、光路分割素子26R及び複数の折り返しミラー42〜45が配置され、その光路が折り返されている。
ここでは、半導体レーザ24ｋから射出される光束を第１の光束、半導体レーザ24cから射出される光束を第２の光束とし、第１の光束で走査される第1の被走査面を感光体ドラム9Kとし、第２の光束で走査される第２の被走査面を感光体ドラム9Cとしている。
これらの限定は本実施形態での便宜上のものであり、隣り合う２つの感光体ドラムのいずれか一方を第１の被走査面としたとき他方が第２の被走査面としてなり、これに対応して光束の第１、第２も決まる。図２における左側の構成においても同様である。
【００２０】
2本のレーザビーム(第2の光束LBc、第1の光束LBk)は、ポリゴンミラー21の偏向反射面に対して各々P偏光及びS偏光の直線偏光で入射し、光路分割素子26Rに対しては各々S偏光及びP偏光の直線偏光で入射する。
そのため、一点鎖線で示すレーザビームLBcは光路分割素子26Rにて光路を略90°折り返され、一方、実線で示すレーザビームLBkは光路分割素子26R内を直進(平行シフト成分は無視する)して通過する。
このようにして、共通の走査レンズ23Rを通過した2本のレーザビームLBc及びLBkは光路分割素子26Rにより、その光路を2方向に分割される。
本光走査装置では、Z軸方向の寸法を小さくして「薄型化」するために、副走査断面の光路レイアウトを2段構成とした。
【００２１】
光路分割素子26Rにおけるゴースト光の発生を説明する。
図４に示すように、光路分割素子26Rを直進して通過したレーザビームLBk-S(第1の信号光)は、感光体ドラム9Kに対応する第１の折り返しミラー44及び第２の折り返しミラー45を介して、感光体ドラム9Kに入射する。
光路分割素子26Rにより光路を略90°折り返されたレーザビームLBc-S(第2の信号光)は、感光体ドラム9Cに対応する第1の折り返しミラー42及び第2の折り返しミラー43を介して、感光体ドラム9Cに入射する。
しかしながら、光路分割素子26Rを通過すべきレーザビームLBkの偏光状態が好ましくない場合、例えば、直線偏光の偏光方向がわずかに傾いていたり、楕円偏光状態になっていた場合には、レーザビームLBcと同様に、光路分割素子26Rにより光路を略90°折り返される成分、すなわち第２の被走査面（感光体ドラム9C）に到達する不要な光束としての第2のゴースト光が発生する。
同様に、レーザビームLBcにおいても、光路分割素子26Rを通過する成分、すなわち第１の被走査面（感光体ドラム9K）に到達する不要な光束としての第1のゴースト光が発生する。
【００２２】
本実施形態では、このような意図しないレーザビームの成分を上記のように、「ゴースト光」と呼び、本来感光体ドラム上を走査すべきレーザビームの成分を「信号光」と呼ぶことにする。
【００２３】
光源ユニットLU2からポリゴンミラー21までの2本のレーザビームLBc及びLBkを副走査断面内で互いに非平行な状態(不図示)とすることにより、図4に示すように、ポリゴンミラー21の偏向反射面上ではほぼ同一の高さの位置で反射した2本のレーザビームLBc及びLBkは互いに非平行な状態で光路分割素子26Rに入射する構成となっている。
図4では、レーザビームLBkと比較してLBcの方が相対的に上向きに進行している。これにより、光路分割素子26R以降の光路において、信号光とゴースト光の間隔が徐々に拡大されるため、両者を分離しやすくなる。
【００２４】
上述の光源ユニット、シリンドリカルレンズ、ポリゴンミラー、走査レンズ、光路分割素子、折り返しミラー等は、カバー部材28を備えた光学ハウジング27に収納されている。カバー部材28には、主走査方向（Ｙ軸方向）に細長い開口28c及び28kが設けられ、この開口28c及び28kが2本のレーザビームの射出用窓となっている。外部の塵埃が光学ハウジング内部に侵入することを回避するため、開口28c及び28kは各々平行平板ガラス29c及び29kにより塞がれている。平行平板ガラスの代替として、所定のパワーを有する光学レンズにて塞ぐ構成としても構わない。
【００２５】
ゴースト光による散乱光について説明する。
図５に示す比較例（本発明を適用していない構成）を用いて、光路分割素子26Rで発生した第2のゴースト光により第2の折り返しミラー43の角部で散乱光70が発生する様子を説明する。
光路分割素子26Rを通過せず光路を略90°折り返されたレーザビームLBkの成分が第2のゴースト光(以下、単に「ゴースト光」という)となり、第1の折り返しミラー42を介して、第2の折り返しミラー43に入射する。第2の折り返しミラー43のY軸回りの傾き角度を高精度に維持するには、第2の折り返しミラー43の幅H（図６を参照）を大きくすることが望ましい。
しかしながら、本光走査装置のような「薄型化」された光走査装置の場合には、例えば、図５に示すように、光学ハウジング27の底面67に干渉する等により、幅Hを十分に大きくすることができない場合がある。
【００２６】
このような場合には、少なくとも、レーザビームLBc-S(第2の信号光；以下、単に「信号光」という)は、主光線だけではなく周辺部も全て第2の折り返しミラー43の有効範囲内に入射するように幅Hを設定する必要がある。
このとき、図７に示すように、第2のゴースト光LBk-Gに関しては、主光線は第2の折り返しミラー43の反射面内に入射しているが、周辺部の一部の領域が第2の折り返しミラー43の角部43aに入射し散乱光70となってしまう。
薄型化された光走査装置では、上記のように、第2の折り返しミラー43の幅Hを十分に大きくすることができないため、散乱光70が生じやすい。
第2のゴースト光LBk-Gの主光線が、必ずしも第2の折り返しミラー43の反射面内に入射するとは限らないが、本実施形態においてはどちらでも構わない。下記では、第2のゴースト光LBk-Gの主光線が第2の折り返しミラー43の反射面内に入射した場合について説明する。
【００２７】
第2の折り返しミラー43の反射面にて反射された第2のゴースト光LBk-Gは、第2の遮光手段71(ここでは、開口28cの左側のカバー部材)により遮光され、感光体ドラム9Cに到達することを阻止されるが、角部43aで発生した散乱光70は開口28cを通過し、感光体ドラム9Cに到達する虞がある。
光路分割素子26Rから、レーザビームの光路に沿って遠くに進むに従って信号光とゴースト光の間隔は広がっていく。そのため、一般には、感光体ドラムに最も近い位置に配置された折り返しミラーの角部で散乱光が発生しやすい。
遮光手段はレーザビームを透過しなければ材質や形状には制約はなく、反射型よりも吸収型の方がより好ましい形態である。
なお、各図において、レーザビーム(信号光及びゴースト光)の光束幅(レーザビームの領域)は、説明しやすいように光路に沿って適宜拡大・縮小している。
【００２８】
図８に基づいて、上記散乱光の発生を回避するための本実施形態の構成を説明する。
図８に示すように、本実施形態では、第1の折り返しミラー42と第2の折り返しミラー43との間の光路、物理的な位置関係としては、図中の左右方向(X軸方向)において、第1の折り返しミラー42と走査レンズ23Rとの間に、遮光手段としての第1の遮光手段53を配置している。
第1の遮光手段53を配置した位置では、第2の信号光(光束)LBc-Sと第2のゴースト光(光束)LBk-Gの一部が重なり合っている。
このような位置に第1の遮光手段53を配置した場合、第2の信号光LBc-Sを遮光することなく第2のゴースト光LBk-Gの全ての成分を遮光することはできないが、第2のゴースト光LBk-Gの主光線を含む上半分以上の範囲を遮光することは可能である。
【００２９】
第1の遮光手段53により、第2のゴースト光LBk-Gの第2の折り返しミラー43の角部43aに入射する部分が遮光される。これにより、散乱光70は発生せず、第2のゴースト光LBk-Gの第2の折り返しミラー43で反射した光束は第2の遮光手段71で遮光され、ゴースト光が感光体ドラム9Cに到達するのが防止される。
換言すれば、第1の遮光手段53は、第2のゴースト光LBk-Gの第2の折り返しミラー43で反射（散乱を含む）する光束のうち、第2の遮光手段71でカバーできない領域を遮光する機能を有する。
さらに換言すれば、第1の遮光手段53は、第2のゴースト光LBk-Gの第2の折り返しミラー43で反射（散乱を含む）する光束のうち、開口28cに入り込む光束を遮光する機能を有する。
なお、特許文献２に記載の構成では「光束」を実質的に「光線」とみなしており、本発明のような「ゴースト光の一部領域のみを遮光する」という認識は存在していない。
【００３０】
図９に基づいて第２の実施形態を説明する。なお、上記実施形態と同一部分は同一符号で示し、特に必要がない限り既にした構成上及び機能上の説明は省略して要部のみ説明する（以下の他の実施形態において同じ）。
第１の実施形態で説明したように、2本のレーザビームLBc及びLBkは副走査断面において互いに非平行な状態で光路分割素子26Rに入射する構成であるが、2本のレーザビームLBc及びLBkの間の角度が小さく、及び/又は、光路分割素子26Rから光路に沿って近い位置に第1の遮光手段53を配置した場合には、第2の信号光(光束)と第2のゴースト光(光束)が十分に分離できないため、図８で示したように両者の一部が重なり合いやすい。換言すれば、重なり合う部分が広くなる。
逆に、2本のレーザビームLBc及びLBkの間の角度が大きく、及び/又は、光路分割素子26Rから光路に沿って遠い位置に第1の遮光手段53を配置した場合には、第2の信号光(光束)と第2のゴースト光(光束)とを十分に分離できる。
【００３１】
第１の実施形態では、第1の遮光手段53がレーザビームの光路に沿って光路分割素子26Rから十分に離れた距離に配置されていないため、信号光LBc-Sと第2のゴースト光LBk-Gが十分に分離できていない。
そのため、第2のゴースト光LBk-Gを効果的に遮光するには、第1の遮光手段53の寸法精度や組み付け精度を維持する必要が生じる。
本実施形態では、第1の遮光手段53の寸法精度や組み付け精度を緩和し、光学ハウジング27への組込みの容易化を目的としている。
【００３２】
本実施形態では、図９に示すように、第1の遮光手段53を、図中の左右方向(X軸方向)において、第1の折り返しミラー42と第2の折り返しミラー43との間であって、走査レンズ23Rと第2の折り返しミラー43との間、すなわち、信号光LBc-Sと第2のゴースト光LBk-Gとが重なり合わない位置に配置している。
これにより、図８で示した場合と比較して、第1の遮光手段53の寸法精度や組み付け精度を緩和することができ、光学ハウジング27内での設置が容易となる。すなわち、第1の遮光手段53を備えた光学ハウジング27の組み立て精度（散乱光の発生抑制精度）のばらつきを低減できる。
【００３３】
但し、光路分割素子26R、第1の折り返しミラー42、第2の折り返しミラー43のY軸回りの回転角度誤差が発生し、信号光LBc-S及び第2のゴースト光LBk-Gの相対的な進行方向がずれた場合には、図８の場合と同様に、信号光LBc-Sと第2のゴースト光LBk-Gとが重なり合う可能性があるため、信号光及び/又はゴースト光進行方向がずれた場合を考慮して、第1の遮光手段53を組み付ける必要がある。
本実施形態ではこの点を考慮して、第1の遮光手段53を、図示しない移動機構により、図中の矢印の方向(上下方向；Z軸方向)に調整可能な構成としている。
これにより、第1の遮光手段53の寸法精度を確保しなくても、信号光を遮光することなくゴースト光のみを確実に遮光することが可能となる。
【００３４】
また、本実施形態では、第2の遮光手段71を、図示しない移動機構により、図中の矢印の方向(左右方向；X軸方向)に調整可能な構成としている。
このような構成とすることにより、第1の遮光手段53で遮光されなかった第2のゴースト光LBk-Gを確実に遮光することができる。
例えば、光路分割素子26R、第1の折り返しミラー42、第2の折り返しミラー43のY軸回りの回転角度誤差が発生し、開口28c付近のゴースト光の照射位置が左右方向にずれた場合でも、第2の遮光手段71により確実にゴースト光を遮光することが可能となる。
ここでは、第1の遮光手段53、第2の遮光手段71の双方を位置調整する構成としたが、いずれか一方を位置調整する構成としてもよい。
第1の遮光手段53、第2の遮光手段71のうち、少なくとも一方の位置を調整する構成は、他の実施形態においても同様に実施することができる。
【００３５】
図１０及び図１１に基づいて、第３の実施形態を説明する。
本実施形態では、第1の遮光手段53が走査光学素子23Rを支持する支持部材に一体に設けられていることを特徴とする。
図１０は、図８で示した第1の遮光手段53の遮光位置に対応するものである。走査レンズ23Rを支持する支持部材72を、例えば、鉄合金やアルミ合金等にて板金加工し、その右端部を下側に折り曲げた部分を第1の遮光手段53としている。樹脂製やアルミ合金製のモールド成形加工の光学ハウジングの場合には、第1の遮光手段53を備えた支持部材72を光学ハウジング27と一体成形しても構わない。
このような支持部材との一体化構成を採用することにより、低コスト化と高精度化を図ることが可能となる。
図１１は、図９で示した第1の遮光手段53の遮光位置に対応するものである。すなわち、支持部材72の左端部を下側に折り曲げた部分を第1の遮光手段53としている。
このように支持部材72の右端又は左端を下側に折り曲げる構成だけではなく、支持部材72の中央部付近を下側に凸となる形状に加工したり、支持部材72の厚さを厚くする構成としても構わない。
【００３６】
図１２に基づいて、第４の実施形態を説明する。
本実施形態では、図９と同様の位置、すなわち信号光LBc-Sと第2のゴースト光LBk-Gとが重なり合わない位置に、第1の遮光手段53を配置しているが、第1の遮光手段53を+Y軸回りに約30°傾けた構成とした。
これにより、第1の遮光手段53にて遮光(反射)されたゴースト光(LBk-G)は光学ハウジング27の底面66に照射されることになる。
底面66においてゴースト光(LBk-G)が照射される領域を選択的に無反射処理することにより、このゴースト光がさらに反射して意図しない箇所に到達することを回避することが可能となる。
【００３７】
図１３に基づいて、第５の実施形態を説明する。
本実施形態では、第1の遮光手段が、第2の折り返しミラー43の角部を含む領域をマスキングするように設けられていることを特徴とする。
第2の折り返しミラー43の左上の角部を第1の遮光手段としてのマスキング用部材73で覆うことにより、その角部に第2のゴースト光LBk-Gが入射して散乱光が発生することを回避することができる。
このようにマスキング用部材73を第2の折り返しミラー43に装着することにより、信号光LBc-Sと第2のゴースト光LBk-Gとが重なり合わない度合いが大きいので、図9で示した場合よりもさらに第1の遮光手段の寸法精度や組み付け精度を緩和することができる。
マスキング用部材73の材質としては、樹脂製、板金製等いずれの材質でも構わないが、表面の色は反射光(散乱光)が発生しづらい黒色が望ましい。
マスキング用部材73で遮光できず、第2の折り返しミラー43の反射面で反射された第2のゴースト光LBk-Gの成分は、カバー部材28における開口28cの左横部(第2の遮光手段71)により遮光されることにより、感光体ドラム9Cには到達しない。
【００３８】
図１４及び図１５に基づいて、第６の実施形態を説明する。
図１４に示す比較例（本発明を適用していない構成）を用いて、光路分割素子26Rで発生した第2のゴースト光により第2の折り返しミラー43の角部43bで散乱光70が発生する様子を説明する。
図１４においては、副走査断面において、ポリゴンミラー21の偏向反射面上ではほぼ同じ高さの位置で反射した2本のレーザビームLBcとLBkの主光線は非平行であるが、図4の場合とは異なり、レーザビームLBkと比較してLBcの方が相対的に下向きに進行している。
【００３９】
光路分割素子26Rを反射したレーザビーム(信号光)LBc-Sは、第1の折り返しミラー42及び第2の折り返しミラー43を介して、感光体ドラム9Cに到達する。一方、光路分割素子26Rを通過すべきレーザビームLBkの一部が光路分割素子26Rを反射して光路を約90°折り返されて第2のゴースト光LBk-Gとなり、第1の折り返しミラー42及び第2の折り返しミラー43に入射する。
この場合、第2のゴースト光LBk-Gの一部の領域が、第2の折り返しミラー43の右下の角部43bに入射し、これが散乱光70となり、感光体ドラム9Cに到達する虞がある。
【００４０】
本実施形態では、図１５に示すように、第1の遮光手段53を、光学ハウジング27の底面66からZ軸方向に突出させた形状として一体成形している。
第1の遮光手段53により主光線を含む第2のゴースト光LBk-Gの一部を遮光することで、第2の折り返しミラー43の角部43bにおける散乱光の発生を回避することができる。
第1の遮光手段53では遮光されなかったゴースト光の残りの部分は、第2の折り返しミラー43で反射された後、開口28cの右側のカバー部材としての近傍である第2の遮光手段74により遮光され、感光体ドラム9Cに到達することはない。
【００４１】
図１６及び図１７に基づいて、第７の実施形態を説明する。
上記各実施形態では、感光体ドラム9Cを走査すべき信号光LBc-Sに対して、光路分割素子26Rで発生した第2のゴースト光LBk-Gを遮光する構成について説明した。
光路分割素子26Rと感光体ドラム9Kの間の光路内においても上記と同様のゴースト光の問題が生じ得る。本実施形態はその対応策の一例である。
図１６に示すように、ポリゴンミラー21の偏向反射面を反射したレーザビームLBcは、光路分割素子26Rにより光路を約90°折り曲げられた後、2枚の折り返しミラー42及び43を介して感光体ドラム9Cに至るが、その一部が光路分割素子26Rを通過することにより、第1のゴースト光LBc-Gとなり、感光体ドラム9Kに対応する第1の折り返しミラー44及び第2の折り返しミラー45に入射する。
【００４２】
主光線を含む第1のゴースト光LBc-Gは第2の折り返しミラー45の反射面で反射された後、第2の遮光手段75に照射されることで遮光され、感光体ドラム9Kには到達しない。
しかしながら、第2の折り返しミラー45の角部に入射した第1のゴースト光LBc-Gは散乱光70となり、開口28kを通過して感光体ドラム9Kに到達する虞がある。
【００４３】
本実施形態では、図１７に示すように、光学ハウジング27の底面67にZ軸方向に突出する形状の第1の遮光手段54を一体成形した。
これにより、主光線を含む第1のゴースト光LBc-Gを遮光することができ、第2の折り返しミラー45の角部に入射して散乱光を発生することを回避することが可能となる。
第1の遮光手段54では遮光されなかったゴースト光は第2の遮光手段75により遮光され、感光体ドラム9Kに到達することを阻止される。
図示しないが、上記実施形態で示した種々の遮光構成は、感光体ドラム9Kに対する遮光においても同様に実施することができる。
【符号の説明】
【００４４】
9K  第1の被走査面としての感光体ドラム
9C  第2の被走査面としての感光体ドラム
２０  光走査装置
２１  偏向器としてのポリゴンミラー
２３Ｒ  走査光学素子
２４ｃ  第1の発光部としての半導体レーザ
２４ｋ  第2の発光部としての半導体レーザ
２６Ｒ  光路分割素子
２７  筐体としての光学ハウジング
４２、４４  第１の折り返しミラー
４３、４５  第２の折り返しミラー
４３ａ  角部
５３  遮光手段としての第１の遮光手段
７１、７５  第2の遮光手段
７２  支持部材
７３  遮光手段としてのマスキング用部材
LBk  第1の光束
LBc  第2の光束
LBc-G  第1のゴースト光
LBk-G  第2のゴースト光
【先行技術文献】
【特許文献】
【００４５】
【特許文献１】特開２０１０−３９１４９号公報
【特許文献２】特開２０１１−２２１４９３号公報
【図１】
2013190562.tif 000003
【図２】
2013190562.tif 000004
【図３】
2013190562.tif 000005
【図４】
2013190562.tif 000006
【図５】
2013190562.tif 000007
【図６】
2013190562.tif 000008
【図７】
2013190562.tif 000009
【図８】
2013190562.tif 000010
【図９】
2013190562.tif 000011
【図１０】
2013190562.tif 000012
【図１１】
2013190562.tif 000013
【図１２】
2013190562.tif 000014
【図１３】
2013190562.tif 000015
【図１４】
2013190562.tif 000016
【図１５】
2013190562.tif 000017
【図１６】
2013190562.tif 000018
【図１７】
2013190562.tif 000019