(57)【要約】【課題】透明導電性酸化物膜の表面の表面最大粗さ（Ｒｐｖ）が小さな透明導電性酸化物膜付基板を好適に製造し得る方法を提供する。【解決手段】基板の上に透明導電性酸化物膜を形成する。研磨剤を含まない酸性溶液またはアルカリ性溶液を透明導電性酸化物膜の表面に供給しながら擦る処理工程を行う。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の上に透明導電性酸化物膜を形成する工程と、
研磨剤を含まない酸性溶液またはアルカリ性溶液を前記透明導電性酸化物膜の表面に供給しながら擦る処理工程と、
を備える、透明導電性酸化物膜付基板の製造方法。
【請求項２】
前記処理工程において、前記酸性溶液または前記アルカリ性溶液を含浸させた樹脂製多孔質体で前記透明導電性酸化物膜の表面を擦る、請求項１に記載の透明導電性酸化物膜付基板の製造方法。
【請求項３】
前記樹脂製多孔質体がポリオレフィンからなる、請求項２に記載の透明導電性酸化物膜付基板の製造方法。
【請求項４】
前記樹脂製多孔質体がポリエチレンからなる、請求項３に記載の透明導電性酸化物膜付基板の製造方法。
【請求項５】
前記樹脂製多孔質体の気孔率が、３０体積％〜９５体積％である、請求項２〜４のいずれか一項に記載の透明導電性酸化物膜付基板の製造方法。
【請求項６】
前記処理工程において、前記酸性溶液または前記アルカリ性溶液中に前記透明導電性酸化物膜を浸漬した状態で、前記樹脂製多孔質体で前記透明導電性酸化物膜の表面を擦る、請求項２〜５のいずれか一項に記載の透明導電性酸化物膜付基板の製造方法。
【請求項７】
前記酸性溶液として、塩酸水溶液を用いる、請求項１〜６のいずれか一項に記載の透明導電性酸化物膜付基板の製造方法。
【請求項８】
前記アルカリ性溶液として、水酸化カリウム水溶液を用いる、請求項１〜６のいずれか一項に記載の透明導電性酸化物膜付基板の製造方法。
【請求項９】
前記透明導電性酸化物膜は、スズ及び亜鉛の少なくとも一方を含む酸化物からなる、請求項１〜８のいずれか一項に記載の透明導電性酸化物膜付基板の製造方法。
【請求項１０】
前記透明導電性酸化物膜を、スパッタリング法、真空蒸着法またはＣＶＤ法により形成する、請求項１〜９のいずれか一項に記載の透明導電性酸化物膜付基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明導電性酸化物膜付基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、有機ＥＬ素子等の様々な素子に、透光性を有する透明電極が用いられている。透明電極は、例えば、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）などの透明導電性酸化物により構成できることが知られている。
【０００３】
例えば有機ＥＬ素子において、陽極を構成しているＩＴＯ膜の表面に突起が存在すると、突起が存在している部分における陽極と陰極との間の距離が短くなり、リーク電流が発生しやすくなるという問題がある。
【０００４】
このような問題に鑑み、特許文献１では、有機ＥＬ素子の陽極の有機膜と接合する面の表面粗さの最大高さ（Ｒｍａｘ）を５０Å以下とすることが提案されている。特許文献１には、有機ＥＬ素子の陽極の表面の表面粗さの最大高さ（Ｒｍａｘ）を５０Å以下とする方法として、スパッタリング法や電子ビーム法等により形成したＩＴＯ膜の表面を、ポリッシング、ラッピング、テープラッピングなどの手法により研磨する方法が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平９−２４５９６５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、研磨剤を用いてＩＴＯ膜の表面を研磨すると、ＩＴＯ膜の表面が傷つくという問題がある。また、研磨剤を用いてＩＴＯ膜の表面を研磨して表面粗さの最大高さ（Ｒｍａｘ）を小さくするためには長時間を要するという問題もある。
【０００７】
本発明は、透明導電性酸化物膜の表面の表面最大粗さ（Ｒｐｖ）が小さな透明導電性酸化物膜付基板を好適に製造し得る方法を提供することを主な目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明に係る透明導電性酸化物膜付基板の製造方法では、基板の上に透明導電性酸化物膜を形成する。研磨剤を含まない酸性溶液またはアルカリ性溶液を透明導電性酸化物膜の表面に供給しながら擦る処理工程を行う。
【０００９】
処理工程において、酸性溶液またはアルカリ性溶液を含浸させた樹脂製多孔質体で透明導電性酸化物膜の表面を擦ることが好ましい。
【００１０】
樹脂製多孔質体は、ポリオレフィンからなることが好ましく、なかでもポリエチレンからなることがより好ましい。
【００１１】
樹脂製多孔質体の気孔率は、３０体積％〜９５体積％であることが好ましい。
【００１２】
処理工程において、酸性溶液またはアルカリ性溶液中に透明導電性酸化物膜を浸漬した状態で、樹脂製多孔質体で透明導電性酸化物膜の表面を擦ることが好ましい。
【００１３】
酸性溶液として、塩酸水溶液を用いることが好ましく、アルカリ性溶液として水酸化カリウム水溶液を用いることが好ましい。
【００１４】
透明導電性酸化物膜が、スズ及び亜鉛の少なくとも一方を含む酸化物からなることが好ましい。
【００１５】
透明導電性酸化物膜を、スパッタリング法、真空蒸着法またはＣＶＤ法により形成することが好ましい。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、透明導電性酸化物膜の表面の表面最大粗さ（Ｒｐｖ）が小さな透明導電性酸化物膜付基板を好適に製造し得る方法を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明を実施した好ましい形態の一例について説明する。但し、下記の実施形態は、単なる例示である。本発明は、下記の実施形態に何ら限定されない。
【００１８】
本実施形態では、有機ＥＬ素子等に使用される透明導電性酸化物膜付基板の製造方法について説明する。
【００１９】
まず、基板の上に透明導電性酸化物膜を形成する。基板の種類は特に限定されない。基板としては、例えば、ガラス基板、プラスチック基板等を用いることができる。なお、ガラス基板には、結晶化ガラス基板が含まれるものとする。
【００２０】
透明導電性酸化物膜は、例えば、スズ及び亜鉛の少なくとも一方を含む酸化物により構成することができる。スズ及び亜鉛の少なくとも一方を含む酸化物の具体例としては、例えば、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、アルミニウム亜鉛酸化物（ＡＺＯ）等が挙げられる。
【００２１】
透明導電性酸化物膜の形成方法としては、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、ＣＶＤ法等が挙げられる。
【００２２】
透明導電性酸化物膜の厚みは、特に限定されず、例えば、５０ｎｍ〜２００ｎｍ程度とすることができる。
【００２３】
透明導電性酸化物膜を、スパッタリング法等により形成した場合、透明導電性酸化物膜の表面に突起が形成される。このため、次に、処理工程を行い、透明導電性酸化物膜の突起を除去する。
【００２４】
具体的には、処理工程において、研磨剤を含まない酸性溶液またはアルカリ性溶液を透明導電性酸化物膜の表面に供給しながら擦る。このようにすることにより、透明導電性酸化物膜の表面を傷つけることなく、突起を効率的に除去することができる。従って、本実施形態の透明導電性酸化物膜付基板の製造方法によれば、透明導電性酸化物膜の表面の表面最大粗さ（Ｒｐｖ）が小さな透明導電性酸化物膜付基板を好適に製造し得る。
【００２５】
なお、本発明において、表面最大粗さ（Ｒｐｖ）とは、ＪＩＳＢ０６０１：２００１により規定された粗さ曲線における最大山高さ（Ｒｐ）と最大谷深さ（Ｒｖ）の差である。
【００２６】
例えば、擦らずに、酸性溶液またはアルカリ性溶液を透明導電性酸化物膜の表面に供給することのみにより突起を除去することも考えられる。この場合は、透明導電性酸化物膜の表面を傷つけない。しかしながら、突起の除去に長時間を要する。それに対して、本実施形態のように研磨剤を含まない酸性溶液またはアルカリ性溶液を透明導電性酸化物膜の表面に供給しながら擦ることにより、透明導電性酸化物膜の表面を傷つけずに短時間の間に突起を除去することができる。
【００２７】
透明導電性酸化物膜を擦る部材は、特に限定されないが、例えば、樹脂製多孔質体が好ましく用いられる。なかでも、ポリオレフィンからなる樹脂製多孔質体、さらには、ポリエチレンからなる樹脂製多孔質体がより好ましく用いられる。樹脂製多孔質体の気孔率は、３０体積％〜９５体積％であることが好ましく、６０体積％〜８０体積％であることがより好ましい。これらの樹脂製多孔質体に酸性溶液またはアルカリ性溶液を含浸させて透明導電性酸化物膜の表面を擦ることにより、透明導電性酸化物膜の表面を傷つけることなく、突起をより効率的に除去することができる。
【００２８】
また、処理工程において、酸性溶液またはアルカリ性溶液中に透明導電性酸化物膜を浸漬した状態で樹脂製多孔質体で透明導電性酸化物膜の表面を擦ることがより好ましい。そうすることにより、擦っている最中に透明導電性酸化物膜の表面に新たな酸性溶液またはアルカリ性溶液を効率的に供給することができる。従って、突起の除去効率をさらに高めることができる。
【００２９】
酸性溶液の種類は特に限定されない。酸性溶液としては、塩酸水溶液、硝酸水溶液、硫酸水溶液等が好ましく用いられる。なかでも、塩酸水溶液、特に希塩酸水溶液がより好ましく用いられる。
【００３０】
酸性溶液の濃度は、０．５規定〜１２規定であることが好ましく、０．５規定〜１規定であることがより好ましい。
【００３１】
アルカリ性溶液の種類は特に限定されない。アルカリ性溶液としては、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液等が好ましく用いられる。なかでも水酸化カリウム水溶液がより好ましく用いられる。
【００３２】
アルカリ性溶液の濃度は、０．１規定〜１規定であることが好ましく、０．１規定〜０．５規定であることがより好ましい。
【００３３】
以下、本発明について、具体的な実施例に基づいて、さらに詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に何ら限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲において適宜変更して実施することが可能である。
【００３４】
（実施例１）
日本電気硝子社製無アルカリガラスＯＡ−１０からなるガラス基板の上に、スパッタリング法により、厚み１５０ｎｍのＩＴＯ膜を形成した。形成されたＩＴＯ膜の表面の表面最大粗さ（Ｒｐｖ）を、ＡＦＭを用いて測定したところ、１０μｍ角の測定範囲で３１ｎｍであった。
【００３５】
次に、外形が４０ｍｍの塩化ビニル製のパイプに固定した、気孔率が６０体積％であるポリエチレン製の多孔質体を用いて、１規定の希塩酸水溶液中に浸漬したＩＴＯ膜を、一の方向に沿って７０回擦った後に、一の方向に対して垂直な他の方向に沿って７０回擦った。この処理に要した時間は、大凡２４０秒であった。その後、ＩＴＯ膜の表面の表面最大粗さ（Ｒｐｖ）を、ＡＦＭを用いて再度測定したところ、１１ｎｍであった。
【００３６】
（比較例１）
実施例１と同様にして作製したＩＴＯ膜を１規定の希塩酸水溶液中に３６０秒間浸漬し、擦らなかった。その後、ＩＴＯ膜の表面の表面最大粗さ（Ｒｐｖ）を、ＡＦＭを用いて再度測定したところ、３５ｎｍであった。
【００３７】
（実施例２）
１規定の希塩酸水溶液に変えて、０．５規定のＫＯＨ水溶液を用いたこと以外は、実施例１と同様にしてＩＴＯ膜の表面を擦った。その後、ＩＴＯ膜の表面の表面最大粗さ（Ｒｐｖ）を、ＡＦＭを用いて再度測定したところ、２２ｎｍであった。
【００３８】
以上の結果から、ＩＴＯ膜の表面に酸性溶液またはアルカリ性溶液を供給しながら擦ることにより、効率的に突起を除去できることが分かる。
【００３９】
（実施例３）
ポリエチレン製の多孔質体に替えて、気孔率が９０体積％であるポリビニルアルコール製の多孔質体を用いたこと以外は実施例１と同様にしてＩＴＯ膜の表面を擦った。その後、ＩＴＯ膜の表面の表面最大粗さ（Ｒｐｖ）を、ＡＦＭを用いて再度測定したところ、１７ｎｍであった。
【００４０】
（実施例４）
ポリエチレン製の多孔質体に替えて、気孔率が８３体積％であるポリウレタン製の多孔質体を用いたこと以外は実施例１と同様にしてＩＴＯ膜の表面を擦った。その後、ＩＴＯ膜の表面の表面最大粗さ（Ｒｐｖ）を、ＡＦＭを用いて再度測定したところ、１５ｎｍであった。
【００４１】
実施例１〜４の結果から、ポリエチレン製の多孔質体を用いることにより、突起をより効率的に除去できることが分かる。