(57)【要約】【課題】透明電極パターンが視認されにくく外観特性に優れ、さらに可視光の透過率を向上させることができ、かつ反射率を低減することができる透明電極付き反射防止フィルムを提供する。【解決手段】ポリエステルフィルム（２）の表面に、屈折率１．７０〜１．９０かつ膜厚１０〜３０ｎｍの高屈折率層（３）、屈折率１．３５〜１．４８かつ膜厚２０〜６０ｎｍの低屈折率層Ａ（４）、および透明電極パターン（５）がこの順に設けられ、ポリエステルフィルム（２）の裏面に、ハードコート層Ｂ（６）および低屈折率層Ｂ（７）がこの順に設けられ、ハードコート層Ｂ（６）および低屈折率層Ｂ（７）が反射防止層を構成していることを特徴とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリエステルフィルムの表面に、屈折率１．７０〜１．９０かつ膜厚１０〜３０ｎｍの高屈折率層、屈折率１．３５〜１．４８かつ膜厚２０〜６０ｎｍの低屈折率層Ａ、および透明電極パターンがこの順に設けられ、前記ポリエステルフィルムの裏面に、ハードコート層Ｂおよび低屈折率層Ｂがこの順に設けられ、前記ハードコート層Ｂおよび前記低屈折率層Ｂが反射防止層を構成していることを特徴とする透明電極付き反射防止フィルム。
【請求項２】
前記透明電極パターンが屈折率１．９０〜２．１０のＩＴＯ（スズドープ酸化インジウム）により形成されていることを特徴とする請求項１に記載の透明電極付き反射防止フィルム。
【請求項３】
前記高屈折率層および前記ハードコート層Ｂから選ばれる少なくとも一方の層が、亜鉛、チタン、アルミニウム、セリウム、イットリウム、ランタン、ジルコニウム、スズ、インジウム、アンチモン、およびニオブから選ばれる少なくとも１種の酸化物の粒子を高屈折率粒子として含有することを特徴とする請求項１または２に記載の透明電極付き反射防止フィルム。
【請求項４】
前記ポリエステルフィルムと前記高屈折率層との間にハードコート層Ａを設けたことを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の透明電極付き反射防止フィルム。
【請求項５】
前記低屈折率層Ｂの屈折率が１．３０〜１．５０であることを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の透明電極付き反射防止フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明電極付き反射防止フィルムに関するものであり、さらに詳しくは、ポリエステルフィルムの表面側にＩＴＯ等の透明電極パターンを有する、タッチパネル等に用いられる透明電極付き反射防止フィルムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、携帯電話機、携帯端末機、パーソナルコンピュータ等の各種電子機器の高機能化、多様化が進んでいる。これに伴い、表示パネルの前面に光透過性のタッチパネルを装着した電子機器が用いられてきている。
【０００３】
このような電子機器では、タッチパネルを通して背面側の表示パネルの表示を視認しながら、指やペン等でタッチパネルの表面を押圧して操作することにより、電子機器の各機能の切換操作を行うことができる。
【０００４】
このようなタッチパネルとしては、従来、抵抗膜式や静電容量式のものが知られている。このうち静電容量式のタッチパネルでは、ＸＹ方向に延びるストライプ形状等の透明電極パターンを透明な基材の表面側に形成したフィルム等が用いられている（特許文献１、２参照）。そして、このようなフィルムとしては、例えば、ポリエステルフィルム等の基材の上に保護層としてのハードコート層が設けられ、その上に透明電極パターンが設けられてハードコートフィルムとして構成されたものが用いられる場合がある。
【０００５】
従来、このようなハードコートフィルムにおける透明電極パターンの下に設けられたハードコート層には、反応性硬化型樹脂組成物を塗布、硬化して形成した屈折率１．６０未満のものが用いられている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特表２００７−５０８６３９号公報
【特許文献２】特開２００９−０７６４３２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上記のような従来のハードコートフィルムでは、透明電極パターンの形状が反射の色目として視認されるという問題点があった。すなわち、透明電極パターンとその下のハードコート層との屈折率差により光学的な干渉ムラとして透明電極パターンの形状が視認されるようになり、外観特性が損なわれるという問題点があった。
【０００８】
本発明は、以上の通りの事情に鑑みてなされたものであり、透明電極パターンが視認されにくく外観特性に優れ、さらに可視光の透過率を向上させることができ、かつ反射率を低減することができる透明電極付き反射防止フィルムを提供することを課題としている。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記の課題を解決するために、本発明の透明電極付き反射防止フィルムは、ポリエステルフィルムの表面に、屈折率１．７０〜１．９０かつ膜厚１０〜３０ｎｍの高屈折率層、屈折率１．３５〜１．４８かつ膜厚２０〜６０ｎｍの低屈折率層Ａ、および透明電極パターンがこの順に設けられ、ポリエステルフィルムの裏面に、ハードコート層Ｂおよび低屈折率層Ｂがこの順に設けられ、ハードコート層Ｂおよび低屈折率層Ｂが反射防止層を構成していることを特徴とする。
【００１０】
この透明電極付き反射防止フィルムにおいて、透明電極パターンが屈折率１．９０〜２．１０のＩＴＯ（スズドープ酸化インジウム）により形成されていることが好ましい。
【００１１】
この透明電極付き反射防止フィルムにおいて、高屈折率層およびハードコート層Ｂから選ばれる少なくとも一方の層が、亜鉛、チタン、アルミニウム、セリウム、イットリウム、ランタン、ジルコニウム、スズ、インジウム、アンチモン、およびニオブから選ばれる少なくとも１種の酸化物の粒子を高屈折率粒子として含有することが好ましい。
【００１２】
この透明電極付き反射防止フィルムにおいて、ポリエステルフィルムと高屈折率層との間にハードコート層Ａを設けることが好ましい。
【００１３】
この透明電極付き反射防止フィルムにおいて、低屈折率層Ｂの屈折率が１．３０〜１．５０であることが好ましい。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の透明電極付き反射防止フィルムによれば、透明電極パターンが視認されにくく外観特性に優れている。さらに本発明の透明電極付き反射防止フィルムによれば、可視光の透過率を向上させることができ、かつ反射率を低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の透明電極付き反射防止フィルムの一例を示す断面図である。
【図２】本発明の透明電極付き反射防止フィルムの別の例を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下に、本発明を詳細に説明する。
【００１７】
図１は、本発明の透明電極付き反射防止フィルムの一例を示す断面図である。
【００１８】
この透明電極付き反射防止フィルム（１）は、ポリエステルフィルム（２）の表面に高屈折率層（３）、低屈折率層Ａ（４）および透明電極パターン（５）がこの順に設けられている。また、ポリエステルフィルム（２）の裏面には、ハードコート層Ｂ（６）および低屈折率層Ｂ（７）がこの順に設けられ、これらのハードコート層Ｂ（６）および低屈折率層Ｂ（７）は全体として反射防止層を構成している。
【００１９】
本発明では、高屈折率層（３）の屈折率を従来よりも高くして透明電極パターン（５）の屈折率に近づけ、また膜厚を調整することにより、透明電極パターン（５）が存在する部分と、透明電極パターン（５）が存在しない部分との反射率の差が小さくなる。これにより透明電極パターン（５）が視認されることを抑制している。
【００２０】
さらに、ポリエステルフィルム（２）の裏面に反射防止層を設けることで、可視光の透過率を向上させるとともに反射率を低減することができる。
【００２１】
図２は、本発明の透明電極付き反射防止フィルムの別の例を示す断面図である。
【００２２】
この透明電極付き反射防止フィルム（１）は、ポリエステルフィルム（２）と高屈折率層（３）との間にハードコート層Ａ（８）が設けられている。
【００２３】
このハードコート層Ａ（８）を設けることで、透明電極付き反射防止フィルム（１）の硬度を向上させることができる。
【００２４】
本発明において、ポリエステルフィルム（２）を形成するポリエステルとしては、例えば、芳香族ジカルボン酸とグリコールとから得られる芳香族ポリエステルを用いることができる。
【００２５】
芳香族ジカルボン酸としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、４，４’−ジフェニルジカルボン酸等を用いることができる。
【００２６】
グリコールとしては、例えば、エチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、１，６−ヘキサンジオール等を用いることができる。
【００２７】
芳香族ポリエステルの中でも、特に、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートが好ましい。また、上記に例示した成分の共重合ポリエステルであってもよい。
【００２８】
ポリエステルフィルム（２）は、成膜時のフィルムの巻き取り性や、フィルムの搬送性等を向上させるために、必要に応じて、滑剤としての無機または有機の微粒子を含有させることができる。
【００２９】
このような微粒子としては、例えば、炭酸カルシウム、酸化カルシウム、酸化アルミニウム、カオリン、酸化珪素、酸化亜鉛等の無機微粒子、または架橋アクリル樹脂微粒子、架橋ポリスチレン樹脂微粒子、尿素樹脂微粒子、メラミン樹脂微粒子、架橋シリコーン樹脂微粒子等の有機微粒子を用いることができる。
【００３０】
また、ポリエステルフィルム（２）には、その透明性等を損なわない範囲内において、その他の成分、例えば、着色剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、潤滑剤、触媒、他の樹脂等を含有させることができる。
【００３１】
ポリエステルフィルム（２）の厚みは、特に限定されないが、例えば、５０〜２００μｍである。
【００３２】
ポリエステルフィルム（２）は、ヘイズが好ましくは３％以下、より好ましくは１．５％以下である。ヘイズが３％を超えると、ディスプレイの視認性を損なう等の不具合が起きる場合がある。
【００３３】
また、ポリエステルフィルム（２）は、高屈折率層（３）、ハードコート層Ｂ（６）、またはハードコート層Ａ（８）との密着性を向上させる等のために、その表面に、従来より用いられている厚みが例えば１５０ｎｍ以下の薄い易接着層を有するものであってもよい。
【００３４】
本発明において、高屈折率層（３）、ハードコート層Ｂ（６）、およびハードコート層Ａ（８）は、ポリエステルフィルム（２）よりも硬度の高い被膜であって、ポリエステルフィルム（２）の表面の硬度を向上させる。これにより荷重のかかる引っ掻きによる傷を防止し、透明電極付き反射防止フィルムの機械的強度を改善することができる。
【００３５】
ハードコート層Ｂ（６）およびハードコート層Ａ（８）の鉛筆硬度は好ましくはＨ以上、より好ましくは２Ｈ以上である。
【００３６】
高屈折率層（３）、ハードコート層Ｂ（６）、およびハードコート層Ａ（８）は、反応性硬化型樹脂組成物、すなわち、熱硬化型樹脂組成物と電離放射線硬化型樹脂組成物のうち少なくとも一方を用いて形成するのが好ましい。
【００３７】
熱硬化型樹脂組成物に配合する熱硬化型樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を用いることができる。
【００３８】
熱硬化型樹脂組成物には、必要に応じて、例えば、架橋剤、重合開始剤、硬化剤、硬化促進剤、溶剤等を配合することができる。
【００３９】
熱硬化型樹脂組成物を用いて高屈折率層（３）、ハードコート層Ｂ（６）およびハードコート層Ａ（８）を形成する場合は、熱硬化型樹脂組成物を、ポリエステルフィルム（２）の表面に塗布した後、加熱により乾燥硬化させるのが好ましい。
【００４０】
電離放射線硬化型樹脂組成物に配合する樹脂成分としては、アクリレート系の官能基を有する化合物が好ましく用いられる。アクリレート系の官能基を有する化合物としては、例えば、比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール樹脂等の多官能（メタ）アクリレートのオリゴマー、プレポリマー等を用いることができる。なお、本明細書において（メタ）アクリレートはアクリレートまたはメタクリレートを意味する。
【００４１】
また、電離放射線硬化型樹脂組成物には、上記のオリゴマーやプレポリマーとともに、反応性希釈剤としてのモノマーを配合することができる。このようなモノマーとしては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能モノマー、あるいは、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等の多官能モノマーを用いることができる。
【００４２】
さらに、上記の電離放射線硬化型樹脂組成物を紫外線硬化型樹脂組成物とする場合には、光重合開始剤を配合することが好ましい。光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類等を用いることができる。
【００４３】
また、光重合開始剤とともに光増感剤を用いてもよい。光増感剤としては、例えば、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、チオキサントン等を用いることができる。
【００４４】
光重合反応する紫外線硬化型樹脂組成物を用いて高屈折率層（３）、ハードコート層Ｂ（６）、およびハードコート層Ａ（８）を形成する際には、例えば、紫外線硬化型樹脂組成物を、ポリエステルフィルム（２）の表面に塗布し乾燥する。その後、紫外線照射により硬化させることによりこれらの層を形成することができる。
【００４５】
高屈折率層（３）は、透明電極パターン（５）の膜厚、屈折率を考慮し、屈折率１．７０〜１．９０、膜厚１０〜３０ｎｍとされる。
【００４６】
また、高屈折率層（３）の屈折率を増大させるために、高屈折率層（３）には、高屈折率粒子、すなわち高屈折率の金属酸化物の超微粒子を含有させることができる。高屈折率粒子としては、例えば、屈折率が１．７０以上で粒径が０．５〜２００ｎｍのものを用いることができる。
【００４７】
上記の高屈折率粒子としては、例えば、亜鉛、チタン、アルミニウム、セリウム、イットリウム、ランタン、ジルコニウム、スズ、インジウム、アンチモン、およびニオブから選ばれる少なくとも１種の酸化物の粒子を用いることが好ましい。
【００４８】
高屈折率粒子としてこれらの粒子を用いることで、高屈折率層（３）の屈折率を適切な値まで容易に向上させることができる。
【００４９】
上記の高屈折率粒子として、具体的には、例えば、ＺｎＯ（屈折率１．９０）、ＴｉＯ2（屈折率２．３〜２．７）、Ａｌ2Ｏ3（屈折率１．６３）、ＣｅＯ2（屈折率１．９５）、Ｙ2Ｏ3（屈折率１．８７）、Ｌａ2Ｏ3（屈折率１．９５）、ＺｒＯ2（屈折率２．０５）、ＳｎＯ2、ＩＴＯ（スズドープ酸化インジウム：屈折率１．９５）、Ｓｂ2Ｏ5（屈折率１．７１）、Ｎｂ2Ｏ5（屈折率２．２〜２．３）等の超微粒子を用いることができる。
【００５０】
また、高屈折率層（３）には、本発明の効果を損なわない範囲内において、上記に例示したもの以外の他の成分を含有させることができる。このような他の成分としては、例えば、色素、帯電防止剤等が挙げられる。
【００５１】
低屈折率層Ａ（４）は、透明電極パターン（５）の膜厚、屈折率を考慮し、屈折率１．３５〜１．４８、膜厚２０〜６０ｎｍとされる。
【００５２】
低屈折率層Ａ（４）の構成材料としては、例えば、珪素アルコキシドの加水分解物、あるいは飽和炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有するポリマー（紫外線硬化型樹脂、熱硬化型樹脂）等を用いることができる。また、これらの分子内にフッ素原子を含む構成単位を有するものを用いることもできる。具体的には、これらの構成材料として、後述の低屈折率層Ｂ（７）において例示したものを用いることができる。
【００５３】
珪素アルコキシドとしては、例えば、ＲmＳｉ（ＯＲ´）nで表される化合物を用いることができる。ここでＲ、Ｒ´は炭素数１〜１０のアルキル基を示し、ｍおよびｎはそれぞれ整数を示し、ｍ＋ｎは４である。具体的には、珪素アルコキシドとして、後述の低屈折率層Ｂ（７）において例示したものを用いることができる。
【００５４】
本発明において、透明電極パターン（５）は、例えば、タッチパネル等において従来より知られている構成とすることができる。透明電極パターン（５）は、例えば、ストライプ形状、線形状、パッド形状等のパターンとされる。
【００５５】
透明電極パターン（５）の材料としては、例えば、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、ＺｎＯ、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）、ＳｎＯ2等の金属酸化物等を用いることができる。このような金属酸化物による透明電極パターン（５）の屈折率は、１．９０〜２．１０が好ましい。
【００５６】
中でも、透明電極パターン（５）が屈折率１．９０〜２．１０のＩＴＯ（スズドープ酸化インジウム）により形成されていることが好ましい。
【００５７】
これにより、透明電極パターン（５）の材料として従来より汎用されているＩＴＯを用いても、特定の屈折率と膜厚をもつ高屈折率層（３）や低屈折率層Ａ（４）によって、透明電極パターン（５）が視認されにくくなり、外観特性を向上させることができる。
【００５８】
透明電極パターン（５）の厚みは、例えば１０〜３０ｎｍである。
【００５９】
透明電極パターン（５）は、例えば、従来より知られている各種の方法を用いてパターン化することができる。例えば、パターン形状に対応するマスクを介して上記に例示したような透明でかつ導電性の材料を堆積させる方法や、あるいは、当該材料の薄膜をエッチングする方法を用いることができる。
【００６０】
本発明において、反射防止層は、ハードコート層Ｂ（６）と低屈折率層Ｂ（７）とから構成される。
【００６１】
ハードコート層Ｂ（６）は、ハードコート層Ａ（８）と同様に構成することができる。ハードコート層Ｂ（６）の屈折率は、低屈折率層Ｂ（７）との組み合わせにより反射率を低減する等の点から、１．６０〜１．８５が好ましい。ハードコート層Ｂ（６）の厚みは、好ましくは１．０〜１０μｍである。
【００６２】
ハードコート層Ｂ（６）の表面には、低屈折率層Ｂ（７）を形成する前に、表面処理を行うことが好ましい。このような表面処理としては、例えば、プラズマ放電処理、コロナ処理、フレーム処理等の物理的表面処理や、カップリング剤、酸、アルカリ等による化学的表面処理等を挙げることができる。このような表面処理を行うことにより、ハードコート層Ｂ（６）と低屈折率層（７）とのぬれ性、密着性を向上させることができる。
【００６３】
本発明において、低屈折率層Ｂ（７）は、ポリエステルフィルム（２）およびハードコート層Ｂ（６）よりも屈折率の小さい層であって、ハードコート層Ｂ（６）の表面に低屈折率コーティング剤を塗工することにより形成することができる。
【００６４】
この低屈折率層Ｂ（７）の屈折率は、１．３０〜１．５０が好ましい。屈折率をこの範囲内にすることで、ハードコート層Ｂ（６）との組み合わせにより反射率を大幅に低減することができる。
【００６５】
低屈折率層Ｂ（７）の厚みｄは、低屈折率層Ｂ（７）の屈折率をｎ、入射する光の波長をλとすると、ｎｄ＝λ／４であることが好ましい。具体的には、低屈折率層Ｂ（７）の厚みは、好ましくは５０〜４００ｎｍであり、より好ましくは５０〜２００ｎｍである。
【００６６】
低屈折率コーティング剤は、バインダー材料を含有し、バインダー材料自身が低屈折率である場合はバインダー材料単体で調製することができるが、バインダー材料に低屈折率粒子を配合して調製することもできる。
【００６７】
バインダー材料としては、例えば、珪素アルコキシドの加水分解物、あるいは飽和炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有するポリマー（紫外線硬化型樹脂、熱硬化型樹脂）等を用いることができる。また、これらの分子内にフッ素原子を含む構成単位を有するものを用いることもできる。
【００６８】
バインダー材料の珪素アルコキシドとしては、例えば、ＲmＳｉ（ＯＲ´）nで表される化合物を用いることができる。ここでＲ、Ｒ´は炭素数１〜１０のアルキル基を示し、ｍおよびｎはそれぞれ整数を示し、ｍ＋ｎは４である。
【００６９】
このような化合物としては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等を用いることができる。また、これらを基本骨格とするオリゴマーやポリマー、あるいはこれらの少なくとも２種以上の共重合体を用いることもできる。
【００７０】
バインダー材料は、例えば、上記の珪素アルコキシドを適当な溶剤中に溶解し加水分解して調製することができる。
【００７１】
溶剤としては、例えば、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、ハロゲン化炭化水素を用いることができる。これらは１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００７２】
珪素アルコキシドは、上記の溶剤中に、珪素アルコキシドが１００％加水分解および縮合したとして生じるＳｉＯ2換算で好ましくは０．１質量％以上、より好ましくは０．１〜１０質量％になるように溶解する。珪素アルコキシドの濃度が低過ぎると、形成されるゾル膜が所望の特性を十分に発揮できない場合があり、一方、珪素アルコキシドの濃度が高過ぎると、透明で均質な膜の形成が困難となる場合がある。
【００７３】
この溶液に、加水分解に必要な量以上の水を加え、好ましくは１５〜３５℃、より好ましくは２２〜２８℃の温度で、好ましくは０．５〜１０時間、より好ましくは２〜５時間撹拌を行う。加水分解には触媒を用いることが好ましく、触媒としては、例えば、塩酸、硝酸、硫酸、酢酸等の酸を用いることができる。これらの酸を好ましくは０．００１〜２０．０Ｎ、より好ましくは０．００５〜５．０Ｎの水溶液として加え、水溶液中の水分を加水分解用の水分とすることができる。このようにして得られたＳｉＯ2ゾルは、無色透明な液体であり、ポットライフが約１ヶ月の安定な溶液であり、基材に対して濡れ性が良く、塗布適性に優れている。
【００７４】
この珪素アルコキシドの加水分解物には、反応性有機珪素化合物またはその部分加水分解物を添加してもよい。このような反応性有機珪素化合物としては、熱または電離放射線によって反応架橋する複数の基、例えば、重合性二重結合基を有する分子量５０００以下の有機珪素化合物を用いることができる。
【００７５】
具体的には、例えば、片末端ビニル官能性ポリシラン、両末端ビニル官能性ポリシラン、片末端ビニル官能性ポリシロキサン、両末端ビニル官能性ポリシロキサン、あるいはこれらの化合物を反応させたビニル官能性ポリシラン、ビニル官能性ポリシロキサン等を用いることができる。
【００７６】
バインダー材料の飽和炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、架橋したものが好ましい。
【００７７】
飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーは、エチレン性不飽和モノマーの重合反応により得られたものが好ましい。また、架橋しているバインダー材料のポリマーを得るためには、２以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを用いることが好ましい。
【００７８】
２以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとして、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート等の多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル；１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン等のビニルベンゼンおよびその誘導体；ジビニルスルホン等のビニルスルホン；メチレンビスアクリルアミド等のアクリルアミド、メタクリルアミド等を用いることができる。
【００７９】
２以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりに、あるいはそれに加えて、架橋性官能基の反応により架橋構造をバインダー材料のポリマーに導入してもよい。このような架橋性官能基としては、例えば、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基、活性メチレン基等が挙げられる。また、ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステル、およびウレタンも、架橋構造を導入するためのモノマーとして用いることができる。なお、ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。
【００８０】
ポリエーテルを主鎖として有するポリマーとしては、例えば、多官能エポキシ化合物の開環重合反応により合成したものを用いることができる。
【００８１】
バインダー材料のポリマーの重合反応および架橋反応に用いる重合開始剤としては、例えば、光重合開始剤を用いることができる。光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類等を用いることができる。その他、熱重合開始剤を用いることもできる。
【００８２】
上記のバインダー材料に配合される低屈折率粒子は、屈折率が好ましくは１．２０〜１．４５である。
【００８３】
低屈折率粒子の平均粒径は１００ｎｍ以下であることが好ましい。この平均粒径が１００ｎｍよりも大きくなると、得られる低屈折率層Ｂ（７）においてレイリー散乱によって光が乱反射され、低屈折率層Ｂ（７）が白っぽく見え、そのヘイズ値が増大することがある。
【００８４】
また、低屈折率粒子の添加量は、低屈折率化や表面硬度、耐摩耗性等も考慮すると、低屈折率層Ｂ（７）の全量に対して２０〜９９体積％であることが好ましい。
【００８５】
低屈折率粒子としては、例えば、シリカ微粒子、中空シリカ微粒子等の中空粒子、あるいは、フッ化マグネシウム、フッ化リチウム、フッ化アルミニウム、フッ化カルシウム、フッ化ナトリウム等のフッ化物微粒子を用いることができる。これらは１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。これらの低屈折率粒子は、バインダー材料の樹脂等との相溶性を付与するための表面処理を施すことができる。
【００８６】
なお、中空粒子は、外殻によって包囲された空洞を有する微粒子である。中空粒子としては、例えば、特開２００１−２３３６１１号公報に開示されている中空粒子を用いることができる。
【００８７】
中空粒子の外殻を構成する材料としては、例えば、ＳｉＯ2、ＳｉＯx、ＴｉＯ2、ＴｉＯx、ＳｎＯ2、ＣｅＯ2、Ｓｂ2Ｏ5、ＩＴＯ、ＡＴＯ、Ａｌ2Ｏ3等を単独で、あるいはこれらの材料のいずれかの組み合わせの混合物の形態のものを用いることができる。また、これらの材料のいずれかの組み合わせの複合酸化物であってもよい。なお、ＳｉＯxは、酸化雰囲気中で焼成した場合に、ＳｉＯ2となるものが好ましい。
【００８８】
低屈折率コーティング剤は、例えば、ディップコーティング法、スピンコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、グラビアロールコーティング法、リバースコーティング法、トランスファーロールコーティング法、マイクログラビアコーティング法、キャストコーティング法、カレンダーコーティング法、ダイコーティング法等の液相法により、表面処理を行ったハードコート層Ｂ（６）上に塗工することができる。塗工後、加熱乾燥により塗膜中の溶剤を揮発させ、その後、加熱、加湿、紫外線照射、電子線照射等を行い塗膜を硬化させて低屈折率層Ｂ（７）を形成することができる。
【実施例】
【００８９】
以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
【００９０】
＜実施例１＞
ポリエステルフィルムとして、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東洋紡績株式会社製「Ａ４３００」、ＰＥＴフィルムの厚み１００μｍ）を用いた。
【００９１】
高屈折率層形成用の紫外線硬化型樹脂組成物として、アクリル系紫外線硬化型樹脂（大日精化工業株式会社製「ＰＥＴ−ＨＣ」、固形分６０％）に高屈折率粒子として酸化チタン（テイカ株式会社製「７６０−Ｔ」、固形分４８％）を６０質量％分散させたものを用いた。
【００９２】
上記のポリエステルフィルムの表面に、上記の高屈折率層形成用の紫外線硬化型樹脂組成物をワイヤーバーコーター＃４番で塗布した。
【００９３】
これを８０℃で３分間乾燥させた後に、ＵＶ照射（５００ｍＪ／ｃｍ2）して硬化させることにより、厚み２０ｎｍの高屈折率層を形成した。
【００９４】
次に、低屈折率層Ａ用のコーティング剤を高屈折率層の表面に塗布して低屈折率層Ａを形成した。低屈折率層Ａ用のコーティング剤は次のようにして作製した。テトラエトキシシラン２０８質量部にメタノール３５６質量部を加え、さらに水１８質量部および０．１Ｎの硝酸水溶液１８質量部を加えた。これをディスパーで混合して混合液を得た後、この混合液を２５℃恒温槽中で２時間攪拌して重量平均分子量を１３００に調整して低屈折率層Ａ用のコーティング剤を作製した。
【００９５】
この低屈折率コーティング剤を厚み４０ｎｍになるようにワイヤーバーコーター＃４番で高屈折率層の表面に塗布した後、１２０℃、１分間乾燥させて低屈折率層Ａを形成した。
【００９６】
次に、低屈折率層Ａの表面に、蒸着、パターニングにより厚み２０ｎｍのＩＴＯの透明電極パターンを形成した。透明電極パターンの形成は、キャノンアネルバ株式会社製ＲＦマグネトロンスパッタリング装置Ｌ−２５０Ｓ−ＦＨを用い、ターゲットにＩＴＯ焼結体を用い、Ａｒガス雰囲気下、スパッタ圧０．５Ｐａ、５０〜１００Ｗの条件で行った。
【００９７】
ハードコート層Ｂ形成用の紫外線硬化型樹脂組成物として、アクリル系紫外線硬化型樹脂（大日精化工業株式会社製「ＭＤ−２クリヤー」、固形分５０％）に高屈折率粒子として酸化ジルコニウム（ＣＩＫナノテック株式会社製「ＺＲＤＭＡ３０ＷＴ％−Ｍ２２」、固形分３０％）を４０質量％分散させたものを用いた。
【００９８】
上記のポリエステルフィルムの表面に、上記のハードコート層Ｂ形成用の紫外線硬化型樹脂組成物をワイヤーバーコーター＃１０番で塗布した。
【００９９】
これを８０℃で５分間乾燥させた後に、ＵＶ照射（５００ｍＪ／ｃｍ2）して硬化させることにより、厚み３．０μｍのハードコート層Ｂを形成した。
【０１００】
次に、低屈折率層Ｂ用のコーティング剤をハードコート層Ｂの表面に塗布して低屈折率層Ｂを形成した。低屈折率層Ｂ用のコーティング剤は次のようにして作製した。テトラエトキシシラン２０８質量部にメタノール３５６質量部を加え、さらに水１８質量部および０．１Ｎの硝酸水溶液１８質量部を加えた。これをディスパーで混合して混合液を得た後、この混合液を２５℃恒温槽中で２時間攪拌して重量平均分子量を１３００に調整したシリコーンレジンをバインダー材料として用いた。
【０１０１】
次に、低屈折率粒子として、日揮触媒化成工業株式会社製「ＣＳ６０−ＩＰＡ」（固形分２０％）をシリコーンレジンマトリックスの全体量の４０体積％となる量でシリコーンレジンに配合した。その後、全固形分が３．０質量％になるようにメタノールで希釈することによって、低屈折率コーティング剤を調整した。
【０１０２】
低屈折率コーティング剤を厚み１００ｎｍになるようにワイヤーバーコーター＃４番でハードコート層Ｂの表面に塗布した後、１２０℃、３分間乾燥させて低屈折率層Ｂを形成した。このようにして透明電極付き反射防止フィルムを得た。
【０１０３】
＜実施例２＞
実施例１において、高屈折率層の屈折率を１．９０として、それ以外は実施例１と同様にして透明電極付反射防止フィルムを得た。
【０１０４】
＜実施例３＞
実施例１において、高屈折率層の屈折率を１．７０として、それ以外は実施例１と同様にして透明電極付き反射防止フィルムを得た。
【０１０５】
＜実施例４＞
実施例１において、高屈折率層の膜厚を１０ｎｍとして、それ以外は実施例１と同様にして透明電極付き反射防止フィルムを得た。
【０１０６】
＜実施例５＞
実施例１において、高屈折率層の膜厚を３０ｎｍとして、それ以外は実施例１と同様にして透明電極付き反射防止フィルムを得た。
【０１０７】
＜実施例６＞
実施例１において、低屈折率層Ａの屈折率を１．３５として、それ以外は実施例１と同様にして透明電極付き反射防止フィルムを得た。
【０１０８】
＜実施例７＞
実施例１において、低屈折率層Ａの屈折率を１．４８として、それ以外は実施例１と同様にして透明電極付き反射防止フィルムを得た。
【０１０９】
＜実施例８＞
実施例１において、ポリエステルフィルムの表面におけるポリエステルフィルムと高屈折率層との間にハードコート層Ａを設け、それ以外は実施例１と同様にして透明電極付き反射防止フィルムを得た。
【０１１０】
また、ハードコート層Ａ形成用の紫外線硬化型樹脂組成物として、アクリル系紫外線硬化型樹脂（大日精化工業株式会社製「ＰＥＴ−ＨＣ３０１」、固形分６０％）を溶媒トルエンにより３０質量％に希釈したものを用いた。
【０１１１】
上記のポリエステルフィルムの表面に、上記のハードコート層Ｂ形成用の紫外線硬化型樹脂組成物をワイヤーバーコーター＃１０番で塗布した。
【０１１２】
これを８０℃で５分間乾燥させた後に、ＵＶ照射（５００ｍＪ／ｃｍ2）して硬化させることにより、厚み３．０μｍのハードコート層Ａを形成した。
【０１１３】
＜実施例９＞
実施例１において、低屈折率層Ａの厚みを２０ｎｍとして、それ以外は実施例１と同様にして透明電極付き反射防止フィルムを得た。
【０１１４】
＜実施例１０＞
実施例１において、低屈折率層Ａの厚みを６０ｎｍとして、それ以外は実施例１と同様にして透明電極付き反射防止フィルムを得た。
【０１１５】
＜比較例１＞
実施例１において、高屈折率層の屈折率を１．６５として、それ以外は実施例１と同様にして透明電極付き反射防止フィルムを得た。
【０１１６】
＜比較例２＞
実施例１において、高屈折率層の膜厚を４０ｎｍとして、それ以外は実施例１と同様にして透明電極付き反射防止フィルムを得た。
【０１１７】
＜比較例３＞
実施例１において、低屈折率層Ａの屈折率を１．５０として、それ以外は実施例１と同様にして透明電極付き反射防止フィルムを得た。
【０１１８】
＜比較例４＞
実施例１において、低屈折率層Ａの膜厚を８０ｎｍとして、それ以外は実施例１と同様にして透明電極付き反射防止フィルムを得た。
【０１１９】
＜比較例５＞
実施例１において、ハードコート層Ｂおよび低屈折率層Ｂを設けなかった以外は、実施例１と同様にして透明電極付き反射防止フィルムを得た。
【０１２０】
[屈折率]
分光光度計（（株）日立製作所製「Ｕ−４１００」）を用いて、波長４００〜８００ｎｍの全光線透過率を測定し、シミュレーションとのフィッティングにより屈折率を測定した。
【０１２１】
[全光線透過率]
分光光度計（（株）日立製作所製「Ｕ−４１００」）を用いて、波長４００〜８００ｎｍの全光線透過率を測定した。
【０１２２】
[平均視感反射率]
分光光度計（（株）日立製作所製「Ｕ−４１００」）を用いて、ＪＩＳ Ｒ−３１０６に基づき、サンプル裏面を黒塗りした後に、５度の正反射で測定した。平均視感反射率は透明電極面と反射防止面のそれぞれについて測定した。
【０１２３】
[透明電極パターン視認性]
透明電極面と反対側の面を黒色塗料で黒塗りし、３波長蛍光灯下で目視観察した。
◎：透明電極パターンが視認できない
○：ほとんど透明電極パターンが視認できない
△：透明電極パターンが少し視認できる
×：透明電極パターンがはっきりと視認できる
評価結果を表１に示す。
【０１２４】
【表１】
2013127546.tif 000003
【０１２５】
表１より、実施例１〜１０では、ポリエステルフィルムの表面に、高屈折率層、低屈折率層Ａ、および透明電極パターンをこの順に設けた。さらにポリエステルフィルムの裏面に、ハードコート層Ｂおよび低屈折率層Ｂをこの順に設けて反射防止層を構成した。
そして高屈折率層の屈折率を１．７０〜１．９０、膜厚を１０〜３０ｎｍとしたことで、実施例１〜１０では、透明電極パターンが視認されにくかった。また透過率が大きく反射率が小さいものであった。
【０１２６】
一方、高屈折率層の屈折率が上記の範囲外である比較例１、および膜厚が上記の範囲外である比較例２では、透明電極パターンが顕在化した。
【０１２７】
そして実施例１〜１０では、低屈折率層Ｂの屈折率を１．３５〜１．４８、膜厚を２０〜６０ｎｍとしたことで、透明電極パターンが視認されにくかった。また透過率が大きく反射率が小さいものであった。
【０１２８】
一方、低屈折率層Ｂの屈折率が上記の範囲外である比較例３、膜厚が上記の範囲外である比較例４では、透明電極パターンが顕在化した。
【０１２９】
また反射防止層を設けなかった比較例５では、透過率が低下し、反射率が大きくなった。
【符号の説明】
【０１３０】
１      透明電極付き反射防止フィルム
２      ポリエステルフィルム
３      高屈折率層
４      低屈折率層Ａ
５      透明電極パターン
６      ハードコート層Ｂ
７      低屈折率層Ｂ
８      ハードコート層Ａ
【図１】
2013127546.tif 000004
【図２】
2013127546.tif 000005