(57)【要約】【課題】  帯電防止性、透明性、帯電防止性、耐擦傷性および反射防止性が良好で、更に干渉縞の発生が抑制された反射防止フィルムを提供する。【解決手段】  易接着層を有するポリエステルフィルムの前記易接着層上にハードコート層と低屈折率層をこの順に有する反射防止フィルムであって、前記ハードコート層は４級アンモニウム塩基を有する化合物を含有し、前記低屈折率層は無機微粒子とエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物とを下記含有量で含有し、かつ易接着層、ハードコート層および低屈折率層の屈折率が下記範囲であることを特徴とする、反射防止フィルム。・無機微粒子の含有量：低屈折率層の固形分総量１００質量％に対して４０質量％以上６０質量％未満・エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物の含有量：低屈折率層の固形分総量１００質量％に対して１．５質量％以上１０質量％未満・易接着層の屈折率：１．５５以上１．６１未満・ハードコート層の屈折率：１．５０以上１．５５未満・低屈折率層の屈折率：１．４０未満【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
易接着層を有するポリエステルフィルムの前記易接着層上にハードコート層と低屈折率層とをこの順に有する反射防止フィルムであって、前記ハードコート層は４級アンモニウム塩基を有する化合物を含有し、前記低屈折率層は無機微粒子とエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物とを下記含有量でそれぞれ含有し、かつ易接着層、ハードコート層および低屈折率層の屈折率が下記範囲であることを特徴とする、反射防止フィルム。
・無機微粒子の含有量：低屈折率層の固形分総量１００質量％に対して４０質量％以上６０質量％未満
・エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物の含有量：低屈折率層の固形分総量１００質量％に対して１．５質量％以上１０質量％未満
・易接着層の屈折率：１．５５以上１．６１未満
・ハードコート層の屈折率：１．５０以上１．５５未満
・低屈折率層の屈折率：１．４０未満
【請求項２】
前記エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物が、分子中に３個以上のエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物である、請求項１の反射防止フィルム。
【請求項３】
前記エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物が、分子の両末端と側鎖にエチレン性不飽和基を有する化合物である、請求項１または２の反射防止フィルム。
【請求項４】
前記４級アンモニウム塩基を有する化合物が高分子化合物である、請求項１〜３のいずれかの反射防止フィルム。
【請求項５】
前記ハードコート層が、４級アンモニウム塩基を有する化合物をハードコート層の固形分総量１００質量％に対して５質量％以上１５質量％未満含有する、請求項１〜４のいずれかの反射防止フィルム。
【請求項６】
前記無機微粒子がシリカまたはフッ化マグネシウムである、請求項１〜５のいずれかの反射防止フィルム。
【請求項７】
前記無機微粒子が中空状または多孔質である、請求項１〜６のいずれかの反射防止フィルム。
【請求項８】
前記易接着層の厚みが６０〜１２０ｎｍの範囲である、請求項１〜７のいずれかの反射防止フィルム。
【請求項９】
視感反射率が１．５％以下である、請求項１〜８のいずれかの反射防止フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は反射防止フィルムに関し、詳細には、帯電防止性、透明性、耐擦傷性および反射防止性が良好であり、さらに干渉縞が抑制された反射防止フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
ＣＲＴ、液晶、プラズマ、有機ＥＬ等のディスプレイの画像表示面には、外光の映り込みやぎらつきを抑制し、画面の視認性を向上させるために、反射防止フィルムが一般的に配置されている。
【０００３】
反射防止フィルムには、上記の反射防止性能（外光の映り込みやぎらつきの抑制）に加えて、帯電防止性が要求されている。
反射防止フィルムが帯電すると、反射防止フィルム表面に塵埃が付着する問題や、ディスプレイ等の製造工程において反射防止フィルムの取り扱い性に障害が発生する問題が生じる。
【０００４】
反射防止フィルムに帯電防止性を付与するために、ハードコート層に導電性金属酸化物微粒子を含有させることが一般に知られている（特許文献１〜４）。また、近年、ハードコート層に４級アンモニウム塩基を有する化合物を含有させることが提案されている（特許文献５〜７）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００２−３４１１０３号公報
【特許文献２】特開２００３−１３９９０８号公報
【特許文献３】特開２００６−３５４９３号公報
【特許文献４】特開２００９−３３５４号公報
【特許文献５】特開２００６−１８８０１６号公報
【特許文献６】特開２０１０−２４３８７９号公報
【特許文献７】特開２０１１−１３６５０３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、帯電防止性を付与するためにハードコート層に導電性金属酸化物微粒子を含有させる方法は、十分な帯電防止性を得るためにはハードコート層中に比較的多量の導電性金属酸化物を含有させる必要があり、その結果、ハードコート層の透明性や耐光性が悪化することがある。
【０００７】
一方、帯電防止性を付与するためにハードコート層に４級アンモニウム塩基を有する化合物を含有させる方法は、上記の透明性の低下は起こらないが、ハードコート層の硬度が不足することがある。ハードコート層の硬度が不足すると、反射防止フィルムの耐擦傷性が不十分となり、反射防止フィルムの取り扱い時に傷が入るという不都合が生じることがある。  
【０００８】
また、４級アンモニウム塩基を有する化合物を含有するハードコート層の屈折率は、導電性金属酸化物を含有するハードコート層の屈折率に比べて小さくなる傾向にあり、反射防止フィルムの反射防止性を高めるためには、ハードコート層上に積層される低屈折率層の屈折率を比較的小さくする必要がある。低屈折率層の屈折率を小さくするには、低屈折率材料として含有させる無機微粒子（シリカやフッ化マグネシウム等）の含有量を比較的多くする必要があり、低屈折率層に含有させる無機微粒子の含有量が多くなると耐擦傷性が低下する。
【０００９】
また更に、ポリエステルフィルム上に４級アンモニウム塩基を有する化合物を含有するハードコート層を積層すると、干渉縞が発生し易いという問題がある。
【００１０】
従って本発明は、帯電防止性、透明性、耐擦傷性および反射防止性が良好であり、さらに干渉縞が抑制された反射防止フィルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の上記目的は、以下の発明によって基本的に達成された。
１）易接着層を有するポリエステルフィルムの前記易接着層上にハードコート層と低屈折率層とをこの順に有する反射防止フィルムであって、前記ハードコート層は４級アンモニウム塩基を有する化合物を含有し、前記低屈折率層は無機微粒子とエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物とを下記含有量でそれぞれ含有し、かつ易接着層、ハードコート層および低屈折率層の屈折率が下記範囲であることを特徴とする、反射防止フィルム。
・無機微粒子の含有量：低屈折率層の固形分総量１００質量％に対して４０質量％以上６０質量％未満
・エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物の含有量：低屈折率層の固形分総量１００質量％に対して１．５質量％以上１０質量％未満
・易接着層の屈折率：１．５５以上１．６１未満
・ハードコート層の屈折率：１．５０以上１．５５未満
・低屈折率層の屈折率：１．４０未満
２）前記エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物が、分子中に３個以上のエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物である、前記１）の反射防止フィルム。
３）前記エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物が、分子の両末端と側鎖にエチレン性不飽和基を有する化合物である、前記１）または２）の反射防止フィルム。
４）前記４級アンモニウム塩基を有する化合物が高分子化合物である、前記１）〜３）のいずれかの反射防止フィルム。
５）前記ハードコート層が、４級アンモニウム塩基を有する化合物をハードコート層の固形分総量１００質量％に対して５質量％以上１５質量％未満含有する、前記１）〜４）のいずれかの反射防止フィルム。
６）前記無機微粒子がシリカまたはフッ化マグネシウムである、前記１）〜５）のいずれかの反射防止フィルム。
７）前記無機微粒子が中空状または多孔質である、前記１）〜６）のいずれかの反射防止フィルム。
８）前記易接着層の厚みが６０〜１２０ｎｍの範囲である、前記１）〜７）のいずれかの反射防止フィルム。
９）視感反射率が１．５％以下である、前記１）〜８）のいずれかの反射防止フィルム。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、帯電防止性、透明性、耐擦傷性および反射防止性が良好で、更に干渉縞が抑制された反射防止フィルムを提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本発明の反射防止フィルムは、易接着層を有するポリエステルフィルムの易接着層上にハードコート層と低屈折率層とをこの順に有する。
本発明の反射防止フィルムは、易接着層上に直接にハードコート層が積層されていることが好ましく、更にハードコート層上に直接に低屈折率層が積層されていることが好ましい。
以下、本発明を構成する各構成要素について詳細に説明する。
【００１４】
［ポリエステルフィルム］
本発明の反射防止フィルムは、基材としてポリエステルフィルムが用いられる。ポリエステルフィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートフィルムやポリエチレンナフタレートフィルムが挙げられるが、ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）が好ましく用いられる。
【００１５】
ポリエステルフィルムの屈折率は、通常１．６１〜１．７０の範囲であるが、本発明に用いられるポリエステルフィルムの屈折率は、１．６２〜１．６９の範囲が好ましく、１．６３〜１．６８の範囲がより好ましく、特に１．６４〜１．６７の範囲が好ましい。
ポリエステルフィルムの厚みは、２５〜３００μｍの範囲が適当であり、５０〜２５０μｍの範囲が好ましい。
【００１６】
［易接着層］
本発明の反射防止フィルムにおいて、基材として用いられるポリエステルフィルムは、少なくともハードコート層が積層される面に易接着層を有する。この易接着層の屈折率は１．５５以上１．６１未満である。
ポリエステルフィルムと後述するハードコート層との間に、この易接着層を介在させることによって、干渉縞の発生が抑制され、かつポリエステルフィルムとハードコート層との密着性が向上する。
【００１７】
易接着層の屈折率は、さらに１．５６〜１．６０の範囲が好ましく、１．５７〜１．５９の範囲がより好ましい。
易接着層の厚みは、干渉縞の発生を更に抑制するという観点から、６０〜１２０ｎｍの範囲が好ましく、７０〜１１０ｎｍの範囲がより好ましく、特に８０〜１１０ｎｍの範囲が好ましい。
【００１８】
屈折率が１．５５以上１．６１未満の易接着層の１つの態様として、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂等の樹脂に、芳香族環、硫黄原子、臭素原子等を導入することにより高屈折率化した樹脂を用いる態様が挙げられる。
上記の高屈折率化した樹脂としては、分子中に縮合芳香族環を有するポリエステル樹脂が好ましい。上記縮合芳香族環としては、例えば、ナフタレン環、フルオレン環等が挙げられる。
【００１９】
ポリエステル樹脂は、一般的にカルボン酸成分とグリコール成分から重縮合して得られる。上記の分子中にナフタレン環を有するポリエステル樹脂は、カルボン酸成分として、１，４−ナフタレンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸等のナフタレン環を有するジカルボン酸を用いることによって合成することができる。分子中にナフタレン環を有するポリエステル樹脂の屈折率は、全カルボン酸成分中のナフタレン環を有するジカルボン酸の比率を調整することによって制御することができる。
【００２０】
上記の分子中にフルオレン環を有するポリエステル樹脂は、カルボン酸成分および／またはグリコール成分として、フルオレン環を有する化合物を用いることによって合成することができる。上記フルオレン環を有する化合物の含有量を調整することによって該ポリエステル樹脂の屈折率を制御することができる。分子中にフルオレン環を有するポリエステル樹脂は、例えば、国際公開番号ＷＯ２００９／１４５０７５号に詳しく記載されており、それを参照して合成することができる。
【００２１】
上記ポリエステル樹脂は水溶性あるいは水分散性であることが好ましい。水溶性あるいは水分散性のポリエステル樹脂は、ポリエステル樹脂の合成に用いられるカルボン酸成分の中に、３価以上の多価カルボン酸あるいはスルホ基を有するジカルボン酸を含ませることによって合成することができる。
易接着層の他の態様として、樹脂と金属酸化物微粒子を含有する易接着層が挙げられる。この易接着層は、樹脂中に金属酸化物微粒子が分散した塗布液を積層して形成することができる。樹脂としては、例えば、アクリル樹脂（好ましくはアクリル樹脂ポリオール等のＯＨ基を有するアクリル樹脂）、ポリエステル樹脂（好ましくはポリエステル樹脂ポリオール等のＯＨ基を有するポリエステル樹脂）、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、スチレン−マレイン酸グラフトポリエステル樹脂、アクリルグラフトポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等を用いることができる。
【００２２】
金属酸化物微粒子としては、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化アンチモン、酸化セリウム、酸化鉄、アンチモン酸亜鉛、酸化錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、リンドープ酸化錫、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛等を用いることができる。
【００２３】
上記の樹脂と金属酸化物微粒子の含有比率は、質量比で１００：１０〜１００：４００の範囲が適当であり、１００：２０〜１００：３００の範囲が好ましく、特に１００：３０〜１００：２００の範囲が好ましい。
【００２４】
易接着層は、さらに架橋剤を含有することが好ましい。かかる架橋剤としては、メラミン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、アジリジン系架橋剤、エポキシ系架橋剤、メチロール化あるいはアルキロール化した尿素系架橋剤、アクリルアミド系架橋剤、ポリアミド系樹脂、アミドエポキシ化合物、各種シランカップリング剤、各種チタネート系カップリング剤などを用いることができる。
【００２５】
易接着層は、更に粒子を含有することが好ましい。易接着層が粒子を含有することにより滑り性や耐ブロッキング性が向上する。かかる粒子としては、シリカ粒子、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、カーボンブラック、ゼオライト粒子などの無機粒子や、アクリル粒子、シリコーン粒子、ポリイミド粒子、テフロン（登録商標）粒子、架橋ポリエステル粒子、架橋ポリスチレン粒子、架橋重合体粒子、コアシェル粒子などの有機粒子が挙げられる。これらの中でもシリカ粒子が好ましい。
【００２６】
粒子の平均粒子径は、３０〜６００ｎｍの範囲が好ましく、５０〜５００ｎｍの範囲がより好ましく、特に１００〜４００ｎｍの範囲が好ましい。なお、易接着層に含有させる粒子の平均粒子径は、数平均で求めた粒子径である。
【００２７】
［ハードコート層］
本発明のハードコート層は、反射防止フィルムに帯電防止性を付与するために４級アンモニウム塩基を有する化合物を含有する。ハードコート層に４級アンモニウム塩基を有する化合物を含有させることによって、反射防止フィルムの透明性を低下させることなく帯電防止性を付与することができる。
【００２８】
本発明のハードコート層は、高い透明性と良好な耐光性を確保するという観点から、導電性金属酸化物微粒子は含有しないことが好ましい。また、ハードコート層を高屈折率化するための金属酸化物微粒子（例えば、酸化ジルコニウム、酸化チタン等）は、４級アンモニウム塩基を有する化合物との相溶性の悪化を引き起こし、良好な帯電防止性が発現しないことがあるので、高屈折率化のための金属酸化物微粒子も含有しないことが好ましい。
上記したように本発明のハードコート層は、導電性金属酸化物微粒子（高屈折率化に寄与するものもある）、および高屈折率化するための金属酸化物微粒子を含有しないことが好ましく、その結果、本発明のハードコート層の屈折率は従来の金属酸化物微粒子（導電性金属酸化物微粒子を含む）を含有するハードコート層の屈折率より小さいものとなる。つまり、本発明のハードコート層の屈折率は、１．５０以上１．５５未満である。
【００２９】
屈折率が１．５０以上１．５５未満である本発明のハードコート層をポリエステルフィルム上に積層すると、干渉縞が目立ちやすくなる。この干渉縞は、上述したようにポリエステルフィルムとハードコート層との間に、屈折率が１．５５以上１．６１未満の易接着層を介在させることにより抑制することができる。
【００３０】
本発明のハードコート層の屈折率は、さらに１．５１〜１．５４の範囲が好ましく、１．５２〜１．５３の範囲がより好ましい。
【００３１】
本発明のハードコート層に含有する４級アンモニウム塩基を有する化合物としては、低分子化合物や高分子化合物が挙げられるが、これらの中でも高分子化合物が好ましい。高分子化合物は、ハードコート層内でブリードアウトするという現象や時間経過とともに帯電防止性が低下するという問題が起こりにくいので、好ましく用いられる。
４級アンモニウム塩基を含む高分子化合物としては、例えば、
ａ）４級アンモニウム塩基含有（メタ）アクリレート共重合体；例えばスチレン、アクリロニトリル、ブタジエン、塩化ビニルあるいはこれらの混合物と４級アンモニウム塩基を含む（メタ）アクリレートとの共重合体が挙げられる。ここで、４級アンモニウム塩基を含む（メタ）アクリレートとしては、例えば、−（ＣＨ２（ＣＨ３）ＣＯＯ−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｎ＋（Ｃ２Ｈ５）２ＣＨ３）ｎ・（Ｏ３Ｓ−ＯＣＨ３−又はハロゲン−（Ｃｌ− 等）−）が挙げられる。
【００３２】
ｂ）４級アンモニウム塩基含有マレイミド共重合体；例えば、スチレン、アクリロニトリル、ブタジエンあるいはこれらの混合物と４級アンモニウム塩基を含むマレイミドの共重合体が挙げられる。
【００３３】
ｃ）カルボベタイングラフト共重合体；ポリエチレンやポリプロピレンにカルボベタインがグラフト結合したカルボベタイングラフト共重合体等のベタインが挙げられる。ここで、カルボベタインとしては、例えば、−（ＣＨ（ＣＨ２ＣＯＯ−）ＣＯＯＣＨ２−ＣＨ２−Ｎ＋（Ｃ２Ｈ５）２ＣＨ２）ＣＯＯ−）Ｈ＋）ｎ）が挙げられる。
【００３４】
上記した４級アンモニウム塩基を有する化合物は一般に市販されており、入手することができる。市販品としては、例えば、コルコート(株)製のコルコートＮＲ−１２１Ｘ−９ＩＰＡ、大成ファインケミカル(株)製の１ＳＸシリーズ、綜研化学(株)製のエレコンドシリーズなどが挙げられる。
【００３５】
ハードコート層における４級アンモニウム塩基を有する化合物の含有量は、ハードコート層の固形分総量１００質量％に対して５質量％以上１５質量％未満であることが好ましい。４級アンモニウム塩基を有する化合物の含有量が５質量％未満であるときは帯電防止性を十分に付与できないことがあり、一方、１５質量％以上であるときは、ハードコート層の硬度が十分に得られず、耐擦傷性が不十分となることがある。
【００３６】
本発明のハードコート層は、前述したように金属酸化物微粒子（導電性金属酸化物微粒子を含む）を含有しないことが好ましいが、上述したように反射防止フィルムの透明性や帯電防止性を阻害しない範囲で、ハードコート層の屈折率を１．５０以上１．５５未満の範囲内で微調整するために金属酸化物微粒子を微量含有させることができる。ハードコート層に金属酸化物微粒子を含有させる場合の金属酸化物微粒子の含有量は、ハードコート層の固形分総量１００質量％に対して５質量％未満であることが好ましい。金属酸化物微粒子の含有量がハードコート層の固形分総量１００質量％に対して５質量％以上になると、前述の問題（透明性や耐光性の悪化、あるいは相溶性悪化による帯電防止性の低下）を引き起こすことがある。
【００３７】
ハードコート層に含有させることができる金属酸化物微粒子としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化アンチモン、酸化セリウム、酸化鉄、アンチモン酸亜鉛、酸化錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、リンドープ酸化錫、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、フッ素ドープ酸化錫等が挙げられる。
【００３８】
本発明のハードコート層は硬度を高くするという観点から、４級アンモニウム塩基を有する化合物およびエチレン性不飽和基を有する化合物を含有する活性エネルギー線硬化性組成物を硬化させることによって形成されることが好ましい。ここで、活性エネルギー線とは、紫外線、可視光線、赤外線、電子線、α線、β線、γ線などが挙げられる。これらの活性エネルギー線の中でも、紫外線および電子線が好ましく、特に紫外線が好ましく用いられる。
【００３９】
エチレン性不飽和基を有する化合物とは、分子中にエチレン性不飽和基を１個以上有する化合物（モノマーやオリゴマー）である。エチレン性不飽和基を有する化合物としては、分子中に２個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物が好ましく、特に分子中に３個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物が好ましい。エチレン性不飽和基としては、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタアクリロイルオキシ基等が挙げられる。
【００４０】
エチレン性不飽和基を有する化合物を以下に例示するが、本発明はこれらの化合物に限定されない。尚、下記の説明において、「・・・（メタ）アクリレート」なる表現は、「・・・アクリレート」と「・・・メタクリレート」との２つの化合物を含む。
【００４１】
例えば、分子中にエチレン性不飽和基を２個有する化合物としては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【００４２】
分子中にエチレン性不飽和基を３個以上有する化合物としては、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、グリセリンプロポキシトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）トリアクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレオリゴマー、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートトルエンジイソシアネートウレタンオリゴマー、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンオリゴマーなどが挙げられる。
【００４３】
また、多官能のウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーとして、市販されているものを使用することができる。例えば、共栄社化学（株）製のウレタンアクリレートＡＨシリーズ、ウレタンアクリレートＡＴシリーズ、ウレタンアクリレートＵＡシリーズ、根上工業（株）製のＵＮ−３３２０シリーズ、ＵＮ−９００シリーズ、新中村化学工業（株）製のＮＫオリゴＵシリーズ、ダイセル・ユーシービー社製のＥｂｅｃｒｙｌ１２９０シリーズなどが挙げられる。
【００４４】
ハードコート層におけるエチレン性不飽和基を有する化合物の含有量は、ハードコート層の固形分総量１００質量％に対して、５０質量％以上が好ましく、６０質量％以上がより好ましく、特に７０質量％以上が好ましい。上限は９５質量％以下が好ましく、９０質量％以下がより好ましい。
【００４５】
活性エネルギー線として紫外線を用いる場合は、光重合開始剤を含有することが好ましい。かかる光重合開始剤の具体例としては、アセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベンゾイルフォルメート、ｐ−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントンなどの硫黄化合物などを用いることができる。これらの光重合開始剤は単独で使用してもよいし、２種以上組み合せて用いてもよい。
【００４６】
光重合開始剤の含有量は、ハードコート層の固形分総量１００質量％に対して０．０５〜１０質量％の範囲が適当である。
【００４７】
ハードコート層の厚みは、製造コストの観点から薄いほど良いが、厚みが０．５μｍ未満であると、反射防止層積層後の十分な耐擦傷性が得られにくくなることから、０．５〜５．０μｍの範囲が好ましく、１．０〜４．０μｍの範囲がより好ましく、１．５〜３．０μｍの範囲が特に好ましい。
【００４８】
ハードコート層には、さらに各種の添加剤を必要に応じて配合することができる。例えば、酸化防止剤、レベリング剤、消泡剤などを含有させることができる。
【００４９】
［低屈折率層］
本発明の低屈折率層は無機微粒子を含有する。低屈折率層における無機微粒子の含有量は、低屈折率層の固形分総量１００質量％に対して４０質量％以上６０質量％未満である。ここで無機微粒子は低屈折率層の屈折率を下げる役目を有する。かかる無機微粒子としては、シリカやフッ化マグネシウム等の低屈折率無機微粒子が好ましく用いられる。更にこれらの無機微粒子は中空状や多孔質のものが好ましい。特に中空状のシリカやフッ化マグネシウムが好ましく用いられる。
【００５０】
本発明に用いられる無機微粒子の屈折率は、１．２０〜１．３５であるのが好ましい。
【００５１】
本発明の反射防止フィルムの視感反射率は１．５％以下が好ましく、更に１．３％以下が好ましい。このような比較的視感反射率が小さい反射防止フィルムを得るには、低屈折率層の屈折率を比較的小さくする必要がある。
【００５２】
前述したように、本発明のハードコート層は屈折率が比較的小さい（屈折率１．５０以上１．５５未満）ので、上記したように視感反射率が小さい反射防止フィルムを得るためには、ハードコート層上に積層される低屈折率層の屈折率は１．４０未満にする必要がある。低屈折率層の屈折率は、１．３９以下が好ましく、１．３８以下がより好ましく、１．３７以下が特に好ましい。低屈折率層の屈折率の下限は１．３３以上が好ましく、１．３４以上がより好ましい。
【００５３】
屈折率が１．４０未満の低屈折率層を得るには、無機微粒子の含有量を低屈折率層の固形分総量１００質量％に対して４０質量％以上とする必要がある。無機微粒子の含有量は、好ましくは４５質量％以上である。低屈折率層における無機微粒子の含有量の上限は、低屈折率層の固形分総量１００質量％に対して６０質量％未満であり、５５質量％以下とすることが好ましい。
【００５４】
前述したように、本発明の４級アンモニウム塩基を有する化合物を含有するハードコート層を用いた反射防止フィルムは、良好な耐擦傷性が得られにくい。更に、上記したように４０質量％以上の無機微粒子を含有する低屈折率層を、４級アンモニウム塩基を有する化合物を含有するハードコート層上に積層すると、耐擦傷性が更に低下する傾向にある。
【００５５】
この耐擦傷性の低下は、低屈折率層にエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を含有させることによって解決する。低屈折率層におけるエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物の含有量は、低屈折率層の固形分総量１００質量％に対して１．５質量％以上１０質量％未満である。
【００５６】
エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物の含有量が、低屈折率層の固形分総量１００質量％に対して１．５質量％未満であると、良好な耐擦傷性が得られない。一方、エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物の含有量が、低屈折率層の固形分総量１００質量％に対して１０質量％以上であると、塗膜の硬度が低下し、良好な耐擦傷性が得られなくなる。
【００５７】
エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物としては、分子中に２個以上のエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物が好ましく、特に分子中に３個以上のエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物が好ましい。
【００５８】
具体的には、分子中のポリシロキサン主鎖の両末端にエチレン性不飽和基を有する２官能以上のポリシロキサン化合物が好ましく、特にポリシロキサン主鎖の両末端と側鎖に１個以上のエチレン性不飽和基を有する３官能以上のポリシロキサン化合物が好ましい。
ここで、エチレン性不飽和基としては、ビニル基、アクリル基、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基等が挙げられる。
【００５９】
エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物としては、特開２００９−８４３２７号公報の製造例１−１〜１−３の化合物、あるいはチッソ（株）製のサイラプレーンＦＭ−０７１１、同ＦＭ−０７２１、同ＦＭ−０７２５、信越化学工業（株）製のＸ−２４−８２０１、Ｘ−２２−１７４ＤＸ、Ｘ−２２−１６０２、Ｘ２２−１６０３、Ｘ−２２−２４２６、Ｘ−２２−２４０４、Ｘ−２２−１６４Ａ、Ｘ−２２−１６４Ｃ、Ｘ−２２−２４５８、Ｘ−２２−２４５９、Ｘ−２２−２４４５、Ｘ−２２−２４５７、東レ・ダウコーニング（株）製のＢＹ１６−１５２Ｄ、ＢＹ１６−１５２、ＢＹ１６−１５２Ｃ、ビックケミー・ジャパン(株)製のＢＹＫ−ＵＶ３５７０等の市販品を用いることができる。
【００６０】
また、ポリシロキサン化合物がエチレン性不飽和基を有していないと、たとえポリシロキサン化合物の含有量が、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量１００質量％に対して１．５質量％以上１０質量％未満の範囲内であっても、良好な耐擦傷性は得られない。
【００６１】
本発明の低屈折率層は、無機微粒子、エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物およびエチレン性不飽和基を有する化合物を含有する活性エネルギー線硬化性組成物を硬化させることによって形成することが好ましい。
【００６２】
エチレン性不飽和基を有する化合物としては、上述のハードコート層に用いられるエチレン性不飽和基を有する化合物と同様の化合物を使用することができる。
【００６３】
低屈折率層におけるエチレン性不飽和基を有する化合物の含有量は、低屈折率層の固形分総量１００質量％に対して３０質量％以上が好ましく、３５質量％以上がより好ましい。上限は５８質量％以下が好ましく、５５質量％以下がより好ましい。
【００６４】
活性エネルギー線として紫外線を用いる場合は、光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤としては、上述のハードコート層に用いられる光重合開始剤と同様の化合物を用いることができる。光重合開始剤の含有量は、低屈折率層の固形分総量１００質量％に対して、０．５〜１０質量％の範囲が適当である。
【００６５】
低屈折率層は、さらに各種の添加剤を必要に応じて配合することができる。例えば、酸化防止剤、レベリング剤、消泡剤などを含有させることができる。
【００６６】
低屈折率層の厚みは、５０〜１５０ｎｍの範囲が好ましく、８０〜１２０ｎｍの範囲がより好ましい。
【実施例】
【００６７】
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。尚、本実施例における、測定方法及び評価方法を以下に示す。
【００６８】
（１）ハードコート層、低屈折率層、易接着層の厚みの測定
各サンプルの断面を透過型電子顕微鏡（日立製Ｈ−７１００ＦＡ型）で加速電圧１００ｋＶにて観察する。試料調整は超薄切片法もしくは凍結超薄切片法を用いる。５〜３０万倍の倍率で観察し厚みを測定する。
【００６９】
（２）屈折率の測定
ハードコート層、低屈折率層、易接着層の各塗料（組成物）をシリコンウエハー上にスピンコーターにて塗工形成した塗膜（乾燥厚み約２μｍ）について、２５℃の温度条件下で位相差測定装置（ニコン（株）製：ＮＰＤＭ−１０００）で６３３ｎｍの屈折率を測定した。
また、ＰＥＴフィルムの屈折率は、ＪＩＳ Ｋ７１０５（１９８１）に準じてアッベ屈折率計で測定した。
【００７０】
（３）視感反射率の測定
＜試料の作成＞
各サンプルを１５０ｍｍ×１５０ｍｍに切り出し、ＰＥＴフィルムの低屈折率層とは反対側の面に黒粘着テープを貼り付けて測定用試料を作製した。
＜測定＞
分光光度計（島津製作所製、ＵＶ３１５０ＰＣ）を用いて、測定面から５度の入射角で波長３８０〜７８０ｎｍの範囲で反射率（片面反射）を算出し、視感反射率（ＪＩＳ Ｚ８７０１−１９９９において規定されている反射の刺激値Ｙ）を求めた。分光光度計で分光立体角を測定し、ＪＩＳ Ｚ８７０１−１９９９に従って反射率（片面光線反射）を算出する。算出式は以下の通りである。
Ｔ＝Ｋ・ ∫Ｓ（λ）・ｙ（λ)・ Ｒ（λ) ・ｄλ  （ただし、積分区間は３８０〜７８０ｎｍ）
Ｔ：片面光線反射率
Ｓ（λ) ：色の表示に用いる標準の光の分布
ｙ（λ) ：ＸＹＺ表示系における等色関数
Ｒ（λ) ：分光立体角反射率。
【００７１】
（４）表面抵抗値の測定
各サンプルを、抵抗率計（三菱化学(株)製ハイレスタＭＣＰ−ＨＴ４５０）を用いて、ＪＩＳ−Ｋ６９１１に準拠して測定した。
【００７２】
（５）干渉縞の目視評価
各サンプルを、１５０ｍｍ×１５０ｍｍに切り出し、ＰＥＴフィルムの低屈折率層とは反対側の面に黒粘着テープ（日東電工(株)製“ビニルテープＮｏ．２１  トクハバ  黒”）を貼り付け、暗室三波長蛍光灯下にて目視にて低屈折率層面側の干渉縞（反射色ムラ）を評価した。評価基準は以下の通りである。
◎：干渉縞がほぼ見えない
○：干渉縞がわずかに見える
×：干渉縞が強く見える。
【００７３】
（６）耐擦傷性
各サンプルの低屈折率層面を、東レ(株)製の「トレシー」に５００ｇ/ｃｍ２の荷重をかけて、ストローク幅７ｃｍ、６０往復/分の速度で５０００往復摩擦した後、低屈折率層表面を目視で観察し、傷の付き方を次の３段階で評価した。
３級：傷が全く付かない
２級：傷が１本以上１０本以下
１級：傷が全面に発生。
【００７４】
（７）全光線透過率
各サンプルの全光線透過率を日本電色工業(株)製ヘイズメーターＮＤＨ２０００を用いて、ＪＩＳ Ｋ−７３６１に準拠して測定した。  
【００７５】
［易接着層が積層されたＰＥＴフィルムの作製］
＜ＰＥＴフィルム１＞
厚み１００μｍのＰＥＴフィルム（屈折率１．６５）に下記の易接着層を積層した。易接着層の屈折率は１．５８、易接着層の厚みは８０ｎｍであった。
（易接着層）
ナフタレン環を含むポリエステル樹脂を１００質量部、メチロール型メラミン系架橋剤（三和ケミカル（株）製の「ニカラック ＭＷ１２ＬＦ」）を５質量部、平均粒子径が１９０ｎｍのコロイダルシリカを２質量部含有する。
【００７６】
＜ＰＥＴフィルム２＞
易接着層の厚みを１１０ｎｍに変更する以外は上記ＰＥＴフィルム１と同様にして作製した。
【００７７】
＜ＰＥＴフィルム３＞
易接着層の厚みを５０ｎｍに変更する以外は上記ＰＥＴフィルム１と同様にして作製した。
【００７８】
＜ＰＥＴフィルム４＞
易接着層の厚みを１５０ｎｍに変更する以外は上記ＰＥＴフィルム１と同様にして作製した。
【００７９】
＜ＰＥＴフィルム５＞  
厚み１００μｍのＰＥＴフィルム（屈折率１．６５）に下記の易接着層を積層した。易接着層の屈折率は１．６３、易接着層の厚みは８０ｎｍであった。
フルオレン環を含むポリエステル樹脂１００質量部、メチロール型メラミン系架橋剤（三和ケミカル（株）製の「ニカラック ＭＷ１２ＬＦ」）を５質量部、平均粒子径が１９０ｎｍのコロイダルシリカを２質量部含有する。
【００８０】
＜ＰＥＴフィルム６＞  
厚み１００μｍのＰＥＴフィルム（屈折率１．６５）に下記の易接着層を積層した。易接着層の屈折率は１．５２、易接着層の厚みは８０ｎｍであった。
アクリル樹脂１００質量部、メチロール型メラミン系架橋剤（三和ケミカル（株）製の「ニカラック ＭＷ１２ＬＦ」）を５質量部、平均粒子径が１９０ｎｍのコロイダルシリカを２質量部含有する。
【００８１】
［ハードコート層形成用活性エネルギー線硬化性組成物（ＨＣ組成物）の調製］
＜ＨＣ組成物ａ＞
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート５２質量部、トリメチロールプロパントリアクリレート３３質量部、４級アンモニウム塩基を有する高分子化合物（綜研化学（株）製の「エレコンドＰＱ−１０」）を固形分で１０質量部、光重合開始剤としてイルガキュア１８４（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製）５質量部を、メチルエチルケトンで溶解あるいは分散して固形分濃度が３５質量％のＨＣ組成物ａを調製した。この組成物の屈折率は１．５２であった。
【００８２】
＜ＨＣ組成物ｂ＞
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート５４質量部、トリメチロールプロパントリアクリレート３５質量部、４級アンモニウム塩基を有する高分子化合物（綜研化学（株）製の「エレコンドＰＱ−１０」）を固形分で６質量部、光重合開始剤としてイルガキュア１８４（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製）５質量部を、メチルエチルケトンで溶解あるいは分散して固形分濃度が３５質量％のＨＣ組成物ｂを調製した。この組成物の屈折率は１．５２であった。
【００８３】
＜ＨＣ組成物ｃ＞
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート４７質量部、トリメチロールプロパントリアクリレート３１質量部、４級アンモニウム塩基を有する高分子化合物（綜研化学（株）製の「エレコンドＰＱ−１０」）を固形分で１７質量部、光重合開始剤としてイルガキュア１８４（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製）５質量部を、メチルエチルケトンで溶解あるいは分散して固形分濃度が３５質量％のＨＣ組成物ｃを調製した。この組成物の屈折率は１．５２であった。
【００８４】
＜ＨＣ組成物ｄ＞
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート５２質量部、トリメチロールプロパントリアクリレート３３質量部、４級アンモニウム塩基を有する高分子化合物（コルコート(株)製の「コルコートＮＲ−１２１Ｘ−９ＩＰＡ」）を固形分で１０質量部、光重合開始剤としてイルガキュア１８４（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製）５質量部を、メチルエチルケトンで溶解あるいは分散して固形分濃度が３５質量％のＨＣ組成物ｄを調製した。この組成物の屈折率は１．５２であった。
【００８５】
＜ＨＣ組成物ｅ＞
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート５５質量部、トリメチロールプロパントリアクリレート４０質量部、光重合開始剤としてイルガキュア１８４（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製）５質量部を、メチルエチルケトンで溶解あるいは分散して固形分濃度が３５質量％のＨＣ組成物ｅを調製した。この組成物の屈折率は１．５１であった。
【００８６】
＜ＨＣ組成物ｆ＞
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート５０質量部、トリメチロールプロパントリアクリレート３０質量部、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）微粒子１５質量部、光重合開始剤としてイルガキュア１８４（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製）５質量部を、メチルエチルケトンで溶解あるいは分散して固形分濃度が３５質量％のＨＣ組成物ｆを調製した。この組成物の屈折率は１．５３であった。
【００８７】
［低屈折率層形成用活性エネルギー線硬化性組成物（低屈折率層組成物）の調製］
＜低屈折率層組成物ａ＞
無機微粒子として中空シリカを固形分で５０質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを４３質量部、エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物（信越化学（株）製の「Ｘ−２２−２４５７」）を４質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製イルガキュア９０７）３質量部を、有機溶媒（イソプロピルアルコール、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトンの混合溶媒）に溶解・分散して、固形分濃度が３質量％の低屈折率層組成物ａを調製した。この組成物の屈折率は１．３６であった。
尚、信越化学（株）製のＸ−２２−２４５７は、エチレン性不飽和基を両末端と側鎖に有する３官能以上のポリシロキサン化合物である。
【００８８】
＜低屈折率層組成物ｂ＞
無機微粒子として中空シリカを固形分で４５質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを４８質量部、エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物（信越化学（株）製の「Ｘ−２２−２４５７」）を４質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製イルガキュア９０７）３質量部を、有機溶媒（イソプロピルアルコール、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトンの混合溶媒）に溶解・分散して、固形分濃度が３質量％の低屈折率層組成物ｂを調製した。この組成物の屈折率は１．３８であった。
【００８９】
＜低屈折率層組成物ｃ＞
無機微粒子として中空シリカを固形分で５５質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを３８質量部、エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物（信越化学（株）製の「Ｘ−２２−２４５７」）を４質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製イルガキュア９０７）３質量部を、有機溶媒（イソプロピルアルコール、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトンの混合溶媒）に溶解・分散して、固形分濃度が３質量％の低屈折率層組成物ｃを調製した。この組成物の屈折率は１．３５であった。
【００９０】
＜低屈折率層組成物ｄ＞
無機微粒子として中空シリカを固形分で３５質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを５８質量部、エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物（信越化学（株）製の「Ｘ−２２−２４５７」）を４質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製イルガキュア９０７）３質量部を、有機溶媒（イソプロピルアルコール、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトンの混合溶媒）に溶解・分散して、固形分濃度が３質量％の低屈折率層組成物ｄを調製した。この組成物の屈折率は１．４１であった。
【００９１】
＜低屈折率層組成物ｅ＞
無機微粒子として中空シリカを固形分で６５質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを２８質量部、エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物（信越化学（株）製の「Ｘ−２２−２４５７」）を４質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製イルガキュア９０７）３質量部を、有機溶媒（イソプロピルアルコール、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトンの混合溶媒）に溶解・分散して、固形分濃度が３質量％の低屈折率層組成物ｅを調製した。この組成物の屈折率は１．３３であった。
【００９２】
＜低屈折率層組成物ｆ＞
無機微粒子として中空シリカを固形分で５０質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを４５質量部、エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物（信越化学（株）製の「Ｘ−２２−２４５７」）を２質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製イルガキュア９０７）３質量部を、有機溶媒（イソプロピルアルコール、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトンの混合溶媒）に溶解・分散して、固形分濃度が３質量％の低屈折率層組成物ｆを調製した。この組成物の屈折率は１．３６であった。
【００９３】
＜低屈折率層組成物ｇ＞
無機微粒子として中空シリカを固形分で５０質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを３９質量部、エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物（信越化学（株）製の「Ｘ−２２−２４５７」）を８質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製イルガキュア９０７）３質量部を、有機溶媒（イソプロピルアルコール、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトンの混合溶媒）に溶解・分散して、固形分濃度が３質量％の低屈折率層組成物ｇを調製した。この組成物の屈折率は１．３６であった。
【００９４】
＜低屈折率層組成物ｈ＞
無機微粒子として中空シリカを固形分で５０質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを４３質量部、エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物（信越化学（株）製の「Ｘ−２２−２４４５」）を４質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製イルガキュア９０７）３質量部を、有機溶媒（イソプロピルアルコール、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトンの混合溶媒）に溶解・分散して、固形分濃度が３質量％の低屈折率層組成物ｈを調製した。この組成物の屈折率は１．３６であった。
尚、信越化学（株）製の「Ｘ−２２−２４４５」は、分子中にエチレン性不飽和基を２個有する２官能のポリシロキサン化合物である。
【００９５】
＜低屈折率層組成物ｉ＞
無機微粒子として中空シリカを固形分で５０質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを４７質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製イルガキュア９０７）３質量部を、有機溶媒（イソプロピルアルコール、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトンの混合溶媒）に溶解・分散して、固形分濃度が３質量％の低屈折率層組成物ｉを調製した。この組成物の屈折率は１．３６であった。
【００９６】
＜低屈折率層組成物ｊ＞
無機微粒子として中空シリカを固形分で５０質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを４６質量部、エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物（信越化学（株）製の「Ｘ−２２−２４４５」）を１質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製イルガキュア９０７）３質量部を、有機溶媒（イソプロピルアルコール、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトンの混合溶媒）に溶解・分散して、固形分濃度が３質量％の低屈折率層組成物ｊを調製した。この組成物の屈折率は１．３６であった。
【００９７】
＜低屈折率層組成物ｋ＞
無機微粒子として中空シリカを固形分で５０質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを３５質量部、エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物（信越化学（株）製の「Ｘ−２２−２４４５」）を１２質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製イルガキュア９０７）３質量部を、有機溶媒（イソプロピルアルコール、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトンの混合溶媒）に溶解・分散して、固形分濃度が３質量％の低屈折率層組成物ｋを調製した。この組成物の屈折率は１．３６であった。
【００９８】
＜低屈折率層組成物ｌ＞
無機微粒子として中空シリカを固形分で５０質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを４３質量部、エチレン性不飽和基を有しないポリシロキサン化合物（ポリエステル変性水酸基含有ポリジメチルシロキサン；ビックケミー・ジャパン（株）製の「ＢＹＫ３７０」）を４質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製イルガキュア９０７）３質量部を、有機溶媒（イソプロピルアルコール、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトンの混合溶媒）に溶解・分散して、固形分濃度が３質量％の低屈折率層組成物ｌを調製した。この組成物の屈折率は１．３６であった。
【００９９】
［実施例１］
易接着層が積層されたＰＥＴフィルム１の易接着層上に、ＨＣ組成物ａをグラビアコーターで塗工し、９０℃で乾燥後、紫外線４００ｍＪ／ｃｍ２を照射して硬化させて、厚みが２．０μｍのハードコート層（屈折率１．５２）を形成した。
次に、ハードコート層上に低屈折率層組成物ａをグラビアコーターで塗工し、９０℃で乾燥後、紫外線４００ｍＪ／ｃｍ２を照射して硬化させ、厚みが１００ｎｍの低屈折率層（屈折率１．３６）を形成して、実施例１の反射防止フィルムを作製した。
【０１００】
［実施例２〜１２および比較例１〜１０］
易接着層が積層されたＰＥＴフィルムの種類、ＨＣ組成物の種類および低屈折率層組成物の種類を表１に示すように変更する以外は、実施例１と同様にして実施例２〜１２および比較例１〜１０の反射防止フィルムを作製した。
【０１０１】
＜評価＞
上記で作製した実施例および比較例の反射防止フィルムについて、視感反射率、耐擦傷性、表面抵抗値、全光線透過率および干渉縞を評価した。その結果を表１〜４に示す。
【０１０２】
【表１】
2013190732.tif 000002
【０１０３】
【表２】
2013190732.tif 000003
【０１０４】
【表３】
2013190732.tif 000004
【０１０５】
【表４】
2013190732.tif 000005
【０１０６】
表１〜４の結果から、本発明の実施例は、透明性（全光線透過率が高い）、帯電防止性（表面抵抗値が低い）、耐擦傷性および反射防止性（視感反射率が小さい）が良好であり、更に干渉縞の発生が抑制されていることがわかる。
【０１０７】
一方、比較例１は、低屈折率層に含有する無機微粒子含有量が４０質量％未満であるために、低屈折率層の屈折率が１．４０以上となり、視感反射率が高く、良好な反射防止性が得られない。
【０１０８】
比較例２は、低屈折率層に含有する無機微粒子含有量が６０質量％以上であるために良好な耐擦傷性が得られない。
【０１０９】
低屈折率層がエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を含有しない比較例３、およびその含有量が１．５質量％未満である比較例４は、良好な耐擦傷性が得られない。
【０１１０】
比較例５は、低屈折率層がエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を１０質量％以上含有するために良好な耐擦傷性が得られない。
【０１１１】
比較例６は、低屈折率層に含有するポリシロキサン化合物がエチレン性不飽和基を有していないので良好な耐擦傷性が得られない。
【０１１２】
比較例７は、ハードコート層が４級アンモニウム塩基を有する化合物を含有しないので耐擦傷性は問題ないが、帯電防止性が得られない。
【０１１３】
比較例８は、導電性金属酸化物微粒子を含有するハードコート層を用いているために透明性が低下している。
【０１１４】
比較例９は、易接着層の屈折率が１．６１以上であるために干渉縞発生の抑制が不十分である。
【０１１５】
比較例１０は、易接着層の屈折率が１．５５未満であるために干渉縞発生の抑制が不十分である。