(57)【要約】      （修正有）【課題】入力面および出力面を有する多層光学デバイスを提供する。【解決手段】光学デバイス１０は、コアが第１の面および第２の面を備える、第１の実屈折率１−δ1および第１の吸収係数β1を有する高率材料層１６、第２の実屈折率１−δ2および第２の吸収係数β2を有する低率材料層２０、ならびに高率材料層１６と低率材料層２０の間に配設される段階ゾーン１８を含み、段階ゾーン１８が、１−δ1＞１−δ3＞１−δ2であるような、第３の実屈折率１−δ3および第３の吸収係数β3を有する段階層を備え、高率材料層１６、段階ゾーン１８および低率材料層２０のうちの１つまたは複数の少なくとも一部が、第１の方向に沿って、１つまたは複数の起伏を備える。【選択図】図１
2013033039.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入力面および出力面を有する多層光学デバイスであって、
第１の実屈折率１−δ1および第１の吸収係数β1を有する高率材料層であって、コアが第１の面および第２の面を備える、高率材料層と、
第２の実屈折率１−δ2および第２の吸収係数β2を有する低率材料層と、
前記高率材料層と低率材料層の間に配設される段階ゾーンであって、１−δ1＞１−δ3＞１−δ2であるような第３の実屈折率１−δ3および第３の吸収係数β3を有する段階層を備える段階ゾーンとを備え、
前記高率材料層、前記段階ゾーンおよび前記低率層のうちの１つまたは複数の少なくとも一部が、第１の方向に沿って１つまたは複数の起伏を備える、多層光学デバイス。
【請求項２】
少なくとも１つの起伏が第２の方向に沿って曲げられる、請求項１記載の多層光学デバイス。
【請求項３】
前記第２の方向が前記第１の方向に対しほぼ垂直である、請求項２記載の多層光学デバイス。
【請求項４】
前記第２の方向が扇形ビーム方向である、請求項２記載の多層光学デバイス。
【請求項５】
前記起伏が前記光学デバイスの中心軸に対して、前記第２の方向に外側に曲げられる、請求項２記載の多層光学デバイス。
【請求項６】
前記高率層、前記段階ゾーンおよび前記低率層が共形に配設される、請求項１記載の多層光学デバイス。
【請求項７】
２つ以上の多層セクションを備え、各多層セクションが、高率材料層、低率材料層および前記高率層と前記低率層の間に配設される段階ゾーンを有し、前記多層セクションの前記高率層が互いに隣接して配設されてコアを形成する、請求項１記載の多層光学デバイス。
【請求項８】
２つ以上の多層セクションを備え、前記２つの多層セクションが共通の高率層を有する、請求項１記載の多層光学デバイス。
【請求項９】
前記高率材料層の少なくとも一部がコアを備え、前記段階ゾーンが前記高率材料層の少なくとも一部上に配設され、前記低率材料層が前記段階ゾーンの少なくとも一部上に配設される、請求項１記載の多層光学デバイス。
【請求項１０】
前記コアの第１の面上に共形に配設される第１の段階ゾーンと、前記コアの第２の面上に共形に配設される第２の段階ゾーンとを備える、請求項９記載の多層光学デバイス。
【請求項１１】
前記多層光学デバイスの前記層のうちの少なくとも１つが、前記第１の方向に連続した起伏を備える、請求項１記載の多層光学デバイス。
【請求項１２】
前記高率材料層、前記段階ゾーンおよび前記低率層のうちの１つまたは複数の少なくとも一部が、第１の方向に沿って１つまたは複数の無起伏部分を備え、前記光学デバイスの層の少なくとも１つの起伏および無起伏部分が、同じまたは異なる材料を備える、請求項１記載の多層光学デバイス。
【請求項１３】
前記起伏が前記無起伏部分の材料と比較して相対的に高い屈折率材料を備える、請求項１２記載の多層光学デバイス。
【請求項１４】
前記起伏が前記無起伏部分の材料と比較して相対的に低い屈折率材料を備える、請求項１２記載の多層光学デバイス。
【請求項１５】
前記光学デバイスの前記入力面上に配設されるフィルタリング領域をさらに備え、前記フィルタリング領域が、前記多層光学デバイスに入射するＸ線ビームから決定されたエネルギーレベルのＸ線ビームをフィルタ除去するように構成される、請求項１記載の多層光学デバイス。
【請求項１６】
前記フィルタリング領域が尖った円錐構造を備える、請求項１５記載の多層光学デバイス。
【請求項１７】
前記フィルタリング領域の外側面が多層スタックを備える、請求項１５記載の多層光学デバイス。
【請求項１８】
前記多層スタックが高屈折率材料および低屈折率材料の交互の層を備える、請求項１７記載の多層光学デバイス。
【請求項１９】
前記多層スタックが低率層と、高率層と前記高率層と低率層の間に配設される段階ゾーンとを備える、請求項１７記載の多層光学デバイス。
【請求項２０】
共形に配設される高率層、段階ゾーンおよび低率層を有する第１の多層セクションを提供するステップであって、前記高率層、前記段階ゾーンおよび前記低率層が第１の軸に沿って１つまたは複数の起伏を備え、少なくとも１つの起伏が第２の軸に沿って曲げられるステップと、
共形に配設される高率層、段階ゾーンおよび低率層を有する第２の多層セクションを提供するステップであって、前記高率層、前記段階ゾーンおよび前記低率層が前記第１の軸に沿って１つまたは複数の起伏を備え、少なくとも１つの起伏が前記第２の軸に沿って曲げられるステップと、
前記第１の多層セクションの前記高率層と前記第２の多層セクションの前記高率層が互いに隣接して配設されるように、前記第１の多層セクションを前記第２の多層セクション上に配設するステップと
を含む、光学デバイスを製作する方法。
【請求項２１】
前記第１の多層セクションおよび第２の多層セクションを提供するステップが、
第１のテンプレートおよび第２のテンプレートを提供するステップであって、前記第１のテンプレートおよび第２のテンプレートが、前記第１の多層セクションおよび第２の多層セクションの前記多層内の前記起伏に対応する１つまたは複数の溝を備えるステップと、
前記第１のテンプレートおよび第２のテンプレート上にそれぞれ前記第１の多層セクションおよび第２の多層セクションのうちの１つまたは複数の多層を共形に堆積するステップと
を含む、請求項２０記載の方法。
【請求項２２】
第１の面および第２の面を有する高率材料層を提供するステップであって、前記第１の面および第２の面が、前記第１の多層セクションおよび第２の多層セクションの前記多層内の前記起伏に対応する、前記１つまたは複数の溝を備えるステップと、
前記高率材料層の前記第１の面および第２の面上に段階ゾーンを共形に堆積するステップと、
対応する段階ゾーン上に低率材料層を共形に堆積するステップと
を含む、請求項２１記載の方法。
【請求項２３】
第１の実屈折率１−δ1および第１の吸収係数β1を有する高率材料層であって、コアが第１の面および第２の面を備える、高率材料層、
第２の実屈折率１−δ2および第２の吸収係数β2を有する低率材料層、
前記高率材料層と低率材料層の間に配設される段階ゾーンであって、１−δ1＞１−δ3＞１−δ2であるような第３の実屈折率１−δ3および第３の吸収係数β3を有する段階層を備える段階ゾーンを備え、前記高率材料層、前記段階ゾーンおよび前記低率層のうちの１つまたは複数の少なくとも一部が、第１の方向に沿って１つまたは複数の起伏を備える多層光学デバイスを提供するステップと、
前記低率層の少なくとも一部および平面に沿った前記段階ゾーンの少なくとも一部を除去し、前記多層内に溝を形成するステップと、
前記溝の中に材料を堆積し、前記起伏を形成するステップと
を含む、光学デバイスを製作する方法。
【請求項２４】
前記高率材料層の対向する面の少なくとも一部を除去するステップをさらに含む、請求項２３記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一般に光学素子に関し、より詳細には多層光学デバイスおよびその製作方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
限定するものではないが、コンピュータ断層撮影法（ＣＴ）またはＸ線回折など、Ｘ線に基づいた撮像および解析の応用例において、従来型のＸ線源は、撮像および解析のために十分な量のＸ線を生成する。しかし、生成されたＸ線のうちの９９％よりも多くが、これらのＸ線が意図した目的のために使用されない方向に進む。使用されないＸ線は、線源の筐体または一次Ｘ線ビームコリメータにより吸収される。生成されたＸ線の大部分が意図した目的のために使用されないことに起因して、既存のＸ線撮像および解析の応用例では、撮像または解析される患者または試料において、不十分な弱いＸ線束に悩んでいる。
【０００３】
現在のところ、市販の光学デバイスは、一般に、線源からの使用されないＸ線のうち１％以下を、望ましい方向に、捕捉して方向変更する。したがって、これらのＸ線は、Ｘ線システムにおいて市販の光学デバイスを使用した後でさえ、未使用のままとなる。患者または試料上にＸ線束を増やすため、今までおよび現在可能な手法は、線源内で生成されるＸ線の数を増すことに頼っている。Ｘ線束は、一般に、ターゲットに衝突する電子ビーム密度を増すことにより、増加する。この手法は、線束の値を高めることを実現するが、このやり方で生成することが可能な最大値には、ターゲット材料によって課される、物理的な限界がある。例えば、電子がターゲットに衝突しＸ線を生成するとき、生成される熱が十分迅速に放散されない場合、ターゲットが蒸発または溶解することになる。さらに、電子ビーム密度を増すといったこの手法を使用することによると、ターゲットの保全性を損なう前に、Ｘ線束を、従来技術の約５０パーセントだけしか増加することができない。
【０００４】
医療用ＣＴまたはＸ線回折（例えば、爆発物検出のための荷物スキャニング）などの応用例において、Ｘ線ビーム形状は、円対称ではない。そのような場合、患者または試料上のＸ線束は、「未使用の」Ｘ線の一部を、Ｘ線ビームの円錐方向など、有用な方向の１つに方向変更するための多層内部全反射（ＴＩＲ）光学素子を使用することにより増加することができる。そのように、１つの方向にＸ線ビームを集めて方向変更することを、１次元圧縮と呼び、他の光学デバイスにより達成される利得の数百倍を超える強度利得をもたらすことができる。例えば、心臓の動きの効果を減少させるための心臓ＣＴ撮像、またはＸ線回折を使用する高速荷物スキャニングといった、複数の例において、さらに高い強度のＸ線束を有することが望ましい場合がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】米国特許出願公開第２００９／０１４７９２２号明細書
【発明の概要】
【０００６】
したがって、円錐方向以外の方法にＸ線を集めて方向変更し、患者または対象上のＸ線束の強度を増加することが可能な、光学デバイスを提供することが、望ましい。
【０００７】
１つの実施形態において、入力面および出力面を有する多層光学デバイスが提供される。光学デバイスは、コアが第１の面および第２の面を備える、第１の実屈折率１−δ1および第１の吸収係数β1を有する高率材料層、第２の実屈折率１−δ2および第２の吸収係数β2を有する低率材料層、ならびに高率材料層と低率材料層の間に配設される段階ゾーンを含み、段階ゾーンが、１−δ1＞１−δ3＞１−δ2であるような、第３の実屈折率１−δ3および第３の吸収係数β3を有する段階層を備え、高率材料層、段階ゾーンおよび低率層のうちの１つまたは複数の少なくとも一部が、第１の方向に沿って、１つまたは複数の起伏を備える。
【０００８】
別の実施形態において、光学デバイスを製作する方法が提供される。方法は、共形に堆積された高率層、段階ゾーンおよび低率層を有する第１の多層セクションであって、高率層、段階ゾーンおよび低率層が第１の軸に沿って１つまたは複数の起伏を備え、少なくとも１つの起伏が第２の軸に沿って曲げられている第１の多層セクションを提供するステップ、共形に堆積された高率層、段階ゾーンおよび低率層を有する第２の多層セクションであって、高率層、段階ゾーンおよび低率層が第１の軸に沿って１つまたは複数の起伏を備え、少なくとも１つの起伏が第２の軸に沿って曲げられている第２の多層セクションを提供するステップ、および第１の多層セクションの高率層と第２の多層セクションの高率層が互いに隣接して配設されるように、第１の多層セクションを第２の多層セクション上に配設するステップを含む。
【０００９】
さらに別の実施形態において、光学デバイスを製作する方法が提供される。方法は、多層光学デバイスを提供するステップを含む。多層光学デバイスは、コアが第１の面および第２の面を備え、第１の実屈折率１−δ1および第１の吸収係数β1を有する高率材料層、第２の実屈折率１−δ2および第２の吸収係数β2を有する低率材料層、ならびに高率材料層と低率材料層の間に配設される段階ゾーンを備え、段階ゾーンが、１−δ1＞１−δ3＞１−δ2であるような、第３の実屈折率１−δ3および第３の吸収係数β3を有する段階層を備え、高率材料層、段階ゾーンおよび低率層のうちの１つまたは複数の少なくとも一部が、第１の方向に沿って、１つまたは複数の起伏を備える。方法は、平面に沿って、低率層の少なくとも一部および段階ゾーンの少なくとも一部を除去して多層の中に溝を形成するステップ、および溝の中に材料を堆積して起伏を形成するステップをさらに含む。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の技法の実施形態に従って、連続した起伏を有し、複数のこれらの起伏が扇形ビームの方向に曲げられる、多層光学デバイスの斜視図である。
【図２】１−１方向に沿って切断され、方向変更領域および伝送領域を有する、図１の多層光学デバイスの断面図である。
【図３】第１の方向および扇形ビームの方向に曲げられた多層の詳細を図示する、図１の多層光学デバイスの断面図の一部の、拡大斜視図である。
【図４】扇方向に方向変更されたＸ線ビームの経路を示す、図１の多層光学デバイスの上面図である。
【図５】多層の部分に起伏を有し、起伏が扇形ビームの方向に曲げられている多層光学デバイスの斜視図である。
【図６】光学デバイスの入力面上に配設されるフィルタリング領域を有し、フィルタリング領域が選択されたＸ線エネルギーレベルを選択的にフィルタするように構成される、多層光学デバイスの斜視図である。
【図７】図６の多層光学デバイスの断面図である。
【図８】図１〜図４の多層光学デバイスを製作する方法の流れ図である。
【図９】図８の方法で使用されるテンプレートの例の斜視図である。
【図１０】テンプレートとしてコアを使用する多層光学デバイスを製作する方法を示す図である。
【図１１】図１０の方法におけるテンプレートとして使用されるコアの例の斜視図である。
【図１２】既存の多層光学デバイスから多層光学デバイスを製作する方法の、絵画図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明の実施形態は、入射Ｘ線を集めて、１つの方向よりも多い方向に方向変更するのに好適な多層内部全反射（ＴＩＲ）光学デバイスを記載する。特定の実施形態において、多層光学デバイスは、入射Ｘ線を２方向に方向変更するように構成することができる。図１〜図４に関して詳細に述べるように、１つの例において、多層光学デバイスは、入射Ｘ線を、円錐方向および扇形ビームの方向に、方向変更するように構成することができる。この例において、円錐方向で集められたＸ線束に加えて、Ｘ線ビームの扇方向で集められたＸ線束の量によって、患者または対象上のＸ線束が増加することになる。
【００１２】
特定の実施形態において、ＴＩＲ多層光学デバイスは、入力面および出力面を含む。光学デバイスの入力面は、放射源に最も近い、光学デバイスの面と規定することができる。ターゲットにより生成されたＸ線は、入力面を通って光学デバイスに入る。出力面は、方向変更したＸ線ビームが光学デバイスを出る面と規定することができる。光学デバイスは、高率材料層、低率材料層および高率材料層と低率材料層の間に配設される段階ゾーンを含む。高率材料層、段階ゾーンおよび低率層のうちの１つまたは複数の少なくとも一部が、第１の方向に沿って、１つまたは複数の起伏を含む。１つの実施形態において、少なくとも１つの起伏は、第２の方向に沿って曲げられ得る。第２の方向は、第１の方向に、およそ垂直であって良い。第２の方向は、扇形ビームの方向であり、第１の方向および光学デバイスの出力面を出るＸ線ビームの円錐の方向に垂直であって良い。起伏は、光学デバイスの中心軸に対して外側に曲げられ得る。曲がった起伏の曲率は、Ｘ線エネルギーレベル、光学デバイスのサイズ、光学デバイスとＸ線源の間の距離に基づいて決定することができる。
【００１３】
本明細書で使用する、用語「第１の方向」とは、光学デバイスの入力面に沿った方向のことを言う。当業者により使用され、本明細書で使用される慣例のように、方向の向きは相対的であるが、用語「扇形ビームの方向」とは、水平方向のことを言う。下で図１に関して記載するように、扇形ビームの方向は、図１の参照番号２６によって一般に表される方向に平行な方向である。本明細書で使用する、用語「円錐方向」とは、扇形ビームの方向に垂直な方向のことを言う。下で図１に関して記載するように、扇形ビームの方向は、図１で参照番号方向３０によって一般に表される方向に平行な、垂直方向である。
【００１４】
いくつかの実施形態において、多層光学デバイスは、連続する層において、高Ｘ線吸収特性と低Ｘ線吸収特性をそれぞれ備える、低屈折率材料と高屈折率材料を交互に含み得る。連続する層において、高Ｘ線吸収特性と低Ｘ線吸収特性をそれぞれ備える、低屈折率材料と高屈折率材料を交互に含み得ることによって、多層光学デバイスは、電磁放射の内部全反射の原理を使用することができる。
【００１５】
１つの実施形態において、高率材料層の少なくとも一部は、コアを形成することができる。コアは、ベリリウム、水素化リチウム、マグネシウム、または同様により高い屈折率および高いＸ線伝送特性を有する、任意の他の好適な元素または化合物などのより高い屈折率の材料から形成することができる。コアは、直径が、１マイクロメートル未満から１センチメートル超であって良い。コアは、第１の面および第２の面を含むことができる。多層光学デバイスの層は、コアの第１の面および第２の面上に配設することができる。層は、コアの外側に径方向に配設することができる。
【００１６】
他の実施形態において、高率材料層、段階ゾーンおよび低率材料層を含む最小で３つの異なる材料が、連続する層の間で実屈折率の差を最大にすることにより、内部全反射を増加させるため、高率材料層から低率層に向かう連続層で実屈折率が減少し、多層セクションで使用される。さらに大きな内部全反射を実現する実施形態において、連続層間の虚部の変化を最小化することと同時に実屈折率の変化を最大化することによって、連続層間の虚部の変化と実屈折率の変化の比が最小化する。屈折率の虚部は、Ｘ線が伝わる材料の質量−エネルギー吸収係数に関係する。加えて、各連続層がより高いＸ線質量−エネルギー吸収特性を有し、一方実屈折率が層から層へ単調に減少する。これらの条件によって、内部全反射によりＸ線の方向変更をするＸ線光学素子で使用される現在の材料よりも、実屈折率およびＸ線吸収特性で、相対的に最適な変化を可能にする。１つの実施形態において、段階ゾーンの多層は、多層の材料の屈折率の実部が、一般に、段階ゾーン内で高い値から低い値に傾斜するように、屈折率に従って配置される。反射率を改善するために、Ｘ線吸収の違いも、一般に、隣接する多層材料間で最小化される。本開示では、第１の層と第２の層のそれぞれの実屈折率または吸収係数と異なる実屈折率または吸収係数を有し、第１の層と第２の層の間に挿置される、他の材料がないとき、第１の層が第２の層と隣接すると考える。
【００１７】
一般に、Ｘ線エネルギーにおける材料の複素屈折率「ｎ」は、
【００１８】
【数１】
2013033039.tif 000003
で表され、上式で、項（１−δ）が材料の複素屈折率の実部であり、パラメータβは、複素屈折率の虚部であり、材料内の質量−エネルギー吸収係数に関係する。Ｘ線エネルギーにおいて、屈折率の実部は、１に非常に近く、したがって通常、１からの屈折率の実部の減少値δで表され、δは典型的には１０-6以下の程度である。
【００１９】
高率材料層は、実部Ｒｅ（ｎ1）および虚部β1を有する第１の複素屈折率ｎ1を有する高率材料から製造することができる。第１の複素屈折率の実部Ｒｅ（ｎ1）は、（１−δ1）とも表す場合がある。低率材料層は、実部Ｒｅ（ｎ2）および虚部β2を有する第２の複素屈折率ｎ2を有する。第２の複素屈折率の実部Ｒｅ（ｎ2）は、（１−δ2）とも表す場合がある。段階ゾーンは、高率材料層と低率材料層の間に配設することができる。段階ゾーンは、複数の段階層を含むことができる。段階層は、
【００２０】
【数２】
2013033039.tif 000004
であるような実部Ｒｅ（ｎ3）および虚部β3を有する第３の複素屈折率ｎ3を有する。第３の複素屈折率の実部Ｒｅ（ｎ3）は、（１−δ3）とも表す場合がある。本明細書で使用する、用語「複素屈折率の虚部」とは、質量−エネルギー吸収係数に対応する。
【００２１】
反射率を改善するため、１つの実施形態において、隣接する多層材料間の、βの変化とδの変化の比は、一般に最小化される。本開示では、第１の層と第２の層のそれぞれの実屈折率または吸収係数と異なる実屈折率または吸収係数を有し、第１の層と第２の層の間に挿置される、他の材料がないとき、第１の層が第２の層と隣接すると考える。多層光学素子は、入射Ｘ線ビームを、内部全反射を介して、反射Ｘ線ビームとして方向変更することに使用するよう適合することができる。光学デバイスは、円対称ビームまたは扇形ビームのスタックを生成するように構成することができる。多層スタックは、複数の多層ゾーンを備えることができる。多層光学デバイスは、出願番号第１２／４６９，１２１号の「ＯＰＴＩＭＩＺＩＮＧ  ＴＯＴＡＬ  ＩＮＴＥＲＮＡＬ  ＲＥＦＬＥＣＴＩＯＮ  ＭＵＬＴＩＬＡＹＥＲ  ＯＰＴＩＣＳ  ＴＨＲＯＵＧＨ  ＭＡＴＥＲＩＡＬ  ＳＥＬＥＣＴＩＯＮ」と題する、本発明の譲受人に譲渡された出願に開示された技法を使用することにより製作することができる。
【００２２】
特定の実施形態において、多層光学デバイスの個々の層は、互いに共形に配設することができる。起伏をつけた層の形態によって、多層光学デバイスを真空環境中で使用することが可能となる。多層光学デバイスは、限定するものではないが、医療用撮像、爆発物検出、産業用Ｘ線、およびＸ線回折を使用する荷物検査など、光学デバイスが６０ｋｅＶを超えるエネルギーレベルで動作することが必要な応用例で使用することができる。１つの実施形態において、多層ＴＩＲ光学デバイスは、約４５０ｋｅＶのエネルギーレベルで動作する場合がある。
【００２３】
複数のＴＩＲ光学デバイスを、ターゲットから利用可能なＸ線の大部分（例えば、約２パーセントから約４０パーセント）を集めるために、スタックすることができる。１つの実施形態において、光学デバイスのそのようなスタックによって、扇の面に垂直な方向に、１組の平行な扇形ビームを生成することができる。別の実施形態において、多層光学デバイスが円対称であり、各空間的方向に、高度にコリメートされたビームを生成することができる。多層材料スタックを備える多層ゾーンの数は、何らかの形で限定されるものではなく、むしろ、多層材料スタックが構成される特定の応用例に応じて変わる。多層材料スタックは、数十または数千の多層セクションを備えることができる。例えば、高解像度産業用コンピュータ断層撮影法（ＣＴ）は、解像度が数マイクロメートルの程度であり、スタック内の多層の数は、１０層未満であって良い。大きな光学的集光角が求められる、他の種類のＣＴでは、層の数は、数千であって良い。高率層、低率層、および高率層と低率層の間に配設される１つまたは複数の段階層を備える段階ゾーンに加えて、多層光学デバイスは、光学デバイスの最外面にＸ線不透過クラッディング層も備え、光学デバイスの内側からデバイスの非放出面の縁部を通るＸ線放射の放出を防止することができる。Ｘ線不透過クラッディング層は、Ｘ線が入力面を通って光学デバイスに入射し、実質的に光学素子の出力面を通って光学デバイスを出るように、光学デバイスに配設することができる。
【００２４】
１つの実施形態では、高率材料層の１つまたは複数の少なくとも一部において、段階ゾーンおよび低率層が、第１の方向に沿って、１つまたは複数の無起伏部分を含むことができる。起伏部分および無起伏部分が交互に配設されて、光学デバイスの層を形成することができる。無起伏部分は、相対的に起伏がなくて良い。１つの実施形態において、光学デバイスの層の少なくとも１つの起伏セクションおよび無起伏セクションは、同じ材料でできていて良い。別の実施形態において、起伏部分および無起伏部分は、異なる材料でできていて良い。この実施形態において、起伏が高屈折率材料を含んで良い。高屈折率材料は、光学デバイスの高率材料層で使用される高屈折率材料と同じであって良い。したがって、光学デバイスのいくつかの層において、起伏部分および無起伏部分が同じ材料を有して良く、一方他の層において、起伏部分および無起伏部分が異なる材料を有して良い。例えば、高率材料層について起伏部分および無起伏部分が同じ材料を有して良く、一方低率材料層について起伏部分および無起伏部分が異なる材料を有して良く、起伏が高屈折率材料を有し、無起伏が低屈折率材料を有する。
【００２５】
１つの実施形態において、起伏の高屈折率材料は、光学デバイスの高率材料層の高屈折率材料と比較して、比較的高い屈折率を有して良い。一般に、高屈折率材料は、Ｘ線を最小の損失で伝送する。より高い屈折率材料を使用して、より屈折率が高い起伏を通ってＸ線ビームを伝送する低損失経路を提供することにより、出力ビームの特性を変更することができる。光学デバイスの層の中の異なる起伏が、同じ材料または異なる材料を有することができる。１つの実施形態において、光学デバイスの特定の部分からＸ線ビームが出力されるのをブロックするために、起伏の材料を使用することができる。この実施形態において、Ｘ線ビームをブロックするように構成される起伏は、低屈折率材料で製作することができる。起伏が存在する光学デバイスの多層の部分の長さは、所望のＸ線束または強度に基づいて決定することができる。
【００２６】
多層光学デバイスを構成する材料の組成、多層光学デバイスの巨視的な形状寸法、多層光学デバイスの厚さ、起伏の曲率、および個々の層の数が、多層光学デバイスの角度許容範囲を決定する。最大立体角許容範囲は、フォトンの発生源の立体角の、約０ステラジアンから最大約２πステラジアンであって良い。例えば、扇形ビームの方向に曲がった起伏によって、光学デバイスが、既存の光学素子よりも、はるかに広い入射扇形ビームからＸ線を集めることが可能となる。曲がった起伏によって、入力Ｘ線の扇形ビームを圧縮することも可能となり、圧縮された扇形ビームを生成する。いくつかの実施形態において、扇形ビームは、出力ビームが発散しないような程度に圧縮することができる。これらの実施形態において、出力ビームは平行または収束して良い。
【００２７】
１つの実施形態において、起伏した多層は、起伏に沿って、内部全反射条件を満足することにより、Ｘ線を集め、方向変更することを容易にする、Ｘ線反射コーティングとして働くことができる。層を適切な曲率で整形し、層を適切な厚さで作製することによって、所望の特性を有する出力Ｘ線ビームを生成する。
【００２８】
光学デバイスは、入力面と出力面の間に傾いている外側面を有して良い。特定の実施形態において、光学素子の入力（線源に近い側）における各層を、光学デバイス内の組み合わされた層が大きな線源の立体角を取得することを可能にする、同じまたは異なった曲率半径で曲げることができる。光学デバイスの様々な層は、米国特許第７，４１２，１３１号を有し「Ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒ  ｏｐｔｉｃ  ｄｅｖｉｃｅ  ａｎｄ  ｓｙｓｔｅｍ  ａｎｄ  ｍｅｔｈｏｄ  ｆｏｒ  ｍａｋｉｎｇ  ｓａｍｅ」と題する、本発明の譲受人に譲渡された出願に詳細に述べられているように、円錐方向に曲げられ、または傾けられて、方向変更領域を実現することができる。円錐方向の、コアおよび他の多層の方向変更領域に加えて、１つまたは複数の起伏を扇形ビームの方向など第２の方向に曲げることによって、別の方向変更領域が実現される。これらの実施形態において、起伏した層の隆起を、扇形ビームの方向に曲げることができる。特定の実施形態において、特定の方向に溝を曲げることによって、光学デバイスが、現在使用されるものよりはるかに広い角度からＸ線を集めることを可能にし、追加のＸ線を有用な撮像方向に方向変更する。円錐方向に曲げられた層を有する多層光学デバイスは、大きな円錐角から線源Ｘ線を集め、Ｘ線を、ビームの円錐部分で、有用な撮像方向に方向変更する。同様に、扇形ビームの方向に曲げられた起伏は、大きな扇形ビームから線源Ｘ線を集め、Ｘ線を、扇形ビームの方向で、有用な撮像方向に方向変更する。曲げられた起伏によって、扇形ビームの方向の、入力面に入るＸ線が方向変更され、相対的に小さな発散（より集束した）扇形ビームを形成し、このことにより、出力面においてＸ線束密度を増加することを可能にする。多層光学素子内の層の数に応じて、従来型のピンホールコリメータの出力よりも、多層光学デバイスからの電磁放射出力で５０００倍もの、１００ｋｅＶ  Ｘ線のＸ線密度利得となることができる。したがって、扇形ビームおよび円錐方向でのこれら２つの曲率によって、Ｘ線を、入力Ｘ線ビームから集めて方向変更し、光学デバイスによる最大の２次元線源−ビーム圧縮がもたらされる。Ｘ線ビームのそのような圧縮によって、ＴＩＲ多層Ｘ線光学デバイスからの、起こりうる最も高いＸ線束利得のうちの１つを実現する。
【００２９】
光学デバイスの入力面を好適に整形すること、および光学デバイス内部に好適な材料を選択することによって、出力Ｘ線ビームから不要なエネルギーレベルを除去し、所望のスペクトル特性を有する出力Ｘ線ビームを提供することができる。１つの例では、入力面を整形すること（光学デバイスの層を、光学デバイスの入力面で曲げまたは傾けること）、光学デバイスの層に好適な材料を選択することにより、単色Ｘ線ビームを生成し、不要な低いまたは高いエネルギーのＸ線のそれぞれが、光学素子を通り伝送することを防止することができる。さらに、不要なエネルギー領域は、光学デバイス内で内部全反射を使用することで、最小化または除去することができる。別の実施形態において、光学デバイスの層に適切に材料を選択することにより、多色Ｘ線ビームを生成することができる。図６〜図７に関して詳細に記載するように、１つの実施形態において、フィルタリング領域を光学デバイスの入力面上に配設することができる。１つの実施形態において、フィルタリング領域は、入射Ｘ線から低エネルギーＸ線をフィルタ除去するように構成することができる。
【００３０】
図１および図２は、多層光学デバイス１０の例を例示する。説明を簡単にするため、様々な図で例示される多層光学デバイスに関して、少数の層のみを例示した。しかし、数百、数千、または数百万層を含む、任意の数の層を作製し、内部全反射の原理を使用し、望ましいビーム形状を形成できることを理解されたい。
【００３１】
例示した実施形態において、光学デバイス１０は、入力面１２および出力面１４を含む。光学デバイス１０は、高率材料層であるコア１６を含む。コア１６は、第１の面１５および第２の面１７を有する。段階ゾーン１８は、光学デバイス１０の第１の面１５上に配設される。低率材料層２０は段階ゾーン１８上に配設される。段階ゾーン２２は、光学デバイス１０の第２の面１７上に配設される。低率材料層２４は段階ゾーン２２上に配設される。２つの面１５および１７上に配設される層は、同じ組成を有する場合も有さない場合もある。例えば、段階ゾーン１８は、段階ゾーン２２と異なる段階層の組成を有する場合がある。段階ゾーン１８および２２ならびに低率材料層２０および２４は、コア１６の外側かつコア１６に隣接して配置される。コア１６は、ベリリウム、水素化リチウム、マグネシウム、または同様に高い屈折率および高いＸ線伝送特性を有する、任意の他の好適な元素もしくは化合物などの高屈折率材料で形成することができる。コア１６は、直径が１マイクロメートル未満から１センチメートル超であって良い。コア１６の少なくとも一部は、参照番号２６によって表される第１の方向に起伏２５を有することができる。
【００３２】
起伏２５は、参照番号２８によって表される第２の方向に曲げられて良い。第２の方向２８は、Ｘ線が扇形ビームの形状に光学デバイスを出る方向であって良い。曲げられた起伏２５によって、さらなるＸ線を集め、Ｘ線をビームの扇形ビームの方向２６に方向変更することを容易にする。起伏２５は、光学デバイス１０の中心軸２９に対して、第２の方向に、外側に曲げられ得る。
【００３３】
光学デバイス１０の多層は、円錐方向３０に曲げられ、方向変更領域３２および伝送領域３４を画定する。方向変更セクション３２は、入射発散Ｘ線ビーム４８を、実質的にコリメートされたビームとして空間の所望の領域に伝送セクション３４を介して実質的にコリメートして方向変更する機能をし、伝送セクション３４は、さらなるコリメーションを実施する。
【００３４】
１つの例において、Ｘ線ビームレットは、出力面１４を通って光学デバイスを通過する前に、方向変更セクション３２内の対応する多層の曲がった面に沿って、数百回または数千回反射される場合がある。理解されるように、コリメートされたＸ線ビームレット３６の所望の軌道（図２）は、反射されたビームレットが方向変更セクション３２から伝送セクション３４に通過するとき、すなわち、層の曲がった部分に対する接線が連続直線部分に実質的に平行であるとき、達成される。伝送セクション３４の物理的な長さは、ほとんど任意であり、光学デバイス１０を線源サブシステムの中で取り扱うまたは一体化するために好都合な物理的サイズを提供するように、規定することができる。示した設計によって、発散する電磁放射を入力面１２の中に入力し、多層によって方向変更され、出力面１４から平行な扇形ビームのスタックに出力されることが可能となる。出力面１４がフォトン方向変更領域に対しどこに位置しているか、曲がった起伏の形状、および多層内の起伏の位置に応じて、扇形ビームは、平行またはほぼ平行であって良く、またはやや発散性だが電磁放射の入力に対してまだ集中性であって良い。
【００３５】
従来型の医療用および産業用ＣＴ応用例において、Ｘ線ビーム形状は、Ｘ線進行方向に実質的に垂直な方向に（参照番号３０により表される）、Ｘ線の円錐であり、方向２６および２８により形成される面内で扇形ビーム形状であるように形成される。扇形ビーム方向は、扇形ビームの中央対称軸に垂直であり、図１および図２で、方向２６により示される。光学デバイスに入るＸ線は、３次元経路をたどる。光学デバイス内で、光学デバイスによって、円錐ビーム方向のＸ線は圧縮され、扇形ビーム方向２６のＸ線は圧縮されない。ＣＴ撮像で使用される標準の扇形ビームの境界の外から、扇形ビームの境界の中にＸ線を方向変更することにより、Ｘ線ビーム強度を増加することができる。円錐方向３０および扇形ビーム方向２６（曲がった起伏）に沿った光学デバイス１０内の曲率によって、Ｘ線を、入力Ｘ線ビームから２つの方向に集めて方向変更する。このことが、光学デバイスによる２次元線源−ビーム圧縮をもたらす。Ｘ線ビームのそのような圧縮は、光学デバイスから、単に１つの方向で圧縮するよりも、より高いＸ線束利得を実現する。
【００３６】
図３は、図１の光学デバイス１０の部分４０の拡大斜視図である。第１の方向２６の中の起伏の曲線部分４２は、例えば、溝および隆起など、正の曲率および負の曲率の物理的な面を表す。１つまたは複数の起伏は、曲がった形状を有する隆起を有する。曲がった隆起は、光学デバイス１０の中心軸すなわち光軸４６から見て、凹状である。
【００３７】
発散フォトンビーム４８は、フォトン発生源５０により提供され、多層光学デバイス１０の入力面を照射することができる。フォトンビーム４８は、指定された放出立体角（Ω）にわたって分散される、物理的に連続なビームであり、個別のビームレットとしてのフォトンビーム４８の表記は、単に、本明細書の様々な例示的な実施形態の提示を容易にするためになされている。
【００３８】
図４は、図３の上面図を例示する。例示された実施形態において、入射ビーム４８の扇形ビーム方向の圧縮が例示される。外向きに曲がった起伏４４によって、入射ビーム４８が扇形ビーム方向２６に圧縮することを可能にする。
【００３９】
図５は、光学デバイス６０の多層の決定された部分に起伏６２を有する、多層光学デバイス６０を例示する。起伏６２および無起伏セクション６３は、隣接して配設され、多層光学デバイスの層を形成することができる。３つの別の部分６８、７０、および７２に配設されるように示されているが、起伏６２は、光学デバイス６０中で、より少ない数の部分またはより多い数の部分に配設することができる。点線７４により図示されるように、起伏６２は扇形方向２６に曲げられ、ビームを扇形方向に方向変更する。図１２に関して下で詳細に記載するように、米国特許第７，４１２，１３１号に記載されるもののような既存の光学デバイスは、光学デバイス６０を形成するために変更することができる。
【００４０】
しかし、多層の一部のみが起伏を含んで良いことを理解されたい。いくつかの実施形態において、多層光学デバイスは、光学素子の扇形縁部上に、ＴＩＲ反射多層でコーティングすることができる。他の実施形態において、図５および図１２に関して詳細に記載するように、起伏は、光学デバイスの１つまたは複数の多層に形成することができ、起伏は、１つまたは複数の材料でコーティングすることができる。
【００４１】
図６〜図７は、フィルタリング領域８２を有する多層光学デバイス８０を例示する。フィルタリング領域８２によって、決定されたＸ線エネルギーレベルの選択的フィルタ処理が可能になる。例示された実施形態において、フィルタリング領域８２は、低エネルギーＸ線９８をフィルタ除去することができる。
【００４２】
光学デバイス８０は、多層スタック８４を備えることができる。多層光学デバイス８０は、高率コア８６、段階ゾーン８８、および低率層９０を含む。例示された実施形態において、光学デバイス８０の入力面９２に隣接して配設されるフィルタリング領域８２は、尖っており、空間的に制限され、電位が全ての周りの支持構造よりも高くなる。光学デバイス８０は、出力面９４をさらに含む。
【００４３】
例示の実施形態において、線源地点９６が、光学デバイス８０に向けられたＸ線９８を放出する。フィルタリング領域は、Ｘ線９８の方向で凹状であって良い。フィルタリング領域は、Ｘ線が線源９０を離れた後に進行する媒体よりも、より低い屈折率を有する材料で製作することができる。線１００および線１０２の勾配は、フィルタリング領域８２の面に対して接線であり、特定のエネルギーの入射Ｘ線に内部全反射を起こすように選択することができ、これらのＸ線が光学デバイス８０に入ることを防止する。このやり方で、光学デバイス８０の出力Ｘ線スペクトルを調整することができる。フィルタリング領域８２の面の曲率は、入射Ｘ線９８の面および配向に対する接線１００および１０２の間の角度が一定であるような曲率であり、角度は、低エネルギーＸ線ビームの内部全反射を可能にする。フィルタリング領域８２の面により反射される低エネルギーＸ線１０６は、低エネルギーＸ線吸収体を使用して吸収することができる。フィルタリング領域８２の面は、単一の層または多層でできており、低エネルギーＸ線ビーム１０６を十分に反射させることができる。線１００および線１０２の勾配は、フィルタリング領域８２の面に対して接線であり、入射Ｘ線ビーム９８に対して決定された角度を有することができる。接線１００および接線１０２の勾配は、これらの線と入射Ｘ線９８の間の角度を一定に保つことができるように設計することができる。入射Ｘ線ビーム９８に対する線１００および線１０２の勾配との間の角度を一定に保つことにより、確実にＸ線の反射を決定されたエネルギーレベルとすることができる。１つの実施形態において、線１００および線１０２の勾配は、入射Ｘ線９８に対して同じ角度を有し、特定のエネルギーレベルのＸ線をフィルタ除外してから、残りのＸ線ビームが光学デバイス８０に入ることを可能にすることができる。
【００４４】
図８は、多層光学デバイスを製作する方法の流れ図を例示する。ステップ１１０において、第１の方向に沿う起伏パターンを有するテンプレートが提供される。テンプレート内の起伏パターンは、扇方向に沿って曲げられ得る。テンプレートは、限定するものではないが、セラミック、ポリマー、金属、サーメット、複合材料、またはその組合せなど、任意の好適な材料から製作することができる。起伏の寸法は、光学デバイスの層に望ましい起伏に対応する。
【００４５】
ステップ１１２において、高率層が、テンプレート上に共形に堆積される。多層光学デバイスの層の堆積の詳細は、米国特許出願第１１／８６９３３７号で提供される。ステップ１１４において、段階ゾーンが、高率層上に共形に堆積される。ステップ１１６において、低率層の材料が段階ゾーン上に共形に堆積され、多層光学デバイスの第１の多層セクションを形成する。単に単一の多層セクションが、図８内の流れ図で特定されるステップに関して言及されるが、任意の数の多層セクションが互いに隣接して作製および配設され、多層光学デバイスを形成することができる。ステップ１１２〜ステップ１１６は、多層光学デバイスで望ましい多層セクションの数に基づいて繰り返すことができる。１つの実施形態において、テンプレートは、高率材料層の材料で製作することができる。この実施形態において、テンプレートは多層光学デバイスの部分を形成し、高率材料層として働くことができる。この実施形態において、方法は、テンプレート（高率材料層）上に段階ゾーンを堆積すること（ステップ１１４）により始めることができる。
【００４６】
場合によっては、ステップ１１８において、高いＸ線吸収を有する低率材料の層を、高率材料層上に配設することができる。低率材料層を使用して、少なくとも高率材料層側からの、多層光学デバイスから漏れるＸ線を減少させることができる。場合によっては、ステップ１２０において、多層光学デバイスの縁部を、ＴＩＲ反射コーティングで被覆することができる。例えば、多層光学デバイスの扇形縁部を、ＴＩＲ反射コーティングで被覆することができる。１つの例では、ＴＩＲ反射コーティングは、鉛を含むことができる。
【００４７】
図９は、図８の方法で使用することができる、テンプレート１２８の例を例示する。テンプレートは、基部１２９および曲がった起伏１３０を含む。起伏１３０は、光学デバイスの多層内に形成されるべき起伏の代表であって良い。テンプレート１２８は、ポリマー、セラミック、金属、ポリマー、またはその組合せで製作することができる。１つの実施形態において、テンプレート１２８は、犠牲材料で製作することができる。この実施形態において、多層セクションの形成後、テンプレートを分解することによって、犠牲材料を多層セクションから分離することができる。テンプレートは、限定するものではないが、エッチングまたはレーザアブレーションなどの技法を使用して分解することができる。別の実施形態において、テンプレート１２８は、再利用可能なテンプレートであって良い。この実施形態において、テンプレート１２８を使用して、第１の多層セクションおよび第２の多層セクションを堆積することができる。第１の多層セクションがテンプレート１２８から分離された後で、第２の多層セクションを堆積することができる。
【００４８】
図１０は、多層光学デバイスを製作する方法を例示する。例示される実施形態において、コアをテンプレートとして使用することができる。ステップ１３０おいて、扇形ビーム方向に曲げられた起伏を有するコアが提供される。コアは、第１の面および第２の面を含む。コアは、ベリリウム、水素化リチウム、マグネシウム、または同様により高い屈折率および高いＸ線伝送特性を有する、任意の他の好適な元素もしくは化合物など、より高い屈折率の材料で形成することができる。コアは、直径が１マイクロメートル未満から１センチメートル超であって良い。代替実施形態において、Ｘ線を伝送するのに好適なコア材料で形成される層を提供することができる。次いで、曲がった起伏がコア層の第１の面および第２の面の部分上に形成することができる。起伏は、画像解像度に最小の影響しか及ぼさないために十分小さいスケールでチャネルを実現する、フォトリソグラフィおよびエッチングにより形成することができる。
【００４９】
光学デバイスの個々の層は、パターン形成されたコア上に共形に形成することができる。ステップ１３２において、多層ゾーンの層は、コア上に共形に堆積し、コア上に第１の多層ゾーンを形成することができる。ステップ１３４において、低率材料層などの後続の層が第１の多層ゾーン上に堆積され、第１の多層セクションを形成することができる。
【００５０】
ステップ１３６において、部分的に形成された多層光学素子が裏返され、第２の段階ゾーンの層を、コアの第２の面上に堆積することができる。ステップ１３８において、第２の低率層が第２の段階ゾーン上に堆積され、多層光学デバイスを形成することができる。
【００５１】
図１１は、基部１４１ならびに２つの対向する面１４２および面１４４を有するコア１４０を例示する。起伏１４６および起伏１４８は、それぞれ面１４２および面１４４に形成される。起伏１４６および起伏１４８のパターンは、同一であっても異なっていても良い。起伏１４６および起伏１４８は、連続していても、個別であっても良い。
【００５２】
図１２は、図５に例示された多層光学デバイスと同様の多層光学デバイスを製作する方法を提供する。方法によって、既存の多層光学デバイスを起伏のある多層光学デバイスに変更することが可能となる。方法は、多層光学デバイス１５０を準備することにより始まる。多層光学デバイス１５０は、２つの対向する面１５４および面１５６を有するコア１５２を含む。多層ゾーン１５８および多層ゾーン１６０は、それぞれ面１５４および面１５６上に配設される。低屈折率層１６２および低屈折率層１６４が、それぞれ多層ゾーン１５８および多層ゾーン１６０上に配設される。
【００５３】
Ｘ線を扇形ビーム方向に方向変更するため、起伏を有することが望ましい光学デバイスの部分を除去して、起伏を形成することができる。例えば、扇形ビーム方向の２つの縁部により近い光学デバイスの部分をエッチング除去し、起伏を形成することができる。例示のように、多層光学デバイス１５０の１つまたは複数の部分をエッチング除去することができる。また、エッチングされる部分は、コア１５２の外面１５４および外面１５６のいずれの側であっても良い。コアの本体にはエッチングされる部分がなく、したがって、コアの本体は、その中に起伏を有さなくて良い。１つの実施形態において、光学デバイス１５０の外面１６５および外面１６７から１／３の深さを除去することができる。別の実施形態において、コアの外面１６５から面１５４を除去することができ、コアの外面１６７から面１５６を除去することができる。
【００５４】
例示の実施形態において、多層光学デバイス１５０は、光学デバイス１５０の面１６５と面１６７の間に配設された部分１６２、１６４、および１６６で、エッチングすることができる。面１５４および面１５６は、エッチングしてもエッチングしなくても良い。エッチングは、エッチングされる層内に、曲がった領域を設けるために行うことができる。次いで、高屈折率材料もしくは低屈折率材料、または段階領域を、エッチング除去した領域に堆積することができる。材料は、元の光学デバイス１５０を作製するために使用した材料を含むことができる。材料は、限定するものではないが、化学気相堆積および物理的気相堆積など、気相堆積技法を使用して堆積することができる。
【００５５】
１つの例において、デバイス１５０をコア１５２の一方の側でエッチングすることができ、起伏の材料をエッチングされた部分に堆積して、その後コア１５２の他方の側でエッチングすることができる。
【００５６】
有利なことに、本発明は、扇形Ｘ線ビームの、扇形ビーム方向におけるＸ線束強度を、実質的に増加させることを可能にする。扇形ビームは、医療用ＣＴ撮像およびＸ線回折爆発物検出で使用することができる。
【００５７】
本明細書の記載は、本発明を開示し、また、任意の当業者が、任意のデバイスまたはシステムを製作し使用することおよび任意の組み込まれた方法を実施することを含む、本発明を実施することを可能にするために、例を使用する。本発明の特許性がある範囲は、特許請求の範囲により規定され、当業者に想起される他の例を含むことができる。例えば、図１、図３、図５、図７、および図１２には、単に２つの段階ゾーンが示されているが、本発明の範囲は、特定の応用例のための具体的な光学デバイス設計を実現するのに必要な、任意の数のそのようなゾーンをカバーする。そのような他の例が、特許請求の範囲の文言と異ならない構造的な要素を有する場合、またはそのような他の例が、特許請求の範囲の文言と、実質的に異ならない均等な構造的な要素を含む場合、そのような他の例は、特許請求の範囲内であることが意図される。
【符号の説明】
【００５８】
１０  光学デバイス、多層光学デバイス
１２  入力面
１４  出力面
１５  第１の面
１６  コア
１７  第２の面
１８  段階ゾーン
２０  低率材料層
２２  段階ゾーン
２４  低率材料層
２５  起伏
２６  扇形ビームの方向、第１の方向
２８  第２の方向
２９  中心軸
３０  円錐方向
３２  方向変更領域、方向変更セクション
３４  伝送領域、伝送セクション
３６  Ｘ線ビームレット
４０  部分
４２  曲線部分
４４  起伏
４６  中心軸、光軸
４８  入射発散Ｘ線ビーム、発散フォトンビーム、入射ビーム
５０  フォトン発生源
６０  光学デバイス
６２  起伏
６３  無起伏セクション
７４  点線
８０  多層光学デバイス
８２  フィルタリング領域
８４  多層スタック
８６  高率コア
８８  段階ゾーン
９０  低率層、線源
９２  入力面
９４  出力面
９６  線源地点
９８  低エネルギーＸ線、Ｘ線、入射Ｘ線
１００  線、接線
１０２  線、接線
１０６  低エネルギーＸ線ビーム
１２８  テンプレート
１２９  基部
１３０  起伏
１４０  コア
１４１  基部
１４２  面
１４４  面
１４６  起伏
１４８  起伏
１５０  多層光学デバイス
１５２  コア
１５４  面、外面
１５６  面、外面
１５８  多層ゾーン
１６０  多層ゾーン
１６２  低屈折率層
１６４  低屈折率層
１６５  外面
１６７  外面
【図１】
2013033039.tif 000005
【図２】
2013033039.tif 000006
【図３】
2013033039.tif 000007
【図４】
2013033039.tif 000008
【図５】
2013033039.tif 000009
【図６】
2013033039.tif 000010
【図７】
2013033039.tif 000011
【図８】
2013033039.tif 000012
【図９】
2013033039.tif 000013
【図１０】
2013033039.tif 000014
【図１１】
2013033039.tif 000015
【図１２】
2013033039.tif 000016
【外国語明細書】
2013033039000001.pdf