(57)【要約】【課題】電極パターンが視覚的に認識されないと共に、絶縁パターンが視覚的に認識されない導電性ナノファイバーシートを提供する。【解決手段】導電性ナノファイバーシートは、基体シートと、基体シート上に形成され、導電性ナノファイバーを含み、導電性ナノファイバーを介して導通可能な導電層と、を備え、導電層は、電極パターンと、絶縁パターンと、を有し、絶縁パターンは、導電層がトロコイド曲線を描く絶縁部によって分割された複数の絶縁領域を含む。【選択図】図１
2013254246.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体シートと、
前記基体シート上に形成され、導電性ナノファイバーを含み、前記導電性ナノファイバーを介して導通可能な導電層と、
を備え、
前記導電層は、電極パターンと、絶縁パターンと、を有し、前記絶縁パターンは、前記導電層がトロコイド曲線を描く絶縁部によって分割された複数の絶縁領域を含む、導電性ナノファイバーシート。
【請求項２】
前記絶縁パターンにおいて、分割された前記各絶縁領域は、４０ｍｍ２以下の面積を有する、請求項１に記載の導電性ナノファイバーシート。
【請求項３】
前記トロコイド曲線は、下記式で規定される、請求項１に記載の導電性ナノファイバーシート。
ｘ＝ａθ−ｂｓｉｎθ
ｙ＝ａ−ｂｃｏｓθ
（上記式で、ｘ、ｙはトロコイド曲線の座標（ｘ，ｙ）であり、ａ，ｂは定数であり、θ（ｒａｄ）は媒介変数である。）
【請求項４】
前記トロコイド曲線は、前記定数ａと、前記定数ｂとの間に、ａ＜ｂの大小関係を有する、請求項３に記載の導電性ナノファイバーシート。
【請求項５】
前記トロコイド曲線は、前記定数ａと、前記定数ｂとの比ｂ／ａが４．６以上である、請求項３に記載の導電性ナノファイバーシート。
【請求項６】
前記絶縁パターンは、複数のトロコイド曲線を描く絶縁部によって分割された複数の絶縁領域を含む、請求項１に記載の導電性ナノファイバーシート。
【請求項７】
前記トロコイド曲線を描く絶縁部は、目視により認識できない幅を有する狭小溝である、請求項１に記載の導電性ナノファイバーシート。
【請求項８】
前記絶縁部は、深さ方向の少なくとも一部について絶縁材料が埋められた、請求項１に記載の導電性ナノファイバーシート。
【請求項９】
基体シートを設ける工程と、
前記基体シートの上の全面に、導電性ナノファイバーを含む導電層を形成する工程と、
前記導電層の一部にトロコイド曲線を描くようにエネルギー線を照射して、前記導電層にトロコイド曲線状の絶縁部を形成して、前記導電層から、電極パターンと、トロコイド曲線を描く前記絶縁部によって分割された複数の絶縁領域を含む絶縁パターンと、を画成する工程と、
を含む、導電性ナノファイバーシートの製造方法。
【請求項１０】
形成された前記絶縁部に絶縁材料を塗布する工程をさらに含む、請求項９に記載の導電性ナノファイバーシートの製造方法。
【請求項１１】
前記導電層から、電極パターンと、絶縁パターンと、を画成する工程において、前記エネルギー線としてレーザー光を使用し、目視により認識することができない幅を有する狭小溝を形成する、請求項９に記載の導電性ナノファイバーシートの製造方法。
【請求項１２】
前記導電層から、電極パターンと、絶縁パターンと、を画成する工程において、レーザーを回転軸から一定距離の位置に設け、前記レーザーを前記回転軸について回転させながら、前記回転軸を直線に沿って移動させ、前記レーザーから照射するレーザー光で前記導電層上にトロコイド曲線を描く、請求項９に記載の導電性ナノファイバーシートの製造方法。
【請求項１３】
前記導電層から、電極パターンと、絶縁パターンと、を画成する工程において、レーザーを回転軸から一定距離の位置に設け、前記レーザーを前記回転軸について回転させながら、前記レーザーから照射されるレーザー光を反射させる鏡の傾斜角度を徐々に変化させて、前記レーザーから照射するレーザー光で前記導電層上にトロコイド曲線を描く、請求項９に記載の導電性ナノファイバーシートの製造方法。
【請求項１４】
請求項１から請求項８のいずれか一項に記載の導電性ナノファイバーシートを電極基板として用いた、タッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、導電性ナノファイバーを用いた導電性ナノファイバーシート及びこれを用いたタッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、基体シートの上に、導電性ナノファイバーを含むインキによって導電層を形成し、電極部分以外の導電層を除去して、複数の電極を形成した導電性ナノファイバーシートが知られている（例えば、特許文献２参照）。
【０００３】
しかし、上記のような方法によって得られた導電性ナノファイバーシートは、電極部分の導電層と、それ以外の箇所との透過率が全く異なる。そのため、電極部分と、電極間の部分との透明度の差がコントラストとして現れ、電極パターンが視覚的に認識できるという問題（「パターン見え」ともいう。）があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１０−１５３２１０号公報
【特許文献２】特開２０１０−２５８１１２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
そこで、基体シート上に導電性ナノファイバーを含むインキによって導電層を形成し、電極間の部分の導電層に、その幅が非常に小さい狭小溝を介して矩形状に分割した絶縁パターン層を形成した導電性ナノファイバーシートが知られている（例えば、特許文献２参照）。この導電性ナノファイバーシートでは、電極部分と絶縁パターンとが同じ材料で構成されている。また、狭小溝の幅は非常に小さいため、電極部分、絶縁パターン、狭小溝の間では透明度に差が生じない。
【０００６】
しかし、この場合に、絶縁パターンを構成する狭小溝で分割された矩形状の複数の領域は、規則的なパターンとなるため、絶縁パターンにおいてパターン見えが生じるという問題があった。
【０００７】
そこで、本発明の目的は、電極パターンが視覚的に認識されないと共に、絶縁パターンが視覚的に認識されない導電性ナノファイバーシートを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の第１態様に係る導電性ナノファイバーシートは、基体シートと、
前記基体シート上に形成され、導電性ナノファイバーを含み、前記導電性ナノファイバーを介して導通可能な導電層と、
を備え、
前記導電層は、電極パターンと、絶縁パターンと、を有し、前記絶縁パターンは、前記導電層がトロコイド曲線を描く絶縁部によって分割された複数の絶縁領域を含む。
【０００９】
また、第２態様では、上記第１態様に係る導電性ナノファイバーシートにおいて、前記絶縁パターンにおいて、分割された前記各絶縁領域は、４０ｍｍ２以下の面積を有してもよい。
【００１０】
さらに、第３態様では、上記第１態様に係る導電性ナノファイバーシートにおいて、前記トロコイド曲線は、下記式で規定される。
ｘ＝ａθ−ｂｓｉｎθ
ｙ＝ａ−ｂｃｏｓθ
（上記式で、ｘ、ｙはトロコイド曲線の座標（ｘ，ｙ）であり、ａ，ｂは定数であり、θ（ｒａｄ）は媒介変数である。）
【００１１】
またさらに、第４態様では、上記第３態様に係る導電性ナノファイバーシートにおいて、前記トロコイド曲線は、前記定数ａと、前記定数ｂとの間に、ａ＜ｂの大小関係を有してもよい。
【００１２】
また、第５態様では、上記第３態様に係る導電性ナノファイバーシートにおいて、前記トロコイド曲線は、前記定数ａと、前記定数ｂとの比ｂ／ａが４．６以上であってもよい。
【００１３】
さらに、第６態様では、上記第１態様に係る導電性ナノファイバーシートにおいて、前記絶縁パターンは、複数のトロコイド曲線の絶縁部によって分割された複数の絶縁領域を含んでもよい。
【００１４】
またさらに、第７態様では、上記第１態様に係る導電性ナノファイバーシートにおいて、前記トロコイド曲線を描く絶縁部は、目視により認識できない幅を有する狭小溝であってもよい。
【００１５】
また、第８態様では、上記第１態様に係る導電性ナノファイバーシートにおいて、前記絶縁部は、深さ方向の少なくとも一部について絶縁材料が埋められてもよい。
【００１６】
本発明の第９態様に係る導電性ナノファイバーシートの製造方法は、基体シートを設ける工程と、
前記基体シートの上の全面に、導電性ナノファイバーを含む導電層を形成する工程と、
前記導電層の一部にトロコイド曲線を描くようにエネルギー線を照射して、前記導電層にトロコイド曲線状の絶縁部を形成して、前記導電層から、電極パターンと、トロコイド曲線を描く前記絶縁部によって分割された複数の絶縁領域を含む絶縁パターンと、を画成する工程と、
を含む。
【００１７】
また、第１０態様では、上記第９態様に係る導電性ナノファイバーシートの製造方法において、形成された前記絶縁部に絶縁材料を塗布する工程をさらに含んでもよい。
【００１８】
さらに、第１１態様では、上記第９態様に係る導電性ナノファイバーシートの製造方法において、前記導電層から、電極パターンと、絶縁パターンと、を画成する工程において、前記エネルギー線としてレーザー光を使用し、目視により認識することができない幅を有する狭小溝を形成してもよい。
【００１９】
またさらに、第１２態様では、上記第９態様に係る導電性ナノファイバーシートの製造方法において、前記導電層から、電極パターンと、絶縁パターンと、を画成する工程において、レーザーを回転軸から一定距離の位置に設け、前記レーザーを前記回転軸について回転させながら、前記回転軸を直線に沿って移動させ、前記レーザーから照射するレーザー光で前記導電層上にトロコイド曲線を描いてもよい。
【００２０】
また、第１３態様では、上記第９態様に係る導電性ナノファイバーシートの製造方法において、前記導電層から、電極パターンと、絶縁パターンと、を画成する工程において、レーザーを回転軸から一定距離の位置に設け、前記レーザーを前記回転軸について回転させながら、前記レーザーから照射されるレーザー光を反射させる鏡の傾斜角度を徐々に変化させて、前記レーザーから照射するレーザー光で前記導電層上にトロコイド曲線を描いてもよい。
【００２１】
本発明の第１４態様に係るタッチパネルは、上記第１態様から第８態様に係る導電性ナノファイバーシートを電極基板として用いてもよい。
【発明の効果】
【００２２】
本発明に係る導電性ナノファイバーシートによれば、電極パターン及び絶縁パターンは、それぞれ導電性ナノファイバーからなる導電層からなる。したがって、電極パターンと絶縁パターンとは、実質的に同じ透過率を有するので、電極パターンのパターン見えを抑制できる。また、絶縁パターンは、トロコイド曲線を描く絶縁部で分割した複数の絶縁領域を含んでおり、分割された各絶縁領域が規則的な格子状のパターンを有しないので、絶縁パターンにおいてもパターン見えを抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】実施の形態１に係る導電性ナノファイバーシートの平面構造を示す平面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ方向から見た導電性ナノファイバーシートの断面構造を示す断面図である。
【図３】図２の断面構造の詳細を示す拡大断面図である。
【図４】変形例１の導電性ナノファイバーシートの断面構造を示す断面図である。
【図５】図４の断面構造の詳細を示す拡大断面図である。
【図６】変形例２の導電性ナノファイバーシートの断面構造を示す断面図である。
【図７】図６の断面構造の詳細を示す拡大断面図である。
【図８】トロコイド曲線の一般式の定数ａ，ｂについて、（ａ）は、ａ＞ｂの場合のトロコイド曲線を示す図であり、（ｂ）は、ａ＝ｂの場合のトロコイド曲線を示す図であり、（ｃ）は、ａ＜ｂの場合のトロコイド曲線を示す図である。
【図９】実施の形態２に係る導電性ナノファイバーシートの平面構造を示す平面図である。
【図１０】実施の形態３に係る導電性ナノファイバーシートの平面構造を示す平面図である。
【図１１】実施の形態４に係る導電性ナノファイバーシートの平面構造を示す平面図である。
【図１２】実施の形態５に係るタッチパネルの断面構造を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
本発明の実施の形態に係る導電性ナノファイバーシート及びその製造方法、並びに、タッチパネルについて添付図面を用いて説明する。なお、図面において実質的に同一の部材には同一の符号を付している。
【００２５】
（実施の形態１）
図１は、実施の形態１に係る導電性ナノファイバーシート１０の平面構造を示す平面図であり、図２は、図１のＡ−Ａ方向から見た導電層２の断面構造を示す断面図である。図３は、図２の断面構造の詳細を示す拡大断面図である。図１、２、３に示すように、実施の形態１に係る導電性ナノファイバーシート１０は、基体シート１と、基体シートの上に設けられた、導電性ナノファイバー１２を含む導電層と、を備える。図２に示すように、導電層は、電極パターン２と、絶縁パターン４とを含む。また、絶縁パターン４は、導電層がトロコイド曲線を描く絶縁部３によって分割された複数の絶縁領域５を含む。なお、図３に示すように、この絶縁部３は、溝状に導電性ナノファイバー１２のみが除去された構成になっている。この導電性ナノファイバーシート１０では、電極（電極パターン）２と、絶縁パターン４とが、絶縁部３を介して連続的に形成されている。しかも、電極（電極パターン）２と、絶縁パターン４のいずれもが、導電性ナノファイバー１２を含む層からなっている。このため、電極（電極パターン）２と、絶縁パターン４とは、実質的に同じ透過率を有する。そこで、電極パターン２のパターン見えを抑制できる。また、絶縁パターン４においても、トロコイド曲線を描く絶縁部３で分割した複数の領域５（絶縁領域５）を含んでおり、分割された各絶縁領域５が規則的な格子状のパターンを有しないので、絶縁パターン４においてもパターン見えを抑制できる。
【００２６】
ここで、トロコイド曲線とは、下記式で規定される。
ｘ＝ａθ−ｂｓｉｎθ
ｙ＝ａ−ｂｃｏｓθ
（上記式で、ｘ、ｙはトロコイド曲線の座標（ｘ，ｙ）であり、ａ，ｂは定数であり、θ（ｒａｄ）は媒介変数である。）
【００２７】
図８（ａ）は、トロコイド曲線の一般式の定数ａ，ｂについて、ａ＞ｂの場合のトロコイド曲線を示す図であり、図８（ｂ）は、ａ＝ｂの場合のトロコイド曲線を示す図であり、図８（ｃ）は、ａ＜ｂの場合のトロコイド曲線を示す図である。
なお、図１の平面図では、図８（ｃ）のａ＜ｂの場合のトロコイド曲線によって絶縁部３を描く場合を示している。
【００２８】
なお、絶縁パターン４において、分割された各絶縁領域５は、４０ｍｍ２以下の面積を有することが好ましい。分割された各絶縁領域５の面積を４０ｍｍ２以下とすることによって、この導電性ナノファイバーシート１０の電界透過性におけるノイズ耐性を向上させることができる。
【００２９】
（変形例１）
図４は、変形例１の導電性ナノファイバーシート１０ａの断面構造を示す断面図である。図５は、図４の断面構造の詳細を示す拡大断面図である。図４、図５に示すように、変形例１に係る導電性ナノファイバーシート１０ａは、基体シート１と、基体シートの上に設けられた、導電性ナノファイバー１２を含む導電層と、を備える。導電層は、電極パターン２と、絶縁パターン４とを含む。絶縁パターン４は、導電層がトロコイド曲線を描く溝状の絶縁部３によって分割された複数の絶縁領域５を含む。なお、図５に示すように、この絶縁部３は、導電層を除去した溝状となっている。この導電性ナノファイバーシート１０ａでは、電極（電極パターン）２と、絶縁パターン４とは、いずれも導電性ナノファイバー１２を含む導電層からなる。このため、電極（電極パターン）２と、絶縁パターン４とは、実質的に同じ透過率を有する。そこで、電極パターン２のパターン見えを抑制できる。また、絶縁パターン４においても、トロコイド曲線を描く溝状の絶縁部３で分割した複数の絶縁領域５を含んでおり、分割された各絶縁領域５が規則的な格子状のパターンを有しないので、絶縁パターン４においてもパターン見えを抑制できる。
【００３０】
（変形例２）
図６は、変形例２の導電性ナノファイバーシート１０ｂの断面構造を示す断面図である。図７は、図６の断面構造の詳細を示す拡大断面図である。図６、図７に示すように、この変形例２の導電性ナノファイバーシート１０ｂは、溝状の絶縁部３の深さ方向の少なくとも一部について絶縁材料６が埋められている。このように溝状の絶縁部３が絶縁材料６によって埋められ、あるいはその深さが浅くなるため、斜め方向から見た場合にも溝状の絶縁部３の影が映りにくくなる。そこで、電極パターン２及び絶縁パターン４の厚さに影響されることなく、電極パターン２及び絶縁パターン４のパターン見えを抑制できる。さらに、溝状の絶縁部３が空隙のみによって構成される場合に比べて、図７に示すように、導電性ナノファイバー１２が溝状の絶縁部３を越えて隣接する領域と導通することを抑制できるので、安定した絶縁性を得ることができる。
【００３１】
以下に、実施の形態１に係る導電性ナノファイバーシート１０を構成する各構成部材について説明する。
【００３２】
＜基体シート＞
基体シート１の材質としては、アクリル、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリブチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリアミド、ポリウレタン、ポリ塩化ビニル、ポリフッ化ビニルなどの樹脂フィルムが挙げられる。基体シート１の厚さは、５μｍ〜８００μｍの範囲であればよく、適宜設定可能である。５μｍ未満では、層としての強度が不足して剥離する際に破れたりするので取り扱いが困難となり、８００μｍを越える厚みでは、基体シート１に剛性がありすぎて加工が困難となる。
【００３３】
＜導電層＞
電極パターン２及び絶縁パターン４を含む導電層は、例えば、図３、図５及び図７の断面図に示すように、ウレタンアクリレート、シアノアクリレートなどの光硬化性樹脂バインダー１４と、導電性ナノファイバー１２とからなるものが挙げられる。電極パターン２及び絶縁パターン４は、グラビア印刷、オフセット印刷、スクリーン印刷等の汎用の各種印刷手法により設けることができる。また、導電性ナノファイバー１２を含有させた光硬化性樹脂１４からなるドライフィルムなどのようなシートを貼り付けるなどして設けることもできる。
【００３４】
また、電極パターン２及び絶縁パターン４を含む導電層は、例えば、アクリル、ポリエステル、ポリウレタン、ポリ塩化ビニルなどの各種樹脂バインダー１４と、導電性ナノファイバー１２とからなるものであってもよい。さらに、この導電層は、グラビア印刷、オフセット印刷、スクリーン印刷等の汎用の各種印刷手法により設けてもよい。また、絶縁パターン４は、絶縁部３によって各絶縁領域５が絶縁されていることを除けば、バインダー樹脂１４や導電性ナノファイバー１２などを含むものであって、電極パターン２の材質と何ら変わりがない。
【００３５】
電極パターン２及び絶縁パターン４の厚みは、できる限り同等にし、かつ１μｍ〜５０μｍの範囲が好ましい。１μｍ未満では電極パターン２の導電性が不足する場合があり、５０μｍを越える厚みでは絶縁パターン４の絶縁部３の一部または全部を絶縁材料６によって埋め込むことが困難となる。そして、絶縁材料６によって埋め込む工程をより迅速に行うためには、厚みを５μｍ以下にするほうがより好ましい。なお、電極パターン２及び絶縁パターン４と基体シート１との間に、剥離層やアンカー層等を設けてもよいし、電極パターン２及び絶縁パターン４は、その層上にアンカー層や接着層等を設けてもよい。
【００３６】
＜導電性ナノファイバー＞
導電性ナノファイバー１２の例としては、金、銀、白金、銅、パラジウムなどの金属イオンを担持した前駆体表面にプローブの先端部から印加電圧又は電流を作用させ連続的にひき出して作製した金属ナノワイヤや、ペプチド又はその誘導体が自己組織化的に形成したナノファイバーに金粒子を付加してなるペプチドナノファイバーなどがあげられる。またカーボンナノチューブなどの黒っぽい導電性ナノファイバー１２であっても、影との色または反射性などに差が認められる場合は使用できる。
【００３７】
＜絶縁部（溝状の絶縁部を含む）＞
絶縁部３の幅は、１０μｍ〜１００μｍ程度が好ましい。なお、この範囲の幅を有する絶縁部３のうち、溝状の絶縁部は、狭小溝と呼ばれることがある。下限値を１０μｍとするのは、絶縁部３の幅を１０μｍ未満にして形成しようとすると歩留まりが極端に低下したり、導電層を除去した場合に溝状の絶縁部３を埋めることが技術的にも困難なためである。一方、上限値を１００μｍとするのは、１００μｍを超える幅にすると溝状の絶縁部３を埋めても照明で照らされた場合にその部分が目視で認識できてしまう場合があるためである。また、絶縁部３の深さは、電極パターン２及び絶縁パターン４の厚みに対応する。
【００３８】
絶縁部３は、少なくとも一つのトロコイド曲線を描くものであればよい。さらに、絶縁部３は、複数のトロコイド曲線からなるものであっても構わない。
また、本発明者は、各絶縁領域５の面積と電磁波吸収量との関係を検討したところ、面積が大きくなるにつれて電磁波吸収量も単調増加し、およそ面積４２ｍｍ２で電磁波吸収の飽和量３５００ｄＢに達することを見出した。そこで、トロコイド曲線を描く絶縁部３によって分割されるそれぞれの絶縁領域５のサイズは、その最大面積が４０ｍｍ２以下であることが好ましい。このように、分割された各絶縁領域５の面積を４０ｍｍ２以下とすることによって、この導電性ナノファイバーシート１０の電界透過性におけるノイズ耐性を向上させることができる。
【００３９】
＜絶縁材料＞
絶縁材料６は、例えば、電極パターン２や絶縁パターン４を構成するバインダー樹脂１４と同種の材料を使用してもよい。同種の材料を使用すれば、電極パターン２や絶縁パターン４が形成された部分と絶縁材料６が埋められた部分との屈折率、透過率及びヘイズ値の差が小さくなる。そのため、溝状の絶縁部３に絶縁材料６を埋めることによるパターン見えの軽減に加えて、パターン見えを更に軽減させることができる。尚、絶縁材料６は、上述した屈折率、透過率及びヘイズ値の差を考慮して、電極パターン２や絶縁パターン４を構成するバインダー樹脂１４とは異種の材料を使用してもよい。又、絶縁材料６に、シリカ等の絶縁性の粒子や絶縁性のワイヤー材料を含有させて、上述した屈折率、透過率及びヘイズ値の差がより小さくなるように調整してもよい。これによって、溝状の絶縁部３に絶縁材料６を埋めることによるパターン見えの軽減に加えて、パターン見えを更に軽減させることができる。又、絶縁材料６は，粘度の低い液状のものが好ましい。絶縁材料６が粘度の低い液状のものであれば、流動性に富むので、詰まりなどの問題が生じにくく、泡かみも少なくなるため、絶縁材料６を狭小溝３ａに迅速に充填することができる。
【００４０】
絶縁材料６を塗布した後の絶縁部３の深さは０〜１μｍになるようにするのが好ましい、１μｍを超える深さになると、絶縁部３の影が映る場合があるからである。
【００４１】
次に、実施の形態１に係る導電性ナノファイバーシート１０の製造方法について説明する。
＜導電性ナノファイバーシートの製造方法＞
導電性ナノファイバーシート１０を得る方法としては、以下の各工程を含む。
（ａ）基体シート１を準備する。
（ｂ）基体シート１の上の全面に、導電性ナノファイバー１２を含む導電層を形成する。
（ｃ）導電層の一部にエネルギー線、例えば、トロコイド曲線を描くようにレーザーを照射して、導電層にトロコイド曲線状の絶縁部３を形成して、導電層から、電極パターン２と、トロコイド曲線を描く絶縁部３によって分割された複数の絶縁領域５を含む絶縁パターン４と、を画成する。すなわち、絶縁部３は、例えば、スポット径数十μｍの炭酸ガスレーザーなどのエネルギー線を照射して導電層のバインダー樹脂１４を焼き切ることにより形成する。
【００４２】
なお、上記のレーザーを用いて絶縁部３を形成する方法以外には、例えば、（ａ）バインダー樹脂１４に光硬化性樹脂を用いて光照射によって効果させ、未硬化の樹脂を現像除去する方法や、（ｃ）導電層の一部にアルキッド樹脂やポリエステル樹脂、エポキシ樹脂などのエッチングレジスト層を形成後、全面を酸またはアルカリ水溶液などによりエッチングして、エッチングレジスト層が形成されていない導電層６の一部をエッチング除去する方法がある。
しかし、上記（ａ）のバインダー樹脂に光硬化性樹脂を用いる場合、及び、（ｂ）のエッチング法による場合のいずれも絶縁部３の幅をある程度以上に小さくできないという問題がある。このため、基体シート１上に形成できる電極２の本数が制限される。
そこで、実施の形態１に係る導電性ナノファイバーシート１０の製造方法では、レーザーを用いて絶縁部３を形成している。また、レーザー光を使用することによって、目視により認識することができない幅を有する狭小の絶縁部３を形成することができる。そのため、電極２の本数をより多くすることができる。
【００４３】
なお、導電層から、電極パターン２と、絶縁パターン４と、を画成する工程において、レーザーを回転軸から一定距離の位置（距離ｂ）に設け、レーザーを回転軸について回転させながら、回転軸を直線（ｘ方向）に沿って移動させ、レーザーから照射するレーザー光で導電層上にトロコイド曲線を描くようにしてもよい。
あるいは、導電層から、電極パターン２と、絶縁パターン４と、を画成する工程において、レーザーを回転軸から一定距離の位置（距離ｂ）に設け、レーザーを回転軸について回転させながら、レーザーから照射されるレーザー光を反射させる鏡の傾斜角度を徐々に変化させて、レーザーから照射するレーザー光で導電層上にトロコイド曲線を描くようにしてもよい。
【００４４】
トロコイド曲線の一周期は、ｘ軸方向で２πａであり、ｙ軸方向の振幅は２ｂである。ｙ軸方向の振幅を小さくしながら、レーザーの自転速度を速くすることによって、ｘ軸方向の周期を小さくし、同時にレーザーの描く領域、つまり絶縁パターン４に含まれる絶縁領域５の最大面積を小さくできる。例えば、トロコイド曲線の定数ａ及び定数ｂについて、その比ｂ／ａを、およそ４．６とすることによって、トロコイド曲線の隣接する円が互いに接するようになり、比ｂ／ａを４．６以上とすることによってトロコイド曲線の隣接する円が互いに重なり合うようになる。このようにトロコイド曲線の隣接する各円が互いに重なり合うようになると、各円で囲まれた絶縁領域５だけでなく、各円の間の絶縁領域５も互いに分割されるので、絶縁性を向上させることができる。これにより、例えば、タッチパネルに使用した場合、各絶縁領域５を良好に区別できるので、感度を向上させることができる。またさらに、比ｂ／ａを４．６以上とすることで、トロコイド曲線を描く絶縁部３によって分割される各絶縁領域５の大きさをより小さくすることができる。これにより、電磁波シールド性も向上させることができる。
【００４５】
なお、絶縁部３に絶縁材料６を塗布する方法としては、ダイコート、インクジェット、ディッピングなどがあげられるが、これ以外の方法であっても構わない。
【００４６】
以上の方法によって得られた導電性ナノファイバーシート１０では、電極パターン２及び絶縁パターン４のパターン見えを相当に軽減することができる。そこで、この導電性ナノファイバーシート１０を数枚用いて積層等すれば、後述する実施の形態５に示すようにディスプレイ画面が均一の透過率であって、電極パターン２及び絶縁パターン４のパターン見えが抑制された非常に優れた抵抗膜式や静電容量式のタッチパネル３０を製造することができる。
【００４７】
（実施の形態２）
図９は、実施の形態２に係る導電性ナノファイバーシート１０ｃの平面構造を示す平面図である。この導電性ナノファイバーシート１０ｃは、実施の形態１に係る導電性ナノファイバーシートと比較すると、絶縁パターン４は、複数のトロコイド曲線の絶縁部３ａ、３ｂによって分割された複数の絶縁領域５を含む点で相違する。このように複数のトロコイド曲線の絶縁部３を設けることによって絶縁領域５を細分化できる。各絶縁領域５を細分化することによって、電磁波ノイズを小さくすることができる。
【００４８】
（実施の形態３）
図１０は、実施の形態３に係る導電性ナノファイバーシート１０ｄの平面構造を示す平面図である。この導電性ナノファイバーシート１０ｄは、実施の形態１に係る導電性ナノファイバーシートと比較すると、絶縁パターン４は、トロコイド曲線の一般式の定数ａ，ｂについて、比ｂ／ａが４．６以上であって、トロコイド曲線の隣接する各円が互いに重なり合う絶縁部３によって分割された複数の絶縁領域５を含む点で相違する。このようにトロコイド曲線の隣接する各円が互いに重なり合う絶縁部３を設けることによって絶縁領域５を細分化できる。各絶縁領域５を細分化することによって、電磁波ノイズを小さくすることができる。
【００４９】
（実施の形態４）
図１１は、実施の形態４に係る導電性ナノファイバーシート１０ｅの平面構造を示す平面図である。この導電性ナノファイバーシート１０ｅは、実施の形態３に係る導電性ナノファイバーシート１０ｄと比較すると、絶縁パターン４は、２つのトロコイド曲線を描く絶縁部３ａ、３ｂによって分割された複数の絶縁領域５を含む点で相違する。このように複数のトロコイド曲線を描く絶縁部３ａ、３ｂを用いることで、分割する絶縁領域５をさらに細分化できる。
【００５０】
（実施の形態５）
図１２は、実施の形態５に係るタッチパネル２０の断面構造を示す断面図である。このタッチパネル２０は、実施の形態１に係る導電性ナノファイバーシート１０を２枚用いてＸ電極及びＹ電極としたものである。なお、図１２では、このタッチパネル２０の下面に液晶表示装置２２を配置し、タッチパネル２０の上面を覆うように保護板２４を配置して、複合機能表示装置３０を構成している。
このように液晶表示装置２２上にタッチパネル２０を配置した場合に、液晶表示装置２２に表示される画像と各導電性ナノファイバーシート１０の電極パターン２及び絶縁パターン４との光干渉効果を生じないという効果が得られる。
【００５１】
なお、上記様々な実施の形態のうちの任意の実施の形態を適宜組み合わせることにより、それぞれの実施の形態において有する効果を奏するようにすることができる。
【００５２】
本発明は、添付図面を参照しながら好ましい実施の形態に関連して充分に記載されているが、この技術の熟練した人々にとっては種々の変形や修正は明白である。そのような変形や修正は、添付した請求の範囲による本発明の範囲から外れない限りにおいて、その中に含まれると理解されるべきである。
【産業上の利用可能性】
【００５３】
本発明に係る導電性ナノファイバーシートは、電極パターン及び絶縁パターンのパターン見えを抑制できるので、タッチパネルの電極基板として有用である。
【符号の説明】
【００５４】
１  基体シート
２  電極（電極パターン）
３、３ａ、３ｂ  絶縁部（トロコイド曲線）
４  絶縁パターン
５  絶縁領域
６  絶縁材料
１０、１０ａ、１０ｂ、１０ｃ、１０ｄ、１０ｅ  導電性ナノファイバーシート
１２  導電性ナノファイバー
１４  バインダー樹脂
２０    タッチパネル
２２  液晶表示装置
２４  保護板
３０  複合機能表示装置
【図１】
2013254246.tif 000003
【図２】
2013254246.tif 000004
【図３】
2013254246.tif 000005
【図４】
2013254246.tif 000006
【図５】
2013254246.tif 000007
【図６】
2013254246.tif 000008
【図７】
2013254246.tif 000009
【図８】
2013254246.tif 000010
【図９】
2013254246.tif 000011
【図１０】
2013254246.tif 000012
【図１１】
2013254246.tif 000013
【図１２】
2013254246.tif 000014