(57)【要約】【課題】光の透過率の低下および塵埃の付着による光学特性の低下を最小限に抑えて実用性の向上を図ること。【解決手段】光学機器は、光学基体と、前記光学基体の表面に積層され、表面に複数の凸部が形成された最外層を有する１以上の光学層が設けられた１以上の光学部品を具備し、前記凸部のトップとボトムとの距離をＡとして、０．１ｎｍ＜Ａ＜１００ｎｍを満足する。【選択図】図２
2013127501.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学基体と、前記光学基体の表面に積層され、表面に複数の凸部が形成された最外層を有する１以上の光学層が設けられた１以上の光学部品を具備し、
前記凸部のトップとボトムとの距離をＡとして、０．１ｎｍ＜Ａ＜１００ｎｍを満足する
光学機器。
【請求項２】
請求項１に記載の光学機器であって、
前記隣り合う複数の前記凸部の間隔をＢとして、０．０２＜Ｂ／Ａ＜１．００を満足する
光学機器。
【請求項３】
請求項２に記載の光学機器であって、
前記最外層の膜厚をＣとしたとき、０．０１＜Ａ／Ｃ＜１．００を満足する
光学機器。
【請求項４】
請求項３に記載の光学機器であって、
前記最外層における液滴の接触角をθとしたとき、−０．９８＜ｃｏｓθ＜０を満足する
光学機器。
【請求項５】
請求項４に記載の光学機器であって、
前記最外層に隣接する光学層は光透過性又は光反射性をもつ
光学機器。
【請求項６】
光源と、
光学基体と、前記光学基体の表面に積層され、表面に複数の凸部が形成された最外層を有する１以上の光学層が設けられ、前記光源が発する光束の光路を形成する１以上の光学部品と、
防塵フィルタが装着された通風孔が設けられ、前記光源及び前記１以上の光学部品を収容する筺体と、
前記防塵フィルタが装着された通風孔を通じて前記筺体の外部から前記筺体の内部に空気を取り込み、前記光源により熱される前記１以上の光学部品を冷却する冷却装置とを具備し、
前記凸部のトップとボトムとの距離をＡとして、０．１ｎｍ＜Ａ＜１００ｎｍを満足する
画像投射装置。
【請求項７】
請求項６に記載の画像投射装置であって、
前記隣り合う複数の前記凸部の間隔をＢとして、０．０２＜Ｂ／Ａ＜１．００を満足する
画像投射装置。
【請求項８】
請求項７に記載の画像投射装置であって、
前記最外層の膜厚をＣとしたとき、０．０１＜Ａ／Ｃ＜１．００を満足する
画像投射装置。
【請求項９】
請求項８に記載の画像投射装置であって、
前記最外層における液滴の接触角をθとしたとき、−０．９８＜ｃｏｓθ＜０を満足する
画像投射装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本技術は、光路を形成する光学部品を有する光学機器およびこの光学機器を用いた画像投射装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
プロジェクタ、カメラ等の光学機器において、光路中に位置するレンズ等の光学部品に塵埃等が付着すると、光学特性の低下の原因となる。異物の侵入を防ぐため、このような光学機器では、光学系を筺体に収納して封印する構造が採用されている。しかし、不十分な封印による外部からの塵埃の侵入、高湿環境下における外部からの水分や油分の侵入、部品交換時などに封印が解除された際の湿気や塵埃の侵入などを完全に排除することは難しい。さらには、筺体内部の動作機構の部品から金属類などの塵埃が発生することもある。
【０００３】
そこで、塵埃の付着を防止するための光学層を光学部品に形成する技術が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−１７３０５号公報
【特許文献２】特開２００９−１５０７７号公報
【非特許文献】
【０００５】
【非特許文献１】足立元明「イオン分子反応による喫煙ガス成分の微粒子化と分解除去」平成６年度喫煙科学研究財団研究年報（８０６−８１５頁）
【非特許文献２】大平武俊、角田寛、三原利之「黄砂中の陰イオン・陽イオン成分濃度とその粒径分布について」岐阜県保健環境研究所報第１５号（２００７）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
光学部品において、最外層の光学層は、光の散乱を抑制して光の透過率の低下を防ぐことを目的として平滑面に形成される。しかしながら最外層の光学層が平滑面であると、塵埃等と光学部品の表面との接触面積が大きくなるため、塵埃等が光学部品に付着しやすいという問題がある。
【０００７】
以上のような事情に鑑み、本技術の目的は、光の透過率の低下および塵埃の付着による光学特性の低下を最小限に抑えて実用性の向上を図ることにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するため、本発明の一形態に係る光学機器は、光学基体と、前記光学基体の表面に積層され、表面に複数の凸部が形成された最外層を有する１以上の光学層が設けられた１以上の光学部品を具備し、前記凸部のトップとボトムとの距離をＡとして、０．１ｎｍ＜Ａ＜１００ｎｍを満足する。
【０００９】
前記隣り合う複数の前記凸部の間隔をＢとして、０．０２＜Ｂ／Ａ＜１．００を満足してもよい。
【００１０】
前記最外層の膜厚をＣとしたとき、０．０１＜Ａ／Ｃ＜１．００を満足してもよい。
【００１１】
前記最外層における液滴の接触角をθとしたとき、−０．９８＜ｃｏｓθ＜０を満足してもよい。
【００１２】
前記最外層に隣接する光学層は光透過性又は光反射性をもってもよい。
【００１３】
上記課題を解決するため、本発明の一形態に係る画像投射装置は、光源と、光学基体と、前記光学基体の表面に積層され、表面に複数の凸部が形成された最外層を有する１以上の光学層が設けられ、前記光源が発する光束の光路を形成する１以上の光学部品と、防塵フィルタが装着された通風孔が設けられ、前記光源及び前記１以上の光学部品を収容する筺体と、前記防塵フィルタが装着された通風孔を通じて前記筺体の外部から前記筺体の内部に空気を取り込み、前記光源により熱される前記１以上の光学部品を冷却する冷却装置とを具備し、前記凸部のトップとボトムとの距離をＡとして、０．１ｎｍ＜Ａ＜１００ｎｍを満足する。
【発明の効果】
【００１４】
以上のように、本技術によれば、光の透過率の低下および塵埃の付着による光学特性の低下を最小限に抑えて実用性の向上を図ることが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本技術の一実施形態に係る画像投射装置を概略的に示す図である。
【図２】光学部品に形成される光学層を概略的に示す図である。
【図３】ＰＶ値と反射率との関係を示す表である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本技術に係る実施形態を、図面を参照しながら説明する。
【００１７】
［画像投射装置］
図１は、本技術の一実施形態に係る光学機器を用いた画像投射装置を概略的に示す図である。
画像投射装置（プロジェクタ）１００は、照明光学系２０（光学機器）と、投射光学系２１とを含む。照明光学系２０及び投射光学系２１は、筺体２２に収納され、封印される。
【００１８】
照明光学系２０は、光源１を有する。照明光学系２０は、さらに、インテグレーター２、偏光変換素子３、集光レンズ４、波長選択性ミラー５ａ、５ｂ、反射ミラー６ａ、６ｂ、集光レンズ７ａ、７ｂ、波長選択性ミラー８、プリズムブロック９ａ、９ｂ、９ｃ、光変調素子１０ａ、１０ｂ、１０ｃ及びプリズムブロック１１を有する。以下、これらを総称して「光学部品２〜１１」と呼ぶこととする。
【００１９】
光源１からの光束は、光源共役面に焦点位置を持つインテグレーター２により、二次光源像を形成する。二次光源像から導光される光束は、偏光変換素子３により、一定の偏光方向に揃えられ、集光レンズ４により導光され、波長選択性ミラー５ａ、５ｂにより分岐される。波長選択性ミラー５ａにより導光される光束は、反射ミラー６ａにて反射し、集光レンズ７ａにより集光される。集光レンズ７ａにより集光された光束は、プリズムブロック９ａにて反射し、光変調素子１０ａにて反射し、波長板（図示せず）を通ってプリズムブロック９ａを透過し、プリズムブロック１１にて反射して投射光学系２１に至る。一方、波長選択性ミラー５ｂにより導光される光束は、反射ミラー６ｂにて反射し、集光レンズ７ｂにより集光される。集光レンズ７ｂにより集光された光束は、波長選択性ミラー８により波長ごとに分岐される。波長選択性ミラー８により分岐された光束の一方は、プリズムブロック９ｂにて反射し、光変調素子１０ｂにて反射し、波長板（図示せず）を通ってプリズムブロック９ｂを透過し、プリズムブロック１１を透過して投射光学系２１に至る。波長選択性ミラー８により分岐された光束の他方は、プリズムブロック９ｃにて反射し、光変調素子１０ｃにて反射し、波長板（図示せず）を通ってプリズムブロック９ｃを透過し、プリズムブロック１１にて反射して投射光学系２１に至る。
【００２０】
光学部品２〜１１の表面にはそれぞれ、反射防止のための光学層、特定の波長のみを透過あるいは反射する波長選択性を有する光学層、偏光特性を有する光学層など、１以上の光学層が積層される。
【００２１】
筺体２２には第１の通風孔２８が設けられ、第１の通風孔２８には、塵埃の侵入を防ぐための第１の防塵フィルタ２３が装着される。筺体２２内の第１の防塵フィルタ２３の近傍には、光源１及び光源１によって熱される照明光学系２０に含まれる光学部品２〜１１を冷却するための冷却ファン２４が設けられる。冷却ファン２４は、第１の防塵フィルタ２３を通じて外部から筺体２２内にエアーを取り込み、筺体２２内の光源１によって熱される光学部品２〜１１を冷却する。これにより、光源１の発する熱による光学部品２〜１１の温度上昇が抑制される。さらに、筺体２２には第２の通風孔２９が設けられ、第２の通風孔２９には、塵埃の侵入を防ぐための第２の防塵フィルタ２６が装着される。筺体２２内の第２の防塵フィルタ２６の近傍には、冷却ファン２４が筺体２２内に取り込んだエアーを強制的に排気するための排気ファン２７が設けられる。筺体２２の外部には、第２の通風孔２９と連通してダクト２５が設けられる。
【００２２】
［光学機器が使用される場での塵埃の発生］
上記のような光学機器が使用される場の１つとして映画館がある。映画館では、ポップコーンなど油を使用する食物が供され、油分を含んだ塵埃（オイルミスト）が発生する。また、国によっては映画館内での喫煙が認められている場合があり、このような環境では、タバコの煙が塵埃となって浮遊する。また、映画館を含め、様々な環境下では、人の被服等から剥がれ落ちたコットンリンタ（綿埃）、黄砂などに代表される砂埃、高湿環境下で起こる結露などによる水滴、光学機器内で各動作機構部において金属部品が接触したりすることによって内部から発生する塵埃もある。
【００２３】
このように、光学機器が利用される環境において存在する塵埃は、光学機器内の光学部品に到達して、これに付着する可能性がある。特に、プロジェクタなど、発熱量の高い光源を内蔵した機器には、内部を空冷するための冷却ファンが設けられているため、この冷却ファンによって発生する気流にのって塵埃が筺体内に浸入し、光学部品に到達して付着する確率が高くなる。冷却ファンとともに筺体への塵埃の侵入を防ぐ防塵フィルタが設けられていても、防塵フィルタは必ずしも全ての塵埃の侵入を防ぐことができず、結果的に塵埃が防塵フィルタを通過して筺体内に侵入してしまう。
【００２４】
上述のように、光学部品２〜１１の表面には、反射防止のための光学層、波長選択性を有する光学層、偏光特性を有する光学層などの光学層が積層される。塵埃等が光学部品２〜１１の表面にできるだけ付着しないようにするためには、このような光学層を微小な凹凸のある非平滑面とするのがよい。すなわち、光学部品２〜１１の表面に形成される光学層が微小な凹凸のある非平滑面であると、塵埃等と光学部品２〜１１の表面とが接する面積が小さくなるので、塵埃等が光学部品２〜１１の表面に吸着しにくくなり、仮に付着したとしても吸着力が小さいために剥がれ落ちやすい。これに対して、光学層が平滑面であると、塵埃等と光学部品２〜１１の表面との接触面積が大きくなるため、塵埃等が光学部品２〜１１に一旦吸着されると定着しやすい。
【００２５】
その一方で、光学部品２〜１１の表面の微小な凹凸は光の散乱を招くことから、光の透過率が低下し、画像の輝度やコントラストの低下を招く。特に、凹凸の山谷高さいわゆるＰＶ（Peak to Valley）値が大きくなればなるほど、塵埃等の定着を回避できる可能性は増大するものの、散乱する光の割合も増大し光の透過率も低下するため、それだけ光学特性に与える影響も大きくなる。
【００２６】
要するに、光学部品２〜１１の表面に形成される光学層は、微小な凹凸のある非平滑面であることが塵埃等の付着が招く光学特性の低下防止の観点から有利である。その反面、光の散乱による光の透過率の低下防止の観点からは凹凸のない平坦で滑らかな平滑面にするのがよいという相反関係にある。
そこで、本実施形態の課題の一つは、光学部品の表面に塵埃や液滴等の障害物が定着することを最小限に抑制することで、光学部品の光学特性の低下、ひいては光学機器の光学特性の低下を最小限に抑えて実用性の向上を図ることにある。
【００２７】
上記課題を解決するため、本実施形態では、光の散乱による光の透過率の低下の最大許容量や、光学機器が利用される環境において支配的に存在する塵埃の大きさなどを考慮して、光学部品の表面に形成する防塵膜の非平滑面のパラメータとして、光学特性の低下を最小限に抑えて実用性の向上を図ることが可能な範囲を検討し、これを採用した。
【００２８】
［光学部品の光学層］
図２は、光学部品２〜１１に形成される光学層の断面を概略的に示す図である。
少なくともいずれか１つの光学部品２〜１１の光学基体３９の表面３０には、１層以上の光学層３１、３２が積層される。１層以上の光学層３１、３２は、それぞれ、反射防止のための光学層、波長選択性を有する光学層、偏光特性を有する光学層などであり、光透過性又は光反射性をもつ。本図は、少なくともいずれか１つの光学部品２〜１１の光学基体３９の表面３０に内層３１が形成され、最外層３２が内層３１上に形成された例を示す。なお、最外層３２は反射防止のための光学層、波長選択性を有する光学層、偏光特性を有する光学層などであるとしたが、これに限られず、防塵のみを目的として設けられたものであってもよい。
【００２９】
最外層３２は、例えばフッ素系の光学膜材料など高い撥水性を有する光学膜材料よりなる。最外層３２の表面３３は、複数の凸部３４からなる微小な凹凸をもつ非平滑面に形成される。凹凸の断面形状は、図示のように矩形状の他、たとえばトップ３６及びボトム３７が先細状になったものや鋸状であってもよい。また、凹凸のサイズ・形状は均一に揃っている必要はない。最外層３２に微小な凹凸を含む非平滑面を形成する方法としては、例えば、リソグラフィ、ナノインプリント、真空蒸着、スパッタリング、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition、化学気相成長）などを挙げることができる。
【００３０】
最外層３２に設けられた微小な凹凸は、例えば以下の式を満足するように形成される。
０．１ｎｍ＜Ａ＜１００ｎｍ…式１
０．０２＜Ｂ／Ａ＜１．００…式２
０．０１＜Ａ／Ｃ＜１．００…式３
−０．９８＜ｃｏｓθ＜０…式４
ただし、Ａは、凸部３４のトップ３６とボトム３７との距離（ＰＶ値）、
Ｂは、隣り合う複数の凸部３４の間隔、
Ｃは、最外層３２の膜厚、
θは、最外層３２における液滴の接触角である。
以下、これらの式１〜式４について説明する。
【００３１】
［式１について］
（１）式１の上限値（Ａ＜１００ｎｍ）について
ＰＶ値は大きいほど塵埃の付着力が低減し、一旦付着しても剥がれやすくなる。しかしその一方で、ＰＶ値が大きくなるほど光の拡散によって光の透過率が低下する。すなわち、凸部３４どうしの間の部分（以下、「凹部３５」と呼ぶ。）に入り込んだ光束は凸部３４の側面の壁３８、３８に当たりながら底に到達するまでに散乱によって減衰する。この減衰はＰＶ値が大きくなればなる程、光束が凸部３４の側面の壁３８、３８に当たって散乱する回数が増大することによって大きくなる。そこでＰＶ値としては光の透過率の低下防止と塵埃の付着防止の両面から理想的な範囲が求められる。
【００３２】
一般に使用される反射防止膜などの光学膜の可視光領域の光の透過率は９９％以上であるなどの理由から、表面に微小な凹凸を有する最外層３２の光の透過率も９９％以上とすることが１つの目標値となる。
【００３３】
また、複数の光学レンズで構成される光学系の全体としての光の透過率は、各レンズに設けられた光学層の光の透過率を光路上に存在する光学層の数だけ掛け合わせた値となる。例えば、６個の光学レンズの両面に光の透過率９９．１％の光学層が設けられる場合、光学系の全体の光の透過率は９０％であるが、６個の光学レンズの両面に光の透過率９８．１％の光学層を設けた場合には、光学系の全体の光の透過率は８０％にまで低下する。このように光学系全体の光の透過率への指数関数的な影響を考慮すれば、最外層３２の光の透過率は９９％以上であることが望ましい。
【００３４】
図３はＰＶ値と反射率との関係を示す表である。
同図は、塵埃のないクリーンな環境下で波長５５０ｎｍの光源を用いて測定したＰＶ値と反射率との関係を示す表である。この表に示すように、ＰＶ値が大きくなるにつれて反射率も高くなる。そしてＰＶ値が１０３ｎｍのときの反射率は０．９％であるが、ＰＶ値が２１９ｎｍになると反射率が１．９％まで増大し、光学系全体の光の透過率への指数関数的な影響が大きくなる。逆にＰＶ値が２７ｎｍのときの反射率は０．８％であり、ＰＶ値が１０３ｎｍのときの反射率（０．９％）に対して顕著な違いが現れない。
以上の理由から、ＰＶ値の上限は１００ｎｍ程度が妥当と考えられる。
【００３５】
（２）式１の下限値（０．１ｎｍ＜Ａ）について
ＰＶ値の下限値である０．１ｎｍは、光学層の表面への微細加工の限界に基づく値である。また、ＰＶ値が０．１ｎｍより大きければ、塵埃の吸着力を落とすことができ、防塵膜としての機能が最低限確保される。
【００３６】
以上のように、光学部品２〜１１の光学基体３９の最外の光学層３２に、ＰＶ値（Ａ）として式１を満足する微小な凹凸を形成することで、所要の光の透過率及び光学部品の表面の所要の防塵効果を確保することができ、これにより光学特性の低下を最小限に抑えて実用性の向上を図ることができる。
【００３７】
［式２について］
（１）式２の上限値（Ｂ／Ａ＜１．００）について
隣り合う複数の凸部３４の間隔（以下、「凸部間隔」と呼ぶ。）より粒径が小さい塵埃などは、凸部３４同士の間の部分（凹部３５）に入り込む可能性が高い。凹部３５に入り込んだ塵埃は、ボトム３７や側面の壁３８に接触するので、例えばトップ３６に付着した塵埃に比べて定着力が高くなり、取り除くことが困難になる。凹部３５への塵埃の侵入を防ぐためには、凸部間隔を塵埃の大きさよりも小さく設定すればよい。有効な防塵効果を得るには、凸部間隔を可及的小さく設定するのがよく、要するに、画像投射装置１００が使用される環境下に支配的に存在する塵埃の大きさよりも小さく設定するのがよい。
【００３８】
ここで、光学部品２〜１１に付着する塵埃の種類は、画像投射装置１００が使用される環境によって異なり、黄砂などの砂や綿埃などに代表される砂埃、タバコの煙に含まれる化学物質など様々である。例えば、タバコの塵埃は、粒径１〜２０ｎｍの範囲のものが殆どであり、平均粒径は６．５ｎｍである（例えば、非特許文献１参照。）。また、浮遊粉塵に含まれる黄砂の微小粒子の平均粒径は０．６μｍ、粗大粒子の平均粒径は４．８μｍである（例えば、非特許文献２参照。）。
【００３９】
例えば、国によっては映画館での喫煙が認められている場合があるが、このような環境下で画像投射装置１００を使用する場合、タバコの塵埃が光学部品２〜１１に付着するのを防止することが望まれる。そこで、凸部間隔を例えば２ｎｍとすることで、粒径２ｎｍ以上の塵埃が凹部３５に入り込むのを防止することができる。上述のように、タバコの塵埃は粒径１〜２０ｎｍのものが圧倒的に多いので、凸部間隔を例えば２ｎｍとすることで、大部分のタバコの塵埃が凹部３５に入り込むのを防止することができ、その結果、タバコの塵埃の最外層３２への付着を防止することができる。
【００４０】
凸部間隔を塵埃の粒径より小さく設定するのに加えて、ＰＶ値（Ａ）を凸部間隔（Ｂ）より大きくする（Ｂ／Ａ＜１．００）ことで、塵埃が最外層３２にさらに定着しにくくなる。その理由は以下のとおりである。すなわち、凸部間隔が塵埃の粒径より小さいと、塵埃全体としては凹部３５内に入り込まないまでも、塵埃が凹部３５の入り口に引っかかるようにして凹部３５に部分的に入り込むことがある。凸部間隔が塵埃の粒径より小さく且つＰＶ値が小さい（凹部３５が浅い）と、凹部３５に部分的に入り込んだ塵埃がボトム３７など凹部３５の内壁に付着して凹部３５から離脱しにくくなる。しかしながら、凸部間隔が塵埃の粒径より小さく且つＰＶ値が大きいと、塵埃が凹部３５に部分的に入り込んでも、ボトム３７など凹部３５の内壁に付着しないため、塵埃が光学部品２〜１１に定着しにくいからである。
【００４１】
以上のように、画像投射装置１００の使用される環境に支配的に存在する塵埃の粒径より凸部間隔を小さく設定することで、環境に支配的に存在する大部分の塵埃が凹部３５に定着しにくくなる。さらに、ＰＶ値（Ａ）を凸部間隔（Ｂ）より大きくする（Ｂ／Ａ＜１．００）ことで、塵埃が凹部３５にさらに定着しにくくなる。これにより光学部品２〜１１に塵埃が定着するのを防止し、光学特性の低下を最小限に抑えて実用性の向上を図ることができる。例えば、タバコの塵埃が支配的に存在する環境下で画像投射装置１００を使用する場合、タバコの塵埃は粒径１〜２０ｎｍのものが圧倒的に多いので、凸部間隔をＢ＜２ｎｍ且つＢ／Ａ＜１．００とすれば、粒径２ｎｍ以上の塵埃すなわち大部分のタバコの塵埃が光学部品２〜１１に付着するのを防止し、光学特性の低下を最小限に抑えて実用性の向上を図ることができる。
【００４２】
（２）式２の下限値（０．０２＜Ｂ／Ａ）について
ＰＶ値（Ａ）が式１の上限値である１００ｎｍであるときの凸部間隔（Ｂ）の下限値は２ｎｍであり、これは、光学層の表面への微細加工の限界に基づく値である。
【００４３】
［式３について］
（１）式３の上限値（Ａ／Ｃ＜１．００）について
最外層３２の膜厚がＰＶ値より小さいと、凹部３５が最外層３２に隣接する内層３１に達してしまう。凹部３５を最外層３２内に形成するには、最外層３２の膜厚（Ｃ）をＰＶ値（Ａ）より大きくする、すなわちＡ／Ｃ＜１．００とするのがよい。
【００４４】
（２）式３の下限値（０．０１＜Ａ／Ｃ）について
式１によればＰＶ値（Ａ）の下限値は０．１ｎｍ＜Ａである。ＰＶ値（Ａ）が０．１ｎｍの凹部３５を形成するには、最外層３２の膜厚（Ｃ）が１０ｎｍ以上であればよく、すなわち、０．０１＜Ａ／Ｃとするのがよい。
【００４５】
［式４について］
（１）式４の上限値（ｃｏｓθ＜０）について
ｃｏｓθ＞０であると、濡れ性が高く、凹凸を形成しても液滴が凹凸に侵入してしまうので、ｃｏｓθ＜０とするのがよい。
【００４６】
（２）式４の下限値（−０．９８＜ｃｏｓθ）について
ｃｏｓθ＝−１は最外層３２に液球が乗ることを示し、高い撥水性を示す。このような液滴はそもそも最外層３２に付着しにくいので表面に凹凸を形成する必要がない。一方、−０．９８＜ｃｏｓθであると濡れ性が高く、表面に凹凸を形成する必要がある。
【００４７】
なお、本技術は以下のような構成も採ることができる。
（１）
光学基体と、前記光学基体の表面に積層され、表面に複数の凸部が形成された最外層を有する１以上の光学層が設けられた１以上の光学部品を具備し、
前記凸部のトップとボトムとの距離をＡとして、０．１ｎｍ＜Ａ＜１００ｎｍを満足する
光学機器。
【００４８】
（２）前記（１）に記載の光学機器であって、
前記隣り合う複数の前記凸部の間隔をＢとして、０．０２＜Ｂ／Ａ＜１．００を満足する
光学機器。
【００４９】
（３）前記（１）又は（２）に記載の光学機器であって、
前記最外層の膜厚をＣとしたとき、０．０１＜Ａ／Ｃ＜１．００を満足する
光学機器。
【００５０】
（４）前記（１）から（３）のうちいずれか１つに記載の光学機器であって、
前記最外層における液滴の接触角をθとしたとき、−０．９８＜ｃｏｓθ＜０を満足する
光学機器。
【００５１】
（５）前記（１）から（４）のうちいずれか１つに記載の光学機器であって、
前記最外層に隣接する光学層は光透過性又は光反射性をもつ
光学機器。
【００５２】
（６）光源と、
光学基体と、前記光学基体の表面に積層され、表面に複数の凸部が形成された最外層を有する１以上の光学層が設けられ、前記光源が発する光束の光路を形成する１以上の光学部品と、
防塵フィルタが装着された通風孔が設けられ、前記光源及び前記１以上の光学部品を収容する筺体と、
前記防塵フィルタが装着された通風孔を通じて前記筺体の外部から前記筺体の内部に空気を取り込み、前記光源により熱される前記１以上の光学部品を冷却する冷却装置とを具備し、
前記凸部のトップとボトムとの距離をＡとして、０．１ｎｍ＜Ａ＜１００ｎｍを満足する
画像投射装置。
【００５３】
（７）前記（６）に記載の画像投射装置であって、
前記隣り合う複数の前記凸部の間隔をＢとして、０．０２＜Ｂ／Ａ＜１．００を満足する
画像投射装置。
【００５４】
（８）前記（６）又は（７）に記載の画像投射装置であって、
前記最外層の膜厚をＣとしたとき、０．０１＜Ａ／Ｃ＜１．００を満足する
画像投射装置。
【００５５】
（９）前記（６）から（８）のうちいずれか１つに記載の画像投射装置であって、
前記最外層における液滴の接触角をθとしたとき、−０．９８＜ｃｏｓθ＜０を満足する
画像投射装置。
【符号の説明】
【００５６】
１…光源
２〜１１…光学部品
２０…照明光学系
２１…投射光学系
２２…筺体
２３…第１の防塵フィルタ
２４…冷却ファン
２５…ダクト
２６…第２の防塵フィルタ
２７…排気ファン
３１…内層
３２…最外層
３４…凸部
３５…凹部
３６…トップ
３７…ボトム
３９…光学基体
１００…画像投射装置
【図１】
2013127501.tif 000003
【図２】
2013127501.tif 000004
【図３】
2013127501.tif 000005