(57)【要約】【課題】干渉縞の発生が抑えられ、枠印刷パターンのひび割れの発生が抑えられ、かつ優れた基材との密着性を有する光学積層体、及びこれを用いた偏光板を提供する。【解決手段】光透過性基材の一方の面に、枠印刷パターン、保護印刷パターン、及びハードコート層を所定の位置関係で有し、該枠印刷パターンが着色剤及び硬化性樹脂を含む硬化性樹脂組成物の硬化物であり、該ハードコート層が電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物であり、かつ該保護印刷パターンが少なくともアクリルポリオールを含む硬化性樹脂組成物の硬化物である光学積層体、及び偏光子保護シート、偏光子、及び該光学積層体を順に有する偏光板である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過性基材の一方の面に、枠印刷パターン、保護印刷パターン、及びハードコート層を有し、該枠印刷パターンは該光透過性基材の外周に沿って設けられており、該保護印刷パターンは該枠印刷パターンを覆うようにして、かつ該枠印刷パターンと該ハードコート層との間に設けられ、該ハードコート層は該光透過性基材と該保護印刷パターンとを覆うように全面に設けられており、該枠印刷パターンが着色剤及び硬化性樹脂を含む硬化性樹脂組成物の硬化物であり、該ハードコート層が電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物であり、かつ該保護印刷パターンが少なくともアクリルポリオール樹脂を含む硬化性樹脂組成物の硬化物である、光学積層体。
【請求項２】
前記アクリルポリオール樹脂の重量平均分子量が、１０，０００〜１００，０００である請求項１に記載の光学積層体。
【請求項３】
前記アクリルポリオール樹脂のガラス転移点が、５０〜１１０℃である請求項１又は２に記載の光学積層体。
【請求項４】
前記保護印刷パターンが、アクリルポリオール樹脂と塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体とを含む硬化性樹脂組成物の硬化物である請求項１〜３のいずれかに記載の光学積層体。
【請求項５】
アクリルポリオール樹脂と塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体との配合比（質量比）が、９：１〜５：５である請求項４に記載の光学積層体。
【請求項６】
前記光透過性基材を構成する材料がトリアセチルセルロースであり、該光透過性基材と前記ハードコート層とが接する部分に含浸層を有する請求項１〜５のいずれかに記載の光学積層体。
【請求項７】
前記含浸層の厚さが０．２〜８μｍである請求項６に記載の光学積層体。
【請求項８】
前記枠印刷パターンの透過濃度が３〜８である請求項１〜７のいずれかに記載の光学積層体。
【請求項９】
前記着色剤が、着色顔料である請求項１〜８のいずれかに記載の光学積層体。
【請求項１０】
前記着色顔料が、カーボンブラックを含む請求項９に記載の光学積層体。
【請求項１１】
前記着色顔料が、平均一次粒径が５〜７０ｎｍのカーボンブラックである請求項９又は１０に記載の光学積層体。
【請求項１２】
前記電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれる電離放射線硬化性樹脂が紫外線硬化性樹脂である請求項１〜１０のいずれかに記載の光学積層体。
【請求項１３】
偏光子保護シート、偏光子、及び請求項１〜１２のいずれかに記載の光学積層体を順に有する偏光板。
【請求項１４】
前記偏光子保護シートが、λ／４板としての性能を有するものである請求項１３に記載の偏光板。
【請求項１５】
前記偏光子保護シートが、逆分散特性を有する請求項１３又は１４に記載の偏光板。
【請求項１６】
請求項１〜１２のいずれかに記載の光学積層体又は請求項１３〜１５のいずれかに記載の偏光板を備えることを特徴とする画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光学積層体、及びこれを用いた偏光板に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、無機及び有機ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ−ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｄｉｏｄｅ）ディスプレイ、電子ペーパーなどに用いられるディスプレイやタッチパネルなどには、その外観や性能に大きな影響を与えるため、厚さを薄くすることが求められている。このようなディスプレイなどの薄板化の要望に伴い、ディスプレイなどに設ける偏光板にも薄板化が求められるようになっている。
【０００３】
これらのディスプレイの観察者側に設ける偏光板としては、たとえば液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）用の偏光板としては、映像源側保護シートと観察側保護シートの間に偏光子を積層してなるものが、また有機ＥＬディスプレイ（ＯＬＥＤ）用の偏光板としては、映像源側の位相差フィルムと観察者側の保護シートとの間に偏光子を積層したものが用いられている。また、ディスプレイの外周枠付近に設けられるドライバーＩＣや配線を隠蔽したり、ディスプレイの意匠性を向上させる、あるいは画像表示領域外からバックライトなどの光が漏れないことなどを目的として、偏光板を構成するいずれかの層に枠印刷パターンを設けることが行われている（例えば、特許文献１）。
本発明者らも、偏光板として、光透過性基材の一方の面に枠印刷パターンを、他方の面にはハードコート層を有する光学積層体を該枠印刷パターン側の面と偏光板の観察者側の保護シート面とを数十μｍの厚さの接着層を介してなる第一の態様の偏光板の開発を行ってきた。しかし、この偏光板は構成する層の数が多く、厚くなってしまうため、ディスプレイの薄板化の要望に十分に対応しきれていないという問題があった。また、製造工程数が増えてしまい、使用材料も多いことから高価となってしまうという問題もあった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１１−２２１３７１公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記のような問題点を鑑み、本発明者らは、第一の態様の偏光板においてハードコート層を有する光学積層体の光透過性基材が、観察者側の保護シートの機能をも兼ねるようにすることで層の数を減らし、枠印刷パターンを偏光子と該光透過性基材との間に設ける第二の態様の開発を行っている。
枠印刷パターンは、上記のように通常ディスプレイの外周枠付近に設けられるドライバーＩＣや配線を隠蔽するための層であり、光学積層体の外周枠に沿って設けられる。そのため、第二の態様の偏光板は、光透過性基材の一方の面に枠印刷パターンとともに該枠印刷パターンの内側の空間を埋める透明樹脂からなる平滑層を設け、偏光子と貼り合わせて得られる。しかし、この構成においては、観察者側の保護シートと偏光子とを接着させる接着層が、該偏光子の偏光性能を低下させないようにするため数十〜数百ｎｍと非常に薄くする必要があるため、わずかにでも段差ができてしまうと、この段差に起因した気泡の発生に伴う偏光板としての性能低下を招いてしまう場合がある。一方、汎用の製造装置で枠印刷層と平滑層とを光透過性基材上に段差なく設けることは極めて困難であり、その作製にあたって製造装置、あるいは製造条件に過大な負荷を与えることになり、生産の容易性の低下や、歩留まりが低下してしまう。
【０００６】
そこで、本発明者らは、光学積層体においてハードコート層を有する光学積層体の光透過性基材が、観察者側の保護シートの機能をも兼ねるようにすることで層の数を減らし、さらに生産の容易性などを考慮した、光透過性基材の観察者側の面とハードコート層との間に枠印刷パターンを設ける第三の態様の開発も行っている。
本態様においては、偏光子との接着面に平滑性が高い光透過性基材の面そのものを用いるので、数十〜数百ｎｍの厚さの接着層によっても、光透過性基材と偏光子とを容易に積層することができる。一方、光学フィルムにおいては、ハードコート層を形成する電離放射線硬化性樹脂組成物中に溶媒が含まれることが一般的であるため、枠印刷パターンを形成する硬化性樹脂が溶剤によるアタックをうけて、枠印刷パターンのひび割れ、あるいは基材との密着性の低下を生じてしまう場合がある。そのため、枠印刷パターンのひび割れの発生を抑え、かつ優れた基材との密着性を得ることが課題となっている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、前記課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、枠印刷パターンを保護する保護印刷パターンを形成する材料を特定のものとすることで、上記の課題を解決し得ることを見出した。本発明の要旨は、以下のとおりである。
【０００８】
１．光透過性基材の一方の面に、枠印刷パターン、保護印刷パターン、及びハードコート層を有し、該枠印刷パターンは該光透過性基材の外周に沿って設けられており、該保護印刷パターンは該枠印刷パターンを覆うようにして、かつ該枠印刷パターンと該ハードコート層との間に設けられ、該ハードコート層は該光透過性基材と該保護印刷パターンとを覆うように全面に設けられており、該枠印刷パターンが着色剤及び硬化性樹脂を含む硬化性樹脂組成物の硬化物であり、該ハードコート層が電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物であり、かつ該保護印刷パターンが少なくともアクリルポリオールを含む硬化性樹脂組成物の硬化物である、光学積層体。
２．前記光透過性基材を構成する材料がトリアセチルセルロースであり、該光透過性基材と前記ハードコート層とが接する部分に含浸層を有する上記１に記載の光学積層体。
３．偏光子保護シート、偏光子、及び上記１又は２に記載の光学積層体を順に有する偏光板。
４．上記１もしくは２に記載の光学積層体又は上記３に記載の偏光板を備えることを特徴とする画像表示装置。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、枠印刷パターンのひび割れの発生が抑えられ、かつ優れた基材との密着性を有する光学積層体、及びこれを用いた偏光板を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の光学積層体の断面を示す模式図である。
【図２】本発明の光学積層体の断面を示す模式図である。
【図３】本発明の光学積層体の上面からみた模式図である。
【図４】本発明の偏光板の断面を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
［光学積層体］
本発明の光学積層体は、光透過性基材の一方の面に、枠印刷パターン、保護印刷パターン、及びハードコート層を有し、該光透過性基材を構成する材料はトリアセチルセルロースであり、該枠印刷パターンは該光透過性基材の外周に沿って設けられており、該保護印刷パターンは該枠印刷パターンを覆うようにして、かつ該枠印刷パターンと該ハードコート層との間に設けられ、該ハードコート層は該光透過性基材と該保護印刷パターンとを覆うように全面に設けられており、該枠印刷パターンが着色剤及び硬化性樹脂を含む硬化性樹脂組成物の硬化物であり、該ハードコート層が電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物であり、かつ該保護印刷パターンが少なくともアクリルポリオールを含む硬化性樹脂組成物の硬化物である、というものである。
【００１２】
図１、及び図２は、本発明の光学積層体の好ましい一形態の断面を示す模式図であり、光透過性基材１の一方の面に、枠印刷パターン２、保護印刷パターン３、ハードコート層４、及び該光透過性基材１とハードコート層４とが接する部分に含浸層５を有する態様を示している。
以下、図１及び２を用いて、本発明の光学積層体の構成について詳細に説明する。
【００１３】
（光透過性基材）
光透過性基材は、光透過性を有することはもちろんのこと、平滑性や耐熱性を備え、かつ光学的性能及び機械的性能に優れるものであることが好ましい。光透過性基材は、可視光域３８０〜７８０ｎｍにおける光線透過率が８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。ここで、光線透過率は、ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１（プラスチック−透明材料の全光透過率の試験方法）に準拠して測定した値である。
このような光透過性基材としては、上記の光透過性を有するものであれば特に制限はなく、例えば樹脂材料により構成される可撓性を有するフレキシブル材、あるいはガラス基板などの可撓性を有しないリジッド材などが好ましく挙げられ、優れた生産性を得る観点からは、フレキシブル材がより好ましい。フレキシブル材を構成する樹脂材料としては、本発明の光学積層体の用途に応じて適宜選択すればよいが、例えばトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ジアセチルセルロース、アセテートブチレートセルロース、セロファンなどのセルロース系樹脂；ノルボルネン、ジシクロペンタジエン、テトラシクロドデセンなどのシクロオレフィンから得られるシクロポリオレフィン樹脂；ポリエチレンテレフタレート樹脂（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート−イソフタレート共重合樹脂、ポリエステル系熱可塑性エラストマーなどのポリエステル樹脂；メチル(メタ)アクリレート樹脂やブチル(メタ)アクリレート樹脂などのアクリル樹脂；ポリカーボネート樹脂などが好ましく挙げられる。
これらの中でも、機械的性能、とりわけ耐熱性を考慮すると、ポリエステル樹脂が好ましく、また光学的性能、とりわけ偏光性を考慮すると、シクロポリオレフィン樹脂やセルロース系樹脂が好ましく、とりわけトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）が好ましい。
【００１４】
光透過性基材の厚さは、本発明の光学積層体の用途や基材を構成する材料などを考慮して適宜選択すればよく、通常５〜２００μｍ程度である。また、材料としてセルロース系樹脂を選定する場合は、好ましくは１５〜１００μｍ、より好ましくは２０〜８０μｍである。光透過性基材の厚さが上記範囲内であると、本発明の光学積層体を薄くすることができ、また十分な機械的強度を確保することができるからである。
【００１５】
また、光透過性基材には、枠印刷パターンや後述する偏光子との密着性を向上させるためにコロナ処理、プラズマ処理、低圧ＵＶ処理、ケン化処理などの表面処理やアンカー層を形成する方法などの易接着処理を施したり、あるいは易接着層（プライマー層）を設けることができる。なかでもコロナ処理、アンカー層を形成する方法、及びこれらを併用する方法が好ましい。
【００１６】
（枠印刷パターン）
枠印刷パターンは、該光透過性基材の外周に沿って設けられており、着色剤及び硬化性樹脂を含む硬化性樹脂組成物の硬化物からなるパターンである。この枠印刷パターンは、本発明の光学積層体を各種ディスプレイに用いられる偏光板の保護フィルムとして用いる場合、通常ディスプレイの外周枠付近に設けられ、意匠性を向上させたり、ドライバーＩＣや配線を隠蔽するために設けられる層である。
本発明における「外周に沿って設けられる」とは、ディスプレイの有効画面の外側の外周枠付近に設けられるドライバーＩＣや配線を隠蔽するために設けられるという枠印刷パターンの設置目的を鑑みれば、外周枠付近に設けられ、かつディスプレイの表示画像の視認性を阻害しないように設けられることを示す概念である。すなわち、厳密に外周に沿わなければならないというものではなく、外周近傍であり、かつディスプレイの表示画像の視認性を阻害しない範囲であれば、必ずしも外周に沿わなくてもよく、また全外周に設けず、その一部が欠けるような態様をも含む概念である。図３は、本発明の光学積層体の上面からみた模式図であり、枠印刷パターンは外周に沿って全外周に設けられているが、これは本発明における枠印刷パターンを設ける態様の一例を示すものである。
【００１７】
枠印刷パターンの透過濃度は、３〜８であることが好ましく、より好ましくは４〜６であり、さらに好ましくは４．５〜５．６である。枠印刷パターンの透過濃度が３以上であると通常ディスプレイの外周枠付近に設けられるドライバーＩＣや配線を十分に隠蔽することができる。また、８以下であると、枠印刷パターンの厚さを過度に厚くする必要がないので好適である。なお、透過濃度は、ＩＳＯ５−２（２００９）シリーズなどで規格化されるフィルムなどを対象とした入射光に対する透過光の比率として透過濃度計により計測される光学濃度のことである。
【００１８】
硬化性樹脂としては、常温硬化性、熱硬化性、湿気硬化性、電離放射線硬化性を示す樹脂であれば特に制限はないが、光透過性基材の機械的強度を保ち、製造の容易性や生産性などを考慮すると、熱硬化性樹脂を用いることが好ましい。
硬化性樹脂としては、１液硬化性樹脂、２液硬化性樹脂、エマルジョンタイプなど、様々な態様のものを用いることができ、光透過性基材との密着性、耐熱性、取扱いの容易さなどを考慮すると、２液硬化性樹脂が好ましい。また、硬化性樹脂の種類としては、ウレタン樹脂、アクリルポリオール樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、アミノ樹脂、アルキッド樹脂、ニトロセルロース樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、酢酸ビニル樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体などが好ましく挙げられ、光透過性基材との密着性や取扱いの容易性を考慮するとウレタン樹脂、アクリルポリオール樹脂、ニトロセルロース樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体が好ましく挙げられる。また、これらの樹脂は、変性されたものであってもよい。
本発明において硬化性樹脂は、これらのなかから単独で、又は複数種を組み合わせて用いることができ、密着性の向上の観点から、ウレタン樹脂単体、ウレタン樹脂とニトロセルロース樹脂との組み合わせ、アクリルポリオール樹脂と塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体との組み合わせ、ウレタン樹脂と塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体との組み合わせが好ましい。また、後述する保護印刷パターンの形成に用いる樹脂との組み合わせも考慮すると、ウレタン樹脂単体、あるいはウレタン樹脂と塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体との組み合わせがさらに好ましい。
【００１９】
上記の硬化性樹脂の硬化前の標準ポリスチレンで換算された重量平均分子量は、１０，０００〜１００，０００であり、好ましくは３０，０００〜７０，０００である。重量平均分子量が上記範囲内であると、光透過性基材との優れた密着性、耐熱性、取扱いの容易さが得られるので好ましい。
２液硬化性樹脂の場合、硬化剤としては上記の樹脂成分の種類によって適宜選択され、例えば、ポリイソシアネート化合物、有機スルホン酸塩、有機アミン、アジリジン環を有するアジリジン化合物、メラミン化合物、カルボジイミド化合物やラジカル開始剤などが好ましく挙げられる。これらのなかでも、ポリイソシアネート化合物が好ましい。
【００２０】
着色剤としては、着色染料、着色顔料などを用いることができ、上記のドライバーＩＣや配線を隠蔽し、また変色などが生じにくいことから着色顔料を用いることが好ましい。着色顔料としては、例えばカーボンブラック、チタンブラック、鉄黒、パール顔料、弁柄、カドミウムレッド、群青、紺青、コバルトブルー、酸化クロム緑、コバルト緑、黄鉛、チタンイエロー、酸化チタン、亜鉛華、鉛白、リトポン、バライト、沈降性硫酸バリウム、炭酸カルシウム、沈降性シリカや、アルミペーストなどのシルバー顔料などの無機顔料が好ましく挙げられ、これらのなかから単独で、又は複数種を組み合わせて用いることがでる。なかでも、ディスプレイの外周枠付近に設けられるドライバーＩＣや配線を隠蔽し、またディスプレイを消したときのディスプレイの色合いに近く、目立たなくするという観点から、例えば黒色や灰色などの暗色を呈する着色顔料が好ましく、カーボンブラック、アルミペーストなどのシルバー顔料、パール顔料が好ましい。
【００２１】
カーボンブラックとしては、例えばファーネスブラック、チャンネルブラック、サーマルブラック、ランプブラック、アセチレンブラックなどのカーボンブラックが用いられる。カーボンブラックの平均一次粒径は、５〜７０ｎｍが好ましく、５〜６０ｎｍがより好ましく、５〜５０ｎｍがさらに好ましく、特に好ましくは２０〜３０ｎｍである。カーボンブラックの平均一次粒径が上記範囲内にあれば、優れた隠蔽性が得られる。ここで、平均一次粒径は、カーボンブラックをクロロホルムなどの溶媒で十分に希釈分散させた分散液を、コロジオン膜付メッシュ上に展開、乾燥させた後、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いて撮影したＴＥＭ写真のコンピューター画像解析を行い、抽出された各凝集体の面積と等しい面積を有する円の直径（等面積円径）を粒径とし、得られた粒径分布より求めた算術平均径（数平均値）である。
【００２２】
カーボンブラックは、ＤＢＰ吸油量が４０〜１５０ｍｌ／１００ｇであるものが好ましく、４０〜１３０ｍｌ／１００ｇがより好ましく、５０〜１２０ｍｌ／１００ｇがさらに好ましい。ＤＢＰ吸油量が上記範囲内にあれば、良好な印刷適性を得ることができるので、良好な隠蔽性が得られる。ここで、ＤＢＰ吸油量は、ＪＩＳ  Ｋ６２２１  Ａ法で測定された値である。
【００２３】
カーボンブラックの比表面積は、１０〜３００ｍ2／ｇが好ましく、１０〜２５０ｍ2ｇがより好ましく、２０〜２５０ｍ2／ｇがさらに好ましい。比表面積が上記範囲内にあれば、黒色の濃度を向上させることができ、また良好な印刷適性が得られるため、良好な隠蔽性が得られる。ここで、比表面積は、窒素吸着によるＪＩＳ  Ｋ６２２１に準拠して測定された値である。
また、カーボンブラックのｐＨは、特に制限はないが、硬化性樹脂組成物中の保存安定性を向上する観点から、３〜１０が好ましく、３〜７がより好ましく、３〜５がさらに好ましい。カーボンブラックのｐＨは、水性懸濁液を調製し、ガラス電極で測定することにより求められる。
【００２４】
カーボンブラックは、酸化処理を施されたものであってもよい。カーボンブラックの酸化処理は、硫酸、硝酸、塩素酸塩、過硫酸塩などの酸化剤の水溶液中にカーボンブラックを入れて、攪拌混合して行われる。この酸化処理は、室温〜９０℃程度で行われることが好ましい。酸化処理されたカーボンブラックは、その表面上にカルボキシル基、水酸基などが生成して表面変性したものであり、このようなカーボンブラックを用いることで、硬化性樹脂組成物の保存安定性が向上する。
【００２５】
硬化性樹脂組成物中の着色剤の含有量は、硬化性樹脂組成物１００質量部に対して、１０〜７０質量部が好ましく、より好ましくは１０〜５０質量部であり、さらに好ましくは２０〜５０質量部である。着色剤の含有量が上記範囲内であれば、良好な隠蔽性が得られ、また硬化性樹脂組成物の塗布がしやすく生産性に優れ、保存安定性も良好となる。
【００２６】
枠印刷パターンの厚さは、２〜５μｍであることが好ましく、より好ましくは３．５〜４．５μｍである。枠印刷パターンの厚さが上記範囲内であると、良好な隠蔽性が得られ、またハードコート層の表面の優れた平滑性が得られる。ここで、枠印刷パターンの厚さは、例えば膜厚計を用いて、あるいは本発明の光学積層体の断面写真から、枠印刷パターンの印刷面上、及び該枠印刷パターン近傍のパターンが印刷されていない面上で各々３点測定し、枠印刷パターンの印刷面の厚さの平均値とパターンが印刷されていない面の厚さの平均値との差をもって枠印刷パターンの厚さとすることができる。
また、枠印刷パターンの幅は、隠蔽しようとするドライバーＩＣや配線の設置幅、及びディスプレイデザインの見栄えなどにより適宜決定されるが、通常３〜２０ｍｍであることが好ましく、より好ましくは５〜１５ｍｍである。枠印刷パターンの幅が上記範囲内であれば、ドライバーＩＣや配線を隠蔽するのに十分であり、ディスプレイの見栄えを低下させることもない。
【００２７】
（保護印刷パターン）
保護印刷パターンは、上記の枠印刷パターンを覆うようにして、かつ該枠印刷パターンと該ハードコート層との間に設けられる層である。後述するハードコート層を形成する電離放射線硬化性樹脂組成物中に浸透性溶剤を用いると、枠印刷パターンが該浸透性溶剤によるアタックにより、ひび割れ、あるいは基材との密着性の低下を生じてしまう場合がある。本発明においては、このような溶剤によるアタックから枠印刷パターンを保護するため、保護印刷パターンを設けている。隠蔽性を向上させるために着色剤の含有量を多くした枠印刷パターンにあっては、耐溶剤性に劣るため特に有用である。
【００２８】
保護印刷パターンは、少なくともアクリルポリオール樹脂を含む硬化性樹脂組成物の硬化物により構成されるものである。保護印刷パターンにおいてアクリルポリオール樹脂を用いると、保護印刷パターンと光透過性基材、枠印刷パターン、及びハードコート層との密着性が得られるため、結果として優れた密着性を有する光学積層体が得られる。
本発明において、アクリルポリオール樹脂としては、（メタ）アクリル酸エチルなどの（メタ）アクリル酸アルキルエステルに、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレートなどのヒドロキシアクリレートを共重合させて複数の水酸基を導入したものが好ましく挙げられる。そして、このアクリルポリオール樹脂を含む硬化性樹脂組成物に、上記の枠印刷パターンの形成に好ましく用いられるイソシアネート化合物などの硬化剤を用いて硬化させることで、保護印刷パターンが得られる。
【００２９】
保護印刷パターンの形成に用いられるアクリルポリオール樹脂は、その硬化前の標準ポリスチレンで換算された重量平均分子量は、１０，０００〜１００，０００であり、好ましくは４０，０００〜８０，０００である。重量平均分子量が上記範囲内であると、密着性や、取扱いの容易さが得られるので好ましい。
【００３０】
アクリルポリオール（未硬化時）のガラス転移温度Ｔｇは、５０℃以上であることが好ましく、より好ましくは６５℃以上であり、該ガラス転移温度Ｔｇの上限に特に制限はないが、通常１１０℃程度であり、なかでも好ましいＴｇの範囲は７０〜１００℃である。ガラス転移温度Ｔｇが上記範囲内であると、優れた密着性が得られる。
【００３１】
保護印刷パターンを形成する樹脂として、アクリルポリオール樹脂と他の樹脂とを併用したものも好ましく挙げられる。例えば、アクリルポリオール樹脂と塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体とを併用することで、さらなる密着性の向上が期待できる。
アクリルポリオール樹脂と塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体とを併用する場合、その配合比（質量比）は、９：１〜５：５であることが好ましく、より好ましくは８：２〜６：４である。
【００３２】
保護印刷パターンの形状は、枠印刷パターンを覆うようにして、かつ該枠印刷パターンと該ハードコート層との間に設けられていれば特に制限はなく、例えば図１に示されるように単に枠印刷パターンを覆うような形状であってもよいし、より枠印刷パターンを保護するために、図２に示されるように階段状の形状としてもよい。
保護印刷パターンの厚さは、０．５〜２．５μｍであることが好ましく、より好ましくは１〜２μｍである。保護印刷パターンの厚さが上記範囲内であると、優れた枠印刷パターンの保護性能が得られ、またハードコート層の表面の優れた平滑性が得られる。ここで、保護印刷パターンの厚さは、例えば膜厚計を用いて、あるいは本発明の光学積層体の断面写真から、保護印刷パターンの印刷面上、及び該保護印刷パターン近傍のパターンが印刷されていない面上で各々３点測定し、保護印刷パターンの印刷面の厚さの平均値とパターンが印刷されていない面の厚さの平均値との差をもって保護印刷パターンの厚さとすることができる。
また、保護印刷パターンと光透過性基材とが接する幅は、該保護印刷パターンの厚さと同じ又はそれ以上であり、該保護印刷パターンの厚さ以上とする場合は、該保護印刷パターンの形状を図２に示されるような階段状の形状とすることが好ましい。この場合の保護印刷パターンと光透過性基材とが接する幅は、０．１ｍｍ〜２ｍｍであることが好ましく、より好ましくは０．３ｍｍ〜２ｍｍであり、さらに好ましくは０．３ｍｍ〜１．２ｍｍである。保護印刷パターンと光透過性基材とが接する幅が上記範囲内であると、優れた保護性能が得られるとともに、該保護印刷パターンが視認されず、意匠性を低下させることがない。なお、保護印刷パターンをディスプレイの全面に設けるなど、保護印刷パターンと光透過性基材とが接する面積が大きいと、後述するように、保護印刷パターンと光透過性基材との屈折率の差に起因する干渉縞の発生という問題を生じる場合があり、上記の接する幅とすることが好ましい。
【００３３】
（ハードコート層）
ハードコート層は、本発明の光学積層体に耐擦傷性などの表面硬度の性能を向上させる目的で設けられ、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる層である。ここで、ハードコートとは、ＪＩＳ５６００−５−４：１９９９で規定される鉛筆硬度試験で「Ｈ」以上の硬度を示す性能のことをいう。
【００３４】
ハードコート層を形成する電離放射線硬化性樹脂組成物は、電離放射線硬化性樹脂のほか、好ましくは溶剤、光重合開始剤や、各種添加剤を含む樹脂組成物である。電離放射線硬化性樹脂は、電磁波または荷電粒子線の中で分子を重合させ得るエネルギー量子を有するもの、すなわち、紫外線又は電子線などを照射することにより、硬化する樹脂であり、本発明においては、優れた表面硬度が得られ、かつ耐溶剤性や防汚性などの性能を容易に付与することができるなどの観点から、紫外線の照射により硬化する紫外線硬化性樹脂組成物が好ましい。
【００３５】
このような樹脂としては、従来電離放射線硬化性の樹脂として慣用されている重合性モノマー及び重合性オリゴマー（ないしはプレポリマー）の中から適宜選択して用いることができる。
【００３６】
重合性モノマーとしては、分子中にラジカル重合性不飽和基を持つ（メタ）アクリレート単量体が好適であり、なかでも多官能性（メタ）アクリレートモノマーが好ましい。
多官能性（メタ）アクリレートモノマーとしては、分子内にエチレン性不飽和結合を２個以上有する（メタ）アクリレートモノマーであればよく、特に制限はない。具体的にはエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレートモノステアレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート、イソシアヌレートジ（メタ）アクリレートなどのジ（メタ）アクリレート；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレートなどのトリ（メタ）アクリレート；ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどの４官能以上の（メタ）アクリレート；上記した多官能性（メタ）アクリレートモノマーのエチレンオキシド変性品、プロピレンオキシド変性品、カプロラクトン変性品、プロピオン酸変性品などが好ましく挙げられる。これらのなかでも、優れた表面硬度が得られる観点から、トリ（メタ）アクリレートよりも多官能の、すなわち３官能以上の(メタ)アクリレートが好ましい。これらの多官能性（メタ）アクリレートモノマーは１種を単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００３７】
本発明においては、上記した多官能性（メタ）アクリレートモノマーとともに、その粘度を低下させるなどの目的で、単官能性（メタ）アクリレートモノマーを、本発明の目的を損なわない範囲で適宜併用することができる。
【００３８】
重合性オリゴマーとしては、分子中にラジカル重合性不飽和基を持つオリゴマー、例えば、エポキシ（メタ）アクリレート系、ウレタン（メタ）アクリレート系、ポリエステル（メタ）アクリレート系、ポリエーテル（メタ）アクリレート系のオリゴマーなどが好ましく挙げられる。さらに、重合性オリゴマーとしては、ポリブタジエンオリゴマーの側鎖に（メタ）アクリレート基をもつ疎水性の高いポリブタジエン（メタ）アクリレート系オリゴマー、主鎖にポリシロキサン結合をもつシリコーン（メタ）アクリレート系オリゴマーなども好ましく挙げられる。
【００３９】
重合性オリゴマーは、数平均分子量（ＧＰＣ法で測定したポリスチレン換算の数平均分子量）が２０，０００以下のものが好ましが２０，０００以下のものが好ましく、より好ましくは３００〜１０，０００であり、さらに好ましくは３００〜５，０００である。このような重合性オリゴマーを使用することで、重合による発熱や収縮を抑えられ、発熱によるダメージ（皺）やカールを防止することができる。
また、重合性オリゴマーは多官能であることが好ましく、より好ましくは３〜１２官能、さらに好ましくは３〜１０官能であることが好ましい。官能基数が上記範囲内であると、優れた表面特性が得られる。
【００４０】
上記の電離放射線硬化性樹脂は、溶剤乾燥型樹脂と併用して用いることもできる。溶剤乾燥型樹脂を併用することにより、光透過性基材との接着性の向上や塗布面の被膜欠陥を有効に防止できるため、優れた表面硬度の性能が得られるからである。
該溶剤乾燥型樹脂としては、例えば、スチレン樹脂、（メタ）アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、酢酸ビニル樹脂、ビニルエーテル樹脂、ハロゲン含有樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ナイロン、セルロース樹脂、シリコーン樹脂、ポリウレタン樹脂などの熱可塑性樹脂の単体及び共重合体、あるいは、これらの混合樹脂を好ましく挙げられる。これらの樹脂は、非結晶性であり、かつ溶剤に可溶であることが好ましい。特に、製膜性、透明性や耐候性などの観点から、スチレン樹脂、（メタ）アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、セルロース樹脂などが好ましい。
【００４１】
電離放射線硬化性樹脂として紫外線硬化性樹脂を用いる場合には、光重合開始剤を電離放射線硬化性樹脂１００質量部に対して、０．５〜１０質量部程度添加することが好ましく、１〜７質量部の添加がより好ましい。光重合開始剤としては、従来慣用されているものから適宜選択することができ、例えば、アセトフェノン系、ベンゾフェノン系、アルキルフェノン系、ベンゾイン系、ケタール系、アントラキノン系、ジスルフィド系、チオキサントン系、チウラム系、フルオロアミン系などの光重合開始剤が挙げられ、これらのいずれかを単独で、又は複数種を組み合わせて用いることができる。
なかでも電離放射線の照射によりラジカルを発生し、樹脂組成物の硬化のきっかけとなりうる、アセトフェノン系、アルキルフェノン系、ベンゾイン系、ベンゾフェノン系、アントラキノン系、チオキサントン系などのラジカル系光重合開始剤が好ましく、さらに光透過性の観点から、アセトフェノン系、アルキルフェノン系のものが好ましく、より好ましくはヒドロキシアセトフェノン系、ヒドロキシアルキルフェノン系、アミノアルキルフェノン系のものである。このような光重合開始剤は市販品として入手可能であり、例えば、「イルガキュア１８４（商品名）」（１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン）、「イルガキュア９０７（商品名）」（２−メチル−１−(４−メチルチオフェニル)−２−モルフォリノプロパン−１−オン）、「イルガキュア１２７（商品名）」（２−ヒロドキシ−１−[４−〔４−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオニル）ベンジル〕フェニル]−２−メチルプロパン−１−オン）（いずれもＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。
【００４２】
電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれる溶剤としては、光学積層体の各層を設ける樹脂組成物に用いられる溶剤であれば特に制限なく用いることができるが、光透過性基材を形成する材料としてセルロース系樹脂、とりわけトリアセチルセルロースを採用し、ハードコート層がいわゆる防眩性を有しない（グレア）のハードコート層である場合は、光透過性基材に対して浸透性を有する浸透性溶剤を用いることが好ましい。このような場合、ハードコート層の表面反射とハードコート層と光透過性基材との界面反射とが干渉することにより干渉縞が発生し、光学積層体の性能を低下させる要因となることがある。この干渉縞の発生を低減させるためには、光透過性基材とハードコート層との界面の屈折率差を小さくすることが有効である。その手法として、前記モノマーや、分子量の小さいオリゴマーが基材に浸透した層である、後述する含浸層を形成することが好ましく挙げられる。そこで、溶剤として該浸透性溶剤を用いると、前記モノマーや、分子量の小さいオリゴマーがより基材に浸透するので、含浸層が形成しやすくなるのである。ここで、浸透性溶剤とは、光透過性基材に対する浸透性、膨潤性、湿潤性、浸透溶解性などの性能を有する溶剤である。
【００４３】
このような浸透性溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、シクロヘキサノン、シクロヘプタノン、メチルイソブチルケトン、ジアセトアルコールなどのケトン類；蟻酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、乳酸エチルなどのエステル類；ニトロメタン、アセトニトリル、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどの含窒素類；テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ジオキソラン、ジイソプロピルエーテルなどのエーテル類；塩化メチレン、クロロホルム、テトラクロルエタンなどのハロゲン化炭化水素類；メチルグリコール、メチルグリコールアセテート、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテートなどのグリコールエーテル類、などが好ましく挙げられ、これらの中から単独で、又は複数種を組み合わせて用いることができる。
本発明においては、光透過性基材に浸透させて干渉縞を低減させる観点から、ケトン類、あるいはエステル類が好ましく、とりわけメチルエチルケトン、シクロヘキサノンが好ましい。
【００４４】
また、溶剤として上記の浸透性溶剤と組み合わせて非浸透性溶剤を用いることが好ましい。浸透性溶剤だけでは光透過性基材への浸透性、膨潤性、湿潤性、浸透溶解性などが強すぎる場合、非浸透性溶剤を組み合わせることで、光透過性基材とハードコート層とが接する部分に形成する含浸層の厚さが厚くなることにより発生する白化を抑え、かつ所望の厚さへの調整が容易となるとともに、後述する各種添加剤などの分散や溶解性を向上させることが可能となるからである。
このような非浸透性溶剤としては、メチルイソブチルケトン、ジエチルケトンなどのケトン類；酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、乳酸エチルなどのエステル類；メチルグリコール、エチルグリコールアセテートなどのグリコールエーテル類；イソプロピルアルコール、ブタノールなどのアルコール類などが好ましく挙げられ、これらの中から単独で、又は複数種を組み合わせて用いることができる。なかでも、ブタノールが好ましい。ここで、上記の浸透性溶剤と非浸透性溶剤とで重複する溶剤が存在するが、互いに組み合わせる浸透性の相対的な強弱により浸透性、非浸透性のいずれにもなり得ること、また非浸透性溶剤として用いると好ましいものであること、などから重複して列記するものである。
非浸透性溶剤の使用量は、干渉縞の発生を抑え、かつ浸透層の形成による白化発生を抑える観点から、上記の浸透性溶剤１００質量部に対して、５〜８０質量部であることが好ましく、より好ましくは１０〜４０質量部である。
【００４５】
電離放射線硬化性樹脂組成物中の溶剤の含有量は、通常２０〜７０質量％であり、好ましくは３０〜６５質量％、より好ましくは３５〜６０質量％である。溶剤の含有量が上記範囲内であると、含浸層を安定して形成することができ、また塗布適性に優れ、樹脂成分の分散安定性や長期保存性に優れるので好ましい。なお、電離放射線硬化性樹脂組成物に用いられる溶剤は、該組成物を塗付した後になされる乾燥及び硬化処理により蒸発するので、ハードコート層中には存在しない。
【００４６】
電離放射線硬化性樹脂組成物には、所望の性能に応じて、各種添加剤を添加することができる。
各種添加剤としては、無機系あるいは有機系の微粒子が好ましく挙げられる。このような微粒子としては、例えば、反射率を低下させる目的からＳｉＯ2（屈折率ｎ＝１．４５）、ＭｇＦ2（屈折率ｎ＝１．３８）、ＬｉＦ（屈折率ｎ＝１．３６）、ＮａＦ（屈折率ｎ＝１．３３）、ＣａＦ2（屈折率ｎ＝１．４４）、３ＮａＦ・ＡｌＦ3（屈折率ｎ＝１．４）、ＡｌＦ3（屈折率ｎ＝１．３７）、Ｎａ3ＡｌＦ6（屈折率ｎ＝１．３３）などの低屈折率微粒子が、紫外線遮蔽の効果を向上させる目的からＺｎＯ（屈折率ｎ＝１．９）、ＴｉＯ2（屈折率ｎ＝２．３〜２．７）、ＣｅＯ2（屈折率ｎ＝１．９５）などの微粒子が、また、帯電防止効果が付与されて埃の付着を防止する目的からアンチモンがドープされたＳｎＯ2（屈折率ｎ＝１．９５）、ＩＴＯ（屈折率ｎ＝１．９５）、リンがドープされたＳｎＯ2（屈折率ｎ＝１．７５〜１．８５）、五酸化アンチモン（屈折率ｎ＝２．０４）などの金属酸化物微粒子や、金属微粒子などが好ましく挙げられる。また、高屈折率層を得る目的から、Ａｌ2Ｏ3（屈折率ｎ＝１．６３）、Ｌａ2Ｏ3（屈折率ｎ＝１．９５）、ＺｒＯ2（屈折率ｎ＝２．０５）、Ｙ2Ｏ3（屈折率ｎ＝１．８７）などの高屈折率微粒子も好ましく挙げられる。
【００４７】
また、上記のＳｉＯ2やＡｌ2Ｏ3は、ハードコート層の硬度の向上のために用いることもできる。
上記の微粒子は、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤、脂肪酸、界面活性剤などで表面処理されたものであってもよい。例えば、ＳｉＯ2はその表面がシランカップリング剤で処理されたものが好ましく用いられる。シランカップリング剤は、特に制限なく使用することができるが、官能基として（メタ）アクリロイル基を有する剤が好ましい。このようなシランカップリング剤としては、例えば市販される「ＫＢＭ−５０２」、「ＫＢＭ−５０３」、「ＫＢＥ−５０３」、「ＫＢＭ−５１０３」（商品名、いずれも信越化学工業株式会社製）などが好ましく挙げられる。
【００４８】
これらの微粒子は単独又は混合して使用され、溶剤又は水に分散したコロイド状になったものが分散性の点において良好であり、その粒径としては、通常１〜１００ｎｍ程度であり、塗膜の透明性から好ましくは５〜６０ｎｍである。
【００４９】
各種添加剤として、反射率を低下させる目的で、空隙を有する微粒子、すなわち微粒子の内部に気体が充填された構造及び／又は気体を含む多孔質構造体を形成する微粒子（以下「中空粒子」と称する場合がある）も好ましく用いることができる。また、微粒子の形態、構造、凝集状態、膜内部での微粒子の分散状態により、内部、及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子も含まれる。
中空粒子の材料としては、無機物及び有機物のいずれでもよく、金属、金属酸化物、樹脂などが挙げられ、特にシリカ微粒子を用いることが好ましい。このような中空粒子の具体例としては、特開平７−１３３１０５号公報、特開２００１−２３３６１１号公報などに開示された複合酸化物ゾル又は中空シリカ微粒子が挙げられる。このような空隙を有する無機系粒子は硬度が高いため、ハードコート層の層強度が向上するという利点も得られる。
【００５０】
各種添加剤として、帯電防止性を付与し、その表面にほこりなどが付着しにくくするため、帯電防止剤を添加することも好ましい。帯電防止剤としては、ポリチオフェン、ポリアニリンなどの導電性ポリマーや、第４級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第１〜第３アミノ基などのカチオン性基を有する各種カチオン性化合物；スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基などのアニオン性基を有するアニオン性化合物；アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系などの両性化合物；アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系などのノニオン性化合物；スズおよびチタンのアルコキシドのような有機金属化合物およびそれらのアセチルアセトナート塩のような金属キレート化合物などが挙げられ、さらに上記に列記した化合物を高分子量化した化合物が挙げられる。
これらの帯電防止剤は、単独で、又は複数種を組み合わせて用いることができる。
【００５１】
各種添加剤として、防汚性を付与するため、防汚剤を添加することも好ましい。防汚剤を添加することにより、本発明の光学積層体の表面の表面エネルギーを下げ、親水性あるいは親油性の汚れを付きにくくすることができ、汚れが付着した際でも拭取りなどにより汚れを容易に除去しやすくなる。そのような防汚剤としては、フッ素系化合物、ケイ素系化合物、またはこれらの混合物が挙げられ、特にフロロアルキル基を有する化合物が好ましい。また、これらの防汚剤は、分子内に１個以上の電離放射線硬化性の重合性不飽和基を有していることが好ましい。該不飽和基を有していると、繰り返しの拭取りが可能となり、耐久性にも優れるからである。
【００５２】
また、その他の各種添加剤として、耐候性改善剤、耐摩耗性向上剤、重合禁止剤、赤外線吸収剤、紫外線吸収剤、接着性向上剤、酸化防止剤、レベリング剤、チクソ性付与剤、カップリング剤、可塑剤、消泡剤などが挙げられる。
【００５３】
枠印刷パターン及び保護印刷パターンが設けられていない部分のハードコート層の厚さは、５〜２０μｍであることが好ましく、より好ましくは７〜１５μｍである。ハードコート層の厚さが上記範囲内であると、優れた表面硬度の性能が得られ、また硬化させるときに生じる硬化収縮によるカールやクラックの発生が低減されるので好ましい。
また、枠印刷パターン上に設けられた保護印刷パターン上のハードコート層の厚さは３〜１５μｍであることが好ましく、より好ましくは５〜１０μｍであり、また上記の枠印刷パターン及び保護印刷パターンが設けられていない部分のハードコート層の厚さよりも小さい厚さである。保護印刷パターン上のハードコート層の厚さが上記範囲内であると、優れた表面硬度の性能が得られ、また硬化させるときに生じる硬化収縮によるカールやクラックの発生が低減されるので好ましい。ここで、ハードコート層の厚さは、例えば本発明の光学積層体の断面を電子顕微鏡（ＳＥＭ、ＴＥＭ、ＳＴＥＭ）で観察して、測定した値を任意の十点についての測定値の平均値を採用することができる。
【００５４】
また、各種添加剤として、防眩性を付与するため、防眩剤を添加して、防眩性を有する（ノングレア）ハードコート層とすることも好ましい。防眩剤としては透光性微粒子が好ましく挙げられ、無機系、有機系のものを使用することができる。有機系のものとしては、スチレンビーズ（屈折率ｎ＝１．６０）、メラミンビーズ（屈折率ｎ＝１．５７）、アクリルビーズ（屈折率ｎ＝１．５０〜１．５３）、アクリル−スチレンビーズ（屈折率ｎ＝１．５４〜１．５８）、ベンゾグアナミンビーズ、ポリカーボネートビーズ（屈折率ｎ＝１．５７）、ポリエチレンビーズ（屈折率ｎ＝１．５０）、シリコンビーズ（屈折率ｎ＝１．４２）などのプラスチックビーズが挙げられる。また、無機系微粒子としては、シリカ微粒子、不定形シリカ微粒子、無機シリカビーズなどが好ましく挙げられる。
これらの透光性微粒子は、単独で、又は成分が異なるもの、形状が異なるもの、粒度分布が異なるものなどの複数種を組み合わせて用いることができる。
【００５５】
各種添加剤として防眩剤を用いた場合、拡散により干渉縞が視認できなくなるため、硬さが低下しやすい含浸層を薄くすることができるので、ハードコート層の厚さが薄くても十分なハードコート特性が得られる。よって、この場合の枠印刷パターン及び保護印刷パターンが設けられていない部分のハードコート層の厚さは、優れた表面硬度の性能が得られ、また硬化させるときに生じる硬化収縮によるカールやクラックの発生が低減される観点から、１〜１５μｍであることが好ましく、より好ましくは３〜１０μｍである。
また、枠印刷パターン上に設けられた保護印刷パターン上のハードコート層の厚さは、０．５〜１５μｍであることが好ましく、より好ましくは１〜１０μｍであり、また上記の枠印刷パターン及び保護印刷パターンが設けられていない部分のハードコート層の厚さよりも小さい厚さである。保護印刷パターン上のハードコート層の厚さが上記範囲内であると、優れた表面硬度の性能が得られ、また硬化させるときに生じる硬化収縮によるカールやクラックの発生が低減されるので好ましい。
【００５６】
（含浸層）
本発明の光学積層体は、光透過性基材とハードコート層とが接する部分に含浸層を有することが好ましく、とりわけ光透過性基材を構成する材料としてトリアセチルセルロースを用い、かつハードコート層が防眩性を有しない（グレア）ハードコート層である場合に好ましい。本発明の光学積層体において含浸層を形成させると、光透過性基材とハードコート層との間の界面における屈折率の変化に勾配を形成することができるため、光透過性基材とハードコート層との屈折率の差に起因して発生する干渉縞を抑えることができ、また接着性も向上する。
【００５７】
含浸層は、例えば、ハードコート層を形成する電離放射線硬化性樹脂組成物の樹脂成分、すなわち上記したモノマー、オリゴマーなどの少なくとも一成分を光透過性基材に含浸させて、該光透過性基材とハードコート層とが接する部分に形成させることが好ましい。ここで、電離放射線硬化性樹脂組成物中の樹脂成分のうち、分子量のより小さいものが光透過性基材に含浸しやすい傾向にあり、モノマー、オリゴマーの順に含浸しやすい傾向にある。また、分子量が大きいポリマーは含浸しにくいか、あるいは含浸しない。
【００５８】
本発明において、より安定的に含浸層を得られる観点から、電離放射線硬化性樹脂組成物中の、溶剤として上記の浸透性溶剤を用いることが好ましい。浸透性溶剤を用いると、光透過性基材が溶解又は膨潤しやすくなり、電離放射線硬化性樹脂組成物中の樹脂成分が光透過性基材に浸透しやすくなるためである。なお、上記浸透性溶剤は該光透過性基材中に浸透するが、最終的に光透過性基材中には残存しない。
含浸層の厚さは、０．２〜８μｍであることが好ましく、より好ましくは１〜７μｍ、さらに好ましくは１〜５μｍである。含浸層の厚さが上記範囲内であると、干渉縞の発生が抑えられ、また白化の発生も抑えられる。ここで、含浸層の厚さは、例えば本発明の光学積層体の断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）などで観察し、測定することができる。より具体的には、まず本発明の光学積層体を熱硬化性樹脂で包埋し、ミクロトームで超薄切片を作製する。得られた超薄切片をＯｓＯ4（酸化オスニウム）に数分浸漬して染色し、さらにカーボンを蒸着させて、含浸層の厚さを測定するためのサンプルを作製する。次いで、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて、例えば加速電圧：３０ｋＶ、エミッション電流：１０μＡ、倍率：５０の条件で測定を行い、含浸層の厚さを測定することができる。
【００５９】
また、ハードコート層が防眩性を有する(ノングレア)ハードコート層である場合、ハードコート層と光透過性基材との接着性を向上させる観点から、含浸層を設けることが好ましい。この場合の含浸層の厚さは、０．０１〜０．５μｍであることが好ましく、より好ましくは０．０２〜０．２５μｍである。ハードコート層を、防眩性を有する(ノングレア)ハードコート層とする場合、干渉縞は発生しないので、干渉縞の発生の低減の観点から含浸層を設ける必要性はなく、接着性の向上だけを考慮すればよいため、ハードコート層を、防眩性を有しない(グレア)ハードコート層とする場合よりも薄くてもよいからである。
【００６０】
（その他の層）
本発明の光学積層体においては、所望に応じて、低屈折率層や高屈折率層、あるいは防汚層、帯電防止層、防眩層などを設けてもよい。これらの層は、上記のハードコート層の上に設けることが好ましく、低屈折率層が最上層となるように設けることがより好ましく、防汚層を設ける場合は防汚層を最上層となるように設けることが好ましい。また、低屈折率層に防汚性を同時にもたせてもよい。
【００６１】
これらの低屈折率層や高屈折率層は、例えば上記の低屈折率微粒子や高屈折率微粒子を用いて、真空蒸着、スパッタリンッグなどの方法により形成することもできるし、また、より容易に層を形成する観点からは、これらの微粒子を硬化性樹脂、例えば上記のハードコート層を形成する際に好ましく用いる電離放射線硬化性樹脂などをバインダー樹脂として、該バインダー樹脂中に分散した樹脂組成物などを用いて、公知の方法により形成することが好ましい。また、例えば低屈折率層は、上記の微粒子、フッ化ビニリデン共重合体やシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体などの含フッ素化合物、１分子中に反応性官能基を２つ以上有する、例えばペンタエリスリトール骨格を有するような含フッ素モノマー、及び電離放射線硬化性樹脂などを好ましく含む硬化性樹脂組成物を用いて形成してもよい。
【００６２】
防汚層は、例えば上記のような防汚剤と上記のハードコート層を形成する際に好ましく用いる電離放射線硬化性樹脂とを含む樹脂組成物などを用いて、公知の方法により形成すればよい。
【００６３】
また、本発明の光学積層体においては、所望に応じて帯電防止層を設けることもできる。帯電防止層は、上記のハードコート層の上に設けてもよいし、光透過性基材とハードコート層との間に設けてもよく、その設置順序は特に制限はない。
【００６４】
帯電防止層は、例えば上記のような帯電防止剤、防汚剤などと上記のハードコート層を形成する際に好ましく用いる電離放射線硬化性樹脂とを含む樹脂組成物などを用いて、公知の方法により形成すればよい。
【００６５】
（光学積層体の製造方法）
本発明の光学積層体の製造方法は、上記の構成を有する光学積層体が得られれば特に制限されず、例えば、（ａ）光透過性基材を準備する工程、（ｂ）枠印刷パターン、保護印刷パターン、ハードコート層、及び所望により設けられる屈折率層、帯電防止層、防眩層、防汚層などを形成する樹脂組成物を調製する工程、（ｃ）光透過性基材の外周に沿って枠印刷パターンを形成する工程、（ｄ）該枠印刷パターンを覆うようにして、かつ該枠印刷パターンと該ハードコート層との間に保護印刷パターンを形成する工程、及び（ｅ）該光透過性基材と該保護印刷パターンとを覆うように全面に電離放射線硬化性樹脂組成物の未硬化樹脂層を形成する工程、（ｆ）該未硬化樹脂層に電離放射線を照射してハードコート層を設ける工程、の各工程を順に有する製造方法が好ましく挙げられる。
【００６６】
上記（ｂ）工程において、各層用の樹脂組成物は、一般的な調製法に従って、上記した各樹脂組成物に含まれる成分を混合し分散処理することにより調製することができる。混合分散には、ペイントシェーカー又はビーズミルなどにより、分散処理すればよい。
上記（ｃ）〜（ｅ）工程において、各層の形成は、各層を形成する樹脂組成物を塗布して行えばよく、塗布方法としては、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、エクストルージョンコート法、マイクログラビアコート法、ロールコート法、エクストルージョン法、スピンコート法、スプレー法、ダイコート法、スライドコート法、バーコート法、メニスカスコーター法、スクリーン印刷法、ピードコーター法などの各種方法から選択することができる。なかでも、（ｃ）工程の枠印刷パターンの形成には、ハードコート層の平滑性や厚さの精度を確保する観点から、グラビアコート法を採用することが好ましく、厚さを上記の所定の範囲とするために、少なくとも２回刷りすることが好ましく、３回刷りすることがより好ましい。
【００６７】
硬化性樹脂として熱硬化性樹脂を用いる場合、加熱による硬化処理は、通常上記（ｃ）〜（ｅ）工程の各工程の間に行ったり、あるいは（ｆ）工程の電離放射線の照射前、あるいは後に行ってもよい。温度条件や処理時間は、使用する硬化性樹脂に応じて適宜決定すればよく、加熱による硬化処理方法は公知の方法により行えばよい。
また、電離放射線硬化性樹脂組成物中の溶媒として浸透性溶剤を用いた場合には、（ｆ）工程の電離放射線の照射の前に、ハードコート層を形成する電離放射線硬化性樹脂組成物を塗布して形成した未硬化樹脂層を、例えば乾燥温度：４０〜８０℃、乾燥時間：２０〜７０秒、風速：５〜２０ｍ／ｍｉｎの条件で乾燥処理を行うことが好ましい。上記の条件で乾燥処理を行うことで、溶剤が光透過性基材に十分に浸透し、含浸層の厚さがばらつくことなく安定し、また上記の所定の範囲内への調整が容易になる。
【００６８】
（ｆ）工程において、未硬化樹脂層の硬化方法は、用いる硬化性樹脂により適宜選択すればよく、電離放射線として電子線を用いる場合、その加速電圧については、用いる樹脂や層の厚みに応じて適宜選定し得るが、通常加速電圧７０〜３００ｋＶ程度で未硬化樹脂層を硬化させることが好ましい。なお、電子線の照射においては、加速電圧が高いほど透過能力が増加するため、基材として電子線により劣化する基材を使用する場合には、電子線の透過深さと未硬化樹脂層の厚みとが実質的に等しくなるように、加速電圧を選定することにより、光透過性基材への余分の電子線の照射を抑制することができ、過剰電子線による光透過性基材の劣化を最小限にとどめることができる。
【００６９】
照射線量は、ハードコート層を形成する硬化性樹脂の架橋密度が飽和する量が好ましい。
さらに、電子線源としては、特に制限はなく、例えばコックロフトワルトン型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、あるいは直線型、ダイナミトロン型、高周波型などの各種電子線加速器を用いることができる。
【００７０】
電離放射線として紫外線を用いる場合には、波長１９０〜３８０ｎｍの紫外線を含むものを放射する。紫外線源としては特に制限はなく、例えば高圧水銀燈、低圧水銀燈、メタルハライドランプ、カーボンアーク燈などが用いられる。この場合の照射線量は、ハードコート層を形成する硬化性樹脂の架橋密度が飽和する量が好ましく、ハードコート層の厚さや紫外線の照度によって適宜選択すればよく、硬化性、及び硬化後の皺の発生を抑制する観点から、好ましくは５０〜３００ｍＪ／ｃｍ2、より好ましくは１００〜２５０ｍＪ／ｃｍ2である。なお、光透過性基材を構成する材料としてセルロース系樹脂（とりわけ、トリアセチルセルロース樹脂）を採用する場合は、電子線の照射により材料が劣化しやすいため、電離放射線として紫外線を採用することが好ましい。
【００７１】
このようにして得られた、本発明の光学積層体は、枠印刷パターンのひび割れの発生が抑えられ、かつ優れた基材との密着性を有しており、また厚さが薄く、また光透過性基材としてトリアセチルセルロース基材を用いた場合は干渉縞の発生が抑えられるため、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、無機及び有機ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ−ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｄｉｏｄｅ）ディスプレイ、電子ペーパーなどに用いられるディスプレイやタッチパネルなどに用いられる偏光子の保護用シートとして好適に用いられる。
【００７２】
［偏光板］
本発明の偏光板は、偏光子保護シート、偏光子、及び本発明の光学積層体を順に有するものである。図４に、本発明の偏光板の構成例を示す。図４において、本発明の偏光板１１は、偏光子７の一方の面と本発明の光学積層体１０の光透過性基材１とが接着層６を介して設けられており、他方の面には偏光子保護シートが設けられた構成を有している。通常、本発明の偏光板は、偏光子保護シートが映像源側となり、本発明の光学積層体が観察者側となるようにディスプレイに設けられる。
偏光子に本発明の光学積層体、偏光子保護シートを設ける方法としては、偏光子の上に光学積層体、偏光子保護シートを直接成形して設ける方法や、光学積層体、偏光子保護シートを先に作製しておき、その後、接着剤層を介して偏光子に貼り合わせる方法などが好ましく挙げられる。
【００７３】
（偏光子）
偏光板で用いる偏光子としては、特定の振動方向をもつ光のみを透過する機能を有する偏光子であればいかなるものでもよく、一般的にはＰＶＡ（ポリビニルアルコール）系偏光子が好ましく用いられる。
ＰＶＡ系偏光子としては、例えばＰＶＡ系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルムなどの親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料などの二色性物質を吸着させて一軸延伸したものが挙げられる。これらのなかでもＰＶＡ系フィルムとヨウ素などの二色性物質からなる偏光子が好適に用いられる。これら偏光子の厚さは特に制限されず、一般的に、１〜１００μｍ程度である。
【００７４】
偏光子を構成する樹脂として好適に用いられるＰＶＡ系樹脂は、ポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化することにより得られる。ポリ酢酸ビニル系樹脂としては、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルのほか、酢酸ビニル及びこれと共重合可能な他の単量体の共重合などが例示される。酢酸ビニルに共重合される他の単量体としては、例えば、不飽和カルボン酸類、オレフィン類、ビニルエーテル類、不飽和スルホン酸類などが挙げられる。
ＰＶＡ系樹脂のケン化度は、通常８５〜１００モル％、好ましくは９８〜１００モル％の範囲である。このＰＶＡ系樹脂は、さらに変性されていてもよく、例えば、アルデヒド類で変性されたポリビニルホルマールやポリビニルアセタールなども使用し得る。ＰＶＡ系樹脂の重合度は、通常１，０００〜１０，０００、好ましくは１，５００〜１０，０００の範囲である。
【００７５】
（偏光子保護シート）
本発明の偏光板において、偏光子保護シートは偏光子を保護することができ、かつ光透過性を有するものであれば特に限定されるものではなく、例えば本発明の光学積層体の光透過性基材で用いられるトリアセチルセルロース基材や、トリアセチルセルロース以外のセルロース系、例えばジアセチルセルロース、アセチルブチルセルロース、セロファンなどのセルロース系基材、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル基材、ポリカーボネート基材、シクロポリオレフィン基材、ポリアミド基材、ポリイミド基材などが好ましく挙げられる。
【００７６】
本発明の偏光板を各種ディスプレイに用いる場合、偏光子保護シートとしては、屈折率異方性を付与しうるものを用いることが好ましい。そのようなシートとしては、λ／４板としての性能を有するシートが好ましく挙げられる。通常、λ／４板としての性能とは、入射光の波長の１／４の値を示すことを意味するものであるが、本発明においては厳密に１／４の値を示すものではなく、１／４の値の±１０％の範囲の値を示すものも含むものとする。また、偏光子保護シートがλ／４板としての性能を有する場合、該シートの面内位相差値Ｒｅ値の波長分散は、波長が短くなるほどＲｅ値が小さくなる逆分散性能を示すものがより好ましい。
【００７７】
また、偏光子保護シートの偏光子と接する面に、偏光子との密着性を向上させるためにコロナ処理、プラズマ処理、低圧ＵＶ処理、ケン化処理などの表面処理やアンカー層を形成する方法などの易接着処理を施したり、あるいは易接着層（プライマー層）を設けることができる。なかでもコロナ処理、アンカー層を形成する方法、及びこれらを併用する方法が好ましい。
なお、該偏光子保護シートが本発明の光学積層体であってもよい、すなわち本発明の偏光板は、偏光子を挟む２枚のシートのうち、少なくとも１枚が本発明の光学積層体であればよく、偏光子を挟む２枚のシートのいずれもが本発明の光学積層体でもよい。
【００７８】
（偏光板の製造方法）
偏光板は、例えば、上述のようなＰＶＡ系フィルムを一軸延伸する工程、ＰＶＡ系樹脂フィルムを二色性色素で染色して、その二色性色素を吸着させる工程、二色性色素が吸着されたＰＶＡ系フィルムをホウ酸水溶液で処理する工程、ホウ酸水溶液による処理後に水洗する工程、及びこれらの工程が施されて二色性色素が吸着配向された一軸延伸ＰＶＡ系フィルムを偏光子とし、本発明の光学積層体を該偏光子の一方の面に、また上記の偏光子保護シートを他方の面に貼り付ける工程を経て、製造される。
【００７９】
光学積層体、及び偏光子保護シートは、光学積層体、及び偏光子保護シート、あるいは偏光子のいずれかの側又は両側に接着剤を塗布して接着層を設けて貼りつけることができる。接着層に用いられる接着剤としては、光透過性基材がトリアセチルセルロースなどの吸湿性を有する材料で形成されるときは、例えば公知のＰＶＡ系接着剤が好ましく挙げられ、また光透過性基材がポリエステル樹脂などの吸湿性を有しない材料で形成されるときは、紫外線硬化性接着剤が好ましく挙げられる。
接着層の厚みは、乾燥後の厚さが厚くなりすぎると光学積層体、及び偏光子保護シートの接着性が低下することから、好ましくは０．０１〜１μｍ、より好ましくは０．０３〜０．５μｍである。
【００８０】
次いで、上記のようにして易接着処理を行った面に接着層を形成し、該接着層を介して、偏光子と光学積層体、及び偏光子保護シートとを貼り合せる。貼り合わせは、ロールラミネーターなどにより行うことができる。なお、加熱乾燥温度、乾燥時間は接着剤の種類に応じて適宜決定される。
【００８１】
本発明の偏光板は、枠印刷パターンのひび割れの発生が抑えられ、かつ優れた基材との密着性を有しており、また厚さが薄い光学積層体を用いており、該光学積層体における光透過性基材としてトリアセチルセルロース基材を用いた場合は干渉縞の発生が抑えられるため、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、無機及び有機ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ−ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｄｉｏｄｅ）ディスプレイ、電子ペーパーなどに用いられるディスプレイやタッチパネルなどに好適に用いられる。これらの用途においては、光透過性基材としてトリアセチルセルロース基材を用い、かつハードコート層が防眩性を有しない（グレア）ハードコート層とする態様が、最も顕著な本発明の効果が得られることから、好ましい態様である。
【００８２】
［画像表示装置］
本発明の画像表示装置は、上記の本発明の光学積層体又は上記の本発明の偏光板を備えることを特徴とするものである。このような画像表示装置としては、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）や電子ペーパーなどに用いられるディスプレイなどの非自発光型画像表示装置、あるいはプラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、無機及び有機ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ−ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｄｉｏｄｅ）ディスプレイなどの自発光型画像表示装置などが好ましく挙げられる。
本発明の画像表示装置は、これらの画像表示装置のいずれかの場所に本発明の光学積層体又は偏光板を備えていれば、その構成に特に制限はなく、例えば液晶ディスプレイにおいて液晶表示素子と偏光板との間に必要に応じて挿入される位相差板などといった、各ディスプレイに必要に応じて設けられる構成部品を適宜用いることについても制限はない。
【実施例】
【００８３】
次に、本発明を実施例により、さらに詳細に説明するが、本発明は、この例によってなんら限定されるものではない。
（評価方法）
（１）密着性の評価
実施例及び比較例で得られた光学積層体について、クロスカット碁盤目試験により、元のカット部数（１０×１０＝１００マス，１マスの大きさ：１ｍｍ×１ｍｍ）に対する粘着テープを貼付し、剥離した後の、光学積層体の表面の状態について、下記の基準で評価した。
◎  ：全く剥離を生じないマスが９５個以上存在した
○  ：全く剥離を生じないマスが８５個以上９４個以下存在した
△  ：全く剥離を生じないマスが７５個以上８４個以下存在した
×  ：全く剥離を生じないマスが７４個未満存在した
（２）耐溶剤性の評価
実施例及び比較例と同様にして、光透過性基材上に枠印刷パターンを塗布し、加熱硬化処理をした後、メチルエチルケトンを数滴たらし、乾燥するまで放置した後、その表面を目視で観察し、下記の基準で評価した。
◎  変化無し
○  数本ひび割れ有り
△  無数のひび割れ有り
×  無数のひび割れが有り、外観が白化
（３）干渉縞の評価
実施例及び比較例で得られた光学積層体のハードコート層と逆の面に、裏面反射を防止するための黒色テープを貼り、ハードコート層をＮａランプ、又は三波長型蛍光灯で照らし、ハードコート層側から目視で観察し、干渉縞の発生の有無を評価した。
◎  干渉縞は全く発生しなかった
○  干渉縞はほとんど発生しなかった
△  干渉縞は若干発生したものの、実用上問題なかった
×  干渉縞が発生した
（４）枠印刷パターンの透過濃度の測定
実施例及び比較例で得られた光学積層体の枠印刷パターンについて、透過濃度計（「Ｘ−Ｒｉｔｅ  ３６１Ｔ（型番）」，Ｘ−Ｒｉｔｅ社製）を用いて、３ｍｍ径のアパーチャーで、透過濃度を測定した。透過濃度は、枠印刷パターンの印刷面側を縦横方向に各々１００ｍｍ間隔で３点測定し、その平均値とした。
（５）枠印刷パターン及び保護印刷パターンの厚さの測定
実施例及び比較例で得られた光学積層体の枠印刷パターン及び保護印刷パターンについて、デジタル厚み計（「デジマチックインジケーター  ＩＤ−Ｈ０５３０（型番）」，株式会社ミツトヨ社製）を用いて厚さ測定を行った。各パターンの厚さは、印刷パターンの印刷面上、及び該印刷パターン近傍のパターンが印刷されていない面上を縦横方向に各々１００ｍｍ間隔で３点測定し、印刷パターンの印刷面の厚さの平均値とパターンが印刷されていない面の厚さの平均値との差をもって、印刷パターンの厚さとした。
【００８４】
実施例１
光透過性基材（トリアセチルセルロースフィルム，厚さ：６０μｍ，「ＴＤ６０ＵＬ（型番）」，富士フイルム株式会社製）を準備し、該基材の一方の面に、下記の２液硬化性を有する黒色の枠印刷パターン用樹脂組成物Ａ（「ＶＭ-Ｄ７９５墨(商品名)，大日精化工業株式会社製」）をグラビア印刷法により２回刷りし、温度７０℃の熱オーブン中で６０秒間加熱して乾燥させて、厚さ：３μｍ、幅：１２ｍｍの枠印刷パターンを形成し、下記の２液硬化性を有する保護印刷パターン用樹脂組成物Ａ（「ＶＭ-Ｄメヂウム(商品名)，大日精化工業株式会社製」）をグラビア印刷法で塗布し、温度７０℃の熱オーブン中で６０秒間加熱して乾燥させて、厚さ：１．５μｍの保護印刷パターンを形成し、４０℃のオーブン内で２４時間加熱処理を行い、枠印刷パターン及び保護印刷パターンを硬化させた。ここで、該保護印刷パターンと光透過性基材との接する幅は１ｍｍとした。次いで、下記の紫外線硬化性樹脂組成物をグラビアコート法で塗布して未硬化樹脂層を形成し、温度７０℃の熱オーブン中で６０秒間加熱して溶剤のメチルエチルケトンを揮発させてから、紫外線を積算総量が１５０ｍＪ／ｃｍ2となるように照射して、厚さ：１０μｍのハードコート層を形成して、図１に示されるような光学積層体を得た。得られた光学積層体について、上記の評価を行った。評価結果を第１表に示す。
（枠印刷パターン用樹脂組成物Ａ）
アクリルポリオール樹脂（重量平均分子量：６００００）：１６質量部
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体（重量平均分子量：５００００）：６質量部
カーボンブラック（一次平均粒径：２０ｎｍ）：９質量部
ポリイソシアネート硬化剤（「ＰＴＣ−Ｌ８改  硬化剤（商品名）」，大日精化工業株式会社製）：７質量部
溶剤（メチルエチルケトン／トルエン＝５／５）：６２質量部
（保護印刷パターン用樹脂組成物Ａ）
アクリルポリオール樹脂（重量平均分子量：６００００）：１８質量部
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体（重量平均分子量：５００００）：７質量部
ポリイソシアネート硬化剤（「ＰＴＣ−Ｌ８改  硬化剤（商品名）」，大日精化工業株式会社製）：７質量部
溶剤：（メチルエチルケトン／トルエン＝５／５）：６８質量部
（紫外線硬化性樹脂組成物）
１０官能ウレタンアクリレート（「ＵＶ−１７００Ｂ（商品名）」，日本合成工業株式会社製，重量平均分子量：２０００）：５０質量部
３官能ポリエステルアクリレート系オリゴマー（「Ｍ９０５０（商品名）」，東亜合成株式会社製，重量平均分子量：４００〜４３０）：５０質量部
光重合開始剤（「イルガキュア１８４（品名）」，ＢＡＳＦ社製）：４質量部
メチルエチルケトン：１００質量部
レベリング剤（「Ｆ４７７（型番）」，ＤＩＣ株式会社製，ノニオン性含フッ素基・親水性基・親油性基含有オリゴマー）：０．２質量部
【００８５】
実施例２
実施例１において、枠印刷パターン用樹脂組成物Ａを枠印刷パターン形成用樹脂組成物Ｂ（「ＳＳ  ８０５墨(商品名)，大日精化工業株式会社製」）として、該樹脂組成物Ｂを３回擦りして枠印刷パターンの厚さを４．５μｍとした以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。得られた光学積層体について、上記の評価を行った。評価結果を第１表に示す。
（枠印刷パターン形成用樹脂組成物Ｂ）
ウレタン樹脂（重量平均分子量：５００００）：１３質量部
カーボンブラック（一次平均粒径：２０ｎｍ）：１３質量部
ポリイソシアネート硬化剤（「ラミックＢハードナー（商品名）」，大日精化工業株式会社製）：２質量部
溶剤：（メチルエチルケトン／トルエン／イソプロピルアルコール＝４／４／２）：７２質量部
【００８６】
実施例３
実施例１において、枠印刷パターン形成用樹脂組成物Ａを下記の枠印刷パターン形成用樹脂組成物Ｃ（「ＮＢ３００  ８０５墨(商品名)，大日精化工業株式会社製」）として、該樹脂組成物Ｃを３回刷りして枠印刷パターンの厚さを４．５μｍとした以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。得られた光学積層体について、上記の評価を行った。評価結果を第１表に示す。
（枠印刷パターン形成用樹脂組成物Ｃ）
ウレタン樹脂（重量平均分子量：５００００）：１１質量部
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体（重量平均分子量：５００００）：３質量部
カーボンブラック（一次平均粒径：２０ｎｍ）：１４質量部
ポリイソシアネート硬化剤（「ラミックＢハードナー（商品名）」，大日精化工業株式会社製）：２質量部
溶剤：（メチルエチルケトン／トルエン／イソプロピルアルコール＝４／４／２）：７０質量部
【００８７】
実施例４
実施例１において、枠印刷パターン形成用樹脂組成物Ａを実施例３で用いた枠印刷パターン形成用樹脂組成物Ｃとして、該樹脂組成物Ｃを３回擦りして枠印刷パターンの厚さを４．５μｍとし、保護印刷パターン形成用樹脂組成物Ａを下記の保護印刷パターン形成用樹脂組成物Ｂ（「ＴＭ−ＶＭＡＣ(商品名)，大日精化工業株式会社製」）にした以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。得られた光学積層体について、上記の評価を行った。評価結果を第１表に示す。
（保護印刷パターン用樹脂組成物Ｂ）
アクリルポリオール樹脂（重量平均分子量：８００００）：２５質量部
ポリイソシアネート硬化剤（「ＰＴＣ−Ｌ８改  硬化剤（商品名）」，大日精化工業株式会社製）：７質量部
溶剤：（メチルエチルケトン／トルエン＝５／５）：６８質量部
【００８８】
実施例５
実施例１において、光透過性基材をポリエチレンテレフタレート樹脂基材（「Ａ４３００（商品名）」，東洋紡株式会社製，厚さ：５０μｍ）とした以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。得られた光学積層体について、上記の評価を行った。評価結果を第１表に示す。
【００８９】
実施例６
実施例１において、紫外線硬化性樹脂組成物に含まれる溶剤をメチルエチルケトンからメチルイソブチルケトンとした以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。得られた光学積層体について、上記の評価を行った。評価結果を第１表に示す。
【００９０】
比較例１
実施例１において、保護印刷パターンを設けなかった以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。得られた光学積層体について、上記の評価を行った。評価結果を第１表に示す。
【００９１】
比較例２
実施例１において、保護印刷パターン形成用樹脂組成物Ａをアクリルポリオール樹脂を含まない下記の保護印刷パターン形成用樹脂組成物Ｃとした以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。得られた光学積層体について、上記の評価を行った。評価結果を第１表に示す。
（保護印刷パターン用樹脂組成物Ｃ）
ウレタン樹脂（重量平均分子量：５００００）：２５質量部
ポリイソシアネート硬化剤（「ラミックＢハードナー（商品名）」，大日精化工業株式会社製）：５質量部
溶剤：（メチルエチルケトン／トルエン＝５／５）：７０質量部
【００９２】
【表１】
2013254117.tif 000003
【００９３】
実施例の光学積層体は、密着性、耐溶剤性、及び干渉縞の全ての評価に優れていることが確認された。一方、保護印刷パターンを設けなかった比較例１では、枠印刷パターンと光透過性基材との密着性が悪く、また耐溶剤性の点でも十分な効果は示せず、保護印刷パターン用樹脂組成物中の樹脂としてアクリルポリオールを用いなかった比較例２では、優れた密着性を得ることはできなかった。また、実施例１〜４の光学積層体は、実施例５及び６の光学積層体よりも含浸層が厚いため、干渉縞の評価の点で優れていることが確認された。
【産業上の利用可能性】
【００９４】
本発明の光学積層体は、枠印刷パターンのひび割れの発生が抑えられ、かつ優れた基材との密着性を有しており、また厚さが薄く、また光透過性基材としてトリアセチルセルロース基材を用いた場合は干渉縞の発生が抑えられるため、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、無機及び有機ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ−ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｄｉｏｄｅ）ディスプレイ、電子ペーパーなどに用いられるディスプレイやタッチパネルなどに用いられる偏光子の保護用シートとして好適に用いられる。
【符号の説明】
【００９５】
１  光透過性基材
２  枠印刷パターン
３  保護印刷パターン
４  ハードコート層
５  含浸層
６  接着層
７  偏光子
８  偏光子保護シート
１０  光学積層体
１１  偏光板
【図１】
2013254117.tif 000004
【図２】
2013254117.tif 000005
【図３】
2013254117.tif 000006
【図４】
2013254117.tif 000007