(57)【要約】【課題】フォトマスク製造用データの検査方法において、描画前に異常を検出する検査方法を提供する。【解決手段】フォトマスク描画データを作成する描画データ作成工程と、描画データと、変換した条件の描画変換実績データとをデータベースに記憶させる記憶工程と、フォトマスク外観検査データを作成する検査データ作成工程と、作成したフォトマスク外観検査データと、変換した条件の検査変換実績データとをデータベースに記憶させる記憶工程と、データベースに記憶した描画変換実績データと検査変換実績データを比較し、同一である変換データを削除し、比較用描画変換実績データと比較用検査変換実績データとを作成する同一データ削除工程と、比較用描画変換実績データと比較用検査変換実績データとから正誤の判定をする比較検証工程と、を有する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
リソグラフィ技術に用いられるフォトマスクを製造するためのデータの検査方法において、
フォトマスクのパターン設計データを変換してフォトマスク描画データを作成する描画データ作成工程と、
作成したフォトマスク描画データと、変換した条件の描画変換実績データとをデータベースに記憶させる描画データ記憶工程と、
フォトマスクのパターン設計データを変換してフォトマスク外観検査データを作成する検査データ作成工程と、
作成したフォトマスク外観検査データと、変換した条件の検査変換実績データとをデータベースに記憶させる検査データ記憶工程と、
データベースに記憶した描画変換実績データと検査変換実績データを比較して、同一である変換データを削除し、比較用描画変換実績データと比較用検査変換実績データとを作成する同一データ削除工程と、
比較用描画変換実績データと比較用検査変換実績データとから正誤の判定をする比較検証工程と、
を有することを特徴とするフォトマスクデータ検査方法。
【請求項２】
パターン設計データの変換は、パターン設計データの配置を規定した座標、配置情報のデータと、マスク上でパターンを表現するために必要なデータ加工情報のデータとを用いて、描画データまたは検査データに変換すること、を特徴とする請求項１に記載のフォトマスクデータ検査方法。
【請求項３】
データベースに記憶した描画変換実績データと検査変換実績データとの比較は、両実績データから、パターン設計データの配置を規定した座標、配置情報のデータと、マスク上でパターンを表現するために必要なデータ加工情報のデータとの一致、不一致を比較すること、を特徴とする請求項１または２に記載のフォトマスクデータ検査方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、リソグラフィ技術に用いられるフォトマスクを製造するためのデータの検査方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
フォトマスクを用い、露光装置で露光して、被露光基板に加工を行うリソグラフィ技術で精密部品を製造することは、広く実施されている。また、パターン加工の微細化が進み、それに伴い精密部品を構成する微細パターンの量も年々増大している。その結果、フォトマスクにおける微細パターンの量も増大し、その品質を保証するための検査の負荷も増大している。特に半導体集積回路（ＬＳＩ）においては、その負荷の増大は顕著である。
【０００３】
一般にＬＳＩのフォトマスクの製造は、ＬＳＩとして実現する電子回路のパターンを設計したデータを加工して露光装置による描画データを作成し、ガラス基板にフォトレジストを塗布した基板に、描画データを描画、現像して製造する。また、電子回路のパターンを設計したデータから検査用データを作成し、製造後、外観検査を行い、品質を保証している。
【０００４】
このようなフォトマスク製造においては、近年の多種多様なフォトマスクのユーザからの要求によって、多様な設計データの加工処理が必須となっている。
一例として挙げれば、フォトマスクの製品外観保証としては、マスクを製造するためのデータ加工、描画、プロセスの保証を含め、フォトマスク検査装置による外観検査（設計データとフォトマスクパターンの照合）が一般的である。
フォトマスクの製造において、描画工程では描画データと、描画ジョブデック（描画時に使用される、描画データを制御するためのデータ）が必要であるが、外観保証の過程では描画データ、描画ジョブデックを作成したのと同様の作業を経て検査データおよび検査用ジョブデックが作成される。
【０００５】
また、描画データ、描画ジョブデックを作成するためには、レイアウトデータ（設計データで、一般的には１チップ相当のデータ）と、そのデータの配置を規定した座標・配列情報、および、そのデータをフォトマスク上どのように表現するかを規定したデータ加工情報（ミラーリング（鏡像反転）、リバース（反転）、ローテーション（回転）、サイジング（サイズの拡大、縮小）など）が必要となる。
【０００６】
描画データは、設計データを様々な加工情報によってデータ変換が施されて作成され、描画ジョブは設計データ名とその座標・配列情報、およびデータ加工情報を記載して作成される。これらの作業は人手またはプログラムにより実施される。
【０００７】
図７は、このようなフォトマスクのパターン配置の説明図である。フォトマスク１は、ＬＳＩの１チップを表すセルＡ２が、複数配置される。このとき、セルの種類名Ａと、各セルをフォトマスク１に配置するためのセルの原点の座標と、セルＡ２の配置の向きと、の情報が必要である。また、フォトマスク１に必要な位置合わせマークや測定用マークについても同様に、セルの種類名Bと、セルＢ３の原点の座標と、セルＢ３と配置の向きの情報が必要である。また、このように配置したデータに対してフォトマスク製造のために、データを加工する。この場合に、データ加工情報（ミラーリング（鏡像反転）、リバース（反転）、ローテーション（回転）、サイジング（サイズの拡大、縮小）など）が必要となる。そしてジョブデックには、これらの情報に基づいた処理の実績データが記録される。
【０００８】
このようなマスク製造の保証方法として、設計データを簡易データとして置き換えて描画データと設計データとのレイアウトを保証するような簡易的な確認手法がとられる場合や（特許文献２）、描画データ・描画ジョブデックと検査データを使用して比較・検証する手法が行われている場合もある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２０００−２５０９６０号公報
【特許文献２】特開２００８−１４５８５０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
フォトマスク製造における描画データ・描画ジョブデックの不具合は、設計データに対するデータ加工の誤りや座標・配列の誤り、また設計データ選択の相違等の作業上のミスによって発生する。
その不具合は、外観検査工程での異常検出で発見されるが、その時点までの描画・プロセス・検査を経るため、これら工程におけるコストロス（装置稼働時間、材料、人件費）が発生してしまう。
【００１１】
また、外観検査で形状異常を検出した際、それがどの工程で生じた異常なのか判断がつき難いため、設計データを基にした調査を必要とし、調査する時間によって大幅な工程ロスが発生する。そのため、データ加工における異常が発生した時のコストロスを最小限に抑えるためには、描画前に描画データ・描画ジョブデックの異常を検出し、保証することが望ましい。
【００１２】
しかしながら上記したように、近年の設計データにおけるデータ量は膨大化しており、特に、フォトマスクパターンの主要な部分では、その設計データが多面に配列されるため、比較すべきデータ量がさらに膨大なものとなる。
そのため、データ処理システムへ大きな負荷が掛かるだけでなく、多大な比較・検証時間を必要とし、描画前に検証作業を行うことが困難であった。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明は係る課題に鑑みなされたものであり、請求項１の発明は、
リソグラフィ技術に用いられるフォトマスクを製造するためのデータの検査方法において、
フォトマスクのパターン設計データを変換してフォトマスク描画データを作成する描画データ作成工程と、
作成したフォトマスク描画データと、変換した条件の描画変換実績データとをデータベースに記憶させる描画データ記憶工程と、
フォトマスクのパターン設計データを変換してフォトマスク外観検査データを作成する検査データ作成工程と、
作成したフォトマスク外観検査データと、変換した条件の検査変換実績データとをデータベースに記憶させる検査データ記憶工程と、
データベースに記憶した描画変換実績データと検査変換実績データを比較して、同一である変換データを削除し、比較用描画変換実績データと比較用検査変換実績データとを作成する同一データ削除工程と、
比較用描画変換実績データと比較用検査変換実績データとから正誤の判定をする比較検証
工程と、
を有することを特徴とするフォトマスクデータ検査方法としたものである。
【００１４】
本発明の請求項２の発明は、
パターン設計データの変換は、パターン設計データの配置を規定した座標、配置情報のデータと、マスク上でパターンを表現するために必要なデータ加工情報のデータとを用いて、描画データまたは検査データに変換すること、を特徴とする請求項１に記載のフォトマスクデータ検査方法としたものである。
【００１５】
本発明の請求項３の発明は、
データベースに記憶した描画変換実績データと検査変換実績データとの比較は、両実績データから、パターン設計データの配置を規定した座標、配置情報のデータと、マスク上でパターンを表現するために必要なデータ加工情報のデータとの一致、不一致を比較すること、を特徴とする請求項１または２に記載のフォトマスクデータ検査方法としたものである。
【発明の効果】
【００１６】
本発明のフォトマスクデータ検査方法は以上のような構成であって、
フォトマスクパターンの主要部における製品保証を描画データジョブデックと検査データによる比較・検証処理をする工程において、同一条件のデータを削除したデータを比較することで、データサイズを削減して検証するために長い時間を要することなく、比較・検証処理の実施を可能とする。
【００１７】
すなわち、設計データに対するデータ加工の誤りや座標・配列の誤り、また、設計データの使い間違え等の作業上のミスによって発生する異常検出を、描画前に行うことで、異常発生におけるコストロスを最小限に抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明のフォトマスクデータ検査方法の一例のフロー図である。
【図２】本発明に係る同一データ削除工程の処理のフロー図である。
【図３】本発明に係る同一データ削除工程のアレイ情報を、模式的に示した説明図である。
【図４】本発明に係る同一データ削除工程の変換プロパティを紐付けしたアレイ情報の模式図である。
【図５】本発明に係る同一データ削除工程でのデータ比較を、模式的に示した説明図である。
【図６】本発明に係る同一データ削除工程により削除したデータの例を、模式的に示した説明図である。
【図７】従来のフォトマスクのパターン配置例の説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下本発明を実施するための形態につき説明する。
【００２０】
本発明のフォトマスクデータ検査方法は、リソグラフィ技術に用いられるフォトマスクを製造するためのデータの検査方法であることを前提とする。本発明の方法では、フォト
マスクのパターン設計データを変換してフォトマスク描画データを作成する描画データ作成工程と、
作成したフォトマスク描画データと、変換した条件の描画変換実績データとをデータベースに記憶させる描画データ記憶工程と、
フォトマスクのパターン設計データを変換してフォトマスク外観検査データを作成する検査データ作成工程と、
作成したフォトマスク外観検査データと、変換した条件の検査変換実績データとをデータベースに記憶させる検査データ記憶工程と、
データベースに記憶した描画変換実績データと検査変換実績データを比較して、同一である変換データを削除し、比較用描画変換実績データと比較用検査変換実績データとを作成する同一データ削除工程と、
比較用描画変換実績データと比較用検査変換実績データとから正誤の判定をする比較検証工程と、
を有する。
【００２１】
フォトマスク描画データを作成するときの、変換した条件の描画変換実績データとは、レイアウトデータを変換した描画データと、そのデータの配置を規定した座標・配列情報、および、そのデータをフォトマスク上にどのように表現するかを規定したデータ加工情報（ミラーリング（鏡像反転）、リバース（反転）、ローテーション（回転）、サイジング（サイズの拡大、縮小）など）を例示でき、これらをそれぞれファイル形式で描画データジョブデックとして記録される。
【００２２】
検査実績データも同様にして検査データジョブデックとして記録される。同一データ削除工程では、描画データジョブデックと検査データジョブデックとを比較し、同一のデータファイルがあればそれぞれ除去され、比較用描画変換実績データと比較用検査変換実績データとして比較用のデータを作成する。
【００２３】
図１は、本発明のフォトマスクデータ検査方法の一例のフロー図である。
【００２４】
まず、パターン設計データ、パターン設計データの配置を規定した座標・配列情報、マスク上でパターンを表現するために必要なデータ加工情報を用意する。（Ｓ１０、Ｓ１１、Ｓ１２）。
【００２５】
つぎにこれらのデータ、情報をもとに、データを変換してフォトマスク描画データ、描画データジョブデックを作成する（Ｓ２０描画データ作成工程）。
【００２６】
同様にして、これらのデータ、情報をもとに、データを変換してフォトマスク検査データ、検査データジョブデックを作成する（Ｓ２１検査データ作成工程）。
【００２７】
作成されたフォトマスク描画データ、描画データジョブデック、フォトマスク検査データ、検査データジョブデック、描画・検査の変換実績を変換実績データベースとして、それぞれ記憶装置に記憶する（Ｓ３０描画・検査データ記憶工程）。
【００２８】
次に、データベースに記憶した描画変換実績データと検査変換実績データを比較し、同一変換データを削除し、比較用描画変換実績データと比較用検査変換実績データとを作成して、データサイズを削減する（Ｓ４０、Ｓ５０、Ｓ５１同一データ削除工程）。
【００２９】
次に、比較用描画変換実績データと比較用検査変換実績データとを比較検証処理をする（Ｓ６０、比較検証工程）。
【００３０】
その結果残ったデータから、正誤の判定をする（Ｓ７０）。
【００３１】
このように同一データを削除して正誤の判定をするので、判定対象となるデータ量が減るため、検証の負荷を軽くすることができるだけでなく、描画工程の前に設計データに対するデータ加工の誤りや座標・配列の誤り、また、設計データの使い間違え等の作業上のミスによって発生する異常検出を行うことで、異常発生におけるコストロスを最小限に抑えることができる。
【００３２】
同一データ削除工程Ｓ４０、Ｓ５０、Ｓ５１について、具体的な処理フローを、図２を用いて説明する。
【００３３】
（１）Ｔ１０（描画ジョブの同一ファイル名の配置情報からアレイを作成）工程
パターン設計データおよびパターン設計データの配置を規定した座標・配列情報が記載されている描画ジョブデックから、データファイル（すなわち、セル、または描画ファイル）毎に、１つの配置情報に各座標・配列情報をまとめ、アレイ情報とする処理を行う。（図３に例示）。この場合、セルAは４つ、Bは６つ、Cは２つで、データファイル名毎に、各セル（Aは４つ、Bは６つ、Cは２つ）の各座標・配列情報を１つのアレイ情報にまとめる処理となる。
【００３４】
（２）Ｔ１１（検査ジョブの同一ファイル名の配置情報からアレイを作成）工程
検査ジョブデックからも同様の処理を、行い、アレイ情報を得る。
【００３５】
（３）Ｔ２０（描画データのオリジナルデータを変換実績ＤＢに問い合わせし、リストアップ）工程。
実績データベースには、設計データ名（オリジナルデータ名）を付与して記憶させている。
描画データを作成した際の元になった設計データ名（オリジナルデータ名）を、変換実績ＤＢに問い合わせ、描画データ作成時の情報（オリジナルデータ名、変換プロパティ(トップセル名、エリア、データ加工情報など)）を抽出する。そして、前工程Ｔ１０で得たアレイ情報に、紐付け、リスト化して、新たにアレイ情報とする。（図４に例示）。この場合、セルＡ、Ｂ、Ｃ（オリジナルデータ名）を変換実績ＤＢに問い合わせ、描画データ作成時のオリジナルデータ名、変換プロパティを抽出する。そして、前工程で得られた、データファイル名（すなわち、各セル名）毎の、アレイ情報を紐付けし、リストアップして新たにアレイ情報とする。
【００３６】
（４）Ｔ２１（検査データのオリジナルデータを変換実績ＤＢに問い合わせし、リストアップ）工程。
同様に、検査データを作成した際の元になった設計データ名（オリジナルデータ）を、変換実績ＤＢより検索し、検査データ作成時の情報（オリジナルデータ名、変換プロパティ）を抽出する。そして、前工程Ｔ１１で得たアレイ情報に、オリジナルデータ名、変換プロパティの情報を紐付け、リストアップして新たに検査データ毎のアレイ情報とする。
【００３７】
（５）Ｔ３（検査データリストと描画データリストを比較）工程。
【００３８】
以上の工程で最終的に作成した、検査データリスト（アレイ情報）と描画データリスト（アレイ情報）を順次、以下の工程で比較する。
【００３９】
（６）Ｔ４（比較する検査データがあるか）工程。
【００４０】
検査用のデータリスト内の全検査データに対し以下の処理を行う。順次、検査データ名
で、チェックアウトする。検査データが無くなり、終了した場合、Ｔ９の工程に進む。
【００４１】
（７）Ｔ５（オリジナルデータは同一か）工程。
【００４２】
検査用データリスト内の検査データで、描画用データリスト内に同一オリジナルデータ名を使った描画データがあるかチェックする。あった場合、その描画データと検査データの情報に対し以降の処理を実施する。無ければ、Ｔ４に戻る。
【００４３】
（８）Ｔ６（変換プロパティは同一か）工程。
【００４４】
検査用データとその描画データの変換プロパティが同じかどうかチェックする。同じで無ければ、Ｔ４に戻る。
【００４５】
（９）Ｔ７（配置情報とアレイは同一か）工程。
【００４６】
配置情報が同じかどうかチェックする。同じで無ければ、Ｔ４に戻る。
【００４７】
図５に、以上のＴ４、Ｔ５、Ｔ６、Ｔ７工程でのデータ比較を模式的に示した。
【００４８】
（１０）Ｔ８（描画ジョブ、検査ジョブからセル原点のデータを残して削除）工程。
同じオリジナルデータから同じ条件で作成され同じ配置をされているセルのデータは、セルの原点のみのデータとして、アレイ情報を削減し、データ比較の対象を削減する。
【００４９】
（１１）Ｔ９（比較用描画変換実績データを出力）工程。
【００５０】
（１２）Ｔ１００（比較用検査変換実績データを出力）工程。
【００５１】
以上のようにして、重複したアレイ情報を削除した結果から、比較用描画変換実績データと、比較用検査変換実績データを作成する。（図６に例示）。図６で、元の描画ジョブデックで繰り返し配置されたセルＡ、Ｂ、Ｃのうち、それぞれ１つのセルの原点の座標のみを残して比較用描画変換実績データとする。同様に、元の検査ジョブデックで繰り返し配置されたセルＸ、Ｙ、Ｚのうち、それぞれ１つのセルの原点の座標のみを残して比較用検査変換実績データとする。ただし、セルＡ、Ｂ、ＣとＸ、Ｙ、Ｚは、それぞれ同じパターンを有する。
【符号の説明】
【００５２】
１・・・フォトマスク
２・・・セルＡ
３・・・セルＢ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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