(57)【要約】【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。【解決手段】露光装置は、第１液体を介して露光光で基板を露光する。露光装置は、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、光学部材の下方で移動可能な物体が対向可能な第１下面を有し、射出面側の光路を含む光路空間及び第１下面側の第１空間の少なくとも一部に第１液体の第１液浸空間を形成する第１部材と、光路に対して第１部材の外側に配置され、物体が対向可能な第２下面を有し、第２下面側の第２空間の少なくとも一部に、第１液浸空間から離れて、第２液体の第２液浸空間を形成可能な第２部材と、第１部材の周囲の少なくとも一部に配置され、物体が対向可能な第３下面を有し、第１空間の外側における物体上の液体を第２空間に誘導する第３部材と、を備える。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、前記光学部材の下方で移動可能な物体が対向可能な第１下面を有し、前記射出面側の光路を含む光路空間及び前記第１下面側の第１空間の少なくとも一部に前記第１液体の第１液浸空間を形成する第１部材と、
前記光路に対して前記第１部材の外側に配置され、前記物体が対向可能な第２下面を有し、前記第２下面側の第２空間の少なくとも一部に、前記第１液浸空間から離れて、第２液体の第２液浸空間を形成可能な第２部材と、
前記第１部材の周囲の少なくとも一部に配置され、前記物体が対向可能な第３下面を有し、前記第１空間の外側における前記物体上の液体を前記第２空間に誘導する第３部材と、を備える露光装置。
【請求項２】
前記第３部材は、前記第３下面側の第３空間の外側に前記物体上の液体が移動することを抑制する請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記第３部材は、前記物体が対向可能に配置され、前記物体上の液体を前記第２空間に誘導可能な誘導部を有し、
前記誘導部に接触する前記物体上の液体が前記第２空間に誘導される請求項１又は２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記誘導部は、前記第２空間に向かって延びるように配置される請求項３に記載の露光装置。
【請求項５】
前記誘導部の端部は、前記第２空間に隣接する請求項４に記載の露光装置。
【請求項６】
前記誘導部は、前記第３下面に設けられた凸部を含む請求項４又は５に記載の露光装置。
【請求項７】
前記第３下面は、第１領域と、前記第１領域よりも前記液体に対して撥液性の第２領域と、を含み、
前記誘導部は、前記第１領域及び前記第２領域を含む請求項４又は５に記載の露光装置。
【請求項８】
前記第３部材は、前記第２空間に向かって誘導用液体が流通可能な流路を含み、
前記誘導用液体に接触する前記物体上の液体が前記第２空間に誘導される請求項１〜７のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項９】
前記誘導用液体は、前記物体が対向可能である請求項８に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記流路の少なくとも一部は、前記第３下面に配置される請求項８又は９に記載の露光装置。
【請求項１１】
前記流路は、前記第３下面に設けられた凹部を含む請求項１０に記載の露光装置。
【請求項１２】
前記誘導用液体は、前記第３下面よりも下方において前記物体に接触しないように前記流路を流れる請求項８〜１１のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１３】
前記流路の少なくとも一部は、前記第３部材の側面に配置される請求項８〜１２のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１４】
前記流路に前記誘導用液体を供給する供給部を有する請求項８〜１３のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１５】
第１液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、前記光学部材の下方で移動可能な物体が対向可能な第１下面を有し、前記射出面側の光路を含む光路空間及び前記第１下面側の第１空間の少なくとも一部に前記第１液体の第１液浸空間を形成する第１部材と、
前記光路に対して前記第１部材の外側に配置され、前記物体が対向可能な第２下面を有し、前記第２下面側の第２空間の少なくとも一部に、前記第１液浸空間から離れて、第２液体の第２液浸空間を形成可能な第２部材と、
前記第１部材の周囲の少なくとも一部に配置され、前記物体が対向可能な第３下面を有し、前記第３下面よりも下方において前記物体に接触しないように第３液体が流れる流路を有する第３部材と、を備え、
前記物体上の液体が、前記第３液体に捕捉される露光装置。
【請求項１６】
前記第３液体は、前記第２空間に向かって流れる請求項１５に記載の露光装置。
【請求項１７】
前記物体上の液体は、前記第３液体とともに、前記第２空間に向かって移動する請求項１６に記載の露光装置。
【請求項１８】
前記流路の少なくとも一部は、前記第３下面に配置される請求項１５〜１７のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１９】
前記流路の少なくとも一部は、前記第３部材の側面に配置され、
前記第３液体は、前記第３部材の側面の流路を流れた後、前記第第３下面の流路を流れる請求項１８に記載の露光装置。
【請求項２０】
前記流路に前記第３液体を供給する供給部を有する請求項１５〜１９のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項２１】
第１液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、前記光学部材の下方で移動可能な物体が対向可能な第１下面を有し、前記射出面側の光路を含む光路空間及び前記第１下面側の第１空間の少なくとも一部に前記第１液体の第１液浸空間を形成する第１部材と、
前記光路に対して前記第１部材の外側に配置され、前記物体が対向可能な第２下面を有し、前記第２下面側の第２空間の少なくとも一部に、前記第１液浸空間から離れて、第２液体の第２液浸空間を形成可能な第２部材と、
前記第１部材の周囲の少なくとも一部に配置され、前記物体が対向可能であり、前記第１空間の外側における前記物体上の液体が接触可能な第３下面を有する第３部材と、を備え、
前記第３下面は、第１領域と、前記第１領域よりも前記液体に対して撥液性の第２領域と、を含む露光装置。
【請求項２２】
前記第１領域及び前記第２領域は、前記第２空間に向かって延びるように配置される請求項２１に記載の露光装置。
【請求項２３】
前記第１領域及び前記第２領域の端部は、前記第２空間に隣接する請求項２２に記載の露光装置。
【請求項２４】
前記第３下面に配置される第１多孔部材を有する請求項１〜２３のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項２５】
前記第１多孔部材は、前記物体上の前記液体を吸収する請求項２４に記載の露光装置。
【請求項２６】
前記第２部材は、前記第２液浸空間を形成するための前記第２液体を供給する供給口と、少なくとも前記第２液体を回収する回収口と、を有する請求項１〜２５のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項２７】
前記第２部材は、第２多孔部材を含み、前記回収口は、前記第２多孔部材の孔を含む請求項２６に記載の露光装置。
【請求項２８】
前記供給口から前記第２液体が供給されない状態で、前記第２多孔部材から前記第２多孔部材に接触した物体上の前記液体が回収される請求項２７に記載の露光装置。
【請求項２９】
前記第２部材は、前記回収口に配置されたフィン部材を有し、
前記供給口から前記第２液体が供給されない状態で、前記回収口から前記フィン部材に接触した前記物体上の前記液体が回収される請求項２６に記載の露光装置。
【請求項３０】
第１液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、前記光学部材の下方で移動可能な物体が対向可能な第１下面を有し、前記射出面側の光路を含む光路空間及び前記第１下面側の第１空間の少なくとも一部に前記第１液体の第１液浸空間を形成する第１部材と、
前記光路に対して前記第１部材の外側に配置され、前記物体が対向可能な第２下面を有し、前記第２下面側の第２空間の少なくとも一部に、前記第１液浸空間から離れて、第２液体の第２液浸空間を形成可能な第２部材と、
前記光路に対して前記第１部材の外側に配置され、前記物体が対向可能な第３下面を有し、前記第３下面側の第３空間の少なくとも一部に、前記第１、第２液浸空間から離れて、第３液体の第３液浸空間を形成可能な第３部材と、を備え、
前記第３液浸空間は、前記光路に対して前記第２液浸空間の外側において、前記第２液浸空間及び前記第２液浸空間の外側の気体空間に面するように形成される露光装置。
【請求項３１】
前記第２部材は、前記第１部材の周囲に複数配置され、
前記第３液浸空間は、隣り合う一方の第２液浸空間と、他方の第２液浸空間と、前記一方の第２液浸空間と他方の液浸空間との間の気体空間とに面するように形成される請求項３０に記載の露光装置。
【請求項３２】
前記物体上の液体が、前記第２液浸空間及び前記第３液浸空間の少なくとも一方に捕捉される請求項３０又は３１に記載の露光装置。
【請求項３３】
請求項１〜３２のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
露光された前記基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【請求項３４】
第１液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、前記光学部材の下方で移動可能な物体が対向可能な第１下面を有する第１部材で、前記射出面側の光路を含む光路空間及び前記第１下面側の第１空間の少なくとも一部に前記第１液体の第１液浸空間を形成することと、
前記光路に対して前記第１部材の外側に配置され、前記物体が対向可能な第２下面を有する第２部材で、前記第２下面側の第２空間の少なくとも一部に、前記第１液浸空間から離れて、第２液体の第２液浸空間を形成することと、
前記第１部材の周囲の少なくとも一部に配置され、前記物体が対向可能な第３下面を有する第３部材で、前記第１空間の外側における前記物体上の液体を前記第２空間に誘導することと、を含む露光方法。
【請求項３５】
第１液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、前記光学部材の下方で移動可能な物体が対向可能な第１下面を有する第１部材で、前記射出面側の光路を含む光路空間及び前記第１下面側の第１空間の少なくとも一部に前記第１液体の第１液浸空間を形成することと、
前記光路に対して前記第１部材の外側に配置され、前記物体が対向可能な第２下面を有する第２部材で、前記第２下面側の第２空間の少なくとも一部に、前記第１液浸空間から離れて、第２液体の第２液浸空間を形成することと、
前記第１部材の周囲の少なくとも一部に配置され、前記物体が対向可能な第３下面を有する第３部材に設けられた流路に第３液体を流すことと、
前記物体上の液体を、前記第３液体で捕捉することと、を含む露光方法。
【請求項３６】
第１液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、前記光学部材の下方で移動可能な物体が対向可能な第１下面を有する第１部材で、前記射出面側の光路を含む光路空間及び前記第１下面側の第１空間の少なくとも一部に前記第１液体の第１液浸空間を形成することと、
前記光路に対して前記第１部材の外側に配置され、前記物体が対向可能な第２下面を有する第２部材で、前記第２下面側の第２空間の少なくとも一部に、前記第１液浸空間から離れて、第２液体の第２液浸空間を形成することと、
前記第１部材の周囲の少なくとも一部に配置され、前記物体が対向可能であり、第１領域及び前記第１領域よりも液体に対して撥液性の第２領域を含む第３部材の第３下面を、前記第１空間の外側における前記物体上の液体に接触させることと、を含む露光方法。
【請求項３７】
第１液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、前記光学部材の下方で移動可能な物体が対向可能な第１下面を有する第１部材で、前記射出面側の光路を含む光路空間及び前記第１下面側の第１空間の少なくとも一部に前記第１液体の第１液浸空間を形成することと、
前記光路に対して前記第１部材の外側に配置され、前記物体が対向可能な第２下面を有する第２部材で、前記第２下面側の第２空間の少なくとも一部に、前記第１液浸空間から離れて、第２液体の第２液浸空間を形成することと、
前記光路に対して前記第１部材の外側に配置され、前記物体が対向可能な第３下面を有する第３部材で、前記第３下面側の第３空間の少なくとも一部に、前記第１、第２液浸空間から離れて、第３液体の第３液浸空間を形成することと、を含み、
前記第３液浸空間は、前記光路に対して前記第２液浸空間の外側において、前記第２液浸空間及び前記第２液浸空間の外側の気体空間に面するように形成される露光方法。
【請求項３８】
請求項３４〜３７のいずれか一項に記載の露光方法を用いて基板を露光することと、
露光された前記基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【請求項３９】
コンピュータに、第１液体を介して露光光で基板を露光する露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、前記光学部材の下方で移動可能な物体が対向可能な第１下面を有する第１部材で、前記射出面側の光路を含む光路空間及び前記第１下面側の第１空間の少なくとも一部に前記第１液体の第１液浸空間を形成することと、
前記光路に対して前記第１部材の外側に配置され、前記物体が対向可能な第２下面を有する第２部材で、前記第２下面側の第２空間の少なくとも一部に、前記第１液浸空間から離れて、第２液体の第２液浸空間を形成することと、
前記第１部材の周囲の少なくとも一部に配置され、前記物体が対向可能な第３下面を有する第３部材で、前記第１空間の外側における前記物体上の液体を前記第２空間に誘導することと、を実行させるプログラム。
【請求項４０】
コンピュータに、第１液体を介して露光光で基板を露光する露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、前記光学部材の下方で移動可能な物体が対向可能な第１下面を有する第１部材で、前記射出面側の光路を含む光路空間及び前記第１下面側の第１空間の少なくとも一部に前記第１液体の第１液浸空間を形成することと、
前記光路に対して前記第１部材の外側に配置され、前記物体が対向可能な第２下面を有する第２部材で、前記第２下面側の第２空間の少なくとも一部に、前記第１液浸空間から離れて、第２液体の第２液浸空間を形成することと、
前記第１部材の周囲の少なくとも一部に配置され、前記物体が対向可能な第３下面を有する第３部材に設けられた流路に第３液体を流すことと、
前記物体上の液体を、前記第３液体で捕捉することと、を実行させるプログラム。
【請求項４１】
コンピュータに、第１液体を介して露光光で基板を露光する露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、前記光学部材の下方で移動可能な物体が対向可能な第１下面を有する第１部材で、前記射出面側の光路を含む光路空間及び前記第１下面側の第１空間の少なくとも一部に前記第１液体の第１液浸空間を形成することと、
前記光路に対して前記第１部材の外側に配置され、前記物体が対向可能な第２下面を有する第２部材で、前記第２下面側の第２空間の少なくとも一部に、前記第１液浸空間から離れて、第２液体の第２液浸空間を形成することと、
前記第１部材の周囲の少なくとも一部に配置され、前記物体が対向可能であり、第１領域及び前記第１領域よりも液体に対して撥液性の第２領域を含む第３部材の第３下面を、前記第１空間の外側における前記物体上の液体に接触させることと、を実行させるプログラム。
【請求項４２】
コンピュータに、第１液体を介して露光光で基板を露光する露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、前記光学部材の下方で移動可能な物体が対向可能な第１下面を有する第１部材で、前記射出面側の光路を含む光路空間及び前記第１下面側の第１空間の少なくとも一部に前記第１液体の第１液浸空間を形成することと、
前記光路に対して前記第１部材の外側に配置され、前記物体が対向可能な第２下面を有する第２部材で、前記第２下面側の第２空間の少なくとも一部に、前記第１液浸空間から離れて、第２液体の第２液浸空間を形成することと、
前記光路に対して前記第１部材の外側に配置され、前記物体が対向可能な第３下面を有する第３部材で、前記第３下面側の第３空間の少なくとも一部に、前記第１、第２液浸空間から離れて、第３液体の第３液浸空間を形成することと、を実行させ、
前記第３液浸空間は、前記光路に対して前記第２液浸空間の外側において、前記第２液浸空間及び前記第２液浸空間の外側の気体空間に面するように形成されるプログラム。
【請求項４３】
請求項３９〜４２のいずれか一項に記載のプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置、露光方法、デバイス製造方法、プログラム、及び記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
フォトリソグラフィ工程で用いられる露光装置において、例えば下記特許文献に開示されているような、液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】米国特許出願公開第２００９／００４６２６１号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
液浸露光装置において、例えば所定空間より液体が流出すると、露光不良が発生する可能性がある。その結果、不良デバイスが発生する可能性がある。
【０００５】
本発明の態様は、露光不良の発生を抑制できる露光装置、及び露光方法を提供することを目的とする。また本発明の態様は、不良デバイスの発生を抑制できるデバイス製造方法、プログラム、及び記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の第１の態様に従えば、第１液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、光学部材の下方で移動可能な物体が対向可能な第１下面を有し、射出面側の光路を含む光路空間及び第１下面側の第１空間の少なくとも一部に第１液体の第１液浸空間を形成する第１部材と、光路に対して第１部材の外側に配置され、物体が対向可能な第２下面を有し、第２下面側の第２空間の少なくとも一部に、第１液浸空間から離れて、第２液体の第２液浸空間を形成可能な第２部材と、第１部材の周囲の少なくとも一部に配置され、物体が対向可能な第３下面を有し、前記第１空間の外側における前記物体上の液体を前記第２空間に誘導する第３部材と、を備える露光装置が提供される。
【０００７】
本発明の第２の態様に従えば、第１液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、光学部材の下方で移動可能な物体が対向可能な第１下面を有し、射出面側の光路を含む光路空間及び第１下面側の第１空間の少なくとも一部に第１液体の第１液浸空間を形成する第１部材と、光路に対して第１部材の外側に配置され、物体が対向可能な第２下面を有し、第２下面側の第２空間の少なくとも一部に、第１液浸空間から離れて、第２液体の第２液浸空間を形成可能な第２部材と、第１部材の周囲の少なくとも一部に配置され、物体が対向可能な第３下面を有し、第３下面よりも下方において物体に接触しないように第３液体が流れる流路を有する第３部材と、を備え、物体上の液体が、第３液体に捕捉される露光装置が提供される。
【０００８】
本発明の第３の態様に従えば、第１液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、光学部材の下方で移動可能な物体が対向可能な第１下面を有し、射出面側の光路を含む光路空間及び第１下面側の第１空間の少なくとも一部に第１液体の第１液浸空間を形成する第１部材と、光路に対して第１部材の外側に配置され、物体が対向可能な第２下面を有し、第２下面側の第２空間の少なくとも一部に、第１液浸空間から離れて、第２液体の第２液浸空間を形成可能な第２部材と、第１部材の周囲の少なくとも一部に配置され、物体が対向可能であり、第１空間の外側における物体上の液体が接触可能な第３下面を有する第３部材と、を備え、第３下面は、第１領域と、第１領域よりも液体に対して撥液性の第２領域と、を含む露光装置が提供される。
【０００９】
本発明の第４の態様に従えば、第１液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、光学部材の下方で移動可能な物体が対向可能な第１下面を有し、射出面側の光路を含む光路空間及び第１下面側の第１空間の少なくとも一部に第１液体の第１液浸空間を形成する第１部材と、光路に対して第１部材の外側に配置され、物体が対向可能な第２下面を有し、第２下面側の第２空間の少なくとも一部に、第１液浸空間から離れて、第２液体の第２液浸空間を形成可能な第２部材と、光路に対して第１部材の外側に配置され、物体が対向可能な第３下面を有し、第３下面側の第３空間の少なくとも一部に、第１、第２液浸空間から離れて、第３液体の第３液浸空間を形成可能な第３部材と、を備え、第３液浸空間は、光路に対して第２液浸空間の外側において、第２液浸空間及び第２液浸空間の外側の気体空間に面するように形成される露光装置が提供される。
【００１０】
本発明の第５の態様に従えば、第１〜第４のいずれか一つの態様の露光装置を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。
【００１１】
本発明の第６の態様に従えば、第１液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、露光光が射出される射出面を有する光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、光学部材の下方で移動可能な物体が対向可能な第１下面を有する第１部材で、射出面側の光路を含む光路空間及び第１下面側の第１空間の少なくとも一部に第１液体の第１液浸空間を形成することと、光路に対して第１部材の外側に配置され、物体が対向可能な第２下面を有する第２部材で、第２下面側の第２空間の少なくとも一部に、第１液浸空間から離れて、第２液体の第２液浸空間を形成することと、第１部材の周囲の少なくとも一部に配置され、物体が対向可能な第３下面を有する第３部材で、第１空間の外側における物体上の液体を第２空間に誘導することと、を含む露光方法が提供される。
【００１２】
本発明の第７の態様に従えば、第１液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、露光光が射出される射出面を有する光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、光学部材の下方で移動可能な物体が対向可能な第１下面を有する第１部材で、射出面側の光路を含む光路空間及び第１下面側の第１空間の少なくとも一部に第１液体の第１液浸空間を形成することと、光路に対して第１部材の外側に配置され、物体が対向可能な第２下面を有する第２部材で、第２下面側の第２空間の少なくとも一部に、第１液浸空間から離れて、第２液体の第２液浸空間を形成することと、第１部材の周囲の少なくとも一部に配置され、物体が対向可能な第３下面を有する第３部材に設けられた流路に第３液体を流すことと、物体上の液体を、第３液体で捕捉することと、を含む露光方法が提供される。
【００１３】
本発明の第８の態様に従えば、第１液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、露光光が射出される射出面を有する光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、光学部材の下方で移動可能な物体が対向可能な第１下面を有する第１部材で、射出面側の光路を含む光路空間及び第１下面側の第１空間の少なくとも一部に第１液体の第１液浸空間を形成することと、光路に対して第１部材の外側に配置され、物体が対向可能な第２下面を有する第２部材で、第２下面側の第２空間の少なくとも一部に、第１液浸空間から離れて、第２液体の第２液浸空間を形成することと、第１部材の周囲の少なくとも一部に配置され、物体が対向可能であり、第１領域及び第１領域よりも液体に対して撥液性の第２領域を含む第３部材の第３下面を、第１空間の外側における物体上の液体に接触させることと、を含む露光方法が提供される。
【００１４】
本発明の第９の態様に従えば、第１液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、露光光が射出される射出面を有する光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、光学部材の下方で移動可能な物体が対向可能な第１下面を有する第１部材で、射出面側の光路を含む光路空間及び第１下面側の第１空間の少なくとも一部に第１液体の第１液浸空間を形成することと、光路に対して第１部材の外側に配置され、物体が対向可能な第２下面を有する第２部材で、第２下面側の第２空間の少なくとも一部に、第１液浸空間から離れて、第２液体の第２液浸空間を形成することと、光路に対して第１部材の外側に配置され、物体が対向可能な第３下面を有する第３部材で、第３下面側の第３空間の少なくとも一部に、第１、第２液浸空間から離れて、第３液体の第３液浸空間を形成することと、を含み、第３液浸空間は、光路に対して第２液浸空間の外側において、第２液浸空間及び第２液浸空間の外側の気体空間に面するように形成される露光方法が提供される。
【００１５】
本発明の第１０の態様に従えば、第６〜第９のいずれか一つの態様の露光方法を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。
【００１６】
本発明の第１１の態様に従えば、コンピュータに、第１液体を介して露光光で基板を露光する露光装置の制御を実行させるプログラムであって、露光光が射出される射出面を有する光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、光学部材の下方で移動可能な物体が対向可能な第１下面を有する第１部材で、射出面側の光路を含む光路空間及び第１下面側の第１空間の少なくとも一部に第１液体の第１液浸空間を形成することと、光路に対して第１部材の外側に配置され、物体が対向可能な第２下面を有する第２部材で、第２下面側の第２空間の少なくとも一部に、第１液浸空間から離れて、第２液体の第２液浸空間を形成することと、第１部材の周囲の少なくとも一部に配置され、物体が対向可能な第３下面を有する第３部材で、第１空間の外側における物体上の液体を第２空間に誘導することと、を実行させるプログラムが提供される。
【００１７】
本発明の第１２の態様に従えば、コンピュータに、第１液体を介して露光光で基板を露光する露光装置の制御を実行させるプログラムであって、露光光が射出される射出面を有する光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、光学部材の下方で移動可能な物体が対向可能な第１下面を有する第１部材で、射出面側の光路を含む光路空間及び第１下面側の第１空間の少なくとも一部に第１液体の第１液浸空間を形成することと、光路に対して第１部材の外側に配置され、物体が対向可能な第２下面を有する第２部材で、第２下面側の第２空間の少なくとも一部に、第１液浸空間から離れて、第２液体の第２液浸空間を形成することと、第１部材の周囲の少なくとも一部に配置され、物体が対向可能な第３下面を有する第３部材に設けられた流路に第３液体を流すことと、物体上の液体を、第３液体で捕捉することと、を実行させるプログラムが提供される。
【００１８】
本発明の第１３の態様に従えば、コンピュータに、第１液体を介して露光光で基板を露光する露光装置の制御を実行させるプログラムであって、露光光が射出される射出面を有する光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、光学部材の下方で移動可能な物体が対向可能な第１下面を有する第１部材で、射出面側の光路を含む光路空間及び第１下面側の第１空間の少なくとも一部に第１液体の第１液浸空間を形成することと、光路に対して第１部材の外側に配置され、物体が対向可能な第２下面を有する第２部材で、第２下面側の第２空間の少なくとも一部に、第１液浸空間から離れて、第２液体の第２液浸空間を形成することと、第１部材の周囲の少なくとも一部に配置され、物体が対向可能であり、第１領域及び第１領域よりも液体に対して撥液性の第２領域を含む第３部材の第３下面を、第１空間の外側における物体上の液体に接触させることと、を実行させるプログラムが提供される。
【００１９】
本発明の第１４の態様に従えば、コンピュータに、第１液体を介して露光光で基板を露光する露光装置の制御を実行させるプログラムであって、露光光が射出される射出面を有する光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、光学部材の下方で移動可能な物体が対向可能な第１下面を有する第１部材で、射出面側の光路を含む光路空間及び第１下面側の第１空間の少なくとも一部に第１液体の第１液浸空間を形成することと、光路に対して第１部材の外側に配置され、物体が対向可能な第２下面を有する第２部材で、第２下面側の第２空間の少なくとも一部に、第１液浸空間から離れて、第２液体の第２液浸空間を形成することと、光路に対して第１部材の外側に配置され、物体が対向可能な第３下面を有する第３部材で、第３下面側の第３空間の少なくとも一部に、第１、第２液浸空間から離れて、第３液体の第３液浸空間を形成することと、を実行させ、第３液浸空間は、光路に対して第２液浸空間の外側において、第２液浸空間及び第２液浸空間の外側の気体空間に面するように形成されるプログラムが提供される。
【００２０】
本発明の第１５の態様に従えば、第１１〜第１４のいずれか一つの態様のプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体が提供される。
【発明の効果】
【００２１】
本発明の態様によれば、露光不良の発生を抑制できる。また本発明の態様によれば、不良デバイスの発生を抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】第１実施形態に係る露光装置の一例を示す図である。
【図２】第１実施形態に係る液浸部材の一例を示す図である。
【図３】第１実施形態に係る液浸部材の一例を示す図である。
【図４】第１実施形態に係る第３部材の一例を示す図である。
【図５】第１実施形態に係る露光方法の一例を説明するための図である。
【図６】第２実施形態に係る液浸部材の一例を示す図である。
【図７】第２実施形態に係る第３部材の一例を示す図である。
【図８】第３実施形態に係る液浸部材の一例を示す図である。
【図９】第３実施形態に係る第３部材の一例を示す図である。
【図１０】第３実施形態に係る液浸部材の一例を示す図である。
【図１１】第４実施形態に係る液浸部材の一例を示す図である。
【図１２】第４実施形態に係る第３部材の一例を示す図である。
【図１３】第５実施形態に係る液浸部材の一例を示す図である。
【図１４】第５実施形態に係る第３部材の一例を示す図である。
【図１５】第６実施形態に係る第３部材の一例を示す図である。
【図１６】第７実施形態に係る液浸部材の一例を示す図である。
【図１７】第８実施形態に係る第２部材の一例を示す図である。
【図１８】第９実施形態に係る第２部材の一例を示す図である。
【図１９】第９実施形態に係る第２部材の一例を示す図である。
【図２０】第１０実施形態に係る液浸部材の一例を示す図である。
【図２１】基板ステージの一例を示す図である。
【図２２】デバイス製造方法の一例を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されない。以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部の位置関係について説明する。水平面内の所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれと直交する方向（すなわち鉛直方向）をＺ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。
【００２４】
＜第１実施形態＞
第１実施形態について説明する。図１は、第１実施形態に係る露光装置ＥＸの一例を示す概略構成図である。本実施形態の露光装置ＥＸは、液体ＬＱを介して露光光ＥＬで基板Ｐを露光する液浸露光装置である。本実施形態においては、基板Ｐに照射される露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳ１が形成される。液浸空間とは、液体で満たされた部分（空間、領域）をいう。基板Ｐは、液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱを介して露光光ＥＬで露光される。本実施形態においては、液体ＬＱとして、水（純水）を用いる。
【００２５】
また、本実施形態の露光装置ＥＸは、例えば米国特許第６８９７９６３号、及び欧州特許出願公開第１７１３１１３号等に開示されているような、基板ステージと計測ステージとを備えた露光装置である。
【００２６】
図１において、露光装置ＥＸは、マスクＭを保持して移動可能なマスクステージ１と、基板Ｐを保持して移動可能な基板ステージ２と、基板Ｐを保持せずに、露光光ＥＬを計測する計測部材（計測器）Ｃを搭載して移動可能な計測ステージ３と、マスクステージ１、基板ステージ２、及び計測ステージ３の位置を計測する計測システム４と、マスクＭを露光光ＥＬで照明する照明系ＩＬと、露光光ＥＬで照明されたマスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する投影光学系ＰＬと、液浸空間ＬＳ１、ＬＳ２を形成する液浸部材５と、露光装置ＥＸ全体の動作を制御する制御装置６と、制御装置６に接続され、露光に関する各種の情報を記憶する記憶装置７とを備えている。
【００２７】
マスクＭは、基板Ｐに投影されるデバイスパターンが形成されたレチクルを含む。マスクＭは、例えばガラス板等の透明板と、その透明板上にクロム等の遮光材料を用いて形成されたパターンとを有する透過型マスクを含む。なお、マスクＭとして、反射型マスクを用いることもできる。
【００２８】
基板Ｐは、デバイスを製造するための基板である。基板Ｐは、例えば半導体ウエハ等の基材と、その基材上に形成された感光膜とを含む。感光膜は、感光材（フォトレジスト）の膜である。また、基板Ｐが、感光膜に加えて別の膜を含んでもよい。例えば、基板Ｐが、反射防止膜を含んでもよいし、感光膜を保護する保護膜（トップコート膜）を含んでもよい。
【００２９】
照明系ＩＬは、所定の照明領域ＩＲに露光光ＥＬを照射する。照明領域ＩＲは、照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。照明系ＩＬは、照明領域ＩＲに配置されたマスクＭの少なくとも一部を均一な照度分布の露光光ＥＬで照明する。照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬとして、例えば水銀ランプから射出される輝線（ｇ線、ｈ線、ｉ線）及びＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光（ＤＵＶ光）、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）、及びＦ２レーザ光（波長１５７ｎｍ）等の真空紫外光（ＶＵＶ光）等が用いられる。本実施形態においては、露光光ＥＬとして、紫外光（真空紫外光）であるＡｒＦエキシマレーザ光を用いる。
【００３０】
マスクステージ１は、マスクＭを保持した状態で、照明領域ＩＲを含むベース部材８のガイド面８Ｇ上を移動可能である。本実施形態において、ガイド面８ＧとＸＹ平面とは実質的に平行である。マスクステージ１は、例えば米国特許第６４５２２９２号に開示されているような平面モータを含む駆動システムの作動により移動する。本実施形態において、マスクステージ１は、その駆動システムの作動により、ガイド面８Ｇ上において、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能である。
【００３１】
投影光学系ＰＬは、所定の投影領域ＰＲに露光光ＥＬを照射する。投影領域ＰＲは、投影光学系ＰＬから射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。投影光学系ＰＬは、投影領域ＰＲに配置された基板Ｐの少なくとも一部に、マスクＭのパターンの像を所定の投影倍率で投影する。本実施形態の投影光学系ＰＬは、その投影倍率が例えば１／４、１／５、又は１／８等の縮小系である。なお、投影光学系ＰＬは等倍系及び拡大系のいずれでもよい。本実施形態において、投影光学系ＰＬの光軸は、Ｚ軸と平行である。また、投影光学系ＰＬは、反射光学素子を含まない屈折系、屈折光学素子を含まない反射系、反射光学素子と屈折光学素子とを含む反射屈折系のいずれであってもよい。また、投影光学系ＰＬは、倒立像と正立像とのいずれを形成してもよい。
【００３２】
投影光学系ＰＬは、露光光ＥＬが射出される射出面１２を有する終端光学素子１３を含む。射出面１２は、投影光学系ＰＬの像面に向けて露光光ＥＬを射出する。終端光学素子１３は、投影光学系ＰＬの複数の光学素子のうち、投影光学系ＰＬの像面に最も近い光学素子である。投影領域ＰＲは、射出面１２から射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。本実施形態において、射出面１２は、−Ｚ方向を向いており、ＸＹ平面と平行である。なお、−Ｚ方向を向いている射出面１２は、凸面であってもよいし、凹面であってもよい。なお、射出面１２は、ＸＹ平面に対して傾斜していてもよいし、曲面を含んでもよい。本実施形態において、終端光学素子１３の光軸は、Ｚ軸と平行である。本実施形態において、射出面１２から射出される露光光ＥＬは、−Ｚ方向に進行する。
【００３３】
基板ステージ２は、基板Ｐを保持した状態で、射出面１２からの露光光ＥＬが照射可能な位置（投影領域ＰＲ）を含むＸＹ平面内を移動可能である。計測ステージ３は、計測部材（計測器）Ｃを搭載した状態で、射出面１２からの露光光ＥＬが照射可能な位置（投影領域ＰＲ）を含むＸＹ平面内を移動可能である。基板ステージ２及び計測ステージ３のそれぞれは、ベース部材９のガイド面９Ｇ上を移動可能である。本実施形態において、ガイド面９ＧとＸＹ平面とは実質的に平行である。
【００３４】
基板ステージ２及び計測ステージ３は、例えば米国特許第６４５２２９２号に開示されているような平面モータを含む駆動システム１０の作動により移動する。駆動システム１０は、基板ステージ２に配置された可動子２Ｃと、計測ステージ３に配置された可動子３Ｃと、ベース部材９に配置された固定子９Ｍとを有する。基板ステージ２及び計測ステージ３のそれぞれは、駆動システム１０の作動により、ガイド面９Ｇ上において、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能である。なお、駆動システム１０は、平面モータを含まなくてもよい。例えば、駆動システム１０が、リニアモータを含んでもよい。
【００３５】
基板ステージ２は、例えば米国特許出願公開第２００７／０１７７１２５号、米国特許出願公開第２００８／００４９２０９号等に開示されているような、基板Ｐをリリース可能に保持する第１保持部と、第１保持部の周囲に配置され、カバー部材Ｔをリリース可能に保持する第２保持部とを有する。カバー部材Ｔは、第１保持部に保持された基板Ｐの周囲に配置される。第１保持部は、基板Ｐの表面（上面）とＸＹ平面とが実質的に平行となるように、基板Ｐを保持する。本実施形態において、第１保持部に保持された基板Ｐの上面と、第２保持部に保持されたカバー部材Ｔの上面とは、実質的に同一平面内に配置される。なお、第１保持部に保持された基板Ｐの上面と、第２保持部に保持されたカバー部材Ｔの上面とは、同一平面内に配置されなくてもよい。なお、基板Ｐの上面に対してカバー部材Ｔの上面が傾斜してもよいし、カバー部材Ｔの上面が曲面を含んでもよい。
【００３６】
計測システム４は、干渉計システムを含む。干渉計システムは、マスクステージ１の計測ミラーに計測光を照射して、そのマスクステージ１の位置を計測するユニットと、基板ステージ２の計測ミラー及び計測ステージ３の計測ミラーに計測光を照射して、その基板ステージ２及び計測ステージ３の位置を計測するユニットとを含む。
【００３７】
なお、計測システム４が、例えば米国特許出願公開第２００７／０２８８１２１号に開示されているようなエンコーダシステムを含んでもよい。また、基板ステージ２が、エンコーダシステムで計測されるスケール（格子、計測部材）を有してもよい。
【００３８】
基板Ｐの露光処理を実行するとき、あるいは所定の計測処理を実行するとき、制御装置６は、計測システム４の計測結果に基づいて、マスクステージ１（マスクＭ）、基板ステージ２（基板Ｐ）、及び計測ステージ３(計測部材Ｃ）の位置制御を実行する。
【００３９】
次に、本実施形態に係る液浸部材５について説明する。図２は、本実施形態に係る液浸部材５の一例を示すＸＺ平面と平行な側断面図、図３は、液浸部材５を下側（−Ｚ側）から見た図である。
【００４０】
本実施形態において、液浸部材５は、終端光学素子１３の周囲の少なくとも一部に配置され、下面２４を有する第１部材２１と、光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸）に対して第１部材２１の外側に配置され、下面２５を有する第２部材２２と、第１部材２１の周囲の少なくとも一部に配置され、下面２６を有する第３部材２３とを備えている。
【００４１】
なお、第３部材２３は、図１及び図２には示されていない。
【００４２】
下面２４、２５、２６は、終端光学素子１３の下方で移動可能な物体が対向可能である。
【００４３】
終端光学素子１３の下方で移動可能な物体は、射出面１２と対向可能であり、投影領域ＰＲに配置可能である。その物体は、射出面１２からの露光光ＥＬが照射可能な位置（投影領域ＰＲ）を含むＸＹ平面内を移動可能な物体を含む。射出面１２からの露光光ＥＬが照射可能な位置は、射出面１２と対向する位置を含む。
【００４４】
本実施形態において、その物体は、基板ステージ２（カバー部材Ｔ）、基板ステージ２（第１保持部）に保持された基板Ｐ、及び計測ステージ３(計測部材Ｃ)の少なくとも一つを含む。
【００４５】
以下の説明においては、終端光学素子１３の下方で移動可能な物体が、基板Ｐであることとする。なお、上述のように、終端光学素子１３の下方で移動可能な物体は、基板ステージ２及び計測ステージ３の少なくとも一方でもよいし、基板Ｐ、基板ステージ２、及び計測ステージ３とは別の物体でもよい。
【００４６】
第１部材２１は、射出面１２側の露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように液体ＬＱの液浸空間ＬＳ１を形成する。液浸空間ＬＳ１は、射出面１２と基板Ｐ（物体）の上面との間の光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように形成される。
【００４７】
本実施形態において、第１部材２１は、射出面１２側の光路Ｋを含む光路空間ＳＰＫ及び下面２４側の第１空間ＳＰ１の少なくとも一部に液体ＬＱの液浸空間ＬＳ１を形成する。液浸空間ＬＳ１は、射出面１２及び下面２４の少なくとも一部と基板Ｐ（物体）の上面との間に形成される。終端光学素子１３及び第１部材２１は、基板Ｐ（物体）との間で液体ＬＱを保持可能である。液浸空間ＬＳ１は、終端光学素子１３及び第１部材２１と基板Ｐとの間に保持される液体ＬＱによって形成される。
【００４８】
すなわち、本実施形態においては、一方側の射出面１２及び下面２４と、他方側の基板Ｐ（物体）の上面との間に液体ＬＱが保持されることによって、終端光学素子１３と基板Ｐとの間の露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳ１が形成される。
【００４９】
例えば基板Ｐの露光において、基板Ｐに照射される露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳ１が形成される。基板Ｐに露光光ＥＬが照射されているとき、投影領域ＰＲを含む基板Ｐの表面の一部の領域だけが液体ＬＱで覆われるように液浸空間ＬＳ１が形成される。
【００５０】
本実施形態において、液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱの界面（メニスカス、エッジ）ＬＧ１の少なくとも一部は、下面２４と基板Ｐの上面との間に形成される。すなわち、本実施形態の露光装置ＥＸは、局所液浸方式を採用する。液浸空間ＬＳ１の外側（界面ＬＧ１の外側）は、気体空間である。
【００５１】
本実施形態において、第１部材２１は、環状の部材である。本実施形態において、第１部材２１の一部は、終端光学素子１３の周囲に配置される。また、第１部材２１の一部は、終端光学素子１３と基板Ｐとの間の露光光ＥＬの光路Ｋの周囲に配置される。
【００５２】
なお、第１部材２１は、環状の部材でなくてもよい。例えば第１部材２１が終端光学素子１３及び光路Ｋの周囲の一部に配置されていてもよい。また、第１部材２１が、終端光学素子１３の周囲の少なくとも一部に配置されていなくてもよい。例えば、第１部材２１が、射出面１２と基板Ｐとの間の光路Ｋの周囲の少なくとも一部に配置され、終端光学素子１３の周囲に配置されていなくてもよい。また、第１部材２１が、射出面１２と基板Ｐとの間の光路Ｋの周囲の少なくとも一部に配置されていなくてもよい。例えば、第１部材２１が、終端光学素子１３の周囲の少なくとも一部に配置され、射出面１２と物体との間の光路Ｋの周囲に配置されていなくてもよい。
【００５３】
第１部材２１は、液浸空間ＬＳ１を形成するための液体ＬＱを供給する供給口３１と、液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱの少なくとも一部を回収する回収口３２とを備えている。
【００５４】
供給口３１は、光路Ｋに面するように配置される。供給口３１は、第１部材２１の内部に形成された供給流路を介して、液体ＬＱを供給可能な液体供給装置と接続される。供給口３１は、液体供給装置からの液体ＬＱを射出面１２側の光路Ｋに供給する。
【００５５】
回収口３２は、下面２４が対向する基板Ｐ（物体）と対向するように配置される。回収口３２は、第１部材２１の内部に形成された回収流路を介して、液体ＬＱを回収（吸引）可能な液体回収装置と接続される。回収口３２は、第１部材２１と基板Ｐとの間の第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部を回収（吸引）する。
【００５６】
本実施形態において、第１部材２１は、多孔部材３３を備える。多孔部材３３は、液体ＬＱが流通可能な複数の孔(openingsあるいはpores)を有する。多孔部材３３は、例えばメッシュフィルタを含む。メッシュフィルタは、網目状に多数の小さい孔が形成された多孔部材である。
【００５７】
本実施形態において、多孔部材３３は、プレート状の部材である。多孔部材３３は、基板Ｐが対向可能な下面３３Ｂと、第１部材２１に形成された回収流路に面する上面３３Ａと、上面３３Ａと下面３３Ｂとを結ぶように形成された複数の孔とを有する。本実施形態において、回収口３２は、多孔部材３３の孔を含む。多孔部材３３の孔（回収口３２）を介して回収された液体ＬＱは、回収流路を流れる。
【００５８】
本実施形態においては、多孔部材３３を介して実質的に液体ＬＱのみが回収され、気体の回収が制限されている。制御装置６は、基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱが多孔部材３３の孔を通過して回収流路に流入し、気体は通過しないように、多孔部材３３の下面３３Ｂ側の圧力（第１空間ＳＰ１の圧力）と上面３３Ａ側の圧力（回収流路の圧力）との差を調整する。なお、多孔部材を介して液体のみを回収する技術の一例が、例えば米国特許第７２９２３１３号等に開示されている。
【００５９】
なお、多孔部材３３を介して液体ＬＱ及び気体の両方が回収（吸引）されてもよい。また、多孔部材３３を設けなくてもよい。
【００６０】
本実施形態においては、供給口３１からの液体ＬＱの供給と並行して、回収口３２からの液体ＬＱの回収が行われることによって、一方側の終端光学素子１３及び第１部材２１と、他方側の基板Ｐとの間に液体ＬＱで液浸空間ＬＳ１が形成される。本実施形態において、液浸空間ＬＳ１は、供給口３１から供給された液体ＬＱによって形成される。
【００６１】
第１部材２１は、射出面１２が面する孔（開口）２０を有する。射出面１２から射出された露光光ＥＬは、開口２０を通過して基板Ｐに照射可能である。下面２４は、開口２０の周囲に配置される。本実施形態において、下面２４の少なくとも一部は、ＸＹ平面とほぼ平行である。なお、下面２４の少なくとも一部が、ＸＹ平面に対して傾斜していてもよいし、曲面を含んでもよい。
【００６２】
本実施形態において、下面２４は、開口２０の周囲に配置され、液体ＬＱを回収しない下面２４Ｂと、下面２４Ｂの周囲に配置され、液体ＬＱを回収可能な多孔部材３３の下面３３Ｂとを含む。液体ＬＱは、下面２４Ｂを通過することができない。下面２４Ｂは、基板Ｐとの間で液体ＬＱを保持可能である。
【００６３】
本実施形態において、液体ＬＱを回収可能な下面３３Ｂは、下面２４の周縁部に配置される。下面２４（基板Ｐの上面）と平行なＸＹ平面内において、下面３３Ｂは、環状である。液体ＬＱを回収不可能な下面２４Ｂは、下面３３Ｂの内側に配置される。本実施形態において、界面ＬＧ１は、下面３３Ｂと基板Ｐの上面との間に配置される。
【００６４】
第２部材２２は、第１部材２１とは異なる部材である。第２部材２２は、第１部材２１から離れている。第２部材２２は、第１部材２１の周囲の一部に配置される。
【００６５】
第２部材２２は、下面２５側の第２空間ＳＰ２の少なくとも一部に液体ＬＱの液浸空間ＬＳ２を形成可能である。第２部材２２は、液浸空間ＬＳ１から離れて、液浸空間ＬＳ２を形成可能である。液浸空間ＬＳ２は、液浸空間ＬＳ１と離れて形成される。液浸空間ＬＳ２は、下面２５と基板（物体）の上面との間に形成される。第２部材２２は、基板Ｐ（物体）との間で液体ＬＱを保持可能である。液浸空間ＬＳ２は、第２部材２２と基板Ｐとの間に保持される液体ＬＱによって形成される。
【００６６】
すなわち、本実施形態においては、一方側の下面２５と、他方側の基板Ｐ（物体）の上面との間に液体ＬＱが保持されることによって、液浸空間ＬＳ２が形成される。
【００６７】
本実施形態において、液浸空間ＬＳ２の液体ＬＱの界面（メニスカス、エッジ）ＬＧ２の少なくとも一部は、下面２５と基板Ｐの上面との間に形成される。液浸空間ＬＳ２の外側（界面ＬＧ２の外側）は、気体空間である。
【００６８】
本実施形態において、液浸空間ＬＳ２は、液浸空間ＬＳ１よりも小さい。液浸空間の大きさとは、液浸空間を形成する液体の体積を含む。また、液浸空間の大きさとは、液浸空間を形成する液体の重量を含む。また、液浸空間の大きさとは、例えば基板Ｐの表面（上面）と平行な面内（ＸＹ平面内）における液浸空間の面積を含む。また、液浸空間の大きさとは、例えば基板Ｐの表面（上面）と平行な面内（ＸＹ平面内）における所定方向（例えばＸ軸方向、又はＹ軸方向）に関する液浸空間の寸法を含む。
【００６９】
すなわち、本実施形態においては、基板Ｐの表面（上面）と平行な面内（ＸＹ平面内）において、液浸空間ＬＳ２は、液浸空間ＬＳ１よりも小さい。また、本実施形態において、液浸空間ＬＳ２を形成する液体ＬＱの体積（重量）は、液浸空間ＬＳ１を形成する液体ＬＱの体積（重量）よりも小さい。また、ＸＹ平面内における液浸空間ＬＳ２の寸法は、液浸空間ＬＳ１の寸法よりも小さい。
【００７０】
本実施形態において、第２部材２２は、第１部材２１の周囲の空間において２つ配置される。本実施形態において、第２部材２２は、Ｘ軸方向に関して、第１部材２１の一側（＋Ｘ側）及び他側（−Ｘ側）に配置される。液浸空間ＬＳ２は、Ｘ軸方向に関して、液浸空間ＬＳ１の一側（＋Ｘ側）及び他側（−Ｘ側）に形成される。
【００７１】
以下の説明においては、第１部材２１の＋Ｘ側に配置される第２部材２２を適宜、第２部材２２Ａ、と称し、第１部材２１の−Ｘ側に配置される第２部材２２を適宜、第２部材２２Ｂ、と称する。
【００７２】
なお、第２部材２２が、第１部材２１の一側（＋Ｘ側）のみに配置されてもよいし、他側（−Ｘ側）のみに配置されてもよい。すなわち、液浸空間ＬＳ２が、液浸空間ＬＳ１の一側（＋Ｘ側）のみに配置されてもよいし、他側（−Ｘ側）のみに配置されてもよい。
【００７３】
本実施形態において、下面２５の少なくとも一部は、ＸＹ平面とほぼ平行である。なお、下面２５の少なくとも一部が、ＸＹ平面に対して傾斜していてもよいし、曲面を含んでもよい。
【００７４】
本実施形態において、Ｚ軸方向に関する下面２４の位置（高さ）と下面２５の位置（高さ）とは、実質的に等しい。すなわち、下面２４と基板Ｐ（物体）の上面との距離と、下面２５と基板Ｐ（物体）の上面との距離とは、実質的に等しい。
【００７５】
なお、下面２５が下面２４よりも低い位置に配置されてもよい。すなわち、下面２５と基板Ｐ（物体）の上面との距離が、下面２４と基板Ｐ（物体）の上面との距離よりも小さくてもよい。なお、下面２５が下面２４よりも高い位置に配置されてもよい。すなわち、下面２５と基板Ｐ（物体）の上面との距離が、下面２４と基板Ｐ（物体）の上面との距離よりも大きくてもよい。
【００７６】
第２部材２２は、液浸空間ＬＳ２を形成するための液体ＬＱを供給する供給口３５と、液浸空間ＬＳ２の液体ＬＱの少なくとも一部を回収する回収口３６とを備えている。
【００７７】
本実施形態において、供給口３５は、基板Ｐ（物体）の上面が対向可能である。供給口３５は、第２空間ＳＰ２に面するように、第２部材２２の下面２５の少なくとも一部に配置される。本実施形態において、供給口３５は、第２空間ＳＰ２に液体ＬＱを供給可能である。
【００７８】
本実施形態において、回収口３６は、基板Ｐ（物体）の上面が対向可能である。回収口３６は、第２空間ＳＰ２に面するように、第２部材２２の下面２５の少なくとも一部に配置される。本実施形態において、回収口３６は、第２空間ＳＰ２の液体ＬＱを回収可能である。また、回収口３６は、第２空間ＳＰ２の気体を回収可能である。本実施形態において、回収口３６は、液体ＬＱを、気体とともに回収する。第２空間ＳＰ２の流体（液体ＬＱ及び気体の一方又は両方）の少なくとも一部は、回収口３６から回収される。
【００７９】
本実施形態において、光路Ｋに対する放射方向に関して、回収口３６の少なくとも一部は、第１部材２１の外側に配置される。本実施形態において、回収口３６の少なくとも一部は、第１部材２１と供給口３５との間に配置される。
【００８０】
本実施形態において、回収口３６の少なくとも一部は、第１部材２１に対して供給口３５の外側に配置される。本実施形態において、回収口３６の少なくとも一部は、光路Ｋに対する放射方向に関して、供給口３５の外側に配置される。
【００８１】
本実施形態においては、回収口３６は、供給口３５を囲むように配置される。
【００８２】
なお、回収口３６は、供給口３５の周囲に複数配置されてもよい。すなわち、複数の回収口３６が、供給口３５の周囲において離散的に配置されてもよい。
【００８３】
供給口３５は、第２部材２２の内部に形成された供給流路を介して、液体ＬＱを供給可能な液体供給装置と接続される。供給口３５は、液体供給装置からの液体ＬＱを、第２空間ＳＰ２に供給する。
【００８４】
回収口３６は、第２部材２２の内部に形成された回収流路を介して、液体ＬＱ（気体）を回収（吸引）可能な液体回収装置と接続される。
【００８５】
本実施形態においては、供給口３５からの液体ＬＱの供給と並行して、回収口３６からの液体ＬＱの回収が行われることによって、一方側の第２部材２２と、他方側の基板Ｐとの間に液体ＬＱで液浸空間ＬＳ２が形成される。本実施形態において、液浸空間ＬＳ２は、供給口３５から供給された液体ＬＱによって形成される。
【００８６】
第３部材２３は、第１部材２１及び第２部材２２とは異なる部材である。第３部材２３は、第１部材２１及び第２部材２２から離れている。第３部材２３は、第１部材２１の周囲の少なくとも一部に配置される。
【００８７】
本実施形態において、第３部材２３は、第１部材２１の周囲の空間において複数配置される。本実施形態において、第３部材２３は、他の第２部材２３と離れて配置される。
【００８８】
本実施形態において、複数の第３部材２３のうち少なくとも一つの第３部材２３は、第１部材２１の側面と対向するように配置される。また、複数の第３部材２３のうち少なくとも一つの第３部材２３は、第１部材２１に対して、第１部材２１の側面と対向する第３部材２３の外側に配置される。
【００８９】
以下の説明において、第１部材２１の側面と対向するように配置される第３部材２３を適宜、第３部材２３Ａ、と称する。また、第１部材２１に対して第３部材２３Ａの外側に配置される第３部材２３を適宜、第３部材２３Ｂ、と称する。第３部材２３Ｂは、第３部材２３Ａの側面の少なくとも一部と対向するように配置される。
【００９０】
本実施形態において、第３部材２３Ａは、第１部材２１の周囲の空間において４つ配置される。第３部材２３Ｂは、第３部材２３Ａの周囲の空間において４つ配置される。
【００９１】
以下の説明においては、４つの第３部材２３Ａのそれぞれを適宜、第３部材２３Ａａ、第３部材２３Ａｂ、第３部材２３Ａｃ、及び第３部材２３Ａｄ、と称する。また、４つの第３部材２３Ｂのそれぞれを適宜、第３部材２３Ｂａ、第３部材２３Ｂｂ、第３部材２３Ｂｃ、及び第３部材２３Ｂｄ、と称する。
【００９２】
本実施形態において、第３部材２３Ａａ、２３Ｂａは、光路Ｋよりも＋Ｘ側の空間において、第２部材２２Ａよりも＋Ｙ側の空間に配置される。第３部材２３Ａｂ、２３Ｂｂは、光路Ｋよりも＋Ｘ側の空間において、第２部材２２Ａよりも−Ｙ側の空間に配置される。第３部材２３Ａｃ、２３Ｂｃは、光路Ｋよりも−Ｘ側の空間において、第２部材２２Ｂよりも＋Ｙ側の空間に配置される。第３部材２３Ａｄ、２３Ｂｄは、光路Ｋよりも−Ｘ側の空間において、第２部材２２Ａよりも−Ｙ側の空間に配置される。
【００９３】
第３部材２３Ｂａは、第１部材２１に対して第３部材２３Ａａの外側に配置される。  第３部材２３Ｂｂは、第１部材２１に対して第３部材２３Ａｂの外側に配置される。  第３部材２３Ｂｃは、第１部材２１に対して第３部材２３Ａｃの外側に配置される。  第３部材２３Ｂｄは、第１部材２１に対して第３部材２３Ａｄの外側に配置される。
【００９４】
図４は、第３部材２３Ａａ、２３Ｂａの一部を示す断面図であって、図３のＡ−Ａ線断面図に相当する。以下の説明においては、第３部材２３Ａａ、２３Ｂａについて主に説明する。第３部材２３Ａｂ、２３Ｂｂ、第３部材２３Ａｃ、２３Ｂｃ、及び第３部材２３Ａｄ、２３Ｂｄについても同様である。
【００９５】
図３及び図４において、第３部材２３Ａａは、第１部材２１の周囲の少なくとも一部に配置され、基板Ｐ（物体）が対向可能な下面２６を有する。第３部材２３Ａａは、第１空間ＳＰ１の外側における基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱを第２空間ＳＰ２に誘導可能である。また、第３部材２３Ａａは、下面２５側の第３空間ＳＰ３の外側に基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱが移動することを抑制する。
【００９６】
第３部材２３Ａａは、下面２６に設けられた凸部４０を有する。凸部４０は、基板Ｐ（物体）が対向可能に配置される。凸部４０は、下方（−Ｚ側）に突出する。凸部４０は、基板Ｐに向かって突出する。基板Ｐは、凸部４０と接触しない。凸部４０と基板Ｐとの間に間隙が形成される。
【００９７】
本実施形態において、Ｚ軸方向に関する凸部４０の下端の位置（高さ）は、下面２４の位置（高さ）よりも低い。すなわち、凸部４０の下端と基板Ｐ（物体）の上面との距離は、下面２４と基板Ｐ（物体）の上面との距離よりも小さい。
【００９８】
なお、凸部４０の下端の位置（高さ）は、下面２４の位置（高さ）と実質的に等しくてもよい。なお、凸部４０の下端の位置（高さ）は、下面２４の位置（高さ）よりも高くてもよい。
【００９９】
本実施形態において、Ｚ軸方向に関する凸部４０の下端の位置（高さ）は、下面２５の位置（高さ）よりも低い。すなわち、凸部４０の下端と基板Ｐ（物体）の上面との距離は、下面２５と基板Ｐ（物体）の上面との距離よりも小さい。
【０１００】
なお、凸部４０の下端の位置（高さ）は、下面２５の位置（高さ）と実質的に等しくてもよい。なお、凸部４０の下端の位置（高さ）は、下面２５の位置（高さ）よりも高くてもよい。
【０１０１】
図３に示すように、下面２６は、端部２６Ａと、端部２６Ａの反対側の端部２６Ｂとを有する。ＸＹ平面内における端部２６Ａと端部２６Ｂとの距離は、下面２５の外形の寸法（直径）よりも大きい。端部２６Ａと端部２６Ｂとの距離は、下面２６の幅よりも大きい。
【０１０２】
凸部４０は、端部４０Ａと、端部４０Ａの反対側の端部４０Ｂとを有する。端部４０Ａは、端部２６Ａに配置される。端部４０Ｂは、端部２６Ｂに配置される。ＸＹ平面内における端部４０Ａと端部４０Ｂとの距離は、下面２５の外形の寸法（直径）よりも大きい。端部４０Ａと端部４０Ｂとの距離は、凸部４０の幅よりも大きい。
【０１０３】
下面２６は、第２空間ＳＰ２に向かって延びるように配置される。端部２６Ｂは、端部２６Ａよりも第２空間ＳＰ２から離れている。端部２６Ａは、端部２６Ｂよりも第２空間ＳＰ２に近い。端部２６Ａは、第２空間ＳＰ２に隣接する。
【０１０４】
凸部４０は、第２空間ＳＰ２に向かって延びるように配置される。端部４０Ｂは、端部４０Ａよりも第２空間ＳＰ２から離れている。端部４０Ａは、端部４０Ｂよりも第２空間ＳＰ２に近い。端部４０Ａは、第２空間ＳＰ２に隣接する。
【０１０５】
本実施形態において、凸部４０は、凸部４０１と、第１部材２１（第１空間ＳＰ１）に対して凸部４０１の外側に配置される凸部４０２と、を含む。ＸＹ平面内において、凸部４０１と凸部４０２とは、実質的に平行である。
【０１０６】
第３部材２３Ａａと同様、第３部材２３Ｂｂは、第２空間ＳＰ２に向かって延びるように配置される凸部４０（４０１、４０２）を有する。
【０１０７】
凸部４０は、基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱを第２空間ＳＰ２に誘導可能である。すなわち、本実施形態において、凸部４０は、基板Ｐ上の液体ＬＱを第２空間ＳＰ２に誘導可能な誘導部として機能する。凸部４０に接触する基板Ｐ上の液体ＬＱは、第２空間ＳＰ２に誘導される。
【０１０８】
例えば、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱ（液浸空間ＬＳ１から離れた液体）が、第１空間ＳＰ１の外側に流出する可能性がある。また、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱが、第１空間ＳＰ１の外側における基板Ｐ（物体）の上面において滴となる可能性がある。本実施形態においては、第１部材２１の周囲の少なくとも一部に第３部材２３が配置されているため、第１空間ＳＰ１から流出した液体ＬＱは、第３部材２３に捕捉される。また、第１空間ＳＰ１の外側における基板Ｐ上の液体ＬＱ（滴など）は、第３部材２３に捕捉される。これにより、第３空間ＳＰ３の外側に、基板Ｐ上の液体ＬＱが移動することが抑制される。
【０１０９】
また、凸部４０に接触した液体ＬＱは、第２空間ＳＰ２に誘導される。例えば、凸部４０と基板Ｐとの間に形成される間隙に液体ＬＱが入り込むことによって、その液体ＬＱは第２空間ＳＰ２に移動する。凸部４０は、第２空間ＳＰ２に向かって延びるように配置されているため、その液体ＬＱは、第２空間ＳＰ２に移動可能である。また、凸部４０と基板Ｐとの間に液体ＬＱが存在する状態で、基板ＰがＸＹ平面内において移動することによっても、その液体ＬＱは、第２空間ＳＰ２に移動可能である。
【０１１０】
凸部４０によって第２空間ＳＰ２に誘導された液体ＬＱは、第２部材２２の回収口３６から回収される。例えば第２部材２２の下面２５側に液浸空間ＬＳ２が形成されている状態で、凸部４０によって第２空間ＳＰ２に液体ＬＱが誘導された場合、その誘導された液体ＬＱは、液浸空間ＬＳ２の液体ＬＱとともに、回収口３６から回収される。また、第２部材２２の下面２５側に液浸空間ＬＳ２が形成されていない状態で、凸部４０によって第２空間ＳＰ２に液体ＬＱが誘導された場合においても、その誘導された液体ＬＱは、回収口３６から回収される。
【０１１１】
なお、基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱは、凸部４０に接触することなく、第２空間ＳＰ２に移動する可能性もある。例えば、第１空間ＳＰ１から流出した液体ＬＱが、凸部４０（第３部材２３）に接触することなく、第２空間ＳＰ２に移動する可能性がある。回収口３６は、その液体ＬＱを回収可能である。
【０１１２】
次に、上述の構成を有する露光装置ＥＸを用いて基板Ｐを露光する方法について説明する。
【０１１３】
液浸部材５から離れた基板交換位置において、露光前の基板Ｐを基板ステージ２（第１保持部）に搬入（ロード）する処理が行われる。また、基板ステージ２が液浸部材５から離れている期間の少なくとも一部において、計測ステージ３が終端光学素子１３及び液浸部材５と対向するように配置される。制御装置６は、供給口３１からの液体ＬＱの供給と回収口３２からの液体ＬＱの回収とを行って、計測ステージ３上に液浸空間ＬＳ１を形成する。また、制御装置６は、供給口３５からの液体ＬＱの供給と回収口３６からの液体ＬＱの回収とを行って、計測ステージ３上に液浸空間ＬＳ２を形成する。
【０１１４】
露光前の基板Ｐが基板ステージ２にロードされ、計測ステージ３を用いる計測処理が終了した後、制御装置６は、終端光学素子１３及び液浸部材５と基板ステージ２（基板Ｐ）とが対向するように、基板ステージ２を移動する。終端光学素子１３及び液浸部材５と基板ステージ２（基板Ｐ）とが対向する状態で、供給口３１からの液体ＬＱの供給と並行して回収口３２からの液体ＬＱの回収が行われることによって、射出面１２側の露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように、終端光学素子１３及び第１部材２１と基板ステージ２（基板Ｐ）との間に液浸空間ＬＳ１が形成される。また、供給口３５からの液体ＬＱの供給と並行して回収口３６からの液体ＬＱの回収が行われることによって、第２部材２２と基板ステージ２（基板Ｐ）との間に液浸空間ＬＳ２が形成される。
【０１１５】
制御装置６は、基板Ｐの露光処理を開始する。制御装置６は、基板Ｐ上に液浸空間ＬＳ１が形成され、基板Ｐ及び基板ステージ２の少なくとも一方に液浸空間ＬＳ２が形成されている状態で、照明系ＩＬから露光光ＥＬを射出する。照明系ＩＬはマスクＭを露光光ＥＬで照明する。マスクＭからの露光光ＥＬは、投影光学系ＰＬ及び射出面１２と基板Ｐとの間の液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱを介して基板Ｐに照射される。これにより、基板Ｐは、液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱを介して射出面１２から射出された露光光ＥＬで露光され、マスクＭのパターンの像が基板Ｐに投影される。
【０１１６】
本実施形態の露光装置ＥＸは、マスクＭと基板Ｐとを所定の走査方向に同期移動しつつ、マスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する走査型露光装置（所謂スキャニングステッパ）である。本実施形態においては、基板Ｐの走査方向（同期移動方向）をＹ軸方向とし、マスクＭの走査方向（同期移動方向）もＹ軸方向とする。制御装置６は、基板Ｐを投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲに対してＹ軸方向に移動するとともに、その基板ＰのＹ軸方向への移動と同期して、照明系ＩＬの照明領域ＩＲに対してマスクＭをＹ軸方向に移動しつつ、投影光学系ＰＬと基板Ｐ上の液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱとを介して基板Ｐに露光光ＥＬを照射する。
【０１１７】
図５は、基板ステージ２に保持された基板Ｐの一例を示す図である。なお、図５においては、基板Ｐの周囲に配置されるカバー部材Ｔは円環状である。なお、カバー部材Ｔの外形は、例えば四角形でもよい。本実施形態において、基板ステージ２の第１保持部に保持された基板Ｐと第２保持部に保持されたカバー部材Ｔとの間に、間隙Ｇが形成される。
【０１１８】
本実施形態においては、基板Ｐに露光対象領域であるショット領域Ｓがマトリクス状に複数配置されている。制御装置６は、基板ステージ２（第１保持部）に保持されている基板Ｐの複数のショット領域Ｓを液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱを介して露光光ＥＬで順次露光する。複数のショット領域Ｓのそれぞれは、露光光ＥＬ（投影領域ＰＲ）に対して基板ＰをＹ軸方向に移動しながら露光される。
【０１１９】
例えば基板Ｐの第１のショット領域Ｓを露光するために、制御装置６は、液浸空間ＬＳ１、ＬＳ２が形成された状態で、基板Ｐ（第１のショット領域Ｓ）を投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲに対してＹ軸方向に移動するとともに、その基板ＰのＹ軸方向への移動と同期して、照明系ＩＬの照明領域ＩＲに対してマスクＭをＹ軸方向に移動しつつ、投影光学系ＰＬと基板Ｐ上の液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱとを介して第１のショット領域Ｓに露光光ＥＬを照射する。これにより、マスクＭのパターンの像が基板Ｐの第１のショット領域Ｓに投影され、その第１のショット領域Ｓが射出面１２から射出された露光光ＥＬで露光される。第１のショット領域Ｓの露光が終了した後、制御装置６は、次の第２のショット領域Ｓの露光を開始するために、液浸空間ＬＳ１、ＬＳ２が形成されている状態で、基板ＰをＸＹ平面内においてＸ軸と交差する方向（例えばＸ軸方向、あるいはＸＹ平面内においてＸ軸及びＹ軸方向に対して傾斜する方向等）に移動し、第２のショット領域Ｓを露光開始位置に移動する。その後、制御装置６は、第２のショット領域Ｓの露光を開始する。
【０１２０】
制御装置６は、基板Ｐ（基板ステージ２）上に液浸空間ＬＳ１、ＬＳ２が形成されている状態で、射出面１２からの露光光ＥＬが照射される位置（投影領域ＰＲ）に対してショット領域をＹ軸方向に移動しながらそのショット領域を露光する動作と、そのショット領域の露光後、基板Ｐ（基板ステージ２）上に液浸空間ＬＳ１、ＬＳ２が形成された状態で、次のショット領域が露光開始位置に配置されるように、ＸＹ平面内においてＹ軸方向と交差する方向（例えばＸ軸方向、あるいはＸＹ平面内においてＸ軸及びＹ軸方向に対して傾斜する方向等）に基板Ｐを移動する動作とを繰り返しながら、基板Ｐの複数のショット領域を順次露光する。なお、スキャン移動動作は、専らＹ軸方向の等速移動である。またステップ移動動作は、加減速度移動を含む。例えば、Ｘ軸方向に隣接する２つのショット領域間のステップ移動動作は、Ｙ軸方向の加減速移動、及びＸ軸方向の加減速移動を含む。
【０１２１】
以下の説明において、ショット領域を露光するために、基板Ｐ（基板ステージ２）上に液浸空間ＬＳ１、ＬＳ２が形成されている状態で、射出面１２からの露光光ＥＬが照射される位置（投影領域ＰＲ）に対して基板Ｐ（ショット領域）をＹ軸方向に移動する動作を適宜、スキャン移動動作、と称する。また、あるショット領域の露光後、次のショット領域を露光するために、基板Ｐ（基板ステージ２）上に液浸空間ＬＳ１、ＬＳ２が形成されている状態で、次のショット領域が露光開始位置に配置されるように、ＸＹ平面内においてＹ軸方向と交差する方向に基板Ｐを移動する動作を適宜、ステップ移動動作、と称する。スキャン移動動作とステップ移動動作とを繰り返しながら、基板Ｐの複数のショット領域Ｓが順次露光される。なお、スキャン移動動作は、専らＹ軸方向の等速移動である。またステップ移動動作は、加減速度移動を含む。例えば、Ｘ軸方向に隣接する２つのショット領域間のステップ移動動作は、Ｙ軸方向の加減速移動、及びＸ軸方向の加減速移動を含む。
【０１２２】
なお、スキャン移動動作及びステップ移動動作の少なくとも一部の期間において、液浸空間ＬＳ１、ＬＳ２は、基板ステージ２のカバー部材Ｔと基板Ｐとを跨ぐように形成される場合がある。また、液浸空間ＬＳ１、ＬＳ２は、基板ステージ２と計測ステージ３とを跨ぐように形成される場合がある。
【０１２３】
本実施形態において、制御装置６は、投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲと基板Ｐとが、図５中、例えば矢印Ｓｒに示す移動軌跡に沿って相対的に移動するように基板ステージ２を移動しつつ投影領域ＰＲに露光光ＥＬを照射して、液体ＬＱを介して基板Ｐの複数のショット領域Ｓを露光光ＥＬで順次露光する。
【０１２４】
液浸空間ＬＳ１が形成されている状態で、スキャン移動動作及びステップ移動動作の少なくとも一方が行われることによって、液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱの一部が、液浸空間ＬＳ１から離れて、第１空間ＳＰ１の外側に移動（流出）する可能性がある。
【０１２５】
なお、本実施形態においては、液浸空間ＬＳ２は、液浸空間ＬＳ１よりも小さいため、液浸空間ＬＳ１、ＬＳ２が形成されている状態で基板Ｐ（基板ステージ２）が移動した場合において、液浸空間ＬＳ２の液体ＬＱの一部が液浸空間ＬＳ２から離れて第２空間ＳＰ２の外側に移動（流出）することが抑制される。換言すれば、液浸空間ＬＳ２は液浸空間ＬＳ１よりも小さいため、液浸空間ＬＳ２の液体ＬＱの一部が第２空間ＳＰ２から流出することが、液浸空間ＬＳ１の液体ＬＱの一部が第１空間ＳＰ１から流出することよりも抑制されている。
【０１２６】
本実施形態においては、第１空間ＳＰ１の外側に移動した液体ＬＱ（第１空間ＳＰ１の外側における基板Ｐ上の液体ＬＱ）は、第３部材２３に捕捉される。これにより、第３空間ＳＰ３の外側に、基板Ｐ上の液体ＬＱが移動することが抑制される。
【０１２７】
また、第３部材２３の凸部４０に接触した、第１空間ＳＰ１の外側における基板Ｐ上の液体ＬＱは、第２空間ＳＰ２に誘導される。例えば、凸部４０と基板Ｐとの間に形成される間隙に液体ＬＱが入り込むことによって、その液体ＬＱは第２空間ＳＰ２に移動する。凸部４０は、第２空間ＳＰ２に向かって延びるように配置されているため、その液体ＬＱは、第２空間ＳＰ２に移動可能である。また、凸部４０と基板Ｐとの間に液体ＬＱが存在する状態で、基板ＰがＸＹ平面内において移動することによって、その液体ＬＱは、第２空間ＳＰ２に移動可能である。
【０１２８】
凸部４０によって第２空間ＳＰ２に誘導された液体ＬＱは、第２部材２２の回収口３６から回収される。例えば第２部材２２の下面２５側に液浸空間ＬＳ２が形成されている状態で、凸部４０によって第２空間ＳＰ２に液体ＬＱが誘導された場合、その誘導された液体ＬＱは、液浸空間ＬＳ２の液体ＬＱとともに、回収口３６から回収される。また、第２部材２２の下面２５側に液浸空間ＬＳ２が形成されていない状態で、凸部４０によって第２空間ＳＰ２に液体ＬＱが誘導された場合においても、その誘導された液体ＬＱは、回収口３６から回収される。
【０１２９】
なお、基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱは、凸部４０に接触することなく、第２空間ＳＰ２に移動する可能性もある。例えば、第１空間ＳＰ１から流出した液体ＬＱが、凸部４０（第３部材２３）に接触することなく、第２空間ＳＰ２に移動する可能性がある。回収口３６は、その液体ＬＱを回収可能である。
【０１３０】
以上説明したように、本実施形態によれば、第３部材２３を設けたので、その第３部材２３を使って、第１空間ＳＰ１の外側における基板Ｐ（物体上）の液体ＬＱを第２空間ＳＰ２に誘導することができる。これにより、その液体ＬＱが回収口３６から回収されるため、液体ＬＱが基板Ｐ（物体）上に残留したり、第３空間ＳＰ３の外側に移動（流出）したり、第２空間ＳＰ２の外側に移動（流出）したりすることが抑制される。したがって、露光不良の発生、及び不良デバイスの発生が抑制される。
【０１３１】
＜第２実施形態＞
次に、第２実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【０１３２】
図６は、本実施形態に係る液浸部材５Ｂを下方から見た図である。図７は、液浸部材５Ｂの一部の断面図であって、図６のＢ−Ｂ線断面図に相当する。
【０１３３】
液浸部材５Ｂは、第１部材２１と、第２部材２２と、第３部材２３１とを有する。本実施形態において、第３部材２３１は、第２空間ＳＰ２に向かって液体ＬＱｇが流通可能な流路４１を有する。液体ＬＱｇは、基板Ｐ（物体）が対向可能である。流路４１を流れる液体ＬＱｇと基板Ｐとは対向可能である。液体ＬＱｇは、基板Ｐと対向するように、流路４１を流れる。
【０１３４】
本実施形態において、液体ＬＱｇの種類（物性）と液体ＬＱの種類（物性）とは、同じである。また、本実施形態において、液体ＬＱｇのクリーン度は、液体ＬＱのクリーン度と実質的に等しい。なお、液体ＬＱｇの種類と液体ＬＱの種類とが異なってもよい。例えば、液体ＬＱｇの粘度が、液体ＬＱの粘度よりも高くてもよい。また、液体ＬＱｇのクリーン度が、液体ＬＱのクリーン度よりも低くてもよい。
【０１３５】
第３部材２３２は、第１部材２１の周囲の空間に複数配置されている。以下の説明において、複数の第３部材２３２のうち、第１部材２１の側面に対向するように配置される第３部材２３２を適宜、第３部材２３２Ａ、と称し、第１部材２１に対して第３部材２３２Ａの外側に配置される第３部材２３２を適宜、第３部材２３２Ｂ、と称する。なお、第３部材２３２Ｂは無くてもよい。
【０１３６】
流路４１の少なくとも一部は、第３部材２３２の下面２６に配置される。下面２６は、基板Ｐ（物体）が対向可能である。流路４１に液体ＬＱｇが無い状態において、流路４１は、基板Ｐ（物体）が対向可能である。本実施形態において、流路４１は、下面２６に設けられた凹部を含む。
【０１３７】
本実施形態において、液体ＬＱｇは、基板Ｐ（物体）に接触しないように、流路４１を流れる。また、液体ＬＱｇの少なくとも一部は、第３部材２３２の下面２６よりも下方に配置される。すなわち、液体ＬＱｇは、その液体ＬＱｇの表面が下面２６よりも下側（基板Ｐ側）に配置されるように（下面２６から突出するように）、流路４１を流れる。
【０１３８】
図７に示すように、液体ＬＱｇは、基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱを捕捉可能である。  例えば、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱ（液浸空間ＬＳ１から離れた液体ＬＱ）が、第１空間ＳＰ１の外側に流出する可能性がある。また、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱが、第１空間ＳＰ１の外側における基板Ｐ（物体）の上面において滴となる可能性がある。本実施形態においては、第１部材２１の周囲の少なくとも一部に、液体ＬＱｇが流れる流路４１が配置されているため、第１空間ＳＰ１から流出した液体ＬＱは、液体ＬＱｇに捕捉される。また、第１空間ＳＰ１の外側における基板Ｐ上の液体ＬＱ（滴など）は、液体ＬＱｇに捕捉される。これにより、第３空間ＳＰ３の外側に、基板Ｐ上の液体ＬＱが移動することが抑制される。
【０１３９】
また、本実施形態においては、液体ＬＱｇに接触する基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱは、第２空間ＳＰ２に誘導される。
【０１４０】
図６に示すように、流路４１は、端部４１Ａと、端部４１Ａの反対側の端部４１Ｂとを有する。ＸＹ平面内における端部４１Ａと端部４１Ｂとの距離は、下面２５の外形の寸法（直径）よりも大きい。端部４１Ａと端部４１Ｂとの距離は、流路４１の幅よりも大きい。
【０１４１】
流路４１は、第２空間ＳＰ２に向かって延びるように配置される。端部４１Ｂは、端部４１Ａよりも第２空間ＳＰ２から離れている。端部４１Ａは、端部４１Ｂよりも第２空間ＳＰ２に近い。端部４１Ａは、第２空間ＳＰ２に隣接する。
【０１４２】
本実施形態においては、液体ＬＱｇは、第２空間ＳＰ２に向かって流路４１を流れる。本実施形態において、液体ＬＱｇは、端部４１Ｂから端部４１Ａに向かって流路４１を流れる。
【０１４３】
本実施形態において、液浸部材５Ｂは、流路４１に液体ＬＱｇを供給する供給部４２を有する。供給部４２は、端部４１Ｂに液体ＬＱｇを供給する。供給部４２は、端部４１Ｂから端部４１Ａに向かって液体ＬＱｇが流路４１を流れるように、その流路４１に液体ＬＱｇを供給する。
【０１４４】
液体ＬＱｇが第２空間ＳＰ２に向かって流路４１を流れるため、その液体ＬＱｇに接触した基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱは、液体ＬＱｇとともに、第２空間ＳＰ２に向かって流れる。第２空間ＳＰ２に向かって流れた液体ＬＱ及び液体ＬＱｇは、回収口３６より回収される。液浸空間ＬＳ２が形成されている場合、回収口３６は、液浸空間ＬＳ２の液体ＬＱとともに、流路４１からの液体ＬＱｇ及びその液体ＬＱｇに誘導された液体ＬＱを回収する。液浸空間ＬＳ２が形成されていない場合、回収口３６は、流路４１からの液体ＬＱｇ及びその液体ＬＱｇに誘導された液体ＬＱを回収する。
【０１４５】
以上説明したように、本実施形態においては、液体ＬＱｇによって、液体ＬＱが基板Ｐ（物体）上に残留すること、及び第３空間ＳＰ３の外側に移動（流出）することなどが抑制される。したがって、露光不良の発生、及び不良デバイスの発生が抑制される。
【０１４６】
なお、本実施形態においては、液体ＬＱｇによって、基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱを第２空間ＳＰ２に誘導することとしたが、第２空間ＳＰ２に誘導しなくてもよい。流路４１の液体ＬＱｇによって、基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱを捕捉することによって、例えば基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱが第３空間ＳＰ３の外側に移動（流出）することが抑制される。また、基板Ｐ上の液体ＬＱが、液体ＬＱｇと一体となって、流路４１（第３部材２３）に保持されてもよい。
【０１４７】
＜第３実施形態＞
次に、第３実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【０１４８】
図８は、本実施形態に係る液浸部材５Ｃの一部を示す図である。図８は、液浸部材５Ｃの第２部材２２３及び第３部材２３３の一部を示す。
【０１４９】
液浸部材５Ｃは、液浸空間ＬＳ２を形成する第２部材２２３と、液体ＬＱｇが流れる流路４３を有する第３部材２３３とを備えている。流路４３は、第３部材２３３の側面２７に配置された流路４３Ａと、下面２６に配置された流路４３Ｂとを含む。
【０１５０】
液浸部材５Ｃは、流路４３に液体ＬＱｇを供給する供給部４４を有する。供給部４４は、流路４３Ａに液体ＬＱｇを供給する。液体ＬＱｇは、第３部材２３３の側面２７の流路４３Ａを流れた後、下面２６の流路４３Ｂを流れる。
【０１５１】
図９は、本実施形態に係る第３部材２３３の断面図である。本実施形態において、第３部材２３３は、下面２６の反対方向を向く上面２８と、上面２８と下面２６とを結ぶ接続面２９とを有する。上面２８は、側面２７の下端と結ばれる。供給部４４は、側面２７の上部に液体ＬＱｇを供給する。供給部４４から供給された液体ＬＱｇは、側面２７の下端に向かって側面２７（流路４３Ａ）を流れる。側面２７の下端に到達した液体ＬＱは、上面２８及び接続面２９を流れた後、下面２６（流路４３Ｂ）を流れる。
【０１５２】
本実施形態において、下面２６は、平坦である。なお、下面２６の流路が、下面２６に形成された凹部を含んでもよい。
【０１５３】
液体ＬＱｇは、基板Ｐ（物体）に接触しないように、下面２６（流路４３Ｂ）を流れる。液体ＬＱｇの少なくとも一部は、下面２６よりも下方に配置される。すなわち、液体ＬＱｇは、その液体ＬＱｇの表面が下面２６よりも下側（基板Ｐ側）に配置されるように（下面２６から突出するように）、下面２６（流路４３Ｂ）を流れる。
【０１５４】
本実施形態において、液体ＬＱｇは、第２空間ＳＰ２に向かって流れる。図８に示すように、供給部４４は、下面２６において液体ＬＱｇが第２空間ＳＰ２に向かって流れるように、側面２７（流路４３Ａ）に液体ＬＱｇを供給する。
【０１５５】
図８及び図９に示すように、液体ＬＱｇは、基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱを捕捉可能である。第１空間ＳＰ１から流出した液体ＬＱ（第１空間ＳＰ１の外側における基板Ｐ上の液体ＬＱ）は、液体ＬＱｇに捕捉される。これにより、第３空間ＳＰ３の外側に、基板Ｐ上の液体ＬＱが移動することが抑制される。
【０１５６】
また、本実施形態においては、液体ＬＱｇに接触する基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱは、第２空間ＳＰ２に誘導される。液体ＬＱｇは、第３部材２３３の下面２６を第２空間ＳＰ２に向かって流れる。なお、液体ＬＱｇが、第３部材２３３の接続面２９を第２空間ＳＰ２に向かって流れてもよい。そのため、下面２６（接続面２９）を流れる液体ＬＱｇに接触した基板Ｐ上の液体ＬＱは、液体ＬＱｇとともに、第２空間ＳＰ２に向かって流れる。第２空間ＳＰ２に誘導された液体ＬＱは、液体ＬＱｇとともに、第２部材２２３の回収口３６から回収される。
【０１５７】
以上説明したように、本実施形態においては、液体ＬＱｇによって、基板Ｐ上の液体ＬＱが捕捉され、第２空間ＳＰ２に誘導されるため、基板Ｐ上に液体ＬＱが残留すること、及び第３空間ＳＰ３の外側に液体ＬＱが移動（流出）することが抑制される。したがって、露光不良の発生、及び不良デバイスの発生が抑制される。
【０１５８】
なお、基板Ｐ上の液体ＬＱは、第２空間ＳＰ２に誘導されなくてもよい。液体ＬＱｇで基板Ｐ上の液体ＬＱが捕捉されることによって、第３空間ＳＰ３の外側に液体ＬＱが移動（流出）することが抑制される。
【０１５９】
図１０は、第３部材２３３Ｂの一例を示す。図８に示す例は、下面２６がＸＹ平面（基板Ｐの上面）と実質的に平行である。図１０に示す例は、下面２６の少なくとも一部がＸＹ平面に対して傾斜する。また、下面２６の少なくとも一部は、曲面を含む。図１０に示す例では、第２空間ＳＰ２に近い下面２６の端部２６Ａが、第２空間ＳＰ２に対して端部２６Ａよりも離れた下面２６の部分２６Ｍよりも下側（−Ｚ側）に配置されている。図１０に示す例では、重力の作用により、液体ＬＱｇは下面２６において第２空間ＳＰ２に向かって円滑に流れる。
【０１６０】
＜第４実施形態＞
次に、第４実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【０１６１】
図１１は、本実施形態に係る液浸部材５Ｄを下方から見た図である。図１２は、液浸部材５Ｄの一部の断面図であって、図１１のＣ−Ｃ線断面図に相当する。
【０１６２】
液浸部材５Ｄは、第１部材２１と、第２部材２２と、第３部材２３４とを有する。本実施形態において、第３部材２３４の下面２６は、第１領域４５と、第１領域４５よりも液体ＬＱに対して撥液性の第２領域４６とを含む。下面２６は、基板Ｐ（物体）が対向可能である。第１空間ＳＰ１の外側における基板Ｐ上の液体ＬＱは、下面２６と接触可能である。第３部材２３４は、下面２６と基板Ｐ上の液体ＬＱとが接触するように配置される。
【０１６３】
本実施形態において、液体ＬＱに対する第１領域４５の接触角は、９０度よりも小さい。液体ＬＱに対する第２領域４６の接触角は、９０度よりも大きい。
【０１６４】
図１１に示すように、ＸＹ平面内において、第１領域４５は、端部４５Ａと、端部４５Ａの反対側の端部４５Ｂとを有する。端部４５Ａは、下面２６の端部２６Ａに配置される。端部４５Ｂは、下面２６の端部２６Ｂに配置される。ＸＹ平面内における端部４５Ａと端部４５Ｂとの距離は、下面２５の外形の寸法（直径）よりも大きい。端部４５Ａと端部４５Ｂとの距離は、第１領域４５の幅よりも大きい。
【０１６５】
ＸＹ平面内において、第２領域４６は、端部４６Ａと、端部４６Ａの反対側の端部４６Ｂとを有する。端部４６Ａは、下面２６の端部２６Ａに配置される。端部４６Ｂは、下面２６の端部２６Ｂに配置される。ＸＹ平面内における端部４６Ａと端部４６Ｂとの距離は、下面２５の外形の寸法（直径）よりも大きい。端部４６Ａと端部４６Ｂとの距離は、第２領域４６の幅よりも大きい。
【０１６６】
なお、本実施形態において、第１領域４５は、第２領域４６の両側に配置される。
【０１６７】
第１領域４５及び第２領域４６は、第２空間ＳＰ２に向かって延びるように配置される。端部４５Ｂは、端部４５Ａよりも第２空間ＳＰ２から離れている。端部４５Ａは、端部４５Ｂよりも第２空間ＳＰ２に近い。端部４５Ａは、第２空間ＳＰ２に隣接する。端部４６Ｂは、端部４６Ａよりも第２空間ＳＰ２から離れている。端部４６Ａは、端部４６Ｂよりも第２空間ＳＰ２に近い。端部４６Ａは、第２空間ＳＰ２に隣接する。
【０１６８】
例えば、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱ（液浸空間ＬＳ１から離れた液体ＬＱ）が、第１空間ＳＰ１の外側に流出する可能性がある。また、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱが、第１空間ＳＰ１の外側における基板Ｐ（物体）の上面において滴となる可能性がある。本実施形態においては、第３部材２３４の下面２６は、液体ＬＱに対して撥液性の第２領域４６を含む。そのため、第１空間ＳＰ１から流出し、下面２６に接触した液体ＬＱは、第２領域４６に捕捉される。また、第１空間ＳＰ１の外側における基板Ｐ上の液体ＬＱ（滴など）は、第２領域４６に捕捉される。これにより、第３空間ＳＰ３の外側に、基板Ｐ上の液体ＬＱが移動することが抑制される。
【０１６９】
また、本実施形態においては、下面２６に接触した液体ＬＱは、第２空間ＳＰ２に誘導される。例えば、液体ＬＱに対して親液性の第１領域４５と基板Ｐとの間に形成される間隙に液体ＬＱが入り込むことによって、その液体ＬＱは第２空間ＳＰ２に移動する。第１領域４５は、第２空間ＳＰ２に向かって延びるように配置されているため、その液体ＬＱは、第２空間ＳＰ２に移動可能である。また、第１領域４５と基板Ｐ（物体）との間に液体ＬＱが存在する状態で、基板Ｐ（物体）がＸＹ平面内において移動することによっても、その液体ＬＱは、第２空間ＳＰ２に移動可能である。
【０１７０】
また、第１領域４５に隣接して第２領域４６が配置されているため、液体ＬＱが第２空間ＳＰ２に移動する期間において、第２領域４６の外側に液体ＬＱが移動（流出）することが抑制される。
【０１７１】
第１領域４５及び第２領域４６を含む下面２６によって第２空間ＳＰ２に誘導された液体ＬＱは、第２部材２２の回収口３６から回収される。例えば第２部材２２の下面２５側に液浸空間ＬＳ２が形成されている状態で、下面２６によって第２空間ＳＰ２に液体ＬＱが誘導された場合、その誘導された液体ＬＱは、液浸空間ＬＳ２の液体ＬＱとともに、回収口３６から回収される。また、第２部材２２の下面２５側に液浸空間ＬＳ２が形成されていない状態で、下面２６によって第２空間ＳＰ２に液体ＬＱが誘導された場合においても、その誘導された液体ＬＱは、回収口３６から回収される。
【０１７２】
以上説明したように、本実施形態においては、第１領域４５及び第２領域４６を含む下面２６によって、液体ＬＱが基板Ｐ（物体）上に残留すること、及び第３空間ＳＰ３の外側に移動（流出）することなどが抑制される。したがって、露光不良の発生、及び不良デバイスの発生が抑制される。
【０１７３】
なお、本実施形態においては、第１領域４５及び第２領域４６を含む下面２６によって、基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱが第２空間ＳＰ２に誘導されることとしたが、第２空間ＳＰ２に誘導されなくてもよい。例えば第２領域４６によって、基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱが捕捉されることによって、基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱが第３空間ＳＰ３の外側に移動（流出）することが抑制される
【０１７４】
＜第５実施形態＞
次に、第５実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【０１７５】
図１３は、本実施形態に係る液浸部材５Ｅの一部を示す図である。図１４は、液浸部材５Ｅの第３部材２３５の下面２６の一部を示す図である。
【０１７６】
本実施形態において、第３部材２３５の下面２６は、第１領域４７と、第１領域４７よりも液体ＬＱに対して撥液性の第２領域４８とを含む。
【０１７７】
第１領域４７及び第２領域４８は、下面２６に接触した液体ＬＱが第２空間ＳＰ２に誘導されるようにパターン化されている。
【０１７８】
ＸＹ平面内において、第１領域４７は、第２空間ＳＰ２を通る軸Ｊの一側から第２空間ＳＰ２に向かって延びる第１エッジ４７Ａと、軸Ｊの他側から第２空間ＳＰ２に向かって延びる第２エッジ４７Ｂとを有する。第１エッジ４７Ａと第２エッジ４７Ｂとの距離は、第２空間ＳＰ２に近づくにつれて小さくなる。第１エッジ４７Ａの先端及び第２エッジ４７Ｂの先端によって、第２空間ＳＰ２に向かって突出する角部４７Ｋが形成される。
【０１７９】
第１領域４７と基板Ｐ（物体）との間に保持された液体ＬＱは、第２空間ＳＰ２に向かって流れる。例えば、第１領域４７と基板Ｐ（物体）との間に液体ＬＱが保持された状態で、基板Ｐ（物体）がＸＹ平面内において移動することにより、液体ＬＱが第２空間ＳＰ２に向かって流れる。
【０１８０】
本実施形態においても、基板Ｐ上の液体ＬＱは、第２空間ＳＰ２に誘導される。第２空間ＳＰ２に誘導された液体ＬＱは、回収口３６から回収される。
【０１８１】
＜第６実施形態＞
次に、第６実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【０１８２】
図１５は、本実施形態に係る液浸部材５Ｆの第３部材２３６の一例を示す。本実施形態において、第３部材２３６は、基板Ｐ（物体）が対向可能な下面２６と、その下面２６に配置される多孔部材５０とを有する。
【０１８３】
多孔部材５０の先端（下端）は、下面２６よりも下側（基板Ｐ側）に配置される。すなわち、多孔部材５０は、下面２６から下方に突出するように配置される。また、多孔部材５０は、対向する基板Ｐ（物体）と接触しないように配置される。
【０１８４】
第１空間ＳＰ１の外側における基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱは、多孔部材５０と接触可能である。多孔部材５０は、基板Ｐ上の液体ＬＱを捕捉可能である。また、多孔部材５０は、基板Ｐ上の液体ＬＱを保持可能である。また、多孔部材５０は、基板Ｐ上の液体ＬＱを吸収可能である。多孔部材５０が液体ＬＱを吸収することによって、基板Ｐ上から液体ＬＱが除去される。
【０１８５】
本実施形態によれば、多孔部材５０によって、液体ＬＱが基板Ｐ（物体）上に残留すること、及び第３空間ＳＰ３の外側に移動（流出）することなどが抑制される。したがって、露光不良の発生、及び不良デバイスの発生が抑制される。
【０１８６】
＜第７実施形態＞
次に、第７実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【０１８７】
図１６は、本実施形態に係る液浸部材５Ｇを下方から見た図である。図１６に示すように、液浸部材５Ｇは、第１部材２１と、第２部材２２と、第１部材２１の周囲の少なくとも一部において第１部材２１の側面と対向するように配置される第３部材２３７とを有する。本実施形態においては、第１部材２１に対して第３部材２３７の外側には、第３部材２３７とは別の第３部材は配置されていない。また、図１６に示す例では、第１部材２１の周囲において、第３部材２３７が２つだけ配置される。
【０１８８】
なお、第３部材２３７は、上述の第１〜第６実施形態で説明したような凸部を有してもよいし、液体ＬＱｇが流れる流路を有してもよいし、第１領域及び第１領域よりも液体ＬＱに対して撥液性の第２領域を含む下面を有してもよいし、多孔部材を有してもよい。
【０１８９】
本実施形態においても、第３部材２３７によって、液体ＬＱが基板Ｐ（物体）上に残留すること、及び第３空間ＳＰ３の外側に移動（流出）することなどが抑制される。したがって、露光不良の発生、及び不良デバイスの発生が抑制される。
【０１９０】
＜第８実施形態＞
次に、第８実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【０１９１】
図１７は、本実施形態に係る第２部材２２８の一例を示す断面図である。図１７において、第２部材２２８は、液体ＬＱを供給可能な供給口３５１と、流体（液体ＬＱ及び気体の一方又は両方）を回収可能な回収口３６１とを有する。
【０１９２】
本実施形態において、第２部材２２８は、多孔部材５１を含む。本実施形態において、供給口３５１及びその供給口３５１と結ばれる流路３５１Ｒは、多孔部材５１に配置される。供給口３５１の寸法は、多孔部材５１の孔（微小孔）の寸法よりも大きい。
【０１９３】
第２部材２２８は、多孔部材５１の周囲に配置される支持部材５２を有する。支持部材５２は、多孔部材でない。支持部材５２は、孔（微小孔）を有しない。多孔部材５１と支持部材５２との間に、回収口３６１及びその回収口３６１と結ばれる流路３６１Ｒが配置される。
【０１９４】
供給口３５１から液体ＬＱが供給されることによって、液浸空間ＬＳ２が形成される。供給口３５１からの液体ＬＱの供給と並行して、回収口３６１から液体ＬＱが回収されることによって、第２部材２２８と基板Ｐ（物体）との間に液浸空間ＬＳ２が形成される。第１空間ＳＰ１の外側における基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱは、液浸空間ＬＳ２の液体ＬＱとともに、回収口３６１から回収される。また、上述の実施形態において説明したように、第３部材によって第２空間ＳＰ２に誘導された液体ＬＱも、液浸空間ＬＳ２の液体ＬＱとともに、回収口３６１から回収される。
【０１９５】
また、第２部材２２８の下面側に液浸空間ＬＳ２が形成されていない状態で、第２空間ＳＰ２に移動した基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱは、回収口３６１から回収される。
【０１９６】
本実施形態において、供給口３５１は、流体（液体ＬＱ及び気体の一方又は両方）を回収（吸引）可能である。すなわち、供給口３５１は、流体を回収可能な回収口として機能することができる。図１７は、供給口３５１が回収口として機能している状態を示す。以下の説明において、回収口として機能する供給口３５１を適宜、回収口３５１、と称する。
【０１９７】
図１７において、供給口（回収口）３５１から液体ＬＱが供給されない。また、第２部材２２８の下面側に液浸空間ＬＳ２は形成されない。
【０１９８】
回収口３５１は、流路３５１Ｒを介して、真空システムを含む流体回収装置３５１Ｃに接続可能である。回収口３６１は、流路３６１Ｒを介して、真空システムを含む流体回収装置３６１Ｃに接続可能である。また、多孔部材５１（微小孔）は、真空システムを含む流体回収装置５１Ｃに接続可能である。
【０１９９】
本実施形態においては、基板Ｐの露光処理の少なくとも一部の期間、あるいは所定の計測処理の少なくとも一部の期間において、供給口（回収口）３５１から液体ＬＱが供給されない状態（液浸空間ＬＳ２が形成されない状態）で、流体回収装置３５１Ｃ、流体回収装置３６１Ｃ、及び流体回収装置５１Ｃの少なくとも一つが作動される。
【０２００】
これにより、第２空間ＳＰ２に移動した基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱは、回収口３６１、回収口３５１、及び多孔部材５１の孔（微小孔）の少なくとも一つから回収される。
【０２０１】
本実施形態においては、第２部材２２８は、多孔部材５１を含み、第２部材２２８の下面の少なくとも一部は、多孔部材５１の下面を含む。そのため、多孔部材５１に接触した基板Ｐ上の液体ＬＱは、多孔部材５１（微小孔）から円滑に回収される。
【０２０２】
また、回収口３６１からの流体の吸引を行いつつ、多孔部材５１（微小孔）からの流体の吸引を行うことによって、液体ＬＱを多孔部材５１と基板Ｐ（物体）との間の空間に閉じ込めつつ、その液体ＬＱを多孔部材５１から回収することができる。すなわち、回収口３６１から流体（気体）が吸引されることによって、第２空間ＳＰ２の外側の空間から第２空間ＳＰ２に向かう気体の流れが生成される。これにより、基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱは、多孔部材５１と基板Ｐ（物体）との間の空間に閉じ込められる。多孔部材５１と基板Ｐ（物体）との間の空間に液体ＬＱを閉じ込めた状態で、多孔部材５１（微小孔）の吸引動作（回収口３５１の吸引動作）が行われることによって、基板Ｐ上の液体ＬＱは、多孔部材５１（回収口３５１）から円滑に回収される。
【０２０３】
＜第９実施形態＞
次に、第９実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【０２０４】
図１８は、本実施形態に係る第２部材２２９の一例を示す断面図、図１９は、第２部材２２９を下側から見た図である。本実施形態において、第２部材２２９は、液体ＬＱを供給可能な供給口３５２と、流体（液体ＬＱ及び気体の少なくとも一方）を回収可能な回収口３６２と、回収口３６２に配置されたフィン部材５３とを有する。
【０２０５】
本実施形態において、供給口３５２は、流体を回収（吸引）可能な回収口として機能することができる。以下の説明において、回収口として機能する供給口３５２を適宜、回収口３５２、と称する。
【０２０６】
回収口３５２は、第２部材２２９の内部に形成された流路３５２Ｒを介して、真空システムを含む流体回収装置３５２Ｃと接続される。回収口３６２は、第２部材２２９の内部に形成された流路３６２Ｒを介して、流体回収装置３６２Ｃと接続される。回収口３５２は、流路３５２Ｒの下端の開口を含む。回収口３６２は、流路３６２Ｒの下端の開口を含む。フィン部材５３の少なくとも一部は、流路３６２Ｒに配置される。
【０２０７】
ＸＹ平面内において、フィン部材５３は、中心点５３Ｃの周囲を絶えず遠ざかる点によって作り出される曲線状である。すなわち、ＸＹ平面内において、フィン部材５３は、スパイラル状である。
【０２０８】
本実施形態において、第２部材２２９の下面側には液浸空間ＬＳ２が形成されない。すなわち、供給口（回収口）３５２から液体ＬＱは供給されない。液体ＬＱが供給されない状態で、流体回収装置３５２Ｃ、３６２Ｃが作動することにより、第２空間ＳＰ２に配置された基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱは、回収口３５２、３６２から回収される。
【０２０９】
本実施形態においては、第２部材２２９は、フィン部材５３を含み、第２部材２２９の下面の少なくとも一部は、フィン部材５３の下面を含む。そのため、フィン部材５３に接触した基板Ｐ上の液体ＬＱは、回収口３５２、３６２から円滑に回収される。また、フィン部材５３に接触した液体ＬＱは、フィン部材５３が有する間隙Ｇ５３を上方に移動することができる。
【０２１０】
本実施形態においては、フィン部材５３が設けられているため、流体回収装置３５２Ｃ、３６２Ｃが作動することにより、流路３５２Ｒ、３６２Ｒにおいて、気体が旋回するような気流が生成される。その気流により、基板Ｐ上の液体ＬＱは、流路３５２Ｒ、３６２Ｒを円滑に移動可能である。換言すれば、フィン部材５３によって生成された気流により、液体ＬＱは、流路３５２Ｒ、３６２Ｒの上方へ円滑に案内される。
【０２１１】
なお、上述の第１〜第９実施形態において、液浸空間ＬＳ１を形成するための液体ＬＱと、液浸空間ＬＳ２を形成するための液体ＬＱとは、同じ種類（物性）でもよい。なお、液浸空間ＬＳ１を形成するための液体ＬＱと、液浸空間ＬＳ２を形成するための液体ＬＱとは、異なる種類（物性）でもよい。例えば、液浸空間ＬＳ２を形成するための液体ＬＱの粘度が、液浸空間ＬＳ１を形成するための液体ＬＱの粘度よりも高くてもよい。
【０２１２】
なお、上述の第１〜第９実施形態において、液浸空間ＬＳ１を形成するための液体ＬＱと、液浸空間ＬＳ２を形成するための液体ＬＱとは、同じクリーン度でもよい。なお、液浸空間ＬＳ１を形成するための液体ＬＱと、液浸空間ＬＳ２を形成するための液体ＬＱとは、異なるクリーン度でもよい。例えば、液浸空間ＬＳ２を形成するための液体ＬＱのクリーン度が、液浸空間ＬＳ１を形成するための液体ＬＱのクリーン度よりも低くてもよい。
【０２１３】
＜第１０実施形態＞
次に、第１０実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【０２１４】
図２０は、第１０実施形態に係る液浸部材５０Ｊの一例を下方から見た図である。図２０において、液浸部材５０Ｊは、液浸空間ＬＳ１を形成する第１部材２１と、光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸）に対して第１部材２１の外側に配置され、基板Ｐ（物体）が対向可能な下面２６１を有し、下面２６１側の空間ＳＰ２１の少なくとも一部に、液浸空間ＬＳ１から離れて、液体ＬＱの液浸空間ＬＳ２１を形成可能な部材２２１と、光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸）に対して第１部材２１の外側に配置され、基板Ｐ（物体）が対向可能な下面２６２を有し、下面２６２側の空間ＳＰ２２の少なくとも一部に、液浸空間ＬＳ１、ＬＳ２１から離れて、液体ＬＱの液浸空間Ｌ２２を形成可能な部材２２２と、を備える。
【０２１５】
部材２２１は、液浸空間ＬＳ２１を形成するための液体ＬＱを供給する供給口３５３と、液体ＬＱを回収する回収口３６３とを有する。供給口３５３からの液体ＬＱの供給と、回収口３６３からの液体ＬＱの回収とが行われることによって、部材２２１の下面側に液浸空間ＬＳ２１が形成される。
【０２１６】
部材２２２は、液浸空間ＬＳ２２を形成するための液体ＬＱを供給する供給口３５４と、液体ＬＱを回収する回収口３６４とを有する。供給口３５４からの液体ＬＱの供給と、回収口３６４からの液体ＬＱの回収とが行われることによって、部材２２２の下面側に液浸空間ＬＳ２２が形成される。
【０２１７】
液浸空間ＬＳ２２は、光路Ｋに対して液浸空間Ｌ２１の外側において、液浸空間ＬＳ２１及びその液浸空間ＬＳ２１の外側の気体空間に面するように形成される。
【０２１８】
本実施形態において、部材２２１は、第１部材２１の周囲に複数配置される。本実施形態において、部材２２１は、第１部材２１の周囲に４つ配置される。以下の説明において、４つの部材２２１をそれぞれ、部材２２１Ａ、２２１Ｂ、２２１Ｃ、２２１Ｄ、と適宜称する。
【０２１９】
部材２２２は、第１部材２１に対して部材２２１の外側の空間において、第１部材２１の周囲に複数配置される。本実施形態において、部材２２２は、第１部材２１の周囲に４つ配置される。以下の説明において、４つの部材２２２をそれぞれ、部材２２２Ａ、２２２Ｂ、２２２Ｃ、２２２Ｄ、と適宜称する。
【０２２０】
例えば、部材２２１Ａが形成する液浸空間ＬＳ２１と、部材２２１Ｂが形成する液浸空間ＬＳ２１とは隣り合う。
【０２２１】
図２０において、部材２２２Ａは、部材２２１Ａが形成する液浸空間ＬＳ２１と、部材２２１Ｂが形成する液浸空間ＬＳ２１と、部材２２１Ａが形成する液浸空間ＬＳ２１と部材２２１Ｂが形成する液浸空間ＬＳ２１との間の気体空間との間の気体空間とに面するように、液浸空間ＬＳ２２を形成する。
【０２２２】
部材２２２Ｂは、部材２２１Ｂが形成する液浸空間ＬＳ２１と、部材２２１Ｃが形成する液浸空間ＬＳ２１と、部材２２１Ｂが形成する液浸空間ＬＳ２１と部材２２１Ｃが形成する液浸空間ＬＳ２１との間の気体空間との間の気体空間とに面するように、液浸空間ＬＳ２２を形成する。
【０２２３】
部材２２２Ｃは、部材２２１Ｃが形成する液浸空間ＬＳ２１と、部材２２１Ｄが形成する液浸空間ＬＳ２１と、部材２２１Ｃが形成する液浸空間ＬＳ２１と部材２２１Ｄが形成する液浸空間ＬＳ２１との間の気体空間との間の気体空間とに面するように、液浸空間ＬＳ２２を形成する。
【０２２４】
部材２２２Ｄは、部材２２１Ｄが形成する液浸空間ＬＳ２１と、部材２２１Ａが形成する液浸空間ＬＳ２１と、部材２２１Ｄが形成する液浸空間ＬＳ２１と部材２２１Ａが形成する液浸空間ＬＳ２１との間の気体空間との間の気体空間とに面するように、液浸空間ＬＳ２２を形成する。
【０２２５】
すなわち、本実施形態において、部材２２１（２２１Ａ〜２２１Ｄ）及び部材２２２（２２２Ａ〜２２２Ｄ）は、第１部材２１（液浸空間ＬＳ１）を囲むように、液浸空間ＬＳ２１、ＬＳ２２を形成する。
【０２２６】
例えば、第１空間ＳＰ１の外側に流出した液体ＬＱは、液浸空間ＬＳ２１及び液浸空間ＬＳ２２の少なくとも一方に捕捉される。第１空間ＳＰ１の外側における基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱは、液浸空間ＬＳ２１及び液浸空間ＬＳ２２の少なくとも一方に捕捉される。
【０２２７】
液浸空間ＬＳ２１に捕捉された液体ＬＱは、回収口３６３から回収される。液浸空間ＬＳ２２に捕捉された液体ＬＱは、回収口３６４から回収される。
【０２２８】
本実施形態においても、液体ＬＱが基板Ｐ（物体）上に残留すること、及び第３空間ＳＰ３の外側に移動（流出）することなどが抑制される。したがって、露光不良の発生、及び不良デバイスの発生が抑制される。
【０２２９】
なお、本実施形態において、液浸空間ＬＳ１を形成するための液体ＬＱと、液浸空間ＬＳ２１を形成するための液体ＬＱと、液浸空間ＬＳ２２を形成するための液体ＬＱとは、同じ種類（物性）でもよいし、異なる種類（物性）でもよい。
【０２３０】
なお、本実施形態において、液浸空間ＬＳ１を形成するための液体ＬＱと、液浸空間ＬＳ２１を形成するための液体ＬＱと、液浸空間ＬＳ２２を形成するための液体ＬＱとは、同じクリーン度でもよいし、異なるクリーン度でもよい。
【０２３１】
なお、上述したように、制御装置６は、ＣＰＵ等を含むコンピュータシステムを含む。また、制御装置６は、コンピュータシステムと外部装置との通信を実行可能なインターフェースを含む。記憶装置７は、例えばＲＡＭ等のメモリ、ハードディスク、ＣＤ−ＲＯＭ等の記録媒体を含む。記憶装置７には、コンピュータシステムを制御するオペレーティングシステム（ＯＳ）がインストールされ、露光装置ＥＸを制御するためのプログラムが記憶されている。
【０２３２】
なお、制御装置６に、入力信号を入力可能な入力装置が接続されていてもよい。入力装置は、キーボード、マウス等の入力機器、あるいは外部装置からのデータを入力可能な通信装置等を含む。また、液晶表示ディスプレイ等の表示装置が設けられていてもよい。
【０２３３】
記憶装置７に記録されているプログラムを含む各種情報は、制御装置（コンピュータシステム）６が読み取り可能である。記憶装置７には、制御装置６に、露光光が射出される光学部材の射出面と基板との間の露光光の光路に満たされた第１液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムが記録されている。
【０２３４】
記憶装置７に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置６に、露光光が射出される射出面を有する光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、光学部材の下方で移動可能な物体が対向可能な第１下面を有する第１部材で、射出面側の光路を含む光路空間及び第１下面側の第１空間の少なくとも一部に第１液体の第１液浸空間を形成することと、光路に対して第１部材の外側に配置され、物体が対向可能な第２下面を有する第２部材で、第２下面側の第２空間の少なくとも一部に、第１液浸空間から離れて、第２液体の第２液浸空間を形成することと、第１部材の周囲の少なくとも一部に配置され、物体が対向可能な第３下面を有する第３部材で、第１空間の外側における物体上の液体を第２空間に誘導することと、を実行させてもよい。
【０２３５】
また、記憶装置７に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置６に、露光光が射出される射出面を有する光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、光学部材の下方で移動可能な物体が対向可能な第１下面を有する第１部材で、射出面側の光路を含む光路空間及び第１下面側の第１空間の少なくとも一部に第１液体の第１液浸空間を形成することと、光路に対して第１部材の外側に配置され、物体が対向可能な第２下面を有する第２部材で、第２下面側の第２空間の少なくとも一部に、第１液浸空間から離れて、第２液体の第２液浸空間を形成することと、第１部材の周囲の少なくとも一部に配置され、物体が対向可能な第３下面を有する第３部材に設けられた流路に第３液体を流すことと、物体上の液体を、第３液体で捕捉することと、を実行させてもよい。
【０２３６】
また、記憶装置７に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置６に、露光光が射出される射出面を有する光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、光学部材の下方で移動可能な物体が対向可能な第１下面を有する第１部材で、射出面側の光路を含む光路空間及び第１下面側の第１空間の少なくとも一部に第１液体の第１液浸空間を形成することと、光路に対して第１部材の外側に配置され、物体が対向可能な第２下面を有する第２部材で、第２下面側の第２空間の少なくとも一部に、第１液浸空間から離れて、第２液体の第２液浸空間を形成することと、第１部材の周囲の少なくとも一部に配置され、物体が対向可能であり、第１領域及び第１領域よりも液体に対して撥液性の第２領域を含む第３部材の第３下面を、第１空間の外側における物体上の液体に接触させることと、を実行させてもよい。
【０２３７】
また、記憶装置７に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置６に、露光光が射出される射出面を有する光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、光学部材の下方で移動可能な物体が対向可能な第１下面を有する第１部材で、射出面側の光路を含む光路空間及び第１下面側の第１空間の少なくとも一部に第１液体の第１液浸空間を形成することと、光路に対して第１部材の外側に配置され、物体が対向可能な第２下面を有する第２部材で、第２下面側の第２空間の少なくとも一部に、第１液浸空間から離れて、第２液体の第２液浸空間を形成することと、光路に対して第１部材の外側に配置され、物体が対向可能な第３下面を有する第３部材で、第３下面側の第３空間の少なくとも一部に、第１、第２液浸空間から離れて、第３液体の第３液浸空間を形成することと、を実行させてもよい。第３液浸空間は、光路に対して第２液浸空間の外側において、第２液浸空間及び第２液浸空間の外側の気体空間に面するように形成されるように、プログラムが制御装置６に露光装置ＥＸを制御させてもよい。
【０２３８】
記憶装置７に記憶されているプログラムが制御装置６に読み込まれることにより、基板ステージ２、計測ステージ３、及び液浸部材５等、露光装置ＥＸの各種の装置が協働して、液浸空間が形成された状態で、基板Ｐの液浸露光等、各種の処理を実行する。
【０２３９】
なお、上述の各実施形態においては、投影光学系ＰＬの終端光学素子１３の射出面１２側（像面側）の光路Ｋが液体ＬＱで満たされているが、投影光学系ＰＬが、例えば国際公開第２００４／０１９１２８号に開示されているような、終端光学素子１３の入射側（物体面側）の光路も液体ＬＱで満たされる投影光学系でもよい。
【０２４０】
なお、上述の各実施形態においては、液体ＬＱが水であることとしたが、水以外の液体でもよい。液体ＬＱは、露光光ＥＬに対して透過性であり、露光光ＥＬに対して高い屈折率を有し、投影光学系ＰＬあるいは基板Ｐの表面を形成する感光材（フォトレジスト）等の膜に対して安定なものが好ましい。例えば、液体ＬＱが、ハイドロフロロエーテル（ＨＦＥ）、過フッ化ポリエーテル（ＰＦＰＥ）、フォンブリンオイル等のフッ素系液体でもよい。また、液体ＬＱが、種々の流体、例えば、超臨界流体でもよい。
【０２４１】
なお、上述の各実施形態においては、基板Ｐが、半導体デバイス製造用の半導体ウエハを含むこととしたが、例えばディスプレイデバイス用のガラス基板、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）等を含んでもよい。
【０２４２】
なお、上述の各実施形態においては、露光装置ＥＸが、マスクＭと基板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキャニングステッパ）であることとしたが、例えばマスクＭと基板Ｐとを静止した状態でマスクＭのパターンを一括露光し、基板Ｐを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパ）でもよい。
【０２４３】
また、露光装置ＥＸが、ステップ・アンド・リピート方式の露光において、第１パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第１パターンの縮小像を基板Ｐ上に転写した後、第２パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第２パターンの縮小像を第１パターンと部分的に重ねて基板Ｐ上に一括露光する露光装置（スティッチ方式の一括露光装置）でもよい。また、スティッチ方式の露光装置が、基板Ｐ上で少なくとも２つのパターンを部分的に重ねて転写し、基板Ｐを順次移動させるステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置でもよい。
【０２４４】
また、露光装置ＥＸが、例えば米国特許第６６１１３１６号に開示されているような、２つのマスクのパターンを、投影光学系を介して基板上で合成し、１回の走査露光によって基板上の１つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置でもよい。また、露光装置ＥＸが、プロキシミティ方式の露光装置、ミラープロジェクション・アライナー等でもよい。
【０２４５】
また、上述の各実施形態において、露光装置ＥＸが、米国特許第６３４１００７号、米国特許第６２０８４０７号、米国特許第６２６２７９６号等に開示されているような、複数の基板ステージを備えたツインステージ型の露光装置でもよい。例えば、図２１に示すように、露光装置ＥＸが２つの基板ステージ２００１、２００２を備えている場合、射出面１２と対向するように配置可能な物体は、一方の基板ステージ、その一方の基板ステージの第１保持部に保持された基板、他方の基板ステージ、及びその他方の基板ステージの第１保持部に保持された基板の少なくとも一つを含む。
【０２４６】
また、露光装置ＥＸが、複数の基板ステージと計測ステージとを備えた露光装置でもよい。
【０２４７】
なお、露光装置ＥＸが、基板Ｐに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置でもよいし、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置でもよいし、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）、マイクロマシン、ＭＥＭＳ、ＤＮＡチップ、あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置でもよい。
【０２４８】
なお、上述の実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスクを用いたが、このマスクに代えて、例えば米国特許第６７７８２５７号に開示されているような、露光すべきパターンの電子データに基づいて透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する可変成形マスク（電子マスク、アクティブマスク、あるいはイメージジェネレータとも呼ばれる）を用いてもよい。また、非発光型画像表示素子を備える可変成形マスクに代えて、自発光型画像表示素子を含むパターン形成装置を備えるようにしてもよい。
【０２４９】
上述の各実施形態においては、露光装置ＥＸが投影光学系ＰＬを備えることとしたが、投影光学系ＰＬを用いない露光装置及び露光方法に、上述の各実施形態で説明した構成要素を適用してもよい。例えば、レンズ等の光学部材と基板との間に液浸空間を形成し、その光学部材を介して、基板に露光光を照射する露光装置及び露光方法に、上述の各実施形態で説明した構成要素を適用してもよい。
【０２５０】
また、露光装置ＥＸが、例えば国際公開第２００１／０３５１６８号に開示されているような、干渉縞を基板Ｐ上に形成することによって基板Ｐ上にライン・アンド・スペースパターンを露光する露光装置（リソグラフィシステム）でもよい。
【０２５１】
上述の実施形態の露光装置ＥＸは、上述の各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了した後、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度及びクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【０２５２】
半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図２２に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２０２、デバイスの基材である基板を製造するステップ２０３、上述の実施形態に従って、マスクのパターンからの露光光で基板を露光すること、及び露光された基板を現像することを含む基板処理（露光処理）を含む基板処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。
【０２５３】
なお、上述の各実施形態の要件は、適宜組み合わせることができる。また、一部の構成要素を用いない場合もある。また、法令で許容される限りにおいて、上述の各実施形態及び変形例で引用した露光装置等に関する全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。
【符号の説明】
【０２５４】
２…基板ステージ、３…計測ステージ、５…液浸部材、６…制御装置、７…記憶装置、１２…射出面、１３…終端光学素子、２１…第１部材、２２…第２部材、２３…第３部材、２４…下面、２５…下面、２６…下面、４０…凸部、４１…流路、４５…第１領域、４６…第２領域、ＥＬ…露光光、ＥＸ…露光装置、ＩＬ…照明系、Ｋ…光路、ＬＱ…液体、ＬＱｇ…液体、ＬＳ１…液浸空間、ＬＳ２…液浸空間、Ｐ…基板、Ｓ…ショット領域、ＳＰ１…第１空間、ＳＰ２…第２空間、ＳＰ３…第３空間、Ｔ…カバー部材。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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