(57)【要約】【課題】基板位置を検出するセンサを任意の位置に設置することができ、且つスループットを向上させることができる近接露光装置を提供する。【解決手段】マスクステージ１０は、基板保持部３１ａ，３１ｂに保持された基板Ｗの端部を検出する反射式センサ２０を備え、反射式センサ２０による基板Ｗの端部の検出に基づいて、リニアモータ３９、４６の移動量を管理しつつ、露光領域ＥＰとローディング領域ＷＰ間での移動速度より遅い移動速度で基板Ｗを露光位置ＯＥＰに移動させる。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクを保持するマスク保持部と、該マスク保持部を駆動するマスク駆動部とを有するマスクステージと、
被露光材としての基板を保持する基板保持部と、前記マスクに対向配置される露光領域と前記基板をロード又はアンロードするローディング領域との間で前記基板保持部を駆動する基板駆動部とを有する基板ステージと、
前記基板に対してパターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射装置と、
を備え、前記マスクと前記基板とを近接して所定の露光ギャップで対向配置した状態で、前記基板上に前記マスクのパターンを露光転写する近接露光装置であって、
前記マスクステージには、前記基板保持部が前記露光領域に位置するとき、前記基板保持部に保持された前記基板の端部を検出する反射式センサが配設され、
前記基板駆動部は、前記基板保持部の移動量を管理可能なリニアモータであり、
前記反射式センサによる前記基板の端部の検出に基づいて、前記基板駆動部の移動量を管理しつつ、前記露光領域と前記ローディング領域間での移動速度より遅い移動速度で前記基板駆動部を駆動し、前記基板保持部を露光位置に移動させることを特徴とする近接露光装置。
【請求項２】
マスクを保持するマスク保持部と、該マスク保持部を駆動するマスク駆動部とを有するマスクステージと、
被露光材としての基板を保持する基板保持部と、前記マスクに対向配置される露光領域と前記基板をロード又はアンロードするローディング領域との間で前記基板保持部を駆動する基板駆動部とを有する基板ステージと、
前記基板に対してパターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射装置と、
を備え前、記マスクと前記基板とを近接して所定の露光ギャップで対向配置した状態で、前記基板上に前記マスクのパターンを露光転写する近接露光装置であって、
前記マスクステージには、前記基板保持部が前記露光領域に位置するとき、前記基板保持部に保持された前記基板の端部を検出する反射式センサが配設され、
前記マスク駆動部は、前記マスク保持部の移動量を管理可能なリニアモータであり、
前記反射式センサによる前記基板の端部の検出に基づいて、前記マスク駆動部の移動量を管理しつつ、前記マスク駆動部を駆動して、前記マスク保持部を露光位置に移動させることを特徴とする近接露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、近接露光装置に関し、より詳細には、液晶ディスプレイパネルを製造する際に用いられる近接露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近接露光装置は、液晶ディスプレイパネルや携帯機器用ディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ装置のカラーフィルタ等を製造するのに使用され、マスクと基板を接近させた状態でマスクを介してパターン露光用の光を照射して、基板にマスクパターンを露光転写する。
【０００３】
近年、スマートフォンのような、小型のタッチパネルを形成する液晶ディスプレイパネルでは、該ディスプレイに触れる回数が多くなるため、該ディスプレイには、繰り返し応力に耐えうるアルミノケイ酸ガラス（化学強化ガラス）などのガラス基板が求められる。しかしながら、このようなガラス基板は、熱処理後に多面取りすると、熱処理が基板内部まで到達せず、繰り返し応力に耐えられない可能性がある。このため、このような液晶ディスプレイを露光する際には、実製品に実装される基板のサイズで熱処理が行われた後、露光処理されることが好ましい。このような基板を露光する際には、基板とほぼ同じサイズのマスクを使用し、複数枚の基板を基板ステージへ載置し、基板ステージ上の基板の位置情報を把握して該マスクとアライメントし、一括露光することが好ましい。
【０００４】
従来、マスクと基板のアライメント方法としては、パターンが異なるマスクに変えるたびに、ウェハステージを制御する方法（例えば、特許文献１参照。）や、露光用マスク上のアライメントマークと、デバイス領域の相対的な位置ずれを、アライメントマークに対するデバイス領域の回転量およびシフト量で測定し、露光時のアライメント補正へのフィードバックを容易に行うようにしたもの（例えば、特許文献２参照。）が知られている。
【０００５】
また、従来、基板ステージに搭載された基板の位置検出としては、基板ステージに基板をロード又はアンロードするローディング領域において、露光装置のフレームの上部及び下部にそれぞれ投受光式センサの投光部と受光部とを配置し、投光部から投光されて基板の端部に照射された光を受光部で受光して検出するものが知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００７−３３５５４５号公報
【特許文献２】特開２００２−１９６４７６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、このような投受光式センサによると、検出する基板の上下方向に比較的広い空間が必要であり、投受光式センサの設置位置が制約されるため、露光装置の任意の位置に設置できず、設置位置が制約される問題があった。このため、ツインステージタイプの露光装置では、基板のローディング領域の近傍、換言すれば露光領域から比較的離れた領域にセンサが配置される。基板位置検出後に、基板ステージの位置を管理しながら露光位置まで基板を搬送するが、高速搬送すると基板ステージの位置を高精度で管理することが難く、高精度で管理するためには、結果としてスループットが低下するという問題があった。
【０００８】
また、特許文献１に記載のアライメント方法では、ウェハステージを制御するもので、ウェハの位置情報を制御するものではなく、また、特許文献２に記載のアライメント方法では、基板の位置情報を把握するため、カメラの動かし方や、基板ステージの動かし方について具体的に記載したものではなかった。
【０００９】
本発明は、前述した課題に鑑みてなされたものであり、基板の位置センサを任意の位置に設置することができ、且つスループットを向上させることができる近接露光装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。
（１）  マスクを保持するマスク保持部と、該マスク保持部を駆動するマスク駆動部とを有するマスクステージと、
被露光材としての基板を保持する基板保持部と、前記基板保持部を駆動する基板駆動部と、を有し、前記マスクに対向配置される露光領域と前記基板をロード又はアンロードするローディング領域との間で移動可能な基板ステージと、
前記基板に対してパターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射装置と、
を備え、前記マスクと前記基板とを近接して所定の露光ギャップで対向配置した状態で、前記基板上に前記マスクのパターンを露光転写する近接露光装置であって、
前記マスクステージには、前記基板保持部が前記露光領域に位置するとき、前記基板保持部に保持された前記基板の端部を検出する反射式センサが配設され、
前記基板駆動部は、前記基板保持部の移動量を管理可能なリニアモータであり、
前記反射式センサによる前記基板の端部の検出に基づいて、前記基板駆動部の移動量を管理しつつ、前記露光領域と前記ローディング領域間での移動速度より遅い移動速度で前記基板駆動部を駆動し、前記基板保持部を露光位置に移動させることを特徴とする近接露光装置。
（２）  マスクを保持するマスク保持部と、該マスク保持部を駆動するマスク駆動部とを有するマスクステージと、
被露光材としての基板を保持する基板保持部と、前記基板保持部を駆動する基板駆動部と、を有し、前記マスクに対向配置される露光領域と前記基板をロード又はアンロードするローディング領域との間で移動可能な基板ステージと、
前記基板に対してパターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射装置と、
を備え、前記マスクと前記基板とを近接して所定の露光ギャップで対向配置した状態で、前記基板上に前記マスクのパターンを露光転写する近接露光装置であって、
前記マスクステージには、前記基板保持部が前記露光領域に位置するとき、前記基板保持部に保持された前記基板の端部を検出する反射式センサが配設され、
前記マスク駆動部は、前記マスク保持部の移動量を管理可能なリニアモータであり、
前記反射式センサによる前記基板の端部の検出に基づいて、前記マスク駆動部の移動量を管理しつつ、前記マスク駆動部を駆動して、前記マスク保持部を露光位置に移動させることを特徴とする近接露光装置。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の近接露光装置によれば、基板の端部を検出するセンサが反射式センサで構成されているので、空間が狭く、投授光式センサの設置が困難なマスクステージにも、基板の端部を検出するセンサを設置することが可能となる。また、反射式センサがマスクステージに配設されているので、ローディング領域と露光領域との間は、基板ステージを高速で移動させ、反射式センサが基板の端部を検出した後、該検出信号に基づいて基板駆動部の移動量を管理しつつ、遅い移動速度で基板ステージを露光位置に移動させるようにしたので、基板搬送時間を短縮することができ、スループットが向上する。
【００１２】
また、基板の端部を検出する反射式センサをマスクステージに配設し、ローディング領域から露光領域に搬送される基板の端部を反射式センサが検出した検出信号に基づいて、マスク駆動部の移動量を管理しつつマスク駆動部を駆動して、マスク保持部を露光位置に移動させるようにしたので、ローディング領域及び露光領域間を高速で基板ステージを移動させることができ、これにより、基板搬送時間を短縮してスループットが向上する。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明に係る近接露光装置の全体構成を示す概略平面図である。
【図２】図１に示す近接露光装置の正面図である。
【図３】図２に示す基板ステージの側面図である。
【図４】露光の作動手順を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明に係る近接露光装置の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。図１は本発明の近接露光装置の全体構成を示す概略平面図、図２は近接露光装置の要部正面図、図３は基板ステージの側面図である。
【００１５】
図１〜図３に示すように、近接露光装置ＰＥは、マスクステージ１０、第１基板ステージ１１、第２基板ステージ１２、照射装置１３、プリアライメントユニット１４、第１基板ローダ１５、第２基板ローダ１６、マスクローダ１７、及びマスクアライナ１８を備え、それぞれ基台２１上に載置されている。
【００１６】
マスクステージ１０は、基台２１上に配置された長方形のステージベース２３に設けられた複数の支柱２２に支持されて、ステージベース２３の上方に配設されている。複数の支柱２２は、第１及び第２基板ステージ１１，１２がＹ方向（図１中左右方向）に移動してマスクステージ１０の下方に進出可能なようにステージベース２３の上方にスペースを形成している。
【００１７】
マスクステージ１０は、中央に矩形の開口２５ａを有して、マスクステージ１０のフレームに対して図示しないマスク駆動部で駆動されてＸ，Ｙ，θ方向に位置調整可能に支持されたマスク保持部２５を備える。マスク保持部２５には、下面に複数の吸引孔２５ｂが開設されており、露光すべきパターンを有するマスクＭは、開口２５ａに臨むようにして、真空吸着によって吸引孔２５ｂを介してマスク保持部２５に保持される。また、マスクステージ１０には、マスク保持部２５に対するマスクＭの位置を検出するマスク用アライメントカメラ（図示せず）と、マスクＭと基板Ｗとの間のギャップを検出するギャップセンサ（図示せず）とが設けられている。
【００１８】
マスクステージ１０の下面には、第１及び第２基板ステージ１１，１２に搭載された基板Ｗに対向するように、複数の反射式センサ２０が配設されている。反射式センサ２０は、上方から基板Ｗに向けて照射した光の反射光を検出して基板Ｗの有無、即ち基板Ｗの端部を検出する。反射式センサ２０は、Ｘ軸方向に沿って配置される１つのＹ軸用反射式センサ２０ａと、Ｙ軸方向に沿って配置される２つのＸ軸用反射式センサ２０ｂ、２０ｃとから構成される。Ｙ軸用反射式センサ２０ａは、基板保持部３１ａ、３１ｂに保持された基板ＷのＹ軸方向の端部を検出し、Ｘ軸用反射式センサ２０ｂ、２０ｃは、基板ＷのＸ軸方向の端部を検出する。これにより、基板ＷのＸ、Ｙ、θ方向の位置を知ることができる。
【００１９】
図２及び図３に示すように、第１及び第２基板ステージ１１，１２は、被露光材としての基板Ｗを保持する基板保持部３１ａ，３１ｂを上部にそれぞれ有する。また、第１及び第２基板ステージ１１，１２の下方には、Ｙ軸テーブル３３、Ｙ軸送り機構３４、Ｘ軸テーブル３５、Ｘ軸送り機構３６、及びＺ−チルト調整機構３７を備える、基板駆動部としての基板ステージ移動機構３２，３２がそれぞれ設けられる。各基板ステージ移動機構３２，３２は、ステージベース２３に対して第１及び第２基板ステージ１１，１２をＸ方向及びＹ方向に送り駆動するとともに、マスクＭと基板Ｗとの間の隙間を微調整するように、第１及び第２基板ステージ１１，１２をＺ軸方向に微動且つチルトする。
【００２０】
具体的に、Ｙ軸送り機構３４は、ステージベース２３とＹ軸テーブル３３との間に配設されるリニアガイド３８と、Ｙ軸リニアモータ３９とを備える。リニアガイド３８は、ステージベース２３上には２本の案内レール４０がＹ軸方向に沿って平行に配置されており、Ｙ軸テーブル３３の裏面に取り付けられたスライダ４１が転動体（図示せず）を介して跨架されている。Ｙ軸リニアモータ３９は、Ｙ軸方向に沿ってステージベース２３上に固定された固定子４３と、該固定子４３に対向配置されてＹ軸テーブル３３の裏面に取り付けられた可動子４４とを有する。２台のＹ軸テーブル３３，３３は、それぞれＹ軸リニアモータ３９で駆動されて２本の案内レール４０に沿ってＹ軸方向に移動可能に支持される。
【００２１】
Ｙ軸リニアモータ３９は、可動子４４、即ち、基板保持部３１ａ、３１ｂのＹ軸方向の移動量を管理可能である。具体的には、所定の時間間隔ごとに、Ｙ軸リニアモータ３９に駆動信号を送信する不図示の制御装置をチェックすることで、Ｙ軸リニアモータ３９（基板保持部３１ａ、３１ｂ）の位置を知ることができる。更に具体的には、１０ｍｓの時間間隔でＹ軸リニアモータ３９の位置を読みに行く場合、例えば、Ｙ軸リニアモータ３９が１ｍ／ｓｅｃの高速度で移動しているときには、１０ｍｍの位置精度でＹ軸リニアモータ３９の位置を知ることができ、また、１ｍｍ／ｓｅｃの低速度で移動しているときには、１０μｍの位置精度でＹ軸リニアモータ３９の位置を知ることができる。
【００２２】
Ｘ軸送り機構３６も同様の構成を有し、図３に示すように、Ｙ軸テーブル３３とＸ軸テーブル３５間には、リニアガイド４５と、Ｘ軸リニアモータ４６とが設けられている。Ｙ軸テーブル３３上には２本の案内レール４７がＸ軸方向に沿って平行に配置されており、Ｘ軸テーブル３５の裏面に取り付けられたスライダ４８が転動体（図示せず）を介して跨架される。Ｘ軸リニアモータ４６は、Ｘ軸方向に沿ってＹ軸テーブル３３に固定された固定子５０と、該固定子５０に対向配置されてＸ軸テーブル３５の裏面に取り付けられた可動子５１とを有する。２台のＸ軸テーブル３５，３５は、それぞれＸ軸リニアモータ４６で駆動されて２本の案内レール４７に沿ってＸ軸方向に移動可能に支持される。また、Ｘ軸リニアモータ４６は、Ｙ軸リニアモータ３９と同様に、基板保持部３１ａ、３１ｂのＸ軸方向の移動量を管理可能である。
【００２３】
一方、Ｚ−チルト調整機構３７は、モータと、ボールねじと、くさびとを組み合わせてなる可動くさび機構を備えており、Ｘ軸テーブル３５の上面に設置したモータ５２によってボールねじ軸５３を回転駆動するとともに、ボールねじナット５４をくさび状の移動体に組み付け、このくさびの斜面を基板ステージ１１，１２の下面に突設したくさび５５の斜面と係合させている。
【００２４】
そして、このボールねじ軸５３を回転駆動させると、ボールねじナット５４がＸ軸方向に水平微動し、この水平微動運動が組みつけられたくさび状の移動体の斜面により高精度の上下微動運動に変換される。この可動くさび機構は、Ｘ軸方向の一端側に２台、他端側に１台（図示せず）合計３台設置され、それぞれが独立に駆動制御される。なお、このモータと、ボールねじとの組合せもリニアモータに置き換えられても良い。
【００２５】
これにより、Ｙ軸送り機構３４は、各基板ステージ１１，１２の基板保持部３１ａ，３１ｂに保持された基板Ｗを、個別にマスクステージ１０の下方位置に配置された露光位置ＯＥＰに配置すべく、第１基板ステージ１１を第１ローディング領域ＷＰ１と露光領域ＥＰ間で案内レール４０に沿ってＹ軸方向に移動させ、第２基板ステージ１２を第２ローディング領域ＷＰ２と露光領域ＥＰ間で案内レール４０に沿ってＹ軸方向に移動させる。また、Ｘ軸送り機構３６及びＹ軸送り機構３４は、露光領域ＥＰにある基板保持部３１ａ，３１ｂを、マスクＭに対してＸ、Ｙ方向に移動させて第１及び第２基板ステージ１１，１２を露光位置ＯＥＰに移動させる。
【００２６】
図２に示すように、照射装置１３はマスク保持部２５の開口２５ａ上方に配置され、紫外線照射用の光源である例えば高圧水銀ランプ、凹面鏡、オプチカルインテグレータ、平面ミラー、球面ミラー、及び露光制御用のシャッター等を備えて構成される。照射装置１３は、露光位置ＯＥＰに移動した第１及び第２基板ステージ１１，１２の基板保持部３１ａ，３１ｂに保持された基板Ｗに、パターン露光用の光をマスクＭを介して照射する。これにより、基板Ｗには、マスクＭのマスクパターンが露光転写される。
【００２７】
プリアライメントユニット１４は、基台２１の外側に設置された基板カセット７０Ａ，７０Ｂから搬送された基板Ｗが、第１基板ステージ１１または第２基板ステージ１２に供給されるのに先立って、マスクＭに対する基板Ｗの位置をプリアライメントするものであり、図中、マスクステージ１０の手前側に配置されている。
【００２８】
第１基板ローダ１５は、図１中プリアライメントユニット１４の右側方に配置され、第１基板ステージ１１に供給される基板Ｗを保持してプリアライメントユニット１４へ搬送し、またプリアライメントされた基板Ｗをプリアライメントユニット１４から第１基板ステージ１１に搬送し、さらに、第１待機位置ＷＰ１に位置する第１基板ステージ１１上の露光転写後の基板Ｗを基板カセット７０Ａへ搬送する。第２基板ローダ１６は、図１中プリアライメントユニット１４の左側に配置され、第２基板ステージ１２に対して、第１基板ローダ１５と同様の操作を行う。
【００２９】
また、マスクローダ１７及びマスクアライナ１８は、第１基板ステージ１１に対して第１基板ローダ１５と対向配置されている。ローダロボットであるマスクローダ１７は、基台２１の外側に設けられたマスクカセット９１からマスクＭを搬入し、マスクアライナ１８でプリアライメントされたマスクＭを第１基板ステージ１１へ搬送し、搬送されたマスクＭは、第１基板ステージ１１によってマスクステージ１０へ供給される。
【００３０】
次に図４に示すフローチャートを参照して、近接露光装置ＰＥの作動手順について説明する。先ず、ステップＳ１でローディング領域ＷＰにおいて基板ステージ１１（１２）に基板Ｗを搭載する。ステップＳ２で基板Ｗを露光領域ＥＰに移動させるために基板ステージ１１（１２）をＹ軸リニアモータ３９で早い速度（例えば、１ｍ／ｓｅｃ）で移動させ、ステップＳ３でマスクステージ１０に配置された反射式センサ２０で基板ステージ１１、１２に搭載された基板Ｗの端部を検出する。
【００３１】
ステップＳ４で反射式センサ２０が検出した基板Ｗの位置が露光可能範囲（露光領域ＥＰ）内であるかを判別する。具体的には、基板Ｗの端部が反射式センサ２０で検出されることで露光可能範囲内にあることが認識される。ここで、基板Ｗが露光可能範囲内にない場合、即ち、反射式センサ２０で基板Ｗの端部を検出できない場合には、基板ステージ１１（１２）がマスクステージ１０の下方に達していないと判断されるので、ステップＳ２に戻り、Ｙ軸リニアモータ３９により基板ステージ１１（１２）を早い速度で移動させ、再び反射式センサ２０で基板Ｗの端部の検出を行うループを繰り返す。なお、反射式センサ２０は、基板Ｗが露光可能範囲内に到達したことを検出するためのものであり、その検出精度は比較的粗い精度である。
【００３２】
反射式センサ２０が基板Ｗの端部を検出した場合（基板Ｗの位置が露光可能範囲内）には、ステップＳ５で、移動量を管理可能なＹ軸及びＸ軸リニアモータ３９、４６の、その時の位置を読み込み、基板Ｗが露光可能範囲にあるか否かを判別する。ここでの露光可能範囲にあるか否かの判別は、例えば、アライメントマークなどで可能である。基板Ｗが露光可能範囲にないと判断される場合には、ステップＳ６で、Ｙ軸及びＸ軸リニアモータ３９、４６により基板ステージ１１（１２）を遅い速度（例えば、１ｍｍ／ｓｅｃ）で移動させる。
【００３３】
尚、基板ステージ１１（１２）の移動に代えてマスクＭを移動させることでマスクＭと基板Ｗとの位置合わせを行う場合には、マスクステージ１０（マスク保持部２５）をマスク駆動部である不図示のリニアモータで移動させる。
【００３４】
ここで、反射式センサ２０が基板Ｗの端部を検出するまでは基板ステージ１１（１２）を早い速度で移動させ、反射式センサ２０が基板Ｗの端部を検出した後は、遅い速度で移動させるようにしたのは、１０ｍｓの時間間隔でリニアモータ３９、４６の位置を読む取る場合、例えば、１ｍ／ｓｅｃの高速度で移動しているときの読み込み位置精度は１０ｍｍであり、１ｍｍ／ｓｅｃの低速度で移動しているときの読み込み位置精度は、１０μｍとなることによる。即ち、基板Ｗが露光領域ＥＰ（マスクステージ１０下方）に達するまでの間は、位置精度が荒くても短時間で露光領域ＥＰに搬送可能な早い速度で移動させ、その後は、精度よく位置合わせするために低速で移動させる。
【００３５】
ステップＳ５で基板Ｗが露光可能範囲にあると判別されるとステップＳ７に進み、再び、反射式センサ２０で基板Ｗの端部を検出して露光可能な範囲内であるか否かをチェックする。ここでは、基板Ｗが露光可能な範囲内にあるはずなので、もし露光可能な範囲内にない場合には、リニアモータが異常な状態であると判断されるので、ステップＳ２に戻り同様の操作を繰り返し行う。
【００３６】
ステップＳ７で露光可能な範囲内にあることが確認されると、ステップＳ８で露光処理を行い、ステップＳ９で予定する全ての基板Ｗの処理が終了したか否かを判別する。まだ未処理の基板Ｗが残っている場合には、ステップＳ１０で基板ステージ１１（１２）の位置をリニアモータ３９、４６から読み取り、その値を基板Ｗを搭載する位置に戻した後、ステップＳ１１でリニアモータ３９、４６の位置を反射式センサ２０の制御部にフィードバックする。これにより、基板ステージ１１（１２）の位置を１枚目の基板Ｗを搭載したときと同じ位置に戻す。
【００３７】
次いで、ステップＳ１２でローディング領域ＷＰにおいて基板ステージ１１（１２）に２枚目の基板Ｗを搭載する。以後、同様の操作を未処理の基板Ｗがなくなるまで行い、全ての基板Ｗの露光処理が終了したらステップＳ１３で露光処理を終了する。
【００３８】
以上説明したように、本実施形態の近接露光装置ＰＥによれば、基板Ｗの端部を検出するセンサが反射式センサ２０で構成されているので、空間が狭く、投授光式センサの設置が困難なマスクステージ１０にも、基板Ｗの端部を検出するセンサの設置が可能となる。また、反射式センサ２０がマスクステージ１０に配設されているので、ローディング領域ＷＰと露光領域ＥＰとの間は、基板ステージ１１、１２を高速で移動させ、反射式センサ２０が基板Ｗの端部を検出した後、該検出信号に基づいてＹ軸リニアモータ３９、Ｘ軸リニアモータ４６の移動量を管理しつつ、遅い移動速度で基板ステージ１１、１２を露光位置ＯＥＰに移動させるようにしたので、基板搬送時間を短縮することができ、スループットが向上する。
【００３９】
また、基板Ｗの端部を検出する反射式センサ２０をマスクステージ１０に配設し、ローディング領域ＷＰから露光領域ＥＰに搬送される基板Ｗの端部を反射式センサ２０が検出した検出信号に基づいて、マスク駆動部（図示せず）であるリニアモータの移動量を管理しつつマスク駆動部を駆動して、マスク保持部２５を露光位置ＯＥＰに移動させるようにしたので、ローディング領域ＷＰ及び露光領域ＥＰ間を高速で基板ステージ１１、１２を移動させることができ、これにより、基板搬送時間を短縮してスループットが向上する。
【００４０】
尚、本発明は、前述した実施形態に限定されるものではなく、適宜、変形、改良、等が
可能である。
【００４１】
例えば、上記説明では、基板保持部３１ａ、３１ｂをＹ軸リニアモータ３９、Ｘ軸リニアモータ４６で移動させて、基板Ｗの位置をマスクＭに合わせるように説明したが、これに限定されず、基板ステージ１１、１２を露光領域ＥＰに移動させた後、マスク保持部２５をマスク駆動部（リニアモータ）で駆動してマスクＭの位置を基板Ｗに合わせるようにしてもよい。
【００４２】
更に、マスク保持部２５に対して複数の反射式センサ２０を移動可能に配置し、反射センサ２０を移動させることで反射式センサ２０により露光領域基板Ｗの端部を検出し、該検出信号に基づいて、基板保持部３１ａ、３１ｂをＹ軸リニアモータ３９、及びＸ軸リニアモータ４６で移動させて、基板Ｗの位置をマスクＭに合わせるようにすることもできる。
【符号の説明】
【００４３】
１０    マスクステージ
１１、１２    基板ステージ
１３    照射装置
２０    反射式センサ
２０ａ        Ｙ軸用反射式センサ（反射式センサ）
２０ｂ、２０ｃ            Ｘ軸用反射式センサ（反射式センサ）
２５    マスク保持部
３１ａ，３１ｂ            基板保持部
３９    Ｙ軸リニアモータ（基板駆動部）
４６    Ｘ軸リニアモータ（基板駆動部）
ＥＰ    露光領域
Ｍ      マスク
ＯＥＰ      露光位置
ＰＥ    近接露光装置
Ｗ      基板（被露光材）
ＷＰ    ローディング領域
【図１】
2013044798.tif 000003
【図２】
2013044798.tif 000004
【図３】
2013044798.tif 000005
【図４】
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