(57)【要約】【課題】金属帯を効率的に連続真空処理することのできる金属帯の連続真空処理方法を提供する。【解決手段】真空処理炉２の入口に形成された入側差圧室３の入側に金属帯Ｓの幅方向に沿って配置された複数の変位計により金属帯Ｓの幅方向変位を計測して該幅方向変位の差の最大値である最大変位量を求めた後、最大変位量を金属帯Ｓとシール体８ａ，９ａとの基準すき間量と比較し、最大変位量が基準すき間量を上回るときにシール体８ａ，９ａをシール体昇降機構１１により金属帯Ｓの表面から離間する方向に最大変位量と基準すき間量との偏差量だけ移動させて金属帯Ｓを連続真空処理する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属帯を真空処理する真空処理炉と、該真空処理炉の入口に形成された入側差圧室をシールする入側シール装置と、前記真空処理炉の出口に形成された出側差圧室をシールする出側シール装置とを備え、前記入側シール装置および前記出側シール装置が前記金属帯の上面側と下面側に相対向して配置された上下一対のシール体を有してなる連続真空処理装置により前記金属帯を連続真空処理する方法であって、
前記金属帯の幅方向に沿って前記入側差圧室の入側に配置された複数の変位計により前記金属帯の幅方向変位を計測して該幅方向変位の差の最大値である最大変位量を求めた後、前記最大変位量を前記金属帯と前記シール体との基準すき間量と比較し、前記最大変位量が前記基準すき間量を上回るときに前記上下一対のシール体のうち少なくとも一方のシール体を前記金属帯の表面から離間する方向に前記最大変位量と前記基準すき間量との偏差量だけ移動させて前記金属帯を連続真空処理することを特徴とする金属帯の連続真空処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、方向性電磁鋼帯などの金属帯を連続真空処理装置により連続真空処理する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
方向性電磁鋼帯は、通常、熱間圧延された鋼帯を冷間圧延した後、最終仕上げ焼鈍工程で二次再結晶化し、その二次再結晶粒を｛１１０｝＜００１＞方位すなわちゴス方位に集積させて製造される。このような工程を経て製造される方向性電磁鋼帯を変圧器などの鉄心材料として用いる場合には、鉄損特性に優れていることが方向性電磁鋼帯に要求される。
【０００３】
方向性電磁鋼帯の鉄損特性を向上させる技術としては、最終仕上げ焼鈍が施された鋼帯を連続真空処理装置に装入し、連続真空処理装置に装入された鋼帯に電子ビームを真空雰囲気で照射して方向性電磁鋼帯の鉄損特性を向上させる方法（特許文献１参照）が知られているが、このような方法で方向性電磁鋼帯の鉄損特性を向上させるためには、連続真空処理装置の入側と出側をシールする必要がある。
【０００４】
そこで、特許文献２、３には、上下一対のシールロールやシールベルトを用いて連続真空処理装置の入側と出側をシールする方法が記載されている。また、特許文献４には、シールボックス内を通過する金属帯の上方にシール体を昇降可能に配置し、このシール体を金属帯の表面に近づけて連続真空処理装置の入側と出側をシールする方式のシール装置が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平１−２９８１１８号公報
【特許文献２】実公昭６０−４０５９９号公報
【特許文献３】特開昭６３−２４０６７号公報
【特許文献４】特開昭６２−４８６６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献２、３に記載された方法は、シールロールやシールベルトを金属帯の表面に接触させてシールする方法であるため、金属帯の表面に疵などが生じやすいという問題がある。一方、特許文献４に記載された方法は金属帯の表面を損傷させることなく連続真空処理装置の入側と出側をシールすることが可能であるが、金属帯が幅方向に大きく波打っている場合にはシール体が金属帯の表面と接触する。このため、シール体が比較的早期に磨耗し、金属帯の連続真空処理を一旦停止してシール体の交換作業を頻繁に行う必要があるため、金属帯を効率的に連続真空処理することができないという問題があった。
本発明は、上述した問題点に鑑みてなされたものであり、金属帯を効率的に連続真空処理することのできる金属帯の連続真空処理方法を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明は、金属帯を真空処理する真空処理炉と、該真空処理炉の入口に形成された入側差圧室をシールする入側シール装置と、前記真空処理炉の出口に形成された出側差圧室をシールする出側シール装置とを備え、前記入側シール装置および前記出側シール装置が前記金属帯の上面側と下面側に相対向して配置された上下一対のシール体を有してなる連続真空処理装置により前記金属帯を連続真空処理する方法であって、前記金属帯の幅方向に沿って前記入側差圧室の入側に配置された複数の変位計により前記金属帯の幅方向変位を計測して該幅方向変位の差の最大値である最大変位量を求めた後、前記最大変位量を前記金属帯と前記シール体との基準すき間量と比較し、前記最大変位量が前記基準すき間量を上回るときに前記上下一対のシール体のうち少なくとも一方のシール体を前記金属帯の表面から離間する方向に前記最大変位量と前記基準すき間量との偏差量だけ移動させて前記金属帯を連続真空処理することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、金属帯が幅方向に大きく波打っている場合でも入側シール装置と出側シール装置のシール体が金属帯の表面と接触して比較的早期に磨耗することを防止することができ、これにより、金属帯の連続真空処理を一旦停止してシール体の交換作業を頻繁に行う必要がないので、金属帯を効率的に連続真空処理することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明を実施するときに用いられる連続真空処理装置の概略構成を示す図である。
【図２】真空処理炉の入口に形成された入側差圧室の入側に金属帯の幅方向に沿って配置された複数の変位計を示す図である。
【図３】図１に示すシール体昇降機構を制御する制御装置の制御フローを示す図である。
【図４】金属帯の幅方向変位分布の一例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
図１〜図４は本発明の一実施の形態を説明するための図であり、本発明を実施するときに用いられる連続真空処理装置１は、例えば図１に示されるように、真空処理炉２、入側シール装置７ａ，７ｂ，７ｃ、出側シール装置７ｄ，７ｅ，７ｆ、変位計１０ａ，１０ｂ，１０ｃ，１０ｄ，１０ｅ（図２参照）、シール体昇降機構１１および制御装置１２を備えている。
真空処理炉２は金属帯Ｓを真空処理するものであって、この真空処理炉２の入出口に形成された入側差圧室３と出側差圧室４は複数の仕切板５により仕切られた３つの小差圧室６から構成されている。
【００１１】
入側シール装置７ａ〜７ｃは真空処理炉２の入口に形成された入側差圧室３をシールするものであって、入側差圧室３の各小差圧室６に配置されている。これらの入側シール装置７ａ〜７ｃのうち入側差圧室３の入口近くに配置された入側シール装置７ａはロール状に形成された上下一対のシール体（以下、シールロールという）８ａ，８ｂを有し、これらのシールロール８ａ，８ｂは入側差圧室３を通過する金属帯Ｓの上面側と下面側に相対向して配置されている。
【００１２】
一方、入側シール装置７ａの後段に配置された入側シール装置７ｂ，７ｃは直方体形状に形成された上下一対のシール体（以下、シールパッドという）９ａ，９ｂをそれぞれ有し、これらのシールパッド９ａ，９ｂは入側差圧室３を通過する金属帯Ｓの上面側と下面側に相対向して配置されている。
出側シール装置７ｄ〜７ｆは真空処理炉２の出口に形成された出側差圧室４をシールするものであって、出側差圧室４の各小差圧室６に配置されている。これらの出側シール装置７ｄ〜７ｆのうち出側差圧室４の出口近くに配置された出側シール装置７ｆは上下一対のシールロール８ａ，８ｂを有し、これらのシールロール８ａ，８ｂは出側差圧室４を通過する金属帯Ｓの上面側と下面側に相対向して配置されている。
【００１３】
一方、出側シール装置７ｆの前段に配置された出側シール装置７ｄ，７ｅは上下一対のシールパッド９ａ，９ｂをそれぞれ有し、これらのシールパッド９ａ，９ｂは出側差圧室４を通過する金属帯Ｓの上面側と下面側に相対向して配置されている。
変位計１０ａ〜１０ｅは金属帯Ｓの幅方向変位を非接触で計測するためのものであって、図２に示されるように、金属帯Ｓの幅方向に沿って入側差圧室３の入側に配置されている。
【００１４】
シール体昇降機構１１は入側シール装置７ａ〜７ｃ及び入側シール装置７ｄ〜７ｆのシールロール８ａとシールパッド９ａを上下方向に昇降駆動するものであって、例えば複数の昇降駆動用モータ等から構成されている。
制御装置１２は変位計１０ａ〜１０ｅにより計測された金属帯Ｓの幅方向変位に基づいてシール体昇降機構１１を制御するものであって、図３に示すフローチャートに従ってシール体昇降機構１１を制御するように構成されている。
【００１５】
すなわち、図示しない搬送ロールにより金属帯Ｓが入側差圧室３の入口に搬送されると、制御装置１２は変位計１０ａ〜１０ｅから出力された信号を取り込み、金属帯Ｓが幅方向に変位する幅方向変位分布を求める（ステップＳ１、Ｓ２）。その一例を図４に示す。次に、ステップＳ２で求めた図４に示す幅方向変位分布の中で変位量の最も大きい最大変位量Ｄmax（変位計１０ａ〜１０ｅでの変位の最上側と最下側の差）を求め、これを金属帯Ｓとシールロール８ａ及びシールパッド９ａとの基準すき間量Ｃstと比較する（ステップＳ３〜Ｓ５）。
【００１６】
ここで、幅方向変位の最大変位量Ｄmaxが基準すき間量Ｃst以下の場合（Ｄmax≦Ｃst）には、制御装置１２は後述するステップＳ８に進む。一方、幅方向変位の最大変位量Ｄmaxが基準すき間量Ｃstより大きい場合（Ｄmax＞Ｃst）には、制御装置１２は最大変位量Ｄmaxと基準すき間量Ｃstとの偏差量ΔＸをステップＳ６で求める。
最大変位量Ｄmaxと基準すき間量Ｃstとの偏差量ΔＸをステップＳ６で求めたならば、制御装置１２はシール装置７ａ〜７ｆのシールロール８ａとシールパッド９ａがステップＳ６で求めた偏差量ΔＸだけ上方に移動するようにシール体昇降機構１１を制御する（ステップＳ７）。そして、次のステップＳ８で金属帯Ｓの連続真空処理が終了したか否か判断し、金属帯Ｓの連続真空処理が終了していない場合にはステップＳ１に戻り、ステップＳ１〜Ｓ８を繰り返す。
【００１７】
このように、金属帯Ｓの幅方向に沿って入側差圧室３の入側に配置された複数の変位計１０ａ〜１０ｅにより金属帯Ｓの幅方向変位を計測して該幅方向変位の最大変位量Ｄmaxを求めた後、最大変位量Ｄmaxを金属帯Ｓとシール体８ａ，９ａとの基準すき間量Ｃstと比較し、最大変位量Ｄmaxが基準すき間量Ｃstを上回るときにシール体８ａ，９ａを金属帯Ｓの表面から離間する方向に最大変位量Ｄmaxと基準すき間量Ｃstとの偏差量ΔＸだけ移動させることで、金属帯Ｓが幅方向に大きく波打っている場合でもシール体８ａ，９ａが金属帯Ｓの表面と接触して比較的早期に磨耗することを防止することができ、これにより、金属帯の連続真空処理を一旦停止してシール体８ａ，９ｂの交換作業を頻繁に行う必要がないので、金属帯を効率的に連続真空処理することができる。
【００１８】
上述した本発明の一実施形態では、真空処理炉２の入口に形成された入側差圧室３をシールする入側シール装置として３つの入側シール装置７ａ〜７ｃを例示したが、入側シール装置の数は１つ又は２つであっても良いし、４つ以上であっても良い。さらに、真空処理炉２の出口に形成された出側差圧室４をシールする出側シール装置として３つの出側シール装置７ｄ〜７ｆを例示したが、出側シール装置の数は１つ又は２つであっても良いし、４つ以上であっても良い。
【００１９】
また、上述した本発明の一実施形態では、金属帯Ｓの幅方向に沿って入側差圧室３の入側に配置される複数の変位計として５つの変位計１０ａ〜１０ｅを例示したが、変位計の数は２〜４つであっても良いし、６つ以上であっても良い。
さらに、上述した本発明の一実施形態では、上下一対のシールロール８ａ，８ｂとシールパッド９ａ，９ｂのうち上側のシールロール８ａとシールパッド９ａを金属帯Ｓの表面から離間する方向に移動させるようにしたが、下側のシールロール８ｂとシールパッド９ｂのみを金属帯Ｓの表面から離間する方向に移動させても良いし、シールロール８ａ，８ｂ及びシールパッド９ａ，９ｂの両方を金属帯Ｓの表面から離間する方向に移動させても良い。
【符号の説明】
【００２０】
Ｓ…金属帯
１…連続真空処理装置
２…真空処理炉
３…入側差圧室
４…出側差圧室
５…仕切板
６…小差圧室
７ａ，７ｂ，７ｃ…入側シール装置
７ｄ，７ｅ，７ｆ…出側シール装置
８ａ，８ｂ，９ａ，９ｂ…シール体
１０ａ，１０ｂ，１０ｃ，１０ｄ，１０ｅ…変位計
１１…シール体昇降機構
１２…制御装置
【図１】
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【図２】
2013112831.tif 000004
【図３】
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【図４】
2013112831.tif 000006