(57)【要約】【課題】製品使用時においても識別可能であり、識別標識が消えたり、滲んだりすることがない光学素子の提供。【解決手段】透光性基板１０１と、透光性基板１０１の光学領域Ｌから外れた周縁領域Ｅに設けられ認識マークＭと、認識マークＭを覆うように透光性基板１０１の主面上に設けられた光学機能膜としての反射防止膜ＡＲと、を備え、認識マークＭは透光性基板１０１の主面上にインクジェット方式で印刷された。透光性基板１０１の光学領域から外れた周辺領域Ｅに認識マークＭが設けられているので、防塵ガラスとしての本来の機能を阻害することがない。認識マークＭが透光性基板１０１にインクジェット方式で直接形成されているので、インクジェットのインクが滲むことがなく、認識マークＭを明確に認識することができる。【選択図】図１
2013044782.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透光性基板と、
当該透光性基板の前記光学領域から外れた周縁領域に設けられ認識マークと、
当該認識マークを覆うように、前記透光性基板の主面上に設けられた光学機能膜と、
を備えた光学素子であって、
前記認識マークは、前記透光性基板の主面上にインクジェット方式で印刷された
ことを特徴とする光学素子。
【請求項２】
請求項１に記載された光学素子において、
前記光学機能膜は反射防止膜であることを特徴とする光学素子。
【請求項３】
請求項１に記載された光学素子において、
前記光学機能膜は、前記透光性基板の前記光学領域から外れた周縁領域に設けられ遮光膜であり、当該遮光膜は、前記透光性基板へ入射する光を反射する反射層と、前記光を吸収する吸収層と、を有し、
前記反射層と前記吸収層とは、前記透光性基板の表面に順に積層されている
ことを特徴とする光学素子。
【請求項４】
請求項３に記載された光学素子において、
前記認識マークは、前記透光性基板と前記反射層との間に設けられている
ことを特徴とする光学素子。
【請求項５】
請求項３に記載された光学素子において、
前記認識マークは、前記反射層と前記吸収層との間に設けられている
ことを特徴とする請求項３に記載の光学素子。
【請求項６】
請求項１又は請求項２に記載された光学素子と、液晶パネルと、を備え、
前記透光性基板の前記認識マークが設けられていない側の主面が、前記液晶パネルと対向している
ことを特徴とする電気光学装置。
【請求項７】
請求項３から請求項５のうちいずれか一項に記載された光学素子と、液晶パネルと、を備え、
前記透光性基板の前記遮光膜が設けられている側の主面が、前記液晶パネルと対向している
ことを特徴とする電気光学装置。
【請求項８】
光源と、当該光源からの光を画像情報に応じて変調する電気光学装置と、当該電気光学装置により変調された光を投写する投写光学装置と、を備え、
前記電気光学装置は、請求項６又は請求項７に記載され電気光学装置である
ことを特徴とする投射型映像装置。
【請求項９】
透光性基板の光学領域から外れた周縁領域の主面上にインクジェット方式で認識マークを印刷し、当該認識マークを覆うように光学機能膜を前記透光性基板の主面上に設けることを特徴とする光学素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学素子、この光学素子を備えた電気光学装置、この電気光学装置を備えた投射型映像装置、並びに光学素子の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子機器、例えば、投射型映像装置には電気光学装置が組み込まれている。この電気光学装置として、透明基板と液晶ライトバルブとがアクリル系紫外線硬化型接着剤を用いて接着されたものであって、透明基板がガラス基板と、このガラス基板の液晶ライトバルブ側の面に設けられた遮光膜とを備え、この遮光膜が外部からの入射光を反射する反射膜と液晶ライトバルブ側からの戻り光を吸収する吸収層とを積層してなる２層構造の従来例がある（特許文献１）。
この特許文献１で示される従来例では、遮光膜は、反射膜としてのクロム膜と、吸収層としての酸化クロム膜との積層により構成されている。ここで、クロム膜からなる反射膜の表面では入射光を反射し、酸化クロム膜からなる吸収膜では液晶ライトバルブからの戻り光を吸収して反射を抑える。このように遮光膜は、入射光を効率良く反射して透過率を低く抑え、かつ液晶ライトバルブからの戻り光の反射を抑制する機能が求められている。
【０００３】
また、電気光学装置として、反射防止膜が防塵ガラス基板の光入射面に形成され、光入射側防塵ガラスと透過型液晶パネルの対向基板とが接着層で貼り合わされた従来例がある（特許文献２）。
この特許文献２の従来例では、接着層の屈折率を、光入射側防塵ガラスの屈折率及び対向基板の屈折率に近づけることにより、接着層の界面での反射を抑えている。反射膜は、防塵ガラス基板の光入射面の外周部に形成されている。反射膜としては、クロム、アルミニウム、銀等の金属膜が用いられている。反射膜を含め、光入射面には反射防止膜が形成されている。光入射側防塵ガラスの反射膜の矩形環状のパターンは、切り代を挟んで縦横に並ぶように形成されている。
【０００４】
ところで、近年、光学素子としての透明基板や、この透明基板を含む電気光学装置の品質を、ロット番号等を用いてトレースできるよう管理するために、光学素子の表面にマーキングを施される場合がある。
光学素子では、光学特性に影響を与えないように、光学領域外にマーキングをする必要があるが、反射膜（クロム、銀、等）や反射防止膜（誘電体多層膜）の表面をレーザー等により文字状に削除することでマーキングを形成すると、削除した領域から入射した光が迷光となって、液晶パネルを透過する光の透過量が低下してしまうという問題が生じる。
【０００５】
そこで、マーキングを施す方法として、インクジェット方式を用いることが考えられる。
インクジェット方式を用いて印刷する従来例として、例えば、光ファイバーケーブルのケーブルを覆っている樹脂テープの表面にインクジェットを用いてインクによるマーキングを行うものがある（特許文献３）。
さらに、偏光フィルム等からなる光学フィルムの片面に粘着層を介して保護フィルムを設け、保護フィルムの表面に識別用のインク情報をインクジェット方式で形成する従来例がある（特許文献４）。
【０００６】
また、偏光板表面に保護フィルムが剥離可能に貼付されている保護フィルム付偏光板において、保護フィルムの表面にインクジェット用インクによりマーキングが施されている従来例がある（特許文献５）。この特許文献５の従来例では、インクジェット用インクによるマーキングは特に制限されず、文字、数字、記号、図形、絵等の１種を、または２種以上を組み合わせて行われる。そのマーキング位置も適宜に設定される。マーキングによりバーコードを付すこともでき、保護フィルム付偏光板をバーコード管理することも可能になり、出荷Ｎｏの蓄積、納入数量、品質情報、品番コード等を一括管理できるようになる。
【０００７】
さらに、第１水晶板と位相差フィルムとの間に粘着層を設け、位相差フィルムと第二水晶板との間に粘着層を設けた光学ローパスフィルターにおいて、粘着層の表面であって光学有効エリア外にマークをインクジェットプリンターによって形成する従来例がある（特許文献６）。
また、液晶パネルに防塵用基板が貼り付けられ、この防塵用基板の液晶パネルの有効領域以外の部分にマークが形成された従来例がある（特許文献７）。この特許文献７の従来例では、液晶パネルのＴＦＴ基板側に防塵用基板が接着剤で取り付けられ、この防塵用基板のＴＦＴ基板に対向する面とは反対側の面に、例えば、インクジェット、レーザーを用いた金属箔転写法又はレーザーによるガラスダイレクトマーキング等の手法によってマークが形成される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００８−２３３７３３公報
【特許文献２】特開２００８−１７０９４６公報
【特許文献３】特開平１−１５０１０５公報
【特許文献４】特開２０００−３２１４２２公報
【特許文献５】特開２００３−０１４９３４公報
【特許文献６】特開２００７−０７２２６８公報
【特許文献７】特開２００９−０４７８８０公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
特許文献１，２で示される従来例では、光学素子の光学領域以外に、光学素子の製品番号等を示す識別標識を付すことに関する言及がない。
特許文献３で示される従来例では、樹脂テープの表面にインクジェットでマーキングがされているため、マーキングが露出されることになり、製品使用時にマークが剥がれるという課題がある。
特許文献４で示される従来例では、保護フィルムの表面に識別用のインクが形成されているため、識別用のインクが露出していることになり、このインクが剥がれるという課題がある。その上、光学素材を実際に使用するために保護フィルムを剥離した後では、光学素材の識別を行うことができない。
【００１０】
特許文献５で示される従来例では、特許文献４の従来例と同様に、保護フィルムの表面にインクジェット用インクによりマーキングが施されているため、マーキングが露出されることに伴う剥がれや、保護フィルムを剥離した後には偏光板の識別が行えないという課題がある。
特許文献６で示される従来例では、粘着層の表面にマークを設けているため、インクジェットと粘着層を構成する材料との関係によっては、マークに滲みが生じることになり、正確に識別することができないという課題がある。
引用文献７で示される従来例では、マークは防塵用基板の表面に露出して形成されているため、マークが擦れたり、剥がれたりする恐れがある。
【００１１】
本発明の目的は、前述の課題を解決するためになされたものであって、製品使用時においても識別可能であり、識別標識が消えたり、滲んだりすることがない光学素子、電気光学装置、投射型映像装置及び光学素子の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
［適用例１］
本適用例に係る光学素子は、透光性基板と、当該透光性基板の前記光学領域から外れた周縁領域に設けられ認識マークと、当該認識マークを覆うように、前記透光性基板の主面上に設けられた光学機能膜と、を備えた光学素子であって、前記認識マークは、前記透光性基板の主面上にインクジェット方式で印刷されたことを特徴とする。
この構成の本適用例では、透光性基板の光学領域から外れた周辺領域に認識マークが設けられているので、光学素子としての本来の機能を阻害することなく、認識マークを認識することができる。その上、認識マークが、直接、透光性基板にインクジェット方式で形成されているので、粘着層に形成される場合に比べてインクが滲むことがなく、認識マークを明確に認識することができる。そして、インクジェット方式では、使用するインクの色を光学機能膜に比べて見やすいものに設定することで、認識マークをより見やすいものにすることができる。さらに、認識マークは光学機能膜で覆われているので、製品使用時に認識マークを利用することができるだけでなく、認識マークが擦れたり剥がれたりすることがない。そして、認識マークを覆う膜は、光学素子で必須の光学機能膜であり、別に被膜をすることを要しない。そのため、従来の光学素子の製造手順の中で認識マークの形成を組み込むことができるから、光学素子の製造コストを抑えることができる。
ここで、認識マークとは、光学素子や電気光学装置の型番等の製品に関する情報、その他の情報であり、数字、文字、記号等により表示されるものである。また、光学領域とは、光学素子として有効利用される主面上の領域である。
【００１３】
［適用例２］
本適用例に係る光学素子では、前記光学機能膜は反射防止膜であることを特徴とする。
この構成の本適用例では、反射防止膜と透光性基板との間に認識マークが設けられるので、反射防止膜自体の機能が損なわれることがない。
【００１４】
［適用例３］
本適用例に係る光学素子では、前記光学機能膜は、前記透光性基板の前記光学領域から外れた周縁領域に設けられ遮光膜であり、当該遮光膜は、前記透光性基板へ入射する光を反射する反射層と、前記光を吸収する吸収層と、を有し、前記反射層と前記吸収層とは、前記透光性基板の表面に順に積層されていることを特徴とする。
この構成の本適用例では、光が透光性基板を透過したとしても、その光は反射層で反射され、透光性基板の光学領域を透過した後に吸収層に入射された光は吸収層で吸収される。そのため、認識マークがあっても、遮光膜自体の機能を損なうことがない。
【００１５】
［適用例４］
本適用例に係る光学素子では、前記認識マークは、前記透光性基板と前記反射層との間に設けられていることを特徴とする。
この構成の本適用例では、認識マークが透光性基板と反射層との間に設けられているので、透光性基板に直接設けられる認識マークが透光性基板を通じて認識しやすくなる。
【００１６】
［適用例５］
本適用例に係る光学素子では、前記認識マークは、前記反射層と前記吸収層との間に設けられていることを特徴とする。
この構成の本適用例では、認識マークが反射層と吸収層との間に設けられているので、吸収層を透過して認識マークを光学素子の裏面側から認識することができる。
【００１７】
［適用例６］
本適用例に係る電気光学装置は、前述の構成の光学素子と、液晶パネルと、を備え、前記透光性基板の前記認識マークが設けられていない側の主面が、前記液晶パネルと対向していることを特徴とする。
この構成の本適用例では、光学機能膜として反射防止膜が用いられた光学素子において、液晶パネルとの位置が好適となる。
【００１８】
［適用例７］
本適用例に係る電気光学装置は、前述の光学素子と、液晶パネルと、を備え、前記透光性基板の前記遮光膜が設けられている側の主面が、前記液晶パネルと対向していることを特徴とする。
この構成の本適用例では、光学機能膜として遮光膜が用いられた光学素子において、液晶パネルとの位置が好適となる。
【００１９】
［適用例８］
本適用例に係る投射型映像装置は、光源と、当該光源からの光を画像情報に応じて変調する電気光学装置と、当該電気光学装置により変調された光を投写する投写光学装置と、を備え、前記電気光学装置は、前述の電気光学装置であることを特徴とする。
この構成の本適用例では、前述の効果を奏することができる投射型映像装置を提供することができる。
【００２０】
［適用例９］
本適用例に係る光学素子の製造方法は、透光性基板の光学領域から外れた周縁領域の主面上にインクジェット方式で認識マークを印刷し、当該認識マークを覆うように光学機能膜を前記透光性基板の主面上に設けることを特徴とする。
この構成の本適用例では、前述の効果を奏することができる光学素子を容易に製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の第１実施形態にかかる光学素子の断面図。
【図２】第１実施形態にかかる光学素子の平面図。
【図３】（Ａ）から（Ｄ）は第１実施形態にかかる光学素子を製造する方法を説明する概略図。
【図４】本発明の第２実施形態にかかる電気光学装置の断面図。
【図５】第２実施形態にかかる電気光学装置の平面図。
【図６】（Ａ）から（Ｃ）は前記電気光学装置を製造する方法を説明する概略図。
【図７】（Ｄ）（Ｅ）は前記電気光学装置を製造する方法を説明する概略図。
【図８】第２実施形態の変形例にかかる電気光学装置を示す断面図。
【図９】本発明の第３実施形態にかかる電気光学装置の断面図。
【図１０】第３実施形態にかかる電気光学装置の平面図。
【図１１】本発明の第４実施形態にかかる電気光学装置の断面図。
【図１２】第４実施形態にかかる電気光学装置の裏面図。
【図１３】本発明の第５実施形態にかかる電気光学装置の断面図。
【図１４】電気光学装置を構成する光学素子の光が出射される側の平面図。
【図１５】電気光学装置の要部の拡大断面図。
【図１６】（Ａ）〜（Ｃ）は電気光学装置の製造方法を説明する斜視図。
【図１７】（Ｄ）（Ｅ）は電気光学装置の製造方法を説明する斜視図。
【図１８】電気光学装置の変形例の要部を示す拡大断面図。
【図１９】電気光学装置の異なる変形例の要部を示す拡大断面図。
【図２０】本発明の第６実施形態に係る投射型映像装置を示す概略図。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。ここで、各実施形態の説明において、同一構成要素は同一符号を付して説明を省略もしくは簡略にする。
第１実施形態を図１から図３に基づいて説明する。
図１には第１実施形態の光学素子１００の断面が示され、図２には光学素子１００の平面が示されている。本実施形態の光学素子１００は投射型映像装置、デジタルカメラ、その他の電子機器で使用される。
図１及び図２において、光学素子１００は、透光性基板１０１と、この透光性基板１０１の表面に設けられた光学機能膜としての反射防止膜ＡＲとを備えた防塵ガラスであり、その主面の中心部分に光学領域Ｌが設けられている。なお、図１において、反射防止膜ＡＲは透光性基板１０１と同じ厚さに図示されているが、これは、反射防止膜ＡＲの構成をわかりやすくするためのものであり、実際には、反射防止膜ＡＲの膜厚は透光性基板１０１の厚さに比べて小さく(薄く)なっている。
【００２３】
透光性基板１０１は、例えば、石英、無アルカリガラス、水晶、サファイア、ニオブ酸リチウム（ＬｉＮｂＯ3：ＬＮ）、タンタル酸リチウム（ＬｉＴａＯ3：ＬＴ）等の材料から形成される基板である。この透光性基板１０１は、平面寸法の縦横が所定寸法、例えば、縦が１０ｍｍ以上３０ｍｍ以下、横が１３ｍｍ以上４０ｍｍ以下の平面視で外周が矩形状に形成されている。
光学領域Ｌは平面視で外周が矩形状とされ、その各辺の位置は透光性基板１０１の各辺から適宜な寸法、例えば、２ｍｍをもって設定される。
反射防止膜ＡＲは、低屈折層と高屈折層、例えば、低屈折率の酸化ケイ素（ＳｉＯ２）の低屈折層と、高屈折率の酸化チタン（ＴｉＯ２）又は酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）の高屈折層とが交互に積層された構造である。
【００２４】
透光性基板１０１の反射防止膜ＡＲが設けられる主面であって光学領域Ｌのから外れた周辺部分Ｅに認識マークＭが形成されている。
図２では、認識マークＭは、「ＡＢＣ」の記号として表示されている。認識マークＭは反射防止膜ＡＲを通じて認識可能とされる。本実施形態では、「ＡＢＣ」という文字の他に、他のアルファベット、日本語、その他の言語を構成するための文字、数字、記号、図形、バーコード等、内容を識別することができるものであればその種類が限定されない。また、本実施形態では、認識マークＭを読みやすくするために大きく表示したが、肉眼あるいは機械等で読み取れる大きさであればよい。認識マークＭを表示する位置は図２では平面矩形状の光学素子１００の下辺部としたが、光学素子１００の隅部であってもよい。
【００２５】
図３には第１実施形態にかかる光学素子１００を製造する方法を説明する概略が示されている。
図３（Ａ）において、まず、大判の基板１０１Ａを用意する。この大判の基板１０１Ａを複数個、図では、９個分割することで、図１及び図２で示される透光性基板１０１の１枚分となる。
図３（Ｂ）に示される通り、大判の基板１０１Ａの各透光性基板１０１に対応する位置に「ＡＢＣ」という認識マークＭをインクジェット方式で印刷する。
ここで、インクジェット方式とは、一般に１０〜１００μｍ径の微小なノズル開口部と圧力発生素子とが設けられた圧力室にインクが充填され、圧力発生素子を電子的に制御することによって圧力室内のインクを加圧し、その圧力で、ノズル開口部からインクを微小な液滴として吐出するものである。圧力発生素子の種類により、ピエゾ素子による圧電振動子を用いたピエゾ方式や、発熱素子を用い、インクを加熱して気泡を発生させ、その圧力を利用するインクジェット方式など、種々の方式がある。本実施形態では、いずれのインクジェット方式も用いることができる。インクは透光性基板１０１に塗布した際には弾かない材料が用いられる。
その後、図３（Ｃ）に示される通り、この大判の基板１０１Ａの一面に反射防止膜ＡＲＡを従来と同様の方法で蒸着する。反射防止膜ＡＲＡの成膜は大判の基板１０１Ａに印刷された認識マークＭが乾燥した後に行われる。なお、図３（Ｃ）では、反射防止膜ＡＲＡをフィルム状に図示しているが、これは、大判の基板１０１Ａに反射防止膜ＡＲＡが設けられることを模式的に示したものであり、反射防止膜ＡＲＡがフィルムを大判の基板１０１Ａに貼り付けて形成されることを意味するものではない。
さらに、図３（Ｄ）に示される通り、ダイシング装置、その他の装置によって、大判の基板１０１Ａを複数に分割、本実施形態では、９個に分割し、１つの光学素子１００を製造する。
【００２６】
従って、第１実施形態では、次の作用効果を奏することができる。
（１）光学領域Ｌから外れた周縁領域Ｅにインクジェット方式で認識マークＭが印刷される透光性基板１０１と、この透光性基板１０１において認識マークＭを覆うように設けられる光学機能膜としての反射防止膜ＡＲとを備えて防塵ガラスの光学素子１００を構成した。透光性基板１０１の光学領域Ｌから外れた周縁領域Ｅに認識マークＭが設けられているので、防塵ガラスとしての本来の機能を阻害することなく、認識マークＭを認識することができる。その上、認識マークＭが透光性基板１０１にインクジェット方式で直接形成されているので、インクジェットのインクが滲むことがなく、認識マークＭを明確に認識することができる。認識マークＭが反射防止膜ＡＲで覆われているので、製品使用時に認識マークＭを利用することができるだけでなく、認識マークＭが擦れたり剥がれたりすることがない。そして、認識マークＭを覆う膜は、反射防止膜ＡＲであるから、別に被膜をすることを要しないため、光学素子の製造コストを抑えることができる。
【００２７】
（２）透光性基板１０１の反射防止膜ＡＲが設けられる側の主面に認識マークＭが設けられ、この認識マークＭを覆うように反射防止膜ＡＲが設けられるから、反射防止膜ＡＲの機能が損なわれることがない。
（３）光学領域Ｌが平面に複数箇所形成された大判の基板１０１Ａにおいて、光学領域Ｌから外れた領域にインクジェット方式で認識マークＭを複数箇所印刷し、これらの認識マークＭを覆うように反射防止膜ＡＲＡを大判の基板１０１Ａに設け、その後、所定サイズに切断して光学素子１００を製造したから、複数の光学素子１００を容易に製造することができる。
【００２８】
本発明の第２実施形態を図４から図８に基づいて説明する。
図４には第２実施形態の電気光学装置の断面が示され、図５には電気光学装置の平面が示されている。
図４において、電気光学装置１は、光学素子としての平板状のカバーガラス１０と、このカバーガラス１０に設けられた液晶パネル２０と、この液晶パネル２０に設けられる防塵ガラス２４と、これらのカバーガラス１０、液晶パネル２０及び防塵ガラス２４の周縁を保持する図示しないフレームと、液晶パネル２０に接続され外部からの電力を供給するための図示しないケーブルとを備えて構成されている。
【００２９】
図４及び図５に示される通り、カバーガラス１０は、一方の主面から入射光Ｉｎが入射され光学領域Ｌが平面の中心部分に設定される透光性基板１１と、この透光性基板１１の光学領域Ｌを規定する額縁として機能し光が出射される側の平面に設けられ光学機能膜としての遮光膜１２とを備え、透光性基板１１及び遮光膜１２と液晶パネル２０とは紫外線硬化型接着剤からなる接着層１３で互いに接合されている。
透光性基板１１は、例えば、石英、無アルカリガラス、水晶、サファイア、ニオブ酸リチウム（ＬｉＮｂＯ3：ＬＮ）、タンタル酸リチウム（ＬｉＴａＯ3：ＬＴ）等の材料から形成される基板である。この透光性基板１１は、平面寸法の縦横が所定寸法、例えば、縦が１０ｍｍ以上３０ｍｍ以下、横が１３ｍｍ以上４０ｍｍ以下の平面視で外周矩形状に形成されている。
光学領域Ｌは平面視で外周矩形状とされ、その各辺の位置は透光性基板１１の各辺から適宜な寸法、例えば、２ｍｍをもって設定される。この寸法は電気光学装置１の種類や大きさによって相違する。
透光性基板１１の光が入射される主面には反射防止膜ＡＲが設けられている。
【００３０】
図５に示される通り、遮光膜１２は、光学領域Ｌから外れた外周領域Ｅに配置され、その主面が所定幅、例えば、２ｍｍの帯状に形成されている。
遮光膜１２は、透光性基板１１へ入射する光を反射する反射層１２１及びこの反射層１２１に積層され光を吸収する吸収層１２２を有する構造である。
反射層１２１は高反射率膜であり、吸収層１２２は低反射率膜である。
ここで、反射層１２１を構成する材料と吸収層１２２を構成する材料とは、例えば、反射層１２１がクロムから形成され吸収層１２２が酸化クロムから形成される場合が考えられる。
【００３１】
この構成の電気光学装置１では、外部から入射光Ｉｎが透光性基板１１の光学領域Ｌの領域外に入射すると、透光性基板１１と反射層１２１との境界面で反射される。入射光Ｉｎが透光性基板１１の法線に対して斜めに入射すると、透光性基板１１、接着層１３及び液晶パネル２０を通り、この液晶パネル２０の内部で反射して反射光となるが、この反射光が吸収層１２２に入射すると、この吸収層１２２で吸収される。このように、遮光膜１２は、入射光Ｉｎを効率良く反射して透過率を低く抑え、かつ液晶パネル２０からの反射光を抑制する機能がある。
【００３２】
透光性基板１１の反射層１２１と対向する面には認識マークＭがインクジェット方式で形成されている。図３では、認識マークＭは、第１実施形態と同様に、「ＡＢＣ」の記号として表示されている。本実施形態では、遮光膜１２が有色の材料から構成される場合を考慮し、透光性基板１１を透過して認識マークＭが認識されるようになっている。さらに、液晶パネル２０が赤色用（Ｒ）、緑色用（Ｇ）、青色用（Ｂ）を考慮して、認識マークＭの色が設定される。本実施形態においても、認識マークＭを表示する位置は下辺部に限定されるものではなく、光学素子１０の隅部であってもよい。
接着層１３は紫外線硬化型接着剤、その他の接着剤であって、透光性基板１１と屈折率が同じ接着剤から構成される。
【００３３】
図４において、液晶パネル２０は、液晶ライトバルブと称されるものであり、吸収層側に設けられた平面矩形状の対向基板２１と、この対向基板２１に積層された液晶部２２と、液晶部２２に積層され対向基板２１と同じ大きさのＴＦＴ基板２３と、このＴＦＴ基板２３には防塵ガラス２４が積層されている。
液晶部２２は、対向基板２１とＴＦＴ基板２３との外周縁部に設けられたシール材２２１と、このシール材２２１の内部に収納された液晶２２２とを備えている、
【００３４】
対向基板２１は、石英基板、ガラス基板が用いられている。
対向基板２１の液晶部２２に対向する面には液晶２２２と接する領域に、液晶２２２に画素電極（図示せず）とともに駆動電圧を印加する透明電極、例えば、ＩＴＯ膜から構成された対向電極（図示せず）が全面に渡って形成されている。
ＴＦＴ基板２３は、石英基板、ガラス基板、シリコン基板が用いられている。
ＴＦＴ基板２３の液晶部２２に対向する面であって液晶２２２と接する領域には、画素を構成し、かつ、対向電極とともに液晶２２２の駆動電圧を印加する透明電極、例えば、ＩＴＯから構成された画素電極（図示せず）が配置されている。
ＴＦＴ基板２３の画素電極の上には、ラビング処理された配向膜（図示せず）が設けられており、対向基板２１の対向電極の上には、同様に、ラビング処理された配向膜（図示せず）が設けられている。これらの配向膜は、例えば、ポリイミド膜などの透明な有機膜から構成される。
防塵ガラス２４は、石英基板、ガラス基板が用いられる。防塵ガラス２４とＴＦＴ基板２３とは接着剤で接着固定され、防塵ガラス２４のＴＦＴ基板２３と対向する面とは反対側の面には反射防止膜ＡＲが設けられている。
【００３５】
次に、第２実施形態の電気光学装置１を製造する方法を図６及び図７に基づいて説明する。
［光学素子の製造方法］
まず、図６（Ａ）に示される通り、大判の基板１１Ａを用意する。この大判の基板１１Ａを複数個（図６では９個）分割することで、図４及び図５で示される透光性基板１１の１枚分となる。
大判の基板１１Ａの所定位置の各透光性基板１１に対応する位置に「ＡＢＣ」という認識マークＭを左右反転させた状態でインクジェット方式により印刷する。つまり、本実施形態では、透光性基板１１の正面側から透光性基板１１の裏面に印刷された認識マークＭを認識するので、透光性基板１１へ印刷される認識マークＭは左右が反転された状態となる。
図６（Ｂ）に示される通り、左右反転されて表示される認識マークＭを覆うように、反射層１２１を構成するために高反射率層１２１Ａを蒸着、スパッタ、その他の方法で大判の基板１１Ａの上に成膜し、図６（Ｃ）に示される通り、高反射率層１２１Ａの上に、吸収層１２２を構成するために低反射率層１２２Ａを蒸着、スパッタ、その他の方法で成膜する。
【００３６】
図７（Ｄ）で示される通り、低反射率層１２２Ａ及び高反射率層１２１Ａの光学領域Ｌに対応する部位にエッチングを行う。そのため、予め光学領域Ｌと同じ大きさの開口が設けられた図示しないマスクを低反射率層１２２Ａの上に配置し、このマスクの上からエッチング液を浸す。
その後、図７（Ｅ）に示される通り、ダイシング装置、その他の装置によって、大判の基板を複数に分割し、１つの光学素子としてのカバーガラス１０を製造する。
【００３７】
［光学素子と液晶パネルとの接合］
対向基板２１、液晶部２２及びＴＦＴ基板２３を接合して液晶パネル２０を製造し、このＴＦＴ基板２３に防塵ガラス２４を接合する。液晶パネル２０の対向基板２１と光学素子１０との一方に接着層１３を構成する紫外線硬化型接着剤を塗布し、これらを互いに接合した後、接着層１３を紫外線硬化する。
【００３８】
従って、第２実施形態では、第１実施形態の（１）（３）と同様の作用効果を奏することができる他、次の作用効果を奏することができる。
（４）光学機能膜を、反射層１２１と吸収層１２２とが積層される遮光膜１２としたので、光が認識マークＭを透過したとしても、その光は反射層１２１で反射され、吸収層１２２に入射された光は吸収層で吸収されることになり、認識マークＭを設けても、遮光膜１２自体の機能を損なうことがない。
【００３９】
（５）前述の光学素子１０を備えて電気光学装置１を構成したので、認識マークＭとして、電気光学装置の種類等を付与することで、電気光学装置１の識別が可能となり、投射型映像装置、その他の電子機器に電気光学装置１を組み込む作業を容易に行うことができる。
なお、第２実施形態では、認識マークＭを透光性基板１１と反射層１２１との間に設ける構成に限定されるものではなく、図８に示される通り、反射層１２１と吸収層１２２との間に設けるものでも、前述と同様な作用効果を奏することができる。但し、認識マークＭを透光性基板１１と反射層１２１との間に設けると、透光性基板１１に直接設けられる認識マークＭが透光性基板１１を通じて認識しやすくなる。これに対して、図８に示される通り、反射層１２１と吸収層１２２との間に認識マークＭを設けると、吸収層１２２を透過して認識マークＭを光学素子１０の裏面側から認識することができる。
【００４０】
次に、本発明の第３実施形態を図９及び図１０に基づいて説明する。第３実施形態は第１実施形態と第２実施形態とを組み合わせた構造である。
図９には第３実施形態の電気光学装置の断面が示され、図１０には電気光学装置の平面が示されている。
図９及び図１０に示される通り、カバーガラス１０は、透光性基板１１と、この透光性基板１１の光学領域Ｌを規定する額縁として機能し光が出射される側の平面に設けられ光学機能膜としての遮光膜１２と、透光性基板１１の入射側に設けられ光学機能膜としての反射防止膜ＡＲとを備え、透光性基板１１及び遮光膜１２と液晶パネル２０とは接着層１３で互いに接合されている。なお、反射防止膜ＡＲは、その構造をわかりやすくするために、厚く図示されている。
【００４１】
図９に示される通り、透光性基板１１の反射防止膜ＡＲと対向する面には第１の認識マークＭ１がインクジェット方式で形成されている。この第１の認識マークＭ１は第１実施形態の認識マークＭと同じ方法で形成される。透光性基板１１の反射層１２１と対向する面には第２の認識マークＭ２がインクジェット方式で形成されている。この第２の認識マークＭ２は第２実施形態の認識マークＭと同じ方法で形成される。
【００４２】
従って、第３実施形態では、第１実施形態と第２実施形態との（１）〜（５）で示される作用効果を奏することができる他、次の作用効果を奏することができる。
（６）液晶パネル２０の光入射側に配置された透光性基板１１の外面であって光学領域Ｌから外れた領域にインクジェット方式で印刷された第１の認識マークＭ１を設け、この第１の認識マークＭを反射防止膜ＡＲで覆い、透光性基板１１と遮光膜１２との間に第２の認識マークＭ２を設けたから、多くの情報を電気光学装置１に付与することができるだけでなく、電気光学装置１を装置内に設置等する際に、一方の識別標識を認識しにくい場合でも、他方の識別標識を認識することができる。
【００４３】
次に、本発明の第４実施形態を図１１及び図１２に基づいて説明する。第４実施形態は第３実施形態とは第２の認識マークＭ２が設けられた位置が異なるもので、他の構成は第３実施形態と同じである。
図１１には第４実施形態の電気光学装置の断面が示され、図１２には電気光学装置の裏面が示されている。
図１１で示される通り、電気光学装置１は、光学素子としての平板状のカバーガラス１０と、このカバーガラス１０に設けられた液晶パネル２０と、この液晶パネル２０に設けられる光学素子としての防塵ガラス２４と、これらのカバーガラス１０、液晶パネル２０及び防塵ガラス２４の周縁を保持する図示しないフレームと、液晶パネル２０に接続され外部からの電力を供給するための図示しないケーブルとを備えて構成されている。
【００４４】
図１１及び図１２に示される通り、防塵ガラス２４は、透光性基板２４０と、光学機能膜としての反射防止膜ＡＲとを備えている。反射防止膜ＡＲは、その構造をわかりやすくするために、厚く図示されている。
透光性基板２４０の反射防止膜ＡＲと対向する面には第１の認識マークＭ１がインクジェット方式で形成されている。この第１の認識マークＭ１は第１実施形態の認識マークＭと同じ方法で形成される。
透光性基板１１の反射層１２１と対向する面には第２の認識マークＭ２がインクジェット方式で形成されている。この第２の認識マークＭ２は第２実施形態の認識マークＭと同じ方法で形成される。なお、第２の認識マークＭ２は図５で示される認識マークＭと同様に表示される。
【００４５】
従って、第４実施形態では、第３実施形態と第２実施形態との（１）〜（６）で示される作用効果を奏することができる他、次の作用効果を奏することができる。
（７）電気光学装置１の裏面側からは第１の認識マークＭ１が表示され、正面側からは第２の認識マークＭ２が表示されるので、電気光学装置１の両面から認識マークＭ１，Ｍ２を認識することができるため、電気光学装置１を設置等する際に、一方の面に表示される第１の認識マークＭ１が見えなくても、他方の面に表示される第２の認識マークＭ２が見えることになるので、製品使用時における有用性が向上する。
【００４６】
次に、本発明の第５実施形態を図１３から図１９に基づいて説明する。第５実施形態は第４実施形態において第２の認識マークＭ２に代えて構造の異なる識別マークを用いた点が第４実施形態とは異なる。
図１３には第５実施形態の電気光学装置の断面が示され、図１４には電気光学装置を構成する光学素子の光が出射される側の平面が示され、図１５には電気光学装置の要部の拡大断面が示されている。
図１３において、電気光学装置１は、平板状のカバーガラス１０と、このカバーガラス１０に設けられた液晶パネル２０と、この液晶パネル２０に設けられる光学素子としての防塵ガラス２４と、これらのカバーガラス１０、液晶パネル２０及び防塵ガラス２４の周縁を保持する図示しないフレームと、液晶パネル２０に接続され外部からの電力を供給するための図示しないケーブルとを備えて構成されている。
防塵ガラス２４は透光性基板２４０と光学機能膜としての反射防止膜ＡＲとを備え、透光性基板２４０と反射防止膜ＡＲとの間には認識マークＭが設けられている。
【００４７】
図１３及び図１５に示される通り、遮光膜１２は、反射層１２１及び吸収層１２２を有する。この吸収層１２２には識別マークｍを構成する凹部２が形成されており、この凹部２の深さは図１５では、吸収層１２２の厚さと同じ、換言すれば、凹部２は吸収層１２２を貫通して形成されている。凹部２の端縁は、平面上において吸収層１２２の端縁から離れている。
反射層１２１は高反射率膜であり、吸収層１２２は低反射率膜である。
ここで、反射層１２１を構成する材料と吸収層１２２を構成する材料との組み合わせとして、［1］反射層１２１がクロムから形成され、吸収層１２２が酸化クロムから形成される場合、［2］反射層１２１がクロムから形成され、吸収層１２２が二酸化チタン（ＴｉＯ２）から形成される場合、［3］反射層１２１がアルミから形成され、吸収層１２２が酸化クロムから形成される場合、［4］反射層１２１が銀から形成され、吸収層１２２が二酸化チタン又は酸化クロムから形成される場合がある。
【００４８】
この構成の電気光学装置１では、図１５に示される通り、外部から入射光Ｉｎが透光性基板１１の光学領域Ｌの領域外に入射すると、透光性基板１１と反射層１２１との境界面で反射される。入射光Ｉｎが透光性基板１１の法線に対して斜めに入射すると、透光性基板１１、接着層１３及び液晶パネル２０を通り、この液晶パネル２０の内部で反射して反射光Ｒｆとなるが、この反射光Ｒｆが吸収層１２２に入射すると、この反射光Ｒｆは再度反射することなく（想像線で示される反射光Ｒｆが発生することなく）、吸収層１２２で吸収される。このように、遮光膜１２は、入射光Ｉｎを効率良く反射して透過率を低く抑え、かつ液晶パネル２０からの反射光を抑制する機能がある。なお、反射層１２１には、光源に向かって光を反射し、光を再利用する役目もある。
【００４９】
図１４では、識別マークｍは、「ＡＢＣ」の記号として表示されている。本実施形態では、「ＡＢＣ」という文字の他に、他のアルファベット、日本語、その他の言語を構成するための文字、数字、記号、図形、バーコード等、内容を識別することができるものであればその種類が限定されない。また、本実施形態では、識別マークｍを読みやすくするために大きく表示したが、肉眼あるいは機械等で読み取れる大きさであればよい。識別マークｍを表示する位置は図１４では平面矩形状の光学素子１０の下辺部としたが、光学素子１０の隅部であってもよい。
反射層１２１と吸収層１２２とで材料が異なることに伴う色の相違により、透光性基板１１に入射光側平面から「ＡＢＣ」が識別標識として認識される。
接着層１３は紫外線硬化型接着剤、その他の接着剤であって、透光性基板１１と屈折率が同じ接着剤から構成される。
【００５０】
次に、本実施形態の電気光学装置１を製造する方法について説明する。
［カバーガラスの製造方法］
カバーガラス１０の製造方法を図１６及び図１７に基づいて説明する。
図１６（Ａ）に示される通り、まず、大判の基板１１Ａを用意する。この大判の基板１１Ａを複数個、図では、９個分割することで、図３から図１５で示される透光性基板１１の１枚分となる。この大判の基板１１Ａの一面に反射防止膜ＡＲを蒸着で形成する。
図１６（Ｂ）に示される通り、大判の基板１１Ａの反射防止膜ＡＲが形成されていない一面に反射層１２１を構成するために高反射率層１２１Ａを蒸着、スパッタ、その他の方法で成膜し、この高反射率層１２１Ａの上に、吸収層１２２を構成するために低反射率層１２２Ａを蒸着、スパッタ、その他の方法で成膜する。ここで、高反射率層１２１Ａと反射層１２１との膜厚は同じであり、低反射率層１２２Ａと吸収層１２２との膜厚は同じである。なお、高反射率層１２１Ａの材料をクロムとし、低反射率層１２２Ａの材料を酸化クロムとした場合、高反射率層１２１Ａを大判の基板１１Ａの主面上に蒸着等した後、蒸着炉（チャンバー）の中に酸素（Ｏ２）ガスを導入し、クロムを酸化させながら蒸着、に酸素を混ぜてスパッタ、その他の方法で成膜を行い、低反射率層１２２Ａを成膜する。また、高反射率層１２１Ａと吸収層である低反射率層１２２Ａとの間には、必要に応じてエッチングストッパー層、例えば、ＳｉＯ２の層を挟んでおく。
【００５１】
その後、図１６（Ｃ）に示される通り、吸収層１２２を構成する低反射率層１２２Ａに凹部２をエッチングで形成し、各、透光性基板１１に対応する位置に「ＡＢＣ」という識別マークｍを表示する。
そのため、大判の基板１１Ａに成膜された高反射率層１２１Ａ及び低反射率層１２２Ａを含む多層膜の表面上の全面にフォトレジストを塗布する。そして、図示しないステッパー又はマスクアライナー等の露光器を用いて、フォト・マスクを重ねてマーキング・パターン状に露光する。その後、現像して認識マークＭに対応する部分のレジストを除去する。さらに、レジストが除去され、遮光膜層１２となる多層膜がマーキング状に露出した領域をエッチングして遮光膜層１を構成する多層膜のうち吸収層１２２を構成する低反射率層１２２Ａのみをエッチングで除去（ハーフエッチング）し、凹部２を形成する。ここで、ハーフエッチングは前述の通りＳｉＯ２等からなるエッチングストッパー層が用いられていることで、エッチングがストップされる。なお、エッチングストッパー層を設けない場合には、ハーフエッチングとするために時間を管理する。その後、レジストを剥離する。
【００５２】
図１７（Ｄ）に示される通り、額縁状に遮光膜層１２を形成し、光学領域Ｌの領域の基板主面を露出させる。まず、遮光膜１２に相当する高反射率層１２１Ａ及び低反射率層１２２Ａの多層膜の表面上の全面にフォトレジストを塗布し、さらに、図示しないステッパー又はマスクアライナー等の露光器を用いて、フォト・マスク（額縁の形状に応じた）を重ねてパターンを露光する。その後、現像して不要な部分、つまり、光学領域Ｌ上のレジストを除去する。レジストが除去され、高反射率層１２１Ａ及び低反射率層１２２Ａの多層膜が露出した領域をエッチングして遮光膜層１２を額縁状にパターン抜きする（レジストが除去された部分のみをエッチング）。なお、エッチングストッパー層を設けた場合には、前述のプロセスで用いたエッチング溶液とは別の種類、即ち、エッチングストッパー層もエッチング除去できるエッチング溶液を使用する。その後、レジストを剥離する。
さらに、図１７（Ｅ）に示される通り、ダイシング装置、その他の装置によって、大判の基板１１Ａを複数に分割、本実施形態では、９個に分割し、１つのカバーガラス１０を製造する。
【００５３】
［カバーガラス、液晶パネル、防塵ガラスの接合］
対向基板２１、液晶部２２及びＴＦＴ基板２３を接合して液晶パネル２０を製造しておき、この液晶パネル２０の対向基板２１とカバーガラス１０との一方に接着層１３を構成する紫外線硬化型接着剤を塗布し、これらを互いに接合した後、接着層１３を紫外線硬化する。
さらに、防塵ガラス２４を構成する透光性基板２４０の一面に認識マークＭをインクジェット方式で印刷し、その上から反射防止膜ＡＲを蒸着その他の方法で形成する。この防塵ガラス２４を液晶パネル２０に接着剤で接合して電気光学装置１を製造する。
【００５４】
従って、第５実施形態では、第４実施形態と同様の作用効果を奏する他、次の作用効果を奏することができる。
（８）カバーガラス１０は、光学領域Ｌが主面に設けられる透光性基板１１と、この透光性基板１１の光学領域Ｌから外れた周縁領域Ｅに設けられ透光性基板１１へ入射する光を反射する反射層１２１及び光を吸収する吸収層１２２を有する遮光膜１２とを備え、光学領域Ｌから外れた周縁領域Ｅに吸収層１２２の厚さ方向に形成される凹部２を有する識別マークｍが設けられた。本実施形態では、識別マークｍが透光性基板１１の光学領域から外れた領域にあることにより、光学素子１０としての本来の機能が阻害されず、識別マークｍを認識することができる。その上、識別マークｍが反射層１２１ではなく吸収層１２２に形成されることで、光学素子１０内の迷光を少なくすることができる。
【００５５】
（９）凹部２の深さは吸収層１２２の厚さと同じ、つまり、凹部２が吸収層１２２を貫通して形成されるので、吸収層１２２と反射層１２１との色の相違に基づいて、認識マークＭを容易に認識することができる。
【００５６】
（１０）カバーガラス１０を製造するにあたり、透光性基板１１に反射層１２１を構成する高反射率層１２１Ａを成膜し、この高反射率層１２１Ａに吸収層１２２を構成する低反射率層１２２Ａを成膜し、この低反射率層１２２Ａの厚さ方向に認識マークＭを構成する凹部２をエッチングにより形成したから、エッチングという簡易な手段によって、凹部２の形成を容易に行うことができるため、カバーガラス１０を低コストで製造することができる。
【００５７】
（１１）高反射率層１２１Ａをクロムから成膜し、低反射率層１２２Ａを酸化クロムから成膜すれば、酸化クロムがクロムに酸素を混ぜてスパッタで成膜することができるので、一連の成膜作業を容易に行える。
【００５８】
なお、第５実施形態では、遮光膜１２の構成を図１３及び図１５で示される構成に限定されることはなく、例えば、図１８や図１９に示される構成であってもよい。
図１８には第５実施形態の変形例に係る電気光学装置の要部の拡大断面が示されている。
図１８において、電気光学装置１は、平板状のカバーガラス３０と、このカバーガラス３０に設けられた液晶パネル２０と、防塵ガラス２４（図１３参照）と、これらのカバーガラス３０、液晶パネル２０及び防塵ガラス２４の周縁を保持する図示しないフレームと、液晶パネル２０に接続され外部からの電力を供給するための図示しないケーブルとを備えて構成されている。
【００５９】
カバーガラス３０は、透光性基板１１と、この透光性基板１１の光学領域Ｌを規定する額縁として機能する遮光膜３２とを備え、透光性基板１１及び遮光膜３２と液晶パネル２０とは接着層１３で互いに接合されている。
遮光膜３２は、反射層１２１及び吸収層１２２と、これらの反射層１２１と吸収層１２２との間に設けられた光を吸収する第三層１２３とを有する構造である。
反射層１２１は、クロムからなる高反射率層から構成されている。
吸収層１２２は、酸化クロムからなる低反射率層から構成され、第１実施形態と同様に認識マークＭを構成する凹部２が形成されている。
第三層１２３は、光を吸収する材料であって吸収層１２２の材料である酸化クロムよりエッチング液で腐食されにくい材料、例えば、酸化チタンから構成されている。
第三層１２３の平面上の大きさは反射層１２１及び吸収層１２２の平面上の大きさと同じである。
【００６０】
以上のカバーガラス３０を製造する方法は第１実施形態とほぼ同じであり、大判の基板１１Ａに反射層１２１を構成するための高反射率層１２１Ａを蒸着、スパッタ、その他の方法で成膜した後、第三層１２３を構成する中間層を大判の基板１１Ａの大きさに合わせて蒸着、スパッタ等で成膜し、この第三層１２３を構成する中間層の上に、吸収層１２２を構成するために低反射率層１２２Ａを蒸着、スパッタ、その他の方法で成膜する。
低反射率層１２２Ａに認識マークＭを構成する凹部２をエッチングで形成した後、低反射率層１２２Ａ、中間層及び高反射率層１２１Ａの中央部分に光学領域Ｌを形成するためのエッチングを実施する。
図１８で示される遮光膜３２では、吸収層１２２と反射層１２１との間に光を吸収する第三層１２３が設けられているから、吸収層１２２とともに第三層１２３で電気光学装置１の内部での迷光をより少なくすることができる。
そして、第三層１２３が吸収層１２２よりはエッチング液で腐食されにくい材料である酸化チタンを用いたので、第三層１２３がエッチングストッパーとしての機能を有することになる。そのため、吸収層１２２でのエッチングを十分に行うことができ、これにより、凹部２を確実に形成して認識しやすい認識マークＭを設けることができる。
【００６１】
図１９には吸収層１２２に形成される凹部の形状が図１５とは異なる例が示されている。図１９において、吸収層１２２には識別マークｍを構成する凹部４が形成されており、この凹部４の深さは図１５の構造とは異なり、吸収層１２２の厚さより小さく、換言すれば、吸収層１２２の厚さの途中までとされる。本実施形態では、凹部４に光を照射した場合の陰によって識別マークｍを認識することができる。
凹部４の形成は、エッチングの他、レーザー照射による形成も可能である。エッチングを用いる場合にはエッチング液の濃度やエッチング時間を調整することにより実施する。
【００６２】
次に、本発明の第６実施形態を図２０に基づいて説明する。
第６実施形態は、以上詳細に説明した電気光学装置１をライトバルブとして用いた投射型映像装置（投射型液晶プロジェクター）である。
図２０は、投射型映像装置の概略構成が表される。
図２０において、本実施形態における投射型映像装置１１００は、駆動回路がＴＦＴアレイ基板上に搭載された液晶装置を含む液晶モジュールを３個用意し、それぞれＲＧＢ用のライトバルブ１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂとして用いたプロジェクターとして構成されている。これらのライトバルブ１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂは電気光学装置１が用いられる。
投射型映像装置１１００では、メタルハライドランプ等の白色光源のランプユニット１１０２から投射光が発せられると、３枚のミラー１１０６および２枚のダイクロイックミラー１１０８によって、ＲＧＢの三原色に対応する光成分Ｒ，Ｇ，Ｂに分けられ、各色に対応するライトバルブ１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂにそれぞれ導かれる。この際、Ｂ光は、長い光路による光損失を防ぐために、入射レンズ１１２２、リレーレンズ１１２３および出射レンズ１１２４からなるリレーレンズ系１１２１を介して導かれる。そして、ライトバルブ１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂによりそれぞれ変調された三原色に対応する光成分は、ダイクロイックプリズム１１１２により再度合成された後、投写光学装置としての投射レンズ１１１４を介してスクリーン１１２０にカラー画像として投射される。
【００６３】
従って、第６実施形態では、第２実施形態と同様な作用効果を奏することができる他、次の作用効果を奏することができる。
（１２）ランプユニット１１０２と、このランプユニット１１０２からの光を、画像情報に応じて変調する電気光学装置１と、この電気光学装置１により変調された光を投写する投射レンズ１１１４とを備えたから、前述の効果を奏することができる投射型映像装置を提供することができる。
【００６４】
なお、本発明は、上述した一実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲で以下に示される変形をも含むものである。
例えば、前記実施形態では、電気光学装置１を投射型映像装置に用いたが、本発明では、それ以外に電子機器、例えばデジタルカメラにも用いることができる。さらに、電気光学装置１の例として、光学ローパスフィルターを用いてもよい。
また、前記各実施形態では、遮光膜１２，３２は平面矩形状の透光性基板１１の４つの辺に沿って形成されたが、本発明では、これに限定されるものではない。
さらに、光学素子１０，１００を製造するにあたり、大判の基板１０１Ａを用いたが、それを分割した透光性基板１１，１０１を用いたものでもよい。
【産業上の利用可能性】
【００６５】
本発明は、投射型映像装置、その他の電子機器に利用することができる。
【符号の説明】
【００６６】
１…電気光学装置、１０，１００…光学素子、１１，１０１，２４０…透光性基板、１２，３２…遮光膜（光学機能膜）、１３…接着層、２０…液晶パネル、２１…対向基板、２２…液晶部、２３…ＴＦＴ基板、２４…防塵ガラス、１２１…反射層、１２２…吸収層、１１００…投射型映像装置、Ｌ…光学領域、Ｅ…周縁領域、Ｍ…認識マーク、Ｍ１…第１の認識マークＭ２…第２の識別標識、ＡＲ…反射防止膜（光学機能膜）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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