(57)【要約】【課題】１台の塗布装置で複数種類の塗布液を速やかに切り替えて基板に塗布する。【解決手段】スリットノズルにより基板上に塗布液を塗布する塗布方法において、複数のスリットノズルを設置したマルチスリットノズル機構を用い、基板を載置・固定する定盤が設けられた塗布ステージの、前記マルチスリットノズル機構の移動方向の両端に、ディップ槽、洗浄ユニット、プレ塗布ユニットで構成される塗布液の吐出調整機構を用い、前記マルチスリットノズル機構の前記複数のスリットノズル各々毎に独立して塗布液供給ポンプにより独立した塗布液を供給する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
スリットノズルにより基板上に塗布液を塗布する塗布方法において、複数のスリットノズルを設置したマルチスリットノズル機構を用い、基板を載置・固定する定盤が設けられた塗布ステージの、前記マルチスリットノズル機構の移動方向の両端に、ディップ槽、洗浄ユニット、プレ塗布ユニットで構成される塗布液の吐出調整機構を用い、前記マルチスリットノズル機構の前記複数のスリットノズル各々毎に独立して塗布液供給ポンプにより独立した塗布液を供給することを特徴とする塗布方法。
【請求項２】
前記マルチスリットノズル機構が、回転軸の周りに回転して切り替える第１のスリットノズルと第２のスリットノズルを有することを特徴とする請求項１記載の塗布方法。
【請求項３】
前記マルチスリットノズル機構が、仕切り板で区切られた、第１のマニホールドと第２のマニホールドを有し、前記第１のマニホールドとスリット状の第１の吐出口を第１のスリットノズルとし、前記第２のマニホールドとスリット状の第２の吐出口を第２のスリットノズルとしたことを特徴とする請求項１記載の塗布方法。
【請求項４】
スリットノズルにより基板上に塗布液を塗布する塗布装置において、複数のスリットノズルを設置したマルチスリットノズル機構を有し、基板を載置・固定する定盤が設けられた塗布ステージの、前記マルチスリットノズル機構の移動方向の両端に、ディップ槽、洗浄ユニット、プレ塗布ユニットで構成される塗布液の吐出調整機構を具備し、前記マルチスリットノズル機構の前記複数のスリットノズル各々毎に独立して塗布液供給ポンプにより独立した塗布液を供給することを特徴とする塗布装置。
【請求項５】
前記マルチスリットノズル機構が、回転軸の周りに回転して切り替える第１のスリットノズルと第２のスリットノズルを有することを特徴とする請求項４記載の塗布装置。
【請求項６】
前記マルチスリットノズル機構が、仕切り板で区切られた、第１のマニホールドと第２のマニホールドを有し、前記第１のマニホールドとスリット状の第１の吐出口を第１のスリットノズルとし、前記第２のマニホールドとスリット状の第２の吐出口を第２のスリットノズルとしたことを特徴とする請求項４記載の塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スリットノズルにより基板上に塗布液を塗布する塗布方法及び塗布装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置やプラズマディスプレイパネルにおいて、カラー表示、反射率の低減、コントラストの改善、分光特性制御などの目的にカラーフィルタが用いられている。そのカラーフィルタには画素が形成されている。このカラーフィルタの画素を形成する方法は、ガラス基板上にカラーフィルタ形成用のフォトレジストを塗布し、この塗膜にフォトマスクを介してＵＶ露光、現像処理を行って表示装置用カラーフィルタの画素を形成している。
【０００３】
大きなガラス基板にフォトレジストを塗布するためにスリットノズルによりガラス基板に塗布液を塗布する塗布装置が用いられている。特許文献１や特許文献２のように、スリットノズルによる塗布装置は、ガラス基板を載置した定盤、或いは塗布ヘッドを水平移動させながらスリットノズルから塗布液をガラス基板に塗布し、１ｍ×１．３ｍ、或いは１．５ｍ×１．８ｍ程度の大きさのガラス基板にも塗布している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−１４０８２５号公報
【特許文献２】特開２００６−２６３５３５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献２では、塗布ステージの両端にスリットノズルの退避機構を有し、スリットノズルによる基板への塗布を、往路で１枚目の基板に塗布し、復路で２枚目の基板に塗布する動作を行うことで、効率良く塗布液を基板に塗布する塗布装置を提案している。
【０００６】
しかし、従来のスリットノズルによる塗布装置では、１台の塗布装置が基板に塗布する塗布液は１種類のみであった。そして、複数種類の塗布液を基板に塗布する場合には、塗布液毎に塗布装置を用意する必要があった。そのため、複数種類の塗布液を基板に塗布する製造工程では複数台数の塗布装置を使用し、それらの複数の装置が工場の床を占有し、その工程の生産コストを高くする問題があった。
【０００７】
本発明の課題は、上記問題を解決し、１台の塗布装置が、複数種類の塗布液を速やかに切り替えて基板に塗布できるスリットノズルによる塗布方法及び塗布装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、上記課題を解決するために、スリットノズルにより基板上に塗布液を塗布する塗布方法において、複数のスリットノズルを設置したマルチスリットノズル機構を用い、基板を載置・固定する定盤が設けられた塗布ステージの、前記マルチスリットノズル機構の移動方向の両端に、ディップ槽、洗浄ユニット、プレ塗布ユニットで構成される塗布液の吐出調整機構を用い、前記マルチスリットノズル機構の前記複数のスリットノズル各々毎に独立して塗布液供給ポンプにより独立した塗布液を供給することを特徴とする塗布方法である。
【０００９】
また、本発明は、前記マルチスリットノズル機構が、回転軸の周りに回転して切り替える第１のスリットノズルと第２のスリットノズルを有することを特徴とする上記の塗布方法である。
【００１０】
また、本発明は、前記マルチスリットノズル機構が、仕切り板で区切られた、第１のマニホールドと第２のマニホールドを有し、前記第１のマニホールドとスリット状の第１の吐出口を第１のスリットノズルとし、前記第２のマニホールドとスリット状の第２の吐出口を第２のスリットノズルとしたことを特徴とする上記の塗布方法である。
【００１１】
また、本発明は、スリットノズルにより基板上に塗布液を塗布する塗布装置において、複数のスリットノズルを設置したマルチスリットノズル機構を有し、基板を載置・固定する定盤が設けられた塗布ステージの、前記マルチスリットノズル機構の移動方向の両端に、ディップ槽、洗浄ユニット、プレ塗布ユニットで構成される塗布液の吐出調整機構を具備し、前記マルチスリットノズル機構の前記複数のスリットノズル各々毎に独立して塗布液供給ポンプにより独立した塗布液を供給することを特徴とする塗布装置である。
【００１２】
また、本発明は、前記マルチスリットノズル機構が、回転軸の周りに回転して切り替える第１のスリットノズルと第２のスリットノズルを有することを特徴とする上記の塗布装置である。
【００１３】
また、本発明は、前記マルチスリットノズル機構が、仕切り板で区切られた、第１のマニホールドと第２のマニホールドを有し、前記第１のマニホールドとスリット状の第１の吐出口を第１のスリットノズルとし、前記第２のマニホールドとスリット状の第２の吐出口を第２のスリットノズルとしたことを特徴とする上記の塗布装置である。
【発明の効果】
【００１４】
本発明は、複数のスリットノズルを設置したマルチスリットノズル機構を用いることで、１台の塗布装置が複数種類の塗布液を速やかに切り替えて基板に塗布できる効果がある。
【００１５】
また、本発明は、仕切り板で区切られた、第１のマニホールドと第２のマニホールドを有するマルチスリットノズル機構を用いることで、機械的切り替え動作を行わないので、スリットノズルの切り替え部分の故障が少ない効果がある。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】（ａ）本発明の実施形態による塗布装置の概略を模式的に示す平面図である。（ｂ）、（ａ）に示す塗布装置の側面図である。
【図２】本発明の第１の実施形態におけるマルチスリットノズル機構の側面図である。
【図３】（ａ）図１（ｂ）に示す第一吐出調整機構を拡大して表した断面図である。（ｂ）図１（ｂ）に示す第二吐出調整機構を拡大して表した断面図である。
【図４】本発明の第２の実施形態におけるマルチスリットノズル機構の側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
＜第１の実施形態＞
以下に本発明の第１の実施形態を、図面を参照して詳細に説明する。図１（ａ）は、本発明による塗布装置１０の第１の実施形態の概略を模式的に示す平面図である。また、図１（ｂ）は、図１（ａ）に示す塗布装置１０の側面図である。図１（ａ）、及び図１（ｂ）に示すように、本発明による塗布装置１０は、吸引バキューム付き定盤１３を設置した塗布ステージ１１、マルチスリットノズル機構２０、塗布液の第一吐出調整機構３０Ａ及び第二吐出調整機構３０Ｂで構成されている。
【００１８】
本発明による塗布装置１０が塗布するカラーフィルタ形成用のフォトレジストは、例えば、高分子樹脂に顔料を分散剤を用いて分散させ、この分散液に重合性モノマー、光重合開始剤、増感剤、溶剤などを添加して調製されるものである
【００１９】
塗布装置１０には、基板を載置・固定する定盤が設けられた塗布ステージ１１の、矢印で示すスリットノズルの移動方向の両側端に吐出調整機構が各１基、すなわち、第一吐出調整機構３０Ａと第二吐出調整機構３０Ｂが設けられている。
【００２０】
マルチスリットノズル機構２０を移動させて、塗布ステージ１１右方の第一吐出調整機構３０Ａの位置に配置する。基板１２上に塗布液２１を塗布する際には、塗布に先立ち第一吐出調整機構３０Ａにより、マルチスリットノズル機構２０におけるスリットノズル２３に対して、塗布液の吐出調整処理を行う。先ず、第一吐出調整機構３０Ａで、溶剤が貯えられたディップ槽３１ａへスリットノズル２３のノズル先端部の吐出口２５を浸漬し、次に、洗浄ユニット３２ａにより、ノズル先端部の外側を洗浄し、続いて、プレ塗布ユニット３３ａにより、スリットノズル２３から塗布液を吐出するプレ塗布を行う。
【００２１】
図２にマルチスリットノズル機構２０の側面図を示す。マルチスリットノズル機構２０は、回転軸２６に設置した天板２０ａに、第１のスリットノズル２３ａと第２のスリットノズル２３ｂとの複数のスリットノズルを設置する。第１のスリットノズル２３ａは、第１のマニホールド２４ａとスリット状の吐出口２５ａを有し、第２のスリットノズル２３ｂは、第２のマニホールド２４ｂとスリット状の吐出口２５ｂを有する。
【００２２】
マルチスリットノズル機構２０は、回転軸２６の周りに天板２０ａを回転させることで、第１のスリットノズル２３ａと第２のスリットノズル２３ｂを基板１２に対して回転させる。それにより、何れかのスリットノズル２３を選択して、そのスリット状の吐出口２５を基板１２の面に向ける。そして、第１の塗布液供給ポンプ２２ａにより、第１の塗布液２１ａを第１のスリットノズル２３ａに送液し、第２の塗布液供給ポンプ２２ｂにより、第２の塗布液２１ｂを第２のスリットノズル２３ｂに送液する。
【００２３】
すなわち、第１のスリットノズル２３ａを選択する場合は、第１の塗布液供給ポンプ２２ａにより、第１の塗布液２１ａを第１のスリットノズル２３ａの第１のマニホールド２４ａに送液する。そして、第１のマニホールド２４ａは、その第１の塗布液２１ａをスリット状の吐出口２５ａのスリットの長手方向に拡幅配分する。そうして、その拡幅配分された第１の塗布液２１ａをそのスリット状の吐出口２５ａから基板１２の面に吐出させる。
【００２４】
ここで、第１のスリットノズル２３ａの吐出口２５ａから基板１２の面上に第１の塗布液２１ａを吐出させている間に、第２の塗布液２１ｂの塗布の準備をすることができる。すなわち、第１のスリットノズル２３ａが基板１２の面上に第１の塗布液２１ａを塗布している間に、第２の塗布液供給ポンプ２２ｂにより、第２のスリットノズル２３ｂに第２の塗布液２１ｂを送液することができる。そして、その第２の塗布液２１ｂを第２のマニホールド２４ｂがスリット状の吐出口２５ｂのスリットの長手方向に拡幅配分する。
【００２５】
そして、適切なタイミングで、マルチスリットノズル機構２０が、回転軸２６の周りに天板２０ａを回転させることで、第１のスリットノズル２３ａと第２のスリットノズル２３ｂとを基板１２に対して回転させる。それにより、基板１２の面に向けるスリットノズル２３を、第１のスリットノズル２３ａから第２のスリットノズル２３ｂに切り替える。そして、第２の塗布液供給ポンプ２２ｂが、第２の塗布液２１ｂを第２のスリットノズル２３ｂに送液し、第２のマニホールド２４ｂによって拡幅配分された第２の塗布液２１ｂをスリット状の吐出口２５ｂから吐出させて、基板１２の面に第２の塗布液２１ｂを塗布する。
【００２６】
スリットノズル２３を用いて基板上に塗布液を塗布する際には、塗布に先立ち、第一吐出調整機構３０Ａ又は第二吐出調整機構３０Ｂにより塗布液の吐出調整処理を行う。先ず、第一吐出調整機構３０Ａにおいては、溶剤が貯えられたディップ槽３１ａへスリットノズル２３の先端部を浸漬し、次に、洗浄ユニット３２ａによりノズル先端部の外側を洗浄し、続いて、プレ塗布ユニット３３ａによりスリットノズル２３によるプレ塗布を行う。
【００２７】
図３（ａ）は、図１（ｂ）に示す第一吐出調整機構３０Ａを拡大して、また図３（ｂ）は、第二吐出調整機構３０Ｂを拡大して表した断面図である。図１（ｂ）に示すように、第一吐出調整機構３０Ａは、塗布ステージ１１の、マルチスリットノズル機構２０の移動方向の片端、図の右方に設けられており、塗布ステージ１１の右端から外側に向かって、プレ塗布ユニット３３ａ、洗浄ユニット３２ａ、ディップ槽３１ａが配置されている。また、第二吐出調整機構３０Ｂは、塗布ステージ１１の、マルチスリットノズル機構２０の移動方向の他端、図の左方に設けられており、塗布ステージ１１左端から外側に向かって、プレ塗布ユニット３３ｂ、洗浄ユニット３２ｂ、ディップ槽３１ｂが配置されている。
【００２８】
第一吐出調整機構３０Ａにより行われる塗布液の吐出調整処理は、図３（ａ）中、白太矢印で示すように順次に、先ず、溶剤が貯えられたディップ槽３１ａへのノズル先端部の浸漬が行われ、次に、洗浄ユニット３２ａによるノズル先端部の外側の洗浄が行われ、続いて、プレ塗布ユニット３３ａによるスリットノズルの回転ロールへのプレ塗布が行われる。
【００２９】
ディップ槽３１ａは、その上部にノズル先端部の形状に対応したＶ溝が設けられており、このＶ溝に溶剤を貯えている。待機中のマルチスリットノズル機構２０のノズル先端部をその溶剤に浸漬しておき、待機中のノズル先端部が乾燥するのを防止する。
【００３０】
次に、ノズル先端部を洗浄ユニット３２ａの洗浄槽の洗浄液に浸漬し、ノズル先端部の外側を洗浄する。洗浄ユニット３２ａは、その上部の幅方向がノズル先端部の形状に対応したＶ字状の凹部となっている。この凹部の内壁面には洗浄液の噴出口とクリーンエアーの噴出口が設けられている。内壁面の上部には、洗浄したノズル先端部の外側を乾燥するクリーンエアーの噴出口が設けられている。
【００３１】
ノズル洗浄により、ノズル先端部の外側に回り込み溶剤が蒸発して濃度の高くなった塗布液を除去し、ノズル先端部を清浄、且つ乾燥した状態に保つことができる。
【００３２】
プレ塗布ユニット３３ａは、洗浄液を貯える貯液槽と、上面が洗浄液から露出するとともに下面が洗浄液に浸漬している回転ロールと、回転ロールの表面に吐出された塗布液を洗浄液で洗浄する洗浄機構とを有する。
【００３３】
プレ塗布ユニット３３ａを用いることによって、ノズル先端部内の塗布液の一部分の濃度の低くなった塗布液を吐出させて除去し、基板１２上への塗布においては、塗布液の塗布開始箇所から安定した膜厚を得ることができるようにする。
【００３４】
こうして、吐出調整機構による吐出調整処理を行うことによって、スリットノズル２３の先端部を清浄、且つ乾燥した状態に保ち、またノズル先端部内の塗布液の濃度を一定に保ち、スリットノズルを用いた塗布液の塗布において、基板の塗布開始位置から基板の全面にわたり、安定した塗布液の塗布を行い、均一な膜厚を得ることができる。
【００３５】
上記吐出調整処理を行った後に、マルチスリットノズル機構２０は、図１（ｂ）の矢印で示すように図の左方へ移動する。そして、第１のスリットノズル２３ａが、定盤に載置・固定された基板１２上への塗布端位置に至り、第１の塗布液供給ポンプ２２ａが作動し第１の塗布液２１ａの第１のスリットノズル２３ａへの供給が開始され、ノズル先端部から基板１２上へ第１の塗布液２１ａを塗布する。そして、塗布端位置に至り、第１の塗布液供給ポンプ２２ａの作動を停止させ塗布を終了する。
【００３６】
この一連の動作において、吐出調整機構により吐出調整処理を行っている間に、図１（ｂ）の側面図のように、第一ロボット（図示せず）が、図１（ｂ）の左側から搬入された１枚目の基板１２を吸引バキューム付き定盤１３上に載置する。その基板１２を吸引バキュームによって定盤１３上に固定する。このように、吐出調整機構による吐出調整処理と基板１２の定盤１３上への設置動作を並行して行うことで、効率良い作業が行える。
【００３７】
基板１２へ塗布液の塗布を終えた後には、スリットノズル２３ａを更に左方へ移動し、第二吐出調整機構３０Ｂ上まで移動する。
【００３８】
次に、マルチスリットノズル機構２０が、回転軸２６の周りに天板２０ａを回転させることで、第１のスリットノズル２３ａと第２のスリットノズル２３ｂとを基板１２に対して回転させる。それにより、図３（ｂ）のように、第２のスリットノズル２３ｂを基板１２の面に垂直な方向に向ける。
【００３９】
そして、図３（ｂ）のように、第２のスリットノズル２３ｂに対して、第二吐出調整機構３０Ｂにより塗布液の吐出調整処理を行う。第二吐出調整機構３０Ｂにより行われる塗布液の吐出調整処理は、図３（ｂ）で、白太矢印で示すように順次に、先ず、溶剤が貯えられたディップ槽３１ｂへのノズル先端部の浸漬が行われ、次に、洗浄ユニット３２ｂによるノズル先端部の外側の洗浄が行われ、続いて、プレ塗布ユニット３３ｂによるスリットノズルの回転ロールへのプレ塗布が行われる。
【００４０】
この一連の動作において、第二吐出調整機構３０Ｂにより吐出調整処理を行っている間に、図１（ｂ）の側面図のように、塗布液が塗布された１枚目の基板１２は、第二ロボット（図示せず）が、図１（ｂ）の右側に搬出する。そして、更に、第一ロボット（図示せず）が、図１（ｂ）の左側から搬入された２枚目の基板１２を吸引バキューム付き定盤１３上に載置する。その２枚目の基板１２を吸引バキュームによって定盤１３上に固定する。このように、吐出調整機構による吐出調整処理と基板１２の定盤１３上への設置動作を並行して行うことで、効率良い作業が行える。
【００４１】
その吐出調整処理を行った後に、第２のスリットノズル２３ｂは、図１（ｂ）の右側の白太矢印で示すように、図の右方へ移動し、定盤に載置・固定された２枚目の基板１２上への塗布端位置に至り、第２の塗布液供給ポンプ２２ｂが作動し塗布液の供給が開始され、ノズル先端部から基板１２上へ塗布する。
【００４２】
以上のように、往路で１枚目の基板に塗布し、復路で２枚目の基板に塗布する動作を行うことで、往復で基板１２を入れ替えることにより、１往復で２枚の基板１２に塗布液を塗布する効率良い塗布作業を行うことができる
【００４３】
塗布端位置に至り、基板１２へ塗布液の塗布を終えた後には、第２の塗布液供給ポンプ２２ｂの作動を停止させ塗布を終了する。そして、スリットノズル２３ｂを更に右方へ移動し、第一吐出調整機構３０Ａ上まで移動する。
【００４４】
ここで、マルチスリットノズル機構２０が、回転軸２６の周りに天板２０ａを回転させることで、第２のスリットノズル２３ｂと第１のスリットノズル２３ａとを基板１２に対して回転させる。それにより、基板１２の面に垂直な方向に向けるスリットノズル２３を、第２のスリットノズル２３ｂから第１のスリットノズル２３ａに切り替える。そして、第１のスリットノズル２３ａに対して、第一吐出調整機構３０Ａにより塗布液の吐出調整処理を行う。
【００４５】
以上の処理における、基板１２の設置処理をまとめて説明すると、先ず、図１（ｂ）の側面図のように、第一ロボット（図示せず）が、図１（ｂ）の左側から搬入された１枚目の基板１２を吸引バキューム付き定盤１３上に載置する。その基板１２は吸引バキュームによって定盤１３上に固定される。
【００４６】
次に、マルチスリットノズル機構２０を、第一吐出調整機構３０Ａからスタートして、吸引バキューム付き定盤１３上に固定された基板１２上に図１（ｂ）の右から左に移動させつつスリットノズル２３から塗布液を吐出させて基板１２に塗布し、第二吐出調整機構３０Ｂまで移動して待機する。塗布液が塗布された１枚目の基板１２は、第二ロボット（図示せず）が、図１（ｂ）の右側に搬出する。
【００４７】
次に、第一ロボットが、図１（ｂ）の左側から搬入された２枚目の基板１２を吸引バキューム付き定盤１３上に載置する。その基板１２は吸引バキュームによって定盤１３上に固定される。
【００４８】
次に、マルチスリットノズル機構２０を、第二吐出調整機構３０Ｂからスタートして、吸引バキューム付き定盤１３上に固定された基板１２上に図１（ｂ）の左から右に移動させつつ塗布液を塗布し、第一吐出調整機構３０Ａまで移動して待機する。塗布液が塗布された２枚目の基板１２は、第二ロボット（図示せず）が、図１（ｂ）の右側に搬出する。
【００４９】
３枚目の基板と４枚目の基板について、上記１枚目の基板及び２枚目の基板への塗布の動作が繰り返され、基板への塗布を連続して行う。
【００５０】
＜第２の実施形態＞
第２の実施形態は、マルチスリットノズル機構２０を、図４のように、仕切り板２７で区切られた、第１のマニホールド２４ａとスリット状の吐出口２５ａ、及び、第２のマニホールド２４ｂとスリット状の吐出口２５ｂを有する。すなわち、仕切り板２７の片側を第１のスリットノズル２３ａとし、反対側を第２のスリットノズル２３ｂとする。それ以外の構成部分は第１の実施形態と同様に構成する。
【００５１】
そして、第１の塗布液供給ポンプ２２ａにより、第１の塗布液２１ａを第１のスリットノズル２３ａの第１のマニホールド２４ａに送液し、第２の塗布液供給ポンプ２２ｂにより、第２の塗布液２１ｂを第２のスリットノズル２３ｂの第２のマニホールド２４ｂに送液する。
【００５２】
すなわち、第１のスリットノズル２３ａを選択する場合は、第１の塗布液供給ポンプ２２ａにより、第１の塗布液２１ａを第１のスリットノズル２３ａの第１のマニホールド２４ａに送液する。そして、第１のマニホールド２４ａは、その第１の塗布液２１ａをスリット状の吐出口２５ａのスリットの長手方向に拡幅配分する。そうして、その拡幅配分された第１の塗布液２１ａをそのスリット状の吐出口２５ａから基板１２の面に吐出させる。
【００５３】
第２の実施形態においても、第１のスリットノズル２３ａの吐出口２５ａから基板１２
の面上に第１の塗布液２１ａを吐出させている間に、第２の塗布液２１ｂの塗布の準備をすることができる。すなわち、第１のスリットノズル２３ａが基板１２の面上に第１の塗布液２１ａを塗布している間に、第２の塗布液供給ポンプ２２ｂにより、第２のスリットノズル２３ｂに第２の塗布液２１ｂを送液し、その第２の塗布液２１ｂを第２のマニホールド２４ｂがスリット状の吐出口２５ｂのスリットの長手方向まで拡幅配分することができる。
【００５４】
第２の実施形態は、マルチスリットノズル機構２０における第１のスリットノズル２３ａと第２のスリットノズル２３ｂの切り替えを、第１の塗布液供給ポンプ２２ａと第２の塗布液供給ポンプ２２ｂとの動作の切り替えのみで行い、回転軸２６を用いた回転動作などの機械的切り替え動作を行わない。そのため、第１のスリットノズル２３ａと第２のスリットノズル２３ｂの切り替え部分の故障が少ない効果がある。
【００５５】
なお、本発明は、マルチスリットノズル機構２０を移動させることで塗布液を基板１２に塗布する機構に限定されず、マルチスリットノズル機構２０を固定し、塗布ステージ１１及び第一吐出調整機構３０Ａと第二吐出調整機構３０Ｂを一体にして移動させることで、マルチスリットノズル機構２０と塗布ステージ１１との相体位置を移動させる機構を用いて、基板１２に塗布液を塗布させることもできる。
【符号の説明】
【００５６】
１０・・・塗布装置
１１・・・塗布ステージ
１２・・・基板
１３・・・吸引バキューム付き定盤
２０・・・マルチスリットノズル機構
２０ａ・・・天板
２１ａ・・・第１の塗布液
２１ｂ・・・第２の塗布液
２２ａ・・・第１の塗布液供給ポンプ
２２ｂ・・・第２の塗布液供給ポンプ
２３ａ・・・第１のスリットノズル
２３ｂ・・・第２のスリットノズル
２４ａ・・・第１のマニホールド
２４ｂ・・・第２のマニホールド
２５ａ・・・第１のスリット状の吐出口
２５ｂ・・・第２のスリット状の吐出口
２６・・・回転軸
２７・・・仕切り板
３０Ａ・・・第一吐出調整機構
３０Ｂ・・・第二吐出調整機構
３１ａ・・・第１のディップ槽
３１ｂ・・・第２のディップ槽
３２ａ・・・第１の洗浄ユニット
３２ｂ・・・第２の洗浄ユニット
３３ａ・・・第１のプレ塗布ユニット
３３ｂ・・・第２のプレ塗布ユニット
【図１】
2013166138.tif 000003
【図２】
2013166138.tif 000004
【図３】
2013166138.tif 000005
【図４】
2013166138.tif 000006