(57)【要約】【課題】投入抵抗器接点部におけるチャタリング現象を早期に抑制して、回路開閉動作の性能を向上させて信頼性の向上を図ること。【解決手段】投入抵抗器付きパッファ形ガス遮断器の固定側に設けられたワイプ機構の摺動形接触部４０であって、この摺動形接触部４０を構成する筒状電極部４１の内部を、摺動可能な円板状の底板４２によって第１ガス室４１４と第２ガス室４１５とに区分し、かつ、第１ガス室４１４に摺動接触子２５を収納し、この摺動接触子２５と前記底板４２との間に第１復帰用ばね４３１を配置し、一方第２ガス室に筒状電極部４１の底部と前記底板４２との間に第２復帰用ばね４３２を配置するように構成した。【選択図】図２
2013134864.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁性および消弧性に優れたガスを充填した容器内に、接離可能な少なくとも一対の接触子を有する遮断部と、前記一対の接触子と電気的に並列接続されて前記一対の接触子に先行して投入される投入抵抗器接点部と、この投入抵抗器接点部に直列接続された投入抵抗器とを備えた投入抵抗器付きパッファ形ガス遮断器において、
前記投入抵抗器接点部は、操作機構によって前後方向に操作される投入抵抗器可動側接触子と、この投入抵抗器可動側接触子に対向する固定部側に設置されワイプ機構を採用した摺動形接触部と、から構成され、
前記摺動形接触部は、
一方の開口部に第１係止部を設けるとともに当該第１係止部から所定の距離隔てた内周部に第２係止部を設けた筒状電極部と、
前記筒状電極部の他方の開口部から前記第２係止部までの間を移動可能に収納されて当該内周部を第１ガス室および当該第１ガス室よりも容積の大きい第２ガス室に分ける底板と、
前記第１ガス室内に摺動可能に収納され、かつ、先端部が前記一方の開口部に配置されて前記投入抵抗器可動側接触子に対向する摺動接触子と、
前記第１ガス室内に収容されるとともに、両端がそれぞれ前記摺動接触子および前記底板に当接する第１復帰用ばねと、
前記第２ガス室内に収容されるとともに、両端がそれぞれ前記他方の開口端のばね受け部および前記底板に当接する第２復帰用ばねと、
から構成したことを特徴とする投入抵抗器付きパッファ形ガス遮断器。
【請求項２】
前記筒状電極部の前記第２ガス室側壁面に、軸方向に溝または貫通孔を設けたことを特徴とする請求項１に記載の投入抵抗器付きパッファ形ガス遮断器。
【請求項３】
前記筒状電極部の前記第２ガス室側壁面に、径方向に貫通する貫通孔を設けたことを特徴とする請求項１に記載の投入抵抗器付きパッファ形ガス遮断器。
【請求項４】
前記筒状電極部の前記第２ガス室側内周面に、前記底板を所定の位置に保持するとともに、当該底板に対して第１ガス室から所定値以上の圧力が作用したとき当該底板が底部側に摺動することを許容するストッパーを設けたことを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の投入抵抗器付きパッファ形ガス遮断器。
【請求項５】
前記溝あるいは貫通孔に対して所定圧力以上で開く弁を設けたことを特徴とする請求項２または３記載の投入抵抗器付きパッファ形ガス遮断器。
【請求項６】
前記第１ガス室に設ける復帰用ばねのばね定数を、前記第２ガス室に設ける復帰用ばねのばね定数よりも強くしたことを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に記載の投入抵抗器付きパッファ形ガス遮断器。
【請求項７】
前記摺動接触子を収納する前記第１ガス室の長さを前記第２ガス室の長さよりも短くしたことを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１項に記載の投入抵抗器付きパッファ形ガス遮断器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、投入時の投入過電圧を抑制する投入抵抗器付きパッファ形ガス遮断器に係り、特に、投入抵抗器に対して直列接続された投入抵抗器接点部の構成に改良を加えた投入抵抗器付きパッファ形ガス遮断器に関する。
【背景技術】
【０００２】
送電系統の大容量化に伴い、変電所や開閉所に用いられる遮断器においては、通電容量の増大ならびに信頼性の向上が要求されている。この通電容量の増大に対応して、例えば５５０ｋV級のような大容量系統に採用されるガス遮断器（ＧＣＢ）においては、消弧能力および絶縁性能に優れたＳＦ６ガス等の絶縁ガスを用いたパッファ形ガス遮断器が主に用いられる。特に、２圧式に比べてパッファ式は構造が簡単なので高電圧遮断器の主流となっている。
【０００３】
また、変電所の機器全体を絶縁ガスで絶縁する密閉型ガス開閉機器（ＧＩＳ）においては、他の機器との絶縁協調や機器の配置等で更にメリットが大きく、特によく使用されている。
また、投入時の投入過電圧を抑制するために、主接点部の投入に先立って抵抗器を投入するようにした、いわゆる投入抵抗器付きガス遮断器も採用されている。
【０００４】
以下、投入抵抗器付きパッファ形ガス遮断器の従来例について図１０および図１１を参照して説明する。
図１０は従来の投入抵抗器付きパッファ形ガス遮断器全体の断面図であり、図１１は投入抵抗器接点周辺部Ａの拡大断面図である。
【０００５】
まず、図１０において、従来の投入抵抗器付きパッファ形ガス遮断器１は、ＳＦ６等の絶縁性ガスが封入されている密閉された容器２内に遮断部３を収納している。この遮断部３は主接点である消弧室４と投入抵抗器接点部５とから構成される。
【０００６】
消弧室４には固定部６と可動部７とが対向して配置されている。このうち、可動部７は、通常の電流を通電する可動接触子１２、可動アーク接触子１３、絶縁ノズル１４、操作ロッド１５及び導電材から形成されるパッファシリンダ１６が一体的に組立てられて構成されている。
【０００７】
パッファシリンダ１６にはパッファピストン２０が摺動自在に挿入されており、可動部７を構成する各部材がパッファシリンダ１６と共にパッファピストン２０に沿って動作するようになっている。パッファピストン２０は前記パッファシリンダ１６と共に圧縮室を形成するようになっている。また、可動部７を支持するための部材として、支持絶縁筒１７、支持絶縁筒１７のシールド１８、可動支え１９及び前記パッファピストン２０が設けられている。
さらに、操作ロッド１５にはレバー２９及び絶縁操作ロッド３０が取付けられており、絶縁操作ロッド３０には機構箱３１内の操作機構（図示せず）が連結されている。
【０００８】
一方、固定部６は、通常の電流を通電する固定通電フィンガー８、固定アーク接触子９、固定側のシールド１０、及びこれらを支える導電材料製の固定支え１１によって構成されている。また、固定支え１１には絶縁棒２１が取付けられており、この絶縁棒２１を介して固定部６が前記可動支え１９に支持されている。なお、絶縁棒２１に代えて絶縁筒又はコンデンサとされる場合もある。
【０００９】
さらに、固定支え１１には導体２７が取付けられている。この導体２７を介して投入時の過電圧を抑制するための投入抵抗器２８が固定部６に機械的に固定されると共に電気的に並列に接続されている。
【００１０】
次に、投入抵抗器接点部５について説明する。  
投入抵抗器接点部５は、ワイプ機構を採用した摺動形接触部２２と、この摺動形接触部２２に対向して配置された棒状の投入抵抗器可動側接触子２３とから構成されている。このうち、ワイプ機構を採用した摺動形接触部２２は、前記固定支え１１に絶縁部材２４を介して固定された筒状電極部２２Ｓと、この筒状電極部２２Ｓに内蔵された復帰用ばね２６と、この復帰用ばね２６の先端部すなわち、投入抵抗器可動側接触子２３に対向して配置された摺動接触子２５とから構成されている。
【００１１】
摺動接触子２５は、復帰用ばね２６の復元力よりも大きい力を受けると摺動して筒状電極部２２Ｓ内部に後退し、復帰用ばね２６の復元力よりも大きい力が取り除かれると前進して元の位置に復帰する。したがって摺動接触子２５は、図１０に示す開極状態では、復帰用ばね２６の復元力により投入抵抗器可動側接触子２３側の位置に保持されている。
このように構成された摺動形接触部２２は、前記投入抵抗器２８に機械的に固定されると共に電気的に直列に接続されている。
【００１２】
一方、投入抵抗器可動側接触子２３は前記レバー２９に機械的に固定されると共に電気的に接続されている。したがって、遮断器の投入時及び開極時には、機構箱内３１内の操作機構の駆動力が、消弧室４の可動部７及び投入抵抗器可動側接触子２３に伝わり、両者が一括して駆動されるようになっている。
【００１３】
このように構成されたパッファ形ガス遮断器１は、遮断器の投入時には、投入抵抗器接点５が主接点である固定通電フィンガー８および固定アーク接触子９の投入に先立って投入され、その投入抵抗器２８により投入過電圧を抑制した状態で主接点が投入される。一方、遮断器の開極時にまず投入抵抗器接点５が開離し、次いで主接点が開極されるように構成されている。
【００１４】
すなわち、遮断器の投入時には、投入抵抗器可動側接触子２３はレバー２９を介して機構箱内３１内の図示しない操作機構によって駆動され、固定通電フィンガー８と可動接触子１２間および、固定アーク接触子９と可動アーク接触子１３間の接触に先立って摺動接触子２５に衝突接触し、摺動接触子２５が筒状電極部２２Ｓ内部を投入抵抗器可動側接触子２３と一体となって摺動する最中に固定通電フィンガー８と可動接触子１２間および、固定アーク接触子９と可動アーク接触子１３間が投入される。一方、遮断器の遮断時には、投入抵抗器可動側接触子２３はレバー２９を介して機構箱内３１内の図示しない操作機構によって動かされ、投入抵抗器接点５を構成する摺動接触子２５と投入抵抗器可動側接触子２３とが開離し、次いで固定通電フィンガー８と可動接触子１２間、可動アーク接触子１３と固定アーク接触子９が順次開極するようになっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１５】
【特許文献１】特開平４−２８６８２２号公報
【特許文献２】特開平１１−１４４５７６号公報
【特許文献３】特開２０００−１３３０９４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
しかしながら、上記の投入抵抗器付きガス遮断器には次のような問題点があった。すなわち、摺動接触子２５と投入抵抗器可動側接触子２３との衝突接触時に、衝撃により投入抵抗器可動側接触子２３と摺動接触子２５とが離れようとし、次いで、復帰用ばね２６と筒状電極部２２ｓ内部のガスが圧縮されることによって発生するガスダンパによって摺動接触子２５の摺動速度が減速し、再度、接触子同士が衝突することで、微小時間内に回路が開閉を繰り返す、いわゆるチャタリング現象が発生する場合がある。
【００１７】
このチャタリング現象が主接点の投入前に安定しなければ、投入抵抗器の性能が不十分になる。しかし、チャタリング現象を抑制するために復帰用ばねのばね強さを強くすると、開極時の固定側投入抵抗器接点の速度が速くなり、遮断動作に悪影響を与える。そのため、現在はシリンダベース内部のガスが圧縮によって主にガスダンパを調整することによってチャタリング現象の抑制を行っている。
【００１８】
しかし、現在用いられている摺動形接触部２２は、図１１に示すように筒状電極２２Ｓ内部に摺動接触子２５と復帰用ばね２６とを設けただけの構成であるため、ガスの圧縮によって生じるガスダンパは、それを最も必要とする接点の衝突直後には大きな効果を発揮しない可能性がある。
【００１９】
さらに、このガスダンパは、閉極動作後速やかに残圧を除去することが望ましい。なぜなら、ガス遮断器は、閉極動作後すぐに開極動作を行うことがあり、この開極動作時にガスダンパの残圧が除去されていなければ、摺動接触子２５が過剰な速度で復帰動作を行う可能性があるからである。
【００２０】
本発明は、上述した課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、投入抵抗器接点部における回路開閉動作の性能を向上させることにより、信頼性の向上を図った投入抵抗器接点付きパッファ形ガス遮断器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２１】
上記の目的を達成するために、請求項１に係る実施形態によれば、絶縁性および消弧性に優れたガスを充填した容器内に、接離可能な少なくとも一対の接触子を有する遮断部と、前記一対の接触子と電気的に並列接続されて前記一対の接触子に先行して投入される投入抵抗器接点部と、この投入抵抗器接点部に直列接続された投入抵抗器とを備えた投入抵抗器付きパッファ形ガス遮断器において、前記投入抵抗器接点部は、操作機構によって前後方向に操作される可動側接触子と、この可動側接触子に対向する固定部側に設置されワイプ機構を採用した摺動形接触部と、から構成され、前記摺動形接触部は、一方の開口部に第１係止部を設けるとともに当該第１係止部から所定の距離離れた内周部に第２係止部を設けた筒状電極部と、前記筒状電極部の他方の開口部から前記第２係止部までの間を移動可能に収納されて当該内周部を第１ガス室および当該第１ガス室よりも容積の大きい第２ガス室に分ける底板と、前記第１ガス室内に摺動可能に収納され、かつ、先端部が前記一方の開口部に配置されて前記可動側接触子に対向する摺動接触子と、前記第１ガス室内に収容されるとともに、両端がそれぞれ前記摺動接触子および前記底板に当接する第１復帰用ばねと、前記第２ガス室内に収容されるとともに、両端がそれぞれ前記他方の開口端のばね受け部および前記底板に当接する第２復帰用ばねと、から構成したことを特徴とする。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明による投入抵抗器付きパッファ形ガス遮断器全体の断面図。
【図２】本発明の第１の実施形態に係る投入抵抗器接触部の摺動形接触部の断面図。
【図３】本発明の第２の実施形態に係る投入抵抗器接触部の摺動形接触部の断面図。
【図４】本発明の第３の実施形態に係る投入抵抗器接触部の摺動形接触部の断面図。
【図５】本発明の第４の実施形態に係る投入抵抗器接触部の摺動形接触部の断面図。
【図６】本発明の第５の実施形態に係る投入抵抗器接触部の摺動形接触部の断面図。
【図７】本発明の第６の実施形態に係る投入抵抗器接触部の摺動形接触部の断面図。
【図８】本発明の第７の実施形態に係る投入抵抗器接触部の摺動形接触部の断面図。
【図９】本発明の第８の実施形態に係る投入抵抗器接触部の摺動形接触部の断面図。
【図１０】従来の投入抵抗器付きパッファ形ガス遮断器全体の断面図。
【図１１】図１０の投入抵抗器接触部における摺動形接触部の拡大断面図。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。  
［第１の実施形態］
以下、図１および図２を参照して本発明の第１の実施形態について説明する。
【００２４】
本実施形態が従来技術と相違する点は、図１および図２から明らかなように、従来の投入抵抗器接触部５における摺動形接触部２２を新規構成の摺動形接触部４０に変更した点にあり、その他部品の構造や配置については図１０、１１で示す従来技術と同様であるので、同一部品には同一符号を付けることにより重複する説明は適宜省略する。
【００２５】
本実施形態によるワイプ機構の摺動形接触部４０は次のように構成されている。  
図２において、４１は摺動接触子２５を前後に進退可能に収容する筒状電極部であり、その内部には図１で示す容器２内に封入された絶縁ガスと同じ絶縁ガスが封入されるようになっている。そして、この筒状電極部４１は、一方の開口部である前記投入抵抗器可動側接触子２３に対向する開口部４１１の口径を小さく絞って第１係止部（ストッパー）４１２を形成し、さらに、この一方の開口部４１１から他方の開口部４１６に向かう所定距離の位置の内周部に後述する底板４２を当接させるための第２係止部（ストッパー）４１３を形成している。この第１係止部４１２は、摺動接触子２５のストッパーとしての機能の他に位置調整用として機能し、また、第２係止部４１３は底板４２のストッパーとして機能するため、底板４２は一定以上の摺動接触子２５方向への変位を抑制される。
【００２６】
そして、第１係止部４１２と第２係止部４１３との間に形成された空間部４１４（後述する第１ガス室）内には摺動接触子２５および第１復帰ばね４３１が筒状電極部４１の他方の開口部４１６から順に収納され、また、第２係止部４１３と筒状電極部４１の他方の開口部４１６との間に形成された空間部４１５（後述する第２ガス室）内には摺動可能な円板状底板４２および第２復帰ばね４３２が筒状電極部４１の他方の開口部４１６から順に収納されるようになっている。
【００２７】
前述したように筒状電極部４１内部には絶縁ガスが封入されることから、円板状底板４２は、筒状電極部４１の内部空間部を摺動接触子２５および第１復帰ばね４３１を収納する第１ガス室４１４と、第２復帰ばね４３２を収納する第２ガス室４１５とに区分する部材であると言うことができる。
【００２８】
なお、図２の例では、第１ガス室４１４の内径を第２ガス室４１５の内径よりも小さくすることによって、第１ガス室４１４の容積を第２ガス室４１５の容積よりも小さくしている。
【００２９】
そして、筒状電極部４１の他方の開口部４１６に図示しない「ばね受け」を設けることにより、第１復帰ばね４３１および第２復帰ばね４３２は圧縮されるので、摺動接触子２５の先端部は第１復帰ばね４３１の復元力により前記開口部４１１から突出して前記投入抵抗器可動側接触子２３に対向し、摺動可能な円板状底板４２は第２復帰ばね４３２の復元力により第２係止部（ストッパー）４１３に当接する。これら第１復帰用ばね４３１および第２復帰用ばね４３２によって、開極動作後に摺動接触子２５と底板４２は初期位置へ復帰する。
【００３０】
以上のように構成した本実施形態の投入抵抗器接点付きガス遮断器によれば、ワイプ機構の摺動形接触部４０を構成する筒状電極部４１の内部を、摺動可能な円板状の底板４２によって第１ガス室４１４と第２ガス室４１５とに区分し、かつ、第１ガス室４１４に摺動接触子２５を収納し、この摺動接触子２５と前記底板４２との間に第１復帰用ばね４３１を配置し、一方第２ガス室に筒状電極部４１の底部と前記底板４２との間に第２復帰用ばね４３２を配置するように構成したので、遮断器投入時に投入抵抗器可動側接触子２３が摺動接触子２５に衝突した際、まず容積の小さい第１ガス室４１４内部のガスを圧縮させることができる。この結果、図１１で示す従来装置のように筒状電極部４１の内部全体でガスを圧縮させる場合に比べ早くガスダンパの効果を発揮する。その後、このガスダンパの圧力と第１復帰用ばね４３１の復元力とを合成した力により底板４２を筒状電極部４１の底部側（投入抵抗器２８側）に押して第２ガス室４１５を圧縮するので、摺動接触子２５の必要摺動距離を満足させることができ、従来装置の課題であった投入抵抗器接点部５におけるチャタリング現象を早期に抑制することができる。
【００３１】
［第２の実施形態］
以下、図３を参照して本発明における第２の実施形態について説明する。  
本実施形態が第１の実施形態と相違する点は、ワイプ機構の摺動形接触部４０を構成する筒状電極部４１の第２ガス室４１５側内壁に対して、底板４２の摺動方向に沿って溝４４を設けるようにした点にあり、その他部品の構造や配置については図２で示す第１の実施形態と同様であるので、同一部品には同一符号を付けることにより重複する説明は適宜省略する。
【００３２】
本実施形態は、図３に示すように、筒状電極部４１の第２ガス室４１５側内壁に対して底板４２の摺動方向に沿って溝４４を設け、しかもこの溝４４の始端は第２係止部４１３から一定以上の距離、例えば第２ガス室４１５の軸線方向長さの１割程度の長さの位置に設け、底板４２がこの一定以上の長さを摺動したときに、第１ガス室４１４と第２ガス室４１５とを連通するようにしたものである。言い換えれば、底板４２が第２係止部４１３に当接している状態から第２ガス室４１５の長さの１割程度の長さを摺動するまでの間は、第１ガス室４１４および第２ガス室４１５間は連通せず、底板４２が第２ガス室４１５の長さの１割程度の長さ摺動した後は、溝４４によって第１ガス室４１４および第２ガス室４１５は連通する。
【００３３】
以上のように構成した本実施形態の投入抵抗器接点付きガス遮断器によれば、底板４２が一定以上の長さを摺動し、投入抵抗器接点のチャタリングが安定した後の投入動作後に、筒状電極の内壁の軸線方向に設けた溝４４を通して第１ガス室４１４の内部ガスを第２ガス室４１５へ排出するので、第１ガス室４１４の残圧の除去を行うことができる。これにより、残圧によって摺動接触子２５を押し出すことが無いので、開極動作を安定させることが可能となる。
【００３４】
［第３の実施形態］
以下、図４を参照して本発明における第３の実施形態について説明する。  
本実施形態が図３に示す第２の実施形態と相違する点は、筒状電極部４１の第２ガス室４１５に対して底板４２の摺動方向すなわち、第２ガス室４１５の軸線方向に沿って溝４４に替えて内壁の軸線方向に貫通孔４５を設けるようにした点にあり、その他部品の構造や配置については図３で示す第２の実施形態と同様であるので、同一部品には同一符号を付けることにより重複する説明は適宜省略する。
【００３５】
本実施形態は、軸線方向の貫通孔４５の開口部は図４に示すように、第２係止部４１３から一定長さ離れた位置に設けるものとする。この一定距離とは第２の実施形態と同様に第２ガス室４１５の長さの１割程度の長さにあたる距離である。
本実施形態においても内壁の軸線方向に貫通孔を設けたことにより、第２の実施形態と同様の作用効果を奏することができる。
【００３６】
［第４の実施形態］
以下、図５を参照して本発明における第４の実施形態について説明する。  
本実施形態が第１の実施形態と相違する点は、ワイプ機構の摺動形接触部４０を構成する筒状電極部４１の第２ガス室４１５に対して、筒状電極部４１の外部と連通する径方向の貫通孔４６を設けるようにした点にあり、その他部品の構造や配置については図２で示す第１の実施形態と同様であるので、同一部品には同一符号を付けることにより重複する説明は適宜省略する。
【００３７】
本実施形態は、図５に示すように、筒状電極部４１の第２ガス室４１５側壁面に対して、底板４２が第２係止部４１３に当接している状態から一定以上の距離、例えば第２ガス室４１５の長さの１割程度を摺動した位置に、筒状電極部４１外部と連通する径方向の貫通孔４６を設けるようにしたものである。
【００３８】
以上のように構成した本実施形態の投入抵抗器接点付きガス遮断器によれば、底板４２が一定以上の長さを摺動し、投入抵抗器接点のチャタリングが安定した後に、第１ガス室４１４を径方向の貫通孔４６を介して筒状電極部４１の外部と連通させるようにしたので、貫通孔４５によって第２の実施形態の溝４４や、第３の実施形態の軸方向の貫通孔４５と同様に第１ガス室４１４の残圧の除去を行うことができる。
【００３９】
なお、筒状電極部４１外部と連通する径方向の貫通孔４５を用いて第１ガス室４１４の排気を行う場合、筒状電極部４１外部へ直接排気を行うため、前述の第２の実施形態の溝４４を用いてガス室間で排気を行う場合に比べ、安定して第１ガス室４１４の残圧の除去が行える。
【００４０】
［第５の実施形態］
以下、図６を参照して本発明における第５の実施形態について説明する。  
本実施形態が第２の実施形態と相違する点は、ワイプ機構の摺動形接触部４０の筒状電極部４１の第２ガス室４１５側内壁面対して、底板４２が第２係止部４１３に当接している状態を維持するためのストッパー片４７を設けるようにした点にあり、その他部品の構造や配置については図３で示す第２の実施形態と同様であるので、同一部品には同一符号を付けることにより重複する説明は適宜省略する。
【００４１】
本実施形態は、図６に示すように、筒状電極部４１の第２ガス室４１５に対して、底板４２が第２係止部４１３に当接している状態で底板４２を支持するようにストッパー片４７を設けるように構成したものである。
【００４２】
このストッパー片４７は、第１ガス室４１４内部が一定圧力、例えば元の圧力の倍の大きさよりも若干小さく設定されている。この結果、第１ガス室４１４内部が元の圧力の倍の大きさよりも大きくなると、底板４２に作用する力がストッパー片４７の力に勝るようになり、底板４２がストッパー片４７を乗り越えて筒状電極部４１の底部内側面４１６に向けて摺動可能となり、第２復帰用ばね４３２によって底板４２が元の位置に復帰するまで解除されたままになる。
【００４３】
以上のように構成した本実施形態の投入抵抗器接点付きガス遮断器によれば、筒状電極部４１に一定圧力によって解除されるストッパー片４７を設け、それによって底板４５を支持するようにしたので、第１ガス室４１４が目標圧力となるまで底板４２を摺動させないようにすることが可能になる。この結果、まず第１ガス室４１４内部のガスのみを圧縮しガスダンパの効果を発揮させ、チャタリングが安定する目標圧力となった時点で第２ガス室４１５の圧縮を行ので、前述の第１の実施形態から第３の実施形態よりも安定したチャタリングの抑制が可能となる。
【００４４】
［第６の実施形態］
以下、図７を参照して本発明における第６の実施形態について説明する。  
本実施形態が第３の実施形態と相違する点は、筒状電極部４１の第２ガス室４１５に設けた貫通孔４５に対して一定値以上の圧力によって開かれる弁４８を設けるようにした点にあり、その他部品の構造や配置については図５で示す第３の実施形態と同様であるので、同一部品には同一符号を付けることにより重複する説明は適宜省略する。
【００４５】
本実施形態は、図７に示すように、筒状電極部４１の第２ガス室４１５側内壁の径方向に設けた貫通孔４６に対して一定値以上の圧力が印加された状態で開かれる弁４８を設けるようにしたものである。この弁４８は、排気時には一定値以上の圧力によって開き、解放後は固定側投入抵抗器接点２が初期位置に復帰するまで解放状態が続き、吸気を妨げることはないものとする。
【００４６】
なお、図７に示した実施形態は筒状電極部４１の第２ガス室４１５側内壁の径方向に貫通孔４６を設け、この貫通孔４６に一定値以上の圧力によって開かれる弁４８を設ける例を示したが、本実施形態は図７に限定されるものではなく、径方向の貫通孔４６に替えて図４のような軸線方向の貫通孔４５を設ける場合でもよい。
【００４７】
以上のような構成を有する本実施形態によれば、投入抵抗器接点の溝４４や貫通孔４５、４６に、一定値以上の圧力によって開かれる弁４７を設けることで、第１ガス室４１４内部の圧力が目標圧力とならず、チャタリングが抑制される前に、溝４４もしくは貫通孔４５、４６と接続されても排気が行われず、ガス圧が低下しないためチャタリングが抑制されるまで第１ガス室４１４内部の圧力を上昇させることが出来る。これにより、より確実にチャタリングの抑制が行うことができる。
【００４８】
［第７の実施形態］
以下、図８を参照して本発明における第７の実施形態について説明する。  
本実施形態が第３の実施形態と相違する点は、第１復帰用ばね４３１Ｓとして、第２復帰用ばね４３２よりも強いばね定数のものを採用した点である。
【００４９】
本実施形態によれば、第１復帰用ばね４３１Ｓとして、第２復帰用ばね４３２よりも強いばね定数のものを設けることで、第２ガス室４１５の復帰よりも先に第１ガス室４１４の復帰を行うことができる。このため、第１ガス室４１４復帰時点でも吸気用の径方向貫通孔４５との接続状態を維持して摺動接触子２５の復帰が行えるため、第１ガス室４１４内部の圧力を周辺部の圧力と等しくすることが可能となる。そのため、ガスダンパの効果を一定に保ち、より安定したチャタリングの抑制を行うことが出来る。
なお、本実施形態の場合も、径方向の貫通孔４６に替えて、軸方向の貫通孔４５を設けるようにしても良い。
【００５０】
［第８の実施形態］
以下、図９を参照して本発明における第８の実施形態について説明する。  
本実施形態は、図５に示す第３の実施形態と比べて構成上は類似しているが、第３の実施形態と相違する点は、第１ガス室４１４の長さを第２ガス室４１５の長さよりも短いものに設定した点にあり、その他部品の構造や配置については図５で示す第３の実施形態と同様であるので、同一部品には同一符号を付けることにより重複する説明は適宜省略する。
【００５１】
本実施形態は、図９に示すように、第１ガス室４１４の長さＬ１を第２ガス室４１５の長さＬ２よりも短いものとすることで、第６の実施形態と同様に第２ガス室４１５の復帰より先に第１ガス室４１４の復帰を行うことが可能にし、第１ガス室４１４のガス圧を周辺部の気圧と同等に保つようにしたものである。
【００５２】
なお、図９では開口部４１１の外側面から第２係止部４１３までをＬ１として示しているが、開口部４１１の外側面から第１係止部４１２までの長さは短く、第１係止部４１２から第２係止部４１３までの長さに比べ無視しうる長さなので、図９に示したＬ１を第１ガス室４１４の長さと称しても問題は無い。
【００５３】
また、第１ガス室４１４を小さくしたことで、接点衝突時に第１ガス室４１４内部の圧力が上昇しやすくなる。これにより、より強くガスダンパの効果を発揮し、さらに第１ガス室４１４復帰時には内部の圧力を周辺部の圧力と等しくすることで、より安定したチャタリングの抑制が可能となる。
【００５４】
［変形例］
図２ないし図９で示したワイプ機構の摺動形接触部４０の筒状電極部４１は、第１ガス室４１４の内径を第２ガス室４１５の内径よりも小さくしたが、第１ガス室４１４と第２ガス室４１５との間に底板２７に対する係止部（ストッパー）が形成されれば、図２ないし図９の形状にこだわる必要はない。例えば、筒状電極部４１の内周部に環状突起を形成するようにしてもよい。
【符号の説明】
【００５５】
１…ガス遮断器、２…容器、３…遮断部、４…消弧室、５…投入抵抗器接点部、６…固定部、７…可動部、８…固定通電フィンガー、９…固定アーク接触子、１０…固定側のシールド、１１…固定支え、１２…固定側主接点、１３…可動側主接点、１４…絶縁ノズル、１５…操作ロッド、１６…パッファシリンダ、１７…支持絶縁筒、１８…シールド、１９…可動支え、２０…パッファピストン、２１…絶縁棒、２２…摺動形接触部、２３…投入抵抗器可動側接触子、２４…絶縁部材、２５…摺動接触子、２６…ばね、２７…導体、２８…投入抵抗器、２９…レバー、３０…絶縁操作ロッド、３１…機構箱、４０…ワイプ機構の摺動形接触部、４１…筒状電極部、４１１…一方の開口部、４１２…第１係止部、４１３…第２係止部、４１４…第１ガス室、４１５…第２ガス室、４１６…他方の開口部、４２…底板、４３１…第１復帰用ばね、４３２…第２復帰用ばね、４４…溝、４５…軸方向貫通孔、４６…径方向貫通孔、４７…ストッパー片、４８…弁。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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