(57)【要約】【課題】ガラス板Ｇの搬送・保管工程において、水に対する濡れ性の悪化を招くことのないガラス板搬送容器１０を提供すること。【解決手段】ダイナミックヘッドスペース法において８０℃、６０分間の加熱条件で測定される有機ケイ素化合物の揮発量が、材料質量に対し１０ｐｐｍ以下である合成樹脂製のガラス板搬送容器とした。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
収容したガラス板を搬送、保管する合成樹脂製のガラス板搬送容器であって、
ダイナミックヘッドスペース法において８０℃、６０分間の加熱条件で測定される有機ケイ素化合物の揮発量が、材料質量に対し１０ｐｐｍ以下であるガラス板搬送容器。
【請求項２】
ダイナミックヘッドスペース法において８０℃、６０分間の加熱条件で測定される環状ポリジメチルシロキサンの揮発量が、材料質量に対し５ｐｐｍ以下である請求項１に記載のガラス板搬送容器。
【請求項３】
ダイナミックヘッドスペース法において８０℃、６０分間の加熱条件で測定されるヘキサメチルシクロトリシロキサンの揮発量が、材料質量に対し３ｐｐｍ以下である請求項１または請求項２に記載のガラス板搬送容器。
【請求項４】
清浄化処理を施した請求項１から請求項３の何れかに記載のガラス板搬送容器。
【請求項５】
前記清浄化処理が、４０〜８０℃で１０時間以上加熱する加熱処理である請求項４に記載のガラス板搬送容器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス板搬送容器、より詳しくは、複数のガラス板を収容してガラス板の搬送、保管等の用に供されるガラス板の搬送容器に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、イメージセンサー等の電子機器の部品の一つとしてガラス板が使用される。このガラス板は、電子機器に組み込まれる前に洗浄等を含む表面処理が行われるが、水に対する濡れ性が悪いと表面処理上問題となる。
【０００３】
通常、電子機器の部品として用いられるガラス板は、水に対する濡れ性は良好である。ところが、ガラス板を製造した後、その表面処理工程を行うまでの間の搬送・保管工程において、ときにガラス板の表面特性が経時変化して水濡れ性が悪化することがあった。
【０００４】
なお、下記特許文献１には、半導体ウェーハにパーティクルや有機物が付着し汚染されるのを防ぐ観点から、半導体ウェーハの収容容器の総アウトガス量を所定値以下にすることが開示されている。しかしながら、ガラス板の水濡れ性の悪化については何ら開示されていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１１−１８７７１号公報（段落００１８）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、従来のガラス板の搬送・保管工程において上記のような問題があったことに鑑みて為されたもので、ガラス板の搬送・保管工程において、水に対する濡れ性の悪化を招くことのない搬送容器を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、ガラス板の搬送・保管工程において、一部のガラス板の水濡れ性が悪化する原因を探るべく、鋭意研究を行った結果、かかる水濡れ性の悪化が、搬送容器に収容された複数の板ガラスのうち容器内面に近いものから進行することを突き止めた。そして、搬送容器から揮発する特定の化学成分が、収容されているガラス板の表面特性に影響を与え、ガラス板の水濡れ性を悪化させることを突き止め、本願発明をするに至った。
【０００８】
即ち、本発明のガラス板搬送容器は、収容したガラス板を搬送、保管する合成樹脂製のガラス板搬送容器であって、ダイナミックヘッドスペース法において８０℃、６０分間の加熱条件で測定される有機ケイ素化合物の揮発量が、材料質量に対し１０ｐｐｍ以下であることを特徴としている。
【０００９】
また、本発明のガラス板搬送容器は、ダイナミックヘッドスペース法において８０℃、６０分間の加熱条件で測定される環状ポリジメチルシロキサンの揮発量が、材料質量に対し５ｐｐｍ以下であることを特徴としている。
【００１０】
また、本発明のガラス板搬送容器は、ダイナミックヘッドスペース法において８０℃、６０分間の加熱条件で測定されるヘキサメチルシクロトリシロキサンの揮発量が、材料質量に対し３ｐｐｍ以下であることを特徴としている。
【００１１】
また、本発明のガラス板搬送容器は、清浄化処理が施されてなることを特徴としている。
【００１２】
また、本発明のガラス板搬送容器は、前記清浄化処理が、４０〜８０℃で１０時間以上加熱する加熱処理であることを特徴としている。
【発明の効果】
【００１３】
本発明に係るガラス板搬送容器によれば、ガラス板の搬送・保管工程において、ガラス板の水濡れ性を悪化させることがなく、その後の表面処理工程を正常に行うことが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本実施形態のガラス板搬送容器の斜視図である。
【図２】ガラス板の水濡れ性の測定位置を示した正面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
図１に示すように、本実施形態のガラス板搬送容器１０は、複数のガラス板Ｇ・Ｇ...を収容する容体１と、容体１に被嵌する蓋体２とから構成されている。容体１は、その内面に複数対の仕切部１１が設けられており、これら複数対の仕切部１１によって、複数のガラス板Ｇを互いに所定間隔をあけて起立姿勢で並列させて収容することができる。複数のガラス板Ｇを容体１内に収容し、蓋体２を被嵌した後、シュリンク包装で封止された状態で搬送され、或いは保管される。
【００１６】
本発明者らは、ガラス板Ｇがガラス板搬送容器１０に収容された状態で長時間保管されると、ガラス板搬送容器１０から揮発した微量の有機ケイ素化合物が、ガラス板の表面特性に影響を与え、ガラス板の濡れ性を悪化させることを突き止め、有機ケイ素化合物の揮発量が少ないガラス板搬送容器を用いることによって、ガラス板の濡れ性の悪化を最小限にとどめられることを見い出した。
【００１７】
本実施形態のガラス板搬送容器１０は、ＡＢＳ樹脂を射出成形法により所定形状に成形した成形体であり、成形後、５０℃で２４時間加熱処理する清浄化処理が施されている。清浄化処理をすることにより、ガラス板搬送容器１０の表面から揮発性化合物を揮発させ、除去している。
【００１８】
このようにして作製されたガラス板搬送容器１０は、ダイナミックヘッドスペース法により８０℃、６０分間の加熱条件で測定される有機ケイ素化合物の揮発量が、材料質量に対し１０ｐｐｍ以下である。
【００１９】
有機ケイ素化合物としては、例えばジシラン、トリシラン、テトラメチルシランのようなシラン類、ジシロキサン、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルシクロトリシロキサンのようなシロキサン類、トリエチルシリルヒドリド、トリエトキシシリルヒドリド、トリメトキシシリルヒドリドのようなシリルヒドリド類などが挙げられる。
【００２０】
ガラス板の濡れ性を悪化させる有機ケイ素化合物としては、なかでもヘキサメチルシクロトリシロキサンのような環状ポリジメチルシロキサンが挙げられる。このような環状ポリジメチルシロキサンとしては、ヘキサメチルシクロトリシロキサンのほかにオクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン等が例示される。
【００２１】
なかでもヘキサメチルシクロトリシロキサンがガラス板の濡れ性の悪化のうえで影響が大である。
【００２２】
本発明に係るガラス板搬送容器は、ダイナミックヘッドスペース法により８０℃、６０分間の加熱条件で測定される環状ポリジメチルシロキサンの揮発量が、材料質量に対し５ｐｐｍ以下であることが好ましい。
【００２３】
また、本発明に係るガラス板搬送容器は、ダイナミックヘッドスペース法により８０℃、６０分間の加熱条件で測定されるヘキサメチルシクロトリシロキサンの揮発量が、材料質量に対し３ｐｐｍ以下であることがさらに好ましい。
【００２４】
このような揮発成分は、ガラス板搬送容器の原料樹脂の製造工程若しくはガラス板搬送容器の成形加工工程において分散、中和その他の目的で使用され、その樹脂に残留しているものであると推定される。または成形加工工程における加熱による素材の分解により発生しその樹脂に残留しているものであると推定される。または原料樹脂の製造工程若しくはガラス板搬送容器の成形加工工程において使用される助剤に含まれ、その樹脂に残留しているものであると推定される。または、樹脂の性能を改善したり色調を調整するために樹脂に添加された各種の添加物に含まれ、その樹脂に残留しているものであると推定される。
【００２５】
このような揮発成分は、ダイナミックヘッドスペース法により検出し定量することができる。つまり、８０℃、６０分間の条件下で、ダイナミックヘッドスペース法で処理し、次いでガスクロマトグラフ質量分析装置（標準：ヘキサデカン）により定量することができる。
【００２６】
このダイナミックヘッドスペース法は、試料から発生するガスを分析装置へ導入し発生ガス量を測定する方法であり、具体的には８０℃に加熱保持したチャンバー内からの発生ガスを、６０分間キャリアガスを通気しながら連続的に捕集管へ導入して濃縮収集した後、それを加熱して脱離するガスをガスクロマトグラフ質量分析装置へ注入して気相に存在する揮発性の有機物量を直接測定する方法である。なお、ダイナミックヘッドスペース法における捕集剤としては、有機物捕集剤（ポーラスポリマービーズ）や活性炭を、キャリアガスとしてはヘリウムや窒素を用いることができる。
【００２７】
本発明に係るガラス板搬送容器の材質は、特に限定されないが、ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ＡＢＳ（アクリル−ブタジエン−スチレン）系樹脂、これらの樹脂のポリマーアロイなどが例示される。なかでも、ＡＢＳ樹脂や、ＡＢＳ樹脂とポリカーボネート樹脂のポリマーアロイが好適に用いられる。
【００２８】
本発明に係るガラス板搬送容器は、各種の合成樹脂材を所定形状に成形し、そして、加熱処理等の清浄化処理を施した後の段階で、上述した有機ケイ素化合物の揮発量の限定を満たしていればよい。また、成形直後の段階で、有機ケイ素化合物の揮発量の限定を満たしている場合は、加熱処理等の清浄化処理を施す必要はない。
【００２９】
なお、加熱による清浄化処理は、ガラス板搬送容器を４０〜８０℃で１０時間以上加熱処理することが好ましい。加熱処理温度や時間がこの範囲を下回ると加熱処理による揮発性の有機物の蒸散が不十分であり、加熱処理温度がこの範囲を上回ると成形体の変形や酸化などの化学変化が生ずるおそれがある。
【００３０】
また、清浄化処理は、上記加熱処理のほか、水洗い処理、湯洗い処理を採用することができる。この清浄化処理を施すことにより、ガラス板の水濡れ性の悪化を招く既存のガラス板搬送容器から本発明に係るガラス板搬送容器を得ることが可能となる。
【００３１】
以上、本実施形態のガラス板搬送容器１０について説明したが、本発明は他の実施形態でも実施することができる。
【００３２】
例えば、上記実施形態では、複数のガラス板Ｇを起立姿勢で並列させて収容する箱タイプの搬送容器を一例として説明しているが、複数のガラス板を平置き状態で並列させて収容し、互いに上下に積み重ね可能な平トレイタイプの搬送容器として実施することもできる。
【００３３】
本発明は、その他、その趣旨を逸脱しない範囲内で、当業者の知識に基づいて種々の改良、修正、変形を加えた態様で実施し得るものである。また、同一の作用又は効果が生じる範囲内でいずれかの発明特定事項を他の技術に置換した形態で実施してもよく、また、一体に構成されている発明特定事項を複数の部材から構成したり、複数の部材から構成されている発明特定事項を一体に構成した形態で実施してもよい。
【実施例】
【００３４】
以下、実施例によって本発明を具体的に説明する。
【００３５】
ガラス板
１７０ｍｍ×１７０ｍｍ×０．５ｍｍのサイズのガラス板を用いた。
【００３６】
ガラス板の保管
図１に示すガラス板搬送容器内に計４０枚のガラス板を収容し、密閉し、１４日後に開封して取り出した。
【００３７】
（濡れ性の測定）
ガラス板の水に対する濡れ性の測定は、ＪＩＳ  Ｒ  ３２５７の測定方法に準拠して行い、接触角で表示した。
【００３８】
有機ケイ素化合物の揮発量の測定
ガラス板搬送容器から１００ｍｍ角の試験片を切り取り、ダイナミックヘッドスペース法により８０℃、６０分間の加熱条件下で処理し、次いで発生したガスをガスクロマトグラフ質量分析装置（標準：ヘキサデカン）により定量した。前記試験片の質量と発生ガスの定量結果から有機ケイ素化合物の揮発量を求めた。
【００３９】
「実施例１」
ポリカーボネート／ＡＢＳポリマーアロイ樹脂（帝人化成製：マルチロン（Ｒ））から成るペレットを射出成形法により成形し、ガラス板を計４０枚収容する容量のガラス板搬送容器を成形した。得られたガラス板搬送容器を、５０℃で２４時間加熱処理した後、ガラス板を収容し、保管した。
【００４０】
保管後のガラス板の濡れ性の測定結果を表１に示す。
【００４１】
表１中の「上部」、「中央部」、「下部」はそれぞれ、起立姿勢で収容された各ガラス板のガラス面上の位置を表す。また、表１中の「Ａ」〜「Ｅ」はそれぞれ、図２に示すように、各ガラス板Ｇのガラス面の対角線上における位置を表す。即ち、「Ａ」は最上部、「Ｃ」は中央部、「Ｅ」は最下部の位置を表し、「Ｂ」は最上部「Ａ」と中央部「Ｃ」との中間位置を表し、「Ｄ」は中央部「Ｃ」と最下部「Ｅ」との中間位置を表している。
【００４２】
また、表１中の「Ｎｏ．１」〜「Ｎｏ．４０」は、ガラス板搬送容器内に並列状態で収容された計４０枚の各ガラス板について、容器の一端から他端へ向けて順に付番した番号である。また、表１中の「４０側」は、各ガラス板の表裏両面のうち、Ｎｏ．４０のガラス板側の面を表し、「１側」は、各ガラス板の表裏両面のうち、Ｎｏ．１のガラス板側の面を表す。
【００４３】
この加熱処理後のガラス板搬送容器から採取した試料からは上述したダイナミックヘッドスペース法により有機ケイ素化合物が検出され、その総量は材料質量に対し１ｐｐｍであった。
【００４４】
また、この有機ケイ素化合物のなかでも材料質量に対し０．５ｐｐｍのヘキサメチルシクロトリシロキサンが検出された。
【００４５】
「比較例１」
実施例１と同様にしてガラス板搬送容器を成形し、得られたガラス板搬送容器を加熱処理することなく用いてガラス板を収容し、保管した。保管後のガラス板の濡れ性の測定結果を表１に示す。
【００４６】
このガラス板搬送容器から採取した試料からは上述したダイナミックヘッドスペース法により有機ケイ素化合物が検出され、その総量は材料質量に対し１５ｐｐｍであった。
【００４７】
また、この有機ケイ素化合物のなかでも材料質量に対し７ｐｐｍのヘキサメチルシクロトリシロキサンが検出された。
【００４８】
【表１】
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【００４９】
表１に示すように、実施例１においては、測定箇所の総数４０個所のうち、濡れ性が良いとされる接触角が１０度以下の個所が３５個所であったのに対して、比較例１では２３個所であった。また、濡れ性がとくに良いとされる接触角が５度以下の個所が実施例１で３１個所であったのに対して、比較例１では２０個所であった。さらにまた、とくに濡れ性が不良とされる接触角が２０度以上の個所が実施例１では皆無であったのに対して、比較例１では８個所であった。
【００５０】
このように実施例１のガラス板搬送容器に保管したガラス板の濡れ性の悪化の程度は、比較例１のガラス板搬送容器に保管したガラス板に比べ顕著に小さいことが分かった。
【００５１】
「実施例２」
ＡＢＳ樹脂から成るペレットを射出成型法により成形し、実施例１と同様のガラス板搬送容器を成形した。得られたガラス板搬送容器を、５０℃で２４時間加熱処理した後、ガラス板を収容し、保管した。
【００５２】
保管後のガラス板の濡れ性の測定結果を表２に示す。
【００５３】
この加熱処理後のガラス板搬送容器から採取した試料からは上述したダイナミックヘッドスペース法により有機ケイ素化合物が検出され、その総量は材料質量に対し３ｐｐｍであった。
【００５４】
また、この有機ケイ素化合物のなかでも材料質量に対し１ｐｐｍのヘキサメチルシクロトリシロキサンが検出された。
【００５５】
「比較例２」
実施例２と同様にしてガラス板搬送容器を成形し、得られたガラス板搬送容器を加熱処理することなく用いてガラス板を収容し、保管した。保管後のガラス板の濡れ性の測定結果を表２に示す。
【００５６】
このガラス板搬送容器から採取した試料からは上述したダイナミックヘッドスペース法により有機ケイ素化合物が検出され、その総量は、材料質量に対し２０ｐｐｍであった。
【００５７】
また、この有機ケイ素化合物のなかでも材料質量に対し１０ｐｐｍのヘキサメチルシクロトリシロキサンが検出された。
【００５８】
【表２】
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【００５９】
表２に示すように、実施例２においては、測定箇所の総数４０個所のうち、濡れ性が良いとされる接触角が１０度以下の個所が２７個所であったのに対して、比較例２では２１個所であった。また、濡れ性がとくに良いとされる接触角が５度以下の個所が実施例２で２２個所であったのに対して、比較例２では１８個所であった。さらにまた、とくに濡れ性が不良とされる接触角が２０度以上の個所が実施例２では２個所であったのに対して、比較例２では１０個所であった。
【産業上の利用可能性】
【００６０】
本発明のガラス板搬送容器は、電子機器の用途のみならず、日用品や産業用資材の分野においてガラス板を保管する用途に好適に用いることができる。
【符号の説明】
【００６１】
１０  ガラス板搬送容器
１  容体
１１  仕切部
２  蓋体
Ｇ  ガラス板
【図１】
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【図２】
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