(57)【要約】【課題】たとえばフラットパネルディスプレイに用いられる基板に発生した欠陥の修正など、塗布針と塗布対象物との間に強い電界を形成することなく、塗布針に供給された液体材料を当該塗布針より離脱させることにより、液体材料を塗布対象物上に塗布することができる、液体塗布装置、当該液体塗布装置を備えるパターン修正装置および微細パターン描画装置、ならびに液体塗布方法を提供する。【解決手段】液体塗布装置５は、塗布針２０と、塗布針２０による液体材料の塗布に際して塗布針２０を振動させる超音波発生器２０ａとを備えている。【選択図】図５
2013055286.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
塗布針と、
前記塗布針による液体材料の塗布に際して前記塗布針を振動させる振動発生装置とを備える、液体塗布装置。
【請求項２】
前記振動発生装置は、超音波発生器を含む、請求項１に記載の液体塗布装置。
【請求項３】
前記塗布針の電位を制御する電位制御装置をさらに備える、請求項１または２に記載の液体塗布装置。
【請求項４】
前記電位制御装置は、直流電源、交流電源およびパルス電源からなる群から選択される少なくともいずれか１つを含む、請求項３に記載の液体塗布装置。
【請求項５】
前記塗布針を保持する保持部材をさらに備え、
前記塗布針と前記保持部材とは電気的に絶縁されている、請求項３または４に記載の液体塗布装置。
【請求項６】
前記保持部材は、
前記塗布針を支持するベース部材と、
前記ベース部材を支持する支持部材とを備え、
前記ベース部材は第１磁性部材を含み、
前記支持部材は第２磁性部材を含み、
前記ベース部材は、前記第１磁性部材と前記第２磁性部材との間に発生する磁力により前記支持部材に保持されている、請求項５に記載の液体塗布装置。
【請求項７】
前記支持部材は、前記振動発生装置を含む、請求項６に記載の液体塗布装置。
【請求項８】
基板上に形成された微細パターンの欠陥部に液体材料を塗布することにより前記欠陥部を修正するパターン修正装置であって、
請求項１〜７のいずれか１項に記載の液体塗布装置を備える、パターン修正装置。
【請求項９】
描画対象物上に液体材料を塗布することにより前記描画対象物上に微細パターンを描画する微細パターン描画装置であって、
請求項１〜７のいずれか１項に記載の液体塗布装置を備える、微細パターン描画装置。
【請求項１０】
塗布針に液体材料を供給する工程と、
供給された前記液体材料を前記塗布針から塗布対象物上に塗布する工程とを備え、
前記液体材料を塗布する工程では、前記塗布針を振動させつつ、前記液体材料が前記塗布対象物に塗布される、液体塗布方法。
【請求項１１】
前記液体材料を塗布する工程では、前記塗布針と前記塗布対象物との間に電界が形成されることにより前記液体材料の前記塗布針からの離脱が支援される、請求項１０に記載の液体塗布方法。
【請求項１２】
前記液体材料を塗布する工程では、前記塗布針を振動させることにより、前記塗布対象物に塗布された前記液体材料の延展が支援される、請求項１０または１１に記載の液体塗布方法。
【請求項１３】
前記塗布対象物に塗布されるべき前記液体材料が容器内にて攪拌される工程をさらに備え、
前記液体材料が容器内にて攪拌される工程では、前記容器内に挿入された前記塗布針が振動することにより前記液体材料が攪拌される、請求項１０〜１２のいずれか１項に記載の液体塗布方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液体塗布装置、パターン修正装置、微細パターン描画装置および液体塗布方法に関するものであり、より特定的には、塗布針に供給された液体材料を当該塗布針より離脱させることにより、液体材料を塗布対象物上に塗布する液体塗布装置、当該液体塗布装置を備えるパターン修正装置および微細パターン描画装置、ならびに液体塗布方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイおよびＥＬ（Electro  Luminecence）ディスプレイなどのフラットパネルディスプレイの大型化、高精細化が進められている。これに伴い、フラットパネルディスプレイの製造工程では、ガラス基板上に形成された配線パターンや、カラーフィルタの画素パターンにおいて、欠陥が発生する確率が高くなっている。そのため、たとえば描画対象物上に微細パターンを描画可能な微細パターン描画装置をパターン修正装置として用いて欠陥を修正することにより、フラットパネルディスプレイの製造工程における歩留まりの向上を図ることが提案されている。
【０００３】
具体的には、ガラス基板上に形成された配線パターンの欠陥を修正する方法として、微細パターン描画装置であるインクジェット式描画装置を用いて配線パターンの欠陥に導電性インクを塗布することにより、当該欠陥を修正する方法が提案されている（たとえば特許文献１参照）。
【０００４】
また、塗布針を用いて配線パターンの欠陥を修正する方法も提案されている。この方法では、塗布針と基板との間において電界を形成することにより、塗布針に供給された導電性インクを当該塗布針より離脱させ、離脱した導電性インクを配線パターンの欠陥に塗布する（たとえば特許文献２参照）。
【０００５】
また、塗布針を用いてカラーフィルタの欠陥を修正する方法も提案されている（たとえば特許文献３参照）。カラーフィルタの製造工程においては、色が抜けた白欠陥、隣の画素と色が混色した黒欠陥および異物が付着した異物欠陥などが発生する。白欠陥が発生した場合は、色が抜けた部分に本来有するべき色のインクを塗布することにより、欠陥を修正することができる。黒欠陥および異物欠陥が発生した場合は、たとえばレーザを欠陥部分に照射することにより、欠陥を除去して当該欠陥を白欠陥に変換したうえで、色が抜けた部分に本来有するべき色のインクを塗布することにより、欠陥を修正することができる。また、この方法では、先端にスリット溝が形成された塗布針を用いることにより、カラーフィルタの欠陥にインクを充填させつつ塗布することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−１３４５９６号公報
【特許文献２】特開２０００−４９４４２号公報
【特許文献３】特開２００９−２６８９８２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
特許文献１にて提案されている方法では、微細な配線パターンの修正に対応するために、ノズルの先端部の吐出孔を小さくする必要がある。そのため、ノズルの先端部において導電性インクの詰まりが生じ易いという問題点がある。また、衝突などによりノズルの先端部が損傷を受け易いという問題点もある。
【０００８】
これに対して、特許文献２にて提案されている方法では、塗布針を用いて欠陥を修正するため、上記課題は解決される。しかし、この方法では、塗布針に供給された導電性インクを塗布針より離脱させるために、塗布針とガラス基板との間に強い電界を形成する必要がある。そのため、塗布針とガラス基板との距離を極微小に保ち、かつ塗布針とガラス基板との間の印加電圧を大きくする必要があるという問題点がある。
【０００９】
本発明は上記の課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、塗布針と塗布対象物との間に強い電界を形成することなく、塗布針に供給された液体材料を当該塗布針より離脱させることにより、液体材料を塗布対象物上に塗布することができる、液体塗布装置、当該液体塗布装置を備えるパターン修正装置および微細パターン描画装置、ならびに液体塗布方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明に従った液体塗布装置は、塗布針と、塗布針による液体材料の塗布に際して塗布針を振動させる振動発生装置とを備えている。本発明に従った液体塗布装置においては、塗布針による液体材料の塗布に際して振動発生装置を用いて塗布針を振動させることにより、塗布針に供給された液体材料を当該塗布針から離脱させることができる。そして、塗布針から離脱した当該液体材料は、塗布対象物上に塗布される。したがって、本発明に従った液体塗布装置によれば、塗布針と塗布対象物との間に強い電界を形成することなく、塗布針に供給された液体材料を当該塗布針より離脱させることにより、液体材料を塗布対象物上に塗布することができる。
【００１１】
上記の液体塗布装置において、振動発生装置は、超音波発生器を含んでいてもよい。これにより、塗布針による液体材料の塗布に際して超音波発生器を用いて塗布針を振動させることにより、塗布針に供給された液体材料を当該塗布針から容易に離脱させることができる。
【００１２】
上記の液体塗布装置は、塗布針の電位を制御する電位制御装置をさらに備えていてもよい。これにより、塗布針と塗布対象物との間に電圧を印加することができる。そして、塗布針と塗布対象物との間に印加された電圧により、塗布針に供給された液体材料の当該塗布針からの離脱が支援される。
【００１３】
上記の液体塗布装置において、電位制御装置は、直流電源、交流電源およびパルス電源からなる群から選択される少なくともいずれか１つを含んでいてもよい。これらの電源は、いずれも本発明の液体塗布装置の電位制御装置に好適に採用することができる。
【００１４】
上記の液体塗布装置は、塗布針を保持する保持部材をさらに備えていてもよい。塗布針と保持部材とは電気的に絶縁されていてもよい。これにより、塗布針の電位を保持部材の電位と独立して制御することができる。
【００１５】
上記の液体塗布装置において、保持部材は、塗布針を支持するベース部材と、ベース部材を支持する支持部材とを備えていてもよい。ベース部材は第１磁性部材を含んでいてもよい。支持部材は第２磁性部材を含んでいてもよい。また、ベース部材は、第１磁性部材と第２磁性部材との間に発生する磁力により支持部材に保持されていてもよい。これにより、塗布針を支持するベース部材を、ベース部材を支持する支持部材に対して容易に着脱することができる。
【００１６】
上記の液体塗布装置において、支持部材は、振動発生装置を含んでいてもよい。このように、振動発生装置は、メンテナンス等により取り外される機会の多いベース部材よりも支持部材に含まれることが好ましい。
【００１７】
本発明に従ったパターン修正装置は、基板上に形成された微細パターンの欠陥部に液体材料を塗布することにより欠陥部を修正するパターン修正装置である。当該パターン修正装置は、上記本発明の液体塗布装置を備えている。
【００１８】
本発明に従ったパターン修正装置においては、塗布針による液体材料の塗布に際して振動発生装置を用いて塗布針を振動させることにより、塗布針に供給された液体材料を当該塗布針から離脱させることができる。そして、塗布針から離脱した当該液体材料は、基板上に塗布される。したがって、本発明に従ったパターン修正装置によれば、塗布針と基板との間に強い電界を形成することなく、塗布針に供給された液体材料を当該塗布針より離脱させることにより、液体材料を基板上に塗布することができる。
【００１９】
本発明に従った微細パターン描画装置は、描画対象物上に液体材料を塗布することにより描画対象物上に微細パターンを描画する微細パターン描画装置である。当該微細パターン描画装置は、上記本発明の液体塗布装置を備えている。
【００２０】
本発明に従った微細パターン描画装置においては、塗布針による液体材料の塗布に際して振動発生装置を用いて塗布針を振動させることにより、塗布針に供給された液体材料を当該塗布針から離脱させることができる。そして、塗布針から離脱した当該液体材料は、描画対象物上に塗布される。したがって、本発明に従った微細パターン描画装置によれば、塗布針と描画対象物との間に強い電界を形成することなく、塗布針に供給された液体材料を当該塗布針より離脱させることにより、液体材料を描画対象物上に塗布することができる。
【００２１】
本発明に従った液体塗布方法は、塗布針に液体材料を供給する工程と、供給された液体材料を塗布針から塗布対象物に塗布する工程とを備えている。液体材料を塗布する工程では、塗布針を振動させつつ、液体材料が塗布対象物に塗布される。
【００２２】
本発明に従った液体塗布方法においては、塗布針による液体材料の塗布に際して塗布針を振動させることにより、塗布針に供給された液体材料が当該塗布針より離脱する。そして、塗布針から離脱した当該液体材料は、塗布対象物上に塗布される。したがって、本発明に従った液体塗布方法によれば、塗布針と塗布対象物との間に強い電界を形成することなく、塗布針に供給された液体材料を当該塗布針より離脱させることにより、液体材料を塗布対象物上に塗布することができる。
【００２３】
上記の液体塗布方法において、液体材料を塗布する工程では、塗布針と塗布対象物との間に電界が形成されることにより液体材料の塗布針からの離脱が支援されてもよい。これにより、塗布針に供給された液体材料をより容易に当該塗布針から離脱させることができる。
【００２４】
上記の液体塗布方法において、液体材料を塗布する工程では、塗布針を振動させることにより、塗布対象物に塗布された液体材料の延展が支援されてもよい。これにより、塗布対象物上にて液体材料をより延展させつつ塗布することができる。
【００２５】
上記の液体塗布方法は、塗布対象物に塗布されるべき液体材料が容器内にて攪拌される工程をさらに備えていてもよい。液体材料が容器内にて攪拌される工程では、容器内に挿入された塗布針が振動することにより液体材料が攪拌されてもよい。これにより、容器内に保持された液体材料の硬化を抑制することができる。
【発明の効果】
【００２６】
以上の説明から明らかなように、本発明に従った液体塗布装置、当該液体塗布装置を備えるパターン修正装置および微細パターン描画装置、ならびに液体塗布方法によれば、塗布針と塗布対象物との間に強い電界を形成することなく、塗布針に供給された液体材料を当該塗布針より離脱させることにより、液体材料を塗布対象物上に塗布することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】パターン修正装置の構成を示す概略斜視図である。
【図２】液体塗布機構の構成を示す概略斜視図である。
【図３】液体塗布装置の構成を示す概略斜視図である。
【図４】液体塗布装置の構成を示す概略図である。
【図５】液体塗布装置の構成を示す概略図である。
【図６】液体塗布装置と当該液体塗布装置に取り付けられたインク容器の構成を示す概略図である。
【図７】液体塗布装置と当該液体塗布装置に取り付けられたインク容器の構成を示す概略図である。
【図８】液体塗布方法を説明するための概略図である。
【図９】液体塗布方法を説明するための概略図である。
【図１０】液体塗布方法を説明するための概略図である。
【図１１】液体塗布方法を説明するための概略図である。
【図１２】液体塗布方法を説明するための概略図である。
【図１３】液体塗布方法を説明するための概略図である。
【図１４】液体塗布方法を説明するための概略図である。
【図１５】液体塗布方法を説明するための概略図である。
【図１６】液体塗布方法を説明するための概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下、図面に基づいて本発明の実施の形態を説明する。なお、以下の図面において、同一または相当する部分には同一の参照番号を付し、その説明は繰り返さない。
【００２９】
まず、本発明の実施の形態における微細パターン描画装置の構成について説明する。本実施の形態に係る微細パターン描画装置は、描画対象物上に液体材料を塗布することにより描画対象物上に微細パターンを描画する微細パターン描画装置である。本実施の形態においては、微細パターン描画装置が、基板上に形成された微細パターンの欠陥部に液体材料を塗布することにより欠陥部を修正するパターン修正装置として用いられる場合について説明する。
【００３０】
図１を参照して、パターン修正装置１は、チャック１１と、ＸＹステージ１０と、観察光学系１３と、モニタ１４と、画像処理部７と、レーザ照射部４と、液体塗布機構２と、加熱装置６と、Ｚステージ１２と、制御用コンピュータ８と、ホストコンピュータ９とを備える。
【００３１】
チャック１１は、修正すべき欠陥を含む基板３を保持する。ＸＹステージ１０は、基板３を保持するチャック１１を図１中ＸＹ平面内において移動可能に保持する。観察光学系１３は、上方より基板３を観察可能とされている。モニタ１４は、観察光学系１３により観察された基板３の画像を映し出す。画像処理部７は、基板３に含まれる欠陥を認識する。
【００３２】
レーザ照射部４は、基板３にレーザ光を照射する。液体塗布機構２は、塗布針の先端に供給された液体材料としてのインクを基板３に塗布する。また、液体塗布機構２は、塗布針を含む複数の液体塗布装置を備えている。液体塗布機構２および液体塗布装置の構成については後に説明する。加熱装置６は、基板３の欠陥に塗布されたインクを加熱する。
【００３３】
Ｚステージ１２は、観察光学系１３と、レーザ照射部４と、液体塗布機構２とを図１中Ｚ軸方向へ移動可能に保持する。制御用コンピュータ８は、パターン修正装置１の可動部の動作を制御する。ホストコンピュータ９は、パターン修正装置１の全体を制御する。
【００３４】
次に、液体塗布機構２の構成について説明する。図２を参照して、液体塗布機構２は、複数の液体塗布装置５と、複数の対物レンズ６１と、可動板４０とを含んでいる。複数の液体塗布装置５は、可動板４０に各々固定される。対物レンズ６１は、複数の液体塗布装置５の各々と隣り合うように可動板４０に固定される。基板は、対物レンズ６１および観察光学系１３に含まれる観察鏡筒６０により観察される。複数の液体塗布装置５および対物レンズ６１を固定する可動板４０は、図２中Ｘ軸およびＹ軸方向において、すなわち図１中ＸＹ平面内において移動可能とされている。
【００３５】
次に、液体塗布装置５の構成について説明する。図３を参照して、液体塗布装置５は、塗布針２０と、塗布針２０を保持する保持部材を備えている。保持部材は、塗布針ホルダ２１と、アーム２２と、塗布ユニット２６と、エアシリンダ２４とを含んでいる。塗布針２０は、塗布針ホルダ２１に支持される。塗布針ホルダ２１は、アーム２２に支持される。アーム２２は、塗布ユニット２６に形成された塗布用スライダ機構２３に嵌め込まれる。また、アーム２２は、エアシリンダ２４により昇降可能（図１中Ｚ軸方向へ移動可能）とされている。
【００３６】
図４および図５を参照して、塗布針２０を支持するベース部材としての塗布針ホルダ２１は、第１磁性部材２１ｂを含んでいる。また、塗布針ホルダ２１を支持する支持部材としてのアーム２２は、第２磁性部材２２ｂを含んでいる。塗布針ホルダ２１は、第１磁性部材２１ｂと第２磁性部材２２ｂとの間に発生する磁力によりアーム２２に保持されている。これにより、塗布針２０を支持する塗布針ホルダ２１を、アーム２２に対して容易に着脱することができる。
【００３７】
図３〜図５を参照して、液体塗布装置５は、塗布針２０によるインクの塗布に際して塗布針２０を振動させる振動発生装置をさらに備えている。具体的には、液体塗布装置５に備えられたアーム２２は、振動発生装置としての超音波発生器２２ａを含んでいる。このように、超音波発生器２２ａは、メンテナンス等により取り外される機会の多い塗布針ホルダ２１よりも、アーム２２に含まれていることが好ましい。
【００３８】
超音波発生器２２ａより発生した振動は、塗布針２０に伝播され、そのため塗布針２０は振動する。このように、超音波発生器２２ａを用いて塗布針２０を振動させることにより、塗布針２０に供給されたインクを塗布針２０から容易に離脱させることができる。
【００３９】
図５を参照して、液体塗布装置５は、塗布針２０の電位を制御する電位制御装置５０をさらに備えていてもよい。具体的には、液体塗布装置５は、配線５１により塗布針２０と接続された電位制御装置５０をさらに備えていてもよい。これにより、塗布針２０と基板との間に電圧を印加することができる。そして、塗布針２０と基板との間に印加された電圧により、塗布針２０に供給されたインクの塗布針２０からの離脱が支援される。なお、電位制御装置５０は、直流電源、交流電源およびパルス電源からなる群から選択される少なくともいずれか１つを含んでいてもよい。これらの電源は、いずれも本実施の形態に係る液体塗布装置５の電位制御装置５０に好適に採用することができる。
【００４０】
塗布針２０と、保持部材としての塗布針ホルダ２１、アーム２２、塗布ユニット２６およびエアシリンダ２４とは電気的に絶縁されている。具体的には、塗布針２０は、塗布針ホルダ２１に含まれる絶縁材料としてのシリコンチューブ２１ａに挿入されている。これにより、塗布針２０の電位を、塗布針ホルダ２１、アーム２２、塗布ユニット２６およびエアシリンダ２４の電位と独立して制御することができる。また、当該絶縁材料は、シリコンチューブ２１ａに限定されるものではなく、他の絶縁性を有する材料からなるものであってもよい。
【００４１】
図３、図６および図７を参照して、インクを保持する容器としてのインク容器３０は、液体塗布装置５に取り付け可能とされている。インク容器３０の底部、およびインク容器３０を密封する蓋（図示しない）には、塗布針２０が貫通可能な孔（図示しない）が形成されている。そして、インク容器３０は、塗布針２０が当該孔に挿入された状態で、液体塗布装置５に保持される。また、インク容器３０には突起部３０ｃが形成されており、突起部３０ｃには磁石３０ｄが固定されている。インク容器３０は、磁石３０ｄとアーム２２との間に発生する磁力により、液体塗布装置５に保持される。
【００４２】
以上のように、本実施の形態に係る液体塗布装置５においては、塗布針２０によるインクの塗布に際して超音波発生器２２ａを用いて塗布針２０を振動させることにより、塗布針２０に供給されたインクを塗布針２０から離脱させることができる。そして、塗布針２０から離脱したインクは、基板上に塗布される。したがって、本実施の形態に係る液体塗布装置５によれば、塗布針２０と基板との間に強い電界を形成することなく、塗布針２０に供給されたインクを塗布針２０から離脱させることにより、インクを基板上に塗布することができる。すなわち、塗布針２０と基板とをその間隔が極めて小さくなるまで近接させることなく、また、塗布針２０と基板との間の印加電圧を大きくすることなく、塗布針２０に供給されたインクを塗布針２０から離脱させることにより、インクを基板上に塗布することができる。
【００４３】
以下、本発明の実施の形態に係る液体塗布方法について説明する。図１を参照して、本実施の形態に係る液体塗布方法では、はじめに、修正すべき欠陥を含む基板３が、パターン修正装置１に搬入される。次に、基板３が、チャック１１に載置される。次に、あらかじめ取得された欠陥の発生位置の情報に基づいて、ＸＹステージ１０を動作させて、観察光学系１３により当該欠陥を観察可能な位置へ基板３を移動させる。また、Ｚステージ１２を動作させて、観察光学系１３の焦点を基板３に合わせる。
【００４４】
図８を参照して、次に、液体塗布機構２において、可動板４０に固定された複数の液体塗布装置５より、当該欠陥の修正に適した一の液体塗布装置５を選択する。次に、可動板４０を動作させて、選択された一の液体塗布装置５と隣り合う対物レンズ６１を当該欠陥の上方に移動させる。そして、対物レンズ６１と、観察鏡筒６０（図２を参照）とにより、当該欠陥が観察される。次に、可動板４０を動作させて、選択された一の液体塗布装置５に含まれる塗布針２０を、当該欠陥の上方に移動させる。
【００４５】
次に、塗布針２０に液体材料を供給する工程が実施される。具体的には、図９を参照して、エアシリンダ２４を動作させて、塗布針２０をインク容器３０の底部に形成された孔より突出させる。このとき、インク容器３０に保持される液体材料としてのインク（図示しない）が塗布針２０に付着することにより、塗布針２０にインクが供給される。
【００４６】
次に、供給されたインクを塗布針２０から基板３に塗布する工程が実施される。具体的には、図１０を参照して、塗布針２０がインク容器３０の底部に形成された孔より突出した状態において、Ｚステージ１２（図１を参照）を動作させて、塗布針２０を基板３へ接近させる。そして、塗布針２０が基板３に近接した後に、Ｚステージ１２の動作を停止させる。
【００４７】
次に、図１１および図１２を参照して、電位制御装置５０（図５を参照）により、塗布針２０と基板３との間に電圧が印加される。たとえば、塗布針２０を正電位、基板３を負電位として塗布針２０と基板３との間に電圧を印加する場合には、塗布針２０に供給されたインク３０ａは、塗布針２０からの誘導帯電によりその表面に正の電荷を帯びる。そして、印加電圧をさらに上げることにより、インク３０ａは、インク３０ａに生じた正の電荷と、基板３に生じた負の電荷との間に作用するクーロン力により、図１２に示すように基板３に引き付けられた状態となる。
【００４８】
次に、図１３を参照して、超音波発生器２２ａを動作させて、塗布針２０を図中の矢印Ｖに示す方向に振動させる。そして、塗布針２０に与えられた振動により、塗布針２０に供給されたインク３０ａは、液滴状インク３０ｂとなって塗布針２０から離脱し、基板３に塗布される。なお、上記のように超音波発生器２２ａを用いて塗布針２０を振動させることは、塗布針２０に振動を与えることによりインク３０ａを塗布針２０から離脱させる効果だけでなく、塗布針２０と基板３との間隔を小さくして塗布針２０と基板３との間に形成される電界を大きくすることにより、インク３０ａを塗布針２０からより離脱し易くする効果をも有する。
【００４９】
以上のように、本実施の形態に係る液体塗布方法において、インクを塗布する工程では、塗布針２０を振動させつつインクが基板３に塗布され、かつ塗布針２０と基板３との間に電界が形成されることによりインクの塗布針２０からの離脱が支援される。すなわち、塗布針２０を振動させることにより、塗布針２０に供給されたインクが塗布針２０より離脱する。ここで、上記のように、塗布針２０と基板３との間に電界が形成されることにより、塗布針２０に供給されたインクをより容易に塗布針２０から離脱させることができる。そして、塗布針２０から離脱したインクは、基板３上に塗布される。このようにして、塗布針２０と基板３との間に強い電界を形成することなく、塗布針２０に供給されたインクを塗布針２０より離脱させることにより、インクを基板３に塗布することができる。
【００５０】
また、上記の工程では、塗布針２０を振動させることにより、基板３に塗布されたインクの延展が支援されてもよい。具体的には、まず、Ｚステージ１２（図１を参照）を動作させて塗布針２０を基板３へ接近させた後に、さらにＺステージ１２を動作させて、塗布針２０を基板３に接触させる。次に、図１４を参照して、Ｚステージ１２を動作させて、塗布針２０を僅かに基板３より退避させ、塗布針２０と基板３との間がインク３０ａにより満たされた状態を形成する。次に、図１５を参照して、超音波発生器２２ａ（図４を参照）を動作させて、塗布針２０を図中矢印Ｖ’に示す方向に振動させることにより、基板３に塗布されたインク３０ａを図中矢印Ｅに示す向きに延展させる。これにより、基板３上においてインクをより延展させつつ塗布することができる。
【００５１】
供給されたインクを塗布針２０から基板３に塗布する工程が完了した後、エアシリンダ２４を動作させて塗布針２０を基板３より退避させ、塗布針２０の先端がインク容器３０内のインクに浸漬した状態とされる。
【００５２】
次に、基板３に塗布されるべきインクが容器としてのインク容器３０内にて攪拌される工程が実施される。図１６を参照して、この工程では、超音波発生器２２ａ（図４を参照）を用いてインク容器３０内に挿入された塗布針２０を図中Ｖ’’方向において一定時間振動させることにより、インク容器３０により保持されたインク３０ａを攪拌する。そして、塗布針２０を振動させた後に超音波発生器２２ａの動作を停止させて、一定時間放置する。上記の工程を繰り返すことにより、インク容器３０内に保持されたインク３０ａの硬化を抑制することができる。これにより、インク３０ａが長寿命化し、またインク３０ａに含まれる顔料の分散性が向上することにより、インク３０ａの色度を安定に保つことができる。なお、超音波発生器２２ａを動作させる時間、および超音波発生器２２ａを動作させた後に放置する時間は、使用するインクの特性（硬化性や分散性など）を考慮して適宜選択される。
【００５３】
基板３が当該欠陥以外に修正すべき欠陥を含む場合は、上記の工程が繰り返して実施される。基板３に含まれる全ての修正すべき欠陥が修正された後、基板３はパターン修正装置１より排出され、基板３の欠陥の修正が完了する。
【００５４】
なお、上記の実施の形態においては、微細パターン描画装置が、基板上に形成された微細パターンの欠陥部に液体材料を塗布することにより欠陥部を修正するパターン修正装置として用いられる場合について説明したが、本発明の微細パターン描画装置はこれに限られるものではない。すなわち、本発明に係る微細パターン描画装置は、たとえばウェハ、電子チップなどの描画対象物上に液体材料を塗布することにより、これらの描画対象物上に微細パターンを描画する微細パターン描画装置として用いられてもよい。
【００５５】
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味、および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【産業上の利用可能性】
【００５６】
本発明の液体塗布装置、パターン修正装置、微細パターン描画装置および液体塗布方法は、塗布針と塗布対象物との間に強い電界を形成することなく、塗布針に供給された液体材料を当該塗布針より離脱させることにより、液体材料を塗布対象物上に塗布することが要求される、液体塗布装置、パターン修正装置、微細パターン描画装置および液体塗布方法において特に有利に適用され得る。
【符号の説明】
【００５７】
１  パターン修正装置、２  液体塗布機構、３  基板、４  レーザ照射部、５  液体塗布装置、６  加熱装置、７  画像処理部、８  制御用コンピュータ、９  ホストコンピュータ、１０  ＸＹステージ、１１  チャック、１２  Ｚステージ、１３  観察光学系、１４  モニタ、２０  塗布針、２１  塗布針ホルダ、２１ａ  シリコンチューブ、２１ｂ  第１磁性部材、２２  アーム、２２ａ  超音波発生器、２２ｂ  第２磁性部材、２３  塗布用スライダ機構、２４  エアシリンダ、２６  塗布ユニット、３０  インク容器、３０ａ  インク、３０ｂ  液滴状インク、３０ｃ  突起部、３０ｄ  磁石、４０  可動板、５０  電位制御装置、５１  配線、６０  観察鏡筒、６１  対物レンズ。
【図１】
2013055286.tif 000003
【図２】
2013055286.tif 000004
【図３】
2013055286.tif 000005
【図４】
2013055286.tif 000006
【図５】
2013055286.tif 000007
【図６】
2013055286.tif 000008
【図７】
2013055286.tif 000009
【図８】
2013055286.tif 000010
【図９】
2013055286.tif 000011
【図１０】
2013055286.tif 000012
【図１１】
2013055286.tif 000013
【図１２】
2013055286.tif 000014
【図１３】
2013055286.tif 000015
【図１４】
2013055286.tif 000016
【図１５】
2013055286.tif 000017
【図１６】
2013055286.tif 000018