(57)【要約】【課題】従来よりもさらに優れた艶消し外観を成形品表面に付与でき、かつ艶消し外観の斑が少なく、しかも取扱い時の耐削れ性にも優れたインモールド転写箔用積層ポリエステルフィルムを提供すること。【解決手段】融点が２４５℃以上のポリエステルからなる基材層と、その片面に融点が２２０〜２３５℃のポリエステルからなる艶消し層とを有する積層ポリエステルフィルムであって、該艶消し層は該層の重量を基準として１５重量％以上３３重量％以下の範囲で粒子を含有し、艶消し層の厚み（ｔ）と艶消し層の平均粒子径（ｒ）の関係が１．０≦ｒ−ｔ≦４．０（μｍ）の範囲であり、かつ艶消し面側のフィルム表面光沢度（Ｇ６０）が５以上２５以下、フィルムのボイド発生率が１．０％以下であるインモールド転写箔用積層ポリエステルフィルムにより達成される。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
融点が２４５℃以上のポリエステルからなる基材層と、その片面に融点が２２０〜２３５℃のポリエステルからなる艶消し層とを有する積層ポリエステルフィルムであって、該艶消し層は該層の重量を基準として１５重量％以上３３重量％以下の範囲で粒子を含有し、艶消し層の厚み（ｔ）と艶消し層の平均粒子径（ｒ）の関係が１．０≦ｒ−ｔ≦４．０（μｍ）の範囲であり、かつ艶消し面側のフィルム表面光沢度（Ｇ６０）が５以上２５以下、フィルムのボイド発生率が１．０％以下であることを特徴とするインモールド転写箔用積層ポリエステルフィルム。
【請求項２】
艶消し層中に含まれる粒子の最大粒子径が１６μｍ以下である請求項１に記載のインモールド転写箔用積層ポリエステルフィルム。
【請求項３】
艶消し層中に含まれる粒子が合成ゼオライトからなる請求項１または２に記載のインモールド転写箔用積層ポリエステルフィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はインモールド転写箔用積層ポリエステルフィルムに関するものである。さらに詳しくは、射出成形等において成形と同時に転写印刷するインモールド成形転写用の転写箔の支持フィルムとして有用なインモールド転写箔用積層ポリエステルフィルムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、インモールド成形転写用の転写箔（以下、インモールド成形転写箔と称することがある）として、ポリエチレンテレフタレートフィルム等のポリエステルフィルムをベースフィルムとし、このベースフィルムの表面に離型層（以下、メジューム層と称することがある）を設け、さらにその上に印刷層を塗工した積層フィルムが用いられている。
このインモールド成形転写箔は、インモールド成形法を用いて成形品に転写した後に、離型層面と印刷層面との間で剥がされ、分離される。すなわち、成形転写の後に印刷層は成形品の表面に接着して製品として取出され、離型層はベースフィルムに積層した状態で成形後取り除かれる。
【０００３】
従来インモールド成形転写箔は、クリアな成形品外観を得るために平坦なベースフィルムが用いられていたが、近年、艶消し外観を有する成形品の表面外観についてもインモールド転写法を用いて付与する試みがなされつつある。それに伴い、転写箔のベースフィルムに対して、艶消し外観転写性に優れ、成形性を兼ね備えたベースフィルムが求められるようになってきた。
かかるベースフィルムとして、例えば特許文献１には、共押出法により２層以上積層した複合フィルムであって、フィルムの片面の光沢度Ｇｓ（６０°）が１０〜４５％である成形転写用積層ポリエステルフィルムが提案されている。しかしながら、具体的に記載されている積層ポリエステルフィルムの光沢度は２８〜３０で艶消し効果は不十分であり、さらに艶消し効果を向上させるためには艶消し層の粒子含有量を増やす必要があるが、我々の検討によれば、単に粒子含有量を増やすだけでは、フィルムの光沢度は低減できても得られるインモールド転写成形品の表面光沢度の低減（艶消し効果）は不十分で、光沢斑も発生しやすいものであった。
【０００４】
また、特許文献２には艶消し性を有する二軸延伸共押出し積層ポリエステルフィルムが提案されている。しかしながら、このフィルムは、インモールド成形転写箔用の支持フィルムとして用いても、艶消し効果を得るための層に添加する粒子量は１〜１０重量％であるため、良好な艶消し外観を有するインモールド転写成形品は得られないものであった。
特許文献３には艶消し層に平均粒子径が１．０〜２０μｍの粒子を０．３〜２０重量％含有する成形同時転写用積層ポリエステルフィルムが提案されている。しかしながら、具体的に記載されている積層ポリエステルフィルムの粒子含有量は３．３重量％と少なく、良好な艶消し外観を有するインモールド転写成形品は得られないものである。また、艶消し効果を向上させるために粒子含有量を単に増やすだけでは、上記特許文献１と同じく、フィルム自体の艶消し効果は向上できても、得られるインモールド転写成形品の艶消し効果は不十分で、また、光沢斑も発生しやすい。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平０４−１１０１４７号公報
【特許文献２】特開２００２−２００７２３号公報
【特許文献３】特開２０１０−２０１８５８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、従来よりもさらに優れた艶消し外観を成形品表面に付与でき、かつ艶消し外観の斑が少なく、しかも取扱い時の耐削れ性にも優れたインモールド転写箔用積層ポリエステルフィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討した結果、粒子含有量を増やしてフィルムの艶消し効果を増大させても、得られるインモールド転写成形品の艶消し効果が不十分で、光沢斑も発生しやすくなる要因は、インモールド成形時の樹脂圧力によりフィルムの表面突起が潰されてしまうためであること、具体的には艶消し層の粒子とマトリックスポリマー間のボイド存在量が大きく、インモールド成形時の樹脂圧力によってボイドが潰されるためであることを究明し、さらに検討を重ねた結果本発明を完成するに至ったものである。
【０００８】
すなわち、本発明の目的は、「融点が２４５℃以上のポリエステルからなる基材層と、その片面に融点が２２０〜２３５℃のポリエステルからなる艶消し層とを有する積層ポリエステルフィルムであって、該艶消し層は該層の重量を基準として１５重量％以上３３重量％以下の範囲で粒子を含有し、艶消し層の厚み（ｔ）と艶消し層の平均粒子径（ｒ）の関係が１．０≦ｒ−ｔ≦４．０（μｍ）の範囲であり、かつ艶消し面側のフィルム表面光沢度（Ｇ６０）が５以上２５以下、フィルムのボイド発生率が１．０％以下であることを特徴とするインモールド転写箔用積層ポリエステルフィルム」により達成される。
また本発明のインモールド転写箔用積層ポリエステルフィルムは、好ましい態様として、艶消し層中に含まれる粒子の最大粒子径が１６μｍ以下であること、艶消し層中に含まれる粒子が合成ゼオライトからなることの少なくともいずれか１つを具備するものも包含する。
【発明の効果】
【０００９】
本発明のインモールド転写箔用積層ポリエステルフィルムを用いれば、優れた艶消し外観を呈すると共に、艶消し外観の斑も小さい成形品を製造することができる。しかも、取扱い時の耐削れ性にも優れているので、その工業的価値は極めて大である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明を詳しく説明する。
＜ポリエステルフィルム＞
本発明の転写箔用積層ポリエステルフィルムは、ポリエステルからなる基材層と、その片面にポリエステルからなる艶消し層とを有する積層ポリエステルフィルムである。
【００１１】
（基材層）
インモールド転写箔用積層ポリエステルフィルムの基材層を構成するポリエステルは、その融点が２４５℃以上、好ましくは２５０〜２７０℃の範囲であることが必要であり、かかる基材層で艶消し層を支持することにより、十分なインモールド成形性を維持しながら、インモールド転写成形品に優れた艶消し外観を付与でき、かつ艶消し外観の斑も小さなものが得られる。
【００１２】
本発明で用いられる基材層を構成するポリエステルは、芳香族二塩基酸成分とジオール成分とから構成される線状飽和ポリエステルであり、具体的には、ポリエチレンテレフタレート、ポリ（１，４−シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート）、ポリエチレン−２，６−ナフタレート、および、これらに第３成分が共重合されたポリエステルであって融点が２４５℃以上のポリエステルが例示される。なかでも、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート、およびこれらに第３成分が共重合されたものが力学的物性や光学物性等のバランスが良いので好ましく、特にホモポリエステルが好ましい。基材層のポリエステルの融点が２４５℃に満たない場合には、後記するボイド低減のための高温熱処理時にフィルムが破断しやすくなる。
【００１３】
ポリエステルが共重合ポリエチレンテレフタレートである場合、共重合成分としてはイソフタル酸が最も好ましいが、その他の共重合成分として、フタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸等の如き芳香族ジカルボン酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、１，１０−デカンジカルボン酸等の如き脂肪族ジカルボン酸等が例示でき、また、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等の如き脂肪族ジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノールの如き脂環族ジオール等が例示できる。これらは単独または二種以上を使用することができる。
【００１４】
かかるポリエステルの固有粘度（η）は、０．５０〜０．７０ｄｌ／ｇ（３５℃のｏ−クロロフェノール溶液で測定）の範囲であることが好ましい。固有粘度の下限値は、好ましくは０．５５ｄｌ／ｇである。また上限値は、好ましくは０．６５ｄｌ／ｇであり、さらに好ましくは０．６０ｄｌ／ｇである。固有粘度が下限値に満たない場合には、インモールド成形の際に破れが発生し易くなる。他方、上限値を超える場合には、溶融粘度が高くなりすぎ、製膜工程での負荷が増大して生産性が低下する。
【００１５】
基材層は粒子を含有しないか、または粒子の含有量が基材層の重量を基準として０重量％を超えて２．９重量％以下である。粒子を含む場合、基材層中の粒子の濃度は、より好ましくは２．５重量％以下、さらに好ましくは２．０重量％以下の範囲である。
基材層中の粒子の含有量が上限値を超える場合、インモールド成形性や帯電防止層の表面抵抗特性が低下することがある。
【００１６】
基材層に用いられる粒子の種類は、通常フィルムに添加される粒子であれば特に限定されず、無機粒子、有機粒子のいずれでもよい。具体的には不定形シリカ（コロイドシリカ）、シリカ、タルク、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、リン酸リチウム、リン酸カルシウム、リン酸マグネシウム、アルミナ、カーボンブラック、二酸化チタン、カオリン、合成ゼオライト、架橋ポリスチレン粒子、架橋アクリレート粒子などが挙げられる。これらの粒子のうちの１種、または２種以上の異なる粒子を含有させてもよく、また同じ種類で粒径が異なる粒子の混合物を用いてもよい。
基材層には、本発明の目的を損なわない範囲であればポリエステル以外の他の樹脂、着色剤、帯電防止剤、安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、蛍光増白剤等を必要に応じて含有することもできる。
【００１７】
（艶消し層）
本発明の艶消し層を構成するポリエステルは、後記するフィルム特性を維持しながらボイド発生率を１．０％以下に低減させるため、製膜時に基材層のポリエステルの融点以下、艶消し層のポリエステルの融点＋１０℃以上の温度で熱処理するので、融点は２３５℃以下である必要がある。一方、融点が低くなりすぎるとインモールド成形時に艶消し層が流動しやすくなって光度斑が発生しやすくなるので２２０℃以上である必要がある。特に好ましい融点範囲は２２５〜２３０℃である。
艶消し層を構成するポリエステルとしては、融点が２２０〜２３５℃の共重合ポリエチレンテレフタレート、共重合ポリ（１，４−シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート）、共重合ポリエチレン−２，６−ナフタレート等を例示することができ。中でも共重合ポリエチレンテレフタレート、共重合ポリエチレン−２，６−ナフタレートが好ましく、基材層と同じ系統のポリエステル（主たる繰返し単位が同一のポリエステル）を用いることが好ましい。
【００１８】
なお、艶消し層に用いられるポリエステルの融点は、フィルムにする前の段階から低い必要はなく、延伸処理後に低くなっていれば良い。例えば、ホモのポリエチレンテレフタレートとそれ以外の他のポリエステルとを用意し、製膜時にこれらを溶融混練してエステル交換させて融点を上記範囲としてもよい。
かかるポリエステルの固有粘度（η）は、０．５０〜０．７０ｄｌ／ｇ（３５℃のｏ−クロロフェノール溶液で測定）の範囲であることが好ましい。固有粘度の下限値は、好ましくは０．５５ｄｌ／ｇである。また上限値は、好ましくは０．６５ｄｌ／ｇであり、さらに好ましくは０．６０ｄｌ／ｇである。固有粘度が下限値に満たない場合には、インモールド成形の際に破れが発生し易くなる。他方、上限値を超える場合には、溶融粘度が高くなりすぎ、製膜工程での負荷が増大して生産性が低下する。
【００１９】
本発明の艶消し層中には、艶消し層の重量を基準として１５重量％以上３３重量％以下の範囲で粒子を含有する必要があり、好ましくは２０重量％以上３０重量％以下である。粒子の含有量が下限値に満たない場合には、後記する光沢度を達成することができず成形品表面に十分な艶消し外観を付与することができない。他方、粒子の含有量が上限値を超える場合には、製膜性が低下してフィルム破れが発生しやすくなり、フィルムの製膜自体が困難となる。
【００２０】
粒子の平均粒子径は、好ましくは２．５μｍ以上５．５μｍ以下である。粒子の平均粒子径が下限未満の場合には、光沢度を下げる効果が低下し、光沢度を下げるためにさらに粒子の添加量を増やすと十分な成形性を得ることができないことがある。また粒子の平均粒子径が上限値を超える場合には、成形品表面に印刷抜けが生じる場合がある。
【００２１】
また、艶消し層の厚み（ｔ）と艶消し層の平均粒子径（ｒ）の関係が１．０≦ｒ−ｔ≦４．０（μｍ）であることが必要である。ｒ−ｔが１．０μｍ未満の場合には、粒子が艶消し層に埋もれてしまい艶消し効果が不十分となり、後記する光沢度が高くなる。他方、ｒ−ｔが４．０μｍを超える場合には、粒子が艶消し層表面から出過ぎるために削れ易くなり、また凹凸が激し過ぎるために例えば印刷抜けのような不具合が生じることがある。
粒子の最大粒子径は１６μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは１５μｍ以下、さらに好ましくは１２μｍ以下である。ここで最大粒子径は、累積粒径分布曲線の９８％における粒径（ｄ９８）で表わされる。艶消し層における粒子の最大粒子径が上記を満たすことにより、印刷抜けを抑制することができる。
【００２２】
本発明においては、粒子の種類は特に限定されず、無機粒子、有機粒子のどちらでもよく、不定形シリカ（コロイドシリカ）、シリカ、タルク、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、リン酸リチウム、リン酸カルシウム、リン酸マグネシウム、アルミナ、カーボンブラック、二酸化チタン、カオリン、合成ゼオライト、架橋ポリスチレン粒子、架橋アクリレート粒子などが例示される。これらの粒子の中で、さらに好ましくは不定形シリカもしくは合成ゼオライトのうちの少なくとも１種であり、いずれか１種を用いても併用してもよい。また同じ種類で粒径が異なる粒子の混合物を用いてもよい。
【００２３】
また、不定形シリカの場合は水分吸着性を低下させるために、シランカップリング剤で表面処理をしたものが好ましい。
特に好ましい粒子は合成ゼオライトであり、合成ゼオライトの吸着性、特に水分吸着性を低下させるために、ｐＨが５以上の酸で粒子形状を崩さない程度の酸処理をしたものが好ましく、さらに３００℃以上の温度で熱処理したものが好ましい。
【００２４】
粒子の形状は特に規定するものではないが、不定形であると粒度分布が広くなり、凝集による粗大突起を引き起こしやすく、印刷抜けが生じることがある。したがって粒子の形状は球状もしくは多面状であることが好ましい。好ましい粒子として、球状もしくは多面状の合成ゼオライトが例示される。また多面形状の粒子の場合は艶消し効果が得られやすい。多面形状の粒子の中でも、特に立方体形状の粒子が好ましい。
これらの粒子の添加方法は特に制限されないが、例えばポリエステルの重縮合中のグリコール分散系に添加する方法、または押出中マスターバッチを介して艶消し層に添加する方法が挙げられる。
【００２５】
艶消し層中に含有させる上記の粒子は、ＴＧ−ＤＴＡ装置により３０℃〜５００℃まで昇温速度１０℃／分で昇温した際の３００℃における重量減少率が０％以上３％以下であることが好ましく、さらに好ましくは１．５％以上２．０％以下である。重量減少率が上限値を超える場合には、ポリエステルフィルムの製造工程や成形加工工程で発泡を引き起こしたりポリエステルの分子量を低下させたりしてフィルムの製膜性や加工性を低下させる場合があり、特に粒子を多量に含有させた場合にフィルムの製膜性や加工性を著しく低下させることがある。
【００２６】
本発明の艶消し層は、上記にくわえて、表面光沢度（Ｇ６０）は５以上２５以下であることが必要である。ここでいう表面光沢度（以下、単に光沢度と称することがある）は、ＪＩＳ規格Ｚ８７４１に準拠し、入射角、受光角ともに６０°で測定した値で定義される。本発明の積層ポリエステルフィルムが該光沢度の艶消し層を有することにより、インモールド成形転写用の転写箔の支持フィルムとして使用すると、光沢度の低い艶消し表面外観を成形品表面に付与することができる。なお、艶消し層表面に後述する易接着層が設けられた場合には、表面光沢度は、易接着層がある状態で測定した値である。
【００２７】
光沢度の下限値は好ましくは８である。また光沢度の上限値は好ましくは２０であり、さらに好ましくは１８である。かかる光沢度が下限値に満たない場合には、過剰に粒子を含むことによりインモールド成形性が不十分となるだけでなく、下限値未満まで光沢度を低くすることは技術的な困難を伴う。一方、光沢度が上限値を超える場合には、光沢度の低い優れた艶消し表面外観を成形品表面に付与することが難しくなる。
かかる表面光沢度を得るためには、前記のとおり、艶消し層中の粒子含有量、および平均粒子径と艶消し層厚みの関係を調整すればよい。
【００２８】
本発明の艶消し層は、さらに表面の１０点平均粗さＲｚが５０００ｎｍ以上８０００ｎｍ以下であることが好ましく、特に５５００ｎｍ以上６５００ｎｍ以下であることが好ましい。艶消し層表面の１０点平均粗さＲｚがかかる範囲であることにより、転写後の成形品の艶消し外観性を高めつつ印刷抜けをなくすことができる。艶消し層表面の１０点平均粗さＲｚが下限値に満たない場合、成形品表面に十分な艶消し外観を付与することができないことがある。また、艶消し層表面の１０点平均粗さＲｚが上限値を超える場合、艶消し外観性は良好であるものの表面の凹凸が激し過ぎるために、例えば印刷抜けのような不具合が生じることがある。
かかる艶消し層表面の１０点平均粗さＲｚは、前記の艶消し層中の粒子の平均粒子径と、その最大粒子径を調整することにより達成される。
【００２９】
（ボイド発生率）
本発明のインモールド転写箔用積層ポリエステルフィルムは、そのボイド発生率が１．０％以下であることが肝要であり、好ましくは０．５％以下、さらに好ましくは０．３％以下である。なお、ボイド発生率は下記式（２）によって求めた値である。
ｄ＝ｄＴ×Ｗα×ｔ／Ｔ／１００＋１．４（１００−Ｗα×ｔ／Ｔ）／１００  （１）
（上式中、ｄは真密度、ｄＴは粒子密度（ｇ／ｃｍ3）、Ｗαは粒子の含有率（重量％）、ｔは艶消し層厚み（μｍ）、Ｔはフィルム厚み（μｍ）、１．４はポリエステル密度をそれぞれ表す）
ボイド発生率（％）＝（ｄ−ｄ0）／ｄ×１００    ・・・（２）
（上式中、ｄは真密度、ｄ0はみかけ密度をそれぞれ表す）
【００３０】
光沢度を下げるために粒子を多量に含有させた艶消し層を有する積層ポリエステルフィルムは、粒子周辺にボイドが形成されやすいためと推定され、ボイド発生率が１．０％以上の従来のフィルムではインモールド転写成形時の樹脂圧力によってボイドが潰され、その部分の表面がより平坦化して光沢斑が発生する。これに対して本発明のフィルムは、後記するように、基材層と艶消し層に特定融点のポリエステルを用い、製膜時の熱固定温度を調整して粒子表面に形成されたボイドを潰してボイド発生率を１．０％以下に調整しているので、インモールド転写成形時の成形性を維持しながら、成形時の樹脂圧力によるフィルム表面の部分的な平坦化を抑制することができる。その結果、優れた艶消し外観を呈すると共に、艶消し外観の斑も小さい成形品を得ることができるのである。
【００３１】
（フィルム総厚み）
本発明の積層ポリエステルフィルムは、インモールド転写箔用の支持フィルムとして使用される厚みを有していれば良く、好ましくは１０〜１５０μｍ、特に好ましくは２０〜１００μｍである。
【００３２】
（帯電防止層）
本発明のインモールド転写箔用積層ポリエステルフィルムは、基材層の艶消し層が積層される面と反対側にさらに帯電防止層を有していてもよく、帯電防止層の表面抵抗は１×１０１３Ω／□以下であることが好ましい。かかる帯電防止層を有することにより、インモールド用転写箔の取り扱いの際に帯電による転写箔同士の貼付きや転写箔表面へのゴミや埃付着が抑制される。かかる帯電防止層には、帯電防止剤としてカチオンポリマーを用いることが好ましく、さらに離型成分として反応基を有するシリコーンやワックスなどを併用することが好ましい。帯電防止層には、さらに塗膜の凝集力を向上させるために各種架橋剤を用いてもよく、その他塗膜の塗布性を高めるために界面活性剤を用いてもよい。
【００３３】
（易接着層）
本発明のインモールド転写箔用積層ポリエステルフィルムは、離型層（メジューム層）との接着性を高める目的でさらに艶消し面側に易接着層を有することができる。易接着層は塗布により設けられた易接着性の塗布層であることが好ましい。易接着層には、インモールド用転写箔として用いるときに設けられる離型層との高い接着性を得るために共重合ポリエステルを使用することが好ましい。易接着層にはさらに架橋剤、粒子、界面活性剤などを用いてもよい。
【００３４】
（フィルム製造方法）
本発明のインモールド転写箔用積層ポリエステルフィルムは、例えば次の方法で製造することができる。すなわち艶消し層および基材層を共押出法により積層押出し、キャスティングドラムで冷却固化させて非晶未延伸フィルムとし、次いで縦方向（以下、機械軸方向、連続製膜方向、長手方向またはＭＤ方向と称することがある）および横方向（以下、幅方向、ＴＤ方向と称することがある）に延伸する。
【００３５】
縦方向の延伸は、例えば温度６０〜１３０℃、好ましくは９０〜１２５℃で縦方向に２．０〜４．０倍、好ましくは２．５〜３．５倍延伸する。横方向の延伸は、例えば温度６０〜１３０℃、好ましくは９０〜１２５℃で２．０〜４．０倍、好ましくは３．０〜４．０倍延伸する。なお、二軸延伸後の面積倍率は１３以下であることが好ましい。また、一方向の延伸は２段以上の多段で行なう方法を用いることもできるが、最終的な延伸倍率は前述の範囲内にあることが好ましい。
【００３６】
フィルムの延伸後には熱固定処理を行う必要があり、熱固定処理温度は、艶消し層のポリエステル融点より１０℃以上高い温度でかつ基材層のポリエステル融点以下の温度範囲とし、ボイド発生率が１．０％以下となるように１〜３０秒の時間内で適宜調整して行なうことが好ましい。その際、２０％以内の制限収縮もしくは伸長、または定長下で行ない、また２段以上で行なってもよい。
【００３７】
帯電防止層を設ける場合には、基材層の艶消し層と反対側の面に、帯電防止層形成成分を含む塗剤を塗布することにより設けられる。塗布時のフィルムとしては結晶配向が完了する前のポリエステルフィルムが好ましい。この場合、塗布後はフィルムに結晶配向を完了させる延伸処理、更には熱固定処理を施すことが好ましい。
また、易接着層を設ける場合には、易接着層形成成分を含む塗剤をポリエステルフィルムの艶消し層上に塗布することにより設けられる。この場合、前記の帯電防止層と同時に易接着層も設けることが好ましい。
【００３８】
（インモールド転写箔）
本発明の積層ポリエステルフィルムはインモールド転写用途に用いられ、従来よりもさらに艶消し性が高く、さらに斑の小さい艶消し外観を成形品表面に付与でき、しかもインモールド転写箔用として十分な成形性をも有するものである。
本発明のインモールド転写箔用積層ポリエステルフィルムは、艶消し面側に易接着層を設ければ、該易接着層上にさらに離型層（メジューム層）および印刷層を形成した態様で用いることができ、印刷層は成形品表面に転写・接着して製品として取り出され、その他の部分は製品から取り除かれる形で使用される。
【実施例】
【００３９】
以下、実施例をあげて本発明をさらに説明する。なお、例中の特性は、次の方法で求めた。
【００４０】
１．光沢度（Ｇ６０）
ＪＩＳ規格（Ｚ８７４１）に準拠し、日本電色工業（株）製のグロスメーター「ＶＧＳ−ＳＥＮＳＯＲ」を用いて測定した。入射角、受光角ともに６０°にてＮ＝５づつ測定し、その平均値を用いた。さらに以下の基準で艶消し性を判断した。
◎：５以上１８以下      ・・・艶消し性極めて良好
○：１８を超え２５以下  ・・・艶消し性良好
×：２５を超える        ・・・艶消し性不良
【００４１】
２．粒子の平均粒子径、最大粒子径(ｄ９８)
粒子をエチレングリコール中に３％の濃度になるようにミキサーで攪拌し、島津製作所製レーザー散乱式粒度分布測定装置ＳＡＬＤ−７０００を用いて測定を行った。粒度分布測定結果から５０％体積粒径（Ｄ５０）を求め、これを平均粒子径とした。
また、最大粒子径はメジアン粒径ｄ９８とした。なおｄ９８の値は累積粒径分布曲線の９８％における粒径である。
【００４２】
３．粒子の含有量
フィルムから艶消し層を切り出し、ポリエステル樹脂は溶解し粒子は溶解させない溶媒を選択し、サンプルを溶解処理した後、粒子をポリエステル樹脂から遠心分離し、粒子の全体重量に対する比率（重量％）をもって粒子の含有量とする。
【００４３】
４．融点
TA  Instruments  Q100  DSCを用い、昇温速度２０℃/分で融解ピークを求める方法による。なおサンプルは各層から採取し、その量は約２０ｍｇとする。
【００４４】
５．フィルムの各層厚み
サンプルを三角形に切り出し、包埋カプセルに固定後、エポキシ樹脂にて包埋した。そして、包埋されたサンプルをミクロトーム（ＵＬＴＲＡＣＵＴ−Ｓ）で縦方向に平行な断面を５０ｎｍ厚の薄膜切片にした後、透過型電子顕微鏡を用いて、加速電圧１００ｋｖにて観察撮影し、写真から各層の厚みを１０点ずつ測定し、それぞれの層について平均厚みを求めた。艶消し層の層厚みについては、粒子の存在しない部分の厚みを測定した。
【００４５】
６．耐削れ性
２０ｍｍ幅に切断したフィルムサンプルを用い、フィルムの艶消し面側を直径１０ｍｍの円柱状ステンレス製固定バーにあてて２００ｇの荷重を加えた状態で８０ｍ走行させた後、バーに付着した粉を観察し、耐削れ性を下記の通り評価する。
〇：バーに粉の付着が無い    （耐削れ性良好）
×：バーに白粉が付着する（耐削れ性不良）
【００４６】
７．印刷適性
フィルムの帯電防止層と反対側の面上にメラミン樹脂のメチルエチルケトン／トルエン溶液を塗布し、１μｍ厚さの離型層の膜を形成した。ここで、１μｍ厚さの調整は、粒子を含まない平滑なポリエチレンテレフタレートフィルム上で厚み１μｍになるように溶液濃度を調整し、厚みを確認した上で、同条件で艶消し層側に塗布する方法で行った。
その上に、ウレタンアクリレートを主成分とする紫外線硬化型ハードコート層（厚さ５μｍ）を全面にグラビア印刷法により印刷し、さらにそのうえにアクリル樹脂系インキにて図柄層をグラビア印刷法により印刷した。結果を以下のような基準にて評価した。
○：印刷外観良好
×：図柄層が不鮮明（抜け等が発生）
【００４７】
８．成形品の外観（斑発生状況）
金型にインモールド転写箔を絵柄層（インク）側が射出側となるように設置し、１０ｃｍ角の大きさで、立ち上がり１５ｍｍ、コーナー部のＲが２ｍｍのトレー状成形品を射出成形した。この時、成形用の樹脂には、ポリカーボネート／ＡＢＳ樹脂アロイを用い、樹脂温度２６０℃、金型温度５０℃、樹脂圧力約３５０ＭＰａとした。トレー状成形品から、離型層と絵柄層の界面で転写箔を剥離し、加飾された成形部品を得た。成型部品の外観を以下のような指標により評価をおこなった。外観斑は特に成型樹脂の射出箇所の部分で発生する。
○：成型部品に斑が見えない（外観良好）
×：成型部品に光沢斑がある（外観不良）
【００４８】
９．ボイド発生率
得られたフィルムサンプルについて下記式（２）よりボイド発生率を求めた。
ｄ＝ｄＴ×Ｗα×ｔ／Ｔ／１００＋１．４（１００−Ｗα×ｔ／Ｔ）／１００  （１）
（上式中、ｄは真密度、ｄＴは粒子密度（ｇ／ｃｍ3）、Ｗαは粒子の含有率（重量％）、ｔは艶消し層厚み（μｍ）、Ｔはフィルム厚み（μｍ）、１．４はポリエステル密度をそれぞれ表す）
ボイド発生率（％）＝（ｄ−ｄ0）／ｄ×１００    ・・・（２）
（上式中、ｄは真密度、ｄ0はみかけ密度をそれぞれ表す）
【００４９】
［実施例１〜１５、比較例１〜１１］
基材層側は粒子無添加のポリエチレンテレフタレート（固有粘度０．６３ｄｌ／ｇ）を用い、艶消し層側は表１に示す共重合ポリエステルに粒子を添加したものを用い、それぞれ２８０℃に加熱された押出し機に供給して、基材層ポリマー（Ａ）と艶消し層ポリマー（Ｂ）とがＡ／Ｂ積層型となるような２層フィードブロック装置を用いて合流させ、その積層状態を維持したままダイスよりシートを２０℃に維持した回転冷却ドラム上に溶融押出して未延伸フィルムとし、次いで該未延伸フィルムを縦方向に３．４倍延伸し、その後、表２に記載の塗布層成分（易接着層：４重量％、帯電防止層３重量％、それぞれの塗布厚み（Ｗｅｔ）４〜５μｍ）をそれぞれロールコーターで均一に塗布した。この塗布フィルムを引き続いて１０５℃で乾燥し、１４０℃で横方向に３．５倍に延伸し、さらに表１に示す温度で熱固定処理を５秒施し、２軸延伸積層ポリエステルフィルム（厚さ５０μｍ）を得た。各々のフィルムの評価結果を表１に示す。
【００５０】
表１からわかるように、本発明にかかる実施例１〜１５の各フィルムは、優れた艶消し外観を成形品に付与することができ、しかも成形品における艶消し外観の斑も極めて少ないものであった。
一方、比較例１、３、４の各フィルムは艶消し性が十分ではなく、十分な艶消し外観を成形品に付与できなかった。比較例２のフィルムは艶消し層の粒子濃度が高すぎるため、フィルム製膜時に破れが生じてフィルムを製膜することが困難であった。
比較例５のフィルムは艶消し性は良好であったが、艶消し層の厚みに対して粒子径が大きすぎるため耐削れ性が十分ではなかった。
比較例６、７の各フィルムは艶消し性は良好であったが、熱固定温度が低くすぎるためボイド発生率を１．０％以下とすることができず、得られる成形品に艶消し外観の斑が目立った。
比較例８、９の各フィルムは艶消し性は良好であったが、艶消し層の融点が高すぎるために熱固定温度を十分高くすることができず、比較例６，７と同様に得られる成形品に艶消し外観の斑が目立った。
比較例１０のフィルムは艶消し性は良好であったが、艶消し層の融点が低すぎるため、成形時に艶消し層のポリマーが流動して、得られる成形品に艶消し外観の斑が目立った。
比較例１１のフィルムは基材層のポリマー融点が低くすぎるため、フィルム製膜時に破れが生じてフィルムを製膜することが困難であった。
【００５１】
【表１】
2013129077.tif 000002
【００５２】
表１のポリエステルの略称は以下のとおりである。
ＰＥＴ：ポリエチレンテレフタレート
ＩＡｘ−ＰＥＴ：イソフタル酸ｘモル％共重合ポリエチレンテレフタレート
ＮＤＣｘ−ＰＥＴ：２,６-ナフタレンジカルボン酸ｘモル％共重合ポリエチレンテレフタレート
【００５３】
【表２】
2013129077.tif 000003
【００５４】
表２で用いた成分は以下のとおりである
・共重合ポリエステル：  酸成分がテレフタル酸５０モル％／イソフタル酸４５モル％／５−ナトリウムスルホイソフタル酸５モル％、グリコール成分がエチレングリコール９０モル％／ジエチレングリコール１０モル％で構成されている（Ｔｇ＝４０℃）。ポリエステルは、下記の通り製造した。すなわち、テレフタル酸ジメチル３０部、イソフタル酸ジメチル２７部、５−ナトリウムスルホイソフタル酸ジメチル５部、エチレングリコール３６部、ジエチレングリコール３部を反応器に仕込み、これにテトラブトキシチタン０．０５部を添加して窒素雰囲気下で温度を２３０℃にコントロールして加熱し、生成するメタノールを留去させてエステル交換反応を行った。次いで反応系の温度を徐々に２５５℃まで上昇させ系内を１ｍｍＨｇの減圧にして重縮合反応を行い、共重合ポリエステルを得た。なおかかる共重合ポリエステルの製造方法は、特開平０６−１１６４８７号公報の実施例１に記載の方法に準じたものである。
【００５５】
・カチオンポリマー：  下記式（１）に示す構造が８０モル％／メチルアクリレート１５モル％／Ｎ−メチロールアクリルアミド５モル％からなる共重合体である。
【化１】
2013129077.tif 000004
（上式（１）中、Ｒ１、Ｒ２はそれぞれＨであり、Ｒ３は炭素数が３のアルキレン基であり、Ｒ４、Ｒ５はそれぞれ炭素数が１の飽和炭化水素基であり、Ｒ６は炭素数が３のヒドロキシアルキレン基であり、Ｙ−はメチルスルホネートイオンである。）
【００５６】
・離型剤１：  アミノ基含有シリコーン（ＧＥ東芝シリコーン株式会社製  商品名ＴＳＦ４７００）
・離型剤２：  ポリエチレンワックス（中京油脂株式会社製  商品名ポロリンＬ−６１８）
・架橋剤：  オキサゾリン化合物（株式会社日本触媒製  商品名エポクロスＷＳ−７００）
・界面活性剤：  ポリオキシエチレン（ｎ＝７）ラウリルエーテル（三洋化成株式会社製  商品名ナロアクティーＮ−７０）
【産業上の利用可能性】
【００５７】
本発明の積層ポリエステルフィルムは、優れた艶消し外観を呈すると共に、ボイド発生率が小さいため、インモールド転写箔用に用いれば、従来よりも優れた艶消し外観と、その斑の小さい成形品を製造することができ、しかもインモールド転写箔用として十分な成形性を有している。
さらに、艶消し面側に易接着層を設けると、該易接着層上に離型層（メジューム層）および印刷層を形成した態様で用いることができる。すなわち、印刷層が成形品の表面と接するよう金型に配置し、インモールド成形後に印刷層は成形品表面に転写・接着されて製品として取り出され、その他の部分は製品から取り除かれる形で使用される。