(57)【要約】      （修正有）【課題】偏光板として用いたとき、偏光層が退色することが抑制される反射防止フィルムを提供する。【解決手段】反射防止フィルム１０は、透明基材１１とアミド化合物を含むハードコート層１２との間に、酸化ケイ素を含む遮蔽層１４を設けることにより、透明基材１１側方向へのアミド化合物による影響を抑制することが出来る。このため、反射防止フィルム１１の遮蔽層１４の形成面と反対側の透明基材１１上に偏光層を設けることで、偏光層が退色することが抑制される。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材と、
前記透明基材より上層に積層されたハードコート層と、
前記ハードコート層より上層に積層された反射防止層と、
前記透明基材と前記ハードコート層との間に遮蔽層と、を備え、
前記ハードコート層は、アミド化合物を含むハードコート層であり、
前記遮蔽層は、酸化ケイ素を含む遮蔽層であること
を特徴とする反射防止フィルム。
【請求項２】
前記酸化ケイ素は、粒径が４５μｍ以上８５μｍ未満の範囲にある粒子状の酸化ケイ素を原料とすること
を特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
前記遮蔽層の厚みは、２００ｎｍ以上３５０ｎｍ以下の範囲にあること
を特徴とする請求項１または請求項２のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項４】
７．０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下の範囲にある水蒸気バリア性を備えること
を特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項５】
請求項１から４のいずれかに記載の反射防止フィルムと、
前記反射防止フィルムの遮蔽層の形成面と反対側の透明基材上に偏光層と、
を備えたことを特徴とする偏光板。
【請求項６】
請求項５に記載の偏光板を用いた表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止フィルム、該反射防止フィルムを用いた偏光板、該反射防止フィルムが組み込まれた表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、画像表示装置は、外光が表示画面上に映りこむことによって画像を認識しづらくなるという問題がある。また、最近では、屋内だけでなく屋外にも持ち出される機会が増加し、表示画面上への外光の映り込みや高度な耐久性がより重要な課題になっている。
【０００３】
そこで、屈折率の異なる層を積層した積層体を反射防止フィルムとし、該反射防止フィルムを表示装置表面に設けることが提案されている。
【０００４】
例えば、アミド化合物を含む層が積層された反射防止フィルムが提案されている（特許文献１参照）。
【０００５】
また、反射防止フィルムに偏光層を設け、表示装置などに用いる偏光板として用いることが提案されている。
【０００６】
例えば、液晶表示パネル（ＬＣＤパネル）に用いる偏光板として、反射防止フィルムに偏光層を設けた構成の偏光板が提案されている（特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００５−１４８６８１号公報
【特許文献２】特開２０００−３２１４２８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、反射防止フィルムに偏光層を設けた構成の偏光板は、偏光層が退色するといった問題を有していた。
【０００９】
そこで、本発明は、上述の問題を解決するためになされたものであり、偏光板として用いたとき、偏光層が退色することが抑制される反射防止フィルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者は鋭意検討の結果、反射防止フィルム内に存在するアミド化合物が偏光板の退色を促進することを見出し、アミド化合物を含む層と偏光層との間にアミド化合物を遮蔽する酸化ケイ素を含む遮蔽層を設けることにより、偏光板の退色を抑制することを想到するに至った。
【００１１】
本発明の一実施形態は、透明基材と、前記透明基材より上層に積層されたハードコート層と、前記ハードコート層より上層に積層された反射防止層と、前記透明基材と前記ハードコート層との間に遮蔽層と、を備え、前記ハードコート層は、アミド化合物を含むハードコート層であり、前記遮蔽層は、酸化ケイ素を含む遮蔽層であることを特徴とする反射防止フィルムを特徴とする反射防止フィルムである。
【００１２】
また、前記酸化ケイ素は、粒径が４５μｍ以上８５μｍ未満の範囲にある粒子状の酸化ケイ素を原料とすることが好ましい。
【００１３】
また、前記遮蔽層の厚みは、２００ｎｍ以上３５０ｎｍ以下の範囲にであってもよい。
【００１４】
また、上述の反射防止フィルムは、７．０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下の範囲にある水蒸気バリア性を備えることが好ましい。
【００１５】
本発明の一実施形態は、上述に記載の反射防止フィルムと、前記反射防止フィルムの遮蔽層の形成面と反対側の透明基材上に偏光層と、を備えたことを特徴とする偏光板である。
【００１６】
本発明の一実施形態は、上述に記載の偏光板を用いた表示装置である。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の反射防止フィルムは、透明基材とアミド化合物を含むハードコート層との間に、酸化ケイ素を含む遮蔽層を設けることにより、透明基材側方向へのアミド化合物による影響を抑制することが出来る。このため、反射防止フィルムの遮蔽層の形成面と反対側の透明基材上に偏光層を設けることで、偏光層が退色することが抑制された偏光板を提供することが出来る。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の反射防止フィルムの一例を示す概略図である。
【図２】本発明の反射防止フィルムの遮蔽層を形成するための酸化ケイ素を含む蒸着材料を成型する工程を示す概略図である。
【図３】本発明の偏光板の一例を示す概略図である。
【図４】本発明の表示装置の一例を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、本発明の反射防止フィルムについて説明を行う。
本発明の反射防止フィルムは、透明基材と、前記透明基材より上層に積層されたハードコート層と、前記ハードコート層より上層に積層された反射防止層と、前記透明基材と前記ハードコート層との間に遮蔽層と、を備え、前記ハードコート層は、アミド化合物を含むハードコート層であり、前記遮蔽層は、酸化ケイ素を含む遮蔽層である。
【００２０】
本発明の反射防止フィルムは、透明基材とアミド化合物を含むハードコート層との間に、酸化ケイ素を含む遮蔽層を設けることにより、透明基材側方向へのアミド化合物による影響を抑制することが出来る。このため、反射防止フィルムの遮蔽層の形成面と反対側の透明基材上に偏光層を設けることで、偏光層が退色することが抑制された偏光板を提供することが出来る。
【００２１】
図１に、本発明の反射防止フィルムの一例を示す。
図１は、最表面から見て、反射防止層１３／ハードコート層１２／遮蔽層１４／透明基材１１が順に積層された反射防止フィルム１０を示す。
【００２２】
透明基材は、機械的強度や寸法安定性に優れ、透光性を備えた材料を適宜公知の材料から選択し、用いてよい。例えば、プラスチックフィルム用いてよい。プラスチックフィルムとして、具体的には、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリアリレート（ＰＡＲ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ナイロン６等のポリアミド（ＰＡ）、ポリイミド（ＰＩ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂フィルム、ポリウレタン（ＰＵＲ）、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素系樹脂、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）等のビニル化合物、ポリアクリル酸（ＰＭＭＡ）、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリロニトリル、ビニル化合物の付加重合体、ポリメタクリル酸、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニリデン等のビニリデン化合物、フッ化ビニリデン／トリフルオロエチレン共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体等のビニル化合物またはフッ素系化合物の共重合体、ポリエチレンオキシド等のポリエーテル、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリビニルブチラール、などを用いてもよい。
特に、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムは、複屈折が少なく透明性が良好であるため、本発明の反射防止フィルムに用いる材料として好ましい。
【００２３】
また、透明基材は、コロナ処理、低温プラズマ処理などの表面処理を施しても良い。表面処理を行うことにより、他の層を積層するにあたり密着性を向上させることが出来る。
【００２４】
ハードコート層は、反射防止フィルムの機械的強度を改善するために設ける。ハードコート層を設けることにより、高い表面硬度、鉛筆等の荷重のかかる引っ掻きに対する耐擦傷性、上層のクラック抑制、などの利点が得られる。
【００２５】
また、ハードコート層の膜厚は、所望する仕様に応じて適宜設計してよい。具体的には、例えば、５μｍ以上１２μｍ以下程度の範囲にあることが好ましい。ただし、本発明の反射防止フィルムにおけるハードコート層の膜厚は上記範囲に限定されるものではない。
【００２６】
また、ハードコート層は、アミド化合物を含む材料よりなる。ハードコート層にアミド化合物を含むことにより、反射防止フィルムの硬度の向上および反り耐性を両立させることが出来る。本発明の反射防止フィルムのハードコート層に含まれるアミド化合物は、一分子内に１以上のアミド基および１以上の重合性基を有するモノマーである、炭素−炭素不飽和二重結合を備えるアミド化合物が好ましい。炭素−炭素不飽和二重結合を備えるアミド化合物としては、例えば、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジオクチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−モノブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）メタクリルアミド（メタ）アクリロイルモルホリンなどのアクリル系化合物、Ｎ−ビニルホルムアミド、２−プロペニルホルムアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニル−ε−カプロラクタムなどのビニル系化合物が挙げられる。
【００２７】
また、ハードコート層の形成方法としては、ハードコート層に選択した材料に応じて適宜公知の層形成方法を用いてよい。
以下、一例として、ハードコート層形成用塗液を調整し、ハードコート層形成用塗液を塗工し、乾燥し、電離放射線により硬化し、ハードコート層を形成する方法について、具体的に説明を行う。
【００２８】
まず、ハードコート層形成用塗液を調整する。ハードコート層を形成する材料を適宜選択し、該材料を溶媒に拡散させる。例えば、ハードコート層形成用塗液は、４級アンモニウム塩材料、アミド化合物、光重合性モノマー、光重合開始剤、などを溶媒に拡散した液であってもよい。
【００２９】
４級アンモニウム塩材料は（−Ｎ＋Ｘ−）の構造を示し、４級アンモニウムカチオン（Ｎ＋）とアニオン（Ｘ−）を備えることによりハードコート層に導電性を発現させる。このとき、Ｘ−としては、Ｃｌ−、Ｂｒ−、Ｉ−、Ｆ−、ＨＳＯ４−、ＳＯ４２−、ＮＯ３−、ＰＯ４３−、ＨＰＯ４２−、Ｈ２ＰＯ４−、ＳＯ３−、ＯＨ−、などを挙げることができる。
【００３０】
また、４級アンモニウム塩材料として、４級アンモニウム塩を官能基として分子内に含むアクリル系材料を好適に用いることができる。４級アンモニウム塩を官能基として分子内に含むアクリル系材料としては、例えば、４級アンモニウム塩（−Ｎ＋Ｘ−）を官能基として分子内に含む多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルのような多官能または多官能の（メタ）アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコール及びアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタン（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。またこれらの他にも、電離放射線型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、などが挙げられる。
【００３１】
光重合性モノマーは、機械的強度などを考慮し適宜公知の材料より選択してよい。例えば、アクリル系材料を用いてもよい。アクリル系材料としては、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレートヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１、６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、「多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルなどの多官能の（メタ）アクリレート化合物」、「多価アルコール、多価イソシアネート及び水酸基含有アクリレートから合成されるような多官能のウレタン（メタ）アクリレート化合物」、などが挙げられる。
特に、官能基を３つ以上持つアクリル系材料は、硬度および硬化速度に優れることから、ハードコート層に用いる材料として好ましい。官能基を３つ以上持つ材料としては、例えば、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
また、所望する分子量、分子構造を設計でき、形成されるハードコート層の物性のバランスを容易にとることが可能であるといった理由から、多官能ウレタンアクリレートを好適に用いることができる。
なお、「（メタ）アクリレート」とは「アクリレート」と「メタクリレート」の両方を示し例えば、「ウレタン（メタ）アクリレート」は「ウレタンアクリレート」と「ウレタンメタアクリレート」の両方を示すものとする。
【００３２】
光重合開始剤、選択した光重合性モノマーに応じて適宜好適なものを選択してよい。例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、などの光重合開始剤を用いてよい。
【００３３】
溶媒としては、組成物の安定性、塗工表面に対する濡れ性、揮発性などを考慮して適宜選択してよい。具体的には、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、２−メトキシエタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトンメチルイソブチル等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール等のグリコール類、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール等のグリコールエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、などを用いてもよい。また、溶媒は１種類のみならず２種類以上の溶媒を混合した混合溶媒であってもよい。
【００３４】
次に、ハードコート層形成用塗液を塗工し、乾燥させる。
【００３５】
塗工方法としては、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーターを用いた塗布方法を用いてよい。
【００３６】
次に、塗工したハードコート層形成用塗液に電離放射線を照射し、ハードコート層を形成する。
【００３７】
電離放射線は、選択した光重合開始剤に応じて適宜用いる電離放射線を選択してよい。電離放射線として、例えば、紫外線、電子線などを用いてよい。また、電離放射線を照射する際、大気、窒素やアルゴンなどの不活性ガスなど様々な雰囲気下で照射してもよい。また、電離放射線を照射するにあたり、紫外線を用いる場合、照射にあたり、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、無電極放電管、などを用いて行ってよい。
【００３８】
反射防止層は、ハードコート層と屈折率の異なる層であり、反射防止層を設けることにより、観察面である表示画面に対する外光などの反射を防止することが出来る。
【００３９】
また、反射防止層の膜厚は、所望する仕様に応じて適宜設計してよい。具体的には、例えば、９５ｎｍ以上１１０ｎｍ以下程度の範囲にあることが好ましい。ただし、本発明の反射防止フィルムにおける反射防止層の膜厚は上記範囲に限定されるものではない。
【００４０】
また、反射防止層の形成方法としては、反射防止層に選択した材料に応じて適宜公知の層形成方法を用いてよい。
以下、一例として、反射防止層形成用塗液を調整し、反射防止層形成用塗液を塗工し、乾燥し、電離放射線により硬化し、反射防止層を形成する方法について、具体的に説明を行う。
【００４１】
まず、反射防止層形成用塗液を調整する。反射防止層を形成する材料を適宜選択し、該材料を溶媒に拡散させる。例えば、反射防止層形成用塗液は、低屈折率粒子、撥水性能を有する材料、光重合性モノマー、光重合開始剤、などを溶媒に拡散した液であってもよい。
【００４２】
低屈折率粒子は、反射防止層の屈折率を制御するために選択される。低屈折率粒子として、例えば、｛ＬｉＦ、ＭｇＦ、３ＮａＦ・ＡｌＦ３、ＡｌＦ３（いずれも、屈折率１．４）｝、Ｎａ３ＡｌＦ６（氷晶石屈折率１．３３）、低屈折率シリカ粒子、などを用いてもよい。特に、低屈折率粒子として低屈折率シリカ粒子を用いることが好ましい。低屈折率シリカ粒子は、粒子の内部に空隙を有する低屈折率粒子であり、粒子の内部に空隙を有する粒子においては、空隙の部分を空気の屈折率（≒１）とすることができるため、非常に低い屈折率を備える低屈折率粒子とすることができる。低屈折率シリカ粒子としては、例えば、多孔質シリカ粒子、シェル構造のシリカ粒子、などが挙げられる。
【００４３】
低屈折率粒子に低屈折率シリカ粒子を用いる場合、低屈折率シリカ粒子の粒径は、１ｎｍ以上１００ｎｍ以下程度の範囲にあることが好ましく、５０ｎｍ以上８０ｎｍ以下程度の範囲にあることがより好ましい。低屈折率シリカ粒子の粒径が１００ｎｍを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、反射防止層１３が白化して反射防止フィルム１０の透明性が低下する傾向にある。一方、低屈折率シリカ粒子の粒径が１ｎｍ未満の場合、粒子の凝集による反射防止層における粒子の不均一性等の問題が生じる。
【００４４】
撥水性能を有する材料は、撥水性能を示す材料より適宜選択してよい。例えば、（１）アルキルアラルキル変性シリコーンオイル、アルキル変性シリコーンオイル、ポリエーテル変性シリコーンオイル、アルキルポリエーテル変性シリコーンオイル、などのシリコーン系材料、（２）アルキルアルコキシシラン化合物、シランシロキサン化合物、ポリエステル基を含有するシラン化合物、ポリエーテル基を有するシラン化合物、シロキサン化合物、などの有機ケイ素化合物、などを用いてもよい。
【００４５】
光重合性モノマーは、機械的強度などを考慮し適宜公知の材料より選択してよい。例えば、アクリル系材料を用いてもよい。アクリル系材料としては、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレートヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１、６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、「多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルなどの多官能の（メタ）アクリレート化合物」、「多価アルコール、多価イソシアネート及び水酸基含有アクリレートから合成されるような多官能のウレタン（メタ）アクリレート化合物」、などが挙げられる。
特に、官能基を３つ以上持つアクリル系材料は、硬度および硬化速度に優れることから、反射防止層に用いる材料として好ましい。官能基を３つ以上持つ材料としては、例えば、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
また、所望する分子量、分子構造を設計でき、形成される反射防止層の物性のバランスを容易にとることが可能であるといった理由から、多官能ウレタンアクリレートを好適に用いることができる。
なお、「（メタ）アクリレート」とは「アクリレート」と「メタクリレート」の両方を示し例えば、「ウレタン（メタ）アクリレート」は「ウレタンアクリレート」と「ウレタンメタアクリレート」の両方を示すものとする。
【００４６】
光重合開始剤は、選択した光重合性モノマーに応じて適宜好適なものを選択してよい。例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、などの光重合開始剤を用いてよい。
【００４７】
溶媒としては、組成物の安定性、塗工表面に対する濡れ性、揮発性などを考慮して適宜選択してよい。具体的には、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、２−メトキシエタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトンメチルイソブチル等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール等のグリコール類、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール等のグリコールエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、などを用いてもよい。また、溶媒は１種類のみならず２種類以上の溶媒を混合した混合溶媒であってもよい。
【００４８】
次に、反射防止層形成用塗液を塗工し、乾燥させる。
【００４９】
塗工方法としては、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーターを用いた塗布方法を用いてよい。
【００５０】
次に、塗工した反射防止層形成用塗液に電離放射線を照射し、ハードコート層を形成する。
【００５１】
電離放射線は、選択した光重合開始剤に応じて適宜用いる電離放射線を選択してよい。電離放射線として、例えば、紫外線、電子線などを用いてよい。また、電離放射線を照射する際、大気、窒素やアルゴンなどの不活性ガスなど様々な雰囲気下で照射してもよい。また、電離放射線を照射するにあたり、紫外線を用いる場合、照射にあたり、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、無電極放電管、などを用いて行ってよい。
【００５２】
遮蔽層は、遮蔽層は酸化ケイ素を含む層であり、ハードコート層に含まれるアミド化合物が他の層に浸透・拡散することを抑制するために設けられる。
【００５３】
また、遮蔽層の厚みは、２００ｎｍ以上３５０ｎｍ以下程度の範囲にあることが好ましい。形成される遮蔽層の膜厚が２００μｍに満たない場合、遮蔽層のアミド化合物に対するバリア性に影響し、偏光板の退色を抑制する効果を十分なものとすることができない。また、形成される遮蔽層の膜厚が３５０ｎｍを超える場合、遮蔽層の形成に時間を要し製造コストが増大するため好ましくない。
【００５４】
また、遮蔽層の形成方法としては、酸化ケイ素を含む層を好適に形成可能な方法を適宜公知の方法から選択して用いてよい。例えば、物理蒸着（ＰＶＤ）、化学蒸着（ＣＶＤ）、真空蒸着、などのドライコーティング法を用いて形成してよい。
以下、一例として、酸化ケイ素を含む蒸着材料を形成し、真空蒸着であるＥＢ蒸着により遮蔽層の形成を行う方法について説明を行う。
【００５５】
まず、酸化ケイ素を含む蒸着材料を形成する。（ａ）粉末のケイ素を金型に投入し、（ｂ）金型上部からプレス板を用いて加圧し、（ｃ）加圧され成型されたケイ素を金型から剥離し、（ｄ）成型されたケイ素を加熱炉にて酸素を注入しながら焼成することにより、粒状の酸化ケイ素が凝集された酸化ケイ素を含む蒸着材料を形成することが出来る。このとき、蒸着材料の最表面の酸化度は内部に比べ高い。このとき、酸化度は、酸素／ケイ素の比のことをいう。
【００５６】
また、酸化ケイ素を含む蒸着材料は、粒径が４５μｍ以上８５μｍ未満の範囲にある粒子状の酸化ケイ素よりなることが好ましい。酸化ケイ素の粒径が８５μｍ以上の場合、蒸着材料の最表面上の密度が粗くなることから、均一にＥＢ照射されず、均質な遮蔽層を形成できず好ましくない。また、酸化ケイ素の粒径が４５μｍ以下の場合、蒸着材料自体の密度が大きくなることから、ＥＢ照射時に蒸着材料自体が破損し、破片が蒸着対象へ衝突し、蒸着対象が破損する恐れがある。
【００５７】
次に、得られた酸化ケイ素を含む蒸着材料に真空下でエレクトロンビーム（ＥＢ）照射し、ＥＢ蒸着を行い、遮蔽層の形成することが出来る。
【００５８】
図２に、酸化ケイ素を含む蒸着材料を成型する工程を示す。
図２は、
（ａ）粉末のケイ素Ａを金型Ｂに投入する工程、
（ｂ）金型Ｂ上部からプレス板Ｃを用いて加圧Ｊする工程、
（ｃ）加圧され成型されたケイ素板Ｅを金型から剥離する工程、
（ｄ）剥離したケイ素板Ｅを加熱炉Ｆにて酸素Ｇを注入しながら焼成することにより、酸化ケイ素板Ｉを得る工程、を示す。
また、図２では、柱状の金型Ｂを用いることにより、柱状に成型されたケイ素柱Ｅ、柱形状に焼成された酸化ケイ素柱Ｈも併せて示す。
このとき、加圧Ｊは、１００ｋＮ以上２００ｋＮ以下程度の範囲の圧力であってもよい。また、加熱炉Ｆの焼成条件は、温度：１０００℃、加熱時間３０分以上６０分以下程度の範囲であってもよい。
【００５９】
また、本発明の反射防止フィルムは、平均視感反射率が０．５％以上１．５％以下の範囲内であることが好ましい。平均視感反射率が１．５％を越える場合は、反射防止性能が低下してしまい、外光の映り込みが発生しやすくなる。一方、平均視感反射率が０．４％未満の場合は、高い反射防止性能を実現するために高屈折率層、低屈折率を積層する必要がありコスト高となる。
【００６０】
また、本発明の反射防止フィルムは、全光線透過率が９５％以上であることが好ましい。全光線透過率が９５％未満の場合には、透過型液晶ディスプレイ等の画像装置の表面に設けるのに適さなくなってしまう。
【００６１】
また、本発明の反射防止フィルムは、反射防止層表面の表面抵抗値が１．０×１０５（Ω／ｃｍ２）以上１．０×１０１１（Ω／ｃｍ２）以下であることが好ましい。表面の表面抵抗値が１．０×１０１１（Ω／ｃｍ２）以下といった高い帯電防止性をハードコート層に付与するにあっては、金属粒子や金属酸化物粒子といった導電性粒子を用いて帯電防止性を有するハードコート層を形成する場合には相当量の導電性粒子を添加する必要があり、このとき、全光線透過率が低下してしまう。しかしながら、４級アンモニウム塩材料を用い、帯電防止性を有するハードコート層を形成するにあっては、良好な帯電防止性能を発現しかつ全光線透過率の低下を防ぐことができる。
【００６２】
また、本発明の反射防止フィルムは、ヘイズが０．０５％以上０．３％以下の範囲内とすることが好ましい。ヘイズを０．３％以下とすることにより、明所コントラストの高い反射防止フィルムとすることができる。ヘイズが０．３％を超える場合には、散乱による透過損失によって暗所での黒表示させた際の光モレを見かけ上抑制することが可能となるが、明所での黒表示の際に散乱によって黒表示が白ボケしてコントラストが低下してしまう。反射防止フィルムのヘイズは、小さいほうが好ましいが、０．０１％未満に作製することは困難である。
【００６３】
また、本発明の反射防止フィルムは、水蒸気バリア性が５．０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以上７．０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下程度の範囲にあることが好ましい。水蒸気バリア性が７．０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下を超える場合にあっては、反射防止フィルムとして偏光板の退色を抑制する効果を十分なものとすることができないことがある。また、本発明の反射防止フィルムにあっては、水蒸気バリア性が５．０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以上であることが好ましい。反射防止フィルムの水蒸気バリア性が５．０ｇ／ｍ２／ｄａｙを下回る場合にあっては、偏光板化した際に偏光層内の水分が反射防止フィルム内を透過することが困難となり、不具合が発生することがある。
【００６４】
以下、本発明の偏光板について説明を行う。
本発明の偏光板は、上述の反射防止フィルムの遮蔽層の形成面と反対側の透明基材上に偏光層を備える。
【００６５】
偏光層は、透過したとき偏光させる物性を示す材料を適宜公知の材料から選択して形成してよい。例えば、主として延伸配向したポリビニルアルコールフィルム及びその誘導体にヨウ素を配向させて吸着させることにより偏光性能を示すＰＶＡ偏光フィルム、などを用いてもよい。
【００６６】
図３に、本発明の偏光板２１０の一例を示す。
図３は、表層から見て、反射防止層１３／ハードコート層１２／遮蔽層１４／透明基材１１／がこの順で積層された反射防止フィルム１０において、遮蔽層１４の形成面と反対側の透明基材１１上に偏光層２３および偏光板透明基材２２を積層した偏光板２１０を示す概略図である。
【００６７】
以下、本発明の表示装置について説明を行う。
本発明の表示装置は、上述の偏光板を用いた表示装置である。
【００６８】
また、本発明の表示装置は、上述の偏光板の他に、他の機能性部材を備えても良い。他の機能性部材としては、例えば、バックライトから発せられる光を有効に使うための、拡散フィルム、プリズムシート、輝度向上フィルム、液晶セルや偏光板の位相差を補償するための位相差フィルム、などが挙げられる。
【００６９】
図４に、本発明の表示装置の一例を示す。
図４は、観察面である最表層からみて反射防止層１３／ハードコート層１２／遮蔽層１４／透明基材１１／偏光層２３／偏光板透明基材２２／がこの順で積層された偏光板２１０と、該偏光板２１０の下部に配置された液晶セル３０と、該液晶セル３０の下部に配置され、第１偏光板透明基材上層４１／第２偏光板偏光層４３／第２偏光板透明基材下層４２がこの順で積層された第２偏光板４０と、該第２偏光板の下部に配置されたバックライトユニット５０と、を備えた液晶セル３０を有する表示装置を示す概略図である。
【実施例】
【００７０】
＜実施例１＞
まず、透明基材上に、蒸着材料を真空蒸着し、遮蔽層を形成した。
このとき、透明基材は、トリ・アセチル・セルロース（Ｔｒｉ  Ａｃｅｔｙｌ  Ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ，ＴＡＣ）フィルムを用いた。また、蒸着材料は、粒径４５μｍの酸化ケイ素を成型加工し、焼成した蒸着材料とした。また、遮蔽層の厚みは２５０ｎｍとした。
【００７１】
次に、遮蔽層上に、ハードコート層形成用塗液を塗布し、乾燥し、紫外線照射し、透明なハードコード層を形成した。
このとき、遮蔽層の乾燥膜厚は１０μｍとした。また、紫外線照射は、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムズジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量２５０ｍＪ／ｍ２の条件で行った。また、用いたハードコート層形成用塗液の組成を以下に示す。
【００７２】
（ハードコート層形成用塗液：実施例１）
４級アンモニウム塩材料／メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド（共栄社製、ライトエステルＤＱ−１００）：２０重量部。
アミド化合物／Ｎ−ビニルホルムアミド（荒川化学製、ビームセット７７０）：１０重量部。
光重合性モノマー／ペンタエリスリトールテトラアクリレート：２５重量部。
光重合開始剤／イルガキュア１８４（ＢＡＳＦ製）：５重量部。
その他／ウレタンアクリレート：７５重量部、
酢酸メチル：５０重量部、
２−ブタノン：５０重量部。
【００７３】
次に、ハードコート層上に、反射防止層形成用塗液を塗布し、乾燥し、紫外線照射し、透明な反射防止層を形成した。
このとき、反射防止層の乾燥膜厚は１００ｎｍとした。また、紫外線照射は、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムズジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量２００ｍＪ／ｍ２の条件で行った。また、用いた反射防止層形成用塗液の組成を以下に示す。
【００７４】
（反射防止層形成用塗液：実施例１）
低屈折率粒子／シリカ粒子（平均粒子径５０ｎｍ）：３６重量部。
光重合性モノマー／ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート：１．６重量部。
撥水性能を有する材料／モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ製ＴＳＦ４４：０．２重量部。
光重合開始剤／イルガキュア１８４（ＢＡＳＦ製）：０．２重量部。
その他／イソプロピルアルコール：７２．２重量部。
メチルイソブチルケトン：１３．８重量部。
【００７５】
以上より、透明基材／遮蔽層／ハードコート層／反射防止層がこの順で積層された本発明の反射防止フィルムを得た。
【００７６】
次に、得られた反射防止フィルムに、ＰＶＡ偏光フィルムおよびトリ・アセチル・セルロース（Ｔｒｉ  Ａｃｅｔｙｌ  Ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ，ＴＡＣ）フィルムを貼付した。
以上より、本発明の反射防止フィルム／ＰＶＡ偏光フィルム／ＴＡＣフィルムがこの順で積層された本発明の偏光板を得た。
【００７７】
＜実施例２＞
実施例１と同様に偏光板を作成した。ただし、蒸着材料に用いた酸化ケイ素の粒径を６０μｍとした。
【００７８】
＜実施例３＞
実施例１と同様に偏光板を作成した。ただし、蒸着材料に用いた酸化ケイ素の粒径を３０μｍとした。
【００７９】
＜実施例４＞
実施例１と同様に偏光板を作成した。ただし、蒸着材料に用いた酸化ケイ素の粒径を８５μｍとした。
【００８０】
＜実施例５＞
実施例１と同様に偏光板を作成した。ただし、遮蔽層の膜厚を５０ｎｍとした。
【００８１】
＜比較例１＞
実施例１と同様に偏光板を作成した。ただし、反射防止フィルムの作成において、透明基材上に直接ハードコート層を形成し、遮蔽層がない構成とした。
【００８２】
＜評価＞
実施例１〜５および比較例１にて得られた偏光板について、（１）ヘイズ、（２）視感平均反射率、（３）表面抵抗値、（４）水蒸気バリア性、（５）偏光板の退色評価、の評価を行った。それぞれの検査条件を下記に示す。また、評価結果を表１にまとめる。
【００８３】
（ヘイズ）
得られた反射防止フィルムについて、ヘイズメーター（日本電色工業社製  、ＮＤＨ２０００）にてヘイズの測定を行った。
【００８４】
（視感平均反射率）
得られた反射防止フィルムの反射防止層表面について、自動分光光度計（日立製作所製、Ｕ−４１００、測定波長３６０〜８００ｎｍ）を用い、入射角５°における分光反射率を測定した。また、得られた分光反射率曲線から平均視感反射率を求めた。なお、測定の際には透明基材の反射防止層の形成されていない面につや消し黒色塗料を塗布し、反射防止の処置をおこなった。平均視感反射率は、可視光の各波長の反射率を比視感度により校正し、平均した反射率の値である。このとき、比視感度は明所視標準比視感度が用いられる。
【００８５】
（表面抵抗値）
得られた反射防止フィルムの反射防止層表面について、ＪＩＳ  Ｋ６９１１に準拠しての表面抵抗値を測定した。
【００８６】
（水蒸気バリア性）
得られた反射防止フィルムについて、ＪＩＳ  Ｚ０２０８に準拠して、４０℃、９０％の条件でカップ法により、水蒸気バリア性を測定した。
【００８７】
（偏光板の退色評価）
まず、評価対象の偏光板を６５℃−９５％、２００ｈｒの条件で加速劣化させた。
次に、暗室にて、予め作成したＴＡＣ／ＰＶＡ偏光フィルム／ＴＡＣ構成の偏光板と加速劣化させた偏光板とをランプの上部にてクロスニコルの状態にセットした。
次に、ランプの上部より、目視にて光漏れがあるかどうか評価した。
【００８８】
【表１】
2013073069.tif 000003
【００８９】
表１に示すように、遮蔽層を形成した実施例１〜５は、遮蔽層を形成していない比較例１と比較すると、偏光板の退色が抑制されていることが確認された。
【００９０】
また、酸化ケイ素の粒径が４５μｍより小さい実施例３は、粒径が４５μｍ以上８５μｍ未満の範囲にある実施例１〜２と比較すると、わずかに偏光板が退色していること確認された。
また、酸化ケイ素の粒径が８５μｍ以上である実施例４は、粒径が４５μｍ以上８５μｍ未満の範囲にある実施例１〜２と比較すると、偏光板の退色は同等に確認されなかったものの、遮蔽層が一部着色してしまい反射防止フィルムにはあまり適さないことが確認された。これは、粒径が大きいためにＥＢ照射による材料の消耗量が均一でないためであると考えられる。
また、遮蔽層が２００ｎｍ未満である実施例５は、遮蔽層が２００ｎｍ以上３５０ｎｍ以下の範囲にある実施例１〜２と比較すると、わずかに偏光板が退色していること確認された。これは、遮蔽層の厚みが薄いことにより、水蒸気バリア性が７．０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下の範囲となったためであると考えられる。
【００９１】
以上より、酸化ケイ素を含む遮蔽層を形成することで偏光板の退色が抑制されることが確認された。また、蒸着材料に４５μｍ以上８５μｍ未満の範囲にある粒子状の酸化ケイ素を用いることがより好ましいことが確認された。また、遮蔽層の厚みは、２００ｎｍ以上３５０ｎｍ以下の範囲にあることがより好ましいことが確認された。
【産業上の利用可能性】
【００９２】
本発明は、偏光板を用いる装置全般に対し広範に利用されることが期待できる。例えば、（１）ＣＲＴディスプレイ、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、ＥＬディスプレイなどの画像表示装置、（２）ガラス、プラスチックフィルムなどからなるウィンドウ、（３）光学レンズ、眼鏡などの表面に使用される偏光板、が挙げられる。
【符号の説明】
【００９３】
１０………反射防止フィルム
１１………透明基材
１２………ハードコート層
１３………反射防止層
１４………遮蔽層
２１０……偏光板
２２………偏光板透明基材
２３………偏光層
３０………液晶セル
４０………第２偏光板
４１………第２偏光板透明基材上層
４２………第２偏光板透明基材下層
４３………第２偏光板偏光層
５０………バックライトユニット
【図１】
2013073069.tif 000004
【図３】
2013073069.tif 000005
【図４】
2013073069.tif 000006
【図２】
2013073069.tif 000007