(57)【要約】      （修正有）【課題】反射防止層とハードコート層を一度の塗布工程で形成する反射防止フィルムにおいて、混合層における硬度の低下を抑制する手法及び反射防止フィルムを提供する。【解決手段】紫外線吸収剤を含まない透明基材１１と、透明基材１１と電離放射線硬化型材料からなるバインダーマトリックスとが混合した混合層１２ａと、バインダーマトリックスと低屈折粒子を含む偏在層１２ｃとからなる低屈折率ハードコート層１２とを備えることにより、混合層１２ａにおける高度の低下を抑制する反射防止フィルム１。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
反射防止フィルムであって、
紫外線吸収剤を含有しない透明基材と、
前記透明基剤の一方面側に設けられ、電離放射線硬化型材料を硬化させて形成されるバインダーマトリックスと、低屈折率粒子とを含む低屈折率ハードコート層とを備え、
前記低屈折率ハードコート層は、
前記透明基材と前記バインダーマトリックスが混じりあった混合層と、
前記バインダーマトリックスと、前記低屈折率粒子とを含む偏在層とを有する、反射防止フィルム。
【請求項２】
前記透明基材が、トリアセチルセルロースであることを特徴とする、請求項１記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
前記電離放射線硬化型材料を硬化させるために用いる電離放射線開始剤が、ＵＶＡまたはＵＶＢを吸収する性質を持ち、かつフォトブリーチングしないものであることを特徴とする、請求項１または請求項２に記載の反射防止フィルム。
【請求項４】
偏光板であって、
請求項１〜３のいずれかに記載の反射防止フィルムと、
前記反射防止フィルムの前記低屈折率ハードコート層とは反対側の面に設けられる偏光層と、
前記反射防止フィルムとの間に前記偏光層を挟み込む第２の透明基材とを備えることを特徴とする、偏光板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、窓やディスプレイなどの表面に外光が反射することを防止することを目的として設けられる反射防止フィルムに関する。特に、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、ＣＲＴディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、表面電界ディスプレイ（ＳＥＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）などのディスプレイの表面に設けられる反射防止フィルムに関する。特に、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）表面に設けられる反射防止フィルムに関する。さらには、透過型液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）表面に設けられる反射防止フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
一般にディスプレイは、室内外での使用を問わず、外光などが入射する環境下で使用される。この外光などの入射光は、ディスプレイ表面において正反射され、入射光の反射による反射像がディスプレイの表示画像と混合することにより、画面表示品質を低下させてしまう。そのため、ディスプレイ表面に反射防止機能を付与することは必須であり、反射防止機能の高性能化、反射防止機能以外の機能の複合化が求められている。
【０００３】
一般に反射防止機能は、透明基材上に、金属酸化物などの透明材料からなる高屈折率層と低屈折率層の繰り返し構造からなる多層の反射防止層を形成することで得られる。この多層構造からなる反射防止層は、化学蒸着（ＣＶＤ）法や、物理蒸着（ＰＶＤ）法といった乾式成膜法により形成することができる。乾式成膜法を用いて反射防止層を形成する場合にあっては、低屈折率層、高屈折率層の膜厚を精密に制御できるという利点がある。一方、成膜を真空中でおこなうため、生産性が低く、大量生産に適していないという問題を抱えている。これに対し、反射防止層の形成方法として、大面積化、連続生産、低コスト化が可能となる、塗液を用いた湿式成膜法が注目されている。
【０００４】
また、反射防止層がフィルム状の透明基材上に設けられている反射防止フィルムにあっては、その表面が比較的柔軟であることから、表面硬度を付与するために、一般にアクリル系の電離放射線硬化型材料を硬化させて得られるハードコート層を透明基材の一方面側に設け、ハードコート層の透明基材とは反対面側に反射防止層を形成するという手法が用いられている。このハードコート層はアクリル系材料により、高い表面硬度、光沢性、透明性、耐擦傷性を有する。
【０００５】
湿式成膜法によって反射防止層を形成する場合、アクリル系の電離放射線硬化型材料を硬化して得られるハードコート層の透明基材とは反対面側に少なくとも低屈折率層を塗布して製造するものであり、乾式成膜法に比べ安価に製造できるメリットがあり、市場に広く出まわっている。
【０００６】
さらなる製造の低コスト化のため、近年反射防止層とハードコート層を一度の塗布工程で形成することができる硬化性組成物が提案されている（例えば、特許文献７、８参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００５−２０２３８９号公報
【特許文献２】特開２００５−１９９７０７号公報
【特許文献３】特開平１１−９２７５０号公報
【特許文献４】特開２００７−１２１９９３号公報
【特許文献５】特開２００５−１４４８４９号公報
【特許文献６】特開２００６−１５９４１５号公報
【特許文献７】特開２０１０−２３７６４８号公報
【特許文献８】特開２０１１−１３３８４２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、特許文献７、８に記載の製造法によって得られるハードコート層は、バインダーマトリックスと透明基材とが混ざり合った混合層で構成されるため、バインダーマトリックスが透明基材由来の成分で希釈されることに加え、透明基材中の紫外線吸収剤により照射した紫外線が吸収されて紫外線光量不足となり、重合反応によるバインダーマトリックスの硬化が十分に進まず、硬度が不足するという問題がある。
【０００９】
本発明は、反射防止層とハードコート層を一度の塗布工程で形成した反射防止フィルムであって、ハードコート層の硬度低下が抑制された反射防止フィルム及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
反射防止フィルムであって、紫外線吸収剤を含有しない透明基材と、透明基剤の一方面側に設けられ、電離放射線硬化型材料を硬化させて形成されるバインダーマトリックスと、低屈折率粒子とを含む低屈折率ハードコート層とを備え、低屈折率ハードコート層は、
透明基材とバインダーマトリックスが混じりあった混合層と、バインダーマトリックスと、低屈折率粒子とを含む偏在層とを有する。
【００１１】
また、透明基材がトリアセチルセルロースであることを特徴とする。
【００１２】
さらに、電離放射線硬化型材料を硬化させるために用いる電離放射線開始剤が、ＵＶＡまたはＵＶＢを吸収する性質を持ち、かつフォトブリーチングしないものであることを特徴とする。
【００１３】
また、偏光板であって、上述の反射防止フィルムと、反射防止フィルムの低屈折率ハードコート層とは反対側の面に設けられる偏光層と、反射防止フィルムとの間に偏光層を挟み込む第２の透明基材とを備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の反射防止フィルムは、紫外線吸収剤を含まない透明基材を用いているため、混合層における重合反応に必要な紫外線光量を確保でき、電離放射線硬化型材料の硬化を十分に行うことができるため、混合層における硬度の低下を抑えることができる。
【００１５】
また、本発明の反射防止フィルムは、電離放射線開始剤が、ＵＶＡ、ＵＶＢを吸収する性質を持つため、紫外線吸収剤を含まない透明基材を用いても、紫外線による偏光板の劣化を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の反射防止フィルムの断面を示す模式図
【図２】透明基材に塗液を塗工直後のフィルムの断面を示す模式図
【図３】反射防止フィルム形成途中におけるフィルムの断面を示す模式図
【図４】本発明の反射防止フィルムを用いた偏光板の断面を示す模式図
【発明を実施するための形態】
【００１７】
図１に、本発明の反射防止フィルム１の断面を模式的に示す。反射防止フィルム１には、透明基材１１の少なくとも一方面側に低屈折率ハードコート層１２を備える。低屈折率ハードコート層１２は、電離放射線硬化型材料を硬化させて形成されるバインダーマトリックスと、低屈折率粒子とを備える。低屈折率ハードコート層１２は、電離放射線硬化型材料を硬化させて形成されるバインダーマトリックスを備えることから、反射防止フィルム１表面に高い表面硬度を付与することができ、耐擦傷性に優れた反射防止フィルム１とすることができる。
【００１８】
また、透明基材１１には、紫外線吸収剤を含まない材質を使用することにより、混合層１２ａにおける重合反応に必要な紫外線光量を確保でき、電離放射線硬化型材料の硬化を十分に行うことができ、混合層１２ａにおける硬度の低下を抑えることができる。透明基材１１は、紫外線吸収剤を含まないトリアセチルセルロースフィルムからなることが好ましい。トリアセチルセルロースフィルムは、複屈折率が小さく、透明性が良好なフィルムである。特に、反射防止フィルム１を液晶ディスプレイ表面に設ける場合、透明基材としてトリアセチルセルロースフィルムを好適に用いることができる。
【００１９】
ここで、紫外線吸収剤とは紫外線を吸収することを目的に添加された化合物のことを指す。例えば、ベンゾフェノン誘導体、ベンゾトリアゾール誘導体、安息香酸誘導体、ヒドロキシフェニルトリアジン誘導体などが挙げられる。
【００２０】
低屈折率ハードコート層１２が備えるバインダーマトリックスとは、低屈折率ハードコート層１２において、低屈折率粒子以外の部分を指す。低屈折率ハードコート層形成用塗液を透明基材１１に塗布することにより低屈折率ハードコート層１２を形成する。低屈折率ハードコート層形成用塗液に含まれる固形分のうち、低屈折率粒子を除いたものをバインダーマトリックス形成材料とする。バインダーマトリックス形成材料は電離放射線硬化型材料を含むため、電離放射線を照射することにより硬化し、バインダーマトリックスとなる。
【００２１】
反射防止フィルム１において、低屈折率粒子が偏在層１２ｃに偏在しているため、低屈折率層を別に設ける場合と比較して、少量の低屈折率粒子で反射防止機能を発現させることができる。
【００２２】
図２に、透明基材１１にハードコート層形成用塗液１３を塗工した直後のフィルムの断面を模式的に示し、図３に、反射防止フィルム１形成途中におけるフィルムの断面を模式的に示す。反射防止フィルム１を製造するために、まず、透明基材１１の一方面側に、低屈折率層ハードコート層形成用塗液１３を塗布する。低屈折率ハードコート層形成用塗液１３には、透明基材１１を溶解あるいは膨潤させる溶剤が含まれており、この溶剤により、透明基材１１の一部が溶解あるいは膨潤する。透明基材１１が溶解あるいは膨潤するにともない、ハードコート層形成用塗液１３と、溶解あるいは膨潤した透明基材１１とが混合され、まず、中間層１２ｂが形成される。ここで、中間層１２ｂとは、バインダーマトリックスと、低屈折率粒子と、透明基材１１の成分とから構成され、低屈折率ハードコート層１２の生成過程の初期に現れる層のことを指す。その後、ハードコート層形成用塗液１３中のバインダーマトリックス形成材料と、溶剤とが透明基材１１に浸透し、バインダーマトリックス形成材料と透明基材１１を形成している材料の混合が進むことで混合層１２ａが形成される。一方、低屈折粒子は透明基材１１には浸透しにくいため、透明基材１１側とは反対の低屈折率ハードコート層１２表面側へと偏析し、偏在層１２ｃを形成する。
【００２３】
中間層１２ｂが存在する場合では、低屈折率粒子が偏在層１２ｃと中間層１２ｂに分散しているため、反射防止機能が十分に発現しない。
【００２４】
したがって、反射防止フィルム１の低屈折率ハードコート層１２の層構成として、低屈折率粒子が偏在している偏在層１２ｃと、低屈折率粒子が実質的に存在しない混合層１２ａとからなることが好ましい。ここで、「低屈折率粒子が実質的に存在しない」とは、低屈折率粒子が存在しないか、あるいは、偏在層１２ｃの反射防止機能を損なわない程度に僅かに存在する状態をいう。
【００２５】
また、反射防止フィルム１にあっては、低屈折率ハードコート層形成用塗液１３を透明基材１１上に一度塗布することにより、主にハードコート機能を備える混合層１２ａだけでなく、低屈折率層として機能する偏在層１２ｃを形成することができる。したがって、透明基材１１上にハードコート層及び低屈折率層を順次塗布・形成した場合と比較して、製造コストを抑えることができる。
【００２６】
次に、反射防止フィルム１を用いた偏光板について説明する。図４に反射防止フィルム１を用いた偏光板２の断面を模式的に示す。偏光板２は２つの透明基材（第１の透明基材１１及び第２の透明基材２２）間に偏光層２３が狭持された構造をとる。偏光板２にあっては、反射防止フィルム１を構成する第１の透明基材１１の一方面側に低屈折率ハードコート層１２が設けられ、他方面側に、偏光層２３、第２の透明基材２２を順に備える。すなわち、反射防止フィルム１を構成する第１の透明基材１１が、偏光層２３を狭持するための透明基材を兼ねる構造となっている。偏光層２３としては、例えば、ヨウ素を加えた延伸ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）を用いることができる。また、第２の透明基材２２としては、反射防止フィルム１に透明基材１１として用いる基材を選択することができ、トリアセチルセルロースからなるフィルムを好適に用いることができる。
【００２７】
従来、透明基材に含まれる紫外線吸収剤は、偏光板を紫外線から保護する役割を持つ。偏光板では、偏光板を構成するポリビニルアルコール中に含まれるヨウ素化合物が、ポリビニルアルコールと共に一定方向に配向することで偏光の機能が発現する。しかしながら、偏光板に紫外線が照射されるとヨウ素化合物の配列が乱れ、偏光機能が失活する。
【００２８】
反射防止フィルム１は紫外線吸収剤を含まない透明基材１１を用いるため、反射防止フィルム１を偏光板２の表層フィルム用途に用いる場合は、電離放射線硬化型材料を硬化させるために用いる電離放射線開始剤として、紫外線を吸収する性質を持ち、かつフォトブリーチングしないものを用いることが望ましい。上記の性質を有する電離放射線開始剤は、硬化反応後、バインダーマトリックス内で紫外線を吸収する役割を担い、紫外線吸収剤を含まない透明基材１１を用いても、紫外線による偏光板の劣化を抑制することができる。
【００２９】
反射防止フィルム１及びその製造方法についてさらに詳細に説明する。低屈折率ハードコート層形成用塗液１３を紫外線により硬化させる場合、低屈折率ハードコート層形成用塗液１３に電離放射線開始剤を添加する。電離放射線開始剤としては、ＵＶＡ、ＵＶＢを吸収する性質を持ち、かつフォトブリーチングしない電離放射線開始剤を用いる。
【００３０】
電離放射線開始剤の添加量は、電離放射線硬化型材料１００重量部に対して０．１重量部以上１０重量部以下の範囲内であることが好ましく、さらには１重量部以上７重量部以下であることがより好ましい。
【００３１】
上記添加量において、ＵＶＡ，ＵＶＢの吸収が十分に行われる電離放射線開始剤としては、例えば４，４‘−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、４，４’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノンなどのジアルキルアミノベンゾフェノン誘導体、（±）‐カンファキノンなどのカンファキノン誘導体、Ｓｈｅｒｗｉｎ−Ｗｉｌｌｉａｍｓ社製のＵｌｔｒａｃｕｒｅ  ＣＴＸ、Ｕｌｔｒａｃｕｒｅ  ＤＴＸ、Ｗａｒｄ−Ｂｌｅｎｋｉｎｓｏｐ社製のＱｕａｎｔａｃｕｒｅ  ＩＴＸ、イソプロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントンなどのチオキサンソン誘導体、ＢＡＳＦ社製のＴＢＡ、２−エチルアントラキノンなどのアントラキノン誘導体、チバ・ジャパン社製のイルガキュア  ＯＸＥ０１、イルガキュア  ＯＸＥ０２などのオキシムエステル誘導体などを用いることができる。特に、オキシムエステル誘導体を用いることが好ましい。
【００３２】
反射防止フィルム１における透明基材１１としては、種々の有機高分子からなるフィルムまたはシートを用いることができる。例えば、ディスプレイなどの光学部材に通常使用される基材が挙げられ、透明性や光の屈折率などの光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性を考慮して、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファンなどのセルロース系、６−ナイロン、６，６−ナイロンなどのポリアミド系、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系、ポリビニルアルコールなどの有機高分子からなるものを用いることができる。特に、トリアセチルセルロース、ポリメチルメタクリレートを用いることが好ましい。さらに、トリアセチルセルロースにあっては、複屈折率が小さく、透明性が良好であることから液晶ディスプレイに好適に用いることができる。
【００３３】
なお、透明基材１１の厚みは２５μｍ以上２００μｍ以下の範囲内にあることが好ましく、さらには、４０μｍ以上８０μｍ以下の範囲内にあることがより好ましい。
【００３４】
さらに、透明基材１１は、上記の有機高分子に、紫外線を吸収する性質を持たない公知の添加剤、例えば、赤外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤などを添加することにより機能を付加したものを使用してもよい。また、透明基材１１は、上記の有機高分子から選ばれる１種または２種以上の混合物、または重合体からなるものでもよく、複数の層を積層させたものであってもよい。
【００３５】
次に、低屈折率ハードコート層１２の形成方法について述べる。反射防止フィルム１において、透明基材１１上に、電離放射線硬化型材料を含むバインダーマトリックス形成材料と低屈折率粒子と溶媒とを含有する低屈折率ハードコート層形成用塗液１３を塗布して塗膜を形成する工程と、塗膜を乾燥させる工程と、乾燥した塗膜に電離放射線を照射して低屈折率ハードコート層１２を形成する工程とにより、低屈折率層として機能する偏在層１２ｃを備えた低屈折率ハードコート層１２を形成する。
【００３６】
低屈折率粒子としては、ＬｉＦ、ＭｇＦ、３ＮａＦ・ＡｌＦまたはＡｌＦ（いずれも、屈折率１．４）、または、Ｎａ３ＡｌＦ６（氷晶石、屈折率１．３３）などの低屈折材料からなる低屈折率粒子を用いることができる。また、粒子内部に空隙を有する粒子を好適に用いることができる。粒子内部に空隙を有する粒子は、空隙の部分を空気の屈折率（≒１）とすることができるため、非常に低い屈折率を備える低屈折率粒子とすることができる。具体的には、内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子を用いることができる。また、粒子内部に空隙を有する粒子は透明基材１１成分には分散しづらいため、低屈折率ハードコート層１２を構成するバインダーマトリックス形成材料が透明基材１１へ浸透する際に、中間層１２ｂ形成後にバインダーマトリックス形成材料と透明基材１１成分が十分に混じりあい、混合層１２ａが形成される際に、混合層１２ａから押し出される。これより、粒子内部に空隙を有する粒子が偏在した偏在層１２ｃを形成することができる。
【００３７】
また、低屈折率粒子の粒径が１ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましい。粒径が１００ｎｍを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、低屈折率ハードコート層１２が白化して反射防止フィルム１の透明性が低下する傾向にある。一方、粒径が１ｎｍ未満の場合、粒子が凝集して低屈折率ハードコート層１２における粒子の分散が不均一になるなどの問題が生じることがある。上記の低屈折率粒子は、各々単独で用いても、材料や粒径の異なる複数種類を組み合わせて用いてもよい。
【００３８】
低屈折率ハードコート層１２を形成するためのバインダーマトリックス形成材料は、電離放射線硬化型材料を含む。電離放射線硬化型材料としては、アクリル系材料を好適に用いることができる。アクリル系材料としては、多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルのような単官能または多官能の（メタ）アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコール及びアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシエステルなどから合成されるような多官能のウレタン（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。また、これらの他にも、電離放射線硬化型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂などを用いることができる。
【００３９】
なお、本発明において「（メタ）アクリレート」とは「アクリレート」と「メタクリレート」の両方を示している。たとえば、「ウレタン（メタ）アクリレート」は「ウレタンアクリレート」と「ウレタンメタクリレート」の両方を示している。
【００４０】
（メタ）アクリレート化合物としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートなどの単官能の（メタ）アクリレート化合物、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレートなどの二官能の（メタ）アクリレート化合物、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレートなどの三官能以上の（メタ）アクリレート化合物などが挙げられるがこの限りではない。
【００４１】
また、アクリル系材料として、多官能ウレタンアクリレートを用いることもできる。ウレタンアクリレートは、多価アルコール、多価イソシアネート及び水酸基含有アクリレートを反応させることによって得られる。具体的には、共栄社化学社製、ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−３０６Ｉなど、日本合成化学社製、ＵＶ−１７００Ｂ、ＵＶ−６３００Ｂ、ＵＶ−７６００Ｂなど、新中村化学社製、Ｕ−４ＨＡ、Ｕ−６ＨＡ、Ｕ−３２４Ａなど、ダイセルユーシービー社製、Ｅｂｅｃｒｙｌ−１２９０、Ｅｂｅｃｒｙｌ−５１２９など、根上工業社製、ＵＮ−３２２０ＨＡ、ＵＮ−３２２０ＨＳなどを挙げることができるが、この限りではない。
【００４２】
また、これらの他にも、電離放射線硬化型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂などを用いることができる。
【００４３】
低屈折率ハードコート層形成用塗液１３は、透明基材１１を溶解または膨潤させる溶媒を含む。
【００４４】
透明基材１１として、トリアセチルセルロースフィルムを用いる場合、透明基材１１を溶解または膨潤させる溶媒としては、例えば、ジブチルエーテル、ジオキサン、ジオキソランなどのエーテル類、またアセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノンなどの一部のケトン類、また酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ペンチルなどのエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブなどのセロソルブ類、その他としてＮ−メチル−２−ピロリドン（Ｎ−メチルピロリドン）、炭酸ジメチルが挙げられる。また、上記溶媒は１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００４５】
また、透明基材１１として、トリアセチルセルロースフィルムを用いる場合、透明基材１１を溶解または膨潤させない溶媒としては、例えば、エタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサンなどの炭化水素類、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、ジアセトンアルコールなどの一部のケトン類などが挙げられる。また、上記溶媒は１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００４６】
バインダーマトリックス形成材料としては、電離放射線硬化型材料の他に熱可塑性樹脂などを加えてもよい。熱可塑性樹脂としては、アセチルセルロース、ニトロセルロース、アセチルブチルセルロース、エチルセルロース、メチルセルロースなどのセルロース誘導体、酢酸ビニル及びその共重合体、塩化ビニル及びその共重合体、塩化ビニリデン及びその共重合体などのビニル系樹脂、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラールなどのアセタール樹脂、アクリル樹脂及びその共重合体、メタクリル樹脂及びその共重合体などのアクリル系樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂、線状ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂などを用いることができる。熱可塑性樹脂を加えることにより、製造されるフィルムのカールを抑制することができる。
【００４７】
また、低屈折率ハードコート層形成用塗液１３には添加剤として、表面調整剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、硬化剤などを加えてもよい。
【００４８】
上記の材料を含む低屈折率ハードコート層形成用塗液１３は透明基材１１上に塗布され、塗膜を形成する。低屈折率ハードコート層形成用塗液１３を透明基材１１上に塗布するための方法としては、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーターを用いた塗布方法を採用することができる。塗布方法としては、特に限定さえるものではない。
【００４９】
次に、透明基材１１上に形成された低屈折率ハードコート層１２となる塗膜は乾燥工程により、塗膜中の溶媒が除去される。このとき乾燥手段としては、加熱、送風、熱風などを採用することができる。乾燥手段としては、特に限定されるものではない。
【００５０】
低屈折率ハードコート層形成用塗液１３を透明基材１１上に塗布することにより形成した塗膜に対し、電離放射線を照射することにより、低屈折率ハードコート層１２が形成される。電離放射線としては、紫外線、電子線を用いることができる。紫外線硬化の場合は、高圧水銀灯、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク、キセノンアークなどの光源を採用することができる。また、電子線硬化の場合はコックロフトワルト型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型などの各種電子線加速器から放出される電子線を最小することができる。電子線は、５０〜１０００ＫｅＶのエネルギーを有するのが好ましい。さらに、１００〜３００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線がより好ましい。
【００５１】
低屈折率ハードコート層１２は、ロール・ツー・ロール方式により連続形成される。ウェブ状の透明基材１１を塗布装置の巻き出し部から巻き取り部まで連続走行させるときに、透明基材１１を塗布ユニット、乾燥ユニット、電離放射線照射ユニットを通過させることにより、透明基材１１上に低屈折率ハードコート層１２を連続形成する。
【実施例】
【００５２】
（実施例１）
＜透明基材＞
透明基材として、厚さ６０μｍ、紫外線吸収剤を含まないトリアセチルセルロースフィルム（ＺＲＤ６０）（屈折率１．４９）を用意した。
＜低屈折率ハードコート層の形成＞
内部に空隙を有する低屈折率シリカ微粒子分散液（一次粒子径６０ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／メチルイソブチルケトン分散）０．３重量部と、電離放射線硬化型材料として、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）１３．３重量部と、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥ４Ａ）（共栄社化学社製）１３．３重量部と、電離放射線開始剤として、イルガキュアＯＸＥ０２（チバ・ジャパン社製）１．５重量部と、溶媒として、酢酸メチルと、エタノールと、メチルイソブチルケトンとを重量比で５：４：１の割合で混合した混合溶媒６８．８重量部とを混合することにより固形分３０ｗｔ％の低屈折率ハードコート層形成用塗液を得た。上記で、得られた塗液を透明基材上にワイヤーバーコーターにより塗布し、塗膜を形成し、３０秒２５℃で室温乾燥をおこなった。その後、オーブンで８０℃１分乾燥をおこない、乾燥後、コンベア式紫外線硬化装置で露光量４００ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射をおこなうことにより、透明基材上に厚さ５μｍの低屈折率ハードコート層を形成した。上記より、紫外線吸収剤を含まない透明基材上に、低屈折率ハードコート層を備える反射防止フィルムを作製した。
【００５３】
（実施例２)
電離放射線硬化型材料として、ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥ３Ａ）１３．３重量部と、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥ４Ａ）（共栄社化学社製）１３．３重量部とを用いた以外は、実施例１と同様の条件・操作により、反射防止フィルムを作製した。
【００５４】
（実施例３）
電離放射線開始剤として、Ｕｌｔｒａｃｕｒｅ  ＣＴＸ(Ｓｈｅｒｗｉｎ−Ｗｉｌｌｉａｍｓ社製)を用いた以外は、実施例１と同様の条件・操作により、本発明の反射防止フィルムを作製した。
【００５５】
(実施例４)
溶媒として、ジオキソランと、メタノールと、メチルブチルケトンとを重量比で５：４：１の割合で混合した混合溶媒６８．８重量部を用いた以外は、実施例１と同様の条件・操作により、本発明の反射防止フィルムを作製した。
【００５６】
(比較例１)
透明基材として、紫外線吸収剤を含むトリアセチルセルロースフィルム(ＴＤ６０ＵＬＰ)（屈折率１．４９）を用いた以外は、実施例１と同様の条件・操作により、本発明の反射防止フィルムを作製した。
【００５７】
(比較例２)
電離放射線開始剤として、イルガキュア８１９（チバ・ジャパン社製）１．５重量部を用いた以外は、実施例１と同様の条件・操作により、本発明の反射防止フィルムを作製した。
【００５８】
上記で作製した反射防止フィルムについて、以下の測定・評価をおこなった。
【００５９】
・鉛筆硬度の測定
異なる硬度の鉛筆を用いて、５００ｇ荷重下での傷の有無を判定した。評価基準として、鉛筆硬度が２Ｈ以上の場合を「○」、鉛筆硬度が２Ｈより低い場合を「×」とした。
【００６０】
・紫外線透過率の測定 
自動分光光度計（日立製作所製、Ｕ−４０００）を用い、ＵＶＡ，ＵＶＢの範囲でサンプルの紫外線透過率を測定した。測定領域の透過率のうち、最も高い値をもって紫外線透過率とした。この値が小さいほど、紫外線吸収能が優れることを意味する。
【００６１】
表１に、鉛筆硬度、紫外線透過率の測定結果を示す。
【００６２】
【表１】
2013231836.tif 000003
【００６３】
表１より、比較例１は透明基材に含まれる紫外線吸収剤により、混合層におけるバインダーマトリックスの重合反応に必要な紫外線光量が不足し、硬化不足となり、鉛筆硬度はＨに留まった。また、比較例２では、電離放射線開始剤にフォトブリーチングを起こすものを用いたため、反射防止フィルムに紫外線を吸収する成分が存在しない。そのため、紫外線透過率が極めて高くなった。
【００６４】
これに対し、実施例で得られた反射防止フィルムにあっては、混合層中の透明基材由来の紫外線吸収剤がないため、混合層においても硬化が十分に進行し、鉛筆硬度は２Ｈとなった。また、電離放射線開始剤がフォトブリーチングをしないものであるため、紫外線を吸収する役割を担うことが確認できた。また、電離放射線開始剤の中で、オキシムエステル誘導体が特に高い紫外線を吸収する性質を持つことが確認できた。したがって、本発明により、耐擦傷性と紫外線の耐光性に優れ、製造コストを抑えた反射防止フィルムを作製することができることが確認できた。
【産業上の利用可能性】
【００６５】
本発明の反射防止フィルムは、液晶ディスプレイなどの各種ディスプレイの光学物品に用いられる反射防止フィルムとして利用できる。
【符号の説明】
【００６６】
１    反射防止フィルム
１１    透明基材
１２    低屈折率ハードコート層
１２ａ    混合層
１２ｂ    中間層
１２ｃ    偏在層
１３    塗液
２    偏光板
２２    第２の透明基材
２３    偏光層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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