(57)【要約】【課題】光透過性を確保することが容易であるとともに、汚れの付着を抑制する効果を発揮させることの容易な光触媒塗工液、太陽光発電システム用カバー、及びその製造方法を提供する。【解決手段】光触媒塗工液は光触媒微粒子、金属酸化物系バインダー及びシリカ微粒子を含有し、光触媒塗膜の屈折率が１．５以下とされるべく、光触媒微粒子として屈折率が２．２以下の微粒子を含有する。光触媒塗工液は屈折率が１．５以下とされる太陽光発電システム用のカバー本体に適用される。太陽光発電システム用カバーはガラス製のカバー本体と光触媒塗膜とを有し、その塗膜の屈折率はカバー本体の屈折率と一致される。太陽光発電システム用カバーは樹脂製のカバー本体と中間層と光触媒塗膜を有し、その塗膜の屈折率は中間層及びカバー本体の屈折率と一致される。太陽光発電システム用カバーの製造方法は光触媒塗工液の塗布により光触媒塗膜を形成する工程を備える。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
屈折率が１．５以下とされる太陽光発電システム用のカバー本体に適用される光触媒塗工液であって、
光触媒微粒子、金属酸化物系バインダー、及びシリカ微粒子を含有してなり、前記光触媒塗工液から得られる光触媒塗膜の屈折率が１．５以下とされるべく、前記光触媒微粒子として、屈折率が２．２以下の微粒子を含有させることを特徴とする光触媒塗工液。
【請求項２】
前記屈折率が２．２以下の微粒子として、酸化亜鉛（ＺｎＯ）微粒子、酸化スズ（ＳｎＯ２）微粒子、酸化タングステン（ＷＯ３）微粒子、及び酸化ビスマス（Ｂｉ２Ｏ３）微粒子から選ばれる少なくとも一種を含有することを特徴とする請求項１に記載の光触媒塗工液。
【請求項３】
屈折率が１．５以下のカバー本体と光触媒塗膜とを有してなり、前記光触媒塗膜が太陽光発電システムの受光面を形成する太陽光発電システム用カバーであって、
前記カバー本体はガラス製であり、
前記光触媒塗膜は、光触媒微粒子、金属酸化物系バインダー、及びシリカ微粒子を含有してなり、
前記光触媒微粒子として屈折率が２．２以下の微粒子を含有させることで、前記光触媒塗膜の屈折率を前記カバー本体の屈折率と一致させてなることを特徴とする太陽光発電システム用カバー。
【請求項４】
屈折率が１．５以下のカバー本体と光触媒塗膜とを有してなり、前記光触媒塗膜が太陽光発電システムの受光面を形成する太陽光発電システム用カバーであって、
前記カバー本体は樹脂製であり、
前記光触媒塗膜は、光触媒微粒子、金属酸化物系バインダー、及びシリカ微粒子を含有してなり、
前記太陽光発電システム用カバーは、前記光触媒微粒子により生じる酸化力から前記カバー本体を保護する中間層を有し、
前記中間層は、前記カバー本体と前記光触媒塗膜との間に設けられ、
前記光触媒微粒子として屈折率が２．２以下の微粒子を含有させることで、前記光触媒塗膜の屈折率を前記中間層の屈折率及び前記カバー本体の屈折率と一致させてなることを特徴とする太陽光発電システム用カバー。
【請求項５】
請求項３又は請求項４に記載の太陽光発電システム用カバーの製造方法であって、光触媒塗工液の塗布により前記光触媒塗膜を形成する工程を備え、
前記光触媒塗工液は、光触媒微粒子、金属酸化物系バインダー、及びシリカ微粒子を含有し、前記光触媒微粒子として屈折率が２．２以下の微粒子を含有することを特徴とする太陽光発電システム用カバーの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、太陽光発電システム用のカバー本体に適用される光触媒塗工液、光触媒塗膜を有する太陽光発電システム用カバー、その太陽光発電システム用カバーの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、太陽光発電システムは、受光面への汚れの付着を要因として、発電効率が経時的に低下する傾向がある。例えば、交通量が激しく排ガス汚れが付着し易い都市部、交通の要衝地域、砂塵汚れの付着が激しい乾燥地域等に太陽光発電システムを設置した場合、発電効率の低下する傾向が顕著となる。こうした太陽光発電システムの受光面は頻繁に洗浄されることで、発電効率は維持され易くなるものの、その洗浄に手間を要するうえ、受光面に傷を付けるおそれがある。また、スプリンクラー等の自動散水設備を用いて受光面を定期的に洗浄することで、発電効率は維持され易くなるものの、汚れを十分に除去できず、結果として発電効率を十分に回復することが困難となっている。
【０００３】
一方、酸化チタン光触媒を含有する光触媒塗工液から得られる光触媒塗膜は、防汚性を発現することが知られている。特許文献１には、酸化チタン光触媒を含有する光触媒塗工液から得られる光触媒塗膜の用途の一つとして太陽電池が記載されている。また、特許文献２では、有機基材と光触媒塗膜との間に介在させる中間膜用として用いられる材料として、有機−無機複合傾斜材料が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】国際公開２００４／０９６９３５号パンフレット
【特許文献２】特開２０００−３３６２８１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
太陽光発電システム用カバーは、光透過性を確保するというという観点から、屈折率が１．５以下の材料から形成されることが好適である。また、太陽電池用カバーに対する汚れの付着を抑制するために、光触媒塗膜を設けることが好適である。ここで、光触媒塗膜に含有させる光触媒としては、一般に酸化チタン光触媒が用いられる。ところが、酸化チタン光触媒を用いた場合、太陽光発電システム用カバーの光透過性が低下するおそれがある。太陽光発電システム用カバーにおいて、光透過性の低下は、太陽光発電システムの使用開始時点から、同システムが本来有する発電効率を得ることが困難となる。
【０００６】
本発明は、こうした実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、光透過性を確保することが容易であるとともに、汚れの付着を抑制する効果を発揮させることの容易な光触媒塗工液、太陽光発電システム用カバー、及びその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の目的を達成するために請求項１に記載の発明は、屈折率が１．５以下とされる太陽光発電システム用のカバー本体に適用される光触媒塗工液であって、光触媒微粒子、金属酸化物系バインダー、及びシリカ微粒子を含有してなり、前記光触媒塗工液から得られる光触媒塗膜の屈折率が１．５以下とされるべく、前記光触媒微粒子として、屈折率が２．２以下の微粒子を含有させることを要旨とする。
【０００８】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の光触媒塗工液において、前記屈折率が２．２以下の微粒子として、酸化亜鉛（ＺｎＯ）微粒子、酸化スズ（ＳｎＯ２）微粒子、酸化タングステン（ＷＯ３）微粒子、及び酸化ビスマス（Ｂｉ２Ｏ３）微粒子から選ばれる少なくとも一種を含有することを要旨とする。
【０００９】
請求項３に記載の発明は、屈折率が１．５以下のカバー本体と光触媒塗膜とを有してなり、前記光触媒塗膜が太陽光発電システムの受光面を形成する太陽光発電システム用カバーであって、前記カバー本体はガラス製であり、前記光触媒塗膜は、光触媒微粒子、金属酸化物系バインダー、及びシリカ微粒子を含有してなり、前記光触媒微粒子として屈折率が２．２以下の微粒子を含有させることで、前記光触媒塗膜の屈折率を前記カバー本体の屈折率と一致させてなることを要旨とする。
【００１０】
請求項４に記載の発明は、屈折率が１．５以下のカバー本体と光触媒塗膜とを有してなり、前記光触媒塗膜が太陽光発電システムの受光面を形成する太陽光発電システム用カバーであって、前記カバー本体は樹脂製であり、前記光触媒塗膜は、光触媒微粒子、金属酸化物系バインダー、及びシリカ微粒子を含有してなり、前記太陽光発電システム用カバーは、前記光触媒微粒子により生じる酸化力から前記カバー本体を保護する中間層を有し、前記中間層は、前記カバー本体と前記光触媒塗膜との間に設けられ、前記光触媒微粒子として屈折率が２．２以下の微粒子を含有させることで、前記光触媒塗膜の屈折率を前記中間層の屈折率及び前記カバー本体の屈折率と一致させてなることを要旨とする。
【００１１】
請求項５に記載の発明は、請求項３又は請求項４に記載の太陽光発電システム用カバーの製造方法であって、光触媒塗工液の塗布により前記光触媒塗膜を形成する工程を備え、前記光触媒塗工液は、光触媒微粒子、金属酸化物系バインダー、及びシリカ微粒子を含有し、前記光触媒微粒子として屈折率が２．２以下の微粒子を含有することを要旨とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、光透過性を確保することが容易であるとともに、汚れの付着を抑制する効果を発揮させることの容易な光触媒塗工液、太陽光発電システム用カバー、及びその製造方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】屋外暴露試験における経過日数と平行線透過率の低下率［％］との関係を示すグラフ。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
（第１実施形態）
以下、本発明を具体化した第１実施形態について詳細に説明する。
光触媒塗工液は、屈折率が１．５以下とされる太陽光発電システム用のカバー本体に適用される。本実施形態のカバー本体はガラス製である。カバー本体には、光触媒塗工液により光触媒塗膜が形成されることで、カバー本体と光触媒塗膜とを有する太陽光発電システム用カバーが得られる。太陽光発電システム用カバーの有する光触媒塗膜は太陽光発電システムの受光面を形成する。
【００１５】
光触媒塗工液には、光触媒微粒子、金属酸化物系バインダー、及びシリカ微粒子が含有される。光触媒塗工液には、同塗工液から得られる光触媒塗膜の屈折率が１．５以下とされるべく、光触媒微粒子として、屈折率が２．２以下の微粒子（以下、「微粒子Ａ」という）が含有される。
【００１６】
微粒子Ａは、その光触媒活性により、受光面に付着した有機物の分解を促進する。この微粒子Ａの屈折率は２．２以下であるため、光触媒塗膜の屈折率を１．５以下にすることが容易となる。
【００１７】
光触媒微粒子としては、太陽光の散乱を抑制するという観点から、平均粒子径が２００ｎｍ以下であるとともに累積重量９５％粒子径（Ｄ９５）が５００ｎｍ以下であるものを用いることが好ましい。なお、光触媒微粒子の平均粒子径の下限は、例えば１ｎｍ以上とされる。本明細書で記載する平均粒子径は動的光散乱法で測定されるとともに、Ｄ９５は動的光散乱法により測定される粒度分布から求められる。
【００１８】
微粒子Ａとしては、酸化亜鉛（ＺｎＯ）微粒子、酸化スズ（ＳｎＯ２）微粒子、酸化タングステン（ＷＯ３）微粒子、及び酸化ビスマス（Ｂｉ２Ｏ３）微粒子から選ばれる少なくとも一種が好適に用いられる。微粒子Ａの中でも、光透過性及び光触媒活性に優れるとともに、コスト的に有利であるという観点から、酸化タングステン微粒子が好ましい。
【００１９】
光触媒塗工液中には、微粒子Ａ以外の光触媒微粒子として、例えば酸化チタン微粒子を含有させることもできる。光触媒塗工液中における光触媒微粒子の全体を１００質量％としたとき、微粒子Ａの含有量は、好ましくは９０質量％以上、より好ましくは９５質量％以上である。光触媒塗工液中における光触媒微粒子のうち、微粒子Ａの含有量を高めることで、光触媒塗膜の屈折率を１．５以下にすることがさらに容易となる。
【００２０】
光触媒微粒子を用いて光触媒塗工液を調製する際には、光触媒微粒子の粉体を用いることも可能であるが、凝集体の生成を抑制するという観点から、水又は極性溶媒中に光触媒微粒子が分散された分散液を用いることが好ましい。光触媒微粒子の分散性を確保する観点から、光触媒微粒子の分散液は、酸性に調整されることが好ましい。
【００２１】
金属酸化物系バインダーは、耐酸化分解性のバインダーとして光触媒塗膜を構成する成分である。金属酸化物系バインダーは、下記一般式（１）で示される加水分解性金属化合物の加水分解縮合物により構成される。
【００２２】
Ｍ１Ｒ１ｍ  ・・・（１）
一般式（１）中のＭ１は、金属原子であり、ｍはＭ１の価数である。一般式（１）中のＲ１は、加水分解性基又は非加水分解性基であり、Ｒ１のうち、少なくとも２つは加水分解性基である。なお、複数のＲ１は互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。
【００２３】
Ｍ１の金属原子は、ケイ素、チタン、ジルコニウム、又はアルミニウムであり、金属酸化物系バインダーの屈折率が２．０以下となるように金属原子を適宜選択することが好ましい。Ｍ１の金属原子としては、光触媒塗膜の屈折率を低下させ易いという観点から、ケイ素が好ましい。Ｒ１を構成する加水分解性基としては、例えば、アルコキシル基、イソシアネート基、塩素原子等のハロゲン原子、オキシハロゲン基、アセチルアセトネート基等が挙げられる。Ｒ１を構成する非加水分解性基としては、例えば、炭素数１〜１０のアルキル基、アリール基、アルケニル基等が挙げられる。
【００２４】
上記一般式（１）で示される加水分解性金属化合物の具体例としては、シランアルコキシド、アルミニウムアルコキシド、金属イソシアネート、金属ハロゲン化物等が挙げられる。シランアルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトライソブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン等が挙げられる。アルミニウムアルコキシドとしては、トリメトキシアルミニウム、トリエトキシアルミニウム、トリ−ｎ−プロポキシアルミニウム、トリイソプロポキシアルミニウム、トリ−ｎ−ブトキシアルミニウム、トリイソブトキシアルミニウム、トリ−ｓｅｃ−ブトキシアルミニウム、トリ−ｔｅｒｔ−ブトキシアルミニウム等が挙げられる。金属イソシアネートとしては、例えば、テトライソシアナトシラン、メチルトリイソシアナトシラン等が挙げられる。金属ハロゲン化物としては、例えば、テトラクロロシラン、メチルトリクロロシラン等が挙げられる。
【００２５】
金属酸化物系バインダーは、加水分解性金属化合物の一種のみから構成してもよいし、複数種を組み合わせて構成してもよい。また、金属酸化物系バインダーは、光触媒塗工液中に、上記の加水分解性金属化合物として含有させてもよいし、加水分解性金属化合物のオリゴマーとして含有させてもよい。
【００２６】
上記一般式（１）で示される加水分解性金属化合物のオリゴマーとしては、好ましくは金属アルコキシドオリゴマーであり、例えば、アルコキシシランオリゴマーが好適に用いられる。アルコキシシランオリゴマーとしては、例えば、商品名「メチルシリケート５１（商品名）」、「エチルシリケート４０（商品名）」等としてコルコート社から市販されているものが挙げられる。
【００２７】
シリカ微粒子は、受光面に親水性を付与するために含有される。シリカ微粒子としては、太陽光の散乱を抑制するという観点から、平均粒子径が１００ｎｍ以下であるとともに累積重量９５％粒子径（Ｄ９５）が２００ｎｍ以下であるコロイダルシリカを用いることが好ましい。なお、コロイダルシリカの平均粒子径の下限は、例えば１ｎｍ以上とされる。
【００２８】
シリカ微粒子を用いて光触媒塗工液を調製する際には、シリカ微粒子の粉体を用いることも可能であるが、凝集体の生成を抑制するという観点から、水又は極性溶媒中に光触媒微粒子が分散された分散液を用いることが好ましい。シリカ微粒子の分散性を確保する観点から、シリカ微粒子の分散液は、酸性に調整されることが好ましい。
【００２９】
光触媒塗工液は、微粒子Ａ、金属酸化物系バインダー、及びシリカ微粒子を溶媒に混合することで調製される。なお、光触媒塗工液には、粘度調整剤、ｐＨ調整剤等を含有させることもできる。
【００３０】
光触媒塗工液に用いられる溶媒は、光触媒塗工液の乾燥速度、光触媒塗工液が塗工される面の状態、塗工方法等に応じて適宜選択することができる。溶媒としては、例えば、アルコール類、ケトン類、エーテル類等が挙げられる。溶媒の中でも、極性溶媒が好ましく用いられる。なお、溶媒としては、一種類の溶媒を用いてもよいし、複数種の溶媒が混合された混合溶媒を用いてもよい。
【００３１】
溶媒は、酸性にｐＨ調整されていることが好ましい。溶媒のｐＨ調整は、塩酸、硫酸、硝酸等の酸を用いてもよいし、カチオン交換樹脂等の固体酸を用いてもよい。なお、固体酸を用いる場合、その固体酸はｐＨ調整後に溶媒中から除去される。
【００３２】
光触媒塗工液を調製する際には、溶媒に酸性度の強い成分から順に添加することが好ましい。この場合、光触媒塗工液の調製の後段階において酸性度の過剰な変動を抑制することができ、微粒子Ａ等の分散安定性が確保され易くなる。
【００３３】
光触媒塗工液中における光触媒微粒子、金属酸化物系バインダー、及びシリカ粒子の各成分の含有量は、光触媒塗膜の屈折率が１．５以下となる含有量とされる。すなわち、光触媒塗工液中の光触媒微粒子、金属酸化物系バインダー、及びシリカ粒子の各成分の含有量は、光触媒塗膜（乾燥後の光触媒塗膜）中における各成分の含有量に応じて設定することができる。
【００３４】
光触媒塗膜中における微粒子Ａの含有量は、好ましくは２０〜６９体積％、より好ましくは２０〜５０体積％である。光触媒塗膜中における微粒子Ａの含有量が２０体積％以上の場合、受光面に付着した有機物をより効率的に分解することが容易となる。光触媒塗膜中における微粒子Ａの含有量が６９体積％以下の場合、光触媒塗膜の屈折率を１．５以下に設定することがさらに容易となる。
【００３５】
光触媒塗膜中の金属酸化物系バインダーの含有量は、好ましくは３０〜５０体積％である。光触媒塗膜中の金属酸化物系バインダーの含有量が３０体積％以上の場合、光触媒塗膜の密着性が得られ易くなる。一方、光触媒塗膜中の金属酸化物系バインダーの含有量が５０体積％以下の場合、光触媒塗膜にクラック等の発生を抑制することが容易となる。
【００３６】
光触媒塗膜中におけるシリカ微粒子の含有量は、好ましくは１〜５０体積％、より好ましくは１０〜５０体積％、最も好ましくは３０〜５０体積％である。光触媒塗膜中におけるシリカ微粒子の含有量が１体積％以上の場合、光触媒塗膜の強度が向上する傾向となる。
【００３７】
次に、光触媒塗工液の作用について説明する。
本実施形態の光触媒塗工液は、屈折率が１．５以下のカバー本体に適用される。ここで、光触媒粒子として二酸化チタン微粒子を用いた場合、二酸化チタン微粒子の屈折率に基づいて、光触媒塗膜の屈折率がカバー本体の屈折率よりも高くなり易い。この点、光触媒塗工液、すなわち光触媒塗膜中の二酸化チタン微粒子の含有量を削減することで、光触媒塗膜の屈折率を低めることができるものの、光触媒塗膜の光触媒活性が発現し難くなる。本実施形態の光触媒塗工液は、得られる光触媒塗膜の屈折率が１．５以下とされるべく、光触媒微粒子として、屈折率が２．２以下の微粒子を含有させている。これにより、光触媒塗膜の屈折率が光触媒微粒子に基づいて高まることが抑制される。このため、屈折率が１．５以下とされるカバー本体の屈折率に、光触媒塗膜の屈折率を一致させることが容易となる。
【００３８】
次に、太陽光発電システム用カバー及びその製造方法について説明する。
太陽光発電システム用カバーは、屈折率が１．５以下であり、ガラス製のカバー本体と光触媒塗膜とを有している。光触媒塗膜は、太陽光発電システムの受光面を形成している。光触媒塗膜は、上述した光触媒微粒子、金属酸化物系バインダー、及びシリカ微粒子を含有している。光触媒塗膜には、光触媒微粒子として上記微粒子Ａが含有されることで、光触媒塗膜の屈折率がカバー本体の屈折率と一致する構成とされる。
【００３９】
カバー本体の形状は、平坦状、湾曲した形状等が挙げられ、光の反射を抑制する凹凸面を有するものであってもよい。また、カバー本体は、それ自体が例えばフレネルレンズ等の集光機能を有するものであってもよいし、太陽電池（セル、モジュール等）を保護する光透過性部材をさらに覆うように設けられるものであってもよい。
【００４０】
光触媒塗膜の厚みは、好ましくは２５〜５００ｎｍの範囲、より好ましくは５０〜１００ｎｍの範囲とされる。光触媒塗膜の厚みが厚くなるに従って、受光面における有機物の分解力が高まる傾向となる。一方、光触媒塗膜の厚みが薄くなるに従って、光触媒塗膜にクラックが発生し難くなる傾向となる。
【００４１】
太陽光発電システム用カバーで被覆される太陽電池の種類は、特に限定されず、例えば、単結晶シリコン型、多結晶シリコン型、アモルファスシリコン型、化合物半導体系、色素増感型、有機薄膜型、量子ドット型等が挙げられる。
【００４２】
太陽光発電システム用カバーの製造方法は、光触媒塗工液の塗布により光触媒塗膜を形成する工程を備える。光触媒塗工液の塗工方法は、カバー本体の外面形状等に応じて適宜選択することができる。塗工方法としては、例えば、ディップコート法、スピンコート法、スプレーコート法、バーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法等が挙げられる。
【００４３】
カバー本体に塗布された光触媒塗工液は、乾燥工程で乾燥されることにより、カバー本体には光触媒塗膜が形成される。乾燥工程は、加熱乾燥であってもよいし、自然乾燥であってもよい。加熱乾燥の場合の乾燥温度は、例えば４０〜１５０℃の範囲に設定される。
【００４４】
次に、太陽光発電システム用カバー及びその製造方法の作用について説明する。
太陽光発電システム用カバーは、光触媒塗膜の屈折率がカバー本体の屈折率と一致する構成とされているため、カバー本体と光触媒塗膜との境界面における光の反射を防止することができる。これにより、太陽光発電システム用カバーでは、カバー本体の光透過性が維持され、かつ光触媒塗膜の機能が発揮される。
【００４５】
太陽光発電システム用カバーを備える太陽光発電システムでは、光触媒塗膜を受光面としているため、受光面に付着した有機物の分解が促進される。ここで、砂塵等の無機物は、有機物を介して受光面に付着することが多い。こうした無機物の付着の要因なる有機物としては、特に油性の有機物が挙げられる。この点、微粒子Ａを含む光触媒微粒子によって有機物が分解されることで、受光面への無機物の付着が抑制される。また、受光面はシリカ微粒子によって親水性が付与されているため、降雨や受光面への散水によって、受光面の汚れは容易に洗い流される。こうしたシリカ微粒子及び微粒子Ａは、例えば二酸化チタン微粒子よりも低屈折率であるため、光触媒塗膜を要因として太陽電池に到達する光エネルギーが低下することが抑制される。
【００４６】
太陽光発電システム用カバーの製造方法では、上述した光触媒塗工液を塗布し、光触媒塗膜を形成する工程を備えることで、自身の屈折率がカバー本体の屈折率に一致してなる光触媒塗膜をカバー本体に容易に形成することができる。
【００４７】
以上詳述した第１実施形態によれば、次のような効果が発揮される。
（１）光触媒塗工液は、屈折率が１．５以下とされる太陽光発電システム用のカバー本体に適用される。光触媒塗工液は、光触媒微粒子、金属酸化物系バインダー、及びシリカ微粒子を含有する。光触媒塗工液には、同塗工液から得られる光触媒塗膜の屈折率が１．５以下とされるべく、光触媒微粒子として、屈折率が２．２以下の微粒子が含有される。この構成によれば、屈折率が１．５以下とされるカバー本体の屈折率に、光触媒塗膜の屈折率を一致させることが容易となる。従って、光透過性を確保することが容易であるとともに、汚れの付着を抑制する効果を発揮させることが容易となる。
【００４８】
（２）光触媒微粒子としては、酸化亜鉛微粒子、酸化スズ微粒子、酸化タングステン微粒子、及び酸化ビスマス微粒子から選ばれる少なくとも一種であることが好ましい。このような微粒子を用いることで、太陽光発電システムに好適な光透過性を発揮させることがさらに容易となり、かつ、受光面の汚れの付着を抑制することがさらに容易となる。
【００４９】
（３）太陽光発電システム用カバーは、屈折率が１．５以下のカバー本体と光触媒塗膜とを有する。太陽光発電システムの受光面は、光触媒塗膜から形成される。カバー本体はガラス製であり、光触媒塗膜は光触媒微粒子、金属酸化物系バインダー、及びシリカ微粒子を含有する。光触媒塗膜には、光触媒微粒子として屈折率が２．２以下の微粒子が含有されることで、光触媒塗膜の屈折率はカバー本体の屈折率と一致されている。
【００５０】
この構成によれば、太陽光発電システム用カバーでは、カバー本体の光透過性が維持され、かつ光触媒塗膜の機能が発揮される。従って、光透過性を確保することが容易であるとともに、汚れの付着を抑制する効果を発揮させることの容易となる。
【００５１】
（４）太陽光発電システム用カバーの製造方法は、光触媒塗工液の塗布により光触媒塗膜を形成する工程を備えている。光触媒塗工液は、光触媒微粒子、金属酸化物系バインダー、及びシリカ微粒子を含有し、光触媒微粒子として屈折率が２．２以下の微粒子を含有するため、光透過性を確保することが容易であるとともに、汚れの付着を抑制する効果を発揮させることの容易な太陽光発電システム用カバーの製造方法が提供される。
【００５２】
（５）本実施形態の太陽光発電システム用カバーを備えた太陽光発電システムでは、太陽光発電システムに好適な光透過性を発揮させることが容易であり、かつ、受光面の汚れの付着を抑制することが容易となる。従って、太陽光発電システムが本来有する発電効率が発揮され易くなる。
【００５３】
（第２実施形態）
本発明を具体化した第２実施形態について第１実施形態と異なる点を中心に説明する。本実施形態の太陽光発電システム用カバーは、カバー本体が樹脂製である点と、カバー本体と光触媒塗膜との間に中間層を有する点が第１実施形態の太陽光発電システム用カバーと異なる。
【００５４】
カバー本体を構成する樹脂材料としては、光透過性を有する樹脂材料から適宜選択される。この樹脂材料は屈折率が１．５以下の低屈折率材料が好ましく、その具体例として例えば（メタ）アクリル系樹脂が挙げられる。
【００５５】
ここで、光触媒塗膜に含まれる光触媒微粒子は酸化力を発揮する。このため、光触媒塗膜をカバー本体に直接形成した場合、カバー本体を構成する樹脂材料が酸化分解されるおそれがある。この点、本実施形態の太陽光発電システム用カバーでは、光触媒微粒子により生じる酸化力からカバー本体を保護する中間層を有している。すなわち、中間層は、カバー本体と光触媒塗膜との間に設けられることで、光触媒塗膜の下地層となり、光触媒微粒子により生じる酸化力に対してカバー本体は保護される。
【００５６】
中間層は、例えば特開２０００−３３６２８１号公報（特許第３８９７９３８号）に記載される有機−無機複合傾斜材料からなる成分傾斜膜が用いられる。有機−無機複合材料は、有機高分子化合物と金属系化合物との化学結合物を含有する。有機高分子化合物は、金属含有基を含むアルキル基をエステル成分とする（メタ）アクリル酸エステルの少なくとも一種と、エチレン性不飽和基を有する単量体の少なくとも一種とをラジカル重合させることにより得られる。
【００５７】
金属含有基を含むアルキル基をエステル成分とする（メタ）アクリル酸エステルは、下記一般式（２）で示される。
【００５８】
【化１】
2013185043.tif 000003
一般式（２）中、Ｒ２は加水分解性基又は非加水分解性基である。但し、Ｒ２のうち少なくとも１つは加水分解により金属系化合物と化学結合し得る加水分解性基である。Ｒ２が複数種の場合は、各Ｒ２は互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。Ｒ３は水素原子又はメチル基、Ａはアルキレン基、Ｍ２はケイ素、ｎはケイ素の価数４である。
【００５９】
エチレン性不飽和基を有する単量体は、下記一般式（３）で示される。
【００６０】
【化２】
2013185043.tif 000004
一般式（３）中、Ｒ４は水素原子又はメチル基、Ｘは一価の有機基である。一般式（３）で示されるエチレン性不飽和基を有する単量体としては、（メタ）アクリル酸エステルであることが好ましい。
【００６１】
金属系化合物は、金属酸化物系化合物又は金属窒化物系化合物が用いられる。
金属酸化物系化合物は、下記一般式（４）で示される。
Ｍ３Ｒ５ｍ  ・・・（４）
一般式（４）中のＭ３は、金属原子であり、ｍはＭ３の価数である。一般式（４）中のＲ５は、加水分解性基又は非加水分解性基であり、Ｒ５のうち、少なくとも２つは加水分解性基であり、その加水分解性基のうち、少なくとも１つは加水分解により有機高分子化合物と化学結合し得るものである。複数のＲ５は互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。Ｍ３の金属原子は、ケイ素、チタン、ジルコニウム、又はアルミニウムである。
【００６２】
金属窒化物系化合物は、下記一般式（５）で表される構造単位を含むポリシラザンより得られるものであり、金属酸化物系化合物を介して有機高分子化合物に化学結合させてなる。
【００６３】
【化３】
2013185043.tif 000005
一般式（５）中、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、若しくは、これらの基以外のフルオロアルキル基などの炭素原子がケイ素原子に直結する基、アルキルシリル基、アルキルアミノ基又はアルコキシル基である。但し、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８の少なくとも１つは水素原子である。一般式（５）で示される構造単位を含むポリシラザンとしては、数平均分子量１００〜５００００のポリシラザンが好ましい。
【００６４】
成分傾斜膜では、金属系化合物の含有量が膜の表面から深さ方向に連続的に変化する成分傾斜構造を有する。成分傾斜膜の厚みは、例えば５μｍ以下とされる。成分傾斜膜の厚みは、好ましくは．０１〜１．０μｍの範囲とされる。なお、中間層は、単層から構成されてもよいし、複数層から構成されてもよい。
【００６５】
光触媒塗膜には、光触媒微粒子として上記微粒子Ａが含有されることで、光触媒塗膜の屈折率が中間層の屈折率及びカバー本体の屈折率と一致する構成とされる。すなわち、太陽光発電システム用カバーにおいて、光触媒塗膜、中間層、及びカバー本体の各屈折率は一致している。
【００６６】
成分傾斜膜からなる中間層の屈折率は、中間層に微粒子を含有させたり、金属系化合物の種類を選択したりすることにより調整することができる。中間層の屈折率は、例えば、シリカ微粒子を含有させたり、金属系化合物としてシリカ系化合物を用いたりすることで、低めることができる。また、中間層の屈折率は、例えば、チタニア微粒子を含有させたり、金属系化合物としてチタニア系化合物を用いたりすることで高めることができる。
【００６７】
カバー本体と中間層との間には、カバー本体の耐候性を向上させるという観点から、紫外線吸収層を設けることが好ましい。この場合、光触媒塗膜の屈折率が中間層の屈折率、紫外線吸収層の屈折率、及びカバー本体の屈折率と一致する構成とされる。すなわち、紫外線吸収層を設けた太陽光発電システム用カバーでは、光触媒塗膜、中間層、紫外線吸収層及びカバー本体の各屈折率は一致している。
【００６８】
紫外線吸収層は、マトリックス樹脂及び紫外線吸収成分を含有する。マトリックス樹脂は、光透過性を有する樹脂から適宜選択することができる。マトリックス樹脂としては、例えばアクリル系樹脂、アクリルウレタン系樹脂等が好適に用いられる。
【００６９】
紫外線吸収成分は、紫外線のエネルギーを熱エネルギー等に変換可能な化学構造を有する有機成分である。紫外線吸収層へ紫外線吸収成分を含有させる場合、市販の紫外線吸収剤をマトリックス樹脂に添加してもよいし、前記化学構造が導入された市販の樹脂を用いてもよい。紫外線吸収成分としては、例えばベンゾトリアゾール類、ベンゾエート類、シアノアクリレート類、ベンゾフェノン類、サリチル酸エステル類、及び置換アクリロニトリル類が挙げられる。紫外線吸収層の厚みは、例えば０．１〜１００μｍの範囲とされる。なお、紫外線吸収層は、単層から構成されてもよいし、複数層から構成されてもよい。
【００７０】
太陽光発電システム用カバーの製造方法は、中間層に光触媒塗工液を塗布し、光触媒塗膜を形成する工程を備える。中間層は、特開２０００−３３６２８１号公報（特許第３８９７９３８号）に記載される方法に従ってカバー本体に形成することができる。なお、紫外線吸収層をカバー本体に設ける場合には、カバー本体に予め紫外線吸収層用塗料を用いて紫外線吸収層を形成する。紫外線吸収層は、マトリックス樹脂及び紫外線吸収成分が溶剤に溶解された紫外線吸収層用塗料を用いる常法に従って形成することができる。
【００７１】
以上詳述した第２実施形態によれば、第１実施形態の（１）〜（５）欄で述べた効果に加えて次のような効果が発揮される。
（６）太陽光発電システム用カバーは、樹脂製のカバー本体であるため、例えば軽量化や成形加工性の点で有利である。そして、太陽光発電システム用カバーは、カバー本体と光触媒塗膜との間に中間層を有している。この中間層により、カバー本体は、光触媒微粒子により生じる酸化力から保護されるため、太陽光発電システム用カバーの耐久性を維持することが容易となる。
【００７２】
（変更例）
なお、前記実施形態を次のように変更して構成してもよい。
・太陽光発電システムの受光面への汚れの付着は、前記光触媒塗膜により抑制されるが、さらにスプリンクラー等の自動散水設備を併用してもよい。この場合、光触媒塗膜の有する親水性により、付着した汚れを容易に洗い流すことができる。また、太陽光発電システムの受光面に空気を吹き付けることで、付着した砂等の無機物を強制的に除去してもよい。この場合、光触媒塗膜による有機物の分解に基づいて、無機物と光触媒塗膜との密着性が低下しているため、無機物を容易に除去することができる。
【００７３】
・太陽光発電システム用カバーの製造方法では、太陽電池に装着する前のカバー本体に対して光触媒塗膜を形成してもよいし、カバー本体を太陽電池に装着した後、そのカバー本体に対して光触媒塗膜を形成してもよい。
【実施例】
【００７４】
次に、実施例及び比較例を挙げて前記実施形態をさらに具体的に説明する。
＜シリカアルコキシドの加水分解縮合液（Ｃ１）の合成＞
エタノール１４ｇを撹拌しながら、テトラエトキシシラン（信越化学工業（株）製）１６．８ｇを滴下することで混合液を得た。得られた混合液を撹拌しながら、エタノール７．０ｇ、蒸留水１１．２ｇ、１Ｎ濃硝酸０．０９８ｇの混合溶液を滴下し、２５℃で１６時間撹拌することで、シリカアルコキシドの加水分解縮合液（Ｃ１）を得た。
【００７５】
＜チタンアルコキシドの加水分解縮合液（Ｃ２）の合成＞
エチルセロソルブ３７２．３ｇを撹拌しながら、チタンテトライソプロポキシド（日本曹達（株）製、Ａ−１）１８９ｇを滴下することで混合液を得た。得られた混合液を撹拌しながら、エチルセロソルブ１４５．７ｇ、蒸留水１１．４ｇ、６０ｗｔ％濃硝酸３１．６ｇの混合溶液を滴下し、３０℃で４時間撹拌することで、チタンアルコキシドの加水分解縮合液（Ｃ２）を得た。
【００７６】
＜紫外線吸収層用塗料（プライマー塗料（Ｐ１））の調製＞
紫外線吸収機能を有するアクリル系樹脂（日本触媒（株）製、ＵＶ−Ｇ３０１）８７．６７ｇにメチルイソブチルケトン７３．０６ｇ及び酢酸ブチル７３．０６ｇを混合することで混合液を得た。その混合液に、メチルイソブチルケトン２７．５５ｇ、酢酸ブチル２７．５５ｇ、及びイソシアネート系硬化剤（住友バイエルウレタン（株）製、商品名：デスモジュールＮ３２００）１１．１３ｇを混合した溶液を加えることで、紫外線吸収層用プライマー塗料（Ｐ１）を得た。
【００７７】
＜中間層用塗料（Ｉ１）の合成＞
窒素雰囲気下で、３Ｌセパラブルフラスコに、メチルイソブチルケトン８５４ｇ、メタクリル酸メチル４１１ｇ、及びメタクリロキシプロピルトリメトキシシラン５２ｇを添加し、５６℃まで昇温することで混合液を得た。得られた混合液に、予めアゾビスイソブチロニトリル４．０５ｇを溶解したメチルイソブチルケトン１４２ｇを滴下し、重合反応を開始し、３０時間撹拌することで溶液（Ｊ１）を得た。
【００７８】
エチルセロソルブ１８．２２ｇに、硝酸アルミニウム・九水和物（和光純薬工業（株）製）２．８２ｇを溶解し、上記チタンアルコキシドの加水分解縮合液（Ｃ２）を２２．３６ｇ加えて撹拌することにより溶液（Ｊ２）を得た。
【００７９】
次に、溶液（Ｊ１）３．３６ｇ、メチルイソブチルケトン１０８．４１ｇ、エチルセロソルブ６３．８７ｇ、溶液（Ｊ２）４３．４ｇ、及びコロイダルシリカ（日産化学工業（株）製、ＩＰＡ−ＳＴ）６．３９ｇの各原料を順に混合した後、３３℃で９６時間撹拌することで、原液を合成した。得られた原液４．２２ｇに、エチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル３．０２ｇ及びメチルイソブチルケトン６．７２ｇを加え、成分傾斜膜を形成するための中間層用塗料（Ｉ１）を得た。
【００８０】
（実施例１）
エチルセロソルブ３５．１９ｇと１−プロパノール１０５．５８ｇとを混合した混合液を撹拌しながら、酸化タングステンスラリー（住友化学（株）製、商品名：ｉＬＵＭｉＯ、平均粒子径６０ｎｍ、Ｄ９５：５００ｎｍ以下、屈折率２．２、密度７．１ｇ／ｃｍ３）２８．８ｇを加えた。得られた混合液を撹拌しながら、コロイダルシリカ（日産化学工業（株）製、商品名：スノーテックＮ、平均粒子径１５ｎｍ、屈折率１．３、密度２．０ｇ／ｃｍ３）１０．２ｇを滴下した。得られた混合液を撹拌しながら、上記のシリカアルコキシド加水分解縮合液（Ｃ１、乾固したときの密度１．８ｇ／ｃｍ３）１０．８ｇを滴下し、２５℃で４時間撹拌することで、光触媒塗工液（Ｔ１）を調製した。光触媒塗工液（Ｔ１）をガラス（商品名：パイレックスガラス）上に乾燥前の厚みが約１０μｍとなるようにスピンコーターを用いて塗布し、８０℃で２分間乾燥することで、乾燥後の厚みが５０ｎｍの光触媒塗膜を有する評価用サンプルを得た。
【００８１】
（実施例２）
エチルセロソルブ３５．２ｇと１−プロパノール１０５．６１ｇとを混合した混合液を撹拌しながら、酸化タングステンスラリー（住友化学（株）製、商品名：ｉＬＵＭｉＯ、平均粒子径６０ｎｍ、Ｄ９５：５００ｎｍ以下、屈折率２．２、密度７．１ｇ／ｃｍ３）３１．２ｇを加えた。得られた混合液を撹拌しながら、コロイダルシリカ（日産化学工業（株）製、商品名：スノーテックＮ、平均粒子径１５ｎｍ、屈折率１．３、密度２．０ｇ／ｃｍ３）９．０ｇを滴下した。得られた混合液を撹拌しながら、シリカアルコキシドの加水分解縮合液（Ｃ１、乾固したときの密度１．８ｇ／ｃｍ３）１０．２ｇを滴下し、２５℃で４時間撹拌することで、光触媒塗工液（Ｔ２）を調製した。
【００８２】
厚み２ｍｍの無色透明なアクリル板（ＰＭＭＡ板、三菱レーヨン（株）製、商品名：アクリライトＬ）にスピンコーターを用いてプライマー塗料（Ｐ１）を塗布し、８０℃で４時間乾燥させて乾燥後の厚みが１０μｍの紫外線吸収層を形成した。その紫外線吸収層上に、上記の中間層用塗料（Ｉ１）を乾燥前の厚みが約１０μｍとなるようにスピンコーターを用いて塗布し、８０℃で２分間乾燥させて、乾燥後の厚みが８０ｎｍの成分傾斜膜からなる中間層を形成した。
【００８３】
得られた中間層上に上記の光触媒塗工液（Ｔ２）を乾燥前の厚みが約１０μｍとなるようにスピンコーターを用いて塗布し、８０℃で２分間乾燥することで、乾燥後の厚みが５０ｎｍの光触媒塗膜を有する評価用サンプルを得た。
【００８４】
（実施例３）
厚み２ｍｍの無色透明なアクリル板（三菱レーヨン（株）製、商品名：アクリライトＬ）を真空成型法で半球状に湾曲させたアクリルカバー（湾曲ＰＭＭＡ）に、スプレーガン（（株）明治機械製作所製、ＦＳＡ−Ｇ０５）を用いて上記プライマー塗料（Ｐ１）をスプレー塗工し、８０℃で４時間乾燥することで、乾燥後の厚みが１０μｍの紫外線吸収層を形成した。その紫外線吸収層上に、前記スプレーガンを用いて上記中間層用塗料（Ｉ１）を乾燥前の厚みが約１０μｍとなるようにスプレー塗工し、８０℃で２分間乾燥することで、乾燥後の厚みが８０ｎｍの成分傾斜膜からなる中間層を形成した。その中間層の上に、前記スプレーガンを用いて、実施例２に記載の光触媒塗工液（Ｔ２）を乾燥前の厚みが約１０μｍとなるようにスプレー塗工し、８０℃で２分間乾燥することで、乾燥後の厚みが５０ｎｍの光触媒塗膜を有する評価用サンプルを得た。
【００８５】
（実施例４）
エチルセロソルブ３５．２ｇと１−プロパノール１０５．６１ｇとを混合した混合液を撹拌しながら、酸化亜鉛スラリー（シーアイ化成（株）製、商品名：ＮａｎｏＴｅｋ  ＺｎＯ、平均粒子径３４ｎｍ、Ｄ９５：５００ｎｍ以下、屈折率１．９５、密度５．６ｇ／ｃｍ３）３２．４ｇを加えた。得られた混合液を撹拌しながら、コロイダルシリカ（日産化学工業（株）製、商品名：スノーテックＮ、平均粒子径１５ｎｍ、屈折率１．３、密度２．０ｇ／ｃｍ３）８．４ｇを滴下した。得られた混合液を撹拌しながら、シリカアルコキシド加水分解縮合液（Ｃ１、乾固したときの密度１．８ｇ／ｃｍ３）１０．２ｇを滴下し、２５℃で４時間撹拌することで、光触媒塗工液（Ｔ３）を調製した。光触媒塗工液（Ｔ３）をガラス（商品名：パイレックスガラス）上にスピンコーターを用いて乾燥前の厚みが約１０μｍとなるように塗布し、８０℃で２分間乾燥することで、乾燥後の厚みが５０ｎｍの光触媒塗膜を有する評価用サンプルを得た。
【００８６】
（実施例５）
表１に示すように、光触媒塗膜に含まれる各成分の含有量を変更した以外は、実施例１と同様にして乾燥後の厚みが５０ｎｍの光触媒塗膜を有する評価用サンプルを得た。
【００８７】
（比較例１）
エチルセロソルブ７２．３８ｇと１−プロパノール８９．７０ｇとを混合した混合液を撹拌しながら、上記シリカアルコキシド加水分解縮合液（Ｃ１、乾固したときの密度１．８ｇ／ｃｍ３）６．４８ｇ加えた。得られた混合液に、６０質量％の硝酸０．６０ｇと水１１．６６ｇを混合した液をゆっくりと加えるとともに撹拌しながら、酸化チタンスラリー（住友化学（株）製、ＰＣ−２０１、平均粒子径２０ｎｍ、屈折率２．７、密度３．９ｇ／ｃｍ３）３．６７ｇをゆっくりと滴下した。得られた混合液を撹拌しながら、コロイダルシリカ（日産化学工業（株）製、ＩＰＡ−ＳＴ、平均粒子径１５ｎｍ、密度２．０ｇ／ｃｍ３）２．６７ｇを滴下し、約３０℃の温浴で４時間撹拌することで、光触媒塗工液（Ｔ４）を調製した。
【００８８】
厚み２ｍｍの無色透明なアクリル板（ＰＭＭＡ板、三菱レーヨン（株）製、商品名：アクリライトＬ）に、スピンコーターを用いて上記プライマー塗料（Ｐ１）を塗布し、８０℃で４時間乾燥することで、乾燥後の厚みが１０μｍの紫外線吸収層を形成した。その紫外線吸収層に、スピンコーターを用いて上記中間層用塗料（Ｉ１）を乾燥前の厚みで約１０μｍとなるよう塗布し、８０℃で２分間乾燥することで、乾燥後の厚みが８０ｎｍの成分傾斜膜からなる中間層を形成した。その中間層上に、スピンコーターを用いて光触媒塗工液（Ｔ４）を乾燥前の厚みが約１０μｍとなるように塗布し、８０℃で２分間乾燥することで、乾燥後の厚みが５０ｎｍの光触媒塗膜を有する評価用サンプルを得た。
【００８９】
（比較例２）
エチルセロソルブ７０．５６ｇと１−プロパノール８９．３８ｇとを混合した混合液を撹拌しながら、上記シリカアルコキシド加水分解縮合液（Ｃ１、乾固したときの密度１．８ｇ／ｃｍ３）を７．０４ｇ加えた。得られた混合液に、６０質量％硝酸０．６３ｇと水１２．７４ｇを混合した液をゆっくりと加えた。得られた混合液を撹拌しながら、酸化チタンスラリー（住友化学（株）製、ＰＣ−２０１、平均粒子径２０ｎｍ、屈折率２．７、密度３．９ｇ／ｃｍ３）２．２２ｇをゆっくりと滴下した。得られた混合液を撹拌しながらコロイダルシリカ（日産化学工業（株）製、ＩＰＡ−ＳＴ、平均粒子径１５ｎｍ、屈折率１．３、密度２．０ｇ／ｃｍ３）３．４７ｇを滴下し、約３０℃の温浴で４時間撹拌することで、光触媒塗料（Ｔ５）を調製した。
【００９０】
厚み２ｍｍの無色透明なアクリル板（ＰＭＭＡ板、三菱レーヨン（株）製、商品名：アクリライトＬ）に、スピンコーターを用いて上記プライマー塗料（Ｐ１）を塗布し、８０℃で４時間乾燥することで、乾燥後の厚みが１０μｍの紫外線吸収層を形成した。その紫外線吸収層上に、スピンコーターを用いて中間層用塗料（Ｉ１）を乾燥前の厚みが約１０μｍとなるよう塗布し、８０℃で２分間乾燥することで、乾燥後の厚みが８０ｎｍの成分傾斜膜からなる中間層を形成した。その中間層上に、スピンコーターを用いて光触媒塗工液（Ｔ５）を乾燥前の厚みが約１０μｍとなるように塗布し、８０℃で２分間乾燥することで、乾燥後の厚みが５０ｎｍの光触媒塗膜を有する評価用サンプルを得た。
【００９１】
＜基材の屈折率の測定＞
基材の屈折率は、ＪＩＳ  Ｋ７１４２：２００８のＡ法に従って、アッベ屈折計（（株）アタゴ製、商品名：ＮＡＲ−１Ｔ）を用いて、波長５８９ｎｍにおける屈折率を測定した。
【００９２】
＜微粒子、光触媒塗膜、紫外線吸収層及び中間層の屈折率の測定＞
微粒子、光触媒塗膜、紫外線吸収層及び中間層の屈折率は、スペクトル反射測定器（Ｆｉｌｍｅｔｒｉｃｓ社製、商品名：フィルメトリクスＦ２０）を用いて、波長６５５ｎｍにおける屈折率を測定した。
【００９３】
なお、微粒子の屈折率は、パイレックスガラス（商品名）上に微粒子スラリーを乾燥後の厚みが約５０ｎｍとなるように塗工し、２００℃で２時間加熱することで形成した層について、屈折率を測定した。
【００９４】
紫外線吸収層の屈折率は、ＰＥＴフィルム（帝人デュポンフィルム（株）社製、ＨＢ３）上にプライマー塗料（Ｐ１）を乾燥後の厚みが約５００ｎｍとなるように塗工することで形成した紫外線吸収層について屈折率を測定した。
【００９５】
中間層の屈折率は、ＰＥＴフィルム（帝人デュポンフィルム（株）社製、ＨＢ３）上に中間層用塗料（Ｉ１）を乾燥後の厚みが約１００ｎｍとなるように塗工することで形成した中間層について屈折率を測定した。
【００９６】
＜評価１：光透過性＞
各例の評価用サンプルの全光線透過率Ｓ、各例の基材（カバー本体）の全光線透過率Ｓ０をＪＩＳ  Ｋ７３６１−１（１９９７）に準拠して測定した。全光線透過率の測定は、濁度計（日本電色工業（株）製、ＮＤＨ２０００）を用いた。次に、全光線透過率Ｓ０［％］に対する全光線透過率Ｓ［％］の比率Ｒ（Ｒ［％］＝Ｓ／Ｓ０×１００）を算出し、その算出値から以下の基準に従って評価した。
【００９７】
比率Ｒが１００［％］を超える場合、光透過性が改善されると判定：「◎」
比率Ｒが９５［％］以上、１００［％］以下である場合、光透過性が維持できると判定：「○」
比率Ｒが９０［％］以上、９５［％］未満である場合、光透過性がやや維持できないと判定：「△」
比率Ｒが９０［％］未満の場合、光透過性が維持できないと判定：「×」
各例の判定結果を表１中の「評価１」欄に示す。
【００９８】
＜評価２：汚れの付着抑制効果＞
宮崎大学工学部にてサンプル暴露架台を設置し、各例の評価用サンプルを約３ヶ月間の屋外暴露試験を行った。屋外暴露試験では、各例の評価用サンプルについて、約２週間毎に波長５００ｎｍの平行線透過率Ｔｎ［％］を測定した。なお、暴露前の評価用サンプルについて波長５００ｎｍの平行線透過率Ｔ０［％］を予め測定した。
【００９９】
平行線透過率Ｔ０［％］に対する平行線透過率Ｔｎ［％］の低下率Ｄを以下の式（Ａ）にて算出した。
Ｄ［％］＝（Ｔ０−Ｔｎ）／Ｔ０×１００  ・・・（Ａ）
低下率Ｄがおおむね１［％］以下で推移する場合は、汚れの付着抑制効果が得られると判定し、表１中に「○」と記載した。一方、低下率Ｄがおおむね１〜２［％］の範囲で推移する場合は、汚れの付着抑制効果が弱いと判定し、表１中に「△」と記載した。また、低下率Ｄが２［％］を超える範囲で推移する場合は、汚れの付着抑制効果が得られないと判定し、表１中に「×」と記載した。
【０１００】
【表１】
2013185043.tif 000006
表１に示すように各実施例では、評価１及び評価２のいずれも良好な結果が得られている。比較例１では、酸化チタン微粒子及びシリカ微粒子の含有に基づいて評価２が各実施例と同等となるものの、光触媒塗膜の屈折率が基材の屈折率に一致していないため、評価１の結果が各実施例よりも劣っている。比較例２では、酸化チタン微粒子の含有量を削減したため、評価１の結果が各実施例と同等となるものの、有機物の分解力が低下するため、評価２の結果が各実施例よりも劣っている。
【０１０１】
図１には、評価２の屋外暴露試験における経過日数と平行線透過率の低下率［％］との関係を示している。図１に示されるように、実施例２は、基材単体及び比較例２よりも、平行線透過率の低下率［％］が小さい値で推移している。
【図１】
2013185043.tif 000007