(57)【要約】【課題】容易、且つ高精度に軸受の孔を形成することができ、製造歩留まりのよい時計部品の製造方法、時計部品及び時計を提供する。【解決手段】輪列受１６２に第２フォトレジスト膜６５を形成するフォトレジスト膜形成工程と、第２グレースケールマスク６６を用いて第２フォトレジスト膜６５を露光して現像することにより、この第２フォトレジスト膜６５に輪列受１６２の挿通孔８１に対応する開口部６７が形成されると共に、この開口部６７の周縁に湾曲状に切除された丸面取り部６７ａが形成されてなる第２レジストパターン６５ａを形成するレジストパターン形成工程と、第２レジストパターン６５ａをマスクとして輪列受１６２をエッチングし、輪列受１６２に挿通孔８１を形成すると共に、この挿通孔８１の軸方向両端の少なくとも一方に、湾曲状に切除された丸面取り部８２を形成する基体形成工程とを有する。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体に軸の端部を回転自在に支持するための孔を形成するための時計部品の製造方法において、
基体上にフォトレジスト膜を形成するフォトレジスト膜形成工程と、
グレースケールマスクを用いて前記フォトレジスト膜を露光して現像することにより、このフォトレジスト膜に前記孔に対応する開口部が形成されると共に、この開口部の周縁に湾曲状に切除されたレジスト丸面取り部が形成されてなるレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、
前記レジストパターンをマスクとして前記基体をエッチングし、前記基体に前記孔を形成すると共に、この孔の軸方向両端の少なくとも一方に、湾曲状に切除された基体丸面取り部を形成する基体形成工程とを有することを特徴とする時計部品の製造方法。
【請求項２】
前記孔の軸方向両端に、それぞれ前記基体丸面取り部を形成したことを特徴とする請求項１に記載の時計部品の製造方法。
【請求項３】
前記レジストパターン形成工程において、
前記グレースケールマスクを用いて前記フォトレジスト膜を露光して現像することにより、このフォトレジスト膜の前記開口部の周囲にレジスト凹部を形成し、
前記基体形成工程において、
前記基体の前記レジスト凹部に対応する部位に、潤滑油を受ける基体凹部を形成したことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の時計部品の製造方法。
【請求項４】
前記基体は地板及び輪列受の少なくとも何れか一方であって、これら地板及び輪列受に前記孔を形成したことを特徴とする請求項１〜請求項３の何れか１項に記載の時計部品の製造方法。
【請求項５】
請求項１に記載の時計部品の製造方法により製造されたことを特徴とする時計部品。
【請求項６】
請求項５に記載の時計部品と、
この時計部品に回転自在に支持される輪列とを有することを特徴とする時計。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、時計部品の製造方法、時計部品及び時計に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、時計の輪列を構成する歯車は、この歯車を軸支する回転軸の端部に形成されているほぞが、地板や輪列受に設けられている軸受部に回転自在に支持されるように取り付けられている。
ここで、軸受としては、地板や輪列受にルビー等からなる穴石を圧入し、この穴石にほぞを回転自在に支持可能な孔を形成しているものがある。このような軸受は、地板や輪列受に穴石を圧入する際に石割れが生じるおそれがある。また、地板や輪列受と、穴石とが別体であるので、穴石に形成されている孔の位置精度を高めにくい。さらに、穴石の圧入に耐え得るだけの板厚やスペースを確保する必要があるので、地板や輪列受が大型化してしまう。
【０００３】
このため、地板や輪列受をシリコンベース材料により形成し、これら地板や輪列受に等方性エッチングや異方性エッチングを施してほぞを回転自在に支持可能な孔を形成する技術が開示されている（例えば、特許文献１参照）。
これによれば、地板や輪列受と軸受とを一体に形成することができ、上述のように穴石を地板に圧入することもなくなる。また、シリコンベース材料により地板や輪列受を形成するので、これら地板や輪列受の剛性を高めることができる。このため、穴石の石割れ等を考慮する必要がなくなり、且つ地板や輪列受の剛性を高めることができる分、これら地板や輪列受の小型化を図ることが可能になる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１０−２０４１０３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、軸受の孔は、オリーブ（又はオリーベ等ともいう場合がある）形状にすることが好ましい。ここで、オリーブ形状とは、この断面形状が湾曲状になっているものをいう。すなわち、例えば孔の場合、この孔の両端周縁（角）が直孔の場合と比較して、オリーブ孔の方が鋭くない形状になっている。このように構成することで、孔とほぞとの接触面積を極力小さくすることができ、ほぞの摺動摩擦抵抗を減少させることができる。
【０００６】
しかしながら、上述の従来技術にあっては、孔をオリーブ形状とする場合、地板や輪列受に等方性エッチングを施す必要がある。等方性エッチングは、エッチング量のコントロールが難しく、孔を高精度に形成することが困難である。このため、軸受の製造歩留まりが悪化してしまうという課題がある。
【０００７】
そこで、この発明は、上述した事情に鑑みてなされたものであって、容易、且つ高精度に軸受の孔を形成することができ、製造歩留まりのよい時計部品の製造方法、時計部品及び時計を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の課題を解決するために、本発明に係る時計部品の製造方法は、基体に軸の端部を回転自在に支持するための孔を形成するための時計部品の製造方法において、基体上にフォトレジスト膜を形成するフォトレジスト膜形成工程と、グレースケールマスクを用いて前記フォトレジスト膜を露光して現像することにより、このフォトレジスト膜に前記孔に対応する開口部が形成されると共に、この開口部の周縁に湾曲状に切除されたレジスト丸面取り部が形成されてなるレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、前記レジストパターンをマスクとして前記基体をエッチングし、前記基体に前記孔を形成すると共に、この孔の軸方向両端の少なくとも一方に、湾曲状に切除された基体丸面取り部を形成する基体形成工程とを有することを特徴とする。
このような方法とすることで、基体に等方性エッチングを施すことなく、オリーブ形状の孔を高精度に形成することができ、製造歩留まりを向上させることができる。
【０００９】
本発明に係る時計部品の製造方法は、前記孔の軸方向両端に、それぞれ前記基体丸面取り部を形成したことを特徴とする。
このような方法とすることで、孔の内周面と軸の端部との接触面積を最小限に抑えることができ、軸の摺動摩擦抵抗を確実に減少させることができる。
【００１０】
本発明に係る時計部品の製造方法は、前記レジストパターン形成工程において、前記グレースケールマスクを用いて前記フォトレジスト膜を露光して現像することにより、このフォトレジスト膜の前記開口部の周囲にレジスト凹部を形成し、前記基体形成工程において、前記基体の前記レジスト凹部に対応する部位に、潤滑油を受ける基体凹部を形成したことを特徴とする。
このような方法とすることで、オリーブ形状の凹部を高精度に形成することができる。また、凹部を形成することにより、孔に確実に潤滑油を供給することができ、さらに軸の摺動摩擦抵抗を減少させることが可能になる。
【００１１】
本発明に係る時計部品の製造方法は、前記基体は地板及び輪列受の少なくとも何れか一方であって、これら地板及び輪列受に前記孔を形成したことを特徴とする。
このような方法とすることで、地板や輪列受を小型化することができる。
【００１２】
本発明に係る時計部品は、時計部品の製造方法により製造されたことを特徴とする。
このように構成することで、容易、且つ高精度に軸受の孔を形成することができ、製造歩留まりのよい時計部品を提供することができる。
【００１３】
本発明に係る時計は、上述の時計部品と、この時計部品に回転自在に支持される輪列とを有することを特徴とする。
このように構成することで、容易、且つ高精度に軸受の孔を形成することができ、製造歩留まりのよい時計を提供することができる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、基体に等方性エッチングを施すことなく、オリーブ形状の孔を高精度に形成することができ、製造歩留まりを向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の実施形態における機械式時計の平面図である。
【図２】本発明の実施形態における香箱からがんぎ車の部分を示す概略部分断面図である。
【図３】本発明の実施形態におけるがんぎ車からてんぷの部分を示す概略部分断面図である。
【図４】図２のＡ部拡大図である。
【図５】本発明の実施形態における軸受部の製造方法を示す説明図であって、（ａ）〜（ｆ）は各工程を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
（機械式時計）
次に、この発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
図１は、機械式時計の平面図、図２は、香箱からがんぎ車の部分を示す概略部分断面図、図３は、がんぎ車からてんぷの部分を示す概略部分断面図である。
図１〜図３に示すように、腕時計である機械式時計１０（時計の一例）は、ムーブメント１００と、このムーブメント１００を収納する不図示のケーシングとにより構成され、ムーブメント１００に文字板１０４が取り付けられている。
【００１７】
（ムーブメント）
ムーブメント１００は、基板を構成する地板１０２を有している。
ここで、地板１０２の両側のうち、文字板１０４が配される側（図２における下側）をムーブメント１００の裏側と称し、文字板１０４が配される側の反対側をムーブメント１００の表側と称する。ムーブメント１００の表側に組み込まれる輪列を表輪列と称し、ムーブメント１００の裏側に組み込まれる輪列を裏輪列と称する。
【００１８】
地板１０２には、巻真案内穴１０２ａが形成されており、ここに巻真１１０が回転自在に組み込まれている。巻真１１０は、おしどり１９０、かんぬき１９２、かんぬきばね１９４、裏押さえ１９６を有する切換装置により、軸方向の位置が決められている。また、巻真１１０の案内軸部に、きち車１１２が回転自在に設けられている。
【００１９】
このような構成のもと、巻真１１０が、回転軸方向に沿ってムーブメント１００の内側に一番近い方の第１の巻真位置（０段目）にある状態で巻真１１０を回転させると、不図示のつづみ車の回転を介してきち車１１２が回転する。そして、きち車１１２が回転することにより、これと噛合う丸穴車１１４が回転する。さらに、丸穴車１１４が回転することにより、これと噛合う角穴車１１６が回転する。角穴車１１６が回転することにより、香箱車１２０に収容されたぜんまい１２２（図２参照）を巻き上げる。香箱車１２０は、表輪列を構成するものである。
【００２０】
香箱車１２０は、香箱歯車１２０ｄと、香箱真１２０ｆと、ぜんまい１２２とを備えている。香箱真１２０ｆは、上軸部１２０ａと、上軸部１２０ａとは反対側端である地板１０２側端（図２における下側端）に突設されたほぞ１２０ｂとを有している。
ほぞ１２０ｂは、香箱真１２０ｆよりも段差により縮径形成されている。香箱真１２０ｆは、炭素鋼などの金属で形成されている。香箱歯車１２０ｄは黄銅などの金属で形成されている。
【００２１】
ムーブメント１００の表側に配置された表輪列は、香箱車１２０の他に二番車１２４、三番車１２６、及び四番車１２８により構成されている。また、ムーブメント１００の表側には、表輪列の回転を制御するための脱進・調速装置４０が配置されている。
【００２２】
二番車１２４は、軸部１２４ａと、この軸部１２４ａの地板１０２側に設けられたそろばん玉部１２４ｂと、軸部１２４ａの地板１０２とは反対側に突設されたほぞ１２４ｃと、軸部１２４ａのそろばん玉部１２４ｂとほぞ１２４ｃとの間に設けられたかな部１２４ｄと、ほぞ１２４ｃとかな部１２４ｄとの間に設けられた歯車部１２４ｅとを有している。そして、かな部１２４ｄが香箱歯車１２０ｄに噛み合うように構成されている。
ほぞ１２４ｃは、軸部１２４ａよりも段差により縮径形成されている。軸部１２４ａ、そろばん玉部１２４ｂ及びほぞ１２４ｃは、炭素鋼などの金属で形成されている。歯車部１２４ｅはニッケルなどの金属で形成されている。
【００２３】
三番車１２６は、軸部１２６ａと、軸部１２６ａの両端に突設されたほぞ１２６ｂ，１２６ｃと、軸部１２６ａの両ほぞ１２６ｂ，１２６ｃの間に設けられたかな部１２６ｄ及び歯車部１２６ｅとを有している。そして、かな部１２６ｄが二番車１２４の歯車部１２４ｅと噛み合うように構成されている。また、ほぞ１２６ｂ，１２６ｃは、軸部１２６ａよりも段差により縮径形成されている。
【００２４】
四番車１２８は、軸部１２８ａと、軸部１２８ａの両端に突設されたほぞ１２８ｂ，１２８ｃと、軸部１２８ａの両ほぞ１２８ｂ，１２８ｃの間に設けられたかな部１２８ｄ及び歯車部１２８ｅとを有している。そして、かな部１２８ｄが三番車１２６の歯車部１２６ｅと噛み合うように構成されている。
軸部１２８ａ及び両ほぞ１２８ｂ，１２８ｃは、炭素鋼などの金属で形成されている。歯車部１２８ｅはニッケルなどの金属で形成されている。また、ほぞ１２８ｂ，１２８ｃは、軸部１２８ａよりも段差により縮径形成されている。
【００２５】
脱進・調速装置４０は、がんぎ車１３０と、アンクル１４２と、てんぷ１４０とを含み、二番車１２４の回転に基づいて、筒かな１５０（図２参照）が同時に回転するようになっている。筒かな１５０に取り付けられた分針１５２が「分」を表示する。筒かな１５０には、二番車１２４に対するスリップ機構が設けられている。筒かな１５０の回転に基づいて、日の裏車の回転を介して、筒車１５４が回転する。筒車１５４に取り付けられた時針１５６が「時」を表示する。
【００２６】
がんぎ車１３０は、軸部１３０ａと、軸部１３０ａの両端に突設されたほぞ１３０ｂ，１３０ｃと、軸部１３０ａの両ほぞ１３０ｂ，１３０ｃの間に設けられたかな部１３０ｄ及び歯車部１３０ｅとを有している。そして、かな部１３０ｄが四番車１２８の歯車部１２８ｅと噛み合うように構成されている。
アンクル１４２は、アンクル体１４２ｄと、アンクル真１４２ｆとを備えている。アンクル真１４２ｆは、この両端にそれぞれほぞ１４２ａ，１４２ｂを有している。
【００２７】
てんぷ１４０は、てん真１４０ａ及びひげぜんまい１４０ｃを備えている。ひげぜんまい１４０ｃは、複数の巻き数をもったうずまき状（螺旋状）の形態の薄板ばねである。
ひげぜんまい１４０ｃの内側端部は、てん真１４０ａに固定されたひげ玉１４０ｄに固定されている。一方、ひげぜんまい１４０ｃの外側端部は、てんぷ受１６７に回転自在に取り付けられたひげ持受１７０に取り付けたひげ持１７０ａを介してねじ締めにより固定されている。緩急針１６８は、てんぷ受１６７に回転自在に取り付けられている。
【００２８】
ここで、てんぷ１４０は、軸体１４３を中心にして回転自在に構成されている。軸体１４３は、軸本体部として構成されるてん真１４０ａと、てん真１４０ａの軸方向両端に、てん真１４０ａよりも縮径形成されたほぞ１４４，１４５とを備えている。これらほぞ１４４，１４５は、地板１０２、及びてんぷ受１６７に設けられている軸受部１８０に挿通され、回転自在に支持されている。これにより、軸体１４３が回転自在に支持され、てんぷ１４０が回転自在となる。
【００２９】
また、香箱車１２０は、地板１０２、及び香箱受１６０に対して回転自在に支持されている。すなわち、香箱真１２０ｆの上軸部１２０ａは、香箱受１６０に対して回転自在に支持されている一方、香箱真１２０ｆのほぞ１２０ｂは、地板１０２に設けられている軸受部１８１に回転自在に支持されている。
【００３０】
さらに、二番車１２４、三番車１２６、四番車１２８、がんぎ車１３０は、地板１０２、及び輪列受１６２に対して回転自在に支持されている。
すなわち、二番車１２４のほぞ１２４ｃは、輪列受１６２に設けられている軸受部１８２に、三番車１２６のほぞ１２６ｂは、輪列受１６２に設けられている軸受部１８３に、四番車１２８のほぞ１２８ｂは、輪列受１６２に設けられている軸受部１８４に、がんぎ車１３０のほぞ１３０ｂは、輪列受１６２に設けられている軸受部１８５に回転自在に支持されている。
【００３１】
また、二番車１２４の軸部１２４ａは、地板１０２に設けられている軸受部１８６に、三番車１２６のほぞ１２６ｃは、地板１０２に設けられている軸受部１８７に、四番車１２８のほぞ１２８ｃは、地板１０２に設けられている軸受部１８８に、がんぎ車１３０のほぞ１３０ｃは、地板１０２に設けられている軸受部１８９に回転自在に支持されている。
さらに、アンクル１４２は、地板１０２及びアンクル受１６４に対して回転自在に支持されている。すなわち、アンクル１４２のほぞ１４２ａは、アンクル受１６４に対して回転自在に支持されている一方、ほぞ１４２ｂは、地板１０２に対して、回転自在に支持されている。
尚、香箱受１６０やアンクル受１６４は、黄銅などの金属で形成してもよいし、ポリカーボネートなどの樹脂で形成してもよい。
【００３２】
このような構成のもと、巻真１１０を用いて香箱車１２０に収容されたぜんまい１２２を巻き上げた後、このぜんまい１２２が巻き戻される際の回転力により、香箱車１２０が回転する。香箱車１２０が回転することにより、これと噛合う二番車１２４が回転する。
二番車１２４が回転すると、これに噛合う三番車１２６が回転する。三番車１２６が回転すると、これに噛合う四番車１２８が回転する。四番車１２８が回転すると、脱進・調速装置４０が駆動する。脱進・調速装置４０が駆動することにより、四番車１２８が１分間に１回転するように制御されると共に、二番車１２４が１時間に１回転するように制御される。
【００３３】
ここで、地板１０２及び輪列受１６２は、シリコンにより形成されている。そして、少なくとも地板１０２及び輪列受１６２に設けられている軸受部１８１〜１８９の中には、それぞれ地板１０２及び輪列受１６２と一体成形されているものがある。例えば、この実施形態では、地板１０２に設けられている各軸受部１８１，１８６〜１８９のうち、少なくとも軸受部１８１，１８６〜１８８が、地板１０２に一体成形されている。また、輪列受１６２に設けられている軸受部１８２〜１８５のうち、少なくとも軸受部１８２〜１８４が、輪列受１６２に一体成形されている。
【００３４】
（軸受部）
図４に基づいて、各軸受部１８１〜１８４，１８６〜１８８について詳述する。
図４は、図２のＡ部拡大図である。尚、各軸受部１８１〜１８４，１８６〜１８８は、何れも同一態様であるので、以下の説明（後述の「軸受部の製造方法」の説明も含む）では、二番車１２４を構成する軸部１２４ａのほぞ１２４ｃを回転自在に支持する軸受部１８２のみについて説明し、その他の軸受部１８１，１８３，１８４，１８６〜１８８については説明を省略する。
【００３５】
図４に示すように、輪列受１６２には、軸部１２４ａの端部１２４ｆに突設されているほぞ１２４ｃを挿通可能な挿通孔８１が形成されており、この挿通孔８１を、軸受部１８２としている。挿通孔８１は、この内周面が軸方向略中央に向かうに従って、徐々に径方向内側に膨出するように湾曲形成された所謂オリーブ形状になっている。換言すれば、挿通孔８１は、軸方向両端に向かうに従って徐々に末広がりとなるように、それぞれ丸面取り部８２が形成された状態になっている。
【００３６】
また、挿通孔８１の内径のうち、最小となる径Ｄ１は、ほぞ１２４ｃの外径Ｄ２よりも僅かに大きく設定されており、挿通孔８１とほぞ１２４ｃとの間に所望のクリアランス（ほぞガタ）Ｃ１が形成されている。このクリアランスＣ１に潤滑油Ｊを注油するようになっている。
【００３７】
さらに、輪列受１６２の軸部１２４ａとは反対側の端面１６２ａには、挿通孔８１に対応する位置に凹部８３が形成されている。凹部８３は、クリアランスＣ１に潤滑油Ｊを注油するための受け皿として機能するものである。凹部８３は、径方向中央に向かうに従って深さが徐々に滑らかに深くなるように形成された所謂オリーブ形状になっている。
【００３８】
（軸受部の製造方法）
次に、図５に基づいて、各軸受部１８１〜１８４，１８６〜１８８の製造方法について説明する。
図５は、軸受部の製造方法を示す説明図であって、（ａ）〜（ｇ）は各工程を示す。
まず、図５（ａ）に示すように、輪列受１６２における軸受部１８２の凹部８３を形成する面に第１フォトレジスト膜６１を形成する（第１フォトレジスト膜形成工程）。
【００３９】
続いて、第１フォトレジスト膜６１をフォトリソグラフィ技術によりパターニングするレジストパターン形成工程を行う。具体的には、輪列受１６２の第１フォトレジスト膜６１上に第１グレースケールマスク６２をセットする。
この第１グレースケールマスク６２は、中心部６２aから径方向外側６２ｂ、６２ｃに向かうに従って光（例えば、紫外線等）の透過量が少なくなるように調節された（すなわち、径方向外側に向かうに従って淡くなる）濃淡のあるマスクである。より具体的には、第１グレースケールマスク６２は、軸受部１８２の挿通孔８１（図４参照）に対応する部位（図５の６２a）が最も濃く、凹部８３（図４参照）に対応する部位（図５の６２ｂ、６２ｃ）が、径方向外側に向かうに従って徐々に淡くなるように濃淡のあるマスクである（すなわち、図５の６２ｂより６２ｃの方が淡い）。
【００４０】
そして、第１グレースケールマスク６２を介して第１フォトレジスト膜６１に向けて紫外線を照射し、露光を行う。このとき、第１フォトレジスト膜６１の挿通孔８１に対応する部位は、紫外線が最も露光されていない状態になっている。また、第１フォトレジスト膜６１の凹部８３に対応する部位は、径方向外側に向かうに従って露光される紫外線量が徐々に増大している状態になっている。
【００４１】
ここで、第１フォトレジスト膜６１は、紫外線が露光された領域が硬化する所謂ネガレジスト材を用いて形成されている。このため、図５（ｃ）に示すように、露光後、現像液に浸漬することにより、第１フォトレジスト膜６１は、露光されている紫外線量が少ない領域ほどフォトレジスト膜が除去される。そして、軸受部１８２の挿通孔８１に対応する部位に、開口部６３を有し、且つ軸受部１８２の凹部８３に対応する部位に、オリーブ形状の凹部６４を有する第１レジストパターン１８１ａが形成される（第１レジストパターン形成工程）。
【００４２】
続いて、図５（ｄ）に示すように、第１レジストパターン１８１ａをマスクとして輪列受１６２にエッチングを行い、この輪列受１６２に軸受部１８２の凹部８３を形成すると共に、挿通孔８１に対応する部位に開口部８１ａを形成する。
【００４３】
次に、図５（ｅ）に示すように、輪列受１６２に第２フォトレジスト膜６５を形成する（第２フォトレジスト膜形成工程）。
このとき、輪列受１６２の両面に第２フォトレジスト膜６５を形成する。すなわち、第２フォトレジスト膜形成工程と、上述の第１フォトレジスト膜形成工程との相違点は、第２フォトレジスト膜形成工程では輪列受１６２の両面に第２フォトレジスト膜６５を形成するが、上述の第１フォトレジスト膜形成工程では輪列受１６２の片面にのみに第１フォトレジスト膜６１を形成する点にある。
尚、第２フォトレジスト膜６５は、第１フォトレジスト膜６１と同様に、所謂ネガレジスト材を用いて形成されている。
【００４４】
続いて、輪列受１６２の第２フォトレジスト膜６５上に、上述の第１グレースケールマスク６２とは別の第２グレースケールマスク６６をセットする。この第２グレースケールマスク６６も、中心部６６aから径方向外側６６ｂ、６６ｃに向かうに従って光の透過量が少なくなるように調節された濃淡のあるマスクである。より具体的には、第２グレースケールマスク６６は、輪列受１６２の開口部８１ａに対応する部位（図５の６６a）が最も濃く、さらに、開口部８１ａの周縁に対応する部位（図５の６６ｂ、６６ｃ）が、径方向外側に向かうに従って徐々に淡くなるように濃淡のあるマスクである。
【００４５】
そして、第２グレースケールマスク６６を介して第２フォトレジスト膜６５に向けて紫外線を照射し、露光を行う。ついで、現像液に浸漬することにより、第２フォトレジスト膜６５は、露光されている紫外線量が少ない領域ほど多くのフォトレジスト膜が除去される。
【００４６】
これにより、図５（ｆ）に示すように、第２レジストパターン６５ａが形成される（第２レジストパターン形成工程）。この第２レジストパターン６５ａは、輪列受１６２の開口部８１ａに対応する部位に、軸方向外側に向かうに従って末広がりとなるように開口部６７が形成されている。換言すれば、開口部６７は、この開口周縁に丸面取り部６７ａが形成された状態になっている。
【００４７】
続いて、図５（ｇ）に示すように、第２レジストパターン６５ａをマスクとして輪列受１６２にエッチングを行う。すると、輪列受１６２の開口部８１ａが軸方向外側に向かうに従って末広がりとなるように形成され、この結果、全体として内周面が軸方向略中央に向かうに従って、徐々に径方向内側に膨出するように湾曲形成されたオリーブ形状の挿通孔８１が形成される。換言すれば、開口部８１ａの軸方向両端の周縁に、それぞれ丸面取り部８２が形成されてなる挿通孔８１が形成される。これにより、軸受部１８２の製造が完了する（基体形成工程）。
【００４８】
（効果）
したがって、上述の実施形態によれば、第１グレースケールマスク６２を用い、第１フォトレジスト膜６１を第１レジストパターン１８１ａに形成すると共に、第２グレースケールマスク６６を用い、第２フォトレジスト膜６５を第２レジストパターン６５ａに形成するので、輪列受１６２や地板１０２に等方性エッチングを施すことなく、オリーブ形状を有する各軸受部１８１〜１８４，１８６〜１８８を高精度に形成することができ、製造歩留まりを向上させることができる。
【００４９】
また、地板１０２に設けられている各軸受部１８１，１８６〜１８９のうち、少なくとも軸受部１８１，１８６〜１８８が、地板１０２に一体成形されていると共に、輪列受１６２に設けられている軸受部１８２〜１８５のうち、少なくとも軸受部１８２〜１８４が、輪列受１６２に一体成形されている。このため、地板１０２や輪列受１６２に、各軸受部１８１〜１８４，１８６〜１８８をそれぞれ別途圧入する場合と比較して、地板１０２や輪列受１６２を薄肉化、小型化することができる。
【００５０】
また、軸受部１８２の挿通孔８１は、この内周面が軸方向略中央に向かうに従って、徐々に径方向内側に膨出するように湾曲形成された所謂オリーブ形状になっている。換言すれば、挿通孔８１は、軸方向両端に向かうに従って徐々に末広がりとなるように、それぞれ丸面取り部８２が形成された状態になっている。このため、挿通孔８１とこの挿通孔８１に挿通されるほぞ１２４ｃ（図４参照）との接触面積を最小限に抑えることができ、ほぞ１２４ｃの摺動摩擦抵抗を確実に減少させることができる。
【００５１】
さらに、軸受部１８２に凹部８３を形成し、この凹部８３を潤滑油Ｊを注油するための受け皿として機能させているので、挿通孔８１に確実に潤滑油Ｊを供給することができ、さらに確実にほぞ１２４ｃの挿通孔８１に対する摺動摩擦抵抗を減少させることができる。
【００５２】
尚、本発明は上述の実施形態に限られるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、上述の実施形態に種々の変更を加えたものを含む。
例えば、上述の実施形態のうち、（軸受部の製造方法）では、輪列受１６２の軸受部１８２の製造方法についてのみ説明したが、輪列受１６２の少なくとも軸受部１８２〜１８４について、軸受部１８２の製造方法と同様に、且つ同時に製造することができる。また、地板１０２の少なくとも軸受部１８１，１８６〜１８８について、輪列受１６２の軸受部１８２の製造方法と同様に、且つ同時に製造することができる。
【００５３】
また、上述の実施形態では、輪列受１６２における軸受部１８２の凹部８３を形成する面に、第１フォトレジスト膜６１を形成し、輪列受１６２に凹部８３と開口部８１ａを形成した後、輪列受１６２の両面に第２フォトレジスト膜６５を形成し、開口部８１ａの軸方向両端の周縁に、それぞれ丸面取り部８２を形成した場合について説明した。しかしながら、これに限られるものではなく、グレースケールマスクを用いたフォトレジスト膜の露光、現像により、最終的に、輪列受１６２に軸受部１８２が形成されればよい。
すなわち、まず最初に輪列受１６２の両面に第１フォトレジスト膜６１を形成し、各面にそれぞれ別々のグレースケールパターンをセットして挿通孔８１や凹部８３を形成するようにしてもよい。
【００５４】
さらに、上述の実施形態では、第１フォトレジスト膜６１及び第２フォトレジスト膜６５は、紫外線が露光された領域が硬化する所謂ネガレジスト材を用いて形成されている場合について説明した。しかしながら、これに限ら得るものではなく、紫外線が露光されていない領域が硬化する所謂ポジレジスト材を用いて第１フォトレジスト膜６１及び第２フォトレジスト膜６５を形成してもよい。この場合、第１グレースケールマスク６２及び第２グレースケールマスク６６の濃淡を上述の実施形態とは逆にする。
【００５５】
そして、上述の実施形態では、第１グレースケールマスク６２及び第２グレースケールマスク６６の２つのグレースケールマスク１８２，１８６を用い、輪列受１６２に軸受部１８２の挿通孔８１及び凹部８３を形成した場合について説明した。しかしながら、これに限られるものではなく、一度に輪列受１６２に挿通孔８１や凹部８３を形成可能なグレースケールマスクを用いることも可能である。
【００５６】
また、上述の実施形態では、軸受部１８２に、潤滑油Ｊの受け皿として機能するオリーブ形状の凹部８３を形成した場合について説明した。しかしながら、これに限られるものではなく、軸受部１８２に凹部８３を形成せずに、挿通孔８１のみを形成してもよい。また、このような構成は、各軸受部１８１〜１８４，１８６〜１８８とも同様の構成としてもよい。
【００５７】
この場合、輪列受１６２に第１フォトレジスト膜６１を形成する第１フォトレジスト膜形成工程（図５（ａ）参照）、及び第１フォトレジスト膜６１を、第１グレースケールマスク６２を用いて第１レジストパターン１８１ａに形成する第１レジストパターン形成工程（図５（ｂ）、図５（ｃ）参照）を省けばよい。
【００５８】
そして、輪列受１６２や地板１０２に各軸受部１８１〜１８４，１８６〜１８８を形成するにあたって、まず、輪列受１６２や地板１０２の両面に第２フォトレジスト膜６５を形成し、この第２フォトレジスト膜６５を、第２グレースケール６６を用いて第２レジストパターン６５ａに形成した後、この第２レジストパターン６５ａをマスクとして輪列受１６２や地板１０２にエッチングを行えばよい。
【００５９】
さらに、上述の実施形態では、軸受部１８２の挿通孔８１は、軸方向両端の周縁にそれぞれ丸面取り部８２が形成されており、これによって、挿通孔８１の内周面が軸方向略中央に向かうに従って、徐々に径方向内側に膨出するように湾曲形成されたオリーブ形状になっている場合について説明した。しかしながら、これに限られるものではなく、挿通孔８１の軸方向両端のうち、少なくとも一方の端部の周縁に丸面取り部８２が形成されていればよい。
【００６０】
また、上述の実施形態では、地板１０２や輪列受１６２の各軸受部１８１〜１８４，１８６〜１８８を形成するにあたって、各グレースケールマスク１８２，１８６を用いて形成した場合について説明した。しかしながら、これに限られるものではなく、さまざまな時計部品に、本実施形態の製造方法を採用することが可能である。例えば、香箱受１６０やアンクル受１６４を形成する場合にも、本実施形態の製造方法を採用することが可能である。この場合、香箱受１６０やアンクル受１６４もシリコンにより形成することが好ましい。
また、水晶時計（クオーツ時計、ＩＳＯ６４２６−２）、アナログクオーツ時計（アナログ水晶時計、ＩＳＯ６４２６−２）、置時計、掛時計等の時計に用いられる地板や輪列受の各軸受部等の各部品を形成する場合に適用するようにしてもよい。
【符号の説明】
【００６１】
１０  機械式時計（時計）
６１  第１フォトレジスト膜（フォトレジスト膜）
６１ａ  第１レジストパターン（レジストパターン）
６２  第１グレースケールマスク（グレースケールマスク）
６３，６７  開口部
６４  凹部（レジスト凹部）
６５  第２フォトレジスト膜（フォトレジスト膜）
６５ａ  第２レジストパターン（レジストパターン）
６６  第２グレースケールマスク（グレースケールマスク）
６７ａ  丸面取り部（レジスト丸面取り部）
８１  挿通孔（孔）
８２  丸面取り部（基体丸面取り部）
８３  凹部（基体凹部）
１０２  地板
１２０  香箱車（輪列）
１２０ａ  上軸部（軸）
１２０ｂ，１２４ｃ，１２６ｂ，１２６ｃ，１２８ｂ，１２８ｃ  ほぞ（端部）
１２４  二番車（輪列）
１２４ａ，１２６ａ，１２８ａ  軸部（軸）
１２６  三番車（輪列）
１２８  四番車（輪列）
１６２  輪列受
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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