(57)【要約】【課題】基板ステージ装置上の基板を効率よく回転させる。【解決手段】  基板ステージ装置２０は、水平面に平行な基板載置面を有するとともに該基板載置面上に載置された基板Ｐを保持可能な基板ホルダ４０を含む基板ステージ装置２０と、前記基板ステージ装置２０が有する基板リフト装置４２によって規定されるガイド面に沿って前記基板Ｐを基板ステージ装置２０から搬出するとともに、前記基板Ｐを前記基板ホルダ４０に対して、例えば９０°回転させる搬出装置６０と、を備える。【選択図】図９
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の二次元平面に平行な物体載置面を有するとともに該物体載置面上に載置された物体を保持可能な物体保持部材を含む物体保持装置と、
前記物体保持装置が有するガイド部材によって規定されるガイド面に沿って前記物体を前記物体保持部材に対して所定角度回転させる駆動系と、を備える物体駆動システム。
【請求項２】
前記駆動系は、前記物体を前記ガイド面に直交する軸回り方向に少なくとも９０°回転させる請求項１に記載の物体駆動システム。
【請求項３】
前記物体保持装置は、前記二次元平面に平行な方向に沿った位置を移動可能な移動体である請求項１又は２に記載の物体駆動システム。
【請求項４】
前記ガイド部材は、前記物体保持部材内に収容された位置と前記物体載置面から突出した位置との間で移動可能に設けられ、
前記駆動系は、前記物体載置面から突出した前記ガイド部材によって規定される前記ガイド面に沿って前記物体を回転させる請求項１〜３のいずれか一項に記載の物体駆動システム。
【請求項５】
前記駆動系は、前記物体保持部材を前記ガイド部材とし、前記物体載置面を前記ガイド面として前記物体を回転させる請求項１〜３のいずれか一項に記載の物体駆動システム。
【請求項６】
前記駆動系は、前記物体を保持する保持装置を有し、
前記保持装置は、前記物体保持部材の外部に配置され、前記物体の端部を保持する請求項１〜５のいずれか一項に記載の物体駆動システム。
【請求項７】
前記駆動系は、前記保持装置を前記二次元平面に平行な方向、及び前記二次元平面に直交する軸回り方向に沿って駆動する駆動装置を更に含み、
前記駆動装置は、前記物体保持装置に設けられる請求項６に記載の物体駆動システム。
【請求項８】
前記駆動系は、前記保持装置を前記二次元平面に平行な方向、及び前記二次元平面に直交する軸回り方向に沿って駆動する駆動装置を更に含み、
前記駆動装置は、前記物体保持装置とは分離して設けられる請求項６に記載の物体駆動システム。
【請求項９】
前記駆動系は、前記物体を保持した前記保持装置を前記駆動装置を用いて駆動することにより該物体を前記物体保持装置の外部に搬出する請求項７又は８に記載の物体駆動システム。
【請求項１０】
前記駆動系は、前記物体を保持し、且つ前記二次元平面に直交する軸回り方向に回転可能な保持装置を有し、
前記保持装置が前記物体保持部材内に設けられる請求項１〜５のいずれか一項に記載の物体駆動システム。
【請求項１１】
前記物体保持部材は、前記物体載置面上で前記物体を吸着保持可能である請求項１〜１０のいずれか一項に記載の物体駆動システム。
【請求項１２】
前記物体保持装置は、前記物体を前記物体載置面から浮上させることが可能である請求項１〜１１のいずれか一項に記載の物体駆動システム。
【請求項１３】
前記物体保持装置は、前記ガイド部材から物体に対して加圧気体を噴出することにより該物体を前記物体載置面から浮上させる請求項１２に記載の物体駆動システム。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか一項に記載の物体駆動システムと、
前記物体保持装置に保持された前記物体にエネルギビームを用いて所定のパターンを形成するパターン形成装置と、を備える露光装置。
【請求項１５】
前記物体は、フラットパネルディスプレイ装置に用いられる基板である請求項１４に記載の露光装置。
【請求項１６】
前記基板は、少なくとも一辺の長さ又は対角長が５００ｍｍ以上である請求項１５に記載の露光装置。
【請求項１７】
請求項１５又は１６に記載の露光装置を用いて前記物体を露光することと、
露光された前記物体を現像することと、を含むフラットパネルディスプレイの製造方法。
【請求項１８】
請求項１４に記載の露光装置を用いて前記物体を露光することと、
露光された前記物体を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【請求項１９】
物体保持装置が有する物体保持部材上に載置された物体を所定の保持装置により保持することと、
前記保持装置を駆動して前記物体を前記物体保持装置が有するガイド部材によって規定されるガイド面に沿って前記物体保持部材に対して所定角度回転させることと、を含む物体の駆動方法。
【請求項２０】
前記回転させることでは、前記物体を前記ガイド面に直交する軸回り方向に少なくとも９０°回転させる請求項１９に記載の物体の駆動方法。
【請求項２１】
前記回転させることでは、前記物体を前記物体保持部材上に浮上させる請求項１９又は２０に記載の物体の駆動方法。
【請求項２２】
前記保持装置を駆動することにより、前記物体を前記物体保持装置の外部に搬出すること、を更に含む請求項１９〜２１のいずれか一項に記載の物体の駆動方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、物体駆動システム、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び物体の駆動方法に係り、更に詳しくは、物体を物体保持装置に対して回転させる物体駆動システム、前記物体駆動システムを含む露光装置、前記露光装置を使用したフラットパネルディスプレイの製造方法及びデバイス製造方法、並びに物体を物体保持装置に対して回転させる物体の駆動方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶表示素子、半導体素子（集積回路等）等の電子デバイス（マイクロデバイス）を製造するリソグラフィ工程では、マスク又はレチクル（以下、「マスク」と総称する）と、ガラスプレート又はウエハ（以下、「基板」と総称する）とを所定の走査方向（スキャン方向）に沿って同期移動させつつ、マスクに形成されたパターンをエネルギビームを用いて基板上に転写するステップ・アンド・スキャン方式の露光装置が用いられている。
【０００３】
この種の露光装置では、１枚の基板上に複数のショット領域が設定され、該複数のショット領域に対して順次ステップ・アンド・スキャン方式の露光動作が行われる（例えば特許文献１参照）。
【０００４】
ここで、ショット領域の大きさ（広さ）によっては、基板上にパターンが転写されない領域（余白の領域）が形成されることがある。そして、例えば基板を９０°回転させることにより、上記余白の領域にパターンを転写することができることがあるため、基板を効率良く回転させることができる装置が望まれていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】米国特許第６，５５２，７７５号明細書
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上述の事情の下でなされたもので、第１の観点からすると、所定の二次元平面に平行な物体載置面を有するとともに該物体載置面上に載置された物体を保持可能な物体保持部材を含む物体保持装置と、前記物体保持装置が有するガイド部材によって規定されるガイド面に沿って前記物体を前記物体保持部材に対して所定角度回転させる駆動系と、を備える物体駆動システムである。
【０００７】
ここで、回転とは、固定の軸線回りの回転動作に限定されず、回転動作中に回転中心を規定する軸線が移動する場合も含むものとする。
【０００８】
これによれば、物体が回転する際のガイド面を規定するガイド部材を基板保持装置が有しているので効率が良い。
【０００９】
本発明は、第２の観点からすると、本発明の第１の観点にかかる物体駆動システムと、前記物体保持装置に保持された前記物体にエネルギビームを用いて所定のパターンを形成するパターン形成装置と、を備える露光装置である。
【００１０】
本発明は、第３の観点からすると、本発明の第２の観点にかかる露光装置を用いて前記物体を露光することと、露光された前記物体を現像することと、を含むフラットパネルディスプレイの製造方法である。
【００１１】
本発明は、第４の観点からすると、本発明の第２の観点にかかる露光装置を用いて前記物体を露光することと、露光された前記物体を現像することと、を含むデバイス製造方法である。
【００１２】
本発明は、第５の観点からすると、物体保持装置が有する物体保持部材上に載置された物体を所定の保持装置により保持することと、前記保持装置を駆動して前記物体を前記物体保持装置が有するガイド部材によって規定されるガイド面に沿って前記物体保持部材に対して所定角度回転させることと、を含む物体の駆動方法である。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】一実施形態に係る液晶露光装置の構成を概略的に示す図である。
【図２】図１の液晶露光装置が有する基板ステージ装置の平面図（一部省略）である。
【図３】基板ステージ装置を示す正面図である。
【図４】基板ステージ装置が有する複数の基板リフト装置を示す図である。
【図５】図５（Ａ）及び図５（Ｂ）は、基板リフト装置の動作を説明するための図（その１及びその２）である。
【図６】図６（Ａ）及び図６（Ｂ）は、基板ステージ装置が有する搬出装置を示す図（正面図及び側面図）である。
【図７】図７（Ａ）及び図７（Ｂ）は、基板ステージ装置に対する基板の搬入動作を説明するための図（その１及びその２）である。
【図８】図８（Ａ）〜図８（Ｃ）は、搬出装置を用いた基板の搬出動作を説明するための図（その１〜その３）である。
【図９】図９（Ａ）〜図９（Ｃ）は、基板ホルダ上における基板の回転動作を説明するための図（その１〜その３）である。
【図１０】図１０（Ａ）及び図１０（Ｂ）は、第１変形例に係る搬出装置を示す図（正面図及び側面図）である。
【図１１】図１１（Ａ）及び図１１（Ｂ）は、第２変形例に係る基板ホルダを示す図（平面図及び断面図）である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、一実施形態について、図１〜図９（Ｃ）に基づいて説明する。
【００１５】
図１には、一実施形態に係る液晶露光装置１０の構成が概略的に示されている。液晶露光装置１０は、例えば液晶表示装置（フラットパネルディスプレイ）などに用いられる矩形（角型）のガラス基板Ｐ（以下、単に基板Ｐと称する）を露光対象物とするステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置、いわゆるスキャナである。
【００１６】
液晶露光装置１０は、照明系１２、回路パターンなどが形成されたマスクＭを保持するマスクステージ１４、投影光学系１６、装置本体１８、表面（図１で＋Ｚ側を向いた面）にレジスト（感応剤）が塗布された基板Ｐを保持する基板ステージ装置２０、外部装置（例えば、コータ・デベロッパ装置）との間で基板Ｐの受け渡しを行うポート部７０（図１では不図示。図７（Ａ）参照）、及びこれらの制御系等を有している。以下、露光時にマスクＭと基板Ｐとが投影光学系１６に対してそれぞれ相対走査される方向をＸ軸方向とし、水平面内でＸ軸に直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸及びＹ軸に直交する方向をＺ軸方向とし、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸回りの回転方向をそれぞれθｘ、θｙ、及びθｚ方向として説明を行う。
【００１７】
照明系１２は、例えば米国特許第５，７２９，３３１号明細書などに開示される照明系と同様に構成されている。照明系１２は、露光用の照明光ＩＬをマスクＭに照射する。照明光ＩＬとしては、例えばｉ線（波長３６５ｎｍ）、ｇ線（波長４３６ｎｍ）、ｈ線（波長４０５ｎｍ）などの光（あるいは、上記ｉ線、ｇ線、ｈ線の合成光）が用いられる。
【００１８】
マスクステージ１４は、マスクＭを、例えば真空吸着により保持している。マスクステージ１４は、例えばリニアモータを含むマスクステージ駆動系（不図示）により走査方向（Ｘ軸方向）に所定の長ストロークで駆動されるとともに、Ｙ軸方向、及びθｚ方向に適宜微少駆動される。マスクステージ１４のＸＹ平面内の位置情報（θｚ方向の回転量情報を含む）は、不図示のレーザ干渉計を含むマスク干渉計システムにより求められる。
【００１９】
投影光学系１６は、マスクステージ１４の下方に配置され、装置本体１８の一部である鏡筒定盤１８ａに支持されている。投影光学系１６は、例えば米国特許第６，５５２，７７５号明細書に開示された投影光学系と同様に構成されている。すなわち、投影光学系１６は、マスクＭのパターン像の投影領域が千鳥状に配置された複数の投影光学系（マルチレンズ投影光学系）を含み、Ｙ軸方向を長手方向とする長方形状の単一のイメージフィールドを持つ投影光学系と同等に機能する。本実施形態では、複数の投影光学系それぞれとしては、例えば両側テレセントリックな等倍系で正立正像を形成するものが用いられている。
【００２０】
このため、照明系１２からの照明光ＩＬによってマスクＭ上の照明領域が照明されると、マスクＭを通過した照明光により、投影光学系１６を介してその照明領域内のマスクＭの回路パターンの投影像（部分正立像）が、基板Ｐ上の照明領域に共役な照明光の照射領域（露光領域）に形成される。そして、マスクステージ１４と基板ステージ装置２０との同期駆動によって、照明領域（照明光ＩＬ）に対してマスクＭを走査方向に相対移動させるとともに、露光領域（照明光ＩＬ）に対して基板Ｐを走査方向に相対移動させることで、基板Ｐ上の１つのショット領域の走査露光が行われ、そのショット領域にマスクＭに形成されたパターンが転写される。すなわち、液晶露光装置１０では、照明系１２及び投影光学系１６によって基板Ｐ上にマスクＭのパターンが生成され、照明光ＩＬによる基板Ｐ上の感応層（レジスト層）の露光によって基板Ｐ上にそのパターンが形成される。
【００２１】
装置本体１８は、鏡筒定盤１８ａ、一対のサイドコラム１８ｂ、一対の基板ステージ架台１８ｃ（図１では一方のみ図示。図２参照）を備えている。鏡筒定盤１８ａは、ＸＹ平面に平行な板状の部材から成り、上記マスクステージ１４、及び投影光学系１６を支持している。一対のサイドコラム１８ｂは、一方が鏡筒定盤１８ａの＋Ｙ側の端部近傍を、他方が鏡筒定盤１８ａの−Ｙ側の端部近傍をそれぞれ下方から支持している。
【００２２】
図２に示されるように、一対の基板ステージ架台１８ｃは、それぞれＹ軸方向に延びる部材から成り、Ｘ軸方向に所定間隔で配置されている。上記サイドコラム１８ｂは、一対の基板ステージ架台１８ｃに下方から支持されている（図１参照）。基板ステージ架台１８ｃの上面には、Ｙ軸方向に延びるＹリニアガイド１９ａがＸ軸方向に所定間隔で、例えば３本固定されている。基板ステージ架台１８ｃは、図１に示されるように、クリーンルームの床１１上に防振装置１８ｄを介して設置されており、装置本体１８（及びマスクステージ１４、投影光学系１６）が、床１１から振動的に分離されている。
【００２３】
基板ステージ装置２０は、図２に示されるように、一対のベースフレーム２２、補助ベースフレーム２４、一対のＸビーム２６、粗動ステージ３０、微動ステージ３４（図２では不図示。図１参照）、複数の基板リフト装置４２（図２では不図示。図４参照）、重量キャンセル装置５０、Ｙステップガイド５６、搬出装置６０を有している。
【００２４】
一対のベースフレーム２２、及び補助ベースフレーム２４は、それぞれＹ軸方向に延びるＹＺ平面に平行な板状の部材から成り、Ｘ軸方向に所定間隔で互いに平行に配置されている。一方のベースフレーム２２は、＋Ｘ側の基板ステージ架台１８ｃの＋Ｘ側に、他方のベースフレーム２２は、−Ｘ側の基板ステージ架台１８ｃの−Ｘ側に、補助ベースフレーム２４は、一対の基板ステージ架台１８ｃの間にそれぞれ配置され、アジャスタを含む複数の脚部２２ａ（図２では不図示。図１参照）を介して高さ調整可能に床１１上に設置されている。
【００２５】
一対のベースフレーム２２、及び補助ベースフレーム２４それぞれの＋Ｚ側の端部には、Ｙ軸方向に延びるＹリニアガイド２１ａが固定されている。また、一対のベースフレーム２２それぞれの両側面には、複数の永久磁石を含むＹ固定子２３ａが固定されている。
【００２６】
一対のＸビーム２６は、それぞれＸ軸方向に延びるＹＺ断面矩形の部材から成り、Ｙ軸方向に所定間隔で互いに平行に配置されている。一対のＸビーム２６それぞれは、長手方向の両端部近傍がベースフレーム２２に下方から支持され、中央部が補助ベースフレーム２４に下方から支持されている。Ｘビーム２６の長手方向の両端部近傍それぞれの下面には、Ｙキャリッジ２８と称される部材が固定されている。Ｙキャリッジ２８は、ＸＺ断面逆Ｕ字状の部材から成り、一対の対向面間に対応するベースフレーム２２が挿入されている。
【００２７】
他方（−Ｘ側）のベースフレーム２２に対応する２つのＹキャリッジ２８は、接続板２７により接続されている。また、図３に示されるように、一方（＋Ｘ側）のベースフレーム２２に対応する２つのＹキャリッジ２８も、接続板２７により接続されている。図２に戻り、一対のＸビーム２６の長手方向の中央部における下面には、不図示のスペーサを介して補助キャリッジ２９と称される板状の部材が架設されている。一対のＸビーム２６は、接続板２７、Ｙキャリッジ２８、補助キャリッジ２９を介して一体的に接続されている。
【００２８】
Ｙキャリッジ２８の天井面、及び補助キャリッジ２９の下面それぞれには、上記Ｙリニアガイド２１ａにスライド自在に係合するＹスライド部材２１ｂが複数固定されている（図３参照）。これにより、一対のＸビーム２６は、一対のベースフレーム２２、及び補助ベースフレーム２４上でＹ軸方向に直進案内される。また、Ｙキャリッジ２８の一対の対向面には、図３に示されるように、コイルユニットを含むＹ可動子２３ｂが上記Ｙ固定子２３ａに対向して固定されている。一対のＸビーム２６は、上記Ｙ固定子２３ａとＹ可動子２３ｂとを含むＹリニアモータにより、一対のベースフレーム２２、及び補助ベースフレーム２４上でＹ軸方向に駆動される。ベースフレーム２２のＺ位置は、基板ステージ架台１８ｃよりも＋Ｚ側となっており、一対のＸビーム２６は、基板ステージ架台１８ｃの上空を通過する。
【００２９】
Ｘビーム２６の上面には、Ｘ軸方向に延びるＸリニアガイド３１ａが固定されている。また、Ｘビーム２６の両側面それぞれには、複数の永久磁石を含むＸ固定子３３ａが固定されている。
【００３０】
粗動ステージ３０は、一対のＸビーム２６上に搭載され、該一対のＸビーム２６に対応する一対のＸキャリッジ３２を有している。Ｘキャリッジ３２は、図２に示されるように、Ｘ軸方向に延びるＸＹ平面に平行な板状部材から成る天井面部３２ａと、ＸＺ平面に平行な板状部材から成る一対の側板面部３２ｂとを有する。側板面部３２ｂのＸ軸方向寸法は、天井面部３２ａよりも短く設定されている。Ｘキャリッジ３２は、一方の側板面部３２ｂの上端部近傍が天井面部３２ａの＋Ｙ側の側面中央部に、他方の側板面部３２ｂの上端部近傍が天井面部３２ａの−Ｙ側の側面中央部にそれぞれ接続されることにより、ＹＺ断面逆Ｕ字状に形成されている（図３参照）。一対の側板面部３２ｂ間には、対応するＸビーム２６が挿入されている。
【００３１】
Ｘキャリッジ３２の天井面部３２ａの下面には、図３に示されるように、上記Ｘリニアガイド３１ａにスライド自在に係合するＸスライド部材３１ｂが固定されている。これにより、Ｘキャリッジ３２は、対応するＸビーム２６に沿ってＸ軸方向に直進案内される。また、Ｘキャリッジ３２の一対の側板面部３２ｂには、コイルユニットを含むＸ可動子３３ｂが上記Ｘ固定子３３ａに対向して固定されている。一対のＸキャリッジ３２は、上記Ｘ固定子３３ａとＸ可動子３３ｂとを含むＸリニアモータにより、対応するＸビーム２６に沿ってＸ軸方向に同期駆動される。
【００３２】
一対のＸキャリッジ３２は、図２に示されるように、＋Ｘ側及び−Ｘ側の端部近傍それぞれが、Ｙ軸方向に延びる接続板３５ａにより接続されている。また、一対のＸキャリッジ３２は、内側の側板面部３２ｂ同士が該側板面部３２ｂから突き出したブラケット３５ｂを介してＹ軸方向に延びる接続板３５ｃにより接続されている（図３参照）。接続板３５ｃは、Ｘ軸方向に離間して、例えば２つ設けられている。これにより、一対のＸキャリッジ３２は、一対のＸビーム２６上で一体的にＸ軸方向に移動する。また、粗動ステージ３０は、図３に示されるように、Ｘリニアガイド装置３１の作用により、一対のＸビーム２６に対するＹ軸方向への相対移動が制限されており、一対のＸビーム２６と一体的にＹ軸方向へ移動する。すなわち、一対のＸビーム２６と粗動ステージ３０とは、いわゆるガントリ式の２軸ステージ装置を構成している。
【００３３】
図１に戻り、微動ステージ３４は、高さの低い直方体状の部材から成り、粗動ステージ３０の上方に配置されている。微動ステージ３４の上面には、基板ホルダ４０が固定されている。微動ステージ３４の−Ｙ側の側面には、ミラーベース３７を介してＹ軸に直交する反射面を有するＹバーミラー３８ｙが固定されている。また、微動ステージ３４の−Ｘ側の側面には、図５（Ａ）に示されるように、ミラーベース３７を介してＸ軸に直交する反射面を有するＸバーミラー３８ｘが固定されている。
【００３４】
微動ステージ３４は、図２に示されるように、粗動ステージ３０に固定された固定子と、微動ステージ３４（図２では不図示。図３参照）に固定された可動子とから成る複数のボイスコイルモータを含む微動ステージ駆動系により、粗動ステージ３０に対して３自由度方向（Ｘ軸、Ｙ軸、θｚ方向）に微少駆動される。複数のボイスコイルモータには、複数（例えば２つ）のＸボイスコイルモータ３６ｘ、及び複数（例えば２つ）のＹボイスコイルモータ３６ｙが含まれる。また、微動ステージ３４は、上記複数のボイスコイルモータが発生する推力（電磁力）によって、粗動ステージ３０に非接触で誘導され、これにより、その粗動ステージ３０と共にＸ軸方向、及び／又はＹ軸方向に所定のストロークで移動する。さらに、微動ステージ駆動系は、微動ステージ３４をθｘ、θｙ、及びＺ軸方向の３自由度方向に微少駆動するための複数のＺボイスコイルモータ３６ｚを有している。複数のＺボイスコイルモータ３６ｚは、例えば微動ステージ３４の四隅部に対応する箇所に配置されている。複数のボイスコイルモータを含み、微動ステージ駆動系の構成については、例えば米国特許出願公開第２０１０／００１８９５０号明細書に開示されている。
【００３５】
微動ステージ３４のＸ位置情報は、−Ｘ側の基板ステージ架台１８ｃに干渉計コラム１８ｅと称される部材を介して取り付けられたＸレーザ干渉計３９ｘにより、Ｘバーミラー３８ｘ（図２では不図示。図５（Ａ）参照）を用いて求められる。また、微動ステージ３４のＹ位置情報は、図１に示されるように、装置本体１８に固定されたＹレーザ干渉計３９ｙにより、Ｙバーミラー３８ｙを用いて求められる。Ｘレーザ干渉計３９ｘ、及びＹレーザ干渉計３９ｙは、水平面内で複数の測長光を対応するバーミラーに照射するようになっており、微動ステージ３４のθｚ位置情報を求めることができるようになっている。また、微動ステージ３４のＺ軸、θｘ、及びθｙ方向の位置情報は、図３に示されるように、微動ステージ３４の下面に取り付けられた複数のＺセンサ３９ｚにより、重量キャンセル装置５０に固定されたターゲット３８ｚを用いて求められる。
【００３６】
基板ホルダ４０は、ＸＹ平面に平行な平面視矩形の板状部材から成り、その上面には、基板Ｐを真空吸着保持するための不図示の微少な孔部が複数形成されている。また、基板ホルダ４０の上面には、図４に示されるように、基板リフト装置４２の一部を収容するためのＸ溝４１がＹ軸方向に所定間隔で複数（例えば８本）形成されている（Ｘ溝４１及び基板リフト装置４２は、図１及び図３では不図示）。基板ホルダ４０のＸ軸及びＹ軸方向それぞれの寸法は、ほぼ同じに設定されており、その長さは、基板Ｐの長手方向の寸法よりも幾分短く設定されている。また、基板ホルダ４０の＋Ｙ側且つ＋Ｘ側の角部、及び＋Ｙ側且つ−Ｘ側の角部それぞれには、切り欠き４３が形成されている（−Ｘ側の切り欠き４３については図９（Ｂ）参照）。
【００３７】
複数の基板リフト装置４２は、基板ホルダ４０の上面（基板載置面）上に載置された基板Ｐを、該基板載置面から離間させるための装置である。基板リフト装置４２は、上記複数のＸ溝４１に対応して、例えば８台設けられている。基板リフト装置４２は、図５（Ａ）に示されるように、Ｘ軸方向に延びる棒状の部材から成り、上記Ｘ溝４１内に収容されたベース部４２ａ、ベース部４２ａの上面にＸ軸方向に所定間隔で取り付けられた複数（例えば６つ）のエアベアリング４２ｂ、ベース部４２ａをＺ軸方向に駆動（上下動）させる一対のＺアクチュエータ４２ｃなどを備える。
【００３８】
ベース部４２ａの下面であって、ベース部４２ａの長手方向の両端部近傍それぞれには、Ｚ軸方向に延びる脚部４２ｄが固定されている。上記Ｘ溝４１を規定する底面には、基板ホルダ４０を上下方向に貫通する貫通孔４１ａが一対形成されており、該一対の貫通孔４１ａそれぞれに脚部４２ｄが挿通されている。Ｘ溝４１を規定する壁面とベース部４２ａとの間、及び貫通孔４１ａを規定する壁面と脚部４２ｄとの間には、それぞれ微動ステージ３４が粗動ステージ３０（図５（Ａ）及び図５（Ｂ）では模式化して示されている）に対して微少駆動される際に互いに接触しない程度の隙間が設定されている。
【００３９】
一対のＺアクチュエータ４２ｃは、粗動ステージ３０の上面であって、上記一対の脚部４２ｄそれぞれに対応する部位に固定されている。Ｚアクチュエータ４２ｃとしては、エアシリンダなどを用いることができる。粗動ステージ３０の上面におけるＺアクチュエータ４２ｃの近傍には、Ｌ字状の部材から成るステー４２ｅが固定されている。ベース部４２ａは、脚部４２ｄに固定されたＺリニアガイド４２ｆと、ステー４２ｅに取り付けられたＺスライド部材４２ｇとから成るＺリニアガイド装置の作用により、粗動ステージ３０に対して上下動可能となっている。
【００４０】
複数のエアベアリング４２ｂは、ベース部４２ａがＺアクチュエータ４２ｃにより上下方向に駆動されることにより、図５（Ａ）に示されるＸ溝４１内に収容され、基板Ｐの下面から離間する位置（以下、収容位置と称する）と、図５（Ｂ）に示される基板ホルダ４０の上面から＋Ｚ側に突き出した位置（以下、突出位置と称する）との間を移動可能となっている。複数のエアベアリング４２ｂは、図５（Ｂ）に示される突出位置で、基板Ｐを基板ホルダ４０の上面から離間させること、及び基板Ｐの下面に噴出する加圧気体（例えば空気）の静圧により基板Ｐを下方から非接触支持することができるようになっている。
【００４１】
重量キャンセル装置５０は、図３に示されるように、レベリング装置５４を介して微動ステージ３４を下方から支持している。重量キャンセル装置５０は、一対のＸビーム２６間に挿入されている。重量キャンセル装置５０は、不図示の空気ばねなどを有し、その空気ばねが発生する重力方向上向き（＋Ｚ方向）の力により、微動ステージ３４、基板ホルダ４０などを含む系の重量を打ち消し、これにより複数のＺボイスコイルモータ３６ｚの負荷を低減する。重量キャンセル装置５０の下面には、エアベアリング５２が取り付けられている。重量キャンセル装置５０は、上記エアベアリング５２からＹステップガイド５６に対して噴出される加圧気体（例えば空気）の静圧により、Ｙステップガイド５６上に所定のクリアランスを介して浮上している。
【００４２】
重量キャンセル装置５０は、図２に示されるように、複数のフレクシャ装置５１を介して粗動ステージ３０に機械的に接続されており、粗動ステージ３０と一体的にＸ軸方向、及び／又はＹ軸方向に移動する。フレクシャ装置５１を含み、本実施形態の重量キャンセル装置５０の構成は、例えば米国特許出願公開第２０１０／００１８９５０号明細書などに開示されている。図３に戻り、レベリング装置５４は、球面軸受け装置（あるいは、例えば米国特許出願公開第２０１０／００１８９５０号明細書に開示されるような疑似球面軸受け装置）を含み、微動ステージ３４をθｘ及びθｙ方向に揺動（チルト）自在に下方から支持している。重量キャンセル装置５０は、不図示のエアベアリングを介してレベリング装置５４を下方から非接触支持しており、水平面に平行な方向に関して重量キャンセル装置５０と微動ステージ３４とが相対移動可能となっている。
【００４３】
Ｙステップガイド５６は、図２に示されるように、Ｘ軸方向に伸びるＹＺ断面矩形の部材から成り、平面視で一対のＸビーム２６の間に配置されている。Ｙステップガイド５６は、例えば２つの基板ステージ架台１８ｃ上に搭載されており、図３に示されるように、その高さ位置は、ベースフレーム２２とほぼ同じとなっている。図２に戻り、Ｙステップガイド５６の長手方向の寸法は、微動ステージ３４（図２では不図示。図３参照）のＸ軸方向に関する移動ストロークよりも幾分長めに設定されている。Ｙステップガイド５６の上面は、平面度が非常に高く仕上げられている。Ｙステップガイド５６の下面には、基板ステージ架台１８ｃの上面に固定されたＹリニアガイド１９ａにスライド自在に係合するＹスライド部材１９ｂが複数固定されており、Ｙステップガイド５６は、基板ステージ架台１８ｃ上でＹ軸方向に直進案内される。ここで、ベースフレーム２２のＺ位置は、基板ステージ架台１８ｃよりも＋Ｚ側である（図３参照）のに対し、補助ベースフレーム２４のＺ位置は、基板ステージ架台１８ｃのＺ位置とほぼ同じと（ベースフレーム２２よりも高さが低く）なっている。上記補助キャリッジ２９は、Ｙステップガイド５６の下方を通過し、Ｙステップガイド５６とは接触しないようになっている。
【００４４】
Ｙステップガイド５６の＋Ｘ及び−Ｘの端部それぞれには、接続部材５６ａが固定されている。接続部材５６ａは、複数のフレクシャ装置５７を介してＹキャリッジ２８に接続されている。Ｙステップガイド５６は、一対のＸビーム２６がＹ軸方向に移動すると、一方のＸビーム２６にフレクシャ装置５７を介して牽引されることにより、一対のＸビーム２６と一体的にＹ軸方向に移動する。上記重量キャンセル装置５０は、粗動ステージ３０と一体的にＸ軸方向に移動する際には、Ｙステップガイド５６上を移動するのに対し、粗動ステージ３０と一体的にＹ軸方向に移動する際には、一対のＸビーム２６、及びＹステップガイド５６と一体的にＹ軸方向に移動するので、Ｙステップガイド５６上から脱落することがない。
【００４５】
図３に戻り、搬出装置６０は、基板ホルダ４０上に載置された基板Ｐを基板ステージ装置２０の外部（本実施形態では後述するポート部７０（図７（Ａ）参照））に搬出する装置であり、図２に示されるように、＋Ｘ側のベースフレーム２２、及び補助ベースフレーム２４上に搭載されている。搬出装置６０は、図６（Ａ）及び図６（Ｂ）から分かるように、一対のＹリニアアクチュエータユニット６１ａ、一対のＹスライド部材６１ｂ、Ｘリニアアクチュエータユニット６２ａ、Ｘスライド部材６２ｂ、中間支持部材６３、回転装置６４、先端支持部材６５、及び吸着パッド６６を有している。なお、図６（Ａ）及び図６（Ｂ）では、図面の錯綜を避ける観点から、基板ホルダ４０，及び搬出装置６０以外の部材についての図示が省略されている。
【００４６】
一対のＹリニアアクチュエータユニット６１ａは、図２に示されるように、それぞれＹ軸方向に延びる部材から成り、一方が＋Ｘ側のベースフレーム２２に対応する、例えば２つのＹキャリッジ２８のうちの＋Ｙ側のＹキャリッジ２８上に固定され、他方が補助キャリッジ２９上に固定されている。前述したように、補助ベースフレーム２４は、高さ位置がベースフレーム２２よりも低いことから、他方のＹリニアアクチュエータユニット６１ａは、不図示のスペーサを介して補助キャリッジ２９上に固定されている。
【００４７】
ここで、Ｙキャリッジ２８は、図３に示されるように、天井面部２８ａと、一対の側板面部２８ｂ（一方の側板面部２８ｂは、ベースフレーム２２の紙面奥側に隠れている）とを含むＸＺ断面逆Ｕ字状の部材から成る。そして、上記＋Ｙ側のＹキャリッジ２８は、一方のＹリニアアクチュエータユニット６１ａが搭載されるため、他のＹキャリッジ２８（便宜上全てのＹキャリッジ２８に同じ符号を用いる）に比べて天井面部２８ａの長さが長く形成されており、該天井面部２８ａの下面には、ベースフレーム２２に固定されたＹリニアガイド２１ａにスライド自在に係合するＹスライド部材２１ｂが固定されている。
【００４８】
また、図２に示されるように、＋Ｘ側のベースフレーム２２、及び補助ベースフレーム２４それぞれの＋Ｙ側の端部には、延長ベースフレーム２５が接続されており（図１参照）、Ｙリニアガイド２１ａは、−Ｘ側のベースフレーム２２に固定されたＹリニアガイド２１ａに比べて＋Ｙ側に延長されている。これにより、一対のＸビーム２６が＋Ｙ側のストロークエンドに位置した場合に、一対のＹリニアアクチュエータユニット６１ａは、上記延長ベースフレーム２５上に退避できるようになっている。
【００４９】
図６（Ｂ）に戻り、一対のＹスライド部材６１ｂは、一対のＹリニアアクチュエータユニット６１ａそれぞれに対応して設けられ、対応するＹリニアアクチュエータユニット６１ａに沿ってＹ軸方向に所定のストロークで同期駆動される。
【００５０】
Ｘリニアアクチュエータユニット６２ａは、Ｘ軸方向に延びる部材から成る。上記一対のＹスライド部材６１ｂは、Ｘリニアアクチュエータユニット６２ａの下面に固定されており、Ｘリニアアクチュエータユニット６２ａは、一対のＹリニアアクチュエータユニット６１ａによりＹ軸方向に所定のストロークで駆動される。Ｘスライド部材６２ｂは、Ｘリニアアクチュエータユニット６２ａに沿ってＸ軸方向に所定のストロークで駆動される。なお、Ｙリニアアクチュエータユニット６１ａが有するＹスライド部材６１ｂを駆動するためのリニアアクチュエータ、及びＸリニアアクチュエータユニット６２ａが有するＸスライド部材６２ｂを駆動するためのリニアアクチュエータの種類は、それぞれ特に限定されず、例えばリニアモータ、送りねじ装置などを用いることができる。また、Ｙスライド部材６１ｂのＹ位置情報は不図示のＹリニアエンコーダシステムにより、Ｘスライド部材６２ｂのＸ位置情報は不図示のＸリニアエンコーダシステムにより、それぞれ求められる。
【００５１】
中間支持部材６３は、図６（Ａ）に示されるように、Ｚ軸方向に延びる断面Ｉ字状の部材から成り、下端部に上記Ｘスライド部材６２ｂが固定されている。回転装置６４は、中間支持部材６３の上端部に固定されており、θｚ方向に回転可能な回転子を含む回転モータ（不図示）を有している。先端支持部材６５は、断面Ｌ字状の板部材から成り、上記回転装置６４によりθｚ方向に低速度で所定角度（本実施形態では、例えば少なくとも９０°）回転駆動される。
【００５２】
吸着パッド６６は、ＸＹ平面に平行な平面視矩形の板状部材から成り、長手方向の一端部近傍が上記先端支持部材６５の＋Ｚ側の端部近傍に固定されている。これにより、吸着パッド６６は、先端支持部材６５から基板ホルダ４０側に突き出して配置されると共に、Ｘ軸、及び／又はＹ軸方向に所定のストロークで移動可能、かつθｚ方向に少なくとも９０°回転可能となっている。上記回転装置６４の回転子の回転量は、不図示のロータリーエンコーダシステムによって高分解能で計測されている。以下、中間支持部材６３、回転装置６４、先端支持部材６５、及び吸着パッド６６をまとめて基板吸着ハンド６８と称して説明する。
【００５３】
吸着パッド６６には、ホース、継手を含む配管部材６７を介して基板ステージ装置２０の外部から真空吸引力が供給される。また、吸着パッド６６は、上面における他端部側の領域に段付きが形成される（厚さが薄くされる）と共に吸引用の孔部が形成されている。吸着パッド６６は、下面が基板ホルダ４０の上面よりも上方に位置するように（基板ホルダ４０のＺ位置が微少範囲で変化するので、例えば基板ホルダ４０をＺ軸方向に関する中立位置に位置させた状態で基板ホルダ４０の上面のＺ位置よりも高く位置するように）Ｚ位置が設定されており、基板搬出時には、基板Ｐの下面と基板ホルダ４０の上面との間に挿入され、基板Ｐの下面を吸着保持する。
【００５４】
本実施形態において、Ｘリニアアクチュエータユニット６２ａのＸ軸方向の寸法、すなわち吸着パッド６６のＸ軸方向に関する移動可能距離は、基板ホルダ４０のＸ軸方向の寸法よりも幾分長く形成されている。また、Ｙリニアアクチュエータユニット６１ａのＹ軸方向の寸法、すなわち吸着パッド６６のＹ軸方向に関する移動可能距離は、基板Ｐの対角線の長さと基板ＰのＹ軸方向寸法短辺長さとの差の半分程度に設定されている。具体的には、例えば基板ＰのＸ軸方向寸法が２５００ｍｍ、Ｙ軸方向寸法が２２００ｍｍである場合、吸着パッド６６のＸ軸方向の移動可能距離は、例えば２６００ｍｍ程度であり、Ｙ軸方向の移動可能距離は、例えば５６５ｍｍ程度である。
【００５５】
ポート部７０は、図７（Ａ）に示されるように、外部搬送ロボット９９により外部装置（例えばコータ・デベロッパ装置）から搬送される基板Ｐを基板ステージ装置２０に向けて搬入する搬入装置７１と、露光済みの基板（図７（Ａ）では不図示）を基板ステージ装置２０から受け取るガイド装置７６とを備えている。搬入装置７１は、外部搬送ロボット９９が有するフォークハンド９８と同様の形状で形成された搬入ハンド７２を有し、該搬入ハンド７２は、一対のＸ駆動装置７３によりガイド装置７６の上方の領域と、基板交換位置に位置した基板ホルダ４０の上方の領域との間で水平面に沿って移動可能となっている。ガイド装置７６は、複数のエア浮上装置７７を備えており、該複数のエア浮上装置７７を用いて基板Ｐを下方から浮上支持すること、及び吸着保持することが可能となっている。また、複数のエア浮上装置７７は、上下動可能に構成され、フォークハンド９８、及び搬入ハンド７２の切り欠き間を通過可能となっている。さらに、ガイド装置７６は、Ｘ軸方向にも移動可能となっており、基板交換位置に位置した基板ホルダ４０に対して接近及び離間することが可能となっている。
【００５６】
ポート部７０では、フォークハンド９８により基板Ｐがガイド装置７６の上方に位置する搬入ハンド７２の上方に搬送され（この状態でフォークハンド９８と搬入ハンド７２とが上下方向に重なる）、その状態で複数のエア浮上装置７７が上昇駆動される。これにより、基板Ｐがフォークハンド９８から離間し、その後フォークハンド９８がガイド装置７６（及び搬入ハンド７２）の上方から退避する。そして、複数のエア浮上装置７７が下降駆動されることにより、基板Ｐが搬入ハンド７２に受け渡される。搬入ハンド７２は、図７（Ｂ）に示されるように、基板Ｐを基板ホルダ４０の上方に搬送する。基板ホルダ４０では、図５（Ｂ）に示されるように、複数の基板リフト装置４２のベース部４２ａが上昇駆動（ただし、図５（Ｂ）よりも更に＋Ｚ側）され、搬入ハンド７２の切り欠き間を通過する。これにより、基板Ｐが搬入ハンド７２（図５（Ｂ）では不図示。図７（Ｂ）参照）から離間する。そして、搬入ハンド７２が基板ホルダ４０の上方から退避した後、ベース部４２ａが下降駆動されることにより、基板Ｐが基板ホルダ４０の上面上に載置される。
【００５７】
上述のようにして構成された液晶露光装置１０（図１参照）では、不図示の主制御装置の管理の下、不図示のマスクローダによって、マスクステージ１４上へのマスクＭのロードが行われるとともに、搬入装置７１によって、基板ホルダ４０上への基板Ｐのロードが行なわれる。その後、主制御装置により、不図示のアライメント検出系を用いてアライメント計測が実行され、そのアライメント計測の終了後、基板Ｐ上に設定された複数のショット領域に逐次ステップ・アンド・スキャン方式の露光動作が行なわれる。なお、この露光動作は従来から行われているステップ・アンド・スキャン方式の露光動作と同様であるので、その詳細な説明は省略するものとする。そして、露光処理が終了した基板Ｐが搬出装置６０により基板ホルダ４０上からポート部７０に搬出されるとともに、次に露光される別の基板Ｐが基板ホルダ４０に搬送されることにより、基板ホルダ４０上の基板Ｐの交換が行われ、複数の基板Ｐに対し、露光動作などが連続して行われる。
【００５８】
以下、基板ステージ装置２０が有する搬出装置６０を用いた基板Ｐの搬出動作について説明する。基板ステージ装置２０からの基板Ｐの搬出は、図８（Ａ）に示されるように、基板ホルダ４０を基板交換位置に位置させて行う。基板交換位置において、基板ホルダ４０は、ポート部７０のガイド装置７６の−Ｘ側に配置される。
【００５９】
基板Ｐの搬出を行う際、基板ホルダ４０では、基板Ｐの吸着保持が解除されるとともに、図５（Ｂ）に示されるように、複数の基板リフト装置４２のベース部４２ａが上昇駆動される。これにより、基板Ｐが基板ホルダ４０の上面から離間する。この際、基板リフト装置４２のエアベアリング４２ｂの上面のＺ位置と、ガイド装置７６のエア浮上装置７７（図５（Ｂ）では不図示。図８（Ａ）参照）のＺ位置とは、ほぼ同じとされる。ガイド装置７６は、基板ホルダ４０に接近する位置に位置決めされる。次いで、図８（Ｂ）に示されるように、吸着パッド６６が基板Ｐと基板ホルダ４０との間に挿入される。この際、吸着パッド６６のＸ位置は、基板Ｐの＋Ｙ側且つ−Ｘ側の隅部近傍を吸着保持できる位置に位置決めされる。以下、基板Ｐが微少量下降駆動され、吸着パッド６６により基板Ｐが吸着保持される。
【００６０】
この後、図８（Ｃ）に示されるように、吸着パッド６６が＋Ｘ方向に駆動され、これにより基板Ｐが＋Ｘ方向に移動する。この際、エアベアリング４２ｂ、及びエア浮上装置７７からは、それぞれ基板Ｐの下面に対して加圧気体が噴出される。これにより、基板Ｐがエアベアリング４２ｂ、及びエア浮上装置７７上を浮上した状態で基板ホルダ４０上からガイド装置７６上に受け渡される。以下、吸着パッド６６による基板Ｐの吸着保持が解除されるとともに、ガイド装置７６が基板Ｐを吸着保持して＋Ｘ方向（基板ホルダ４０から離間する方向）に移動する。これにより、基板Ｐが高速、且つ低発塵で基板ホルダ４０から搬出される。
【００６１】
ここで、本実施形態の基板ステージ装置２０（図３参照）は、上記搬出装置６０を用いて基板ホルダ４０上に載置された基板Ｐを該基板ホルダ４０上でθｚ方向に、例えば９０°回転させることができるようになっている。以下、搬出装置６０を用いた基板Ｐの回転動作の一例を図９（Ａ）〜図９（Ｃ）を用いて説明する。
【００６２】
図９（Ａ）に示されるように、基板Ｐの回転動作は、上記基板Ｐの搬出動作と同様に、基板Ｐを基板ホルダ４０から離間させた状態で吸着パッド６６を基板Ｐと基板ホルダ４０との間に挿入させ、吸着パッド６６に基板Ｐの＋Ｙ側且つ−Ｘ側の隅部近傍を吸着保持させることにより行う。以下、図９（Ａ）に示される基板Ｐの位置を初期位置と称する。初期位置の基板Ｐの長手方向は、Ｘ軸に平行である。この際、図６（Ａ）に示されるように、先端支持部材６５と基板ホルダ４０との間には、広いクリアランスが形成される。これは、基板Ｐを基板ホルダ４０上で、基板Ｐの中心近傍を回転中心にして回転させる際、基板ホルダ４０の＋Ｙ側角部と先端支持部材６５とが接触しないようにするためである。また、基板ホルダ４０に形成された切り欠き４３は、基板Ｐを回転させる際に基板ホルダ４０の角部と搬出装置の先端支持部材６５とが接触しないようにするためのものである。なお、基板Ｐの回転中心が基板の中心である必要がなければ（基板Ｐの回転範囲に障害となるものがない場合、あるいは基板Ｐを支持するエアベアリング４２ｂ（図６（Ａ）では不図示。図５（Ａ）参照）から基板Ｐが大きく逸脱しない場合など）、上記クリアランスが狭くても良いし、上記切り欠き４３は形成されていなくても良い。
【００６３】
次いで、図９（Ｂ）に示されるように、Ｘリニアアクチュエータユニット６２ａが＋Ｙ方向（基板ホルダ４０から離間する方向）に駆動されるとともに、吸着パッド６６が＋Ｘ方向に駆動される。また、併せて吸着パッド６６が平面視で右回り（時計回り方向）に回転駆動される。これにより、基板Ｐが基板ホルダ４０に対して右回りに回転する。基板Ｐの回転中心は、基板Ｐの中心とほぼ一致している。この際、複数のエアベアリング４２ｂから基板Ｐの下面に対して加圧気体が噴出され、基板Ｐは、下方から非接触支持される。
【００６４】
基板Ｐが図９（Ｂ）に示されるように、初期位置から、例えば４５°程度回転すると、図９（Ｃ）に示されるように、Ｘリニアアクチュエータユニット６２ａが−Ｙ方向（基板ホルダ４０に接近する方向）に駆動される。また、併せて、吸着パッド６６が引き続き＋Ｘ方向に駆動されるとともに、平面視で右回り（時計回り方向）に回転駆動される。これにより、基板Ｐが初期位置から、例えば９０°回転し、基板Ｐの長手方向がＹ軸と平行になる。なお、基板Ｐの基板ホルダ４０上における最終的な位置決めは、基板ホルダ４０に設けられた不図示の位置決めピンなどを用いると良い。
【００６５】
以下、不図示であるが、吸着パッド６６による基板Ｐの吸着保持の解除、基板Ｐの微少量上昇駆動、吸着パッド６６の＋Ｙ方向への駆動、基板Ｐの下降駆動、及び基板ホルダ４０による基板Ｐの吸着保持が順次行われる。なお、図９（Ｂ）に示されるように、最も＋Ｙ側の基板リフト装置４２のうち、最も＋Ｘ側及び−Ｘ側の２つのエアベアリング４２ｂは、基板Ｐを回転駆動する際に吸着パッド６６に接触しないように他のエアベアリングよりも長さが短く形成されている。
【００６６】
以上説明した基板Ｐの回転動作は、基板Ｐの搬入直後に行うことも可能であるし、基板Ｐの搬出直前に行うことも可能である。また、上記回転動作を行う際、基板ホルダ４０は、基板交換位置に位置していなくても良い。したがって、基板Ｐに設定された複数のショット領域のうちの一部に対する露光処理が終了した後に基板Ｐを回転させ、引き続き回転後の基板Ｐの未露光の領域に露光処理を行っても良い。この場合、ショット領域（マスクパターン）の形状が長方形である場合、基板Ｐ上に縦長のショット領域と、横長のショット領域とを混在させることができる。また、図９（Ａ）〜図９（Ｃ）に示される手順とは逆の手順で搬出装置６０を制御することにより、基板Ｐを平面視で左回り（逆時計回り方向）に回転駆動して、初期位置から、例えば９０°回転させた基板Ｐを再度図９（Ａ）に示される初期位置に戻すこともできる。さらに、図９（Ａ）〜図９（Ｃ）に示される制御を行った後、吸着パッド６６のみを図９（Ａ）に示される位置（基板Ｐの＋Ｙ側且つ−Ｘ側の隅部近傍を吸着保持可能な位置）に戻し、再度、図９（Ａ）〜図９（Ｃ）に示される制御を行うことにより、基板Ｐを、例えば１８０°回転させること、及び該制御を繰り返し行うことにより２７０°（あるいは３６０°）回転させることも可能である。
【００６７】
搬出装置６０において、上記基板Ｐの搬出動作時、及び基板Ｐの回転動作時を除く基板ステージ装置２０の動作時（例えば露光動作時）であって、基板ホルダ４０がＸ軸方向に移動する際、基板吸着ハンド６８（図６（Ａ）参照）は、＋Ｙ側ストロークエンド付近に退避させると良い。また、基板ホルダ４０がＹ軸方向の＋Ｙ側ストロークエンド付近に接近する場合には、基板吸着ハンド６８を−Ｙ側ストロークエンド付近でかつ＋Ｘ側ストロークエンド付近に待機させると良い。これにより、基板吸着ハンド６８が＋Ｙ側のサイドコラム１８ｂ（図２参照）と干渉するのを防ぐこと、及びＸリニアアクチュエータユニット６１ａが上記サイドコラム１８ｂと干渉するのを防ぐことができる。なお、基板吸着ハンド６８は、上記基板搬出時、及び回転動作時を除いて、常に、−Ｙ側ストロークエンド付近でかつ＋Ｘ側ストロークエンド付近に退避させておいても良い。
【００６８】
以上説明した本実施形態によれば、基板ホルダ４０上で基板Ｐを任意の角度回転させること（基板Ｐの向きを変えること）ができるので、例えば一枚の基板Ｐ上に効率よく複数のショット領域を配置することができる。また、基板Ｐを回転させるための装置として、基板Ｐを基板ステージ装置２０から搬出するための搬出装置６０を用いるので、別途回転装置を設ける場合に比べて装置が簡単でありコストも安い。また、基板Ｐを基板リフト装置４２により下方から非接触支持するので、高速かつ低発塵で基板Ｐを回転させることができる。
【００６９】
なお、上記実施形態の構成は、適宜変更が可能である。例えば、上記実施形態では、図３などに示されるように、基板Ｐを基板ホルダ４０から搬出するとともに、基板Ｐを基板ホルダ４０上で回転させるための搬出装置６０は、基板ステージ装置２０に設けられ、Ｙ軸方向に関しては、基板ホルダ４０と一体的に移動可能なっていたが、基板ステージ装置２０と干渉しない位置に配置できるならば、これに限られず、例えば図１０（Ａ）、及び図１０（Ｂ）に示されるように（以下、第１変形例と称する）、搬出装置６０がテーブル状の架台６９を介して床１１上に設置されていても良い。架台６９は、基板Ｐの搬出のため、基板ホルダ４０を基板交換位置（図８（Ａ）参照）に位置させた状態で、基板Ｐの＋Ｙ側且つ−Ｘ側の隅部近傍を吸着保持可能な位置に設置されている。この場合、搬出装置６０が基板ステージ装置１２０から分離されているので、基板ステージ装置１２０が軽量化し、位置制御性が向上する。
【００７０】
また、上記実施形態において、図３に示されるように、搬出装置６０の吸着パッド６６は、基板ホルダ４０の外部に設けられたが、これに限られず、図１１（Ａ）に示されるように（以下、第２変形例と称する）、基板Ｐを吸着保持して基板ホルダ２４０上で回転させる吸着パッド２６６が基板ホルダ２４０の内部に設けられても良い。吸着パッド２６６は、平面視十字形の吸着面を有し、基板ホルダ２４０の中央部に吸着パッド２６６に対応する形状で形成された凹部４４内に収容されている。基板ホルダ２４０には、図１１（Ｂ）に示されるように、吸着パッド２６６を上下（Ｚ軸）方向、及びθｚ方向に駆動するためのＺ・θｚアクチュエータ２６５が内蔵されている。吸着パッド２６６は、基板ホルダ２４０内に収容され、基板Ｐの下面から離間する位置と、基板ホルダ２４０の上面から＋Ｚ側に突き出した位置との間を移動可能となっている。吸着パッド２６６は、基板Ｐが複数のエアベアリング４２ｂにより下方から非接触支持された状態で基板Ｐの下面を吸着保持する。基板ステージ装置２２０では、その状態で吸着パッド２６６がθｚ方向に、例えば９０°回転駆動されることにより、基板Ｐが基板ホルダ２４０上で回転する。基板ステージ装置２２０によれば、基板Ｐを回転させるための駆動装置の構成が簡単で効率が良い（ただし、基板搬出装置は、別途設ける必要がある）。
【００７１】
また、上記実施形態（以下、適宜その変形例も含む）では、基板ホルダ４０内に収容された複数のエアベアリング４２ｂを用いて基板Ｐを基板ホルダ４０上に浮上させたが、これに限られず、例えば基板ホルダ４０の上面から基板Ｐの下面に対して加圧気体を噴出することにより、基板Ｐを基板ホルダ４０上に浮上させても良く、この場合、複数のエアベアリング４２ｂが不要となる（基板Ｐの上下動はリフトピンなどを用いれば良い）。この場合、加圧気体を噴出するための孔部は、基板Ｐを吸着保持するためのバキューム用孔部を用いても良い。また、基板Ｐを基板ホルダ４０に対して回転させる際、基板Ｐと基板ホルダ４０とが物理的に接触していても良く、例えば基板ホルダ４０にボールなどを複数設け、該複数のボールを用いて基板Ｐを下方から支持しても良い。また、例えば基板Ｐと基板ホルダ４０との間の摩擦による発塵の影響が無視できる程度に小さければ、基板Ｐと基板ホルダ４０とを接触させた状態で、基板Ｐを基板ホルダ４０に対して回転させても良い。
【００７２】
また、上記実施形態で搬出装置６０は、ベースフレーム２２及び補助ベースフレーム２４上に搭載されたが、これに限られず、例えば粗動ステージ３０、あるいは微動ステージ３４（基板ホルダ４０を含む）に取り付けられても良い。この場合、搬出装置６０が基板ホルダ４０と共にＸ軸方向にも移動するので、任意の位置で基板Ｐを回転させることができる。
【００７３】
また、露光（スキャン動作）中に基板Ｐを回転させることがない（露光精度に影響がない）ことから、搬出装置６０を基板ステージ架台１８ｃ（図１参照）上に搭載しても良い。また、搬出装置６０は、天井から吊り下げても良い。また、第２の変形例で吸着パッド２６６を基板ホルダ２４０内でＸ軸方向に移動可能としても良く、基板搬出装置として用いても良い。
【００７４】
また、照明光は、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）、ＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）などの紫外光や、Ｆ2レーザ光（波長１５７ｎｍ）などの真空紫外光であっても良い。また、照明光としては、例えばＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザから発振される赤外域、又は可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム（又はエルビウムとイッテルビウムの両方）がドープされたファイバーアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を用いても良い。また、固体レーザ（波長：３５５ｎｍ、２６６ｎｍ）などを使用しても良い。
【００７５】
また、投影光学系１６は、複数本の投影光学ユニットを備えたマルチレンズ方式の投影光学系であったが、投影光学ユニットの本数はこれに限らず、１本以上あれば良い。また、マルチレンズ方式の投影光学系に限らず、例えばオフナー型の大型ミラーを用いた投影光学系などであっても良い。また、上記実施形態では投影光学系１６として、投影倍率が等倍のものを用いる場合について説明したが、これに限らず、投影光学系は縮小系及び拡大系のいずれでも良い。
【００７６】
なお、光透過性のマスク基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスクが用いられたが、例えば米国特許第６，７７８，２５７号明細書に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて、透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する電子マスク（可変成形マスク）、例えば、非発光型画像表示素子（空間光変調器とも呼ばれる）の一種であるＤＭＤ（Digital Micro-mirror Device）を用いる可変成形マスクを用いても良い。
【００７７】
また、物体を所定の二次元平面に沿って移動させる移動体装置（ステージ装置）としては、露光装置に限らず、例えば物体の検査に用いられる物体検査装置など、物体に関して所定の処理を行う物体処置装置に用いても良い。また、露光装置としては、ステップ・アンド・リピート方式の露光装置、ステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用することができる。
【００７８】
なお、露光装置としては、サイズ（外径、対角線の長さ、一辺の少なくとも１つを含む）が５００ｍｍ以上の基板、例えば液晶表示素子などのフラットパネルディスプレイ用の大型基板を露光する露光装置に対して適用することが特に有効である。
【００７９】
また、露光装置の用途としては、角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを転写する液晶用の露光装置に限定されることなく、例えば半導体製造用の露光装置、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン及びＤＮＡチップなどを製造するための露光装置にも広く適用できる。また、半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、ＥＵＶ露光装置、Ｘ線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるマスク又はレチクルを製造するために、ガラス基板又はシリコンウエハなどに回路パターンを転写する露光装置にも本発明を適用できる。なお、露光対象となる物体はガラスプレートに限られるものでなく、例えばウエハ、セラミック基板、フィルム部材、あるいはマスクブランクスなど、他の物体でも良い。また、露光対象物がフラットパネルディスプレイ用の基板である場合、その基板の厚さは特に限定されず、例えばフィルム状（可撓性を有するシート状の部材）のものも含まれる。
【００８０】
液晶表示素子（あるいは半導体素子）などの電子デバイスは、デバイスの機能・性能設計を行うステップ、この設計ステップに基づいたマスク（あるいはレチクル）を製作するステップ、ガラス基板（あるいはウエハ）を製作するステップ、上述した各実施形態の露光装置、及びその露光方法によりマスク（レチクル）のパターンをガラス基板に転写するリソグラフィステップ、露光されたガラス基板を現像する現像ステップ、レジストが残存している部分以外の部分の露出部材をエッチングにより取り去るエッチングステップ、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除くレジスト除去ステップ、デバイス組み立てステップ、検査ステップ等を経て製造される。この場合、リソグラフィステップで、上記実施形態の露光装置を用いて前述の露光方法が実行され、ガラス基板上にデバイスパターンが形成されるので、高集積度のデバイスを生産性良く製造することができる。
【産業上の利用可能性】
【００８１】
以上説明したように、本発明の物体駆動システム、及び物体の駆動方法は、物体保持装置上で物体を回転させるのに適している。また、本発明の露光装置は、物体に所定のパターンを形成するのに適している。また、本発明のフラットパネルディスプレイの製造方法は、フラットパネルディスプレイの製造に適している。また、本発明のデバイス製造方法は、マイクロデバイスの生産に適している。
【符号の説明】
【００８２】
１０…液晶露光装置、２０…基板ステージ装置、４０…基板ホルダ、４２…基板リフト装置、６０…搬出装置、６６…吸着パッド、Ｐ…基板。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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