(57)【要約】【課題】製造プロセスにおいて歩留まりを向上できる、液晶表示パネル１０と、ＴＦＴ基板１２と、カラーフィルター基板１３と、を提供する。【解決手段】ＴＦＴ基板１２およびカラーフィルター基板１３のうち少なくとも一方の基板の外側の表面に形成された金属パターン１１と、赤外分光光度計と、を用いて、金属パターン１１上の汚染物質の測定を行い、測定の結果に基づき、基板の表面における汚染の有無の判定を行う。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁基板において、光を透過または発光する表示媒体と接する側である一方側の面に、積層膜が設けられた表示装置用基板であって、
上記絶縁基板の一方側の面の反対側の面である上記絶縁基板の他方側の面には、複数の微細な金属パターンが形成されていることを特徴とする表示装置用基板。
【請求項２】
上記複数の微細な金属パターンは、タルタル、モリブテン、チタン、銅およびアルミニウムから選択される何れか一つを少なくとも含む材料で、形成されていることを特徴とする請求項１に記載の表示装置用基板。
【請求項３】
上記複数の微細な金属パターンは、平面視において、一辺が５０μｍの正四角形形状より小さく形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の表示装置用基板。
【請求項４】
上記絶縁基板は、可撓性を有する基板であることを特徴とする請求項１から３の何れか１項に記載の表示装置用基板。
【請求項５】
上記積層膜の最上層は、金属膜であることを特徴とする請求項１から４の何れか１項に記載の表示装置用基板。
【請求項６】
上記表示媒体は液晶層であり、
上記液晶層は、第１の基板と第２の基板との間に挟持されており、
上記第１の基板および上記第２の基板中、少なくとも一方は、請求項１から４の何れか１項に記載の表示装置用基板であることを特徴とする表示パネル。
【請求項７】
上記第１の基板および上記第２の基板の何れか一方の上記液晶層と接する層は、遮光層を含む積層膜であり、
上記第１の基板および上記第２の基板中、少なくとも一方に形成された上記複数の微細な金属パターンと上記遮光層とは、平面視において重なるように設けられていることを特徴とする請求項６に記載の表示パネル。
【請求項８】
上記第２の基板の上記液晶層と接する層は、金属配線層を含む積層膜であり、
上記複数の微細な金属パターンは上記第２の基板に形成されており、
上記金属配線層と上記複数の微細な金属パターンとは、同一材料で形成されていることを特徴とする請求項７に記載の表示パネル。
【請求項９】
上記表示媒体は有機発光層であり、
上記有機発光層と接する側である一方側の面に積層膜が設けられ、上記複数の微細な金属パターンが他方側の面に設けられた請求項１から５の何れか１項に記載の表示装置用基板を備えたことを特徴とする表示パネル。
【請求項１０】
上記有機発光層と接する側である一方側の面に設けられた上記積層膜は、遮光層を含み、
上記複数の微細な金属パターンと上記遮光層とは、平面視において重なるように設けられていることを特徴とする請求項９に記載の表示パネル。
【請求項１１】
上記有機発光層と接する側である一方側の面に設けられた上記積層膜には、金属配線層が含まれており、
上記金属配線層と上記複数の微細な金属パターンとは、同一材料で形成されていることを特徴とする請求項１０に記載の表示パネル。
【請求項１２】
絶縁基板の一方側の面または、両面に金属パターンが形成された表示装置用基板の汚染物質の検出方法であって、
上記金属パターンにより反射された赤外光における所定波数の吸収有無を赤外分光光度計で検知することにより、上記金属パターンの表面上の汚染物質の存在有無の判定を行うことを特徴とする表示装置用基板の汚染物質の検出方法。
【請求項１３】
上記赤外分光光度計は、フーリエ変換赤外分光光度計であることを特徴とする請求項１２に記載の表示装置用基板の汚染物質の検出方法。
【請求項１４】
上記金属パターンの表面上の汚染物質の存在有無の判定を行う際には、上記金属パターンに向けて偏光され、かつ、上記金属パターンの法線方向に対して入射角度が７０度〜８５度である赤外光が照射されることを特徴とする請求項１２または１３に記載の表示装置用基板の汚染物質の検出方法。
【請求項１５】
上記赤外分光光度計には、上記金属パターンに向けて照射される赤外光の照射面積を調整でき、かつ、上記金属パターンで反射された反射光の照射面積を調整できる光学系と、上記反射光の検出器と、が備えられており、
上記反射光の検出器に備えられた素子全体に、上記金属パターンで反射された反射光が照射されるように上記光学系が調整されていることを特徴とする請求項１２から１４の何れか１項に記載の表示装置用基板の汚染物質の検出方法。
【請求項１６】
上記所定波数は、６５０ｃｍ−１〜４０００ｃｍ−１の範囲内であることを特徴とする請求項１２から１５の何れか１項に記載の表示装置用基板の汚染物質の検出方法。
【請求項１７】
上記金属パターンの表面上の汚染物質が有機物を含む場合には、Ｏ−Ｈ伸縮振動に由来する吸収帯、Ｃ−Ｈ伸縮振動に由来する吸収帯、Ｃ＝Ｏ伸縮振動に由来する吸収帯、ベンゼン環の炭素間伸縮振動に由来する吸収帯、Ｃ−Ｈ変角振動に由来する吸収帯およびＣ−Ｏ伸縮振動に由来する吸収帯が、少なくとも一つある場合、上記金属パターン上に汚染物質が存在すると判定することを特徴とする請求項１２から１６の何れか１項に記載の表示装置用基板の汚染物質の検出方法。
【請求項１８】
ステージ制御部により、ステージ上で上記表示装置用基板を移動させ、上記金属パターンにおける複数の個所で上記金属パターンにより反射された赤外光の吸収有無を検知することを特徴とする請求項１２〜１７の何れか１項に記載の表示装置用基板の汚染物質の検出方法。
【請求項１９】
請求項１２から１８の何れか１項に記載された表示装置用基板の汚染物質の検出方法によって、検出された汚染物質を粘着部材によって除去する工程を含むことを特徴とする表示装置用基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は赤外分光光度計により汚染物質を検出することができる表示装置用基板および表示パネルと、上記表示装置用基板を用いた汚染物質の検出方法と、上記検出方法で検出された汚染物質を除去する工程を含む表示装置用基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示装置用基板や表示パネルの製造プロセスにおいては、基板の搬送工程や上記基板上に所定の膜を形成する工程など基板を用いた様々な製造工程の段階において、何らかの原因で基板に汚染物質が付着してしまうことがある。
【０００３】
例えば、表示装置用基板や表示パネルの製造プロセスにおける基板搬送の大部分は、オートメーション化されており、ロボットアームなどが良く用いられており、その制御部にはグリスやオイルなどが塗布されていることが多く、何らかの原因で、上記制御部からグリスやオイルなどが飛散し、これらが汚染物質として、基板上の広範囲に付着してしまうことがよくある。
【０００４】
通常は、各製造プロセス間において、基板の受け渡しを行う際には、汚染物質を除去するための洗浄作業を行う。
【０００５】
このような洗浄作業においては、洗浄液などが一般的によく用いられるが、特許文献１には、洗浄液を用いることなく、基板上の汚染物質を確実に除去する方法について開示されている。
【０００６】
図１７は、特許文献１に記載されている洗浄液を用いることなく、基板上の汚染物質を確実に除去する方法を説明するための図である。
【０００７】
図示されているように、基板４００の表面上の汚染物質を、接触ローラ４０１の周面下側に存在する下面が粘着面４０２であるテープ４０３を基板４００の表面に対して押し付けた後、テープ４０３の粘着面４０２を基板４００の表面から剥離することによって、基板４００の表面上の汚染物質を確実に除去することができると記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平１０−１９７８５３号公報（１９９８年７月３１日公開）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、上述した洗浄液を用いた洗浄作業や上記特許文献１に記載されている下面が粘着面４０２であるテープ４０３を用いた基板４００の表面上の汚染物質を除去する方法などによっても、その処理時間や処理回数によっては、完全に全ての汚染物質を除去することは困難である。
【００１０】
そして、洗浄作業後に、汚染物質が新たに基板の表面上に付着する場合もある。
【００１１】
以上のように、完全に除去されずに残ってしまった汚染物質や新たに付着した汚染物質を、基板の表面上に付着したまま、基板が次の製造プロセスに移されると、その汚染物質が原因となり（核となり）、次の製造プロセスで製品不良などのトラブルを発生させる原因となる場合もある。例えば、汚染物質が付着した基板の表面上に偏光板を貼り付ける際、汚染物質が存在する個所においては部分的にその粘着力が低下して、偏光板が剥がれてしまうことがある。
【００１２】
このような理由から、汚染物質が基板の表面上に付着されたまま、次の製造プロセスに移されるのを防止する必要が生じる。
【００１３】
そこで、目視確認が可能な汚染物質であれば、外観検査にて汚染物質を検出し、除去することもできるが、このような目視確認は、作業員の個人差によるバラツキがあるため、汚染物質の存在有無を判定するための明確な基準がない。したがって、作業員の個人差によっては、汚染物質が基板の表面上に付着されたまま、次の製造プロセスに移される恐れがある。
【００１４】
一方、目視確認が不可能な水準の微細な汚染物質については、これらが基板上で確実に除去されているかを容易に確認する方法は知られてない。
【００１５】
したがって、従来の方法によっては、汚染物質が基板の表面上に付着されたまま、次の製造プロセスに移されるのを防止または抑制することはできないので、製造プロセスにおいて歩留まりを向上できないという問題があった。
【００１６】
本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、製造プロセスにおいて歩留まりを向上できる、表示装置用基板と、表示装置用基板の汚染物質の検出方法と、を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明の表示装置用基板は、上記の課題を解決するために、絶縁基板において、光を透過または発光する表示媒体と接する側である一方側の面に、積層膜が設けられた表示装置用基板であって、上記絶縁基板の一方側の面の反対側の面である上記絶縁基板の他方側の面には、複数の微細な金属パターンが形成されていることを特徴としている。
【００１８】
上記構成によれば、上記絶縁基板の他方側の面には、複数の微細な金属パターンが形成されているので、この金属パターンによって反射された赤外光における所定波数の吸収有無を赤外分光光度計で検知することにより、上記金属パターンの表面上の汚染物質の存在有無の判定を行うことができる。
【００１９】
すなわち、上記金属パターンを用いることにより、短時間で、非破壊的および非接触的に上記絶縁基板の他方側の面の汚染状態を確認することができる。
【００２０】
よって、汚染物質が基板の表面上に付着されたまま、次の製造プロセスに移されるのを防止または抑制することができるので、製造プロセスにおいて歩留まりを向上できる、表示装置用基板を実現することができる。
【００２１】
本発明の表示装置用基板において、上記複数の微細な金属パターンは、タルタル、モリブテン、チタン、銅およびアルミニウムから選択される何れか一つを少なくとも含む材料で、形成されていることが好ましい。
【００２２】
上記構成によれば、上記複数の微細な金属パターンは、高い赤外線反射率を有する材料で形成されているため、より高い感度で、赤外分光光度計による汚染状態の確認が可能である。
【００２３】
本発明の表示装置用基板において、上記複数の微細な金属パターンは、平面視において、一辺が５０μｍの正四角形形状より小さく形成されていることが好ましい。
【００２４】
上記構成によれば、上記複数の微細な金属パターンは、表示品位に影響を及ぼすサイズ以下で形成されているので、このような表示装置用基板を用いて表示装置を作製しても、表示品位は低下しない。
【００２５】
本発明の表示装置用基板において、上記絶縁基板は、可撓性を有する基板であることが好ましい。
【００２６】
上記構成によれば、表示装置用基板における上記絶縁基板は可撓性を有しているので、フレキシブル表示装置の作製の際に好適に用いることができる。
【００２７】
本発明の表示装置用基板において、上記積層膜の最上層は、金属膜であることが好ましい。
【００２８】
上記構成によれば、上記表示装置用基板において、上記複数の微細な金属パターンが形成された他方側の面の反対側の面である一方側の面に形成された積層膜の最上層は、金属膜で形成されているため、上記金属膜によって反射された赤外光における所定波数の吸収有無を赤外分光光度計で検知することにより、上記金属膜の表面上の汚染物質の存在有無の判定を行うことができる。
【００２９】
したがって、上記表示装置用基板の両面の汚染状態を確認することができる。
【００３０】
本発明の表示パネルにおいて、上記表示媒体は液晶層であり、上記液晶層は、第１の基板と第２の基板との間に挟持されており、上記第１の基板および上記第２の基板中、少なくとも一方は、上記表示装置用基板であってもよい。
【００３１】
上記構成によれば、液晶層を備えた上記表示パネルの両表面の少なくとも一方には、上記複数の微細な金属パターンが形成されているので、上記表示パネルの表面の汚染状態を確認することができる。
【００３２】
したがって、汚染物質が上記表示パネルの表面上に付着されたまま、次の製造プロセス例えば、偏光板の貼り付け工程などに移されるのを抑制することができる。
【００３３】
本発明の表示パネルにおいて、上記第１の基板および上記第２の基板の何れか一方の上記液晶層と接する層は、遮光層を含む積層膜であり、上記第１の基板および上記第２の基板中、少なくとも一方に形成された上記複数の微細な金属パターンと上記遮光層とは、平面視において重なるように設けられていることが好ましい。
【００３４】
上記構成によれば、上記複数の微細な金属パターンと上記遮光層とは、平面視において重なるように設けられているので、上記複数の微細な金属パターンによる表示品位の低下をより確実に抑制することができる。
【００３５】
本発明の表示パネルにおいて、上記第２の基板の上記液晶層と接する層は、金属配線層を含む積層膜であり、上記複数の微細な金属パターンは上記第２の基板に形成されており、上記金属配線層と上記複数の微細な金属パターンとは、同一材料で形成されていることが好ましい。
【００３６】
上記構成によれば、同一基板である上記第２の基板に形成される上記金属配線層と上記複数の微細な金属パターンとは、同一材料で形成されているので、上記金属配線層と上記複数の微細な金属パターンとを、同一装置を用いて形成することができるので、上記複数の微細な金属パターンの形成工程が加えられても、製造単価が上昇するのを抑制することができる。
【００３７】
本発明の表示パネルにおいては、上記表示媒体は有機発光層であり、上記有機発光層と接する側である一方側の面に積層膜が設けられ、上記複数の微細な金属パターンが他方側の面に設けられた上記表示装置用基板を備えていてもよい。
【００３８】
上記構成によれば、有機発光層が備えられた表示パネルにおいても、上記表示パネルの表面の汚染状態を確認することができる。
【００３９】
したがって、汚染物質が上記表示パネルの表面上に付着されたまま、次の製造プロセス、例えば、タッチパネルの貼り合わせ工程やタッチパネルの形成工程などに移されるのを抑制することができる。
【００４０】
本発明の表示パネルにおいて、上記有機発光層と接する側である一方側の面に設けられた上記積層膜は、遮光層を含み、上記複数の微細な金属パターンと上記遮光層とは、平面視において重なるように設けられていることが好ましい。
【００４１】
上記構成によれば、有機発光層が備えられた表示パネルにおいても、上記複数の微細な金属パターンと上記遮光層とは、平面視において重なるように設けられているので、上記複数の微細な金属パターンによる表示品位の低下をより確実に抑制することができる。
【００４２】
本発明の表示パネルにおいて、上記有機発光層と接する側である一方側の面に設けられた上記積層膜には、金属配線層が含まれており、上記金属配線層と上記複数の微細な金属パターンとは、同一材料で形成されていることが好ましい。
【００４３】
上記構成によれば、上記金属配線層と上記複数の微細な金属パターンとを、同一装置を用いて形成することができるので、上記複数の微細な金属パターンの形成工程が加えられても、製造単価が上昇するのを抑制することができる。
【００４４】
本発明の表示装置用基板の汚染物質の検出方法は、上記の課題を解決するために、絶縁基板の一方側の面または、両面に金属パターンが形成された表示装置用基板の汚染物質の検出方法であって、上記金属パターンにより反射された赤外光における所定波数の吸収有無を赤外分光光度計で検知することにより、上記金属パターンの表面上の汚染物質の存在有無の判定を行うことを特徴としている。
【００４５】
上記方法によれば、上記金属パターンにより反射された赤外光における所定波数の吸収有無を赤外分光光度計で検知することにより、上記金属パターンの表面上の汚染物質の存在有無の判定を行うので、短時間で、非破壊的および非接触的に上記金属パターンの表面上の汚染物質の存在有無を確認することができる。
【００４６】
よって、上記表示装置用基板の汚染物質の検出方法を用いることにより、汚染物質が基板の表面上に付着されたまま、次の製造プロセスに移されるのを防止または抑制することができるので、製造プロセスにおいて歩留まりを向上できる。
【００４７】
本発明の表示装置用基板の汚染物質の検出方法において、上記赤外分光光度計は、フーリエ変換赤外分光光度計であることが好ましい。
【００４８】
上記方法によれば、精度高く、上記表示装置用基板の汚染物質の有無を検出することができる。
【００４９】
本発明の表示装置用基板の汚染物質の検出方法において、上記金属パターンの表面上の汚染物質の存在有無の判定を行う際には、上記金属パターンに向けて偏光され、かつ、上記金属パターンの法線方向に対して入射角度が７０度〜８５度である赤外光が照射されることが好ましい。
【００５０】
上記方法によれば、上記汚染物質の形状が、上記金属パターンの厚さ方向の厚さが薄い場合においても、精度高く、上記表示装置用基板の汚染物質の有無を検出することができる。
【００５１】
本発明の表示装置用基板の汚染物質の検出方法における上記赤外分光光度計には、上記金属パターンに向けて照射される赤外光の照射面積を調整でき、かつ、上記金属パターンで反射された反射光の照射面積を調整できる光学系と、上記反射光の検出器と、が備えられており、上記反射光の検出器に備えられた素子全体に、上記金属パターンで反射された反射光が照射されるように上記光学系が調整されていることが好ましい。
【００５２】
上記方法によれば、上記汚染物質のサイズが微細な場合においても、精度高く、上記表示装置用基板の汚染物質の有無を検出することができる。
【００５３】
本発明の表示装置用基板の汚染物質の検出方法において、上記所定波数は、６５０ｃｍ−１〜４０００ｃｍ−１の範囲内であることが好ましい。
【００５４】
上記方法によれば、上記波数の範囲は、さまざまな物質における固有の吸収スペクトルが現れる波数の範囲に該当するため、幅広い種類の汚染物質の有無を検出することができる。
【００５５】
本発明の表示装置用基板の汚染物質の検出方法において、上記金属パターンの表面上の汚染物質が有機物を含む場合には、Ｏ−Ｈ伸縮振動に由来する吸収帯、Ｃ−Ｈ伸縮振動に由来する吸収帯、Ｃ＝Ｏ伸縮振動に由来する吸収帯、ベンゼン環の炭素間伸縮振動に由来する吸収帯、Ｃ−Ｈ変角振動に由来する吸収帯およびＣ−Ｏ伸縮振動に由来する吸収帯が、少なくとも一つある場合、上記金属パターン上に汚染物質が存在すると判定することが好ましい。
【００５６】
上記の方法によれば、汚染物質の種類のターゲットを絞り、より効率的に汚染物質の有無を検出することができる。
【００５７】
本発明の表示装置用基板の汚染物質の検出方法においては、ステージ制御部により、ステージ上で上記表示装置用基板を移動させ、上記金属パターンにおける複数の個所で上記金属パターンにより反射された赤外光の吸収有無を検知することが好ましい。
【００５８】
上記方法によれば、上記表示装置用基板の幅広い領域において、より効率的に汚染物質の有無を検出することができる。
【００５９】
本発明の表示装置用基板の製造方法においては、上記表示装置用基板の汚染物質の検出方法によって、検出された汚染物質を粘着部材によって除去する工程を含むことが好ましい。
【００６０】
上記方法によれば、汚染物質が検出された領域のみを粘着部材を用いて、処理すればよいので、表示装置用基板全体に洗浄作業を行う必要がないので、より効率よく、表示装置用基板を製造することができる。
【発明の効果】
【００６１】
本発明の表示装置用基板は、以上のように、上記絶縁基板の一方側の面の反対側の面である上記絶縁基板の他方側の面には、複数の微細な金属パターンが形成されている構成である。
【００６２】
また、本発明の表示装置用基板の汚染物質の検出方法は、以上のように、上記金属パターンにより反射された赤外光における所定波数の吸収有無を赤外分光光度計で検知することにより、上記金属パターンの表面上の汚染物質の存在有無の判定を行う方法である。
【００６３】
それゆえ、製造プロセスにおいて歩留まりを向上できる、表示装置用基板と、表示装置用基板の汚染物質の検出方法と、を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【００６４】
【図１】本発明の一実施の形態の液晶表示パネルの断面図である。
【図２】本発明の一実施の形態の液晶表示パネルの平面図である。
【図３】本発明の一実施の形態の液晶表示パネルの一部を拡大した平面図である。
【図４】（ａ）は、本発明の一実施の形態の液晶表示パネルに備えられた金属パターンの平面図であり、（ｂ）は、金属パターンの側面図である。
【図５】本発明の一実施の形態において用いられる汚染測定装置の模式図である。
【図６】（ａ）は、汚染物質が無い液晶表示パネルの平面図であり、（ｂ）は、汚染物質が無い液晶表示パネルを測定する様子を表した模式図であり、（ｃ）は、汚染物質が無い金属パターンの表面上を測定して得られるバックグラウンドとしてのスペクトルデータを示す図である。
【図７】（ａ）は、汚染物質がある液晶表示パネルの平面図であり、（ｂ）は、汚染物質がある液晶表示パネルを測定する様子を表した模式図であり、（ｃ）は、汚染物質がある金属パターンの表面上を測定して得られるスペクトルデータを示す図である。
【図８】本発明の一実施の形態の液晶表示パネルの製造方法を示すフローチャートである。
【図９】本発明の一実施の形態の液晶表示パネルの変形例を示す図である。
【図１０】本発明の一実施の形態の液晶表示パネルの他の変形例を示す図である。
【図１１】本発明の一実施の形態の液晶表示パネルのさらに他の変形例を示す図である。
【図１２】本発明の一実施の形態の液晶表示パネルのさらに他の変形例を示す図である。
【図１３】本発明の他の一実施の形態において用いられる汚染測定装置の模式図である。
【図１４】図１３に示す汚染測定装置において、赤外線が金属パターン表面上に入射および出射する様子を表した模式図である。
【図１５】図１３に示す汚染測定装置において、平行偏光について説明した説明図である。
【図１６】本発明のさらに他の一実施の形態において用いられる汚染測定装置の模式図である。
【図１７】特許文献１に記載されている汚染物質を除去する方法を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００６５】
以下、図面に基づいて本発明の実施の形態について詳しく説明する。ただし、この実施の形態に記載されている構成部品の寸法、材質、形状、その相対配置などはあくまで一実施形態に過ぎず、これらによってこの発明の範囲が限定解釈されるべきではない。
【００６６】
なお、以下の実施の形態においては、表示装置用基板として、カラーフィルター基板およびＴＦＴ基板（アクティブマトリクス基板）を例に挙げて説明し、表示パネルとしては、液晶表示パネルを例に挙げて説明するが、これに限定されることはなく、表示装置用基板は、例えば、有機ＥＬ用のアクティブマトリクス基板であってもよく、表示パネルは、有機ＥＬ用表示パネルであってもよい。
【００６７】
〔実施の形態１〕
（液晶表示パネル１０の基本構成）
図１は、本実施の形態に係る液晶表示パネル１０の断面図である。図２は、液晶表示パネル１０を表示面側から見た平面図である。図３は、液晶表示パネル１０の一部を拡大した平面図である。図４の（ａ）は、金属パターン１１の平面図であり、図４の（ｂ）は、金属パターン１１の側面図である。
【００６８】
図１に図示されているように、液晶表示パネル１０は、ＴＦＴ基板１２と、カラーフィルター基板１３と、が封止シール材１８で貼り合わせられ、その両基板１１・１２間には液晶層１４が挟持されている構成となっている。
【００６９】
ＴＦＴ基板１２における液晶層１４と接する面側の反対面には、複数の微細な金属パターン１１が設けられており、ＴＦＴ基板１２における液晶層１４と接する面側には、配線１７ａと、電極（画素電極）１７ｂおよびＴＦＴ１９などが設けられている。
【００７０】
一方、カラーフィルター基板１３における液晶層１４と接する面側の反対面にも、複数の微細な金属パターン１１が設けられており、カラーフィルター基板１３における液晶層１４と接する面側には、ブラックマトリクス１５およびカラーフィルター層１６などが設けられている。
【００７１】
図１および図２に図示されているように、金属パターン１１は、赤外分光光度計によりＴＦＴ基板１２およびカラーフィルター基板１３における液晶層１４と接する側の反対面の表面上の汚染物質を測定するために設けられている。それから、金属パターン１１は、ＴＦＴ基板１２とカラーフィルター基板１３の全面に縦方向、横方向に等間隔に且つ均等に配置されている。
【００７２】
そして、図３に図示されているように、金属パターン１１は、カラーフィルター基板１３の液晶層１４と接する側の面に、格子状に形成されているブラックマトリックス１５と、平面視において重なるように設けられている。
【００７３】
本実施の形態においては、金属パターン１１とブラックマトリックス１５とが、平面視において一部が重なるように設けているが、これに限定されることはなく、金属パターン１１とブラックマトリックス１５とは、完全に重なるように形成することが好ましい。
【００７４】
上記構成によれば、複数の微細な金属パターン１１による表示品位の低下をより確実に抑制することができる。
【００７５】
また、本実施の形態においては、カラーフィルター基板１３側にブラックマトリックス１５を形成した場合を用いて説明しているが、ＣＯＡ（Ｃｏｌｏｒ  Ｆｉｌｔｅｒ  Ｏｎ  Ａｒｒａｙ）構造のように、ブラックマトリックス１５はＴＦＴ基板１２側に設けられていてもよい。
【００７６】
そして、複数の微細な金属パターン１１は、タルタル、モリブテン、チタン、銅およびアルミニウムから選択される何れか一つを少なくとも含む材料で、形成されていることが好ましい。
【００７７】
上記構成によれば、複数の微細な金属パターン１１は、高い赤外線反射率を有する材料で形成されているため、より高い感度で、赤外分光光度計による汚染状態の確認が可能である。
【００７８】
また、図４に図示されているように、本実施の形態においては、金属パターン１１の形状は、縦幅および横幅がそれぞれ５０μｍ、その膜厚は１００ｎｍの直方体の形状で形成している。
【００７９】
そして、図４（ａ）に図示されているように、金属パターン１１は、平面視において、一辺が５０μｍの正四角形形状に形成されている。
【００８０】
金属パターン１１のサイズは、表示品位に及ぼす影響を考慮すると、一辺が５０μｍの正四角形形状より小さく形成することが好ましいが、その形状は特に限定されない。
【００８１】
また、図４（ｂ）に図示されているように、本実施の形態においては、金属パターン１１とＴＦＴ基板１２に設けられた配線１７ａとは、同一材料で形成しているため、金属パターン１１の膜厚は、配線１７ａと同じ膜厚である１００ｎｍとしているが、これに限定されることはない。
【００８２】
また、ＴＦＴ基板１２およびカラーフィルター基板１３の絶縁基板材としては、ガラスなどを用いることができるが、これに限定されることはなく、プラスチックなどの可撓性を有する基板を用いることもできる。
【００８３】
このような可撓性を有する基板は、フレキシブル表示装置の作製の際に好適に用いることができる。
【００８４】
また、ブラックマトリクス１５は、クロム膜または、カーボンブラックを含む樹脂材で形成された遮光層である。
【００８５】
カラーフィルター層１６は、ブラックマトリクス１５の格子間に形成され、例えば、赤色カラーフィルターと、緑色カラーフィルターと、青色カラーフィルターと、で構成されている。そして、必要に応じて、適宜、他色のカラーフィルターを追加してもよく、例えば、黄色カラーフィルターなどを追加することができる。
【００８６】
（赤外分光光度計による汚染物質の検出方法）
以下、ＴＦＴ基板１２やカラーフィルター基板１３やこれらの基板を備えた液晶表示パネル１０の基板上における汚染物質の検出方法について説明する。
【００８７】
図５は、ＴＦＴ基板１２やカラーフィルター基板１３やこれらの基板１２・１３を備えた液晶表示パネル１０の基板上における汚染物質の検出に用いられる汚染物質検出装置１００の模式図である。
【００８８】
図６の（ａ）は、その表面に汚染物質が無い場合の液晶表示パネル１０の平面図である。図６の（ｂ）は、図６の（ａ）に図示した液晶表示パネル１０を用いて、汚染物質検出装置１００で測定を行う様子を示す図である。図６の（ｃ）は、汚染物質がない金属パターン１１の表面上を測定して得られたバックグラウンドとしてのスペクトルデータを示す図である。
【００８９】
一方、図７の（ａ）は、その表面に汚染物質がある場合の液晶表示パネル１０の平面図である。図７の（ｂ）は、図７の（ａ）に図示した液晶表示パネル１０を用いて、汚染物質検出装置１００で測定を行う様子を示す図である。図７の（ｃ）は、汚染物質が存在する金属パターン１１の表面上を測定して得られたスペクトルデータを示す図である。
【００９０】
赤外分光光度計による汚染物質の検出方法は、金属パターン１１を有する、ＴＦＴ基板１２やカラーフィルター基板１３やこれらの基板を備えた液晶表示パネル１０を用いるとともに、赤外分光光度計を備える汚染物質検出装置１００により、金属パターン１１の表面上の汚染物質の検出を行い、その結果に基づき、汚染物質の有無の判定を行う方法である。
【００９１】
本実施の形態においては、検出精度を高くするため、赤外分光光度計として、フーリエ変換赤外分光光度計（ＦＴ−ＩＲ）１１０を用いているが、これに限定されることはなく、例えば、分散型赤外分光光度計などを用いることもできる。
【００９２】
図５に図示されているように、汚染物質検出装置１００は、フーリエ変換赤外分光光度計（ＦＴ−ＩＲ）１１０と、液晶表示パネル１０に含まれる少なくとも一つ以上の物質のスペクトルデータを予め記憶しておく構成物質記憶手段１２０と、測定の結果と構成物質記憶手段１２０に記憶されたスペクトルデータと一致するか否かを判別する構成物質判別手段１３０と、測定の結果に基づき汚染物質の検出有無の判定を行う判定手段１４０と、液晶表示パネル１０を設置することができるステージ１５０と、液晶表示パネル１０を設置したステージ１５０を動かすためのステージ制御手段１６０と、を備えている。
【００９３】
液晶表示パネル１０を設置したステージ１５０を動かすことによって、液晶表示パネル１０の複数の個所で、汚染物質の検出を行うことができ、液晶表示パネル１０の幅広い領域において、より効率的に汚染物質の有無を検出することができる。
【００９４】
なお、図５においては、液晶表示パネル１０の汚染物質の有無の検出を行う場合を図示しているが、後述するように、金属パターン１１を有するのであれば、ＴＦＴ基板１２やカラーフィルター基板１３についても同様に汚染物質の有無の検出を行うことができる。
【００９５】
図５に図示されているように、フーリエ変換赤外分光光度計（ＦＴ−ＩＲ）１１０は、赤外線を出射する光源（図示せず）を備えたＦＴ−ＩＲ本体１１１と、ＦＴ−ＩＲ本体１１１に接続されたＡ／Ｄ変換器１１２と、Ａ／Ｄ変換器１１２に接続されたスペクトル測定手段１１３と、を備えている。
【００９６】
ＦＴ−ＩＲ本体１１１に備えられた光源（図示せず）から出射された赤外光は、ＦＴ−ＩＲ本体１１１に備えられたアパチャー（図示せず）を通過した後に、その照射領域（目的領域）が絞られ、金属パターン１１に向けて照射される。
【００９７】
そして、上記赤外光は、金属パターン１１で反射され、再び、ＦＴ−ＩＲ本体１１１に備えられたアパチャー（図示せず）を通過し回折光を除去した後、ＦＴ−ＩＲ本体１１１に備えられた検出部（図示せず）の受光面に投影される。
【００９８】
金属パターン１１上に汚染物質が付着している場合においては、赤外光は汚染物質を通過することになるので、赤外光の一部の波長が特異的に吸収されることとなる。
【００９９】
本実施の形態においては、検出部（検出器）の材質は、ＭＣＴ（水銀−カドミウム−テルル）を使用しており、検出部（検出器）の素子のサイズは、２５０×２５０μｍとしているが、検出部（検出器）の材質およびサイズは、これに限定されることはない。
【０１００】
また、測定時の分解能は４ｃｍ−１、積算回数は６４回としているが、測定の条件や必要とする精度に合わせて適宜設定すればよい。
【０１０１】
また、光源は、顕微鏡を通じて可視像を見ながらマスキングサイズを調整し、測定エリアを決定するデュアルマスキング方式を用いているが、これに限定されることはない。また、光源から出射された赤外光の強度は、インターフェログラムで確認し、５ｖ以上となっていることが好ましい。
【０１０２】
なお、本実施の形態においては、赤外光の光射出口のビーム径（大元）は、直径７〜８ｍｍであり、カセグレンは３２倍のものを使用し、４６×４６μｍのマスキングサイズ（赤外光の照射面積）により検出部（検出器）の素子のサイズ２５０×２５０μｍを覆うようにしており、これが、本実施の形態において、金属パターン１１の表面を５０×５０μｍ付近のサイズとした理由である。
【０１０３】
すなわち、本実施の形態で用いている赤外分光光度計による汚染物質の検出方法においては、検出部（検出器）の素子のサイズ２５０×２５０μｍ全体に、金属パターン１１で反射された赤外光の反射光が照射されるように光学系（アパチャー・赤外光の光射出口のビーム径・カセグレン・金属パターン１１のサイズ）が調整されていることが好ましいが、これに限定されることはない。
【０１０４】
上記方法によれば、上記汚染物質のサイズが微細な場合においても、精度高く、上記表示装置用基板の汚染物質の有無を検出することができる。
【０１０５】
また、検出部（検出器）の素子の受光面に投影された赤外光のデータはＡ／Ｄ変換器１１２でアナログ信号からデジタル信号に変換され、スペクトル測定手段１１３に入力される。そして、スペクトル測定手段１１３は、デジタル信号に変換された上記データに基づきスペクトルデータ（測定の結果）に変換する。
【０１０６】
そして、構成物質記憶手段１２０は、例えば、液晶表示パネル１０に含まれる少なくとも一つ以上の物質のスペクトルデータを予め記憶している。すなわち、予め塗布しておいたシール材や、接着層などに由来するピークなのかどうかを判定し、汚染物質と液晶表示パネル１０を構成する物質との区別をするための構成である。
【０１０７】
物質判別手段１３０は、スペクトル測定手段１１３で変換されたスペクトルデータ（測定の結果）が、構成物質記憶手段１２０に記憶されたスペクトルデータ（比較データ）と一致するか否かを判別することで、例えば、予め塗布しておいたシール材や、接着層などに由来するピークなのかどうかを判定し、汚染物質と液晶表示パネル１０を構成する物質との区別をするための構成である。
【０１０８】
判定手段１４０は、汚染物質の検出有無の判定を行う構成であり、スペクトル測定手段１１３で変換されたスペクトルデータ（測定の結果）に基づき、汚染物質が付着しているかを判定する構成である。すなわち、判定手段１４０は、予め設定されたＳ／Ｎ比の基準に基づき、ノイズなのか汚染物質に由来するピークなのかを判別し、汚染物質の検出有無を判定する。
【０１０９】
図６の（ａ）および図６の（ｂ）に図示されているように、バックグラウンド測定として汚染物質が無い場合の金属パターン１１の測定を予め行い、バックグラウンドを設定し、測定するデータを補正できるようにしておくことが望ましい。そうすることで、図６の（ｃ）に示すスペクトルデータ（バックグラウンド）のように、ＦＴ−ＩＲ本体１１１と金属パターン１１表面との間に存在する空気（例えば二酸化炭素）や金属パターン１１表面などによる赤外線吸収を０ベースとすることができる。
【０１１０】
そして、図７の（ａ）および図７の（ｂ）に図示されているように、金属パターン１１の表面上に汚染物質が付着している場合を測定すると、図７の（ｃ）に示すように、おおよそ汚染物質のみの赤外線吸収のパターンを示すスペクトルデータ（測定の結果）が得られる。
【０１１１】
また、汚染物質が、有機化合物や有機金属化合物等の有機物からなる場合、中赤外波長領域（波長２．５〜１５μｍ）の波数が４０００ｃｍ−１〜６５０ｃｍ−１の範囲内で、各々の有機物固有の赤外吸収パターンを示す。そのため、フーリエ変換赤外分光光度計（ＦＴ−ＩＲ）１１０による測定範囲を波数４０００ｃｍ−１〜６５０ｃｍ−１の範囲内としてもよい。
【０１１２】
例えば、汚染物質がヒドロキシル基を有する化合物の場合、Ｏ−Ｈ伸縮振動に由来する吸収帯（波数３４００ｃｍ−１〜３１００ｃｍ−１）でＯ−Ｈ伸縮振動に由来する比較的強度の強い赤外光吸収ピークを示す。この赤外光吸収ピークは、各々の有機物において固有の波数においてピークを示す。
【０１１３】
具体例として、汚染物質が、Ｏ−Ｈ伸縮振動に由来する吸収ピークが３２５０ｃｍ−１の物質Ａと、Ｏ−Ｈ伸縮振動に由来する吸収ピークが３１６０ｃｍ−１の物質Ｂとのどちらかである可能性がある場合において、汚染物質のＯ−Ｈ伸縮振動に由来する吸収ピークが３２５０ｃｍ−１であった場合、汚染物質は物質Ａ又は物質Ａに由来する物質である可能性が高く、物質Ｂ又は物質Ｂに由来する物質である可能性が低いことがわかる。
【０１１４】
また、他にも、Ｏ−Ｈ伸縮振動に由来する吸収帯と同様に、Ｃ−Ｈ伸縮振動に由来する吸収帯（波数２９００ｃｍ−１〜２８００ｃｍ−１）、Ｃ＝Ｏ伸縮振動に由来する吸収帯（波数１８００ｃｍ−１〜１７００ｃｍ−１）、ベンゼン環の炭素間伸縮振動に由来する吸収帯（波数１６００ｃｍ−１付近（波数１６３０ｃｍ−１〜１５７０ｃｍ−１）、波数１５００ｃｍ−１付近（波数１５３０ｃｍ−１〜１４７０ｃｍ−１））、Ｃ−Ｈ変角振動に由来する吸収帯（波数１４００ｃｍ−１付近（波数１４５０ｃｍ−１〜１３５０ｃｍ−１））、Ｃ−Ｏ伸縮振動に由来する吸収帯（波数１２００ｃｍ−１付近（波数１２５０ｃｍ−１〜１１５０ｃｍ−１））、Ｓｉ−Ｏ伸縮振動に由来する吸収帯（波数１１００ｃｍ−１〜１０５０ｃｍ−１）などが知られている。
【０１１５】
判定手段１４０における汚染物質の有無の判定は、スペクトルデータ（測定の結果）における上記の少なくとも一つの吸収帯のデータに基づいて行ってもよい。
【０１１６】
（液晶表示パネル１０の製造方法）
以下、液晶表示パネル１０の製造方法の一例と、その製造工程における汚染物質検出装置１００の使用例について説明する。図８は、液晶表示パネル１０の製造方法を示すフローチャートである。
【０１１７】
まず、ＴＦＴ基板１２を構成する絶縁基板（第１基板）の表面上にフォトリソグラフィー法などを用いて金属パターン１１を形成する（ステップＳ５１）。次に、絶縁基板（第１基板）を裏返し、金属パターン１１が形成されている面の反対側の面に、配線１７ａや電極（画素電極）１７ｂやＴＦＴ１９などを形成するための所定の膜を形成する（ステップＳ５２）。
【０１１８】
そして、上記形成された所定の膜上に、ポリイミド（ＰＩ）などからなる配向膜を基板全面に塗布し、焼成する（ステップＳ５３）。
【０１１９】
それから、封止シール材１８を基板の端部分に描画し（ステップＳ５４）、上記描画された封止シール材１８の内側に液晶を滴下する（ステップＳ５５）。
【０１２０】
なお、本実施の形態においては、液晶滴下（ＯＤＦ）方式を用いているが、これに限定されることはなく、真空注入方式を用いてもよい。
【０１２１】
一方、カラーフィルター基板１３側においては、まず、カラーフィルター基板１３を構成する絶縁基板（第２基板）の表面上にフォトリソグラフィー法などを用いて金属パターン１１を形成する（ステップＳ５６）。次に、絶縁基板（第２基板）を裏返し、金属パターン１１が形成されている面の反対側の面に、ブラックマトリクス１５やカラーフィルター層１６などを形成するための所定の膜を形成する（ステップＳ５７）。
【０１２２】
そして、上記形成された所定の膜上に、ポリイミド（ＰＩ）などからなる配向膜を基板全面に塗布し、焼成する（ステップＳ５８）。
【０１２３】
それから、ステップＳ５５で得られたＴＦＴ基板１２と、ステップＳ５８で得られたカラーフィルター基板１３とを張り合わせ、ＵＶ照射を行う（ステップＳ５９）。そして、洗浄し（ステップＳ６０）、汚染状態判定を行う（ステップＳ６１）。
【０１２４】
汚染状態判定は、上述したように赤外分光光度計による汚染物質の検出方法を用いて、汚染の有無を判定する。
【０１２５】
もし、汚染物質があった場合、適切な方法で再洗浄を行い（ステップＳ６２）、再び汚染測定を行うか、次工程に搬送する。また、汚染が無かった場合は、そのまま次工程へと搬送する。
【０１２６】
なお、上記再洗浄方法としては、検出された汚染物質を、上記特許文献１に記載されているような粘着部材によって除去することが好ましい。
【０１２７】
上記方法によれば、汚染物質が検出された領域のみを粘着部材を用いて、処理すればよいので、基板全体に洗浄作業を行う必要がないので、より効率よく、液晶表示パネル１０を製造することができる。
【０１２８】
以下、図９から図１１に基づいて、金属パターンの形成例について説明する。
【０１２９】
（変形例１）
図９は、本実施の形態の変形例である液晶表示パネル２０の平面図である。
【０１３０】
図示されているように、本変形例においては、液晶表示パネル２０に備えられたＴＦＴ基板２２またはカラーフィルター基板２３の右上側に金属パターン２１を多く配置している。これは、右上側の領域に汚染物質が付着し易い傾向にある場合や、右上側の領域に汚染物質が付着していると様々な問題が生じる場合において、好適に用いることができる金属パターンの形成例である。
【０１３１】
（変形例２）
図１０は、本実施の形態の他の変形例である液晶表示パネル３０の平面図である。
【０１３２】
図示されているように、本変形例においては、液晶表示パネル３０に備えられたＴＦＴ基板３２またはカラーフィルター基板３３の左端側に金属パターン３１を多く配置している。これは、左端側の領域に汚染物質が付着し易い傾向にある場合や、左端側の領域に汚染物質が付着していると様々な問題が生じる場合において、好適に用いることができる金属パターンの形成例である。
【０１３３】
（変形例３）
図１１は、本実施の形態のさらに他の変形例である液晶表示パネル４０の平面図である。
【０１３４】
図示されているように、本変形例においては、液晶表示パネル４０に備えられたＴＦＴ基板４２またはカラーフィルター基板４３の中央に金属パターン４１を多く配置している。これは、中央の領域に汚染物質が付着し易い傾向にある場合や、中央の領域に汚染物質が付着していると様々な問題が生じる場合において、好適に用いることができる金属パターンの形成例である。
【０１３５】
（変形例４）
図１２は、本実施の形態のさらに他の変形例である液晶表示パネル５０の断面図である。
【０１３６】
図示されているように、本変形例においては、金属パターン５１が一方の基板のみに形成されている。
【０１３７】
上述したように、金属パターンの配置位置は特に限定されるものではなく、製作する液晶表示パネルの用途、生産ラインの状況などに応じて適宜配置することができ、ランダムに配置してもよい。また、変形例４のように、製造プロセスの追加による製造単価のアップなどを考慮し、金属パターンを、一方の基板のみに形成してもよい。
【０１３８】
〔実施の形態２〕
次に、本発明の実施の形態２について図１３〜１５に基づいて説明すれば、以下のとおりである。なお、下記で説明していない構成、方法及び作用は全て実施の形態１と同様である。本実施の形態においては、液晶表示パネルに照射する赤外光の入射角を大きくした構成である（例えば、入射角７０〜８５度）点が、実施の形態１とは異なる。これにより、スペクトルの強度を向上させ、測定感度を向上させることができるという効果が得られる。
【０１３９】
本実施の形態で用いている赤外分光光度計による汚染物質の検出方法は、入射角が大きい赤外光を出射できるフーリエ変換赤外分光光度計（ＦＴ−ＩＲ）２１０を備える汚染測定装置２００により、金属パターン１１の表面上の汚染物質の測定を行い、測定の結果に基づき、汚染物質の有無の判定を行う方法である。
【０１４０】
図１３は、本実施の形態の汚染物質の検出方法に用いられる汚染測定装置２００の模式図である。
【０１４１】
図１４は、金属パターン１１表面上で、出射された赤外線が入射および反射する様子を示す模式図である。
【０１４２】
また、図１５は、平行偏光について説明するための図である。
【０１４３】
図１３に図示されているように、汚染測定装置２００は、フーリエ変換赤外分光光度計（ＦＴ−ＩＲ）２１０と、構成物質記憶手段２２０と、構成物質判別手段２３０と、判定手段２４０と、ステージ２５０と、ステージ制御手段２６０と、を備える。
【０１４４】
また、フーリエ変換赤外分光光度計（ＦＴ−ＩＲ）２１０は、ＲＡＳ法（Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ  Ａｂｓｏｒｐｔｉｏｎ  Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）を用いて測定可能なＦＴ−ＩＲ本体２１１と、Ａ／Ｄ変換器２１２と、スペクトル測定手段２１３と、を備える。
【０１４５】
このＲＡＳ法を用いることにより、金属パターン１１上に、数１０Å程度の非常に膜厚が薄い汚染物質、例えば、残留した配向膜が存在する場合でも検出することが可能となる。
【０１４６】
ＲＡＳ法は、フーリエ変換赤外分光光度計の反射測定手法と同様に、金属表面に赤外光を入射させ、一部が吸収され反射してきた光の変化を調べる方法である。ただし、ＲＡＳ法は、赤外光として偏向光を使用する。
【０１４７】
本実施の形態においては、図１４に示すように、金属パターン１１表面の法線に対して入射角が８５度となる赤外光（平行偏光）をＦＴ−ＩＲ本体２１１から出射させる。これにより、実施の形態１の場合のように赤外光の入射角が小さい場合に比べて、赤外光が汚染物質を通過する距離が長くなることによって、スペクトル強度を高めることができるという効果が得られる。
【０１４８】
さらに、図１５に示すように、金属パターン１１に対して入射角の大きな平行偏光を出射することによって、金属パターン１１に入射する光と反射する光の位相の変化から、金属パターン１１の法線方向に大きな定常波（電気ベクトル）が生じる。これにより、分子と電場との相互作用が大きくなり、スペクトル強度を向上させることができる。
【０１４９】
〔実施の形態３〕
次に、本発明の実施の形態３について図１６に基づいて説明すれば、以下のとおりである。なお、下記で説明していない構成、方法及び作用は全て実施の形態１と同様であるとする。
【０１５０】
本実施の形態は、ＴＦＴ基板１２に設けられた配線１７ａを用いて、金属パターン１１が形成されている面の反対側の面に何らかの汚染物質が付着していないかを測定する点において、ＴＦＴ基板１２とカラーフィルター基板１３とを貼り合わせた後に汚染物質が付着していないかを測定する実施の形態１とは異なる。
【０１５１】
図１６は、ＴＦＴ基板１２に設けられた配線１７ａを用いて、金属パターン１１が形成されている面の反対側の面に何らかの汚染物質が付着していないかを測定する方法を説明するための図である。
【０１５２】
このように、ＴＦＴ基板１２に設けられた配線１７ａを用いて、赤外分光光度計による汚染物質の検出を行うことにより、配線１７ａの形成工程後に、配線１７ａ上に汚染物質が付着していないかを測定することができる。
【０１５３】
本実施の形態においては、ＴＦＴ基板１２に設けられた配線１７ａを例に挙げて説明したが、これに限定されることはなく、ＴＦＴ基板１２やカラーフィルター基板１３に設けられた赤外光を反射する膜を用いて同様に、赤外光を反射する膜上に汚染物質が付着していないかを測定することができる。
【０１５４】
さらに、液晶表示装置用基板のみでなく、有機ＥＬ用のアクティブマトリクス基板においても同様である。
【０１５５】
図示は省略するが、有機ＥＬ用のアクティブマトリクス基板において、有機発光層と接する側である一方側の面に積層膜が設けられ、他方側の面には金属パターンが設けられている。
【０１５６】
上記積層膜には、赤外光を反射する金属配線層が備えられているので、これを用いて、汚染物質が付着していないかを測定することができる。
【０１５７】
また、有機ＥＬ用のアクティブマトリクス基板においても、上記積層膜には、遮光層が含まれており、上記金属パターンと上記遮光層とは、平面視において重なるように設けられていることが好ましい。
【０１５８】
また、上記赤外光を反射する金属配線層と上記金属パターンとは、同一材料で形成されていることが好ましい。
【０１５９】
本発明は上記した各実施の形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施の形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施の形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。
【産業上の利用可能性】
【０１６０】
本発明は、表示装置用基板、表示装置およびこれらの製造工程において、好適に用いることができる。
【符号の説明】
【０１６１】
１０、２０、３０、４０、５０  液晶表示パネル（表示パネル）
１１、２１、３１、４１、５１  金属パターン
１２、２２、３２、４２、５２  ＴＦＴ基板（表示装置用基板）
１３，２３，３３，４３，５３  カラーフィルター基板（表示装置用基板）
１４              液晶層（表示媒体）
１５              ブラックマトリクス（遮光層）
１６              カラーフィルター層
１７ａ            配線
１７ｂ            電極（画素電極）
１８              封止シール材
１９              ＴＦＴ
１００、２００    汚染測定装置
１１０、２１０    フーリエ変換赤外分光光度計（ＦＴ−ＩＲ）
１２０、２２０    構成物質記憶手段
１３０、２３０    構成物質判別手段
１４０、２４０    判定手段
１５０、２５０    ステージ
１６０、２６０    ステージ制御手段
【図１】
2013200412.tif 000003
【図２】
2013200412.tif 000004
【図３】
2013200412.tif 000005
【図４】
2013200412.tif 000006
【図５】
2013200412.tif 000007
【図６】
2013200412.tif 000008
【図７】
2013200412.tif 000009
【図８】
2013200412.tif 000010
【図９】
2013200412.tif 000011
【図１０】
2013200412.tif 000012
【図１１】
2013200412.tif 000013
【図１２】
2013200412.tif 000014
【図１３】
2013200412.tif 000015
【図１４】
2013200412.tif 000016
【図１５】
2013200412.tif 000017
【図１６】
2013200412.tif 000018
【図１７】
2013200412.tif 000019