(57)【要約】【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。【解決手段】露光装置は、液体を介して露光光で基板を露光する。露光装置は、露光光が射出される下面を有する光学部材と、第１支持部材に支持され、光学部材と第１間隙を介して配置される第１部材と、第２支持部材に支持され、第１部材の外側において第１部材と第２間隙を介して配置される第２部材と、第２部材に配置され、第１部材と対向するように配置される液体供給口と、を備える。液体供給口から供給される液体によって、光学部材の下面側に液体の液浸空間が形成される。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が射出される下面を有する光学部材と、
第１支持部材に支持され、前記光学部材と第１間隙を介して配置される第１部材と、
第２支持部材に支持され、前記第１部材の外側において前記第１部材と第２間隙を介して配置される第２部材と、
前記第２部材に配置され、前記第１部材と対向するように配置される液体供給口と、を備え、
前記液体供給口から供給される前記液体によって、前記光学部材の前記下面側に前記液体の液浸空間が形成される露光装置。
【請求項２】
前記第１支持部材は、前記第２支持部材とは異なる請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記第１支持部材は、前記光学部材を保持する請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記液体供給口は、前記第２間隙に面している請求項１〜３のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項５】
前記第１部材は、前記光学部材の側面と対向する第１内面と、前記第１内面の反対側を向く第１外面と、を有し、
前記液体供給口は、前記第１外面と対向するように配置される請求項１〜４のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項６】
前記液体供給口は、前記第１外面に向かって前記液体を供給する請求項５に記載の露光装置。
【請求項７】
前記第２部材は、前記第１外面と対向する第２内面を有し、
前記液体供給口から供給された前記液体は、前記第２間隙を流れて、前記光学部材の前記下面側に送られる請求項５又は６に記載の露光装置。
【請求項８】
前記第１間隙は、第１寸法の第１下側部分と、前記第１寸法よりも大きい第２寸法の第１上側部分と、を含む請求項１〜７のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項９】
前記第１下側部分に、前記液体供給口から供給された前記液体が入ることが許容されている請求項８に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記第１間隙の少なくとも一部に、前記液体供給口から供給された前記液体が入ることが許容されている請求項１〜９のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１１】
前記第１間隙は、雰囲気に開放される請求項１〜１０のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１２】
前記第２間隙は、第３寸法の第２下側部分と、前記第３寸法よりも大きい第４寸法の第２上側部分と、を含む請求項１〜１１のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１３】
前記第２間隙は、雰囲気に開放される請求項１〜１２のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１４】
前記第１部材は、前記光学部材の側面と対向し、前記光学部材の下面と対向しない請求項１〜１３のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１５】
前記第２部材は、前記第１部材と対向する第１部分と、前記光学部材の下面と間隙を介して対向する第２部分と、を有する請求項１４に記載の露光装置。
【請求項１６】
前記第１部材と前記第１部分との間の間隙を流れた前記液体供給口からの前記液体は、前記光学部材の下面と対向する前記第２部分の上面に供給される請求項１５に記載の露光装置。
【請求項１７】
前記第２部分は、前記光学部材の下面から射出される前記露光光が通過可能な開口を有し、
前記第２部分の上面に供給された前記液体の少なくとも一部は、前記開口を介して、前記光学部材の下方で移動可能な物体上に供給される請求項１６に記載の露光装置。
【請求項１８】
前記第２部材は、前記光学部材の下方で移動可能な物体が対向可能な液体回収口を有する請求項１〜１７のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１９】
前記第１部材は、前記光学部材を囲むように配置される請求項１〜１８のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項２０】
前記第２支持部材は、前記第２部材を可動に支持する請求項１〜１９のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項２１】
前記第２部材を移動可能な駆動装置を備える請求項１〜２０のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項２２】
前記光学部材及び前記第１部材は、実質的に動かない請求項１〜２１のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項２３】
前記液体供給口は、前記光学部材の光軸の周囲に複数配置され、
前記第２部材は、液体供給装置からの前記液体が流入するバッファ空間と、前記バッファ空間と複数の前記液体供給口のそれぞれとを結ぶ分岐流路と、有する請求項１〜２２のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項２４】
請求項１〜２３のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
露光された前記基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【請求項２５】
液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、
前記露光光が射出される下面を有する光学部材と第１間隙を介して配置される、第１支持部材に支持される第１部材で前記光学部材を保護することと、
前記第１部材の外側において前記第１部材と第２間隙を介して配置される、第２支持部材に支持される第２部材において前記第１部材と対向するように配置される液体供給口から前記液体を供給することと、
前記液体供給口から供給される前記液体によって、前記光学部材の前記下面側に前記液体の液浸空間を形成して、前記基板を露光することと、を含む露光方法。
【請求項２６】
請求項２５に記載の露光方法を用いて基板を露光することと、
露光された前記基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【請求項２７】
コンピュータに、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
前記露光光が射出される下面を有する光学部材と第１間隙を介して配置される、第１支持部材に支持される第１部材で前記光学部材を保護することと、
前記第１部材の外側において前記第１部材と第２間隙を介して配置される、第２支持部材に支持される第２部材において前記第１部材と対向するように配置される液体供給口から前記液体を供給することと、
前記液体供給口から供給される前記液体によって、前記光学部材の前記下面側に前記液体の液浸空間を形成して、前記基板を露光することと、を実行させるプログラム。
【請求項２８】
請求項２７に記載のプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置、露光方法、デバイス製造方法、プログラム、及び記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
フォトリソグラフィ工程で用いられる露光装置において、例えば特許文献１に開示されているような、液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】米国特許第７８６４２９２号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
液浸露光装置において、例えば露光光が射出される光学部材などに予期しない力が作用すると、露光不良が発生する可能性がある。その結果、不良デバイスが発生する可能性がある。
【０００５】
本発明の態様は、露光不良の発生を抑制できる露光装置、及び露光方法を提供することを目的とする。また、本発明の態様は、不良デバイスの発生を抑制できるデバイス製造方法、プログラム、及び記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の第１の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、露光光が射出される下面を有する光学部材と、第１支持部材に支持され、光学部材と第１間隙を介して配置される第１部材と、第２支持部材に支持され、第１部材の外側において第１部材と第２間隙を介して配置される第２部材と、第２部材に配置され、第１部材と対向するように配置される液体供給口と、を備え、液体供給口から供給される液体によって、光学部材の下面側に液体の液浸空間が形成される露光装置が提供される。
【０００７】
本発明の第２の態様に従えば、第１の態様の露光装置を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。
【０００８】
本発明の第３の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、露光光が射出される下面を有する光学部材と第１間隙を介して配置される、第１支持部材に支持される第１部材で光学部材を保護することと、第１部材の外側において第１部材と第２間隙を介して配置される、第２支持部材に支持される第２部材において第１部材と対向するように配置される液体供給口から液体を供給することと、液体供給口から供給される液体によって、光学部材の下面側に液体の液浸空間を形成して、基板を露光することと、を含む露光方法が提供される。
【０００９】
本発明の第４の態様に従えば、第３の態様の露光方法を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。
【００１０】
本発明の第５の態様に従えば、コンピュータに、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置の制御を実行させるプログラムであって、露光光が射出される下面を有する光学部材と第１間隙を介して配置される、第１支持部材に支持される第１部材で光学部材を保護することと、第１部材の外側において第１部材と第２間隙を介して配置される、第２支持部材に支持される第２部材において第１部材と対向するように配置される液体供給口から液体を供給することと、液体供給口から供給される液体によって、光学部材の下面側に液体の液浸空間を形成して、基板を露光することと、を実行させるプログラムが提供される。
【００１１】
本発明の第６の態様に従えば、第５の態様のプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体が提供される。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の態様によれば、露光不良の発生を抑制できる。また、本発明の態様によれば、不良デバイスの発生を抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】第１実施形態に係る露光装置の一例を示す図である。
【図２】第１実施形態に係る第１部材及び第２部材の一例を示す側断面図である。
【図３】第１実施形態に係る第１部材及び第２部材の一部を示す側断面図である。
【図４】第１実施形態に係る第２部材を上側から見た図である。
【図５】第２実施形態に係る第１部材及び第２部材の一例を示す側断面図である。
【図６】第２実施形態に係る第２部材の一例を示す図である。
【図７】第３実施形態に係る第２部材の一例を示す図である。
【図８】第４実施形態に係る第１部材及び第２部材の一部を示す側断面図である。
【図９】第５実施形態に係る第１部材及び第２部材の一部を示す側断面図である。
【図１０】第５実施形態に係る第２部材を上側から見た図である。
【図１１】第１部材の一例を示す図である。
【図１２】第１部材及び第２部材の一例を示す図である。
【図１３】第１部材及び第２部材の一例を示す図である。
【図１４】第１部材の一例を示す図である。
【図１５】第１部材及び第２部材の一例を示す図である。
【図１６】基板ステージの一例を示す図である。
【図１７】デバイスの製造方法の一例を説明するためのフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されない。以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部の位置関係について説明する。水平面内の所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれと直交する方向（すなわち鉛直方向）をＺ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。
【００１５】
＜第１実施形態＞
第１実施形態について説明する。図１は、第１実施形態に係る露光装置ＥＸの一例を示す概略構成図である。本実施形態の露光装置ＥＸは、液体ＬＱを介して露光光ＥＬで基板Ｐを露光する液浸露光装置である。本実施形態においては、基板Ｐに照射される露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳが形成される。液浸空間とは、液体で満たされた部分（空間、領域）をいう。基板Ｐは、液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して露光光ＥＬで露光される。本実施形態においては、液体ＬＱとして、水（純水）を用いる。
【００１６】
また、本実施形態の露光装置ＥＸは、例えば米国特許第６８９７９６３号、及び欧州特許出願公開第１７１３１１３号等に開示されているような、基板ステージと計測ステージとを備えた露光装置である。
【００１７】
図１において、露光装置ＥＸは、マスクＭを保持して移動可能なマスクステージ１と、基板Ｐを保持して移動可能な基板ステージ２と、基板Ｐを保持せずに、露光光ＥＬを計測する計測部材（計測器）Ｃを搭載して移動可能な計測ステージ３と、基板ステージ２、及び計測ステージ３の位置を計測する計測システム４と、マスクＭを露光光ＥＬで照明する照明系ＩＬと、露光光ＥＬで照明されたマスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する投影光学系ＰＬと、露光装置ＥＸ全体の動作を制御する制御装置６と、制御装置６に接続され、露光に関する各種の情報を記憶する記憶装置７と、を備えている。
【００１８】
また、露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬの終端光学素子１３と第１間隙Ｇ１を介して配置される第１部材２１と、第１部材２１の外側において第１部材２１と第２間隙Ｇ２を介して配置される第２部材２２と、を備えている。終端光学素子１３は、投影光学系ＰＬの複数の光学素子のうち、投影光学系ＰＬの像面に最も近い光学素子である。
【００１９】
また、露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬ、及び計測システム４を含む各種計測システムを支持する基準フレーム８Ａと、基準フレーム８Ａを支持する装置フレーム８Ｂと、基準フレーム８Ａと装置フレーム８Ｂとの間に配置され、装置フレーム８Ｂから基準フレーム８Ａへの振動の伝達を抑制する防振装置１０と、露光光ＥＬが進行する空間ＣＳの環境（温度、湿度、圧力、及びクリーン度の少なくとも一つ）を調整するチャンバ装置９とを備えている。空間ＣＳには、少なくとも投影光学系ＰＬ、第１部材２１、第２部材２２、基板ステージ２、及び計測ステージ３が配置される。本実施形態においては、マスクステージ１、及び照明系ＩＬの少なくとも一部も空間ＣＳに配置される。防振装置１０は、バネ装置などを含む。本実施形態においては、防振装置１０は、気体バネ（例えばエアマウント）を含む。なお、基板Ｐ上のアライメントマークを検出する検出システム、あるいは基板Ｐなどの物体の表面の位置を検出する検出システムが、基準フレーム８Ａに支持されてもよい。
【００２０】
マスクＭは、基板Ｐに投影されるデバイスパターンが形成されたレチクルを含む。マスクＭは、例えばガラス板等の透明板と、その透明板上にクロム等の遮光材料を用いて形成されたパターンとを有する透過型マスクを含む。なお、マスクＭとして、反射型マスクを用いることもできる。
【００２１】
基板Ｐは、デバイスを製造するための基板である。基板Ｐは、例えば半導体ウエハなどの基材と、その基材上に形成された感光膜とを含む。感光膜は、感光材（フォトレジスト）の膜である。また、基板Ｐが、感光膜に加えて別の膜を含んでもよい。例えば、基板Ｐが、反射防止膜を含んでもよいし、感光膜を保護する保護膜（トップコート膜）を含んでもよい。
【００２２】
照明系ＩＬは、所定の照明領域ＩＲに露光光ＥＬを照射する。照明領域ＩＲは、照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。照明系ＩＬは、照明領域ＩＲに配置されたマスクＭの少なくとも一部を均一な照度分布の露光光ＥＬで照明する。照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬとして、例えば水銀ランプから射出される輝線（ｇ線、ｈ線、ｉ線）及びＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光（ＤＵＶ光）、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）、及びＦ２レーザ光（波長１５７ｎｍ）等の真空紫外光（ＶＵＶ光）等が用いられる。本実施形態においては、露光光ＥＬとして、紫外光（真空紫外光）であるＡｒＦエキシマレーザ光を用いる。
【００２３】
マスクステージ１は、マスクＭを保持した状態で、移動可能である。マスクステージ１は、例えば米国特許第６４５２２９２号に開示されているような平面モータを含む駆動システム１１の作動により移動する。本実施形態において、マスクステージ１は、駆動システム１１の作動により、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能である。なお、駆動システム１１は、平面モータを含まなくてもよい。例えば、駆動システム１１が、リニアモータを含んでもよい。
【００２４】
投影光学系ＰＬは、所定の投影領域ＰＲに露光光ＥＬを照射する。投影領域ＰＲは、投影光学系ＰＬから射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。投影光学系ＰＬは、投影領域ＰＲに配置された基板Ｐの少なくとも一部に、マスクＭのパターンの像を所定の投影倍率で投影する。本実施形態の投影光学系ＰＬは、その投影倍率が例えば１／４、１／５、又は１／８等の縮小系である。なお、投影光学系ＰＬは等倍系及び拡大系のいずれでもよい。本実施形態において、投影光学系ＰＬの光軸は、Ｚ軸と平行である。また、投影光学系ＰＬは、反射光学素子を含まない屈折系、屈折光学素子を含まない反射系、反射光学素子と屈折光学素子とを含む反射屈折系のいずれであってもよい。また、投影光学系ＰＬは、倒立像及び正立像のいずれを形成してもよい。
【００２５】
投影光学系ＰＬの終端光学素子１３は、露光光ＥＬが射出される射出面１２を有する。射出面１２は、投影光学系ＰＬの像面に向けて露光光ＥＬを射出する。投影領域ＰＲは、射出面１２から射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。本実施形態において、射出面１２は、−Ｚ方向を向いている。以下の説明において、射出面１２を適宜、下面１２、と称する。
【００２６】
本実施形態において、下面１２は、ＸＹ平面と平行である。なお、−Ｚ方向を向いている下面１２は、凸面であってもよいし、凹面であってもよい。なお、下面１２は、ＸＹ平面に対して傾斜していてもよいし、曲面を含んでもよい。本実施形態において、終端光学素子１３の光軸は、Ｚ軸と平行である。本実施形態において、下面１２から射出される露光光ＥＬは、−Ｚ方向に進行する。
【００２７】
基板ステージ２は、基板Ｐを保持した状態で、下面１２からの露光光ＥＬが照射可能な位置（投影領域ＰＲ）を含むＸＹ平面内を移動可能である。計測ステージ３は、計測部材（計測器）Ｃを搭載した状態で、下面１２からの露光光ＥＬが照射可能な位置（投影領域ＰＲ）を含むＸＹ平面内を移動可能である。基板ステージ２及び計測ステージ３のそれぞれは、ベース部材１４のガイド面１４Ｇ上を移動可能である。本実施形態において、ガイド面１４ＧとＸＹ平面とは実質的に平行である。
【００２８】
本実施形態において、基板ステージ２は、例えば米国特許出願公開第２００７／０１７７１２５号、米国特許出願公開第２００８／００４９２０９号等に開示されているような、基板Ｐをリリース可能に保持する第１保持部と、第１保持部の周囲に配置され、カバー部材Ｔをリリース可能に保持する第２保持部とを有する。第１保持部は、基板Ｐの表面（上面）とＸＹ平面とが実質的に平行となるように、基板Ｐを保持する。本実施形態において、第１保持部に保持された基板Ｐの上面と、第２保持部に保持されたカバー部材Ｔの上面とは、実質的に同一平面内に配置される。なお、第１保持部に保持された基板Ｐの上面と、第２保持部に保持されたカバー部材Ｔの上面とは、同一平面内に配置されなくてもよいし、基板Ｐの上面に対してカバー部材Ｔの上面が傾斜してもよいし、カバー部材Ｔの上面が曲面を含んでもよい。
【００２９】
基板ステージ２及び計測ステージ３は、例えば米国特許第６４５２２９２号に開示されているような平面モータを含む駆動システム１５の作動により移動する。駆動システム１５は、基板ステージ２に配置された可動子２Ｃと、計測ステージ３に配置された可動子３Ｃと、ベース部材１４に配置された固定子１４Ｍとを有する。基板ステージ２及び計測ステージ３のそれぞれは、駆動システム１５の作動により、ガイド面１４Ｇ上において、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能である。なお、駆動システム１５は、平面モータを含まなくてもよい。例えば、駆動システム１５が、リニアモータを含んでもよい。
【００３０】
計測システム４は、干渉計システムを含む。干渉計システムは、基板ステージ２の計測ミラー及び計測ステージ３の計測ミラーに計測光を照射して、その基板ステージ２及び計測ステージ３の位置を計測するユニットとを含む。なお、計測システムが、例えば米国特許出願公開第２００７／０２８８１２１号に開示されているようなエンコーダシステムを含んでもよい。なお、計測システム４が、干渉計システム及びエンコーダシステムのいずれか一方のみを含んでもよい。
【００３１】
基板Ｐの露光処理を実行するとき、あるいは所定の計測処理を実行するとき、制御装置６は、計測システム４の計測結果に基づいて、基板ステージ２（基板Ｐ）、及び計測ステージ３(計測部材Ｃ）の位置制御を実行する。
【００３２】
次に、本実施形態に係る第１部材２１及び第２部材２２について説明する。図２は、終端光学素子１３、第１部材２１、及び第２部材２２の近傍を示す図である。図３は、図２の一部を拡大した図である。図４は、第２部材２２を上側（＋Ｚ側）から見た図である。
【００３３】
第１部材２１は、終端光学素子１３と第１間隙Ｇ１を介して配置される。第２部材２２は、第１部材２１の外側において第１部材２１と第２間隙Ｇ２を介して配置される。
【００３４】
本実施形態において、第１部材２１は、終端光学素子１３を囲むように配置される。本実施形態において、第１部材２１は、環状の部材である。本実施形態において、第２部材２２は、第１部材２１及び終端光学素子１３を囲むように配置される。本実施形態において、第２部材２２は、環状の部材である。
【００３５】
終端光学素子１３は、終端光学素子１３の下方で移動可能な物体との間で液体ＬＱを保持可能である。第２部材２２は、終端光学素子１３の下方で移動可能な物体との間で液体ＬＱを保持可能である。液浸空間ＬＳは、終端光学素子１３、第１部材２１、及び第２部材２２と、終端光学素子１３の下方で移動可能な物体との間に保持される液体ＬＱによって形成される。一方側の終端光学素子１３、第１部材２１、及び第２部材２２と、他方側の物体との間に液体ＬＱが保持されることによって、終端光学素子１３の下面１２から射出される露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳが形成される。
【００３６】
本実施形態において、終端光学素子１３の下方で移動可能な物体は、下面１２と対向する位置を含むＸＹ平面内を移動可能な物体を含む。その物体は、下面１２と対向可能であり、投影領域ＰＲに配置可能である。本実施形態において、その物体は、基板ステージ２（カバー部材Ｔ）、基板ステージ２（第１保持部）に保持された基板Ｐ、及び計測ステージ３（計測部材Ｃ）の少なくとも一つを含む。
【００３７】
以下の説明においては、終端光学素子１３の下方で移動可能な物体が、基板Ｐであることとする。なお、上述のように、終端光学素子１３の下方で移動可能な物体は、基板ステージ２（カバー部材Ｔ）でもよいし、計測ステージ３でもよいし、基板Ｐ、基板ステージ２（カバー部材Ｔ）、及び計測ステージ３とは別の物体でもよい。また、カバー部材Ｔと基板Ｐとを跨ぐように液浸空間ＬＳが形成される場合もあるし、基板ステージ２と計測ステージ３とを跨ぐように液浸空間ＬＳが形成される場合もある。
【００３８】
例えば、基板Ｐの露光において、基板Ｐに照射される露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳが形成される。基板Ｐに露光光ＥＬが照射されているとき、投影領域ＰＲを含む基板Ｐの表面の一部の領域だけが液体ＬＱで覆われるように液浸空間ＬＳが形成される。
【００３９】
本実施形態において、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの界面（メニスカス、エッジ）ＬＧｐが、第２部材２２と基板Ｐ（物体）との間に形成される。すなわち、本実施形態の露光装置ＥＸは、局所液浸方式を採用する。液浸空間ＬＳの外側（界面ＬＧｐの外側）は、気体空間である。
【００４０】
また、本実施形態においては、液体ＬＱの界面ＬＧ１が、終端光学素子１３と第１部材２１との間に形成される。液体ＬＱの界面ＬＧ２が、第１部材２１と第２部材２２との間に配置される。
【００４１】
第１部材２１は、第１支持部材５１に支持される。第２部材２２は、第２支持部材５２に支持される。第１支持部材５１は、終端光学素子１３と第１部材２１との間に第１間隙Ｇ１が形成されるように、第１部材２１を支持する。第２支持部材５２は、第１部材２１と第２部材２２との間に第２間隙Ｇ２が形成されるように、第２部材２２を支持する。
【００４２】
本実施形態において、第１支持部材５１は、第２支持部材５２とは異なる。本実施形態において、第１支持部材５１は、終端光学素子１３を保持する。なお、第１支持部材５１が、終端光学素子１３を含む投影光学系ＰＬの複数の光学素子を保持してもよい。すなわち、第１支持部材５１が、所謂、鏡筒を含んでもよい。なお、第１支持部材５１が、終端光学素子１３を保持せずに、投影光学系ＰＬの光学素子を保持してもよい。なお、第１支持部材５１は、投影光学系ＰＬの光学素子を保持しなくてもよい。本実施形態において、第１支持部材５１は、基準フレーム８Ａに接続される。第１部材２１は、第１支持部材５１を介して、基準フレーム８Ａに支持される。
【００４３】
なお、第１部材２１と、投影光学系ＰＬの部材（鏡筒など）とが一体でもよい。換言すれば、投影光学系ＰＬが第１部材２１を含んでもよい。
【００４４】
第２支持部材５２は、装置フレーム８Ｂに接続される。第２部材２２は、第２支持部材５２を介して、装置フレーム８Ｂに支持される。
【００４５】
本実施形態において、終端光学素子１３は、実質的に動かない。第１部材２１及び第２部材２２も、実質的に動かない。すなわち、本実施形態において、終端光学素子１３と第１部材２１との相対位置は、実質的に変化ない。第１部材２１と第２部材２２との相対位置は、実質的に変化しない。
【００４６】
なお、第２部材２２は動いてもよい。例えば、第２支持部材５２が、第２部材２２を可動に支持してもよい。例えば、第２支持部材５２がばね部材あるいはベローズ部材を含み、第２部材２２が第２支持部材５２に可動に支持されてもよい。
【００４７】
第２部材２２は、第１部材２１と対向するように配置される液体供給口３１を有する。液体供給口３１は、第２部材２２に配置される。液体供給口３１は、第２間隙Ｇ２に面している。液体供給口３１は、液浸空間ＬＳを形成するための液体ＬＱを供給する。液体供給口３１から供給される液体ＬＱによって、終端光学素子１３の下面１２側に液体ＬＱの液浸空間ＬＳが形成される。
【００４８】
終端光学素子１３は、露光光ＥＬが射出される下面１２と、下面１２の周囲に配置される側面１６とを有する。側面１６は、露光光ＥＬを射出しない。側面１６は、露光光ＥＬを射出不可能である。露光光ＥＬは、側面１６を通過しない。
【００４９】
第１部材２１は、終端光学素子１３の側面１６と対向する第１内面１７と、第１内面１７の反対側を向く第１外面１８とを有する。第２部材２２は、第１外面１８と対向する第２内面１９を有する。
【００５０】
本実施形態において、液体供給口３１は、第１外面１８と対向するように配置される。本実施形態において、液体供給口３１は、第２内面１９に配置される。液体供給口３１は、第１外面１８に向かって液体ＬＱを供給する。液体供給口３１から供給された液体ＬＱは、第２間隙Ｇ２を流れて、終端光学素子１３の下面１２側に送られる。
【００５１】
本実施形態において、第１部材２１は、終端光学素子１３の側面１６と対向する。第１部材２１は、終端光学素子１３の下面１２と対向しない。第１部材２１の下端は、終端光学素子１３の下端（下面１２）よりも上側（＋Ｚ側、投影光学系ＰＬの物体面側）に配置される。なお、Ｚ軸方向に関して、第１部材２１の下端と終端光学素子１３の下端とが等しい位置（高さ）に配置されてもよい。なお、第１部材２１の下端が、終端光学素子１３の下端よりも下側（−Ｚ側）に配置されてもよい。なお、第１部材２１の少なくとも一部が、下面１２と対向してもよい。
【００５２】
本実施形態において、第１部材２１の下端と第２部材２２との間に、開口４２が形成される。ＸＹ平面内において、開口４２は、環状である。液体供給口３１から供給され、第２間隙Ｇ２を流れた液体ＬＱは、開口４２を介して、下面１２側に送られる。
【００５３】
本実施形態において、液体供給口３１は、終端光学素子１３に対して−Ｙ側に１つ配置される。本実施形態において、液体供給口３１は、終端光学素子１３に対して−Ｙ側、＋Ｘ側、及び−Ｘ側に配置されていない。
【００５４】
本実施形態においては、液体供給口３１から供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、第１間隙Ｇ１に流入可能である。本実施形態において、終端光学素子１３と第１部材２１の下端との間に、開口４１が形成される。ＸＹ平面内において、開口４１は、環状である。液体供給口３１から供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、開口４１を介して、第１間隙Ｇ１に流入可能である。すなわち、本実施形態においては、第１間隙Ｇ１の少なくとも一部に、液体供給口３１から供給された液体ＬＱが入ることが許容されている。
【００５５】
本実施形態において、第１間隙Ｇ１は、第１寸法Ａ１の第１下側部分Ｇ１ａと、第１寸法Ａ１よりも大きい第２寸法Ａ２の第１上側部分Ｇ１ｂと、を含む。本実施形態において、終端光学素子１３の側面１６は、終端光学素子１３の光軸に対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。第１部材２１の第１内面１７は、側面１６との距離が第１寸法の下側領域１７ａと、下側領域１７ａよりも上方に配置され、側面１６との距離が第２寸法の上側領域１７ｂと、下側領域１７ａの上端と上側領域１７ｂの下端とを結ぶ中間領域１７ｃとを含む。第１寸法Ａ１は、ＸＹ平面内における側面１６と下側領域１７ａとの距離を含む。第２寸法Ａ２は、ＸＹ平面内における側面１６と上側領域１７ｂとの距離を含む。下側領域１７ａと中間領域１７ｃとの間に第１角部Ｋ１が形成される。中間領域１７ｃと上側領域１７ｂとの間に第２角部Ｋ２が形成される。本実施形態において、第１下側部分Ｇ１ａは、側面１６と下側領域１７ａとの間の空間を含む。第１上側部分Ｇ１ｂは、側面１６と上側領域１７ｂとの間の空間を含む。
【００５６】
開口４１は、第１下側部分Ｇ１ａと結ばれる。液体供給口３１から供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、開口４１を介して、第１下側部分Ｇ１ａに流入する。すなわち、本実施形態においては、第１下側部分Ｇ１ａに、液体供給口３１から供給された液体ＬＱが入ることが許容されている。
【００５７】
本実施形態において、第１間隙Ｇ１は、雰囲気に開放されている。雰囲気は、第１部材２１及び第２部材２２の周囲の空間を含む。本実施形態において、第１部材２１及び第２部材２２の周囲の空間は、チャンバ装置９が形成する空間ＣＳを含む。空間ＣＳの圧力は、チャンバ装置９によって調整される。空間ＣＳの圧力が大気圧に調整される場合、第１間隙Ｇ１は、大気開放される。これにより、液体ＬＱは、開口４１を介して、第１間隙Ｇ１に円滑に流入することができる。なお、空間ＣＳは、大気圧よりも高い圧力に調整されてもよいし、低い圧力に調整されてもよい。
【００５８】
液体ＬＱの界面ＬＧ１は、第１下側部分Ｇ１ａに配置されてもよい。例えば、第１下側部分Ｇ１ａの第１寸法（側面１６と下側領域１７ａとの距離）が、液体ＬＱの毛管現象が生じる寸法に定められてもよい。その場合、開口４１からの液体ＬＱが毛管現象によって第１下側部分Ｇ１ａに流入し、側面１６と下側領域１７ａとの間に保持されてもよい。また、図３等に示すように、液体ＬＱの界面ＬＧ１が、側面１６と第１角部Ｋ１との間に形成されてもよい。また、第１上側部分Ｇ１ｂの第２寸法（側面１６と上側領域１７ｂとの距離）が、液体ＬＱの毛管現象が生じない寸法に定められてもよい。また、液体ＬＱの界面ＬＧ１は、第１上側部分Ｇ１ｂに配置されてもよい。
【００５９】
なお、第１下側部分Ｇ１ａの第１寸法Ａ１と、第１上側部分Ｇ１ｂの第２寸法Ａ２とが実質的に等しくてもよい。
【００６０】
本実施形態において、第２間隙Ｇ２は、第３寸法Ａ３の第２下側部分Ｇ２ａと、第３寸法よりも大きい第４寸法Ａ４の第２上側部分Ｇ２ｂと、を含む。本実施形態において、第２部材２２の第２内面１９は、第１外面１８の下側領域１８ａと対向する下側領域１９ａと、第１外面１８の中間領域１８ｃと対向する中間領域１９ｃと、第１外面１８の上側領域１８ｂと対向する上側領域１９ｂとを含む。第３寸法Ａ３は、ＸＹ平面内における下側領域１８ａと下側領域１９ａとの距離を含む。第４寸法Ａ４は、ＸＹ平面内における上側領域１８ｂと上側領域１９ｂとの距離を含む。下側領域１９ａと中間領域１９ｃとの間に第３角部Ｋ３が形成される。中間領域１９ｃと上側領域１９ｂとの間に第４角部Ｋ４が形成される。本実施形態において、第２下側部分Ｇ２ａは、下側領域１８ａと下側領域１９ａとの間の空間を含む。第２上側部分Ｇ２ｂは、上側領域１８ｂと上側領域１９ｂとの間の空間を含む。
【００６１】
本実施形態においては、第２間隙Ｇ２は、雰囲気に開放（例えば大気開放）される。
【００６２】
本実施形態において、第２部材２２は、第１部分２２１と第２部分２２２とを含む。第１部分２２１は、第１部材２１と対向する。第１部分２２１は、第１部材２１の周囲の少なくとも一部に配置され、第１部材２１と間隙を介して対向する。第２内面１９は、第１部分２２１に配置される。
【００６３】
第２部分２２２は、下面１２と間隙を介して対向する。第２部分２２２は、下面１２と間隙を介して対向する上面２３と、上面２３の反対側の下面２４とを有する。基板Ｐは、下面２４と対向可能である。
【００６４】
本実施形態においては、第１部材２１と第２部材２２の第１部分２２１との間の間隙を流れた液体供給口３１からの液体ＬＱの少なくとも一部は、第２部材２２の第２部分２２２の上面２３に供給される。
【００６５】
本実施形態において、第２部分２２２は、下面１２から射出される露光光ＥＬが通過可能な開口２５を有する。第２部分２２２の上面２３に供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、開口２５を介して、基板Ｐ（物体）上に供給される。
【００６６】
第２部材２２は、基板Ｐ（物体）が対向可能な液体回収口３２を有する。本実施形態において、液体回収口３２は、多孔部材３３の孔を含む。多孔部材３３は、液体ＬＱが流通可能な複数の孔(openingsあるいはpores)を有する。多孔部材３３は、例えばメッシュフィルタを含む。メッシュフィルタは、網目状に多数の小さい孔が形成された多孔部材である。
【００６７】
本実施形態において、多孔部材３３は、プレート状の部材である。多孔部材３３は、基板Ｐ（物体）が対向可能な下面３３Ｂと、第２部材２２の内部に形成された回収流路に面する上面３３Ａと、上面３３Ａと下面３３Ｂとを結ぶように形成された複数の孔とを有する。多孔部材３３の孔（液体回収口３２）を介して回収された液体ＬＱは、回収流路を流れる。
【００６８】
本実施形態において、多孔部材３３の下面３３Ｂ（液体回収口３２）は、光路Ｋに対して下面２４の外側に配置される。下面２４は、液体ＬＱを回収不可能である。下面２４は、基板Ｐ（物体）との間で液体ＬＱを保持可能である。下面３３Ｂは、液体ＬＱを回収可能である。下面３３Ｂの少なくとも一部は、基板Ｐ（物体）との間で液体ＬＱを保持可能である。
【００６９】
本実施形態において、下面２４は、ＸＹ平面と実質的に平行である。下面３３Ｂは、ＸＹ平面に対して傾斜する。本実施形態において、下面３３Ｂは、光路Ｋに対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。
【００７０】
液体供給口３１は、第２部材２２の内部に形成された供給流路３５を介して、液体供給装置３６と接続される。液体供給装置３６は、クリーンで温度調整された液体ＬＱを供給可能である。液体供給装置３６から供給された液体ＬＱは、供給流路３５を介して、液体供給口３１へ送られる。液体供給口３１は、液体供給装置３６からの液体ＬＱを第２間隙Ｇ２に供給する。
【００７１】
液体回収口３２は、第２部材２２の内部に形成された回収流路３７を介して、液体回収装置３８と接続される。液体回収装置３８は、真空システムを含み、液体ＬＱを吸引（回収）可能である。液体回収口３２は、その液体回収口３２に接触した基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱを回収可能である。液体回収口３２から回収された液体ＬＱは、回収流路３７を介して、液体回収装置３８へ送られる。
【００７２】
本実施形態においては、液体供給口３１からの液体ＬＱの供給と並行して、液体回収口３２からの液体ＬＱの回収が行われることによって、一方側の終端光学素子１３、第１部材２１、及び第２部材２２と、他方側の基板Ｐ（物体）との間に液体ＬＱで液浸空間ＬＳが形成される。
【００７３】
なお、本実施形態において、例えば米国特許第７２９２３１３号に開示されているように、多孔部材３３（液体回収口３２）を介して基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱのみが回収され、気体の回収が制限されるようにしてもよい。なお、液体回収口３２から、液体ＬＱ及び気体の両方が回収されてもよい。
【００７４】
次に、上述の構成を有する露光装置ＥＸを用いて基板Ｐを露光する方法について説明する。
【００７５】
終端光学素子１３から離れた基板交換位置において、露光前の基板Ｐを基板ステージ２（第１保持部）に搬入（ロード）する処理が行われる。また、基板ステージ２が終端光学素子１３から離れている期間の少なくとも一部において、計測ステージ３が終端光学素子１３及び第２部材２２と対向するように配置される。制御装置６は、液体供給口３１からの液体ＬＱの供給と液体回収口３２からの液体ＬＱの回収とを行って、計測ステージ３上に液浸空間ＬＳを形成する。
【００７６】
露光前の基板Ｐが基板ステージ２にロードされ、計測ステージ３を用いる計測処理が終了した後、制御装置６は、終端光学素子１３及び第２部材２２と基板ステージ２（基板Ｐ）とが対向するように、基板ステージ２を移動する。終端光学素子１３及び第２部材２２と基板ステージ２（基板Ｐ）とが対向する状態で、液体供給口３１からの液体ＬＱの供給と並行して液体回収口３２からの液体ＬＱの回収が行われることによって、光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように、終端光学素子１３及び第２部材２２と基板ステージ２（基板Ｐ）との間に液浸空間ＬＳが形成される。
【００７７】
制御装置６は、基板Ｐの露光処理を開始する。制御装置６は、基板Ｐ上に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、照明系ＩＬから露光光ＥＬを射出する。照明系ＩＬはマスクＭを露光光ＥＬで照明する。マスクＭからの露光光ＥＬは、投影光学系ＰＬ及び下面１２と基板Ｐとの間の液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して基板Ｐに照射される。これにより、基板Ｐは、液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して下面１２から射出された露光光ＥＬで露光され、マスクＭのパターンの像が基板Ｐに投影される。
【００７８】
本実施形態の露光装置ＥＸは、マスクＭと基板Ｐとを所定の走査方向に同期移動しつつ、マスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する走査型露光装置（所謂スキャニングステッパ）である。本実施形態においては、基板Ｐの走査方向（同期移動方向）をＹ軸方向とし、マスクＭの走査方向（同期移動方向）もＹ軸方向とする。制御装置６は、基板Ｐを投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲに対してＹ軸方向に移動するとともに、その基板ＰのＹ軸方向への移動と同期して、照明系ＩＬの照明領域ＩＲに対してマスクＭをＹ軸方向に移動しつつ、投影光学系ＰＬと基板Ｐ上の液浸空間ＬＳの液体ＬＱとを介して基板Ｐに露光光ＥＬを照射する。
【００７９】
本実施形態においては、第１部材２１によって、終端光学素子１３が保護される。本実施形態においては、終端光学素子１３と第１間隙Ｇ１を介して第１部材２１が配置され、液体供給口３１は、第１部材２１の外側において第１部材２１と第２間隙Ｇ２を介して対向するように配置される。そのため、液体供給口３１から供給される液体ＬＱが終端光学素子１３に力を及ぼすことが抑制される。すなわち、第１部材２１が配置されているため、液体供給口３１から液体ＬＱが供給されても、終端光学素子１３に予期しない力が作用することが抑制される。また、終端光学素子１３に作用する力が変動したり、終端光学素子１３が動いたりすることが抑制される。
【００８０】
なお、本実施形態においては、液体供給口３１は、第１部材２１の周囲に１つだけ配置されている。そのため、液体供給口３１から供給された液体ＬＱによって、第１部材２１に予期しない力が作用することが抑制される。なお、液体供給口３１は、第１部材２１の周囲に複数配置されてもよい。例えば、光路Ｋに対して終端光学素子１３の＋Ｙ側及び−Ｙ側のそれぞれに液体供給口３１が配置されてもよい。
【００８１】
以上説明したように、本実施形態によれば、第１部材２１を設けたので、その第１部材２１によって終端光学素子１３を保護することができる。そのため、液体供給口３１からの液体ＬＱによって終端光学素子１３に予期しない力が作用することが抑制される。したがって、露光不良の発生、及び不良デバイスの発生が抑制される。
【００８２】
また、本実施形態においては、終端光学素子１３と第２部材２２との間に第１部材２１が配置されている。そのため、例えば第２部材２２が第２支持部材５２に可動に支持され、第２部材２２が動いても、終端光学素子１３と第２部材２２との接触が抑制される。また、第１部材２１と終端光学素子１３とは第１間隙Ｇ１を介して配置されている。そのため、終端光学素子１３と第１部材２１との接触は抑制される。したがって、終端光学素子１３に予期しない力が作用することが抑制される。
【００８３】
また、本実施形態においては、終端光学素子１３及び第１部材２１は、実質的に動かない。そのため、第２部材２２が動いても、第１間隙Ｇ１の寸法は実質的に変化しない。したがって、第１間隙Ｇ１の圧力変動が抑制され、終端光学素子１３に作用する力が変動することが抑制される。
【００８４】
また、本実施形態によれば、第１部材２１を支持する第１支持部材５１と、第２部材２２を支持する第２支持部材５２とは異なるため、第１部材２１及び第２部材２２の一方から他方への振動の伝達が抑制される。
【００８５】
また、本実施形態においては、第３寸法Ａ３は、第４寸法Ａ４よりも小さい。そのため、第２部材２２が動いても、第２部材２２と第１部材２１の上側領域１８ｂとの接触が、第２部材２２と第１部材２１の下側領域１８ａ（第１部材２１の下端）との接触よりも抑制されている。換言すれば、第２部材２２が第１部材２１に接触する場合、先ず第１部材２１の下端と接触する。これにより、第１部材２１の下端で終端光学素子１３を保護することができる。
【００８６】
なお、第４寸法Ａ４が第３寸法Ａ３よりも小さくてもよい。これにより、第２部材２２が動いて第１部材２１に接触する場合、先ず第１部材２１の上側領域１８ｂと接触する。これにより、第１部材２１の上側領域１８ｂで終端光学素子１３を保護することができる。
【００８７】
すなわち、第１部材２１と第２部材２２とが接触する場合において、先ず第１部材２１の一部分に第２部材２２を接触させたい場合、その第１部材２１の一部分と第２部材２２との距離を、第１部材２１の他の部分と第２部材２２との距離よりも小さくしてもよい。
【００８８】
なお、第２下側部分Ｇ２ａの第３寸法Ａ３と、第２上側部分Ｇ２ｂの第４寸法Ａ４とが実質的に等しくてもよい。
【００８９】
なお、本実施形態においては、第１部材２１は終端光学素子１３の周囲に配置される環状の部材であることとした。第１部材２１が終端光学素子１３の周囲に複数配置されてもよい。また、複数の第１部材２１が、間隔をあけて配置されてもよい。
【００９０】
なお、本実施形態においては、第２部材２２は終端光学素子１３及び第１部材２１の周囲に配置される環状の部材であることとした。第２部材２２が終端光学素子１３及び第１部材２１の周囲に複数配置されてもよい。また、複数の第２部材２２が、間隔をあけて配置されてもよい。
【００９１】
なお、本実施形態において、第１間隙Ｇ１は雰囲気に開放されていなくてもよい。なお、本実施形態において、第２間隙Ｇ２は雰囲気に開放されていなくてもよい。
【００９２】
＜第２実施形態＞
次に、第２実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【００９３】
図５は、本実施形態に係る露光装置ＥＸの一部を示す。図５において、第２部材２２Ｂは、基板Ｐが対向可能な液体回収口３２と、液体回収口３２よりも上側（投影光学系ＰＬの物体面側）に配置された液体回収口３２Ｂとを有する。本実施形態において、液体供給口３１は、光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸）に対して一側（−Ｙ側）に配置される。液体回収口３２Ｂは、光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸）に対して他側（＋Ｙ側）に配置される。
【００９４】
液体回収口３２Ｂは、第１部材２１と対向するように配置される。液体回収口３２Ｂは、第２間隙Ｇ２に面している。液体回収口３２Ｂは、第１外面１８と対向する。液体回収口３２Ｂは、第２間隙Ｇ２の液体ＬＱを回収可能である。
【００９５】
本実施形態においては、液体供給口３１からの液体ＬＱの供給と並行して、液体回収口３２、３２Ｂからの液体ＬＱの回収が行われることによって、液浸空間ＬＳが形成される。
【００９６】
本実施形態においては、第２間隙Ｇ２の液体ＬＱが、第２間隙Ｇ２からあふれること（第２間隙Ｇ２の液体ＬＱが第２部材２２Ｂの上面側に移動すること）が抑制される。
【００９７】
なお、図６に示すように、第２部材２２Ｃの上面に液体回収口３２Ｃが配置されてもよい。これにより、第２間隙Ｇ２からあふれた液体ＬＱは、液体回収口３２Ｃから回収される。
【００９８】
＜第３実施形態＞
次に、第３実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【００９９】
図７は、本実施形態に係る第１部材２１及び第２部材２２Ｄの近傍を示す図である。図７において、第２部材２２Ｄは、供給流路３５と回収流路３７との間に配置される断熱層８０を有する。断熱層８０は、第２部材２２Ｄの内部に配置される。
【０１００】
断熱層８０は、回収流路３７から供給流路３５への熱の伝導を遮る。また、断熱層８０は、供給流路３５から回収流路３７への熱の伝導を遮る。断熱層８０により、例えば回収流路３７の温度が変化しても、供給流路３５の温度が変化することが抑制される。これにより、供給流路３５を流れる液体ＬＱ及び供給口３１から供給される液体ＬＱの温度が変化することが抑制される。また、断熱層８０により、例えば供給流路３５の温度が変化しても、回収流路３７の温度が変化することが抑制される。
【０１０１】
断熱層８０は、例えば気体で満たされる空間（気体空間）でもよい。その気体は、例えば空気でもよい。また、断熱層８０は、断熱材でもよい。供給流路３５及び回収流路３７が第１材料（例えばチタン）で形成されている場合、断熱材は第１材料よりも熱伝導率が低い第２材料（例えばプラスチック）を含む。
【０１０２】
＜第４実施形態＞
次に、第４実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【０１０３】
図８は、本実施形態に係る第１部材２１及び第２部材２２の近傍を示す図である。図８において、露光装置ＥＸは、第２部材２２を移動可能な駆動装置５３を備えている。本実施形態において、駆動装置５３は、第２支持部材５２に配置されている。駆動装置５３は、例えばボイスコイルモータなどのアクチュエータを含む。本実施形態において、駆動装置５３は、第２部材２２を、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺの６つの方向に移動可能である。
【０１０４】
制御装置６は、例えば基板Ｐ（物体）の移動条件に基づいて、駆動装置５３を作動する。第２部材２２の位置は、基板Ｐ（物体）の移動条件に基づいて調整される。基板Ｐ（物体）の移動条件は、例えば基板Ｐ（物体）の移動速度、加速度、及びＸＹ平面内における一方向に関する移動距離の少なくとも一つを含む。
【０１０５】
第１部材２１が配置されているため、第２部材２２が動いても、終端光学素子１３と第２部材２２との接触が抑制される。そのため、終端光学素子１３に予期しない力が作用することが抑制される。
【０１０６】
なお、図５、図６、及び図７を参照して説明した第２部材２２Ｂ、２２Ｃ、２２Ｄが駆動装置５３で駆動されてもよい。
【０１０７】
＜第５実施形態＞
次に、第５実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【０１０８】
図９は、本実施形態に係る第２部材２２Ｅの一部を示す側断面図、図１０は、第２部材２２Ｅを上側（＋Ｚ側）から見た図である。
【０１０９】
本実施形態において、液体供給口３１Ｂは、終端光学素子１３の光軸の周囲に複数配置されている。第２部材２２Ｅの内部には、液体供給装置３６と複数の液体供給口３１Ｂとを結ぶ供給流路３５Ｂが形成されている。供給流路３５Ｂは、液体供給装置３６からの液体ＬＱが流入するバッファ空間３５１Ｂと、バッファ空間３５１Ｂと複数の液体供給口３１Ｂのそれぞれとを結ぶ分岐流路３５２Ｂと、有する。
【０１１０】
本実施形態においては、液体供給口３１Ｂが複数設けられているので、液体供給口３１Ｂから供給される液体ＬＱが第１部材２１に及ぼす力を抑制（低減）することができる。したがって、第１部材２１が動いたり、第１部材２１が振動したりすることが抑制される。
【０１１１】
なお、上述の第４実施形態で説明した駆動装置５３によって第２部材２２Ｅ移動されてもよい。
【０１１２】
なお、上述の第１〜第５実施形態において、第１部材２１が動いてもよい。例えば、第１支持部材５１が第１部材２１を可動に支持してもよい。なお、第１部材２１を動かす駆動装置が設けられてもよい。
【０１１３】
なお、上述の各実施形態において、第１部材２１を支持する支持部材に第２部材２２が支持されてもよい。なお、第１部材２１と第２部材２２の少なくとも一部とが接続されてもよい。なお、第１部材２１と第２部材２２とが一体でもよい。
【０１１４】
なお、図１１に示すように、第１部材２１が、支持部材５１Ｄを介して、装置フレーム８Ｂに支持されてもよい。第１部材２１及び第２部材２２の両方が装置フレーム８Ｂに支持されてもよい。
【０１１５】
なお、図１２に示すように、第２部材２２Ｆの第２内面１９に、角部Ｋ５、Ｋ６、Ｋ７、Ｋ８が形成されてもよい。複数の角部Ｋ５〜Ｋ８のうち、角部Ｋ５が最も下側に配置される。また、第２部材２２Ｆは、第１部材２１の第１外面１８の下側領域１８ａに対向するように配置される液体供給口３１Ｆを有する。液体供給口３１Ｆは、角部Ｋ５よりも下側に配置される。図１２に示す例では、第２間隙Ｇ２において、界面ＬＧ２は、第１外面１８と角部Ｋ７との間に形成される。また、図１２に示す例では、Ｚ軸方向に関して、界面ＬＧ１の位置（高さ）と界面ＬＧ２の位置（高さ）とは、ほぼ等しい。なお、界面ＬＧ１が界面ＬＧ２よりも高い位置に配置されてもよい。
【０１１６】
なお、図１３に示すように、第２部材２２Ｇの下面２４に液体供給口３１Ｇが配置されもよい。基板Ｐは、液体供給口３１Ｇと対向可能である。液体供給口３１Ｇは、下面２４と基板Ｐとの間の空間に液体ＬＱを供給可能である。第２部材２２Ｇは、第２間隙Ｇ２に面する液体供給口を有してもよいし、有しなくてもよい。
【０１１７】
なお、上述の各実施形態においては、多孔部材３３の下面３３Ｂが下面２４よりも上方に配置され、下面２４に段差（角部）が形成される例を示した。図１４に示すように、下面２４に段差（角部）がなくてもよいし、下面３３Ｂと下面２４とが実質的に同じ高さに配置されもよい。また、上述の各実施形態においては、下面３３ＢがＸＹ平面に対して傾斜している例を示した。図１４に示すように、下面３３ＢがＸＹ平面と実質的に平行でもよい。
【０１１８】
なお、図１５に示すように、第２部材２２Ｈが、第１部材２１と対向する液体供給口３１Ｈと、基板Ｐが対向する液体供給口３１Ｊと、基板Ｐが対向する液体回収口３２Ｈとを有してもよい。第２部材２２Ｈは、多孔部材を含まない。すなわち、液体回収口３２Ｈは、多孔部材の孔でない。液体回収口３２Ｈは、第２部材２２Ｈの下面に形成された開口である。また、回収流路３７Ｈは、液体回収口３２Ｈと結ばれる第１部分３７１と、第１部分３７１よりも大きい寸法の第２部分３７２とを含む。
【０１１９】
なお、上述の各実施形態において、第１間隙Ｇ１から流体（液体ＬＱ及び気体の一方又は両方）を吸引可能な吸引口が設けられてもよい。吸引口は、第１間隙Ｇ１に面するように配置される。吸引口は、第１部材及び第２部材とは別の部材に配置されてもよい。また、吸引口は、第１部材に配置されてもよい。
【０１２０】
なお、上述の実施形態において、制御装置６は、ＣＰＵ等を含むコンピュータシステムを含む。また、制御装置６は、コンピュータシステムと外部装置との通信を実行可能なインターフェースを含む。記憶装置７は、例えばＲＡＭ等のメモリ、ハードディスク、ＣＤ−ＲＯＭ等の記録媒体を含む。記憶装置７には、コンピュータシステムを制御するオペレーティングシステム（ＯＳ）がインストールされ、露光装置ＥＸを制御するためのプログラムが記憶されている。
【０１２１】
なお、制御装置６に、入力信号を入力可能な入力装置が接続されていてもよい。入力装置は、キーボード、マウス等の入力機器、あるいは外部装置からのデータを入力可能な通信装置等を含む。また、液晶表示ディスプレイ等の表示装置が設けられていてもよい。
【０１２２】
記憶装置７に記録されているプログラムを含む各種情報は、制御装置（コンピュータシステム）６が読み取り可能である。記憶装置７には、制御装置６に、露光光が射出される光学部材の射出面と基板との間の露光光の光路に満たされた液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムが記録されている。
【０１２３】
記憶装置７に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置６に、露光光が射出される下面を有する光学部材と第１間隙を介して配置される、第１支持部材に支持される第１部材で光学部材を保護することと、第１部材の外側において第１部材と第２間隙を介して配置される、第２支持部材に支持される第２部材において第１部材と対向するように配置される液体供給口から液体を供給することと、液体供給口から供給される液体によって、光学部材の下面側に液体の液浸空間を形成して、基板を露光することと、を実行させてもよい。
【０１２４】
記憶装置７に記憶されているプログラムが制御装置６に読み込まれることにより、基板ステージ２、計測ステージ３、第１部材、及び第２部材等、露光装置ＥＸの各種の装置が協働して、液浸空間ＬＳが形成された状態で、基板Ｐの液浸露光等、各種の処理を実行する。
【０１２５】
なお、上述の各実施形態においては、投影光学系ＰＬの終端光学素子１３の射出面１２側（像面側）の光路Ｋが液体ＬＱで満たされているが、投影光学系ＰＬが、例えば国際公開第２００４／０１９１２８号に開示されているような、終端光学素子１３の入射面側（物体面側）の光路も液体ＬＱで満たされる投影光学系でもよい。
【０１２６】
なお、上述の各実施形態においては、液体ＬＱが水であることとしたが、水以外の液体でもよい。液体ＬＱは、露光光ＥＬに対して透過性であり、露光光ＥＬに対して高い屈折率を有し、投影光学系ＰＬあるいは基板Ｐの表面を形成する感光材（フォトレジスト）等の膜に対して安定なものが好ましい。例えば、液体ＬＱが、ハイドロフロロエーテル（ＨＦＥ）、過フッ化ポリエーテル（ＰＦＰＥ）、フォンブリンオイル等のフッ素系液体でもよい。また、液体ＬＱが、種々の流体、例えば、超臨界流体でもよい。
【０１２７】
なお、上述の各実施形態においては、基板Ｐが、半導体デバイス製造用の半導体ウエハを含むこととしたが、例えばディスプレイデバイス用のガラス基板、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）等を含んでもよい。
【０１２８】
なお、上述の各実施形態においては、露光装置ＥＸが、マスクＭと基板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキャニングステッパ）であることとしたが、例えばマスクＭと基板Ｐとを静止した状態でマスクＭのパターンを一括露光し、基板Ｐを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパ）でもよい。
【０１２９】
また、露光装置ＥＸが、ステップ・アンド・リピート方式の露光において、第１パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第１パターンの縮小像を基板Ｐ上に転写した後、第２パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第２パターンの縮小像を第１パターンと部分的に重ねて基板Ｐ上に一括露光する露光装置（スティッチ方式の一括露光装置）でもよい。また、スティッチ方式の露光装置が、基板Ｐ上で少なくとも２つのパターンを部分的に重ねて転写し、基板Ｐを順次移動させるステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置でもよい。
【０１３０】
また、露光装置ＥＸが、例えば米国特許第６６１１３１６号に開示されているような、２つのマスクのパターンを、投影光学系を介して基板上で合成し、１回の走査露光によって基板上の１つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置でもよい。また、露光装置ＥＸが、プロキシミティ方式の露光装置、ミラープロジェクション・アライナー等でもよい。
【０１３１】
また、上述の各実施形態において、露光装置ＥＸが、米国特許第６３４１００７号、米国特許第６２０８４０７号、米国特許第６２６２７９６号等に開示されているような、複数の基板ステージを備えたツインステージ型の露光装置でもよい。例えば、図１６に示すように、露光装置ＥＸが２つの基板ステージ２００１、２００２を備えている場合、終端光学素子１３の下方で移動可能な物体は、一方の基板ステージ、その一方の基板ステージの第１保持部に保持された基板、他方の基板ステージ、及びその他方の基板ステージの第１保持部に保持された基板の少なくとも一つを含む。
【０１３２】
また、露光装置ＥＸが、複数の基板ステージと計測ステージとを備えた露光装置でもよい。
【０１３３】
露光装置ＥＸが、基板Ｐに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置でもよいし、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置でもよいし、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）、マイクロマシン、ＭＥＭＳ、ＤＮＡチップ、あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置でもよい。
【０１３４】
なお、上述の実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスクを用いたが、このマスクに代えて、例えば米国特許第６７７８２５７号に開示されているような、露光すべきパターンの電子データに基づいて透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する可変成形マスク（電子マスク、アクティブマスク、あるいはイメージジェネレータとも呼ばれる）を用いてもよい。また、非発光型画像表示素子を備える可変成形マスクに代えて、自発光型画像表示素子を含むパターン形成装置を備えるようにしてもよい。
【０１３５】
上述の各実施形態においては、露光装置ＥＸが投影光学系ＰＬを備えることとしたが、投影光学系ＰＬを用いない露光装置及び露光方法に、上述の各実施形態で説明した構成要素を適用してもよい。例えば、レンズ等の光学部材と基板との間に液浸空間を形成し、その光学部材を介して、基板に露光光を照射する露光装置及び露光方法に、上述の各実施形態で説明した構成要素を適用してもよい。
【０１３６】
また、露光装置ＥＸが、例えば国際公開第２００１／０３５１６８号に開示されているような、干渉縞を基板Ｐ上に形成することによって基板Ｐ上にライン・アンド・スペースパターンを露光する露光装置（リソグラフィシステム）でもよい。
【０１３７】
上述の実施形態の露光装置ＥＸは、上述の各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了した後、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度及びクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【０１３８】
半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図１７に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２０２、デバイスの基材である基板を製造するステップ２０３、上述の実施形態に従って、マスクのパターンからの露光光で基板を露光すること、及び露光された基板を現像することを含む基板処理（露光処理）を含む基板処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。
【０１３９】
なお、上述の各実施形態の要件は、適宜組み合わせることができる。また、一部の構成要素を用いない場合もある。また、法令で許容される限りにおいて、上述の各実施形態及び変形例で引用した露光装置等に関する全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。
【符号の説明】
【０１４０】
２…基板ステージ、３…計測ステージ、６…制御装置、７…記憶装置、１２…射出面、１３…終端光学素子、２１…第１部材、２２…第２部材、３１…液体供給口、３２…液体回収口、５１…第１支持部材、５２…第２支持部材、５３…駆動装置、ＥＬ…露光光、ＥＸ…露光装置、ＩＬ…照明系、Ｋ…光路、ＬＱ…液体、ＬＳ…液浸空間、Ｐ…基板。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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