(57)【要約】【課題】リタデーション分布が有意に改善されるとともに、可視光に対する透過率や波面収差が改善された位相差板を製造する方法。【解決手段】（ａ）第１および第２の表面を有するガラス基板を準備し、（ｂ）３つ以上の分岐ビームを有する一連のレーザ光を、前記分岐ビームの各々の焦点が前記ガラス基板内またはガラス基板上に直線状に配置され得るように調整し、（ｃ）前記一連のレーザ光において、両端側の分岐ビームの強度に比べて、非両端側の分岐ビームの強度が弱くなるように、前記一連のレーザ光の強度を制御し、（ｄ）前記一連のレーザ光を前記ガラス基板内および／またはガラス基板上に同時に照射するとともに、前記第１または第２の表面に平行な方向に走査し、これにより、前記ガラス基板に複屈折領域を形成することを特徴とする方法。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板内および／またはガラス基板上に複屈折領域を有する位相差板の製造方法であって、
（ａ）第１および第２の表面を有するガラス基板を準備し、
（ｂ）３つ以上の分岐ビームを有する一連のレーザ光を、前記分岐ビームの各々の焦点が前記ガラス基板内またはガラス基板上に直線状に配置され得るように調整し、
（ｃ）前記一連のレーザ光において、両端側の分岐ビームの強度に比べて、非両端側の分岐ビームの強度が弱くなるように、前記一連のレーザ光の強度を制御し、
（ｄ）前記一連のレーザ光を前記ガラス基板内および／またはガラス基板上に同時に照射するとともに、前記第１または第２の表面に平行な方向に走査し、
これにより、前記ガラス基板に複屈折領域が形成され、
前記複屈折領域は、前記一連のレーザ光を走査する方向に沿った長さ、および前記（ｂ）における各々の焦点を結ぶ直線と平行な方向の幅を有することを特徴とする方法。
【請求項２】
前記（ｂ）では、４つ以上の分岐ビームを有する一連のレーザ光が調整され、
前記非両端側の分岐ビームの強度は、ほぼ等しいことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ガラス基板は、厚さが０．１ｍｍ〜３ｍｍの範囲であることを特徴とする請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記（ｂ）〜（ｄ）が繰り返され、２００μｍ〜５０ｍｍの範囲の幅を有する前記複屈折領域が形成されることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一つに記載の方法。
【請求項５】
前記（ｂ）〜（ｄ）が繰り返され、前記ガラス基板の厚さ方向に沿って、複数の前記複屈折領域が形成されることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一つに記載の方法。
【請求項６】
前記（ｄ）は、
前記ガラス基板の前記第１の表面側から、前記一連のレーザ光の一部を、前記ガラス基板内および／またはガラス基板上に照射、走査するとともに、
前記ガラス基板の前記第２の表面側から、前記一連のレーザ光の他の部分を、前記ガラス基板内および／またはガラス基板上に照射、走査することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一つに記載の方法。
【請求項７】
前記（ｄ）は、前記一連のレーザ光の前記ガラス基板への照射が、所定のタイミングでオン／オフされた状態で行われ、
前記（ｄ）の後、前記一連のレーザ光を走査する方向に沿って、非複屈折領域と複屈折領域の繰り返し領域が形成されることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一つに記載の方法。
【請求項８】
前記（ｄ）では、前記一連のレーザ光の前記ガラス基板への照射中に、レーザ出力が変調されることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記（ｄ）の前に、前記ガラス基板の前記第１および／または第２の表面にマスクを設置するステップを有し、
前記マスクによって、前記（ｄ）の後、前記一連のレーザ光を走査する方向に沿って、非複屈折領域と複屈折領域の繰り返し領域が形成されることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一つに記載の方法。
【請求項１０】
前記マスクは、光透過領域の透過率が場所によって異なることを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
さらに、
（ｅ）前記ガラス基板を前記非複屈折領域に沿って切断し、これにより、周囲が非複屈折領域で覆われた位相差板が得られることを特徴とする請求項７乃至１０のいずれか一つに記載の方法。
【請求項１２】
ガラス基板内および／またはガラス基板上に複屈折領域を有する位相差板であって、
前記ガラス基板は、３ｍｍ以内の厚さを有し、
前記複屈折領域は、前記ガラス基板の表面と平行に延伸する第１の方向の長さ、および前記第１の方向と垂直な第２の方向の幅を有する略帯状または直方体状の形状を有し、
前記複屈折領域は、周囲が非複屈折領域で覆われており、
前記複屈折領域は、前記第１および第２の方向に沿った３００μｍの範囲において、±１０％以内のリタデーション分布を有し、
当該位相差板は、前記複屈折領域を通る可視光に対して、９８％以上の内部透過率を有することを特徴とする位相差板。
【請求項１３】
前記ガラス基板は、厚さが０．１ｍｍ以上であることを特徴とする請求項１２に記載の位相差板。
【請求項１４】
前記複屈折領域は、前記第１および第２の方向に沿った３００μｍの範囲において、±５％以内のリタデーション分布を有することを特徴とする請求項１２または１３に記載の位相差板。
【請求項１５】
前記複屈折領域は、５０μｍ〜３００μｍの厚さを有することを特徴とする請求項１２乃至１４のいずれか一つに記載の位相差板。
【請求項１６】
前記複屈折領域は、２００μｍ〜５０ｍｍの範囲の幅を有することを特徴とする請求項１２乃至１５のいずれか一つに記載の位相差板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、位相差板に関する。
【背景技術】
【０００２】
光の位相や偏光を制御することが可能な位相差板（例えば、１／２波長板または１／４波長板など）は、様々な光学機器等に使用されている。
【０００３】
これまでこのような位相差板には、屈折率異方性、すなわち複屈折を有する有機高分子フィルム等が使用されてきた。
【０００４】
しかしながら、従来の有機高分子フィルムは、耐湿性や高温安定性に劣るという欠点がある。そのため、耐湿性および高温安定性に優れるガラス基板を用いて、位相差板を製造する方法が提案されている。例えば、特許文献１には、レーザビームを使用して、ガラス基板内に、帯状の複屈折領域を有する位相差板を製造する方法が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】国際公開第ＷＯ２００８／１２６８２８号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
前述の特許文献１の方法では、一つのレーザビームから複数に分岐された分岐ビームをガラス基板に照射し、これを走査することにより、ガラス基板内に、一度に大面積の帯状の複屈折領域を形成することができる。
【０００７】
しかしながら、この方法では、複数の分岐ビームが同時にガラス基板内に照射される。このような方法では、例えば、各分岐ビーム同士の間隔が広過ぎると、複屈折領域が離散的に分布して、必要な領域の中に複屈折の顕著な不均一性が生じるおそれがある。
【０００８】
一方、このような問題を避けるため、各分岐ビーム同士の間隔を狭くした場合、今度は、分岐ビームからの距離の違いによって、各場所における熱影響が異なるため、最終的に生じる複屈折領域が局部的に顕著なリタデーションの高低を有するようになる。しかしながら、位相差板に、このようなリタデーションの高低が存在すると、得られる位相差板のリタデーション分布が増大するという問題がある。このようなリタデーション分布の増大は、位相差板から出射される光の偏光状態に影響を及ぼし、出射光に所望の状態が得られなくなるおそれがある。また、このようなリタデーションの不均一性を有する位相差板では、波面収差が大きくなり、入射光の透過率が低下するという問題が生じ得る。
【０００９】
本発明は、このような背景に鑑みなされたものであり、本発明では、リタデーション分布が有意に改善されるとともに、可視光に対する透過率および／または波面収差が改善された位相差板を製造する方法を提供することを目的とする。また、そのような位相差板を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明では、ガラス基板内および／またはガラス基板上に複屈折領域を有する位相差板の製造方法であって、
（ａ）第１および第２の表面を有するガラス基板を準備し、
（ｂ）３つ以上の分岐ビームを有する一連のレーザ光を、前記分岐ビームの各々の焦点が前記ガラス基板内またはガラス基板上に直線状に配置され得るように調整し、
（ｃ）前記一連のレーザ光において、両端側の分岐ビームの強度に比べて、非両端側の分岐ビームの強度が弱くなるように、前記一連のレーザ光の強度を制御し、
（ｄ）前記一連のレーザ光を前記ガラス基板内および／またはガラス基板上に同時に照射するとともに、前記第１または第２の表面に平行な方向に走査し、
これにより、前記ガラス基板に複屈折領域が形成され、
前記複屈折領域は、前記一連のレーザ光を走査する方向に沿った長さ、および前記（ｂ）における各々の焦点を結ぶ直線と平行な方向の幅を有することを特徴とする方法が提供される。
【００１１】
ここで、本発明による方法において、前記（ｂ）では、４つ以上の分岐ビームを有する一連のレーザ光が調整され、
前記非両端側の分岐ビームの強度は、ほぼ等しくても良い。
【００１２】
また、本発明による方法において、前記ガラス基板は、厚さが０．１ｍｍ〜３ｍｍの範囲であっても良い。
【００１３】
また、本発明による方法では、前記（ｂ）〜（ｄ）が繰り返され、２００μｍ〜５０ｍｍの範囲の幅を有する前記複屈折領域が形成されても良い。
【００１４】
また、本発明による方法では、前記（ｂ）〜（ｄ）が繰り返され、前記ガラス基板の厚さ方向に沿って、複数の前記複屈折領域が形成されても良い。
【００１５】
また、本発明による方法において、前記（ｄ）は、
前記ガラス基板の前記第１の表面側から、前記一連のレーザ光の一部を、前記ガラス基板内および／またはガラス基板上に照射、走査するとともに、
前記ガラス基板の前記第２の表面側から、前記一連のレーザ光の他の部分を、前記ガラス基板内および／またはガラス基板上に照射、走査しても良い。
【００１６】
また、本発明による方法において、前記（ｄ）は、前記一連のレーザ光の前記ガラス基板への照射が、所定のタイミングでオン／オフされた状態で行われ、
前記（ｄ）の後、前記一連のレーザ光を走査する方向に沿って、非複屈折領域と複屈折領域の繰り返し領域が形成されても良い。
【００１７】
また、前記（ｄ）では、前記一連のレーザ光の前記ガラス基板への照射中に、レーザ出力が変調されても良い。
【００１８】
また、本発明による方法は、前記（ｄ）の前に、前記ガラス基板の前記第１および／または第２の表面にマスクを設置するステップを有し、
前記マスクによって、前記（ｄ）の後、前記一連のレーザ光を走査する方向に沿って、非複屈折領域と複屈折領域の繰り返し領域が形成されても良い。
【００１９】
前記マスクは、光透過領域の透過率が場所によって異なっていても良い。
【００２０】
また、本発明による方法は、さらに、
（ｅ）前記ガラス基板を前記非複屈折領域に沿って切断し、これにより、周囲が非複屈折領域で覆われた位相差板が得られても良い。
【００２１】
さらに、本発明では、ガラス基板内および／またはガラス基板上に複屈折領域を有する位相差板であって、
前記ガラス基板は、３ｍｍ以内の厚さを有し、
前記複屈折領域は、前記ガラス基板の表面と平行に延伸する第１の方向の長さ、および前記第１の方向と垂直な第２の方向の幅を有する略帯状または直方体状の形状を有し、
前記複屈折領域は、周囲が非複屈折領域で覆われており、
前記複屈折領域は、前記第１および第２の方向に沿った３００μｍの範囲において、±１０％以内のリタデーション分布を有し、
当該位相差板は、前記複屈折領域を通る可視光に対して、９８％以上の内部透過率を有することを特徴とする位相差板が提供される。
【００２２】
本発明による位相差板において、前記ガラス基板は、厚さが０．１ｍｍ以上であっても良い。
【００２３】
また、本発明による位相差板において、前記複屈折領域は、前記第１および第２の方向に沿った３００μｍの範囲において、±５％以内のリタデーション分布を有しても良い。
【００２４】
また、本発明による位相差板において、前記複屈折領域は、５０μｍ〜３００μｍの厚さを有しても良い。
【００２５】
また、本発明による位相差板において、前記複屈折領域は、２００μｍ〜５０ｍｍの範囲の幅を有しても良い。
【発明の効果】
【００２６】
本発明では、リタデーション分布が有意に改善され、可視光に対する透過率および／または波面収差が改善された位相差板を製造する方法を提供することができる。また、そのような位相差板を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】従来の位相差板を製造する際の様子を模式的に示した図である。
【図２】本発明による位相差板を製造する方法の一例を概略的に示したフロー図である。
【図３】本発明による位相差板を製造する際に使用される装置の一例を概略的に示した図である。
【図４】本発明による位相差板を製造する際に使用される別の装置の一例を概略的に示した図である。
【図５】本発明による位相差板を製造する方法の一例を示した概念図である。
【図６】本発明による位相差板を製造する方法の別の一例を示した概念図である。
【図７】本発明による方法によって得られた位相差板の一例を概略的に示した上面図である。
【図８】図７に示した位相差板のＡ−Ａ線に沿った断面図である。
【図９】図７に示した位相差板を切り出す前のガラス基板の一例を概略的に示した上面図である。
【図１０】図９に示したガラス基板のＢ−Ｂ線に沿った断面図である。
【図１１】実施例１に係る１／４波長板のリタデーションの測定結果を示したグラフである。
【図１２】実施例２に係る１／２波長板のリタデーションの測定結果を示したグラフである。
【図１３】比較例１に係る１／４波長板のリタデーションの測定結果を示したグラフである。
【図１４】比較例２に係る１／４波長板のリタデーションの測定結果を示したグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下、図面を参照して、本発明について説明する。
【００２９】
本発明についてより良く理解するため、まず最初に、図１を参照して、従来の位相差板を製造する方法について説明する。
【００３０】
図１には、従来の位相差板を製造する際の様子を模式的に示す。
【００３１】
図１に示すように、従来の方法では、レーザビーム２、ビーム分岐素子５およびレンズ３を使用して、ガラス基板１に複屈折領域が形成される。すなわち、まず、ビーム分岐素子５により、レーザビーム２が複数の（図１の例では３本の）分岐ビーム６に分岐される。次に、分岐ビーム６は、レンズ３により集光され、ガラス基板１に照射される。さらに、各分岐ビーム６は、図２のＹ方向に沿って直線的に走査される。レーザビームが走査された領域には、走査方向に平行な引っ張り応力が発生し、図中４に示す相互に平行な複数のロッド状複屈折領域が形成される。
【００３２】
従って、このようなロッド状複屈折領域４を相互に連結するようにして構成することにより、ガラス基板１内に、比較的広い面積を有する一軸性複屈折領域を形成することができる。
【００３３】
しかしながら、この方法では、一つのレーザビーム２が複数の分岐ビーム６に分割され、これらの分岐ビーム６が同時にガラス基板１内に照射される。このような方法では、例えば、各分岐ビーム６同士の間隔が広過ぎると、本来単一であるはずの複屈折領域の中に、非複屈折領域が生じるなど、複屈折領域の均一性が低下するおそれがある。
【００３４】
一方、このような問題を抑制しようとして、各分岐ビーム６同士の間隔を狭くした場合、今度は、照射領域において、各分岐ビーム６からの熱影響が顕著に重なり合う部分と、それ以外の部分とが生じてしまう。この場合、各分岐ビーム６からの熱影響が顕著に重なり合う部分では、温度が著しく上昇するため、最終的に得られる複屈折領域が局部的に高いリタデーションを有するようになる。
【００３５】
また、このような複屈折領域が局部的に高いリタデーションを有する位相差板では、リタデーション分布が増加することになるが、リタデーション分布の増加は、位相差板を透過する光の波面状態に影響を及ぼし、位相差板からの出射光に所望の状態が得られなくなることにつながる。すなわち、このような方法で得られる位相差板では、波面収差が大きくなり、光は、進行方向を変えたり広がったりするようになるため、光をそのままの状態で透過させることができなくなり、所望の方向に対する光の透過率が低下するという問題が生じるおそれがある。また、位相差板を透過した光が波面収差を有する場合、そのような光をレンズ等で微小領域に集光することが困難になるため、光ピックアップ等の集光光学系に、位相差板を使用することが難しくなる場合がある。
【００３６】
これに対して、本発明では、
ガラス基板内および／またはガラス基板上に複屈折領域を有する位相差板の製造方法であって、
（ａ）第１および第２の表面を有するガラス基板を準備し、
（ｂ）３つ以上の分岐ビームを有する一連のレーザ光を、前記分岐ビームの各々の焦点が前記ガラス基板内またはガラス基板上に直線状に配置され得るように調整し、
（ｃ）前記一連のレーザ光において、両端側の分岐ビームの強度に比べて、非両端側の分岐ビームの強度が弱くなるように、前記一連のレーザ光の強度を制御し、
（ｄ）前記一連のレーザ光を前記ガラス基板内および／またはガラス基板上に同時に照射するとともに、前記第１または第２の表面に平行な方向に走査し、
これにより、前記ガラス基板に複屈折領域が形成される方法が提供される。
【００３７】
ここで複屈折領域とは、波長５４６ｎｍにおけるリタデーション値が４０ｎｍ以上の値を有する領域を示す。以下、複屈折領域とは本定義のとおりである。
【００３８】
本発明は、ガラス基板に同時に照射された各分岐ビームの焦点を起点として生じる熱の広がりに着目することにより、得られたものである。すなわち、前述のように、各分岐ビームのパワーが等しいと仮定した場合、分岐ビームの各焦点のうち、両端に位置する焦点近傍に比べて、非両端側の焦点近傍では、左右方向からの熱の拡散のため、比較的容易に温度が上昇する。このため、各分岐ビームのパワーを同等にして、一連のレーザ光をガラス基板に照射した場合、結果的に、局部的に高いリタデーションを有する複屈折領域が生じてしまう。
【００３９】
これに対して、非両端側の分岐ビームのパワーを両端側の分岐ビームのパワーに比べて小さくした状態で、より正確には、非両端側の分岐ビームのパワーを、両端側の分岐ビームの焦点から拡散される熱による効果を考慮して選定した状態で、一連のレーザ光をガラス基板に照射した場合、形成される複屈折領域のリタデーションの高低を少なくして、より均一な複屈折領域を得ることが可能になる。
【００４０】
そこで、本発明では、例えば、３つの分岐ビームからなる一連のレーザ光をガラス基板に同時に照射する場合は、中央の分岐ビームの強度が両端側の分岐ビームの強度よりも小さくなるようにして、一連のレーザ光をガラス基板に照射する。また、４つの分岐ビームからなる一連のレーザ光をガラス基板に同時に照射する場合は、中央側の２つの分岐ビームの強度が両端側の分岐ビームの強度よりも小さくなるようにして、一連のレーザ光をガラス基板に照射する。一連のレーザ光が５つ以上の分岐ビームを有する場合も同様である。（なお、一連のレーザ光が４つ以上の分岐ビームを有する場合、非両端側の分岐ビームの強度は、実質的に等しいことが好ましい。）
これにより、本発明では、前述のような複屈折領域のリタデーションの高低の問題が解消または軽減され、リタデーション分布が有意に抑制された位相差板を得ることが可能になる。例えば、本発明による方法では、リタデーション分布が±１０％以内に抑制され、さらには、±５％以内に抑制することができる。また、本発明による方法では、前記複屈折領域を通る可視光に対して、９８％以上の内部透過率を有することを特徴とする位相差板を提供することができる。さらに、波面収差がほとんどないので、本発明による位相差板は、例えば光ピックアップ等の集光光学系に使用することができる。波面収差は、２０ｍλ以下であることが好ましく、１５ｍλ以下であることがさらに好ましい。
【００４１】
以下、図面を参照して、本発明による位相差板を製造する方法を詳しく説明する。図２には、本発明による位相差板を製造する一方法の概略的なフロー図を示す。
【００４２】
図２に示すように、本発明による位相差板を製造する方法は、
（ａ）第１および第２の表面を有するガラス基板を準備する工程（ステップＳ１１０）と、
（ｂ）３つ以上の分岐ビームを有する一連のレーザ光を調整する工程であって、前記分岐ビームの各々の焦点は、前記ガラス基板内またはガラス基板上に直線状に配置される、工程（ステップＳ１２０）と、
（ｃ）前記一連のレーザ光において、両端側の分岐ビームの強度に比べて、非両端側の分岐ビームの強度が弱くなるように、前記一連のレーザ光の強度を制御する工程（ステップＳ１３０）と、
（ｄ）前記一連のレーザ光を前記ガラス基板内および／またはガラス基板上に同時に照射するとともに、前記第１または第２の表面に平行な方向に走査する工程（ステップＳ１４０）と、
を有する。以下、各工程について、詳しく説明する。
【００４３】
（ステップＳ１１０）
まず、位相差板を構成するガラス基板が準備される。ガラス基板の組成は、特に限られない。ガラス基板は、例えば、ソーダライムガラス、ホウケイ酸ガラス、およびシリカガラス等であっても良い。また、本発明では、使用するレーザ光の波長における吸収係数を高めるため、遷移金属などがドープされたガラスをガラス基板として使用しても良い。
【００４４】
ガラス基板の厚さは、特に限られない。本発明では、後述するように、複屈折領域の厚さは、例えば、１００μｍ程度にすることができる。このため、例えば、厚さが０．１ｍｍ〜３ｍｍの範囲の薄いガラス基板を使用することができる。
【００４５】
（ステップＳ１２０）
次に、ガラス基板に照射するための、一連のレーザ光が調整される。一連のレーザ光は、レーザ光源からの一つのレーザビームを、回折光学素子等を用いて複数の分岐ビームに分岐することにより調整されても良い。各分岐ビームは、ガラス基板の内部またはガラス基板の表面に焦点を結ぶように調整される。なお、各焦点は、実質的に一直線上に配置される。
【００４６】
図３には、本発明による方法を実施する際に使用される装置の一構成例を模式的に示す。
【００４７】
図３に示すように、装置３００は、レーザ光源（図示されていない）から放射されたレーザビーム３２０と、該レーザビーム３２０を複数の分岐ビーム３６０Ａ、３６０Ｂ、３６０Ｃに分岐する回折光学素子３５０と、各分岐ビーム３６０Ａ、３６０Ｂ、３６０Ｃをガラス基板３１０の所望の位置に収束させるレンズ３３０とを備える。
【００４８】
レーザ光源は、特に限られないが、エキシマレーザ光源（ＸｅＣｌ：波長３０８ｎｍ、ＫｒＦ：波長２４８ｎｍ、ＡｒＦ：波長１９３ｎｍ）、ＹＡＧレーザ光源（波長１０６４ｎｍ）、ＹＶＯ４レーザ光源（波長１０６４ｎｍ）、チタンサファイアレーザ光源（波長８００ｎｍ）、または炭酸ガスレーザ光源（波長１０．６μｍ）等であっても良い。これらのレーザ光源は、基本波、２倍波、または３倍波のレーザ源であっても良い。ＹＡＧレーザ光源およびＹＶＯ４レーザ光源は、前述の基本波の他に、例えば、２倍波または３倍波のレーザ源であっても良い。例えば、２倍波のＹＡＧレーザは、５３２ｎｍの波長を有し、３倍波のＹＡＧレーザは、３５５ｎｍの波長を有する。
【００４９】
レーザ光源のパワーは、大きいほど、一度に多くの分岐ビームを得ることができるため、好ましい。
【００５０】
回折光学素子３５０は、一つのレーザビームを複数の分岐ビームに分割することができる素子であれば、いかなる素子であっても良く、例えば、回折光学素子の代わりにビームスプリッター等を使用しても良い。
【００５１】
このような装置３００において、まず、レーザ光源から、レーザビーム３２０が放射される。レーザビーム３２０は、回折光学素子３５０において、３つ以上の分岐ビーム３６０（３６０Ａ、３６０Ｂ、３６０Ｃ）に分岐される。
【００５２】
各分岐ビーム３６０Ａ、３６０Ｂ、３６０Ｃは、レンズ３３０によって収束され、ガラス基板３１０の内部または表面に、それぞれ、焦点３７０Ａ、３７０Ｂ、３７０Ｃを形成する。各焦点３７０Ａ、３７０Ｂ、３７０Ｃは、直線状に配置される。
【００５３】
なお、図３の例では、回折光学素子３５０は、一つのレーザビーム３２０を３つの分岐ビーム３６０Ａ、３６０Ｂ、３６０Ｃに分割している。しかしながら、回折光学素子３５０は、一つのレーザビーム３２０を４つ以上の分岐ビームに分割しても良い。また、図３の例では、分割された各分岐ビーム３６０Ａ、３６０Ｂ、３６０Ｃは、単一のレンズ３３０により集光されている。しかしながら、各分岐ビームの収束のため、複数のレンズが使用されても良い。
【００５４】
各焦点３７０Ａ、３７０Ｂ、および３７０Ｃのスポット直径は、レンズ３３０等の性能等によっても異なるが、例えば、０．１μｍ〜１００μｍ程度であっても良い。
【００５５】
各焦点３７０Ａ、３７０Ｂ、および３７０Ｃの間隔は、特に限られないが、装置構成上の制約から、現実的な間隔は、約２０μｍ〜４００μｍの範囲であり、約５０μｍ〜２５０μｍの範囲であることが好ましい。
【００５６】
（ステップＳ１３０）
次に、分割された各分岐ビーム３６０Ａ、３６０Ｂ、３６０Ｃの強度が制御される。ここで、本発明では、分割された各分岐ビーム３６０Ａ、３６０Ｂ、３６０Ｃの強度は、同等に制御されるのではなく、各分岐ビーム３６０Ａ、３６０Ｂ、３６０Ｃは、端部側の分岐ビーム３６０Ａ、３６０Ｃに比べて、非端部側の分岐ビーム３６０Ｂの強度が小さくなるように調整される。
【００５７】
これは、前述のように、ガラス基板の被複屈折形成領域において、分岐ビームの入熱による温度分布がほぼ均一になるようにするためである。すなわち、各分岐ビーム３６０Ａ、３６０Ｂ、３６０Ｃの強度を実質的に同等にした場合、ガラス基板３１０の焦点３７０Ｂでは、両端の焦点３７０Ａ、３７０Ｃからの熱の拡散により、両端の焦点３７０Ａ、３７０Ｃに比べて、温度が上昇してしまう。その結果、最終的に得られるリタデーション分布は、中央部が大きくなる分布を有するようになってしまう。
【００５８】
しかしながら、本発明では、非端部側の分岐ビーム３６０Ｂの強度は、端部側の分岐ビーム３６０Ａ、３６０Ｃに比べて小さくなるように制御される。例えば、非端部側の分岐ビーム３６０Ｂは、端部側の分岐ビーム３６０Ａ、３６０Ｃの強度の２０％〜６０％の強度を有するように制御される。これにより、焦点３７０Ａ〜焦点３７０Ｃの間の入熱をほぼ同等にすることができる。
【００５９】
各分岐ビームの強度調整は、上述の回折光学素子３５０において行うことが好ましい。この場合、光学系が煩雑にならず、また精度良く強度を調整することができるからである。しかしながら、ＮＤフィルタ等を用いて、各分岐ビームの強度を調整しても良い。
【００６０】
なお、両端部の焦点３７０Ａ、３７０Ｃを形成する分岐ビーム３６０Ａ、３７０Ｃの強度は、例えば、１Ｗ〜１０Ｗの範囲である。
【００６１】
（ステップＳ１４０）
次に、前述のように制御された各分岐ビーム３６０Ａ、３６０Ｂ、３６０Ｃが、同時にガラス基板３１０に照射される。また、図３に示すように、分岐ビーム３６０Ａ、３６０Ｂ、３６０Ｃがガラス基板３１０に対して、所定の方向（図３の例ではＹ方向）に走査される。
【００６２】
各分岐ビーム３６０Ａ、３６０Ｂ、３６０Ｃの走査速度は、各焦点３７０Ａ、３７０Ｂ、３７０Ｃの間の距離によっても変化するが、例えば、０．１ｍｍ／秒〜５０ｍｍ／秒の範囲である。
【００６３】
前述のように、焦点３７０Ａ〜焦点３７０Ｃの間の入熱は、ほぼ同等になっている。このため、焦点３７０Ａ〜焦点３７０Ｃ間の領域は、各分岐ビーム３６０Ａ、３６０Ｂ、３６０Ｃの走査の間、ほぼ同等の熱履歴を受ける。従って、各分岐ビーム３６０Ａ、３６０Ｂ、３６０Ｃを走査させることにより、ガラス基板３１０に、比較的均一なリタデーション分布を持つ複屈折領域が形成される。
【００６４】
なお、複屈折領域の厚さ（１回の走査で形成される厚さ）は、走査速度にもよるが、例えば、５０μｍ〜２００μｍ程度であっても良い。
【００６５】
このような方法によって得られる位相差板の複屈折領域では、後述するように、走査する方向に沿った、少なくとも３００μｍの範囲（図３のＹ方向）、および複屈折領域の幅方向（図３のＸ方向）に沿った、少なくとも３００μｍの領域において、±１０％以内（例えば±５％以内）のリタデーション分布が得られる。
【００６６】
さらに、このような方法によって得られる位相差板は、可視光に対して、９８％以上の内部透過率を有する。
【００６７】
ここで、前述のステップＳ１２０〜ステップＳ１４０は、必要に応じて繰り返されても良い。例えば、それぞれの焦点間距離が１００μｍの各分岐ビーム３６０Ａ、３６０Ｂ、３６０Ｃによる照射によって、幅が約３００μｍの複屈折領域が形成された後（両端側の熱の広がりを５０μｍとする）、一連のレーザ光を、図３のＸ方向に約３００μｍずらして配置させ、前述のステップＳ１２０〜ステップＳ１４０を繰り返した場合、幅が６００μｍの複屈折領域を形成することができる。同様の繰り返しにより、本発明による方法では、例えば、３００μｍ〜５０ｍｍの範囲の幅を有する複屈折領域が得られる。
【００６８】
また、例えば、分岐ビーム３６０Ａ、３６０Ｂ、３６０Ｃによる照射によって、複屈折領域が形成された後、一連のレーザ光を、図３のＺ方向に約１５０μｍずらして配置させ、前述のステップＳ１２０〜ステップＳ１４０を繰り返した場合、基板の厚さ方向に、２層の複屈折領域を形成することができる。この場合、１層（例えば１００ｎｍ）のリタデーションに比べて２倍のリタデーションを得ることができる。同様の繰り返しにより、本発明による方法では、例えば５層にすることにより、１層に比べて５倍のリタデーションを得ることができる。
【００６９】
図４には、本発明による方法を実施する際に使用される装置の別の構成例を模式的に示す。この装置４００は、図３に示した装置３００とほぼ同様の構成を有する。しかしながら、装置４００は、ガラス基板４１０の両面側から、分岐ビームが照射される。すなわち、装置４００は、ガラス基板４１０の上面側から、１または２以上の分岐ビームを照射することができるように、回折光学素子４５０−１およびレンズ４３０−１を有する。また、装置４００は、ガラス基板４１０の下面側から、１または２以上の分岐ビームを照射することができるように、回折光学素子４５０−２およびレンズ４３０−２を有する。
【００７０】
この装置４００では、まず、レーザ光源（図示されていない）から、レーザビーム４２０−１が放射される。レーザビーム４２０−１は、回折光学素子４５０−１において、２つの分岐ビーム４６０Ａ、４６０Ｃに分岐される。また、レーザ光源（図示されていない）から、レーザビーム４２０−２が放射される。レーザビーム４２０−２は、回折光学素子４５０−２において、２つの分岐ビーム４６０Ｂ、４６０Ｄに分岐される。
【００７１】
分岐ビーム４６０Ａ、４６０Ｃは、レンズ４３０−１によって収束され、ガラス基板４１０の上側から、ガラス基板４１０の内部または表面に照射される。これにより、焦点４７０Ａ、４７０Ｃが形成される。
【００７２】
同様に、分岐ビーム４６０Ｂ、４６０Ｄは、レンズ４３０−２によって収束され、ガラス基板４１０の下側から、ガラス基板４１０の内部または表面に照射される。これにより、焦点４７０Ｂ、４７０Ｄが形成される。各焦点４７０Ａ〜４７０Ｄは、直線状に配置される。
【００７３】
次に、このように調製された各分岐ビーム４６０Ａ〜４６０Ｄの強度が制御される。各分岐ビーム４６０Ａ〜４６０Ｄは、前述のように、端部側の分岐ビーム４６０Ａ、４６０Ｄに比べて、非端部側の分岐ビーム４６０Ｂおよび４６０Ｃの強度が小さくなるように調整される。そのため、一連のレーザ光４６０Ａ〜４６０Ｄをガラス基板４１０に照射、走査した際に、焦点４７０Ａ〜焦点４７０Ｄ間の領域は、ほぼ同等の熱履歴を受ける。
【００７４】
従って、このような装置を使用して、各分岐ビーム４６０Ａ〜４６０Ｄをガラス基板４１０に走査させることにより、ガラス基板４１０に、比較的均一な複屈折領域が形成される。
【００７５】
なお、図４の例では、回折光学素子４５０−１（４５０−２）は、一つのレーザビーム４２０−１（４２０−１）を２つの分岐ビーム４６０Ａおよび４６０Ｃ（４６０Ｂおよび４６０Ｄ）に分割している。しかしながら、回折光学素子４５０−１（４５０−２）は、一つのレーザビーム４２０−１（４２０−２）を１つ、また３つ以上の分岐ビームに分割しても良い。
【００７６】
また、図４の例では、一連のレーザ光４６０Ａ〜４６０Ｄのうち、左側の端部から奇数番目の分岐ビーム（４６０Ａ、４６０Ｃ）を、ガラス基板４１０の上側から照射し、偶数番目の分岐ビーム（４６０Ｂ、４６０Ｄ）を、ガラス基板４１０の下側から照射している。しかしながら、これは単なる一例であって、ガラス基板４１０の各側から照射される分岐ビームは、一連のレーザ光中のいずれのものであっても良い。例えば、左側の端部から偶数番目の分岐ビーム（４６０Ｂ、４６０Ｄ）を、ガラス基板４１０の上側から照射し、奇数番目の分岐ビーム（４６０Ａ、４６０Ｃ）を、ガラス基板４１０の下側から照射しても良い。あるいは、左側の端部から連続するいくつかの分岐ビーム（例えば、分岐ビーム４６０Ａ、４６０Ｂ、４６０Ｃ）を、ガラス基板４１０の上側から照射し、残りの分岐ビーム（４６０Ｄ）を、ガラス基板４１０の下側から照射しても良い。
【００７７】
以上、ガラス基板内に複屈折領域を形成し、位相差板を製造する方法について説明した。なお、前述の説明では、複屈折領域は、一連のレーザ光の走査方向に沿って、連続的な長さを有する。しかしながら、本発明によって得られる複屈折領域の形態は、これに限られるものではない。例えば、本発明による方法によって得られる複屈折領域は、一連のレーザ光の走査方向に沿って、周期的に非複屈折領域を有するように構成されても良い。
【００７８】
例えば、前述のステップＳ１４０において、図５に示すように、一連のレーザ光をガラス基板３１０、４１０に照射し、走査する際に、一連のレーザ光は、所定のタイミングでオン／オフされても良い。これにより、一連のレーザ光の走査方向に沿って、照射部（複屈折領域）／非照射部（非複屈折領域）の周期構造を得ることができる。
【００７９】
あるいは、前述のステップＳ１４０において、一連のレーザ光をガラス基板３１０、４１０に照射し、走査する際に、一連のレーザ光に対して、図６に示すような出力変調を行っても良い。これにより、一連のレーザ光の走査方向に沿って、照射部（複屈折領域）／非照射部（非複屈折領域）の周期構造を得ることができ、さらには照射部（複屈折領域）の走査方向に沿ったリタデーション分布がより均一な位相差板を得ることができる。
【００８０】
あるいは、前述のステップＳ１４０の前に、ガラス基板３１０、４１０の表面にマスクを設置するステップを追加しても良い。この場合も、一連のレーザ光の走査方向に沿って、照射部（複屈折領域）／非照射部（非複屈折領域）の周期構造を得ることができる。
【００８１】
この場合、マスクの光透過領域の透過率は、場所によって異なっても良い。これにより、一連のレーザ光の出力が変調された場合と同様の効果を得ることができる。従って、この場合も、照射部（複屈折領域）の走査方向に沿ったリタデーション分布がより均一な位相差板を得ることができる。
【００８２】
さらに、その後、得られた照射部（複屈折領域）／非照射部（非複屈折領域）の周期構造は、走査方向に垂直な方向および／または平行な方向で、切断されても良い。すなわち、非照射部（非複屈折領域）の間でガラス基板を切断し、各複屈折領域を分離させることにより、小さな位相差板を得ることができる。
【００８３】
このような小さな位相差板は、切断後も周囲が非複屈折領域で覆われているため有意である。すなわち、通常の場合、走査方向に沿って連続的に形成された複屈折領域を有する位相差板は、小片に切断した際、切断面に複屈折領域が露出してしまう。この場合、複屈折領域の露出面では、せっかく導入した引張残留応力が開放されてしまい、ガラス基板内に、適正な複屈折領域が存在しなくなるという問題が生じ得る。しかしながら、このような方法で微細分離された位相差板では、周囲が非複屈折領域で覆われているため、切断後にも残留引張応力が開放されず、適正な複屈折状態を維持することが可能になる。
【００８４】
上述のとおり、走査方向に沿って連続的に形成された複屈折領域を有する位相差板を小片に切断することは非常に困難である。しかしながら、例えば前記複屈折領域にレーザ照射することで、前記連続的に形成された複屈折領域の一部を無応力化し、その後に切断すれば、切断後にも残留引張応力が開放されず、適正な複屈折状態を維持することが可能になる。
【００８５】
なお、本発明による方法は、広帯域波長板にも適用することができる。広帯域波長板は、複屈折軸の方向を交差させるようにして、複数の波長板を積層することにより構成される。
【００８６】
この場合、本発明による方法において、まず、ガラス基板の第１の深さにおいて、前述のステップＳ１２０〜ステップＳ１４０を実施し、一連のレーザ光の第１の走査方向に沿った、第１の複屈折軸を有する複屈折領域を形成する。
【００８７】
次に、ガラス基板の第２の深さにおいて、一連のレーザ光の走査方向を変えて、第１の複屈折軸と交差するような第２の走査方向で、前述のステップＳ１２０〜ステップＳ１４０を実施する。これにより、ガラス基板を上面から見たとき、相互に交差する複屈折軸を有する２つの複屈折領域をガラス基板内に形成することができる。
【００８８】
（本発明によって得られる位相差板について）
次に、本発明による方法によって得られる位相差板の一例について説明する。
【００８９】
図７には、本発明による位相差板の上面図を概略的に示す。また、図８には、図７の位相差板のＡ−Ａ線での断面図を模式的に示す。
【００９０】
図７および図８に示すように、本発明による位相差板１００は、相互に平行な第１の表面１１２Ａおよび１１２Ｂを有するガラス基板１１０の一部に、ＸＹ平面に沿って延伸する複屈折領域１５０を有する。複屈折領域１５０は、略直方体の形状を有し、ガラス基板１１０の第１の表面１１２Ａ（および第２の表面１１２Ｂ）と平行に、Ｙ方向に沿って延伸する長さＬと、Ｘ方向に沿って延伸する幅Ｗと、厚さＤとを有する。
【００９１】
なお、図７および図８の例では、複屈折領域１５０は、ガラス基板１１０の内部に形成されているが、本発明において、複屈折領域１５０は、ガラス基板１１０の第１の表面１１２Ａまたは第２の表面１１２Ｂ表面上に形成されても良い。
【００９２】
ここで、本発明による位相差板１００は、複屈折領域１５０のリタデーション分布が比較的均一になっている。このため、本発明による位相差板１００の複屈折領域１５０では、複屈折領域１５０の走査方向（図７のＹ方向）に沿った少なくとも３００μｍの領域、および複屈折領域１５０の幅方向（図７のＸ方向）に沿った少なくとも３００μｍの領域において、±１０％以内（例えば±５％以内）のリタデーション分布が得られる。また、本発明による位相差板１００は、可視光に対して、９８％以上の内部透過率を有するという特徴が得られる。
【００９３】
なお、図７および図８に示す位相差板１００は、周囲が非複屈折領域１７０で覆われている。そのため、この位相差板１００では、前述のように、残留引張応力が開放されることなく、適正な複屈折状態を維持することが可能になる。
【００９４】
図９には、図７および図８に示した位相差板を含むガラス基板２００の上面図を示す。また、図１０には、図９のＢ−Ｂ線に沿ったガラス基板２００の断面図を示す。なお、図９および図１０において、スケールは示されておらず、これらの図は、図７および図８とはスケールが異なることに留意する必要がある。
【００９５】
図９および図１０に示すように、ガラス基板２００は、上面２１２Ａおよび下面２１２Ｂを有する。また、ガラス基板２００は、内部に、Ｙ方向に沿って延伸する、複屈折領域２５０／非複屈折領域２７０の周期構造２５５を有する。図の例では、周期構造２５５は、図のＸ方向に沿って２つ形成されているが、周期構造２５５の数は、特に限られない。
【００９６】
このような周期構造２５５を有するガラス基板２００は、前述のように、一連のレーザ光をガラス基板に照射、走査する際に、一連のレーザ光のオン／オフを繰り返すことにより製造することができる。あるいは、一連のレーザ光をガラス基板に照射、走査する前に、ガラス基板上にマスクを設置することにより製造することができる。
【００９７】
ここで、図７および図８に示したような位相差板１００を得る場合、ガラス基板２００を、図９の線Ｃ１〜線Ｃ７に沿って、すなわち非複屈折領域２７０の部分で切断して、周期構造２５５を分離する。これにより、周囲が非複屈折領域２７０で覆われた複屈折領域２５０を有する、図７および図８に示したような位相差板１００を得ることができる。
【実施例】
【００９８】
次に、本発明による実施例について説明する。
【００９９】
（実施例１）
図３に示したような装置を用いて、以下の手順で、１／４波長板を試作した。
【０１００】
まず、板厚が０．６ｍｍのガラス基板（クラウンガラス）を準備した。
【０１０１】
次に、このガラス基板の上部から、レンズ（ＮＡ＝０．６）を介して、一連のレーザ光を照射して、ガラス基板内に複屈折領域を形成した。レーザ光源には、波長が３５５ｎｍのコヒレント製ＡＶＩＡ−Ｘを使用した。レーザの出力は、９Ｗである。なお、レーザビームは、回折光学素子により、３つの分岐ビームに分岐させた。各分岐ビームは、レンズによりガラス基板内で集光された（理論スポット直径０．５μｍ）。各分岐ビームの焦点は、ガラス基板内で直線状に配置され、ガラス基板内での各焦点同士の間隔は、１５０μｍであった。また、中央の分岐ビームの強度は、両端の分岐ビームの強度の４０％とした。
【０１０２】
その後、３つの分岐ビームを同一の方向に走査させ、ガラス基板内に複屈折領域を形成した。走査速度は、２ｍｍ／秒とした。複屈折領域の全長（走査方向に平行な方向の長さ）は、２０ｍｍであり、幅（走査方向と垂直な方向の長さ）は、４００μｍであった。また、複屈折領域の厚さは、１００μｍ程度であった。得られた複屈折領域のリタデーション値は、１１２ｎｍであった。
【０１０３】
これにより、実施例１に係る４０５ｎｍの入射光に対する１／４波長板を得た。
【０１０４】
（実施例２）
実施例１と同様の方法により、ガラス基板内に複屈折領域を形成した。ただし、この実施例２では、実施例１に示した処理の後、さらに、一連のレーザ光の焦点の深さを変えて、再度、走査を行った。すなわち、実施例２では、最初の一連のレーザ光の焦点位置に対して、ガラス基板の厚さ方向に焦点位置を１５０μｍずらし、一連のレーザ光による２回目の走査を行った。すなわち、実施例２では、最初の一連のレーザ光の焦点位置に対して、ガラス基板の厚さ方向に焦点位置を１５０μｍずらし、一連のレーザ光による２回目の走査を行った。複屈折領域の全長（走査方向に平行な方向の長さ）は、２０ｍｍであり、幅（走査方向と垂直な方向の長さ）は、４００μｍであった。得られた複屈折領域のリタデーション値は１９５ｎｍであった。
【０１０５】
これにより、実施例２に係る４０５ｎｍの入射光に対する１／２波長板が得られた。
【０１０６】
（比較例１）
以下の手順で、１／４波長板を試作した。
【０１０７】
まず、板厚が１ｍｍのガラス基板（ソーダライムガラス）を準備した。
【０１０８】
次に、このガラス基板の上部から、レーザビームを照射した。レーザ光源には、波長が３５５ｎｍのコヒレント製ＡＶＩＡ−Ｘを使用した。レーザビームの出力は、３Ｗである。レーザビームは、レンズ（ＮＡ＝０．６）により、ガラス基板の内部に収束された。焦点のスポット直径は、０．５μｍ（理論値）である。
【０１０９】
次に、レーザビームをガラス基板に対して平行な第１の方向に走査させた。走査速度は、４０ｍｍ／秒とした。次に、レーザビームの焦点を、第１の方向に垂直な方向に１０μｍだけずらし、同様の走査を行った。これを２５回繰り返した。
【０１１０】
次に、レーザビームの焦点を、最初のレーザビームの焦点から、ガラス基板の深さ方向に２００μｍだけずらし、レーザビームを同様に走査させた。その後、レーザビームの焦点を、第１の方向に垂直な方向に１０μｍだけずらし、同様の走査を行った。これを２５回繰り返した。
【０１１１】
さらに、レーザビームの焦点を、最初のレーザ光の焦点から、ガラス基板の深さ方向に４００μｍだけずらし、レーザビームを同様に走査させた。次に、レーザビームの焦点を、第１の方向に垂直な方向に１０μｍだけずらし、同様の走査を行った。これを２５回繰り返した。
【０１１２】
これにより、ガラス基板内に、全長（走査方向に平行な方向の長さ）２０ｍｍ、幅（走査方向と垂直な方向の長さ）約３５０μｍの複屈折領域が形成された。得られた複屈折領域のリタデーション値は、１１２ｎｍであった。
【０１１３】
これにより、比較例１に係る１／４波長板を得た。
【０１１４】
（比較例２）
実施例１と同様の方法により、ガラス基板内に複屈折領域を形成した。ただし、この比較例２では、３つの分岐ビームを同一の強度とした。その他の条件は、実施例１の場合と同様である。得られた複屈折領域のリタデーション値は８９．０ｎｍであった。
【０１１５】
これにより、比較例２に係る１／４波長板を得た。
【０１１６】
（評価）
前述の方法で試作した各１／４波長板（実施例１、比較例１、２）および１／２波長板（実施例２）を用いて、リタデーション測定、透過率測定、および波面収差測定を行った。
【０１１７】
（リタデーション測定）
リタデーションの測定には、Ｃｒｉ社製の複屈折イメージングシステムＡｂｒｉｏを使用した。この方法では、サンプルの前方に光源と円偏光フィルタとを配置し、サンプルの後方に楕円偏光解析器とＣＣＤカメラとを配置した構成が使用される。この構成において、楕円偏光解析器内の液晶光学素子の状態を変化させ、楕円偏光解析器を通過した複数の画像をＣＣＤカメラで取得し、これらの画像を比較計算することにより、発生したリタデーションを定量化することができる。
【０１１８】
なお測定は、複屈折領域の幅３００μｍの範囲で実施した。
【０１１９】
実施例１に係る１／４波長板において得られた結果を、図１１に示す。また、図１２〜図１４には、それぞれ、実施例２に係る１／２波長板、および比較例１、２に係る１／４波長板において得られた結果を示す。
【０１２０】
また、表１には、各１／４波長板および１／２波長板において得られたリタデーション分布を示す。なお、リタデーション分布は、複屈折領域の幅方向に沿った３００μｍの範囲におけるリタデーション値の最大値と最小値の差を、最大値と最小値の平均値（リタデーション平均値）で除した割合（％）の半分として求めた。
【０１２１】
【表１】
2013224974.tif 000003
これらの結果から、実施例１に係る１／４波長板、および実施例２に係る１／２波長板では、リタデーション分布は、それぞれ、±３％以下、±１％以下であり、複屈折領域の幅方向にわたって、極めて均一な分布を示した。
【０１２２】
一方、比較例１に係る１／４波長板では、リタデーション分布は、±４％以下であった。ただし、図１３に示すように、この１／４波長板では、リタデーション分布に周期的変化が認められた。このような周期的な変化は、光の回折を誘発するので好ましくない。また、比較例２に係る１／４波長板では、リタデーション分布は、±２１％であり、リタデーション分布は、極めて大きくなった。
【０１２３】
なお、複屈折領域の走査方向に沿った３００μｍの範囲におけるリタデーション分布は、実施例１、２、比較例１、２とも全て±２％以下であり、極めて均一であった。
【０１２４】
（透過率測定）
各１／４および１／２波長板を用いて、可視光に対する内部透過率の測定を行った。
【０１２５】
透過率は、大塚電子社製Ｐｈｏｔａｌ分光測定器で測定した。なお内部透過率は、同組成および同厚さの、複屈折領域を形成していないガラス基板に対して規格化して示した。
【０１２６】
得られた結果をまとめて、前述の表１に示す。
【０１２７】
この結果から、実施例１に係る１／４波長板、および実施例２に係る１／２波長板では、内部透過率は、９８％を超え、これらの１／４波長板および１／２波長板は、良好な透過率を示すことがわかった。一方、比較例１および比較例２に係る１／４波長板では、内部透過率は、それぞれ、７０％および９０％であり、複屈折領域の形成により、内部透過率が有意に低下することがわかった。
【０１２８】
（波面収差測定）
各１／４および１／２波長板を用いて、波面収差の測定を行った。波面収差は、フィゾー型位相シフト干渉計（Ｚｙｇｏ）を用いて測定した。
【０１２９】
得られた結果をまとめて、前述の表１に示す。
【０１３０】
この結果から、実施例１に係る１／４波長板、および実施例２に係る１／２波長板では、波面収差は、いずれも１０ｍλであり、これらの１／４波長板および１／２波長板は、波面収差が抑制されていることがわかった。一方、比較例１および比較例２に係る１／４波長板では、波面収差は、それぞれ、２５．４ｍλおよび５０ｍλであり、複屈折領域の形成により、波面収差が有意に上昇することがわかった。
【０１３１】
このように、本発明による方法で製作した１／４波長板および１／２波長板では、リタデーション分布が有意に抑制されることがわかった。また、本発明による方法で製作した１／４波長板および１／２波長板では、可視光に対する透過率の低下が少なく、波面収差も有意に抑制されることがわかった。
【産業上の利用可能性】
【０１３２】
本発明は、１／２波長板、１／４波長板、光ピックアップ素子、およびアイソレータ等の光学部品に適用することができる。
【符号の説明】
【０１３３】
１        ガラス基板
２        レーザビーム
３        レンズ
４        ロッド状部分
５        ビーム分岐素子
６        分岐ビーム
１００    本発明による位相差板
１１０    ガラス基板
１１２Ａ  第１の表面
１１２Ｂ  第２の表面
１５０    複屈折領域
１７０    非複屈折領域
２００    ガラス基板
２１２Ａ  上面
２１２Ｂ  下面
２５０    複屈折領域
２５５    周期構造
２７０    非複屈折領域
３００    装置
３１０    ガラス基板
３２０    レーザビーム
３３０    レンズ
３５０    回折光学素子
３６０Ａ、３６０Ｂ、３６０Ｃ  分岐ビーム
３７０Ａ、３７０Ｂ、３７０Ｃ  焦点
４００    装置
４１０    ガラス基板
４２０−１、４２０−２  レーザビーム
４３０−１、４３０−２  レンズ
４５０−１、４５０−２  回折光学素子
４６０Ａ〜４６０Ｄ  分岐ビーム
４７０Ａ〜４７０Ｄ  焦点
【図１】
2013224974.tif 000004
【図２】
2013224974.tif 000005
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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