(57)【要約】【課題】単一のモールドから高さの異なる微細凹凸構造を表面に有する光透過性フィルムを連続的に製造する方法、および光透過性フィルムを提供する。【解決手段】表面に微細凹凸構造の反転構造を有するモールドと基材フィルム４２との間に、モールド溶解成分を含む微細凹凸構造原料を挟持させる挟持工程と、微細凹凸構造原料を加熱しておよび／または硬化させて、モールドの反転構造が転写された硬化樹脂層４４が基材フィルム４２表面に形成された光透過性フィルム４０を得る転写工程と、光透過性フィルム４０とモールドとを分離する分離工程とを繰り返すうちに、フィルムの長手方向Ｆに高さの異なる微細凹凸構造が形成されるように、モールドの反転構造が転写された硬化樹脂層４４を基材フィルム４２表面に形成する光透過性フィルム４０の製造方法と、フィルムの長手方向Ｆにおいて微細凹凸構造の高さが異なる光透過性フィルム４０。【選択図】図４
2013224015.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材フィルムの表面に、微細凹凸構造を有する硬化樹脂層が形成された光透過性フィルムを製造する方法であって、
表面に前記微細凹凸構造の反転構造を有するモールドと基材フィルムとの間に、モールド溶解成分を含む微細凹凸構造原料を挟持させる挟持工程と、
前記微細凹凸構造原料を加熱して、および／または、微細凹凸構造原料に活性エネルギー線を照射して硬化させて、前記モールドの反転構造が転写された硬化樹脂層が基材フィルム表面に形成された光透過性フィルムを得る転写工程と、
得られた光透過性フィルムとモールドとを分離する分離工程とを有し、
前記挟持工程と転写工程と分離工程とを繰り返すうちに、フィルムの長手方向に高さの異なる微細凹凸構造が形成されるように、モールドの反転構造が転写された硬化樹脂層を基材フィルム表面に形成する、光透過性フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記挟持工程と転写工程と分離工程とを繰り返すうちに、フィルムの長手方向に高さが連続的に変化する微細凹凸構造が形成されるように、モールドの反転構造が転写された硬化樹脂層を基材フィルム表面に形成する、請求項１に記載の光透過性フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記モールド表面の微細凹凸構造の反転構造が、陽極酸化アルミナからなる、請求項１または２に記載の光透過性フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記モールド溶解成分が、下記条件（ａ）を満たすリン酸エステル化合物である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の光透過性フィルムの製造方法。
条件（ａ）：５０℃のリン酸エステル化合物中にモールドを２２時間浸漬させた後のモールド質量が、浸漬前に比べて０．０１％以上減少すること。
【請求項５】
前記リン酸エステル化合物が、下記式（１）で表わされるポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル化合物である、請求項４に記載の光透過性フィルムの製造方法。
【化１】
2013224015.tif 000005
［式（１）中、Ｒ１はアルキル基であり、ｍは１〜２０であり、ｎは１〜３である。］
【請求項６】
基材フィルムの表面に、微細凹凸構造を有する硬化樹脂層が形成された光透過性フィルムであって、
前記微細凹凸構造は、モールド表面の微細凹凸構造を転写して形成されたものであり、
フィルムの長手方向において、前記微細凹凸構造の高さが異なる、光透過性フィルム。
【請求項７】
フィルムの長手方向において、前記微細凹凸構造の高さが連続的に変化している、請求項６に記載の光透過性フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、微細凹凸構造を表面に有する光透過性フィルムおよびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、可視光の波長以下の周期の微細凹凸構造を表面に有する光透過性フィルムなどの物品は、反射防止効果、ロータス効果等を発現することが知られている。特に、モスアイ構造と呼ばれる凹凸構造は、空気の屈折率から物品の材料の屈折率へと連続的に屈折率が増大していくことで有効な反射防止の手段となることが知られている。
【０００３】
微細凹凸構造を表面に有する光透過性フィルムの製造方法としては、例えば、下記の工程（ｉ）〜（ｉｉｉ）を有する方法、すなわち光ナノインプリント法が知られている（特許
文献１）。
（ｉ）表面に微細凹凸構造の反転構造を有するモールドと、光透過性フィルムの本体となる基材フィルムとの間に、活性エネルギー線硬化性組成物を挟持する工程。
（ｉｉ）活性エネルギー線硬化性組成物に紫外線などの活性エネルギー線を照射し、該活性エネルギー線硬化性組成物を硬化させて微細凹凸構造を有する硬化樹脂層を形成し、光透過性フィルムを得る工程。
（ｉｉｉ）光透過性フィルムとモールドとを分離する工程。
【０００４】
また、活性エネルギー線硬化性組成物の代わりに熱可塑性樹脂を用い、熱可塑性樹脂が流動する温度にモールドを加熱し、微細凹凸構造を転写する熱ナノインプリント法も知られている（特許文献２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００７−０７６０８９号公報
【特許文献２】特開２００１−２６０５２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、光透過性フィルムの微細凹凸構造の高さの最適値は、微細凹凸構造のピッチや、光透過性フィルムの用途によって異なる。例えば、同じピッチで比較した場合、微細凹凸構造の高さが高い方がアスペクト比は高くなり、より高い反射防止性能を得ることができる。しかし、微細凹凸構造の高さを高くしすぎると耐擦傷性が低下するなどの問題も生じてくる。
従って、光透過性フィルムの用途によって最適な微細凹凸構造の高さは変わってくる。
【０００７】
しかしながら、特許文献１に記載の光ナノインプリント法や、特許文献２に記載の熱ナノインプリント法では、通常、１つのモールドから転写される微細凹凸構造の形状（高さ）は１種類であり、異なる高さの微細凹凸構造が転写された光透過性フィルムを得ることはできない。
そのため、それぞれの用途に応じた光透過性フィルムを製造するためには、用途に最適な高さの微細凹凸構造の反転構造を有するモールドを用意する必要があった。
【０００８】
本発明は、単一のモールドから高さの異なる微細凹凸構造を表面に有する光透過性フィルムを連続的に製造する方法、および光透過性フィルムを提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは鋭意検討した結果、モールド表面を溶解させる成分を活性エネルギー線硬化性組成物、あるいは熱可塑性樹脂等の微細凹凸構造原料に配合させて、賦形中にモールド表面を溶解させることで、モールドの表面形状が変化し、その結果、高さの異なる微細凹凸構造を表面に有する光透過性フィルムが得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１０】
すなわち、本発明の光透過性フィルムの製造方法は、基材フィルムの表面に、微細凹凸構造を有する硬化樹脂層が形成された光透過性フィルムを製造する方法であって、表面に前記微細凹凸構造の反転構造を有するモールドと基材フィルムとの間に、モールド溶解成分を含む微細凹凸構造原料を挟持させる挟持工程と、前記微細凹凸構造原料を加熱して、および／または、微細凹凸構造原料に活性エネルギー線を照射して硬化させて、前記モールドの反転構造が転写された硬化樹脂層が基材フィルム表面に形成された光透過性フィルムを得る転写工程と、得られた光透過性フィルムとモールドとを分離する分離工程とを有し、前記挟持工程と転写工程と分離工程とを繰り返すうちに、フィルムの長手方向に高さの異なる微細凹凸構造が形成されるように、モールドの反転構造が転写された硬化樹脂層を基材フィルム表面に形成することを特徴とする。
ここで、前記挟持工程と転写工程と分離工程とを繰り返すうちに、フィルムの長手方向に高さが連続的に変化する微細凹凸構造が形成されるように、モールドの反転構造が転写された硬化樹脂層を基材フィルム表面に形成することが好ましい。
また、前記モールド表面の微細凹凸構造の反転構造が、陽極酸化アルミナからなることが好ましい。
さらに、前記モールド溶解成分が、下記条件（ａ）を満たすリン酸エステル化合物であることが好ましい。
条件（ａ）：５０℃のリン酸エステル化合物中にモールドを２２時間浸漬させた後のモールド質量が、浸漬前に比べて０．０１％以上減少すること。
【００１１】
また、前記リン酸エステル化合物が、下記式（１）で表わされるポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル化合物であることが好ましい。
【００１２】
【化１】
2013224015.tif 000003
【００１３】
式（１）中、Ｒ１はアルキル基であり、ｍは１〜２０であり、ｎは１〜３である。
【００１４】
また、本発明の光透過性フィルムは、基材フィルムの表面に、微細凹凸構造を有する硬化樹脂層が形成された光透過性フィルムであって、前記微細凹凸構造は、モールド表面の微細凹凸構造を転写して形成されたものであり、フィルムの長手方向において、前記微細凹凸構造の高さが異なることを特徴とする。
ここで、フィルムの長手方向において、前記微細凹凸構造の高さが連続的に変化していることが好ましい。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、単一のモールドから高さの異なる微細凹凸構造を表面に有する光透過性フィルムを連続的に製造する方法、および光透過性フィルムを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】表面に陽極酸化アルミナを有するモールドの製造工程を示す断面図である。
【図２】光透過性フィルムの製造装置の一例を示す構成図である。
【図３】本発明の光透過性フィルムの一定領域部分の一例を示す断面図である。
【図４】連続して製造された本発明の光透過性フィルムの一例を示す断面図である。
【図５】光透過性フィルムの他の製造方法を説明する図である。
【図６】浸漬試験前のモールド表面の走査型電子顕微鏡像である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明を詳細に説明する。
なお、本明細書において、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレートおよびメタクリレートを意味し、「光透過性」とは、少なくとも波長４００〜１１７０ｎｍの光を透過することを意味し、「活性エネルギー線」とは、可視光線、紫外線、電子線、プラズマ、熱線（赤外線等）等を意味する。
【００１８】
［光透過性フィルムの製造方法］
本発明の光透過性フィルムの製造方法は、基材フィルムの表面に、微細凹凸構造を有する硬化樹脂層が形成された光透過性フィルムをナノインプリント法により製造する方法である。
なお、本発明で用いるナノインプリント法は、光ナノインプリント法であっても、熱ナノインプリント法であっても構わないが、転写性、生産性の観点から光ナノインプリント法を用いることが好ましい。以下、光ナノインプリント法の例に沿って本発明を詳細に説明する。
また、本発明により得られる光透過性フィルムの微細凹凸構造は、凸型でも凹型も構わない。凸型では表面に付着した汚れがとれやすい利点が、凹型では耐擦傷性に優れる利点が考えられるため、光透過性フィルムの用途に応じて適切な型を選択できる。以下の例では凸型の微細凹凸構造を有する光透過性フィルムの製造方法の一例を説明する。
【００１９】
本発明の光透過性フィルムの製造方法は、下記の工程（ｉ）〜（iii）を有する。
（ｉ）表面に微細凹凸構造の反転構造を有するモールドと基材フィルムとの間に、モールド溶解成分を含む微細凹凸構造原料を挟持させる挟持工程。
（ｉｉ）微細凹凸構造原料に活性エネルギー線を照射し、微細凹凸構造原料を硬化させて、モールドの反転構造が転写された硬化樹脂層が基材フィルム表面に形成された光透過性フィルムを得る転写工程。
（ｉｉｉ）得られた光透過性フィルムとモールドとを分離する分離工程。
【００２０】
本発明の光透過性フィルムの製造方法は、挟持工程と転写工程と分離工程とを繰り返すうちに、フィルムの長手方向に高さの異なる微細凹凸構造が形成されるように、モールドの反転構造が転写された硬化樹脂層を基材フィルム表面に形成することを特徴とする。
ここで、「フィルムの長手方向」とは、光透過性フィルムの製造方向である。
また、「微細凹凸構造の高さ」とは、微細凹凸構造が凸型の場合は該微細凹凸構造を構成する凸部の高さのことであり、微細凹凸構造が凹型の場合は該微細凹凸構造を構成する凹部の深さのことである。
【００２１】
すなわち、本発明では、光透過性フィルムを製造するにつれて微細凹凸構造の高さが変化、具体的には高さが減少するように、モールドの反転構造が転写された硬化樹脂層を基材フィルム表面に形成する。このとき、フィルムの長手方向に高さが連続的に変化する微細凹凸構造が形成されるように硬化樹脂層を基材フィルム表面に形成することが好ましく、一定領域においては高さの均一な微細凹凸構造が形成されつつ、一定領域毎に高さが連
続的に減少する微細凹凸構造が形成されるように硬化樹脂層を基材フィルム表面に形成することが特に好ましい。一定領域において高さの均一な微細凹凸構造が形成されれば、得られる光透過性フィルムの性能が安定しやすくなる。特に、０．５ｃｍ２以上の領域において高さの均一な微細凹凸構造が形成されるようにすることが好ましく、より好ましくは１．０ｃｍ２以上の領域である。一定領域の上限については特に制限されず、光透過性フィルムの用途に応じて設定すればよい。
【００２２】
なお、本発明において「高さの均一な微細凹凸構造」とは、微細凹凸構造の高さの差が１０ｎｍ以下である状態とする。
また、微細凹凸構造のピッチが同じ場合、微細凹凸構造の高さによって反射率が変化することから、光透過性フィルムの反射率を微細凹凸構造の高さの指標として用いることができる。本発明では、波長５５０ｎｍの反射率の斑が０．５％以内の場合を微細凹凸構造の高さが均一である状態とする。
【００２３】
本発明の光透過性フィルムの製造方法は、上述したように、転写工程においてモールド溶解成分を含む微細凹凸構造原料を用い、かつ、挟持工程と転写工程と分離工程とを繰り返すうちに、フィルムの長手方向に高さの異なる微細凹凸構造が形成されるように、モールドの反転構造が転写された硬化樹脂層を基材フィルム表面に形成する。モールド溶解成分を含む微細凹凸構造原料を用いることで、光透過性フィルムの製造を続けていくうちにモールド表面がモールド溶解成分によって溶解し、モールドの反転構造（微細凹凸構造）が変化、具体的には減少する。その結果、単一のモールドからフィルムの長手方向に高さの異なる微細凹凸構造を表面に有する光透過性フィルムが連続的に得られる。
以下、本発明に用いる微細凹凸構造原料、基材フィルム、モールド、製造装置について、具体的に説明する。
【００２４】
＜微細凹凸構造原料＞
光ナノインプリント法により光透過性フィルムを製造する場合、微細凹凸構造原料としては、活性エネルギー線硬化性組成物を用いる。
活性エネルギー線硬化性組成物（以下、単に「硬化性組成物」という。）は、モールド溶解成分と、重合性化合物と、重合開始剤とを含有する。
【００２５】
（モールド溶解成分）
モールド溶解成分としては、モールドを溶解することができれば特に限定されず、用いるモールドの材質に応じて適宜選択される。モールドの材質としては、金属（表面に酸化皮膜が形成されたものを含む。）、石英、ガラス、樹脂、セラミックス等が挙げられるが、後述するように陽極酸化アルミナを用いることが好適である。
陽極酸化アルミナに適したモールド溶解成分としては、リン酸あるいはリン酸を含むリン酸エステル化合物が好適である。リン酸エステル化合物のその他の機能としては特に限定されないが、例えば内部離型剤として用いることができる。
以下、モールドとして表面に陽極酸化アルミナからなる微細凹凸構造が形成されたモールド、モールド溶解成分としてリン酸を用いた場合を例にとり、さらに具体的に説明する。
【００２６】
アルミナは酸やアルカリに溶解することが知られており、その中でもリン酸は溶解力が高い（非特許文献（空気調和・衛生工学、第７９巻、第９号、ｐ７０）参照）。モールド表面が溶解し、モールドの反転構造（微細凹凸構造）が変化することによって、異なる高さの微細凹凸構造を単一つのモールドから連続的に転写することができる。
【００２７】
従って、陽極酸化アルミナからなる微細凹凸構造が形成されたモールドを用いる場合には、モールド溶解成分としてリン酸を含む硬化性組成物を用いるのが好ましい。モールド
溶解成分としてはリン酸そのものを硬化性組成物に添加してもよいが、リン酸を硬化性組成物に均一に溶解させることが困難であったり、リン酸の添加によって硬化性組成物に水分が混入したりする可能性がある。そこで、リン酸を含むリン酸エステル化合物を硬化性組成物に添加させることが好適である。さらに、リン酸エステル化合物を均一に溶解させるため、硬化性組成物の調製の段階で、リン酸エステル化合物と他の成分（後述する重合性化合物や重合開始剤など）とを混合しておくことが好ましい。
【００２８】
本発明で用いるリン酸エステル化合物は、モールド表面を溶解させることが必須である。モールドを溶解させるかどうかはリン酸エステル化合物に含まれるリン酸量などに影響されるが、実際にリン酸エステル化合物にモールドを浸漬させ、質量変化を調べ判断することが好ましい。
溶解力が大きいほど光透過性フィルムの製造中に早くモールドが溶解する傾向がある。溶解力が低いとモールド表面が溶解されずモールドの微細凹凸構造が変化しにくいため、硬化樹脂層に転写される微細凹凸構造の高さも変化しにくい。一方、溶解力が大きすぎるとモールド表面が過剰に溶解され、モールドの微細凹凸構造が大幅に変化する（高さが極端に小さくなる）こととなり、硬化樹脂層に転写される微細凹凸構造に大きな斑が生じやすくなる。
【００２９】
そこで、本発明では、溶解力の指標となる下記条件（ａ）を満たすリン酸エステル化合物をモールド溶解成分として用いることが好ましい。
条件（ａ）：５０℃のリン酸エステル化合物中にモールドを２２時間浸漬させた後のモールド質量が、浸漬前に比べて０．０１％以上減少すること。
【００３０】
条件（ａ）を満たすかどうかは、以下のようにして判断できる。
すなわち、５０℃のリン酸エステル化合物中にモールドを２２時間浸漬させて浸漬試験を行った後、モールドを取り出して洗浄し、浸漬試験前と洗浄後のモールドの質量を測定し、下記式より減少率を求める。減少率が０．０１％以上であれば、条件（ａ）を満たすものと判断する。
減少率（％）＝｛（浸漬前のモールドの質量−洗浄後のモールドの質量）／浸漬前のモールドの質量｝×１００
【００３１】
減少率が０．０１％以上であれば、リン酸エステル化合物が適度な溶解力を有するため、挟持工程と転写工程と分離工程とを繰り返すうちに、モールド表面が適度な速さで溶解しやすくなる。従って、フィルムの長手方向において高さの異なる微細凹凸構造が転写された硬化樹脂層が基材フィルム表面に形成された光透過性フィルムが得られやすくなる。減少率は０．１％以上が好ましい。
一方、減少率の上限値については、モールド表面を過剰に溶解するのを抑制する観点から、１％以下が好ましく、０．７％以下がより好ましい。
【００３２】
なお、リン酸エステル化合物が液体の場合には、そのままモールドを浸漬させればよい。一方、リン酸エステル化合物が固体の場合には、リン酸エステル化合物を加熱したり減圧したりして液体とするか、モールドに影響がない溶媒にリン酸エステル化合物を溶解させて溶液として、これらにモールドを浸漬させればよい。特に、溶媒にリン酸エステル化合物を溶解させる場合には、リン酸エステル化合物の濃度はできるだけ高い方が、モールドに対するリン酸エステル化合物の溶解力を素早く判断できる。
【００３３】
リン酸エステル化合物としては、条件（ａ）を満たすものが好ましいが、その中でも特に、下記式（１）で表わされるポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル化合物（以下、「化合物（１）」という。）を用いると、離型剤としての効果も発揮するため好ましい。
【００３４】
【化２】
2013224015.tif 000004
【００３５】
式（１）中、Ｒ１はアルキル基である。Ｒ１はとしては、炭素数３〜１８のアルキル基が好ましい。
また、式（１）中、ｍはエチレンオキサイドの平均付加モル数を示し、１〜２０であり、１〜１０が好ましい。一方、ｎは１〜３である。
【００３６】
化合物（１）は、モノエステル体、ジエステル体、トリエステル体の何れであってもよい。また、ジエステル体またはトリエステル体である場合、１分子中の複数のポリオキシエチレンアルキル残基は、それぞれ異なっていてもよい。
【００３７】
モールド溶解成分として化合物（１）を用いれば、硬化性組成物の硬化物である硬化樹脂層とモールドとの離型性がより向上し、微細凹凸構造の成形に好適である。また、モールドから離型する際の負荷が極めて低くなるので、欠陥の少ない微細凹凸構造が転写された光透過性フィルムを生産性よく得られる。さらに、化合物（１）を用いることで、離型性能を長時間に渡って維持することができる。
【００３８】
化合物（１）のうち、上述した条件（ａ）を満たし、かつモールド溶解成分として用いることが可能な化合物は、市販品として入手できる。例えば、日光ケミカルズ株式会社製の「ＴＤＰ−１０」、「ＴＤＰ−８」、「ＴＤＰ−６」、「ＴＤＰ−２」、「ＤＤＰ−１０」、「ＤＤＰ−８」、「ＤＤＰ−６」、「ＤＤＰ−４」、「ＤＤＰ−２」；アクセル社製の「ＩＮＴ−１８５６」；城北化学工業株式会社製の「ＪＰ５０６−Ｈ」などが挙げられる。
化合物（１）は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００３９】
ところで、モールドの溶解速度は、硬化性組成物中のモールド溶解成分の含有量や、転写工程時にモールドと接触する側の表面にモールド溶解成分が染み出てくる（ブリードアウト）量などに依存する。従って、挟持工程と転写工程と分離工程とを繰り返すうちに高さの異なる微細凹凸構造を硬化樹脂層に転写するには、モールド溶解成分の含有量やブリードアウト量が重要となる。
ブリードアウト量は、重合性化合物とモールド溶解成分の相溶性に依存する。相溶性が悪いほどブリードアウト量が多くなるため、モールドの溶解が起りやすい。特に、モールド溶解成分としてリン酸を含むリン酸エステル化合物を用いた場合は重合性化合物との相溶性によってブリードアウト量が顕著に変わる。従って、リン酸を含むリン酸エステル化合物と重合性化合物との組み合わせを調節することで、モールドの溶解速度を制御することもできる。
【００４０】
リン酸を含むリン酸エステル化合物の相溶性を確認する方法として、硬化性組成物にリン酸エステル化合物を添加し、攪拌した際の透明性で判断する方法が考えられる。相溶性が高いほど硬化性組成物の透明性が高い。透明性の評価としては、光散乱や分光光度計を用いて透過率を測定する方法が挙げられる。また、実際のリン酸を含むリン酸エステル化合物の添加量が少ない場合には、試験的にそれ以上に添加して相溶性を判断しても構わない。例えば、透明性を透過率で判断する場合、硬化性組成物にリン酸を含むリン酸エステル化合物を３質量部添加・攪拌した際の波長５００ｎｍにおける透過率が９５％以上であると、相溶性が良いためブリードアウト量が抑制されモールド溶解が起りにくくなる。一方、透過率が９５％より小さいと、相溶性が悪いためブリードアウトしやくなり、モールド溶解が起りやすくなるため好ましい。挟持工程と転写工程と分離工程とを繰り返すうちに高さの異なる微細凹凸構造を効率的に硬化樹脂層に転写するためには、前記透過率が５０％以下であるとさらに好ましい。
【００４１】
モールド溶解成分の含有量は、後述する重合性化合物１００質量部に対して０．０１質量部以上が好ましく、０．５質量部以上がより好ましい。モールド溶解成分の含有量が多くなるほど溶解速度が早くなる傾向にある。ただし、モールド溶解成分を必要以上に含有させると、モールド表面が過剰に溶解され、微細凹凸構造が消失したり、所望とする高さの微細凹凸構造が転写されなくなったりする場合がある。従って、モールド溶解成分の含有量は、３質量部以下が好ましい。
一方、ブリードアウト量は、重合性化合物とモールド溶解成分の相溶性によって変わり、相溶性が悪いほどブリードアウト量が多くなるため、溶解速度が早くなる傾向がある。特に、リン酸エステル化合物は重合性化合物との相溶性によってブリードアウト量が顕著に変わる。従って、リン酸エステル化合物と重合性化合物との組み合わせを調節することで、モールドの溶解速度を制御することもできる。
【００４２】
（重合性化合物）
重合性化合物としては、分子中にラジカル重合性結合および／またはカチオン重合性結合を有するモノマー、オリゴマー、反応性ポリマー等が挙げられる。
【００４３】
ラジカル重合性結合を有するモノマーとしては、単官能モノマー、多官能モノマーが挙げられる。
単官能モノマーとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、アルキル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート誘導体；（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリロニトリル；スチレン、α−メチルスチレン等のスチレン誘導体；（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド等の（メタ）アクリルアミド誘導体等が挙げられる。
これらは、１種を単独で用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。
【００４４】
多官能モノマーとしては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、イソシアヌール酸エチレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキシエトキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（３−（メタ）アクリロキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）プロパン、１，２−ビス（３−（メタ）アクリロキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）エタン、１，４−ビス（３−（メタ）アクリロキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ブタン、ジメチロールトリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加物ジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジビニルベンゼン、メチレンビスアクリルアミド等の二官能性モノマー；ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキシド変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキシド変性トリアクリレート、イソシアヌール酸エチレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート等の三官能モノマー；コハク酸／トリメチロールエタン／アクリル酸の縮合反応混合物、ジペンタエリストールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリストールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート等の四官能以上のモノマー；二官能以上のウレタンアクリレート、二官能以上のポリエステルアクリレート等が挙げられる。
これらは、１種を単独で用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。
【００４５】
カチオン重合性結合を有するモノマーとしては、エポキシ基、オキセタニル基、オキサ
ゾリル基、ビニルオキシ基等を有するモノマーが挙げられ、エポキシ基を有するモノマーが特に好ましい。
【００４６】
オリゴマーまたは反応性ポリマーとしては、不飽和ジカルボン酸と多価アルコールとの縮合物等の不飽和ポリエステル類；ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリオール（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、カチオン重合型エポキシ化合物、側鎖にラジカル重合性結合を有する上述のモノマーの単独または共重合ポリマー等が挙げられる。
【００４７】
（重合開始剤）
光硬化反応を利用する場合、光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジル、ベンゾフェノン、ｐ−メトキシベンゾフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、α，α−ジメトキシ−α−フェニルアセトフェノン、メチルフェニルグリオキシレート、エチルフェニルグリオキシレート、４，４'−ビス（
ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン等のカルボニル化合物；テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド等の硫黄化合物；２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ベンゾイルジエトキシフォスフィンオキサイド等が挙げられる。
これらは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００４８】
電子線硬化反応を利用する場合、重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン、メチルオルソベンゾイルベンゾエート、４−フェニルベンゾフェノン、ｔ−ブチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２，４−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン等のチオキサントン；ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン、２−メチル−２−モルホリノ（４−チオメチルフェニル）プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン等のアセトフェノン；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエーテル；２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド；メチルベンゾイルホルメート、１，７−ビスアクリジニルヘプタン、９−フェニルアクリジン等が挙げられる。
これらは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００４９】
重合開始剤の含有量は、重合性化合物１００質量部に対して、０．１〜１０質量部が好ましい。重合開始剤の含有量が０．１質量部未満であると、重合が進行しにくい。一方、重合開始剤の含有量が１０質量部を超えると、硬化樹脂層が着色したり、機械強度が低下したりすることがある。
【００５０】
（その他の成分）
本発明の硬化性組成物は、必要に応じて、非反応性のポリマー、活性エネルギー線ゾルゲル反応性組成物、紫外線吸収剤および／または光安定剤、滑剤、可塑剤、帯電防止剤、難燃剤、難燃助剤、重合禁止剤、充填剤、シランカップリング剤、着色剤、強化剤、無機フィラー、防汚性を向上させるためのフッ素化合物等の添加剤、微粒子、耐衝撃性改質剤等の公知の添加剤、少量の溶媒を含んでいてもよい。
【００５１】
非反応性のポリマー：
非反応性のポリマーとしては、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリウレタン、セルロース系樹脂、ポリビニルブチラール、ポリエステル、熱可塑性エラストマー等が挙げられる。
【００５２】
活性エネルギー線ゾルゲル反応性組成物：
活性エネルギー線ゾルゲル反応性組成物としては、アルコキシシラン化合物、アルキルシリケート化合物等が挙げられる。
アルコキシシラン化合物としては、下記式（２）で表される化合物（以下、「化合物（２）」という。）が挙げられる。
Ｒ２ｘＳｉ（ＯＲ３）ｙ    ・・・（２）
ただし、式（２）中、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ炭素数１〜１０のアルキル基を表し、ｘおよびｙはｘ＋ｙ＝４の関係を満たす整数である。
【００５３】
化合物（２）としては、具体的に、テトラメトキシシラン、テトラ−ｉ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔ−ブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルプロポキシシラン、トリメチルブトキシシラン等が挙げられる。
【００５４】
アルキルシリケート化合物としては、下記式（３）で表される化合物（以下、「化合物（３）」という。）が挙げられる。
Ｒ４Ｏ［Ｓｉ（ＯＲ６）（ＯＲ７）Ｏ］ｚＲ５    ・・・（３）
ただし、式（３）中、Ｒ４〜Ｒ７はそれぞれ炭素数１〜５のアルキル基を表し、ｚは３〜２０の整数を表す。
【００５５】
化合物（３）としては、具体的に、メチルシリケート、エチルシリケート、イソプロピルシリケート、ｎ−プロピルシリケート、ｎ−ブチルシリケート、ｎ−ペンチルシリケート、アセチルシリケート等が挙げられる。
【００５６】
紫外線吸収剤および／または光安定剤：
紫外線吸収剤および／または光安定剤は、黄帯色の抑制やヘイズの上昇抑制等の耐候性を付与する役割を果たす。
紫外線吸収剤および／または光安定剤としては、例えばベンゾフェノン系の紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤、ベンゾエート系の紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系の光安定剤等が挙げられる。市販品としては、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製の「チヌビン４００」、「チヌビン４７９」、「チヌビン１０９」；共同薬品株式会社製の「Ｖｉｏｓｏｒｂ１１０」等の紫外線吸収剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製の「チヌビン１５２」、「チヌビン２９２」等の光安定剤が挙げられる。
紫外線吸収剤および／または光安定剤は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００５７】
紫外線吸収剤および／または光安定剤の含有量は、重合性化合物１００質量部に対して０．０１〜５質量部が好ましく、０．０１〜３質量部がより好ましく、０．０１〜１質量部がさらに好ましく、０．０１〜０．５質量部が特に好ましい。これらの含有量が０．０１質量部以上であれば、黄帯色の抑制やヘイズの上昇抑制などの耐候性の向上効果が得られやすくなる。一方、これらの含有量が５質量部以下であれば、硬化性組成物が十分に硬
化するので、硬化樹脂層の耐擦傷性の低下を抑制しやすい。また、耐候性試験での指紋拭き取り性の低下も抑制できる。
【００５８】
（疎水性材料）
硬化樹脂層の微細凹凸構造の表面の水接触角を９０°以上にするためには、疎水性の材料を形成し得る硬化性組成物として、フッ素含有化合物またはシリコーン系化合物を含む組成物を用いることが好ましい。
【００５９】
フッ素含有化合物：
フッ素含有化合物としては、下記式（４）で表されるフルオロアルキル基を有する化合物が好ましい。
−（ＣＦ２）ｑ−Ｘ     ・・・（４）
ただし、式（４）中、Ｘはフッ素原子または水素原子を表し、ｑは１以上の整数を表し、１〜２０が好ましく、３〜１０がより好ましく、４〜８が特に好ましい。
【００６０】
フッ素含有化合物としては、フッ素含有モノマー、フッ素含有シランカップリング剤、フッ素含有界面活性剤、フッ素含有ポリマー等が挙げられる。
【００６１】
フッ素含有モノマーとしては、フルオロアルキル基置換ビニルモノマー、フルオロアルキル基置換開環重合性モノマー等が挙げられる。
フルオロアルキル基置換ビニルモノマーとしては、フルオロアルキル基置換（メタ）アクリレート、フルオロアルキル基置換（メタ）アクリルアミド、フルオロアルキル基置換ビニルエーテル、フルオロアルキル基置換スチレン等が挙げられる。
フルオロアルキル基置換開環重合性モノマーとしては、フルオロアルキル基置換エポキシ化合物、フルオロアルキル基置換オキセタン化合物、フルオロアルキル基置換オキサゾリン化合物等が挙げられる。
【００６２】
フッ素含有モノマーとしては、フルオロアルキル基置換（メタ）アクリレートが好ましく、下記式（５）で表される化合物が特に好ましい。
ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ８）Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ２）ｐ−（ＣＦ２）ｑ−Ｘ    ・・・（５）
ただし、式（５）中、Ｒ８は水素原子またはメチル基を表し、Ｘは水素原子またはフッ素原子を表し、ｐは１〜６の整数を表し、１〜３が好ましく、１または２がより好ましく、ｑは１〜２０の整数を表し、３〜１０が好ましく、４〜８がより好ましい。
【００６３】
フッ素含有シランカップリング剤としては、フルオロアルキル基置換シランカップリング剤が好ましく、下記式（６）で表される化合物が特に好ましい。
（Ｒ９）ａＲ１０ｂＳｉＹｃ    ・・・（６）
ただし、式（６）中、Ｒ９はエーテル結合またはエステル結合を１個以上含んでいてもよい炭素数１〜２０のフッ素置換アルキル基を表す。Ｒ９としては、３，３，３−トリフルオロプロピル基、トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチル基、３−トリフルオロメトキシプロピル基、３−トリフルオロアセトキシプロピル基等が挙げられる。
また、Ｒ１０は、炭素数１〜１０のアルキル基を表す。Ｒ１０としては、メチル基、エチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
【００６４】
Ｙは、水酸基または加水分解性基を表す。
加水分解性基としては、アルコキシ基、ハロゲン原子、Ｒ１１Ｃ（Ｏ）Ｏ（ただし、Ｒ１１は、水素原子または炭素数１〜１０のアルキル基を表す。）等が挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ｉ−プロピルオキシ基、ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオ
キシ基、シクロヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、３，７−ジメチルオクチルオキシ基、ラウリルオキシ基等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ等が挙げられる。
Ｒ１１Ｃ（Ｏ）Ｏとしては、ＣＨ３Ｃ（Ｏ）Ｏ、Ｃ２Ｈ５Ｃ（Ｏ）Ｏ等が挙げられる。
【００６５】
ａ、ｂ、ｃは、ａ＋ｂ＋ｃ＝４であり、かつａ≧１、ｃ≧１を満たす整数を表し、ａ＝１、ｂ＝０、ｃ＝３が好ましい。
【００６６】
フッ素含有シランカップリング剤としては、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリアセトキシシラン、ジメチル−３，３，３−トリフルオロプロピルメトキシシラン、トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチルトリエトキシシラン等が挙げられる。
【００６７】
フッ素含有界面活性剤としては、フルオロアルキル基含有アニオン系界面活性剤、フルオロアルキル基含有カチオン系界面活性剤等が挙げられる。
フルオロアルキル基含有アニオン系界面活性剤としては、炭素数２〜１０のフルオロアルキルカルボン酸またはその金属塩、パーフルオロオクタンスルホニルグルタミン酸ジナトリウム、３−［オメガ−フルオロアルキル（Ｃ６〜Ｃ１１）オキシ］−１−アルキル（Ｃ３〜Ｃ４）スルホン酸ナトリウム、３−［オメガ−フルオロアルカノイル（Ｃ６〜Ｃ８）−Ｎ−エチルアミノ］−１−プロパンスルホン酸ナトリウム、フルオロアルキル（Ｃ１１〜Ｃ２０）カルボン酸またはその金属塩、パーフルオロアルキルカルボン酸（Ｃ７〜Ｃ１３）またはその金属塩、パーフルオロアルキル（Ｃ４〜Ｃ１２）スルホン酸またはその金属塩、パーフルオロオクタンスルホン酸ジエタノールアミド、Ｎ−プロピル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）パーフルオロオクタンスルホンアミド、パーフルオロアルキル（Ｃ６〜Ｃ１０）スルホンアミドプロピルトリメチルアンモニウム塩、パーフルオロアルキル（Ｃ６〜Ｃ１０）−Ｎ−エチルスルホニルグリシン塩、モノパーフルオロアルキル（Ｃ６〜Ｃ１６）エチルリン酸エステル等が挙げられる。
【００６８】
フルオロアルキル基含有カチオン系界面活性剤としては、フルオロアルキル基含有脂肪族一級、二級または三級アミン酸、パーフルオロアルキル（Ｃ６〜Ｃ１０）スルホンアミドプロピルトリメチルアンモニウム塩等の脂肪族４級アンモニウム塩、ベンザルコニウム塩、塩化ベンゼトニウム、ピリジニウム塩、イミダゾリニウム塩等が挙げられる。
【００６９】
フッ素含有ポリマーとしては、フルオロアルキル基含有モノマーの重合体、フルオロアルキル基含有モノマーとポリ（オキシアルキレン）基含有モノマーとの共重合体、フルオロアルキル基含有モノマーと架橋反応性基含有モノマーとの共重合体等が挙げられる。フッ素含有ポリマーは、共重合可能な他のモノマーとの共重合体であってもよい。
【００７０】
フッ素含有ポリマーとしては、フルオロアルキル基含有モノマーとポリ（オキシアルキレン）基含有モノマーとの共重合体が好ましい。
ポリ（オキシアルキレン）基としては、下記式（７）で表される基が好ましい。
−（ＯＲ１２）ｒ−    ・・・（７）
ただし、式（７）中、Ｒ１２は炭素数２〜４のアルキレン基を表し、ｒは２以上の整数を表す。Ｒ１２としては、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ（ＣＨ３）−等が挙げられる。
【００７１】
ポリ（オキシアルキレン）基は、同一のオキシアルキレン単位（ＯＲ１２）からなるものであってもよく、２種以上のオキシアルキレン単位（ＯＲ１２）からなるものであってもよい。２種以上のオキシアルキレン単位（ＯＲ１２）の配列は、ブロックであってもよ
く、ランダムであってもよい。
【００７２】
シリコーン系化合物：
シリコーン系化合物としては、（メタ）アクリル酸変性シリコーン、シリコーン樹脂、シリコーン系シランカップリング剤等が挙げられる。
（メタ）アクリル酸変性シリコーンとしては、シリコーン（ジ）（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００７３】
（親水性材料）
硬化樹脂層の微細凹凸構造の表面の水接触角を２５°以下にするためには、親水性の材料を形成し得る硬化性組成物として、少なくとも親水性モノマーを含む組成物を用いることが好ましい。また、耐擦傷性や耐水性付与の観点からは、架橋可能な多官能モノマーを含むものがより好ましい。なお、親水性モノマーと架橋可能な多官能モノマーは、同一（すなわち、親水性多官能モノマー）であってもよい。さらに、硬化性組成物は、その他のモノマーを含んでいてもよい。
【００７４】
親水性の材料を形成し得る硬化性組成物としては、下記の重合性化合物を含む組成物を用いることがより好ましい。
４官能以上の多官能（メタ）アクリレートの１０〜５０質量％、
２官能以上の親水性（メタ）アクリレートの３０〜８０質量％、
単官能モノマーの０〜２０質量％の合計１００質量％からなる重合性化合物。
【００７５】
４官能以上の多官能（メタ）アクリレートとしては、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、コハク酸／トリメチロールエタン／アクリル酸のモル比１：２：４の縮合反応混合物、ウレタンアクリレート類（ダイセル・サイテック株式会社製の「ＥＢＥＣＲＹＬ２２０」、「ＥＢＥＣＲＹＬ１２９０」、「ＥＢＥＣＲＹＬ１２９０Ｋ」、「ＥＢＥＣＲＹＬ５１２９」、「ＥＢＥＣＲＹＬ８２１０」、「ＥＢＥＣＲＹＬ８３０１」、「ＫＲＭ８２００」）、ポリエーテルアクリレート類（ダイセル・サイテック株式会社製の「ＥＢＥＣＲＹＬ８１」）、変性エポキシアクリレート類（ダイセル・サイテック株式会社製の「ＥＢＥＣＲＹＬ３４１６」）、ポリエステルアクリレート類（ダイセル・サイテック株式会社製の「ＥＢＥＣＲＹＬ４５０」、「ＥＢＥＣＲＹＬ６５７」、「ＥＢＥＣＲＹＬ８００」、「ＥＢＥＣＲＹＬ８１０」、「ＥＢＥＣＲＹＬ８１１」、「ＥＢＥＣＲＹＬ８１２」、「ＥＢＥＣＲＹＬ１８３０」、「ＥＢＥＣＲＹＬ８４５」、「ＥＢＥＣＲＹＬ８４６」、「ＥＢＥＣＲＹＬ１８７０」）等が挙げられる。
これらは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
４官能以上の多官能（メタ）アクリレートとしては、５官能以上の多官能（メタ）アクリレートがより好ましい。
【００７６】
４官能以上の多官能（メタ）アクリレートの含有量は、重合性化合物１００質量％中、１０〜５０質量％が好ましく、耐水性、耐薬品性の点から、２０〜５０質量％がより好ましく、３０〜５０質量％が特に好ましい。一方、４官能以上の多官能（メタ）アクリレートの含有量が１０質量％以上であれば、弾性率が高くなって耐擦傷性が向上する。４官能以上の多官能（メタ）アクリレートの含有量が５０質量％以下であれば、表面に小さな亀裂が入りにくく、外観不良となりにくい。
【００７７】
２官能以上の親水性（メタ）アクリレートとしては、東亞合成株式会社製の「アロニックスＭ−２４０」、「アロニックスＭ２６０」；新中村化学工業株式会社製の「ＮＫエス
テルＡＴ−２０Ｅ」、「ＮＫエステルＡＴＭ−３５Ｅ」等の長鎖ポリエチレングリコールを有する多官能アクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート等が挙げられる。
これらは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００７８】
ポリエチレングリコールジメタクリレートにおいて、一分子内に存在するポリエチレングリコール鎖の平均繰り返し単位の合計は、６〜４０が好ましく、９〜３０がより好ましく、１２〜２０が特に好ましい。ポリエチレングリコール鎖の平均繰り返し単位が６以上であれば、親水性が十分となり、防汚性が向上する。ポリエチレングリコール鎖の平均繰り返し単位が４０以下であれば、４官能以上の多官能（メタ）アクリレートとの相溶性が良好となり、硬化性組成物が分離しにくい。
【００７９】
２官能以上の親水性（メタ）アクリレートの含有量は、重合性化合物１００質量％中、３０〜８０質量％が好ましく、４０〜７０質量％がより好ましい。２官能以上の親水性（メタ）アクリレートの含有量が３０質量％以上であれば、親水性が十分となり、防汚性が向上する。一方、２官能以上の親水性（メタ）アクリレートの含有量が８０質量％以下であれば、弾性率が高くなって耐擦傷性が向上する。
【００８０】
単官能モノマーとしては、親水性単官能モノマーが好ましい。
親水性単官能モノマーとしては、新中村化学工業株式会社製の「Ｍ−２０Ｇ」、「Ｍ−９０Ｇ」「、Ｍ−２３０Ｇ」等のエステル基にポリエチレングリコール鎖を有する単官能（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート等のエステル基に水酸基を有する単官能（メタ）アクリレート、単官能アクリルアミド類、メタクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムメチルサルフェート、メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムメチルサルフェート等のカチオン性モノマー類等が挙げられる。
また、単官能モノマーとして、アクリロイルモルホリン、ビニルピロリドン等の粘度調整剤、基材フィルムへの密着性を向上させるアクリロイルイソシアネート類等の密着性向上剤等を用いてもよい。
【００８１】
単官能モノマーの含有量は、重合性化合物１００質量％中、０〜２０質量％が好ましく、５〜１５質量％がより好ましい。単官能モノマーを用いることにより、基材フィルムと硬化樹脂層との密着性が向上する。単官能モノマーの含有量が２０質量％以下であれば、４官能以上の多官能（メタ）アクリレートまたは２官能以上の親水性（メタ）アクリレートが不足することなく、防汚性または耐擦傷性が十分に発現する。
【００８２】
単官能モノマーは、１種または２種以上を（共）重合した低重合度の重合体として硬化性組成物に０〜３５質量部配合してもよい。低重合度の重合体としては、新中村化学工業株式会社製の「Ｍ−２３０Ｇ」等のエステル基にポリエチレングリコール鎖を有する単官能（メタ）アクリレート類と、メタクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムメチルサルフェートとの４０／６０共重合オリゴマー（例えばＭＲＣユニテック株式会社製の「ＭＧポリマー」）等が挙げられる。
【００８３】
以上説明した硬化性組成物は、モールド溶解成分を含有するため、モールド表面を適度に溶解させやすい。その結果、光透過性フィルムの製造とともにモールド表面が溶解して表面形状（微細凹凸構造）が変化するため、異なる高さの微細凹凸構造を単一の金型から連続的に転写することができる。
また、リン酸エステル化合物は離型剤の役割も果たすので、モールドと硬化樹脂層との離型性を長時間にわたって維持できる。
【００８４】
＜基材フィルム＞
基材フィルムとしては、フィルム越しに活性エネルギー線照射を行うため、光透過性の高いフィルムが好ましく、例えばアクリルフィルムやＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム、ポリカーボネートフィルム、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）フィルムなどを用いることができる。
【００８５】
＜モールド＞
モールドの材料としては、金属（表面に酸化皮膜が形成されたものを含む。）、石英、ガラス、樹脂、セラミックス等が挙げられる。
本発明に用いるモールドは、例えば下記に示す方法（Ｉ）、（II）によって製造できる。中でも、大面積化が可能であり、かつ作製が簡便である点から、方法（Ｉ）が特に好ましい。
（Ｉ）アルミニウム基材の表面に、複数の細孔（凹部）を有する陽極酸化アルミナを形成する方法。
（ＩＩ）基材の表面にリソグラフィ法によって微細凹凸構造を形成する方法。
【００８６】
方法（Ｉ）としては、下記の工程（ａ）〜（ｅ）を有するのが好ましい。
（ａ）アルミニウム基材を電解液中、定電圧下で陽極酸化してアルミニウム基材の表面に酸化皮膜を形成する工程。
（ｂ）酸化皮膜を除去し、アルミニウム基材の表面に陽極酸化の細孔発生点を形成する工程。
（ｃ）アルミニウム基材を電解液中、再度陽極酸化し、細孔発生点に細孔を有する酸化皮膜を形成する工程。
（ｄ）細孔の径を拡大させる工程。
（ｅ）工程（ｃ）と工程（ｄ）を繰り返し行い、複数の細孔を有する陽極酸化アルミナがアルミニウム基材の表面に形成されたモールドを得る工程。
【００８７】
工程（ａ）：
図１に示すように、アルミニウム基材１０を陽極酸化すると、細孔１２を有する酸化皮膜１４が形成される。
アルミニウム基材の形状としては、ロール状、円管状、平板状、シート状等が挙げられる。
また、アルミニウム基材は、表面状態を平滑化にするために、機械研磨、羽布研磨、化学的研磨、電解研磨処理（エッチング処理）などで研磨されることが好ましい。また、アルミニウム基材は、所定の形状に加工する際に用いた油が付着していることがあるため、陽極酸化の前にあらかじめ脱脂処理されることが好ましい。
【００８８】
アルミニウムの純度は、９９％以上が好ましく、９９．５％以上がより好ましく、９９．８％以上が特に好ましい。アルミニウムの純度が低いと、陽極酸化した時に、不純物の偏析により可視光を散乱する大きさの凹凸構造が形成されたり、陽極酸化で得られる細孔の規則性が低下したりすることがある。
電解液としては、硫酸、シュウ酸、リン酸等が挙げられる。
【００８９】
シュウ酸を電解液として用いる場合：
シュウ酸の濃度は、０．７Ｍ以下が好ましい。シュウ酸の濃度が０．７Ｍを超えると、電流値が高くなりすぎて酸化皮膜の表面が粗くなることがある。
化成電圧が３０〜６０Ｖの時、平均間隔が１００ｎｍの規則性の高い細孔を有する陽極酸化アルミナを得ることができる。化成電圧がこの範囲より高くても低くても規則性が低下する傾向にある。
電解液の温度は、６０℃以下が好ましく、４５℃以下がより好ましい。電解液の温度が６０℃を超えると、いわゆる「ヤケ」といわれる現象がおこり、細孔が壊れたり、表面が
溶けて細孔の規則性が乱れたりすることがある。
【００９０】
硫酸を電解液として用いる場合：
硫酸の濃度は０．７Ｍ以下が好ましい。硫酸の濃度が０．７Ｍを超えると、電流値が高くなりすぎて定電圧を維持できなくなることがある。
化成電圧が２５〜３０Ｖの時、平均間隔が６３ｎｍの規則性の高い細孔を有する陽極酸化アルミナを得ることができる。化成電圧がこの範囲より高くても低くても規則性が低下する傾向がある。
電解液の温度は、３０℃以下が好ましく、２０℃以下がより好ましい。電解液の温度が３０℃を超えると、いわゆる「ヤケ」といわれる現象がおこり、細孔が壊れたり、表面が溶けて細孔の規則性が乱れたりすることがある。
【００９１】
工程（ｂ）：
図１に示すように、酸化皮膜１４を一旦除去し、これを陽極酸化の細孔発生点１６にすることで細孔の規則性を向上することができる。なお、それほど高い規則性が必要とされない場合、酸化皮膜１４の少なくとも一部を除去しても良く、工程（ａ）の後に、後述する工程（ｄ）を行っても構わない。
酸化皮膜を除去する方法としては、アルミニウムを溶解せず、酸化皮膜を選択的に溶解する溶液に溶解させて除去する方法が挙げられる。このような溶液としては、例えば、クロム酸／リン酸混合液等が挙げられる。
【００９２】
工程（ｃ）：
図１に示すように、酸化皮膜を除去したアルミニウム基材１０を再度、陽極酸化すると、円柱状の細孔１２を有する酸化皮膜１４が形成される。
陽極酸化は、工程（ａ）と同様な条件で行えばよい。陽極酸化の時間を長くするほど深い細孔を得ることができる。
【００９３】
工程（ｄ）：
図１に示すように、細孔１２の径を拡大させる処理（以下、細孔径拡大処理と記す。）を行う。細孔径拡大処理は、酸化皮膜を溶解する溶液に浸漬して陽極酸化で得られた細孔の径を拡大させる処理である。このような溶液としては、例えば、５質量％程度のリン酸水溶液等が挙げられる。
細孔径拡大処理の時間を長くするほど、細孔径は大きくなる。
【００９４】
工程（ｅ）：
図１に示すように、工程（ｃ）の陽極酸化と、工程（ｄ）の細孔径拡大処理を繰り返すと、直径が開口部から深さ方向に連続的に減少する形状の細孔１２を有する酸化皮膜１４が形成され、アルミニウム基材１０の表面に陽極酸化アルミナ（アルミニウムの多孔質の酸化皮膜（アルマイト））を有するモールド本体１８が得られる。
【００９５】
繰り返し回数は、合計で３回以上が好ましく、５回以上がより好ましい。繰り返し回数が２回以下では、非連続的に細孔の直径が減少するため、このような細孔を有する陽極酸化アルミナを用いて形成された微細凹凸構造（モスアイ構造）の反射率低減効果は不十分である。
【００９６】
細孔１２の形状としては、略円錐形状、角錐形状、円柱形状等が挙げられ、円錐形状、角錐形状等のように、深さ方向と直交する方向の細孔断面積が最表面から深さ方向に連続的に減少する形状が好ましい。
【００９７】
細孔１２間の平均間隔は、可視光の波長以下、すなわち４００ｎｍ以下である。細孔１
２間の平均間隔は、２０ｎｍ以上が好ましい。
細孔１２間の平均間隔は、電子顕微鏡観察によって隣接する細孔１２間の間隔（細孔１２の中心から隣接する細孔１２の中心までの距離）を５０点測定し、これらの値を平均したものである。
【００９８】
細孔１２の深さは、平均間隔が１００ｎｍの場合は、８０〜５００ｎｍが好ましく、１２０〜４００ｎｍがより好ましく、１５０〜３００ｎｍが特に好ましい。
細孔１２の深さは、電子顕微鏡観察によって倍率３００００倍で観察したときにおける、細孔１２の最底部と、細孔１２間に存在する凸部の最頂部との間の距離を測定した値である。
細孔１２のアスペクト比（細孔の深さ／細孔間の平均間隔）は、０．８〜５．０が好ましく、１．２〜４．０がより好ましく、１．５〜３．０が特に好ましい。
【００９９】
その他の工程：
本発明においては、工程（ｅ）にて得られたモールド本体１８をそのままモールドとしてもよいが、モールド本体１８の微細凹凸構造が形成された側の表面を離型剤（外部離型剤）で処理してもよい。
離型剤としては、アルミニウム基材の陽極酸化アルミナと化学結合を形成し得る官能基を有するものが好ましい。具体的には、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、フッ素化合物等が挙げられ、離型性に優れる点、モールド本体との密着性に優れる点から、シラノール基あるいは加水分解性シリル基を有することが好ましく、その中でも加水分解性シリル基を有するフッ素化合物が特に好ましい。
加水分解性シリル基を有するフッ素化合物の市販品としては、フルオロアルキルシラン、信越化学工業株式会社製の「ＫＢＭ−７８０３」；ダイキン工業株式会社製の「オプツール」シリーズ；住友スリーエム株式会社製の「ノベックＥＧＣ−１７２０」等が挙げられる。
【０１００】
離型剤による処理方法としては、下記の方法１、方法２が挙げられ、モールド本体の微細凹凸構造が形成された側の表面をムラなく離型剤で処理できる点から、方法１が特に好ましい。
方法１：離型剤の希釈溶液にモールド本体を浸漬する方法。
方法２：離型剤またはその希釈溶液を、モールド本体の微細凹凸構造が形成された側の表面に塗布する方法。
【０１０１】
方法１としては、下記の工程（ｆ）〜（ｊ）を有する方法が好ましい。
（ｆ）モールド本体を水洗する工程。
（ｇ）モールド本体にエアーを吹き付け、モールド本体の表面に付着した水滴を除去する工程。
（ｈ）加水分解性シリル基を有するフッ素化合物を溶媒で希釈した希釈溶液に、モールド本体を浸漬する工程。
（ｉ）浸漬したモールド本体をゆっくりと溶液から引き上げる工程。
（ｊ）モールド本体を乾燥させる工程。
【０１０２】
工程（ｆ）：
モールド本体には、多孔質構造を形成する際に用いた薬剤（細孔径拡大処理に用いたリン酸水溶液等）、不純物（埃等）等が付着しているため、水洗によってこれを除去する。
【０１０３】
工程（ｇ）：
モールド本体にエアーを吹き付け、目に見える水滴はほぼ除去する。
【０１０４】
工程（ｈ）：
希釈用の溶媒としては、フッ素系溶媒、アルコール系溶媒等の公知の溶媒を用いればよい。中でも、適度な揮発性、濡れ性等を有するため、外部離型剤溶液を均一に塗布できる点で、フッ素系溶媒が好ましい。フッ素系溶媒としては、ハイドロフルオロポリエーテル、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサン、パーフルオロ−１，３−ジメチルシクロヘキサン、ジクロロペンタフルオロプロパン等が挙げられる。
加水分解性シリル基を有するフッ素化合物の濃度は、希釈溶液（１００質量％）中、０．０１〜０．２質量％が好ましい。
浸漬時間は、１〜３０分が好ましい。
浸漬温度は、０〜５０℃が好ましい。
【０１０５】
工程（ｉ）：
浸漬したモールド本体を溶液から引き上げる際には、電動引き上げ機等を用いて、一定速度で引き上げ、引き上げ時の揺動を抑えることが好ましい。これにより塗布ムラを少なくできる。
引き上げ速度は、１〜１０ｍｍ／秒が好ましい。
【０１０６】
工程（ｊ）：
モールド本体を乾燥させる工程では、モールド本体を風乾させてもよく、乾燥機等で強制的に加熱乾燥させてもよい。
乾燥温度は、３０〜１５０℃が好ましい。
乾燥時間は、５〜３００分が好ましい。
【０１０７】
なお、モールド本体の表面が離型剤で処理されたことは、モールド本体の表面の水接触角を測定することによって確認できる。離型剤で処理されたモールド本体の表面の水接触角は、６０°以上が好ましく、９０°以上がより好ましい。水接触角が  ６０°以上であれば、モールド本体の表面が離型剤で十分に処理され、離型性が良好となる。
【０１０８】
＜製造装置＞
本発明の光透過性フィルムの製造方法は、上述したモールド溶解成分を含む硬化性組成物を用い、挟持工程と転写工程と分離工程とを繰り返し行う。
各工程は、例えば図２に示す製造装置を用いて、下記のように行われる。
【０１０９】
表面に微細凹凸構造（図示略）を有するロール状モールド２０と、ロール状モールド２０の表面に沿って移動する帯状の基材フィルム４２との間に、タンク２２から硬化性組成物３８を供給する。
【０１１０】
ロール状モールド２０と、空気圧シリンダ２４によってニップ圧が調整されたニップロール２６との間で、基材フィルム４２および硬化性組成物３８をニップし、硬化性組成物３８を基材フィルム４２とロール状モールド２０との間に均一に行き渡らせると同時に、ロール状モールド２０の微細凹凸構造の凹部内に充填する。
【０１１１】
ロール状モールド２０の下方に設置された活性エネルギー線照射装置２８から、基材フィルム４２を通して硬化性組成物３８に活性エネルギー線を照射し、硬化性組成物３８を硬化させることによって、ロール状モールド２０の表面の微細凹凸構造が転写された硬化樹脂層４４を形成する。
剥離ロール３０により、表面に硬化樹脂層４４が形成された基材フィルム４２をロール状モールド２０から剥離することによって、図３に示すような、一定領域において高さの均一な微細凹凸構造を表面に有する光透過性フィルム４０を得る。
そして、挟持工程と転写工程と分離工程とを繰り返すことで、図４に示すように、フィ
ルムの長手方向Ｆにおいて微細凹凸構造の高さが異なる光透過性フィルム４０が得られる。
【０１１２】
活性エネルギー線照射装置２８としては、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ等が好ましく、この場合の光照射エネルギー量は、１００〜１００００ｍＪ／ｃｍ２が好ましい。
【０１１３】
＜作用効果＞
以上説明した本発明の光透過性フィルムの製造方法によれば、モールド溶解成分を含む硬化性組成物を用い、挟持工程と転写工程と分離工程とを繰り返すうちに、フィルムの長手方向に高さの異なる微細凹凸構造が形成されるように、モールドの反転構造が転写された硬化樹脂層を基材フィルム表面に形成する。このように挟持工程と転写工程と分離工程とを繰り返すと、モールド表面がモールド溶解成分によって適度に溶解される。その結果、光透過性フィルムの製造とともにモールド表面が溶解して表面形状（微細凹凸構造）が変化するため、フィルムの長手方向に高さの異なる微細凹凸構造が転写された硬化樹脂層を基材フィルムの表面に形成できる。
従って、本発明であれば、単一のモールドから高さの異なる微細凹凸構造を表面に有する光透過性フィルムを連続的に製造できる。これにより、例えば光透過性フィルムの用途に応じて反射防止性能と耐擦傷性とのバランスを変えた微細凹凸構造を有する光透過性フィルムを単一のモールドから効率的に製造できるので、微細凹凸構造の高さが異なる複数のモールドを準備する必要がない。
【０１１４】
特に、硬化性組成物中のモールド溶解成分の含有量やブリードアウト量を調整したり、条件（ａ）における減少率を調整したリン酸エステル化合物を用いたりすれば、モールド表面の溶解速度を制御できるので、図４に示すように一定領域においては高さの均一な微細凹凸構造が形成されつつ、一定領域毎に高さが連続的に減少する微細凹凸構造が形成されるように硬化樹脂層を基材フィルム表面に形成できる。
【０１１５】
＜他の実施形態＞
本発明の光透過性フィルムの製造方法は、上述した方法に限定されない。上述した方法では、図２に示す製造装置を用い、基材フィルム４２に活性エネルギー線を照射して光透過性フィルム４０を製造しているが、例えば支持フィルムに支持された基材フィルムを用い、以下のようにして光透過性フィルムを製造してもよい。
すなわち、図５に示すように、支持フィルム４８によって裏面側から支持された基材フィルム４２の表面と、ロール状モールド２０との間に、硬化性組成物３８を供給し、支持フィルム４８を通して硬化性組成物３８に活性エネルギー線を照射して、基材フィルム４２の表面に微細凹凸構造を有する硬化樹脂層４４が形成された光透過性フィルム４０を製造する。このようにして得られた光透過性フィルム４０は支持フィルム４８で支持されており、必要に応じて支持フィルム４８を光透過性フィルム４０から剥離する。
支持フィルム４８としては、剥離可能なフィルムであれば特に限定されないが、例えばＰＥＴフィルム、ポリカーボネートフィルム等が挙げられる。
支持フィルム４８は、単層フィルムであってもよいし、多層フィルムであってもよい。
【０１１６】
また、上述した方法は光ナノインプリント法を用いた方法であるが、熱ナノインプリント法を用いてもよい。この場合、上述した硬化性組成物の代わりに、モールド溶解成分を含む熱可塑性樹脂を用い、該熱可塑性樹脂が流動する温度にモールドを加熱して、モールドの反転構造を硬化樹脂層に転写する。
【０１１７】
［光透過性フィルム］
図３、４は、本発明の光透過性フィルムの一例を示す断面図である。なお、図３はフィ
ルムの長手方向における一定領域部分を示す図であり、図４は連続的に製造された光透過性フィルムを示す図である。
図３、４に示す光透過性フィルム４０は、基材フィルム４２の表面に、微細凹凸構造を有する硬化樹脂層４４が形成されている。
【０１１８】
基材フィルム４２は、光透過性を有するフィルムである。基材フィルムの材料としては、アクリルフィルム、ＰＥＴフィルム、ポリカーボネートフィルム、ＴＡＣフィルムなどが挙げられる。
【０１１９】
硬化樹脂層４４は、上述した硬化性組成物の硬化物からなる膜であり、表面に微細凹凸構造を有する。
陽極酸化アルミナのモールドを用いた場合の光透過性フィルム４０の表面の微細凹凸構造は、陽極酸化アルミナの表面の微細凹凸構造を転写して形成されたものであり、硬化性組成物の硬化物からなる複数の凸部４６を有する。
【０１２０】
微細凹凸構造としては、略円錐形状、角錐形状等の突起（凸部）が複数並んだ、いわゆるモスアイ構造が好ましい。突起間の間隔が可視光の波長以下であるモスアイ構造は、空気の屈折率から材料の屈折率へと連続的に屈折率が増大していくことで有効な反射防止の手段となることが知られている。
【０１２１】
凸部間の平均間隔は、可視光の波長以下、すなわち４００ｎｍ以下である。陽極酸化アルミナのモールドを用いて凸部を形成した場合、凸部間の平均間隔は１００から２００ｎｍ程度となることから、２５０ｎｍ以下が特に好ましい。
また、凸部間の平均間隔は、凸部の形成のしやすさの点から、２０ｎｍ以上が好ましい。
凸部間の平均間隔は、電子顕微鏡観察によって隣接する凸部間の間隔（凸部の中心から隣接する凸部の中心までの距離）を５０点測定し、これらの値を平均したものである。
【０１２２】
本発明の光透過性フィルムは、フィルムの長手方向において微細凹凸構造の高さが連続的に変化していることが好ましく、より好ましくは、図４に示すように、一定領域においては高さの均一な微細凹凸構造が形成されつつ、一定領域毎に高さが連続的に減少していることが好ましい。特に、０．５ｃｍ２以上の領域において高さの均一な微細凹凸構造が形成されていることが好ましく、より好ましくは１．０ｃｍ２以上の領域である。一定領域の上限については特に制限されず、光透過性フィルムの用途に応じて設定すればよい。
【０１２３】
凸部の高さは、フィルムの長手方向Ｆにおいて異なっていれば特に制限されないが、凸部間の平均間隔が１００ｎｍの場合は、８０〜５００ｎｍが好ましく、１２０〜４００ｎｍがより好ましく、１５０〜３００ｎｍが特に好ましい。凸部の高さが８０ｎｍ以上であれば、反射率が十分低くなり、かつ反射率の波長依存性が少ない。凸部の高さが５００ｎｍ以下であれば、凸部の耐擦傷性が良好となる。
凸部の高さは、電子顕微鏡によって倍率３００００倍で観察したときにおける、凸部の最頂部と、凸部間に存在する凹部の最底部との間の距離を測定した値である。
【０１２４】
また、凸部のアスペクト比（凸部の高さ／凸部間の平均間隔）は、０．８〜５．０が好ましく、１．２〜４．０がより好ましく、１．５〜３．０が特に好ましい。凸部のアスペクト比が０．８以上であれば、反射率が十分に低くなる。凸部のアスペクト比が５．０以下であれば、凸部の耐擦傷性が良好となる。
【０１２５】
凸部の形状は、高さ方向と直交する方向の凸部断面積が最表面から深さ方向に連続的に増加する形状、すなわち、凸部の高さ方向の断面形状が、三角形、台形、釣鐘型等の形状
が好ましい。
【０１２６】
硬化樹脂層４４の屈折率と基材フィルム４２の屈折率との差は、０．２以下が好ましく、０．１以下がより好ましく、０．０５以下が特に好ましい。屈折率差が０．２以下であれば、硬化樹脂層４４と基材フィルム４２との界面における反射が抑えられる。
【０１２７】
表面に微細凹凸構造を有する場合、その表面が疎水性の材料から形成されていればロータス効果により超撥水性が得られ、その表面が親水性の材料から形成されていれば超親水性が得られることが知られている。
【０１２８】
硬化樹脂層４４の材料が疎水性の場合の微細凹凸構造の表面の水接触角は、９０°以上が好ましく、１１０°以上がより好ましく、１２０°以上が特に好ましい。水接触角が９０°以上であれば、水汚れが付着しにくくなるため、十分な防汚性が発揮される。また、水が付着しにくいため、着氷防止を期待できる。
【０１２９】
硬化樹脂層４４の材料が親水性の場合の微細凹凸構造の表面の水接触角は、２５°以下が好ましく、２３°以下がより好ましく、２１°以下が特に好ましい。水接触角が２５°以下であれば、表面に付着した汚れが水で洗い流され、また油汚れが付着しにくくなるため、十分な防汚性が発揮される。該水接触角は、硬化樹脂層４４の吸水による微細凹凸構造の変形、それに伴う反射率の上昇を抑える点から、３°以上が好ましい。
【０１３０】
＜作用効果＞
以上説明した本発明の光透過性フィルムは、単一のモールドから得られたものであり、フィルムの長手方向において微細凹凸構造の高さが異なる。従って、各用途に適した高さの領域毎に本発明の光透過性フィルムを切断することで、１つのフィルムから様々な用途に適したフィルムが得られる。
【０１３１】
光透過性フィルムの用途としては、反射防止物品、防曇性物品、防汚性物品、撥水性物品、より具体的にはディスプレー用反射防止フィルム、自動車メーターカバー、自動車ミラー、自動車窓、有機または無機エレクトロルミネッセンスの光取り出し効率向上部材、太陽電池部材等が挙げられる。
【実施例】
【０１３２】
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１３３】
（モールドの細孔の平均間隔および深さの測定）
陽極酸化アルミナの一部を削り、断面にプラチナを１分間蒸着し、電界放出形走査電子顕微鏡（日本電子株式会社製、「ＪＳＭ−７４００Ｆ」）を用いて、加速電圧３．００ｋＶの条件にて断面を観察し、細孔の平均間隔および細孔の深さを測定した。各測定は、それぞれ５点について行い、平均値を求めた。
【０１３４】
（光透過性フィルムの凸部の平均間隔および高さの測定）
光透過性フィルムの破断面にプラチナを１０分間蒸着し、電界放出形走査電子顕微鏡（日本電子社製、「ＪＳＭ−７４００Ｆ」）を用いて、加速電圧：３．００ｋＶの条件にて断面を観察し、凸部の平均間隔および凸部の高さを測定した。各測定は、それぞれ５点について行い、平均値を求めた。
【０１３５】
（モールド溶解による減少率の測定）
リン酸エステル化合物にモールドを５０℃の条件で２２時間浸漬させて浸漬試験を行っ
た。浸漬試験後、モールドを取り出し、アセトン、クロロホルムを用いて洗浄した。浸漬前と洗浄後のモールドの質量を測定し、減少率を下記式より求めた。また、洗浄後のモールドについて、走査型電子顕微鏡観察を行った。
減少率（％）＝｛（浸漬前のモールドの質量−洗浄後のモールドの質量）／浸漬前のモールドの質量｝×１００
【０１３６】
（モールド溶解成分と重合性化合物の相溶性評価：透過率の測定）
モールド溶解成分を重合性化合物の混合液１００質量部に対して３質量部添加し攪拌させた混合液を石英セルに充填し、リファレンスを空の石英セルとして、分光光度計Ｕ−３３００（株式会社日立製作所製）を用いて、波長２００〜８００ｎｍの範囲、スキャンスピード３００ｎｍ／分の条件で透過率を測定した。
【０１３７】
（反射率の測定）
微細凹凸構造が形成されていない側の面を黒く塗った光透過性フィルムについて、分光光度計（株式会社日立製作所製、「Ｕ−４１００」）を用いて、入射角５°の条件で波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの間の相対反射率を測定した。
【０１３８】
（モールドの作製）
純度９９．９％のアルミニウムインゴットに鍛造処理を施して、直径：２００ｍｍ、長さ３５０ｍｍに切断した圧延痕のない平均結晶粒径：４０μｍの円筒状アルミニウム原型に、羽布研磨処理を施した後、これを過塩素酸／エタノール混合溶液中（体積比：１／４）で電解研磨し、鏡面化したものをアルミニウム基材として用いた。
工程（ａ）：
該アルミニウム原型について、０．３Ｍシュウ酸水溶液中で、直流４０Ｖ、温度１６℃の条件で３０分間陽極酸化を行った。
工程（ｂ）：
厚さ３μｍの酸化皮膜が形成されたアルミニウム原型を、６質量％リン酸／１．８質量％クロム酸混合水溶液に２時間浸漬して、酸化皮膜を除去した。
工程（ｃ）：
該アルミニウム原型について、０．３Ｍシュウ酸水溶液中、直流４０Ｖ、温度１６℃の条件で３０秒間陽極酸化を行った。
工程（ｄ）：
酸化皮膜が形成されたアルミニウム原型を、３０℃の５質量％リン酸水溶液に８分間浸漬して、細孔径拡大処理を行った。
工程（ｅ）：
前記工程（ｃ）および工程（ｄ）を合計で５回繰り返し、平均間隔：１００ｎｍ、深さ：１６０ｎｍの略円錐形状の細孔を有する陽極酸化アルミナが表面に形成されたロール状のモールド本体を得た。
【０１３９】
工程（ｆ）：
シャワーを用いてモールド本体の表面のリン酸水溶液を軽く洗い流した後、モールド本体を流水中に１０分間浸漬した。
工程（ｇ）：
モールド本体にエアーガンからエアーを吹き付け、モールド本体の表面に付着した水滴を除去した。
工程（ｈ）：
モールド本体を、オプツールＤＳＸ（ダイキン化成品販売株式会社製）を希釈剤ＨＤ−ＺＶ（株式会社ハーベス製）で０．１質量％に希釈した溶液に室温で１０分間浸漬した。工程（ｉ）：
モールド本体を希釈溶液から３ｍｍ／秒でゆっくりと引き上げた。
工程（ｊ）：
モールド本体を一晩風乾して、離型剤で処理されたモールドを得た。
【０１４０】
得られたモールドの走査型電子顕微鏡像を図６に示す。
なお、モールド溶解性の評価には、５０ｍｍ×５０ｍｍ×厚さ０．３ｍｍのアルミニウム板（純度９９．９９％）をアルミニウム基材として使用し、上記工程（ｃ）まで実施し
たものを用いた。
【０１４１】
［実施例１］
＜硬化性組成物の調製＞
重合性化合物としてポリエチレングリコールジアクリレート（東亜合成株式会社製、「アロニックスＭ２６０」）２０質量部と、トリメチロールエタン／アクリル酸／無水コハク酸の縮合反応物（大阪有機化学工業株式会社製、「ＴＡＳ」）７０質量部と、ヒドロキシエチルアクリレート（大阪有機化学工業株式会社製）３質量部と、メチルアクリレート（三菱化学株式会社製）７質量部とを混合して混合液を調製した。
この混合液に、重合開始剤として１−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製、「ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４」）１．０質量部と、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製、ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９）０．１質量部と、モールド溶解成分としてリン酸エステル化合物（アクセル社製、「ＩＮＴ−１８５６」）０．３質量部と、紫外線吸収剤（共同薬品株式会社、「Ｖｉｏｓｏｒｂ１１０」）０．２質量部とを添加し、硬化性組成物を調製した。
なお、モールド溶解成分として用いたリン酸エステル化合物について、モールド溶解による減少率の測定したところ、０．４１％であった。
さらにモールド溶解成分の重合性化合物の相溶性を調べるため、ＩＮＴ−１８５６を重合性化合物の混合液１００質量部に対して３質量部添加し攪拌させた混合液の５００ｎｍにおける透過率を測定したところ、透過率は４７％であり、内部離型剤と重合性化合物との相溶性が悪く、ブリードしやすいという結果が得られた。
【０１４２】
＜光透過性フィルムの製造＞
図４に示す製造装置を用い、以下のようにして光透過性フィルムを製造した。
ロール状モールド２０としては、先に作製したモールドを用いた。
基材フィルム４２としては、アクリルフィルム（三菱レイヨン株式会社製、「アクリプレンＨＢＳ０１０」、厚さ：１００μｍ）を用い、その裏面に、支持フィルム４８として粘着剤付きＰＥＴフィルム（株式会社サンエー化研製、「ＳＡＴ−１１６Ｔ」、厚さ：３８μｍ）を貼り合わせた。
【０１４３】
ロール状モールド２０と、ロール状モールド２０の表面に沿って移動する、帯状の支持フィルム４８によって裏面側から支持された帯状の基材フィルム４２との間に、タンク２２から硬化性組成物３８を供給した。
ついで、ロール状モールド２０の下方に設置された活性エネルギー線照射装置２８より、支持フィルム４８側から基材フィルム４２を通して硬化性組成物３８に、積算光量８００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、硬化性組成物３８を硬化させることによって、ロール状モールド２０の表面の微細凹凸構造が転写された硬化樹脂層４４を形成した。
剥離ロール３０により、表面に硬化樹脂層４４が形成された基材フィルム４２を支持フィルム４８と共にロール状モールド２０から剥離することによって、支持フィルム４８で支持された光透過性フィルム４０を得た。
【０１４４】
その結果、１００００ｍの光透過性フィルムを連続的に、かつ安定的に製造できた。
得られた光透過性フィルムの、製造開始から９００ｍ経過した付近の凸部間の平均間隔は１００ｎｍであり、凸部の高さは１６０ｎｍであり、波長５５０ｎｍの反射率は０．１％であった。
２７００ｍ付近の凸部間の平均間隔は１００ｎｍであり、凸部の高さは１３０ｎｍであり、波長５５０ｎｍの反射率は０．２％であった。
４５００ｍでの付近の凸部間の平均間隔は１００ｎｍであり、凸部の高さは１００ｎｍであり、波長５５０ｎｍの反射率は０．４％であった。
６３００ｍ付近の凸部間の平均間隔は１００ｎｍであり、凸部の高さは９５ｎｍであり、波長５５０ｎｍの反射率は０．８％であった。
７２００ｍ付近の凸部間の平均間隔は１００ｎｍであり、凸部の高さは９０ｎｍであり、波長５５０ｎｍの反射率は１．２％であった。
１００００ｍ付近の凸部間の平均間隔は１００ｎｍであり、凸部の高さは７０ｎｍであ
り、波長５５０ｎｍの反射率は２．６％であった。
また、前記測定した付近それぞれにおける１ｃｍ２内おいて、凸部の高さで１０ｎｍ超、反射率で０．５％超の斑は確認されなかった。
【０１４５】
以上の結果より、実施例１の場合、一定領域においては高さの均一な微細凹凸構造が形成されつつ、一定領域毎に高さが連続して減少している微細凹凸構造を表面に有する光透過性フィルムを単一のモールドから製造することができた。
【０１４６】
［比較例１］
重合性化合物としてトリメチロールエタン／アクリル酸／無水コハク酸の縮合反応物（大阪有機化学工業株式会社製、「ＴＡＳ」）４５質量部、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート（大阪有機化学工業社製）の４５質量部、ラジカル重合性シリコーンオイル（信越化学工業社製、Ｘ−２２−１６０２）の１０質量部を混合して混合液を調製した。
この混合液に、重合開始剤として１−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製、「ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４」）３．０質量部と、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製、ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９）０．２質量部と、モールド溶解成分としてリン酸エステル化合物（アクセル社製、「ＩＮＴ−１８５６」）０．１質量部とを添加し、硬化性組成物を調製した。
また、ＩＮＴ−１８５６を重合性化合物の混合液１００質量部に対して３質量部添加し攪拌させた混合液の５００ｎｍにおける透過率を測定したところ、透過率は９５％であった。従って、モールド溶解成分と重合性化合物の相溶性は良く、ブリードしにくいという結果が得られた。
【０１４７】
得られた硬化性組成物を用いた以外は、実施例１と同様の方法で光透過性フィルムを１００００ｍ作製した。
その結果、製造開始直後から１００００ｍまで、凸部間の平均周期は１００ｎｍであり、凸部の高さは１５０ｎｍであり、波長５５０ｎｍの反射率は０．１％であり、いずれも変化してなかった。
以上の結果より、比較例１の場合、硬化性組成物中のリン酸エステル化合物の含有量が少なく、さらにリン酸エステル化合物のブリードアウト量が少なかったため、モールド表面の溶解が起らなかったと考えられる。そのため、単一のモールドから高さの異なる微細凹凸構造を表面に有する光透過性フィルムを製造することはできなかった。
【符号の説明】
【０１４８】
１４  陽極酸化アルミナ
２０  ロール状モールド
３８  活性エネルギー線硬化性組成物
４０  光透過性フィルム
４２  基材フィルム
４４  硬化樹脂層
Ｆ  長手方向
【図１】
2013224015.tif 000006
【図２】
2013224015.tif 000007
【図３】
2013224015.tif 000008
【図４】
2013224015.tif 000009
【図５】
2013224015.tif 000010
【図６】
2013224015.tif 000011