(57)【要約】【課題】簡単な構成で半導体素子を真空吸着するための吸着穴の真空経路に蓄積した異物を容易に取り除くことができ、安定した吸着能力を発揮できる半導体素子の搬送装置を提供する。【解決手段】制御部は、切替弁とノズル用シリンダと集塵機３４を制御して、清掃ステージに位置するトレイ２に対して、切替弁によりトレイ２の吸着穴２１のエアー経路２４に高圧源を接続する第２モードに切り替えて、ノズル用シリンダによりトレイ２の吸着穴２１に集塵用ノズル２５を接続して、高圧源からの高圧の空気により吸着穴２１のエアー経路２４内の異物６を吹き飛ばし、吹き飛ばされた異物７を集塵用ノズル２５を介して集塵機３４により集塵することによって、トレイ２の吸着穴２１およびエアー経路２４の清掃を行う。【選択図】図４Ｃ
2013219113.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体素子を真空吸着で搬送するための回転テーブルと、
上記回転テーブルに周方向に配置され、上記半導体素子を真空吸着するための吸着穴を有するトレイと、
上記トレイの上記吸着穴の空気経路内を負圧または真空にするための真空源と、
上記トレイの上記吸着穴の上記空気経路内を高圧にするための高圧源と、
上記半導体素子の搬送時にトレイの上記吸着穴の上記空気経路に上記真空源を接続する第１モード、または、上記吸着穴の上記空気経路に上記高圧源を接続する第２モードのうちの少なくとも一方に切り替える切替弁と、
上記トレイの上記吸着穴を清掃するための清掃ステージにおいて、上記トレイの上記吸着穴に接続される集塵用ノズルと、
上記集塵用ノズルを上記トレイの上記吸着穴に接続するためのノズル駆動部と、
上記吸着穴内の異物を上記集塵用ノズルを介して集塵する集塵機と、
上記回転テーブルと上記切替弁と上記ノズル駆動部と上記集塵機を制御する制御部と
を備え、
上記制御部は、上記切替弁と上記ノズル駆動部と上記集塵機を制御して、上記清掃ステージに位置する上記トレイに対して、上記切替弁により上記トレイの上記吸着穴の上記空気経路に上記高圧源を接続する上記第２モードに切り替えて、上記トレイの上記吸着穴に上記集塵用ノズルを上記ノズル駆動部により接続して、上記高圧源からの高圧の空気により吹き飛ばされた上記吸着穴の上記空気経路内の異物を上記集塵用ノズルを介して上記集塵機により集塵することによって、上記トレイの上記吸着穴および上記空気経路の清掃を行うことを特徴とする半導体素子の搬送装置。
【請求項２】
請求項１に記載の半導体素子の搬送装置において、
上記回転テーブルの動作回数または動作時間を設定するための操作部と、
上記操作部により設定された上記回転テーブルの動作回数または動作時間を記録する記録部と、
上記回転テーブルの実動作回数または実動作時間が、上記記録部に記録された上記回転テーブルの動作回数または動作時間以上か否かを判定する動作判定部と、
上記制御部は、上記回転テーブルの実動作回数または実動作時間が、上記記録部に記録された上記回転テーブルの動作回数または動作時間以上であると上記動作判定部が判定すると、上記切替弁と上記ノズル駆動部と上記集塵機を制御して、上記トレイの上記吸着穴および上記空気経路の清掃を行うことを特徴とする半導体素子の搬送装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の半導体素子の搬送装置において、
上記トレイの上記吸着穴により上記半導体素子を真空吸着する吸着能力を検出する吸着能力検出部と、
上記吸着能力検出部により検出された上記トレイの吸着能力が予め設定された吸着能力判定値未満か否かを判定する吸着能力判定部と
を備え、
上記制御部は、上記吸着能力判定部が上記吸着能力検出部により検出された上記トレイの吸着能力が上記吸着能力判定値未満であると判定したときに、上記切替弁と上記集塵機を制御して、上記トレイの上記吸着穴および上記空気経路の清掃を行うことを特徴とする半導体素子の搬送装置。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか１つに記載の半導体素子の搬送装置において、
上記回転テーブルに周方向に配置された上記トレイは夫々、上記回転テーブルの回転に伴って複数の作業ステージに順次移動し、上記複数の作業ステージのうちの少なくとも１つが上記清掃ステージであることを特徴とする半導体素子の搬送装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、半導体素子の搬送装置に関し、詳しくは、半導体素子の生産設備において半導体素子の搬送を安定化する半導体素子の搬送装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体素子の生産設備において、回転テーブル方式の設備では、半導体素子を固定して搬送する方式として、半導体素子をチャッキングする方式が用いられていたが、生産設備の高速化に伴い、複数同時処理が求められている。
【０００３】
上記チャッキング方式では、１個または２個の半導体素子を同時に処理するのは可能であるが、３個以上の半導体素子では、チャッキング構造が複雑になり、また、動作スピードが高速化の妨げとなる。
【０００４】
図７Ａ,図７Ｂは２個の半導体素子を同時処理のチャッキング構造を示しており、プッシャー１１９でベアリング１１８,１１８を押し、可動板１１６,１１６を開いて、半導体素子１２０をセットした後、プッシャー１１９を引き戻し、可動板１１６,１１６を閉じる。そうすると、可動板１１６,１１６は、ばね１１７,１１７により固定板１１５側に引っ張られ、半導体素子１２０は、固定板１１５と可動板１１６,１１６に挟まれて、バネ１１７,１１７の付勢力により固定される。このチャッキング構造で４個の半導体素子を同時に処理しようとすると、機構が倍必要で、構造が複雑になる。
【０００５】
そこで、３個以上の半導体素子を同時に処理するものでは、半導体素子を固定して搬送する方式として、真空吸着方式を用いることにより、構造がシンプルになり、高速化に対応することが可能である。
【０００６】
しかしながら、上記真空吸着方式では、半導体素子を真空吸着で保持するため、半導体素子から落下した樹脂粉,樹脂屑および空気中に浮遊する樹脂粉,樹脂屑が吸着穴に吸い込まれ、吸い込まれた樹脂粉および樹脂屑が吸着穴の真空経路に付着して蓄積し、真空経路の断面積が減少することにより、吸着能力が低下し、半導体素子の保持力が低下して、半導体素子の位置ズレや落下が発生するという課題がある。
【０００７】
また、人手により清掃を行うため、回転テーブル方式では複数の配管があり、非常に時間がかかるという課題があった。このような清掃の際には、配管を１本ずつ抜き、高圧エアーで吸着穴にエアー噴射し、樹脂粉および樹脂屑を除去していたが、除去された樹脂粉および樹脂屑が空気中に舞い上がり、舞い上がった樹脂粉および樹脂屑が、再び吸着穴に吸い込まれる。このため、設備の長時間停止が発生し、生産性の低下する課題があった。
【０００８】
そこで、このような課題を解決するため、半導体素子の搬送装置として、吸着穴にレーザー光を照射することにより吸着ノズルの清掃するものが提案されている(例えば、特開２００４−０１４９３１公報(特許文献１)参照)。
【０００９】
上記従来の半導体素子の搬送装置では、吸着穴にレーザー光を照射するため、高精度の位置決めや安全対策(カバー等)が必要となるため、清掃機構が複雑になるという問題がある。上記従来の半導体素子の搬送装置は、レーザー照射のシステムが高価なためにコストが高くなる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００４−０１４９３１公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
そこで、この発明の課題は、簡単な構成で半導体素子を真空吸着するための吸着穴の真空経路に蓄積した異物を容易に取り除くことができ、安定した吸着能力を発揮できる半導体素子の搬送装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記課題を解決するため、この発明の半導体素子の搬送装置は、
半導体素子を真空吸着で搬送するための回転テーブルと、
上記回転テーブルに周方向に配置され、上記半導体素子を真空吸着するための吸着穴を有するトレイと、
上記トレイの上記吸着穴の空気経路内を負圧または真空にするための真空源と、
上記トレイの上記吸着穴の上記空気経路内を高圧にするための高圧源と、
上記半導体素子の搬送時にトレイの上記吸着穴の上記空気経路に上記真空源を接続する第１モード、または、上記吸着穴の上記空気経路に上記高圧源を接続する第２モードのうちの少なくとも一方に切り替える切替弁と、
上記トレイの上記吸着穴を清掃するための清掃ステージにおいて、上記トレイの上記吸着穴に接続される集塵用ノズルと、
上記集塵用ノズルを上記トレイの上記吸着穴に接続するためのノズル駆動部と、
上記吸着穴内の異物を上記集塵用ノズルを介して集塵する集塵機と、
上記回転テーブルと上記切替弁と上記ノズル駆動部と上記集塵機を制御する制御部と
を備え、
上記制御部は、上記切替弁と上記ノズル駆動部と上記集塵機を制御して、上記清掃ステージに位置する上記トレイに対して、上記切替弁により上記トレイの上記吸着穴の上記空気経路に上記高圧源を接続する上記第２モードに切り替えて、上記トレイの上記吸着穴に上記集塵用ノズルを上記ノズル駆動部により接続して、上記高圧源からの高圧の空気により吹き飛ばされた上記吸着穴の上記空気経路内の異物を上記集塵用ノズルを介して上記集塵機により集塵することによって、上記トレイの上記吸着穴および上記空気経路の清掃を行うことを特徴とする。
【００１３】
上記構成によれば、制御部は、切替弁とノズル駆動部と集塵機を制御して、清掃ステージに位置するトレイに対して、切替弁によりトレイの吸着穴の空気経路に高圧源を接続する第２モードに切り替え、トレイの吸着穴に集塵用ノズルをノズル駆動部により接続する。そうすることによって、高圧源からの高圧の空気により吸着穴内の異物を吹き飛ばし、集塵用ノズルを介して集塵機で集塵することにより、トレイの吸着穴および空気経路の清掃を行う。上記吸着穴の空気経路に侵入する樹脂粉や樹脂等は、空気経路の内壁に付着しても付着力が弱いため、高圧空気により容易に取り除くことができる。これによって、簡単な構成で半導体素子を真空吸着するための吸着穴の真空経路に蓄積した異物を容易に取り除くことができ、安定した吸着能力を発揮できる。
【００１４】
また、一実施形態の半導体素子の搬送装置では、
上記回転テーブルの動作回数または動作時間を設定するための操作部と、
上記操作部により設定された上記回転テーブルの動作回数または動作時間を記録する記録部と、
上記回転テーブルの実動作回数または実動作時間が、上記記録部に記録された上記回転テーブルの動作回数または動作時間以上か否かを判定する動作判定部と、
上記制御部は、上記回転テーブルの実動作回数または実動作時間が、上記記録部に記録された上記回転テーブルの動作回数または動作時間以上であると上記動作判定部が判定すると、上記切替弁と上記ノズル駆動部と上記集塵機を制御して、上記トレイの上記吸着穴および上記空気経路の清掃を行う。
【００１５】
上記実施形態によれば、回転テーブルの実動作回数または実動作時間が、記録部に記録された回転テーブルの動作回数または動作時間以上であると動作判定部が判定すると、制御部は、切替弁とノズル駆動部と集塵機を制御して、トレイの吸着穴および空気経路の清掃を行うことによって、清掃メンテナンスが容易になり、安定した吸着能力を確実に保つことができる。
【００１６】
また、一実施形態の半導体素子の搬送装置では、
上記トレイの上記吸着穴により上記半導体素子を真空吸着する吸着能力を検出する吸着能力検出部と、
上記吸着能力検出部により検出された上記トレイの吸着能力が予め設定された吸着能力判定値未満か否かを判定する吸着能力判定部と
を備え、
上記制御部は、上記吸着能力判定部が上記吸着能力検出部により検出された上記トレイの吸着能力が上記吸着能力判定値未満であると判定したときに、上記切替弁と上記集塵機を制御して、上記トレイの上記吸着穴および上記空気経路の清掃を行う。
【００１７】
上記実施形態によれば、吸着能力検出部により検出されたトレイの吸着能力が設定吸着能力未満であると吸着能力判定部が判定したときに、制御部は、切替弁と集塵機を制御して、トレイの吸着穴および空気経路の清掃を行うことによって、安定した吸着能力を確実に保つことができ、吸着能力の低下による半導体素子の吸着不良を未然に防ぐことができる。
【００１８】
また、一実施形態の半導体素子の搬送装置では、
上記回転テーブルに周方向に配置された上記トレイは夫々、上記回転テーブルの回転に伴って複数の作業ステージに順次移動し、上記複数の作業ステージのうちの少なくとも１つが上記清掃ステージである。
【００１９】
上記実施形態によれば、回転テーブルに周方向に配置されたトレイは夫々、回転テーブルの回転に伴って複数の作業ステージに順次移動し、複数の作業ステージのうちの少なくとも１つが清掃ステージであることによって、生産作業工程の途中で清掃することができると共に、清掃後に生産作業工程の途中から再開することができ、生産性を向上できる。
【発明の効果】
【００２０】
以上より明らかなように、この発明によれば、簡単な構成で半導体素子を真空吸着するための吸着穴の真空経路に蓄積した異物を容易に取り除くことができ、安定した吸着能力を発揮できる半導体素子の搬送装置を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１Ａ】図１Ａはこの発明の実施の一形態の清掃機能付搬送装置の概略構成図である。
【図１Ｂ】図１Ｂは上記清掃機能付搬送装置の回転テーブルの詳細図である。
【図２】図２は上記清掃機能付搬送装置の制御ブロックの構成を示す図である。
【図３Ａ】図３Ａは上記実施形態の清掃機能付搬送装置のトレイの斜視図である。
【図３Ｂ】図３Ｂは上記トレイの断面図である。
【図４Ａ】図４Ａは上記トレイに集塵用ノズルを装着する前の状態を示す斜視図である。
【図４Ｂ】図４Ｂは上記トレイに集塵用ノズルが装着された状態を示す斜視図である。
【図４Ｃ】図４Ｃは上記トレイと集塵用ノズルが装着された状態の断面図である。
【図５Ａ】図５Ａは上記実施形態の清掃機能付搬送装置のエアー経路切替弁のポートＡをポートＤに接続したときの構造図である。
【図５Ｂ】図５Ｂは上記エアー経路切替弁のポートＢをポートＤに接続したときの構造図である。
【図５Ｃ】図５Ｃは上記エアー経路切替弁のポートＣをポートＤに接続したときの構造図である。
【図６】図６は上記実施形態の清掃機能付搬送装置のエアー接続図である。
【図７Ａ】図７Ａは従来の半導体素子の搬送装置のチャッキング方式により半導体素子の保持状態を示す図である。
【図７Ｂ】図７Ｂは上記チャッキング方式により半導体素子の非保持状態する図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明の実施形態に係る半導体素子の搬送装置の一例としての清掃機能付搬送装置について、図面を参照して説明する。なお、以下に示す清掃機能付搬送装置は、本発明の半導体素子の搬送装置の一つの実施形態に過ぎず、本発明の半導体素子の搬送装置は、当該実施形態の清掃機能付搬送装置に対して種々の変更を加えて実現することが可能である。
【００２３】
また、以下では説明の具体化のため、ＳＯＰ(Small Outline Package：スモール・アウトライン・パッケージ)の半導体素子を検査する清掃機能付搬送装置について例示するが、本発明の清掃機能付搬送装置は、ＳＯＰ以外の素子等でも搬送可能である。搬送対象の半導体素子の種類に対応したものにすると、好ましい。
【００２４】
図１Ａはこの発明の実施の一形態の清掃機能付搬送装置の概略構成図を示しており、図１Ｂは上記清掃機能付搬送装置の回転テーブルの詳細図を示している。
【００２５】
図１Ａ, 図１Ｂに示す清掃機能付搬送装置では、円形の回転テーブル１上に周方向かつ等間隔に配置されたトレイ２(１２分割)の各部で、それぞれの作業を並行して行う。それぞれの作業が完了後、回転テーブル１が１ピッチ回転(図１では回転角３０度)し、回転テーブル１に周方向に配置されたトレイ２は夫々、回転テーブル１の回転に伴って次の作業ステージに移動する。
【００２６】
図１Ａにおいて、３６は外部から半導体素子を受け取る供給部、３７はトレイ２上の半導体素子の有無を検知する製品有無検知部、３８はトレイ２上の半導体素子の位置を矯正する位置矯正部、３９は半導体素子の電極に測子を接触させ、電気的特性検査を行う電気特性検査部、４０は半導体素子の外観上の検査を行う外観検査部、４１は半導体素子に印字するマーキング部、４２はマーキング部４１により印字された半導体素子の印字状態を検査するマーク検査部、４３は電気特性検査部３９の検査結果によりＡの分類を行う分類Ａ部、４４は電気特性検査部の検査結果によりＢの分類を行う分類Ｂ部、４５は電気特性検査部の検査結果によりＣの分類を行う分類Ｃ部、３３はトレイ２の清掃を行う清掃部である。また、５０は半導体素子を供給部３６に供給する素子供給部、５１は分類Ａ部４３により分類された半導体素子を収納する収納部、５２は分類Ｂ部４４により分類された半導体素子を収納する収納部、５３は分類Ｃ部４５により分類された半導体素子を収納する収納部である
この清掃機能付搬送装置は、図１Ｂに示すように、回転軸１ａ(図２に示す)を有する回転テーブル１と、回転テーブル１の表面に配置された１２個のトレイ２と、各トレイ２のエアー経路(空気経路)を夫々切り替える切替弁の一例としての１２個のエアー経路切替弁３と、負圧(真空)／高圧を供給するエアー供給弁４とを備える。また、各トレイ２のエアー経路切替弁３に、吸着能力検出部の一例としての圧力センサ５が接続されている。
【００２７】
また、図１Ａ,図１Ｂに示す構成の清掃機能付搬送装置では、半導体素子２０を水平搬送し、半導体素子２０をトレイ２に上から半導体素子を供給する構造としたが、必ずしも上から半導体素子を供給する構造ではなく、吊り下げ式(１８０度回転)、垂直搬送(９０度回転)であってもよい。また、搬送方向は、必ずしも回転方向ではなく、水平方向、垂直(上下)方向等の搬送方向でもよい。
【００２８】
また、図２は上記清掃機能付搬送装置の制御ブロックの構成を示している。この清掃機能付搬送装置は、図２に示すように、回転テーブル１の回転軸１ａを駆動する回転テーブル駆動部１１と、作業者の操作を受け付ける操作部１２と、作業者に報知を行う報知部１３と、清掃機能付搬送装置の動作に必要なデータを記録する記録部１４と、動作判定部１５と、吸着能力判定部１６と、操作部１２を介して入力される作業者の指示に基づいて清掃機能付搬送装置の全体の動作を制御する制御部１０とを備える。
【００２９】
上記制御部１０は、エアー経路切替弁３を制御して、半導体素子２０の搬送時にトレイ２のエアー経路２４(図３Ｂに示す)に真空源６１(図６に示す)を接続する第１モード、または、トレイ２のエアー経路２４に高圧源６２(図６に示す)を接続する第２モードに切り替える。
【００３０】
上記清掃機能付搬送装置では、清掃を怠ったり、異物が蓄積した状態のままで長期間使用したりすると、異物がトレイ２の吸着穴２１やエアー経路２４(図３Ｂに示す)を塞ぎ、人手で樹脂粉を除去しなければなららなくなる。このため、清掃期間を決め、定期的に清掃を行う必要がある。
【００３１】
＜清掃モードの動作＞
操作部１２を介して入力された作業者の指示に基づいて、制御部１０は清掃モードに移行し、回転テーブル１上の半導体素子２０を全て分類Ａ部４３,分類Ｂ部４４,分類Ｃ部４５に排出する。
【００３２】
そして、半導体素子２０を排出後、清掃部３３の集塵用ノズル２５(図４Ａ,図４Ｂに示す)が下降して、集塵用ノズル２５がトレイ２にセットされる。
【００３３】
次に、集塵機３４がオンして集塵を開始する。そして、エアー経路切替弁３を負圧(真空)から高圧に切り替えて、エアー供給弁４の高圧側の電磁弁(図示せず)をオンし、トレイ２の吸着穴２１のエアー経路２４に高圧空気を吹き込む。このとき、高圧空気は、連続的に供給してもよいし、間欠的に供給してもよい。
【００３４】
次に、トレイ２を清掃後、エアー供給弁４の高圧側の電磁弁をオフし、集塵用ノズル２５を上昇させた後、回転テーブル１の回転軸１ａを動作させ、回転テーブル１を１ピッチ送りし、次のトレイ２を清掃する。このように、トレイ２を１箇所ずつ清掃するため、トレイ２への集塵用ノズル２５のセットから同様に繰り返して全てのトレイ２の清掃を行う。
【００３５】
＜自動運転＞
まず、操作部１２を介して入力された作業者の指示に基づいて、回転テーブル１の動作回数(または動作時間)を設定する。そして、設定された回転テーブル１の動作回数(または動作時間)を記録部１４に記録する。
【００３６】
次に、実際の回転テーブル１の実動作回数(または実動作時間)が記録部１４に記録された回転テーブル１の動作回数(または動作時間)以上であると動作判定部１５が判定すると、制御部１０は清掃モードに移行してトレイ２の清掃を行い、清掃完了後、自動で生産を再開する。
【００３７】
＜吸着能力の監視＞
生産作業工程において、各トレイ２が半導体素子２０を真空吸着して搬送しているとき、各トレイ２のエアー経路切替弁３に接続されている圧力センサ５で吸着能力を監視する。すなわち、圧力センサ５により検出されたエアー経路切替弁３に接続されているエアー経路の圧力が予め設定された圧力判定値未満であると吸着能力判定部１６が判定すると、吸着能力が低下しているものとして、制御部１０は清掃モードに移行してトレイ２の清掃を行う。
【００３８】
図３Ａは上記実施形態の清掃機能付搬送装置のトレイの斜視図を示し、図３Ｂは上記トレイの断面図を示している。
【００３９】
この図３Ａ,図３Ｂでは、４個の半導体素子２０を同時に処理するトレイ２で、４個の半導体素子２０は、ポケット(掘り込み)２２にて位置決めされ、配管２３から供給された負圧(真空)により、吸着穴２１で吸着される。
【００４０】
なお、図３Ａ,図３Ｂは一例であり、必ずしも４個である必要な無く、１個〜複数個の半導体素子を１つのトレイに真空吸着させることも可能である。
【００４１】
また、半導体素子２０を位置決めするためのポケット(掘り込み)２２についても同様で、必ずしも必要は無く、トレイの吸着面はフラットでもよい。
【００４２】
図４Ａは上記トレイ２に集塵用ノズル２５を装着する前の状態を示し、図４Ｂは上記トレイ２に集塵用ノズル２５が装着された状態を示し、図４Ｃは上記トレイ２と集塵用ノズル２５が装着された状態の断面図を示している。
【００４３】
図４Ａ,図４Ｂに示すように、清掃部３３(図１Ａ,図１Ｂに示す)は、異物を集塵する集塵用ノズル２５と、集塵用ノズル２５をトレイ２にセットするノズル駆動部の一例としてのノズル用シリンダ９とを備えている。上記集塵用ノズル２５から吸い込んだ異物を集塵機３４(図４Ｃに示す)により集塵する。
【００４４】
図４Ａに示すように、集塵用ノズル２５は、通常はトレイ２の上側に待機し、図４Ｂに示すように、ノズル用シリンダ９のピストン９aが下降し、ピストン９aの下端に設けられた集塵ダクト２６の集塵用ノズル２５の先端がトレイ２の吸着穴２１に接続される。
【００４５】
そして、図４Ｃに示すように、集塵機３４により集塵ダクト２６を介して集塵しながら、高圧源６２(図６に示す)からの高圧を配管２３を介してトレイ２内に吹き込む。そうすることによって、エアー経路２４内に蓄積された異物６を吹き飛ばして除去し、除去された異物７は、集塵用ノズル２５,集塵ダクト２６,配管２７を介して集塵機３４に吸い込まれる。これにより、トレイ２を清掃する。
【００４６】
次に、トレイ２の清掃完了後、高圧源６２(図６に示す)からのエアーの吹き込みおよび集塵機３４による集塵を止め、ノズル用シリンダ９のピストン９aを上昇させることにより、集塵用ノズル２５を上昇させる。
【００４７】
図５Ａは上記清掃機能付搬送装置のエアー経路切替弁３のポートＡをポートＤ(トレイ２側)に接続したときの構造図を示し、図５Ｂはエアー経路切替弁３のポートＢをポートＤ(トレイ２側)に接続したときの構造図を示し、図５Ｃは上記エアー経路切替弁３のポートＣをポートＤ(トレイ２側)に接続したときの構造図を示している。
【００４８】
このエアー経路切替弁３は、図５Ａに示すように、筒状のハウジング３０と、ハウジング３０内を摺動自在に収容されたスプール３１と、ハウジング３０内に配置され、スプール３１を一方に付勢するバネ３２と、切替弁用シリンダ８とを有している。上記スプール３１のバネ３２と反対の側の一端に、ハウジング３０から一部が突出するロッド３１aを設けている。
【００４９】
図５Ａにおいて、ポートＡに真空源６１(図６に示す)を接続し、ポートＢは接続せずに大気開放とし、ポートＣに高圧源６２(図６に示す)を接続し、ポートＤに配管２３を介してトレイ２を接続している。また、切替弁用シリンダ８のピストン８aは、切替弁用シリンダ８内に没入しており、エアー経路切替弁３のロッド３１aから離れた位置にある。
【００５０】
図５Ａに示すノーマル状態では、エアー経路切替弁３内のバネ３２の力により、スプール３１は負圧(真空)の位置となっており、ロッド３１aの押し込み量により、負圧(真空)・大気開放・高圧の３段階のポジション切り替えを行う。
【００５１】
図５Ａの負圧(真空)ポジションでは、ポートＡとポートＤが連通して、真空源６１からの負圧(真空)をポートＡとポートＤを介してトレイ２に供給する。
【００５２】
図５Ｂの大気開放ポジションでは、切替弁用シリンダ８のピストン８aを突出させて、エアー経路切替弁３のロッド３１aを所定の中間位置まで押し込むことにより、ポートＢとポートＤが連通して、トレイ２のエアー経路２４は大気開放となる。
【００５３】
図５Ｃの高圧ポジションでは、さらに切替弁用シリンダ８のピストン８aを突出させて、エアー経路切替弁３のロッド３１aを所定の高圧位置まで押し込むことにより、ポートＣとポートＤが連通して、高圧源６２からの高圧をポートＡとポートＤを介してトレイ２に供給する。
【００５４】
また、図６は上記実施形態の清掃機能付搬送装置のエアー接続図を示している。
【００５５】
この清掃機能付搬送装置は、図６に示すように、真空源６１と高圧源６２とを備えている。上記真空源６１は、各エアー経路切替弁３のポートＡにフィルタ５aを介して夫々接続されている。このフィルタ５aの真空源６１側に圧力センサ５を接続している。また、上記高圧源６２は、エアー経路切替弁３のポートＣに接続され、各エアー経路切替弁３のポートＢは未接続である。そして、各エアー経路切替弁３のポートＤは夫々、トレイ２に接続されている。
【００５６】
上記構成の清掃機能付搬送装置によれば、制御部１０は、エアー経路切替弁３とノズル用シリンダ９と集塵機３４を制御して、清掃ステージに位置するトレイ２に対して、エアー経路切替弁３によりトレイ２のエアー経路２４に高圧源６２を接続する第２モードに切り替え、トレイ２の吸着穴２１に集塵用ノズル２５をノズル用シリンダ９により接続する。そうすることによって、高圧源６２からの高圧の空気により吸着穴２１内の異物を吹き飛ばし、集塵用ノズル２５を介して集塵機３４で集塵することにより、トレイ２の吸着穴２１およびエアー経路２４の清掃を行う。上記トレイ２のエアー経路２４に侵入する樹脂粉や樹脂等は、エアー経路２４の内壁に付着しても付着力が弱いため、高圧空気により容易に取り除くことができる。これによって、半導体素子２０を真空吸着するための吸着穴２１およびエアー経路２４に蓄積した異物を容易に取り除くことができ、安定した吸着能力を発揮できる。
【００５７】
また、上記回転テーブル１の実動作回数または実動作時間が、上記記録部に記録された回転テーブル１の動作回数または動作時間以上であると動作判定部１５が判定すると、制御部１０は、エアー経路切替弁３とノズル用シリンダ９と集塵機３４を制御して、トレイ２の吸着穴２１およびエアー経路２４の清掃を行うことによって、清掃メンテナンスが容易になり、安定した吸着能力を確実に保つことができる。
【００５８】
また、上記圧力センサ５により検出されたエアー経路切替弁３に接続されているエアー経路の圧力が予め設定された圧力判定値未満であると吸着能力判定部１６が判定したときに、制御部１０は、エアー経路切替弁３と集塵機３４を制御して、トレイ２の吸着穴２１およびエアー経路２４の清掃を行うことによって、安定した吸着能力を確実に保つことができ、吸着能力の低下による半導体素子２０の吸着不良を未然に防ぐことができる。
【００５９】
また、上記回転テーブル１に周方向に配置されたトレイ２は夫々、回転テーブル１の回転に伴って複数の作業ステージに順次移動し、複数の作業ステージのうちの少なくとも１つが清掃ステージであることによって、生産作業工程の途中で清掃することができると共に、清掃後に生産作業工程の途中から再開することができ、生産性を向上できる。
【００６０】
本発明の半導体素子の搬送装置によれば、真空吸着力の安定化が図れ、生産設備の安定稼動を行うことが可能となる。
【００６１】
この発明の具体的な実施の形態について説明したが、この発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、この発明の範囲内で種々変更して実施することができる。
【符号の説明】
【００６２】
１…回転テーブル
１ａ…回転軸
２…トレイ
３…エアー経路切替弁
４…エアー供給弁(負圧(真空)／高圧供給弁)
５…圧力センサ
５ａ…フィルタ
６…蓄積された異物
７…除去された異物
８…切替弁用シリンダ
８ａ…ピストン
９…ノズル用シリンダ
１０…制御部
１１…回転テーブル駆動部
１２…操作部
１３…報知部
１４…記録部
１５…動作判定部
１６…吸着能力判定部
２０…半導体素子
２１…吸着穴
２２…ポケット(掘り込み)
２３…配管
２４…エアー経路
２５…集塵用ノズル
２６…集塵ダクト
３０…ハウジング
３１…スプール
３１a…ロッド
３２…バネ
３３…清掃部
３４…集塵機
３６…供給部
３７…製品有無検知部
３８…位置矯正部
３９…電気特性検査部
４０…外観検査部
４１…マーキング部
４２…マーク検査部
４３…分類Ａ部
４４…分類Ｂ部
４５…分類Ｃ部
５１,５２,５３…収納部
６１…真空源
６２…高圧源
１１５…固定板
１１６…可動板
１１７…ばね
１１８…ベアリング
１１９…プッシャー
Ａ…ポート(トレイ側)
Ｂ…ポート(真空圧供給)
Ｃ…ポート(待機開放)
Ｄ…ポート(正圧供給)
【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
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【図２】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図４Ｃ】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図５Ｃ】
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【図６】
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【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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