(57)【要約】【課題】塗布開始前に塗布位置を調整することにより、ウエブ上に塗布膜を歩留まり良く形成することが可能なウエブ塗布装置を提供する。【解決手段】ウエブＷを間欠搬送する搬送機構１０の休止期間に、第１のノズル水平移動機構１７および第２のノズル水平移動機構１８を駆動してウエブＷの搬送方向およびこれに直交する方向にノズル１４を移動することにより、塗布位置の調整を行うことが可能である。その後、ウエブ昇降機構を駆動してウエブＷを下降させ、吸着力発生機構により吸着定盤１３上にウエブＷを吸着固定することで水平な塗布面Ｐを形成する。給送機構１５によりノズル１４に塗布液を供給し、ウエブＷの上面と所定の塗布ギャップを維持するノズル１４の吐出口から塗布液を吐出してビードを作り、第１のノズル水平移動機構１７をウエブＷの搬送方向に走査することにより、ビードがノズル１４に追従し塗布面Ｐに塗布膜が形成される。【選択図】図１
2013150946.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
長尺のウエブを水平な搬送面を形成するように間欠搬送する搬送機構と、
前記搬送面の下方に配置され、前記ウエブが吸着固定される吸着定盤と、
前記吸着定盤の上面に吸着力を発生させる吸着力発生機構と、
前記搬送面の上方に配置され、前記ウエブの上面と所定の塗布ギャップを維持する吐出口を有し、該吐出口から塗布液を吐出するノズルと、
前記ノズルに塗布液を給送する給送機構と、
前記ウエブの搬送方向に前記ノズルを水平移動可能に構成された第１のノズル水平移動機構と、
前記ウエブの搬送方向に直交する方向に前記ノズルを水平移動可能に構成された第２のノズル水平移動機構と、
前記搬送面と前記吸着定盤との間で前記ウエブを昇降可能に構成されたウエブ昇降機構と、
を備えるウエブ塗布装置。
【請求項２】
前記ウエブのエッジまたは前記ウエブの上面に既に形成された塗布膜のエッジを検出する塗布位置検出センサと、
前記塗布位置検出センサの検出結果に基づいて、前記ノズルの初期位置を調整するように、前記搬送機構、前記第１のノズル水平移動機構および前記第２のノズル水平移動機構の駆動を個別に制御する塗布位置制御部と、
を備える、請求項１に記載のウエブ塗布装置。
【請求項３】
前記ウエブ昇降機構は、
前記ウエブの搬送方向について前記吸着定盤の上流側に昇降可能に配置され、前記ウエブを支持する第１のウエブ支持部材と、
前記ウエブの搬送方向について前記吸着定盤の下流側に昇降可能に配置され、前記ウエブを支持する第２のウエブ支持部材と、
前記第１のウエブ支持部材を昇降させる第１のウエブ支持部材昇降機構と、
前記第２のウエブ支持部材を昇降させる第２のウエブ支持部材昇降機構と、
前記吸着定盤の上方に位置する前記ウエブを、その搬送方向の上流側から下流側へと漸次下降させるように、前記第１のウエブ支持部材昇降機構および前記第２のウエブ支持部材昇降機構の駆動を時間差で個別に制御するウエブ昇降制御部と、
を有する、請求項１または２に記載のウエブ塗布装置。
【請求項４】
前記吸着定盤は、前記ウエブの搬送方向に分割された複数の吸着エリアを有し、
前記吸着力発生機構は、前記複数の吸着エリアを、前記ウエブの搬送方向に段階的かつ追加的に動作させるウエブ吸着制御部を備える、請求項３に記載のウエブ塗布装置。
【請求項５】
前記ウエブの上方から前記ウエブの搬送方向に直交する方向に平行な線形圧力を付加する部材を、前記ウエブの搬送方向に走査する機構をさらに備える、請求項４に記載のウエブ塗布装置。
【請求項６】
前記線形圧力を付加する部材は、前記ウエブの上面に当接し、前記ウエブの搬送方向に直交する方向に配向された軸で回転自在に支持されたローラである、請求項５に記載のウエブ塗布装置。
【請求項７】
前記線形圧力を付加する部材は、前記ウエブの上面との間にギャップを保持する噴出口を有するエア噴出ノズルである、請求項５に記載のウエブ塗布装置。
【請求項８】
前記エア噴出ノズルを、前記ウエブの搬送方向に揺動させる機構をさらに備える、請求項７に記載のウエブ塗布装置。
【請求項９】
前記第１のノズル水平移動機構および前記第２のノズル水平移動機構が構築されたステージを、前記ウエブの搬送方向に対して直交に配置することが可能に構成された、請求項１〜８にいずれかに記載のウエブ塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、紙、プラスチック、布、金属箔およびこれらの積層体からなるシートないしはフィルム（以下、ウエブと称する。）の片面に塗布液を塗布するウエブ塗布装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来のウエブ塗布装置として、間欠搬送の休止期間に、吸着定盤上にウエブを吸着固定し、スリットダイの吐出口とウエブの上面と間に所定の塗布ギャップを保持して、給送機構を用いてスリットダイへ塗布液を供給しながらノズル水平移動機構を駆動してスリットダイを搬送方向に移動させることで、ウエブＷの上面に塗布膜を形成するものが提案されている（例えば、特許文献１参照。）。スリットダイは、その下端にスリット状の吐出口を有し、ウエブの搬送方向に直交する方向（ウエブの幅方向）に吐出口の長手方向が配向するように配置される。スリットダイの吐出口の長さは、一般的にウエブの幅に比べて短い長さに設定される。
【０００３】
このようなウエブ塗布装置では、可撓性を有するウエブであっても、ウエブを硬い水平面を有する吸着定盤上に安定的に吸着固定して塗布を行うので、均一な塗布膜厚を得やすく、非塗布部を挟んで塗布膜を間欠的に形成する間欠塗布に適している。
【０００４】
厚みが要求される塗布膜では、１回の塗布では塗布膜厚が不足する場合、２回、３回と重ね塗りをする必要がある。また、異種塗布膜を多層に形成する多層塗りをするときも同様である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９−４５５６５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
搬送機構にウエブのロールをセットする作業は手作業であるため、ウエブの幅方向両端位置の再現性を得ることが難しい。また、ウエブのロール毎に寸法公差もある。そうすると、ウエブの幅方向についてウエブの塗布面に対するスリットダイの吐出口の相対的な位置（以下、塗布位置とも言う。）にズレが生じることがある。
【０００７】
スリットダイの吐出口の長さは、ウエブの幅に比べて短いので、ウエブのロール１本に一層しか塗布しない一層塗りの場合は、この塗布位置のズレが小さい限り、それほど問題になることはない。しかし、重ね塗りや多層塗りを行う際には、既にウエブ上に形成された塗布膜の上にスリットダイの吐出口を精度良く重ね合わす必要があるため、塗布位置のズレが生じると均一な塗布膜を歩留まり良く得ることが難しくなる。なお、重ね塗りや多層塗りを行う場合は、塗布位置のズレはウエブの搬送方向にも生じ得る。
【０００８】
本発明は、上記従来の課題に鑑みてなされたものであり、塗布開始前に塗布位置を調整することにより、ウエブ上に塗布膜を歩留まり良く形成することが可能なウエブ塗布装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
この発明のウエブ塗布装置は、搬送機構、吸着定盤、吸着力発生機構、ノズル、給送機構、第１のノズル水平移動機構、第２のノズル水平移動機構およびウエブ昇降機構を備える。前記搬送機構は長尺のウエブを水平な搬送面を形成するように間欠搬送する。前記吸着定盤は、前記搬送面の下方に配置され、前記ウエブが吸着固定される。前記吸着力発生機構は、前記吸着定盤の上面に吸着力を発生する。前記ノズルは前記搬送面の上方に配置され、前記ウエブの上面と所定の塗布ギャップを維持する吐出口を有し、該吐出口から塗布液を吐出する。前記給送機構は前記ノズルに塗布液を給送する。前記第１のノズル水平移動機構は前記ウエブの搬送方向に前記ノズルを水平移動可能に構成される。前記第２のノズル水平移動機構はウエブの搬送方向に直交する方向に前記ノズルを水平移動可能に構成される。前記ウエブ昇降機構は前記搬送面と前記吸着定盤との間で前記ウエブを昇降可能に構成される。
【００１０】
この構成によると、ウエブの間欠搬送の休止期間に、第１のノズル水平移動機構および第２のノズル水平移動機構を駆動してウエブの搬送方向およびこれに直交する方向にノズルを移動することにより、塗布位置の調整を行うことが可能である。その後、ウエブ昇降機構を駆動してウエブを下降させ、吸着力発生機構により吸着定盤上にウエブを吸着固定することで水平な塗布面を形成する。給送機構によりノズルに塗布液を供給し、ウエブの上面と所定の塗布ギャップを維持するノズルの吐出口から塗布液を吐出してビードを作り、第１のノズル水平移動機構をウエブの搬送方向に走査することにより、ビードがノズルに追従し塗布面に塗布膜が形成される。
【００１１】
塗布位置の調整には、塗布位置検出センサおよび塗布位置制御部を利用する。前記塗布位置検出センサは、前記ウエブのエッジまたは前記ウエブの上面に既に形成された塗布膜のエッジを検出する。前記塗布位置制御部は、前記塗布位置検出センサの検出結果に基づいて、前記ノズルの初期位置を調整するように、前記搬送機構、前記第１のノズル水平移動機構および前記第２のノズル水平移動機構の駆動を個別に制御する。
【００１２】
このようなウエブ塗布装置では、塗布ギャップの再現性が塗布膜厚の歩留まりに多大な影響を及ぼす。本発明では、塗布面を形成する際に、吸着定盤を上昇させるのではなく、吸着定盤は不動にしてウエブ昇降機構によりウエブを下降させるので、吸着定盤の上昇量の誤差を懸念することなく、再現良く所定の塗布ギャップを形成することが可能となる。
【００１３】
また、平滑で均一な搬送面を形成するには、ウエブを吸着定盤に吸着固定する際に、ウエブに皺が発生したり、ウエブと吸着定盤との間に空気溜まりが発生するのを防ぐ必要がある。このため、前記ウエブ昇降機構は、第１のウエブ支持部材、第２のウエブ支持部材、第１のウエブ支持部材昇降機構、第２のウエブ支持部材昇降機構およびウエブ昇降制御部を備える。また、前記吸着力発生機構は、ウエブ吸着力制御部を有する。
【００１４】
前記第１のウエブ支持部材は、前記ウエブの前記ウエブの搬送方向について前記吸着定盤の上流側に昇降可能に配置され、ウエブを支持する。前記第２のウエブ支持部材は、前記ウエブの搬送方向について前記吸着定盤の下流側に昇降可能に配置され、前記ウエブを支持する。前記第１のウエブ支持部材昇降機構は、前記第１のウエブ支持部材を昇降させる。前記第２のウエブ支持部材昇降機構は、前記第２のウエブ支持部材を昇降させる。ウエブ昇降制御部は、前記吸着定盤の上方に位置する前記ウエブを、その搬送方向の上流側から下流側へと漸次下降させるように、前記第１のウエブ支持部材昇降機構および前記第２のウエブ支持部材昇降機構の駆動を時間差で個別に制御する。前記ウエブ吸着制御部は、複数の吸着エリアを前記ウエブの搬送方向に段階的かつ追加的に動作させる。複数の吸着エリアとは、前記吸着定盤において前記ウエブの搬送方向に分割されたエリアである。
【００１５】
また、ウエブの張力制御だけでは吸着が行えない厚みの厚いウエブや、皺が入りやすく伸縮性のあるウエブでは、ウエブを上方から押さえ付ける強制力を作用させるのが良い。このため、本発明のウエブ塗布装置は、前記ウエブの上方から前記ウエブの搬送方向に直交する方向に平行な線形圧力を付加する部材を、前記ウエブの搬送方向に走査する機構をさらに備える。
【００１６】
前記線形圧力を付加する部材は、前記ウエブの上面に当接し、前記ウエブの搬送方向に直交する方向に配向された軸で回転自在に支持されたローラを用いることが出来る。
【００１７】
あるいは、前記線形圧力を付加する部材は、前記ウエブの上面との間にギャップを保持する噴出口を有するエア噴出ノズルでも構わない。この場合、空気の噴出方向を可変できるように、前記エア噴出ノズルを、前記ウエブの搬送方向に揺動させる機構をさらに備えるとなお良い。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によると、塗布開始前にウエブの塗布面に対するノズルの相対的な位置を調整することができる。したがって、ウエブ上に塗布膜を歩留まり良く形成することが出来る。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の実施形態に係るウエブ塗布装置を示す概略構成図である。
【図２】同ウエブ塗布装置のノズル移動機構を示す概略構成図である。
【図３】同ウエブ塗布装置のノズル移動機構の別実施形態を示す概略構成図である。
【図４】同ウエブ塗布装置のノズル移動機構のさらに別実施形態を示す概略構成図である。
【図５】同ウエブ塗布装置の塗布位置制御系統を示すブロック図である。
【図６】同ウエブ塗布装置の塗布位置制御例を示すフローチャートである。
【図７】塗布位置検出センサによる検出位置の一例を示すウエブの平面図である。
【図８】ウエブ昇降制御部およびウエブ吸着制御部による制御例を説明するウエブ塗布装置要部の概略側面図である。
【図９】押えローラの動作を説明するウエブ塗布装置要部の概略側面図である。
【図１０】エア噴出ノズルの動作を説明するウエブ塗布装置要部の概略側面図である。
【図１１】エア噴出ノズルを揺動させる機構を説明するウエブ塗布装置要部の概略側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
図１は、本発明の実施形態に係るウエブ塗布装置を示す概略構成図である。
【００２１】
本発明のウエブ塗布装置１は、例えば、図１に示すように、ウエブＷが巻き出し部３０１から巻き出され、前処理工程でウエブＷの洗浄・除塵・表面改質などが行われ、その後、塗布工程で、ウエブＷ上に塗布液が塗布され、その後、乾燥・冷却などの後処理工程が行われた後に、巻き取り機構の巻き取り部３０２によりウエブＷが巻き取られるようなロール・ツー・ロールの間欠送りで搬送される装置の塗布装置として用いることが出来る。
【００２２】
このため本発明の塗布装置１は、主たる構成として、図１に示すように、搬送機構１０、吸着定盤１３、吸着力発生機構（不図示。）、ノズル１４、給送機構１５、ノズル昇降機構１６、第１のノズル水平移動機構１７、第２のノズル水平移動機構１８、塗布位置検出センサ６５，６６、第１のウエブ支持ローラ２０、第２のウエブ支持ローラ２１、第１のウエブ支持ローラ昇降機構２２、および第２のウエブ支持ローラ昇降機構２３を備える。
【００２３】
また、ウエブ塗布装置１は本発明に必須の構成ではないが、副次的な構成として、前処理装置３０、後処理装置４０およびノズル管理ユニット５０を備える。
【００２４】
前処理装置３０は、ウエブＷの搬送方向について、ウエブ塗布装置１の塗布工程を行う主要部の上流側に配置される。前処理装置３０は、塗布工程を行う前のウエブＷの塗布面に前処理を施す。例えば、洗浄・除塵・表面改質を行う。
【００２５】
後処理装置４０は、ウエブＷの搬送方向について、ウエブ塗布装置１の塗布工程を行う主要部の下流側に配置される。後処理装置４０は、塗布工程を行った後のウエブＷに後処理を施す。例えば、乾燥・冷却を行う。
【００２６】
ノズル管理ユニット５０は、薄膜・低粘度塗布、間欠塗布における塗布膜開始部および塗布膜終了部の膜厚精度確保のために設置される。ノズル管理ユニット５０は、一例としてプライミングローラ、ノズル先端洗浄装置およびディップ槽（いずれも不図示。）を備える。回転されるプライミングローラの表面にノズル１４の吐出口から塗布液を塗布することで、ノズル１４の吐出口の液量調整を行う。ノズル洗浄装置はノズル１４の吐出口の汚れを自動清掃する。長期装置停止時、トラブルによる装置停止時、メンテナンス時など塗布液がノズル１４に供給されないまま放置しておくとノズル１４の吐出口が乾燥して塗布液が固まり、塗布不良の発生またはノズルの分解清掃が必要となる。よって、ディップ槽に塗布液または洗浄液を入れ、ノズル１４先端部を浸漬もしくは液上面位置にノズル１４を近づけておくことで乾燥を防ぐことが出来る。
【００２７】
搬送機構１０は、巻き出し部１１および巻き取り部１２を備える。巻き出し部１１は一例としてローラが用いられ、長尺のウエブＷがロール状に巻回される。巻き取り部１２は一例としてローラが用いられ、ウエブＷの末端が取付けられる。巻き取り部１２は図示しない駆動機構から回転力を得て回転される。これによって、巻き取り部１２にウエブＷが巻き取られ、ウエブＷが前処理工程、塗布工程、後処理工程の順に搬送される。駆動機構は所定の間隔で駆動と休止を交互に繰り返すように、搬送機構１０を間欠駆動する。すなわち、ウエブＷは間欠搬送される。塗布工程は、搬送機構１０の間欠駆動の休止期間に行われる。
【００２８】
ニップ装置６４はウエブＷの搬送方向について前処理装置３０の下流側に配置される。ダンサー機構６３はウエブＷの搬送方向について後処理装置４０の下流側に配置される。ニップ装置６４およびダンサー機構６３は、搬送機構１０の間欠駆動の間、常時動作して、両者の間に存在するウエブＷに張力を付加し、塗布工程でウエブＷにたるみが生ずるのを防止する。また、参照符号の附設を省略するが、巻き出し部１１と巻き取り部１２の間には、搬送機構１０の駆動時にウエブＷに張力を付加してたるみを防止するための従動ローラが随所に配置されている。ウエブＷは、塗布工程から後処理工程にかけて、図１に示すような水平な搬送面Ｔを形成するように搬送される。
【００２９】
次に、前処理装置３０と後処理装置４０との間に配置された、ウエブ塗布装置１の塗布工程を行う主要部の構成について詳細に説明する。架台２４は脚部によって床面Ｆ上に水平支持され、所定の高さに固定的に設置される。塗布工程を行う部分はこの架台２４上に設置される。
【００３０】
吸着定盤１３は、搬送面Ｔの下方に配置される。吸着定盤１３は架台２４上に固定的に設置され、高さ位置は不変である。後述するように、ウエブ塗布装置１はウエブＷを吸着定盤１３上に密着させるために、吸着定盤１３を上昇させるのではなく、ウエブＷを昇降させるウエブ昇降機構を備える。吸着定盤１３は吸着力発生機構に接続される。
【００３１】
吸着力発生機構（不図示。）は吸着定盤１３の上面に吸着力を発生させるもので、好適には吸引吸着力を発生する真空ポンプが用いられる。真空ポンプを用いて吸着定盤１３の上面に吸引吸着力を発生させることで、ウエブＷが吸着定盤１３上に吸着固定される。なお、吸着力発生機構は、静電吸着力を発生させる手段を用いることも可能である。
【００３２】
吸着定盤１３は、ウエブＷの搬送方向に分割された複数（本実施形態では一例として３つ。）の吸着エリア１３１〜１３３（図８（Ｃ）参照。）を有する。３つの吸着エリア１３１〜１３３は吸着力発生機構によって動作し、その動作はウエブ吸着制御部（不図示。）により制御される。３つの吸着エリア１３１〜１３３はウエブＷの搬送方向に段階的かつ追加的に動作するように制御される。
【００３３】
ノズル１４は、搬送面Ｔの上方に配置される。ノズル１４は一例としてスリット状の吐出口を有するスリットダイが用いられる。ノズル１４は、スリット状の吐出口がウエブＷの搬送方向に直交する方向（すなわち、ウエブＷの幅方向。）に平行となる配向で設置される。
【００３４】
後述するように、ノズル１４は、垂直方向（Ｚ軸方向。）およびウエブＷの搬送方向（Ｘ軸方向。）に移動可能である。ノズル１４は、ウエブＷの搬送方向（Ｘ軸方向。）の移動により、ウエブＷの上方を走行して吐出口から吐出される塗布液をウエブＷの表面に塗布する。また、ノズル１４は、垂直方向（Ｚ軸方向。）の移動により、ウエブＷとの間に所定の塗布ギャップを形成する。塗布ギャップを維持してノズル１４がウエブＷの搬送方向に走行することで吐出口から吐出される塗布液がウエブＷ上に塗布される。また、ノズル１４は、これらの２方向に加えて、ウエブＷの搬送方向に直交する方向（Ｙ軸方向。）にも移動可能である。
【００３５】
給送機構１５はノズル１４に塗布液を供給するもので、一例として塗布液タンクおよび定量ポンプで構成される。定量ポンプは機械的に高精度な塗布液吐出量制御が行えるため、塗布膜開始部および塗布膜終了部の膜厚のコントロールが可能で、さらにスマートフィッティング制御を組み合わせることで膜厚の均一性をより向上させることができる。塗布液種・塗布液粘土が変更になっても塗布液供給ユニットとしてコートワゴンユニットを設置することで、塗布液監視および自動液交換が行える。また、塗布液タンクに洗浄液を入れることで自動配管内洗浄も可能となるなど、塗布用途に合わせていろいろな配管システムの組み合わせが可能である。
【００３６】
図２はノズル移動機構の概略構成を、搬送面を搬送方向に直交する方向に横切る断面で示す図である。ステージ２５は架台２４（図１参照。）に固定的に設置され、高さ位置は不変である。ノズル移動機構はこのステージ２５上に構成される。ノズル移動機構は、ノズル昇降機構１６、第１のノズル水平移動機構１７および第２のノズル水平移動機構１８から構成される。
【００３７】
ステージ２５には、ウエブＷの搬送経路の外側に、ウエブＷの搬送方向に直交する方向に対向してガントリー型ＸＺ軸ロボットが構築される。このロボットは、一例として直交軸を有する２軸のリニアアクチュエータが用いられる。このロボットにより、ノズル１４を保持するスライダ２６を垂直方向（Ｚ軸方向。）およびウエブＷの搬送方向（Ｘ軸方向。）に移動させるノズル昇降機構１６および第１のノズル水平移動機構１７がそれぞれ実現される。
【００３８】
また、ウエブ塗布装置１は、上記２方向に加えて、ウエブＷの搬送方向に直交する方向（Ｙ軸方向。）にもスライダ２６を移動可能な第２のノズル水平移動機構１８を備える。本実施の形態では、第２のノズル水平移動機構１８はスライダ２６とノズル１４との間に設けられる。この他、図３に第２のノズル水平移動機構の別実施形態を示すように、第２のノズル水平移動機構１８をノズル昇降機構１６と第１のノズル水平移動機構１７との間に設けても良いし、図４に第２のノズル水平移動機構のさらに別実施形態を示すように、第２のノズル水平移動機構１８を架台２４とステージ２５との間に設けても良い。
【００３９】
第２のノズル水平移動機構１８は一例として、リニアアクチュエータ、電動アクチュエータ、エアベアリングを用いたリニアモータ、空気圧・油圧式アクチュエータ等の自動駆動方式、送りネジ、押し引きネジ等による手動調整方式がある。
【００４０】
再び、図１を参照し、第１の塗布位置検出センサ６５は、ウエブＷの搬送方向について前処理装置３０の上流側に配置される。第２の塗布位置検出センサ６６は、ウエブＷの搬送方向についてノズル１４の上流側に配置される。第１の塗布位置検出センサ６５および第２の塗布位置検出センサ６６は、ウエブＷのエッジまたはウエブＷの上面に形成された塗布膜のエッジを検出することにより、ノズル１４の初期位置（塗布位置）の制御に用いられる。このような塗布位置検出センサは一例として画像処理センサ、色識別センサ、超音波センサ、バーコード、レーザセンサ、サーモグラフィセンサが用いられる。
【００４１】
図５に、塗布位置制御系統のブロック図を示す。塗布位置制御部２７は第１の塗布位置検出センサ６５および第２の塗布位置検出センサ６６の検出信号に基づいて搬送機構１０、第１のノズル水平移動機構１７および第２のノズル水平移動機構１８の駆動を個別に制御する。塗布位置制御部２７はノズル１４の位置を把握している。
【００４２】
図６のフローチャートを用いて、塗布位置制御部２７による塗布位置決め制御例を説明する。まず、第１の塗布位置検出センサ６５によりウエブＷのエッジを検出し（ステップＳ１。）、搬送機構１０を駆動して塗布工程を行うために設定された初期位置までウエブＷを搬送する（ステップＳ２）。再度、第２の塗布位置検出センサ６６により、ウエブＷのウエブＷのエッジを検出し（ステップＳ３）、塗布位置制御部２７はウエブＷの搬送方向（Ｘ軸方向）について、ノズル１４の現在位置が適正位置からズレているか否かを判断し（ステップＳ４）、ズレが生じていると判断したときは、第１のノズル水平移動機構１７を動作させてノズル１４を同方向に移動させ、位置合わせを行う（ステップＳ５）。続いて、塗布位置制御部２７はウエブＷの搬送方向に直交する方向（Ｙ軸方向）について、ノズル１４の現在位置が適正位置よりもズレているか否かを判断し（ステップＳ６）、ズレが生じていると判断したときは、第２のノズル水平移動機構１８を動作させてノズル１４を同方向に移動させ、位置合わせを行う。
【００４３】
このような塗布位置調整は、未塗布のウエブＷに初めて塗布膜を形成する場合にも使用出来るが、塗布膜を既に形成したウエブＷに重ね塗りまたは多層塗りをする際に有用である。重ね塗りまたは多層塗りでは、第１の塗布位置検出センサ６５および第２の塗布位置検出センサ６６の検出位置を、図７の平面図に示すように、ウエブＷのエッジではなく、塗布膜のエッジに設定することで、精度良く塗布膜の上方の適正位置にノズル１４の吐出口を重ねるように塗布位置を調整することが可能となる。
【００４４】
再度図１を参照し、ウエブ昇降機構の構成を説明する。第１のウエブ支持ローラ２０は搬送面Ｔの下側にあって、ウエブＷの搬送方向について吸着定盤１３の上流側に昇降可能に配置され、該位置でウエブＷを支持している。第２のウエブ支持ローラ２１は搬送面Ｔの下側にあって、ウエブＷの搬送方向について吸着定盤１３の上流側に昇降可能に配置され、該位置でウエブＷを支持している。第１のウエブ支持ローラ２０および第２のウエブ支持ローラ２１は、本発明のウエブ支持部材の一例である。第１のウエブ支持ローラ２０および第２のウエブ支持ローラ２１は、ウエブＷの搬送に伴って従動回転する。
【００４５】
第１のウエブ支持ローラ昇降機構２２は、第１のウエブ支持ローラ２０の近傍に配置され、第１のウエブ支持ローラ２０を昇降させるように構成される。第２のウエブ支持ローラ昇降機構２３は、第２のウエブ支持ローラ２１の近傍に配置され、第２のウエブ支持ローラ２１を昇降させるように構成される。第１のウエブ支持ローラ昇降機構２２および第２のウエブ支持ローラ昇降機構２３は一例として、リニアアクチュエータなどが好意的に用いられる。
【００４６】
第１のウエブ支持ローラ昇降機構２２および第２のウエブ支持ローラ昇降機構２３の駆動はウエブ昇降制御部（不図示。）により制御される。ウエブ昇降制御部は吸着定盤１３の上方に位置する部分のウエブＷを、その搬送方向の搬送方向の上流側から下流側へと漸次下降させるように、第１のウエブ支持ローラ昇降機構２２および第２のウエブ支持ローラ昇降機構２３を時間差で制御する。
【００４７】
図８を参照してウエブ昇降制御部およびウエブ吸着制御部による制御例を説明する。以下に説明する一連の動作では、特に図示はしていないが、ニップ装置６４およびダンサー機構６３が駆動され、ウエブＷに対して搬送方向に均一の張力を掛けながら行われる。
【００４８】
上述した塗布位置調整の後、まず図８（Ａ）に示す状態で、第１のウエブ支持ローラ２０および第２のウエブ支持ローラ２１は共に同一の高さに位置して、吸着定盤１３よりも上方でウエブＷを支持している。このときのウエブＷの高さは搬送面Ｔの高さと同一である。
【００４９】
次に、ウエブ昇降制御部は、第１のウエブ支持ローラ昇降機構２２を駆動し、図８（Ｂ）に示すように、第１のウエブ支持ローラ２０を下降させる。第１のウエブ支持ローラ２０の下降量は搬送面Ｔと吸着定盤１３の上面の高さの差に設定されている。このとき、第２のウエブ支持ローラ２１は下降せず、初期の高さに維持されている。したがって、吸着定盤１３の上方に位置するウエブＷは、図示のごとく、ウエブＷの搬送方向の上流側が低く、下流側が高くなるような傾斜を持って支持される。
【００５０】
その後、図８（Ｃ）〜（Ｅ）に示すように、ウエブ昇降制御部は、第２のウエブ支持ローラ昇降機構２３を駆動して、第２のウエブ支持ローラ２１を下降させる。第２のウエブ支持ローラ２１の下降量は、第１のウエブ支持ローラ２０と同一に設定される。
【００５１】
ウエブ吸着制御部は、第２のウエブ支持ローラ２１の下降中における序盤、中盤、終盤の３つの時間帯に同期させるように、吸着定盤１３を搬送方向に分割して形成された３つの吸着エリア１３１〜１３３を段階的かつ追加的に動作させる。すなわち、序盤で最も上流側に位置する第１の吸着エリア１３１のみを動作させ（図８（Ｃ）参照。）、中盤で中央部に位置する第２の吸着エリア１３２を追加的に動作させ（図８（Ｄ）参照。）、終盤で最も下流側に位置する第３の吸着エリア１３３をさらに追加的に動作させる（図８（Ｅ）参照。）。
【００５２】
このようなウエブ昇降制御部およびウエブ吸着制御部の協働により、ウエブＷに対し搬送方向に均一の張力が掛けられた状態で、ウエブＷの傾斜が小さくなるのに合わせて、ウエブＷの搬送方向の上流側から下流側へとウエブＷが吸着定盤１３上に漸次吸着される。これにより、吸着されたウエブＷに皺が発生したり、ウエブＷと吸着定盤１３との間に空気溜りが発生することを防止することが出来る。この結果、可撓性を有するウエブＷであっても、ウエハなどの枚葉状のワークと同様に定形性および平滑性を有する水平な塗布面Ｐ（図８（Ｅ）参照。）を形成することが可能である。なお、ウエブ支持ローラ２０，２１にエキスパンダーローラ（弓形湾曲ローラ）を採用すると、ウエブＷに発生する皺を効果的に防ぐことができる。
【００５３】
このようにして塗布面Ｐが形成された後、ノズル昇降機構１６が駆動されてノズル１４の吐出口と塗布面Ｐとの間に所定の塗布ギャップが保持される。そして、給送機構１５が駆動されてノズル１４から吐出される微量の塗布液により、塗布ギャップに塗布液溜まり（ビード）が作られる。そして、第１のノズル水平移動機構１７が駆動され、ウエブＷの搬送方向に吸着定盤１３の長さを越えない所定の距離だけノズル１４を連続的もしくは間欠的に走査することにより、ビードがノズル１４の移動に追従し塗布面Ｐに塗布液が全面もしくは間欠塗布される。
【００５４】
上述したウエブ昇降機構の時間差の駆動および複数の吸着エリアの段階的かつ追加的な動作に加えて、ウエブＷに上方から力を加えて吸着定盤１３上に押さえつける構造を設けても良い。例えば、吸着定盤１３上に吸着固定されたウエブＷに対してウエブＷの搬送方向に直交する方向に平行な線形圧力を付加する部材を、ウエブＷの搬送方向に走査する機構である。走査機構の一例としてはリニアアクチュエータが用いられる。
【００５５】
図９は線形圧力を付加する部材が押えローラである場合を例示する。押えローラ２８は、ウエブＷの搬送方向に直交する方向に配向された軸で回転可能に支持される。押えローラ２８は搬送面Ｔの上方に配置され（図９（Ａ）参照。）、昇降機構（不図示。）により吸着定盤１３上に支持されたウエブＷの上面に当接する位置まで下降し、ウエブＷの搬送方向に直交する方向に平行な線形の押圧をウエブＷに付与する（図９（Ｂ）参照。）。押えローラ２８は走査機構（不図示。）によりウエブＷの搬送方向の下流側から上流側へ走査され、押えローラ２８はウエブＷ上を回転しながら走行する（図９（Ｃ）〜（Ｅ）参照。）。なお、押えローラ２８の昇降機構部に空気圧式シリンダ等を採用することで、押えローラ２８による押圧を、内部空気圧の変更で任意に設定できるため、ウエブＷにストレスを与えることがない。
【００５６】
また、図１０は線形圧力を付加する部材がエア噴出ノズル２９である場合を例示する。エア噴出ノズル２９は搬送面Ｔの上方に配置される（図１０（Ａ）参照。）。エア噴出ノズル２９は、下端にウエブＷの上面との間にギャップを保持する噴出口を有する。噴出口は一例としてウエブＷの搬送方向に直交する方向に延びたスリット形状であるが、これに限定されず、同方向に等間隔で配置された複数の小孔で噴出口を構成しても良い。エア噴出ノズル２９は空気を圧送するエアポンプなどに接続され、噴出口から噴出される高圧空気により、ウエブＷの搬送方向に直交する方向に平行な線形の空気圧をウエブＷに付与する（図１０（Ｂ）参照。）。空気を吐出するエア噴出ノズル２９は、走行機構（不図示。）によりウエブＷの搬送方向の下流側から上流側へ走査される（図１０（Ｃ）〜（Ｅ）参照。）。エア噴出ノズル２９は塗布面Ｐと非接触状態で走査されるため、ウエブＷに傷をつけることがなく、重ね塗りや多層塗りのときに塗布膜に影響を及ぼさない。また、塗布面Ｐに存在する粉じんの除去効果も期待出来る。エア噴出ノズル２９による空気圧はレギュレータ等で調整でき、空気噴出流量は流量計またはスリット状の噴出口の開口幅をシム等で変更することで調整できる。
【００５７】
なお、空気の噴出方向の変更用に、図１１に示すように、エア噴出ノズル２９をウエブＷの搬送方向に直交する方向の揺動軸２９１で揺動可能に支持し、このエア噴出ノズル２９をウエブＷの搬送方向に揺動させる機構を設けても良い。
【００５８】
このように、押えローラ２８をウエブＷ上で走行させたり、エア噴出ノズル２９をウエブＷの上方で走査することにより、ウエブＷの張力制御だけでは吸着が行えない厚みの厚いウエブ、皺が入りやすい伸縮性のあるウエブに対し、吸着定盤１３上へ均一に吸着が行える。
【００５９】
上述の実施形態では、塗布工程で第１のノズル水平移動機構１７によりウエブＷの搬送方向にノズル１４を走査して塗布を行う。このため、第１のノズル水平移動機構１７によるノズル移動可能量は、もっぱらノズル１４の初期位置調整用の第２のノズル水平機構１８によるノズル移動可能距離よりもかなり大きくなるように設定されている。これに対して、ステージ２５をウエブＷの搬送方向に対し直交に配置することを可能に構成しても良い。これによると、塗布工程でのノズル走査方向が本実施形態の場合に対して直角に反転される。すなわち、ウエブＷの搬送方向とは直交する方向に塗布を行うことが可能となる。
【００６０】
上述の実施形態の説明は、すべての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上述の実施形態ではなく、特許請求の範囲によって示される。さらに、本発明の範囲には、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【符号の説明】
【００６１】
１…ウエブ塗布装置
１０…搬送機構
１３…吸着定盤
１３１…第１の吸着エリア
１３２…第２の吸着エリア
１３３…第３の吸着エリア
１４…ノズル
１５…給送機構
１６…ノズル昇降機構
１７…第１のノズル水平移動機構
１８…第２のノズル水平移動機構
２０…第１のウエブ支持ローラ
２１…第２のウエブ支持ローラ
２２…第１のウエブ支持ローラ昇降機構
２３…第２のウエブ支持ローラ昇降機構
２４…架台
２５…ステージ
２６…スライダ
２７…塗布位置制御部
２８…押えローラ
２９…エア噴出ノズル
３０…前処理装置
４０…後処理装置
５０…ノズル管理ユニット
６３…ダンサー機構
６４…ニップ装置
６５…第１の塗布位置検出センサ
６６…第２の塗布位置検出センサ
Ｗ…ウエブ
Ｐ…塗布面
Ｔ…搬送面
【図１】
2013150946.tif 000003
【図２】
2013150946.tif 000004
【図３】
2013150946.tif 000005
【図４】
2013150946.tif 000006
【図５】
2013150946.tif 000007
【図６】
2013150946.tif 000008
【図７】
2013150946.tif 000009
【図８】
2013150946.tif 000010
【図９】
2013150946.tif 000011
【図１０】
2013150946.tif 000012
【図１１】
2013150946.tif 000013