(57)【要約】【課題】加工対象の周縁領域を加工することにより発生する加工屑の拡散を防止する。【解決手段】薄膜太陽電池パネルを所定の第１加工位置に設置した状態で、パネルの下方に、エッジデリーションの加工対象となる周縁領域に沿うようにロの字型に設けられ、周縁領域を加工することにより発生する加工屑を集めるための集塵溝２０２が設けられている。また、集塵溝２０２に集められた加工屑を排出するための集塵ダクト２０３Ｆａ乃至２０３Ｂｂおよび２０４ａ乃至２０４ｌが設けられている。本発明は、例えば、エッジデリーションを行うレーザ加工装置に適用できる。【選択図】図６
2013184223.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
矩形の加工対象の周縁領域を加工するレーザ加工装置において、
前記加工対象を所定の位置に設置した状態で、前記加工対象の下方に前記周縁領域に沿うようにロの字型に設けられ、前記周縁領域を加工することにより発生する加工屑を集めるための集塵溝と、
前記集塵溝に集められた前記加工屑を排出するための集塵ダクトと
を備えるレーザ加工装置。
【請求項２】
前記加工対象の搬送方向と平行な両端をそれぞれ支持し、前記加工対象を前記搬送方向に搬送する一対のコンベアと、
前記所定の位置において前記加工対象を支持する支持部材と
をさらに備え、
前記支持部材により前記加工対象が支持されているときに、前記一対のコンベアの間の間隔、および、前記集塵溝の外壁のうち前記搬送方向と平行な外壁の間の間隔を広げ、前記コンベアおよび前記搬送方向と平行な外壁を前記加工対象の直下から外側に移動させることが可能である
請求項１に記載のレーザ加工装置。
【請求項３】
前記集塵溝の前記搬送方向と平行な外壁は、前記コンベアと一体になって移動する
請求項２に記載のレーザ加工装置。
【請求項４】
前記集塵溝の前記搬送方向と平行な外壁を除く部分が上下に移動可能である
請求項２に記載のレーザ加工装置。
【請求項５】
前記支持部材は上下に移動可能であり、
前記集塵溝の上下に移動可能な部分は、前記支持部材と一体になって上下に移動する
請求項４に記載のレーザ加工装置。
【請求項６】
前記集塵溝は上下に移動可能である
請求項１に記載のレーザ加工装置。
【請求項７】
前記所定の位置において前記加工対象を支持し、上下に移動可能な支持部材を
さらに備え、
前記集塵溝は、前記支持部材と一体になって上下に移動する
請求項６に記載のレーザ加工装置。
【請求項８】
前記集塵溝の各辺に前記集塵ダクトが少なくとも１つ以上設けられている
請求項１に記載のレーザ加工装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レーザ加工装置に関し、特に、薄膜太陽電池パネルのエッジデリーションを行う場合に用いて好適なレーザ加工装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、薄膜太陽電池パネル（以下、単にパネルとも称する）の製造は、一般的にＰ１工程、Ｐ２工程、Ｐ３工程、Ｐ４工程の順に行われている。
【０００３】
Ｐ１工程では、ガラス製の透明基板の上に、例えば透明導電性酸化物（TCO）からなる透明電極層が形成され、レーザ光を用いて透明電極層のパターニングが行われる。
【０００４】
Ｐ２工程では、透明電極層の上に、例えばアモスファスシリコン（a-Si）からなる半導体層が形成され、レーザ光を用いて半導体層のパターニングが行われる。
【０００５】
Ｐ３工程では、半導体層の上に、例えばAg電極からなる裏面電極層が形成され、レーザ光を用いて裏面電極層のパターニングが行われる。
【０００６】
以上の工程により、パネルの外周部の周縁領域を除く領域（以下、セル集積領域と称する）に、電気的に直列に接続された複数の光電変換セルが生成される。なお、周縁領域は、周囲（例えば、隣接する他の薄膜太陽電池パネル）との間の電気的な絶縁を確保したり、パネルをフレーム等に取付けたりするために確保される領域である。
【０００７】
Ｐ４工程では、透明電極層、半導体層、裏面電極層を貫通する外周分離溝を、セル集積領域の周囲にレーザ光を用いて形成し、セル集積領域と周縁領域とを電気的に絶縁するエッジアイソレーションが行われる。
【０００８】
さらに、近年、電気絶縁性をより強化するために、Ｐ３工程あるいはＰ４工程の後にエッジデリーションが行われる場合がある（例えば、特許文献１参照）。
【０００９】
ここで、図１および図２を参照してエッジデリーションについて簡単に説明する。なお、図１は、エッジデリーションを行った後の薄膜太陽電池パネル１を裏面電極側から見た模式図である。また、図２の上の図は、エッジデリーションを行う前の薄膜太陽電池パネル１の外周付近の断面の模式図であり、下の図は、エッジデリーションを行った後の薄膜太陽電池パネルの同じ位置の断面の模式図である。
【００１０】
エッジデリーションの工程では、薄膜太陽電池パネルのセル集積領域１１（図１の斜線部分）を囲む所定の幅（例えば、10〜13mm）の周縁領域１２に、透明基板１Ａ側からレーザ光が照射され、透明電極層１Ｂ、半導体層１Ｃおよび裏面電極層１Ｄが透明基板１Ａから剥離される。これにより、周縁領域１２から透明電極層１Ｂ乃至裏面電極層１Ｄが除去され、透明基板１Ａだけが残される。
【００１１】
このエッジデリーションの工程では、周縁領域１２から透明電極層１Ｂ乃至裏面電極層１Ｄを除去することで加工屑が発生するため、加工屑の拡散を防止するための対策を施す必要がある。
【００１２】
一方、従来、レーザ加工装置にプッシュプル方式の集塵機を設けることが提案されている（例えば、特許文献２参照）。具体的には、加工テーブル内の一端に送風口を設け、対向する一端に吸気口を設け、送風口から吸気口に向かう空気の流れにより、加工テーブル内に除去された加工屑を吸気口から吸い込み、フィルタで除去することが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１３】
【特許文献１】特開２０１１−６１１５３号公報
【特許文献２】特開２００５−１４４４５４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
しかしながら、特許文献２に記載の発明においては、エッジデリーションのように加工対象の周縁領域を加工することは想定されていないため、集塵効果を十分に発揮できないことが想定される。
【００１５】
本発明は、このような状況に鑑みてなされたものであり、加工対象の周縁領域を加工することにより発生する加工屑の拡散を防止できるようにするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明の一側面のレーザ加工装置は、矩形の加工対象の周縁領域を加工するレーザ加工装置であって、加工対象を所定の位置に設置した状態で、加工対象の下方に周縁領域に沿うようにロの字型に設けられ、周縁領域を加工することにより発生する加工屑を集めるための集塵溝と、集塵溝に集められた加工屑を排出するための集塵ダクトとを備える。
【００１７】
本発明の一側面のレーザ加工装置においては、矩形の加工対象の周縁領域を加工することにより発生する加工屑が集塵溝に集められ、集塵溝に集められた加工屑が集塵ダクトから排出される。
【００１８】
従って、加工対象の周縁領域を加工することにより発生する加工屑の拡散を防止することができる。
【００１９】
この加工対象は、例えば、薄膜太陽電池パネルにより構成される。このレーザ加工装置は、例えば、薄膜太陽電池パネルのエッジデリーションを行うレーザ加工装置により構成される。
【００２０】
このレーザ加工装置においては、加工対象の搬送方向と平行な両端をそれぞれ支持し、加工対象を搬送方向に搬送する一対のコンベアと、所定の位置において加工対象を支持する支持部材とをさらに設け、支持部材により加工対象が支持されているときに、一対のコンベアの間の間隔、および、集塵溝の外壁のうち搬送方向と平行な外壁の間の間隔を広げ、コンベアおよび搬送方向と平行な外壁を加工対象の直下から外側に移動させることが可能である。
【００２１】
これにより、レーザ光によりコンベアの部品にダメージが与えられることが防止される。また、より確実に加工屑の拡散を防止することができる。
【００２２】
このレーザ加工装置においては、集塵溝の搬送方向と平行な外壁を、コンベアと一体になって移動させることができる。
【００２３】
これにより、集塵溝の外壁とコンベアを移動させる機構を１つにすることができる。
【００２４】
このレーザ加工装置においては、この集塵溝の搬送方向と平行な外壁を除く部分を上下に移動可能にすることができる。
【００２５】
これにより、集塵溝を加工対象に近づけることができ、より確実に加工屑の拡散を防止することができる。
【００２６】
このレーザ加工装置においては、支持部材を上下に移動可能とし、集塵溝の上下に移動可能な部分を、支持部材と一体になって上下に移動させることができる。
【００２７】
これにより、集塵溝の外壁を除く部分と支持部材を上下に移動させる機構を１つにすることができる。
【００２８】
このレーザ加工装置においては、集塵溝を上下に移動可能にすることができる。
【００２９】
これにより、集塵溝を加工対象に近づけることができ、より確実に加工屑の拡散を防止することができる。
【００３０】
このレーザ加工装置においては、所定の位置において加工対象を支持し、上下に移動可能な支持部材をさらに設け、この集塵溝を、支持部材と一体になって上下に移動するようにすることができる。
【００３１】
これにより、集塵溝と支持部材を上下に移動させる機構を１つにすることができる。
【００３２】
このレーザ加工装置においては、集塵溝の各辺に集塵ダクトを少なくとも１つ以上設けることができる。
【００３３】
これにより、集塵溝に集められた加工屑をより確実に排出することができる。
【発明の効果】
【００３４】
本発明の一側面によれば、加工対象の周縁領域を加工することにより発生する加工屑の拡散を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】エッジデリーションについて説明するための図である。
【図２】エッジデリーションについて説明するための図である。
【図３】本発明を適用したレーザ加工装置の一実施の形態を示す斜視図である。
【図４】搬送部全体の斜視図である。
【図５】搬送部からローダを除いた状態の斜視図である。
【図６】搬送部からローダを除いた状態の平面図である。
【図７】搬送部からローダを除いた状態の右側面図である。
【図８】搬送部からローダおよび集塵溝の左右可動部を除いた状態の斜視図である。
【図９】集塵溝の左右可動部の斜視図である。
【図１０】レーザ加工装置のエッジデリーション開始時の動作を説明するためのフローチャートである。
【図１１】コンベアおよび集塵溝の動きについて説明するための図である。
【図１２】コンベアおよび集塵溝の動きについて説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００３６】
以下、本発明を実施するための形態（以下、実施の形態という）について説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
１．実施の形態
２．変形例
【００３７】
＜１．実施の形態＞
［レーザ加工装置の構成例］
図３は、本発明を適用したレーザ加工装置の一実施の形態を示す図である。
【００３８】
レーザ加工装置１０１は、薄膜太陽電池パネル１０２（以下、単にパネル１０２と称する）のエッジデリーションを行うための装置である。レーザ加工装置１０１は、レーザ発振器１１１、光ファイバ１１２、加工ヘッド１１３、ガントリ１１４、Ｘ−Ｙステージ１１５、リニアモータ１１６、サーボモータ１１７、および、搬送部１１８を含むように構成される。
【００３９】
レーザ発振器１１１と加工ヘッド１１３は、光ファイバ１１２を介して接続されている。加工ヘッド１１３は、ガントリ１１４の前面に設けられている。ガントリ１１４は、Ｘ−Ｙステージ１１５の上面に設けられている。
【００４０】
なお、以下、Ｘ−Ｙステージ１１５の幅方向をｘ軸方向とし、かつ、左から右に向かう方向を正の方向とする。また、以下、Ｘ−Ｙステージ１１５の奥行き方向をｙ軸方向とし、かつ、前から後ろに向かう方向を正の方向とする。さらに、以下、Ｘ−Ｙステージ１１５の高さ方向をｚ軸方向とし、かつ、下から上に向かう方向を正の方向とする。
【００４１】
レーザ発振器１１１から出射されたレーザ光は、光ファイバ１１２を通って加工ヘッド１１３に入射する。加工ヘッド１１３は、レーザ光が出射される出射口が設けられている面が下を向くように、ガントリ１１４の前面に設けられている。そして、加工ヘッド１１３は、Ｘ−Ｙステージ１１５の上面に設けられている搬送部１１８に載置されるパネル１０２にレーザ光を照射するとともに、パネル１０２上でレーザ光を走査する。
【００４２】
また、加工ヘッド１１３は、ガントリ１１４の前面に設けられているリニアモータ１１６によりｘ軸方向に平行移動することが可能である。さらに、ガントリ１１４は、左右の両脚の裏面に設けられている図示せぬリニアモータ（以下、ガントリ１１４の裏面のリニアモータと称する）により、ｙ軸方向に平行移動することが可能である。これにより、加工ヘッド１１３とパネル１０２の間の相対位置を、ｘ軸の正および負の方向、並びに、ｙ軸の正および負の方向の、互いに直交する４方向に移動し、レーザ光の照射位置を当該４方向に移動することができる。
【００４３】
さらに、加工ヘッド１１３は、加工ヘッド１１３の裏面（ガントリ１１４の前面と対向する面）に設けられているサーボモータ１１７によりｚ軸方向に平行移動することが可能である。これにより、加工ヘッド１１３とパネル１０２の間隔を調整し、加工ヘッド１１３から出射されるレーザ光の焦点位置を制御することができる。
【００４４】
搬送部１１８は、加工前のパネル１０２を加工が行われる位置まで搬入したり、加工後のパネル１０２をレーザ加工装置１０１から搬出したりする。また、搬送部１１８には、パネル１０２の加工時に発生する加工屑を集める集塵機構が設けられている。
【００４５】
［搬送部１１８の構成例］
次に、図４乃至図９を参照して、搬送部１１８の構成例について説明する。
【００４６】
なお、図４は、搬送部１１８全体の斜視図である。図５は、搬送部１１８からローダ２０１を除いた状態の斜視図であり、図６は、搬送部１１８からローダ２０１を除いた状態の平面図であり、図７は、搬送部１１８からローダ２０１を除いた状態の右側面図である。図８は、図５から集塵溝２０２の左右可動部２４２を除いた状態の斜視図である。図９は、集塵溝の左右可動部２４２の斜視図である。
【００４７】
搬送部１１８は、ローダ２０１、集塵溝２０２、集塵ダクト２０３Ｆａ乃至２０３Ｂｂ（図６等）、集塵ダクト２０４ａ乃至２０４ｌ（図６等）、接続部材２０５Ｌａ乃至２０５Ｒｂ（図６等）、リフタ昇降部２０６（図７等）、リフタピン２０７ａ乃至２０７ｉ、リフタ部２０８（図７）、および、接続部材２０９Ｆａ乃至２０９Ｒｂ（図６等）を含むように構成される。
【００４８】
図４に示されるように、ローダ２０１は、一対のコンベア２２１Ｌおよびコンベア２２１Ｒ、駆動モータ２２２、スプラインシャフト２２３、ＬＭガイド（登録商標）２２４Ｌａ乃至２２４Ｒｂ（ただし、ＬＭガイド２２４Ｌｂは不図示）、および、シフト用シリンダ２２５Ｌ，２２５Ｒ（ただし、シフト用シリンダ２２５Ｌは不図示）を含むように構成される。
【００４９】
コンベア２２１Ｌおよびコンベア２２１Ｒは、それぞれ搬送部１１８の左右の端部に、ｙ軸方向に延びるように配置され、それぞれ複数のコンベアローラがほぼ等間隔に設けられている。パネル１０２の搬送方向（ｙ軸方向）と平行な両端は、それぞれコンベア２２１Ｌ，２２１Ｒのコンベアローラの上に置かれ、支持される。そして、駆動モータ２２２により、コンベア２２１Ｌのコンベアローラが回転するとともに、スプラインシャフト２２３を介して駆動モータ２２２の回転力がコンベア２２１Ｒに伝達され、コンベア２２１Ｒのコンベアローラが回転する。これにより、パネル１０２が、ｙ軸の正の方向に搬送される。
【００５０】
また、コンベア２２１Ｌは、ＬＭガイド２２４Ｌａ，２２４Ｌｂおよびシフト用シリンダ２２５Ｌにより、ｘ軸方向にシフト（平行移動）することができる。同様に、コンベア２２１Ｒは、ＬＭガイド２２４Ｒａ，２２４Ｒｂおよびシフト用シリンダ２２５Ｒにより、ｘ軸方向にシフト（平行移動）することができる。そして、コンベア２２１Ｌ，２２１Ｒをｘ軸方向にシフトさせることにより、コンベア２２１Ｌとコンベア２２１Ｒとの間の間隔を広げたり狭めたりすることができる。なお、パネル１０２を搬送するときには、最も狭い間隔になるようにコンベア２２１Ｌ，２２１Ｒのｘ軸方向の位置が設定される。
【００５１】
集塵溝２０２は、パネル１０２のエッジデリーションを行うことにより発生する加工屑を集めるための溝である。集塵溝２０２は、パネル１０２が所定の位置（以下、第１加工位置と称する）に設置された状態で、パネル１０２の下方にパネル１０２の周縁領域に沿うようにロの字型に設けられている。集塵溝２０２は、図８に示される上下可動部２４１と、図９に示される左右可動部２４２に分かれる。
【００５２】
上下可動部２４１は、パネル１０２が第１加工位置に設置された状態で、パネル１０２の下方に、エッジデリーションの加工対象となるパネル１０２の周縁領域に沿うようにロの字型に設けられた溝状の形状を有する。また、パネル１０２が第１加工位置に設置された状態で、上下可動部２４１の内壁２５１（内壁２５１Ｆ，２５１Ｂ，２５１Ｌ，２５１Ｒ）はパネル１０２の周縁領域より内側に位置し、外壁２５２（外壁２５２Ｆ，２５２Ｂ，２５２Ｌ，２５２Ｒ）はパネル１０２の周縁領域より外側に位置する。従って、パネル１０２が第１加工位置に設置された状態で上方から見た場合、加工対象となるパネル１０２の周縁領域は、上下可動部２４１の内壁２５１と外壁２５２の間に位置するようになる。
【００５３】
また、内壁２５１および外壁２５２のうち、前後左右の内壁２５１Ｆ，２５１Ｂ，２５１Ｌ，２５１Ｒ、および、前後の外壁２５２Ｆ，２５２Ｂは、ほぼ同じ高さに設定されている。一方、左右の外壁２５２Ｌ，２５２Ｒは、他の壁より低く設定されている。
【００５４】
さらに、図５等に示されるように、外壁２５２Ｆの両端付近には、集塵ダクト２０３Ｆａ，２０３Ｆｂが設けられ、外壁２５２Ｂの両端付近には、集塵ダクト２０３Ｂａ，２０３Ｂｂが設けられている。また、図６等に示されるように、上下可動部２４１の底部２５３の各辺には、集塵ダクト２０４ａ乃至２０４ｌがそれぞれ３つずつ設けられている。そして、図示せぬ吸気機構等によりこれらの集塵ダクト２０３Ｆａ乃至２０４ｌに空気を吸い込む流れが生まれ、加工屑が集塵溝２０２に集められた後、集塵ダクト２０３Ｆａ乃至２０４ｌを介して外部に排出される。
【００５５】
一方、集塵溝２０２の左右可動部２４２は、図９等に示されるように、パネル１０２の搬送方向と平行な左右の外壁２６１Ｌ，２６１Ｒにより構成される。
【００５６】
外壁２６１Ｌは、上下可動部２４１の内壁２５１Ｌと外壁２５２Ｌとの間に設けられるとともに、接続部材２０５Ｌａ，２０５Ｌｂを介してコンベア２２１Ｌに接続されている。そして、コンベア２２１Ｌがｘ軸方向に平行移動するのに伴い、外壁２６１Ｌは、上下可動部２４１の内壁２５１Ｌと外壁２５２Ｌとの間をｘ軸方向に平行移動する。
【００５７】
外壁２６１Ｒは、上下可動部２４１の内壁２５１Ｒと外壁２５２Ｒとの間に設けられるとともに、接続部材２０５Ｒａ，２０５Ｒｂを介してコンベア２２１Ｒに接続されている。そして、コンベア２２１Ｒがｘ軸方向に平行移動するのに伴い、外壁２６１Ｒは、上下可動部２４１の内壁２５１Ｒと外壁２５２Ｒとの間をｘ軸方向に平行移動する。
【００５８】
なお、以下、外壁２６１Ｌ，２６１Ｒをまとめて外壁２６１と称する。
【００５９】
リフタ昇降部２０６は、図６等に示されるように、上下可動部２４１の内壁２５１の内側に設けられている。また、リフタ昇降部２０６の上面の中央、四隅、および、各辺の中央に、リフタピン２０７ａ乃至２０７ｉが垂直に設けられている。そして、エッジデリーションを行うときに、パネル１０２がリフタピン２０７ａ乃至２０７ｉにより９点で支持される。
【００６０】
また、図７に示されるように、リフタ昇降部２０６は、図示せぬ駆動機構により上下方向に移動するリフタ部２０８の上に載置されている。さらに、図６等に示されるように、リフタ昇降部２０６は、接続部材２０９Ｆａ乃至２０９Ｒｂを介して、集塵溝２０２の上下可動部２４１の内壁２５１Ｆ乃至内壁２５１Ｒに接続されている。
【００６１】
そして、リフタ部２０８が上下に移動することにより、リフタ昇降部２０６、リフタピン２０７ａ乃至２０７ｉ、および、集塵溝２０２の上下可動部２４１が一体となって上下に移動する。これにより、リフタピン２０７ａ乃至２０７ｉにより支持されているパネル１０２が上下方向に移動する。
【００６２】
次に、図１０のフローチャートを参照して、パネル１０２のエッジデリーションの開始時のレーザ加工装置１０１の動作について説明する。
【００６３】
ステップＳ１において、パネル１０２が、所定の位置まで搬送される。すなわち、コンベア２２１Ｌ，２２１Ｒにより、パネル１０２が第１加工位置まで搬送される。
【００６４】
図１１は、パネル１０２が第１加工位置に搬送されたときのパネル１０２、コンベア２２１Ｒ、集塵溝２０２の上下可動部２４１の内壁２５１Ｒ、外壁２５２Ｒ、底部２５３、並びに、左右可動部２４２の外壁２６１Ｒの位置関係を示している。
【００６５】
この状態において、パネル１０２の右の端部が、コンベア２２１Ｒのコンベアローラ３０１の上に載置されている。また、パネル１０２と内壁２５１Ｒとの間、および、外壁２５２Ｒと外壁２６１Ｒとの間に隙間が空いている。
【００６６】
ステップＳ２において、パネル１０２および集塵溝２０２の上下可動部２４１が上昇する。具体的には、図示せぬ駆動機構がリフタ部２０８を上昇させることにより、リフタ部２０８とともに、リフト機構部２０６、リフタピン２０７ａ乃至２０７ｉ、および、集塵溝２０２の上下可動部２４１が一体になって上昇する。これに伴い、リフタピン２０７ａ乃至２０７ｉがパネル１０２の下面に当接し、そのままパネル１０２が所定の位置（以下、第２加工位置と称する）まで持ち上げられる。
【００６７】
ステップＳ３において、コンベア２２１Ｌ，２２１Ｒおよび集塵溝２０２の左右可動部２４２がシフトする。具体的には、図示せぬ駆動機構が、コンベア２２１Ｌをｘ軸の負の方向にシフトさせ、コンベア２２１Ｒをｘ軸の正の方向にシフトさせる。これにより、コンベア２２１Ｌとともに、集塵溝２０２の左右可動部２４２の外壁２６１Ｌがｘ軸の負の方向に移動し、コンベア２２１Ｒとともに、集塵溝２０２の左右可動部２４２の外壁２６１Ｒがｘ軸の正の方向に移動する。その結果、コンベア２２１Ｌとコンベア２２１Ｒとの間の間隔、および、外壁２６１Ｌと外壁２６１Ｒとの間の間隔が広がる。
【００６８】
図１２は、ステップＳ３の動作が終了した後の、パネル１０２、コンベア２２１Ｒ、集塵溝２０２の上下可動部２４１の内壁２５１Ｒ、外壁２５２Ｒ、底部２５３、並びに、左右可動部２４２の外壁２６１Ｒの位置関係を示している。
【００６９】
上下可動部２４１が上昇することにより、図１１の状態と比較して、パネル１０２と上下可動部２４１の内壁２５１Ｒの間の隙間が狭くなっている。また、コンベアローラ３０１および左右可動部２４２の外壁２６１Ｒが、パネル１０２の直下から外側に移動するとともに、外壁２６１Ｒが上下可動部２４１の外壁２５２Ｒと接している。
【００７０】
これにより、内壁２５１Ｒ、底部２５３、および、外壁２６１ＲによりＵ字型の溝が形成されるとともに、このＵ字型の溝とパネル１０２との間の隙間が狭くなる。また、Ｕ字型の溝の幅内に、パネル１０２の加工対象となる周縁領域が含まれるようになる。従って、パネル１０２の周縁領域を加工することにより発生する加工屑を確実に集塵溝２０２に集めることができる。
【００７１】
なお、パネル１０２、コンベア２２１Ｌ、集塵溝２０２の上下可動部２４１の内壁２５１Ｌ、外壁２５２L、底部２５３、並びに、左右可動部２４２の外壁２６１Ｌの位置関係は、図１１と左右対称の状態になる。
【００７２】
その後、ステップＳ４において、加工が開始される。
【００７３】
以上のようにして、パネル１０２の周縁領域を加工したときに発生する加工屑を拡散させずに、効率良く集塵溝２０２に集め、外部に排出することができる。また、コンベア２２１Ｌ，２２１Ｒが、パネル１０２の直下より外側に退避されるため、エッジデリーションを行うときに、レーザ光によりコンベア２２１Ｌ，２２１Ｒの部品にダメージが与えられることが防止される。
【００７４】
また、集塵溝２０２の各辺に集塵ダクトが設けられているので、より確実に加工屑を集塵溝２０２に集め、外部に排出することができる。
【００７５】
＜２．変形例＞
以上の説明では、本発明を薄膜太陽電池パネル１０２のエッジデリーションを行う場合に適用する例を示したが、本発明は、エッジデリーションに限定されずに、基板等の矩形の加工対象の周縁領域をレーザ加工する場合に適用することが可能である。
【００７６】
また、集塵溝２０２の上下可動部２４１とリフタ昇降部２０６、リフタピン２０７ａ乃至２０７ｉおよびリフタ部２０８とを、独立して上下に移動させるようにすることが可能である。
【００７７】
さらに、集塵溝２０２の左右可動部２４２とコンベア２２１Ｌ，２２１Ｒとを、独立して左右にシフトさせるようにしてもよい。
【００７８】
また、集塵溝２０２の左右可動部２４２を省略して、上下可動部２４１の内壁２５１と外壁２５２の高さをほぼ同じに設定するようにしてもよい。
【００７９】
なお、本発明の実施の形態は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更が可能である。
【符号の説明】
【００８０】
１０１  レーザ加工装置
１０２  薄膜太陽電池パネル
１１３  加工ヘッド
１１４  ガントリ
１１５  Ｘ−Ｙステージ
１１６  リニアモータ
１１７  サーボモータ
１１８  搬送部
２０１  ローダ
２０２  集塵溝
２０３Ｆａ乃至２０３Ｂｂ，２０４Ｆａ乃至２０４Ｒｃ  集塵ダクト
２０６  リフタ昇降部
２０７ａ乃至２０７ｉ  リフタピン
２０８  リフタ部
２２１Ｌ，２２１Ｒ  コンベア
２４１  上下可動部
２４２  左右可動部
２５１Ｆ乃至２５１Ｒ  内壁
２５２Ｆ乃至２５２Ｒ  外壁
２５３  底部
２６１Ｌ，２６１Ｒ  外壁
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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