(57)【要約】【課題】表示画像のコントラストを向上できるスクリーン及びスクリーンの製造方法を提供すること。【解決手段】画像を表示するスクリーン１は、当該画像を形成する光が入射される入射面１１を有する。この入射面１１は、当該画像を形成する光が入射され、かつ、当該光をスクリーンに予め設定された視野角内に反射させる表示領域１２と、当該表示領域１２外に位置し、入射された光を散乱させる非表示領域１３とを有する。これによれば、非表示領域１３に入射され、視野角内に反射される光の光量を低減できる。【選択図】図２
2013200338.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像を表示するスクリーンであって、
前記画像を形成する光が入射される入射面を有し、
前記入射面は、
前記光が入射され、当該光を当該スクリーンに予め設定された視野角内に反射させる表示領域と、
前記表示領域外に位置し、入射された光を散乱させる非表示領域とを有する
ことを特徴とするスクリーン。
【請求項２】
請求項１に記載のスクリーンにおいて、
前記非表示領域には、凹凸が形成されている
ことを特徴とするスクリーン。
【請求項３】
請求項２に記載のスクリーンにおいて、
前記入射面には、複数の凹部が形成され、
前記表示領域に形成された前記凹部には、入射された光を反射させる反射層が形成され、
前記非表示領域に形成された前記凹部には、前記反射層が形成されていない
ことを特徴とするスクリーン。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれかに記載のスクリーンにおいて、
前記非表示領域には、反射抑制層が形成されている
ことを特徴とするスクリーン。
【請求項５】
画像を表示するスクリーンの製造方法であって、
前記スクリーンを形成する基材の一方の面に凹凸を形成する凹凸形成手順と、
前記一方の面の前記凹凸が形成された領域において、投射された前記画像を表示する領域として予め設定された表示領域と、当該表示領域外に位置する非表示領域とのうち、前記表示領域に反射層を形成する反射層形成手順とを含む
ことを特徴とするスクリーンの製造方法。
【請求項６】
請求項５に記載のスクリーンの製造方法において、
前記非表示領域に反射抑制層を形成する反射抑制層形成手順を含む
ことを特徴とするスクリーンの製造方法。
【請求項７】
請求項５又は請求項６に記載のスクリーンの製造方法において、
前記凹凸形成手順では、前記表示領域にそれぞれ入射される光を反射させる凹部を複数形成し、前記非表示領域の表面を梨地とする
ことを特徴とするスクリーンの製造方法。
【請求項８】
請求項５から請求項７のいずれかに記載のスクリーンの製造方法において、
前記凹凸を前記基材に形成するための型を製造する型製造手順を含み、
前記凹凸形成手順では、前記型に形成された凹凸を前記基材に転写することで前記凹凸を形成する
ことを特徴とするスクリーンの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、画像を表示するスクリーン及び当該スクリーンの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、プロジェクター等の画像投射装置から投射された画像を表示するスクリーンが知られている。このようなスクリーンとして、プロジェクターとの距離が短い場合でも、当該プロジェクターから入射された光を正面側の観察位置に反射できるスクリーンが知られている（例えば、特許文献１参照）。
この特許文献１に記載のスクリーンでは、入射面に凹状のレンズ要素が複数配列されており、当該各レンズ要素の表面には、反射層が形成されている。これらレンズ要素に入射された光は、前述の観察位置に反射され、当該観察位置にて画像として視認される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１０−９７１９０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、スクリーンには予め視野角が設定されており、当該視野角の範囲内に光が反射されるように、前述のレンズ要素は配置されている。このようなスクリーンに対して、観察者が、当該視野角の範囲の境界近傍に位置し、画像の投射領域の外周近傍を上方を向いて観察すると、当該投射領域の外側にて反射された室内灯や外光が観察者に届き、表示された画像のコントラストが低下するという問題がある。
【０００５】
本発明は、表示画像のコントラストを向上できるスクリーン及び当該スクリーンの製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一態様に係るスクリーンは、画像を表示するスクリーンであって、前記画像を形成する光が入射される入射面を有し、前記入射面は、前記光が入射され、当該光を当該スクリーンに予め設定された視野角内に反射させる表示領域と、前記表示領域外に位置し、入射された光を散乱させる非表示領域とを有することを特徴とする。
【０００７】
このような一態様によれば、表示領域に入射された光は、スクリーンに予め設定された視野角内に反射されるので、当該視野角内に位置する観察者は、表示領域に投射された画像を視認できる。一方、当該表示領域の外側に位置する非表示領域に入射された光（例えば、室内灯の光や外光）は、当該非表示領域により散乱される。これによれば、当該非表示領域に入射された光のうち、前述の視野角内に進行する光の光量を減じることができる。従って、視野角内に位置する観察者が視認する表示画像に、当該表示画像に関与しない光の成分が含まれることを抑制でき、当該表示画像のコントラストを向上できる。
【０００８】
上記一態様では、前記非表示領域には、凹凸が形成されていることが好ましい。
このような凹凸として、梨地様の凹凸や、凹曲面を有する微小な凹部を例示できる。
ここで、非表示領域に入射されて前述の視野角内に反射される光の光量を減じるために、入射された光を吸収する吸収層を非表示領域に形成する場合、当該吸収層を蒸着等により形成する手順が必要となり、スクリーンを製造する工程が煩雑となる他、スクリーンの製造コストも増大する。
これに対し、非表示領域に凹凸を形成して、入射される光を散乱させる構成とすれば、吸収層を形成する場合に比べて、スクリーンを製造する工程を簡略化できる他、製造コストの増大も抑制できる。
【０００９】
上記一態様では、前記入射面には、複数の凹部が形成され、前記表示領域に形成された前記凹部には、入射された光を反射させる反射層が形成され、前記非表示領域に形成された前記凹部には、前記反射層が形成されていないことが好ましい。
このような一態様によれば、表示領域の凹部に反射層が形成されていることにより、当該表示領域に入射された光を前述の視野角内に効率よく反射させることができる。従って、表示画像の輝度を高めることができる。
また、非表示領域の凹部には、反射層が形成されていないので、当該非表示領域に入射された光を確実に散乱させることができ、当該視野角内に反射される光を確実に低減できる。従って、表示画像のコントラストを確実に向上できる。
【００１０】
更に、このような構成のスクリーンを製造する場合、当該スクリーンを形成する基材に、上記凹部に応じた凹凸が形成された型を押圧して、当該凹部を基材に形成する方法を採用できる。この方法が採用される場合、型における表示領域に対応する領域と、非表示領域に対応する領域とで異なる凹凸を形成する必要があり、型の製造工程を複雑にする。
これに対し、表示領域及び非表示領域に同様の凹部を形成することで、型の製造工程を簡略化でき、ひいては、スクリーンの製造工程を簡略化できる。
【００１１】
上記一態様では、前記非表示領域には、反射抑制層が形成されていることが好ましい。
このような一態様によれば、非表示領域に入射され、前述の視野角内に反射される光の光量を更に減じることができる。従って、表示画像のコントラストを確実に向上できる。
【００１２】
また、本発明の他の一態様に係るスクリーンの製造方法は、画像を表示するスクリーンの製造方法であって、前記スクリーンを形成する基材の一方の面に凹凸を形成する凹凸形成手順と、前記一方の面の前記凹凸が形成された領域において、投射された前記画像を表示する領域として予め設定された表示領域と、当該表示領域外に位置する非表示領域とのうち、前記表示領域に反射層を形成する反射層形成手順とを含むことを特徴とする。
【００１３】
このような他の一態様によれば、基材において表示領域及び非表示領域が含まれる一方の面に凹凸が形成され、表示領域には反射層が形成され、非表示領域には反射層が形成されない。このため、表示領域に入射された光を効率よく反射させ、非表示領域に入射された光を散乱させる前述のスクリーンを好適に製造できる。
【００１４】
上記他の一態様では、前記非表示領域に反射抑制層を形成する反射抑制層形成手順を含むことが好ましい。
これによれば、非表示領域に反射抑制層が形成された前述のスクリーンを好適に製造できる。
【００１５】
上記他の一態様では、前記凹凸形成手順では、前記表示領域にそれぞれ入射される光を反射させる凹部を複数形成し、前記非表示領域の表面を梨地とすることが好ましい。
このような他の一態様によれば、前述のように、表示領域に形成された凹部に反射層が形成されるので、当該表示領域に入射された光を効率よく反射させることができる。また、非表示領域の表面に形成された梨地様の凹凸により、当該非表示領域に入射された光を確実に散乱させることができる。
【００１６】
上記他の一態様では、前記凹凸を前記基材に形成するための型を製造する型製造手順を含み、前記凹凸形成手順では、前記型に形成された凹凸を前記基材に転写することで前記凹凸を形成することが好ましい。
このような他の一態様によれば、基材に形成される凹凸に応じた凹凸が型に形成されているので、基材に凹凸を簡易に形成できる他、スクリーンの量産性を高めることができる。従って、スクリーンの製造工程を簡略化できる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の第１実施形態に係るスクリーンの使用態様を示す図。
【図２】前記第１実施形態におけるスクリーンを示す正面図。
【図３】前記第１実施形態におけるレンズ要素の一例を示す斜視図。
【図４】前記第１実施形態におけるレンズ要素の一例を示す斜視図。
【図５】前記第１実施形態におけるスクリーンの非表示領域を示す断面図。
【図６】前記第１実施形態におけるスクリーンの製造工程を示すフローチャート。
【図７】前記第１実施形態における母型製造手順を示す模式図。
【図８】前記第１実施形態における成形型製造手順及び凹凸形成手順を示す模式図。
【図９】（Ａ）前記第１実施形態における第１反射抑制層形成手順を説明する模式図。（Ｂ）前記第１実施形態における反射層形成手順を説明する模式図。（Ｃ）前記第１実施形態における第２反射抑制層形成手順を説明する模式図。
【図１０】本発明の第２実施形態に係るスクリーンを示す断面図。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
［第１実施形態］
以下、本発明の第１実施形態について、図面に基づいて説明する。
図１は、本実施形態に係るスクリーン１の使用態様を示す側面図である。
本実施形態に係るスクリーン１は、図１に示すように、当該スクリーン１の正面側下方に設定された出射位置ＰＰに位置するプロジェクターＰＪから斜方入射される投射光ＰＬを正面側に反射させて、当該投射光により形成される画像を表示する反射型スクリーンである。このスクリーン１における正面は、当該投射光ＰＬが入射される入射面１１であり、当該入射面１１に入射された投射光ＰＬは、入射面１１の中心ＣＰにおける法線方向に設定された観察位置ＶＰに向けて反射される。これにより、観察位置ＶＰに位置する観察者ＶＲは、表示された画像を観察できる。
【００１９】
［スクリーンの構成］
図２は、スクリーン１を示す正面図である。なお、図２においては、後述する基準線ＳＬのうち、代表的な基準線ＳＬを図示しており、実際にはより細かい間隔で当該基準線ＳＬは設定されている。また、図２においては、図示された基準線ＳＬの符号も一部省略する。
スクリーン１は、本実施形態では、硬質塩化ビニル樹脂で形成された基材１０により形成され、図２に示すように、入射面１１は、正面側から見て横長の略長方形状に形成されている。
このような入射面１１は、投射光ＰＬが入射される領域として予め設定された表示領域１２と、当該表示領域１２の外周に位置し、当該表示領域１２を囲む非表示領域１３とに区分される。
【００２０】
［表示領域の構成］
表示領域１２には、入射面１１の延長面１１Ａ上に設定された基準点ＳＰを中心とした所定範囲内の領域１２１（図２における斜線部分）と、当該領域１２１外の領域１２２とが設定され、これら各領域１２１，１２２には、後述するレンズ要素２（図３及び図４参照）が配列されている。
なお、基準点ＳＰは、本実施形態では、中心ＣＰを通る鉛直線である中心線ＣＬ上に設定されている。また、本実施形態では、基準点ＳＰを通る延長面１１Ａの法線上に、前述の出射位置ＰＰが設定される。
【００２１】
領域１２１内には、それぞれ基準点ＳＰを中心とする同心円（円及び楕円を含む）の一部を構成する円弧状の仮想の基準線ＳＬに沿ってレンズ要素２（２Ａ）（図３参照）が配置される。また、領域１２２内には、当該基準線ＳＬに沿ってレンズ要素２（２Ｂ）（図４参照）が配置される。これら各レンズ要素２において、基準点ＳＰの放射方向の寸法は５０〜２００μｍであり、当該放射方向に直交する方向の寸法は１０〜５０μｍである。
これら領域１２１，１２２に設定される基準線ＳＬの間隔は、基準点ＳＰから離れるに従って大きくなるように設定されており、これにより、基準点ＳＰの放射方向に沿って互いに隣接するレンズ要素２（２Ａ，２Ｂ）の中心間距離は、当該基準点ＳＰから離れるに従って大きくなる。これに伴い、レンズ要素２（２Ａ，２Ｂ）の基準点ＳＰからの放射方向の寸法も、当該基準点ＳＰから離れるに従って大きくなる。
以下、基準点ＳＰからの放射方向をＡ方向と記載及び図示する。
【００２２】
［レンズ要素の構成］
図３は、レンズ要素２Ａの一例を示す斜視図である。
領域１２１には、前述の基準線ＳＬに沿う複数のレンズ要素２Ａにより構成されるレンズ列が複数形成される。これらレンズ要素２Ａは、図３に示すように、投射光ＰＬが入射される所定の曲率の凹曲面２Ａ１をそれぞれ有し、当該凹曲面２Ａ１には、第１反射抑制層３１、反射層３２及び第２反射抑制層３３が順に形成されている。
【００２３】
第１反射抑制層３１は、スクリーン１の素地による反射効率を低減させることにより、当該光の反射を抑制する。この第１反射抑制層３１に入射された光は、当該層３１により一部の光が吸収され、これにより、当該層３１を透過し、スクリーン１の素地により反射される光量が減じられる。この第１反射抑制層３１は、入射面１１全体に形成されており、当該第１反射抑制層３１が形成された後に、凹曲面２Ａ１に反射層３２及び第２反射抑制層３３が形成される。このような第１反射抑制層３１は、例えば、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）やフッ酸等の第１反射抑制材を蒸着或いは噴霧等することで形成される。
【００２４】
反射層３２は、凹曲面２Ａ１におけるＡ方向先端側に形成され、入射された光を反射させる。この反射層３２が形成される領域には、入射される投射光ＰＬをスクリーン１に予め設定された視野角（例えば、入射面１１の法線に対する角度が上下左右で略５０度である範囲）内に反射させる有効反射領域ＡＲが含まれる。このような反射層３２は、アルミニウムや銀等の反射材を基準点ＳＰ側（光の出射位置ＰＰ側）から斜方蒸着させたり、或いは、噴霧することで形成される。
【００２５】
第２反射抑制層３３は、凹曲面２Ａ１におけるＡ方向基端側に形成され、入射された光を吸収することで当該光の反射を抑制する。すなわち、第２反射抑制層３３は、入射面１１に対して上方から斜方入射される室内灯や外光等の光の反射を抑制することで、前述の視野角内で観察される画像のコントラストを向上させ、当該画像の視認性を向上させる。このような第２反射抑制層３３は、酸化クロム等の第２反射抑制材を基準点ＳＰ側とは反対側から斜方蒸着させて形成される。
なお、当該第２反射抑制材としては、酸化クロムに限らず、炭素粒子や黒色顔料粒子が混合された黒色樹脂を採用してもよく、当該黒色樹脂のバインダーとして、例えば、アクリル樹脂バインダー、ポリアミド樹脂及びポリエチレンテレフタレート等の樹脂が混合された樹脂を採用してもよい。
【００２６】
図４は、レンズ要素２Ｂの一例を示す斜視図である。
領域１２２には、前述の基準線ＳＬに沿う複数のレンズ要素２Ｂにより構成されるレンズ列が複数形成されている。
これらレンズ要素２Ｂは、図４に示すように、それぞれ所定の曲率の凹曲面である第１凹部２１及び第２凹部２２を有し、当該第２凹部２２は、第１凹部２１に対して基準点ＳＰ寄りの位置（Ａ方向基端側）に隣接して形成されている。
これらのうち、第２凹部２２は、同じレンズ要素２Ｂを構成する第１凹部２１（すなわち、当該第２凹部２２に対してＡ方向先端側に隣接する第１凹部２１）との稜線を低くすることで、当該第１凹部２１の有効反射領域ＡＲに投射光ＰＬを確実に入射させる機能を有する。
【００２７】
このようなレンズ要素２Ｂには、前述のレンズ要素２Ａと同様に、第１反射抑制層３１、反射層３２及び第２反射抑制層３３が順に形成されている。
具体的に、第１反射抑制層３１は、当該レンズ要素２Ａの略全面に形成されている。
反射層３２は、レンズ要素２ＢにおけるＡ方向先端側の端部を中心として所定範囲内に形成されている。このため、反射層３２は、第１凹部２１側に主に形成される。
第２反射抑制層３３は、レンズ要素２ＢにおけるＡ方向基端側の端部を中心として所定範囲内に形成されている。このため、第２反射抑制層３３は、第２凹部２２側に主に形成される。
【００２８】
なお、基材１０の素材によっては、第１反射抑制層３１を表示領域１２に形成しなくてもよい。例えば、基材１０の素材として挙げた硬質塩化ビニル樹脂と、反射材として挙げたアルミニウムとは密着性が高い。このため、当該素材により形成された基材１０に対して、アルミニウムにより反射層３２を形成する場合には、第１反射抑制層３１を形成しなくても、高い密着度を確保できる他、スクリーン１の製造工程における第１反射抑制層を形成する工程を省略できる。
また、スクリーン１を構成する基材１０が黒色の硬質塩化ビニル樹脂により形成されている場合等では、前述の第２反射抑制層３３を形成しなくても、当該基材１０の素地により、入射される光の反射が抑制される。このため、基材１０の材料及び色によっては、第２反射抑制層３３を形成しなくてもよい。
【００２９】
［非表示領域の構成］
図５は、非表示領域１３におけるスクリーン１の断面図である。
非表示領域１３は、前述のように、表示領域１２を囲むように配置される。この非表示領域１３の表面には、図５に示すように、梨地様の微小な凹凸１３１が形成されている。この凹凸１３１は、前述のレンズ要素２よりも小さい凹凸である。また、入射面１１の略全面に前述の第１反射抑制層３１が形成されることから、当該領域１３の表面にも第１反射抑制層３１が形成されている。しかしながら、非表示領域１３には、反射層３２は形成されていない。
このため、非表示領域１３に入射された室内灯や外光等の光は、当該第１反射抑制層３１により透過光量が減じられた上で、表面に形成された微小な凹凸１３１により反射されて散乱される。これにより、当該非表示領域１３に入射され、前述の視野角内に反射される光の光量が減じられる。
【００３０】
［スクリーンの製造工程］
図６は、スクリーン１の製造工程を示すフローチャートである。
上記スクリーン１は、図６に示す製造工程を経て製造される。すなわち、当該スクリーン１の製造工程には、型製造工程Ｓ１及び基材加工工程Ｓ２が含まれる。
【００３１】
［型製造工程］
図７は、型製造工程Ｓ１に含まれる母型製造手順Ｓ１１を示す模式図である。
型製造工程Ｓ１には、母型を製造する母型製造手順Ｓ１１と、製造された母型を用いて、基材１０を成形する成形型を製造する成形型製造手順Ｓ１２とが含まれる。
このうち、母型製造手順Ｓ１１には、図７（Ａ）〜図７（Ｅ）に示すように、マスク層形成手順、孔部形成手順、エッチング手順、除去手順及び加工手順が含まれる。
【００３２】
マスク層形成手順では、図７（Ａ）に示すように、母型ＭＴとなる基板ＰＴの平坦面ＰＴ１にマスク層ＭＳを形成する。この基板ＰＴとしては、青板ガラス、ソーダライム系ガラス、硼珪酸ガラス及び石英ガラスを例示できる。また、マスク層ＭＳは、スパッタにより形成されるクロム層を例示できるが、他の材料により形成されてもよく、形成方法としても、スピンコート法、バーコート法、自己組織化膜を形成する方法等を採用できる。
【００３３】
孔部形成手順では、図７（Ｂ）に示すように、マスク層ＭＳにレーザースポットを照射して、前述の表示領域１２に対応する領域に、初期孔と呼ばれる孔部ＭＳ１を複数形成する。これら孔部ＭＳ１の形成位置は、各レンズ要素２（２Ａ，２Ｂ）が有する各凹曲面の曲率中心に応じた位置である。
エッチング手順では、図７（Ｃ）に示すように、マスク層ＭＳに孔部ＭＳ１が形成された基板ＰＴに対してエッチングにより、前述のレンズ要素２に応じた凹部であるレンズ型ＬＴを形成する。このエッチングに用いるエッチング溶液ＥＳとして、希フッ酸を例示できる。
【００３４】
除去手順では、図７（Ｄ）に示すように、レンズ型ＬＴが形成された基板ＰＴから、マスク層ＭＳ及びエッチング溶液を除去し、当該基板ＰＴの洗浄及び乾燥を実施する。
加工手順では、図７（Ｅ）に示すように、基板ＰＴにおいて前述の非表示領域１３に対応する領域にサンドブラスト等の処理を実施して、当該領域の表面に梨地様の凹凸ＵＥを形成する。
このようにして成形された基板ＰＴが母型ＭＴであり、当該加工手順の終了により、母型製造手順Ｓ１１が終了される。
【００３５】
図８は、型製造工程Ｓ１に含まれる成形型製造手順Ｓ１２と基材加工工程Ｓ２に含まれる凹凸形成手順Ｓ２１とを示す模式図である。
次に、製造された母型ＭＴを用いて、成形型製造手順Ｓ１２が実施される。この成形型製造手順Ｓ１２には、母型ＭＴから第１中間型Ｎ１を製造する第１中間型製造手順と、当該第１中間型Ｎ１から第２中間型Ｎ２を製造する第２中間型製造手順と、当該第２中間型Ｎ２から最終型Ｎ３を製造する最終型製造手順とが含まれる。
【００３６】
第１中間型製造手順では、図８（Ａ）に示すように、母型ＭＴから、レンズ型ＬＴに応じた凸状のレンズ型Ｎ１１と凹凸ＵＥに応じた凹凸Ｎ１２とが形成された第１中間型Ｎ１を製造する。このような第１中間型Ｎ１は、ニッケル電鋳により製造できるが、他の方法により製造してもよい。
【００３７】
第２中間型製造手順では、図８（Ｂ）に示すように、第１中間型Ｎ１から、レンズ型Ｎ１１に応じた凹状のレンズ型Ｎ２１と凹凸Ｎ１２に応じた凹凸Ｎ２２とが形成された第２中間型Ｎ２を製造する。このような第２中間型Ｎ２は、紫外線硬化型樹脂を用いた２Ｐ法（Photo‐polymerization法）により製造できるが、他の方法により製造してもよい。
最終型製造手順では、図８（Ｃ）に示すように、第２中間型Ｎ２から、レンズ型Ｎ２１に応じた凸状のレンズ型Ｎ３１と凹凸Ｎ２２に応じた凹凸Ｎ３２とが形成された最終型Ｎ３（スクリーン製造用の型である成形型）を製造する。このような最終型Ｎ３は、本実施形態では、強度等を考慮してニッケル電鋳により製造されるが、他の方法により製造してもよい。
なお、成形型製造手順Ｓ１２においては、第１中間型製造手順及び第２中間型製造手順を省略してもよい。すなわち、ニッケル電鋳等により、母型ＭＴから最終型Ｎ３（上記成形型）を直接製造してもよい。
【００３８】
［基材加工工程］
次に、基材加工工程Ｓ２が実施される。
この基材加工工程Ｓ２には、図６に示すように、製造された最終型Ｎ３により、基材１０に凹凸を形成する凹凸形成手順Ｓ２１と、当該凹凸が形成された面に前述の第１反射抑制層３１、反射層３２及び第２反射抑制層３３をそれぞれ形成する第１反射抑制層形成手順Ｓ２２、反射層形成手順Ｓ２３及び第２反射抑制層形成手順Ｓ２４とが含まれる。
凹凸形成手順Ｓ２１では、図８（Ｄ）に示すように、最終型Ｎ３におけるレンズ型Ｎ３１及び凹凸Ｎ３２が形成された面に、基材１０を加熱しつつ押圧する。これにより、当該基材１０の面１０Ａには、レンズ型Ｎ３１に応じた凹部１０１と、凹凸Ｎ３２に応じた凹凸１０２とが形成される。これらのうち、凹部１０１は、スクリーン１における表示領域１２に応じた領域に形成され、凹凸１０２は、当該スクリーン１における非表示領域１３に応じた領域に形成される。
【００３９】
図９（Ａ）は、第１反射抑制層形成手順Ｓ２２を説明する模式図であり、図９（Ｂ）は、反射層形成手順Ｓ２３を説明する模式図であり、図９（Ｃ）は、第２反射抑制層形成手順Ｓ２４を説明する模式図である。なお、図９（Ｃ）に示す基材１０の配置は、図９（Ａ）及び図９（Ｂ）に示す基材１０の配置に対して上下が逆となっている。
第１反射抑制層形成手順Ｓ２２では、図９（Ａ）に示すように、最終型Ｎ３から剥離された基材１０における面１０Ａの全面に、蒸着により、第１反射抑制層３１を形成する。
【００４０】
反射層形成手順Ｓ２３では、図９（Ｂ）に示すように、斜方蒸着により、レンズ要素２に反射層３２を形成する。この際、前述の基準点ＳＰ側が下側となるように基材１０を鉛直方向に沿って配置し、反射層３２の材料を蒸発させるるつぼ（図示省略）を、基材１０に対して基準点ＳＰ側に配置する。これにより、蒸発した材料が図９（Ｂ）におけるＤ１方向に沿って進行し、凹部１０１において基準点ＳＰとは反対側の領域に、反射層３２が形成される。
【００４１】
第２反射抑制層形成手順Ｓ２４では、図９（Ｃ）に示すように、斜方蒸着によりレンズ要素２に第２反射抑制層３３を形成する。この際、基準点ＳＰ側が上側となるように鉛直方向に沿って基材１０を配置し、第２反射抑制層３３の材料を蒸発させるるつぼ（図示省略）を、基材１０に対して基準点ＳＰ側とは反対側（すなわち下側）に配置する。これにより、蒸発した材料が図９（Ｃ）におけるＤ２方向に沿って進行し、凹部１０１において基準点ＳＰ側の領域に、第２反射抑制層３３が形成される。
【００４２】
ここで、反射層形成手順Ｓ２３及び第２反射抑制層形成手順Ｓ２４は、蒸発した材料が蒸着されないように、凹凸１０２が形成された領域（非表示領域１３）にマスク処理が施された上で実施される。このため、基材１０において、レンズ要素２に応じた凹部１０１が形成された領域、すなわち、表示領域１２となる領域にのみ、反射層３２及び第２反射抑制層３３が形成され、凹凸１０２が形成された領域、すなわち、非表示領域１３となる領域には、これら各層３２，３３は形成されない。なお、当該非表示領域１３となる領域に、第２反射抑制層３３を形成してもよい。
【００４３】
また、前述のように、基材１０の素材及び色によっては、第２反射抑制層形成手順Ｓ２４を省略してもよい。
更に、上記手順Ｓ２２〜Ｓ２４では、各層３１〜３３を形成する材料を噴霧等により面１０Ａに付着させることで、当該各層３１〜３３を形成してもよい。すなわち、各層３１〜３３の形成方法は、他の方法を採用してもよい。
【００４４】
以上説明した本実施形態に係るスクリーン１によれば、以下の効果がある。
表示領域１２に入射された光は、スクリーン１に予め設定された視野角内に各レンズ要素２の反射層３２により反射されるので、当該視野角内に位置する観察者は、表示領域１２に投射された画像を視認できる。一方、表示領域１２を囲む非表示領域１３に入射された光は、当該非表示領域１３の表面に形成された凹凸１３１により散乱される。
これによれば、当該非表示領域１３に入射された光のうち、スクリーン１の視野角内に進行する光の光量を減じることができる。従って、当該視野角内に位置する観察者が視認する表示画像に、当該表示画像に関与しない光の成分が含まれることを抑制でき、当該表示画像のコントラストを向上できる。
【００４５】
非表示領域１３に形成された梨地様の凹凸１３１により、入射される光を散乱させるので、当該非表示領域１３に、入射された光を吸収する吸収層を形成する場合に比べて、スクリーン１を製造する工程を簡略化できる他、製造コストの増大も抑制できる。
【００４６】
表示領域１２に形成された凹部であるレンズ要素２には反射層３２が形成されている。これによれば、当該表示領域１２に入射された光を前述の視野角内に効率よく反射させることができる。従って、表示画像の輝度を高めることができる。
また、非表示領域１３には反射層３２が形成されていないので、表示画像に関与しない光が前述の視野角内に反射されることを確実に抑制できる。
【００４７】
非表示領域１３には、第１反射抑制層３１が形成されているので、当該非表示領域１３に入射された光のうち、前述の視野角内に反射される光の光量を更に減じることができる。従って、表示画像のコントラストを確実に向上できる。
このような第１反射抑制層３１は、反射層形成手順Ｓ２３の前に実施される第１反射抑制層形成手順Ｓ２２にて、入射面１１の全面に形成される。これによれば、表示領域１２をマスクせずに、非表示領域１３に第１反射抑制層３１を形成でき、表示領域１２に形成される反射層３２も、入射面１１における外面側に露出するように形成できる。
【００４８】
入射面１１に形成されるレンズ要素２及び凹凸１３１の形状は、型製造工程Ｓ１を経て製造された最終型Ｎ３により形成されるので、基材１０に当該レンズ要素２及び凹凸１３１に応じた凹凸を簡易に形成できる他、スクリーン１の量産性を高めることができる。従って、スクリーン１の製造工程を簡略化できる。
【００４９】
［第２実施形態］
次に、本発明の第２実施形態について説明する。
本実施形態に係るスクリーンは、非表示領域１３にもレンズ要素２に応じた凹部が形成されているものの、当該凹部に反射層３２が形成されていない点で、前述のスクリーン１とは相違する。なお、以下の説明では、既に説明した部分と同一又は略同一である部分については、同一の符号を付して説明を省略する。
【００５０】
図１０は、本実施形態に係るスクリーン１Ａにおける中心線ＣＬに沿う断面図であり、詳しくは、スクリーン１Ａの上端近傍における表示領域１２と非表示領域１３との境界部分を示す断面図である。
本実施形態に係るスクリーン１Ａは、非表示領域１３の表面形状が異なる他は、前述のスクリーン１と同様の構成及び機能を有する。
このスクリーン１Ａにおける非表示領域１３には、図１０に示すように、表示領域１２におけるレンズ要素２と同様の形状を有する凹部１３２が形成されている。この凹部１３２は、本発明の凹凸に相当する。
このような非表示領域１３の表面（すなわち、凹部１３２の表面）には、スクリーン１と同様に、第１反射抑制層３１が形成されているが、反射層３２は形成されていない。また、表示領域１２に形成されたレンズ要素２には、前述のように、第１反射抑制層３１、反射層３２及び第２反射抑制層３３が形成されている。
【００５１】
このようなスクリーン１Ａに対して、出射位置ＰＰに位置するプロジェクターＰＪから投射された投射光ＰＬは、図１０における実線で示すように、レンズ要素２における反射層３２が形成された領域に入射される。そして、当該投射光ＰＬは、反射層３２にてスクリーン１Ａに設定された視野角内に反射される。
【００５２】
一方、図１０における一点鎖線で示すように、スクリーン１Ａに対して上方から入射される外光ＥＬ（室内灯の光を含む）のうち、凹部１３２に入射される光ＥＬ１は、第１反射抑制層３１を透過する過程で光量が減じられる。そして、更に当該光ＥＬ１は、図１０における点線で示すように、当該凹部１３２の表面にて反射されて散乱される。
また、当該外光ＥＬのうち、レンズ要素２に入射される光ＥＬ２は、当該レンズ要素２における第１反射抑制層３１が形成された領域の他、第２反射抑制層３３が形成された領域に入射される。これらのうち、第１反射抑制層３１に入射された光ＥＬ２は、前述の凹部１３２に入射された光と同様に、光量が減じられた上で散乱される。一方、第２反射抑制層３３に入射された光ＥＬ２は、当該第２反射抑制層３３により吸収される。
【００５３】
このようなスクリーン１Ａは、前述の製造工程を経て製造される。
なお、本実施形態においては、型製造工程Ｓ１にて、非表示領域１３に応じた領域にもレンズ型ＬＴが形成された母型ＭＴが製造され、当該母型ＭＴから、必要に応じて第１中間型Ｎ１及び第２中間型Ｎ２を経て、最終型Ｎ３が製造される。そして、基材加工工程Ｓ２にて、当該最終型Ｎ３により、基材１０にレンズ要素２に応じた凹部１０１及び凹部１３２が形成される。これら凹部１０１，１３２に第１反射抑制層３１、反射層３２及び第２反射抑制層３３を形成する工程は、前述の工程Ｓ２２〜Ｓ２４と同様である。
【００５４】
以上説明した本実施形態に係るスクリーン１Ａによれば、前述のスクリーン１と同様の効果を奏することができる他、以下の効果がある。
スクリーン１Ａにおける非表示領域１３の凹部１３２には、反射層３２が形成されていない。これによれば、非表示領域１３に入射された光を、当該凹部１３２により確実に散乱させることができるので、スクリーン１Ａの視野角内に反射される光を確実に低減できる。従って、表示画像のコントラストを確実に向上できる。
【００５５】
非表示領域１３に形成される凹部１３２は、表示領域１２のレンズ要素２と同様の形状を有する。これによれば、表示領域１２と非表示領域１３との違いを目立たなくすることができる。更に、母型ＭＴにおいて非表示領域１３に対応する領域にもレンズ型ＬＴを形成すればよいので、母型製造手順Ｓ１１における加工手順を省略できる。この他、凹部１３２は、凹凸１３１に比べて鋭角部分が少ないので、最終型Ｎ３から基材１０の剥離を良好に実施できる。
なお、本実施形態では、スクリーン１Ａにおける非表示領域１３においても第１反射抑制層３１を形成しているが、基材１０の材料及び色によっては、非表示領域１３に第１反射抑制層３１が形成されていなくてもよい。この場合でも、基材１０の表面により、凹部１３２に入射された光が反射されて散乱されるので、前述と同様の効果を奏することができる。
【００５６】
［実施形態の変形］
本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
前記第１実施形態では、非表示領域１３には、梨地様の凹凸１３１が形成されているとし、前記第２実施形態では、非表示領域１３には、レンズ要素２と同様の形状を有する凹部１３２が形成されているとしたが、本発明はこれらに限らない。すなわち、入射された光を散乱させる凹凸であれば、どのような形状であってもよい。
【００５７】
前記各実施形態では、第１反射抑制層３１を形成した後に、反射層３２を形成したが、本発明はこれに限らない。すなわち、反射層３２を形成した後に、第１反射抑制層３１を形成してもよい。この場合、当該第１反射抑制層３１が酸化ケイ素及びフッ酸等の反射抑制材により形成されていれば、当該第１反射抑制層３１は、反射層３２を保護する保護層としても機能する。
【００５８】
前記各実施形態では、表示領域１２には凹状のレンズ要素２が形成されるとしたが、本発明はこれに限らない。例えば、凸曲面を有するレンズ要素が形成されていてもよい。また、これらに代えて、Ａ方向に沿う断面が入射面１１の近似平面に対して傾斜した平坦面を有するレンズ要素が形成されていてもよい。更に、非表示領域１３に凹凸が形成されていればよく、表示領域１２に凹凸が形成されていなくてもよい。
【００５９】
前記各実施形態では、第１反射抑制層３１は、入射面１１全面に形成されるとしたが、本発明はこれに限らない。すなわち、非表示領域１３にのみ反射抑制層を形成してもよい。また、前述のように、基材の種類及び色によっては反射抑制層を形成しなくてもよい。
更に、非表示領域１３に形成された凹凸が十分に細かい場合（例えば、斜方蒸着の邪魔にならない程度の梨地である場合）には、反射抑制層（第１反射抑制層３１）をレンズ要素２において基準点ＳＰ側とは反対側からの斜方蒸着（基準点ＳＰ側が下側となるように基材１０を配置した場合の上側からの斜方蒸着）により形成してもよい。この場合でも、非表示領域１３の全面に当該反射抑制層を形成できる。
【００６０】
前記各実施形態では、非表示領域１３に形成される凹凸１３１及び凹部１３２は、最終型Ｎ３に基材１０が押圧されることで形成されるとしたが、本発明はこれに限らない。すなわち、基材１０における非表示領域１３となる領域に、所定の処理を施して凹凸を形成してもよい。
【００６１】
前記各実施形態では、非表示領域１３は、表示領域１２を囲むとしたが、本発明はこれに限らない。例えば、当該非表示領域１３は、表示領域１２の上下及び左右のいずれかに位置していてもよい。すなわち、非表示領域は、表示領域の外側に位置していればよい。
【産業上の利用可能性】
【００６２】
本発明は、画像を表示するスクリーン及びスクリーンの製造方法に好適に利用できる。
【符号の説明】
【００６３】
１，１Ａ…スクリーン、２（２Ａ，２Ｂ）…レンズ要素（凹部）、１１…入射面、１２…表示領域、１３…非表示領域、３１…第１反射抑制層（反射抑制層）、３２…反射層、１０Ａ…面（一方の面）、１３１…凹凸、１３２…凹部（凹凸）、Ｓ１…型製造工程（型製造手順）、Ｓ２１…凹凸形成手順、Ｓ２２…第１反射抑制層形成手順（反射抑制層形成手順）、Ｓ２３…反射層形成手順。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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