(57)【要約】【課題】タクトタイムの短縮を図ることができる露光装置及び露光方法を提供する。【解決手段】露光装置ＰＥは、マスクＭ１，Ｍ２を保持するマスクステージ１０と、被露光材としての基板Ｗ１，Ｗ２をそれぞれ載置する複数の基板保持部２１と、複数の基板保持部を載置する基板ステージ２０と、前記複数の基板保持部２１に保持された前記基板Ｗ１，Ｗ２がマスクステージ１１に保持された前記マスクＭ１，Ｍ２と対向するように、前記複数の基板保持部２１を同期して回転移動可能な回転テーブル２２と、前記マスクを介して前記基板Ｗ１，Ｗ２に対して、露光光を照射する照明光学系３０を備え、第１及び第２の基板保持部２１ａ，２１ｂに載置した基板Ｗ１，Ｗ２に対して、同期して露光光を照射することができる。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクを保持するマスクステージと、被露光材としての基板を載置する基板保持部を有する基板ステージと、前記基板保持部に保持された前記基板と前記マスクステージに保持された前記マスクとが対向した状態で、前記マスクを介して前記基板に露光光を照射する照明光学系と、を有する露光処理部と、
前記基板保持部に対して前記基板を搬入する搬入装置と、
前記基板保持部に対して前記基板を搬出する搬出装置と、
を備え、
前記露光処理部における露光動作と、前記搬入装置における搬入動作と、前記搬出装置における搬出動作とを、同期して行うように制御する制御部をさらに備えることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
複数の前記基板を並列に同時搬入可能な上流コンベアと、
前記複数の基板を並列に同時に搬出可能な下流コンベアと、
をさらに備え、
前記搬入装置は、前記上流コンベアと前記基板ステージとの間に配置される搬入コンベアであり、
前記搬出装置は、前記下流コンベアと前記基板ステージとの間に配置される搬出コンベアであり、
前記上流コンベア、前記搬入コンベア、前記露光処理部、前記搬出コンベア、前記下流コンベアは、所定の方向に並んで配置されていることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記上流コンベアに搬入された複数の基板を保持し、該複数の基板が前記所定の方向に並ぶように前記複数の基板を回転させ、前記複数の基板を前記搬入コンベアに受け渡す搬入側回転機構と、
前記搬出コンベアに搬入された複数の基板を保持し、該複数の基板が前記所定の方向と直交する方向に並ぶように前記複数の基板を回転させ、前記複数の基板を前記下流コンベアに受け渡す搬出側回転機構と、
をさらに備えることを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記搬入コンベアは、前記複数の基板を前記所定の方向と直交する方向に移動可能に構成され、
前記搬出コンベアは、前記複数の基板を前記所定の方向と直交する方向に移動可能に構成されることを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項５】
前記基板ステージは、複数の前記基板をそれぞれ載置する複数の前記基板保持部を備え、
前記露光処理部は、前記複数の基板を同時に露光可能であることを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項６】
前記基板ステージは、前記搬入装置によって前記基板が搬入される複数の搬入位置、前記基板が前記マスクステージに保持された前記マスクと対向する複数の露光位置、及び、前記搬出装置によって前記基板を搬出する複数の搬出位置に前記基板保持部が移動可能となるように、前記複数の基板保持部を回転移動することができる回転テーブルを備えることを特徴とする請求項５に記載の露光装置。
【請求項７】
前記回転テーブルの中心に対して対称に、互いに略平行に配置され、且つ搬送方向が互いに逆方向となる第１及び第２のコンベア装置が設けられており、
前記搬入装置は、前記第１のコンベア装置から第１の前記搬入位置の前記基板保持部に前記基板を搬入する第１の搬入装置と、前記第２のコンベア装置から第２の前記搬入位置の前記基板保持部に前記基板を搬入する第２の搬入装置と、を備え、
前記搬出装置は、第１の前記搬出位置の前記基板保持部から前記第２のコンベア装置に前記基板を搬出する第１の搬出装置と、第２の前記搬出位置の前記基板保持部から前記第１のコンベア装置に前記基板を搬出する第２の搬出装置と、を備えることを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
【請求項８】
前記複数の基板は、単一の前記照明光学系によって同時に露光されることを特徴とする請求項５〜請求項７のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項９】
マスクを保持するマスクステージと、被露光材としての基板を載置する基板保持部を有する基板ステージと、前記基板保持部に保持された前記基板と前記マスクステージに保持された前記マスクとが対向した状態で、前記マスクを介して前記基板に露光光を照射する照明光学系と、を有する露光処理部と、
前記基板保持部に対して前記基板を搬入する搬入装置と、
前記基板保持部に対して前記基板を搬出する搬出装置と、
を備える露光装置の露光方法であって、
前記露光処理部における露光動作と、前記搬入装置における搬入動作と、前記搬出装置における搬出動作とは、同期して行うように制御されることを特徴とする露光方法。
【請求項１０】
マスクを保持するマスクステージと、
被露光材としての基板をそれぞれ載置する複数の基板保持部と、前記複数の基板保持部に保持された前記基板が前記マスクステージに保持された前記マスクと対向するように、前記複数の基板保持部を回転移動することができる回転テーブルと、を備える基板ステージと、
前記マスクを介して前記基板に露光光を照射する照明光学系と、
複数の基板保持部の各々に対して基板を搬入することを可能とする第１の搬入装置と、
前記複数の基板保持部の各々に対して前記基板を搬入することを可能とする第２の搬入装置と、
前記第１の搬入装置により前記基板保持部の１つに載置した前記基板と、前記第２の搬入装置により前記基板保持部の１つに載置した前記基板とに対して、前記露光光を照射することを、同期して制御することが可能な制御部と、を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項１１】
前記制御部は、前記第１の搬入装置と、前記第２の搬入装置と、複数の基板保持部の各々に対して前記基板を搬出すること可能とする第１の搬出装置と、前記複数の基板保持部の各々に対して前記基板を搬出すること可能とする第２の搬出装置とを、同期して制御することが可能であることを特徴とする請求項１０に記載の露光装置。
【請求項１２】
前記露光装置において、前記第１の搬入装置と、前記第２の搬入装置と、によりそれぞれの前記基板保持部に載置した基板の厚さを測定してから、前記回転テーブルを回転移動することを特徴とする請求項１０または請求項１１に記載の露光装置。
【請求項１３】
前記露光装置において、前記第１の搬入装置と、前記第２の搬入装置と、によりそれぞれの基板を保持する基板保持部上の所定の基準位置と、前記基板の一辺と直交する他の一辺の位置を検出することによって、基板の全体としての所定の基準位置とのズレ量を算出してから、前記回転テーブルを回転移動することを特徴とする特徴とする請求項１０から請求項１２のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１４】
前記露光装置において、測定した基板の厚さと、検出した基板とマスクのズレ量をもとに、前記マスクを介して前記基板へ露光光を露光転写する前に、前記基板と前記マスクの、ギャップ調整と、アライメント調整とを、行なうことを特徴とする請求項１０から請求項１３のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１５】
前記第１搬入装置により前記基板保持部の１つに載置した前記基板と、前記第２搬入装置により前記基板保持部の１つに載置した前記基板とに対して、前記基板と前記マスクとのギャップ調整と、アライメント調整とを、同期して制御することを特徴とする請求項１０〜請求項１４のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１６】
前記回転テーブルは、前記第１及び第２の搬入装置によって前記基板が搬入される複数の搬入位置、前記基板が前記マスクステージに保持された前記マスクと対向する複数の露光位置、及び、前記第１及び第２の搬出装置によって前記基板を搬出する複数の搬出位置に、前記基板保持部が移動可能となるように、前記複数の基板保持部を回転移動可能であることを特徴とする請求項１０〜請求項１５のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１７】
前記回転テーブルには、前記基板の厚さと、前記基板保持部の所定の基準位置に対する前記基板のズレ量との少なくとも一方を検出する、複数の基板情報取得位置が、前記搬入位置と前記露光位置との間にそれぞれ設けられていることを特徴とする請求項１６に記載の露光装置。
【請求項１８】
前記基板の厚さと、前記基板保持部の所定の基準位置に対する前記基板のズレ量とは、前記搬入位置と前記露光位置のいずれかで検出することを特徴とする請求項１６または請求項１７に記載の露光装置。
【請求項１９】
マスクを保持するマスクステージと、
被露光材としての基板をそれぞれ載置する複数の基板保持部と、前記複数の基板保持部に保持された前記基板が前記マスクステージに保持された前記マスクと対向するように、前記複数の基板保持部を回転移動することができる回転テーブルと、を備える基板ステージと、
前記マスクを介して前記基板に露光光を照射する照明光学系と、
複数の基板保持部の各々に対して基板を搬入することを可能とする第１の搬入装置と、
前記複数の基板保持部の各々に対して前記基板を搬入することを可能とする第２の搬入装置と、
を備えた露光装置を用いた露光方法であって、
前記第１の搬入装置により前記基板保持部の１つに載置した前記基板と、前記第２の搬入装置により前記基板保持部の１つに載置した前記基板とに対して、前記露光光を照射することを、同期して制御することを特徴とする露光方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置及び露光方法に関する発明である。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等のタッチパネル用ディスプレイの基板上にマスクの露光パターンを露光転写するプロキシミティ露光は、表面に感光剤を塗布した透光性の基板（被露光材）を基板保持部で保持し、マスクステージのマスク保持枠に保持されたマスクに、例えば、数１０μｍ〜数１００μｍのギャップで接近させて、パターン露光用の光をマスクに向けて照射してマスクに描かれた露光パターンを基板上に転写するフォトリソグラフィー技術により行われている。
【０００３】
このようなプロキシミティ方式を用いた露光装置としては、露光位置とロード／アンロード位置とをそれぞれ移動する２台のワークステージと、各ロード／アンロード位置へのワークの搬入及び搬出が可能な２台のロボットとを備え、一方のワークステージ上のワークを露光中、他方のワークステージでワークの搬入・搬出を行うようにしたものが考案されている（例えば、特許文献１及び２参照）。
【０００４】
同様に、１台の露光装置に対して、基板を載置するステージを２台備え、一方の基板を露光するときに、他方の基板のアライメント情報を検出するようにして、並列処理を採用したものが知られている（例えば、特許文献３参照）。
【０００５】
また、複数の基板を露光処理する露光装置として、特許文献４及び５が知られている。たとえば、特許文献５に記載の露光装置は、１台のハンドリングユニットによって基板の搬送を行い、半導体ウェーハを処理している間に、次に処理される半導体ウェーハのプリアライメントを行っている。
【０００６】
さらに、搬入コンベア、搬出コンベア、第一ロボット、第二ロボット、及び、露光部、大型基板を載置し分割露光を行う移動ステージ、基板受渡し部などで構成され、基板の搬出動作と、移動ステージの元位置への移動動作が並行して行われる露光装置も知られている（例えば、特許文献６参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００８−１５８５４５号公報
【特許文献２】特開２００８−１２４５０６号公報
【特許文献３】特開平５−１７５０９８号公報
【特許文献４】特表２００８−５１０３１７号公報
【特許文献５】特開２００５−２６４８０号公報
【特許文献６】特開２００１−２５５６５９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで、タッチパネル用ディスプレイパネルの露光装置においては、タクトタイムの短縮が要求されている。特許文献１及び２に記載の露光装置では、コンベアからロボットが基板を搬送し、各基板ステージへ基板を受け渡すためタクトロスにつながる。また、露光ステージが２台あり、２枚の基板を順次露光することは可能だが、３枚目以降の基板は待ち時間が必要となり、タクトロスにつながるといった問題があった。
【０００９】
また、特許文献３に記載の露光装置では、マスクと基板のアライメントやギャップ量測定及びギャップ量調整はステージの動作完了後に行っていたためタクトタイムが長くなる課題があった。
【００１０】
特許文献４に記載の露光装置は、半導体用のものであり、基板が小さいことからステーションを移動せず同時露光を行っている。さらに、特許文献５に記載の露光装置も、半導体用のものであり、１台のハンドリングユニットによって基板の搬送を行っていることから、タクトタイムが長くなるという課題があった。
【００１１】
さらに、特許文献６は、コンベアから基板を１ステージで搬送するため、他方の基板は処理を待たなければならないのでタクトロスが発生するという問題があった。
【００１２】
本発明は、前述した課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、タクトタイムの短縮が可能な露光装置及び露光方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。
（１）  マスクを保持するマスクステージと、被露光材としての基板を載置する基板保持部を有する基板ステージと、前記基板保持部に保持された前記基板と前記マスクステージに保持された前記マスクとが対向した状態で、前記マスクを介して前記基板に露光光を照射する照明光学系と、を有する露光処理部と、
前記基板保持部に対して前記基板を搬入する搬入装置と、
前記基板保持部に対して前記基板を搬出する搬出装置と、
を備え、
前記露光処理部における露光動作と、前記搬入装置における搬入動作と、前記搬出装置における搬出動作とを、同期して行うように制御する制御部をさらに備えることを特徴とする露光装置。
（２）  複数の前記基板を並列に同時搬入可能な上流コンベアと、
前記複数の基板を並列に同時に搬出可能な下流コンベアと、
をさらに備え、
前記搬入装置は、前記上流コンベアと前記基板ステージとの間に配置される搬入コンベアであり、
前記搬出装置は、前記下流コンベアと前記基板ステージとの間に配置される搬出コンベアであり、
前記上流コンベア、前記搬入コンベア、前記露光処理部、前記搬出コンベア、前記下流コンベアは、所定の方向に並んで配置されていることを特徴とする（１）に記載の露光装置。
（３）  前記上流コンベアに搬入された複数の基板を保持し、該複数の基板が前記所定の方向に並ぶように前記複数の基板を回転させ、前記複数の基板を前記搬入コンベアに受け渡す搬入側回転機構と、
前記搬出コンベアに搬入された複数の基板を保持し、該複数の基板が前記所定の方向と直交する方向に並ぶように前記複数の基板を回転させ、前記複数の基板を前記下流コンベアに受け渡す搬出側回転機構と、
をさらに備えることを特徴とする（２）に記載の露光装置。
（４）  前記搬入コンベアは、前記複数の基板を前記所定の方向と直交する方向に移動可能に構成され、
前記搬出コンベアは、前記複数の基板を前記所定の方向と直交する方向に移動可能に構成されることを特徴とする（２）に記載の露光装置。
（５）  前記基板ステージは、複数の前記基板をそれぞれ載置する複数の前記基板保持部を備え、
前記露光処理部は、前記複数の基板を同時に露光可能であることを特徴とする（１）〜（４）のいずれかに記載の露光装置。
（６）  前記基板ステージは、前記搬入装置によって前記基板が搬入される複数の搬入位置、前記基板が前記マスクステージに保持された前記マスクと対向する複数の露光位置、及び、前記搬出装置によって前記基板を搬出する複数の搬出位置に前記基板保持部が移動可能となるように、前記複数の基板保持部を回転移動することができる回転テーブルを備えることを特徴とする（５）に記載の露光装置。
（７）  前記回転テーブルの中心に対して対称に、互いに略平行に配置され、且つ搬送方向が互いに逆方向となる第１及び第２のコンベア装置が設けられており、
前記搬入装置は、前記第１のコンベア装置から第１の前記搬入位置の前記基板保持部に前記基板を搬入する第１の搬入装置と、前記第２のコンベア装置から第２の前記搬入位置の前記基板保持部に前記基板を搬入する第２の搬入装置と、を備え、
前記搬出装置は、第１の前記搬出位置の前記基板保持部から前記第２のコンベア装置に前記基板を搬出する第１の搬出装置と、第２の前記搬出位置の前記基板保持部から前記第１のコンベア装置に前記基板を搬出する第２の搬出装置と、を備えることを特徴とする（６）に記載の露光装置。
（８）  前記複数の基板は、単一の前記照明光学系によって同時に露光されることを特徴とする（５）〜（７）のいずれかに記載の露光装置。
（９）  マスクを保持するマスクステージと、被露光材としての基板を載置する基板保持部を有する基板ステージと、前記基板保持部に保持された前記基板と前記マスクステージに保持された前記マスクとが対向した状態で、前記マスクを介して前記基板に露光光を照射する照明光学系と、を有する露光処理部と、
前記基板保持部に対して前記基板を搬入する搬入装置と、
前記基板保持部に対して前記基板を搬出する搬出装置と、
を備える露光装置の露光方法であって、
前記露光処理部における露光動作と、前記搬入装置における搬入動作と、前記搬出装置における搬出動作とは、同期して行うように制御されることを特徴とする露光方法。
（１０）  マスクを保持するマスクステージと、
被露光材としての基板をそれぞれ載置する複数の基板保持部と、前記複数の基板保持部に保持された前記基板が前記マスクステージに保持された前記マスクと対向するように、前記複数の基板保持部を回転移動することができる回転テーブルと、を備える基板ステージと、
前記マスクを介して前記基板に露光光を照射する照明光学系と、
複数の基板保持部の各々に対して基板を搬入することを可能とする第１の搬入装置と、
前記複数の基板保持部の各々に対して前記基板を搬入することを可能とする第２の搬入装置と、
前記第１の搬入装置により前記基板保持部の１つに載置した前記基板と、前記第２の搬入装置により前記基板保持部の１つに載置した前記基板とに対して、前記露光光を照射することを、同期して制御することが可能な制御部と、を備えることを特徴とする露光装置。
（１１）  前記制御部は、前記第１の搬入装置と、前記第２の搬入装置と、複数の基板保持部の各々に対して前記基板を搬出すること可能とする第１の搬出装置と、前記複数の基板保持部の各々に対して前記基板を搬出すること可能とする第２の搬出装置とを、同期して制御することが可能であることを特徴とする（１０）に記載の露光装置。
（１２）  前記露光装置において、前記第１の搬入装置と、前記第２の搬入装置と、によりそれぞれの前記基板保持部に載置した基板の厚さを測定してから、前記回転テーブルを回転移動することを特徴とする（１０）または（１１）に記載の露光装置。
（１３）  前記露光装置において、前記第１の搬入装置と、前記第２の搬入装置と、によりそれぞれの基板を保持する基板保持部上の所定の基準位置と、前記基板の一辺と直交する他の一辺の位置を検出することによって、基板の全体としての所定の基準位置とのズレ量を算出してから、前記回転テーブルを回転移動することを特徴とする特徴とする（１０）から（１２）のいずれかに記載の露光装置。
（１４）  前記露光装置において、測定した基板の厚さと、検出した基板とマスクのズレ量をもとに、前記マスクを介して前記基板へ露光光を露光転写する前に、前記基板と前記マスクの、ギャップ調整と、アライメント調整とを、行なうことを特徴とする（１０）から（１３）のいずれかに記載の露光装置。
（１５）  前記第１搬入装置により前記基板保持部の１つに載置した前記基板と、前記第２搬入装置により前記基板保持部の１つに載置した前記基板とに対して、前記基板と前記マスクとのギャップ調整と、アライメント調整とを、同期して制御することを特徴とする（１０）〜（１４）のいずれかに記載の露光装置。
（１６）  前記回転テーブルは、前記第１及び第２の搬入装置によって前記基板が搬入される複数の搬入位置、前記基板が前記マスクステージに保持された前記マスクと対向する複数の露光位置、及び、前記第１及び第２の搬出装置によって前記基板を搬出する複数の搬出位置に、前記基板保持部が移動可能となるように、前記複数の基板保持部を回転移動可能であることを特徴とする（１０）〜（１５）のいずれかに記載の露光装置。
（１７）  前記回転テーブルには、前記基板の厚さと、前記基板保持部の所定の基準位置に対する前記基板のズレ量との少なくとも一方を検出する、複数の基板情報取得位置が、前記搬入位置と前記露光位置との間にそれぞれ設けられていることを特徴とする（１６）に記載の露光装置。
（１８）  前記基板の厚さと、前記基板保持部の所定の基準位置に対する前記基板のズレ量とは、前記搬入位置と前記露光位置のいずれかで検出することを特徴とする（１６）または（１７）に記載の露光装置。
（１９）  マスクを保持するマスクステージと、
被露光材としての基板をそれぞれ載置する複数の基板保持部と、前記複数の基板保持部に保持された前記基板が前記マスクステージに保持された前記マスクと対向するように、前記複数の基板保持部を回転移動することができる回転テーブルと、を備える基板ステージと、
前記マスクを介して前記基板に露光光を照射する照明光学系と、
複数の基板保持部の各々に対して基板を搬入することを可能とする第１の搬入装置と、
前記複数の基板保持部の各々に対して前記基板を搬入することを可能とする第２の搬入装置と、
を備えた露光装置を用いた露光方法であって、
前記第１の搬入装置により前記基板保持部の１つに載置した前記基板と、前記第２の搬入装置により前記基板保持部の１つに載置した前記基板とに対して、前記露光光を照射することを、同期して制御することを特徴とする露光方法。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の露光装置及び露光方法によれば、露光処理部と、露光処理部の基板保持部に対して基板を搬入する搬入装置と、該基板保持部に対して基板を搬出する搬出装置と、を備え、露光処理部における露光動作と、搬入装置における搬入動作と、搬出装置における搬出動作とを、同期して行うように制御するので、搬入される複数の基板を逐次露光することができ、タクトタイムを短縮することができる。
【００１５】
また、本発明の露光装置及び露光方法によれば、基板をそれぞれ保持する複数の２の基板保持部と、複数の基板保持部を回転移動可能な回転テーブルを備え、さらに、複数の基板保持部の各々に対してそれぞれ基板を搬入可能な第１及び第２の搬入装置によって、複数の基板保持部に載置されたそれぞれの基板に露光光を同期して照射することができるため、タクトタイムの短縮が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の第１実施形態に係る露光装置の露光処理部を説明するための正面図である。
【図２】本発明の第１実施形態に係る露光装置を説明するための概略構成図である。
【図３】本発明の第１実施形態に係る搬入工程を説明するための図である。
【図４】本発明の第１実施形態に係る基板情報取得工程を説明するための図である。
【図５】本発明の第１実施形態に係る露光工程を説明するための図である。
【図６】本発明の第１実施形態に係る搬出工程を説明するための図である。
【図７】本発明の第１実施形態の第１変形例に係る露光装置を説明するための概略構成図である。
【図８】本発明の第１実施形態の第２変形例に係る露光装置を説明するための概略構成図である。
【図９】（ａ）は、本発明の第１実施形態の第３変形例に係る露光装置の露光処理部を説明するための上面図であり、（ｂ）は、該露光装置の概略構成図である。
【図１０】（ａ）は、本発明の第２実施形態に係る露光装置の露光処理部を説明するための正面図であり、（ｂ）は、該露光装置の概略構成図である。
【図１１】（ａ）は、本発明の第３実施形態に係る露光装置の露光処理部を説明するための正面図であり、（ｂ）は、該露光装置の概略構成図である。
【図１２】本実施形態の第１変形例に係る露光装置を説明するための正面図である。
【図１３】（ａ）は、図１２の露光装置の概略構成図であり、（ｂ）は、２枚の基板を並列して露光処理した後、残りの基板を露光処理する過程を説明する、Ｙ方向駆動機構や照明光学系を省略して示す概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明の各実施形態に係る露光装置及び露光方法を図面に基づいて詳細に説明する。
【００１８】
（第１実施形態）
図１に示すように、第１実施形態の露光装置ＰＥは、露光処理部１として、マスクＭ（Ｍ１、Ｍ２）を保持するマスクステージ１０と、ガラス基板（被露光材）Ｗ（Ｗ１，Ｗ２）を保持する基板ステージ２０と、パターン露光用の光を照射する照明光学系３０（３０ａ，３０ｂ）と、を備えている。
【００１９】
マスクステージ１０には、両側に矩形形状の開口１１ａが形成されるマスクベース１１と、マスクステージベース１１の開口１１ａにｘ軸，ｙ軸，θ方向へ移動可能に装着され、マスクＭを保持するマスク保持部であるマスク保持枠１２と、が設けられている。
なお、ｘ軸、ｙ軸とは、水平面内で直交する２軸であり、θ方向とは、水平面の任意の位置で鉛直方向に延びるｚ軸回りの回転方向を表す。
【００２０】
マスクステージベース１１は、基板ステージ側の装置ベース５０上に立設される複数の支柱５１に支持されている。
【００２１】
マスク保持枠１２には、マスクＭのマスクパターンが描かれていない周縁部を吸着するための図示しない複数の吸引ノズルが下面に開設されており、図示しない真空吸着機構によってマスクＭを着脱自在に保持する。また、マスクステージベース１１には、マスクと基板のギャップを測定するためのギャップセンサ１３ａや、マスクと基板のアライメントを調整するためのアライメントカメラ１３ｂなどを保持するためのセンサ保持部１４が設けられている。
【００２２】
照射光学系３０は、不図示の光源からパターン露光用の光が、所定の照射角を持って、マスクＭの露光パターンを介して基板Ｗに照射されている。
【００２３】
基板ステージ２０は、図１及び図２に示すように、基板Ｗを保持する複数の基板保持部２１（本実施形態では、第１〜第８基板保持部２１ａ〜２１ｈ）と、複数の基板保持部２１を装置ベース５０に対してθ方向に移動する回転テーブル２２と、第１及び第２の基板Ｗ１，Ｗ２を第１及び第２のベルトコンベア１６，１７から２つの基板保持部２１（図では、第１及び第５の基板保持部２１ａ，２１ｅ）へ搬入する第１及び第２の搬入装置３１，３２と、第１及び第２の基板Ｗ１，Ｗ２を２つの基板保持部２１（図では、第４及び第８の基板保持部２１ｄ，２１ｈ）からベルトコンベア１６，１７へ搬出する第１及び第２の搬出装置３３，３４と、を備える。複数の基板保持部２１は、図示しない真空吸着機構によって基板Ｗを着脱自在に保持する。また、回転テーブル２２は、図示しない回転モータなどを備えた回転駆動機構２２ａによって回転移動する。
【００２４】
回転テーブル２２は、第１及び第２の搬入装置３１，３２によって基板Ｗ１，Ｗ２が搬入される複数の搬入位置２２Ａ，２２Ｅ、基板Ｗ１，Ｗ２の厚さと、基板保持部２１の所定の基準位置に対する基板Ｗ１，Ｗ２のズレ量とを検出する、複数の基板情報取得位置２２Ｂ，２２Ｆ、基板Ｗ１，Ｗ２がマスクステージ１０に保持されたマスクＭと対向する複数の露光位置２２Ｃ，２２Ｇ、及び、第１及び第２の搬出装置３３，３４によって基板Ｗ１，Ｗ２を搬出する複数の搬出位置２２Ｄ，２２Ｈ、を備え、θ方向に等間隔（本実施形態では、４５°）で各位置２２Ａ〜２２Ｈの順で配置されている。回転テーブル２２は、第１〜第８基板保持部２１ａ〜２１ｈがこれらの位置２２Ａ〜２２Ｈを順に回転移動可能となるように、複数の基板保持部２１を回転駆動する。
【００２５】
第１及び第２の基板Ｗ１，Ｗ２を搬入及び搬出する第１及び第２のベルトコンベア１６，１７は、基板ステージ２０の両側であって、回転テーブル２２の中心に対して対称に、略平行に配置され、且つ搬送方向が互いに逆方向となっている。第１及び第２の搬入装置３１，３２は、それぞれ異なる方向から露光装置ＰＥの第１及び第２の搬入位置２２Ａ、２２Ｅにある２つの基板保持部２１（図では、第１及び第５の基板保持部２１ａ，２１ｅ）にアクセス可能なように配置されている。また、第１及び第２の搬出装置３３，３４は、それぞれ異なる方向から露光装置ＰＥの第１及び第２の搬出位置２２Ｄ，２２Ｈにある２つの基板保持部２１（図では、第４及び第８の基板保持部２１ｄ，２１ｈ）にアクセス可能なように配置されている。
【００２６】
制御部６０は、露光処理部１、第１及び第２の搬入装置３１，３２、第１及び第２の搬出装置３３，３４、第１及び第２のベルトコンベア１６，１７を制御するものである。
また、制御部６０は、第１及び第２の搬入装置３１，３２と、第１及び第２の搬出装置３３，３４と、による露光装置ＰＥに対する基板Ｗ１，Ｗ２の搬入及び搬出が同期して行われるように、第１及び第２の搬入装置３１，３２と、第１及び第２の搬出装置３３，３４と、第１及び第２のベルトコンベア１６，１７を制御する。さらに、制御部６０は、第１搬入装置３１により基板保持部２１の１つに載置した基板Ｗ１と、第２搬入装置３２により基板保持部２１の１つに載置した基板Ｗ２と、に対して、マスクＭとのギャップ調整と、露光光を照射することを、同期して制御する。また、制御部は、第１の基板Ｗ１及び第２の基板Ｗ２に対して、基板Ｗ１，Ｗ２の所定の基準位置とのズレ量を算出や、ギャップの測定も、同期して制御することができる。
さらに、例えば、露光処理部１の各位置での動作は、回転テーブル２２の回転停止を基準として同期して制御させてもよい。
【００２７】
搬入工程における処理について説明すると、まず、第１及び第２のベルトコンベア１６，１７により、第１及び第２の基板Ｗ１，Ｗ２が第１及び第２の搬入装置３１，３２の近傍まで搬送されると、第１及び第２の搬入装置３１，３２は、第１及び第２の基板Ｗ１，Ｗ２をそれぞれ把持し、第１及び第２の搬入装置３１，３２を移動して、搬入位置２２Ａ，２２Ｅに位置する第１及び第５の基板保持部２１ａ，２１ｅにまで運搬する。その後、第１及び第２の搬入装置３１，３２は、第１及び第２の基板Ｗ１，Ｗ２を第１及び第５の基板保持部２１ａ，２１ｅに載置する。それから、基板回転テーブル２２を時計周りに４５°移動する。なお、第１及び第２の搬入装置３１，３２は、制御部６０によって同期して、第１及び第２の基板Ｗ１，Ｗ２を運搬し、第１及び第５の基板保持部２１ａ，２１ｅに載置してもよい。（図３）
【００２８】
基板情報取得工程における処理について説明すると、露光装置ＰＥに配設されたアライメントカメラ１３ｂは、基板情報取得位置２２Ｂ，２２Ｆに位置する第１及び第５の基板保持部２１ａ、２１ｅ上の所定の基準位置と、第１及び第２の基板Ｗ１，Ｗ２の一辺Ｗａと直交する他の一辺Ｗｂの位置を検出することによって、第１及び第２の基板Ｗ１、Ｗ２の全体としての所定の基準位置とのズレ量を算出する。そして、このズレ量を予め制御部６０の図示しない記憶部に記憶する。
その後、露光装置ＰＥに配設したギャップセンサ１３ａにより、第１及び第２の基板Ｗ１、Ｗ２の板厚を検出する。その検出した板厚ｈを制御部６０の記憶部に記憶する。それから、回転テーブル２２を時計周りに４５°移動する。（図４）
【００２９】
露光工程における処理について説明すると、制御部６０は、算出したズレ量に基づいて、露光位置２２Ｃ，２２Ｇに位置する第１及び第５の基板保持部２１ａ，２１ｅを制御し、第１及び第５の基板保持部２１ａ，２１ｅを移動（Ｘ，Ｙ方向）、及び回転（θ方向）して、第１及び第２の基板Ｗ１，Ｗ２が第１及び第２のマスクＭ１，Ｍ２に対向配置するようにアライメントを行う。また、第１及び第２のマスクＭ１，Ｍ２に描かれた複数のパターンを第１及び第２の基板Ｗ１，Ｗ２に露光転写するため、制御部６０の記憶部に記録された板厚ｈから、第１及び第２の基板Ｗ１，Ｗ２と第１及び第２のマスクＭ１，Ｍ２のマスクの対向面間のギャップｇ（図１参照）を調整する。第１及び第２の基板Ｗ１、Ｗ２に同期して複数のパターンを効率良く露光転写することができる。それから、基板回転テーブル２２を時計周りに４５°移動する。（図５）
なお、基板Ｗ１，Ｗ２のアライメント調整やギャップ調整は、基板保持部２１を駆動する図示しない基板駆動機構によって行われてもよいし、あるいは、マスク保持枠１２を駆動する図示しないマスク駆動機構によって行われてもよいし、あるいは、両方で行ってもよい。ただし、後述する露光位置２２Ｃ，２２Ｆ以外でのアライメント調整やギャップ調整の場合には、基板保持部２１を駆動する基板駆動機構によって行われる。
【００３０】
搬出工程における処理について説明すると、搬出位置２２Ｄ，２２Ｈに位置する第１及び第５の基板保持部２１ａ，２１ｅから露光された第１及び第２の基板Ｗ１，Ｗ２まで、第１及び第２の搬出装置３３，３４を移動して、第１及び第２の基板Ｗ１，Ｗ２を第１及び第２のベルトコンベア１６，１７にまで運搬する。その後、第１及び第２の搬出装置３３，３４は、第１及び第２の基板Ｗ１，Ｗ２を第１及び第２のベルトコンベア１６，１７に載置する。それから、回転テーブル２２を時計周りに４５°移動する。なお、第１及び第２の搬出装置３３，３４は、制御部６０によって同期して、第１及び第２の基板Ｗ１，Ｗ２を運搬し、第１及び第２のベルトコンベア１６，１７に載置してもよい。（図６）
従って、第１及び第２のベルトコンベア１６，１７は、回転テーブル２２のインデックス回転に同期して、所定の距離ずつ移動し、基板Ｗ１，Ｗ２を搬入した後のコンベア１６，１７の位置に、露光された基板Ｗ１、Ｗ２が載置される。
【００３１】
図２に示すように、本実施形態においては、回転テーブル２１に沿って半周に搬入工程
と、基板情報取得工程と、露光工程と、搬出工程と、の４工程が設けられている。基板保持部２１は８台設けられている。各工程における処理において、基板Ｗ８枚を同時に並列処理することができる。
【００３２】
このように、本実施形態によれば、露光装置ＰＥは、基板Ｗ１、Ｗ２をそれぞれ保持する複数の基板保持部２１と、複数の基板保持部２１を回転移動可能な回転テーブル２２と、を備え、さらに、複数の基板保持部２１の各々に対して第１及び第２の基板Ｗ１，Ｗ２を搬入可能な第１及び第２の搬入装置３１，３２によって、複数の基板保持部２１に載置されたそれぞれの基板Ｗ１，Ｗ２に対して、露光光の照射することを同期して制御することができるように制御部６０を備える。従って、複数の基板保持部２１に載置した基板Ｗ１，Ｗ２に同期して露光光を転写することができるため、タクトタイムの短縮が可能となる。
【００３３】
また、本実施形態によれば、露光処理部１と、露光処理部１の基板保持部２１に対して基板Ｗを搬入する搬入装置３１，３２と、基板保持部２１に対して基板Ｗを搬出する搬出装置３３，３４と、を備え、露光処理部１における露光動作と、搬入装置３１，３２における搬入動作と、搬出装置３３，３４における搬出動作とを、同期して行うように制御するので、搬入される複数の基板Ｗを逐次露光することができ、タクトタイムを短縮することができる。
【００３４】
図７は、本実施形態の第１変形例に係る露光装置を説明するための概略構成図である。
上記実施形態では、回転テーブル２２には、基板Ｗの厚さと、基板保持部２１の所定の基準位置に対する基板Ｗのズレ量とを検出する、複数の基板情報取得位置２２Ｂ，２２Ｆが、搬入位置２２Ａ，２２Ｅと露光位置２２Ｃ，２２Ｇとの間にそれぞれ設けられていたが、この変形例では、基板Ｗ１，Ｗ２のアライメント調整やギャップ調整を行う調整位置２２Ｉ，２２Ｊが、搬入位置２２Ａ´，２２Ｅ´と露光位置２２Ｃ´，２２Ｇ´との間にそれぞれ設けられている。
【００３５】
また、この場合、基板Ｗの厚さと、基板保持部２１の所定の基準位置に対する基板Ｗのズレ量とは、搬入位置２２Ａ´，２２Ｅ´にて行われる。
【００３６】
このような第１変形例によれば、露光位置２２Ｃ´，２２Ｇ´では、基板Ｗ１，Ｗ２のアライメント調整やギャップ調整を行う必要がなくなり、最も時間を要する露光位置２２Ｃ´，２２Ｇ´での処理時間を短縮することができ、全体としてのタクトタイムの短縮につながる。
【００３７】
なお、基板Ｗの厚さと、基板保持部２１の所定の基準位置に対する基板Ｗのズレ量とは、調整位置２２Ｉ，２２Ｊで調整の前に行われてもよいし、また、いずれか一方が搬入位置２２Ａ´，２２Ｅ´にて行われてもよい。さらに、基板Ｗ１，Ｗ２のアライメント調整やギャップ調整のいずれか一方が、調整位置２２Ｉ，２２Ｊで行われ、他方の調整が露光位置２２Ｃ´，２２Ｇ´で行われてもよい。
【００３８】
図８は、本実施形態の第２変形例に係る露光装置を説明するための概略構成図である。
この変形例では、第１変形例と同様に、搬入位置２２Ａ´，２２Ｅ´にて、基板Ｗの厚さと、基板保持部２１の所定の基準位置に対する基板Ｗのズレ量とが測定され、調整位置２２Ｉ，２２Ｊにて、基板Ｗ１，Ｗ２のアライメント調整と基板Ｗ１，Ｗ２とマスクＭＡ１，ＭＡ２間のギャップ調整とが行われる。その後、回転テーブル２２の回転を停止せずに、マスクＭＡ１，ＭＡ２によるスキャン露光が行われる。
【００３９】
このような第２変形例によれば、露光時に回転テーブル２２の回転を停止しないことから、タクトタイムを短縮することができる。なお、アライメント調整とギャップ調整は、搬入位置２２Ａ´，２２Ｅ´にて行われてもよい。ただし、基板Ｗ１、Ｗ２がマスクＭＡ１、ＭＡ２を通過し、搬出位置２２Ｄ,２２Ｈに到達するまでは、アライメント調整とギャップ調整は行われない。
【００４０】
図９（ａ）及び（ｂ）は、本実施形態の第３変形例に係る露光装置を説明するための図である。
この変形例では、単一の照明光学系３０によって、２か所の露光位置２２Ｃ，２２Ｇに位置する基板保持部２２の基板Ｗ１，Ｗ２を露光する。したがって、２つの照明光学系３０Ａ，３０Ｂの光源を同時に照射する同期制御が少なくなるため、タクトタイムを短縮することができる。なお、光源が長くなると、光源の照度にばらつきが生じるため、マスクＭ１，Ｍ２に設けられたパターンのサイズが、基板Ｗ１，Ｗ２に転写されるパターンサイズと異なり、露光精度が悪くなる。そこで、この変形例では、シャッター１５によって露光光を２つに分けている。
【００４１】
（第２実施形態）
図１０（ａ）は、本発明の第２実施形態に係る露光装置の露光処理部を説明するための正面図であり、（ｂ）は、露光装置の概略構成図である。なお、第１実施形態と同等部分については、同一符号を付して説明を省略あるいは簡略化する。
【００４２】
本実施形態の露光装置ＰＥでは、回転テーブル２２に、隣接して配置される一対の基板保持部２１ａ１、２１ａ２、２１ｂ１、２１ｂ２、２１ｃ１、２１ｃ２が、１２０°間隔で設けられており、これらの基板保持部２１は、搬入位置２２Ａ、露光位置２２Ｃ、搬出位置２２Ｄのいずれかの位置に配置されている。
【００４３】
また、露光処理部１では、露光位置２２Ｃに位置する一対の基板保持部２１に対応して、一対のマスクＭ１，Ｍ２がそれぞれマスク保持枠１２によって隣接して配置されており、いずれも共通の照明光学系３０によって照射される。
【００４４】
また、露光処理部には、ギャップセンサ１３ａやアライメントカメラ１３ｂを保持するセンサ保持部１４が設けられている。したがって、露光位置２２Ｃにて、基板Ｗの厚さと、基板保持部２１の所定の基準位置に対する基板Ｗのズレ量とが測定され、基板Ｗ１，Ｗ２のアライメント調整と基板Ｗ１，Ｗ２とマスクＭ１，Ｍ２間のギャップ調整とが行われて、露光が行われる。
【００４５】
また、本実施形態では、搬入位置２２Ａの近傍には、一台の搬入装置３１が設けられており、搬入装置３１は、上流コンベア４０によって並列に同時搬入された複数の基板Ｗ１，Ｗ２を一つずつ搬入位置２２Ａに位置する基板保持部２１ａ１，２１ａ２に受け渡す。
【００４６】
さらに、搬出位置２２Ｄの近傍には、一台の搬出装置３３が設けられており、搬出装置３３は、基板保持部２１ｃ１，２１ｃ２に載置された複数の基板Ｗ１，Ｗ２を下流コンベア４１に受け渡す。下流コンベア４１では、複数の基板Ｗ１、Ｗ２を並列に同時搬出することができる。
【００４７】
このように構成された露光装置においても、制御部６０は、露光処理部１における露光動作と、搬入装置３１における搬入動作と、搬出装置３３における搬出動作とを、同期して行うように制御する。
【００４８】
なお、基板Ｗの厚さ測定、基板保持部２１の所定の基準位置に対する基板Ｗのズレ量測定、基板Ｗ１，Ｗ２のアライメント調整、及び基板Ｗ１，Ｗ２とマスクＭ１，Ｍ２間のギャップ調整は、搬入位置２２Ａで行われてもよい。
【００４９】
したがって、本実施形態の露光装置ＰＥによれば、単一の照明光学系３０によって複数の基板Ｗ１，Ｗ２を同時に露光することができ、タクトタイムの短縮を図ることができる。また、露光装置ＰＥは、上流コンベア４０と下流コンベア４１との間に、１台の搬入装置３１、回転テーブル２２を備えた露光処理部１、１台の搬出装置３３を配置することで構成されるので、第１実施形態に比べてコンパクトな構成となる。
【００５０】
（第３実施形態）
図１１（ａ）は、本発明の第３実施形態に係る露光装置の露光処理部を説明するための正面図であり、（ｂ）は、露光装置の概略構成図である。なお、第１実施形態と同等部分については、同一符号を付して説明を省略あるいは簡略化する。
【００５１】
本実施形態では、上流コンベア４０、搬入装置である搬入コンベア３５、露光処理部１、搬出装置である搬出コンベア３６、下流コンベア４１が、所定の方向（Ｘ方向）に直線状に並んで配置されている。
【００５２】
上流コンベア４０は、複数の基板Ｗ１〜Ｗ３を並列に同時搬入可能であり、下流コンベア４１も、複数の基板Ｗ１〜Ｗ３を並列にＸ方向に同時に搬出可能である。搬入コンベア３５は、上流コンベア４０と露光処理部１の基板ステージ２０との間に、また、搬出コンベア３６は、下流コンベア４１と基板ステージ２０との間にそれぞれ配置され、いずれのコンベア３５、３６も複数の基板Ｗ１〜Ｗ３がＸ方向に並ぶように配置しながら、基板Ｗ１〜Ｗ３をＸ方向に搬送する。
【００５３】
上流コンベア４０と搬入コンベア３５の上方には、搬入側回転機構である搬入側ターンロボット４２が設けられており、また、下流コンベア４１と搬出コンベア３６の上方には、搬出側回転機構である搬出側ターンロボット４３が設けられている。ターンロボット４２、４３は、Ｘ方向に進退する可動部４４と、複数の基板Ｗ１〜Ｗ３をそれぞれ支持する３つの支持部４５と、３つの支持部４５が取り付けられた支持ベース４６を可動部４４に対して回動可能に設けた支持軸４７と、をそれぞれ備える。
【００５４】
搬入側ターンロボット４２は、上流コンベア４０に搬入されたＹ方向に並ぶ複数の基板Ｗ１〜Ｗ３を保持し、複数の基板Ｗ１〜Ｗ３がＸ方向に並ぶように複数の基板Ｗ１〜Ｗ３を回転させ、複数の基板Ｗ１〜Ｗ３を搬入コンベア３５に受け渡す。また、搬出側ターンロボット４３は、搬出コンベア３６に搬入されたＸ方向に並ぶ複数の基板Ｗ１〜Ｗ３を保持し、該複数の基板Ｗ１〜Ｗ３が所定の方向と直交する方向（Ｙ方向）に並ぶように複数の基板Ｗ１〜Ｗ３を回転させ、複数の基板Ｗ１〜Ｗ３を下流側コンベア４１に受け渡す。
【００５５】
また、露光処理部１は、マスクＭを保持するマスクステージ１０と、基板Ｗを載置する基板保持部であるワークチャック２４を有する基板ステージ２０と、マスクＭを介して基板Ｗに露光光を照射する照明光学系３０と、を有する。
【００５６】
また、基板ステージ２０は、基板Ｗ１〜Ｗ３を搬送するためのピン２５と、ピン２５を駆動するピン駆動部２６を持った一組の基板送り部２７が、ワークチャック２４のＹ方向中間部で、搬入コンベア３５近傍とワークチャック２４との間、及びワークチャック２４と搬出コンベア３６近傍との間にそれぞれ設けられている。ピン２５は基板Ｗ１〜Ｗ３の背面がワークチャック２４に載置する位置に高さを調整する。調整はピン２５から空気等を基板Ｗ１〜Ｗ３に吹きつけることやピン２５を基板Ｗ１〜Ｗ３の背面に押し当てまたは吸着させてピン２５を上下する方法が考えられる。
【００５７】
このような露光装置ＰＥを用いた露光方法について、以下に説明する。
まず、上流コンベア４０より複数の基板Ｗ１〜Ｗ３を並列に同時搬送（並列処理）させ、搬入側ターンロボット４２によって、基板を搬入コンベア３５へ直列に並び替える。
【００５８】
次に、搬入コンベア３５から基板Ｗ（Ｗ１〜Ｗ３）をワークチャック２４へピン２５によって搬送する。このとき、ピン２５を上下させたり、振動させたり、またはエアを吹き付けることによって、基板Ｗをワークチャック２４へ搬送する。
【００５９】
そして、ワークチャック２４に保持された基板Ｗとマスクステージに保持された前記マスクとが対向した状態で、ギャップ調整やアライメント調整を行った後、ワークチャック２４に保持された基板Ｗに露光処理を行う。これが終わったら、基板Ｗをワークチャック２４から解除して、基板Ｗを搬出コンベア３６に搬送させる。なお、ワークチャック２４から基板Ｗを搬出コンベア３６へ搬送するときにもピン２５によって搬送する。
【００６０】
露光処理を終えた基板Ｗは、ピン２５によって搬出コンベア３６に搭載して下流コンベア４１まで搬送する。搬出側ターンロボット４３によって、直列になった基板Ｗ１〜Ｗ３を並列にして下流コンベア４１に配置する。基板Ｗ１〜Ｗ３は並列にしたまま搬送されるため、複数の基板Ｗ１〜Ｗ３を次の工程に搬送（並列処理）することができる。
【００６１】
なお、本実施形態においても、制御部６０は、露光処理部１における露光動作と、搬入コンベア３５における搬入動作と、上流コンベア４０における搬入動作と、搬出コンベア３６における搬出動作と、下流コンベア４１における搬出動作とを、同期して行うように制御することができ、タクトタイムを短縮することができる。
【００６２】
また、本実施形態では、上流コンベア４０、搬入コンベア３５、露光処理部１、搬出コンベア３６、下流コンベア４１は、Ｘ方向に並んで配置されているので、Ｙ方向にスペースの制約を受ける場合に適した露光装置ＰＥを提供することができる。
【００６３】
さらに、ターンロボット４２，４３を用いることで、並列搬入する上流コンベア４０と直列搬入する搬入コンベア３５との間、または、直列搬出する搬出コンベア３６と並列搬出する下流コンベア４１との間で、基板Ｗを受け渡しすることができ、複数枚同時に搬入される基板Ｗを、順次待機させながら、露光処理部１で逐次露光することができ、さらに、複数枚同時に搬出することができ、タクトタイムの向上につながる。また、上流コンベア４０または搬入コンベア３５を回転させて、基板Ｗを直列から並列、並列から直列に並び換えてもよい。
【００６４】
図１２及び図１３は、本実施形態の第１変形例に係る露光装置を説明するための概略構成図である。
この変形例では、搬入コンベア３５Ａでは、可動テーブル３７がＹ方向に複数の基板Ｗ１〜Ｗ４を配置可能に構成されており、リニアガイドや不図示のアクチュエータを備えたＹ方向駆動機構３８によってそれぞれ、可動テーブル３７をＹ方向に移動可能に構成されている。また、搬出コンベア３６Ａでも、可動テーブル３７がＹ方向に複数の基板Ｗ１〜Ｗ４を配置可能に構成されており、リニアガイドや不図示のアクチュエータを備えたＹ方向駆動機構３８によってそれぞれ、可動テーブル３７をＹ方向に移動可能に構成されている。
【００６５】
また、露光処理部１では、２枚の基板Ｗを同時に処理可能なように、２つのマスクＭがＹ方向に並んで配置されており、これに合わせて、一組の基板送り部２７も、Ｙ方向に並んで２セット配置されている。
【００６６】
この変形例における露光方法では、基板Ｗ１〜Ｅ３は、上流コンベア４０にて並列に同時搬送（並列処理）され、可動テーブル３７等によって搬入コンベア３５Ａへ並列したまま搬送される。なお、前の基板Ｗ１、Ｗ２が搬送され、残された基板Ｗ３はその間に搬入位置へ移動させておく。
【００６７】
搬入コンベア３５から複数の基板Ｗ１、Ｗ２をワークチャック２４へ搬送するときにピン２５によって搬送する。ワークチャック２４に配置された基板Ｗ１、Ｗ２に露光処理が行われる。その後、基板Ｗ１、Ｗ２をワークチャック２４から解除して、複数の基板Ｗ１、Ｗ２を搬出コンベア３６に搬送させる（並列処理）。
【００６８】
そして、ワークチャック２４から基板Ｗ１、Ｗ２を搬出コンベア３６へ搬送するときにピン２５によって搬送する。露光処理を終えた基板Ｗ１、Ｗ２は、ピン２５によって搬出コンベア３６に搭載して下流コンベア４１まで搬送する。
【００６９】
なお、本実施形態においても、制御部６０は、露光処理部１における露光動作と、搬入コンベア３５における搬入動作と、上流コンベア４０における搬入動作と、搬出コンベア３６における搬出動作と、下流コンベア４１における搬出動作とを、同期して行うように制御することができ、タクトタイムを短縮することができる。
【００７０】
尚、本発明は、前述した実施形態及び変形例に限定されるものではなく、適宜、変形、改良、等が可能である。
例えば、本実施形態や変形例は、光源、コンベア、マスク、搬入、搬出装置の個数を適宜増やすことができる。
【符号の説明】
【００７１】
ＰＥ    露光装置
１    露光処理部
１０    マスクステージ
１２    マスク保持枠
１３ａ  ギャップセンサ
１３ｂ  アライメントカメラ
１４    センサ保持部
１６    第１のベルトコンベア
１７    第２のベルトコンベア
２０    基板ステージ
２１    基板保持部
２２    回転テーブル
２２Ａ、２２Ｅ    搬入位置
２２Ｂ，２２Ｆ    基板情報取得位置
２２Ｃ，２２Ｇ    露光位置
２２Ｄ，２２Ｈ    搬出位置
３０    照明光学系
３１    第１の搬入装置
３２    第２の搬入装置
３３    第１の搬出装置
３４    第２の搬出装置
３５，３５Ａ    搬入コンベア
３６，３６Ａ    搬出コンベア
３７    駆動テーブル
３８    Ｙ方向駆動機構
４０    上流コンベア
４１    下流コンベア
６０    制御部
Ｍ，Ｍ１，Ｍ２，ＭＡ１，ＭＡ２     マスク
Ｗ，Ｗ１，Ｗ２，Ｗ３  基板
【図１】
2013231962.tif 000003
【図２】
2013231962.tif 000004
【図３】
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【図４】
2013231962.tif 000006
【図５】
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【図６】
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【図７】
2013231962.tif 000009
【図８】
2013231962.tif 000010
【図９】
2013231962.tif 000011
【図１０】
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【図１１】
2013231962.tif 000013
【図１２】
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【図１３】
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