(57)【要約】【課題】高い屈折率および充分高い光透過率を有し、基板との密着性に優れるマイクロレンズをインクジェット法で形成可能なインクを提供すること。【解決手段】（メタ）アクリレート（Ａ）、希釈剤（Ｂ）および光重合開始剤（Ｃ）を含む光硬化性インクジェットインクであって、前記（メタ）アクリレート（Ａ）が、特定の式で表される化合物であり、前記希釈剤（Ｂ）が、２５℃での粘度が０．１〜１００ｍＰａ・ｓであり、かつ、単官能（メタ）アクリレート、二官能（メタ）アクリレートおよびシラン化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物であり、前記（メタ）アクリレート（Ａ）、希釈剤（Ｂ）および光重合開始剤（Ｃ）の合計１００重量％に対し、（メタ）アクリレート（Ａ）を１０〜４０重量％、希釈剤（Ｂ）を５０〜８０重量％および光重合開始剤（Ｃ）を１〜２０重量％含み、  前記インクの２５℃での粘度が７０ｍＰａ・ｓ以下であり、  該インクより得られた厚み２．５〜３．５μｍの硬化膜の、屈折率が１．５５以上であり、波長４００ｎｍにおける光透過率が９５％以上である、光硬化性インクジェットインク。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（メタ）アクリレート（Ａ）、希釈剤（Ｂ）および光重合開始剤（Ｃ）を含む光硬化性インクジェットインクであって、
前記（メタ）アクリレート（Ａ）が、式（１）で表される化合物であり、
前記希釈剤（Ｂ）が、２５℃での粘度が０．１〜１００ｍＰａ・ｓであり、かつ、単官能（メタ）アクリレート、二官能（メタ）アクリレートおよびシラン化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物であり、
前記（メタ）アクリレート（Ａ）、希釈剤（Ｂ）および光重合開始剤（Ｃ）の合計１００重量％に対し、（メタ）アクリレート（Ａ）を１０〜４０重量％、希釈剤（Ｂ）を５０〜８０重量％および光重合開始剤（Ｃ）を１〜２０重量％含み、
前記インクの２５℃での粘度が７０ｍＰａ・ｓ以下であり、
該インクより得られた厚み２．５〜３．５μｍの硬化膜の、屈折率が１．５５以上であり、波長４００ｎｍにおける光透過率が９５％以上である、光硬化性インクジェットインク。
【化１】
2013185040.tif 000011
（式（１）中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立して水素またはメチルであり、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１以上の整数である。）
【請求項２】
マイクロレンズ形成用である、請求項１に記載の光硬化性インクジェットインク。
【請求項３】
前記希釈剤（Ｂ）が、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールジ（メタ）アクリレート、γ−ブチロラクトン（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシブチル（メタ）アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシ化ｏ−フェニルフェノール（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、チオグリシジル（メタ）アクリレート、フェニルチオエチル（メタ）アクリレート、および３−メルカプトプロピルトリメトキシシランからなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物である、請求項１または２に記載の光硬化性インクジェットインク。
【請求項４】
前記光重合開始剤（Ｃ）が、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−１−ブタノン、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィン酸エステル、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−（４−メチルベンジル）−２−（ジメチルアミノ）−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン、オキシ−フェニル−酢酸２−[２−オキソ−２−フェニル−アセトキシ−エトキシ]−エチルエステル、オキシ−フェニル−酢酸２−[２−ヒドロキシ−エトキシ]−エチルエステル、１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−１，２−オクタンジオン２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−エタノン−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、およびベンゾイルギ酸メチルからなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の光硬化性インクジェットインク。
【請求項５】
さらに界面活性剤（Ｄ）を含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載の光硬化性インクジェットインク。
【請求項６】
前記界面活性剤（Ｄ）が、シリコーン系界面活性剤、アクリル系界面活性剤およびフッ素系界面活性剤からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物である、請求項５に記載の光硬化性インクジェットインク。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の光硬化性インクジェットインクを硬化させて得られる光学材料用硬化膜。
【請求項８】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の光硬化性インクジェットインクを硬化させて得られるマイクロレンズ。
【請求項９】
屈折率が１．５５以上である基板上に、請求項８に記載のマイクロレンズが設けられた、導光板。
【請求項１０】
請求項８に記載のマイクロレンズまたは請求項９に記載の導光板を有する光学部品。
【請求項１１】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の光硬化性インクジェットインクを、屈折率が１．５５以上である基板上にインクジェット印刷する工程、
基板上に印刷したインクを硬化する工程を含んで製造される導光板
を有する光学部品。
【請求項１２】
ディスプレイである、請求項１０または１１に記載の光学部品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、映像表示装置などの光学機器を製造するために好適に用いられる光硬化性インクジェットインクに関する。更に詳しくは、本発明は、バックライトユニットに使用されるマイクロレンズを有する光学部品の製造に適した光硬化性インクジェットインクに関する。
【背景技術】
【０００２】
かねてより、映像表示装置用導光板に形成されるマイクロレンズは、金型を使った射出成形により形成されていた。この方法では製品設計毎に金型が必要であり、少量多品種のマイクロレンズを製造する際には、非常にコストのかかる方法であった。
【０００３】
近年、安価かつ設計自由度の高い製造方法としてインクジェット法により基板表面にマイクロレンズを形成する方法が提案されている（例えば、特開２０００−１８０６０５号公報（特許文献１）、特開２００４−２４０２９４号公報（特許文献２））。このような、インクジェット法を用いたマイクロレンズの製造方法は、従来のような金型を用いなくても、パソコンなどにより容易にパターニングを制御できるため、少量多品種のマイクロレンズの生産に対しても製造コストを抑えることができる等の点から期待されている。
【０００４】
また、導光板に使用する基板として、以前より、ポリメチルメタクリレート基板（以下では、ＰＭＭＡ基板と呼ぶことがある）が使用されているが、基板の比重の点（軽量）や吸湿性、成形性などにより優れている点から、屈折率の高いポリスチレン基板（以下では、ＰＳ基板と呼ぶことがある）やメチルメタクリレート・スチレン共重合体ポリマー基板（以下では、ＭＳ基板と呼ぶことがある）などを用いた導光板の開発が近年進められている。
【０００５】
しかしながら、屈折率の高い基板上に、従来から使用されているマイクロレンズ形成用組成物を用いて２つ以上のマイクロレンズを所定パターン状に形成させると、得られる導光板は、光の取り出し効率や輝度が低かった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０００−１８０６０５号公報
【特許文献２】特開２００４−２４０２９４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明者らは、鋭意検討した結果、光の取り出し効率や輝度の低下は、形成されるマイクロレンズが比較的低屈折率であることによることを見出した。
本発明の目的は、高い屈折率および充分高い光透過率を有し、基板との密着性に優れるマイクロレンズをインクジェット法で形成可能なインクを提供することにある。
【０００８】
なお、従来、高い屈折率を有するモノマーとして、フルオレン骨格を有するモノマーを使用した組成物が知られている（特開２００８−９４９８７号公報、特許第４６８８１０９号公報、特開平６−２２０１３１号公報、特許第３７９７２２３号公報、特開２００８−０８１５７２号公報、特開２０１０−１０６０４６号公報）。しかしながら、フルオレン骨格を有するモノマー自体の粘度が高いため、高い屈折率および高い光透過率を有するマイクロレンズを形成可能で、インクジェットで吐出可能な粘度のインクは存在しなかった。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者等は、式（１）で表される分子内にフルオレン骨格を有する（メタ）アクリレート、特定の希釈剤および光重合開始剤を特定量で含有し、粘度が特定の範囲にある光硬化性インクジェットインクが、高い屈折率および高い光透過率を示すマイクロレンズをインクジェット法で形成できることを見出し、この知見に基づいて本発明を完成した。
【００１０】
本発明は以下の項を含む。
【００１１】
［１］  （メタ）アクリレート（Ａ）、希釈剤（Ｂ）および光重合開始剤（Ｃ）を含む光硬化性インクジェットインクであって、
前記（メタ）アクリレート（Ａ）が、式（１）で表される化合物であり、
前記希釈剤（Ｂ）が、２５℃での粘度が０．１〜１００ｍＰａ・ｓであり、かつ、単官能（メタ）アクリレート、二官能（メタ）アクリレートおよびシラン化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物であり、
前記（メタ）アクリレート（Ａ）、希釈剤（Ｂ）および光重合開始剤（Ｃ）の合計１００重量％に対し、（メタ）アクリレート（Ａ）を１０〜４０重量％、希釈剤（Ｂ）を５０〜８０重量％、および光重合開始剤（Ｃ）を１〜２０重量％含み、
前記インクの２５℃での粘度が７０ｍＰａ・ｓ以下であり、
該インクより得られた厚み２．５〜３．５μｍの硬化膜の、屈折率が１．５５以上であり、波長４００ｎｍにおける光透過率が９５％以上である、光硬化性インクジェットインク。
【００１２】
【化１】
2013185040.tif 000002
（式（１）中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立して水素またはメチルであり、ｎおよびｍは、それぞれ独立して１以上の整数である。）
【００１３】
［２］  マイクロレンズ形成用である、［１］に記載の光硬化性インクジェットインク。
【００１４】
［３］  前記希釈剤（Ｂ）が、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールジ（メタ）アクリレート、γ−ブチロラクトン（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシブチル（メタ）アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシ化ｏ−フェニルフェノール（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、チオグリシジル（メタ）アクリレート、フェニルチオエチル（メタ）アクリレート、および３−メルカプトプロピルトリメトキシシランからなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物である、［１］または［２］に記載の光硬化性インクジェットインク。
【００１５】
［４］  前記光重合開始剤（Ｃ）が、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−１−ブタノン、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィン酸エステル、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−（４−メチルベンジル）−２−（ジメチルアミノ）−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン、オキシ−フェニル−酢酸２−[２−オキソ−２−フェニル−アセトキシ−エトキシ]−エチルエステル、オキシ−フェニル−酢酸２−[２−ヒドロキシ−エトキシ]−エチルエステル、１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−１，２−オクタンジオン２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−エタノン−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、およびベンゾイルギ酸メチルからなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物である、［１］〜［３］のいずれかに記載の光硬化性インクジェットインク。
【００１６】
［５］  さらに界面活性剤（Ｄ）を含む、［１］〜［４］のいずれかに記載の光硬化性インクジェットインク。
［６］  前記界面活性剤（Ｄ）が、シリコーン系界面活性剤、アクリル系界面活性剤およびフッ素系界面活性剤からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物である、［５］に記載の光硬化性インクジェットインク。
【００１７】
［７］  ［１］〜［６］のいずれかに記載の光硬化性インクジェットインクを硬化させて得られる光学材料用硬化膜。
【００１８】
［８］  ［１］〜［６］のいずれかに記載の光硬化性インクジェットインクを硬化させて得られるマイクロレンズ。
【００１９】
［９］  屈折率が１．５５以上である基板上に、［８］に記載のマイクロレンズが設けられた、導光板。
【００２０】
［１０］  ［８］に記載のマイクロレンズまたは［９］に記載の導光板を有する光学部品。
［１１］  ［１］〜［６］のいずれかに記載の光硬化性インクジェットインクを、屈折率が１．５５以上である基板上に印刷する工程、
基板上に印刷したインクを硬化する工程を含んで製造される導光板
を有する光学部品。
［１２］  ディスプレイである、［１０］または［１１］に記載の光学部品。
【発明の効果】
【００２１】
本発明のインクジェットインクは吐出性および光硬化性に優れ、該インクから得られる硬化膜およびマイクロレンズは、高い屈折率、高い光透過率および高い基板との密着性を示す。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
［１．光硬化性インクジェットインク］
本発明の光硬化性インクジェットインク（以下「本発明のインク」ともいう。）は、式（１）で表される（メタ）アクリレート（Ａ）１０〜４０重量％、２５℃での粘度が０．１〜１００ｍＰａ・ｓであり、かつ、単官能（メタ）アクリレート、二官能（メタ）アクリレートおよびシラン化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物である希釈剤（Ｂ）５０〜８０重量％および光重合開始剤（Ｃ）１〜２０重量％（但し、（メタ）アクリレート（Ａ）、希釈剤（Ｂ）および光重合開始剤（Ｃ）の含有量の合計を１００重量％とする。）を含んでなり、２５℃での粘度が７０ｍＰａ・ｓ以下である。
また、該インクより得られた厚み２．５〜３．５μｍの硬化膜の、屈折率は１．５５以上であり、波長４００ｎｍにおける光透過率は９５％以上である。
【００２３】
マイクロレンズは、高い光透過率を有することが求められているが、従来のマイクロレンズ形成用組成物では、得られるマイクロレンズの屈折率を上げようとすると、光透過率が低下した。
しかしながら、本発明のインクによれば、高い屈折率および高い光透過率を示すマイクロレンズを形成できる。
【００２４】
本明細書において、「インクジェットインク」とは、インクジェット装置より吐出可能なインクのことをいう。
また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレートとメタクリレートの両者又は一方を示すために用いられる。
【００２５】
本発明のインクは、本発明の要旨を損なわない範囲で必要に応じて、（メタ）アクリレート（Ａ）および希釈剤（Ｂ）以外のラジカル重合性化合物、熱重合開始剤ならびにシランカップリング剤などのその他の成分、界面活性剤（Ｄ）、重合禁止剤、熱硬化性化合物、紫外線吸収剤、酸化防止剤、溶媒等を含んでもよい。
【００２６】
本発明のインクは無色であっても有色であってもよい。光透過率の観点からは無色が好ましいが、発明の効果を妨げない範囲で有色の化合物を含有してもよい。例えば、硬化膜の状態を検査する際に基板との識別を容易にするために、着色剤を含んでもよい。これらの場合、硬化膜の色が黄色味を帯びないことが好ましく、例えば、青色の着色剤を用いることができる。
【００２７】
＜１．１．式（１）で表される（メタ）アクリレート（Ａ）＞
前記（メタ）アクリレート（Ａ）（以下「化合物（Ａ）」ともいう。）は、下記式（１）で表される、分子内にフルオレン骨格を有する（メタ）アクリレートである。
【００２８】
前記化合物（Ａ）は、屈折率１．５５〜１．６５の高屈折物質である。このため、該化合物（Ａ）を用いることにより、高い屈折率を有する、硬化膜およびマイクロレンズ（以下「硬化膜等」ともいう。）が得られる。さらに、前記化合物（Ａ）は、耐熱性および耐光性に優れるため、該化合物（Ａ）を含むインクによれば、耐熱性および耐光性に優れる硬化膜等が得られる。
【００２９】
【化２】
2013185040.tif 000003
【００３０】
前記式（１）中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立して水素またはメチルである。ｎおよびｍは、それぞれ独立して１以上の整数であり、好ましくはそれぞれ独立して、１〜５の整数である。
【００３１】
前記化合物（Ａ）は、公知の方法、例えば、特開２０１０−１０６０４６号公報に記載の方法で製造したものであってもよく、市販品でもよい。
化合物（Ａ）の市販品としては、オグソールＥＡ−０２００、オグソールＥＡ−０５００、オグソールＥＡ−１０００、オグソールＥＡ−Ｆ５００３、オグソールＥＡ−Ｆ５５０３、オグソールＥＡ−Ｆ５５１０（商品名；大阪ガスケミカル（株）製）、Ａ−ＢＰＥＦ（商品名；新中村化学工業（株）製）等が挙げられる。
【００３２】
これらの化合物（Ａ）は１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００３３】
本発明のインクにおいて、前記化合物（Ａ）の含有量が、化合物（Ａ）の重量、希釈剤（Ｂ）の重量および光重合開始剤（Ｃ）の重量の和１００重量％に対し、１０〜４０重量％であると、インクジェット吐出可能な粘度に調整可能であり、高い屈折率および高い光透過率のバランスのとれた硬化膜等が得られるため好ましく、より好ましくは１５〜３５重量％であり、さらに好ましくは２０〜３０重量％である。
【００３４】
＜１．２希釈剤（Ｂ）＞
本発明の光硬化性インクジェットインクは、希釈剤（Ｂ）を含有する。前記希釈剤（Ｂ）は、２５℃での粘度が０．１〜１００ｍＰａ・ｓであり、かつ、単官能（メタ）アクリレート、二官能（メタ）アクリレートおよびシラン化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物である。
前記希釈剤（Ｂ）の２５℃での粘度は、好ましくは０．１〜７０ｍＰａ・ｓであり、より好ましくは０．１〜５０ｍＰａ・ｓである。
希釈剤（Ｂ）の２５℃での粘度が前記範囲にあると、得られるインクをインクジェット吐出可能な粘度に調整可能であるため好ましい。
【００３５】
〈１．２−１．単官能（メタ）アクリレート〉
前記単官能（メタ）アクリレートとしては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート、Ｎ−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、メチルグリシジル（メタ）アクリレート、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、２−フェニル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、２−トリフロロメチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、４−トリフロロメチル−２−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、（メタ）アクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉｓｏ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、５−テトラヒドロフルフリルオキシカルボニルペンチル（メタ）アクリレート、ラウリルアルコールのエチレンオキシド付加物の（メタ）アクリレート、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、コハク酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、マレイン酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、シクロヘキセン−３，４−ジカルボン酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（メタ）アクリロイルモルホリン、チオグリシジル（メタ）アクリレート、フェニルチオエチル（メタ）アクリレート、エトキシ化ｏ−フェニルフェノール（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、γ−ブチロラクトン（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシブチル（メタ）アクリレート、およびフェノキシエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００３６】
〈１．２−２．二官能（メタ）アクリレート〉
前記二官能（メタ）アクリレートとしては、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールジ（メタ）アクリレート、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、およびイソシアヌル酸エチレンオキシド変性ジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００３７】
〈１．２−３．シラン化合物〉
シラン化合物の具体例としては、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチリデン）−３−（トリエトキシシリル）−１−プロパンアミン、Ｎ−[２−（ビニルベンジルアミノ）エチル]−３−アミノプロピルトリメトキシシラン・塩酸塩、Ｎ，Ｎ'−ビス[３−（トリメトキシシリル）プロピル]エチレンジアミンが挙げられる。
【００３８】
前記希釈剤（Ｂ）が、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールジ（メタ）アクリレート、γ−ブチロラクトン（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシブチル（メタ）アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシ化ｏ−フェニルフェノール（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、チオグリシジル（メタ）アクリレート、フェニルチオエチル（メタ）アクリレート、および３−メルカプトプロピルトリメトキシシランからなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物であると、得られる組成物をインクジェット吐出可能な粘度に調整可能であり、高い屈折率および高い光透過率のバランスのとれた硬化膜等を作成することができるため好ましい。
【００３９】
希釈剤（Ｂ）は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。例えば、希釈剤（Ｂ）は、単官能（メタ）アクリレートと二官能（メタ）アクリレートとの混合物であってもよい。
【００４０】
本発明のインクにおいて、前記化合物（Ｂ）の含有量が、化合物（Ａ）の重量、希釈剤（Ｂ）の重量および光重合開始剤（Ｃ）の重量の和１００重量％に対し、５０〜８０重量％であると、インクジェット吐出可能な粘度に調整可能であり、高い屈折率および高い光透過率のバランスのとれた硬化膜等が得られるため好ましく、より好ましくは５０〜７５重量％であり、さらに好ましくは５５〜７０重量％である。
【００４１】
＜１．３．光重合開始剤（Ｃ）＞
本発明のインクは、光重合開始剤（Ｃ）を含む。光重合開始剤（Ｃ）は、紫外線あるいは可視光線の照射によりラジカルあるいは酸を発生することのできる化合物であれば特に限定されないが、α−ヒドロキシアルキルフェノン系光重合開始剤、オキシフェニル酢酸エステル系光重合開始剤またはアシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤が好ましく、この中でも特にアシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤およびオキシフェニル酢酸エステル系光重合開始剤が、インクの光硬化性、得られる硬化膜等の光透過率などの観点からより好ましい。
【００４２】
光重合開始剤（Ｃ）の具体例としては、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、キサントン、チオキサントン、イソプロピルキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−エチルアントラキノン、アセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−４’−イソプロピルプロピオフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、イソプロピルベンゾインエーテル、イソブチルベンゾインエーテル、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、カンファーキノン、ベンズアントロン、２−ヒドロキシ−１−[４−[４−(２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル]−２−メチル−プロパン−１−オン、１−[４−(２−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−１−ブタノン、２−（４−メチルベンジル）−２−（ジメチルアミノ）−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン、オキシ−フェニル−酢酸２−[２−オキソ−２−フェニル−アセトキシ−エトキシ]−エチルエステル、オキシ−フェニル−酢酸２−［２−ヒドロキシ−エトキシ］−エチルエステル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４，４’−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，４，４’−トリ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ヘキシルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’−ジ（メトキシカルボニル）−４，４’−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，４’−ジ（メトキシカルボニル）−４，３’−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、４，４’−ジ（メトキシカルボニル）−３，３’−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２−（４’−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３’，４’−ジメトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２’，４’−ジメトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２’−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４’−ペンチルオキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−［ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカルボニルメチル）］−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（２’−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン、１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（４’−メトキシフェニル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）ベンズオキサゾール、２−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）ベンズチアゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、３，３’−カルボニルビス（７−ジエチルアミノクマリン）、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、３−（２−メチル−２−ジメチルアミノプロピオニル）カルバゾール、３，６−ビス（２−メチル−２−モルフォリノプロピオニル）−９−ｎ−ドデシルカルバゾール、ビス（η5−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィン酸エステル、１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−１，２−オクタンジオン２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−エタノン−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、ベンゾイルギ酸メチル、ＣＰＩ−１００Ｐ、ＣＰＩ−１００Ａ、ＣＰＩ−１１０Ｐ、ＣＰＩ−２１０Ｓ、ＣＰＩ−２００Ｋ（商品名、サンアプロ（株）製）、サイラキュア光硬化開始剤ＵＶＩ−６９９２、サイラキュア光硬化開始剤ＵＶＩ−６９７６（商品名、ダウ・ケミカル日本（株）製）、アデカオプトマーＳＰ−１５０、アデカオプトマーＳＰ−１５２、アデカオプトマーＳＰ−１７０、アデカオプトマーＳＰ−１７２（商品名、旭電化工業（株）製）、ＣＩ−５１０２、ＣＩ−２８５５（商品名、日本曹達（株）製）、エサキュア１０６４、エサキュア１１８７（商品名、ランベルティ（株）製）、オムニキャット５５０（商品名、アイジーエム  レジン（株）製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ２５０、Ｉｒｇａｃｕｒｅ７５４（商品名、ＢＡＳＦジャパン（株）製）、ロードシル  フォトイニシエーター２０７４（商品名、ローディア・ジャパン（株）製）が挙げられる。
【００４３】
これらの中でも、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−１−ブタノン、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィン酸エステル、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−（４−メチルベンジル）−２−（ジメチルアミノ）−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン、オキシ−フェニル−酢酸２−[２−オキソ−２−フェニル−アセトキシ−エトキシ]−エチルエステル、オキシ−フェニル−酢酸２−[２−ヒドロキシ−エトキシ]−エチルエステル、１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−１，２−オクタンジオン２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−エタノン−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、およびベンゾイルギ酸メチルが好ましい。
【００４４】
光重合開始剤（Ｃ）の市販品としては、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４、Ｉｒｇａｃｕｒｅ６５１、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１２７、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３、Ｉｒｇａｃｕｒｅ５００、Ｉｒｇａｃｕｒｅ２９５９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ７５４、ＤＡＲＯＣＵＲ ＭＢＦ、ＬｕｃｉｒｉｎＴＰＯ（商品名、ＢＡＳＦジャパン（株）製）などが好ましい。
【００４５】
これらの中でも、Ｉｒｇａｃｕｒｅ７５４、ＤＡＲＯＣＵＲ ＭＢＦ、ＬｕｃｉｒｉｎＴＰＯがより好ましい。
【００４６】
本発明のインクに用いられる光重合開始剤（Ｃ）は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００４７】
前記光重合開始剤（Ｃ）の含有量が、化合物（Ａ）の重量、希釈剤（Ｂ）の重量および光重合開始剤（Ｃ）の重量の和１００重量％に対して１〜２０重量％であると、紫外線に対する光硬化性に優れるインクが得られ、また、高い光透過率の硬化膜等が得られるため好ましく、より好ましくは１〜１５重量％であり、さらに好ましくは５〜１０重量％である。
【００４８】
＜１．４．界面活性剤（Ｄ）＞
本発明のインクは、該インクを用いてマイクロレンズを形成する場合、マイクロレンズの形状の安定化や、マイクロレンズの基板上での弾き性等を向上させることができるなどの点から、界面活性剤（Ｄ）を含有してもよい。
前記界面活性剤（Ｄ）としては、シリコーン系界面活性剤、アクリル系界面活性剤およびフッ素系界面活性剤が好ましい。
【００４９】
界面活性剤（Ｄ）の具体例としては、ポリフローＮｏ．４５、ポリフローＫＬ−２４５、ポリフローＮｏ．７５、ポリフローＮｏ．９０、ポリフローＮｏ．９５（商品名、共栄社化学工業（株）製）、ディスパーベイク（Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ）１６１、ディスパーベイク１６２、ディスパーベイク１６３、ディスパーベイク１６４、ディスパーベイク１６６、ディスパーベイク１７０、ディスパーベイク１８０、ディスパーベイク１８１、ディスパーベイク１８２、ＢＹＫ３００、ＢＹＫ３０６、ＢＹＫ３１０、ＢＹＫ３２０、ＢＹＫ３３０、ＢＹＫ３４２、ＢＹＫ３４６、ＢＹＫ３７８、ＢＹＫ  ＵＶ  ３５００、ＢＹＫ  ＵＶ  ３５１０、ＢＹＫ  ＵＶ  ３５７０（商品名、ビックケミー・ジャパン（株）製）、ＫＰ−３４１、ＫＰ−３５８、ＫＰ−３６８、ＫＦ−９６−５０ＣＳ、ＫＦ−５０−１００ＣＳ（商品名、信越化学工業（株）製）、サーフロンＳＣ−１０１、サーフロンＫＨ−４０（商品名、セイミケミカル（株）製）、フタージェント２２２Ｆ、フタージェント２５１、ＦＴＸ−２１８（商品名、（株）ネオス製）、ＥＦＴＯＰ  ＥＦ−３５１、ＥＦＴＯＰ  ＥＦ−３５２、ＥＦＴＯＰ  ＥＦ−６０１、ＥＦＴＯＰ  ＥＦ−８０１、ＥＦＴＯＰ  ＥＦ−８０２（商品名、三菱マテリアル（株）製）、メガファックＦ−１７１、メガファックＦ−１７７、メガファックＦ−４７５、メガファックＦ−４７７、Ｆ−５５３、Ｆ−５５４、メガファックＲ−０８、メガファックＲ−３０、ＲＳ-７２Ｋ、ＲＳ−２１１Ｋ（商品名、ＤＩＣ（株）製）、ＴＥＧＯ  Ｒａｄ  ２２００Ｎ、ＴＥＧＯ  Ｒａｄ  ２２５０、ＴＥＧＯ  Ｒａｄ  ３５００、ＴＥＧＯ  Ｒａｄ  ３５７０（商品名、エボニック・デグサ・ジャパン(株)製）、フルオロアルキルベンゼンスルホン酸塩、フルオロアルキルカルボン酸塩、フルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル、フルオロアルキルアンモニウムヨージド、フルオロアルキルベタイン、フルオロアルキルスルホン酸塩、ジグリセリンテトラキス（フルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル）、フルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩、フルオロアルキルアミノスルホン酸塩、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレントリデシルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンラウレート、ポリオキシエチレンオレエート、ポリオキシエチレンステアレート、ポリオキシエチレンラウリルアミン、ソルビタンラウレート、ソルビタンパルミテート、ソルビタンステアレート、ソルビタンオレエート、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタンラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンステアレート、ポリオキシエチレンソルビタンオレエート、ポリオキシエチレンナフチルエーテル、アルキルベンゼンスルホン酸塩、およびアルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩が挙げられる。
【００５０】
本発明のインクに用いられる界面活性剤は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００５１】
＜１．５．重合禁止剤＞
本発明のインクは、保存安定性を向上させるために重合禁止剤を含有してもよい。重合禁止剤の具体例としては、４−メトキシフェノール、ヒドロキノンおよびフェノチアジンが挙げられる。これらの中でもフェノチアジンを用いると、長期の保存においても粘度の増加が小さいインクが得られるため好ましい。
【００５２】
本発明のインクに用いられうる重合禁止剤は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００５３】
＜１．６．紫外線吸収剤＞
本発明のインクは、得られる硬化膜等がバックライトなどの光によって劣化することを防止するために、紫外線吸収剤を含有してもよい。
【００５４】
紫外線吸収剤としては、２−（５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール化合物、２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−［（ヘキシル）オキシ］−フェノール等のトリアジン化合物、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクチルオキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン化合物、および２−エトキシ−２’−エチルオキサリック酸ビスアニリド等のシュウ酸アニリド化合物などが挙げられる。
【００５５】
本発明のインクに用いられうる紫外線吸収剤は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００５６】
＜１．７．酸化防止剤＞
本発明のインクは、得られる硬化膜等の酸化を防止するために、酸化防止剤を含有してもよい。
【００５７】
酸化防止剤としては、トリエチレングリコール−ビス−［３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，６−ヘキサンジオール−ビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネートジエチルエステル等のヒンダードフェノール化合物、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ジエチルアミノメチルメタクリレート等のアミン化合物などが挙げられる。
【００５８】
本発明のインクに用いられうる酸化防止剤は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００５９】
＜１．８．溶媒＞
本発明のインクは、インクジェット吐出性を調整する目的で溶媒を含有してもよい。溶媒によりインクの粘度や表面張力の微調整が可能であり、インクジェット吐出性を調整できる。
前記溶媒としては、特に制限されないが、沸点が１００℃〜３００℃の有機溶媒であることが好ましい。
【００６０】
沸点が１００〜３００℃である有機溶媒の具体例としては、酢酸ブチル、プロピオン酸ブチル、乳酸エチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、ジオキサン、３−メトキシブタノール、３−メトキシブチルアセテート、２−ヒドロキシイソ酪酸メチル、２−ヒドロキシイソ酪酸ｉ−プロピル、２−ヒドロキシイソ酪酸ｉ−ブチル、２−ヒドロキシイソ酪酸ｎ−ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノフェニルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、１，４−ブタンジオール、トリエチレングリコール、トリプロピレングリコール、トリプロピレングリコールメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、トルエン、キシレン、アニソール、γ−ブチロラクトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドンおよびジメチルイミダゾリジノンが挙げられる。
【００６１】
本発明のインクに用いられうる溶媒は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００６２】
本発明のインクにおいて、前記溶媒の含有量は、化合物（Ａ）の重量、希釈剤（Ｂ）の重量および光重合開始剤（Ｃ）の重量の和１００重量部に対し、０．１〜２０重量部であると、光硬化性を損なわず、インクジェット吐出性を調整できるため好ましく、より好ましくは０．１〜１５重量部であり、さらに好ましくは０．１〜１０重量部である。
【００６３】
＜１．９．その他の成分＞
本発明のインクは、各種特性を向上させるために、化合物（Ａ）および希釈剤（Ｂ）以外のラジカル重合性化合物、フェノール性水酸基を含有する樹脂、マレイミド化合物、メラミン樹脂、エポキシ化合物、エポキシ硬化剤および熱重合開始剤などのその他の成分を本発明の効果を損なわない範囲で含んでもよい。
【００６４】
＜１．９−１．エポキシ化合物＞
本発明のインクは、得られる硬化膜等の強度を向上させるために、エポキシ化合物を含有してもよい。
前記エポキシ化合物は、１分子中に少なくとも１つの下記式（２−１）または式（２−２）で表される構造を有する化合物であれば、特に限定されない。
【００６５】
【化３】
2013185040.tif 000004
【００６６】
エポキシ化合物の具体例としては、ノボラック型エポキシ樹脂（フェノールノボラック型エポキシ樹脂およびクレゾールノボラック型エポキシ樹脂）、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、テトラフェニロールエタン型エポキシ樹脂、ビキシレノール型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂および複素環式エポキシ樹脂、ならびに、ジシクロペンタジエン骨格やナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂が挙げられ、好ましくはノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂またはビスフェノールＦ型エポキシ樹脂またはトリスフェノールメタン型エポキシ樹脂である。
【００６７】
エポキシ樹脂としては公知の方法で製造した樹脂を用いてもよいし、また市販品を用いてもよい。
【００６８】
市販品の例としては、ｊＥＲ８２８、同８３４、同１００１、同１００４（商品名：三菱化学（株）製）、エピクロン８４０、同８５０、同１０５０、同２０５５、（商品名：ＤＩＣ（株）製）、エポトートＹＤ−０１１、同ＹＤ−０１３、同ＹＤ−１２７、同ＹＤ−１２８（商品名：新日鐵化学（株）製）、Ｄ.Ｅ.Ｒ.３１７、同３３１、同６６１、同６６４（商品名：ダウ・ケミカル日本（株）製）、アラルダイト６０７１、同６０８４、同ＧＹ２５０、同ＧＹ２６０（商品名：ハンツマン・ジャパン（株）製）、スミ−エポキシＥＳＡ−０１１、同ＥＳＡ−０１４、同ＥＬＡ−１１５、同ＥＬＡ−１２８（商品名：住友化学工業（株）製）、Ａ.Ｅ.Ｒ.３３０、同３３１、同６６１、同６６４（商品名：旭化成イーマテリアルズ（株）製）等のビスフェノールＡ型エポキシ樹脂；
ｊＥＲ１５２、１５４（商品名：三菱化学（株）製）、Ｄ.Ｅ.Ｒ.４３１、同４３８（商品名：ダウ・ケミカル日本（株）製）、エピクロンＮ−７３０、同Ｎ−７７０、同Ｎ−８６５（商品名：ＤＩＣ（株）製）、エポトートＹＤＣＮ−７０１、同ＹＤＣＮ−７０４（商品名：新日鐵化学（株）製）、アラルダイトＥＣＮ１２３５、同ＥＣＮ１２７３、同ＥＣＮ１２９９（商品名：ハンツマン・ジャパン（株）製）、ＸＰＹ３０７、ＥＰＰＮ−２０１、ＥＯＣＮ−１０２５、ＥＯＣＮ−１０２０、ＥＯＣＮ−１０４Ｓ、ＲＥ−３０６（商品名：日本化薬（株）製）、スミ−エポキシＥＳＣＮ−１９５Ｘ、同ＥＳＣＮ−２２０（商品名：住友化学工業（株）製）、Ａ.Ｅ.Ｒ.ＥＣＮ−２３５、同ＥＣＮ−２９９（商品名：旭化成イーマテリアルズ（株）製）等のノボラック型エポキシ樹脂；
エピクロン８３０（商品名：ＤＩＣ（株）製）、ｊＥＲ８０７（商品名：三菱化学（株）製）、エポトートＹＤＦ−１７０（商品名：新日鐵化学（株）製）、ＹＤＦ−１７５、ＹＤＦ−２００１、ＹＤＦ−２００４、アラルダイトＸＰＹ３０６（商品名：ハンツマン・ジャパン（株）製）等のビスフェノールＦ型エポキシ樹脂；
エポトートＳＴ−２００４、同ＳＴ−２００７、同ＳＴ−３０００（商品名：新日鐵化学（株）製）等の水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂；
セロキサイド２０２１Ｐ（商品名：ダイセル化学工業（株）製）、アラルダイトＣＹ１７５、同ＣＹ１７９（商品名：ハンツマン・ジャパン（株）製）等の脂環式エポキシ樹脂；
ＹＬ−６０５６、ＹＸ−４０００、ＹＬ−６１２１（商品名：三菱化学（株）製）等のビキシレノール型エポキシ樹脂もしくはビフェノール型エポキシ樹脂またはそれらの混合物；
ＥＢＰＳ−２００（商品名：日本化薬（株）製）、ＥＰＸ−３０（商品名：（株）ＡＤＥＫＡ製）、ＥＸＡ−１５１４（商品名：ＤＩＣ（株）製）等のビスフェノールＳ型エポキシ樹脂；
ｊＥＲ１５７Ｓ（商品名：三菱化学（株）製）等のビスフェノールＡノボラック型エポキシ樹脂；
ＹＬ−９３１（商品名：三菱化学（株）製）、アラルダイト１６３（商品名：ハンツマン・ジャパン（株）製）等のテトラフェニロールエタン型エポキシ樹脂；
アラルダイトＰＴ８１０（商品名：ハンツマン・ジャパン（株）製）、ＴＥＰＩＣ（商品名：日産化学工業（株）製）等の複素環式エポキシ樹脂；
ＨＰ−４０３２、ＥＸＡ−４７５０、ＥＸＡ−４７００（商品名：ＤＩＣ（株）製）等のナフタレン基含有エポキシ樹脂；
ＨＰ−７２００、ＨＰ−７２００Ｈ、ＨＰ−７２００ＨＨ（商品名：ＤＩＣ（株）製）等のジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ樹脂；
テクモアＶＧ３１０１Ｌ（商品名：三井化学（株）製）、ＹＬ−９３３（商品名：三菱化学（株）製）、ＥＰＰＮ−５０１、ＥＰＰＮ−５０２（商品名：ダウ・ケミカル日本（株）製）等のトリスフェノールメタン型エポキシ樹脂が挙げられる。
【００６９】
これらの中でも、ｊＥＲ８２８、同８３４、同１００１、同１００４、テクモアＶＧ３１０１Ｌ、ＥＰＰＮ−５０１、ＥＰＰＮ−５０２を用いると、各種基板への密着性が高い硬化膜等が得られるため好ましい。
本発明のインクに用いられうるエポキシ化合物は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００７０】
エポキシ化合物の含有量が、本発明のインク総量（固形分換算）１００重量％に対し、０．５〜２０重量％であると、得られる硬化膜等の各種基板に対する密着性が向上するため好ましく、より好ましくは０．５〜１０重量％であり、さらに好ましくは０．５〜７重量％である。
【００７１】
＜１．９−２．マレイミド化合物＞
マレイミド化合物としては、特に制限されないが、例えば、下記式（６）で表される化合物が好ましい。下記式（６）で表されるマレイミド化合物は、例えばジアミンと酸無水物とを反応させて得ることができる。
【００７２】
【化４】
2013185040.tif 000005
【００７３】
式（６）中、Ｒ10およびＲ12はそれぞれ独立に水素またはメチルであり、Ｒ11は下記式（７）で表される二価の基である。
【００７４】
【化５】
2013185040.tif 000006
【００７５】
式（７）中、Ｒ13およびＲ14はそれぞれ独立に、連続しない（隣り合わない）任意のメチレンが酸素で置き換えられてもよい炭素数１〜１８のアルキレン、置換基を有してもよい芳香環を有する二価の基、または置換基を有してもよいシクロアルキレンである。前記置換基としては、例えば、カルボキシル、ヒドロキシ、炭素数１〜５のアルキル、および炭素数１〜５のアルコキシが挙げられる。耐熱性の高い硬化膜等が得られる点で、Ｒ13およびＲ14はそれぞれ独立に下記群（８）から選ばれる１種の二価の基であることが好ましい。
【００７６】
【化６】
2013185040.tif 000007
【００７７】
式（７）中、Ｘは下記群（９）から選ばれる１種の二価の基である。
【００７８】
【化７】
2013185040.tif 000008
【００７９】
本発明のインクに用いられうるマレイミド化合物は１種の化合物でも、２種以上の化合物の混合物でもよい。
【００８０】
＜１．９−３．フェノール性水酸基を含有する樹脂＞
フェノール性水酸基を含有する樹脂としては、フェノール性水酸基を有する芳香族化合物とアルデヒド類との縮合反応により得られるノボラック樹脂、ビニルフェノールの単独重合体（水素添加物を含む）、ビニルフェノールとこれと共重合可能な化合物とのビニルフェノール系共重合体（水素添加物を含む）などが好ましく用いられる。
【００８１】
フェノール性水酸基を有する芳香族化合物としては、フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、ｏ−エチルフェノール、ｍ−エチルフェノール、ｐ−エチルフェノール、ｏ−ブチルフェノール、ｍ−ブチルフェノール、ｐ−ブチルフェノール、２，３−キシレノール、２，４−キシレノール、２，５−キシレノール、２，６−キシレノール、３，４−キシレノール、３，５−キシレノール、２，３，５−トリメチルフェノール、３，４，５−トリメチルフェノール、ｐ−フェニルフェノール、レゾルシノール、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロール、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、テルペン骨格含有ジフェノール、没食子酸、没食子酸エステル、α−ナフトール、およびβ−ナフトールなどが挙げられる。
【００８２】
アルデヒド類としては、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、フルフラール、ベンズアルデヒド、ニトロベンズアルデヒド、およびアセトアルデヒドなどが挙げられる。
【００８３】
ビニルフェノールと共重合可能な化合物としては、（メタ）アクリル酸またはその誘導体、スチレンまたはその誘導体、無水マレイン酸、酢酸ビニル、およびアクリロニトリルなどが挙げられる。
【００８４】
フェノール性水酸基を含有する樹脂の具体例としては、レヂトップＰＳＭ−６２００（商品名：群栄化学工業（株）製）、ショウノールＢＲＧ−５５５（商品名：昭和電工（株）製）、マルカリンカーＭＳ−２Ｐ、マルカリンカーＣＳＴ７０、マルカリンカーＰＨＭ−Ｃ（商品名：丸善石油化学（株）製）が挙げられる。
【００８５】
本発明のインクに用いられうるフェノール性水酸基を含有する樹脂は１種の化合物でも、２種以上の化合物の混合物でもよい。
【００８６】
＜１．９−４．メラミン樹脂＞
メラミン樹脂は、メラミンとホルムアルデヒドとの重縮合により製造される樹脂であれば特に限定されず、メチロールメラミン、エーテル化メチロールメラミン、ベンゾグアナミン、メチロールベンゾグアナミンおよびエーテル化メチロールベンゾグアナミン等の縮合物などが挙げられる。これらの中でも、得られる硬化膜等の耐薬品性が良好である点で、エーテル化メチロールメラミンの縮合物が好ましい。
【００８７】
メラミン樹脂の具体例としては、ニカラックＭＷ−３０、ＭＷ−３０ＨＭ、ＭＷ−３９０、ＭＷ−１００ＬＭ、ＭＸ−７５０ＬＭ（商品名：三和ケミカル（株）製）が挙げられる。
本発明のインクに用いられうるメラミン樹脂は１種の化合物でも、２種以上の化合物の混合物でもよい。
【００８８】
＜１．９−５．エポキシ硬化剤＞
本発明のインクは、得られる硬化膜等の耐薬品性をより向上させるためにエポキシ硬化剤を含有してもよい。エポキシ硬化剤としては、酸無水物系硬化剤またはポリアミン系硬化剤などが好ましい。
【００８９】
酸無水物系硬化剤としては、マレイン酸無水物、テトラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロトリメリット酸無水物、フタル酸無水物、トリメリット酸無水物、およびスチレン−無水マレイン酸共重合体などが挙げられる。
【００９０】
ポリアミン系硬化剤としては、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ジシアンジアミド、ポリアミドアミン（ポリアミド樹脂）、ケチミン化合物、イソホロンジアミン、ｍ−キシレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、１，３−ビス（アミノメチル）シクロヘキサン、Ｎ−アミノエチルピペラジン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノ−３，３’−ジエチルジフェニルメタン、およびジアミノジフェニルスルフォンなどが挙げられる。
本発明のインクに用いられうるエポキシ硬化剤は１種の化合物でも、２種以上の化合物の混合物でもよい。
【００９１】
＜１．９−６．熱重合開始剤＞
本発明のインクは、加熱工程によりインクの硬化性を向上させるために熱重合開始剤を含有してもよい。熱重合開始剤の具体例としては、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、過酸化ベンゾイル、過酸化ジ−ｔ−ブチルが挙げられる。これらの中でも２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、および２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）が好ましい。
【００９２】
本発明のインクに用いられうる熱重合開始剤は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００９３】
＜化合物（Ａ）および希釈剤（Ｂ）以外のラジカル重合性化合物＞
本発明のインクは、得られる硬化膜等の強度をより向上させるために化合物（Ａ）および希釈剤（Ｂ）以外のラジカル重合性化合物を含有してもよい。
前記化合物（Ａ）および希釈剤（Ｂ）以外のラジカル重合性化合物としては、特に制限されないが、ｐ−ビニルフェニル−３−エチルオキセタン−３−イルメチルエーテル、スチレン、メチルスチレン、クロルメチルスチレン、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、ビニルトルエン、ポリスチレンマクロモノマー、クロトン酸、α−クロルアクリル酸、ケイ皮酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレートモノステアレート、ジペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリス［（メタ）アクリロキシエチル］イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス［（メタ）アクリロキシエチル］イソシアヌレート、ウレタン（メタ）アクリレート、酸変性エポキシ（メタ）アクリレート、酸変性（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦエチレンオキシド変性ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡエチレンオキシド変性ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＳエチレンオキシド変性ジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性ジ（メタ）アクリレート、等が挙げられる。
【００９４】
本発明のインクに用いられうる化合物（Ａ）および希釈剤（Ｂ）以外のラジカル重合性化合物は１種の化合物でも、２種以上の化合物の混合物でもよい。
【００９５】
化合物（Ａ）および希釈剤（Ｂ）以外のラジカル重合性化合物の含有量が、本発明のインク総量（固形分換算）１００重量％に対し、１〜３０重量％であると、得られる硬化膜等の高い屈折率および高い光透過率を維持したまま、強度を向上させることができるため好ましく、より好ましくは３〜２５重量％であり、さらに好ましくは５〜２０重量％である。
【００９６】
＜１．１０．インクの粘度＞
本発明のインクの、Ｅ型粘度計で測定した２５℃における粘度が７０ｍＰａ・ｓ以下であると、インクジェット装置による吐出性が良好なインクとなるため好ましい。インクの粘度は、さらに好ましくは２〜７０ｍＰａ・ｓであり、特に好ましくは３〜６０ｍＰａ・ｓである。
【００９７】
２５℃における粘度が３０ｍＰａ・ｓを超えるインクを使用する場合には、インクジェットヘッドを加温して吐出時のインクの粘度を下げることで、より安定したインクの吐出が可能となる。インクジェットヘッドを加温してインクの吐出を行う場合は、加温温度（好ましくは２５〜１２０℃）におけるインクジェットインクの粘度は１〜３０ｍＰａ・ｓであることが好ましく、２〜２５ｍＰａ・ｓであることがさらに好ましく、３〜２０ｍＰａ・ｓであることが特に好ましい。
【００９８】
＜１．１１．インクの調製方法＞
本発明のインクは、原料となる各成分を公知の方法により混合することで調製することができる。
特に、本発明のインクは、前記（Ａ）〜（Ｃ）成分ならびに必要に応じて、（Ｄ）成分、重合禁止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤およびその他の成分を混合し、得られた溶液を例えばフッ素樹脂製のメンブレンフィルターを用いてろ過して脱気することにより調製されることが好ましい。このようにして調製されたインクは、インクジェット法による塗布時の吐出性に優れる。
【００９９】
＜１．１２．インクの保存＞
本発明のインクは、５〜２５℃で保存すると保存中の粘度増加が小さく、保存安定性が良好となる。
【０１００】
［２．インクジェット法によるインクの塗布］
本発明のインクは、公知のインクジェット法を用いて塗布することができる。インクジェット法としては、例えば、インクに力学的エネルギーを作用させてインクをインクジェットヘッドから吐出させるピエゾ方式、およびインクに熱エネルギーを作用させてインクを吐出させるサーマル方式が挙げられる。
【０１０１】
インクジェット法を用いることにより、本発明のインクを予め定められたパターン状に容易に塗布することができ、均一なパターンを大きな基板上に形成することができる。
【０１０２】
インクジェットヘッドとしては、例えば、金属および／または金属酸化物からなる発熱部を有するものが挙げられる。金属および／または金属酸化物の具体例としては、Ｔａ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｎｉ、Ａｌ等の金属、およびこれらの金属の酸化物が挙げられる。
【０１０３】
本発明のインクを用いて塗布を行う際に用いる好ましい塗布装置としては、例えば、インクが収容されるインク収容部を有するインクジェットヘッド内のインクに、塗布信号に対応したエネルギーを与え、前記エネルギーによりインク液滴を発生させながら、前記塗布信号に対応した塗布（描画）を行う装置が挙げられる。
【０１０４】
前記インクジェット塗布装置は、インクジェットヘッドとインク収容部とが分離されているものに限らず、それらが分離不能に一体になったものを用いてもよい。また、インク収容部はインクジェットヘッドに対し分離可能または分離不能に一体化されて、キャリッジに搭載されるものでもよく、装置の固定部位に設けられてもよい。後者の場合、インク供給部材、例えばチューブを介してインクジェットヘッドにインクを供給する形態のものでもよい。
【０１０５】
［３．インクの用途］
本発明のインクは、光硬化性に優れ、また、高い屈折率、高い光透過率を示し、基板との密着性に優れる硬化膜等を形成することができるので、導光板の基板として高い屈折率を示すＰＳ基板などの基板を使用した、バックライト装置等に使用される導光板等の製造に好適に用いられる。
【０１０６】
［４．硬化膜等］
本発明の光学材料用硬化膜（本発明において、単に「硬化膜」ともいう。）およびマイクロレンズは、上述した本発明のインクを硬化させることで得られ、上述した本発明のインクをインクジェット法により基板表面に塗布した後に、該インクに紫外線や可視光線等の光を照射して塗膜やドットを硬化させることで得られる膜やレンズが好ましい。
本発明の硬化膜およびマイクロレンズは、本発明のインクを硬化させることで得られるため、高い光透過性を示し、高温下等の過酷な環境下におかれても光透過性の変化が少なく、高い信頼性を示す。
【０１０７】
本発明の硬化膜（膜厚２．５〜３．５μｍ）は、屈折率が１．５５以上、好ましくは１．５５〜１．６５、より好ましくは１．５６〜１．６０であり、波長４００ｎｍにおける光透過率が９５％以上、好ましくは９６％以上である。このような硬化膜は、前記化合物（Ａ）、希釈剤（Ｂ）および光重合開始剤（Ｃ）を特定量含むインクをインクジェット法により基板表面に塗布し塗膜を形成した後に、該塗膜に紫外線や可視光線等の光を照射して塗膜を硬化させることで得ることができる。
【０１０８】
なお、本発明において、硬化膜の屈折率は、屈折率測定装置ＦＥ−３０００（大塚電子（株）製）を用いて測定した値であり、硬化膜の波長４００ｎｍでの光透過率は、透過率測定装置Ｖ−６７０（日本電子（株）製）を用いて測定した値である。
【０１０９】
紫外線や可視光線等を照射する場合の照射する光の量（露光量）は、インクの組成に応じて適宜調節すればよいが、１００〜５，０００ｍＪ／ｃｍ2が好ましく、２００〜４，０００ｍＪ／ｃｍ2がより好ましく、３００〜３，０００ｍＪ／ｃｍ2がさらに好ましい。また、照射する紫外線や可視光線等の波長は、２００〜５００ｎｍが好ましい。
なお、本発明において、露光量はウシオ電機（株）製の受光器ＵＶＤ−３６５ＰＤ（商品名）を取り付けた積算光量計ＵＩＴ−２０１（商品名）で測定した値である。
【０１１０】
光を照射するには露光装置を用いればよく、露光装置としては、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、無電極ランプ、メタルハライドランプまたはハロゲンランプなどを搭載し、２００〜５００ｎｍの範囲で、紫外線や可視光線等を照射する装置であれば特に限定されない。
【０１１１】
本発明のインクが塗布される基板は、インクが塗布される対象となり得るものであれば特に限定されず、その形状は平板状に限られず、曲面状であってもよい。
【０１１２】
前記基板としては、特に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）およびポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）などからなるポリエステル系樹脂基板；ポリエチレンおよびポリプロピレンなどからなるポリオレフィン樹脂基板；ポリ塩化ビニル、フッ素樹脂、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリアミド、ポリカーボネートおよびポリイミドなどからなる有機高分子フィルム；セロハンからなる基板；金属箔；ポリイミドと金属箔との積層フィルム；目止め効果があるグラシン紙、パーチメント紙、ポリエチレン、クレーバインダー、ポリビニルアルコール、でんぷんまたはカルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ）などで目止め処理した紙；およびガラス基板が挙げられる。
【０１１３】
前記基板としては、本発明の効果に悪影響を及ぼさない範囲において、酸化防止剤、劣化防止剤、充填剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤および／または電磁波防止剤などの添加剤を含有した基板を用いてもよい。また、前記基板としては、基板の表面の少なくとも一部に、必要によりコロナ処理、プラズマ処理、またはブラスト処理などの易接着処理を施した基板であってもよく、表面に易接着層や保護膜、ハードコート膜、表面撥液性膜を設けた基板であってもよい。
【０１１４】
本発明のインクジェットインクから得られる硬化膜等は、高い屈折率および高い光透過率を示すため、ＰＳ基板やＭＳ基板など高い屈折率の基板を使用した導光板の製造に用いることが好ましい。こうして得られる導光板は、光の取り出し効率や輝度が高く好ましい。
前記基板としては、屈折率が１．５５以上である基板がより好ましく、ＰＳ基板、ＭＳ基板がさらに好ましい。
【０１１５】
前記マイクロレンズのレンズ径は特に限定されないが、通常１０〜１００μｍが好ましく、２０〜６０μｍがさらに好ましい。また、レンズ高さについても特に限定されないが、通常０．５〜２０μｍが好ましく、２〜１５μｍがさらに好ましい。
【０１１６】
また、レンズ径に対するレンズ高さの比は特に限定されないが、光の取り出し効率に優れる光学部品等を製造できる点から、好ましくは０．１０以上、より好ましくは０．１５以上である。
なお、マイクロレンズ形成前に、基板にプラズマ処理や撥液処理を施すことで、未処理の基板にレンズを形成した場合より、レンズ径に対するレンズ高さの比を大きくすることができる。
【０１１７】
［５．導光板］
本発明の導光板は、基板上に、前記マイクロレンズが設けられたものであれば特に制限されないが、
光の取り出し効率や輝度などの点から、前記本発明のインクを、基板上に印刷する工程、基板上に印刷したインクに、紫外線を照射して硬化する工程を含んで製造される導光板であることが好ましい。
前記基板としては、屈折率が１．５５以上である基板が好ましく、紫外線の露光量は、前記［４．硬化膜等］で述べた範囲である。
【０１１８】
［６．光学部品］
本発明の光学部品は、前記マイクロレンズまたは導光板を有する。
前記光学部品としては、ディスプレイなどが挙げられる。
前記導光板をバックライトに組み込むことで、例えば液晶表示素子用の液晶ディスプレイを作製することができる。
【実施例】
【０１１９】
以下、実施例により本発明をさらに説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。
なお、以下では、実施例で得られたインクジェットインクを単にインクと呼ぶことがある。すなわち、例えばインクジェットインク１をインク１と呼ぶことがある。
【０１２０】
［実施例１］
式（１）で表される（メタ）アクリレート（Ａ）として、オグソールＥＡ−０２００（大阪ガスケミカル（株）製）と、希釈剤（Ｂ）として、テトラヒドロフルフリルアクリレートであるライトアクリレートＴＨＦ−Ａ（共栄社化学（株）製）と、光重合開始剤（Ｃ）として、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドであるＬｕｃｉｒｉｎ  ＴＰＯ（商品名；ＢＡＳＦジャパン（株）製）とを下記組成割合にて混合し、オグソールＥＡ−０２００を溶解した後、ＰＴＦＥ製のメンブレンフィルター（０．２μｍ）でろ過し、ろ液（インクジェットインク１）を得た。
（Ａ）オグソールＥＡ−０２００                  ２０．００ｇ
（Ｂ）ライトアクリレートＴＨＦ−Ａ              ５０．００ｇ
（Ｃ）Ｌｕｃｉｒｉｎ  ＴＰＯ                      ４．９０ｇ
【０１２１】
Ｅ型粘度計（東機産業（株）製  ＴＶ−２２、以下同じ）を用い、２５℃におけるインク１の粘度を測定した結果、１３．４ｍＰａ・ｓであった。
【０１２２】
［実施例２］
光重合開始剤（Ｃ）として、Ｌｕｃｉｒｉｎ  ＴＰＯの代わりに、Ｉｒｇａｃｕｒｅ７５４(ＢＡＳＦジャパン（株）)を用い、下記組成割合とした以外は、実施例１と同様にして、インクジェットインク２を調製した。
（Ａ）オグソールＥＡ−０２００            ２０．００ｇ
（Ｂ）ライトアクリレートＴＨＦ−Ａ        ５０．００ｇ
（Ｃ）Ｉｒｇａｃｕｒｅ７５４                ４．９０ｇ
【０１２３】
Ｅ型粘度計を用い、２５℃におけるインク２の粘度を測定した結果、１２．５ｍＰａ・ｓであった。
【０１２４】
［実施例３］
希釈剤（Ｂ）として、ライトアクリレートＴＨＦ−Ａの代わりに、３−メルカプトプロピルトリメトキシシランであるＳ８１０(ＪＮＣ（株）製)を用い、下記組成割合とした以外は、実施例１と同様にして、インクジェットインク３を調製した。
（Ａ）オグソールＥＡ−０２００            ２０．００ｇ
（Ｂ）Ｓ８１０                            ５０．００ｇ
（Ｃ）Ｌｕｃｉｒｉｎ  ＴＰＯ                ４．９０ｇ
【０１２５】
Ｅ型粘度計を用い、２５℃におけるインク３の粘度を測定した結果、８．９ｍＰａ・ｓであった。
【０１２６】
［実施例４］
界面活性剤（Ｄ）としてフッ素系界面活性剤であるメガファックＦ−４７７（ＤＩＣ（株）製）用い、下記組成割合とした以外は、実施例１と同様にして、インクジェットインク４を調製した。
（Ａ）オグソールＥＡ−０２００            ２０．００ｇ
（Ｂ）ライトアクリレートＴＨＦ−Ａ        ５０．００ｇ
（Ｃ）Ｌｕｃｉｒｉｎ  ＴＰＯ                ４．９０ｇ
（Ｄ）メガファックＦ−４７７                ０．０７５ｇ
【０１２７】
Ｅ型粘度計を用い、２５℃におけるインク４の粘度を測定した結果、１３．６ｍＰａ・ｓであった。
【０１２８】
［比較例１］
オグソールＥＡ−０２００の代わりに、エトキシ化ビスフェノールＦ型ジアクリレートであるアロニックスＭ−２０８（東亞合成（株）製）を用い、下記組成割合とした以外は、実施例１と同様にして、インクジェットインク５を調製した。
（Ｂ）ライトアクリレートＴＨＦ−Ａ        ５０．００ｇ
（Ｃ）Ｌｕｃｉｒｉｎ  ＴＰＯ                ４．９０ｇ
（その他）アロニックスＭ−２０８          ２０．００ｇ
【０１２９】
Ｅ型粘度計を用い、２５℃におけるインク５の粘度を測定した結果、８．６ｍＰａ・ｓであった。
【０１３０】
［比較例２］
オグソールＥＡ−０２００の配合量を増量し、その代わりに、ライトアクリレートＴＨＦ−Ａの配合量を減量して下記組成割合とした以外は、実施例１と同様にして、インクジェットインク６を調製した。
（Ａ）オグソールＥＡ−０２００                        ３５．００ｇ
（Ｂ）ライトアクリレートＴＨＦ−Ａ                    ３５．００ｇ
（Ｃ）Ｌｕｃｉｒｉｎ  ＴＰＯ                            ４．９０ｇ
【０１３１】
Ｅ型粘度計を用い、２５℃におけるインク６の粘度を測定した結果、８０．６ｍＰａ・ｓであった。
【０１３２】
［比較例３］
先行文献である特開２００８−０９４９８７号公報の実施例１に従い、組成物３を調製した。Ｅ型粘度計を用い、２５℃における組成物３の粘度を測定した結果、２６０ｍＰａ・ｓであった。
【０１３３】
［比較例４］
先行文献である特許第４６８８１０９号公報の実施例１に従い、組成物４を調製した。Ｅ型粘度計を用い、２５℃における組成物４の粘度を測定した結果、１２１０ｍＰａ・ｓであった。
【０１３４】
［比較例５］
先行文献である特開平６−２２０１３１号公報の実施例１に従い、該公報の反応物Ａ1の代わりに、該反応物と同じ構造式を有するオグソールＥＡ−０２００と、テトラヒドロフルフリルアクリレートであるライトアクリレートＴＨＦ−Ａと、１，６−ヘキサンジオールジアクリレートであるライトアクリレート１，６ＨＸ−Ａと、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンであるＩｒｇａｃｕｒｅ１８４と、トリメチロールプロパントリアクリレートであるアロニックスＭ−３０９（東亞合成（株）製）とを、下記組成割合にて混合した以外は、実施例１と同様にして、組成物５を調製した。
（Ａ）オグソールＥＡ−０２００              ３０．００ｇ
（Ｂ）ライトアクリレートＴＨＦ−Ａ          １０．００ｇ
（Ｂ）ライトアクリレート１，６ＨＸ−Ａ      ２５．００ｇ
（Ｃ）Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４                  ５．００ｇ
（その他）アロニックスＭ−３０９            ３０．００ｇ
【０１３５】
Ｅ型粘度計を用い、２５℃における組成物５の粘度を測定した結果、９３ｍＰａ・ｓであった。
【０１３６】
［比較例６］
先行文献である特許第３７９７２２３号公報の実施例２に従い、９，９−ビス［４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレンとして、オグソールＥＡ−０２００と、ベンジルアクリレート（東京化成（株）製）と、２,４,６−トリメチルベンゾイルフェニルホスフィン酸エチルエステルであるＬｕｃｉｒｉｎＬＲ８８９３（ＢＡＳＦジャパン(株)製）とを、下記組成割合にて混合した以外は、実施例１と同様にして、組成物６を調製した。
（Ａ）オグソールＥＡ−０２００                        ５０．００ｇ
（Ｂ）ベンジルアクリレート                            ５０．００ｇ
（Ｃ）ＬｕｃｉｒｉｎＬＲ８８９３                        ４．００ｇ
【０１３７】
Ｅ型粘度計を用い、２５℃における組成物６の粘度を測定した結果、９０ｍＰａ・ｓであった。
【０１３８】
［比較例７］
先行文献である特開２０１０−１０６０４６号公報の実施例２に従い、該公報の合成例１で得られた化合物の代わりに、該化合物と同じ構造式を有するオグソールＥＡ−０２００と、エトキシ化ｏ―フェニルフェノールアクリレートであるＡ-ＬＥＮ-１０（新中村化学工業（株）製）と、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンであるＤＡＲＯＣＵＲ１１７３（ＢＡＳＦジャパン(株)製）とを、下記組成割合にて混合した以外は、実施例１と同様にして、組成物７を調製した。
（Ａ）オグソールＥＡ−０２００                        ２５．００ｇ
（Ｃ）ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３                            ３．００ｇ
（その他）Ａ−ＬＥＮ−１０                            ７５．００ｇ
【０１３９】
Ｅ型粘度計を用い、２５℃における組成物７の粘度を測定した結果、７１０ｍＰａ・ｓであった。
【０１４０】
＜インクジェットインクおよび組成物の評価＞
上記で得られたインクジェットインク１〜６、および組成物３〜７について、インクジェット吐出性、光硬化性、硬化膜の屈折率、硬化膜の光透過率、ならびに、ポリスチレン樹脂基板上に形成されたマイクロレンズ（ドットパターン）の形状および基板に対する密着性を評価した。
各評価方法は以下のとおりで、評価結果を表１または表２に示す。
【０１４１】
（インクジェット吐出性の評価）
各実施例および比較例で得られたインク１〜６および組成物３〜７を、それぞれインクジェットカートリッジに注入し、これをインクジェット装置（ＦＵＪＩＦＩＬＭ  Ｄｉｍａｔｉｘ  Ｉｎｃ．製のＤＭＰ−２８３１（商品名））に装着し、吐出電圧（ピエゾ電圧）２０Ｖ、ヘッド温度はインクまたは組成物の粘度に応じ適宜調整、駆動周波数５ｋＨｚ、塗布回数１回の吐出条件で、印刷解像度を１０１６ｄｐｉに設定し、４ｃｍ角のガラス基板の中央部分にインクまたは組成物を３ｃｍ角のパターン状に塗布した。その後この基板に、ＵＶ照射装置（（株）ジャテック製のＪ−ＣＵＲＥ１５００（商品名））を用いて紫外線を２，０００ｍＪ／ｃｍ2のＵＶ露光量で照射することで、インクおよび組成物を光硬化させ、３ｃｍ角の硬化膜パターン（厚み：２．６〜３．５μｍ）が形成されたガラス基板を得た。
なお、厚みは、ＫＬＡ−Ｔｅｎｃｏｒ（株）製、段差・表面あらさ・微細形状測定（プロファイラ）装置Ｐ−１５で測定した。
【０１４２】
このようにして得られた３ｃｍ角の硬化膜パターンの乱れ、印刷のかすれを観察して、インクジェットインクおよび組成物の吐出性を評価した。評価基準は以下のとおりである。
○：パターンの乱れ、印刷のかすれが全くない
△：パターンの乱れ、印刷のかすれが多い
×：インクまたは組成物をうまく吐出できない（パターンの形成ができない）
【０１４３】
（光硬化性の評価）
上記で得られた３ｃｍ角の硬化膜パターンが形成された基板の硬化膜表面を指触し、硬化膜パターンの表面状態を顕微鏡観察した。評価基準は以下のとおりである。
○：パターン表面に指触跡が全く残らない
△：パターン表面に指触跡が僅かに残る
×：パターン表面に指触跡が完全に残る
【０１４４】
（硬化膜の屈折率・光透過率の評価）
さらに、上記で得られた３ｃｍ角の硬化膜パターンが形成された基板を用い、硬化膜パターンの屈折率および波長４００ｎｍでの光透過率を測定した。
なお、硬化膜パターンの屈折率は、屈折率測定装置ＦＥ−３０００（大塚電子（株）製）を用いて測定した値であり、光透過率は、透過率測定装置Ｖ−６７０（日本電子（株）製）を用いて測定した値である。
【０１４５】
（マイクロレンズの形成方法）
ポリスチレン樹脂基板（ＰＳジャパン（株）製、ＧＰＰＳ（商品名））を前処理した後、インクジェット装置を用い、各実施例および比較例で得られたインク１〜６を前処理後の基板上に塗布し硬化させることでマイクロレンズ（ドットパターン）を形成した。
【０１４６】
（基板の前処理）
表面処理剤ＬＳ１（ＪＮＣ（株）製）をインクジェットカートリッジに注入し、これをインクジェット装置（ＦＵＪＩＦＩＬＭ  Ｄｉｍａｔｉｘ  Ｉｎｃ．製のＤＭＰ−２８３１（商品名））に装着し、吐出電圧（ピエゾ電圧）１６Ｖ、ヘッド温度３０℃、駆動周波数５ｋＨｚ、塗布回数１回の吐出条件で、印刷解像度を１０００ｄｐｉに設定し、４ｃｍ角のポリスチレン樹脂基板（ＰＳ基板）の全面に塗布した。その後この基板に、ＵＶ照射装置（（株）ジャテック製のＪ−ＣＵＲＥ１５００（商品名））を用いて紫外線を１，０００ｍＪ／ｃｍ2のＵＶ露光量で照射することで、表面撥液性硬化膜が形成されたＰＳ基板を得た。
【０１４７】
なお、撥液性表面処理剤ＬＳ１は、ＮＫ  オリゴ  Ｕ−６ＬＰＡ  （商品名、新中村化学工業（株）製）１．５ｇと、ＩＲＲ２１４−Ｋ（商品名、ダイセル・サイテック（株）製）１．５ｇと、ＴＥＧＯ Ｒａｄ ２２００Ｎ（商品名、エボニック・デグサ・ジャパン(株)製）０．０３ｇと、Ｉｒｇａｃｕｒｅ７５４（商品名、ＢＡＳＦジャパン（株）製）０．４５ｇと、プロピレングリコールモノメチルエーテル５．２２ｇとを混合し、均一な溶液を得た後、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）製のメンブレンフィルター（０．２μｍ）でろ過することで得られるろ液であり、２５℃における粘度は、５．８ｍＰａ・ｓであった。
【０１４８】
（マイクロレンズの形成）
各実施例および比較例で得られたインク１〜６を、それぞれインクジェットカートリッジに注入し、これをインクジェット装置（ＦＵＪＩＦＩＬＭ  Ｄｉｍａｔｉｘ  Ｉｎｃ．製のＤＭＰ−２８３１（商品名））に装着し、吐出電圧（ピエゾ電圧）２０Ｖ、ヘッド温度はインクの粘度に応じ適宜調整、駆動周波数５ｋＨｚ、塗布回数１回の吐出条件で、印刷解像度を５１２ｄｐｉに設定し、上記で得られた表面撥液性硬化膜が形成されたＰＳ基板の中央部分３ｃｍ角の範囲にインクをドットパターン状に塗布した。その後この基板に、ＵＶ照射装置（（株）ジャテック製のＪ−ＣＵＲＥ１５００（商品名））を用いて紫外線を２，０００ｍＪ／ｃｍ2のＵＶ露光量で照射することで、インクを光硬化させ、マイクロレンズ（ドットパターン）が形成されたＰＳ基板を得た。
【０１４９】
（マイクロレンズの形状の評価）
上記のようにして得られたマイクロレンズ（ドットパターン）の形状を光学式顕微鏡ＢＸ５１（ＯＬＹＭＰＵＳ（株）製）を用いて観察し、さらにレンズ径を測定した。マイクロレンズの径の値には、任意の３つのマイクロレンズの径の平均値を用いた。なお、マイクロレンズを真上から観察したレンズは円形であることが理想である。
また、マイクロレンズ（ドットパターン）の高さを、段差・表面あらさ・微細形状測定（プロファイラ）装置Ｐ−１５（ＫＬＡ-Ｔｅｎｃｏｒ（株）製）を用いて３Ｄモードで測定した。マイクロレンズの高さの値には、任意の３つのマイクロレンズの高さの平均値を用いた。
なお、マイクロレンズの形状の評価基準は以下の通りである。
○：（レンズ高さ／レンズ径）の値が０．１５以上、かつパターンが円形である
△：（レンズ高さ／レンズ径）の値が０．１５以上であるが、パターンが円形でない
×：（レンズ高さ／レンズ径）の値が０．１５未満
【０１５０】
（マイクロレンズの密着性評価）
上記のようにして得られたマイクロレンズ（ドットパターン）上に粘着テープ（住友スリーエム（株）製「Ｎｏ．６００」テープ（商品名））を貼り付け、その後、剥離した際に基板上に残ったドットパターンの状態を観察することで、マイクロレンズの基板への密着性を評価した。なお、評価基準は以下の通りである。
○：マイクロレンズは全く剥がれなかった
△：一部のマイクロレンズが剥がれた
×：全てのマイクロレンズが剥がれた
【０１５１】
【表１】
2013185040.tif 000009
【０１５２】
【表２】
2013185040.tif 000010
【０１５３】
表１に示す結果から明らかなように、本発明に係る実施例１〜４で得られたインク１〜４は、インクジェット吐出性および光硬化性に優れ、また、高屈折率、高透明であり、さらに基板との密着性に優れた良好な形状のマイクロレンズを形成できた。
【０１５４】
一方、比較例３、４および７で得られた組成物３、４および７は、組成物の粘度が高いため、ヘッド温度を５５℃に上げても吐出ができず、パターンを形成できなかった。また、比較例５および６で得られた組成物５および６は、ヘッド温度を５５℃にすることで吐出はできたものの、パターンの乱れや印刷のかすれが多く、良好なパターンを形成できなかった。
【０１５５】
比較例１および２で得られたインク５および６は、インクジェット吐出性は良好であったが、インク５については硬化膜の屈折率が１．５３と低く、インク６についてはマイクロレンズの密着性が劣るという結果であり、全ての評価項目を満足させることはできなかった。
【産業上の利用可能性】
【０１５６】
以上説明したように、本発明によれば、インクの吐出性および光硬化性に優れ、また、高い屈折率および高い光透過率を示し、基板に対する密着性に優れるマイクロレンズを形成することが可能なインクジェットインクを得ることができる。このため、該インクジェットインクは液晶ディスプレイや表示パネルなどの光学部品を製造するために好適に用いることができる。