(57)【要約】【課題】高い確率で安定して球状中実のセラミックス顆粒を得る。【解決手段】所定の配合比で混合したセラミックス主原料と、焼結助剤と、結合材と、分散材と、分散媒とを、粉砕・混合工程Ｐ１と、任意の回転速度で撹拌が可能な撹拌装置１を用いて、再分散が必要と判定したときには、高速撹拌により、粉砕・混合直後の状態に戻すように再分散させる再分散工程Ｐ６と、寝かしが必要と判定したときには、低速撹拌によりスラリーを寝かせる寝かし処理工程Ｐ５とを具備し、スラリー２から採取したサンプルについて堆積速度計測装置３を用いて測定した堆積速度ＶＳＤに基づいて、再分散処理の要否を判定する再分散要否判定工程Ｐ３と、寝かし処理の要否を判定する寝かし要否判定工程Ｐ４とにより、再分散処理工程Ｐ６と寝かし処理工程Ｐ５とのいずれも不要であると判定したときに、噴霧乾燥処理工程Ｐ７を実施する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の配合比で混合したセラミックス主原料（Ｍ１）に対して、所定の焼結助剤（Ｍ２）と、結合材（ＢＮＤ）と、分散剤（ＤＳＰ）と、分散媒（Ｗ）とを混合し、粉砕・混合工程（Ｐ１）により分散させたスラリーを噴霧乾燥工程（Ｐ７）により造粒するセラミックス顆粒の製造方法において、
上記粉砕・混合工程（Ｐ１）によって得られたスラリー（２）を、少なくとも収容する撹拌タンク（１０）と回転する撹拌羽根（１１）とを具備する撹拌装置（１）によって、上記スラリー中の固体分の沈降を起こさない程度の弱い剪断を作用させる低速撹拌により、原料粒子表面に吸着する分散剤量と分散媒量との安定化を図る寝かし処理工程（Ｐ５）と、
上記撹拌装置（１）又は、これとは別に設けた撹拌装置（１ａ）を用いて、強い剪断を作用させる高速撹拌により、過剰に寝かし処理（Ｐ５）の施されたスラリーに対して、上記粉砕・混合工程（Ｐ１）直後の分散状態に戻す再分散処理工程（Ｐ６）と、
上記粉砕・混合工程（Ｐ１）、寝かし処理工程（Ｐ５）、再分散処理工程（Ｐ６）のいずれかの工程において得られたスラリー（２）から採取したサンプルを所定の容量の試料容器（３０）内に注入し、静置し、サンプル採取から任意の沈降時間（ｔｘ）経過したときに固体分の沈降に伴い変化する上記試料容器（３０）の底部におけるスラリーの液圧（Ｐｍａｘ−Ｐｘ）と、そのスラリー（２）の組成に応じて予め与えられる参照液圧（Ｐｍａｘ−Ｐｍｉｎ）との比較によって相対堆積量（ＲＶＳＤ＝１００（Ｐｍａｘ−Ｐｘ）／（Ｐｍａｘ−Ｐｍｉｎ））（％）を算出し、その相対堆積量（ＲＶＳＤ）の所定時間（Δｔ）に対する変化量（ΔＲＶＳＤ）から堆積速度（ＶＳＤ＝ΔＲＶＳＤ／Δｔ）（％／ｍｉｎ）を計測する堆積速度計測装置（３）を具備し、
上記寝かし処理工程（Ｐ５）によって処理された寝かし処理時間（ＴＡＧ）と、上記堆積速度計測装置（３）により計測された堆積速度（ＶＳＤ）と、上記寝かし処理工程（Ｐ５）、又は、上記再分散処理工程（Ｐ６）のいずれかを経たスラリー（２）から採取したサンプルのスラリー粘度（η）とのいずれか、又は、これらの組合わせを評価項目として計測する評価項目計測工程（Ｐ２）と、
上記寝かし処理時間（ＴＡＧ）が所定の寝かし処理時間閾値（ＴＨＬ）を超えるとき、上記堆積速度（ＶＳＤ）が所定の堆積速度上限閾値（ＶＨＬ）を超えるとき、又は、上記スラリー粘度（η）が所定のスラリー粘度上限閾値（ηＨＬ）を超えるときのいずれかに該当する場合には、上記再分散処理工程（Ｐ６）による再分散が必要であると判定する再分散要否判定工程（Ｐ３）と、
上記堆積速度（ＶＳＤ）が所定の堆積速度下限値（ＶＬＬ）より低いとき、複数のサンプルを採取して算出した上記堆積速度（ＶＳＤ）の平均値（μ）と標準偏差（σ）とから算出した変動係数（ＣＶ＝３σ／μ）が、所定の変動係数閾値（ＣＶＲＥＦ）より低いとき、又は、上記寝かし処理の時間（ＴＡＧ）が所定の寝かし処理時間下限閾（ＴＬＬ）より短いとき、のいずれかに該当する場合には、上記寝かし処理工程（Ｐ５）による寝かし処理が必要であると判定する寝かし要否判定工程（Ｐ４）と、
上記再分散要否判定工程（Ｐ３）において再分散が不要と判定し、かつ、上記寝かし要否判定工程（Ｐ４）において、寝かし処理が不要であると判定したときに、噴霧乾燥工程（Ｐ７）を実施することを特徴とするセラミックス顆粒の製造方法。
【請求項２】
上記堆積速度計測装置（３）が、上記試料容器（３０）と、上記試料容器（３０）内に挿入され、内部に圧力伝達媒液（３３）が満たされ、上記分散媒（Ｗ）と上記圧力伝達媒液（３３）のいずれかの液体分は通過し、上記セラミックス主原料（Ｍ１）、及び、上記焼結助剤（Ｍ２）からなる固体分の通過は阻止する多孔質フィルタ（３２）を介して上記試料容器（３０）の底部と一方の端部が連通された圧力管（３１）と、該圧力管（３１）の他法の端部に嵌着され、気密を保持する略筒状の密圧キャップ（３４２）と、上記圧力伝達媒液（３３）の水位の変化に伴う上記圧力管（３１）内部の圧力変化に追従して弾性変形するダイヤフラム（３４０）と、該ダイヤフラム（３４０）の表面に形成され、ダイヤフラム（３４０）の変形量に応じて抵抗値が変化する抵抗ブリッジ（３４１）とからなる液圧センサ（３４）と、上記抵抗ブリッジ（３４１）への通電を制御すると共に、抵抗値変化を検出するセンサ制御部（３６）と、その抵抗値変化から、上記堆積速度（ＶＳＤ）を算出する堆積速度演算部（３７）とを具備する請求項１に記載のセラミックス顆粒の製造方法。
【請求項３】
上記セラミックス主原料が、平均粒径３μｍ以下のアルミナ粉末であり、上記焼結助剤が、少なくとも、イットリア成分とシリカ成分とを含み、上記アルミナ粉末と上記焼結助剤との混合比が、上記アルミナ粉末と上記焼結助剤とからなる固形分の総重量を１００重量％としたとき、上記アルミナ粉末が９２．５重量％〜９９．５重量％で、残余が上記焼結助剤であり、上記固形分の総重量を１００重量％としたときに、上記分散剤が０．０５重量％以上０．３重量％以下で、上記結合剤が、０．１重量％以上５．０重量％以下であり、上記分散媒が、上記固形分の濃度が６０重量％以上となるように計量した水である請求項１、又は、２に記載のセラミックス顆粒の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、所定のセラミックス粉末を所定の分散剤、結合剤と共に、水等の分散媒に分散させたスラリーを噴霧乾燥するセラミックス顆粒の製造方法に関するものであり、特に、点火プラグに用いられる絶縁碍子の製造に好適なものである。
【背景技術】
【０００２】
点火プラグに用いられる絶縁碍子等のファインセラミックスの製造において  セラミックス粉末を所定の分散剤、結合剤と共に、水等の分散媒に分散させたスラリーを噴霧乾燥により造粒した顆粒を用いた製造方法、特に、加圧成形法は、量産性に優れている反面、顆粒の流動性、密度、強度、均質性等の顆粒の品質のバラツキによって、得られる成形体の品質にもバラツキを生じ、結果的にファインセラミックスの強度、耐電圧等の品質にも影響し、信頼性を損なう虞がある。 
【０００３】
特許文献１には、ファインセラミックスの製造に広く用いられている噴霧乾燥法によって製造した顆粒の品質に影響を与えるスラリーの分散状態を特定する方法として、固液分散系スラリーを容器内へ注入し、前記容器内底部の固液分散系スラリー液圧を測定し、前記固液分散系スラリー液圧と前記固液分散系スラリーの組成に基づき予め与えられる参照液圧とを比較する、ことを特徴とする固液分散系スラリーの粒子分散状態の評価方法が開示され、ファインセラミックスの製造方法において、スラリー粘度やｐＨの測定と併せて計算されたスラリー液圧と測定したスラリー液圧との比から顆粒を成形するためのスラリーとして望ましい値となるように分散剤を調整することが開示されている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところが、固液分散系スラリーを噴霧乾燥により造粒したセラミックス顆粒を用いるファインセラミックスの製造現場においては、所定の範囲の粒度分布、比表面積、密度等を厳選した原料を用い、一定の配合比率となるように各原料を配合し、所望の分散状態のスラリーとなるように、アルミナ等の固体分に対して分散剤の種類と添加量とを予め設定し、厳密にスラリー調整を行っているにも拘わらず、温度、湿度といった環境の変化、原料ロット間のバラツキ、スラリー調整工程から噴霧乾燥工程に至るまでの時間差等、不可避的発生する様々な要因によって噴霧乾燥されるスラリーの分散状態にバラツキを生じ、噴霧乾燥によって得られる顆粒の品質にもバラツキを生じることになり、試行錯誤を通じて得られた経験則によって調整が図られているのが実情で、従来行われているようなスラリーのスラリー粘度、ｐＨ、液圧法を用いた相対堆積量の測定による分散状態の評価だけでは、常に安定した確率で、球状中実の顆粒状態を得ることが困難であることが判明した。
【０００５】
そこで、本発明は、所定の割合で混合したセラミックス主原料と焼結助剤と結合材と分散剤とを水などの分散媒に分散させたスラリーを噴霧乾燥するセラミックス顆粒の製造方法において、常に安定して高確率で球状中実顆粒を得られるセラミックス顆粒の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
請求項１の発明では、所定の配合比で混合したセラミックス主原料（Ｍ１）に対して、所定の焼結助剤（Ｍ２）と、結合材（ＢＮＤ）と、分散剤（ＤＳＰ）と、分散媒（Ｗ）とを混合し、粉砕・混合工程（Ｐ１）により分散させたスラリーを噴霧乾燥工程（Ｐ７）により造粒するセラミックス顆粒の製造方法において、
上記粉砕・混合工程（Ｐ１）によって得られたスラリー（２）を、少なくとも収容する撹拌タンク（１０）と回転する撹拌羽根（１１）とを具備する撹拌装置（１）によって、上記スラリー中の固体分の沈降を起こさない程度の弱い剪断を作用させる低速撹拌により、原料粒子表面に吸着する分散剤量と分散媒量との安定化を図る寝かし処理工程（Ｐ５）と、
上記撹拌装置（１）又は、これとは別に設けた撹拌装置（１ａ）を用いて、強い剪断を作用させる高速撹拌により、過剰に寝かし処理（Ｐ５）の施されたスラリーに対して、上記粉砕・混合工程（Ｐ１）直後の分散状態に戻す再分散処理工程（Ｐ６）と、
上記粉砕・混合工程（Ｐ１）、寝かし処理工程（Ｐ５）、再分散処理工程（Ｐ６）のいずれかの工程において得られたスラリー（２）から採取したサンプルを所定の容量の試料容器（３０）内に注入し、静置し、サンプル採取から任意の沈降時間（ｔｘ）経過したときに固体分の沈降に伴い変化する上記試料容器（３０）の底部におけるスラリーの液圧（Ｐｍａｘ−Ｐｘ）と、そのスラリー（２）の組成に応じて予め与えられる参照液圧（Ｐｍａｘ−Ｐｍｉｎ）との比較によって相対堆積量（ＲＶＳＤ＝１００（Ｐｍａｘ−Ｐｘ）／（Ｐｍａｘ−Ｐｍｉｎ））（％）を算出し、その相対堆積量（ＲＶＳＤ）の所定時間（Δｔ）に対する変化量（ΔＲＶＳＤ）から堆積速度（ＶＳＤ＝ΔＲＶＳＤ／Δｔ）（％／ｍｉｎ）を計測する堆積速度計測装置（３）を具備し、
上記寝かし処理工程（Ｐ５）によって処理された寝かし処理時間（ＴＡＧ）と、上記堆積速度計測装置（３）により計測された堆積速度（ＶＳＤ）と、上記寝かし処理工程（Ｐ５）、又は、上記再分散処理工程（Ｐ６）のいずれかを経たスラリー（２）から採取したサンプルのスラリー粘度（η）とのいずれか、又は、これらの組み合わせを評価項目として計測する評価項目計測工程（Ｐ２）と、
上記寝かし処理時間（ＴＡＧ）が所定の寝かし処理時間閾値（ＴＨＬ）を超えるとき、上記堆積速度（ＶＳＤ）が所定の堆積速度上限閾値（ＶＨＬ）を超えるとき、又は、上記スラリー粘度（η）が所定のスラリー粘度上限閾値（ηＨＬ）を超えるときのいずれかに該当する場合には、上記再分散処理工程（Ｐ６）による再分散が必要であると判定する再分散要否判定工程（Ｐ３）と、
上記堆積速度（ＶＳＤ）が所定の堆積速度下限値（ＶＬＬ）より低いとき、複数のサンプルを採取して算出した上記堆積速度（ＶＳＤ）の平均値（μ）と標準偏差（σ）とから算出した変動係数（ＣＶ＝３σ／μ）が、所定の変動係数閾値（ＣＶＲＥＦ）より低いとき、又は、上記寝かし処理の時間（ＴＡＧ）が所定の寝かし処理時間下限閾（ＴＬＬ）より短いとき、のいずれかに該当する場合には、上記寝かし処理工程（Ｐ５）による寝かし処理が必要であると判定する寝かし要否判定工程（Ｐ４）と、
上記再分散要否判定工程（Ｐ３）において再分散が不要と判定し、かつ、上記寝かし要否判定工程（Ｐ４）において、寝かし処理が不要であると判定したときに、噴霧乾燥工程（Ｐ７）を実施することを特徴とする。
【０００７】
請求項２の発明では、上記堆積速度計測装置（３）が、上記試料容器（３０）と、上記試料容器（３０）内に挿入され、内部に圧力伝達媒液（３３）が満たされ、上記分散媒（Ｗ）と上記圧力伝達媒液（３３）のいずれかの液体分は通過し、上記セラミックス主原料（Ｍ１）、及び、上記焼結助剤（Ｍ２）からなる固体分の通過は阻止する多孔質フィルタ（３２）を介して上記試料容器（３０）の底部と一方の端部が連通された圧力管（３１）と、該圧力管（３１）の他法の端部に嵌着され、気密を保持する略筒状の密圧キャップ（３４２）と、上記圧力伝達媒液（３３）の水位の変化に伴う上記圧力管（３１）内部の圧力変化に追従して弾性変形するダイヤフラム（３４０）と、該ダイヤフラム（３４０）の表面に形成され、ダイヤフラム（３４０）の変形量に応じて抵抗値が変化する抵抗ブリッジ（３４１）とからなる液圧センサ（３４）と、上記抵抗ブリッジ（３４１）への通電を制御すると共に、抵抗値変化を検出するセンサ制御部（３６）と、その抵抗値変化から、上記堆積速度（ＶＳＤ）を算出する堆積速度演算部（３７）とを具備する。
【０００８】
請求項３の発明では、上記セラミックス主原料が、平均粒径３μｍ以下のアルミナ粉末であり、上記焼結助剤が、少なくとも、イットリア成分とシリカsとを含み、上記アルミナ粉末と上記焼結助剤との混合比が、上記アルミナ粉末と上記焼結助剤とからなる固形分の総重量を１００重量％としたとき、上記アルミナ粉末が９２．５重量％〜９９．５重量％で、残余が上記焼結助剤であり、上記固形分の総重量を１００重量％としたときに、上記分散剤が０．０５重量％以上０．３重量％以下で、上記結合剤が、０．１重量％以上５．０重量％以下であり、上記分散媒が、上記固形分の濃度が６０重量％以上となるように計量した水である。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、同一の配合条件で調整しても、周囲温度、湿度等の環境変化、原材料の粒径分布、比表面積のバラツキ等の変動要因に起因する分散状態の個体差や、重力場において不可避的に発生する固体粒子の沈降・堆積に伴う分散状態の経時変化に対して、堆積速度（ＶＳＤ）の測定による定量的な管理が可能となり、粉砕・混合工程（Ｐ１）直後の不安定な分散状態のスラリーではなく、一定の寝かし処理工程（Ｐ５）を経て、粒子表面への分散剤及び分散媒の吸着状態が安定した分散状態とし、寝かし処理工程（Ｐ５）が過剰となった場合には、再分散処理工程（Ｐ６）によって、元の分散直後の状態に戻し、再度意っての寝かし処理工程（Ｐ５）を経ることで、常に安定した分散状態としたスラリーを噴霧乾燥工程（Ｐ７）において造粒することにより、球状中実のセラミックス顆粒を高い確率で安定的に得られることが判明した。
このとき、本発明においては、従来のような職人芸的な勘に頼るのではなく、堆積速度（ＶＳＤ）の算出結果に基づいた客観的な判断を行うことが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明のセラミックス顆粒の製造方法を示すフローチャート。
【図２Ａ】本発明において、寝かし処理手段及び再分散処理手段として用いられる撹拌装置１の概要を示す模式図。
【図２Ｂ】本発明において再分散処理手段として用いられる撹拌装置１ａのギア用を示す縦断面図。
【図２Ｃ】図２Ｂの撹拌装置１ａの要部を示す横断面図。
【図３Ａ】本発明に用いられる堆積速度計測装置の概要を示す構成図。
【図３Ｂ】本発明に用いられる液圧センサの一例を示す要部断面図。
【図３Ｃ】本発明に用いられる堆積速度計測装置の堆積速度計測原理を示す原理図。
【図４Ａ】堆積速度を算出する方法を説明するための図であって、分散材の添加量を変化させたときの相対堆積量の経時変化を示す特性図。
【図４Ｂ】堆積速度と球状中実顆粒の生成確率との相関を示す特性図。
【図４Ｃ】分散剤添加量と堆積速度との相関に係り、スラリー調整直後と２４時間寝かした後とを比較するための特性図。
【図５Ａ】寝かし処理時間と堆積速度（平均値）及びバラツキ（標準偏差）との関係を示す特性図
【図５Ｂ】寝かし処理時間と堆積速度の変動係数との関係を示す特性図。
【図５Ｃ】寝かし処理時間とスラリー粘度との関係を示す特性図。
【図６Ａ】分散剤の添加量を変化させたときの寝かし処理時間と堆積速度の変動係数との関係を示す特性図。
【図６Ｂ】比較例と共に本発明の球状中実顆粒の生成確率に対する効果を示す特性図。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
図１、図２Ａを参照して、本発明の第１の実施形態におけるセラミックス顆粒の製造方法の概要について説明する。
なお、本実施形態においては、本発明の特徴の理解を容易にするため、高い絶縁性を必要とする点火プラグに用いられる高アルミナ質の電気絶縁碍子の製造に好適に用いられる、高純度のアルミナを主原料Ｍ１とした場合を具体例として説明する。
ただし、本発明の特徴である、所定のセラミックス粉末材料と結合材とを分散剤と共に分散媒に分散させるべく、粉砕・混合処理（Ｐ１）を施したスラリーを噴霧乾燥（Ｐ７）して、造粒粉末を得るセラミックス顆粒の製造方法において、当該スラリーから採取したサンプルの堆積速度ＶＳＤ（％／ｍｉｎ）を後述する堆積速度計測装置３を用いて測定し、そのバラツキ（標準偏差σ／平均値μ）が一定の範囲に収まるまで、後述する、寝かし処理（Ｐ５）、及び／又は、再分散処理（Ｐ６）を施して、安定した分散状態とした上で噴霧乾燥（Ｐ７）を実施するとの技術思想は、使用するセラミックス粉末材料（Ｍ１、Ｍ２）、分散剤（ＤＳＰ）、結合材（ＢＮＤ）の如何に関わらず採用し得るものである。
【００１２】
本実施形態においては、セラミックス主原料Ｍ１として、平均粒径３μｍ以下のアルミナ粉末を用い、平均粒径２μｍ以下の焼結助剤Ｍ２を用いている。
焼結助剤Ｍ２は、焼結助剤成分として、少なくともイットリア成分とシリカ成分とを含むものが用いられている、例えば、平均粒径２μｍ以下のイットリア粉末と平均粒径２μｍ以下のシリカ粉末を用いることができる。
セラミックス主原料Ｍ１と焼結助剤Ｍ２との混合比は、これらの固形分の総重量を１００重量％としたとき、アルミナ粉末が９２．５重量％〜９９．５重量％で、残余が焼結助剤Ｍ２となるように配合してある。
【００１３】
さらに、主原料Ｍ１と焼結助剤Ｍ２とからなる固形分の総重量を１００重量％としたときに、０．０５重量％以上０．３重量％以下の割合で分散剤ＤＳＰが添加されている。
分散剤ＤＳＰは、例えば、ポリカルボン酸系、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合系、アルキルスルホン酸系等の公知のアニオン性分散剤、ポリエチレングリコール、高級アルコールアルキレンオキサイド系等の公知の非イオン性分散剤、４級アンモニウム系等の公知のカチオン性分散剤を用いることができる。
【００１４】
また、固形分の総重量を１００重量％としたとき、０．１重量％以上５．０重量％以下の割合で結合剤ＢＮＤが添加されている。
結合剤ＢＮＤには、例えば、ポリビニルアルコールＰＶＡ、ポリビニルブチラールＰＶＢ、メチルセルロースＭＣ、カルボン酸メチルセルロースＣＭＣ等の公知の有機バインダーを用いることができる。
【００１５】
スラリー中の固形分（Ｍ１及びＭ２）の濃度が６０重量％以上となるように計量した水を分散媒Ｗとして配合してある。
また、焼結助剤Ｍ２としては、上述した、イットリア成分、シリカ成分を含むもの以外にもＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ等のアルカリ土類金属成分や、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｌａ等の遷移金属成分を含んだものを用いても良く、これらの成分は、一般的に金属酸化物の状態で粉末として混合される。
【００１６】
粉砕・混合工程Ｐ１では、上述の原料を、例えば、ボールミル、転動ミル、揺動ミル、ジェットミル、パールミル等の公知の粉砕・混合手段を用いて、所定の時間だけ粉砕・混合処理を行い、スラリー２を作成する。
【００１７】
寝かし処理工程Ｐ５では、粉砕・混合工程Ｐ１によって得られたスラリー２を、撹拌装置１を用いて、スラリー中の固体分が沈降堆積しない程度の回転数での低速撹拌により、原料粒子表面に吸着する分散剤量と分散媒量との安定化を図る。
本発明者等が行った試験により粉砕・混合工程Ｐ１直後のスラリー２は、堆積速度ＶＳＤのバラツキが大きく、分散状態が不安定であり、一定時間以上の寝かし処理工程Ｐ５を経ることにより、スラリー２の分散状態の安定化を図られることが判明した。
試験結果の詳細については、図４Ａ〜図６Ｂを参照して、後述する。
【００１８】
再分散処理工程Ｐ６では、過剰に寝かし処理の施されたスラリーに対して、撹拌装置１を用いて、所定の回転数以上の高速撹拌を施すことにより、スラリーを粉砕・混合工程Ｐ１直後の分散状態に戻す。
撹拌装置１は、図２に示すように、粉砕・混合工程Ｐ１を経て得られたスラリー２を投入するための撹拌タンク１０と、スラリー２を所定の回転数で撹拌するための撹拌羽根１１と、撹拌羽根１１を任意の回転数で回転制御可能なモータ１２とによって構成されている。
撹拌装置１は、高速撹拌時には、例えば、周速２０ｍ／秒以上で撹拌羽根１１を高速回転させることによって、強い剪断力をスラリー２に与え、ほぼ、粉砕・混合工程Ｐ１直後の分散状態とすることができる。
【００１９】
さらに、再分散工程Ｐ６において、再分散処理手段の変形例として、図２Ｂ、図２Ｃに示すように、撹拌羽根１１ａを、固定部（ステータ）１１１ａと所定の高剪断ギャップ１１２ａを設けて配設され高速で回転する回転部（ロータ）１１０ａとの二重筒構造で構成し、固定部１１１ａと回転部１１０ａとの間に設けた高剪断ギャップ１１２ａに強い剪断力を発生させて、スラリー２の再分散処理を行う構造としても良い。
本実施形態では、回転部１１０ａと、固定部１１１ａは、略環状に形成され、それぞれ周方向（Ｘ方向）に等間隔で複数の切り欠き溝１１６ａ、１１７ａが形成されている。
回転部１１０ａは、図略の撹拌羽根を介して回転軸１１５ａに２カ所以上で固定され、回転軸１１５ａの回転に伴い回転する。
固定部１１１ａは、回転軸１１５ａと同心に配設した固定軸１１４ａにステー１１３ａを介して固定され、常に静止している。 
回転部１１０ａを高速で回転させると、図２Ｃに示すように、高剪断ギャップ１１２ａに高い剪断力を発生させることができる。
【００２０】
回転部１１０ａの直径をＤＲＯＴ（ｍ）、回転部１１０ａの回転数ｎ（ｒｐｍ）、高剪断ギャップ１１２ａの間隙をＤＳＨＲ（ｍ）とすると、周速度Ｖ（ｍ／ｓ）は、Ｖ＝π・ＤＲＯＴ・ｎ／６０で表され、剪断速度ＶＳＨＲ（１／ｓ）は、ＶＳＨＲ＝Ｖ／ＤＳＨＲ＝π・ＤＲＯＴ・ｎ／ＤＳＨＲ／６０の関係が成り立っている。
例えば、周速度を２０〜４０（ｍ／ｓ）とし、高剪断ギャップ１１２ａの間隙ＤＳＨＲを０．２５〜１．０（ｍｍ）とすると、２００００〜１６００００（１／ｓ）の高い剪断速度でスラリー２を再分散させることができる。  なお、本実施形態においては、固定部１１１ａを、固定軸１１４ａに固定したものを示したが、撹拌タンク１０の内壁に固定するようにしても良い。
また、回転部１１０ａと固定部１１１ａとをｚ軸方向に複数段並べて設けて、より一層、剪断力を強くし、再分散処理能力を高めた構成としても良い。
さらに、本実施形態の撹拌装置１ａを、低速撹拌することにより、剪断力を弱め、寝かし処理手段として用いても良い。
【００２１】
粉砕・混合工程Ｐ１においては、粉末からなるセラミックス主原料Ｍ１、及び焼結助剤Ｍ２に高い剪断力を作用させることによって、粒真凝集が邂逅され、分散媒Ｗ中に分散した状態とすることができるが、粉砕・混合工程Ｐ１の直後においては、粒子表面への分散剤ＤＳＰ、結合材ＢＮＤ、水Ｗの吸着、脱着状態が不安定で、従来のスラリー粘度ηの測定では把握できない、分散状態のバラツキが存在することが判明した。
評価項目測定工程Ｐ２では、粉砕・混合工程Ｐ１、寝かし処理工程Ｐ５、再分散処理工程Ｐ６のいずれかの工程において得られたスラリー２から採取したサンプルを、所定の容量の試料容器３０内に注入し、静置し、堆積速度計測装置３を用いて、サンプル採取から任意の沈降時間ｔｘ経過したときに固体分の沈降に伴い変化する試料容器３０の底部におけるスラリーの液圧（Ｐｍａｘ−Ｐｘ）と、そのスラリー２の組成に応じて予め与えられる参照液圧（Ｐｍａｘ−Ｐｍｉｎ）との比較によって相対堆積量（ＲＶＳＤ＝１００（Ｐｍａｘ−Ｐｘ）／（Ｐｍａｘ−Ｐｍｉｎ））（％）を算出し、さらに、その相対堆積量（ＲＶＳＤ）の所定時間（Δｔ）に対する変化量（ΔＲＶＳＤ）から堆積速度（ＶＳＤ＝ΔＲＶＳＤ／Δｔ）（％／ｍｉｎ）を計測する。
【００２２】
評価項目計測工程Ｐ２では、寝かし処理工程Ｐ５によって処理された寝かし処理時間ＴＡＧと、堆積速度計測装置３により計測された堆積速度ＶＳＤと、寝かし処理工程Ｐ５、又は、再分散処理工程Ｐ６のいずれかを経たスラリー２から採取したサンプルのスラリー粘度ηとのいずれか、又は、これらの組合せを評価項目として計測する。
【００２３】
再分散要否判定工程Ｐ３では、寝かし処理時間ＴＡＧが所定の寝かし処理時間閾値ＴＨＬを超えるとき、堆積速度ＶＳＤが所定の堆積速度上限閾値ＶＨＬを超えるとき、又は、スラリー粘度ηが所定のスラリー粘度上限閾値ηＨＬを超えるときのいずれかに該当する場合には、再分散処理工程Ｐ６による再分散が必要であると判定する。
寝かし要否判定工程Ｐ４では、堆積速度ＶＳＤが所定の堆積速度下限値ＶＬＬより低いとき、複数のサンプルを採取して算出した上記堆積速度ＶＳＤの平均値μと標準偏差σとから算出した変動係数ＣＶ（＝３σ／μ）が、所定の変動係数閾値ＣＶＲＥＦより低いとき、又は、寝かし処理の時間ＴＡＧが所定の寝かし処理時間下限閾ＴＬＬより短いとき、のいずれかに該当する場合には、寝かし処理工程Ｐ５による寝かし処理が必要であると判定する。
【００２４】
再分散要否判定工程Ｐ３において再分散が不要と判定（Ｐ３において判定Ｎｏ）し、かつ、寝かし要否判定工程Ｐ４において、寝かし処理が不要であると判定したとき（Ｐ４において判定Ｎｏ）に、噴霧乾燥工程Ｐ７を実施する。
噴霧乾燥工程Ｐ７について、簡単に説明する。噴霧乾燥工程Ｐ７では、一定の分散状態が維持されたスラリー２を用い、これを霧状に噴霧して、熱風で乾燥し、球状中実の顆粒を得る。
【００２５】
本発明において、噴霧乾燥工程Ｐ７には、公知の噴霧乾燥装置を用いることができる。
噴霧乾燥装置は、噴霧方式の違いにより、２種類に大別される。
ロータリアトマイザ方式（遠心噴霧方式）では、高速で回転するディスクにスラリーを滴下し、遠心力を利用して微粒化し、単位体積あたりの表面積を増大させながら熱風を接触させ、瞬間的に乾燥を行い顆粒を形成する。
ディスクの回転速度によって得られる顆粒の大きさの制御が図られ、２０μｍ〜２００μｍ程度の比較的大きな粒径の顆粒を形成するのに適しているとされている。
また、ノズル方式では、一流体ノズル又は二流体ノズルを用いて、スラリーを圧縮流体と共にノズルに設けた細孔から噴出させ微粒化し、単位体積あたりの表面積を増大させながら熱風を接触させ、瞬間的に乾燥を行い顆粒を形成する。
２０μｍ以下の比較的小さい粒径の顆粒を形成するのに適しているとされており、サブミクロンの粒径の顆粒を形成することも可能である。
なお、本実施形態においては、加圧成形（一軸加圧、二軸加圧、ＨＩＰ、ＣＩＰのいずれか）によって形成される点火プラグ用絶縁碍子を形成するための顆粒であり、数十μｍ程度が望ましいことから、アトマイザ方式を用いている。
【００２６】
図３Ａ、図３Ｂ、図３ｃを参照して本発明に用いられる堆積速度計測装置３について説明する。
試料容器３０には、例えば、メスシリンダ等の一定容量を有する容器を用いることができる。
圧力管３１は、例えば、ガラス管等の一定の容量を有する筒状体が用いられている。
圧力管３１の内部には、圧力伝達媒液３３として、スラリー２の生成に用いられる分散媒Ｗと同じ水が満たされている。
圧力管３１の一方の端部には、多孔質フィルタ３２が設けられている。
多孔質フィルタ３２は、分散媒Ｗと圧力伝達媒液３３のいずれかの液体分は通過し、セラミックス主原料Ｍ１、及び、焼結助剤Ｍ２からなる固体分の通過は阻止する無数の細孔を有している。
圧力管３１は、多孔質フィルタ３２を介して試料容器３０の底部と一方の端部が連通された状態となっている。
【００２７】
さらに圧力管３１の他法の端部には、シリコーンゴム等の弾性部材からなり、気密を保持する略筒状の密圧キャップ３４２が嵌着された状態で、液圧センサ３４が固定されている。
液圧センサ３４は、例えば、圧力伝達媒液３３の水位の変化に伴う圧力管３１内部の圧力変化に追従して弾性変形するダイヤフラム３４０と、そのダイヤフラム３４０の表面に形成され、ダイヤフラム３４０の変形量に応じて抵抗値が変化する抵抗ブリッジ３４１とによって構成することができる。
【００２８】
ダイヤフラム３４０は、シリコーンゴム、ステンレス等の弾性部材を用いて薄膜状に形成され、圧力管３１の開口端を覆い、密圧キャップ３４２を嵌着することにより、圧力管３１内の圧力を受圧するようになっている。
抵抗ブリッジ３４１は、例えば、ダイヤフラム３４０の表面に４つの拡散抵抗を蒸着して形成され、ダイヤフラム３４０の受圧による変形に伴い、ピエゾ効果により、拡散抵抗の抵抗値が変化し、その抵抗値変化を読み取ることで、圧力管３１内の圧力Ｐの変化を検出できる。
センサ制御部３４１は、抵抗ブリッジ３４１への通電を制御すると共に、抵抗値変化を検出する。
堆積速度演算部３７は、センサ制御部３６で検出した抵抗値変化から、堆積速度ＶＳＤを算出する。具体的な算出方法については後述する。
【００２９】
ここで、図３Ｃを参照して、体積速度ＶＳＤの測定方法について詳述する。
上述の如く、粉砕・混合工程Ｐ１、寝かし処理工程Ｐ５、再分散処理工程Ｐ６のいずれかの工程を経たスラリー２から採取したサンプルを容器３０内に収容し、直ちに、圧力管３１の一方の端部が容器３０の底部に到達する位置に挿入する。
測定開始直後、即ち、ｔ＝０（分）では、スラリー２内の固体粒子は、分散剤ＤＳＰ及び結合材ＢＮＤが粘性抵抗となって支持され、分散状態におけるスラリー２の液圧が容器３０の底部に作用し、その液圧と、多孔質フィルタ３２を介して圧力管３１内に注入された圧力伝達媒液３３の圧力とがバランスした状態となる。
このとき、スラリー２の見かけの密度は、圧力伝達媒液３３の見かけの密度より高いため、スラリー２の液面高さよりも高い位置で圧力伝達媒液３３の高さがバランスし、液圧センサ３４で検出される圧力は最大圧力Ｐｍａｘとなっている。
なお、圧力伝達媒液３３がダイヤフラム３４０と直接接触していても良いし、圧力伝達媒体３３とダイヤフラム３４０との間に空気層が介在しても良い。
【００３０】
試料容器３０を静置すると、スラリー２内の分散剤ＤＳＰ及び結合材ＢＮＤにより固体粒子（Ｍ１、Ｍ２）に作用する粘性抵抗より重力が勝り、固体粒子の沈降が始まり、試料容器３０の底部に徐々に堆積する。
スラリー２は、固体分と分散媒Ｗとが完全に分離して分散媒Ｗのみ（但し、分散剤ＤＳＰ、結合材ＢＮＤの溶解分を含む）となった上澄み部と、固体分と分散媒Ｗとが混じり合った懸濁部と、固体分が堆積した堆積部とに分離していく。
【００３１】
試料容器３０の底部に到達した固体粒子の荷重は、容器３０の底部に直接支持されることとなり、スラリー２の液圧に影響を及ぼさなくなるので、スラリー２の見かけの密度は徐々に低下し、任意の時間ｔｘ分経過後の試料容器３０底部における液圧Ｐｘも徐々に低下し、これとバランスする圧力伝達媒液３３の液面高さも徐々に低下する。
終局的には、無限時間後（ｔ＝∞）において、完全に固体分のみケーキ状に堆積した堆積部と分散媒分（ただし、固体分から遊離した結合材及び分散剤を含む）のみからなる上澄み部とに完全に分離する。
【００３２】
試料容器３０内の上澄み部の液面高さと圧力管３１内の圧力伝達媒液３３の高さとが一致し、試料容器３０の底部における液圧は、最小液圧Ｐｍｉｎとなり、このときの堆積量が最大となる。
スラリーの沈降開始から、任意の時間Ｘ（分）経過したときの液圧をＰｘとし、無限時間（ｔ＝∞）後の最大堆積量を１００としたときの、相対堆積量をＲＶＳＤ（％）とすると、ＲＶＳＤ（％）＝（Ｐｍａｘ−Ｐｘ）／（Ｐｍａｘ−Ｐｍｉｎ）の関係が成り立つ。
【００３３】
なお、現実に無限時間後の最大堆積量を実測することは不可能であるが、一定時間（例えば、２４時間）以上静置すると、ほぼ一定の堆積量に収束するのでこのときの液圧を最小液圧Ｐｍｉｎと近似する。
最大液圧Ｐｍａｘ、及び、最小液圧Ｐｍｉｎは、そのスラリー２の組成に応じて固有の値となるので、参照液圧ΔＰＲＥＦ（＝Ｐｍａｘ−Ｐｍｉｎ）を、試験的に求めることができる。
一定時間（例えば、６０分）における相対堆積量ＲＶＳＤ（％）の変化量ΔＲＲＶＳＤ（％）を計測し、単位時間（Δｔ）当たりの相対堆積量の変化量ΔＲＶＳＤを堆積速度ＶＳＤ（＝ΔＲＶＳＤ／Δｔ）（％／ｍｉｎ）として算出する。
【００３４】
また、本発明では、液圧Ｐｘを液圧センサ３４によって直接測定することができるので、相対堆積量ＲＶＳＤ（％）を算出し、その単位時間Δｔ当たりの変化ΔＲＶＳＤから堆積速度ＶＳＤ（％／ｍｉｎ）を算出しなくても、液圧センサ３４によって検出した時間ｔ１における検出液圧Ｐ１と、時間ｔ２における検出液圧Ｐ２とから、微少時間Δｔ（＝ｔ２−ｔ１）における液圧変化ΔＰ（＝Ｐ２−Ｐ１）を算出して、堆積速度ＶＳＤ（％／ｍｉｎ）を求めることもできる。
【００３５】
ΔＰ／Δｔ
＝（Ｐ２−Ｐ１）／Δｔ
＝ΔＰＲＥＦ・（Ｐ２−Ｐ１）／Δｔ／ΔＰＲＥＦ
＝ΔＰＲＥＦ・｛（Ｐｍａｘ−Ｐ１）−（Ｐｍａｘ−Ｐ２）｝／Δｔ／ΔＰＲＥＦ
＝ΔＰＲＥＦ・｛（Ｐｍａｘ−Ｐ１）／（Ｐｍａｘ−Ｐｍｉｎ）−（Ｐｍａｘ−Ｐ２）／（Ｐｍａｘ−Ｐｍｉｎ）｝／Δｔ
＝ΔＰＲＥＦ・（ＲＶＳＤ１−ＲＶＳＤ２）／Δｔ
＝ΔＰＲＥＦ・ΔＲＶＳＤ／Δｔ
＝ΔＰＲＥＦ・ＶＳＤ
よって、堆積速度ＶＳＤ＝ΔＰ／Δｔ／ΔＰＲＥＦ
ｌｉｍΔｔ→０（ΔＰ／Δｔ）＝ｄＰ／ｄｔであり、
上述のように参照圧力ΔＰＲＥＦ（＝Ｐｍａｘ−Ｐｍｉｎ）は、スラリー２の組成によって固有の定数となるので、
堆積速度ＶＳＤ＝ｄＰ／ｄｔ／ΔＰＲＥＦ∝ｄＰ／ｄｔの関係が成り立ち、
液圧センサ３４の検出結果の時間微分成分ｄＰ／ｄｔから堆積速度ＶＳＤを算出できることが判る。
【００３６】
上述の如く、本発明のセンサ制御部３６では、抵抗ブリッジ３４１の抵抗値変化から、液圧Ｐの変化を読み取っており、抵抗値変化は、一般的に、電圧変化として検出することができ、液圧Ｐの微少時間Δｔにおける変化ΔＰは、微少時間Δｔにおける電圧変化ΔＶとして瞬時に検出することができる。
その結果に基づいて、堆積速度演算部３７では、予め、スラリー２の成分に応じた参照圧力ΔＰＲＥＦに対する補正係数を設定しておけば、速やかに任意の時間における堆積速度ＶＳＤを算出することができる。
【００３７】
図４Ａ〜図６Ｂを参照して、本発明に至るまでに行った試験結果と従来のセラミック顆粒の製造法の問題点及び本発明の効果について説明する。
図４Ａは、固形分の総重量を１００％として、分散剤ＤＳＰを、固形分に対して、それぞれ、０．０５ｗｔ％、０．０８ｗｔ％、０．４ｗｔ％の割合で添加し、粉砕・混合工程Ｐ１で処理したスラリー２から採取したサンプルの相対堆積量ＲＶＳＤ（％）の経時変化を測定した結果を示す。
測定開始から６０分経過までの相対堆積量ＲＶＳＤの変化ΔＲＶＳＤを経過時間Δｔｘで割って、堆積速度ＶＳＤ＝ΔＲＶＳＤ／Δｔを算出した。
【００３８】
分散剤添加量Ｑ（ｗｔ％）を変化させたときの堆積速度（％／ｍｉｎ）を計測したところ図４Ｃに点線で示したように、分散剤を全く添加しない場合には、当然のことながら堆積速度ＶＳＤ（％／ｍｉｎ）が早く、分散剤ＤＳＰの添加量Ｑ（ｗｔ％）の増加と共に堆積速度ＶＳＤが低下し、沈降し難くなることが判る。
また、堆積速度ＶＳＤの異なるスラリーを噴霧乾燥工程Ｐ７によって造粒した後、顆粒のサンプルをランダムに採取し、得られた顆粒の形状を観察し、全体量に対する球状中実顆粒の生成された量から球状中実顆粒生成確率を算出し、その結果を図４Ｂに示す。
図４Ｂに示すように、堆積速度ＶＳＤ（％／ｍｉｎ）が０．４（％／ｍｉｎ）以下となるときに、高い確率で球状中実顆粒を生成できることが判明した。
ところが、図４Ｂのエラーバーに示すように、同じ堆積速度ＶＳＤであっても、球状中実顆粒の生成確率にバラツキが存在し、安定して球状中実顆粒を得るためには堆積速度ＶＳＤを一定とするだけでは、十分でないことが判明した。
【００３９】
さらに、図４Ｃの点線に略Ｉ字形のエラーバーで示すように、粉砕・混合工程Ｐ１を経た直後のスラリーの堆積速度ＶＳＤにはバラツキが大きく、安定していないことが判る。
そこで、粉砕・混合工程Ｐ１を経たスラリー２を撹拌装置１に投入し、スラリー２が沈殿しない程度の撹拌速度で撹拌しながら２４時間保持した後に堆積速度ＶＳＤの計測を行った結果を図４Ｃに実線で示す。
本図に示すように、粉砕・混合直後の堆積速度ＶＳＤと２４時間経過後の堆積速度ＶＳＤとに変化が見られ、分散剤の添加量Ｑが０．１ｗｔ％より低い場合には、堆積速度ＶＳＤの低下が見られ、分散剤の添加量Ｑが０．１ｗｔ％以上の場合には、堆積速度ＶＳＤの上昇が見られた。
【００４０】
また、いずれの濃度においても、粉砕・混合直後に比べて２４時間経過後のバラツキが小さくなっていることが判明した。
これは、粉砕・混合工程Ｐ１直後のスラリーにおいては、それまでに受けた強い剪断によって固形分の粒子表面が活性化し、固形分の粒子表面への分散剤ＤＳＰ、結合材ＢＮＤ、及び、水Ｗの分子レベルでの吸着と脱着とが不安定な状態で繰り替えされており、強い剪断が作用しなくなった後、時間の経過と共に固形分の粒子表面への分散剤ＤＳＰ、結合材ＢＮＤ、及び、水Ｗの分子レベルでの吸着と脱着とが安定化するためと推察される。
なお、分散剤ＤＳＰを全く添加しない場合でも、堆積速度ＶＳＤの低下が見られたが、これは、結合材ＢＮＤとして添加した有機化合物が、分散剤と同じような立体障壁機能を発揮し、粘性抵抗として作用したものと考えられる。
【００４１】
そこで、一定の添加量（０．２ｗｔ％）で分散剤ＤＳＰを添加した場合について、粉砕・混合直後から、固体分の沈降を起こさない程度の撹拌速度でスラリーを撹拌する寝かし処理工程Ｐ５を施した場合の堆積速度ＶＳＤの変化を測定した。その結果を図５Ａに示す。本図に実線で示すように、寝かし処理時間ＴＡＧの経過と共に堆積速度ＶＳＤの平均μが徐々に上昇する反面、エラーバー及び点線で示したバラツキ（標準偏差）σは徐々に小さくなっていることが判明した。  また、本図に示すように、一定時間（例えば、２４時間）以上、寝かし処理Ｐ５を施すと、堆積速度ＶＳＤが、球状中実顆粒を得るのに望ましい値である０．４％／ｍｉｎを超えることが判明した。
ここから、寝かし処理時間ＴＡＧには、寝かし処理時間上限閾値ＴＨＬ（例えば、２６時間）が存在するとの知見を得た。
【００４２】
そこで、平均値μに対するバラツキσの大きさの程度を示す変動係数ＣＶ（＝３√σ２／μ）を算出し、その結果を図５Ｂに示す。
本図に示すように、寝かし処理時間ＴＡＧが１２時間以上で、急激に変動係数が小さくなっていることが判明した。
したがって、分散剤ＤＳＰを０．２ｗｔ％添加した場合には、少なくとも１２時間以上の寝かし処理工程Ｐ６を経たスラリーを用いることで、分散剤等の吸着・脱着状態が安定し、球状中実顆粒を生成する確率が高くなるものと推察される。
その結果、寝かし処理時間ＴＡＧには、所定の寝かし処理時間下限閾値ＴＬＬが存在するとの知見を得た。
【００４３】
堆積速度ＶＳＤの計測と共に、スラリー粘度ηに対する寝かし処理時間ＴＡＧの影響を調べたところ、図５Ｃに示すように、寝かし処理時間の増加と共にスラリー粘度ηも上昇することが判明した。
これは、寝かし処理時間ＴＡＧの経過に伴い、粉砕・混合工程Ｐ１直後に剪断エネルギーの付加により上昇していたスラリー温度が低下し、安定化するのに加え、粒子表面における結合材との吸着力が増加すること、一定時間以上の経過により、粒子表面からの分散剤、結合材の脱着が起こり粒子の沈降を招くこと等が起こるためと推察される。
【００４４】
また、本図に示すように、スラリー粘度ηの計測においては、堆積速度ＶＳＤの計測時に認識されるような大きなバラツキが計測されず、従来のようなスラリー粘度のみによる管理では、堆積速度ＶＳＤの違いによる分散性の違いは把握できないことが分かる。
これは、堆積速度ＶＳＤの測定においては、固体粒子が沈降する際に、粒子と分散媒との間に作用する弱い剪断によって引き起こされる程度の粘性抵抗の変化を精度良く検出できるのに対して、スラリー粘度ηの測定においては、所定の剪断を負荷するため、粒子の沈降によって生じる程度の弱い剪断の影響は無視されることになるためと推察される。
【００４５】
なお、一定時間（例えば、１８時間）を超える寝かし処理工程P5を経た場合には、スラリー粘度ηが所定の粘度上限閾値ηＨＬ（例えば、１０００ｃＰ）を超え、スラリー２の流れが悪くなると、作業性の低下を招いたり、噴霧乾燥工程Ｐ７に影響を与えたりする虞がある。
以上から、寝かし処理時間ＴＡＧには、スラリー粘度ηを所定のスラリー粘度上限閾値ηＨＬに保つための第２の寝かし処理時間上限閾値ＴＨ２が存在するとの知見を得た。
【００４６】
図６Ａを参照して、本発明の臨界的意義について説明する。上述の如く、分散剤ＤＳＰを固形分に対して、０．２ｗｔ％添加した場合には、球状中実顆粒を安定して生成することが可能なスラリー２の堆積速度ＶＳＤを０．４％／ｍｉｎ以下とするために、寝かし処理時間ＴＡＧを１２時間以上とし、所定の寝かし処理時間上限閾値ＴＨＬを超えた場合、又は、スラリー粘度ηを所定のスラリー粘度上限閾値ηＨＬ以下とするため、第２の寝かし処理時間上限値ＴＨ２を超えた場合には、再分散処理工程Ｐ６を施して、確実に分散直後の状態に戻した後、噴霧乾燥工程７において造粒するのが望ましいことが判明した。
図６Ａは、これを一般化すべく、０．０５ｗｔ％から、０．５ｗｔ％までの異なる分散剤添加量Ｑに対する、スラリー２の堆積速度ＶＳＤの変動係数ＣＶを算出した結果を示す。本図に示すように、いずれの分散剤ＤＳＰ添加量Ｑにおいても、寝かし処理時間閾値ＴＡＧとして、少なくとも、１２時間以上の寝かし処理時間下限閾値ＴＬＬを経ることで、変動係数ＣＶを小さくできることが判明した。
【００４７】
図６Ｂを参照して、比較例と本発明との効果の違いについて説明する。
比較例は、粉砕・混合工程Ｐ１において、所定の配合比で混合したスラリー２を寝かし処理工程Ｐ５を経ることなく、噴霧乾燥工程Ｐ７によりセラミックス顆粒を生成した場合の球状中実顆粒の生成確率を示す。
実施例は、図１に示した本発明の製造工程にしたがって、必要に応じて所定の寝かし処理工程Ｐ５、及び再分散処理工程Ｐ６を経て、堆積速度ＶＳＤが一定の範囲に収まるようにして噴霧乾燥工程Ｐ７によりセラミックス顆粒を生成した場合の球状中実顆粒の生成確率を示す。
本図に示すように、本発明によれば、高い確率で球状中実のセラミック顆粒を得ることができることが判明した。
【符号の説明】
【００４８】
Ｐ１  粉砕・混合工程
Ｐ２  評価項目測定工程（サンプリング）
Ｐ３  再分散要否判定工程
Ｐ４  寝かし要否判定工程
Ｐ５  寝かし処理工程
Ｐ６  再分散処理工程
Ｐ７  噴霧乾燥工程
１  撹拌装置
１０  撹拌タンク
１１  撹拌羽根
１２  可変モータ
２  スラリー
３  堆積速度計測装置
３０  試料容器（メスシリンダー）
３１  圧力管（ガラス管）
３２  多孔質フィルタ
３３  圧力伝達媒液
３４  液圧センサ
３４０  ダイヤフラム
３４１  抵抗ブリッジ
３４２  密圧キャップ
３５  クランプスタンド
３６  センサ制御部
３７  堆積速度演算部
Ｍ１  セラミックス主原料
Ｍ２  焼結助剤
ＤＳＰ  分散剤
ＢＮＤ  結合材
Ｗ  分散媒（水）
【先行技術文献】
【特許文献】
【００４９】
【特許文献１】特開２００２−１６８７５０号公報
【図１】
2013212958.tif 000003
【図２Ａ】
2013212958.tif 000004
【図２Ｂ】
2013212958.tif 000005
【図２Ｃ】
2013212958.tif 000006
【図３Ａ】
2013212958.tif 000007
【図３Ｂ】
2013212958.tif 000008
【図３Ｃ】
2013212958.tif 000009
【図４Ａ】
2013212958.tif 000010
【図４Ｂ】
2013212958.tif 000011
【図４Ｃ】
2013212958.tif 000012
【図５Ａ】
2013212958.tif 000013
【図５Ｂ】
2013212958.tif 000014
【図５Ｃ】
2013212958.tif 000015
【図６Ａ】
2013212958.tif 000016
【図６Ｂ】
2013212958.tif 000017