(57)【要約】【課題】ひび割れや折り割れがなく、高光沢で、かつ顔料インクを用いた場合にも高い濃度の画像を形成できるインクジェット記録材料を提供すること。【解決手段】支持体上にインク受容層を有するインクジェット記録材料であって、該インク受容層は紫外線架橋樹脂、無機顔料、及び、平滑化剤を含むものであり、前記平滑化剤は、一価または二価の無機酸またはそれらの無機塩であることを特徴とするインクジェット記録材料。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上にインク受容層を有するインクジェット記録材料であって、該インク受容層は紫外線架橋樹脂、無機顔料、及び、平滑化剤を含むものであり、前記平滑化剤は、一価または二価の無機酸またはそれらの無機塩であることを特徴とするインクジェット記録材料。
【請求項２】
前記インク受容層は、平滑化剤を０．３ｗｔ％以上７ｗｔ％以下含有するものであることを特徴とする請求項１に記載のインクジェット記録材料。
【請求項３】
前記無機酸またはそれらの無機塩は、塩酸、硫酸、アミド硫酸またはそれらの塩であることを特徴とする請求項１または２に記載のインクジェット記録材料。
【請求項４】
前記紫外線架橋樹脂が、アセトアセチル基、アクリロイル基、または、スチルバゾニウム基を有するものであることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載のインクジェット記録材料。
【請求項５】
前記無機顔料は、平均二次粒径が５００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載のインクジェット記録材料。
【請求項６】
前記請求項１乃至５のいずれかに記載のインクジェット記録材料の製造方法であって、支持体上にインク受容層用塗液を支持体に塗布し、減率乾燥前に該塗液に紫外線照射するものであり、前記インク受容層用塗液は、紫外線照射によって架橋する樹脂、無機顔料、及び、平滑化剤を含むことを特徴とするインクジェット記録材料の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、インクジェット記録材料及び該インクジェット記録材料の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
インクジェット記録は、騒音がなく、高速印字が可能であり、端末プリンタなどに採用され近年急速に普及している。また、複数個のインクノズルを使用することにより、多色記録を行うことも容易であり、各種のインクジェット記録方式による多色インクジェット記録が行われている。
特にコンピュータにより作成した文字や各種図形及び写真等の画像情報のハードコピー作成装置として、複雑な画像を迅速で正確に形成することができるインクジェットプリンタの利用が注目されている。また、近年デジタルカメラの急速な普及により、デジタル写真画像が身近になりこれらの画像を安価なインクジェットプリンタで出力する写真専用のモードやインクを具備したインクジェットプリンタも同様に急速に普及している。 
【０００３】
特に、写真やグラフィックを扱うプロやハイアマチュア（写真愛好家）向けのインクジェットプリンタは、写真用顔料インクの製品が主流である。一般に、色材が溶剤に固まりとして存在する顔料インクは、光による分解に強く、印刷後用紙に色が安定するまでの時間も早いというメリットを持つため、プロや写真愛好家のニーズ（出力した写真をフォトアルバムにしまっておくのではなく、芸術作品として屋内外の額縁に掛けて鑑賞するため、高い画像耐光性が要求される。また、色の再現性にとことんこだわるため、出力物の細かな色調整を頻繁に行うために、色が安定するための時間が短いインクを好む）に適している。
【０００４】
写真用顔料インクとは、インクの光沢性を出すために、直径数μｍの顔料を、数十ｎｍから数百ｎｍまで小粒径化したものが主流である。一方、写真用顔料インクを受容するためのインクジェット光沢紙は、画像濃度を高めるために写真用顔料を用紙表面に留め、溶剤を用紙内部にすばやく浸透させる機能が必要である。
したがって、写真用顔料インクの画像濃度を高めるために必要なインクジェット光沢紙は、用紙表面にひび・亀裂がなく、溶媒のみが浸透するための微細な空隙を有する多孔質層タイプの記録材料が求められる。
【０００５】
多孔質層タイプの記録材料としては、顔料として極微細な無機粒子を使用し、フォトライクな光沢を有する記録材料が提案されている。例えば、５００ｎｍ以下まで粉砕・分散した気相法シリカや湿式法シリカ等の無機超微粒子をインク受容層の顔料成分として用いることが提案されている。
【０００６】
例えば、特許文献１の特公平３−５６５５２号公報、特許文献２の特開平１０−１１９４２３号公報、特許文献３の特開２０００−２１１２３５号公報には、気相法シリカの使用例が開示され、また、特許文献５の特開平９−２８６１６５号公報、特許文献６の特開平１０−１８１１９０号公報には、粉砕沈降法シリカの使用例が開示され、特許文献７の特開２００１−２７７７１２号公報には、粉砕ゲル法シリカの使用例が開示されている。
また、特許文献８の特開昭６２−１７４１８３号公報、特許文献９の特開平２−２７６６７０号公報、特許文献１０の特開平５−３２０３７号公報、特許文献１１の特開平６−１９９０３４号号公報、特許文献１２の特開２００２−２５４８０４号公報には無機微粒子としてアルミナやアルミナ水和物を用いた記録材料が開示されている。
【０００７】
しかし、無機超微粒子を使用すると高い光沢が得られる反面、塗布液の粘度が高くなりやすく、低い固形分濃度で塗布することから乾燥時の風紋、ひび割れ等の表面欠陥が発生しやすくなる。
特に、高い光沢や良好な質感を得るためにポリオレフィン樹脂被覆紙（紙の両面にポリエチレン等のポリオレフィン樹脂をラミネートしたもの）やポリエステルフィルム等の耐水性支持体を使用した場合、支持体がインクを吸収できないため、支持体上に設けられたインク受容層のインク吸収性が重要であり、したがって、無機微粒子に対するバインダーの比率を低減して多量の無機微粒子を塗布する必要があり、その結果、乾燥時に欠陥が益々発生しやすくなったばかりでなく、記録材料を取り扱う時に起こる折り割れ（折れ曲がった所に亀裂が発生する現象）も問題となった。
【０００８】
このような表面欠陥を防止するため、架橋剤を含む塗布液を支持体に塗布した後、乾燥を比較的穏やかな条件で行う方法が知られている。 
例えば、特許文献１３の特開２０００−２７０９３号、特許文献１４の特開２００１−９６９００号には、ポリビニルアルコールの架橋剤としてほう酸、ほう酸塩、ほう砂等のほう素化合物を用い、塗布液を塗布し一度冷却して塗工液の粘度を上昇させた後、比較的低温で乾燥する方法が開示されている。 
【０００９】
しかし、塗布液を低温で乾燥させた場合は、乾燥効率が低いために、乾燥時間を長くとらないとならず、生産性の低下を招いてしまう。また、少しの乾燥温度変化で表面欠陥が顕著になる場合が有り、乾燥温度が上昇してしまうと、表面にひび割れが生じてしまう。
また、ほう酸は生殖毒性を有するため、これらの使用は避けることが好ましい。
【００１０】
また、架橋剤としてアルデヒド系化合物やエポキシ化合物、イソシアナート類、金属塩としてチタン塩、ジルコニウム塩等も知られている。しかし、それらの架橋剤を塗布液に混ぜると、塗布液粘度の経時上昇が激しいため、生産歩留まりが著しく低下してしまう。つまり、このような架橋剤を含む塗布液を支持体に塗布する従来技術は、塗布・乾燥条件が制約を受け、その結果生産性の低下を招いていた。 
【００１１】
一方、特許文献１５の特開昭６３-１７６１７３号公報、特許文献１６の特開平１０-１５７２８３号公報、特許文献１７の特開２００３−３３５０４３号公報には、アセトアセチル基を有する樹脂をインクジェット用記録材料に使用することが開示されている。
しかしながら、高光沢・高インク吸収性のインクジェット記録材料を得るために、一次粒子径が小さい無機顔料を用いると、ひび割れや折割れが生じ易く、加えて、生産性の向上という面で満足するまでには至っていなかった。
【００１２】
また、インク受容層中に架橋剤を用いないものとしては、特許文献１８の特開２００５−３４９６１３号公報、特許文献１９の特開２００５−３４９６１５号公報に、アセトアセチル基を有するポリマー、無機微粒子、及び、塩基性ポリ水酸化アルミニウム化合物を含むインク受容層塗液を、支持体に塗付し、乾燥前に紫外線照射したインクジェット記録材料は、高温高速乾燥によるひび割れ等の故障が生じずカラー写真並みの高い光沢感を有する旨が開示され、またインク染料の耐水性を改良するためにカチオン性化合物を含有させてもよい旨が開示されている。
【００１３】
しかし、これらのインクジェット記録材料は、顔料インクを用いると画像濃度が低下することがあり、特にカラー写真画像を形成する場合は、僅かな画像濃度の低下により画質が大きく低下するため、顔料インクでは高画質な写真画像を形成できず、加えて、インクジェット受容層のひび割れを防止のためには、多量の紫外線量が必要であり、その紫外線によってインクジェット受容紙の基材が劣化してしまう問題や、紫外線照射には大量な電力が必要であるため、製造時に大量な電力を消費し、環境負荷（ＣＯ２排出量の増大）および製造コストが増大してしまう問題があった。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
したがって、本発明は、ひび割れや折り割れがなく、高光沢で、かつ顔料インクを用いた場合にも高い濃度の画像を形成できるインクジェット記録材料の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明者らが鋭意検討した結果、インク受容層が紫外線架橋性樹脂、無機顔料を含むインク受容層塗液に平滑化剤を含有させ、インク受容層塗液をゲル化することで、インク受容層塗液塗付直後の無機顔料粒子間の空隙が、乾燥の際につぶれることなく、表面が平滑で、かつインク分散液の高吸収性を有し、さらに、インク顔料粒子の凝集を防止して高い濃度の画像を形成できることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、上記課題は、本発明の下記（１）〜（６）によって解決される。
（１）「支持体上にインク受容層を有するインクジェット記録材料であって、該インク受容層は紫外線架橋樹脂、無機顔料、及び、平滑化剤を含むものであり、前記平滑化剤は、一価または二価の無機酸またはそれらの無機塩であることを特徴とするインクジェット記録材料」、
（２）「前記インク受容層は、平滑化剤を０．３ｗｔ％以上７ｗｔ％以下含有するものであることを特徴とする前記第（１）項に記載のインクジェット記録材料」、
（３）「前記無機酸またはそれらの無機塩は、塩酸、硫酸、アミド硫酸またはそれらの塩であることを特徴とする前記第（１）項または第（２）項に記載のインクジェット記録材料」、
（４）「前記紫外線架橋樹脂が、アセトアセチル基、アクリロイル基、または、スチルバゾニウム基を有するものであることを特徴とする前記第（１）項乃至第（３）項のいずれかに記載のインクジェット記録材料」、
（５）「前記無機顔料は、平均二次粒径が５００ｎｍ以下であることを特徴とする前記第（１）項乃至第（４）項のいずれかに記載のインクジェット記録材料」、
（６）「前記第（１）項乃至第（５）項のいずれかに記載のインクジェット記録材料の製造方法であって、支持体上にインク受容層用塗液を支持体に塗布し、減率乾燥前に該塗液に紫外線照射するものであり、前記インク受容層用塗液は、紫外線照射によって架橋する樹脂、無機顔料、及び、平滑化剤を含むことを特徴とするインクジェット記録材料の製造方法」。
【発明の効果】
【００１６】
以下の詳細かつ具体的な説明から理解されるように、本発明によれば、インク受容層塗液塗付直後の無機顔料粒子間の空隙が、架橋処理を含む高温高速乾燥等の塗工後処理によっても乾燥の際につぶれることなく、表面が平滑で、かつ高いインク吸収性を有し、さらに、顔料粒子の凝集が防止され、高濃度の高品質な写真画像を形成できる。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
本発明のインクジェット記録材料について詳細に説明する。
本発明のインクジェット記録材料は、紫外線架橋樹脂、無機顔料、及び、平滑化剤を含むインク受容層を有するものであり、前記平滑化剤は、一価または二価の無機酸またはそれらの無機塩である。
【００１８】
＜平滑化剤＞
本発明の平滑化剤は、共存する無機微粒子の凝集を助長するものでなく、かつインクジェットインク中のインク顔料の凝集を助長して画像濃度を低下させるものでないことが好ましく、かつ、インク顔料とある種の反応をしてその変色又は色調変させるものでないことが好ましい。この平滑化剤は、インク受容層塗液を、耐熱性を有するゲルとし、無機顔料粒子の分散を高度に安定化させることで、高温高速で乾燥しても、インク受容層塗液塗付直後の無機顔料粒子間の空隙がつぶれることを防止して、インク受容層に付与された顔料粒子の凝集を防止して塗工層中での無機顔料の均一分散を図りかつ塗工層自体の均一塗工を図ることにより、インク受容層の塗布ムラによるブチ発生等を抑制し、ひび割れや折り割れ等を抑制し、乾燥時に生じやすい風紋を抑制すると共に、インク受容層に付与されたインク顔料粒子の凝集をも防止するものである。
【００１９】
前記平滑化剤としては、一価または二価の無機酸またはそれらの易水溶性無機塩を使用できるが、インク中の顔料の過度な凝集を防止して顔料インクの画像濃度を高くできる点で、塩酸、硫酸、アミド硫酸またはそれらの塩であることが好ましく、中でも硫酸塩またはアミド硫酸塩が特に好ましい。
【００２０】
本発明の平滑化剤によるゲルが耐熱性を有する理由は明らかではないが、平滑化剤および無機微粒子および紫外線架橋樹脂の何らかの相互作用により、インキ受容層塗工液の架橋処理及び乾燥処理（両処理とも使用樹脂のコンホメーション変化又はコンフィグレーション変化による体積縮小を伴うことが知られている）の間も、無機微粒子は樹脂成分のマトリックス中に安定分散された状態で保持（プレセット）されて、ほぼそのまま乾燥・ゲル（固定）化がされるので、無機微粒子の凝集が防止される共に保水力が向上し、塗付直後の無機微粒子の分散状態を維持できるためであると考えられる。
一方、塩基性ポリ水酸化アルミニウム化合物等の、無機系の含アルミニウムカチオンポリマーは、インキ受容層塗工液の架橋処理及び乾燥処理の処理中の、無機微粒子が樹脂成分のマトリックス中に安定分散された状態で保持する効果が無いため、塩基性ポリ水酸化アルミニウム化合物を使用する際には、一価または二価の塩酸塩、硫酸塩、アミド硫酸またはそれらの無機塩と併用することが好ましい。
【００２１】
前記易水溶性無機塩のうち塩酸塩としては、例えば、塩化ナトリウム、塩化アンモニウム、塩化マグネシウム、塩化カリウム、塩化カルシウム、塩化亜鉛、塩化銅、塩化バリウム等の、塩素がそれより陽性な元素または原子団と形成する化合物が挙げられ、平滑化剤が塩酸塩である場合は一価の金属塩であることが好ましい。
【００２２】
前記硫酸塩としては、例えば、硫酸ナトリウム、硫酸アンモニウム、硫酸マグネシウム、硫酸カリウム、硫酸カルシウム、硫酸亜鉛、硫酸銅、硫酸バリウム等の、硫酸イオンがそれより陽性な元素または元素団と形成する化合物が挙げられる。
【００２３】
前記アミド硫酸塩としては、例えば、アミド硫酸ナトリウム、アミド硫酸アンモニウム、ビス（アミド硫酸）マグネシウム、アミド硫酸ニッケル４水和物等の、スルファミン酸イオンがそれより陽性な元素または原子団と形成する化合物が挙げられる。
【００２４】
前記平滑化剤は、その種類や無機顔料及び架橋性樹脂成分の種類、量にもよるが、インク受容層中に０．３ｗｔ％以上７ｗｔ％以下含有することが好ましく、０．５ｗｔ％以上５ｗｔ％以下含有することがより好ましい。平滑化剤の含有量が０．３ｗｔ％未満では、無機顔料をインク受容層塗液中に均一に分散された状態で充分プレセットできないことが多く、インク受容層を架橋及び乾燥・ゲル（固定）化する際に無機顔料粒子間の空隙がつぶれ、インク吸収性が低下し、また、インク受容層表面が陥没したり、ひび・割れが生じたりして光沢・インク吸収性が低下することがあり、７ｗｔ％を超えると、塗付ムラが生じやすくなる。
【００２５】
＜紫外線架橋樹脂＞
紫外線架橋樹脂成分としては、紫外線照射によって架橋する樹脂を使用することができ、親水性基を有する親水性樹脂を主鎖とし、複数の光反応性基を側鎖に有する樹脂を好ましく使用できる。
例えば、１分子中に２個以上のエチレン性二重結合を有する水溶性高分子が挙げられ、官能基を末端、あるいは側鎖に有する、不飽和ポリエステル、変性不飽和ポリエステル、アクリル系ポリマー、メタクリル系ポリマー、ビニル型不飽和結合を有するポリマー、エポキシ化合物等、公知の水溶性高分子が挙げられる。
【００２６】
前記紫外線架橋樹脂は、親水性樹脂に、光二量化型、光分解型、光解重合型、光変性型、光重合型等の側鎖変性基を作用させることで得ることができ、中でも光二量化型、光重合型の変性基を有する架橋基変性ポリマーが好ましく、さらに光重合型の変性基を有する架橋基変性ポリマーが好ましい。
また、架橋性を調整する目的で、単官能または多官能のエチレン性２重結合を有するオリゴマー、モノマーを併用することもできる。 
【００２７】
前記親水性樹脂としては、ポリビニルアルコール、ポリエチレンオキサイド等のポリアルキレンオキサイド、ポリビニルピロリドン、水溶性ポリビニルアセタール、ポリ−Ｎ−ビニルアセトアミド、ポリアクリルアミド、ポリアクリロイルモルホリン、ポリヒドロキシアクリルアクリレート、ポリアクリル酸、ヒドロキシエチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ゼラチン、カゼイン、及びこれらの水溶性誘導体や、共重合体が挙げられ、ポリビニルアルコールであることが好ましい。
【００２８】
前記側鎖変性基としては、例えば、ビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、シンナモイル基、スチルバゾニウム基、スチルキノリウム基、ジアゾ基、脂環エポキシ基、アセトアセチル基等を挙げることができ、中でもアセトアセチル基、アクリロイル基は少ない紫外線照射量でひび・割れの発生を防止でき好ましい。
【００２９】
具体的には、光重合型の紫外線架橋樹脂として、特開２０００−１８１０６２号公報に記載の下記一般式（１）で表される樹脂や、側鎖にアセトアセチル基を有するポリマーが挙げられ、アセトアセチル基を有するポリマーは、少ない紫外線照射量でひび割れを防止でき、かつ、地肌黄変が少なく好ましく使用できる。
【００３０】
【化１】
2013248736.tif 000002
【００３１】
上記一般式（１）において、Ｒ２は水素原子またはメチル基を表し、Ｙは芳香族環または単結合手を表す。ｎは１または２を表す。 
【００３２】
本発明におけるアセトアセチル基を有するポリマーは、アセトアセチル基を有するモノマーと他のモノマーを共重合する方法等によって合成することができる。
【００３３】
アセトアセチル基を有するモノマーの具体例としては、アセトアセトキシエチルメタクレート、４−ビニルアセトアセトアニリド、アセトアセチルアリルアミド等が挙げられる。また、ポリマー反応でアセトアセチル基を導入してもよく、例えばヒドロキシ基とジケテンとの反応等によってアセトアセチル基を導入することができる。
アセトアセチル基を有する樹脂ポリマーの具体例としては、アセトアセチル変性ポリビニルアルコール、アセトアセチル変性セルロース誘導体、アセトアセチル変性澱粉等が挙げられる。本発明では、特にアセトアセチル基を有する変性ポリビニルアルコールが好ましい。 
【００３４】
アセトアセチル変性ポリビニルアルコールは、ポリビニルアルコールとジケテンの反応等の公知の方法によって製造することができる。アセトアセチル化度は０．１〜２０モル％が好ましく、更に１〜１５モル％が好ましい。鹸化度は８０モル％以上が好ましく、更に８５モル％以上が好ましい。重合度としては、５００〜５０００のものが好ましく、特に１５００〜４５００のものが好ましい。
【００３５】
光二量化型の紫外線架橋樹脂として、特開昭６０−１２９７４２号公報に記載の下記一般式（２）で表されるポリビニルアルコール構造体中にスチルバゾニウム基を導入した感光性樹脂を挙げることができる。 
【００３６】
【化２】
2013248736.tif 000003
【００３７】
上記一般式（２）において、Ｒ１は炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ａ−はアニオン性基を表す。
【００３８】
本発明では、前記紫外線架橋樹脂に加えて、さらに他の公知のポリマーを併用することもできる。紫外線架橋樹脂と併用できる樹脂としては、例えば、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等のセルロース誘導体、澱粉や各種変性澱粉、ゼラチンや各種変性ゼラチン、キトサン、カラギーナン、カゼイン、大豆蛋白、ポリビニルアルコールや各種変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド等を必要に応じて併用することができ、さらに各種ラテックスを併用することもできる。
【００３９】
本発明の紫外線架橋樹脂には、必要に応じて、光反応開始剤、増感剤、重合抑制剤などを配合することができる。
光反応開始剤としては、公知の水溶性材料を用いることができ、この配合量は特に限定されないが、例えば、上記した水溶性高分子に対し、０．１〜５重量％の範囲で用いることができる。
また、増感剤としては、公知の水溶性材料を用いることができ、配合量はその種類、この組成物に要求される架橋条件に応じて定めれば特に限定されず、例えば、０．００５〜１０重量％の範囲用いることができる。
【００４０】
インク受容層中の前記紫外線架橋樹脂の含有量は、無機微粒子に対して５〜４０質量％の範囲が好ましく、特に１０〜３０質量％の範囲が好ましい。
【００４１】
＜無機微粒子＞
本発明のインク受容層に用いられる無機微粒子としては、平滑化剤が存在することにより、インクジェット塗液の架橋処理および乾燥処理中に、樹脂成分のマトリックス中に安定分散された状態で保持（プレセット）されて、ほぼそのまま乾燥・ゲル（固定）化がされるものであれば使用することができ、例えば、非晶質合成シリカ、アルミナ、アルミナ水和物、二酸化チタン等の公知の無色又は白色金属酸化物微粒子や、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウムを使用できる。白色又は無色の無機顔料からなる体質顔料が好ましく、したがって、無機微粒子に限らず例えば超微粒樹脂を併用することができる。
インク吸収性と生産性の点で非晶質合成シリカ、アルミナ又はアルミナ水和物であることが好ましい。
【００４２】
前記非晶質合成シリカは、製造法によって気相法シリカ、湿式法シリカ、及びその他に大別することができ、インク吸収性の観点から気相法シリカを好ましく使用できる。
【００４３】
前記気相法シリカは、湿式法に対して乾式法とも呼ばれ、一般的には火炎加水分解法によって作られる。具体的には四塩化ケイ素を水素及び酸素と共に燃焼して作る方法が一般的に知られているが、四塩化ケイ素の代わりにメチルトリクロロシランやトリクロロシラン等のシラン類も、単独または四塩化ケイ素と混合した状態で使用することができる。気相法シリカは日本アエロジル（株）からアエロジル、（株）トクヤマからＱＳタイプとして市販されている。 
【００４４】
前記湿式法シリカは、さらに製造方法によって沈降法シリカ、ゲル法シリカ、ゾル法シリカに分類される。 沈降法シリカは珪酸ソーダと硫酸をアルカリ条件で反応させて製造され、粒子成長したシリカ粒子が凝集・沈降し、その後濾過、水洗、乾燥、粉砕・分級の行程を経て製品化される。
沈降法シリカとしては、例えば東ソーシリカ（株）からニップシールとして、（株）トクヤマからトクシールとして市販されている。
【００４５】
また、ゲル法シリカは珪酸ソーダと硫酸を酸性条件下で反応させて製造する。熟成中に微小粒子は溶解し、他の一次粒子どうしを結合するように再析出するため、明確な一次粒子は消失し、内部空隙構造を有する比較的硬い凝集粒子を形成する。例えば、東ソーシリカ（株）からニップゲルとして、グレースジャパン（株）からサイロイド、サイロジェットとして市販さている。
【００４６】
ゾル法シリカは、コロイダルシリカとも呼ばれ、ケイ酸ソーダの酸などによる複分解やイオン交換樹脂層を通して得られるシリカゾルを加熱熟成して得られ、例えば日産化学工業（株）からスノーテックスとして市販されている。 
【００４７】
通常の方法で製造された湿式法シリカは、１μｍ以上の平均凝集粒子径を有するため、これを微粉砕して使用する。
【００４８】
粉砕方法としては、水性媒体中に分散したシリカを機械的に粉砕する湿式分散法が好ましく使用できる。
この際、分散液の初期粘度上昇が抑制され、高濃度分散が可能となり、粉砕・分散効率が上昇してより微粒子に粉砕することができることから、吸油量が２１０ｍｌ／１００ｇ以下、平均凝集粒子径５μｍ以上の沈降法シリカを使用することが好ましい。
高濃度分散液を使用することによって、記録用紙の生産性も向上する。 吸油量は、ＪＩＳ Ｋ−５１０１の記載に基づき測定される。 
【００４９】
湿式法シリカ微粒子を微粉砕する具体的な方法としては、水中でシリカ粒子とカチオン性化合物を混合（添加はどちらが先であっても、また同時でもよい）し、または、それぞれの分散液あるいは水溶液を混合し、鋸歯状ブレード型分散機、プロペラ羽根型分散機、またはローターステーター型分散機等の分散装置の少なくとも１つを用いて予備分散液を得る。必要であれば更に適度の低沸点溶剤等を添加してもよい。 
【００５０】
湿式法シリカの予備分散物は、固形分濃度が高いほうが好ましいが、あまり高濃度になると分散不可能となるため、好ましい範囲としては１５〜４０質量％、より好ましくは２０〜３５質量％である。
【００５１】
次に、より強い機械的手段を与えることによって、平均二次粒子径が５００ｎｍ以下の湿式法シリカ微粒子分散液が得られる。機械的手段としては公知の方法が採用でき、例えばボールミル、ビーズミル、サンドグラインダー等のメディアミル、高圧ホモジナイザー、超高圧ホモジナイザー等の圧力式分散機、超音波分散機、及び薄膜旋回型分散機等を使用することができる。
【００５２】
前記アルミナとしては、酸化アルミニウムのγ型結晶であるγ−アルミナが好ましく、中でもδグループ結晶が好ましく用いられる。
γ−アルミナは一次粒子を１０ｎｍ程度まで小さくすることが可能であるが、通常は、数千から数万ｎｍの二次粒子結晶を超音波や高圧ホモジナイザー、対向衝突型ジェット粉砕機等で粉砕し使用できる。
【００５３】
前記アルミナ水和物は、Ａｌ２Ｏ３・ｎＨ２Ｏ（ｎ＝１〜３）の構成式で表される。 ｎが１の場合がベーマイト構造のアルミナ水和物を表し、ｎが１より大きく３未満の場合が擬ベーマイト構造のアルミナ水和物を表す。 
アルミナ水和物は、アルミニウムイソプロボキシド等のアルミニウムアルコキシドの加水分解、アルミニウム塩のアルカリによる中和、アルミン酸塩の加水分解等の公知の製造方法により得られる。 
【００５４】
本発明における無機微粒子の平均一次粒子径は３０ｎｍ以下が好ましく、より高い光沢を得るためには、１５ｎｍ以下が好ましく、さらに３〜１５ｎｍであることが好ましく、３〜１０ｎｍであることが特に好ましい。
【００５５】
また、無機微粒子のＢＥＴ法による比表面積は、２００ｍ２／ｇ以上であることが好ましく、２５０〜５００ｍ２／ｇであることがより好ましい。
【００５６】
なお、本発明でいう平均一次粒子径とは、微粒子の電子顕微鏡観察により一定面積内に存在する１００個の一次粒子各々の投影面積に等しい円の直径を粒子の粒子径として平均粒子径を求めたものであり、本発明で云うＢＥＴ法とは、気相吸着法による粉体の表面積測定法の一つであり、吸着等温線から１ｇの試料の持つ総表面積、即ち比表面積を求める方法である。通常吸着気体としては、窒素ガスが多く用いられ、吸着量を被吸着気体の圧、または容積の変化から測定する方法が最も多く用いられている。多分子吸着の等温線を表すのに最も著名なものは、Ｂｒｕｎａｕｅｒ、Ｅｍｍｅｔｔ、Ｔｅｌｌｅｒの式であってＢＥＴ式と呼ばれ表面積決定に広く用いられている。ＢＥＴ式に基づいて吸着量を求め、吸着分子１個が表面で占める面積を掛けて、表面積が得られる。
【００５７】
また、前記無機微粒子の平均二次粒子径は５００ｎｍ以下であることが好ましく、さらに１０〜３００ｎｍであることが好ましく、２０〜２００ｎｍであることがより好ましい。
なお、本発明でいう平均二次粒子径とは、得られた記録材料のインク受容層を電子顕微鏡で観察することにより、観察される分散された凝集粒子の粒子径の平均値を求めたものである。
【００５８】
次に、無機微粒子の分散液の分散剤について説明する。
上記気相法シリカ及び湿式法シリカの分散剤としては、カチオン性化合物を使用することができ、カチオン性ポリマーまたは水溶性金属化合物を使用できる。
しかし、水溶性金属化合物はインク顔料粒子を凝集させ、画像濃度を低下させることがあるため注意を要する。
【００５９】
前記カチオン性ポリマーとしては、ポリエチレンイミン、ポリジアリルアミン、ポリアリルアミン、アルキルアミン重合物、特開昭５９−２０６９６号、同昭５９−３３１７６号、同昭５９−３３１７７号、同昭５９−１５５０８８号、同昭６０−１１３８９号、同昭６０−４９９９０号、同昭６０−８３８８２号、同昭６０−１０９８９４号、同昭６２−１９８４９３号、同昭６３−４９４７８号、同昭６３−１１５７８０号、同昭６３−２８０６８１号、同平１−４０３７１号、同平６−２３４２６８号、同平７−１２５４１１号、同平１０−１９３７７６号公報等に記載された１〜３級アミノ基、４級アンモニウム塩基を有するポリマーが好ましく用いられ、特に、カチオン性ポリマーとしてジアリルアミン誘導体が好ましく用いられる。
分散性および分散液粘度の面で、これらのカチオンポリマーの分子量は、２，０００〜１０万程度が好ましく、特に２，０００〜３万程度が好ましい。 
【００６０】
前記水溶性金属化合物としては、例えば水溶性の多価金属塩が挙げられる。中でもアルミニウムもしくは周期律表４Ａ族金属（例えばジルコニウム、チタン）からなる化合物が好ましい。特に好ましくは水溶性アルミニウム化合物である。 水溶性アルミニウム化合物としては、例えば無機塩としては塩化アルミニウムまたはその水和物、硫酸アルミニウムまたはその水和物、アンモニウムミョウバン等が知られている。さらに、無機系の含アルミニウムカチオンポリマーである塩基性ポリ水酸化アルミニウム化合物が知られており、好ましく用いられる。 
【００６１】
塩基性ポリ水酸化アルミニウム化合物は、多木化学（株）よりポリ塩化アルミニウム（ＰＡＣ）の名で水処理剤として、浅田化学（株）よりポリ水酸化アルミニウム（Ｐａｈｏ）の名で、また、（株）理研グリーンよりピュラケムＷＴの名で、また他のメーカーからも同様の目的を持って上市されており、各種グレードの物が容易に入手できる。 
【００６２】
本発明に用いられる周期表４Ａ族元素を含む水溶性化合物としては、チタンまたはジルコニウムを含む水溶性化合物がより好ましい。チタンを含む水溶性化合物としては、塩化チタン、硫酸チタンが挙げられる。ジルコニウムを含む水溶性化合物としては、酢酸ジルコニウム、塩化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウム、ヒドロキシ塩化ジルコニウム、塩基性炭酸ジルコニウム、水酸化ジルコニウム、乳酸ジルコニウム、炭酸ジルコニウム・アンモニウム、炭酸ジルコニウム・カリウム、硫酸ジルコニウム、フッ化ジルコニウム化合物等が挙げられる。本発明に於いて、水溶性とは常温常圧下で水に１質量％以上溶解することを目安とする。 
【００６３】
上記アルミナ、及びアルミナ水和物の分散剤としては、酢酸、乳酸、ギ酸等の公知の分散剤を使用できる。
【００６４】
前記無機微粒子の分散方法としては、通常のプロペラ撹拌、タービン型撹拌、ホモミキサー型撹拌等で気相法シリカと分散媒を予備混合し、次にボールミル、ビーズミル、サンドグラインダー等のメディアミル、高圧ホモジナイザー、超高圧ホモジナイザー等の圧力式分散機、超音波分散機、及び薄膜旋回型分散機等を使用して分散を行うことが好ましい。
【００６５】
前記無機微粒子のインク受容層の全固形分量に対する比率は５０質量％以上が好ましく、６０質量％以上がより好ましく、６５〜９５質量％の範囲が更に好ましい。
【００６６】
＜架橋剤＞
本発明のインク受容層には、本発明の効果目的を損なわない範囲で、または塗工液粘度の経時上昇が起こらない範囲で、必要に応じて公知の架橋剤をインク受容層に添加してもよい。
【００６７】
樹脂バインダーとして変性ポリビニルアルコールを使用した場合には、ポリビニルアルコールの架橋剤として、ホルムアルデヒド、グルタルアルデヒドの如きアルデヒド系化合物、ジアセチル、クロルペンタンジオンの如きケトン化合物、ビス（２−クロロエチル尿素）、２−ヒドロキシ−４，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジン、米国特許第３，２８８，７７５号記載の如き反応性のハロゲンを有する化合物、ジビニルスルホン、米国特許第３，６３５，７１８号記載の如き反応性のオレフィンを持つ化合物、米国特許第２，７３２，３１６号記載の如きＮ−メチロール化合物、米国特許第３，１０３，４３７号記載の如きイソシアナート類、米国特許第３，０１７，２８０号、同２，９８３，６１１号記載の如きアジリジン化合物類、米国特許第３，１００，７０４号記載の如きカルボジイミド系化合物類、米国特許第３，０９１，５３７号記載の如きエポキシ化合物、ムコクロル酸の如きハロゲンカルボキシアルデヒド類、ジヒドロキシジオキサンの如きジオキサン誘導体、クロム明ばん、硫酸ジルコニウム、ほう酸、ほう酸塩、ほう砂の如き無機架橋剤等を使用できる。
【００６８】
＜支持体＞
本発明に用いられる支持体としては、吸水性支持体、非吸水性支持体いずれも使用できるが、写真画像に求められるような地肌の光沢感や高い画像濃度を得るには、吸水性が低いものであることが好ましい。
【００６９】
前記吸水性支持体としては、上質紙、アート紙、コート紙、キャスト塗被紙等を使用できるが、吸水性が低い塗工紙であることが好ましい。
【００７０】
前記非吸水性支持体としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ジアセテート樹脂、トリアセテート樹脂、セロファン、アクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のフィルム、ポリオレフィン樹脂被覆紙等の耐水性支持体が挙げられる。
【００７１】
また、本発明における支持体には筆記性、帯電防止性、搬送性、カール防止性などのために、各種のバックコート層を塗布して設けることができる。バックコート層には無機帯電防止剤、有機帯電防止剤、親水性バインダー、ラテックス、顔料、架橋剤、界面活性剤などを適宜組み合わせて含有せしめることができる。
【００７２】
次に、インク受容層の形成方法について説明する。
本発明インク受容層は、紫外線架橋樹脂、無機顔料、及び、平滑化剤を含むインク受容層塗液を支持体上に塗付し、該インク受容層塗液の減率乾燥前に該塗液に紫外線照射し、乾燥することで形成できる。
【００７３】
紫外線照射のタイミングとしては、乾燥に伴うひび割れ防止のために当然乾燥終了に先立って行わなければならない。具体的には塗布したインク受容層の流動性が失われる前であり、それは概ね減率乾燥が始まる前に一致する。また、乾燥開始前であってもよい。
【００７４】
紫外線の積算照射量としては、照射スペクトル、ポリマーの種類等にもよるが、１０ｍＪ／ｃｍ２〜９００ｍＪ／ｃｍ２であることが好ましい。
１０ｍＪ／ｃｍ２未満では表面の平滑性が低下することがあり、９００ｍＪ／ｃｍ２を超えるとインク受容層の強度が低下することがある。
【００７５】
本発明においては、平滑化剤によりインク受容層塗液がゲル化し無機微粒子が安定して存在するため、強い紫外線を照射して強固な架橋構造を形成する必要がなく、少ない紫外線量で穏やかに重合させることで、架橋構造形成の際に生じる分子間の歪や体積収縮が少なくなることと相俟って、無機微粒子間の空隙がつぶれず、平滑かつインク吸収性の高いインク受容層を形成でき、製造時の環境負荷（ＣＯ２排出量の増大）や製造コストを低減できるだけでなく、支持体の劣化をも防止できる。
【００７６】
本発明に用いられる紫外線照射光源としては、低圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等の紫外灯を好ましく用いることができる。
【００７７】
前記乾燥温度としては、１００℃〜２５０℃であることが好ましい。１００℃も未満では乾燥に時間がかかって製造効率が低下し、２５０℃を超えるとカール等が発生することがある。
乾燥装置としては、熱風コーター等の従来公知の乾燥装置を使用できる。
【００７８】
本発明に係るインク受容層の乾燥塗布量としては、インク吸収性、インク受容層の強度、及び生産性の面で、無機微粒子の固形分として８〜４０ｇ／ｍ２の範囲、特に１０〜３０ｇ／ｍ２の範囲が好ましい。 
【００７９】
また、本発明のインクジェット記録材料は、インク受容層塗液の塗布に先立って、コロナ放電処理、火炎処理、紫外線照射処理、プラズマ処理等や、インク受容層を設ける面上に天然高分子化合物や合成樹脂を主体とする下塗り層を設けることが好ましい。
【００８０】
前記インク受容層及び下塗り層等のその他の機能層の塗布は、公知の塗布方法を用いることができ、例えば、スライドビード方式、カーテン方式、エクストルージョン方式、エアナイフ方式、ロールコーティング方式、ロッドバーコーティング方式等により塗布することができる。
【実施例】
【００８１】
以下、本発明を実施例により詳細に説明するが、本発明は下記実施例に限定されるものではない。
なお、特に記載がない場合、部及び％は質量部、質量％を示す。モル％はビニルアルコール単位の比率とする。
【００８２】
インクジェット記録材料の評価方法について説明する。
＜ひび割れ＞
インクジェット記録材料のインク受容層塗設面１０ｃｍ２について、ルーペ（倍率：１００倍）を用いてひび割れ故障の発生数を計測し、下記の基準に従って塗布故障耐性を評価した。
◎：ひび割れ故障の発生が全く認められない
○：ひび割れ故障が、１〜３個発生している
△：ひび割れ故障が、４〜１０個発生している
×：ひび割れ故障が、１１個以上発生している
○以上のランクであれば、実用上許容範囲にある。
【００８３】
＜顔料インク画像濃度＞
ＥＰＳＯＮ製顔料インクジェットプリンタＰＸ−Ｇ９３０のフォト光沢モードで、Ｂｋベタ画像を印字し、Ｂｋ画像濃度をグレタグマクベス社製Ｓｐｅｃｔｒｏｌｉｎｏで測定した。
【００８４】
［実施例１］
＜支持体Ａの作製＞
ポリオレフィン樹脂被覆紙支持体の作製＞広葉樹晒クラフトパルプ（ＬＢＫＰ）と針葉樹晒サルファイトパルプ（ＮＢＳＰ）の１：１混合物をカナディアンスタンダードフリーネスで３００ｍｌになるまで叩解し、パルプスラリーを調製した。 
これにサイズ剤としてアルキルケテンダイマーを対パルプ０．５％、強度剤としてポリアクリルアミドを対パルプ１．０％、カチオン化澱粉を対パルプ２．０％、ポリアミドエピクロロヒドリン樹脂を対パルプ０．５％添加し、水で希釈して１％スラリーとした。 
このスラリーを長網抄紙機で坪量１７０ｇ／ｍ２になるように抄造し、乾燥調湿してポリオレフィン樹脂被覆紙の原紙とした。抄造した原紙に、密度０．９１８ｇ／ｃｍ３の低密度ポリエチレン１００部の樹脂に対して、１０部のアナターゼ型チタンを均一に分散したポリエチレン樹脂組成物を３２０℃で溶融し、厚さ３５μｍになるように押出コーティングし、微粗面加工されたクーリングロールを用いて押出被覆した。もう一方の面には密度０．９６２ｇ／ｃｍ３の高密度ポリエチレン樹脂７０部と密度０．９１８ｇ／ｃｍ３の低密度ポリエチレン樹脂３０部のブレンド樹脂組成物を同様に３２０℃で溶融し、厚さ３０μｍになるように押出コーティングし、粗面加工されたクーリングロールを用いて押出被覆した。上記ポリオレフィン樹脂被覆紙表面に高周波コロナ放電処理を施した後、下記組成の下塗り層をゼラチンが５０ｍｇ／ｍ２（約０．０５μｍ）となるように塗布乾燥して支持体Ａを作製した。 
【００８５】
＜下塗り層組成＞
石灰処理ゼラチン                                    １００部
スルフォコハク酸−２−エチルヘキシルエステル塩            ２部
クロム明ばん                                          １０部
【００８６】
＜無機微粒子分散液Ａの作製＞
水にジメチルジアリルアンモニウムクロライドホモポリマー（分子量９，０００）４部と気相法シリカ（平均一次粒子径７ｎｍ、比表面積３００ｍ2／ｇ、日本アエロジル製アエロジル３００）１００部を添加し予備分散液を作製した後、高圧ホモジナイザーで処理して、固形分濃度２０％の無機微粒子分散液Ａを製造した。分散後の平均二次粒子径は５００nmであった。
【００８７】
＜インク受容層塗布液１＞
無機微粒子分散液Ａ（無機微粒子固形分として）            １００部
樹脂Ａ                                                    ２２部
（アセトアセチル変性ポリビニルアルコール：重合度  ２３５０、変性度３モル％、ケン化度  ９８モル％）
塩酸                                                        ３部
ノニオン性界面活性剤（ポリオキシエチレンアルキルエーテル）０．３部
固形分濃度が１０質量％になるよう水で調整した。
【００８８】
（樹脂Ａ、Ｄ〜Ｇの合成）
特公昭６３−５２６７２号公報に記載の方法を参考にし、ポリ酢酸ビニルを部分けん化して得られるポリビニルアルコールを酢酸溶媒中に分散させておき、ジケテンを添加しジケテンを反応させ樹脂Ａ、Ｄ〜Ｇを得た。  
なお、用いるＰＶＡの重合度、ケン化度、ジケテンの添加量等により、重合度、ケン化度、変性度を調節した。変性度のモル％は、ビニルアルコール単位当たりの値とした。
【００８９】
＜インクジェット記録材料の作製＞
支持体Ａ上に、インクジェット受容層塗布液１のＤｒｙ固形分が２０ｇ/ｍ２になるようにワイヤーバーで塗布し、先ず高圧水銀灯で、紫外線積算照度計ＰＤ−３６５(アイグラフィックス社製)の測定した積算照射量が５００ｍＪ／ｃｍ２となる紫外線量を照射し、次いで１２０℃の空気を吹き付け乾燥し、インクジェット記録材料１を得た。
【００９０】
［実施例２］
実施例１のインク受容層塗布液１で用いた塩酸を、塩化ナトリウムに変更した以外は、実施例１と同様にしてインクジェット記録材料２を得た。
【００９１】
［実施例３］ 
実施例１のインク受容層塗布液１で用いた塩酸を、塩化アンモニウムに変更した以外は、実施例１と同様にしてインクジェット記録材料３を得た。
【００９２】
［実施例４］ 
実施例１のインク受容層塗布液１の塩酸を、塩化カリウムに変更した以外は、実施例1と同様にしてインクジェット記録材料４を得た。
【００９３】
［実施例５］ 
実施例１のインク受容層塗布液１の塩酸を、塩化マグネシウムに変更した以外は、実施例１と同様にしてインクジェット記録材料５を得た。
【００９４】
［実施例６］ 
実施例１のインク受容層塗布液１の塩酸を、塩化カルシウムに変更した以外は、実施例１と同様にしてインクジェット記録材料６を得た。
【００９５】
［実施例７］ 
実施例１のインク受容層塗布液１の塩酸を、硫酸に変更した以外は、実施例１と同様にしてインクジェット記録材料７を得た。
【００９６】
［実施例８］ 
実施例１のインク受容層塗布液１の塩酸を、硫酸ナトリウムに変更した以外は、実施例１と同様にしてインクジェット記録材料８を得た。
【００９７】
［実施例９］ 
実施例１のインク受容層塗布液１の塩酸を、硫酸アンモニウムに変更した以外は、実施例１と同様にしてインクジェット記録材料９を得た。
【００９８】
［実施例１０］ 
実施例１のインク受容層塗布液１の塩酸を、硫酸マグネシウムに変更した以外は、実施例１と同様にしてインクジェット記録材料１０を得た。
【００９９】
［実施例１１］ 
実施例１のインク受容層塗布液１の塩酸を、硫酸カルシウム二水和物に変更した以外は、実施例１と同様にしてインクジェット記録材料１１を得た。
【０１００】
［実施例１２］ 
実施例１のインク受容層塗布液１の塩酸を、アミド硫酸に変更した以外は、実施例１と同様にしてインクジェット記録材料１２を得た。
【０１０１】
［実施例１３］ 
実施例１のインク受容層塗布液１の塩酸を、アミド硫酸ナトリウムに変更した以外は、実施例１と同様にしてインクジェット記録材料１３を得た。
【０１０２】
［実施例１４］ 
実施例１のインク受容層塗布液１の塩酸を、アミド硫酸マグネシウムに変更した以外は、実施例１と同様にしてインクジェット記録材料１４を得た。
【０１０３】
［実施例１５］ 
実施例２の支持体Ａを、支持体Ｂ（コート紙：日本製紙社製、オーロラコート、坪量１２７．９ｇ／ｍ２）に変更した以外は、実施例２と同様にしてインクジェット記録材料１５を得た。
【０１０４】
［実施例１６］ 
実施例５の支持体Ａを、支持体Ｂ（コート紙：日本製紙社製、オーロラコート、坪量１２７．９ｇ／ｍ２）に変更した以外は、実施例５と同様にしてインクジェット記録材料１６を得た。
【０１０５】
［実施例１７］ 
実施例８の支持体Ａを、支持体Ｂ（コート紙：日本製紙社製、オーロラコート、坪量１２７．９ｇ／ｍ２）に変更した以外は、実施例８と同様にしてインクジェット記録材料１７を得た。
【０１０６】
［実施例１８］ 
実施例１０の支持体Ａを、支持体Ｂ（コート紙：日本製紙社製、オーロラコート、坪量１２７．９ｇ／ｍ２）に変更した以外は、実施例１０と同様にしてインクジェット記録材料１８を得た。
【０１０７】
［実施例１９］ 
実施例１３の支持体Ａを、支持体Ｂ（コート紙：日本製紙社製、オーロラコート、坪量１２７．９ｇ／ｍ２）に変更した以外は、実施例１３と同様にしてインクジェット記録材料１９を得た。
【０１０８】
［実施例２０］ 
実施例１４の支持体Ａを、支持体Ｂ（コート紙：日本製紙社製、オーロラコート、坪量１２７．９ｇ／ｍ２）に変更した以外は、実施例１４と同様にしてインクジェット記録材料２０を得た。
【０１０９】
［実施例２１］ 
実施例２の支持体Ａを、支持体Ｃ（上質紙、坪量６４ｇ／ｍ２）に変更した以外は、実施例２と同様にしてインクジェット記録材料２１を得た。
【０１１０】
［実施例２２］ 
実施例５の支持体Ａを、支持体Ｃ（上質紙、坪量６４ｇ／ｍ２）に変更した以外は、実施例５と同様にしてインクジェット記録材料２２を得た。
【０１１１】
［実施例２３］ 
実施例８の支持体Ａを、支持体Ｃ（上質紙、坪量６４ｇ／ｍ２）に変更した以外は、実施例８と同様にしてインクジェット記録材料２３を得た。
【０１１２】
［実施例２４］ 
実施例１０の支持体Ａを、支持体Ｃ（上質紙、坪量６４ｇ／ｍ２）に変更した以外は、実施例１０と同様にしてインクジェット記録材料２４を得た。
【０１１３】
［実施例２５］ 
実施例１３の支持体Ａを、支持体Ｃ（上質紙、坪量６４ｇ／ｍ２）に変更した以外は、実施例１３と同様にしてインクジェット記録材料２５を得た。
【０１１４】
［実施例２６］ 
実施例１４の支持体Ａを、支持体Ｃ（上質紙、坪量６４ｇ／ｍ２）に変更した以外は、実施例１４と同様にしてインクジェット記録材料２６を得た。
【０１１５】
インクジェット記録材料１〜２６について上記の評価を行った。評価結果を表１に示す。
【０１１６】
【表１】
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【０１１７】
実施例１〜１２は、層にひび割れが全くなく、均一な塗布面であることに加え、顔料インク画像濃度が高いインクジェット記録材料が得られることが分かった。
実施例１〜１４、実施例１５〜２６から、支持体の種類を選ばず、本発明の効果がある。
ただし、支持体Ｃ（上質紙）は、他の支持体と比較して吸水性が高いため、インクジェット受容層の水溶性材料である樹脂が染み込みやすくなり、インクジェット受容層のひび割れが発生しやすくなっている。
実施例１〜４、実施例７〜１４は、顔料インク画像濃度が高いことから、一価の塩酸または塩酸塩、一価または二価の硫酸及び硫酸塩、並びに、一価または二価のアミド硫酸及びアミド硫酸塩が好ましいことが分かる。
【０１１８】
［実施例２７］ 
実施例２の無機微粒子分散液Ａを、下記無機微粒子分散液Ｂに変更した以外は、実施例２と同様にしてインクジェット記録材料２７を得た。
【０１１９】
＜無機微粒子分散液Ｂ＞
水にジメチルジアリルアンモニウムクロライドホモポリマー（分子量９，０００）４部と気相法シリカ（平均一次粒子径１２ｎｍ、比表面積２００ｍ２／ｇ、日本アエロジル製アエロジル２００）１００部を添加し予備分散液を作製した後、高圧ホモジナイザーで処理して、固形分濃度２０％の無機微粒子分散液Ｂを製造した。分散後の平均二次粒子径は５００nmであった。
【０１２０】
［実施例２８］ 
実施例５の無機微粒子分散液Ａを、無機微粒子分散液Ｂに変更した以外は、実施例５と同様にしてインクジェット記録材料２８を得た。
【０１２１】
［実施例２９］ 
実施例８の無機微粒子分散液Ａを、無機微粒子分散液Ｂに変更した以外は、実施例８と同様にしてインクジェット記録材料２９を得た。
【０１２２】
［実施例３０］ 
実施例１０の無機微粒子分散液Ａを、無機微粒子分散液Ｂに変更した以外は、実施例１０と同様にしてインクジェット記録材料３０を得た。
【０１２３】
［実施例３１］ 
実施例１３の無機微粒子分散液Ａを、無機微粒子分散液Ｂに変更した以外は、実施例１３と同様にしてインクジェット記録材料３１を得た。
【０１２４】
［実施例３２］ 
実施例１４の無機微粒子分散液Ａを、無機微粒子分散液Ｂに変更した以外は、実施例１４と同様にしてインクジェット記録材料３２を得た。
【０１２５】
［実施例３３］ 
実施例２の無機微粒子分散液Ａを、下記無機微粒子分散液Ｃに変更した以外は、実施例２と同様にしてインクジェット記録材料３３を得た。
【０１２６】
＜無機微粒子分散液Ｃ＞
水に塩基性ポリ水酸化アルミニウム４部と気相法シリカ（平均一次粒子径７ｎｍ、比表面積３００ｍ２／ｇ、日本アエロジル製アエロジル３００）１００部を添加し予備分散液を作製した後、高圧ホモジナイザーで処理して、固形分濃度２０％の無機微粒子分散液Ｃを製造した。分散後の平均二次粒子径は５００nmであった。
【０１２７】
［実施例３４］ 
実施例５の無機微粒子分散液Ａを、無機微粒子分散液Ｃに変更した以外は、実施例５と同様にしてインクジェット記録材料３４を得た。
【０１２８】
［実施例３５］ 
実施例８の無機微粒子分散液Ａを、無機微粒子分散液Ｃに変更した以外は、実施例８と同様にしてインクジェット記録材料３５を得た。
【０１２９】
［実施例３６］ 
実施例１０の無機微粒子分散液Ａを、無機微粒子分散液Ｃに変更した以外は、実施例１０と同様にしてインクジェット記録材料３６を得た。
【０１３０】
［実施例３７］ 
実施例１３の無機微粒子分散液Ａを、無機微粒子分散液Ｃに変更した以外は、実施例１３と同様にしてインクジェット記録材料３７を得た。
【０１３１】
［実施例３８］ 
実施例１４の無機微粒子分散液Ａを、無機微粒子分散液Ｃに変更した以外は、実施例１４と同様にしてインクジェット記録材料３８を得た。
【０１３２】
［実施例３９］ 
実施例２の無機微粒子分散液Ａを、下記無機微粒子分散液Ｄに変更した以外は、実施例２と同様にしてインクジェット記録材料３９を得た。
【０１３３】
＜無機微粒子分散液Ｄ＞
水にジメチルジアリルアンモニウムクロライドホモポリマー（分子量９，０００）４部と湿式シリカ（東ソーシリカ：ニップシールＬＰ、一次粒子径１６nｍ、比表面積１７０ｍ２/g）１００部を添加し、ビーズミルで粉砕後、高圧ホモジナイザーで処理して、固形分濃度２０％の無機微粒子分散液Ｄを製造した。分散後の平均二次粒子径は５００nmであった。
【０１３４】
［実施例４０］ 
実施例５の無機微粒子分散液Ａを、無機微粒子分散液Ｄに変更した以外は、実施例５と同様にしてインクジェット記録材料４０を得た。
【０１３５】
［実施例４１］ 
実施例８の無機微粒子分散液Ａを、無機微粒子分散液Ｄに変更した以外は、実施例８と同様にしてインクジェット記録材料４１を得た。
【０１３６】
［実施例４２］ 
実施例１０の無機微粒子分散液Ａを、無機微粒子分散液Ｄに変更した以外は、実施例１０と同様にしてインクジェット記録材料４２を得た。
【０１３７】
［実施例４３］ 
実施例１３の無機微粒子分散液Ａを、無機微粒子分散液Ｄに変更した以外は、実施例１３と同様にしてインクジェット記録材料４３を得た。
【０１３８】
［実施例４４］ 
実施例１４の無機微粒子分散液Ａを、無機微粒子分散液Ｄに変更した以外は、実施例１４と同様にしてインクジェット記録材料４４を得た。
【０１３９】
［実施例４５］ 
実施例１の無機微粒子分散液Ａを、下記無機微粒子分散液Ｅに変更した以外は、実施例１と同様にしてインクジェット記録材料４５を得た。
【０１４０】
＜無機微粒子分散液Ｅ＞
無機微粒子分散液Ｅは、固形分濃度１０％のアルミナゾル（ＢＥＴ比表面積３００ｍ２／ｇ、平均二次粒子径  ２００nm、日産化学工業製アルミナゾル２００）とした。
【０１４１】
［実施例４６］ 
実施例２の無機微粒子分散液Ａを、無機微粒子分散液Ｅに変更した以外は、実施例２と同様にしてインクジェット記録材料４６を得た。
【０１４２】
［実施例４７］ 
実施例７の無機微粒子分散液Ａを、無機微粒子分散液Ｅに変更した以外は、実施例７と同様にしてインクジェット記録材料４７を得た。
【０１４３】
［実施例４８］ 
実施例８の無機微粒子分散液Ａを、無機微粒子分散液Ｅに変更した以外は、実施例８と同様にしてインクジェット記録材料４８を得た。
【０１４４】
［実施例４９］ 
実施例１２の無機微粒子分散液Ａを、無機微粒子分散液Ｅに変更した以外は、実施例１２と同様にしてインクジェット記録材料４９を得た。
【０１４５】
［実施例５０］ 
実施例１３の無機微粒子分散液Ａを、無機微粒子分散液Ｅに変更した以外は、実施例１３と同様にしてインクジェット記録材料５０を得た。
【０１４６】
インクジェット記録材料２７〜５０について上記の評価を行った。評価結果を表２に示す。
【０１４７】
【表２】
2013248736.tif 000005
【０１４８】
実施例１〜１４、実施例３３〜５０から、無機微粒子分散液の種類および無機微粒子の分散剤を選ばず、本発明の効果があることが分かる。
【０１４９】
［実施例５１］ 
実施例２の樹脂Ａを下記樹脂Ｂ（アクリロイル基変性ポリビニルアルコール：重合度３５００  変性度  ３モル％  ケン化度  ８８モル％、開始剤：アシルフォスフィンオキサイドの水分散物  樹脂に対して０．５重量％）に変更した以外は、実施例２と同様にしてインクジェット記録材料５１を得た。
【０１５０】
（樹脂Ｂの合成）
特開２０００−１８１０６２号公報に記載の方法を参考にし、ポリ酢酸ビニルを部分けん化して得られるポリビニルアルコール（株式会社クラレ社製ＰＶＡ−２３５、重合度３５００けん化度８８％）４５ｇを８０℃の熱水中に溶解し、酸触媒（リン酸）４．５ｇ存在下で、下記式（３）で表される化合物１５ｇを加え、８０℃で６時間反応させてアセタール化した後、塩基性イオン交換樹脂で酸触媒を取り除いて樹脂Ｂを作製した。
【０１５１】
【化３】
2013248736.tif 000006
【０１５２】
［実施例５２］ 
実施例５の樹脂Ａを樹脂Ｂに変更した以外は、実施例５と同様にしてインクジェット記録材料５２を得た。
【０１５３】
［実施例５３］ 
実施例８の樹脂Ａを樹脂Ｂに変更した以外は、実施例８と同様にしてインクジェット記録材料５３を得た。
【０１５４】
［実施例５４］ 
実施例１０の樹脂Ａを樹脂Ｂに変更した以外は、実施例１０と同様にしてインクジェット記録材料５４を得た。
【０１５５】
［実施例５５］ 
実施例１３の樹脂Ａを樹脂Ｂに変更した以外は、実施例１３と同様にしてインクジェット記録材料５５を得た。
【０１５６】
［実施例５６］ 
実施例１４の樹脂Ａを樹脂Ｂに変更した以外は、実施例１４と同様にしてインクジェット記録材料５６を得た。
【０１５７】
［実施例５７］ 
実施例２の樹脂Ａを下記樹脂Ｃ（スチルバゾニウム基変性ポリビニルアルコール：重合度３５００  変性度２モル％  ケン化度  ８８モル％）に変更した以外は、実施例２と同様にしてインクジェット記録材料５７を得た。
【０１５８】
（樹脂Ｃの合成）
特開昭６０−１２９７４２号公報に記載の方法を参考にし、ポリ酢酸ビニルを部分けん化して得られるポリビニルアルコール（株式会社クラレ社製ＰＶＡ−２３５、重合度３５００、けん化度８８％）４５ｇに、下記式（４）で示されるホルミル基を有するスチルバゾニウム塩４．５ｇを酸触媒（リン酸）１０ｇの存在下、８０℃で６時間反応させた後、塩基性イオン交換樹脂で酸触媒を取り除いて樹脂Ｃを合成した。
【０１５９】
【化４】
2013248736.tif 000007
【０１６０】
［実施例５８］ 
実施例５の樹脂Ａを樹脂Ｃに変更した以外は、実施例５と同様にしてインクジェット記録材料５８を得た。
【０１６１】
［実施例５９］ 
実施例８の樹脂Ａを樹脂Ｃに変更した以外は、実施例８と同様にしてインクジェット記録材料５９を得た。
【０１６２】
［実施例６０］ 
実施例１０の樹脂Ａを樹脂Ｃに変更した以外は、実施例１０と同様にしてインクジェット記録材料６０を得た。
【０１６３】
［実施例６１］ 
実施例１３の樹脂Ａを樹脂Ｃに変更した以外は、実施例１３と同様にしてインクジェット記録材料６１を得た。
【０１６４】
［実施例６２］ 
実施例１４の樹脂Ａを樹脂Ｃに変更した以外は、実施例１４と同様にしてインクジェット記録材料６２を得た。
【０１６５】
［実施例６３］ 
実施例８の樹脂Ａを樹脂Ｄ（アセトアセチル変性ポリビニルアルコール：重合度  １５００、変性度３モル％、ケン化度  ９８モル％）に変更した以外は、実施例８と同様にしてインクジェット記録材料６３を得た。
【０１６６】
［実施例６４］ 
実施例８の樹脂Ａを樹脂Ｅ（アセトアセチル変性ポリビニルアルコール：重合度  ２３５０、変性度１モル％、ケン化度 ９８モル％）に変更した以外は、実施例８と同様にしてインクジェット記録材料６４を得た。
【０１６７】
［実施例６５］ 
実施例８の樹脂Ａを樹脂Ｆ（アセトアセチル変性ポリビニルアルコール：重合度  ２６００、変性度４モル％、ケン化度 ９２モル％）に変更した以外は、実施例８と同様にしてインクジェット記録材料６５を得た。
【０１６８】
［実施例６６］ 
実施例８の樹脂Ａを樹脂Ｇ（アセトアセチル変性ポリビニルアルコール：重合度  ３５００、変性度 ２モル％、ケン化度 ８８モル％）に変更した以外は、実施例８と同様にしてインクジェット記録材料６６を得た。
【０１６９】
インクジェット記録材料５１〜６６について上記の評価を行った。評価結果を表３に示す。
【０１７０】
【表３】
2013248736.tif 000008
【０１７１】
実施例１〜１４、実施例５１〜６６から、紫外線架橋樹脂の種類を選ばず、本発明の効果がある。
【０１７２】
［実施例６７］
実施例２の無機微粒子分散液Ａを、無機微粒子分散液Ｆに変更する以外は、実施例２と同様にしてインクジェット記録材料６７を得た。
＜無機微粒子分散液Ｆ＞
水にジメチルジアリルアンモニウムクロライドホモポリマー（分子量９，０００）４部と気相法シリカ（平均一次粒子径７ｎｍ、比表面積３００ｍ2／ｇ、日本アエロジル製アエロジル３００）１００部を添加し予備分散液を作製した後、高圧ホモジナイザーで処理して、固形分濃度２０％の無機微粒子分散液Ａを製造した。分散後の平均二次粒子径は２００ｎｍであった。
【０１７３】
［実施例６８］
実施例５の無機微粒子分散液Ａを、無機微粒子分散液Ｆに変更する以外は、実施例５と同様にしてインクジェット記録材料６８を得た。
【０１７４】
［実施例６９］
実施例８の無機微粒子分散液Ａを、無機微粒子分散液Ｆに変更する以外は、実施例８と同様にしてインクジェット記録材料６９を得た。
【０１７５】
［実施例７０］
実施例１０の無機微粒子分散液Ａを、無機微粒子分散液Ｆに変更する以外は、実施例１０と同様にしてインクジェット記録材料７０を得た。
【０１７６】
［実施例７１］
実施例１３の無機微粒子分散液Ａを、無機微粒子分散液Ｆに変更する以外は、実施例１３と同様にしてインクジェット記録材料７１を得た。
【０１７７】
［実施例７２］
実施例１４の無機微粒子分散液Ａを、無機微粒子分散液Ｆに変更する以外は、実施例１４と同様にしてインクジェット記録材料７２を得た。
【０１７８】
［実施例７３］
実施例２の無機微粒子分散液Ａを、無機微粒子分散液Ｇに変更する以外は、実施例２と同様にしてインクジェット記録材料７３を得た。
【０１７９】
＜無機微粒子分散液Ｇ＞
水にジメチルジアリルアンモニウムクロライドホモポリマー（分子量９，０００）４部と気相法シリカ（平均一次粒子径７ｎｍ、比表面積３００ｍ2／ｇ、日本アエロジル製アエロジル３００）１００部を添加し予備分散液を作製した後、高圧ホモジナイザーで処理して、固形分濃度２０％の無機微粒子分散液Ａを製造した。分散後の平均二次粒子径は１００ｎｍであった。
【０１８０】
［実施例７４］
実施例５の無機微粒子分散液Ａを、無機微粒子分散液Ｇに変更する以外は、実施例５と同様にしてインクジェット記録材料７４を得た。
【０１８１】
［実施例７５］
実施例８の無機微粒子分散液Ａを、無機微粒子分散液Ｇに変更する以外は、実施例８と同様にしてインクジェット記録材料７５を得た。
【０１８２】
［実施例７６］
実施例１０の無機微粒子分散液Ａを、無機微粒子分散液Ｇに変更する以外は、実施例１０と同様にしてインクジェット記録材料７６を得た。
【０１８３】
［実施例７７］
実施例１３の無機微粒子分散液Ａを、無機微粒子分散液Ｇに変更する以外は、実施例１３と同様にしてインクジェット記録材料７７を得た。
【０１８４】
［実施例７８］
実施例１４の無機微粒子分散液Ａを、無機微粒子分散液Ｇに変更する以外は、実施例１４と同様にしてインクジェット記録材料７８を得た。
【０１８５】
［実施例７９］
実施例２の無機微粒子分散液Ａを、無機微粒子分散液Ｈに変更する以外は、実施例２と同様にしてインクジェット記録材料７９を得た。
【０１８６】
＜無機微粒子分散液Ｈ＞
水にジメチルジアリルアンモニウムクロライドホモポリマー（分子量９，０００）４部と気相法シリカ（平均一次粒子径７ｎｍ、比表面積３００ｍ2／ｇ、日本アエロジル製アエロジル３００）１００部を添加し予備分散液を作製した後、高圧ホモジナイザーで処理して、固形分濃度２０％の無機微粒子分散液Ａを製造した。分散後の平均二次粒子径は５０ｎｍであった。
【０１８７】
［実施例８０］
実施例５の無機微粒子分散液Ａを、無機微粒子分散液Ｈに変更する以外は、実施例５と同様にしてインクジェット記録材料８０を得た。
【０１８８】
［実施例８１］
実施例８の無機微粒子分散液Ａを、無機微粒子分散液Ｈに変更する以外は、実施例８と同様にしてインクジェット記録材料８１を得た。
【０１８９】
［実施例８２］
実施例１０の無機微粒子分散液Ａを、無機微粒子分散液Ｈに変更する以外は、実施例１０と同様にしてインクジェット記録材料８２を得た。
【０１９０】
［実施例８３］
実施例１３の無機微粒子分散液Ａを、無機微粒子分散液Ｈに変更する以外は、実施例１３と同様にしてインクジェット記録材料８３を得た。
【０１９１】
［実施例８４］
実施例１４の無機微粒子分散液Ａを、無機微粒子分散液Ｈに変更する以外は、実施例１４と同様にしてインクジェット記録材料８４を得た。
【０１９２】
［実施例８５］
実施例２の塩化ナトリウムの添加量を、０．３部に変更する以外は、実施２と同様にしてインクジェット記録材料８５を得た。
【０１９３】
［実施例８６］
実施例５の塩化マグネシウムの添加量を、０．３部に変更する以外は、実施例５と同様にしてインクジェット記録材料８６を得た。
【０１９４】
［実施例８７］
実施例８の硫酸ナトリウムの添加量を、０．３部に変更する以外は、実施例８と同様にしてインクジェット記録材料８７を得た。
【０１９５】
［実施例８８］
実施例１０の硫酸マグネシウムの添加量を、０．３部に変更する以外は、実施例１０と同様にしてインクジェット記録材料８８を得た。
【０１９６】
［実施例８９］
実施例１３のアミド硫酸ナトリウムの添加量を、０．３部に変更する以外は、実施例１３と同様にしてインクジェット記録材料８９を得た。
【０１９７】
［実施例９０］
実施例１４のアミド硫酸マグネシウムの添加量を、０．３部に変更する以外は、実施例１４と同様にしてインクジェット記録材料９０を得た。
【０１９８】
［実施例９１］
実施例２の塩化ナトリウムの添加量を、１部に変更する以外は、実施２と同様にしてインクジェット記録材料９１を得た。
【０１９９】
［実施例９２］
実施例５の塩化マグネシウムの添加量を、１部に変更する以外は、実施例５と同様にしてインクジェット記録材料９２を得た。
【０２００】
［実施例９３］
実施例８の硫酸ナトリウムの添加量を、１部に変更する以外は、実施例８と同様にしてインクジェット記録材料９３を得た。
【０２０１】
［実施例９４］
実施例１０の硫酸マグネシウムの添加量を、１部に変更する以外は、実施例１０と同様にしてインクジェット記録材料９４を得た。
【０２０２】
［実施例９５］
実施例１３のアミド硫酸ナトリウムの添加量を、１部に変更する以外は、実施例１３と同様にしてインクジェット記録材料９５を得た。
【０２０３】
［実施例９６］
実施例１４のアミド硫酸マグネシウムの添加量を、１部に変更する以外は、実施例１４と同様にしてインクジェット記録材料９６を得た。
【０２０４】
［実施例９７］
実施例２の塩化ナトリウムの添加量を、７部に変更する以外は、実施２と同様にしてインクジェット記録材料９７を得た。
【０２０５】
［実施例９８］
実施例５の塩化マグネシウムの添加量を、７部に変更する以外は、実施例５と同様にしてインクジェット記録材料９８を得た。
【０２０６】
［実施例９９］
実施例８の硫酸ナトリウムの添加量を、７部に変更する以外は、実施例８と同様にしてインクジェット記録材料９９を得た。
【０２０７】
［実施例１００］
実施例１０の硫酸マグネシウムの添加量を、７部に変更する以外は、実施例１０と同様にしてインクジェット記録材料１００を得た。
【０２０８】
［実施例１０１］
実施例１３のアミド硫酸ナトリウムの添加量を、７部に変更する以外は、実施例１３と同様にしてインクジェット記録材料１０１を得た。
【０２０９】
［実施例１０２］
実施例１４のアミド硫酸マグネシウムの添加量を、７部に変更する以外は、実施例１４と同様にしてインクジェット記録材料１０２を得た。
【０２１０】
【表４】
2013248736.tif 000009
【０２１１】
実施例６７〜８４から、無機微粒子分散液の平均二次粒子径が５００nm以下で、本発明の効果があることが分かる。
実施例８５〜１０２から、平滑化剤の添加量が０．３ｗｔ%以上７ｗｔ%以下で、本発明の効果があることが分かる。
【０２１２】
［比較例１］ 
実施例１の塩酸を除いた以外は、実施例１と同様にしてインクジェット記録材料１０３を得た。
【０２１３】
［比較例２］ 
比較例１の積算紫外線照射量を１０００ｍＪ／ｃｍ２にする以外は、比較例１と同様にしてインクジェット記録材料１０４を得た。
【０２１４】
［比較例３］
実施例１の塩酸を、塩基性ポリ水酸化アルミニウムに変更した以外は、実施例１と同様にしてインクジェット記録材料１０５を得た。
【０２１５】
［比較例４］
実施例１の塩酸を、硝酸ナトリウムに変更した以外は、実施例１と同様にしてインクジェット記録材料１０６を得た。
【０２１６】
［比較例５］
比較例４の積算紫外線照射量を１０００ｍＪ／ｃｍ２にする以外は、比較例４と同様にしてインクジェット記録材料１０７を得た。
【０２１７】
［比較例６］
実施例１の塩酸を、硝酸亜鉛六水和物に変更した以外は、実施例１と同様にしてインクジェット記録材料１０８を得た。
【０２１８】
［比較例７］
比較例６の積算紫外線照射量を１０００ｍＪ／ｃｍ２にする以外は、比較例６と同様にしてインクジェット記録材料１０９を得た。
【０２１９】
［比較例８］
実施例１の塩酸を、塩化ナトリウムに変更し、かつ紫外線照射を行わない以外は、実施例１と同様にしてインクジェット記録材料１１０を得た。
【０２２０】
［比較例９］
実施例１の塩酸を、塩化マグネシウムに変更し、かつ紫外線照射を行わない以外は、実施例１と同様にしてインクジェット記録材料１１１を得た。
【０２２１】
［比較例１０］
実施例１の塩酸を、硫酸ナトリウムに変更し、かつ紫外線照射を行わない以外は、実施例１と同様にしてインクジェット記録材料１１２得た。
【０２２２】
［比較例１１］
実施例１の塩酸を、硫酸マグネシウムに変更し、かつ紫外線照射を行わない以外は、実施例１と同様にしてインクジェット記録材料１１３を得た。
【０２２３】
［比較例１２］
実施例１の塩酸を、アミド硫酸ナトリウムに変更し、かつ紫外線照射を行わない以外は、実施例１と同様にしてインクジェット記録材料１１４を得た。
【０２２４】
［比較例１３］
実施例１の塩酸を、ビスアミド硫酸マグネシウムに変更し、かつ紫外線照射を行わない以外は、実施例１と同様にしてインクジェット記録材料１１５を得た。
【０２２５】
［比較例１４］
実施例１の塩酸を、塩化ナトリウムに変更し、かつ樹脂を樹脂Ｈ（非変性ポリビニルアルコール：株式会社クラレ製ＰＶＡ−２３５、重合度  ３５００、ケン化度８８モル％）に変更した以外は、実施例１と同様にしてインクジェット記録材料１１６を得た。
【０２２６】
［比較例１５］
実施例１の塩酸を、塩化マグネシウムに変更し、かつ樹脂を樹脂Ｈに変更した以外は、実施例１と同様にしてインクジェット記録材料１１７を得た。
【０２２７】
［比較例１６］
実施例１の塩酸を、硫酸ナトリウムに変更し、かつ樹脂を樹脂Ｈに変更した以外は、実施例１と同様にしてインクジェット記録材料１１８を得た。
【０２２８】
［比較例１７］
実施例１の塩酸を、硫酸マグネシウムに変更し、かつ樹脂を樹脂Ｈに変更した以外は、実施例１と同様にしてインクジェット記録材料１１９を得た。
【０２２９】
［比較例１８］
実施例１の塩酸を、アミド硫酸ナトリウムに変更し、かつ樹脂を樹脂Ｈに変更した以外は、実施例１と同様にしてインクジェット記録材料１２０を得た。
【０２３０】
［比較例１９］
実施例１の塩酸を、ビスアミド硫酸マグネシウムに変更し、かつ樹脂を樹脂Ｈに変更した以外は、実施例１と同様にしてインクジェット記録材料１２１を得た。
【０２３１】
インクジェット記録材料１０３〜１２１について上記の評価を行った。評価結果を表４に示す。
【０２３２】
【表４】
2013248736.tif 000010
【０２３３】
比較例１では、本発明の無機塩が含有されていないため層に亀裂が発生してしまい、顔料インク画像濃度が著しく低下する。比較例２では、比較例１より紫外線の積算照射量を増やすことで層のひび割れが無くなり、顔料インク画像濃度は高くなるが、支持体の劣化が促進され、かつ製造時の環境負荷（ＣＯ２排出量の増大）が大きいため、好ましくない。
比較例３の塩基性ポリ水酸化アルミニウムは、ひび割れ防止効果が無く、顔料インク画像濃度が著しく低下する。比較例４〜７の硝酸塩は、紫外線の積算照射量を増やしても、層のひび割れが止まらない。
比較例８〜１３で、紫外線照射せずに金属塩化物、硫酸塩を添加した場合も、層のひび割れ防止効果が全くなく、顔料インク濃度が低い。
さらに、樹脂を紫外線架橋しない樹脂を用いると、層がひび割れてしまって、顔料インク画像濃度が低い。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０２３４】
【特許文献１】特公平３−５６５５２号
【特許文献２】特開平１０−１１９４２３号
【特許文献３】特開２０００−２１１２３５号
【特許文献４】特開２０００−３０９１５７号
【特許文献５】特開平９−２８６１６５号
【特許文献６】特開平１０−１８１１９０号
【特許文献７】特開２００１−２７７７１２号
【特許文献８】特開昭６２−１７４１８３号
【特許文献９】特開平２−２７６６７０号
【特許文献１０】特開平５−３２０３７号
【特許文献１１】特開平６−１９９０３４号
【特許文献１２】特開２００２−２５４８０４号
【特許文献１３】特開２０００−２７０９３号
【特許文献１４】特開２００１−９６９００号
【特許文献１５】特開昭６３-１７６１７３号
【特許文献１６】特開平１０-１５７２８３号
【特許文献１７】特開２００３−３３５０４３号
【特許文献１８】特開２００５―３４９６１３号
【特許文献１９】特開２００５−３４９６１５号