(57)【要約】【課題】  フレキシブルディスプレイ用基板として十分な膜強度を有し且つ薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）形成プロセスに必要な耐熱性を備えた高透明、低複屈折フィルムを形成することができるディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤を提供すること。【解決手段】  多官能アクリレートモノマーとウレタンアクリレートとを含むディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
多官能アクリレートモノマーとウレタンアクリレートとを含むディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤。
【請求項２】
前記多官能アクリレートモノマーが下記式（１）で表される、請求項１に記載のディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤。
【化１】
2013130679.tif 000009
（式中、Ｒ1〜Ｒ3は、互いに独立して、末端に少なくとも１つの（メタ）アクリル基を有する１価の有機基を表す。）
【請求項３】
前記ウレタンアクリレートが２，０００乃至４０，０００の重量平均分子量を有する、請求項１に記載のディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤。
【請求項４】
前記多官能アクリレートモノマー９５〜５質量部に対し、少なくとも１種のウレタンアクリレートを５〜９５質量部使用することを特徴とする、請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載のディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載のディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤が少なくとも１種の溶剤に溶解していることを特徴とする、ワニス。
【請求項６】
０．００１乃至５，０００Ｐａ・ｓの粘度を有する、請求項５に記載のワニス。
【請求項７】
請求項５又は請求項６に記載のワニスを用いて作製される硬化膜。
【請求項８】
１．０μｍ乃至２００μｍの膜厚を有する、請求項７に記載の硬化膜。
【請求項９】
自己支持性を有する、請求項７又は請求項８に記載の硬化膜。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤に関するものである。さらには、前記コーティング剤から作製された自己支持性を有する硬化膜に関するものである。
本発明のディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤は、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイなどを、プラスチック基板を用いて作製する際に適用することができる。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、有機ＥＬ（ＯＬＥＤ）ディスプレイに代表される薄型ディスプレイ（ＦＰＤ）の市場が急速に拡大している。液晶ディスプレイにおいて現在、表示パネルの基材としてガラス基板が用いられているが、さらに薄型化、軽量化、フレキシブル化、ロール・ツー・ロール（Ｒｏｌｌ−ｔｏ−Ｒｏｌｌ）プロセスによる加工コストの低減を目指し、プラスチック基板を用いたフレキシブルディスプレイの開発が行われている。
【０００３】
その開発に向けて、いくつかの提案がなされている。特許文献１には、３官能以上のアクリロイル基及び／又はメタクリロイル基を有するモノマーを架橋させて得られる高分子フィルムを基板とし、Ｔｇが２００℃以上の表示素子用高分子からなる、波長５００ｎｍの光線透過率が８５％以上の表示素子用高分子フィルムが開示されている。また、特許文献２には、２官能以上のアクリルモノマーまたはメタクリルモノマーを用いて２００℃の熱履歴に対し、機械的及び、光学的な特性の変化が少ないＬＣＤ基板フィルムが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００２−０８０６１６号公報
【特許文献２】特開２００５−２９２４２０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、公知のプラスチック基板に用いられる樹脂材料として知られているＰＥＴ樹脂、ＰＥＮ樹脂、ＰＣ樹脂は融点が２５０℃程度であるため、例えば薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）形成プロセスに必要とされるような２００℃以上の高温が求められる工程では使用することができないという問題がある。また、これらのフィルムを基板として使用する場合、プラスチック基板をガラス等の硬い基板に貼り合せて加工することから、貼り合わせ、剥離の工程が増えるため、製造コストが高くなるという問題もある。また、特許文献１に記載の発明は、アクリルモノマーのみを硬化させているため、架橋密度が高くなり、フィルムが脆くフレキシブルディスプレイ用基板として膜強度が不十分である。さらに、特許文献２に例示されているフレキシブルディスプレイ用基板では、同様に膜強度の弱さに加え、ＴＦＴ作成はガラス基板上で行い、ガラス基板をフッ化水素等でエッチング処理し、エッチング面にフィルム基板を貼り付けるため、製造プロセスが煩雑になりコストが高くなる。
【０００６】
そこで、本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、フレキシブルディスプレイ用基板として十分な膜強度を有し且つ薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）形成プロセスに必要な耐熱性を備えた高透明、低複屈折フィルムを形成することが可能なディスプレイ基板用高耐熱性コーティング剤を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者は、上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、多官能アクリレートモノマーとウレタンアクリレートとを組み合わせたディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤を用いることにより、フレキシブルディスプレイ用基板として十分な膜強度を有し且つ薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）形成プロセスに必要な耐熱性を備えた高透明、低複屈折フィルムが得られることを見出し、本発明を完成させた。
【０００８】
すなわち、本発明は、第１観点として、多官能アクリレートモノマーとウレタンアクリレートとを含むディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤に関する。
第２観点として、前記多官能アクリレートモノマーが下記式（１）で表される、第１観点に記載のディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤に関する。
【化１】
2013130679.tif 000002
（式中、Ｒ1〜Ｒ3は、互いに独立して、末端に少なくとも１つの（メタ）アクリル基を有する１価の有機基を表す。）
第３観点として、前記ウレタンアクリレートが２，０００乃至４０，０００の重量平均分子量を有する、第１観点に記載のディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤に関する。
第４観点として、前記多官能アクリレートモノマー９５〜５質量部に対し、少なくとも１種のウレタンアクリレートを５〜９５質量部使用することを特徴とする、第１観点乃至第３観点のいずれか１つに記載のディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤に関する。
第５観点として、第１観点乃至第４観点のいずれか１つに記載のディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤が少なくとも１種の溶剤に溶解していることを特徴とする、ワニスに関する。
第６観点として、０．００１乃至５，０００Ｐａ・ｓの粘度を有する、第５観点に記載のワニスに関する。
第７観点として、第５観点又は第６観点に記載のワニスを用いて作製される硬化膜に関する。
第８観点として、１．０μｍ乃至２００μｍの膜厚を有する、第７観点に記載の硬化膜に関する。
第９観点として、自己支持性を有する、第７観点又は第８観点に記載の硬化膜に関する。
【発明の効果】
【０００９】
本発明のディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤は、フレキシブルディスプレイ用基板として十分な膜強度を有し且つ薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）形成プロセスに必要な耐熱性を備えた高透明、低複屈折フィルムを形成することが可能である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
［ディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤］
本発明は、多官能アクリレートモノマーとウレタンアクリレートとを含むディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤に関する。
本発明のディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤における固形分の割合は、例えば０．１質量％乃至９０質量％、好ましくは１質量％乃至７０質量％である。ここで、固形分とは、ディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤の全成分から溶剤を除去した残りの成分をいう。
【００１１】
＜（Ａ）成分：多官能アクリレートモノマー＞
本発明のディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤は、（Ａ）成分として多官能アクリレートモノマーを含む。
多官能アクリレートモノマーは、（メタ）アクリル基を一分子中に２個以上有するものであれば特に限定されるものではない。
なお、本発明では（メタ）アクリル基とは、アクリル基とメタクリル基の両方をいう。
【００１２】
多官能アクリレートモノマーの具体例としては、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジメタクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリメタクリレート、エトキシ化グリセリントリアクリレート、エトキシ化グリセリントリメタクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、エトキシ化ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ポリグリセリンモノエチレンオキサイドポリアクリレート、ポリグリセリンポリエチレングリコールポリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート等が挙げられる。
【００１３】
また、多官能アクリレートモノマーは、市販品として入手が可能であり、その具体例としては、ＮＫエステルＡ−２００、同Ａ−４００、同Ａ−６００、同Ａ−１０００、同Ａ−９３００（イソシアヌル酸トリス（２−アクリロイルオキシエチル））、同Ａ−９３００−１ＣＬ、同Ｕ−１５ＨＡ、同Ａ−ＴＭＰＴ、同ＵＡ−５３Ｈ、同１Ｇ、同２Ｇ、同３Ｇ、同４Ｇ、同９Ｇ、同１４Ｇ、同２３Ｇ、同ＡＢＥ−３００、同Ａ−ＢＰＥ−４、同Ａ−ＢＰＥ−６、同Ａ−ＢＰＥ−１０、同Ａ−ＢＰＥ−２０、同Ａ−ＢＰＥ−３０、同ＢＰＥ−８０Ｎ、同ＢＰＥ−１００Ｎ、同ＢＰＥ−２００、同ＢＰＥ−５００、同ＢＰＥ−９００、同ＢＰＥ−１３００Ｎ、同Ａ−ＧＬＹ−３Ｅ、同Ａ−ＧＬＹ−９Ｅ、同Ａ−ＧＬＹ−２０Ｅ、同Ａ−ＴＭＰＴ−３ＥＯ、同Ａ−ＴＭＰＴ−９ＥＯ、同ＡＴＭ−４Ｅ、同ＡＴＭ−３５Ｅ（以上、新中村化学工業（株）製）；ＫＡＹＡＲＡＤ［登録商標］ＤＰＥＡ−１２、同ＰＥＧ４００ＤＡ、同ＴＨＥ−３３０、同ＲＰ−１０４０（以上、日本化薬（株）製）；Ｍ−２１０、Ｍ−３５０（以上、東亞合成（株）製）；ＫＡＹＡＲＡＤ［登録商標］ＤＰＨＡ、同ＮＰＧＤＡ、同ＰＥＴ３０（以上、日本化薬（株）製）；ＮＫエステルＡ−ＤＰＨ、同Ａ−ＴＭＰＴ、同Ａ−ＤＣＰ、同Ａ−ＨＤ−Ｎ、同ＴＭＰＴ、同ＤＣＰ、同ＮＰＧ、同ＨＤ−Ｎ（以上、新中村化学工業（株）製）；ＮＫポリマー  バナレジンＧＨ−１２０３（新中村化学工業（株）製）等が挙げられる。
【００１４】
これらの中でも、硬化反応が速やかに進行するという観点から、下記式（１）で表されるイソシアヌル酸骨格を有する多官能アクリレートモノマーがより好ましい。
このような骨格を有する多官能アクリレートモノマーとしては、例えば、ＮＫエステルＡ−９３００、同Ａ−９３００−１ＣＬ（いずれも、新中村化学工業（株）製）が挙げられる。
【化２】
2013130679.tif 000003
（式中、Ｒ1〜Ｒ3は、互いに独立して、末端に少なくとも１つの（メタ）アクリル基を有する１価の有機基を表す。）
【００１５】
上記式（１）で表される多官能アクリレートモノマーとしては、例えば、以下の化合物が挙げられる。
【化３】
2013130679.tif 000004
【００１６】
本発明では、上述した多官能アクリレートモノマーは単独で使用しても、２種以上組み合わせて使用してもよい。
【００１７】
＜（Ｂ）成分：ウレタンアクリレート＞
本発明のディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤は、（Ｂ）成分としてウレタンアクリレートを含む。
ウレタンアクリレートは、ウレタン結合を有するアクリレートであり、具体的には、商品名：ビームセット［登録商標］１０２、５０２Ｈ、５０５Ａ−６、５１０、５５０Ｂ、５５１Ｂ、５７５、５７５ＣＢ、ＥＭ−９０、ＥＭ９２（以上、荒川化学工業（株）製）；商品名：フォトマー［登録商標］６００８、６２１０（以上、サンノプコ（株）製）；商品名：ＮＫオリゴＵ−２ＰＰＡ、Ｕ−４ＨＡ、Ｕ−６ＨＡ、Ｕ−１５ＨＡ、ＵＡ−３２Ｐ、Ｕ−３２４Ａ、Ｕ−４Ｈ、Ｕ−６Ｈ、ＵＡ−１６０ＴＭ、ＵＡ−１２２Ｐ、ＵＡ−２２３５ＰＥ、ＵＡ−３４０Ｐ、ＵＡ−５２０１、ＵＡ−５１２（以上、新中村化学工業（株）製）；商品名：アロニックス［登録商標］Ｍ−１１００、Ｍ−１２００、Ｍ−１２１０、Ｍ−１３１０、Ｍ−１６００、Ｍ−１９６０、Ｍ−５７００、アロンオキセタン［登録商標］ＯＸＴ−１０１（以上、東亞合成（株）製）；商品名：ＡＨ−６００、ＡＴ６０６、ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＦ−８００１（以上、共栄社化学（株）製）；商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ［登録商標］ＵＸ−２２０１、ＵＸ−２３０１、ＵＸ−３２０４、ＵＸ−３３０１、ＵＸ−４１０１、ＵＸ−６１０１、ＵＸ−７１０１（以上、日本化薬（株）製）；商品名：紫光［登録商標］ＵＶ−１７００Ｂ、ＵＶ−３０００Ｂ、ＵＶ−６１００Ｂ、ＵＶ−６３００Ｂ、ＵＶ−７０００Ｂ、ＵＶ−７６００Ｂ、ＵＶ−７６０５Ｂ、ＵＶ−２０１０Ｂ、ＵＶ−６６３０Ｂ、ＵＶ−７５１０Ｂ、ＵＶ−７４６１ＴＥ、ＵＶ−３３１０Ｂ、ＵＶ−６６４０Ｂ、ＵＶ−３３００Ｂ、ＵＶ−３７００Ｂ、ＵＶ−２７５０Ｂ、ＵＶ−３５００ＢＡ、ＵＶ−３５２０ＴＬ、ＵＶ−３２００Ｂ（以上、日本合成化学工業（株）製）；商品名：アートレジンＵＮ−１２５５、ＵＮ−５２００、ＵＮ−７７００、ＵＮ−３３３、ＵＮ−９０５、ＨＤＰ−４Ｔ、ＨＭＰ−２、ＵＮ−９０１Ｔ、ＵＮ−３３２０ＨＡ、
ＵＮ−３３２０ＨＢ、ＵＮ−３３２０ＨＣ、ＵＮ−３３２０ＨＳ、Ｈ−６１、ＨＤＰ−Ｍ２０、ＵＮ−５５００、ＵＮ−５５０７（以上、根上工業（株）製）；商品名：Ｅｂｅｃｒｙｌ［登録商標］６７００、２０４、２０５、２２０、２５４、１２５９、１２９０Ｋ、１７４８、２００２、２２２０、４８３３、４８４２、４８６６、５１２９、６６０２、８３０１（以上、ダイセルユーシービー（株）製）等を挙げることができる。
本発明では、上述したウレタンアクリレートは単独で使用しても、２種以上組み合わせて使用してもよい。
【００１８】
ウレタンアクリレートとしては、分子量が大きく、架橋密度が低いオリゴマーが好ましく、例えば（メタ）アクリル基を１〜４個有するものであり、より好ましくは（メタ）アクリル基を２〜３個有するものである。
具体的には、上記の商品名：ＮＫオリゴＵＡ−１６０ＴＭ、ＵＡ−１２２Ｐ、ＵＡ−５２０１（以上、新中村化学工業（株）製）；商品名：紫光［登録商標］ＵＶ−６６３０Ｂ、ＵＶ−３０００Ｂ、ＵＶ−７０００Ｂ、ＵＶ−７４６１ＴＥ、ＵＶ−３３１０Ｂ、ＵＶ−６６４０Ｂ、ＵＶ−３３００Ｂ、ＵＶ−３７００Ｂ、ＵＶ−２７５０Ｂ、ＵＶ−３５００ＢＡ、ＵＶ−３５２０ＴＬ、ＵＶ−３２００Ｂ（以上、日本合成化学工業（株）製）；商品名：アートレジンＵＮ−７７００、ＵＮ−９０５、ＵＮ−９０１Ｔ（以上、根上工業（株）製）等が、本発明の（Ｂ）成分であるウレタンアクリレートとして好ましい。
【００１９】
上記ウレタンアクリレートの重量平均分子量は、特に限定されないが、好ましくは２，０００〜４０，０００であり、より好ましくは２，５００〜２０，０００である。
なお、本明細書において重量平均分子量とは、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定したポリスチレン換算の重量平均分子量をいう。
【００２０】
本発明のディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤における少なくとも１種のウレタンアクリレートの含有量は、多官能アクリレートモノマー９５〜５質量部に対し、５〜９５質量部であり、好ましくは多官能アクリレートモノマー８０〜２０質量部に対し、２０〜８０質量部である。
【００２１】
＜（Ｃ）成分：ラジカル重合開始剤＞
本発明のディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤は、（Ｃ）成分としてラジカル重合開始剤を含むことができる。
本発明のディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤は、光硬化又は熱硬化して硬化膜を与えるものである。この際、ディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤に含まれる（Ａ）成分と（Ｂ）成分との重合は、光ラジカル重合開始剤あるいは熱ラジカル重合開始剤の存在下、光照射又は加熱により行うことができる。
【００２２】
光ラジカル重合開始剤としては、公知のものから適宜選択して用いればよく、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーのベンゾイルベンゾエート、アミロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイドおよびチオキサントン類等が挙げられる。
特に、光開裂型の光ラジカル重合開始剤が好ましい。光開裂型の光ラジカル重合開始剤については、最新ＵＶ硬化技術（１５９頁、発行人：高薄一弘、発行所：（株）技術情報協会、１９９１年発行）に記載されている。
【００２３】
市販の光ラジカル重合開始剤としては、例えば、商品名：イルガキュア［登録商標］１８４、３６９、６５１、５００、８１９、９０７、７８４、２９５９、ＣＧＩ１７００、ＣＧＩ１７５０、ＣＧＩ１８５０、ＣＧ２４−６１、商品名：ダロキュア［登録商標］１１１６、１１７３、商品名：ルシリン［登録商標］ＴＰＯ（以上、ＢＡＳＦ社製）；商品名：ユベクリルＰ３６（以上、ＵＣＢ社製）；商品名：エザキュアー［登録商標］ＫＩＰ
１５０、ＫＩＰ６５ＬＴ、ＫＩＰ１００Ｆ、ＫＴ３７、ＫＴ５５、ＫＴＯ４６、ＫＩＰ７５／Ｂ（以上、フラテツリ・ランベルティ社製）等が挙げられる。
【００２４】
光ラジカル重合開始剤を用いる場合、本発明のディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤における光ラジカル重合開始剤の含有量は、多官能アクリレートモノマーおよびウレタンアクリレートの固形分１００質量部に対して、好ましくは０．１〜１５質量部であり、より好ましくは１〜１０質量部である。
【００２５】
熱ラジカル重合開始剤としては、特に限定されず、アゾ化合物及び過酸化物等が挙げられる。
アゾ化合物としては、例えば、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、１，１’−アゾビス−１−シクロヘキサンカルボニトリル、ジメチル−２，２’−アゾビスイソブチレート、ジメチル−２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオネート）、ジメチル−１，１’−アゾビス（１−シクロヘキサンカルボキシレート）、４，４’−アゾビス（４−シアノ吉草酸）、２，２’−アゾビス（２−アミジノプロパン）二塩酸塩、２−ｔｅｒｔ−ブチルアゾ−２−シアノプロパン、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオンアミド）二水和物、及び２，２’−アゾビス（２，４，４−トリメチルペンタン）等が挙げられる。
【００２６】
過酸化物としては、ジアシルパーオキサイド化合物、パーオキシエステル化合物、ハイドロパーオキサイド化合物、パーオキシジカーボネート化合物、パーオキシケタール化合物、ジアルキルパーオキサイド化合物、及びケトンパーオキサイド化合物等が挙げられる。
【００２７】
上記ジアシルパーオキサイド化合物としては、過酸化ベンゾイル、ジイソブチリルパーオキサイド、ジ（３，５，５−トリメチルヘキサノイル）パーオキサイド、ジラウロイルパーオキサイド、及びビス（３−カルボキシプロピオニル）ペルオキシド等が挙げられる。
上記パーオキシエステル化合物としては、クミルパーオキシネオデカノエート、１，１，３，３−テトラメチルブチルパーオキシネオデカノエート、ｔｅｒｔ−ヘキシルパーオキシネオデカノエート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシネオヘプタノエート、ｔｅｒｔ−ヘキシルパーオキシピバレート、１，１，３，３−テトラメチルブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、２，５−ジメチル−２，５―ジ（２−エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン、ｔｅｒｔ−ヘキシルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシイソブチレート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシラウレート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシイソフタレート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシオクトエート及びｔｅｒｔ−ブチルパーオキシベンゾエート等が挙げられる。
上記ハイドロパーオキサイド化合物としては、キュメンハイドロパーオキサイド、ｐ−メンタンハイドロパーオキサイド等が挙げられる。
上記パーオキシジカーボネート化合物としては、ジ−ｓｅｃ−ブチルパーオキシジカーボネート、ジ（４−ｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート、ジ−ｎ−プロピルパーオキシジカーボネート、ジイソプロピルパーオキシカーボネート、及びジ（２−エチルヘキシル）パーオキシカーボネート等が挙げられる。
【００２８】
また、上記過酸化物の他の例としては、メチルエチルケトンパーオキサイド、カリウムパーサルフェイト、及び１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン等が挙げられる。
【００２９】
熱ラジカル重合開始剤の１０時間半減期を得るための分解温度は、好ましくは３０℃以上、より好ましくは４０℃以上、好ましく２００℃以下、より好ましくは１５０℃以下である。
【００３０】
熱ラジカル重合開始剤を用いる場合、本発明のディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤における熱ラジカル重合開始剤の含有量は、多官能アクリレートモノマーおよびウレタンアクリレートの固形分１００質量部に対して、好ましくは０．１〜１５質量部であり、より好ましくは１〜１０質量部である。
【００３１】
［ワニス及び硬化膜］
本発明のディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤からなる硬化膜を形成する具体的な方法としては、まず、コーティング剤を溶剤に溶解又は分散してワニスの形態（膜形成材料）とし、該ワニスを基板上にスリットコート法、スピンコート法又はドクターブレード法で塗布して塗膜を得る。そして得られた塗膜を、例えば５０℃乃至３００℃でベークする又はプレベークして溶媒を揮発した後、ＵＶ照射することにより、硬化膜が形成される。
本発明のディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤を塗布するプラスチック基板としては、例えば、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリアクリル酸樹脂、ポリメタクリル酸樹脂、ポリベンゾオキサゾール樹脂、ポリヒドロキシスチレン樹脂、ベンゾシクロブテン樹脂等を挙げることができる。
本発明のディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤から自己支持性フィルムを作製する際に用いられる支持基板としては、例えば、シリコン基板、ガラス基板、上記プラスチック基板、セラミック基板等を挙げることができる。
また、本発明のディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤は、溶剤に溶解し、その溶液の粘度を０．００１乃至５０００Ｐａ・ｓの範囲にすることで、スリットコート法、スピンコート法などによる塗布に適したワニスにすることができる。
【００３２】
上記ワニスの形態において使用する溶剤としては、その他ディスプレイ製造工程で使用できる溶剤であれば特に限定はないが、シクロヘキサノン、メチルイソアミルケトン、２−ヘプタノン等のケトン類；エチレングリコール、エチレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノアセテート、プロピレングリコール、ブタンジオール、ヘキシレングリコール、プロピレングリコールモノアセテート、ジプロピレングリコール又はジプロピレングリコールモノアセテートのモノメチルエーテル、モノエチルエーテル、モノプロピルエーテル、モノブチルエーテル又はモノフェニルエーテル等の多価アルコール類及びその誘導体；ジオキサン等の環式エーテル類；乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、メトキシプロピオン酸メチル、エトキシプロピオン酸エチル等のエステル類を用いることが好ましい。これらは単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【００３３】
また上記溶剤にディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤を溶解又は分散させる濃度は任意であるが、ディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤と溶剤との総質量（合計質量）に対して、ディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤の濃度は５乃至９０質量％であり、ディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤の保存安定性をより向上させる観点から好ましくは１０乃至８０質量％であり、ディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤をより均一に塗布させる観点からより好ましくは１０乃至７０質量％である。
【００３４】
本発明のディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤から形成される硬化膜の厚さは特に限定されないが、通常１．０乃至２００μｍである。前記硬化膜の厚さが薄すぎると基板膜強度が低くなる可能性があり、一方、厚すぎるとクラックが生じる可能性がある。よっ
て好ましくは１０μｍ乃至１００μｍである。
【００３５】
本発明のディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤には、本発明における本質的な特性及び効果を損なわない範囲で、さらに、混和性のある添加剤、例えばコーティング剤の性能を改良するための付加的樹脂、粘着付与剤、可塑剤、接着助剤、安定剤、着色剤、界面活性剤などの慣用されているものを添加することができる。
【００３６】
本発明のディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤の性能を改良するための付加的樹脂（ポリマー）としては、ポリエステル、ポリスチレン、ポリイミド、アクリルポリマー、メタクリルポリマー、ポリビニルエーテル、フェノールノボラック、ナフトールノボラック、ポリエーテル、ポリアミド、及びポリカーボネート等の付加重合ポリマー又は縮重合ポリマーを使用することができる。その中でも、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、トリアジン環、キノリン環、及びキノキサリン環等の芳香環構造を有するポリマーが好ましく使用される。
【００３７】
上記のような付加的樹脂（ポリマー）としては、例えば、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、フェニルアクリレート、ナフチルアクリレート、アントリルメタクリレート、アントリルメチルメタクリレート、スチレン、ヒドロキシスチレン、ベンジルビニルエーテル、Ｎ−フェニルマレイミド等の付加重合性モノマーをその構造単位として含む付加重合ポリマー、フェノールノボラック、ナフトールノボラック等の縮重合ポリマーが挙げられる。
また、付加的樹脂（ポリマー）としては、芳香環構造を有さないポリマーを使用することができる。そのようなポリマーとしては、例えば、アルキルアクリレート、アルキルメタクリレート、ビニルエーテル、アルキルビニルエーテル、アクリロニトリル、マレイミド、Ｎ−アルキルマレイミド、マレイン酸無水物等の芳香環構造を有さない付加重合性モノマーのみをその構造単位として含む付加重合ポリマーが挙げられる。付加的樹脂（ポリマー）として付加重合ポリマーが使用される場合、そのポリマーは単独重合体でもよく共重合体であってもよい。
【００３８】
上記付加重合ポリマーの製造には、付加重合性モノマーが使用される。そのような付加重合性モノマーとしては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル化合物、メタクリル酸エステル化合物、アクリルアミド化合物、メタクリルアミド化合物、ビニル化合物、スチレン化合物、マレイミド化合物、マレイン酸無水物、アクリロニトリル等が挙げられる。
【００３９】
上記アクリル酸エステル化合物としては、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ノルマルヘキシルアクリレート、イソプロピルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ベンジルアクリレート、フェニルアクリレート、アントリルメチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２，２，２−トリフルオロエチルアクリレート、２，２，２−トリクロロエチルアクリレート、２−ブロモエチルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、２−メチル−２−アダマンチルアクリレート、５−アクリロイルオキシ−６−ヒドロキシノルボルネン−２−カルボキシリック−６−ラクトン、３−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、グリシジルアクリレートが挙げられる。
【００４０】
上記メタクリル酸エステル化合物としては、例えば、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ノルマルヘキシルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、フェニルメタクリレート、アントリルメチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピ
ルメタクリレート、２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレート、２，２，２−トリクロロエチルメタクリレート、２−ブロモエチルメタクリレート、４−ヒドロキシブチルメタクリレート、２−メトキシエチルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、２−メチル−２−アダマンチルメタクリレート、５−メタクリロイルオキシ−６−ヒドロキシノルボルネン−２−カルボキシリック−６−ラクトン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、グリシジルメタクリレート、２−フェニルエチルメタクリレート、ヒドロキシフェニルメタクリレート、ブロモフェニルメタクリレートが挙げられる。
【００４１】
上記アクリルアミド化合物としては、例えば、アクリルアミド、Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−ベンジルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−アントリルアクリルアミドが挙げられる。
上記メタクリルアミド化合物としては、例えば、メタクリルアミド、Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−エチルメタクリルアミド、Ｎ−ベンジルメタクリルアミド、Ｎ−フェニルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルメタクリルアミド、Ｎ−アントリルアクリルアミドが挙げられる。
【００４２】
上記ビニル化合物としては、ビニルアルコール、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、ビニル酢酸、ビニルトリメトキシシラン、２−クロロエチルビニルエーテル、２−メトキシエチルビニルエーテル、ビニルナフタレン、ビニルアントラセンが挙げられる。
上記スチレン化合物としては、例えば、スチレン、ヒドロキシスチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン、メトキシスチレン、シアノスチレン、アセチルスチレンが挙げられる。
上記マレイミド化合物としては、例えば、マレイミド、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミド、Ｎ−ヒドロキシエチルマレイミドが挙げられる。
【００４３】
本発明のディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤に使用される付加的樹脂（ポリマー）の分子量は、重量平均分子量として、例えば、１，０００乃至１，０００，０００、又は３，０００乃至３００，０００、又は５，０００乃至２００，０００、又は１０，０００乃至１００，０００である。
また、本発明のディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤に付加的樹脂（ポリマー）が含まれる場合、その含有量としては、ディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤の固形分の含有量に基づいて、例えば０乃至４０質量％、又は０乃至２０質量％、又は１質量％乃至１９質量％である。
【実施例】
【００４４】
以下、本発明を合成例及び実施例により更に具体的に説明するが、これによって本発明が限定されるものではない。
【００４５】
（ディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤の調製）
＜実施例１＞
上記式（１）で表されるエトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート（商品名Ａ−９３００：新中村化学工業（株）製）８．０ｇとウレタンアクリレートオリゴマー（商品名ＵＶ−７０００Ｂ：日本合成化学工業（株）製）２．０ｇをプロピレングリコール１−モノメチルエーテル２−アセタート（ＰＧＭＥＡ）１０．０ｇに溶解し、固形分として５０質量％含有する溶液を調製した後、０．１ｇのイルガキュア［登録商標］１８４（ＢＡＳＦ社製）を添加して、ディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤を調製した。
【００４６】
＜実施例２＞
上記式（１）で表されるエトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート（商品名Ａ−９３００：新中村化学工業（株）製）６．０ｇとウレタンアクリレートオリゴマー（商品名ＵＶ−７０００Ｂ：日本合成化学工業（株）製）４．０ｇをプロピレングリコール１−モノメチルエーテル２−アセタート（ＰＧＭＥＡ）１０．０ｇに溶解し、固形分として５０質量％含有する溶液を調製した後、０．１ｇのイルガキュア［登録商標］１８４（ＢＡＳＦ社製）を添加して、ディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤を調製した。
【００４７】
＜実施例３＞
上記式（１）で表されるエトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート（商品名Ａ−９３００：新中村化学工業（株）製）８．０ｇとウレタンアクリレートオリゴマー（商品名ＵＶ−３３１０Ｂ：日本合成化学工業（株）製）２．０ｇをプロピレングリコール１−モノメチルエーテル２−アセタート（ＰＧＭＥＡ）１０．０ｇに溶解し、固形分として５０質量％含有する溶液を調製した後、０．１ｇのイルガキュア［登録商標］１８４（ＢＡＳＦ社製）を添加して、ディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤を調製した。
【００４８】
＜実施例４＞
上記式（１）で表されるエトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート（商品名Ａ−９３００：新中村化学工業（株）製）５．０ｇとウレタンアクリレートオリゴマー（商品名ＵＶ−３３１０Ｂ：日本合成化学工業（株）製）５．０ｇをプロピレングリコール１−モノメチルエーテル２−アセタート（ＰＧＭＥＡ）１０．０ｇに溶解し、固形分として５０質量％含有する溶液を調製した後、０．１ｇのイルガキュア［登録商標］１８４（ＢＡＳＦ社製）を添加して、ディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤を調製した。
【００４９】
＜実施例５＞
上記式（１）で表されるエトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート（商品名Ａ−９３００：新中村化学工業（株）製）２．０ｇとウレタンアクリレートオリゴマー（商品名ＵＶ−３３１０Ｂ：日本合成化学工業（株）製）８．０ｇをプロピレングリコール１−モノメチルエーテル２−アセタート（ＰＧＭＥＡ）１０．０ｇに溶解し、固形分として５０質量％含有する溶液を調製した後、０．１ｇのイルガキュア［登録商標］１８４（ＢＡＳＦ社製）を添加して、ディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤を調製した。
【００５０】
＜比較例１＞
上記式（１）で表されるエトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート（商品名Ａ−９３００：新中村化学工業（株）製）１０．０ｇをプロピレングリコール１−モノメチルエーテル２−アセタート（ＰＧＭＥＡ）１０．０ｇに溶解し、固形分として５０質量％含有する溶液を調製した後、０．３ｇのイルガキュア［登録商標］１８４（ＢＡＳＦ社製）を添加して、ディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤を調製した。
【００５１】
＜比較例２＞
ウレタンアクリレートオリゴマー（商品名ＵＶ−７０００Ｂ：日本合成化学工業（株）製）１０．０ｇをプロピレングリコール１−モノメチルエーテル２−アセタート（ＰＧＭＥＡ）１０．０ｇに溶解し、固形分として５０質量％含有する溶液を調製した後、０．１ｇのイルガキュア［登録商標］１８４（ＢＡＳＦ社製）を添加して、ディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤を調製した。
【００５２】
＜比較例３＞
ウレタンアクリレートオリゴマー（商品名ＵＶ−３３１０Ｂ：日本合成化学工業（株）製）１０．０ｇをプロピレングリコール１−モノメチルエーテル２−アセタート（ＰＧＭ
ＥＡ）１０．０ｇに溶解し、固形分として５０質量％含有する溶液を調製した後、０．１ｇのイルガキュア［登録商標］１８４（ＢＡＳＦ社製）を添加して、ディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤を調製した。
【００５３】
＜比較例４＞
市販品のＰＥＴフィルム（東洋紡績（株）製）を準備した。
【００５４】
（耐熱性評価）
実施例１乃至５及び比較例１乃至３より得られたディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤をドクターブレードでガラス基板上に塗布し、８０℃で２０分間、続いて１２０℃で１０分間ベークを行った後、ＵＶ照射機を用いて、窒素雰囲気下、波長３６５ｎｍ、照度２０ｍＷ／ｃｍ2、１分間照射して形成した膜（実施例１及び２、比較例２）、８０℃で
２０分間ベークを行った後、ＵＶ照射機を用いて、窒素雰囲気下、波長３６５ｎｍ、照度２０ｍＷ／ｃｍ2、１分間照射して得られた膜（実施例３乃至５、比較例１、比較例３）
、及び比較例４で準備したＰＥＴフィルムの耐熱性について、ＴＧ−ＤＴＡ（ブルカーエイエックスエス社製、ＴＧ／ＤＴＡ２０１０ＳＲ）にて、１０℃／分で昇温し５質量％の質量減少を生ずる温度から耐熱性を評価した。結果を表１に示す。
【００５５】
【表１】
2013130679.tif 000005
【００５６】
表１より、実施例１乃至５より得られたディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤を用いて作製した膜は、比較例２乃至４より高い耐熱性を示した。比較例４のＰＥＴフィルムは溶融するため本用途には不適である。
【００５７】
（複屈折評価）
実施例１乃至５及び比較例１乃至３より得られたディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤をドクターブレードでガラス基板上に塗布し、８０℃で２０分間、続いて１２０℃で１０分間ベークを行った後、ＵＶ照射機を用いて、窒素雰囲気下、波長３６５ｎｍ、照度２０ｍＷ／ｃｍ2、１分間照射して形成した膜（実施例１及び２、比較例２）、８０℃で
２０分間ベークを行った後、ＵＶ照射機を用いて、窒素雰囲気下、波長３６５ｎｍ、照度２０ｍＷ／ｃｍ2、１分間照射して得られた膜（実施例３乃至５、比較例１、比較例３）
、及び比較例４で準備したＰＥＴフィルムの複屈折について、プリズムカプラ（ＭＥＴＲＩＣＯＮ社製、ＭＯＤＥＬ２０１０）を用いて評価した。結果を表２に示す。
【００５８】
【表２】
2013130679.tif 000006
【００５９】
表２より、実施例１乃至５より得られたディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤を用いて作製した膜は、ディスプレイ基板用フィルムとして十分に低い複屈折を示した。
【００６０】
（透明性評価）
実施例１乃至５及び比較例１乃至３より得られたディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤をドクターブレードでガラス基板上に塗布し、８０℃で２０分間、続いて１２０℃で１０分間ベークを行った後、ＵＶ照射機を用いて、窒素雰囲気下、波長３６５ｎｍ、照度２０ｍＷ／ｃｍ2、１分間照射して形成した膜（実施例１及び２、比較例２）、８０℃で
２０分間ベークを行った後、ＵＶ照射機を用いて、窒素雰囲気下、波長３６５ｎｍ、照度２０ｍＷ／ｃｍ2、１分間照射して得られた膜（実施例３乃至５、比較例１、比較例３）
に対し、真空下、２２０度、３時間の条件にさらした前後の透明性について、紫外可視近赤外分光光度計（島津製作所(株)製、ＵＶ−３６００）を用いて、４００ｎｍにおける透過率を評価した。その結果を表３に示す。
【００６１】
【表３】
2013130679.tif 000007
【００６２】
表３より、実施例１及び２より得られたディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤を用いて作製した膜は、加熱後における比較例２よりも高い透明性を示した。また、実施例３乃至５より得られたディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤を用いて作製した膜は、加熱後における比較例３よりも高い透明性を示した。
【００６３】
（自己支持性評価）
実施例１乃至５及び比較例１乃至３より得られたディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤をドクターブレードでガラス基板上に塗布し、８０℃で２０分間、続いて１２０℃で１０分間ベークを行った後、ＵＶ照射機を用いて、窒素雰囲気下、波長３６５ｎｍ、照度２０ｍＷ／ｃｍ2、１分間照射して形成した膜（実施例１及び２、比較例２）、８０℃で
２０分間ベークを行った後、ＵＶ照射機を用いて、窒素雰囲気下、波長３６５ｎｍ、照度２０ｍＷ／ｃｍ2、１分間照射して得られた膜（実施例３乃至５、比較例１、比較例３）
について、ガラス基板から当該膜を剥離する際、および剥離したフィルムを手で曲げたり引っ張ったりしたときのフィルムの壊れやすさ（クラック、ひび、破れなど）を目視で確認することにより、自己支持性を評価した。その結果を表４に示す。
【００６４】
【表４】
2013130679.tif 000008
【００６５】
表４より、比較例１は、架橋密度が高くなり、フィルムが脆く、ガラス基板から剥離する際にフィルムにクラック、破れが生じ、また剥離したフィルムも割れやすいため、フレキシブルディスプレイ用基板として膜強度が不十分であった。これに対し、実施例１乃至５のディスプレイ基板用耐熱性コーティング剤は、ガラス基板から剥離する際にフィルムにクラック、破れが生じにくく、また剥離したフィルムも割れにくく、膜強度が十分高く、厚さ４３μｍ乃至６３μｍの均一な自己支持性を有する膜を形成することができた。