(57)【要約】【課題】衝突対象物がガード部材をすり抜けた場合であっても、口金部のスリットノズルが損傷するのを防止することができる塗布装置を提供する。【解決手段】基板を載置するステージと、ステージに載置された基板に対し相対的に移動しつつ、スリットノズルから塗布液を吐出して基板に塗布膜を形成する塗布ユニットと、スリットノズルよりも塗布方向進行側に設けられ、スリットノズルを衝突対象物から保護するガードユニットと、を備えており、ガードユニットは、スリットノズルの少なくとも長手方向寸法以上の寸法を有しスリットノズルに沿う形状のガード部材を複数有しており、これらのガード部材のうち、最も塗布方向進行側に配置される先頭ガード部材と、この先頭ガード部材よりも塗布方向後方側に配置される後方ガード部材との間には衝突対象物を捕獲する捕獲収容部が設けられている構成とする。【選択図】図３
2013248557.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を載置するステージと、
前記ステージに載置された基板に対し相対的に移動しつつ、ノズルから塗布液を吐出して基板に塗布膜を形成する塗布ユニットと、
前記ノズルよりも塗布方向進行側に設けられ、ノズルを衝突対象物から保護するガードユニットと、
を備えており、
前記ガードユニットは、ノズルの少なくとも長手方向寸法以上の寸法を有しノズルに沿う形状のガード部材を複数有しており、これらのガード部材のうち、最も塗布方向進行側に配置される先頭ガード部材と、この先頭ガード部材よりも塗布方向後方側に配置される後方ガード部材との間には衝突対象物を捕獲する捕獲収容部が設けられていることを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
前記後方ガード部材が複数設けられており、その後方ガード部材それぞれの間に前記捕獲収容部が設けられていることを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
前記後方ガード部材の塗布方向進行側面がステージの基板載置面に対してなす角度αは、１８０°＞α≧９０°に設定されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の塗布装置。
【請求項４】
前記後方ガード部材は、ステージの基板載置面から離れた根元部よりも、基板載置面に近接する先端部が基板載置面に対向する表面積が小さくなるように形成されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板上に塗布液を塗布する塗布装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイには、ガラス等からなる基板上にレジスト液が塗布されたもの（塗布基板という）が使用されている。この塗布基板は、レジスト液を均一に塗布する塗布装置によって形成されている。すなわち、塗布装置は、基板を載置するステージと、レジスト液を吐出する塗布ユニットとを有しており、塗布ユニットの口金部からレジスト液を吐出させながら、基板と塗布ユニットとを相対的に移動させることにより、所定厚さのレジスト液膜が基板上に形成されるようになっている。
【０００３】
この塗布装置の口金部は、非常に高価であるため、口金部のノズル（例えば、スリットノズル）を保護するためにガード部材が取付けられている。具体的には、特許文献１に記載されているように、口金部のスリットノズルよりも塗布方向進行側には、板状のガード部材（特許文献１ではバンパー部材）がスリットノズルの長手方向に沿って固定されている。そして、基板に塗布液を吐出する塗布動作の際には、まず、洗浄後に乾燥させた基板がステージ上に供給された後、塗布ユニットを基板上で停止させて口金部のスリットノズルから塗布液を吐出させてビードを形成する。すなわち、スリットノズルと基板とを数十μｍ程度に近接させた状態でスリットノズルから塗布液を吐出させることにより、スリットノズルと基板とが塗布液で連結された状態（ビード）を形成する。そして、スリットノズルの長手方向に亘ってビードが形成された後、塗布ユニットを走行させつつ塗布液を吐出させることにより、基板上に均一厚さの塗布膜が形成される。その際、基板上に異物が存在している場合にはその異物自体、またステージと基板との間に異物が存在する場合には基板の表面というような衝突対象物が存在している場合には、その衝突対象物がガード部材に衝突することにより、直接スリットノズルに衝突するのを防止できるようになっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−１６７６１０
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、上記塗布装置では、衝突対象物をガード部材に衝突させても、口金部のノズルが損傷してしまうという問題があった。すなわち、衝突対象物である異物又は、基板表面がガード部材に接触すると、異物が砕けたり、基板が割れることにより、衝突対象物の破片が散乱する。そして、散乱した衝突対象物の破片がガード部材をすり抜ける場合がある。このガード部材をすり抜けた衝突対象物の破片がノズルと基板との隙間以上の寸法を有している場合には、そのまま塗布ユニット（口金部）を移動させることにより、衝突対象物の破片とノズルが接触し、ノズルが損傷してしまうという問題があった。
【０００６】
本発明は、上記の問題点を鑑みてなされたものであり、衝突対象物がガード部材をすり抜けた場合であっても、口金部のノズルが損傷するのを防止することができる塗布装置を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために本発明の塗布装置は、基板を載置するステージと、前記ステージに載置された基板に対し相対的に移動しつつ、ノズルから塗布液を吐出して基板に塗布膜を形成する塗布ユニットと、前記ノズルよりも塗布方向進行側に設けられ、ノズルを衝突対象物から保護するガードユニットと、を備えており、前記ガードユニットは、ノズルの少なくとも長手方向寸法以上の寸法を有しノズルに沿う形状のガード部材を複数有しており、これらのガード部材のうち、最も塗布方向進行側に配置される先頭ガード部材と、この先頭ガード部材よりも塗布方向後方側に配置される後方ガード部材との間には衝突対象物を捕獲する捕獲収容部が設けられていることを特徴としている。
【０００８】
上記塗布装置によれば、ガードユニットの先頭ガード部材よりも塗布方向後方側に後方ガード部材と捕獲収容部とを備えているため、衝突対象物が先頭ガード部材をすり抜けた場合であってもノズルが損傷するのを防止することができる。すなわち、衝突対象物が先頭ガード部材に衝突することにより、衝突対象物の破片が先頭ガード部材よりも塗布方向後方側に生じた場合であっても、そのまま塗布ユニット（口金部）を移動させることにより、衝突対象物の破片にノズルと基板との隙間以上の寸法を有する場合には、先頭ガード部材よりも塗布方向後方側に位置する後方ガード部材と接触する。そして、さらに塗布ユニットを移動させることにより、衝突対象物の破片は、後方ガード部材に接触して塗布ユニットの移動と共に先頭ガード部材と後方ガード部材との間、すなわち捕獲収容部に捕らえられたまま塗布方向進行側に移動する。したがって、先頭ガード部材をすり抜けた衝突対象物の破片は、捕獲収容部に捕らえられるため、衝突対象物の破片がノズルに接触するのを回避でき、ノズルが損傷するのを防止することができる。
【０００９】
また、前記後方ガード部材が複数設けられており、その後方ガード部材それぞれの間に前記捕獲収容部が設けられている構成としてもよい。
【００１０】
この構成によれば、後方ガード部材が複数設けられているため、後方ガード部材が１つの場合に比べて、より効率的に衝突対象物の破片を後方ガード部材で捕らえることができ、衝突対象物がノズルに接触するのを防止することができる。
【００１１】
また、前記後方ガード部材の塗布方向進行側面がステージの基板載置面に対してなす角度αは、１８０°＞α≧９０°に設定されている構成にしてもよい。
【００１２】
この構成によれば、衝突対象物の破片が後方ガード部材と基板との間に入り込むことが抑えられる。したがって、塗布ユニットが移動している間、衝突対象物の破片を捕獲収容部に収容した状態を維持することができる。
【００１３】
また、前記後方ガード部材は、ステージの基板載置面から離れた根元部よりも、基板載置面に近接する先端部が基板載置面に対向する表面積が小さくなるように形成されている構成にしてもよい。
【００１４】
この構成によれば、基板に対向する後方ガード部材の表面積が小さくなるため、後方ガード部材が基板に近接することによる基板及び基板上の塗布膜に与える温度変化の影響を小さくすることができる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の塗布装置によれば、衝突対象物がガード部材をすり抜けた場合であっても、口金部のノズルが損傷するのを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の実施形態に係る塗布装置を示す斜視図である。
【図２】塗布ユニットの脚部付近を示す概略図である。
【図３】口金部に取付けられたガード部を示す図である。
【図４】後方ガード部材を拡大した図である。
【図５】ガードユニットと衝突対象物Ｍとが接触する現象を示す図であり、（ａ）は、接触前の図であり、（ｂ）は、接触する瞬間の図であり、（ｃ）は、接触した後の図である。
【図６】異物非接触ユニットを示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
本発明に係る実施の形態を図面を用いて説明する。
【００１８】
図１は、本発明の一実施形態における塗布装置を概略的に示す斜視図であり、図２は、
塗布ユニットの脚部付近を示す図であり、図３は、口金部に取付けられたガードユニットを示す図である。
【００１９】
図１〜図３に示すように、塗布装置は、基板１０上に薬液やレジスト液等の液状物（以下、塗布液と称す）の塗布膜を形成するものであり、基台２と、基板１０を載置するためのステージ２１と、このステージ２１に対し特定方向に移動可能に構成される塗布ユニット３０とを備えている。
【００２０】
なお、以下の説明では、塗布ユニット３０が移動する方向をＸ軸方向、これと水平面上で直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸およびＹ軸方向の双方に直交する方向をＺ軸方向として説明を進めることとする。
【００２１】
前記基台２には、その中央部分にステージ２１が配置されている。このステージ２１は、搬入された基板１０を載置するものである。このステージ２１には、基板１０を載置する基板載置面２１ａと、図示しない基板保持手段が設けられており、この基板保持手段により基板１０が保持されるようになっている。具体的には、ステージ２１の基板載置面２１ａに形成された複数の吸引孔が形成されており、この吸引孔に吸引力を発生させることにより基板１０を基板載置面２１ａに吸着させて保持できるようになっている。
【００２２】
また、ステージ２１には、基板１０を昇降動作させる基板昇降機構が設けられている。具体的には、ステージ２１の表面には複数のピン孔が形成されており、このピン孔にはＺ軸方向に昇降動作可能なリフトピン（不図示）が埋設されている。すなわち、ステージ２１の表面からリフトピンを突出させた状態で基板１０が搬入されるとリフトピンの先端部分が基板１０に当接して基板１０を保持することができる。そして、その状態からリフトピンを下降させてピン孔に収容させることにより、基板１０を基板載置面２１ａに載置することができるようになっている。
【００２３】
また、塗布ユニット３０は、基板１０上に塗布液を吐出して塗布膜を形成するものである。この塗布ユニット３０は、図１，図２に示すように、基台２と連結される脚部３１とＹ軸方向に延びる口金部３４とを有しており、基台２上をＹ軸方向に跨いだ状態でＸ軸方向に移動可能に取り付けられている。具体的には、基台２のＹ軸方向両端部分にはそれぞれＸ軸方向に延びるレール２２が設置されており、脚部３１がこのレール２２にスライド自在に取り付けられている。そして、脚部３１にはリニアモータが取り付けられており、このリニアモータを駆動制御することにより、塗布ユニット３０がＸ軸方向に移動し、任意の位置で停止できるようになっている。
【００２４】
また、塗布ユニット３０の脚部３１には、図２に示すように、塗布液を塗布する口金部３４が取り付けられている。具体的には、この脚部３１にはＺ軸方向に延びるレール３７と、このレール３７に沿ってスライドするスライダ３５が設けられており、これらのスライダ３５と口金部３４とが連結されている。そして、スライダ３５にはサーボモータにより駆動されるボールねじ機構が取り付けられており、このサーボモータを駆動制御することにより、スライダ３５がＺ軸方向に移動するとともに、任意の位置で停止できるようになっている。すなわち、口金部３４が、ステージ２１に保持された基板１０に対して接離可能に支持されている。
【００２５】
また、脚部３１は、口金部３４の上下方向の変位を検出する高さ検出部３８を備えている。この高さ検出部３８は、光学式又は磁気式等のリニアスケールからなっており、口金部３４に並設されたスケール３８ａと、このスケール３８ａに対向する位置に設けられ、口金部３４とともに上下方向に昇降する読取部３８ｂとを備えている。そして、高さ検出部３８は、読取部３８ｂによってスケール３８ｂを読み取ることで口金部３４の高さを検出するように構成されている。読取部３８ｂによって検出された信号は、塗布装置の駆動系を統括的に制御する制御装置に入力され、この入力された信号に応じてサーボモータが制御される。
【００２６】
また、口金部３４は、塗布液を吐出して基板１０上に塗布膜を形成するものである。この口金部３４は、一方向に延びる形状を有する柱状部材であり、塗布ユニット３０の走行方向とほぼ直交するように設けられている。この口金部３４には、長手方向に延びるスリットノズル３４ａが形成されており、口金部３４に供給された塗布液がスリットノズル３４ａから長手方向に亘って一様に吐出されるようになっている。したがって、このスリットノズル３４ａから塗布液を吐出させた状態で塗布ユニット３０をＸ軸方向に走行させることにより、スリットノズル３４ａの長手方向に亘って基板１０上に一定厚さの塗布膜が形成されるようになっている。なお、塗布液を塗布するために、スリットノズル３４ａから塗布液を吐出させた状態で塗布ユニット３０を移動させる方向を本実施形態では塗布方向と呼び、塗布方向側を塗布方向進行側、その反対側を塗布方向後方側と呼ぶことにする。
【００２７】
また、口金部３４には、ガードユニット４０が取付けられている。具体的には、図３に示すように、ガードユニット４０は、スリットノズル３４ａよりも塗布方向進行側に取付けられており、このガードユニット４０により、スリットノズル３４ａが保護されるようになっている。すなわち、口金部３４よりも塗布方向進行側に基板１０上に異物が存在している場合や、ステージ２１と基板１０との間に異物が存在しており、基板１０の表面が凸状に盛り上がっている場合に、そのまま塗布ユニット３０を塗布進行側に移動させると、これら異物や盛り上がった基板１０の表面にスリットノズル３４ａが衝突するが、これを前もってガードユニット４０に衝突させることにより、スリットノズル３４ａを保護することができる。なお、本実施形態では、前述の異物や盛り上がった基板１０の表面を衝突対象物Ｍと呼ぶことにする。
【００２８】
ガードユニット４０は、一方向に延びる金属製板状部材であり、スリットノズル３４ａよりも塗布方向進行側にボルトで口金部３４に固定されている。このガードユニット４０は、複数個のガード部材４１を備えており、本実施形態では、先頭ガード部材４２と１つの後方ガード部材４３とが設けられている。すなわち、これら先頭ガード部材４２と後方ガード部材４３とが一体的に形成されており、上述の通りボルトにより口金部３４に固定されている。
【００２９】
これらのガード部材４１は、衝突対象物Ｍと接触させるためのものである。ガード部材４１は、ほぼ平板形状を有しておりスリットノズル３４ａの長手方向に沿って配置されている。そして、ガード部材４１は、スリットノズル３４ａの長手方向寸法以上の寸法に形成されており、基板載置面２１ａに載置された基板１０との隙間寸法は、スリットノズル３４ａと基板１０との隙間寸法と同じか、ガード部材４１の方が基板と近くなるように設定されている。したがって、塗布方向進行側から見ると、スリットノズル３４ａは、ガード部材４１によって隠れるようになっている。
【００３０】
先頭ガード部材４２は、衝突対象物Ｍに積極的に接触させるものであり、最も塗布方向進行側に配置されている。この先頭ガード部材４２は、基板載置面２１ａに延びるように設けられており、基板１０との隙間寸法は、スリットノズル３４ａと同じか、先頭ガード部材４２の方が基板と近くなるように設定されている。したがって、塗布ユニット３０の移動によりスリットノズル３４と基板１０との隙間寸法以上の衝突対象物Ｍが存在していると、その衝突対象物Ｍに先頭ガード部材４２が衝突し、塗布ユニット３０の移動と共に衝突対象物Ｍが先頭ガード部材４２によって押し出されることにより、衝突対象物Ｍとスリットノズル３４ａとが接触するのを防止することができる。
【００３１】
また、先頭ガード部材４２は、根元部４２ａから先端部４２ｂに向かって先細りの形状を有している。すなわち、塗布方向と直交する断面がほぼ逆三角形の断面形状を有しており、基板載置面２１ａに近接し対向する部分の表面積を小さくなるように形成されている。これにより、先頭ガード部材４２が基板１０に近接することによる基板１０への温度の影響を抑えることができる。したがって、先端ガード部材４１が基板１０に近接することにより、近接した部分の基板１０の温度が変化して塗布膜の乾燥ムラが発生するのを抑えることができるようになっている。
【００３２】
後方ガード部材４３は、先頭ガード部材４２との衝突により破壊された衝突対象物Ｍ（破片含む）に接触することにより、衝突対象物Ｍを塗布方向後方側に逃すことなく、後述の捕獲収容部５０に捕らえておくためのものである。すなわち、衝突対象物Ｍが先頭ガード部材４２と衝突すると、通常は先頭ガード部材４２と接触し、塗布ユニット３０の移動と共に衝突対象物Ｍが先頭ガード部材４２によって押し出される。しかし、何らかの影響により、衝突対象物Ｍが先頭ガード部材４２と基板との隙間に入り込み、噛み込みが生じた場合、衝突対象物Ｍが砕けて飛散し、先頭ガード部材４２をすり抜ける場合がある。そして、すり抜けた衝突対象物Ｍがスリットノズル３４ａと基板１０との隙間寸法以上の寸法を有する場合にはスリットノズル３４ａが損傷してしまう。後方ガード部材４３は、この先頭ガード部材４２をすり抜けた衝突対象物Ｍを捕獲するためのものである。
【００３３】
後方ガード部材４３は、基板載置面２１ａに延びるように設けられており、基板１０との隙間寸法は、スリットノズル３４ａと同じか、後方ガード部材４３の方が基板と近くなるように設定されている。したがって、先頭ガード部材４２との衝突により破壊された衝突対象物Ｍがスリットノズル３４ａと基板１０との隙間寸法以上の寸法を有する場合には、この後方ガード部材４３に接触し捕らえることができるようになっている。
【００３４】
なお、ガードユニット４０の材質は、主にステンレス等の金属を用いるが、セラミックや超硬合金のように基板１０よりも硬度の高いものの方が、ガード部材４１と衝突対象物Ｍが衝突した際に、衝突対象物Ｍを効率よく破壊・粉砕できるため、より好ましい。
【００３５】
また、後方ガード部材４３は、根元部４３ａから先端部４３ｂに向かって先細りの形状を有している。具体的には、図４に示すように、塗布方向進行側及び塗布方向後方側の面、いずれにも所定の角度で形成されており、基板載置面２１ａに近接し対向する部分の表面積を小さくなるように形成されている。これにより、後方ガード部材４３が基板１０に近接することによる基板１０への温度の影響を抑えることができる。
【００３６】
また、後方ガード部材４３の塗布方向進行側の面は、基板載置面に対して１８０°＞α≧９０°の角度をなすように設定されている。塗布方向進行側の面をこの角度に設定しておくことにより、先頭ガード部材４２をすり抜けた衝突対象物Ｍを後方ガード部材４３に衝突させた後、捕獲収容部５０に収容させやすくすることができる。すなわち、衝突対象物Ｍが後方ガード部材４３に衝突すると、塗布ユニット３０の移動と共に衝突対象物Ｍが後方ガード部材４３に接触し続けた状態で塗布方向進行側に押し出される。そして、後方ガード部材４３の塗布方向進行側の面の角度αが１８０°＞α≧９０°に形成されているため、衝突対象物Ｍが後方ガード部材４３の塗布方向進行側の面に沿って上りやすくなる。したがって、後方ガード部材４３の塗布方向進行側の面の角度αがα＜９０°に設定されている場合に比べて、衝突対象物Ｍが後方ガード部材４３と基板１０との間に噛み込んだりするのを抑えることができる。なお、後方ガード部材４３の先端部４３ｂには、機械加工後のバリ取りによって生じる最低限の面取りＣがなされているが、この面取りＣの大きさは、衝突対象物Ｍに比べて十分小さく形成されているため、面取りＣの大きさにより衝突対象物Ｍが噛み込むことはない。すなわち、面取りしても、角度αの作用には影響せず、角度αの設定上無視することができる。
【００３７】
また、先頭ガード部材４２と後方ガード部材４３との間には、捕獲収容部５０が設けられている。この捕獲収容部５０は、先頭ガード部材４２との衝突により破壊され、先頭ガード部材４２をすり抜けた衝突対象物Ｍ（破片含む）を捕獲して収容するためのものである。捕獲収容部５０は、先頭ガード部材４２と後方ガード部材４３との間に形成される空間である。先頭ガード部材４２をすり抜けた衝突対象物Ｍが後方ガード部材４３と接触した状態で塗布ユニット３０が移動すると、衝突対象物Ｍが捕獲収容部５０に位置したまま、後方ガード部材４３によって塗布方向進行側に押し出される。すなわち、塗布ユニット３０が移動している間、先頭ガード部材４２をすり抜けた衝突対象物Ｍは、後方ガード部材４３の塗布方向進行側の面で押されながら、塗布方向後方側に移動することなく捕獲収容部５０内に収容され続ける。
【００３８】
ここで、衝突対象物Ｍが存在する場合、例えば、基板１０の下に異物が存在する場合について、図５を用いて本発明の塗布装置におけるガードユニット４０について説明する。なお、図５の例では、衝突対象物Ｍの高さ方向寸法が、スリットノズル３４ａと基板１０との隙間寸法より大きい場合を想定しているものとする。
【００３９】
まず、塗布動作の準備動作として、プレ塗布動作が行われる。すなわち、高さ検出部３８により基板１０とスリットノズル３４ａとの高さが調節され、塗布動作に適切な高さに設定された後、塗布ユニット３０が停止した状態で塗布液が吐出される。そして、スリットノズル３４ａの長手方向に塗布液の膜が連続状に形成された後、塗布ユニット３０が塗布方向進行側に走行する。その際、先頭ガード部材４２の先端部４２ｂ及び後方ガード部材４３の先端部４３ｂの表面積が小さく形成されているため、塗布ユニット３０停止時において、ガード部材４１が基板１０に与える熱の影響を抑えることができる。
【００４０】
プレ塗布動作が完了すると、図５（ａ）に示すように、塗布ユニット３０の口金部３４から塗布液を吐出させながら移動させることにより、基板１０上に塗布膜を形成する。また、ガードユニット４０は、スリットノズル３４ａの塗布方向進行側に配置され、基板１０上に異物が存在している場合にはその異物自体、またステージと基板１０との間に異物が存在する場合には基板１０の表面というような衝突対象物が存在している場合には、その衝突対象物がガード部材４１に衝突することにより、直接スリットノズル３４ａに衝突するのを防止できるようになっている。そして、塗布ユニット３０を塗布方向進行側に移動させていくと、スリットノズル３４ａの塗布方向進行側に配置されるガードユニット４０が衝突対象物Ｍに近づいていく。ここで、ガードユニットのすべてのガード部材４１の先端部４２ｂ、４３ｂの高さ位置は、スリットノズル３４ａの先端部の高さ位置と同じ高さか、ガード部材４１の先端部４２ｂ、４３ｂの方が基板と近い位置になるように設定されている。すなわち、ガード部材４１と基板１０とで形成される隙間寸法は、スリットノズル３４ａと基板１０とで形成される隙間寸法と同じか、ガード部材４１の方が基板１０と近い寸法になっている。
【００４１】
塗布ユニット３０を移動させて塗布動作を続けると、図５（ｂ）に示すように、ガードユニット４０が衝突対象物Ｍと接触する。すなわち、ガードユニット４０の最も塗布方向進行側に位置する先頭ガード部材４２と衝突対象物Ｍとが接触し、さらに塗布ユニットが塗布方向進行側に移動することにより、先頭ガード部材４２が衝突対象物Ｍ、すなわち基板１０を押圧することにより、基板１０がその押圧力に耐えきれず、最終的に基板１０が破損し基板１０の破片が飛散する。この破損した基板１０の破片は無秩序に飛散し、その中には先頭ガード部材４２をすり抜けるものも存在する。そして、先頭ガード部材４２をすり抜けた基板１０の破片の中には、その高さ寸法が、スリットノズル３４ａと基板１０との隙間寸法より大きいものも存在する。
【００４２】
そして、さらにそのまま塗布ユニット３０の走行を続けると、先頭ガード部材４２をすり抜けた基板１０の破片は、その高さ寸法が、スリットノズル３４ａと基板１０との隙間寸法より大きい場合には、後方ガード部材４３と接触する。すなわち、すり抜けた衝突対象物Ｍは塗布ユニット３０の移動と共に後方ガード部材４３に押し出され、捕獲収容部５０に収容されたまま移動し、衝突対象物Ｍとスリットノズル３４ａとの接触を防止することができる。本実施形態では、後方ガード部材４３の塗布方向進行側の面に基板載置面に対して１８０°＞α≧９０°の角度αが付けられているため、衝突対象物Ｍが後方ガード部材４３の塗布方向進行側の面に沿って上りやすくなり、角度αを有していない場合に比べて、後方ガード部材４３と基板１０との間に噛み込むのを抑えることができ、衝突対象物Ｍとスリットノズル３４ａとの接触を防止することができる。
【００４３】
なお、飛散した衝突対象物Ｍの中には、後方ガード部材４３に噛み込むことなくすり抜けるものも存在するが、後方ガード部材４３に噛み込まない衝突対象物Ｍは、後方ガード部材４３と基板１０との隙間寸法以下、すなわち、スリットノズル３４ａと基板１０との隙間寸法以下であるため、後方ガード部材４３を衝突対象物Ｍがすり抜けた場合でも、スリットノズル３４ａを損傷することはない。
【００４４】
上記実施形態では、後方ガード部材４３が１つである場合について説明したが、後方ガード部材４３を複数有するガードユニット４０であってもよい。後方ガード部材４３が複数あることにより、先頭ガード部材４２をすり抜けた衝突対象物Ｍとより確率よく接触させることができるため、後方ガード部材４３が１つである場合に比べて、衝突対象物Ｍがスリットノズル３４ａに接触するのを抑えることができる。なお、後方ガード部材４３同士の間には、それぞれ捕獲収容部５０が設けられており、塗布ユニット４０の移動と共に塗布方向後方側の後方ガード部材４３で押し出される衝突対象物Ｍを収容させることができる。
【００４５】
上記実施形態では、先頭ガード部材４２をすり抜けた衝突対象物Ｍを塗布ユニットの移動に伴って後方ガード部材４３に接触させて捕獲する例について説明したが、先頭ガード部材４２をすり抜けた衝突対象物Ｍが後方ガード部材４３になるべく接触させない構成を追加したものであってもよい。例えば、図６に示すように、ガードユニット４０の捕獲収容部５０に連通するエア供給部６１とエア排気部６２とを有する異物非接触ユニットを追加したものであってもよい。この異物非接触ユニットは、捕獲収容部５０に設けられており、捕獲収容部５０に捕獲した衝突対象物Ｍを塗布方向塗布方向進行側に押し戻すものである。具体的には、塗布方向後方側に設けられたエア供給部６１から塗布方向進行側に設けられたエア排気部６２に向かうエアの流れを形成させておくことにより、仮に、衝突対象物Ｍが先頭ガード部材４２又は塗布方向進行側に位置する後方ガード部材４３をすり抜けた場合、エア供給部６１から供給されるエアにより塗布方向進行側に押し戻され、衝突対象物Ｍが塗布方向後方側の後方ガード部材４３に到達するのを抑えることができる。すなわち、衝突対象物Ｍが後方ガード部材４３に噛み込んで飛散した衝突対象物Ｍの破片がスリットノズル３４ａに接触するのを抑えることができる。
【００４６】
また、上記実施形態では、後方ガード部材４３の塗布方向進行側の面について、ステージの基板載置面に対してなす角度αが１８０°＞α≧９０°に設定されている例について説明したが、この範囲以外の角度αを有するものであってもよい。ただし、衝突対象物Ｍが後方ガード部材４３と基板１０との間に噛み込むことを効果的に抑える点では、角度αが１８０°＞α≧９０°に設定されていることが好ましい。
【００４７】
また、上記実施形態では、後方ガード部材４３は、後方ガード部材４３の根元部４３ａよりも先端部４３ｂの方が基板載置面２１ａに対向する表面積が小さくなるように形成されている例について説明したが、先端部４３ｂが根元部４３ａと同じ表面積を有するものであってもよく、根元部４３ａよりも大きい表面積を有するものであってもよい。ただし、先端部４３ｂの表面積を極力小さくすることによって、先端部４３ｂが基板１０に近接することにより、基板１０及び基板１０上に形成された塗布膜への熱の影響を小さくすることができる。
【００４８】
また、上記実施形態では、先頭ガード部材４２と後方ガード部材４３とが一体となったガードユニット４１の例を説明したが、先頭ガード部材４２と後方ガード部材４３が別々の平板部材で構成され、先頭ガード部材４２と後方ガード部材４３との間に隙間（捕獲収容部５０）を有するように設けられる構成であってもよい。
【００４９】
また、上記実施形態では、ガードユニット４１について、口金部３４にスリットノズル３４ａを有する塗布装置に適用する場合について説明したが、スリットノズル３４ａを有する塗布装置への適用に限るものではない。すなわち、ストライプ塗布を行うために、口金部３４に複数の吐出口を備えるノズルを有する塗布装置、又は、インクジェットノズルを有する塗布装置等、衝突対象物Ｍと衝突する虞のあるノズルを有する塗布装置にガードユニット４１を適用することができる。
【符号の説明】
【００５０】
１０  基板
２１  ステージ
３０  塗布ユニット
３４  口金部
３４ａ  スリットノズル
４０  ガードユニット
４１  ガード部材
４２  先頭ガード部材
４３  後方ガード部材
５０  捕獲収容部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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