(57)【要約】【課題】塗布液の混色を抑えるための素子設計を容易にすることの可能な塗布膜形成方法を提供する。【解決手段】一つの方向に延びる複数の隔壁を該隔壁の延在方向と交差する交差方向に所定の間隔をおいて形成する工程と、相互に隣り合う前記隔壁間に塗布液を吐出して塗布膜を形成する工程と、を含み、前記隔壁は、同色の画素領域からなる画素列を区切り、前記交差方向における前記画素領域の幅が画素幅として設定され、前記交差方向における前記隔壁の幅が隔壁幅として設定され、前記隔壁幅に対する前記画素幅の比が隔壁幅比として設定された場合に、前記隔壁を形成する工程では、前記塗布液を前記画素領域内に留めるための前記隔壁幅比が前記塗布液の属性に関連付けられた情報を用い、前記塗布液の属性に基づいて前記隔壁幅比を決定する。【選択図】図２
2013212434.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一つの方向に延びる複数の隔壁を該隔壁の延在方向と交差する交差方向に所定の間隔をおいて形成する工程と、
相互に隣り合う前記隔壁間に塗布液を吐出して塗布膜を形成する工程と、を含み、
前記隔壁は、同色の画素領域からなる画素列を区切り、
前記交差方向における前記画素領域の幅が画素幅として設定され、
前記交差方向における前記隔壁の幅が隔壁幅として設定され、
前記隔壁幅に対する前記画素幅の比が隔壁幅比として設定された場合に、
前記隔壁を形成する工程では、
前記塗布液を前記画素領域内に留めるための前記隔壁幅比が前記塗布液の属性に関連づけられた情報を用い、前記塗布液の属性に基づいて前記隔壁幅比を決定する
塗布膜形成方法。
【請求項２】
前記情報は、前記隔壁の高さごとの情報であり、
前記隔壁を形成する工程では、
前記塗布液を前記画素領域内に留めるための前記隔壁幅比を前記隔壁の高さごとに決定する
請求項１に記載の塗布膜形成方法。
【請求項３】
前記情報は、前記塗布膜の膜厚ごとの情報であり、
前記隔壁を形成する工程では、
前記塗布液を前記画素領域内に留めるための前記隔壁幅比を前記塗布膜の膜厚ごとに決定する
請求項１又は２に記載の塗布膜形成方法。
【請求項４】
前記塗布液の属性は、前記塗布液の粘度を含む
請求項１から３のいずれか１つに記載の塗布膜形成方法。
【請求項５】
前記塗布液の属性は、前記隔壁に対する前記塗布液の接触角を含む
請求項１から４のいずれか１つに記載の塗布膜形成方法。
【請求項６】
前記塗布液の属性は、前記塗布液の濃度を含む
請求項１から５のいずれか１つに記載の塗布膜形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示の技術は、基板に塗布液を塗布することにより塗布膜を形成する塗布膜形成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）素子等の表示素子の製造工程では、インクジェット法やノズルプリント法を用いて、発光材料を含む塗布液を基板上に塗布することにより発光層となる塗布膜が形成されている。このように製造される表示素子では、製造上の簡便さから、例えば特許文献１に記載のように、同色の画素が一方向に並べられた素子構造が採用されている。
【０００３】
図３は、こうした有機ＥＬ素子における素子構造の一部を示す図である。図３（ａ）は、その製造工程において発光層が形成された段階の有機ＥＬ素子を示す平面図であり、図３（ｂ）は、図３（ａ）のＡ−Ａ線における断面図である。
【０００４】
図３（ａ）に示されるように、有機ＥＬ素子１には、１つの方向である配列方向に延びる複数の画素列２が、配列方向と直交する交差方向に沿って配列されている。画素列２には、赤色用画素列２Ｒと緑色用画素列２Ｇと青色用画素列２Ｂとが含まれ、これら赤色用画素列２Ｒと緑色用画素列２Ｇと青色用画素列２Ｂとがこの順に繰り返して配列されている。赤色用画素列２Ｒには、赤色の発光層が形成された画素領域３Ｒが配列方向に並べられている。また、緑色用画素列２Ｇには、緑色の発光層が形成された画素領域３Ｇが配列方向に並べられており、青色用画素列２Ｂには、青色の発光層が形成された画素領域３Ｂが配列方向に並べられている。
【０００５】
互いに隣り合う２つの画素列２の間には、画素列２における配列方向の全体にわたって配列方向に延びるストライプ状の第１隔壁４が形成されている。第１隔壁４は、互いに隣接する２つの画素列２を交差方向で区切る。また、複数の画素列２の各々にて、互いに隣り合う画素領域３の間には、交差方向に延びるストライプ状の第２隔壁５が形成されている。第２隔壁５は、互いに隣接する２つの画素領域３を配列方向で区切る。これら第１隔壁４及び第２隔壁５は、絶縁性の材料から形成される。
【０００６】
図３（ｂ）に示されるように、第１隔壁４及び第２隔壁５は、ＴＦＴ層や画素電極が形成された基板６の上に形成されている。また、第２隔壁５の基板６の上面からの高さは、第１隔壁４の基板６の上面からの高さＨｋよりも低く形成されている。発光層が形成される際には、赤色の発光材料を含む液状の塗布液が、赤色用画素列２Ｒに沿って直線状に塗布される。同様に、緑色の発光材料を含む液状の塗布液が、緑色用画素列２Ｇに沿って直線状に塗布され、青色の発光材料を含む液状の塗布液が、青色用画素列２Ｂに沿って直線状に塗布される。こうして、第１隔壁４と第２隔壁５とによって区画される画素領域３に発光層７が形成される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１１−１１３６４６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで、上述の有機ＥＬ素子１の製造工程においては、発光層７となる塗布膜の膜厚Ｔｅが所定の値となるように、画素領域３に対する塗布液の塗布量が算出される。しかしながら、この算出された塗布量の塗布液を塗布するにあたり、画素領域３の交差方向における幅Ｗｇに対して、すなわち、隣接する第１隔壁４間の間隔に対して、第１隔壁４の交差方向における幅Ｗｋが小さすぎると、塗布液が隣接する他の色の画素列２内に流れ込み、画素領域３で塗布液の混色が起こることがある。こうした混色を抑えるためには、例えば、塗布液の濃度を高くして塗布量を少なくしたり、塗布液が乗り越えない程度にまで隔壁の高さを高くしたりする等の方策がその都度検討されている。しかしながら、これらの方策は、いずれも有機ＥＬ素子の構造や有機ＥＬ素子の形成材料の再設計を必要とするため、有機ＥＬ素子の仕様の設定を困難なものとする要因となっている。
【０００９】
本開示の技術は、このような実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、塗布液の混色を抑えるための素子設計を容易にすることの可能な塗布膜形成方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本開示における塗布膜形成方法の一態様は、一つの方向に延びる複数の隔壁を該隔壁の延在方向と交差する交差方向に所定の間隔をおいて形成する工程と、相互に隣り合う前記隔壁間に塗布液を吐出して塗布膜を形成する工程と、を含み、前記隔壁は、同色の画素領域からなる画素列を区切り、前記交差方向における前記画素領域の幅が画素幅として設定され、前記交差方向における前記隔壁の幅が隔壁幅として設定され、前記隔壁幅に対する前記画素幅の比が隔壁幅比として設定された場合に、前記隔壁を形成する工程では、前記塗布液を前記画素領域内に留めるための前記隔壁幅比が前記塗布液の属性に関連付けられた情報を用い、前記塗布液の属性に基づいて前記隔壁幅比を決定する。
【００１１】
上述したように、交差方向における隔壁の幅が狭すぎると、塗布液が隔壁を乗り越えてしまう。この際に、塗布液が隔壁を乗り越えるか否かは、塗布液が静的な状態であれば、隔壁に対する塗布液の接触角や塗布液の静的粘度等に応じて異なる。また、塗布液が隔壁を乗り越えるか否かは、塗布液が動的な状態であれば、塗布液の動的粘度等に応じて異なる。そして、塗布液が隔壁を乗り越えるか否かは、画素領域に吐出された塗布液の形状によっても異なる。すなわち、交差方向における隔壁の幅が狭すぎるか否かは、塗布液の属性や画素領域の大きさに応じて異なる。この点で、本開示における塗布膜形成方法の一態様では、隔壁幅に対する画素幅の比が隔壁幅比として設定され、塗布液の属性に基づいて隔壁幅比が決定される。それゆえに、隔壁幅に対する画素幅の大きさは、塗布液の混色が抑えられる範囲に予め定められるから、塗布液の混色を抑えるための設計を容易にすることが可能となる。
【００１２】
本開示における塗布膜形成方法の他の態様では、前記情報は、前記隔壁の高さごとの情報であり、前記隔壁を形成する工程では、前記塗布液を前記画素領域内に留めるための前記隔壁幅比を前記隔壁の高さごとに決定する。
【００１３】
隔壁の高さが低くなるに従って、画素領域内に吐出された塗布液は隔壁を乗り越えやすくなる。上記他の態様であれば、上述の隔壁幅比が隔壁の高さごとに決定されるから、塗布液の混色の抑制が、さらに高い精度で実現される。
【００１４】
本開示における塗布膜形成方法の他の態様では、前記情報は、前記塗布膜の膜厚ごとの情報であり、前記隔壁を形成する工程では、前記塗布液を前記画素領域内に留めるための前記隔壁幅比を前記塗布膜の膜厚ごとに決定する。
【００１５】
画素領域に吐出される塗布液の容量が多くなるに従って、すなわち、画素領域に形成される塗布膜の膜厚が厚くなるに従って、画素領域内に吐出された塗布液は隔壁を乗り越えやすくなる。上記他の態様であれば、上述の隔壁幅比が塗布膜の膜厚ごとに決定されるから、塗布膜の混色の抑制が、さらに高い精度で実現される。
【００１６】
本開示における塗布膜形成方法の他の態様では、前記塗布液の属性が、前記塗布液の粘度を含む。
本開示における塗布膜形成方法の他の態様では、前記塗布液の属性が、前記塗布液の濃度を含む。
【００１７】
上記他の態様であれば、塗布液の属性のうちで比較的に計測が容易である粘度や濃度によって、上記の隔壁幅比が決定されるから、塗布液の混色の抑制が容易となる。
本開示における塗布膜形成方法の他の態様では、前記塗布液の属性が、前記隔壁に対する前記塗布液の接触角を含む。
【００１８】
塗布液の属性には、例えば、上記粘度のように塗布液自身によって一義的に定められる物性値の他、塗布液の塗布される対象と塗布液との関係から定められる物性値が挙げられる。塗布液が隔壁を乗り越えるか否かは、塗布液自身によって一義的に定められる物性値の他、隔壁と塗布液との関係から定められる物性値によっても変わる。この点で、上記他の態様であれば、隔壁に対する塗布液の接触角によって、上述の隔壁幅比が決定されるから、塗布液の混色の抑制が、これもまた高い精度で実現される。
【発明の効果】
【００１９】
本開示の塗布膜形成方法によれば、塗布液の混色を抑えるための素子設計を容易にすることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本開示における塗布膜形成方法の一実施形態で用いられる塗布膜形成システムの構成を示すブロック図。
【図２】同実施形態で用いられる塗布膜の膜厚と隔壁の幅に対する画素領域の幅の比率との関係を示すマップの一例を示す図。
【図３】（ａ）は、有機ＥＬ素子の平面構造の一部を示す平面図、（ｂ）は、（ａ）のＡ−Ａ線における断面図。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本開示における塗布膜形成方法の一実施形態について、図１，図２を参照して説明する。なお、本実施形態の塗布膜形成方法によって形成される塗布膜は、有機ＥＬ素子の発光層となる塗布膜である。本実施形態における塗布膜形成方法は、第１隔壁４間の幅の設定方法に特徴を有するため、以下では、第１隔壁４間の幅の設定方法を主に説明するとともに、その説明の便宜上、先に説明された部材には同じ符号を付し、その重複した説明を省略する。まず、本実施形態の塗布膜形成方法に用いられる塗布膜形成システム１０について説明する。
【００２２】
図１に示されるように、塗布膜形成システム１０は、隔壁の高さ及び幅を設計する設計部１１と、隔壁及び塗布膜の形成を行う製造部１２とを備える。これら設計部１１及び製造部１２の各々は、中央処理装置（ＣＰＵ）、不揮発性メモリー（ＲＯＭ）、及び揮発性メモリー（ＲＡＭ）を有するマイクロコンピューターを中心に構成される。
【００２３】
設計部１１は、各種の入力信号の入力処理を行う入力部１１ａと、製造部１２への制御信号の出力処理を行う出力部１１ｂと、隔壁の高さ及び幅を演算する演算部１１ｃと、演算部１１ｃの演算結果や隔壁の高さ及び幅の設定に用いられる情報を記憶する記憶部１１ｄとを備えている。
【００２４】
入力部１１ａには、各種のボタンやタッチパネル等から構成される操作部２０が接続されている。操作部２０は、塗布膜の膜厚Ｔｅ、第１隔壁４の幅Ｗｋ、塗布膜の形成に用いられる塗布液の粘度μ等を入力部１１ａに出力する。塗布膜の膜厚Ｔｅや第１隔壁４の幅Ｗｋは、有機ＥＬ素子の設計ルールに応じて適宜設定される。
【００２５】
記憶部１１ｄには、隔壁の高さ及び幅の設定に用いられる隔壁設計情報が記憶されている。隔壁設計情報は、第１隔壁４の幅Ｗｋに対する画素領域３の幅Ｗｇの比率である隔壁幅比と塗布膜の膜厚Ｔｅとを関連づけた情報であって、塗布膜の膜厚Ｔｅと隔壁幅比Ｗｇ／Ｗｋとの関係を示すマップとして記憶されている。
【００２６】
図２に示されるように、上記のマップでは、予め実施された各種の実験に基づき、第１隔壁４の高さＨｋに応じて、膜厚Ｔｅと隔壁幅比Ｗｇ／Ｗｋとの関係が規定されている。なお、本実施形態の隔壁設計情報には、第１隔壁４の高さＨｋが１５μｍの場合、２５μｍの場合、３５μｍの場合の各々について、膜厚Ｔｅと隔壁幅比Ｗｇ／Ｗｋとの関係が規定されている。また、膜厚Ｔｅと隔壁幅比Ｗｇ／Ｗｋとの関係には、相互に異なる複数の膜厚Ｔｅの各々に対して、塗布液が混色することのない最小の隔壁幅比Ｗｇ／Ｗｋが示されている。なお、本実施形態にて相互に異なる隔壁幅比Ｗｇ／Ｗｋは、第１隔壁４の幅Ｗｋが同一であって、画素領域３の幅Ｗｇのみが相互に異なる。そして、所望の膜厚Ｔｅにて図２に示される曲線上の隔壁幅比Ｗｇ／Ｗｋであれば、もしくは、図２に示される曲線上の隔壁幅比Ｗｇ／Ｗｋよりも大きい隔壁幅比Ｗｇ／Ｗｋであれば、上述の混色が抑えられる。
【００２７】
例えば、膜厚Ｔｅが６０ｎｍとなる塗布膜を形成する場合、第１隔壁４の高さＨｋが１５μｍのときは、隔壁幅比Ｗｇ／Ｗｋが３．０以上であれば上記の条件が満たされる。同様に、膜厚Ｔｅが６０ｎｍとなる塗布膜を形成する場合、第１隔壁４の高さＨｋが２５μｍのときは、隔壁幅比Ｗｇ／Ｗｋが１．４以上であれば上記の条件が満たされ、第１隔壁４の高さＨｋが３５μｍのときは、隔壁幅比Ｗｇ／Ｗｋが０．５以上であれば上記の条件が満たされる。
【００２８】
上記マップは、相互に異なる塗布液の粘度μごとに、実験結果に基づいて作成され、塗布液の粘度μに緋付けられた状態で記憶部１１ｄに格納される。例えば、粘度μが２０ｍＰａ以下となる相互に異なる塗布液の各々に関して上記マップが紐付けられている。なお、粘度μが２０ｍＰａ以下となる相互に異なる塗布液には、例えば、キシレンが溶媒として設定され、低分子発光材料が溶質として設定され、溶質濃度が１０％以下である液体が挙げられる。
【００２９】
なお、隔壁幅比Ｗｇ／Ｗｋの範囲が十分に確保され、混色が抑えやすいという観点では、特に、溶質濃度は２．５％以上５％以下であることが好ましい。また、本実施形態におけるマップは、第１隔壁４がポリイミド（ＰＩ）として設定された実験結果に基づいて作成されている。この際に、隔壁幅比Ｗｇ／Ｗｋの範囲が十分に確保され、混色がおさえやすいという観点では、第１隔壁４の撥水性は、キシレンとの接触角が３０度以上であることが好ましい。
【００３０】
演算部１１ｃは、入力部１１ａが入力する塗布液の粘度μに応じて、上記記憶部１１ｄに記憶されているマップから、粘度μの入力値に紐付けられたマップを読み出す。演算部１１ｃは、入力部１１ａが入力する塗布膜の膜厚Ｔｅと第１隔壁４の幅Ｗｋとに基づいて、上記読み出されたマップから、第１隔壁４の高さＨｋごとに、画素領域３の幅Ｗｇのとり得る値の範囲を算出する。さらに、演算部１１ｃは、第１隔壁４の高さＨｋごとの画素領域３の幅Ｗｇの範囲に基づいて、第１隔壁４の高さＨｋと画素領域３の幅Ｗｇとを設定する。
【００３１】
具体的には、まず、第１隔壁４の高さＨｋが設定される。そして、設定された第１隔壁４の高さＨｋに対応する画素領域３の幅Ｗｇの範囲内で、画素領域３の幅Ｗｇが設定される。なお、これら第１隔壁４の高さＨｋ及び画素領域３の幅Ｗｇの値は、素子全体の大きさや必要となる材料の量等を考慮して設定される。
【００３２】
こうして演算部１１ｃにて第１隔壁４の高さＨｋと第１隔壁４の幅Ｗｇとが設定されると、設定された値に応じた信号が出力部１１ｂから製造部１２へ出力される。
製造部１２は、隔壁の形成に関わる制御を行う隔壁形成部１２ａと、塗布膜の形成に関わる制御を行う塗布膜形成部１２ｂと、隔壁や塗布膜の形成プログラムが記憶された記憶部１２ｃとを備えている。
【００３３】
隔壁形成部１２ａは、出力部１１ｂから入力される第１隔壁４の高さＨｋ及び画素領域３の幅Ｗｇに応じた制御信号を生成して出力することにより、第１隔壁４を形成する機構を駆動して第１隔壁４を形成する。例えば、隔壁形成部１２ａは、まず、高さＨｋの入力値に相当する膜厚でポリイミドからなる塗布膜を形成する。次いで、隔壁形成部１２ａは、画素領域３の幅Ｗｇに相当する範囲をエッチングし、高さＨｋの入力値に相当する高さと幅Ｗｋとを有する第１隔壁４を画素領域３の幅Ｗｇごとに形成する。
【００３４】
また、隔壁形成部１２ａは、記憶部１２ｃに記憶された第２隔壁５の形成プログラムに従って制御信号を生成して出力することにより、第２隔壁５を形成する機構を駆動して第２隔壁５を形成する。
【００３５】
塗布膜形成部１２ｂは、記憶部１２ｃに記憶された塗布膜の形成プログラムに従って信号を生成して出力することにより、塗布膜を形成する機構を駆動して塗布膜を形成する。例えば、塗布容量Ｑの塗布液が各画素領域３に塗布されるように、塗布膜形成部１２ｂは、画素列２に沿ってノズルを走査させるとともに、上記入力値の粘度μを備える塗布液をノズルから切れ目なく吐出させる。
【００３６】
次に、上記塗布膜形成システム１０を用いる塗布膜形成方法について説明する。なお、以下では、第１隔壁４の幅Ｗｋが塗布膜形成に先立って操作部２０から設計部１１に入力され、画素領域３の幅Ｗｇの算出に際し、幅Ｗｋの入力値が用いられる形態を例示する。
【００３７】
まず、設計部１１では、塗布膜形成に用いられる塗布液の粘度μと、膜厚Ｔｅと、第１隔壁４の高さＨｋと、第１隔壁４の幅Ｗｋとが、操作部２０の操作を通じて、入力部１１ａに入力される。次いで、塗布液の粘度μの入力値に紐付けられたマップが、演算部１１ｃの演算処理によって記憶部１１ｄから読み出される。続いて、膜厚Ｔｅに対応する隔壁幅比Ｗｇ／Ｗｋの範囲が、上記読み出されたマップから演算部１１ｃの演算処理によって求められる。そして、求められた隔壁幅比Ｗｇ／Ｗｋの最小値に基づいて、画素領域３の幅Ｗｇが、演算部１１ｃの演算処理によって算出され、算出された画素領域３の幅Ｗｇと、第１隔壁４の幅Ｗｋと、第１隔壁４の高さＨｋと、膜厚Ｔｅの入力値とが製造部１２へ出力される。
【００３８】
次いで、製造部１２では、算出された画素領域３の幅Ｗｇと、第１隔壁４の幅Ｗｋと、第１隔壁４の高さＨｋとの入力値に基づいて、隔壁形成部１２ａが駆動されて、これによって、第２隔壁５が形成され、また、高さＨｋと幅Ｗｋとを有する第１隔壁４が画素領域３の幅Ｗｇごとに形成される。そして、膜厚Ｔｅの入力値に基づいて塗布膜形成部１２ｂが駆動されて、これによって、粘度μの塗布液が画素領域３ごとに塗布される。ここで、粘度μの塗布液が塗布されることに際し、第１隔壁４の幅Ｗｋが画素領域３の幅Ｗｇに対して狭すぎないため、塗布液が隣接する他の色の画素列２内に流れ込むことが抑制される。
【００３９】
このように、本実施形態では、目的とする塗布膜の膜厚Ｔｅに対し、第１隔壁４の高さＨｋに応じて、第１隔壁４の幅Ｗｋに対する画素領域３の幅Ｗｇの比率が設定される。
以上説明したように、本実施形態の塗布膜形成方法によれば、以下に列挙する効果を得ることができる。
【００４０】
（１）塗布膜の膜厚Ｔｅと第１隔壁４の幅Ｗｋとに基づいて、第１隔壁４の幅Ｗｋに対する画素領域３の幅Ｗｇの比率が設定されるため、塗布膜が形成される際に、塗布液の混色が起こることを抑制することができ、こうした塗布液の混色を抑えるための素子設計を容易にすることができる。
【００４１】
（２）第１隔壁４の高さＨｋが低くなるに従って、画素領域３内に吐出された塗布液は、通常、第１隔壁４を乗り越えやすくなる。この点で、上述の隔壁幅比は第１隔壁４の高さＨｋごとに決定されるから、塗布液の混色の抑制が、さらに高い精度で実現される。
【００４２】
（３）画素領域３に吐出される塗布液の容量が多くなるに従って、すなわち、画素領域３に形成される塗布膜の膜厚Ｔｅが厚くなるに従って、画素領域３内に吐出された塗布液は第１隔壁４を乗り越えやすくなる。この点で、上述の隔壁幅比は塗布膜の膜厚Ｔｅごとに決定されるから、塗布膜の混色の抑制が、さらに高い精度で実現される。
【００４３】
（４）塗布液の属性のうちで比較的に計測が容易である粘度μに基づいて、第１隔壁４の幅Ｗｋに対する画素領域３の幅Ｗｇの比率が設定されるため、塗布液の混色を抑えるための設計を、より容易にすることが可能となる。
【００４４】
なお、上記実施形態は、例えば以下のような形態にて実施することもできる。
・上記実施形態では、塗布液の属性として、粘度μに基づいて、第１隔壁４の高さＨｋごとに、第１隔壁４の幅Ｗｋに対する画素領域３の幅Ｗｇの比率が設定される。これに代えて、塗布液の属性として、例えば、隔壁に対する撥水性、すなわちポリイミドからなる第１隔壁４とキシレンとの接触角を用いてもよい。この場合、設計部１１の記憶部１１ｄに記憶されるマップは、接触角ごとに作成される。そして、設計部１１では、操作部２０から接触角が入力されることにより、接触角の値に応じたマップが選出される。
【００４５】
塗布液の属性には、例えば、上記粘度μのように塗布液自身によって一義的に定められる物性値の他、第１隔壁４と塗布液との関係から定められる物性値が挙げられる。塗布液が第１隔壁４を乗り越えるか否かは、塗布液自身によって一義的に定められる物性値の他、第１隔壁４と塗布液との関係から定められる物性値によっても変わる。この点で、上記態様であれば、第１隔壁４に対する塗布液の接触角によって、上述の隔壁幅比が決定されるから、塗布液の混色の抑制が、これもまた高い精度で実現される。
【００４６】
また、塗布液の属性として、例えば、塗布液の濃度を用いてもよい。この場合、設計部１１の記憶部１１ｄに記憶されるマップは、濃度ごとに作成される。そして、設計部１１では、操作部２０から濃度が入力されることにより、濃度の値に応じたマップが選出される。
【００４７】
・さらに、塗布液の属性として、粘度と接触角と濃度のうちの少なくとも２つを用いてもよい。この場合、設計部１１の記憶部１１ｄに記憶されるマップは、用いられる２種類もしくは３種類の塗布液の属性の任意の値に対して１つのマップが規定されるように作成される。そして、設計部１１では、操作部２０から２種類もしくは３種類の塗布液の属性が入力されることにより、その値に応じたマップが選出される。
【００４８】
・上記実施形態では、設計部１１と製造部１２がシステム化されているものとしたが、例えば、設計部１１を設計装置、製造部１２を製造装置とし、設計装置から出力された第１隔壁４の高さＨｋと第１隔壁４の幅Ｗｇとを、ユーザーが製造装置に入力するようにしてもよい。また、設計装置からは第１隔壁４の高さＨｋごとのＷｇ／Ｗｋの最小値が出力され、ユーザーがこの第１隔壁４の高さＨｋごとのＷｇ／Ｗｋの最小値に基づいて、第１隔壁４の高さＨｋと画素領域３の幅Ｗｇとを設定してもよい。
【００４９】
・上記実施形態では、塗布膜の膜厚Ｔｅと第１隔壁４の幅Ｗｋと第１隔壁４の高さＨｋとが入力されて、画素領域３の幅Ｗｇが出力されるものとしたが、塗布膜の膜厚Ｔｅ、画素領域３の幅Ｗｇ、第１隔壁４の高さＨｋ、第１隔壁４の幅Ｗｇのうちのいずれのパラメータを入力パラメータあるいは出力パラメータとするかは任意である。要するに、塗布液を画素領域３内に留めるための隔壁幅比が塗布液の属性に関連付けられた情報を用い、塗布液の属性に基づいて隔壁幅比が決定される方法であればよい。
【００５０】
・隔壁設計情報は、第１隔壁４の幅Ｗｋに対する画素領域３の幅Ｗｇの比率である隔壁幅比と塗布液の属性とを関連づけた情報であればよく、例えば、隔壁幅比Ｗｇ／Ｗｋと塗布液の粘度とが関連付けられたマップであってもよい。要するに、隔壁設計情報は、隔壁の高さに関して単一の情報であってもよく、また、塗布膜の厚さに関して単一の情報であってもよく、塗布液を画素領域３内に留めるための隔壁幅比が塗布液の属性に関連づけられた情報であればよい。
【００５１】
・上記実施形態では、第１隔壁４がポリイミドから形成されるものとしたが、絶縁性を有する材料であれば、適宜の材料を用いて第１隔壁４を形成できる。この際、設計部１１の記憶部１１ｄに記憶されるマップは、材料に合わせて作成される。なお、第１隔壁４は少なくとも一部が撥水性を有するように形成される。
【００５２】
・有機ＥＬ素子１は、第２隔壁５が割愛された構成でもよい。
・塗布膜を形成する素子は、有機ＥＬ素子に限らず、第１隔壁４によって区切られた領域に塗布液が塗布されて塗布膜が形成される素子であればよい。
【符号の説明】
【００５３】
１…有機ＥＬ素子、２…画素列、３…画素領域、４…第１隔壁、５…第２隔壁、６…基板、７…発光層、１０…塗布膜形成システム、１１…設計部、１１ａ…入力部、１１ｂ…出力部、１１ｃ…演算部、１１ｄ…記憶部、１２…製造部、１２ａ…隔壁形成部、１２ｂ…塗布膜形成部、１２ｃ…記憶部。
【図１】
2013212434.tif 000003
【図２】
2013212434.tif 000004
【図３】
2013212434.tif 000005