(57)【要約】【課題】従来のような帯状のシャドーマスクを不要にしつつも、蒸着源からの気化材料を所望のパターンで基材に蒸着することができ、搬送の際に生じ得る基材の位置ずれによる影響を修正できるようにする。【解決手段】  有機ＥＬ素子の製造装置は、第１駆動装置によってローラを所定の回転速度で回転させて、ローラに接触する基材を搬送する。この製造装置は、この搬送とともに、蒸着源からの気化材料を基材に蒸着させる。そして、この製造装置は、第２駆動装置によって遮蔽装置を駆動することにより、この遮蔽装置を所定の回動速度でローラの軸心まわりに回動させ、基材の遮蔽及び遮蔽解除を行う。第２駆動装置は、遮蔽装置の回動速度がローラの回転速度と異なるように遮蔽装置の回動速度を変更する。【選択図】  図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
帯状の基材をローラに接触させるとともに、該ローラを所定の回転速度で回転させながら該基材を搬送することと、
気化材料を蒸着源から吐出することにより、前記基材の所定部位に前記気化材料を蒸着することと、
前記ローラの回転とともに、前記基材を遮蔽するための遮蔽装置を該ローラの軸心まわりに所定の回動速度で回動させることにより、前記気化材料を蒸着する際に前記気化材料が前記基材の前記所定部位を除く部位に蒸着するのを防止するように、該遮蔽装置による前記基材の遮蔽を行うことと、
前記遮蔽装置の回動速度を、前記ローラの回転速度と異ならせることによって、前記基材に対する該遮蔽装置の遮蔽位置を調整することと、を備えることを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項２】
前記基材に形成されるパターンニングの位置によって該基材に形成される有機ＥＬ素子の位置を検出すること、をさらに備える請求項１に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項３】
帯状の基材に接触するローラと、
前記ローラを所定の回転速度で回転駆動する第１駆動装置と、
気化材料を前記基材に蒸着すべく、前記基材の所定部位に向けて前記気化材料を吐出する蒸着源と、
前記気化材料が前記所定部位を除く部位に蒸着するのを防止するように、前記基材を遮蔽する遮蔽装置と、
前記ローラの回転とともに前記遮蔽装置が該ローラの軸心まわりに所定の回動速度で回動するように該遮蔽装置を駆動する第２駆動装置と、を備え、
前記遮蔽装置は、前記第２駆動装置によって駆動されることによって、所定の回動速度で回動するとともに、前記基材に対する遮蔽及び遮蔽解除を行い、
前記第２駆動装置は、該遮蔽装置の回動速度が前記ローラの回転速度と異なるように該遮蔽装置の回動速度を変更することを特徴とする有機ＥＬ素子の製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、蒸着源から気化させた気化材料を帯状の基材に蒸着させる有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）素子の製造方法に関し、また、その製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、有機ＥＬ素子の製造方法として、帯状の基材が所定の走行方向に沿って走行するように、基材を走行させる工程と、蒸着源から気化材料を吐出させて基材に蒸着させる工程とを備える製造方法が知られている（例えば、特許文献１）。そして、斯かる製造方法によれば、帯状のシャドーマスクを帯状の基材に面合わせで密接させると共に、シャドーマスクを基材と一体的に走行させることにより、所望のパターンで気化材料を基材に蒸着させることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０００−１８３５００号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、特許文献１に係る製造方法においては、シャドーマスクを送り出す送り出しローラや、シャドーマスクを巻き取る巻き取りローラや、シャドーマスクを支持する複数の支持ローラが設けられており、一般的に、装置が大型になるという問題を生じさせている。また、異なるパターンで気化材料を基材に蒸着させたい場合には、所定のシャドーマスクに交換（型替え）するために、複雑な作業が必要となるという問題を生じさせている。
【０００５】
さらに、従来の製造方法では、搬送時の搬送誤差や基材の熱膨張その他の理由により、搬送の際に基材がその搬送方向に沿って所定位置からずれることにより、所定位置に気化材料を蒸着させることが困難になる場合が生じ得る。
【０００６】
本発明は、上記の事情に鑑みてなされたものであり、従来のような帯状のシャドーマスクを不要にしつつも、蒸着源からの気化材料を所望のパターンで基材に蒸着することができ、搬送の際に生じ得る基材の位置ずれによる影響を修正できるようにした有機ＥＬ素子の製造方法及び製造装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係る有機ＥＬ素子の製造方法は、上記の課題を解決するためのものであって、帯状の基材をローラに接触させるとともに、該ローラを所定の回転速度で回転させながら該基材を搬送することと、気化材料を蒸着源から吐出することにより、前記基材の所定部位に前記気化材料を蒸着することと、前記ローラの回転とともに、前記基材を遮蔽するための遮蔽装置を該ローラの軸心まわりに所定の回動速度で回動させることにより、前記気化材料を蒸着する際に前記気化材料が前記基材の前記所定部位を除く部位に蒸着するのを防止するように、該遮蔽装置による前記基材の遮蔽を行うことと、前記遮蔽装置の回動速度を、前記ローラの回転速度と異ならせることによって、前記基材に対する該遮蔽装置の遮蔽位置を調整することと、を備えることを特徴とする。
【０００８】
かかる構成によれば、遮蔽装置が基材を遮蔽することで、蒸着源からの気化材料を基材の所定部位にのみ蒸着することができる。これによって、所望の有機ＥＬ素子を基材に形成することができ、従来のような帯状のシャドーマスクは不要になる。さらに、この蒸着に際し、基材の位置ずれが生じていない場合には、遮蔽装置の回動速度とローラ（キャンローラ）の回転速度を等しくして、気化材料の蒸着が行われる。これに対し、基材の位置ずれが生じている場合には、そのずれに応じて遮蔽装置の回動速度を変更することによって、そのずれによる影響を修正できる。
【０００９】
また、前記基材に形成されるパターンニングの位置によって該基材に形成される有機ＥＬ素子の位置を検出すること、をさらに備える。
【００１０】
かかる構成によれば、基材に形成されるパターンニングの位置によって有機ＥＬの位置を検知することで、有機ＥＬ素子の位置を監視し、その位置が適正でなく、基材の位置ずれが生じている場合を検出できるようになる。
【００１１】
本発明に係る有機ＥＬ素子の製造装置は、上記の課題を解決するためのものであって、帯状の基材に接触するローラと、前記ローラを所定の回転速度で回転駆動する第１駆動装置と、気化材料を前記基材に蒸着すべく、前記基材の所定部位に向けて前記気化材料を吐出する蒸着源と、前記気化材料が前記所定部位を除く部位に蒸着するのを防止するように、前記基材を遮蔽する遮蔽装置と、前記ローラの回転とともに前記遮蔽装置が該ローラの軸心まわりに所定の回動速度で回動するように該遮蔽装置を駆動する第２駆動装置と、を備え、前記遮蔽装置は、前記第２駆動装置によって駆動されることによって、所定の回動速度で回動するとともに、前記基材に対する遮蔽及び遮蔽解除を行い、前記第２駆動装置は、該遮蔽装置の回動速度が前記ローラの回転速度と異なるように該遮蔽装置の回動速度を変更することを特徴とする。
【００１２】
かかる構成によれば、遮蔽装置が基材を遮蔽することで、蒸着源からの気化材料を基材の所定部位にのみ蒸着することができる。これによって、所望の有機ＥＬ素子を基材に形成することができ、従来のような帯状のシャドーマスクは不要になる。さらに、この蒸着に際し、基材の位置ずれが生じていない場合には、遮蔽装置の回動速度とローラの回転速度を等しくして、気化材料の蒸着が行われる。これに対し、基材の位置ずれが生じている場合には、そのずれに応じて遮蔽装置の回動速度を変更することによって、そのずれによる影響を修正できる。
【発明の効果】
【００１３】
以上の如く、本発明によれば、従来のような帯状のシャドーマスクを不要にしつつも、蒸着源からの気化材料を所望のパターンで基材に蒸着することができ、搬送の際に生じ得る基材の位置ずれを修正できる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】図１は、本発明の一実施形態に係る有機ＥＬ素子製造装置の概要平面図を示す。
【図２】図２は、同実施形態に係る有機ＥＬ素子製造装置の概要正面図を示す。
【図３】図３は、同実施形態に係る有機ＥＬ素子の製造装置の要部の平面図である。
【図４】図４は、同実施形態に係る有機ＥＬ素子の製造装置の要部の平面図である。
【図５】図５は、同実施形態に係る有機ＥＬ素子の製造装置の要部の断面図である。
【図６】図６は、同実施形態に係る遮断装置の正面図である。
【図７】図７は、同実施形態に係る遮断装置の正面図である。
【図８】図８は、同実施形態に係る製造方法で製造された有機ＥＬ素子の要部平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明に係る有機ＥＬ素子の製造装置（以下、単に「製造装置」ともいう）及び製造方法における一実施形態について、図１〜図８を参酌して説明する。
【００１６】
本発明に係る製造装置は、図１〜図７に示すように、内部が真空である複数（図例では３つ）の真空室１と、帯状の基材８１が真空室１の内部を通過するように、基材８１を所定の方向（以下、「走行方向」ともいう）Ｘに沿って走行させる走行装置２と、基材８１の搬送経路の中途部に設けられるととともに、この基材８１に接する複数のキャンローラ３と、基材８１に向けて気化材料を吐出する複数の蒸着源４と、キャンローラ３の近傍位置に設けられるとともに、キャンローラ３に接触する基材８１を所定の位置において蒸着源４から遮蔽する遮蔽装置５と、キャンローラ３を駆動する駆動装置（以下「第１駆動装置」という）６と、遮蔽装置５を駆動する駆動装置（以下「第２駆動装置」という）７と、基材８１の位置を検出するセンサ９と、走行装置２、第１駆動装置及び第２駆動装置７を駆動制御する制御装置（図示せず）とを備える。
【００１７】
複数の真空室１は、走行方向Ｘに沿って連設されている。また、各真空室１の内部が真空となるように、各真空室１には、真空ポンプ等の真空発生装置（図示せず）が接続されている。
【００１８】
走行装置２は、基材８１を送る送り出しローラ２１と、基材８１（詳しくは、気化材料を基材８１に蒸着して形成された有機ＥＬ素子８）を巻き取る巻き取りローラ２２と、送り出しローラ２１及び巻き取りローラ２２間に配置され、基材８１を支持する複数の支持ローラ２３を備える。そして、走行装置２は、基材８１が走行方向Ｘに沿う直線状になる部分を有するようにして、基材８１を走行させている。
【００１９】
送り出しローラ２１は、真空室１の内部で且つ上流側に配置されていると共に、巻き取りローラ２２は、真空室１の内部で且つ下流側に配置されている。また、複数の支持ローラ２３は、真空室１の内部に配置されていると共に、走行方向Ｘに並設されている。そして、複数の支持ローラ２３は、基材８１に掛け渡されていると共に、基材８１を支持している。
【００２０】
図１、図２に示すように、各蒸着源４は、各真空室１の内部に配置されていると共に、キャンローラ３の半径方向において、基材８１と対面するように配置されている。
【００２１】
図３〜図７に示すように、遮蔽装置５は、基材８１を遮蔽する遮蔽部５１と、遮蔽部５１を回転移動させることにより、遮蔽部５１の位置を切り替える切替機構５２を備える。切替機構５２は、遮蔽部５１が蒸着源４及び基材８１間に配置されることで基材８１を遮蔽させる遮蔽位置と、遮蔽部５１が蒸着源４及び基材８１間から退避されることで基材８１を遮蔽するのを解除する遮蔽解除位置とに切り替える。
【００２２】
遮蔽部５１は、蒸着源４から吐出される所定の気化材料が、有機ＥＬ素子８を形成すべき所定の部位へ蒸着されることを許容するとともに、この所定の部位を除く部位に気化材料が付着しないように遮蔽するためのものである。ここで、「所定の部位を除く部位」とは、遮蔽部５１が遮蔽のために基材８１に重ねられたとき、このように重ねられた基材８１の部位をいう。
【００２３】
各切替機構５２は、キャンローラ３に固定される本体部５２ａと、キャンローラ３の回転中心線に平行な軸で回転するように本体部５２ａに固定される第１回転体５２ｂと、第１回転体５２ｂの軸と直交する方向に沿って配置される軸で回転するように本体部５２ａに固定され、かつ、第１回転体５２ｂの駆動を受ける第２回転体５２ｃとを備える。
【００２４】
そして、各切替機構５２は、一端部が第１回転体５２ｂの軸に連結される第１リンク体５２ｄと、一端部が第２回転体５２ｃの軸に連結され且つ他端部が遮蔽部５１の端部に連結される第２リンク体５２ｅとを備える。さらに、各切替機構５２は、第１リンク体５２ｄの他端部に回転可能に取り付けられるカムフォロワ５２ｆと、カムフォロワ５２ｆに摺接されるカム５２ｇとを備える。
【００２５】
第１回転体５２ｂ及び第２回転体５２ｃの内部には、磁性体が設けられている。これにより、第１回転体５２ｂの回転に伴って、第２回転体５２ｃの磁性体が第１回転体５２ｂの磁性体から磁力を受け、第２回転体５２ｃが回転する。なお、第１回転体５２ｂと第２回転体５２ｃとは、離間して配置されている。
【００２６】
カム５２ｇは、円板状に構成される。このカム５２ｇは、キャンローラ３の回転中心と同心状に配置されている。しかしながら、カム５２ｇは、キャンローラ３とともに回転することはなく、真空室１において保持されている。
【００２７】
カム５２ｇは、遮蔽部５１を遮蔽解除位置に維持するための第１領域５２ｈと、遮蔽部５１を遮蔽解除位置から遮蔽位置に移動させるための第２領域５２ｉと、遮蔽部５１を遮蔽位置において維持するための第３領域５２ｊと、遮蔽部５１を遮蔽位置から遮蔽解除位置に移動させるための第４領域５２ｋを備える。
【００２８】
第１領域５２ｈは、円板状のカム５２ｇの外周面に所定の曲率半径で側面視円弧状のカム面を有する。第２領域５２ｉは、所定の傾斜角度で傾斜する側面視直線状のカム面を有する。この第２領域５２ｉは、その一端部が円弧状の第１領域５２ｈの一端部に繋がっている。
【００２９】
第３領域５２ｊは、所定の曲率半径による側面視円弧状のカム面を有する。第３領域５２ｊの曲率半径は、第１領域５２ｈの曲率半径よりも小さく設定されている。第３領域５２ｊは、その一端部が第２領域５２ｉの他端部に繋がっている。
【００３０】
第４領域５２ｋは、所定の傾斜角度で傾斜する側面視直線状のカム面を有する。この第４領域５２ｋの傾斜の方向は、第２領域５２ｉの傾斜の方向とは逆に設定されている。この第４領域５２ｋは、一端部が第３領域５２ｊの他端部に繋がっている。また、この第４領域５２ｋは、その他端部が第１領域５２ｈの他端部に繋がっている。
【００３１】
カムフォロア５２ｆは、カム５２ｇの第１領域５２ｈから第４領域５２ｋへと順に移動するように構成される。
【００３２】
なお、切替機構５２においては、付勢装置（図示せず）により、カムフォロワ５２ｆがカム５２ｇの各領域（第１領域５２ｈ〜第４領域５２ｋ）に接触した状態を維持するように付勢されている。
【００３３】
第１駆動装置は、図３〜図５に示すように、キャンローラ３を駆動する駆動軸６１と、この駆動軸６１を回転駆動する駆動モータ（図示せず）とを有する。駆動軸６１は、キャンローラ３の中心部に形成される孔３ａに挿通されている。駆動軸６１は、その中途部にキャンローラ３が固定されている。駆動軸６１は、キャンローラ３に固定されることで、このキャンローラ３を回転駆動可能に構成される。
【００３４】
また、駆動軸６１は、遮蔽装置５のカム５２ｇの中央部に形成された孔５３に挿通されている。より具体的には、駆動軸６１は、カム５２ｇの中央部の孔５３に設けられる軸受け５４に挿通されている。これにより、駆動軸６１は、カム５２ｇに対して相対的に回転可能となるようにこのカム５２ｇに連結されている。しかしながら、カム５２ｇは、固定部材５５に固定されており、駆動軸６１との相対回転を許容されるが、自転することはない。
【００３５】
駆動モータは、制御装置による制御によって、駆動軸６１を回転駆動し、それによってキャンローラ３を所定の回転速度で回転駆動する。
【００３６】
第２駆動装置７は、図３〜図５に示すように、第２駆動装置７は、遮蔽装置５を前記ローラの軸心まわりに回動させる回動機構７１と、該回動機構７１を駆動する駆動モータ７２とを備える。
【００３７】
回動機構７１は、図５に示すように、遮蔽装置をキャンローラの軸心まわりに回動（公転）させるための歯車機構７３と、この歯車機構７３と駆動モータ７２とを接続する接続部材（カップリング）７４とを有する。
【００３８】
歯車機構７３は、遮蔽装置を支持する第１歯車７３ａと、駆動モータ７２に接続される第２歯車７３ｂと、第１歯車７３ａと第２歯車７３ｂとの間に設けられる第３歯車７３ｃとを備える。
【００３９】
第１歯車７３ａは、環状（例えば円環状）の板形状に構成される。本実施形態では、第１歯車７３ａはリング歯車であり、その内周面に所定のピッチで歯（図示せず）が形成されている。
【００４０】
第２歯車７３ｂには、平歯車が採用されている。第２歯車７３ｂを駆動する駆動軸７３ｄは、カム５２ｇに形成された貫通孔５６に挿通されている。この貫通孔５６には、軸受け７３ｅが設けられており、第２歯車７３ｂの駆動軸７３ｄは、この軸受け７３ｅに回転可能に支持されている。第２歯車７３ｂの駆動軸７３ｄは、その一端部が接続部材７４を介して駆動モータ７２に接続されている。
【００４１】
第３歯車７３ｃには、平歯車が採用されている。この第３歯車７３ｃを駆動する駆動軸７３ｆは、第２歯車７３ｂの軸受け７３ｅに固定される支持部材７３ｇに回転自在に支持されている。これにより、第３歯車７３ｃは、第２歯車７３ｂの駆動力を第１歯車７３ａに伝達できる。
【００４２】
接続部材７４は、駆動モータ７２の駆動軸７２ａと、第２歯車７３ｂの駆動軸７３ｄを同心状に接続する。この接続部材７４は、駆動モータ７２の駆動軸７２ａと第２歯車７３ｂの駆動軸７３ｄとの接続及び接続解除を自在に操作するための操作ハンドル７４ａを有する。この操作ハンドル７４ａは、真空室１の外側で、この真空室１に設けられる扉１２に支持されている。
【００４３】
図５に示すように、駆動モータ７２は、真空室１に設けられる扉１２に支持されている。この駆動モータ７２は、その本体部が真空室１の外側で、この真空室１の扉１２に支持されている。駆動モータ７２の駆動軸７２ａは、この扉１２の貫通しており、その先端部が真空室１内で、第２歯車７３ｂの駆動軸７３ｄと接続される。
【００４４】
センサ９は、図３、図４に示すように、キャンローラ３の近傍位置（２箇所）に配置されている。このセンサ９は、基材８１の位置及び、基材８１に気化材料が蒸着された所定部位の位置、及び遮蔽装置によって遮蔽されることで、気化材料が蒸着されていない部位（所定部位を除く部位）の位置を検出することができる。すなわち、センサ９は、基材８１に形成されるパターンニングの位置により、基材８１に形成される有機ＥＬ素子８の位置を検出することができる。センサ９は、検出した位置に関するデータを制御装置に送信するように構成される。
【００４５】
制御装置は、走行装置２、第１駆動装置、及び第２駆動装置７を制御する。この制御装置は、センサ９から送信される基材８１のデータに基づいて、基材８１の位置が適正であるか否かを判断し、適正でないと判断した場合には、これを修正すべく、第２駆動装置７の制御を行うことができる。
【００４６】
本実施形態に係る有機ＥＬ素子の製造装置における構成については以上の通りであり、次に、本実施形態に係る有機ＥＬ素子の製造方法について説明する。
【００４７】
まず、基材８１は、走行装置２の送り出しローラ２１から巻き取りローラ２２に向かって搬送される。このとき、基材８１は、各真空室１内に設けられる各キャンローラ３に接触して搬送される。キャンローラ３は、第１駆動装置によって所定の回転速度で回転駆動される。また、遮蔽装置５は、第２駆動装置７によって、キャンローラ３の回転速度と同じ速度で、キャンローラ３の軸心（すなわち駆動軸６１）まわりに回動している。
【００４８】
各キャンローラ３に設けられている遮蔽装置５は、遮蔽部５１を遮蔽解除位置から遮蔽位置へと移動させ、基材８１を蒸着源４から遮蔽する。
【００４９】
この遮蔽部５１は、カムフォロア５２ｆが、カム５２ｇの第１領域５２ｈから第２領域５２iへと移動したとき、遮断解除位置（図７参照）から遮蔽位置（図６参照）への移動を開始する。カムフォロア５２ｇが第２領域５２ｉに沿って第３領域５２ｊへと移動することで、第１リンク体５２ｄが第１回転体５２ｂの回転軸まわりに回動し、これに連動して、第１回転体５２ｂが回転する。さらに第１回転体５２ｂの回転に連動して、第２回転体５２ｃが回転する。このとき、第２回転体５２ｃの動きに連動して、第２リンク体５２ｅが第２回転体５２ｃの回転軸（軸心）回りに回動する。これによって、遮蔽部５１は、遮蔽解除位置から遮蔽位置へと移動する。
【００５０】
カムフォロア５２ｆが第２領域５２ｉから第３領域５２ｊに移動し、この第３領域５２ｊに沿って移動する間、第１リンク体５２ｄは回動せず、したがって、遮蔽部５１は、遮蔽位置に位置した状態を維持している。これにより、遮蔽部５１に遮蔽された基材８１において、気化材料が蒸着される所定部位を除く部位に、気化材料が蒸着するのを防止している。
【００５１】
そして、カムフォロア５２ｆが第３領域５２ｊから第４領域５２ｋへと移動したとき、この遮蔽部５１の遮蔽位置から遮蔽解除位置への退避が開始される。カムフォロア５２ｆは、第４領域５２ｋに沿って移動することで、第１リンク体５２ｄを第１回転体５２ｃの回転軸回りに回動させる。このとき、第１リンク体５２ｄは、カムフォロア５２ｆが第２領域５２iを移動するときの回動の方向とは逆の方向に回動する。この第１リンク体５２ｄの回動に連動して、第１回転体５２ｂ、第２回転体５２ｃが回転し、さらに、第２リンク体５２ｅが回動する。これにより、遮蔽部５１は、遮蔽位置から遮蔽解除位置へと移動する。
【００５２】
その後、カムフォロア５２ｆは、第４領域５２ｋから第１領域５２ｈへと移動する。カムフォロア５２ｆが第４領域５２ｋに沿って移動する間、第１リンク体５２ｄは回動せず、したがって、遮蔽部５１は、遮蔽解除位置に位置した状態を維持している。
【００５３】
上記のような通常の運転によって、所望の有機ＥＬ素子８が基材８１に形成される。有機ＥＬ素子８は、図８に示すように、基材８１の一方側の面に蒸着源４からの気化材料が蒸着されて形成される下部電極層８２と、下部電極層８２の上から気化材料が蒸着されて形成される有機層８３と、有機層８３の上から気化材料が蒸着されて形成される上部電極層８４とを備える。そして、有機ＥＬ素子８は、基材８１の幅方向に亘って気化材料が蒸着されていない部位、即ち、各層８２，８３，８４が設けられていない部位を備えている。
【００５４】
上記のような有機ＥＬ素子８の製造中に、制御装置は、センサ９からの信号に基づいて、基材８１の所定位置に有機ＥＬ素子８が形成されているか否かを監視している。制御装置は、センサ９からの信号により、例えば、基材８１の熱膨張によって位置ずれが生じており、これよって有機ＥＬ素子８の位置が適正でないと判断した場合には、これを修正すべく、第２駆動装置７の駆動モータ７２に制御信号を送信する。具体的には、制御装置は、第２駆動装置７の駆動モータ７２の回転速度を変更することによって、遮蔽装置５の回動速度を変更する。これによって、遮蔽装置５は、キャンローラ３の回転速度とは異なる回動速度で回動し、通常運転の場合とは異なるタイミングで、基材８１の遮蔽・遮蔽解除を行う。これによって、遮蔽装置５の遮蔽部５１による基材８１の遮蔽位置が調整され、基材８１の位置ずれによる影響を修正することができる。
【００５５】
以上説明した本発明に係る有機ＥＬ素子８の製造装置１及び製造方法によれば、遮蔽装置５が基材８１を遮蔽することで、蒸着源４からの気化材料を基材８１の所定部位にのみ蒸着することができ、これによって所望の有機ＥＬ素子８を基材８１に形成することができ、従来のような帯状のシャドーマスクは不要になる。さらに、この蒸着に際し、基材８１の位置ずれが生じていない場合には、遮蔽装置５の回動速度とキャンローラ３の回転速度を等しくして、気化材料の蒸着が行われる。これに対し、基材８１の位置ずれが生じている場合には、そのずれに応じて遮蔽装置５の回動速度を変更することによって、そのずれによる影響を修正できる。
【００５６】
また、基材８１に形成されるパターンニングの位置によって有機ＥＬ素子８の位置をセンサ９が検知することで、有機ＥＬ素子８の位置を監視し、その位置が適正でなく、基材８１の位置ずれが生じている場合を検出できるようになる。
【００５７】
また、第２駆動装置７が回動機構７１と、この回動機構７１を駆動する駆動モータ７２とを備えることで、キャンローラ３の回転速度とは異なる回動速度で遮蔽装置５を駆動できるようになる。
【００５８】
なお、本発明は、上記の実施形態に限定されず、種々の変更・変形が可能である。
【００５９】
例えば、上記の実施形態では、第２駆動装置７の歯車機構７３は、第１歯車７３ａ、第２歯車７３ｂ、第３歯車７３ｃの３つの歯車によって構成した例を示したが、これに限定されず、例えば第３歯車７３ｃを省略し、第２歯車７３ｂによって第１歯車７３ａを直接駆動するようにしてもよい。各歯車は、平歯車に限定されず、他の種々の歯車を使用できる。
【００６０】
また、歯車機構７３を使用することなく、例えば、第１歯車７３ａ、第２歯車７３ｂ、第３歯車７３ｃの代わりにローラを使用して、遮蔽装置５を回動させてもよい。
【符号の説明】
【００６１】
１…真空室、２…走行装置、３…キャンローラ、４…蒸着源、５…遮蔽装置、７…第２駆動装置、８…有機ＥＬ素子、９…センサ、８１…基材、Ｘ…走行方向
【図１】
2013196848.tif 000003
【図２】
2013196848.tif 000004
【図３】
2013196848.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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