(57)【要約】【課題】現像ムラが生じることが抑制できる現像装置を提供する。【解決手段】現像装置１Ａは、基板１００の被処理面に対して現像液を吐出供給する吐出ノズル２１と、吐出ノズル２１が設置された現像室２０と、現像室２０を横断するように設けられた搬送経路２と、搬送経路２上において被処理面が上方を向いた姿勢で基板１００を搬送方向に沿って移動させる搬送ローラ３とを備える。搬送経路２は、現像室２０の入口部分において搬送方向における基板１００の前端側の部分が搬送方向における基板１００の後端側の部分よりも低所に位置することとなるように基板１００を傾斜させる下り勾配部２Ｂを有し、吐出ノズル２１は、下り勾配部２Ｂの上方に配置される。【選択図】図１
2013229419.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の被処理面に対して現像液を吐出供給する吐出ノズルと、
前記吐出ノズルが設置された現像室と、
前記現像室を横断するように設けられた搬送経路と、
前記搬送経路上において被処理面が上方を向いた姿勢で基板を搬送方向に沿って移動させる搬送機構とを備え、
前記搬送経路は、前記現像室の入口部分において前記搬送方向における基板の前端側の部分が前記搬送方向における基板の後端側の部分よりも低所に位置することとなるように基板を傾斜させる下り勾配部を有し、
前記吐出ノズルが、前記下り勾配部の上方に配置されている、現像装置。
【請求項２】
前記下り勾配部が、前記搬送経路の、前記現像室の入口部分よりも上流側であってかつ前記現像室の入口部分に連続する部分にまで達している、請求項１に記載の現像装置。
【請求項３】
前記下り勾配部が、基板の全体を傾斜させるものである、請求項１または２に記載の現像装置。
【請求項４】
前記下り勾配部が、基板の一部のみを傾斜させるものである、請求項１または２に記載の現像装置。
【請求項５】
前記吐出ノズルが、鉛直方向を基準とした場合に前記搬送方向における前方側に向けて現像液の吐出方向が傾くこととなるように、傾斜して設けられている、請求項１から４のいずれかに記載の現像装置。
【請求項６】
搬送方向に沿って現像室を横断するように被処理面が上方を向いた姿勢で基板を移動させつつ、移動している前記基板の前記被処理面に対して前記現像室の入口部分において上方から現像液を吐出供給することにより、前記現像室にて現像を行なう現像方法であって、
前記現像液が吐出供給される前記現像室の入口部分において、前記搬送方向における前記基板の前端側の部分が前記搬送方向における前記基板の後端側の部分よりも低所に位置することとなるように、前記基板を傾斜させることを特徴とする、現像方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、現像装置および現像方法に関し、より特定的には、基板を平流し方式で移動させつつ当該基板の被処理面に対して現像液を吐出供給することによって現像を行なう現像装置および現像方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶パネルや半導体装置等の製造工程の一つである現像工程においては、現像装置が使用される。現像装置には、スピン式、ディップ式、シャワー式、パドル式（液盛り式）等、種々の方式のものが存在する。
【０００３】
このうち、シャワー式およびパドル式の現像装置にあっては、基板を平流し方式で移動させつつ当該基板の被処理面に対して現像液を吐出供給する構成であるため、現像処理をその前後に実施される各種処理と連続して実施することが可能になるメリットが得られる。
【０００４】
ここで、シャワー式の現像装置は、現像液を高圧力かつ大流量でシャワー状に基板の被処理面に吐出供給するものであり、パドル式の現像装置は、現像液を低圧力かつ小流量で液膜状に基板の被処理面に穏やかに吐出供給するものである。
【０００５】
なお、シャワー式の現像装置が開示された文献としては、たとえば特開２０１１−１２４３０９号公報（特許文献１）がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１１−１２４３０９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
このうち、シャワー式の現像装置にあっては、上述したように現像液が高圧力かつ大流量で吐出供給されるため、現像室に投入された部分の基板表面に対して供給された現像液が基板表面を伝い、未だ現像室に投入されていない部分の基板表面にまで流出してしまう問題がある。
【０００８】
上述した現像液の流出が生じた場合には、製品に現像ムラが生じたり、またその程度が甚だしい場合にはレストパターンの消失に繋がってしまったりすることになるため、従来においては、現像室の入口部分にエアナイフを設置し、当該エアナイフを用いて基板表面にエアを吹き付けることでその流出を防止する対策が採られていた。
【０００９】
しかしながら、当該対策を施した場合には、現像液にエアが少なからず吹き付けられることとなってしまうため、現像液に泡沫が発生したり、現像液がミストとなって飛散したりする問題が別途生じてしまうことになる。これら泡沫やミストが発生した場合には、結果的に斑点状の現像ムラが発生してしまうことになる。
【００１０】
したがって、本発明は、上述した問題を解決すべくなされたものであり、現像ムラが生じることが抑制できる現像装置および現像方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明に基づく現像装置は、基板の被処理面に対して現像液を吐出供給する吐出ノズルと、上記吐出ノズルが設置された現像室と、上記現像室を横断するように設けられた搬送経路と、上記搬送経路上において被処理面が上方を向いた姿勢で基板を搬送方向に沿って移動させる搬送機構とを備えている。上記搬送経路は、上記現像室の入口部分において上記搬送方向における基板の前端側の部分が上記搬送方向における基板の後端側の部分よりも低所に位置することとなるように基板を傾斜させる下り勾配部を有しており、上記吐出ノズルは、上記下り勾配部の上方に配置されている。
【００１２】
上記本発明に基づく現像装置にあっては、上記下り勾配部が、上記搬送経路の、上記現像室の入口部分よりも上流側であってかつ上記現像室の入口部分に連続する部分にまで達していることが好ましい。
【００１３】
上記本発明に基づく現像装置にあっては、上記下り勾配部が、基板の全体を傾斜させるものであることが好ましい。
【００１４】
上記本発明に基づく現像装置にあっては、上記下り勾配部が、基板の一部のみを傾斜させるものであってもよい。
【００１５】
上記本発明に基づく現像装置にあっては、上記吐出ノズルが、鉛直方向を基準とした場合に上記搬送方向における前方側に向けて現像液の吐出方向が傾くこととなるように、傾斜して設けられていることが好ましい。
【００１６】
本発明に基づく現像方法は、搬送方向に沿って現像室を横断するように被処理面が上方を向いた姿勢で基板を移動させつつ、移動している上記基板の上記被処理面に対して上記現像室の入口部分において上方から現像液を吐出供給することにより、上記現像室にて現像を行なうものであって、上記現像液が吐出供給される上記現像室の入口部分において、上記搬送方向における上記基板の前端側の部分が上記搬送方向における上記基板の後端側の部分よりも低所に位置することとなるように、上記基板を傾斜させることを特徴としている。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、現像ムラが生じることが抑制できる現像装置および現像方法とすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の実施の形態１における現像装置の構成を示す概略図である。
【図２】本発明の実施の形態２における現像装置の構成を示す概略図である。
【図３】本発明の実施の形態３における現像装置の構成を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、本発明の実施の形態について、図を参照して詳細に説明する。なお、以下に示す実施の形態においては、同一のまたは共通する部分について図中同一の符号を付し、その説明は繰り返さない。
【００２０】
（実施の形態１）
図１は、本発明の実施の形態１における現像装置の構成を示す概略図である。まず、この図１を参照して、本実施の形態における現像装置１Ａについて説明する。
【００２１】
図１に示すように、本実施の形態における現像装置１Ａは、基板１００を平流し方式で移動させつつ、当該基板１００の被処理面に対して現像液を吐出供給することによって現像を行なういわゆるシャワー式のものであって、基板１００が搬送される搬送経路２と、搬送経路２上において基板１００を移動させるための搬送機構３と、搬送経路２上に設けられた前室１０および現像室２０とを主として備えている。
【００２２】
搬送機構３は、搬送経路２上において被処理面が上方を向いた姿勢で基板１００を搬送方向（図中に示す矢印Ｘ方向）に沿って移動させるコンベヤ式ものであり、たとえばローラやベルト等を用いた各種の搬送手段によって構成される。搬送機構３は、搬送経路２の搬送面である上面が上方を向くように、後述する領域Ａ，Ｂを除く部分において水平に設置されている。
【００２３】
前室１０は、搬送経路２がその内部を横断するように設けられた槽にて構成されており、搬送経路２に沿って現像室２０に隣接してその上流側に設置されている。前室１０は、現像処理に先立って基板１００に対して行なわれる処理が実施される処理槽であってもよいし、当該処理が実施された後の基板１００を受け入れる受入槽であってもよい。
【００２４】
現像室２０は、搬送経路２がその内部を横断するように設けられた槽にて構成されており、搬送経路２に沿って前室１０に隣接してその下流側に設置されている。現像室２０は、その内部において現像処理が実施されるものである。
【００２５】
前室１０および現像室２０には、上述した搬送機構３の一部が設置されており、これにより、搬送経路２が前室１０および現像室２０を横断するように設けられることになる。なお、現像室２０の下流側には、現像処理に続いて行なわれるリンス処理が実施される図示しないリンス室が設置されていることが好ましいが、必ずしもそのように構成されている必要はない。
【００２６】
現像室２０の入口部分であって搬送経路２の上方の位置には、吐出ノズル２１が設置されている。吐出ノズル２１は、現像室２０に搬入された基板１００の被処理面（すなわち上面）に対して現像液をシャワー状に吐出供給するものである。
【００２７】
また、現像室２０の搬送経路２の下方の位置には、パン２２が設置されている。パン２２は、基板１００の被処理面から零れ出した余剰の現像液を回収してこれを再利用するために設置されるものであり、現像液を受け止めてこれを現像室２０の外部に排出する。
【００２８】
図１に示すように、搬送経路２は、図示する領域Ａに設けられた上り勾配部２Ａと、図示する領域Ｂに設けられた下り勾配部２Ｂとを有している。上り勾配部２Ａが設けられた領域Ａは、前室１０のみによって包含されるように延在しており、下り勾配部２Ｂが設けられた領域Ｂは、当該上り勾配部２Ａが設けられた領域Ａの下流側に連続するように、前室１０と現像室２０とに跨って延在している。
【００２９】
上り勾配部２Ａは、搬送方向における基板１００の前端側の部分が搬送方向における基板１００の後端側の部分よりも高所に位置することとなるように、基板１００の全体を傾斜させて移動させるための部位である。上り勾配部２Ａは、たとえば図示するように当該部分に対応した搬送機構３の設置位置が、鉛直方向に沿って上流側から下流側に向けて徐々に高くなるように調節して設けられることで構成される。
【００３０】
下り勾配部２Ｂは、搬送方向における基板１００の前端側の部分が搬送方向における基板１００の後端側の部分よりも低所に位置することとなるように、基板１００の全体を傾斜させて移動させるための部位である。下り勾配部２Ｂは、たとえば図示するように当該部分に対応した搬送機構３の設置位置が、鉛直方向に沿って上流側から下流側に向けて徐々に低くなるように調節して設けられることで形成される。
【００３１】
次に、図１を参照して、本実施の形態における現像装置１Ａにおける動作ならびに本実施の形態における現像方法について説明する。
【００３２】
図１に示すように、現像装置１Ａにおいては、搬送機構３が駆動されることにより、基板１００がその被処理面が上方を向いた姿勢で搬送経路２上を上流側から下流側に向かって図中に示す矢印Ｘ方向に沿って移動される。これにより、基板１００は、前室１０および現像室２０をこの順で移動することになり、その際、上述した上り勾配部２Ａおよび下り勾配部２Ｂをそれぞれこの順で通過することになる。
【００３３】
より詳細には、基板１００は、前室１０に設けられた上り勾配部２Ａにおいて、その前端側の部分が後端側の部分よりも高所に位置するように傾斜した状態で搬送され、前室１０の出口部分および現像室２０の入口部分に設けられた下り勾配部２Ｂにおいて、その前端側の部分が後端側の部分よりも低所に位置するように傾斜した状態で搬送される。そして、現像室２０に達した基板１００の被処理面には、当該現像室２０の入口部分において吐出ノズル２１から現像液がシャワー状に吐出供給される。
【００３４】
すなわち、本実施の形態における現像方法にあっては、現像室２０の入口部分において、搬送方向における基板１００の前端側の部分が搬送方向における基板１００の後端側の部分よりも低所に位置することとなるように、基板１００が傾斜した状態とされて移動されつつ、当該傾斜した状態にある基板１００に対して、現像室２０の入口部分において現像液がシャワー状に吐出供給される。
【００３５】
そのため、現像液の吐出供給の際に、余剰の現像液の大部分は、図中において矢印Ｃにて示すように基板１００の被処理面を伝って流下し、その後、基板１００の前端からパン２２へと零れ落ちることになり、残る一部は、基板１００の搬送方向と直交する方向の端部からパン２２へと零れ落ちることになる。なお、パン２２へ零れ落ちた余剰の現像液は、図中において矢印Ｄにて示すようにパン２２を介して現像室２０から外部へと排出され、再び吐出ノズル２１に戻される。
【００３６】
したがって、余剰の現像液が、被処理面を伝って基板１００の後端側に向けて流れることがなくなり、未だ現像室に投入されていない部分の基板表面にまで現像液が流出してしまうことが防止できる。その結果、製品に現像ムラが生じたり、レストパターンが消失してしまったりすることが抑制できる。
【００３７】
また、上記構成を採用することにより、現像室２０の入口部分にエアナイフを設置する必要もなくなるため、泡沫の発生やミストの発生が問題となることもなく、この点においても、製品に現像ムラが生じたり、レストパターンが消失してしまったりすることが抑制できる。さらには、エアナイフの設置が不要になるため、装置コストが軽減されるのみならず、製造コストの削減にも寄与することになる。
【００３８】
加えて、基板１００の後端から前室１０側に向けて現像液が零れ落ちることもなくなるため、効率的に現像液をパン２２を用いて回収することも可能になる。
【００３９】
以上において説明したように、本実施の形態における現像装置１Ａおよび現像方法とすることにより、従来に比して、現像ムラが生じることが抑制できる現像装置および現像方法とすることができる。
【００４０】
ここで、下り勾配部２Ｂは、上述したように、吐出ノズル２１が設置された現像室２０の入口部分を横断するように設けられていることが好ましく、搬送経路２の、現像室２０の入口部分よりも上流側であってかつ現像室２０の入口部分に連続する部分（すなわち、前室１０の出口部分）にまで達するように延在していることが好ましい。
【００４１】
このように構成すれば、現像室２０の入口部分に差し掛かった基板１００が、予め上述した如くの傾斜姿勢（すなわち、搬送方向における基板１００の前端側の部分が搬送方向における基板１００の後端側の部分よりも低所に位置する基板１００の傾斜姿勢）にあることになり、上述した効果がより確実に得られることになる。
【００４２】
また、上記効果をより確実にするためには、鉛直方向を基準とした場合に、現像室２０の入口部分における現像液の吐出方向が基板１００の搬送方向における前方側を向くこととなるように、吐出ノズル２１を図示する如くに傾斜配置することが好ましい。このように構成すれば、基板１００の被処理面に付着した現像液が基板１００の前端側に向かってよりスムーズに流下するようになるため、未だ現像室に投入されていない部分の基板表面にまで現像液が流出してしまうことがより確実に防止できる。
【００４３】
また、上記効果を確実にするためには、下り勾配部２Ｂの傾斜角度（すなわち、下り勾配部２Ｂにおける搬送経路２の搬送面が水平面と成す角度のうちの小さい方の角）が、２°以上５°以下とされることが好ましい。これは、下り勾配部２Ｂの傾斜角度を２°未満とした場合には、基板１００の被処理面に付着した現像液の基板１００の前端側に向けての流下が十分にスムーズにならないためであり、下り勾配部２Ｂの傾斜角度を５°より大きくした場合には、基板１００が下り勾配部２Ｂ上において滑り落ちてしまうおそれが生じるためである。
【００４４】
（実施の形態２）
図２は、本発明の実施の形態２における現像装置の構成を示す概略図である。以下においては、この図２を参照して、本実施の形態における現像装置１Ｂについて説明する。
【００４５】
図２に示すように、本実施の形態における現像装置１Ｂは、上述した実施の形態１における現像装置１Ａと比較した場合に、下り勾配部２Ｂよりも上流側に位置する搬送経路２の構成においてのみ相違している。すなわち、本実施の形態における現像装置１Ｂにあっては、下り勾配部２Ｂよりも上流側に上り勾配部２Ａが設けられておらず、搬送機構３は、図示する領域Ｂに設けられた下り勾配部２Ｂを除く部分において水平に設置されている。
【００４６】
このように構成した場合にも、上述した実施の形態１の場合と同様に、現像室２０の入口部分に位置する下り勾配部２Ｂにおいて、搬送方向における基板１００の前端側の部分が搬送方向における基板１００の後端側の部分よりも低所に位置するように基板１００が傾斜した状態とされ、この状態において現像液が吐出ノズル２１からシャワー状に基板１００の被処理面に対して吐出供給されることになる。
【００４７】
したがって、本実施の形態における現像装置１Ｂとした場合にも、上述した実施の形態１において説明した効果と同様の効果を得ることができる。
【００４８】
（実施の形態３）
図３は、本発明の実施の形態３における現像装置の構成を示す概略図である。以下においては、この図３を参照して、本実施の形態における現像装置１Ｃについて説明する。
【００４９】
図３に示すように、本実施の形態における現像装置１Ｃは、上述した実施の形態１における現像装置１Ａと基本的に同様の構成を有しており、異なる点は、処理対象物である基板１００が上述した実施の形態１の場合に比べて大型のものであり、その搬送方向に沿った長さが長い点にある。このような大型の基板１００にあっては、その支持の状態の如何によって撓み変形が生じることになり、これを搬送する場合には、基板１００を支持する搬送経路２の搬送面の表面形状に応じて基板１００に撓み（反り）が生じることになる。
【００５０】
本実施の形態における現像装置１Ｃにあっては、基板１００が上り勾配部２Ａと下り勾配部２Ｂとに跨るように位置した状態において、これら上り勾配部２Ａおよび下り勾配部２Ｂの境目に対応した部分を基点に基板１００に撓み変形が生じることになり、上り勾配部２Ａ上に位置する基板１００の後端寄りの部分が、その前端側の部分が後端側の部分よりも高所に位置するように傾斜した状態となり、下り勾配部２Ｂ上に位置する基板１００の前端寄りの部分が、その前端側の部分が後端側の部分よりも低所に位置するように傾斜した状態となる。
【００５１】
すなわち、本実施の形態における現像装置１Ｃにあっては、上述した上り勾配部２Ａが、搬送方向における基板１００の前端側の部分が搬送方向における基板１００の後端側の部分よりも高所に位置することとなるように、基板１００の一部を傾斜させて移動させるための部位となり、下り勾配部２Ｂが、搬送方向における基板１００の前端側の部分が搬送方向における基板１００の後端側の部分よりも低所に位置することとなるように、基板１００の一部を傾斜させて移動させるための部位となる。
【００５２】
この場合にも、上述した実施の形態１の場合と同様に、現像室２０の入口部分に位置する下り勾配部２Ｂにおいて、搬送方向における基板１００の前端側の部分が搬送方向における基板１００の後端側の部分よりも低所に位置するように基板１００が傾斜した状態とされ、この状態において現像液が吐出ノズル２１からシャワー状に基板１００の被処理面に対して吐出供給されることになるため、上述した実施の形態１において説明した効果と同様の効果を得ることができる。
【００５３】
上述した本発明の実施の形態１ないし３においては、現像室の上流側に前室を設けた場合を例示したが、当該前室は必須の構成ではなく、現像室の上流側は、開放された空間にて構成されていてもよい。
【００５４】
また、上述した本発明の実施の形態１ないし３においては、下り勾配部が、搬送経路の、現像室の上流側であってかつ現像室の入口部分に連続する部分にまで達している場合を例示したが、当該下り勾配部は、現像室の内部のみによって包含されるように延在して設けられることとされていてもよい。その場合にも、現像液が吐出供給される圧力により、現像室の入口部分において搬送方向における基板の前端側の部分が搬送方向における基板の後端側の部分よりも低所に位置するように基板が傾斜することになるため、上述した効果を得ることができる。
【００５５】
さらには、上述した本発明の実施の形態１ないし３においては、現像室の入口部分に吐出ノズルのみを設置し、エアナイフを設置しない構成とした場合を例示したが、現像室の入口部分であって当該吐出ノズルの上流側にエアナイフを別途設けることとしてもよい。エアナイフを設置した場合には、前述のとおり泡沫やミストの発生が懸念されることになるが、現像室の入口部分に下り勾配部を設けることにより、上述したように未だ現像室に投入されていない部分の基板表面にまで現像液が流出してしまうことが防止できるため、エアナイフにて送圧されるエアの圧力を下げることが可能となり、このような泡沫やミストの発生が十分に抑制できることになる。したがって、本発明は、補助的な意味においてエアナイフを設置することを妨げるものではない。
【００５６】
このように、今回開示した上記実施の形態はすべての点で例示であって、制限的なものではない。本発明の技術的範囲は特許請求の範囲によって画定され、また特許請求の範囲の記載と均等の意味および範囲内でのすべての変更を含むものである。
【符号の説明】
【００５７】
１Ａ〜１Ｃ  現像装置、２  搬送経路、２Ａ  上り勾配部、２Ｂ  下り勾配部、３  搬送ローラ、１０  前室、２０  現像室、２１  吐出ノズル、２２  パン、１００  基板。
【図１】
2013229419.tif 000003
【図２】
2013229419.tif 000004
【図３】
2013229419.tif 000005