(57)【要約】【課題】微小な偏向ミラーのハンドリング及び位置決めが容易な光アシスト磁気ヘッド及び光学的結合構造を提供する。【解決手段】一の面と、一の面の所定の方向の一端に設けられた端面とを備え、ディスク状の記録媒体の回転に応じて記録媒体に対して浮上して相対移動するスライダと、一の面に固定され、所定の方向に光を出射する光源と、端面との接合面とは反対側の側面と、光入射面から入射した光を導く光導波路と、を有する磁気ヘッド部と、光源及び光入射面の双方に臨み、所定の曲率を有する凹型の反射面と、反射面に対して所定の方向に延伸され、かつ側面及び一の面のいずれかからなる基準面に当接されたフランジ部とを有し、反射面により光源からの光を光入射面に向けて反射及び集光させる偏向ミラーと、を備えたことを特徴とする光アシスト磁気ヘッド。【選択図】図２Ｂ
2013004160.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一の面と、前記一の面の所定の方向の一端に設けられた端面とを備え、ディスク状の記録媒体の回転に応じて前記記録媒体に対して浮上して相対移動するスライダと、
前記一の面に固定され、前記所定の方向に光を出射する光源と、
前記端面との接合面とは反対側の側面と、光入射面から入射した光を導く光導波路と、を有するヘッド部と、
前記光源及び前記光入射面の双方に臨み、所定の曲率を有する凹型の反射面と、前記反射面に対して所定の方向に延伸され、かつ前記側面及び前記一の面のいずれかからなる基準面に当接されたフランジ部とを有し、前記反射面により前記光源からの光を前記光入射面に向けて反射及び集光させる偏向ミラーと、
を備えたことを特徴とする光アシスト磁気ヘッド。
【請求項２】
前記基準面は、前記側面であり、
前記フランジ部は、前記側面に沿って延伸した板状の形状であって、
前記フランジ部の一対の板面のうち前記反射面が向いている側の板面と前記側面とを付き合わせて、前記偏向ミラーが前記スライダに間接的に固定されることを特徴とする請求項１に記載の光アシスト磁気ヘッド。
【請求項３】
前記偏向ミラーは、
前記側面に沿った前記偏向ミラーの固定可能範囲を広げるように、前記反射面の前記光入射面側の一部が切り欠かれていることを特徴とする請求項２に記載の光アシスト磁気ヘッド。
【請求項４】
前記フランジ部は、前記一対の板面のうちの少なくともいずれかにマークを有し、
前記基準面中の所定の位置と、前記マークとが、あらかじめ決められた位置関係となるように前記偏向ミラーが固定されることで、前記反射面が前記所定の位置に保持されることを特徴とする請求項２または請求項３に記載の光アシスト磁気ヘッド。
【請求項５】
前記基準面は、前記一の面であり、
前記フランジ部は、前記光源から前記反射面までの光路を挟み込むように設けられ、前記端面から反対側の端面に向かう方向に前記一の面に沿って延伸した一対の板状の形状であって、
前記フランジ部の一対の板面のうち前記反射面が向いている側の板面と前記一の面とを付き合わせて、前記偏向ミラーが前記スライダに直接的に固定されることを特徴とする請求項１に記載の光アシスト磁気ヘッド。
【請求項６】
前記偏向ミラーは、
前記一の面に沿った前記偏向ミラーの固定可能範囲を広げるように、前記反射面の前記光源側の一部が切り欠かれていることを特徴とする請求項５に記載の光アシスト磁気ヘッド。
【請求項７】
前記フランジ部は、前記一対の板面のうちの少なくともいずれかにマークを有し、
前記基準面中の所定の位置と、前記マークとが、あらかじめ決められた位置関係となるように前記偏向ミラーが固定されることで、前記反射面が前記所定の位置に保持されることを特徴とする請求項５または請求項６に記載の光アシスト磁気ヘッド。
【請求項８】
一の面と、前記一の面の所定の方向の一端に設けられた端面とを備えた基板と、
前記一の面に固定され、前記所定の方向に光を出射する光源と、
前記端面との接合面とは反対側の側面と、光入射面から入射した光を導く光導波路と、を有するヘッド部と、
前記光源及び前記光入射面の双方に臨み、所定の曲率を有する凹型の反射面と、前記反射面に対して所定の方向に延伸され、かつ前記側面及び前記一の面のいずれかからなる基準面に当接されたフランジ部とを有し、前記反射面により前記光源からの光を前記光入射面に向けて反射及び集光させる偏向ミラーと、
を備えたことを特徴とする光学的結合構造。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、光アシスト磁気ヘッド及び光学的結合構造の技術に関し、特に、ハンドリングが困難な微小サイズの構造において、光源からの光をミラーにより偏向させて光導波路に導く技術に関する構成を備えた光アシスト磁気ヘッド及び光学的結合構造に関する。
【背景技術】
【０００２】
ハードディスク装置（ＨＤＤ：Ｈａｒｄ  Ｄｉｓｋ  Ｄｒｉｖｅ）に用いられる磁気記録方式は、記録密度を高くしようとすると磁気ビットの間隔が狭くなり、超常磁性効果等により極性が不安定になる。このため、高い保磁力を有する記録媒体が必要になるが、そのような記録媒体を使用すると記録時に必要な磁場も大きくなる。然るに、記録ヘッドによって発生する磁場は飽和磁束密度によって上限が決まるが、その値は材料限界に近付いており飛躍的な増大が望めないという実情がある。そこで、記録時局所的に加熱して磁気軟化を生じさせて、保磁力が小さくなった状態で記録し、その後、加熱を止めて自然冷却することにより、記録された磁気ビットの安定性を保証する記録方式が提案されている。この記録方式は熱アシスト磁気記録方式と呼ばれている。
【０００３】
熱アシスト磁気記録方式では、記録媒体の加熱が瞬間的に行われることが望ましい。また、加熱する機構と、高速で回転する記録媒体とが接触することは許されない。そのため、加熱はレーザー光の微小スポットを記録媒体に照射して行われることが一般的であり、この方式は光アシスト磁気記録方式と呼ばれている。光アシスト磁気記録方式で超高密度記録を行う場合には、必要なスポット径は２０ｎｍ程度になるが、通常の光学系では回折限界があるため、光をそこまで集光することはできない。そのため、入射光波長以下のサイズの光学的開口から発生する近接場光（「近視野光」と称する場合がある）を利用した光アシスト磁気ヘッドが使用される場合がある。一般に光アシスト磁気ヘッドは、記録媒体上をその面に対して平行に移動するように設けられており、光アシスト磁気記録方式の磁気ヘッドの大きさは小さい。そのため、磁気ヘッドを構成する光学部品も小さいサイズのものが要求され、実際には、数十μｍ〜数百μｍのサイズものが用いられる。
【０００４】
光アシスト磁気ヘッドの例が特許文献１に開示されている。
【０００５】
また、特許文献１に記載の光アシスト磁気ヘッドでは、表面反射型の偏向ミラーにより、半導体レーザー（ＬＤ：Ｌａｓｅｒ  Ｄｉｏｄｅ）から出射した光を９０°偏向させて、光導波路に照射している。このような表面反射ミラーを用いることにより、ＬＤをスライダに横置きすることが可能となり、ヘッドの薄型化が可能となっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１１−６０４０８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
以上のようにスライダに光学部品が設けられる場合、その光学部品は微小であり、ハンドリングが困難である。そのため、どのように光学部品をハンドリングして位置決めし、スライダに取り付けるのかが問題となる。
【０００８】
即ち、本発明の目的は、微小な偏向ミラーのハンドリング及び位置決めが容易な光アシスト磁気ヘッド及び光学的結合構造を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
請求項１に記載の発明は、一の面と、前記一の面の所定の方向の一端に設けられた端面とを備え、ディスク状の記録媒体の回転に応じて前記記録媒体に対して浮上して相対移動するスライダと、前記一の面に固定され、前記所定の方向に光を出射する光源と、前記端面との接合面とは反対側の側面と、光入射面から入射した光を導く光導波路と、を有する磁気ヘッド部と、前記光源及び前記光入射面の双方に臨み、所定の曲率を有する凹型の反射面と、前記反射面に対して所定の方向に延伸され、かつ前記側面及び前記一の面のいずれかからなる基準面に当接されたフランジ部とを有し、前記反射面により前記光源からの光を前記光入射面に向けて反射及び集光させる偏向ミラーと、を備えたことを特徴とする光アシスト磁気ヘッドである。
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の光アシスト磁気ヘッドであって、前記基準面は、前記側面であり、前記フランジ部は、前記側面に沿って延伸した板状の形状であって、前記フランジ部の一対の板面のうち前記反射面が向いている側の板面と前記側面とを付き合わせて、前記偏向ミラーが前記スライダに間接的に固定されることを特徴とする。
請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の光アシスト磁気ヘッドであって、前記偏向ミラーは、前記側面に沿った前記偏向ミラーの固定可能範囲を広げるように、前記反射面の前記光入射面側の一部が切り欠かれていることを特徴とする。
請求項４に記載の発明は、請求項２または請求項３に記載の光アシスト磁気ヘッドであって、前記フランジ部は、前記一対の板面のうちの少なくともいずれかにマークを有し、前記基準面中の所定の位置と、前記マークとが、あらかじめ決められた位置関係となるように前記偏向ミラーが固定されることで、前記反射面が前記所定の位置に保持されることを特徴とする。
請求項５に記載の発明は、請求項１に記載の光アシスト磁気ヘッドであって、前記基準面は、前記一の面であり、前記フランジ部は、前記光源から前記反射面までの光路を挟み込むように設けられ、前記端面から反対側の端面に向かう方向に前記一の面に沿って延伸した一対の板状の形状であって、前記フランジ部の一対の板面のうち前記反射面が向いている側の板面と前記一の面とを付き合わせて、前記偏向ミラーが前記スライダに直接的に固定されることを特徴とする。
請求項６に記載の発明は、請求項５に記載の光アシスト磁気ヘッドであって、前記偏向ミラーは、前記一の面に沿った前記偏向ミラーの固定可能範囲を広げるように、前記反射面の前記光源側の一部が切り欠かれていることを特徴とする。
請求項７に記載の発明は、請求項５または請求項６に記載の光アシスト磁気ヘッドであって、前記フランジ部は、前記一対の板面のうちの少なくともいずれかにマークを有し、前記基準面中の所定の位置と、前記マークとが、あらかじめ決められた位置関係となるように前記偏向ミラーが固定されることで、前記反射面が前記所定の位置に保持されることを特徴とする。
請求項８に記載の発明は、一の面と、前記一の面の所定の方向の一端に設けられた端面とを備えた基板と、前記一の面に固定され、前記所定の方向に光を出射する光源と、前記端面との接合面とは反対側の側面と、光入射面から入射した光を導く光導波路と、を有するヘッド部と、前記光源及び前記光入射面の双方に臨み、所定の曲率を有する凹型の反射面と、前記反射面に対して所定の方向に延伸され、かつ前記側面及び前記一の面のいずれかからなる基準面に当接されたフランジ部とを有し、前記反射面により前記光源からの光を前記光入射面に向けて反射及び集光させる偏向ミラーと、を備えたことを特徴とする光学的結合構造である。
【発明の効果】
【００１０】
この発明に係る光アシスト磁気ヘッド及び光学的結合構造に備えられた偏向ミラーは、フランジ部を備え、このフランジ部を基準面に当接させることで反射面を所定の位置に保持する。これにより、フランジ部を持ち手とすることで、微小な偏向ミラーのハンドリング性を確保することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】情報記録装置の概略構成を示す斜視図である。
【図２Ａ】第１の実施形態に係る光アシスト磁気ヘッドの一例を示した概略断面図である。
【図２Ｂ】第１の実施形態に係る光アシスト磁気ヘッドの１次元集光光学素子周辺の拡大断面図である。
【図３】第１の実施形態に係る１次元集光光学素子の斜視図である。
【図４Ａ】第１の実施形態に係る１次元集光光学素子をｘ方向から見た正面図である。
【図４Ｂ】第１の実施形態に係る１次元集光光学素子をｚ方向から見た平面図である。
【図４Ｃ】第１の実施形態に係る１次元集光光学素子をｙ方向から見た側面図である。
【図５Ａ】第１の実施形態に係る１次元集光光学素子を使用した場合の光源部からの光の光路を説明するための図である。
【図５Ｂ】第１の実施形態に係る１次元集光光学素子の調芯方法を説明するための図である。
【図５Ｃ】第１の実施形態に係る１次元集光光学素子の調芯方法を説明するための図である。
【図６Ａ】実施例のシミュレーション結果をまとめた表である。
【図６Ｂ】実施例のシミュレーション結果を示したグラフである。
【図７】第１の実施形態に係る１次元集光光学素子の一態様を示した斜視図である。
【図８Ａ】第２の実施形態に係る光アシスト磁気ヘッドの一例を示した概略断面図である。
【図８Ｂ】第２の実施形態に係る光アシスト磁気ヘッドの１次元集光光学素子周辺の拡大断面図である。
【図９】第２の実施形態に係る１次元集光光学素子の斜視図である。
【図１０Ａ】第２の実施形態に係る１次元集光光学素子をｘ方向から見た正面図である。
【図１０Ｂ】第２の実施形態に係る１次元集光光学素子をｚ方向から見た平面図である。
【図１０Ｃ】第２の実施形態に係る１次元集光光学素子をｙ方向から見た側面図である。
【図１１Ａ】第２の実施形態に係る１次元集光光学素子を使用した場合の光源部からの光の光路を説明するための図である。
【図１１Ｂ】第２の実施形態に係る１次元集光光学素子の調芯方法を説明するための図である。
【図１１Ｃ】第２の実施形態に係る１次元集光光学素子の調芯方法を説明するための図である。
【図１２】第２の実施形態に係る１次元集光光学素子の一態様を示した斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
（第１の実施形態）
図１に、光アシスト式磁気記録ヘッドを搭載した光アシスト式磁気記録装置（例えばハードディスク装置、以下「情報記録装置」ともいう）の概略構成を示す。情報記録装置１は、例えば記録用の複数枚の回転可能なディスク（磁気記録媒体）３と、ヘッド支持部５と、トラッキング用アクチュエータ７と、光アシスト磁気ヘッド４と、図示しない駆動装置と、を筐体２内に備えている。なお、ディスク３は１枚であってもよい。ヘッド支持部５は、支軸６を支点として矢印Ａの方向（トラッキング方向）に回動可能に設けられている。トラッキング用アクチュエータ７は、ヘッド支持部５に取り付けられている。光アシスト磁気ヘッド４は、ヘッド支持部５の先端に取り付けられている。図示しない駆動装置は、ディスク３を矢印Ｂの方向に回転させる。情報記録装置１は、光アシスト磁気ヘッド４がディスク３の上で浮上しながら相対的に移動しうるように構成されている。
【００１３】
（光アシスト磁気ヘッド４）
図２Ａに、光アシスト磁気ヘッド４の概略構成例を断面図で示す。光アシスト磁気ヘッド４は、ディスク３に対する情報記録に光を利用する微小光記録ヘッドである。光アシスト磁気ヘッド４は、光源部２０と、スライダ１０と、１次元集光光学素子３０とを有する。情報記録装置１は、ディスク３を矢印Ｃ方向に移動させ、光アシスト磁気ヘッド４がディスク３上で浮上しながら相対的に移動しうるように構成されている。なお、図２Ａでは、ディスク３の回転方向（矢印Ｃ方向）をｙ方向、光アシスト磁気ヘッド４の厚み方向をｚ方向、ｙ方向及びｚ方向の双方に直交する方向をｘ方向としている。
【００１４】
スライダ１０は、板状の形状をしており、ディスク３と対向する下面１０ｂと、下面１０ｂのｚ方向の反対側に位置する上面１０ａとを有する。また、スライダ１０は、ｙ方向の端部に端面１０ｃを有する。なお、スライダ１０が「基板」に相当する。また、上面１０ａが「一の面」に相当し、端面１０ｃが、「一の面の所定の方向の一端に設けられた端面」に相当する。
【００１５】
光源部２０は半導体レーザー（以下、単に「ＬＤ」と称する）を有する。光源部２０を構成しているＬＤから出射される光の波長は、可視光から近赤外の波長（波長帯としては、０．６μｍ〜２μｍ程度であり、具体的な波長としては、６５０ｎｍ、７８０ｎｍ、８３０ｎｍ、１３１０ｎｍ、１５５０ｎｍなどが挙げられる）などがある。図２Ｂに示すように、光源部２０は、光出射面２０ａと、底面２０ｂとを有している。光源部２０は、スライダ１０の上面１０ａに配置されている。このとき、底面２０ｂと上面１０ａとが対向する。光源部２０は、光出射面２０ａから１次元集光光学素子３０の反射面３１に向けて光を出射する。光源部２０から出射された光は、１次元集光光学素子３０の反射面３１に到達する。
【００１６】
１次元集光光学素子３０は、光源部２０からの光を偏向（反射）させて光導波路１４の光導波路入射面１４ａに導く表面反射型の集光ミラーである。図２Ｂに示すように、１次元集光光学素子３０は、ｙｚ平面上に曲率を有する凹面状の反射面３１と、フランジ部３２とを有する。１次元集光光学素子３０は、光源部２０からの光を反射面３１で受けて、この光を反射面３１で反射させることで９０°偏向させて、光導波路入射面１４ａに導く。このとき、光源部２０からの光は、反射面３１の曲率により光導波路入射面１４ａに集光される。１次元集光光学素子３０の具体的な構成については後述する。なお、本実施形態では、１次元集光光学素子３０が「偏向ミラー」に相当する。また、光導波路入射面１４ａが「光入射面」に相当する。
【００１７】
スライダ１０は、端面１０ｃに磁気ヘッド部１３を有する。磁気ヘッド部１３は、ｙ方向に所定の厚みを有して形成されており、端面１３ａと、端面１３ｂと、側面１３ｃとを有している。端面１３ａは、端面１０ｃの上面１０ａ側の端部近傍に、端面１０ｃからｙ方向に立ち上がるように設けられている。また、端面１３ｂは、端面１３ａとはｚ方向の反対側に形成されている。また、側面１３ｃは、端面１０ｃと接合される側面とは反対側に設けられている。磁気ヘッド部１３は、光導波路１４と、図示しない磁気記録部と、図示しない磁気情報再生部とを有する。なお、磁気ヘッド部１３が「ヘッド部」に相当する。
【００１８】
光導波路１４は、１次元集光光学素子３０によって導かれた光を導光してディスク３に向けて射出する。光導波路１４は、図示しないが、下部クラッド層、コア層、上部クラッド層を、光が伝播する方向とは直交する厚み方向（ｙ方向）に沿って、この順番に積層させたものである。コア層は、各クラッド層（例えば、ＳｉＯ２で形成）よりも屈折率の高い素材（例えば、Ｔａ２Ｏ５）で形成されている。これにより、光導波路１４に導かれた光は、コア層と、各クラッド層との間で全反射しながらディスク３に向かって伝播する。
【００１９】
図２Ｂに示すように、光導波路１４は、磁気ヘッド部１３の端面１３ａに光導波路入射面１４ａを有し、端面１３ａとは反対側の端面１３ｂ（ディスク３に対向する面）に光導波路出射面１４ｂを有する。光導波路１４の光導波路出射面１４ｂには、近接場光発生素子としてのプラズモンプローブ１５が設けられている。１次元集光光学素子３０によって偏向させられた光は、光導波路入射面１４ａから入射し、光導波路出射面１４ｂに向かって光導波路１４内を進む。光導波路出射面１４ｂに設けられているプラズモンプローブ１５は、１次元集光光学素子３０によって導かれた光を近接場光に変換してディスク３に向けて射出する。また、図示しない磁気記録部は、ディスク３の被記録部分に対して磁気情報の書き込みを行う。図示しない磁気情報再生部は、ディスク３に記録されている磁気情報の読み取りを行う。
【００２０】
（１次元集光光学素子３０）
次に、１次元集光光学素子３０の具体的な構成について図２Ｂ、図３、及び図４Ａ〜図４Ｃを参照しながら説明する。図３は、１次元集光光学素子３０の一例を示した斜視図である。また、図４Ａは、１次元集光光学素子３０をｘ方向から見た正面図である。また、図４Ｂは、１次元集光光学素子３０をｚ方向から見た平面図である。また、図４Ｃは、１次元集光光学素子３０をｙ方向から見た側面図である。
【００２１】
１次元集光光学素子３０は、円筒面状の凹面の反射面３１により入射光を偏向する偏向ミラーである。図３に示すように、１次元集光光学素子３０は、反射面３１と、フランジ部３２とを有する。反射面３１は、棒状の直方体の一部を円筒状に切欠くことで、この直方体の１つの稜線に円筒状に形成される。反射面３１の具体的な構成については後述する。また、前述した直方体の側面のうち、反射面３１と連続する側面のいずれか１つから、その側面の垂線方向に延伸するように、板状のフランジ部３２が設けられている。また、反射面３１の端部のうち、フランジ部３２が設けられた側の端部を切欠くことで、切欠き部３３が設けられている。換言すると、図２Ｂに示すように、１次元集光光学素子３０が磁気ヘッド１３に固定されたときに、フランジ部３２が設けられた側の側面のうち、端面１３ａと対向する部分が切欠かれることで、切欠き部３３が設けられている。切欠き部３３の詳細については後述する。
【００２２】
図３に示すように、フランジ部３２は、反射面３１と連続する側面のうち、ｚ方向を向いた側の面から、ｚ方向（下方）に延伸するように設けられている。
【００２３】
ここで、図４Ａ〜４Ｃを参照する。フランジ部３２は、反射面３１が向いている側の板面３２ａと、板面３２ａとは反対側の板面３２ｂとを有している。板面３２ａは、側面１３ｃと突き合わされたうえで接合される。これにより、１次元集光光学素子３０が、磁気ヘッド部１３に固定される（即ち、スライダ１０に間接的に固定される）。換言すると、板面３２ａは、磁気ヘッド部１３に１次元集光光学素子３０が固定されたときに、側面１３ｃに沿うように設けられている。このとき、反射面３１は、光出射面２０ａ及び光導波路入射面１４ａの双方を臨むように、所定の位置に支持される（図２Ｂ参照）。また、このとき切欠き部３３は、磁気ヘッド部１３の端面１３ａと対向する（図２Ｂ参照）。フランジ部３２を設けることにより、反射面３１が非常に小さい場合であっても、このフランジ部３２を持ち手とすることで、ハンドリング性を確保することができ、光アシスト磁気ヘッド４の組立も容易となる。また、磁気ヘッド部１３に１次元集光光学素子３０を固定するための接着箇所として、フランジ部３２を利用することもできる。これにより、反射面３１が非常に小さい場合であっても、広い接着箇所を確保することが可能となる。
【００２４】
反射面３１は、ｘ方向を筒軸とする円筒の略４分の１の凹状の周面として形成されている。換言すると、反射面３１は、ｙｚ平面上において所定の曲率を有する凹面として形成される。反射面３１は、１次元集光光学素子３０が磁気ヘッド部１３に固定されたときに、光出射面２０ａ及び光導波路入射面１４ａの双方を臨むように支持される。このように、反射面３１が凹面として形成されることで、反射面３１に入射した光を、反射面３１の曲率により反射及び集光することが可能となる。
【００２５】
反射面３１は露出しており、表面反射ミラーとして機能する。反射面３１には、金（Ａｕ）やアルミニウム（Ａｌ）などの金属膜、又は、誘電体多層膜の反射膜などを形成する。これにより、反射面３１は、表面反射ミラーとして機能する。表面反射ミラーであるため、入射面及び出射面が無く、これらの面での表面反射が発生しないため、光量損失を低減することができる。また、反射膜を形成しなくても反射率が得られる場合には、反射膜を形成せずにそのまま反射面として使用してもよい。
【００２６】
ここで、図２Ｂを参照しながら、理想的な状態における反射面３１の保持位置、及び反射面３１の曲率の決定方法の一例について具体的に説明する。図２Ｂにおける半径Ｌ１は、反射面３１の曲率半径を示している（以降では、「曲率半径Ｌ１」と呼ぶ）。図２Ｂに示すように、光源部２０からｙ方向に向かって出射された光が、ｚ方向に９０°偏向されて、光導波路入射面１４ａに入射するように、反射面３１を保持する位置が決定される。このとき、光源部２０からｙ方向に進む光が入射した反射面３１上の点から伸ばした反射面３１の法線と、光導波路入射面１４ａを光源部２０の方向に延長した面とが交差する位置に、曲率半径Ｌ１の基点Ｐ１が位置するように反射面３１を形成する。換言すると、光導波路入射面１４ａを光源部２０の方向に延長した面上に設けられた点Ｐ１を基点として、ｙｚ平面上に曲率半径Ｌ１の曲率を有するように、反射面３１が設けられている。なお、上記した反射面３１の曲率の決定方法は一例であり、上記の決定方法に限定されるものではない。光学系の設計、即ち、光源部２０と光導波路１４との位置関係によっては、基点Ｐ１の位置は、光導波路入射面１４ａを光源部２０の方向に延長した面上には限定されない。
【００２７】
このように、反射面３１は凹状の円筒面であるため曲率を持った方向のみ光を集光する集光機能（即ち、１次元集光機能）を有する。ここで、図５Ａを参照する。図５Ａは、本実施形態に係る１次元集光光学素子３０を使用した場合の光源部２０からの光の光路を示している。図５Ａに示すように、反射面３１は、光源部２０からｙ方向に出射された光を受けて、この光をｚ方向に反射する。これにより、光源部２０からｙ方向に向かって出射された光が、ｚ方向に９０°偏向され、光導波路入射面１４ａに導かれる。このとき、反射面３１は、反射されてｚ方向に進む光をｙ方向に集光する。このように、反射面３１の集光機能が１次元であるため、集光された光は線状となる。
【００２８】
１次元集光光学素子３０は、スライダ１０、磁気ヘッド部１３、及び光源部２０が設計された寸法通りに組み立てられた場合に、図５Ａに示すように、光源部２０からの光が光導波路入射面１４ａに導かれるように設計されている。しかしながら、スライダ１０と光源部２０との間を接合する際に、接合に使用されるハンダ等の厚さ方向のばらつきにより、光源部２０からの光の光軸の位置に関してｚ方向に誤差が生じる場合がある。以降では、このｚ方向の誤差を修正するための特徴的な構造と、調芯方法について説明する。
【００２９】
まず、図５Ａを参照する。図５Ａに示すように、反射面３１の端部のうち、フランジ部３２が設けられた側（１次元集光光学素子３０が固定された場合の光導波路入射面１４ａ側）の端部を切欠くことで、切欠き部３３が設けられている。切欠き部３３は、端面１３ａと対向するように設けられている。なお、以降では、光源部２０からｙ方向に出射される光の光軸と上面１０ａとの間のｚ方向の距離をＬ０としたとき、切欠き部３３と端面１３ａとの間のｚ方向の距離をＬ２とする。切欠き部３３を設けることにより、１次元集光光学素子３０を固定可能なｚ方向の範囲が、距離Ｌ２分広がる。なお、１次元集光光学素子３０を固定可能なｚ方向の範囲が、本実施形態における「固定可能範囲」に相当し、この固定可能範囲が切欠き部３３により距離Ｌ２分広がる。切欠き部３３を設けることによる具体的な効果については、１次元集光光学素子３０を用いた場合の調芯方法とあわせて後述する。なお、切欠き部３３を設ける替わりに、端面１３ａをｚ方向に切欠いてもよい。
【００３０】
（調芯方法）
次に、１次元集光光学素子３０を用いた場合の調芯方法について、図５Ａ〜図５Ｃを参照しながら説明する。図５Ｂは、調芯方法を説明するための図であり、調芯前の状態を示している。また、図５Ｃは、調芯方法を説明するための図であり、調芯後の状態を示している。
【００３１】
例えば、図５Ｂは、光源２０の位置にｚ方向の誤差が生じた場合の状態を示している。このときの、光源部２０からｙ方向に出射される光の光軸と上面１０ａとの間のｚ方向の距離をＬ０ａ（Ｌ０ａ＞Ｌ０）とする。このように、光源部２０がｚ方向にずれると、出射される光の光軸がずれる。これにより、光源部２０から出射された光は、反射面３１上において、図５Ａの場合とは異なる位置で反射されるため、反射光が集光する位置が、図５Ｂに示すように光導波路入射面１４ａからｙ方向にずれる。本実施形態に係る光アシスト磁気ヘッド４では、１次元集光光学素子３０を固定する際に、１次元集光光学素子３０をｚ方向にスライドさせることで、光源部２０からの光が入射する反射面３１上の位置を調整する。以下に、この調芯方法について具体的に説明する。
【００３２】
まず、光源部２０、スライダ１０、及び磁気ヘッド部１３を組み立てる。このときの光源部２０、スライダ１０、及び磁気ヘッド部１３の位置関係は、図５Ｂに示す通りとする。即ち、光源部２０からｙ方向に出射される光の光軸と上面１０ａとの間のｚ方向の距離がＬ０ａとなり、１次元集光光学素子３０が設計時に特定された所定の位置（図５Ａ参照）に配置された場合には、反射光が集光する位置が、光導波路入射面１４ａからｙ方向に沿って光源部２０とは反対側にずれている。
【００３３】
次に、フランジ部３２の板面３２ａに接着剤を塗布し、板面３２ａを側面１３ｃに突き当てて、板面３２ａと側面１３ｃとを仮接合する。これにより、１次元集光光学素子３０を、設計時に特定された所定の位置に一時的に保持する。なお、この状態では接着剤を硬化させずに、１次元集光光学素子３０を、ｚ方向にスライド可能に保持する。なお、この接着剤には、例えば、熱や紫外線により硬化するものを用いるとよい。
【００３４】
次に、光源部２０から光を照射し、光導波路出射面１４ｂから出射される光の光量を測定しながら、板面３２ａを側面１３ｃに突き当てた状態で、１次元集光光学素子３０をｚ方向にスライドさせる。反射面３１は、ｙｚ平面上で曲率を有する凹状の円筒面であるため、光が入射する位置により、光導波路入射面１４ａ及び端面１３ａ上のｙ方向に沿った異なる位置で反射光が集光する。そのため、１次元集光光学素子３０をｚ方向にスライドさせることで、光源部２０からの光が入射する反射面３１上の位置が変更され、反射光が集光する位置をｙ方向にずらすことが可能となる。図５Ｃは、図５Ｂの状態から、ｚ方向に沿って反射面３１が端面１３ａから遠ざかるように１次元集光光学素子３０をスライドさせることで、反射光が集光する位置を、ｙ方向に沿って光源部２０に近づく方向にずらした状態を示している。このときの、切欠き部３３と端面１３ａとの間のｚ方向の距離はＬ２ａ（Ｌ２ａ＞Ｌ２）となる。図５Ｃのように、反射光が集光する位置をｙ方向にずらすことにより、光源部２０とスライダ１０との間の位置関係に誤差が生じた場合においても、光源部２０からの光を光導波路入射面１４ａに導くことが可能となる。
【００３５】
なお、反射光が集光される位置をｙ方向に沿って光源部２０側から遠ざかる方向にずらす場合には、ｚ方向に沿って反射面３１が端面１３ａに近づくように１次元集光光学素子３０をスライドさせる。このとき、１次元集光光学素子３０をスライドさせることが可能な範囲は、切欠き部３３が設けられた位置により決定される。そのため、組立時における光源部２０とスライダ１０との間の位置関係について誤差の範囲をあらかじめ見積り、この見積り値を距離Ｌ２が包含可能な範囲で切欠き部３３を設ける位置を決定する。
【００３６】
このように、本実施形態に係る光アシスト磁気ヘッド４では、板面３２ａと側面１３ｃとが突き合わされることで、反射面３１が保持されるｙ方向の位置が決定される。また、板面３２ａと側面１３ｃとが突き合わされた状態で１次元集光光学素子３０をｚ方向にスライドさせることで、反射光の集光位置が調整される。このとき、側面１３ｃが、１次元集光光学素子３０をｚ方向にスライドさせるためのガイドの役割をはたす。さらに、１次元集光光学素子３０をｚ方向にスライドさせるときに、フランジ部３２を把持することによりハンドリング性を確保することが可能となり、光アシスト磁気ヘッド４の組立が容易になる。
【００３７】
次に、反射光が集光する位置が光導波路入射面からずれていた場合に、集光位置を補正するための側面１３ｃに沿った１次元集光光学素子３０のスライド量と、補正された集光位置における結合効率との関係を具体的な例をあげて実施例として説明する。本実施例では、光源部２０から出射される光の波長λ＝８３０ｎｍ、この光のｘ方向の発散角θｘ＝１０°、ｙ方向の発散角θｙ＝２０°とした。また、反射面３１の曲率半径Ｌ１＝２５μｍ、光導波路１４のｘ方向のモードフィールド直径ＭＦＤｘ＝６μｍ、ｙ方向のモードフィールド直径ＭＦＤｙ＝２μｍとした。
【００３８】
本実施例では、この条件に基づき、１次元集光光学素子３０が所定の位置に支持され、さらに、反射光の集光位置が光導波路入射面１４ａとのｙ方向のズレが無い場合（図５Ａ参照）を基準として、１次元集光光学素子３０のスライド量に対する反射光の集光位置の移動量と、その集光位置の光を光導波路１４に導光させた場合の結合効率とを計算した。この計算結果を、図６Ａに示す表にまとめた。図６Ａにおいて、「集光位置ズレ量」は、所定の位置に１次元集光光学素子３０が保持されている場合において、反射光の集光位置と、光導波路入射面１４ａとのｙ方向のズレ量を示している。即ち、１次元集光光学素子３０をスライドさせることで、反射光の集光位置を、ｙ方向にこのズレ量分だけ移動させる。「ミラーの垂直シフト量」は、「集光位置ズレ量」で示したズレ量分だけ反射光の集光位置を移動させるために、ｚ方向に１次元集光光学素子３０をスライドさせる距離を示している。また、「結合効率」は、「ミラーの垂直シフト量」に示した距離だけ１次元集光光学素子３０をｚ方向にスライドさせて、反射光を光導波路入射面１４ａに集光した場合の結合効率の計算値を示している。図６Ｂは、図６Ａに示した計算値を基に作成したグラフである。
【００３９】
図６Ａ及び図６Ｂにおいて、反射光の集光位置と光導波路入射面１４ａとの間の位置ズレが無い場合、即ち、「ミラーの垂直シフト量」が０μｍ、「集光位置ズレ量」が０μｍのときが、１次元集光光学素子３０が設計時に特定された所定の位置に保持されている状態を示している。図６Ａ及び図６Ｂに示すように、このとき、１次元集光光学素子３０が設計時に特定された所定の位置に保持されている状態で、反射光が光導波路入射面１４ａに集光するときに、結合効率が最大となる。
【００４０】
ここで、「ミラーの垂直シフト量」が０μｍのときを基準とした、「ミラーの垂直シフト量」それぞれにおける相対的な結合効率を、相対結合効率とする。図６Ａ及び図６Ｂに示すように、本実施例において、「集光位置ズレ量」が±２μｍの範囲で、約５０％以上の相対結合効率を確保可能としている。このことから、図６Ａに示すように、ミラーの垂直シフト量をΔｚとした場合、−１．３μｍ≦Δｚ≦１．９μｍの範囲で１次元集光光学素子３０をスライドさせることで、約５０％以上の相対結合効率を確保可能であることがわかる。即ち、このミラーの垂直シフト量Δｚの範囲で、１次元集光光学素子３０をスライド可能とすればよく、この結果に基づき、切欠き部３３と端面１３ａとの間のｚ方向の距離Ｌ２を求めればよい。なお、本実施例の場合、ミラーの垂直シフト量Δｚの結果から、Ｌ２≧１．３μｍとすればよいことが分かる。
【００４１】
なお、フランジ部３２の板面３２ｂ上にアライメントマーク３２ｃを設けてもよい。例えば、図７は、アライメントマーク３２ｃを設けた場合の、１次元集光光学素子３０の一態様を示した斜視図である。このような場合には、磁気ヘッド部１３に対する１次元集光光学素子３０の位置決めを行う際に、磁気ヘッド部１３の側面１３ｃ上の所定の位置にアライメントマーク３２ｃをあわせる。なお、位置決めの際には、アライメントマーク３２ｃ及び側面１３ｃ上の所定の位置が、視覚的に確認できればよい。例えば、フランジ部３２に透過性を有する素材を用いていれば、双方の位置を視覚的に確認すればよい。また、フランジ部３２に透過性を有さない素材を用いている場合においても、例えば、赤外線等の別の手段により、アライメントマーク３２ｃ及び側面１３ｃ上の所定の位置を確認すればよい。これにより、例えば、１次元集光光学素子３０を、設計時に特定された所定の位置（図５Ａ参照）に位置決めすることが可能となる。なお、側面１３ｃ上にもアライメントマークを設けてもよい。また、板面３２ａ上にアライメントマーク３２ｃを設けてもよい。
【００４２】
なお、スライダ１０、光源部２０、磁気ヘッド部１３、光導波路１４、及び１次元集光光学素子３０とで構成される光学的結合構造は、光源部２０からの光を偏向させて照射する構成であれば、光アシスト磁気ヘッド４以外にも応用可能である。例えば、配線に光導波路を用いたフレキシブルプリント基板に、この光学的結合構造を応用することも可能である。この場合、フレキシブルプリント基板上に光学的結合構造を設け、光源部２０から基板の盤面に沿って照射された光を偏向させて、基板内の光導波路へ導光させることが可能となる。これにより、光源部２０を基板上に横向きに配置することが可能となるため、基板の厚みを薄く構成することが可能となる。
【００４３】
以上のように、本実施形態に係る１次元集光光学素子３０は、フランジ部３２を設け、フランジ部３２の板面３２ａと、磁気ヘッド部１３の側面１３ｃとを突き当てて接合することで、反射面３１を所定の位置に保持する。さらに、１次元集光光学素子３０が非常に小さなミラーであっても、このフランジ部３２を持ち手とすることで、ハンドリング性を確保することができ、光アシスト磁気ヘッド４の組立も容易となる。また、フランジ部３２を、磁気ヘッド部１３に１次元集光光学素子３０を固定するための接着箇所として利用している。これにより、非常に小さなミラーであっても、広い接着箇所を確保することが可能となる。
【００４４】
（第２の実施形態）
次に、第２の実施形態に係る光アシスト磁気ヘッド４について図８Ａを参照しながら説明する。図８Ａは、本実施形態に係る光アシスト磁気ヘッド４の一例を示した概略断面図である。図８Ａに示すように、本実施形態に係る光アシスト磁気ヘッド４は、１次元集光光学素子３０に替わり、１次元集光光学素子４０を用いている。以降では、図８Ａ、図８Ｂ、図９、及び図１０Ａ〜１０Ｃを参照しながら、１次元集光光学素子４０の構成に着目して説明する。また、図８Ｂは、本実施形態に係る光アシスト磁気ヘッド４の１次元集光光学素子４０周辺の拡大断面図である。また、図９は、１次元集光光学素子４０の斜視図である。また、図１０Ａは、１次元集光光学素子４０をｘ方向から見た正面図である。また、図１０Ｂは、１次元集光光学素子４０をｚ方向から見た平面図である。また、図１０Ｃは、１次元集光光学素子４０をｙ方向から見た側面図である。
【００４５】
（１次元集光光学素子４０）
１次元集光光学素子４０は、円筒面状の凹面の反射面４１により入射光を偏向する偏向ミラーである。図９に示すように、１次元集光光学素子３０は、反射面４１と、フランジ部４２とを有する。反射面４１は、１次元集光光学素子３０の反射面３１と同様に、棒状の直方体の一部を円筒状に切欠くことで、この直方体の１つの稜線に円筒状に形成される。反射面４１の具体的な構成については後述する。また、前述した直方体の側面のうち、反射面４１が設けられた側面のいずれか１つから、反射面４１がその垂線方向を臨む空間を挟み込み、かつ、その側面の垂線方向に延伸するように、一対の板状のフランジ部４２が設けられている。なお、１次元集光光学素子４０がスライダ１０に固定されたときに、この空間には、光源部２０が収まる。即ち、一対のフランジ部４２の間には、光源部２０が収まる幅の空間が設けられている。また、反射面４１の端部のうち、フランジ部４２が設けられた側の端部を切欠くことで、切欠き部４３が設けられている。換言すると、図８Ｂに示すように、１次元集光光学素子４０がスライダ１０に固定されたときに、フランジ部４２が設けられた側の側面のうち、、光出射面２０ａと対向する部分が切欠かれることで、切欠き部４３が設けられている切欠き部３３の詳細については後述する。なお、本実施形態では、１次元集光光学素子４０が「偏向ミラー」に相当する。
【００４６】
図９に示すように、一対のフランジ部４２は、反射面４１が設けられた側面のうち、ｙ方向を向いた側の面から、−ｙ方向（左方）に延伸するように設けられている。
【００４７】
ここで、図１０Ａ〜１０Ｃを参照する。フランジ部４２は、反射面４１が向いている側の板面４２ａと、板面４２ａとは反対側の板面４２ｂとを有している。板面４２ａは、スライダ１０の上面１０ａと突き合わされたうえで接合される。これにより、１次元集光光学素子４０が、スライダ１０に直接的に固定される。換言すると、板面４２ａは、スライダ１０に１次元集光光学素子４０が固定されたときに、上面１０ａに沿うように設けられている。このとき、反射面４１は、光出射面２０ａ及び光導波路入射面１４ａの双方を臨むように、所定の位置に支持される（図８Ｂ参照）。また、このとき切欠き部４３は、光源部２０の光出射面２０ａと対向する（図８Ｂ参照）。フランジ部４２を設けることにより、反射面４１が非常に小さい場合であっても、このフランジ部４２を持ち手とすることで、ハンドリング性を確保することができ、光アシスト磁気ヘッド４の組立も容易となる。また、スライダ１０に１次元集光光学素子４０を固定するための接着箇所として、フランジ部４２を利用してもよい。これにより、反射面４１が非常に小さい場合であっても、広い接着箇所を確保することが可能となる。
【００４８】
反射面４１は、ｘ方向を筒軸とする円筒の略４分の１の凹状の周面として形成されている。換言すると、反射面４１は、ｙｚ平面上において所定の曲率を有する凹面として形成される。反射面４１は、１次元集光光学素子４０がスライダ１０に固定されたときに、光出射面２０ａ及び光導波路入射面１４ａの双方を臨むように支持される。このように、反射面４１が凹面として形成されることで、反射面４１に入射した光を、反射面４１の曲率により反射及び集光することが可能となる。
【００４９】
反射面４１は露出しており、表面反射ミラーとして機能する。反射面４１には、金（Ａｕ）やアルミニウム（Ａｌ）などの金属膜、又は、誘電体多層膜の反射膜などを形成する。これにより、反射面４１は、表面反射ミラーとして機能する。表面反射ミラーであるため、入射面及び出射面が無く、これらの面での表面反射が発生しないため、光量損失を低減することができる。また、反射膜を形成しなくても反射率が得られる場合には、反射膜を形成せずにそのまま反射面として使用してもよい。
【００５０】
ここで、図８Ｂを参照しながら、理想的な状態における反射面４１の保持位置、及び反射面４１の曲率の決定方法について具体的に説明する。図８Ｂにおける半径Ｌ１は、反射面４１の曲率半径を示している（以降では、「曲率半径Ｌ１」と呼ぶ）。図８Ｂに示すように、光源部２０からｙ方向に向かって出射された光が、ｚ方向に９０°偏向されて、光導波路入射面１４ａに入射するように、反射面４１を保持する位置が決定される。このとき、光源部２０からｙ方向に進む光が入射した反射面４１上の点から伸ばした反射面４１の法線と、光導波路入射面１４ａを光源部２０の方向に延長した面とが交差する位置に、曲率半径Ｌ１の基点Ｐ１が位置するように反射面４１を形成する。換言すると、光導波路入射面１４ａを光源部２０の方向に延長した面上に設けられた点Ｐ１を基点として、ｙｚ平面上に曲率半径Ｌ１の曲率を有するように、反射面４１が設けられている。なお、上記した反射面４１の曲率の決定方法は一例であり、上記の決定方法に限定されるものではない。光学系の設計、即ち、光源部２０と光導波路１４との位置関係によっては、基点Ｐ１の位置は、光導波路入射面１４ａを光源部２０の方向に延長した面上には限定されない。
【００５１】
このように、反射面４１は凹状の円筒面であるため曲率を持った方向のみ光を集光する集光機能（即ち、１次元集光機能）を有する。ここで、図１１Ａを参照する。図１１Ａは、本実施形態に係る１次元集光光学素子４０を使用した場合の光源部２０からの光の光路を示している。図１１Ａに示すように、反射面４１は、光源部２０からｙ方向に出射された光を受けて、この光をｚ方向に反射する。これにより、光源部２０からｙ方向に向かって出射された光が、ｚ方向に９０°偏向され、光導波路入射面１４ａに導かれる。このとき、反射面４１は、反射されてｚ方向に進む光をｙ方向に集光する。このように、反射面４１の集光機能が１次元であるため、集光された光は線状となる。
【００５２】
１次元集光光学素子４０は、スライダ１０、磁気ヘッド部１３、及び光源部２０が設計された寸法通りに組み立てられた場合に、図１１Ａに示すように、光源部２０からの光が光導波路入射面１４ａに導かれるように設計されている。しかしながら、スライダ１０と光源部２０との間を接合する際に、接合に使用されるハンダ等の厚さ方向のばらつきにより、光源部２０からの光の光軸の位置に関してｚ方向に誤差が生じる場合がある。以降では、このｚ方向の誤差を修正するための特徴的な構造と、調芯方法について説明する。
【００５３】
まず、図１１Ａを参照する。図１１Ａに示すように、反射面４１の端部のうち、フランジ部４２が設けられた側（１次元集光光学素子４０が固定された場合の光出射面２０ａ側）の端部を切欠くことで、切欠き部４３が設けられている。切欠き部４３は、光出射面２０ａと対向するように設けられている。なお、以降では、光源部２０からｙ方向に出射される光の光軸と上面１０ａとの間のｚ方向の距離をＬ０としたとき、切欠き部４３と光出射面２０ａとの間のｙ方向の距離をＬ３とする。切欠き部４３を設けることにより、１次元集光光学素子４０を固定可能なｙ方向の範囲が、距離Ｌ３分広がる。なお、１次元集光光学素子４０を固定可能なｙ方向の範囲が、本実施形態における「固定可能範囲」に相当し、この固定可能範囲が切欠き部４３により距離Ｌ３分広がる。切欠き部４３を設けることによる具体的な効果については、１次元集光光学素子４０を用いた場合の調芯方法とあわせて後述する。
【００５４】
（調芯方法）
次に、１次元集光光学素子４０を用いた場合の調芯方法について、図１１Ａ〜図１１Ｃを参照しながら説明する。図１１Ｂは、調芯方法を説明するための図であり、調芯前の状態を示している。また、図１１Ｃは、調芯方法を説明するための図であり、調芯後の状態を示している。
【００５５】
例えば、図１１Ｂは、光源２０の位置にｚ方向の誤差が生じた場合の状態を示している。このときの、光源部２０からｙ方向に出射される光の光軸と上面１０ａとの間のｚ方向の距離をＬ０ａ（Ｌ０ａ＞Ｌ０）とする。このように、光源部２０がｚ方向にずれると、出射される光の光軸がずれる。これにより、光源部２０から出射された光は、反射面４１上において、図１１Ａの場合とは異なる位置で反射されるため、反射光が集光する位置が、図１１Ｂに示すように光導波路入射面１４ａからｙ方向にずれる。本実施形態に係る光アシスト磁気ヘッド４では、１次元集光光学素子４０を固定する際に、１次元集光光学素子４０をｙ方向にスライドさせることで、反射面４１で反射された光が集光する、光導波路入射面１４ａ及び端面１３ａ上のｙ方向に沿った位置を調整する。以下に、この調芯方法について具体的に説明する。
【００５６】
まず、光源部２０、スライダ１０、及び磁気ヘッド部１３を組み立てる。このときの光源部２０、スライダ１０、及び磁気ヘッド部１３の位置関係は、図１１Ｂに示す通りとする。即ち、光源部２０からｙ方向に出射される光の光軸と上面１０ａとの間のｚ方向の距離がＬ０ａとなり、１次元集光光学素子３０が設計時に特定された所定の位置（図１１Ａ参照）に配置された場合には、反射光が集光する位置が、光導波路入射面１４ａからｙ方向に沿って光源部２０とは反対側にずれている。
【００５７】
次に、フランジ部４２の板面４２ａに接着剤を塗布し、板面４２ａを上面１０ａに突き当てて、板面４２ａと上面１０ａとを仮接合する。これにより、１次元集光光学素子４０を、設計時に特定された所定の位置に一時的に保持する。なお、この状態では接着剤を硬化させずに、１次元集光光学素子４０を、ｙ方向にスライド可能に保持する。なお、この接着剤には、例えば、熱や紫外線により硬化するものを用いるとよい。
【００５８】
次に、光源部２０から光を照射し、光導波路出射面１４ｂから出射される光を測定しながら、板面４２ａを上面１０ａに突き当てた状態で、１次元集光光学素子４０をｙ方向にスライドさせる。これにより、反射面４１がｙ方向にスライドするため、反射光が集光する光導波路入射面１４ａ及び端面１３ａ上のｙ方向に沿った異なる位置も、このスライドにあわせて移動する。このように、１次元集光光学素子４０をｙ方向にスライドさせることで、反射光が集光する位置をｙ方向にずらすことが可能となる。図１１Ｃは、図１１Ｂの状態から、ｙ方向に沿って反射面４１が光出射面２０ａに近づくように１次元集光光学素子４０をスライドさせることで、反射光が集光する位置を、ｙ方向に沿って光源部２０に近づく方向にずらした状態を示している。このときの、切欠き部４３と光出射面２０ａとの間のｙ方向の距離はＬ３ａ（Ｌ３ａ＜Ｌ３）となる。図１１Ｃのように、反射光が集光する位置をｙ方向にずらすことにより、光源部２０とスライダ１０との間の位置関係に誤差が生じた場合においても、光源部２０からの光を光導波路入射面１４ａに導くことが可能となる。
【００５９】
なお、反射光が集光される位置をｙ方向に沿って光源部２０から遠ざける場合には、ｙ方向に沿って反射面４１が光出射面２０ａから遠ざかるように１次元集光光学素子４０をスライドさせる。このとき、１次元集光光学素子４０をスライドさせることが可能な範囲は、切欠き部４３が設けられた位置により決定される。そのため、組立時における光源部２０とスライダ１０との間の位置関係について誤差の範囲をあらかじめ見積り、この見積り値を距離Ｌ３が包含可能な範囲で切欠き部４３を設ける位置を決定する。
【００６０】
このように、本実施形態に係る光アシスト磁気ヘッド４では、板面４２ａと上面１０ａとが突き合わされることで、反射面４１が保持されるｚ方向の位置が決定される。また、板面４２ａと上面１０ａとが突き合わされた状態で１次元集光光学素子４０をｙ方向にスライドさせることで、反射光の集光位置が調整される。このとき、上面１０ａが、１次元集光光学素子４０をｙ方向にスライドさせるためのガイドの役割をはたす。さらに、１次元集光光学素子４０をｙ方向にスライドさせるときに、フランジ部４２を把持することによりハンドリング性を確保でき、光アシスト磁気ヘッド４の組立が容易になる。
【００６１】
なお、フランジ部４２の板面４２ｂ上にアライメントマーク４２ｃを設けてもよい。例えば、図１２は、アライメントマーク４２ｃを設けた場合の、１次元集光光学素子４０の一態様を示した斜視図である。このような場合には、スライダ１０に対する１次元集光光学素子４０の位置決めを行う際に、スライダ１０の上面１０ａ上の所定の位置にアライメントマーク４２ｃをあわせる。なお、位置決めの際には、アライメントマーク４２ｃ及び上面１０ａ上の所定の位置が、視覚的に確認できればよい。例えば、フランジ部４２に透過性を有する素材を用いていれば、双方の位置を視覚的に確認すればよい。また、フランジ部４２に透過性を有さない素材を用いている場合においても、例えば、赤外線等の別の手段により、アライメントマーク４２ｃ及び上面１０ａ上の所定の位置を確認すればよい。これにより、例えば、１次元集光光学素子４０を、設計時に特定された所定の位置（図１１Ａ参照）に位置決めすることが可能となる。なお、上面１０ａ上にもアライメントマークを設けてもよい。また、板面４２ａ上にアライメントマーク４２ｃを設けてもよい。
【００６２】
以上のように、本実施形態に係る１次元集光光学素子４０は、フランジ部４２を設け、フランジ部４２の板面４２ａと、スライダ１０の上面１０ａとを突き当てて接合することで、反射面４１を所定の位置に保持する。これにより、１次元集光光学素子４０が非常に小さなミラーであっても、このフランジ部４２を持ち手とすることで、ハンドリング性を確保することができ、光アシスト磁気ヘッド４の組立も容易となる。また、フランジ部４２を、スライダ１０に１次元集光光学素子４０を固定するための接着箇所として利用している。これにより、非常に小さなミラーであっても、広い接着箇所を確保することが可能となる。
【符号の説明】
【００６３】
１  情報記録装置
２  筐体
３  ディスク
４  光アシスト磁気ヘッド
５  ヘッド支持部
６  支軸
７  トラッキング用アクチュエータ
１０  スライダ
１０ａ  上面
１０ｂ  下面
１０ｃ  端面
１３  磁気ヘッド部
１３ａ  端面
１３ｂ  端面
１４  光導波路
１４ａ  光導波路入射面
１４ｂ  光導波路出射面
１４ｃ  光導波路側面
１５  プラズモンプローブ
２０  光源部
２０ａ  光出射面
３０  １次元集光光学素子
３１  反射面
３２  フランジ部
３２ａ  接合面
３２ｂ  背面
３２ｃ  アライメントマーク
３３  切欠き部
４０  １次元集光光学素子
４１  反射面
４２  フランジ部
４２ａ  接合面
４２ｂ  上面
４２ｃ  アライメントマーク
４３  切欠き部
【図１】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図３】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図４Ｃ】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図５Ｃ】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図７】
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【図８Ａ】
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【図８Ｂ】
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【図９】
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【図１０Ａ】
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【図１０Ｂ】
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【図１０Ｃ】
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【図１１Ａ】
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【図１１Ｂ】
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【図１１Ｃ】
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【図１２】
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