(57)【要約】【課題】隣接する分割抵抗間に跨って指やペン等が接触する場合でも、タッチされた位置を正確に特定することが可能なタッチパネルを提供する。【解決手段】タッチパネルは、対向する両端部に電極４１２、４２２を備えた抵抗膜４１１、４２１が、直交する第一方向および第二方向に複数並んで形成される第一シート４０、および、対向する両端部に電極５１２、５２２を備えた抵抗膜５１１、５２１が第一方向および第二方向に複数並んで形成される第二シート５０を備えている。第一シート４０および第二シート５０は積層する。第一シート４０に含まれる抵抗膜間の隙間４１３、４２３と、第二シート５０に含まれる抵抗膜間の隙間５１３、５２３の位置とが一致しないように、第一シート４０と第二シート５０は配置する。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
対向する両端部に電極を備えた抵抗膜が、前記電極の対向方向と直交する第一方向に複数並んで形成される第一導電膜、前記第一方向と直交する第二方向に前記抵抗膜が複数並んて形成される第二導電膜、および、前記第一導電膜と前記第二導電膜との間を離間するスペーサを含む導電シートを複数備えた、抵抗膜方式のタッチパネルであって、
前記導電シートに含まれる前記抵抗膜と他の前記抵抗膜との境界部分の位置と、他の前記導電シートに含まれる前記抵抗膜と他の前記抵抗膜との境界部分の位置とが一致しないように、前記導電シートと前記他の導電シートとが積層していることを特徴とするタッチパネル。
【請求項２】
前記導電シートは、第一シートおよび第二シートを備え、
前記導電シートの前記第一導電膜に含まれる前記抵抗膜、および、前記導電シートの前記第二導電膜に含まれる前記抵抗膜が押圧力によって接触した場合に、接触した一以上の前記抵抗膜に設けられた一以上の前記電極の電位に基づいて、接触位置を一以上検出する検出手段と、
前記検出手段によって前記第一シートから検出された前記接触位置である第一位置、または、前記第二シートから検出された前記接触位置である第二位置を、前記タッチパネルに押圧力が加えられた位置である押圧位置として特定する第一特定手段と
を備えたことを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項３】
前記第一特定手段は、
前記検出手段によって検出された前記第一位置の数が前記第二位置の数よりも多い場合に、前記押圧位置として前記第二位置を特定し、前記第二位置の数が前記第一位置の数よりも多い場合に、前記押圧位置として前記第一位置を特定することを特徴とする請求項２に記載のタッチパネル。
【請求項４】
前記検出手段によって検出された前記接触位置の時系列変化に基づき、前記接触位置の軌跡である接触軌跡を特定する第二特定手段を備え、
前記第一特定手段は、
前記第二特定手段によって前記第一シートから特定された前記接触軌跡である第一軌跡の単位距離あたりの変化量が、前記第二シートから特定された前記接触軌跡である第二軌跡の単位距離あたりの変化量よりも大きい場合に、前記押圧位置として前記第二位置を特定し、前記第二軌跡の単位時間あたりの変化量が前記第一軌跡の単位距離あたりの変化量よりも大きい場合に、前記押圧位置として前記第一位置を特定することを特徴とする請求項２又は３に記載のタッチパネル。
【請求項５】
前記第一位置のうち少なくとも一部が、前記第一シートに含まれる前記抵抗膜と前記他の抵抗膜との境界部分の位置にある場合に、前記境界部分の位置を除く前記第一位置を抽出する第一抽出手段と、
前記第二位置のうち少なくとも一部が、前記第二シートに含まれる前記抵抗膜と前記他の抵抗膜との境界部分の位置にある場合に、前記境界部分の位置を除く前記第二位置を抽出する第二抽出手段と、
前記第一抽出手段によって抽出された前記第一位置、および、前記第二抽出手段によって抽出された前記第二位置を合成した合成位置を、前記押圧位置として特定する第三特定手段と
を備えたことを特徴とする請求項２から４のいずれかに記載のタッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、抵抗膜方式のタッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
複数点を同時にタッチするマルチタッチ入力が可能な、抵抗膜方式のタッチパネルが提案されている。例えば特許文献１では、対向する電極間に設けられる抵抗膜を、対向方向と直交する方向に分割したタッチパネルが開示されている（以下、分割された抵抗膜のそれぞれを、「分割抵抗膜」という。）。このタッチパネルは、タッチされた位置を、分割抵抗膜ごとに特定することによって、マルチタッチ入力を可能としている。
【０００３】
またこのタッチパネルでは、分割抵抗膜間の境界部分にタッチされた場合であっても位置を特定できるように、分割抵抗膜間の距離は小さく設定される。分割抵抗膜間の境界部分に指やペン等でタッチされた場合、隣接する分割抵抗膜のうち少なくともいずれかと指やペン等とが接触することになるので、タッチパネルは、タッチされた位置を適切に特定することが可能となる。以下、隣接する分割抵抗膜のうち一方を「第一抵抗膜」といい、他方を「第二抵抗膜」という。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１０−９１４２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
第一抵抗膜および第二抵抗膜の両方に跨って指やペン等が接触する箇所が、２ヶ所以上存在する場合を想定する。この場合、第一抵抗膜を伝達する電流の一部は、第二抵抗膜に流れこむ。第一抵抗膜に設けられた電極間に流れる電流の一部が、第二抵抗膜を伝達することになる。第二抵抗膜に設けられた電極間に流れる電流についても同様である。従って、第一抵抗膜および第二抵抗膜の電極の電位を計測しても、タッチされた位置を正確に特定できなくなるという問題点がある。
【０００６】
本発明の目的は、隣接する分割抵抗膜間に跨って指やペン等が接触する場合でも、タッチされた位置を正確に特定することが可能なタッチパネルを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係るタッチパネルは、対向する両端部に電極を備えた抵抗膜が、前記電極の対向方向と直交する第一方向に複数並んで形成される第一導電膜、前記第一方向と直交する第二方向に前記抵抗膜が複数並んて形成される第二導電膜、および、前記第一導電膜と前記第二導電膜との間を離間するスペーサを含む導電シートを複数備えた、抵抗膜方式のタッチパネルであって、前記導電シートに含まれる前記抵抗膜と前記他の抵抗膜との境界部分の位置と、他の前記導電シートに含まれる前記抵抗膜と前記他の抵抗膜との境界部分の位置とが一致しないように、前記導電シートと前記他の導電シートとが積層していることを特徴とする。
【０００８】
本発明によれば、導電シートおよび他の導電シートでは、抵抗膜と他の抵抗膜との境界部分の位置が異なっている。このため、一方の導電シートに押圧力が加えられた場合の位置が境界部分であっても、他方の導電シートには、境界部分以外の位置に押圧力が加わることになる。抵抗膜と他の抵抗膜との境界部分に押圧力が加えられた場合、通常のタッチパネルでは、押圧力が加えられた位置が正確に特定されない可能性がある。しかしながら本発明のタッチパネルは、一方の導電シートに押圧力が加えられた場合の位置が境界部分であっても、他方の導電シートに含まれる抵抗膜に設けられた電極の電位に基づいて、押圧力が加えられた位置を正確に特定することができる。このようにタッチパネルは、押圧力が加えられた位置を常に正確に特定することができる。
【０００９】
本発明において、前記導電シートは、第一シートおよび第二シートを備え、前記導電シートの前記第一導電膜に含まれる前記抵抗膜、および、前記導電シートの前記第二導電膜に含まれる前記抵抗膜が押圧力によって接触した場合に、接触した一以上の前記抵抗膜に設けられた一以上の前記電極の電位に基づいて、接触位置を一以上検出する検出手段と、前記検出手段によって前記第一シートから検出された前記接触位置である第一位置、または、前記第二シートから検出された前記接触位置である第二位置を、前記タッチパネルに押圧力が加えられた位置である押圧位置として特定する第一特定手段とを備えていてもよい。タッチパネルは、第一シートから検出された第一位置、または、第二シートから検出された第二位置を、押圧位置として特定することができる。タッチパネルは、第一位置または第二位置を適宜選択することによって、押圧位置をより正確に特定することができる。
【００１０】
本発明において、前記第一特定手段は、前記検出手段によって検出された前記第一位置の数が前記第二位置の数よりも多い場合に、前記押圧位置として前記第二位置を特定し、前記第二位置の数が前記第一位置の数よりも多い場合に、前記押圧位置として前記第一位置を特定してもよい。第一位置および第二位置が複数検出される場合、押圧力は、抵抗膜と他の抵抗膜との境界部分に加えられている場合がある。境界部分に押圧力が加えられている場合、タッチパネルは押圧位置を正確に特定できない可能性がある。そこでタッチパネルは、第一位置および第二位置のうち、数がより少ない方の位置を有効とすることによって、境界部分への押圧力の印加がより少ない方を押圧位置として特定する。これによってタッチパネルは、境界部分以外へ押圧力が加えられたことによって特定された位置を優先することができるので、押圧位置を更に正確に特定することができる。
【００１１】
本発明において、前記検出手段によって検出された前記接触位置の時系列変化に基づき、前記接触位置の軌跡である接触軌跡を特定する第二特定手段を備え、前記第一特定手段は、前記第二特定手段によって前記第一シートから特定された前記接触軌跡である第一軌跡の単位距離あたりの変化量が、前記第二シートから特定された前記接触軌跡である第二軌跡の単位距離あたりの変化量よりも大きい場合に、前記押圧位置として前記第二位置を特定し、前記第二軌跡の単位時間あたりの変化量が前記第一軌跡の単位距離あたりの変化量よりも大きい場合に、前記押圧位置として前記第一位置を特定してもよい。抵抗膜と他の抵抗膜との間の境界部分を接触軌跡が横切る場合、接触軌跡の単位距離あたりの変化量は大きくなる。この場合、タッチパネルは、接触軌跡に基づいて押圧位置を正確に特定できない可能性がある。そこでタッチパネルは、第一軌跡および第二軌跡のうち単位距離あたりの変化量がより小さい方の軌跡上の接触位置を有効とすることによって、境界部分を横切っていない方の軌跡上の接触位置を押圧位置として特定する。これによってタッチパネルは、境界部分を横切っていない接触軌跡を優先することができるので、押圧位置を更に正確に特定することができる。
【００１２】
本発明において、前記第一位置のうち少なくとも一部が、前記第一シートに含まれる前記抵抗膜と前記他の抵抗膜との境界部分の位置にある場合に、前記境界部分の位置を除く前記第一位置を抽出する第一抽出手段と、前記第二位置のうち少なくとも一部が、前記第二シートに含まれる前記抵抗膜と前記他の抵抗膜との境界部分の位置にある場合に、前記境界部分の位置を除く前記第二位置を抽出する第二抽出手段と、前記第一抽出手段によって抽出された前記第一位置、および、前記第二抽出手段によって抽出された前記第二位置を合成した合成位置を、前記押圧位置として特定する第三特定手段とを備えていてもよい。タッチパネルは、接触位置のうち、抵抗膜および他の抵抗膜の間の境界部分に位置する接触位置を無効とする。タッチパネルは、接触位置のうち境界部分以外の位置を押圧位置として特定することができる。これによってタッチパネルは、押圧位置を更に正確に特定することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】手書き入力システム１を示す図である。
【図２】電子筆記装置１１の電気的構成を示すブロック図である。
【図３】第一シート４０を示す図である。
【図４】パネルモジュール１９を示す図である。
【図５】パネルモジュール１９の図４におけるＩ−Ｉ線矢視方向断面図である。
【図６】パネルモジュール１９に押圧力が加えられた状態を示す図である。
【図７】第一シート４０に押圧力が加えられた状態を示す図である。
【図８】第一実施形態におけるメイン処理を示すフローチャートである。
【図９】第二実施形態におけるメイン処理を示すフローチャートである。
【図１０】第三実施形態におけるメイン処理を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明の一実施形態について、図面を参照して説明する。図１を参照し、手書き入力システム１について説明する。手書き入力システム１は、汎用の筆記具１２を用いて筆記された場合の筆跡を特定して電子化し、筆跡データとして保存するためのシステムである。手書き入力システム１は、電子筆記装置１１およびＰＣ１４を備える。電子筆記装置１１およびＰＣ１４は、通信ケーブル１８を介して接続する。
【００１５】
電子筆記装置１１は、凹形状の載置部１６を手前側の面に備える。載置部１６の底面にタッチパネル１７が設けられる。タッチパネル１７の形状は略長方形である。タッチパネル１７は、抵抗膜方式で駆動する。筆記具１２による筆記動作に伴い、筆記具１２の先端部によってタッチパネル１７が押圧された場合、印加された押圧力の位置（以下、「押圧位置」という。）が特定される。これによって電子筆記装置１１は、特定した押圧位置に基づいて筆跡を特定できる。
【００１６】
例えばユーザは、タッチパネル１７のうち、電子筆記装置１１の手前側（以下、「タッチパネル１７の手前側」という。）に紙媒体７０を載置する。ユーザは、紙媒体７０に対し、汎用の筆記具１２（ボールペンやシャープペンシル等）を用いて筆記する。紙媒体７０に線画が描画される。同時に、筆記具１２による筆記動作によってタッチパネル１７に押圧力が加えられ、筆跡が特定される。このようにしてユーザは、筆記具１２によって紙媒体７０に線画が描画されると同時に、筆記具１２による筆跡を示す筆跡データを得ることができる。
【００１７】
ＰＣ１４は、電子筆記装置１１によって作成された筆跡データを、通信ケーブル１８を介して電子筆記装置１１から取得する。ＰＣ１４は、電子筆記装置１１から取得した筆跡データをデータベースに記憶する。ＰＣ１４は、データベースに記憶した筆跡データを解析することができる。またＰＣ１４は、電子筆記装置１１によって作成された筆跡データに基づき、筆跡の解析処理を行ったり、筆記具１２を用いて描かれた線画をディスプレイに表示したりできる。
【００１８】
図２を参照して、電子筆記装置１１の電気的構成について説明する。電子筆記装置１１は、ＣＰＵ２１、ＲＯＭ２２、ＲＡＭ２３、フラッシュメモリ２４、駆動回路２５、通信制御部２６、およびタッチパネル１７を備える。ＣＰＵ２１は、電子筆記装置１１全体の制御を司る。ＲＯＭ２２には、ブートプログラムおよび初期データが記憶される。ＲＡＭ２３には、一時的なデータが記憶される。フラッシュメモリ２４には、ＣＰＵ２１のプログラム、および、筆跡データを構成する押圧位置を示す座標情報が記憶される。駆動回路２５はタッチパネル１７を駆動する。通信制御部２６は、通信ケーブル１８（図１参照）を介してＰＣ１４（図１参照）と通信を行う。タッチパネル１７は、パネルモジュール１９を備える。パネルモジュール１９は、第一シート４０、第二シート５０、電圧印加部３８、および電圧検出部３９を備える。以下、第一シート４０および第二シート５０を総称し、導電シート３０ともいう。
【００１９】
図３を参照し、第一シート４０の構成について説明する。第二シート５０の構成は、第一シート４０の構成と同一である。第一シート４０は、第一導電膜４１および第二導電膜４２を備える。第一導電膜４１および第二導電膜４２の形状は略長方形である。第一導電膜４１および第二導電膜４２の形状は、タッチパネル１７（図１参照）の形状と略同一である。第一導電膜４１および第二導電膜４２は積層している。第一導電膜４１は、第二導電膜４２に対してタッチパネル１７の手前側に配置する。第一導電膜４１および第二導電膜４２間に、複数のスペーサ４５（図５参照）が設けられる。スペーサ４５は、第一導電膜４１および第二導電膜４２を離間する。
【００２０】
第一導電膜４１は、複数の抵抗膜４１１を備える。抵抗膜４１１は透明である。抵抗膜４１１の形状は略長方形である。抵抗膜４１１の長手方向の長さは、第一導電膜４１の短手方向の長さと同一である。抵抗膜４１１の短手方向の長さは、第一導電膜４１の長手方向の長さよりも短い。抵抗膜４１１は、第一導電膜４１の長手方向に並行に並んでいる。隣接する抵抗膜４１１間の境界部分に隙間４１３が設けられる。隙間４１３の間隔は、抵抗膜４１１の短手方向の長さと比較して非常に小さい。以下、抵抗膜４１１の並ぶ方向を、第一方向という。第一方向と直交する方向を、第二方向という。第一方向は、第一導電膜４１の長手方向および抵抗膜４１１の短手方向に相当する。第二方向は、第一導電膜４１の短手方向および抵抗膜４１１の長手方向に相当する。それぞの抵抗膜４１１のうち第二方向両端部に、電極４１２が設けられる。電極４１２には、電圧印加部３８および電圧検出部３９（図２参照）が接続される。電圧印加部３８は、電極４１２を介して抵抗膜４１１に電圧を印加する。電圧検出部３９は、電極４１２の電圧を検出する。
【００２１】
第二導電膜４２は、複数の抵抗膜４２１を備える。抵抗膜４２１は透明である。抵抗膜４２１の形状は略長方形である。抵抗膜４２１の長手方向の長さは、第二導電膜４２の長手方向の長さと同一である。抵抗膜４２１の短手方向の長さは、第二導電膜４２の短手方向の長さよりも短い。第一方向は、第二導電膜４２および抵抗膜４２１の長手方向に相当する。第二方向は、第二導電膜４２および抵抗膜４２１の短手方向に相当する。抵抗膜４２１は、第二導電膜４２の短手方向、即ち第二方向に並んでいる。隣接する抵抗膜４２１間の境界部分に隙間４２３が設けられる。隙間４２３の間隔は、抵抗膜４２１の短手方向の長さよりも非常に短い。それぞの抵抗膜４２１のうち第一方向両端部に、電極４２２が設けられる。電極４２２には、電圧印加部３８および電圧検出部３９（図２参照）が接続される。電圧印加部３８は、電極４２２を介して抵抗膜４２１に電圧を印加する。電圧検出部３９は、電極４２２の電圧を検出する。
【００２２】
第一シート４０および第二シート５０は、双方が積層した状態でパネルモジュール１９に組み込まれる。図４に示すように、第一シート４０は、第二シート５０に対してタッチパネル１７の手前側に配置する。積層した状態の第一シート４０および第二シート５０では、第一シート４０の抵抗膜４１１間の隙間４１３は、第二シート５０の抵抗膜５１１の第一方向略中央を通って第二方向に延びる。隙間４１３の位置と、第二シート５０の抵抗膜５１１間の隙間５１３の位置とは一致しない。第一シート４０の抵抗膜４２１間の隙間４２３は、第二シート５０の抵抗膜５２１の第二方向略中央を通って第一方向に延びる。隙間４２３の位置と、第二シート５０の抵抗膜５２１間の隙間５２３の位置とは一致しない。
【００２３】
図５に示すように、第一シート４０のうち第二シート５０と近接する側と反対側の面、即ちタッチパネル１７（図１参照）の手前側に、フィルム３２が積層される。フィルム３２は、第一シート４０を保護する。第一シート４０の第一導電膜４１および第二導電膜４２間に複数のスペーサ４５が設けられる。スペーサ４５の形状は略円形である。スペーサ４５の直径は、抵抗膜４２１の短手方向の長さよりも短い。スペーサ４５は、第一導電膜４１および第二導電膜４２を離間する。第一シート４０および第二シート５０間に、フィルム３３が積層される。フィルム３３は、第一シート４０の第二導電膜４２および第二シート５０の第一導電膜５１を離間する。
【００２４】
第二シート５０の第一導電膜５１および第二導電膜５２間に、複数のスペーサ５５が設けられる。スペーサ５５の形状は略円形である。スペーサ５５の直径は、抵抗膜５２１の短手方向の長さよりも短い。スペーサ５５は、第一導電膜５１および第二導電膜５２を離間する。第二シート５０のうち第一シート４０と近接する側と反対側の面側に、ガラス基板３４が積層される。ガラス基板３４は、第一シート４０および第二シート５０を支持する。積層された状態のフィルム３２、第一シート４０、フィルム３３、第二シート５０、およびガラス基板３４、並びに、電圧印加部３８および電圧検出部３９（図２参照）が、パネルモジュール１９に相当する。パネルモジュール１９は、タッチパネル１７の手前側に取り付けられる。
【００２５】
パネルモジュール１９に押圧力が印加された場合の様子について、図６を参照して説明する。以下、図６の上側および下側を、パネルモジュール１９の上側および下側という。電子筆記装置１１の載置部１６（図１参照）の底面に紙媒体７０（図１参照）が載置され、筆記具１２を用いて紙媒体７０に筆記が行われたとする。筆記具１２の先端は、載置部１６の底面に設けられたタッチパネル１７（図１参照）手前側のパネルモジュール１９に押圧力を加える。図６に示すように、パネルモジュール１９は、筆記具１２による押圧力に伴って変形する。具体的には以下の通りである。
【００２６】
第一シート４０に対して、フィルム３２側から下方に向かう方向の押圧力が加わる。フィルム３２、および第一シート４０の第一導電膜４１は、下方に撓む。第一導電膜４１の抵抗膜４１１１と、第二導電膜４２の抵抗膜４２１１、４２１２とが接触する。また第一導電膜４１は、第二導電膜４２の抵抗膜４２１１、４２１２に対して下方に向かう方向の押圧力を加える。第二導電膜４２、フィルム３３、および第二シート５０の第一導電膜５１は下方に撓む。第一導電膜５１の抵抗膜５１１１と、第二導電膜５２の抵抗膜５２１１とが接触する。以下、タッチパネル１７のうち抵抗膜同士が接触した位置を、接触位置という。
【００２７】
図４および図６を参照し、第一シート４０および第二シート５０のそれぞれが接触位置を検出する方法について説明する。第一シート４０の第一導電膜４１（図３参照）が備える抵抗膜４１１に設けられた電極４１２間、および第二導電膜４２（図３参照）が備える抵抗膜４２１に設けられた電極４２２間に、電圧印加部３８（図２参照）から電圧が印加される。同様に、第二シート５０の第一導電膜５１（図３参照）が備える抵抗膜５１１に設けられた電極５１２間、および第二導電膜５２（図３参照）が備える抵抗膜５２１に設けられた電極５２２間に、電圧印加部３８から電圧が印加される。電極間に電圧が印加された状態で、筆記具１２による筆記操作がタッチパネル１７に対して実行される。図６に示すように、パネルモジュール１９が変形したとする。
【００２８】
第一シート４０のうち、第一導電膜４１の抵抗膜４１１１と、第二導電膜４２の抵抗膜４２１１、４２１２が接続することによって、抵抗膜４１１１に設けられた電極４１２の電圧、および、抵抗膜４２１１、４２１２に設けられた電極４２２の電圧が変化する。電極４１２、４２２に接続された電圧検出部３９は、電極の電圧を検出する。ＣＰＵ２１（図２参照）は、電圧検出部３９によって検出された電圧を取得し、電極４１２、４２２の電圧の変化を検出する。ＣＰＵ２１は、電圧の変化に基づき周知の解析処理を行う。これによってＣＰＵ２１は、電圧が変化した電極４１２、４２２が設けられた抵抗膜４１１１、４２１１が交差する領域４６１内の接触位置、および、抵抗膜４１１１、４２１２が交差する領域４６２内の接触位置を検出することができる。
【００２９】
なお電圧検出部３９は、電極４１２、４２２の電圧を、抵抗膜４１１、４２１毎に検出することができる。このためＣＰＵ２１は、抵抗膜４１１、４２１が交差する領域毎に押圧位置を特定できることになる。従ってＣＰＵ２１は、タッチパネル１７の多点を同時に押圧する力が加えられた場合でも、複数の押圧位置を同時に特定することができる。また図６の場合、抵抗膜４１１１は、抵抗膜４２１１と抵抗膜４２１２に接触している。このためＣＰＵ２１は、抵抗膜４１１１、４２１１が交差する領域４６１、および、抵抗膜４１１１、４２１２が交差する領域４６２の両方で、接触位置を検出することになる。このため接触位置は２ヶ所検出される。なお、抵抗膜４２１１、４２１２間の隙間４２３は、抵抗膜４２１の短手方向の長さと比較して十分短いので、検出される２ヶ所の接触位置は近似する。
【００３０】
上述と同様の検出処理は、第二シート５０に対しても同様に実行される。ＣＰＵ２１は、抵抗膜５１１１、５１１２に設けられた電極５１２の電圧、および、抵抗膜５２１１に設けられた電極５２２の電圧の変化を、電圧検出部３９を介して検出する。ＣＰＵ２１は、抵抗膜５１１１、５２１１が交差する領域５６１、および、抵抗膜５１１２、５２１１が交差する領域５６２内から接触位置を検出することができる。以上のようにＣＰＵ２１は、第一シート４０および第二シート５０の双方で、接触位置を別々に検出することができる。
【００３１】
筆記具１２による筆記動作がパネルモジュール１９に対して行われる場合、第一シート４０および第二シート５０の同一点に押圧力が加わることになるので、第一シート４０および第二シート５０のそれぞれから検出される接触位置は、原則として一致する。しかしながら、以下に示す条件で筆記動作が行われた場合、第一シート４０において検出される接触位置と、第二シート５０において検出される接触位置とが相違する。
【００３２】
図７に示すように、筆記具１２を所持する手６０の腹部６０２が、筆記具１２の先端６０１と同時にパネルモジュール１９に押し付けられた場合を想定する。なお図７では、パネルモジュール１９のうち第一シート４０のみ表記し、第二シート５０は省略されている。ここで、先端６０１および腹部６０２が、いずれも第二導電膜４２の抵抗膜４２１１、４２１２間の隙間４２３上に配置したとする。この場合、第一導電膜４１の抵抗膜４１１１と、第二導電膜４２の抵抗膜４２１１、４２１２とが接触し、且つ、第一導電膜４１の抵抗膜４１１２と、第二導電膜４２の抵抗膜４２１１、４２１２とが接触する。第二導電膜４２の抵抗膜４２１１、４２１２が、２ヶ所で導通することになる。この場合、抵抗膜４２１２に設けられた電極４２２間を流れる電流の一部は、抵抗膜４２１１に流れ込む。従って、図中矢印６３にて示されるように、抵抗膜４２１２に設けられた電極４２２間を流れる電流の一部が、抵抗膜４２１１を伝達する。抵抗膜４２１１に設けられた電極４２２間を流れる電流についても同様に、一部が抵抗膜４２１２を伝達する。この場合、電圧検出部３９（図２参照）によって検出される電極４１２の電圧は、隙間４２３を除く部分が押圧された場合と異なる。このため、電圧検出部３９が検出した電圧に基づきＣＰＵ２１が検出する接触位置は、実際に押圧された押圧位置と相違する。従ってＣＰＵ２１は、第一シート４０から押圧位置を正確に特定することができない。
【００３３】
しかしながら図４で示したように、パネルモジュール１９は、第一シート４０および第二シート５０を備え、且つ双方は、隣接する抵抗膜間の隙間の位置が一致しないように積層されている。このため、第一シート４０の抵抗膜４２１１、４２１２間の隙間４２３上の２ヶ所（先端６０１および腹部６０２）が同時に押圧された場合でも、これらの位置は、第二シート５０の抵抗膜５２１１上、即ち、抵抗膜５２１１の両側の隙間５２３間に配置する。先端６０１および腹部６０２は、第二シート５０の抵抗膜５２１１の両側の隙間５２３と重ならない。従って第二シート５０では、抵抗膜間に流れる電流の一部が、隣接する他の抵抗膜を伝達する現象（例えば図７参照）は発生しない。従って、第二シート５０から検出される接触位置は、実際に押圧された押圧位置と一致する。このためＣＰＵ２１は、第二シート５０から押圧位置を正確に特定することができる。なおこの場合、第一シート４０から検出した接触位置と、第二シート５０から検出した接触位置とは相違することになる。
【００３４】
そこでＣＰＵ２１は、第一シート４０および第二シート５０のそれぞれから検出された接触位置が相違する場合、正確な押圧位置を示す接触位置を選択する。以下、選択の具体的な方法を示す実施形態（第一実施形態〜第三実施形態）について詳説する。
【００３５】
＜第一実施形態＞
図８を参照し、第一実施形態におけるメイン処理について説明する。メイン処理は、フラッシュメモリ２４に記憶された制御プログラムに従って、ＣＰＵ２１が実行する。ＣＰＵ２１は、電子筆記装置１１の電源が投入されたタイミングでメイン処理を開始する。
【００３６】
ＣＰＵ２１は、第一シート４０の抵抗膜４１１の両側に設けられた電極４１２、および抵抗膜４２１の両端に設けられた電極４２２の電圧を、電圧検出部３９を介して検出する。ＣＰＵ２１は、検出した電圧に基づき、抵抗膜４１１、４２１が接触した接触位置を検出する（Ｓ１１）。以下、第一シート４０から検出される接触位置を、第一位置という。なお上述したように、抵抗膜４１１、４２１が複数の位置で接触した場合、第一位置は複数検出されることになる。
【００３７】
次にＣＰＵ２１は、第二シート５０の抵抗膜５１１の両側に設けられた電極５１２、および抵抗膜５２１の両端に設けられた電極５２２の電圧を、電圧検出部３９を介して検出する。ＣＰＵ２１は、検出した電圧に基づき、抵抗膜５１１、５２１が接触した接触位置を特定する（Ｓ１３）。以下、第二シート５０から検出される接触位置を、第二位置という。第一位置の場合と同様、抵抗膜５１１、５２１が複数の位置で接触した場合、第二位置は複数検出される。
【００３８】
ＣＰＵ２１は、Ｓ１１で検出した第一位置と、Ｓ１３で検出した第二位置とを比較する（Ｓ１５）。第一位置および第二位置が一致する場合（Ｓ１５：ＹＥＳ）、第一位置および第二位置は、抵抗膜間の隙間上以外の位置に配置していることになる。この場合、第一位置および第二位置は、実際にタッチパネル１７（図１参照）に対して押圧力が印加された位置を示す押圧位置と一致する。ＣＰＵ２１は、第一位置を押圧位置として特定する（Ｓ１７）。処理はＳ２５に進む。
【００３９】
第一位置および第二位置が相違する場合（Ｓ１５：ＮＯ）、第一位置および第二位置のうちいずれか一方が、抵抗膜間の隙間上の位置に配置していることになる。ＣＰＵ２１は、検出された第一位置および第二位置の数を比較する（Ｓ１９）。第一位置の数の方が多い場合（Ｓ１９：ＹＥＳ）、第一位置は、抵抗膜４１１間の隙間４１３または抵抗膜４２１間の隙間４２３上に配置していることになる。この場合、第一シート４０から検出された接触位置と、実際の押圧位置とが相違する可能性がある。ＣＰＵ２１は、第二位置を押圧位置として特定する（Ｓ２１）。処理はＳ２５に進む。
【００４０】
一方、第二位置の数の方が多い場合（Ｓ１９：ＮＯ）、第二位置は、抵抗膜５１１間の隙間５１３または抵抗膜５２１間の隙間５２３上に配置していることになる。この場合、第二シート５０から検出された接触位置と、実際の押圧位置とが相違する可能性がある。ＣＰＵ２１は、第一位置を押圧位置として特定する（Ｓ２３）。処理はＳ２５に進む。
【００４１】
Ｓ２５において、ＣＰＵ２１は、特定した押圧位置を示す座標情報を、フラッシュメモリ２４に記憶する（Ｓ２５）。このようにして筆跡データが作成される。処理はＳ１１に戻る。
【００４２】
以上説明したように、パネルモジュール１９に設けられた第一シート４０および第二シート５０は、抵抗膜間の隙間の位置が双方で相違するように積層される。このため例えば、第一シート４０の抵抗膜４１１間の隙間４１３上、または、抵抗膜４２１間の隙間４２３上の位置に押圧力が加えられた場合でも、第二シート５０には、抵抗膜５１１間の隙間５１３または抵抗膜５２１間の隙間５２３上以外の位置に押圧力が加わることになる。第二シート５０の抵抗膜５１１間の隙間５１３、または、抵抗膜５２１間の隙間５２３上の位置に押圧力が加えられた場合も同様である。隙間上の位置に押圧力が加えられた場合、一方の導電シート３０のみでは、押圧位置を正確に特定することができない可能性がある。しかしながらパネルモジュール１９では、一方の導電シート３０に対して隙間上の位置に押圧力が加えられた場合であっても、他方の導電シート３０から、押圧位置を正確に特定することができる。従ってタッチパネル１７は、押圧位置を常に正確に特定することができる。具体的には、ＣＰＵ２１は、第一シート４０から検出された第一位置、または、第二シート５０から検出された第二位置のうち何れかを選択することによって、押圧位置を正確に特定することができる。
【００４３】
ＣＰＵ２１は、第一位置と第二位置とが一致しない場合、押圧力が隙間上の位置に加えられていると判断する。隙間上に押圧力が加えられた場合、ＣＰＵ２１は押圧位置を正確に特定できない可能性がある。そこでＣＰＵ２１は、第一位置および第二位置のうち、数がより少ない方の位置を有効とすることによって、隙間上の位置への押圧力の印加がより少ない方を、押圧位置として特定する。これによってＣＰＵ２１は、隙間上の位置以外へ押圧力が加えられた場合の接触位置を優先し、押圧位置として特定することができるので、押圧位置を更に正確に特定することができる。
【００４４】
＜第二実施形態＞
図９を参照し、第二実施形態におけるメイン処理について説明する。第二実施形態では、筆記具１２によって線分を筆記する動作が実行されることが前提となる。本実施形態では、隙間上の位置に押圧力が加えられた場合にのみ接触位置が実際の押圧位置と相違する事象が利用される。ＣＰＵ２１は、接触位置の時系列変化に基づいて接触位置の軌跡（以下、「接触軌跡」という。）を特定し、特定した接触軌跡の単位距離あたりの変化量が大きい場合に、筆記具１２によって筆記された線分が隙間上を横切ったと判断し、第一位置および第二位置のうちいずれかを押圧位置として特定する。以下詳説する。なお第一実施形態におけるメイン処理（図８参照）と同一の処理部分については、同一符号を付し、説明を省略または簡略化する。
【００４５】
ＣＰＵ２１は、第一シート４０から第一位置を検出し（Ｓ１１）、次いで、第二シート５０から第二位置を検出する（Ｓ１３）。ＣＰＵ２１は、一ストローク分の筆記動作が完了したか判断する（Ｓ３１）。一ストロークとは、連続する線分の開始から終了までを示す。一ストローク分の筆記動作が完了していない場合（Ｓ３１：ＮＯ）、一ストローク分の筆記動作が完了するまで第一位置および第二位置の検出処理を繰り返し実行するため、処理はＳ１１に戻る。
【００４６】
一ストローク分の筆記動作が完了した場合（Ｓ３１：ＹＥＳ）、ＣＰＵ２１は、Ｓ１１で検出した第一位置の時系列変化に基づき、第一位置の接触軌跡（以下、「第一軌跡」という。）を特定する（Ｓ３３）。次いでＣＰＵ２１は、Ｓ１３で検出した第二位置の時系列変化に基づき、第二位置の接触軌跡（以下、「第二軌跡」という。）を特定する（Ｓ３５）。
【００４７】
ＣＰＵ２１は、Ｓ３３で特定した第一軌跡と、Ｓ３５で特定した第二軌跡とを比較する（Ｓ１５）。第一軌跡および第二軌跡が一致する場合（Ｓ１５：ＹＥＳ）、第一軌跡は第一シート４０の隙間４１３、４２３上を横切っておらず、且つ、第二軌跡は第二シート５０の隙間５１３、５２３上を横切っていないことになる。一方の接触軌跡が隙間上を横切った場合、一方の接触軌跡の単位時間あたりの変化量が大きくなり、他方の接触軌跡の単位時間あたりの変化量は小さいまま維持されるためである。この場合、ＣＰＵ２１は、第一軌跡を構成する第一位置を、押圧位置として特定する（Ｓ１７）。処理はＳ２５に進む。
【００４８】
第一軌跡および第二軌跡が相違する場合（Ｓ１５：ＮＯ）、ＣＰＵ２１は、第一軌跡および第二軌跡の軌跡の変化量を比較する（Ｓ３７）。第一軌跡の変化量が大きい場合（Ｓ３７：ＹＥＳ）、第一軌跡によって示される線分が、第一シート４０の隙間４１３、４２３上を横切っている可能性がある。この場合、第一軌跡上の第一位置のうちいずれかが、実際の押圧位置と相違している可能性がある。このためＣＰＵ２１は、第二軌跡を構成する第二位置を、押圧位置として特定する（Ｓ２１）。処理はＳ２５に進む。
【００４９】
一方、第二軌跡の変化量が大きい場合（Ｓ３７：ＮＯ）、第二軌跡によって示される線分が、第二シート５０の隙間５１３、５２３上を横切っている可能性がある。この場合、第二軌跡上の第二位置のうちいずれかが、実際の押圧位置と相違している可能性がある。このためＣＰＵ２１は、第一軌跡を構成する第一位置を、押圧位置として特定する（Ｓ２３）。処理はＳ２５に進む。
【００５０】
以上説明したように、ＣＰＵ２１は、第一軌跡および第二軌跡のうち、単位距離あたりの変化量がより小さい方の軌跡を構成する接触位置を、押圧位置として特定する。抵抗膜間の隙間上を横切る線分の筆記動作が筆記具１２によって実行された場合、検出される接触軌跡の単位距離あたりの変化量が大きくなるためである。従ってタッチパネル１７は、抵抗膜間の隙間上を横切っていない接触軌跡を構成する接触位置を押圧位置として特定することによって、押圧位置を更に正確に特定することができる。
【００５１】
＜第三実施形態＞
図１０を参照し、第三実施形態におけるメイン処理について説明する。第三実施形態では、第一シート４０の抵抗膜４１１、４２１間の隙間４１３、４２３の位置（以下「第一隙間位置」という。）、および第二シート５０の抵抗膜５１１、５２１間の隙間５１３、５２３の位置（以下「第二隙間位置」という。第一隙間位置および第二隙間位置を総称し、「隙間位置」という。）を示す座標情報が、フラッシュメモリ２４に予め記憶されていることが前提となる。本実施形態では、検出された第一位置のうち第一隙間位置以外の部分が抽出され、検出された第二位置のうち第二隙間位置以外の部分が抽出される。抽出された第一位置および第二位置が合成された合成位置が、押圧位置として特定される。以下詳説する。なお、第一実施形態および第二実施形態におけるメイン処理（図８、図９参照）と同一の処理部分については、同一符号を付し、説明を省略または簡略化する。
【００５２】
ＣＰＵ２１は、第一シート４０から第一位置を検出し（Ｓ１１）、次いで、第二シート５０から第二位置を検出する（Ｓ１３）。ＣＰＵ２１は、筆記動作がすべて完了したか判断する（Ｓ３１）。筆記動作がすべて完了していない場合（Ｓ３１：ＮＯ）、筆記動作がすべて完了するまで第一位置および第二位置の検出処理を繰り返し実行するため、処理はＳ１１に戻る。
【００５３】
筆記動作がすべて完了した場合（Ｓ３１：ＹＥＳ）、ＣＰＵ２１は、Ｓ１１で検出した第一位置と、Ｓ１３で検出した第二位置とを比較する（Ｓ１５）。第一位置および第二位置が一致する場合（Ｓ１５：ＹＥＳ）、ＣＰＵ２１は、第一位置を押圧位置として特定する（Ｓ１７）。処理はＳ２５に進む。
【００５４】
第一位置および第二位置が相違する場合（Ｓ１５：ＮＯ）、第一位置または第二位置に、抵抗膜間の隙間上に配置する接触位置が含まれていることになる。ＣＰＵ２１は、検出した第一位置のうち第二位置と相違する接触位置（以下、「第一相違位置」という。）と、第一隙間位置とを比較する。第一相違位置と第一隙間位置とが一致する場合、第一相違位置は、第一シート４０の隙間４１３、４２３上の位置に配置していることになる（Ｓ４９：ＹＥＳ）。この場合、第一相違位置は、実際に押圧された押圧位置と相違する可能性がある。このためＣＰＵ２１は、第一相違位置を第一位置から削除する（Ｓ５１）。これによってＣＰＵ２１は、第一位置のうち、第一シート４０の隙間４１３、４２３上の位置以外の接触位置を抽出する。処理はＳ５３に進む。一方、第一相違位置と第一隙間位置とが一致しない場合（Ｓ４９：ＮＯ）、処理はＳ５３に進む。
【００５５】
ＣＰＵ２１は、すべての第一相違位置に対してＳ４９の判断が実行されたか判断する（Ｓ５３）。判断されていない第一相違位置が残っている場合（Ｓ５３：ＮＯ）、残りの第一相違位置と第一隙間位置との比較処理を実行するために、処理はＳ４９に戻る。一方、すべての第一相違位置に対してＳ４９の判断が実行された場合（Ｓ５３：ＹＥＳ）、処理はＳ５５に進む。
【００５６】
ＣＰＵ２１は、検出した第二位置のうち第一位置と相違する接触位置（以下、「第二相違位置」という。）と、第二隙間位置とを比較する。第二相違位置と第二隙間位置とが一致する場合、第二相違位置は、第二シート５０の隙間５１３、５２３上の位置に配置していることになる（Ｓ５５：ＹＥＳ）。この場合、第二相違位置は、実際に押圧された押圧位置と相違する可能性がある。このためＣＰＵ２１は、第二相違位置を第二位置から削除する（Ｓ５７）。これによってＣＰＵ２１は、第二位置のうち、第二シート５０の隙間５１３、５２３上の位置以外の接触位置を抽出する。処理はＳ５９に進む。一方、第二相違位置と第二隙間位置とが一致しない場合（Ｓ５５：ＮＯ）、処理はＳ５９に進む。
【００５７】
ＣＰＵ２１は、すべての第二相違位置に対してＳ５５の判断が実行されたか判断する（Ｓ５９）。判断されていない第二相違位置が残っている場合（Ｓ５９：ＮＯ）、残りの第二相違位置と第二隙間位置との比較処理を実行するために、処理はＳ５５に戻る。一方、すべての第二相違位置に対してＳ５５の判断が実行された場合（Ｓ５９：ＹＥＳ）、処理はＳ６１に進む。
【００５８】
Ｓ６１において、ＣＰＵ２１は、Ｓ５１で第一相違位置が削除された第一位置と、Ｓ５７で第二相違位置が削除された第二位置とを合成し、重複する接触位置がないように調整した合成位置を作成する（Ｓ６１）。ＣＰＵ２１は、作成した合成位置を押圧位置としてフラッシュメモリ２４に記憶する（Ｓ２５）。
【００５９】
以上説明したように、ＣＰＵ２１は、接触軌跡上の接触位置のうち、抵抗膜間の隙間上に位置する接触位置を削除し、無効化することができる。このためＣＰＵ２１は、接触軌跡のうち隙間上以外の接触位置を押圧位置として特定することができる。これによってタッチパネル１７は、押圧位置を更に正確に特定することができる。
【００６０】
なお、電子筆記装置１１が本発明の「タッチパネル」に相当する。Ｓ１１、Ｓ１３の処理を行うＣＰＵ２１が本発明の「検出手段」に相当する。Ｓ１７、Ｓ２１、Ｓ２３の処理を行うＣＰＵ２１が本発明の「第一特定手段」に相当する。Ｓ３３、Ｓ３５の処理を行うＣＰＵ２１が本発明の「第二特定手段」に相当する。Ｓ５１の処理を行うＣＰＵ２１が本発明の「第一抽出手段」に相当する。Ｓ５７の処理を行うＣＰＵ２１が本発明の「第二抽出手段」に相当する。Ｓ６１の処理を行うＣＰＵ２１が本発明の「第三特定手段」に相当する。
【００６１】
なお本発明は、上述の実施形態に限定されず、種々の変更が可能である。上述では、タッチパネル１７の外部に設けられた電子筆記装置１１のＣＰＵ２１が、押圧位置を特定するための処理を行なっていた。これに対し、タッチパネル１７がＣＰＵ、ＲＯＭ、ＲＡＭ、フラッシュメモリ等を備えていても良い。そして、タッチパネル１７が備えるＣＰＵが、押圧位置を特定するための処理を実行しても良い。
【００６２】
上述では、２枚の導電シート３０（第一シート４０および第二シート５０）が積層され、タッチパネル１７を構成した。これに対し、タッチパネル１７を構成する導電シート３０は、３枚以上であっても良い。上述では、抵抗膜間に隙間が設けられていた。これに対し、抵抗膜間は、絶縁した状態で密着していても良い。この場合、抵抗膜間の境界線が重ならないように、導電シートは積層されることになる。
【符号の説明】
【００６３】
１１    電子筆記装置
１２    筆記具
１７    タッチパネル
２４    フラッシュメモリ
３０    導電シート
４０    第一シート
４１、５１  第一導電膜
４２、５２  第二導電膜
４５、５５  スペーサ
５０    第二シート
４１１、４２１、５１１、５２１  抵抗膜
４１２、４２２、５１２、５２２  電極
４１３、４２３、５１３、５２３  隙間
【図１】
2013196569.tif 000003
【図２】
2013196569.tif 000004
【図３】
2013196569.tif 000005
【図４】
2013196569.tif 000006
【図５】
2013196569.tif 000007
【図６】
2013196569.tif 000008
【図７】
2013196569.tif 000009
【図８】
2013196569.tif 000010
【図９】
2013196569.tif 000011
【図１０】
2013196569.tif 000012