(57)【要約】【課題】本発明は試料に照射されるイオンビームによる再付着を抑制することを課題とする。【解決手段】試料台１０は、支持ベース２０に保持されており、当該支持ベース２０を介して透過型電子顕微鏡のステージに固定される。試料台１０は、支持ベース２０に固定される下部本体１２と、下部本体１２の後端に起立する支持部１４と、支持部１４の上端両側に支持された試料取付部１６とを有する。試料取付部１６の下方には、空間５０が形成されている。試料取付部１６に接着された各試料３０に対してイオンビームが照射される薄片化加工時に、空間５０を通過する過程でスパッタが生じないので、試料３０への再付着が抑制される。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料が固定される試料取付部と、該試料取付部を支持する支持部と、該支持部が形成された下部本体とを有し、当該試料に対するイオンビームの照射による加工が可能となるように当該試料が取り付けられる試料台であって、
前記イオンビームの照射によって当該試料台の成分が飛散しないように前記試料取付部と前記下部本体との間に空間を形成したことを特徴とする試料台。
【請求項２】
前記試料取付部は、水平方向の厚さが１μｍ〜５μｍに形成されたことを特徴とする請求項１に記載の試料台。
【請求項３】
前記支持部及び前記下部本体は、水平方向の厚さが１μｍ〜５μｍまたは５μｍ〜２０μｍの何れかに形成されたことを特徴とする請求項１又は２に記載の試料台。
【請求項４】
前記支持部は、前記下部本体の上端より上方に延在形成され、上端両側面に前記試料取付部が形成されたことを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載の試料台。
【請求項５】
前記支持部は、前記下部本体の上端より上方に延在形成された両側面の中間位置に前記試料取付部が形成されたことを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載の試料台。
【請求項６】
前記支持部は、少なくとも前記下部本体の上端の二箇所より上方に延在形成され、
各支持部の側面間を横架する梁を設けることで当該梁の下方に前記空間を形成し、
前記梁の上端に前記試料取付部を設けたことを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載の試料台。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は収束イオンビーム装置（ＦＩＢ：Ｆｏｃｕｓｅｄ  Ｉｏｎ  Ｂｅａｍ  Ｓｙｓｔｅｍ）により薄片化される試料を支持し、及び／または透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ：Ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）で観察される試料を支持する試料台の改良に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、透過型電子顕微鏡においては、観察する試料を予め試料台に固定し、当該試料台を所定位置に保持した後、当該試料の加工面に対して正面方向（垂直方向）から電子ビームを照射して透過した電子を結像して観察を行うように構成されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
上記試料台としては、当該試料に含まれない元素からなる金属により形成されており、半導体の微細加工技術を用いて所定形状に加工される。また、試料台は、試料取付部に試料が固定された状態で収束イオンビーム装置に装着され、試料の上方からイオンビームが照射されて試料の加工面を加工するように取り付けられる。収束イオンビーム装置により試料を所定形状に薄片化加工する際、及び／または薄片化加工後にイオンミリングにより試料表面のダメージ層を除去する際、試料取付部にイオンビームが照射されると、試料取付部を形成する金属が飛散（スパッタ）されて試料に再付着（リデポジション）し、加工終了後の透過型電子顕微鏡による観察精度が低下するという問題があった。尚、上記イオンミリングによるダメージ層の除去は、行わない場合もある。
【０００４】
このような問題を解決するため、上記引用文献１では、複数の試料取付部を有し、試料取付部を支持する支持部を階段形状とすることでイオンビームの照射による試料台を形成する金属の飛散（スパッタ）を抑制している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特許４５７０９８０号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記特許文献１のように、試料取付部を支持する支持部を階段形状としても、イオンビームが試料の上方から照射される際、イオンビームの照射角度によって当該試料取付部の階段形状とされた支持部の段差に照射されてしまうため、イオンビームの照射による試料台を形成する金属成分の飛散（スパッタ）を十分に抑制することが難しく、試料への再付着（リデポジション）が発生するという問題があった。
【０００７】
そこで、本発明は上記事情に鑑み、上記課題を解決した試料台の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するため、本発明は以下のような手段を有する。
【０００９】
本発明は、試料が固定される試料取付部と、該試料取付部を支持する支持部と、該支持部が形成された下部本体とを有し、当該試料に対するイオンビームの照射による加工が可能となるように当該試料が取り付けられる試料台であって、
前記イオンビームの照射によって当該試料台の成分が飛散しないように前記試料取付部と前記下部本体との間に空間を形成したことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、イオンビームの照射によって当該試料台の成分が飛散しないように取付部と下部本体との間に空間を形成したため、イオンビームが試料に照射される際に試料から外れたイオンビームが空間を通過することになり、試料取付部からの金属の飛散を減らして、再付着（リデポジション）の発生を抑制することで透過型電子顕微鏡による電子ビームの透過像の検出精度を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明による試料台の実施例１の取付状態を示す正面図である。
【図２】試料台を支持する支持ベースを示す正面図である。
【図３】本発明の試料台に試料が取り付けられた状態を拡大して示す側面図である。
【図４】従来の試料台に試料が取り付けられた状態を拡大して示す側面図である。
【図５】実施例１の試料台を示す図であり、（Ａ）は正面図、（Ｂ）は平面図、（Ｃ）は側面図である。
【図６】変形例１の試料台を示す図であり、（Ａ）は正面図、（Ｂ）は平面図、（Ｃ）は側面図である。
【図７】変形例２の試料台を示す図であり、（Ａ）は正面図、（Ｂ）は平面図、（Ｃ）は側面図である。
【図８】変形例３の試料台を示す図であり、（Ａ）は正面図、（Ｂ）は平面図、（Ｃ）は側面図である。
【図９】変形例４の試料台を示す図であり、（Ａ）は正面図、（Ｂ）は平面図、（Ｃ）は側面図である。
【図１０】変形例５の試料台を示す図であり、（Ａ）は正面図、（Ｂ）は平面図、（Ｃ）は側面図である。
【図１１】変形例６の試料台を示す図であり、（Ａ）は正面図、（Ｂ）は平面図、（Ｃ）は側面図である。
【図１２】変形例７の試料台を示す図であり、（Ａ）は正面図、（Ｂ）は平面図、（Ｃ）は側面図である。
【図１３】変形例８の試料台を示す図であり、（Ａ）は正面図、（Ｂ）は平面図、（Ｃ）は側面図である。
【図１４】変形例９の試料台を示す図であり、（Ａ）は正面図、（Ｂ）は平面図、（Ｃ）は側面図である。
【図１５】変形例１０の試料台を示す図であり、（Ａ）は正面図、（Ｂ）は平面図、（Ｃ）は側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、図面を参照して本発明を実施するための形態について説明する。
【実施例１】
【００１３】
図１は本発明による試料台の実施例１の取付状態を示す正面図である。図１に示されるように、試料台１０は、支持ベース２０に保持されており、当該支持ベース２０を介して収束イオンビーム装置のステージに固定される。試料台１０と支持ベース２０とは、接着剤などにより一体的に結合された状態で扱われ、試料台ユニット４０を構成する。
【００１４】
試料台１０は、支持ベース２０に固定される下部本体１２と、下部本体１２の上端に起立する支持部１４と、支持部１４の上端両側に支持された試料取付部１６とを有する。試料取付部１６の上端には、各試料３０が垂直状態で固定されている。
【００１５】
また、試料台１０は、各試料３０がイオンビームを照射される照射範囲に入るように支持ベース２０を介して収束イオンビーム装置の所定位置に取り付けられる。尚、試料台１０は、下部本体１２の水平方向の厚さが５μｍ〜２０μｍと極めて薄く加工されるため、高い剛性を有する支持ベース２０に固定されることにより強度的に安定した状態で装着される。また、下部本体１２の水平方向の厚さとして、５μｍ〜１０μｍとすることが望ましい。
【００１６】
図２は試料台１０を支持する支持ベース２０を示す正面図である。図２に示されるように、支持ベース２０は、水平方向の厚さが３０μｍ〜１００μｍあり、薄型化された試料台１０よりも高い剛性を有する。また、支持ベース２０は、中心部に試料台１０が固定される固定部２２と、固定部２２の下方には固定用ネジが挿通される長円形の取付孔２４とを有する。また、固定部２２には、試料台１０の外側に形成された掛止溝１８に嵌合する位置決めピン２６が設けられている。尚、位置決めピン２６は、支持ベース２０と一体に形成しても良いし、支持ベース２０と別体のピンを圧入しても良い。
【００１７】
ここで、透過型電子顕微鏡を用いて試料台１０に固定された試料３０を観察する際の本発明の特徴について説明する。図３は本発明の試料台に試料が取り付けられた状態を拡大して示す側面図である。図３に示されるように、試料３０は、試料台１０の試料取付部１６の上面１６ａに垂直に起立した状態に固定された後、収束イオンビーム装置においてイオンビームを照射されて水平方向の厚さが０．１μｍに薄片化される。
【００１８】
各試料３０は、下端部が試料取付部１６に対して収束イオンビーム装置のイオンビームの照射による堆積機能（成膜機能）による堆積物により接着される。試料取付部１６は、水平方向の厚さが支持部１４よりも薄い１μｍ〜５μｍにエッチングされており、試料３０との段差の幅が小さくなっているので、イオンビームが上方から照射された際のスパッタが抑制される。
【００１９】
さらに、試料取付部１６の下端１６ｂと下部本体１２の上端１２ａとの間には、高さ方向に離間距離Ｌを有する空間５０が形成されている。尚、高さ方向に離間距離Ｌは、任意の距離に設定することができ、Ｌ≒７０μｍ〜１２０μｍとすることが望ましい。この空間５０の存在により、収束イオンビーム装置において上方から照射されたイオンビームのうち空間５０を通過する過程では、試料台１０に照射されないことから、スパッタが発生せず、その分試料３０に対する再付着（リデポジション）が減少する。そのため、透過型電子顕微鏡による試料３０の結像が鮮明になり、電子ビームの透過による結像の検出精度を高めることが可能になる。
【００２０】
図４は従来の試料台に試料が取り付けられた状態を拡大して示す側面図である。図４に示されるように、従来の試料台６０は、試料取付部６２が段階的に水平方向の厚さが薄くなるように階段形状に形成されており、試料３０が固定される第１の取付部６４と、第１の取付部６４よりも厚さ寸法が大きく形成された第２の取付部６６とを有する。さらに、第２の取付部６６の下方には、厚さ寸法が大きく形成された第３、第４の取付部が設けられている。尚、第１の取付部６４の厚さは、例えば５μｍであり、第２の取付部６６の厚さは、例えば２０μｍである。
【００２１】
試料３０には、第１の取付部６４の上端及び第２の取付部６６の上端に照射されるイオンビームの照射角度によって試料台６０を構成する金属がスパッタされて再付着する。従って、従来の試料台６０では、試料３０が固定された第２の取付部６６からのスパッタによる再付着を抑制することができず、透過型電子顕微鏡による試料３０を観察する際の結像が不鮮明になり、電子ビームの透過結像の検出精度が低下するといった問題を有する。
【００２２】
一方、図３に示す本発明の試料台１０は、上記空間５０を形成することにより、図４に示す従来の試料台６０と比較してイオンビームの照射による再付着を抑制するといった効果が得られる。
【００２３】
〔実施例１の試料台〕
図５は実施例１の試料台１０を示す図であり、（Ａ）は正面図、（Ｂ）は平面図、（Ｃ）は側面図である。図５（Ａ）〜図５（Ｃ）に示されるように、試料台１０は、下部本体１２の上端に３本の支持部１４が起立しており、各支持部１４の上端の左右両側面には試料取付部１６が側方に突出するように形成されている。また、試料台１０は、剛性の高いモリブデン鋼により形成されており、エッチングにより各支持部１４、各試料取付部１６が形成されている。
【００２４】
各試料取付部１６の上端には、試料３０が収束イオンビーム装置のイオンビームの照射による堆積機能（成膜機能）による堆積物により接着される。各試料３０は、長形状に形成されており、水平方向の厚さが例えば０．１μｍに薄片化されている。各支持部１４は、下部本体１２と同じ厚さに形成されており、各試料取付部１６を安定的に支持している。
【００２５】
試料取付部１６が各支持部１４の左右両側面より側方に突出するように形成されているため、各試料取付部１６の下方には、空間５０が形成されている。また、試料取付部１６の上面に固定された試料３０は、支持部１４の側方に外れた位置となるように固定される。
【００２６】
空間５０は、下部本体１２の上端と、支持部１４と、試料取付部１６とにより囲まれており、厚さ方向に貫通している。尚、本実施例では、下部本体１２の上端１２ａと試料取付部１６の下端１６ｂとの距離は、例えばＬ≒７０μｍ〜１２０μｍに形成されている。そのため、収束イオンビーム装置により試料台１０の各試料取付部１６に固定された試料を所定形状に薄片化加工する際、及び／または薄片化加工後にイオンミリングにより試料表面のダメージ層を除去する際、各試料３０の上方から下方に向けてイオンビームが照射される際、上記空間５０を通過するイオンビームによる再付着が防止されるため、その分試料３０に対する再付着（リデポジション）が減少する。これにより、透過型電子顕微鏡による試料３０の結像が鮮明になり、電子ビームの透過による結像の検出精度を高めることが可能になる。
【００２７】
各試料取付部１６は、四角形状に形成されており、一辺が支持部１４の側面と一体化され、他の三辺が自由端になっている。そのため、各試料取付部１６の上端と側端の２辺に試料３０を固定することも可能である。よって、一度に多くの試料３０を観察する場合、６個の試料取付部１６に各試料３０を１個ずつ固定しても良いし、あるいは条件の異なる６種類の試料３０を各試料取付部１６に２個ずつ配置させることも可能である。
【００２８】
また、上記支持部１４の設置数は、上記３本に限らず、これ以外の任意の数を設けても良い。また、実施例１において、上記下部本体１２の水平方向の厚さを、各支持部１４及び各試料取付部１６の水平方向の厚さと同一の厚さ１μｍ〜５μｍにしても良い。この場合、試料台１０の厚さが全体で同一寸法となるため、水平方向の厚さの差違による段差がなくなり、イオンビームが照射された場合の再付着がさらに減少される。
【００２９】
〔変形例１〕
図６は変形例１の試料台１０Ａを示す図であり、（Ａ）は正面図、（Ｂ）は平面図、（Ｃ）は側面図である。図６（Ａ）〜図６（Ｃ）に示されるように、試料台１０Ａは、実施例１の試料台１０に対して各支持部１４の水平方向の厚さが各試料取付部１６と同一の厚さに形成されている。すなわち、試料台１０Ａは、下部本体１２の水平方向の厚さが例えば５μｍ〜２０μｍと極めて薄く形成され、且つ各支持部１４及び各試料取付部１６の厚さが、例えばさらに薄い１μｍ〜５μｍに形成されている。
【００３０】
また、試料台１０Ａの他の部分の構成は、上記実施例１の試料台１０と同じであり、試料取付部１６の下方には空間５０が形成されている。
【００３１】
そのため、試料台１０Ａは、上記実施例１のものよりも支持部１４の上面の面積が縮小されており、その分支持部１４の上面にイオンビームが照射された場合の再付着が減少される。
【００３２】
〔変形例２〕
図７は変形例２の試料台１０Ｂを示す図であり、（Ａ）は正面図、（Ｂ）は平面図、（Ｃ）は側面図である。図７（Ａ）〜図７（Ｃ）に示されるように、試料台１０Ｂは、各試料取付部１６が各支持部１４の上端より下がった支持部１４の左右側面の中間位置に形成されている。また、試料台１０Ｂの他の部分の構成は、上記実施例１の試料台１０と同じであり、試料取付部１６の下方には空間５０が形成されている。
【００３３】
試料台１０Ｂでは、試料取付部１６の厚さが例えば１μｍ〜５μｍに形成され、各支持部１４及び下部本体１２の水平方向の厚さが例えば５μｍ〜２０μｍに形成されている。
【００３４】
各試料取付部１６は、各支持部１４の上端よりも低い位置に配置されているため、各試料３０を各試料取付部１６の上面１６ｂに固定する際、各試料３０の側面が各試料取付部１６よりも上方に突出する各支持部１４の側面にも接着される。従って、各試料３０は、下端が各試料取付部１６の上面１６ａに固定され、且つ側面が各支持部１４の側面に固定される。よって、各試料３０の接着面積が増加して各試料取付部１６及び各支持部１４に強固に固定される。
【００３５】
〔変形例３〕
図８は変形例３の試料台１０Ｃを示す図であり、（Ａ）は正面図、（Ｂ）は平面図、（Ｃ）は側面図である。図８（Ａ）〜図８（Ｃ）に示されるように、試料台１０Ｃは、変形例２の試料台１０Ｂに対して各支持部１４の水平方向の厚さが各試料取付部１６と同一の厚さに形成されている。すなわち、試料台１０Ｃは、下部本体１２の水平方向の厚さが例えば５μｍ〜２０μｍと極めて薄く形成され、且つ各支持部１４及び各試料取付部１６の厚さが、例えばさらに薄い１μｍ〜５μｍに形成されている。
【００３６】
また、試料台１０Ｃの他の部分の構成は、上記変形例２の試料台１０Ｂと同じであり、試料取付部１６の下方には空間５０が形成されている。
【００３７】
試料台１０Ｃは、上記変形例２のものよりも支持部１４の上面の面積が縮小されており、その分収束イオンビーム装置において支持部１４の上面にイオンビームが照射された場合の再付着が減少される。
【００３８】
また、変形例３において、上記下部本体１２の水平方向の厚さを、各支持部１４及び各試料取付部１６の水平方向の厚さと同一の厚さ１μｍ〜５μｍにしても良い。この場合、試料台１０Ｃの厚さが全体で同一寸法となるため、水平方向の厚さの差違による段差がなくなり、収束イオンビーム装置でイオンビームが照射された場合の再付着がさらに減少される。
【００３９】
〔変形例４〕
図９は変形例４の試料台１０Ｄを示す図であり、（Ａ）は正面図、（Ｂ）は平面図、（Ｃ）は側面図である。図９（Ａ）〜図９（Ｃ）に示されるように、試料台１０Ｄは、実施例１の試料台１０に対して一対の支持部１４の上端側面間に試料取付部１６Ａが横架されている。
【００４０】
また、各試料取付部１６Ａの下方には、空間５０Ａが形成されている。この空間５０Ａは、下部本体１２の上端と、支持部１４の側面と、試料取付部１６の下面とにより囲まれた貫通孔である。尚、空間５０Ａの高さ方向の寸法は、例えば７０μｍ〜１２０μｍに形成されている。
【００４１】
収束イオンビーム装置により試料台１０の各試料取付部１６に固定された試料を所定形状に薄片化加工する際、及び／または薄片化加工後にイオンミリングにより試料表面のダメージ層を除去する際、各試料３０の上方から下方に向けてイオンビームが照射される際、上記空間５０Ａを通過するイオンビームによる再付着が防止されるため、その分試料３０に対する再付着（リデポジション）が減少する。そのため、透過型電子顕微鏡による試料３０の結像が鮮明になり、電子ビームの透過による結像の検出精度を高めることが可能になる。
【００４２】
本変形例では、下部本体１２の上面１２ａに、四本の支持部１４が起立しており、二組の各一対の支持部１４間には、試料取付部１６Ａが横架されている。そして、二箇所に配された各試料取付部１６Ａの上端には、試料３０が固定される。また、試料台１０Ｄの他の部分の構成は、上記実施例１の試料台１０と同じである。
【００４３】
試料台１０Ｄでは、試料取付部１６Ａの厚さが例えば１μｍ〜５μｍに形成され、各支持部１４及び下部本体１２の水平方向の厚さが例えば５μｍ〜２０μｍに形成されている。また、試料取付部１６Ａは、両端が一対の支持部１４の側面と一体化されているため、厚さが１μｍ〜５μｍに形成されても両端が強固に支持されている。そのため、各試料取付部１６Ａに固定された各試料３０は、垂直状態を安定的に保つことが可能になる。
【００４４】
〔変形例５〕
図１０は変形例５の試料台１０Ｅを示す図であり、（Ａ）は正面図、（Ｂ）は平面図、（Ｃ）は側面図である。図１０（Ａ）〜図１０（Ｃ）に示されるように、試料台１０Ｅは、変形例４の試料台１０Ｄに対して各支持部１４の水平方向の厚さが各試料取付部１６Ａと同一の厚さに形成されている。すなわち、試料台１０Ｅは、下部本体１２の水平方向の厚さが例えば５μｍ〜２０μｍと極めて薄く形成され、且つ各支持部１４及び各試料取付部１６Ａの厚さが、例えばさらに薄い１μｍ〜５μｍに形成されている。
【００４５】
また、試料台１０Ｅの他の部分の構成は、上記変形例４の試料台１０Ｄと同じであり、試料取付部１６Ａの下方には空間５０Ａが形成されている。
【００４６】
そのため、試料台１０Ｅは、上記変形例４のものよりも支持部１４の上面の面積が縮小されており、その分収束イオンビーム装置で支持部１４の上面にイオンビームが照射された場合の再付着が減少される。
【００４７】
また、変形例５において、上記下部本体１２の水平方向の厚さを、各支持部１４及び各試料取付部１６Ａの水平方向の厚さと同一の厚さ１μｍ〜５μｍにしても良い。この場合、試料台１０Ｅの厚さが全体で同一寸法となるため、水平方向の厚さの差違による段差がなくなり、収束イオンビーム装置でイオンビームが照射された場合の再付着がさらに減少される。
【００４８】
〔変形例６〕
図１１は変形例６の試料台１０Ｆを示す図であり、（Ａ）は正面図、（Ｂ）は平面図、（Ｃ）は側面図である。図１１（Ａ）〜図１１（Ｃ）に示されるように、試料台１０Ｆは、変形例４の試料台１０Ｄに対して各試料取付部１６Ａが各支持部１４の上端より下がった側面の中間位置に連結されている。そのため、試料３０は、各試料取付部１６Ａの上端１６ａと各支持部１４の上端の側面に囲まれた凹部に固定される。従って、各試料取付部１６Ａは両端が両側に配された各支持部１４に強固に支持され、且つ各試料取付部１６Ａの上面１６ａに固定された試料３０を安定状態に保持することができる。
【００４９】
また、試料台１０Ｆの他の部分の構成は、上記変形例５の試料台１０Ｅと同じであり、試料取付部１６Ａの下方には空間５０Ａが形成されている。
【００５０】
試料台１０Ｆは、下部本体１２及び各支持部１４の水平方向の厚さが例えば５μｍ〜２０μｍと極めて薄く形成され、且つ各試料取付部１６Ａの厚さが、例えば１μｍ〜５μｍに形成されている。
【００５１】
〔変形例７〕
図１２は変形例７の試料台１０Ｇを示す図であり、（Ａ）は正面図、（Ｂ）は平面図、（Ｃ）は側面図である。図１２（Ａ）〜図１２（Ｃ）に示されるように、試料台１０Ｇは、変形例６の試料台１０Ｆに対して各支持部１４の水平方向の厚さが各試料取付部１６Ａと同一の厚さに形成されている。すなわち、試料台１０Ｇは、下部本体１２の水平方向の厚さが例えば５μｍ〜２０μｍと極めて薄く形成され、且つ各支持部１４及び各試料取付部１６Ａの厚さが、例えばさらに薄い１μｍ〜５μｍに形成されている。
【００５２】
また、試料台１０Ｇの他の部分の構成は、上記変形例６の試料台１０Ｆと同じであり、試料取付部１６Ａの下方には空間５０Ａが形成されている。
【００５３】
そのため、試料台１０Ｇは、上記変形例４のものよりも支持部１４の上面の面積が縮小されており、その分収束イオンビーム装置において支持部１４の上面にイオンビームが照射された場合の再付着が減少される。
【００５４】
また、変形例７において、上記下部本体１２の水平方向の厚さを、各支持部１４及び各試料取付部１６Ａの水平方向の厚さと同一の厚さ１μｍ〜５μｍにしても良い。この場合、試料台１０Ｇの厚さが全体で同一寸法となるため、水平方向の厚さの差違による段差がなくなり、収束イオンビーム装置でイオンビームが照射された場合の再付着がさらに減少される。
【００５５】
〔変形例８〕
図１３は変形例８の試料台１０Ｈを示す図であり、（Ａ）は正面図、（Ｂ）は平面図、（Ｃ）は側面図である。図１３（Ａ）〜図１３（Ｃ）に示されるように、試料台１０Ｈは、下部本体１２の上端１２ａに一対の支持部１４が起立しており、一対の支持部１４間には梁１５が横架されている。また、梁１５の上面の三箇所には、試料取付部１６Ｂが突出している。
【００５６】
また、梁１５の下方には、空間５０Ｂが形成されている。この空間５０Ｂは、下部本体１２の上端１２ａと、支持部１４の側面と、梁１５の下面とにより囲まれた貫通孔である。尚、空間５０Ｂの高さ方向の寸法は、例えば７０μｍ〜１２０μｍに形成されている。また、試料台１０Ｈは、下部本体１２及び各支持部１４の水平方向の厚さが例えば５μｍ〜２０μｍと極めて薄く形成され、且つ梁１５及び各試料取付部１６Ａの厚さが、例えばさらに薄い１μｍ〜５μｍに形成されている。
【００５７】
収束イオンビーム装置により試料台１０の各試料取付部１６に固定された試料を所定形状に薄片化加工する際、及び／または薄片化加工後にイオンミリングにより試料表面のダメージ層を除去する際、各試料３０の上方から下方に向けてイオンビームが照射される際、上記空間５０Ｂを通過するイオンビームによる再付着が防止されるため、その分試料３０に対する再付着（リデポジション）が減少する。そのため、透過型電子顕微鏡による試料３０の結像が鮮明になり、電子ビームの透過による結像の検出精度を高めることが可能になる。
【００５８】
本変形例では、梁１５の上面の３箇所に試料取付部１６Ｂを形成したが、試料取付部１６Ｂの設置数は３箇所に限らず、４箇所あるいは５箇所に適宜増やすことが可能である。
【００５９】
また、梁１５は、両端が一対の支持部１４の側面と一体化されているため、厚さが１μｍ〜５μｍに形成されても両端が強固に支持されている。そのため、梁１５の上面に配された各試料取付部１６Ｂに固定された各試料３０は、垂直状態を安定的に保つことが可能になる。
【００６０】
〔変形例９〕
図１４は変形例９の試料台１０Ｉを示す図であり、（Ａ）は正面図、（Ｂ）は平面図、（Ｃ）は側面図である。図１４（Ａ）〜図１４（Ｃ）に示されるように、試料台１０Ｉは、変形例８の試料台１０Ｈに対して各支持部１４の水平方向の厚さが梁１５及び各試料取付部１６Ａと同一の厚さに形成されている。すなわち、試料台１０Ｉは、下部本体１２の水平方向の厚さが例えば５μｍ〜２０μｍと極めて薄く形成され、且つ各支持部１４及び梁１５及び各試料取付部１６Ａの厚さが、例えばさらに薄い１μｍ〜５μｍに形成されている。
【００６１】
また、試料台１０Ｉの他の部分の構成は、上記変形例８の試料台１０Ｈと同じであり、梁１５の下方には空間５０Ｂが形成されている。
【００６２】
そのため、試料台１０Ｉは、上記変形例８のものよりも支持部１４の上面の面積が縮小されており、その分収束イオンビーム装置において支持部１４の上面にイオンビームが照射された場合の再付着が減少される。
【００６３】
また、変形例９において、上記下部本体１２の水平方向の厚さを、各支持部１４及び梁１５及び各試料取付部１６Ａの水平方向の厚さと同一の厚さ１μｍ〜５μｍにしても良い。この場合、試料台１０Ｉの厚さが全体で同一寸法となるため、水平方向の厚さの差違による段差がなくなり、収束イオンビーム装置でイオンビームが照射された場合の再付着がさらに減少される。
【００６４】
〔変形例１０〕
図１５は変形例１０の試料台１０Ｊを示す図であり、（Ａ）は正面図、（Ｂ）は平面図、（Ｃ）は側面図である。図１５（Ａ）〜図１５（Ｃ）に示されるように、試料台１０Ｊは、下部本体１２の上端１２ａに一対の支持部１４が起立しており、一対の支持部１４間には梁１５Ａが横架されている。また、試料台１０Ｊは、下部本体１２及び各支持部１４及び梁１５の水平方向の厚さが例えば５μｍ〜２０μｍと極めて薄く形成され、且つ各試料取付部１６Ａの厚さが、例えばさらに薄い１μｍ〜５μｍに形成されている。
【００６５】
梁１５Ａの上面の後部側の三箇所には、試料取付部１６Ｂが突出している。また、梁１５Ａの下方には、空間５０Ｂが形成されている。この空間５０Ｂは、下部本体１２の上端１２ａと、支持部１４の側面と、梁１５の下面とにより囲まれた貫通孔である。尚、空間５０Ｂの高さ方向の寸法は、例えば７０μｍ〜１２０μｍに形成されている。
【００６６】
収束イオンビーム装置により試料台１０の各試料取付部１６に固定された試料を所定形状に薄片化加工する際、及び／または薄片化加工後にイオンミリングにより試料表面のダメージ層を除去する際、各試料３０の上方から下方に向けてイオンビームが照射される際、上記空間５０Ｂを通過するイオンビームによる再付着が防止されるため、その分試料３０に対する再付着（リデポジション）が減少する。そのため、透過型電子顕微鏡による試料３０の結像が鮮明になり、電子ビームの透過による結像の検出精度を高めることが可能になる。
【００６７】
本変形例では、梁１５Ａの上面の３箇所に試料取付部１６Ｂを形成したが、試料取付部１６Ｂの設置数は３箇所に限らず、４箇所あるいは５箇所に適宜増やすことが可能である。
【００６８】
また、梁１５Ａは、両端が一対の支持部１４の側面と一体化されているため、厚さが例えば５μｍ〜２０μｍに形成されても両端が強固に支持されている。そのため、梁１５Ａの上面に配された各試料取付部１６Ｂに固定された各試料３０は、垂直状態を安定的に保つことが可能になる。
【符号の説明】
【００６９】
１０、１０Ａ〜１０Ｊ  試料台
１２  下部本体
１４  支持部
１５、１５Ａ  梁
１６、１６Ａ、１６Ｂ  試料取付部
１８  掛止溝
２０  支持ベース
２２  固定部
２４  取付孔
２６  位置決めピン
３０  試料
４０  試料台ユニット
５０、５０Ａ、５０Ｂ  空間
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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