(57)【要約】【課題】本発明は、耐久性の良好な導電積層体を提供せんとするものである。【解決手段】基材の少なくとも片面に導電層を有する導電積層体であって、該導電層は金属系線状構造体からなるネットワーク構造を有する導電成分と、無機粒子とが、架橋構造を有する高分子からなるマトリックス中に含有されてなることを特徴とする導電積層体。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材の少なくとも片面に導電層を有する導電積層体であって、該導電層は金属系線状構造体からなるネットワーク構造を有する導電成分と、無機粒子とが、架橋構造を有する高分子からなるマトリックス中に含有されてなることを特徴とする導電積層体。
【請求項２】
前記金属系線状構造体が、銀ナノワイヤーである請求項１に記載の導電積層体。
【請求項３】
前記無機粒子の平均径ａが前記金属系線状構造体の平均径ｒ未満である請求項１または２に記載の導電積層体。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の導電積層体の導電層に、導電領域と非導電領域を形成するパターン化導電積層体の製造方法。
【請求項５】
請求項１〜３のいずれかに記載の導電積層体、もしくは請求項４に記載の製造方法により得たパターン化導電積層体、を用いてなる表示体。
【請求項６】
請求項５に記載の表示体を用いたタッチパネル。
【請求項７】
請求項５に記載の表示体を用いた電子ペーパー。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、耐久性の良好な導電積層体に関する。さらに詳しくは、金属系線状構造体からなるネットワーク構造を有する導電層を有し、耐久性の良好な導電積層体に関するものである。またさらに、タッチパネル、液晶ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンス、電子ペーパーなどの表示体関連および太陽電池モジュールなどに使用される電極部材にも使用される導電積層体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、タッチパネル、液晶ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンス、電子ペーパーなどの表示体関連や太陽電池モジュールなどの電極用に透明導電部材が用いられている。
【０００３】
透明導電部材としては基材上に導電層を積層したものがあり、その導電層としては酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や金属薄膜、等の従来の導電性薄膜を用いたものの他に、金属粒子や金属ナノワイヤーなどの線状の導電成分のネットワークを形成することで導電性を発現させたものが提案されている。例えば、銀微粒子と、銀とはイオン化傾向の異なる金属とを含む導電層を用いたものが提案されている（特許文献１）。また、導電性繊維と含窒素芳香族ヘテロ環からなる有機物を含む導電層を用いたものも提案されている（特許文献２）。また、メッシュ構造の導電層の上に、導電性高分子とマイグレーション防止剤からなる層を積層し用いたものも提案されている（特許文献３）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００７−２０１１４２号公報
【特許文献２】特開２０１１−５４４１９号公報
【特許文献３】特開２００９−１４６６７８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、金属の導電成分は電極として使用した際、外部から導電層へ浸入する水と、電流が流れることによる電気ストレスによって導電層の金属が電極に析出する、いわゆるマイグレーションが発生し、電極間での短絡や導電不良が発生し耐久性が低いという問題があった。特許文献１のように金属微粒子を用いたものでは耐久性の良好な導電積層体を提供することが困難であるという問題があった。特許文献２のように導電層に有機化合物を含むものや、特許文献３のようにマイグレーション防止剤を有機高分子と共に含むものは水が容易に浸入してしまい、依然として高い耐久性を得るには至っていない。このように導電層に起因してマイグレーションが発生し十分な耐久性が得られないという問題があった。
【０００６】
本発明は、かかる従来技術の問題に鑑み、導電層を改良し良好な耐久性の導電積層体を得んとするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、かかる課題を解決するために、次のような構成を採用する。すなわち、
（１）基材の少なくとも片面に導電層を有する導電積層体であって、該導電層は金属系線状構造体からなるネットワーク構造を有する導電成分と、無機粒子とが、架橋構造を有する高分子からなるマトリックス中に含有されてなることを特徴とする導電積層体。
（２）前記金属系線状構造体が、銀ナノワイヤーである前記（１）に記載の導電積層体。
（３）前記無機粒子の平均径ａが前記金属系線状構造体の平均径ｒ未満である前記（１）または（２）に記載の導電積層体。
（４）前記（１）〜（３）のいずれかに記載の導電積層体の導電層に、導電領域と非導電領域を形成するパターン化導電積層体の製造方法。
（５）前記（１）〜（３）のいずれかに記載の導電積層体、もしくは前記（４）に記載の製造方法により得たパターン化導電積層体、を用いてなる表示体。
（６）前記（５）に記載の表示体を用いたタッチパネル。
（７）前記（５）に記載の表示体を用いた電子ペーパー。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、耐久性の良好な導電積層体を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の導電積層体の一例を示す断面模式図である。
【図２】本発明の導電積層体に用いられる金属系線状構造体の一例を示す模式図である。
【図３】本発明のタッチパネルの一例を示す断面模式図である。
【図４】本発明における金属系線状構造体近傍の一例を示す断面模式図である。
【図５】本発明における耐久性評価用のパターンの一例である。
【図６】本発明における耐久性評価用モジュールの一例である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
［導電積層体］
本発明の導電積層体は、基材の少なくとも片面に導電層を有する。導電層は、金属系線状構造体からなるネットワーク構造を有する導電成分と、無機粒子とが、架橋構造を有する高分子からなるマトリックス中に含有されてなるものである。ネットワーク構造を有する金属系線状構造体は、いわゆる導電成分として働いて電気抵抗値を低くするので、導電層として必要な導電性が発現し、無機粒子を架橋構造を有する高分子からなるマトリックス中に同時に含有せしめることで耐久性が良好な導電積層体を提供できることを見いだしたものである。また、金属系線状構造体からなるネットワーク構造を有する導電成分がランダムな配向であると、導電性および耐久性に加えて良好な光学特性をも得ることができるので、本発明の導電積層体を用いた表示体は表示画像が鮮明なものとなるので好ましい。
【００１１】
［導電成分］
導電層に用いられる導電成分はネットワーク構造を有する金属系線状構造体である。かかる導電成分を適用することで含有量に比して導電性に優れた導電層を得ることができるので、低い表面抵抗値の導電積層体を得ることができる。ネットワーク構造を有していることで、導電層内の面方向への導電パスが形成され、低い表面抵抗値を得ることができる。本発明においてネットワーク構造とは、導電層内の個別の金属系線状構造体について見たとき、別の金属系線状構造体との接点の数の平均が少なくとも１を越える様な、分散構造を有することをいう。このとき接点は金属系線状構造体のいかなる部分間に形成されていてもよく、金属系線状構造体の末端部同士が接していたり、末端と金属系線状構造体の末端以外の部分が接していたり、金属系線状構造体の末端以外の部分同士が接していてもよい。ここで、接するとはその接点が接合していても、単に接触しているだけでもよい。なお、導電層中の金属系線状構造体のうち、ネットワークの形成に寄与していない（すなわち接点が０で、ネットワークとは独立して存在している。）金属系線状構造体が一部存在していてもよい。ネットワーク構造は、後述する方法にて観察することができる。
【００１２】
本発明の導電積層体の導電層を構成する導電成分がネットワーク構造を有する金属系線状構造体からなることから、導電層内にネットワーク構造を有する金属系線状構造体の含有比率が一定以下の場合には、面内において金属系線状構造体が存在しない領域が散在する場合があるが、かかる領域が存在しても任意の２点間で導電性を示しうる。
【００１３】
また、ネットワーク構造を有する金属系線状構造体を構成する金属系線状構造体は、短軸の長さ（金属系線状構造体の直径）及び長軸の長さ（金属系線状構造体の長さ）は、種々の範囲を採りうるが、短軸の長さは１ｎｍ〜１０００ｎｍ（１μｍ）が好ましく、また長軸の長さは短軸の長さに対し、アスペクト比（長軸の長さ／短軸の長さ）が１０より大きくなるような長さであれば良く１μｍ〜１００μｍ（０．１ｍｍ）が好ましい。金属系線状構造体としては、例えば、繊維状導電体、ナノワイヤー、ウィスカーやナノロッドのような針状導電体等が挙げられる。なお、繊維状とは、前述のアスペクト比＝長軸の長さ／短軸の長さが１０より大きいことをいう。形状については特に限定されず、直線状であっても曲線状であってもよく、その一部に直線部および／または曲線部を有する形状であってもよい。ナノワイヤーとは、図２における符号６に例示するような、弧の形状をしている構造体であり、針状とは、図２における符号７に例示するような、直線形状をしている構造体である。なお、金属系線状構造体は、単独で存在する場合の他に、集合体を形成して存在する場合がある。集合体については、例えば金属系線状構造体の配置の方向性に規則性がなくランダムに集合した状態であっても良く、また金属系線状構造体の長軸方向の面同士が平行に集合した状態であっても良い。長軸方向の面同士が平行に集合した状態の例としては、バンドルという集合体となることが知られており、金属系線状構造体が類似のバンドル構造を有していても良い。本発明における金属系線状構造体の平均径ｒは、前述の集合体を形成している場合であっても金属系線状構造体の単独の径の値を用いて平均径ｒを算出する。なお、金属系線状構造体の平均径ｒは、以下の方法にて求める。
【００１４】
先ず、サンプルの観察したい部分近傍を氷で埋包し凍結固着後、日本ミクロトーム研究所（株）製ロータリー式ミクロトームを使用し、ナイフ傾斜角度３°にダイヤモンドナイフをセットして積層体平面に垂直な方向に切断する。次いで得られた積層体断面の導電領域（Ａ）を、電界放射型走査電子顕微鏡（日本電子（株）製  ＪＳＭ−６７００−Ｆ）を用いて加速電圧３．０ｋＶにて観察倍率１００００〜１０００００倍にて、画像のコントラストを適宜調節して観察する。１検体につき、異なる部分から得た金属系線状構造体の断面を含む画像を１０視野分準備する。次いで、１０視野内の全て金属系線状構造体の断面の径を求め、その全平均値を平均径ｒとする。なお、本測定に当たっては、有効数字３桁が確保できる倍率を選択し、計算に当たっては、４桁目を四捨五入して値を求める。
【００１５】
本発明における金属系線状構造体の材質は金属、合金、金属酸化物、金属窒化物、金属水酸化物、等の成分を含有するものである。金属としては、元素の短周期型周期律表におけるＩＩＡ属、ＩＩＩＡ属、ＩＶＡ属、ＶＡ属、ＶＩＡ属、ＶＩＩＡ属、ＶＩＩＩ属、ＩＢ属、ＩＩＢ属、ＩＩＩＢ属、ＩＶＢ属またはＶＢ属に属する元素が挙げられる。具体的には、金、白金、銀、ニッケル、銅、アルミニウム、ガリウム、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン、マンガン、アンチモン、パラジウム、ビスマス、テクネチウム、レニウム、鉄、オスミウム、コバルト、亜鉛、スカンジウム、ホウ素、ガリウム、インジウム、ケイ素、ゲルマニウム、テルル、錫、マグネシウムなどが挙げられる。合金としては、前記金属を含む合金（ステンレス鋼、黄銅、等）が挙げられる。金属酸化物としては、ＩｎＯ２、ＳｎＯ２、ＺｎＯ、などが挙げられ、またこれらの金属酸化物複合体（ＩｎＯ２Ｓｎ、ＳｎＯ２−Ｓｂ２Ｏ４、ＳｎＯ２−Ｖ２Ｏ５、ＴｉＯ２（Ｓｎ／Ｓｂ）Ｏ２、ＳｉＯ２（Ｓｎ／Ｓｂ）Ｏ２、Ｋ２Ｏ−ｎＴｉＯ２−（Ｓｎ／Ｓｂ）Ｏ２、Ｋ２Ｏ−ｎＴｉＯ２−Ｃなど）も挙げられる。またこれらは表面処理を施されていてもよい。さらに、有機化合物（例えば、植物繊維、合成繊維等）や非金属材料（例えば、無機繊維等）の表面に前記金属や金属酸化物をコーティングまたは蒸着したものも金属系線状構造体に含まれる。これら金属系線状構造体のうち、透明性等の光学特性や導電性等の観点から銀ナノワイヤーを特に好ましく使用することができる。これら金属系ナノワイヤーは例えば、特表２００９−５０５３５８号公報、特開２００９−１４６７４７号公報、特開２００９−７０６６０号公報に開示されている製法により得ることができる。
【００１６】
また、金属系線状構造体を単独、又は複数を組み合わせて混合して使用することもでき、さらに、必要に応じて他のマイクロ〜ナノサイズの導電性材料を添加しても良い。
【００１７】
［無機粒子］
本発明における導電層は、金属系線状構造体からなるネットワーク構造を有する導電成分と共に無機粒子を架橋構造を有する高分子からなるマトリックス中に含む。無機粒子を架橋構造を有する高分子からなるマトリックス中に含むことで、金属系線状構造体のマイグレーションを抑制することができるので耐久性の良好な導電積層体とすることができる。
【００１８】
本発明における無機粒子に用いられる無機物質は、無機の元素を粒子中に含有する物質であり、例えば、金、白金、銀、ニッケル、銅、アルミニウム、ガリウム、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン、マンガン、アンチモン、パラジウム、ビスマス、テクネチウム、レニウム、鉄、オスミウム、コバルト、亜鉛、スカンジウム、ホウ素、ガリウム、インジウム、ケイ素、ゲルマニウム、テルル、錫、マグネシウムなどの酸化物、窒化物、フッ化物、水酸化物、リン酸系誘導体の塩、無機アンモニウム塩、無機炭酸塩、無機硫酸塩等が挙げられる。また、無機粒子として前記金属を含む合金（ステンレス鋼、黄銅、等）からなる粒子もまた挙げることができる。これらの具体的な例としては、ＩｎＯ２、ＳｎＯ２、ＺｎＯ、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＣｅＯ２、ＭｇＯ、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ５、ＦｅＯ、Ｆｅ２Ｏ３、ＣｏＯ、Ｃｏ２Ｏ３、Ｃｏ３Ｏ４、ＣｒＯ、Ｃｒ２Ｏ３、ＣｒＯ２、ＣｒＯ３、等の無機酸化物、ＣａＣＯ３、ＭｇＣＯ３、ＺｎＣＯ３等の無機炭酸塩、ＭｇＳＯ４、Ｎａ２ＳＯ４、ＣｕＳＯ４、ＣａＳＯ４、ＢａＳＯ４、ＺｎＳＯ４等の無機硫酸塩、ＬｉＦ、ＣａＦ２等の無機フッ化物、Ａｌ（ＯＨ）３、Ｍｇ（ＯＨ）２、Ｂａ（ＯＨ）２、Ｃａ（ＯＨ）２、カルシウム・アルミネート水和物等の無機水酸化物、ホスホン酸アルミニウム、ホスフィン酸アルミニウム、ジホスフィン酸アルミニウム、ホスホン酸マグネシウム、ホスフィン酸マグネシウム、ジホスフィン酸マグネシウム、ホスホン酸カルシウム、ホスフィン酸カルシウム、ジホスフィン酸カルシウム、等の無機リン酸系誘導体の塩、またさらには、これらの無機複合体（ＩｎＯ２Ｓｎ、ＳｎＯ２−Ｓｂ２Ｏ４、ＳｎＯ２−Ｖ２Ｏ５、ＴｉＯ２（Ｓｎ／Ｓｂ）Ｏ２、ＳｉＯ２（Ｓｎ／Ｓｂ）Ｏ２、Ｋ２Ｏ−ｎＴｉＯ２−（Ｓｎ／Ｓｂ）Ｏ２、Ｋ２Ｏ−ｎＴｉＯ２−Ｃ、Ｍｇ３Ｓｉ４Ｏ１０（ＯＨ）２、Ａｌ２Ｓｉ２Ｏ５（ＯＨ）４、マイカ、雲母チタン、リン酸カルシウムを主成分としたハイドロキシアパタイトなど）が挙げられる。またこれらは表面処理を施されていてもよい。これら無機粒子を１種もしくは複数組み合わせて用いてもよい。本発明においては無機酸化物の粒子を用いることが好ましい。
【００１９】
本発明において、無機粒子の平均径ａが金属系線状構造体の平均径ｒ未満であることが好ましい。無機粒子の平均径ａが金属系線状構造体の平均径ｒ未満であると、耐久性がさらに改善するとともに光学特性も良好な導電積層体となる。ここで無機粒子の平均径ａとは、短径の数ベースでの分布曲線からえた最頻値と定義する。また短径とは個々の無機粒子毎に顕微鏡により撮影した画像上で認識できるもっとも短い直径とする。かかるデータを採るための方法としては、［ネットワーク構造を有する金属系線状構造体］に記載の金属系線状構造体の平均径ｒと同様の方法にて画像を取得して、求めるものとする。この際、金属系線状構造体の断面の径を無機粒子の短径と読み替えるものとする。無機粒子の平均径ａの好ましい範囲は、金属系線状構造体の種類や平均径ｒ、また、無機物質の種類にも依存するため一義的に限定することはできないが、好ましくは２００ｎｍ以下、より好ましくは１００ｎｍ以下、さらに好ましくは５０ｎｍ以下、最も好ましくは３０ｎｍ以下である。無機粒子の平均径ａの下限値は特には限定されないが、１ｎｍ未満であると粒子の凝集が強くなり導電層内に均一に存在させることが困難になり、耐久性の向上効果が小さい場合がある。
【００２０】
［マトリックス］
本発明における導電層には、前記導電成分と無機粒子とを架橋構造を有する高分子からなるマトリックス中に含む。架橋構造を有する高分子からなるマトリックスを適用することで、マイグレーションの原因と推定される水が導電層内に浸入するのを遮断し、耐久性の良好な導電積積層体になるものと推定している。
【００２１】
マトリックスの成分としては、有機または無機系の高分子などが挙げられる。
無機系高分子としては、無機系の酸化物等が挙げられ、例えば、トリアルコキシシラン類等から、加水分解・重合反応によって形成させる珪素酸化物や、スパッタ蒸着により形成される珪素酸化物が挙げられる。かかる場合に用いられるトリアルコキシシラン類としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｉ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシランなどのテトラアルコシシラン類、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ｉ−プロピルトリメトキシシラン、ｉ−プロピルトリエトキシシラン、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、ｎ−ブチルトリエトキシシラン、ｎ−ペンチルトリメトキシシラン、ｎ−ペンチルトリエトキシシラン、ｎ−ヘキシルトリメトキシシラン、ｎ−ヘプチルトリメトキシシラン、ｎ−オクチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、シクロヘキシルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリエトキシシラン、３，３，３−トリフロロプロピルトリメトキシシラン、３，３，３−トリフロロプロピルトリエトキシシラン、２−ヒドロキシエチルトリメトキシシラン、２−ヒドロキシエチルトリエトキシシラン、２−ヒドロキシプロピルトリメトキシシラン、２−ヒドロキシプロピルトリエトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルトリメトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、３−（メタ）アクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリルオキシプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン等が挙げられる。
【００２２】
有機系高分子としては、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂などが挙げられ、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ナイロンやベンゾグアナミン等のポリアミド系樹脂、ＡＢＳ樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリエチレンやポリプロピレン等のオレフィン系樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂、ポリ塩化ビニルやポリ塩化ビニリデン等の塩素原子（Ｃｌ原子）を含有する樹脂、フッ素原子（Ｆ原子）を含有する樹脂、シリコーン系樹脂、セルロース系樹脂、等の有機系の高分子が挙げられ、これら高分子の構造内に架橋構造を有しているものや、これら高分子と架橋剤を反応させて架橋高分子としたものでもよい。これら有機系高分子から要求する特性や生産性等をふまえ少なくとも１種類を選択し、また、これらから２種以上混合して用いても良い。これらの有機系高分子のうち、炭素−炭素二重結合基を３個以上有する化合物が重合反応した構造を含む高分子からなるものであることが好ましい。かかる有機系高分子は、炭素−炭素二重結合を含む官能基を３個以上有するモノマー、オリゴマー、ポリマーからなる群より選ばれる１種以上を含む組成物を原料とし、炭素−炭素二重結合を反応点として重合反応することで得ることができる。
【００２３】
炭素−炭素二重結合を含む官能基としては、例えば、ビニル基、イソプロペニル基、イソペンテニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、メタクリル基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基、アリリデン基、アリリジン基、ビニルエーテル基や、これらの基の炭素−炭素二重結合を構成する炭素に結合する水素をフッ素や塩素等のハロゲン原子に置換したもの（例えば、フッ化ビニル基、フッ化ビニリデン基、塩化ビニル基、塩化ビニリデン基等）が挙げられる。これら以外にも、炭素−炭素二重結合の炭素にフェニル基やナフチル基等の芳香環を有する置換基が結合したもの（例えばスチリル基等）や、ブタジエニル基（例えば、ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ１）−Ｃ（Ｒ２）＝ＣＨ−、ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ１）−Ｃ（＝ＣＨ２）−（Ｒ１、Ｒ２はＨまたはＣＨ３））のように共役ポリエン構造を有する基を含むもの等が挙げられる。これらから要求する特性や生産性等を考慮して、１種類または２種以上を混合して使用すればよい。
【００２４】
重合反応に寄与する炭素−炭素二重結合を３個以上有する化合物としては、例えば、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ペンタエリスリトールエトキシトリアクリレート、ペンタエリスリトールエトキシトリメタクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラアクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールプロパンエトキシトリアクリレート、トリメチロールプロパンエトキシトリメタクリレート、ジトリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパントリメタクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタクリレート、グリセリンプロポキシトリアクリレート、グリセリンプロポキシトリメタクリレートや、シクロプロパン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環等の環状骨格を分子内に有する化合物（例えば、トリアクリレート、トリメタクリレート、テトラアクリレート、テトラメタクリレート、ペンタアクリレート、ペンタメタクリレート、ヘキサアクリレート、ヘキサメタクリレート等）や、これら化合物の一部を変性した化合物（例えば２−ヒドロキシプロパン酸等で変性した２−ヒドロキシプロパン酸変性ペンタエリスリトールトリアクリレート、２−ヒドロキシプロパン酸変性ペンタエリスリトールトリメタクリレート、２−ヒドロキシプロパン酸変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート、２−ヒドロキシプロパン酸変性ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、また、シリコーン骨格を導入したシリコーントリアクリレート、シリコーントリメタクリレート、シリコーンテトラアクリレート、シリコーンテトラメタクリレート、シリコーンペンタアクリレート、シリコーンペンタメタクリレート、シリコーンヘキサアクリレート、シリコーンヘキサメタクリレート等）や、骨格内にビニル基および／またはビニリデン基と共にその他骨格を有する化合物（例えば、ウレタン骨格を有するウレタントリアクリレート、ウレタントリメタクリレート、ウレタンテトラアクリレート、ウレタンテトラメタクリレート、ウレタンペンタアクリレート、ウレタンペンタメタクリレート、ウレタンヘキサアクリレート、ウレタンヘキサメタクリレート、エーテル骨格を有するポリエーテルトリアクリレート、ポリエーテルトリメタクリレート、ポリエーテルテトラアクリレート、ポリエーテルテトラメタクリレート、ポリエーテルペンタアクリレート、ポリエーテルペンタメタクリレート、ポリエーテルヘキサアクリレート、ポリエーテルヘキサメタクリレート、エポキシ由来の骨格を有するエポキシトリアクリレート、エポキシトリメタクリレート、エポキシテトラアクリレート、エポキシテトラメタクリレート、エポキシペンタアクリレート、エポキシペンタメタクリレート、エポキシヘキサアクリレート、エポキシヘキサメタクリレート、エステル骨格を有するポリエステルトリアクリレート、ポリエステルトリメタクリレート、ポリエステルテトラアクリレート、ポリエステルテトラメタクリレート、ポリエステルペンタアクリレート、ポリエステルペンタメタクリレート、ポリエステルヘキサアクリレート、ポリエステルヘキサメタクリレート等）が挙げられる。これらを用途や要求する特性や生産性等を考慮して、単体で重合したものもしくは単体で重合したものを２種以上混合した組成物、また２種以上が共重合した２量体以上のオリゴマーから形成される組成物を使用することができるが、特にこれらに限定されるものではない。これら化合物のうち、重合反応に寄与する炭素−炭素二重結合基を４個以上、すなわち４官能以上の化合物を、さらに好ましく用いることができる。４官能以上の化合物は、例えば、前記４官能のテトラアクリレート、テトラメタクリレート、５官能のペンタアクリレート、ペンタメタクリレート、６官能のヘキサアクリレート、ヘキサメタクリレート等が挙げられ、さらに７官能以上のものでもよい。
【００２５】
これら化合物は、具体的に市販されているものとして例えば、共栄社化学（株）製のライトアクリレートシリーズ、ライトエステルシリーズ、エポキシエステルシリーズ、ウレタンアクリレートＡＨシリーズ、ウレタンアクリレートＡＴシリーズ、ウレタンアクリレートＵＡシリーズ、ダイセル・サイテック（株）製のＥＢＥＣＲＹＬシリーズ、ＰＥＴＩＡ、ＴＭＰＴＡ、ＴＭＰＥＯＴＡ、ＯＴＡ  ４８０、ＤＰＨＡ、ＰＥＴＡ−Ｋ、綜研化学（株）製のフルキュアシリーズ、東洋インキ製造（株）製の“ＬＩＯＤＵＲＡＳ”（リオデュラス）（登録商標）シリーズ、中国塗料（株）製のフォルシードシリーズ、マツイカガク（株）製のＥＸＰシリーズ、ダイセル・サイテック（株）製のＥＢＥＣＲＹＬ１３６０、信越化学（株）製のＸ−１２−２４５６シリーズ等が挙げられる。
【００２６】
［基材］
本発明の導電積層体における基材の素材として、具体的には例えば透明な樹脂、ガラスなどを挙げることができる。樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）などのポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリフェニレンスルフィド、アラミド、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリ乳酸、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル系・メタクリル系樹脂、脂環式アクリル樹脂、シクロオレフィン樹脂、トリアセチルセルロース、ＡＢＳ、ポリ酢酸ビニル、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂、ポリ塩化ビニルやポリ塩化ビニリデン等の塩素原子（Ｃｌ原子）を含有する樹脂、フッ素原子（Ｆ原子）を含有する樹脂、シリコーン系樹脂及びこれら樹脂の混合及び／又は共重合したものが挙げられ、ガラスとしては、通常のソーダガラスを用いることができる。また、これらの複数の基材を組み合わせて用いることもできる。例えば、樹脂とガラスを組み合わせた基材、２種以上の樹脂を積層した基材などの複合基材であってもよい。基材の形状については、厚み２５０μｍ以下で巻き取り可能なフィルムであっても、厚み２５０μｍを超える基板であっても上記全光線透過率の範囲で有ればよい。コスト、生産性、取り扱い性等の観点からは２５０μｍ以下の樹脂フィルムが好ましく、より好ましくは１９０μｍ以下、さらに好ましくは１５０ｎｍ以下、特に好ましくは１００μｍ以下の樹脂フィルムである。基材として樹脂フィルムを用いる場合、樹脂を未延伸、一軸延伸、二軸延伸してフィルムとしたものを適用することができる。これら樹脂フィルムのうち、基材への成形性、透明性等の光学特性、生産性等の観点から、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）などのポリエステルフィルム、またＰＥＮとの混合及び／又は共重合したＰＥＴフィルム、ポリプロピレンフィルムを好ましく使用することができる。
【００２７】
［導電積層体の製造方法］
本発明の導電積層体を製造する方法は、特には限定されず、（ｉ）基材上に金属系線状構造体と無機粒子マトリックスを形成する原料とを混合したものを積層して導電層を形成しても良く、また、（ｉｉ）予め金属系線状構造体からなるネットワーク構造のみを基材上にまず形成した後に無機粒子とマトリックスを形成する原料との混合物を含浸することで導電層を形成しても良い。
【００２８】
上記（ｉ）において基材上に金属系線状構造体と無機粒子マトリックスを形成する原料とを混合したものを積層する方法、（ｉｉ）において、（ｉｉ−１）金属系線状構造体からなるネットワーク構造のみを基材上にまず形成するための方法、および、（ｉｉ−２）その後無機粒子とマトリックスを形成する原料との混合物を含浸するための方法、に適用される塗布方法としては、前記各材料を含む分散液を調製し、キャスト、スピンコート、ディップコート、バーコート、スプレー、ブレードコート、スリットダイコート、グラビアコート、リバースコート、スクリーン印刷、鋳型塗布、印刷転写、インクジェットなどのウエットコート法等、の一般的な方法で塗布して形成する方法を挙げることができる。これらの塗布方法のなかでも、上記各方法において分散液を均一に塗布できかつ基材への傷が入りにくいスリットダイコート、もしくは導電層を均一にかつ生産性良く形成できるマイクログラビアを使用したウエットコート法が好ましい。
【００２９】
本発明における導電層のマトリックスは、前述のマトリックスの成分を含む原料を反応させて形成する（以降、マトリックスの成分を含む原料を反応させてマトリックスを形成することを「マトリックスを硬化する」と記す）。マトリックスを硬化する方法として、加熱による硬化（以降、加熱硬化と記す）や、紫外光、可視光、電子線等の照射による硬化（以降、光硬化と記す）が挙げられる。加熱硬化の場合は、硬化開始温度に系全体を加熱するのに時間を要する一方、光硬化の場合は、後述するような光硬化の開始剤（以降、光重合開始剤と記す）を含有させ、そこに紫外領域の光、可視領域の光、電子線等を照射することで系全体に同時に活性種を発生させることができるため、硬化開始に要する時間を短縮でき、硬化時間も短縮できることから光硬化がより好ましい。ここで、光重合開始剤とは、紫外領域の光、可視領域の光、電子線等を吸収し、反応の開始させる活性種であるラジカル種、カチオン種、アニオン種等の活性種を生成し、化学反応を開始させる物質である。使用可能な光重合開始剤としては例えば、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−メチル１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モリフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１などのα−ヒドロキシケトン系やα−アミノケトン系、イソプロピルチオキサントン、２−４−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系、メチルフェニルグリオキシレートなどが挙げられ、極大吸収波長の値、吸光度、色見、着色度合い等の観点から、これら光重合開始剤のうち１または２種以上を組み合わせて使用することができる。かかる光重合開始剤の、市販品としては、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンとしてＣｉｂａ  “ＩＲＧＡＣＵＲＥ”（登録商標）１８４（チバ・ジャパン（株）製）、２−メチル１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モリフォリノプロパン−１−オンとしてＣｉｂａ  “ＩＲＧＡＣＵＲＥ”（登録商標）９０７（チバ・ジャパン（株）製）、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１としてＣｉｂａ  “ＩＲＧＡＣＵＲＥ”（登録商標）３６９（チバ・ジャパン（株）製）等が挙げられ、これらをマトリックスの種類や性質によって１種のみ単独もしくは吸収波長領域の異なる２種以上を含有させたり、前記紫外領域の光、可視領域の光、電子線等の照射量を調整させたり、さらには前記紫外領域の光、可視領域の光、電子線等を照射するにあたり、窒素やアルゴン等の不活性ガスにて置換した雰囲気下や酸素脱気した雰囲気下等の酸素濃度を低くした特定の雰囲気下とする方法も有効であり、これらを適宜組み合わせることで本発明の導電積層体を得ることができる。
【００３０】
本発明にかかる導電積層体は、前記導電層側から入射した際のＪＩＳ  Ｋ７３６１−１（１９９７年）に基づいた全光線透過率が８０％以上である透明導電積層体であることが好ましい。本発明の導電積層体として組み込んだタッチパネルは、優れた透明性を示し、この透明導電積層体を用いたタッチパネルの下層に設けたディスプレイの表示を鮮やかに認識することができる。本発明における透明性とは、前記導電層側から入射した際のＪＩＳ  Ｋ７３６１−１（１９９７年）に基づいた全光線透過率が８０％以上であることを意味し、好ましくは８５％以上、より好ましくは９０％以上である。
【００３１】
また、本発明においては、基材に対し導電側（本発明では導電層が積層されている側）とは反対の面に、耐摩耗性、高表面硬度、耐溶剤性、耐汚染性等を付与したハードコート処理が施されていてもよい。
【００３２】
本発明の導電積層体は、その導電層側の表面抵抗値が、１×１０２Ω／□以上、１×１０４Ω／□以下であることが好ましく、より好ましくは１×１０２Ω／□以上、１．５×１０３Ω／□以下である。この範囲にあることで、タッチパネル用の導電積層体として好ましく用いることができる。すなわち、１×１０２Ω／□以上であれば消費電力を少なくすることができ、１×１０４Ω／□以下であれば、タッチパネルの座標読みとりにおける誤差の影響を小さくすることができる。
【００３３】
本発明において用いる基材及び／或いは導電層には、本発明の効果を阻害しない範囲内で各種の添加剤を添加することができる。添加剤としては、例えば、有機の微粒子、架橋剤、難燃剤、難燃助剤、耐熱安定剤、耐酸化安定剤、レベリング剤、滑り賦活剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、核剤、染料、充填剤、分散剤およびカップリング剤などを用いることができる。
【００３４】
本発明の導電積層体は、導電層に所望のパターンをマスクした後、エッチングすることにより、非マスク部の線状金属構造体を切断することで、非導電領域を形成することができる。このようにすることで導電層に導電領域と非導電領域とを形成し、パターン化導電積層体を製造することができる。
【００３５】
本発明の導電積層体および／またはパターン化導電積層体は、表示体に好ましく用いることができ、中でも、タッチパネル及び電子ペーパーに好ましく使用することができる。そのうち、タッチパネルの一例を示した断面模式図を図３に示す。タッチパネルは、金属系線状構造体からなるネットワーク構造を有する導電層を積層した本発明の導電積層体（たとえば、図１）を単独もしくは複数枚、さらには他の部材と組み合わせて搭載したものであり、その例として抵抗膜式タッチパネルや静電容量式タッチパネル等が挙げられる。本発明の導電積層体の導電層は、図２に示すように符号４、５、６、７に示すような金属系線状構造体（の何れかあるいは複数）を含み、符号９、１０、１１に示すような接点（の何れかあるいは複数）を有するネットワーク構造を形成している。本発明の導電積層体を搭載してなるタッチパネルは、たとえば図３に示すように導電積層体１３を、接着剤や粘着剤等の接合層１６によって接合して積層したものであり、さらに、タッチパネルの画面側の基材１７、タッチパネルの画面側の基材に積層したハードコート層１８が設けられる。かかるタッチパネルは、例えば、リード線と駆動ユニット等を取り付け、液晶ディスプレイの前面に組み込んで用いられる。
【実施例】
【００３６】
以下、本発明を実施例に基づき、具体的に説明する。ただし、本発明は下記実施例に限定されるものではない。
【００３７】
［評価方法］
まず、各実施例および比較例における評価方法を説明する。
【００３８】
（１）導電成分の形態
絶縁抵抗計（三和電気計器（株）製、ＤＧ６）を用いて、サンプルの各面に探針をあて、通電の有無からサンプルの導電面を特定する。
【００３９】
次いでサンプルの導電領域（Ａ）及び非導電領域（Ｂ）の各々の表面を、走査透過電子顕微鏡（（株）日立ハイテクノロジーズ製  日立走査透過電子顕微鏡ＨＤ−２７００）もしくは電界放射型走査電子顕微鏡（日本電子（株）製  ＪＳＭ−６７００−Ｆ）を用いて加速電圧３．０ｋＶ、観察倍率と画像のコントラストを適宜調節して各倍率にて観察した。
【００４０】
前記方法にて観察が困難な場合は、次いでカラー３Ｄ  レーザー顕微鏡（（株）キーエンス製  ＶＫ−９７００／９７１０）、観察アプリケーション（（株）キーエンス製  ＶＫ−Ｈ１Ｖ１）、形状解析アプリケーション（（株）キーエンス製  ＶＫ−Ｈ１Ａ１）を用いて、付属の標準対物レンズ１０Ｘ（（株）ニコン製  ＣＦ  ＩＣ  ＥＰＩ  Ｐｌａｎ  １０Ｘ）、２０Ｘ（（株）ニコン製  ＣＦ  ＩＣ  ＥＰＩ  Ｐｌａｎ  ２０Ｘ）、５０Ｘ（（株）ニコン製  ＣＦ  ＩＣ  ＥＰＩ  Ｐｌａｎ  Ａｐｏ  ５０Ｘ）、１５０Ｘ（（株）ニコン製  ＣＦ  ＩＣ  ＥＰＩ  Ｐｌａｎ  Ａｐｏ  １５０Ｘ）にて各倍率で導電側の同位置を表面観察し、その画像データから画像解析した。
【００４１】
（２）導電成分、無機粒子の同定
サンプルから導電層を剥離し、溶解する溶剤に溶解させた。必要に応じ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー、ゲル浸透クロマトグラフィー、液体高速クロマトグラフィー等に代表される一般的なクロマトグラフィー等を適用し、それぞれ単一物質に分離精製して、以下の定性分析に供した。
【００４２】
その後導電成分を適宜濃縮および希釈を行いサンプルを調製した。次いで、以下の評価方法を用いサンプル中に含まれる成分を特定した。
【００４３】
分析手法は、以下の分析の手法を組み合わせて行い、より少ない組み合わせで測定できるものを優先して適用した。
【００４４】
核磁気共鳴分光法（１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲ、２９Ｓｉ−ＮＭＲ、１９Ｆ−ＮＭＲ）、二次元核磁気共鳴分光法（２Ｄ−ＮＭＲ）、赤外分光光度法（ＩＲ）、ラマン分光法、各種質量分析法（ガスクロマトグラフィー−質量分析法（ＧＣ−ＭＳ）、熱分解ガスクロマトグラフィー−質量分析法（熱分解ＧＣ−ＭＳ）、マトリックス支援レーザー脱離イオン化質量分析（ＭＡＬＤＩ−ＭＳ）、飛行時間型質量分析法（ＴＯＦ−ＭＳ）、飛行時間型マトリックス支援レーザー脱離イオン化質量分析（ＭＡＬＤＩ−ＴＯＦ−ＭＳ）、ダイナミック二次イオン質量分析法（Ｄｙｎａｍｉｃ−ＳＩＭＳ）、飛行時間型二次イオン質量分析法（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）、その他スタティック二次イオン質量分析法（Ｓｔａｔｉｃ−ＳＩＭＳ）等）、Ｘ線回折法（ＸＲＤ）、中性子回折法（ＮＤ）、低速電子線回折法（ＬＥＥＤ）、高速反射電子線回折法（ＲＨＥＥＤ）、原子吸光分析法（ＡＡＳ）、紫外光電子分光法（ＵＰＳ）、オージェ電子分光法（ＡＥＳ）、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）、蛍光Ｘ線元素分析法（ＸＲＦ）、誘導結合プラズマ発光分光法（ＩＣＰ−ＡＥＳ）、電子線マイクロアナリシス法（ＥＰＭＡ）、荷電粒子励起Ｘ線分光法（ＰＩＸＥ）、低エネルギーイオン散乱分光法（ＲＢＳまたはＬＥＩＳ）、中エネルギーイオン散乱分光法（ＭＥＩＳ）、高エネルギーイオン散乱分光法（ＩＳＳまたはＨＥＩＳ）、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）、透過電子顕微鏡−エネルギー分散Ｘ線分光分析（ＴＥＭ−ＥＤＸ）、走査電子顕微鏡−エネルギー分散Ｘ線分光分析（ＳＥＭ−ＥＤＸ）、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）その他元素分析。
【００４５】
（３）表面抵抗値Ｒ０
導電積層体の導電層側の表面抵抗値を、非接触式抵抗率計（ナプソン（株）製  ＮＣ−１０）を用い渦電流方式で１００ｍｍ×５０ｍｍのサンプルの中央部分を測定した。５サンプルについて平均値を算出し、これを表面抵抗値Ｒ０［Ω／□］とした。検出限界を超えて表面抵抗値が得られなかった場合は、次いで以下の方法にて測定した。
【００４６】
高抵抗率計（三菱化学（株）製  Ｈｉｒｅｓｔａ−ＵＰ  ＭＣＰ−ＨＴ４５０）を用い、リングタイププローブ（三菱化学（株）製  ＵＲＳプローブ  ＭＣＰ−ＨＴＰ１４）を接続して二重リング方式で１００ｍｍ×１００ｍｍのサンプルの中央部分を測定した。５サンプルについて平均値を算出し、これを表面抵抗値Ｒ０［Ω／□］とした。
【００４７】
（４）全光線透過率、ヘイズ
濁度計（曇り度計）ＮＤＨ２０００（日本電色工業（株）製）を用いてＪＩＳ  Ｋ７３６１−１（１９９７年）に基づいて、導電積層体厚み方向の全光線透過率、ヘイズを導電層側から光を入射させて測定した。５サンプルについて測定し、５サンプルの平均値を算出し、これを各水準の全光線透過率、ヘイズとした。本測定に当たっては、２桁目を四捨五入して値を求めた。
（５）耐久性評価用のパターン
各実施例および比較例にて使用した評価用のパターンは、図５に示すように、櫛の歯の部分が、噛み合うように対向して配置されたものである。図５において、白の地が非導電領域、黒の塗りつぶし領域が導電領域を表している。陽極側、陰極側にそれぞれ１０本の配線幅５００μｍ、長さ２０ｍｍの直線状の導電領域櫛の歯のように配置されている。そして陽極側、陰極側の櫛の歯は対向する各櫛の歯の間のスペースが２００μｍ、配線の重なり長１５ｍｍとなるように向かい合って配置されている。
【００４８】
（６）耐久性評価用サンプル作製方法
各実施例および比較例の導電積層体の導電層側にドライフィルムレジスト（旭化成製サンフォートＳＰＧ−１５２）をロール温度１００℃で熱ラミネートし、フォトマスクを介して露光量２００ｍＪ条件でＵＶ露光し、前記（５）に記載の耐久性評価用のパターン形状に感光させた。次に２５℃の０．７質量％炭酸ナトリウム水溶液で現像しパターン形成用のマスキングを行った。次いで３６質量％塩酸：６０質量％硝酸：水を２０：３：１７の質量比率で配合したエッチング液を４５℃に加熱し、１〜５分間サンプルを浸漬させてエッチング処理を行った。次に３．０質量％水酸化ナトリウム水溶液を５０℃に加熱し、２分間サンプルを浸漬させてパターン形成用のマスクを剥離した。作製したサンプルの端子への配線はそれぞれに銀ペースト（ＤＷ−１１７Ｈ−４１東洋紡績（株）製）を塗布し、熱風オーブンで１５０℃、３０分硬化させて耐久性の評価用に使用する電極とした。
【００４９】
（７）耐久性評価用モジュール作製方法
耐久性の評価に使用する評価用モジュールは、図６に示すように、青板ガラス２５、前記（６）により作製した耐久性評価用フィルムサンプル２６、ハードコート層付きフィルム２７がそれぞれ透明粘着剤３４を介して積層された構造で、さらに電気試験用のリード線２８が備え付けられた状態で積層体の端部がエポキシ樹脂２９で封止されたものである。以下に評価用モジュールの作製方法について記載する。まず、前記（６）により作製した耐久性評価用フィルムサンプル２６の基材の導電層を設けていない側とハードコート層（中国塗料（株）製フォルシード４２３Ｃ）が片面に形成された厚み１８８μｍの光学ＰＥＴフィルムのＰＥＴフィルム側を透明粘着剤（日東電工（株）製ＬＵＣＩＡＣＳ  ＣＳ９６２１Ｔ）で貼り合わせた。次いで、評価用サンプルの導電層側と厚み１．７５ｍｍの青板ガラスを透明粘着剤（日東電工（株）製ＬＵＣＩＡＣＳ  ＣＳ９６２１Ｔ）で貼り合わせた。次に、積層したサンプルおよびハードコート付きフィルムの端部に２液硬化型エポキシ樹脂（主剤：チバスペシャルティケミカルズ（株）製ＸＮＲ３１０１、硬化剤：同社製ＸＮＨ３１０１）を塗布し、８０℃の熱風オーブンで３０分硬化させた。このとき、耐久性評価用サンプルの電極にリード線を取り付け、同時に固定させた。
【００５０】
（８）耐久性の評価
恒温恒湿槽（ＴＡＢＡＩ  ＥＳＰＥＣ  ＥＨＳ２２１ＭＤ）で槽内温湿度を６０℃９０％ＲＨ条件にし、信頼性評価システム（ＴＡＢＡＩ  ＥＳＰＥＣ  ＡＥＩ−０２０−Ｐ）を使用して評価用モジュールに電圧５Ｖを印加し、２００時間の表面抵抗値を５分間隔で測定した。測定した表面抵抗値が２．００ｅ＋１２Ωに達した時点で導通不良と判断し、それまでの試験時間を導通不良発生時間とした。また、抵抗値が１．００ｅ＋３Ωに達した時点でショートと判断し、それまでの試験時間をショート発生時間とした。これらの試験において導通不良発生時間とショート発生時間の何れもが２００時間以上である場合良好とし、２００時間未満の場合を不良とした。また、耐久性評価用サンプルでも同様の耐久性試験を実施し、導通不良発生時間、ショート発生時間を比較した。この場合の良好／不良の判断も同様とした。  
【００５１】
なお、判定は耐久性評価用モジュール、耐久性評価用サンプルの何れにおいても良好となるものを合格１とし最も耐久性を有していることを示す。耐久性評価用モジュールでのみ良好となる場合を合格２とし合格１に次いで耐久性を有していることを示す。耐久性評価用サンプル及び耐久性評価用モジュールの両方法で不良となった場合、不合格とした。
【００５２】
［材料］
＜基材＞
厚み１２５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製  “ルミラー”（登録商標）Ｕ４８）を使用した。
【００５３】
＜金属系線状構造体＞
（１）金属系線状構造体Ａ「銀ナノワイヤー」
銀ナノワイヤー（短軸：５０〜１００ｎｍ、長軸：２０〜４０μｍ）
（２）金属系線状構造体Ｂ「銅ナノワイヤー」
特開２００２−２６６００７号公報の製造例１、実施例２に記載の方法にて得た銅ナノワイヤー（短軸：１０〜２０ｎｍ、長軸：１〜１００μｍ）。
【００５４】
＜マトリックス＞
（１）マトリックス材料Ａ
アクリロイル基として重合反応に寄与する炭素−炭素二重結合基を３個以上有する化合物を含有するアクリル系組成物（綜研化学（株）製  フルキュアＨＣ−６、固形分濃度５１質量％）。硬化物は、架橋構造を有する。
【００５５】
（２）マトリックス材料Ｂ
下記のように重合して得たメタクリル系重合体（固形分濃度１００質量％）
メタクリロイル基として重合反応に寄与する炭素−炭素二重結合基を１個有する化合物とＭｅｔｈｙｌ  Ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ（別名メタクリル酸メチル、２−メチル−２−プロペン酸メチル、略名ＭＭＡ）の混合物に、開始剤として２，２’−Ａｚｏｂｉｓ（２−ｍｅｔｈｙｌｐｒｏｐｉｏｎｉｔｒｉｌｅ）（別名α，α’‐アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスイソブチロニトリル、略名ＡＩＢＮ）を使用して、脱気後５５℃７２時間加熱し、Ｐｏｌｙ（ｍｅｔｈｙｌ  ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）（略名ＰＭＭＡ）を得た。硬化物は、架橋構造ではない。
【００５６】
（３）光重合開始剤Ａ
・極大吸収波長３００ｎｍの光重合開始剤（チバ・ジャパン（株）製  Ｃｉｂａ  ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）９０７）。
【００５７】
（４）光重合開始剤Ｂ
・極大吸収波長３２０ｎｍの光重合開始剤（チバ・ジャパン（株）製  Ｃｉｂａ  ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）３６９）。
【００５８】
＜無機粒子＞
（１）無機粒子Ａ
ケイ素の酸化物であるＳｉＯ２粒子を含有する分散液（扶桑化学工業（株）製  ＰＬ−３０−ＩＰＡ、固形分濃度３５質量％、平均粒子径２５０ｎｍ）
（２）無機粒子Ｂ
ケイ素の酸化物であるＳｉＯ２粒子を含有する分散液（扶桑化学工業（株）製  ＰＬ−１３−ＭＥＫ、固形分濃度２４質量％、平均粒子径１３０ｎｍ）
（３）無機粒子Ｃ
ケイ素の酸化物であるＳｉＯ２粒子を含有する分散液（日産化学工業（株）製  ＭＥＫ−ＳＴ−ＺＬ、固形分濃度３０質量％、平均粒子径８５ｎｍ）
（４）無機粒子Ｄ
バリウムの硫酸塩であるＢａＳＯ４粒子（堺化学工業（株）製  ＢＡＲＩＦＩＮＥ（登録商標）ＢＦ−１０、平均粒子径６０ｎｍ）
（５）無機粒子Ｅ
セリウムの酸化物であるＣｅＯ２粒子を含有する分散液（日産化学工業（株）製  ナノユース（登録商標）ＯＣ−Ｔ２０Ｋ、固形分濃度２０質量％、平均粒子径４８ｎｍ）
（６）無機粒子Ｆ
ケイ素の酸化物であるＳｉＯ２粒子を含有する分散液（扶桑化学工業（株）製  ＰＬ−２Ｌ−ＭＥＫ、固形分濃度２０質量％、平均粒子径１６ｎｍ）
（７）無機粒子Ｇ
ジルコニウムの酸化物であるＺｒＯ２粒子を含有する分散液（日産化学工業（株）製  ナノユース（登録商標）ＯＺ−Ｓ２０Ｋ−ＡＣ、固形分濃度３２質量％、平均粒子径９ｎｍ）
（実施例１）
金属系線状構造体Ａを含む水分散液として、銀ナノワイヤー分散液（米国Ｃａｍｂｒｉｏｓ社製ＣｌｅｒａＯｈｍ  Ｉｎｋ−Ａ  ＡＱ）を用意した。この銀ナノワイヤー分散液を、銀ナノワイヤーの濃度が０．０５４質量％となるように希釈して銀ナノワイヤー分散塗液を調製した。この銀ナノワイヤー分散塗液を、材質がｓｕｓのシム（シム厚み５０μｍ）を装着したスリットダイコートを使用して基材の片面に塗布、１２０℃で２分間乾燥し導電成分を積層形成した。
【００５９】
マトリックス材料Ａ３９．２ｇ、光重合開始剤Ａ０．２４ｇ、光重合開始剤Ｂ０．２４ｇ、無機粒子Ａ５．７ｇ、酢酸エチル１９５３．２ｇを混合、撹拌し、マトリックス組成物を調製した。
【００６０】
次いで、マトリックス組成物を、導電成分を積層した側に、材質がｓｕｓのシム（シム厚み５０μｍ）を装着したスリットダイコートを使用して塗布、１２０℃で２分間乾燥後、紫外線を８０ｍＪ／ｃｍ２照射し硬化させ、マトリックス部分の厚みが１２０ｎｍである導電層を形成した。
【００６１】
この導電層は、架橋構造を有するマトリックスと無機粒子であるＳｉＯ２（マトリックスの固形成分に対し１０質量％含有）とを含む導電層であり、導電積層体の耐久性は合格２となった。
【００６２】
（実施例２）
マトリックス組成物を、マトリックス材料Ａ３９．２ｇ、光重合開始剤Ａ０．２４ｇ、光重合開始剤Ｂ０．２４ｇ、無機粒子Ｂ８．３ｇ、酢酸エチル１９５０．５ｇとしたこと以外は、実施例１と同様に導電層を形成し導電積層体を得た。
【００６３】
この導電層は、架橋構造を有するマトリックスと、実施例１よりも平均径ａの小さい無機粒子であるＳｉＯ２（マトリックスの固形成分に対し１０質量％含有）とを含む導電層であり、導電積層体の耐久性は合格２となった。無機粒子の平均径ａを実施例１よりも好ましいものとすることで実施例１と比較して光学特性が改善した。
【００６４】
（実施例３）
マトリックス組成物を、マトリックス材料Ａ３９．２ｇ、光重合開始剤Ａ０．２４ｇ、光重合開始剤Ｂ０．２４ｇ、無機粒子Ｃ６．６ｇ、酢酸エチル１９５２．２ｇとしたこと以外は、実施例１と同様に導電層を形成し導電積層体を得た。
【００６５】
この導電層は、架橋構造を有するマトリックスと、実施例１、２よりも平均径ａの小さい無機粒子であるＳｉＯ２（マトリックスの固形成分に対し１０質量％含有）とを含む導電層であり、導電積層体の耐久性は合格２となった。無機粒子の平均径ａを実施例２よりも小さいものとすることで実施例２と比較して光学特性が改善した。
【００６６】
（実施例４）
マトリックス組成物を、マトリックス材料Ａ３９．２ｇ、光重合開始剤Ａ０．２４ｇ、光重合開始剤Ｂ０．２４ｇ、無機粒子Ｄ１．０ｇ、酢酸エチル１８６８．９ｇとしたこと以外は、実施例１と同様に導電層を形成し導電積層体を得た。
【００６７】
この導電層は、架橋構造を有するマトリックスと、実施例１とは種類が異なる無機粒子であるＢａＳＯ４（マトリックスの固形成分に対し５質量％含有）とを含む導電層であり、導電積層体の耐久性は合格２となった。無機粒子の種類と導電層内の含有量を変更することで実施例１に対して光学特性を調整することができた。
【００６８】
（実施例５）
マトリックス組成物を、マトリックス材料Ａ３９．２ｇ、光重合開始剤Ａ０．２４ｇ、光重合開始剤Ｂ０．２４ｇ、無機粒子Ｅ５．０ｇ、酢酸エチル１８６４．９ｇとしたこと以外は、実施例１と同様に導電層を形成し導電積層体を得た。
【００６９】
この導電層は、架橋構造を有するマトリックスと、実施例４とは種類が異なりかつ金属系線状構造体の平均径ｒよりも小さい平均径ａの無機粒子であるＣｅＯ２（マトリックスの固形成分に対し５質量％含有）とを含む導電層であり、導電積層体の耐久性は合格２となった。無機粒子の種類を変更し、その平均径ａを実施例４よりも小さいものとすることで実施例４と比較して光学特性が改善した。
【００７０】
（実施例６）
マトリックス組成物を、マトリックス材料Ａ３９．２ｇ、光重合開始剤Ａ０．２４ｇ、光重合開始剤Ｂ０．２４ｇ、無機粒子Ｆ１０．０ｇ、酢酸エチル１９４８．９ｇとしたこと以外は、実施例１と同様に導電層を形成し導電積層体を得た。
【００７１】
この導電層は、架橋構造を有するマトリックスと、平均径ａが金属系線状構造体の平均径ｒよりも小さくかつ実施例１〜５よりもさらに平均径ａの小さい無機粒子であるＳｉＯ２（マトリックスの固形成分に対し１０質量％含有）とを含む導電層であり、導電積層体の耐久性は合格１となった。無機粒子の平均径ａを実施例５よりもさらに小さいものとすることで耐久性と光学特性とが共に改善した。
【００７２】
（実施例７）
マトリックス組成物を、マトリックス材料Ａ３９．２ｇ、光重合開始剤Ａ０．２４ｇ、光重合開始剤Ｂ０．２４ｇ、無機粒子Ｇ６．３ｇ、酢酸エチル１９５２．６ｇとしたこと以外は、実施例１と同様に導電層を形成し導電積層体を得た。
【００７３】
この導電層は、実施例６よりも平均径ａの小さい無機粒子であるＺｒＯ２（マトリックスの固形成分に対し１０質量％含有）とを含む導電層であり、導電積層体の耐久性は合格１となった。
【００７４】
（実施例８）
マトリックス組成物を、マトリックス材料Ａ３９．２ｇ、光重合開始剤Ａ０．２４ｇ、光重合開始剤Ｂ０．２４ｇ、無機粒子Ｆ２０．０ｇ、酢酸エチル２１１６．８ｇとしたこと以外は、実施例１と同様に導電層を形成し導電積層体を得た。
【００７５】
この導電層は、実施例６よりも無機粒子であるＳｉＯ２（マトリックスの固形成分に対し２０質量％含有）を多く含む導電層であり、導電積層体の耐久性は合格１となった。実施例６と比較して無機粒子の導電層内の含有量を変更することでも光学特性を調整することができた。
【００７６】
（実施例９）
金属系線状構造体Ｂを用いた他は、実施例１と同様にして基材上に導電成分を積層形成した。
【００７７】
次いで、マトリックス組成物を、マトリックス材料Ａ３９．２ｇ、光重合開始剤Ａ０．２４ｇ、光重合開始剤Ｂ０．２４ｇ、無機粒子Ｇ６．３ｇ、酢酸エチル３２５２．７ｇから調製したものを用い、マトリックス部分の厚みが１２０ｎｍの導電層を形成したこと以外は実施例７と同様にして、導電成分として銅ナノワイヤーを含む導電層からなる導電積層体を得た。
【００７８】
この導電層は、実施例７から金属系線状構造体を変更することで、表面抵抗値と光学特性の調整が可能となった。
【００７９】
（比較例１）
金属系線状構造体Ａを含む水分散液として、銀ナノワイヤー分散液（米国Ｃａｍｂｒｉｏｓ社製ＣｌｅｒａＯｈｍ  Ｉｎｋ−Ａ  ＡＱ）を用意した。この銀ナノワイヤー分散液に、銀ナノワイヤーの濃度が０．００５４質量％（実施例１に対し、銀ナノワイヤーの量が１／１０。）となるように銀ナノワイヤー分散塗液を調製し、実施例１と同様に基材上に金属系線状構造体を塗布後、乾燥した。
【００８０】
次いで、実施例１と同様にマトリックス部分の厚みが１２０ｎｍである導電層を形成した（金属系線状構造体がネットワーク構造を有さず導電性を示さない場合も、便宜上、導電層と記す：以下同じ）。
【００８１】
本条件で得られた導電層中では、銀ナノワイヤーがネットワーク構造を形成しておらず、本比較例の積層体は導電性を示さなかったため、耐久性の評価及び全光線透過率とヘイズの評価は実施しなかった。
【００８２】
（比較例２）
実施例１と同様にして基材上に金属系線状構造体を塗布後、乾燥した。
【００８３】
次いで、無機粒子Ｇ１００．０ｇ、酢酸エチル１７１８．２ｇからなるマトリックスを含まない分散液を調製し、この分散液を用いて金属系線状構造体を塗布後、乾燥した側に実施例１と同様にして塗布、１２０℃で２分間乾燥後導電層を形成した。
【００８４】
この導電層は、金属系線状構造体からなるネットワーク構造を有する導電成分と無機粒子を含むが、マトリックスを含まないため耐久性評価用サンプル及び耐久性評価用モジュールが作製できなかったため、耐久性の評価は実施しなかった。
【００８５】
（比較例３）
マトリックス組成物を、マトリックス材料Ａ３９．２ｇ、光重合開始剤Ａ０．２４ｇ、光重合開始剤Ｂ０．２４ｇ、酢酸エチル１７８１．０ｇとしたこと以外は、実施例１と同様に導電層を形成し導電積層体を得た。
【００８６】
この導電層は、架橋構造を有するマトリックスを含むが無機粒子を含まないため耐久性が不合格となった。
【００８７】
（比較例４）
マトリックス組成物を、マトリックス材料Ｂ１００．０ｇ、無機粒子Ｇ１０．０ｇ、酢酸エチル１９２６．７ｇとしたこと以外は、実施例１と同様に導電層を形成し導電積層体を得た。
【００８８】
この導電層は、マトリックスと無機粒子であるＳｉＯ２（マトリックスの固形成分に対し１０質量％含有）とを含むが、マトリックスは架橋構造を有しないため耐久性が不合格となった。
【００８９】
【表１】
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【産業上の利用可能性】
【００９０】
本発明の導電積層体は、耐久性が良好なことからタッチパネル、液晶ディスプレイ、電子ペーパーなどの表示体用途に好適に使用されるものである。さらに、本発明の導電積層体は、太陽電池モジュールなどにおいて用いられる電極部材にも好適に使用することができる。
【符号の説明】
【００９１】
１：基材
２：導電層
３：積層面に垂直な方向より観察した導電面
４：単一の繊維状導電体
５：繊維状導電体の集合体
６：ナノワイヤー
７：針状導電体
８：マトリックス
９：繊維状導電体の重なりによって形成した接点
１０：ナノワイヤーの重なりによって形成した接点
１１：針状導電体の重なりによって形成した接点
１２：無機粒子
１３：導電積層体
１４：導電積層体の基材
１５：導電積層体の導電層
１６：導電積層体を積層するための接合層
１７：画面側の基材
１８：ハードコート層
１９：導電層表面
２０：単一の金属系線状構造体
２１：集合体を形成する単一の金属系線状構造体
２２：金属系線状構造体からなる集合体
２３：単一の金属系線状構造体の径
２４：金属系線状構造体からなる集合体の金属系線状構造体の径
２５：青板ガラス
２６：耐久性評価用フィルムサンプル
２７：ハードコート層付きフィルム
２８：リード線
２９：エポキシ樹脂
３０：ＰＥＴフィルム
３２：パターン化導電層
３３：ハードコート層
３４：透明粘着剤
３５：銀ペースト
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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