(57)【要約】【課題】充填剤８と透明性ガラス基板１との接着力を高め長期信頼性に優れたモジュールを製造可能とする。【解決手段】透光性ガラス基板１上に、透明電極層２、光電変換層４、裏面電極層６を積層した太陽電池活性部１１を有する太陽電池モジュール１０の製造方法において、  太陽電池活性部の周辺部１２の透明電極、光電変換層、裏面電極を機械的研磨で除去する工程と、機械的研磨で除去する部分より太陽電池活性部側領域１２ｃに隣接した光電変換層４、裏面電極層６を光ビーム２１により除去する工程とを有する。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透光性ガラス基板上に、透明電極層、光電変換層、裏面電極層を積層した太陽電池活性部を有する太陽電池モジュールの製造方法において、
前記太陽電池活性部の周辺部の透明電極、光電変換層、裏面電極を機械的研磨で除去する工程と、
機械的研磨で除去する部分より太陽電池活性部側に隣接した光電変換層、裏面電極層を光ビームにより除去する工程とを有することを特徴とする太陽電池モジュールの製造方法。
【請求項２】
光ビームによる除去が、矩形の前記太陽電池活性部に対し少なくともこの太陽電池活性部を分割するセル分割線と直交する該太陽電池活性部の対向する２辺について行なわれることを特徴とする請求項１記載の太陽電池モジュールの製造方法。
【請求項３】
前記機械的研磨にブラストを用いるとともに、この際、前記透明性ガラス基板外周側に向けて噴射するようブラストノズルを傾けて加工することを特徴とする請求項１または２記載の太陽電池モジュールの製造方法。
【請求項４】
光電変換層と裏面電極を除去する光ビームを、円形を前記太陽電池活性部から前記透明性ガラス基板外周側に向けて伸張した形状の楕円形とすることを特徴とする請求項１から３のいずれか記載の太陽電池モジュールの製造方法。
【請求項５】
透光性ガラス基板上に、透明電極層、光電変換層、裏面電極層を積層した太陽電池活性部を有する太陽電池であって、
該太陽電池活性部の周辺部には前記透明電極が延設され、該透明電極の表面状態が、前記太陽電池活性部から前記透明性ガラス基板外周側に向けて粗さを付与されている２つの領域を有することを特徴とする太陽電池モジュール。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、太陽電池モジュール及びその製造方法に用いて好適な技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
太陽電池は、透明絶縁基板（透光性ガラス基板）上に、透明電極層、半導体光電変換層および裏面電極層が積層され、半導体光電変換層が除去された部分であるコンタクトラインを介して隣り合うセルが電気的に直列に接続されて太陽電池活性部を構成している。
【０００３】
このような太陽電池活性部の周縁部には金属フレームが取り付けられることになるが、安全性の観点から、セルの集積部と金属フレームとの間には絶縁部分を持たせる必要がある。絶縁性に関する１つの規格としてＩＥＣ６１７３０によれば、セルの集積部と金属フレームとの間には、たとえば、システム電圧が１０００Ｖの場合に８．４ｍｍ以上の絶縁部分を設けなければならないと規定されている。
【０００４】
したがって、上述した太陽電池の周縁部分の所定の領域においては、透明電極層、半導体光電変換層および裏面電極層が除去されて透明絶縁基板（透光性ガラス基板）の表面が露出した絶縁部分が形成されている。
【０００５】
このような太陽電池セルを複数直列に接続した太陽電池において、絶縁部分を形成する方法としては、まず、太陽電池活性部と周辺部とを光ビームにより分離する絶縁分離線を形成するとともに、その外側において透明電極または透光性ガラス基板を露出させる方法が特許文献１に記載されている。
特許文献１においては、太陽電池活性部の外側である周辺部をブラストで除去すること、内側の絶縁分離の形成がレーザーによることが記載されている。
同様に、特許文献２には、ブラストまたはレーザーで周辺部を除去することが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特許第３２４３２２７号公報
【特許文献２】再公表ＷＯ２００９／０５１１２２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、光ビームによる絶縁分離線は１００μｍ程度と幅が狭く、太陽電池活性部と周辺部間での高い絶縁性を得ることが困難であった。絶縁性が不十分な場合においては、セル間でのリーク電流が生じ、モジュール出力特性の低下が生じる問題がある。
絶縁分離線を用いずに、太陽電池活性部以外の膜を光ビームにより取り除く方法も公知である。しかしながら、光ビームにより膜除去を行った箇所は平滑であり、周辺部に充填する充填剤との接着強度を得ることが難しく、密着性が低下して長期信頼性に問題が生じる場合があった。
【０００８】
本発明は、上記の事情に鑑みてなされたもので、以下の目的を達成しようとするものである。
１．太陽電池活性部と周辺部間での高い絶縁性を得ること。
２．周辺部と充填剤との充分な接着強度・密着性を得ること。
３．長期信頼性に優れたモジュールを製造可能とすること。
４．作業時間を短縮し、製造コストの削減を図ること。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の太陽電池モジュールの製造方法は、透光性ガラス基板上に、透明電極層、光電変換層、裏面電極層を積層した太陽電池活性部を有する太陽電池モジュールの製造方法において、
前記太陽電池活性部の周辺部の透明電極、光電変換層、裏面電極を機械的研磨で除去する工程と、
機械的研磨で除去する部分より太陽電池活性部側に隣接した光電変換層、裏面電極層を光ビームにより除去する工程とを有することにより上記課題を解決した。
本発明において、光ビームによる除去が、矩形の前記太陽電池活性部に対し少なくともこの太陽電池活性部を分割するセル分割線と直交する該太陽電池活性部の対向する２辺について行なわれることがより好ましい。
本発明において、前記機械的研磨にブラストを用いるとともに、この際、前記透明性ガラス基板外周側に向けて噴射するようブラストノズルを傾けて加工することがより好ましい。
本発明において、光電変換層と裏面電極を除去する光ビームを、円形を前記太陽電池活性部から前記透明性ガラス基板外周側に向けて伸張した形状の楕円形とすることがより好ましい。
本発明の太陽電池モジュールは、透光性ガラス基板上に、透明電極層、光電変換層、裏面電極層を積層した太陽電池活性部を有する太陽電池であって、
該太陽電池活性部の周辺部には前記透明電極が延設され、該透明電極の表面状態が、前記太陽電池活性部から前記透明性ガラス基板外周側に向けて粗さを付与されている２つの領域を有することにより上記課題を解決した。
【００１０】
本発明の太陽電池モジュールの製造方法は、透光性ガラス基板上に、透明電極層、光電変換層、裏面電極層を積層した太陽電池活性部を有する太陽電池モジュールの製造方法において、
前記太陽電池活性部の周辺部の透明電極、光電変換層、裏面電極を機械的研磨で除去する工程と、
機械的研磨で除去する部分より太陽電池活性部側に隣接した光電変換層、裏面電極層を光ビームにより除去する工程とを有することにより、前記周辺部における平坦な透明電極の表面状態が、前記太陽電池活性部から前記透明性ガラス基板外周側に向けて粗さを付与されている２つの領域を有するようにできる。これにより、より外周側の粗さが粗い領域を設けることができるので、透明性ガラス基板の表面が粗い部分とともに、該周辺部に充填する充填剤との密着性を向上することが可能となる。これにより、従来に比べて周辺部の幅寸法を減少し、その分、太陽電池活性部の面積を拡大することができるため、密閉性を維持した状態で、発電効率の向上をも図ることが可能となる。
ここで、光ビーム処理と機械的研磨処理との順番はどちらが先でもかまわない。
【００１１】
本発明において、光ビームによる除去が、矩形の前記太陽電池活性部に対し少なくともこの太陽電池活性部を分割するセル分割線と直交する該太陽電池活性部の対向する２辺について行なわれることで、充分であり、他の２辺については、機械的研磨での除去のみでよい。これにより製造時間の短縮とコストの削減を図ることができる。
【００１２】
本発明において、前記機械的研磨にブラストを用いるとともに、この際、前記透明性ガラス基板外周側に向けて噴射するようブラストノズルを傾けて加工することにより、ブラストが、反射して、太陽電池活性部が傷つくあるいは汚れてしまうことを防止できる。
具体的には、ブラストノズルを１０°以上８５°未満に傾けることができる。
【００１３】
本発明において、光電変換層と裏面電極を除去する光ビームを、円形を前記太陽電池活性部から前記透明性ガラス基板外周側に向けて伸張した形状の楕円形とすることで、周辺部の幅方向にビーム径を拡大することで、幅方向にビームを照射する回数を低減して、加工時間を減少することが可能となる。同時に、ビームの長手方向ではエネルギーの収束度が低いため、必要な加工をおこなうとともに、太陽電池活性部に対する好ましくないダメージの発生を低減することが可能となる。
具体的には、ビームの長径と短径の比率を１．５以上とし、セル分割線と長径がなす角が±４５°以内とすることができる。このような光ビームの楕円照射により、ブラストダメージ領域の除去を短時間で行え、処理時間の短縮を図ることができる。
【００１４】
本発明の太陽電池モジュールは、上述した製造方法により、透光性ガラス基板上に、透明電極層、光電変換層、裏面電極層を積層した太陽電池活性部を有する太陽電池であって、
該太陽電池活性部の周辺部には前記透明電極が延設され、該透明電極の表面状態が、前記太陽電池活性部から前記透明性ガラス基板外周側に向けて大きくなる粗さを付与されている２つの領域を有することができるので、周辺部に充填する充填剤との密着性を向上することが可能となり、従来に比べて周辺部の幅寸法を減少し、その分、太陽電池活性部の面積を拡大することができるため、密閉性を維持した状態で、発電効率の向上をも図ることが可能となる。
【００１５】
ここで、透明電極が、太陽電池活性部から前記透明性ガラス基板外周側に向けて大きくなる粗さを付与されている２つの領域を有するとは、周辺部のうち、太陽電池活性部に接して透明電極が延在し、しかも透明電極の表面が、太陽電池活性部側と透明性ガラス基板外周側との2つの領域に分けられて、太陽電池活性部側の領域に比べて外側の領域の表面粗さが粗く設定されているものである。具体的には、太陽電池活性部側の領域は、光ビームによって表面処理されて粗さが小さい領域であり、外側の領域は、ブラストによって処理され粗い領域とされてなる。なお、外側の領域は、光ビーム処理とブラスト処理との順番によって、透明電極の端面（外側側面）のみ、あるいは、端面とこれに連続する表面の一部をなることができる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、ブラストの斜め噴射により、光ビームでの除去が必要なブラストダメージ領域の幅を狭めることができ、これにより、透明性ガラス基板および透明電極表面において粗さを増して周辺部に充填する充填剤との密着性を向上することが可能となるとともに、従来に比べて周辺部の幅寸法を減少し、その分、太陽電池活性部の面積を拡大することができるため、密閉性を維持した状態で、発電効率の向上をも図ることが可能となる、絶縁分離線を用いない構造であるためセル間でのリーク電流が少なく、機械的研磨で周辺を除去するため、アンカー効果により充填剤と透明性ガラス基板との接着力が高まり長期信頼性に優れたモジュールを作製できるという効果を奏することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明に係る太陽電池モジュールの一実施形態を示す平面図である。
【図２】本発明に係る太陽電池モジュールの周辺部を示す拡大断面図である。
【図３】本発明に係る太陽電池モジュールの製造方法における一実施形態を示す拡大断面図である。
【図４】本発明に係る太陽電池モジュールの製造方法における他の実施形態を示す拡大断面図である。
【図５】本発明に係る太陽電池モジュールの製造方法における他の実施形態を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明に係る太陽電池モジュール及びその製造方法の一実施形態を、図面に基づいて説明する。
図１は、本実施形態における太陽電池モジュールを示す平面図であり、図２は、本実施形態における太陽電池モジュールを示す拡大断面図であり、図において、符号１０は、太陽電池モジュールである。
【００１９】
本実施形態において、太陽電池モジュール１０は、図１、図２に示すように、透光性ガラス基板１の一主面上に形成された透明電極層２、光半導体層４および裏面電極層６の少なくとも一部をセル分割線３によって複数のセルに分離し相互に電気的に集積化した略矩形の太陽電池活性部１１と、太陽電池活性部１１の透光性ガラス基板１の外側となる周辺部１２と、を有し、少なくともこの周辺部１２を封止する充填材８と、カバーフィルム９とを備える。なお、カバーフィルム９の代替としてカバーガラスを用いることもできる。
【００２０】
周辺部１２は、その外周側で透明電極層２、光半導体層４および裏面電極層６がいずれも除去された除去領域１２ａと、除去領域１２ａの内側で透明電極層２のみが残る透明電極粗領域１２ｂと、透明電極滑領域１２ｃとからなる。
【００２１】
除去領域１２ａに隣接する透明電極粗領域１２ｂと、太陽電池活性部１１に隣接する透明電極滑領域１２ｃとは、その表面粗さが異なるように設定されており、透明電極粗領域１２ｂは、ブラスト処理による粗れた状態、透明電極滑領域１２ｃは光ビーム処理による滑らかな状態とされている。透明電極粗領域１２ｂと、透明電極滑領域１２ｃとは、セル分割線３と直交する太陽電池活性部１１の２辺にのみ設けられる。
【００２２】
太陽電池モジュール１０において透光性ガラス基板１には青板ガラス、白板ガラス、硼ケイ酸ガラスなどの薄膜太陽電池モジュールに一般に用いられているものが用いられる。ナトリウム等の半導体に影響がある不純物が含まれる青板ガラスや白板ガラス等のガラスを使用するときはこれらの不純物の拡散を防止するために酸化ケイ素（ＳｉＯ２）等のアルカリバリア層を形成したり、透明電極層の光散乱を助長するためにシリカビーズなどの下地層を設けることができる。
【００２３】
透明電極層としては、酸化錫（ＳｎＯ２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、ＩＴＯ、フッ素をドープした酸化スズ（ＦＴＯ）等を用いることができる。
【００２４】
光半導体層としては、シリコンを主成分とする層、例えばｐ型ａ−ＳｉＣ：Ｈ層、ｉ型ａ−Ｓｉ：Ｈ層、およびｎ型微結晶Ｓｉ：Ｈ層の積層構造を用いることが出来る。また、光半導体層としては、近年においては、ｉ型微結晶Ｓｉ層を発電層とした太陽電池に用いられる光半導体層、あるいはａ−Ｓｉと微結晶Ｓｉの太陽電池を積層したタンデム太陽電池に用いられる光半導体層、更には、ＣＩＳ，ＣｄＴｅ、ＣＩＧＳ等の化合物半導体などの光半導体層が開発されており、これらを用いた薄膜太陽電池についても本発明を利用することができる。
【００２５】
裏面電極層（金属層）６としては、Ａｇ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｔｉおよびこれらと金属酸化物との積層体等を用いることが出来る。金属酸化物としては酸化亜鉛（ＺｎＯ）などが有力であるがこれらに限定されるものではない。
【００２６】
これらの層は、レーザースクライブ等の方法により加工され、周知の構造で、集積化される。上記、透明電極層、光半導体層、金属層、集積化された太陽電池セル群の両端には電極取り出し用の配線を形成するための領域があり、好ましくは、半田メッキ銅箔が特殊半田にて接続される。
【００２７】
以下、本実施形態に係る太陽電池モジュールの製造方法を説明する。
図３は、本実施形態における太陽電池モジュールの製造方法を示す断面図、図４は、本実施形態における太陽電池モジュールの製造方法を示す拡大平面図である。
【００２８】
本実施形態の太陽電池モジュールの製造方法は、図３（ａ）に示すように、少なくとも太陽電池活性部１１を覆うように、透明電極層２、光半導体層４および裏面電極層６を透光性ガラス基板１に積層してセル分割線３によって複数のセルに分離する。
次いで、セル分割線３と直交する太陽電池活性部１１の２辺において、図３（ｂ）に示すように、少なくとも透明電極滑領域１２ｃに相当する部分と、その外側までの領域で、光半導体層４および裏面電極層６を光ビーム２１により除去する。
【００２９】
ここで、光ビーム２１は、ＱスイッチＹＡＧレーザーを、例えばφ１００μｍ程度で、ビームの長径と短径の比率を１．５以上となる楕円形として照射され、この光ビーム２１を、図４（ａ）に示すように、矢印方向に一部重なるように略連続的に複数照射することにより、除去加工が可能である。この場合、加工した面、特に、透明電極滑領域１２ｃと、透明電極粗領域１２ｂ一部分の領域で鏡面状の加工が可能である。
光ビーム２１のスポットは、また、図４（ｂ）に示すように、セル分割線３と光ビーム２１の楕円の長径がなす角θ２が±４５°以内とすることができる。さらに、隣り合うビーム２１の列において、ビーム２１ａとビーム２１ｂとを同じ方向に傾けることや、あるいは、逆向きに傾けることもできる。
【００３０】
次いで、透明電極滑領域１２ｃの外側の領域を、機械的研磨、具体的には、ブラストによって除去領域１２ａの透明電極層２、光半導体層４および裏面電極層６と、透明電極粗領域１２ｂの光半導体層４および裏面電極層６とを除去する。
周辺部１２ａおよび透明電極粗領域１２ｂは、ブラストノズル２０から微粒子であるブラスト２０ａを吹き付けるブラスト処理にて行われる。微粒子２０ａの材料は、ガラスビーズやアルミナセラミック等があり、粒径も各種存在し、所定の加工度合に合せて適宜選択できる。この場合の加工面は磨りガラス状となり、処理表面に微細な凹凸が形成される。
【００３１】
また、サンドブラストは、図３（ｃ）に示すように、ブラストノズル２０の噴射方向が透光性ガラス基板１の外側を向くように、ブラストノズル２０の噴射方向と透光性ガラス基板１の法線方向とが為す角θ１が１０°以上８５°未満となるように傾けてブラスト２０ａを噴出する。これにより、対象に衝突したブラストが跳ね返って、太陽電池活性部１１側に再度衝突することを防止できる。従って、透明電極滑領域１２ｃおよび太陽電池活性部１１の表面が傷つくことを防止できる。
同時に、ブラストノズル２０を傾斜することによって、ブラストによって面荒れを生じる透明電極粗領域１２ｂの幅寸法を小さくすることができ、これにより、ＩＥＣ規格上で定められた絶縁距離に対応する領域となる周辺部１２を確保しつつ、この周辺部１２に隣接して表面荒れした部分である透明電極粗領域１２ｂを狭めることが可能となるため、太陽電池活性部１１の面積を拡大することができる。
【００３２】
また、周縁露出部の幅は、適宜設計でなされるものであるが、太陽電池の安全規格であるＩＥＣ６１７３０に適合させる場合では６００Ｖ仕様の太陽電池モジュールで６．４ｍｍ幅以上が必要である。しかし、有効に働くためには、少なくとも絶縁の観点からは０．５ｍｍ以上の幅が必要である（０．５ｍｍ以上の幅が有れば良い）が、工業規格の他、透光性ガラス基板に対する太陽電池セルの出力に必要な面積の割合、電気化学的腐食を防止するために必要な距離等を各種考慮して適宜選択することが可能である。
【００３３】
この後は、従来からの封止技術を利用することが可能である。
封止に用いる封止充填材として例えば、エチレン酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）を用いることができる。さらにその上にカバーフィルムとして、例えばＡｌ箔の両面をＰＶＦ（商品名：テドラー（登録商標））フィルムでサンドイッチしたものを積層し、これらを真空ラミネート法で溶融密着硬化してモジュールのラミネート部を製造することもできる。
【００３４】
ラミネート部に端子箱を取付け、ラミネートの端部にブチルゴムを塗布し、ＥＰＤＭなどのガスケットを嵌め込んで、アルミフレームを取り付けて薄膜太陽電池モジュールを完成することができる。
【００３５】
本実施形態の太陽電池モジュール及びその製造方法によれば、ブラスト２０ａの斜め噴射により、光ビーム２１での除去が必要なブラストダメージ領域の幅を狭めることができ、これにより、透明性ガラス基板１の除去領域１２ａおよび透明電極層２表面の透明電極粗領域１２ｂにおいて粗さを増して周辺部１２に充填する充填剤８との密着性を向上することが可能となるとともに、従来に比べて周辺部１２の幅寸法を減少し、同一の大きさとされる透明性ガラス基板１に対して、太陽電池活性部１１の面積を拡大することができるため、密閉性を維持した状態で、発電効率の向上をも図ることが可能となる。また、本実施形態の太陽電池モジュール１０は、従来のように絶縁分離線を用いてはいない構造であるためセル間でのリーク電流が少ない。さらに、機械的研磨で周辺部１２ａを除去するため、アンカー効果により充填剤８と透明性ガラス基板１との接着力が高まり長期信頼性に優れたモジュールを作製できるという効果を奏することができる。
【００３６】
以下、本発明に係る太陽電池モジュール及びその製造方法の他の実施形態を、図面に基づいて説明する。
図５は、本実施形態における太陽電池モジュールの製造方法を示す断面図である。
本実施形態で上述した実施形態と異なるのは、機械的研磨処理と光ビーム処理との工程順のみであるので、対応する構成要素には同一の符号を付してその説明を省略する。
【００３７】
本実施形態では、図５（ａ）に示すように、透明電極層２、光半導体層４および裏面電極層６を透光性ガラス基板１に積層した後、図５（ｂ）に示すように、除去領域１２ａに対応する部分において、ブラストによって除去領域１２ａの透明電極層２、光半導体層４および裏面電極層６を除去する。
この際、上述した実施形態と同様に、ブラストノズル２０はθ１だけ外向きに噴射するよう傾斜させる。これにより、除去領域１２ａの透光性ガラス基板１表面および、透明電極層２、光半導体層４および裏面電極層６の積層体の端面が粗い面となる。
【００３８】
次いで、セル分割線３と直交する太陽電池活性部１１の２辺において、図５（ｃ）に示すように、少なくとも透明電極滑領域１２ｃに相当する部分で、光半導体層４および裏面電極層６を光ビーム２１により除去する。
【００３９】
ここで、光ビーム２１により光半導体層４および裏面電極層６を除去した部分が透明電極滑領域１２ｃとなる。また、透明電極粗領域１２ｂは、除去領域１２ａに接する透明電極層２の端面（側面）のみとなる。
【００４０】
本実施形態によれば、ブラスト処理後に光ビーム処理をおこなっているので、ブラスト処理で微少な傷の付いた太陽電池活性部１１を除去することができるので、ブラスト処理後に、微少な傷の付いた太陽電池活性部１１を除去する処理をおこなう必要がない。
同時に、ブラストノズル２０を傾斜することによって、周辺部１２に隣接する内側部分において、ブラストによって表面面荒れを生じる部分の幅寸法を小さくすることができ、これにより、除去することになる透明電極滑領域１２ｃに対応する部分の幅寸法を小さくして、ＩＥＣ規格上で定められた絶縁距離に対応する領域となる周辺部１２を確保しつつ、この周辺部１２に隣接する除去部分に対応した透明電極滑領域１２ｃを狭めることが可能となるため、結果的に、太陽電池活性部１１の面積を拡大することができる。
【実施例】
【００４１】
本発明に係る実施例を説明する。
【００４２】
まず、透明性ガラス基板１にＦＴＯからなる厚さ０．８μｍとされる透明電極層２を形成し、セル分割線３に沿って光ビームにより絶縁分離する。
次いで、ＣＶＤ処理によって、厚さ０．３μｍとされる光半導体層（光電変換層）４を形成、セル分割線３に沿って光ビームによって分離する。
スパッタにより厚さ０．１μｍの酸化亜鉛と厚さ０．２μｍのＡｇとの積層からなる裏面電極層６を形成後、光ビームにより、光半導体層４および裏面電極層６を除去し、セル分割線３に沿って裏面電極を分離する。
【００４３】
セル分割線３と直交する太陽電池活性部１１の２辺において、図３（ｂ）に示すように、透明性ガラス基板１端から９．８〜１１ｍｍの領域における光半導体層４および裏面電極層６を光ビームにより除去する。光ビーム２１は図４（ａ）に示すように、長軸がセル分割線３と略平行となるようにされた楕円計上とされる。これにより、幅１．２ｍｍの光半導体層４および裏面電極層６を少ないビーム照射回数（加工時間）で処理をおこなうことができる。
【００４４】
次いで、透明性ガラス基板１端から１０ｍｍまでの領域において、図３（ｃ）に示すように、ブラストノズル２０をθ１＝５０°として傾けてブラスト処理をおこない、透明電極層２、光半導体層４および裏面電極層６を除去する。これにより、透明性ガラス基板１端から１１ｍｍ以上離れた太陽電池活性部１１へのダメージを少なくすることができる。
【００４５】
以上のように構成されるセルをモジュ−ル化するために、ＥＶＡシート８とフッ素系フィルムからなる保護フィルム９を真空ラミネータを用いて被覆して封止し（封止工程）、端子箱を取り付けた（端子箱取り付け工程）。
【００４６】
本実施例によれば、透明性ガラス基板１端から１１ｍｍより内側の領域を太陽電池活性部１１とすることができる。
【符号の説明】
【００４７】
１…透光性ガラス基板
２…透明電極層
３…セル分割線
４…光半導体層
６…裏面電極層（金属層）
８…充填材
９…カバーフィルム
１０…太陽電池モジュール
１１…太陽電池活性部
１２…周辺部
１２ａ…除去領域
１２ｂ…透明電極粗領域
１２ｃ…透明電極滑領域
【図１】
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【図２】
2013093375.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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