(57)【要約】【課題】長期に亘って均一な輝度特性を維持することができる表示パネルを提供する。【解決手段】映像を表示するための表示領域を規定するように配置された複数の発光画素を備える表示パネルであって、前記表示領域は、該表示領域の中心点を含む又は該中心点に近い第１領域と、該第１領域よりも前記中心点から離れた第２領域と、を含み、前記複数の発光画素は、前記第１領域において発光する第１発光層を有する第１発光画素と、前記第２領域において発光する第２発光層を有する第２発光画素と、を含み、前記第１発光層は、前記第２発光層よりも厚いことを特徴とする表示パネル。【選択図】図１
2013093426.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
映像を表示するための表示領域を規定するように配置された複数の発光画素を備える表示パネルであって、
前記表示領域は、該表示領域の中心点を含む又は該中心点に近い第１領域と、該第１領域よりも前記中心点から離れた第２領域と、を含み、
前記複数の発光画素は、前記第１領域において発光する第１発光層を有する第１発光画素と、前記第２領域において発光する第２発光層を有する第２発光画素と、を含み、
前記第１発光層は、前記第２発光層よりも厚いことを特徴とする表示パネル。
【請求項２】
前記複数の発光画素それぞれは、前記複数の発光画素が発生した発生光を透過する透過層と、前記発生光を反射し、反射光を生成する反射層と、を含み、
前記第１発光層の厚さは、前記反射光と前記透過層へ向かう前記発生光との共振によって、前記第１発光画素が前記第２発光画素よりも高い発光効率を達成するように定められることを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
【請求項３】
前記第１発光層は、前記透過層に対向する第１発光面を含み、
前記反射層は、前記発生光を反射する反射面を含み、
前記第１発光面と前記反射面との間の第１光学的距離は、前記反射光が前記透過層へ向かう前記発生光と共振するように定められることを特徴とする請求項２に記載の表示パネル。
【請求項４】
前記透過層は、光透過性の材料から形成された透明電極であり、
前記反射層は、光反射性の材料から形成された反射電極であり、
前記透明電極及び前記反射電極は、前記透明電極と前記反射電極との間に配設された前記複数の発光層に電流を生じさせることを特徴とする請求項２又は３に記載の表示パネル。
【請求項５】
前記映像が表示されている間、前記第１領域は前記第２領域よりも高温となる温度特性を有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の表示パネル。
【請求項６】
前記第１発光層及び前記第２発光層は、有機ＥＬ層を含むことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の表示パネル。
【請求項７】
映像を表示するために発光する発光層を支持するための支持面を含む支持基板を用意する第１工程と、
前記支持基板を第１方向に搬送する第２工程と、
前記支持基板上に発光樹脂を塗布する塗布装置を用いて、前記発光層を形成する第３工程と、を備え、
前記支持面は、該支持面の中心点を含む又は該中心点に近い第１支持領域と、前記中心点よりも遠い第２支持領域と、を含み、
前記第３工程において、前記塗布装置は、前記第２支持領域よりも多く前記発光樹脂を前記第１支持領域に塗布することを特徴とする表示パネルの製造方法。
【請求項８】
前記第３工程において、前記第１支持領域に前記発光樹脂が塗布されている間の前記支持基板の搬送速度は、前記第２支持領域に前記発光樹脂が塗布されている間の前記搬送速度よりも低く設定されることを特徴とする請求項７に記載の表示パネルの製造方法。
【請求項９】
前記塗布装置は、前記第１方向に対して交差する第２方向に配列された複数の塗布部を含み、
前記中心点に近い塗布部は、前記中心点から離れた塗布部よりも多く前記発光樹脂を塗布することを特徴とする請求項７又は８に記載の表示パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、映像を表示する表示パネル及び表示パネルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示装置は、一般的に、映像を表示するための表示パネルを備える。表示パネルは、典型的には、表示装置に入力された映像信号に基づき発光する発光素子を備える。発光素子は、映像を表現するために発光すると同時に発熱する。発光素子からの熱は、表示パネルの内部に籠もりやすい。表示パネル内の温度上昇は、表示パネルの正常な動作をしばしば妨げる。
【０００３】
表示装置として、有機ＥＬ（エレクトロルミネセンス）ディスプレイが例示される。有機ＥＬディスプレイは、有機ＥＬ発光素子を含む。有機ＥＬ発光素子の発光層は、熱によって劣化しやすい。したがって、表示パネル内で過度の温度上昇が生ずるならば、表示パネルの寿命は短くなる。
【０００４】
図１１は、均一な輝度の映像を表示する表示パネルの概略的な等温線図である。図１１を用いて、一般的な表示パネルの温度特性が説明される。
【０００５】
一般的に、映像が表示される領域の中央部分は、他の部分と比べて、高温になりやすい。中央部分の高温は、中央部分の映像を表示するために発光する発光素子の劣化を促進する。一方、他の部分の映像を表示するために発光する発光素子は、中央部分の発光素子と比べて、劣化しにくい。中央部分と他の部分との間での発光素子の劣化の差異は、画質の差異となって現れる。
【０００６】
特許文献１は、筐体と表示パネルとの間に配設された伝熱材を備える表示装置を開示する。伝熱材は、表示パネルから発生した熱を面内方向に伝導するので、中央部分と他の部分との間での温度差を低減する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００６−８４９７７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
伝熱材を用いたとしても、表示領域の中央部分が他の部分と比べて高温となる温度特性は、本質的には変わらない。したがって、中央部分の発光素子は、他の部分よりも早く劣化することとなり、長期に亘って均一な画質を維持することは困難である。
【０００９】
本発明は、長期に亘って均一な画質を維持することができる表示パネル及び表示パネルの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の一の局面に係る表示パネルは、映像を表示するための表示領域を規定するように配置された複数の発光画素を備える。前記表示領域は、該表示領域の中心点を含む又は該中心点に近い第１領域と、該第１領域よりも前記中心点から離れた第２領域と、を含み、前記複数の発光画素は、前記第１領域において発光する第１発光層を有する第１発光画素と、前記第２領域において発光する第２発光層を有する第２発光画素と、を含み、前記第１発光層は、前記第２発光層よりも厚いことを特徴とする。
【００１１】
本発明の他の局面に係る映像が表示される表示パネルの製造方法は、映像を表示するために発光する発光層を支持するための支持面を含む支持基板を用意する第１工程と、前記支持基板を第１方向に搬送する第２工程と、前記支持基板上に発光樹脂を塗布する塗布装置を用いて、前記発光層を形成する第３工程と、を備え、前記支持面は、該支持面の中心点を含む又は該中心点に近い第１支持領域と、前記中心点よりも遠い第２支持領域と、を含み、前記第３工程において、前記塗布装置は、前記第２支持領域よりも多く前記発光樹脂を前記第１支持領域に塗布することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明に係る表示パネルは、厚さにおいて異なる発光層を有するので、長期に亘って均一な画質を維持することができる。また、本発明に係る表示パネルの製造方法にしたがって、厚さにおいて異なる発光層を有する表示パネルが好適に製造される。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】表示パネルの概略的且つ巨視的な断面図である。
【図２】図１に示される表示パネルが組み込まれた表示装置の概略的な斜視図である。
【図３】図１に示される表示パネルの発光層の厚さの変動を表す概略的な等高線図である。
【図４Ａ】図１に示される表示パネルの第１発光画素の微視的な概略断面図である。
【図４Ｂ】図１に示される表示パネルの第２発光画素の微視的な概略断面図である。
【図５】発光層の厚さと発光画素の発光効率との関係を表す概略的なグラフである。
【図６】第１領域及び第２領域に関する他の概念を表す表示装置の概略図である。
【図７】図１に示される表示パネルの製造方法の概略的なフローチャートである。
【図８】図７に示される製造方法に用いられる支持基板の概略的な斜視図である。
【図９】図７に示される製造方法の搬送工程中に搬送される支持基板の概略図である。
【図１０】図７に示される製造方法の塗布工程における支持基板の搬送速度の変動を表す概略的なグラフである。
【図１１】均一な輝度の映像を表示する一般的な表示パネルの概略的な等温線図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、表示パネルが図面を参照して説明される。尚、以下に説明される実施形態において、同様の構成要素に対して同様の符号が付されている。また、説明の明瞭化のため、必要に応じて、重複する説明は省略される。図面に示される構成、配置或いは形状並びに図面に関連する記載は、表示パネルの原理を容易に理解させることを目的とするものであり、表示パネルの原理はこれらに何ら限定されるものではない。
【００１５】
（表示パネルの構造）
図１は、表示パネル１００の概略的且つ巨視的な断面図である。図１を用いて、表示パネル１００が説明される。
【００１６】
表示パネル１００は、映像を表示するために発光する発光層１１０と、発光層１１０を支持するための基板１２０と、を備える。表示パネル１００は、発光層１１０と基板１２０との間に配設された反射電極層１３０と、発光層１１０を覆うように形成された透明電極層１４０と、を更に備える。反射電極層１３０と透明電極層１４０との間の電圧によって、反射電極層１３０と透明電極層１４０との間に配設された発光層１１０に電流が流れ、発光層１１０は発光する。本実施形態において、発光層１１０として、有機ＥＬ材料を用いて形成された有機ＥＬ層が用いられる。
【００１７】
反射電極層１３０は、発光層１１０が発生した光を反射する光反射性の材料から形成される。透明電極層１４０は、発光層１１０が発生した光を透過する光透過性の材料から形成される。本実施形態において、反射電極層１３０は、反射層及び／又は反射電極として例示される。また、透明電極層１４０は、透過層及び／又は透明電極として例示される。
【００１８】
図２は、図１に示される表示パネル１００が組み込まれた表示装置２００の概略的な斜視図である。図１及び図２を用いて、表示パネル１００が更に説明される。
【００１９】
表示装置２００は、表示パネル１００と、表示パネル１００を支持する筐体２１０と、を備える。映像が表示される表示領域ＤＲは、筐体２１０から露出する。
【００２０】
図２において、表示領域ＤＲ内に中心点ＣＰが示されている。中心点ＣＰは、矩形状の表示領域ＤＲの一対の対角線の交点として定義されてもよい。尚、中心点ＣＰの位置は、領域の中心を表す他の適切な数学的手法に従って、定義されてもよい。
【００２１】
図２には、中心点ＣＰを通過する水平線ＨＬが示されている。図１は、水平線ＨＬに沿う巨視的な断面図である。
【００２２】
図１及び図２には、中心点ＣＰを通過する表示領域ＤＲの垂線ＰＬが示されている。図１に示される如く、発光層１１０は、垂線ＰＬに向けて徐々に厚くなる。また、透明電極層１４０は、垂線ＰＬを中心に、徐々に基板１２０に近づくように発光層１１０に沿って配設される。
【００２３】
図２（及び図１）に示される如く、表示領域ＤＲは、中心点ＣＰ（垂線ＰＬ）を内包する中央領域ＣＲと、中央領域ＣＲを取り囲む周縁領域ＰＲとを含む。図２において、中央領域ＣＲと周縁領域ＰＲとの間の境界は、表示領域ＤＲ内に描かれた矩形枠として示されている。本実施形態において、中央領域ＣＲは、第１領域として例示される。中央領域ＣＲよりも中心点ＣＰから離間した周縁領域ＰＲは、第２領域として例示される。
【００２４】
表示パネル１００は、表示領域ＤＲを規定するように配置された複数の発光画素を備える。図１及び図２には、中央領域ＣＲ内に配置された第１発光画素３１０と、周縁領域ＰＲ内に配置された第２発光画素３２０とが、複数の発光画素として概略的に示されている。
【００２５】
図３は、発光層１１０の厚さの変動を表す概略的な等高線図である。図１乃至図３を用いて、発光層１１０が説明される。
【００２６】
図３において最も小さな楕円は、他の楕円よりも大きな値の厚さを表す。より大きな楕円は、より小さな発光層１１０の厚さを表す。図３に示される楕円の群は、中心点ＣＰを中心に二次元的に（水平方向及び垂直方向に）拡がる。即ち、発光層１１０の厚さは、中心点ＣＰから水平方向及び垂直方向に小さくなる。
【００２７】
図３に示される如く、本実施形態において、発光層１１０は、同心楕円状の厚さ分布を有する。代替的に、発光層１１０は、略同心円状の厚さ分布を有してもよい。好ましくは、発光層１１０の厚さ分布は、表示パネル１００の温度分布特性に応じて定められる。温度が高くなる領域において、発光層１１０は厚く形成され、温度が比較的低い領域において、発光層１１０は薄く形成される。本実施形態において、映像が表示されている間、中央領域ＣＲは、周縁領域ＰＲよりも高温となる温度特性を有する。
【００２８】
図１及び図３に示されるように、本実施形態において、発光層１１０は、略円錐状であり、略平滑な円錐面を有する。代替的に、発光層１１０の面（透明電極層１４０に対向する面）は、階段状に形成され、発光層１１０の厚さが変動されてもよい。
【００２９】
図４Ａは、第１発光画素３１０の微視的な概略断面図である。図１及び図４Ａを用いて、第１発光画素３１０が説明される。
【００３０】
以下の説明において、第１発光画素３１０に対応する位置に存する透明電極層１４０は、第１透明電極部３１４と称される。第１発光画素３１０に対応する位置に存する発光層１１０は、第１発光層３１１と称される。第１発光画素３１０に対応する位置に存する反射電極層１３０は、第１反射電極部３１３と称される。第１発光画素３１０は、第１透明電極部３１４、第１発光層３１１及び第１反射電極部３１３を含む。
【００３１】
中央領域ＣＲ内で発光する第１発光層３１１は、第１透明電極部３１４に対向する第１発光面３１５を含む。第１透明電極部３１４と第１反射電極部３１３との間の電圧によって、第１発光層３１１に電流が流れると、第１発光層３１１は、第１発光面３１５から光を出射する。
【００３２】
第１発光面３１５から出射された光は、第１透明電極部３１４に向かう第１光成分と、第１反射電極部３１３に向かう第２光成分と、を含む。本実施形態において、第１発光面３１５から出射された光は、「発生光」として例示される。
【００３３】
第１反射電極部３１３は、第１発光層３１１に対向する第１反射面３１６を含む。第１反射面３１６は、第１発光面３１５から第１反射電極部３１３に向かう第２光成分を反射し、第１透明電極部３１４に向かう反射光を生成する。本実施形態において、第１反射面３１６は、反射面として例示される。第１反射電極部３１３は、反射層として例示される。
【００３４】
第１透明電極部３１４は、第１光成分と反射光とをそれぞれ透過する。この結果、第１発光面３１５から出射された光は、表示領域ＤＲから出射され、観察者によって表示パネル１００が表示する映像の一部として知覚される。本実施形態において、第１透明電極部３１４は、透過層として例示される。
【００３５】
図４Ｂは、第２発光画素３２０の微視的な概略断面図である。図１、図４Ａ及び図４Ｂを用いて、第２発光画素３２０が説明される。
【００３６】
以下の説明において、第２発光画素３２０に対応する位置に存する透明電極層１４０は、第２透明電極部３２４と称される。第２発光画素３２０に対応する位置に存する発光層１１０は、第２発光層３２１と称される。第２発光画素３２０に対応する位置に存する反射電極層１３０は、第２反射電極部３２３と称される。第２発光画素３２０は、第２透明電極部３２４、第２発光層３２１及び第２反射電極部３２３を含む。
【００３７】
周縁領域ＰＲ内で発光する第２発光層３２１は、第２透明電極部３２４に対向する第２発光面３２５を含む。第２透明電極部３２４と第２反射電極部３２３との間の電圧によって、第２発光層３２１に電流が流れると、第２発光層３２１は、第２発光面３２５から光を出射する。
【００３８】
図４Ａと図４Ｂとを比較すると、第１発光層３１１は、第２発光層３２１より厚いことが分かる。第１発光層３１１及び第２発光層３２１の厚さ寸法の設定に基づく発光効率の調整は後述される。
【００３９】
第２発光面３２５から出射された光は、第２透明電極部３２４に向かう第１光成分と、第２反射電極部３２３に向かう第２光成分と、を含む。本実施形態において、第２発光面３２５から出射された光は、「発生光」として例示される。
【００４０】
第２反射電極部３２３は、第２発光層３２１に対向する第２反射面３２６を含む。第２反射面３２６は、第２発光面３２５から第２反射電極部３２３に向かう第２光成分を反射し、第２透明電極部３２４に向かう反射光を生成する。本実施形態において、第２反射面３２６は、反射面として例示される。第２反射電極部３２３は、反射層として例示される。
【００４１】
第２透明電極部３２４は、第１光成分と反射光とをそれぞれ透過する。この結果、第２発光面３２５から出射された光は、表示領域ＤＲから出射され、観察者によって表示パネル１００が表示する映像の一部として知覚される。本実施形態において、第２透明電極部３２４は、透過層として例示される。
【００４２】
（発光層の厚さの設定）
図５は、発光層１１０の厚さと発光画素の発光効率との関係を表す概略的なグラフである。図１、図４Ａ乃至図５を用いて、発光層１１０の厚さの設定が説明される。
【００４３】
図５のグラフの横軸は、発光層の厚さ（即ち、発光面（例えば、第１発光面３１５や第２発光面３２５）と反射面（例えば、第１反射面３１６や第２反射面３２６）との距離）を表す。図５のグラフの縦軸は、発光画素（例えば、第１発光画素３１０や第２発光画素３２０）の発光効率を表す。発光効率は、以下の式で表される。
【００４４】
（数１）
2013093426.tif 000003
【００４５】
図５に示されるように、発光層の厚さの増大に伴って、発光効率は繰り返し増減する。このような現象は、「マイクロキャビティ効果」として知られている。図４Ａ及び図４Ｂを用いて、マイクロキャビティ効果が説明される。
【００４６】
第１光成分及び反射光が強く共振するならば、発光効率の値は高くなる。第１光成分と反射光との共振が弱いならば、発光効率は低くなる。本実施形態において、第１光成分と反射光との共振を利用して、第１発光層３１１及び第２発光層３２１の厚さが設定される。
【００４７】
図５に示されるグラフは、発光層の厚さ「Ｔ」の関数「Ｅｆｆ（Ｔ）」で表されてもよい。このとき、第１発光層３１１の厚さが、「Ｔ１」であるとき、第１発光層３１１（第１発光画素３１０）の発光効率は、「Ｅｆｆ（Ｔ１）」で表される。第２発光層３２１の厚さが、「Ｔ２」であるとき、第２発光層３２１（第２発光画素３２０）の発光効率は、「Ｅｆｆ（Ｔ２）」で表される。
【００４８】
第１発光層３１１の厚さ「Ｔ１」は、第２発光層３２１の厚さ「Ｔ２」よりも大きくなるように設定される。加えて、第１発光画素３１０の厚さ「Ｔ１」は、第１発光画素３１０の発光効率「Ｅｆｆ（Ｔ１）」が、第２発光画素３２０の発光効率「Ｅｆｆ（Ｔ２）」よりも大きくなるように設定される。即ち、第１発光層３１１の厚さ「Ｔ１」は、以下の数学的関係が満たされるように設定される。
【００４９】
（数２）
Ｔ１＞Ｔ２
【００５０】
（数３）
Ｅｆｆ（Ｔ１）＞Ｅｆｆ（Ｔ２）
【００５１】
図５には、第２発光層３２１の厚さ「Ｔ２」と、第２発光層３２１の厚さ「Ｔ２」に対応する第２発光画素３２０の発光効率「Ｅｆｆ（Ｔ２）」が示されている。また、図５には、上述の数学的関係が充足される発光層の厚さの範囲「Ｒ１」乃至「Ｒ４」が示されている。第１発光層３１１の厚さ「Ｔ１」は、厚さの範囲「Ｒ１」乃至「Ｒ４」の中から選択される。
【００５２】
発光層１１０の発光面（例えば、第１発光面３１５や第２発光面３２５）と反射電極層１３０の反射面（例えば、第１反射面３１６や第２反射面３２６）との間の光学的距離は、発光層１１０の厚さ「Ｔ」に応じて変動する。以下の説明において、第１発光面３１５と第１反射面３１６との間の光学的距離は、第１光学的距離と称される。また、第２発光面３２５と第２反射面３２６との間の光学的距離は、第２光学的距離と称される。
【００５３】
第１光学的距離は、第２光学的距離によってもたらされる第１光成分と反射光との共振よりも強いこれらの共振が得られるよう、概略、以下に説明する原理に基づいて設定される。発光層１１０の発光面と反射電極層１３０の反射面との間の光学的距離が、発光層１１０が発生した光の波長の四分の一の奇数倍に等しいならば、図５のグラフにおいて、発光効率Ｅｆｆ（Ｔ）は、ピークとなる。第１光学的距離と発光層１１０が発生した光の波長の四分の一の奇数倍の値との差異が、第２光学的距離と発光層１１０が発生した光の波長の四分の一の奇数倍の値との差異よりも小さいならば、第１光学的距離の下、第２光学的距離下で得られる共振よりも強い共振が得られることとなる。以下の数式は、第１光学的距離と第２光学的距離との関係を表す。
【００５４】
（数４）
2013093426.tif 000004
【００５５】
上述の数式において、「Ｎ」は、奇数である。「λ」は、発光層１１０が発する光の波長である。「ＯＬ１」は、第１光学的距離を表す。「ＯＬ２」は、第２光学的距離を表す。
【００５６】
図６は、第１領域及び第２領域に関する他の概念を表す表示装置２００の概略図である。図２及び図６を対比し、第１領域及び第２領域が説明される。
【００５７】
図２に示される中央領域ＣＲは、第１領域として例示され、周縁領域ＰＲは、第２領域として例示される。代替的に、表示領域ＤＲ上に規定された２つの領域のうち中心点ＣＰに近い領域Ａ１が第１領域として例示され、領域Ａ１よりも中心点ＣＰから遠い領域Ａ２が第２領域として例示されてもよい。このとき領域Ａ１内で発光する発光画素は、第１発光画素として例示される。また、領域Ａ２内で発光する発光画素は、第２発光画素として例示される。
【００５８】
（表示パネルの製造方法）
図７は、表示パネル１００の製造方法の概略的なフローチャートである。図８乃至図１０は、図７に示される様々な工程を表す。図１、図３、図６乃至図１０を用いて、表示パネル１００の製造方法が説明される。
【００５９】
（ステップＳ１１０）
表示パネル１００を製造するために、ステップＳ１１０が最初に実行される。ステップＳ１１０において、映像を表示するために発光する発光層１１０を支持するための支持基板４００が作成される（作成工程）。
【００６０】
図８は、支持基板４００の概略的な斜視図である。支持基板４００を作成する作成工程において、基板１２０上に反射電極層１３０が積層される。その後、反射電極層１３０上に、透明導電膜４４０が更に積層される。透明導電膜４４０上に、正孔注入層４５０が更に積層される。基板１２０上での反射電極層１３０、透明導電膜４４０及び正孔注入層４５０の積層は、既知の積層技術に従ってなされてもよい。本実施形態において、透明導電膜４４０及び正孔注入層４５０は、発光層１１０の一部として用いられる。
【００６１】
支持基板４００の上面（即ち、正孔注入層４５０の上面）は、発光層１１０として用いられる樹脂層を支持するための支持面４０１として用いられる。図８には、中心点ＣＰが示されている。支持面４０１は、中心点ＣＰを内包する中央支持領域ＣＳＲと、中央支持領域ＣＳＲを取り囲む周縁支持領域ＰＳＲと、を含む。支持面４０１内に描かれた矩形枠は、中央支持領域ＣＳＲと周縁支持領域ＰＳＲとの間の境界を表す。中央支持領域ＣＳＲは、図１に関連して説明された中央領域ＣＲに対応する。周縁支持領域ＰＳＲは、図１に関連して説明された周縁領域ＰＲに対応する。本実施形態において、中央支持領域ＣＳＲは、第１支持領域として例示される。中央支持領域ＣＳＲよりも中心点ＣＰから離れた周縁支持領域ＰＳＲは、第２支持領域として例示される。尚、図６に関連して説明された領域Ａ１に対応する支持面４０１上の領域が、第１支持領域として例示されてもよい。また、領域Ａ２に対応する支持面４０１上の領域が、第２支持領域として例示されてもよい。
【００６２】
基板１２０上での反射電極層１３０、透明導電膜４４０及び正孔注入層４５０の積層が完了すると、ステップＳ１２０が実行される。本実施形態において、作成工程は、第１工程として例示される。
【００６３】
（ステップＳ１２０）
ステップＳ１２０において、支持基板４００を搬送するための搬送工程が実行される。
【００６４】
図９は、搬送工程中に搬送される支持基板４００の概略図である。図８及び図９に示される「第１方向」との用語は、搬送工程における支持基板４００の搬送方向を意味する。図９に示される如く、第１方向に搬送される支持基板４００は、有機ＥＬ樹脂を塗布する塗布装置５００に近づく。支持基板４００の先頭縁４０２が塗布装置５００の下方に到達すると、ステップＳ１３０が実行される。本実施形態において、有機ＥＬ樹脂は、発光樹脂として例示される。また、搬送工程は、第２工程として例示される。
【００６５】
（ステップＳ１３０）
ステップＳ１３０において、支持基板４００上に有機ＥＬ樹脂を塗布する塗布装置５００を用いて、発光層１１０を形成する塗布工程が実行される。塗布装置５００は、周縁支持領域ＰＳＲよりも多く発光樹脂を中央支持領域ＣＳＲに塗布する。
【００６６】
図９に示される如く、塗布装置５００は、第１方向に対して交差する（或いは、直交する）第２方向に配列された複数のアプリケータＡＰを含む。図９には、第２方向に直線状に整列した複数のアプリケータＡＰが示されている。代替的に、塗布装置のアプリケータは、第２方向にジグザグに配列されてもよい。本実施形態において、複数のアプリケータＡＰそれぞれは、塗布部として例示される。
【００６７】
各アプリケータＡＰは、時間的に略一定の量の有機ＥＬ樹脂を塗布する。中心点ＣＰに近いアプリケータＡＰ（複数のアプリケータＡＰからなるアプリケータ列の中央に位置するアプリケータＡＰ）は、中心点ＣＰから離れたアプリケータＡＰ（アプリケータ列の端に位置するアプリケータＡＰ）よりも多くの有機ＥＬ樹脂を塗布する。この結果、図３に関連して説明された発光層１１０の垂直方向の隆起が形成される。
【００６８】
図１０は、塗布工程における支持基板４００の搬送速度の変動を表す概略的なグラフである。塗布装置５００が中央支持領域ＣＳＲに有機ＥＬ樹脂を塗布している間の搬送速度は、周縁支持領域ＰＳＲに有機ＥＬ樹脂が塗布されている間の搬送速度よりも小さく設定される。この結果、図３に関連して説明された発光層１１０の水平方向の隆起が形成される。
【００６９】
本実施形態において、支持基板４００の搬送速度は、正弦波状に変動する。代替的に、支持基板４００の搬送速度は、ステップ関数状に変動してもよい。この場合、発光層は、水平方向に階段状の輪郭を有することとなる。
【００７０】
上述された実施形態は、以下の構成を主に備える。以下の構成を備える表示パネルは、長期間に亘って、均一な輝度特性を維持することができる。
【００７１】
上述された実施形態の一の局面に係る表示パネルは、映像を表示するための表示領域を規定するように配置された複数の発光画素を備える。前記表示領域は、該表示領域の中心点を含む又は該中心点に近い第１領域と、該第１領域よりも前記中心点から離れた第２領域と、を含み、前記複数の発光画素は、前記第１領域において発光する第１発光層を有する第１発光画素と、前記第２領域において発光する第２発光層を有する第２発光画素と、を含み、前記第１発光層は、前記第２発光層よりも厚いことを特徴とする。
【００７２】
上記構成によれば、表示パネルは、映像を表示するための表示領域を規定するように配置された複数の発光画素を備える。表示領域は、表示領域の中心点を含む又は中心点に近い第１領域と、第１領域よりも中心点から離れた第２領域と、を含む。複数の発光画素は、第１領域において発光する第１発光層を有する第１発光画素と、第２領域において発光する第２発光層を有する第２発光画素と、を含む。第１発光層は、第２発光層よりも厚いので、第２発光層と比べて、第１発光層の劣化が生じにくくなる。この結果、表示パネルは、長期間に亘って、均一な輝度特性を維持することができる。
【００７３】
上記構成において、前記複数の発光画素それぞれは、前記複数の発光画素が発生した発生光を透過する透過層と、前記発生光を反射し、反射光を生成する反射層と、を含み、前記第１発光層の厚さは、前記反射光と前記透過層へ向かう前記発生光との共振によって、前記第１発光画素が前記第２発光画素よりも高い発光効率を達成するように定められることが好ましい。
【００７４】
上記構成によれば、複数の発光画素それぞれは、複数の発光画素が発生した発生光を透過する透過層と、発生光を反射し、反射光を生成する反射層と、を含む。第１発光層の厚さは、反射光と透過層へ向かう発生光との共振によって、第１発光画素が第２発光画素よりも高い発光効率を達成するように定められるので、第１発光層と第２発光層との厚さの差異に拘わらず、表示パネルは、均一な輝度特性を維持することができる。
【００７５】
上記構成において、前記第１発光層は、前記透過層に対向する第１発光面を含み、前記反射層は、前記発生光を反射する反射面を含み、前記第１発光面と前記反射面との間の第１光学的距離は、前記反射光が前記透過層へ向かう前記発生光と共振するように定められることが好ましい。
【００７６】
上記構成によれば、第１発光層は、透過層に対向する第１発光面を含む。反射層は、発生光を反射する反射面を含む。第１発光面と反射面との間の第１光学的距離は、反射光が透過層へ向かう発生光と共振するように定められるので、第１発光画素は、第２発光画素よりも高い発光効率を達成することができる。
【００７７】
上記構成において、前記透過層は、光透過性の材料から形成された透明電極であり、前記反射層は、光反射性の材料から形成された反射電極であり、前記透明電極及び前記反射電極は、前記透明電極と前記反射電極との間に配設された前記複数の発光層に電流を生じさせることが好ましい。
【００７８】
上記構成によれば、透過層は、光透過性の材料から形成された透明電極である。反射層は、光反射性の材料から形成された反射電極である。透明電極及び反射電極は、透明電極と反射電極との間に配設された複数の発光層に電流を生じさせるので、発光層は発光することができる。
【００７９】
第１発光層は、第２発光層よりも厚いので、第１発光層の抵抗は、第２発光層の抵抗よりも大きい。したがって、第１発光層を流れる電流は、第２発光層を流れる電流よりも小さくなる。かくして、第２発光層と比べて、第１発光層の劣化は、生じにくくなる。この結果、表示パネルは、長期間に亘って、均一な輝度特性を維持することができる。
【００８０】
第１発光層を流れる電流は、第２発光層を流れる電流よりも小さくなるけれども、第１発光層の厚さは、反射光と透過層へ向かう発生光との共振によって、第１発光画素が第２発光画素よりも高い発光効率を達成するように定められるので、表示パネルは、均一な輝度特性を維持することができる。
【００８１】
上記構成において、前記映像が表示されている間、前記第１領域は前記第２領域よりも高温となる温度特性を有することが好ましい。
【００８２】
上記構成によれば、映像が表示されている間、第１領域は、第２領域よりも高温となる温度特性を有するけれども、第１発光層は、第２発光層よりも厚いので、第２発光層と比べて、第１発光層の劣化が生じにくくなる。表示パネルは、長期間に亘って、均一な輝度特性を維持することができる。
【００８３】
上記構成において、前記第１発光層及び前記第２発光層は、有機ＥＬ層を含むことが好ましい。
【００８４】
上記構成によれば、第１発光層及び第２発光層は、有機ＥＬ層を含むので、表示パネルは、有機ＥＬ層の発光の下、長期間に亘って、高品位の映像を表示することができる。
【００８５】
上述された実施形態の一の局面に係る表示パネルの製造方法は、映像を表示するために発光する発光層を支持するための支持面を含む支持基板を用意する第１工程と、前記支持基板を第１方向に搬送する第２工程と、前記支持基板上に発光樹脂を塗布する塗布装置を用いて、前記発光層を形成する第３工程と、を備え、前記支持面は、該支持面の中心点を含む又は該中心点に近い第１支持領域と、前記中心点よりも遠い第２支持領域と、を含み、前記第３工程において、前記塗布装置は、前記第２支持領域よりも多く前記発光樹脂を前記第１支持領域に塗布することを特徴とする。
【００８６】
上記構成によれば、第１工程において、映像を表示するために発光する発光層を支持するための支持面を含む支持基板が用意される。第２工程において、支持基板は、第１方向に搬送される。第３工程において、塗布装置は、支持基板上に発光樹脂を塗布し、発光層を形成する。支持面は、支持面の中心点を含む又は中心点に近い第１支持領域と、中心点よりも遠い第２支持領域と、を含む。第３工程において、塗布装置は、第２支持領域よりも多く発光樹脂を第１支持領域に塗布するので、第１支持領域に形成された発光層は、第２支持領域に形成された発光層よりも厚くなる。したがって、第２支持領域に形成された発光層と比べて、第１支持領域に形成された発光層の劣化が生じにくくなる。この結果、長期間に亘って、均一な輝度特性を維持することができる表示パネルが製造されることとなる。
【００８７】
上記構成において、前記第３工程において、前記第１支持領域に前記発光樹脂が塗布されている間の前記支持基板の搬送速度は、前記第２支持領域に前記発光樹脂が塗布されている間の前記搬送速度よりも低く設定されることが好ましい。
【００８８】
上記構成によれば、第３工程において、第１支持領域に発光樹脂が塗布されている間の支持基板の搬送速度は、第２支持領域に発光樹脂が塗布されている間の搬送速度よりも低く設定されるので、第１支持領域に形成された発光層は、第２支持領域に形成された発光層よりも厚くなる。したがって、第２支持領域に形成された発光層と比べて、第１支持領域に形成された発光層の劣化が生じにくくなる。この結果、長期間に亘って、均一な輝度特性を維持することができる表示パネルが製造されることとなる。
【００８９】
上記構成において、前記塗布装置は、前記第１方向に対して交差する第２方向に配列された複数の塗布部を含み、前記中心点に近い塗布部は、前記中心点から離れた塗布部よりも多く前記発光樹脂を塗布することが好ましい。
【００９０】
上記構成によれば、塗布装置は、第１方向に対して交差する第２方向に配列された複数の塗布部を含む。中心点に近い塗布部は、中心点から離れた塗布部よりも多く発光樹脂を塗布するので、第１支持領域に形成された発光層は、第２支持領域に形成された発光層よりも厚くなる。したがって、第２支持領域に形成された発光層と比べて、第１支持領域に形成された発光層の劣化が生じにくくなる。この結果、長期間に亘って、均一な輝度特性を維持することができる表示パネルが製造されることとなる。
【産業上の利用可能性】
【００９１】
上述の実施形態に係る原理は、映像を表示するための表示パネルに好適に適用される。
【符号の説明】
【００９２】
１００・・・・表示パネル
１３０・・・・反射電極層
１４０・・・・透明電極層
３１０・・・・第１発光画素
３１１・・・・第１発光層
３１３・・・・第１反射電極部
３１４・・・・第１透明電極部
３１５・・・・第１発光面
３１６・・・・第１反射面
３２０・・・・第２発光画素
３２１・・・・第２発光層
３２３・・・・第２反射電極部
３２４・・・・第２透明電極部
３２５・・・・第２発光面
３２６・・・・第２反射面
４００・・・・支持基板
５００・・・・塗布装置
Ａ１・・・・・領域
Ａ２・・・・・領域
ＡＰ・・・・・アプリケータ
ＣＰ・・・・・中心点
ＣＲ・・・・・中央領域
ＣＳＲ・・・・中央支持領域
ＤＲ・・・・・表示領域
ＰＲ・・・・・周縁領域
ＰＳＲ・・・・周縁支持領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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