(57)【要約】【課題】機構部に負担を掛けずに容易に挟持ローラの解除操作を行うことができる可撓性基板の案内装置を提供する。【解決手段】帯状可撓性基板の案内装置（１００）は、基板（１）の縁部を挟持する一対の挟持ローラ（１３１，１３２）と、それらを回転可能かつ相互に接離可能に支持する一対の支持部材（１４１，１４２）と、前記一対の支持部材を介して前記一対の挟持ローラに挟圧力を付与する付勢手段（１５０）と、を備え、前記支持部材の一方（１４２）に当接し、前記付勢手段の付勢力に抗して前記支持部材を押圧し、挟持ローラ（１３２）を離反させる解除レバー（１６１）をさらに備え、前記解除レバーは、前記支持部材の回動軸（１４２ａ）と独立した軸（１６１ａ）を中心に揺動可能に支持され、かつ、前記付勢手段の付勢力によって前記挟持ローラが離反した解除位置に保持される。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
帯状可撓性基板を縦姿勢で横方向に搬送し、その搬送経路で前記基板に各種処理を行う処理装置における前記基板の案内装置であって、
前記基板の縁部を挟持する一対の挟持ローラと、
前記一対の挟持ローラを回転可能かつ相互に接離可能に支持する一対の支持部材と、
前記一対の支持部材を介して前記一対の挟持ローラに挟圧力を付与する付勢手段と、
を備えるものにおいて、
前記一対の支持部材の何れか一方または両方に当接し、前記付勢手段の付勢力に抗して前記一方または両方の支持部材を押圧し、前記一対の挟持ローラを離反させる解除レバーをさらに備え、前記解除レバーは、前記一方または両方の支持部材の回動軸と独立した軸を中心に揺動可能に支持され、かつ、前記付勢手段の付勢力によって、前記一対の挟持ローラを離反させた解除位置に保持されるように構成されていることを特徴とする帯状可撓性基板の案内装置。
【請求項２】
帯状可撓性基板を縦姿勢で横方向に搬送し、その搬送経路で前記基板に各種処理を行う処理装置における前記基板の案内装置であって、
前記基板の縁部を挟持する一対の挟持ローラと、
前記一対の挟持ローラを回転可能かつ相互に接離可能に支持する一対の支持部材と、
前記一対の支持部材を介して前記一対の挟持ローラに挟圧力を付与する付勢手段と、
を備えるものにおいて、
前記一対の支持部材の何れか一方の回動軸に剛結合され該支持部材と一体的に回動する延長アームと、前記回動軸と独立した軸を中心に前記延長アームに揺動可能に支持され、前記付勢手段の付勢力に抗して前記延長アームを押圧し、前記一対の挟持ローラを離反させる解除レバーと、をさらに備え、前記解除レバーは、前記付勢手段の付勢力によって、前記一対の挟持ローラを離反させた解除位置に保持されるように構成されていることを特徴とする帯状可撓性基板の案内装置。
【請求項３】
前記一対の挟持ローラを構成する各ローラが、挟持部における回転方向が前記可撓性基板の搬送方向に対して幅方向斜外方に向かう微小偏角を有するように、前記各支持部材に回転可能に支持されており、前記一対の挟持ローラの挟圧力に応じた展張力が前記可撓性基板に付与されるように構成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の帯状可撓性基板の案内装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、帯状可撓性基板を搬送しその搬送経路で前記基板上に、薄膜光電変換素子などを積層形成する薄膜積層体製造装置を始め、各種成膜工程、塗装、洗浄、乾燥、熱処理、表面加工などの処理工程を実施する装置における帯状可撓性基板の案内装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体薄膜などの製造において、薄膜積層体の基板には、通常、剛性基板が用いられるが、軽量でロールを介した取り扱いの利便性による生産性向上やコスト低減を目的として、プラスチックフィルムなどの可撓性基板が用いられる場合がある。特許文献１および２には、巻出しロールから供給される帯状可撓性基板（ポリイミドフィルム）を所定のピッチで間欠的に搬送しながら、前記可撓性基板の搬送方向に配列された複数の成膜ユニットで、前記可撓性基板上に性質の異なる複数の薄膜を積層形成し、製品ロールとして巻取る薄膜積層体の製造装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００９−３８２７７号
【特許文献２】国際公開第２０１０／０７３９５５号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
このような薄膜積層体の製造装置には、横姿勢すなわち帯状可撓性基板の幅方向を水平方向にして搬送しつつ成膜を行なうタイプと、縦姿勢すなわち帯状可撓性基板の幅方向を上下方向にして搬送しつつ成膜を行なうタイプがある。後者は、前者に比べて設置面積が小さく、基板表面が汚染されにくい等の利点があるが、搬送スパンが長くなると、重力に抗して搬送高さを一定に維持するのが困難になり、可撓性基板の表面に皺が発生したり、可撓性基板が垂れ下がったりする傾向が顕著になる。
【０００５】
そこで、図１（ａ）〜（ｃ）に示すように、薄膜積層体製造装置を構成する各成膜ユニット２０，２０間に、可撓性基板１の上下の側縁部を挟持する上側および下側挟持ローラ対３０，３０′を配設し、それぞれの挟持ローラの挟持部における回転方向を、可撓性基板１の搬送方向Ｆに対して斜上方および斜下方に向かう傾斜角（偏角）＋θ，−θを有するようにして、可撓性基板１の上下の側縁部に上方および下方に向かう持ち上げ力および引き下げ力を作用させ、可撓性基板１の搬送高さを調整すると共に、上下幅方向に展張するようにしている。
【０００６】
上側および下側挟持ローラ対３０，３０′は、基本的に同じ構成のユニットを上下逆向きにして用いる。図２（ａ）は、可撓性基板１の搬送経路の上側に設置された挟持ローラ対３０のユニット構成例を示す斜視図である。図において、挟持ローラ対３０は、固定ローラ３１と可動ローラ３２からなり、固定ローラ３１は、固定支持部材４１の端部（支軸）に回転自在に支持され、可動ローラ３２は、可動支持部材４２の端部（支軸）に回転自在に支持されている。固定側支持部材４１の上端は、ブラケット４６に固定され、ブラケット４６はその上部４６ｂにおいて、真空室１０の構造要素（開口４０の上部）に固定されている。
【０００７】
可動支持部材４２は、固定側支持部材４１に固着された基部から横方向に延出したブラケット４３の先端部に回動軸４２ａで枢支されており、それにより、可動ローラ３２は、固定ローラ３１に対して接離可能であると共に、固定側支持部材４１の基部４５と、可動支持部材４２の他端部４４との間に介装されたスプリング５０の付勢により、可動ローラ３２は、可撓性基板１の縁部を挟んで固定ローラ３１に圧接され、その加圧力に応じた持ち上げ力が可撓性基板１の縁部に付与されるように構成されている。
【０００８】
薄膜積層体製造装置には、上記のように構成された挟持ローラ対３０，３０′が多数設けられており、薄膜積層体製造装置への可撓性基板１の導入等のメンテナンスを行う場合には、作業者は、各挟持ローラ対３０，３０′の圧接を一旦解除し、可撓性基板１の縁部を各挟持ローラ対３０，３０′間の所定位置に導入した後に各挟持ローラ対３０，３０′を再圧接させる必要がある。
【０００９】
例えば、図２（ａ）に示す挟持ローラ対３０では、作業者は、可動支持部材４２の他端部４４に回動可能に連結された操作レバー４４ａを、スプリング５０の付勢力に抗して図中左方向に押圧し、図２（ｂ）に示されるように、ペグ４６ａに引っ掛けることで、可動支持部材４２が傾倒されかつ可動ローラ３２が固定ローラ３１から離反された解除状態に保持し、その状態で、可撓性基板１の縁部を挟持ローラ３１，３２間に導入した後、操作レバー４４ａをペグ４６ａから外し、挟持ローラ３１，３２を再圧接させる。
【００１０】
ところで、上記薄膜積層体製造装置は、図１に部分的に示すように、所定の真空度に維持された真空室１０の内部が、成膜ユニット２０毎に隔壁で区画され、各隔壁を貫通する開口４０によって相互に連通されており、上記挟持ローラ対３０，３０′は、開口４０の上下の狭いスペースに設置されている。また、真空室１０は、電極２１と接地電極２２とで構成される成膜ユニット２０毎に側壁部が開閉可能に構成されており、上述したメンテナンス時には、一方の電極２１と共に開放された側壁部から真空室１０の構造内にアクセスできるようになっている。
【００１１】
従って、作業者は、開放された成膜ユニット２０側から上記挟持ローラ対３０，３０′の解除操作を行う必要がある。そこで、上記挟持ローラ対３０，３０′では、可動支持部材４２の他端部４４の片側を延長した延出部４４ｂに操作レバー４４ａを設けているが、このように片側に張出した操作レバー４４ａを作業者が操作する際に、可動支持部材４２の回動軸４２ａや各側のスプリング５０にアンバランスな力が加わり、加圧力の設定が変化してしまったり、最悪の場合、これらの部品が破損したりすることが懸念された。
【００１２】
本発明は、上記のような問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、機構部に負担を掛けずに容易に挟持ローラの解除操作を行うことができる可撓性基板の案内装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記課題を解決することを目的として、本発明は、帯状可撓性基板を縦姿勢で横方向に搬送し、その搬送経路で前記基板に各種処理を行う処理装置における前記基板の案内装置であって、前記基板の縁部を挟持する一対の挟持ローラ（１３１，１３２）と、前記一対の挟持ローラを回転可能かつ相互に接離可能に支持する一対の支持部材（１４１，１４２）と、前記一対の支持部材を介して前記一対の挟持ローラに挟圧力を付与する付勢手段（１５０）と、を備えるものにおいて、前記一対の支持部材の何れか一方または両方に当接し、前記付勢手段の付勢力に抗して前記一方または両方の支持部材を押圧し、前記一対の挟持ローラを離反させる解除レバー（１６１）をさらに備え、前記解除レバーは、前記一方または両方の支持部材の回動軸（１４２ａ）と独立した軸（１６１ａ）を中心に揺動可能に支持され、かつ、前記付勢手段の付勢力によって、前記一対の挟持ローラが離反した解除位置に保持されるように構成されていることを特徴とする。
【００１４】
また、本発明の他の態様は、帯状可撓性基板を縦姿勢で横方向に搬送し、その搬送経路で前記基板に各種処理を行う処理装置における前記基板の案内装置であって、前記基板の縁部を挟持する一対の挟持ローラ（２３１，２３２）と、前記一対の挟持ローラを回転可能かつ相互に接離可能に支持する一対の支持部材（２４１，２４２）と、前記一対の支持部材を介して前記一対の挟持ローラに挟圧力を付与する付勢手段（２５０）と、を備えるものにおいて、前記一対の支持部材の何れか一方の回動軸（２４２ａ）に剛結合され該支持部材と一体的に回動する延長アーム（２４４）と、前記回動軸と独立した軸（２６１ａ）を中心に前記延長アームに揺動可能に支持され、前記付勢手段の付勢力に抗して前記延長アームを押圧し、前記一対の挟持ローラを離反させる解除レバー（２６１）と、をさらに備え、前記解除レバーは、前記付勢手段の付勢力によって、前記一対の挟持ローラが離反した解除位置に保持されるように構成されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１５】
本発明に係る基板案内装置は、上述の通り、解除レバーが、挟持ローラを回転可能に支持する支持部材の回動軸と独立した軸を中心に揺動可能に支持され、かつ、付勢手段の付勢力によって解除位置に保持されるように構成されているので、解除操作時に、支持部材の軸や付勢手段に不要な力が加わることがなく、加圧力の設定や構成部品への悪影響を防止でき、機構部に負担を掛けずに容易に挟持ローラの解除操作を行うことができる。
【００１６】
また、本発明は、前記一対の挟持ローラを構成する各ローラが、挟持部における回転方向が前記可撓性基板の搬送方向に対して幅方向斜外方に向かう微小偏角を有するように、前記各支持部材に回転可能に支持されており、前記一対の挟持ローラの挟圧力に応じた展張力が前記可撓性基板に付与されるように構成されている基板案内装置に好適に実施可能である。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】（ａ）は薄膜積層体製造装置の一部を示す概略平面図、（ｂ）は概略側面図、（ｃ）は（ｂ）のＡ−Ａ断面図である。
【図２】（ａ）は従来の基板案内装置による可撓性基板の挟持状態を示す斜視図、（ｂ）は解除状態を示す斜視図である。
【図３】（ａ）は本発明第１実施形態に係る基板案内装置による可撓性基板の挟持状態を示す斜視図、（ｂ）は解除状態を示す斜視図である。
【図４】（ａ）は本発明第１実施形態に係る基板案内装置の解除状態を示す正面図、（ｂ）はその要部拡大図である。
【図５】（ａ）は本発明第２実施形態に係る基板案内装置による可撓性基板の挟持状態を示す正面図、（ｂ）は解除状態を示す正面図、（ｃ）は解除状態への移行を示す要部正面図である。
【図６】（ａ）は本発明第２実施形態に係る基板案内装置による可撓性基板の挟持状態を示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明の実施形態について、本発明を太陽電池用の薄膜光電変換素子を構成する薄膜積層体製造装置における帯状可撓性基板の案内装置に実施する場合を例にとり、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、以下において、各実施形態に共通または対応する構成には、共通または対応する符号を付すことで説明を省略する場合がある。
【００１９】
先述した通り、薄膜積層体製造装置は、図１（ａ）〜（ｃ）に部分的に示すように、所定の真空度に維持された真空室１０の内部に、帯状の可撓性基板１（フレキシブルフィルム）を縦姿勢すなわち幅方向を鉛直方向にして水平方向に搬送する搬送経路を有し、この搬送経路に沿って並設された複数の成膜ユニット２０（成膜部）で、可撓性基板１の表面に薄膜を積層形成するものである。基板案内装置は、可撓性基板１の上下方向の位置を制御し搬送高さを一定に維持するとともに、可撓性基板１を幅方向すなわち上下方向に展張するために、隣接する成膜ユニット２０，２０間の上下各側に配設され、基本的に同構成のユニットを上下逆向きにして用いる。
【００２０】
成膜部の搬送方向上流側および下流側には、搬送手段を構成するフィードローラやテンションローラなどが配設され、さらにそれらの搬送方向上流側および下流側に、可撓性基板１の巻出しロールおよび巻取りロールが配設されている。また、上流側および下流側のフィードローラと成膜部との間には、成膜部の上流側および下流側で可撓性基板１を折り返すように案内し、成膜部での可撓性基板１の直線的な搬送経路を設定するガイドローラ（アイドルローラ）が配設されている。これらの構成は、従来と同様であるため、図示を省略する。
【００２１】
（第１実施形態）
図３（ａ）（ｂ）は、本発明第１実施形態に係る基板案内装置１００を構成する挟持ローラ対１３０を搬送方向下流側から見た斜視図であり、図３（ａ）は、挟持ローラ対１３０により可撓性基板１の上縁部を挟持した状態を示し、図３（ｂ）は、挟持ローラ対１３０による挟持を解除した状態を示しており、図４（ａ）は解除状態の正面図である。各図において、挟持ローラ１３０対を構成する各ローラ１３１，１３２は、一方が固定ローラ１３１、他方が可動ローラ１３２である。
【００２２】
固定ローラ１３１は、固定側支持部材１４１の下端部に回転可能に支持されている。固定側支持部材１４１の上端は、ブラケット１４６に固定され、ブラケット１４６はその上部１４６ｂにおいて、真空室１０の構造要素（開口４０の上部）に固定されている。より詳細には、図４（ａ）に示されるように、ベースプレート１４７に不図示のシムを挟んで固定され、このシムの厚さを調整することで、ブラケット１４６の取付け角度、すなわち、挟持ローラ対１３０の傾斜角θを設定可能となっている。実用的な傾斜角θは２度以下の小さい角度に固定されるため、このような取付け方法が採用されている。
【００２３】
可動ローラ１３２は、可動側支持部材１４２の下端部に回転可能に支持されている。可動側支持部材１４２は、その中間部において、固定側支持部材１４１から横方向に延出したブラケット１４３の先端部に回動軸１４２ａで揺動可能に枢支され、この回動軸１４２ａを中心とした可動側支持部材１４２の揺動により、可動ローラ１３２が固定ローラ１３１に対して接離可能となっている。
【００２４】
可動側支持部材１４２の上端部に固着された保持板１４４と、固定側支持部材１４１の基部に固着された保持板１４５との間には、スプリング１５０（圧縮スプリング）が介装されており、該スプリング１５０の付勢により、可動ローラ１３２は、可撓性基板１の縁部を挟んで固定ローラ１３１に圧接されるように構成されている。
【００２５】
リテーナーバー１４５ａの基部は、保持板１４５を貫通するネジ孔に螺合されており、スプリング１５０を挿通したリテーナーバー１４５ａの先端部は、保持板１４４の長孔に挿通されている。リテーナーバー１４５ａを回動して保持板１４５に対する螺合位置を調節することで、スプリング１５０の付勢力を調整可能であり、かつ、リテーナーバー１４５ａの他端側にナット１４５ｂを螺合することで、任意の位置にリテーナーバー１４５ａを固定可能である。
【００２６】
上記のような基本構造を有する基板案内装置１００は、挟持ローラ対１３０（１３１，１３２）を離反させ圧接状態を解除する解除手段１６０として、解除レバー１６１を備えている。解除レバー１６１は、ブラケット１４３の下部に設けた軸１６１ａを中心に揺動可能に枢支され、軸１６１ａを挟んで操作部と反対側に位置した先端部１６１ｃは、可動側支持部材１４２の側面（１４２ｃ）に接離可能である。
【００２７】
上記構成により、解除レバー１６１を、図３（ａ）および図４（ａ）に二点鎖線で示される非操作位置から、図３（ｂ）および図４（ａ）に実線で示される操作位置（解除位置）に押し下げることで、解除レバー１６１の先端部１６１ｃで可動側支持部材１４２が図中右側に押圧され、スプリング１５０の付勢力に抗して、可動ローラ１３２が固定ローラ１３１から離反し、それらの圧接状態が解除されるように構成されている。
【００２８】
図４（ｂ）に示されるように、解除レバー１６１の先端部１６１ｃが押し当てられる可動側支持部材１４２の側面には、浅い窪み１４２ｃ（係合部）が形成されており、上記解除状態では、解除レバー１６１の先端部１６１ｃが窪みに係合することで、スプリング１５０の付勢力Ｐによって、解除レバー１６１が操作位置（解除位置）に保持される。
【００２９】
この場合、図示例のように、窪み１４２ｃの下側部分と、解除レバー先端部１６１ｃの中心線とがなす臨界角αが９０度以下であれば、スプリング１５０の付勢力Ｐは、接触面の摩擦係数とは無関係に、解除レバー先端部１６１ｃと窪み１４２ｃの係合が維持される方向に作用する。窪み１４２ｃはごく浅いので、解除レバー１６１を引き上げれば、先端部１６１ｃを窪み１４２ｃから容易に離脱させることができ、離脱しさえすれば、スプリング１５０の付勢力Ｐによって、解除レバー１６１が非操作位置に押し戻され、可動ローラ１３２が固定ローラ１３１に直ちに圧接される。
【００３０】
上記解除レバー１６１の軸１６１ａは、可動側支持部材１４２の回動軸１４２ａと独立しており、スプリング１５０の付勢力が入力される保持板１４４とも独立しているので、解除レバー１６１を操作する操作力が、可動側支持部材１４２の機構部や、スプリング１５０の付勢力の調整部（１４５ａ，１４５ｂ）に影響を与えることがない。
【００３１】
また、解除レバー１６１は、スプリング１５０の付勢力によって解除位置に保持されるので、図２に示したペグ４６ａや、可動支持部材４２の他端部４４に回動可能に連結された操作レバー４４ａのような保持機構を別途設ける必要がなく、解除状態保持のために、操作レバー４４ａをペグ４６ａに掛けるような操作も不要である。
【００３２】
（第２実施形態）
次に、図５（ａ）（ｂ）は、本発明第２実施形態に係る基板案内装置２００を構成する挟持ローラ対２３０を搬送方向下流側から見た正面図であり、図５（ａ）は、挟持ローラ対２３０により可撓性基板１の上縁部を挟持した状態を示し、図５（ｂ）は、挟持ローラ対２３０による挟持を解除した状態を示しており、図６は挟持状態の斜視図である。基本構成は第１実施形態と同様であるので、以下、変更点を中心に説明する。
【００３３】
各図において、挟持ローラ２３０対を構成する各ローラ２３１，２３２は、第１実施形態と同様に、一方が固定ローラ２３１、他方が可動ローラ２３２であり、可動側支持部材２４２は、上端部において、固定側支持部材２４１から横方向に延出したブラケット２４３の先端部に回動軸２４２ａで揺動可能に枢支され、この回動軸２４２ａを中心とした可動側支持部材２４２の揺動により、可動ローラ２３２が固定ローラ２３１に対して接離可能となっている。固定側支持部材２４１の上端がブラケット２４６に固定され、ブラケット２４６の上部２４６ｂが、真空室１０の構造要素（開口４０の上部）に固定されている点も第１実施形態と同様である。
【００３４】
可動側支持部材２４２の回動軸２４２ａの図中手前側の端部には、延長アーム２４４が剛結合されており、可動側支持部材２４２と一体的に揺動する。すなわち、正面視において可動側支持部材２４２と延長アーム２４４とがなす角度（図示例では９０度）は常に一定に維持されている。さらに、延長アーム２４４の先端部は、スプリング２５０（引張スプリング）を介してブラケット２４６に連結され、該スプリング２５０により、ブラケット２４６に近づく方向に付勢されており、それに伴い、可動ローラ２３２は、可撓性基板１の縁部を挟んで固定ローラ２３１に圧接されるように構成されている。
【００３５】
挟持ローラ対２３０の解除手段２６０を構成する解除レバー２６１は、第１実施形態のような固定側の部材ではなく、可動側の部材である延長アーム２４４の先端部に軸２６１ａを中心に揺動可能に枢支されており、軸２６１ａを挟んで操作部と反対側に位置した解除レバー２６１の先端部２６１ｃは、固定側の部材であるブラケット２４６の下面２４６ｃに接離可能となっている。
【００３６】
上記構成により、解除レバー２６１を、図５（ａ）および図６に示される非操作位置から、図５（ｂ）に示される操作位置（解除位置）に引き上げることで、解除レバー２６１の先端部２６１ｃがブラケット下面２４６ｃに押し当てられ、かつ、延長アーム２４４がスプリング２５０の付勢力に抗してブラケット下面２４６ｃから離れる方向に回動されることで、延長アーム２４４と回動軸２４２ａを介して一体の可動側支持部材２４２が図中右側に揺動し、可動ローラ２３２が固定ローラ２３１から離反し、それらの圧接状態が解除されるように構成されている。
【００３７】
この第２実施形態では、解除レバー２６１の先端部２６１ｃに平坦部分を有しており、図５（ｂ）に示されるように、この平坦部分（２６１ｃ）が、平坦なブラケット下面２４６ｃに一致した状態で、スプリング２５０の付勢力により、解除レバー２６１が操作位置（解除位置）に安定的に保持される。また、平坦部分（２６１ｃ）の少なくとも片側（図示例では両側）に滑らかな円弧状部分２６１ｄが形成されているので、図５（ｃ）に示されるように、操作位置（解除位置）に容易に移行でき、かつ、非操作位置（圧接位置）に容易に戻すことができる。
【００３８】
第２実施形態においても、解除レバー２６１の軸２６１ａは、可動側支持部材２４２の回動軸２４２ａと独立し、図では省略されているスプリング２５０の付勢力の調整部（延長アーム２４４の先端部）とも軸２６１ａを介しているので、解除レバー２６１の操作力が、可動側支持部材２４２の機構部やスプリング２５０の付勢力の調整部に影響を与えることがない。また、第１実施形態と同様に、解除レバー２６１は、スプリング２５０の付勢力によって解除位置に保持され、保持機構を別途設ける必要がなく、解除状態を保持するための操作も不要である。
【００３９】
以上、本発明の実施の形態につき述べたが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、上記以外にも本発明の技術的思想に基づいてさらに各種の変形および変更が可能である。
【００４０】
例えば、付勢手段としてのスプリング１５０，２５０は、コイルスプリング以外に、スパイラルスプリング、トーションスプリング、リーフスプリング等、周知の各種スプリングを使用することができ、それに応じてスプリング保持部の形態は変更され得る。
【００４１】
また、上記各実施形態では、挟持ローラ対１３０，２３０が、軸方向に平行な周面を有する円筒状ローラの場合について述べたが、本発明に係る解除手段１６０，２６０は、挟持ローラが、軸方向と傾斜した周面を有する円錐ローラや、断面円弧状の周面を有するローラの場合にも実施可能である。
【００４２】
さらに、上記実施形態では、本発明に係る基板案内装置を太陽電池用の薄膜積層体の製造装置に実施する場合について述べたが、本発明に係る基板案内装置は、有機ＥＬ等の半導体薄膜の製造装置は勿論、塗装、洗浄、乾燥、熱処理、表面加工など、成膜以外にも、可撓性基板に対する挟持状態の解除操作が求められる各種装置に適用できる。
【符号の説明】
【００４３】
１  可撓性基板
１０  真空室
２０  成膜ユニット（成膜部）
２１  電極
２２  接地電極
４０  開口部
１００，２００  基板案内装置
１３０、２３０  挟持ローラ対
１３１，２３１  固定ローラ
１３２，２３２  可動ローラ
１４０，２４０  支持機構
１４１，２４１  固定側支持部材
１４２，２４２  可動側支持部材
１４２ａ，２４２ａ  回動軸
１４２ｃ  窪み（係合部）
１４３，１４６  ブラケット
１４４，１４５  保持板
１５０，２５０  スプリング（付勢手段）
１６０，２６０  解除手段
１６１，２６１  解除レバー
１６１ａ，２６１ａ  軸
２４４  延長アーム
２６１ｃ  先端部（平坦部分）
２６１ｄ  円弧状部分
【図１】
2013004727.tif 000003
【図２】
2013004727.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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