(57)【要約】      （修正有）【課題】半導体用シリコン基板、液晶用ガラス基板、ウェハなどの高い洗浄度を要求される電子材料の洗浄に適用し、有機溶剤などを用いないで、微粒子汚染、ガラスレジストなどを除去することができる電子材料用基板等の被洗浄物の洗浄装置およびその洗浄方法。【解決手段】噴霧、洗浄等に使用する液体を貯蔵する貯留タンク６と、該貯留タンクから液体にナノバブルを発生させるナノバブル発生装置７と、装置本体Ｘからなり、装置本体の、一端側に被洗浄物Ｙの搬入口Ｚ１、他端側に洗浄が完了した被洗浄物を搬出する搬出口Ｚ２を有し、該装置本体の内部には、噴霧機構１、ブラシ機構２、噴射機構３を有し、液体を用いて洗浄が完了した被洗浄物を搬出口から搬出させる搬出機構４と、前記搬出口側の搬送機構に相対してエアー噴射機構５を備えた電子材料用基板等の被洗浄物の洗浄装置および洗浄方法である。【選択図】図１
2013248582.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
噴霧、洗浄等に使用する液体を貯蔵する貯留タンクと、該貯留タンクから液体にナノバブルを発生させるナノバブル発生装置と、装置本体からなり、装置本体の、一端側に被洗浄物の搬入口、他端側に洗浄が完了した被洗浄物を搬出する搬出口を有し、該装置本体の内部には、噴霧機構、ブラシ機構、噴射機構を有し、液体を用いて洗浄が完了した被洗浄物を搬出口から搬出させる搬出機構と、前記搬出口側の搬送機構に相対してエアー噴射機構を備えたことを特徴とする電子材料用基板等の被洗浄物の洗浄装置。
【請求項２】
前記装置本体の内部構成が、ブラシ機構を省略し、且つ、噴射機構の設置数を増減することを特徴とする請求項１記載の電子材料用基板等の被洗浄物の洗浄装置。
【請求項３】
前記噴霧機構より噴霧される液体が、純水、あるいはアルカリ電解水であることを特徴とする請求項１記載の電子材料用基板等の被洗浄物の洗浄装置。
【請求項４】
前記純水が、噴射、噴霧する際には、温度を上げたものを利用することを特徴とする請求項３記載の電子材料用基板等の被洗浄物の洗浄装置。
【請求項５】
前記噴霧機構より噴霧される液体が、マイクロナノバブルを含む気・液混合液体であることを特徴とする請求項１記載の電子材料用基板等の被洗浄物の洗浄装置。
【請求項６】
前記マイクロナノバブルを含む気・液混合液体は、洗浄装置に備えられたマイクロナノバブル発生装置により生成され、噴霧されることを特徴とする請求項５記載の電子材料用基板等の被洗浄物の洗浄装置。
【請求項７】
噴霧、洗浄等に使用する液体を貯蔵する貯留タンクと、該貯留タンクから液体にナノバブルを発生させるナノバブル発生装置と、装置本体からなる電子材料用基板等の被洗浄物の洗浄装置において、装置本体の一端側に被洗浄物の搬入口、他端側に洗浄が完了した被洗浄物を搬出する搬出口を有し、内部に噴霧機構、ブラシ機構、噴射機構洗浄が完了した被洗浄物を搬出口から搬出させる搬出機構を有する洗浄装置において、前記搬出口側の搬送機構に相対して設けられた洗浄が完了した被洗浄物の表面に残留している水滴を、エアー噴射機構で吹き飛ばして水切りすることを特徴とする電子材料用基板等の被洗浄物の洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、被洗浄基板等の被洗浄物の洗浄装置およびその洗浄方法に関するものであり、特に、半導体用シリコン基板、液晶ガラス基板、ウェハなどを洗浄対象とするものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体製造工程及び液晶パネル製造工程においては、被洗浄物の洗浄工程の中でシャワーノズルおよび高圧噴射等の工程を設け、被洗浄物の異物を除去している。
【０００３】
一方、被洗浄物に付着した液滴は、後続の工程でエアノズルにて水切りを行っている。  
【０００４】
その理由は、液晶パネル基板の切断工程での切滓やバリ等のパーティクルが発生し、これらのパーティクルをそのまま残しておくと、光電変換セル相互間の短絡が発生し、基板の出力特性、絶縁特性及び耐電圧特性が低下させられる原因となる。
【０００５】
基板洗浄方法および基板洗浄装置は、存在する。例えば、特許文献１のように。
【０００６】
しかし、この技術は、基板要素の境界から臨む接着剤を選択的に除去するものであり、被洗浄物である基板に対してノズル配設部を５回も往復させて洗浄したり、また、基板を傾斜させたり、揺動させたりする構成であり、しかも、洗浄液は有機或いは無機のアルカリ性溶液を用いるものであった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００６−１０９４７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
そのため、この発明は、半導体用シリコン基板、液晶用ガラス基板、ウェハなどの高い洗浄度を要求される電子材料の洗浄に適用し、有機溶剤などを用いないで、微粒子汚染、ガラスレジストなどを除去することができる電子材料用基板等の被洗浄物の洗浄装置およびその洗浄方法を提供することを目的としてなされたものである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
そこで、この発明は、上記の課題を解決すべく、鋭意研究を重ねた結果、被洗浄物を洗浄する際に、被洗浄物に対し、マイクロナノバブル（微細気泡）を含む気・液混合液体を被洗浄物の表面に接触させることで、マイクロナノバブルが異物に付着し、また、被洗浄物の表面で気・液混合液体の濡れ性により、効率的に液膜を形成し、後続工程の高圧噴射等により、物理的に異物を取り除く，電子材料用基板等の被洗浄物の洗浄装置およびその洗浄方法を提供するものである。
【００１０】
上述した気・液混合液体は、噴霧ノズルにより、霧状に被洗浄物に供給することで、被洗浄物に付着している異物に対し、均一に気・液混合液体を供給することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
この発明によると、洗浄する際に、被洗浄物に対し、マイクロナノバブル（微細気泡）を含む気・液混合液体が被洗浄物の表面に接触させることにより、該マイクロナノバブルが異物に付着し、また、被洗浄物の表面で気・液混合液体の濡れ性により、効率的に液膜を形成し、後続工程の高圧噴射等により、物理的に異物を取り除くことができる等の極めて有益なる効果を奏するものである。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】この発明に使用する洗浄装置の一実施例を示す説明図である。
【図２】この発明に使用する洗浄装置の他の実施例を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明について詳細に説明する。なお、本発明においては、以下の記述に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲においては適宜変更可能である。
【実施例】
【００１４】
そこで、この発明のうち、装置の発明の一実施例を図１に基づいて詳述すると、例えば、クリーンルーム（Ａ）内において、装置本体（Ｘ）は、一端側に被洗浄物（Ｙ）の搬入口（Ｚ１）、他端側に洗浄が完了した被洗浄物（Ｙ）を搬出する搬出口（Ｚ２）を有し、装置本体（Ｘ）の内部には、噴霧機構（１）、ブラシ機構（２）、噴射機構（３）を有しており、洗浄が完了した被洗浄物（Ｙ）を搬出口（Ｚ２）から搬出させる搬出機構（４）と、前記搬出口（Ｚ２）側の搬送機構（４）に相対して設けられ、洗浄が完了した被洗浄物（Ｙ）の表面に残留している水滴を吹き飛ばして水切りするエアー噴射機構（５）を備えたことを特徴とする電子材料用基板等の被洗浄物の洗浄装置から構成される。
【００１５】
さらに、この発明に使用される装置本体の構成は、上記の外、噴霧、洗浄等に使用する液体を貯蔵する貯留タンク（６）、該貯留タンク（６）から液体にナノバブルを発生させるためのナノバブル発生装置（７）、ナノバブルが発生した微細気泡含有液体を噴霧するものである。
【００１６】
尚、噴霧機構（１）の一例としては、ナノバブルが発生した微細気泡含有液体を噴霧する噴霧ノズルを用いるものであり、ブラシ機構（２）の一例としては、物理的洗浄を行うための洗浄ブラシを用いるものであるが、場合によっては、ブラシ機構（２）を不要とする場合もあり、噴射機構（３）の一例としては、高圧噴射するための噴射ノズルを用いるものであり、該噴射機構（３）は、図面においては２ケ所に設けているが、これに限定されることはなく、該噴射機構（３）の設置は、増減可能である。
【００１７】
さらに、被洗浄物（Ｙ）に残った液滴を除去するためのエアー噴射機構（５）の一例としてはエアブラシを用いるものである。
【００１８】
噴霧させる液体は、液体にナノバブルを発生させた微細気泡含有液体とし、ナノバブルを発生させる気体は、大気、窒素、水素等を用いることが可能であり、液体は、純水、その他の液体を用いることが可能である。そして、前記噴霧させる液体は純水が基本であるが、これをアルカリ電解水に変えることも可能であり、さらに、マイクロナノバブルを含む気・液混合液体を使用することも可能である。
【００１９】
次に、この発明のうち、方法の発明のを図２に基づいて詳述すると、例えば、クリーンルーム（Ａ）内において、装置本体（Ｘ）の一端側に被洗浄物（Ｙ）の搬入口（Ｚ１）、他端側に洗浄が完了した被洗浄物（Ｙ）を搬出する搬出口（Ｚ２）を有し、内部に噴霧機構（１）、ブラシ機構（２）、噴射機構（３）を有し、洗浄が完了した被洗浄物（Ｙ）を搬出口（Ｚ２）から搬出させる搬出機構（４）を有する洗浄装置において、前記搬出口（Ｚ２）側の搬送機構（４）に相対して設けられた洗浄が完了した被洗浄物（Ｙ）の表面に残留している水滴を、エアー噴射機構（５）で吹き飛ばして水切りすることを特徴とする電子材料用基板等の被洗浄物の洗浄方法から構成される。
【００２０】
しかし、この発明は、クリーンルーム（Ａ）以外の場所で使用してもよく、さらに、装置本体（Ｘ）の構成は、噴霧、洗浄等に使用する液体を貯蔵する貯水タンク（６）、貯水槽（６）から液体にナノバブルを発生させるためのナノバブル発生装置（７）、ナノバブルが発生した微細気泡含有液体を噴霧する噴霧機構（３）、物理的洗浄を行うための洗浄ブラシ（２）、貯留タンク（６）よりポンプ（８）によって噴射機構（３）により、噴射され、高圧噴射するエア噴射機構（５）により、被洗浄物（Ｙ）に残った液滴を除去するために用いるものは、エアブラシである。
【００２１】
噴霧させる液体は、液体にナノバブルを発生させた微細気泡含有液体とし、ナノバブルを発生させる気体は、大気、窒素、水素等を用いることが可能であり、液体は、純水、その他の液体を用いることも可能であり、さらに、純水は、噴射、噴霧に使用する際には温度を上げたものを利用することも可能である。
【００２２】
前記噴霧機構より噴霧される液体は、マイクロナノバブルを含む気・液混合液体であり、該マイクロナノバブルを含む気・液混合液体は、洗浄装置に備えられたマイクロナノバブル発生装置（例えば、本願出願人が特許を取得している特許第４５６３４９６号発明）により生成され、噴霧されるものより構成される。
【産業上の利用可能性】
【００２３】
この発明によると、電子材料用基板等の被洗浄物の洗浄装置および洗浄方法の技術を確立し、その確立された技術に基づいて、製造・販売することにより、産業上の利用可能性があるものである。
【符号の説明】
【００２４】
１  噴霧機構
２  ブラシ機構
３  噴射機構
４  搬出・搬送機構
５  エアー噴射機構
６  貯留タンク
７  ナノバブル発生装置
８  ポンプ
Ａ  クリーンルーム
Ｘ  装置本体
Ｙ  被洗浄物
Ｚ１  搬入口
Ｚ２  搬出口
【図１】
2013248582.tif 000003
【図２】
2013248582.tif 000004
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月4日(2012.6.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
前記噴霧機構より噴霧される液体は、マイクロナノバブルを含む気・液混合液体であり、該マイクロナノバブルを含む気・液混合液体は、洗浄装置に備えられたマイクロナノバブル装置（例えば、本願発明者が特許を取得している特許第４５６３４９６号発明）により生成され、噴霧されるものより構成される。