(57)【要約】【課題】カラーフィルタの製造における、ブラックマトリックス及び着色層のパターン現像工程において発生する、現像残渣の影響による、膜剥がれや特性劣化といった不良を解消でき、さらに安価で、簡便で、品質の保証が可能なカラーフィルタの製造方法を提供する。【解決手段】着色層には、色料、透明樹脂、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマー及び光重合開始剤を含有する着色組成物を用いて着色塗膜を形成し、ブラックマトリックスには、色料、透明樹脂、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマー及びオキシムエステル基を有する光重合開始剤を含有する着色組成物を用いて着色塗膜を形成し、前記透明導電膜形成前に、前記カラーフィルタ基板表面上にエキシマＵＶを照射し、次いで基板洗浄用ブラシを用いて前記感光性樹脂の残渣を洗浄、分解する工程を有する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板上に、複数の着色層からなる着色画素を所定のパターンに配列して構成された、カラーフィルタの製造における、ブラックマトリックス及び着色層のパターン現像工程において発生する、現像残渣の除去方法であって、
着色層に関しては、色料、透明樹脂、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマー及び光重合開始剤を含有する着色組成物を用いて着色塗膜を形成し、
ブラックマトリックスに関しては、色料、透明樹脂、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマー及びオキシムエステル基を有する光重合開始剤を含有する着色組成物を用いて着色塗膜を形成し、
前記塗膜を形成した後、フォトリソ工程における露光、現像を行い、次いで加熱し硬化して一つの色を形成し、次いで同様の工程で他の色を順次形成し、次いで透明導電膜を形成し、
前記透明導電膜形成前に、前記カラーフィルタ基板表面上にエキシマＵＶを照射し、次いで基板洗浄用ブラシを用いて、前記感光性樹脂の残渣を分解、洗浄する工程を有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項２】
前記、現像残渣を分解、洗浄する工程後、基板上の有機物残渣由来による炭素と基板の主成分である珪素の元素濃度の比率及び表面粗さを測定し、その比率が３以下で、且つ着色層上の表面粗さが１０ｎｍ以下であるものを選択することを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項３】
前記エキシマＵＶの照射量が１００〜５００ｍｊ／ｃｍ２の範囲であり、次いでブラシシャフトの表面をチャネル式ナイロンブラシで埋め尽くす基板洗浄ブラシを用いて、前記着色層とブラックマトリックスの現像残渣を分解、洗浄することを特徴とする請求項１または請求項２に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載のカラーフィルタの製造方法により製造されたカラーフィルタを備えたことを特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶表示用カラーフィルタの製造における、ブラックマトリックス、着色層の現像工程において発生する、現像残渣が原因の付着物を除去する工程を持つカラーフィルタの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ガラス基板上にブラックマトリックス、赤色、緑色、青色の着色層、と透明導電膜を順次に形成してなるカラーフィルタ着色層は、顔料分散材料を用いフォトリソグラフィーの手法でパターンに形成されるのが一般的である。
【０００３】
従来、液晶表示用カラーフィルタを基板上に形成するには、フォトリソ工程によりパターニングを行なうが、このパターニングは通常塗布工程としてスピンナー法、印刷法、ロールコーター法等の手段を用いて着色樹脂を基板上に塗布し、その後ホットプレート、オーブン等を用いて仮硬化（プリベーク）又は、減圧乾燥を行い、次いでフォトマスクを通して露光し、現像液に浸漬させて現像した後、前記仮硬化よりも高い温度で再度加熱して本硬化（ポストベーク）させ、カラーフィルタのパターンを形成している。
【０００４】
この着色層上に透明導電膜が形成されるのが一般的であるが、残渣の影響により膜剥がれや特性劣化といった問題が生じる。さらに、パネル化するときにシール材が剥がれてしまう場合があった。そこで、近年ではこの対策として着色層の形成後にＵＶ処理、ＵＶアッシング処理、エキシマＵＶ処理、常圧プラズマ処理、オゾン雰囲気下でのＵＶ処理など灰化処理や、物理的な研磨処理などによって残渣を除去する処理が施される（特許文献１）。
【０００５】
ＵＶ処理などの灰化処理の場合、化学的な分解反応であるために、着色層の表層がダメージを受け、分解された残渣が残る場合がある。このため、処理後の洗浄は強固に行う必要があり、表層を除いてしまわねばならない。また、ＵＶ照射が強過ぎると着色層の内部にまで影響がでて来てしまうので、細かいコントロールが必要である。また、灰化処理を行いすぎると、分解した樹脂が低分子の状態で残り、耐性への影響や特性劣化につながる場合があった。
【０００６】
また、プラズマを用いた処理においては、条件によって架橋が進んで耐性向上につながる場合もあるが、逆に残渣の除去量が少なくなり、本来の目的と両方を兼ねるには条件の幅が狭くなってしまう問題がある。すなわち、ＵＶ処理などの灰化処理では残渣除去の幅が狭く、十分な効果をだすことが困難な状況にある。
【０００７】
また、上記残渣を取り除く手段として、透明導電膜形成前に物理的に研磨処理を行うことで除去する手法があり、この残渣を除去する作用と液晶の配向性を安定化させるための平坦化の作用の両方を同時に達成できることが知られている。研磨処理では、圧力を加えて回転処理を行なうことから表層へ細かいキズが発生し、透明導電膜の密着性が低下することがあり、また液晶配向に影響を及ぼす場合がある。また、最近のカラーフィルタの構成は複雑化しており平面定盤にて処理をすると、着色層の極狭い部分において残渣が除去されないことが発生して、面内又は基板間のバラツキが出る場合もある。
【０００８】
また上記記載の研磨処理をすることは設備費、副資材料費の点から製造コストが高くなり、近年の、フラットパネルの価格の低下と、コストの削減に反するものである。今後の市場のニーズをつかまえるためにも、新たな安価で、高品質なカラーフィルタの製造に取
り組むことが必要である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開平６−２７３６１１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、これら問題を解決するためになされたものであり、カラーフィルタの製造における、ブラックマトリックス及び着色層のパターン現像工程において発生する、現像残渣の影響による、膜剥がれや特性劣化といった不良を解消でき、さらに安価で、簡便で、品質の保証が可能なカラーフィルタの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記の課題を解決するための手段として、請求項１に記載の発明は、透明基板上に、複数の着色層からなる着色画素を所定のパターンに配列して構成された、カラーフィルタの製造における、ブラックマトリックス及び着色層のパターン現像工程において発生する、現像残渣の除去方法であって、
着色層に関しては、色料、透明樹脂、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマー及び光重合開始剤を含有する着色組成物を用いて着色塗膜を形成し、
ブラックマトリックスに関しては、色料、透明樹脂、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマー及びオキシムエステル基を有する光重合開始剤を含有する着色組成物を用いて着色塗膜を形成し、
前記塗膜を形成した後、フォトリソ工程における露光、現像を行い、次いで加熱し硬化して一つの色を形成し、次いで同様の工程で他の色を順次形成し、次いで透明導電膜を形成し、
前記透明導電膜形成前に、前記カラーフィルタ基板表面上にエキシマＵＶを照射し、次いで基板洗浄用ブラシを用いて、前記感光性樹脂の残渣を分解、洗浄する工程を有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。
【００１２】
また、請求項２に記載の発明は、前記、現像残渣を分解、洗浄する工程後、基板上の有機物残渣由来による炭素と基板の主成分である珪素の元素濃度の比率及び表面粗さを測定し、その比率が３以下で、且つ着色層上の表面粗さが１０ｎｍ以下であるものを選択することを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法である。
【００１３】
また、請求項３に記載の発明は、前記エキシマＵＶの照射量が１００〜５００ｍｊ／ｃｍ２の範囲であり、次いでブラシシャフトの表面をチャネル式ナイロンブラシで埋め尽くす基板洗浄ブラシを用いて、前記着色層とブラックマトリックスの現像残渣を分解、洗浄することを特徴とする請求項１または請求項２に記載のカラーフィルタの製造方法である。
【００１４】
また、請求項４に記載の発明は、請求項１〜３のいずれか一項に記載のカラーフィルタの製造方法により製造されたカラーフィルタを備えたことを特徴とする液晶表示装置である。
【発明の効果】
【００１５】
本発明により、カラーフィルタの製造における、ブラックマトリックス及び着色層のパターン現像工程において発生する、現像残渣の影響による膜剥がれや特性劣化といった不良を解消でき、従来実施してきた工程に比べより安価で、簡便で、シール強度が確保され、品質が保証により、パネルの高品質化が可能なカラーフィルタの製造方法を提供できる。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明のカラーフィルタの製造方法は、基板上に、前記着色組成物を用いて塗膜を形成する工程と前記塗膜の未硬化部分を除去してフィルタセグメントを形成する現像工程と透明導電膜の形成工程を具備する。以下、各工程に分けて説明する。
【００１７】
＜塗膜形成工程＞
塗膜形成工程は、スピンコート法やダイコート法によって、本発明の着色組成物を塗布し、必要に応じて余分な溶剤を除去することにより、基板上に塗膜を形成する。
【００１８】
カラーフィルタの基板としては、可視光に対して透過率の高いソーダ石灰ガラス、低アルカリ硼珪酸ガラス、無アルカリアルミノ硼珪酸ガラスなどのガラス板や、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、ポリエチレンテレフタレートなどの樹脂板が用いられる。また、ガラス板や樹脂板の表面には、パネル化後の液晶駆動のために、酸化インジウム、酸化錫などからなる透明電極が形成されていてもよい。
【００１９】
＜露光・硬化工程＞
パターン露光は、プロキシミティーアライナーによる近接露光方式が好適で、フォトマスクの遮光パターンに対応する部位、すなわち、非露光部位は全く硬化せず、現像によって完全に除去されるようにした。
【００２０】
＜未硬化部分の除去工程＞
未硬化部分の除去工程、すなわち現像工程では、前記塗膜の未硬化部分を除去して着色層を形成する。未硬化部分の除去に際しては、アルカリ現像液として炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水溶液が使用され、ジメチルベンジルアミン、トリエタノールアミン等の有機アルカリを用いることもできる。また、現像液には、消泡剤や界面活性剤を添加することもできる。現像処理方法としては、シャワー現像法、スプレー現像法、ディップ（浸漬）現像法、パドル（液盛り）現像法等を適用することができる。
【００２１】
＜焼成工程＞
本実施形態においては、フィルタセグメント及びブラックマトリックスを形成した後、加熱処理を施して熱硬化させる工程を設けることができる。加熱方法としてはコンベクションオーブン、ホットプレート、ハロゲンヒータ、ＩＲオーブンによる加熱等が利用でき特に限定されるものではない。ここで、焼成条件は、２００℃以上、２５０℃以下の温度で、１０分以上、６０分以下の時間、加熱する。
【００２２】
＜透明導電膜の形成工程＞
透明導電膜を形成する方法は、蒸着、イオンプレーティング、スパッタリングと呼ばれる真空成膜の手法が一般的である。透明導電膜には、インジウム、スズ、ガリウム、亜鉛などの金属酸化物の複合酸化物を用いることができる。
【００２３】
本発明のカラーフィルタの透明電極である画素電極は、カラーフィルタ層の上部に設けられ、透明で導電性があり薄膜状に形成できる物質が用いられ、通常ＩＴＯ（インジウムと錫の複合酸化物）膜が、他にはＩＺＯ（インジウムと亜鉛の複合酸化物）やＳｎＯ２（二酸化錫）膜などが選択され、各々スパッタリング法、真空蒸着法などのＰＶＤ法、あるいはＣＶＤ法などの一般的な成膜方法により形成することができる。
【００２４】
また上記記載のカラーフィルタ製造方法は、ブラックマトリックスの開始剤にオキシムエステル基を用いたカラーフィルタの製造方法であり化学式１にて示した化合物を含有す
る。化学式１で表される化合物を含む光重合開始剤を含有することによって、プレベーク時の加熱温度を下げることができることで現像性及び現像耐性に優れ、カラーフィルタの生産安定性に優れた黒色着色組成物が得られる。この光重合開始剤を含有する感光性着色組成物を用いることにより、高濃度で薄膜な、高品質なブラックマトリックスを形成することができる。
【００２５】
また、本発明に用いられるオキシムエステル基を有する光重合開始剤としては例えば下記化学式１で表される。
【００２６】
【化１】
2013130695.tif 000002
〔化学式１において、
Ｒ１は、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、炭素原子数７〜３０のアリールアルキル基又はＣＮを表し、
Ｒ２は、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基又は炭素原子数７〜３０のアリールアルキル基を表し、
Ｒ３は、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基又は炭素原子数７〜３０のアリールアルキル基を表し、Ｒ３は、隣接するベンゼン環と一緒になって環を形成していてもよい。
Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基又は炭素原子数７〜３０のアリールアルキル基、ＣＮ又はハロゲン原子を表し、ａ及びｂは、それぞれ独立に、０〜３である。〕
請求項２記載のカラーフィルタ製造方法は、透明導電膜形成前までのブラックマトリックス周縁部(額縁)ガラス上の有機物残渣由来による炭素と基板の主成分である珪素の元素濃度の比率、すなわちＣ／Ｓｉ比が３．０以下で且つ着色層の表面粗さＲａ：１０ｎｍの範囲内であることを特徴としており、これにより得られたカラーフィルタは、パネル化のプロセスにおいて残渣によるシール材剥がれ不良の発生がないカラーフィルタを得られる。また着色層上の表面粗さが高ければ光の散乱起因によるコントラストの低下を引き起こす大きな因子となるので１０ｎｍ以下が好ましい。
【００２７】
請求項３記載のカラーフィルタ製造方法は、エキシマＵＶを透明電極形成前に照射し、チャネル式ナイロンブラシで埋め尽くす基板洗浄ブラシを用いて残渣を除去する方法であり、フォトリソ工程などにより基板上に再付着などした残渣を除去することで基板と透明導電膜との密着性を向上させることができる、さらに着色層へのダメージも良好な結果が得られていることからエキシマＵＶ照射と基板洗浄ブラシを用いる残渣の除去が好ましい。
【００２８】
請求項３記載のカラーフィルタ製造方法は、ＥＵＶの照射量を特定したものであり、これまでの実験よりエキシマＵＶを照射したほうが着色層にダメージをほとんど与えずに残渣を除去できるので望ましく、またブラックマトリックス周縁部(額縁)ガラス上においては汚れの大きさなどを考慮するとエキシマＵＶ照射量は１００ｍｊ〜５００ｍｊ／ｃｍ２の範囲内が望ましい。逆エキシマＵＶ照射量が少ないとエキシマＵＶ照射による効果が得られなくなる。このため鋭利検討した結果、上記範囲に至った。
【００２９】
請求項４記載のカラーフィルタ製造方法は、上記したカラーフィルタの製造方法により製造したカラーフィルタを備える液晶表示装置を提案するものである。
【００３０】
以下に、本発明の具体的実施例について説明する。
【実施例１】
【００３１】
＜黒色感光性樹脂組成物（１）の調製＞
下記の材料を混合攪拌して黒色感光性樹脂組成物（１）（固形分中の顔料濃度：４１．０質量％）を得た。
黒色顔料分散液ＴＰ−０１／御国色素社製：                          ２８．８質量部樹脂Ｖ２５９−ＭＥ（固形分５６．１質量％）／新日鐵化学社製：        ９．３質量部モノマーＭ４５０／東亞合成社製：                                    １．４質量部オキシム系光重合開始剤（チバスペシャリティケミカル社製ＣＧＩ−１２４）：
０．６質量部溶剤プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート：            ５３．０質量部溶剤エチル−３−エトキシプロピオネート：                            ５．９質量部レベリング剤ＢＹＫ−３３０／ビックケミー社製：                      １．０質量部
＜ブラックマトリックスの形成＞
上記黒色感光性樹脂組成物（1）を、塗布膜厚が２．３μｍになるようにスピンコーターで塗布して乾燥させた。この塗膜を減圧乾燥し、９０℃で1分間加熱した後、液晶表示装置における表示領域を画定する額縁部に対応する開口部が線幅１０ｍｍであり、表示領域内で個々の着色画素間を隔てる部分に対応する開口部が線幅１０μｍであるフォトマスクを介し、光源に超高圧水銀光灯ランプを用いて露光した（露光量５０ｍＪ／ｃｍ２）。        
【００３２】
次に、２．５％炭酸ナトリウム水溶液で６０秒間現像し、現像後よく水洗し、さらに乾燥後、２３０℃で２０分加熱処理してパターンを硬膜させ、ブラックマトリックスを形成した。得られたブラックマトリックスの表示領域の線幅は１２μｍ、膜厚は１．４μｍであり、額縁部の線幅は１０ｍｍ、膜厚は１．９０μｍであった。
【００３３】
＜赤色顔料分散液の調製＞
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  ２５４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「イルガーフォーレッドＢ−ＣＦ」）：                                  １４．０質量部Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  １７７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「クロモフタールレッドＡ２Ｂ」）：                                      １．６質量部アクリルワニス（固形分２０質量％）：                              ８４．４質量部を混合し、均一に攪拌した後、ガラスビーズを用いてサンドミルで５時間分散し、５．０μｍフィルターでろ過して赤色顔料分散液を調製した。
【００３４】
＜緑色顔料分散液の調製＞
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｇｒｅｅｎ  ３６（東洋インキ製造社製「リオノールグリーン６ＹＫ６」）：                                                    １２．７質量部Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  １５０（バイエル社製「ファンチョンファーストイエローＹ−５６８８」）：                                        ６．３質量部アクリルワニス（固形分２０質量％）：                                  ８１質量部を混合し、赤色顔料分散液と同様にして緑色顔料分散液を調製した。
【００３５】
＜青色顔料分散液の調製＞
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｂｌｕｅ  １５（東洋インキ製造社製「リアノールブルーＥＳ」）：                                                            １９．４質量部Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  ２３（ＢＡＳＦ社製「バリオゲンバイオレット５８９０」）：                                                      ０．８質量部分散剤（ゼネカ社製「ソルスバース２００００」）：                    ２．３質量部アクリルワニス（固形分２０質量％）：                              ７７．５質量部を混合し、赤色顔料分散液と同様にして青色顔料分散液を調製した。
【００３６】
＜赤色感光性樹脂組成物の調製＞
下記の材料を均一になるように混合攪拌した後、５μｍのフィルターでろ過して赤色感光
性樹脂組成物（固形分中の顔料濃度：２６．０％）を得た。
赤色顔料分散液：                                                  ３７．８質量部モノマーＴＭＰ３Ａ／大阪有機化学工業社製：                          １．９質量部開始剤Ｉｒｇａｃｕｒｅ３７９／チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製：０．８質量部増感剤ＥＡＢ−Ｆ／保土ヶ谷化学社製：                                ０．１質量部溶剤シクロヘキサノン：                                            ５９．４質量部
＜緑色感光性樹脂組成物の調製＞
下記の材料を均一になるように混合攪拌した後、５μｍのフィルターでろ過して緑色感光性樹脂組成物（固形分中の顔料濃度：４０．０％）を得た。
緑色顔料分散液：                                                  ３４．０質量部モノマーＴＭＰ３Ａ／大阪有機化学工業社製：                          ２．２質量部開始剤Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７／チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製：０．８質量部増感剤ＥＡＢ−Ｆ／保土ヶ谷化学社製：                                ０．１質量部溶剤シクロヘキサノン：                                            ６２．９質量部
＜青色感光性樹脂組成物の調製＞
下記の材料を均一になるように混合攪拌した後、５μｍのフィルターでろ過して青色感光性樹脂組成物（固形分中の顔料濃度：２１．５％）を得た。
青色顔料分散液：                                                  ２５．１質量部モノマーＴＭＰ３Ａ／大阪有機化学工業社製：                          ４．３質量部開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７／チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製：１．１質量部増感剤ＥＡＢ−Ｆ／保土ヶ谷化学社製：                                ０．２質量部溶剤シクロヘキサノン：                                            ６９．３質量部
＜着色画素の形成＞
ブラックマトリックスを形成したガラス基板に、赤色感光性樹脂組成物を焼成後の膜厚が２．０μｍになるように塗布して乾燥させた。この塗膜を減圧乾燥した後、画素部形成用のマスクを用い、光源に超高圧水銀灯ランプを用いて露光した（露光量２５０ｍＪ／ｃｍ２）。次に、２．５％炭酸ナトリウム水溶液で５０秒間現像し、現像後よく水洗し、さらに乾燥後、２３０℃で３０分加熱処理してパターンを硬膜させ、ブラックマトリックスを形成した基板上に赤色画素を形成した。続いて、赤色画素と同じ線幅になるよう露光、現像条件を調整し、隣接した位置に緑色画素を形成した。さらに同様にして青色画素を形成し、ブラックマトリックスと赤色、緑色、青色の画素部を有するカラーフィルタを作製した。
【００３７】
＜エキシマＵＶ洗浄工程＞
上記得られたカラーフィルタ形成基板上にエキシマランプを２７０ｍｊ／ｃｍ２照射した。その際の基板とエキシマランプの距離は３．０ｍｍである。
【００３８】
＜ブラシ洗浄工程＞
上記得られたカラーフィルタ形成基板上にチャネル式ナイロンブラシを回転(回転数２００ｒｐｍ)させ洗浄を行った。その際、ブラシの毛足は１０ｍｍであり、洗浄される基板に対するブラシの押し込み長さは１．０ｍｍである。
【００３９】
＜残渣量＜Ｃ／Ｓｉ）、膜キズ評価＞
上記工程で得られたカラーフィルタのブラックマトリックス周縁部ガラス基板上のＣ／Ｓｉ比をＸＰＳ分析装置(アルバック・ファイ（株）製)用いてＣ／Ｓｉ（Ｃ）の測定を行い実施例1の結果を表1に示す。また光学顕微鏡の目視により膜キズの有無（Ｄ）を評価した。後述記載の表１にはキズの発生がない状態を○、ある場合を×と評価し、実施例1の結果を表1に示す。
【００４０】
＜透明電極層の形成＞
得られたカラーフィルタの表面にスパッタリング法によりＩＴＯ膜を形成した。ＩＴＯの膜厚は１５０ｎｍ、表面抵抗は１５Ω／ｃｍ２であった。
【００４１】
上記実施例により製造した着色部の表面粗さ（Ｇ）は、Ｄｅｋｔａｋ３０３０（アルバック機工社製）にて測定し、実施例1の評価結果を表1に示す。
【００４２】
上記実施例により製造したカラーフィルタにおける着色層及びブラックマトリックス周縁部（額縁）ガラス上に形成されたＩＴＯ製膜部の密着性（Ｅ）を評価した。評価法としては、ＪＩＳ−Ｚ−１５２２に準拠したセロハンテープを貼り付け、ＪＩＳ−Ｓ−６０５０に準拠した消しゴムで貼り付け部分をこすりつけた。
【００４３】
なお、後述の表１には、全く剥がれが見られない状態を○、カッターの切れ込み部分のみの剥がれを△、切れ込み部分からオーバーコート層が大きく剥がれる状態を×の３通りで評価し実施例1の結果を表1に示す。
【実施例２】
【００４４】
実施例1のエキシマＵＶ照射量（Ｃ）が４１０ｍｊであること以外は実施例１と同じ方法で行った。その結果を表１に示す。
【００４５】
＜比較例1＞実施例１のエキシマＵＶ照射量（Ｃ）が８０ｍｊであること以外は実施例1と同じ方法で行った。その結果を表１に示す。
【００４６】
＜比較例２＞  実施例１のエキシマＵＶ照射量（Ｃ）が０ｍｊであること以外は実施例1と同じ方法で行った。その結果を表１に示す。
【００４７】
＜比較例３＞実施例１と同じ工程により着色層作成した。その後、オスガー型研磨機（研磨圧力１０．５ｇ／ｃｍ２、上定盤速度２５ｒｐｍ、上定盤と下定盤との回転差８ｒｐｍ、揺動１０ｍｍ）でφ８０ｍｍ〜１２０ｍｍの粒径分布を持つ焼結アルミナ砥粒の研磨剤を用いて研磨時間３０秒処理を行った。
【００４８】
次に上記実施例記載の、研磨処理の有無（Ａ）ブラックマトリックス周縁部ガラス上のＣ／Ｓｉ（Ｄ）と膜キズの有無（Ｅ）を評価し、比較例３の結果を表１に示す。次に、上記記載の実施例と同じ手法により透明導電膜を形成しＩＴＯ製膜部の密着性（Ｆ）を評価し、比較例３の結果を表1に示す。
【００４９】
＜比較例４＞実施例１の洗浄ブラシ（Ｂ）を用いないこと以外は実施例1と同じ方法で行った。その結果を表１に示す。
【００５０】
＜比較例５＞実施例1のエキシマＵＶ照射量（Ｃ）が５１０ｍｊであること以外は実施例1と同じ方法で行った。
その結果を表１に示す。
【００５１】
＜比較例６＞
＜黒色感光性樹脂組成物（２）の調製＞
下記の材料を混合攪拌して黒色感光性樹脂組成物（２）（固形分中の顔料濃度：４１．０質量％）を得た。
黒色顔料分散液ＴＰ−０１／御国色素社製：                          ２８．８質量部樹脂Ｖ２５９−ＭＥ（固形分５６．１質量％）／新日鐵化学社製：        ９．３質量部モノマーＭ４５０／東亞合成社製：                                    １．４質量部開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ３６９／チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）：
０．６質量部溶剤プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート：            ５３．０質量部溶剤エチル−３−エトキシプロピオネート：                            ５．９質量部レベリング剤ＢＹＫ−３３０／ビックケミー社製：                      １．０質量部
＜ブラックマトリックスの形成＞
上記黒色感光性樹脂組成物（１）を、塗布膜厚が２．３μｍになるようにスピンコーターで塗布して乾燥させた。この塗膜を減圧乾燥し、１２０℃で1分間加熱した後、液晶表示装置における表示領域を画定する額縁部に対応する開口部が線幅１０ミリであり、表示領域内で個々の着色画素間を隔てる部分に対応する開口部が線幅１０μｍであるフォトマスクを介し、光源に超高圧水銀光灯ランプを用いて露光した（露光量８０ｍＪ／ｃｍ２）。次に、２．５％炭酸ナトリウム水溶液で７０秒間現像し、現像後よく水洗し、さらに乾燥後、２３０℃で２０分加熱処理してパターンを硬膜させ、ブラックマトリックスを形成した。得られたブラックマトリックスの表示領域の線幅は１４μｍ、膜厚は１．４μｍであり、額縁部の線幅は１３ｍｍ、膜厚は１．９０μｍであった。
【００５２】
上記ブラックマトリックス形成後、実施例1と同じ方法で行った。その結果を表１に示す。
【００５３】
【表１】
2013130695.tif 000003
本発明により、着色層に、色料、透明樹脂、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマー及び光重合開始剤を含有する着色組成物を用いた塗膜、ラックマトリックスに関しては、色料、透明樹脂、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマー及びオキシムエステル基を有する光重合開始剤を含有する着色組成物を用い塗膜を用いて、透明導電膜形成前に、カラーフィルタ基板表面上にエキシマＵＶを２７０、４１０ｍｊ／ｃｍ２照射し、次いで基板洗浄用ブラシを用いることにより、現像残渣を分解、洗浄除去でき、平滑で、密着性優れたカラーフィルタの製造方法であることが分かった。