(57)【要約】【課題】ウエハステージＷＳＴの移動に伴って動く複数のチューブを確実に案内する。【解決手段】  ウエハステージＷＳＴの移動に伴って動く複数のチューブ（第１及び第２ＸチューブＣｘａ、Ｃｘｂ）を案内するＸチューブキャリアＸＴＣは、ウエハステージＷＳＴの＋Ｙ側において一対のＹガイド（第１及び第２Ｙガイド５２Ａ、５２Ｂ）間に架設され、第１ＸチューブＣｘａをガイドする第１チューブトレイ５８Ａと、ウエハステージＷＳＴの−Ｙ側において一対のＹガイド（第１及び第２Ｙガイド５２Ａ、５２Ｂ）間に架設され、第２ＸチューブＣｘｂをガイドする第２チューブトレイ５８Ｂと、を含むキャリア本体５６を備える。【選択図】図２
2013187432.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベース部材と、
互いに直交する第１軸及び第２軸を含む２次元平面に沿って前記ベース部材上を移動する移動体と、
前記移動体と該移動体の外部に設けられた外部装置との間での用力の伝達に用いられる複数の用力伝達部材と、
前記移動体の移動に伴って動く前記複数の用力伝達部材を案内する案内装置と、を備え、
前記案内装置は、
前記第１軸に平行な方向に関して前記ベース部材の一側に設けられた第１ガイド部材と、前記第１軸に平行な方向に関して前記ベース部材の他側に設けられた第２ガイド部材とを含むガイド部と、
前記第２軸に平行な方向に関する前記移動体の一側において前記第１及び第２ガイド部材間に架設され、前記移動体に一端が接続された第１用力伝達部材を案内する第１架設部材と、前記第２軸に平行な方向に関する前記移動体の他側において前記第１及び第２ガイド部材間に架設され、前記移動体に一端が接続された第２用力伝達部材を案内する第２架設部材とを含む案内装置本体と、
前記第１及び第２架設部材を前記移動体と一体的に前記第２軸に平行な方向に駆動する駆動系と、を備える移動体装置。
【請求項２】
前記案内装置本体は、前記第１及び第２架設部材の前記第１軸に平行な方向に関する一側の端部を相互に連結する第１連結部材と、前記第１及び第２架設部材の前記第１軸に平行な方向に関する他側の端部を相互に連結する第２連結部材と、を更に備える請求項１に記載の移動体装置。
【請求項３】
前記第１連結部材には、前記第１用力伝達部材が挿通される第１開口部が形成され、
前記第２連結部材には、前記第２用力伝達部材が挿通される第２開口部が形成される請求項２に記載の移動体装置。
【請求項４】
前記用力には流体が含まれ、
前記第１連結部材には、前記第１用力伝達部材を介して前記移動体に伝達される流体に関する制御機器、及び分岐管の少なくとも一方が設けられ、
前記第２連結部材には、前記第２用力伝達部材を介して前記移動体に伝達される流体に関する制御機器、及び分岐管の少なくとも一方が設けられる請求項２又は３に記載の移動体装置。
【請求項５】
前記第１及び第２ガイド部材と前記ベース部材とは、物理的に分離されている請求項１〜４のいずれか一項に記載の移動体装置。
【請求項６】
前記案内装置本体と前記ベース部材とは、物理的に分離されている請求項１〜５のいずれか一項に記載の移動体装置。
【請求項７】
前記案内装置本体は、前記第１及び第２ガイド部材に浮上支持される請求項１〜６のいずれか一項に記載の移動体装置。
【請求項８】
前記移動体は、前記ベース部材に設けられた固定子と、前記移動体に設けられた可動子とを含む平面モータにより前記２次元平面に沿って駆動される請求項１〜７のいずれか一項に記載の移動体装置。
【請求項９】
前記平面モータは、前記移動体を前記２次元平面に交差する方向に駆動可能に設けられ、
前記移動体は、前記平面モータの推力により前記ベース部材上に浮上した状態で前記２次元平面内に沿って移動する請求項８に記載の移動体装置。
【請求項１０】
前記移動体と前記案内装置本体との前記２次元平面に交差する方向の相対移動を制限する制限装置をさらに有する請求項９に記載の移動体装置。
【請求項１１】
前記制限装置は、前記移動体に設けられた第１要素と、前記案内装置本体に設けられた第２要素とを含み、前記第２要素を用いて前記第１要素の前記２次元平面に交差する方向の移動可能範囲を機械的に設定する請求項１０に記載の移動体装置。
【請求項１２】
前記移動体と前記第１及び第２架設部材相互間に所定のクリアランスが形成される請求項１〜１１のいずれか一項に記載の移動体装置。
【請求項１３】
前記第１及び第２用力伝達部材は、前記一端を含み前記第１軸に平行な方向に延びる第１部分と、他端を含み前記第１部分と平行に延びる第２部分と、前記第１部分と前記第２部分との間に形成され、前記移動体の前記第１軸に平行な方向への移動に伴って位置が変化する折り返し部とを有する請求項１〜１２のいずれか一項に記載の移動体装置。
【請求項１４】
前記第１用力伝達部材の第１部分は、前記移動体の前記第１軸に平行な方向に関する一側の領域に前記一端が接続され、前記第１軸に平行な方向に関して前記移動体から前記一側に延び、
前記第２用力伝達部材の第１部分は、前記移動体の前記第１軸に平行な方向に関する他側の領域に前記一端が接続され、前記第１軸に平行な方向に関して前記移動体から前記他側に延びる請求項１３に記載の移動体装置。
【請求項１５】
前記移動体と前記２次元平面に直交する方向の位置が一部重複し、前記移動体に形成された開口部に挿入される計測部材を有し、該計測部材を用いて前記移動体の位置情報を求める位置計測系を更に備え、
前記第１及び第２用力伝達部材の前記折り返し部が、前記移動体の前記第１軸に平行な方向の位置に関わらず前記計測部材に接触しないように前記第１及び第２用力伝達部材の長さが設定される請求項１３又は１４に記載の移動体装置。
【請求項１６】
前記第１及び第２用力伝達部材の前記折り返し部が前記第１軸に平行な方向に関して前記移動体の外側に形成されるように、前記第１及び第２用力伝達部材の長さが設定される請求項１５に記載の移動体装置。
【請求項１７】
ベース部材と、
互いに直交する第１軸及び第２軸を含む２次元平面に沿って前記ベース部材上を移動する移動体と、
前記ベース部材に設けられた固定子と、前記移動体に設けられた可動子とを含み、該移動体を前記ベース部材上に浮上した状態で前記２次元平面に沿った方向および前記２次元平面に交差する方向とに駆動可能な平面モータと、
前記移動体と該移動体の外部に設けられた外部装置との間での用力の伝達に用いられる複数の用力伝達部材と、
前記第１軸に平行な方向に関して前記ベース部材の一側に設けられたガイド部材と、
前記移動体の移動に伴って動く前記複数の用力伝達部材を案内し、前記ガイド部材に沿って前記移動体と一体的に前記第２軸に平行な方向に移動する案内部材と、
前記移動体と前記ベース部材との前記２次元平面に交差する方向の相対移動を制限する制限装置と、を備える移動体装置。
【請求項１８】
前記制限装置は、前記移動体に設けられた第１要素と、前記案内部材に設けられた第２要素とを含み、前記第２要素を用いて前記第１要素の前記２次元平面に交差する方向の移動可能範囲を機械的に設定する請求項１７に記載の移動体装置。
【請求項１９】
前記移動体に所定の物体が保持される請求項１〜１８のいずれか一項に記載の移動体装置と、
前記物体にエネルギビームを用いて所定のパターンを形成するパターン形成装置と、を備える露光装置。
【請求項２０】
請求項１９に記載の露光装置を用いて前記物体を露光することと、
露光された前記物体を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、移動体装置、露光装置、及びデバイス製造方法に係り、更に詳しくは、所定の二次元平面に沿って移動する移動体を含む移動体装置、該移動体装置を含む露光装置、及び該露光装置を用いるデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体素子（集積回路等）、液晶表示素子等の電子デバイス（マイクロデバイス）を製造するリソグラフィ工程では、主として、ステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（いわゆるステッパ）、あるいはステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置（いわゆるスキャニング・ステッパ（スキャナとも呼ばれる））などが用いられている。
【０００３】
この種の露光装置は、露光対象物体であるウエハ又はガラスプレート等の基板（以下、ウエハと総称する）を保持して２次元移動するウエハステージを備えており、該ウエハステージには、ウエハステージの外部から各種用力（例えば加圧気体、電力など）を供給するためのチューブあるいはケーブル（以下、チューブと総称する）が接続されている。上記チューブは、ウエハステージの２次元移動に伴い、チューブ案内装置（チューブキャリアなどとも称される）によりウエハステージに追従するように案内される（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
ここで、チューブ案内装置は、高速で２次元移動するウエハステージに確実に追従するように大量のチューブを案内する必要がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】米国特許出願公開第２０１０／００６６９９２号明細書
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上述の事情の下でなされたもので、第１の観点からすると、ベース部材と、互いに直交する第１軸及び第２軸を含む２次元平面に沿って前記ベース部材上を移動する移動体と、前記移動体と該移動体の外部に設けられた外部装置との間での用力の伝達に用いられる複数の用力伝達部材と、前記移動体の移動に伴って動く前記複数の用力伝達部材を案内する案内装置と、を備え、前記案内装置は、前記第１軸に平行な方向に関して前記ベース部材の一側に設けられた第１ガイド部材と、前記第１軸に平行な方向に関して前記ベース部材の他側に設けられた第２ガイド部材とを含むガイド部と、前記第２軸に平行な方向に関する前記移動体の一側において前記第１及び第２ガイド部材間に架設され、前記移動体に一端が接続された第１用力伝達部材を案内する第１架設部材と、前記第２軸に平行な方向に関する前記移動体の他側において前記第１及び第２ガイド部材間に架設され、前記移動体に一端が接続された第２用力伝達部材を案内する第２架設部材とを含む案内装置本体と、前記第１及び第２架設部材を前記移動体と一体的に前記第２軸に平行な方向に駆動する駆動系と、を備える第１の移動体装置である。
【０００７】
ここで、用力とは、移動体、又は該移動体の外部に設けられた外部装置で用いられる何らかのエネルギ、物質など（一例として、電力、電気信号、加圧気体、真空吸引力、冷媒など）を意味し、用力を伝達するとは、上記移動体と外部装置との間で用力の授受（電力の供給、電気信号の送受信、冷媒の供給及び回収など）を行うことを意味する。本明細書では、かかる意味で用力なる用語を用いるものとする。
【０００８】
これによれば、案内装置本体は、第１及び第２ガイド部材に架設して設けられるので、撓み剛性、捻れ剛性などが向上する。
【０００９】
本発明は、第２の観点からすると、ベース部材と、互いに直交する第１軸及び第２軸を含む２次元平面に沿って前記ベース部材上を移動する移動体と、前記ベース部材に設けられた固定子と、前記移動体に設けられた可動子とを含み、該移動体を前記ベース部材上に浮上した状態で前記２次元平面に沿った方向および前記２次元平面に交差する方向とに駆動可能な平面モータと、前記移動体と該移動体の外部に設けられた外部装置との間での用力の伝達に用いられる複数の用力伝達部材と、前記第１軸に平行な方向に関して前記ベース部材の一側に設けられたガイド部材と、前記移動体の移動に伴って動く前記複数の用力伝達部材を案内し、前記ガイド部材に沿って前記移動体と一体的に前記第２軸に平行な方向に移動する案内部材と、前記移動体と前記ベース部材との前記２次元平面に交差する方向の相対移動を制限する制限装置と、を備える第２の移動体装置である。
【００１０】
これによれば、移動体は、平面モータにより２次元平面に交差する方向に駆動される。そして、仮に平面モータにトラブルが発生しても、制限装置により移動体とベース部材との２次元平面に交差する方向の相対移動が制限されるので、移動体が所望の範囲を超えて移動することを防止できる。
【００１１】
本発明は、第３の観点からすると、本発明の第１又は第２の移動体装置と、前記移動体に保持された物体に所定のパターンを形成するパターン形成装置と、を備える露光装置である。
【００１２】
本発明は、第４の観点からすると、本発明の露光装置を用いて物体を露光することと、露光された前記物体を現像することと、を含むデバイス製造方法である。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】一実施形態に係る露光装置１００の構成を概略的に示す図である。
【図２】図１の露光装置１００の平面図である。
【図３】図３（Ａ）は、露光装置１００が備えるウエハステージＷＳＴを示す平面図、図３（Ｂ）は、ウエハステージＷＳＴを−Ｙ方向から見た図（正面図）である。
【図４】ＸチューブキャリアＸＴＣの一部を示す斜視図である。
【図５】図５（Ａ）〜図５（Ｃ）は、ＸチューブキャリアＸＴＣにより案内されるチューブＣｘａ、Ｃｘｂの動作を説明するための図（その１〜その３）である。
【図６】図６（Ａ）及び図６（Ｂ）は、Ｚ制限装置９６の一例を示す図（その１及びその２）であり、図６（Ｃ）及び図６（Ｄ）は、変形例に係るＺ制限装置１９６を示す図（その１及びその２）である。
【図７】露光装置１００の制御系を中心的に構成する主制御装置の入出力関係を示すブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、一実施形態について、図１〜図７に基づいて、説明する。
【００１５】
図１には、一実施形態に係る露光装置１００の構成が概略的に示されている。露光装置１００は、ステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置、いわゆるスキャナである。後述するように、本実施形態では、投影光学系ＰＬが設けられており、以下においては、この投影光学系ＰＬの光軸ＡＸと平行な方向をＺ軸方向、これに直交する面内でレチクルとウエハとが相対走査される方向をＹ軸方向、Ｚ軸及びＹ軸に直交する方向をＸ軸方向とし、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸回りの回転（傾斜）方向をそれぞれθｘ、θｙ、及びθｚ方向として説明を行う。
【００１６】
露光装置１００は、図１に示されるように、露光ステーション２００、計測ステーション３００、ベース盤３０、ＸＹ平面内で２次元移動するウエハステージＷＳＴ、ＸチューブキャリアＸＴＣ、計測ステージＭＳＴ、及びこれらの制御系を備えている。
【００１７】
露光ステーション２００は、照明系１０、レチクルステージＲＳＴ、及び投影ユニットＰＵを備えている。
【００１８】
照明系１０は、例えば米国特許出願公開第２００３／００２５８９０号明細書などに開示されるように、光源と、オプティカルインテグレータ等を含む照度均一化光学系、及びレチクルブラインド等（いずれも不図示）を有する照明光学系と、を含む。照明系１０は、レチクルブラインド（マスキングシステムとも呼ばれる）で設定（制限）されたレチクルＲ上のスリット状の照明領域ＩＡＲを、照明光（露光光）ＩＬによりほぼ均一な照度で照明する。ここで、照明光ＩＬとして、一例として、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）が用いられている。
【００１９】
レチクルステージＲＳＴは、パターン面（図１における−Ｚ側の面）に回路パターンなどが形成されたレチクルＲを、例えば真空吸着により保持している。レチクルステージＲＳＴは、例えばリニアモータ等を含むレチクルステージ駆動系１１（図１では不図示、図７参照）によって、ＸＹ平面内で微小駆動可能であるとともに、走査方向（図１における紙面内左右方向であるＹ軸方向）に所定の走査速度で駆動可能となっている。レチクルステージＲＳＴのＸＹ平面内の位置情報（θｚ方向の回転情報を含む）は、レチクルレーザ干渉計（以下、「レチクル干渉計」という）１３によって、レチクルステージＲＳＴに固定された移動鏡１５（実際には、Ｙ軸方向に直交する反射面を有するＹ移動鏡（あるいは、レトロリフレクタ）とＸ軸方向に直交する反射面を有するＸ移動鏡とを含む）を介して、例えば０．２５ｎｍ程度の分解能で常時検出される。レチクル干渉計１３の計測値は、主制御装置２０（図１では不図示、図７参照）に送られる。
【００２０】
投影ユニットＰＵは、レチクルステージＲＳＴの図１における下方（−Ｚ側）に配置されている。投影ユニットＰＵは、不図示の支持部材によってクリーンルームの床ＦＬ上に水平に支持されたメインフレームＭＦによって、その外周部に設けられたフランジ部ＦＬＧを介して支持されている。投影ユニットＰＵは、鏡筒４０と、鏡筒４０内に保持された投影光学系ＰＬと、を含む。投影光学系ＰＬとしては、例えば、Ｚ軸と平行な光軸ＡＸに沿って配列される複数の光学素子（レンズエレメント）から成る屈折光学系が用いられている。投影光学系ＰＬは、例えば両側テレセントリックで、所定の投影倍率（例えば１／４倍、１／５倍又は１／８倍など）を有する。
【００２１】
このため、照明系１０からの照明光ＩＬによってレチクルＲ上の照明領域ＩＡＲが照明されると、投影光学系ＰＬの第１面（物体面）とパターン面がほぼ一致して配置されるレチクルＲを通過した照明光ＩＬにより、投影光学系ＰＬ（投影ユニットＰＵ）を介してその照明領域ＩＡＲ内のレチクルＲの回路パターンの縮小像（回路パターンの一部の縮小像）が、投影光学系ＰＬの第２面（像面）側に配置される、表面にレジスト（感応剤）が塗布されたウエハＷ上の前記照明領域ＩＡＲに共役な領域（以下、露光領域とも呼ぶ）ＩＡに形成される。そして、レチクルステージＲＳＴとウエハステージＷＳＴとの同期駆動によって、照明領域ＩＡＲ（照明光ＩＬ）に対してレチクルＲを走査方向（Ｙ軸方向）に相対移動させるとともに、露光領域ＩＡ（照明光ＩＬ）に対してウエハＷを走査方向（Ｙ軸方向）に相対移動させることで、ウエハＷ上の１つのショット領域（区画領域）の走査露光が行われ、そのショット領域にレチクルＲのパターンが転写される。すなわち、本実施形態では照明系１０、及び投影光学系ＰＬによってウエハＷ上にレチクルＲのパターンが生成され、照明光ＩＬによるウエハＷ上の感応層（レジスト層）の露光によってウエハＷ上にそのパターンが形成される。
【００２２】
計測ステーション３００は、メインフレームＭＦに吊り下げ支持されたアライメント装置９９、多点焦点位置検出系（多点ＡＦ系）９０（図１では不図示、図７参照）を備えている。
【００２３】
本実施形態において、アライメント装置９９としては、例えば米国特許出願公開第２００９／０２３３２３４号明細書に開示されるような、ウエハＷ上に設けられた対象マークの像を固体撮像素子を用いて撮像し、該マーク像を主制御装置２０（図７参照）に供給する画像処理方式のＦＩＡ（Field Image Alignment）系をＸ軸方向に所定間隔で、例えば５つ備える、いわゆる５眼ＦＩＡ系が用いられる。上記、例えば５つのＦＩＡ系のうち、中央のＦＩＡ系（プライマリアライメント系）の検出中心は、投影ユニットＰＵの中心（投影光学系ＰＬの光軸ＡＸ、本実施形態では前述の露光領域ＩＡの中心とも一致）を通りかつＹ軸と平行な直線上であって、光軸ＡＸから−Ｙ側に所定距離隔てた位置に設定されている。また、多点ＡＦ系９０としては、例えば米国特許第５，４４８，３３２号明細書等に開示されるような、アライメント装置９９の−Ｘ側に配置された送光系と、アライメント装置９９の＋Ｘ側に配置された受光系とを含む斜入射方式の検出系が用いられる。
【００２４】
ベース盤３０は、平面視（＋Ｚ方向から見て）でＹ軸方向を長手方向とする矩形の板状部材であって、複数の防振装置３２を介して上記メインフレームＭＦと物理的（振動的）に分離された状態で床ＦＬ上に設置されている。
【００２５】
ベース盤３０上には、平面モータ固定子３４が搭載されている。平面モータ固定子３４は、図２に示されるように、平面視でＹ軸方向を長手方向とする矩形の板状部材から成る。平面モータ固定子３４は、内部に複数のコイルユニット（不図示）を有しており、該コイルユニットに供給される電流の大きさ及び方向は、主制御装置２０（図２では不図示。図７参照）によって制御される。平面モータ固定子３４の上面は、図１に示されるように、ＸＹ平面にほぼ平行とされ、ウエハステージＷＳＴが上記投影光学系ＰＬの直下の領域と、上記アライメント装置９９の直下の領域とを含む領域内で移動する際のガイド面として機能する。
【００２６】
ウエハステージＷＳＴは、粗動ステージＷＣＳと、粗動ステージＷＣＳに非接触状態で支持された微動ステージＷＦＳと、を有している。
【００２７】
粗動ステージＷＣＳは、図３（Ｂ）に示されるように、ＸＺ断面Ｕ字状の部材から成り、上記平面モータ固定子３４（図３（Ｂ）では不図示。図２参照）の上面に対向する面部である底面部に複数の磁石ユニット（不図示）を有している。該複数の磁石ユニットと、上記平面モータ固定子３４が有する複数のコイルユニットとは、ムービングマグネットタイプの平面モータ３５（図７参照）を構成しており、粗動ステージＷＣＳは、磁石ユニットと、該磁石ユニット２６ａに対応するコイルユニットとの間に作用するローレンツ力により、平面モータ固定子３４に対して駆動される。なお、上記平面モータ固定子３４は、ＸＹ平面に沿って微少ストロークで移動自在な状態でベース盤３０（図１参照）上に搭載されており、平面モータ３５を用いて粗動ステージＷＣＳを駆動する際にカウンタマスとして機能する。
【００２８】
本実施形態において、平面モータ３５としては、例えば米国特許第６，４５２，２９２号明細書などに開示されるような、上記ローレンツ力により粗動ステージＷＣＳを平面モータ固定子３４に対して６自由度方向（Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、Ｚ軸方向、θｘ方向、θｙ方向、及びθｚ方向）に適宜駆動することが可能な、いわゆる６ＤＯＦ（degrees of freedom）駆動タイプの平面モータが用いられている。これにより、主制御装置２０は、平面モータ３５を用いて、粗動ステージＷＣＳを平面モータ固定子３４上でＸ軸方向、及び／又はＹ軸方向に（ＸＹ平面に沿って）所定の長ストロークで駆動すること、粗動ステージＷＣＳを平面モータ固定子３４上に所定のクリアランスを介して浮上（磁気浮上）させること、並びに、ＸＹ平面に沿って移動する粗動ステージＷＣＳをピッチング、ヨーイング、及びローリング方向に適宜微少駆動することができる。
【００２９】
微動ステージＷＦＳは、図２（Ａ）に示されるように、平面視八角形の板状部材から成り、図２（Ｂ）に示されるように、粗動ステージＷＣＳの一対の対向面間に所定のクリアランスを介して挿入されている。微動ステージＷＦＳのＺ軸方向寸法（厚み）は、粗動ステージＷＣＳのＺ軸方向寸法（高さ）よりも小さく設定されており、粗動ステージＷＣＳの底面部と微動ステージＷＦＳの下面との間には、Ｙ軸方向に貫通する空間が形成されている。
【００３０】
微動ステージＷＦＳは、図２（Ａ）に示されるように、粗動ステージＷＣＳの４隅部近傍にそれぞれ配置されたモータユニットＭＵａ〜ＭＵｄにより、粗動ステージＷＣＳに対して６自由度方向に微少駆動される。モータユニットＭＵａ〜ＭＵｄそれぞれは、粗動ステージＷＣＳに固定された固定子（例えばコイルユニット）と、微動ステージＷＦＳに固定された可動子（例えば磁石ユニット）と、を含む複数のリニアモータ（例えばＸボイスコイルモータ、Ｙボイスコイルモータ、及びＺボイスコイルモータ）を有し、該コイルユニットに供給される電流の大きさ及び方向は、主制御装置２０（図７参照）によって制御される。
【００３１】
主制御装置２０（図７参照）は、平面モータ３５（図７参照）を用いて粗動ステージＷＣＳをＸＹ平面に沿って長ストロークで駆動する際、モータユニットＭＵａ〜ＭＵｄを介して粗動ステージＷＣＳに対する微動ステージＷＦＳの位置を制御することにより、粗動ステージＷＣＳと微動ステージＷＦＳとを一体的にＸ軸、及び／又はＹ軸方向に所定の長ストロークで移動させる。また、主制御装置２０は、例えば上記アライメント装置９９（図７参照）を用いたアライメント計測の結果に基づいてウエハＷのＸＹ平面内の位置制御を高精度で行う際、あるいは上記多点ＡＦ系９０（図７参照）の検出結果に基づいてオートフォーカス制御を行う際に、モータユニットＭＵａ〜ＭＵｄを介して微動ステージＷＦＳを粗動ステージＷＣＳに対して６自由度方向に適宜微少駆動する。
【００３２】
微動ステージＷＦＳの下面には、平面視矩形の板状部材から成るスケール板ＳがウエハＷ表面と平行となるように固定されている。スケール板ＳのＸ軸及びＹ軸方向の寸法は、ウエハＷの直径よりも幾分長く設定されている。スケール板Ｓには、Ｘ軸方向を周期方向とする反射型回折格子（Ｘ回折格子）と、Ｙ軸方向を周期方向とする反射型回折格子（Ｙ回折格子）と、を含む２次元グレーティングが形成されている。
【００３３】
また、微動ステージＷＦＳの上面には、平面視でＸ軸方向を長手方向とする矩形の板状部材から成るウエハテーブルＷＴＢが一体的に固定されている。ウエハテーブルＷＴＢの上面の中央には、ウエハＷを真空吸着によって保持するウエハホルダ（不図示）が設けられている。ウエハテーブルＷＴＢの上面であって、ウエハホルダ（ウエハＷ）の＋Ｙ側の領域には、計測プレートＰＬＴが固定されている。また、不図示であるが、ウエハテーブルＷＴＢの下面には、計測プレートＰＬＴに形成されたスリットパターン（不図示）を透過する照明光を計測ステージＭＳＴに導くための送光系が固定されている。
【００３４】
次にウエハステージＷＳＴの位置情報を求めるためのウエハステージ位置計測系７４（図７参照）について説明する。図１に示されるように、投影光学系ＰＬの直下において、微動ステージＷＦＳのＸＹ平面内の位置情報（θｚ方向の回転量情報も含む）、及びＺ軸方向の位置情報（θｙ及びθｘ方向の回転量情報も含む）は、計測アーム７１Ａを含む露光側エンコーダシステム７４Ａ（図１では不図示。図７参照）を用いて求めされる。また、アライメント装置９９の直下において、微動ステージＷＦＳのＸＹ平面内の位置情報、及びＺ軸方向の位置情報は、計測アーム７１Ｂを含む計測側エンコーダシステム７４Ｂ（図１では不図示。図７参照）を用いて求められる。
【００３５】
計測アーム７１Ａは、図２に示されるように、Ｙ軸とほぼ平行に延びる棒状の部材から成り、図１に示されるように、一端（＋Ｙ側の端部）がメインフレームＭＦから支持部材７２Ａを介して吊り下げ支持されている。なお、本実施形態では、剛性確保のため、計測アーム７１Ａは、支持部材７２Ａとの接続部分がその他の部分よりも広幅に形成されている。計測アーム７１Ａの他端部近傍であって、投影光学系ＰＬのほぼ直下の位置には、それぞれ不図示であるが、例えば米国特許第７，５６１，２８０号明細書に開示されるような、Ｘ軸及びＺ軸方向を計測方向とする複数の２次元エンコーダヘッド、並びにＹ軸及びＺ軸方向を計測方向とする複数の２次元エンコーダヘッドが組み合わされて構成された６ＤＯＦエンコーダヘッド（不図示）が内蔵されている。
【００３６】
計測アーム７１ＡのＺ位置は、粗動ステージＷＣＳのＺ位置と重複しており、図１、及び図２から分かるように、ウエハステージＷＳＴが投影光学系ＰＬの下方に配置された状態で、計測アーム７１Ａは、粗動ステージＷＣＳと微動ステージＷＦＳとの間に形成される空間内に挿入される。この状態で、計測アーム７１Ａは、微動ステージＷＦＳの下面に固定されたスケール板Ｓ（図３（Ｂ）参照）に対して所定のクリアランスを介して対向する。露光側エンコーダシステム７４Ａ（図７参照）において、６ＤＯＦエンコーダヘッドは、スケール板Ｓに形成された２次元グレーティングに計測ビームを照射するとともに、その反射光（反射回折光）を受光し、その出力が後述する切換部７４Ｄを介して主制御装置２０に供給される。主制御装置２０は、６ＤＯＦエンコーダヘッドの出力に基づいて微動ステージＷＦＳ（すなわちウエハＷ）の６自由度方向の位置情報を求める。ここで、粗動ステージＷＣＳにおいて、計測アーム７１Ａが挿入される空間部を規定する一対の対向面の間隔は、スケール板ＳのＸ軸方向の寸法よりも長く設定されている。したがって、スケール板Ｓを用いて微動ステージＷＦＳの６自由度方向の位置情報を求める際、計測アーム７１Ａと粗動ステージＷＣＳとが接触することがない（図５（Ａ）〜図５（Ｃ）参照）。
【００３７】
図１に戻り、計測アーム７１Ｂは、計測アーム７１Ａに対して図１で紙面左右対称に配置されている点を除き、計測アーム７１Ａとほぼ同じ構成、及び機能を有している。すなわち、計測アーム７１Ｂは、一端（−Ｙ側の端部）がメインフレームＭＦから支持部材７２Ｂを介して吊り下げ支持されており、他端部近傍であって、アライメント装置９９のほぼ直下の位置に６ＤＯＦエンコーダヘッド（不図示）を備えている。計測アーム７１Ｂは、ウエハステージＷＳＴがアライメント装置９９の下方に配置された状態で、粗動ステージＷＣＳと微動ステージＷＦＳとの間に形成される空間内に挿入される。
【００３８】
また、露光側エンコーダシステム７４Ａ、及び計測側エンコーダシステム７４Ｂの計測可能範囲外（露光ステーション２００と計測ステーション３００との間の領域）において、微動ステージＷＦＳの位置情報は、例えばメインフレームＭＦに固定されたエンコーダヘッド（不図示）とウエハテーブルＷＴＢに固定された回折格子（不図示）とを含む２次元エンコーダシステム（あるいはレーザ干渉計システム）を含む中間計測システム７４Ｃ（図７参照）により求められる。上記露光側エンコーダシステム７４Ａの出力、計測側エンコーダシステム７４Ｂ、及び中間計測システム７４Ｃの出力は、図７に示されるように、微動ステージＷＦＳの位置に応じて切換部７４Ｄにより適宜最適なシステムが選択され、主制御装置に出力される。また、ウエハステージ位置計測系７４は、微動ステージＷＦＳとは別に、例えば光干渉計システム（あるいは２次元エンコーダシステム）を含み、粗動ステージＷＣＳの位置情報を求めるための粗動ステージ計測系７４Ｅを有している。
【００３９】
図１に戻り、ＸチューブキャリアＸＴＣは、ウエハステージＷＳＴに所定の用力を供給するための可撓性を有する長尺の部材（チューブ、及びケーブルなど。以下、単にチューブと称する）をウエハステージＷＳＴのＸＹ平面内の位置に応じて案内するための装置である。ＸチューブキャリアＸＴＣは、図２に示されるように、一対のＹガイド（第１Ｙガイド５２Ａ、第２Ｙガイド５２Ｂ）、一対のＹ固定子（第１Ｙ固定子５４Ａ、第２Ｙ固定子５４Ｂ）、及びキャリア本体５６を備えている。
【００４０】
第１Ｙガイド５２Ａ、及び第２Ｙガイド５２Ｂは、それぞれＹ軸方向に延びるＸＺ断面矩形の部材から成り、第１Ｙガイド５２Ａが平面モータ固定子３４の＋Ｘ側、第２Ｙガイド５２Ｂが平面モータ固定子３４の−Ｘ側にそれぞれ配置されている。第１Ｙガイド５２Ａ、及び第２Ｙガイド５２Ｂは、不図示の支持部材を介して床ＦＬ（図１参照）上に設置されている。第１Ｙガイド５２Ａ、及び第２Ｙガイド５２Ｂの外壁面は、平面度が非常に高く仕上げられている。
【００４１】
第１Ｙ固定子５４Ａ、及び第２Ｙ固定子５４Ｂは、それぞれＹ軸方向に延びるＹＺ平面に平行な板状部材から成り、第１Ｙ固定子５４Ａが第１Ｙガイド５２Ａの＋Ｘ側、第２Ｙ固定子５４Ｂが第２Ｙガイド５２Ｂの−Ｘ側にそれぞれ配置されている。第１Ｙ固定子５４Ａ、及び第２Ｙ固定子５４Ｂは、不図示の支持部材を介して床ＦＬ（図１参照）上に設置されている。第１Ｙ固定子５４Ａ、及び第２Ｙ固定子５４Ｂは、それぞれＹ軸方向に所定間隔で配列された複数のコイルユニットを有している。コイルユニットに供給される電流の大きさ及び方向は、主制御装置２０（図７参照）によって制御される。
【００４２】
第１Ｙガイド５２Ａと平面モータ固定子３４との間、及び第２Ｙガイド５２Ｂと平面モータ固定子３４との間には、それぞれ所定のクリアランスが形成されている。また、第１Ｙ固定子５４Ａと第１Ｙガイド５２Ａとの間、及び第２Ｙ固定子５４Ｂと第２Ｙガイド５２Ｂとの間にも、それぞれ所定のクリアランスが形成されている。これにより、第１Ｙガイド５２Ａ、第２Ｙガイド５２Ｂ、第１Ｙ固定子５４Ａ、第２Ｙ固定子５４Ｂ、及び平面モータ固定子３４は、相互に振動的に分離されている。
【００４３】
キャリア本体５６は、第１チューブトレイ５８Ａ、第２チューブトレイ５８Ｂ、第１接続部６０Ａ、及び第２接続部６０Ｂを有している。第１チューブトレイ５８Ａは、ウエハステージＷＳＴの＋Ｙ側に、第２チューブトレイ５８Ｂは、ウエハステージＷＳＴの−Ｙ側に、それぞれウエハステージＷＳＴに対して所定のクリアランスを介して配置されている。第１、第２チューブトレイ５８Ａ、５８Ｂは、それぞれＸ軸方向に延びるＹＺ断面Ｕ字状（図４参照）の部材から成り、互いに平行に配置されている。第１、第２チューブトレイ５８Ａ、５８Ｂそれぞれは、長手方向の寸法が平面モータ固定子３４のＸ軸方向の寸法よりも長く設定されており、＋Ｘ側及び−Ｘ側の端部それぞれが、平面モータ固定子３４の外側に突き出している。
【００４４】
ここで、本実施形態において、ウエハステージＷＳＴに接続される複数のチューブは、該複数のチューブとウエハステージＷＳＴとの接続部がウエハステージＷＳＴの一箇所に集中することを防止するため、２系統に分けられている。以下、２系統のチューブの一方を第１ＸチューブＣｘａ、他方を第２ＸチューブＣｘｂと称して説明する。第１ＸチューブＣｘａは、第１チューブトレイ５８Ａ上に載置され、第２ＸチューブＣｘｂは、第２チューブトレイ５８Ｂ上に載置されている。
【００４５】
第２チューブトレイ５８Ｂ上に載置された第２ＸチューブＣｘｂは、図５（Ａ）に示されるように、一端部が接続装置５７ｂ（接続装置５７ｂは、図１〜図３では不図示）を介してウエハステージＷＳＴに接続されている。接続装置５７ｂは、粗動ステージＷＣＳの−Ｙ側の面部における＋Ｘ側の端部近傍の領域に設けられている。第２ＸチューブＣｘｂは、上記一端を含む領域が接続装置５７ｂから見て＋Ｘ側（ウエハステージＷＳＴの外側）に向けてＸＹ平面に平行に延び、長手方向の中間部が下方に向けて１８０°（Ｙ軸方向から見てＵ字状となるように）折り返されている。そして、第２ＸチューブＣｘｂの上記折り返された部分から見て他端側の領域は、第２チューブトレイ５８Ｂに沿って−Ｘ側に向けてＸＹ平面に平行に延びている。なお、図面の錯綜を避ける観点から、第２ＸチューブＣｘｂの他端を含む領域は、図示が省略されている（図２の破線矢印参照）。
【００４６】
また、図５（Ａ）では粗動ステージＷＣＳの紙面奥側に一部隠れているが、第１チューブトレイ５８Ａ上に載置された第１ＸチューブＣｘａは、第２ＸチューブＣｘｂに対して図５（Ａ）において紙面左右対称に配置されている。すなわち、粗動ステージＷＣＳの＋Ｙ側の面部における−Ｘ側の端部近傍の領域には、接続装置５７ａが設けられており（接続装置５７ａは、図１〜図３では不図示）、該接続装置５７ａに第１ＸチューブＣｘａの一端が接続されている。第１ＸチューブＣｘａは、接続装置５７ａから見て−Ｘ側に向けて延び、中間部が１８０°下方に折り返されて他端側の領域が第１チューブトレイ５８Ａに沿って＋Ｘ側に向けて延びている（図２参照）。なお、第１ＸチューブＣｘａの他端を含む領域も、図面の錯綜を避ける観点から、図示が省略されている（図２及び図４の破線矢印参照）。以下、第１、及び第２チューブＣｘａ、Ｃｘｂにおいて、上記Ｕ字状に折り返された部分をそれぞれ折り返し部と称して説明する。
【００４７】
ここで、図５（Ａ）には、ウエハステージＷＳＴがＸ軸方向に関する移動可能範囲の中立点に位置した状態が示されている。そして、図５（Ｂ）に矢印で示されるように、ウエハステージＷＳＴが＋Ｘ方向に移動すると、第１、第２ＸチューブＣｘａ、Ｃｘｂは、それぞれその可撓性により折り返し部のＸ位置がウエハステージＷＳＴのＸ位置に応じて変化（ウエハステージＷＳＴの半分の移動量で＋Ｘ側に移動）する。このとき、第２ＸチューブＣｘｂの折り返し部が、常にウエハステージＷＳＴよりも外側（＋Ｘ側）に張り出し、且つウエハステージＷＳＴが＋Ｘ側のストロークエンドに位置しても第２チューブトレイ５８Ｂの＋Ｘ側の端部から外側（＋Ｘ側）に張り出さないように、チューブＣｘｂの長さ、及び接続装置５７ｂの位置が設定されている。
【００４８】
また、ウエハステージＷＳＴが、図５（Ｃ）に矢印で示されるように、−Ｘ方向に移動すると、第１、第２ＸチューブＣｘａ、Ｃｘｂは、それぞれその可撓性により折り返し部のＸ位置がウエハステージＷＳＴのＸ位置に応じて変化（ウエハステージＷＳＴの半分の移動量で−Ｘ側に移動）する。このとき、第１ＸチューブＣｘａの折り返し部が、常にウエハステージＷＳＴよりも外側（−Ｘ側）に張り出し、且つウエハステージＷＳＴが−Ｘ側のストロークエンドに位置しても第１チューブトレイ５８Ａの−Ｘ側の端部から外側（−Ｘ側）に張り出さないようにチューブＣｘａの長さ、及び接続装置５７ａの位置が設定されている。したがって、ウエハステージＷＳＴのＸ位置に関わらず、計測アーム７１Ａ、７１Ｂ（図２参照）と第１、第２ＸチューブＣｘａ、Ｃｘｂとの接触が防止される。また、第１、第２ＸチューブＣｘａ、Ｃｘｂがそれぞれ第１、第２チューブトレイ５８Ａ、５８Ｂから外側に張り出さないので、露光装置１００のフットプリントの増大を抑制できる。
【００４９】
図２に戻り、第１接続部６０Ａは、Ｙ軸方向に延びる板状の部材から成り、第１Ｙガイド５２Ａの上方に配置されている。また、第２接続部６０Ｂは、Ｙ軸方向に延びる板状の部材から成り、第２Ｙガイド５２Ｂの上方に配置されている。第１チューブトレイ５８Ａは、＋Ｘ側の端部近傍が第１接続部６０Ａの＋Ｙ側の端部近傍に接続され、−Ｘ側の端部近傍が第２接続部６０Ｂの＋Ｙ側の端部近傍に接続されている。また、第２チューブトレイ５８Ｂは、＋Ｘ側の端部近傍が第１接続部６０Ａの−Ｙ側の端部近傍に接続され、−Ｘ側の端部近傍が第２接続部６０Ｂの−Ｙ側の端部近傍に接続されている。これにより、第１及び第２チューブトレイ５８Ａ、５８Ｂ、第１及び第２接続部６０Ａ、６０Ｂを含むキャリア本体５６は、平面視で矩形枠状に形成されている。第１及び第２チューブトレイ５８Ａ、５８Ｂ、及び第１及び第２接続部６０Ａ、６０Ｂは、例えばＣＦＲＰ（Carbon Fiber Reinforced Plastics）、あるいはセラミックスなどの材料で形成されており、軽量・高剛性となっている。
【００５０】
第１接続部６０Ａの下面中央には、Ｙスライダ６１Ａが固定されている。Ｙスライダ６１Ａは、ＸＺ断面が矩形の箱形の部材から成り、Ｙ軸方向に貫通する貫通穴が形成されている。Ｙスライダ６１Ａの上記貫通孔には、第１Ｙガイド５２Ａが挿通されている。Ｙスライダ６１Ａは、内壁面（第１Ｙガイド５２Ａの外壁面に対向する面）に複数のエアベアリング（不図示）を有している。第１接続部６０Ａは、上記複数のエアベアリングから第１Ｙガイド５２Ａに対して噴出される加圧気体（例えば空気）の静圧により、第１Ｙガイド５２Ａに沿って非接触状態でＹ軸方向に直進案内される。
【００５１】
また、第２接続部６０Ｂの下面中央には、Ｙスライダ６１Ｂが固定されている。第２接続部６０Ｂは、ＸＺ断面逆Ｌ字状に形成されており、ＹＺ平面に平行な部分が第２Ｙガイド５２Ｂの−Ｘ側に配置されるように第２Ｙガイド５２Ｂに係合している。Ｙスライダ６１Ｂは、第２Ｙガイド５２Ｂの外壁面に対する対向面に複数のエアベアリング（不図示）を有している。第２接続部６０Ｂは、上記複数のエアベアリングから第２Ｙガイド５２Ｂに対して噴出される加圧気体（例えば空気）の静圧により、第２Ｙガイド５２Ｂに沿って非接触状態でＹ軸方向に直進案内される。
【００５２】
これにより、キャリア本体５６が第１、第２Ｙガイド５２Ａ、５２Ｂに沿ってＹ軸方向に直進案内される。ここで、Ｙスライダ６１ＢがＸＺ断面逆Ｌ字状に形成されていることから、仮に第１Ｙガイド５２Ａと第２Ｙガイド５２Ｂとの平行度が低下しても、キャリア本体５６のＹ軸方向への直進性を第１Ｙガイド５２Ａを基準に確保できる。第１、第２Ｙガイド５２Ａ、５２Ｂは、キャリア本体５６（第１及び第２チューブトレイ５８Ａ、５８Ｂそれぞれ）の下面と、平面モータ固定子３４の上面との間に所定のクリアランス（例えば２ｍｍ程度）が形成されるように高さ位置が設定されている。
【００５３】
第１接続部６０Ａの上面における＋Ｙ側の領域には、図４に示されるように、凹部６４が形成され、該凹部６４内には、空圧機器ユニット６６（図１では不図示）の一部が挿入されている。空圧機器ユニット６６は、空圧機器（例えば、電磁弁、スピードコントローラなど）、及びマニホールド（それぞれ不図示）を有している。空圧機器ユニット６６は、第１ＸチューブＣｘａに含まれるチューブのうち、気体用（例えば加圧気体供給用、真空吸引用）のチューブの長手方向中間部に挿入されている。同様に、図２に示されるように、第２接続部６０Ｂの上面における−Ｙ側の領域には、第２ＸチューブＣｘｂ内を通過する気体用の空圧機器ユニット６６が設置されている。
【００５４】
図４に戻り、第１接続部６０Ａの上面における−Ｙ側の領域には、Ｚ軸方向に貫通する貫通孔６８が形成されている。貫通孔６８には、第１ＸチューブＣｘａの長手方向中間部が挿通されている（図２及び図４の破線矢印参照）。貫通孔６８を通過した第１ＸチューブＣｘａは、第１接続部６０Ａの下方に向けて曲げられ、図２に示されるように、第１Ｙガイド５２Ａの下方に配置された第１ＹチューブＣｙａに接続されている。第１ＹチューブＣｙａは、平面視でＵ字状となるように長手方向の中間部が折り曲げられた状態で不図示のＹチューブキャリアに保持されており、該Ｙチューブキャリアは、キャリア本体５６のＹ位置に応じて上記折り曲げ部の位置を変化させることにより第１ＹチューブＣｙａを案内する。
【００５５】
また、第２接続部６０Ｂの上面における−Ｙ側の領域にも同様に貫通孔６８が形成され、該貫通孔６８には、第２ＸチューブＣｘｂが挿通されている（図２の破線矢印参照）。貫通孔６８を通過した第２ＸチューブＣｘｂは、第２Ｙガイド５２Ｂの下方に配置された第２ＹチューブＣｙｂに接続されている。第２ＹチューブＣｙｂも上記第１ＹチューブＣｙａと同様に、不図示のＹチューブキャリアによりキャリア本体５６のＹ位置に応じて案内される。ＸチューブキャリアＸＴＣで用いられる用力は、第１ＹチューブＣｙａ、及び／又は第２ＹチューブＣｙｂを介してＸチューブキャリアＸＴＣに供給される。
【００５６】
Ｙスライダ６１Ａの＋Ｘ側の外側面は、第１Ｙ可動子６２Ａが固定されている。第１Ｙ可動子６２Ａは、ＸＺ断面が矩形の箱形の部材から成り、Ｙ軸方向に貫通する貫通穴が形成されている。第１Ｙ可動子６２Ａの上記貫通穴には、図４に示されるように、第１Ｙ固定子５４Ａが挿通されている。第１Ｙ可動子６２Ａは、第１Ｙ固定子５４Ａが有するコイルユニットに所定のクリアランスを介して対向して配置された磁石ユニット（不図示）を有している。第１Ｙ固定子５４Ａが有するコイルユニットと、第１Ｙ可動子６２Ａが有する磁石ユニットとは、ムービングマグネットタイプの第１Ｙリニアモータ６３Ａ（図７参照）を形成している。
【００５７】
図２に戻り、Ｙスライダ６１Ｂの−Ｘ側の外側面には、第２Ｙ可動子６２Ｂが固定されている。第２Ｙ可動子６２Ｂは、上記第１Ｙ可動子６２Ａと同様な箱形の部材から成り、第２Ｙ固定子５４Ｂが挿通されている。第２Ｙ可動子６２Ｂは、上記第２Ｙ固定子５４Ｂが有するコイルユニットとともに、ムービングマグネットタイプの第２Ｙリニアモータ６３Ｂ（図７参照）を形成する磁石ユニット（不図示）を有している。ＸチューブキャリアＸＴＣでは、第１及び第２Ｙリニアモータ６３Ａ、６３Ｂが同期制御されることにより、キャリア本体５６がＹ軸方向に所定の長ストロークで駆動される。
【００５８】
キャリア本体５６のＹ位置情報は、第１Ｙリニアエンコーダシステム７６Ａと第２リニアエンコーダシステム７６Ｂとを含むチューブキャリア位置計測系７６（図７参照）により求められる。第１リニアエンコーダシステム７６Ａは、それぞれ不図示であるが、第１Ｙガイド５２Ａに固定されたＹ軸方向を周期方向とするＹリニアスケールと、該Ｙリニアスケールに対向した状態でＹスライダ６１Ａに固定されたＹリニアエンコーダヘッドとを含む。第２リニアエンコーダシステム７６Ｂは、それぞれ不図示であるが、第２Ｙガイド５２Ｂに固定されたＹ軸方向を周期方向とするＹリニアスケールと、該Ｙリニアスケールに対向した状態でＹスライダ６１Ｂに固定されたＹリニアエンコーダヘッドとを含む。なお、第１、第２リニアエンコーダシステム７６Ａ、７６Ｂとしては、Ｙスライダ６１Ａ、６１Ｂ（すなわちキャリア本体５６）のＹ軸方向の絶対位置情報を求めることが可能なアブソリュートタイプのエンコーダヘッドを用いることが好ましい。
【００５９】
第１、第２Ｙリニアエンコーダシステム７６Ａ、７６ＢそれぞれのＹリニアエンコーダヘッドの出力は、主制御装置２０に出力され、主制御装置２０は、該Ｙリニアエンコーダヘッドの出力に基づいて、第１、第２Ｙリニアモータ６３Ａ、６３Ｂを用いてキャリア本体５６がウエハステージＷＳＴと一体的にＹ軸方向に移動するようにキャリア本体５６のＹ位置を制御する。なお、キャリア本体５６をＹ軸方向に駆動する際に、ウエハステージＷＳＴとキャリア本体５６とが接触しないように、ウエハステージＷＳＴ（あるいはキャリア本体５６）にギャップセンサを取り付け、ウエハステージＷＳＴとキャリア本体５６との間の間隔を常時計測しても良い。
【００６０】
また、露光装置１００は、図６（Ａ）及び図６（Ｂ）に示されるように、平面モータ３５（図７参照）により駆動される粗動ステージＷＣＳのＺ軸方向の移動可能範囲を機械的に制限するＺ制限装置９６を有している。Ｚ制限装置９６は、ＸチューブキャリアＸＴＣに設けられた凸部９６ａと、粗動ステージＷＣＳに設けられた一対のローラ９６ｂとを含む。凸部９６ａは、第１、第２チューブトレイ５８Ａ、５８Ｂ（それぞれ図２参照）の内側面に形成されても良いし、凸部９６ａを有する別部材を第１、第２チューブトレイ５８Ａ、５８Ｂに取り付けても良い。
【００６１】
凸部９６ａは、粗動ステージＷＣＳのＸ軸方向の移動可能範囲をカバーできるように、Ｘ軸方向に延びて形成される。一対のローラ９６ｂは、凸部９６ａの＋Ｚ側、及び−Ｚ側にそれぞれ配置され、Ｙ軸に平行に延びる軸部９６ｃに回転自在に支持されている。一対のローラ９６ｂそれぞれと凸部９６ａとは、所定間隔で相互に離間している。一対のローラ９６ｂそれぞれと凸部９６ａとの間隔は、粗動ステージＷＣＳのＺ軸方向に関する所望の移動可能範囲に応じて設定される。なお、本実施形態では、＋Ｚ側のローラ９６ｂと凸部９６ａとの間隔と、−Ｚ側のローラ９６ｂと凸部９６ａとの間隔とがそれぞれほぼ同じに設定されているが、異なって設定されていても良い。また、一対のローラ９６ｂは、Ｘ軸方向に所定間隔で複数組設けられていても良い。
【００６２】
これにより、仮にウエハステージＷＳＴをＺ軸方向に駆動するための平面モータ３５（図７参照）になんらかのトラブルが発生したとしても、図６（Ｂ）に示されるように、凸部９６ａと一対のローラ９６ｂの一方とが当接し、粗動ステージＷＣがＺ軸方向に関して所望の移動可能範囲を超えることが防止される。したがって、ウエハＷと投影光学系ＰＬ（あるいはアライメント装置９９。それぞれ図１参照）との接触、あるいは粗動ステージＷＣＳと平面モータ固定子３４（図１参照）との接触などが防止される。なお、Ｚ制限装置の構成は、ＸチューブキャリアＸＴＣを用いて粗動ステージＷＣＳのＺ軸方向の移動範囲を所望の範囲に設定できれば適宜変更が可能であり、例えば図６（Ｃ）及び図６（Ｄ）に示されるＺ制限装置１９６のように、ＸチューブキャリアＸＴＣ側に凹部１９６ａが形成され、粗動ステージＷＣＳ側に凹部１９６ａに挿入されるローラ１９６ｂが設けられても良い。
【００６３】
図２に戻り、計測ステージＭＳＴは、ベース部８１、ベース部８１の上面における＋Ｘ側の端部近傍に一対の脚部８１ａを介して片持ち支持された本体部８２、及び本体部８２との計測ステージＭＳＴの外部に設置された外部装置との間で用力の伝達を行うＸチューブＣｍｘを案内するための計測ステージ用チューブキャリアＭＴＣ（以下、単に「チューブキャリアＭＴＣ」と称する）を備えている。ベース部８１は、平面モータ固定子３４が有するコイルユニットと共に、例えば米国特許第６，４５２，２９２号明細書に開示されるような、電磁力（ローレンツ力）駆動方式の平面モータ３６（図７参照）を構成する磁石ユニット（不図示）を備えており、該平面モータ３６を介して、ウエハステージＷＳＴとは独立して６自由度方向に駆動される。ベース部８１のＸＹ平面内の位置情報は、不図示の光干渉計システム（あるいは２次元エンコーダシステム）を含む計測ステージ計測系７８（図７参照）を用いて主制御装置２０により求められる。
【００６４】
本体部８２は、直方体状（箱形）の部材から成り、それぞれ不図示であるが、照度むらセンサ、空間像計測器、波面収差計測器、照度モニタなどを含む複数の計測用部材を備えている。また、本体部８２は、投影光学系ＰＬの直下に位置したウエハステージＷＳＴに対して計測ステージＭＳＴがＹ軸方向に関して所定距離以内に近接した状態（以下、スクラム状態と称する）において、前述した送光系（不図示）に対向する受光系（不図示）を有している。これにより、ウエハステージＷＳＴ上の計測プレートＰＬＴに形成されたスリットパターン（不図示）を透過した照明光ＩＬ（図１参照）が上記送光系を介して計測ステージＭＳＴ内の受光系の受光素子に案内される。
【００６５】
ここで、本体部８２は、−Ｙ側の端部がベース部８１の−Ｙ側の端部よりも−Ｙ側に突き出して配置されており、上記スクラム状態で、ＸチューブキャリアＸＴＣの第１チューブトレイ５８Ａは、本体部８２の下方に配置される。また、上記スクラム状態で、計測アーム７１Ａは、ベース部８１と本体部８２との間に挿入される。以上説明したような、ウエハステージＷＳＴを介して該計測ステージＭＳＴに照明光ＩＬ（図１参照）を送光し、複数の計測用部材を用いて照明光ＩＬの照度むらに関する情報などを求める空間像計測装置４５（図７参照）については、例えば米国特許出願公開第２０１１／０２９９０５２号明細書に開示されている。
【００６６】
チューブキャリアＭＴＣは、キャリア本体８３、及びＸチューブガイド８６を有している。キャリア本体８３は、第１Ｘビーム８３Ａ、第２Ｘビーム８３Ｂ、第１接続部８３Ｃ、及び第２接続部８３Ｄを有している。第１、第２Ｘビーム８３Ａ、８３Ｂは、それぞれＸ軸方向に延びる部材から成り、Ｙ軸方向に所定間隔で互いに平行に配置されている。上記ベース部８１は、第１、第２Ｘビーム８３Ａ、８３Ｂ間に配置されている。ベース部８１、第１Ｘビーム８３Ａ、第２Ｘビーム８３Ｂそれぞれの間には、所定のクリアランスが形成されている。
【００６７】
第１、第２Ｘビーム８３Ａ、８３Ｂは、＋Ｙ側の端部近傍が第１接続部８３Ｃにより相互に接続され、−Ｙ側の端部近傍が第２接続部８３Ｄにより相互に接続されている。これにより、キャリア本体８３は、平面視で矩形枠状に形成されている。第１、第２接続部８３Ｃ、８３Ｄは、それぞれ平面視矩形の板状部材から成り、第１接続部８３Ｃが第１Ｙガイド５２Ａの上方、第２接続部８３Ｄが第２Ｙガイド５２Ｂの上方にそれぞれ配置されている。第１接続部８３Ｃの下面には、ＸチューブキャリアＸＴＣのＹスライダ６１Ａと同様の構造、及び機能を有するＹスライダ８４Ａが固定されている。Ｙスライダ８４Ａには、第１Ｙガイド５２Ａが非接触状態で挿通されている。また、第２接続部８３Ｄの下面にも、Ｙスライダ６１Ｂと同様の構造、及び機能を有するＹスライダ８４Ｂが固定されている。Ｙスライダ８４Ｂは、第２Ｙガイド５２Ｂに非接触係合している。
【００６８】
Ｙスライダ８４Ａの＋Ｘ側の外側面には、ＸチューブキャリアＸＴＣの第１Ｙ可動子６２Ａと同様の構造、及び機能を有する第１Ｙ可動子８５Ａが固定されている。また、Ｙスライダ８４Ｂの−Ｘ側の外側面にも、第２Ｙ可動子６２Ｂと同様の構造、及び機能を有する第２Ｙ可動子８５Ｂが固定されている。第１Ｙ可動子８５Ａは、第１Ｙ固定子５４Ａが有するコイルユニットとともにムービングマグネットタイプの第３Ｙリニアモータ６３Ｃ（図７参照）を構成する磁石ユニット（不図示）を有し、第２Ｙ可動子８５Ｂは、第２Ｙ固定子５４Ｂが有するコイルユニットとともにムービングマグネットタイプの第４Ｙリニアモータ６３Ｄ（図７参照）を構成する磁石ユニット（不図示）を有している。第３、第４Ｙリニアモータ６３Ｃ、６３Ｄは、上記ＸチューブキャリアＸＴＣのキャリア本体５６をＹ軸方向に駆動するための第１、第２Ｙリニアモータ６３Ａ、６３Ｂとは相互に独立に制御される。これにより、主制御装置２０は、キャリア本体８３のＹ位置をキャリア本体５６とは独立に制御することができる。主制御装置２０は、キャリア本体８３をベース部８１と一体的にＹ軸方向に駆動する。
【００６９】
Ｘチューブガイド８６は、第１Ｙビーム８３Ａに下方から支持され、本体部８２の＋Ｙ側に配置されたＸチューブＣｍｘを保持している。ＸチューブＣｍｘは、平面視でＵ字状となるように中間部が折り返されて配置され、本体部８２のＸ位置に応じて折り返し部の位置を変化させる。第１接続部８３Ｃ上の＋Ｙ側の領域には、上記ＸチューブキャリアＸＴＣの第１接続部６０Ａと同様に、空圧機器ユニット８７が搭載されている。空圧機器ユニット８７には、ＸチューブＣｍｘが接続されている。また、第１接続部８３Ｃ上の−Ｙ側の領域には、及びＸチューブＣｍｘが挿通される貫通孔８８が形成されている。貫通孔８８を通過したＸチューブＣｍａは、第１接続部８３Ｃの下方に向けて曲げられ、第１Ｙガイド５２Ａの下方に配置された計測ステージ用ＹチューブＣｍｙ接続されている。
【００７０】
図７には、露光装置１００の制御系を中心的に構成し、構成各部を統括制御する主制御装置２０の入出力関係を示すブロック図が示されている。主制御装置２０は、ワークステーション（又はマイクロコンピュータ）等を含み、露光装置１００の構成各部を統括制御する。
【００７１】
次に、露光装置１００（図２参照）の動作について説明する。露光装置１００では、ウエハテーブルＷＴＢに対するウエハＷのローディングが計測ステーション３００で行われる。このとき、微動ステージＷＦＳ（図３（Ｂ）参照）の下方の空間内に計測アーム７１Ｂが挿入され、スケール板Ｓ（図３（Ｂ）参照）と計測アーム７１Ｂとが対向する。計測ステーション３００では、計測側エンコーダシステム７４Ｂ（図７参照）の出力に基づいてウエハテーブルＷＴＢの位置制御を行いつつ、アライメント装置９９が有するプリアライメント系のベースライン計測の一部、及びアライメント装置９９を用いたウエハＷ上のアライメントマークの検出動作がウエハＷの位置情報と関連付けられて行われる。上記ベースライン計測動作、アライメント計測結果に基づくＥＧＡ（Enhanced Global Alignment）パラメータの算出手法については、例えば米国特許出願公開第２００９／０２３３２３４号明細書、米国特許第４，７８０，６１７号明細書などに開示される従来の手法と同じなので説明を省略する。
【００７２】
次に、主制御装置２０は、中間計測システム７４Ｃ（図７参照）の出力に基づいてウエハステージＷＳＴを露光ステーション２００に向けて駆動し、計測プレートＰＬＴが投影光学系ＰＬの直下に位置するように位置決めする。このとき、微動ステージＷＦＳ（図３（Ｂ）参照）の下方の空間内に計測アーム７１Ａが挿入され、スケール板Ｓ（図３（Ｂ）参照）と計測アーム７１Ａとが対向する。計測ステージＭＳＴは、ウエハステージＷＳＴの＋Ｙ側に接近して配置されるように（スクラム状態となるように）予め待機している。以下、主制御装置２０は、例えば米国特許出願公開第２００２／００４１３７７号明細書などに開示される手法と同様な手法で、投影光学系ＰＬによって投影されたレチクルＲ（又はレチクルステージＲＳＴ。それぞれ図１参照）上の計測マークの投影像（空間像）を前述した空間像計測装置４５を用いて計測する。以上の作業が終了すると、主制御装置２０は、計測ステージＭＳＴを、＋Ｘ方向かつ＋Ｙ方向に駆動して図２に示される位置に退避させる。
【００７３】
以下、主制御装置２０は、露光側エンコーダシステム７４Ａ（図７参照）の出力に基づいてウエハテーブルＷＴＢの位置制御を行いつつ、ステップ・アンド・スキャン方式の露光を行い、ウエハＷ上に設定された複数のショット領域にレチクルパターンを順次転写する。この露光動作は、主制御装置２０により、事前に行われたウエハアライメント（ＥＧＡ）の結果（ウエハ上のすべてのショット領域の配列座標）及びアライメント系のベースライン等に基づいて、ウエハＷ上の各ショット領域の露光のための走査開始位置（加速開始位置）へウエハステージＷＳＴを位置決めするショット間移動と、各ショット領域に対してレチクルＲに形成されたパターンを走査露光方式で転写する走査露光と、を繰り返すことにより行われる。
【００７４】
上記ベースライン計測動作、アライメント計測動作、空間像計測動作、及びステップ・アンド・スキャン方式の露光動作中、ウエハステージＷＳＴをＹ軸方向に駆動する際、主制御装置２０は、チューブキャリア位置計測系７６（図７参照）の出力に基づいて、第１及び第２リニアモータ６３Ａ、６３Ｂ（図７参照）を用いてキャリア本体５６がウエハステージＷＳＴと一体的にＹ軸方向に移動するようにキャリア本体５６のＹ位置を制御する。これに対し、上記のステップ・アンド・スキャン方式の露光動作中、ウエハステージＷＳＴがＸ軸方向にのみ移動する際には、主制御装置２０は、キャリア本体５６を駆動しない。
【００７５】
そして、ＸチューブキャリアＸＴＣは、ウエハステージＷＳＴがＸ軸方向への移動（Ｘステップ動作）を含む動作をする際、図５（Ａ）〜図５（Ｃ）に示されるように、第１、第２ＸチューブＣｘａ、Ｃｘｂそれぞれが、その可撓性により第１、第２チューブトレイ５８Ａ、５８Ｂ上で、折り返し部のＸ位置がウエハステージＷＳＴのＸ位置に応じて適宜変化するように、該第１、第２ＸチューブＣｘａ、Ｃｘｂをガイドする。
【００７６】
以上説明した本実施形態によると、ＸチューブキャリアＸＴＣでは、第１Ｙガイド５２Ａ、及び第２Ｙガイド５２Ｂ間に架設されたキャリア本体５６がウエハステージＷＳＴと一体的にＹ軸方向に移動するので、ウエハステージＷＳＴのＸＹ平面内の移動を妨げない。また、キャリア本体５６は、第１及び第２チューブトレイ５８Ａ、５８Ｂが第１及び第２接続部６０Ａ、６０Ｂを介して相互に接続され、全体的に矩形の枠状に形成されているため剛性（捻れ剛性、曲げ剛性など）が高い。したがって、高速で安定してチューブを案内することができる。
【００７７】
また、ＸチューブキャリアＸＴＣは、一対のチューブトレイ（第１及び第２チューブトレイ５８Ａ、５８Ｂ）を有しているので、複数のチューブを２系統に振り分けることができる。これにより、大量のチューブのウエハステージＷＳＴへの接続箇所を２箇所に分散させることができ、接続構造、メンテナンス作業などが簡単になる。また、ウエハステージＷＳＴに対してウエハステージＷＳＴ外部から伝わる振動（いわゆる外乱）の影響を低減できる。
【００７８】
さらに、第１及び第２ＸチューブＣｘａ、Ｃｘｂそれぞれは、ウエハステージＷＳＴのＸ位置に関わらず、常に対応するチューブトレイ（第１及び第２チューブトレイ５８Ａ、５８Ｂ）の外側に張り出さないため、露光装置１００全体のフットプリントの増加を抑制できる。また、第１及び第２ＸチューブＣｘａ、Ｃｘｂそれぞれは、常に対応するチューブトレイ（第１及び第２チューブトレイ５８Ａ、５８Ｂ）上で変形するので、平面モータ固定子３４との摺動も防止される。
【００７９】
また、第１及び第２ＸチューブＣｘａ、Ｃｘｂそれぞれは、互いに反対方向からウエハステージＷＳＴに接続されているので、チューブの弾性（復元力）によりウエハステージＷＳＴに作用する力（いわゆるチューブテンション）が相殺される。したがって、ウエハステージＷＳＴを高精度で位置制御できる。
【００８０】
さらに、第１及び第２ＸチューブＣｘａ、Ｃｘｂそれぞれは、ウエハステージＷＳＴのＸ位置に関わらず、常に折り返し部がウエハステージＷＳＴの外側に形成されるので、第１ＸチューブＣｘａと第１計測アーム７１Ａとの接触、及び第２ＸチューブＣｘｂと第２計測アーム７１Ｂとの接触がそれぞれ回避され、ウエハステージＷＳＴの計測精度の低下を防止できる。
【００８１】
なお、上記実施形態の露光装置１００の構成は適宜変更が可能である。例えば、上記実施形態のＸチューブキャリアＸＴＣにおいて、第２接続部５０ＢとＹスライダ６１Ｂとの間に、第２接続部５０Ｂに対するＹスライダ６１ＢのＸ軸方向の相対移動を許容する弾性ヒンジが挿入されていても良い。この場合、上記弾性ヒンジを挿入するため、第２Ｙガイド５２ＢのＺ位置が第１Ｙガイド５２ＡのＺ位置よりも幾分低くなるように構成すると良い。これにより、仮に第１Ｙガイド５２Ａと第２Ｙガイド５２Ｂとの平行度が低下しても、キャリア本体５６のＹ軸方向への直進性を確保できる。この場合、Ｙスライダ６１Ｂを、６１Ａと同様な箱形に形成することができる。
【００８２】
また、キャリア本体５６において、第１及び第２接続部６０Ａ、６０Ｂの一方、あるいは両方が、第１及び第２チューブトレイ５８Ａ、５８Ｂにたいして容易に着脱可能に接続されていても良い。この場合、ウエハステージＷＳＴを平面モータ固定子３４の上面に沿って、第１及び第２チューブトレイ５８Ａ、５８Ｂ間から外部に搬出することができるので、ウエハステージＷＳＴのメンテナンス作業（例えば交換作業）を容易に行うことができる。また、第１及び第２チューブトレイ５８Ａ、５８ＢそれぞれをウエハステージＷＳＴと同期してＹ軸方向に駆動できれば、第１及び第２接続部６０Ａ、６０Ｂの一方、あるいは両方が設けられていなくても良い。また、第１及び第２接続部６０Ａ、６０Ｂの一方、あるいは両方の上面のＺ位置が、平面モータ固定子３４の上面のＺ位置より下方となるように配置されていても良い。これらの場合も同様にウエハステージＷＳＴのメンテナンス作業を容易に行うことができる。
【００８３】
また、ＸチューブキャリアＸＴＣにおいて、第１及び第２接続部６０Ａ、６０Ｂそれぞれには、空圧機器ユニット６６が設けられたが、これに限られず、第１、第２ＸチューブＣｘａ、Ｃｘｂに含まれるケーブルを流れる電気に関する電気機器（例えば開閉器、変圧器など）、端子台などが設けられても良い。
【００８４】
また、上記実施形態では、図５（Ａ）〜図５（Ｃ）に示されるように、第１、第２ＸチューブＣｘａ、Ｃｘｂの折り返し部が常にウエハステージＷＳＴの外側に配置されるように設定されたが、第１、第２ＸチューブＣｘａ、Ｃｘｂと計測アーム７１Ａ、７２Ｂとが接触しなければ、必ずしも折り返し部がウエハステージＷＳＴの外側に配置されていなくても良い。また、ウエハステージＷＳＴの位置計測は、必ずしも計測アーム７１Ａ、７２Ｂを用いる必要はなく、この場合には、第１、第２ＸチューブＣｘａ、Ｃｘｂの折り返し部が常にウエハステージＷＳＴの内側に形成されても良い。
【００８５】
また、ウエハステージＷＳＴを駆動するための平面モータ３５、ＸチューブキャリアＸＴＣのキャリア本体５６を駆動するための第１、第２Ｙリニアモータ３６Ａ、３６Ｂ、及び計測ステージＭＳＴを駆動するための平面モータ３６、チューブキャリアＭＴＣを駆動するための第３、第４Ｙリニアモータ３６Ｃ、３６Ｄは、それぞれムービングマグネットタイプであったが、これに限られず、ムービングコイルタイプであっても良い。
【００８６】
また、ＸチューブキャリアＸＴＣにおいて、キャリア本体５６は、第１及び第２Ｙガイド５４Ａ、５４Ｂに対して非接触状態でガイドされる構成であったが、これに限られず、例えば転動体を介して機械的に接触していても良い。
【００８７】
また、照明光ＩＬは、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）に限らず、ＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）などの紫外光や、Ｆ2レーザ光（波長１５７ｎｍ）などの真空紫外光であっても良い。例えば米国特許第７,０２３,６１０号明細書に開示されているように、真空紫外光としてＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザから発振される赤外域、又は可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム（又はエルビウムとイッテルビウムの両方）がドープされたファイバーアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を用いても良い。また、照明光ＩＬの波長は、１００ｎｍ以上の光に限られず、波長１００ｎｍ未満の光を用いても良く、例えば、軟Ｘ線領域（例えば５〜１５ｎｍの波長域）のＥＵＶ（Extreme Ultraviolet）光を用いるＥＵＶ露光装置にも上記実施形態を適用することができる。その他、電子線又はイオンビームなどの荷電粒子線を用いる露光装置にも、上記実施形態は適用できる。
【００８８】
さらに、上記実施形態の露光装置における投影光学系は縮小系のみならず等倍及び拡大系のいずれでも良いし、投影光学系ＰＬは屈折系のみならず、反射系及び反射屈折系のいずれでも良いし、この投影像は倒立像及び正立像のいずれでも良い。
【００８９】
また、上記実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスク（レチクル）を用いたが、このレチクルに代えて、例えば米国特許第６，７７８，２５７号明細書に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて、透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する電子マスク（可変成形マスク、アクティブマスク、あるいはイメージジェネレータとも呼ばれ、例えば非発光型画像表示素子（空間光変調器）の一種であるＤＭＤ（Digital Micro-mirror Device）などを含む）を用いても良い。
【００９０】
さらに、例えば米国特許第８，００４，６５０号明細書に開示されるような、投影光学系と露光対象物体（例えばウエハ）との間に液体（例えば純水）を満たした状態で露光動作を行う、いわゆる液浸露光装置にも上記実施形態は適用することができる。
【００９１】
また、例えば国際公開第２００１／０３５１６８号に開示されているように、干渉縞をウエハＷ上に形成することによって、ウエハＷ上にライン・アンド・スペースパターンを形成する露光装置（リソグラフィシステム）にも上記実施形態を適用することができる。また、ショット領域とショット領域とを合成するステップ・アンド・スティッチ方式の縮小投影露光装置にも上記実施形態は適用することができる。
【００９２】
さらに、例えば米国特許第６，６１１，３１６号明細書に開示されているように、２つのレチクルパターンを、投影光学系を介してウエハ上で合成し、１回のスキャン露光によってウエハ上の１つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置にも上記実施形態を適用することができる。
【００９３】
また、上記実施形態でパターンを形成すべき物体（エネルギビームが照射される露光対象の物体）はウエハに限られるものでなく、ガラスプレート、セラミック基板、フィルム部材、あるいはマスクブランクスなど他の物体でも良い。
【００９４】
さらに、露光装置の用途としては半導体製造用の露光装置に限定されることなく、例えば、角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを転写する液晶用の露光装置や、有機ＥＬ、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ等）、マイクロマシン及びＤＮＡチップなどを製造するための露光装置にも広く適用できる。また、半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、ＥＵＶ露光装置、Ｘ線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるレチクル又はマスクを製造するために、ガラス基板又はシリコンウエハなどに回路パターンを転写する露光装置にも上記実施形態を適用できる。
【００９５】
半導体素子などの電子デバイスは、デバイスの機能・性能設計を行うステップ、この設計ステップに基づいたレチクルを製作するステップ、シリコン材料からウエハを製作するステップ、前述した実施形態に係る露光装置（パターン形成装置）及びその露光方法によりマスク（レチクル）のパターンをウエハに転写するリソグラフィステップ、露光されたウエハを現像する現像ステップ、レジストが残存している部分以外の部分の露出部材をエッチングにより取り去るエッチングステップ、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除くレジスト除去ステップ、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）、検査ステップ等を経て製造される。この場合、リソグラフィステップで、上記実施形態の露光装置を用いて前述の露光方法が実行され、ウエハ上にデバイスパターンが形成されるので、高集積度のデバイスを生産性良く製造することができる。
【産業上の利用可能性】
【００９６】
以上説明したように、本発明の移動体装置は、移動体を所定の２次元平面に沿って移動させるのに適している。また、本発明の露光装置は、物体に所定のパターンを形成するのに適している。また、本発明のデバイス製造方法は、マイクロデバイスの生産に適している。
【符号の説明】
【００９７】
１００…露光装置、３４…平面モータ固定子、５２Ａ…第１Ｙガイド、５２Ｂ…第２Ｙガイド、５６…キャリア本体、５８Ａ…第１チューブトレイ、５８Ｂ…第２チューブトレイ、６０Ａ…第１接続部、６０Ｂ…第２接続部、Ｃｘａ…第１Ｘチューブ、Ｃｘｂ…第２Ｘチューブ、Ｗ…ウエハ、ＷＳＴ…ウエハステージ、ＸＴＣ…Ｘチューブキャリア。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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