(57)【要約】【課題】簡単な機構でかつ短い処理時間でもって、非露光領域を含む露光領域を形成可能な周辺露光装置および周辺露光方法を提供する。【解決手段】周辺露光装置１は、基板Ｓの周辺を露光するための装置であって、露光ヘッド４と、ＸＹステージ２と、制御装置２３とを備えている。露光ヘッド４は、基板Ｓと相対移動するＸ方向に直交するＹ方向に並んだ複数の発光ダイオード１３を有する。ＸＹステージ２は、露光ヘッド４と基板Ｓを相対移動させる。制御装置２３は、相対移動中に複数の発光ダイオード１３の発光状態を制御するための制御部である。制御装置２３は、基板Ｓを露光するために複数の発光ダイオード１３を点灯するとともに、露光動作中に露光領域３１内に非露光領域３２を確保するために複数の発光ダイオード１３のうち非露光領域３２に対応する非露光時消灯用の第２列部分１３ｂを消灯する。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光対象物の周辺を露光するための周辺露光装置であって、
前記露光対象物と相対移動する方向に直交する幅方向に並んだ複数の発光素子を有する光源と、
前記光源と前記露光対象物を相対移動させるための移動装置と、
相対移動中に前記複数の発光素子の発光状態を制御するための制御部であって、前記露光対象物を露光するために前記複数の発光素子を点灯するとともに、露光動作中に露光領域内に非露光領域を形成するために前記複数の発光素子のうち前記非露光領域に対応する非露光時消灯用発光素子を消灯する制御部と、
を備えた周辺露光装置。
【請求項２】
前記制御部は、前記光源が前記非露光領域に達すると前記非露光時消灯用発光素子を消灯して、前記光源が前記非露光領域から離れると前記非露光時消灯用発光素子を点灯する、請求項１に記載の周辺露光装置。
【請求項３】
前記制御部は、前記非露光領域以外を露光しているときに他の発光素子よりも前記非露光時消灯用発光素子の照度を高くする、請求項２に記載の周辺露光装置。
【請求項４】
前記制御部は、前記非露光領域以外を露光しているときであって前記光源が前記非露光領域の相対移動方向両側の所定の領域にあるときのみ、他の発光素子よりも前記非露光時消灯用発光素子の照度を高くする、請求項３に記載の周辺露光装置。
【請求項５】
露光対象物の周辺を露光するための周辺露光方法であって、
前記露光対象物と相対移動する方向に直交する幅方向に並んだ複数の発光素子を有する光源と、前記光源と前記露光対象物を相対移動させるための移動装置とを備えた周辺方向装置において、
前記露光対象物を露光するために前記複数の発光素子を点灯するステップと、
露光動作中に露光領域内に非露光領域を形成するために前記複数の発光素子のうち非露光時消灯用発光素子を消灯するステップと、
を備えた周辺露光方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶用ガラス基板、半導体ウエハー、感光フィルムなどの露光対象物の周辺所定位置を露光するための周辺露光装置および周辺露光方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、液晶用ガラス基板、半導体ウエハー、感光フィルムなどの露光対象物の周辺所定位置を露光するための周辺露光装置が提供され、実用に供されている。
【０００３】
液晶表示パネル、または半導体ウエハー等の基板に配線パターンを形成する際は、先ず基板全面にレジストを塗布し、フォトリソグラフィ法により所望の形状にパターニングして配線パターンが製作される。その際に、通常は、基板周辺部に幅が数ｍｍ程度の帯状の余白が製作されるように、マスクパターンの露光位置が決められている。
【０００４】
このため、フォトリソグラフィ工程でポジ型レジストを使用すると、現像処理後、基板周辺部に未露光のレジストが帯状に残存することになる。未露光のレジストが残存すると、下の成膜がエッチング除去されない。そうすると、下の成膜の上に、次の成膜が積層されていくことになるため、後の工程で問題となる。そこで、基板周辺部の不要なレジスト領域を露光・現像して除去する必要がある。
【０００５】
このような問題点を考慮して、従来から、角形基板の周辺露光装置として、例えば、特許文献１に記載された装置が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００７―１４８３６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
従来の周辺露光装置では、露光対象物の周辺部分を連続的に露光するが、周辺露光領域内の一部の領域を非露光領域として残すことがある。これは、その前後に、非露光領域に識別コード等のパターンを形成するためである。識別コードは、プロセス毎および製造ライン全体の歩留まりを向上させるための履歴管理や品質管理等に利用されている。
【０００８】
従来の装置では、露光ヘッドと露光対象物を相対的に移動させることで、連続露光を実現していた。そして、特許文献１に記載の周辺露光装置では、非露光領域を残すためには、露光ヘッドから放射された紫外線の一部を遮蔽板によって遮光している。または、走査中に露光ヘッドの幅方向位置を変更することで非露光領域を形成する周辺露光装置も知られている。
【０００９】
遮蔽板を用いる方法では、遮蔽板を速度制御しながら駆動する必要があり、その結果、機構が複雑になっていた。また、露光ヘッドをいったん停止させて幅方向位置を変更することで非露光部分を残す方法では、処理時間が長くなっていた。つまり、生産性が低下していた。
【００１０】
本発明は上記の問題点に鑑みてなされたものであり、簡単な機構でかつ短い処理時間でもって、非露光部分を含む露光領域を形成可能な周辺露光装置および周辺露光方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の一見地に係る周辺露光装置は、露光対象物の周辺を露光するための周辺露光装置であって、光源と、移動装置と、制御部とを備えている。光源は、露光対象物と相対移動する方向に直交する幅方向に並んだ複数の発光素子を有する。移動装置は、光源と露光対象物を相対移動させる。制御部は、相対移動中に複数の発光素子の発光状態を制御する。制御部は、露光対象物を露光するために複数の発光素子を点灯するとともに、露光動作中に露光領域内に非露光領域を形成するために複数の発光素子のうち非露光領域に対応する非露光時消灯用発光素子を消灯する。
この装置では、露光動作中に非露光時消灯用発光素子が消灯されることで、露光領域内に非露光領域が形成される。したがって、光源と露光対象物の相対移動速度を遅くすることなく、露光領域と非露光領域を形成できる。このようにして、簡単な機構によって短時間で周辺露光が行われる。
【００１２】
制御部は、光源が非露光領域に達すると非露光時消灯用発光素子を消灯して、光源が非露光領域から離れると非露光時消灯用発光素子を点灯してもよい。
この装置では、光源が非露光領域から離れると非露光時消灯用発光素子が点灯されるので、非露光領域以外領域では露光が行われる。
【００１３】
制御部は、非露光領域以外を露光しているときに他の発光素子よりも非露光時消灯用発光素子の照度を高くしてもよい。
この装置では、非露光領域の相対移動方向両側においても、十分な露光が行われる。したがって、走査方向境目の品質が向上する。
【００１４】
制御部は、非露光領域以外を露光しているときであって光源が非露光領域の相対移動方向両側の所定の領域にあるときのみ、他の発光素子よりも非露光時消灯用発光素子の照度を高くしてもよい。
この装置では、非露光時消灯用発光素子の照度が高くなるのは、光源が非露光領域の相対移動方向両側の所定の領域にあるときのみなので、非露光領域以外の部分において非露光時消灯用発光素子の照度を高くすることによる露光の影響を与える領域が限定されている。これは、特に、非露光領域が露光領域の幅方向端面に露出している場合に、つまり、非露光時消灯用発光素子が露光ヘッドの幅方向端部に配置されている場合に、顕著な効果が得られる。なぜなら、露光領域の幅方向端面に対応する非露光時消灯用発光素子の照度が高いと、露光領域の幅方向端面における露光が過度になり露光領域の端面が乱れるという不具合が生じることがあるからである。
【００１５】
本発明の他の見地に係る周辺露光方法は、露光対象物の周辺を露光するための周辺露光方法である。この方法は、露光対象物と相対移動する方向に直交する幅方向に並んだ複数の発光素子を有する光源と、光源と露光対象物を相対移動させるための移動装置とを備えた周辺露光装置に使用される。周辺露光方法は、以下のステップを備えている。
◎露光対象物を露光するために複数の発光素子を点灯するステップ
◎露光動作中に露光領域内に非露光領域を形成するために複数の発光素子のうち非露光時消灯用発光素子を消灯するステップ
この方法では、露光動作中に非露光時消灯用発光素子が消灯されることで、露光領域内に非露光領域が形成される。したがって、光源と露光対象物の相対移動速度を遅くすることなく、露光領域と非露光領域を形成できる。このようにして、簡単な機構によって短時間で周辺露光が行われる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明に係る周辺露光装置および周辺露光方法では、簡単な機構でかつ短い処理時間でもって、非露光部分を含む露光領域を形成できる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の周辺露光装置の一実施形態を概略的に示す斜視図である。
【図２】発光ダイオードを碁盤目状５行５列に配列した周辺露光用光源を示す概略図および側面図である。
【図３】第１実施形態における露光動作の制御フローチャートである。
【図４】第１実施形態における時間軸に対する光源の位置および状態、露光対象物の露光状態、積算露光量を示した図である。
【図５】第２実施形態における時間軸に対する光源の位置および状態、露光対象物の露光状態、積算露光量を示した図である。
【図６】第３実施形態における時間軸に対する光源の位置および状態、露光対象物の露光状態、積算露光量を示した図である。
【図７】第４実施形態における露光動作の制御フローチャートである。
【図８】第４実施形態における時間軸に対する光源の位置および状態、露光対象物の露光状態、積算露光量を示した図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
（１）周辺露光装置の構造
図１を用いて、周辺露光装置１について説明する。図１は、本発明の周辺露光装置の一実施形態を概略的に示す斜視図である。
【００１９】
周辺露光装置１は、例えば、液晶パネルの周辺露光に適用される。
【００２０】
周辺露光装置１は、レジストが塗布された基板Ｓを支承するＸＹステージ２と、ＸＹステージ２を支承する回転テーブル３と、基板Ｓに対する周辺露光を行う露光ヘッド４と、露光ヘッド４を保持するスライダー５とを有している。周辺露光装置１は、さらに、露光ヘッド４の出力光強度を検出する照度計６と、露光ヘッド４に駆動電流を供給する直流電源７と、露光ヘッド４の温度を制御する温度制御機構８とを有している。
【００２１】
基板Ｓとしては、ガラス基板、他の材質製の基板、半導体ウエハー、フィルムなどが例示できる。また、種々の形状のものが採用可能である。
【００２２】
ＸＹステージ２は、基板Ｓを２次元的に移動させるものである。この実施形態では、ＸＹステージ２は基板ＳをＸ方向に移動できる。回転テーブル３は、ＸＹステージ２と共に基板Ｓを回転させるものである。
【００２３】
図２を用いて、露光ヘッド４を説明する。図２は、発光ダイオードを碁盤目状５行５列に配列した周辺露光用光源を示す概略図および側面図である。露光ヘッド４は、矩形状の基体１１と、複数の発光ダイオード１３と、複数の光学系部材１５とから構成されている。
基体１１は、概ね正方形の板状部材である。複数の発光ダイオード１３は、基体１１の下面に設けられ、下方に紫外線を放射することが可能である。
複数の発光ダイオード１３は、縦横に整列した状態で配置されている。図２では、発光ダイオード１３は、５×５で並べられているが、実際は例えば１７ｍｍ角に１７×１７で並べられている。
光学系部材１５は、発光ダイオード１３に対応して下方に配置されている。発光ダイオード１３から発射された紫外線は、光学系部材１５を通過することで広がりを防止されている。これにより、露光エリアの寸法精度を高めることができる。
【００２４】
スライダー５は、露光ヘッド４をＹ方向（Ｘ方向に直交している）に往復動させるものである。
【００２５】
照度計６は、スライダー５による露光ヘッド４の移動限界位置において露光ヘッド４の出力光を受光するものであり、強度検出信号を直流電源７に供給する。
【００２６】
直流電源７は、所定の出力光強度が得られるように、露光ヘッド４に駆動電圧または電流を供給する電源本体２１と、制御装置２３とを有している。
制御装置２３は、入力機能、記憶機能、比較演算機能、動作指令機能等を備えたコンピュータまたはプログラマブルロジックアレイである。制御装置２３は、発光ダイオード１３を露光時のみ発光させ、また、必要に応じて露光条件を変化させるように、駆動電圧または電流を制御する。制御装置２３は、上記制御を行うために、あらかじめ品種別の駆動電圧または電流のデータを保存している。
制御装置２３には、ＸＹステージ２およびスライダー５から、基板Ｓに対する露光ヘッド４の位置を知らせるために位置信号が入力される。
【００２７】
また、照度計６により、定期的に出力光強度を測定し、出力光強度測定値を制御装置２３に供給し、適切な発光ダイオード１３の照射状態を演算させることが好ましく、発光ダイオードが経時劣化した場合でも安定した露光品質を実現できる。
【００２８】
温度制御機構８は、冷却水を生成するためのチラー８ａと、冷却水を露光ヘッド４のブラケット（図示せず）に供給して発光ダイオード１３を冷却し、再びチラー８ａに戻すための冷却水流路８ｂを有している。温度制御機構８は、さらに、冷却水流路８ｂに沿って、冷却水流路８ｂの所定位置に設けたバルブ８ｃ、流量計８ｄ、水圧計８ｅ、および水温センサー８ｆを有している。なお、水温センサー８ｆは、ブラケット（図示せず）のすぐ下流側に設けられており、温度検出信号をチラー８ａに供給して、チラー８ａの動作を制御する。
【００２９】
また、基板Ｓの搬入、搬出は、図示しない基板移搭ロボット、シャトル搬送移載機構、ローラコンベア等によって行うか、作業者の手作業によって行う。
【００３０】
さらに、図示しないＬ字状位置合わせガイドもしくはＬ字状の３点のみ接触するピン型のガイドを設けることが好ましく、ＸＹステージ２に供給された基板Ｓの位置がずれている場合に、該ガイドに基板Ｓを押し付けて位置を合わせることができる。
【００３１】
（２）周辺露光装置の動作（概略説明）
周辺露光装置１の動作を概略的に説明する。なお、以下、図示しない識別露光装置によって、基板Ｓに識別コードはあらかじめ形成されているとして説明する。
【００３２】
最初に、レジストが塗布された基板Ｓが周辺露光装置１に搬入される。次に、ＸＹステージ２、回転テーブル３が駆動されて基板Ｓの位置決めが行われる。次に、スライダー５によって、露光ヘッド４を露光すべき周辺位置に正対させる。以上により、周辺露光の準備が完了する。
【００３３】
続いて、ＸＹステージ２によって基板ＳをＸ方向に移動させるとともに、直流電源７により露光ヘッド４を動作させることによって、基板Ｓの１辺に沿って周辺部の不要レジストを露光する。
【００３４】
次いで、ＸＹステージ２、回転テーブル３を動作させるとともに、スライダー５を動作させることによって、露光ヘッド４を他の辺の露光すべき周辺位置に正対させる。そして、基板Ｓの該当する辺に沿って、周辺部の不要レジストを露光する。
同様にして、基板Ｓの全ての辺に沿って周辺部の不要レジストを露光する。
【００３５】
以上の処理を行えば、矩形の基板Ｓの４辺全ての周辺露光をことができるが、いずれかの辺のみを露光することが可能である。また、周辺部の露光以外に基板内部への露光を行うことも可能である。他の装置に本機能を組み込まれた場合等はどの辺も露光しない場合もある。
【００３６】
あらかじめ露光したい形状全面、またはその形状を分割した形状に露光ヘッド４を配し、ステージを静止した状態で、必要時間照射し露光することも可能である。
【００３７】
また、不要レジスト部への露光の最中にＸＹステージ２と回転テーブル３とスライダー５とを動作させ、露光端面に凹凸のある形状に合わせて周辺露光を行うことも可能である。
【００３８】
（３）周辺露光装置の動作（第１実施形態）
図３および図４を用いて、第１実施形態における周辺露光装置１の動作を詳細に説明する。図３は、第１実施形態における露光動作の制御フローチャートである。図４は、第１実施形態における時間軸に対する光源の位置および状態、露光対象物の露光状態、積算露光量を示した図である。
以下、図４において、図左右方向がＸ方向であり、露光ヘッド４は基板Ｓに対して図右側に移動する動作を説明する。そこで、図右側を「先側」として、図左側を「後側」と称する。図４において、Ｘ方向に対して直交する方向をＹ方向とする。
【００３９】
図４に示すように、露光ヘッド４の発光ダイオード１３は、Ｙ方向に、第１列部分１３ａ、第２列部分１３ｂ、第３列部分１３ｃに分かれている。各部分は、発光ダイオード１３の単数または複数の列から構成されている。
【００４０】
露光領域３１は、Ｙ方向に所定の幅を有しながらＸ方向に長く延びる領域である。つまり、露光領域３１の長手方向がＸ方向であり、短手方向または幅方向がＹ方向である。露光ヘッド４の第１列部分１３ａに対応する第１露光領域３１ａ、露光ヘッド４の第２列部分１３ｂに対応する第２露光領域３１ｂ、露光ヘッド４の第３列部分１３ｃに対応する第３露光領域３１ｃに分かれている。第２露光領域３１ｂにおいて、識別コードが先にマークされている部分を非露光領域３２とする。
【００４１】
図４において、グラフの横軸は時間であるが、相対速度は一定であるので、移動距離であると考えてもよい。図４において、ｔ０が相対移動開始点であり、ｔ１、ｔ２、ｔ３、ｔ４、ｔ５、ｔ６の各間は等間隔である。また、ｔ１〜ｔ６では、時刻間２つ分が露光ヘッド４の相対方向長さに対応している。図４では、露光ヘッド４が、基板Ｓに対して、第１位置２６、第２位置２７、第３位置２８、第４位置２９、第５位置３０にある状態を示している。第１位置２６では、露光ヘッド４の先端４ａがｔ２に対応している。第２位置２７では、露光ヘッド４の先端４ａがｔ３に対応しており、露光ヘッド４の後端４ｂがｔ１に対応している。第３位置２８では、露光ヘッド４の先端４ａがｔ４に対応しており、露光ヘッド４の後端４ｂがｔ２に対応している。第４位置２９では、露光ヘッド４の先端４ａがｔ５に対応しており、露光ヘッド４の後端４ｂがｔ３に対応している。第５位置３０では、露光ヘッド４の先端４ａがｔ６に対応しており、露光ヘッド４の後端４ｂがｔ４に対応している。
【００４２】
図３において、周辺露光装置１が一直線状に周辺露光を行う動作を説明する。
ステップＳ１では、直流電源７が露光ヘッド４を点灯する。このときに、すべての発光ダイオード１３が点灯される。具体的には、制御装置２３が電源本体２１に駆動信号を送信して、電源本体２１から露光ヘッド４に例えば電圧が印加される。
【００４３】
ステップＳ２では、ＸＹステージ２が基板Ｓを露光ヘッド４に対してＸ方向に移動させる動作を開始する。以後、基板Ｓは露光ヘッド４に対して一定速度で相対移動を続ける。なお、図４では、露光ヘッド４が基板Ｓに対してＸ方向先側（図右側）に移動するとして説明する。
【００４４】
ステップＳ３では、露光ヘッド４が非露光位置に到達するのを、具体的には露光ヘッド４の先端４ａ端が非露光領域開始位置（ｔ２）に達する、つまり、露光ヘッド４が図４の第１位置２６に到達するのを待つ。
【００４５】
ステップＳ４では、露光ヘッド４の第２列部分１３ｂが消灯される。
ステップＳ５では、露光ヘッド４が非露光領域から離脱するのを、具体的には露光ヘッド４の後端４ｂが非露光領域終了位置（ｔ４）に達する、つまり露光ヘッド４が図４の第５位置３０に到達するのを待つ。
ステップＳ６では、露光ヘッド４の第２列部分１３ｂが点灯される。つまり、光源が非露光領域から離れると非露光時消灯用発光素子を点灯されるので、非露光領域以外領域では露光が行われる。これ以降は、露光ヘッド４ではすべての発光ダイオード１３が点灯している状態である。
ステップＳ７では、露光ヘッド４が基板Ｓの露光領域の終端に達するのを待つ。
ステップＳ８では、露光ヘッド４が消灯される。
ステップＳ９では、ＸＹステージ２が動作を終了する。
【００４６】
上記の一連動作の結果、露光動作中に非露光時消灯用発光素子が消灯されるので、露光領域３１内に非露光領域３２が確保される。したがって、露光ヘッド４と基板Ｓの相対移動速度を遅くすることなく、露光領域と非露光領域を形成できる。このようにして、簡単な機構によって短時間で周辺露光が行われる。
ここで、図４のグラフに基づいて露光領域および非露光領域の積算露光量を説明する。図４に示された値Ａは、露光領域３１の第２露光領域３１ｂの積算露光量である。図から明らかなように、非露光領域３２（ｔ２〜ｔ４）において積算露光量ｒ１はフォトレジスト感度閾値を下回っており、ｔ０〜ｔ１およびｔ５以降の部分の積算露光量は、フォトレジスト感度領域を上回っている。ｔ１〜ｔ２、ｔ４〜５との間は、フォトレジスト感度閾値を下回る部分と上回る部分とがある。
なお、露光領域３１の第１露光領域３１ａおよび第３露光領域３１ｃにおける積算露光量は、一定であり、第２露光領域３１ｂのｔ０〜ｔ１およびｔ５以降の値ｒ３と同じである。
【００４７】
（４）周辺露光装置の動作（第２実施形態）
前記実施形態では、非露光領域３２の両側（ｔ１〜ｔ２およびｔ４〜ｔ５）は、非露光領域でないにもかかわらず、露光ヘッド４の第２列部分１３ｂの消灯の影響を受けて積算露光量がフォトレジスト感度閾値に近くなるまたは下回ることが考えられる。そこで、第２実施形態ではそのような問題をあらかじめ解決するために第１実施形態の一部を変更している。以下、第１実施形態と異なる部分のみを説明する。
【００４８】
図５を用いて、第２実施形態を説明する。図２は、発光ダイオードを碁盤目状５行５列に配列した周辺露光用光源を示す概略図および側面図である。
ステップＳ１では、露光ヘッド４を点灯する。このとき、すべての発光ダイオード１３が発光するが、第２列部分１３ｂは第１列部分１３ａおよび第２列部分１３ｂに比べて照度が高められる。第１列部分１３ａおよび第２列部分１３ｂの照度に対する第２列部分１３ｂの照度の比は、例えば約１．５倍である。
【００４９】
ステップＳ６では、露光ヘッド４の第２列部分１３ｂが点灯される。このとき、第２列部分１３ｂは第１列部分１３ａおよび第３列部分１３ｃに比べて照度を高める。第１列部分１３ａおよび第３列部分１３ｃの照度に対する第２列部分１３ｂの照度の比は、例えば約１．５倍である。
【００５０】
上記の一連動作の結果、露光領域３１内に非露光領域３２が形成される。ここで、図５のグラフに基づいて露光領域および非露光領域の積算露光量を説明する。図５に示された値Ｂは、露光領域３１の第２露光領域３１ｂの積算露光量である。図から明らかなように、非露光領域３２（ｔ２〜ｔ４）の積算露光量ｒ４はフォトレジスト感度閾値を下回っており、ｔ０〜ｔ１およびｔ５以降の部分の積算露光量ｒ６は、フォトレジスト感度閾値を上回っている。ｔ１〜ｔ２、ｔ４〜ｔ５との間は、フォトレジスト感度閾値を下回る部分と上回る部分とがある。
【００５１】
第１実施形態と異なる点として、非露光領域３２の相対移動方向両側の領域全体の積算露光量が第１実施形態より高くなる。具体的には、非露光領域３２の後側に隣接する第１隣接領域３１Ａ（ｔ１〜ｔ２）のフォトレジスト感度閾値を上回る部分および非露光領域３２の先側に隣接する第２隣接領域３１Ｂ（ｔ４〜ｔ５）のフォトレジスト感度閾値を上回る部分が増える。つまり、フォトレジスト感度閾値を下回る弱露光領域を小さくすることができる。以上に述べたように、この装置では、非露光領域の相対移動方向両側においても、十分な露光が行われる。したがって、走査方向境目の品質が向上する。
なお、露光領域３１の第１露光領域３１ａおよび第３露光領域３１ｃにおける積算露光量ｒ５は、一定である。
【００５２】
（５）周辺露光装置の動作（第３実施形態）
前記実施形態では、露光ヘッド４の第２列部分１３ｂを消灯することによって非露光領域を露光領域の内部に形成していたが、非露光領域は露光領域のＹ方向端部に形成してもよい。そこで、以下に述べる第３実施形態では、露光ヘッド４の第１列部分１３ａを消灯することで、非露光領域を形成する。以下、第１実施形態と異なる部分のみを説明する。
図６を用いて、第４実施形態を説明する。図６は、第３実施形態における時間軸に対する光源の位置および状態、露光対象物の露光状態、積算露光量を示した図である。図６に示された値Ｃは、露光領域３１の第１露光領域３１ａの積算露光量である。
図６において、露光ヘッド４の第１列部分１３ａが消灯することで、露光領域３１内で第１露光領域３１ａに非露光領域３３が形成される。露光ヘッド４の点灯・消灯制御は第１実施形態と同様である。また、上記の一連動作の結果、得られた結果は第１実施形態と同じである。
【００５３】
（６）周辺露光装置の動作（第４実施形態）
前述の第３実施形態では、非露光領域３３の相対移動方向両側（ｔ１〜ｔ２およびｔ４〜ｔ５）は、非露光領域でないにもかかわらず、露光ヘッド４の第１列部分１３ａの消灯の影響を受けている。したがって、条件によっては、積算露光量がフォトレジスト感度閾値に近くまたは下回ることが考えられる。そこで、第４実施形態ではそのような問題をあらかじめ解決するために第３実施形態の一部を変更している。
具体的には、非露光時消灯用発光素子の照度が高くされるのは、露光ヘッド４が非露光領域の相対移動方向両側の所定の領域にあるときのみなので、それにより、非露光領域以外の部分において非露光時消灯用発光素子の照度を高くすることによる露光の影響を与える領域を限定している。これは、特に、非露光領域が露光領域のＹ方向端面に露出している場合に、つまり、非露光時消灯用発光素子が露光ヘッドのＹ方向端部に配置されている場合に、顕著な効果が得られる。なぜなら、露光領域のＹ方向端面に対応する非露光時消灯用発光素子の照度が高いと、露光領域のＹ方向端面における露光が過度になり、漏れ光の影響により端面が乱れるといった不具合が生じることがあるからである。
【００５４】
以下、第３実施形態と異なる部分のみを説明する。
図７および図８を用いて、第４実施形態を説明する。図７は、第４実施形態における露光動作の制御フローチャートである。図８は、第４実施形態における時間軸に対する光源の位置および状態、露光対象物の露光状態、積算露光量を示した図である。図８に示された値Ｄは、露光領域３１の第１露光領域３１ａの積算露光量である。
【００５５】
ステップＳ１では、露光ヘッド４が点灯される。このとき、すべての発光ダイオード１３が発光する。この場合、すべての発光ダイオード１３の照度は同じである。
ステップＳ２では、基板Ｓに対して露光ヘッド４が相対移動を開始させられる。
ステップＳ１１では、露光ヘッド４が基板Ｓに対して第１位置２６より先側の先側位置に到達したかを判断される。先側位置とは、露光ヘッド４の先端４ａがｔ１に到達したときの位置である。
ステップＳ１２では、第１列部分１３ａは、第１列部分１３ａおよび第２列部分１３ｂに比べて照度を高められる。第２列部分１３ｂおよび第３列部分１３ｃの照度に対する第１列部分１３ａの照度の比は、例えば約１．５倍である。
【００５６】
ステップＳ６では、露光ヘッド４の第１列部分１３ａが点灯される。このとき、第１列部分１３ａは、第２列部分１３ｂおよび第３列部分１３ｃに比べて照度を高められる。第２列部分１３ｂおよび第３列部分１３ｃの照度に対する第１列部分１３ａの照度の比は、例えば約１．５倍である。
【００５７】
ステップＳ１４では、露光ヘッド４が基板Ｓに対して第５位置３０より相対移動方向後側の後側位置に到達したかを判断する。露光ヘッド４が後側位置に到達するとは、露光ヘッド４の後端４ｂがｔ６に到達することをいう。
ステップＳ１５では、第１列部分１３ａは、第２列部分１３ｂおよび第３列部分１３ｃと同じまで照度を低くさせられる。
【００５８】
以上の結果、非露光領域３３の相対移動方向両側の領域全体の積算露光量が第１実施形態より高くなる。したがって、露光領域３１の第１露光領域３１ａにおいて非露光領域３３の後側に隣接する第１隣接領域３１Ａ（ｔ１〜ｔ２）および非露光領域３３の先側に隣接する第２隣接領域３１Ｂ（ｔ４〜ｔ５）の積算露光量が多くなり、フォトレジスト感度閾値を上回る部分が増える。つまり、フォトレジスト感度閾値よりも低くなる部分は、第１実施形態と比べて小さくできる。
【００５９】
さらに、この実施形態では、露光ヘッド４の第１列部分１３ａの照度を高くする領域は、非露光領域３３の両側の部分的な領域に限定しているので、照度アップによる露光領域への悪影響を少なくできる。図８から明らかなように、第１隣接領域３１Ａの後側に隣接する第３隣接領域３１Ｃの積算露光量は、第１隣接領域３１Ａの積算露光量よりも大きくなっているが、第３隣接領域３１Ｃより後側と比べて過度に高くなっていない。また、第２隣接領域３１Ｂの先側に隣接する第４隣接領域３１Ｄの積算露光量は第２隣接領域３１Ｂよりも大きくなっているが、第４隣接領域３１Ｄより先側と比べて過度に高くなっていない。このように、積算露光量が大きい領域は限定されており、その程度も小さいため、漏れ光の影響による端面の乱れを防ぐことができる。
【００６０】
（７）他の実施形態
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。
前記複数の実施形態は必要に応じて組み合わせることも可能である。例えば、露光領域の内部に非露光領域を形成する場合に、第５実施形態のような点灯制御を行ってもよい。また、露光領域の端面に接する位置に非露光領域を形成する場合に第２実施形態のような点灯制御を行ってもよい。
前記実施形態では光源と基板の相対速度は一定であるとしたが、必要に応じて変更してもよい。
前記実施形態では周辺露光動作の前に識別コードがマークさされていたが、識別露光動作の後に周辺露光動作を行ってもよい。
【産業上の利用可能性】
【００６１】
本発明は、周辺露光装置に広く適用できる。
【符号の説明】
【００６２】
１        周辺露光装置
２        ＸＹテーブル
４        露光ヘッド（光源）
５        スライダー
６        照度計
７        直流電源
８        温度制御機構
８ａ      チラー
８ｂ      冷却水流路
８ｃ      バルブ
８ｄ      流量計
８ｅ      水圧計
８ｆ      センサー
１１      基体
１３      ダイオード
１５      光学系部材
２１      電源本体
２３      制御装置
３１      露光領域
３２      非露光領域
３３      非露光領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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