(57)【要約】【課題】反射防止性と帯電防止性に優れ、面状故障がなく、かつ耐擦傷性、耐磨耗性、防汚性に優れる帯電防止性反射防止フィルムを提供すること。【解決手段】支持体上に、４級アンモニウム塩基を有する化合物を少なくとも含有するハードコート層用組成物から形成されたハードコート層と、下記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、及び（ｄ）を少なくとも含有する低屈折率層用組成物から形成された低屈折率層とをこの順で有する帯電防止反射防止フィルム。（ａ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体（ｂ）単独で成膜した際の表面自由エネルギーが２３ｍＮ／ｍ以上であり、分子内に−ＣＦ３基を有さず、フッ素含率が３０％以上で、１分子中に反応性官能基を少なくとも３つ以上有するフッ素含有多官能モノマー（ｃ）平均粒子径が１０〜１００ｎｍの中空シリカ微粒子（ｄ）ジメチルシロキサン骨格を有する化合物【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に、４級アンモニウム塩基を有する化合物を少なくとも含有するハードコート層用組成物から形成されたハードコート層と、下記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、及び（ｄ）を少なくとも含有する低屈折率層用組成物から形成された低屈折率層とをこの順で有する帯電防止反射防止フィルム。
（ａ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体
（ｂ）単独で成膜した際の表面自由エネルギーが２３ｍＮ／ｍ以上であり、分子内に有する−ＣＦ３基が４個以下であり、フッ素含率が３０％以上で、１分子中に反応性官能基を少なくとも３つ以上有するフッ素含有多官能モノマー
（ｃ）平均粒子径が１０〜１００ｎｍの中空シリカ微粒子
（ｄ）ジメチルシロキサン骨格を有する化合物
【請求項２】
前記低屈折率層用組成物が、更に（ｅ）平均粒子径が４０〜１００ｎｍの中実シリカ粒子を低屈折率層用組成物の全固形分中０．１〜１０質量％含有する請求項１に記載の帯電防止反射防止フィルム。
【請求項３】
前記（ｂ）のフッ素含有多官能モノマーが、下記一般式（１）で表される化合物である請求項１又は２に記載の帯電防止反射防止フィルム。
一般式（１）：
【化１】
2013130865.tif 000073
（式中、Ｒｆ１はエーテル結合を有していてもよい（ｐ＋ｑ）価のペルフルオロ飽和炭化水素基を表す。Ｒｆ２は少なくとも炭素原子及びフッ素原子を含み、酸素原子又は水素原子を含んでもよい、鎖状又は環状の、１価のフッ化炭化水素基を表す。ｐは３〜１０の整数、ｑは０〜７の整数で、かつ、（ｐ＋ｑ）は３〜１０の整数を表す。ｒは０〜１００の整数、ｓ、ｔはそれぞれ独立に０又は１を表す。Ｒは水素原子、メチル基、又はフッ素原子を表す。（ｐ＋ｑ）が５以上の場合、ｔは０である。なお、一般式（１）において、（ＯＣＦ２ＣＦ２）、（ＯＣＦ２）、（ＯＣＦＲｆ２）の配置順に限定はない。）
【請求項４】
前記一般式（１）において、ｒ＝１〜５、ｓ＝０又は１、ｔ＝０又は１、ｐ＝３〜６、ｑ＝０である請求項３に記載の帯電防止反射防止フィルム。
【請求項５】
前記低屈折率層用組成物が、更に（ｆ）１分子中に反応性官能基を少なくとも３つ以上有する非フッ素多官能モノマーを含有する請求項１〜４のいずれか一項に記載の帯電防止反射防止フィルム。
【請求項６】
前記（ｄ）ジメチルシロキサン骨格を有する化合物が、（ｄ−１）数平均分子量が４０００以上であるシリコーン化合物と、（ｄ−２）数平均分子量が１０００以上４０００未満であるシリコーン化合物との少なくとも２種である請求項１〜５のいずれか一項に記載の帯電防止反射防止フィルム。
【請求項７】
前記ハードコート層用組成物が、下記一般式（Ｆ１）で表されるフルオロ脂肪族基を含有するモノマーに由来する繰り返し単位と、下記一般式（Ｆ２）で表されるフルオロ脂肪族基を含有しないモノマーに由来する繰り返し単位とを含むフルオロ脂肪族基含有共重合体を含有する請求項１〜６のいずれか一項に記載の帯電防止反射防止フィルム。
一般式（Ｆ１）
【化２】
2013130865.tif 000074
（式中、Ｒ０は水素原子、ハロゲン原子、又はメチル基を表す。Ｌは２価の連結基を表す。ｎは１以上１８以下の整数を表す。）
一般式（Ｆ２）
【化３】
2013130865.tif 000075
（式中、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、又はメチル基を表す。Ｌ１は２価の連結基を表す。Ｙは置換基を有してもよい炭素数１〜２０の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基、又は置換基を有していてもよい芳香族基を表す。）
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の帯電防止反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムとして含む偏光板。
【請求項９】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の帯電防止反射防止フィルム、又は請求項８に記載の偏光板を有する画像表示装置。
【請求項１０】
支持体上に、４級アンモニウム塩基を有する化合物を含有するハードコート層と、低屈折率層とをこの順で有する帯電防止反射防止フィルムの製造方法であって、
該ハードコート層上に、請求項１〜６のいずれか一項に記載の低屈折率層形成用組成物を塗布、硬化して低屈折率層を形成する工程を有する帯電防止反射防止フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、帯電防止反射防止フィルム、帯電防止反射防止フィルムの製造方法、偏光板、及び画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、蛍光表示ディスプレイ（ＶＦＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、及び液晶表示装置（ＬＣＤ）のような画像表示装置においては、一般に、外光の反射によるコントラストの低下や像の映り込みを防止するために、反射防止フィルムがディスプレイの最表面に配置される。
また、反射防止フィルムは、ディスプレイの最表面に用いられるため高い耐擦傷性や耐磨耗性が要求される。更に、展示や日常の使用で指紋などを中心に様々な汚れに対する防汚性（汚れの耐付着性や汚れが付いた際のその拭き取り性）に優れることが求められる。
【０００３】
反射防止フィルムとしては、その基本的な構成として、透明支持体上に、該支持体より屈折率が低く、所定の膜厚の低屈折率層を有するものが知られており、上記の諸特性を得るために、低屈折率層やその他の層の組成及び構成として種々のものが提案されている。
例えば、特許文献１には、エチレン性不飽和基含有含フッ素共重合体、フッ素原子を置換基として有する（メタ）アクリロイル化合物を含み、更に、中空及び中実のシリカを主成分とする粒子、ポリジメチルシロキサン骨格を有する化合物、フッ素系界面活性剤を含む硬化性樹脂組成物が記載されている。該硬化性樹脂組成物から得られる硬化物は、屈折率が低く、耐擦傷性、防汚性に優れ、該硬化物から形成した低屈折率層を有する反射防止膜が記載されている。
また、特許文献２には、中空状シリカ微粒子、１分子中に反応性官能基を３以上有し、フッ素原子を含有しない多官能モノマー、並びにフッ素原子含有モノマー及びフッ素原子含有ポリマーを含む有機バインダーを含有し、更に、フッ素原子及びケイ素原子を含む防汚剤を含む低屈折率層用組成物が記載されている。該低屈折率層用組成物により形成した低屈折率層を最外層に有する光学フィルムは、低反射率、耐擦傷性、及びマジック拭き取り耐久性の少なくとも一つに優れることが記載されている。
【０００４】
一方、反射防止フィルムなどの光学フィルムにおいて、表面の傷付きや埃等の付着防止のために、帯電防止性とハードコート性とを有するハードコート層を設けることも知られている。
例えば、帯電防止性とハードコート性とを有するフィルムを得るために、帯電防止剤として４級アンモニウム塩基を有する化合物と、バインダーとなる多官能モノマーとを含有する組成物を用いてハードコート層を形成することが知られている（例えば、特許文献３）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００８−１６９３６４号公報
【特許文献２】特開２０１０−０８５９８３号公報
【特許文献３】特許第４６００６０５号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
反射防止性と同時に帯電防止性とハードコート性に優れ、より高度な耐擦傷性、耐摩耗性、防汚性に優れる反射防止フィルを得るために、帯電防止ハードコート層の上に低屈折率層を設けた反射防止フィルムが考えられる。
本発明者ら検討したところ、４級アンモニウム塩基を有する化合物を用いてハードコート層を形成した場合、帯電防止性に優れるものの、該ハードコート層上に、特許文献１及び２に記載されるような含フッ素化合物を含む組成物により低屈折率層を形成すると、耐擦傷性が悪化し、更に低屈折率層が白濁するという面状故障が生じることが分かった。
【０００７】
このような状況に鑑み、本発明の目的は、反射防止性と帯電防止性に優れ、面状故障がなく、かつ耐擦傷性、耐磨耗性、防汚性に優れる帯電防止性反射防止フィルムを提供することである。
また、本発明の別の目的は、該帯電防止性反射防止フィルムの製造方法、該帯電防止性反射防止フィルムを用いた偏光板、及び該帯電防止性反射防止フィルム又は該偏光板を有する画像表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
屈折率が低く、耐擦傷性、対磨耗性、防汚性に優れた低屈折率層を得る観点から、特定のフッ素ポリマー及びフッ素含有多官能モノマー等のフッ素化合物を、シリカ微粒子及び特定のシロキサン化合物を低屈折率層用組成物に用いることが好適である。上記課題を解決すべく本発明者らが検討したところ、４級アンモニウム塩基を有する化合物を含むハードコート層上に低屈折率層を形成する場合、低屈折率層用組成物の含フッ素化合物のうち、フッ素含有多官能モノマーとして分子内に−ＣＦ３基を多数有し表面自由エネルギーが低いモノマーが含まれると、ハードコート層との密着性が悪く耐擦傷性を悪化させ、また低屈折率層の塗膜に白濁が生じることが分かった。このメカニズムとしてはよく分かっていないが、構造的に非常に親水的な４級アンモニウム塩基を有する化合物を含有するハードコート層に対して、耐擦傷性を良化させるために低屈折率層に添加するフッ素モノマーが非常に疎水的であると親和性が悪くなるためではないかと推測される。本発明者らは検討の結果、含フッ素モノマーとして−ＣＦ３基が４個以下であり、表面自由エネルギーが高く、かつ反応性官能基を多く有するモノマーを用いることで、耐擦傷性の悪化と白濁の抑制が図れることを見出した。
即ち、本発明の上記課題は、下記手段により解決できる。
【０００９】
［１］
支持体上に、４級アンモニウム塩基を有する化合物を少なくとも含有するハードコート層用組成物から形成されたハードコート層と、下記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、及び（ｄ）を少なくとも含有する低屈折率層用組成物から形成された低屈折率層とをこの順で有する帯電防止反射防止フィルム。
（ａ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体
（ｂ）単独で成膜した際の表面自由エネルギーが２３ｍＮ／ｍ以上であり、分子内に有する−ＣＦ３基が４個以下であり、フッ素含率が３０％以上で、１分子中に反応性官能基を少なくとも３つ以上有するフッ素含有多官能モノマー
（ｃ）平均粒子径が１０〜１００ｎｍの中空シリカ微粒子
（ｄ）ジメチルシロキサン骨格を有する化合物
［２］
前記低屈折率層用組成物が、更に（ｅ）平均粒子径が４０〜１００ｎｍの中実シリカ粒子を全固形分中０．１〜１０質量％含有する［１］に記載の帯電防止反射防止フィルム。
［３］
前記（ｂ）のフッ素含有多官能モノマーが、下記一般式（１）で表される化合物である［１］又は［２］に記載の帯電防止反射防止フィルム。
一般式（１）：
【化１】
2013130865.tif 000002
（式中、Ｒｆ１はエーテル結合を有していてもよい（ｐ＋ｑ）価のペルフルオロ飽和炭化水素基を表す。Ｒｆ２は少なくとも炭素原子及びフッ素原子を含み、酸素原子又は水素原子を含んでもよい、鎖状又は環状の、１価のフッ化炭化水素基を表す。ｐは３〜１０の整数、ｑは０〜７の整数で、かつ、（ｐ＋ｑ）は３〜１０の整数を表す。ｒは０〜１００の整数、ｓ、ｔはそれぞれ独立に０又は１を表す。Ｒは水素原子、メチル基、又はフッ素原子を表す。（ｐ＋ｑ）が５以上の場合、ｔは０である。なお、一般式（１）において、（ＯＣＦ２ＣＦ２）、（ＯＣＦ２）、（ＯＣＦＲｆ２）の配置順に限定はない。）
［４］
前記一般式（１）において、ｒ＝１〜５、ｓ＝０又は１、ｔ＝０又は１、ｐ＝３〜６、ｑ＝０である［３］に記載の帯電防止反射防止フィルム。
［５］
前記低屈折率層用組成物が、更に（ｆ）１分子中に反応性官能基を少なくとも３つ以上有する非フッ素多官能モノマーを含有する［１］〜［４］のいずれか一項に記載の帯電防止反射防止フィルム。
［６］
前記（ｄ）ジメチルシロキサン骨格を有する化合物が、（ｄ−１）数平均分子量が４０００以上であるシリコーン化合物と、（ｄ−２）数平均分子量が１０００以上４０００未満であるシリコーン化合物との少なくとも２種である［１］〜［５］のいずれか一項に記載の帯電防止反射防止フィルム。
［７］
前記ハードコート層用組成物が、下記一般式（Ｆ１）で表されるフルオロ脂肪族基を含有するモノマーに由来する繰り返し単位と、下記一般式（Ｆ２）で表されるフルオロ脂肪族基を含有しないモノマーに由来する繰り返し単位とを含むフルオロ脂肪族基含有共重合体を含有する［１］〜［６］のいずれか一項に記載の帯電防止反射防止フィルム。
一般式（Ｆ１）
【化２】
2013130865.tif 000003
（式中、Ｒ０は水素原子、ハロゲン原子、又はメチル基を表す。Ｌは２価の連結基を表す。ｎは１以上１８以下の整数を表す。）
一般式（Ｆ２）
【化３】
2013130865.tif 000004
（式中、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、又はメチル基を表す。Ｌ１は２価の連結基を表す。Ｙは置換基を有してもよい炭素数１〜２０の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基、又は置換基を有していてもよい芳香族基を表す。）
［８］
［１］〜［７］のいずれか一項に記載の帯電防止反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムとして含む偏光板。
［９］
［１］〜［７］のいずれか一項に記載の帯電防止反射防止フィルム、又は［８］に記載の偏光板を有する画像表示装置。
［１０］
支持体上に、４級アンモニウム塩基を有する化合物を含有するハードコート層と、低屈折率層とをこの順で有する帯電防止反射防止フィルムの製造方法であって、
該ハードコート層上に、［１］〜［６］のいずれか一項に記載の低屈折率層形成用組成物を塗布、硬化して低屈折率層を形成する工程を有する帯電防止反射防止フィルムの製造方法。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、帯電防止性に優れ、低反射率で塗膜が白濁という面状故障がなく、かつ高度な耐擦傷性、耐摩耗性、防汚性を有する反射防止フィルムを提供することができる。
また、本発明によれば、該反射防止フィルムの製造方法、該反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いた偏光板、及び該反射防止フィルム又は偏光板を有する画像表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「（数値１）〜（数値２）」という記載は「（数値１）以上（数値２）以下」の意味を表す。また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」との記載は、「アクリレート及びメタクリレートの少なくともいずれか」の意味を表す。「（メタ）アクリル酸」、「（メタ）アクリロイル」等も同様である。
なお、本発明においては、「モノマーに相当する繰り返し単位」、及び「モノマーに由来する繰り返し単位」とは、モノマーの重合後に得られる成分が繰り返し単位となることを意味している。
【００１２】
本発明の帯電防止反射防止フィルムは、支持体上に、４級アンモニウム塩基を有する化合物を少なくとも含有するハードコート層用組成物から形成されたハードコート層と、下記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、及び（ｄ）を少なくとも含有する低屈折率層用組成物から形成された低屈折率層とをこの順で有する。
（ａ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体
（ｂ）単独で成膜した際の表面自由エネルギーが２３ｍＮ／ｍ以上であり、分子内に有する−ＣＦ３基の数が４個以下であり、フッ素含率が３０％以上で、１分子中に反応性官能基を少なくとも３つ以上有するフッ素含有多官能モノマー
（ｃ）平均粒子径が１０〜１００ｎｍの中空シリカ微粒子
（ｄ）ジメチルシロキサン骨格を有する化合物
【００１３】
以下、本発明の帯電防止反射防止フィルムに用いる低屈折率層用組成物について説明する。
＜低屈折率層用組成物＞
（ａ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体
エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体は、フッ素系オレフィンの重合物である。該含フッ素重合体を低屈折率層用組成物に用いることにより、低屈折率で、防汚性、耐薬品性、耐水性等の基本性能を発現する低屈折率層が得られる。
エチレン性不飽和基含有含フッ素化合物としては、側鎖に（メタ）アクリル基を有することが好ましい。これにより、（ｂ）成分であるフッ素含有多官能モノマーと共架橋化することができ、耐擦傷性が向上する。
【００１４】
エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体は、エチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物と、水酸基含有含フッ素重合体とを反応させて得ることができる。即ち、この場合のエチレン性不飽和基含有含フッ素重合体は、水酸基含有含フッ素重合体の水酸基が、エチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物により変性されたものである。
【００１５】
（１）エチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物
エチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物としては、分子内に、１個のイソシアネート基と、少なくとも１個のエチレン性不飽和基を含有している化合物であれば、特に制限されるものではない。
また、上記エチレン性不飽和基として、低屈折率層用組成物をより容易に硬化させることができることから、（メタ）アクリロイル基を有する化合物がより好ましい。
エチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物としては、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルイソシアネートの一種単独又は二種以上の組み合わせ等が挙げられる。
【００１６】
エチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物は、ジイソシアネート及び水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させて合成することもできる。
ジイソシアネートの例としては、２，４−トリレンジイソシアネ−ト、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、メチレンビス（４−シクロヘキシルイソシアネア−ト）、１，３−ビス（イソシアネートメチル）シクロヘキサンが好ましい。
水酸基含有（メタ）アクリレートの例としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートが好ましい。水酸基含有多官能（メタ）アクリレートの市販品としては、例えば、大阪有機化学（株）製  ＨＥＡ、日本化薬（株）製  ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ、ＰＥＴ−３０、東亞合成（株）製  アロニックス  Ｍ−２１５、Ｍ−２３３、Ｍ−３０５、Ｍ−４００等として入手することができる。
【００１７】
（２）水酸基含有含フッ素重合体
水酸基含有含フッ素重合体は、好ましくは、下記構造単位（α）、（β）及び（γ）を含む。
（α）下記式（１０１）で表される構造単位。
（β）下記式（１０２）で表される構造単位。
（γ）下記式（１０３）で表される構造単位。
【００１８】
【化４】
2013130865.tif 000005
【００１９】
［式（１０１）中、Ｒ101はフッ素原子、フルオロアルキル基又は−ＯＲ102で表される基（Ｒ102はアルキル基又はフルオロアルキル基を示す）を示す］
【００２０】
【化５】
2013130865.tif 000006
【００２１】
［式（１０２）中、Ｒ103は水素原子又はメチル基を、Ｒ104はアルキル基、−(ＣＨ2)x−ＯＲ105若しくは−ＯＣＯＲ105で表される基（Ｒ105はアルキル基又はグリシジル基を、ｘは０又は１の数を示す）、カルボキシル基又はアルコキシカルボニル基を示す］
【００２２】
【化６】
2013130865.tif 000007
【００２３】
［式（１０３）中、Ｒ106は水素原子又はメチル基を、Ｒ107は水素原子又はヒドロキシアルキル基を、ｖは０又は１の数を示す］
【００２４】
（ｉ）構造単位（α）
上記式（１０１）において、Ｒ101及びＲ102のフルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロシクロヘキシル基等の炭素数１〜６のフルオロアルキル基が挙げられる。また、Ｒ102のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基等の炭素数１〜６のアルキル基が挙げられる。
【００２５】
構造単位（α）は、含フッ素ビニル単量体を重合成分として用いることにより導入することができる。このような含フッ素ビニル単量体としては、少なくとも１個の重合性不飽和二重結合と、少なくとも１個のフッ素原子とを有する化合物であれば特に制限されるものではない。このような例としてはテトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン等のフルオロレフィン類；アルキルパーフルオロビニルエーテル又はアルコキシアルキルパーフルオロビニルエーテル類；パーフルオロ（メチルビニルエーテル）、パーフルオロ（エチルビニルエーテル）、パーフルオロ（プロピルビニルエーテル）、パーフルオロ（ブチルビニルエーテル）、パーフルオロ（イソブチルビニルエーテル）等のパーフルオロ（アルキルビニルエーテル）類；パーフルオロ（プロポキシプロピルビニルエーテル）等のパーフルオロ（アルコキシアルキルビニルエーテル）類の一種単独又は二種以上の組み合わせが挙げられる。
これらの中でも、ヘキサフルオロプロピレンとパーフルオロ（アルキルビニルエーテル）又はパーフルオロ（アルコキシアルキルビニルエーテル）がより好ましく、これらを組み合わせて用いることがさらに好ましい。
【００２６】
構造単位（α）の含有率は、低屈折率化と、水酸基含有含フッ素重合体の有機溶剤への溶解性、透明性、密着性等の観点から、水酸基含有含フッ素重合体の全体量を１００モル％としたときに、２０〜７０モル％が好ましく、２５〜６５モル％とするのがより好ましく、３０〜６０モル％とするのが更に好ましい。
【００２７】
（ii）構造単位（β）
式（１０２）において、Ｒ104又はＲ105のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ラウリル基等の炭素数１〜１２のアルキル基が挙げられ、アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等が挙げられる。
【００２８】
構造単位（β）は、上述の置換基を有するビニル単量体を重合成分として用いることにより導入することができる。このようなビニル単量体の例としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ｎ−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルビニルエーテル、ｎ−ペンチルビニルエーテル、ｎ−ヘキシルビニルエーテル、ｎ−オクチルビニルエーテル、ｎ−ドデシルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテルもしくはシクロアルキルビニルエーテル類；エチルアリルエーテル、ブチルアリルエーテル等のアリルエーテル類；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、ピバリン酸ビニル、カプロン酸ビニル、バーサチック酸ビニル、ステアリン酸ビニル等のカルボン酸ビニルエステル類；メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、２−（ｎ−プロポキシ）エチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステル類；（メタ）アクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸類等の一種単独又は二種以上の組み合わせが挙げられる。
【００２９】
構造単位（β）の含有率は、有機溶剤への溶解性や、透明性、反射率等の観点から、水酸基含有含フッ素重合体の全体量を１００モル％としたときに、１０〜７０モル％であることが好ましく、２０〜６０モル％とするのがより好ましく、３０〜６０モル％とするのが更に好ましい。
【００３０】
（iii）構造単位（γ）
式（１０３）において、Ｒ107のヒドロキシアルキル基としては、２−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシプロピル基、３−ヒドロキシプロピル基、４−ヒドロキシブチル基、３−ヒドロキシブチル基、５−ヒドロキシペンチル基、６−ヒドロキシヘキシル基が挙げられる。
【００３１】
構造単位（γ）は、水酸基含有ビニル単量体を重合成分として用いることにより導入することができる。このような水酸基含有ビニル単量体の例としては、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、３−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、２−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、３−ヒドロキシブチルビニルエーテル、５−ヒドロキシペンチルビニルエーテル、６−ヒドロキシヘキシルビニルエーテル等の水酸基含有ビニルエーテル類、２−ヒドロキシエチルアリルエーテル、４−ヒドロキシブチルアリルエーテル、グリセロールモノアリルエーテル等の水酸基含有アリルエーテル類、アリルアルコール等が挙げられる。
また、水酸基含有ビニル単量体としては、上記以外にも、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、カプロラクトン（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート等を用いることができる。
【００３２】
構造単位（γ）の含有率は、有機溶剤への溶解性や、透明性、反射率等の観点から、水酸基含有含フッ素重合体の全体量を１００モル％としたときに、５〜７０モル％とすることが好ましく、５〜４０モル％とするのがより好ましく、５〜３０モル％とするのが更に好ましい。
【００３３】
（iv）構造単位（δ）及び構造単位（ε）
水酸基含有含フッ素重合体は、更に下記構造単位（δ）を含んで構成することも好ましい。
（δ）下記式（１０４）で表される構造単位。
【００３４】
【化７】
2013130865.tif 000008
【００３５】
［式（１０４）中、Ｒ108及びＲ109は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基又はアリール基を示す］
【００３６】
式（１０４）において、Ｒ108又はＲ109のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜３のアルキル基が、ハロゲン化アルキル基としてはトリフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基等の炭素数１〜４のフルオロアルキル基等が、アリール基としてはフェニル基、ベンジル基、ナフチル基等がそれぞれ挙げられる。
【００３７】
構造単位（δ）は、前記式（１０４）で表されるポリシロキサンセグメントを有するアゾ基含有ポリシロキサン化合物を用いることにより導入することができる。このようなアゾ基含有ポリシロキサン化合物の例としては、下記式（１０５）で表される化合物が挙げられる。
【００３８】
【化８】
2013130865.tif 000009
【００３９】
［式（１０５）中、Ｒ110〜Ｒ113は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基又はシアノ基を示し、Ｒ114〜Ｒ117は、同一でも異なっていてもよく、水素原子又はアルキル基を示し、ｐ、ｑは１〜６の数、ｓ、ｔは０〜６の数、ｙは１〜２００の数、ｚは１〜２０の数を示す。］
【００４０】
式（１０５）で表される化合物を用いた場合には、構造単位（δ）は、構造単位（ε）の一部として水酸基含有含フッ素重合体に含まれる。
【００４１】
（ε）下記式（１０６）で表される構造単位。
【００４２】
【化９】
2013130865.tif 000010
【００４３】
［式（１０６）中、Ｒ110〜Ｒ113、Ｒ114〜Ｒ117、ｐ、ｑ、ｓ、ｔ及びｙは、上記式（１０５）と同じである。］
【００４４】
式（１０５），（１０６）において、Ｒ110〜Ｒ113のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基等の炭素数１〜１２のアルキル基が挙げられ、Ｒ114〜Ｒ117のアルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜３のアルキル基が挙げられる。
【００４５】
本発明において、上記式（１０５）で表されるアゾ基含有ポリシロキサン化合物としては、下記式（１０７）で表される化合物が特に好ましい。
【００４６】
【化１０】
2013130865.tif 000011
【００４７】
［式（１０７）中、ｙ及びｚは、上記式（１０５）と同じである。］
【００４８】
構造単位（δ）の含有率は、硬化後の塗膜の表面滑り性、耐擦傷性、透明性、塗布時のハジキ防止等の観点から、水酸基含有含フッ素重合体の全体量を１００モル％としたときに、０．１〜１０モル％とすることが好ましく、０．１〜５モル％とするのがより好ましく、０．１〜３モル％とするのが更に好ましい。同じ理由により、構造単位（ε）の含有率は、その中に含まれる構造単位（δ）の含有率を上記範囲にするよう決定することが望ましい。
【００４９】
（ｖ）構造単位（ζ）
水酸基含有含フッ素重合体は、さらに下記構造単位（ζ）を含んで構成することも好ましい。
【００５０】
（ζ）下記式（１０８）で表される構造単位。
【００５１】
【化１１】
2013130865.tif 000012
【００５２】
［式（１０８）中、Ｒ118は乳化作用を有する基を示す］
【００５３】
式（１０８）において、Ｒ118の乳化作用を有する基としては、疎水性基及び親水性基の双方を有し、かつ、親水性基がポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキサイド等のポリエーテル構造である基が好ましい。
【００５４】
このような乳化作用を有する基の例としては下記式（１０９）で表される基が挙げられる。
【００５５】
【化１２】
2013130865.tif 000013
【００５６】
［式（１０９）中、ｎは１〜２０の数、ｍは０〜４の数、ｕは３〜５０の数を示す］
【００５７】
構造単位（ζ）は、反応性乳化剤を重合成分として用いることにより導入することができる。このような反応性乳化剤としては、下記式（１１０）で表される化合物が挙げられる。
【００５８】
【化１３】
2013130865.tif 000014
【００５９】
［式（１１０）中、ｎ、ｍ及びｕは、上記式（１０９）と同様である］
【００６０】
構造単位（ζ）の含有率を、有機溶剤への溶解性や、組成物の粘着性、耐湿性等の観点から、水酸基含有含フッ素重合体の全体量を１００モル％としたときに、０．１〜５モル％とすることが好ましく、０．１〜３モル％とするのがより好ましく、０．２〜３モル％とするのが更に好ましい。
【００６１】
水酸基含有含フッ素重合体は、機械的強度、粘度の観点から、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで、テトラヒドロフランを溶剤として測定したポリスチレン換算数平均分子量が５，０００〜５００，０００であることが好ましく１０，０００〜３００，０００とするのがより好ましく、１０，０００〜１００，０００とするのが更に好ましい。
【００６２】
（３）反応モル比
エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体におけるエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物と水酸基含有含フッ素重合体とのイソシアネート基／水酸基のモル比は、耐擦傷性、耐久性等の観点から、１．１〜１．９であることが好ましく、１．１〜１．５であることがより好ましく、１．２〜１.５であることが更に好ましい。
【００６３】
低屈折率層用組成物における（ａ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体の含有量は、特に制限されるものではないが、硬化塗膜の屈折率、耐擦傷性の観点から、組成物の全固形分に対して１０〜６０質量％であることが好ましく、１５〜５５質量％であることがより好ましく、２０〜５０質量％であることが更に好ましい。
【００６４】
（ｂ）フッ素含有多官能モノマー
本発明に係る低屈折率層用組成物に用いられるフッ素含有多官能モノマーは、単独で成膜した際の表面自由エネルギーが２３ｍＮ／ｍ以上であり、分子内に有する−ＣＦ３基の数が４個以下であり、フッ素含率が３０％以上で、１分子中に反応性官能基を少なくとも３つ以上有する。
【００６５】
フッ素含有多官能モノマーが、分子内に有する−ＣＦ３基の数が４個以下であり、単独で成膜した際の表面自由エネルギーが２３ｍＮ／ｍ以上であることにより、４級アンモニウム塩基を有する化合物を含有するハードコート層との密着性が向上し、耐擦傷性が向上する。また、低屈折率層の塗膜の白濁も抑制できる。
分子内に有する−ＣＦ３基の数は３個以下であることが好ましく、２個以下であることが更に好ましく、実質的に１個も有さないことが最も好ましい。低屈折率化を実現するためには分子中のフッ素含率を上げることが必要となるが、フッ素含率を上げる分子設計として−ＣＦ３基が分子中に４個より多く存在すると表面自由エネルギーが低くなりすぎるため好ましくない。−ＣＦ２−基を有効に用いながらフッ素含率を上げることが好ましい。
【００６６】
ここで、前記表面自由エネルギー（γｓｖ：単位、ｍＮ／ｍ）とは、Ｄ．Ｋ．Ｏｗｅｎｓ：Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．，１３，１７４１（１９６９）を参考に、フッ素含有多官能モノマーの単独膜上で実験的に求めた純水Ｈ２Ｏとヨウ化メチレンＣＨ２Ｉ２のそれぞれの接触角θＨ２Ｏ、θＣＨ２Ｉ２から以下の連立方程式（ａ），（ｂ）より求めたγｓｄとγｓｈの和で表される値γｓｖ（＝γｓｄ＋γｓｈ）で定義されるものとする。
（ａ）  １＋ｃｏｓθＨ２Ｏ＝２√γｓｄ（√γＨ２Ｏｄ／γＨ２Ｏｖ）＋２√γｓｈ（√γＨ２Ｏｈ／γＨ２Ｏｖ）
（ｂ）  １＋ｃｏｓθＣＨ２Ｉ２＝２√γｓｄ（√γＣＨ２Ｉ２ｄ／γＣＨ２Ｉ２ｖ）＋２√γｓｈ（√γＣＨ２Ｉ２ｈ／γＣＨ２Ｉ２ｖ）
（ただし、γＨ２Ｏｄ＝２１．８、γＨ２Ｏｈ＝５１．０、γＨ２Ｏｖ＝７２．８、γＣＨ２Ｉ２ｄ＝４９．５、γＣＨ２Ｉ２ｈ＝１．３、γＣＨ２Ｉ２ｖ＝５０．８とする。）
【００６７】
フッ素含有多官能モノマーの単独膜上での純水とヨウ化メチレンの接触角は以下のようにして測定する。
まず、セルローストリアセテートフィルム（ＴＤＨ６０ＵＦ、富士フイルム（株）製、屈折率１．４８）上にフッ素含有多官能モノマーの単独膜を作製する。作製の条件としては、まず開始剤（ＩＲＧＡＣＵＲＥ  １２７：チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製）を固形分中４質量％添加した試料をスピンコート法により膜厚が５μｍとなるように製膜する。溶媒を含有する場合にはその後十分乾燥させてから（使用する溶剤の沸点により乾燥温度、時間は適宜調整できるが、例えばＭＥＫを使用する場合は８０℃で１分間乾燥させる）、紫外線照射により硬化を行い単独膜形成フィルムを得る。紫外線硬化条件は酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ２、照射量６００ｍＪ／ｃｍ２の照射量とする。また、ハジキ等面状故障が起こらないよう固形分濃度は適宜調整できる。
続いて、接触角計［“ＣＡ−Ｘ”型接触角計、協和界面科学（株）製］を用い、乾燥状態（２０℃６５％ＲＨで２時間調湿した後）で、液体として純水を使用して直径１．０ｍｍの液滴を針先に作り、これを上記のフィルムの表面に接触させてフィルム上に液滴を作る。該液滴についてフィルムと液体とが接する点における、液体表面に対する接線とフィルム表面がなす角で液体を含む側の角度を接触角とし、測定する。また、水の代わりにヨウ化メチレンを用いて同様に接触角を測定することができる。
【００６８】
表面自由エネルギーは、２４ｍＮ／ｍ以上が好ましく、２７ｍＮ／ｍ以上がより好ましい。上限としては、３５ｍＮ／ｍ以下が好ましい。３５ｍＮ／ｍを超えるような場合、フッ素含率が低く屈折率が高くなる傾向がある。
【００６９】
以下、本発明で好ましく使用されるフッ素含有多官能モノマーについて、詳細に説明する。
本発明で用いられるフッ素含有多官能モノマーとは、主に複数のフッ素原子と炭素原子を有し（但し、一部に酸素原子及び／又は水素原子を含んでもよい）、実質的に重合に関与しない原子団（以下、「含フッ素コア部」ともいう）と、エステル結合やエーテル結合などの連結基を介してラジカル重合性、イオン重合性、または縮合重合性などの重合性を有する、反応性官能基を少なくとも３つ以上有する化合物である。
反応性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、アリル基、アルコキシシリル基、α−フルオロアクリロイル基、エポキシ基、及び−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ2等が挙げられる。これらの中でも、重合性の観点から、ラジカルまたはカチオン重合性を有する（メタ）アクリロイル基、アリル基、α−フルオロアクリロイル基、エポキシ基、および−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ2が好ましく、より好ましいのは、ラジカル重合性を有する（メタ）アクリロイル基、アリル基、α−フルオロアクリロイル基、および−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ2であり、更に好ましくは、（メタ）アクリロイル基、又は−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ2である。
「含フッ素コア部」としては、鎖状又は環状の、ｎ価（反応性官能基の数）のペルフルオロ化水素基であることが好ましい。
含フッ素コア部における水素原子数／フッ素原子数は、好ましくは１／４以下、より好ましくは１／９以下である。含フッ素コア部における水素原子数／フッ素原子数が１／４以下であると防汚性が良好になり好ましい。ｎは３以上の整数を表し、ｎは４以上であることが好ましく、５以上であることが更に好ましい。上限としては１０以下であることが好ましい。
【００７０】
含フッ素コア部の代表的なものとして、下記の具体例が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００７１】
【化１４】
2013130865.tif 000015
【００７２】
上記具体例のうち、Ｒｆ−６，８〜１５、１８が好ましい。
上記具体例中、＊は反応性官能基あるいは水酸基に連結する位置を表す。ただし、反応性官能基あるいは水酸基と含フッ素コア部の間に二価の連結基を有していてもよい。
該二価の連結基としては、炭素数１〜１０のアルキレン基、炭素数６〜１０のアリーレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ）−、炭素数１〜１０のアルキレン基と−Ｏ−、−Ｓ−または−Ｎ（Ｒ）−を組み合わせて得られる基、炭素数６〜１０のアリーレン基と−Ｏ−、−Ｓ−または−Ｎ（Ｒ）−を組み合わせて得られる基を表す。Ｒは水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を表す。Ｌがアルキレン基又はアリーレン基を表す場合、Ｌで表されるアルキレン基及びアリーレン基はハロゲン原子で置換されていることが好ましく、フッ素原子で置換されていることが好ましい。
【００７３】
フッ素含有多官能モノマーとしては、低屈折率性、４級アンモニウム塩基を有する化合物を含有するハードコート層を用いた際の耐擦傷性、及び白濁の抑制を両立できる点から、下記一般式（１）で表される化合物が好ましい。
一般式（１）：
【００７４】
【化１５】
2013130865.tif 000016
【００７５】
（式中、Ｒｆ１はエーテル結合を有していてもよい（ｐ＋ｑ）価のペルフルオロ飽和炭化水素基を表す。Ｒｆ２は少なくとも炭素原子及びフッ素原子を含み、酸素原子又は水素原子を含んでもよい、鎖状又は環状の、１価のフッ化炭化水素基を表す。ｐは３〜１０の整数、ｑは０〜７の整数で、かつ、（ｐ＋ｑ）は３〜１０の整数を表す。ｒは０〜１００の整数、ｓ、ｔはそれぞれ独立に０又は１を表す。Ｒは水素原子、メチル基、又はフッ素原子を表す。（ｐ＋ｑ）が５以上の場合、ｔは０である。なお、一般式（１）において、（ＯＣＦ２ＣＦ２）、（ＯＣＦ２）、（ＯＣＦＲｆ２）の配置順に限定はない。）
【００７６】
一般式（１）について説明する。
Ｒｆ１はエーテル結合を有していてもよい（ｐ＋ｑ）価のペルフルオロ飽和炭化水素基を表し、前述の含フッ素コア部に相当する。Ｒｆ１の具体例及びその好ましい範囲は、前述の含フッ素コア部と同じである。Ｒｆ２は少なくとも炭素原子及びフッ素原子を含み、酸素原子又は水素原子を含んでもよい（酸素原子及び水素原子の両方を含んでもよい）、鎖状又は環状の、１価のフッ化炭化水素基を表す。
Ｒｆ２は、好ましくは炭素数１〜１２の鎖状又は分岐のペルフルオロアルキル基（例えば、トリフルオロメチル、ペルフルオロエチル、ペルフルオロプロピル等）又は炭素数３〜１２のペルフルオロシクロアルキル基（例えば、ペルフルオロペンチル、ペルフルオロシクロヘキシル等）であり、より好ましくは上記のペルフルオロアルキル基であり、最も好ましくはトリフルオロメチル基である。
ｐは３〜１０の整数を表し、３〜６が好ましく、３〜４がより好ましい。
ｑは０〜７の整数を表し、０〜３が好ましく、０〜１がより好ましく、０が更に好ましい。
（ｐ＋ｑ）は３〜１０の整数を表し、３〜６が好ましく、３〜４がより好ましい。
ｒは０〜１００の整数を表し、０〜２０が好ましく、１〜５がより好ましく、１が更に好ましい。ｓは０又は１を表し、０が好ましい。ｔは０又は１を表し、フッ素含有多官能モノマーの表面エネルギーが低くなりすぎないという観点から０が好ましい。
Ｒは水素原子、メチル基、又はフッ素原子を表し、水素原子、メチル基が好ましく、水素原子がより好ましい。
一般式（１）において、ｒ＝１〜５、ｓ＝０又は１、ｔ＝０又は１、ｐ＝３〜６、ｑ＝０である場合も好ましい態様である。
【００７７】
以下に、フッ素含有多官能モノマーの好ましい具体例を挙げるが、本発明はこれらによって限定されない。
【００７８】
【化１６】
2013130865.tif 000017
【００７９】
【化１７】
2013130865.tif 000018
【００８０】
【化１８】
2013130865.tif 000019
【００８１】
【化１９】
2013130865.tif 000020
【００８２】
【化２０】
2013130865.tif 000021
【００８３】
【化２１】
2013130865.tif 000022
【００８４】
【化２２】
2013130865.tif 000023
【００８５】
【化２３】
2013130865.tif 000024
【００８６】
これらの化合物は例えば特開平１０−１８２５５８、特開平１１−６０６３７に記載の方法によって合成することができる。
【００８７】
上記フッ素含有多官能モノマーＸ−４、Ｘ−７、Ｘ−１０、Ｘ−１２〜Ｘ−１５、Ｘ−２１〜Ｘ−３３のフッ素含率は、以下の通りである。
Ｘ−４：  ３４．２％
Ｘ−７：  ４４．０％
Ｘ−１０：  ３４．１％
Ｘ−１２：  ３１．４％
Ｘ−１３：  ３５．６％
Ｘ−１４：  ３０．６％
Ｘ−１５：  ４５．９％
Ｘ−２１：  ３７．５％
Ｘ−２２：  ４６．２％
Ｘ−２３：  ４８．６％
Ｘ−２４：  ４７．７％
Ｘ−２５：  ４９．８％
Ｘ−２６：  ４５．８％
Ｘ−２７：  ３６．６％
Ｘ−２８：  ３９．８％
Ｘ−２９：  ４４．０％
Ｘ−３０：  ３５．１％
Ｘ−３１：  ４４．９％
Ｘ−３２：  ３６．２％
Ｘ−３３：  ４７．８％
【００８８】
また、上記フッ素含有多官能モノマーＭ−１〜Ｍ−１３、Ｍ−１５、Ｍ−１６のフッ素含率は、以下の通りである。
Ｍ−１：  ４４．９％
Ｍ−２：  ４２．５％
Ｍ−３：  ４８．９％
Ｍ−４：  ５０．０％
Ｍ−５：  ３４．３％
Ｍ−６：  ３１．７％
Ｍ−７：  ５１．５％
Ｍ−８：  ４９．４％
Ｍ−９：  ４９．０％
Ｍ−１０：  ４６．５％
Ｍ−１１：  ５２．７％
Ｍ−１２：  ４１．７％
Ｍ−１３：  ５４．４％
Ｍ−１５：  ４４．５％
Ｍ−１６：  ３７．３％
【００８９】
また、フッ素含有多官能モノマーの好ましい具体例として以下のものも挙げることができるが、本発明はこれらによって限定されない。以下の具体例中、Ｃｆはフッ素含率を表す。
【００９０】
【化２４】
2013130865.tif 000025
【００９１】
【化２５】
2013130865.tif 000026
【００９２】
【化２６】
2013130865.tif 000027
【００９３】
【化２７】
2013130865.tif 000028
【００９４】
更にまた、フッ素含有多官能モノマーの好ましい具体例として以下のものも挙げることができるが、本発明はこれらによって限定されない。
【００９５】
【化２８】
2013130865.tif 000029
【００９６】
【化２９】
2013130865.tif 000030
【００９７】
【化３０】
2013130865.tif 000031
【００９８】
【化３１】
2013130865.tif 000032
【００９９】
【化３２】
2013130865.tif 000033
【０１００】
上記フッ素含有多官能モノマーＦＭ−１〜ＦＭ−２４のフッ素含率は、以下の通りである。
ＦＭ−１：５２．８％
ＦＭ−２：５２．５％
ＦＭ−３：４９．１％
ＦＭ−４：５４．９％
ＦＭ−５：５６．７％
ＦＭ−６：４７．５％
ＦＭ−７：４９．６％
ＦＭ−８：５１．６％
ＦＭ−１２：４８．４％
ＦＭ−１３：４９．０％
ＦＭ−１４：４９．７％
ＦＭ−１５：４９．７％
ＦＭ−１９：５０．９％
ＦＭ−２０：５２．０％
ＦＭ−２１：４６．９％
ＦＭ−２２：４９．７％
ＦＭ−２３：５１．７％
ＦＭ−２４：５０．１％
【０１０１】
フッ素含有多官能モノマーのフッ素含率が３０％以上である。３０％以上であれば、好ましい低屈折率の塗膜を得ることができる。フッ素含率は、好ましくは３５％以上であり、より好ましくは４０％以上であり、更に好ましくは４５％以上である。上限は特に制限されないが、通常６０％以下である。なお、本発明で言う「フッ素含率」とは、モノマーの分子量に対するフッ素原子の質量％である。
【０１０２】
低屈折率層用組成物における（ｂ）フッ素含有多官能モノマーの含有量は、特に制限されるものではないが、耐擦傷性付与、面状故障を防ぐという観点から、組成物の全固形分に対して５〜５０質量％であることが好ましく、１０〜４０質量％であることがより好ましく、１０〜３０質量％であることが更に好ましい。
【０１０３】
分子内に有する−ＣＦ３基の数が５個以上であり、単独で成膜した際の表面自由エネルギーが２３ｍＮ／ｍ未満であるフッ素含有多官能モノマーも耐擦傷性や低屈折率層の塗膜の白濁に影響のない範囲であれば併用することができる。具体例としては、ＬＩＮＣ−２Ａ、ＬＩＮＣ−３Ａ、ＬＩＮＣ−５Ａ（以上、共栄社化学（株）製）が挙げられる。このフッ素含有多官能モノマーの低屈折率層用組成物における含有量は、組成物の全固形分に対して、０〜２０質量％が好ましく、０〜１０質量％が好ましくが、０％であること（即ち、併用しないこと）が最も好ましい。
【０１０４】
（ｃ）中空シリカ微粒子
以下、本発明に係る低屈折率層用組成物に用いられる中空シリカ微粒子について説明する。
本発明に係る低屈折率層用組成物は、低屈折率化と耐擦傷性の観点から、平均粒子径が１０〜１００ｎｍの中空シリカ微粒子を含有する。
中空シリカ微粒子の空隙率は、低屈折率化と耐擦傷性の観点から、好ましくは１０〜８０％、更に好ましくは２０〜６０％、最も好ましくは３０〜６０％である。
【０１０５】
中空シリカ微粒子の屈折率は、１．１０〜１．４０が好ましく、更に好ましくは１．１５〜１．３５、最もに好ましくは１．１５〜１．３０である。ここでの屈折率は粒子全体として屈折率を表し、シリカ粒子を形成している外殻のシリカのみの屈折率を表すものではない。
【０１０６】
中空シリカ微粒子の製造方法は、例えば、特開２００１−２３３６１１号公報や特開２００２−７９６１６号公報に記載されている。特にシェルの内部に空洞を有している粒子で、そのシェルの細孔が閉塞されている粒子が特に好ましい。なお、これら中空シリカ微粒子の屈折率は特開２００２−７９６１６号公報に記載の方法で算出することができる。
【０１０７】
本発明の帯電防止性反射防止フィルムにおいて、中空シリカ微粒子の塗設量は、１ｍｇ／ｍ２〜１００ｍｇ／ｍ２が好ましく、より好ましくは５ｍｇ／ｍ２〜８０ｍｇ／ｍ２、更に好ましくは１０ｍｇ／ｍ２〜６０ｍｇ／ｍ２である。この範囲であると、低屈折率化の効果や耐擦傷性の改良効果が得られ、黒締りなど外観や積分反射率も良好なものとすることができる。
【０１０８】
中空シリカ微粒子の平均粒子径は、低屈折率化、耐擦傷性の改良効果、黒締りなどの外観、反射率などの観点から、１０〜１００ｎｍであり、好ましくは３０〜８０ｎｍであり、更に好ましくは４０〜６０ｎｍである。中空シリカ粒子はサイズ分布を有していてもよく、その変動係数は好ましくは６０％〜５％、更に好ましくは５０％〜１０％である。
中空シリカ微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良く、また単分散粒子が好ましい。形状は、球径が最も好ましいが、不定形であってもよい。
また、中空シリカ微粒子は粒子平均粒子サイズの異なるものを２種以上併用して用いることができる。ここで、中空シリカ微粒子の平均粒子径は電子顕微鏡写真から求めることができる。
【０１０９】
中空シリカ微粒子は、特開２００７−２９８９７４号の［０１０３］〜［０１０５］に記載の方法により製造することができる。
【０１１０】
低屈折率層用組成物における（ｃ）中空シリカ微粒子の含有量は、低屈折率と耐擦傷性の観点から、組成物の全固形分に対して１０〜７０質量％であることが好ましく、２０〜５０質量％であることがより好ましく、３０〜５０質量％であることが更に好ましい。
【０１１１】
（ｅ）中実シリカ微粒子
本発明に係る低屈折率層用組成物には、平均粒子径４０〜１００ｎｍの中実シリカ微粒子を用いることもできる。該中実シリカ微粒子を用いることで、耐摩耗性等を向上させることができる。
平均粒子径は、好ましくは４０〜９０ｎｍであり、更に好ましくは４０〜８０ｎｍである。平均粒子径は、電子顕微鏡写真から求めることができる。
中実シリカ微粒子は、公知のものを使用することができ、また、その形状も球状に限らず、不定形の粒子であってもよい。
【０１１２】
低屈折率層用組成物における（ｅ）中実シリカ微粒子の含有量は、耐磨耗性、低屈折率化の観点から、組成物の全固形分に対して０．１〜１０質量％であり、２〜８質量％であることが好ましく、３〜６質量％であることがより好ましい。
【０１１３】
［シリカ微粒子の表面処理方法］
本発明に係る低屈折率層形成用組成物に用いる（ｃ）中空シリカ微粒子及び（ｅ）中実シリカ微粒子は、分散性を改良するために表面処理を行うことも好ましい。
シリカ微粒子の表面は下記一般式（１０）で表されるオルガノシランの加水分解物及び／又はその部分縮合物により処理がされているのが好ましく、処理の際に、酸触媒及び金属キレート化合物のいずれか、あるいは両者が使用されることが更に好ましい。
【０１１４】
（オルガノシラン化合物）
本発明に用いることのできるオルガノシラン化合物について詳細に説明する。
一般式（１０）：（Ｒ10）a1−Ｓｉ（Ｘ11）4-a1
【０１１５】
一般式（１０）において、Ｒ10は、置換もしくは無置換のアルキル基、又は置換もしくは無置換のアリール基を表す。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピル基、ヘキシル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ヘキシル基、デシル基、ヘキサデシル基等が挙げられる。アルキル基として好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは１〜６のものである。アリール基としてはフェニル基、ナフチル基等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。
【０１１６】
Ｘ11は、水酸基又は加水分解可能な基を表す。加水分解可能な基としては、例えばアルコキシ基（炭素数１〜５のアルコキシ基が好ましく、例えばメトキシ基、エトキシ基等が挙げられる）、ハロゲン原子（例えばＣｌ、Ｂｒ、Ｉ等）、及びＲ12ＣＯＯ（Ｒ12は水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基が好ましく、例えばＣＨ3ＣＯＯ、Ｃ2Ｈ5ＣＯＯ等が挙げられる）で表される基が挙げられ、好ましくはアルコキシ基であり、特に好ましくはメトキシ基又はエトキシ基である。
ａ１は１〜３の整数を表す。好ましくは１又は２であり、特に好ましくは１である。Ｒ10又はＸ11が複数存在するとき、複数のＲ10又はＸ11はそれぞれ異なっていてもよい。
【０１１７】
Ｒ10に含まれる置換基としては特に制限はないが、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基（メチル基、エチ基、ｉ−プロピル基、プロピル基、ｔ−ブチル基等）、アリール基（フェニル基、ナフチル基等）、芳香族ヘテロ環基（フリル基、ピラゾリル基、ピリジル基等）、アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基、ｉ−プロポキシ基、ヘキシルオキシ基等）、アリールオキシ基（フェノキシ基等）、アルキルチオ基（メチルチオ基、エチルチオ基等）、アリールチオ基（フェニルチオ基等）、アルケニル基（ビニル基、１−プロペニル基等）、アシルオキシ基（アセトキシ基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基等）、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（フェノキシカルボニル基等）、カルバモイル基（カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ−メチル−Ｎ−オクチルカルバモイル基等）、アシルアミノ基（アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、アクリルアミノ基、メタクリルアミノ基等）等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていてもよい。なお、本明細書においては、水素原子を置換するものが単一の原子であっても、便宜上置換基として取り扱う。
【０１１８】
Ｒ10が複数ある場合は、少なくとも１つが置換アルキル基又は置換アリール基であることが好ましい。中でも該置換アルキル基又は置換アリール基がさらにビニル重合性基を有することが好ましく、この場合、一般式（１０）で表される化合物は、下記一般式（１０−２）で表されるビニル重合性の置換基を有するオルガノシラン化合物として表すことができる。
一般式（１０−２）：
【０１１９】
【化３３】
2013130865.tif 000034
【０１２０】
一般式（１０−２）において、Ｒ11は、水素原子、メチル基、メトキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子又は塩素原子を表す。上記アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。Ｒ11としては、水素原子、メチル基、メトキシ基、メトキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子及び塩素原子が好ましく、水素原子、メチル基、メトキシカルボニル基、フッ素原子及び塩素原子が更に好ましく、水素原子及びメチル基が特に好ましい。
【０１２１】
Ｙ11は、単結合、エステル基、アミド基、エーテル基又はウレア基を表す。単結合、エステル基及びアミド基が好ましく、単結合及びエステル基が更に好ましく、エステル基が特に好ましい。
【０１２２】
Ｌ11は、２価の連結鎖であり、具体的には、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基（例えば、エーテル基、エステル基、アミド基）を有する置換もしくは無置換のアルキレン基、又は内部に連結基を有する置換もしくは無置換のアリーレン基であり、中でも、置換もしくは無置換の炭素数２〜１０のアルキレン基、置換もしくは無置換の炭素数６〜２０のアリーレン基、内部に連結基を有する炭素数３〜１０のアルキレン基が好ましく、無置換のアルキレン基、無置換のアリーレン基、内部にエーテル連結基又はエステル連結基を有するアルキレン基が更に好ましく、無置換のアルキレン基、内部にエーテル連結基又はエステル連結基を有するアルキレン基が特に好ましい。置換基は、ハロゲン、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アリール基等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていてもよい。
【０１２３】
ａ２は０又は１を表す。Ｘ11が複数存在するとき、複数のＸ11はそれぞれ同じであっても異なっていてもよい。ａ２として好ましくは０である。
【０１２４】
Ｒ10は、前記一般式（１０）のＲ10と同義であり、置換もしくは無置換のアルキル基、無置換のアリール基が好ましく、無置換のアルキル基、無置換のアリール基が更に好ましい。Ｘ11も一般式（１０）のＸ11と同義であり、ハロゲン、水酸基、無置換のアルコキシ基が好ましく、塩素、水酸基、無置換の炭素数１〜６のアルコキシ基が更に好ましく、水酸基、炭素数１〜３のアルコキシ基が更に好ましく、メトキシ基が特に好ましい。
【０１２５】
本発明に用いるオルガノシラン化合物として、下記一般式（２０）で表されるものも好ましい。
一般式（２０）：（Ｒf−Ｌ21）b1−Ｓｉ（Ｘ21）b1-4
【０１２６】
上記一般式（２０）中、Ｒfは炭素数１〜２０の直鎖、分岐、環状の含フッ素アルキル基、又は炭素数６〜１４の含フッ素芳香族基を表す。Ｒfは、炭素数３〜１０の直鎖、分岐、環状のフルオロアルキル基が好ましく、炭素数４〜８の直鎖のフルオロアルキル基が更に好ましい。Ｌ21は炭素数１０以下の２価の連結基を表し、好ましくは炭素数１〜１０のアルキレン基、更に好ましくは炭素数１〜５のアルキレン基を表す。アルキレン基は、直鎖もしくは分岐の、置換もしくは無置換の、内部に連結基（例えば、エーテル、エステル、アミド）を有していてもよいアルキレン基である。アルキレン基は置換基を有していてもよく、その場合の好ましい置換基は、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アリール基等が挙げられる。Ｘ21は、一般式（１）のＸ11と同義であり、ハロゲン、水酸基、無置換のアルコキシ基が好ましく、塩素、水酸基、無置換の炭素数１〜６のアルコキシ基が更に好ましく、水酸基、炭素数１〜３のアルコキシ基が更に好ましく、メトキシ基が特に好ましい。
ｂ１は前記一般式（１０）のａ１と同義であり、１〜３の整数を表す。好ましくは１又は２であり、特に好ましくは１である。
【０１２７】
次に、一般式（２０）で表される含フッ素シランカップリング剤の中でも、下記一般式（２０−１）で表される含フッ素シランカップリング剤が好ましい。
一般式（２０−１）：ＣnＦ2n+1−（ＣＨ2）m−Ｓｉ（Ｘ22）3
上記一般式（２０−１）中、ｎは１〜１０の整数、ｍは１〜５の整数を表す。ｎは４〜１０が好ましく、ｍは１〜３が好ましく、Ｘ22はメトキシ基、エトキシ基、及び塩素原子を表す。
【０１２８】
一般式（１）、一般式（１０−２）、一般式（２０）、及び一般式（２０−１）で表される化合物は２種類以上を併用してもよい。
【０１２９】
一般式（１０）、一般式（１０−２）、一般式（２０）、及び一般式（２０−１）で表される化合物の具体例としては、特開２００７−２９８９７４号公報の［０１３５］〜［０１４４］に記載のものが挙げられる。
【０１３０】
また、ジシロキサン系の化合物も表面処理剤として用いることができ、例えば、ヘキサメチルジシロキサン、１，３−ジブチルテトラメチルジシロキサン、１，３−ジフェニルテトラメチルジシロキサン、１，３−ジビニルテトラメチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、３−グリシドキシプロピルペンタメチルジシロキサンなどが挙げられる。
【０１３１】
本発明において、前記一般式（１０）、一般式（１０−２）、一般式（２０）、及び一般式（２０−１）で表されるオルガノシラン化合物の使用量は、特に制限はないが、シリカ微粒子当たり１〜３００質量％が好ましく、更に好ましくは３〜１００質量％、最も好ましくは５〜５０質量％である。シリカ微粒子の表面の水酸基当たりでは１〜３００モル％が好ましく、更に好ましくは５〜３００モル％、最も好ましくは１０〜２００モル％である。オルガノシラン化合物の使用量が上記範囲であると、分散液の安定化効果が充分得られ、塗膜形成時に膜強度も上昇する。本発明においては、複数種のオルガノシラン化合物を併用することも好ましく、複数種の化合物を同時に添加することも、添加時間をずらして反応させることもできる。また、複数種の化合物を予め部分縮合物にしてから添加すると反応制御が容易であり好ましい。
【０１３２】
〔無機微粒子の分散性の改善〕
本発明においては、以上述べたオルガノシラン化合物の加水分解物及び／又はその部分縮合物を無機微粒子表面と作用させることにより、無機微粒子の分散性を改善することができる。オルガノシラン化合物の加水分解／縮合反応は、加水分解性基（Ｘ11、Ｘ21及びＸ22）１モルに対して、０．３〜２．０モル、好ましくは０．５〜１．０モルの水を添加し、本発明に用いられる酸触媒又は、金属キレート化合物の存在下、１５〜１００℃で、撹拌することにより行われることが好ましい。
【０１３３】
［分散性改良処理の触媒］
オルガノシランの加水分解物及び／又は縮合反応物による分散性の改良処理は、触媒の存在下で行われることが好ましい。触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸類；シュウ酸、酢酸、ギ酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸等の有機酸類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等の無機塩基類；トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基類；トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム等の金属アルコキシド類等が挙げられるが、無機酸化物微粒子液の製造安定性や保存安定性の点から、本発明においては、酸触媒（無機酸類、有機酸類）及び／又は金属キレート化合物が用いられる。無機酸では塩酸、硫酸、有機酸では、水中での酸解離定数(ｐＫa値(25℃))が４．５以下のものが好ましく、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が３．０以下の有機酸がより好ましく、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が２．５以下の有機酸が更に好ましく、水中での酸解離定数が２．５以下の有機酸が更に好ましく、メタンスルホン酸、シュウ酸、フタル酸、マロン酸が更に好ましく、シュウ酸が特に好ましい。
【０１３４】
オルガノシランの加水分解性基がアルコキシ基で酸触媒が有機酸の場合には、有機酸のカルボキシル基やスルホ基がプロトンを供給するために、水の添加量を減らすことができる。オルガノシランのアルコキシド基１モルに対する水の添加量は、０〜２モル、好ましくは０〜１．５モル、より好ましくは、０〜１モル、特に好ましくは、０〜０．５モルである。また、アルコールを溶媒に用いた場合には、実質的に水を添加しない態様も好適である。
【０１３５】
（金属キレート化合物）
本発明において、オルガノシランの加水分解物及び／又は縮合反応物による分散性の改良処理に用いる金属キレート化合物は、下記一般式（３０−１）で表されるアルコールと下記一般式（３０−２）で表される化合物とを配位子とした、Ｚｒ、Ｔｉ又はＡｌから選ばれる金属を中心金属とする少なくとも１種の金属キレート化合物が好ましい。金属キレート化合物は、Ｚｒ、Ｔｉ又はＡｌから選ばれる金属を中心金属とするものであれば、特に制限なく好適に用いることができる。この範疇であれば、２種以上の金属キレート化合物を併用してもよい。
一般式（３０−１）：Ｒ31ＯＨ
一般式（３０−２）：Ｒ32ＣＯＣＨ2ＣＯＲ33
（式中、Ｒ31及びＲ32は、同一又は異なってもよく、炭素数１〜１０のアルキル基を示し、Ｒ33は炭素数１〜１０のアルキル基又は炭素数１〜１０のアルコキシ基を示す。）
【０１３６】
本発明に好適に用いられる金属キレート化合物の具体例としては、トリ−ｎ−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジ−ｎ−ブトキシビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ｎ−ブトキシトリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（ｎ−プロピルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（アセチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（エチルアセトアセテート）ジルコニウムなどのジルコニウムキレート化合物；ジイソプロポキシ・ビス（エチルアセトアセテート）チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス（アセチルアセテート）チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス（アセチルアセトン）チタニウムなどのチタニウムキレート化合物；ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、ジイソプロポキシアセチルアセトナートアルミニウム、イソプロポキシビス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、イソプロポキシビス（アセチルアセトナート）アルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、トリス（アセチルアセトナート）アルミニウム、モノアセチルアセトナート・ビス（エチルアセトアセテート）アルミニウムなどのアルミニウムキレート化合物などが挙げられる。
【０１３７】
これらの金属キレート化合物のうち好ましいものは、トリ−ｎ−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジイソプロポキシ・ビス（アセチルアセトナート）チタニウム、ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウムである。これらの金属キレート化合物は、１種単独であるいは２種以上混合して使用することができる。また、これらの金属キレート化合物の部分加水分解物を使用することもできる。これらの金属キレート化合物の量は、オルガノシラン化合物に対して０．１〜１０．０質量％が好ましく、更に好ましくは０．５〜５．０質量％、最も好ましくは１．０〜３．０質量％である。
【０１３８】
［分散剤］
本発明において、シリカ微粒子を粉体から溶媒中に分散して調製するには、分散剤を用いることもできる。本発明においてアニオン性基を有する分散剤を用いることが好ましい。
【０１３９】
アニオン性基としては、カルボキシル基、スルホン酸基（スルホ）、リン酸基（ホスホノ）、スルホンアミド基等の酸性プロトンを有する基、又はその塩が有効であり、特にカルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基又はその塩が好ましく、カルボキシル基、リン酸基が特に好ましい。分散性をさらに改良する目的でアニオン性基は複数個が含有されていてもよい。平均で２個以上であることが好ましく、より好ましくは５個以上、特に好ましくは１０個以上である。また、分散剤に含有されるアニオン性基は、１分子中に複数種類が含有されていてもよい。
【０１４０】
分散剤は、さらに架橋又は重合性官能基を含有することもできる。架橋性又は重合性官能基としては、ラジカル種による付加反応・重合反応が可能なエチレン性不飽和基｛例えば（メタ）アクリロイル基、アリル基、スチリル基、ビニルオキシ基等｝、カチオン重合性基（エポキシ基、オキサタニル基、ビニルオキシ基等）、重縮合反応性基（加水分解性シリル基等、Ｎ−メチロール基）等が挙げられ、好ましくはエチレン性不飽和基を有する官能基である。
これら分散剤の使用量は、シリカ微粒子に対して好ましくは、０．５〜３０質量％、更に好ましくは１〜２０質量％、最も好ましくは２〜１５質量％である。該範囲では、分散性の改良が認められ、かつ塗膜強度の低下等の弊害もなく好ましい。
【０１４１】
（ｄ）ジメチルシロキサン骨格を有する化合物
以下、本発明に係る低屈折率層用組成物に用いられるジメチルシロキサン骨格を有する化合物について説明する。
ジメチルシロキサン骨格を有する化合物を用いることで、表面滑り性を改善し、硬化塗膜の耐擦傷性を向上に効果があるとともに、防汚性を付与することができる。該化合物は、（メタ）アクリロイル基やビニル基等の反応性基を有することが好ましい。
これらの具体例としては、サイラプレーン、ＦＭ−７７１１、ＦＭ−７７２１、ＦＭ−７７２５、ＦＭ０７１１、ＦＭ０７２１、ＦＭ−０７２５、ＴＭ−０７０１、ＴＭ−０７０１Ｔ（ＪＮＣ（株）製）、Ｘ２２−１６４Ａ、Ｘ２２−１６４Ｂ、Ｘ２２−１６４Ｃ、Ｘ２２−１６４Ｅ、Ｘ２２−１７４ＤＸ、Ｘ２２−２４２６（信越化学工業（株）製）ＵＶ３５００、ＵＶ３５１０、ＵＶ３５３０（ビックケミー・ジャパン（株）製）、ＢＹ１６−００４、ＳＦ８４２８（東レ・ダウコーニングシリコーン（株）製）、ＴＥＧＯ  ｒａｄ２３００、ＴＥＧＯ  ｒａｄ２５００、ＴＥＧＯ  ｒａｄ２６００、ＴＥＧＯ  ｒａｄ２６５０、ＴＥＧＯ  ｒａｄ２７００（エボニックデグサ製）、ＲＭＳ−０３３、ＲＭＳ−０４４、ＲＭＳ−０８３、ＵＭＳ−１８２、ＵＭＳ−９９２、ＵＣＳ−０５２（Ｇｅｌｅｓｔ製）、ＶＰＳ−１００１（和光純薬製）等が挙げられる。特にサイラプレーンＦＭ−７７１１、ＦＭ−７７２１、ＦＭ−７７２５、ＦＭ０７１１、ＦＭ０７２１、ＦＭ−０７２５、ＶＰＳ−１００１、ＴＥＧＯＲａｄ２３００、ＴＥＧＯＲａｄ２５００、ＴＥＧＯＲａｄ２６００、ＲＭＳ−０３３が好ましい。
【０１４２】
低屈折率層用組成物における（ｄ）ジメチルシロキサン骨格を有する化合物の含有量は、防汚性、耐擦傷性等の観点から、組成物の全固形分に対して、０．１〜１５質量％であることが好ましく、１〜１０質量％であることがより好ましく、１〜５質量％であることが更に好ましい。
ジメチルシロキサン骨格を有する化合物は２種類以上用いてもよく、その場合、合計量が上記範囲とすることが好ましい。
【０１４３】
ジメチルシロキサン骨格を有する化合物は、防汚性と他の成分との相溶性等の観点から、（ｄ−１）数平均分子量が４０００以上であるシリコーン化合物と、（ｄ−２）数平均分子量が１０００以上４０００未満であるシリコーン化合物との少なくとも２種であることが好ましい。
【０１４４】
（ｄ−１）数平均分子量が４０００以上であるシリコーン化合物
数平均分子量が４０００以上であるシリコーン化合物を用いることで、耐擦傷性、防汚性、特に油性染料の拭き取り性を向上することができる。該化合物は、ジメチルシロキサン骨格を有し、更に（メタ）アクリロイル基を少なくとも２つ以上有することが好ましい。
なお、（ｄ−１）成分及び後述する（ｄ−２）成分の数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで、テトラヒドロフランを溶剤として測定したポリスチレン換算数平均分子量を表す。
【０１４５】
シリコーン化合物（ｄ−１）としては、その末端に（メタ）アクリロイル基を有する化合物、その両末端に（メタ）アクリロイル基を有する化合物、又はシロキサン骨格の側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する化合物を挙げることができる。
【０１４６】
シロキサン骨格の末端あるいは両末端に（メタ）アクリロイル基を有する化合物としては、下記式（１１）で示されるシリコーン化合物（ｄ−１）が挙げられる。
【０１４７】
【化３４】
2013130865.tif 000035
【０１４８】
式（１１）において、Ｒ３２及びＲ３３は、それぞれ独立に、炭素数１〜３のアルキル基であり、メチル基が好ましい。また、Ｒ３１、Ｒ３４のいずれか１以上は（メタ）アクリロイル基を有する基である。式（１１）で表されるシリコーン化合物として２以上の（メタ）アクリロイル基を有することが好ましい。
ａは、シリコーン化合物（ｄ−１）の数平均分子量が４，０００以上となる１以上の整数であり、通常は、４０〜５００の整数である。ｂは、１〜４の整数であり、３が好ましい。
【０１４９】
シリコーン化合物（ｄ−１）の数平均分子量は４，０００以上であるが、大きい方が滑りが良く防汚性が高くなるが、７，０００以上であることが好ましく、９，０００以上であることが更に好ましい。
【０１５０】
シロキサン骨格の側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する化合物としては、下記式（１２）で表される構造単位と、下記式（１３）で表される構造単位を含んでなり、下記式（１３）で表される構造単位を少なくとも３個以上有する化合物が挙げられる。
【０１５１】
【化３５】
2013130865.tif 000036
【０１５２】
式（１２）において、Ｒ３６、Ｒ３７は、それぞれ独立に、炭素数１〜３のアルキル基であり、メチル基が好ましい。
【０１５３】
【化３６】
2013130865.tif 000037
【０１５４】
式（１３）において、Ｒ３８は炭素数１〜３のアルキル基であり、メチル基が好ましい。また、Ｒ３９は少なくとも１以上の（メタ）アクリロイル基を有する基である。
【０１５５】
シリコーン化合物（ｄ−１）としては、例えば、Ｒａｄ２６００、ＦＭ−７７２１、ＦＭ−７７２５、ＦＭ−０７２１、ＦＭ−０７２５、Ｘ２２−１７４ＤＸ、Ｘ２２−２４２６、Ｘ２２−１６４Ｃ、Ｘ２２−１６４Ｅ等が挙げられる。
【０１５６】
低屈折率層用組成物における（ｄ−１）成分の含有量は、特に制限されるものではないが、耐擦傷性、防汚性の観点から、組成物の全固形分に対して、０．１〜１５質量％であることが好ましく、１〜１０質量％であることがより好ましく、１〜５質量％であることが更に好ましい。
【０１５７】
（ｄ−２）数平均分子量が１０００以上４０００未満であるシリコーン化合物
数平均分子量が１０００以上４０００未満であるシリコーン化合物は、上記シリコーン化合物（ｄ−１）によって得られる硬化膜の耐擦傷性や防汚性を維持しつつ、（ａ）〜（ｄ）等の他の成分との相溶性を向上することができる。
シリコーン化合物（ｄ−２）としては、シロキサン骨格を有し，（メタ）アクリロイル基を２個以上有することが好ましい。
シリコーン化合物（ｄ−２）として用いることができる市販品としては、例えば、Ｒａｄ２５００、Ｒａｄ２３００（以上、エボニックデグサ社製）、ＦＭ−７７１１、ＦＭ−０７１１（ＪＮＣ（株）製）、Ｘ２２−１６４Ａ、Ｘ２２−１６４Ｂ、Ｘ２２−１６４ＡＳ（信越化学工業（株）製）等が挙げられる。
【０１５８】
低屈折率層用組成物における（ｄ−２）成分の含有量は、特に制限されるものではないが、相溶性の観点から、組成物の全固形分に対して０．１〜１０質量％であることが好ましく、０．１〜５質量％であることがより好ましく、０．１〜１質量％であることが更に好ましい。
【０１５９】
シリコーン化合物（ｄ−１）とシリコーン化合物（ｄ−２）の割合は、シリコーン化合物（ｄ−１）の量が、シリコーン化合物（ｄ−２）の量よりも多いことが好ましく、シリコーン化合物（ｄ−１）：シリコーン化合物（ｄ−２）の質量比が４：１〜１：１の範囲内の値であることがより好ましく、２：１〜１：１の範囲内の値であることが更に好ましい。
【０１６０】
（ｆ）非フッ素多官能モノマー
本発明に係る低屈折率層用組成物には、フッ素原子を含まず、１分子中に反応性官能基を少なくとも３つ以上有する非フッ素多官能モノマーを用いることができる。
非フッ素多官能モノマーを用いることで、（ｃ）中空シリカ粒子と（ａ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体（フッ素ポリマー）の親和性を改良し皮膜の強度を高め、耐擦傷性を良化させることができる。
低屈折率層の屈折率を下げるためにフッ素ポリマーのフッ素含率を高くすることは膜中の架橋基密度を下げる方向であり、皮膜の強度が低くなり、耐擦傷性が悪化する恐れがある。また、低屈折率化のためフッ素含率の高いポリマーと（ｃ）中空シリカ微粒子を低屈折率層に併用するが、両者の表面エネルギー差が大きく異なるため、粒子表面の濡れ性が低いため、溶剤を含む塗布液を塗布・乾燥して低屈折率層を形成する際に、粒子表面をフッ素ポリマーが覆うことができず、硬化後の塗膜の強度が低下しやすい。この現象は、フッ素ポリマーのフッ素含率の上昇、層内での粒子含率の上昇に伴い、顕著になる。特に、硬化時に酸素による重合阻害を受けやすい膜表層の硬化はより弱くなる傾向にある。非フッ素多官能モノマーを併用することで、これらの改善を図ることができる。
【０１６１】
反応性官能基としては、前述の（ｂ）フッ素含有多官能モノマーで例示したものが挙げられるが、なかでも（メタ）アクリロイル基が好ましい。
【０１６２】
非フッ素多官能モノマーとしては、例えば、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−クロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。
【０１６３】
（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレート系化合物類の具体化合物としては、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ、同ＤＰＨＡ−２Ｃ、同ＰＥＴ−３０、同ＴＭＰＴＡ、同ＴＰＡ−３２０、同ＴＰＡ−３３０、同ＲＰ−１０４０、同Ｔ−１４２０、同Ｄ−３１０、同ＤＰＣＡ−２０、同ＤＰＣＡ−３０、同ＤＰＣＡ−６０、同ＧＰＯ−３０３、大阪有機化学工業（株）製Ｖ＃３ＰＡ、Ｖ＃４００、Ｖ＃３６０９５Ｄ、Ｖ＃１０００、Ｖ＃１０８０等のポリオールと（メタ）アクリル酸のエステル化物を挙げることができる。また紫光ＵＶ−１４００Ｂ、同ＵＶ−１７００Ｂ、同ＵＶ−６３００Ｂ、同ＵＶ−７５５０Ｂ、同ＵＶ−７６００Ｂ、同ＵＶ−７６０５Ｂ、同ＵＶ−７６１０Ｂ、同ＵＶ−７６２０ＥＡ、同ＵＶ−７６３０Ｂ、同ＵＶ−７６４０Ｂ、同ＵＶ−６６３０Ｂ、同ＵＶ−７０００Ｂ、同ＵＶ−７５１０Ｂ、同ＵＶ−７４６１ＴＥ、同ＵＶ−３０００Ｂ、同ＵＶ−３２００Ｂ、同ＵＶ−３２１０ＥＡ、同ＵＶ−３３１０ＥＡ、同ＵＶ−３３１０Ｂ、同ＵＶ−３５００ＢＡ、同ＵＶ−３５２０ＴＬ、同ＵＶ−３７００Ｂ、同ＵＶ−６１００Ｂ、同ＵＶ−６６４０Ｂ、同ＵＶ−２０００Ｂ、同ＵＶ−２０１０Ｂ、同ＵＶ−２２５０ＥＡ、同ＵＶ−２７５０Ｂ（日本合成化学（株）製）、ＵＬ−５０３ＬＮ（共栄社化学（株）製）、ユニディック１７−８０６、同１７−８１３、同Ｖ−４０３０、同Ｖ−４０００ＢＡ（大日本インキ化学工業（株）製）、ＥＢ−１２９０Ｋ、ＥＢ−２２０、ＥＢ−５１２９、ＥＢ−１８３０，ＥＢ−４８５８（ダイセルＵＣＢ（株）製）、ハイコープＡＵ−２０１０、同ＡＵ−２０２０（（株）トクシキ製）、アロニックスＭ−１９６０（東亜合成（株）製）、アートレジンＵＮ−３３２０ＨＡ，ＵＮ−３３２０ＨＣ，ＵＮ−３３２０ＨＳ、ＵＮ−９０４，ＨＤＰ−４Ｔなどの３官能以上のウレタンアクリレート化合物、アロニックスＭ−８１００，Ｍ−８０３０，Ｍ−９０５０（東亞合成（株）製、ＫＲＭ−８３０７（ダイセルサイテック（株）製）などの３官能以上のポリエステル化合物なども好適に使用することができる。
【０１６４】
さらに、３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する樹脂、例えば比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物などのオリゴマー又はプレポリマー等も挙げられる。
【０１６５】
低屈折率層用組成物における（ｆ）非フッ素多官能モノマーの含有量は、組成物の全固形分に対して１〜３０質量％であることが好ましく、１〜２０質量％であることがより好ましく、３〜１０質量％であることが特に好ましい。この範囲であれば、低屈折率層自身の硬度上昇、低屈折率層表層の防汚剤の固定化、隣接層との界面密着改良等の観点から好ましい。
【０１６６】
［重合開始剤］
低屈折率層用組成物は、前述の（ａ）、（ｂ）、（ｆ）、（ｇ）成分等のエチレン性不飽和基又は反応性官能基を有する化合物を重合させるために、光ラジカル開始剤又は熱ラジカル開始剤を含有してもよい。こられの開始剤を用い、電離放射線の照射又は加熱により、重合を行うことができる。
【０１６７】
光ラジカル重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類が挙げられる。アセトフェノン類の例には、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、１−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−４−メチルチオ−２−モルフォリノプロピオフェノンおよび２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノンが含まれる。ベンゾイン類の例には、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテルが含まれる。ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、２，４−ジクロロベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノンおよびｐ−クロロベンゾフェノンが含まれる。ホスフィンオキシド類の例には、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含まれる。
最新ＵＶ硬化技術（Ｐ．１５９，発行人；高薄一弘，発行所；（株）技術情報協会，１９９１年発行）にも種々の例が記載されており本発明に有用である。市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、日本チバガイギー（株）製のイルガキュア（６５１，１８４，９０７，１２７）等が好ましい例として挙げられる。
光重合開始剤は、多官能モノマー１００質量部に対して、０．１〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０質量部の範囲である。
光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、ミヒラーのケトンおよびチオキサントンを挙げることができる。
【０１６８】
熱ラジカル開始剤としては、有機あるいは無機過酸化物、有機アゾ及びジアゾ化合物等を用いることができる。
具体的には、有機過酸化物として過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロぺルオキシド、無機過酸化物として、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等、アゾ化合物として２−アゾ−ビス−イソブチロニトリル、２−アゾ−ビス−プロピオニトリル、２−アゾ−ビス−シクロヘキサンジニトリル等、ジアゾ化合物としてジアゾアミノベンゼン、ｐ−ニトロベンゼンジアゾニウム等を挙げることができる。
【０１６９】
以下、本発明の帯電防止反射防止フィルムに用いるハードコート層用組成物について説明する。
＜ハードコート層用組成物＞
（４級アンモニウム塩基を有する化合物）
本発明におけるハードコート層形成用組成物は、４級アンモニウム塩基を有する化合物を含有する。
４級アンモニウム塩基を有する化合物としては、低分子型又は高分子型のいずれを用いることもできるが、ブリードアウト等による帯電防止性の変動がないことから高分子型のカチオン化合物がより好ましく用いられる。
高分子型の４級アンモニウム塩基を有するカチオン化合物としては、公知化合物の中から適宜選択して用いることができるが、イオン伝導性が高い観点から、４級アンモニウム塩基含有ポリマーであることが好ましく、下記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で現される構造単位の少なくとも１つの単位を有するポリマーが好ましい。
【０１７０】
【化３７】
2013130865.tif 000038
【０１７１】
一般式（Ｉ）中、Ｒ１は水素原子、アルキル基、ハロゲン原子又は−ＣＨ２ＣＯＯ−Ｍ＋を表す。Ｙは水素原子又は−ＣＯＯ−Ｍ＋を表す。Ｍ＋はプロトン又はカチオンを表す。Ｌは−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯ−又は−Ｏ−を表す。Ｊはアルキレン基、アリーレン基、又はこれらを組み合わせてなる基を表す。Ｑは下記群Ａから選ばれる基を表す。
【０１７２】
【化３８】
2013130865.tif 000039
【０１７３】
式中、Ｒ２、Ｒ２’及びＲ２’’は、それぞれ独立に、アルキル基を表す。Ｊはアルキレン基、アリーレン基、又はこれらを組み合わせてなる基を表す。Ｘ−はアニオンを表す。ｐ及びｑは、それぞれ独立に、０又は１を表す。
【０１７４】
【化３９】
2013130865.tif 000040
【０１７５】
【化４０】
2013130865.tif 000041
【０１７６】
一般式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に、アルキル基を表し、Ｒ３とＲ４及びＲ５とＲ６はそれぞれ互いに結合して含窒素複素環を形成してもよい。
Ａ、Ｂ及びＤは、それぞれ独立に、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、−Ｒ７ＣＯＲ８−、−Ｒ９ＣＯＯＲ１０ＯＣＯＲ１１−、−Ｒ１２ＯＣＲ１３ＣＯＯＲ１４−、−Ｒ１５−（ＯＲ１６）ｍ−、−Ｒ１７ＣＯＮＨＲ１８ＮＨＣＯＲ１９−、−Ｒ２０ＯＣＯＮＨＲ２１ＮＨＣＯＲ２２−又は―Ｒ２３ＮＨＣＯＮＨＲ２４ＮＨＣＯＮＨＲ２５−を表す。Ｅは単結合、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、−Ｒ７ＣＯＲ８−、−Ｒ９ＣＯＯＲ１０ＯＣＯＲ１１−、−Ｒ１２ＯＣＲ１３ＣＯＯＲ１４−、−Ｒ１５−（ＯＲ１６）ｍ−、−Ｒ１７ＣＯＮＨＲ１８ＮＨＣＯＲ１９−、−Ｒ２０ＯＣＯＮＨＲ２１ＮＨＣＯＲ２２−又は―Ｒ２３ＮＨＣＯＮＨＲ２４ＮＨＣＯＮＨＲ２５−又は−ＮＨＣＯＲ２６ＣＯＮＨ−を表す。Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２５及びＲ２６はアルキレン基を表す。Ｒ１０、Ｒ１３、Ｒ１８、Ｒ２１及びＲ２４は、それぞれ独立に、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、アリーレンアルキレン基及びアルキレンアリーレン基から選ばれる連結基を表す。ｍは１〜４の正の整数を表す。Ｘ‐はアニオンを表す。
Ｚ１、Ｚ２は−Ｎ＝Ｃ−基とともに５員又は６員環を形成するのに必要な非金属原子群を表し、≡Ｎ＋［Ｘ−］−なる４級塩の形でＥに連結してもよい。
ｎは５〜３００の整数を表す。
【０１７７】
一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）の基について説明する。
ハロゲン原子は、塩素原子、臭素原子が挙げられ、塩素原子が好ましい。
アルキル基は、炭素数１〜４の分岐又は直鎖のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基がより好ましい。
アルキレン基は、炭素数１〜１２のアルキレン基が好ましく、メチレン基、エチレン基、プロピレン基がより好ましく、エチレン基が特に好ましい。
アリーレン基は、炭素数６〜１５のアリーレン基が好ましく、フェニレン、ジフェニレン、フェニルメチレン基、フェニルジメチレン基、ナフチレン基がより好ましく、フェニルメチレン基が特に好ましい、これらの基は置換基を有していてもよい。
アルケニレン基は、炭素数２〜１０のアルキレン基が好ましく、アリーレンアルキレン基は、炭素数６〜１２のアリーレンアルキレン基が好ましい、これらの基は置換基を有していてもよい。
各基に置換してもよい置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。
【０１７８】
一般式（Ｉ）において、Ｒ１は水素原子あるいはメチル基が好ましい。
Ｙは、好ましくは水素原子である。
Ｌは、好ましくは−ＣＯＯ−である。
Ｊは、好ましくはフェニルメチレン基、メチレン基、エチレン基、プロピレン基である。
Ｑは、好ましくは群Ａから選ばれる下記一般式（ＶＩ）であり、Ｒ２、Ｒ２’及びＲ２’’は各々メチル基である。
Ｘ−は、ハロゲンイオン、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオンなどが挙げられ、好ましくはハロゲンイオンであり、より好ましくは塩素イオンである。
ｐ及びｑは、好ましくは０又は１であり、より好ましくはｐ＝１、ｑ＝１である。
【０１７９】
【化４１】
2013130865.tif 000042
【０１８０】
一般式（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）において、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、好ましくは炭素数１〜４の置換又は無置換のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。
Ａ、Ｂ及びＤは、好ましくはそれぞれ独立に、炭素数２〜１０の置換又は無置換のアルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基を表し、好ましくはフェニルジメチレン基である。
Ｘ−は、ハロゲンイオン、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオンなどが挙げられ、好ましくはハロゲンイオンであり、より好ましくは塩素イオンである。
Ｅは、好ましくはＥは単結合、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基を表す。
Ｚ１、Ｚ２が、−Ｎ＝Ｃ−基とともに形成する５員又は６員環としては、ジアゾニアビシクロオクタン環等を例示することができる。
【０１８１】
以下に、一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で表される構造のユニットを有する化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるわけではない。なお、下記の具体例における添え字（ｍ、ｘ、ｙ、ｒ及び実際の数値）の内、ｍは各ユニットの繰り返し単位数を表し、ｘ、ｙ、ｒは各々のユニットのモル比を表す。
【０１８２】
【化４２】
2013130865.tif 000043
【０１８３】
【化４３】
2013130865.tif 000044
【０１８４】
【化４４】
2013130865.tif 000045
【０１８５】
【化４５】
2013130865.tif 000046
【０１８６】
【化４６】
2013130865.tif 000047
【０１８７】
上記で例示した導電性化合物は、単独で用いてもよいし、２種以上の化合物を併用して用いることもできる。また、帯電防止剤の分子内に重合性基を有する帯電防止化合物は、帯電防止層の耐擦傷性（膜強度）も高めることができるので、より好ましい。
【０１８８】
４級アンモニウム塩基を有する化合物としては、市販品を用いることもでき、例えば製品名「ライトエステルＤＱ−１００」（共栄社化学（株）製）、製品名「リオデュラスＬＡＳ−１２１１」（東洋インキ製造（株）製）、製品名「紫光ＵＶ−ＡＳ−１０２」（日本合成化薬（株）製）、「ＮＫオリゴＵ−６０１、２０１」（新中村化学（株）製）などが挙げられる。
【０１８９】
４級アンモニウム塩基含有ポリマーは、上記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で表される構造単位（イオン性構造単位）の他に、これ以外の重合単位を有していてもよい。４級アンモニウム塩基を有する化合物がイオン性構造単位以外の重合単位を持つことにより、組成物を作成する際に溶媒への溶解性、不飽和二重結合を有する化合物や光重合開始剤との相溶性を高めることができる。
【０１９０】
上記（Ｉ）〜（ＩＩＩ）以外の重合単位としては特に限定されないが、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリブチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール−プロピレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール−テトラメチレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ポリ（プロピレングリコール−テトラメチレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートモノブチルエーテル、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートモノオクチルエーテル、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートモノベンジルエーテル、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートモノフェニルエーテル、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートモノデシルエーテル、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートモノドデシルエーテル、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートモノテトラデシルエーテル、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートモノヘキサデシルエーテル、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートモノオクタデシルエーテルポリ（エチレングリコール−プロピレングリコール）モノ（メタ）アクリレートオクチルエーテル、ポリ（エチレングリコール−プロピレングリコール）モノ（メタ）アクリレートオクタデシルエーテル、ポリ（エチレングリコール−プロピレングリコール）モノ（メタ）アクリレートノニルフェニルエーテル等のアルキレンオキサイド鎖を有する化合物やメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート等のアルキル（メタ）アクリレート；ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート；ベンジル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、シアノエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート等の各種（メタ）アクリレートやスチレン、メチルスチレン等から選ばれる重合単位およびその組み合わせが挙げられる。
【０１９１】
本発明のハードコート層形成用組成物中の４級アンモニウム塩基を有する化合物の含有量は、帯電防止性を付与するのに十分な量でかつ膜硬度を減損しにくいという観点から、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して１質量％〜３０質量％が好ましく、３質量％〜２０質量％がより好ましく、５質量％〜１５質量％が更に好ましい。
【０１９２】
［不飽和二重結合を有する化合物］
本発明に係るハードコート層用組成物には、不飽和二重結合を有する化合物を含有することができる。
不飽和二重結合を有する化合物はバインダーとして機能することができ、重合性不飽和基を２つ以上有する多官能モノマーであることが好ましい。該重合性不飽和基を２つ以上有する多官能モノマーは、硬化剤として機能することができ、塗膜の強度や耐擦傷性を向上させることが可能となる。重合性不飽和基は３つ以上であることがより好ましい。
【０１９３】
不飽和二重結合を有する化合物としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性官能基を有する化合物が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基及び−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ２が好ましい。特に好ましくは下記の１分子内に３つ以上の（メタ）アクリロイル基を含有する化合物を用いることができる。
【０１９４】
重合性の不飽和結合を有する化合物の具体例としては、アルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、ポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、エチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類、エポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類等を挙げることができる。
【０１９５】
中でも、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類が好ましい。例えば、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−クロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。
【０１９６】
（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレート系化合物類は市販されているものを用いることもでき、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ、同ＰＥＴ−３０、新中村化学工業（株）ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＭＴ、同Ａ−ＴＭＰＴ等を挙げることができる。
非含フッ素多官能モノマーについては、特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１１４］〜［０１２２］に記載されており、本発明においても同様である。
【０１９７】
本発明に係るハードコート層形成用組成物中の不飽和二重結合を有する化合物の含有量は、十分な重合率を与えて硬度などを付与するため、帯電防止性ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、４０〜９８質量％が好ましく、６０〜９５質量％がより好ましい。
【０１９８】
［光重合開始剤］
本発明に係るハードコート層用組成物は、光重合開始剤を含有することができる。
光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。光重合開始剤の具体例、及び好ましい態様、市販品などは、特開２００９−０９８６５８号公報の段落［０１３３］〜［０１５１］に記載されており、本発明においても同様に好適に用いることができる。
【０１９９】
「最新ＵＶ硬化技術」｛（株）技術情報協会｝（１９９１年）、ｐ．１５９、及び、「紫外線硬化システム」加藤清視著（平成元年、総合技術センター発行）、ｐ．６５〜１４８にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
【０２００】
本発明に係るハードコート層用組成物中の光重合開始剤の含有量は、ハードコート層用組成物に含まれる重合可能な化合物を重合させるのに十分多く、かつ開始点が増えすぎないよう十分少ない量に設定するという理由から、ハードコート層用組成物中の全固形分に対して、０．５〜８質量％が好ましく、１〜５質量％がより好ましい。
【０２０１】
（溶剤）
帯電防止性ハードコート層形成用組成物は種々の有機溶剤を含有してもよい。
本発明においては、イオン伝導性化合物との相溶性得る観点で、親水性溶媒を含んでいることが好ましい。親水性溶媒としては、アルコール系溶媒、カーボネート系溶媒、エステル系溶媒などが挙げられ、例えばメタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブチルアルコール、シクロヘキシルアルコール、２−エチル−１−ヘキサノール、２−メチル−１ヘキサノール、２−メトキシエタノール、２−プロポキシエタノール、２−ブトキシエタノール、ジアセトンアルコール、ジメチルカーボーネート、ジエチルカーボネート、ジイソプロピルカーボネート、メチルエチルカーボネート、メチルｎ−プロピルカーボネート、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−メトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸エチル、アセトン、１，２−ジアセトキシアセトン、アセチルアセトン等が挙げられ、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０２０２】
また、上記以外の溶剤を用いてもよい。例えば、エーテル系溶媒、ケトン系溶媒、脂肪族炭化水素系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒などが挙げられる。例えばジブチルエーテル、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，３，５−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、２−オクタノン、２−ペンタノン、２−ヘキサノン、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０２０３】
本発明に係るハードコート層用組成物中の固形分の濃度は２０〜８０質量％の範囲となるように溶媒を用いるのが好ましく、より好ましくは３０〜７５質量％であり、最も好ましくは４０〜７０質量％である。
【０２０４】
（界面活性剤）
本発明に係るハードコート層用組成物には各種の界面活性剤を使用することも好適である。一般的に界面活性剤は乾燥風の局所的な分布による乾燥バラツキに起因する膜厚ムラ等を抑制したり、帯電防止層の表面凹凸や塗布物のハジキを改良できることがある。更には、帯電防止化合物の分散性を向上させることで、より安定で高い導電性を発現できる場合があり好適である。
【０２０５】
界面活性剤としては、具体的にはフッ素系界面活性剤、又はシリコーン系界面活性剤が好ましい。また、界面活性剤は、低分子化合物よりもオリゴマーやポリマーであることが好ましい。
【０２０６】
界面活性剤を添加すると、塗布された液膜の表面に界面活性剤が速やかに移動して偏在化し、膜乾燥後も界面活性剤がそのまま表面に偏在することになるので、界面活性剤を添加したハードコート層の表面エネルギーは、界面活性剤によって低下する。ハードコート層の膜厚不均一性やハジキ、ムラを防止するという観点からは、膜の表面エネルギーが低いことが好ましい。
【０２０７】
フッ素系界面活性剤としては、特に、ハジキ、ムラ等による点欠陥を防止する観点から、下記一般式（Ｆ１）で表されるフルオロ脂肪族基を含有するモノマーに由来する繰り返し単位と、下記一般式（Ｆ２）で表されるフルオロ脂肪族基を含有しないモノマーに由来する繰り返し単位とを含むフルオロ脂肪族基含有共重合体が好ましい
一般式（Ｆ１）
【０２０８】
【化４７】
2013130865.tif 000048
【０２０９】
（式中、Ｒ０は水素原子、ハロゲン原子、又はメチル基を表す。Ｌは２価の連結基を表す。ｎは１以上１８以下の整数を表す。）
一般式（Ｆ２）
【０２１０】
【化４８】
2013130865.tif 000049
【０２１１】
（式中、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、又はメチル基を表す。Ｌ１は２価の連結基を表す。Ｙは置換基を有してもよい炭素数１〜２０の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基、又は置換基を有していてもよい芳香族基を表す。）
【０２１２】
一般式（Ｆ１）で表されるフルオロ脂肪族基を含有するモノマーは、下記一般式（Ｆ１−１）で表されるフルオロ脂肪族基を含有するモノマーであることも好ましい。
一般式（Ｆ１−１）
【０２１３】
【化４９】
2013130865.tif 000050
【０２１４】
（式中、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、又はメチル基を表す。Ｘは酸素原子、硫黄原、又は−Ｎ（Ｒ２）−を表す。ｍは１以上６以下の整数を表す。ｎは１以上１８以下の整数を表す。Ｒ２は水素原子又は置換基を有してもよい炭素数１〜８のアルキル基を表す。）
【０２１５】
上記フルオロ脂肪族基含有共重合体の好ましい態様、及び具体例は、特開２００７−１０２２０６号公報の段落番号［００２３］〜［００８０］に記載されており、本発明においても同様である。
【０２１６】
シリコーン系界面活性剤の好ましい例としては、ジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として複数個含む、化合物鎖の末端及び／又は側鎖に置換基を有するものが挙げられる。ジメチルシリルオキシを繰り返し単位として含む化合物鎖中にはジメチルシリルオキシ以外の構造単位を含んでもよい。置換基は同一であっても異なっていてもよく、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはポリエーテル基、アルキル基、アリール基、アリールオキシ基、シンナモイル基、オキセタニル基、フルオロアルキル基、ポリオキシアルキレン基、などを含む基が挙げられる。
【０２１７】
分子量に特に制限はないが、１０万以下であることが好ましく、５万以下であることがより好ましく、１０００〜３００００であることが特に好ましく、１０００〜２００００であることが最も好ましい。
【０２１８】
好ましいシリコーン系化合物の例としては、信越化学工業（株）製の“Ｘ−２２−１７４ＤＸ”、“Ｘ−２２−２４２６”、““Ｘ２２−１６４Ｃ”、“Ｘ−２２−１７６Ｄ”、（以上商品名）；チッソ（株）製の、“ＦＭ−７７２５”、“ＦＭ−５５２１”、“ＦＭ−６６２１”、（以上商品名）；Ｇｅｌｅｓｔ製の“ＤＭＳ−Ｕ２２”、“ＲＭＳ−０３３”（以上商品名）；東レ・ダウコーニング（株）製の“ＳＨ２００”、“ＤＣ１１ＰＡ”、 “ＳＴ８０ＰＡ”、 “Ｌ７６０４”、“ＦＺ−２１０５”、 “Ｌ−７６０４”、“Ｙ−７００６”、“ＳＳ−２８０１”、（以上商品名）；モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン製の“ＴＳＦ４００” （商品名）；などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
前記界面活性剤は、ハードコート層用塗布組成物の全固形分中に０．０１〜０．５質量％含有されることが好ましく、０．０１〜０．３質量％がより好ましい。
【０２１９】
［帯電防止反射防止フィルム］
以下、本発明の光学フィルムについて説明する。
本発明の帯電防止反射フィルムは、透明支持体上に前記ハードコート層用組成物を用いて形成されたハードコート層（帯電防止ハードコート層）と、該ハードコート層上に前記低屈折率層用組成物を用いて形成された低屈折率層を有する。
本発明の帯電防止性反射防止フィルムは、更に目的に応じて、必要な機能層を単独又は複数層設けてもよい
【０２２０】
［透明支持体］
本発明の帯電防止性反射防止フィルムにおいては、透明支持体として種々用いることができるが、セルロース系ポリマーを含む基材が好ましく、セルロースアシレートフィルムを用いることがより好ましい。
セルロースアシレートフィルムとしては、特に限定されないが、ディスプレイに設置する場合は、セルローストリアセテートフィルムを偏光板の偏光層を保護する保護フィルムとしてそのまま用いることができるため、生産性やコストの点でセルローストリアセテートフィルムが特に好ましい。
セルロースアシレートフィルムの厚さは、通常、２５μｍ〜１０００μｍ程度であるが、取り扱い性が良好で、かつ必要な基材強度が得られる４０μｍ〜２００μｍが好ましい。
【０２２１】
本発明ではセルロースアシレートフィルムに、酢化度が５９．０〜６１．５％であるセルロースアセテートを使用することが好ましい。酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験法）におけるアセチル化度の測定及び計算に従う。セルロースアシレートの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることが更に好ましい。
【０２２２】
また、本発明に使用するセルロースアシレートは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の値が１．０に近いこと、換言すれば分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜１．７であることが好ましく、１．３〜１．６５であることが更に好ましく、１．４〜１．６であることが最も好ましい。
【０２２３】
一般に、セルロースアシレートの２，３，６位の水酸基は全体の置換度の１／３ずつに均等に分配されるわけではなく、６位水酸基の置換度が小さくなる傾向がある。本発明ではセルロースアシレートの６位水酸基の置換度が、２，３位に比べて多いほうが好ましい。
全体の置換度に対して６位の水酸基が３２％以上アシル基で置換されていることが好ましく、更には３３％以上、特に３４％以上であることが好ましい。更にセルロースアシレートの６位アシル基の置換度が０．８８以上であることが好ましい。６位水酸基は、アセチル基以外に炭素数３以上のアシル基であるプロピオニル基、ブチロイル基、バレロイル基、ベンゾイル基、アクリロイル基などで置換されていてもよい。各位置の置換度の測定は、ＮＭＲによって求めることができる。
【０２２４】
本発明ではセルロースアシレートとして、特開平１１−５８５１号公報の段落番号００４３〜００４４、実施例、合成例１、段落番号００４８〜００４９、合成例２、段落番号００５１〜００５２、合成例３に記載の方法で得られたセルロースアセテートを用いることができる。
【０２２５】
［ハードコート層の物性］
本発明におけるハードコート層は、屈折率が１．４８〜１．６５であることが好ましい。更に望ましくは１．４８〜１．６０、最も好ましくは１．４８〜１．５５である。上記範囲内とすることで支持体との干渉ムラを抑制し、更に低屈折率層を積層した際には反射色味をニュートラルにすることができるため好ましい。
【０２２６】
ハードコート層の膜厚は、１μｍ以上であることが好ましく、３μｍ〜２０μｍがより好ましく、５μｍ〜１５μｍが更に好ましく、６μｍ〜１５μｍが最も好ましい。上記範囲とすることで物理強度と帯電防止性を両立することができる。
また、ハードコート層の強度は、鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることが更に好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。更に、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
【０２２７】
ハードコート層の透過率は８０％以上であることが好ましく、８５％以上であることがより好ましく、９０％以上であることが最も好ましい。
【０２２８】
［低屈折率層の物性］
低屈折率層は、屈折率が１．３０〜１．５１であることが好ましい。１．３０〜１．４６であることが好ましく、１．３２〜１．３８が更に好ましい。
低屈折率層の厚さは、５０〜２００ｎｍであることが好ましく、７０〜１１０ｎｍであることがさらに好ましい。低屈折率層のヘイズは、３％以下であることが好ましく、２％以下であることがさらに好ましく、１％以下であることが最も好ましい。具体的な低屈折率層の強度は、５００ｇ荷重の鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
また、フィルムの防汚性能を改良するために、表面の水に対する接触角が９０度以上であることが好ましい。更に好ましくは９５度以上であり、特に好ましくは１００度以上である。
【０２２９】
［帯電防止性反射防止フィルムの物性］
本発明の帯電防止性反射防止フィルムの表面抵抗率ＳＲ（Ω／ｓｑ）の常用対数値（ＬｏｇＳＲ）は帯電防止性の観点から低いほど好ましく、２５℃６０％環境下で１２以下であることが好ましく、より好ましくは５〜１１以下であり、更に好ましくは６〜１０である。表面抵抗率を上記範囲にすることで優れた防塵性を付与することが可能となる。
【０２３０】
（帯電防止性反射防止フィルムの製造方法）
本発明の帯電防止性反射防止フィルムは以下の方法で形成することができるが、この方法に制限されない。
まずハードコート層用組成物が調製される。次に、該組成物をディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法等により透明支持体上に塗布し、加熱・乾燥する。マイクログラビアコート法、ワイヤーバーコート法、ダイコート法（米国特許２６８１２９４号明細書、特開２００６−１２２８８９号公報参照）がより好ましく、ダイコート法が特に好ましい。
【０２３１】
塗布した後、乾燥、光照射してハードコート層用組成物から形成される層を硬化し、これによりハードコート層を形成することができる。必要に応じて、透明支持体上にあらかじめその他の層（防眩層など）を塗設しておき、その上にハードコート層を形成することも可能である。
【０２３２】
［偏光板用保護フィルム］
本発明の帯電防止性反射防止フィルムを偏光膜の表面保護フィルム（偏光板用保護フィルム）として用いる場合、薄膜層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化する、所謂ケン化処理を行うことで、ポリビニルアルコールを主成分とする偏光膜との接着性を改良することができる。
偏光子の２枚の保護フィルムのうち帯電防止性反射防止フィルム以外のフィルムが、光学異方層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであることも好ましい。光学補償フィルム（位相差フィルム）は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。  光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開２００１−１０００４２号公報に記載されている光学補償フィルムが好ましい。
【０２３３】
上述したケン化処理について説明する。ケン化処理は、加温したアルカリ水溶液中に一定時間光学フィルムを浸漬し、水洗を行った後、中和するための酸洗浄を行う処理である。透明支持体の偏光膜と貼り合わせる側の面が浸水化されればどのような処理条件でも構わないため、処理剤の濃度、処理剤液の温度、処理時間は適宜決定されるが、通常生産性を確保する必要から３分以内で処理可能なように処理条件を決定する。一般的な条件としては、アルカリ濃度が３質量％〜２５質量％であり、処理温度は３０℃〜７０℃、処理時間は１５秒〜５分である。アルカリ処理に用いるアルカリ種としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好適であり、酸洗浄に使用する酸としては硫酸が好適であり、水洗に用いる水はイオン交換水又は純水が好適である。
【０２３４】
本発明の帯電防止性反射防止フィルムを偏光膜の表面保護フィルム（偏光板用保護フィルム）として用いる場合、セルロースアシレートフィルムは、セルローストリアセテートフィルムであることが好ましい。
【０２３５】
［偏光板］
次に、本発明の偏光板について説明する。
本発明の偏光板は、偏光膜と該偏光膜の両面を保護する２枚の保護フィルムを有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも一方が本発明の光帯電防止性反射防止フィルムであることを特徴とする。
【０２３６】
偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜及び染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造することができる。
【０２３７】
帯電防止性反射防止フィルムのセルロースアシレートフィルムが、必要に応じてポリビニルアルコールからなる接着剤層等を介して偏光膜に接着しており、偏光膜のもう一方の側にも保護フィルムを有する構成が好ましい。もう一方の保護フィルムの偏光膜と反対側の面には粘着剤層を有していても良い。
【０２３８】
本発明の帯電防止性反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いることにより、物理強度、帯電防止性、耐久性に優れた偏光板が作製できる。
【０２３９】
また、本発明の偏光板は、光学補償機能を有することもできる。その場合、２枚の表面保護フィルムの表面及び裏面のいずれかの一面側のみを上記帯電防止性反射防止フィルムを用いて形成されており、該偏光板の帯電防止性反射防止フィルムを有する側とは他面側の表面保護フィルムが光学補償フィルムであることが好ましい。
【０２４０】
本発明の帯電防止性反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムの一方に、光学異方性のある光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムのもう一方に用いた偏光板を作製することにより、更に、液晶表示装置の明室でのコントラスト、上下左右の視野角を改善することができる。
【０２４１】
［画像表示装置］
本発明の画像表示装置は、本発明の帯電防止性反射防止フィルム、又は偏光板をディスプレイの最表面に有する。
本発明の光学フィルム、及び偏光板は液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に好適に用いることができる。
特に、液晶表示装置等の画像表示装置に有利に用いることができ、透過型／半透過型液晶表示装置において、液晶セルのバックライト側の最表層に用いることが特に好ましい。
一般的に、液晶表示装置は、液晶セル及びその両側に配置された２枚の偏光板を有し、液晶セルは、２枚の電極基板の間に液晶を担持している。更に、光学異方性層が、液晶セルと一方の偏光板との間に一枚配置されるか、又は液晶セルと双方の偏光板との間に２枚配置されることもある。
液晶セルは、ＴＮモード、ＶＡモード、ＯＣＢモード、ＩＰＳモード又はＥＣＢモードであることが好ましい。
【実施例】
【０２４２】
以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明の範囲はこれによって限定して解釈されるものではない。なお、特別の断りの無い限り、「部」及び「％」は質量基準である。
【０２４３】
［実施例１］
〔帯電防止性反射防止フィルムの作製〕
下記に示す通りに、ハードコート層形成用の塗布液を調製し、透明支持体上に、ハードコート層及び低屈折率層を形成して、フィルム試料Ｎｏ．１〜３５を作製した。
【０２４４】
（（ａ）４級アンモニウム塩基を有する化合物の合成）
イオン伝導性化合物を、特許第４６００６０５号の合成例１と同様に実施し、ＡＮ−１（３０％エタノール溶液）を合成した。
【０２４５】
（ハードコート層用塗布液の調製）
下記表１に記載のハードコート層用塗布液ＨＣ−１の組成となるように各成分を添加し、得られた組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌し、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して帯電防止性ハードコート層塗布液ＨＣ−１（固形分濃度５０質量％）とした。
ハードコート層用塗布液ＨＣ−１と同様の方法で、各成分を下記表１のように混合して溶剤に溶解して表１記載の組成比率になるように調整し、固形分濃度５０質量％の帯電防止性ハードコート層用塗布液ＨＣ−２〜ＨＣ−７を作製した。帯電防止性ハードコート層用塗布液ＨＣ−２においては、４級アンモニウム塩化合物を用いなかった。また、帯電防止性ハードコート層用塗布液ＨＣ−６においては、レベリング剤を用いなかった。
【０２４６】
【表１】
2013130865.tif 000051
【０２４７】
それぞれ使用した化合物を以下に示す。
ＭＥＫ：メチルエチルケトン
ＡＮ−１：前記４級アンモニウム塩基を有する化合物ＡＮ−１
ＰＥＴ３０：ペンタエリスリトールテトラアクリレートとペンタエリスリトールトリアクリレートの混合物（日本化薬（株）製）
Ｉｒｇ．１８４：光重合開始剤、イルガキュア１８４（チバ・ジャパン（株）製）
Ａ−ＴＭＭＴ：ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）ＮＫエステル）
ＤＱ１００：「ライトエステルＤＱ−１００」、４級アンモニウム塩系化合物、多官能モノマー、光重合開始剤含有ハードコート剤（共栄社化学（株）製）
ＬＡＳ１２１１：「リオデュラスＬＡＳ−１２１１」、４級アンモニウム塩系化合物、多官能モノマー、光重合開始剤含有ハードコート剤（東洋インキ製造（株）製）
ＵＶ−ＡＳ−１０２：「紫光ＵＶ−ＡＳ−１０２」、４級アンモニウム塩系化合物、多官能モノマー、光重合開始剤含有ハードコート剤（日本合成化薬（株）製）
ＦＰ１：下記式で示されるフッ素含有レベリング剤
【０２４８】
【化５０】
2013130865.tif 000052
【０２４９】
ＦＰ２：下記式で示されるフッ素含有レベリング剤
【０２５０】
【化５１】
2013130865.tif 000053
【０２５１】
（ハードコート層の作製）
膜厚６０μｍの透明支持体としてのセルローストリアセテートフィルム（ＴＤＨ６０ＵＦ、富士フイルム（株）製、屈折率１．４８）上に、前記ハードコート層用塗布液ＨＣ−１をグラビアコーターを用いて塗布した。６０℃で約２分間乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量１５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ１２μｍの帯電防止性ハードコートフィルムＨＣ−１を形成した。
【０２５２】
同様の方法で帯電防止性ハードコート層用塗布液ＨＣ−２〜ＨＣ−７を用いて帯電防止性ハードコートフィルムＨＣ−２〜ＨＣ−７を作製した。
【０２５３】
（低屈折率層用塗布液の調製）
（エチレン性不飽和基を有する含フッ素重合体Ａ（メタアクリル変性フッ素重合体）の合成）
まず、水酸基含有含フッ素重合体の合成を行った。内容積２．０リットルの電磁攪拌機付きステンレス製オートクレーブを窒素ガスで十分置換した後、酢酸エチル４００ｇ、パーフルオロ（プロピルビニルエーテル）５３．２ｇ、エチルビニルエーテル３６．１ｇ、ヒドロキシエチルビニルエーテル４４．０ｇ、過酸化ラウロイル１．００ｇ、下記式（１０７）で表されるアゾ基含有ポリジメチルシロキサン（ＶＰＳ１００１（商品名）、和光純薬工業（株）製）６．０ｇ及びノニオン性反応性乳化剤（ＮＥ−３０（商品名）、旭電化工業（株）製）２０．０ｇを仕込み、ドライアイス−メタノールで−５０℃まで冷却した後、再度窒素ガスで系内の酸素を除去した。
【０２５４】
【化５３】
2013130865.tif 000054
【０２５５】
ｙは１〜２００の数、ｚは１〜２０の数を示す。
【０２５６】
次いでヘキサフルオロプロピレン１２０．０ｇを仕込み、昇温を開始した。オートクレーブ内の温度が６０℃に達した時点での圧力は５．３×１０５Ｐａを示した。その後、７０℃で２０時間攪拌下に反応を継続し、圧力が１．７×１０５Ｐａに低下した時点でオートクレーブを水冷し、反応を停止させた。室温に達した後、未反応モノマーを放出してオートクレーブを開放し、固形分濃度２６．４％のポリマー溶液を得た。得られたポリマー溶液をメタノールに投入しポリマーを析出させた後、メタノールにて洗浄し、５０℃にて真空乾燥を行い２２０ｇの水酸基含有含フッ素重合体を得た。これを水酸基含有含フッ素重合体とする。使用した単量体と溶剤を表２に示す。
【０２５７】
【表２】
2013130865.tif 000055
【０２５８】
得られた水酸基含有含フッ素重合体に付き、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるポリスチレン換算数平均分子量を測定した。また、1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲの両ＮＭＲ分析結果及び元素分析結果から、水酸基含有含フッ素重合体を構成する各単量体成分の割合を決定した。結果を表３に示す。
【０２５９】
【表３】
2013130865.tif 000056
【０２６０】
ＮＥ−３０は、下記式（１１０）において、ｎが９、ｍが１、ｕが３０であるノニオン性反応性乳化剤である。
【０２６１】
【化５４】
2013130865.tif 000057
【０２６２】
続いて、得られた水酸基含有含フッ素重合体を用いてエチレン性不飽和基含有フッ素重合体Ａを合成した。電磁攪拌機、ガラス製冷却管及び温度計を備えた容量１リットルのセパラブルフラスコに、製造例１で得られた水酸基含有含フッ素重合体を５０.０ｇ、重合禁止剤として２，６−ジ−ｔ−ブチルメチルフェノール０．０１ｇ及びメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）３７０ｇを仕込み、２０℃で水酸基含有含フッ素重合体がＭＩＢＫに溶解して、溶液が透明、均一になるまで攪拌を行った。
次いで、この系に、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネートを１５．１ｇ添加し、溶液が均一になるまで攪拌した後、ジブチルチンジラウレート０．１ｇを添加して反応を開始し、系の温度を５５〜６５℃に保持し５時間攪拌を継続することにより、エチレン性不飽和基を有する含フッ素重合体ＡのＭＩＢＫ溶液を得た。
この溶液をアルミ皿に２ｇ秤量後、１５０℃のホットプレート上で５分間乾燥、秤量して固形分含量を求めたところ、１５．２質量％であった。使用した化合物、溶剤及び固形分含量を表４に示す。
【０２６３】
【表４】
2013130865.tif 000058
【０２６４】
［内部に空孔を有する粒子の調製］
（分散液Ｂ−１の調製）
特開２００２−７９６１６号公報の調製例４から調製時の条件を変更して、内部に空洞を有するシリカ微粒子を作製した。最終ステップで水分散液状態からメタノールに溶媒置換し、２０％シリカ分散液とし、平均粒子径６０ｎｍ、シェル厚み約７ｎｍ、シリカ粒子の屈折率１．２５の粒子が得られた。これを分散液（Ａ−１）とする。
【０２６５】
分散液（Ａ−１）の５００部に対してアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン２０部、およびジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート１．５部加え混合した後に、イオン交換水を９部を加えた。６０℃で８時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン１．８部を添加した。総液量がほぼ一定になるようにＭＥＫを添加しながら減圧蒸留により溶媒を置換した。最終的に固形分が２０％になるように調節して分散液Ｂ−１を調製した。
【０２６６】
（低屈折率層用塗布液の調製）
各成分を下記表５のように混合し、全溶剤中プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが２０質量％になるように添加した後メチルエチルケトンで希釈し、最終的に固形分濃度が５質量％にした。攪拌機をつけたガラス製セパラブルフラスコに仕込み、室温にて１時間攪拌後、孔径０．５μｍのポリプロピレン製デプスフィルターでろ過し、各低屈折率層用塗布液を得た。なお、表５において、各成分の添加量は「質量％」を表す。
【０２６７】
【表５】
2013130865.tif 000059
【０２６８】
表５に示すフッ素モノマーの単独膜の表面自由エネルギーは、前述の方法に従って、セルローストリアセテートフィルム（ＴＤＨ６０ＵＦ、富士フイルム（株）製、屈折率１．４８）上にフッ素含有多官能モノマーの単独膜の試料を作製し、２５℃５０％ＲＨで２時間調湿した後に、水とヨウ化メチレンに対する接触角を測定して算出した。
【０２６９】
以下、使用した化合物について説明する。
・Ｂ−２：ＭＥＫ−ＳＴ、日産化学工業（株）製、コロイダルシリカ（平均粒子サイズ約１５ｎｍ）
・Ｂ−３：ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ、日産化学工業（株）製、コロイダルシリカ（平均粒子サイズ約５０ｎｍ）
・Ｂ−４：ＭＥＫ−ＳＴ−ＺＬ、日産化学工業（株）製、コロイダルシリカ（平均粒子サイズ約８５ｎｍ）
・ＳＩ−１：Ｒａｄ２６００、ＥＶＯＮＩＫ社製シリコーン変性アクリレート、数平均分子量：１６，０００
・ＳＩ−２：Ｒａｄ２５００、ＥＶＯＮＩＫ社製シリコーン変性アクリレート、数平均分子量：１，５００
・ＳＩ−３：サイラプレーンＦＭ−０７２５、下記式（２４）で示されるシリコーン化合物、チッソ社製、数平均分子量：１０，０００
【０２７０】
【化５５】
2013130865.tif 000060
［式（２４）中、ｎは、化合物の数平均分子量が１０，０００となる整数である。］
・Ｆ−１：下記の化合物（前述のＸ−２２）
【０２７１】
【化５６】
2013130865.tif 000061
【０２７２】
・Ｆ−２：トリアクリロイルヘプタデカフルオロノネニルペンタエリスリトール（下記構造）（ＬＩＮＣ３Ａ、共栄社化学製（ペンタエリスリトールテトラアクリレートを３５質量％含む））
【０２７３】
【化５７】
2013130865.tif 000062
【０２７４】
・Ｆ−３：下記の化合物
【０２７５】
【化５８】
2013130865.tif 000063
【０２７６】
・Ｆ−４：下記の化合物（前述のＸ−３１）
【０２７７】
【化５９】
2013130865.tif 000064
【０２７８】
・Ｆ−５：下記の化合物（前述のＭ−１２）
【０２７９】
【化６０】
2013130865.tif 000065
【０２８０】
・Ｆ−６：ＨＦＰＯ−ＣＯＮＨ−Ｃ−（ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２）２Ｈ（ここで、“ＨＦＰＯ−”は、Ｆ（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｐＣＦ（ＣＦ３）−においてｐの平均値が６〜７のもの）
・Ｆ−７：ＬＩＮＣ５Ａ（下記構造）（共栄社化学製、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとの混合物）
【０２８１】
【化６１】
2013130865.tif 000066
【０２８２】
・Ｆ−８：下記の化合物
【０２８３】
【化６２】
2013130865.tif 000067
【０２８４】
・Ｆ−９：下記の化合物（前述のＦＭ−６）
【０２８５】
【化６３】
2013130865.tif 000068
【０２８６】
・Ｆ−１０：下記の化合物（前述のＦＭ−１２）
【０２８７】
【化６４】
2013130865.tif 000069
【０２８８】
・Ｆ−１１：下記の化合物（前述のＭＡ１４）
【化６５】
2013130865.tif 000070
【０２８９】
・ＤＰＨＡ:ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（日本化薬（株）製）
・Ａ−ＴＭＭＴ：ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）ＮＫエステル）
・ＰＥＴ３０：ペンタエリスリトールテトラアクリレートとペンタエリスリトールトリアクリレートの混合物（日本化薬（株）製）
【０２９０】
・ＩＲＧＡＣＵＲＥ  １２７：下記式（１６）で示される化合物、チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製
【０２９１】
【化６６】
2013130865.tif 000071
【０２９２】
（低屈折率層の作製）
作製したハードコートフィルム試料ＨＣ１の上に低屈折率層形成用組成物Ｌｎ−１をグラビアコーターを用いて塗布し、反射防止フィルム試料Ｎｏ．１を得た。乾燥条件は６０℃、６０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ２の照射量とした。低屈折率層の膜厚は９５ｎｍとした。
【０２９３】
ハードコートフィルム試料、及び低屈折率層形成用組成物を表に示す組み合わせで使用した以外は反射防止フィルムＮｏ１と同様にしてそれぞれ反射防止フィルム試料Ｎｏ．２〜３５を得た。
【０２９４】
（反射防止フィルムの鹸化処理）
作製した全ての反射防止フィルムに対して以下の処理を行った。１．５ｍｏｌ／ｌの水酸化ナトリウム水溶液を調製し、５５℃に保温した。０．０１ｍｏｌ／ｌの希硫酸水溶液を調製し、３５℃に保温した。作製した光学フィルムを前記の水酸化ナトリウム水溶液に２分間浸漬した後、水に浸漬し水酸化ナトリウム水溶液を十分に洗い流した。次いで、前記の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。
このようにして、鹸化処理済みの反射防止フィルムを作製した。
【０２９５】
（反射防止フィルムの評価）
以下の方法により鹸化処理済みの反射防止フィルムの諸特性の評価を行った。結果を表６に示す。
【０２９６】
（１）反射率
反射防止フィルムの裏面に油性黒インキを塗った後、分光光度計Ｖ−５５０（日本分光（株）製）にアダプターＡＲＶ−４７４を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における出射角５°の鏡面反射率を測定した。４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を算出し（表６に「反射率」として記載）、反射防止性を評価した。この平均反射率が小さいほど反射防止性に優れる。平均反射率としては１．４％以下が好ましい。
【０２９７】
（２）ＳＷ（スチールウール）耐傷性試験
ラビングテスターを用いて、以下の条件でこすりテストをおこなうことで、耐擦傷性の指標とした。
評価環境条件：２５℃、６０％ＲＨ
こすり材：スチールウール（日本スチールウール（株）製、ゲレードＮｏ．００００）
試料と接触するテスターのこすり先端部（１ｃｍ×１ｃｍ）に巻いて、バンド固定。
移動距離（片道）：１３ｃｍ、
こすり速度：１３ｃｍ／秒、
荷重：５００ｇ／ｃｍ２、
先端部接触面積：１ｃｍ×１ｃｍ、こすり回数：１０往復。
こすり終えた試料の裏側に油性黒インキを塗り、こすり部分の傷を反射光で目視観察し、以下の基準で評価した。評価は上記テストを３回繰り返し、平均して５段階で評価した。
Ａ  ：非常に注意深く見ても、全く傷が見えない。
Ｂ  ：非常に注意深く見ると僅かに傷が見える。
Ｃ  ：弱い傷が見える。
Ｄ  ：中程度の傷が見える。
Ｅ  ：一目見ただけで分かる傷がある。
【０２９８】
（３）消しゴム耐摩耗性試験
裏面に油性黒インキを塗ったガラス面上に反射防止フィルムを粘着剤で固定し、直径８ｍｍ、厚さ４ｍｍにくりぬいた消しゴム、ＭＯＮＯ（商品名、（株）トンボ鉛筆製）を擦り試験機のヘッドとして反射防止フィルムの表面に５００ｇ／ｃｍ２の荷重で垂直に上方から押し付けた後、２５℃６０ＲＨ％の条件下においてストローク長３．５ｃｍ、擦り速度１．８ｃｍ／ｓにて１００往復擦った後、付着した消しゴムを除去後、試料の擦り部を目視で確認し、表面の傷つき度合いを評価した。評価は上記テストを３回繰り返し、平均して４段階で評価した。
Ａ  ：キズが視認されない。
Ｂ  ：僅かにキズが認められる。
Ｃ  ：はっきりとキズが認められる。
Ｄ  ：擦りあと全面に強いキズが認められる。
【０２９９】
（４）表面抵抗値測定
２０℃、１５％ＲＨ条件下に試料を２時間置いた後に超絶縁抵抗／微小電流計ＴＲ８６０１（（株）アドバンテスト製）を用いて測定し、表面抵抗値の常用対数（ｌｏｇＳＲ）で示した。ｌｏｇＳＲがより低い方が帯電防止性が良好であり、本発明においては１１．０未満であることが好ましい。
【０３００】
（５）白濁
試料の裏側に油性黒インキを塗り、裏面の光反射を防止したＡ４サイズのサンプルを作製した。このサンプルを周囲が全て黒色の部屋で光を全て遮断し、太陽光源下で目視観察する事により以下の基準で評価した。
Ａ：注意深く見ても膜表面が白味がかっていることがわからない。
Ｂ：注意深く見ると膜表面がやや白味がかっているのがわかるが気にならない。
Ｃ：膜表面が白味を帯びており気になる。
Ｄ：一目見ただけで膜表面が白濁しているのがわかり非常に気になる。
【０３０１】
（６）白汚れ
試料の裏側に油性黒インキを塗り、裏面の光反射を防止したＡ４サイズのサンプルを作製した。このサンプルの一部を木綿の布で拭いた後、周囲が全て黒色の部屋で光を全て遮断し、太陽光源下で目視観察する事により以下の基準で評価した。
Ａ：注意深く見ても拭き跡がわからない。
Ｂ：拭いたところの白味がなくなったのがうっすらと見える。
Ｃ：拭いたところの白味がなくなったのがはっきりと見える。
【０３０２】
（７）点状欠陥評価
試料の裏側に油性黒インキを塗り、裏面の光反射を防止したサンプルを作製した。周囲が全て黒色の部屋で光を全て遮断し、三波長蛍光灯（ＦＬ２０ＳＳ・ＥＸ−Ｎ／１８（松下電器産業（株）製）の付いた電気スタンド（蛍光灯部に拡散シートを貼り拡散光とする）で試料面を照射し、３０ｍ２分の試料を目視観察する事により点状欠陥個数を数えた。
【０３０３】
（８）防汚性試験＜マジック拭き取り耐久性＞
フィルムをガラス面上に粘着剤で固定し、２５℃６０ＲＨ％の条件下で黒マジック「マッキー極細（商品名：ＺＥＢＲＡ製）」のペン先（細）にて直径５ｍｍの円形を３周書き込み、５秒後に１０枚重ねに折り束ねたベンコット（商品名、旭化成（株））でベンコットの束がへこむ程度の荷重で５往復拭き取る。マジック後が拭き取りで消えなくなるまで前記の書き込みと拭き取りを前記条件で繰り返し、拭き取りできた回数により防汚性を評価する。
消えなくなるまでの回数は５回以上であることが好ましく、１０回以上であることが更に好ましい。
【０３０４】
【表６】
2013130865.tif 000072
【０３０５】
また、いずれの実施例の光学フィルムにおいても、透明支持体として膜厚６０μｍのセルローストリアセテートフィルムの代わりに膜厚８０μｍのセルローストリアセテートフィルム（ＴＤＨ８０ＵＦ）、膜厚４０μｍのセルローストリアセテートフィルム（Ｔ４０ＵＺ）（以上、富士フイルム（株）製、屈折率１．４８）を用いた場合にも、本発明の実施例と同様の効果が得られた。
【０３０６】
（偏光板の作製）
１．５ｍｏｌ／Ｌ、５５℃のＮａＯＨ水溶液中に２分間浸漬したあと中和、水洗した、８０μｍの厚さのセルローストリアセテートフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士フイルム（株）製）と、鹸化処理済みの反射防止フィルムを、ポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作製した偏光子の両面に接着、保護して偏光板（試料Ａ）を作製した。
【０３０７】
（円偏光板の作製）
偏光板試料Ａの低屈折率層と反対側の面にλ／４板を粘着剤で貼り合せ円偏光板（試料Ｂ）を作製し、有機ＥＬディスプレイの表面に低屈折率層が外側になるように試料Ｂを粘着剤で貼り付けた。本発明の反射防止フィルムを用いた試料の場合には、傷つきや面状ムラがなく、かつほこりも付着しにくく、良好な表示性能が得られた。
【０３０８】
反射型液晶ディスプレイ及び半透過型液晶ディスプレイの表面の偏光板として、低屈折率層が外側になるように試料Ａを用いたところ、本発明の反射防止フィルムを用いた試料の場合には、傷つきや面状ムラがなく、かつほこりも付着しにくく、良好な表示性能が得られた。