(57)【要約】【課題】表示ムラによる表示品質が低下することを防ぐ液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法並びに電子機器を提供する。【解決手段】液晶表示装置は、液晶注入口２８を備え表示領域ＤＡを囲むシール剤１８によって互いに貼り合わされた一対の基板１２，１６と、液晶注入口２８を通して一対の基板１２，１６の間に注入された液晶２０と、液晶注入口２８を封止した封止部３０と、封止部３０から離れた位置で、表示領域ＤＡの周辺に配置される周辺領域ＰＡに形成されたダミー封止部３２と、を含み、一対の基板１２，１６のうちの一方の基板の面の上に液晶を配向させる配向膜を有し、ダミー封止部３２は、封止部３０から配向膜の表面に移動する元素と同じ元素を含む。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶注入口を備え表示領域を囲むシール剤によって互いに貼り合わされた一対の基板と、
前記液晶注入口を通して前記一対の基板の間に注入された液晶と、
前記液晶注入口を封止した封止部と、
前記封止部から離れた位置で、前記表示領域の周辺に配置される周辺領域に形成されたダミー封止部と、
を含み、
前記一対の基板のうちの一方の基板の面の上に前記液晶を配向させる配向膜を有し、
前記ダミー封止部は、前記封止部から前記配向膜の表面に移動する元素と同じ元素を含むことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載の液晶表示装置において、
前記ダミー封止部の材料は、前記封止部の材料と同じであることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の液晶表示装置において、
前記表示領域は、矩形状であり、
前記ダミー封止部は、前記周辺領域のうち前記表示領域の複数の辺の少なくとも一つの辺に沿った領域に設けられていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
一対の基板のうちいずれか一方の基板の周辺に液晶注入口が形成される箇所を除き表示領域を囲むシール剤を塗布する工程と、
前記液晶注入口から離れた位置で、前記表示領域の周辺に配置される周辺領域に樹脂剤を塗布する工程と、
前記一対の基板を貼り合わせて、前記液晶注入口及び前記液晶注入口に連通した空間を形成する工程と、
前記液晶注入口から前記空間に液晶を注入する工程と、
前記液晶注入口に封止剤を塗布する工程と、
前記封止剤を硬化させて前記液晶注入口を封止する工程と、
を含み、
前記一対の基板のうちの一方の基板の面の上に前記液晶を配向させる配向膜を有し、
前記樹脂剤は、前記封止剤から前記配向膜の表面に移動する元素と同じ元素を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項５】
請求項４に記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記樹脂剤は、前記封止剤と同じ材料であることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項６】
請求項４又は５に記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記表示領域は、矩形状であり、
前記樹脂剤を塗布する工程では、前記樹脂剤は、前記周辺領域のうち前記表示領域の複数の辺の少なくとも一つの辺に沿った領域に設けられていることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項７】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の液晶表示装置を備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法並びに電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶表示装置の表示品位は日増しに高まり、従来の文字認識のためだけの用途から、今日では、携帯電話市場でのフルカラー化、モニター市場での大画面化など、高解像度を必要とする用途へ移行している。このため、表示品位に対する市場からの要求も日増しに強くなっている。
【０００３】
液晶表示装置の構成は、対向配置された第一基板と第二基板との間に、液晶層を挟んで構成されている。第一基板と第二基板はその周縁部に設けられたシール剤で接着され、第一基板と第二基板との間に液晶が封入され、封止剤により封止される。第一基板及び第二基板の液晶と接触する側の表面に形成された配向膜により、液晶分子の配向状態が制御される。ところが、封止剤により封止する際、封止剤を塗布してから封止剤が硬化するまでの間に、封止剤と液晶とが接触するので封止剤と液晶とが反応し、表示領域の注入口付近の液晶を変質させ、点灯時に表示ムラが発生する虞がある。
【０００４】
その液晶と封止剤との反応による表示ムラに対する取り組みとして、液晶と封止剤との間に、微小空間を形成することで、液晶と封止剤との接触による表示ムラを防止するものが提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
また、液晶注入口近傍に光透過穴を設けることで、表示領域内部への封止剤の浸透を阻止するものが提案されている（例えば、特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００３−９８５３４号公報
【特許文献２】特開２００９−１４５４４２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、特許文献１及び２は、封止剤の成分の移動は、液中媒介とともに気中媒介でも発生する。成分の表示領域への移動は、液晶注入時や液晶注入後では液晶を媒介して拡散すると考えられるが、液晶注入前においては成分の溶出とともに気中媒介すなわち揮発、拡散、再付着によっても発生する。つまり特許文献１及び２の構成では、封止剤からの成分溶出又は成分揮発による表示領域の配向膜表面への成分移動を防ぐことは難しいため、液晶表示ムラの根絶には不十分であった。
【０００８】
図１０は、従来の液晶表示装置の構造を示す模式平面図である。液晶表示装置に設けられた機能性有機材料、例えばシール剤１８や封止剤３０に起因した成分が、表示領域ＤＡの配向膜表面に局所的に微量付着すると、液晶配向の制御特性が局所的に変化して、パネル下部の輝度が変化し液晶表示装置の表示ムラの原因となる虞がある（図１０の「黒ムラ部」）。パネル上部には、このような現象は起きていない（図１０の「ムラ未発生部１」及び「ムラ未発生部２」）。パネル下部には、塩素を含む封止剤３０を用いて封止された封止口が存在する（図１０の「封止口付近」）。表示ムラの原因となっている機能性有機材料の特定物質を、機能性有機材料から取り除くことが考えられるが、これは材料の機能性を低下させることに繋がるため適切でない。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。
【００１０】
［適用例１］本適用例に係る液晶表示装置は、液晶注入口を備え表示領域を囲むシール剤によって互いに貼り合わされた一対の基板と、前記液晶注入口を通して前記一対の基板の間に注入された液晶と、前記液晶注入口を封止した封止部と、前記封止部から離れた位置で、前記表示領域の周辺に配置される周辺領域に形成されたダミー封止部と、を含み、前記一対の基板のうちの一方の基板の面の上に前記液晶を配向させる配向膜を有し、前記ダミー封止部は、前記封止部から前記配向膜の表面に移動する元素と同じ元素を含むことを特徴とする。
【００１１】
本適用例によれば、表示領域の配向膜表面において、微量付着成分の不均一性を緩和させることが可能となる。
【００１２】
［適用例２］上記適用例に記載の液晶表示装置において、前記ダミー封止部の材料は、前記封止部の材料と同じであることを特徴とする。
【００１３】
本適用例によれば、ダミー封止部が封止部と同じ材料によって封止部から離れた位置で、表示領域の周辺に配置される周辺領域に形成されるため、表示領域の配向膜表面において、微量付着成分の不均一性を緩和させることができ、これによって、従来のイオン吸着層では妨げない非イオン性物質の流入による表示ムラに対して、局所的な液晶配向の制御特性変化を回避し、表示ムラによる液晶表示装置の表示品質が低下することを防ぐことができる。
【００１４】
［適用例３］上記適用例に記載の液晶表示装置において、前記表示領域は、矩形状であり、前記ダミー封止部は、前記周辺領域のうち前記表示領域の複数の辺の少なくとも一つの辺に沿った領域に設けられていることを特徴とする。
【００１５】
本適用例によれば、表示領域の配向膜表面において、微量付着成分の不均一性の緩和を容易にできる。
【００１６】
［適用例４］本適用例に係る液晶表示装置の製造方法は、一対の基板のうちいずれか一方の基板の周辺に液晶注入口が形成される箇所を除き表示領域を囲むシール剤を塗布する工程と、前記液晶注入口から離れた位置で、前記表示領域の周辺に配置される周辺領域に樹脂剤を塗布する工程と、前記一対の基板を貼り合わせて、前記液晶注入口及び前記液晶注入口に連通した空間を形成する工程と、前記液晶注入口から前記空間に液晶を注入する工程と、前記液晶注入口に封止剤を塗布する工程と、前記封止剤を硬化させて前記液晶注入口を封止する工程と、を含み、前記一対の基板のうちの一方の基板の面の上に前記液晶を配向させる配向膜を有し、前記樹脂剤は、前記封止剤から前記配向膜の表面に移動する元素と同じ元素を含むことを特徴とする。
【００１７】
本適用例によれば、表示領域の配向膜表面において、微量付着成分の不均一性を緩和させることが可能となる。
【００１８】
［適用例５］上記適用例に記載の液晶表示装置の製造方法において、前記樹脂剤は、前記封止剤と同じ材料であることを特徴とする。
【００１９】
本適用例によれば、樹脂剤が封止剤と同じ材料によって封止部から離れた位置で、表示領域の周辺の周辺領域に形成されるため、表示領域の配向膜表面において、微量付着成分を不均一性を緩和させることができ、これによって、従来のイオン吸着層では妨げない非イオン性物質の流入による表示ムラに対して、局所的な液晶配向の制御特性変化を回避し、表示ムラによる液晶表示装置の表示品質が低下することを防ぐことができる。
【００２０】
［適用例６］上記適用例に記載の液晶表示装置の製造方法において、前記表示領域は、矩形状であり、前記樹脂剤を塗布する工程では、前記樹脂剤は、前記周辺領域のうち前記表示領域の複数の辺の少なくとも一つの辺に沿った領域に設けられていることを特徴とする。
【００２１】
本適用例によれば、表示領域の配向膜表面において、微量付着成分の不均一性の緩和を容易にできる。
【００２２】
［適用例７］本適用例に係る電子機器は、上記記載の液晶表示装置を備えることを特徴とする。
【００２３】
本適用例によれば、上述の液晶表示装置を備えるため、表示ムラによる液晶表示装置の表示品質が低下することを防ぐ電子機器を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】第１実施形態に係る液晶表示装置の構造を示す模式平面図。
【図２】図１に示す液晶表示装置のＡ−Ａ´線に沿う模式断面図。
【図３】第１実施形態に係る液晶表示装置の製造工程を示すフローチャート。
【図４】従来の表示ムラ不良液晶表示装置の配向膜表面の各領域の塩素イオン検出強度値を示すグラフ。
【図５】第１実施形態に係る液晶表示装置で期待される配向膜表面の塩素イオン検出強度値を示すグラフ。
【図６】配向膜表面の塩素イオン検出強度値と、液晶配向制御の良／不良状態とを示すグラフ。
【図７】第２実施形態に係る液晶表示装置の構造を示す模式平面図。
【図８】第３実施形態に係る液晶表示装置の構造を示す模式平面図。
【図９】第４実施形態に係る液晶表示装置を備えた電子機器の一例として液晶プロジェクターの構成を示す模式図。
【図１０】従来の液晶表示装置の構造を示す模式平面図。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、本発明を具体化した実施形態について図面に従って説明する。なお、使用する図面は、説明する部分が認識可能な状態となるように、適宜拡大又は縮小して表示している。
【００２６】
（第１実施形態）
本実施形態では、液晶表示装置として薄膜トランジスター（Thin Film Transistor：ＴＦＴ）を画素のスイッチング素子として備えたアクティブマトリックス型の液晶表示装置を例に挙げて説明する。この液晶表示装置は、例えば後述する投射型表示装置（液晶プロジェクター）の光変調素子（液晶ライトバルブ）として好適に用いることができるものである。
【００２７】
図１は、本実施形態に係る液晶表示装置の構造を示す模式平面図である。図２は、図１に示す液晶表示装置のＡ−Ａ´線に沿う模式断面図である。本実施形態に係る液晶表示装置２は、図１及び図２に示すように、ガラス等からなる第１透明基板１０上に各種配線等を形成したＴＦＴ基板１２と、ガラス等からなる第２透明基板１４上にカラーフィルター等を形成した対向基板１６と、が対向配置されている。そして、このＴＦＴ基板１２と対向基板１６とは、シール剤１８で貼り合わされ、シール剤１８で形成された空間に液晶２０が封入されている。このシール剤１８で囲まれ、液晶２０が封入された部分が表示領域ＤＡとなり、この表示領域ＤＡの外側が周辺領域ＰＡとなっている。なお、ＴＦＴ基板１２は、対向基板１６と対向配置させたときに所定スペースの張り出した部分が形成されるように、対向基板１６より若干サイズが大きいものが使用されている。この張り出した部分は、液晶２０を駆動するためのドライバーＩＣ２２等が配置される実装領域ＩＡとなっている。
【００２８】
ＴＦＴ基板１２は、ガラス等の第１透明基板１０の液晶２０側の表面に、金属膜や絶縁膜、樹脂膜等の成膜とパターニングを繰り返して信号線や走査線などの各種配線、スイッチング素子としてのＴＦＴ素子、ＩＴＯ（Indium Thin Oxide）やＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）等の透明導電性材料からなる画素電極、配向膜などが備えられている。なお、図２ではこれらを総称して第１構造物２４とされている。また、ＴＦＴ基板１２の表示領域ＤＡには、両基板間のセルギャップを維持するためのフォトスペーサー（図示省略）が形成されている。そして、配向膜にラビング処理がされて本実施形態のＴＦＴ基板１２となる。
【００２９】
また、対向基板１６は、ガラス等の第２透明基板１４の液晶２０側の表面に、金属膜や樹脂膜、絶縁膜等の成膜とパターニングを繰り返し、遮光層、カラーフィルター層、オーバーコート層、共通電極、配向膜等を備えるように形成される。なお、図２ではこれらを総称して第２構造物２６とされている。図１において第２構造物２６の外端の内側の領域が第２構造物２６の領域となる。そして、配向膜にラビング処理がされて本実施形態の対向基板１６となる。
【００３０】
そして、ＴＦＴ基板１２又は対向基板１６の表示領域ＤＡの周囲に沿ってシール剤１８が塗布される。図１の符号２７は非有効画素が配置される領域である。このシール剤１８は、熱硬化性あるいは紫外線硬化性の樹脂材によって形成される。このシール剤１８は、ＴＦＴ基板１２の表示領域ＤＡの外縁部に沿って塗布されるとともに、その一部に液晶注入口２８が形成されている。液晶注入口２８の幅は、例えば１ｍｍである。
【００３１】
周辺領域ＰＡでシール剤１８と表示領域ＤＡとの間の、液晶注入口２８から離れた位置に封止剤（封止部）３０と同じ材料からなるダミー封止剤（ダミー封止部）３２が塗布されている。本実施形態では、ダミー封止部３２は、液晶注入口２８が形成される基板端辺と対向する基板端辺に塗布されている。
【００３２】
ＴＦＴ基板１２及び対向基板１６は、互いの表面が対向するように配置した状態で、表示領域ＤＡの外周囲に亘って塗布されたシール剤１８によって貼り合わされ、一体化される。そして、液晶注入口２８から液晶２０が注入され、液晶注入口２８を封止部３０により封止され、実装領域ＩＡにドライバーＩＣ２２等が設置されることで本実施形態にかかる液晶表示装置２となる。ＴＦＴ基板１２と対向基板１６との間隔は、例えば２μｍである。
【００３３】
次に、図１〜図３を参照して本実施形態の液晶表示装置２の製造工程を説明する。
図３は、本実施形態に係る液晶表示装置２の製造工程を示すフローチャートであり、以下の説明では、このフローチャートに照らし合わせて行う。
先ず、ステップＳ１０において、ＴＦＴ基板１２側のＴＦＴマザー基板は、ガラス等の第１透明基板１０上に、金属膜や絶縁膜、樹脂膜等の成膜とパターニングを繰り返して信号線や走査線などの各種配線、スイッチング素子としての薄膜トランジスター、ＩＴＯやＩＺＯ等の透明導電性材料からなる下電極、電極間絶縁膜、ＩＴＯやＩＺＯ等の透明導電性材料からなる上電極、配向膜などを備え、複数個の液晶表示パネル領域を含むように形成する。なお、上述したように図２ではこれらを総称して第１構造物２４としている。そして、配向膜にラビング処理をしてＴＦＴマザー基板が完成する。
【００３４】
また、ステップＳ２０において、対向基板１６側の対向マザー基板は、ガラス等の第２透明基板１４上に金属膜や樹脂膜、絶縁膜等の成膜とパターニングを繰り返し、遮光層、カラーフィルター層、オーバーコート層、配向膜等を備えるように形成する。なお、上述したように図２ではこれらを総称して第２構造物２６としている。そして、配向膜にラビング処理をして対向マザー基板が完成する。
【００３５】
次に、ステップＳ３０において、ＴＦＴマザー基板又は対向マザー基板のいずれかにシール剤１８を塗布する。
【００３６】
次に、ステップＳ４０において、シール剤１８の内側で周辺領域ＰＡにダミー封止剤３２を塗布する。本実施形態では、ダミー封止剤３２は、液晶注入口２８が形成される基板端辺と対向する基板端辺に塗布される。
【００３７】
次に、ステップＳ５０において、ＴＦＴマザー基板及び対向マザー基板を貼り合わせる工程を行う。
【００３８】
その後、ステップＳ６０において、貼り合わせたマザー基板を各液晶表示パネルとなるように分断及び切断を行い、ステップＳ７０において、液晶２０を液晶注入口２８から注入し、ステップＳ８０において、液晶注入口２８を封止部３０で封止し、ステップＳ９０において、ＴＦＴ基板１２の実装領域ＩＡにドライバーＩＣ２２等を設置して本実施形態の液晶表示装置２が完成する。
【００３９】
図４は、従来の表示ムラ不良液晶表示装置の配向膜表面の各領域の塩素イオン検出強度値を示すグラフである。言い換えると、表示ムラ不良の液晶表示装置を開封し、配向膜表面の各領域における飛行時間型二次イオン質量分析法（Time-of-Flight Secondary Ion Mass Spectrometry：ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）によって得た塩素イオン検出強度値を示したグラフである。
【００４０】
具体的には、液晶表示装置を開封した後、液晶２０をエタノールで洗い流して、配向膜表面のＴＯＦ−ＳＩＭＳ分析を行った。用いたＴＯＦ−ＳＩＭＳ分析装置はアルバック・ファイ社製ＴＲＩＦＴII、一次イオン照射電流量はＳｔａｔｉｃＳＩＭＳ条件を満たし、一次イオン種はＧａ＋、一次イオン加速出電圧は１５ｋＶであった。測定を行った領域は、図１０に示す「封止口付近」、「黒ムラ部」、「ムラ未発生部１」、「ムラ未発生部２」の４領域であり、「ムラ未発生部２」は、「ムラ未発生部１」と比較して、液晶注入口２８から遠い領域である。測定は各領域において２回ずつ行った。この液晶表示装置の配向膜はＳｉＯ2である。塩素イオン検出強度値とは、塩素イオン検出量を全負イオン検出強度で除算した規格化検出強度値Ｃｌ−／Ｔｏｔａｌ−である。
【００４１】
図４から分かるように、「封止口付近」では塩素イオン検出強度値が比較的大きく、液晶注入口２８から離れるにしたがって塩素イオン検出強度値が低下していた。例えば「封止口付近」と比較して「ムラ未発生部２」では塩素イオン検出強度値が半分程度になっていた。よってこの液晶表示装置では、封止剤３０に由来した塩素イオンが配向膜表面に付着し、液晶２０の配向制御性が場所ごとに変化して、特に封止剤３０の近傍ではこの傾向が顕著となり、表示ムラを生じたことが分かった。液晶２０が不配向となるほどの配向膜表面汚染でなくとも、配向膜表面の塩素イオン濃度が領域ごとに差異があると、液晶表示装置は表示ムラを発生し、表示特性が劣化することが分かった。したがって、例えば液晶表示装置の液晶注入口２８とは反対側の領域にダミーとなるダミー封止部３２（図１参照）を設けることで、塩素イオンの染み出しによる配向膜表面の塩素イオン濃度の勾配を制御することができる。
【００４２】
図５は、本実施形態に係る液晶表示装置２で期待される配向膜表面の塩素イオン検出強度値を示すグラフである。言い換えると、液晶表示装置２の封止口とは反対側に封止剤を設けた構造において、図４の実験データを基に期待される配向膜表面の塩素イオン検出強度値を示したグラフである。
【００４３】
図５に示すように、配向膜表面の塩素イオン濃度バラツキを抑制した状態を実現できることが分かった。このようにすることで、液晶表示装置２の表示の不均一性を緩和させることができる。なおダミー封止部３２を設ける位置は、配向膜表面の塩素イオン濃度が液晶表示装置２全体で不均一性を緩和させるようにするために、液晶表示装置２の形状や構造によって複数にしてもよい。
【００４４】
ここで注意点として、設けたダミー封止部３２からの成分染み出しの影響が大きすぎると液晶配向を制御できなくなることがある。封止部３０由来の塩素イオンについて、無機配向膜の表面に存在しても問題ない許容値について実験した結果を説明する。
【００４５】
図６は、配向膜表面の塩素イオン検出強度値と、液晶配向制御の良／不良状態とを示すグラフである。言い換えると、液晶表示装置の液晶配向制御の良／不良状態と、それぞれの配向膜表面のＴＯＦ−ＳＩＭＳ分析をすることによって得た塩素イオン検出強度値の評価結果である。
【００４６】
図６に示すように、配向膜表面の塩素イオン検出強度値が０．００６程度以上のとき、液晶２０の配向制御ができなくなり不良となった。よって配向膜表面の塩素イオン存在濃度は、ＴＯＦ−ＳＩＭＳの塩素イオン検出濃度値が０．００６未満であることが必要だと分かった。例えば図６に示すように、塩素イオン検出強度値が０．００３程度の状態では、液晶配向を制御できた。したがってダミー封止部３２を配置することによって配向膜表面の塩素イオン濃度の不均一性を緩和させることにおいては、図５に示したように塩素イオン検出強度値が０．００１〜０．００２の間であるので、液晶配向が制御できる条件を満たしている。
【００４７】
本実施形態によれば、ダミー封止部３２が封止部３０と同じ材料によって封止部３０から離れた位置で、表示領域ＤＡの周辺に延びる封止部３０が形成される基板端辺と対向する基板端辺に形成されるため、表示領域ＤＡの配向膜表面において、微量付着成分の不均一性を緩和させることができる。これによって、従来のイオン吸着層では妨げない非イオン性物質の流入による表示ムラに対して、局所的な液晶配向の制御特性変化を回避し、表示ムラによる液晶表示装置２の表示品質が低下することを防ぐことができる。
【００４８】
（第２実施形態）
図７は、本実施形態に係る液晶表示装置の構造を示す模式平面図である。以下、液晶表示装置４の構造を、図７を参照しながら説明する。
【００４９】
本実施形態の液晶表示装置４は、複数のダミー封止部３２を設ける点が、第１実施形態と異なっている。以下、第１実施形態と同じ構成部材には同一符号を付し、ここではそれらの説明を省略又は簡略化する。
【００５０】
本実施形態の液晶表示装置４は、図７に示すように、封止部３０が設けられている辺を除く３辺にダミー封止部３２が設けられている。
【００５１】
本実施形態によれば、ダミー封止部３２が封止部３０と同じ材料によって封止部３０から離れた位置で、表示領域ＤＡの周辺に延びる封止部３０がない周辺領域ＰＡに形成されるため、表示領域ＤＡの配向膜表面において、微量付着成分の不均一性を緩和させることができる。
【００５２】
（第３実施形態）
図８は、本実施形態に係る液晶表示装置の構造を示す模式平面図である。以下、液晶表示装置６の構造を、図８を参照しながら説明する。
【００５３】
本実施形態の液晶表示装置６は、封止部３０が設けられている辺にダミー封止部３２を設ける点が、第２実施形態と異なっている。以下、第２実施形態と同じ構成部材には同一符号を付し、ここではそれらの説明を省略又は簡略化する。
【００５４】
本実施形態の液晶表示装置６は、図８に示すように、封止部３０が形成されている辺を含む４辺にダミー封止部３２が設けられている。
【００５５】
本実施形態によれば、ダミー封止部３２が封止部３０と同じ材料によって封止部３０から離れた位置で、表示領域ＤＡの周辺に延びる周辺領域ＰＡの４辺に設けられるため、表示領域ＤＡの配向膜表面において、微量付着成分の不均一性を緩和させることができる。
【００５６】
（第４実施形態）
＜電子機器の構成＞
図９は、本実施形態に係る液晶表示装置を備えた電子機器の一例として液晶プロジェクターの構成を示す模式図である。以下、液晶表示装置を備えた液晶プロジェクターの構成を、図９を参照しながら説明する。
【００５７】
本実施形態に係る液晶プロジェクター２００は、図９に示すように、上記した液晶表示装置２，４，６を含む液晶モジュールを３つ配置し、それぞれＲＧＢ用のライトバルブ２１０Ｒ，２１０Ｇ，２１０Ｂとして用いた構造となっている。
【００５８】
詳しくは、メタルハライドランプ等の白色光源のランプユニット２１２から投射光が発せられると、３枚のミラー２１４及び２枚のダイクロイックミラー２１６によって、ＲＧＢの三原色に対応する光成分Ｒ，Ｇ，Ｂに分けられ、各色に対応するライトバルブ２１０Ｒ，２１０Ｇ，２１０Ｂにそれぞれ導かれる。特に光成分Ｂは、長い光路による光損失を防ぐために、入射レンズ２１８、リレーレンズ２２０、出射レンズ２２２からなるリレーレンズ系２２４を介して導かれる。
【００５９】
ライトバルブ２１０Ｒ，２１０Ｇ，２１０Ｂによりそれぞれ変調された三原色に対応する光成分Ｒ，Ｇ，Ｂは、ダイクロイックプリズム２２６により再度合成された後、投射レンズ２２８を介して、スクリーン２３０にカラー画像として投射される。
【００６０】
このような構成の液晶プロジェクター２００は、上記した液晶表示装置２，４，６を含む液晶モジュールを介すことによって、高品位な表示を行うことができる。なお、上記した液晶表示装置２，４，６は、上記した液晶プロジェクター２００の他、高精細ＥＶＦ（Electric View Finder）、携帯電話機、モバイルコンピューター、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、テレビ、車載機器、オーディオ機器などの各種電子機器に用いることができる。
【００６１】
以上詳述したように、本実施形態によれば、以下に示す効果が得られる。
本実施形態によれば、上記した第１実施形態〜第３実施形態の液晶表示装置２，４，６を備えているので、ダミー封止部が封止部と同じ材料によって封止部から離れた位置で、表示領域の周辺に延びる周辺領域に形成されるため、表示領域の配向膜表面において、微量付着成分の不均一性を緩和させることができ、これによって、従来のイオン吸着層では妨げない非イオン性物質の流入による表示ムラに対して、局所的な液晶配向の制御特性変化を回避し、表示ムラによる液晶表示装置２，４，６の表示品質が低下することを防ぐことができ、表示品質の高い画像を形成する電子機器を提供することができる。
【００６２】
なお、実施形態は上記に限定されず、以下のような形態で実施することもできる。
（変形例１）
上述の実施形態は、封止剤３０以外の材料にも適用できることが容易に考えられる。例えばある機能性有機材料を液晶表示装置２，４，６の特定の箇所に設けた構造体において、そこからの成分の染み出しによって液晶表示装置２，４，６の表示ムラが発生したとすれば、液晶表示装置２，４，６の構造において、その機能性有機材料が設けられている位置と対称の位置に同じ機能性有機材料を配置することが考えられる。このとき、機能性有機材料からの成分染み出しの影響が大きすぎると液晶２０の配向を制御できなくなる可能性があるので、封止剤３０の例にて示したような、液晶配向制御ができなくなる上限を実験によって明らかにしておくことが望ましい。
【００６３】
（変形例２）
上記した液晶表示装置２，４，６は、ボトムエミッション型、又はトップエミッション型のどちらに適用してもよい。また、一対の基板のうち一方の基板（例えば、ＴＦＴ基板１２）を遮光性材料であるシリコン（Ｓｉ）基板で構成し、反射型のプロジェクターに用いるようにしてもよい。また、液晶表示装置２，４，６は、ＴＮ、ＶＡ、ＩＰＳ、ＦＦＳ、ＥＣＢ、ＯＣＢ、ＬＣＯＳなど各種モードに適用できる。
【００６４】
（変形例３）
上記の実施形態において、ダミー封止部３２に、封止部３０に用いたものと同じ材料を用いることに代え、封止部３０に用いる封止剤の成分を含んだ封止剤（例えば、塩素を含んだ封止剤）を用いることにより、上記の実施形態と同様の効果がある。
【符号の説明】
【００６５】
２，４，６…液晶表示装置  １０…第１透明基板  １２…ＴＦＴ基板  １４…第２透明基板  １６…対向基板  １８…シール剤  ２０…液晶  ２２…ドライバーＩＣ  ２４…第１構造物  ２６…第２構造物  ２７…非有効画素  ２８…液晶注入口  ３０…封止剤（封止部）  ３２…ダミー封止剤（ダミー封止部）  ２００…液晶プロジェクター  ２１０Ｒ，２１０Ｇ，２１０Ｂ…ライトバルブ  ２１２…ランプユニット  ２１４…ミラー  ２１６…ダイクロイックミラー  ２１８…入射レンズ  ２２０…リレーレンズ  ２２２…出射レンズ  ２２４…リレーレンズ系  ２２６…ダイクロイックプリズム  ２２８…投射レンズ  ２３０…スクリーン。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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