(57)【要約】【課題】上部と下部のバネ定数を変えることにより、上部における破損を防止することができるベローズを提供することができる。【解決手段】ベローズ１は、伸縮部７における上部と下部が中間部に比べてバネ定数が大きくなるように設定されている。したがって、ベローズ１を垂直姿勢で取り付けて伸長させた場合であっても、伸縮部７の上部は、中間部よりも山部２３と谷部２５とが拡がりにくく、上部が自重により中間部より拡がることがない。その結果、伸縮部７の上部が破損するのを防止できる。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
山部と谷部とが交互に形成されて中空状を呈した伸縮部を備え、中空状の軸方向に伸縮可能なベローズにおいて、
前記伸縮部は、上部のバネ定数が中間部よりも大きく形成されていることを特徴とするベローズ。
【請求項２】
請求項１に記載のベローズにおいて、
前記伸縮部は、下部のバネ定数を上部と同じに設定されていることを特徴とするベローズ。
【請求項３】
請求項１または２に記載のベローズにおいて、
前記バネ定数は、山部及び谷部の頂部における軸方向の肉厚を厚くすることで大きく設定されていることを特徴とするベローズ。
【請求項４】
請求項１または２に記載のベローズにおいて、
端部から第１番目の山部の肉厚と、第１番目の谷部の肉厚と、第２番目の山部の肉厚と、第２番目の谷部の肉厚とは、第３番目以降の山部及び谷部の肉厚に向かって徐々に薄く設定されていることを特徴とするベローズ。
【請求項５】
基板に対して処理を行う基板処理装置において、
基板を収容する内部容器と、
前記内部容器を覆う外部容器と、
基板を保持する保持部と、
前記外部容器を貫通して垂直姿勢で設けられ、前記保持部に連結された支持軸と、
前記外部容器の外部に設けられ、前記支持軸を昇降駆動して、前記内部容器の内部に相当する処理位置と、前記内部容器の上方に相当する待機位置とにわたって前記保持部を昇降する昇降機構と、
山部と谷部とが交互に形成されて中空状を呈した伸縮部を備え、中空状の軸方向に伸縮可能に構成され、前記伸縮部の上部のバネ定数が中間部の部分よりも大きく形成されているとともに前記支持軸に挿通されて前記外部容器内に設けられたベローズと、
を備えていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項６】
請求項５に記載の基板処理装置において、
前記伸縮部は、下部のバネ定数を上部と同じに設定されていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項７】
請求項５または６に記載の基板処理装置において、
前記バネ定数は、山部及び谷部の頂部における軸方向の肉厚を厚くすることで大きく設定されていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項８】
請求項５または６に記載の基板処理装置において、
端部から第１番目の山部の肉厚と、第１番目の谷部の肉厚と、第２番目の山部の肉厚と、第２番目の谷部の肉厚とは、第３番目以降の山部及び谷部の肉厚に向かって徐々に薄く設定されていることを特徴とする基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、中空状で軸方向に伸縮可能なベローズ及び、半導体ウエハ、液晶ディスプレイ用基板、プラズマディスプレイ用基板、有機ＥＬ用基板、ＦＥＤ(Field Emission Display)用基板、光ディスプレイ用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、太陽電池用基板（以下、単に基板と称する）を処理するために垂直方向に伸縮する機構にベローズを用いた基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種の装置として、山部と谷部とが交互に形成されて筒状を呈し、筒の軸方向に伸縮可能な合成樹脂で構成されたベローズがある（例えば、特許文献１，２参照）。これらのベローズは、ベローズの断面形状を工夫したり、山部と谷部の肉厚の関係を工夫したりして、ベローズの破損を防止するように構成されている。
【０００３】
また、上述したベローズを用いた基板処理装置として、処理槽と、基板を保持するガイドと、ガイドに連結され、垂直姿勢の支持軸と、支持軸を鉛直方向に昇降する昇降機構とを備えたものがある（例えば、特許文献３参照）。
【０００４】
この基板処理装置は、処理槽内の雰囲気により支持軸が腐食したり、支持軸から発生したパーティクルが処理槽に侵入したりする不都合を防止するために、支持軸をベローズで覆っている。支持軸は昇降機構により垂直方向に昇降するが、伸縮可能なベローズで覆ってあるので、上記の不都合が防止される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】実開平６−３０５６０号公報
【特許文献２】特開２００１−１９３８３６号公報
【特許文献３】特開平１０−２７５８５１号公報（図４）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。
すなわち、従来の装置は、ベローズの山部と谷部とのピッチが全体において均等に構成されている。そのため垂直姿勢でベローズを使用すると、自重の負担が大きなベローズの上部において、山部と谷部との間隔がベローズの下部よりも大きく拡がる。したがって、ベローズの伸縮が繰り返されるとその部分の耐久性が低下し、ベローズの上部において破損が多発するという問題がある。
【０００７】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、上部と下部のバネ定数を変えることにより、上部における破損を防止ないし抑制することができるベローズ及びそれを用いた基板処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、請求項１に記載の発明は、山部と谷部とが交互に形成されて中空状を呈した伸縮部を備え、中空状の軸方向に伸縮可能なベローズにおいて、前記伸縮部は、上部のバネ定数が中間部よりも大きく形成されていることを特徴とするものである。
【０００９】
［作用・効果］請求項１に記載の発明によれば、伸縮部の上部のバネ定数が中間部のバネ定数よりも大きく設定されている。したがって、伸縮部の上部は、中間部よりも山部と谷部とが拡がりにくく、上部が自重により中間部より拡がることが抑制される。その結果、伸縮部の上部が破損するのを防止できる。また、全体のバネ定数を大きくする場合と比較して、伸縮ストローク量を大きくできる。
【００１０】
また、本発明において、前記伸縮部は、下部のバネ定数を上部と同じに設定されていることが好ましい（請求項２）。
【００１１】
下部のバネ定数を上部と同じにするので、ベローズの上下に関係なく使用することができる。したがって、ベローズの取り扱いを容易にすることができる。
【００１２】
また、本発明において、前記バネ定数は、山部及び谷部の頂部における軸方向の肉厚を厚くすることで大きく設定されていることが好ましい（請求項３）。
【００１３】
山部と谷部の頂部における軸方向の肉厚を厚くすると、山部から谷部へ延出された二辺の肉厚を厚くできるので、山部と谷部とが拡がりにくくできる。
【００１４】
また、本発明において、端部から第１番目の山部の肉厚と、第１番目の谷部の肉厚と、第２番目の山部の肉厚と、第２番目の谷部の肉厚とは、第３番目以降の山部及び谷部の肉厚に向かって徐々に薄く設定されていることが好ましい（請求項４）。
【００１５】
第３番目の山部及び谷部に徐々に肉厚を薄くすることにより、徐々にバネ定数を小さくすることができる。したがって、伸縮部が徐々に伸びるようにでき、バネ定数が極端に変わる部分に負荷がかかるのを抑制できる。
【００１６】
また、請求項５に記載の発明は、基板に対して処理を行う基板処理装置において、基板を収容する内部容器と、前記内部容器を覆う外部容器と、基板を保持する保持部と、前記外部容器を貫通して垂直姿勢で設けられ、前記保持部に連結された支持軸と、前記外部容器の外部に設けられ、前記支持軸を昇降駆動して、前記内部容器の内部に相当する処理位置と、前記内部容器の上方に相当する待機位置とにわたって前記保持部を昇降する昇降機構と、山部と谷部とが交互に形成されて中空状を呈した伸縮部を備え、中空状の軸方向に伸縮可能に構成され、前記伸縮部の上部のバネ定数が中間部の部分よりも大きく形成されているとともに前記支持軸に挿通されて前記外部容器内に設けられたベローズと、を備えていることを特徴とするものである。
【００１７】
［作用・効果］請求項５に記載の発明によれば、昇降機構は、支持軸を昇降駆動して、内部容器の内部に相当する処理位置と、内部容器の上方に相当する待機位置とにわたって保持部を昇降する。外部容器及び内部容器内の雰囲気で腐食したり、昇降機構からのパーティクルが内部容器に侵入したりしないように支持軸にはベローズが挿通されている。このベローズは、伸縮部の上部のバネ定数が中間部のバネ定数よりも大きく設定されている。したがって、伸縮部の上部は、中間部よりも山部と谷部とが拡がりにくく、上部が自重により中間部より拡がることがない。その結果、伸縮部の上部が破損するのを防止できる。よって、ベローズの破損による交換作業のために処理を停止させる時間を低減でき、スループットを向上させることができる。
【００１８】
また、本発明において、前記伸縮部は、下部のバネ定数を上部と同じに設定されていることが好ましい（請求項６）。
【００１９】
下部のバネ定数を上部と同じにするので、ベローズの上下に関係なく使用することができる。したがって、ベローズを支持軸に取り付ける際の取り扱いを容易にすることができる。
【００２０】
また、本発明において、前記バネ定数は、山部及び谷部の頂部における軸方向の肉厚を厚くすることで大きく設定されていることが好ましい（請求項７）。
【００２１】
山部と谷部の頂部における軸方向の肉厚を厚くすると、山部と谷部とが拡がりにくくできる。
【００２２】
また、本発明において、端部から第１番目の山部の肉厚と、第１番目の谷部の肉厚と、第２番目の山部の肉厚と、第２番目の谷部の肉厚とは、第３番目以降の山部及び谷部の肉厚に向かって徐々に薄く設定されていることが好ましい（請求項８）。
【００２３】
第３番目の山部及び谷部に徐々に肉厚を薄くすることにより、徐々にバネ定数を小さくすることができる。したがって、伸縮部が徐々に伸びるようにでき、バネ定数が極端に変わる部分に負荷がかかるのを抑制できる。
【発明の効果】
【００２４】
本発明に係るベローズによれば、伸縮部の上部のバネ定数が中間部のバネ定数よりも大きく設定されている。したがって、伸縮部の上部は、中間部よりも山部と谷部とが拡がりにくく、上部が自重により中間部より拡がることがない。その結果、伸縮部の上部が破損するのを防止できる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】実施例１に係るベローズが収縮した状態における縦断面図である。
【図２】実施例１に係るベローズが伸長した状態における縦断面図である。
【図３】ベローズを伸長させた際における山部間の開き量を本実施例と従来技術とで比較したグラフである。
【図４】実施例２に係る基板処理装置の概略構成を示す縦断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
本発明について、ベローズとこれを備えた基板処理装置について以下に説明する。
【００２７】
＜ベローズ＞
伸縮自在のベローズの実施例について以下に説明する。
【実施例１】
【００２８】
以下、図面を参照して本発明の実施例１を説明する。
図１は、実施例１に係るベローズが収縮した状態における縦断面図である。また、図２は、実施例１に係るベローズが伸長した状態における縦断面図である。なお、図２は、ベローズの半面だけを図示している。
【００２９】
ベローズ１は、第１取付部３と、第２取付部５と、伸縮部７とを備えている。ベローズ１は、例えば、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン（polytetrafluoroethylene））などのフッ素樹脂製で一体的に構成されている。ベローズ１を構成する樹脂としては、基板の処理に用いられる際の処理雰囲気に対する耐性があればどのようなものであってもよい。第１取付部３及び第２取付部５は、平面視で円形状を呈している。なお、この説明においては、図１及び図２における上下関係を基本とし、第１取付部３を上とし、第２取付部５を下として説明する。
【００３０】
第１取付部３は、第２取付部５よりも外径が大きく形成されている。第１取付部３の下面９には、中心部に貫通口１１が形成され、その外周側に凹溝１３が形成され、その外周側に複数個の取付穴１５が形成されている。貫通口１１は、ベローズ１の中心部を上下方向に貫通する。凹溝１３は、第１取付部９の貫通口１１を気密に保つための図示しないＯリングが嵌め付けられる。取付穴１５は、第１取付部３を固定するためのネジ止めに用いられる。
【００３１】
第２取付部５は、その上面１７の中心部に貫通口１１が形成され、その外周側に凹溝１９が形成され、その外周側に複数個の取付穴２１が形成されている。貫通口１１は、第１取付部３の貫通口１１と連通している開口である。凹溝１９は、第２取付部５の上面１７を気密に保つための図示しないＯリングが嵌め付けられる。取付穴２１は、第２取付部５を固定するためのネジ止めに利用される。
【００３２】
伸縮部７は、第１取付部３と第２取付部５との間に形成されている。伸縮部７は、横断面が環状を呈し、外周側からの複数の切れ目により山部２３が形成され、内周側からの複数の切れ目により谷部２５が交互に形成されている。山部２３の数は、ベローズ１が使用される部位の伸長時及び縮小時の長さによって適した個数に設定される。ここでは、ｎ個（ｎ＝整数）形成されているものとする。ここでは、伸縮部７の第１取付部３側を下部とし、伸縮部７の第２取付部５側を上部とし、それらの間を中間部と称する。
【００３３】
この伸縮部７は、上部及び下部と、中間部とでバネ定数が異なるものとされている。具体的には、伸縮部７の上部と下部は、中間部よりも大きなバネ定数とされている。バネ定数は、バネに負荷を加えたときに、バネの伸びを荷重で除した比例定数である。換言すると、バネ定数が大きいと伸びにくく、バネ定数が小さいと伸びやすいことを表す。
【００３４】
図２を参照して詳細に説明する。伸縮部７は、山部２３の頂部２３ａと谷部２５の頂部２５ａとの軸方向（図２の上下方向）における肉厚が上部と下部で中間部よりも厚くされている。
【００３５】
具体的には、伸縮部７の上部においては、上から第１番目にあたる山部２３−１の頂部２３ａの肉厚ｄ２３が最も厚く、上から第１番目にあたる谷部２５−１の頂部２５ａの肉厚ｄ２５が次に厚く、上から第２番目にあたる山部２３−２の頂部２３ａの肉厚ｄ２３が次に厚く、上から第２番目にあたる谷部２５−２の頂部２５ａの肉厚ｄ２５が次に厚く、上から３番目にあたる山部２３−３の頂部２３ａの肉厚ｄ２３が次に厚く、上から３番目にあたる谷部２５−３の頂部２５ａの肉厚ｄ２５は、山部２３−３の頂部２３ａの肉厚ｄ２３ａの肉厚ｄ２３と同じ厚みに形成されている。それ以降の上から第４番目にあたる、中間部の山部２３−４の頂部２３ａの肉厚ｄ２３及び、第４番目にあたる、中間部の谷部２５−４の頂部２５ａの肉厚ｄ２５は、上から３番目にあたる山部２３−３または谷部２５−３の頂部における肉厚ｄ２３，ｄ２５と同じである。換言すると、上部から中間部に向かって、頂部２３ａ、２５ａの肉厚が徐々に薄く設定されており、また中間部では、頂部２３ａ，２５ａの肉厚ｄ２３，ｄ２５は一定であるように設定されている。
【００３６】
このように、第１番目の山部２３−１の肉厚ｄ２３＞第１番目の谷部２５−１の肉厚ｄ２５＞第２番目の山部２３−２の肉厚ｄ２３＞第２番目の谷部２５−２の肉厚ｄ２３＞第３番目の山部２３−３の肉厚ｄ２３＝第４番目の山部ｄ２３−４の肉厚ｄ２３＝……第３番目の谷部２５−３の肉厚ｄ２５＝第４番目の谷部２５−４の肉厚ｄ２５＝……とされている。また、山部２３から第１取付部３と谷部２５へ延出されている二辺と、山部２３から谷部２５に延出されている二辺も同様の関係の肉厚とされている。したがって、伸縮部７の上部は、中間部よりもバネ定数が大きく伸びが小さくなる。
【００３７】
また、伸縮部７の下部は、上述した上部と同様に中間部よりもバネ定数が大きくなるように構成されている。但し、肉厚の厚い順序は上下逆になる。つまり、伸縮部７の下部においては、最下部の第ｎ番目（下から第１番目）にあたる山部２３−ｎの頂部２３ａの肉厚ｄ２３が最も厚く、最下部の第ｎ−１番目（下から第１番目）にあたる谷部２５−ｎ−１の頂部２５ａの肉厚ｄ２５が次に厚く、第ｎ−１番目（下から第２番目）にあたる山部２３−ｎ−１の頂部２３ａの肉厚ｄ２３が次に厚く、第ｎ−２番目（下から２番目）にあたる谷部２５−ｎ−２の頂部２５ａの肉厚ｄ２５が次に厚く、第ｎ−２番目（下から第３番目）にあたる山部２３−ｎ−２の頂部２３ａの肉厚ｄ２３が次に厚く、第ｎ−３番目（下から第３番目）にあたる谷部２５−ｎ−３の頂部２５ａの肉厚ｄ２５は、山部２３−ｎ−２の頂部２３ａの肉厚ｄ２３と同じ厚みに形成されている。第ｎ−３番目（下から第４番目）以上にあたる、中間部の山部２３−ｎ−３の肉厚ｄ２３及び、第ｎ−４番目にあたる、中間部の谷部２５−ｎ−４の頂部２５ａにおける肉厚ｄ２５は、それぞれ下から３番目にあたる山部２３−ｎ−２または谷部２５−ｎ−３の頂部における肉厚ｄ２３，ｄ２５と同じである。換言すると、下部から中間部に向かって、頂部の肉厚が徐々に薄く設定されている。
【００３８】
このように、第ｎ番目の山部２３−ｎの肉厚ｄ２３＞第ｎ−１番目の谷部２５−ｎ−１の肉厚ｄ２５＞第ｎ−１番目の山部２３−ｎ−１の肉厚ｄ２３＞第ｎ−２番目の谷部２５−ｎ−２の肉厚ｄ２３＞第ｎ−２番目の山部２３−ｎ−２の肉厚ｄ２３＝第ｎ−３番目の山部ｄ２３−ｎ−３の肉厚ｄ２３＝……第ｎ−３番目の谷部２５−ｎ−３の肉厚ｄ２５＝第ｎ−４番目の谷部２５−ｎ−４の肉厚ｄ２５＝……とされている。また、山部２３から第２取付部５と谷部２５へ延出されている二辺と、山部２３から谷部２５に延出されている二辺も同様の関係の肉厚とされている。したがって、伸縮部７の下部は、中間部よりもバネ定数が大きく、伸びが小さくなる。
【００３９】
本実施例のベローズ１は、上述したように上部と下部が中間部に比べてバネ定数が大きくなるように設定されている。したがって、ベローズ１を垂直姿勢で取り付けて伸長させた場合であっても、伸縮部７の上部は、中間部よりも山部２３と谷部２５とが拡がりにくく、上部が自重により中間部より拡がることがない。その結果、伸縮部７の上部が破損するのを防止できる。
【００４０】
また、ベローズ１の下部は、バネ定数を上部と同じに設定されているので、ベローズ１の上下に関係なく使用することができる。したがって、ベローズ１の取り扱いを容易にすることができる。
【００４１】
また、山部２３と谷部２５の頂部２３ａ、２５ａにおける軸方向の肉厚を厚くすると、山部２３から谷部２５へ延出された二辺の肉厚を厚くできるので、山部２３と谷部２５とが拡がりにくくできる。
【００４２】
さらに、上部から中間部、下部から中間部への山部２３及び谷部２５の肉厚を徐々に薄くしているので、徐々にバネ定数を小さくすることができる。したがって、伸縮部７が徐々に伸びるようにでき、バネ定数が極端に変わる部分に負荷がかかるのを抑制できる。
【００４３】
ここで図３を参照して、上述した本実施例のベローズ１と従来技術との比較を行う。なお、図３は、ベローズを伸長させた際における山部間の開き量を本実施例と従来技術とで比較したグラフである。
【００４４】
ベローズ１に荷重を加えて伸長させ、その状態において山部２３の間の長さを各山部２３について測定した。その結果を示すのが図３のグラフである。伸縮部７の上部では、中間部と下部の荷重が加わるので開き量が大きくなる。しかしながら、従来技術に比較すると、伸縮部７の上部における開き量が小さいことが分かる。
【００４５】
本発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。
【００４６】
（１）上述した実施例では、ベローズ１が樹脂で一体的に構成されている。しかしながら、本発明はこのような構成に限定されるものではない。例えば、複数個のベローズを用い、バネ定数が大きなベローズを上述したベローズ１の上部及び下部に配置し、バネ定数が小さなベローズを上述したベローズ１の中間部に配置するようにしてもよい。これにより、汎用品のベローズを組み合わせて本発明を構成することができ、コストを抑制することができる。
【００４７】
（２）上述した実施例では、ベローズ１の上部と下部のバネ定数を中間部より大きくした。しかしながら、本発明はこのような構成に限定されるものではなく、ベローズ１を取り付けた際の上部にあたる部分のバネ定数だけをそれ以外よりも大きく設定してもよい。これにより、ベローズ１の上下方向の取り扱いに制限が加わるものの、ベローズ１の軽量化を図ることができる。
【００４８】
（３）上述した実施例では、伸縮部７の横断面が環状を呈するとしたが、例えば、中空状であれば楕円形状や矩形状であってもよい。
【００４９】
（４）上述した実施例では、山部２３及び谷部２５の頂部やそれらから延出された二辺の肉厚を厚くすることでバネ定数を大きくした。しかしながら、上部が下部よりも大なる直径の逆円錐形バネのように構成してもよい。つまり、直径が大きいとバネ定数が大きく、直径が小さいとバネ定数が小さくなるので、上述した実施例１と同様の作用効果を奏することができる。
【００５０】
（４）上述した実施例では、ベローズ１を樹脂で一体成形したが、伸縮部７の上部を伸びにくい材料で構成し、上部のバネ定数を大きく構成するようにしてもよい。
【００５１】
（５）上述した実施例では、上部と下部のバネ定数を中間部のバネ定数よりも大きくしたが、上部から下部に向かって全体的に徐々にバネ定数を小さくしてゆくように構成してもよい。
【００５２】
＜基板処理装置＞
上述した実施例１のベローズ１を備えた基板処理装置について説明する。
【実施例２】
【００５３】
次に、図面を参照して本発明の実施例２を説明する。
図４は、実施例２に係る基板処理装置の概略構成を示す縦断面図である。
【００５４】
基板処理装置５１は、内部容器５３と、外部容器５５と、リフタ５７と、昇降機構５９とを備えている。
【００５５】
内部容器５３は、複数枚の基板Ｗを起立姿勢で収容可能な大きさを有し、上部に開口を備えている。内部容器５３は、図示しない処理液供給ノズルから処理液を供給される。処理液は、内部容器５３の上縁を超えて溢れ、外部容器５５で回収される。内部容器５５に貯留している処理液は、処理時に閉止されている排液口６１が開放されることにより排出される。
【００５６】
外部容器５３は、上部に開口を有し、内部容器５３の側方及び下方を囲うように配置されている。外部容器５３は、内部容器５３から回収した処理液を排液口６３から排出し、図示しない廃液設備に処理液を送る。
【００５７】
リフタ５７は、保持部６５と、支持アーム６７と、支持部６９と、支持軸７１とを備えている。保持部６５は、基板Ｗの下縁を当接支持し、複数枚の基板Ｗを起立姿勢に保持する。支持アーム６７は、下部で保持部６５を水平姿勢に片持ち支持する。支持部６９は、支持アーム６７の上部に連結されている。支持軸７１は、支持部６９の下面に上端部が連結され、下端部が外部容器５５から外部に延出されている。
【００５８】
昇降機構５９は、支持軸７１の下端部を連結されており、支持軸７１の軸方向に支持軸７１を昇降駆動する。昇降機構５９を作動させると、支持軸７１の昇降に連動して、保持部６５が内部容器５３の内部に相当する処理位置（図４に実線で示した位置）と、内部容器５３の上方に相当する待機位置（図４に二点鎖線で示した位置）とにわたって昇降される。
【００５９】
上述した支持軸７１は、貫通口１１によりベローズ１が挿通されている。ベローズ１の第２取付部５は、支持部６９の下面にネジ止めされて固定され、ベローズ１の第１取付部３は、外部容器５５の一部位にネジ止めされて固定されている。したがって、外部容器５５を貫通して昇降する支持軸７１をベローズ１で覆っているので、内部容器５３及び外部容器５５の雰囲気が外部に漏れることがない。したがって、昇降機構５９が処理液雰囲気により腐食するのを防止したり、昇降機構５９から発生したパーティクルが外部容器５５や内部容器５３に侵入して基板Ｗを汚染したりする不都合を防止できる。
【００６０】
また、ベローズ１は、上述した実施例１のものであるので、伸縮部７の上部のバネ定数が中間部のバネ定数よりも大きく設定されている。したがって、伸縮部７の上部は、中間部よりも山部２３と谷部２５とが拡がりにくく、自重により上部が中間部より拡がることがない。その結果、特に支持軸７１を上昇させたとき、伸縮部７の上部が破損するのを防止できる。よって、ベローズ１の破損による交換作業のために処理を停止させる時間を低減でき、スループットを向上させることができる。
【００６１】
本発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。
【００６２】
（１）上述した実施例では、処理液を内部容器５３に貯留して基板Ｗを処理する装置を例にとったが、気体や蒸気を内部容器５３に供給して基板Ｗに処理を施す装置の気密を保つための部分等であっても本発明を適用することができる。
【００６３】
（２）上述した実施例では、基板Ｗを複数枚保持する保持部６５を備えているが、一枚の基板Ｗを保持する構成であっても本発明を適用することができる。
【符号の説明】
【００６４】
１  …  ベローズ
３  …  第１取付部
５  …  第２取付部
７  …  伸縮部
１１  …  貫通口
２３  …  山部
２５  …  谷部
２３ａ，２５ａ  …  頂部
ｄ２３，ｄ２５  …  軸方向の肉厚
５１  …  基板処理装置
５３  …  内部容器
５５  …  外部容器
５７  …  リフタ
Ｗ  …  基板
６５  …  保持部
６７  …  支持アーム
７１  …  支持軸
【図１】
2013050187.tif 000003
【図２】
2013050187.tif 000004
【図３】
2013050187.tif 000005
【図４】
2013050187.tif 000006