(57)【要約】【課題】表示装置において、近隣の他の配線に悪影響を与えることなく、配線の欠陥を修復することができるようにする。【解決手段】表示装置の欠陥修正方法は、互いに隣接する２つの絵素電極３１ａ，３１ｂに挟まれた１つの隙間領域１０において同一層内で互いに平行に延在する複数の配線１１，１２と、これらを覆うように設けられた上側絶縁層とを備える表示装置における、前記複数の配線のうちの第１配線の欠陥を修正する方法であって、前記欠陥としての断線箇所４１を挟むように位置する第１，第２部位６１，６２において、前記上側絶縁層に第１，第２貫通孔６３，６４をそれぞれあける工程と、前記第１配線のうち第１貫通孔６３内に露出した部分と前記第１配線のうち第２貫通孔６４内に露出した部分とを電気的に接続するように、修復用導電膜５４を形成する工程とを含む。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
平面的に配列された複数の絵素電極を有する基板と、
前記複数の絵素電極のうち互いに隣接する２つの絵素電極に挟まれた１つの隙間領域において同一層内で互いに平行に延在する複数の配線と、
前記複数の配線を覆うように設けられた上側絶縁層とを備える表示装置における、前記複数の配線のうちの第１配線の欠陥を修正する方法であって、
前記第１配線の前記欠陥の箇所を挟むように位置する第１，第２部位において、前記第１配線がそれぞれ露出するように前記上側絶縁層に第１，第２貫通孔をそれぞれあける工程と、
前記第１配線のうち前記第１貫通孔内に露出した部分と前記第１配線のうち前記第２貫通孔内に露出した部分とを電気的に接続するように、前記第１部位と前記第２部位とを一体的に覆う修復用導電膜を形成する工程とを含む、表示装置の欠陥修正方法。
【請求項２】
前記第１配線は、前記第１部位と前記第２部位との間に少なくとも１つの断線箇所を有する、請求項１に記載の表示装置の欠陥修正方法。
【請求項３】
前記第１，第２貫通孔をそれぞれあける工程は、前記第１，第２部位に向けてレーザ光を照射することによって行なわれる、請求項１または２に記載の表示装置の欠陥修正方法。
【請求項４】
前記修復用導電膜は前記第１配線に沿って前記第１貫通孔と前記第２貫通孔とを結ぶ長手形状で設けられる、請求項１から３のいずれかに記載の表示装置の欠陥修正方法。
【請求項５】
前記第１配線は、前記第１，第２部位の間に、他の導電部と電気的に連通する短絡部を有し、
前記修復用導電膜を形成する工程においては、前記修復用導電膜は前記短絡部を迂回するように形成され、
前記修復用導電膜を形成する工程より後に、前記第１部位と前記短絡部との間および前記第２部位と前記短絡部との間においてそれぞれ前記第１配線を断線させる工程を含む、請求項１から３のいずれかに記載の表示装置の欠陥修正方法。
【請求項６】
前記修復用導電膜を形成する工程より後に、レーザ光の照射によって前記修復用導電膜の不要部を除去することによって前記修復用導電膜の平面的外形を整える工程を含む、請求項１から５のいずれかに記載の表示装置の欠陥修正方法。
【請求項７】
基板上に平面的に配列された複数の絵素電極を形成する工程と、
前記複数の絵素電極のうち互いに隣接する２つの絵素電極に挟まれた１つの隙間領域において同一層内で互いに平行に延在する複数の配線を形成する工程と、
前記複数の配線を覆うように上側絶縁層を形成する工程と、
請求項１から６のいずれかに記載の表示装置の欠陥修正方法を行なう工程とを含む、表示装置の製造方法。
【請求項８】
平面的に配列された複数の絵素電極を有する基板と、
前記複数の絵素電極のうち互いに隣接する２つの絵素電極に挟まれた１つの隙間領域において同一層内で互いに平行に延在する複数の配線と、
前記複数の配線を覆うように設けられた上側絶縁層とを備え、
前記複数の配線のうちの第１配線のうちの第１，第２部位において、前記第１配線がそれぞれ露出するように前記上側絶縁層に第１，第２貫通孔があけられており、
前記第１配線のうち前記第１貫通孔内に露出した部分と前記第１配線のうち前記第２貫通孔内に露出した部分とを電気的に接続するように、前記第１貫通孔と前記第２貫通孔とを一体的に覆うように設けられた修復用導電膜を備える、表示装置。
【請求項９】
前記第１配線は、前記第１部位と前記第２部位との間に少なくとも１つの断線箇所を有する、請求項８に記載の表示装置。
【請求項１０】
前記第１，第２貫通孔はそれぞれレーザ光の照射によってあけられた貫通孔である、請求項８または９に記載の表示装置。
【請求項１１】
前記修復用導電膜は前記第１配線に沿って前記第１，第２部位を結ぶ長手形状で設けられている、請求項８から１０のいずれかに記載の表示装置。
【請求項１２】
前記第１配線は、前記第１，第２部位の間に、他の導電部と電気的に連通する短絡部を有し、
前記修復用導電膜は前記短絡部を迂回するように形成されており、
前記第１部位と前記短絡部との間および前記第２部位と前記短絡部との間においてそれぞれ前記第１配線が断線している、請求項８から１１のいずれかに記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置の欠陥修正方法、表示装置およびその製造方法に関する。表示装置としては、たとえば液晶表示装置が挙げられる。
【背景技術】
【０００２】
表示装置の一種である液晶表示装置においては、ガラス基板上に多数の配線が設けられる。これらの基板上の配線に生じた欠陥としては、大きく分けて断線と短絡との２通りがあるが、これらの欠陥を修正する様々な方法が従来から研究開発されている。その一例が、国際公開ＷＯ２００８／０２６３５２（特許文献１）に示されている。
【０００３】
一方、液晶表示装置において、駆動速度向上、視野角改善などの表示性能改善目的で、いわゆる画素分割構造が検討されている。ここでいう「画素分割構造」とは、１つの画素を２つの副画素に分割し、それぞれ独立して駆動できる構造をいう。その一例が、特開２００４−６２１４６号公報（特許文献２）に示されている。このような構造においては、ソースラインすなわち信号線を２本用いることになる。たとえば、図２５に示すように、基板上に平面的に配列された複数の絵素電極のうち互いに隣接する２つの絵素電極３１ａ，３１ｂに挟まれた１つの隙間領域１０において１本ではなく２本の信号線１，２を配置した構造となる。図２５ではＴＦＴ（Thin Film Transistor）などの構造は図示省略している。絵素電極の形状も実際には単なる長方形ではないが、説明の便宜のために長方形で示している。１つの隙間領域１０にある２本の信号線１，２は、通常、同一層内で互いに平行に配置される。
【０００４】
また、２本の信号線のみならず他の目的の配線も含めて、図２６に示すように、１つの隙間領域に３本以上の配線が同一層内で互いに平行に配置される場合もある。図２６に示した例では、１つの隙間領域１０ｊの中に配線１１，１２，１３，１４が配置されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】国際公開ＷＯ２００８／０２６３５２
【特許文献２】特開２００４−６２１４６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
このような画素分割構造などにおいては、１つの隙間領域に複数の配線が互いに平行に並ぶこととなる。表示装置を実現する上では、表示領域中に絵素電極が占める面積をできるだけ大きく確保することが望まれるので、絵素電極同士の間に生じる隙間領域の幅はできるだけ小さくすることが望まれる。その結果、１つの隙間領域の中では複数の配線が密集して並ぶこととなる。しかし、これらの複数の配線は用途がそれぞれ異なるので、互いに短絡することは避けなければならない。従来知られている修復方法の中には、１つの隙間領域の中の複数の配線のうち１本に欠陥がある場合、その修復のために近隣の他の配線との間で好ましくないリーク電流を生じるなどの悪影響を与えてしまうものもあった。
【０００７】
そこで、本発明は、近隣の他の配線に悪影響を与えることなく、配線の欠陥を修復することができる、表示装置の欠陥修正方法、表示装置およびその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するため、本発明に基づく表示装置の欠陥修正方法は、平面的に配列された複数の絵素電極を有する基板と、上記複数の絵素電極のうち互いに隣接する２つの絵素電極に挟まれた１つの隙間領域において同一層内で互いに平行に延在する複数の配線と、上記複数の配線を覆うように設けられた上側絶縁層とを備える表示装置における、上記複数の配線のうちの第１配線の欠陥を修正する方法であって、上記第１配線の上記欠陥の箇所を挟むように位置する第１，第２部位において、上記第１配線がそれぞれ露出するように上記上側絶縁層に第１，第２貫通孔をそれぞれあける工程と、上記第１配線のうち上記第１貫通孔内に露出した部分と上記第１配線のうち上記第２貫通孔内に露出した部分とを電気的に接続するように、上記第１部位と上記第２部位とを一体的に覆う修復用導電膜を、レーザＣＶＤ加工によって形成する工程とを含む。
【０００９】
上記目的を達成するため、本発明に基づく表示装置は、平面的に配列された複数の絵素電極を有する基板と、上記複数の絵素電極のうち互いに隣接する２つの絵素電極に挟まれた１つの隙間領域において同一層内で互いに平行に延在する複数の配線と、上記複数の配線を覆うように設けられた上側絶縁層とを備え、上記複数の配線のうちの第１配線のうちの第１，第２部位において、上記第１配線がそれぞれ露出するように上記上側絶縁層に第１，第２貫通孔があけられており、上記第１配線のうち上記第１貫通孔内に露出した部分と上記第１配線のうち上記第２貫通孔内に露出した部分とを電気的に接続するように、上記第１貫通孔と上記第２貫通孔とを一体的に覆うように、レーザＣＶＤ加工によって設けられた修復用導電膜を備える。
【発明の効果】
【００１０】
本発明に基づく表示装置の欠陥修正方法によれば、修復用導電膜によってブリッジを構成した形となるので、欠陥を修正することができる。しかも、この修正作業は、配線の層の上を覆うように上側絶縁層が形成された後に行なわれるので、欠陥に関係する配線以外の配線は上側絶縁層によって保護されている。したがって、修復用導電層との間で新たな短絡が生じることは防がれる。
【００１１】
本発明に基づく表示装置によれば、配線の途中にたとえ欠陥として断線箇所があったとしても、修復用導電膜によって電気的経路が確保されているので、この欠陥による影響をなくすことができ、欠陥が少なく信頼性の高い表示装置とすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明に基づく実施の形態１における表示装置の欠陥修正方法のフローチャートである。
【図２】表示装置における配線の断線箇所の近傍の平面図である。
【図３】図２におけるＩＩＩ−ＩＩＩ線に関する矢視断面図である。
【図４】本発明に基づく実施の形態１における表示装置の欠陥修正方法の工程Ｓ１を行なった後の状態の断面図である。
【図５】本発明に基づく実施の形態１における表示装置の欠陥修正方法の工程Ｓ２を行なった後の状態の平面図である。
【図６】図５におけるＶＩ−ＶＩ線に関する矢視断面図である。
【図７】本発明に基づく実施の形態２における表示装置の欠陥修正方法のフローチャートである。
【図８】表示装置における配線の短絡部の近傍の平面図である。
【図９】図８におけるＩＸ−ＩＸ線に関する矢視断面図である。
【図１０】本発明に基づく実施の形態２における表示装置の欠陥修正方法の工程Ｓ２を行なった後の状態の平面図である。
【図１１】図１０におけるＸＩ−ＸＩ線に関する矢視断面図である。
【図１２】本発明に基づく実施の形態２における表示装置の欠陥修正方法の工程Ｓ３を行なった後の状態の平面図である。
【図１３】図１２におけるＸＩＩＩ−ＸＩＩＩ線に関する矢視断面図である。
【図１４】１つの隙間領域の中に２本より多い配線が配置されている例の平面図である。
【図１５】１つの隙間領域の中に２本より多い配線が配置されている場合の工程Ｓ２を行なった後の状態の平面図である。
【図１６】１つの隙間領域の中に２本より多い配線が配置されている場合の工程Ｓ３を行なった後の状態の平面図である。
【図１７】図１６におけるＸＶＩＩ−ＸＶＩＩ線に関する矢視断面図である。
【図１８】工程Ｓ３の後にさらに保護絶縁層を設けた状態の断面図である。
【図１９】本発明に基づく実施の形態３における表示装置の欠陥修正方法の工程Ｓ２を行なった後の状態の平面図である。
【図２０】本発明に基づく実施の形態３における表示装置の欠陥修正方法の工程Ｓ４を行なった後の状態の平面図である。
【図２１】本発明に基づく実施の形態３における表示装置の欠陥修正方法を複数本の配線で同時に生じている断線に対して適用した例の第１の説明図である。
【図２２】本発明に基づく実施の形態３における表示装置の欠陥修正方法を複数本の配線で同時に生じている断線に対して適用した例の第２の説明図である。
【図２３】本発明に基づく実施の形態３における表示装置の欠陥修正方法を複数本の配線で同時に生じている断線に対して適用した例の第３の説明図である。
【図２４】本発明に基づく実施の形態４における表示装置の製造方法のフローチャートである。
【図２５】従来技術に基づく表示装置の第１の例の一部分の平面図である。
【図２６】従来技術に基づく表示装置の第２の例の一部分の平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
（実施の形態１）
（表示装置の欠陥修正方法）
図１〜図６を参照して、本発明に基づく実施の形態１における表示装置の欠陥修正方法について説明する。この表示装置の欠陥修正方法のフローチャートを図１に示す。表示装置の欠陥修正方法は、平面的に配列された複数の絵素電極を有する基板と、前記複数の絵素電極のうち互いに隣接する２つの絵素電極に挟まれた１つの隙間領域において同一層内で互いに平行に延在する複数の配線と、前記複数の配線を覆うように設けられた上側絶縁層とを備える表示装置における、前記複数の配線のうちの第１配線の欠陥を修正するための方法であって、前記第１配線の前記欠陥の箇所を挟むように位置する第１，第２部位において、前記第１配線がそれぞれ露出するように前記上側絶縁層に第１，第２貫通孔をそれぞれあける工程Ｓ１と、前記第１配線のうち前記第１貫通孔内に露出した部分と前記第１配線のうち前記第２貫通孔内に露出した部分とを電気的に接続するように、前記第１部位と前記第２部位とを一体的に覆う修復用導電膜を形成する工程Ｓ２とを含む。以下に詳しく説明する。
【００１４】
図２に、表示装置の基板上における絵素電極および配線の位置関係を平面図で示す。基板上には複数の絵素電極３１ａ，３１ｂが配列されている。互いに隣接する２つの絵素電極３１ａ，３１ｂに挟まれた１つの隙間領域１０において、複数の配線１１，１２が同一層内で互いに平行に延在している。配線１１，１２の一部または全部は、ソース配線（「信号線」ともいう。）であってよく、他の目的の配線であってもよい。
【００１５】
本実施の形態で想定する欠陥は、図２に示すような断線である。図２では実際に配線１１に断線箇所４１が存在するが、本発明の適用は、断線箇所が実在する場合に限らず、断線が疑われる場合であってもよい。「第１配線」とは、欠陥が現に存在するか、または、欠陥が疑われる配線のことを指し、本実施の形態では、配線１１が第１配線に該当する。複数の配線のうちいずれもが第１配線になりうる。
【００１６】
図２におけるＩＩＩ−ＩＩＩ線に関する矢視断面図を図３に示す。基板５１の上側に下側絶縁層５２が形成されている。下側絶縁層５２の上側に配線１１が形成されている。配線１１の上側に上側絶縁層５３が形成されている。上側絶縁層５３は単一膜であってもよく、複数の絶縁膜の集合体であってもよい。下側絶縁層５２についても同様である。上側絶縁層５３は図２で表示した領域の全域を覆っている。
【００１７】
この状況下で、欠陥を修正するために、本実施の形態における欠陥修正方法では、まず工程Ｓ１を行なう。工程Ｓ１としては、複数の配線のうちの第１配線としての配線１１の欠陥の箇所すなわち断線箇所４１を挟むように位置する第１，第２部位６１，６２において、図４に示すように、配線１１がそれぞれ露出するように上側絶縁層５３に第１，第２貫通孔６３，６４をそれぞれあける。第１，第２貫通孔６３，６４をあける作業は、レーザ光の照射によって行なうことができる。
【００１８】
次に工程Ｓ２として、図５、図６に示すように、配線１１のうち第１貫通孔６３内に露出した部分と配線１１のうち第２貫通孔６４内に露出した部分とを電気的に接続するように、第１部位６１と第２部位６２とを一体的に覆う修復用導電膜５４を、レーザＣＶＤ加工によって形成する。図６は図５におけるＶＩ−ＶＩ線に関する矢視断面図である。修復用導電層５４は、たとえばアルミニウム、タングステン、銅、クロムおよびモリブデンのうちの少なくとも１つを含む材料で形成する。修復用導電膜５４はたとえば膜厚約０．４μｍに形成する。たとえばタングステンを主材料としてレーザＣＶＤ加工によって修復用導電層５４を形成しようとした場合、Ｗ（ＣＯ）6分子をレーザ光によって分解し、上側絶縁層５３および第１，第２貫通孔６３，６４の中に露出した配線１１の上にタングステン薄膜を形成することにより行なう。ここでは、工程Ｓ２における修復用導電膜の形成をレーザＣＶＤ加工によって行なったが、修復用導電膜は他の公知技術によって形成してもよい。レーザＣＶＤ加工は好ましい方法の一例として挙げたものである。
【００１９】
また、さらに絶縁層（図示せず）を形成し、修復用導電膜を保護する構成としてもよい。
【００２０】
（作用・効果）
本実施の形態では、配線の欠陥に対して、配線のうち欠陥を挟む部位同士を上側導電膜の上側に形成される修復用導電膜で電気的に接続することとなるので、欠陥の箇所を迂回して修復用導電膜によってブリッジを構成した形となる。したがって、欠陥の種類が断線である場合には、この欠陥を修正することができる。この修正作業は、配線の層の上を覆うように上側絶縁層が形成された後に行なわれるので、欠陥に関係する第１配線以外の配線は上側絶縁層によって保護されている。したがって、たとえ修復用導電層が第１配線以外の配線の上側に達するように形成されても、第１配線以外の配線と修復用導電層との間で短絡が生じることは防がれる。
【００２１】
なお、前記第１配線は、第１部位６１と第２部位６２との間に少なくとも１つの断線箇所を有することが好ましい。実際に断線箇所があれば、この欠陥修正方法の効果を実際に享受することができる。「少なくとも１つの断線箇所」とあるように、第１部位６１と第２部位６２との間には２以上の断線箇所があってもよい。その場合は、２以上の断線箇所を一括して迂回するように修復用導電層５４のブリッジが形成された形となる。その場合、１つの修復用導電層５４によって複数の断線箇所の修正を一括して済ませることができる。
【００２２】
第１，第２貫通孔６３，６４をそれぞれあける工程Ｓ１は、第１，第２部位６１，６２に向けてレーザ光を照射することによって行なわれることが好ましい。レーザ光であれば精密に位置を制御しつつ貫通孔をあけることができるからである。
【００２３】
修復用導電膜５４は前記第１配線に沿って第１貫通孔６３と第２貫通孔６４とを結ぶ長手形状で設けられることが好ましい。図５では修復用導電膜５４は第１貫通孔６３と第２貫通孔６４とを直接結ぶ線分状に形成されているが、必ずしもこのような線分状でなくてもよい。修復用導電膜５４はより広い範囲を覆うように形成されてもよい。しかし、前記第１配線に沿って第１貫通孔６３と第２貫通孔６４とを結ぶ長手形状で設けられていれば、修復用導電膜５４の無駄な部分が少なく、他の配線に悪影響を及ぼす程度を最小限にすることができる。
【００２４】
（実施の形態２）
（表示装置の欠陥修正方法）
図７〜図１３を参照して、本発明に基づく実施の形態２における表示装置の欠陥修正方法について説明する。この表示装置の欠陥修正方法のフローチャートを図７に示す。本実施の形態における表示装置の欠陥修正方法は、基本的には、実施の形態１で説明したような工程Ｓ１，Ｓ２を含む。ただし、本実施の形態における表示装置の欠陥修正方法では、工程Ｓ２における修復用導電膜の配置の仕方に条件があり、さらに工程Ｓ２より後に工程Ｓ３を含む。
【００２５】
本実施の形態における表示装置の欠陥修正方法では、前記第１配線は、前記第１，第２部位の間に、他の導電部と電気的に連通する短絡部を有し、前記修復用導電膜を形成する工程Ｓ２においては、前記修復用導電膜は前記短絡部を迂回するように形成され、前記修復用導電膜を形成する工程Ｓ２より後に、前記第１部位と前記短絡部との間および前記第２部位と前記短絡部との間においてそれぞれ前記第１配線を断線させる工程Ｓ３を含む。「前記第１配線」の定義は実施の形態１で説明したものと同じである。短絡は欠陥の一種である。「短絡部」とは、第１配線が他のいずれかの導電層との間で不所望に導通された状態の部分をいう。図８は、表示装置の中で任意の４つの絵素電極３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄのコーナ部同士が集まっている部分を表示している。図８におけるＩＸ−ＩＸ線に関する矢視断面図を図９に示す。図８、図９に示すように、この例では第１配線としての配線１１が他の配線２１と交差する部位において、多層構造内に異物４３が混入していることによって、本来互いに電気的に別個であるはずの配線１１と配線２１とが電気的に接続された状態となっている。この部分を「短絡部」４２と呼ぶものとする。たとえば配線１１はソース配線であって、配線２１はゲート配線であってよい。この欠陥修正方法について、より詳しく以下に述べる。
【００２６】
工程Ｓ２として修復用導電膜を形成すること自体は実施の形態１で説明したことと同じである。ただし、本実施の形態における修復用導電膜は、実施の形態１で示した修復用導電膜５４ではなく、図１０、図１１に示すように修復用導電膜５４ｉとなっている。修復用導電膜５４ｉは、図９に示したように短絡部４２を迂回するように形成される。図１１は図１０におけるＸＩ−ＸＩ線に関する矢視断面図である。図１１では、第１，第２貫通孔６３，６４においては、修復用導電膜５４ｉの断面が見えているが、第１貫通孔６３と第２貫通孔６４とを結ぶ中間部においては、修復用導電膜５４ｉは紙面手前側に迂回しているので見えていない。修復用導電膜５４ｉはできるだけ絵素電極や他の配線の上側を避けて配置されることが好ましいが、やむを得ない場合、図１０に示すようにたとえば絵素電極３１ａ，３１ｃの上側を通過してもよい。絵素電極の上側はすべて上側絶縁層５３によって覆われており、修復用導電膜５４ｉは上側絶縁層５３の上側に形成されるので、たとえ上下方向に重なっていても絵素電極３１ａ，３１ｃと修復用導電膜５４ｉとが短絡することはない。
【００２７】
工程Ｓ２の後に工程Ｓ３を行なう。工程Ｓ３とは、図１２に示すように、第１部位６１と短絡部４２との間および第２部位６２と短絡部４２との間においてそれぞれ前記第１配線としての配線１１を断線させる工程である。たとえばレーザ照射により断線部６５，６６が形成される。図１２におけるＸＩＩＩ−ＸＩＩＩ線に関する矢視断面図を図１３に示す。図１３に示すように、断線部６５，６６では、配線１１の下面より深い位置にまで至るように凹部が形成されている。
【００２８】
（作用・効果）
本実施の形態では、配線の欠陥としての短絡部に対して、配線のうち欠陥を挟む第１，第２部位の間を上側導電膜の上側に形成される修復用導電膜で電気的に接続し、なおかつ、第１，第２部位の内側において欠陥の箇所を挟み込むように配線を断線させるので、この欠陥を含む限られた区間の配線を電気的に孤立させることができ、なおかつ、その両側に延在する配線同士をつなぐように修復用導電膜によってブリッジを構成した形となる。したがって、欠陥の種類が短絡である場合であっても、短絡の影響をなくしつつ、配線としての導通を確保することができる。すなわち、この欠陥を修正することができる。この修正作業は、配線の層の上を覆うように上側絶縁層が形成された後に行なわれるので、欠陥に関係する第１配線以外の配線は上側絶縁層によって保護されている。したがって、たとえ修復用導電層が第１配線以外の配線の上側に達するように形成されても、第１配線以外の配線と修復用導電層との間で短絡が生じることは防がれる。
【００２９】
本実施の形態では、１つの隙間領域１０の中に配置された配線が合計２本である例について説明したが、１つの隙間領域１０の中に配置された配線の数は２本より多くてもよい。たとえば図１４に示すように、１つの隙間領域１０ｊの中に４本の配線１１，１２，１３，１４が配置されていてもよい。その場合、欠陥を有する配線は、端のものとは限らず、図１４に示すように端以外の配線であってもよい。図１４においては配線１２に異物４３が混入していることによって短絡部４２が生じている。この例では配線１２が第１配線に相当する。
【００３０】
この場合、工程Ｓ２として図１５に示すように修復用導電層５４ｊを形成すればよい。その後、工程Ｓ３として図１６に示すように断線部６５，６６を形成すればよい。図１６におけるＸＶＩＩ−ＸＶＩＩ線に関する矢視断面図を図１７に示す。図１７では、修復用導電層５４ｊが第２部位６２に設けられた第２貫通孔６４を通じて配線１２に電気的に接続されている様子が示されている。
【００３１】
この修正作業は、配線の層の上を覆うように上側絶縁層が形成された後に行なわれるので、欠陥に関係する配線以外の配線は上側絶縁層によって保護されている。したがって、たとえ修復用導電層が第１配線以外の配線の上側に達するように形成されても、第１配線以外の配線と修復用導電層との間で短絡が生じることは防がれる。ただし、寄生容量、クロストーク、短絡などの問題をより確実に回避するためには、修復用導電層は第１配線から見て配線の数が少ない側に迂回するように形成することが好ましい。図１４〜図１７で示した例では、第１配線としての配線１２から見れば、図中右側には配線１３，１４の合計２本の配線があり、図中左側には配線１１の合計１本の配線が存在する。したがって、修復用導電層は、より配線の数が少ない図中左側に迂回するように形成されている。
【００３２】
なお、工程Ｓ２と工程Ｓ３との順序は逆になっていてもよい。その場合も所望の修復用導電層を形成することができる。ただし、先に工程Ｓ３で形成された断線部が工程Ｓ２において修復用導電層を形成する際の導電材料の飛散によって再び電気的に接続されてしまうことは避けるべきであり、そのためには工程Ｓ３より工程Ｓ２を先に行なうことが好ましい。
【００３３】
図１７に示した状態からさらに上面を覆うように絶縁層を形成してもよい。たとえば図１８に示すように、保護絶縁層５５を形成する。このようにすれば、修復用導電層５４ｊが保護絶縁層５５によって覆われるので、修復用導電層５４ｊが他の配線と短絡することを防止でき、好ましい。
【００３４】
（実施の形態３）
（表示装置の欠陥修正方法）
図１９、図２０を参照して、本発明に基づく実施の形態３における表示装置の欠陥修正方法について説明する。本実施の形態における表示装置の欠陥修正方法は、実施の形態１で説明したとおりの工程Ｓ１，Ｓ２を含み、さらに以下に述べる工程を含む。
【００３５】
本実施の形態における表示装置の欠陥修正方法は、修復用導電膜を形成する工程Ｓ２より後に、レーザ光の照射によって前記修復用導電膜の不要部を除去することによって前記修復用導電膜の平面的外形を整える工程Ｓ４を含む。
【００３６】
工程Ｓ２を終えた状態の一例を図１９に示す。ここでは工程Ｓ２によって形成された修復用導電膜５４ｋが他の配線１２や絵素電極３１ａの上側にまで達するような広い範囲に形成されている。レーザＣＶＤ加工の精度が十分でない場合や、配線のピッチがきわめて小さい場合にはこのような状態になりうる。
【００３７】
工程Ｓ４として、レーザ光を照射することによって図２０に示すようになる。すなわち、修復用導電膜５４ｋのうち配線１１の上側の領域から左右にはみ出していた部分が除去される。こうして、修復用導電膜５４ｋの平面的外形が整えられる。
【００３８】
（作用・効果）
本実施の形態では、実施の形態１で説明した効果が得られ、さらに、レーザＣＶＤ加工の精度が十分でない場合や、配線のピッチがきわめて小さい場合であっても、修復用導電膜の不要部が除去されるので、修復用導電膜を所望の領域内のみに形成することができる。これにより、修復用導電膜と他の導電膜との間での寄生容量、クロストーク、短絡などの問題をより確実に回避することができる。
【００３９】
本実施の形態では、修復用導電膜の不要部を除去することしたが、修復用導電膜の不要部を除去する前の状態であっても、修復自体は既に成立している。なぜなら、修復用導電膜は上側絶縁層を介して載っている状態であって、接続すべき配線以外の配線からは電気的に隔離されているからである。修復用導電膜を形成した後に修復用導電膜の不要部を除去することは好ましいことであるが必須ではない。
【００４０】
なお、図２１に示すように、互いに隣接する２本の配線１１，１２の両方が断線している場合であっても、本実施の形態では対処可能である。図２１に示される例では、断線箇所４１ａ，４１ｂをそれぞれ挟むように位置する第１部位６１ａ，６１ｂと第２部位６２ａ，６２ｂとの間でそれぞれ貫通孔をあけることとなる。その後、レーザＣＶＤ加工によって、図２２に示すように修復用導電膜５４ｎを形成する。この状態では２本の配線１１，１２に一体的にまたがって被覆するように修復用導電膜５４ｎが形成されている。これに対して、工程Ｓ４におけるレーザ光の照射によって、修復用導電膜５４ｎの不要部を除去し、平面的外形を整える。その結果、図２３に示すようになる。このように、修復用導電膜を形成する時点で１本１本の配線ごとに区別してそれぞれ電気的に独立するように修復用導電膜を形成することができないような場合であっても、まず広い範囲でおおまかに修復用導電膜を形成した後で工程Ｓ４で不要部を除去することによって隣接する配線に属する修復用導電膜同士を分離させることができる。したがって、配線の配列ピッチが狭い場合であっても正確な修復を行なうことができる。
【００４１】
（実施の形態４）
（表示装置の製造方法）
図２４を参照して、本発明に基づく実施の形態４における表示装置の製造方法について説明する。この表示装置の製造方法のフローチャートを図２４に示す。本実施の形態における表示装置の製造方法は、基板上に平面的に配列された複数の絵素電極を形成する工程Ｓ１１と、前記複数の絵素電極のうち互いに隣接する２つの絵素電極に挟まれた１つの隙間領域において同一層内で互いに平行に延在する複数の配線を形成する工程Ｓ１２と、前記複数の配線を覆うように上側絶縁層を形成する工程Ｓ１３と、上述のいずれかの表示装置の欠陥修正方法を行なう工程Ｓ１４とを含む。工程Ｓ１１と工程Ｓ１２とはいずれが先に行なわれてもよい。絵素電極と複数の配線とが同一層内に同一の材料で形成される場合、工程Ｓ１１と工程Ｓ１２とは同時に並行して行なわれるものであってもよい。工程Ｓ１４で行なわれる表示装置の欠陥修正方法は、実施の形態１〜３のいずれで説明したものであってもよい。
【００４２】
（作用・効果）
本実施の形態では、互いに隣接する２つの絵素電極に挟まれた１つの隙間領域において同一層内で互いに平行に延在する複数の配線が形成されているが、これらの複数の配線のうちのいずれかに欠陥が生じたとしても、工程Ｓ１４を行なうことによって欠陥を円滑に修復することができるので、表示装置の生産作業の効率を上げることができ、さらに不良品として無駄になる製品を減らすことができる。
【００４３】
（実施の形態５）
（表示装置）
本発明に基づく実施の形態５における表示装置について説明する。
【００４４】
本実施の形態における表示装置は、図５、図６に示したように、平面的に配列された複数の絵素電極を有する基板５１と、前記複数の絵素電極のうち互いに隣接する２つの絵素電極３１ａ，３１ｂに挟まれた１つの隙間領域１０において同一層内で互いに平行に延在する複数の配線１１，１２と、前記複数の配線を覆うように設けられた上側絶縁層５３とを備え、前記複数の配線のうちの第１配線としての配線１１のうちの第１，第２部位６１，６２において、前記第１配線がそれぞれ露出するように上側絶縁層５３に第１，第２貫通孔６３，６４があけられており、前記第１配線のうち第１貫通孔６３内に露出した部分と前記第１配線のうち第２貫通孔６４内に露出した部分とを電気的に接続するように、第１貫通孔６３と第２貫通孔６４とを一体的に覆うように設けられた修復用導電膜５４を備える。
【００４５】
（作用・効果）
本実施の形態における表示装置は、このような構成を備えているので、配線の途中にたとえ欠陥として断線箇所４１があったとしても、修復用導電膜５４によって第１配線の電気的経路が確保されているので、この欠陥による影響をなくすことができる。本実施の形態によれば、このようにして欠陥が少なく信頼性の高い表示装置とすることができる。
【００４６】
修復用導電膜５４はどのような方法で形成されたものであってもよいが、レーザＣＶＤ加工によって形成されたものであることが好ましい。
【００４７】
なお、上記表示装置においては、前記第１配線は、第１部位６１と第２部位６２との間に少なくとも１つの断線箇所を有することが好ましい。このように断線箇所がある場合には、修復用導電膜５４によって実際に修復処置が功を奏しているといえ、欠陥が少なく信頼性の高い表示装置とすることができる。
【００４８】
なお、第１，第２貫通孔６３，６４はそれぞれレーザ光の照射によってあけられた貫通孔であることが好ましい。このような構成の表示装置であれば、貫通孔をあける作業をレーザ光の照射によって行なうことができるので、容易に高精度に貫通孔をあけることができ、その結果、信頼性の高い表示装置とすることができる。
【００４９】
本実施の形態における表示装置の第１の局面としては、図５に示したように、修復用導電膜５４は第１配線としての配線１１に沿って第１，第２部位６１，６２を結ぶ長手形状で設けられていることが好ましい。このように設けられていれば、他の配線において近い位置にもうひとつの修復用導電膜を形成したとしても、他の配線の修復用導電膜と干渉することを避けることができるので、好ましい。
【００５０】
本実施の形態における表示装置の第２の局面としては、図１２に示すように、第１配線としての配線１１は、第１，第２部位６１，６２の間に、他の導電部と電気的に連通する短絡部４２を有し、修復用導電膜５４ｉは短絡部４２を迂回するように形成されており、第１部位６１と短絡部４２との間および第２部位６２と短絡部４２との間においてそれぞれ前記第１配線が断線していることが好ましい。図１２に示した例ではこれらの断線は断線部６５，６６によって実現されている。この構成であれば、短絡部が両側で断線されることによって電気的に隔離された状態となっているので、短絡部による影響をなくすことができる。また、修復用導電膜が短絡部を迂回するようにして形成されていることによって電気的経路が確保されているので、第１配線の機能は維持することができる。
【００５１】
なお、上記各実施の形態では、１つの隙間領域において同一層内で互いに平行に延在するように設けられる複数の配線の少なくとも一部がソース配線である例を想定して説明したが、これらの「複数の配線」はソース配線の方向に延在するものとは限らない。ゲート配線の方向に延在する「複数の配線」に関しても本発明は適用可能である。その場合、「複数の配線」の一部または全部がゲート配線であってもよい。ただし、ゲート配線の方向に延在する複数の配線に対して本発明を適用する場合は、絶縁層および修正用導電膜の層を新たに追加する必要がある。これに対して、ソース配線の方向に延在する複数の配線に対して本発明を適用する場合は、絶縁層および修正用導電膜の層を新たに追加する必要がないので、工程数の増加、コストの増大を回避することができる。したがって、本発明を適用するに当たっては、ソース配線の方向に延在する複数の配線に対して適用することが最適である。
【００５２】
なお、今回開示した上記実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではない。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更を含むものである。
【符号の説明】
【００５３】
１０，１０ｊ  隙間領域、１１，１２，１３，１４，２１  配線、３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄ  絵素電極、４１，４１ａ，４１ｂ  断線箇所、４２  短絡部、４３  異物、５１  基板、５２  下側絶縁層、５３  上側絶縁層、５４，５４ｉ，５４ｊ，５４ｋ，５４ｎ  修復用導電膜、５５  保護絶縁層、６１，６１ａ，６１ｂ  第１部位、６２，６２ａ，６２ｂ  第２部位、６３  第１貫通孔、６４  第２貫通孔、６５，６６  断線部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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