(57)【要約】【課題】雑草を防除する技術等を提供すること。【解決手段】群Ａより選ばれる１以上の化合物とテンボトリオンとイソキサジフェンエチルとを有効成分として含有する除草用組成物は、雑草防除効果を有する。群Ａ；フルミオキサジン、スルフェントラゾン、サフルフェナシル、オキシフルオルフェン、ホメサフェン及び式（I）：2013221004.tif 000008【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
群Ａより選ばれる１以上の化合物とテンボトリオンとイソキサジフェンエチルとを有効成分として含有する除草用組成物。
群Ａ；
フルミオキサジン、スルフェントラゾン、サフルフェナシル、オキシフルオルフェン、ホメサフェン及び
式（I）：
2013221004.tif 000006
で示される化合物からなる群。
【請求項２】
群Ａより選ばれる１以上の化合物とテンボトリオンとの重量比が１：０．０１〜１:１００である請求項１に記載される除草用組成物。
【請求項３】
群Ａより選ばれる１以上の化合物とイソキサジフェンエチルとの重量比が１：０．０１〜１:１００である請求項１に記載される除草用組成物。
【請求項４】
ＰＰＯ阻害剤がフルミオキサジンである請求項１に記載される除草用組成物。
【請求項５】
雑草を防除する方法であり、群Ａより選ばれる１以上の化合物とテンボトリオンとイソキサジフェンエチルとを、同時に若しくは併用して、雑草が生育している若しくは生育する場所の土壌又は雑草に施用することを特徴とする方法。
ンとイソキサジフェンエチルとを有効成分として含有する除草用組成物。
群Ａ；
フルミオキサジン、スルフェントラゾン、サフルフェナシル、オキシフルオルフェン、ホメサフェン及び
式（I）：
2013221004.tif 000007
で示される化合物からなる群。
【請求項６】
群Ａより選ばれる１以上の化合物とテンボトリオンとの重量比が１：０．０１〜１：１００の範囲である請求項５に記載の方法。
【請求項７】
群Ａより選ばれる１以上の化合物とイソキサジフェンエチルとの重量比が１：０．０１〜１：１００の範囲ある請求項５に記載の方法。
【請求項８】
群Ａより選ばれる１以上の化合物がフルミオキサジンである、請求項５乃至請求項７いずれか一に記載の方法。
【請求項９】
雑草が生育している若しくは生育する場所がダイズ畑、ワタ畑又はトウモロコシ畑である請求項５乃至請求項８いずれか一に記載の方法。
【請求項１０】
雑草が生育している若しくは生育する場所が樹園地である請求項５乃至請求項８いずれか一に記載の方法。
【請求項１１】
ダイズ畑のダイズ、ワタ畑のワタ又はトウモロコシ畑中のトウモロコシが、遺伝子組換えダイズ、遺伝子組換えワタ又は遺伝子組換えトウモロコシである請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
ダイズ畑のダイズ、ワタ畑のワタ又はトウモロコシ畑中のトウモロコシが、除草剤抵抗性を付与された遺伝子組換えダイズ、除草剤抵抗性を付与された遺伝子組換えワタ又は除草剤抵抗性を付与された遺伝子組換えトウモロコシである請求項９に記載の方法。
【請求項１３】
ダイズ畑のダイズ又はワタ畑のワタが、４−ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼ阻害剤抵抗性を付与された遺伝子組換えダイズ又は４−ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼ阻害剤抵抗性を付与された遺伝子組換えワタである請求項９に記載の雑草の防除方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は雑草の防除方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
雑草を防除するために、除草剤等の有害生物防除剤の有効成分として多くの化合物が知られている。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００３】
【非特許文献１】Ｃｒｏｐ  Ｐｒｏｔｅｃｔｉｏｎ  Ｈａｎｄｂｏｏｋ,  ｖｏｌ．９７ （２０１１）  Ｍｅｉｓｔｅｒ  Ｐｕｂｌｉｓｈｉｎｇ  Ｃｏｍｐａｎｙ、ＩＳＢＮ：１−８９２８２９−２３−１）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明では、雑草に対して高い防除効力を示す除草用組成物を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者は、ある特定の除草剤の組合せが、雑草に対して高い防除効力を示すことを見出し、本発明に至った。
本発明は以下のとおりである。
【０００６】
［１］  群Ａより選ばれる１以上の化合物とテンボトリオンとイソキサジフェンエチルとを有効成分として含有する除草用組成物。
群Ａ；
フルミオキサジン、スルフェントラゾン、サフルフェナシル、オキシフルオルフェン、ホメサフェン及び
式（I）：
2013221004.tif 000002
で示される化合物からなる群。
【０００７】
［２］  群Ａより選ばれる１以上の化合物とテンボトリオンとの重量比が１：０．０１〜１：１００である［１］に記載される除草用組成物。
【０００８】
［３］  群Ａより選ばれる１以上の化合物とイソキサジフェンエチルとの重量比が１：０．０１〜１：１００である［１］に記載される除草用組成物。
【０００９】
［４］  ＰＰＯ阻害剤がフルミオキサジンである［１］に記載される除草用組成物。
【００１０】
［５］  雑草を防除する方法であり、群Ａより選ばれる１以上の化合物とテンボトリオンとイソキサジフェンエチルとを、同時に若しくは併用して、雑草が生育している若しくは生育する場所の土壌又は雑草に施用することを特徴とする方法。
ンとイソキサジフェンエチルとを有効成分として含有する除草用組成物。
群Ａ；
フルミオキサジン、スルフェントラゾン、サフルフェナシル、オキシフルオルフェン、ホメサフェン及び
式（I）：
2013221004.tif 000003
で示される化合物からなる群。
【００１１】
［６］  群Ａより選ばれる１以上の化合物とテンボトリオンとの重量比が１：０．０１〜１：１００の範囲である［５］に記載の方法。
【００１２】
［７］  群Ａより選ばれる１以上の化合物とイソキサジフェンエチルとの重量比が１：０．０１〜１：１００の範囲である［５］に記載の方法。
【００１３】
［８］  群Ａより選ばれる１以上の化合物がフルミオキサジンである、［５］乃至［７］いずれか一に記載の方法。
【００１４】
［９］  雑草が生育している若しくは生育する場所がダイズ畑、ワタ畑又はトウモロコシ畑である［５］乃至［８］いずれか一に記載の方法。
【００１５】
［１０］  雑草が生育している若しくは生育する場所が樹園地である［５］乃至［８］いずれか一に記載の方法。
【００１６】
［１１］  ダイズ畑のダイズ、ワタ畑のワタ又はトウモロコシ畑中のトウモロコシが、遺伝子組換えダイズ、遺伝子組換えワタ又は遺伝子組換えトウモロコシである［９］に記載の方法。
【００１７】
［１２］  ダイズ畑のダイズ、ワタ畑のワタ又はトウモロコシ畑中のトウモロコシが、除草剤抵抗性を付与された遺伝子組換えダイズ、除草剤抵抗性を付与された遺伝子組換えワタ又は除草剤抵抗性を付与された遺伝子組換えトウモロコシである［９］に記載の方法。
【００１８】
［１３］  ダイズ畑のダイズ又はワタ畑のワタが、４−ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼ阻害剤抵抗性を付与された遺伝子組換えダイズ又は４−ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼ阻害剤抵抗性を付与された遺伝子組換えワタである［９］に記載の雑草の防除方法。
【発明の効果】
【００１９】
本発明により、農作物畑、野菜畑、樹園地又は非農耕地等において、高い効力で雑草を防除することが可能になる。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
本発明の除草用組成物（以下、本発明組成物と記す。）は、群Ａより選ばれる１以上の化合物とテンボトリオンとイソキサジフェンエチルとを有効成分として含有する除草用組成物とを含有する。
群Ａ；
フルミオキサジン、スルフェントラゾン、サフルフェナシル、オキシフルオルフェン、ホメサフェン及び
式（I）：
2013221004.tif 000004
で示される化合物（以下、化合物１と記す。）からなる群。
【００２１】
群Ａに記載のフルミオキサジン（ｆｌｕｍｉｏｘａｚｉｎ）、スルフェントラゾン（ｓｕｌｆｅｎｔｒａｚｏｎｅ）、サフルフェナシル（ｓａｆｌｕｆｅｎａｃｉｌ）、オキシフルオルフェン（ｏｘｙｆｌｕｏｒｆｅｎ）、ホメサフェン（ｆｏｍｅｓａｆｅｎ）及び
式（Ｉ）：
2013221004.tif 000005
で示される化合物は、ＰＰＯ阻害剤として知られている。
フルミオキサジン、スルフェントラゾン、サフルフェナシル、オキシフルオルフェン及びホメサフェンはＣｒｏｐ  Ｐｒｏｔｅｃｔｉｏｎ  Ｈａｎｄｂｏｏｋ,  ｖｏｌ．９７（２０１１）に記載される除草活性化合物であって、公知の製造法により製造することができ、また、これを含有する市販の製剤を入手することもできる。
本発明で使用されるホメサフェンは、ホメサフェンナトリウム塩（ｆｏｍｅｓａｆｅｎ−ｓｏｄｉｕｍ）のような塩であってもよい。
式（I）の化合物は、国際公開第０２／０６６４７１号に記載の化合物であり、公知の製造方法により製造することができる。
【００２２】
本発明組成物の有効成分として用いられるテンボトリオン（ｔｅｍｂｏｔｒｉｏｎｅ）は、Ｃｒｏｐ  Ｐｒｏｔｅｃｔｉｏｎ  Ｈａｎｄｂｏｏｋ,  ｖｏｌ．９７（２０１１）に記載される除草活性化合物であって、公知の製造法により製造することができ、また、これを含有する市販の製剤を入手することもできる。
【００２３】
本発明組成物の有効成分として用いられるイソキサジフェンエチル（ｉｓｏｘａｄｉｆｅｎ−ｅｔｈｙｌ）は、米国特許第５５１６７５０号明細書及びＣｒｏｐ  Ｐｒｏｔｅｃｔｉｏｎ  Ｈａｎｄｂｏｏｋ,  ｖｏｌ．９７（２０１１）に記載される薬害軽減剤（セーフナー）であって、公知の製造法により製造することができる。
【００２４】
本発明組成物は、雑草に対し除草活性を有し、通常の耕起栽培、不耕起栽培が行われる農作物畑、野菜畑、樹園地又は非農耕地において、効果的に雑草を防除することができる。
【００２５】
本発明における農作物畑としては、ピーナッツ畑、ダイズ畑、トウモロコシ畑、ムギ畑等の食用作物畑、ソルガム畑、エンバク畑等の飼料作物畑、ワタ畑等の工芸作物畑、サトウキビ畑等の糖科作物畑を挙げることができる。本発明における野菜畑としては、ナス科野菜（ナス、トマト、ピーマン、トウガラシ、ジャガイモ等）を栽培する畑、ウリ科野菜（キュウリ、カボチャ、ズッキーニ、スイカ、メロン等）を栽培する畑、アブラナ科野菜（ダイコン、カブ、セイヨウワサビ、コールラビ、ハクサイ、キャベツ、カラシナ、ブロッコリー、カリフラワー等）を栽培する畑、キク科野菜（ゴボウ、シュンギク、アーティチョーク、レタス等）を栽培する畑、ユリ科野菜（ネギ、タマネギ、ニンニク、アスパラガス）を栽培する畑、セリ科野菜（ニンジン、パセリ、セロリ、アメリカボウフウ等）を栽培する畑、アカザ科野菜（ホウレンソウ、フダンソウ等）を栽培する畑、シソ科野菜（シソ、ミント、バジル、ラベンダー）を栽培する畑、イチゴ畑、サツマイモ畑、ヤマノイモ畑、サトイモ畑等を挙げることができる。
【００２６】
本発明における樹園地としては、果樹園、茶園、桑園、コーヒー園、バナナ園、ヤシ園、花木園、花木畑、苗木畑、養樹場、林地、庭園等を挙げることができる。本発明における果樹としては、仁果類（リンゴ、セイヨウナシ、ニホンナシ、カリン、マルメロ等）、核果類（モモ、スモモ、ネクタリン、ウメ、オウトウ、アンズ、プルーン等）、カンキツ類（ウンシュウミカン、オレンジ、レモン、ライム、グレープフルーツ等）、堅果類（クリ、クルミ、ハシバミ、アーモンド、ピスタチオ、カシューナッツ、マカダミアナッツ等）、液果類（ブドウ、ブルーベリー、クランベリー、ブラックベリー、ラズベリー等）、カキ、オリーブ、ビワ等を挙げることができる。
【００２７】
本発明における非農耕地としては、運動場、空き地、線路端、公園、駐車場、道路端、河川敷、送電線下、宅地、工場敷地等を挙げることができる。
【００２８】
本発明における農作物畑で栽培される作物は、一般的に作物として栽培される品種であれば限定されない。
かかる品種の植物には、フルミオキサジン等のＰＰＯ阻害剤、イソキサフルトール等の４−ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼ阻害剤、イマゼタピル、チフェンスルフロンメチル等のアセト乳酸合成酵素阻害剤、セトキシジム等のアセチルＣｏＡカルボキシラーゼ阻害剤、グリホサート等の５−エノールピルビルシキミ酸−３−リン酸シンターゼ阻害剤、グルホシネート等のグルタミン合成酵素阻害剤、２，４−Ｄ、ジカンバ等のオーキシン型除草剤、ブロモキシニル等の除草剤に対する耐性が、古典的な育種法、又は遺伝子組換え技術により付与された植物も含まれる。
【００２９】
古典的な育種法により耐性が付与された作物の例として、イマゼタピル等のイミダゾリノン系アセト乳酸合成酵素阻害型除草剤に耐性のトウモロコシがあり、Ｃｌｅａｒｆｉｅｌｄ（登録商標）の商品名で既に販売されている。チフェンスルフロンメチル等のスルホニルウレア系アセト乳酸合成酵素阻害型除草剤に耐性のＳＴＳダイズ等がある。同様に古典的な育種法によりトリオンオキシム系、アリールオキシフェノキシプロピオン酸系除草剤などのアセチルＣｏＡカルボキシラーゼ阻害剤に耐性が付与された植物の例としてＳＲコーン等がある。
また、遺伝子組換え技術により耐性を付与された植物の例として、グリホサート耐性のトウモロコシ、ダイズ、ワタがあり、ＲｏｕｎｄｕｐＲｅａｄｙ（登録商標）、Ａｇｒｉｓｕｒｅ（登録商標）ＧＴ、Ｇｌｙ−Ｔｏｌ（登録商標）等の商品名で既に販売されている。同様に遺伝子組換え技術によるグルホシネート耐性のトウモロコシ、ダイズ、ワタがあり、ＬｉｂｅｒｔｙＬｉｎｋ（登録商標）等の商品名で既に販売されている。グリホサート及びＡＬＳ阻害剤の両方に耐性であるＯｐｔｉｍｕｍ（登録商標）ＧＡＴ（登録商標）の商品名のトウモロコシ、ダイズの品種がある。同様に遺伝子組換え技術によるイミダゾリノン系アセト乳酸合成酵素阻害剤耐性のダイズがあり、Ｃｕｌｔｉｖａｎｃｅの名前で開発されている。同様に遺伝子組換え技術によるブロモキシニル耐性のワタがあり、ＢＸＮ（登録商標）の商品名で既に販売されている。
シュードモナス・マルトフィリア（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ  ｍａｌｔｏｐｈｉｌｉａ）より単離されたジカンバモノオキシゲナーゼ（ｄｉｃａｍｂａ  ｍｏｎｏｏｘｙｇｅｎａｓｅ）等のジカンバの分解酵素を植物に導入し、ジカンバに耐性のダイズ等の作物を作出することができる（Ｂｅｈｒｅｎｓ  ｅｔ  ａｌ．  ２００７  Ｓｃｉｅｎｃｅ  ３１６：１１８５〜１１８８）。
アリルオキシアルカノエートジオキゲナーゼ（ａｒｙｌｏｘｙａｌｋａｎｏａｔｅ  ｄｉｏｘｙｇｅｎａｓｅ）をコードする遺伝子を導入し、２，４−Ｄ、ＭＣＰＡ、ジクロプロップ、メコプロップ等のフェノキシ酸系除草剤と、キザロホップ、ハロキシホップ、フルアジホップ、ジクロホップ、フェノキサプロップ、メタミホップ、シハロホップ、クロジナホップ等のアリールオキシフェノキシプロピオン酸系除草剤とに耐性となる作物を作出することができる（Ｗｒｉｇｈｔ  ｅｔ  ａｌ．  ２０１０  ：  Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ  ｏｆ  Ｎａｔｉｏｎａｌ  Ａｃａｄｅｍｙ  ｏｆ  Ｓｃｉｅｎｃｅ．  １０７（４７）：  ２０２４０〜２０２４５）。
【００３０】
４−ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼ（以下ＨＰＰＤと称する）阻害剤に対して抵抗性を示すＨＰＰＤをコードする遺伝子を導入し、ＨＰＰＤ阻害剤に耐性の植物を作出することができる（米国特許出願公開第２００４／００５８４２７号明細書）。ＨＰＰＤ阻害剤によりＨＰＰＤが阻害されても、別の代謝経路でＨＰＰＤの生成物であるホモゲンチジン酸を合成できるような遺伝子を導入し、結果としてＨＰＰＤ阻害剤に対して耐性を示す植物を作出することができる（国際公開第０２／０３６７８７号）。ＨＰＰＤを過剰に発現させる遺伝子を導入し、ＨＰＰＤ阻害剤の存在下においても、植物の生育に影響が出ないまでの量のＨＰＰＤを生産させ、結果としてＨＰＰＤ阻害剤に対して耐性を示す植物を作出することができる（国際公開第９６／３８５６７号）。前出のＨＰＰＤを過剰に発現させる遺伝子の導入に加え、さらに、ＨＰＰＤの基質であるｐ−ヒドロキシフェニルピルビン酸の生成量を増加させるためにプレフェナレートデヒドロゲナーゼをコードする遺伝子を導入し、ＨＰＰＤ阻害剤に対して耐性を示す植物を作出できる（Ｒｉｐｐｅｒｔ  Ｐ  ｅｔ．ａｌ．  ２００４  Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ  ｐｌａｎｔ  ｓｈｉｋｉｍａｔｅ  ｐａｔｈｗａｙ  ｆｏｒ  ｐｒｏｄｕｃｔｉｏｎ  ｏｆ  ｔｏｃｏｔｒｉｅｎｏｌ  ａｎｄ  ｉｍｐｒｏｖｉｎｇ  ｈｅｒｂｉｃｉｄｅ  ｒｅｓｉｓｔａｎｃｅ．  Ｐｌａｎｔ  Ｐｈｙｓｉｏｌ．  １３４：９２−１００）。
【００３１】
作物を除草剤に対して耐性にする方法として、他に国際公開第９８／２０１４４号、国際公開第２００２／４６３８７号、米国特許出願公開第２００５／０２４６８００号明細書に記載される遺伝子を導入する方法が挙げられる。
【００３２】
上記の作物は、遺伝子組換え技術を用いて、例えば、バチルス属で知られている選択的毒素等を合成する事が可能となった作物も含む。
この様な遺伝子組換え植物で発現される毒素として、バチルス・セレウス（Ｂａｃｉｌｌｕｓ  ｃｅｒｅｕｓ）やバチルス・ポピリエ（Ｂａｃｉｌｌｕｓ  ｐｏｐｉｌｌｉａｅ）由来の殺虫性タンパク；バチルス・チューリンゲンシス（Ｂａｃｉｌｌｕｓ  ｔｈｕｒｉｎｇｉｅｎｓｉｓ）由来のＣｒｙ１Ａｂ、Ｃｒｙ１Ａｃ、Ｃｒｙ１Ｆ、Ｃｒｙ１Ｆａ２、Ｃｒｙ２Ａｂ、Ｃｒｙ３Ａ、Ｃｒｙ３Ｂｂ１又はＣｒｙ９Ｃなどのδ−エンドトキシン、ＶＩＰ１、ＶＩＰ２、ＶＩＰ３又はＶＩＰ３Ａなどの殺虫タンパク；線虫由来の殺虫タンパク；さそり毒素、クモ毒素、ハチ毒素又は昆虫特異的神経毒素等動物によって産生される毒素；糸状菌類毒素；植物レクチン；アグルチニン；トリプシン阻害剤、セリンプロテアーゼ阻害剤、パタチン、シスタチン、パパイン阻害剤等のプロテアーゼ阻害剤；リシン、トウモロコシ−ＲＩＰ、アブリン、ルフィン、サポリン、ブリオジン等のリボゾーム不活性化タンパク（ＲＩＰ）；３−ヒドロキシステロイドオキシダーゼ、エクジステロイド−ＵＤＰ−グルコシルトランスフェラーゼ、コレステロールオキシダーゼ等のステロイド代謝酵素；エクダイソン阻害剤；ＨＭＧ−ＣｏＡリダクターゼ；ナトリウムチャネル、カルシウムチャネル阻害剤等のイオンチャネル阻害剤；幼若ホルモンエステラーゼ；利尿ホルモン受容体；スチルベンシンターゼ；ビベンジルシンターゼ；キチナーゼ；グルカナーゼ等が挙げられる。
また、この様な遺伝子組換え作物で発現される毒素として、Ｃｒｙ１Ａｂ、Ｃｒｙ１Ａｃ、Ｃｒｙ１Ｆ、Ｃｒｙ１Ｆａ２、Ｃｒｙ２Ａｂ、Ｃｒｙ３Ａ、Ｃｒｙ３Ｂｂ１、 Ｃｒｙ９Ｃ、Ｃｒｙ３４Ａｂ又はＣｒｙ３５Ａｂなどのδ−エンドトキシンタンパク、ＶＩＰ１、ＶＩＰ２、ＶＩＰ３又はＶＩＰ３Ａなどの殺虫タンパクのハイブリッド毒素、一部を欠損した毒素、修飾された毒素も含まれる。ハイブリッド毒素は、組換え技術を用いて、これらタンパクの異なるドメインの新しい組合せによって作り出される。一部を欠損した毒素としては、アミノ酸配列の一部を欠損したＣｒｙ１Ａｂが知られている。修飾された毒素は、天然型の毒素のアミノ酸の１つ又は複数が置換されている。これら毒素の例及びこれら毒素を合成する事ができる組換え植物は、欧州特許出願公開第０３７４７５３号明細書、国際公開第９３／００７２７８号、国際公開第９５／３４６５６号、欧州特許出願公開第０４２７５２９号明細書、欧州特許出願公開第０４５１８７８号明細書、国際公開第０３／０５２０７３号等に記載されている。これらの組換え植物に含まれる毒素は、特に、甲虫目害虫、双翅目害虫、鱗翅目害虫への耐性を植物へ付与する。
また、１つ若しくは複数の殺虫性の害虫抵抗性遺伝子を含み、１つ又は複数の毒素を発現する遺伝子組換え植物は既に知られており、いくつかのものは市販されている。これら遺伝子組換え植物の例として、ＹｉｅｌｄＧａｒｄ（登録商標）（Ｃｒｙ１Ａｂ毒素を発現するトウモロコシ品種）、ＹｉｅｌｄＧａｒｄ  Ｒｏｏｔｗｏｒｍ（登録商標）（Ｃｒｙ３Ｂｂ１毒素を発現するトウモロコシ品種）、ＹｉｅｌｄＧａｒｄ  Ｐｌｕｓ（登録商標）（Ｃｒｙ１ＡｂとＣｒｙ３Ｂｂ１毒素を発現するトウモロコシ品種）、Ｈｅｒｃｕｌｅｘ  Ｉ（登録商標）（Ｃｒｙ１Ｆａ２毒素とグルホシネートへの耐性を付与する為にホスフィノトリシン  Ｎ−アセチルトランスフェラーゼ（ＰＡＴ）を発現するトウモロコシ品種）、ＮａｔｕｒｅＧａｒｄ（登録商標）、ＡＧＲＩＳＵＲＥ（登録商標）  ＣＢ  Ａｄｖａｎｔａｇｅ（Ｂｔ１１コーンボーラー（ＣＢ）形質）、Ｐｒｏｔｅｃｔａ（登録商標）等が挙げられる。
また、１つ若しくは複数の殺虫性の害虫抵抗性遺伝子を含み、１つ又は複数の毒素を発
現する遺伝子組み換えワタは既に知られており、いくつかのものは市販されている。これら遺伝子組換えワタの例として、ＢｏｌｌＧａｒｄ（登録商標）（Ｃｒｙ１Ａｃ毒素を発現するワタ品種）、ＢｏｌｌＧａｒｄ（登録商標）  ＩＩ（Ｃｒｙ１ＡｃとＣｒｙ２Ａｂ毒素を発現するワタ品種）、ＢｏｌｌＧａｒｄ（登録商標）  ＩＩＩ（Ｃｒｙ１ＡｃとＣｒｙ２ＡｂとＶＩＰ３Ａ毒素を発現するワタ品種）  ＶｉｐＣｏｔ（登録商標）（ＶＩＰ３ＡとＣｒｙ１Ａｂ毒素を発現するワタ品種）、ＷｉｄｅＳｔｒｉｋｅ（登録商標）（Ｃｒｙ１ＡｃとＣｒｙ１Ｆ毒素を発現するワタ品種）等が挙げられる。
本発明に用いられる植物としては、例えばＲａｇ１（Ｒｅｓｉｓｔａｎｃｅ Ａｐｈｉｄ Ｇｅｎｅ 1）遺伝子が導入されたダイズ等のアブラムシに対する耐性が付与された植物も挙げられる。
【００３３】
上記の作物は、遺伝子組換え技術を用いて、選択的な作用を有する抗病原性物質を産生する能力を付与されたものも含む。抗病原性物質の例として、ＰＲタンパク等が知られている（ＰＲＰｓ、欧州特許出願公開第０３９２２２５号明細書）。このような抗病原性物質とそれを産生する遺伝子組換え植物は、欧州特許出願公開第０３９２２２５号明細書、国際公開第９５／０３３８１８号、欧州特許出願公開第０３５３１９１号明細書等に記載されている。こうした遺伝子組換え植物で発現される抗病原性物質の例として、例えば、ナトリウムチャネル阻害剤、カルシウムチャネル阻害剤（ウイルスが産生するＫＰ１、ＫＰ４、ＫＰ６毒素等が知られている。）等のイオンチャネル阻害剤；スチルベンシンターゼ；ビベンジルシンターゼ；キチナーゼ；グルカナーゼ；ＰＲタンパク；ペプチド抗生物質、ヘテロ環を有する抗生物質、植物病害抵抗性に関与するタンパク因子（植物病害抵抗性遺伝子と呼ばれ、国際公開第０３／０００９０６号に記載されている。）等の微生物が産生する抗病原性物質等が挙げられる。
上記の作物は、遺伝子組換え技術を用いて、油糧成分改質やアミノ酸含量増強形質などの有用形質を付与した植物も含む。例として、ＶＩＳＴＩＶＥ（登録商標）（リノレン含量を低減させた低リノレンダイズ）又は、ｈｉｇｈ−ｌｙｓｉｎｅ  （ｈｉｇｈ−ｏｉｌ）  ｃｏｒｎ（リジン又はオイル含有量を増量したトウモロコシ）等が挙げられる。
さらに、上記の古典的な除草剤形質又は除草剤耐性遺伝子、殺虫性害虫抵抗性遺伝子、抗病原性物質産生遺伝子、油糧成分改質やアミノ酸含量増強形質などの有用形質について、これらを複数組み合わせたスタック品種も含まれる。
【００３４】
かかる作物には、イソキサフルトール等の４−ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼ阻害剤、イマゼタピル、チフェンスルフロンメチル等のアセト乳酸合成酵素（以後ＡＬＳと略する）阻害剤、グリホサート等の５−エノールピルビルシキミ酸−３−リン酸シンターゼ（以後ＥＰＳＰと略する）阻害剤、グルホシネート等のグルタミン合成酵素阻害剤、２，４−Ｄ、ダイカンバ等のオーキシン型除草剤、ブロモキシニル等の除草剤に対する耐性が、古典的な育種法、又は遺伝子組換え技術により付与された植物も含まれる。
【００３５】
上記の作物には、遺伝子組換え技術を用いて、例えば、バチルス属で知られている選択的毒素等を合成する事が可能となった作物も含まれる。
この様な遺伝子組換え植物で発現される毒素として、バチルス・セレウス（Ｂａｃｉｌｌｕｓ  ｃｅｒｅｕｓ）やバチルス・ポピリエ（Ｂａｃｉｌｌｕｓ  ｐｏｐｉｌｌｉａｅ）由来の殺虫性タンパク；バチルス・チューリンゲンシス（Ｂａｃｉｌｌｕｓ  ｔｈｕｒｉｎｇｉｅｎｓｉｓ）由来のＣｒｙ１Ａｂ、Ｃｒｙ１Ａｃ、Ｃｒｙ１Ｆ、Ｃｒｙ１Ｆａ２、Ｃｒｙ２Ａｂ、Ｃｒｙ３Ａ、Ｃｒｙ３Ｂｂ１又はＣｒｙ９Ｃなどのδ−エンドトキシン、ＶＩＰ１、ＶＩＰ２、ＶＩＰ３又はＶＩＰ３Ａなどの殺虫タンパク；線虫由来の殺虫タンパク；さそり毒素、クモ毒素、ハチ毒素又は昆虫特異的神経毒素等動物によって産生される毒素；糸状菌類毒素；植物レクチン；アグルチニン；トリプシン阻害剤、セリンプロテアーゼ阻害剤、パタチン、シスタチン、パパイン阻害剤等のプロテアーゼ阻害剤；リシン、トウモロコシ−ＲＩＰ、アブリン、ルフィン、サポリン、ブリオジン等のリボゾーム不活性化タンパク（ＲＩＰ）；３−ヒドロキシステロイドオキシダーゼ、エクジステロイド−ＵＤＰ−グルコシルトランスフェラーゼ、コレステロールオキシダーゼ等のステロイド代謝酵素；エクダイソン阻害剤；ＨＭＧ−ＣｏＡリダクターゼ；ナトリウムチャネル、カルシウムチャネル阻害剤等のイオンチャネル阻害剤；幼若ホルモンエステラーゼ；利尿ホルモン受容体；スチルベンシンターゼ；ビベンジルシンターゼ；キチナーゼ；グルカナーゼ等が挙げられる。
また、この様な遺伝子組換え作物で発現される毒素として、Ｃｒｙ１Ａｂ、Ｃｒｙ１Ａｃ、Ｃｒｙ１Ｆ、Ｃｒｙ１Ｆａ２、Ｃｒｙ２Ａｂ、Ｃｒｙ３Ａ、Ｃｒｙ３Ｂｂ１、  Ｃｒｙ９Ｃ、Ｃｒｙ３４Ａｂ又はＣｒｙ３５Ａｂなどのδ−エンドトキシンタンパク、ＶＩＰ１、ＶＩＰ２、ＶＩＰ３又はＶＩＰ３Ａなどの殺虫タンパクのハイブリッド毒素、一部を欠損した毒素、修飾された毒素も含まれる。ハイブリッド毒素は、組換え技術を用いて、これらタンパクの異なるドメインの新しい組合せによって作り出される。一部を欠損した毒素としては、アミノ酸配列の一部を欠損したＣｒｙ１Ａｂが知られている。修飾された毒素は、天然型の毒素のアミノ酸の１つ又は複数が置換されている。これら毒素の例及びこれら毒素を合成する事ができる組換え植物は、欧州特許出願公開第０３７４７５３号明細書、国際公開第９３／００７２７８号、国際公開第９５／３４６５６号、欧州特許出願公開第０４２７５２９号明細書、欧州特許出願公開第０４５１８７８号明細書、国際公開第０３／０５２０７３号等に記載されている。これらの組換え植物に含まれる毒素は、特に、甲虫目害虫、双翅目害虫、鱗翅目害虫への耐性を植物へ付与する。
【００３６】
上記の作物には、遺伝子組換え技術を用いて、選択的な作用を有する抗病原性物質を産生する能力を付与されたものも含まれる。抗病原性物質の例として、ＰＲタンパク等が知られている（ＰＲＰｓ、欧州特許出願公開第０３９２２２５号明細書）。このような抗病原性物質とそれを産生する遺伝子組換え植物は、欧州特許出願公開第０３９２２２５号明細書、国際公開第９５／０３３８１８号、欧州特許出願公開第０３５３１９１号明細書等に記載されている。こうした遺伝子組換え植物で発現される抗病原性物質の例として、例えば、ナトリウムチャネル阻害剤、カルシウムチャネル阻害剤（ウイルスが産生するＫＰ１、ＫＰ４、ＫＰ６毒素等が知られている。）等のイオンチャネル阻害剤；スチルベンシンターゼ；ビベンジルシンターゼ；キチナーゼ；グルカナーゼ；ＰＲタンパク；ペプチド抗生物質、ヘテロ環を有する抗生物質、植物病害抵抗性に関与するタンパク因子（植物病害抵抗性遺伝子と呼ばれ、国際公開第０３／０００９０６号に記載されている。）等の微生物が産生する抗病原性物質等が挙げられる。
【００３７】
上記の作物には、病害耐性、乾燥ストレス耐性や糖含量を増量する形質等を付与されたものも含まれる。
【００３８】
本発明組成物は、特にダイズ畑、ワタ畑及びトウモロコシ畑において、雑草を効果的に防除できる。
【００３９】
本発明組成物で防除できる雑草としては以下のものを挙げることができる。
【００４０】
イラクサ科雑草：ヒメイラクサ（Ｕｒｔｉｃａ  ｕｒｅｎｓ）
タデ科雑草：ソバカズラ（Ｐｏｌｙｇｏｎｕｍ  ｃｏｎｖｏｌｖｕｌｕｓ）、サナエタデ（Ｐｏｌｙｇｏｎｕｍ  ｌａｐａｔｈｉｆｏｌｉｕｍ）、アメリカサナエタデ（Ｐｏｌｙｇｏｎｕｍ  ｐｅｎｓｙｌｖａｎｉｃｕｍ）、ハルタデ（Ｐｏｌｙｇｏｎｕｍ  ｐｅｒｓｉｃａｒｉａ）、イヌタデ（Ｐｏｌｙｇｏｎｕｍ  ｌｏｎｇｉｓｅｔｕｍ）、ミチヤナギ（Ｐｏｌｙｇｏｎｕｍ  ａｖｉｃｕｌａｒｅ）、ハイミチヤナギ（Ｐｏｌｙｇｏｎｕｍ  ａｒｅｎａｓｔｒｕｍ）、イタドリ（Ｐｏｌｙｇｏｎｕｍ  ｃｕｓｐｉｄａｔｕｍ）、ギシギシ（Ｒｕｍｅｘ  ｊａｐｏｎｉｃｕｓ）、ナガバギシギシ（Ｒｕｍｅｘ  ｃｒｉｓｐｕｓ）、エゾノギシギシ（Ｒｕｍｅｘ  ｏｂｔｕｓｉｆｏｌｉｕｓ）、スイバ（Ｒｕｍｅｘ  ａｃｅｔｏｓａ）
スベリヒユ科雑草：スベリヒユ（Ｐｏｒｔｕｌａｃａ  ｏｌｅｒａｃｅａ）
ナデシコ科雑草：ハコベ（Ｓｔｅｌｌａｒｉａ  ｍｅｄｉａ）、ミミナグサ（Ｃｅｒａｓｔｉｕｍ  ｈｏｌｏｓｔｅｏｉｄｅｓ）、オランダミミナグサ（Ｃｅｒａｓｔｉｕｍ  ｇｌｏｍｅｒａｔｕｍ）、オオツメクサ（Ｓｐｅｒｇｕｌａ  ａｒｖｅｎｓｉｓ）、マンテマ（Ｓｉｌｅｎｅ  ｇａｌｌｉｃａ）
ザクロソウ科雑草：クルマバザクロウソウ（Ｍｏｌｌｕｇｏ  ｖｅｒｔｉｃｉｌｌａｔａ）
アカザ科雑草：シロザ（Ｃｈｅｎｏｐｏｄｉｕｍ  ａｌｂｕｍ）、ケアリタソウ（Ｃｈｅｎｏｐｏｄｉｕｍ  ａｍｂｒｏｓｉｏｉｄｅｓ）、ホウキギ（Ｋｏｃｈｉａ  ｓｃｏｐａｒｉａ）、ノハラヒジキ（Ｓａｌｓｏｌａ  ｋａｌｉ）、アトリプレックス属（Ａｔｒｉｐｌｅｘ  ｓｐｐ．）
【００４１】
ヒユ科雑草：アオゲイトウ（Ａｍａｒａｎｔｈｕｓ  ｒｅｔｒｏｆｌｅｘｕｓ）、アオビユ（Ａｍａｒａｎｔｈｕｓ  ｖｉｒｉｄｉｓ）、イヌビユ（Ａｍａｒａｎｔｈｕｓ  ｌｉｖｉｄｕｓ）、ハリビユ（Ａｍａｒａｎｔｈｕｓ  ｓｐｉｎｏｓｕｓ）、ホナガアオゲイトウ（Ａｍａｒａｎｔｈｕｓ  ｈｙｂｒｉｄｕｓ）、オオホナガアオゲイトウ（Ａｍａｒａｎｔｈｕｓ  ｐａｌｍｅｒｉ）、ホソバイヌビユ（Ａｍａｒａｎｔｈｕｓ  ｒｕｄｉｓ）、ホソアオゲイトウ（Ａｍａｒａｎｔｈｕｓ  ｐａｔｕｌｕｓ）、ヒユモドキ（Ａｍａｒａｎｔｈｕｓ  ｔｕｂｅｒｃｕｌａｔｏｓ）、アメリカビユ（Ａｍａｒａｎｔｈｕｓ  ｂｌｉｔｏｉｄｅｓ）、ハイビユ（Ａｍａｒａｎｔｈｕｓ  ｄｅｆｌｅｘｕｓ）、アマランサス  クイテンシス（Ａｍａｒａｎｔｈｕｓ  ｑｕｉｔｅｎｓｉｓ）、ナガエツルノゲイトウ（Ａｌｔｅｒｎａｎｔｈｅｒａ  ｐｈｉｌｏｘｅｒｏｉｄｅｓ）、ツルゲイトウ（Ａｌｔｅｒｎａｎｔｈｅｒａ  ｓｅｓｓｉｌｉｓ）、サングイナリア（Ａｌｔｅｒｎａｎｔｈｅｒａ  ｔｅｎｅｌｌａ）
ケシ科雑草：ヒナゲシ（Ｐａｐａｖｅｒ  ｒｈｏｅａｓ）、アザミゲシ（Ａｒｇｅｍｏｎｅ  ｍｅｘｉｃａｎａ）
アブラナ科雑草：セイヨウノダイコン（Ｒａｐｈａｎｕｓ  ｒａｐｈａｎｉｓｔｒｕｍ）、ラディッシュ（Ｒａｐｈａｎｕｓ  ｓａｔｉｖｕｓ）、ノハラガラシ（Ｓｉｎａｐｉｓ  ａｒｖｅｎｓｉｓ）、ナズナ（Ｃａｐｓｅｌｌａ  ｂｕｒｓａ−ｐａｓｔｏｒｉｓ）、セイヨウカラシナ（Ｂｒａｓｓｉｃａ  ｊｕｎｃｅａ）、セイヨウアブラナ（Ｂｒａｓｓｉｃａ  ｃａｍｐｅｓｔｒｉｓ）、ヒメクジラグサ（Ｄｅｓｃｕｒａｉｎｉａ  ｐｉｎｎａｔａ）、スカシタゴボウ（Ｒｏｒｉｐｐａ  ｉｓｌａｎｄｉｃａ）、キレハイヌガラシ（Ｒｏｒｉｐｐａ  ｓｙｌｖｅｓｔｒｉｓ）、グンバイナズナ（Ｔｈｌａｓｐｉ  ａｒｖｅｎｓｅ）、ミヤガラシ（Ｍｙａｇｒｕｍ  ｒｕｇｏｓｕｍ）、マメグンバイナズナ（Ｌｅｐｉｄｉｕｍ  ｖｉｒｇｉｎｉｃｕｍ）、カラクサナズナ（Ｃｏｒｏｎｏｐｕｓ  ｄｉｄｙｍｕｓ）
フウチョウソウ科雑草：クレオメ  アフィニス（Ｃｌｅｏｍｅ  ａｆｆｉｎｉｓ）
【００４２】
マメ科雑草：クサネム（Ａｅｓｃｈｙｎｏｍｅｎｅ  ｉｎｄｉｃａ）、ジグザグジョイントベッチ（Ａｅｓｃｈｙｎｏｍｅｎｅ  ｒｕｄｉｓ）、アメリカツノクサネム（Ｓｅｓｂａｎｉａ  ｅｘａｌｔａｔａ）、エビスグサ（Ｃａｓｓｉａ  ｏｂｔｕｓｉｆｏｌｉａ）、ハブソウ（Ｃａｓｓｉａ  ｏｃｃｉｄｅｎｔａｌｉｓ）、ジュズハギ（Ｄｅｓｍｏｄｉｕｍ  ｔｏｒｔｕｏｓｕｍ）、ノハラハギ（Ｄｅｓｍｏｄｉｕｍ  ａｄｓｃｅｎｄｅｎｓ）、シロツメクサ（Ｔｒｉｆｏｌｉｕｍ  ｒｅｐｅｎｓ）、クズ（Ｐｕｅｒａｒｉａ  ｌｏｂａｔａ）、カラスノエンドウ（Ｖｉｃｉａ  ａｎｇｕｓｔｉｆｏｌｉａ）、タヌキコマツナギ（Ｉｎｄｉｇｏｆｅｒａ  ｈｉｒｓｕｔａ）、インディゴフェラ  トルキシレンシス（Ｉｎｄｉｇｏｆｅｒａ  ｔｒｕｘｉｌｌｅｎｓｉｓ）、野生ササゲ（Ｖｉｇｎａ  ｓｉｎｅｎｓｉｓ）
カタバミ科：カタバミ（Ｏｘａｌｉｓ  ｃｏｒｎｉｃｕｌａｔａ）、オッタチカタバミ（Ｏｘａｌｉｓ  ｓｔｒｉｃａ）、オキザリス  オキシプテラ（Ｏｘａｌｉｓ  ｏｘｙｐｔｅｒａ）
フウロソウ科雑草：アメリカフウロ（Ｇｅｒａｎｉｕｍ  ｃａｒｏｌｉｎｅｎｓｅ）、オランダフウロ（Ｅｒｏｄｉｕｍ  ｃｉｃｕｔａｒｉｕｍ）
トウダイグサ科雑草：トウダイグサ（Ｅｕｐｈｏｒｂｉａ  ｈｅｌｉｏｓｃｏｐｉａ）、オオニシキソウ（Ｅｕｐｈｏｒｂｉａ  ｍａｃｕｌａｔａ）、コニシキソウ（Ｅｕｐｈｏｒｂｉａ  ｈｕｍｉｓｔｒａｔａ）、ハギクソウ（Ｅｕｐｈｏｒｂｉａ  ｅｓｕｌａ）、ショウジョウソウ（Ｅｕｐｈｏｒｂｉａ  ｈｅｔｅｒｏｐｈｙｌｌａ）、ヒソップリーフサンドマット（Ｅｕｐｈｏｒｂｉａ  ｂｒａｓｉｌｉｅｎｓｉｓ）、エノキグサ（Ａｃａｌｙｐｈａ  ａｕｓｔｒａｌｉｓ）、トロピッククロトン（Ｃｒｏｔｏｎ  ｇｌａｎｄｕｌｏｓｕｓ）、ロブドクロトン（Ｃｒｏｔｏｎ  ｌｏｂａｔｕｓ）、ブラジルコミカンソウ（Ｐｈｙｌｌａｎｔｈｕｓ  ｃｏｒｃｏｖａｄｅｎｓｉｓ）、トウゴマ（Ｒｉｃｉｎｕｓ  ｃｏｍｍｕｎｉｓ）
【００４３】
アオイ科雑草：イチビ（Ａｂｕｔｉｌｏｎ  ｔｈｅｏｐｈｒａｓｔｉ）、キンゴジカ（Ｓｉｄａ  ｒｈｏｍｂｉｆｏｒｉａ）、マルバキンゴジカ（Ｓｉｄａ  ｃｏｒｄｉｆｏｌｉａ）、アメリカキンゴジカ（Ｓｉｄａ  ｓｐｉｎｏｓａ）、シダ  グラジオビ（Ｓｉｄａ  ｇｌａｚｉｏｖｉｉ）、シダ  サンタレムネンシス（Ｓｉｄａ  ｓａｎｔａｒｅｍｎｅｎｓｉｓ）、ギンセンカ（Ｈｉｂｉｓｃｕｓ  ｔｒｉｏｎｕｍ）、ニシキアオイ（Ａｎｏｄａ  ｃｒｉｓｔａｔａ）、エノキアオイ（Ｍａｌｖａｓｔｒｕｍ  ｃｏｒｏｍａｎｄｅｌｉａｎｕｍ）
アオギリ科雑草：コバンバノキ（Ｗａｌｔｈｅｒｉａ  ｉｎｄｉｃａ）
スミレ科雑草：マキバスミレ（Ｖｉｏｌａ  ａｒｖｅｎｓｉｓ）、ワイルドパンジ−（Ｖｉｏｌａ  ｔｒｉｃｏｌｏｒ）
ウリ科雑草：アレチウリ（Ｓｉｃｙｏｓ  ａｎｇｕｌａｔｕｓ）、ワイルドキューカンバー（Ｅｃｈｉｎｏｃｙｓｔｉｓ  ｌｏｂａｔａ）、野生ニガウリ（Ｍｏｍｏｒｄｉｃａ  ｃｈａｒａｎｔｉａ）
ミソハギ科雑草：エゾミソハギ（Ｌｙｔｈｒｕｍ  ｓａｌｉｃａｒｉａ）
セリ科雑草：チドメグサ（Ｈｙｄｒｏｃｏｔｙｌｅ  ｓｉｂｔｈｏｒｐｉｏｉｄｅｓ）
ムクロジ科雑草：フウセンカズラ（Ｃａｒｄｉｏｓｐｅｒｍｕｍ  ｈａｌｉｃａｃａｂｕｍ）
サクラソウ科雑草：アカバナルリハコベ（Ａｎａｇａｌｌｉｓ  ａｒｖｅｎｓｉｓ）
ガガイモ科雑草：オオトウワタ（Ａｓｃｌｅｐｉａｓ  ｓｙｒｉａｃａ）、ハニーヴァインミルクウィード（Ａｍｐｅｌａｍｕｓ  ａｌｂｉｄｕｓ）
アカネ科雑草：キャッチウィードベッドストロー（Ｇａｌｉｕｍ  ａｐａｒｉｎｅ）、ヤエムグラ（Ｇａｌｉｕｍ  ｓｐｕｒｉｕｍ  ｖａｒ．  ｅｃｈｉｎｏｓｐｅｒｍｏｎ）、ヒロハフタバムグラ（Ｓｐｅｒｍａｃｏｃｅ  ｌａｔｉｆｏｌｉａ）、ブラジルハシカグサモドキ（Ｒｉｃｈａｒｄｉａ  ｂｒａｓｉｌｉｅｎｓｉｓ）、ウィングドファルスボタンウィード（Ｂｏｒｒｅｒｉａ  ａｌａｔａ）
【００４４】
ヒルガオ科雑草：アサガオ（Ｉｐｏｍｏｅａ  ｎｉｌ）、アメリカアサガオ（Ｉｐｏｍｏｅａ  ｈｅｄｅｒａｃｅａ）、マルバアサガオ（Ｉｐｏｍｏｅａ  ｐｕｒｐｕｒｅａ）、マルバアメリカアサガオ（Ｉｐｏｍｏｅａ  ｈｅｄｅｒａｃｅａ  ｖａｒ．  ｉｎｔｅｇｒｉｕｓｃｕｌａ）、マメアサガオ（Ｉｐｏｍｏｅａ  ｌａｃｕｎｏｓａ）、ホシアサガオ（Ｉｐｏｍｏｅａ  ｔｒｉｌｏｂａ）、ノアサガオ（Ｉｐｏｍｏｅａ  ａｃｕｍｉｎａｔａ）、ツタノハルコウ（Ｉｐｏｍｏｅａ  ｈｅｄｅｒｉｆｏｌｉａ）、マルバルコウ（Ｉｐｏｍｏｅａ  ｃｏｃｃｉｎｅａ）、ルコウソウ（Ｉｐｏｍｏｅａ  ｑｕａｍｏｃｌｉｔ）、イポモエア  グランディフォリア（Ｉｐｏｍｏｅａ  ｇｒａｎｄｉｆｏｌｉａ）、イポモエア  アリストロチアフォリア（Ｉｐｏｍｏｅａ  ａｒｉｓｔｏｌｏｃｈｉａｆｏｌｉａ）、モミジバヒルガオ（Ｉｐｏｍｏｅａ  ｃａｉｒｉｃａ）、セイヨウヒルガオ（Ｃｏｎｖｏｌｖｕｌｕｓ  ａｒｖｅｎｓｉｓ）、コヒルガオ（Ｃａｌｙｓｔｅｇｉａ  ｈｅｄｅｒａｃｅａ）、ヒルガオ（Ｃａｌｙｓｔｅｇｉａ  ｊａｐｏｎｉｃａ）、ツタノハヒルガオ（Ｍｅｒｒｅｍｉａ  ｈｅｄｅａｃｅａ）、ヘアリーウッドローズ（Ｍｅｒｒｅｍｉａ  ａｅｇｙｐｔｉａ）、ロードサイドウッドローズ（Ｍｅｒｒｅｍｉａ  ｃｉｓｓｏｉｄｅｓ）、オキナアサガオ（Ｊａｃｑｕｅｍｏｎｔｉａ  ｔａｍｎｉｆｏｌｉａ）
ムラサキ科雑草：ワスレナグサ（Ｍｙｏｓｏｔｉｓ  ａｒｖｅｎｓｉｓ）
シソ科雑草：ヒメオドリコソウ（Ｌａｍｉｕｍ  ｐｕｒｐｕｒｅｕｍ）、ホトケノザ（Ｌａｍｉｕｍ  ａｍｐｌｅｘｉｃａｕｌｅ）、タマザキメハジキ（Ｌｅｏｎｏｔｉｓ  ｎｅｐｅｔａｅｆｏｌｉａ）、ニオイニガクサ（Ｈｙｐｔｉｓ  ｓｕａｖｅｏｌｅｎｓ）、ヒプティス  ロファンタ（Ｈｙｐｔｉｓ  ｌｏｐｈａｎｔａ）、メハジキ（Ｌｅｏｎｕｒｕｓ  ｓｉｂｉｒｉｃｕｓ）、ヤブチョロギ（Ｓｔａｃｈｙｓ  ａｒｖｅｎｓｉｓ）
【００４５】
ナス科雑草：ヨウシュウチョウセンアサガオ（Ｄａｔｕｒａ  ｓｔｒａｍｏｎｉｕｍ）、イヌホオズキ（Ｓｏｌａｎｕｍ  ｎｉｇｒｕｍ）、テリミノイヌホオズキ（Ｓｏｌａｎｕｍ  ａｍｅｒｉｃａｎｕｍ）、アメリカイヌホオズキ（Ｓｏｌａｎｕｍ  ｐｔｙｃａｎｔｈｕｍ）、ケイヌホオズキ（Ｓｏｌａｎｕｍ  ｓａｒｒａｃｈｏｉｄｅｓ）、トマトダマシ（Ｓｏｌａｎｕｍ  ｒｏｓｔｒａｔｕｍ）、キンギンナスビ（Ｓｏｌａｎｕｍ  ａｃｕｌｅａｔｉｓｓｉｍｕｍ）、ワイルドトマト（Ｓｏｌａｎｕｍ  ｓｉｓｙｍｂｒｉｉｆｏｌｉｕｍ）、ワルナスビ（Ｓｏｌａｎｕｍ  ｃａｒｏｌｉｎｅｎｓｅ）、センナリホオズキ（Ｐｈｙｓａｌｉｓ  ａｎｇｕｌａｔａ）、スムーズグランドチェリー（Ｐｈｙｓａｌｉｓ  ｓｕｂｇｌａｂｒａｔａ）、オオセンナリ（Ｎｉｃａｎｄｒａ  ｐｈｙｓａｌｏｉｄｅｓ）
ゴマノハグサ科雑草：フラサバソウ（Ｖｅｒｏｎｉｃａ  ｈｅｄｅｒａｅｆｏｌｉａ）、オオイヌノフグリ（Ｖｅｒｏｎｉｃａ  ｐｅｒｓｉｃａ）、タチイヌノフグリ（Ｖｅｒｏｎｉｃａ  ａｒｖｅｎｓｉｓ）
オオバコ科：オオバコ（Ｐｌａｎｔａｇｏ  ａｓｉａｔｉｃａ）
【００４６】
キク科雑草：オナモミ（Ｘａｎｔｈｉｕｍ  ｐｅｎｓｙｌｖａｎｉｃｕｍ）、オオオナモミ（Ｘａｎｔｈｉｕｍ  ｏｃｃｉｄｅｎｔａｌｅ）、野生ヒマワリ（Ｈｅｌｉａｎｔｈｕｓ  ａｎｎｕｕｓ）、カミツレ（Ｍａｔｒｉｃａｒｉａ  ｃｈａｍｏｍｉｌｌａ）、イヌカミツレ（Ｍａｔｒｉｃａｒｉａ  ｐｅｒｆｏｒａｔａ）、コーンマリーゴールド（Ｃｈｒｙｓａｎｔｈｅｍｕｍ  ｓｅｇｅｔｕｍ）、オロシャギク（Ｍａｔｒｉｃａｒｉａ  ｍａｔｒｉｃａｒｉｏｉｄｅｓ）、ヨモギ（Ａｒｔｅｍｉｓｉａ  ｐｒｉｎｃｅｐｓ）、オウシュウヨモギ（Ａｒｔｅｍｉｓｉａ  ｖｕｌｇａｒｉｓ）、チャイニーズマグウォート（Ａｒｔｅｍｉｓｉａ  ｖｅｒｌｏｔｏｒｕｍ）、セイタカアワダチソウ（Ｓｏｌｉｄａｇｏ  ａｌｔｉｓｓｉｍａ）、セイヨウタンポポ（Ｔａｒａｘａｃｕｍ  ｏｆｆｉｃｉｎａｌｅ）、ハキダメギク（Ｇａｌｉｎｓｏｇａ  ｃｉｌｉａｔａ）、コゴメギク（Ｇａｌｉｎｓｏｇａ  ｐａｒｖｉｆｌｏｒａ）、ノボロギク（Ｓｅｎｅｃｉｏ  ｖｕｌｇａｒｉｓ）、セネシオ  ブラジリエンシス（Ｓｅｎｅｃｉｏ  ｂｒａｓｉｌｉｅｎｓｉｓ）、セネシオ  グリセバチ（Ｓｅｎｅｃｉｏ  ｇｒｉｓｅｂａｃｈｉｉ）、アレチノギク（Ｃｏｎｙｚａ  ｂｏｎａｒｉｅｎｓｉｓ）、ヒメムカシヨモギ（Ｃｏｎｙｚａ  ｃａｎａｄｅｎｓｉｓ）、ブタクサ（Ａｍｂｒｏｓｉａ  ａｒｔｅｍｉｓｉａｅｆｏｌｉａ）、クワモドキ（Ａｍｂｒｏｓｉａ  ｔｒｉｆｉｄａ）、コセンダングサ（Ｂｉｄｅｎｓ  ｐｉｌｏｓａ）、アメリカセンダングサ（Ｂｉｄｅｎｓ  ｆｒｏｎｄｏｓａ）、ビーデンス  スバルテルナンス（Ｂｉｄｅｎｓ  ｓｕｂａｌｔｅｒｎａｎｓ）、セイヨウトゲアザミ（Ｃｉｒｓｉｕｍ  ａｒｖｅｎｓｅ）、アメリカオニアザミ（Ｃｉｒｓｉｕｍ  ｖｕｌｇａｒｅ）、マリアアザミ（Ｓｉｌｙｂｕｍ  ｍａｒｉａｎｕｍ）、マスクチッスル（Ｃａｒｄｕｕｓ  ｎｕｔａｎｓ）、トゲチシャ（Ｌａｃｔｕｃａ  ｓｅｒｒｉｏｌａ）、ノゲシ（Ｓｏｎｃｈｕｓ  ｏｌｅｒａｃｅｕｓ）、オニノゲシ（Ｓｏｎｃｈｕｓ  ａｓｐｅｒ）、ビーチクリーピングオックスアイ（Ｗｅｄｅｌｉａ  ｇｌａｕｃａ）、パーフォリエートブラックフット（Ｍｅｌａｍｐｏｄｉｕｍ  ｐｅｒｆｏｌｉａｔｕｍ）、ウスベニニガナ（Ｅｍｉｌｉａ  ｓｏｎｃｈｉｆｏｌｉａ）、シオザキソウ（Ｔａｇｅｔｅｓ  ｍｉｎｕｔａ）、パラクレス（Ｂｌａｉｎｖｉｌｌｅａ  ｌａｔｉｆｏｌｉａ）、コトブキギク（Ｔｒｉｄａｘ  ｐｒｏｃｕｍｂｅｎｓ）、イェルバ  ポロサ（Ｐｏｒｏｐｈｙｌｌｕｍ  ｒｕｄｅｒａｌｅ）、パラグアイ  スターバー（Ａｃａｎｔｈｏｓｐｅｒｍｕｍ  ａｕｓｔｒａｌｅ）、ブリストリー  スターバー（Ａｃａｎｔｈｏｓｐｅｒｍｕｍ  ｈｉｓｐｉｄｕｍ）、フウセンガズラ（Ｃａｒｄｉｏｓｐｅｒｍｕｍ  ｈａｌｉｃａｃａｂｕｍ）、カッコウアザミ（Ａｇｅｒａｔｕｍ  ｃｏｎｙｚｏｉｄｅｓ）、コモンボーンセット（Ｅｕｐａｔｏｒｉｕｍ  ｐｅｒｆｏｌｉａｔｕｍ）、アメリカタカサブロウ（Ｅｃｌｉｐｔａ  ａｌｂａ）、ダンドボロギク（Ｅｒｅｃｈｔｉｔｅｓ  ｈｉｅｒａｃｉｆｏｌｉａ）、アメリカンエバーラスティング（Ｇａｍｏｃｈａｅｔａ  ｓｐｉｃａｔａ）、ウラジロチチコグサ（Ｇｎａｐｈａｌｉｕｍ  ｓｐｉｃａｔ��ｍ）、ジャゲリア  ヒトラ（Ｊａｅｇｅｒｉａ  ｈｉｒｔａ）、ゴマギク（Ｐａｒｔｈｅｎｉｕｍ  ｈｙｓｔｅｒｏｐｈｏｒｕｓ）、メナモミ（Ｓｉｅｇｅｓｂｅｃｋｉａ  ｏｒｉｅｎｔａｌｉｓ）、メリケントキンソウ（Ｓｏｌｉｖａ  ｓｅｓｓｉｌｉｓ）
【００４７】
ユリ科雑草：ワイルドオニオン（Ａｌｌｉｕｍ  ｃａｎａｄｅｎｓｅ）、ワイルドガーリック（Ａｌｌｉｕｍ  ｖｉｎｅａｌｅ）
ツユクサ科雑草：ツユクサ（Ｃｏｍｍｅｌｉｎａ  ｃｏｍｍｕｎｉｓ）、マルバツユクサ（Ｃｏｍｍｅｌｉｎａ  ｂｅｎｇｈａｒｅｎｓｉｓ）、エレクトデイフラワー（Ｃｏｍｍｅｌｉｎａ  ｅｒｅｃｔａ）
【００４８】
イネ科雑草：イヌビエ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ  ｃｒｕｓ−ｇａｌｌｉ）、エノコログサ（Ｓｅｔａｒｉａ  ｖｉｒｉｄｉｓ）、アキノエノコログサ（Ｓｅｔａｒｉａ  ｆａｂｅｒｉ）、キンエノコロ（Ｓｅｔａｒｉａ  ｇｌａｕｃａ）、アメリカエノコログサ（Ｓｅｔａｒｉａ  ｇｅｎｉｃｕｌａｔａ）、メヒシバ（Ｄｉｇｉｔａｒｉａ  ｃｉｌｉａｒｉｓ）、ラージクラブグラス（Ｄｉｇｉｔａｒｉａ  ｓａｎｇｕｉｎａｌｉｓ）、ジャマイカンクラブグラス（Ｄｉｇｉｔａｒｉａ  ｈｏｒｉｚｏｎｔａｌｉｓ）、ススキメヒシバ（Ｄｉｇｉｔａｒｉａ  ｉｎｓｕｌａｒｉｓ）、オヒシバ（Ｅｌｅｕｓｉｎｅ  ｉｎｄｉｃａ）、スズメノカタビラ（Ｐｏａ  ａｎｎｕａ）、スズメノテッポウ（Ａｌｏｓｐｅｃｕｒｕｓ  ａｅｑｕａｌｉｓ）、ブラックグラス（Ａｌｏｐｅｃｕｒｕｓ  ｍｙｏｓｕｒｏｉｄｅｓ）、カラスムギ（Ａｖｅｎａ  ｆａｔｕａ）、セイバンモロコシ（Ｓｏｒｇｈｕｍ  ｈａｌｅｐｅｎｓｅ）、シャターケーン（Ｓｏｒｇｈｕｍ  ｖｕｌｇａｒｅ）、シバムギ（Ａｇｒｏｐｙｒｏｎ  ｒｅｐｅｎｓ）、ネズミムギ（Ｌｏｌｉｕｍ  ｍｕｌｔｉｆｌｏｒｕｍ）、ホソムギ（Ｌｏｌｉｕｍ  ｐｅｒｅｎｎｅ）、ボウムギ（Ｌｏｌｉｕｍ  ｒｉｇｉｄｕｍ）、カラスノチャヒキ（Ｂｒｏｍｕｓ  ｓｅｃａｌｉｎｕｓ）、ウマノチャヒキ（Ｂｒｏｍｕｓ  ｔｅｃｔｏｒｕｍ）、ホソノゲムギ（Ｈｏｒｄｅｕｍ  ｊｕｂａｔｕｍ）、ヤギムギ（Ａｅｇｉｌｏｐｓ  ｃｙｌｉｎｄｒｉｃａ）、クサヨシ（Ｐｈａｌａｒｉｓ  ａｒｕｎｄｉｎａｃｅａ）、ヒメカナリークサヨシ（Ｐｈａｌａｒｉｓ  ｍｉｎｏｒ）、シルキーベントグラス（Ａｐｅｒａ  ｓｐｉｃａ−ｖｅｎｔｉ）、オオクサキビ（Ｐａｎｉｃｕｍ  ｄｉｃｈｏｔｏｍｉｆｌｏｒｕｍ）、テキサスパニカム（Ｐａｎｉｃｕｍ  ｔｅｘａｎｕｍ）、ギネアキビ（Ｐａｎｉｃｕｍ  ｍａｘｉｍｕｍ）、メリケンニクキビ（Ｂｒａｃｈｉａｒｉａ  ｐｌａｔｙｐｈｙｌｌａ）、ルジグラス（Ｂｒａｃｈｉａｒｉａ  ｒｕｚｉｚｉｅｎｓｉｓ）、アレクサンダーグラス（Ｂｒａｃｈｉａｒｉａ  ｐｌａｎｔａｇｉｎｅａ）、スリナムグラス（Ｂｒａｃｈｉａｒｉａ  ｄｅｃｕｍｂｅｎｓ）、パリセードグラス（Ｂｒａｃｈｉａｒｉａ  ｂｒｉｚａｎｔｈａ）、コロニビアグラス（Ｂｒａｃｈｉａｒｉａ  ｈｕｍｉｄｉｃｏｌａ）、シンクリノイガ（Ｃｅｎｃｈｒｕｓ  ｅｃｈｉｎａｔｕｓ）、ヒメクリノイガ（Ｃｅｎｃｈｒｕｓ  ｐａｕｃｉｆｌｏｒｕｓ）、ナルコビエ（Ｅｒｉｏｃｈｌｏａ  ｖｉｌｌｏｓａ）、ペニセタム（Ｐｅｎｎｉｓｅｔｕｍ  ｓｅｔｏｓｕｍ）、アフリカヒゲシバ（Ｃｈｌｏｒｉｓ  ｇａｙａｎａ）、オオニワホコリ（Ｅｒａｇｒｏｓｔｉｓ  ｐｉｌｏｓａ）、ルビーガヤ（Ｒｈｙｎｃｈｅｌｉｔｒｕｍ  ｒｅｐｅｎｓ）、タツノツメガヤ（Ｄａｃｔｙｌｏｃｔｅｎｉｕｍ  ａｅｇｙｐｔｉｕｍ）、タイワンアイアシ（Ｉｓｃｈａｅｍｕｍ  ｒｕｇｏｓｕｍ）、野生イネ（Ｏｒｙｚａ  ｓａｔｉｖａ）、アメリカスズメノヒエ（Ｐａｓｐａｌｕｍ  ｎｏｔａｔｕｍ）、コースタルサンドパスパルム（Ｐａｓｐａｌｕｍ  ｍａｒｉｔｉｍｕｍ）、キクユグラス（Ｐｅｎｎｉｓｅｔｕｍ  ｃｌａｎｄｅｓｔｉｎｕｍ）、ホソバチカラシバ（Ｐｅｎｎｉｓｅｔｕｍ  ｓｅｔｏｓｕｍ��、ツノアイアシ（Ｒｏｔｔｂｏｅｌｌｉａ  ｃｏｃｈｉｎｃｈｉｎｅｎｓｉｓ）
【００４９】
カヤツリグサ科雑草：カヤツリグサ（Ｃｙｐｅｒｕｓ  ｍｉｃｒｏｉｒｉａ）、コゴメガヤツリ（Ｃｙｐｅｒｕｓ  ｉｒｉａ）、キンガヤツリ（Ｃｙｐｅｒｕｓ  ｏｄｏｒａｔｕｓ）、ハマスゲ（Ｃｙｐｅｒｕｓ  ｒｏｔｕｎｄｕｓ）、キハマスゲ（Ｃｙｐｅｒｕｓ  ｅｓｃｕｌｅｎｔｕｓ）、ヒメクグ（Ｋｙｌｌｉｎｇａ  ｇｒａｃｉｌｌｉｍａ）
トクサ科雑草：スギナ（Ｅｑｕｉｓｅｔｕｍ  ａｒｖｅｎｓｅ）、イヌスギナ（Ｅｑｕｉｓｅｔｕｍ  ｐａｌｕｓｔｒｅ）等。
【００５０】
本発明組成物において、郡Ａより選ばれる１種以上の化合物とテンボトリオンとの混合割合は、重量比で１：０．０１〜１：１００、好ましくは１：０．０５〜１：５０、更に好ましくは１：０．１〜１：１０の範囲である。
【００５１】
本発明組成物において、郡Ａより選ばれる１種以上の化合物とイソキサジフェンエチルの混合割合は、重量比で１：０．０１〜１：１００、好ましくは１：０．０５〜１：５０、更に好ましくは１：０．１〜１：１０の範囲である。
【００５２】
本発明組成物は、通常、固体担体、液体担体等と混合し、必要により界面活性剤、その他の製剤用補助剤等を添加して、乳剤、水和剤、懸濁剤、粒剤等に製剤化して用いるとよい。これらの製剤中には、ＰＰＯ阻害剤とテンボトリオンとイソキサジフェンエチルとの合計量が一般に約０．１〜９０重量％、好ましくは約１〜８０重量％含有させるとよい。
【００５３】
本発明組成物を製剤化するに際し、用いられる固体担体としては、例えば粘土類（カオリナイト、珪藻土、合成含水酸化珪素、フバサミクレー、ベントナイト、酸性白土等）、タルク、その他の無機鉱物（セリサイト、石英粉末、硫黄粉末、活性炭、炭酸カルシウム等）及び化学肥料（硫安、燐安、硝安、塩安、尿素等）等の微粉末や粒状物が挙げられ、液体担体としては、例えば水、アルコール類（メタノール、エタノール等）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン、エチルベンゼン、メチルナフタレン等）、非芳香族炭化水素類（ヘキサン、シクロヘキサン、ケロシン等）、エステル類（酢酸エチル、酢酸ブチル等）、ニトリル類（アセトニトリル、イソブチロニトリル等）、エーテル類（ジオキサン、ジイソプロピルエーテル等）、酸アミド類（ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）、ハロゲン化炭化水素類（ジクロロエタン、トリクロロエチレン等）等が挙げられる。
【００５４】
本発明組成物を製剤化するに際し、用いられる界面活性剤としては、例えば、アルキル硫酸エステル類、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリ−ルスルホン酸塩、アルキルアリールエーテル類及びそのポリオキシエチレン化物、ポリエチレングリコールエーテル類、多価アルコールエステル類、糖アルコール誘導体が挙げられる。その他の製剤用補助剤としては、例えば、カゼイン、ゼラチン、多糖類（澱粉、アラビアガム、セルロース誘導体、アルギン酸等）、リグニン誘導体、ベントナイト、合成水溶性高分子（ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸等）等の固着剤や分散剤、ＰＡＰ（酸性リン酸イソプロピル）、ＢＨＴ（２、６―ｔｅｒｔ−ブチル−４―メチルフェノール）、ＢＨＡ（２−／３−ｔｅｒｔ−ブチル−４―メトキシフェノール）、植物油、鉱物油、脂肪酸、脂肪酸エステル等の安定剤が挙げられる。
【００５５】
本発明組成物は、夫々の有効成分を上述の製剤手法により製剤化した後、これらを混合することにより調製することもできる。
製剤化された本発明組成物は、そのまま土壌若しくは植物体に散布してもよいし、水等で希釈した後に、土壌若しくは植物体に散布してもよい。本発明組成物は、さらに、他の除草剤と混合して用いることにより除草効力の増強に使用される。また、本発明組成物は、殺虫剤、殺菌剤、植物生長調節剤、肥料、薬害軽減剤（セーフナー）、土壌改良剤等とも併用されうる。
【００５６】
本発明組成物が混合できる除草剤の例としては以下のものが挙げられる。
２，４−Ｄ、２，４−Ｄアンモニウム（２，４−Ｄ−ａｍｍｏｎｉｕｍ）、２，４−Ｄブトチル（２，４−Ｄ−ｂｕｔｏｔｙｌ）、２，４−Ｄ  ２−ブトキシプロピル（２，４−Ｄ−２−ｂｕｔｏｘｙｐｒｏｐｙｌ）、２，４−Ｄ  ３−ブトキシプロピル（２，４−Ｄ−３−ｂｕｔｏｘｙｐｒｏｐｙｌ）、２，４−Ｄブチル（２，４−Ｄ−ｂｕｔｙｌ）、２，４−Ｄジエチルアンモニウム（２，４−Ｄ−ｄｉｅｔｈｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ）、２，４−Ｄジメチルアンモニウム（２，４−Ｄ−ｄｉｍｅｔｈｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ）、２，４−Ｄジオールアミン塩（２，４−Ｄ−ｄｉｏｌａｍｉｎｅ）、２，４−Ｄドデシルアンモニウム（２，４−Ｄ−ｄｏｄｅｃｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ）、２，４−Ｄエチル（２，４−Ｄ−ｅｔｈｙｌ）、２，４−Ｄ  ２−エチルヘキシル（２，４−Ｄ−２−ｅｔｈｙｌｈｅｘｙｌ）、２，４−Ｄヘプチルアンモニウム（２，４−Ｄ−ｈｅｐｔｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ）、２，４−Ｄイソオクチル（２，４−Ｄ−ｉｓｏｏｃｔｙｌ）、２，４−Ｄイソプロピル（２，４−Ｄ−ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ）、２，４−Ｄイソプロピルアンモニウム（２，４−Ｄ−ｉｓｏｐｒｏｐｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ）、２，４−Ｄリチウム塩（２，４−Ｄ−ｌｉｔｈｉｕｍ）、２，４−Ｄメプチル（２，４−Ｄ−ｍｅｐｔｙｌ）、２，４−Ｄメチル（２，４−Ｄ−ｍｅｔｈｙｌ）、２，４−Ｄオクチル（２，４−Ｄ−ｏｃｔｙｌ）、２，４−Ｄペンチル（２，４−Ｄ−ｐｅｎｔｙｌ）、２，４−Ｄプロピル（２，４−Ｄ−ｐｒｏｐｙｌ）、２，４−Ｄナトリウム塩（２，４−Ｄ−ｓｏｄｉｕｍ）、２，４−Ｄテフリル（２，４−Ｄ−ｔｅｆｕｒｙｌ）、２，４−Ｄテトラデシルアンモニウム（２，４−Ｄ−ｔｅｔｒａｄｅｃｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ）、２，４−Ｄトリエチルアンモニウム（２，４−Ｄ−ｔｒｉｅｔｈｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ）、２，４−Ｄトリス（２−ヒドロキシプロピル）アンモニウム、（２，４−Ｄ−ｔｒｉｓ（２−ｈｙｄｒｏｘｙｐｒｏｐｙｌ）ａｍｍｏｎｉｕｍ）、２，４−Ｄトロラミン塩（２，４−Ｄ−ｔｒｏｌａｍｉｎｅ）、２，４−Ｄコリン塩（２，４−Ｄ−ｃｈｏｌｉｎｅ）、２，４−ＤＢ、２，４−ＤＢジメチルアンモニウム（２，４−ＤＢ−ｄｉｍｅｔｈｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ）、２，４−ＤＢイソオクチル（２，４−ＤＢ−ｉｓｏｏｃｔｙｌ）、２，４−ＤＢブチル（２，４−ＤＢ−ｂｕｔｙｌ）、２，４−ＤＢナトリウム塩（２，４−ＤＢ−ｓｏｄｉｕｍ）、２，４−ＤＢカリウム塩（２，４−ＤＢ−ｐｏｔａｓｓｉｕｍ）、２，４−ＤＢコリン塩（２，４−ＤＢ−ｃｈｏｌｉｎｅ）、ＭＣＰＡ、ＭＣＰＡジメチルアンモニウム（ＭＣＰＡ−ｄｉｍｅｔｈｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ）、ＭＣＰＡ２−エチルヘキシル（ＭＣＰＡ−２−ｅｔｈｙｌｈｅｘｙｌ）、ＭＣＰＡイソオクチル（ＭＣＰＡ−ｉｓｏｏｃｔｙｌ）、ＭＣＰＡブトチル（ＭＣＰＡ−ｂｕｔｏｔｙｌ）、ＭＣＰＡブチル（ＭＣＰＡ−ｂｕｔｙｌ）、ＭＣＰＡジオールアミン（ＭＣＰＡ−ｄｉｏｌａｍｉｎｅ）、ＭＣＰＡエチル（ＭＣＰＡ−ｅｔｈｙｌ）、ＭＣＰＡイソブチル（ＭＣＰＡ−ｉｓｏｂｕｔｙｌ）、ＭＣＰＡイソプロピル（ＭＣＰＡ−ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ）、ＭＣＰＡメチル（ＭＣＰＡ−ｍｅｔｈｙｌ）、ＭＣＰＡオラミン塩（ＭＣＰＡ−ｏｌａｍｉｎｅ）、ＭＣＰＡナトリウム塩（ＭＣＰＡ−ｓｏｄｉｕｍ）、ＭＣＰＡトロラミン塩（ＭＣＰＡ−ｔｒｏｌａｍｉｎｅ）、ＭＣＰＡコリン塩（ＭＣＰＡ−ｃｈｏｌｉｎｅ）、ＭＣＰＢ、ＭＣＰＢエチル（ＭＣＰＢ−ｅｔｈｙｌ）、ＭＣＰＢメチル（ＭＣＰＢ−ｍｅｔｈｙｌ）、ＭＣＰＢナトリウム塩（ＭＣＰＢ−ｓｏｄｉｕｍ）、ＭＣＰＢコリン塩（ＭＣＰＢ−ｃｈｏｌｉｎｅ）、メコプロップ（ｍｅｃｏｐｒｏｐ）、メコプロップジメチルアンモニウム（ｍｅｃｏｐｒｏｐ−ｄｉｍｅｔｈｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ）、メコプロップジオールアミン塩（ｍｅｃｏｐｒｏｐ−ｄｉｏｌａｍｉｎｅ）、メコプロップエタジル（ｍｅｃｏｐｒｏｐ−ｅｔｈａｄｙｌ）、メコプロップ  ２−エチルヘキシル（ｍｅｃｏｐｒｏｐ−２−ｅｔｈｙｌｈｅｘｙｌ）、メコプロップイソオクチル（ｍｅｃｏｐｒｏｐ−ｉｓｏｏｃｔｙｌ）、メコプロップメチル（ｍｅｃｏｐｒｏｐ−ｍｅｔｈｙｌ）、メコプロップカリウム塩（ｍｅｃｏｐｒｏｐ−ｐｏｔａｓｓｉｕｍ）、メコプロップナトリウム塩（ｍｅｃｏｐｒｏｐ−ｓｏｄｉｕｍ）、メコプロップトロラミン塩（ｍｅｃｏｐｒｏｐ−ｔｒｏｌａｍｉｎｅ）、メコプロップコリン塩（ｍｅｃｏｐｒｏｐ−ｃｈｏｌｉｎｅ）、メコプロップＰ（ｍｅｃｏｐｒｏｐ−Ｐ）、メコプロップＰジメチルアンモニウム（ｍｅｃｏｐｒｏｐ−Ｐ−ｄｉｍｅｔｈｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ）、メコプロップＰ  ２−エチルヘキシル（ｍｅｃｏｐｒｏｐ−Ｐ−２−ｅｔｈｙｌｈｅｘｙｌ）、メコプロップＰイソブチル（ｍｅｃｏｐｒｏｐ−Ｐ−ｉｓｏｂｕｔｙｌ）、メコプロップＰ（ｍｅｃｏｐｒｏｐ−Ｐ−ｐｏｔａｓｓｉｕｍ）、メコプロップＰコリン塩（ｍｅｃｏｐｒｏｐ−Ｐ−ｃｈｏｌｉｎｅ）、ジクロルプロップ（ｄｉｃｈｌｏｒｐｒｏｐ）、ジクロルプロップブトチル（ｄｉｃｈｌｏｒｐｒｏｐ−ｂｕｔｏｔｙｌ）、ジクロルプロップジメチルアンモニウム（ｄｉｃｈｌｏｒｐｒｏｐ−ｄｉｍｅｔｈｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ）、ジクロルプロップエチルアンモニウム（ｄｉｃｈｌｏｒｐｒｏｐ−ｅｔｈｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ）、ジクロルプロップ  ２−エチルヘキシル（ｄｉｃｈｌｏｒｐｒｏｐ−２−ｅｔｈｙｌｈｅｘｙｌ）、ジクロルプロップイソオクチル（ｄｉｃｈｌｏｒｐｒｏｐ−ｉｓｏｏｃｔｙｌ）、ジクロルプロップメチル（ｄｉｃｈｌｏｒｐｒｏｐ−ｍｅｔｈｙｌ）、ジクロルプロップカリウム塩（ｄｉｃｈｌｏｒｐｒｏｐ−ｐｏｔａｓｓｉｕｍ）、ジクロルプロップナトリウム塩（ｄｉｃｈｌｏｒｐｒｏｐ−ｓｏｄｉｕｍ）、ジクロルプロップコリン塩（ｄｉｃｈｌｏｒｐｒｏｐ−ｃｈｏｌｉｎｅ）、ジクロルプロップＰ（ｄｉｃｈｌｏｒｐｒｏｐ−Ｐ）、ジクロルプロップＰジメチルアンモニウム（ｄｉｃｈｌｏｒｐｒｏｐ−Ｐ−ｄｉｍｅｔｈｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ）、ジクロルプロップＰ  ２−エチルヘキシル（ｄｉｃｈｌｏｒｐｒｏｐ−Ｐ−２−ｅｔｈｙｌｈｅｘｙｌ）、ジクロルプロップＰコリン塩（ｄｉｃｈｌｏｒｐｒｏｐ−ｃｈｏｌｉｎｅ）、ジカンバ（ｄｉｃａｍｂａ）、ジカンバジグリコールアミン塩（ｄｉｃａｍｂａ−ｄｉｇｌｙｃｏｌａｍｉｎｅ）、ジカンバジメチルアンモニウム（ｄｉｃａｍｂａ−ｄｉｍｅｔｈｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ）、ジカンバジオ���ルアミン塩（ｄｉｃａｍｂａ−ｄｉｏｌａｍｉｎｅ）、ジカンバイソプロピルアンモニウム（ｄｉｃａｍｂａ−ｉｓｏｐｒｏｐｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ）、ジカンバメチル（ｄｉｃａｍｂａ−ｍｅｔｈｙｌ）、ジカンバオラミン塩（ｄｉｃａｍｂａ−ｏｌａｍｉｎｅ）、ジカンバカリウム塩（ｄｉｃａｍｂａ−ｐｏｔａｓｓｉｕｍ）、ジカンバナトリウム塩（ｄｉｃａｍｂａ−ｓｏｄｉｕｍ）、ジカンバトロラミン塩（ｄｉｃａｍｂａ−ｔｒｏｌａｍｉｎｅ）、ジカンバコリン塩（ｄｉｃａｍｂａ−ｃｈｏｌｉｎｅ）、ブロモキシニル（ｂｒｏｍｏｘｙｎｉｌ）、ブロモキシニルオクタノエート（ｂｒｏｍｏｘｙｎｉｌ−ｏｃｔａｎｏａｔｅ）、ジクロベニル（ｄｉｃｈｌｏｂｅｎｉｌ）、アイオキシニル（ｉｏｘｙｎｉｌ）、アイオキシニルオクタノエート（ｉｏｘｙｎｉｌ−ｏｃｔａｎｏａｔｅ）、ジアレート（ｄｉ−ａｌｌａｔｅ）、ブチレート（ｂｕｔｙｌａｔｅ）、トリアレート（ｔｒｉ−ａｌｌａｔｅ）、フェンメディファム（ｐｈｅｎｍｅｄｉｐｈａｍ）、クロロプロファム（ｃｈｌｏｒｐｒｏｐｈａｍ）、アシュラム（ａｓｕｌａｍ）、フェニソファム（ｐｈｅｎｉｓｏｐｈａｍ）、ベンチオカーブ（ｂｅｎｔｈｉｏｃａｒｂ）、モリネート（ｍｏｌｉｎａｔｅ）、エスプロカルブ（ｅｓｐｒｏｃａｒｂ）、ピリブチカルブ（ｐｙｒｉｂｕｔｉｃａｒｂ）、プロスルホカルブ（ｐｒｏｓｕｌｆｏｃａｒｂ）、オルベンカルブ（ｏｒｂｅｎｃａｒｂ）、ＥＰＴＣ、ジメピペレート（ｄｉｍｅｐｉｐｅｒａｔｅ）、スエップ（ｓｗｅｐ）、プロパクロール（ｐｒｏｐａｃｈｌｏｒ）、メタザクロール（ｍｅｔａｚａｃｈｌｏｒ）、アラクロール（ａｌａｃｈｌｏｒ）、アセトクロール（ａｃｅｔｏｃｈｌｏｒ）、メトラクロール（ｍｅｔｏｌａｃｈｌｏｒ）、Ｓ−メトラクロール（Ｓ−  ｍｅｔｏｌａｃｈｌｏｒ）、ブタクロール（ｂｕｔａｃｈｌｏｒ）、プレチラクロール（ｐｒｅｔｉｌａｃｈｌｏｒ）、テニルクロール（ｔｈｅｎｙｌｃｈｌｏｒ）、アミノシクロピラクロール（ａｍｉｎｏｃｙｃｌｏｐｙｒａｃｈｌｏｒ）、アミノシクロピラクロールメチル（ａｍｉｎｏｃｙｃｌｏｐｙｒａｃｈｌｏｒ−ｍｅｔｈｙｌ）、アミノシクロピラクロールカリウム（ａｍｉｎｏｃｙｃｌｏｐｙｒａｃｈｌｏｒ−ｐｏｔａｓｓｉｕｍ）、トリフルラリン（ｔｒｉｆｌｕｒａｌｉｎ）、ペンディメタリン（ｐｅｎｄｉｍｅｔｈａｌｉｎ）、エタフルラリン（ｅｔｈａｌｆｌｕｒａｌｉｎ）、ベンフルラリン（ｂｅｎｆｌｕｒａｌｉｎ）、プロジアミン（ｐｒｏｄｉａｍｉｎｅ）、シマジン（ｓｉｍａｚｉｎｅ）、アトラジン（ａｔｒａｚｉｎｅ）、プロパジン（ｐｒｏｐａｚｉｎｅ）、シアナジン（ｃｙａｎａｚｉｎｅ）、アメトリン（ａｍｅｔｒｙｎ）、シメトリン（ｓｉｍｅｔｒｙｎ）、ジメタメトリン（ｄｉｍｅｔｈａｍｅｔｒｙｎ）、プロメトリン（ｐｒｏｍｅｔｒｙｎ）、インダジフラム（ｉｎｄａｚｉｆｌａｍ）、トリアジフラム（ｔｒｉａｚｉｆｌａｍ）、メトリブジン（ｍｅｔｒｉｂｕｚｉｎ）、ヘキサジノン（ｈｅｘａｚｉｎｏｎｅ）、イソキサベン（ｉｓｏｘａｂｅｎ）、ジフルフェニカン（ｄｉｆｌｕｆｅｎｉｃａｎ）、ジウロン（ｄｉｕｒｏｎ）、リニュロン（ｌｉｎｕｒｏｎ）、フルオメツロン（��ｌｕｏｍｅｔｕｒｏｎ）、ジフェノクスロン（ｄｉｆｅｎｏｘｕｒｏｎ）、メチルダイムロン（ｍｅｔｈｙｌｄｙｍｒｏｎ）、イソプロツロン（ｉｓｏｐｒｏｔｕｒｏｎ）、イソウロン（ｉｓｏｕｒｏｎ）、テブチウロン（ｔｅｂｕｔｈｉｕｒｏｎ）、ベンズチアズロン（ｂｅｎｚｔｈｉａｚｕｒｏｎ）、メタベンズチアズロン（ｍｅｔｈａｂｅｎｚｔｈｉａｚｕｒｏｎ）、プロパニル（ｐｒｏｐａｎｉｌ）、メフェナセット（ｍｅｆｅｎａｃｅｔ）、クロメプロップ（ｃｌｏｍｅｐｒｏｐ）、ナプロアニリド（ｎａｐｒｏａｎｉｌｉｄｅ）、ブロモブチド（ｂｒｏｍｏｂｕｔｉｄｅ）、ダイムロン（ｄａｉｍｕｒｏｎ）、クミルロン（ｃｕｍｙｌｕｒｏｎ）、エトベンザニド（ｅｔｏｂｅｎｚａｎｉｄ）、ベンタゾン（ｂｅｎｔａｚｏｎ）、トリジファン（ｔｒｉｄｉｐｈａｎｅ）、インダノファン（ｉｎｄａｎｏｆａｎ）、アミトロール（ａｍｉｔｒｏｌｅ）、フェンクロラゾール（ｆｅｎｃｈｌｏｒａｚｏｌｅ）、クロマゾン（ｃｌｏｍａｚｏｎｅ）、マレイン酸ヒドラジド（ｍａｌｅｉｃ  ｈｙｄｒａｚｉｄｅ）、ピリデート（ｐｙｒｉｄａｔｅ）、クロリダゾン（ｃｈｌｏｒｉｄａｚｏｎ）、ノルフルラゾン（ｎｏｒｆｌｕｒａｚｏｎ）、ブロマシル（ｂｒｏｍａｃｉｌ）、ターバシル（ｔｅｒｂａｃｉｌ）、オキサジクロメホン（ｏｘａｚｉｃｌｏｍｅｆｏｎｅ）、シンメチリン（ｃｉｎｍｅｔｈｙｌｉｎ）、べンフレセート（ｂｅｎｆｕｒｅｓａｔｅ）、カフェンストロール（ｃａｆｅｎｓｔｒｏｌｅ）、カルフェントラゾンエチル（ｃａｒｆｅｎｔｒａｚｏｎｅ−ｅｔｈｙｌ）、フルミクロラックペンチル（ｆｌｕｍｉｃｌｏｒａｃ−ｐｅｎｔｙｌ）、ピリチオバック（ｐｙｒｉｔｈｉｏｂａｃ）、ピリチオバックナトリウム塩（ｐｙｒｉｔｈｉｏｂａｃ−ｓｏｄｉｕｍ）、ピリミノバック  （ｐｙｒｉｍｉｎｏｂａｃ）、ピリミノバックメチル  （ｐｙｒｉｍｉｎｏｂａｃ−ｍｅｔｈｙｌ）、ビスビリバック  （ｂｉｓｐｙｒｉｂａｃ）、ビスビリバックナトリウム塩（ｂｉｓｐｙｒｉｂａｃ−ｓｏｄｉｕｍ）、ピリベンゾキシム（ｐｙｒｉｂｅｎｚｏｘｉｍ）、ピリミスルファン（ｐｙｒｉｍｉｓｕｌｆａｎ）、ピリフタリド（ｐｙｒｉｆｔａｌｉｄ）、トリアファモン（ｔｒｉａｆａｍｏｎｅ）、フェントラザミド（ｆｅｎｔｒａｚａｍｉｄｅ）、ジメテナミド（ｄｉｍｅｔｈｅｎａｍｉｄ）、ジメテナミドＰ（ｄｉｍｅｔｈｅｎａｍｉｄ−Ｐ）、
ＡＣＮ、ベンゾビシクロン（ｂｅｎｚｏｂｉｃｙｃｌｏｎ）、ジチオピル（ｄｉｔｈｉｏｐｙｒ）、トリクロピル（ｔｒｉｃｌｏｐｙｒ）、トリクロピルブトチル（ｔｒｉｃｌｏｐｙｒ−ｂｕｔｏｔｙｌ）、トリクロピルエチル（ｔｒｉｃｌｏｐｙｒ−ｅｔｈｙｌ）、トリクロピルトリエチルアンモニウム（ｔｒｉｃｌｏｐｙｒ−ｔｒｉｅｔｈｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ）、チアゾピル（ｔｈｉａｚｏｐｙｒ）、フルロキシピル（ｆｌｕｒｏｘｙｐｙｒ）、フルロキシピルメプチル（ｆｌｕｒｏｘｙｐｙｒ−ｍｅｐｔｙｌ）、アミノピラリド（ａｍｉｎｏｐｙｒａｌｉｄ）、アミノピラリドカリウム塩（ａｍｉｎｏｐｙｒａｌｉｄ−ｐｏｔａｓｓｉｕｍ）、アミノピラリド  トリス（２−ヒドロキシプロピル）アンモニウム（ａｍｉｎｏｐｙｒａｌｉｄ−ｔｒｉｓ（２−ｈｙｄｒｏｘｙｐｒｏｐｙｌ）ａｍｍｏｎｉｕｍ）、アミノピラリドコリン塩（ａｍｉｎｏｐｙｒａｌｉｄ−ｃｈｏｌｉｎｅ）、クロピラリド（ｃｌｏｐｙｒａｌｉｄ）、クロピラリドメチル（ｃｌｏｐｙｒａｌｉｄ−ｍｅｔｈｙｌ）、クロピラリドオラミン塩（ｃｌｏｐｙｒａｌｉｄ−ｏｌａｍｉｎｅ）、クロピラリドカリウム塩（ｃｌｏｐｙｒａｌｉｄ−ｐｏｔａｓｓｉｕｍ）、クロピラリド  トリス（２−ヒドロキシ）アンモニウム（ｃｌｏｐｙｒａｌｉｄ−ｔｒｉｓ（２−ｈｙｄｒｏｘｙｐｒｏｐｙｌ）ａｍｍｏｎｉｕｍ）、クロピラリドコリン塩（ｃｌｏｐｙｒａｌｉｄ−ｃｈｏｌｉｎｅ）、ダラポン（ｄａｌａｐｏｎ）、クロルチアミド（ｃｈｌｏｒｔｈｉａｍｉｄ）、アミドスルフロン（ａｍｉｄｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、アジムスルフロン（ａｚｉｍｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ベンスルフロン（ｂｅｎｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ベンスルフロンメチル（ｂｅｎｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、クロリムロン（ｃｈｌｏｒｉｍｕｒｏｎ）、クロリムロンエチル（ｃｈｌｏｒｉｍｕｒｏｎ−ｅｔｈｙｌ）、シクロスルファムロン（ｃｙｃｌｏｓｕｌｆａｍｕｒｏｎ）、エトキシスルフロン（ｅｔｈｏｘｙｓｕｌｆｕｒｏｎ）、フラザスルフロン（ｆｌａｚａｓｕｌｆｕｒｏｎ）、フルセトスルフロン（ｆｌｕｃｅｔｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、フルピルスルフロン（ｆｌｕｐｙｒｓｕｌｆｕｒｏｎ）、フルピルスルフロンメチルナトリウム（ｆｌｕｐｙｒｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ−  ｓｏｄｉｕｍ）、ホラムスルフロン（ｆｏｒａｍｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ハロスルフロン（ｈａｌｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ハロスルフロンメチル（ｈａｌｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、イマゾスルフロン（ｉｍａｚｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、メソスルフロン（ｍｅｓｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、メソスルフロンメチル（ｍｅｓｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、ニコスルフロン（ｎｉｃｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、オルトスルファムロン（ｏｒｔｈｏｓｕｌｆａｍｕｒｏｎ）、オキサスルフロン（ｏｘａｓｕｌｆｕｒｏｎ）、プリミスルフロン（ｐｒｉｍｉｓｕｌｆｕｒｏｎ）、プリミスルフロンメチル（ｐｒｉｍｉｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、プロピリスルフロン（ｐｒｏｐｙｒｉｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ピラゾスルフロン（ｐｙｒａｚｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ピラゾスルフロンエチル（ｐｙｒａｚｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｅｔｈｙｌ）、リムスルフロン（ｒｉｍｓｕｌｆｕｒｏｎ）、スルホメツロン（ｓｕｌｆｏｍｅｔｕｒｏｎ）、スルホメツロンメチル（ｓｕｌｆｏｍｅｔｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、スルホスルフロン（ｓｕｌｆｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、トリフロキシスルフロン（ｔｒｉｆｌｏｘｙｓｕｌｆｕｒｏｎ）、クロルスルフロン（ｃｈｌｏｒｓｕｌｆｕｒｏｎ）、シノスルフロン（ｃｉｎｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、エタメトスルフロン（ｅｔｈａｍｅｔｓｕｌｆｕｒｏｎ）、エタメトスルフロンメチル（ｅｔｈａｍｅｔｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、ヨードスルフロン（ｉｏｄｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ヨードスルフロンメチルナトリウム（ｉｏｄｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ−ｓｏｄｉｕｍ）、メトスルフロン（ｍｅｔｓｕｌｆｕｒｏｎ）、メトスルフロンメチル（ｍｅｔｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、プロスルフロン（ｐｒｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、チフェンスルフロン（ｔｈｉｆｅｎｓｕｌｆｕｒｏｎ）、チフェンスルフロンメチル（ｔｈｉｆｅｎｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、トリアスルフロン（ｔｒｉａｓｕｌｆｕｒｏｎ）、トリベニュロン（ｔｒｉｂｅｎｕｒｏｎ）、トリベニュロンメチル（ｔｒｉｂｅｎｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、トリフルスルフロン（ｔｒｉｆｌｕｓｕｌｆｕｒｏｎ）、トリフルスルフロンメチル（ｔｒｉｆｌｕｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、トリトスルフロン（ｔｒｉｔｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ピコリナフェン（ｐｉｃｏｌｉｎａｆｅｎ）、ベンフルブタミド（ｂｅｆｌｕｂｕｔａｍｉｄ）、メソトリオン（ｍｅｓｏｔｒｉｏｎｅ）、スルコトリオン（ｓｕｌｃｏｔｒｉｏｎｅ）、テフリルトリオン（ｔｅｆｕｒｙｌｔｒｉｏｎｅ）、テンボトリオン（ｔｅｍｂｏｔｒｉｏｎｅ）、イソキサクロルトール（ｉｓｏｘａｃｈｌｏｒｔｏｌｅ）、ベンゾフェナップ（ｂｅｎｚｏｆｅｎａｐ）、ピラスルホトール（ｐｙｒａｓｕｌｆｏｔｏｌｅ）、ピラゾリネート（ｐｙｒａｚｏｌｙｎａｔｅ）、ピラゾキシフェン（ｐｙｒａｚｏｘｙｆｅｎ）、トプラメゾン（ｔｏｐｒａｍｅｚｏｎｅ）、フルポキサム（ｆｌｕｐｏｘａｍ）、アミカルバゾン（ａｍｉｃａｒｂａｚｏｎｅ）、ベンカルバゾン（ｂｅｎｃａｒｂａｚｏｎｅ）、フルカルバゾン（ｆｌｕｃａｒｂａｚｏｎｅ）、フルカルバゾンナトリウム塩（ｆｌｕｃａｒｂａｚｏｎｅ−ｓｏｄｉｕｍ）、イプフェンカルバゾン（ｉｐｆｅｎｃａｒｂａｚｏｎｅ）、プロポキシカルバゾン（ｐｒｏｐｏｘｙｃａｒｂａｚｏｎｅ）、プロポキシカルバゾンナトリウム塩（ｐｒｏｐｏｘｙｃａｒｂａｚｏｎｅ−ｓｏｄｉｕｍ）、チエンカルバゾン（ｔｈｉｅｎｃａｒｂａｚｏｎｅ）、チエンカルバゾンメチル（ｔｈｉｅｎｃａｒｂａｚｏｎｅ−ｍｅｔｈｙｌ）、クロランスラム（ｃｌｏｒａｎｓｕｌａｍ）、クロランスラムメチル（ｃｌｏｒａｎｓｕｌａｍ−ｍｅｔｈｙｌ）、ジクロスラム（ｄｉｃｌｏｓｕｌａｍ）、フロラスラム（ｆｌｏｒａｓｕｌａｍ）、フルメトスラム（ｆｌｕｍｅｔｓｕｌａｍ）、メトスラム（ｍｅｔｏｓｕｌａｍ）  、ペノキススラム（ｐｅｎｏｘｓｕｌａｍ）、ピロキシスラム（ｐｙｒｏｘｓｕｌａｍ）、イマザメタベンズ（ｉｍａｚａｍｅｔｈａｂｅｎｚ）、イマザメタベンズメチル（ｉｍａｚａｍｅｔｈａｂｅｎｚ−ｍｅｔｈｙｌ）、イマザモックス（ｉ���ａｚａｍｏｘ）、イマザモックスアンモニウム塩（ｉｍａｚａｍｏｘ−ａｍｍｏｎｉｕｍ）、イマザピック（ｉｍａｚａｐｉｃ）、イマザピックアンモニウム塩（ｉｍａｚａｐｉｃ−ａｍｍｏｎｉｕｍ）、イマザピル（ｉｍａｚａｐｙｒ）、イマザキン（ｉｍａｚａｑｕｉｎ）、イマゼタピル（ｉｍａｚｅｔｈａｐｙｒ）、クロジナホップ（ｃｌｏｄｉｎａｆｏｐ）、クロジナホッププロパルギル（ｃｌｏｄｉｎａｆｏｐ−ｐｒｏｐａｒｇｙｌ）、シハロホップ（ｃｙｈａｌｏｆｏｐ）、シハロホップブチル（ｃｙｈａｌｏｆｏｐ−ｂｕｔｙｌ）、ジクロホップ（ｄｉｃｌｏｆｏｐ）、ジクロホップメチル（ｄｉｃｌｏｆｏｐ−ｍｅｔｈｙｌ）、フェノキサプロップ（ｆｅｎｏｘａｐｒｏｐ）、フェノキサプロップエチル（ｆｅｎｏｘａｐｒｏｐ−ｅｔｈｙｌ）、フェノキサプロップＰ（ｆｅｎｏｘａｐｒｏｐ−Ｐ）、フェノキサプロップＰエチル（ｆｅｎｏｘａｐｒｏｐ−Ｐ−ｅｔｈｙｌ）、フルアジホップ（ｆｌｕａｚｉｆｏｐ）、フルアジホップブチル（ｆｌｕａｚｉｆｏｐ−ｂｕｔｙｌ）、フルアジホップＰ（ｆｌｕａｚｉｆｏｐ−Ｐ）、フルアジホップＰブチル（ｆｌｕａｚｉｆｏｐ−Ｐ−ｂｕｔｙｌ）、ハロキシホップ（ｈａｌｏｘｙｆｏｐ）、ハロキシホップメチル（ｈａｌｏｘｙｆｏｐ−ｍｅｔｈｙｌ）、ハロキシホップＰ（ｈａｌｏｘｙｆｏｐ−Ｐ）、ハロキシホップＰメチル（ｈａｌｏｘｙｆｏｐ−Ｐ−ｍｅｔｈｙｌ）、メタミホップ（ｍｅｔａｍｉｆｏｐ）、プロパキザホップ（ｐｒｏｐａｑｕｉｚａｆｏｐ）、キザロホップ（ｑｕｉｚａｌｏｆｏｐ）、キザロホップエチル（ｑｕｉｚａｌｏｆｏｐ−ｅｔｈｙｌ）、キザロホップＰ（ｑｕｉｚａｌｏｆｏｐ−Ｐ）、キザロホップＰエチル（ｑｕｉｚａｌｏｆｏｐ−Ｐ−ｅｔｈｙｌ）、アロキシジム（ａｌｌｏｘｙｄｉｍ）、クレトジム（ｃｌｅｔｈｏｄｉｍ）、セトキシジム（ｓｅｔｈｏｘｙｄｉｍ）、テプラロキシジム（ｔｅｐｒａｌｏｘｙｄｉｍ）、トラルコキシジム（ｔｒａｌｋｏｘｙｄｉｍ）、ピノキサデン（ｐｉｎｏｘａｄｅｎ）、ピロキサスルホン（ｐｙｒｏｘａｓｕｌｆｏｎｅ）、グリホサート（ｇｌｙｐｈｏｓａｔｅ）、グリホサートイソプロピルアミン塩（ｇｌｙｐｈｏｓａｔｅ−ｉｓｏｐｒｏｐｙｌａｍｉｎｅ）、グリホサートトリメシウム塩（ｇｌｙｐｈｏｓａｔｅ−ｔｒｉｍｅｔｈｙｌｓｕｌｆｏｎｉｕｍ）、グリホサートアンモニウム塩（ｇｌｙｐｈｏｓａｔｅ−ａｍｍｏｎｉｕｍ）、グリホサートジアンモニウム塩（ｇｌｙｐｈｏｓａｔｅ−ｄｉａｍｍｏｎｉｕｍ）、グリホサートナトリウム塩（ｇｌｙｐｈｏｓａｔｅ−ｓｏｄｉｕｍ）、グリホサートカリウム塩（ｇｌｙｐｈｏｓａｔｅ−ｐｏｔａｓｓｉｕｍ）、グリホサートグアニジン誘導体塩（ｇｌｙｐｈｏｓａｔｅ  ｇｕａｎｉｄｉｎｅ  ｄｅｒｉｖａｔｉｖｅ  ｓａｌｔｓ）、グルホシネート（ｇｌｕｆｏｓｉｎａｔｅ）、グルホシネートアンモニウム塩（ｇｌｕｆｏｓｉｎａｔｅ−ａｍｍｏｎｉｕｍ）、グルホシネートＰ（ｇｌｕｆｏｓｉｎａｔｅ−Ｐ）、グルホシネートＰナトリウム塩（ｇｌｕｆｏｓｉｎａｔｅ−Ｐ−ｓｏｄｉｕｍ）、グルホシネート−Ｐ−アンモニウム塩（ｇｌｕｆｏｓｉｎａｔｅ−Ｐ−ａｍｍｏｎｉｕｍ）、ビアラホス（ｂｉａｌａｆｏｓ）���アニロホス（ａｎｉｌｏｆｏｓ）、ベンスリド（ｂｅｎｓｕｌｉｄｅ）、ブタミホス（ｂｕｔａｍｉｆｏｓ）、パラコート（ｐａｒａｑｕａｔ）、パラコートジクロリド（ｐａｒａｑｕａｔ−ｄｉｃｈｌｏｒｉｄｅ）、ジクワット（ｄｉｑｕａｔ）及びジクワットジブロミド（ｄｉｑｕａｔ−ｄｉｂｒｏｍｉｄｅ）。
【００５７】
本発明組成物の施用量は、群Ａより選ばれる１以上の化合物とテンボトリオンとイソキサジフェンエチルとの混合比、気象条件、製剤形態、施用時期、施用方法、施用場所、防除対象雑草、対象作物により変わり得るが、１ヘクタール当り群Ａより選ばれる１以上の化合物とテンボトリオンとイソキサジフェンエチルとの合計量として、通常、１から３０００ｇである。乳剤、水和剤、懸濁剤等は、前記有効成分量となるように、１ヘクタール当たり通常１００〜２０００リットルの水で希釈して施用する。また、本発明組成物を雑草に茎葉処理する場合には、本発明組成物の希釈液にアジュバントを加え、雑草に対する効力の増強を期待することができる。
【００５８】
本発明組成物は、雑草又は雑草が発生するであろう場所に処理される。雑草への処理としては、雑草そのものへの処理及び雑草が発生した後の土壌への処理が挙げられる。雑草が発生するであろう場所への処理としては、例えば雑草が発生する前の土壌表面への処理が挙げられる。
【００５９】
本発明組成物の処理方法としては、例えば以下の態様が挙げられる。
作物の播種前、かつ雑草発生前に土壌表面に散布する方法；
作物の播種前、かつ雑草発生後に土壌表面に散布する方法；
作物の播種前、かつ雑草発生後に雑草に散布する方法；
作物の播種後で作物の出芽前、かつ雑草発生前に土壌表面に散布する方法；
作物の播種後で作物の出芽前、かつ雑草発生後に土壌表面に散布する方法；
作物の播種後で作物の出芽前、かつ雑草発生後に雑草に散布する方法；
作物の存在下で雑草の出芽前に土壌表面に散布する方法；
作物の存在下で雑草の出芽後に土壌表面に散布する方法；及び
又は作物の存在下で雑草の出芽後に雑草に散布する方法。
【実施例】
【００６０】
以下、実施例により本発明を説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【００６１】
［製剤］
製剤例を以下に示す。
【００６２】
製剤例を以下に示す。以下の例において、部はいずれも重量部を表す。
製剤例１
フルミオキサジン２０部、テンボトリオン ２部、イソキサジフェンエチル ２部、ラウリル硫酸ナトリウム ２部及び合成含水酸化珪素 ７４部をよく粉砕混合して、水和剤を得る。
【００６３】
製剤例２
フルミオキサジン２部、テンボトリオン ２０部、イソキサジフェンエチル ２０部、ラウリル硫酸ナトリウム ２部及び合成含水酸化珪素 ５６部をよく粉砕混合して、水和剤を得る。
【００６４】
製剤例３
サフルフェナシル２部、テンボトリオン ２０部、イソキサジフェンエチル ２０部、ラウリル硫酸ナトリウム ２部及び合成含水酸化珪素 ５６部をよく粉砕混合して、水和剤を得る。
【００６５】
製剤例４
サフルフェナシル２部、テンボトリオン ２部、イソキサジフェンエチル ２部、ポリオキシエチレンステリルフェニルエーテル１４部、ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム６部、キシレン３０部、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４４部を混合し、乳剤を得る。
【００６６】
製剤例５
スルフェントラゾン２部、テンボトリオン ２部、イソキサジフェンエチル ２部、ポリオキシエチレンステリルフェニルエーテル１４部、ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム６部、キシレン３０部、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４４部を混合し、乳剤を得る。
【００６７】
製剤例６
ホメサフェンナトリウム塩２部、テンボトリオン ２部、イソキサジフェンエチル  ２部、ポリオキシエチレンステリルフェニルエーテル１４部、ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム６部、キシレン３０部、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４４部を混合し、乳剤を得る。
【００６８】
製剤例７
オキシフルオルフェン２部、テンボトリオン ２部、イソキサジフェンエチル ２部、ポリオキシエチレンステリルフェニルエーテル１４部、ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム６部、キシレン３０部、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４４部を混合し、乳剤を得る。
【００６９】
製剤例８
化合物１  ２部、テンボトリオン ２部、イソキサジフェンエチル ２部、ポリオキシエチレンステリルフェニルエーテル１４部、ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム６部、キシレン３０部、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４４部を混合し、乳剤を得る。
【００７０】
［除草効力］
除草効力の評価は、調査時の供試雑草の出芽又は生育の状態が無処理のそれと比較して全く又はほとんど違いがないものを「０」とし、供試植物が完全枯死又は出芽若しくは生育が完全に抑制されているものを「１００」として、０乃至１００に区分する。
【００７１】
実施例１
土壌を充填したプラスチック製ポットにアオゲイトウ、アメリカアサガオ、イヌビエ及びメヒシバを播種する。播種後、播種当日にフルミオキサジンとテンボトリオンとイソキサジフェンエチルとの混合液を均一に散布する。薬剤処理後、ポットを温室内に搬入する。その結果、優れた除草効力が認められる。
【００７２】
実施例２
土壌を充填したプラスチック製ポットにアオゲイトウ、アメリカアサガオ、イヌビエ及びメヒシバを播種する。播種後、播種当日にスルフェントラゾンとテンボトリオンとイソキサジフェンエチルとの混合液を均一に散布する。薬剤処理後、ポットを温室内に搬入する。その結果、優れた除草効力が認められる。
【００７３】
実施例３
土壌を充填したプラスチック製ポットにアオゲイトウ、アメリカアサガオ、イヌビエ及びメヒシバを播種する。播種後、播種当日にサフルフェナシルとテンボトリオンとイソキサジフェンエチルとの混合液を均一に散布する。薬剤処理後、ポットを温室内に搬入する。その結果、優れた除草効力が認められる。
【００７４】
実施例４
土壌を充填したプラスチック製ポットにアオゲイトウ、アメリカアサガオ、イヌビエ及びメヒシバを播種する。播種後、播種当日にオキシフルオルフェンとテンボトリオンとイソキサジフェンエチルとの混合液を均一に散布する。薬剤処理後、ポットを温室内に搬入する。その結果、優れた除草効力が認められる。
【００７５】
実施例５
土壌を充填したプラスチック製ポットにアオゲイトウ、アメリカアサガオ、イヌビエ及びメヒシバを播種する。播種後、播種当日にホメサフェンナトリウム塩とテンボトリオンとイソキサジフェンエチルとの混合液を均一に散布する。薬剤処理後、ポットを温室内に搬入する。その結果、優れた除草効力が認められる。
【００７６】
実施例６
土壌を充填したプラスチック製ポットにアオゲイトウ、アメリカアサガオ、イヌビエ及びメヒシバを播種する。播種後、播種当日に化合物１とテンボトリオンとイソキサジフェンエチルとの混合液を均一に散布する。薬剤処理後、ポットを温室内に搬入する。その結果、優れた除草効力が認められる。
【００７７】
実施例７
ブドウ、ウンシュウミカン、モモ、アーモンドを栽培するポットの土壌表面に、フルミオキサジンとテンボトリオンとイソキサジフェンエチルとの混合液を均一に散布する。
植物を屋外で育成する。その結果、作物に薬害を引き起こすことなく、雑草に対する高い除草効力が認められる。
【００７８】
実施例８
ブドウ、ウンシュウミカン、モモ、アーモンドを栽培するポットの土壌表面に、スルフェントラゾンとテンボトリオンとイソキサジフェンエチルとの混合液を均一に散布する。
植物を屋外で育成する。その結果、作物に薬害を引き起こすことなく、雑草に対する高い除草効力が認められる。
【００７９】
実施例９
ブドウ、ウンシュウミカン、モモ、アーモンドを栽培するポットの土壌表面に、サフルフェナシルとテンボトリオンとイソキサジフェンエチルとの混合液を均一に散布する。
植物を屋外で育成する。その結果、作物に薬害を引き起こすことなく、雑草に対する高い除草効力が認められる。
【００８０】
実施例１０
ブドウ、ウンシュウミカン、モモ、アーモンドを栽培するポットの土壌表面に、オキシフルオルフェンとテンボトリオンとイソキサジフェンエチルとの混合液を均一に散布する。
植物を屋外で育成する。その結果、作物に薬害を引き起こすことなく、雑草に対する高い除草効力が認められる。
【００８１】
実施例１１
ブドウ、ウンシュウミカン、モモ、アーモンドを栽培するポットの土壌表面に、ホメサフェンナトリウム塩とテンボトリオンとイソキサジフェンエチルとの混合液を均一に散布する。
植物を屋外で育成する。その結果、作物に薬害を引き起こすことなく、雑草に対する高い除草効力が認められる。
【００８２】
実施例１２
ブドウ、ウンシュウミカン、モモ、アーモンドを栽培するポットの土壌表面に、化合物１とテンボトリオンとイソキサジフェンエチルとの混合液を均一に散布する。
植物を屋外で育成する。その結果、作物に薬害を引き起こすことなく、雑草に対する高い除草効力が認められる。
【産業上の利用可能性】
【００８３】
本発明により、農作物畑、野菜畑、樹園地又は非農耕地等において作物に対し薬害の問題を生じることなく、広範囲の雑草を防除することが可能になる。