(57)【要約】【課題】３３０ｎｍ以下の光が遮光された光で露光した場合においても、表面の撥インク性および側面の親インク性が良好な隔壁を形成できるネガ型感光性樹脂組成物、該感光性組成物を硬化することにより形成される、３３０ｎｍ以下の光が遮光された光で露光した場合においても、表面の撥インク性および側面の親インク性が良好な隔壁ならびに該隔壁を有する光学素子を提供する。【解決手段】アルカリ可溶性樹脂、光重合開始剤、エーテル性酸素原子を有してもよい含フッ素アルキル基および／またはシロキサン結合を含む側鎖を有する重合体からなる撥インク剤、および、沸点が１６５℃以上、Ｆｅｄｏｒの溶解度パラメータが８．０〜８．５である溶媒が全溶媒量の１０〜１００質量％を占める溶媒、を含むネガ型感光性樹脂組成物およびその硬化膜からなる基板表面を画素形成用の複数の区画に仕切る形に形成された隔壁。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルカリ可溶性樹脂（Ａ）、光重合開始剤（Ｂ）、撥インク剤（Ｃ）および溶媒（Ｅ）を含むネガ型感光性樹脂組成物であって、前記撥インク剤（Ｃ）が、下式（１）で表される基または下式（２）で表される基を含む側鎖を有する重合体であり、前記溶媒（Ｅ）が、沸点が１６５℃以上、かつＦｅｄｏｒの溶解度パラメータが８．０〜８．５である溶媒（Ｅ１）を、前記溶媒（Ｅ）の全量に対して、１０〜１００質量％の割合で含むことを特徴とするネガ型感光性樹脂組成物。
−ＣＦＸＲｆ      （１）
式（１）中、Ｘは水素原子、フッ素原子またはトリフルオロメチル基を示し、Ｒｆはエーテル性酸素原子を有していてもよい水素原子の少なくとも１つがフッ素原子に置換された炭素原子数１〜２０のアルキル基、またはフッ素原子を示す。
−（ＳｉＲ１０Ｒ１１Ｏ）ｎ−ＳｉＲ１２Ｒ１３Ｒ１４      （２）
式（２）中、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２およびＲ１３はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、またはアリール基を示し、Ｒ１４は水素原子または炭素原子数１〜１０のエーテル性酸素原子または窒素原子を含んでいてもよいアルキル基を示し、ｎは１〜２００の整数を示す。
【請求項２】
前記撥インク剤（Ｃ）が、前記式（１）で表される基を含む側鎖を有し、フッ素原子含有量が５〜３５質量％である、請求項１に記載のネガ型感光性樹脂組成物。
【請求項３】
前記撥インク剤（Ｃ）が、さらにエチレン性二重結合を含む側鎖および酸性基を含む側鎖を有し、質量平均分子量（Ｍｗ）が１．２×１０４〜１５×１０４である、請求項１または２に記載のネガ型感光性樹脂組成物。
【請求項４】
前記溶媒（Ｅ１）が、下式（３）で表される化合物から選ばれる、請求項１〜３のいずれか一項に記載のネガ型感光性樹脂組成物。
Ｒ１Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｓＲ２      （３）
式（３）中、Ｒ１は炭素原子数が１〜１０のアルキル基、Ｒ２は炭素原子数が２〜１０のアルキル基を示し、ｓは１〜１０の整数を示す。
【請求項５】
前記溶媒（Ｅ１）が、ジエチレングリコールエチルメチルエーテルである、請求項１〜４のいずれか一項に記載のネガ型感光性樹脂組成物。
【請求項６】
前記溶媒（Ｅ）が、さらに、脂肪族環構造を有し、かつＦｅｄｏｒの溶解度パラメータが９．５以上である溶媒（Ｅ２）を、前記溶媒（Ｅ）の全量に対して、１０〜４０質量％の割合で含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載のネガ型感光性樹脂組成物。
【請求項７】
さらに黒色着色剤（Ｄ)を含む、請求項１〜６のいずれか一項に記載のネガ型感光性樹脂組成物。
【請求項８】
前記光重合開始剤（Ｂ）が、下式（４）で表されるＯ−アシルオキシム化合物である、請求項１〜７のいずれか一項に記載のネガ型感光性樹脂組成物。
【化１】
2013050549.tif 000010
式（４）中、Ｒ３は、水素原子、Ｒ６１またはＯＲ６２を示し、該Ｒ６１およびＲ６２は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜２０のアルキル基、シクロアルカン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数３〜８のシクロアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数６〜３０のフェニル基またはベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数７〜３０のフェニルアルキル基を示す。
Ｒ４は、水素原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜８のシクロアルキル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数６〜３０のフェニル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数７〜３０のフェニルアルキル基、炭素原子数２〜２０のアルカノイル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のベンゾイル基、炭素原子数２〜１２のアルコキシカルボニル基またはベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のフェノキシカルボニル基、またはシアノ基を示す。
Ｒ５は、炭素原子数１〜２０のアルキル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数６〜３０のフェニル基またはベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数７〜３０のフェニルアルキル基を示す。
Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９は、それぞれ独立に、水素原子、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、Ｒ６１、ＯＲ６２、炭素原子数２〜２０のアルカノイル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のベンゾイル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のベンジルカルボニル基、炭素原子数２〜１２のアルコキシカルボニル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のフェノキシカルボニル基、炭素原子数１〜２０のアミド基を示す。
Ｒ０は、Ｒ６１、ＯＲ６２、シアノ基またはハロゲン原子を示す。ａは０または１〜３の整数である。
【請求項９】
基板表面を画素形成用の複数の区画に仕切る形に形成された隔壁であって、請求項１〜８のいずれか一項に記載のネガ型感光性樹脂組成物の硬化膜からなることを特徴とする隔壁。
【請求項１０】
基板表面に複数の画素と隣接する画素間に位置する隔壁とを有する光学素子であって、前記隔壁が請求項９に記載の隔壁で形成されていることを特徴とする光学素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ネガ型感光性樹脂組成物、これを用いた隔壁、ならびに、該隔壁を有する光学素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学素子である、カラーフィルタや有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）素子の画素部に用いられる隔壁は、感光性樹脂組成物を基板に塗布してフォトリソグラフィ技術により形成する方法が知られている。
【０００３】
近年、カラーフィルタや有機ＥＬ素子の画素部製造方法としてインクジェット法を利用した低コスト化プロセスが提案されている。
例えば、カラーフィルタの製造においては、隔壁をフォトリソグラフィにより形成した後に、隔壁で囲まれた開口部（ドット）にＲ（レッド）、Ｇ（グリーン）、Ｂ（ブルー）のインクをインクジェット法により噴射、塗布し、画素を形成する。
【０００４】
有機ＥＬ素子の製造においては、隔壁をフォトリソグラフィにより形成した後に、隔壁で囲まれた開口部（ドット）に正孔輸送材料、発光材料の溶液をインクジェット法により噴射、塗布し、正孔輸送層、発光層等を有する画素が形成される。
【０００５】
インクジェット法では、隣り合う画素間におけるインクの混色を防ぐ必要がある。したがって、隔壁には、インクジェットの吐出液である水や有機溶剤を含むインクをはじく性質、いわゆる撥インク性が要求されている。一方、インクジェット法で画素に形成されるインク層には、高い膜厚均一性を有することが要求されているため、隔壁で囲まれた開口部（ドット）は吐出液に対して良好な濡れ性、いわゆる親インク性を有することが要求される。
【０００６】
そこで、隔壁の表面を撥インク性とするために、隔壁形成に用いる感光性樹脂組成物に撥インク剤を添加する技術が開発されている。例えば、感光性樹脂組成物に表面自由エネルギーが小さい撥インク剤を添加し、塗膜の乾燥工程において溶媒が蒸発する過程で、撥インク剤がその他の固形分成分との間に働く斥力によって表面移行することを利用して、得られる隔壁表面への撥インク性の付与を図っている。この場合、撥インク剤の表面移行性が不足していると、撥インク剤が膜内部に残留するため隔壁側面の親インク性が不良になる問題や、現像工程で膜表面が溶解する際に撥インク剤が表面移行した層が薄いため全て除去され、隔壁表面の撥インク性が不良になる問題等がある。
【０００７】
特許文献１には、このような問題を解決した、表面自由エネルギーが充分に小さい撥インク剤が添加された隔壁形成に用いるネガ型感光性樹脂組成物の技術が記載されている。
【０００８】
感光性樹脂組成物の露光は露光機を用いて行うが、露光機より照射される波長は装置の仕様により異なる。一般的に、カラーフィルタ用に使用されるプロキシミティ露光方式では、３３０ｎｍ以下の光が照射される。これに対し、投影型のミラープロジェクション（ＭＰＡ）方式では、３３０ｎｍ以下の光が遮光されて照射される。ＭＰＡ方式は、シャープな隔壁形状を形成できる等、プロキシミティ露光方式に対する利点がある。最近では微細な隔壁の要求に対応するために、ＭＰＡ方式が採用される場合もある。したがって、レジスト組成物も、ＭＰＡ方式に対応できる組成が要求されている。さらに、生産性の点から露光量を低減することも要求されることがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】国際公開第２００８／１４６８５５号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明者らの知見によれば、３３０ｎｍ以下の光が遮光された光で露光した場合、酸素による表面硬化阻害が顕著なため、現像工程での膜表面の溶解が容易となり、従来の感光性樹脂組成物を用いた場合には、隔壁表面の撥インク性が不充分になる問題がある。感光性樹脂組成物中の撥インク剤の量を単純に増量する方法も考えられるが、隔壁内部にも撥インク剤が残留し、側壁まで撥インク化されることが考えられる。
【００１１】
本発明は、３３０ｎｍ以下の光が遮光された光で露光した場合においても、表面の撥インク性および側面の親インク性が良好な隔壁を形成できるネガ型感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。また本発明は、該感光性樹脂組成物を硬化することにより形成される、３３０ｎｍ以下の光が遮光された光で露光した場合においても、表面の撥インク性および側面の親インク性が良好な隔壁ならびに該隔壁を有する光学素子を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明は、以下［１］〜［１０］の構成を有するネガ型感光性樹脂組成物、隔壁、光学素子を提供する。
［１］アルカリ可溶性樹脂（Ａ）、光重合開始剤（Ｂ）、撥インク剤（Ｃ）および溶媒（Ｅ）を含むネガ型感光性樹脂組成物であって、前記撥インク剤（Ｃ）が、下式（１）で表される基または下式（２）で表される基を含む側鎖を有する重合体であり、前記溶媒（Ｅ）が、沸点が１６５℃以上、かつＦｅｄｏｒの溶解度パラメータが８．０〜８．５である溶媒（Ｅ１）を、前記溶媒（Ｅ）の全量に対して、１０〜１００質量％の割合で含むことを特徴とするネガ型感光性樹脂組成物。
−ＣＦＸＲｆ      （１）
式（１）中、Ｘは水素原子、フッ素原子またはトリフルオロメチル基を示し、Ｒｆはエーテル性酸素原子を有していてもよい水素原子の少なくとも１つがフッ素原子に置換された炭素原子数１〜２０のアルキル基、またはフッ素原子を示す。
−（ＳｉＲ１０Ｒ１１Ｏ）ｎ−ＳｉＲ１２Ｒ１３Ｒ１４      （２）
式（２）中、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２およびＲ１３はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、またはアリール基を示し、Ｒ１４は水素原子または炭素原子数１〜１０のエーテル性酸素原子または窒素原子を含んでいてもよいアルキル基を示し、ｎは１〜２００の整数を示す。
［２］前記撥インク剤（Ｃ）が、前記式（１）で表される基を含む側鎖を有し、フッ素原子含有量が５〜３５質量％である、［１］のネガ型感光性樹脂組成物。
［３］前記撥インク剤（Ｃ）が、さらにエチレン性二重結合を含む側鎖および酸性基を含む側鎖を有し、質量平均分子量（Ｍｗ）が１．２×１０４〜１５×１０４である、［１］または［２］のネガ型感光性樹脂組成物。
［４］前記溶媒（Ｅ１）が、下式（３）で表される化合物から選ばれる、［１］〜［３］のいずれかのネガ型感光性樹脂組成物。
Ｒ１Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｓＲ２      （３）
式（３）中、Ｒ１は炭素原子数が１〜１０のアルキル基、Ｒ２は炭素原子数が２〜１０のアルキル基を示し、ｓは１〜１０の整数を示す。
［５］前記溶媒（Ｅ１）が、ジエチレングリコールエチルメチルエーテルである、［１］〜［４］のいずれかのネガ型感光性樹脂組成物。
［６］前記溶媒（Ｅ）が、さらに、脂肪族環構造を有し、かつＦｅｄｏｒの溶解度パラメータが９．５以上である溶媒（Ｅ２）を、前記溶媒（Ｅ）の全量に対して、１０〜４０質量％の割合で含む、［１］〜［５］のいずれかのネガ型感光性樹脂組成物。
［７］さらに黒色着色剤（Ｄ)を含む、［１］〜［６］のいずれかのネガ型感光性樹脂組成物。
［８］前記光重合開始剤（Ｂ）が、下式（４）で表されるＯ−アシルオキシム化合物である、［１］〜［７］のいずれかのネガ型感光性樹脂組成物。
【化１】
2013050549.tif 000002
式（４）中、Ｒ３は、水素原子、Ｒ６１またはＯＲ６２を示し、該Ｒ６１およびＲ６２は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜２０のアルキル基、シクロアルカン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数３〜８のシクロアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数６〜３０のフェニル基またはベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数７〜３０のフェニルアルキル基を示す。
Ｒ４は、水素原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜８のシクロアルキル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数６〜３０のフェニル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数７〜３０のフェニルアルキル基、炭素原子数２〜２０のアルカノイル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のベンゾイル基、炭素原子数２〜１２のアルコキシカルボニル基またはベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のフェノキシカルボニル基、またはシアノ基を示す。
Ｒ５は、炭素原子数１〜２０のアルキル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数６〜３０のフェニル基またはベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数７〜３０のフェニルアルキル基を示す。
Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９は、それぞれ独立に、水素原子、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、Ｒ６１、ＯＲ６２、炭素原子数２〜２０のアルカノイル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のベンゾイル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のベンジルカルボニル基、炭素原子数２〜１２のアルコキシカルボニル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のフェノキシカルボニル基、炭素原子数１〜２０のアミド基を示す。
Ｒ０は、Ｒ６１、ＯＲ６２、シアノ基またはハロゲン原子を示す。ａは０または１〜３の整数である。
［９］基板表面を画素形成用の複数の区画に仕切る形に形成された隔壁であって、［１］〜［８］のいずれかのネガ型感光性樹脂組成物の硬化膜からなることを特徴とする隔壁。
［１０］基板表面に複数の画素と隣接する画素間に位置する隔壁とを有する光学素子であって、前記隔壁が［９］の隔壁で形成されていることを特徴とする光学素子。
【発明の効果】
【００１３】
本発明のネガ型感光性樹脂組成物によれば、３３０ｎｍ以下の光を遮光して露光した場合においても、表面の撥インク性および側面の親インク性が良好な隔壁を製造できる。本発明のネガ型感光性樹脂組成物があれば、表面の撥インク性および側面の親インク性が良好な隔壁ならび該隔壁を具備する光学素子が得られる。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本明細書におけるＦｅｄｏｒの溶解度パラメータとは、Ｒ.Ｆ.Ｆｅｄｏｒｓ、  Ｐｏｌｙｍ．Ｅｎｇ．Ｓｃｉ．、  １４、１４７、（１９７４）で提案されている推算式により算出された値である。単位は（ｃａｌ／ｃｍ３）１／２であり、２５℃における値を基準値として用いる。また、Ｆｅｄｏｒの溶解度パラメータを省略して「ＳＰ値」ということもある。
本明細書における「（メタ）アクリロイル…」とは、「メタクリロイル…」と「アクリロイル…」の総称である。（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリレート、（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリル樹脂もこれと同様である。
【００１５】
本明細書における式（１）で表される基を、基（１）という。他の基も同様である。
本明細書における式（１１）で表される単量体を、単量体（１１）という。他の単量体、化合物についても同様である。
本明細書における「側鎖」とは、繰り返し単位が主鎖を構成する重合体において、主鎖を構成する炭素原子に結合する、水素原子またはハロゲン原子以外の基である。
本明細書における「全固形分」とは、ネガ型感光性樹脂組成物が含有する成分のうち、隔壁形成成分をいい、ネガ型感光性樹脂組成物を１４０℃で２４時間加熱して溶媒を除去した、残存物である。具体的には、溶媒（Ｅ）等の隔壁形成過程における加熱等により揮発する揮発性成分以外の全成分を示す。なお、全固形分の量は仕込み量からも計算できる。
本明細書においては、ネガ型感光性樹脂組成物を塗布した膜を「塗膜」、それを乾燥させた状態を「膜」、さらに、それを硬化させて得られる膜を「硬化膜」という。
【００１６】
本明細書において、隔壁の「表面」は、隔壁の上面のみを示す用語として用いる。したがって、隔壁の「表面」には、隔壁の側面は含まれない。
本明細書における「インク」とは、乾燥硬化した後に、例えば光学的、電気的に機能を有する液状組成物を総称するものであり、従来から用いられている着色材料に限定されるものではない。また、上記インクを注入して形成される「画素」についても同様に、隔壁で仕切られた、光学的、電気的な機能を有する区分を表すものとして用いられる。
本明細書における「撥インク性」とは、上記インクをはじくために、撥水性と撥油性の両方を適度に有する性質をいい、例えば、後述の方法で評価できる。
【００１７】
また、ネガ型感光性樹脂組成物から得られる「膜」および「硬化膜」において、撥インク剤が表面移行して形成される、他の領域より撥インク剤が高濃度に存在する表面層を「撥インク剤層」という。撥インク剤層の厚さは、例えば、「膜」について表層エッチングと撥インク性の評価を組み合わせた後述の方法で測定できる。
【００１８】
以下、本発明の実施の形態を説明する。なお、本明細書において特に説明のない場合、％は質量％を表す。
【００１９】
［アルカリ可溶性樹脂（Ａ）］
本発明におけるアルカリ可溶性樹脂（Ａ）は、１分子中に酸性基とエチレン性二重結合とを有する感光性樹脂である。アルカリ可溶性樹脂（Ａ）が分子中にエチレン性二重結合を有することで、ネガ型感光性樹脂組成物の露光部は、光重合開始剤（Ｂ）から発生したラジカルにより重合して硬化する。このように硬化した露光部分はアルカリ現像液にて除去されない。また、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）が分子中に酸性基を有することで、アルカリ現像液にて、硬化していないネガ型感光性樹脂組成物の未露光部を選択的に除去することができる。その結果、隔壁を形成することができる。なお、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）は実質的に、後述の撥インク剤（Ｃ）が有する基（１）または基（２）を含有しないことが好ましい。
【００２０】
前記酸性基としては、特に制限されないが、カルボキシ基、フェノール性水酸基、スルホ基およびリン酸基等が挙げられ、これらは１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。
前記エチレン性二重結合としては、特に制限されないが、（メタ）アクリロイル基、アリル基、ビニル基、ビニルオキシ基およびビニルオキシアルキル基等の付加重合性を有する二重結合が挙げられ、これらは１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。なお、エチレン性二重結合基が有する水素原子の一部または全てが、アルキル基、好ましくはメチル基で置換されていてもよい。
【００２１】
アルカリ可溶性樹脂（Ａ）としては、特に限定されないが、酸性基を有する側鎖とエチレン性二重結合を有する側鎖とを有する樹脂（Ａ１−１）、エポキシ樹脂に酸性基とエチレン性二重結合とを導入した樹脂（Ａ１−２）、酸性基を有する側鎖とエチレン性二重結合を有する側鎖とを有する単量体（Ａ１−３）等が挙げられる。これらは１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【００２２】
樹脂（Ａ１−１）は、例えば、以下の（ｉ）または(ii）の方法で合成できる。
（ｉ）側鎖に酸性基以外の反応性基、例えば、水酸基、エポキシ基等の反応性基を有する単量体と、側鎖に酸性基を有する単量体とを共重合させ、反応性基を有する側鎖と、酸性基を有する側鎖を有する共重合体を得る。次いで、この共重合体と、上記反応性基に対して結合し得る官能基およびエチレン性二重結合を有する化合物を反応させる。または、側鎖に酸性基、例えばカルボキシ基等を有する単量体を共重合させた後、酸性基に対して結合し得る官能基およびエチレン性二重結合を有する化合物を反応後に酸性基が残る量、反応させる。
（ii）上記（ｉ）と同様の酸性基以外の反応性基を側鎖に有する単量体と、この反応性基に対して結合し得る官能基および保護されたエチレン性二重結合を有する化合物を反応させる。次いで、この単量体と側鎖に酸性基を有する単量体とを共重合させた後、エチレン性二重結合の保護を外す。または、側鎖に酸性基を有する単量体と、側鎖に保護されたエチレン性二重結合を有する単量体とを共重合させた後、エチレン性二重結合の保護を外す。
なお、（ｉ）または(ii）は溶媒中で実施することが好ましい。
本発明においては（ｉ）の方法が好ましく用いられる。以下、（ｉ）の方法について具体的に説明する。
【００２３】
反応性基として水酸基を有する単量体としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、５−ヒドロキシペンチル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、シクロヘキサンジオールモノビニルエーテル、２−ヒドロキシエチルアリルエーテル、Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ビス（ヒドロキシメチル）（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。
【００２４】
上述の（ｉ）において、反応性基として水酸基を有する単量体を用いる場合、共重合させる酸性基を有する単量体は、特に限定されない。後述のカルボキシ基を有する単量体の他に、リン酸基を有する単量体として、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルフォスフェート等が挙げられる。水酸基を反応性基として有する単量体と、酸性基を有する単量体との共重合は、従来公知の方法で行うことができる。
【００２５】
得られた共重合体と反応させる、水酸基に対して結合し得る官能基およびエチレン性二重結合を有する化合物としては、エチレン性二重結合を有する酸無水物、イソシアネート基とエチレン性二重結合とを有する化合物、塩化アシル基とエチレン性二重結合とを有する化合物等が挙げられる。
エチレン性二重結合を有する酸無水物としては、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸、メチル−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物、３，４，５，６−テトラヒドロフタル酸無水物、ｃｉｓ−１，２，３，６−テトラヒドロフタル酸無水物、２−ブテン−１−イルサクシニックアンハイドライド等が挙げられる。
イソシアネート基とエチレン性二重結合とを有する化合物としては、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート、１，１−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネート等が挙げられる。
塩化アシル基とエチレン性二重結合とを有する化合物としては、（メタ）アクリロイルクロライド等が挙げられる。
【００２６】
反応性基としてエポキシ基を有する単量体としては、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート等が挙げられる。
反応性基としてエポキシ基を有する単量体と共重合させる酸性基を有する単量体としては、上記水酸基を反応性基として有する単量体で説明したのと同様の単量体が使用でき、エポキシ基を反応性基として有する単量体と酸性基を有する単量体の共重合についても、従来公知の方法で行うことができる。
【００２７】
得られた共重合体と反応させる、エポキシ基に対して結合し得る官能基およびエチレン性二重結合を有する化合物として、カルボキシ基とエチレン性二重結合を有する化合物が挙げられる。該化合物の具体例としては、アクリル酸、メタクリル酸、ビニル酢酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、ケイ皮酸およびこれらの塩等が挙げられる。なお、ここで生じた水酸基とカルボン酸の脱水縮合部分が環状構造の一部をなす酸無水物とを反応させ、樹脂（Ａ１−１）中にカルボキシ基を導入してもよい。
【００２８】
反応性基としてカルボキシ基を有する単量体としては、アクリル酸、メタクリル酸、ビニル酢酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、ケイ皮酸およびこれらの塩等が挙げられる。なお、これらの単量体は上述した酸性基を有する単量体としても用いられる。
【００２９】
反応性基としてカルボキシ基を有する単量体を用いる場合、上記の通り該単量体を重合させる。得られた重合体と反応させる、カルボキシ基に対して結合し得る官能基およびエチレン性二重結合を有する化合物として、エポキシ基とエチレン性二重結合を有する化合物が挙げられる。該化合物としては、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート等が挙げられる。なお、この場合、カルボキシ基を有する重合体と反応させる、カルボキシ基に対して結合し得る官能基およびエチレン性二重結合を有する化合物の量は、反応後に重合体においてカルボキシ基が酸性基として側鎖に残る量とする。
【００３０】
樹脂（Ａ１−２）は、エポキシ樹脂と、後述するカルボキシ基とエチレン性二重結合とを有する化合物とを反応させた後に、多価カルボン酸またはその無水物とを反応させることにより合成することができる。
具体的には、エポキシ樹脂と、カルボキシ基とエチレン性二重結合を有する化合物とを反応させることにより、エポキシ樹脂にエチレン性二重結合が導入される。次に、エチレン性二重結合が導入されたエポキシ樹脂に多価カルボン酸またはその無水物を反応させることにより、カルボキシ基を導入することができる。
【００３１】
エポキシ樹脂としては、特に限定されないが、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂、ナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂、下式（Ａ１−２ａ）で表されるビフェニル骨格を有するエポキシ樹脂、下式（Ａ１−２ｂ）で表されるエポキシ樹脂、下式（Ａ１−２ｃ）で表されるビフェニル骨格を有するエポキシ樹脂等が挙げられる。
【００３２】
【化２】
2013050549.tif 000003
（式（Ａ１−２ａ）中、ｖは、１〜５０の整数であり、２〜１０の整数が好ましい。またベンゼン環の水素原子はそれぞれ独立に、炭素原子数１〜１２のアルキル基、ハロゲン原子、または、一部の水素原子が置換基で置換されていてもよいフェニル基、で置換されていてもよい。）
【００３３】
【化３】
2013050549.tif 000004
（式（Ａ１−２ｂ）中、Ｒ３１、Ｒ３２、Ｒ３３およびＲ３４は、それぞれ独立に、水素原子、塩素原子または炭素原子数が１〜５のアルキル基であり、ｗは、０または１〜１０の整数である。）
【００３４】
【化４】
2013050549.tif 000005
（式（Ａ１−２ｃ）中、ベンゼン環の水素原子はそれぞれ独立に炭素原子数１〜１２のアルキル基、ハロゲン原子、または、一部の水素原子が置換基で置換されていてもよいフェニル基、で置換されていてもよい。ｕは、０または１〜１０の整数である。）
【００３５】
なお、式（Ａ１−２ａ）〜（Ａ１−２ｃ）で表されるエポキシ樹脂と、カルボキシ基とエチレン性二重結合を有する化合物とを反応させた後に、多価カルボン酸無水物を反応させる場合、多価カルボン酸無水物として、ジカルボン酸無水物およびテトラカルボン酸二無水物の混合物を用いることが好ましい。ジカルボン酸無水物とテトラカルボン酸二無水物の比率を変化させることにより、分子量を制御することができる。
【００３６】
カルボキシ基とエチレン性二重結合とを有する化合物としては、アクリル酸、メタクリル酸、ビニル酢酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、ケイ皮酸およびこれらの塩等が好ましく、アクリル酸またはメタクリル酸が特に好ましい。
【００３７】
樹脂（Ａ１−２）は、市販品を使用することができる。市販品としては、いずれも商品名で、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＰＣＲ−１０６９、Ｋ−４８Ｃ、ＣＣＲ−１１０５、ＣＣＲ−１１１５、ＣＣＲ−１１５９Ｈ、ＣＣＲ−１２３５、ＴＣＲ−１０２５、ＴＣＲ−１０６４Ｈ、ＴＣＲ−１２８６Ｈ、ＺＡＲ−１５３５Ｈ、ＺＡＲ−２００１Ｈ、ＺＡＲ−２００２、ＺＦＲ−１４９１Ｈ、ＺＦＲ−１４９２Ｈ、ＺＣＲ−１５７１Ｈ、ＺＣＲ−１５６９Ｈ、ＺＣＲ−１５８０Ｈ、ＺＣＲ−１５８１Ｈ、ＺＣＲ−１５８８Ｈ、ＺＣＲ−１６４２Ｈ、ＺＣＲ−１６６４Ｈ（以上、日本化薬社製）、ＥＸ１０１０（ナガセケムテックス社製）等が挙げられる。
【００３８】
単量体（Ａ１−３）としては、２，２，２−トリアクリロイルオキシメチルエチルフタル酸（ＮＫエステル  ＣＢＸ−１  新中村化学工業社製）等が挙げられる。
【００３９】
アルカリ可溶性樹脂（Ａ）としては、現像時の硬化膜の剥離が抑制されて、高解像度のパターンを得ることができる点、ラインの直線性が良好である点、ポストベーク工程後の外観が維持され、平滑な硬化膜表面が得られやすい点で、樹脂（Ａ１−２）を用いることが好ましい。
樹脂（Ａ１−２）としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂に酸性基とエチレン性二重結合とを導入した樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂に酸性基とエチレン性二重結合とを導入した樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂に酸性基とエチレン性二重結合とを導入した樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂に酸性基とエチレン性二重結合とを導入した樹脂、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂に酸性基とエチレン性二重結合とを導入した樹脂、式（Ａ１−２ａ）〜（Ａ１−２ｃ）で表されるエポキシ樹脂に酸性基とエチレン性二重結合とを導入した樹脂が特に好ましい。
【００４０】
アルカリ可溶性樹脂（Ａ）が１分子中に有するエチレン性二重結合の数は、平均３個以上が好ましく、６個以上が特に好ましい。エチレン性二重結合の数が上記範囲の下限値以上であると、露光部分が硬化性に優れ、より少ない露光量での微細なパターン形成が可能となる。
【００４１】
アルカリ可溶性樹脂（Ａ）の質量平均分子量（Ｍｗ）は、１．５×１０３〜３０×１０３が好ましく、２×１０３〜２０×１０３が特に好ましい。また、数平均分子量（Ｍｎ）は、５００〜２０×１０３が好ましく、１×１０３〜１０×１０３が特に好ましい。質量平均分子量（Ｍｗ）および数平均分子量（Ｍｎ）が上記範囲の下限値以上であると、露光時の硬化性に優れ、上記範囲の上限値以下であると、現像性が良好である。
アルカリ可溶性樹脂（Ａ）の酸価は、１０〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、３０〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇが特に好ましい。酸価が上記範囲であると、ネガ型感光性樹脂組成物の現像性が良好になる。
【００４２】
ネガ型感光性樹脂組成物に含まれるアルカリ可溶性樹脂（Ａ）は、１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。
ネガ型感光性樹脂組成物における全固形分中のアルカリ可溶性樹脂（Ａ）の含有割合は、５〜８０質量％が好ましく、１０〜６０質量％が特に好ましい。含有割合が上記範囲であると、ネガ型感光性樹脂組成物の現像性が良好である。
【００４３】
［光重合開始剤（Ｂ）］
本発明における光重合開始剤（Ｂ）としては、光によりラジカルを発生する化合物が特に制限なく用いられる。このような化合物として、具体的には、Ｏ−アシルオキシム化合物が挙げられる。例えば、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ社製：１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］に相当する。）、アデカオプトマー  Ｎ−１９１９、アデカクルーズ  ＮＣＩ−８３１、ＮＣＩ−９３０（以上、ＡＤＥＫＡ社製）等が挙げられる。該Ｏ−アシルオキシム化合物のなかでも、少ない露光量においても良好な形状の隔壁を製造できる下式（４）で表される化合物が好ましい。以下、式（４）で表される化合物を光重合開始剤（４）という。光重合開始剤（Ｂ）は、光重合開始剤（４）の１種または２種以上を含むことが好ましく、光重合開始剤（４）のみで構成されることが特に好ましい。
【００４４】
【化５】
2013050549.tif 000006
式（４）中、Ｒ３は、水素原子、Ｒ６１またはＯＲ６２を示し、該Ｒ６１およびＲ６２は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜２０のアルキル基、シクロアルカン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数３〜８のシクロアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数６〜３０のフェニル基またはベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数７〜３０のフェニルアルキル基を示す。
Ｒ４は、水素原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜８のシクロアルキル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数６〜３０のフェニル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数７〜３０のフェニルアルキル基、炭素原子数２〜２０のアルカノイル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のベンゾイル基、炭素原子数２〜１２のアルコキシカルボニル基またはベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のフェノキシカルボニル基、またはシアノ基を示す。
Ｒ５は、炭素原子数１〜２０のアルキル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数６〜３０のフェニル基またはベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数７〜３０のフェニルアルキル基を示す。
Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９は、それぞれ独立に、水素原子、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、Ｒ６１、ＯＲ６２、炭素原子数２〜２０のアルカノイル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のベンゾイル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のベンジルカルボニル基、炭素原子数２〜１２のアルコキシカルボニル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のフェノキシカルボニル基、炭素原子数１〜２０のアミド基を示す。
Ｒ０は、Ｒ６１、ＯＲ６２、シアノ基またはハロゲン原子を示す。ａは０または１〜３の整数である。
【００４５】
光重合開始剤（４）のなかでも、以下の態様である化合物が好ましい。
式（４）中、Ｒ３は、水素原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数３〜８のシクロアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数６〜２０のフェニル基またはベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数６〜２０のフェノキシ基を示す。
Ｒ４は、水素原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜８のシクロアルキル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数６〜２０のフェニル基、炭素原子数２〜２０のアルカノイル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のベンゾイル基、炭素原子数２〜１２のアルコキシカルボニル基またはベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のフェノキシカルボニル基を示す。
Ｒ５は、炭素原子数１〜１２のアルキル基を示す。
Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基、シクロアルカン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数３〜８のシクロアルキル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数６〜２０のフェニル基、炭素原子数２〜２０のアルカノイル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のベンゾイル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のベンジルカルボニル基、炭素原子数２〜１２のアルコキシカルボニル基、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のフェノキシカルボニル基、炭素原子数１〜２０のアミド基またはニトロ基を示す。
Ｒ０の個数を示すａは０である。
光重合開始剤（４）として、国際公開第２００８／０７８６７８号に記載のＮｏ．１〜７１も使用できる。
【００４６】
光重合開始剤（４）のなかでも、以下の態様である化合物が特に好ましい。
Ｒ３としては、炭素原子数１〜１０のアルキル基、または、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数６〜１２のフェニル基が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、フェニル基等が挙げられる。炭素原子数１〜４のアルキル基がより好ましく、炭素原子数１〜２のアルキル基がさらに好ましく、メチル基が特に好ましい。
Ｒ４としては、炭素原子数１〜１０のアルキル基、または、炭素原子数２〜５のアルコキシカルボニル基が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基等が挙げられる。炭素原子数１〜６のアルキル基がより好ましく、炭素原子数１〜３のアルキル基がさらに好ましく、メチル基が特に好ましい。
【００４７】
Ｒ５としては、炭素原子数１〜８のアルキル基が好ましく、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、等が挙げられる。炭素原子数２〜６のアルキル基がより好ましく、エチル基が特に好ましい。
Ｒ６、Ｒ８およびＲ９としては、水素原子またはニトロ基が好ましい。
Ｒ７としては、ベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のベンゾイル基またはベンゼン環中の水素原子がアルキル基に置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のベンジルカルボニル基またはニトロ基が好ましく、ベンゾイル基、２−メチルベンゾイル基、２−メチル−４−テトラヒドロピラニルメトキシベンゾイル基、２−メチル−５−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル基、２−メチル−５−テトラヒドロピラニルメトキシベンゾイル基、ベンジルカルボニル基、１，３，５トリメチルベンジルカルボニル基、ニトロ基が特に好ましい。
Ｒ０の個数を示すａは０である。
【００４８】
光重合開始剤（４）の具体例としては、式（４）において、Ｒ３〜Ｒ９がそれぞれ以下の基であり、Ｒ０の個数を示すａは０である化合物（４−１）〜（４−１０）等を挙げることができる。
Ｒ３：フェニル基、Ｒ４：オクチル基、Ｒ５：エチル基、Ｒ６、Ｒ８、Ｒ９：水素原子、Ｒ７：ベンゾイル基である化合物（４−１）、
Ｒ３：メチル基、Ｒ４：オクチル基、Ｒ５：エチル基、Ｒ６、Ｒ８、Ｒ９：水素原子、Ｒ７：ベンゾイル基である化合物（４−２）、
Ｒ３：メチル基、Ｒ４：ブチル基、Ｒ５：エチル基、Ｒ６、Ｒ８、Ｒ９：水素原子、Ｒ７：ベンゾイル基である化合物（４−３）、
Ｒ３：メチル基、Ｒ４：ヘプチル基、Ｒ５：エチル基、Ｒ６、Ｒ８、Ｒ９：水素原子、Ｒ７：ベンゾイル基である化合物（４−４）、
Ｒ３：フェニル基、Ｒ４：オクチル基、Ｒ５：エチル基、Ｒ６、Ｒ８、Ｒ９：水素原子、Ｒ７：２−メチルベンゾイル基である化合物（４−５）、
Ｒ３：メチル基、Ｒ４：オクチル基、Ｒ５：エチル基、Ｒ６、Ｒ８、Ｒ９：水素原子、Ｒ７：２−メチルベンゾイル基である化合物（４−６）、
Ｒ３：メチル基、Ｒ４：メチル基、Ｒ５：エチル基、Ｒ６、Ｒ８、Ｒ９：水素原子、Ｒ７：２−メチルベンゾイル基である化合物（４−７）、
Ｒ３：メチル基、Ｒ４：メチル基、Ｒ５：エチル基、Ｒ６、Ｒ８、Ｒ９：水素原子、Ｒ７：２−メチル−４−テトラヒドロピラニルメトキシベンゾイル基である化合物（４−８）、
Ｒ３：メチル基、Ｒ４：メチル基、Ｒ５：エチル基、Ｒ６、Ｒ８、Ｒ９：水素原子、Ｒ７：２−メチル−５−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル基である化合物（４−９）、
Ｒ３：メチル基、Ｒ４：メチル基、Ｒ５：エチル基、Ｒ６、Ｒ８、Ｒ９：水素原子、Ｒ７：２−メチル−５−テトラヒドロピラニルメトキシベンゾイル基である化合物（４−１０）
【００４９】
光重合開始剤（４）は市販品を使用することができる。市販品としては、いずれも商品名で、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ社製：上記化合物（４−７）に相当する。）等が挙げられる。
【００５０】
ネガ型感光性樹脂組成物における全固形分中の光重合開始剤（Ｂ）の割合は１〜１５質量％が好ましく、２〜１０質量％がより好ましく、３〜６質量％が特に好ましい。また、光重合開始剤（Ｂ）における光重合開始剤（４）の割合は、５０〜１００質量％が好ましく、７５〜１００質量％がより好ましく、１００質量％が特に好ましい。全固形分中の光重合開始剤（Ｂ）の割合および光重合開始剤（Ｂ）中の光重合開始剤（４）の割合が上記範囲であると、ネガ型感光性樹脂組成物の硬化性が良好で、塗膜形成後、露光工程および現像工程を経て得られる隔壁やブラックマトリックスにおいてラインパターンや線幅を露光時のマスクパターンに近い形状に形成することができる。また、全固形分中の光重合開始剤（Ｂ）の割合および光重合開始剤（Ｂ）中の光重合開始剤（４）の割合が上記範囲であると、本発明のネガ型感光性樹脂組成物は、充分な撥インク性に優れた硬化膜を与える。
【００５１】
本発明のネガ型感光性樹脂組成物において光重合開始剤（Ｂ）が、光重合開始剤（４）とともに含有してもよい光重合開始剤としては、以下の光重合開始剤が挙げられる。
【００５２】
光重合開始剤（４）と併用してもよい光重合開始剤としては、メチルフェニルグリオキシレート、９，１０−フェナンスレンキノン等のα−ジケトン類；ベンゾイン等のアシロイン類；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のアシロインエーテル類；チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン、チオキサントン−４−スルホン酸等のチオキサントン類；ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン類；アセトフェノン、２−（４−トルエンスルホニルオキシ）−２−フェニルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、２，２’−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、ｐ−メトキシアセトフェノン、２−メチル−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン等のアセトフェノン類；アントラキノン、２−エチルアントラキノン、カンファーキノン、１，４−ナフトキノン等のキノン類；２−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸（ｎ−ブトキシ）エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル等のアミノ安息香酸類；フェナシルクロライド、トリハロメチルフェニルスルホン等のハロゲン化合物；アシルホスフィンオキシド類；ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド等の過酸化物；１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）等の光重合開始剤（４）以外のＯ−アシルオキシム類、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、ｎ−ブチルアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、ジエチルアミノエチルメタクリレート等の脂肪族アミン類；２−メルカプトベンズイミダゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、１，４−ブタノールビス（３−メルカプトブチレート）、トリス（２−メルカプトプロパノイルオキシエチル）イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）等のチオール化合物等が挙げられる。
【００５３】
［撥インク剤（Ｃ）］
本発明における撥インク剤（Ｃ）は、本発明のネガ型感光性樹脂組成物に含有され、膜の表面に偏在し、硬化膜表面に撥インク性の機能を与える重合体であって、下式（１）で表される基（以下、「基（１）ともいう。）または下式（２）（以下、基（２）ともいう。）で表される基を含む側鎖を有する重合体である。
【００５４】
−ＣＦＸＲｆ  （１）
式（１）中、Ｘは水素原子、フッ素原子、またはトリフルオロメチル基を示し、Ｒｆはエーテル性酸素原子を有していてもよい水素原子の少なくとも１つがフッ素原子に置換された炭素原子数１〜２０のアルキル基、またはフッ素原子を示す。
【００５５】
−（ＳｉＲ１０Ｒ１１Ｏ）ｎ−ＳｉＲ１２Ｒ１３Ｒ１４  （２）
式（２）中、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２およびＲ１３はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、またはアリール基を示し、Ｒ１４は水素原子または炭素原子数１〜１０のエーテル性酸素原子または窒素原子を含んでいてもよいアルキル基を示し、ｎは１〜２００の整数を示す。
【００５６】
撥インク剤（Ｃ）は、基（１）を含む側鎖を有する重合体、基（２）を含む側鎖を有する重合体、および、基（１）を含む側鎖および基（２）を含む側鎖を有する重合体であってもよく、これらから選ばれる重合体の２種以上からなってもよい。
【００５７】
撥インク剤（Ｃ）は、基（１）または基（２）を含む側鎖を有することで、表面自由エネルギーが小さく、充分な表面移行性を有する。すなわち、上記アルカリ可溶性樹脂（Ａ）、光重合開始剤（Ｂ）、撥インク剤（Ｃ）さらに後述する溶媒（Ｅ）を含有する本発明のネガ型感光性樹脂組成物においては、塗膜を形成する際にはこれらが充分に相溶して均一な組成物として形成されるが、該組成物の塗膜の乾燥工程において溶媒（Ｅ）が蒸発する過程で、撥インク剤（Ｃ）とその他の固形分成分との間に充分な斥力をもたらし、撥インク剤（Ｃ）が膜表面近傍に移行し撥インク剤層が形成される。
【００５８】
この撥インク剤層は、露光後の現像工程を経ても充分に残存し、よって、該組成物の硬化膜からなる隔壁はその表面に適度な厚さの撥インク剤層を有することで撥インク性を発現する。また、インクジェット法で注入されるインクはドット（画素となる箇所）からあふれ出ることがなく、隣接画素間での混色が起きにくい。
【００５９】
ここで、上述のように、露光量を低減したり、３３０ｎｍ以下の露光光線を遮光したりして露光した場合には、現像により撥インク剤層がある程度の厚さまで除去される。本発明のネガ型感光性樹脂組成物においては、上記撥インク剤（Ｃ）が有する優れた表面移行性を充分に発揮させうる溶媒（Ｅ）を後述のように選択することにより、不充分な露光条件によって現像で除去される撥インク剤層が厚い場合でも、現像後に充分な厚さの撥インク剤層が残るように形成されるようにしたものである。
【００６０】
基（１）または基（２）を有する側鎖は、重合反応によって直接形成しても、重合反応後の化学変換によって形成してもよい。
【００６１】
基（１）中のＲｆが、エーテル性酸素原子を有していてもよい水素原子の少なくとも１つがフッ素原子に置換された炭素原子数１〜２０のアルキル基である場合、前記アルキル基中の水素原子はフッ素原子以外の他のハロゲン原子に置換されていてもよく、他のハロゲン原子としては、塩素原子が好ましい。また、エーテル性酸素原子は、該アルキル基の炭素−炭素結合間に存在してもよく、該アルキル基の末端に存在してもよい。また該アルキル基の構造は、直鎖構造、分岐構造、環構造、または部分的に環を有する構造が挙げられ、直鎖構造が好ましい。
【００６２】
基（１）としては、ペルフルオロアルキル基または水素原子１個を含むポリフルオロアルキル基であることが好ましく、ペルフルオロアルキル基が特に好ましい（ただし、前記アルキル基は、エーテル性酸素原子を有するものを含む。）。ネガ型感光性樹脂組成物から形成される隔壁は、充分な厚さの撥インク剤層を有するとともに、撥インク性が良好であるため好ましい。また、基（１）の全炭素原子数は４〜６が好ましい。これにより隔壁に充分な撥インク性が付与されるとともに、撥インク剤（Ｃ）とネガ型感光性樹脂組成物を構成する他の成分との相溶性が良好であり、ネガ型感光性樹脂組成物を塗布し塗膜を形成する際に撥インク剤（Ｃ）同士が凝集することがなく、外観の良好な隔壁が形成できる。基（１）としては、全炭素原子数が４〜６のペルフルオロアルキル基が特に好ましい。
【００６３】
基（１）の具体例としては、以下が挙げられる。
−ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＨＦ２、−（ＣＦ２）２ＣＦ３、−（ＣＦ２）３ＣＦ３、−（ＣＦ２）４ＣＦ３、−（ＣＦ２）５ＣＦ３、−（ＣＦ２）６ＣＦ３、−（ＣＦ２）７ＣＦ３、−（ＣＦ２）８ＣＦ３、−（ＣＦ２）９ＣＦ３、−（ＣＦ２）１１ＣＦ３、−（ＣＦ２）１５ＣＦ３、
−ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２）５ＣＦ３、
−ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｐＣＦ３（ｐは１〜８の整数）、
−ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｑＣ６Ｆ１３（ｑは１〜４の整数）、
−ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｒＣ３Ｆ７（ｒは１〜５の整数）。
【００６４】
基（２）中のＲ１０およびＲ１１はシロキサン単位毎に同一でも異なっていてもよい。ネガ型感光性樹脂組成物から形成される隔壁が優れた撥インク性を示すことから、Ｒ１０およびＲ１１は水素原子、炭素原子数１〜１０のアルキル基、シクロアルキル基、またはアリール基であることが好ましく、水素原子、メチル基、またはフェニル基であることがより好ましく、全てのシロキサン単位のＲ１０およびＲ１１がメチル基であることが特に好ましい。
基（２）において、Ｒ１２、Ｒ１３およびＲ１４はシロキサン結合の末端のケイ素原子に結合する基であり、Ｒ１２およびＲ１３としては、Ｒ１０およびＲ１１と同様とすることができ、好ましい態様も同様である。また、Ｒ１４が炭素原子数１〜１０のエーテル性酸素原子（−Ｏ−）または窒素原子（−ＮＲ４０−。Ｒ４０は水素原子または炭素原子数が１〜５のアルキル基である。）を含んでいてもよいアルキル基である場合、炭素原子数１〜５のアルキル基、エーテル性酸素原子を１個含む炭素原子数１〜５のアルキル基等が好ましい。Ｒ１４は水素原子または炭素原子数１〜５のアルキル基であることが特に好ましい。ｎは１〜２００の整数が好ましく、２〜１００の整数が特に好ましい。
【００６５】
基（２）の具体例としては、以下が挙げられる。
−（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎ−Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｈ、−（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎ−Ｓｉ（ＣＨ３）２ＣＨ３、−（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎ−Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｃ２Ｈ５、−（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎ−Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｃ３Ｈ７、−（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎ−Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｃ４Ｈ９、−（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎ−Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｃ５Ｈ１０、−（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎ−Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＨ、−（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎ−Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＣＨ３、−（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎ−Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＣ２Ｈ５、−（Ｓｉ（Ｃ２Ｈ５）２Ｏ）ｎ−Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｈ、−（Ｓｉ（Ｃ２Ｈ５）２Ｏ）ｎ−Ｓｉ（Ｃ２Ｈ５）２Ｈ、−（Ｓｉ（Ｃ２Ｈ５）２Ｏ）ｎ−Ｓｉ（Ｃ２Ｈ５）２Ｈ、−（Ｓｉ（Ｃ２Ｈ５）２Ｏ）ｎ−Ｓｉ（Ｃ２Ｈ５）３、−（Ｓｉ（Ｃ２Ｈ５）（ＣＨ３）Ｏ）ｎ−Ｓｉ（Ｃ２Ｈ５）２Ｈ。
【００６６】
撥インク剤（Ｃ）は、基（１）または基（２）を含む側鎖に加えて、さらにエチレン性二重結合を有する側鎖を有する重合体であることが好ましい。エチレン性二重結合を有する側鎖は重合反応後の化学変換によって形成できる。
撥インク剤（Ｃ）がエチレン性二重結合を含む側鎖を有する場合には、露光時に撥インク剤（Ｃ）の硬化反応が生じ、隔壁表面に固定化されやすい。ポストベーク時に未反応の残存分子がドットにマイグレートしてドットを汚染することが生じにくい。
【００６７】
エチレン性二重結合としては、（メタ）アクリロイル基、アリル基、ビニル基、ビニルオキシ基、ビニルオキシアルキル基等の付加重合性を有する二重結合が挙げられ、これらは１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。なお、該付加重合性基が有する水素原子の一部または全てが、アルキル基、好ましくはメチル基で置換されていてもよい。
【００６８】
撥インク剤（Ｃ）は、さらに酸性基を有する側鎖を有する重合体であることが好ましい。露光工程で硬化反応しなかった撥インク剤（Ｃ）の一部の分子は、それらが酸性基を有する側鎖を有することにより、現像時に隔壁表面から洗い流され、隔壁内には固定化されなかった残存分子が残りにくい。ポストベーク工程の前段階でドットにマイグレートする可能性のある分子をより減らすことができ、ドットの親インク性をより向上できる。
【００６９】
上記酸性基としては、カルボキシ基、フェノール性水酸基およびスルホ基等が挙げられ、これらは１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。
酸性基を有する側鎖は、酸性基を有する単量体の重合反応によって形成してもよいし、重合反応後の化学変換によって形成してもよい。
【００７０】
本発明に用いる、基（１）または基（２）を含む側鎖を有する撥インク剤（Ｃ）は、後述する単量体（ａ１）および／または単量体（ａ２）を含む原料組成物を従来公知の方法で重合させることで製造できる。
本発明に用いる、基（１）または基（２）を含む側鎖とエチレン性二重結合を有する側鎖とを有する撥インク剤（Ｃ）は、後述する単量体（ａ１）および／または単量体（ａ２）と反応性基を有する単量体（ａ３）とを含む２種以上の単量体を共重合し、次いで、得られた共重合体と前記反応性基と結合し得る官能基とエチレン性二重結合とを有する化合物（ｚ１）とを反応させることにより製造できる。
【００７１】
本発明に用いる、基（１）または基（２）を含む側鎖と酸性基を有する側鎖とを有する撥インク剤（Ｃ）は、後述する単量体（ａ１）および／または単量体（ａ２）、酸性基を有する単量体（ａ４）を共重合させることにより製造できる。
本発明に用いる、基（１）または基（２）を含む側鎖と、エチレン性二重結合を有する側鎖と、酸性基を有する側鎖とを有する撥インク剤（Ｃ）は、後述する単量体（ａ１）および／または単量体（ａ２）、単量体（ａ３）および単量体（ａ４）を共重合し、次いで、得られた共重合体と化合物（ｚ１）とを反応させることにより製造できる。
【００７２】
単量体（ａ１）は基（１）を有する単量体であり、下式（１１）で表される単量体（１１）が好ましい。
ＣＨ２＝ＣＲ２１ＣＯＯ−Ｙ−ＣＦＸＲｆ  （１１）
式（１１）中、Ｒ２１は水素原子、メチル基、またはトリフルオロメチル基を示し、Ｙは炭素原子数１〜６のフッ素原子を含まない２価の有機基を示し、Ｒｆはエーテル性酸素原子を有していてもよい炭素原子数１〜２０の水素原子の少なくとも１つがフッ素原子に置換されたアルキル基、またはフッ素原子を示す。
単量体（１１）において、−ＣＦＸＲｆの好ましい態様は、基（１）の好ましい態様と同様である。単量体（１１）において、Ｙは、入手の容易さから、炭素原子数２〜４のアルキレン基であることが好ましい。
【００７３】
単量体（１１）の例としては、以下が挙げられる。
ＣＨ２＝ＣＲ２１ＣＯＯＲ２２ＣＦＸＲｆ
ＣＨ２＝ＣＲ２１ＣＯＯＲ２２ＮＲ２３ＳＯ２ＣＦＸＲｆ
ＣＨ２＝ＣＲ２１ＣＯＯＲ２２ＮＲ２３ＣＯＣＦＸＲｆ
ＣＨ２＝ＣＲ２１ＣＯＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）Ｒ２４ＣＦＸＲｆ
ここで、Ｒ２１は水素原子、メチル基、またはトリフルオロメチル基を示し、Ｒ２２は炭素原子数１〜６のアルキレン基を示し、Ｒ２３は水素原子またはメチル基を示し、Ｒ２４は単結合または炭素原子数１〜４のアルキレン基を示し、Ｒｆは上記と同じ意味を示す。
【００７４】
Ｒ２２の具体例としては、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−、
−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）−、
−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）−、−ＣＨ２（ＣＨ２）３ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）２）−、等が挙げられる。
【００７５】
Ｒ２４の具体例としては、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）−、等が挙げられる。
【００７６】
単量体（１１）の具体例としては、２−（ペルフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（ペルフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。単量体（１１）は１種を用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００７７】
単量体（ａ２）は基（２）を有する単量体であり、下式（２１）で表される単量体（２１）が好ましい。
ＣＨ２＝ＣＲ２５ＣＯＯ−Ｚ−（ＳｉＲ１０Ｒ１１Ｏ）ｎ−ＳｉＲ１２Ｒ１３Ｒ１４  （２１）
式（２１）中、Ｒ２５は水素原子またはメチル基を示し、Ｚは炭素原子数１〜６の２価の有機基を示し、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２およびＲ１３はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、またはアリール基を示し、Ｒ１４は水素原子または炭素原子数１〜１０のエーテル性酸素原子または窒素原子（−ＮＲ４１−。Ｒ４１は水素原子または炭素原子数が１〜５のアルキル基である。）を含んでいてもよいアルキル基を示し、ｎは１〜２００の整数を示す。
単量体（２１）において、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、ｎの好ましい態様は、基（２）の好ましい態様と同様である。
【００７８】
Ｚは炭素原子数１〜６の２価のアルキル基が好ましい。具体例としては下記が挙げられる。
−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−、
−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）−、
−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）−、
−ＣＨ２（ＣＨ２）３ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）２）−等。
上記単量体（２１）は１種を用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００７９】
単量体（ａ３）は反応性基を有する単量体であり、水酸基を有する単量体、酸無水物基を有する単量体、カルボキシ基を有する単量体、エポキシ基を有する単量体等が挙げられる。反応性基としてはすなわち、水酸基、酸無水物基、カルボキシ基、エポキシ基が挙げられる。なお、単量体（ａ３）は、基（１）および基（２）を実質的に含まないことが好ましい。
【００８０】
水酸基を有する単量体の具体例としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、５−ヒドロキシペンチル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、シクロヘキサンジオールモノビニルエーテル、２−ヒドロキシエチルアリルエーテル、Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ビス（ヒドロキシメチル）（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。
【００８１】
さらに、水酸基を有する単量体としては、末端が水酸基であるポリオキシアルキレン鎖を有する単量体であってもよい。例えば、ＣＨ２＝ＣＨＯＣＨ２Ｃ６Ｈ１０ＣＨ２Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｈＨ（ここで、ｈは１〜１００の整数、以下同じ。）、ＣＨ２＝ＣＨＯＣ４Ｈ８Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｈＨ、ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣ２Ｈ４Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｈＨ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ２Ｈ４Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｈＨ、ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣ２Ｈ４Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｉ（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｇＨ（ここで、ｉは０〜１００の整数であり、ｇは１〜１００の整数であり、ｍ＋ｊは１〜１００である。以下同じ。）、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ２Ｈ４Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｉ（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｇＨ等が挙げられる。
【００８２】
水酸基を有する単量体としては、市販品を用いることができる。市販品としては、以下のものが挙げられる。
ニューフロンティアＮＦバイソマーＰＥＭ６Ｅ（商品名、第一工業製薬社製、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｋＨ：式中、ｋは約６である。）、
ブレンマーＡＥ−４００（商品名、日本油脂社製、ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｋＨ：式中、ｋは約１０である。）、
ブレンマー７０ＰＥＰ−３５０Ｂ（商品名、日本油脂社製、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｍ（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｊＨ：式中、ｍは約５、ｊは約２である。）、
ブレンマー５５ＰＥＴ−８００（商品名、日本油脂社製、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｍ（Ｃ４Ｈ８Ｏ）ｊＨ：式中、ｍは約１０、ｊは約５である。）、
ブレンマーＰＰ−８００（商品名、日本油脂社製、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｋＨ：式中、ｋは約１３である。）、
ブレンマーＡＰ−８００（商品名、日本油脂社製、ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｋＨ：式中、ｋは約１３である。）。
【００８３】
酸無水物基を有する単量体の具体例としては、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸、無水メチル−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸、無水３，４，５，６−テトラヒドロフタル酸、無水ｃｉｓ−１，２，３，６−テトラヒドロフタル酸、２−ブテン−１−イルサクシニックアンハイドライド等が挙げられる。
カルボキシ基を有する単量体の具体例としては、アクリル酸、メタクリル酸、ビニル酢酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、ケイ皮酸、もしくはそれらの塩が挙げられる。
エポキシ基を有する単量体の具体例としては、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレートが挙げられる。
【００８４】
単量体（ａ３）としては、末端に水酸基を有する化合物が好ましく、末端に水酸基を有する（メタ）アクリレートがより好ましく、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートが特に好ましい。
【００８５】
化合物（ｚ１）としては、単量体（ａ３）が有する反応性基に合わせて選択される。反応性基と化合物（ｚ１）との組み合わせは以下が挙げられる。
（１）反応性基としての水酸基に対し、化合物（ｚ１）としてのエチレン性二重結合を有する酸無水物、
（２）反応性基としての水酸基に対し、化合物（ｚ１）としてのイソシアネート基とエチレン性二重結合を有する化合物、
（３）反応性基としての水酸基に対し、化合物（ｚ１）としての塩化アシル基とエチレン性二重結合を有する化合物、
（４）反応性基としての酸無水物基に対し、化合物（ｚ１）としての水酸基とエチレン性二重結合を有する化合物、
（５）反応性基としてのカルボキシ基に対し、化合物（ｚ１）としてのエポキシ基とエチレン性二重結合を有する化合物、
（６）反応性基としてのエポキシ基に対し、化合物（ｚ１）としてのカルボキシ基とエチレン性二重結合を有する化合物。
【００８６】
化合物（ｚ１）としてのエチレン性二重結合を有する酸無水物の具体例としては、上記した酸無水物基を有する単量体と同じ化合物が挙げられる。
化合物（ｚ１）としてのイソシアネート基とエチレン性二重結合を有する化合物の具体例としては、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート、１，１−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネートが挙げられる。
化合物（ｚ１）としての塩化アシル基とエチレン性二重結合を有する化合物の具体例としては、（メタ）アクリロイルクロライドが挙げられる。
化合物（ｚ１）としての水酸基とエチレン性二重結合を有する化合物の具体例としては、上記した水酸基を有する単量体の例が挙げられる。
化合物（ｚ１）としてのエポキシ基とエチレン性二重結合を有する化合物の具体例としては、上記したエポキシ基を有する単量体の例が挙げられる。
化合物（ｚ１）としてのカルボキシ基とエチレン性二重結合を有する化合物の具体例としては、上記したカルボキシ基を有する単量体の例が挙げられる。
上記の組み合わせとしては、（２）の組み合わせが好ましく、化合物（ｚ１）として１，１−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネートを用いることが特に好ましい。該組み合わせにすることで、撥インク剤（Ｃ）は側鎖１つにつきエチレン性二重結合を２つ以上有する側鎖を有することとなり、撥インク剤（Ｃ）の隔壁表面への固定化が優れ、撥インク性に優れた隔壁が得られるからである。
【００８７】
単量体（ａ４）としては、カルボキシ基を有する単量体、フェノール性水酸基を有する単量体、スルホ基を有する単量体等が挙げられる。
カルボキシ基を有する単量体としては、上記単量体（ａ３）において例示したのと同様の単量体が挙げられる。酸性基を有する単量体（ａ４）としてカルボキシ基を有する単量体を用い、上記反応性基を有する単量体（ａ３）としてもカルボキシ基を有する単量体を用いるときは、最終的にエチレン性二重結合が導入されず、カルボキシ基として残るものを単量体（ａ４）とみなすこととする。
【００８８】
フェノール性水酸基を有する単量体としては、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン等が挙げられる。またこれらのベンゼン環の１個以上の水素原子が、メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−ブトキシ基等のアルコキシ基、ハロゲン原子、アルキル基の１個以上の水素原子がハロゲン原子に置換されたハロアルキル基、ニトロ基、シアノ基、アミド基に置換された化合物等が挙げられる。
【００８９】
スルホ基を有する単量体としては、ビニルスルホン酸、スチレンスルホン酸、（メタ）アリルスルホン酸、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アリルオキシプロパンスルホン酸、（メタ）アクリル酸−２−スルホエチル、（メタ）アクリル酸−２−スルホプロピル、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アクリロキシプロパンスルホン酸、２−（メタ）アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸が挙げられる。
【００９０】
本発明における重合に用いる単量体としては、単量体（ａ１）〜（ａ４）以外のその他の単量体（ａ５）を用いてもよい。
【００９１】
その他の単量体（ａ５）としては、ポリオキシアルキレン基を有する下式（５１）で表される化合物（５１）または下式（５２）で表される化合物（５２）であることが好ましい。これらは１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
ＣＨ２＝ＣＲ２６−ＣＯＯ−Ｗ−（Ｒ２７Ｏ）ｍ（Ｒ２８Ｏ）ｊＲ２９      …（５１）
ＣＨ２＝ＣＲ２６−Ｏ−Ｗ−（Ｒ２７Ｏ）ｍ（Ｒ２８Ｏ）ｊＲ２９      …（５２）。
【００９２】
式（５１）および式（５２）中、Ｒ２６は、水素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、シアノ基、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数７〜２０のアリール基で置換されたアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、または炭素原子数３〜２０のシクロアルキル基である。Ｗは、単結合または炭素原子数が１〜１０のフッ素原子を有さない２価の有機基である。Ｒ２７およびＲ２８は、それぞれ独立して炭素原子数２〜４のアルキレン基を、Ｒ２９は、一部の水素原子が置換基で置換されていてもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基を、ｍは０〜１００、ｊは０〜１００の整数をそれぞれ示し、ｍ＋ｊは４〜１００の整数である。
【００９３】
式（５１）および式（５２）において、Ｒ２７およびＲ２８は、それぞれ独立して炭素原子数２〜４のアルキレン基であるが、アルキレン基の構造は、直鎖構造であっても分岐構造であってもよい。Ｒ２７およびＲ２８は同一であっても、異なってもよい。このようなＲ２７およびＲ２８のうちでも、両者がそれぞれ独立して−ＣＨ２ＣＨ２−または−Ｃ３Ｈ６−である、もしくは−ＣＨ２ＣＨ２−と−Ｃ４Ｈ８−の組み合わせであることが好ましく、両者が−ＣＨ２ＣＨ２−である、または、−ＣＨ２ＣＨ２−と−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−の組み合わせであることが特に好ましい。
【００９４】
式（５１）および式（５２）中、ｍおよびｊはそれぞれ、０〜５０の整数が好ましく、０〜３０の整数が特に好ましい。
また、ｍ＋ｊは、６〜５０の整数が好ましく、８〜３０の整数が特に好ましい。ｍ＋ｊが上記範囲の下限値以上であると、現像工程の後に高圧水を使用したジェットリンス工程を行った場合、撥インク性が低下しにくい。さらに、残膜が発生しにくい。ｍ＋ｊが上記範囲の上限値以下であると、ポストベーク時に開口部に撥インク剤（Ｃ）がマイグレートすることなく、隔壁間開口部の親インク性が充分になり、インクジェット法を用いてインクを塗布したとき、開口部にインクが充分に濡れ拡がる。
【００９５】
式（５１）および式（５２）は化合物（５１）および化合物（５２）が、ｍ個の（Ｒ２７Ｏ）単位とｊ個の（Ｒ２８Ｏ）単位を有することを示すものであって、（Ｒ２７Ｏ）単位と（Ｒ２８Ｏ）単位の結合の順番については特に制限されるものではない。つまり、化合物（５１）および化合物（５２）において、ｍ個の（Ｒ２７Ｏ）単位とｊ個の（Ｒ２８Ｏ）単位は、例えば、交互に、またはランダムに、もしくはブロックで結合していてもよい。
【００９６】
式（５１）および式（５２）において、Ｒ２９は、一部の水素原子が置換基で置換されていてもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基である。アルキル鎖の構造は、直鎖構造、分岐構造、環構造、部分的に環を有する構造等であってもよい。また、置換基として具体的には、カルボキシ基、水酸基、炭素原子数１〜５のアルコキシ基等が挙げられる。本発明においては、式（５１）および式（５２）中のＲ２９として、炭素原子数１〜５の直鎖、非置換のアルキル基が好ましく、メチル基およびエチル基が特に好ましい。
【００９７】
式（５１）および式（５２）における、（Ｒ２７Ｏ）および（Ｒ２８Ｏ）の具体例としては、−ＣＨ２Ｃ６Ｈ１０ＣＨ２Ｏ−（式中Ｃ６Ｈ１０は、シクロヘキシレン基である。）、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、−ＣＨ（ＣＨ３）Ｏ−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、−Ｃ（ＣＨ３）２Ｏ−、−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）Ｏ−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）Ｏ−、−ＣＨ２（ＣＨ２）３ＣＨ２Ｏ−、−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）２）Ｏ−等が挙げられる。−（Ｒ２７Ｏ）ｍ（Ｒ２８Ｏ）ｊＲ２９の具体例としては、（Ｒ２７Ｏ）および（Ｒ２８Ｏ）がともに、上に例示したオキシアルキレン基から選ばれ、ｍ＋ｊが４〜１００の整数であり、かつＲ２９がＣＨ３である基が挙げられる。
【００９８】
上記式（５１）および式（５２）において、Ｗが示す基のうちでも、炭素原子数が１〜１０のフッ素原子を有しない２価の有機基であるＷとして、Ｒ２７Ｏ、Ｒ２８Ｏ以外の直鎖構造、分岐構造、環構造、部分的に環を有する構造の炭素原子数が１〜１０のオキシアルキレン基、単結合等が挙げられる。オキシアルキレン基として具体的には、ＣＨ２Ｃ６Ｈ１０ＣＨ２Ｏ（式中Ｃ６Ｈ１０は、シクロヘキシレン基である。）、ＣＨ２Ｏ、ＣＨ２ＣＨ２Ｏ、ＣＨ（ＣＨ３）Ｏ、ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ、Ｃ（ＣＨ３）２Ｏ、ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）Ｏ、ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ、ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）Ｏ、ＣＨ２（ＣＨ２）３ＣＨ２Ｏ、ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）２）Ｏ等が挙げられる。これらのうちでも、化合物（５１）および（５２）におけるＷとしては、入手の容易さから、炭素原子数が２〜４のオキシアルキレン基が好ましい。
【００９９】
化合物（５１）および化合物（５２）においては、上記Ｒ２６が示す基のうちでも、水素原子、塩素原子、メチル基、フェニル基、ベンジル基等が好ましく、水素原子、塩素原子、またはメチル基がより好ましい。
【０１００】
化合物（５１）としては、
ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｍＲ２９、
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｍＲ２９、
ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｍ（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｊＲ２９、
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｍ（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｊＲ２９、
ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｍ（Ｃ４Ｈ８Ｏ）ｊＲ２９
が好ましい。
また、化合物（５２）としては、
ＣＨ２＝ＣＨＯＣＨ２Ｃ６Ｈ１０ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｍＲ２９、
ＣＨ２＝ＣＨＯ（ＣＨ２）４Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｍＲ２９
が好ましい。
式中、ｍおよびｊは上記と同じ意味を示し、好ましい範囲も同様である。なお、Ｃ６Ｈ１０は、シクロヘキシレン基である。Ｃ２Ｈ４、Ｃ３Ｈ６、Ｃ４Ｈ８は直鎖構造または分岐構造のいずれかである。式中のＲ２９は、上記と同じ意味を示し、好ましい範囲は、炭素原子数１〜１０の直鎖、非置換のアルキル基、例えば、メチル基、水素原子等である。
【０１０１】
化合物（５１）としては、市販品を用いることができる。化合物（５１）の市販品としては、以下のものが挙げられる。
ブレンマーＰＭＥ−４００（商品名、日本油脂社製、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｋＣＨ３：式中のｋは分子間の平均値を示し、ｋの値は約９である。以下、各市販品の分子式におけるｋ、ｍ、ｊは全て分子間の平均値を示す。）、
ブレンマーＰＭＥ−１０００（商品名、日本油脂社製、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｋＣＨ３：式中のｋは分子間の平均値を示し、ｋの値は約２３である。）
ＮＫエステルＭ−２３０Ｇ：（商品名、新中村化学社製、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｋＣＨ３：式中、ｋは約９である。）、
ライトエステル１３０Ａ（商品名、共栄社化学社製、ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｋＣＨ３：式中、ｋは約９である。）。
【０１０２】
撥インク剤（Ｃ）は、例えば、以下の方法によって合成できる。まず、所望の共重合体を得るための単量体を溶媒に溶解して加熱し、重合開始剤を加えて共重合させ、共重合体を得る。共重合反応においては、必要に応じて連鎖移動剤を存在させるのが好ましい。単量体、重合開始剤、溶媒および連鎖移動剤は連続して添加してもよい。
【０１０３】
重合開始剤としては、公知の有機過酸化物、無機過酸化物、アゾ化合物等が挙げられる。有機過酸化物、無機過酸化物は、還元剤と組み合わせて、レドックス系触媒として使用することもできる。
【０１０４】
有機過酸化物としては、ベンゾイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド、イソブチリルパーオキシド、ｔ−ブチルヒドロパーオキシド、ｔ−ブチル−α−クミルパーオキシド等が挙げられる。無機過酸化物としては、過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム、過酸化水素、過炭酸塩等が挙げられる。アゾ化合物としては、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビスイソ酪酸ジメチル、２，２’−アゾビス（２−アミジノプロパン）二塩酸塩等が挙げられる。また、アゾ系重合開始剤として、市販品のＶ−６５（商品名、和光純薬工業社製）等を使用することも可能である。
【０１０５】
前記溶媒としては、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、エチレングリコール等のアルコール類；アセトン、２−ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−ブトキシエタノール等のセルソルブ類；２−（２−メトキシエトキシ）エタノール、２−（２−エトキシエトキシ）エタノール、２−（２−ブトキシエトキシ）エタノール等のカルビトール類；メチルアセテート、エチルアセテート、ｎ−ブチルアセテート、エチルラクテート、ｎ−ブチルラクテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールジアセテート、プロピレングリコールジアセテート、エチル−３−エトキシプロピオネート、シクロヘキサノールアセテート、γ−ブチロラクトン、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、グリセリントリアセテート等のエステル類；ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、ジブチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル等が挙げられる。
【０１０６】
連鎖移動剤としては、ｎ−ブチルメルカプタン、ｎ−ドデシルメルカプタン、ｔ−ブチルメルカプタン、チオグリコール酸エチル、チオグリコール酸２−エチルヘキシル、２−メルカプトエタノール等のメルカプタン類；クロロホルム、四塩化炭素、四臭化炭素等のハロゲン化アルキルが挙げられる。
【０１０７】
撥インク剤（Ｃ）が、１分子中に基（１）または基（２）を有する側鎖と、エチレン性二重結合を有する側鎖とを有する化合物である場合、まず、上記の共重合反応により単量体（ａ１）および／または単量体（ａ２）と反応性基を有する単量体（ａ３）を共重合させる。
次に、得られた共重合体と化合物（ｚ１）とを反応させる。
該反応には溶媒を用いるのが好ましい。溶媒は上述の共重合反応に用いる溶媒が用いられる。
また、重合禁止剤を配合することが好ましい。重合禁止剤としては、例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾールが挙げられる。
また、触媒や中和剤を加えてもよい。例えば、水酸基を有する共重合体と、イソシアネート基とエチレン性二重結合を有する化合物を反応させる場合、ジブチル錫ジラウレート等の錫化合物等を用いることができる。水酸基を有する共重合体と、塩化アシル基とエチレン性二重結合を有する化合物を反応させる場合、塩基性触媒を用いることができる。
【０１０８】
この場合、共重合させる単量体全質量に対する各単量体の好ましい割合は以下のとおりである。
単量体（ａ１）および／または単量体（ａ２）の割合は２０〜８０質量％が好ましく、３０〜６０質量％が特に好ましい。該割合が上記範囲の下限値以上であると、硬化膜からなる隔壁の表面張力を低減でき、隔壁に高い撥インク性を付与できる。上記範囲の上限値以下であると、隔壁と基材との密着性が良好になる。
単量体（ａ３）の割合は２０〜７０質量％が好ましく、３０〜５０質量％が特に好ましい。該範囲であると、エチレン性二重結合の導入による撥インク剤（Ｃ）の隔壁への固定化および現像性が良好となる。
【０１０９】
基（１）または基（２）を含む側鎖と酸性基を有する側鎖とを有する撥インク剤（Ｃ）の場合、単量体（ａ１）および／または単量体（ａ２）の割合は２０〜８０質量％が好ましく、３０〜６０質量％が特に好ましい。該割合が上記範囲の下限値以上であると、硬化膜からなる隔壁の表面張力を低減でき、隔壁に高い撥インク性を付与できる。上記範囲の上限値以下であると、隔壁と基材との密着性が良好になる。
酸性基を有する単量体（ａ４）の割合は２０〜８０質量％が好ましく、４０〜７０質量％が特に好ましい。該範囲であると、露光工程で固定化されなかった残存分子が現像工程において隔壁から洗い流されやすい。
【０１１０】
撥インク剤（Ｃ）が、エチレン性二重結合を有する側鎖と酸性基を有する側鎖をともに有する場合は、まず、単量体（ａ１）および／または単量体（ａ２）、単量体（ａ３）および酸性基を有する単量体（ａ４）を共重合させる。
次に、得られた共重合体と化合物（ｚ１）とを反応させることで撥インク剤（Ｃ）が得られる。
単量体（ａ１）および／または単量体（ａ２）の割合は上記同様に２０〜８０質量％が好ましく、３０〜６０質量％が特に好ましい。単量体（ａ３）の割合は上記同様に２０〜７０質量％が好ましく、３０〜５０質量％が特に好ましい。単量体（ａ４）の割合は１〜２０質量％が好ましく、１〜１０質量％が特に好ましい。該範囲であると、露光工程で固定化されなかった残存分子が現像工程において隔壁から洗い流されやすい。
【０１１１】
その他の単量体（ａ５）を用いる場合には、その割合は５〜４５質量％が好ましく、１５〜３５質量％以下が特に好ましい。該範囲であるとアルカリ溶解性、現像性が良好である。
単量体の好ましい組み合わせは以下のとおりである。
単量体（ａ１）および／または単量体（ａ２）：単量体（ａ３）：単量体（ａ４）：単量体（ａ５）＝３０〜６０質量％：３０〜５０質量％：１〜１０質量％：９〜３５質量％。
【０１１２】
共重合体と化合物（ｚ１）とは、［化合物（ｚ１）の官能基］／［共重合体の反応性基］の当量比の値が０．５〜２となるように仕込むことが好ましく、０．８〜１．５が特に好ましい。当量比が上記範囲の下限値以上であると、撥インク剤（Ｃ）の隔壁への固定化が良好となる。上記範囲の上限値以下であると、未反応の化合物（ｚ１）が不純物として存在する量を低く抑えることができ、塗膜外観を良好に維持できる。
なお、単量体（ａ３）と単量体（ａ４）の両方としてカルボキシ基を有する単量体を使用する場合は、撥インク剤（Ｃ）の酸価が後述する範囲となるように、共重合体と化合物（ｚ１）の仕込み量を調節すればよい。
【０１１３】
撥インク剤（Ｃ）が基（１）を有する場合、撥インク剤（Ｃ）におけるフッ素原子の含有率は５〜３５質量％が好ましく、１０〜３０質量％が特に好ましい。含有率が上記範囲の下限値以上であると、ネガ型感光性樹脂組成物より形成される隔壁の表面張力を低減でき、撥インク性に優れた隔壁が得られる。上記範囲の上限値以下であると、隔壁と基材との密着性が良好になる。
【０１１４】
撥インク剤（Ｃ）が基（２）を有する場合、撥インク剤（Ｃ）におけるケイ素原子の含有率は０．１〜２５質量％が好ましく、０．５〜１０質量％が特に好ましい。含有率が上記範囲の下限値以上であると、ネガ型感光性樹脂組成物より形成される隔壁の表面張力を低減かつドット（表示部）へのインク転落性を向上させることができる。上記範囲の上限値以下であると、隔壁と基材との密着性が良好になる。
【０１１５】
撥インク剤（Ｃ）がエチレン性二重結合を有する場合、その量は、１．０×１０−３〜５．０×１０−３ｍｏｌ／ｇが好ましく、１．５×１０−３〜３．０×１０−３ｍｏｌ／ｇが特に好ましい。上記範囲であると、撥インク剤（Ｃ）の隔壁への固定化および現像性が良好となる。
【０１１６】
撥インク剤（Ｃ）が酸性基を有する場合、その酸価は１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、１０〜５０ｍｇＫＯＨ／ｇが特に好ましい。上記範囲であると、露光工程で固定化されなかった残存分子が現像工程において隔壁から洗い流されやすい。
【０１１７】
撥インク剤（Ｃ）の数平均分子量（Ｍｎ）は、１,５００〜５０，０００が好ましく、１０,０００〜５０，０００が特に好ましい。また、撥インク剤（Ｃ）の質量平均分子量（Ｍｗ）は、１．２×１０４〜１５×１０４が好ましく、５×１０４〜１５×１０４が特に好ましい。数平均分子量（Ｍｎ）および質量平均分子量（Ｍｗ）が上記範囲であると、アルカリ溶解性および現像性が良好である。
【０１１８】
ネガ型感光性樹脂組成物における全固形分中の撥インク剤（Ｃ）の含有割合は、０．０１〜３０質量％が好ましく、０．０５〜２０質量％が特に好ましい。含有割合が上記範囲の下限値以上であると、ネガ型感光性樹脂組成物より形成される隔壁の表面張力を低減でき、撥インク性に優れた隔壁が得られる。上記範囲の上限値以下であると、隔壁と基材との密着性が良好になる。
【０１１９】
上記の通り撥インク剤（Ｃ）は、基（１）を有する側鎖と基（２）を有する側鎖の両方を１分子中に有していてもよい。また本発明のネガ型感光性樹脂組成物は、基（１）を有する側鎖を有する撥インク剤（Ｃ）と、基（２）を有する側鎖を有する撥インク剤（Ｃ）の両方を含んでいてもよい。ネガ型感光性樹脂組成物から得られる隔壁は、高い撥インク性とドット（表示部）へのインク転落性を発現できる。
【０１２０】
［黒色着色剤（Ｄ）］
本発明におけるネガ型感光性樹脂組成物は必要に応じて黒色着色剤（Ｄ）を含むことが好ましい。
黒色着色剤（Ｄ）としては、カーボンブラック、アニリンブラック、アントラキノン系黒色顔料、ペリレン系黒色顔料、具体的には、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック１、６、７、１２、２０、３１等が挙げられる。黒色着色剤（Ｄ）としては、赤色顔料、青色顔料、緑色顔料、黄色顔料等の有機顔料や無機顔料の混合物を用いることもできる。有機顔料の具体例としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６、ピグメントレッド２５４、ピグメントグリーン３６、ピグメントイエロー１５０、アゾメチン系顔料等が挙げられる。黒色着色剤（Ｄ）としては、電気特性の点から有機顔料が好ましく、価格および遮光性の点からはカーボンブラックが好ましい。カーボンブラックは樹脂等で表面処理されているのが好ましく、また、色調を調整するため、青色顔料や紫色顔料を併用することができる。
【０１２１】
有機顔料としては、ブラックマトリックスの形状の観点から、ＢＥＴ法による比表面積が５０〜２００ｍ２／ｇであるものが好ましい。比表面積が５０ｍ２／ｇ以上であると、ブラックマトリックス形状が劣化しにくい。２００ｍ２／ｇ以下であると、有機顔料に分散助剤が過度に吸着することなく、諸物性を発現させるために多量の分散助剤を配合する必要がなくなる。
【０１２２】
また、有機顔料の透過型電子顕微鏡観察による平均１次粒子径は、２０〜１５０ｎｍであることが好ましい。平均１次粒子径が２０ｎｍ以上であると、ネガ型感光性樹脂組成物で高濃度に分散でき、経時安定性の良好なネガ型感光性樹脂組成物が得られやすい。１５０ｎｍ以下であると、ブラックマトリックス形状が劣化しにくい。また、透過型電子顕微鏡観察による平均２次粒子径としては、８０〜２００ｎｍが好ましい。
【０１２３】
ネガ型感光性樹脂組成物における全固形分中の黒色着色剤（Ｄ）の含有割合は、２０〜６５質量％が好ましく、２５〜６０質量％が特に好ましい。含有割合が上記範囲の下限値以上であると、得られる隔壁の光の遮光性を示す値である光学濃度が充分になる。上記範囲の上限値以下であると、ネガ型感光性樹脂組成物の硬化性が良好になり、良好な外観の硬化膜が得られ、撥インク性も良好になる。
【０１２４】
黒色着色剤（Ｄ）のネガ型感光性樹脂組成物における分散性を向上するためには、高分子分散剤を含有させることが好ましい。該高分子分散剤は、黒色着色剤（Ｄ）への親和性の点から、塩基性官能基を有する化合物が好ましい。該塩基性官能基として、１級、２級もしくは３級アミノ基を有すると、特に分散性に優れる。
高分子分散剤としては、ウレタン系、ポリイミド系、アルキッド系、エポキシ系、不飽和ポリエステル系、メラミン系、フェノール系、アクリル系、塩化ビニル系、塩化ビニル酢酸ビニル系共重合体系、ポリアミド系、ポリカーボネート系等の化合物が挙げられる。中でも特にウレタン系、ポリエステル系の化合物が好ましい。
高分子分散剤の使用量は、黒色着色剤（Ｄ）に対して５〜３０重量％が好ましく、１０〜２５重量％が特に好ましい。使用量が上記範囲の下限値以上であると、黒色着色剤（Ｄ）の分散が良好になり、上記範囲の上限値以下であると、現像性が良好になる。
【０１２５】
［溶媒（Ｅ）］
本発明におけるネガ型感光性樹脂組成物は、溶媒（Ｅ）を含有する。また、溶媒（Ｅ）は、沸点が１６５℃以上、かつＦｅｄｏｒの溶解度パラメータが８．０〜８．５である溶媒（Ｅ１）を、溶媒（Ｅ）の全量に対して、１０〜１００質量％の割合で含有する。
溶媒（Ｅ）は、ネガ型感光性樹脂組成物が含有する上記アルカリ可溶性樹脂（Ａ）、光重合開始剤（Ｂ）、撥インク剤（Ｃ）および必要に応じて含有する任意成分と、反応性を有しないものであって、これらの各固形成分を均一に溶解または分散させて、隔壁が形成される基材へのネガ型感光性樹脂組成物の塗布を均一かつ簡便にする機能を有する。加えて、該組成物の塗膜の乾燥工程において溶媒（Ｅ）が蒸発する過程で、該組成物中の撥インク剤（Ｃ）とその他の固形成分の間に充分な斥力が働くように作用して撥インク剤（Ｃ）の膜表面へ移行をしやすくする機能を有する。
【０１２６】
ここで、Ｆｅｄｏｒの溶解度パラメータ（ＳＰ値）について言えば、上記アルカリ可溶性樹脂（Ａ）や光重合開始剤（Ｂ）等として挙げた化合物は平均的に１０前後であり、撥インク剤（Ｃ）は８．７付近の値となる。本発明においては、溶媒(Ｅ）に、ＳＰ値が撥インク剤（Ｃ）よりも若干低い、８．０〜８．５の溶媒（Ｅ１）を含有させることにより、塗工時において各成分が均一に相溶した状態を保ちながら、塗膜の乾燥工程において撥インク剤（Ｃ）とその他の固形成分との間に充分な斥力が働く状態を得ることを可能とした。
【０１２７】
なお、上記の通り撥インク剤（Ｃ）は、上記基（１）および／または基（２）を有することで表面自由エネルギーの小さい化合物であり、高い表面移行能力を有するが、組合せる溶媒により、表面移行性に差異が生じるところ、溶媒（Ｅ１）を含む溶媒（Ｅ）を用いることで、高い表面移行性を発現している。また、溶媒（Ｅ１）の沸点を１６５℃以上とすることにより、ネガ型感光性組成物の乾燥速度が充分遅くなるように調整して、撥インク剤（Ｃ）が膜の表面に移行する時間を確保できるようにした。
【０１２８】
これにより、ネガ型感光性樹脂組成物の塗膜が乾燥した膜において、撥インク剤（Ｃ）の多くが膜の表面に移行し、膜表面の撥インク剤層を充分に厚い層としている。このような撥インク剤層を有する膜であれば、露光量を低減したり、３３０ｎｍ以下の露光光線を遮光したりして露光した場合に、現像により撥インク剤層がある程度の厚さ除去されても、現像後に充分な厚さの撥インク剤層を有する隔壁が得られる。また、乾燥後、膜内部に存在する撥インク剤（Ｃ）の量が少ないので露光・現像により隔壁形状となった硬化膜において、ポストベーク時に撥インク剤（Ｃ）が隔壁側面に移行して側面の親インク性を阻害することはほとんどない。
【０１２９】
溶媒（Ｅ１）の沸点は、上記観点から、１６５℃以上であり、１７０℃〜２２０℃が好ましい。上記範囲の下限値以上であると、上記の通り撥インク剤（Ｃ）が表面移行する時間を充分に確保できるため、ネガ型感光性樹脂組成物の膜において撥インク剤層の厚さを厚くすることができ、隔壁表面の撥インク性が良好となる。上記範囲の上限値以下であると、スティッキングの発生や乾燥工程に要する時間が長くなることによる生産性の低下が生じにくい。
【０１３０】
溶媒（Ｅ１）のＳＰ値は、上記観点から、８．０〜８．５であり、８．２〜８．５が特に好ましい。上記範囲であると、撥インク剤（Ｃ）とその他の固形成分との間に働く斥力が良好である。また、撥インク剤（Ｃ）が膜内部で凝集することがなく、表面移行性が良好になり、隔壁表面の撥インク性と隔壁側面の親インク性が良好となる。
【０１３１】
溶媒（Ｅ１）の溶媒（Ｅ）中の含有量は１０〜１００質量％であり、２０〜１００質量％が好ましく、３０〜９０質量％が特に好ましい。該含有量が上記範囲であると、ネガ型感光性樹脂組成物の塗膜の乾燥工程において、撥インク剤（Ｃ）とその他固形成分との間に斥力が働いている状態が長い時間確保できるため、撥インク剤（Ｃ）が充分に表面移行できる。撥インク剤層の厚さを厚くすることができ、得られる隔壁の撥インク性が良好となる。
【０１３２】
溶媒（Ｅ１）として、具体的には、下式（３）で表される化合物が好ましい。化合物（３）は極性を有するエーテル性酸素を含むため、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）を溶解する能力が高く、保存安定性に優れている。また、ネガ型感光性樹脂組成物の乾燥物を同じ組成物で再度溶解する、いわゆる再溶解性を向上できる。再溶解性は、特に、ネガ型感光性樹脂組成物をスリットコート法で塗布する場合に、有することが好ましい性質である。スリットコート法では、繰り返し使用するうちにスリットノズルに付着または残留したネガ型感光性樹脂組成物が乾燥物の突起となり、塗工においてノズルの進行方向に対して筋が発生したり、該乾燥物が落下して塗膜に異物が混入したりする問題があった。これを防止するために、ネガ型感光性樹脂組成物が再溶解性を有することが求められている。
Ｒ１Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｓＲ２      （３）
式（３）中、Ｒ１は炭素原子数が１〜１０のアルキル基、Ｒ２は炭素原子数が２〜１０のアルキル基を示し、ｓは１〜１０の整数を示す。
【０１３３】
化合物（３）において、Ｒ１は炭素原子数が１〜４のアルキル基が好ましく、炭素原子数が１のアルキル基が特に好ましい。Ｒ２は、炭素原子数が２〜４のアルキル基が好ましく、炭素原子数が２のアルキル基が特に好ましい。また、ｓは１〜３が好ましく、２が特に好ましい。
【０１３４】
化合物（３）の具体例を、略称、沸点およびＳＰ値とともに以下に示す。
ジエチレングリコールエチルメチルエーテル（ＥＤＭ、沸点：１７６℃、ＳＰ値：８．２）、ジエチレングリコールジエチルエーテル（ＥＤＥ、沸点：１８９℃、ＳＰ値：８．２）、ジエチレングリコールイソプロピルメチルエーテル（ＩＰＤＭ、沸点：１７９℃、ＳＰ値：８．０）、ジエチレングリコールエチルイソプロピルエーテル（ＥＤＩＰ、ＳＰ値：８．１）、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル（ＢＤＭ、沸点：２１２℃、ＳＰ値：８．２）、ジエチレングリコールブチルエチルエーテル（ＢＤＥ、ＳＰ値：８．２）等が挙げられる。これらは１種を用いても２種以上を併用してもよい。
【０１３５】
これらのなかでも、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールブチルメチルエーテルが好ましく、ジエチレングリコールエチルメチルエーテルが特に好ましい。
【０１３６】
本発明のネガ型感光性樹脂組成物は、溶媒（Ｅ）として、溶媒（Ｅ１）と共に溶媒（Ｅ２）を併用することが好ましい。該溶媒（Ｅ２）は、脂肪族環構造を有し、かつＦｅｄｏｒの溶解度パラメータが９．５以上である化合物である。溶媒（Ｅ）の全量に対する溶媒（Ｅ２）の割合は、１０〜４０質量％が好ましく、１５〜３０質量％が特に好ましい。
本発明においては、溶媒（Ｅ）が溶媒（Ｅ２）を含有することで、再溶解性がより向上される。
【０１３７】
本発明のネガ型感光性樹脂組成物においては、溶媒（Ｅ）が上記溶媒（Ｅ１）とともに溶媒（Ｅ２）を含有することで、上記撥インク剤層の厚膜化に加えて、再溶解性が向上し、スリットコート法による塗工にも対応可能となる。ここで、溶媒（Ｅ１）による効果を阻害しないために、溶媒（Ｅ２）の沸点は、溶媒（Ｅ１)の沸点未満であることが好ましく、溶媒（Ｅ１)の沸点より１０℃以上低いことが特に好ましい。ネガ型感光性樹脂組成物の塗膜の乾燥時に、溶媒（Ｅ２)が膜内に長い時間存在することで、撥インク剤（Ｃ）とその他の固形成分との間に働く斥力が抑制される。溶媒（Ｅ２)の沸点を溶媒（Ｅ１)の沸点より低く設定することで、溶媒（Ｅ２)が乾燥工程で先に蒸発し、組成物中に存在しなくなり、撥インク剤（Ｃ）の表面移行を阻害しない。
【０１３８】
溶媒（Ｅ２）において、上記観点から、その沸点は１００〜２１０℃が好ましく、１００〜２００℃が特に好ましい。溶媒（Ｅ２）のＳＰ値は上記の通り９．５以上である。溶媒（Ｅ２）のＳＰ値の上限は特に限定されないが、撥インク剤（Ｃ）がネガ型感光性樹脂組成物中で凝集するのを抑制する点から、１２．０が上限として挙げられる。
溶媒（Ｅ２）の具体例としては、シクロヘキサノン（沸点：１５５℃、ＳＰ値：９．８）やγ−ブチロラクトン（沸点：２０４℃、ＳＰ値：１０．５）等が挙げられる。
【０１３９】
また、本発明のネガ型感光性樹脂組成物は、溶媒（Ｅ）として、上述の溶媒（Ｅ１）および溶媒（Ｅ２）以外の溶媒（Ｅ３）を必要に応じて含有してもよい。溶媒（Ｅ３）としては、上記アルカリ可溶性樹脂（Ａ）や撥インク剤（Ｃ）の合成に使用した溶媒等が、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）や撥インク剤（Ｃ）とともにネガ型感光性樹脂組成物に配合される場合の溶媒等が挙げられる。
【０１４０】
なお、上記アルカリ可溶性樹脂（Ａ）や撥インク剤（Ｃ）の合成に使用する溶媒としては、上記溶媒（Ｅ１)や溶媒（Ｅ２）を用いる場合もある。ネガ型感光性樹脂組成物がこれら配合成分由来の溶媒（Ｅ１）や溶媒（Ｅ２)を含有する場合には、それぞれについて、これらを含む溶媒（Ｅ１）および溶媒（Ｅ２)の各総量により算出される、溶媒（Ｅ）における溶媒（Ｅ１）および溶媒（Ｅ２）の含有量がそれぞれ上記範囲となるように調整すればよい。
【０１４１】
溶媒（Ｅ３）としては、溶媒（Ｅ）としての上記機能を阻害しないものであれば特に制限されない。溶媒（Ｅ３）の沸点は、ＳＰ値にもよるが、溶媒（Ｅ１）による効果を阻害しないために、溶媒（Ｅ１)の沸点未満であることが好ましく、溶媒（Ｅ１)の沸点より１０℃以上低いことが特に好ましい。溶媒（Ｅ３）において、上記観点から、その沸点は７０〜２１０℃が好ましく、８０〜２００℃が特に好ましい。溶媒（Ｅ３）のＳＰ値は、上記溶媒（Ｅ１)および必要に応じて用いられる溶媒（Ｅ２）との相溶性、およびネガ型感光性樹脂組成物に用いる固形成分の溶解性や分散性の観点から、７．８〜１２．０が好ましい。
【０１４２】
したがって、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）や撥インク剤（Ｃ）をその合成に用いた溶媒と共にネガ型感光性樹脂組成物に配合する場合には、合成時に用いる溶媒としてこのような沸点やＳＰ値を有する溶媒を選択することが好ましい。
【０１４３】
溶媒（Ｅ３）の具体的としては、プロピレングリコール１−モノメチルエーテル２−アセテート（ＰＧＭＥＡ、沸点：１４６℃、ＳＰ値：８．７）、ジエチレングリコールジメチルエーテル（ＭＤＭ、沸点：１６２℃、ＳＰ値：８．１）、ジプロピレングリコールジメチルエーテル（ＤＭＭ、沸点：１７１℃、ＳＰ値：７．９）、酢酸シクロヘキシル（ＣＨＸＡ，沸点：１７３℃、ＳＰ値：９．２）、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ、沸点：８２℃、ＳＰ値：１１．６）、酢酸ブチル（ＢＡ、沸点：１２６℃、ＳＰ値：８．７）等が挙げられる。
【０１４４】
溶媒（Ｅ）における溶媒（Ｅ３）の含有量は、溶媒（Ｅ）の全量から溶媒（Ｅ１）および溶媒（Ｅ２)の量を引いた量であり、具体的には、溶媒（Ｅ）の全量に対して１〜９０質量％の割合が好ましく、２０〜８０質量％が特に好ましい。
【０１４５】
なお、溶媒（Ｅ）の具体的な態様として、溶媒（Ｅ１)のみで構成される、溶媒（Ｅ１）と溶媒（Ｅ２）および／または溶媒（Ｅ３）で構成される態様が挙げられる。溶媒（Ｅ）が溶媒（Ｅ１）と溶媒（Ｅ２）で構成される場合の好ましい配合割合（質量比）として、溶媒（Ｅ１）：溶媒（Ｅ２）＝８５：１５〜７０：３０が挙げられる。溶媒（Ｅ）が溶媒（Ｅ１）と溶媒（Ｅ３）で構成される場合の好ましい配合割合（質量比）として、溶媒（Ｅ１）：溶媒（Ｅ３）＝９０：１０〜３０：７０が挙げられる。また、溶媒（Ｅ）が溶媒（Ｅ１）、溶媒（Ｅ２)、および溶媒（Ｅ３）で構成される場合の好ましい配合割合（質量比）として、溶媒（Ｅ１）：溶媒（Ｅ２）：溶媒（Ｅ３）＝３０〜７５：１５〜３０：１０〜５５が挙げられる。
【０１４６】
ネガ型感光性樹脂組成物における溶媒（Ｅ）の含有割合は、ネガ型感光性樹脂組成物の組成や用途等により異なるが、ネガ型感光性樹脂組成物中に５０〜９９質量％の割合で配合されるのが好ましく、６０〜９５質量％がより好ましく、６５〜９０質量％が特に好ましい。
【０１４７】
［架橋剤（Ｆ）］
本発明におけるネガ型感光性樹脂組成物は、ラジカル硬化を促進する任意成分として、架橋剤（Ｆ）を含んでもよい。架橋剤（Ｆ）としては、１分子中に２つ以上のエチレン性二重結合を有し、酸性基を有しない化合物が好ましい。ネガ型感光性樹脂組成物が架橋剤（Ｆ）を含むことにより、露光時におけるネガ型感光性樹脂組成物の硬化性が向上し、低い露光量でも隔壁を形成することができる。
【０１４８】
架橋剤（Ｆ）としては、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、エトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート、ε−カプロラクトン変性トリス−（２−アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ビス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタン、Ｎ，Ｎ’−ｍ−キシリレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、ウレタンアクリレート等が挙げられる。光反応性の点から多数のエチレン性二重結合を有することが好ましい。なお、これらは１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【０１４９】
架橋剤（Ｆ）としては、市販品を使用することができる。市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ（商品名、日本化薬社製、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物）、ＮＫエステル  Ａ−９５３０（商品名、新中村化学工業社製、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物））、ＮＫエステ  Ａ−９３００（商品名、新中村化学工業社製、エトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート）、ＮＫエステル  Ａ−９３００−１ＣＬ（商品名、新中村化学工業社製、ε−カプロラクトン変性トリス−（２−アクリロキシエチル）イソシアヌレート）、ＢＡＮＩ−Ｍ（商品名、丸善石油化学社製、ビス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタン）、ＢＡＮＩ−Ｘ（商品名、丸善石油化学社製、Ｎ，Ｎ’−ｍ−キシリレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド））等が挙げられる。ウレタンアクリレートとしては、日本化薬社製のＫＡＹＡＲＡＤ  ＵＸシリーズが挙げられ、具体的商品名としては、ＵＸ−３２０４、ＵＸ−６１０１、ＵＸ−０９３７、ＤＰＨＡ−４０Ｈ、ＵＸ−５０００、ＵＸ−５００２Ｄ−Ｐ２０等が挙げられる。
【０１５０】
ネガ型感光性樹脂組成物における全固形分中の架橋剤（Ｆ）の含有割合は、３〜５０質量％が好ましく、５〜４０質量％が特に好ましい。上記範囲であると、ネガ型感光性樹脂組成物のアルカリ現像性が良好となる。
【０１５１】
［微粒子（Ｇ）］
本発明におけるネガ型感光性樹脂組成物は、必要に応じて、微粒子（Ｇ）を含んでいてもよい。ネガ型感光性樹脂組成物が微粒子（Ｇ）を含むことにより、ネガ型感光性樹脂組成物から得られる隔壁は熱垂れが防止された耐熱性に優れる隔壁となる。
微粒子（Ｇ）としては、各種無機系、有機系の微粒子が使用可能であるが、塩基性高分子分散剤を吸着能の点から、マイナスに帯電しているものが好ましく用いられる。
【０１５２】
無機系としては、シリカ、ジルコニア、フッ化マグネシウム、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）等が挙げられる。有機系としては、ポリエチレン、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等が挙げられる。耐熱性を考慮すると、無機系微粒子が好ましく、入手容易性や分散安定性を考慮すると、シリカ、またはジルコニアが特に好ましい。さらに、ネガ型感光性樹脂組成物の露光感度を考慮すると、微粒子（Ｇ）は、露光時に照射される光を吸収しないことが好ましく、超高圧水銀灯の主発光波長であるｉ線（３６５ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）、ｇ線（４３６ｎｍ）を吸収しないことが特に好ましい。
微粒子（Ｇ）の粒子径は、隔壁の表面平滑性が良好となることから、平均粒子径が１μｍ以下であることが好ましく、２００ｎｍ以下が特に好ましい。
【０１５３】
微粒子（Ｇ）としてはシリカが好ましい。シリカとしては、コロイダルシリカが好ましい。一般にコロイダルシリカとしては、水に分散されたシリカヒドロゾル、水が有機溶媒に置換されたオルガノシリカゾルがあるが、有機溶媒を分散媒として用いたオルガノシリカゾルが好ましい。
このようなオルガノシリカゾルとしては、市販品を用いることが可能であり、市販品としては、いずれも日産化学工業社製の商品名で、ＰＭＡ−ＳＴ（シリカ粒子径：１０〜２０ｎｍ、シリカ固形分：３０質量％、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート：７０質量％。）、ＮＰＣ−ＳＴ（シリカ粒子径：１０〜２０ｎｍ、シリカ固形分：３０質量％、ｎ−プロピルセロソルブ：７０質量％。）、ＩＰＡ−ＳＴ（シリカ粒子径：１０〜２０ｎｍ、シリカ固形分：３０質量％、イソプロピルアルコール（２−プロパノール）：７０質量％。）等が挙げられる。
【０１５４】
ネガ型感光性樹脂組成物における全固形分中の微粒子（Ｇ）の含有割合は、５〜３５質量％が好ましく、１０〜３０質量％が特に好ましい。含有割合が上記範囲の下限値以上であると、ポストベークによる撥インク性の低下抑制効果があり、上記範囲の上限値以下であると、ネガ型感光性樹脂組成物の貯蔵安定性が良好になる。
【０１５５】
［シランカップリング剤（Ｈ）］
本発明におけるネガ型感光性樹脂組成物は、必要に応じて、シランカップリング剤（Ｈ）を含んでいてもよい。ネガ型感光性樹脂組成物がシランカップリング剤（Ｈ）を含むことで、ネガ型感光性樹脂組成物から形成される硬化膜の基材密着性を向上させることができる。
シランカップリング剤（Ｈ）としては、テトラエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロオクチルエチルトリメトキシシラン、ポリオキシアルキレン鎖含有トリエトキシシラン、イミダゾールシラン等が挙げられる。これらは１種を用いても２種以上を併用してもよい。
【０１５６】
シランカップリング剤（Ｈ）としては、市販品を使用することができる。市販品としては、ＫＢＭ５０１３（商品名、信越化学社製、３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン）等が挙げられる。
【０１５７】
ネガ型感光性樹脂組成物における全固形分中のシランカップリング剤（Ｈ）の含有割合は、０．１〜２０質量％が好ましく、１〜１０質量％が特に好ましい。上記範囲の下限値以上であると、ネガ型感光性樹脂組成物から形成される硬化膜の基材密着性が向上し、上記範囲の上限値以下であると、撥インク性が良好である。
【０１５８】
［熱硬化剤（Ｉ）］
本発明におけるネガ型感光性樹脂組成物は、必要に応じて、熱硬化剤（Ｉ）を含んでいてもよい。ネガ型感光性樹脂組成物が熱硬化剤（Ｉ）を含むことで、隔壁の耐熱性および耐透水性を向上させることができる。
熱硬化剤（Ｉ）としては、アミノ樹脂、２個以上のエポキシ基を有する化合物、２個以上のヒドラジノ基を有する化合物、ポリカルボジイミド化合物、２個以上のオキサゾリン基を有する化合物、２個以上のアジリジン基を有する化合物、多価金属類、２個以上のメルカプト基を有する化合物、ポリイソシアネート化合物等が挙げられる。中でも、形成された隔壁の耐薬品性が向上する点から、アミノ樹脂、２個以上のエポキシ基を有する化合物または２個以上のオキサゾリン基を有する化合物が特に好ましい。
【０１５９】
ネガ型感光性樹脂組成物における全固形分中の熱硬化剤（Ｉ）の含有割合は、０．１〜２０質量％が好ましく、１〜２０質量％が特に好ましい。上記範囲であると、得られるネガ型感光性樹脂組成物の現像性が良好となる。
【０１６０】
［リン酸化合物（Ｊ）］
本発明におけるネガ型感光性樹脂組成物は、必要に応じて、リン酸化合物（Ｊ）を含んでいてもよい。ネガ型感光性樹脂組成物がリン酸化合物（Ｊ）を含むことで、基材との密着性を向上させることができる。
リン酸化合物しては、モノ（メタ）アクリロイルオキシエチルフォスフェート、ジ（メタ）アクリロイルオキシエチルフォスフェート、トリス（メタ）アクリロイルオキシエチルフォスフェート等が挙げられる。
【０１６１】
ネガ型感光性樹脂組成物における全固形分中のリン酸化合物（Ｊ）の含有割合は、０．１〜１０質量％が好ましく、０．１〜１質量％が特に好ましい。上記範囲であると、得られるネガ型感光性樹脂組成物から形成される硬化膜の基材との密着性が良好となる。
【０１６２】
［その他の添加剤］
本発明におけるネガ型感光性樹脂組成物は、さらに必要に応じて、硬化促進剤、増粘剤、可塑剤、消泡剤、レベリング剤、ハジキ防止剤、紫外線吸収剤等を使用することができる。
【０１６３】
［ネガ型感光性樹脂組成物］
本発明のネガ型感光性樹脂組成物は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）、光重合開始剤（Ｂ）、撥インク剤（Ｃ）および溶媒（Ｅ）を含有する。さらに、必要に応じて、黒色着色剤（Ｄ）、架橋剤（Ｆ）を含有する。さらに、上記の微粒子（Ｇ）、シランカップリング剤（Ｈ）、熱硬化剤（Ｉ）、リン酸化合物（Ｊ）およびその他の添加剤を含有してもよい。
本発明のネガ型感光性樹脂組成物を製造する方法としては、特に制限されず、上記各成分の所定量を秤量し一般的な方法混合することで製造できる。
【０１６４】
本発明のネガ型感光性樹脂組成物は、通常のネガ型感光性樹脂組成物と同様にフォトリソグラフィ等の材料として用いられ、得られた硬化膜は隔壁等として、通常のネガ型感光性樹脂組成物の硬化膜が用いられる光学素子の部材として、使用することが可能である。上記特定の撥インク剤（Ｃ）とその他固形成分に、沸点およびＦｅｄｏｒの溶解度パラメータ等に特徴を有する化合物（溶媒（Ｅ１））を含む溶媒（Ｅ）を組み合わせた本発明のネガ型感光性樹脂組成物を用いれば、上記の通り、３３０ｎｍ以下が遮光された光で露光した場合でも、撥インク性が良好な表面と親インク性が良好な側面を有する隔壁を形成できる。
【０１６５】
（ネガ型感光性樹脂組成物の好ましい組み合わせ）
本発明のネガ型感光性樹脂組成物は、用途や要求特性に合わせて組成と配合比を適宜選択することが好ましい。
本発明のネガ型感光性樹脂組成物における各種配合成分の好ましい組成を以下に示す。
【０１６６】
＜組み合わせ１＞
アルカリ可溶性樹脂（Ａ）：ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂に酸性基とエチレン性二重結合とを導入した樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂に酸性基とエチレン性二重結合とを導入した樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂に酸性基とエチレン性二重結合とを導入した樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂に酸性基とエチレン性二重結合とを導入した樹脂、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂に酸性基とエチレン性二重結合とを導入した樹脂、上記式（Ａ１−２ａ）〜（Ａ１−２ｃ）で表されるエポキシ樹脂に酸性基とエチレン性二重結合とを導入した樹脂から選ばれる少なくとも１つの樹脂であって、ネガ型感光性樹脂組成物における全固形分中に１０〜６０質量％、
【０１６７】
光重合開始剤（Ｂ）：Ｏ−アシルオキシム系化合物であって、ネガ型感光性樹脂組成物における全固形分中に３〜６質量％
撥インク剤（Ｃ）：１分子中に式（１）で表される基を有する側鎖と、エチレン性二重結合を有する側鎖と、酸性基を有する側鎖とを有する化合物から選ばれる少なくとも１つの撥インク剤であって、ネガ型感光性樹脂組成物における全固形分中に０．０５〜２０質量％、
【０１６８】
黒色着色剤（Ｄ）：カーボンブラック、有機顔料から選ばれる少なくとも１つの着色剤であって、ネガ型感光性樹脂組成物における全固形分中に２０．９５〜６０質量％、
溶媒（Ｅ）：該溶媒（Ｅ）の全量に対して、沸点が１６５℃以上、かつＦｅｄｏｒの溶解度パラメータが８．０〜８．５である溶媒（Ｅ１)を３０〜９０質量％、溶媒（Ｅ３）としてＰＧＭＥＡを１０〜７０質量％それぞれ含有する、溶媒（Ｅ）をネガ型感光性樹脂組成物中に６５〜９０質量％、
架橋剤（Ｆ）：１分子中に２つ以上のエチレン性二重結合を有し、酸性基を有しない化合物であって、ネガ型感光性樹脂組成物における全固形分中に５〜４０質量％、
【０１６９】
微粒子（Ｇ）：平均粒子径が２００ｎｍ以下でマイナスに帯電しているシリカ微粒子であって、ネガ型感光性組成物における全固形分中に１０〜３０質量％、
シランカップリング剤（Ｈ）：テトラエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロオクチルエチルトリメトキシシラン、ポリオキシアルキレン鎖含有トリエトキシシラン、イミダゾールシランから選ばれる少なくとも１つの化合物であって、ネガ型感光性樹脂組成物における全固形分中に１〜１０質量％、
【０１７０】
＜組み合わせ２＞
アルカリ可溶性樹脂（Ａ）、光重合開始剤（Ｂ）、撥インク剤（Ｃ）、黒色着色剤（Ｄ）、架橋剤（Ｆ）、微粒子（Ｇ）およびシランカップリング剤（Ｈ）は組み合わせ１と同様であり、溶媒（Ｅ）が以下である。
溶媒（Ｅ）：該溶媒（Ｅ）の全量に対して、沸点が１６５℃以上、かつＦｅｄｏｒの溶解度パラメータが８．０〜８．５である溶媒（Ｅ１)を３０〜７５質量％、脂肪族環構造を有し、Ｆｅｄｏｒの溶解度パラメータが９．５以上、かつ沸点が溶媒（Ｅ１）の沸点未満である溶媒（Ｅ２）を１５〜３０質量％、溶媒（Ｅ３）としてＰＧＭＥＡを１０〜５５質量％それぞれ含有する、溶媒（Ｅ）をネガ型感光性樹脂組成物中に６５〜９０質量％。
【０１７１】
＜組み合わせ３＞
アルカリ可溶性樹脂（Ａ）：ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂に酸性基とエチレン性二重結合とを導入した樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂に酸性基とエチレン性二重結合とを導入した樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂に酸性基とエチレン性二重結合とを導入した樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂に酸性基とエチレン性二重結合とを導入した樹脂、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂に酸性基とエチレン性二重結合とを導入した樹脂、上記式（Ａ１−２ａ）〜（Ａ１−２ｃ）で表されるエポキシ樹脂に酸性基とエチレン性二重結合とを導入した樹脂から選ばれる少なくとも１つの樹脂であって、ネガ型感光性樹脂組成物における全固形分中に１０〜６０質量％、
【０１７２】
光重合開始剤（Ｂ）：Ｏ−アシルオキシム系化合物であって、ネガ型感光性樹脂組成物における全固形分中に３〜６質量％
撥インク剤（Ｃ）：１分子中に式（１）で表される基を有する側鎖と、エチレン性二重結合を有する側鎖と、酸性基を有する側鎖とを有する化合物から選ばれる少なくとも１つの撥インク剤であって、ネガ型感光性樹脂組成物における全固形分中に０．０５〜２０質量％、
【０１７３】
黒色着色剤（Ｄ）：カーボンブラック、有機顔料から選ばれる少なくとも１つの着色剤であって、ネガ型感光性樹脂組成物における全固形分中に２０．９５〜６０質量％、
溶媒（Ｅ）：該溶媒（Ｅ）の全量に対して、沸点が１６５℃以上、かつＦｅｄｏｒの溶解度パラメータが８．０〜８．５である溶媒（Ｅ１)を３０〜７５質量％、脂肪族環構造を有し、Ｆｅｄｏｒの溶解度パラメータが９．５以上、かつ沸点が溶媒（Ｅ１）の沸点未満である溶媒（Ｅ２）を１５〜３０質量％、溶媒（Ｅ３）としてＰＧＭＥＡを１０〜５５質量％それぞれ含有する、溶媒（Ｅ）をネガ型感光性樹脂組成物中に６５〜９０質量％、
架橋剤（Ｆ）：１分子中に２つ以上のエチレン性二重結合を有し、酸性基を有しない化合物であって、ネガ型感光性樹脂組成物における全固形分中に４〜４０質量％、
【０１７４】
微粒子（Ｇ）：平均粒子径が２００ｎｍ以下でマイナスに帯電しているシリカ微粒子であって、ネガ型感光性組成物における全固形分中に１０〜３０質量％、
シランカップリング剤（Ｈ）：テトラエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロオクチルエチルトリメトキシシラン、ポリオキシアルキレン鎖含有トリエトキシシラン、イミダゾールシランから選ばれる少なくとも１つの化合物であって、ネガ型感光性樹脂組成物における全固形分中に１〜１０質量％、
熱硬化剤（Ｉ）：アミノ樹脂、２個以上のエポキシ基を有する化合物、２個以上のオキサゾリン基を有する化合物から選ばれる少なくとも１つの化合物であって、ネガ型感光性樹脂組成物における全固形分中に１〜２０質量％。
【０１７５】
［隔壁およびその製造方法］
本発明の隔壁は、基板表面に区画を設けるために形成される隔壁であって、上記本発明のネガ型感光性樹脂組成物の硬化膜からなる。本発明の隔壁は、光学素子の用途に好適に用いられ、上記ネガ型感光性樹脂組成物が黒色着色剤（Ｄ）を含有する場合には、得られる隔壁はブラックマトリックスとしての適用が可能である。本発明の隔壁は、例えば、基板表面に複数の画素と隣接する画素間に位置する隔壁とを有する光学素子用の隔壁に適用される。
【０１７６】
本発明のネガ型感光性樹脂組成物を用いて本発明の光学素子用の隔壁を製造する方法としては、例えば、以下の方法が挙げられる。
【０１７７】
本発明のネガ型感光性樹脂組成物を上記基板表面に塗布して塗膜を形成し（塗膜形成工程）、次いで、上記塗膜を乾燥して膜とし（乾燥工程）、次いで、上記膜の隔壁となる部分のみを露光して光硬化させ（露光工程）、次いで、上記光硬化した部分以外の膜を除去して上記膜の光硬化部分からなる隔壁を形成させ（現像工程）、次いで、必要に応じて上記形成された隔壁等をさらに熱硬化させる（ポストベーク工程）ことにより、本発明の光学素子用の隔壁が製造できる。また、現像工程とポストベーク工程の間に、上記形成された隔壁等をさらに光硬化させる（ポスト露光工程）を入れてもよい。
【０１７８】
基板の材質は特に限定されるものではないが、各種ガラス板；ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート等）、ポリオレフィン（ポリエチレン、ポリプロピレン等）、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリスルホン、ポリイミド、ポリ（メタ）アクリル樹脂等の熱可塑性プラスチックシート；エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル等の熱硬化性樹脂の硬化シート等を使用できる。特に、耐熱性の点からガラス板、ポリイミド等の耐熱性プラスチックが好ましい。また、ポスト露光を、隔壁が形成されていない裏面（基板側）から行うこともあるため、透明基板であることが好ましい。
基板のネガ型感光性樹脂組成物の塗布面は、塗布前に予めアルコール洗浄、紫外線／オゾン洗浄等で洗浄することが好ましい。
【０１７９】
（塗膜形成工程）
塗布方法としては、膜厚が均一な塗膜が形成される方法であれば特に制限されず、スピンコート法、スプレー法、スリットコート法、ロールコート法、回転塗布法、バー塗布法等、通常の塗膜形成に用いられる方法が挙げられる。特に大面積に一度に塗布できるスリットコート法であることが好ましい。本発明のネガ型感光性樹脂組成物が、溶媒（Ｅ）の一部として溶媒（Ｅ２）を含む場合には、該組成物は再溶解性に優れ、スリットノズル周辺の乾燥物に起因する不具合等を解消できることから、特にスリットコート法において有利である。
塗膜の膜厚は最終的に得られる隔壁の高さとネガ型感光性樹脂組成物の固形分濃度を勘案して決められる。塗膜の膜厚は、最終的に得られる隔壁の高さの５００〜２，０００％が好ましく、５５０〜１，０００％が特に好ましい。塗膜の膜厚は０.３〜１００μｍが好ましく、１〜５０μｍが特に好ましい。
【０１８０】
（乾燥工程）
上記塗膜形成工程で基板表面に形成された塗膜を乾燥し、膜を得る。乾燥によって、塗膜を構成するネガ型感光性樹脂組成物に含まれる溶媒を含む揮発成分が揮発、除去され、粘着性のない膜が得られる。この際、撥インク剤（Ｃ）が膜表面近傍に移行する。
本発明のネガ型感光性樹脂組成物は、乾燥工程における、撥インク剤（Ｃ）の膜表面への移行が促進されるように、上記組成を採用したものであり、ここで得られる膜表面の撥インク剤層の厚さは、以下の露光工程、現像工程を経ても充分に残存する厚さとなっている。
【０１８１】
乾燥の方法としては、真空乾燥や加熱乾燥（プリベーク）が好ましい。また、塗膜外観のムラを発生させず、効率よく乾燥させるために、真空乾燥と加熱乾燥を併用することがより好ましい。
真空乾燥の条件は、各成分の種類、配合割合等によっても異なるが、１０〜５００Ｐａで１０〜３００秒間行うことが好ましい。
加熱乾燥は、基板とともに塗膜をホットプレート、オーブン等の加熱装置により、５０〜１２０℃で１０〜２，０００秒間行うことが好ましい。
【０１８２】
なお、乾燥温度と時間は、ネガ型感光性樹脂組成物に用いる溶媒（Ｅ)の組成により、撥インク剤（Ｃ）の塗膜表面への移行が促進されるような条件を選択する。例えば、溶媒（Ｅ）として、ジエチレングリコールエチルメチルエーテルを含む溶媒を用いる場合には、乾燥温度は７５〜１００℃が好ましく、乾燥時間は３０〜３００秒間が好ましい。
【０１８３】
ここで、乾燥工程後の撥インク剤層の厚さは、以下の露光工程により硬化膜とした後、通常の現像工程において、未露光部分とともに、わずかながら除去される硬化膜（隔壁）表面の厚さ以上であることが求められる。露光工程において、３３０ｎｍ以下の光を遮光して露光を行った場合には、現像により除去される硬化膜（隔壁）表面の厚さは増大すると想定される。３３０ｎｍ以下の光を遮光して露光を行った場合であっても、乾燥工程後の撥インク剤層の厚さが概ね６０ｎｍ以上であれば、露光工程後の現像工程を経た後も、硬化膜（隔壁）表面の撥インク性は確保される。よって、乾燥工程の撥インク剤層の厚さは、６０ｎｍ以上であり、側面を親インク性とする観点から、３００ｎｍ以下であることが好ましい。
【０１８４】
上記撥インク剤層の厚さは、例えば、次の方法により測定できる。試料となる表面に撥インク剤層を有する膜、すなわち、ネガ型感光性樹脂組成物の塗膜を乾燥して得られる膜について、初期膜厚を測定した後、以下の現像に用いる現像液の濃度と処理時間を変えて、表層からエッチングにより除去される膜の厚さ（以下、「エッチング厚」ともいう。）が異なるサンプルを複数枚作製する。ここで、エッチング厚は、初期膜厚からこれらエッチング処理後の膜サンプルについて測定した膜厚を引いた値として求められる。ついで、エッチング処理後の膜サンプルについて熱処理を行った後、撥インク性の有無を、例えば、ＰＧＭＥＡの接触角が４０度以上を撥インク性「有」、４０度未満を「無」として確認する。この撥インク性の有無とエッチング厚との関係から撥インク剤層の厚さを求める。
【０１８５】
（露光工程）
得られた膜の一部に所定パターンのマスクを介して露光を行う。露光部のネガ型感光性樹脂組成物は硬化し、未露光部のネガ型感光性樹脂組成物は硬化しない。
照射する光としては、可視光；紫外線；遠紫外線；ＫｒＦエキシマレーザ、ＡｒＦエキシマレーザ、Ｆ２エキシマレーザ、Ｋｒ２エキシマレーザ、ＫｒＡｒエキシマレーザ、Ａｒ２エキシマレーザ等のエキシマレーザ；Ｘ線；電子線等が挙げられる。また、照射光としては、波長１００〜６００ｎｍの光が好ましく、３００〜５００ｎｍの範囲に分布を有する光がより好ましく、ｉ線（３６５ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）およびｇ線（４３６ｎｍ）が特に好ましい。ミラープロジェクション（ＭＰＡ）方式での露光方法を用いる場合には、３３０ｎｍ以下の光を遮光して露光光線が照射される。
【０１８６】
照射装置として、公知の超高圧水銀灯等を用いることができる。露光量は、ｉ線基準で、５〜１，０００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、１０〜２００ｍＪ／ｃｍ２が特に好ましい。また、カットフィルタ等により３３０ｎｍ以下の電磁波をカットした場合には、ｉ線基準で、５〜１，０００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、５〜２００ｍＪ／ｃｍ２がより好ましく、１０〜１００ｍＪ／ｃｍ２がさらに好ましく、１５〜５０ｍＪ／ｃｍ２が特に好ましい。露光量が上記範囲の下限値以上であると、隔壁となるネガ型感光性樹脂組成物の硬化が充分であり、その後の現像で溶解や基板からの剥離が生じにくくなる。上記範囲の上限値以下であると、高い解像度が得られる。本発明のネガ型感光性樹脂組成物から得られる硬化膜の表面は、カットフィルタ等により３３０ｎｍ以下の電磁波をカットした場合でも、特に撥インク性が良好である。
【０１８７】
（現像工程）
現像液により現像し、未露光部分のネガ型感光性樹脂組成物を除去する。現像液としては、無機アルカリ類、アミン類、アルコールアミン類、第４級アンモニウム塩等のアルカリ類を含むアルカリ水溶液を用いることができる。また現像液には、溶解性の向上や残渣除去のために、界面活性剤やアルコール等の有機溶媒を添加することができる。
現像時間（現像液に接触させる時間）は、５〜１８０秒間が好ましい。また現像方法は液盛り法、ディッピング法、シャワー法等が挙げられる。現像後、高圧水洗や流水洗浄を行い、圧縮空気や圧縮窒素で風乾させることによって、基板表面の水分を除去できる。
【０１８８】
（ポスト露光工程）
次に、必要に応じてポスト露光を行ってもよい。ポスト露光は隔壁が形成されている表面、または隔壁が形成されていない裏面（基板側）のいずれから行ってもよい。また、表裏両面から露光してもよい。露光量は、５０ｍＪ／ｃｍ２以上が好ましく、２００ｍＪ／ｃｍ２以上がより好ましく、１，０００ｍＪ／ｃｍ２以上がさらに好ましく、２，０００ｍＪ／ｃｍ２以上が特に好ましい。
【０１８９】
照射する光としては、紫外線が好ましく、光源として、公知の超高圧水銀灯または高圧水銀灯等を用いることができる。これらの光源は隔壁の硬化に寄与する６００ｎｍ以下の光を発光し、かつ、隔壁の酸化分解の原因となる２００ｎｍ以下の光の発光が少ないため、好ましく用いられる。さらに水銀灯に用いられている石英管ガラスが２００ｎｍ以下の光をカットする光学フィルタ機能を有することが好ましい。
【０１９０】
光源としては、低圧水銀灯を用いることもできる。ただし、低圧水銀灯は２００ｎｍ以下の波長の発光強度も高く、オゾンの生成により隔壁の酸化分解が起こり易いため、多量の露光を行うことは好ましくない。露光量は５００ｍＪ／ｃｍ２以下であることが好ましく、３００ｍＪ／ｃｍ２以下が特に好ましい。
【０１９１】
（ポストベーク工程）
続いて、隔壁を加熱することが好ましい。ホットプレート、オーブン等の加熱装置により、５〜９０分間加熱処理をすることによって、隔壁および隔壁で区分された領域（ドット）とからなるパターンが形成される。
加熱温度は１５０〜２５０℃が好ましく、１８０〜２５０℃が特に好ましい。加熱温度が上記範囲の下限値以上であると、隔壁の硬化が充分であり、充分な耐薬品性が得られ、その後のインクジェット塗布工程でインクを塗布した場合に、そのインクに含まれる溶媒により隔壁が膨潤したり、インクが滲んでしまうことがない。上記範囲の上限値以下であると、隔壁の熱分解が生じにくい。
【０１９２】
本発明のネガ型感光性樹脂組成物から形成されるパターンは、隔壁の幅の平均が、１００μｍ以下であることが好ましく、２０μｍ以下であることが特に好ましい。隣接する隔壁間の距離（ドットの幅）の平均は、３００μｍ以下であることが好ましく、１００μｍ以下であることが特に好ましい。隔壁の高さの平均は、０．０５〜５０μｍであることが好ましく、０．２〜１０μｍであることが特に好ましい。
【０１９３】
なお、ネガ型感光性樹脂組成物から形成される硬化膜の撥インク性は、ＰＧＭＥＡの接触角で見積もることができ、ＰＧＭＥＡの接触角は４０度以上が好ましく、４５度以上が特に好ましい。上記範囲であると、インクジェット塗布液が隣接画素内に溢れ出ることによる混色を防ぐのに充分な撥インク性となる。
【０１９４】
本発明の隔壁が適用される光学素子としては、カラーフィルタ、有機ＥＬ素子等が挙げられる。
【０１９５】
［カラーフィルタの製造方法］
上記のように基板表面に隔壁、例えば、ブラックマトリックスを形成した後、ブラックマトリックスで区分された領域内に、インクジェット法によりインクジェット装置を用いてインクを注入して画素を形成することで、カラーフィルタを製造できる。以下、隔壁がブラックマトリックスである場合を例に説明する。
【０１９６】
また、上記ブラックマトリックスが形成された基板においては、該ブラックマトリックスで仕切られた領域（ドット）内にインクを投入する前に、ドット内に露出した基板表面に、例えば、アルカリ水溶液による洗浄処理、紫外線洗浄処理、紫外線／オゾン洗浄処理、エキシマ洗浄処理、コロナ放電処理、酸素プラズマ処理等の方法で親インク化処理が施されてもよい。
【０１９７】
インクジェット装置としては、特に限定されるものではないが、帯電したインクを連続的に噴射し磁場によって制御する方法、圧電素子を用いて間欠的にインクを噴射する方法、インクを加熱しその発泡を利用して間欠的に噴射する方法等の各種の方法を用いた装置を用いることができる。
画素の形状は、ストライプ型、モザイク型、トライアングル型、４画素配置型等の公知のいずれの配列とすることも可能である。
【０１９８】
インクジェット法に用いるインクは、主に着色成分とバインダー樹脂成分と溶剤とを含む。着色成分としては、耐熱性、耐光性等に優れた顔料および染料を用いることが好ましい。
バインダー樹脂成分としては、透明で耐熱性に優れた樹脂が好ましく、アクリル樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂等が挙げられる。水性のインクは、溶剤として水および必要に応じて水溶性有機溶媒を含み、バインダー樹脂成分として水溶性樹脂または水分散性樹脂を含み、必要に応じて各種助剤を含む。また、油性のインクは、溶剤として有機溶剤を含み、バインダー樹脂成分として有機溶剤に可溶な樹脂を含みし、必要に応じて各種助剤を含む。
なお、インクジェット法においては、上記インクジェット装置でドットにインクを注入した後、ドット内に形成されたインク層に対して、必要に応じて、乾燥、加熱硬化、紫外線硬化等の処理を行うことで画素が形成される。
【０１９９】
画素形成後、必要に応じて、保護膜層を形成する。保護膜層は表面平坦性を上げる目的とブラックマトリックスや画素部のインクからの溶出物が液晶層に到達するのを遮断する目的で形成することが好ましい。保護膜層を形成する場合は、事前にブラックマトリックスの撥インク性を除去することが好ましい。撥インク性を除去しない場合、オーバーコート用塗布液をはじき、均一な膜厚が得られないため好ましくない。ブラックマトリックスの撥インク性を除去する方法としては、プラズマアッシング処理や光アッシング処理等が挙げられる。
さらに必要に応じて、カラーフィルタを用いて製造される液晶パネル等の高品位化のためにフォトスペーサをブラックマトリックス上に形成することが好ましい。
【０２００】
［有機ＥＬ素子の製造方法］
隔壁を形成する前に、ガラス等の透明基板にスズドープ酸化インジウム錫（ＩＴＯ）等の透明電極をスパッタ法等によって製膜し、必要に応じて所望のパターンに透明電極をエッチングする。次に、本発明のネガ型感光性樹脂組成物を用いて隔壁を形成し、ドットの親インク化処理後、インクジェット法を用いてドットに正孔輸送材料、発光材料の溶液を順次塗布、乾燥して、正孔輸送層、発光層を形成する。その後アルミニウム等の電極を蒸着法等によって形成することによって、有機ＥＬ素子の画素が得られる。
【実施例】
【０２０１】
以下に実施例を用いて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。なお、例１〜１１は実施例、例２１〜２４が比較例である。
【０２０２】
［評価方法］
各測定は以下の方法で行った。
（数平均分子量（Ｍｎ）、質量平均分子量（Ｍｗ））
ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ法）により、ポリスチレンを標準物質として測定した。
（撥インク剤（Ｃ）中のフッ素原子の含有率、エチレン性二重結合の量、酸価）
撥インク剤（Ｃ）中のフッ素原子の含有率は、１，４−ジトリフルオロメチルベンゼンを標準物質として、１９Ｆ  ＮＭＲ測定により算出した。
撥インク剤（Ｃ）中のエチレン性二重結合の量は、１，４−ジトリフルオロメチルベンゼンを標準物質として、１Ｈ  ＮＭＲ測定により算出した。
撥インク剤（Ｃ）の酸価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）は、原料である単量体の配合割合から算出した理論値である。
（膜厚）
「膜」および「硬化膜」の膜厚は、高精度微細形状測定機ＳＵＲＦＣＯＲＤＥＲ  ＥＴ４０００Ａ（小坂研究所製）を用いて測定した。
【０２０３】
［化合物の略語］
合成例および実施例で用いた化合物の略語は以下の通りである。
（アルカリ可溶性樹脂（Ａ））
ＺＣＲ１６４２：上式（Ａ１−２ａ）で表されるビフェニル骨格を有するエポキシ樹脂にエチレン性二重結合と酸性基とを導入した樹脂（日本化薬社製、商品名：ＺＣＲ−１６４２Ｈ、質量平均分子量（Ｍｗ）：５，８００、酸価：１００ｍｇＫＯＨ／ｇ、固形分：７０質量％、ＰＧＭＥＡ：３０質量％）。
ＺＡＲ２００１：ビスフェノールＡ骨格を有するエポキシ樹脂にエチレン性二重結合と酸性基とを導入した樹脂（日本化薬製、商品名：ＺＡＲ２００１Ｈ、質量平均分子量（Ｍｗ）：１６，２００、酸価：１００ｍｇＫＯＨ／ｇ、固形分：７０質量％、ＰＧＭＥＡ：３０質量％）。
【０２０４】
（光重合開始剤（Ｂ））
ＯＸＥ０２：エタノン,１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−１−（Ｏ−アセチルオキシム）（式（４）で表される化合物において、Ｒ３：メチル基、Ｒ４：メチル基、Ｒ５：エチル基、Ｒ６、Ｒ８、Ｒ９：水素原子、Ｒ７：２−メチルベンゾイル基で示される。ＢＡＳＦ社製、商品名：ＯＸＥ０２。）。
ＮＣＩ８３１（ＡＤＥＫＡ社製、商品名：アデカクルーズ  ＮＣＩ−８３１。）。
【０２０５】
（撥インク剤（Ｃ）の合成に用いた化合物）
ＭＥＫ：２−ブタノン。
Ｃ６ＦＭＡ：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）６Ｆ（単量体（ａ１）に該当する。）。
ＭＡＡ：メタクリル酸（単量体（ａ４）に該当する。）。
ＰＭＥ４００：ブレンマーＰＭＥ−４００（日本油脂社製、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｋＣＨ３、式中のｋは分子間の平均値を示し、ｋの値は約９である。）（単量体（ａ５）の化合物（１２）に該当する。）。
２−ＨＥＭＡ：２−ヒドロキシエチルメタクリレート（単量体（ａ３）に該当する。）。
Ｖ−６５：アゾ系重合開始剤（和光純薬工業社製、商品名：Ｖ−６５）。
【０２０６】
ＡＯＩ：２−アクリロイルオキシエチルイソシアネート（昭和電工社製、商品名：カレンズＡＯＩ）（化合物（ｚ１）に該当する。）。
ＤＢＴＤＬ：ジブチル錫ジラウレート。
ＢＨＴ：２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール。
【０２０７】
（黒色着色剤（Ｄ）＋高分子分散剤）
ＣＢ：カーボンブラック分散液（平均２次粒径：１２０ｎｍ、カーボンブラック：２０質量％、アミン価１８ｍｇＫＯＨ／ｇのポリウレタン系高分子分散剤：５質量％、ＰＧＭＥＡ：７５質量％。）。
混合有機顔料：Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９および高分子分散剤の１０：５：５：５の混合物（固形分：２５質量％、ＰＧＭＥＡ：７５質量％。）。
【０２０８】
（溶媒（Ｅ））
（ｉ）溶媒（Ｅ１）
ＥＤＭ：ジエチレングリコールエチルメチルエーテル（沸点：１７６℃、ＳＰ値：８．２）。
ＥＤＥ：ジエチレングリコールジエチルエーテル（沸点：１８９℃、ＳＰ値：８．２）。
ＢＤＭ：ジエチレングリコールブチルメチルエーテル（沸点：２１２℃、ＳＰ値：８．２）。
(ii）溶媒（Ｅ２）
ＣＨＮ：シクロヘキサノン（沸点：１５５℃、ＳＰ値：９．８）。
【０２０９】
(iii）溶媒（Ｅ３）
ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコール１−モノメチルエーテル２−アセテート（沸点：１４６℃、ＳＰ値：８．７）。
ＭＤＭ：ジエチレングリコールジメチルエーテル（沸点：１６２℃、ＳＰ値：８．１）。
ＤＭＭ：ジプロピレングリコールジメチルエーテル（沸点：１７１℃、ＳＰ値：７．９）。
ＣＨＸＡ：酢酸シクロヘキシル（沸点：１７３℃、ＳＰ値：９．２）。
ＩＰＡ：イソプロピルアルコール（沸点：８２℃、ＳＰ値：１１．６）。
ＢＡ：酢酸ブチル（沸点：１２６℃、ＳＰ値：８．７）。
【０２１０】
（架橋剤（Ｆ））
ＵＸ５００２：多官能ウレタンアクリレートオリゴマー（日本化薬社製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ  ＵＸ−５００２Ｄ−Ｐ２０、固形分：８０質量％、ＰＧＭＥＡ：２０質量％。）。
（微粒子（Ｇ））
ＰＭＡ−ＳＴ：商品名（日産化学工業社製、オルガノシリカゾル、固形分：３０質量％、ＰＧＭＥＡ：７０質量％。）。
（シランカップリング剤（Ｈ））
ＫＢＭ５１０３：商品名（信越化学社製、３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン。）。
（熱硬化剤（Ｉ））
ＸＤ１０００：多官能エポキシ樹脂（日本化薬社製、商品名：ＸＤ１０００）
【０２１１】
［合成例１：撥インク剤（Ｃ−１）の合成］
（共重合体１の合成）
撹拌機を備えた内容積２Ｌのオートクレーブに、ＭＥＫ（７００ｇ）、Ｃ６ＦＭＡ（１４０ｇ）、ＭＡＡ（１５ｇ）、ＰＭＥ４００（６０ｇ）、２−ＨＥＭＡ（８５ｇ）および重合開始剤Ｖ−６５（２ｇ）を仕込み、窒素ガス中で撹拌しながら、５０℃で２４時間重合させ、粗共重合体を合成した。得られた粗共重合体の溶液をヘキサンに加えて再沈精製した後、真空乾燥し、共重合体１（２４２ｇ）を得た。
該共重合体１は、数平均分子量（Ｍｎ）が３５，０００、質量平均分子量（Ｍｗ）が９１，０００であった。
【０２１２】
（エチレン性二重結合の導入）
温度計、撹拌機、加熱装置を備えた内容量３００ｍＬのガラス製フラスコに、共重合体１（４０ｇ）、ＡＯＩ（１２ｇ）、ＤＢＴＤＬ（０．０５ｇ）、ＢＨＴ（０．２ｇ）およびＭＥＫ（１３０ｇ）を仕込み、撹拌しながら、４０℃で２４時間反応させ、撥インク剤（Ｃ−１）の溶液を得た。得られた撥インク剤（Ｃ−１）のＭＥＫ溶液をヘプタンに加え再沈精製し、真空乾燥し、撥インク剤（Ｃ−１）（４１ｇ）を得た。数平均分子量（Ｍｎ）は３８，０００、質量平均分子量（Ｍｗ）は１０５，０００であった。撥インク剤（Ｃ−１）の赤外分光分析を行ったところ、アクリロイル基のＣ＝Ｃ伸縮振動に由来する吸収帯（１，６３５ｃｍ−１）、アクリロイル基のＣＨ２面内変角振動に由来する吸収帯（１，４０９ｃｍ−１）、およびアクリロイル基のＣＨ２面外変角振動に由来する吸収帯（８１０ｃｍ−１）が存在すること、またＡＯＩのＮＣＯ伸縮振動に由来する吸収帯（２，２７４ｃｍ−１）が消失していたことから、撥インク剤（Ｃ−１）中にアクリロイル基が存在することが確認された。
得られた撥インク剤（Ｃ−１）の数平均分子量（Ｍｎ）、質量平均分子量（Ｍｗ、×１０４）、フッ素原子の含有率、エチレン性二重結合の量（×１０−３ｍｏｌ／ｇ）、酸価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）を表１に示した。
【０２１３】
【表１】
2013050549.tif 000007
【０２１４】
［例１〜１１、２１〜２４］
（ネガ型感光性樹脂組成物の調製）
表２および表３に示す割合で、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）（溶媒としてＰＧＭＥＡを３０質量％含む。）、光重合開始剤（Ｂ）、撥インク剤（Ｃ）（溶媒としてＰＧＭＥＡを９０質量％含む。）、黒色着色剤（Ｄ）と高分子分散剤の混合物（溶媒としてＰＧＭＥＡを７５質量％含む。）、溶媒（Ｅ）、架橋剤（Ｆ）（溶媒としてＰＧＭＥＡを２０質量％含む。）、微粒子（Ｇ）（溶媒としてＰＧＭＥＡを７０質量％含む。）、シランカップリング剤（Ｈ）および熱硬化剤（Ｉ）を配合して、ネガ型感光性樹脂組成物を得た。なお、表２および表３中の組成は仕込み量であるが、例１において、ネガ型感光性樹脂組成物を１４０℃で２４時間加熱したところ、全固形分は、ネガ型感光性樹脂組成物中の１３質量％であり、仕込み量と一致していることを確認した。
【０２１５】
（隔壁の形成）
ガラス基板表面にスピンナーを用いてネガ型感光性樹脂組成物を塗布し、塗膜を形成した（塗膜形成工程）。次に、１００℃、２分間ホットプレート上で乾燥し、膜厚２．０μｍの膜を形成したガラス基板（１）を得た（乾燥工程）。次に、１０μｍ×１０ｍｍの線状の開口部を持つフォトマスクを通して、超高圧水銀灯（３３０ｎｍ以下の光をカットフィルタにより遮光。主にｉ線、ｈ線およびｇ線からなる混合線。）を用いて、露光量がｉ線（３６５ｎｍ）基準で５０ｍＪ／ｃｍ２の光を照射し、ガラス基板（１−２）を得た（露光工程）。
【０２１６】
次いで、ガラス基板（１−２）を無機アルカリタイプ現像液（横浜油脂工業社製、商品名：セミクリーンＤＬ−Ａ４の１０倍希釈水溶液）に浸漬して現像し、未露光部を水により洗い流し、乾燥させた（現像工程）。
次いで、ホットプレート上、２２０℃で１時間加熱することにより、パターンが形成されたガラス基板（２）を得た（ポストベーク工程）。
【０２１７】
また、ガラス基板（１）を無機アルカリタイプ現像液（横浜油脂工業社製、商品名：セミクリーンＤＬ−Ａ４の希釈水溶液）に浸漬して、エッチング厚が３００ｎｍとなるように現像した。次いで、ホットプレート上、２２０℃で１時間加熱することにより、硬化膜が形成されたガラス基板（３）を得た。
【０２１８】
（評価）
ガラス基板（１）〜（３）を用いて、隔壁表面の撥インク性、隔壁側面の親インク性および撥インク剤層の厚さを以下に示す方法で測定、評価した。評価結果を表２および表３に示す。
【０２１９】
（１）隔壁表面の撥インク性
隔壁表面の撥インク性は、上記ガラス基板（２）上の隔壁表面のＰＧＭＥＡの接触角（度）により評価した。接触角とは、固体と液体が接触する点における液体表面に対する接線と固体表面がなす角で、液体を含む方の角度で定義した。この角度が大きいほど隔壁表面の撥インク性が優れることを意味する。ＰＧＭＥＡの接触角４０度以上を○（良好）、４０度未満を×（不良）とした。
【０２２０】
（２）隔壁側面の親インク性
隔壁側面の親インク性は、上記ガラス基板（３）表面の硬化膜のＰＧＭＥＡの接触角（度）を測定することで、評価した。なお、この角度が小さいほど隔壁側面の親インク性が優れることを意味する。ＰＧＭＥＡの接触角１０度未満を○（良好）、１０度以上を×（不良）とした。
【０２２１】
（３）撥インク剤層の厚さ
上記ガラス基板（１）を複数枚準備し、無機アルカリタイプ現像液（横浜油脂工業社製、商品名：セミクリーンＤＬ−Ａ４の希釈水溶液）を用いてその濃度と浸漬時間を変化させて現像し乾燥させて、エッチング厚を０〜３００ｎｍまで変化させた複数のガラス基板を作製した。これらをホットプレート上、２２０℃で１時間加熱することにより、膜表面がエッチングされた硬化膜が形成されたガラス基板を得た。得られた複数枚のガラス基板上の硬化膜のＰＧＭＥＡの接触角を測定した。エッチング厚が異なるガラス基板上の硬化膜において、ＰＧＭＥＡの接触角が４０度以上になるもののうち、エッチング厚が最大のもののエッチング厚を撥インク剤層の厚さとした。
【０２２２】
撥インク剤層の厚さが大きい程、隔壁表面の撥インク性が良好になると推測できる。３３０ｎｍ以下の光を遮光して露光して作製した隔壁表面に良好な撥インク性を付与するためには、この値は６０ｎｍ以上が好ましい。
【０２２３】
（４）再溶解性
上記ガラス基板（１）について、塗工したネガ型感光性樹脂組成物の乾燥物をそれぞれのネガ型感光性樹脂組成物の固形分を除いた溶媒に相当する混合溶液に溶解し、これをポリエチレン製２．５μｍ孔のメンブレンフィルターでろ過し、目視または光学顕微鏡でメンブレンフィルターに付着した沈殿物を観察した。沈殿物が観察されなかったものを◎（良好）、沈殿物が観察されないが、メンブレンフィルターに着色したものを○（可）、沈殿物が観察されたものを×（不良）と記載した。
【０２２４】
【表２】
2013050549.tif 000008
【０２２５】
【表３】
2013050549.tif 000009
【０２２６】
表２からわかるように、本発明のネガ型感光性樹脂組成物を用いて形成した隔壁は、表面が撥インク性、側面が親インク性であり、撥インク剤層の厚さが大きかった。特に溶媒（Ｅ２)を含むネガ型感光性樹脂組成物を用いた例４〜８および１０〜１１は、再溶解性が良好であった。
一方、表３において、Ｆｅｄｏｒの溶解度パラメータが８．０〜８．５である溶媒を含まないネガ型感光性樹脂組成物を用いた例２１および２２では、隔壁表面の撥インク性、隔壁側面の親インク性および撥インク剤層の厚さが不充分であった。なお撥インク剤層の厚さが、それぞれ５６ｎｍ未満、３３ｎｍ未満と記載しているが、これはエッチングがそれぞれ５６ｎｍと３３ｎｍの時に硬化膜のＰＧＭＥＡの接触角が４０度未満であったことを表している。正確な撥インク剤層の厚さは評価していないが、隔壁表面に良好な撥インク性を付与するために必要な撥インク剤層の厚さである６０ｎｍより小さいことが分かる。Ｆｅｄｏｒの溶解度パラメータが８．５より大きい溶媒を用いた場合、撥インク剤がその他の固形分との間に働く斥力を抑制する結果、表面移行性が低下し、またＦｅｄｏｒの溶解度パラメータが８．０より小さい場合、働く斥力が強すぎる結果、撥インク剤が膜内部で凝集してしまい、撥インク剤の表面移行性が低下したためと推定される。
【０２２７】
Ｆｅｄｏｒの溶解度パラメータが８．１で沸点が１６２℃の溶媒を含むネガ型感光性樹脂組成物を用いた例２３では、隔壁表面の撥インク性が不良で、撥インク剤層の厚さが不充分であった。沸点が１６５℃未満であると乾燥工程における塗膜の乾燥速度が速く、撥インク剤が充分に表面移行する前に溶媒が蒸発して、撥インク剤が表面移行できない状態になったためだと推定される。
溶媒（Ｅ１）の溶媒（Ｅ）の全量に対する割合が５質量％であるネガ型感光性樹脂組成物を用いた例２４では隔壁表面の撥インク性が不良で、撥インク剤層の厚さが６０ｎｍ以下で不充分であった。溶媒（Ｅ１）の含有量が少ないため、撥インク剤が充分に表面移行する前に溶媒が蒸発して、撥インク剤が表面移行できない状態になったためと推定される。
【産業上の利用可能性】
【０２２８】
本発明のネガ型感光性樹脂組成物は、３３０ｎｍ以下の光を遮光して露光した場合においても、表面の撥インク性および側面の親インク性が良好な隔壁を製造できる。
本発明のネガ型感光性樹脂組成物は、インクジェット記録技術法を利用した光学素子製造用として隔壁の形成に好適に用いられる。