(57)【要約】【課題】複数の表面検査装置の各表面検査装置の空間フィルタの相違に関係なく複数の表面検査装置に共通する検査レシピを使用可能な表面検査方法を実現する。【解決手段】ｎを１と設定し表面検査装置Ｎｏ．１のフーリエ像開口部を表示し、空間フィルタを原点に移動させ、原点位置における基準停止画素値を取得する（ステップ６００１〜６００４）。一定のオフセット算出用移動量だけ空間フィルタを移動し原点からの移動量を算出し、ｎ＝１であれば表面検査装置Ｎｏ．１のオフセット値、移動量、基準停止位置を記憶する（ステップ６００５〜６００８）。ｎ＝ｎ＋１とし表面検査装置のＮｏ．２の処理を行うため、ステップ６００２〜６００７、６００９を実行する。以降、ｎがＮと等しくなるまでフローを実行し表面検査装置Ｎｏ．１の空間フィルタの移動量及び移動量係数を基準として表面検査装置Ｎｏ．３〜Ｎの空間フィルタ移動量及び移動量係数を算出し記憶する。【選択図】図７
2013117465.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検査物に照明光を照射する照明部と、
被検査物からの反射光を検出する検出器と、
上記検出器からの反射光検出信号に基づいて、上記被検査物の表面の欠陥を判定する欠陥判定部と、
上記被検査物からの反射光をフィルタリングして上記検出器に入射させる空間フィルタと、
上記空間フィルタの位置を調整し、設定する空間フィルタ設定部と、
上記検出器によって検出された被検査物からの反射光を画像表示する表示部と、
を備え、上記空間フィルタ設定部には、上記空間フィルタの基準停止位置と、移動量係数とが格納され、上記空間フィルタ設定部は、上記空間フィルタを移動させる移動量に上記移動量係数を乗算して得られた移動量と、上記基準停止位置とに従って上記空間フィルタを移動させることを特徴とする表面検査装置。
【請求項２】
請求項１に記載の表面検査装置において、
上記表面検査装置は、複数の表面検査装置からなり、
上記空間フィルタの基準停止位置は、上記複数の表面検査装置のうちの基準表面検査装置の表示部に表示された表示画面の原点から一定の画素数だけ空間フィルタを移動したときの座標と、上記複数の表面検査装置のうちの上記基準表面検査装置とは異なる他の表面検査装置における表示部に表示された表示画面の原点から一定の画素数だけ空間フィルタを移動したときの座標との差を加算又は減算した座標位置であり、
上記空間フィルタの移動量係数は、上記基準表面検査装置の表示部に表示された表示画面で一定の画素数だけ空間フィルタを移動したときの移動量と、上記複数の表面検査装置のうちの上記基準表面検査装置とは異なる他の表面検査装置における表示部に表示された表示画面で一定の画素数だけ空間フィルタを移動したときの移動量との、上記基準表面検査装置の上記移動量を基準とした比であることを特徴とする表面検査装置。
【請求項３】
請求項２に記載の表面検査装置において、
上記基準表面検査装置により作成された検査レシピと同一の検査レシピが上記他の表面検査装置の空間フィルタ設定部に格納され、上記他の表面検査装置の空間フィルタ設定部は、格納した上記移動量係数と上記基準停止位置とを使用して上記同一の検査レシピに応じた空間フィルタの設定を行うことを特徴とする表面検査装置。
【請求項４】
請求項３に記載の表面検査装置において、
上記複数の表面検査装置に接続されたレシピサーバを備え、上記基準表面検査装置により作成された検査レシピは上記レシピサーバに伝送され、上記レシピサーバから上記他の表面検査装置のそれぞれに伝送されることを特徴とする表面検査装置。
【請求項５】
被検査物に照明光を照射する照明し、上記被検査物からの反射光を空間フィルタでフィルタリングし、上記空間フィルタでフィルタリングされた上記被検査物からの反射光を検出し、上記検出した反射光に基づいて、上記被検査物の表面の欠陥を判定する表面検査方法において、
上記空間フィルタの基準停止位置と、移動量係数とを空間フィルタ設定部に格納され、上記空間フィルタを移動させる移動量に上記移動量係数を乗算して得られた移動量と、上記基準停止位置とに従って上記空間フィルタを移動させる設定することを特徴とする表面検査方法。
【請求項６】
請求項５に記載の表面検査方法において、
上記表面検査は、複数の表面検査装置により行われ、
上記空間フィルタの基準停止位置は、上記複数の表面検査装置のうちの基準表面検査装置の表示部に表示された表示画面の原点から一定の画素数だけ空間フィルタを移動したときの座標と、上記複数の表面検査装置のうちの上記基準表面検査装置とは異なる他の表面検査装置における表示部に表示された表示画面の原点から一定の画素数だけ空間フィルタを移動したときの座標との差を加算又は減算した座標位置であり、
上記空間フィルタの移動量係数は、上記基準表面検査装置の表示部に表示された表示画面で一定の画素数だけ空間フィルタを移動したときの移動量と、上記複数の表面検査装置のうちの上記基準表面検査装置とは異なる他の表面検査装置における表示部に表示された表示画面で一定の画素数だけ空間フィルタを移動したときの移動量との、上記基準表面検査装置の上記移動量を基準とした比であることを特徴とする表面検査方法。
【請求項７】
請求項６に記載の表面検査方法において、
上記基準表面検査装置により作成された検査レシピと同一の検査レシピが上記他の表面検査装置の空間フィルタ設定部に格納され、上記他の表面検査装置の空間フィルタ設定部は、格納した上記移動量係数と上記基準停止位置とを使用して上記同一の検査レシピに応じた空間フィルタの設定を行うことを特徴とする表面検査方法。
【請求項８】
請求項７に記載の表面検査方法において、
上記複数の表面検査装置にレシピサーバが接続され、上記基準表面検査装置により作成された検査レシピは上記レシピサーバに伝送され、上記レシピサーバから上記他の表面検査装置のそれぞれに伝送されることを特徴とする表面検査方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は被検査物の表面に存在する異物、傷、欠陥、汚れ等を検出する表面検査装置及び表面検査方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、半導体ウエハ等の被検査物の表面に存在する異物、傷、欠陥、汚れ等を検出する表面検査装置が知られている。
【０００３】
上記表面検査装置は、半導体ウエハ等の被検査物の表面に光を照射し、ウエハ表面に形成された繰り返しパターンからの反射光を空間フィルタで除去し、繰り返し性を有していない異物等を強調し、検査する装置である。
【０００４】
この表面検査装置の一例として特許文献１に記載された技術がある。つまり、この特許文献１に記載の技術は、高精度な空間フィルタリングを行うために、被検査対象物における回路パターンの場所ごとの形状の違いに起因する回析光のパターン変化に応じて遮光パターンを変化させる技術である。
【０００５】
なお、表面検査装置に関する他の技術としては、特許文献２〜６に記載された技術が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−１８４１４２号公報
【特許文献２】特開２００４−１７７２８４号公報
【特許文献３】特開平１０−６８６９８号公報
【特許文献４】特開２００９−２１０５０４号公報
【特許文献５】特開平１１−３５２０７５号公報
【特許文献６】特開平０６−３２４００３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、半導体製造工場での製造工程の多工程化に伴い、各工程を経る度に表面検査装置によりウエハの表面を検査しており、表面検査装置は、半導体製造工場に複数台配置され、同時に稼動している。
【０００８】
複数の表面検査装置において、被検査対象物に対する空間フィルタの基準位置等が装置毎に異なり、機差がある場合が考えられる。この場合には、同一の被検査対象物に対して、検査結果が相違してしまう。
【０００９】
このため、従来技術においては、複数の表面検査装置の機差を解消するために、各表面検査装置毎に、被検査対象物であるウエハを測定するための検査レシピを作成する必要が生じていた。
【００１０】
上記レシピは、新たな被検査対象物が工程に投入される毎に、並びに各表面検査装置毎に作成する必要があり、その作成には長時間と労力が必要であった。
【００１１】
本発明の目的は、複数の表面検査装置により同一の被検査対象物を検査する表面検査装置に対して、各表面検査装置の空間フィルタの相違に関係なく、複数の表面検査装置に共通する検査レシピを使用可能な表面検査装置及び表面検査方法を実現することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記目的を達成するため、本発明は次のように構成される。
【００１３】
被検査物に照明光を照射する照明し、上記被検査物からの反射光を空間フィルタでフィルタリングし、上記空間フィルタでフィルタリングされた上記被検査物からの反射光を検出し、上記検出した反射光に基づいて、上記被検査物の表面の欠陥を判定する表面検査装置及び方法において、上記空間フィルタの基準停止位置と、移動量係数とを空間フィルタ設定部に格納され、上記空間フィルタを移動させる移動量に上記移動量係数を乗算して得られた移動量と、上記基準停止位置とに従って上記空間フィルタを移動させる設定する。
【発明の効果】
【００１４】
複数の表面検査装置により同一の被検査対象物を検査する表面検査装置に対して、各表面検査装置の空間フィルタの相違に関係なく、複数の表面検査装置に共通する検査レシピを使用可能な表面検査装置及び表面検査方法を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の実施例が適用された表面検査装置の概略構成図である。
【図２】複数の表面検査装置が半導体製造工場における製造工程毎に配置されている場合の概略説明図である。
【図３】フーリエ面においてフーリエ像がどのように出現するかの説明図である。
【図４】本発明の実施例における空間フィルタ調整方法の説明図である。
【図５】本発明の実施例における空間フィルタ調整方法の説明図である。
【図６】本発明の実施例における空間フィルタ調整方法の説明図である。
【図７】本発明の実施例における表面検査装置の空間フィルタ調整方法を示すフローチャートである。
【図８】各表面検査装置について空間フィルタを用いてパラメータを設定する動作フローを示す図である。
【図９】各表面検査装置に移動量係数と基準停止位置を保存した後に製造工程におけるウエハを検査する動作フローを示す図である。
【図１０】検査レシピを表面検査装置Ｎｏ．１から他の表面検査装置Ｎｏ．２２〜Ｎｏ．ｎにコピーする動作フローを示す図である。
【図１１】レシピサーバを用いて検査レシピを表面検査装置Ｎｏ．２〜Ｎｏ．ｎに一括してロードする場合の実施例を示す図である。
【図１２】図１１に示した例の概略動作フローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、添付図面を参照して本発明の実施形態について説明する。
【実施例】
【００１７】
図１は、本発明の実施例が適用された表面検査装置の概略構成図であり、半導体ウエハの表面検査装置の場合の例である。
【００１８】
図１において、表面検査装置は、照明部３００と、検出部４００と、Ｘスケール３０と、Ｙスケール４０と、処理装置１００とを備える。なお、本発明の実施例である表面検査装置は、暗視野画像を用いた光学式の検査装置であるものとする。
【００１９】
照明部３００は、例えば、所定波長のレーザ光等の検査光を発生するレーザ装置によって構成される。照明部３００から発生された検査光は、被検査物であるウエハ１の表面を照射するのに用いられる。照明部３００は、照明光源１０ａ及び１０ｂを備え、検査光は、照明光源１０ａ及び１０ｂのそれぞれから検査光が発生される。
【００２０】
ウエハ１の表面には、チップ２がマトリクス状に形成されている。ウエハ１はＸＹステージ７０上に搭載されており、このＸＹステージ７０によりＸＹ方向に移動される。ウエハ１がＸ方向又はＹ方向に移動されることにより、検査光はウエハ１の表面を走査するように移動する。
【００２１】
照明光源１０ａ及び１０ｂは、それぞれ仰角１１ａ及び１１ｂで与えられる斜め上方の方角からウエハ１の表面を照射する。図示していないが、仰角１１ａ及び１１ｂを任意に切替えることができる機構が備えられている。
【００２２】
また、照明光源１０ａ及び１０ｂには、被検査物の種類又は検出したい欠陥の大きさにより、照明光の偏光を任意で切替えられる機構も備えられている。さらに、照明光源１０ａ及び１０ｂには、検査光を常に被検査物であるウエハ１の表面の所定箇所に照射できるような自動調整機構も備えている。
【００２３】
ウエハ１の表面に照射された検査光は、ウエハ１の表面のパターンや欠陥で散乱し、散乱光を発生する。検出部４００は、例えば集光レンズ、ＴＤＩ（Time Delay Integration）センサ等で構成されており、ウエハ１の表面で発生した散乱光を検出器５０ａ、５０ｂ（本実施例ではＴＤＩセンサ）にて受光し、散乱光の強度を電気信号に変換する。
【００２４】
検出器５０ａ、５０ｂで変換された後の電気信号は、画像信号として処理装置１００に出力される。なお、検出器５０ａ、５０ｂをＣＣＤセンサで構成することもできる。検出器５０ａ、５０ｂをＴＤＩセンサとする場合は、Ｎ画素×Ｍラインで構成される。このような構成のため、ＴＤＩセンサにおいては、ライン方向への電荷のシフトと順次加算が繰り返し実行され、Ｍ倍の電荷を蓄積することができる。この特徴を利用し、ライン方向の電荷シフト速度と被検査物の移動速度を同一にすると、高感度かつ低ノイズの画像を取得することができる。なお、ＴＤＩセンサのライン方向の電荷シフト最高速度をラインレートと呼ぶ。
【００２５】
上記のような構成の表面検査装置では、ウエハ１の表面にチップを構成するパターンが形成されている場合、通常、検出した散乱光の強度から画像信号を作成し、検査エリア（検査チップ又は検査ショット）の画像信号を参照エリア（参照チップ又は参照ショット）の画像信号と比較して、両者の差分がしきい値以上である箇所を異物と判定している。
【００２６】
参照エリアには、検査エリアの隣接エリア（隣接チップ或いは隣接ショット）又は予め用意した良品エリア（良品チップ或いは良品ショット）が用いられる。また、表面検査装置に対する要求感度及び要求検査時間、レシピ作成時間は、ウエハの品種及び工程や顧客の管理方法によっても大きく異なる。
【００２７】
照明部３００と検出部４００は、照明光源１０ａの発生光のウエハ１からの反射光専用の対物レンズ２０ａ、空間フィルタ２１ａ、結像レンズ２２ａ、検出器５０ａを備えると共に、照明光源１０ｂの発生光のウエハ１からの反射光専用の対物レンズ２０ｂ、空間フィルタ２１ｂ、結像レンズ２２ｂ、検出器５０ｂとを備え、複数の照明手段と検出手段とにより構成されている。
【００２８】
対物レンズ２０ａは、ウエハ１の表面で発生した回折光を受光して集光するレンズであり、検出器５０ａ用の個別のレンズである。また、対物レンズ２０ｂも同様であり、検出器５０ｂ用の個別にレンズである。
【００２９】
結像レンズ２２ａ及び結像レンズ２２ｂは、被検査物の種類又は検出したい欠陥の大きさにより、検出感度を変更できる何本かの個別に倍率を持つ結像レンズが任意で切替え可能な機構を備えている。なお、結像レンズ２２ａ及び結像レンズ２２ｂは、被検査物の種類又は検出したい欠陥の大きさにより、検出感度を変更できる一本で倍率が切替え可能なズームレンズのような結像レンズであってもよい。また、結像レンズ２２ａ及び結像レンズ２２ｂは、被検査物の種類又は検出したい欠陥の大きさにより、検出角度を複数選択できる結像レンズであってもよい。
【００３０】
空間フィルタリングを行う空間フィルタ２１ａ及び２１ｂには、図３〜図６で説明する空間フィルタを使用する。空間フィルタ２１ａ及び２１ｂはフーリエ面の瞳面上に配置される。なお、空間フィルタ２１ａ、２１ｂの自動設定に使用するビーム像及びフーリエ像は、結像レンズ２２ａ及び２２ｂの光軸上に配置したビームスプリッタにより分離された一方の光束が導かれる検出器５２及び５３で撮像される。
【００３１】
因みに、ビームスプリッタにより分離された他方の光束の像（ビーム像）は、前述の通り、検出器５０ａ及び５０ｂの撮像面において撮像される。
【００３２】
この実施例の場合、空間フィルタ設定用のフーリエ像は検出器５２（実施例ではＣＣＤセンサを使用する）で撮像される。なお、検出器５２の撮像面には不図示の光学フィルタが配置されており、この光学フィルタを通過することによりフーリエ像が得られるように構成されている。
【００３３】
検出器５２及び５３で撮像された画像データは、処理装置１００の空間フィルタ設定部６０に与えられる。空間フィルタ設定部６０は、検出器５２及び５３で撮像された画像データによるフーリエ像のそれぞれについて強度プロファイルデータを作成する。
【００３４】
前述の通り、空間フィルタ設定部６０は、フーリエ像を観察し、１本の空間フィルタのスキャン走査を通じて周期性を有する特定パターンの回折光を遮光するための空間フィルタの本数、幅、間隔、座標位置を決定する。また、空間フィルタ設定部６０は、その観察に適した設定条件に従って、空間フィルタ移動機構８０に指令信号を供給し、空間フィルタ２１ａ及び２１ｂのフィルタリングを行うための配置をそれぞれ制御する。
【００３５】
また、空間フィルタ設定部６０は、座標管理部１４０を介して検査結果表示装置１６０に接続されており、オペレータが望む場合には、フーリエ像を表示画面上に同時に表示することができる。
【００３６】
空間フィルタ設定部６０は、照明部３００の制御部（図示せず）及び座標管理部１４０と連携動作する。この実施例では、空間フィルタ設定部６０が、照射部３００、検出部４００及びＸＹステージ７０の制御部として機能する。
【００３７】
Ｘスケール３０及びＹスケール４０は、例えばレーザースケール等からなり、ウエハ１を載せたＸＹステージ７０のＸ方向の位置及びＹ方向の位置をそれぞれ検出して、その位置情報を処理装置１００へ出力する。処理装置１００は、Ａ／Ｄ変換器１１０、画像処理部１２０、欠陥判定部１３０、座標管理部１４０を備えている、なお、処理装置１００は検査結果表示装置１６０を備えるように構成することもできる。
【００３８】
Ａ／Ｄ変換器１１０は、検出器５０ａ又は５０ｂを含む検出部４００から入力したアナログ信号の画像信号を、ディジタル信号の画像信号に変換して画像処理部１２０に出力する。画像処理部１２０は、検出部４００で検出された検査エリアの画像信号を参照エリアの対応画素の画像信号と比較して両者の差分を検出する比較手段としての役割を果たす。
【００３９】
欠陥判定部１３０は、画像処理部１２０が有する画像比較回路からの差分信号と対応画素の判定用しきい値とを比較し、欠陥の有無を判定する。座標管理部１４０は、Ｘスケール３０及びＹスケール４０から入力したウエハステージの位置情報（つまりウエハ１の位置情報）に基づき、ウエハ１上の検査光が現在照射している位置のＸ座標及びＹ座標を検出して、その座標情報を画像処理部１２０や欠陥判定部１３０に出力する。
【００４０】
この座標管理部１４０には、ウエハ１上の各検査エリアの配置情報が記憶されている。座標管理部１４０に記憶された各検査エリアの配置情報が、画像処理部１２０や欠陥判定部１３０に出力される。
【００４１】
検査結果表示装置１６０は、検査結果情報を表示する。また、欠陥候補をレビューする時の欠陥候補画像を表示する。更に、本実施例の場合、上述したように、照明部３００と検出部４００とが、照明手段１０ａ専用の対物レンズ２０ａ、空間フィルタ２１ａ、結像レンズ２２ａ、検出器５０ａと、照明手段１０ｂ専用の対物レンズ２０ｂ、空間フィルタ２１ｂ、結像レンズ２２ｂ、検出器５０ｂとを有する複数の照明手段と検出手段とにより構成される。すなわち、複数の照明手段と検出手段を有している。この場合、検査結果表示装置１６０は、個別での検出結果表示と、複数の検出結果合成表示とが可能な構成とする。
【００４２】
図２は、複数の表面検査装置１０００〜１００３が半導体製造工場における製造工程毎に配置されている場合の概略説明図である。図２において、半導体ウエハは矢印１００４の方向に移動し、表面検査装置１０００〜１００３により、順に検査される。半導体製造工場おいて、半導体ウエハの製造工程を経る度に、表面検査装置にて半導体ウエハに異物が付着していないかの検査が実施される。表面検査は、表面検査装置にて各製造工程ごとに実施され、製造工程が１〜ｎ数存在した場合、１〜ｎ数分だけ実施される。
【００４３】
半導体製造ラインに表面検査装置が複数存在する場合には、各表面検査装置が担う検査を実施する製造工程は様々であり、特定の製造工程における表面検査を行う表面検査装置が、毎回異なる装置となるようなことも発生する。
【００４４】
そのため、各表面検査装置には、全製造工程を検査できるように、製品ウエハ毎の全製造工程の検査レシピが保存されている。
【００４５】
しかし、各表面検査装置に互いの機差がある場合、保存されている検査レシピは一つの製造工程については、各表面検査装置は全て同一であったとしても、検査結果が正常である場合と異常である場合とが発生してしまうケースが考えられる。
【００４６】
図３は、フーリエ面においてフーリエ像がどのように出現するかの説明図である。図３において、まず、ウエハ表面に照射した照射ビーム２０００が検査対象チップを照射するように検査ステージ７０を移動する。照射ビーム２０００は、ウエハ上に繰り返しパターンとして形成される複数のセル（Ｃｅｌｌ）部２００１と、複数のセンスアンプ（Ｓ／Ａ）部２００２とを跨ぐように照射される。
【００４７】
なお、図３中の符号２０２０は、照射ビーム２０００の走査によって取得されたビーム像を表している。
【００４８】
ビーム２０００をウエハ表面に照射すると、図３に示すように、セル部２００１やセンスアンプ部２００２に対応する回折光２００４が点像としてフーリエ像２００３に出現する。この点像は、周期性を有している。セル部２００１やセンスアンプ部２００２の領域に生じた欠陥を観察するには、空間フィルタを最適位置に設定し、セル部２００１又はセンスアンプ部２００２に起因する回折光成分だけを遮光することが必要である。
【００４９】
周期性を有する回折光成分だけを遮光すれば、欠陥に起因する非周期的な回折光成分だけを選択的に観察することができる。
【００５０】
空間フィルタを対物レンズと、結像レンズとの間に挿入すると、フーリエ像２００３内には空間フィルタの像２００５が観察される。ただし、空間フィルタが意図する領域から発生した回折光を遮光しているか否かの判断には、空間フィルタを設定した状態でウエハ表面のスキャン像（ビーム像）を再取得し、その結果をオペレータ自身が表示画面を目視により確認する必要である。
【００５１】
ここで、再取得されたスキャン像が意図した内容と異なる場合には、空間フィルタの再設定、ウエハ表面のスキャン像（ビーム像）の再取得、目視による確認を繰り返す必要がある。
【００５２】
図４〜図６に、空間フィルタと、その移動時の図を示す。図４において、縦方向空間フィルタが３０００〜３００９、横方向空間フィルタ３０１０である。表面検査装置の操作画面上にフーリエ像表示画面３０１１が表示され、その中にフーリエ像開口部３０１２が表示される。フーリエ像開口部中心３０１３は各表面検査装置上モニタの中心にあわせるものとする。
【００５３】
図７は、本発明の実施例における表面検査装置の空間フィルタ調整方法を示すフローチャートである。図４〜図７を参照して、空間フィルタ調整方法を説明する。
【００５４】
まず、図７のステップ６００１において、表面検査装置Ｎｏ．１にて基準座標値を求めるため、ｎを１と設定する。そして、表面検査装置Ｎｏ．１のフーリエ像開口部を表示する（ステップ６００２）。次に、空間フィルタを原点に移動させ（ステップ６００３）、原点位置における基準停止画素値を取得する（ステップ６００４）。
【００５５】
つまり、図５に示すように、表面検査装置Ｎｏ．１にて、例えば、縦空間フィルタ３０００を表示画面の原点３０２３と接する位置に移動させる。そして、原点３０２３の位置のモニタ上の基準停止画素値３０２４を取得する。このとき空間フィルタは幅を持っているため最左部を基準停止画素にあわせる。基準停止位置は、例えば、１００（ｐｉｘ（ピクセル））とし、基準停止画素値とする。この時の停止位置座標を基準座標値（オフセット値）とし、例えば０．０（ｍｍ）とする。
【００５６】
次に、一定のオフセット算出用移動量だけ空間フィルタを移動させ（ステップ６００５）、原点からの移動量を算出する（ステップ６００６）。
【００５７】
つまり、図５に示すように、基準停止画素値からのオフセット算出用移動量だけ移動させ、その移動画素値を求める。例えば上記基準停止位置から＋１００（ｐｉｘ）の位置である２００（ｐｉｘ）を移動画素値３０２６とする。この移動画素値２００（ｐｉｘ）まで空間フィルタを移動させ、移動座標量を取得する。例えば、移動量を１０．０（ｍｍ）とする。
【００５８】
そして、ステップ６００７において、ｎが１か否かを判断する。表面検査装置がＮｏ．１の場合は、ｎ＝１であるので、表面検査装置Ｎｏ．１のオフセット値（０．０ｍｍ）、移動量（１０．０ｍｍ）、基準停止位置０．０（ｍｍ）を記憶する（ステップ６００８）。そして、ステップ６００９に進み、表面検査装置Ｎｏ．１と表面監査装置Ｎｏ．ｎとの差を算出し記憶するが、ｎ＝１の場合は、差は０となる。
【００５９】
そして、ステップ６０１０でｎがＮとなったか否かを判断する。Ｎは表面検査装置の総数である。ｎ＝Ｎでなければ、ステップ６０１１にて、ｎ＋１をｎに設定し、ステップ６００２に戻る。つまり、表面検査装置Ｎｏ．１についての処理が終了すると、表面検査装置のＮｏ．２の処理を行うため、上述したステップ６００２〜６００７、６００９が実行される。
【００６０】
つまり、図５に示すように、表面検査装置Ｎｏ．２にて空間フィルタを原点３０３３に移動させる。このときの基準停止画素値３０３４が１００（ｐｉｘ）であれば、そのままの位置とし、基準停止画素値が１００（ｐｉｘ）からずれていた場合は１００（ｐｉｘ）まで移動させる。その移動後の移動座標値３０３６を取得する。例えば、０．１（ｍｍ）とする。次に、移動画素値２００（ｐｉｘ）まで空間フィルタを移動させ、移動量を取得する。例えば、１０．１（ｍｍ）とする。
【００６１】
次に、ステップ６００９において、表面検査装置Ｎｏ．１と表面検査装置Ｎｏ．２との差を求める（加算又は減算を行う）。表面検査装置Ｎｏ．１の基準停止位置は０．０（ｍｍ）であり、表面検査装置Ｎｏ．２の基準停止位置は０．１（ｍｍ）である。よって、表面検査装置Ｎｏ．１のオフセット値０．０（ｍｍ）に対して、表面検査装置Ｎｏ．２のオフセット値は０．１（ｍｍ）であり、この値をオフセット値（基準停止位置）として記憶させる。
【００６２】
さらに、表面検査装置Ｎｏ．１の移動量は１０．０（ｍｍ）であり、表面検査装置Ｎｏ．２の移動量は１０．１（ｍｍ）である。よって、表面検査装置Ｎｏ．１の移動量係数が１．００であるのに対して、表面検査装置Ｎｏ．２の移動量係数は１．０１であり、この値を記憶させる。移動係数とは、基準表面検査装置である表面検査装置Ｎｏ．１の上記移動量を基準とした比である。
【００６３】
以降、ｎがＮと等しくなるまで、図７のフローを実行し、表面検査装置Ｎｏ．１の空間フィルタの移動量及び移動量係数を基準として、表面検査装置Ｎｏ．３〜表面検査装置Ｎｏ．Ｎの空間フィルタ移動量及び移動量係数を算出し、記憶する。
【００６４】
記憶した空間フィルタ移動量及び移動量係数に従って、各表面検査装置の空間フィルタを次の１次計算式（１）に従って移動させる。
【００６５】
移動量＝移動量係数ａ×レシピ入力値＋基準停止位置ｂ      ・・・（１）
上記（１）式に基づいて、算出された表面検査装置Ｎｏ．１、表面検査装置Ｎｏ．２でのそれぞれの移動量を例として以下に示す。
【００６６】
表面検査装置Ｎｏ．１の移動量３０５０は、１．０×１０＋０．０＝１０．０（ｍｍ）となり、表面検査装置Ｎｏ．２の移動量３０５１は、１．０１×１０＋０．１＝１０．２（ｍｍ）となる。図６は、表面検査装置Ｎｏ．１及び表面検査装置Ｎｏ．２の移動後を対比した図である。
【００６７】
表面検査装置Ｎｏ．１と表面検査装置Ｎｏ．２の移動量は互いに異なるが、モニタ上での停止位置は同じとなる。つまり、表面検査装置Ｎｏ．１と表面検査装置Ｎｏ．２は、同一の画素数分だけ移動させることができる。このため、本発明の実施例のように、表面検査装置Ｎｏ．１を基準として、他の複数の表面検査装置の移動パラメータを設定しておけば、機差を考慮して、個々の表面検査装置毎に検査レシピを設定する必要はなくなる。複数の表面検査装置で共通する同一の検査レシピを使用し、パラメータで調整すれば、被検査対象であるウエハの同一箇所を観察し、検査することが可能となる。
【００６８】
上記のような、複数の表面検査装置における空間フィルタの調整は、縦空間フィルタ及び横空間フィルタに対して行われる。
【００６９】
また、上記のような、複数の表面検査装置の空間フィルタ調整は、モニタである表示装置１６０に画面表示された図４に示すような画像をオペレータが確認しながら、実行することも可能であるし、空間フィルタ設定部６０が、空間フィルタ移動機構８０の動作を制御して空間フィルタ２１ａ、２１ｂを移動することにより自動的に実行することも可能である。空間フィルタ設定部６０には内部メモリを有し、空間フィルタ２１ａ、２１ｂのフィルタ移動量及び移動量係数等を記憶できるものである。
【００７０】
図８は、各表面検査装置について、空間フィルタ２１ａ、２１ｂを用いてパラメータ（移動量係数ａ、基準停止位置ｂ）を設定する動作フローであり、図７に示した動作フローの上位概念的動作フローを示す図である。
【００７１】
図８のステップ４００１にてパターンウエハを表面検査装置へロードする。次に、ステップ４００２にてロードしたパターンウエハに照明部３００からビームを照射し、操作モニタ、つまり、表示装置１６０でフーリエ像観察を実施する。
【００７２】
続いて、ステップ４００３にて、空間フィルタ２１ａ、２１ｂの移動量係数ａと基準停止位置ｂとを調整する。そして、ステップ４００４にて表面検査装置内に移動量係数ａと基準停止位置ｂとを保存する。次に、ステップ４００５にてパターンウエハをアンロードする。
【００７３】
図９は、各表面検査装置に、移動量係数ａと基準停止位置ｂを保存した後に、製造工程におけるウエハを検査する動作フローを示す図である。
【００７４】
図９のステップ４０１１において、表面検査装置にパターンウエハをロードする。そして、パターンウエハの表面検査を行う際に、その表面検査装置に保存された移動量係数ａと基準停止位置ｂで算出した位置に空間フィルタ２１ａ、２１ｂを移動させ、パタンウエハを検査する（ステップ４０１２、４０１３）。パターンウエハの表面検査が終了した後、そのパターンウエハをアンロードする（ステップ４０１４）。
【００７５】
図１０は、検査レシピを表面検査装置Ｎｏ．１から他の表面検査装置Ｎｏ．２２〜Ｎｏ．ｎにコピーする動作フローを示す図である。
【００７６】
図１０のステップ４０２１において、検査するパターンウエハを表面検査装置Ｎｏ．１へロードする。次に、ステップ４０２２にて、表面検査装置Ｎｏ．１にてロードしたパターンウエハの検査レシピを作成する。そして、表面検査装置Ｎｏ．１にて作成した検査レシピを他の表面検査装置Ｎｏ．２〜ｎへファイルコピーする（ステップ４０２３）。次に、ステップ４０２４にて、検査したパターンウエハをアンロードする。
【００７７】
図１１は、複数の表面検査装置Ｎｏ．１〜Ｎｏ．ｎの検査レシピを一括管理するレシピサーバ５０００を用いて、検査レシピを表面検査装置Ｎｏ．２〜Ｎｏ．ｎに一括してロードする場合の実施例を示す図である。この場合、レシピサーバ５０００は、表面検査装置１０００（Ｎｏ．１）〜１００３（Ｎｏ．ｎ）と通信ネットワークにて接続され、相互通信が可能となっている。
【００７８】
また、図１２は、図１１に示した例の概略動作フローチャートである。
【００７９】
図１１及び図１２において、表面検査装置１０００（Ｎｏ．１）にて検査対象ウエハの検査レシピを作成する（ステップ７００１）。作成した検査レシピは、表面検査装置Ｎｏ．１から一旦レシピサーバ５０００にアップロード処理５００１を行う（ステップ７００２）。
【００８０】
その後、レシピサーバ５０００は、表面検査装置１０００（Ｎｏ．１）からアップロードされた検査レシピを、各表面検査装置１００１（Ｎｏ．２）〜１００３（Ｎｏ．ｎ）にダウンロード処理５００２〜５００４を行う（ステップ７００３）。
【００８１】
そして、各表面検査装置１００１（Ｎｏ．２）〜１００３（Ｎｏ．ｎ）は、ダウンロードされた検査レシピを使用し、各表面検査装置１００１（Ｎｏ．２）〜１００３（Ｎｏ．ｎ）にて検査を実施する。各表面検査装置１００１（Ｎｏ．２）〜１００３（Ｎｏ．ｎ）にダウンロードされた検査レシピの空間フィルタ入力値は全て同じである。しかし、各表面検査装置１００１（Ｎｏ．２）〜１００３（Ｎｏ．ｎ）に保存された移動量係数と基準停止位置とから空間フィルタの移動量を計算し移動させる（各表面検査装置の処理（５０１４〜５０１７）、ステップ７００４）。
【００８２】
以上に説明した動作を実施することで、各表面検査装置１０００（Ｎｏ．１）〜１００３（Ｎｏ．ｎ）にて同一検査レシピを使用し、かつ、各表面検査装置間の機差を考慮した空間フィルタの調整が可能となり、各表面検査装置１０００（Ｎｏ．１）〜１００３（Ｎｏ．ｎ）にて出力した検査結果は同等程度の保証が可能である。
【００８３】
つまり、本発明の実施例によれば、複数の表面検査装置により同一の被検査対象物を検査する表面検査装置に対して、各表面検査装置の空間フィルタの相違に関係なく、複数の表面検査装置に共通する検査レシピを使用可能な表面検査装置及び表面検査方法を実現することができる。
【００８４】
このため、個々の表面検査装置毎に検査レシピを作成する必要がなくなる。
【符号の説明】
【００８５】
１・・・ウエハ、２・・・チップ、１０ａ、１０ｂ・・・照明光源、１１ａ、１１ｂ・・・仰角、１２ａ、１２ｂ・・・照明のＸＹ面内の方向角、２０ａ、２０ｂ・・・対物レンズ、２１ａ、２１ｂ・・・空間フィルタ、２２ａ、２２ｂ・・・結像レンズ、３０・・・Ｘスケール、４０・・・Ｙスケール、５０ａ、５０ｂ・・・検出器、５２、５３・・・検出器（フーリエ像）、６０・・・空間フィルタ設定装置、７０・・・ＸＹステージ、８０・・・空間フィルタ移動機構、１００・・・処理装置、１１０・・・Ａ／Ｄ変換器、１２０・・・画像処理部、１３０・・・欠陥判定部、１４０・・・座標管理部、１６０・・・検査結果表示装置、３００・・・照明部、４００・・・検出部、１０００〜１００３・・・検査装置、２０００・・・照射ビーム、２００１・・・セル部、２００２・・・センスアンプ部、２００３・・・フーリエ像、２００４・・・回折光、２００５・・・フーリエ像内の空間フィルタの像、３０００〜３００９・・・フーリエ像内の縦方向空間フィルタの像、３０１０・・・フーリエ像内の横方向空間フィルタの像、３０１１・・・フーリエ像表示画面、３０１２・・・フーリエ像開口部、３０１３・・・フーリエ像開口部中心、５０００・・・レシピサーバ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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