(57)【要約】【課題】複数種類の有機含窒素化合物を含む有機含窒素化合物含有ガスの処理に要するコストを低減する。【解決手段】有機含窒素化合物含有ガスの処理装置１は、複数種類の有機含窒素化合物を含む有機含窒素化合物含有ガスの処理装置である。処理装置１は、処理室１０と、検知部３６とを備える。処理室１０は、有機含窒素化合物含有ガスに含まれる複数種類の有機含窒素化合物の濃度を低減させる。検知部３６は、検知剤３６ｂを含む。検知剤３６ｂは、処理室１０において処理されたガスが供給されるように設けられている。検知剤３６ｂは、有機含窒素化合物と接触した際に色度が変化する。【選択図】図１
2013240780.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数種類の有機含窒素化合物を含む有機含窒素化合物含有ガスの処理装置であって、
前記有機含窒素化合物含有ガスに含まれる前記複数種類の有機含窒素化合物の濃度を低減させる処理室と、
前記処理室において処理されたガスが供給されるように設けられており、前記有機含窒素化合物と接触した際に色度が変化する検知剤を含む検知部と、
を備える有機含窒素化合物含有ガスの処理装置。
【請求項２】
前記検知剤は、有機含窒素化合物と接触した際に色相が変化する、請求項１に記載の有機含窒素化合物含有ガスの処理装置。
【請求項３】
前記検知部は、前記検知剤の色度を測定する測定部を有する、請求項１または２に記載の有機含窒素化合物含有ガスの処理装置。
【請求項４】
前記有機含窒素化合物が、アミン化合物、イミン化合物、複数種類のアミン化合物が結合した化合物、及び、少なくとも一種のアミン化合物と少なくとも一種のイミン化合物とが結合した化合物からなる群より選ばれた少なくとも１種を含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の有機含窒素化合物含有ガスの処理装置。
【請求項５】
前記有機含窒素化合物が、モノアルキルアミン、一般式（ａ）で表される化合物、一般式（ｂ）で表される化合物、一般式（ｃ）で表される化合物、一般式（ｄ）で表される化合物、一般式（ｅ）で表される化合物、一般式（ｆ）で表される化合物、一般式（ｇ）で表される化合物、一般式（ｈ）で表される化合物及び一般式（ｉ）で表される化合物からなる群から選ばれた少なくとも１種を含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の有機含窒素化合物含有ガスの処理装置。
【化１】
2013240780.tif 000006
（式中、Ｒ１は、炭素原子数１〜６の直鎖状、分岐状または環状のアルキル基を示す。Ｒ２及びＲ３は、それぞれ、炭素原子数１〜３の直鎖状または分岐状のアルキル基を示す。Ｒ２及びＲ３は、同一であってもよく、異なっていてもよい。Ｒ２及びＲ３は、互いに結合して環を形成していてもよい。Ｚは、単結合、あるいは炭素原子数１〜５の直鎖状または分岐状のアルキレン基を示す。）
【請求項６】
前記有機含窒素化合物含有ガスが、窒素を含む配位子を有する金属錯体が反応して生じたガス、窒素を含む配位子を有する金属錯体が分解して生じたガス、及び、窒素を含む配位子を有する金属錯体の反応物が分解して生じたガスの少なくとも一種を含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の有機含窒素化合物含有ガスの処理装置。
【請求項７】
前記有機含窒素化合物含有ガスが、窒素を含む配位子を有する金属錯体を用いて膜を製造する際に発生したガスを含む、請求項６に記載の有機含窒素化合物含有ガスの処理装置。
【請求項８】
前記金属錯体は、下記の一般式（１）で表される金属錯体である、請求項６または７に記載の有機含窒素化合物含有ガスの処理装置。
【化２】
2013240780.tif 000007
（式中、Ｍは、金属原子を示す。Ｒ１は、炭素原子数１〜６の直鎖状、分岐状または環状のアルキル基を示す。Ｒ２及びＲ３は、それぞれ、炭素原子数１〜３の直鎖状または分岐状のアルキル基を示す。Ｒ２及びＲ３は、同一であってもよく、異なっていてもよい。Ｒ２及びＲ３は、互いに結合して環を形成していてもよい。Ｚは、単結合、あるいは炭素原子数１〜５の直鎖状または分岐状のアルキレン基を示す。ｎは、配位子の数を示す整数である。）
【請求項９】
式（１）におけるＭが、マンガン、コバルト及び鉄の少なくとも一種である、請求項８に記載の有機含窒素化合物含有ガスの処理装置。
【請求項１０】
膜を成膜するための成膜室と、
前記膜の原料として、窒素を含む配位子を有する金属錯体を供給する供給部と、
前記成膜室から排出される、複数種類の有機含窒素化合物を含む有機含窒素化合物含有ガスに含まれる前記複数種類の有機含窒素化合物の濃度を低減させる処理室と、
前記処理室において処理されたガスが供給されるように設けられており、前記有機含窒素化合物と接触した際に色度が変化する検知剤を含む検知部と、
を備える成膜装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機含窒素化合物含有ガスの処理装置及び成膜装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、排気ガスによる環境負荷を低減するために、排気ガスに対する規制が厳しくなってきている。これに伴い、排気ガスの処理方法が種々提案されている。例えば、特許文献１では、ＮＨ３を含むガスの処理方法及び処理装置が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００２−２３９３４１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
被処理物を吸着したり、吸収したりする処理剤を用いた処理装置においては、処理剤の処理能力が低下した際に、処理剤を交換する必要がある。このため、処理剤の処理能力の低下を検知することが重要となる。
【０００５】
処理剤の処理能力の低下を検知する方法としては、例えば、ロードセルなどの重量検出機構を用いて処理剤の重量を測定し、測定された重量に基づいて処理剤の処理能力の低下を検知することも考えられる。ＮＨ３を含むガスを処理する装置においては、重量検出機構を用いた処理剤の処理能力の低下を検知する方法は有効であると考えられる。
【０００６】
しかしながら、例えば、金属酸化物膜を成膜する際に、窒素を含む金属錯体を用いた場合に排出される排気ガスのように、窒素を含む有機物である有機含窒素化合物を複数種類含むガスの場合は、ガスに含まれる有機含有窒素化合物の種類や、ガス中における有機含窒素化合物の含有比率（組成比）が変化する虞がある。ガスに含まれる有機含有窒素化合物の種類や、ガス中における有機含窒素化合物の含有比率が変化すると、処理剤の重量増加量と、処理剤の処理能力の低下度合いとの関係も変化する。これを考慮し、処理剤の処理能力が低くなりすぎないうちに、早期に処理剤を交換する必要がある。従って、処理剤の利用効率が低く、処理に要するコストが高くなるという問題がある。
【０００７】
本発明の主な目的は、複数種類の有機含窒素化合物を含む有機含窒素化合物含有ガスの処理に要するコストを低減することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明に係る有機含窒素化合物含有ガスの処理装置は、複数種類の有機含窒素化合物を含む有機含窒素化合物含有ガスの処理装置である。本発明に係る有機含窒素化合物含有ガスの処理装置は、処理室と、検知部とを備える。処理室は、有機含窒素化合物含有ガスに含まれる複数種類の有機含窒素化合物の濃度を低減させる。検知部は、検知剤を含む。検知剤は、処理室において処理されたガスが供給されるように設けられている。検知剤は、有機含窒素化合物と接触した際に色度が変化する。
【０００９】
本発明に係る成膜装置は、成膜室と、供給部と、処理室と、検知部とを備える。成膜室は、膜を成膜するための室である。供給部は、膜の原料として、窒素を含む配位子を有する金属錯体を供給する。処理室は、成膜室から排出される、複数種類の有機含窒素化合物を含む有機含窒素化合物含有ガスに含まれる複数種類の有機含窒素化合物の濃度を低減させる。検知部は、処理室において処理されたガスが供給されるように設けられている。検知部は、検知剤を含む。検知剤は、有機含窒素化合物と接触した際に色度が変化する。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、複数種類の有機含窒素化合物を含む有機含窒素化合物含有ガスの処理に要するコストを低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の一実施形態に係る有機含窒素化合物含有ガスの処理装置の模式図である。
【図２】本発明の一実施形態における検知部の模式的断面図である。
【図３】変形例における検知部の模式的断面図である。
【図４】本発明の一実施形態における成膜装置の模式図である。
【図５】実験例１において作製した処理装置の模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明の一実施の形態について詳細に説明する。
【００１３】
（処理装置１の概略構成）
図１に示される処理装置１は、複数種類の有機含窒素化合物を含む有機含窒素化合物含有ガスを処理するための装置である。
【００１４】
処理装置１は、処理室１０を備えている。処理室１０には、複数種類の有機含窒素化合物を含む有機含窒素化合物含有ガスが導入される。なお、有機含窒素化合物含有ガスは、複数種類の有機含窒素化合物のみからなるガスであってもよいし、複数種類の有機含窒素化合物と、その他のガスとを含む混合ガスであってもよい。通常は、有機含窒素化合物含有ガスは、複数種類の有機含窒素化合物と、その他のガスを含む混合ガスであることが多い。
【００１５】
処理室１０は、導入された有機含窒素化合物含有ガスに含まれる複数種類の有機含窒素化合物の濃度を低減する。処理室１０は、有機含窒素化合物含有ガスに含まれる有機含窒素化合物の濃度を低減できるものである限りにおいて特に限定されない。処理室１０は、湿式の処理室であってもよいし、乾式の処理室であってもよい。
【００１６】
本実施形態においては、処理室１０は、乾式の処理室である。処理室１０内には、処理剤３４が配されている。この処理剤３４により、有機含窒素化合物含有ガスに含まれる有機含窒素化合物の濃度が低減される。処理剤３４の例に関しては、後に詳述する。
【００１７】
処理室１０は、導入口１１と、排出口１２とを有する。導入口１１には、導入管３３が接続されている。有機含窒素化合物含有ガスは、この導入管３３を経由して、導入口１１から処理室１０内に導入される。
【００１８】
導入管３３の上流側端部に、例えば、排気ガスに含まれる固形物を除去するトラップが接続されていてもよい。すなわち、排気ガスの発生源と処理室１０との間に、例えば、排気ガスに含まれる固形物を除去するトラップが設けられていてもよい。このトラップを設けることにより、処理室１０に固形物が流入することを抑制することができる。トラップとしては、例えば、コールドトラップ装置やフィルタートラップ装置などが好ましく用いられる。
【００１９】
処理室１０において有機含窒素含有化合物の濃度が低減された有機含窒素化合物含有ガス（以下、「処理済みガス」とすることがある。）は、排出口１２と、排出口１２に接続された排気管３５とを経由して処理装置１の外部に排出される。
【００２０】
なお、処理済みガスは、処理室１０に導入された有機含窒素化合物含有ガスよりも有機含窒素化合物の濃度が低いガスであればよい。処理済みガスは、有機含窒素化合物を含んでいなくてもよいし、含んでいてもよい。処理済みガスに含まれる有機含窒素化合物の濃度の上限は、処理装置１に要求される性能等に応じて適宜設定することができる。
【００２１】
処理時の処理室１０の温度は、使用する処理剤３４の種類、導入される有機含窒素化合物含有ガスの種類、量等に応じて適宜設定することができる。処理時の処理室１０の温度は、例えば、０℃〜２００℃程度とすることができる。処理時の処理室１０の温度は、例えば、０℃〜９０℃であることが好ましく、常温であってもよい。処理時の処理室１０の温度を常温より高い温度または低い温度にする場合は、加熱機構や冷却機構などの温度調節機構を設けてもよい。
【００２２】
処理時の処理室１０の圧力も、使用する処理剤３４の種類、導入される有機含窒素化合物含有ガスの種類、量等に応じて適宜設定することができる。処理時の処理室１０の圧力は、例えば、常圧であってもよい。また、処理室１０を減圧または加圧した状態で処理を行ってもよい。
【００２３】
処理室１０に導入される有機含窒素化合物含有ガスの流量は、要求される処理能力、使用する処理剤３４の種類、導入される有機含窒素化合物含有ガスの種類、量等に応じて適宜設定することができる。処理室１０に導入される有機含窒素化合物含有ガスの流量は、例えば、０．１リットル／分〜４００００リットル／分であることが好ましく、１リットル／分〜２００００リットル／分であることがより好ましく、１０リットル／分〜１０００リットル／分であることがさらに好ましい。
【００２４】
有機含窒素化合物含有ガスにおける有機含窒素化合物の濃度は、特に限定されない。有機含窒素化合物含有ガスにおける有機含窒素化合物の濃度は、例えば、５ｐｐｍ〜５００００ｐｐｍであることが好ましく、１００ｐｐｍ〜３００００ｐｐｍであることがより好ましく、５００ｐｐｍ〜５０００ｐｐｍであることがさらに好ましい。
【００２５】
（検知部３６）
処理装置１は、検知部３６をさらに備える。検知部３６は、処理済みガスが供給されるように設けられている。具体的には、検知部３６は、排気管３５に設けられている。このため、本実施形態では、すべての処理済みガスが検知部３６を経由して処理装置１外に排気される。もっとも、処理済みガスの一部が検知部３６に供給されるように構成されていてもよい。
【００２６】
図２に、検知部３６の模式的断面図を示す。検知部３６は、検知部本体３６ａを有する。検知部本体３６ａの内部には、排気管３５に接続された内部空間が区画形成されている。この内部空間内に、検知剤３６ｂが収容されている。検知剤３６ｂは、有機含窒素化合物と接触した際に色度が変化する。検知部本体３６ａには、検知剤３６ｂが収容された内部空間に臨む観察窓３６ａ１が設けられている。この観察窓３６ａ１を通して、検知剤３６ｂの色度を観察することができる。よって、例えば、処理装置１の操作者が観察窓３６ａ１を通して検知剤３６ｂを観察することにより、処理剤３４の処理能力が所望する処理能力よりも低くなっていないか（処理剤３４が寿命を迎えていないか）を確認することができる。
【００２７】
処理剤の劣化度合いを管理する方法としては、処理剤の重量を管理する方法も考えられる。処理剤の重量増加量は、処理剤により吸着されたり、吸収されたりした化合物の重量と実質的に等しくなる。このため、処理剤の重量を管理することにより、吸着された化合物の重量を管理することができるためである。例えば、処理の対象となる化合物が、アンモニア１種類のみであるような場合には、吸着された化合物の重量、すなわち、処理剤の重量増加量と、処理剤の現処理能力とに高い相関がみられるため、好ましく適用される。
【００２８】
しかしながら、複数種類の有機含窒素化合物を含む有機含窒素化合物ガスを処理する場合には、吸着された化合物の重量、すなわち、処理剤の重量増加量と、処理剤の現処理能力とが高い相関関係にあるとは必ずしもいえない。例えば、有機含窒素化合物ガスに含まれる有機含有窒素化合物の種類が変化したり、有機含窒素化合物ガスにおける複数種類の有機含窒素化合物の含有比率が変化したりした場合には、吸着された化合物の重量と、処理剤の現処理能力との間の関係が変化する。従って、処理剤の重量を管理する方法では、処理剤の処理能力を高精度に管理することが困難である。
【００２９】
それに対して、本実施形態のように、有機含窒素化合物と接触した際に色相が変化する検知剤３６ｂを含む検知部３６を設けた場合は、処理室１０から排出される処理済みガスに所定の濃度以上の濃度で有機含窒素化合物が含まれているか否かを直接的に検知することができる。複数種類の有機含窒素化合物のいずれと接触した際にも色相が変化する検知剤３６ｂを用いることにより、処理済みガスに、複数種類の有機含窒素化合物のいずれかひとつでも所定濃度以上で含まれていた場合には、処理済みガスに有機含窒素化合物が含まれることを確実に検知することができる。従って、本実施形態では、検知剤３６ｂの処理能力が所望する処理能力を下回ると予想されるよりも早期に検知剤３６ｂを交換する必要は必ずしもない。検知剤３６ｂの処理能力が低下し、処理済みガスに有機含窒素化合物が含まれるようになるまで検知剤３６ｂを使用することができる。従って、有機含窒素化合物含有ガスの処理に要するコストを低減することができる。
【００３０】
検知剤３６ｂは、有機含窒素化合物と接触した際に、色度を構成している色相と彩度とのうち、少なくとも色相が変化するものであることが好ましい。検知剤３６ｂの変化が観察されやすいためである。検知剤３６ｂは、例えば、有機含窒素化合物と接触した際に黄色から青色に変化するものであってもよい。
【００３１】
有機含窒素化合物と接触した際に色度が変化する検知剤３６ｂとしては、例えば、ｐＨが変化した際に色度が変化するｐＨ検知剤、有機含窒素化合物と反応して、反応前とは異なる色度を有する化合物に変化する検知剤などが挙げられる。ｐＨが変化した際に色度が変化するｐＨ検知剤の具体例としては、例えば、フェノールフタレイン、リトマス等が挙げられる。有機含窒素化合物と反応して、反応前とは異なる色度を有する化合物に変化する検知剤の具体例としては、例えば、チモールブルー、ブロモチモールブルー等が挙げられる。
【００３２】
図３に示されるように、検知剤３６ｂの色度を測定する測定部３６ｃを設けてもよい。例えば、測定部３６ｃは、測定した検知剤３６ｂの色度と、処理能力が劣化したと判断する色度として、予め設定された色度とを比較し、処理剤３４の劣化度合いを判定する。このような測定部３６ｃを設けることにより、処理剤３４の劣化度合いを正確に測定することができる。測定部３６ｃは、例えば、色度計、色相判別器（カラーセンサー）等により構成することができる。
【００３３】
測定部３６ｃを設け、処理剤３４の寿命を自動的に測定する場合は、測定部３６ｃが処理剤３４の処理能力が予め定められた処理能力よりも低くなったと判断した際に、処理装置１の操作者等に放置する報知部をさらに設けてもよい。
【００３４】
（有機含窒素化合物）
有機含窒素化合物は、窒素を含む有機物である。有機含窒素化合物は、例えば、アミン化合物、イミン化合物、複数種類のアミン化合物が結合した化合物、及び、少なくとも一種のアミン化合物と少なくとも一種のイミン化合物とが結合した化合物からなる群より選ばれた少なくとも１種を含んでいてもよい。有機含窒素化合物は、例えば、モノアルキルアミン、一般式（ａ）で表される化合物、一般式（ｂ）で表される化合物、一般式（ｃ）で表される化合物、一般式（ｄ）で表される化合物、一般式（ｅ）で表される化合物、一般式（ｆ）で表される化合物、一般式（ｇ）で表される化合物、一般式（ｈ）で表される化合物及び一般式（ｉ）で表される化合物からなる群から選ばれた少なくとも１種を含んでいてもよい。なお、モノアルキルアミンの具体例としては、例えば、モノメチルアミン、ｔ−ブチルアミンなどが挙げられる。
【００３５】
【化１】
2013240780.tif 000003
このような有機含窒素化合物を複数種類含む有機含窒素化合物含有ガスは、例えば、窒素を含む配位子を有する金属錯体が反応したとき、窒素を含む配位子を有する金属錯体が分解したとき、窒素を含む配位子を有する金属錯体が反応して生じた反応物が分解したときなどに発生する。従って、有機含窒素化合物含有ガスは、窒素を含む配位子を有する金属錯体が反応して生じたガス、窒素を含む配位子を有する金属錯体が分解して生じたガス、及び、窒素を含む配位子を有する金属錯体の反応物が分解して生じたガスの少なくとも一種を含んでいてもよい。
【００３６】
より具体的には、有機含窒素化合物含有ガスは、例えば、窒素を含む配位子を有する金属錯体を用いて例えば、金属膜や金属酸化物膜などの膜を製造する際に、窒素を含む配位子を有する金属錯体が反応、分解等することにより生じる。このため、有機含窒素化合物含有ガスは、窒素を含む配位子を有する金属錯体を用いて膜を製造する際に発生したガスを含んでいてもよい。
【００３７】
窒素を含む配位子を有する金属錯体としては、例えば、（アミドアミノアルカン）金属化合物が挙げられる。（アミドアミノアルカン）金属化合物は、下記一般式（１）で示される。
【００３８】
【化２】
2013240780.tif 000004
一般式（１）において、Ｍは、金属原子を示す。Ｍは、Ｂｅ（ベリリウム）、Ｇｅ（ゲルマニウム）、Ｎｄ（ネオジム）以外であることが好ましい。Ｍは、例えば、リチウム、ナトリウム、マグネシウム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、亜鉛、イットリウム、ルテニウム、アルミニウム、ランタンまたはインジウムであることが好ましく、マンガン、コバルト及び鉄の少なくとも一種であることがより好ましい。
【００３９】
一般式（１）において、ｎは、配位子の数を示す整数である。ｎは、金属Ｍの価数と等しく、通常１〜３の整数である。ｎが２以上の場合、２つ以上の配位子は同一であってもよく、異なっていてもよい。なお、配位子が２種以上の混合物の場合には、複数種の錯体ができることもある。
【００４０】
式（ａ）〜（ｉ）及び式（１）において、Ｒ１は、炭素原子数１〜６の直鎖状、分岐状または環状のアルキル基を示す。炭素原子数１〜６の直鎖状、分岐状または環状のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、シクロブチル基、ｔ−ペンチル基、ネオペンチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。Ｒ１は、炭素原子数１〜６の直鎖状または分岐状のアルキル基であることが好ましく、炭素原子数１〜５の直鎖状または分岐状のアルキル基であることがより好ましく、炭素原子数２〜５の直鎖状または分岐状のアルキル基であることがさらに好ましく、炭素原子数３〜５の直鎖状または分岐状のアルキル基であることがなお好ましい。具体的には、Ｒ１は、イソプロピル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｔ−ペンチル基であることが特に好ましい。ＭがＭｇ（マグネシウム）またはＺｎ（亜鉛）の場合は、Ｒ１がメチル基以外の基であることが好ましい。ＭがＢｉ（ビスマス）の場合は、Ｒ１がｔ−ブチル基以外の基であることが好ましい。
【００４１】
式（ａ）〜（ｉ）及び式（１）において、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ、炭素原子数１〜３の直鎖状または分岐状のアルキル基を示す。炭素原子数１〜３の直鎖状または分岐状のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基等が挙げられる。Ｒ２及びＲ３は、互いに結合して環（例えば、５員環や６員環など）を形成していてもよい。なかでも、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ、炭素原子数１〜２のアルキル基（メチル基、エチル基）であることが好ましい。なお、Ｒ２及びＲ３は、同一であってもよく、異なっていてもよい。
【００４２】
Ｚは、単結合、あるいは炭素原子数１〜５の直鎖状または分岐状のアルキレン基を示す。Ｚの一部は、環を形成していてもよい。Ｚは、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基を含んでいてもよい。但し、Ｚは、シクロアルキル基を含まない炭素原子数１〜１０、好ましくは、炭素原子数１〜５の直鎖状または分岐状のアルキレン基であることが好ましい。Ｚの好ましい具体例としては、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、メチルエチレン基、１，２−ジメチルエチレン基、１，１−ジメチルエチレン基、テトラエチレン基、２−メチルトリメチレン基、ヘキサメチレン基等などが挙げられる。Ｚが直鎖状のアルキレン基である場合は、Ｚにおける炭素原子数は、１〜３であることが好ましく、２であることがより好ましい。Ｚが分岐状のアルキレン基である場合は、Ｚは、例えば、下記の一般式で表される置換基であることが好ましい。
【００４３】
【化３】
2013240780.tif 000005
上記一般式において、Ｚ１は炭素原子数１〜３の直鎖状アルキレン基を示す。Ｚ１の好ましい具体例としては、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基等が挙げられる。Ｚ１は、メチレン基であることがより好ましい。
【００４４】
上記一般式において、Ｒは炭素原子数１〜６の直鎖状または分岐状アルキル基、または炭素原子数３〜６のシクロアルキル基を示す。炭素原子数１〜６の直鎖状または分岐状アルキル基の具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基等が挙げられる。炭素原子数３〜６のシクロアルキル基の具体例としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。Ｒは、炭素原子数１〜６の直鎖状または分岐状のアルキル基であることが好ましく、炭素原子数１〜４の直鎖状または分岐状のアルキル基であることがより好ましく、炭素原子数１〜３の直鎖状のアルキル基であることが更に好ましく、メチル基であることが特に好ましい。Ｚ１がメチレン基である場合は、Ｒが炭素原子数１〜３の直鎖状のアルキル基、より好ましくはメチル基であることが好ましい。
【００４５】
（アミドアミノアルカン）金属化合物の具体例としては、例えば、ビス（アミドアミノアルカン）マグネシウム化合物、（アミドアミノアルカン）リチウム化合物、ビス（アミドアミノアルカン）コバルト化合物、ビス（アミドアミノアルカン）マンガン化合物、ビス（アミドアミノアルカン）亜鉛化合物、ビス（アミドアミノアルカン）鉄化合物、ビス（アミドアミノアルカン）ニッケル化合物、トリス（アミドアミノアルカン）インジウム化合物、トリス（アミドアミノアルカン）イットリウム化合物、トリス（アミドアミノアルカン）ランタン化合物などが挙げられる。
【００４６】
（処理剤３４）
処理剤３４は、例えば、有機含窒素化合物を吸着するものであってもよいし、吸収するものであってもよい。このような処理剤３４の具体例としては、活性白土、ゼオライト、活性炭、シリカゲル、酸化鉄、硫化鉄などが挙げられる。活性白土、ゼオライト、活性炭が処理剤３４として好ましく用いられ、なかでも、活性白土及びゼオライトが処理剤３４としてより好ましく用いられる。処理剤３４としては、Ｘ型のゼオライト、バインダーレスのゼオライトがより好ましく用いられる。なお、処理剤３４は、複数種類の処理剤を含んでいてもよい。
【００４７】
また、処理剤３４は、有機含窒素化合物を分解させたり、反応させたりする触媒であってもよい。
【００４８】
処理剤３４は、例えば、粉末状であってもよいし、粒状、タブレット状などであってもよい。なかでも、処理剤３４が粒子状である場合、処理剤３４の粒子径は、０．１ｍｍ〜５ｍｍであることが好ましく、０．５ｍｍ〜２ｍｍであることがより好ましい。
【００４９】
（成膜装置２）
本実施形態の処理装置１は、有機含窒素化合物含有ガスが排出される装置に好適に使用される。具体的には、例えば、処理装置１は、図４に示される成膜装置２に対して好適に使用される。成膜装置２は、窒素を含む配位子を有する金属錯体を用いて、金属膜や金属酸化物膜等を成膜する装置である。
【００５０】
図４に示されるように、成膜装置２は、成膜室４１を有する。成膜室４１は、膜を成膜するための部屋である。成膜室４１には、供給部４０が接続されている。供給部４０は、膜の原料として、例えば上記一般式（１）で示される金属錯体などのような、窒素を含む配位子を有する金属錯体を成膜室４１に供給する。成膜室４１において、供給部４０から供給された金属錯体を原料として成膜が行われる。成膜室４１において行われる成膜の方法は、特に限定されない。成膜室４１は、例えば、化学気相蒸着（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ：ＣＶＤ）法や、原子層堆積（Ａｔｏｍｉｃ  Ｌａｙｅｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ：ＡＬＤ）法などにより金属膜や、金属酸化物膜等を成膜する部屋であってもよい。
【００５１】
窒素を含む配位子を有する金属錯体は、成膜しようとする膜の種類によって適宜選択することができる。窒素を含む配位子を有する金属錯体としては、例えば、上記  一般式（１）で示される（アミドアミノアルカン）金属化合物が挙げられる。
【００５２】
成膜装置２は、処理装置１を有する。上述の通り、処理装置１を用いることにより、有機含窒素化合物含有ガスの処理に要するコストを低減することができる。このため、成膜装置２を用いることにより、成膜コストを低減することができる。
【００５３】
また、処理装置１と成膜室４１との間に、固形物をトラップするトラップ４２が設けられている。このため、処理装置１に固形物が流入することが抑制されている。
【符号の説明】
【００５４】
１：処理装置
２：成膜装置
１０：処理室
１１：導入口
１２：排出口
３３：導入管
３４：処理剤
３５：排気管
３６：検知部
３６ａ：検知部本体
３６ａ１：観察窓
３６ｂ：検知剤
３６ｃ：測定部
４０：供給部
４１：成膜室
４２：トラップ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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