(57)【要約】【課題】モータ駆動力を必要としない簡素化したスプレーノズルの揺動機構を備えたウェット処理装置を提供すること。【解決手段】前記ノズル支持体を揺動するため、前記揺動ノズルの一方からウェット処理液を噴出しているときは他方の揺動ノズルからはウェット処理液を噴出させないことによって片方に向う推力を得ることで前記ノズル支持体を可動に支持している支点を中心に回転させることでその方向に首を振らせ、ある時間が経過した後に、ウェット処理液を噴出する揺動ノズルを逆に切換えることによって前記支点を中心に逆方向に回転させる推力を得ることで逆方向に首を振らせることを交互に繰り返す揺動機構を使用したことを特徴とするウェット処理装置。【選択図】図１
2013128867.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フラットパネルディスプレイやプリント配線板の製造ラインで使用されるウェット処理装置であって、少なくとも、
被処理物にウェット処理液を噴出するためのスプレーノズルと前記ウェット処理液を噴出することにより推力を得て前記スプレーノズルを揺動するために、相対する位置に設けられた一対の揺動ノズルとが備えられたノズル支持体と、
前記ノズル支持体を揺動するため、前記揺動ノズルの一方からウェット処理液を噴出しているときは、他方の揺動ノズルからはウェット処理液を噴出させないことによって一方の側に向う推力を得ることで前記ノズル支持体を可動に支持している支点を中心に回転させることで推力の向きに首を振らせ、ある時間が経過した後に、ウェット処理液を噴出する揺動ノズルを逆に切換えることによって前記支点を中心に逆向きの推力を得ることで逆向きに首を振らせることを交互に繰り返す揺動機構と、からなることを特徴とするウェット処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載のウェット処理装置の揺動機構であって、少なくとも、ノズル支持体の内部に固定された固定分液板と前記固定分液板に隣接され、前記固定分液板の中心と一致した中心を持ち、その中心を回転の中心として回転可能に備えられたロータリー分液板とからなり、
前記固定分液板と前記ノズル支持体の内壁が接する部位は、ウェット処理液の圧力に耐える密封構造となっており、
前記ロータリー分液板と前記ノズル支持体の内壁が接する部位は、摺動可能且つウェット処理液の圧力に耐える密封構造となっており、
前記固定分液板と前記ロータリー分液板が接する面は、摺動可能且つウェット処理液の圧力に耐える密封構造となっており、
前記固定分液板には相対する位置に一対の貫通孔が形成されており、
前記ロータリー分液板には貫通孔が１つ形成されており、
前記ロータリー分液板の表面にはウェット処理液の流れから力を受ける構造が形成されており、その力により前記ロータリー分液板は前記固定分液板と平行な面内で、前記ロータリー分液板と前記固定分液板の中心を一致した中心として、それを中心に回転可能に設けられており、
前記固定分液板と前記ロータリー分液板に形成された貫通孔が合致した部分がある時は、前記揺動ノズルの一方にウェット処理液が供給されることでウェット処理液が噴出し、前記ロータリー分液板が回転し、前記固定分液板の貫通孔と合致していない間は、ウェット処理液は遮断され揺動ノズルからのウェット処理液の噴出は止まり、更に前記ロータリー分液板が回転し、前記固定分液板の相対する位置に形成された貫通孔と合致した部分がある時は、相対する位置に備えられたもう一方の揺動ノズルからウェット処理液が噴出する機構であり、
前記ロータリー分液板を回転するのに使用されたウェット処理液がスプレーノズルへと繋がる専用の内部構造と前記揺動ノズルへと繋がる専用の内部構造を備えていることを特徴とする揺動機構。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フラットパネルディスプレイ用基板、例えばカラーフィルタ基板や薄膜トランジスタ基板などを製造する為の製造ラインで多用されているウェット処理装置に関する。更に具体的には、ウェット処理装置で使用されるスプレーノズルの揺動機構に関する。
【背景技術】
【０００２】
フラットパネルディスプレイ用の基板、プリント配線板、半導体集積回路などの製造ラインでは、露光済の感光性レジストが形成されている各種の基板を現像する現像装置や湿式エッチング装置が多用されている。
【０００３】
現像装置や湿式エッチング装置では、スプレー現像やスプレーエッチングが広く使用されており、これらの装置には、多数のスプレーノズルが処理の均一性を良好にするために配置されており、且つ、スプレーノズルを動かすことによって、処理の均一性を更に高めている。具体的には、例えば、現像装置の中で基板の流れ方向に平行に配列されたスプレーノズルが固定されている現像液の配管に複数のスプレーノズルが、現像処理が均一に行えるように配置されており、更にはその配管をある角度範囲で回転方向に往復運動させたり、配管全体を基板に対して平行な面内で並進的に往復運動させる揺動が行われることがある。
【０００４】
この揺動を行う機構として、従来は駆動モータを用いたノズル揺動機構が一般的に用いられてきたが、製造装置の小型化の要求などにより、狭い空間にノズル揺動機構を構成する各種の機構や駆動モータとその制御装置などが詰め込まれており、設備が高価であるばかりでなく、メンテナンス性の悪化にも繋がっている。
【０００５】
そこで、装置の構成要素を少なくして、構造をより簡素化して上記の傾向を緩和することが求められている。しかしながら、従来技術においては、処理の均一化のため、より複雑な機構を備えた技術は見出せるが、より簡素化した構造を実現する技術により、装置の構成を単純化した技術を見出すことはできなかった。例えば特許文献１には、処理の均一化のため２つ以上のスプレーノズルの揺動機構を備え、その揺動幅が２つ以上設定されているスプレー装置が開示されており、処理の均一化を達成しているが、構造をより簡素化する技術ではない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−５７９８９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の課題は、モータ駆動力を必要としない、簡素化したウェット処理装置のスプレーノズルの揺動機構を備えたウェット処理装置を提供することである。  
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決する手段として、請求項１に記載の発明は、フラットパネルディスプレイやプリント配線板の製造ラインで使用されるウェット処理装置であって、少なくとも、
被処理物にウェット処理液を噴出するためのスプレーノズルと前記ウェット処理液を噴出することにより推力を得て前記スプレーノズルを揺動するために、相対する位置に設け
られた一対の揺動ノズルとが備えられたノズル支持体と、
前記ノズル支持体を揺動するため、前記揺動ノズルの一方からウェット処理液を噴出しているときは、他方の揺動ノズルからはウェット処理液を噴出させないことによって一方の側に向う推力を得ることで前記ノズル支持体を可動に支持している支点を中心に回転させることで推力の向きに首を振らせ、ある時間が経過した後に、ウェット処理液を噴出する揺動ノズルを逆に切換えることによって前記支点を中心に逆向きの推力を得ることで逆向きに首を振らせることを交互に繰り返す揺動機構と、からなることを特徴とするウェット処理装置である。
【０００９】
また、請求項２の発明は、請求項１に記載のウェット処理装置の揺動機構であって、少なくとも、ノズル支持体の内部に固定された固定分液板と前記固定分液板に隣接され、前記固定分液板の中心と一致した中心を持ち、その中心を回転の中心として回転可能に備えられたロータリー分液板とからなり、
前記固定分液板と前記ノズル支持体の内壁が接する部位は、ウェット処理液の圧力に耐える密封構造となっており、
前記ロータリー分液板と前記ノズル支持体の内壁が接する部位は、摺動可能且つウェット処理液の圧力に耐える密封構造となっており、
前記固定分液板と前記ロータリー分液板が接する面は、摺動可能且つウェット処理液の圧力に耐える密封構造となっており、
前記固定分液板には相対する位置に一対の貫通孔が形成されており、
前記ロータリー分液板には貫通孔が１つ形成されており、
前記ロータリー分液板の表面にはウェット処理液の流れから力を受ける構造が形成されており、その力により前記ロータリー分液板は前記固定分液板と平行な面内で、前記ロータリー分液板と前記固定分液板の中心を一致した中心として、それを中心に回転可能に設けられており、
前記固定分液板と前記ロータリー分液板に形成された貫通孔が合致した部分がある時は、前記揺動ノズルの一方にウェット処理液が供給されることでウェット処理液が噴出し、前記ロータリー分液板が回転し、前記固定分液板の貫通孔と合致していない間は、ウェット処理液は遮断され揺動ノズルからのウェット処理液の噴出は止まり、更に前記ロータリー分液板が回転し、前記固定分液板の相対する位置に形成された貫通孔と合致した部分がある時は、相対する位置に備えられたもう一方の揺動ノズルからウェット処理液が噴出する機構であり、
前記ロータリー分液板を回転するのに使用されたウェット処理液がスプレーノズルへと繋がる専用の内部構造と前記揺動ノズルへと繋がる専用の内部構造を備えていることを特徴とする揺動機構である。
【発明の効果】
【００１０】
本発明により、モータ駆動力を必要としないスプレーノズルの揺動機構を備えたウェット処理装置を提供することが可能となる。  
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明のウェット処理装置で使用するノズル部の構成例を示す概念図
【図２】本発明のウェット処理装置で使用するノズル部の揺動機構の例を示す概念図
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本発明を、図を用いて詳しく説明する。
図１は、本発明のウェット処理装置で使用するノズル部の構成例を示す概念図である。従来のウェット処理装置におけるノズル部の揺動機構は、モータの駆動力を使用したものであり、モータの回転運動を揺動に変換する機構が必要であるため、ウェット処理装置の内部にその構造物を構成しなければならなかった。本発明のウェット処理装置は、そのよ
うな構造物を一切不要としたものである。
【００１３】
本発明のウェット処理装置のノズル部１は、揺動ノズル４とスプレーノズル５を備えたノズル支持体２が、ノズル支持体の支持点３に支持された構成となっている。ノズル支持体２の内部に構成されている構造が、ポンプで圧送されて来るウェット処理液の流体圧を使用して、ノズル支持体２がノズル支持体の支持点３に沿って揺動する方向の相対する位置に備えられた一対の揺動ノズル４から、交互にウェット処理液を噴出させることによって発生する推力によって揺動する。
【００１４】
ノズル支持体２を揺動させるためのウェット処理液とスプレーノズル５から噴出させるウェット処理液は、独立した経路を通り、それぞれのノズルから噴出する。
【００１５】
図２は、本発明のウェット処理装置で使用するノズル部の揺動機構の例を示す概念図である。具体的には、図１におけるノズル支持体２の内部に形成されている内部構造である。
【００１６】
図示していないウェット処理液を圧送するポンプから、図示していない配管を通してノズル支持体に供給されるウェット処理液は、２つの独立した経路を通って、最終的に図１の揺動ノズル４とスプレーノズル５から噴出する。
【００１７】
２つの独立した経路のうちの一方の経路は、まずロータリー分液板６のウェット処理液の流れから力を受ける構造８に供給される。このことにより、ロータリー分液板６が回転する。この構造は、固定分液板７に面していない面に形成されている。このウェット処理液の流れから力を受ける構造８は、ノズル支持体２の内壁とロータリー分液板６のウェット処理液の流れから力を受ける構造８が形成されていない領域とは、摺動可能に且つウェット処理液の圧力に耐える密封構造で隔離されており、ロータリー分液板の貫通孔９にウェット処理液が流れることはない内部構造が形成されている。この経路に流れたウェット処理液は、スプレーノズル５に繋がっており、被処理物に噴出される。ロータリー分液板６と固定分液板７が互いに面した面は摺動可能に且つウェット処理液の圧力に耐える密封構造で隔離されている。
【００１８】
もう一方の経路は、まずロータリー分液板の貫通孔９が形成されている領域に供給される。このことにより、ロータリー分液板の貫通孔９と固定分液板の貫通孔１０が合致した時に、ウェット処理液が通過することができるが、それ以外の時は、ウェット処理液は通過することができない。このような内部構造によって、この経路に供給されたウェット処理液は、断続的に、その先に繋がっている揺動ノズル４に供給され、交互に反対方向に首を振る揺動を繰り返すことになる。
【００１９】
このように、同じポンプから圧送されたウェット処理液は、ノズル支持体２に供給されると、２つの独立し、互いにウェット処理液の圧力に耐える密封構造である内部構造によって、揺動ノズル４からの断続的なウェット処理液の噴出を実現することで、ノズル支持体２の揺動を可能とすると同時に、スプレーノズル５からのウェット処理液の噴出を可能とするものである。
【００２０】
なお、本発明のウェット処理装置に使用される揺動機構としては、単に、揺動ノズル４とスプレーノズル５に供給するウェット処理液を、独立した配管系または独立した経路を通して供給し、２つの揺動ノズル４には、電磁弁などの切換え手段を使用することで、交互にウェット処理液を噴出させる機構でも良い。
【符号の説明】
【００２１】
１・・・ウェット処理装置のノズル部
２・・・ノズル支持体
３・・・ノズル支持体の支持点
４・・・揺動ノズル
５・・・スプレーノズル
６・・・ロータリー分液板
７・・・固定分液板
８・・・ウェット処理液の流れから力を受ける構造
９・・・ロータリー分液板の貫通孔
１０・・・固定分液板の貫通孔
１１・・・固定分液板とロータリー分液板の中心点
【図１】
2013128867.tif 000003
【図２】
2013128867.tif 000004