(57)【要約】【課題】一表面側に発光層などが設けられる導電性基板の他表面側に絶縁層を設けながらも簡単な構成で端子部を設けることが可能な有機エレクトロルミネッセンス素子を提供する。【解決手段】有機エレクトロルミネッセンス素子は、第１電極１１を兼ねる導電性基板１２と、導電性基板１２の一表面側で第１電極１１に対向した第２電極５０と、第１電極１１と第２電極５０との間にあり発光層３２を含む機能層３０とを備え、第２電極５０側から光を取り出すものである。この有機エレクトロルミネッセンス素子は、導電性基板１２の他表面側に設けられた絶縁層１５と、導電性基板１２から上記他表面側に突出した凸部１２ａとを備え、凸部１２ａの一部を絶縁層１５から露出させて外部接続用の端子部１２ａａとしてある。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１電極を兼ねる導電性基板と、前記導電性基板の一表面側で前記第１電極に対向した第２電極と、前記第１電極と前記第２電極との間にあり少なくとも発光層を含む機能層とを備え、前記第２電極側から光を取り出す有機エレクトロルミネッセンス素子であって、前記導電性基板の他表面側に設けられた絶縁層と、前記導電性基板から前記他表面側に突出した凸部とを備え、前記凸部の少なくとも一部を前記絶縁層から露出させて外部接続用の端子部としてあることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項２】
前記機能層の前記第２電極側の最表面において前記凸部の投影領域に凹部を有し、前記凹部に、吸湿部を設けてなることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項３】
前記導電性基板の前記一表面において前記凸部の投影領域に凹部を有し、前記凹部に、吸湿部を設けてなることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項４】
前記導電性基板は、少なくとも金属箔からなることを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項５】
前記第２電極における前記機能層側とは反対側にあり透光性を有する封止層と、前記第２電極と前記封止層との間に介在する透光性の樹脂層とを備えることを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス素子に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、図２３に示す構成を有する有機エレクトロルミネッセンス素子が提案されている（特許文献１）。
【０００３】
この有機エレクトロルミネッセンス素子は、一方の電極（陰極）１０１が基板１０４の一表面に積層され、電極１０１の表面上に電子注入・輸送層１０５を介して発光層１０３が積層され、発光層１０３上に、ホール注入・輸送層１０６を介して他方の電極（陽極）１０２が積層されている。また、この有機エレクトロルミネッセンス素子は、基板１０４の上記一表面側に封止部材１０７を備えている。したがって、この有機エレクトロルミネッセンス素子では、発光層１０３で発光した光が、光透過性電極として形成される電極１０２、透明体で形成される封止部材１０７を通して放射されるようになっている。
【０００４】
反射性の電極１０１の材料としては、例えば、Ａｌ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｙ、Ｓｃ、Ａｇ、Ｉｎなどが挙げられている。また、光透過性電極である電極１０２の材料としては、例えば、インジウム−錫酸化物（ＩＴＯ）、インジウム−亜鉛酸化物（ＩＺＯ）などが挙げられている。
【０００５】
また、特許文献１には、基板１０４が導電性で有る場合には、図２４に示すように、一方の電極１０１を、この基板１０４で兼用することができる旨が記載されている。
【０００６】
なお、特許文献１には、非発光点の発生および成長を防ぐために何らかの乾燥剤を封止部材１０７の内部に設けることがあるが、乾燥剤については光透過性のものが好ましく、その大きさ或いは配置場所によっては非透過性のものであってもよい旨が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００６−３３１６９４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで、図２４に示した構成を有する有機エレクトロルミネッセンス素子では、基板１０４が導電性を有しているので、基板１０４の他表面側に絶縁層を設けることが考えられる。しかしながら、この場合は、導電性を有する基板１０４の上記他表面側から基板１０４へ通電することができなくなってしまう。
【０００９】
本発明は上記事由に鑑みて為されたものであり、その目的は、一表面側に発光層などが設けられる導電性基板の他表面側に絶縁層を設けながらも簡単な構成で端子部を設けることが可能な有機エレクトロルミネッセンス素子を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子は、第１電極を兼ねる導電性基板と、前記導電性基板の一表面側で前記第１電極に対向した第２電極と、前記第１電極と前記第２電極との間にあり少なくとも発光層を含む機能層とを備え、前記第２電極側から光を取り出す有機エレクトロルミネッセンス素子であって、前記導電性基板の他表面側に設けられた絶縁層と、前記導電性基板から前記他表面側に突出した凸部とを備え、前記凸部の少なくとも一部を前記絶縁層から露出させて外部接続用の端子部としてあることを特徴とする。
【００１１】
この有機エレクトロルミネッセンス素子において、前記機能層の前記第２電極側の最表面において前記凸部の投影領域に凹部を有し、前記凹部に、吸湿部を設けてなることが好ましい。
【００１２】
この有機エレクトロルミネッセンス素子において、前記導電性基板の前記一表面において前記凸部の投影領域に凹部を有し、前記凹部に、吸湿部を設けてなることが好ましい。
【００１３】
この有機エレクトロルミネッセンス素子において、前記導電性基板は、少なくとも金属箔からなることが好ましい。
【００１４】
この有機エレクトロルミネッセンス素子において、前記第２電極における前記機能層側とは反対側にあり透光性を有する封止層と、前記第２電極と前記封止層との間に介在する透光性の樹脂層とを備えることが好ましい。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子においては、信頼性の向上を図ることが可能で且つ光取り出し効率の向上を図ることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】実施形態１の有機エレクトロルミネッセンス素子の要部概略断面図である。
【図２】実施形態１の有機エレクトロルミネッセンス素子の概略断面図である。
【図３】実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子における第２電極の概略平面図である。
【図４】実施形態１の有機エレクトロルミネッセンス素子の他の要部の概略断面図である。
【図５】実施形態１の有機エレクトロルミネッセンス素子における第２電極の他の構成例の概略平面図である。
【図６】実施形態１の有機エレクトロルミネッセンス素子における第２電極の別の構成例の概略平面図である。
【図７】実施形態２の有機エレクトロルミネッセンスの概略断面図である。
【図８】実施形態３の有機エレクトロルミネッセンスの概略断面図である。
【図９】実施形態４の有機エレクトロルミネッセンスの概略断面図である。
【図１０】実施形態５の有機エレクトロルミネッセンスの概略断面図である。
【図１１】実施形態６の有機エレクトロルミネッセンスの概略断面図である。
【図１２】実施形態７の有機エレクトロルミネッセンスの概略断面図である。
【図１３】実施形態８の有機エレクトロルミネッセンスの概略断面図である。
【図１４】実施形態９の有機エレクトロルミネッセンスの概略断面図である。
【図１５】実施形態１０の有機エレクトロルミネッセンスの概略断面図である。
【図１６】実施形態１１の有機エレクトロルミネッセンスの概略断面図である。
【図１７】実施形態１２の有機エレクトロルミネッセンスの概略断面図である。
【図１８】実施形態１３の有機エレクトロルミネッセンスの概略断面図である。
【図１９】実施形態１４の有機エレクトロルミネッセンスの概略断面図である。
【図２０】実施形態１５の有機エレクトロルミネッセンスの概略断面図である。
【図２１】実施形態１６の有機エレクトロルミネッセンスの概略断面図である。
【図２２】実施形態１７の有機エレクトロルミネッセンスの概略断面図である。
【図２３】従来の有機エレクトロルミネッセンス素子の一例を示す概略断面図である。
【図２４】従来の有機エレクトロルミネッセンス素子の他の例を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
（実施形態１）
以下、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子について図１〜図４に基づいて説明する。
【００１８】
有機エレクトロルミネッセンス素子は、第１電極１１を兼ねる導電性基板１２と、導電性基板１２の一表面側で第１電極１１に対向した第２電極５０と、第１電極１１と第２電極５０との間にあり発光層３２を含む機能層３０とを備えている。
【００１９】
また、有機エレクトロルミネッセンス素子は、導電性基板１２の他表面側に設けられた絶縁層１５と、導電性基板１２から上記他表面側に突出した凸部１２ａとを備えている。そして、この有機エレクトロルミネッセンス素子は、凸部１２ａの一部を絶縁層１５（以下、第１絶縁層１５とも称する）から露出させて外部接続用の端子部１２ａａとしてある。
【００２０】
この有機エレクトロルミネッセンス素子は、機能層３０の第２電極５０側の最表面において凸部１２ａの投影領域に凹部３０ｂを有しており、この凹部３０ｂに、吸湿部１００を設けてあることが好ましい。
【００２１】
また、有機エレクトロルミネッセンス素子は、機能層３０の側面側に設けられ第２電極５０と第１電極１１とを絶縁する絶縁層６０（以下、第２絶縁層６０とも称する）を備えている。
【００２２】
第２電極５０は、機能層３０からの光を取り出すことが可能となるように構成されている。ここで、第２電極５０は、機能層３０に接する導電性高分子層３９と、この導電性高分子層３９における機能層３０側とは反対側に位置し機能層３０からの光の取り出し用の開口部４１（図３および図４参照）を有する電極パターン４０とを備えていることが好ましい。要するに、有機エレクトロルミネッセンス素子は、第２電極５０が、機能層３０からの光の取り出し用の開口部４１を有していることが好ましい。
【００２３】
有機エレクトロルミネッセンス素子は、第１電極１１および第２電極５０の電極パターン４０それぞれの抵抗率を、透明導電性酸化物（Transparent Conducting Oxide：ＴＣＯ）の抵抗率よりも低くしてある。透明導電性酸化物としては、例えば、ＩＴＯ、ＡＺＯ、ＧＺＯ、ＩＺＯなどがある。
【００２４】
また、有機エレクトロルミネッセンス素子は、導電性基板１２の上記一表面側に対向配置され透光性を有する封止層（カバー基板）７０と、第２電極５０と封止層７０との間に介在する透光性の樹脂層９０とを備えている。これにより、有機エレクトロルミネッセンス素子は、第２電極５０側から樹脂層９０および封止層７０を通して光を取り出すことが可能となる。樹脂層９０は、導電性高分子層３９の屈折率以上の屈折率を有することが好ましい。
【００２５】
また、有機エレクトロルミネッセンス素子は、上述の端子部１２ａａ（以下、第１端子部１２ａａとも称する）と、第２電極５０に引出し配線４６を介して電気的に接続された端子部４７（以下、第２端子部４７とも称する）とを備えている。ここで、引出し配線４６および第２端子部４７は、導電性基板１２の上記一表面側に設けられている。また、有機エレクトロルミネッセンス素子は、上述の第２の絶縁層６０が、導電性基板１２の上記一表面と機能層３０の側面と、機能層３０における第２電極５０側の表面の外周部とに跨って形成されている。これにより、有機エレクトロルミネッセンス素子は、引出し配線４６と、機能層３０、第１電極１１とが、第２の絶縁層６０によって電気的に絶縁されている。
【００２６】
有機エレクトロルミネッセンス素子は、導電性基板１２の周部と封止層７０の周部との間に介在する枠状（本実施形態では、矩形枠状）のフレーム部８０とを備えていることが好ましい。また、樹脂層９０は、導電性基板１２と封止層７０とフレーム部８０とで囲まれる空間において、第１電極１１、機能層３０、第２電極５０などからなる素子部１を覆うように設けることが好ましい。
【００２７】
以下、有機エレクトロルミネッセンス素子の各構成要素について詳細に説明する。
【００２８】
導電性基板１２は、平面視形状を矩形状としてある。ここで、導電性基板１２の平面視形状は、矩形状に限らず、例えば、矩形状以外の多角形状、円形状などでもよい。
【００２９】
第１電極１１を兼ねる導電性基板１２は、金属箔１０と、金属箔１０の一面に形成した導電層２０とで構成してあるが、これに限らず、金属箔１０のみで構成してもよい。要するに、第１電極１１を金属箔１０のみにより構成することも可能である。
【００３０】
金属箔１０の材料としては、例えば、銅、ステンレス鋼、アルミニウムなどを採用することができる。また、第１電極１１が、陰極を構成する場合、導電層２０の材料としては、例えば、アルミニウム、銀、マグネシウム、金、銅、クロム、モリブデン、パラジウム、錫など、およびこれらと他の金属との合金、例えばマグネシウム−銀混合物、マグネシウム−インジウム混合物、アルミニウム−リチウム合金を例として挙げることができる。また、金属、金属酸化物など、およびこれらと他の金属との混合物、例えば、酸化アルミニウムからなる極薄膜（ここでは、トンネル注入により電子を流すことが可能な１ｎｍ以下の薄膜）とアルミニウムからなる薄膜との積層膜なども使用可能である。第１電極１１が反射電極となるので、陰極を反射電極とする場合、陰極の材料としては、発光層３２から放射される光に対する反射率が高く、且つ、抵抗率の低い金属が好ましく、アルミニウムや銀が好ましい。
【００３１】
本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子では、第１電極１１が陰極を構成し、第２電極５０が陽極を構成している。この場合、第１電極１１から機能層３０へ注入する第１キャリアは電子であり、第２電極５０から機能層３０へ注入する第２キャリアは正孔である。機能層３０は、第１電極１１側から順に、発光層３２、第２キャリア輸送層３３、第２キャリア注入層３４を備えている。ここにおいて、第２キャリア輸送層３３、第２キャリア注入層３４は、それぞれ、ホール輸送層、ホール注入層である。なお、第１電極１１が陽極を構成し、第２電極５０が陰極を構成する場合には、例えば、第２キャリア輸送層３３として電子輸送層を、第２キャリア注入層３４として電子注入層を採用すればよい。
【００３２】
上述の機能層３０の構造は、図１の例に限らず、例えば、第１電極１１と発光層３２との間に、第１キャリア注入層、第１キャリア輸送層を設けたり、発光層３２と第２キャリア輸送層３３との間にインターレイヤーを設けたりした構造でもよい。第１電極１１が陰極を構成し、第２電極５０が陽極を構成している場合、第１キャリア注入層は、電子注入層であり、第１キャリア輸送層は、電子輸送層である。
【００３３】
また、機能層３０は、少なくとも発光層３２を含んでいればよく（つまり、機能層３０は、発光層３２のみでもよく）、発光層３２以外の、第１キャリア注入層、第１キャリア輸送層、インターレイヤー、第２キャリア輸送層３３、第２キャリア注入層３４などは適宜設ければよい。発光層３２は、単層構造でも多層構造でもよい。例えば、所望の発光色が白色の場合には、発光層中に赤色、緑色、青色の３種類のドーパント色素をドーピングするようにしてもよいし、青色正孔輸送性発光層と緑色電子輸送性発光層と赤色電子輸送性発光層との積層構造を採用してもよいし、青色電子輸送性発光層と緑色電子輸送性発光層と赤色電子輸送性発光層との積層構造を採用してもよい。
【００３４】
発光層３２の材料としては、例えば、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体など、ポリフルオレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、色素体、金属錯体系発光材料を高分子化したものなどや、アントラセン、ナフタレン、ピレン、テトラセン、コロネン、ペリレン、フタロペリレン、ナフタロペリレン、ジフェニルブタジエン、テトラフェニルブタジエン、クマリン、オキサジアゾール、ビスベンゾキサゾリン、ビススチリル、シクロペンタジエン、クマリン、オキサジアゾール、ビスベンゾキサゾリン、ビススチリル、シクロペンタジエン、キノリン金属錯体、トリス（８−ヒドロキシキノリナート）アルミニウム錯体、トリス（４−メチル−８−キノリナート）アルミニウム錯体、トリス（５−フェニル−８−キノリナート）アルミニウム錯体、アミノキノリン金属錯体、ベンゾキノリン金属錯体、トリ−（ｐ−ターフェニル−４−イル）アミン、ピラン、キナクリドン、ルブレン、およびこれらの誘導体、あるいは、１−アリール−２，５−ジ（２−チエニル）ピロール誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、スチリルアリーレン誘導体、スチリルアミン誘導体、およびこれらの発光性化合物からなる基を分子の一部分に有する化合物などが挙げられる。また、上記化合物に代表される蛍光色素由来の化合物のみならず、いわゆる燐光発光材料、例えばイリジウム錯体、オスミウム錯体、白金錯体、ユーロピウム錯体などの発光材料、又はそれらを分子内に有する化合物若しくは高分子も好適に用いることができる。これらの材料は、必要に応じて、適宜選択して用いることができる。発光層３２は、塗布法（例えば、スピンコート法、スプレーコート法、ダイコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法など）のような湿式プロセスによって成膜することが好ましい。ただし、発光層３２の成膜方法は、塗布法に限らず、例えば、真空蒸着法、転写法などの乾式プロセスによって発光層３２を成膜してもよい。
【００３５】
電子注入層の材料は、例えば、フッ化リチウムやフッ化マグネシウムなどの金属フッ化物、塩化ナトリウム、塩化マグネシウムなどに代表される金属塩化物などの金属ハロゲン化物や、チタン、亜鉛、マグネシウム、カルシウム、バリウム、ストロンチウムなどの酸化物、などを用いることができる。これらの材料の場合、電子注入層は、真空蒸着法により形成することができる。また、電子注入層の材料は、例えば、電子注入を促進させるドーパント（アルカリ金属など）を混合した有機半導体材料を用いることができる。このような材料の場合、電子注入層は、塗布法により形成することができる。
【００３６】
また、電子輸送層の材料は、電子輸送性を有する化合物の群から選定することができる。この種の化合物としては、Ａｌｑ３等の電子輸送性材料として知られる金属錯体や、フェナントロリン誘導体、ピリジン誘導体、テトラジン誘導体、オキサジアゾール誘導体などのヘテロ環を有する化合物などが挙げられるが、この限りではなく、一般に知られる任意の電子輸送材料を用いることが可能である。
【００３７】
ホール輸送層の材料としては、ＬＵＭＯ(Lowest UnoccupiedMolecular Orbital)準位が小さい低分子材料や高分子材料を用いることができる。例えば、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＣｚ）や、ポリピリジン、ポリアニリンなどの側鎖や主鎖に芳香族アミンを有するポリアリーレン誘導体などの芳香族アミンを含むポリマーなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。なお、ホール輸送層の材料としては、例えば、４，４’−ビス［Ｎ−（ナフチル）−Ｎ−フェニル−アミノ］ビフェニル（α−ＮＰＤ）、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−（１，１’−ビフェニル）−４，４’−ジアミン（ＴＰＤ）、２−ＴＮＡＴＡ、４，４’，４”−トリス（Ｎ−（３−メチルフェニル）Ｎ−フェニルアミノ）トリフェニルアミン（ＭＴＤＡＴＡ）、４，４’−Ｎ，Ｎ’−ジカルバゾールビフェニル（ＣＢＰ）、スピロ−ＮＰＤ、スピロ−ＴＰＤ、スピロ−ＴＡＤ、ＴＮＢなどを用いることが可能である。
【００３８】
ホール注入層の材料としては、例えば、チオフェン、トリフェニルメタン、ヒドラゾリン、アミールアミン、ヒドラゾン、スチルベン、トリフェニルアミンなどを含む有機材料が挙げられる。具体的には、たとえば、ポリビニルカルバゾール、ポリエチレンジオキシチオフェン：ポリスチレンスルホネート（ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ）、ＴＰＤなどの芳香族アミン誘導体などで、これらの材料を単独で用いてもよいし、２種類以上の材料を組み合わせて用いてもよい。このようなホール注入層は、塗布法（スピンコート法、スプレーコート法、ダイコート法、グラビア印刷法など）のような湿式プロセスによって成膜することができる。
【００３９】
インターレイヤーは、発光層３２側からの第２電極５０側への第１キャリア（ここでは、電子）の漏れを抑制する第１キャリア障壁（ここでは、電子障壁）としてのキャリアブロッキング機能（ここでは、電子ブロッキング機能）を有することが好ましく、更に、第２キャリア（ここでは、正孔）を発光層３２へ輸送する機能、発光層３２の励起状態の消光を抑制する機能などを有していることが好ましい。なお、本実施形態では、インターレイヤーが、発光層３２側からの電子の漏れを抑制する電子ブロッキング層を構成している。
【００４０】
有機エレクトロルミネッセンス素子では、インターレイヤーを設けることにより、発光効率の向上および長寿命化を図ることが可能となる。インターレイヤーの材料としては、例えば、ポリアリールアミン若しくはその誘導体、ポリフルオレン若しくはその誘導体、ポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、トリフェニルジアミン誘導体などを用いることができる。このようなインターレイヤーは、塗布法（スピンコート法、スプレーコート法、ダイコート法、グラビア印刷法など）のような湿式プロセスによって成膜することができる。
【００４１】
また、陰極は、機能層３０中に第１電荷である電子（第１キャリア）を注入するための電極である。第１電極１１が陰極の場合、陰極の材料としては、仕事関数の小さい金属、合金、電気伝導性化合物およびこれらの混合物からなる電極材料を用いることが好ましく、ＬＵＭＯ(Lowest Unoccupied Molecular Orbital)準位との差が大きくなりすぎないように仕事関数が１．９ｅＶ以上５ｅＶ以下のものを用いるのが好ましい。陰極の電極材料としては、例えば、アルミニウム、銀、マグネシウム、金、銅、クロム、モリブデン、パラジウム、錫など、およびこれらと他の金属との合金、例えばマグネシウム−銀混合物、マグネシウム−インジウム混合物、アルミニウム−リチウム合金を例として挙げることができる。また、金属、金属酸化物など、およびこれらと他の金属との混合物、例えば、酸化アルミニウムからなる極薄膜（ここでは、トンネル注入により電子を流すことが可能な１ｎｍ以下の薄膜）とアルミニウムからなる薄膜との積層膜なども使用可能である。陰極を反射電極とする場合、陰極の材料としては、発光層３２から放射される光に対する反射率が高く、且つ、抵抗率の低い金属が好ましく、アルミニウムや銀が好ましい。なお、第１電極１１が、機能層３０中に第２電荷であるホール（第２キャリア）を注入するための電極である陽極を構成する場合、第１電極１１の材料としては、仕事関数の大きい金属を用いることが好ましく、ＨＯＭＯ（Highest Occupied Molecular Orbital）準位との差が大きくなりすぎないように仕事関数が４ｅＶ以上６ｅＶ以下のものを用いるのが好ましい。
【００４２】
第２電極５０の導電性高分子層３９の材料としては、例えば、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリピロール、ポリフェニレン、ポリフェニレンビニレン、ポリアセチレン、ポリカルバゾールなどの導電性高分子材料を用いることができる。また、導電性高分子層３９の導電性高分子材料としては、導電性を高めるために、例えば、スルホン酸、ルイス酸、プロトン酸、アルカリ金属、アルカリ土類金属などのドーパントをドーピングしたものを採用してもよい。ここで、導電性高分子層３９は、抵抗率がより低いほうが好ましく、抵抗率が低いほど、横方向（面内方向）への通電性が向上し、発光層３２に流れる電流の面内ばらつきを低減することが可能となり、輝度むらを低減することが可能となる。
【００４３】
第２電極５０の電極パターン４０は、金属の粉末と有機バインダとを含む電極からなる。この種の金属としては、例えば、銀、金、銅などを採用することができる。これにより、有機エレクトロルミネッセンス素子は、第２電極５０が、導電性透明酸化物により形成された薄膜の場合に比べて、第２電極５０の電極パターン４０の抵抗率およびシート抵抗を小さくすることが可能となり、輝度むらを低減することが可能となる。なお、第２電極５０の電極パターン４０の導電性材料としては、金属の代わりに、合金や、カーボンブラックなどを用いることも可能である。
【００４４】
電極パターン４０は、例えば、金属の粉末に有機バインダおよび有機溶剤を混合させたペースト（印刷インク）を、例えばスクリーン印刷法、グラビア印刷法などにより印刷して形成することができる。有機バインダとしては、例えば、アクリル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン、ポリアクリルニトリル、ポリビニルアセタール、ポリアミド、ポリイミド、ジアクリルフタレート樹脂、セルロース系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、その他の熱可塑性樹脂や、これらの樹脂を構成する単量体の２種以上の共重合体が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００４５】
また、引出し配線４６および第２端子部４７の材料としては、第２電極５０の電極パターン４０と同じ材料を採用しているが、特に限定するものではない。引出し配線４６および第２端子部４７の材料と第２電極５０の電極パターン４０の材料とが同じ場合には、引出し配線４６および第２端子部４７と電極パターン４０とを同時に形成することが可能となる。第２端子部４７は、単層構造に限らず、２層以上の積層構造としてもよい。
【００４６】
なお、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子では、発光層３２の膜厚を６０〜２００ｎｍ、第２キャリア輸送層３３の膜厚を５〜３０ｎｍ、第２キャリア注入層３４の膜厚を１０〜６０ｎｍ、導電性高分子層３９の膜厚を２００〜４００ｎｍにそれぞれ設定してあるが、これらの数値は一例であって、特に限定するものではない。
【００４７】
電極パターン４０は、図１および図３に示すように、格子状（網状）に形成されており、複数（図３に示した例では、６×６＝３６）の開口部４１を有している。ここで、図３に示した電極パターン４０は、各開口部４１の各々の平面視形状が正方形状である。要するに、図３に示した電極パターン４０は、正方格子状に形成されている。
【００４８】
第２電極５０は、正方格子状の電極パターン４０の寸法に関して、例えば、線幅Ｌ１（図４参照）を１μｍ〜１００μｍ、高さＨ１（図４参照）を５０ｎｍ〜１００μｍ、ピッチＰ１（図４参照）を１００μｍ〜２０００μｍとすればよい。ただし、第２電極５０の電極パターン４０の線幅Ｌ１、高さＨ１およびピッチＰ１それぞれの数値範囲は、特に限定するものではなく、素子部１の平面サイズに基づいて適宜設定すればよい。ここにおいて、第２電極５０の電極パターン４０の線幅Ｌ１については、発光層３２で発光する光の利用効率の観点からは狭い方が好ましく、第２電極５０の低抵抗化によって輝度むらを低減するという観点からは広い方が好ましいので、有機エレクトロルミネッセンス素子の平面サイズなどに基づいて適宜設定することが好ましい。また、第２電極５０の電極パターン４０の高さＨ１については、第２電極５０の低抵抗化の観点、電極パターン４０をスクリーン印刷法などの塗布法により形成する際の電極パターン４０の材料の使用効率（材料使用効率）の観点、機能層３０から放射される光の放射角の観点などから、１００ｎｍ以上１０μｍ以下が、より好ましい。
【００４９】
また、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子では、電極パターン４０における各開口部４１を、図２および図４に示したように、機能層３０から離れるにつれて開口面積が徐々に大きくなる開口形状としてある。これにより、有機エレクトロルミネッセンス素子は、機能層３０から放射される光の広がり角を大きくすることが可能になり、輝度むらを、より低減することが可能となる。また、有機エレクトロルミネッセンス素子は、第２電極５０の電極パターン４０での反射損失や吸収損失を低減することが可能となり、外部量子効率のより一層の向上を図ることが可能となる。
【００５０】
電極パターン４０を格子状の形状とする場合、各開口部４１の各々の平面視形状は正方形状に限らず、例えば、長方形状や正三角形状や正六角形状の形状としてもよい。
【００５１】
電極パターン４０は、各開口部４１の各々の平面視形状が正三角形状の場合、三角格子状の形状となり、各開口部４１の各々の平面視形状が正六角形状の場合、六角格子状の形状となる。なお、電極パターン４０は、格子状の形状に限らず、例えば、櫛形状の形状でもよいし、２つの櫛形状の電極パターンにより構成してもよい。また、電極パターン４０は、開口部４１の数も特に限定するものではなく、複数に限らず、１つでもよい。例えば、電極パターン４０を櫛形状の形状としたり、２つの櫛形状の電極パターンにより構成とした場合などは、開口部４１の数を１つとすることが可能である。
【００５２】
また、電極パターン４０は、例えば、図５に示すような平面形状としてもよい。すなわち、電極パターン４０は、平面視において、直線状の細線部４４の線幅を一定として、電極パターン４０における周部から中心部に近づくにつれて隣り合う細線部４４間の間隔が狭くなり開口部４１の開口面積が小さくなる形状としてもよい。有機エレクトロルミネッセンス素子は、第２電極５０の電極パターン４０の平面形状を図５のような平面形状とすることにより、図３のような平面形状とした場合に比べて、第２電極５０において第２端子部４７（図２参照）からの距離が周部よりも遠い中央部での発光効率を向上させることが可能となり、外部量子効率の向上を図ることが可能となる。また、有機エレクトロルミネッセンス素子は、第２電極５０の電極パターン４０の平面形状を図５のような形状とすることにより、図３のような平面形状とした場合に比べて、機能層３０のうち第２端子部４７からの距離が近い周部での電流集中を抑制することが可能となるから、長寿命化を図ることが可能となる。
【００５３】
また、第２電極５０の電極パターン４０は、例えば、図６に示すような平面形状としてもよい。すなわち、電極パターン４０は、平面視において、電極パターン４０における最外周にある４つの第１細線部４２の線幅と、図６において左右方向の中央にある１つの第２細線部４３の線幅とを、第１細線部４２と第２細線部４３との間にある細線部（第３細線部）４４よりも幅広としてある。有機エレクトロルミネッセンス素子は、第２電極５０の電極パターン４０を図６のような平面形状とすることにより、図３のような平面形状の場合に比べて、第２電極５０において第２端子部４７（図２参照）からの距離が周部よりも遠い中央部での発光効率を向上させることが可能となり、外部量子効率の向上を図ることが可能となる。なお、電極パターン４０は、図６のような平面形状とする場合、相対的に線幅の広い第１細線部４２および第２細線部４３の高さを第３細線部４４の高さよりも高くすることにより、第１細線部４２および第２細線部４３それぞれの、より一層の低抵抗化を図ることが可能となる。
【００５４】
カバー基板である封止層７０としては、ガラス基板を用いているが、これに限らず、例えば、プラスチック板などを用いてもよい。ガラス基板の材料としては、例えば、ソーダライムガラス、無アルカリガラスなどを採用することができる。また、プラスチック板の材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタラート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルサルフォン、ポリカーボネートなどを採用することができる。
【００５５】
本実施形態では、封止層７０として、平板状のものを用いているが、これに限らず、導電性基板１２との対向面に、上述の素子部１を収納する収納凹所を形成したものを用い、上記対向面における収納凹所の周部を全周に亘って導電性基板１２側と接合するようにしてもよい。この場合は、別部材のフレーム部８０を用いる必要がなくなるという利点がある。一方、平板状の封止層７０と枠状のフレーム部８０とを別部材により構成している場合には、封止層７０に要求される光学的な物性（光透過率、屈折率など）と、フレーム部８０に要求される物性（ガスバリア性など）との両方の要求を各別に満たす材料を採用することが可能になるという利点がある。
【００５６】
フレーム部８０と導電性基板１２の上記一表面側とを接合する第１接合材料としては、エポキシ樹脂を用いているが、これに限らず、例えば、アクリル樹脂などを採用してもよい。第１接合材料として用いるエポキシ樹脂やアクリル樹脂は、例えば、紫外線硬化型のものでもよいし、熱硬化型のものでもよい。また、第１接合材料として、エポキシ樹脂にフィラー（例えば、シリカ、アルミナなど）を含有させたものを用いてもよい。ここで、フレーム部８０は、導電性基板１２の上記一表面側に対して、フレーム部８０における導電性基板１２側との対向面を全周に亘って気密的に接合してある。また、フレーム部８０と封止層７０とを接合する第２接合材料としては、エポキシ樹脂を用いているが、これに限らず、例えば、アクリル樹脂、フリットガラスなどを採用してもよい。第２接合材料として用いるエポキシ樹脂やアクリル樹脂は、例えば、紫外線硬化型のものでもよいし、熱硬化型のものでもよい。また、第２接合材料として、エポキシ樹脂にフィラー（例えば、シリカ、アルミナなど）を含有させたものを用いてもよい。ここで、フレーム部８０は、封止層７０に対して、フレーム部８０における封止層７０との対向面を全周に亘って気密的に接合してある。
【００５７】
ところで、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子では、樹脂層９０の材料である透光性樹脂として、第２電極５０の導電性高分子層３９の材料の屈折率以上の屈折率を有するものを用いることが好ましい。このような透光性樹脂としては、例えば、屈折率が高くなるように調整されたイミド系樹脂などを用いることができる。
【００５８】
第２絶縁層６０の材料としては、例えば、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂などを用いることができる。
【００５９】
吸湿部１００の材料としては、例えば、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂などの光硬化性樹脂に吸湿剤を含有させたものを用いることができる。
【００６０】
吸湿剤としては、アルカリ土類金属の酸化物や硫酸塩が好ましい。アルカリ土類金属の酸化物としては、例えば、酸化カルシウム、酸化バリウム、酸化マグネシウム、酸化ストロンチウムなどを挙げることができる。また、硫酸塩としては、例えば、硫酸リチウム、硫酸ナトリウム、硫酸ガリウム、硫酸チタン、硫酸ニッケルなどを挙げることができる。また、吸湿剤としては、その他に、例えば、塩化カルシウム、塩化マグネシウム、塩化銅、酸化マグネシウムなどを用いることができる。また、吸湿剤としては、例えば、シリカゲルや、ポリビニルアルコールなどの吸湿性を有する有機化合物を用いることもできる。吸湿剤は、これらに限定されるものではないが、これらの中でも、酸化カルシウム、酸化バリウム、シリカゲルなどが特に好ましい。なお、吸湿部１００中の吸湿剤の含有率は、特に限定するものではない。また、吸湿部１００は、吸湿剤のみにより形成してもよい。
【００６１】
導電性基板１２の上記他表面側に設けられた絶縁層１５の材料としては、例えば、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂などを用いることができる。
【００６２】
また、導電性基板１２から上記他表面側に突出した凸部１２ａは、金属箔１０の一部を断面Ｖ字状に加工することによって形成することができる。なお、凸部１２ａの形状は特に限定するものではない。
【００６３】
以上説明した本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子は、第１電極１１を兼ねる導電性基板１２と、導電性基板１２の上記一表面側で第１電極１１に対向した第２電極５０と、第１電極１１と第２電極５０との間にあり少なくとも発光層３２を含む機能層３０とを備えている。また、有機エレクトロルミネッセンス素子は、導電性基板１２の上記他表面側に設けられた絶縁層１５と、導電性基板１２から上記他表面側に突出した凸部１２ａとを備え、凸部１２ａの一部を絶縁層１５から露出させて外部接続用の端子部１２ａａとしてある。
【００６４】
しかして、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子では、上記一表面側に発光層３２などが設けられる導電性基板１２の上記他表面側に絶縁層１５を設けながらも簡単な構成で端子部１２ａａを設けることが可能となる。
【００６５】
ところで、図２４の構成を有する有機エレクトロルミネッセンス素子では、封止部材１０７（図２３参照）の内部に設ける乾燥剤として光透過性のものを用いたとしても、散乱損失や吸収損失などに起因して光取り出し効率が低下してしまう懸念がある。また、この場合には、乾燥剤の材料の選択肢が少なくなってしまう。
【００６６】
これに対して、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子は、機能層３０の第２電極５０側の最表面において凸部１２ａの投影領域に凹部３０ｂを有しており、この凹部３０ｂに、吸湿部１００を設けてある。すなわち、吸湿部１００は、機能層３０の凹部３０ｂの内面と封止層７０との間に設けられており、機能層３０、封止層７０、第２電極５０および樹脂層９０の各々と接触している。ここで、機能層３０の最表面において凹部３０ｂの形成されている領域は小さい方が好ましい。これにより、有機エレクトロルミネッセンス素子では、信頼性の向上を図ることが可能で且つ光取り出し効率の向上を図ることが可能となる。機能層３０の第２電極５０側の最表面において凸部１２ａの投影領域にある凹部３０ｂは、導電性基板１２の上記一表面において上記他表面の凸部１２ａに対応する凹部１２ｂの形状を反映して形成される。すなわち、機能層３０の厚み寸法が凹部１２ｂの深さ寸法よりも小さいので、凹部１２ｂの投影領域に凹部３０ｂが形成されることとなる。
【００６７】
また、第２電極５０が透明導電性酸化物からなる透明電極により構成されている場合には、第２電極５０のシート抵抗が、第１電極１１のシート抵抗に比べて高いため、第２電極５０での電位勾配が大きくなって、輝度の面内ばらつきが大きくなる懸念がある。しかしながら、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子では、第２電極５０が、機能層３０に接する導電性高分子層３９と、導電性高分子層３９における機能層３０側とは反対側に位置し機能層３０からの光の取り出し用の開口部４１を有する電極パターン４０とを備えている。したがって、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子では、第２電極５０が透明導電性酸化物からなる透明電極により構成されている場合に比べて、輝度むらの低減を図ることが可能で且つ光取り出し効率の向上を図ることが可能となる。さらに、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子は、導電性基板１２の上記一表面側に対向配置され透光性を有する封止層７０と、第２電極５０と封止層７０との間に介在する透光性の樹脂層９０とを備えている。したがって、有機エレクトロルミネッセンス素子は、信頼性の向上を図ることが可能となる。また、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子では、樹脂層９０が、導電性高分子層３９の屈折率以上の屈折率を有しているので、光取り出し効率の向上を図ることが可能となる。
【００６８】
また、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子は、導電性基板１２が、少なくとも金属箔１０からなることが好ましい。これにより、有機エレクトロルミネッセンス素子は、機能層３０などで発生した熱が導電性基板１２を通して放熱されやすくなるから、信頼性の向上を図ることが可能となる。また、有機エレクトロルミネッセンス素子は、導電性基板１２が少なくとも金属箔１０からなることにより、機能層３０の温度の面内均一性が向上し、輝度むらの低減を図ることが可能となる。
【００６９】
また、この有機エレクトロルミネッセンス素子においては、第２電極５０が陽極であり、機能層３０が、発光層３２よりも第２電極５０側にあるホール注入層３４を含んでいることが好ましい。これにより、有機エレクトロルミネッセンス素子では、発光層３２へ第２キャリアであるホールを、より効率良く注入することが可能となり、結果的に外部量子効率の向上を図ることが可能となる。
【００７０】
また、封止層７０における外面側（導電性基板１２側とは反対の面側）には、発光層３２から放射された光の上記外面での反射を抑制する光取出し構造部（図示せず）を備えていることが好ましい。このような光取出し構造部としては、例えば、２次元周期構造を有した凹凸構造部が挙げられる。このような２次元周期構造の周期は、発光層３２で発光する光の波長が例えば３００〜８００ｎｍの範囲内にある場合、媒質内の波長をλ（真空中の波長を媒質の屈折率で除した値）とすれば、波長λの１／４〜１０倍の範囲で適宜設定することが望ましい。このような凹凸構造部は、例えば、封止層７０の上記外面側に、例えば、熱インプリント法（熱ナノインプリント法）、光インプリント法（光ナノインプリント法）などのインプリント法により、予め形成することが可能である。また、封止層７０の材料によっては、封止層７０を射出成形により形成するようにし、射出成形時に適宜の金型を用いて、封止層７０に凹凸構造部を直接形成することも可能である。また、凹凸構造部は、封止層７０とは別部材により構成することも可能であり、例えば、プリズムシート（例えば、株式会社きもと製のライトアップ（登録商標）ＧＭ３のような光拡散フィルムなど）により構成することができる。
【００７１】
本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子では、上述の光取出し構造部を備えることにより、発光層３２から放射され封止層７０の上記外面側まで到達した光の反射ロスを低減でき、光取り出し効率の向上を図ることが可能となる。
【００７２】
（実施形態２）
本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子の基本構成は実施形態１と略同じであり、図７に示すように、実施形態１とは吸湿部１００を設けてある位置が相違する。
【００７３】
本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子は、実施形態１と同様、導電性基板１２の上記一表面において凸部１２ａの投影領域に凹部１２ｂを有している。ここにおいて、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子では、この凹部１２ｂに、吸湿部１００を設けてある点が実施形態１とは相違する。本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子では、この凹部１２ｂが吸湿部１００により埋め込まれているので、実施形態１に比べて機能層３０の段差を低減することが可能となり、第２電極５０と第１電極１１との短絡をより確実に防止することが可能となり、信頼性を向上させることが可能となる。
【００７４】
（実施形態３）
本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子の基本構成は実施形態１と略同じであり、図８に示すように、実施形態１とは吸湿部１００を設けてある位置が相違する。
【００７５】
本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子は、実施形態１と同様、導電性基板１２の上記一表面において凸部１２ａの投影領域に凹部１２ｂを有し、機能層３０の第２電極５０側の最表面において凸部１２ａの投影領域に凹部３０ｂを有している。さらに、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子は、樹脂層９０の封止層７０側の表面において凸部１２ａの投影領域に凹部９５を有している。実施形態１では、機能層３０の凹部３０ｂの内面と封止層７０との間に吸湿部１００を設けてあるのに対して、本実施形態では、樹脂層９０の凹部９５に、吸湿部１００を設けてある。ここで、吸湿部１００は、樹脂層９０の凹部９５の内面と封止層７０との間に設けられており、樹脂層９０および封止層７０の各々と接触している。
【００７６】
本実施形態では、機能層３０の凹部３０ｂに比べて小さな樹脂層９０の凹部９５に吸湿剤１００が設けられているので、光取り出し効率の、より一層の向上を図ることが可能となる。
【００７７】
（実施形態４）
本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子の基本構成は実施形態３と略同じであり、図９に示すように、第２電極５０と第１電極１１とを絶縁する第２絶縁層６０が、機能層３０の凹部３０ｂの内面および機能層３０の最表面における凹部３０ｂの周部にまで設けられている点が相違する。
【００７８】
これにより、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子では、実施形態３に比べて、第２電極５０と第１電極１１との短絡をより確実に防止することが可能となる。
【００７９】
（実施形態５）
本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子の基本構成は実施形態３と略同じであり、図１０に示すように、吸湿剤１００と封止層７０との間に樹脂層９０の一部が介在しており、吸湿剤１００の全体が樹脂層９０により覆われている点が相違する。すなわち、本実施形態では、吸湿部１００が封止層７０とは接触していない点が実施形態３と相違する。
【００８０】
これにより、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子では、吸湿剤１００と封止層７０とを接触させて接着する必要がないので、吸湿剤１００の材料の選択肢が多くなる。
【００８１】
（実施形態６）
本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子の基本構成は実施形態５と略同じであり、図１１に示すように、第２電極５０と第１電極１１とを絶縁する第２絶縁層６０が、機能層３０の凹部３０ｂの内面および機能層３０の最表面における凹部３０ｂの周部にまで設けられている点が相違する。
【００８２】
これにより、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子では、実施形態５に比べて、第２電極５０と第１電極１１との短絡をより確実に防止することが可能となる。
【００８３】
（実施形態７）
本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子の基本構成は実施形態１と略同じであり、図１２に示すように、実施形態１とは吸湿部１００を設けてある位置が相違する。
【００８４】
本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子は、実施形態１と同様、導電性基板１２の上記一表面において凸部１２ａの投影領域に凹部１２ｂを有し、機能層３０の第２電極５０側の最表面において凸部１２ａの投影領域に凹部３０ｂを有している。さらに、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンスそしは、第２電極５０の樹脂層９０側の表面において凸部１２ａの投影領域に凹部５５を有している。実施形態１では、機能層３０の凹部３０ｂの内面と封止層７０との間に吸湿部１００を設けてあるのに対して、本実施形態では、第２電極５０の凹部５５に、吸湿部１００を設けてある。ここで、吸湿部１００は、第２電極５０の凹部５５の内面と樹脂層９０との間に設けられており、第２電極５０および樹脂層９０の各々と接触している。
【００８５】
本実施形態では、機能層３０の凹部３０ｂに比べて小さな第２電極５０の凹部５５に吸湿剤１００が設けられているので、光取り出し効率の、より一層の向上を図ることが可能となる。
【００８６】
（実施形態８）
本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子の基本構成は実施形態７と略同じであり、図１３に示すように、第２電極５０と第１電極１１とを絶縁する第２絶縁層６０が、機能層３０の凹部３０ｂの内面および機能層３０の最表面における凹部３０ｂの周部にまで設けられている点が相違する。
【００８７】
これにより、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子では、実施形態７に比べて、第２電極５０と第１電極１１との短絡をより確実に防止することが可能となる。
【００８８】
（実施形態９）
本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子の基本構成は実施形態４と略同じであり、図１４に示すように、機能層３０が、導電性基板１２の上記一表面における凹部１２ｂの内面に形成されていない点などが相違する。ここにおいて、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子では、凹部１２ｂの内面および導電性基板１２の上記一表面における凹部１２ｂの周部に、第２電極５０と第１電極１１とを絶縁する第２絶縁層６０が形成されている。
【００８９】
これにより、本実施形態の有機エレクトルミネッセンス素子では、導電性基板１２の凹部１２ｂの箇所で第１電極１１と機能層３０と第２電極５０との積層構造が形成されないから、当該箇所での機能層３０の絶縁破壊や劣化を防止することが可能となり、実施形態４に比べて信頼性の向上を図ることが可能となる。
【００９０】
（実施形態１０）
本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子の基本構成は実施形態９と略同じであり、図１５に示すように、第２絶縁層６０および第２電極５０が、導電性基板１２の凹部１２ｂの箇所で形成されていない点が相違する。ここにおいて、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子では、凹部１２ｂの内面が樹脂層９０と接している。
【００９１】
これにより、本実施形態の有機エレクトルミネッセンス素子では、実施形態９に比べて、第１電極１１と第２電極５０との短絡をより確実に防止することが可能となり、信頼性の向上を図ることが可能となる。
【００９２】
（実施形態１１）
本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子の基本構成は実施形態１０と略同じであり、図１６に示すように、凹部１２ｂの内面および導電性基板１２の上記一表面における凹部１２ｂの周部に、第２電極５０と第１電極１１とを絶縁する第２絶縁層６０が形成されている点が相違する。ここにおいて、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子では、第２絶縁層６０のうち凹部１２ｂの内面に形成された部位が、樹脂層９０と接している。
【００９３】
本実施形態の有機エレクトルミネッセンス素子では、実施形態１０に比べて、第１電極１１と第２電極５０との短絡をより確実に防止することが可能となり、信頼性の向上を図ることが可能となる。
【００９４】
（実施形態１２）
本実施形態の有機エレクトルミネッセンス素子の基本構成は実施形態５と略同じであり、図１７に示すように、機能層３０が、導電性基板１２の上記一表面における凹部１２ｂの内面に形成されていない点などが相違する。ここにおいて、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子では、凹部１２ｂの内面および導電性基板１２の上記一表面における凹部１２ｂの周部に、第２電極５０と第１電極１１とを絶縁する第２絶縁層６０が形成されている。
【００９５】
これにより、本実施形態の有機エレクトルミネッセンス素子では、導電性基板１２の凹部１２ｂの箇所で第１電極１１と機能層３０と第２電極５０との積層構造が形成されないから、当該箇所での機能層３０の絶縁破壊や劣化を防止することが可能となり、実施形態５に比べて信頼性の向上を図ることが可能となる。
【００９６】
（実施形態１３）
本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子の基本構成は実施形態１２と略同じであり、図１８に示すように、第２絶縁層６０および第２電極５０が、導電性基板１２の凹部１２ｂの箇所で形成されていない点が相違する。ここにおいて、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子では、凹部１２ｂの内面が樹脂層９０と接している。
【００９７】
これにより、本実施形態の有機エレクトルミネッセンス素子では、実施形態１２に比べて、第１電極１１と第２電極５０との短絡をより確実に防止することが可能となり、信頼性の向上を図ることが可能となる。
【００９８】
（実施形態１４）
本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子の基本構成は実施形態１３と略同じであり、図１９に示すように、凹部１２ｂの内面および導電性基板１２の上記一表面における凹部１２ｂの周部に、第２電極５０と第１電極１１とを絶縁する第２絶縁層６０が形成されている点が相違する。ここにおいて、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子では、第２絶縁層６０のうち凹部１２ｂの内面に形成された部位が、樹脂層９０と接している。
【００９９】
本実施形態の有機エレクトルミネッセンス素子では、実施形態１３に比べて、第１電極１１と第２電極５０との短絡をより確実に防止することが可能となり、信頼性の向上を図ることが可能となる。
【０１００】
（実施形態１５）
本実施形態の有機エレクトルミネッセンス素子の基本構成は実施形態８と略同じであり、図２０に示すように、機能層３０が、導電性基板１２の上記一表面における凹部１２ｂの内面に形成されていない点などが相違する。ここにおいて、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子では、凹部１２ｂの内面および導電性基板１２の上記一表面における凹部１２ｂの周部に、第２電極５０と第１電極１１とを絶縁する第２絶縁層６０が形成されている。
【０１０１】
これにより、本実施形態の有機エレクトルミネッセンス素子では、導電性基板１２の凹部１２ｂの箇所で第１電極１１と機能層３０と第２電極５０との積層構造が形成されないから、当該箇所での機能層３０の絶縁破壊や劣化を防止することが可能となり、実施形態８に比べて信頼性の向上を図ることが可能となる。
【０１０２】
（実施形態１６）
本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子の基本構成は実施形態１５と略同じであり、図２１に示すように、第２絶縁層６０および第２電極５０が、導電性基板１２の凹部１２ｂの箇所で形成されていない点が相違する。ここにおいて、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子では、凹部１２ｂの内面が吸湿部１００と接している。
【０１０３】
これにより、本実施形態の有機エレクトルミネッセンス素子では、実施形態１２に比べて、第１電極１１と第２電極５０との短絡をより確実に防止することが可能となり、信頼性の向上を図ることが可能となる。
【０１０４】
（実施形態１７）
本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子の基本構成は実施形態１６と略同じであり、図２２に示すように、凹部１２ｂの内面および導電性基板１２の上記一表面における凹部１２ｂの周部に、第２電極５０と第１電極１１とを絶縁する第２絶縁層６０が形成されている点が相違する。ここにおいて、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子では、第２絶縁層６０のうち凹部１２ｂの内面に形成された部位が、吸湿部１００と接している。
【０１０５】
本実施形態の有機エレクトルミネッセンス素子では、実施形態１６に比べて、第１電極１１と第２電極５０との短絡をより確実に防止することが可能となり、信頼性の向上を図ることが可能となる。
【０１０６】
上述の各実施形態で説明した有機エレクトロルミネッセンス素子は、例えば、照明用の有機エレクトロルミネッセンス素子として好適に用いることができるが、照明用に限らず、他の用途に用いることも可能である。
【０１０７】
なお、上述の各実施形態において説明した各図は、模式的なものであり、各構成要素の大きさや厚さそれぞれの比が、必ずしも実際のものの寸法比を反映しているとは限らない。
【符号の説明】
【０１０８】
１０  金属箔
１１  第１電極
１２  導電性基板
１２ａ  凸部
１２ａａ  端子部
１２ｂ  凹部
１５  絶縁層
３０  機能層
３０ｂ  凹部
３２  発光層
５０  第２電極
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2013030334.tif 000009
【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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