(57)【要約】【課題】ガラス基板の強度を高める方法であって、ガラス基板に反りおよび／または変形が生じ難い方法を提供する。【解決手段】ガラス基板の強度を高める方法であって、（ａ）相互に対向する第１の表面および第２の表面を有するガラス基板を準備し、（ｂ）前記第１の表面および前記第２の表面において、アルカリ金属の抜け易さを評価し、（ｃ）前記（ｂ）に基づいて、前記第１の表面および前記第２の表面におけるアルカリ金属の抜け易さが実質的に同等となるように、前記ガラス基板の前記第１の表面および／または前記第２の表面に対して、プラズマ処理を行い、（ｄ）前記（ｃ）の後に、前記ガラス基板に化学強化処理を行う、方法。【選択図】図３
2013189320.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板の強度を高める方法であって、
（ａ）相互に対向する第１の表面および第２の表面を有するガラス基板を準備し、
（ｂ）前記第１の表面および前記第２の表面において、アルカリ金属の抜け易さを評価し、
（ｃ）前記（ｂ）に基づいて、前記第１の表面および前記第２の表面におけるアルカリ金属の抜け易さが実質的に同等となるように、前記ガラス基板の前記第１の表面および／または前記第２の表面に対して、プラズマ処理を行い、
（ｄ）前記（ｃ）の後に、前記ガラス基板に化学強化処理を行う、
方法。
【請求項２】
前記第１の表面において、前記第２の表面に比べて前記アルカリ金属が抜け易い場合、
前記（ｃ）は、
前記第１の表面に、＋（プラス）イオンのプラズマを照射させ、および／または
前記第２の表面に、−（マイナス）イオンのプラズマを照射させることにより、行われることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記（ｂ）は、
（ｂ１）前記第１の表面に、前記アルカリ金属を含まない評価膜を設置し、前記第２の表面に、前記評価膜を設置し、
（ｂ２）前記ガラス基板を熱処理し、
（ｂ３）前記評価膜中に含まれる前記アルカリ金属の量を測定することにより、行われることを特徴とする請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記評価膜は、導電性酸化物であることを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記（ｂ２）における熱処理は、１００℃〜６００℃の範囲で、１０分〜１時間、実施されることを特徴とする請求項３または４に記載の方法。
【請求項６】
前記（ｂ３）は、ＳＩＭＳ法により、前記評価膜をドライエッチングしながら、前記アルカリ金属の量を連続的に測定することにより、行われることを特徴とする請求項３乃至５のいずれか一つに記載の方法。
【請求項７】
前記アルカリ金属は、ナトリウム（Ｎａ）であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一つに記載の方法。
【請求項８】
前記ガラス基板は、フロート法で製造されたガラス基板であることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一つに記載の方法。
【請求項９】
前記ガラス基板は、厚さが０．４ｍｍ〜３ｍｍの範囲であることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか一つに記載の方法。
【請求項１０】
前記ガラス基板は、３２インチ以上のディスプレイ装置用のものであることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか一つに記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ディスプレイ装置等に使用されるガラス基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、ガラス基板は、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）および有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ）ディスプレイ（ＯＥＬＤ）等のディスプレイ装置等に広く使用されている。最近では、ディスプレイ装置のさらなる薄型化、軽量化の要望に対応するため、板厚が薄いガラス基板が要求されるようになってきている。
【０００３】
一般に、ガラス基板は、板厚が薄くなると、強度が低下する。従って、板厚の薄いガラス基板を実際にディスプレイ装置等に適用するには、ガラス基板の強度を向上させる必要がある。このため、ガラス基板に対して化学強化処理を行うことが提案されている（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特公平５−３４２０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ガラス基板に対して化学強化処理を行うことにより、板厚が薄くても、ガラス基板の強度を高めることができる。
【０００６】
しかしながら、ガラス基板に対して化学強化処理を行うと、最終的に得られるガラス基板に、反りおよび／または変形が生じる場合がある。これは、ガラス基板の２つの表面（表、裏）の化学的性質の微細な差異によるものであると考えられる。例えば、ガラス基板の２つの表面は、常に同一の履歴を受けているとは限られず、例えばガラス基板の製造などの過程で、それぞれが異なる履歴を受けている場合がある。そのような場合、ガラス基板を化学強化処理すると、２つの表面の化学的性質の差異により、ガラス基板に反りおよび／または変形が生じてしまう。
【０００７】
ガラス基板をディスプレイ装置に使用することを想定した場合、このようなガラス基板の反りおよび／または変形は、表示パネル側から放出される画像の歪み等につながるため、好ましいものではない。また、このような反りおよび／または変形が生じると、ガラス基板を研磨等して、反りおよび／または変形を修復する必要が生じ、余分なコストや時間が必要になってしまう。
【０００８】
特に、ディスプレイ装置用のガラス基板は、より一層大型化、薄型化が進む傾向にあり、このような反りおよび／または変形の問題は、今後より顕著になるものと予想される。
【０００９】
本発明は、このような背景に鑑みなされたものであり、本発明では、ガラス基板の強度を高める方法であって、ガラス基板に反りおよび／または変形が生じ難い方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明では、
ガラス基板の強度を高める方法であって、
（ａ）相互に対向する第１の表面および第２の表面を有するガラス基板を準備し、
（ｂ）前記第１の表面および前記第２の表面において、アルカリ金属の抜け易さを評価し、
（ｃ）前記（ｂ）に基づいて、前記第１の表面および前記第２の表面におけるアルカリ金属の抜け易さが実質的に同等となるように、前記ガラス基板の前記第１の表面および／または前記第２の表面に対して、プラズマ処理を行い、
（ｄ）前記（ｃ）の後に、前記ガラス基板に化学強化処理を行う、方法が提供される。
【００１１】
ここで、本発明による方法では、
前記第１の表面において、前記第２の表面に比べて前記アルカリ金属が抜け易い場合、
前記（ｃ）は、
前記第１の表面に、＋（プラス）イオンのプラズマを照射させ、および／または
前記第２の表面に、−（マイナス）イオンのプラズマを照射させることにより、行われても良い。
【００１２】
また、本発明による方法では、
前記（ｂ）は、
（ｂ１）前記第１の表面に、前記アルカリ金属を含まない評価膜を設置し、前記第２の表面に、前記評価膜を設置し、
（ｂ２）前記ガラス基板を熱処理し、
（ｂ３）前記評価膜中に含まれる前記アルカリ金属の量を測定することにより、行われても良い。
【００１３】
この場合、前記評価膜は、導電性酸化物であっても良い。
【００１４】
また、本発明による方法では、
前記（ｂ２）における熱処理は、１００℃〜６００℃の範囲で、１０分〜１時間、実施されても良い。
【００１５】
また、本発明による方法では、
前記（ｂ３）は、ＳＩＭＳ法により、前記評価膜をドライエッチングしながら、前記アルカリ金属の量を連続的に測定することにより、行われても良い。
【００１６】
また、本発明による方法において、前記アルカリ金属は、ナトリウム（Ｎａ）であっても良い。
【００１７】
また、本発明による方法において、前記ガラス基板は、フロート法で製造されたガラス基板であっても良い。
【００１８】
また、本発明による方法において、前記ガラス基板は、厚さが０．４ｍｍ〜３ｍｍの範囲であっても良い。
【００１９】
また、本発明による方法において、前記ガラス基板は、３２インチ以上のディスプレイ装置用のものであっても良い。
【発明の効果】
【００２０】
本発明では、ガラス基板の強度を高める方法であって、ガラス基板に反りおよび／または変形が生じ難い方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】化学強化処理した後の従来のガラス基板を模式的に示した側面図である。
【図２】化学強化処理した後の本発明によるガラス基板を模式的に示した側面図である。
【図３】本発明によるガラス基板の強度を高める方法の一例を概略的に示したフロー図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明について説明する。
【００２３】
前述のように、従来より、板厚の薄いガラス基板の強度を高めるため、ガラス基板に化学強化処理を適用することが検討されている。
【００２４】
ここで、「化学強化処理（法）」とは、ガラス基板をアルカリ金属を含む溶融塩中に浸漬させ、ガラス基板の最表面に存在する原子径の小さなアルカリ金属（イオン）を、溶融塩中に存在する原子径の大きなアルカリ金属（イオン）と置換する技術の総称を言う。「化学強化処理（法）」では、処理されたガラス基板の表面には、元の原子よりも原子径の大きなアルカリ金属（イオン）が配置される。このため、ガラス基板の表面に圧縮応力を付与することができ、これによりガラス基板の強度（特にワレ強度）が向上する。
【００２５】
例えば、ガラス基板がナトリウム（Ｎａ）を含む場合、化学強化処理により、このナトリウムは、例えばカリウム（Ｋａ）と置換される。あるいは、例えば、ガラス基板がリチウム（Ｌｉ）を含む場合、化学強化処理により、このリチウムは、例えばナトリウム（Ｎａ）および／またはカリウム（Ｋａ）と置換されても良い。
【００２６】
このように、ガラス基板に対して化学強化処理を行うことにより、板厚が薄くても、ガラス基板の強度を高めることができる。
【００２７】
しかしながら、ガラス基板に対して化学強化処理を行うと、最終的に得られるガラス基板に、図１に示すような反りおよび／または変形が生じる場合がある。
【００２８】
図１は、従来の化学強化処理後のガラス基板１０の模式的な側面図である。ガラス基板１０は、相互に対向する第１の表面１２Ａおよび第２の表面１２Ｂを有する。また、このガラス基板１０は、化学強化処理の直前までは、反りのない略平坦な形状であった。しかしながら、化学強化処理後に、このガラス基板１０には、第１の表面１２Ａが凸面となり、第２の表面１２Ｂが凹面となるような反りが生じている。
【００２９】
今のところ、化学強化処理後のガラス基板１０に、このような反りおよび／または変形が生じる原因は、明確ではないが、化学強化処理前のガラス基板１０の２つの表面１２Ａ、１２Ｂの化学的性質の微細な差異が、このような反りおよび／または変形に起因していると考えられる。
【００３０】
例えば、ガラス基板１０の製造の過程で、それぞれの表面１２Ａ、１２Ｂが異なる履歴を受けている場合、図１のような反りが生じる可能性がある。
【００３１】
特に、いわゆるフロート法で製造されたガラス基板は、製造中に、一方の表面のみが溶融スズ（Ｓｎ）層と接触した状態となっている。従って、この溶融スズ層との接触の有無によって、両表面１２Ａおよび１２Ｂの間に、化学的性質の微細な差異が生じている可能性がある。例えば、溶融スズ層と接していた表面側に、スズが残留していた場合、そのような表面側は、化学強化処理の際に、よりアルカリ金属が抜けにくい表面になることが予想される。この残留スズによって、ガラス基板のアルカリ金属が溶融塩側に抜け出ることが抑制されるためである。また、例えば、ガラス基板の溶融スズ層と接していた表面側において、アルカリ金属濃度自身がより高くなっている可能性もある。
【００３２】
この考察によれば、図１において、第２の表面１２Ｂの側（すなわち凹面）は、スズと接していた面であり、すなわちこの表面１２Ｂでは、化学強化処理の際に、表面１２Ａに比べて、アルカリ金属が溶融塩側に抜け出にくくなっていたことが予想される。
【００３３】
なお、化学強化処理の際のガラス基板の反りおよび／または変形は、フロート法で製造されたガラス基板に限られず、反りおよび／または変形は、フュージョン法で製造されたガラス基板においても生じ得る。
【００３４】
このようなガラス基板１０の反りおよび／または変形は、ガラス基板１０をディスプレイ装置に使用することを想定した場合、好ましいものではない。ディスプレイ装置から出力される画像がガラス基板１０によって歪んでしまい、適正な画像を得ることができなくなる危険性が高くなるからである。また、このような反りおよび／または変形が生じると、ガラス基板を研磨等して、反りおよび／または変形を修復する必要が生じ、余分なコストや時間が必要になってしまう。
【００３５】
特に、ディスプレイ装置用のガラス基板は、より一層大型化、薄型化が進む傾向にあり、このような反りおよび／または変形の問題は、今後より顕著になるものと予想される。
【００３６】
これに対して、本発明では、厚さが薄いガラス基板に化学強化処理を実施しても、ガラス基板の反りおよび／または変形を有意に抑制することができる。
【００３７】
図２には、本発明の方法により化学強化処理された後のガラス基板１００の模式的な側面図を示す。ガラス基板１００は、化学強化処理された後も、第１の表面１１２Ａおよび第２の表面１１２Ｂは、実質的に平坦な状態を維持しており、ガラス基板１００には、反りおよび／または変形は認められない。
【００３８】
このように、本発明では、化学強化処理後に、反りおよび／または変形が有意に抑制されたガラス基板を得ることができる。従って、本発明による方法では、大型のディスプレイ装置（例えば、３２インチ以上のディスプレイ装置）や、薄型のディスプレイ装置に対しても、化学強化されたガラス基板をそのまま適用することができる。
【００３９】
以下、図面を参照して、本発明についてより詳しく説明する。
【００４０】
図３には、本発明によるガラス基板の強度を高める方法の一例を示す。
【００４１】
図３に示すように、本発明の方法は、
（ａ）相互に対向する第１の表面および第２の表面を有するガラス基板を準備するステップ（ステップＳ１１０）と、
（ｂ）前記第１の表面および前記第２の表面において、アルカリ金属の抜け易さを評価するステップ（ステップＳ１２０）と、
（ｃ）前記（ｂ）のステップに基づいて、前記第１の表面および前記第２の表面におけるアルカリ金属の抜け易さが実質的に同等となるように、前記ガラス基板の前記第１の表面および／または前記第２の表面に対して、プラズマ処理を行うステップ（ステップＳ１３０）と、
（ｄ）前記（ｃ）のステップの後に、前記ガラス基板に化学強化処理を行うステップ（ステップＳ１４０）と、
を有する。
【００４２】
以下、各ステップについて説明する。
【００４３】
（ステップＳ１１０）
まず、相互に対向する第１の表面１１２Ａおよび第２の表面１１２Ｂを有するガラス基板１００が準備される。ガラス基板１００の組成は、アルカリ金属を含む限り、特に限られず、ガラス基板１００は、例えばソーダライムガラス製の基板であっても良い。
【００４４】
ガラス基板１００は、例えば、酸化物換算で、６０ｍｏｌ％〜８０ｍｏｌ％のＳｉＯ２、０．５ｍｏｌ％〜７ｍｏｌ％のＡｌ２Ｏ３、３ｍｏｌ％〜１０ｍｏｌ％のＭｇＯ、６ｍｏｌ％〜９ｍｏｌ％のＣａＯ、０〜５ｍｏｌ％のＳｒＯ、０〜４ｍｏｌ％のＢａＯ、０〜２ｍｏｌ％のＺｒＯ２、４ｍｏｌ％〜１３ｍｏｌ％のＮａ２Ｏ、および０．１ｍｏｌ％〜７ｍｏｌ％のＫ２Ｏの組成を有しても良い。
【００４５】
ガラス基板１００の厚さは、特に限られないが、厚いガラス基板では、本発明による効果が相対的に小さくなる。また、板厚が薄くなりすぎると、化学強化処理の際に、ガラス基板が破損する危険性が高くなる。ガラス基板１００の厚さは、例えば、０．４ｍｍ〜３ｍｍの範囲であっても良く、特に０．７〜２ｍｍの範囲であっても良い。
【００４６】
ガラス基板１００は、フロート法で製造されたものであっても、フュージョン法で製造されたものであっても良い。
【００４７】
なお、ガラス基板１００の端面は、面取りされても良い。
【００４８】
（ステップＳ１２０）
次に、ガラス基板１００の第１の表面１１２Ａおよび第２の表面１１２Ｂにおいて、評価対象となるアルカリ金属、すなわち化学強化処理において置換されるアルカリ金属（例えばＮａ）の抜け易さの差異が評価される。
【００４９】
この評価は、例えば、以下の方法により実施される。なお、以下の記載では、簡略化のため、抜け易さの評価対象となるアルカリ金属として、ナトリウム（Ｎａ）を例に挙げ、説明する：
（ｉ）ガラス基板１００の第１の表面１１２Ａに、ナトリウムを含まない、第１の評価膜を成膜する。また、ガラス基板１００の第２の表面１１２Ｂに、ナトリウムを含まない、第２の評価膜を成膜する。
【００５０】
ここで、第１および第２の評価膜は、同じ条件で成膜された、同じ材質および厚さの膜である必要がある。そうでなければ、以降の工程において、第１および第２の評価膜の比較評価を行うことができなくなるからである。
【００５１】
評価膜の成膜方法は、特に限られず、評価膜は、例えば、蒸着、物理気相成膜（ＰＶＤ）法、化学気相成膜（ＣＶＤ）法、スパッタ法、またはスピンコート法など、一般的な成膜技術で成膜されても良い。
【００５２】
また、評価膜は、ナトリウム（すなわち測定対象元素）を含まなければ、いかなる材料で構成されても良い。ただし、ナトリウムよりも原子径の小さな元素のみを含む評価膜は、好ましくない。以降の熱処理工程（ナトリウムの拡散工程）において、現実的な時間で、ナトリウムを評価膜中に十分に拡散させることが難しくなるおそれがあるからである。評価膜は、導電膜であることが好ましく、さらに酸化物であることがより好ましい。評価膜は、例えば、インジウムスズ酸化物であっても良い。
【００５３】
評価膜の厚さは、特に限られない。評価膜の厚さは、例えば、５０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲であっても良い。
【００５４】
（ｉｉ）次に、ガラス基板１００が熱処理される。この熱処理は、それぞれの表面１１２Ａおよび１１２Ｂに存在するナトリウムを、それぞれの評価膜中に拡散させるために実施される。
【００５５】
熱処理の条件は、ガラス基板１００に含まれるナトリウム濃度等により、適正に定められる。すなわち、この熱処理は、両表面１１２Ａおよび１１２Ｂに存在するナトリウムが、それぞれの評価膜の中に移動するような条件で行われる。
【００５６】
熱処理の温度は、例えば、１００℃〜６００℃の範囲であっても良い。また、熱処理の時間は、例えば１０分〜１時間の範囲であっても良い。なお、熱処理の雰囲気は、特に限られないが、装置の構成や処理のし易さの観点から、大気雰囲気であることが好ましい。また、この場合、第１および第２の評価膜は、酸化物で構成されることが好ましい。
【００５７】
（ｉｉｉ）次に、第１および第２の評価膜中に含まれるナトリウムの量が測定される。
【００５８】
評価膜中のナトリウム量の測定は、一般的な分析装置を用いて実施しても良い。例えば、評価膜中のナトリウム量は、ＳＩＭＳ（Ｓｅｃｏｎｄａｒｙ  Ｉｏｎ  Ｍａｓｓ  Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）装置を用いて評価膜を厚さ方向にドライエッチングし、この際に得られるナトリウムのカウント数から定量化しても良い。あるいは、ＥＰＭＡ（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｐｒｏｂｅ  Ｍｉｃｒｏ  Ａｎａｌｙｚｅｒ）分析装置等により、評価膜中のナトリウムの深さ方向のプロファイルを求め、この領域を積分して、ナトリウム量を求めても良い。
【００５９】
得られた結果から、第１および第２の表面１１２Ａおよび１１２Ｂのうち、ナトリウムが抜け易い表面、およびその程度が判断される。
【００６０】
（ステップＳ１３０）
次に、前述のステップＳ１２０で得られた結果に基づき、ガラス基板１００の第１の表面１１２Ａおよび／または第２の表面１１２Ｂに対して、プラズマ処理が行われる。
【００６１】
ここで、「プラズマ処理」とは、ガラス基板１００の第１の表面１１２Ａおよび／または第２の表面１１２Ｂに対して、該表面が損傷しない程度の、比較的小さなパワーのプラズマを照射する処理を言う。「プラズマ処理」は、ガラス基板１００の第１の表面１１２Ａにおけるナトリウムの抜け易さと、第２の表面１１２Ｂにおけるナトリウムの抜け易さとを、「バランス化」（同等化）するために実施される。
【００６２】
例えば、前述のステップＳ１２０の結果において、ガラス基板１００の第１の表面１１２Ａの方が、第２の表面１１２Ｂに比べて、ナトリウムが抜け易い状態にあることが確認された場合、第１の表面１１２Ａに対して、＋（プラス）イオンによる「プラズマ処理」が実施される。この場合、第１の表面１１２Ａに、ナトリウムイオンと同じ極性（プラス）のプラズマが照射されるため、第１の表面１１２Ａの近傍にあるナトリウムは、ガラス基板１００の内方側に移動する。あるいは、ガラス基板１００の第２の表面１１２Ｂに対して、−（マイナス）イオンによる「プラズマ処理」が実施されても良い。この場合、第２の表面１１２Ｂの近傍に、プラズマと反対（マイナス）の極性を有するナトリウムイオンが移動するようになる。従って、プラズマ照射により、両表面におけるナトリウムの抜け易さを「バランス化」させることが可能になる。
【００６３】
なお、プラズマ処理の後、再度、前述のステップ（ステップＳ１２０）を実施して、両表面１１２Ａおよび１１２Ｂにおけるナトリウムの抜け易さがバランス化されたことを確認しても良い。もし、未だ両表面１１２Ａおよび１１２Ｂにおけるナトリウムの抜け易さがバランス化されていなかった場合、再度、プラズマ処理が行われても良い。この場合、（ステップＳ１２０）〜（ステップＳ１３０）を繰り返すことにより、両表面１１２Ａおよび１１２Ｂにおけるナトリウムの抜け易さが実質的に同等にされる。
【００６４】
プラズマ処理の条件は、特に限られない。プラズマ処理は、例えば、到達真空度が１×１０−３Ｐａ〜１×１０−５Ｐａの範囲の真空チャンバー内において、Ａｒ（アルゴン）、Ｎ２（窒素）、Ｏ２（酸素）などのガスにより、放電真空度を１×１０−１Ｐａ〜１×１０−３Ｐａの範囲にした状態で、実施されても良い。また、使用するプラズマ（ＲＦ）のパワーは、例えば、１００Ｗ〜１０００Ｗの放電電圧とし、このようなプラズマを、１分〜１時間の範囲で、ガラス基板１００の両表面１１２Ａおよび１１２Ｂに照射しても良い。
【００６５】
（ステップＳ１４０）
次に、両表面１１２Ａ、１１２Ｂにおけるナトリウムの抜け易さが「バランス化」されたガラス基板１００に対して、化学強化処理が実施される。
【００６６】
この状態では、両表面１１２Ａ、１１２Ｂにおけるナトリウムの抜け易さが「バランス化」されているため、化学強化処理によって生じる両表面におけるアルカリ金属イオン（例えばカリウムイオン）の置換量は、ほぼ同等になる。従って、片方の表面においてのみ、置換反応が進行し（あるいはその逆）、化学強化処理後に、ガラス基板１００が反ったり変形したりすることが抑制される。その結果、図２に示したような、両表面１１２Ａ、１１２Ｂが実質的に平坦なままのガラス基板１００を得ることができる。
【００６７】
なお、上記記載では、ステップＳ１２０において、ガラス基板１００の第１および第２の表面１１２Ａおよび１１２Ｂにおける評価対象となるアルカリ金属（ナトリウム）の抜け易さの差異を評価し、以降のステップＳ１３０において、これを「バランス化」させることを例に挙げ、本発明の方法を説明した。しかしながら、ステップＳ１２０では、ガラス基板１００のガラス基板１００の第１および第２の表面１１２Ａおよび１１２Ｂにおいて、アルカリ金属（ナトリウム）の抜け易さの代わりに、アルカリ金属（例えばナトリウム）の濃度が評価されても良い。この場合、両表面１１２Ａおよび１１２Ｂにおけるアルカリ金属（例えばナトリウム）の濃度の差異に基づいて、以降のプラズマ処理の条件が定められる。そして、プラズマ処理後には、両表面１１２Ａおよび１１２Ｂにおけるアルカリ金属（例えばナトリウム）の濃度が「バランス化」される。
【産業上の利用可能性】
【００６８】
本発明によるフィルタ基板は、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、およびモバイルディスプレイ等のＦＰＤ装置に適用することができる。
【符号の説明】
【００６９】
１０      従来のガラス基板
１２Ａ    第１の表面
１２Ｂ    第２の表面
１００    ガラス基板
１１２Ａ  第１の表面
１１２Ｂ  第２の表面
【図１】
2013189320.tif 000003
【図２】
2013189320.tif 000004
【図３】
2013189320.tif 000005