Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月20日(2013.12.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
超疎油性表面を備えた可撓性デバイスの製造法であって、
可撓性基材を準備する工程と、
前記可撓性基材上にシリコン層を堆積する工程と、
フォトリソグラフィを用いて、前記基材上の前記シリコン層に、約０．３から約４マイクロメートルの高さを有するピラーを含むピラーの配列から成る組織化したパターンを形成する工程と、
前記組織化表面上に適合性の疎油性コーティングを堆積させて、前記組織化表面を化学的に修飾する工程と、
によって超疎油性表面を備えた可撓性デバイスを製造することを特徴とする、可撓性デバイスの製造法。
【請求項２】
請求項１に記載の可撓性デバイスの製造法であって、
前記可撓性基材は、プラスティックフィルムを含むことを特徴とする、可撓性デバイスの製造法。
【請求項３】
請求項１に記載の可撓性デバイスの製造法であって、
前記可撓性基材は、ポリイミドフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、またはポリエーテルイミドフィルムを含むことを特徴とする、可撓性デバイスの製造法。
【請求項４】
請求項１に記載の可撓性デバイスの製造法であって、
前記シリコン層は、非晶質シリコンを含むことを特徴とする、可撓性デバイスの製造法。
【請求項５】
請求項１に記載の可撓性デバイスの製造法であって、
前記シリコン層は、約１から約５マイクロメートルの厚さで堆積させた非晶質シリコンから成ることを特徴とする、可撓性デバイスの製造法。
【請求項６】
請求項１に記載の可撓性デバイスの製造法であって、
前記組織化した基材を化学的に修飾する工程は、分子蒸着技術、化学蒸着技術または溶液自己組織化技術を用いて、組織化表面に適合するよう、フルオロシランコーティングを自己組織化させる化学修飾を含むことを特徴とする、可撓性デバイスの製造法。
【請求項７】
請求項１に記載の可撓性デバイスの製造法であって、
前記適合性の疎油性コーティングの前躯体は、トリデカフルオロー１，１，２，２−テトラヒドロオクチルトリクロロシラン、トリデカフルオロー１，１，２，２−テトラヒドロオクチルトリメトキシシラン、トリデカフルオロー１，１，２，２−テトラヒドロオクチルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロー１，１，２，２−テトラヒドロオクチルトリクロロシラン、ヘプタデカフルオロー１，１，２，２−テトラヒドロオクチルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロー１，１，２，２−テトラヒドロオクチルトリエトキシシラン、またはこれらの組み合わせであることを特徴とする、可撓性デバイスの製造法。
【請求項８】
請求項１に記載の可撓性デバイスの製造法であって、さらに
ロールトゥロールウェブ製造技術を用いて前記超疎油性表面を備えた可撓性デバイスを製造する工程を含むことを特徴とする、可撓性デバイスの製造法。
【請求項９】
請求項１に記載の可撓性デバイスの製造法であって、
前記フォトリソグラフィは、エッチングサイクルを複数回用いて、垂直方向にエッチングを行い、前記複数のエッチングサイクルのそれぞれは、ａ）保護用不動態層の堆積、ｂ）所望箇所の不動態層を除去するためのエッチング、ｃ）シリコンの等方的なエッチング、及び、ｄ）所望のピラー高さとなるまで工程ａ）からｃ）の繰り返しを含むことを特徴とする、可撓性デバイスの製造法。
【請求項１０】
請求項１に記載の可撓性デバイスの製造法であって、
前記ピラーは、円形、楕円形、正方形、長方形、三角形、または、星形であることを特徴とする、可撓性デバイスの製造法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月25日(2013.12.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
超疎油性表面を有する可撓性デバイスを得るために、
可撓性基板を設けるステップと、
前記可撓性基板上にシリコン層を施すステップと、
写真平板法を用いて基板上のシリコン層にテクスチャー加工されたパターンを作成するステップであって、前記テクスチャー加工されたパターンが溝構造を含み、前記溝構造が突出した凹角構造を含む、ステップと、
前記テクスチャー加工された表面を、その上に絶縁保護的な疎油性被膜を施すことにより、化学的に修飾するステップと、を含む超疎油性表面を有する可撓性デバイスを作製するための方法。
【請求項２】
写真平板法が、垂直なエッチングを作成するために複数のエッチングサイクルを用いることを含み、前記複数のエッチングサイクルの各々が、ａ）保護用の不動態層を蒸着させるステップと、ｂ）所望であればエッチングして前記不動態層を除去するステップと、およびｃ）前記シリコン層を等方的にエッチングするステップと、ならびに、ｄ）望ましい溝構造の形状が得られるまで段階ａ）からｃ）を反復するステップとを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
プラスチック膜を含む可撓性基板と、
前記可撓性基板上に施されたシリコン層であって、該シリコン層が、テクスチャー加工された溝パターンを含み、前記溝パターンが、突出した凹角構造を含む、該シリコン層と、
前記テクスチャー加工された表面上に施された絶縁保護的な疎油性被膜と、を含む、超疎油性表面を有する可撓性デバイス。
【請求項４】
プラスチック膜を含む可撓性基板を含む前面と、前記可撓性基板上に施されたシリコン層であって、溝構造を含むテクスチャー加工されたパターンを含む該シリコン層と、前記テクスチャー加工された表面上に施された絶縁保護的な疎油性被膜とを含み、
前記テクスチャー加工された表面とヘキサデカンとの滑落角は、約３０°未満であり、溝方向に対して平行に液滴が滑落する、インクジェット式プリントヘッド。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月20日(2013.12.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
テクスチャを持たせた超疎油性表面を有するインクジェットプリントヘッド前面またはノズルプレートを準備するためのプロセスであって、
シリコン基板を用意する工程と、
フォトリソグラフィを用いて前記シリコン基板にテクスチャを持たせたパターンを作成する工程と、
疎油性コンフォーマルコーティングを設けることにより前記テクスチャを持たせたシリコン表面を加工する工程と、
前記テクスチャを持たせた疎油性シリコン材料からインクジェットプリントヘッド前面またはノズルプレートを形成して、テクスチャを持たせた超疎油性表面を有するインクジェットプリントヘッド前面またはノズルプレートを用意する工程と、を含み、
前記テクスチャを持たせたパターンは、約０．５から約５マイクロメートルの全高を有する溝パターンを含むか、または、
前記テクスチャを持たせたパターンは、約０．５から約５マイクロメートルの柱高を有する柱のアレイを含む、プロセス。
【請求項２】
請求項１に記載のプロセスであって、
前記テクスチャを持たせたシリコン基板を加工する工程は、分子蒸着技術、化学蒸着技術、溶液自己組織化技術を介して、フルオロシランコーティングを、前記テクスチャを持たせたシリコン表面にコンフォーマルに自己組織化することによる化学的加工を含む、プロセス。
【請求項３】
請求項１に記載のプロセスであって、
前記テクスチャを持たせたパターンは、前記柱に設けられた張出し凹状構造を有する柱のアレイと、テクスチャを持たせた波状側壁を有する柱のアレイと、以上の組合せと、を含むプロセス。
【請求項４】
請求項１に記載のプロセスであって、
前記テクスチャを持たせたパターンは、張出し凹状構造を含む溝パターンと、テクスチャを持たせた波状側壁を含む溝パターンと、以上の組合せと、を含むプロセス。
【請求項５】
請求項１に記載のプロセスであって、
前記テクスチャを持たせたパターンは、所望の流パターンで液体の流れを誘導する形態を有する、プロセス。
【請求項６】
請求項１に記載のプロセスであって、
前記テクスチャを持たせたパターンは、柱のアレイを含み、前記柱は、円形、長円形、方形、矩形、三角形、または、星形である、プロセス。
【請求項７】
テクスチャを持たせたパターンを備えるシリコン基板と、前記テクスチャを持たせたシリコン表面に設けられた疎油性コンフォーマルコーティングと、を備える、テクスチャを持たせた疎油性インクジェットプリントヘッド前面またはノズルプレートであって、
前記テクスチャを持たせたパターンが、約０．５から約５マイクロメートルの全高を有する溝パターンを含むか、または、
前記テクスチャを持たせたパターンが、約０．５から約５マイクロメートルの柱高を有する柱のアレイを含む、インクジェットプリントヘッド前面またはノズルプレート。
【請求項８】
請求項７に記載のインクジェットプリントヘッド前面またはノズルプレートであって、
前記テクスチャを持たせたパターンは、前記柱に設けられた張出し凹状構造を有する柱のアレイと、テクスチャを持たせた波状側壁を有する柱のアレイと、以上の組合せと、を含む、インクジェットプリントヘッド前面またはノズルプレート。
【請求項９】
請求項７に記載のインクジェットプリントヘッド前面またはノズルプレートであって、
前記テクスチャを持たせたパターンは、張出し凹状構造を含む溝パターンと、テクスチャを持たせた波状側壁を含む溝パターンと、以上の組合せと、を含む、インクジェットプリントヘッド前面またはノズルプレート。
【請求項１０】
請求項７に記載のインクジェットプリントヘッド前面またはノズルプレートであって、
前記前面またはノズルプレートは、自動クリーニング式である、インクジェットプリントヘッド前面またはノズルプレート。
【手続補正書】
【提出日】平成26年1月9日(2014.1.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
図１に示されるように、画像処理システム１００は、バーチャル顕微鏡１０１、3D-DCT（3 Dimensional - Discrete Cosine Transform）符号化装置１０２、ストレージ１０３、トランスコード装置１０４、およびクライアント端末装置１０５を有する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２２１】
ステップＳ２６１において、判定部２６１は、ステップＳ２２９において抽出されたブロック毎の2D-DCT係数データのブロックサイズが８×８であるか否か（すなわち、DCT_SIZE_X=8であり、かつ、DCT_SIZE_Y=8であるか否か）を判定する。DCT_SIZE_X若しくはDCT_SIZE_Y、またはその両方が「８」でないと判定された場合、判定部２６１は、処理をステップＳ２６２に進める。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２５０】
［JPEG符号化装置の構成］
図２３は、図２２のJPEG符号化装置３０２の主な構成例を示すブロック図である。図２３に示されるように、JPEG符号化装置３０２は、2D-DCT部３２１、量子化部３２２、および符号化部３２３を有する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２５９】
JPEG符号化装置３０２の2D-DCT部３２１は、ステップＳ３０１において、バーチャル顕微鏡１０１等より供給されたＺスタック画像の各フォーカス面画像に対してブロック毎に2D-DCTを行う。ステップＳ３０２において、量子化部３２２は、各ブロックの各2D-DCT係数データを量子化する。ステップＳ３０３において、符号化部３２３は、量子化された各ブロックの各2D-DCT係数データをランレングス・ハフマン符号化する。ステップＳ３０４において、符号化部３２３は、生成した各ブロックの各2D-DCT符号化データを短期保存用ストレージ３０３に供給し、短期的に保存させる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２８７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２８７】
例えば、DCTブロックサイズ変換部３５１が、処理速度の高速化が優先される場合、ブロックサイズを変換せずに（例えば８×８のまま）2D-DCT係数データを1D-DCT部３４３に供給するようにし、符号化効率の向上が優先される場合、ブロックサイズを（例えば３２×３２や６４×６４に）変換するようにしてもよい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２２】
2012073994.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月25日(2014.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ファイバ・ケーブル（２６、１０７）を通して光信号を与える光源（２２、１０１）と、
電気機械部品（４６）に又は該電気機械部品（１０９）から一定の離隔距離に配置されて、当該電気機械部品（４６、１０９）の状態を表わす反射光信号を生成する光ファイバ・センシング部品（３０、１０６）と、
該光ファイバ・センシング部品（３０、１０６）からの前記反射光信号を受信して電気信号へ変換する光検出器（３２、１０４）と、
前記電気信号を解析することにより前記電気機械部品（４６、１０９）に付着した汚れに関する情報を決定するように構成されている処理回路（３８、１０５）と、
を備えた、電気機械部品監視システム（２０、１００）。
【請求項２】
前記処理回路は、前記電気信号を解析することにより前記電気機械部品の運動に関する情報をさらに決定するように構成されている、請求項１に記載の監視システム。
【請求項３】
前記処理回路は、前記光ファイバ・センシング部品の伝送損失の大きさ及び中心波長シフトに基づいて前記電気機械部品での汚れに関する情報を決定する、請求項１または２に記載の監視システム。
【請求項４】
前記光ファイバ・センシング部品が前記電気機械部品に配置されているときに、前記光ファイバ・センシング部品は長周期格子構造を含んでおり、周囲媒体の屈折率変化に応答する、請求項１から３のいずれかに記載の監視システム。
【請求項５】
前記光ファイバ・センシング部品が電気機械部品から一定の離隔距離に配置されているときに、前記光ファイバ・センシング部品は汚れに対する感受性を有する、請求項１から４のいずれかに記載の監視システム。
【請求項６】
前記離隔距離は、汚れに関する情報を決定するために前記電気機械部品からの作用点距離を含んでいる、請求項５に記載の監視システム。
【請求項７】
汚れに対する感受性のある前記光ファイバ・センシング部品は、第一の離隔距離に位置する第一の光ファイバ・センシング部品を含んでいる、請求項５または６に記載の監視システム。
【請求項８】
運動に対する感受性を有し、前記第一の離隔距離のものよりも前記電気機械部品から小さい距離に位置する光学レンズを含む第二の光ファイバ・センシング部品をさらに含んでいる請求項５から７のいずれかに記載の監視システム。
【請求項９】
前記処理回路は、前記第二の光ファイバ・センシング部品からの前記応答光信号の高速フーリエ変換（ＦＦＴ）を求めることにより前記運動に関する情報を決定する、請求項８に記載の監視システム。
【請求項１０】
電気機械部品（４６、１０９）の監視（２０、１００）の方法であって、
前記電気機械に光信号を与える（２２、１０１）ステップと、
前記電気機械部品（４６、１０９）に又は前記電気機械部品（４６、１０９）から一定の離隔距離に配置された光ファイバ・センシング部品（３０、１０６）からの反射光信号を測定する（３２、１０４）ステップと、
前記反射光信号を解析することにより前記電気機械部品（４６、１０９）に付着した汚れに関する情報を決定する（３８、１０５）ステップと、
を含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月24日(2014.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入力信号を受ける入力ポートと、
上記入力信号をデジタル化するデジタイザと、
上記デジタイザに結合され、上記デジタル化済み入力信号をデシメーションして、デシメーション済み入力信号を発生するデシメータと、
上記デジタイザに結合され、上記デジタル化済み入力信号を周波数シフトして、周波数シフト済み入力信号を発生するデジタル・ダウンコンバータと、
上記デシメーション済み入力信号及び上記周波数シフト済み入力信号を蓄積するメモリと、
ユーザ・インタフェースと、
上記ユーザ・インタフェースを介して上記デシメーション済み入力信号及び上記周波数シフト済み入力信号を表示する制御器とを具え、
上記ユーザ・インタフェースは、時間領域制御部及び周波数領域制御部を有し、
上記制御器は、上記時間領域制御部に応答して上記デシメータのパラメータを調整すると共に、上記周波数領域制御部に応答して上記デジタル・ダウンコンバータのパラメータを調整する試験測定機器。
【請求項２】
入力信号をデジタル化する処理と、
上記デジタル化済み入力信号をデシメーションして、デシメーション済み入力信号を発生する処理と、
上記デジタル化済み入力信号を周波数シフトして、周波数シフト済み入力信号を発生する処理と、
上記デシメーション済み入力信号及び上記周波数シフト済み入力信号をメモリに蓄積する処理と、
ユーザ・インタフェースを介して上記デシメーション済み入力信号及び上記周波数シフト済み入力信号を表示する処理と、
上記ユーザ・インタフェースの時間領域制御部に応答して上記デジタル化済み入力信号のデシメーションを調整する処理と、
上記ユーザ・インタフェースの周波数領域制御部に応答して上記入力信号の周波数シフトを調整する処理と
を具える試験測定機器の動作方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年8月4日(2014.8.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｘ線を導波させるコアと、前記コアにＸ線を閉じ込めるクラッドと、を有するＸ線導波路であって、
前記コアは、屈折率実部が互いに異なる無機物質からなる複数の層が、前記コアと前記クラッドの界面に垂直な方向に、周期的に積層された１次元周期構造を有し、
前記コアと前記クラッドは、前記コアと前記クラッドとの界面での前記Ｘ線の全反射臨界角が前記コアの１次元周期構造の周期性に起因するブラッグ角よりも大きく、
前記１次元周期構造の各層間の界面におけるＸ線の全反射臨界角が、前記コアの１次元周期構造の周期性に起因するブラッグ角よりも小さいことを特徴とするＸ線導波路。
【請求項２】
前記一次元周期構造の周期はナノスケールであり、前記コアは１００ｎｍ以下の波長帯域のＸ線を導波させることを特徴とする請求項１に記載のＸ線導波路。
【請求項３】
前記複数の層は、第一の無機物質から成る第一の層と、前記第一の無機物質よりも屈折率実部の低い第二の無機物質から成る第二の層とが交互に積層され、前記第一の層の周期方向の厚さが、前記第二の層の周期方向の厚さよりも厚いことを特徴とする請求項１又は２に記載のＸ線導波路。
【請求項４】
前記１次元周期構造は、３種類以上の互いに異なる屈折率実部の物質の層から成り、
前記１次元周期構造の各層間の界面における全反射臨界角のうち最も大きい全反射臨界角が前記ブラッグ角よりも小さいことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のＸ線導波路。
【請求項５】
更に、前記コアと前記クラッドとの間に、これらの密着性を向上させるための密着層を有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のＸ線導波路。
【請求項６】
前記クラッドは、前記コアの上部に位置する上部クラッドと下部に位置する下部クラッドとを備え、前記クラッドは、Ｘ線の導波方向に沿って厚さが変化することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載のＸ線導波路。
【請求項７】
前記コアを導波するＸ線の位相が揃っていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載のＸ線導波路。
【請求項８】
Ｘ線が前記１次元周期構造の周期に共鳴する周期共鳴導波モードのみ導波されることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載のＸ線導波路。
【請求項９】
前記１次元周期構造の周期数が２０以上であることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載のＸ線導波路。
【請求項１０】
前記コアを形成する屈折率実部が異なる無機物質が、Ｂｅ、Ｂ、Ｃ、Ｂ４Ｃ、ＢＮ、ＳｉＣ、Ｓｉ３Ｎ４、ＳｉＮ、Ａｌ２Ｏ３、ＭｇＯ、ＴｉＯ２、ＳｉＯ２、Ｐから選ばれる少なくとも２種以上であることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載のＸ線導波路。
【請求項１１】
前記クラッドを形成する物質が、Ａｕ、Ｗ、Ｔａ、Ｐｔ、Ｉｒ、Ｏｓから選ばれる少なくとも１種以上であることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載のＸ線導波路。
【請求項１２】
Ｘ線を導波させるコアと、前記コアにＸ線を閉じ込めるクラッドと、を有するＸ線導波路であって、
前記コアは、Ｘ線の導波方向に垂直な方向に周期的に屈折率実部が変化する１次元周期構造を有し、
前記コアの１次元周期構造に共鳴する周期共鳴導波モードでＸ線を導波させることを特徴とするＸ線導波路。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記課題を解決するためのＸ線導波路は、Ｘ線を導波させるコアと、前記コアにＸ線を閉じ込めるクラッドと、を有するＸ線導波路であって、前記コアは、屈折率実部が互いに異なる無機物質からなる複数の層が、前記コアと前記クラッドの界面に垂直な方向に、周期的に積層された１次元周期構造を有し、前記コアと前記クラッドは、前記コアと前記クラッドとの界面での前記Ｘ線の全反射臨界角が前記コアの１次元周期構造の周期性に起因するブラッグ角よりも大きく、前記１次元周期構造の各層間の界面におけるＸ線の全反射臨界角が、前記コアの１次元周期構造の周期性に起因するブラッグ角よりも小さいことを特徴とするものである。
【手続補正書】
【提出日】平成26年1月15日(2014.1.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
次に本発明の実施例１のロータリエンコーダの組立方法について説明する。実施例１のロータリエンコーダの組立方法では、シリコンウェハよりオリエンテーションフラットを参照する。そして、パターン中心（回転中心）を基準に連続パターン１２と不連続パターン（回転角度原点）１５を含む所定のパターンが形成され、外形が多角形状のロータリスケールを切り取る。回転角度原点は、多角形状の辺のうち少なくとも１つの辺１１ａを基準に定められている。切り取ったロータリスケール４を、ロータリスケール４と同軸で回転するハブ１７にハブ１７に設けた位置決め用の突起部１９に当接するように装着してロータリエンコーダを組み立てる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
ロータリスケール４の外形の突起部１９と当接する２辺１１ａ、１１ｂは、突起部１９そしてハブ１７に圧入され、回転情報を検出する検出対象物と嵌合する回転軸１８との位置情報（位置関係）を測定する。そして、測定した位置情報を参照してシリコンウェハよりロータリスケール４を切り取っている。ここで２辺１１ａ，１１ｂは互いに非平行である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
次に、実施例１のロータリエンコーダの組立方法に関して、更に図２のフローチャートと図３〜図６の説明図を用いて説明する。テープ貼り付け工程２１では半導体プロセスにより製作された複数のロータリスケールが作りこまれたシリコンウェハがスケールサイズより大きい粘着テープの上に載せられる。ダイシング工程２２ではダイサーによりウェハがダイシングされ、個々のシリコン製のロータリスケールに分割され切り取られる。ダイシング工程２２ではシリコン製のロータリスケールは分断されるが、粘着テープはギリギリ分断されないように制御されている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
このときダイシングの位置はドーナツ状のスケールパターンの中心からの距離を正確に決められ精度良くダイシングされる。これによりロータリスケール４の直交する２辺から、パターン中心までの距離は例えば±10μm程度の値に精度良く加工される。ＵＶ照射工程（紫外線照射工程）２３では、裏面からＵＶ（紫外線）照射を行い、粘着テープの粘着力を低下させる。そして次のピックアップ工程２４ではピンセットでスケールを摘み上げる。このとき粘着テープからロータリスケール４がはがれやすいように、粘着テープに張力をかけるのが一般的である。外観検査工程２５では実体顕微鏡などで摘み上げたスケールの表裏面に欠陥が無いか目視により確認し欠陥品を排除する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
また、各実施例のロータリエンコーダの組立方法ではパターンを有するロータリスケールが装着され同軸で回転するハブに圧入固定され、方位性を持つ回転軸を有する。そして回転軸に対する位置決めを要するハブとシリコンウェハのオリエンテーションフラットまたはノッチにより回転軸を基準に、各部品を一貫した組立基準でロータリエンコーダを組み立てることができる。なお、上述した各実施例ではロータリエンコーダは反射型を用いているが、透過型であってもよく、検出手段（光ＩＣ）２も受光部と発光部が別体であっても構わない。また、ロータリスケールについてもエンコーダで広く使われるガラス製スケールでも多角形にすることにより同様の効果を得られる。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月10日(2013.12.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
回転軸となる芯金と該芯金の外周面に物性の異なる二層の発泡弾性層を有する弾性ローラにおいて、これらの二層の層間に、該発泡弾性層の該物性が、外周面から芯金に向かう直径方向で漸増もしくは漸減する二層接触領域が存在する発泡弾性ローラ。但し、前記物性は、平均セル径、セル数、通気度および密度から選ばれる一つ以上の物性である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の課題は、発泡弾性層の外周面から芯金の中心に向かう直径方向での物性が、漸増もしくは漸減する境界領域が存在する発泡弾性ローラにより、画像特性に優れ、層間剥離の問題が無く、さらには、トナー供給ローラとして、長期使用した場合においても、層間部分のトナー蓄積による発泡弾性層の高硬度化が抑制された発泡弾性ローラを提供することである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
前記課題は以下の本発明〔１〕〜〔７〕によって解決される。
〔１〕回転軸となる芯金と該芯金の外周面に物性の異なる二層の発泡弾性層を有する弾性ローラにおいて、これらの二層の層間に、該発泡弾性層の該物性が、外周面から芯金に向かう直径方向で漸増もしくは漸減する二層接触領域が存在する発泡弾性ローラ。但し、前記物性は、平均セル径、セル数、通気度および密度から選ばれる一つ以上の物性である。
〔２〕該物性が、平均セル径であることを特徴とする前記〔１〕の発泡弾性ローラ。
〔３〕該物性が、セル数であることを特徴とする前記〔１〕の発泡弾性ローラ。
〔４〕該物性が、通気度であることを特徴とする前記〔１〕乃至〔３〕のいずれかの発泡弾性ローラ。
〔５〕該物性が、密度であることを特徴とする前記〔１〕乃至〔４〕のいずれかの発泡弾性ローラ。
〔６〕前記発泡弾性ローラが、トナー供給ローラであることを特徴とする前記〔１〕乃至〔５〕のいずれかの発泡弾性ローラ。
〔７〕電子写真画像形成装置に用いられるプロセスカートリッジにおいて、該プロセスカートリッジが前記〔６〕のトナー供給ローラを有することを特徴とするプロセスカートリッジ。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
以下、本発明の好適な一実施形態について図面を参照しつつ詳細に説明する。
本発明は、回転軸となる芯金と該芯金の外周面に物性の異なる二層の発泡弾性層を有する弾性ローラにおいて、これらの二層の層間に、発泡弾性層の物性が外周面から芯金の中心に向かう直径方向で、漸増もしくは漸減する二層接触領域が存在する発泡弾性ローラである。但し、前記物性は、平均セル径、セル数、通気度および密度から選ばれる一つ以上の物性である。図１に示すように、本発明における発泡弾性ローラ１は発泡弾性層２が二層構造であり、各層間に存在する二層接触領域は連続したセルで構成されている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
二層接触領域においては、発泡弾性層の内層と外層を形成する発泡材料が混在もしくは混合して発泡している。その結果、発泡弾性層の外周面から芯金の中心に向かう直径方向における二層接触領域での物性は、漸増もしくは漸減しており、内層と外層は明確な境界を有さない構造となっている。即ち、層間に接着剤等の接合部が存在しないため、層間剥離の問題がない。また、内層と外層を形成する発泡材料が、成形金型内でほぼ同時に発泡成形されたものである場合は、液体状態の各発泡材料が、隣接する層の内部に入り込むことがなく、両層間には連続したセル構造が形成されている。つまり、本願の明確な境界を有さない二層接触領域においては、内層と外層の物性と比較して、層間の境界領域部だけが極端に高密度、低通気、小セル径、とはならない。このため、従来構造におけるような層間の境界領域部のトナー流動性が悪いことによるトナー蓄積、それによる発泡弾性層の高硬度化は発生せず、トナーの劣化（細粒化）を抑制し、濃度低下、地汚れ等が発生しない良好な画像を得ることが出来る。二層接触領域の厚みは限定されないが、例えば０．３〜１．０ｍｍ程度である。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月2日(2014.4.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
異なる色を呈する複数の光源のそれぞれが点滅を繰り返し且つｍ行（ｍは、４以上の自然数）に配設された複数の表示画素毎に印加される電圧に応じて配向状態が制御される液晶素子を用いて複数の色を呈する光のそれぞれの透過を制御することで画素部に画像を形成すると共に、ｘ行（ｘは、４以上の自然数）に配設された複数の撮像画素毎に可視光領域の光が照射されることで光電流が生じるフォトダイオードを用いて撮像を行う液晶表示装置の駆動方法であって、
第１のサンプリング期間において、第１の領域に含まれる１行目の表示画素乃至ｋ行目（ｋは、ｍ／２未満の自然数）の表示画素に対する第１の色を呈する光の透過を制御するための画像信号の供給、及び第２の領域に含まれる（ｋ＋１）行目の表示画素乃至２ｋ行目の表示画素に対する前記第１の色を呈する光の透過を制御するための画像信号の供給を並行して行い、
前記第１のサンプリング期間後の期間である点灯期間において、前記異なる色を呈する複数の光源の少なくとも一つが点灯することで前記画素部に第１の色を呈する光を照射し、
前記点灯期間に含まれる期間である撮像期間において、前記第１の領域に含まれる１行目の撮像画素乃至ｚ行目（ｚは、ｘ／２未満の自然数））の撮像画素における撮像、及び前記第２の領域に含まれる（ｚ＋１）行目の撮像画素乃至２ｚ行目の撮像画素における撮像を並行して行うことを特徴とする液晶表示装置の駆動方法。
【請求項２】
請求項１において、
前記第１のサンプリング期間と前記点灯期間の間に、前記異なる色を呈する複数の光源の全てが消灯する第１の消灯期間が設けられることを特徴とする液晶表示装置の駆動方法。
【請求項３】
請求項１又は請求項２において、
前記点灯期間と、第１の領域に含まれる１行目の表示画素乃至ｋ行目の表示画素に対する第２の色を呈する光の透過を制御するための画像信号の供給、及び第２の領域に含まれる（ｋ＋１）行目の表示画素乃至２ｋ行目の表示画素に対する前記第２の色を呈する光の透過を制御するための画像信号の供給を並行して行う第２のサンプリング期間の間に、前記異なる色を呈する複数の光源の全てが消灯する第２の消灯期間が設けられることを特徴とする液晶表示装置の駆動方法。
【請求項４】
請求項３において、
前記第２の消灯期間において、コモン反転駆動を行うことを特徴とする液晶表示装置の駆動方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月3日(2014.7.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画像を得るための顕微鏡システムであって、
前記顕微鏡システムの倍率範囲にわたって前記顕微鏡システムの倍率を連続的に変動させるよう構成されるズーム系を含み、前記ズーム系は、前記顕微鏡システムの共通の光軸に沿って可動に配置される２つの可動ズーム構成要素を含み、前記顕微鏡システムはさらに、
前記ズーム系を横断する、前記顕微鏡システムの複数の異なる観察ビーム経路が選択可能であるように構成される開口絞りを含み、
前記開口絞りは、前記光軸に沿って見た場合、前記２つの可動ズーム構成要素間に配置され、
前記倍率範囲内の倍率のすべての値に対して、前記開口絞りは、前記光軸に沿って測定され前記顕微鏡システムのひとみ位置を取囲む開口絞り範囲内に位置し、
前記開口範囲は、光軸に沿って測定した顕微鏡システムの全長の半分より小さく、
前記２つの可動ズーム構成要素の少なくとも１つまたは前記２つの可動ズーム構成要素の各々は負の屈折力を有する、顕微鏡システム。
【請求項２】
前記顕微鏡システムは、前記光軸に沿って測定したひとみ範囲が前記２つの可動ズーム構成要素のレンズ頂点の位置の最大距離より小さい長さを有するように構成される、請求項１に記載の顕微鏡システム。
【請求項３】
前記２つの可動ズーム構成要素は互いに対して対称であるかまたは実質的に対称である、請求項１または請求項２に記載の顕微鏡システム。
【請求項４】
前記２つの可動ズーム構成要素は、第１の屈折面を含み、
前記顕微鏡システムの物面から発出する光線は、前記開口絞りを通過した後、前記第１の屈折面を横断する、請求項１〜３のいずれか１つに記載の顕微鏡システム。
【請求項５】
前記２つの可動ズーム構成要素は、第２の屈折面を含み、
前記第２の屈折面は、前記顕微鏡システムの物面から来る光線によって前記開口絞りに入る前に最後に横断される、請求項１〜４のいずれか１つに記載の顕微鏡システム。
【請求項６】
前記ズーム系は、さらに、前記光軸上において前記２つの可動ズーム構成要素間に配置される２つの定置ズーム構成要素からなる第１の群を含む、請求項１〜５のいずれか１つに記載の顕微鏡システム。
【請求項７】
前記第１の群の少なくとも１つのズーム構成要素は、正の屈折力を有する、請求項６に記載の顕微鏡システム。
【請求項８】
前記第１の群のズーム構成要素の各々は、正の屈折力を有する、請求項７に記載の顕微鏡システム。
【請求項９】
前記開口絞りは、前記第１の群の前記２つの定置ズーム構成要素の間に配置される、請求項６〜８のいずれか１つに記載の顕微鏡システム。
【請求項１０】
前記第１の群の前記２つの定置ズーム構成要素は、互いに対称または実質的に対称である、請求項６〜９のいずれか１つに記載の顕微鏡システム。
【請求項１１】
前記第１の群の前記２つの定置ズーム構成要素は、第１の屈折面を含み、
前記顕微鏡システムの物面から発出する光線は、前記開口絞りを通過した後、前記第１の屈折面を横断する、請求項６〜１０のいずれか１つに記載の顕微鏡システム。
【請求項１２】
前記第１の群の前記２つの定置ズーム構成要素は、第２の屈折面を含み、
前記第２の屈折面は、前記顕微鏡システムの物面から来る光線によって前記開口絞りに入る前に最後に横断される、請求項６〜１０のいずれか１つに記載の顕微鏡システム。
【請求項１３】
前記ズーム系は、さらに、前記光軸上に配置される２つの定置ズーム構成要素からなる第２の群を含み、前記可動ズーム構成要素は前記第２の群の前記２つの定置ズーム構成要素間に配される、請求項１〜１２のいずれか１つに記載の顕微鏡システム。
【請求項１４】
前記第２の群の前記定置ズーム構成要素のうちの少なくとも１つは正の屈折力を有する、請求項１３に記載の顕微鏡システム。
【請求項１５】
前記第２の群の前記定置ズーム構成要素の各々は、正の屈折力を有する、請求項１４に記載の顕微鏡システム。
【請求項１６】
前記第２の群の前記定置ズーム構成要素は互いに対して対称であるかまたは実質的に対称である、請求項１３〜１５のいずれか１つに記載の顕微鏡システム。
【請求項１７】
前記ズーム系は、無限焦点、または実質的に無限焦点である、請求項１〜１６のいずれか１つに記載の顕微鏡システム。
【請求項１８】
前記ズーム系は、対称または実質的に対称である、請求項１〜１７のいずれか１つに記載の顕微鏡システム。
【請求項１９】
前記開口絞りは、前記観察ビーム経路が前記開口絞りの可変開口によって選択可能であるように構成される、請求項１〜１８のいずれか１つに記載の顕微鏡システム。
【請求項２０】
前記開口絞りは１つ以上のエリア要素を含み、前記１つ以上のエリア要素の各々は開いた状態と閉じた状態との間で切換え可能であるよう構成される、請求項１〜１９のいずれか１つに記載の顕微鏡システム。
【請求項２１】
前記開口絞りは、前記開口絞りの開口が前記光軸の周りを回転可能であるように構成される、請求項１〜２０のいずれか１つに記載の顕微鏡システム。
【請求項２２】
前記開口絞りは、機械的なシャッタ素子、ポリマーシャッタ素子およびＬＣＤマトリックスのうちの１つまたはそれらの組合せを含む、請求項１〜２１のいずれか１つに記載の顕微鏡システム。
【請求項２３】
前記複数の異なる観察ビーム経路は左側および右側ステレオチャネルを含む、請求項１〜２２のいずれか１つに記載の顕微鏡システム。
【請求項２４】
前記複数の観察ビーム経路の各々は、１６未満、１２未満、１０未満、８未満、または６未満のｆナンバーを有する、請求項１〜２３のいずれか１つに記載の顕微鏡システム。
【請求項２５】
前記顕微鏡システムの全長は、２００ｍｍ未満、１５０ｍｍ未満、１２０ｍｍ未満、または１００ｍｍ未満である、請求項１〜２４のいずれか１つに記載の顕微鏡システム。
【請求項２６】
前記顕微鏡システムのズーム比は、少なくとも４ｘ、少なくとも５ｘ、または少なくとも６ｘである、請求項１〜２５のいずれか１つに記載の顕微鏡システム。
【請求項２７】
前記顕微鏡システムは像側合焦系をさらに含み、前記像側合焦系の焦点距離は、前記光軸に沿った、前記ズーム系に最も近く位置する前記像側合焦系の屈折面と像面との間の距離よりも大きい、請求項１〜２６のいずれか１つに記載の顕微鏡システム。
【請求項２８】
可動合焦構成要素を含む対物側合焦系をさらに含み、前記顕微鏡システムは、前記可動合焦構成要素を前記光軸に沿って移動させることによって前記顕微鏡システムの作動距離が調整可能であるよう構成される、請求項１〜２７のいずれか１つに記載の顕微鏡システム。
【請求項２９】
前記開口絞りは開いた状態と閉じた状態との間で切換え可能である、請求項１〜１９のいずれか１つに記載の顕微鏡システム。
【請求項３０】
前記開口絞りの開いている時間は、５００ｍｓ未満、２００ｍｓ未満、または１００ｍｓ未満である、請求項２９に記載の顕微鏡システム。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月20日(2013.12.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示装置を構成する一対のワークを、電磁波の照射により硬化する接着剤を介して貼り合わせる貼合装置において、
少なくとも一方のワークの片面の全体に行き渡るように、接着剤を供給する供給部と、
ワークの片面の全体に行き渡った接着剤の一部に対して、貼り合わせ前に、電磁波を照射することにより、仮硬化させる照射部と、
仮硬化した接着剤に対して、他方のワークを貼り合わせる貼合部と、
を有することを特徴とする貼合装置。
【請求項２】
前記照射部による電磁波の照射は、大気中で照射することを特徴とする請求項１記載の貼合装置。
【請求項３】
前記照射部は、紫外線を照射する照射装置を有することを特徴とする請求項１又は請求項２記載の貼合装置。
【請求項４】
前記照射部による照射範囲が、接着剤の供給領域の外縁部となるように、電磁波の一部を遮蔽する遮蔽部を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の貼合装置。
【請求項５】
前記照射部による照射範囲が、接着剤の供給領域の外縁部となるように、前記照射部が、移動可能に設けられていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の貼合装置。
【請求項６】
前記照射部による照射範囲が、表示装置の視野範囲外であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の貼合装置。
【請求項７】
前記貼合部は、貼り合わせ時の一対のワークの周囲を真空引き可能な真空室を有することを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の貼合装置。
【請求項８】
貼り合わせ後の一対のワークを、大気中で放置する放置部を有することを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の貼合装置。
【請求項９】
表示装置を構成する一対のワークを、電磁波の照射により硬化する接着剤を介して貼り合わせる貼合基板の製造方法において、
少なくとも一方のワークの片面の全体に行き渡るように、接着剤を供給し、
ワークの片面の全体に行き渡った接着剤の一部に対して、貼り合わせ前に、電磁波を照射することにより、仮硬化させ、
仮硬化した接着剤に対して、他方のワークを貼り合わせることを特徴とする貼合基板の製造方法。
【請求項１０】
前記貼り合せ前の電磁波の照射は、大気中で照射することを特徴とする請求項９記載の貼合基板の製造方法。
【請求項１１】
前記電磁波が、紫外線であることを特徴とする請求項９又は請求項１０記載の貼合基板の製造方法。
【請求項１２】
前記電磁波の照射範囲が、接着剤の供給領域の外縁部であることを特徴とする請求項９〜１１のいずれか１項に記載の貼合基板の製造方法。
【請求項１３】
貼り合わせ後の一対のワークを、大気中で放置することを特徴とする請求項９〜１２のいずれか１項に記載の貼合基板の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】貼合装置及び貼合基板の製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、たとえば、表示装置を構成するワークを貼り合わせるために、ワークに接着剤を供給する技術に改良を施した貼合装置及び貼合基板の製造方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明は、上記のような従来技術の問題点を解決するために提案されたものであり、その目的は、接着剤の流動を防止して、均一な貼り合わせ厚を確保できる貼合装置及び貼合基板の製造方法を提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
上記の目的を達成するため、本発明は、表示装置を構成する一対のワークを、電磁波の照射により硬化する接着剤を介して貼り合わせる貼合装置において、少なくとも一方のワークの片面の全体に行き渡るように、接着剤を供給する供給部と、ワークの片面の全体に行き渡った接着剤の一部に対して、貼り合わせ前に、電磁波を照射することにより、仮硬化させる照射部と、仮硬化した接着剤に対して、他方のワークを貼り合わせる貼合部と、を有することを特徴とする。
他の態様は、前記照射部は、大気中で電磁波を照射することを特徴とする。また、前記照射部は、紫外線を照射する照射装置を有することを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
以上のような発明では、ワークの片面の全体に行き渡った接着剤に対して、電磁波を照射するので、接着剤が仮硬化する。このため、貼り合わせ前の接着剤の流動が抑制され、塗布形状のくずれやワーク外へのはみ出しが防止される。仮硬化によりクッション性は維持されているので、貼合部による貼り合わせ時には、均一な貼り合わせ厚を確保できる。また、接着剤中に境界が存在しないので、表示装置における視野範囲の視認性は損なわれない。さらに、シールのための手段を装備した上で、シール作成用の接着剤と内部充填用の接着剤を別々に用意して供給する必要がないので、タクトタイムを短縮でき、コストも節約できる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
なお、上記の各態様は、貼合基板の製造方法の発明としても捉えることができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
以上、説明したように、本発明によれば、接着剤の流動によるはみ出しを防止して、均一な貼り合わせ厚を確保できる貼合装置及び貼合基板の製造方法を提供することができる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
本発明の実施の形態（以下、実施形態と呼ぶ）について、図面を参照して具体的に説明する。
［Ａ．構成］
まず、本実施形態の貼合装置（以下、本装置と呼ぶ）の構成を説明する。本装置は、図１及び図２に示すように、接着剤供給部１、貼合部２等を有している。貼り合わせの対象となるワークＳ１は、これらの接着剤供給部１及び貼合部２との間を、搬送部３によって移動可能に設けられている。
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月17日(2014.9.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
燃料ノズル組立体（２８）であって、
予混合アニュラス（６０）をそれらの間に画成する外側バーナー管（６２）及び内側バーナー管（６４）と、
前記内側バーナー管（６４）の周りに環状アレイで配置され、前記予混合アニュラス（６０）の上流側の一次空気（４２）と相互作用するように構成された複数のスワーラベーン（５２）を含むスワーラ組立体（５０）と、
前記スワーラ組立体（５０）の外側に少なくとも１つの入口と前記スワーラ組立体（５０）の下流に少なくとも１つの出口とを有していて前記スワーラ組立体（５０）の下流側の前記予混合アニュラス（６０）内に二次空気（１０２）を流して、該二次空気（１０２）が前記予混合アニュラス（６０）に対して長手方向で且つ前記外側バーナー管（６２）及び内側バーナー管（６４）の少なくとも１つに隣接してほぼ直線経路で流れるように構成された空気噴射特徴部（１００）と、
前記外側バーナー管（６２）及び内側バーナー管（６４）の１つに付随するスリーブ（１１０）であって、前記外側バーナー管（６２）及び内側バーナー管（６４）の１つに隣接して前記二次空気（１０２）を吐出するように構成された複数のボア孔（１１２）を画成するスリーブ（１１０）と
を備える、燃料ノズル組立体（２８）。
【請求項２】
前記空気噴射特徴部（１００）は、前記二次空気（１０２）が前記外側バーナー管（６２）及び内側バーナー管（６４）の少なくとも１つに隣接してフィルムを形成するように、該二次空気（１０２）を前記予混合アニュラス（６０）に流すように構成される、請求項１記載の燃料ノズル組立体（２８）。
【請求項３】
前記空気噴射特徴部（１００）は、前記二次空気（１０２）が前記外側バーナー管（６２）及び内側バーナー管（６４）の少なくとも１つに隣接して複数の空気ジェットを形成するように、該二次空気（１０２）を前記予混合アニュラス（６０）に流すように構成される、請求項１又は請求項２記載の燃料ノズル組立体（２８）。
【請求項４】
前記空気噴射特徴部（１００）は、前記二次空気（１０２）が前記外側バーナー管（６２）及び内側バーナー管（６４）の両方にほぼ隣接して流れるように、該二次空気（１０２）を前記予混合アニュラス（６０）に流すように構成される、請求項１乃至請求項３のいずれか１項記載の燃料ノズル組立体（２８）。
【請求項５】
燃料ノズル組立体（２８）であって、
予混合アニュラス（６０）をそれらの間に画成する外側バーナー管（６２）及び内側バーナー管（６４）と、
前記内側バーナー管（６４）の周りに環状アレイで配置され、前記予混合アニュラス（６０）の上流側の一次空気（４２）と相互作用するように構成された複数のスワーラベーン（５２）を含むスワーラ組立体（５０）と、
前記スワーラ組立体（５０）の外側に少なくとも１つの入口と前記スワーラ組立体（５０）の下流に少なくとも１つの出口とを有していて前記スワーラ組立体（５０）の下流側の前記予混合アニュラス（６０）内に二次空気（１０２）を流して、該二次空気（１０２）が前記予混合アニュラス（６０）に対して長手方向で且つ前記外側バーナー管（６２）及び内側バーナー管（６４）の少なくとも１つに隣接してほぼ直線経路で流れるように構成された空気噴射特徴部（１００）と、
半径方向に延在する複数の送給通路（１２０）であって、その各々が前記複数のスワーラベーン（５２）の１つに画成される複数の送給通路（１２０）と
を備える、燃料ノズル組立体（２８）。
【請求項６】
前記空気噴射特徴部（１００）が、前記スワーラ組立体（５０）内に画成され且つ前記複数の送給通路（１２０）と流体連通したアニュラス（１３２）を含み、前記アニュラス（１３２）が、前記二次空気（１０２）を前記複数の送給通路（１２０）から前記予混合アニュラス（６０）に流すように構成される、請求項５記載の燃料ノズル組立体（２８）。
【請求項７】
前記空気噴射特徴部（１００）が、前記スワーラ組立体（５０）内に画成され且つ前記複数の送給通路（１２０）と流体連通した複数のボア孔（１３０）を含み、前記複数のボア孔（１３０）が、前記二次空気（１０２）を前記複数の送給通路（１２０）から前記予混合アニュラス（６０）に流すように構成される、請求項５記載の燃料ノズル組立体（２８）。
【請求項８】
前記二次空気（１０２）が、前記一次空気（４２）とは関係なく前記空気噴射特徴部（１００）に供給される、請求項１乃至請求項７のいずれか１項記載の燃料ノズル組立体（２８）。
【請求項９】
請求項１乃至請求項のいずれか１項記載の燃料ノズル組立体（２８）を少なくとも１つ備える、ガスタービン（１０）システム用の燃焼器（１６）。
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月21日(2014.5.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
３次元レーザスキャナを用いたトンネル断面計測方法であって、
複数のターゲットをトンネル内に固定し、
３次元レーザスキャナにより、レーザスキャンを行って３次元レーザスキャナの原点座標に基づくスキャナ座標によるトンネル断面の計測を行い、
データ処理装置により、スキャナ座標のデータ抜けによりターゲットを認識して、データ抜けのパターンに基づき各ターゲットのトンネル座標を取得し、各ターゲットのスキャナ座標とトンネル座標に基づきトンネル断面のスキャナ座標をトンネル座標に変換することを特徴とする３次元レーザスキャナを用いたトンネル断面計測方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
スキャナ座標のデータ抜けによりターゲットを認識する第１の計測を行って各ターゲットのトンネル座標を取得した後、第２の計測を行って各ターゲットのスキャナ座標とトンネル座標に基づきトンネル断面のスキャナ座標をトンネル座標に変換することを特徴とする請求項１記載の３次元レーザスキャナを用いたトンネル断面計測方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
そのために本発明は、３次元レーザスキャナを用いたトンネル断面計測方法であって、複数のターゲットをトンネル内に固定し、３次元レーザスキャナにより、レーザスキャンを行って３次元レーザスキャナの原点座標に基づくスキャナ座標によるトンネル断面の計測を行い、データ処理装置により、スキャナ座標のデータ抜けによりターゲットを認識して、データ抜けのパターンに基づき各ターゲットのトンネル座標を取得し、各ターゲットのスキャナ座標とトンネル座標に基づきトンネル断面のスキャナ座標をトンネル座標に変換することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
さらに、スキャナ座標のデータ抜けによりターゲットを認識する第１の計測を行って各ターゲットのトンネル座標を取得した後、第２の計測を行って各ターゲットのスキャナ座標とトンネル座標に基づきトンネル断面のスキャナ座標をトンネル座標に変換することを特徴とし、ターゲットとして、外周に鏡面や高回帰性の高反射仕上げ領域を有するターゲットをトンネル内に固定することを特徴とし、記ターゲットとして、直交する方向に回転可能なターゲットを前記トンネル内のアンカーに装着することを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明によれば、複数のターゲットをトンネル内に固定し、レーザスキャンを行って３次元レーザスキャナの原点座標に基づくスキャナ座標によるトンネル断面の計測を行い、スキャナ座標のデータ抜けによりターゲットを認識するので、レーザスキャンを行う際に特にターゲットの位置を意識することなく、トンネル断面の計測を行ったスキャナ座標からターゲットを任的することができる。そして、データ抜けのパターンに基づき各ターゲットのトンネル座標を取得し、各ターゲットのスキャナ座標とトンネル座標に基づきトンネル断面のスキャナ座標をトンネル座標に変換するので、トンネル座標を意識することなく３次元レーザスキャナの位置も自由に選び、トータルステーションによる計測を簡便に行うことができ、３次元レーザスキャナによる３次元の計測の作業が煩雑になることなく簡便に断面の計測、掘削断面、覆工断面の評価、管理を行うことができ、工期の短縮、施工精度の向上を図ることができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
３次元の計測を行い掘削断面のデータと基準断面データとの比較演算により比較断面データを所望の表示属性で出力する処理としては、例えば図９に示すようにまず、３次元のスキャナ座標の計測データを求めて記憶部に格納する（ステップＳ３１）。