【手続補正書】
【提出日】平成26年6月30日(2014.6.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理体に対してマイクロ波を照射して処理をするマイクロ波照射装置において、
前記被処理体を収容する処理容器と、
前記被処理体を支持する支持機構と、
前記処理容器内へ処理ガスを導入する処理ガス導入手段と、
前記処理容器内へマイクロ波を導入するマイクロ波導入手段と、
前記被処理体を加熱する加熱手段と、
前記被処理体を冷却ガスにより冷却するガス冷却手段と、
前記被処理体の温度を測定する放射温度計と、
前記放射温度計の測定値に基づいて前記加熱手段と前記ガス冷却手段とを制御することにより前記被処理体の温度を調整する温度制御部と、
を備えたことを特徴とするマイクロ波照射装置。
【請求項２】
被処理体に対してマイクロ波を照射して処理をするマイクロ波照射装置において、
前記被処理体を収容する処理容器と、
前記被処理体を支持する支持機構と、
前記処理容器内へ処理ガスを導入する処理ガス導入手段と、
前記処理容器内へマイクロ波を導入するマイクロ波導入手段と、
前記被処理体を冷却ガスにより冷却するガス冷却手段と、
前記被処理体の温度を測定する放射温度計と、
前記放射温度計の測定値に基づいて前記ガス冷却手段を制御することにより前記被処理体の温度を調整する温度制御部と、
を備えたことを特徴とするマイクロ波照射装置。
【請求項３】
前記ガス冷却手段は、前記支持機構の上方に設置されたシャワーヘッド部を有することを特徴とする請求項１又は２記載のマイクロ波照射装置。
【請求項４】
前記ガス冷却手段と前記ガス導入手段とは兼用されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載のマイクロ波照射装置。
【請求項５】
被処理体に対してマイクロ波を照射して処理をするマイクロ波照射装置において、
前記被処理体を収容する処理容器と、
前記被処理体を支持する支持機構と、
前記処理容器内へ処理ガスを導入する処理ガス導入手段と、
前記処理容器内へマイクロ波を導入するマイクロ波導入手段と、
前記被処理体を加熱する加熱手段と、
前記被処理体の温度を測定する放射温度計と、
前記放射温度計の測定値に基づいて前記加熱手段を制御することにより前記被処理体の温度を調整する温度制御部と、
を備えたことを特徴とするマイクロ波照射装置。
【請求項６】
前記処理容器内の天井部には、前記マイクロ波導入手段より導入されるマイクロ波を撹拌する撹拌機が設けられていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載のマイクロ波照射装置。
【請求項７】
前記撹拌機と前記支持機構との間には、誘電体よりなる仕切板が設けられていることを特徴とする請求項６記載のマイクロ波照射装置。
【請求項８】
前記仕切板の周辺部には、前記仕切板で仕切られた上下の空間を連通するための連通孔が形成されていることを特徴とする請求項７記載のマイクロ波照射装置。
【請求項９】
前記被処理体は、前記支持機構上に複数の支持ピンを介して支持されていることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか一項に記載のマイクロ波照射装置。
【請求項１０】
前記支持ピンは中空になされており、前記被処理体の裏面を吸着するチャック機構として形成されていることを特徴とする請求項９記載のマイクロ波照射装置。
【請求項１１】
前記支持機構の下部は、前記チャック機構の一部を形成するために真空引きされたチャック用密閉空間として形成されていると共に、前記チャック用密閉空間と前記支持ピンとは連通されていることを特徴とする請求項１０記載のマイクロ波照射装置。
【請求項１２】
被処理体に対してマイクロ波を照射して処理をするマイクロ波照射装置において、
前記被処理体を収容する処理容器と、
前記処理容器内の雰囲気を排気する排気系と、
前記処理容器内へマイクロ波を導入するマイクロ波導入手段と、
前記被処理体の下面に対して冷却ガスを噴射して冷却するガス冷却手段と、
前記被処理体を支持するリフトピンを有して前記被処理体を昇降させるリフタ機構と、
前記リフトピンに形成された吸引孔を有し、前記吸引孔を吸引通路により前記排気系に接続することにより形成されたチャック機構と、
を備えたことを特徴とするマイクロ波照射装置。
【請求項１３】
前記ガス冷却手段は、前記被処理体の下方に配置されて、上面に複数のガス噴射孔が形成されると共に内部にガス拡散室が設けられた冷却ガス噴射箱を有することを特徴とする請求項１２記載のマイクロ波照射装置。
【請求項１４】
前記ガス冷却手段は、前記被処理体の下方に同心円状に配置された複数の分散管を有し、前記分散管には上方に向けて複数のガス噴射孔が形成されていることを特徴とする請求項１２記載のマイクロ波照射装置。
【請求項１５】
前記リフタ機構は、
前記各リフトピンの下端部が連結されて前記リフトピンを支持するリフト板と、
前記リフト板にその上端部が連結された昇降ロッドと、
前記昇降ロッドを昇降させるアクチュエータとを有することを特徴とする請求項１２乃至１４のいずれか一項に記載のマイクロ波照射装置。
【請求項１６】
前記吸引通路は、前記リフト板と前記昇降ロッドとに沿って形成されていることを特徴とする請求項１５記載のマイクロ波照射装置。
【請求項１７】
前記処理容器内へ処理ガスを導入する処理ガス導入手段を有することを特徴とする請求項１２乃至１６のいずれか一項に記載のマイクロ波照射装置。
【請求項１８】
前記ガス冷却手段は、前記処理ガス導入手段と兼用されていることを特徴とする請求項１７記載のマイクロ波照射装置。
【請求項１９】
前記処理容器内の天井部には、前記マイクロ波導入手段より導入されるマイクロ波を撹拌する撹拌機が設けられていることを特徴とする請求項１２乃至１８のいずれか一項に記載のマイクロ波照射装置。
【請求項２０】
前記被処理体の処理時には、前記被処理体の下面と前記ガス冷却手段との間には、所定の幅の隙間が形成されていることを特徴とする請求項１２乃至１９のいずれか一項に記載のマイクロ波照射装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
請求項１に係る発明は、被処理体に対してマイクロ波を照射して処理をするマイクロ波照射装置において、前記被処理体を収容する処理容器と、前記被処理体を支持する支持機構と、前記処理容器内へ処理ガスを導入する処理ガス導入手段と、前記処理容器内へマイクロ波を導入するマイクロ波導入手段と、前記被処理体を加熱する加熱手段と、前記被処理体を冷却ガスにより冷却するガス冷却手段と、前記被処理体の温度を測定する放射温度計と、前記放射温度計の測定値に基づいて前記加熱手段と前記ガス冷却手段とを制御することにより前記被処理体の温度を調整する温度制御部と、を備えたことを特徴とするマイクロ波照射装置である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
請求項２に係る発明は、被処理体に対してマイクロ波を照射して処理をするマイクロ波照射装置において、前記被処理体を収容する処理容器と、前記被処理体を支持する支持機構と、前記処理容器内へ処理ガスを導入する処理ガス導入手段と、前記処理容器内へマイクロ波を導入するマイクロ波導入手段と、前記被処理体を冷却ガスにより冷却するガス冷却手段と、前記被処理体の温度を測定する放射温度計と、前記放射温度計の測定値に基づいて前記ガス冷却手段を制御することにより前記被処理体の温度を調整する温度制御部と、を備えたことを特徴とするマイクロ波照射装置である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
請求項５に係る発明は、被処理体に対してマイクロ波を照射して処理をするマイクロ波照射装置において、前記被処理体を収容する処理容器と、前記被処理体を支持する支持機構と、前記処理容器内へ処理ガスを導入する処理ガス導入手段と、前記処理容器内へマイクロ波を導入するマイクロ波導入手段と、前記被処理体を加熱する加熱手段と、前記被処理体の温度を測定する放射温度計と、前記放射温度計の測定値に基づいて前記加熱手段を制御することにより前記被処理体の温度を調整する温度制御部と、を備えたことを特徴とするマイクロ波照射装置である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
請求項１２に係る発明は、被処理体に対してマイクロ波を照射して処理をするマイクロ波照射装置において、前記被処理体を収容する処理容器と、前記処理容器内の雰囲気を排気する排気系と、前記処理容器内へマイクロ波を導入するマイクロ波導入手段と、前記被処理体の下面に対して冷却ガスを噴射して冷却するガス冷却手段と、前記被処理体を支持するリフトピンを有して前記被処理体を昇降させるリフタ機構と、前記リフトピンに形成された吸引孔を有し、前記吸引孔を吸引通路により前記排気系に接続することにより形成されたチャック機構と、を備えたことを特徴とするマイクロ波照射装置である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
＜第１実施例＞
図示するように、このマイクロ波照射装置２は、アルミニウム、アルミニウム合金又はステンレス等により内部が断面円形に成形された筒体状の処理容器４を有している。この処理容器４内には、円板状になされた支持機構としての支持台６が、円筒状になされた支柱８により容器底部より起立されて設けられている。上記支持台６及び支柱８は、アルミニウム、アルミニウム合金又はステンレス等の金属により形成されている。