(57)【要約】      （修正有）【課題】パネルをより高速で加工でき、描画曲線に接続誤差がない、パネル導電薄膜のメカトロニクス制御曲線プロセスに用いるレーザー装置を提供する。【解決手段】レーザー装置はレーザーモジュール２０、Ｙ軸移動ステージ３０、Ｘ軸移動ステージ３２、リニアモータ４０を含む。レーザーモジュールは導電膜に平行なＸ軸方向に沿ってパネル５０上の導電膜をエッチングするレーザービームを発生する。Ｙ軸移動ステージにはレーザーモジュールが搭載され、導電膜に平行なＹ軸方向に沿ってレーザーモジュールを移動する。さらに、レーザービームがＸ軸方向に沿って導電膜をエッチングするのと同時にＹ軸方向に向かって運動させ、曲線を形成させる。Ｘ軸移動ステージ３２にはパネル５０が搭載され、曲線のエッチングが完了した後Ｘ軸方向に沿ってパネルを移動させる。リニアモータはレーザーモジュールとＹ軸移動ステージの間に連接され、Ｘ軸方向とＹ軸方向と直角に交わるＺ軸方向に沿ってレーザーモジュールを移動させる。【選択図】図２
0003164081.tif 000002
【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
パネル導電薄膜のメカトロニクス制御曲線プロセスに用いるレーザー装置であって、パネルの加工に用いられ、前記パネルが導電膜と基板を含み、前記レーザー装置がレーザーモジュールと、Ｙ軸移動ステージと、Ｘ軸移動ステージと、リニアモータを含み、
前記レーザーモジュールが、
第１レーザービームの発生に用いるレーザー光源と、
前記第１レーザービームを接受して較正した後第２レーザービームを出力する監視制御ユニットと、
前記第２レーザービームを接受し、第３レーザービームを出力して、前記第３レーザービームに前記導電膜表面に平行なＸ軸方向に沿って前記導電膜をエッチングさせるビーム移動ユニットを含み、
前記Ｙ軸移動ステージが、前記レーザーモジュールを搭載し、前記Ｘ軸方向と直角に交わり、且つ前記導電膜表面に平行なＹ軸方向に沿って前記レーザーモジュールを移動させ、前記第３レーザービームに前記Ｘ軸方向に沿って前記導電膜をエッチングさせると同時に前記Ｙ軸方向に運動させ、前記導電膜をエッチングして曲線を形成させ、
前記Ｘ軸移動ステージが、前記パネルを搭載し、曲線のエッチングが完了した後前記Ｘ軸方向に沿って前記パネルを移動させ、
前記リニアモータが前記レーザーモジュールと前記Ｙ軸移動ステージの間に連接され、Ｚ軸方向に沿って前記レーザーモジュールを移動させることを特徴とする、レーザー装置。
【請求項２】
前記レーザーモジュールが、前記監視制御ユニットの外囲を遮蔽する遮蔽カバーを含むことを特徴とする、請求項１に記載のレーザー装置。
【請求項３】
前記レーザー光源が発生する前記第１レーザービームが３５５ｎｍ波長の紫外光レーザーであることを特徴とする、請求項１に記載のレーザー装置。
【請求項４】
前記パネルの前記導電膜の材質がＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）であることを特徴とする、請求項１に記載のレーザー装置。
【請求項５】
前記パネルの前記基板の材質がガラスであることを特徴とする、請求項１に記載のレーザー装置。
【請求項６】
前記パネルの前記基板の材質がＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）であることを特徴とする、請求項１に記載のレーザー装置。
【請求項７】
前記監視制御ユニットが、
前記第１レーザービームを接受し、電源がオンのときに前記第１レーザービームを通過させるレーザー光ゲートと、
前記レーザー光ゲートを通過した前記第１レーザービームを９０度の角度で偏移した第１反射ビームと、元の進行方向と同じ第１横方向偏移ビームに分光する第１分光器と、
前記第１横方向偏移ビームを接受し、前記第１レーザービームのスペクトルを分析するスペクトロメータと、
前記第１反射ビームを接受し、前記第１反射ビームの光量を制御するレーザーアッテネータと、
前記レーザーアッテネータを通過した前記第１反射ビームを９０度の角度で偏移した第２反射ビームと元の進行方向と同じ第２横方向偏移ビームに分光する第２分光器と、
前記第２反射ビームを接受し、前記第２反射ビームの出力を分析する光パワーメータと、
前記第２横方向偏移ビームを９０度偏移させる第１ビーム進路転換装置と、
前記第１ビーム進路転換装置によって９０度偏移された前記第２横方向偏移ビームを接受し、前記第２横方向偏移ビームのガウシアンエネルギー分布をトップフラット（ｔｏｐ−ｆｌａｔ）エネルギー分布に変換するビーム整形素子と、
前記ビーム整形素子を経由した前記第２横方向偏移ビームを接受し、前記第２横方向偏移ビームの進行方向を較正し、前記第２横方向偏移ビームの直径を調整するビーム視準エキスパンダと、
前記ビーム視準エキスパンダを経由した前記第２横方向偏移ビームを接受して９０度偏移させる第２ビーム進路転換装置と、
前記第２ビーム進路転換装置を通過した前記第２横方向偏移ビームを９０度の角度で偏移した前記第２レーザービーム及び元の進行方向と同じ第３横方向偏移ビームに分光する第３分光器と、
前記第３横方向偏移ビームを９０度偏移させる第３ビーム進路転換装置と、
前記第３ビーム進路転換装置によって９０度偏移した前記第３横方向偏移ビームを接受し、前記第３横方向偏移ビームを分析して、光パラメータがあらかじめ定めた範囲を超過したとき警告を発するビームプロファイラを含むことを特徴とする、請求項１に記載のレーザー装置。
【請求項８】
前記ビーム移動ユニットがガルバノスキャナの運動方式で前記第３レーザービームに前記Ｘ軸方向に沿って前記導電膜をエッチングさせ、前記ビーム移動ユニットが、
前記第２レーザービームを接受し、前記第３レーザービームの出力位置の観測と位置決め補助に用いられるアライメントモジュールと、
前記アライメントモジュールに連接され、前記第２レーザービームを偏移させ、前記第３レーザービームを出力し、前記第３レーザービームに前記Ｘ軸方向に沿って前記導電膜をエッチングさせるガルバノスキャナと、
前記ガルバノスキャナに連接され、前記第３レーザービーム及び前記パネルを歪みなくとらえるテレセントリックレンズを含むことを特徴とする、請求項１に記載のレーザー装置。
【請求項９】
前記ガルバノスキャナが前記第２レーザービームを偏移させる速度が１０００ｍｍ/ｓｅｃより速いことを特徴とする、請求項８に記載のレーザー装置。
【請求項１０】
さらにホストとディスプレイを含み、前記アライメントモジュールに連接され、アライメントモジュールが測定した画像の判別と表示に用いられることを特徴とする、請求項８に記載のレーザー装置。
【請求項１１】
前記ビーム移動ユニットがボイスコイルモータで前記第３レーザービームにＸ軸方向に沿って前記導電膜をエッチングさせ、前記ビーム移動ユニットが、
前記第２レーザービームを接受し、前記第２レーザービームをフォーカスして前記Ｚ軸方向に沿って前記第３レーザービームを出力するフォーカスシステムと、
前記フォーカスシステム上に連接され、前記フォーカスシステム及び前記第３レーザービームをガイドしてＸ軸方向に沿って運動させるボイスコイルモータを含むことを特徴とする、請求項１に記載のレーザー装置。
【請求項１２】
前記ボイスコイルモータが前記フォーカスシステム及び前記第３レーザービームをガイドして移動させる速度が１０００ｍｍ/ｓｅｃより速いことを特徴とする、請求項１１に記載のレーザー装置。
【請求項１３】
前記フォーカスシステムが、
前記監視制御ユニット中の前記第３分光器が出力する前記第２レーザービームを接受し、前記第２レーザービームを９０度の角度で偏移させ、前記Ｚ軸方向に沿って前記第２レーザービームを出力する第４分光器と、
一端が前記第４分光器に連接され、前記第４分光器によって９０度の角度で偏移された前記第２レーザービームを通過させる伸縮ビーム管と、
前記伸縮ビーム管の他端に連接され、前記伸縮ビーム管を通過した前記第２レーザービームを接受し、前記第２レーザービームの較正に用いる較正モジュールと、
前記較正モジュールに連接され、前記較正モジュールを経た前記第２レーザービームを接受してフォーカスし、前記第３レーザービームを出力するレーザーヘッドと、
前記第４分光器の前記伸縮ビーム管と相対する側に連接され、前記第３レーザービームの出力位置の観測と位置決め補助に用いるアライメントモジュールを含むことを特徴とする、請求項１１に記載のレーザー装置。
【請求項１４】
前記較正モジュールが、
前記伸縮ビーム管に連接され、前記第３レーザービームのＺ軸方向においてフォーカスする位置の微調整に用いるリニア調整可能座体と、
前記リニア調整可能座体に連接され、前記第２レーザービームを円偏光するために用いるビーム品質増強装置を含むことを特徴とする、請求項１３に記載のレーザー装置。
【請求項１５】
前記レーザーヘッドが、
前記第２レーザービームのフォーカスに用いるフォーカスレンズセットと、
前記フォーカスレンズセットに連接され、前記フォーカスレンズセットを保護し、前記第３レーザービームを出力するノズルを含むことを特徴とする、請求項１３に記載のレーザー装置。
【請求項１６】
前記アライメントモジュールが、
前記第４分光器に連接され、前記伸縮ビーム管に相対し、前記第３レーザービームの出力位置の精密位置決めを補助する第１パラクソニックカメラ（ｐａｒａｘｏｎｉｃ  ｃａｍｅｒａ）と、
前記第１パラクソニックカメラに連接され、３５５ｎｍ波長の光を通過させるフィルタと、
前記フィルタに連接され、前記第３レーザービームの出力位置の精密位置決めを補助する第２パラクソニックカメラ（ｐａｒａｘｏｎｉｃ  ｃａｍｅｒａ）と、
前記第２パラクソニックカメラに連接され、カメラの前記第３レーザービームの感光位置に対する誤差を修正する色差校正レンズセットと、
前記色差校正レンズセットに連接され、前記第３レーザービームをとらえる共軸カメラ（ｃｏａｘｉａｌ  ｃａｍｅｒａ）を含むことを特徴とする、請求項１３に記載のレーザー装置。
【請求項１７】
前記アライメントモジュールの前記第１パラクソニックカメラと前記第２パラクソニックカメラと相互に連接され、前記第１パラクソニックカメラと前記第２パラクソニックカメラがキャプチャする映像を判別するホストを含むことを特徴とする、請求項１６に記載のレーザー装置。
【請求項１８】
前記アライメントモジュールの前記共軸カメラと連接され、前記共軸カメラがキャプチャする画面を表示するディスプレイを含むことを特徴とする、請求項１６に記載のレーザー装置。
【請求項１９】
前記Ｙ軸移動ステージの移動速度が１０００ｍｍ/ｓｅｃより速いことを特徴とする、請求項１に記載のレーザー装置。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案はレーザー装置に関し、特にパネル導電薄膜のメカトロニクス制御曲線プロセスに用いるレーザー装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
オプトエレクトロニクス産業の発展で、液晶モニタとタッチパネルは、例えば現金自動預け払い機、液晶テレビ、ＰＤＡ、携帯電話など、すでに広く生活の中で使用されている。そのうち透明導電薄膜は重要な部材であり、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）が現在主に透明導電薄膜の材料として使用されており、透光性と導電性を備えているため、ＩＴＯを透明ガラスまたは硬質プラスチック上にめっきすると、非導電性のガラスまたは硬質プラスチックに導電性を持たせることができる。インジウムは材料が不足しており価格が高いため、現在例えば酸化亜鉛アルミニウム（ＡＺＯ）やガリウム添加酸化亜鉛（ＧＺＯ）などの代替材料に向かって発展しているが、その透光性及び抵抗値は共にＩＴＯほど優れていないため、現在の産業においてはやはりＩＴＯを透明導電材料としている。
【０００３】
図１に従来の抵抗膜方式タッチパネルの概略図を示す。上層のＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）薄膜ａ１２と下層のガラスａ１４共にＩＴＯａ１６がめっきされ、それぞれＸ軸とＹ軸の導線が刻線されて、非導電性材質の両者に導電性を持たせており、上下二層間が均一に分布したドットスペーサａ１８で隔てられ、ペンまたは指でタッチパネルａ１０に触れると、上下二層のＸ軸ＩＴＯ ａ１６とＹ軸ＩＴＯ ａ１６が接触してショートし、電圧の変化が形成され、タッチ位置が分かるしくみである。
【０００４】
液晶モニタは上下のＩＴＯ導電ガラスを利用して液晶ボックスを構成し、ＩＴＯ導電ガラスのＩＴＯに設計を経たパターンの電極をエッチングし、電極に対して電圧を印加して、液晶ボックス内の液晶の配列方式を変化させ、液晶の光に対する反射に変化を生じ、対応する図案を形成させる。
【０００５】
上述から分かるように、タッチパネル及び液晶モニタは共にＩＴＯを必要なパターンまたは回路にエッチングする必要があり、ＩＴＯエッチングプロセスは従来フォトリソグラフィーウェットエッチングプロセスを採用しているが、設備が高価で工程が多く、発生する化学廃棄物を処理する必要があるため、レーザーでエッチングするドライエッチング方式でＩＴＯのエッチングが行われるようになっている。よく用いられる方法は３種類あり、１つは複数またはアレイ式のガルバノスキャナモジュールを用い、各々のレーザー光源に組み合わせ、同時にＩＴＯ薄膜に対してレーザー描画を行い、ＩＴＯの一部を除去して必要な曲線回路を得る方法である。この方法は迅速ながらコストが高く、且つガルバノメータは大面積のスキャン時に曲線の接続が不正確になり、曲線が重なるという問題がある。２つ目は単一のレーザー光源及びガルバノスキャナモジュールを用いてマトリクススキャンで描画を行う方法であるが、これは速度が遅く、量産のニーズを満たすことができない。３つ目はＸＹステージにフォーカスヘッドモジュールを組み合わせて曲線の描画を行う方法であり、接続の誤差はないが、描画する曲線の変化が微細であるため、ステージ構造上での動作制御に速度が不安定、または遅いという問題がある。
【考案の概要】
【考案が解決しようとする課題】
【０００６】
これに鑑みて、本考案の主な目的は、導電膜を備えたパネルの加工に用い、レーザービームの移動をメカトロニクス制御してパネルの導電膜にフォーカスさせ、曲線回路の描画を完成し、パネルをより高速で加工でき、且つその描画した曲線に接続誤差がない、パネル導電薄膜のメカトロニクス制御曲線プロセスに用いるレーザー装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本考案のレーザー装置は、レーザーモジュール、Ｙ軸移動ステージ、Ｘ軸移動ステージ、リニアモータを含む。
【０００８】
レーザーモジュールはレーザー光源、監視制御ユニット、ビーム移動ユニットを含む。レーザー光源は第１レーザービームの発生に用いられ、監視制御ユニットは第１レーザービームを接受して較正した後、第２レーザービームを出力し、ビーム移動ユニットは第２レーザービームを接受した後第３レーザービームを出力し、導電膜表面に平行なＸ軸方向に沿って第３レーザービームで導電膜をエッチングする。Ｙ軸移動ステージはレーザーモジュールが搭載され、Ｙ軸方向に沿ってレーザーモジュールを移動させ、Ｘ軸方向に沿って第３レーザービームに導電膜をエッチングさせると同時に、Ｙ軸方向に向かって移動させて曲線を形成させる。Ｘ軸移動ステージはパネルが搭載され、曲線のエッチング完了後にＸ軸方向に沿ってパネルを移動させ、残りの曲線プロセスを完了するために用いられる。リニアモータはレーザーモジュールとＹ軸移動ステージの間に連接され、Ｘ軸方向とＹ軸方向と直角に交わるＺ軸方向に沿ってレーザーモジュールを移動させ、第３レーザービームを導電膜上に正確にフォーカスさせるために用いられる。
【０００９】
本考案の最良の実施例とその効果について、図面を組み合わせて以下で説明する。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】従来のタッチパネルの概略図である。
【図２】本考案の立体外観図である。
【図３】本考案のレーザーモジュールのブロック図である。
【図４】パネルに対する曲線描画を示す概略図である。
【図５】本考案の実施例１のブロック図である。
【図６】本考案の実施例２のブロック図である。
【考案を実施するための形態】
【００１１】
以下、具体的な実施例を挙げて本考案の内容を詳細に説明し、図面を説明の補助とする。説明の中で言及する符号は図面の符号を参照する。
【００１２】
図２と図３に本考案の概略図を示す。本考案のレーザー装置は、レーザーモジュール２０、Ｙ軸移動ステージ３０、Ｘ軸移動ステージ３２、リニアモータ４０を含み、基板５２と導電膜５４を含むパネル５０の加工に用いられる。本実施例において、基板５２はガラスまたはＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）等の透明材質とすることができ、導電膜５４の材質はＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）とすることができる。
【００１３】
レーザーモジュール２０はレーザー光源２２、監視制御ユニット２４、ビーム移動ユニット２６を含む。レーザー光源２２は第１レーザービーム６０の発生に用いられ、監視制御ユニット２４は第１レーザービーム６０を接受して較正した後、第２レーザービーム６１を出力し、ビーム移動ユニット２６は第２レーザービーム６１を接受した後第３レーザービーム６２を出力し、導電膜５４表面に平行なＸ軸方向に沿って第３レーザービーム６２に導電膜５４をエッチングさせる。Ｙ軸移動ステージ３０にはレーザーモジュール２０とリニアモータ４０が搭載され、Ｘ軸方向と直角に交わるＹ軸方向に沿ってレーザーモジュール２０を移動させ、Ｘ軸方向に沿って第３レーザービーム６２に導電膜５４をエッチングさせると同時にＹ軸方向に向かって移動させて導電膜５４をエッチングさせ、曲線パターン５６（図４参照、図中の曲線パターン５６の様式は例を挙げたのみであり、これに限定されない）を形成する。リニアモータ４０はレーザーモジュール２０とＹ軸移動ステージ３０の間に連接され、Ｘ軸方向とＹ軸方向と直角に交わるＺ軸方向に沿ってレーザーモジュール２０を移動させ、第３レーザービーム６２のスポット位置を調整し、正確に導電膜５４をエッチングさせるために用いられる。
【００１４】
監視制御ユニット２４は外囲が遮蔽カバー２８で覆われ、レーザーまたはその他放射線が外部に漏れて人体に害を与えないよう防止する。レーザー光源２２が発生する第１レーザービーム６０は実質上３５５ｎｍ波長の紫外光レーザーとする。
【００１５】
監視制御ユニット２４はレーザー光ゲート２４１、第１分光器２４２、スペクトロメータ２４３、レーザーアッテネータ２４４、第２分光器２４５、光パワーメータ２４６、第１ビーム進路転換装置２４７、ビーム整形素子２４８、ビーム視準エキスパンダ２４９、第２ビーム進路転換装置２５０、第３分光器２５１、第３ビーム進路転換装置２５２、ビームプロファイラ２５３を含む。レーザー光ゲート２４１は第１レーザービーム６０を接受し、電源がオンのとき第１レーザービーム６０にレーザー光ゲート２４１を通過させて第１分光器２４２に到達させ、第１分光器２４２が第１レーザービーム６０を９０度の角度で偏移した第１反射ビーム６３と元の進行方向と同じ第１横方向偏移ビーム６４に分光する。スペクトロメータ２４３は第１横方向偏移ビーム６４を接受してそのスペクトルを分析し、レーザーアッテネータ２４４は第１反射ビーム６３を接受してその光量を制御した後、第２分光器２４５に出力し、第２分光器２４５は第１反射ビーム６３を９０度の角度で偏移した第２反射ビーム６５と元の進行方向と同じ第２横方向偏移ビーム６６に分光する。光パワーメータ２４６は第２反射ビーム６５を接受してその出力を分析し、第１ビーム進路転換装置２４７は第２横方向偏移ビーム６６を接受してそれをビーム整形素子２４８へと９０度偏移させ、ビーム整形素子２４８は第２横方向偏移ビーム６６を接受して、第２横方向偏移ビーム６６のガウシアンエネルギー分布をトップフラット（ｔｏｐ−ｆｌａｔ）エネルギー分布に変換した後出力するために用いられる。ビーム視準エキスパンダ２４９はビーム整形素子２４８を経由した第２横方向偏移ビーム６６を接受し、その進行方向と直径を視準した後第２ビーム進路転換装置２５０へと出力し、第２ビーム進路転換装置２５０は第２横方向偏移ビーム６６を第３分光器２５１へと９０度偏移させ、第３分光器２５１は第２横方向偏移ビーム６６を９０度の角度で偏移した第２レーザービーム６１と元の進行方向と同じ第３横方向偏移ビーム６７に分光する。第３ビーム進路転換装置２５２は第３横方向偏移ビーム６７を接受してそれをビームプロファイラ２５３へと９０度偏移させ、ビームプロファイラ２５３は第３横方向偏移ビーム６７のビームプロファイルを分析するために用いられ、かつ即時の光パラメータの上限と下限の範囲を品質管理に提供し、光パラメータが範囲を超過すると警告を発し、出力光の品質を管理すると共に、レーザー加工で設定したパラメータに対し記録と修正警告情報を提供することができる。
【実施例１】
【００１６】
図５に本考案の実施例１を示す。本実施例のレーザー装置は図２及び図３に示す装置において、そのうち本実施例のビーム移動ユニット２６がアライメントモジュール２６１、ガルバノスキャナ２６２、テレセントリックレンズ２６３を含む。アライメントモジュール２６１は監視制御ユニット２４が出力する第２レーザービーム６１を接受し、第３レーザービーム６２の出力位置の観測と位置決め補助に用いられ、ガルバノスキャナ２６２はアライメントモジュール２６１に連接され、第２レーザービーム６１を偏移させて第３レーザービーム６２を出力するために用いられ、テレセントリックレンズ２６３はガルバノスキャナ２６２に連接され、第３レーザービーム６２とパネル５０を歪みなくとらえるために用いられる。
【００１７】
ここで、本実施例のレーザー装置はさらにホスト７０とディスプレイ７２を含む。ホスト７０及びディスプレイ７２はアライメントモジュール２６１に連接され、アライメントモジュール２６１がキャプチャした画面の判別と表示に用いられる。
【００１８】
ガルバノスキャナ２６２は第２レーザービーム６１を偏移させ、第３レーザービーム６２をＸ軸方向に沿ってパネル５０の導電膜５４にフォーカスさせ、Ｙ軸移動ステージ３０がレーザーモジュール２０をガイドしてＹ軸方向に運動させるのに合わせて、第３レーザービーム６２がフォーカスするスポットを必要な曲線軌跡に沿って運動させ、導電膜５４をエッチングさせて曲線パターン５６を得る（図４参照、図中の曲線パターン５６の様式は例を挙げたのみであり、これに限定されない）。Ｘ軸移動ステージ３２がＸ軸方向に沿ってレーザーモジュール２０を空白ブロックまで移動させ、上述のステップを繰り返して残りの曲線パターンを完成することができる。
【実施例２】
【００１９】
図６に本考案の実施例２を示す。本実施例のレーザー装置は図２及び図３に示す装置において、そのうち本実施例のビーム移動ユニット２６がフォーカスシステム２７１とボイスコイルモータ２７２を含む。フォーカスシステム２７１は監視制御ユニット２４が出力する第２レーザービーム６１をフォーカスさせて第３レーザービーム６２を出力するために用いられ、ボイスコイルモータ２７２はフォーカスシステム２７１に連接され、フォーカスシステム２７１及び第３レーザービーム６２をガイドしてＸ軸方向に沿って運動させるために用いられる。
【００２０】
フォーカスシステム２７１は第４分光器２７３、伸縮ビーム管２７４、較正モジュール２７５、レーザーヘッド２７６、アライメントモジュール２７７を含む。第４分光器２７３は監視制御ユニット２４が出力する第２レーザービーム６１を接受し、第２レーザービーム６１を９０度の角度で偏移させ、Ｚ軸方向に沿って第２レーザービーム６１を伸縮ビーム管２７４に出力させるために用いられる。伸縮ビーム管２７４は一端が第４分光器２７３に連接され、第４分光器２７３が９０度の角度で偏移させた第２レーザービーム６１を通過させ、較正モジュール２７５は伸縮ビーム管２７４の他端に連接され、伸縮ビーム管２７４を通過した第２レーザービーム６１を接受し、第２レーザービーム６１を較正するために用いられる。レーザーヘッド２７６は較正モジュール２７５に連接され、較正モジュール２７５を経由した第２レーザービーム６１を接受してフォーカスさせ、第３レーザービーム６２を出力するために用いられる。アライメントモジュール２７７は第４分光器２７３の伸縮ビーム管２７４と相対する側に連接され、第３レーザービーム６２の出力位置の観測と位置決め補助に用いられる。
【００２１】
較正モジュール２７５はリニア調整可能座体２７５１とビーム品質増強装置２７５２を含み、リニア調整可能座体２７５１は伸縮ビーム管２７４に連接され、第３レーザービーム６２がＺ軸方向においてフォーカスする位置を微調整するために用いられる。ビーム品質増強装置２７５２はリニア調整可能座体２７５１に連接され、第２レーザービーム６１を円偏光し、出力する第３レーザービーム６２のフォーカスのスポットを均一にさせるために用いられる。
【００２２】
レーザーヘッド２７６はフォーカスレンズセット２７６１とノズル２７６２を含み、フォーカスレンズセット２７６１は第２レーザービーム６１のフォーカスに用いられ、ノズル２７６２はフォーカスレンズセット２７６１に連接され、フォーカスレンズセット２７６１を保護し、第３レーザービーム６２を出力するために用いられる。
【００２３】
アライメントモジュール２７７は第１パラクソニックカメラ（ｐａｒａｘｏｎｉｃ  ｃａｍｅｒａ）２７７１、フィルタ２７７２、第２パラクソニックカメラ（ｐａｒａｘｏｎｉｃ  ｃａｍｅｒａ）２７７３、色差校正レンズセット２７７４、共軸カメラ（ｃｏａｘｉａｌ  ｃａｍｅｒａ）２７７５を含む。第１パラクソニックカメラ２７７１は第４分光器２７３に連接され、伸縮ビーム管２７４と相対し、第３レーザービーム６２の出力位置の精密位置決め補助に用いられる。フィルタ２７７２は第１パラクソニックカメラ２７７１に連接され、３５５ｎｍ波長の光をフィルタ２７７２に通過させるために用いられる。第２パラクソニックカメラ２７７３はフィルタ２７７２に連接され、第３レーザービーム６２の出力位置の精密位置決め補助に用いられる。色差校正レンズセット２７７４は第２パラクソニックカメラ２７７３に連接され、カメラの第３レーザービーム６２の感光位置に対する誤差の修正に用いられる。共軸カメラ２７７５は色差校正レンズセット２７７４に連接され、第３レーザービーム６２をとらえるために用いられる。
【００２４】
本実施例のレーザー装置はさらにホスト７０とディスプレイ７２を含む。ホスト７０はアライメントモジュール２７７の第１パラクソニックカメラ２７７１と第２パラクソニックカメラ２７７３と連接され、第１パラクソニックカメラ２７７１と第２パラクソニックカメラ２７７３がキャプチャする映像の判別に用いられる。ディスプレイ７２はアライメントモジュール２７７の共軸カメラ２７７５と連接され、共軸カメラ２７７５がキャプチャする画面の表示に用いられる。
【００２５】
ボイスコイルモータ２７２はフォーカスシステム２７１及び第３レーザービーム６２をガイドしてＸ軸方向に運動させ、Ｙ軸移動ステージ３０がレーザーモジュール２０をガイドしてＹ軸方向に運動させるのに合わせて、出力する第３レーザービーム６２がフォーカスするスポットを必要な曲線軌跡に沿って運動させ、加工するパネル５０の導電膜５４をエッチングし、曲線パターン５６を得る（図４参照、図中の曲線パターン５６の様式は例を挙げたのみであり、これに限定されない）。さらにＸ軸移動ステージ３２がＸ軸方向に沿ってレーザーモジュール２０を空白ブロックまで移動させ、上述のステップを繰り返して残りの曲線パターンを完成することができる。
【００２６】
本考案の実施例１及び実施例２はそれぞれガルバノスキャナ２６２及びボイスコイルモータ２７２で第３レーザービーム６２のスポットをＸ軸方向に沿って高速で移動させており、その速度は１０００ｍｍ/ｓｅｃより速いものとすることができ、Ｙ軸移動ステージ３０を組み合わせてＹ軸方向に沿って第３レーザービーム６２をリニア運動させ、Ｙ軸移動ステージ３０の運動速度は１０００ｍｍ/ｓｅｃに達することができ、従来のフォトリソグラフィーウェットエッチングプロセスを確実に代替すると同時に現在のレーザードライプロセスのボトルネックを克服し、ＩＴＯ膜またはＩＴＯパネルの曲線回路パターンの製作に用いることができ、この産業プロセスに適用することができる。
【００２７】
本考案の技術内容はすでに最良の実施例を挙げて上述のように開示したが、上述は本考案を限定するものではなく、当業者による本考案の要旨を逸脱しないいくらかの変更や修飾はすべて本考案の範疇内に含まれるため、本考案の保護範囲は後付の実用新案登録請求の範囲に準じる。
【符号の説明】
【００２８】
ａ１０    タッチパネル
ａ１２    ＰＥＴ薄膜
ａ１４    ガラス
ａ１６    ＩＴＯ
ａ１８    間隙子
２０      レーザーモジュール
２２      レーザー光源
２４      監視制御ユニット
２４１    レーザー光ゲート
２４２    第１分光器
２４３    スペクトロメータ
２４４    レーザーアッテネータ
２４５    第２分光器
２４６    光パワーメータ
２４７    第１ビーム進路転換装置
２４８    ビーム整形素子
２４９    ビーム視準エキスパンダ
２５０    第２ビーム進路転換装置
２５１    第３分光器
２５２    第３ビーム進路転換装置
２５３    ビームプロファイラ
２６      ビーム移動ユニット
２６１    アライメントモジュール
２６２    ガルバノスキャナ
２６３    テレセントリックレンズ
２７１    フォーカスシステム
２７２    ボイスコイルモータ
２７３    第４分光器
２７４    伸縮ビーム管
２７５    較正モジュール
２７５１  リニア調整可能座体
２７５２  ビーム品質増強装置
２７６    レーザーヘッド
２７６１  フォーカスレンズセット
２７６２  ノズル
２７７    アライメントモジュール
２７７１  第１パラクソニックカメラ
２７７２  フィルタ
２７７３  第２パラクソニックカメラ
２７７４  色差校正レンズセット
２７７５  共軸カメラ
２８      遮蔽カバー
３０      Ｙ軸移動ステージ
３２      Ｘ軸移動ステージ
４０      リニアモータ
５０      パネル
５２      基板
５４      導電膜
５６      曲線パターン
６０      第１レーザービーム
６１      第２レーザービーム
６２      第３レーザービーム
６３      第１反射ビーム
６４      第１横方向偏移ビーム
６５      第２反射ビーム
６６      第２横方向偏移ビーム
６７      第３横方向偏移ビーム
７０      ホスト
７２      ディスプレイ
Ｘ        Ｘ軸方向
Ｙ        Ｙ軸方向
Ｚ        Ｚ軸方向
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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