Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成26年8月4日(2014.8.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
植物成長阻害因子による成長阻害を軽減するための植物栽培用資材であって、α−シクロデキストリンを担持した担体を含む植物栽培用資材。
【請求項２】
前記担体が木質繊維を主要構成要素とする木質基体である請求項１に記載の植物栽培用資材。
【請求項３】
木質繊維を主要構成要素とする前記木質基体が、木質繊維板または木質繊維からなるシートであり、該木質基体１ｇに対し前記α−シクロデキストリンを０．０２〜１ｇ担持したものである請求項２に記載の植物栽培用資材。
【請求項４】
前記植物成長阻害因子が界面活性剤である請求項１〜３のいずれか１項に記載の植物栽培用資材。
【請求項５】
前記植物成長阻害因子が木質材料中の可溶性成分である請求項１〜４のいずれか１項に記載の植物栽培用資材。
【請求項６】
植物成長阻害因子とα−シクロデキストリンとを接触させることにより、前記植物成長阻害因子による植物成長阻害作用を軽減する方法。
【請求項７】
前記α−シクロデキストリンが担体に担持されたものである請求項６に記載の植物成長阻害因子による植物成長阻害作用を軽減する方法。
【請求項８】
前記担体が木質繊維を主要構成要素とする木質基体である請求項７に記載の植物成長阻害因子による植物成長阻害作用を軽減する方法。
【請求項９】
木質繊維を主要構成要素とする前記木質基体が、木質繊維板または木質繊維からなるシートである請求項８に記載の植物成長阻害因子による植物成長阻害作用を軽減する方法。
【請求項１０】
前記植物成長阻害因子を含む栽培用土１００質量部あたり、前記α−シクロデキストリンを０．１〜２質量部用いる請求項６〜９のいずれか１項に記載の植物成長阻害因子による植物成長阻害作用を軽減する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年8月11日(2014.8.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
着色剤と、バインダー成分と、溶剤とを含有し、前記着色剤が、下記一般式（Ｉ）で表される色材と青色色材とを含む、カラーフィルタ用着色樹脂組成物。
【化１】
2014153570.tif 000001
（一般式（Ｉ）中、Ｒ１及びＲ２は各々独立に置換基を有していても良いアルキル基又はアリール基であり、Ｒ３及びＲ４は各々独立に置換基を有していても良いアリール基又はヘテロアリール基である。前記アルキル基が有していても良い置換基は、ハロゲン原子、アリール基、−ＣＯ−Ｏ−Ｒａで示される一価の基、−Ｏ−ＣＯ−Ｒａ’で示される一価の基、−ＳＯ２−Ｒａ”で示される一価の基、−Ｒｂ−ＣＯ−Ｏ−Ｒｃで示される一価の基、−Ｒｂ’−Ｏ−ＣＯ−Ｒｃ’で示される一価の基、又は、−Ｒｂ”−ＳＯ２−Ｒｃ”で示される一価の基であり、前記アリール基又はヘテロアリール基が有していても良い置換基は、アルキル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、−ＣＯ−Ｏ−Ｒａで示される一価の基、−Ｏ−ＣＯ−Ｒａ’で示される一価の基、−ＳＯ２−Ｒａ”で示される一価の基、−Ｒｂ−ＣＯ−Ｏ−Ｒｃで示される一価の基、−Ｒｂ’−Ｏ−ＣＯ−Ｒｃ’で示される一価の基、又は、−Ｒｂ”−ＳＯ２−Ｒｃ”で示される一価の基である。前記Ｒａ、Ｒａ’、Ｒａ”、Ｒｂ、Ｒｂ’、Ｒｂ”、Ｒｃ、Ｒｃ’及びＲｃ”は、アルキル基を示す。）
【請求項２】
前記一般式（Ｉ）で表される色材が、アミン価を有する分散剤により、溶剤に分散されてなる、請求項１に記載のカラーフィルタ用着色樹脂組成物。
【請求項３】
前記一般式（Ｉ）で表される色材において、Ｒ３及びＲ４が互いに異なる、請求項１又は２に記載のカラーフィルタ用着色樹脂組成物。
【請求項４】
前記青色色材が、トリアリールメタン系色材を含む、請求項１乃至３のいずれか一項に記載のカラーフィルタ用着色樹脂組成物。
【請求項５】
前記青色色材が、銅フタロシアニン顔料を含む、請求項１乃至４のいずれか一項に記載のカラーフィルタ用着色樹脂組成物。
【請求項６】
前記溶剤が、エステル系溶剤である、請求項１乃至５のいずれか一項に記載のカラーフィルタ用着色樹脂組成物。
【請求項７】
下記一般式（Ｉ）で表される色材が、アミン価を有する分散剤により、溶剤に分散されてなる、カラーフィルタ用色材分散液。
【化２】
2014153570.tif 000002
（一般式（Ｉ）中、Ｒ１及びＲ２は各々独立に置換基を有していても良いアルキル基又はアリール基であり、Ｒ３及びＲ４は各々独立に置換基を有していても良いアリール基又はヘテロアリール基である。前記アルキル基が有していても良い置換基は、ハロゲン原子、アリール基、−ＣＯ−Ｏ−Ｒａで示される一価の基、−Ｏ−ＣＯ−Ｒａ’で示される一価の基、−ＳＯ２−Ｒａ”で示される一価の基、−Ｒｂ−ＣＯ−Ｏ−Ｒｃで示される一価の基、−Ｒｂ’−Ｏ−ＣＯ−Ｒｃ’で示される一価の基、又は、−Ｒｂ”−ＳＯ２−Ｒｃ”で示される一価の基であり、前記アリール基又はヘテロアリール基が有していても良い置換基は、アルキル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、−ＣＯ−Ｏ−Ｒａで示される一価の基、−Ｏ−ＣＯ−Ｒａ’で示される一価の基、−ＳＯ２−Ｒａ”で示される一価の基、−Ｒｂ−ＣＯ−Ｏ−Ｒｃで示される一価の基、−Ｒｂ’−Ｏ−ＣＯ−Ｒｃ’で示される一価の基、又は、−Ｒｂ”−ＳＯ２−Ｒｃ”で示される一価の基である。前記Ｒａ、Ｒａ’、Ｒａ”、Ｒｂ、Ｒｂ’、Ｒｂ”、Ｒｃ、Ｒｃ’及びＲｃ”は、アルキル基を示す。）
【請求項８】
前記溶剤が、エステル系溶剤である、請求項７に記載のカラーフィルタ用色材分散液。
【請求項９】
透明基板と、当該透明基板上に設けられた着色層とを少なくとも備えるカラーフィルタであって、前記着色層の少なくとも１つが、請求項１乃至６のいずれか一項に記載のカラーフィルタ用着色樹脂組成物を硬化させて形成されてなる着色層である、カラーフィルタ。
【請求項１０】
請求項９に記載のカラーフィルタと、対向基板と、前記カラーフィルタと前記対向基板との間に形成された液晶層とを有する、液晶表示装置。
【請求項１１】
請求項９に記載のカラーフィルタと、有機発光体とを有する、有機発光表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【化１】
2014153570.tif 000003
（一般式（Ｉ）中、Ｒ１及びＲ２は各々独立に置換基を有していても良いアルキル基又はアリール基であり、Ｒ３及びＲ４は各々独立に置換基を有していても良いアリール基又はヘテロアリール基である。前記アルキル基が有していても良い置換基は、ハロゲン原子、アリール基、−ＣＯ−Ｏ−Ｒａで示される一価の基、−Ｏ−ＣＯ−Ｒａ’で示される一価の基、−ＳＯ２−Ｒａ”で示される一価の基、−Ｒｂ−ＣＯ−Ｏ−Ｒｃで示される一価の基、−Ｒｂ’−Ｏ−ＣＯ−Ｒｃ’で示される一価の基、又は、−Ｒｂ”−ＳＯ２−Ｒｃ”で示される一価の基であり、前記アリール基又はヘテロアリール基が有していても良い置換基は、アルキル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、−ＣＯ−Ｏ−Ｒａで示される一価の基、−Ｏ−ＣＯ−Ｒａ’で示される一価の基、−ＳＯ２−Ｒａ”で示される一価の基、−Ｒｂ−ＣＯ−Ｏ−Ｒｃで示される一価の基、−Ｒｂ’−Ｏ−ＣＯ−Ｒｃ’で示される一価の基、又は、−Ｒｂ”−ＳＯ２−Ｒｃ”で示される一価の基である。前記Ｒａ、Ｒａ’、Ｒａ”、Ｒｂ、Ｒｂ’、Ｒｂ”、Ｒｃ、Ｒｃ’及びＲｃ”は、アルキル基を示す。）
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明に係るカラーフィルタ用色材分散液は、下記一般式（Ｉ）で表される色材が、アミン価を有する分散剤により、溶剤に分散されてなることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
【化２】
2014153570.tif 000004
（一般式（Ｉ）中、Ｒ１及びＲ２は各々独立に置換基を有していても良いアルキル基又はアリール基であり、Ｒ３及びＲ４は各々独立に置換基を有していても良いアリール基又はヘテロアリール基である。前記アルキル基が有していても良い置換基は、ハロゲン原子、アリール基、−ＣＯ−Ｏ−Ｒａで示される一価の基、−Ｏ−ＣＯ−Ｒａ’で示される一価の基、−ＳＯ２−Ｒａ”で示される一価の基、−Ｒｂ−ＣＯ−Ｏ−Ｒｃで示される一価の基、−Ｒｂ’−Ｏ−ＣＯ−Ｒｃ’で示される一価の基、又は、−Ｒｂ”−ＳＯ２−Ｒｃ”で示される一価の基であり、前記アリール基又はヘテロアリール基が有していても良い置換基は、アルキル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、−ＣＯ−Ｏ−Ｒａで示される一価の基、−Ｏ−ＣＯ−Ｒａ’で示される一価の基、−ＳＯ２−Ｒａ”で示される一価の基、−Ｒｂ−ＣＯ−Ｏ−Ｒｃで示される一価の基、−Ｒｂ’−Ｏ−ＣＯ−Ｒｃ’で示される一価の基、又は、−Ｒｂ”−ＳＯ２−Ｒｃ”で示される一価の基である。前記Ｒａ、Ｒａ’、Ｒａ”、Ｒｂ、Ｒｂ’、Ｒｂ”、Ｒｃ、Ｒｃ’及びＲｃ”は、アルキル基を示す。）
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月25日(2014.6.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
「排出時記入・廃棄物引渡し手段」により伝票と廃棄物を受取った運転手は「積替え保管」の場合は該伝票記載の積保場に運搬し、廃棄物を引渡し、運転手は該伝票に、「運搬受託者（１）終了情報の氏名」、「運搬受託者（１）終了情報の年月日」を記入し、積保場は該伝票の、２０．「積替え・保管受領情報の氏名」、２１．「積替え・保管受領情報の年月日」を記入、（もし保管中に有価物の拾集が有れば６−２．「有価物拾集の有無」に「１」を、６−３．「実績数量」に数量を、６−４．「単位」にその単位コード（ＪＷＮＥＴ指定コード）を記入する）積保場は該伝票をコピーし、コピーを運転手に渡す。（以降は「積保場における廃棄物引渡し手段」と言う）
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月12日(2014.6.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
あらかじめ設定された基準間隔に対して許容誤差±ｓの範囲内で複数のヘッドモジュールがベースに並列して取り付けられて構成されるインクジェットヘッドにおいて、前記ベースに取り付けられた前記ヘッドモジュールの取付位置を調整するためのインクジェットヘッドのヘッドモジュール取付位置調整方法であって、
調整対象とする前記ヘッドモジュールの隣に配置される前記ヘッドモジュールの取付位置を次回に調整するときに、少なくとも規定の調整マージンｍが確保されるように、調整対象の前記ヘッドモジュールの取付位置を調整するインクジェットヘッドのヘッドモジュール取付位置調整方法。
【請求項２】
調整対象とする前記ヘッドモジュールをＣ、
前記ヘッドモジュールＣの一方側の隣に配置されるヘッドモジュールをＢ、
前記ヘッドモジュールＢの更に隣に配置されるヘッドモジュールをＡ、
前記ヘッドモジュールＣの他方側の隣に配置されるヘッドモジュールをＤ、
前記ヘッドモジュールＤの更に隣に配置されるヘッドモジュールをＥ、
とし、
前記ヘッドモジュールＣの位置調整をした後の前記ヘッドモジュールＣと前記ヘッドモジュールＢとの間の取付誤差をＢＣ、
前記ヘッドモジュールＣの位置調整をした後の前記ヘッドモジュールＣと前記ヘッドモジュールＤとの間の取付誤差をＣＤ、
前記ヘッドモジュールＣの位置調整をした後の前記ヘッドモジュールＡと前記ヘッドモジュールＢとの間の取付誤差をＡＢ、
前記ヘッドモジュールＣの位置調整をした後の前記ヘッドモジュールＤと前記ヘッドモジュールＥとの間の取付誤差をＤＥ、
とし、
前記ヘッドモジュールＢ又はＤの取付位置を次回に調整するときに、前記調整マージンｍが確保されるように、前記取付誤差ＡＢ、前記取付誤差ＢＣ、前記取付誤差ＣＤ、及び、前記取付誤差ＤＥを考慮して、前記ヘッドモジュールＣの取付位置を調整する請求項１に記載のインクジェットヘッドのヘッドモジュール取付位置調整方法。
【請求項３】
２ｓ−|ＡＢ＋ＢＣ|≧ｍ、２ｓ−|ＣＤ＋ＤＥ|≧ｍの条件を満たすように、前記ヘッドモジュールＣの取付位置を調整する請求項２に記載のインクジェットヘッドのヘッドモジュール取付位置調整方法。
【請求項４】
調整対象とする前記ヘッドモジュールの片側に前記ヘッドモジュールが１つしか配置されていない場合、
調整対象とする前記ヘッドモジュールをＣ、
前記ヘッドモジュールＣの一方側の隣に配置されるヘッドモジュールをＢ、
前記ヘッドモジュールＢの更に隣に配置されるヘッドモジュールをＡ、
前記ヘッドモジュールＣの他方側の隣に配置されるヘッドモジュールをＤ、
前記ヘッドモジュールＣの位置調整をした後の前記ヘッドモジュールＣと前記ヘッドモジュールＢとの間の取付誤差をＢＣ、
前記ヘッドモジュールＣの位置調整をした後の前記ヘッドモジュールＣと前記ヘッドモジュールＤとの間の取付誤差をＣＤ、
前記ヘッドモジュールＣの位置調整をした後の前記ヘッドモジュールＡと前記ヘッドモジュールＢとの間の取付誤差をＡＢ、
とし、
前記ヘッドモジュールＢの取付位置を次回に調整するときに、前記調整マージンｍが確保されるように、前記取付誤差ＡＢ、前記取付誤差ＢＣ、及び、前記取付誤差ＣＤを考慮して、前記ヘッドモジュールＣの取付位置を調整する請求項１に記載のインクジェットヘッドのヘッドモジュール取付位置調整方法。
【請求項５】
２ｓ−|ＡＢ＋ＢＣ|≧ｍの条件を満たすように、前記ヘッドモジュールＣの取付位置を調整する請求項４に記載のインクジェットヘッドのヘッドモジュール取付位置調整方法。
【請求項６】
隣り合う前記ヘッドモジュールの間隔を検出するときの基準点が、前記ヘッドモジュールのノズル面に設けられるノズルの位置である請求項１から５のいずれか１項に記載のインクジェットヘッドのヘッドモジュール取付位置調整方法。
【請求項７】
前記インクジェットヘッドで所定の画像を印字し、印字結果から前記間隔を検出する請求項６に記載のインクジェットヘッドのヘッドモジュール取付位置調整方法。
【請求項８】
前記インクジェットヘッドのノズル面を撮像手段で撮像し、得られた画像から前記間隔を検出する請求項６に記載のインクジェットヘッドのヘッドモジュール取付位置調整方法。
【請求項９】
隣り合う前記ヘッドモジュールの間隔を検出したのち、前記ベースに取り付けられた前記ヘッドモジュールの移動量を検出しながら、前記ヘッドモジュールの取付位置を微調整する請求項６から８のいずれか１項に記載のインクジェットヘッドのヘッドモジュール取付位置調整方法。
【請求項１０】
前記ベースに取り付けられた前記ヘッドモジュールの移動量を前記インクジェットヘッドに組み込んだ磁気センサで検出する請求項９に記載のインクジェットヘッドのヘッドモジュール取付位置調整方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月23日(2014.6.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
キャラクタの選択に必要な選択所要値とキャラクタの能力値とがキャラクタ毎に設定され、プレイヤが所有する複数の所有キャラクタから複数の対象キャラクタを選択してイベントに適用するゲームを提供するゲーム装置であって、
前記複数の対象キャラクタの選択所要値の合計値がプレイヤに付与された選択許容値以下となる範囲内で前記複数の対象キャラクタの能力値の合計値が最大となるように前記複数の所有キャラクタから前記複数の対象キャラクタを選択する選択部
を具備するゲーム装置。
【請求項２】
キャラクタの選択に必要な選択所要値とキャラクタの能力値とがキャラクタ毎に設定され、プレイヤが所有する複数の所有キャラクタから複数の対象キャラクタを選択してイベントに適用するゲームを提供するために、コンピュータを、
前記複数の対象キャラクタの選択所要値の合計値がプレイヤに付与された選択許容値以下となる範囲内で前記複数の対象キャラクタの能力値の合計値が最大となるように前記複数の所有キャラクタから前記複数の対象キャラクタを選択する選択部
として機能させるプログラム。
【請求項３】
キャラクタの選択に必要な選択所要値とキャラクタの能力値とがキャラクタ毎に設定され、プレイヤが所有する複数の所有キャラクタから複数の対象キャラクタを選択してイベントに適用するゲームを提供するゲーム装置であって、
前記複数の所有キャラクタのうちの特定キャラクタを対象キャラクタとして指定する指定部と、
前記複数の対象キャラクタの選択所要値の合計値が、プレイヤに付与されて所定の条件を満たすことで増加する選択許容値以下となる範囲内で前記複数の対象キャラクタの能力値の合計値が最大となるように前記複数の所有キャラクタのうち前記特定キャラクタ以外の所有キャラクタを対象キャラクタとして選択する選択部と
を具備するゲーム装置。
【請求項４】
前記キャラクタは、イベントでプレイヤが使用するアイテムを含む
請求項３のゲーム装置。
【請求項５】
キャラクタの選択に必要な選択所要値とキャラクタの能力値とがキャラクタ毎に設定され、プレイヤが所有する複数の所有キャラクタから複数の対象キャラクタを選択してイベントに適用するゲームを提供するために、コンピュータを、
前記複数の所有キャラクタのうちの特定キャラクタを対象キャラクタとして指定する指定部、および、
前記複数の対象キャラクタの選択所要値の合計値が、プレイヤに付与されて所定の条件を満たすことで増加する選択許容値以下となる範囲内で前記複数の対象キャラクタの能力値の合計値が最大となるように前記複数の所有キャラクタのうち前記特定キャラクタ以外の所有キャラクタを対象キャラクタとして選択する選択部
として機能させるプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成26年8月27日(2014.8.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
始動領域を遊技媒体が通過した後に開始条件の成立にもとづいて可変表示を行う可変表示手段に可変表示の表示結果として特定表示結果が導出表示されたときに遊技者にとって有利な特定遊技状態に制御し、所定の移行条件が成立したことにもとづいて通常遊技状態であるときに比べて可変表示の表示結果として前記特定表示結果が導出表示される確率が向上した高確率状態に制御する遊技機であって、
前記特定遊技状態に制御するか否かと前記高確率状態に制御するか否かとを、可変表示の表示結果が導出表示されるよりも前に決定する事前決定手段と、
前記特定遊技状態が終了した後、遊技状態を、遊技媒体が前記始動領域に進入する頻度が低い低頻度状態に比べて前記始動領域に進入する頻度が高い高頻度状態に制御する遊技状態制御手段と、
前記高頻度状態における可変表示の実行回数を複数の回数のいずれかに決定する継続回数決定手段と、
前記高頻度状態、および前記高頻度状態から移行した前記低頻度状態において、遊技状態が前記高確率状態である場合と前記通常遊技状態である場合とで共通の演出を実行する共通演出実行手段とを備え、
前記継続回数決定手段は、遊技状態が前記高確率状態に制御されるときには、前記高確率状態に制御されない場合に比べて、前記実行回数を高い割合で多い回数に決定し、
前記共通演出実行手段は、遊技状態が前記高確率状態であるときには、前記低頻度状態において、前記特定遊技状態に制御されるまで前記共通の演出を実行し、遊技状態が前記通常遊技状態であるときには、前記低頻度状態において、前記継続回数決定手段が前記実行回数を多い回数に決定した場合には少ない回数に決定した場合に比べて長い期間に亘って前記共通の演出を実行し、
前記共通の演出は、複数種類設けられ、
前記共通演出実行手段は、複数種類の前記共通の演出のいずれかを実行する
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、始動領域を遊技媒体が通過した後に開始条件の成立にもとづいて可変表示を行う可変表示手段に可変表示の表示結果として特定表示結果が導出表示されたときに遊技者にとって有利な特定遊技状態に制御し、所定の移行条件が成立したことにもとづいて通常遊技状態であるときに比べて可変表示の表示結果として前記特定表示結果が導出表示される確率が向上した高確率状態に制御するパチンコ遊技機等の遊技機に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
（１）本発明による遊技機は、始動領域（例えば、第１始動入賞口１３や第２始動入賞口１４）を遊技媒体（例えば、遊技球）が通過した後に開始条件の成立（例えば、合算保留記憶数が０でない場合であって、第１特別図柄および第２特別図柄の可変表示が実行されていない状態であり、かつ、大当り遊技が実行されていない状態であること）にもとづいて可変表示を行う可変表示手段（例えば、第１特別図柄表示器８ａ、第２特別図柄表示器８ｂ、演出表示装置９）に可変表示の表示結果として特定表示結果（例えば、大当り図柄）が導出表示されたときに遊技者にとって有利な特定遊技状態（例えば、大当り遊技状態）に制御し、所定の移行条件が成立したことにもとづいて通常遊技状態であるときに比べて可変表示の表示結果として特定表示結果が導出表示される確率が向上した高確率状態（例えば、確変状態）に制御する遊技機であって、特定遊技状態に制御するか否かと高確率状態に制御するか否かとを、可変表示の表示結果が導出表示されるよりも前に決定する事前決定手段（例えば、遊技制御用マイクロコンピュータ５６０において、ステップＳ６１，Ｓ６６，Ｓ６７の処理を実行する部分）と、特定遊技状態が終了した後、遊技状態を、遊技媒体が始動領域に進入する頻度が低い低頻度状態（例えば、時短状態ではない状態）に比べて始動領域に進入する頻度が高い高頻度状態（例えば、時短状態）に制御する遊技状態制御手段（例えば、遊技制御用マイクロコンピュータ５６０において、ステップＳ１７１の処理を実行する部分）と、高頻度状態における可変表示の実行回数を複数の回数のいずれかに決定する継続回数決定手段（例えば、遊技制御用マイクロコンピュータ５６０において、ステップＳ６６，Ｓ６７の処理を実行する部分：大当り種別を決定することによって時短回数を決定する（図１４参照））と、高頻度状態、および高頻度状態から移行した低頻度状態において、遊技状態が高確率状態である場合と通常遊技状態である場合とで共通の演出（例えば、確変潜伏演出およびチャンスモードの演出）を実行する共通演出実行手段（例えば、演出制御用マイクロコンピュータ１００において、ステップＳ８８７，Ｓ８３３９の処理を実行する部分）とを備え、継続回数決定手段は、遊技状態が高確率状態に制御されるときには、高確率状態に制御されない場合に比べて、実行回数を高い割合で多い回数に決定し（図１４参照：確変大当りの方が総体的に時短回数が多い）、共通演出実行手段は、遊技状態が高確率状態であるときには、低頻度状態において、特定遊技状態に制御されるまで共通の演出を実行し（例えば、図５８に示すステップＳ８３３８の処理で、確変大当りの場合には実質的に無限大の値をチャンスモード継続回数カウンタに設定）、遊技状態が通常遊技状態であるときには、低頻度状態において、継続回数決定手段が実行回数を多い回数に決定した場合には少ない回数に決定した場合に比べて長い期間に亘って共通の演出を実行し（図６０参照：時短回数が多い大当りである場合の方が、総体的にチャンスモード継続回数が多くなる）、共通の演出は、複数種類設けられ、共通演出実行手段は、複数種類の共通の演出のいずれかを実行することを特徴とする。
そのように構成されているので、高確率状態であるのか通常遊技状態であるのかを把握しづらくする演出を実行する場合に、実際の遊技状態が通常遊技状態であるときにも遊技者の高確率状態に対する期待感を低下させないようにすることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月2日(2014.6.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の回転電機は、回転子と、横断面が湾曲した形状をそれぞれ有し、前記回転子を囲むように環状に連結された複数のコアバック、及び前記コアバックの回転子側の面から立脚して形成されたティースを備えた固定子鉄心と、横断面が湾曲した形状を有し、前記コアバックの回転子側の面に設けられた絶縁部と、前記絶縁部の回転子側の面と前記絶縁部の両端を結んだ線分とで囲まれる領域を含めて前記ティースに巻線が巻回されて構成されたコイルとを備えたものである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
以上のように、本発明の実施の形態においては、回転電機は、回転子３８と、横断面が湾曲した形状をそれぞれ有し、回転子３８を囲むように環状に連結された複数のコアバック１ｂ、及びコアバック１ｂの回転子３８側の面から立脚して形成されたティース１ａを備えた固定子鉄心１と、横断面が湾曲した形状を有し、コアバック１ｂの回転子３８側の面に設けられた絶縁部３と、絶縁部３の回転子３８側の面と絶縁部３の両端を結んだ線分とで囲まれる領域を含めてティース１ａに巻線が巻回されて構成されたコイルとを備えたことにより、固定子巻線４００の巻崩れと巻膨れを防止することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転子と、
横断面が湾曲した形状をそれぞれ有し、前記回転子を囲むように環状に連結された複数のコアバック、及び前記コアバックの回転子側の面から立脚して形成されたティースを備えた固定子鉄心と、
横断面が湾曲した形状を有し、前記コアバックの回転子側の面に設けられた絶縁部と、前記絶縁部の回転子側の面と前記絶縁部の両端を結んだ線分とで囲まれる領域を含めて前記ティースに巻線が巻回されて構成されたコイルと
を備えたことを特徴とする回転電機。
【請求項２】
前記コイルは、前記絶縁部の両端からはみ出さないように前記ティースに巻回されていることを特徴とする請求項１記載の回転電機。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月10日(2013.12.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基地局装置より割り当てられた非競合ランダムアクセス用の専用のプリアンブルを用いてランダムアクセスの手順を実行する移動局装置であって、
前記割り当てられた専用のプリアンブルが有効な期間内のランダムアクセスチャネルであって、前記割り当て期間内の最初に使用可能な前記ランダムアクセスチャネルにおいて前記専用プリアンブルを用いてランダムアクセスの手順の試行を行い、ランダムアクセス応答が監視される区間であるタイムウィンドウ内に前記専用プリアンブルに対応するランダムアクセス応答を受信しなかった場合、前記タイムウィンドウ後の最初に使用可能な前記ランダムアクセスチャネルにおいて前記専用プリアンブルを用いてランダムアクセスの手順の再試行を行うように制御する上位レイヤ処理部を具備することを特徴とする移動局装置。
【請求項２】
前記上位レイヤ処理部は、前記割り当てられた専用のプリアンブルが有効な期間中、前記専用プリアンブルに対応するランダムアクセス応答が受信されなかった場合は、前記割り当て期間の終了まで前記再試行を繰り返し続けるように制御することを特徴とする請求項１に記載の移動局装置。
【請求項３】
前記基地局装置により個別に使用が許可されたランダムアクセスチャネルを用いて、前記専用プリアンブルを送信することを特徴とする請求項２に記載の移動局装置。
【請求項４】
前記ランダムアクセスチャネルが複数配置されている時間帯に対しては、いずれかひとつのランダムアクセスチャネルの使用が前記基地局装置により許可されることを特徴とする請求項３に記載の移動局装置。
【請求項５】
移動局装置に非競合ランダムアクセス用の専用のプリアンブルを割り当て、前記移動局装置に前記専用のプリアンブルを用いたランダムアクセスの手順を実行させる基地局装置であって、
前記割り当てられた専用のプリアンブルが有効な期間内のランダムアクセスチャネルであって、前記割り当て期間内の最初に使用可能な前記ランダムアクセスチャネルと、ランダムアクセス応答が監視される区間であるタイムウィンドウ後の最初に使用可能な前記ランダムアクセスチャネルと、において前記専用プリアンブルを検出する処理を行うプリアンブル検出部を具備することを特徴とする基地局装置。
【請求項６】
前記移動局装置に使用を許可するランダムアクセスチャネルを個別に通知することを特徴とする請求項５に記載の基地局装置。
【請求項７】
前記ランダムアクセスチャネルが複数配置されている時間帯に対しては、前記移動局装置に使用を許可するいずれかひとつのランダムアクセスチャネルを通知することを特徴とする請求項６に記載の基地局装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年3月19日(2014.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
端末装置と通信する基地局装置であって、
第１のＰＤＣＣＨと異なる第２のＰＤＣＣＨに関連付けられる参照信号を、前記端末装置に送信する送信部を備え、
前記参照信号の生成に用いられる疑似ランダム系列の初期値は、ＲＲＣシグナリングによって設定されるパラメータと、予め規定されているスクランブルＩＤとを少なくとも用いて生成されることを特徴とする基地局装置。
【請求項２】
前記スクランブルＩＤの値が、２であることを特徴とする請求項１に記載の基地局装置。
【請求項３】
前記第２のＰＤＣＣＨにおけるＯＦＤＭシンボルのスタート位置は、ＲＲＣシグナリングによって通知されることを特徴とする請求項１に記載の基地局装置。
【請求項４】
前記第２のＰＤＣＣＨで送信されるＤＣＩフォーマットは、前記第１のＰＤＣＣＨで送信できることを特徴とする請求項１に記載の基地局装置。
【請求項５】
基地局装置と通信する端末装置であって、
第１のＰＤＣＣＨと異なる第２のＰＤＣＣＨに関連付けられる参照信号を、前記基地局装置から受信する受信部を備え、
前記参照信号の生成に用いられる疑似ランダム系列の初期値は、ＲＲＣシグナリングによって設定されるパラメータと、予め規定されているスクランブルＩＤとを少なくとも用いて生成されることを特徴とする端末装置。
【請求項６】
前記スクランブルＩＤの値が、２であることを特徴とする請求項５に記載の端末装置。
【請求項７】
前記第２のＰＤＣＣＨにおけるＯＦＤＭシンボルのスタート位置は、ＲＲＣシグナリングによって通知されることを特徴とする請求項５に記載の端末装置。
【請求項８】
前記第２のＰＤＣＣＨで送信されるＤＣＩフォーマットは、前記第１のＰＤＣＣＨで送信できることを特徴とする請求項５に記載の端末装置。
【請求項９】
端末装置と通信する基地局装置の通信方法であって、
第１のＰＤＣＣＨと異なる第２のＰＤＣＣＨに関連付けられる参照信号を、前記端末装置に送信するステップを含み、
前記参照信号の生成に用いられる疑似ランダム系列の初期値は、ＲＲＣシグナリングによって設定されるパラメータと、予め規定されているスクランブルＩＤとを少なくとも用いて生成されることを特徴とする通信方法。
【請求項１０】
前記スクランブルＩＤの値が、２であることを特徴とする請求項９に記載の通信方法。
【請求項１１】
基地局装置と通信する端末装置の通信方法であって、
第１のＰＤＣＣＨと異なる第２のＰＤＣＣＨに関連付けられる参照信号を、前記基地局装置から受信するステップを含み、
前記参照信号の生成に用いられる疑似ランダム系列の初期値は、ＲＲＣシグナリングによって設定されるパラメータと、予め規定されているスクランブルＩＤとを少なくとも用いて生成されることを特徴とする通信方法。
【請求項１２】
前記スクランブルＩＤの値が、２であることを特徴とする請求項１１に記載の通信方法。
【請求項１３】
端末装置と通信する基地局装置に実装される集積回路であって、
第１のＰＤＣＣＨと異なる第２のＰＤＣＣＨに関連付けられる参照信号を、前記端末装置に送信する機能を含む一連の機能を前記基地局装置に実現させ、
前記参照信号の生成に用いられる疑似ランダム系列の初期値は、ＲＲＣシグナリングによって設定されるパラメータと、予め規定されているスクランブルＩＤとを少なくとも用いて生成されることを特徴とする集積回路。
【請求項１４】
基地局装置と通信する端末装置に実装される集積回路であって、
第１のＰＤＣＣＨと異なる第２のＰＤＣＣＨに関連付けられる参照信号を、前記基地局装置から受信する機能を含む一連の機能を前記端末装置に実現させ、
前記参照信号の生成に用いられる疑似ランダム系列の初期値は、ＲＲＣシグナリングによって設定されるパラメータと、予め規定されているスクランブルＩＤとを少なくとも用いて生成されることを特徴とする集積回路。
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月3日(2014.6.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
メトキシエチルアクリレート、エトキシエチルアクリレート、メトキシエチルメタクリレート及びエトキシエチルメタクリレートから選択される少なくとも１種のモノマーである水溶性(メタ)アクリル酸エステル(a)を単量体として用いた重合体（Ａ）中に、水膨潤性粘土鉱物（Ｂ）が微分散している、低水膨潤性、且つ高疎水性である高分子複合体（Ｃ）を用いたことを特徴とする細胞培養基材。
【請求項２】
前記高分子複合体（Ｃ）の延伸物を用いた請求項１に記載の細胞培養基材。
【請求項３】
水溶性(メタ)アクリル酸エステル(a)を単量体として用いた重合体（Ａ）中に、水膨潤性粘土鉱物（Ｂ）が微分散している、低水膨潤性、且つ高疎水性である高分子複合体（Ｃ）を用いた細胞培養基材であって、
前記高分子複合体（Ｃ）が、温度変化により細胞接着性と細胞非接着性が可逆的に変化することを特徴とする細胞培養基材。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の細胞培養基材を使用して、該細胞培養基材が細胞接着性を示す温度条件下で細胞を培養した後、該細胞培養基材の温度を下げ、該細胞培養基材が細胞非接着性を示す温度とすることにより、培養した該細胞を該細胞培養基材から分離することを特徴とする細胞培養方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年8月7日(2014.8.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水または重水を、触媒金属を含むボールを用い、遊星型ボ−ルミルでメカノケミカル反応させることを特徴とする水素または重水素の製造方法。
【請求項２】
触媒金属が、遷移金属の１種または２種以上である請求項１記載の水素または重水素の製造方法。
【請求項３】
触媒金属が、鉄、水酸化鉄（II）、クロムおよび酸化クロム（III）から選ばれる１種または２種以上である請求項１記載の水素または重水素の製造方法。
【請求項４】
触媒金属を含むボールが、ステンレスのボールである請求項１記載の水素または重水素の製造方法。
【請求項５】
メカノケミカル反応を、反応容器に０.１〜２０質量％の水または重水と、１〜１００個の触媒金属を含むボールを入れ、４００〜１,２００ｒｐｍで０.１〜１２時間行うものである請求項１〜４の何れかに記載の水素または重水素の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月22日(2014.4.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ケーシング内に配設され、軸方向に所定の間隔で冷却気体が外周方向へ通過する鉄心内冷却気体通路が設けられた固定子鉄心および固定子コイルからなる固定子と、
前記固定子の内周側に空隙を介して配置され、回転軸、前記回転軸に装着され回転子磁極を形成する回転子鉄心、前記回転子鉄心を励磁する回転子コイルからなり、前記回転軸の両端部が軸受により回転自在に支持された回転子と、
前記固定子の端部に端部冷却気体空間を形成するとともに前記ケーシングの側部との間に冷却気体導入路を形成する端部冷却気体空間仕切体と、
前記端部冷却気体空間仕切体の前記回転軸側の位置で前記回転軸に装着され、冷却気体を前記冷却気体導入路から前記端部冷却気体空間内に吸気し、前記固定子の外周部に送出する軸流ファンと、
前記固定子の外周部に配置され、前記固定子の外周部に送出される冷却気体を通過させて冷却し、前記冷却気体導入路に送出する気体冷却器と、
前記固定子の端部の外周側に配置され、前記端部冷却気体空間と前記気体冷却器との間を隔離する隔離部材と、
前記隔離部材に形成された通気孔とを備えたことを特徴とする回転電機。
【請求項２】
前記隔離部材に形成された前記通気孔は周方向に複数設けられたことを特徴とする請求項1に記載の回転電機。
【請求項３】
前記隔離部材に形成された前記通気孔は軸方向に複数設けられたことを特徴とする請求項1または請求項２に記載の回転電機。
【請求項４】
前記隔離部材に軸方向に複数設けられた前記通気孔は前記固定子コイルのコイルエンド端部側の位置とコイルエンド中央部側の位置に設けられ、前記コイルエンド端部側の前記通気孔の径が前記コイルエンド中央部側の前記通気孔の径よりも大きく形成されたことを特徴とする請求項３に記載の回転電機。
【請求項５】
前記隔離部材と前記固定子コイルのコイルエンドとの間に風量調整孔が形成された風量調整板を配置したことを特徴とする請求項1ないし請求項４のいずれかに１項に記載の回転電機。
【請求項６】
前記風量調整板に形成された風量調整孔は周方向に複数設けられたことを特徴とする請求項５に記載の回転電機。
【請求項７】
前記風量調整板に形成された風量調整孔は軸方向に複数設けられたことを特徴とする請求項５または請求項６に記載の回転電機。
【請求項８】
前記風量調整板に軸方向に複数設けられた前記風量調整孔は前記固定子コイルのコイルエンド端部側の位置とコイルエンド中央部側の位置に設けられ、前記コイルエンド端部側の前記風量調整孔の径が前記コイルエンド中央部側の前記風量調整孔の径よりも大きく形成されたことを特徴とする請求項７に記載の回転電機。
【請求項９】
前記風量調整板に形成された風量調整孔は軸方向に複数設けられ、前記隔離部材に形成された前記通気孔は軸方向に１個設けられたことを特徴とする請求項５に記載の回転電機。
【請求項１０】
前記隔離部材に形成された前記通気孔と前記固定子コイルのコイルエンド端部側と連通するバイパス風洞を設けたことを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれかに１項に記載の回転電機。
【請求項１１】
前記風量調整板に形成された前記風量調整孔と前記固定子コイルのコイルエンド端部側と連通するバイパス風洞を設けたことを特徴とする請求項５ないし請求項９のいずれかに１項に記載の回転電機。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年7月8日(2014.7.8)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体に対して被膜を形成するための方法であって、
被膜を形成するためのイオン化と加速とを行い得る十分に大きな流量でもって、熱スプレーガン内へと、プロセスガスを導入し；
１つまたは複数のカソードと１つまたは複数のアノードとの間に発生する複数の電気アークを使用して、前記プロセスガスをイオン化し、これにより、２０００℃を超える温度にまで前記ガスを加熱し、この場合、前記アノードに段部またはエッジ部を設けて、その段部またはエッジ部に前記電気アークの下流端を着座させ；
アーク結合部分よりも下流側に位置したノズル部分でありかつスロート部を構成することとなる縮径／拡径部を備えたノズル部分によって、前記イオン化したプラズマガスを、超音速にまで加速し、この場合、前記ノズルを前記アノードから電気的に絶縁されたものとし；
得られた高速高温ガス流／プラズマ流内へと、前記ノズルの前記スロート部よりも下流側のところで、前記ノズルの出口のところにおいて、供給原材料を注入し；
前記高速高温ガス流／プラズマ流によって、前記供給原材料を加速し、これにより、６００〜２０００ｍ／ｓｅｃという粒子速度を得る；
ことを特徴とする方法。
【請求項２】
請求項１記載の方法において、
前記方法を、大気圧から５０ｍＢａｒまで、という範囲の雰囲気圧力条件下において実施することを特徴とする方法。
【請求項３】
請求項１記載の方法において、
前記方法を、エア雰囲気下においてまたは不活性ガス雰囲気下において実施することを特徴とする方法。
【請求項４】
請求項１記載の方法において、
前記プロセスガスを、エアと、アルゴンと、窒素と、ヘリウムと、水素と、酸素と、これらの任意の混合ガスと、の中の１つとすることを特徴とする方法。
【請求項５】
請求項１記載の方法において、
前記複数の電気アークを、４０ボルトＤＣを超える電位差を生成し得るよう、十分な長さのものとすることを特徴とする方法。
【請求項６】
請求項５記載の方法において、
前記複数の電気アークを、８０ボルトＤＣを超える電位差を生成し得るよう、十分な長さのものとすることを特徴とする方法。
【請求項７】
請求項１記載の方法において、
前記供給原材料を、５μｍ以上という粒子サイズを有した粉末とすることを特徴とする方法。
【請求項８】
請求項７記載の方法において、
前記供給原材料を、３０〜７５μｍという範囲の粒子サイズを有した粉末とすることを特徴とする方法。
【請求項９】
請求項１記載の方法において、
前記供給原材料を、液体ベースの供給原材料とすることを特徴とする方法。
【請求項１０】
請求項１記載の方法において、
前記供給原材料を、１μｍ〜７５μｍという範囲の粒子サイズを有したなおかつ液体を付帯した懸濁状態の粒子からなる供給原材料とすることを特徴とする方法。
【請求項１１】
熱スプレーによって被膜を形成するための装置であって、
複数の電気アークを形成するためのエミッタとして使用される１つまたは複数のカソードであるとともに、イオン化を起こすのに適したガスを通過させ得るようにして配置された１つまたは複数のカソードと；
電気的に中性とされた穴部であるとともに、点火時には電流の一部を通過させ得る穴部であり、さらに、前記アークを延ばして電圧を増大させるよう作用する穴部と；
前記電気アークの下流端を着座させるための段部またはエッジ部を備えているとともに、前記アークの長さを安定化させるよう作用する、アノード部と；
スロート部を構成する縮径／拡径部を備えたノズルであるとともに、前記縮径／拡径部の形状が、１．０を超えるマッハ数を生成し得るものとされ、前記アノード部から電気的に絶縁されている、ノズルと；
供給原材料を注入するための１つまたは複数の注入器と；
を具備しており、
前記供給原材料注入器が、前記ノズルの出口のところに配置されていることを特徴とする装置。
【請求項１２】
請求項１１記載の装置において、
前記複数の電気アークを、４０ボルトＤＣを超える電位差を生成し得るよう、十分な長さのものとすることを特徴とする装置。
【請求項１３】
請求項１２記載の装置において、
前記複数の電気アークを、８０ボルトＤＣを超える電位差を生成し得るよう、十分な長さのものとすることを特徴とする装置。
【請求項１４】
請求項１１記載の装置において、
前記供給原材料注入器が、５μｍ以上という粒子サイズを有した粉末を供給し得るものとされていることを特徴とする装置。
【請求項１５】
請求項１４記載の装置において、
前記供給原材料注入器が、３０〜７５μｍという範囲の粒子サイズを有した粉末を供給し得るものとされていることを特徴とする装置。
【請求項１６】
請求項１１記載の装置において、
前記供給原材料注入器が、液体ベースの供給原材料を供給し得るものとされていることを特徴とする装置。
【請求項１７】
請求項１１記載の装置において、
前記供給原材料注入器が、１μｍ〜７５μｍという範囲の粒子サイズを有したなおかつ液体を付帯した懸濁状態の粒子からなる供給原材料を供給し得るものとされていることを特徴とする装置。
【請求項１８】
請求項１１記載の装置において、
前記各カソードが、電流供給源を備えたものとされていることを特徴とする装置。
【請求項１９】
請求項１１記載の装置において、
前記アノード部が、前記ノズルの一部とされていることを特徴とする装置。
【請求項２０】
請求項１１記載の装置において、
前記アノード部が、前記ノズルとは別の部材とされていることを特徴とする装置。
【請求項２１】
プラズマとコールドスプレーとを組み合わせたシステムであって、
（ａ）ガンであるとともに、
複数の電気アークを形成するためのエミッタとして使用される１つまたは複数のカソードと；
点火時には電流の一部を通過させ得る穴部であるとともに、前記アークを延ばして電圧を増大させるよう作用する穴部と；
前記電気アークの下流端を着座させるための段部またはエッジ部を備えているアノード部と；
スロート部を構成する縮径／拡径部を備えたノズルであるとともに、前記縮径／拡径部の形状が、１．０を超えるマッハ数を生成し得るものとされ、さらに、前記アノード部から電気的に絶縁されている、ノズルと；
供給原材料を注入するための１つまたは複数の注入器であるとともに、前記ノズルの出口のところに配置された、１つまたは複数の注入器と；
を備えたガンと、
（ｂ）エアと、アルゴンと、窒素と、ヘリウムと、水素と、酸素と、これらの任意の混合ガスと、の中の１つとされたガスであるとともに、前記カソードを通過するものとされた、ガスと、
を具備し、
前記ガスが、前記カソードを通過することによりイオン化されて、イオン化したプラズマガスを形成するものとされ、
さらに、前記イオン化したプラズマガスが、超音速にまで加速され、
さらに、この高速のものとされたイオン化プラズマガス内に注入された供給原材料を、基体に向けて加速するものとされていることを特徴とするシステム。
【請求項２２】
請求項２１記載のシステムにおいて、
前記のようにして加速された前記供給原材料が前記基体に対して衝突することにより、圧縮応力を有した被膜を形成するものとされていることを特徴とするシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成26年8月6日(2014.8.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】インクジェット画像記録装置およびチャート
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
この発明は、ヘッドシェーディングを行うインクジェット画像記録装置およびヘッドシェーディングに使用するチャートに関する。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月10日(2013.12.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体を貯蔵及び分配する装置であって、
内部容積を有する剛性のハウジング（１４）と、
前記内部容積内に配置され、液体によって充填されることが可能な、３次元の閉鎖された折りたたみ可能なライナ（１２）であって、液体の分配に適合するポートを有するライナと、
前記ポートに結合されたキャップ（２８）と、
前記キャップ（２８）と協働するように構成された分配ヘッド（３４）であって、当該分配ヘッド（３４）は、分配動作中に前記ライナ（１２）に接触して前記ライナ（１２）に対して圧力を作用させるために前記ハウジング（１４）の前記内部容積内への加圧気体の導入に適合する気体充填チューブ（４４）と、分配動作中に前記ライナ（１２）から分配される液体を受け取るように構成された液体分配チューブ（４０）と、を含む、分配ヘッド（３４）と、を備える装置。
【請求項２】
前記ライナ（１２）は、前記ハウジング（１４）の内側に密接するように形成されている、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記ライナ（１２）は、前記ライナ（１２）内に収容される時に液体に汚染物質を導入する可能性のある添加物を含まない高分子フィルム材料から形成される、請求項１又は２に記載の装置。
【請求項４】
前記液体分配チューブ（４０）と流体連通するように構成されて、分配動作中に前記ライナ（１２）から液体を抽出するように構成されたディップチューブ（３６）をさらに備える、請求項１〜３のいずれか１項に記載の装置。
【請求項５】
前記ライナ（１２）は、ヘッドスペースがゼロの構造となるように液体によって充填される、請求項１〜４のいずれか１項に記載の装置。
【請求項６】
前記高分子フィルム材料は３．２ｍｍ未満の厚さを有する、請求項１〜５のいずれか１項に記載の装置。
【請求項７】
前記ライナ（１２）は、前記ライナ（１２）の側部に沿って熱溶接した合わせ目がない、請求項１〜６のいずれか１項に記載の装置。
【請求項８】
前記ライナ（１２）は攪拌要素を含む、請求項１〜７のいずれか１項に記載の装置。
【請求項９】
前記攪拌要素は磁気攪拌要素を備える、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記ライナ（１２）は、超小型電子読出し書込み要素を備える無線周波数識別タグを含む情報記憶手段を備える、請求項１〜９のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１１】
前記ライナ（１２）は、フォトレジスト、ドーパント、有機金属試薬、シリコン原料化合物及び化学機械平坦化用（ＣＭＰ）組成物から構成される群から選択される液体を収容する、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１２】
前記ライナ（１２）は、酸、溶剤及び塩基から構成される群から選択される液体を収容する、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１３】
液体を供給するために半導体製造ツールに作動可能に結合される、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１４】
請求項１〜１０のいずれか１項に記載の流体を貯蔵及び分配する装置を用いる方法であって、当該方法は、
（ａ）半導体製造又は超小型電子装置の処理のための試薬を前記ライナ（１２）に供給するステップ、又は、
（ｂ）前記ライナ（１２）と前記ハウジング（１４）との間の空間を加圧して、（ｉ）前記ライナ（１２）から、半導体の処理又は超小型電子装置の処理のためのツールに、半導体製造又は超小型電子装置の処理のための試薬を分配する、又は、（ｉｉ）酸、溶剤、塩基、フォトレジスト、ドーパント、有機金属試薬、シリコン原料化合物及び化学機械平坦化用（ＣＭＰ）組成物から構成される群から選択される試薬を分配する、ステップ、
のうちのいずれか一つのステップを含む方法。
【請求項１５】
半導体製造又は超小型電子装置の処理のための試薬を前記ライナ（１２）に供給するステップを含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記ライナ（１２）と前記ハウジング（１４）との間の空間を加圧して、（ｉ）前記ライナ（１２）から、半導体の処理又は超小型電子装置の処理のためのツールに、半導体製造又は超小型電子装置の処理のための試薬を分配する、又は、（ｉｉ）酸、溶剤、塩基、フォトレジスト、ドーパント、有機金属試薬、シリコン原料化合物及び化学機械平坦化用（ＣＭＰ）組成物から構成される群から選択される試薬を分配する、ステップを含む、請求項１４又は１５に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月19日(2014.6.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
請求項３に係る発明においては、第１反応器の反応温度を、同反応器への水素供給量を調整することに加えて、同反応器へ水蒸気を供給することにより調整するので、反応器内の触媒層の急激な温度上昇を一層効果的に避けることができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
第１反応器Ｒ１から排出されたガスは、冷却器Ｃ１により第２反応器Ｒ２の反応に必要な温度まで冷却されたあと第２反応器Ｒ２へ供給される。第２反応器Ｒ２の反応温度は第１反応器Ｒ１の反応温度より低く設定（例えば、１５０〜２２０℃）され、ガス組成中のメタン含有量を化学平衡的に増やす。第２反応器Ｒ２への水素量は、原料ガス流量と第１反応器への水素流量から計算して調整される。具体的には、第２反応器Ｒ２への水素流量を、原料ガス流量からの二酸化炭素流量および第１反応器Ｒ１への水素流量から、化学量論的に供給された二酸化炭素をメタネーション反応するために必要な水素量（化学量論的にはモル比にて、二酸化炭素の４倍の水素が必要である。）の不足分を計算してこの流量で水素を供給する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
実施例２
メタネーション反応装置の別の実施例の全体フローを図２に示す。この実施例では、原料ガス供給ライン２に、ガス流量を計測するための流量計Ｆ４と、原料ガス供給ライン２と水素供給ライン１の合流点との間に、水蒸気調整弁Ｖ４を備えた水蒸気供給ライン９が接続されている。水蒸気調整弁Ｖ４は温度計Ｔ１の計測温度に従って制御される。