(57)【要約】【課題】薄膜化が可能で、かつ、画像表示装置の表示画面をフラットなものとすることができる偏光板一体型光学積層体を提供する。【解決手段】画像表示パネルの表示画面側に配置され、偏光素子フィルム上に光学積層体が積層された偏光板一体型光学積層体であって、上記光学積層体は、光透過性基材、該光透過性基材の上記偏光素子フィルムと反対側面の外周に沿って枠状に形成された遮蔽層、上記遮蔽層を被覆する保護層、及び、上記光透過性基材及び上記保護層上に設けられたハードコート層を有し、上記偏光素子フィルム上に上記光学積層体の光透過性基材が設けられていることを特徴とする偏光板一体型光学積層体。【選択図】図１
2013225080.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像表示パネルの表示画面側に配置され、偏光素子フィルム上に光学積層体が積層された偏光板一体型光学積層体であって、
前記光学積層体は、光透過性基材、該光透過性基材の前記偏光素子フィルムと反対側面の外周に沿って枠状に形成された遮蔽層、前記遮蔽層を被覆する保護層、及び、前記光透過性基材及び前記保護層上に設けられたハードコート層を有し、
前記偏光素子フィルム上に前記光学積層体の光透過性基材が設けられている
ことを特徴とする偏光板一体型光学積層体。
【請求項２】
遮蔽層は、表示画面側から観察したときに、画像表示パネルを駆動させるドライバＩＣを隠蔽する領域に形成されている請求項１記載の偏光板一体型光学積層体。
【請求項３】
遮蔽層は、厚みが２．０〜５．０μｍである請求項１又は２記載の偏光板一体型光学積層体。
【請求項４】
遮蔽層は、透過濃度が３．０〜５．６である請求項１、２又は３記載の偏光板一体型光学積層体。
【請求項５】
ハードコート層は、バインダー樹脂と、光透過性基材に対して溶解性又は膨潤性を有する浸透性溶剤とを含有するハードコート層形成用組成物を用いて形成されたものである請求項１、２、３又は４記載の偏光板一体型光学積層体。
【請求項６】
保護層は、遮蔽層へ浸透性溶剤が浸透することを抑える材料からなる請求項５記載の偏光板一体型光学積層体。
【請求項７】
光透過性基材は、トリアセチルセルロースからなる請求項１、２、３、４、５又は６記載の偏光板一体型光学積層体。
【請求項８】
最表面に請求項１、２、３、４、５、６又は７記載の偏光板一体型光学積層体を備えることを特徴とする画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光板と光学積層体とが一体となった偏光板一体型光学積層体に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＯＥＬＤ又はＩＥＬＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）等の画像表示装置は、画像表示パネルの表示画面側に偏光板が設けられ、更に、最表面に反射防止性、ハードコート性等の機能を有する光学積層体が設けられている。
【０００３】
一般に、画像表示パネルは、表示画面から外れる外周部に該画像表示パネルを駆動させるドライバＩＣ等が設けられている。そして、画像表示装置には表示画面の周囲を囲うようにベゼル（メタルカバー）と言われる枠状の部材が最表面に設けられ、該ベゼルによりドライバＩＣを表示画面から隠蔽している（例えば、特許文献１、２等参照）。
ところで、近年、画像表示装置は、薄型化とともに表示画面のフラット化が進められているが、このようなベゼルを備えた構成の画像表示装置では、ベゼルが表示画面から飛び出した状態となり、フラットな表示画面とすることができなかった。
【０００４】
そこで、例えば、画像表示パネルを駆動させるドライバＩＣを隠蔽するための枠を、光学積層体と偏光素子フィルムとの間に印刷により形成した偏光板一体型光学積層体を、画像表示パネルの表示画面側に配置し、画像表示装置の表示画面をフラットにする方法が考えられている。
このような構成の偏光板一体型光学積層体は、最表面にドライバＩＣを隠蔽するためのベゼルが不要であるため、表示画面のフラット化を図ることができる。
しかしながら、画像表示装置の薄膜化には、偏光板一体型光学積層体の薄膜化が必須であるところ、このような構成の偏光板一体型光学積層体は、従来の偏光フィルムと光学積層体との間に、更にドライバＩＣを隠蔽するための枠を含む層を形成する必要があるため、薄膜化の要請に充分応えることができないものであった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００５−２１５１８５号公報（［０００２］）
【特許文献２】特開２０１０−２７１６２９号公報（［０００９］）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記現状に鑑みて、薄膜化が可能で、かつ、画像表示装置の表示画面をフラットなものとすることができる偏光板一体型光学積層体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、画像表示パネルの表示画面側に配置され、偏光素子フィルム上に光学積層体が積層された偏光板一体型光学積層体であって、上記光学積層体は、光透過性基材、該光透過性基材の上記偏光素子フィルムと反対側面の外周に沿って枠状に形成された遮蔽層、上記遮蔽層を被覆する保護層、及び、上記光透過性基材及び上記保護層上に設けられたハードコート層を有し、上記偏光素子フィルム上に上記光学積層体の光透過性基材が設けられていることを特徴とする偏光板一体型光学積層体である。
【０００８】
本発明の偏光板一体型光学積層体において、上記遮蔽層は、表示画面側から観察したときに、画像表示パネルを駆動させるドライバＩＣを隠蔽する領域に形成されていることが好ましい。
また、上記遮蔽層は、厚みが２．０〜５．０μｍであり、透過濃度が３．０〜５．６であることが好ましい。
また、上記ハードコート層は、バインダー樹脂と、光透過性基材に対して溶解性又は膨潤性を有する浸透性溶剤とを含有するハードコート層形成用組成物を用いて形成されたものであることが好ましい。
また、上記保護層は、上記遮蔽層へ浸透性溶剤が浸透することを抑える材料からなることが好ましい。
本発明の偏光板一体型光学積層体において、上記光透過性基材は、トリアセチルセルロースからなることが好ましい。
本発明はまた、最表面に本発明の偏光板一体型光学積層体を備えることを特徴とする画像表示装置でもある。
以下に、本発明を詳細に説明する。
なお、本発明では、特別な記載がない限り、モノマー、オリゴマー、プレポリマー等の硬化性樹脂前駆体を、“樹脂”と記載する。
【０００９】
本発明者らは、従来の偏光板一体型光学積層体について鋭意検討した結果、画像表示パネルを制御するドライバＩＣを表示画面から隠蔽する枠状の遮蔽層を光学積層体中、具体的には、光透過性基材と該光透過性基材上に設けられたハードコート層との間に設けることで、光学積層体の膜厚を厚くすることなく上記ドライバＩＣの表示画面から隠蔽することができ、その結果、薄膜化及び表示画面のフラット化を好適に図ることができることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１０】
図１は、本発明の偏光板一体型光学積層体の一例を模式的に示す断面図である。
図１に示したように、本発明の偏光板一体型光学積層体１０は、偏光素子フィルム１１上に、光透過性基材１２及びハードコート層１５を有する光学積層体が積層されている。
上記光学積層体は、光透過性基材１２の偏光素子フィルム１１と反対側面の外周沿って枠状に形成された遮蔽層１３、遮蔽層１３を被覆する保護層１４が形成されており、ハードコート層１５は、光透過性基材１２及び保護層１４上に設けられている。
【００１１】
ここで、従来、偏光素子フィルムは、偏光素子上にトリアセチルセルロース基板等の保護基板が貼り付けられた構成を有するものであり、従来の偏光板一体型光学積層体では、偏光素子フィルムの保護基板上に光学積層体が配設されていた。これに対し、本発明の偏光板一体型光学積層体は、上記偏光素子上に直接光学積層体が配設されている。すなわち、本発明の偏光板一体型光学積層体では、上記光学積層体の光透過性基材が、上記偏光素子フィルムの偏光素子の保護フィルムの役割を兼ねている。このような構成であることで、本発明の偏光板一体型光学積層体は、従来の偏光板一体型光学積層体における偏光素子フィルムの保護フィルムが省略され、薄膜化を図ることができる。
【００１２】
上記偏光素子フィルムとしては、例えば、ポリビニルアルコール偏光素子に代表される。
上記ポリビニルアルコール偏光素子は、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素や二色性染料を吸着せしめた偏光素子である。
上記ポリビニルアルコール系フィルムとしては特に限定されず、通常使用されているポリビニルアルコール系フィルムを使用することができる。例えば、ポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、ポリ（エチレン−酢酸ビニル）共重合体フィルム等を一軸に延伸したもの等が挙げられる。
上記ポリビニル系フィルムの厚みも特に限定されず、例えば、５０〜１５０μｍ程度のものが用いられる。
本発明の偏光板一体型光学積層体では、上記偏光素子フィルムに後述する光学積層体が直接貼り付けられるが、このとき、光透過性基材（好ましくは、トリアセチルセルロース基材）にケン化処理を行うことが好ましい。ケン化処理によって、接着性が良好になり帯電防止効果も得ることができる。
【００１３】
本発明の偏光板一体型光学積層体において、上記遮蔽層は、上記光透過性基材の上記偏光素子フィルムと反対側面の外周に沿って枠状に形成されている。
このような遮蔽層は、画像表示パネルのドライバＩＣを表示画面から隠蔽する役割を果たす部材であり、表示画面側から観察したときに、画像表示パネルを駆動させるドライバＩＣを隠蔽する領域に形成されていることが好ましい。
上記遮蔽層は、偏光板一体型光学積層体の外周部からの幅（図１に示した遮蔽層１３における横幅）は、遮蔽するドライバＩＣの大きさにより適宜決定されるが、厚みは２．０〜５．０μｍであることが好ましい。２．０μｍ未満であると、ドライバＩＣを充分に遮蔽できる程度の黒色濃度が得られないことがあり、５．０μｍを超えると、光透過性基剤との段差が大きくなり、ハードコート層との間に気泡噛みが発生しやすくなる。また、薄膜化の要請上好ましくない。上記遮蔽層の厚みのより好ましい下限は３．０μｍ、より好ましい上限は４．５μｍである。
【００１４】
また、上記遮蔽層は、透過濃度が３．０〜５．６であることが好ましい。３．０未満であると、ドライバＩＣを充分に遮蔽できないことがあり、５．６を超えるには、遮蔽層厚みを過度に厚くする必要があり好適ではない。上記透過濃度のより好ましい下限は３．３、より好ましい上限は５．５である。なお、上記透過濃度は、ＩＳＯ  ５−２（２００９）で準拠した、フィルム等を対象とした入射光に対する透過光の比率として計測される光学濃度を意味する。
【００１５】
上記遮蔽層は、遮光性の顔料をバインダー樹脂成分中に分散させた遮蔽層用組成物を用いて形成することができる。
上記遮光性の顔料としては特に限定されないが、カーボンブラック、アニリンブラック、ペリレンブラック等の有機系ブラック顔料、銅、鉄、クロム、マンガン、コバルト、チタン等を含有した無機系ブラック顔料、アルミニウムや雲母等の燐片状遮蔽物質を混合した黒色染料等が挙げられ、なかでも、カーボンブラックが好適に用いられる。
【００１６】
上記遮光性の顔料の含有量としては、目的とする遮蔽層の透過濃度に応じて適宜決定されるが、好ましくは、上記遮蔽層用組成物の固形分１００質量部に対して、１０〜７０質量部である。１０質量部未満であると、充分な透過濃度の遮蔽層を形成できないことがあり、７０質量部を超えると、形成する遮蔽層の強度が不充分となることがある。より好ましい下限は２０質量部であり、より好ましい上限は５０質量部である。
【００１７】
上記バインダー樹脂としては、上記遮光性の顔料を担持し得るものであれば特に限定されず、例えば、エチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、エチルヒドロキシセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロース、酢酸セルロース、酪酸セルロース等のセルロース系樹脂；ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセトアセタール、ポリビニルピロリドン等のビニル系樹脂；ポリ（メタ）アクリレート、ポリ（メタ）アクリルアミド等のアクリル樹脂；ポリウレタン系樹脂；ポリアミド系樹脂；ポリエステル系樹脂等及びそれらの共重合樹脂や変性した樹脂等が挙げられる。
上記バインダー樹脂は、溶剤乾燥型樹脂、二液反応型樹脂やエネルギー線硬化型樹脂であってもよい。
【００１８】
上記遮蔽層用組成物は、上記カーボンブラック等の遮光性の顔料とバインダー樹脂とを、必要に応じて添加する従来公知の添加剤とともに、適当な有機溶剤や水に溶解又は分散させることで得ることができる。
上記有機溶剤としては、トルエン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、エタノール、イソプロピルアルコール、シクロヘキサノン、ジメチルホルムアミド等が挙げられる。
【００１９】
上記遮蔽層用組成物を用いて上記遮蔽層を形成する方法としては、例えば、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、グラビアオフセット印刷法等の公知の方法で光透過性基材上に上記遮蔽層用組成物を塗布し、乾燥、加熱、エネルギー線照射等をすることにより形成することができる。
【００２０】
上記保護層は、上記遮蔽層の表面全体を覆うように形成されおり、後述するハードコート層を形成する際に上記遮蔽層をハードコート層形成用組成物に用いられる溶剤から保護する役割を果たす層である。
このような保護層を構成する樹脂としては、上記ハードコート層用組成物に用いられる溶剤、特に上記遮蔽層へ後述する浸透性溶剤が浸透することを抑える材料からなるものであることが好ましい。このような樹脂としては、例えば、ウレタン系、エポキシ系等の二液反応性インキ等が挙げられる。
また、上記浸透性溶剤の浸透を抑える観点から、上記保護層は体質顔料を含まないことがより好ましい。また、スクリーニング（被印刷物に印刷版の版目が残る状態）を無くしインキのレベルリングをより確実にして隠蔽性を出すために、乾燥の遅い溶剤を含むことがより好ましい。
【００２１】
ここで、上記保護層は、以下に述べる理由により、上記光学積層体のハードコート層が、表面がフラットな形状のいわゆるクリアハードコート層である場合特に有効な層である。
すなわち、上記浸透性溶剤を用いるのは、後述するように光透過性基材のハードコート層との界面付近に含浸層を形成し、この含浸層によりハードコート層と光透過性基材との界面における反射光とハードコート層表面での反射光との干渉により生じる干渉縞を防止することが主な目的である。上記含浸層を形成することで干渉縞を防止できるのは、光透過性基材とハードコート層との界面での屈折率のジャンピングを無くし、界面反射光が無くなるためである。
そして、上記光透過性基材とハードコート層との界面反射光を無くし、上記干渉縞を防止するためには、上記含浸層を数μｍと厚く形成する必要があり、ハードコート層も厚くしなければならない。このため、例えば、上記保護層を形成せずに上記ハードコート層の形成を行うと、遮蔽層上に浸透性溶剤を大量かつ長時間乗せざるを得なくなり、遮蔽層が浸透性溶剤に侵されてしまう。このような浸透性溶剤により遮蔽層が侵されることを防止するため、上記保護層が有効に働くのである。
なお、表面に凹凸形状が設けられたハードコート層（防眩層）の該凹凸形状により防眩性を付与する防眩性フィルムも従来から知られているが、このような防眩性フィルムにおいては、上記干渉縞が生じることがない。すなわち、上記干渉縞は、ハードコート層がクリアハードコート層である場合に顕著な現象である。上記防眩性フィルムでは、光透過性基材とハードコート層（防眩層）との接着強化の目的で数百ｎｍ程度の薄い含浸層を形成するのでよく、上記ハードコート層（防眩層）も厚くする必要がない。このため、防眩性フィルムの場合、上記ハードコート層用組成物の溶剤に浸透性溶剤を使用する必要はなく、また、仮に浸透性溶剤を使用し、上記保護層を形成せずに上記ハードコート層（防眩層）の形成を行ったとしても、遮蔽層上に上記浸透性溶剤が大量かつ長時間乗せられることはないため、遮蔽層が浸透性溶剤で侵されてしまうことも殆どない。
【００２２】
上記保護層の厚みとしては特に限定されないが、０．５〜２．５μｍであることが好ましい。０．５μｍ未満であると、ハードコート層を形成したときに遮蔽層の保護が不充分となることがあり、２．５μｍを超えると、ハードコート層との間で気泡噛みの発生の恐れがあり好ましくない。上記保護層の厚みのより好ましい下限は１．０μｍ、より好ましい上限は２．０μｍである。また、上記保護層の幅は、上記遮蔽層の幅よりも広くして該遮蔽層のエッジを覆っていることが好ましい。
このような保護層は、上記保護層を構成する樹脂を用いる以外は上記遮蔽層用組成物と同様にして調製した保護層用組成物を用いて、上記遮蔽層と同様にして形成することができる。
【００２３】
上記ハードコート層は、上記光透過性基材及び上記保護層上に設けられている。
上記ハードコート層は、バインダー樹脂と溶剤とを含有するハードコート層形成用組成物を用いて形成されたものである。
上記ハードコート層用組成物において、上記バインダー樹脂としては、例えば、紫外線若しくは電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂（塗工時に固形分を調整するために添加した溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂）との混合物、又は、熱硬化型樹脂が挙げられる。なかでも、電離放射線硬化型樹脂を含有することが好ましい。
【００２４】
上記電離放射線硬化型樹脂としては、例えば、アクリレート系の官能基を有する化合物等の１又は２以上の不飽和結合を有する化合物が挙げられる。１の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等を挙げることができる。２以上の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸変性トリ（メタ）アクリレート等の多官能化合物と（メタ）アクリレート等の反応生成物（例えば多価アルコールのポリ（メタ）アクリレートエステル）等が挙げられる。
なお、本明細書において、（メタ）アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートを意味する。
【００２５】
上記化合物のほかに、不飽和二重結合を有する比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も上記電離放射線硬化型樹脂として使用することができる。
【００２６】
電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤の具体例としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミノキシムエステル、チオキサントン類、プロピオフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、アシルホスフィンオキシド類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等が挙げられる。
【００２７】
光重合開始剤としては、ラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用いることが好ましい。また、カチオン重合性官能基を有する樹脂系の場合は、光重合開始剤として、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタロセン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は混合物として用いることが好ましい。光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化性組成物１００質量部に対し、０．１〜１０質量部であることが好ましい。
【００２８】
電離放射線硬化型樹脂に混合して使用される溶剤乾燥型樹脂としては、主として熱可塑性樹脂が挙げられる。
上記熱可塑性樹脂としては一般的に例示されるものが利用される。上記溶剤乾燥型樹脂の添加により、塗布面の塗膜欠陥を有効に防止することができる。好ましい熱可塑性樹脂の具体例としては、上記熱可塑性樹脂は、一般的に例示されるものが利用される。
上記溶剤乾燥型樹脂の添加により、塗布面の塗膜欠陥を有効に防止することができる。
好ましい熱可塑性樹脂の具体例としては、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂、及び、ゴム又はエラストマー等が挙げられる。
上記熱可塑性樹脂としては、通常、非結晶性であり、かつ有機溶剤（特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶剤）に可溶な樹脂を使用することが好ましい。特に、成形性又は製膜性、透明性や耐候性の高い樹脂、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類等）等が好ましい。
【００２９】
本発明の好ましい態様によれば、後述する光透過性基材の材料がトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂の場合、熱可塑性樹脂の好ましい具体例として、セルロース系樹脂、例えば、ニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチルセルロース等が挙げられる。セルロース系樹脂を用いることにより、光透過性基材とハードコート層との密着性及び透明性を向上させることができる。
【００３０】
上記樹脂として使用できる熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラニン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を挙げることができる。熱硬化性樹脂を用いる場合、必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等を併用して使用することもできる。
【００３１】
また、上記バインダー樹脂としては、ウレタン（メタ）アクリレートも好適に用いられる。上記ウレタン（メタ）アクリレートとしては、具体的には、日本合成化学工業社製の紫光シリーズ、例えば、ＵＶ１７００Ｂ、ＵＶ６３００Ｂ、ＵＶ７６０５Ｂ、ＵＶ７６４０Ｂ、ＵＶ７６００Ｂ等；根上工業社製のアートレジンシリーズ、例えば、アートレジンＵＮ９０００Ｈ、アートレジンＵＮ３３２０ＨＡ、アートレジンＵＮ３３２０ＨＢ、アートレジンＵＮ３３２０ＨＣ、アートレジンＵＮ３３２０ＨＳ、アートレジンＵＮ９０１Ｍ、アートレジンＵＮ９０２ＭＳ、アートレジンＵＮ９０３、アートレジンＵＮ９０４等；新中村化学工業社製のＵＡ１００Ｈ、Ｕ４Ｈ、Ｕ６Ｈ、Ｕ１５ＨＡ、Ｕ４ＨＡ、Ｕ６ＨＡ、ＵＡ３２Ｐ、Ｕ６ＬＰＡ、Ｕ３２４Ａ、Ｕ９ＨＡＭＩ等；ダイセル・サイテック社製のＥｂｅｃｒｙｌシリーズ、例えば、Ｅｂｅｃｒｙｌ１２９０、５１２９、２５４、２６４、２６５、１２５９、１２６４、４８６６、９２６０、８２１０、２０４、２０５、６６０２、２２０、４４５０等；荒川化学工業社製のビームセット５７７等；日本化薬社製のＤＰＨＡ４０Ｈ、ＵＸ５０００、ＵＸ５００１Ｔ；サーマー社製のＣＮ９００６、ＣＮ９６８等が挙げられる。なかでも好ましくは、ＵＶ１７００Ｂ、ＵＶ７６００Ｂ（日本合成化学工業社製）、ＤＰＨＡ４０Ｈ（日本化薬社製）、アートレジンＵＮ９０４、アートレジンＵＮ３３２０ＨＳ（根上工業社製）、ビームセット５７７（荒川化学工業社製）、Ｕ１５ＨＡ（新中村化学工業社製）等が挙げられる。
【００３２】
また、形成するハードコート層に好適な耐ケン化性を付与できることから、上記ハードコート層用組成物は、上記バインダー樹脂として、下記式（１）で表わされる、イソシアヌル酸骨格を有し（メタ）アクリロイル基が１５官能のウレタン系多官能アクリレート系化合物（以下、上記１５官能重合性化合物ともいう）を含有することが好ましい。市販品としてはＵ１５ＨＡ（新中村化学工業社製）が挙げられる。
【００３３】
【化１】
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（式（１）中、Ａｃは（メタ）アクリロイル基であり、Ｒ−（Ａｃ）５は、ジペンタエリスリトールが有する６個のヒドロキシル基のうち５個のヒドロキシル基の水素原子が（メタ）アクリロイル基Ａｃで置き換わった５官能（メタ）アクリレート基である。なお、Ｒは、ジペンタエリスリトール残基である。）
【００３４】
上記１５官能重合性化合物によって、耐ケン化性が得られる理由は定かではないが、一つには以下の如く推測される。すなちわ、この１５官能重合性化合物は、官能基数が１５官能と非常に大きいことによって、バインダー樹脂の架橋構造が緻密な塗膜が得られ、ハードコート層中での構成材料の移動を制限し、表面上へのブリードアウトの抑制に効果的であり、このために、良好なる耐ケン化性が得られるのではと推測される。また、この１５官能重合性化合物は、樹脂の架橋構造が緻密な塗膜が得られることによって、硬度の点でも優れたものが得られる。
更に、この１５官能重合性化合物は、ヒドロキシル基を有さないために、得られるハードコート層の耐水性が良く、鹸化処理時のアルカリ水溶液に対して耐性を有すると思われる。なぜならば、多官能（メタ）アクリレート化合物として、ヒドロキシル基を１個有するジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＤＰＰＡ）を、ヒドロキシル基を有さないジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）と共に含む、商品名「カヤラッド（登録商標）ＤＰＨＡ」を用いると、充分な耐ケン化性が得られないからである。
【００３５】
また、上記ハードコート層の耐ケン化性の観点から、上記バインダー樹脂は、ヒドロキシル基を分子中に有さない多官能重合性化合物であることが好ましい。
上記ヒドロキシル基を分子中に有さない多官能重合性化合物の具体例としては、下記式（２）で表わされる、重合性官能基としてアクリロイル基を３個有する、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）が挙げられる。なお、式中、Ａｃはアクリロイル基である。
【００３６】
【化２】
2013225080.tif 000004
【００３７】
しかし、上記式（２）で表わされる、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）に対して、重合性官能基としてアクリロイル基は３個有するが、末端のメチル基がヒドロキシル基に置き換わり、都合１個のヒドロキシル基を有する、下記式（３）で表わされる、ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）では、耐ケン化性が得られない。式中、Ａｃはアクリロイル基である。これが耐ケン化性が得られないヒドロキシル基を分子中に有する多官能重合性化合物の具体例である。
【００３８】
【化３】
2013225080.tif 000005
【００３９】
更に良好なる耐鹸化性が得られる、ヒドロキシル基を分子中に有さない多官能重合性化合物の例として、アクリレート系の電離放射線硬化性樹脂の多官能モノマーで例示すれば、２官能の重合性化合物では、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００４０】
３官能の重合性化合物では、上記例示したトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート（略称ＴＭＰＴＡ）の他に、イソシアヌル酸変性トリ（メタ）アクリレート等が挙げられ、４官能の重合性化合物では、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレートが挙げられ、６官能の重合性化合物では、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（略称ＤＰＨＡ）が挙げられ、７官能以上の重合性化合物としては、Ｖ８０２（ＤＰＨＡの多量体、大阪有機化学工業社製）等が挙げられる。
【００４１】
上記ヒドロキシル基を分子中に有さない多官能重合性化合物の例として、アクリレート系の電離放射線硬化性樹脂の多官能プレポリマーで例示すれば、ポリエステル系、ポリエーテル系、ウレタン系、エポキシ系、シリコーン系などの各種アクリレート系プレポリマーが挙げられる。
【００４２】
上記ヒドロキシル基を分子中に有さない多官能重合性化合物の例として、市販品を挙げれば、ＮＫエステル（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、新中村化学工業社製）等が挙げられる。
【００４３】
上記ヒドロキシル基を分子中に有さない多官能重合性化合物の例の中で、本発明に好ましく用いることができる化合物はトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレートが挙げられる。この化合物は、ケン化処理に対して特に優れた耐擦傷性を示す。
【００４４】
上記ハードコート層形成用組成物は、上述のバインダー樹脂、及び、必要に応じて光重合開始剤、後述する低屈折率化剤や公知の添加剤を、溶剤に溶解又は分散させることで得ることができる。上記ハードコート層は、上記ハードコート層形成用組成物による塗膜を、上記光透過性基材及び上記保護層上に形成し、上記塗膜を硬化させることにより得ることができる。
【００４５】
上記溶剤としては、バインダー樹脂の種類及び溶解性に応じて選択し使用することができ、少なくとも固形分（複数のポリマー及び硬化性樹脂前駆体、反応開始剤、その他添加剤）を均一に溶解できる溶媒であればよい。そのような溶剤としては、例えば、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エーテル類（ジオキサン、テトラヒドロフラン等）、脂肪族炭化水素類（ヘキサン等）、脂環式炭化水素類（シクロヘキサン等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、ハロゲン化炭素類（ジクロロメタン、ジクロロエタン等）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等）、アルコール類（エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール等）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（ジメチルスルホキシド等）、アミド類（ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）等が例示でき、これらの混合溶媒であってもよい。
【００４６】
上記溶剤は、光透過性基材に対して浸透性のある浸透性溶剤を含有することが好ましい。本発明において、浸透性溶剤の「浸透性」とは、光透過性基材に対する浸透性、膨潤性、湿潤性等のすべての概念を包含する意である。このような浸透性溶剤が光透過性基材を膨潤、湿潤することによって、ハードコート層形成用組成物の一部が光透過性基材まで浸透する挙動をとる。これによって、光透過性基材のハードコート層との界面付近には屈折率のグラデーションを有する含浸層が形成されることとなり、ハードコート層と光透過性基材との界面における反射光と、ハードコート層表面での反射光との干渉により生じる干渉縞を防止することができる。なお、光透過性基材とハードコート層との接着強度も高まることとなる。
【００４７】
更に、上記溶剤は、ハードコート層中の樹脂が光透過性基材に対して浸透性を有するか否かに応じて決定することができる。
例えば、上記バインダー樹脂が光透過性基材に対して浸透性がない場合は、光透過性基材に対して浸透性を持つ溶剤を使用することが好ましい。例えば、光透過性基材がＴＡＣ基材である場合、浸透性溶剤の具体例としては、ケトン類；アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコール、エステル類；蟻酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、含窒素化合物；ニトロメタン、アセトニトリル、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、エーテル類；テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ジオキソラン、ジイソプロピルエーテル、ハロゲン化炭化水素；塩化メチレン、クロロホルム、テトラクロルエタン、グリコールエーテル類；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート、その他、ジメチルスルホキシド、炭酸プロピレンが挙げられ、またはこれらの混合物が挙げられ、好ましくはエステル類、ケトン類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン等が挙げられる。その他、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、イソブチルアルコール等のアルコール類や、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類も、上記浸透性溶剤と混合して用いることができる。
また、ハードコート層形成用組成物中において、上記浸透性溶剤は、溶剤全量中１０〜１００質量％、特に５０〜１００質量％となることが好ましい。
【００４８】
また、上記ハードコート層用組成物は、低屈折率化剤として中空状シリカ微粒子を含有することが好ましい。上記低屈折率化剤を含有することで形成するハードコート層の屈折率を直下に設ける層よりも低くすることができ、光反射を防止することができる。
上記低屈折率化剤を含有する場合、その屈折率は、直下の層の屈折率未満であるが、その直下の層との屈折率差は０．０２〜０．３でることが好ましく、より好ましくは０．０５〜０．２である。
また、このときのハードコート層の屈折率自体は、１．４５以下が充分な反射防止性が得られる点で好ましく、より好ましくは１．４０以下、更に好ましくは１．３８以下である。
【００４９】
上記中空状シリカ微粒子とは、例えば、外殻を有し、その内部が多孔質又は空洞になっているシリカ微粒子であり、特開平６−３３０６０６号公報、特開平７−０１３１３７号公報、特開平７−１３３１０５号公報、特開２００１−２３３６１１号公報等に記載された様々な製法で得ることができる。
上記中空状シリカ粒子の含有量としては特に限定されず、形成するハードコート層の屈折率が上記範囲となるよう適宜調整される。
【００５０】
上記ハードコート層形成用組成物中における原料の含有割合（固形分）として特に限定されないが、通常は５〜７０質量％、特に２５〜６０質量％とすることが好ましい。
上記ハードコート層形成用組成物には、ハードコート層の硬度を高くする、硬化収縮を抑える、屈折率を制御する、防眩性を付与する等の目的に応じて、樹脂、分散剤、界面活性剤、公知の帯電防止剤、シランカップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、易滑剤等の添加剤を添加していてもよい。
【００５１】
上記ハードコート層形成用組成物の調製方法としては各成分を均一に混合できれば特に限定されず、例えば、ペイントシェーカー、ビーズミル、ニーダー、ミキサー等の公知の装置を使用して行うことができる。
【００５２】
上記ハードコート層を形成する工程は、具体的には、上記ハードコート層形成用組成物を光透過性基材及び保護層上に塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を硬化することによって行われる。
上記塗布の方法としては特に限定されず、例えば、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、ダイコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ピードコーター法等の公知の方法を挙げることができる。
【００５３】
上記塗膜の硬化としては特に限定されないが、必要に応じて乾燥し、そして加熱、活性エネルギー線照射等により硬化させて形成することが好ましい。
【００５４】
上記活性エネルギー線照射としては、紫外線又は電子線による照射が挙げられる。上記紫外線源の具体例としては、例えば、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯等の光源が挙げられる。また、紫外線の波長としては、１９０〜３８０ｎｍの波長域を使用することができる。上記電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、又は直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。
【００５５】
本発明の光学積層体において、上記ハードコート層の膜厚（硬化時）は、３．０〜２０μｍであることが好ましい。３．０μｍ未満であると、鉛筆硬度がＨ未満となり、ハードコート性が不足することがある。２０μｍを超えると、フィルムの屈曲性が不足し、工程中にクラック（ひび割れ）が起きやすくなる。上記ハードコート層の膜厚（硬化時）のより好ましい下限は５μｍ、より好ましい上限は１５μｍである。
なお、上記ハードコート層の膜厚は、光透過性基材上に形成されたハードコート層の断面を電子顕微鏡（ＳＥＭ、ＴＥＭ、ＳＴＥＭ）で観察し、測定した値である。
【００５６】
本発明の光学積層体は光透過性基材を有する。
上記光透過性基材としては、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度に優れたものが好ましい。
上記光透過性基材を形成する材料の具体例としては、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、又は、ポリウレタン等の熱可塑性樹脂が挙げられ、好ましくはポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、セルローストリアセテートが挙げられる。
【００５７】
上記光透過性基材は、上記熱可塑性樹脂を柔軟性に富んだフィルム状体として使用することが好ましいが、硬化性が要求される使用態様に応じて、これら熱可塑性樹脂の板を使用することも可能であり、又は、ガラス板の板状体のものを使用してもよい。
【００５８】
その他、上記光透過性基材としては、脂環構造を有した非晶質オレフィンポリマー（Ｃｙｃｌｏ−Ｏｌｅｆｉｎ−Ｐｏｌｙｍｅｒ：ＣＯＰ）フィルムも挙げられる。これは、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素系重合体等が用いられる基材で、例えば、日本ゼオン社製のゼオネックスやゼオノア（ノルボルネン系樹脂）、住友ベークライト社製のスミライトＦＳ−１７００、ＪＳＲ社製  アートン（変性ノルボルネン系樹脂）、三井化学社製  のアペル（環状オレフィン共重合体）、Ｔｉｃｏｎａ社製のＴｏｐａｓ（環状オレフィン共重合体）、日立化成社製のオプトレッツＯＺ−１０００シリーズ（脂環式アクリル樹脂）等が挙げられる。
また、トリアセチルセルロースの代替基材として旭化成ケミカルズ社製のＦＶシリーズ（低複屈折率、低光弾性率フィルム）も好ましい。
【００５９】
上記光透過性基材の厚さとしては、２０〜３００μｍであることが好ましく、より好ましくは上限が２００μｍであり、下限が３０μｍである。上記光透過性基材が板状体の場合には、これらの厚さを超える厚さであってもよい。
上記光透過性基材は、その上に上述したハードコート層等を形成するのに際して、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理のほか、アンカー剤若しくはプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行ってもよい。
【００６０】
上記光学積層体は、また、光透過性等が損なわれない範囲内で、必要に応じて他の層（帯電防止層、防眩層、低屈折率層、防汚層、接着剤層、他のハードコート層等）の１層又は２層以上を適宜形成することができる。なかでも、帯電防止層、防眩層、低屈折率層及び防汚層のうち少なくとも一層を有することが好ましい。これらの層は、公知の光学積層体と同様のものを採用することができる。
【００６１】
上記光学積層体は、全光線透過率が９０％以上であることが好ましい。９０％未満であると、本発明の偏光板一体型光学積層体を画像表示装置の表面に装着した場合において、色再現性や視認性を損なうおそれがある。上記全光線透過率は、９５％以上であることがより好ましく、９８％以上であることが更に好ましい。
【００６２】
また、上記光学積層体は、ヘイズが１％未満であることが好ましく、０．５％未満であることがより好ましい。また、公知の防眩層を形成した場合のように、上記光学積層体に防眩性を付与した場合、上記ヘイズは、８０％未満であることが好ましい。上記防眩層は、内部拡散によるヘイズと、最表面の凹凸形状によるヘイズからなってよく、内部拡散によるヘイズは、３．０％以上７９％未満であることが好ましく、１０％以上５０％未満であることがより好ましい。最表面のヘイズは、１％以上３５％未満であることが好ましく、１％以上２０％未満であることがより好ましく、１％以上１０％未満であることが更に好ましい。
【００６３】
また、上記光学積層体は、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４（１９９９）による鉛筆硬度試験（荷重４．９Ｎ）において、２Ｈ以上であることが好ましく、３Ｈ以上であることがより好ましい。また、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
【００６４】
上記構成からなる光学積層体を備えた本発明の偏光板一体型光学積層体は、上記光透過性基材上に上述した遮蔽層及び保護層を形成し、更に、該光透過性基材及び保護層上に上記ハードコート層を形成した後、上記光学積層体の光透過基材と偏光素子フィルムを公知の水のり等を用いて貼り付けることで製造することができる。上記光学積層体を構成する各部材の製造方法は上述した通りである。
【００６５】
本発明の偏光板一体型光学積層体は、画像表示パネルのドライバＩＣを表示画面側から隠蔽する遮蔽層が所定の位置に設けられたものであるため、薄膜化を好適に図ることができるとともに、従来の画像表示装置のようにベゼルを設ける必要がないため画像表示面のフラット化も図ることができる。
なお、上記画像表示パネルのドライバＩＣとしては特に限定されず、従来公知の画像表示パネルにおいて用いられるものが挙げられる。
【００６６】
本発明の偏光板一体型光学積層体は、画像表示装置の最表面に配設される。
上記画像表示装置としては、例えば、ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＦＥＤ、ＥＬＤ（有機ＥＬ、無機ＥＬ）、ＣＲＴ、タブレットＰＣ、タッチパネル、電子ペーパー等の画像表示装置であってもよい。
このような最表面に本発明の偏光板一体型光学積層体を備える画像表示装置もまた、本発明の一つである。
【００６７】
上記の代表的な例であるＬＣＤは、透過性画像表示パネルと、上記透過性画像表示パネルを背面から照射する光源装置とを備えてなるものである。上記画像表示装置がＬＣＤである場合、この透過性画像表示パネルの表面に、本発明の偏光板一体型光学積層体が形成されてなるものである。
【００６８】
本発明が上記偏光板一体型光学積層体を有する液晶表示装置の場合、光源装置の光源は偏光板一体型光学積層体の下側から照射される。なお、ＳＴＮ型の液晶表示装置には、液晶表示素子と偏光板との間に、位相差板が挿入されてよい。この液晶表示装置の各層間には必要に応じて接着剤層が設けられてよい。
【００６９】
上記ＰＤＰは、表面ガラス基板（表面に電極を形成）と当該表面ガラス基板に対向して間に放電ガスが封入されて配置された背面ガラス基板（電極及び微小な溝を表面に形成し、溝内に赤、緑、青の蛍光体層を形成）とを備えてなるものである。本発明の画像表示装置がＰＤＰである場合、上記表面ガラス基板の表面、又はその前面板（ガラス基板又はフィルム基板）に上述した偏光板一体型光学積層体を備えるものでもある。
【００７０】
上記画像表示装置は、電圧をかけると発光する硫化亜鉛、ジアミン類物質等の発光体をガラス基板等に設け、基板にかける電圧を制御して表示を行うＥＬＤ装置、又は、電気信号を光に変換し、人間の目に見える像を発生させるＣＲＴなどの画像表示装置であってもよい。この場合、上記のような各表示装置の最表面又はその前面板の表面に上述した偏光板一体型光学積層体を備えるものである。なお、ＥＬＤにおいては、上記偏光板一体型光学積層体の上記光学積層体とは反対側の上記偏光素子面にはλ／４板が積層されることで外光反射を防止することができる。
【００７１】
本発明の画像表示装置は、いずれの場合も、テレビジョン、コンピュータ、電子ペーパー、タッチパネル、タブレットＰＣなどのディスプレイ表示に使用することができる。特に、ＣＲＴ、液晶パネル、ＰＤＰ、ＥＬＤ、ＦＥＤ、タッチパネル等の高精細画像用ディスプレイの表面に好適に使用することができる。
【発明の効果】
【００７２】
本発明は、上述した構成からなるものであるため、薄膜化が可能で、かつ、画像表示装置の表示画面をフラットなものとすることができる。
このため、本発明の偏光板一体型光学積層体は、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、電子ペーパー等に好適に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００７３】
【図１】本発明の偏光板一体型光学積層体の一例を模式的に示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００７４】
本発明の内容を下記の実施例により説明するが、本発明の内容はこれらの実施態様に限定して解釈されるものではない。また、特別に断りの無い限り、「部」及び「％」は質量基準である。
【００７５】
（実施例１）
光透過性基材として厚み６０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣフィルム、屈折率１．４８）の一方の面に、ウレタン樹脂にカーボンブラック顔料、溶剤、添加剤等を混練してなる遮蔽層用組成物（黒色インキ）（製品名：ＳＳ８０５墨、大日精化工業社製）を用い、グラビア印刷法により幅１２ｍｍの枠状の遮蔽層を光透過性基材の外周に沿って設けた。なお、黒色インキには、光透過性基材との密着性強化のため、イソシアネート系硬化剤（製品名：ラミックＢハードナー、大日精化工業社製）を５部添加した。また、遮蔽層は、蛍光灯が透過して見えないように同じ版で黒色インキを３度重ね印刷して充分隠蔽性のある遮蔽層（厚み３．５μｍ）とした。
遮蔽層の厚みは、デジマチックインジケーターＩＤ−Ｈ０５３０（Ｍｉｔｕｔｏｙｏ社製）を用いて、遮蔽層印刷層上を縦横方向にそれぞれ１００ｍｍ間隔で３点測定し、その平均値を印刷厚みとした。
次いで、グラビア印刷法により遮蔽層を完全に被覆するように透明な保護層を設けた。
保護層は、後工程のハードコート層塗工の際、含有溶剤によるアタックを抑えるべく、アクリルポリオール樹脂に塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂を混合した保護層用組成物（製品名：ＶＭ−Ｄメヂウム、大日精化工業社製）にイソシアネート系硬化剤（製品名：ＰＴＣ−Ｌ８（改）硬化剤、大日精化工業社製）を１０部添加して使用した。保護層の厚みは、遮蔽層同様に測定した結果、１．５μｍであった。
また、遮蔽層について、保護層上から透過濃度を測定した。透過濃度は、透過濃度計３６１Ｔ（Ｘ−Ｒｉｔｅ社製）を用い、上記同様に１００ｍｍ間隔で３点測定し、その平均値を透過濃度とした。透過濃度は、５．０であった。
次いで、電離放射線硬化性樹脂である、Ｍ９０５０（東亞合成社製）、ＵＶ１７００Ｂ（日本合成社製）及び光重合開始剤であるイルガキュア１８４（ＢＡＳＦ社製）を組み合わせたものを、ハードコート層形成用組成物として、光透過性基材及び保護層上に塗布し、紫外線照射で樹脂を半硬化させて、厚み１０μｍのハードコート被膜を形成した。
次に、形成したハードコート被膜の上に、中空状シリカ粒子、ＰＥＴ−３０（日本化薬社製）、Ｘ−２１−１６４Ｅ（信越化学工業社製）及び光重合開始剤であるイルガキュア１２７（ＢＡＳＦ社製）を組み合わせたものを、低屈折率層用組成物として塗布し、紫外線照射で含有する樹脂を硬化させて、厚み１００ｎｍの低屈折率層を形成するとともに、ハードコート被膜も完全に硬化させてハードコート層とし、反射防止性能を備えた光学積層体を作製した。作製した光学積層体については、ハードコート層側から遮蔽層の透過濃度を測定した。透過濃度は、透過濃度計３６１Ｔ（Ｘ−Ｒｉｔｅ社製）を用い、１００ｍｍ間隔で３点測定し、その平均値を透過濃度とした。その結果、遮蔽層の透過濃度は、５．０であった。
本実施例で作製した光学積層体は、遮蔽層が充分な厚み及び透過濃度を有しており、ドライバＩＣ等を問題なく遮蔽することができた。
【００７６】
得られた光学積層体に、偏光子、偏光子保護シートの順に貼り合せ、偏光板を作製した。偏光板は、ＰＶＡ系フィルムを一軸延伸する工程、該ＰＶＡ系フィルムを二色性色素で染色して、その二色性色素を吸着させる工程、二色性色素が吸着されたＰＶＡ系フィルムをホウ酸水溶液で処理する工程、ホウ酸水溶液による処理後に水洗する工程、及び、これらの工程が施されて二色性色素が吸着配向された一軸延伸ＰＶＡ系フィルムを偏光子とし、得られた光学積層体を該偏光子の一方の面に、偏光子保護シートを他方の面に貼り付ける工程を経て製造した。
【００７７】
（参考例１）
黒色インキの印刷回数を１回とした以外は、実施例１と同様にして遮蔽層（厚み１．５μｍ）を光透過性基材の一方の面に形成した。
その後、実施例１と同様にして、透明保護層、ハードコート層及び低屈折率層を設け、反射防止性能を備えた光学積層体を作製した。
参考例１で作製した光学積層体について実施例１と同様に遮蔽層の透過濃度を測定したところ、透過濃度が１．８しかなく、ドライバＩＣ等を充分遮蔽することができなかった。
【００７８】
遮蔽層及び保護層を有さず、ベゼルを備え付けた市販の画像表示装置（ＢＲＡＶＩＡ  ＫＤＬ−３２ＥＸ７２０（ＳＯＮＹ社製）、ＲＥＧＺＡ  ４６ＺＸ９０００（東芝社製））と、実施例１で得られた偏光板を用いた画像表示装置とを見た目で比較した。
その結果、本発明の偏光板を用いた画像表示装置は、フラット性や薄さにおいて、ベゼルを備え付けた市販の画像表示装置より優れていることを確認した。
【００７９】
（比較例１）
保護層を形成しなかった以外は、実施例１と同様にして光学積層体を作製した。
その結果、遮蔽層にハードコート層塗工で使用した、浸透性溶剤が浸透し、遮蔽層が侵食され、外観が悪化した。また、光透過性基材と遮蔽層との密着性も悪化した。
【産業上の利用可能性】
【００８０】
本発明の偏光板一体型光学積層体は、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、タッチパネル、電子ペーパー、タブレットＰＣ等に好適に適用することができる。
【符号の説明】
【００８１】
１０  偏光板一体型光学積層体
１１  偏光素子フィルム
１２  光透過性基材
１３  遮蔽層
１４  保護層
１５  ハードコート層
【図１】
2013225080.tif 000006