Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月7日(2014.11.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】オキサジアゾール誘導体
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｇ１）で表されるオキサジアゾール誘導体。
【化１】
2012121883.tif 000001
（但し、式（Ｇ１）中、Ｒ１は、炭素数１〜４のアルキル基、置換又は無置換の炭素数６〜１３のアリール基のいずれか一を示す。また、式（Ｇ１）中、Ｒ２１〜Ｒ２７は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、置換又は無置換の炭素数６〜１３のアリール基のいずれか一を示す。また、式（Ｇ１）中、αは、置換又は無置換の炭素数６〜１３のアリーレン基のいずれか一を示す。また、式（Ｇ１）中、Ｚは、硫黄原子又は酸素原子のいずれか一を示す。）
【請求項２】
式（Ｇ２）で表されるオキサジアゾール誘導体。
【化２】
2012121883.tif 000002
（但し、式（Ｇ２）中、Ｒ２１〜Ｒ２７は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、置換又は無置換の炭素数６〜１３のアリール基のいずれか一を示す。また、式（Ｇ２）中、α及びβは、それぞれ独立に、置換又は無置換の炭素数６〜１３のアリーレン基のいずれか一を示す。また、式（Ｇ２）中、Ｚは、硫黄原子又は酸素原子のいずれか一を示す。）
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記式（Ｇ１）及び前記式（Ｇ２）中のα及びβは、それぞれ独立に、置換又は無置換のフェニレン基、または置換又は無置換のビフェニルジイル基のいずれか一であるオキサジアゾール誘導体。
【請求項４】
請求項１または請求項２において、
前記式（Ｇ１）及び前記式（Ｇ２）中のα及びβは、それぞれ独立に、置換又は無置換のフェニレン基のいずれか一であるオキサジアゾール誘導体。
【請求項５】
請求項１または請求項２において、
前記式（Ｇ１）及び前記式（Ｇ２）中のα及びβは、それぞれ独立に、下記式（１−１）乃至（１−１５）で表される構造のいずれか一であるオキサジアゾール誘導体。
【化３】
2012121883.tif 000003
【請求項６】
式（Ｇ１−１）で表されるオキサジアゾール誘導体。
【化４】
2012121883.tif 000004
（但し、式（Ｇ１−１）中、Ｒ１は、炭素数１〜４のアルキル基、置換又は無置換の炭素数６〜１３のアリール基のいずれか一を示す。また、式（Ｇ１−１）中、Ｒ２１〜Ｒ２７は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、置換又は無置換の炭素数６〜１３のアリール基のいずれか一を示す。また、式（Ｇ１−１）中、Ｚは、硫黄原子又は酸素原子のいずれか一を示す。）
【請求項７】
式（Ｇ２−１）で表されるオキサジアゾール誘導体。
【化５】
2012121883.tif 000005
（但し、式（Ｇ２−１）中、Ｒ２１〜Ｒ２７は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、置換又は無置換の炭素数６〜１３のアリール基のいずれか一を示す。また、式（Ｇ２−１）中、Ｚは、硫黄原子又は酸素原子のいずれか一を示す。）
【請求項８】
式（１００）、（１０１）、（１２８）、（２００）のいずれか一で表されるオキサジアゾール誘導体。
【化６】
2012121883.tif 000006
【化７】
2012121883.tif 000007
【化８】
2012121883.tif 000008
【化９】
2012121883.tif 000009
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月5日(2013.12.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記化学式１〜化学式５：
【化１】
2012121822.tif 000001
【化２】
2012121822.tif 000002
式中、Ｒは、−ＳＯ2Ｍｅで表される基、または下記式：
【化３】
2012121822.tif 000003
で表される基である、
【化４】
2012121822.tif 000004
式中、Ｙは、下記式：
【化５】
2012121822.tif 000005
式中、Ｈａｌは、ハロゲン原子を表し、Ｂｏｃは、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基を表す、
のいずれかで表される基を表す、
のいずれかで表される化合物を有効成分として含有する、抗インフルエンザウイルス剤。
【請求項２】
請求項１に記載の化学式１〜化学式５のいずれかで表される化合物を有効成分として含有する、インフルエンザウイルス感染症の予防および／または治療剤。
【請求項３】
請求項１に記載の化学式１〜化学式５のいずれかで表される化合物の有効量を、必要とする患者に投与することを含む、インフルエンザウイルス感染症の予防および／または治療方法。
【請求項４】
下記化学式４で表される化合物：
【化６】
2012121822.tif 000006
式中、Ｒは、下記式：
【化７】
2012121822.tif 000007
で表される基である。
【請求項５】
下記化学式５で表される化合物：
【化８】
2012121822.tif 000008
式中、Ｙは、下記式：
【化９】
2012121822.tif 000009
で表される基である。
【請求項６】
３−メトキシ−４−［（メチルスルホニル）オキシ］−安息香酸メチルを有効成分として含有する抗インフルエンザウイルス剤。
【請求項７】
４−（４−メチル−１−ピペラジニル）−チエノ［２，３−ｄ］ピリミジン塩酸塩を有効成分として含有する抗インフルエンザウイルス剤。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月9日(2013.12.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フノリ科フノリ属の海藻の抽出物を有効成分とすることを特徴とする化粧料。
【請求項２】
フノリ科フノリ属の海藻の抽出物に対して、活性炭処理を施して得られる処理物を有効成分とすることを特徴とする化粧料。
【請求項３】
上記フノリ科フノリ属の海藻が、フクロフノリ（Gloiopeltis fucata）又はマフノリ（Gloiopeltis tenax）であることを特徴とする請求項１又は２に記載の化粧料。
【請求項４】
上記フノリ科フノリ属の海藻の抽出物がタンパク質糖化抑制作用を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の化粧料。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】化粧料
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
即ち、本願発明は、フノリ科フノリ属の海藻の抽出物を有効成分とする化粧料に関するものである。
また、上記フノリ科フノリ属の海藻としては、特に、フクロフノリ（Gloiopeltis fucata）又はマフノリ（Gloiopeltis tenax）が好ましい。
なお、ここで、化粧料なる文言は、所謂化粧料のほかに医薬部外品をも含む広義で用いる。
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月29日(2013.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式［１］で示されることを特徴とする、インドロフェノキサジン化合物。
【化１】
2012121867.tif 000001
（式［１］において、Ｒ1乃至Ｒ4は、それぞれ水素原子又は炭素数１乃至４のアルキル基である。ｎは、０乃至３の整数である。）
【請求項２】
Ｒ1乃至Ｒ4が全て水素原子であることを特徴とする、請求項１に記載のインドロフェノキサジン化合物。
【請求項３】
下記一般式［２］で示される化合物であることを特徴とする、請求項１又は２に記載のインドロフェノキサジン化合物。
【化２】
2012121867.tif 000002
（式［２］において、Ｌは、単結合、ｍ−フェニレン基及びｐ−フェニレン基から選ばれる。）
【請求項４】
陽極と陰極と、
前記陽極と前記陰極との間に配置された有機化合物層と、を有する有機発光素子において、
前記有機化合物層に、請求項１乃至３のいずれか一項に記載のインドロフェノキサジン化合物が含まれることを特徴とする有機発光素子。
【請求項５】
前記有機化合物層が、発光層と、前記発光層に接するホール輸送層又はホール注入層と、を有し、
前記インドロフェノキサジン化合物が、ホール注入層又はホール輸送層に含まれることを特徴とする、請求項４に記載の有機発光素子。
【請求項６】
前記発光層に燐光発光材料が含まれることを特徴とする、請求項５に記載の有機発光素子。
【請求項７】
前記燐光発光材料がイリジウム錯体であることを特徴とする、請求項６に記載の有機発光素子。
【請求項８】
前記有機化合物層が、ホール輸送層と、発光層と、電子輸送層とを有し、
前記ホール輸送層が、前記インドロフェノキサジン化合物を有することを特徴とする、請求項４に記載の有機発光素子。
【請求項９】
前記有機化合物層が、ホール注入層と、ホール輸送層と、発光層とを有し、
前記ホール輸送層が、前記インドロフェノキサジン化合物を有することを特徴とする、請求項４に記載の有機発光素子。
【請求項１０】
請求項４乃至９の何れか一項に記載の有機発光素子と、前記有機発光素子と接続するスイッチング素子と、を有することを特徴とする、画像表示装置。
【請求項１１】
請求項４乃至９のいずれか一項に記載の有機発光素子を有することを特徴とする、照明装置。
【請求項１２】
露光光源を有する電子写真方式の画像形成装置であって、
前記露光光源が、請求項４乃至９のいずれか一項に記載の有機発光素子を有することを特徴とする、画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月12日(2012.4.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
飽和ホウ酸水溶液を95℃以上98℃で調整した後、活性炭を加えてホウ酸を担持させ、次いで、水分を除去して乾燥させることを特徴とする、活性炭へのホウ酸の担持割合が20〜34％である三塩化ホウ素製造用ホウ酸担持活性炭の製法。
【請求項２】
使用する活性炭の粒径が2〜10mmの粒状のものである、請求項１記載の三塩化ホウ素製造用ホウ酸担持活性炭の製法。
【請求項３】
乾燥を180℃〜200℃で行う、請求項１記載の三塩化ホウ素製造用ホウ酸担持活性炭の製法。
【請求項４】
飽和ホウ酸水溶液が20〜32質量％以上のホウ酸水溶液である、請求項１記載の三塩化ホウ素製造用ホウ酸担持活性炭の製法。
【請求項５】
三塩化ホウ素が高純度三塩化ホウ素である請求項１乃至４記載の製法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月14日(2013.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式［１］乃至［３］で示されることを特徴とするフェナントロチアジアゾール化合物。
【化１】
2012121857.tif 000001
一般式［１］乃至［３］において、
Ａｒは、フェニル基、フェナンスレニル基、フルオレニル基、トリフェニレニル基のいずれかである。
前記Ａｒで表わされる置換基は、炭素数１以上４以下のアルキル基、フェニル基、フェナンスレニル基、フルオレニル基、トリフェニレニル基を置換基として有してよい。
Ｒ１は、炭素数１以上４以下のアルキル基を表し、ｎは０乃至３の整数である。ｎが２または３の場合、複数のＲ１で表わされるアルキル基は同じであっても異なってもよい。Ｒ２およびＲ３は、水素原子あるいは炭素数１以上４以下のアルキル基からそれぞれ独立に選ばれる。
【請求項２】
一対の電極と、前記一対の電極の間に配置された有機化合物層とを有する有機発光素子であって、
前記有機化合物層は請求項１に記載のフェナントロチアジアゾール化合物を有することを特徴とする有機発光素子。
【請求項３】
一対の電極と前記一対の電極の間に配置された発光層とを有する有機発光素子であって、
前記発光層に接するエキシトンブロック層を有し、
前記エキシトンブロック層は請求項１に記載のフェナントロチアジアゾール化合物を有することを特徴とする有機発光素子。
【請求項４】
前記有機化合物層は発光層が燐光発光することを特徴とする請求項２及び請求項３に記載の有機発光素子。
【請求項５】
複数の画素を有し、前記複数の画素は請求項２乃至４のいずれか一項に記載の有機発光素子と前記有機発光素子に接続するスイッチング素子とをそれぞれ有することを特徴とする表示装置。
【請求項６】
画像情報を入力するための入力部と画像を出力するための表示部とを有し、前記表示部は複数の画素を有し、前記複数の画素は請求項２乃至４のいずれか一項に記載の有機発光素子と前記有機発光素子に接続するスイッチング素子をそれぞれ有することを特徴とする画像出力装置。
【請求項７】
請求項２乃至４のいずれか一項に記載の有機発光素子を有することを特徴とする照明装置。
【請求項８】
露光光源を有する電子写真方式の画像形成装置であって、
前記露光光源は請求項２乃至４のいずれか一項に記載の有機発光素子を有することを特徴とする画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月4日(2013.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転駆動する搬送ローラーと、
前記搬送ローラーにより搬送される媒体に印刷を行う記録ヘッドと、
前記搬送ローラーを支持する軸受と、を有し、
前記搬送ローラーは  媒体を搬送する搬送領域に設けられた第１の摩擦層と、媒体を搬送しない非搬送領域に設けられた第２の摩擦層とを含み、
前記第２の摩擦層には、前記搬送ローラーの前記軸受に対する位置決め部材が設けられていることを特徴とする印刷装置。
【請求項２】
前記第２の摩擦層は、前記第１の摩擦層よりも摩擦力が低いことを特徴とする請求項１に記載の印刷装置。
【請求項３】
前記第２の摩擦層よりも前記搬送ローラーにおける軸方向の端部側に位置する領域は、前記第２の摩擦層よりも摩擦力が低いことを特徴とする請求項２記載の印刷装置。
【請求項４】
前記第２の摩擦層よりも前記搬送ローラーにおける軸方向の端部側に位置する領域は、前記第２の摩擦層よりも摩擦力が低いことを特徴とする請求項１記載の印刷装置。
【請求項５】
前記第２の摩擦層は、前記第１の摩擦層よりも摩擦力が低いことを特徴とする請求項４に記載の印刷装置。
【請求項６】
前記第１の摩擦層および第２の摩擦層は無機粒子を含んで構成され、
前記第１の摩擦層における無機粒子の含有率は、前記第２の摩擦層における含有率に比べて低く設定されることを特徴とする請求項２または５に記載の印刷装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】印刷装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、印刷装置、に関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記の課題を解決するために、本発明の印刷装置は、回転駆動する搬送ローラーと、前記搬送ローラーにより搬送される媒体に印刷を行う記録ヘッドと、前記搬送ローラーを支持する軸受と、を有し、前記搬送ローラーは、媒体を搬送する搬送領域に設けられた第１の摩擦層と、媒体を搬送しない非搬送領域に設けられた第２の摩擦層とを含み、前記第２の摩擦層には、前記搬送ローラーの前記軸受に対する位置決め部材が設けられていることを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の印刷装置によれば、摩擦層が設けられた領域に位置決め部材が設けられるため、位置決め部材と搬送ローラーとの間に摩擦力が向上することで位置決め部材にガタツキが生じるのを防止できる。また、印刷領域に形成される摩擦層を利用して位置決め部材の固定を行うため、位置決め部材を固定するために別途に、部品を用意する或いは表面処理を行うといった手間が不要となり、印刷装置における製造コストが増加するのを防止できる。よって、搬送ローラーを簡便且つ確実に所定位置に位置決めすることができるので、紙送りの精度を良好に確保することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成26年2月28日(2014.2.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
駆動源と、
互いに対向し、繋ぎ目を構成する端面を備える円筒軸を含み、前記駆動源により駆動される搬送ローラーと、
前記駆動源の駆動力を前記搬送ローラーに伝えるギア部材と、
前記搬送ローラーにより搬送される被搬送媒体に印刷を行う記録ヘッドと、を備え、
前記搬送ローラーは、前記被搬送媒体の搬送を行う搬送領域と、前記被搬送媒体の搬送を行わない非搬送領域とを含み、
前記繋ぎ目は、非搬送領域における端面同士の距離が搬送領域における端面同士の距離よりも広くなっている離間領域を含み、
前記ギア部材の少なくとも一部は、前記非搬送領域における前記離間領域に入り込んで係合している、
ことを特徴とする印刷装置。
【請求項２】
前記繋ぎ目は、長手方向に延びる繋ぎ目と、前記長手方向に延びる繋ぎ目から周方向に迂回する繋ぎ目とを含み、
前記離間領域は、前記迂回する繋ぎ目において設けられていることを特徴とする請求項１記載の印刷装置。
【請求項３】
前記迂回する繋ぎ目は、前記長手方向に延びる繋ぎ目と交差する方向に突出する凸部および凹み部とで形成され、
前記離間領域は、前記凸部と前記凹み部との間に生じた隙間により形成されていることを特徴とする請求項２記載の印刷装置。
【請求項４】
前記凸部の一部は前記搬送ローラーの外周面から径方向外側に向かって突出していることを特徴とする請求項３に記載の印刷装置。
【請求項５】
前記凸部の延在方向は、前記ローラー本体の搬送動作時における回転方向と一致していることを特徴とする請求項４に記載の印刷装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記の課題を解決するために、本発明の印刷装置は、駆動源と、互いに対向し、繋ぎ目を構成する端面を備える円筒軸を含み、前記駆動源により駆動される搬送ローラーと、前記駆動源の駆動力を前記搬送ローラーに伝えるギア部材と、前記搬送ローラーにより搬送される被搬送媒体に印刷を行う記録ヘッドと、を備え、前記搬送ローラーは、前記被搬送媒体の搬送を行う搬送領域と、前記被搬送媒体の搬送を行わない非搬送領域とを含み、前記繋ぎ目は、非搬送領域における端面同士の距離が搬送領域における端面同士の距離よりも広くなっている離間領域を含み、前記ギア部材の少なくとも一部は、前記非搬送領域における前記離間領域に入り込んで係合している、ことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の搬送ローラーによれば、ギア部材の少なくとも一部は離間領域に入り込んで取り付けられることで搬送ローラーの径方向における回転が規制されるとともに搬送ローラーの長さ方向における位置が固定されたものとなる。すなわち、ギア部材は上記繋ぎ目に取り付けられることによって搬送ローラーに良好に保持されて所定のトルク耐性を備えたものとなる。よって、ギア部材を圧入により搬送ローラーに取り付ける際に圧入力を小さくした場合であっても、上記繋ぎ目によりギア部材のトルク耐性を補うことができる。したがって、中実軸に比べて剛性が低い円筒状の繋ぎ目を有するローラー本体に対し、塑性変形を生じさせない圧入力でギア部材を組み込んだ場合であっても、所望の送り精度を備えた搬送ローラーを備えた印刷装置を提供できる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明の印刷装置によれば、ギア部材がローラー本体に良好に保持されてなる搬送ローラーを備えているので、この印刷装置自体も、高い送り精度を備えた信頼性の高いものとなる。
本発明の印刷装置は、繋ぎ目は、長手方向に延びる繋ぎ目と、長手方向に延びる繋ぎ目から周方向に迂回する繋ぎ目とを含み、離間領域は、迂回する繋ぎ目において設けられていることを特徴とする。
本発明の印刷装置は、迂回する繋ぎ目は、長手方向に延びる繋ぎ目と交差する方向に突出する凸部および凹み部とで形成され、離間領域は、凸部と前記凹み部との間に生じた隙間により形成されていることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月9日(2013.12.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数枚のシートからなるシート束に折り処理を行う折り手段と、
前記折り手段により折り処理されたシート束を搬送する搬送手段と、
前記搬送手段により搬送されたシート束の搬送停止後にシート束の折り目部分を該折り目部分から小口の方向へ向かって押圧することにより前記折り目部分を平坦化するつぶし処理を行うつぶし手段と、
前記つぶし処理を行う場合に前記つぶし処理を行う位置までシート束を搬送するときの搬送速度を前記つぶし処理を行わない場合のシート束の搬送速度よりも遅くするよう前記搬送手段を制御する制御手段と、
を有することを特徴とするシート処理装置。
【請求項２】
前記制御手段は、前記つぶし処理を行う場合の前記搬送手段によるシート束の搬送を停止する前の定速の搬送速度を、前記つぶし処理を行わない場合の搬送手段によるシート束の搬送を停止する前の定速の搬送速度よりも遅くするよう前記搬送手段を制御することを特徴とする請求項１記載のシート処理装置。
【請求項３】
前記搬送手段により搬送されたシート束の搬送停止後にシート束の折り目部分をシート束の両方の面からローラ対で挟持して押圧することにより前記折り目部分の折りを強化するプレス処理を行うプレス手段を有し、
前記制御手段は、前記つぶし処理を行う場合に前記つぶし処理を行う位置までシート束を搬送するときの搬送速度を、前記つぶし処理を行わずに前記プレス処理を行う場合に前記プレス処理を行う位置までシート束を搬送するときの搬送速度よりも遅くするよう前記搬送手段を制御することを特徴とする請求項１または２に記載のシート処理装置。
【請求項４】
前記プレス手段は、前記ローラ対の軸方向の幅の一部でシート束を挟持することを特徴とする請求項３記載のシート処理装置。
【請求項５】
前記ローラ対は、該ローラ対の軸方向が前記搬送手段によるシート束の搬送方向に平行になるように配置されることを特徴とする請求項３または４に記載のシート処理装置。
【請求項６】
前記制御手段は、前記つぶし処理の終了後に、前記つぶし処理を行う位置までシート束を搬送するときの搬送速度よりも速い速度でシート束を搬送するよう前記搬送手段を制御することを特徴とする請求項１記載のシート処理装置。
【請求項７】
前記搬送手段により搬送されたシート束を検知する検知手段と、
前記搬送手段によるシート束の搬送に同期したパルスを発生するパルス発生手段とを有し、
前記制御手段は、前記検知手段がシート束を検知した後の所定数のパルスの発生に応じて前記搬送手段の動作を停止することを特徴とする請求項１〜６のいずれか項に記載のシート処理装置。
【請求項８】
前記制御手段は、前記つぶし処理が実行される場合、前記折り処理されたシート束を第１の速度で定速搬送させ、その後前記第１の速度よりも遅い第２の速度で定速搬送させるよう前記搬送手段を制御することを特徴とする請求項１または２に記載のシート処理装置。
【請求項９】
前記制御手段は、前記つぶし処理がなされたシート束を前記第１の速度で搬送するよう前記搬送手段を制御することを特徴とする請求項８記載のシート処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記の課題を解決するために、本発明のシート処理装置は、複数枚のシートからなるシート束に折り処理を行う折り手段と、前記折り手段により折り処理されたシート束を搬送する搬送手段と、前記搬送手段により搬送されたシート束の搬送停止後にシート束の折り目部分を該折り目部分から小口の方向へ向かって押圧することにより前記折り目部分を平坦化するつぶし処理を行うつぶし手段と、前記つぶし処理を行う場合に前記つぶし処理を行う位置までシート束を搬送するときの搬送速度を前記つぶし処理を行わない場合のシート束の搬送速度よりも遅くするよう前記搬送手段を制御する制御手段と、を有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
図３はプレスユニット８６０等を装置上側から見た平面図である。第２折搬送ローラ８１２の上流にはクランプ部材８９０が設けられている。第２折搬送ローラ８１２の中央部にはシート束を検知するためのシート束検知センサ８８４が配置されている。第２折搬送ローラ８１２の下流にはプレスユニット８６０が設けられ、プレスユニット８６０は矢印方向Ａに移動することでシート束の折り目部に対して処理を実行する。プレスユニット８６０には、プレスローラ８６１ａ、８６１ｂとつぶしローラ８７０が設けられている。プレスローラ８６１ａ、８６１ｂはシート束の折り目部分をシート束の両面から挟持できるように配置されており、シート束の搬送方向に直交する方向へ移動可能となっている。即ち、プレスローラ８６１ａ、８６１ｂの軸方向はシート束の搬送方向に一致する。プレスローラ８６１ａ、８６１ｂが折り目をシート束の両面から押圧した状態で、プレスユニット８６０が折り目に沿って移動することで、折り目が強化される。つぶしローラ８７０はシート束の折り目部に対して、シート束の搬送方向とは反対方向（折り目部から小口の方向）に向かって折り目部を押しつぶせるように配置されており、折り目部に沿ってシート束の搬送方向に直交する方向へ移動可能となっている。なお、小口とは、シート束の折り目部とは反対側の端部のことを指す。シート束がつぶしローラ８７０に搬送方向上流側から押し付けられている状態で、プレスユニット８６０が折り目に沿って移動することで、シートの折り目部の断面がコの字に近い形状に押しつぶされる。また、クランプ部材８９０は、つぶしローラ８７０が折り目部を押しつぶす際に、シート束が搬送方向と逆方向へ移動するのを防ぐためにシート束の把持を行い、シート束を固定させる。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月5日(2013.12.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
被包装物を充填した包装袋を回転ベルト上に載置し、前記包装袋上から真空チャンバーが回転ベルト上に密着して、チャンバー内を負圧として包装袋を真空包装するベルト式真空包装機において、
前記回転ベルトの幅方向に、袋口をシールするためのシール台を配置し、このシール台に沿って長手方向に、袋口押さえ棒を回動自在に軸支し、
回転ベルト上の袋口押さえ棒の端部近傍に前記袋口押さえ棒を跳ね上げる、跳ね上げレバーを軸支し、
回転ベルトの搬出部の近傍で、前記跳ね上げレバーの移動方向前方に、跳ね上げレバーが当接して跳ね上げレバーを回転させて袋口押さえ棒を跳ね上げる当接体を設け、
前記シール台に近接して、滑り台方式の傾斜板を回転ベルト上に固定した、
ことを特徴とするベルト式真空包装機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
本発明は、上記のような課題に鑑み、開口部押え部材（袋口押さえ棒１０）を回転ベルトの搬出部にさしかかる直前に、無理なく反転させて、薄い包装袋でも巻き込まれないような最小限の隙間を保持して搬出シュートを配置し、包装袋が前転することなく搬出シュートを滑り落ち、包装袋の落下の衝撃が少なく、少なくとも表裏が反転することなく、整列した状態で搬出することが可能で、低コストのベルト式真空包装機を提供することを目的とする。
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月26日(2014.9.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｂｉ，Ｆｅ，Ｂａ，Ｔｉ及びＣｏを含むペロブスカイト構造を有する複合酸化物であって、Ｃｏと、Ｃｏ及びＦｅの総量とのモル比であるＣｏ／（Ｃｏ＋Ｆｅ）が、０．０２以上０．０７以下であることを特徴とする圧電材料。
【請求項２】
前記Ｃｏ／（Ｃｏ＋Ｆｅ）が、０．０２以上０．０５以下であることを特徴とする請求項１に記載する圧電材料。
【請求項３】
前記Ｃｏ／（Ｃｏ＋Ｆｅ）が、０．０５以上０．０７以下であることを特徴とする請求項１に記載する圧電材料。
【請求項４】
前記複合酸化物が、さらにＭｎを含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載する圧電材料。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の圧電材料からなる圧電体層と、前記圧電体層を挟む２つの電極とを具備することを特徴とする圧電素子。
【請求項６】
ノズル開口に連通する圧力発生室と、請求項５に記載の圧電素子と、を具備することを特徴とする液体噴射ヘッド。
【請求項７】
請求項６に記載する液体噴射ヘッドを具備することを特徴とする液体噴射装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記課題を解決する本発明の態様は、Ｂｉ，Ｆｅ，Ｂａ，Ｔｉ及びＣｏを含むペロブスカイト構造を有する複合酸化物であり、Ｃｏと、Ｃｏ及びＦｅの総量とのモル比であるＣｏ／（Ｃｏ＋Ｆｅ）が、０．０２以上０．０７以下であることを特徴とする圧電材料にある。
かかる態様では、Ｂｉ，Ｆｅ，Ｂａ及びＴｉと、所定量のＣｏを含むペロブスカイト構造を有する複合酸化物からなる圧電材料を、圧電素子の圧電体層として利用することにより、圧電体層のクラックの発生や成長を抑制することができる。また、鉛の含有量を抑えられるため、環境への負荷を低減できる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の他の態様は、上記圧電材料からなる圧電体層と、前記圧電体層を挟む２つの電極とを具備することを特徴とする圧電素子にある。また、本発明の他の態様は、ノズル開口に連通する圧力発生室と、上記圧電素子と、を具備することを特徴とする液体噴射ヘッドにある。また、本発明の他の態様は、上記態様の液体噴射ヘッドを具備することを特徴とする液体噴射装置にある。かかる態様では、クラックの発生や成長が抑制された圧電体層を有するため、信頼性に優れた圧電素子、液体噴射ヘッド、あるいは液体噴射装置となる。また、鉛の含有量を抑えられるため、環境への負荷を低減できる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７４】
この結果、焼成温度が５００℃、６００℃と低いサンプル１１、１２は、結晶化が不十分であり、また、焼成温度が８３０℃と高いサンプル１７は、結晶が崩れかかっていることがわかった。また、焼成温度が７８０℃のサンプル１６では結晶粒が成長しすぎであることもわかった。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７６】
この結果、図１７、図１８に示すように、焼成温度が５００℃、６００℃と低いサンプル１１、１２は、結晶化が不十分であるためか、（１１０）のピーク強度が標準サンプルより低く、また、焼成温度が８３０℃と高いサンプル１７は、結晶が崩れかかっているためか、（１１０）のピーク強度が標準サンプルより低いことがわかり、焼成温度は６８０℃〜７８０℃が好適であることがわかった。また、試験例６の表面モフォロジーを考慮すると、焼成温度は６８０℃〜７５０℃がさらに好ましいことがわかった。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７８】
この結果、焼成温度が５００℃と低いサンプル１１では、耐圧、リーク電圧が低く、焼成温度が高くなるにつれて、耐圧、リーク電圧が高くなっていく傾向がわかった。また、焼成温度が７５０℃を越えた焼成温度が７８０℃のサンプル１６では、７５０℃のサンプル１５より耐圧、リーク電圧が低くなり、焼成温度が８３０℃のサンプル１７では耐圧、リーク電圧が最もわるいことがわかった。よって、耐圧、リーク電圧のよいのは、焼成温度が６８０℃〜７５０℃のサンプル１３〜１５であることがわかった。
【手続補正書】
【提出日】平成26年8月22日(2014.8.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録媒体（１０）に印刷するためのインクプリンタにおいて、
−前記記録媒体（１０）にインク滴を加圧して吐出する少なくとも１つのプリントヘッド（１２）を備えており、
−インクを前記プリントヘッド（１２）に必要に応じて供給する中間インク容器（３０）を備えており、
−脱気されることになるインクが供給されて、かつ、該インクを脱気後に脱気流入部（３４）を介して前記中間インク容器（３０）に案内する、脱気装置（２６）を備えており、
前記脱気流入部（３４）から流れるインクがまず半径方向に、前記中間インク容器（３０）の底部（４５）に向かって所定の傾斜角度（α）を成して流出して、前記底部（４５）によって変向され、次いで前記中間インク容器（３０）の容器壁（４６）によって変向されるように、少なくとも１つの流れ方向付与部が、インクで満たされている前記中間インク容器（３０）の領域の内側において底部（４５）に対して間隔を持って前記底部（４５）に向かって傾いて配置されており、これによりインク流が前記中間インク容器（３０）において形成され、前記インク流により前記中間インク容器（３０）内においてインクの混合が行われることを特徴とする、記録媒体に印刷するためのインクプリンタ。
【請求項２】
前記傾斜角度（α）は前記中間インク容器（３０）の底部に対して２０〜５０°であり、有利には４０〜４５°であることを特徴とする、請求項１記載のインクプリンタ。
【請求項３】
前記脱気流入部（３４）の開口を傾けた位置において、前記中間インク容器（３０）の底部（４５）に対して間隔を置いて保持する保持部が設けられていることを特徴とする、請求項２記載のインクプリンタ。
【請求項４】
前記脱気流入部（３４）は前記中間インク容器（３０）に下方、側方又は上方から供給されることを特徴とする、請求項１記載のインクプリンタ。
【請求項５】
前記プリントヘッド（１２）にインクを供給する、前記中間インク容器（３０）内にあるインク流出部（３２）の開口が、形成されたインク流の下流側にかつ前記脱気流入部（３４）の開口に対して直径方向に相対して配置されていることを特徴とする、請求項１記載のインクプリンタ。
【手続補正書】
【提出日】平成26年8月7日(2014.8.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１５】
前記ニードル保管デバイスにニードルシールドを係合させて使用済みのニードルを解放するステップであり、前記解放により、第１のばねによって押しやられるにつれて末端方向に前記使用済みのニードルが移動し、第２のばねによって押しやられるにつれて前記ディスク上の前記放射状位置に前記使用済みのニードルが移動する、ステップをさらに含むことを特徴とする請求項１４に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2012045385.tif 000001
【図２Ａ】
2012045385.tif 000002
【図２Ｂ】
2012045385.tif 000003
【図２Ｃ】
2012045385.tif 000004
【図３】
2012045385.tif 000005
【図４】
2012045385.tif 000006
【図５】
2012045385.tif 000007
【図６】
2012045385.tif 000008
【図７Ａ】
2012045385.tif 000009
【図７Ｂ】
2012045385.tif 000010
【図８】
2012045385.tif 000011
【図９Ａ】
2012045385.tif 000012
【図９Ｂ】
2012045385.tif 000013
【図９Ｃ】
2012045385.tif 000014
【図９Ｄ】
2012045385.tif 000015
【図９Ｅ】
2012045385.tif 000016
【図１０Ａ】
2012045385.tif 000017
【図１０Ｂ】
2012045385.tif 000018
【図１０Ｃ】
2012045385.tif 000019
【図１０Ｄ】
2012045385.tif 000020
【図１１Ａ】
2012045385.tif 000021
【図１１Ｂ】
2012045385.tif 000022
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月13日(2014.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
中間転写体の画像形成面にインクジェットデバイスを用いてインクを付与することにより中間画像を形成する中間画像形成工程と、前記中間画像を記録媒体に圧着して前記中間画像を前記画像形成面から前記記録媒体へ転写する転写工程とを有する転写型インクジェット記録方法に用いる中間転写体であって、
表層部に、下記一般式（１）で表される有機ケイ素化合物を縮合して得られる化合物を有することを特徴とする中間転写体。
一般式（１）  Ｘ−Ｓｉ（ＯＲ１）ａ（Ｒ２）ｂ
（式中、Ｘはビニル基または環状エーテル基を有する置換基、Ｒ１は炭素数１〜４のアルキル基または水素原子、Ｒ２は炭素数１〜２０のアルキル基、ａは１〜３の自然数、ｂは０〜２の整数を表す。但し、ａ＋ｂ＝３である。）
【請求項２】
前記一般式（１）におけるＸ−が、下記式（ａ）又は（ｂ）である請求項１に記載の中間転写体。
式（ａ）
【化１】
2012045922.tif 000001
（式（ａ）中、Ｒ５は炭素数１〜５のアルキレン基であり、Ｒ６は炭素数１〜４のアルキレン基であり、Ｒ７は水素原子又はメチル基である。）
式（ｂ）
【化２】
2012045922.tif 000002
（式（ｂ）中、Ｒ５は炭素数１〜５のアルキレン基であり、Ｒ６は炭素数１〜４のアルキレン基である。）
【請求項３】
前記化合物が、前記一般式（１）で表される有機ケイ素化合物と下記一般式（２）で表される有機ケイ素化合物とを縮合して得られる化合物である請求項１又は２に記載の中間転写体。
一般式（２）  Ｓｉ（ＯＲ３）ｃ（Ｒ４）ｄ
（式中、Ｒ３は炭素数１〜４のアルキル基または水素原子、Ｒ４は炭素数１〜２０のアルキル基、ｃ及びｄは各々１〜３の自然数を表す。但し、ｃ＋ｄ＝４である。）
【請求項４】
前記一般式（１）における、前記ａ及び前記ｃが、ａ＋ｃ≧４を満たす請求項３に記載の中間転写体。
【請求項５】
前記一般式（１）における、前記ａ及び前記ｃが、ａ≧２かつｃ≧２を満たす請求項３又は４に記載の中間転写体。
【請求項６】
中間転写体の画像形成面にインクジェットデバイスを用いてインクを付与することにより中間画像を形成する中間画像形成工程と、前記中間画像を記録媒体に圧着して前記中間画像を前記画像形成面から前記記録媒体へ転写する転写工程とを有する転写型インクジェット記録方法であって、
前記中間転写体が、表層部に、下記一般式（１）で表される有機ケイ素化合物を縮合して得られる化合物を有することを特徴とする転写型インクジェット記録方法。
一般式（１）  Ｘ−Ｓｉ（ＯＲ１）ａ（Ｒ２）ｂ
（式中、Ｘはビニル基または環状エーテル基を有する置換基、Ｒ１は炭素数１〜４のアルキル基または水素原子、Ｒ２は炭素数１〜２０のアルキル基、ａは１〜３の自然数、ｂは０〜２の整数を表す。但し、ａ＋ｂ＝３である。）
【請求項７】
前記一般式（１）におけるＸ−が、下記式（ａ）又は（ｂ）である請求項６に記載の転写型インクジェット記録方法。
式（ａ）
【化３】
2012045922.tif 000003
（式（ａ）中、Ｒ５は炭素数１〜５のアルキレン基であり、Ｒ６は炭素数１〜４のアルキレン基であり、Ｒ７は水素原子又はメチル基である。）
式（ｂ）
【化４】
2012045922.tif 000004
（式（ｂ）中、Ｒ５は炭素数１〜５のアルキレン基であり、Ｒ６は炭素数１〜４のアルキレン基である。）
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】中間転写体及び転写型インクジェット記録方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は中間転写体及び係る中間転写体を用いた転写型インクジェット記録方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
従って、本発明は、インクや凝集液が良好に塗布され、かつ繰り返し転写を行っても表面の撥水性が低下しにくい中間転写体及び係る中間転写体を用いた転写型インクジェット記録方法を提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
前記目的を達成する本発明は、中間転写体の画像形成面にインクジェットデバイスを用いてインクを付与することにより中間画像を形成する中間画像形成工程と、前記中間画像を記録媒体に圧着して前記中間画像を前記画像形成面から前記記録媒体へ転写する転写工程とを有する転写型インクジェット記録方法に用いる中間転写体であって、表層部に、下記一般式（１）で表される有機ケイ素化合物を縮合して得られる化合物を有することを特徴とする中間転写体。
一般式（１）  Ｘ−Ｓｉ（ＯＲ１）ａ（Ｒ２）ｂ
（式中、Ｘはビニル基または環状エーテル基を有する置換基、Ｒ１は炭素数１〜４のアルキル基または水素原子、Ｒ２は炭素数１〜２０のアルキル基、ａは１〜３の自然数、ｂは０〜２の整数を表す。但し、ａ＋ｂ＝３である。）
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明によれば、インクや凝集液が良好に塗布され、かつ繰り返し転写を行っても表面の撥水性が低下しにくい中間転写体及び係る中間転写体を用いた転写型インクジェット記録方法を提供することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月23日(2014.6.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インクを中間転写体の画像形成面にインクジェットデバイスを用いて付与することにより中間画像を形成する中間画像形成工程と、該中間画像を記録媒体に圧着して該中間画像を該画像形成面から該記録媒体へ転写する転写工程とを有する転写型インクジェット記録方法に用いる中間転写体であって、
表面層と、緩衝層と、圧縮層とを、画像形成面側からこの順に有し、
前記表面層の圧縮弾性率Ｅ１、前記緩衝層の圧縮弾性率Ｅ２、前記圧縮層の圧縮弾性率Ｅ３が以下の関係を満足することを特徴とする転写型インクジェット記録用中間転写体。
３００ＭＰａ≦Ｅ１≦１００００ＭＰａ
０．５ＭＰａ≦Ｅ２≦３０．０ＭＰａ
（Ｅ１／１０）＞Ｅ２＞Ｅ３
【請求項２】
前記表面層の厚さが、０．０１μｍ以上２．０μｍ以下である請求項１に記載の転写型インクジェット記録用中間転写体。
【請求項３】
前記圧縮層の圧縮弾性率Ｅ３が、１．０ＭＰａ以上７．０ＭＰａ以下である請求項１又は２に記載の転写型インクジェット記録用中間転写体。
【請求項４】
前記圧縮層の厚さが、０．１ｍｍ以上１．０ｍｍ以下である請求項１乃至３の何れか１項に記載の転写型インクジェット記録用中間転写体。
【請求項５】
前記緩衝層の厚さが、０．１ｍｍ以上５．０ｍｍ以下である請求項１乃至４の何れか１項に記載の転写型インクジェット記録用中間転写体。
【請求項６】
前記圧縮層が、デュロメータ・タイプＡ硬度が２０°以上８０°以下であるゴムを含有する１乃至５の何れか１項に記載の転写型インクジェット記録用中間転写体。
【請求項７】
前記表面層が、有機ケイ素化合物を縮合して得られる縮合物を含有する請求項１乃至６の何れか１項に記載の転写型インクジェット記録用中間転写体。
【請求項８】
インクを中間転写体の画像形成面にインクジェットデバイスを用いて付与することにより中間画像を形成する中間画像形成工程と、該中間画像を記録媒体に圧着して該中間画像を該画像形成面から該記録媒体へ転写する転写工程とを有する転写型インクジェット記録方法であって、
前記中間転写体が、表面層と、緩衝層と、圧縮層とを、画像形成面側からこの順に有し、
前記表面層の圧縮弾性率Ｅ１、前記緩衝層の圧縮弾性率Ｅ２、前記圧縮層の圧縮弾性率Ｅ３が以下の関係を満足することを特徴とする転写型インクジェット記録方法。
３００ＭＰａ≦Ｅ１≦１００００ＭＰａ
０．５ＭＰａ≦Ｅ２≦３０．０ＭＰａ
（Ｅ１／１０）＞Ｅ２＞Ｅ３
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】転写型インクジェット記録用中間転写体、及び、該中間転写体を用いた転写型インクジェット記録方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は転写型インクジェット記録用中間転写体、及び、該中間転写体を用いた転写型インクジェット記録方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
従って、本発明は、表面でのクラックの発生を抑制し、かつ転写性に優れた転写型インクジェット記録用中間転写体、及び、該中間転写体を用いた転写型インクジェット記録方法を提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
前記目的を達成する本発明は、インクを中間転写体の画像形成面にインクジェットデバイスを用いて付与することにより中間画像を形成する中間画像形成工程と、該中間画像を記録媒体に圧着して該中間画像を該画像形成面から該記録媒体へ転写する転写工程とを有する転写型インクジェット記録方法に用いる中間転写体であって、表面層と、緩衝層と、圧縮層とを、画像形成面側からこの順に有し、前記表面層の圧縮弾性率Ｅ１、前記緩衝層の圧縮弾性率Ｅ２、前記圧縮層の圧縮弾性率Ｅ３が以下の関係を満足することを特徴とする転写型インクジェット記録用中間転写体である。
３００ＭＰａ≦Ｅ１≦１００００ＭＰａ
０．５ＭＰａ≦Ｅ２≦３０．０ＭＰａ
（Ｅ１／１０）＞Ｅ２＞Ｅ３
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明によれば、表面でのクラックの発生を抑制し、かつ転写性に優れた転写型インクジェット記録用中間転写体、及び、該中間転写体を用いた転写型インクジェット記録方法を提供することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月12日(2014.6.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の面と該第１の面と反対側の第２の面とを有するシリコン基板の加工方法であって、
（１）前記第２の面から前記第１の面側に向かって第１の凹部を形成する工程と、
（２）前記第１の凹部の底面にパターン開口を有するパターニングマスクを形成する工程と、
（３）前記第１の凹部の前記第２の面側の開口の一部を遮蔽するように、前記第２の面と平行な遮蔽構造を形成する工程と、
（４）前記第２の面側から反応性イオンエッチングを行い、第２の凹部を形成する工程と、
を有することを特徴とするシリコン基板の加工方法。
【請求項２】
前記第１の凹部は前記第１の凹部の側面と底面の角度が鈍角となるように前記第２の面側に形成され、
前記遮蔽構造は前記シリコン基板の上に形成された遮蔽物からなり、前記第１の凹部への前記第２の面に垂直な光の照射により形成される前記遮蔽物の陰影が前記第１の凹部の側面の少なくとも一部を覆いかつ前記パターン開口を覆わない請求項１に記載のシリコン基板の加工方法。
【請求項３】
前記遮蔽物は、前記陰影が前記第１の凹部の側面の全てを覆うように形成されている請求項２に記載のシリコン基板の加工方法。
【請求項４】
前記遮蔽物は、前記陰影が前記第１の凹部の側面の一部を覆うように形成されている請求項２に記載のシリコン基板の加工方法。
【請求項５】
前記第１の凹部は結晶異方性エッチングにより形成されている請求項１乃至４のいずれかに記載のシリコン基板の加工方法。
【請求項６】
前記第１の凹部の開口面は矩形状であり、
前記シリコン基板の面方向に垂直であって前記第１の凹部の一辺に平行な面による断面のいずれにおいて、
前記遮蔽物は、前記第２の面の前記開口面の端部から面方向に下記式で表されるＡの範囲に亘って形成されている請求項４又は５に記載のシリコン基板の加工方法
３ｔ／４ｔａｎθ  ≦  Ａ  ≦  ｔ／ｔａｎθ
（Ａ：前記開口面の端部から前記遮蔽物の端部までの距離、ｔ：前記第１の凹部の深さ、θ：前記開口面と前記側面との角度（０°＜θ＜９０°））。
【請求項７】
前記遮蔽物は、フィルム状の感光性レジストを前記第２の面に貼り付けた後に、フォトリソグラフィ法によってパターニングして形成される請求項１乃至６のいずれかに記載のシリコン基板の加工方法。
【請求項８】
前記遮蔽物は、パターニングして該遮蔽物の形状を作製した構造物を前記第２の面に貼り合わせることにより形成される請求項１乃至６のいずれかに記載のシリコン基板の加工方法。
【請求項９】
前記第１の凹部は、面方向と平行な面による前記シリコン基板の前記第１の凹部部分の断面のうち、開口面積が前記第１の凹部の開口面より大きくかつ最大となる第１の断面を有し、
該第１の断面は前記開口面と前記底面との間にあり、
前記底面と該底面から前記第１の断面までの第１の側面との角度は鈍角であり、
前記第１の断面から前記開口面までの第２の側面を形成するシリコン基板部分が前記遮蔽構造として機能する請求項１乃至８のいずれかに記載のシリコン基板の加工方法。
【請求項１０】
前記第１の凹部は、前記第１の凹部への前記第２の面と垂直な光の照射により形成される陰影が前記第１の側面の少なくとも一部を覆いかつ前記パターン開口を覆わない形状を有する請求項９に記載のシリコン基板の加工方法。
【請求項１１】
前記第１の凹部は、前記陰影が前記第１の側面の全てを覆うように形成されている請求項１０に記載のシリコン基板の加工方法。
【請求項１２】
前記開口面は矩形状であり、
面方向に垂直であって前記開口面の辺に平行な面による断面のいずれにおいて、
前記第１の側面に形成される前記陰影の端部が、前記底面の端部から面方向にｔ／４ｔａｎθ（ｔ：前記第１の凹部の深さ、θ：前記開口面と前記第１の側面との角度）までの範囲にある請求項１０に記載のシリコン基板の加工方法。
【請求項１３】
前記シリコン基板の前記第２の面の結晶方位は（１００）である請求項１乃至１２のいずれかに記載のシリコン基板の加工方法。
【請求項１４】
前記反応性イオンエッチングは、ボッシュプロセスを用いて行われる請求項１乃至１３のいずれかに記載のシリコン基板の加工方法。
【請求項１５】
請求項１乃至１４のいずれかに記載のシリコン基板の加工方法によって、前記第１の凹部として共通液室を形成し、前記第２の凹部として供給口を形成することを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項１６】
前記シリコン基板の第１の面側に吐出エネルギー発生素子が形成される請求項１５に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
そこで、本発明は、第１の面と該第１の面と反対側の第２の面とを有するシリコン基板の加工方法であって、
（１）前記第２の面から前記第１の面側に向かって第１の凹部を形成する工程と、
（２）前記第１の凹部の底面にパターン開口を有するパターニングマスクを形成する工程と、
（３）前記第１の凹部の前記第２の面側の開口の一部を遮蔽するように、前記第２の面と平行な遮蔽構造を形成する工程と、
（４）前記第２の面側から反応性イオンエッチングを行い、第２の凹部を形成する工程と、
を有することを特徴とするシリコン基板の加工方法である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】