【手続補正書】
【提出日】平成26年4月21日(2014.4.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
特にマイクロリソグラフィー用の光学モジュールであって、
光学素子、および
支持ユニットを有し、
前記光学素子は、回転対称軸を画定する、少なくとも１つの光学的に利用される領域を有し、
該光学素子を支持するために、前記支持ユニットは３つ以上の支持素子を有し、
該支持素子の各々は、第１端部の領域で、該光学素子と結合され、第２端部の領域で、支持構造体と結合され、
少なくとも１つの支持素子は、正確に１つの第１自由度を制限し、
該第１自由度は、回転軸の周りの回転の自由度であって、
該回転軸は、該回転軸が、前記回転対称軸に平行な少なくとも１つの方向成分を有するように配列されることを特徴とする、光学モジュール。
【請求項２】
前記少なくとも１つの支持素子は、複数のピボット接合部を有する少なくとも１つの接合群を備え、
該接合群の各ピボット接合部は、ピボット軸を画定し、
該ピボット接合部の該ピボット軸は、本質的に相互に平行に延びることを特徴とする、請求項１に記載の光学モジュール。
【請求項３】
前記ピボット接合部の前記ピボット軸は、前記回転軸に横断して延びることを特徴とする、請求項２に記載の光学モジュール。
【請求項４】
前記接合群は、３つのピボット接合部を備えることを特徴とする、請求項２または３に記載の光学モジュール。
【請求項５】
前記接合群は、第１ピボット接合部を有する第１接合群であって、それぞれの場合に、第１ピボット軸を画定し、
前記少なくとも１つの支持素子は、複数の第２ピボット接合部、特に２つの第２ピボット接合部を有する第２接合群を備え、
前記接合群の各々の第２ピボット接合部は、第２ピボット軸を画定し、
該第２ピボット軸は、本質的に相互に平行に延び、
第１ピボット軸と第２ピボット軸は相互に横断して延びることを特徴とする、請求項２〜４の何れかに記載の光学モジュール。
【請求項６】
前記第２接合群は、２つの第２ピボット接合部を備えることを特徴とする、請求項５に記載の光学モジュール。
【請求項７】
前記第１ピボット接合部は、前記支持素子を通る支持力の流れの方向に、相互に隣接して配置され、および／または
前記第２ピボット接合部は、前記支持素子を通る支持力の流れの方向に、相互に隣接して配置されることを特徴とする、請求項５または６に記載の光学モジュール。
【請求項８】
前記少なくとも１つの支持素子は、支持セグメントを有し、これは、該支持素子を通る支持力の流れの方向に、前記少なくとも１つの接合群の２つのピボット接合部の間に配置され、
前記光学素子の位置および／または配向を調整するアクチュエータユニットは、前記支持セグメントに係合することを特徴とする、請求項２〜７の何れかに記載の光学モジュール。
【請求項９】
前記アクチュエータユニットは、第１端部および第２端部を有し、
該アクチュエータユニットは、その第１端部の領域で前記支持素子に係合し、
該アクチュエータユニットは、その第２端部の領域で前記支持構造体に係合し、または、
該アクチュエータユニットは、その第２端部の領域で、支持力の流れの方向に、前記支持セグメントに隣接する前記支持素子のさらなる支持セグメントに係合することを特徴とする、請求項８に記載の光学モジュール。
【請求項１０】
前記アクチュエータユニットは、アクチュエータおよびレバーアームを備え、
該レバーアームは前記支持セグメントに剛結合され、
前記支持セグメントを、前記ピボット接合部の前記ピボット軸に平行な軸の周りに旋回させる前記アクチュエータは、前記レバーアームに係合することを特徴とする、請求項８または９に記載の光学モジュール。
【請求項１１】
前記支持ユニットは、正確に５つの支持素子を有する五脚の形態に設計されることを特徴とする、請求項１〜１０の何れかに記載の光学モジュール。
【請求項１２】
少なくとも２つの支持素子は、二脚の形態に配置されることを特徴とする、請求項１〜１１の何れかに記載の光学モジュール。
【請求項１３】
前記二脚の支持素子は、それぞれの場合に、複数のピボット接合部を備え、
２つのピボット接合部の間の前記支持素子を通る支持力の流れの方向に、それぞれの場合、１つの支持セグメントが配置され、
少なくとも１つの支持セグメントが、前記２つの支持素子の共通セグメントとして設計されることを特徴とする、請求項１２に記載の光学モジュール。
【請求項１４】
特にマイクロリソグラフィー用の光学結像装置であって、
第１光学素子群を有する照明装置；
投影パターンを有するマスクを受けるマスク装置；
第２光学素子群を有する投影装置；および
基板を受ける基板装置を備え、
前記照明装置は前記投影パターンを照明するように設計され、
前記投影装置は、前記投影パターンを前記基板上に投影するように設計され、
前記照明装置および／または前記投影装置は、請求項１〜１３の内の１つによる光学モジュールを備えることを特徴とする、光学結像装置。
【請求項１５】
特にマイクロリソグラフィー用の光学素子を支持する方法であって、
少なくとも１つの光学的に利用される領域を有し、回転対称軸を画定する該光学素子は、支持ユニットの３つ以上の支持素子によって、支持構造体上に支持され、
少なくとも１つの支持素子によって、正確に１つの第１自由度が制限され、
該第１自由度は、回転軸の周りの回転の自由度であって、
該回転軸は、該軸が前記回転対称軸に平行な、少なくとも１つの方向成分を持つように配列されることを特徴とする、方法。
【請求項１６】
特にマイクロリソグラフィー用の光学モジュールであって、
光学素子、および
支持ユニットを有し、
前記光学素子を支持する前記支持ユニットは、複数の支持素子を有し、
該支持素子の各々は、第１端部の領域で、前記光学素子と結合され、第２端部の領域で、支持構造体と結合され、
少なくとも１つの支持素子は、少なくとも１つの自由度を制限し、
前記支持ユニットは、正確に５つの支持素子を有する五脚の形態に設計されることを特徴とする、光学モジュール。
【請求項１７】
少なくとも１つの支持素子は、正確に２つの自由度を制限することを特徴とする、請求項１６に記載の光学モジュール。
【請求項１８】
少なくとも２つの支持素子は、二脚の形態に配置されることを特徴とする、請求項１６または１７に記載の光学モジュール。
【請求項１９】
前記光学素子は、回転対称軸を画定する少なくとも１つの光学的に利用される領域を有し、
前記制限される自由度は、回転軸の周りの回転の自由度であり、
該回転軸は、前記回転対称軸に平行な、少なくとも１つの方向成分を持つように配列されることを特徴とする、請求項１６〜１８の何れかに記載の光学モジュール。
【請求項２０】
前記少なくとも１つの支持素子は、複数のピボット接合部を有する少なくとも１つの接合群を備え、
該接合群の各ピボット接合部は、ピボット軸を画定し、
該接合群の該ピボット接合部の該ピボット軸は、本質的に相互に平行に延びることを特徴とする、請求項１６〜１９の何れかに記載の光学モジュール。
【請求項２１】
前記接合群は、それぞれの場合、第１ピボット軸を画定する第１ピボット接合部を有する第１接合群であり、
前記少なくとも１つの支持素子は、複数の第２ピボット接合部、特に２つの第２ピボット接合部を有する第２接合群を備え、
該接合群の各々の第２ピボット接合部は、第２ピボット軸を画定し、
該第２ピボット軸は、本質的に相互に平行に延び、
第１ピボット軸と第２ピボット軸は、相互に横断して延びることを特徴とする、請求項２０に記載の光学モジュール。
【請求項２２】
前記少なくとも１つの支持素子は支持セグメントを有し、該支持セグメントは、該支持素子を通る支持力の流れの方向に、前記少なくとも１つの接合群の２つのピボット接合部の間に配置され、
前記光学素子の位置および／または配向を調整するアクチュエータユニットは、前記支持セグメントに係合することを特徴とする、 請求項２０または２１に記載の光学モジュール。
【請求項２３】
特にマイクロリソグラフィー用の光学モジュールであって、
光学素子、および
支持ユニットを有し、
前記光学素子は、回転対称軸を画定する少なくとも１つの光学的に利用される領域を持ち、
前記光学素子を支持するために、前記支持素子は３つ以上の支持素子を有し、
該支持素子の各々は、第１端部の領域で該光学素子と結合され、第２端部の領域で、支持構造体と結合され、
前記支持ユニットは、前記回転対称軸の周りの前記光学素子の回転の自由度が制限されるように設計され、該光学素子の位置または配向は、他の５つの自由度では、該支持ユニットを介して空間的に調整可能であることを特徴とする、光学モジュール。