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【手続補正書】
【提出日】平成26年5月23日(2014.5.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１つの主面にアライメントマークがめっきにより形成された一対のレール部と、
前記一対のレール部の間に連結部により連結され、前記１つの主面と同じ側の主面に前記アライメントマークと同じ材質のめっき部が形成された複数のリードフレームと、
を有することを特徴とするリードフレーム連結体。
【請求項２】
前記アライメントマークは長手方向に沿って所定の間隔で形成されていること、を特徴とする請求項１に記載のリードフレーム連結体。
【請求項３】
前記アライメントマークは、環状に形成されていること、を特徴とする請求項１または２に記載のリードフレーム連結体。
【請求項４】
前記アライメントマークは、前記１つの主面と、前記１つの主面に対して反対側の主面に形成されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のリードフレーム連結体。
【請求項５】
前記リードフレームは、半導体素子を搭載するダイパッドと、前記ダイパッドに向かって伸びる複数のリードとを有し、
前記めっき部は、前記ダイパッドと、前記リードの先端とに形成されていること、
を特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載のリードフレーム連結体。
【請求項６】
めっきマスクを用いて導電部材の１つの主面にめっき部と第１のアライメントマークとを形成する工程と、
前記導電部材の１つの主面にレジスト膜を形成する工程と、
マスクパターンと第２のアライメントマークとが設けられたフォトマスクと、前記第１のアライメントマークと、を互いに位置合せして前記レジスト膜を露光し、エッチングマスクを形成する工程と、
前記エッチングマスクを用いて前記導電部材をエッチングする工程と、
を含むことを特徴とするリードフレームの製造方法。
【請求項７】
前記導電部材は、帯状に形成され、
前記エッチングマスクは、一対のレール部間に、複数のリードフレームを形成するパターンを含み、
前記めっきマスクを用いて、前記第１のアライメントマークを前記導電部材の前記レール部に対応する側縁部に形成することを特徴とする請求項６に記載のリードフレームの製造方法。
【請求項８】
前記エッチングマスクを形成する工程において、前記リードフレームを前記導電部材に沿って順次露光し、隣り合う前記リードフレームを露光する際に、同一の前記第１のアライメントマークが複数回使用されることを特徴とする請求項７に記載のリードフレームの製造方法。
【請求項９】
前記第１及び第２のアライメントマークを撮影した画像データと、前記導電部材又は前記レジスト膜のエッジを含む領域を撮影した画像データとに基づいて位置合せすることを特徴とする請求項６〜８のいずれか一項に記載のリードフレームの製造方法。
【請求項１０】
前記導電部材のうちのリードフレームが形成される部分以外の部位に前記第１のアライメントマークを形成したことを特徴とする請求項６に記載のリードフレームの製造方法。
【請求項１１】
前記めっきマスクは、第１の方向に沿って連接された複数のリードフレームの前記めっき部に対応する開口部と、前記第１のアライメントマークに対応する開口部を含み、
前記エッチングマスクは、前記複数のリードフレームに対応するパターンを含み、
前記エッチングの工程の後、前記連接された複数のリードフレームを個々に分離する、ことを特徴とする請求項６に記載のリードフレームの製造方法。
【請求項１２】
前記エッチングマスクは、第１の方向に沿って連接された複数の単位リードフレームを含む単位列リードフレームを前記第１の方向と直交する方向に沿って複数列形成するパターンを含む、
ことを特徴とする請求項６に記載のリードフレームの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】リードフレーム連結体、リードフレームの製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
リードフレーム連結体、リードフレームの製造方法に関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明の一観点によれば、リードフレーム連結体は、１つの主面にアライメントマークがめっきにより形成された一対のレール部と、前記一対のレール部の間に連結部により連結され、前記１つの主面と同じ側の主面に前記アライメントマークと同じ材質のめっき部が形成された複数のリードフレームと、を有する。
本発明の一観点によれば、リードフレームの製造方法は、めっきマスクを用いて導電部材の１つの主面にめっき部と第１のアライメントマークとを形成する工程と、前記導電部材の１つの主面にレジスト膜を形成する工程と、パターンと第２のアライメントマークとが設けられたフォトマスクと、前記第１のアライメントマークと、を互いに位置合せして前記レジスト膜を露光し、エッチングマスクを形成する工程と、前記エッチングマスクを用いて前記導電部材をエッチングする工程と、を含む。
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月12日(2014.6.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板が載置される載置面を有する載置部と、
前記基板を前記載置面に保持する保持部と、
前記載置面の垂直軸の周りの複数の回転位置に配置され、前記保持部への保持力の供給を外部から受ける複数の受給部と、
を備える基板ホルダ。
【請求項２】
前記複数の受給部は、互いに４５度以上１８０度以下で回転対称に配置された第一の受給部および第二の受給部を有する請求項１に記載の基板ホルダ。
【請求項３】
前記第一の受給部および前記第二の受給部はそれぞれ仮置きポートおよび搬送ロボットの少なくとも一方から前記保持力の供給を受ける請求項２に記載の基板ホルダ。
【請求項４】
前記複数の受給部は、前記第一の受給部および前記第二の受給部とは別の位置に配置され、互いに４５度以上１８０度以下で回転対称に配置された第三の受給部および第四の受給部を有する請求項２または３に記載の基板ホルダ。
【請求項５】
前記第三の受給部および前記第四の受給部はそれぞれ仮置きポートおよび搬送ロボットの少なくとも一方から保持力の供給を受ける請求項４に記載の基板ホルダ。
【請求項６】
前記第一の受給部、前記第二の受給部、前記第三の受給部および前記第四の受給部は、それぞれ一対の受給端部を有し、
前記第一の受給部の前記一対の受給端部と前記第二の受給部の前記一対の受給端部とは互いに１８０度回転対称に配置されており、
前記第三の受給部の前記一対の受給端部と前記第四の受給部の前記一対の受給端部とは、互いに１８０度回転対称に配置され
前記第三の受給部の前記一対の受給端部及び前記第四の受給部の前記一対の受給端部の幅は、前記第一の受給部の前記一対の受給端部及び前記第二の受給部の前記一対の受給端部の幅と異なる請求項４または５に記載の基板ホルダ。
【請求項７】
前記保持力は静電力であり、前記複数の受給部はそれぞれ外部から給電される端子を有する請求項１から６のいずれか１項に記載の基板ホルダ。
【請求項８】
基板を保持する基板ホルダと、
前記基板を他の基板と接合する接合室と、
前記基板ホルダに保持された前記基板を前記接合室に搬送する搬送部とを備え、
前記基板ホルダは、基板が載置される載置面を有する載置部と、前記基板を前記載置面に保持する保持部と、前記載置面の垂直軸の周りの複数の回転位置に配置され、前記保持部への保持力の供給を外部から受ける複数の受給部とを有し、
前記接合室は、前記複数の受給部のいずれかに接続される接続部を有する基板貼り合わせ装置。
【請求項９】
前記基板ホルダを含み、前記基板を挟む二つの基板ホルダを備え、
一の前記基板ホルダの前記複数の受給部は互いに１８０度対称に配されるとともに、他の前記基板ホルダの前記複数の受給部は互いに１８０度対称に配される請求項８に記載の基板貼り合わせ装置。
【請求項１０】
前記基板ホルダを含み、前記基板を挟む二つの基板ホルダを備え、
一の前記基板ホルダの前記複数の受給部と他の前記基板ホルダの前記複数の受給部とは、前記一の基板ホルダと前記他の基板ホルダとで前記基板を挟んだ状態においてそれぞれ異なる位置に配される請求項８または９に記載の基板貼り合わせ装置。
【請求項１１】
前記保持力は静電力であり、前記複数の受給部は外部からの給電を受ける端子であり、前記接続部は、前記保持部に給電する給電端子である請求項８から１０のいずれか一項に記載の基板貼り合わせ装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月4日(2013.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アニール処理したアクリル樹脂板（Ａ）に、接着層（Ｃ）を介して、厚さが０．００５〜０．６ｍｍであるガラス板（Ｂ）を積層した積層板。
【請求項２】
アニール処理したアクリル樹脂板（Ａ）の両面に、接着層（Ｃ）を介して、厚さが０．００５〜０．６ｍｍであるガラス板（Ｂ）を積層した請求項１に記載の積層板。
【請求項３】
接着層（Ｃ）がブロック共重合体を含有する請求項１〜２のいずれか１項に記載の積層板。
【請求項４】
キャスト法で製造したアクリル樹脂板（Ａ）をアニール処理した後、厚さが０．００５〜０．６ｍｍであるガラス板（Ｂ）を接着剤により接着させる請求項１〜３記載の積層板の製造方法。
【請求項５】
請求項１〜３記載の積層板を用いた太陽電池モジュール。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月16日(2013.12.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アモルファス半導体材料を含む構造層を提供する工程と、
構造層の第１部分の上にシールド層を形成し、構造層の第２部分を露出したままにする工程と、
第１フルエンスを用いて第２部分をアニールする工程と、
シールド層を除去する工程と、
第２フルエンスを用いて第１部分と第２部分とをアニールする工程と、を含み、
第２フルエンスは、第１フルエンスの半分より小さい方法。
【請求項２】
第１フルエンスを用いて第２部分をアニールする工程は、構造層の第２部分の電気抵抗率を変更する工程を含む請求項１に記載の方法。
【請求項３】
第１フルエンスを用いて第２部分をアニールする工程の前に、第２部分が初期電気抵抗率を有し、第２部分の電気抵抗率を変更する工程は、第２部分の電気抵抗率を初期抵抗率から所定の抵抗率に低減する工程を含む請求項２に記載の方法。
【請求項４】
初期抵抗率と所定の抵抗率との差は、少なくとも一部は第１フルエンスに基づく請求項３に記載の方法。
【請求項５】
第２フルエンスを用いて第１部分と第２部分とをアニールする工程は、第１部分の歪勾配を変更する工程を含む請求項１に記載の方法。
【請求項６】
第２フルエンスを用いて第１部分と第２部分とをアニールする工程の前に、第１部分は初期歪勾配を有し、第１部分の歪勾配を変更する工程は、第１部分の歪勾配を初期歪勾配から所定の歪勾配に低減する工程を含む請求項５に記載の方法。
【請求項７】
初期歪勾配と所定の歪勾配との差は、少なくとも一部は第２フルエンスに基づく請求項６に記載の方法。
【請求項８】
第１フルエンスを用いて第２部分をアニールする工程は、第２部分の少なくとも一部をアモルファス半導体材料から結晶半導体材料に変える工程を含む請求項１に記載の方法。
【請求項９】
第２部分の少なくとも一部をアモルファス半導体材料から結晶半導体材料に変える工程は、実質的に第２部分の全体をアモルファス半導体材料から結晶半導体材料に変える工程を含む請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
第２フルエンスを用いて第１部分と第２部分とをアニールする工程は、第１部分の少なくとも一部をアモルファス半導体材料から結晶半導体材料に変える工程を含む請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
第１部分の少なくとも一部をアモルファス半導体材料から結晶半導体材料に変える工程は、少なくとも第１部分の上部をアモルファス半導体材料から結晶半導体材料に変える工程を含む請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
アモルファス半導体材料の構造層を提供する工程は、４００℃以下の温度で行われる請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
シールド層は、反射材料を含む請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
アモルファス半導体材料を含む構造層を提供する工程と、
構造層の第１部分の上にシールド層を形成し、構造層の第２部分を露出したままにする工程と、
第１レーザパルスフルエンスを含むパラメータの第１セットを用いて第２部分をアニールし、これにより第２部分の電気抵抗率を低減する工程と、
シールド層を除去する工程と、
第２レーザパルスフルエンスを含むパラメータの第２セットを用いて少なくとも第１部分をアニールし、これにより第１部分の歪勾配を低減する工程と、を含む方法。
【請求項１５】
第１レーザパルスフルエンスは、第２レーザパルスフルエンスより大きい請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
パラメータの第１セットは、更に、第１レーザパルス数と、第１パルス繰り返し数とを含み、第２部分の電気抵抗率を低減する工程は、第１レーザパルスフルエンス、第１レーザパルス数、および第１パルス繰り返し数の少なくとも１つに基づく量により、第２部分の電気抵抗率を低減する工程を含む請求項１４に記載の方法。
【請求項１７】
パラメータの第２セットは、更に、第２レーザパルス数と、第２パルス繰り返し数とを含み、第１部分の歪勾配を低減する工程は、第２レーザパルスフルエンス、第２レーザパルス数、および第２パルス繰り返し数の少なくとも１つに基づく量により、第１部分の歪勾配を低減する工程を含む請求項１４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月4日(2013.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリオレフィン系共重合体、アクリロニトリル系単量体と親水性ビニル単量体との共重合体からなるポリアクリロニトリル系共重合体、ポリアクリルアミド系重合体、ポリ酢酸ビニル系重合体、ポリ塩化ビニル系重合体、ポリ塩化ビニリデン系重合体、ポリアミド、ポリアリーレンエーテル、ポリアリーレンスルフィド、ポリスルホン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアリレート、ポリイミドからなる群から少なくとも１つ以上選ばれるポリマーＡと前記ポリマーＡと異種のポリマーＢを、有機溶媒に混合し、ポリマーＡを主成分とする溶液相とポリマーＢを主成分とする溶液相に相分離する系において、エマルションを形成させた後、ポリマーＡの貧溶媒を接触させることにより、ポリマーＡを析出させてポリマー微粒子を製造し、得られたポリマー微粒子を炭化焼成することを特徴とする炭素微粒子の製造方法。
【請求項２】
前記ポリマーＡが、アクリロニトリル系単量体と親水性ビニル単量体との共重合体からなるポリアクリロニトリル系共重合体であることを特徴とする請求項１記載の炭素微粒子の製造方法。
【請求項３】
アクリロニトリル系単量体と親水性ビニル単量体との共重合体からなるポリアクリロニトリル系共重合体がアクリロニトリル系単量体１００質量部に対し、０超〜２５質量部の親水性ビニル単量体を共重合してなるアクリロニトリル共重合体である請求項１または２記載の炭素微粒子の製造方法。
【請求項４】
親水性ビニル単量体が、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、アミド基、スルホン酸基およびリン酸基を１種以上含有することを特徴とする請求項１から３いずれか記載の炭素微粒子の製造方法。
【請求項５】
親水性ビニル単量体が、アミド基またはカルボキシル基を１種以上含有することを特徴とする請求項１から４のいずれか記載の炭素微粒子の製造方法。
【請求項６】
親水性ビニル単量体が、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸およびアクリルアミドから選択される１種以上であることを特徴とする請求項１から５のいずれか記載の炭素微粒子の製造方法。
【請求項７】
炭素微粒子のグラファイト化度が１．０以上であることを特徴とする請求項１から６いずれか記載の炭素微粒子の製造方法。
【請求項８】
炭素微粒子の数平均粒子径が０．１〜１００μｍ、粒子径分布指数が１．０〜２．０であることを特徴とする請求項１から７いずれか記載の炭素微粒子の製造方法。
【請求項９】
炭素微粒子の数平均粒子径が０．１〜１００μｍ、粒子径分布指数が１．０〜２．０、グラファイト化度が１．０以上及び真球度が８０以上であることを特徴とする請求項１〜８いずれか記載の炭素微粒子の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
すなわち、本発明は、下記の構成を有する。
［１］ポリオレフィン系共重合体、アクリロニトリル系単量体と親水性ビニル単量体との共重合体からなるポリアクリロニトリル系共重合体、ポリアクリルアミド系重合体、ポリ酢酸ビニル系重合体、ポリ塩化ビニル系重合体、ポリ塩化ビニリデン系重合体、ポリアミド、ポリアリーレンエーテル、ポリアリーレンスルフィド、ポリスルホン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアリレート、ポリイミドからなる群から少なくとも１つ以上選ばれるポリマーＡと前記ポリマーＡと異種のポリマーＢを、有機溶媒に混合し、ポリマーＡを主成分とする溶液相とポリマーＢを主成分とする溶液相に相分離する系において、エマルションを形成させた後、ポリマーＡの貧溶媒を接触させることにより、ポリマーＡを析出させてポリマー微粒子を製造し、得られたポリマー微粒子を炭化焼成することを特徴とする炭素微粒子の製造方法、
［２］前記ポリマーＡが、アクリロニトリル系単量体と親水性ビニル単量体との共重合体からなるポリアクリロニトリル系共重合体であることを特徴とする［１］記載の炭素微粒子の製造方法、
［３］アクリロニトリル系単量体と親水性ビニル単量体との共重合体からなるポリアクリロニトリル系共重合体がアクリロニトリル系単量体１００質量部に対し、０超〜２５質量部の親水性ビニル単量体を共重合してなるアクリロニトリル共重合体である［１］または［２］記載の炭素微粒子の製造方法、
［４］親水性ビニル単量体が、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、アミド基、スルホン酸基およびリン酸基を１種以上含有することを特徴とする［１］から［３］いずれか記載の炭素微粒子の製造方法、
［５］親水性ビニル単量体が、アミド基またはカルボキシル基を１種以上含有することを特徴とする［１］から［４］のいずれか記載の炭素微粒子の製造方法、
［６］親水性ビニル単量体が、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸およびアクリルアミドから選択される１種以上であることを特徴とする［１］から［５］のいずれか記載の炭素微粒子の製造方法、
［７］グラファイト化度が１．０以上であることを特徴とする［１］から［６］いずれか記載の炭素微粒子の製造方法、
［８］数平均粒子径が０．１〜１００μｍ、粒子径分布指数が１．０〜２．０であることを特徴とする［１］から［７］いずれか記載の炭素微粒子の製造方法、
［９］数平均粒子径が０．１〜１００μｍ、粒子径分布指数が１．０〜２．０、グラファイト化度が１．０以上及び真球度が８０以上であることを特徴とする［１］〜［８］いずれか記載の炭素微粒子の製造方法、
である。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月4日(2013.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリアミドイミドと、ポリアミドイミドとは異種のポリマーとを、有機溶媒に混合し、ポリアミドイミドを主成分とする溶液相と異種ポリマーを主成分とする溶液相に相分離する系において、エマルションを形成させた後、ポリアミドイミドの貧溶媒を接触させることにより、ポリアミドイミドを析出させてポリアミドイミドの微粒子を製造し、得られたポリアミドイミド微粒子を炭化焼成することを特徴とする炭素微粒子の製造方法。
【請求項２】
炭素微粒子の数平均粒子径が０．１〜１００μｍであることを特徴とする請求項１記載の炭素微粒子の製造方法。
【請求項３】
炭素微粒子の粒子径分布指数が１．０〜２．０であることを特徴とする請求項１から２いずれか記載の炭素微粒子の製造方法。
【請求項４】
炭素微粒子の真球度が８０以上であることを特徴とする請求項１から３いずれか記載の炭素微粒子の製造方法。
【請求項５】
炭素微粒子のグラファイト化度が１．０以上であることを特徴とする請求項１から４いずれか記載の炭素微粒子の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
すなわち、本発明は、下記の構成を有する。
［１］ポリアミドイミドと、ポリアミドイミドとは異種のポリマーとを、有機溶媒に混合し、ポリアミドイミドを主成分とする溶液相と異種ポリマーを主成分とする溶液相に相分離する系において、エマルションを形成させた後、ポリアミドイミドの貧溶媒を接触させることにより、ポリアミドイミドを析出させてポリアミドイミドの微粒子を製造し、得られたポリアミドイミド微粒子を炭化焼成することを特徴とする炭素微粒子の製造方法、
［２］炭素微粒子の数平均粒子径が０．１〜１００μｍであることを特徴とする［１］記載の炭素微粒子の製造方法、
［３］炭素微粒子の粒子径分布指数が１．０〜２．０であることを特徴とする［１］から［２］いずれか記載の炭素微粒子の製造方法、
［４］炭素微粒子の真球度が８０以上であることを特徴とする［１］から［３］いずれか記載の炭素微粒子の製造方法、
［５］炭素微粒子のグラファイト化度が１．０以上であることを特徴とする［１］から［４］いずれか記載の炭素微粒子の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月2日(2013.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１のパッチと、前記第１のパッチよりも光学濃度が低い第２のパッチと、を含む複数のパッチを印刷するために用いるパッチ画像データを生成するパッチ画像データ生成手段と、
前記パッチ画像データに基づいて記録媒体に前記複数のパッチを印刷する印刷手段と、
前記記録媒体に対して所定の速度での相対移動中に前記複数のパッチを光学的に測定するセンサと
を有する画像処理システムであって、
前記パッチ画像データ生成手段は、前記第１のパッチの前記相対移動方向の長さが、前記第２のパッチの前記相対移動方向の長さよりも長くなるように前記パッチ画像データを生成することを特徴とする画像処理システム。
【請求項２】
前記パッチ画像データ生成手段は、パッチの光学濃度が高いほど前記相対移動方向における長さが長くなるようにパッチ画像データを生成することを特徴とする請求項１に記載の画像処理システム。
【請求項３】
前記所定の速度は一定の速度であることを特徴とする請求項１または２に記載の画像処理システム。
【請求項４】
前記パッチ画像データ生成手段は、予め記憶手段に記憶された演算式を用いて、各パッチの階調値からパッチの前記相対移動方向の長さを算出することを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の画像処理システム。
【請求項５】
前記パッチ画像データ生成手段は、予め記憶手段に記憶されたルックアップテーブルを用いて、各パッチの階調値からパッチの前記相対移動方向の長さを取得することを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の画像処理システム。
【請求項６】
前記ルックアップテーブルは、記録媒体の種類毎に異なることを特徴とする請求項５に記載の画像処理システム。
【請求項７】
前記パッチ画像データ生成手段は、前記相対移動方向における長さが同じパッチを前記相対移動方向に沿って配置するように前記パッチ画像データを生成することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の画像処理システム。
【請求項８】
前記センサは移動可能なキャリッジに取り付けられていることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の画像処理システム。
【請求項９】
前記パッチ画像データ生成手段は、前記第１のパッチと前記第２のパッチが前記相対移動方向と交差する方向に並ぶように前記パッチ画像データを生成することを特徴とする請求項１から８のいずれか１項に記載の画像処理システム。
【請求項１０】
第１のパッチと、前記第１のパッチよりも光学濃度が低い第２のパッチと、を含む複数のパッチを印刷するために用いるパッチ画像データを格納する格納手段と、
前記パッチ画像データに基づいて記録媒体に前記複数のパッチを印刷する印刷手段と、
前記記録媒体に対する所定の速度での相対移動中に前記複数のパッチを光学的に測定するセンサと
を有する画像処理システムであって、
前記印刷手段は、前記第１のパッチにおける前記相対移動方向の長さが、前記第２のパッチにおける前記相対移動方向の長さよりも長くなるように印刷することを特徴とする画像処理システム。
【請求項１１】
第１のパッチと、前記第１のパッチよりも光学濃度が低い第２のパッチと、を含む複数のパッチを印刷するために用いるパッチ画像データを生成するパッチ画像データ生成工程と、
前記パッチ画像データに基づいて記録媒体に前記複数のパッチを印刷する印刷工程と、
前記記録媒体に対して所定の速度で相対移動中に前記複数のパッチを測定した測定結果を取得する取得工程と
を有し、
前記パッチ画像データ生成工程は、前記第１のパッチの前記相対移動方向の長さが、前記第２のパッチの前記相対移動方向の長さよりも長くなるように前記パッチ画像データを生成することを特徴とする画像処理方法。
【請求項１２】
格納手段から第１のパッチと、前記第１のパッチよりも光学濃度が低い第２のパッチと、を含む複数のパッチを印刷するために用いるパッチ画像データを読み出す読出工程と、
前記パッチ画像データに基づいて記録媒体に前記複数のパッチを印刷する印刷工程と、
前記記録媒体に対する所定の速度での相対移動中に前記複数のパッチを光学的に測定した測定結果を取得する取得工程と
を有し、
前記印刷工程は、前記第１のパッチの前記相対移動方向の長さが、前記第２のパッチの前記相対移動方向の長さよりも長くなるように印刷することを特徴とする画像処理方法。
【請求項１３】
光学センサと記録媒体との相対走査において読み取るための複数のパッチが記録されたプリント物であって、前記複数のパッチは、第１のパッチと前記第１のパッチよりも光学濃度が低い第２のパッチとを含み、前記光学センサと前記記録媒体との前記相対走査の方向における前記第１のパッチの長さは、前記方向における前記第２のパッチの長さよりも長いことを特徴とするプリント物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】画像処理システム、画像処理方法およびプリント物
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
前記課題を解決するため、本発明は、第１のパッチと、前記第１のパッチよりも光学濃度が低い第２のパッチと、を含む複数のパッチを印刷するために用いるパッチ画像データを生成するパッチ画像データ生成手段と、前記パッチ画像データに基づいて記録媒体に前記複数のパッチを印刷する印刷手段と、前記記録媒体に対して所定の速度での相対移動中に前記複数のパッチを光学的に測定するセンサとを有する画像処理システムであって、前記パッチ画像データ生成手段は、前記第１のパッチの前記相対移動方向の長さが、前記第２のパッチの前記相対移動方向の長さよりも長くなるように前記パッチ画像データを生成することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、別の本発明は、第１のパッチと、前記第１のパッチよりも光学濃度が低い第２のパッチと、を含む複数のパッチを印刷するために用いるパッチ画像データを格納する格納手段と、前記パッチ画像データに基づいて記録媒体に前記複数のパッチを印刷する印刷手段と、前記記録媒体に対する所定の速度での相対移動中に前記複数のパッチを光学的に測定するセンサとを有する画像処理システムであって、前記印刷手段は、前記第１のパッチにおける前記相対移動方向の長さが、前記第２のパッチにおける前記相対移動方向の長さよりも長くなるように印刷することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月10日(2014.7.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
顔料、第一の界面活性剤及び水を含む顔料分散液と、第一のモノマー、第二の界面活性剤及び水を含むモノマーエマルションと、を混合した後に分散させて分散液を得る分散工程と、
前記分散液に含まれる前記第一のモノマーを重合して中間原料を得る第一の重合工程と、
前記中間原料に第二のモノマーを加えた後、前記第二のモノマーを重合して、マイクロカプセル化顔料を含有するマイクロカプセル化顔料分散液を得る第二の重合工程と、を有することを特徴とするマイクロカプセル化顔料分散液の製造方法。
【請求項２】
前記第一のモノマーが、疎水性モノマーである請求項１に記載のマイクロカプセル化顔料分散液の製造方法。
【請求項３】
前記第一のモノマーが、（メタ）アクリル酸エステル、スチレン系モノマー、イタコン酸エステル、マレイン酸エステル、フマール酸エステル、（メタ）アクリロニトリル及び酢酸ビニルから選択される少なくとも一種を含む請求項１又は２に記載のマイクロカプセル化顔料分散液の製造方法。
【請求項４】
前記第一のモノマーが、（メタ）アクリル酸エステル及びスチレン系モノマーから選択される少なくとも一種を含む請求項１又は２に記載のマイクロカプセル化顔料分散液の製造方法。
【請求項５】
前記第二のモノマーが、（メタ）アクリル酸エステル、スチレン系モノマー、イタコン酸エステル、マレイン酸エステル、フマール酸エステル、（メタ）アクリロニトリル及び酢酸ビニルから選択される少なくとも一種を含む請求項１乃至４のいずれか１項に記載のマイクロカプセル化顔料分散液の製造方法。
【請求項６】
前記第二のモノマーが、（メタ）アクリル酸エステル及びスチレン系モノマーから選択される少なくとも一種を含む請求項１乃至４のいずれか１項に記載のマイクロカプセル化顔料分散液の製造方法。
【請求項７】
前記第一のモノマーが、（メタ）アクリル酸エステル及びスチレン系モノマーから選択される少なくとも一種を含み、
前記第二のモノマーが、（メタ）アクリル酸エステル及びスチレン系モノマーから選択される少なくとも一種を含む請求項１に記載のマイクロカプセル化顔料分散液の製造方法。
【請求項８】
前記第一のモノマーが、（メタ）アクリル酸エステルを含み、
前記第二のモノマーが、（メタ）アクリル酸エステルを含む請求項７に記載のマイクロカプセル化顔料分散液の製造方法。
【請求項９】
前記第一のモノマーが、スチレン系モノマーを含み、
前記第二のモノマーが、スチレン系モノマーを含む請求項７に記載のマイクロカプセル化顔料分散液の製造方法。
【請求項１０】
前記第一の界面活性剤及び前記第二の界面活性剤が、炭素数６以上のアルキル基、芳香族環及び脂肪族環からなる群より選ばれる少なくとも一つの疎水性基と、繰り返し数が３０以上のエチレンオキサイドからなる親水性基と、を有する化合物である請求項１乃至９のいずれか１項に記載のマイクロカプセル化顔料分散液の製造方法。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれか１項に記載のマイクロカプセル化顔料分散液の製造方法により得られたマイクロカプセル化顔料分散液を用いてインクジェット用インクを得る工程を有することを特徴とするインクジェット用インクの製造方法。
【請求項１２】
請求項１乃至１０のいずれか１項に記載のマイクロカプセル化顔料分散液の製造方法により得られたことを特徴とするマイクロカプセル化顔料分散液。
【請求項１３】
請求項１１に記載のインクジェット用インクの製造方法により得られたことを特徴とするインクジェット用インク。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】マイクロカプセル化顔料分散液の製造方法、インクジェット用インクの製造方法、マイクロカプセル化顔料分散液、及びインクジェット用インク
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、マイクロカプセル化顔料分散液及びその製造方法、並びにインクジェット用インク及びその製造方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記課題は、以下の発明によって達成される。即ち、本発明は、顔料、第一の界面活性剤及び水を含む顔料分散液と、第一のモノマー、第二の界面活性剤及び水を含むモノマーエマルションと、を混合した後に分散させて分散液を得る分散工程と、前記分散液に含まれる前記第一のモノマーを重合して中間原料を得る第一の重合工程と、前記中間原料に第二のモノマーを加えた後、前記第二のモノマーを重合して、マイクロカプセル化顔料を含有するマイクロカプセル化顔料分散液を得る第二の重合工程と、を有することを特徴とするマイクロカプセル化顔料分散液の製造方法である。
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月27日(2013.11.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）示差走査熱量計（ＤＳＣ）で測定される融点が１２０〜１７０℃であるプロピレン系重合体：５０〜９０重量％と、
（Ｂ）示差走査熱量分析（ＤＳＣ）で測定される融点が１２０℃未満または融点が観測されず、プロピレン由来の構成単位９４．０〜６０．０モル％、エチレン由来の構成単位５．０〜３０．０モル％、および炭素原子数４〜２０のα−オレフィン由来の構成単位１．０〜３０．０モル％の量で含有する（ここで、プロピレン由来の構成単位とエチレン由来の構成単位とα−オレフィン由来の構成単位の合計を１００モル％とする。）プロピレン・エチレン・α−オレフィン共重合体：１０〜５０重量％〔ここで、成分（Ａ）および成分（Ｂ）の合計量を１００重量％とする。〕、および
（Ｃ）スチレン系エラストマー（Ｃ−１）およびＡＳＴＭ  Ｄ１５０５に準拠して測定された密度が０．８５０〜０．９１０ｇ／ｃｍ3の範囲にあるエチレン・α−オレフィンランダム共重合体（Ｃ−２）から選ばれる１種以上のエラストマーを含み、成分（Ｃ）が前記スチレン系エラストマー（Ｃ−１）を含む場合は、前記成分（Ａ）および前記成分（Ｂ）の合計量１００重量部に対し５〜４０重量部、成分（Ｃ）が前記エチレン・α−オレフィンランダム共重合体（Ｃ−２）を含む場合は、前記成分（Ａ）および前記成分（Ｂ）の合計量１００重量部に対し２０〜８０重量部含み、当該成分（Ｃ）を、前記成分（Ａ）および前記成分（Ｂ）の合計量１００重量部に対し、５〜８０重量部含む、樹脂組成物（Ｘ）を成形して得られることを特徴とする食品容器。
【請求項２】
樹脂組成物（Ｘ）を成形して得られる食品容器が、２５℃、１時間のｎ−ヘプタン溶出量が１３０μｇ／ｍＬ未満である請求項１記載の食品容器。
【請求項３】
前記成分（Ｃ）が、スチレンブロックコポリマー（Ｃ−１）であることを特徴とする請求項１に記載の食品容器。
【請求項４】
２５℃、１時間のｎ−ヘプタン溶出量は３０μｇ／ｍＬ未満であることを特徴とする請求項２に記載の食品容器。
【請求項５】
食品容器が、食品保存用密閉容器であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の食品容器。
【請求項６】
食品容器が、食品容器本体を覆う蓋部分であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の食品容器。
【手続補正書】
【提出日】平成26年8月18日(2014.8.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
計量分配デバイスであって、
該計量分配デバイスは、
溶液を含むように構成される本体と、
該本体に連結され、該溶液の流れを制御するように構成されるネックと、
該ネックに連結される先端部であって、該先端部は、該先端部上にアパーチャを有し、該アパーチャを通って該溶液が放出され、該先端部は、該アパーチャから該先端部の底部に向かって導く表面を有する形状であり、該表面は、該アパーチャから該底部へ導く上部部分から該表面の全長に沿って先細となっており、該先細となっていることは、該先端部の全部が人体の鼻孔の中に進入することなしに、該鼻孔の中への該先端部の挿入を容易にする角度で構成され、該先端部の底部に関連付けられた第２の直径より小さい、該上部部分における第１の直径を有することを含み、該第２の直径は、該底部がユーザの鼻孔の中に完全に延びることを防ぐような大きさで作られ、該ネックの直径より大きく、それによって、該溶液の流れを制御する、先端部と、
該先端部に連結され、該アパーチャを密封するように構成される密封デバイスであって、該密封デバイスは、該先端部から該密封デバイスとの係合を解除すると、該アパーチャを永続的に開封する、密封デバイスと
を備えている、計量分配デバイス。
【請求項２】
前記密封デバイスは、１回の使用のためであり、その結果、前記先端部から該密封デバイスを取り外すと、該密封デバイスは、該先端部から永続的に移動される、請求項１に記載の計量分配デバイス。
【請求項３】
前記密封デバイスは、前記アパーチャを開封するために該密封デバイスを取り外すねじり動作を容易にするねじり連結部を有するオープナーを含む、請求項１に記載の計量分配デバイス。
【請求項４】
前記オープナーは、前記ねじり連結部へのモーメントまたはトルクの適用を適応させる平坦な保持構造である、請求項３に記載の計量分配デバイス。
【請求項５】
前記オープナーは、トルクサポートを提供する外側リムと、前記ねじり連結部を該外側リムに固定する内側リムとを含む、請求項３に記載の計量分配デバイス。
【請求項６】
前記密封デバイスは、シーラーを含み、前記ねじり連結部は、該シーラーを介して前記先端部１０３に連結される、請求項３に記載の計量分配デバイス。
【請求項７】
前記本体は、リブ構造を含むことにより、該本体が前記密封デバイスに対して反対の方向に回転させられたときに生成される滑る動作を避けるために該本体の保持または把持を容易にする、請求項３に記載の計量分配デバイス。
【請求項８】
前記リブ構造は、前記オープナーのエッジと同じ高さであるか、または該オープナーのエッジと連続する、請求項７に記載の計量分配デバイス。
【請求項９】
前記リブ構造は、前記先端部の底部から前記本体の底部に延びる、請求項７に記載の計量分配デバイス。
【請求項１０】
前記オープナーの底部表面は、前記先端部の前記底部と整列する、請求項９に記載の計量分配デバイス。
【請求項１１】
前記ねじり連結部は、内側側壁を含み、該内側側壁は、前記先端部の側壁と適合するが該先端部の該側壁とは接触しない、請求項３に記載の計量分配デバイス。
【請求項１２】
前記先端部は、前記本体に貯蔵される溶液の圧力を弱め、組織を移動させることなく該組織に該溶液を送達するのに十分な圧力で該溶液の計量分配を容易にするようにさらに構成される、請求項１に記載の計量分配デバイス。
【請求項１３】
前記ネックは、前記溶液の計量分配速度を容易にするために前記本体の直径より小さい直径を有する、請求項１に記載の計量分配デバイス。
【請求項１４】
前記先端部は、円錐形の形状であり、凸状の湾曲表面が表面から先細となっており、該表面上に前記アパーチャが該先端部の底部に対して形成される、請求項１に記載の計量分配デバイス。
【請求項１５】
前記先端部の底部は、丸いエッジまたは丸溝の付けられたエッジを含む、請求項１４に記載の計量分配デバイス。
【請求項１６】
前記先端部は、異なる大きさの鼻孔に適合する先細の表面を含む、請求項１に記載の計量分配デバイス。
【請求項１７】
再使用を可能にするために前記アパーチャを確実に再密封する円錐形のニードルヘッド構造を有する取り外し可能キャップをさらに備えている、請求項１に記載の計量分配デバイス。
【請求項１８】
取り外し可能キャップは、該取り外し可能キャップの取り外しを容易にするプリング構造と、前記アパーチャの密封を容易にする密封構造とを含む、請求項１に記載の計量分配デバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月24日(2014.7.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ロータの外周に複数のクランプアームを備え、このクランプアームの先端にクランプが付設され、給袋機構から渡されたガセット袋を前記クランプで掴んで間歇回転しながら被包装物を充填して袋口をシールするロータリー式包装機であって、
前記給袋機構は、ガセット袋を溜める袋供給機構と、この袋供給機構からガセット袋を取り出して袋口を開口する袋取り開口機構と、この袋取り開口機構で開口したガセット袋の袋口内に一対のヘラを挿入して袋口の稜部を横方向に拡開し、ロータリー式包装機のクランプに受け渡す拡開機構と、を備えたことを特徴とするロータリー式包装機。
【請求項２】
袋取り開口機構は、袋渡しアームの先端に固定吸盤ユニットと可動吸盤ユニットを備え、前記袋取り機構からガセット袋を受け取る位置から、拡開機構に受け渡す位置の間を回動する袋渡し機構を備え、前記固定吸盤ユニットと可動吸盤ユニットの何れか一方に、可動吸盤ユニットが固定吸盤ユニット側に近接することにより、ガセット袋上部中央を押さえる押さえ体を備えている、ことを特徴とする請求項１に記載のロータリー式包装機。
【請求項３】
袋取り開口機構は、同心の回動軸に、ガセット袋の一方の面を吸着保持して回動する第１の吸着アームと、前記第１の吸着アームとは独立に回動可能で、第１の吸着アームが吸着したガセット袋面とは反対側の他方の面を吸着する第２の吸着アームと、が軸支し、ガセット袋を吸着保持した第１の吸着アームに、第２の吸着アームが追従して他方の面を吸着し、袋口を開口すると共に、第１の吸着アームか第２の吸着アームの何れか一方に、ガセット袋上部中央を一点で押さえる押さえ体が設けられた、ことを特徴とする請求項１にロータリー式包装機。
【請求項４】
複数枚のガセット袋を溜めた袋供給機構と、間歇回転しながら被包装物を充填してシールするロータリー式包装機との間において、ガセット袋の袋口の稜部を横方向に一対のヘラで拡開した後、ロータリー式包装機にガセット袋を受け渡す、ことを特徴とするロータリー式包装機に対するガセット袋の供給方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明の包装機は、ロータの外周に複数のクランプアームを備え、このクランプアームの先端にクランプが付設され、給袋機構から渡されたガセット袋を前記クランプで掴んで間歇回転しながら被包装物を充填して袋口をシールするロータリー式包装機であって、前記給袋機構は、ガセット袋を溜める袋供給機構と、この袋供給機構からガセット袋を取り出して袋口を開口する袋取り開口機構と、この袋取り開口機構で開口したガセット袋の袋口内に一対のヘラを挿入して袋口の稜部を横方向に拡開し、ロータリー式包装機のクランプに受け渡す拡開機構と、を備えたことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
袋取り開口機構は、袋渡しアームの先端に固定吸盤ユニットと可動吸盤ユニットを備え、前記袋取り機構からガセット袋を受け取る位置から、拡開機構に受け渡す位置の間を回動する袋渡し機構を備え、前記固定吸盤ユニットと可動吸盤ユニットの何れか一方に、可動吸盤ユニットが固定吸盤ユニット側に近接することにより、ガセット袋上部中央を押さえる押さえ体を備えている。前記袋渡し機構は、次の拡開機構が袋口を拡開しやすいようなガセット袋の姿勢を作る。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
他の袋取り開口機構は、同心の回動軸に、ガセット袋の一方の面を吸着保持して回動する第１の吸着アームと、前記第１の吸着アームとは独立に回動可能で、第１の吸着アームが吸着したガセット袋面とは反対側の他方の面を吸着する第２の吸着アームと、が軸支し、ガセット袋を吸着保持した第１の吸着アームに、第２の吸着アームが追従して他方の面を吸着し、袋口を開口する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
また、本発明の包装機に対するガセット袋の供給方法は、複数枚のガセット袋を溜めた袋供給機構と、間歇回転しながら被包装物を充填してシールするロータリー式包装機との間において、ガセット袋の袋口の稜部を横方向に一対のヘラで拡開した後、ロータリー式包装機にガセット袋を受け渡す、ことを特徴とする。本発明の方法は包装機にガセット袋を受け渡す必須過程において袋口を拡開するのでガセット袋の袋口の拡開時間を短縮できる。
【手続補正書】
【提出日】平成26年2月7日(2014.2.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
往復運動するコンベア部材に設けられた送り爪によって、ラックを洗浄室内でラックレールに沿って搬送させながら、噴射ノズルの噴射水によって食器の洗浄を行うコンベア型食器洗浄機において、
前記コンベア部材は複数のコンベア部からなり、前記各コンベア部の前記送り爪は、前進時に上部から突出し且つ後退時に没入し、それぞれの前記コンベア部は、駆動手段により、ずれたタイミングで往復動させられることを特徴とするコンベア型食器洗浄機のコンベア装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１０】
前記第１及び第２の送り爪による前記ラックの押し始め時期及び前記ラックの押し終わり時期における前記第１及び前記第２のクランク部を回転させる前記モータの回転速度が、前記押し始め時期と前記押し終わり時期との間の時期よりも大きくなるように前記モータをインバータ制御して、前記第１及び第２のコンベア部の往復速度を一定にすることを特徴とする請求項８又は９に記載のコンベア型食器洗浄機のコンベア装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、第１及び第２の送り爪によるラックの押し始め時期及びラックの押し終わり時期における第１及び第２のクランク部を回転させるモータの回転速度が、押し始め時期と押し終わり時期との間の時期よりも大きくなるようにモータをインバータ制御して、第１及び第２のコンベア部の往復速度を一定にする。
クランク機構を利用すると、ラックの搬送速度は、第１及び第２の送り爪によるラックの押し始め時期とラックの押し終わり時期で小さくなってしまうので、モータをインバータ制御することで、ラックの搬送速度の一定化を図り、これによって、洗浄水を食器に均一に当てることができ、洗浄力の均一化を図ることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
更に、図４及び図６に示されるように、第２のコンベアレール２２には、この外側面から突出するガイドローラ３０が設けられている。このガイドローラ３０は、第１のコンベアレール２１の外側面に形成されたスリット２２ｄを貫通するシャフト３０ａに回転自在に取り付けられ、ガイドローラ３０は、ラックレール２の底面に当接させられる。このガイドローラ３０によって第２のコンベアレール２２を第１のコンベアレール２１内でラックレール２に沿ってスムーズに進退させることができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
１…コンベア型食器洗浄機、２…ラックレール、３…食器、４…ラック、１４，１５，８１，８２…噴射ノズル、２０…コンベア装置、２１ｃ…スリット、２１…第１のコンベアレール（第１のコンベア部）、２２…第２のコンベアレール（第２のコンベア部）、２４…第１の送り爪、２６…第１の連結フレーム、２７…第２の送り爪、２８…第２の連結フレーム、２９…規制ローラ、４０…回転軸、４１…第１のクランク部、４２…第２のクランク部、４６…第１のスライダ、４７…第２のスライダ、７１…第１のコンベア往復運動機構、７２…第２のコンベア往復運動機構、７４，７５…欠歯車、７６，７７…二重ラック、Ｓ…洗浄室、Ｍ，Ｍ１，Ｍ２…モータ、Ｅ…コンベア部材。
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月11日(2014.7.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
前記中空粒子は、当該中空粒子を構成する白色金属酸化物層の厚みが４０ｎｍ以上、特に５０ｎｍ以上であるのが好ましい。
前記白色金属酸化物層の厚みが前記範囲未満では中空粒子の着色力、隠ぺい力が低下するおそれがある。すなわち白色金属酸化物層が光を透過し易くなるため、当該中空粒子を含む本発明のインクジェット用白インクを用いて形成する記録の白色度が不十分になるおそれがある。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
中空粒子の配合割合は、分散液の総量の１０質量％以上であるのが好ましく、３０質量％以下であるのが好ましい。
（分散剤）
分散剤としては、水溶性の高分子分散剤が好ましい。前記高分子分散剤としては、例えばにかわ、ゼラチン、カゼイン、アルブミン、アラビアゴム、トラガントゴム、サポニン、アルギン酸、アルギン酸プロピレングリコールエステル、アルギン酸トリエタノールアミン、アルギン酸アンモニウム、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、エチルヒドロキシセルロース、ポリビニルアルコール類、ポリビニルピロリドン類、ポリアクリル酸、アクリル酸−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸カリウム−アクリロニトリル共重合体、酢酸ビニル−アクリル酸エステル共重合体、アクリル酸−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−アクリル酸共重合体、スチレン−メタクリル酸共重合体、スチレン−メタクリル酸−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−α−メチルスチレン−アクリル酸共重合体、スチレン−α−メチルスチレン−アクリル酸−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ビニルナフタレン−アクリル酸共重合体、ビニルナフタレン−マレイン酸共重合体、酢酸ビニル−エチレン共重合体、酢酸ビニル−脂肪酸ビニル−エチレン共重合体、酢酸ビニル−マレイン酸エステル共重合体、酢酸ビニル−クロトン酸共重合体、および酢酸ビニル−アクリル酸共重合体等の１種または２種以上が挙げられる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
分散剤の配合割合は、分散液の総量の１質量％以上であるのが好ましく、３質量％以下であるのが好ましい。
（湿潤剤）
湿潤剤としては、例えばエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、１,２,６−ヘキサントリオール、チオグリコール、ヘキシレングリコール、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、尿素、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、および１,３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等の１種または２種以上が挙げられる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
バインダ樹脂の配合割合は、水性のインクジェット用白インクの総量の０．１質量％以上であるのが好ましく、２質量％以下であるのが好ましい。
（塩基性物質）
塩基性物質としては、先に例示したものの１種または２種以上が挙げられる。
塩基性物質の配合割合は、インクジェット用白インクの、塩基性物質を配合しない状態でのｐＨ、および目標とするｐＨなどに応じて適宜の範囲とすることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月2日(2014.6.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
【図１】実施例１で製造した白金微粒子の透過型電子顕微鏡画像を示す。
【図２】実施例２で製造した金微粒子の透過型電子顕微鏡画像を示す。
【図３】実施例３で製造した銀微粒子の透過型電子顕微鏡画像を示す。
【図４】実施例１で製造した白金微粒子の粒径分布を示す。
【図５】実施例２で製造した金粒子の粒度分布を示す。
【図６】実施例３で製造した銀微粒子の粒径分布を示す。
【図７】本発明を実施中に破損した容器を示す。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
このような容器の破損を防止するには、金属酸化物または金属水酸化物を分散した有機溶媒にマイクロ波を直接照射する構造のマイクロ波照射方法やマイクロ波照射装置とすることにより達成することができる。
例えば、マイクロ波発生装置１、該マイクロ波発生装置から照射されるマイクロ波の照射領域内に設置されたマイクロ波透過材料からなる容器３、マイクロ波遮蔽部材５を有し、該マイクロ波遮蔽部材５が容器３内で金属酸化物または金属水酸化物を分散した有機溶媒（反応液）４が収納されていない空間部を覆うように設置されているマイクロ波発生装置が好適に用いられる。容器内の空間部を覆うように設置されたマイクロ波遮蔽部材５（スカート部）は容器内壁に付着し取り残された金属微粒子にはマイクロ波が照射されないように遮蔽して過加熱による容器の破損を防止する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
また、マイクロ波発生装置１、該マイクロ波発生装置１から照射されるマイクロ波の照射領域内に設置された容器３からなり、該容器３でマイクロ波が照射される箇所のみがマイクロ波透過材料７から形成されているマイクロ波照射装置により容器の破損を防止することが可能となる。
また、マイクロ波発生装置、該マイクロ波発生装置から照射されるマイクロ波の照射領域内に設置された容器からなり、容器内の金属酸化物または金属水酸化物を分散した有機溶媒（反応液）が収納されている部分に対応する該容器壁にのみをマイクロ波透過材料から形成する装置により同様の照射効果を得ることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月9日(2014.5.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
エネルギー線硬化型粘着剤が、多官能紫外線硬化樹脂を含有する請求項１〜８の何れかに記載の粘着シート。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
（９）エネルギー線硬化型粘着剤が、多官能紫外線硬化樹脂を含有する（１）〜（８）の何れかに記載の粘着シート。