【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年11月12日(2014.11.12)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５８】
さらに対物レンズ２１の周辺に集束コイル５４を設けてもよい。集束コイルは、ビーム経路において収差補正器１５と対物レンズ２１との間に配置してもよい。例えば、集束コイルは、ビーム経路において対物レンズ２１と偏向器１９との間および／または対物レンズ２１と偏向器１７との間に配置してもよい。集束コイル５４は空芯コイルによって形成してもよい。集束コイル５４は、角度スキャンの間に収差補正器１５の不完全な調整のために生じる、動的に変化する焦点ぼけを補償するように構成してもよい。集束コイル５４も主制御器３７によって制御される制御器（図１には図示しない）によって励起される。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
SACP法において、
粒子光学系を用いて物体表面に荷電粒子ビームを向けるステップと、
物体から放出した粒子の強度を検出するステップと
を設け、
前記粒子光学系に、ビームを集束するための対物レンズと、ビーム経路で対物レンズの上流側に配置された第１ビーム偏向器と、前記ビーム経路で前記第１ビーム偏向器と前記対物レンズとの間に配置された収差補正器と、前記ビーム経路で前記収差補正器の下流側に配置された第２ビーム偏向器とを設け、
前記SACP法に、
（ａ１）前記第２ビーム偏向器の励起を調整し、物体表面におけるビームの入射位置を調整するステップと、
（ａ２）前記第１ビーム偏向器の励起を調整し、入射位置を変更することなしに物体表面におけるビームの入射角を調整し、強度を検出するステップと、
（ａ３）前記第１ビーム偏向器の励起を調整し、入射位置を変更することなしに入射角を調整するステップを繰り返し、同じ入射位置における少なくとも１００個の異なる入射角それぞれについて対応した強度を検出するステップと
をさらに設けることを特徴とするSACP法。
【請求項２】
請求項１に記載のSACP法において、
前記（ａ２）の間、前記粒子光学系に対する前記物体の位置が変化しないSACP法。
【請求項３】
請求項１または２に記載のSACP法において、
前記粒子光学系はさらに、
前記ビーム経路で前記収差補正器の上流側に配置されたウィーンフィルタと、
該ウィーンフィルタを励起するための第２制御器であって、第２励起信号を前記ウィーンフィルタに伝達するように構成されており、それぞれの第２励起信号が１／１００秒未満の周期を有している該第２制御器と
を備えるSACP法。
【請求項４】
請求項３に記載のSACP法において、
前記第１ビーム偏向器は、前記ウィーンフィルタの一部を構成するSACP法。
【請求項５】
請求項１から４までのいずれか一項に記載のSACP法において、
前記第１ビーム偏向器の励起を調整し、入射位置を変更することなしに入射角を調整するステップを、１０００回／秒を超える速度で、特に１０，０００回／秒を超える速度で行うSACP法。
【請求項６】
請求項１から５までのいずれか一項に記載のSACP法において、
前記少なくとも１００個の異なる入射角に関係して、少なくとも１００個の異なる入射角に対応して検出した強度を表示するステップをさらに設けるSACP法。
【請求項７】
請求項１から６までのいずれか一項に記載のSACP法において、次のステップ、すなわち：
（ａ４）少なくとも１０個の異なる入射位置について、
前記第２ビーム偏向器の励起を調整し、入射位置を調整するステップと、第１ビーム偏向器の励起を調整し、入射位置を変更することなしに入射角を調整するステップと、入射位置を変更することなしに前記第１ビーム偏向器の励起を調整し、少なくとも１００個の異なる入射角それぞれについて対応した強度を検出するステップとを繰り返すステップを設けるSACP法。
【請求項８】
請求項１から７までのいずれか一項に記載のSACP法において、
（ｂ１）前記第１ビーム偏向器の励起を調整し、物体表面におけるビームの第２入射角を調整するステップと、
（ｂ２）前記第２ビーム偏向器の励起を調整し、第２入射角を変更することなしに物体表面におけるビームの第２入射位置を調整し、強度を検出するステップと、
（ｂ３）前記第２ビーム偏向器の励起を調整し、第２入射角を変更することなしに第２入射位置を調整するステップを繰り返し、同じ第２入射角で少なくとも１００個の異なる入射位置それぞれについて対応した強度を検出するステップと
をさらに設けるSACP法。
【請求項９】
請求項８に記載のSACP法において、
前記少なくとも１００個の異なる入射位置に関係して、少なくとも１００個の異なる入射位置に対応して検出した強度を表示するSACP法。
【請求項１０】
請求項８または９に記載のSACP法において、
前記少なくとも１００個の異なる入射位置に対応して検出した強度と少なくとも１００個の異なる入射位置との関係性を分析し、
関係性の分析に基づいて目標入射位置を決定するステップをさらに設けるSACP法。
【請求項１１】
請求項１０に記載のSACP法において、
前記第２ビーム偏向器の励起を調整し、入射位置を調整するステップで、調整された入射位置が決定した目標入射位置に対応するように前記第２ビーム偏向器の励起を行うSACP法。
【請求項１２】
請求項１から１１までのいずれか一項に記載のSACP法において、
前記粒子光学系は、（ａ３）の間に生じる動的に変化する非点収差を補償するための四重極スティグメータを備えるSACP法。
【請求項１３】
請求項１２に記載のSACP法において、
前記四重極スティグメータは、前記ビーム経路の前記収差補正器と前記対物レンズとの間に配置されるSACP法。
【請求項１４】
請求項１から１３までのいずれか一項に記載のSACP法において、
前記粒子光学系は、（ａ３）の間に生じる動的に変化する焦点ぼけを補正するように構成された集束コイルを備えるSACP法。
【請求項１５】
請求項１４に記載のSACP法において、
前記集束コイルは、前記ビーム経路の前記収差補正器と前記対物レンズとの間に配置されるSACP法。
【請求項１６】
請求項１から１５までのいずれか一項に記載のSACP法において、
前記収差補正器はミラーを備え、前記荷電粒子ビームは前記ミラーで反射されるSACP法。
【請求項１７】
粒子光学系において、
荷電粒子ビームを生成するように構成されたビーム源と、
物体にビームを集束させるように構成された対物レンズと、
ビーム経路で対物レンズの上流側に配置された第１ビーム偏向器と、
前記ビーム経路で前記第１ビーム偏向器と前記対物レンズとの間に配置された収差補正器と、
前記ビーム経路で前記収差補正器の下流側に配置された第２ビーム偏向器と、
前記第１ビーム偏向器を励起し、それぞれ１／１００秒未満、特に１／１０００秒未満の周期を有する第１励起信号を前記第１ビーム偏向器に伝達するための第１制御器と
を備えることを特徴とする粒子光学系。
【請求項１８】
請求項１７に記載の粒子光学系において、
前記粒子光学系は、前記物体表面における前記荷電粒子ビームの入射角を、前記物体表面における前記荷電粒子ビームの入射位置を変更することなしに調整可能に構成され、該入射角を調整する間、前記粒子光学系に対する前記物体の位置は変化しない粒子光学系。
【請求項１９】
請求項１８に記載の粒子光学系において、
前記入射角は前記第１ビーム偏向器により調整可能である粒子光学系。
【請求項２０】
請求項１７から１９までのいずれか一項に記載の粒子光学系において、
前記第１制御器および前記第１ビーム偏向器が、周期内で物体におけるビームの入射角を５０mradよりも大きく変化させるように構成された粒子光学系。
【請求項２１】
請求項１７から１９までのいずれか一項に記載の粒子光学系において、
前記ビーム経路で前記収差補正器の上流側に配置されたウィーンフィルタと、
該ウィーンフィルタを励起するための第２制御器と
をさらに備え、
該第２制御器が第２励起信号を前記ウィーンフィルタに伝達するように構成されており、それぞれの第２励起信号が１／１００秒未満の周期を有している粒子光学系。
【請求項２２】
請求項２１に記載の粒子光学系において、
前記第１ビーム偏向器は前記ウィーンフィルタの一部を構成する粒子光学系。
【請求項２３】
請求項１７から２２までのいずれか一項に記載の粒子光学系において、
前記第１ビーム偏向器と前記収差補正器との間に配置された第３ビーム偏向器と、
第３励起信号を前記第３ビーム偏向器に伝達するように構成された第３制御器と
をさらに備え、
それぞれの第３励起信号が１／１００秒未満、特に１／１０００秒未満の周期を有している粒子光学系粒子光学系。
【請求項２４】
請求項１７から２３までのいずれか一項に記載の粒子光学系において、
前記収差補正器と前記第２ビーム偏向器との間に配置された第４ビーム偏向器をさらに備える粒子光学系。
【請求項２５】
請求項１７から２４までのいずれか一項に記載の粒子光学系において、
前記粒子光学系は、角度スキャンの間に生じる動的に変化する非点収差を補償するための四重極スティグメータを備える粒子光学系。
【請求項２６】
請求項２５に記載の粒子光学系において、
前記四重極スティグメータは、前記ビーム経路の前記収差補正器と前記対物レンズとの間に配置される粒子光学系。
【請求項２７】
請求項１７から２６までのいずれか一項に記載の粒子光学系において、
前記粒子光学系は、角度スキャンの間に生じる動的に変化する焦点ぼけを補正するように構成された集束コイルを備える粒子光学系。
【請求項２８】
請求項２７に記載の粒子光学系において、
前記集束コイルは、前記ビーム経路の前記収差補正器と前記対物レンズとの間に配置される粒子光学系。
【請求項２９】
請求項１７から請求項２８までのいずれか一項に記載の粒子光学系において、
前記収差補正器はミラーを備え、前記荷電粒子ビームは前記ミラーで反射される粒子光学系。