【手続補正書】
【提出日】平成26年11月5日(2014.11.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の荷電粒子線によって基板にパターンを描画する荷電粒子線描画装置であって、
前記複数の荷電粒子線を通過させる複数のアパーチャを有するアパーチャプレートを含む電子光学系と、
前記アパーチャプレートをクリーニングするクリーニングユニットと、を備え、
前記クリーニングユニットは、複数の放出孔を有する放出孔プレートを含む容器と、前記容器の中で活性種を発生する活性種源と、前記容器を移動させる駆動機構とを含み、前記容器の内部空間の圧力は、前記容器の外部空間の圧力より高く、
前記クリーニングユニットは、前記駆動機構によって前記放出孔プレートが前記アパーチャプレートに対面するように配置された状態で、前記内部空間の圧力と前記外部空間の圧力との差によって前記複数の放出孔の少なくとも１つの放出孔から放出される活性種を用いて、前記複数のアパーチャの少なくとも１つのアパーチャに堆積した堆積物を除去する、
ことを特徴とする荷電粒子線描画装置。
【請求項２】
前記基板を保持する基板保持部を更に備え、前記アパーチャプレートをクリーニングする場合に、前記駆動機構は、前記基板保持部が退避された状態で、前記電子光学系に前記放出孔プレートが対面するように前記容器を移動させる、
ことを特徴とする請求項１に記載の荷電粒子線描画装置。
【請求項３】
前記基板を保持する基板保持部を更に備え、前記駆動機構は、前記基板保持部を駆動するように構成され、前記アパーチャプレートをクリーニングする場合に、前記基板保持部によって前記容器が保持され、前記駆動機構が前記基板保持部を移動させることによって前記容器が移動する、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の荷電粒子線描画装置。
【請求項４】
前記複数の放出孔の個数は、前記複数のアパーチャの個数より少なく、前記クリーニングユニットは、前記放出孔プレートが前記アパーチャプレートに対面するように前記駆動機構によって配置された状態で、前記複数の放出孔のうち前記少なくとも１つの放出孔とは異なる放出孔から放出される活性種によって、前記複数のアパーチャのうち前記少なくとも１つのアパーチャとは異なるアパーチャに堆積した堆積物を除去する、
ことを特徴とする請求項１に記載の荷電粒子線描画装置。
【請求項５】
複数の荷電粒子線によって基板にパターンを描画する荷電粒子線描画装置であって、
前記複数の荷電粒子線を通過させる複数のアパーチャを有するアパーチャプレートを含む電子光学系と、
複数の放出孔を有する放出孔プレートを含む容器、前記容器の中で活性種を発生する活性種源、および、前記容器を移動させる駆動機構を含み、前記アパーチャプレートをクリーニングするクリーニングユニットと、
前記電子光学系に対する前記容器の相対的な位置を検出する検出器と、を備え、
前記複数の放出孔の個数は、前記複数のアパーチャの個数より少なく、
前記容器の内部空間の圧力は、前記容器の外部空間の圧力より高く、
前記駆動機構は、前記検出器による検出に基づいて、前記複数の放出孔の少なくとも１つの放出孔を前記複数のアパーチャの少なくとも１つのアパーチャに位置合わせし、
前記クリーニングユニットは、前記内部空間の圧力と前記外部空間の圧力との差によって前記複数の放出孔の少なくとも１つの放出孔から放出され、前記複数のアパーチャのうち位置合わせされた少なくとも１つのアパーチャを通った活性種を用いて、前記電子光学系の内部に配置された部分に堆積した堆積物を除去する、
ことを特徴とする荷電粒子線描画装置。
【請求項６】
荷電粒子線によって基板にパターンを描画する荷電粒子線描画装置であって、
前記荷電粒子線を通過させるアパーチャを有するアパーチャプレートを含む電子光学系と、
前記アパーチャプレートをクリーニングするクリーニングユニットと、を備え、
前記クリーニングユニットは、放出孔を有する放出孔プレートを含む容器と、前記容器の中で活性種を発生する活性種源と、前記容器を移動させる駆動機構とを含み、前記容器の内部空間の圧力は、前記容器の外部空間の圧力より高く、
前記クリーニングユニットは、前記駆動機構によって前記放出孔プレートが前記アパーチャプレートに対面するように配置された状態で、前記内部空間の圧力と前記外部空間の圧力との差によって前記放出孔から放出される活性種を用いて、前記アパーチャに堆積した堆積物を除去する、
ことを特徴とする荷電粒子線描画装置。
【請求項７】
複数の荷電粒子線によって基板にパターンを描画する荷電粒子線描画装置であって、
前記複数の荷電粒子線を通過させる複数のアパーチャを有するアパーチャプレートを含む電子光学系と、
前記アパーチャプレートをクリーニングするクリーニングユニットと、を備え、
前記クリーニングユニットは、放出孔を有する放出孔プレートを含む容器と、前記容器の中で活性種を発生する活性種源と、前記容器を移動させる駆動機構とを含み、前記容器の内部空間の圧力は、前記容器の外部空間の圧力より高く、
前記クリーニングユニットは、前記駆動機構によって前記放出孔プレートが前記アパーチャプレートに対面するように配置された状態で、前記内部空間の圧力と前記外部空間の圧力との差によって前記放出孔から放出される活性種を用いて、前記複数のアパーチャのそれぞれに堆積した堆積物を除去する、
ことを特徴とする荷電粒子線描画装置。
【請求項８】
デバイスを製造するデバイス製造方法であって、
請求項１乃至７のいずれか１項に記載の荷電粒子線描画装置によって基板にパターンを描画する工程と、
前記工程でパターンを描画された前記基板を現像する工程と、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項９】
複数の荷電粒子線によって基板にパターンを描画する荷電粒子線描画装置をクリーニングするクリーニング方法であって、
前記荷電粒子線描画装置は、
前記複数の荷電粒子線を通過させる複数のアパーチャを有するアパーチャプレートを含む電子光学系と、
前記アパーチャプレートをクリーニングするクリーニングユニットと、を備え、
前記クリーニングユニットは、複数の放出孔を有する放出孔プレートを含む容器と、前記容器の中で活性種を発生する活性種源と、前記容器を移動させる駆動機構とを含み、前記容器の内部空間の圧力は、前記容器の外部空間の圧力より高く、
前記クリーニング方法は、
前記駆動機構によって、前記放出孔プレートが前記アパーチャプレートに対面するように、前記容器を駆動する工程と、
前記内部空間の圧力と前記外部空間の圧力との差によって、前記アパーチャプレートに対面している前記放出孔プレートの前記複数の放出孔の少なくとも１つの放出孔から放出される活性種を用いて、前記複数のアパーチャの少なくとも１つのアパーチャに堆積した堆積物を除去する、
ことを特徴とするクリーニング方法。
【請求項１０】
複数の荷電粒子線によって基板にパターンを描画する荷電粒子線描画装置をクリーニングするクリーニング方法であって、
前記荷電粒子線描画装置は、
前記複数の荷電粒子線を通過させる複数のアパーチャを有するアパーチャプレートを含む電子光学系と、
複数の放出孔を有する放出孔プレートを含む容器、前記容器の中で活性種を発生する活性種源、および、前記容器を移動させる駆動機構を含み、前記アパーチャプレートをクリーニングするクリーニングユニットと、
前記電子光学系に対する前記容器の相対的な位置を検出する検出器と、を備え、
前記クリーニングユニットは、複数の放出孔を有する放出孔プレートを含む容器と、前記容器の中で活性種を発生する活性種源と、前記容器を移動させる駆動機構とを含み、
前記複数の放出孔の個数は、前記複数のアパーチャの個数より少なく、
前記容器の内部空間の圧力は、前記容器の外部空間の圧力より高く、
前記クリーニング方法は、
前記検出器によって、前記電子光学系に対する前記容器の位置を検出する工程と、
前記駆動機構によって、前記検出器による検出に基づいて、前記複数の放出孔の少なくとも１つの放出孔を前記複数のアパーチャの少なくとも１つのアパーチャに位置合わせする工程と、
前記内部空間の圧力と前記外部空間の圧力との差によって前記複数の放出孔の少なくとも１つの放出孔から放出され、前記複数のアパーチャのうち位置合わせされた少なくとも１つのアパーチャを通った活性種を用いて、前記電子光学系の内部に配置された部分に堆積した堆積物を除去する、
ことを特徴とするクリーニング方法。
【請求項１１】
荷電粒子線によって基板にパターンを描画する荷電粒子線描画装置をクリーニングするクリーニング方法であって、
前記荷電粒子線描画装置は、
前記荷電粒子線を通過させるアパーチャを有するアパーチャプレートを含む電子光学系と、
活性種を放出するための放出孔を有する放出孔プレートを含む容器を有し、前記アパーチャプレートをクリーニングするクリーニングユニットと、を備え、
前記クリーニング方法は、
前記放出孔プレートが前記アパーチャプレートに対面するように、前記容器を駆動する工程と、
前記容器の内部空間の圧力を前記容器の外部空間の圧力より高くする工程と、
前記内部空間の圧力と前記外部空間の圧力との差によって、前記アパーチャプレートに対面している前記放出孔プレートの前記放出孔から放出される活性種を用いて、前記アパーチャに堆積した堆積物を除去する工程と、
を含むことを特徴とするクリーニング方法。