(57)【要約】【課題】フロントウインドウを液晶パネルに接着した後に液晶パネルの周辺部に色ムラが発生することを抑制する。【解決手段】液晶表示装置は、走査信号線、データ信号線、及び画素電極をそれぞれ含む複数のＴＦＴパターンを形成したＴＦＴ基板と、ＴＦＴ基板と対向して配置されるカラーフィルタ基板と、カラーフィルタ基板においてＴＦＴ基板と対向する面に形成された、複数の柱状スペーサと、を備え、複数のＴＦＴパターンのうち少なくとも一部は、走査信号線の上又は画素電極の下に形成され、複数の柱状スペーサの１つを直接又は間接的に支持する台座を備え、ＴＦＴ基板の中央部分に形成されたＴＦＴパターンに備えられる台座が柱状スペーサを支持する面積が、ＴＦＴ基板の中央部分よりも外側に形成されたＴＦＴパターンに備えられる台座が柱状スペーサを支持する面積よりも大きい。【選択図】図７
2013109124.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
走査信号線、データ信号線、及び画素電極をそれぞれ含む複数のＴＦＴパターンを形成したＴＦＴ基板と、
前記ＴＦＴ基板と対向して配置されるカラーフィルタ基板と、
前記カラーフィルタ基板において前記ＴＦＴ基板と対向する面に形成された、複数の柱状スペーサと、を備える液晶表示装置であって、
前記複数のＴＦＴパターンのうち少なくとも一部は、
走査信号線の上又は画素電極の下に形成され、前記複数の柱状スペーサの１つを直接又は間接的に支持する台座を備え、
前記ＴＦＴ基板の中央部分に形成されたＴＦＴパターンに備えられる台座が前記柱状スペーサを支持する面積が、前記ＴＦＴ基板の中央部分よりも外側に形成されたＴＦＴパターンに備えられる台座が前記柱状スペーサを支持する面積よりも大きい
ことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記ＴＦＴ基板に形成されたＴＦＴパターンに備えられる台座が前記柱状スペーサを支持する面積を、前記ＴＦＴ基板の中央部分から外側に向かって小さくなるようにした
ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記ＴＦＴ基板の中央部分に形成されたＴＦＴパターンに備えられる台座は、前記柱状スペーサの端面の全てを支持し、
前記ＴＦＴ基板の前記中央部分と周辺部分との間に形成されたＴＦＴパターンに備えられる台座は、前記柱状スペーサの端面の一部を支持し、
前記ＴＦＴ基板の前記周辺部分に形成されたＴＦＴパターンには前記台座を設けない
ことを特徴とする請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記台座を走査信号線の上に形成する場合には、当該台座を画素電極と同一の材料で同一の層に形成し、
前記台座を画素電極の下に形成する場合には、当該台座を走査信号線と同一の材料で同一の層に形成する
ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記複数のＴＦＴパターンにそれぞれ備えられる台座の高さを同一とした
ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記複数の柱状スペーサはそれぞれ同一の形状であり、
前記複数の柱状スペーサをそれぞれ前記カラーフィルタ基板において予め定められた間隔で配置した
ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶パネルにおいては、ＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板とをシール材を挟んで配置し、ＴＦＴ基板、カラーフィルタ基板及びシール剤で囲まれる空間に液晶を封入して液晶層を構成している。ここで、下記の特許文献１に記載されているように、液晶層の厚みを精度良く制御するために、カラーフィルタ基板に柱状スペーサを設けることが行われている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００２−３５０８６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
液晶パネルとフロントウインドウとをハイブリッド（ＵＶ樹脂による接着）すると、液晶パネルの周辺部分よりも中央部分に対してより強い応力がかかるため、ハイブリッド前には図１１（Ａ）に示されるようにＴＦＴ基板２２０とカラーフィルタ基板２３０との間隔を面内で均一化していたとしても、ハイブリッド後には図１１（Ｂ）に示されるように両基板の中央部分での間隔が外側部分での間隔よりも狭くなってしまうことがある。このように、ハイブリッド後に液晶パネルに歪みが生じることで、液晶パネルの周辺部に黄色のムラが発生する現象、所謂イエローボーダが発生することがあった。
【０００５】
本発明は上記の課題に鑑みて為されたものであって、その目的は、フロントウインドウを液晶パネルに接着した後に液晶パネルの周辺部に色ムラが発生することを抑制できる液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
（１）本発明に係る液晶表示装置は、走査信号線、データ信号線、及び画素電極をそれぞれ含む複数のＴＦＴパターンを形成したＴＦＴ基板と、前記ＴＦＴ基板と対向して配置されるカラーフィルタ基板と、前記カラーフィルタ基板において前記ＴＦＴ基板と対向する面に形成された、複数の柱状スペーサと、を備える液晶表示装置であって、前記複数のＴＦＴパターンのうち少なくとも一部は、走査信号線の上又は画素電極の下に形成され、前記複数の柱状スペーサの１つを直接又は間接的に支持する台座を備え、前記ＴＦＴ基板の中央部分に形成されたＴＦＴパターンに備えられる台座が前記柱状スペーサを支持する面積が、前記ＴＦＴ基板の中央部分よりも外側に形成されたＴＦＴパターンに備えられる台座が前記柱状スペーサを支持する面積よりも大きいことを特徴とする。
【０００７】
（２）（１）に記載の液晶表示装置において、前記ＴＦＴ基板に形成されたＴＦＴパターンに備えられる台座が前記柱状スペーサを支持する面積を、前記ＴＦＴ基板の中央部分から外側に向かって小さくなるようにしてもよい。
【０００８】
（３）（２）に記載の液晶表示装置において、前記ＴＦＴ基板の中央部分に形成されたＴＦＴパターンに備えられる台座は、前記柱状スペーサの端面の全てを支持し、前記ＴＦＴ基板の前記中央部分と周辺部分との間に形成されたＴＦＴパターンに備えられる台座は、前記柱状スペーサの端面の一部を支持し、前記ＴＦＴ基板の前記周辺部分に形成されたＴＦＴパターンには前記台座を設けないこととしてもよい。
【０００９】
（４）（１）に記載の液晶表示装置において、前記台座を走査信号線の上に形成する場合には、当該台座を画素電極と同一の材料で同一の層に形成し、前記台座を画素電極の下に形成する場合には、当該台座を走査信号線と同一の材料で同一の層に形成することとしてもよい。
【００１０】
（５）（１）に記載の液晶表示装置において、前記複数のＴＦＴパターンにそれぞれ備えられる台座の高さを同一としたこととしてもよい。
【００１１】
（６）（１）に記載の液晶表示装置において、前記複数の柱状スペーサはそれぞれ同一の形状であり、前記複数の柱状スペーサをそれぞれ前記カラーフィルタ基板において予め定められた間隔で配置したこととしてもよい。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の一態様によれば、液晶パネルの中央部分において周辺部分よりも柱状スペーサによる抗力が強くなるようにしたことで、フロントウインドウを液晶パネルに接着した後に液晶パネルの周辺部に色ムラが発生することを抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の一実施形態に係る液晶表示装置の概略図である。
【図２】液晶パネルの構成図である。
【図３】ＴＦＴパターンの基本構成を示す図である。
【図４】ＴＦＴ基板に設定した複数の領域の関係を示した図である。
【図５Ａ】領域Ａに形成されるＴＦＴパターンの構成を示す図である。
【図５Ｂ】領域Ｂに形成されるＴＦＴパターンの構成を示す図である。
【図６Ａ】領域Ａにおける柱状スペーサと台座との関係を説明する図である。
【図６Ｂ】領域Ｂにおける柱状スペーサと台座との関係を説明する図である。
【図６Ｃ】領域Ｃにおける柱状スペーサと台座との関係を説明する図である。
【図７】ハイブリッド前後におけるＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板との距離の関係を示す図である。
【図８Ａ】領域Ａに形成されるＴＦＴパターンの構成を示す図である。
【図８Ｂ】領域Ｂに形成されるＴＦＴパターンの構成を示す図である。
【図９Ａ】領域Ａにおける柱状スペーサと台座との関係を説明する図である。
【図９Ｂ】領域Ｂにおける柱状スペーサと台座との関係を説明する図である。
【図９Ｃ】領域Ｃにおける柱状スペーサと台座との関係を説明する図である。
【図１０】液晶パネルの断面における位置と、台座と柱状スペーサとの接触面積との関係の一例を示す図である。
【図１１】従来技術によるハイブリッド前後におけるＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板との距離の関係を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明の実施の形態（以下、実施形態）について、図面を参照して説明する。
【００１５】
図１には、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置１００が概略的に示されている。図１に示されるように、液晶表示装置１００は、上フレーム１１０及び下フレーム１２０に挟まれるように固定された液晶パネル２００及び不図示のバックライト装置等から構成されている。
【００１６】
図２には、図１の液晶パネル２００の構成が示されている。液晶パネル２００は、ＴＦＴ（Thin Film Transistor：薄膜トランジスタ）基板２２０とカラーフィルタ基板２３０の２枚の基板を有し、これらの基板の間には液晶組成物が封止されている。ＴＦＴ基板２２０は、走査信号線２１１に対して、順に所定の電圧を印加する走査信号線駆動回路２１０と、走査信号線駆動回路２１０を制御すると共に、画素領域２０２において走査信号線２１１に垂直に交差するように延びる複数のデータ信号線２６１に対して画素の階調値に対応する電圧を印加する駆動回路２６０とを有している。
【００１７】
ＴＦＴ基板２２０は、一本の走査信号線２１１と一本のデータ信号線２６１との組ごとに対応するＴＦＴパターン３００が形成される。なお、図２では説明の簡便のため、ＴＦＴパターン３００を１つだけ示している。
【００１８】
図３には、ＴＦＴパターン３００の基本構成を示している。図３に示されるように、ＴＦＴパターン３００には、アモルファス・シリコン（ａ−Ｓｉ）により構成される半導体領域３０２、走査信号線として機能するゲート線２１１（ＧＡＬ）、データ信号線として機能するドレイン線２６１（ＤＣＲ）、及び画素電極として機能するソース電極３０４（ＤＣＲ）が含まれる。さらに、本実施形態においては、ＴＦＴ基板２２０に形成されたＴＦＴパターン３００のうち少なくとも一部のＴＦＴパターン３００には走査信号線（ゲート線２１１）の上、又は画素電極（ソース電極３０４）の下に、対向するカラーフィルタ基板２３０に設けられた柱状スペーサを支持する台座を形成することとする。以下、ＴＦＴ基板２２０における位置に応じたＴＦＴパターン３００に設けられる台座の構成例について説明する。
【００１９】
図４には、ＴＦＴ基板２２０に設定した複数の領域の関係を示した。図４に示される例においては、ＴＦＴ基板２２０には、領域Ａ、領域Ｂ、領域Ｃの３つの領域を設け、領域ＡはＴＦＴ基板２２０の中心を含む中央部分に設定した領域、領域Ｂは領域Ａと周辺部の領域Ｃとの間の領域、領域ＣはＴＦＴ基板２２０の画素領域２０２における周辺部に設定した領域となっている。本実施形態では、ＴＦＴ基板２２０の画素領域２０２を３つの領域に分けた例を説明しているが、中央部分から周辺部分までの領域を３以外の複数の領域に分けることとしても構わない。
【００２０】
［第１の実施例］
以下、台座を走査信号線の上に形成する例（第１の実施例）について説明する。
【００２１】
図５Ａには、第１の実施例においてＴＦＴ基板２２０の領域Ａに形成されるＴＦＴパターン３００Ａの構成を示した。図５Ａに示されるＴＦＴパターン３００Ａには、カラーフィルタ基板２３０に設けられた柱状スペーサを受ける台座５００Ａが走査信号線であるゲート線２１１上に形成される。なお、例えば、台座５００Ａの上面が柱状スペーサの端面６００（接触面）を１００％カバーする大きさとなるように、台座５００Ａを形成することとしてよい。台座５００Ａは、画素電極であるソース電極３０４を形成する工程において、ソース電極３０４と同じ材料によりソース電極３０４と同じ層に形成することとしてよい。
【００２２】
図５Ｂには、第１の実施例においてＴＦＴ基板２２０の領域Ｂに形成されるＴＦＴパターン３００Ｂの構成を示した。図５Ｂに示されるＴＦＴパターン３００Ｂには、カラーフィルタ基板２３０に設けられた柱状スペーサを受ける台座５００Ｂが走査信号線であるゲート線２１１上に形成される。なお、台座５００Ｂの上面の面積は台座５００Ａの上面の面積よりも小さく、例えば、台座５００Ｂの上面が柱状スペーサの端面６００（接触面）を５０％カバーする大きさとなるように、台座５００Ｂを形成することとしてよい。台座５００Ｂは、画素電極であるソース電極３０４を形成する工程において、ソース電極３０４と同じ材料によりソース電極３０４と同じ層に形成することとしてよい。
【００２３】
ＴＦＴ基板２２０の領域Ｃには、図３に示したＴＦＴパターン３００を形成することとしてよい。もちろん、領域Ｃに形成されるＴＦＴパターン３００のゲート線２１１上にも台座を形成することとしても構わない。この場合に形成される台座の上面の面積は、台座５００Ｂの上面の面積よりも小さくなるようにする。
【００２４】
カラーフィルタ基板２３０は、着色層（ＲＧＢ膜）、透明導電膜を形成した後に、スペーサ材を塗布し所定の工程により柱状スペーサを形成することとしてよい。この際、カラーフィルタ基板２３０に形成される柱状スペーサの形状（高さや幅）は同一としてよく、そのカラーフィルタ基板２３０の面内における分布も均一としてよい。
【００２５】
図６Ａ〜Ｃには、第１の実施例に係るＴＦＴ基板２２０とカラーフィルタ基板２３０とを貼り合わせた場合の、ＴＦＴ基板２２０とカラーフィルタ基板２３０の距離を説明する図を示した。図６Ａは、領域ＡのＴＦＴパターン３００Ａと対向する柱状スペーサとの接触状態、図６Ｂは領域ＢのＴＦＴパターン３００Ａと対向する柱状スペーサとの接触状態、図６Ｃは領域ＣのＴＦＴパターン３００と対向する柱状スペーサとの接触状態を示している。
【００２６】
図６Ａに示されるように、領域Ａにおける柱状スペーサ６０１は、接触面の全面が対向する台座５００Ａにより支持されるため、柱状スペーサ６０１による抗力が領域Ｂ及びＣのＴＦＴパターン３００と接触する柱状スペーサ６０１よりも強く働き、また、図６Ｂに示されるように、領域Ｂの柱状スペーサ６０１は、接触面の一部が対向する台座５００Ｂにより支持されるため、柱状スペーサ６０１による抗力が領域Ａよりも弱いが領域Ｃよりも強く働く。このため、ＴＦＴ基板２２０とカラーフィルタ基板２３０とを貼り合わせて液晶を封入した液晶パネル２００においては、ＴＦＴ基板２２０の領域Ａ〜Ｃにおいて両基板間の距離には差異が生じ、その関係は、領域Ａにおける両基板の距離をｄＡ、領域Ｂにおける両基板の距離をｄＢ、領域Ｃにおける両基板の距離をｄＣとすると、ハイブリッド前では、図７（Ａ）に示したように、ｄＡ＞ｄＢ＞ｄＣとなる。
【００２７】
これに対し、液晶パネル２００と、上フレーム１１０（フロントウインドウ）とをハイブリッド（ＵＶ樹脂による接着）すると、液晶パネル２００の外側部分よりも中央部分に対してより強い応力がかかるため、図７（Ｂ）に示されるように、ハイブリッド前にはＴＦＴ基板２２０とカラーフィルタ基板２３０との間隔が中央部分で大きく周辺部分で小さくなっていたのが（図７（Ａ）参照）、ハイブリッド後には両基板の間隔が全体で均一化することとなる。
【００２８】
以上説明した第１の実施例に係る液晶パネル２００によれば、ＴＦＴ基板２２０のうち中央部分から外側に向けてゲート線２１１上に設けた台座が柱状スペーサ６０１を支持する面積が小さくなるように構成したことにより、液晶パネル２００とフロントウインドウとのハイブリッド前には、ＴＦＴ基板２２０とカラーフィルタ基板２３０との距離を中心から外側に行くにつれて狭くすることができる。これにより、液晶パネル２００とフロントウインドウとのハイブリッド後には、ＴＦＴ基板２２０とカラーフィルタ基板２３０との距離が全面において均一化し、液晶パネル２００の周辺部分において色ムラが発生することを防止できる。また、ゲート線２１１上に設ける台座の表面積の面内分布を変えるようにしたことにより、柱状スペーサ６０１の形状や面内分布は均一としたまま、ハイブリッド前においてＴＦＴ基板２２０とカラーフィルタ基板２３０との距離を中心から外側に行くにつれて狭くすることが可能となる。
【００２９】
［第２の実施例］
次に、台座を画素電極の下に形成する例（第２の実施例）について説明する。
【００３０】
図８Ａには、第２の実施例においてＴＦＴ基板２２０の領域Ａに形成されるＴＦＴパターン３００ａの構成を示した。図８Ａに示されるＴＦＴパターン３００ａには、カラーフィルタ基板２３０に設けられた柱状スペーサ６０１を受ける台座５００ａが、画素電極であるソース電極３０４の下（ソース電極３０４とその下の絶縁膜との間）に形成される。なお、例えば、台座５００ａの上面が柱状スペーサの端面６００（接触面）を１００％カバーする大きさとなるように、台座５００ａを形成することとしてよい。台座５００ａは、走査信号線であるゲート線２１１を形成する工程において、ゲート線２１１と同じ材料でゲート線２１１と同じ層に形成することとしてよい。
【００３１】
図８Ｂには、第２の実施例においてＴＦＴ基板２２０の領域Ｂに形成されるＴＦＴパターン３００ｂの構成を示した。図８Ｂに示されるＴＦＴパターン３００ｂには、カラーフィルタ基板２３０に設けられた柱状スペーサを受ける台座５００ｂが、画素電極であるソース電極３０４の下（ソース電極３０４とその下の絶縁膜との間）に形成される。台座５００ｂの上面の面積は台座５００ｂの上面の面積よりも小さく、例えば、台座５００ｂの上面が柱状スペーサの端面６００（接触面）を５０％カバーする大きさとなるように、台座５００ｂを形成することとしてよい。台座５００ｂは、走査信号線であるゲート線２１１を形成する工程において、ゲート線２１１と同じ材料でゲート線２１１と同じ層に形成することとしてよい。
【００３２】
第２の実施例においても、ＴＦＴ基板２２０の領域Ｃには、図３に示したＴＦＴパターン３００を形成することとしてよい。もちろん、領域Ｃに形成されるＴＦＴパターン３００のゲート線２１１上にも台座を形成することとしても構わない。この場合に形成される台座の上面の面積は、台座５００ｂの上面の面積よりも小さくなるようにする。
【００３３】
なお、第２の実施例においても第１の実施例と同様に、カラーフィルタ基板２３０は、着色層（ＲＧＢ膜）、透明導電膜を形成した後に、スペーサ材を塗布し所定の工程により柱状スペーサを形成することとしてよい。この際、カラーフィルタ基板２３０に形成される柱状スペーサの形状（高さや幅）は同一としてよく、そのカラーフィルタ基板２３０の面内における分布も均一としてよい。
【００３４】
図９Ａ〜Ｃには、第２の実施例に係るＴＦＴ基板２２０とカラーフィルタ基板２３０とを貼り合わせた場合の、ＴＦＴ基板２２０とカラーフィルタ基板２３０との距離を説明する図を示した。図９Ａは、領域ＡのＴＦＴパターン３００ａと対向する柱状スペーサ６０１との接触状態、図９Ｂは領域ＢのＴＦＴパターン３００ｂと対向する柱状スペーサ６０１との接触状態、図９Ｃは領域ＣのＴＦＴパターン３００と対向する柱状スペーサ６０１との接触状態を示している。
【００３５】
図９Ａに示されるように、領域Ａの柱状スペーサ６０１は、接触面の全面が対向する台座５００ａにより隆起した画素電極３０４により支持されるため、柱状スペーサ６０１による抗力が領域Ｂ及びＣのＴＦＴパターン３００と接触する柱状スペーサ６０１よりも強く働き、また、図９Ｂに示されるように、領域Ｂの柱状スペーサ６０１は、接触面の一部が対向する台座５００ｂにより隆起した画素電極３０４により支持されるため、柱状スペーサ６０１による抗力が領域Ａよりも弱いが領域Ｃよりも強く働く。このため、ＴＦＴ基板２２０とカラーフィルタ基板２３０とを貼り合わせて液晶を封入した液晶パネル２００においては、ＴＦＴ基板２２０の領域Ａ〜Ｃにおいて両基板間の距離には差異が生じ、その関係は、領域Ａにおける両基板の距離をｄＡ、領域Ｂにおける両基板の距離をｄＢ、領域Ｃにおける両基板の距離をｄＣとすると、ハイブリッド前では、図７（Ａ）に示したように、ｄＡ＞ｄＢ＞ｄＣとなる。
【００３６】
これに対し、液晶パネル２００と、上フレーム１１０（フロントウインドウ）とをハイブリッド（ＵＶ樹脂による接着）すると、液晶パネル２００の外側部分よりも中央部分に対してより強い応力がかかるため、図７（Ｂ）に示されるように、ハイブリッド前にはＴＦＴ基板２２０とカラーフィルタ基板２３０との間隔が中央部分で大きく周辺部分で小さくなっていたのが（図７（Ａ）参照）、ハイブリッド後には両基板の間隔が全体で均一化することとなる。
【００３７】
以上説明した第２の実施例に係る液晶パネル２００によれば、ＴＦＴ基板２２０のうち中央部分から外側に向けて画素電極の下に設けた台座が画素電極を介して柱状スペーサ６０１を支持する面積が小さくなるように構成したことにより、液晶パネル２００とフロントウインドウとのハイブリッド前には、ＴＦＴ基板２２０とカラーフィルタ基板２３０との距離を中心から外側に行くにつれて狭くすることができる。これにより、液晶パネル２００とフロントウインドウとのハイブリッド後には、ＴＦＴ基板２２０とカラーフィルタ基板２３０との距離が全面において均一化し、液晶パネル２００の周辺部分において色ムラが発生することを防止できる。また、画素電極の下に設ける台座の表面積の面内分布を変えるようにしたことにより、柱状スペーサ６０１の形状や面内分布は均一としたまま、ハイブリッド前においてＴＦＴ基板２２０とカラーフィルタ基板２３０との距離を中心から外側に行くにつれて狭くすることが可能となる。
【００３８】
図１０（Ａ）〜（Ｃ）には、液晶パネル２００の断面における位置と、台座による柱状スペーサの端面６００のカバー率との関係の一例を示した。
【００３９】
図１０（Ａ）に示したのは、上述した第１及び第２の実施例における例である。図１０（Ａ）に示されるように、中央部分の領域Ａ、中間部分の領域Ｂ、周辺部分の領域Ｃと分けて、領域Ａ、領域Ｂ、領域Ｃの順に台座と柱状スペーサ６０１との接触面積を小さくしている。なお、上述した第１及び第２の実施例においては領域Ｃにおいて台座を設けないこととしたが、領域Ｃにおいても台座を設けることとしても構わない。
【００４０】
もちろん、本発明は上記の実施形態に限定されるものではない。例えば、図１０（Ｂ）に示したように、ＴＦＴ基板２２０の中央部分から周辺部分までを中央部分の領域Ａ、それよりも外側の領域Ｂの２つに分け、領域Ａ、領域Ｂの順に台座と柱状スペーサ６０１との接触面積を小さくすることとしてもよい。また、図１０（Ｃ）に示したように、ＴＦＴ基板２２０の中央部分から周辺部分までを中央部分の領域Ａ、領域Ａの外側の領域Ｂ、領域Ｂの外側の領域Ｃ、最外部の領域Ｄと分けて、領域Ａ、領域Ｂ、領域Ｃ、領域Ｄの順に台座と柱状スペーサ６０１との接触面積を小さくすることとしてもよい。もちろん、領域の数は上述した例に限定されるものではなく他の領域数を採用しても構わない。
【００４１】
また、上記の実施形態では、台座の形状を直方体としたが、錐台等の他の形状を採用してもよいのはもちろんである。
【００４２】
液晶パネル２００とフロントウインドウとの接着部分の全面にＵＶ樹脂を塗布して接着させる場合に、イエローボーダが発生し易くなるため、そうした場合に本発明を適用することでイエローボーダの発生を抑える効果がより顕著となる。
【００４３】
本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく種々の変形が可能である。例え
ば、実施形態で説明した構成は、実質的に同一の構成、同一の作用効果を奏する構成又は
同一の目的を達成することができる構成で置き換えることができる。
【符号の説明】
【００４４】
１００  液晶表示装置、１１０  上フレーム、１２０  下フレーム、２００  液晶パネル、２０２  画素領域、２１０  走査信号線駆動回路、２１１  走査信号線（ゲート線）、２２０  ＴＦＴ基板、２３０  カラーフィルタ基板、２６０  駆動回路、２６１  データ信号線（ドレイン線）、３００，３００ａ，３００ｂ，３００Ａ，３００Ｂ  ＴＦＴパターン、３０４  ソース電極、Ａ，Ｂ，Ｃ  領域、５００Ａ，５００Ｂ，５００ａ，５００ｂ  台座、６００  端面、６０１  柱状スペーサ。
【図１】
2013109124.tif 000003
【図２】
2013109124.tif 000004
【図３】
2013109124.tif 000005
【図４】
2013109124.tif 000006
【図５Ａ】
2013109124.tif 000007
【図５Ｂ】
2013109124.tif 000008
【図６Ａ】
2013109124.tif 000009
【図６Ｂ】
2013109124.tif 000010
【図６Ｃ】
2013109124.tif 000011
【図７】
2013109124.tif 000012
【図８Ａ】
2013109124.tif 000013
【図８Ｂ】
2013109124.tif 000014
【図９Ａ】
2013109124.tif 000015
【図９Ｂ】
2013109124.tif 000016
【図９Ｃ】
2013109124.tif 000017
【図１０】
2013109124.tif 000018
【図１１】
2013109124.tif 000019