Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成26年8月25日(2014.8.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技を行うことが可能な遊技機であって、
回路基板を収納する第１部材及び第２部材からなる基板ケースと、
前記第１部材と前記第２部材とを封止状態とするために用いられる封印シールと、
を備え、
前記封印シールは、該封印シールの粘着力を低下させるために所定の溶剤が用いられたときに変化する溶剤使用部を有し、
前記遊技機は、前記基板ケースに貼付された前記封印シールを被覆可能な封印シール被覆部材をさらに備える
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、遊技を行うことが可能な遊技機に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
そこで、この種の回路基板を、ベース体（第１部材）とカバー体（第２部材）とからなる基板ケースに収納するとともに、封印シールを貼付することにより開封された場合にはその痕跡が残るように封止状態とすることで、回路基板に不正行為が行われた可能性があることを容易に発見することができるようにしたものがある。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
前記課題を解決するために、本発明の請求項１に記載の遊技機は、
遊技を行うことが可能な遊技機（例えば、スロットマシン１／パチンコ遊技機１００１）であって、
回路基板（例えば、遊技制御基板４０／主基板１０３１）を収納する第１部材（例えば、ベース部材２０１／ベース部材１２０１）及び第２部材（例えば、カバー部材２０２／カバー部材１２０２）からなる基板ケース（例えば、基板ケース２００／基板ケース１２００）と、
前記第１部材と前記第２部材とを封止状態（例えば、基板ケースが開封されたらその痕跡が残るように閉鎖した第２封止状態）とするために用いられる封印シール（例えば、封印シール４００／封印シール１４００）と、
を備え、
前記封印シールは、該封印シールの粘着力を低下させるために所定の溶剤が用いられたときに変化する溶剤使用部（例えば、所定の剥離液と接触することにより該剥離液に溶解する特殊インクにて印刷形成された溶剤使用表示部４５０Ａ〜４５０Ｄ／溶剤使用表示部１４５０Ａ〜１４５０Ｄ）を有し、
前記遊技機は、前記基板ケースに貼付された前記封印シールを被覆可能な封印シール被覆部材（例えば、シール保護カバー２２８／シール保護カバー１２２８）をさらに備える
ことを特徴としている。
この特徴によれば、溶剤を使用して封印シールの粘着力を低下させようとした場合、該封印シールの溶剤使用部が変化することで、溶剤を使用して封印シールの粘着力を低下させようとしたことがわかるようになるため、溶剤により剥離した封印シールを再度貼付するといった不正行為を抑制できるとともに、封印シールは封印シール被覆部材により被覆されることで、封印シールを剥離するには封印シール被覆部材を取り外さなければならず手間がかかるようになるため、不正行為を抑制することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成26年8月25日(2014.8.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技を行うことが可能な遊技機であって、
回路基板を収納する第１部材及び第２部材からなる基板ケースと、
前記第１部材と前記第２部材とを封止状態とするために用いられる封印シールと、
前記第１部材に設けられた第１部材側封印シール貼付部と、
前記第２部材に設けられた第２部材側封印シール貼付部と、
を備え、
前記封印シールは、
該封印シールの粘着力を低下させるために所定の溶剤が用いられたときに変化する溶剤使用部を有し、
前記第１部材側封印シール貼付部と前記第２部材側封印シール貼付部とに跨るように貼付されたときに該第１部材側封印シール貼付部と該第２部材側封印シール貼付部との境界部に位置しない部分に前記溶剤使用部が配置されている
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、遊技を行うことが可能な遊技機に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
そこで、この種の回路基板を、ベース体（第１部材）とカバー体（第２部材）とからなる基板ケースに収納するとともに、封印シールを貼付することにより開封された場合にはその痕跡が残るように封止状態とすることで、回路基板に不正行為が行われた可能性があることを容易に発見することができるようにしたものがある。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
前記課題を解決するために、本発明の請求項１に記載の遊技機は、
遊技を行うことが可能な遊技機（例えば、スロットマシン１／パチンコ遊技機１００１）であって、
回路基板（例えば、遊技制御基板４０／主基板１０３１）を収納する第１部材（例えば、ベース部材２０１／ベース部材１２０１）及び第２部材（例えば、カバー部材２０２／カバー部材１２０２）からなる基板ケース（例えば、基板ケース２００／基板ケース１２００）と、
前記第１部材と前記第２部材とを封止状態（例えば、基板ケースが開封されたらその痕跡が残るように閉鎖した第２封止状態）とするために用いられる封印シール（例えば、封印シール４００／封印シール１４００）と、
前記第１部材に設けられた第１部材側封印シール貼付部（例えば、ベース側封印部２２９／ベース側封印部１２２９）と、
前記第２部材に設けられた第２部材側封印シール貼付部（例えば、カバー側封印部２２４／カバー側封印部１２２４）と、
を備え、
前記封印シールは、
該封印シールの粘着力を低下させるために所定の溶剤が用いられたときに変化する溶剤使用部（例えば、所定の剥離液と接触することにより該剥離液に溶解する特殊インクにて印刷形成された溶剤使用表示部４５０Ａ〜４５０Ｄ／溶剤使用表示部１４５０Ａ〜１４５０Ｄ）を有し、
前記第１部材側封印シール貼付部と前記第２部材側封印シール貼付部とに跨るように貼付されたときに該第１部材側封印シール貼付部と該第２部材側封印シール貼付部との境界部（例えば、境界部Ｚ）に位置しない部分に前記溶剤使用部が配置されている（例えば、図１５（Ａ）に示すように、封印シール４００は、基板ケース２００に貼付されたときに境界部Ｚに掛からない位置に溶剤使用表示部４５０Ａ〜４５０Ｄが印刷されている。／図３０（Ａ）に示すように、封印シール１４００は、基板ケース１２００に貼付されたときに境界部Ｚに掛からない位置に溶剤使用表示部１４５０Ａ〜１４５０Ｄが印刷されている。）
ことを特徴としている。
この特徴によれば、溶剤を使用して封印シールの粘着力を低下させようとした場合、該封印シールの溶剤使用部が変化することで、溶剤を使用して封印シールの粘着力を低下させようとしたことがわかるようになるため、溶剤により剥離した封印シールを再度貼付するといった不正行為を抑制できるとともに、封止状態としたときに溶剤使用部が境界部に掛かることがないので、例えば、遊技店において回路基板の検査等のために封印シールを破断して基板ケースを開放したことにより溶剤使用部が破断してしまうことで、それ以前に溶剤が使用されたことが判りにくくなってしまうことが防止される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明の手段３の遊技機は、請求項１、手段１、手段２のいずれかに記載の遊技機であって、
前記第１部材側封印シール貼付部（例えば、ベース側封印部２２９／ベース側封印部１２２９）及び前記第２部材側封印シール貼付部（例えば、カバー側封印部２２４／カバー側封印部１２２４）の周囲には、貼付された封印シールの周囲を囲むように周壁部（例えば、凸条４１１、４２１／凸条１４１１、１４２１）が形成されている
ことを特徴としている。
この特徴によれば、封印シールを剥離する際に周囲の周壁部が邪魔になって剥離しにくくなるため、溶剤により剥離した封印シールを再度貼付するといった不正行為を抑制できる。
【手続補正書】
【提出日】平成26年8月25日(2014.8.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技を行うことが可能な遊技機であって、
回路基板を収納する第１部材及び第２部材からなる基板ケースと、
前記第１部材と前記第２部材とを封止状態とするために用いられる封印シールと、
を備え、
前記封印シールは、
該封印シールの粘着力を低下させるために所定の溶剤が用いられたときに変化する溶剤使用部を有し、
前記基板ケースに貼付されたときに前記回路基板において制御用マイクロコンピュータが実装される実装面と同方向を向く部分に前記溶剤使用部が配置されている
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、遊技を行うことが可能な遊技機に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
そこで、この種の回路基板を、ベース体（第１部材）とカバー体（第２部材）とからなる基板ケースに収納するとともに、封印シールを貼付することにより開封された場合にはその痕跡が残るように封止状態とすることで、回路基板に不正行為が行われた可能性があることを容易に発見することができるようにしたものがある。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
前記課題を解決するために、本発明の請求項１に記載の遊技機は、
遊技を行うことが可能な遊技機（例えば、スロットマシン１／パチンコ遊技機１００１）であって、
回路基板（例えば、遊技制御基板４０／主基板１０３１）を収納する第１部材（例えば、ベース部材２０１／ベース部材１２０１）及び第２部材（例えば、カバー部材２０２／カバー部材１２０２）からなる基板ケース（例えば、基板ケース２００／基板ケース１２００）と、
前記第１部材と前記第２部材とを封止状態（例えば、基板ケースが開封されたらその痕跡が残るように閉鎖した第２封止状態）とするために用いられる封印シール（例えば、封印シール４００／封印シール１４００）と、
を備え、
前記封印シールは、
該封印シールの粘着力を低下させるために所定の溶剤が用いられたときに変化する溶剤使用部（例えば、所定の剥離液と接触することにより該剥離液に溶解する特殊インクにて印刷形成された溶剤使用表示部４５０Ａ〜４５０Ｄ／溶剤使用表示部１４５０Ａ〜１４５０Ｄ）を有し、
前記基板ケースに貼付されたときに前記回路基板において制御用マイクロコンピュータ｛例えば、メイン制御部４１（ＣＰＵ４１ａ、ＲＯＭ４１ｂ、ＲＡＭ４１ｃ、Ｉ／Ｏポート４１ｄ）｝が実装される実装面（例えば、実装面４０ａ）と同方向を向く部分に前記溶剤使用部が配置されている（例えば、図１５（Ａ）に示すように、封印シール４００は、基板ケース２００に貼付されたときに実装面４０ａと同方向（上方）を向く部分である上部領域Ｒ１に溶剤使用表示部４５０Ａが配置されている）
ことを特徴としている。
この特徴によれば、溶剤を使用して封印シールの粘着力を低下させようとした場合、該封印シールの溶剤使用部が変化することで、溶剤を使用して封印シールの粘着力を低下させようとしたことがわかるようになるため、溶剤により剥離した封印シールを再度貼付するといった不正行為を抑制できるとともに、溶剤使用部及び制御用マイクロコンピュータの実装面の双方を一緒に視認することができることで、溶剤使用部及び制御用マイクロコンピュータに対する不正行為の確認作業を容易に行うことが可能となるため、作業負担を軽減できる。
【手続補正書】
【提出日】平成26年8月25日(2014.8.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技を行うことが可能な遊技機であって、
前記遊技機の背面側に設置される複数の電気部品と、
前記複数の電気部品を電気的に接続する配線と、
回路基板を収納する第１部材及び第２部材からなる基板ケースと、
前記第１部材と前記第２部材とを封止状態とするために用いられる封印シールと、
を備え、
前記封印シールは、
該封印シールの粘着力を低下させるために所定の溶剤が用いられたときに変化する溶剤使用部を有し、
前記基板ケースに貼付されたときに前記配線と重ならない部分に前記溶剤使用部が配置されている
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、遊技を行うことが可能な遊技機に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
そこで、この種の回路基板を、ベース体（第１部材）とカバー体（第２部材）とからなる基板ケースに収納するとともに、封印シールを貼付することにより開封された場合にはその痕跡が残るように封止状態とすることで、回路基板に不正行為が行われた可能性があることを容易に発見することができるようにしたものがある。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
前記課題を解決するために、本発明の請求項１に記載の遊技機は、
遊技を行うことが可能な遊技機（例えば、スロットマシン１／パチンコ遊技機１００１）であって、
前記遊技機の背面側（例えば、筐体１ａの内部／パチンコ遊技機１００１の背面）に設置される複数の電気部品（例えば、各種スイッチ、センサ、ソレノイド、モータ、ＬＥＤ等）と、
前記複数の電気部品を電気的に接続する配線（例えば、ケーブル６００ａ〜６００ｃ、６００ｋ／ケーブル１７００）と、
回路基板（例えば、遊技制御基板４０／主基板１０３１）を収納する第１部材（例えば、ベース部材２０１／ベース部材１２０１）及び第２部材（例えば、カバー部材２０２／カバー部材１２０２）からなる基板ケース（例えば、基板ケース２００／基板ケース１２００）と、
前記第１部材と前記第２部材とを封止状態（例えば、基板ケースが開封されたらその痕跡が残るように閉鎖した第２封止状態）とするために用いられる封印シール（例えば、封印シール４００／封印シール１４００）と、
を備え、
前記封印シールは、
該封印シールの粘着力を低下させるために所定の溶剤が用いられたときに変化する溶剤使用部（例えば、所定の剥離液と接触することにより該剥離液に溶解する特殊インクにて印刷形成された溶剤使用表示部４５０Ａ〜４５０Ｄ／溶剤使用表示部１４５０Ａ〜１４５０Ｄ）を有し、
前記基板ケースに貼付されたときに前記配線と重ならない部分に前記溶剤使用部が配置されている（例えば、図１４に示すように、封印シール４００は、基板ケース２００に貼付されたときに、遊技制御基板４０の基板側コネクタと配線フックＨＦやリール中継基板１２０等の配線保持部とを結ぶ直線に重ならない位置またはその近傍位置に配置されている／封印シール１４００は、基板ケース１２００に貼付されたときに、主基板１０３１の基板側コネクタと配線挿通部１７５０等の配線保持部とを結ぶ直線上に重ならない位置またはその近傍位置に配置されている）
ことを特徴としている。
この特徴によれば、溶剤を使用して封印シールの粘着力を低下させようとした場合、該封印シールの溶剤使用部が変化することで、溶剤を使用して封印シールの粘着力を低下させようとしたことがわかるようになるため、溶剤により剥離した封印シールを再度貼付するといった不正行為を抑制できるとともに、溶剤使用部が配線により隠れてしまうことがないので、溶剤使用部の視認性が損なわれることが防止される。
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月30日(2014.7.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
仮想３次元空間内に３次元情報であるオブジェクトの画像データを配置する配置手段と、前記仮想３次元空間に視点を設定する視点設定手段と、前記視点に基づいて設定される投影平面に前記オブジェクトの画像データを投影し、当該投影平面に投影されたデータに基づいて生成データを生成する描画用設定手段と、を有するデータ生成手段によって生成された生成データを記憶する記憶手段と、
当該記憶手段に記憶された生成データに対応した画像を表示手段に表示させ、予め定められた更新タイミングとなった場合に画像の内容を更新させる表示制御手段と、
を備えている遊技機において、
前記配置手段による前記仮想３次元空間への配置対象となるオブジェクトの画像データには、複数の面を定めることが可能なデータを有する画像データであってそれら複数の面データによって３次元形状を定めることが可能な多面オブジェクトの画像データが含まれており、
前記データ生成手段は、
複数の更新タイミングに亘って前記多面オブジェクトの画像データに対応した多面画像を表示させるべく前記仮想３次元空間に前記多面オブジェクトの画像データを配置する場合に、前記多面画像の表示態様が変更されるように前記複数の面データのうち少なくとも一部についての前記仮想３次元空間への配置態様を変更させる配置態様変更手段と、
当該配置態様変更手段により前記配置態様が変更された前記面データに対して適用する色情報を、当該面データの配置態様に応じて当該面データの単位で変更させることにより、前記多面画像の少なくとも一部の領域の表示色が複数の更新タイミング間において異なることとなる画像表示を可能とする表示色変更手段と、
を備え、
前記配置態様変更手段は、
複数の前記面データを含む一群のデータについてまとめて配置態様を変更させる第１変更手段と、
当該第１変更手段により配置態様が変更された前記一群のデータに含まれる各面データの配置態様を個別に変更させる第２変更手段と、
を備え、
前記データ生成手段は、前記投影平面に投影されたデータにおける所定範囲の色情報をブレンドさせることによりこれら色情報間の境界をぼかす手段を備えていることを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記課題を解決すべく請求項１記載の発明は、仮想３次元空間内に３次元情報であるオブジェクトの画像データを配置する配置手段と、前記仮想３次元空間に視点を設定する視点設定手段と、前記視点に基づいて設定される投影平面に前記オブジェクトの画像データを投影し、当該投影平面に投影されたデータに基づいて生成データを生成する描画用設定手段と、を有するデータ生成手段によって生成された生成データを記憶する記憶手段と、
当該記憶手段に記憶された生成データに対応した画像を表示手段に表示させ、予め定められた更新タイミングとなった場合に画像の内容を更新させる表示制御手段と、
を備えている遊技機において、
前記配置手段による前記仮想３次元空間への配置対象となるオブジェクトの画像データには、複数の面を定めることが可能なデータを有する画像データであってそれら複数の面データによって３次元形状を定めることが可能な多面オブジェクトの画像データが含まれており、
前記データ生成手段は、
複数の更新タイミングに亘って前記多面オブジェクトの画像データに対応した多面画像を表示させるべく前記仮想３次元空間に前記多面オブジェクトの画像データを配置する場合に、前記多面画像の表示態様が変更されるように前記複数の面データのうち少なくとも一部についての前記仮想３次元空間への配置態様を変更させる配置態様変更手段と、
当該配置態様変更手段により前記配置態様が変更された前記面データに対して適用する色情報を、当該面データの配置態様に応じて当該面データの単位で変更させることにより、前記多面画像の少なくとも一部の領域の表示色が複数の更新タイミング間において異なることとなる画像表示を可能とする表示色変更手段と、
を備え、
前記配置態様変更手段は、
複数の前記面データを含む一群のデータについてまとめて配置態様を変更させる第１変更手段と、
当該第１変更手段により配置態様が変更された前記一群のデータに含まれる各面データの配置態様を個別に変更させる第２変更手段と、
を備え、
前記データ生成手段は、前記投影平面に投影されたデータにおける所定範囲の色情報をブレンドさせることによりこれら色情報間の境界をぼかす手段を備えていることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月17日(2014.10.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画素を形成し垂直転送方向へ時間遅延積分動作にて画素信号電荷を転送する複数の光電変換部と、この光電変換部が送出する画素信号電荷を水平転送方向へ転送する水平転送部とを備えたＴＤＩ方式のリニアイメージセンサであって、
上記光電変換部と上記水平転送部との間に設けられ、光電変換部から水平転送部へ画素信号電荷の転送を行う電荷転送部をさらに備え、
上記光電変換部及び上記電荷転送部は、水平転送方向においてＮ個のブロックに分割され、ここでＮは２以上の正の整数であり、
上記水平転送部は、上記電荷転送部におけるブロックが接続される接続転送部と、上記電荷転送部において隣接する２つのブロックに対してどちらのブロックとも接続しない非接続転送部とを有し、水平転送方向において上記非接続転送部と上記接続転送部とを交互に配置し、水平転送方向への画素信号電荷の転送を一時停止することなく連続して行い、
ここで上記非接続転送部は、隣接ブロック間に対応して配置され、一つの撮像周期内に上記画素信号電荷が存在しない画素ブランキング期間を生成する、
ことを特徴とするＴＤＩ方式リニアイメージセンサ。
【請求項２】
上記光電変換部における時間遅延積分動作は、Ｍ相の垂直転送クロック信号で駆動され、
上記光電変換部及び上記電荷転送部におけるブロック数Ｎは、上記Ｍ以上であり、ここでＭは２以上の正の整数である、
請求項１に記載のＴＤＩ方式リニアイメージセンサ。
【請求項３】
上記電荷転送部は、上記光電変換部において分割された各ブロックに対応して設けられ各ブロックが接続されるＮ個の斜め読み出し部と、各斜め読み出し部に対応して設けられ斜め読み出し部を経由した上記画素信号電荷を上記水平転送部へ送出するＮ個の電荷蓄積部とを有する、請求項１又は２に記載のＴＤＩ方式リニアイメージセンサ。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか１項に記載するＴＤＩ方式リニアイメージセンサの駆動方法において、
上記リニアイメージセンサに備わる光電変換部において時間遅延積分動作にて生成された画素信号電荷を、光電変換部から電荷転送部を介して水平転送部へ転送し、
上記水平転送部を連続駆動して、上記光電変換部及び上記電荷転送部における分割されたブロックが送出する画素信号電荷間に画素信号を含まない画素ブランキング期間を形成した出力信号を上記水平転送部から送出する、
ことを特徴とするＴＤＩ方式リニアイメージセンサの駆動方法。
【請求項５】
上記光電変換部が時間遅延積分動作を行うためこの光電変換部へ供給される垂直転送クロック信号において、この垂直転送クロック信号の電圧レベルが変化するタイミングを、上記画素ブランキング期間内に一致させる、請求項４に記載のＴＤＩ方式リニアイメージセンサの駆動方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月30日(2014.10.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高分子の１若しくはそれ以上の特徴を明らかにする方法であって、
ナノチャネルの内部に少なくとも一部が存在する高分子を直線状にする工程であって、
前記ナノチャネルの少なくとも一部が、前記高分子の少なくとも一部を物理的に拘束することが可能であり、これにより前記高分子のその部分を直線形状に保持し、
前記ナノチャネルが少なくとも１つの狭窄を有するものであり、前記ナノチャネルの有効内径が約１０ｎｍから約５００ｎｍであるとともに、前記線形高分子の長さと少なくとも等しい長さを有し、且つ前記狭窄は前記ナノチャネルの有効内径を約０．５ｎｍから約１００ｎｍになるように局所的に縮小して設定されるものである、前記直線状にする工程と、
前記ナノチャネルの少なくとも一部の中に前記高分子の少なくとも一部を輸送する工程であって、これにより前記高分子の少なくとも一部が前記狭窄を通過するものである、前記輸送する工程と、
前記高分子による狭窄の通過に関連して発生する少なくとも１つのシグナルを測定する工程と、
前記少なくとも１つのシグナルを、前記高分子の１若しくはそれ以上の特徴と関連付ける工程と
を有する方法。
【請求項２】
請求項１記載の方法において、前記ナノチャネルの長さは、少なくとも１０００ｎｍである。
【請求項３】
請求項１記載の方法において、前記高分子は、ポリヌクレオチド、ポリヌクレオシド、ポリマー、共重合体、デンドリマー、界面活性剤、脂質、炭水化物、ポリペプチド、タンパク質、またはそれらのあらゆる組合せ、を有するものである。
【請求項４】
請求項１記載の方法において、前記輸送する工程は、前記高分子を勾配に曝露する工程を有するものである。
【請求項５】
請求項４記載の方法において、前記勾配は、電気浸透の場、電気泳動の場、磁場、電場、電磁場、流動場、放射線場、機械力、電気浸透力、電気泳動力、動電学的な力、温度勾配、圧力勾配、表面性質の勾配、毛細管流動、またはそれらのあらゆる組合せ、を有するものである。
【請求項６】
請求項１記載の方法において、前記シグナルは、視覚的シグナル、赤外線シグナル、紫外線シグナル、放射線シグナル、磁気シグナル、電気的シグナル、電磁気的シグナル、またはそれらのあらゆる組合せ、を有するものである。
【請求項７】
請求項１記載の方法において、前記高分子は１若しくはそれ以上の標識を有するものであり、前記１若しくはそれ以上の標識は、選択的に電子スピン共鳴分子、蛍光分子、化学発光分子、放射性同位体、および酵素基質、ビオチン分子、アビジン分子、荷電輸送分子、半導体ナノ結晶、半導体ナノ粒子、コロイド金ナノ結晶、リガンド、マイクロビーズ、電磁ビーズ、常磁性体粒子、量子ドット、発色基質、親和性分子、タンパク質、ペプチド、核酸、炭水化物、抗原、ハプテン、抗体、抗体断片、脂質、ポリマー、荷電粒子、修飾ヌクレオチド、またはそれらのあらゆる組合せ、を有するものである。
【請求項８】
高分子を分析する装置であって、
２若しくはそれ以上の流体タンクと、
狭窄を有するナノチャネルであって、
前記ナノチャネルの有効内径が約１０ｎｍから約５００ｎｍであるとともに、前記線形高分子の長さと少なくとも等しい長さを有し、且つ前記狭窄は前記ナノチャネルの有効内径を約０．５ｎｍから約１００ｎｍになるように局所的に縮小して設定されるものであり、且つ前記ナノチャネルが少なくとも２つの流体タンクを互いに流体連通するように設置するものである、前記ナノチャネルと、
前記高分子が前記狭窄を通過するたびに、少なくとも前記高分子の少なくとも一部からの信号を検出するように設定された検出器と
を有する装置。
【請求項９】
請求項８記載の装置において、前記狭窄は前記ナノチャネルの一方の端に存在するものである。
【請求項１０】
請求項８記載の装置において、前記狭窄は前記ナノチャネルの内部に存在するものである。
【請求項１１】
請求項８記載の装置において、前記狭窄は、約１ｎｍから約５０ｎｍの範囲の有効内径を有するものである。
【請求項１２】
請求項８記載の方法において、前記ナノチャネルの長さは、少なくとも１０００ｎｍである。
【請求項１３】
請求項８記載の装置において、前記装置は、さらに勾配を有するものであり、前記勾配は、選択的に電気浸透の場、電気泳動の場、毛細管流動、磁場、電場、放射線場、機械力、電気浸透力、電気泳動力、動電学的な力、温度勾配、圧力勾配、表面性質の勾配、毛細管流動、またはそれらのあらゆる組合せ、を有するものである。
【請求項１４】
請求項１３記載の装置において、前記勾配は、前記ナノチャネル内部に位置する高分子の少なくとも一部を、前記ナノチャネルの少なくとも一部に沿って輸送することが可能なものである。
【請求項１５】
請求項８記載の装置において、前記検出器は、電荷結合素子（ｃｈａｒｇｅ  ｃｏｕｐｌｅｄ  ｄｅｖｉｃｅ：ＣＣＤ）検出システム、相補型金属酸化膜半導体（ｃｏｍｐｌｅｍｅｎｔａｒｙ  ｍｅｔａｌ−ｏｘｉｄｅ  ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ：ＣＭＯＳ）検出システム、光ダイオード検出システム、光電子増倍管検出システム、シンチレーション検出システム、光子計数検出システム、電子スピン共鳴検出システム、蛍光検出システム、光子検出システム、電気的検出システム、写真フィルム検出システム、化学発光検出システム、酵素検出システム、原子間力顕微鏡（ａｔｏｍｉｃ  ｆｏｒｃｅ  ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｙ：ＡＦＭ）検出システム、走査型トンネル顕微鏡（ｓｃａｎｎｉｎｇ  ｔｕｎｎｅｌｉｎｇ  ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｙ：ＳＴＭ）検出システム、走査型電子顕微鏡（ｓｃａｎｎｉｎｇ  ｅｌｅｃｔｒｏｎ  ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｙ：ＳＥＭ）検出システム、光学検出システム、核磁気共鳴（ｎｕｃｌｅａｒ  ｍａｇｎｅｔｉｃ  ｒｅｓｏｎａｎｃｅ：ＮＭＲ）検出システム、近接場（ｎｅａｒ  ｆｉｅｌｄ）検出システム、全反射（ｔｏｔａｌ  ｉｎｔｅｒｎａｌ  ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ：ＴＩＲＦ）検出システム、パッチクランプ検出システム、電流検出システム、電気増幅検出システム、抵抗測定システム、容量検出システム、またはそれらのあらゆる組合せ、を有するものである。
【手続補正書】
【提出日】平成26年8月27日(2014.8.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
受けた移植物を圃場に植付ける移植具（２０）を機体側面視でループ状の下端軌跡（Ａ）に沿って昇降可能に備える移植機において、
上記移植具（２０）の付着泥土を掻取るための弾性部材による左右のスクレーパ板（１２２，１２２）をそれぞれの外側部を支持部（１２２ａ，１２２ａ）として上記移植具（２０）の左右側部に配置するとともに、それぞれの内側部に互いに対向して下端軌跡（Ａ）の下降軌跡及び上昇軌跡の双方で接する接触部（１２２ｃ，１２２ｃ）を形成したことを特徴とする移植機。
【請求項２】
前記左右の支持部（１２２ａ，１２２ａ）を個別に支持する左右のスクレーパアーム（１２３，１２３）を設け、左右のスクレーパアーム（１２３，１２３）を可動支持した上で内側方向に付勢するスプリング（１２６）を設けたことを特徴とする請求項１に記載の移植機。
【請求項３】
前記左右のスクレーパアーム（１２３，１２３）を前後方向に長く形成し、その一端を縦支軸（１２４）によって軸支し、前記左右のスクレーパ板（１２２，１２２）の各支持部（１２２ａ，１２２ａ）から接触部（１２２ｃ，１２２ｃ）まで下降する傾斜部（１２２ｂ，１２２ｂ）をそれぞれ形成し、各傾斜部（１２２ｂ，１２２ｂ）を上記縦支軸（１２４）からの距離に応じて急傾斜に形成してなることを特徴とする請求項２に記載の移植機。
【請求項４】
前記縦支軸（１２４）を左右方向に位置調節可能に支持する取付フレーム（１２５）を、縦支軸（１２４）よりも前側又は後側に設け、スクレーパアーム（１２３，１２３）が取付フレーム（１２５）の前後にわたって延びる構成としたことを特徴とする請求項３記載の移植機。
【請求項５】
前記移植具（２０）の両側部に覆土具（３７）を支持する覆土具フレーム（３９）を前後方向に向けて配置し、その一端を左右方向に延びる回動支点軸（３８）に沿って位置調節可能に軸支し、この覆土具フレーム（３９）の回動上限より高位置に前記スクレーパアーム（１２３，１２３）を配置したことを特徴とする請求項２〜請求項４のいずれかに記載の移植機。
【請求項６】
前記縦支軸（１２４）を前記左右のスクレーパアーム（１２３，１２３）の前端に配置したことを特徴とする請求項３又は請求項４に記載の移植機。
【請求項７】
前記ループ状の下端軌跡（Ａ）の上端より上方に前記スクレーパ板（１２２，１２２）の上端を配置したことを特徴とする請求項１〜請求項６のいずれかに記載の移植機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
請求項１に係る発明は、受けた移植物を圃場に植付ける移植具（２０）を機体側面視でループ状の下端軌跡（Ａ）に沿って昇降可能に備える移植機において、上記移植具（２０）の付着泥土を掻取るための弾性部材による左右のスクレーパ板（１２２，１２２）をそれぞれの外側部を支持部（１２２ａ，１２２ａ）として上記移植具（２０）の左右側部に配置するとともに、それぞれの内側部に互いに対向して下端軌跡（Ａ）の下降軌跡及び上昇軌跡の双方で接する接触部（１２２ｃ，１２２ｃ）を形成したことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
請求項２に係る発明は、請求項１に係る発明において、
前記左右の支持部（１２２ａ，１２２ａ）を個別に支持する左右のスクレーパアーム（１２３，１２３）を設け、左右のスクレーパアーム（１２３，１２３）を可動支持した上で内側方向に付勢するスプリング（１２６）を設けたことを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
請求項６に係る発明は、請求項３又は請求項４に係る発明において、前記縦支軸（１２４）を前記左右のスクレーパアーム（１２３，１２３）の前端に配置したことを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
請求項６に係る発明によれば、請求項３又は請求項４に係る発明の効果に加え、左右のスクレーパアーム（１２３，１２３）をその前端で支持することにより、移植具（２０）を含む支持部を前側に集中して植付けた移植物との干渉を招くことなく合理的に構成することができる。また、下端軌跡（Ａ）の上昇行程が縦支軸（１２４）から離れる側（後側）となるから、移植具（２０）の上動時の付着泥土の除去作用を向上することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成26年8月25日(2014.8.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ヒトデルタ様リガンド4 (DLL4) (SEQ ID NO: 25) のアミノ酸217で切断されたN末端断片に特異的に結合しかつ、腫瘍成長を阻害することができる、モノクローナル抗体。
【請求項２】
ヒトDLL4 Delta-Serrated-Lag-2 (DSL) ドメイン (SEQ ID NO: 26) 内のアミノ酸を含むエピトープに結合する、請求項1記載のモノクローナル抗体。
【請求項３】
アミノ酸66-73 (QAVVSPGP) を含むエピトープに結合する、請求項1または2記載の抗体。
【請求項４】
アミノ酸139-146 (LISKIAIQ) を含むエピトープに結合する、請求項1〜3のいずれか一項記載の抗体。
【請求項５】
アミノ酸66-73 (QAVVSPGP) および139-146 (LISKIAIQ) を含むエピトープに結合する、請求項1〜4のいずれか一項記載の抗体。
【請求項６】
ヒトDLL4に特異的に結合するモノクローナル抗体であって、
(a) CDRアミノ酸配列CDR1 (SEQ ID NO: 1)、CDR2 (SEQ ID NO: 2、SEQ ID NO: 3、またはSEQ ID NO: 4)、およびCDR3 (SEQ ID NO: 5) を含む、重鎖可変領域、ならびに
(b) CDRアミノ酸配列CDR1 (SEQ ID NO: 9)、CDR2 (SEQ ID NO: 10)、およびCDR3 (SEQ ID NO: 11) を含む、軽鎖可変領域
を含み、腫瘍成長を阻害することができる、モノクローナル抗体。
【請求項７】
ヒトDLL4に特異的に結合するモノクローナル抗体であって、
(a) CDRアミノ酸配列CDR1 (SEQ ID NO: 1)、CDR2 (SEQ ID NO: 2、SEQ ID NO: 3、またはSEQ ID NO: 4)、およびCDR3 (SEQ ID NO: 5) を含む、重鎖可変領域、ならびに
(b) CDRアミノ酸配列CDR1 (SEQ ID NO: 9)、CDR2 (SEQ ID NO: 10)、およびCDR3 (SEQ ID NO: 11) を含む、軽鎖可変領域
を含み、0.01μMまたはそれ未満のKDでDLL4に結合することができる、モノクローナル抗体。
【請求項８】
重鎖可変領域がCDRアミノ酸配列CDR1 (SEQ ID NO: 1)、CDR2 (SEQ ID NO: 3)、およびCDR3 (SEQ ID NO: 5) を含み、軽鎖可変領域がCDRアミノ酸配列CDR1 (SEQ ID NO: 9)、CDR2 (SEQ ID NO: 10)、およびCDR3 (SEQ ID NO: 11) を含む、請求項6または7記載の抗体。
【請求項９】
SEQ ID NO: 6、SEQ ID NO: 7、またはSEQ ID NO: 8に対し少なくとも90%の配列同一性を有する重鎖可変領域を含む、請求項6〜8のいずれか一項記載の抗体。
【請求項１０】
SEQ ID NO: 12に対し少なくとも90%の配列同一性を有する軽鎖可変領域を含む、請求項6〜9のいずれか一項記載の抗体。
【請求項１１】
ATCCに寄託され寄託番号PTA-8670を持つハイブリドーマにより産生される21M18抗体内に含有される重鎖可変領域CDRアミノ酸配列および軽鎖可変領域CDRアミノ酸配列を含有する、モノクローナル抗体であって、腫瘍成長を阻害することができる抗体。
【請求項１２】
ATCCに寄託され寄託番号PTA 8427またはPTA 8425を持つプラスミドによりコードされる抗体と、ヒトDLL4への特異的結合について競合する、ヒト化抗体であって、腫瘍成長を阻害することができる抗体。
【請求項１３】
ヒト化抗体である、請求項1〜11のいずれか一項記載の抗体。
【請求項１４】
ヒト抗体である、請求項1〜11のいずれか一項記載の抗体。
【請求項１５】
二重特異性抗体である、請求項1〜14のいずれか一項記載の抗体。
【請求項１６】
IgG1抗体である、請求項1〜15のいずれか一項記載の抗体。
【請求項１７】
IgG2抗体である、請求項1〜15のいずれか一項記載の抗体。
【請求項１８】
ヒトDLL1またはヒトDLL3と交差反応しない、請求項1〜17のいずれか一項記載の抗体。
【請求項１９】
マウスDLL4と交差反応しない、請求項1〜18のいずれか一項記載の抗体。
【請求項２０】
約0.1μMまたはそれ未満のKDを有する、請求項1〜6および8〜19のいずれか一項記載の抗体。
【請求項２１】
請求項1〜20のいずれか一項記載の抗体および薬学的に許容される担体を含む、薬学的組成物。
【請求項２２】
癌を処置するための医薬の製造における、請求項1〜20のいずれか一項記載の抗体の使用。
【請求項２３】
前記抗体が、固形腫瘍における癌幹細胞頻度を低下させる、請求項22記載の抗体の使用。
【請求項２４】
癌が、結腸癌、乳癌、肺癌、または膵臓癌である、請求項23記載の抗体の使用。
【請求項２５】
癌の処置が、前記抗体および第2の治療剤の投与を含む、請求項22〜24のいずれか一項記載の抗体の使用。
【請求項２６】
第2の治療剤が化学療法剤または第2の抗体である、請求項25記載の抗体の使用。
【請求項２７】
第2の治療剤が抗VEGF抗体である、請求項26記載の抗体の使用。
【請求項２８】
請求項1〜20のいずれか一項記載の抗体を発現する細胞。
【請求項２９】
請求項1〜20のいずれか一項記載の抗体またはその可変領域をコードする、ポリヌクレオチド。
【請求項３０】
SEQ ID NO: 13、SEQ ID NO: 14、SEQ ID NO: 15、またはSEQ ID NO: 16に対し少なくとも90%同一であるヌクレオチド配列を含む、請求項29記載のポリヌクレオチド。
【請求項３１】
SEQ ID NO: 13、SEQ ID NO: 14、SEQ ID NO: 15、またはSEQ ID NO: 16のヌクレオチド配列を含む、請求項29記載のポリヌクレオチド。
【請求項３２】
請求項29または30記載のポリヌクレオチドを含む、ベクター。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月28日(2014.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
略筒状の側壁部と、該側壁部の底面に設けられた底部とを有する容器を備え、
前記容器は、可燃性の素材からなり、
前記容器内の下方には、水和反応により発熱する加熱剤が充填されてなる加熱部が設けられ、
前記容器内には、燻煙剤が充填されてなる燻煙剤部が設けられ、
前記加熱部と前記燻煙剤部との間には、前記加熱剤の水和反応熱により溶融する仕切部材が設けられていることを特徴とする燻煙装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月14日(2014.10.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
荷電粒子源と、前記荷電粒子源から放出される一次荷電粒子線を集束させる複数の電子レンズと、前記集束された一次荷電粒子線が試料の表面に照射されたとき、その照射点が前記試料の表面上を二次元的に走査するように前記一次荷電粒子線を偏向制御する荷電粒子線走査制御手段と、前記一次荷電粒子線が前記試料に照射されるときの前記一次荷電粒子線の照射軸を傾斜させる照射軸傾斜手段と、前記照射軸傾斜手段により前記一次荷電粒子線の照射軸を傾斜した場合の焦点位置と傾斜しなかった場合の焦点位置とが同じ位置になるように調整する焦点位置調整手段と、前記一次荷電粒子線が前記試料に照射されたときに、前記試料から放出される荷電粒子を検出する荷電粒子検出器と、前記荷電粒子検出器によって検出された信号に基づき、前記試料の表面の観察画像を生成する制御装置と、
を備えた荷電粒子線装置であって、
前記制御装置は、
前記荷電粒子線走査制御手段を介して、前記一次荷電粒子線を、前記試料の表面の走査線１ライン分の同じ走査線１ライン上を３回走査するように制御し、前記照射軸傾斜手段を介して、その３回のそれぞれの走査で前記一次荷電粒子線の照射軸を順次、左傾斜、無傾斜または右傾斜させるとともに、前記照射軸を変更したとき、前記焦点位置調整手段を介して前記一次荷電粒子線の焦点位置を前記照射軸の左傾斜状態、無傾斜状態または右傾斜状態に応じて調整して、前記走査線１ライン分の前記試料の表面に焦点が合った左傾斜観察画像、無傾斜観察画像または右傾斜観察画像を取得し、そのときまでに取得した走査線についての前記焦点の合った左傾斜観察画像と前記焦点の合った無傾斜観察画像と前記焦点の合った右傾斜観察画像とを同じ表示装置に同時に表示すること
を特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項２】
前記制御装置は、さらに、
前記焦点の合った左傾斜観察画像と前記焦点の合った右傾斜観察画像とから焦点の合った３Ｄ観察画像を生成し、その生成した前記焦点の合った３Ｄ観察画像と前記焦点の合った左傾斜観察画像と前記焦点の合った右傾斜観察画像と前記焦点の合った無傾斜観察画像とを、同じ表示装置に同時に表示すること
を特徴とする請求項１に記載の荷電粒子線装置。
【請求項３】
前記焦点位置調整手段は、
磁性体の金属芯を有していないコイルによって構成されていること
を特徴とする請求項１に記載の荷電粒子線装置。
【請求項４】
荷電粒子源と、前記荷電粒子源から放出される一次荷電粒子線を集束させる複数の電子レンズと、前記集束された一次荷電粒子線が試料の表面に照射されたとき、その照射点が前記試料の表面上を二次元的に走査するように前記一次荷電粒子線を偏向制御する荷電粒子線走査制御手段と、前記一次荷電粒子線が前記試料に照射されるときの前記一次荷電粒子線の照射軸を傾斜させる照射軸傾斜手段と、前記照射軸傾斜手段により前記一次荷電粒子線の照射軸を傾斜した場合の焦点位置と傾斜しなかった場合の焦点位置とが同じ位置になるように調整する焦点位置調整手段と、前記一次荷電粒子線が前記試料に照射されたときに、前記試料から放出される荷電粒子を検出する荷電粒子検出器と、前記荷電粒子検出器によって検出された信号に基づき、前記試料の表面の観察画像を生成する制御装置と、
を備えた荷電粒子線装置における傾斜観察画像表示方法であって、
前記制御装置は、
前記荷電粒子線走査制御手段を介して、前記一次荷電粒子線を、前記試料の表面の走査線１ライン分の同じ走査線１ライン上を３回走査するように制御し、前記照射軸傾斜手段を介して、その３回のそれぞれの走査で前記一次荷電粒子線の照射軸を、順次、左傾斜、無傾斜または右傾斜させるとともに、前記照射軸を変更したとき、前記焦点位置調整手段を介して前記一次荷電粒子線の焦点位置を前記照射軸の左傾斜状態、無傾斜状態または右傾斜状態に応じて調整して、前記走査線１ライン分の前記試料の表面に焦点が合った左傾斜観察画像、無傾斜観察画像または右傾斜観察画像を取得し、そのときまでに取得した走査線についての前記焦点の合った左傾斜観察画像と前記焦点の合った無傾斜観察画像と前記焦点の合った右傾斜観察画像とを同じ表示装置に同時に表示すること
を特徴とする傾斜観察画像表示方法。
【請求項５】
前記制御装置は、さらに、
前記焦点の合った左傾斜観察画像と前記焦点の合った右傾斜観察画像とから焦点の合った３Ｄ観察画像を生成し、その生成した前記焦点の合った３Ｄ観察画像を前記焦点の合った左傾斜観察画像と前記焦点の合った右傾斜観察画像と前記焦点の合った無傾斜観察画像とに併せて、同じ表示装置に同時に表示すること
を特徴とする請求項４に記載の傾斜観察画像表示方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
そして、前記制御装置が、前記荷電粒子線走査制御手段を介して、前記試料の表面の走査線１ライン分の同じ走査線１ライン上を３回走査するように制御し、前記照射軸傾斜手段を介して、その３回のそれぞれの走査で前記一次荷電粒子線の照射軸を順次、左傾斜、無傾斜または右傾斜させるとともに、前記照射軸を変更したとき、前記焦点位置調整手段を介して前記一次荷電粒子線の焦点位置を前記照射軸の左傾斜状態、無傾斜状態または右傾斜状態に応じて調整して、前記走査線１ライン分の前記試料の表面に焦点が合った左傾斜観察画像、無傾斜観察画像または右傾斜観察画像を取得し、そのときまでに取得した走査線についての前記焦点の合った左傾斜観察画像と前記焦点の合った無傾斜観察画像と前記焦点の合った右傾斜観察画像とを同じ表示装置に同時に表示することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明によれば、一次荷電粒子線が走査線１ラインを走査するたびに、左傾斜観察画像、無傾斜観察画像または右傾斜観察画像の走査線１ライン分の試料の表面に焦点が合った観察画像が順に交替しながら取得され表示装置に表示される。従って、表示装置に表示される左傾斜観察画像、無傾斜観察画像および右傾斜観察画像の表示時間のずれは、走査線１ライン分の走査時間であるので、少なくともユーザにとっては、左傾斜観察画像、無傾斜観察画像および右傾斜観察画像は、ほとんど同時に取得され、同時に表示されるように見える。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月22日(2014.10.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
図２は、本発明の実施例に係るインサート型ヘッドホンの測定用装着部材と、従来のカプラを用いたときの周波数特性を比較して示している。図２において、破線は従来の測定結果、実線は本発明の実施例に係る測定用装着部材を用いた測定結果を示している。１０００Ｈｚ以上の周波数ではほぼ同じ測定結果であるが、１０００Ｈｚ以下、特に２００Ｈｚ以下になると、従来のカプラを用いた場合はハウジングの機械的な振動の影響が考慮できていないことがわかる。これに対し、本発明の測定用装着部材１では１０００Ｈｚ以下の筐体の振動による音圧レベルの変動が大きく、特に２００Ｈｚ以下では従来との音圧レベルの差が大きくなっている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2013143612.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月22日(2014.10.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料に荷電粒子線を照射して、前記照射によって発生した二次信号から前記試料の画像を生成する荷電粒子線装置であって、
二次信号から前記試料の表面の凹凸形状を分析する凹凸形状分析部と、
前記試料の任意の領域における、前記試料の厚さ方向の組成を分析し、同一組成である部分の厚さを評価する組成分析部と、
前記領域における前記凹凸形状と前記同一組成である部分の厚さに基づいて、前記試料の内部構造を構築する内部構造構築部とを備えることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項２】
請求項１に記載の荷電粒子線装置において、
前記凹凸形状および前記同一組成である部分の厚さは、前記試料上の複数箇所で分析され、
前記内部構造は二次元または三次元に構築されることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項３】
請求項２に記載の荷電粒子線装置において、
前記試料は異物を内包するものであって、
前記複数箇所として、少なくとも、前記異物の垂直上方にあたる第一の領域と、前記試料上で前記第一の領域以外の第二の領域が選択されることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の荷電粒子線装置において、
前記内部構造構築部は、前記凹凸形状と前記同一組成である部分の厚さを加減算することで前記試料の内部構造を構築することを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の荷電粒子線装置において、
前記凹凸形状は、所定の基準高さと前記基準高さからの相対変位によって表現されることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の荷電粒子線装置において、さらに、
前記内部構造を表示する表示部を備えることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載の荷電粒子線装置において、さらに、
前記試料の帯電を緩和する手段を備えることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載の荷電粒子線装置において、
前記凹凸形状分析部が、反射電子検出器を有することを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載の荷電粒子線装置において、
前記組成分析部が、Ｘ線検出器を有することを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項１０】
試料に荷電粒子線を照射して、前記照射によって発生した二次信号から前記試料の画像を生成する試料観察方法であって、
二次信号から前記試料の表面の凹凸形状を分析するステップと、
前記試料の任意の領域における、前記試料の厚さ方向の組成を分析し、同一組成である部分の厚さを評価するステップと、
前記領域における前記凹凸形状と前記同一組成である部分の厚さに基づいて、前記試料の内部構造を構築するステップとを備えることを特徴とする試料観察方法。
【請求項１１】
請求項１０に記載の試料観察方法において、
前記凹凸形状および前記同一組成である部分の厚さは、前記試料上の複数点で分析され、
前記内部構造は二次元または三次元に構築されることを特徴とする試料観察方法。
【請求項１２】
請求項１０〜１１のいずれかに記載の試料観察方法において、
前記内部構造を構築するステップは、前記凹凸形状と前記同一組成である部分の厚さを加減算することで前記試料の内部構造を構築することを特徴とする試料観察方法。
【請求項１３】
請求項１０〜１２のいずれかに記載の試料観察方法において、
前記試料は単層または多層の膜による層構造であることを特徴とする試料観察方法。
【請求項１４】
請求項１０〜１３のいずれかに記載の試料観察方法において、
前記試料は異物を内包していることを特徴とする試料観察方法。
【請求項１５】
請求項１０〜１４のいずれかに記載の試料観察方法において、
前記試料の内部構造は大気暴露により変質する材質であることを特徴とする試料観察方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
試料に荷電粒子線を照射して、照射によって発生した二次信号から試料の画像を生成する荷電粒子線装置であって、二次信号から前記試料の表面の凹凸形状を分析する凹凸形状分析部と、試料の任意の領域における試料の厚さ方向の組成を分析して同一組成である部分の厚さを評価する組成分析部と、同一組成である部分の厚さと試料表面の凹凸形状とに基づいて前記試料の内部構造を構築する内部構造構築部とを備える。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月16日(2014.4.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
空気封入部と、
前記空気封入部の押圧により生じる空気圧変化に基づいて変形可能な圧電素子板と、
前記圧電素子板の変形により電気信号を発生する圧電センサー部と、
を有することを特徴とするスイッチ装置。
【請求項２】
前記空気封入部に、前記圧電センサー部を嵌入および取り外し可能にする構造を設けたことを特徴とする請求項１に記載のスイッチ装置。
【請求項３】
前記空気封入部の内部又は近傍に、前記空気圧変化の変化量を制限するためのストッパーを設けたことを特徴とする請求項１又は２に記載のスイッチ装置。
【請求項４】
前記圧電センサー部に、前記圧電素子板のたわみ変位を制限するためのストッパーを設けたことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のスイッチ装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
請求項３の発明は、空気封入部の外部の近傍に緩衝用押圧ストッパーを設置し空気封入部の変位量を制限することで空気封入部に発生する空気圧を制限し、過大な空気圧で圧電センサー部の圧電素子が損傷するのを防ぐ方法である。空気封入部外に緩衝用押圧ストッパーを設置することは、緩衝用押圧ストッパーの形状を変えることが出来る。たとえば空気封入部の段差を緩和する斜め形状をも採用できる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
請求項４の発明は、圧電センサー部の圧電素子の変位が過剰になるのを防ぐ方法である。圧電素子にたわみ変位ストッパーを設置し、空気封入部からの空気圧が過大の時にも圧電素子に加わる過大な変位を低減し圧電素子の折損を防ぐことが出来る。