【手続補正書】
【提出日】平成26年3月28日(2014.3.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７８】
本発明は更に、
・ポリマーを供給する工程、
・分散安定剤の存在下、分散媒中で、分散安定剤とは異なる還元剤で銀塩を還元することによって得られた銀ナノ粒子を供給する工程であって、分散安定剤がＣ１〜６カルボン酸、Ｃ１〜６カルボン酸塩、スルフェートおよび／またはホスフェートからなる群から選択される工程；および
・ポリマーおよび銀ナノ粒子を混合する工程
を含む、ポリマーと該ポリマー中に分散された銀ナノ粒子とを含んでなるポリマー材料の製造方法に関する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８７】
本発明のポリマー材料並びに本発明のポリマー材料を含む可撓性および／または伸縮性電極の考えられる用途は、特に、電気機械変換器の分野にある。従って、本発明は、ポリマー基材と本発明のポリマー材料とを含んでなるポリマー積層複合材料も提供する。ポリマー基材の材料は、好ましくは誘電エラストマーであり、ポリマー基材は、特に好ましくは可撓性である。ポリマー基材が、裏表に本発明のポリマー材料を有して供給されることが更に好ましい。ポリマー材料は、ナイフ塗布、グラビア印刷、噴霧、浸漬、スクリーン印刷によって基材に適用することができる。本発明のポリマー材料をポリマー基材に良好に接着するために、例えば水および／または界面活性剤をそれに添加することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９２】
図１は、応力−歪み曲線における電気抵抗変化を示す。
図２は、歪みの上昇に伴った比導電率変化を示す。
図３は、歪みの上昇に伴った別の比導電率変化を示す。
本発明の好ましい態様は、以下を包含する。
〔１〕ポリマーと該ポリマー中に分散された銀ナノ粒子とを含んでなるポリマー材料であって、ポリマー材料と銀ナノ粒子の重量比が１０：９０〜５０：５０の範囲であることを特徴とするポリマー材料。
〔２〕銀ナノ粒子が、分散安定剤の存在下、分散媒中で、分散安定剤とは異なる還元剤で銀塩を還元することによって得られ、分散安定剤が、Ｃ１〜６カルボン酸、Ｃ１〜６カルボン酸塩、スルフェートおよび／またはホスフェートからなる群から選択されることを特徴とする、上記〔１〕に記載のポリマー材料。
〔３〕製造に使用される分散安定剤の存在下で製造に使用される分散媒中の銀ナノ粒子が、ｐＨ２〜ｐＨ１０のｐＨ範囲で、−５ｍＶ〜−４０ｍＶのゼータ電位を有する、上記〔１〕に記載のポリマー材料。
〔４〕銀ナノ粒子の製造における分散媒が、水、Ｃ１〜４アルコール、エチレングリコール、Ｃ１〜４アルデヒド、および／またはＣ３〜４ケトンからなる群から選択される、上記〔１〕に記載のポリマー材料。
〔５〕銀ナノ粒子の製造における分散安定剤がクエン酸および／またはクエン酸塩である、上記〔１〕に記載のポリマー材料。
〔６〕ポリマーが、エラストマー、好ましくは、ポリウレタン、シリコーン、アクリル樹脂、ポリスチレン、天然ゴム、合成ゴム、加硫ゴム、ガタパーチャ、またはラテックスである、上記〔１〕に記載のポリマー材料。
〔７〕・ポリマーを供給する工程、
・分散安定剤の存在下、分散媒中で、分散安定剤とは異なる還元剤で銀塩を還元することによって得られた銀ナノ粒子を供給する工程であって、分散安定剤がＣ１〜６カルボン酸、Ｃ１〜６カルボン酸塩、スルフェートおよび／またはホスフェートからなる群から選択される工程；および
・ポリマーおよび銀ナノ粒子を混合する工程
を含む、ポリマーと該ポリマー中に分散された銀ナノ粒子とを含んでなるポリマー材料の製造方法。
〔８〕製造に使用される分散安定剤の存在下で製造に使用される分散媒中の銀ナノ粒子が、ｐＨ２〜ｐＨ１０のｐＨ範囲で、−５ｍＶ〜−４０ｍＶのゼータ電位を有する、上記〔７〕に記載の方法。
〔９〕銀ナノ粒子の製造における分散安定剤がクエン酸および／またはクエン酸塩である、上記〔７〕に記載の方法。
〔１０〕ポリマーが、エラストマー、好ましくは、ポリウレタン、シリコーン、アクリル樹脂、ポリスチレン、天然ゴム、合成ゴム、加硫ゴム、ガタパーチャ、またはラテックスである、上記〔７〕に記載の方法。
〔１１〕ポリマーおよび銀ナノ粒子を分散媒中に分散させる、上記〔７〕に記載の方法。
〔１２〕ポリマーのための分散媒および銀ナノ粒子のための分散媒が、水、Ｃ１〜４アルコール、エチレングリコール、Ｃ１〜４アルデヒド、および／またはＣ３〜４ケトンからなる群から互いに独立に選択される、上記〔１１〕に記載の方法。
〔１３〕ポリマーおよび銀ナノ粒子を含んで得られた混合物を、３０℃〜１８０℃の温度に加熱する工程を更に含む、上記〔７〕に記載の方法。
〔１４〕得られた被膜を焼結する工程のための、γ線、Ｘ線、紫外線、可視光線、赤外線、またはマイクロ波、電波、或いは種々の放射線の組み合わせの使用。
〔１５〕可撓性および／または伸縮性電極を製造するための、上記〔１〕に記載のポリマー材料の使用。
〔１６〕上記〔１〕に記載のポリマー材料を含んでなる可撓性および／または伸縮性電極。
〔１７〕ポリマー基材と上記〔１〕に記載のポリマー材料とを含んでなるポリマー積層複合材料。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリマーと該ポリマー中に分散された銀ナノ粒子とを含んでなるポリマー材料であって、ポリマー材料と銀ナノ粒子の重量比が１０：９０〜５０：５０の範囲であることを特徴とするポリマー材料。
【請求項２】
銀ナノ粒子が、分散安定剤の存在下、分散媒中で、分散安定剤とは異なる還元剤で銀塩を還元することによって得られ、分散安定剤が、Ｃ１〜６カルボン酸、Ｃ１〜６カルボン酸塩、スルフェートおよび／またはホスフェートからなる群から選択されることを特徴とする、請求項１に記載のポリマー材料。
【請求項３】
ポリマーが、エラストマー、好ましくは、ポリウレタン、シリコーン、アクリル樹脂、ポリスチレン、天然ゴム、合成ゴム、加硫ゴム、ガタパーチャ、またはラテックスである、請求項１に記載のポリマー材料。
【請求項４】
・ポリマーを供給する工程、
・分散安定剤の存在下、分散媒中で、分散安定剤とは異なる還元剤で銀塩を還元することによって得られた銀ナノ粒子を供給する工程であって、分散安定剤がＣ１〜６カルボン酸、Ｃ１〜６カルボン酸塩、スルフェートおよび／またはホスフェートからなる群から選択される工程；および
・ポリマーおよび銀ナノ粒子を混合する工程
を含む、ポリマーと該ポリマー中に分散された銀ナノ粒子とを含んでなるポリマー材料の製造方法。
【請求項５】
製造に使用される分散安定剤の存在下で製造に使用される分散媒中の銀ナノ粒子が、ｐＨ２〜ｐＨ１０のｐＨ範囲で、−５ｍＶ〜−４０ｍＶのゼータ電位を有する、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
ポリマーが、エラストマー、好ましくは、ポリウレタン、シリコーン、アクリル樹脂、ポリスチレン、天然ゴム、合成ゴム、加硫ゴム、ガタパーチャ、またはラテックスである、請求項４に記載の方法。
【請求項７】
ポリマーおよび銀ナノ粒子を分散媒中に分散させる、請求項４に記載の方法。
【請求項８】
ポリマーおよび銀ナノ粒子を含んで得られた混合物を、３０℃〜１８０℃の温度に加熱する工程を更に含む、請求項４に記載の方法。
【請求項９】
請求項１に記載のポリマー材料を含んでなる可撓性および／または伸縮性電極。