Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成26年1月23日(2014.1.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
左目用画像と右目用画像の組からなる立体映像において、左目用画像及び右目用画像のうち、一方の画像である第１画像と、他方の画像である第２画像の階調を補正する画像処理装置であって、
前記第１画像と第２画像の間の視差を検出する検出手段と、
前記第１画像と前記第２画像のそれぞれの画素毎に、当該画素の階調値を補正するために、対応する階調変換曲線を決定して階調値を補正する補正手段と、
を有し、
前記補正手段は、前記視差に基づいて前記第１画像の画素に対応する前記第２画像の画素を検出し、前記第１画像の画素と当該画素に対応する前記第２画像の画素に対して、同じ階調変換曲線を用いて階調値を補正する
ことを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記補正手段は、
前記第１画像の画素に対しては、その画素に対して前記第１画像から得られる統計量を用いて決定された階調変換曲線を用いて階調値を補正し、
前記第２画像の画素に対しては、その画素に対応する前記第１画像の画素に対して前記第１画像から得られる統計量を用いて決定された階調変換曲線を用いて階調値を補正することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記補正手段は、
前記第１画像の画素に対しては、
前記第１画像の画素に対して前記第１画像から得られる統計量を用いて決定された階調変換曲線を用いて階調値を補正して第１階調値を算出し、
前記第１画像の画素に対応する前記第２画像の画素に対して前記第２画像から得られる統計量を用いて決定された階調変換曲線を用いて階調値を補正して第２階調値を算出し、
前記第１階調値と前記第２階調値を合成して、最終的な階調値を算出し、
前記第２画像の画素に対しては、
前記第２画像の画素に対して前記第２画像から得られる統計量を用いて決定された階調変換曲線を用いて階調値を補正して第３階調値を算出し、
前記第２画像の画素に対応する前記第１画像の画素に対して前記第１画像から得られる
統計量を用いて決定された階調変換曲線を用いて階調値を補正して第４階調値を算出し、
前記第３階調値と前記第４階調値を合成して、最終的な階調値を算出する
ことを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記補正手段は、
前記第１画像と前記第２画像の少なくともいずれか一方の画像を複数の分割領域に分割し、分割領域毎に画素値の統計量を取得する取得手段と、
前記取得手段で取得された統計量を用いて、各分割領域内の画素に使用する階調変換曲線を決定する決定手段と、
を有する
ことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記補正手段は、
前記第１画像の前記検出手段で視差が検出できない領域内の画素に対しては、前記第１階調値を最終的な階調値とし、
前記第２画像の前記検出手段で視差が検出できない領域内の画素に対しては、前記第３階調値を最終的な階調値とする
ことを特徴とする請求項３または４に記載の画像処理装置。
【請求項６】
左目用画像と右目用画像の組からなる立体映像において、左目用画像及び右目用画像のうち、一方の画像である第１画像と、他方の画像である第２画像の階調を補正する画像処理装置の制御方法であって、
前記第１画像と第２画像の間の視差を検出する検出ステップと、
前記第１画像と前記第２画像のそれぞれの画素毎に、当該画素の階調値を補正するために、対応する階調変換曲線を決定して階調値を補正する補正ステップと、
を有し、
前記補正ステップでは、前記視差に基づいて前記第１画像の画素に対応する前記第２画像の画素を検出し、前記第１画像の画素と当該画素に対応する前記第２画像の画素に対して、同じ階調変換曲線を用いて階調値を補正する
ことを特徴とする画像処理装置の制御方法。
【請求項７】
前記補正ステップでは、
前記第１画像の画素に対しては、その画素に対して前記第１画像から得られる統計量を用いて決定された階調変換曲線を用いて階調値を補正し、
前記第２画像の画素に対しては、その画素に対応する前記第１画像の画素に対して前記第１画像から得られる統計量を用いて決定された階調変換曲線を用いて階調値を補正することを特徴とする請求項６に記載の画像処理装置の制御方法。
【請求項８】
前記補正ステップでは、
前記第１画像の画素に対しては、
前記第１画像の画素に対して前記第１画像から得られる統計量を用いて決定された階調変換曲線を用いて階調値を補正して第１階調値を算出し、
前記第１画像の画素に対応する前記第２画像の画素に対して前記第２画像から得られる統計量を用いて決定された階調変換曲線を用いて階調値を補正して第２階調値を算出し、
前記第１階調値と前記第２階調値を合成して、最終的な階調値を算出し、
前記第２画像の画素に対しては、
前記第２画像の画素に対して前記第２画像から得られる統計量を用いて決定された階調変換曲線を用いて階調値を補正して第３階調値を算出し、
前記第２画像の画素に対応する前記第１画像の画素に対して前記第１画像から得られる統計量を用いて決定された階調変換曲線を用いて階調値を補正して第４階調値を算出し、
前記第３階調値と前記第４階調値を合成して、最終的な階調値を算出する
ことを特徴とする請求項６に記載の画像処理装置の制御方法。
【請求項９】
前記補正ステップは、
前記第１画像と前記第２画像の少なくともいずれか一方の画像を複数の分割領域に分割し、分割領域毎に画素値の統計量を取得する取得ステップと、
前記取得ステップで取得された統計量を用いて、各分割領域内の画素に使用する階調変換曲線を決定する決定ステップと、
を含む
ことを特徴とする請求項６〜８のいずれか１項に記載の画像処理装置の制御方法。
【請求項１０】
前記補正ステップでは、
前記第１画像の前記検出ステップで視差が検出できない領域内の画素に対しては、前記第１階調値を最終的な階調値とし、
前記第２画像の前記検出ステップで視差が検出できない領域内の画素に対しては、前記第３階調値を最終的な階調値とする
ことを特徴とする請求項８または９に記載の画像処理装置の制御方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月28日(2014.7.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
しかしながら、被写体が異なる光源周波数を持つ複数の光源によって照明されている場合には、前記各種技法によってフリッカを防ぐことができない。例えば、被写体が１００［Ｈｚ］の光源周波数の蛍光灯と１２０［Ｈｚ］の光源周波数の蛍光灯で照明されている場合がある。この場合、撮像装置のシャッター速度を１／１００［秒］としたときには１２０［Ｈｚ］のフリッカが、またシャッター速度を１／１２０［秒］としたときには１００［Ｈｚ］のフリッカが、それぞれ認識されることとなる。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月3日(2014.4.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一酸化炭素及び１種以上の、式ＣｘＦｙ（式中ｘ≧１及びｙ≧１である）で表される炭素を伴うフッ素含有ガスを含むイオン源装置内ドーパントガス混合物を含み、前記混合物は追加的な酸素の不存在を特徴とし、
前記炭素を伴うフッ素含有ガスが、前記ガス混合物の体積を基準として約１〜２０体積パーセント（体積％）の有効量で存在し、
前記ドーパントガス混合物が炭素イオンを放出し、炭素注入中の炭素系堆積物及び酸化物系堆積物を低減するのに十分な条件下に炭素ビームを生成する
炭素注入システム用ガス組成物。
【請求項２】
前記炭素を伴うフッ素含有ガスの少なくとも１種が、前記ガス混合物の体積を基準として約３〜１５体積％の有効量で存在する、請求項１に記載のガス組成物。
【請求項３】
前記炭素を伴うフッ素含有ガスの少なくとも１種が、前記ガス混合物の体積を基準として約５〜１０体積％の有効量で存在する、請求項１に記載のガス組成物。
【請求項４】
前記１種以上の炭素を伴うフッ素含有ガスが、Ｃ２Ｆ６、ＣＦ４、Ｃ４Ｆ８、Ｃ２Ｆ４及びそれらの混合物からなる群より選択される、請求項１に記載のガス組成物。
【請求項５】
前記１種以上の炭素を伴うフッ素含有ガスが、前記ガス混合物の体積を基準として約３〜１０体積％の有効量のＣＦ４である、請求項１に記載のガス組成物。
【請求項６】
前記炭素を伴うフッ素含有ガスが、前記ガス混合物の体積を基準として約３〜１０体積％の有効量のＣ２Ｆ６である、請求項１に記載のガス組成物。
【請求項７】
前記炭素を伴うフッ素含有ガスが、前記ガス混合物の体積を基準として約５〜１０体積％の有効量のＣ２Ｆ６である、請求項１に記載のガス組成物。
【請求項８】
前記炭素を伴うフッ素含有ガスが、Ｃ２Ｆ６、ＣＦ４、Ｃ４Ｆ８、Ｃ２Ｆ４及びそれらの混合物からなる群より選択され、更にフッ素含有ガスが、前記ガス混合物の体積を基準として約３〜１５体積％の有効量で含まれている、請求項１に記載のガス組成物。
【請求項９】
ｘ＝１〜６でありｙ＝１〜１０である、請求項１に記載のガス組成物。
【請求項１０】
一酸化炭素である第１炭素系種、及び式ＣｘＦｙ（式中ｘ≧１及びｙ≧１である）で表される炭素を伴うフッ素含有ガスである第２炭素系種を含むイオン源装置内ドーパントガス混合物を含み、第１及び第２炭素系種がそれぞれ、前記第１炭素系種及び前記第２炭素系種の少なくとも一部をイオン化して炭素イオンを生成するのに有効な量で含まれ、前記混合物は追加的な酸素の不存在を特徴とし、
前記ドーパントガス混合物が炭素イオンを放出し、炭素注入中の炭素系堆積物及び酸化物系堆積物を低減するのに十分な条件下に炭素ビームを生成する
炭素注入用ガス組成物。
【請求項１１】
前記炭素を伴う第２炭素系種が、前記ガス混合物の体積を基準として約１〜２０体積パーセント（体積％）の有効量で存在する、請求項１０に記載のガス組成物。
【請求項１２】
更に水素を含む、請求項１０に記載のガス組成物。
【請求項１３】
前記第２炭素系種が、Ｃ２Ｆ６、ＣＦ４、Ｃ４Ｆ８、Ｃ２Ｆ４及びそれらの混合物からなる群より選択される、請求項１０に記載のガス組成物。
【請求項１４】
前記第２炭素系種が、前記ガス混合物の体積を基準として約３〜１０体積％の有効量のＣＦ４である、請求項１０に記載のガス組成物。
【請求項１５】
フッ素の少なくとも一部が前記第２炭素系種からイオン化する、請求項１０に記載のガス組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成26年1月15日(2014.1.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の電球型の照明装置は、光源と、前記光源を駆動する駆動回路部と、内部に空洞が形成された放熱部と、前記放熱部の内面側に挿入され、前記駆動回路部を前記放熱部の内面から離隔して固定するための固定部とを備え、前記放熱部は、前記空洞方向に突出し、ねじ用穴が設けられたボス部を有し、前記固定部は、前記ボス部に対向させて位置決めをする位置決め部を有することを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源と、
前記光源を駆動する駆動回路部と、
内部に空洞が形成された放熱部と、
前記放熱部の内面側に挿入され、前記駆動回路部を前記放熱部の内面から離隔して固定するための固定部と、を備え、
前記放熱部は、前記空洞方向に突出し、ねじ用穴が設けられたボス部を有し、
前記固定部は、前記ボス部に対向させて位置決めをする位置決め部を有することを特徴とする電球型の照明装置。
【請求項２】
前記ボス部は、前記空洞の周縁に複数設けられていることを特徴とする請求項１に記載の電球型の照明装置。
【請求項３】
前記ボス部は、前記空洞の周縁の３個所に設けられていることを特徴とする請求項２に記載の電球型の照明装置。
【請求項４】
前記固定部は、電気絶縁性を有することを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の電球型の照明装置。
【請求項５】
前記ボス部および前記位置決め部は、互いに当接することにより、前記固定部を前記放熱部の周方向に対して位置決めすることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の電球型の照明装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年2月4日(2014.2.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光素子を有し、
前記発光素子は、光を反射する機能を有する第１の電極と光を透過する機能を有する第２の電極と、前記第１の電極と前記第２の電極との間に設けられた第１の層、第２の層とを有し、
前記第１の層は、正孔を発生する層であり、
前記第２の層は、発光層を含む層であり、
前記第１の層は、芳香族アミン化合物と、モリブデンと酸素を有し、
前記第１の電極と前記第２の層との光学距離は、前記第１の層により前記発光素子の発光波長の（２ｍ−１）／４倍にされていることを特徴とする発光装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月3日(2014.4.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材に１層以上の配線層が形成され、前記１層以上の配線層の基材と反対側の面に絶縁層が積層される回路基板と、
前記回路基板の端面の少なくとも一部を囲むことで前記端面との間に空間が形成され、前記形成された空間に供給される乾燥体の移動を規制する規制部材と、
を備えた回路装置。
【請求項２】
前記乾燥体は乾燥流体であり、
前記乾燥流体を前記規制部材の内部の空間へ供給する乾燥流体供給手段を備えた請求項１に記載の回路装置。
【請求項３】
前記乾燥流体は、前記回路基板の周囲の湿度未満の湿度を有する乾燥気体である請求項２に記載の回路装置。
【請求項４】
前記規制部材は、中空構造を有し、前記回路基板を挟み込む切欠部が形成される請求項１から３のいずれか１項に記載の回路装置。
【請求項５】
前記回路基板は、多角形の平面形状を有し、
前記規制部材は、前記回路基板の複数の辺のうち少なくとも一辺を覆う構造を有する請求項１から４のいずれか１項に記載の回路装置。
【請求項６】
前記規制部材は、前記回路基板の全周を覆う構造を有する請求項１から５のいずれか１項に記載の回路装置。
【請求項７】
前記規制部材は、前記回路基板の一方の面、及び前記一方の面の反対側の他方の面から前記回路基板を挟み込む複数の部材を含み、
前記部材の端面の少なくとも一部は、前記回路基板の端面よりも外側に突出している請求項１から３のいずれか１項に記載の回路装置。
【請求項８】
前記回路基板は、前記基材の一方の面及び前記一方の面と反対側の他方の面に前記配線層が形成される請求項１から７のいずれか１項に記載の回路装置。
【請求項９】
前記回路基板は、前記配線層を複数備え、各配線層の間に絶縁層が形成される請求項１から８のいずれか１項に記載の回路装置。
【請求項１０】
液体を吐出させるノズルが設けられるインクジェットヘッドを構成するインクジェットヘッドアッセンブリであって、
電気配線と、
前記電気配線と導通する取出電極と、
前記取出電極と接合される回路基板を備えた回路装置と、
を備え、
前記回路装置は、基材に１層以上の配線層が形成され、前記１層以上の配線層の基材と反対側の面に絶縁層が積層され、前記配線層に電気信号が伝送される配線パターンが形成され、前記取出電極に接合される前記回路基板と、
前記回路基板の端面の少なくとも一部を囲むことで前記端面との間に空間が形成され、前記形成された空間に供給される乾燥体の移動を規制する規制部材と、
を具備するインクジェットヘッドアッセンブリ。
【請求項１１】
前記ノズルと連通する液室と、
前記液室に収容される液体を加圧する加圧素子と、
を備え、
前記電気配線は、前記加圧素子を動作させる駆動信号が伝送される請求項１０に記載のインクジェットヘッドアッセンブリ。
【請求項１２】
前記液室が形成される本体部と、
前記本体部を支持する支持部材と、
を備え、
前記回路基板は、前記支持部材によって前記本体部と前記支持部材との間で支持され、  前記支持部材は、前記規制部材と兼用され、前記回路基板と接触する面に前記乾燥体の移動を規制する空間となる構造が形成される請求項１１に記載のインクジェットヘッドアッセンブリ。
【請求項１３】
前記支持部材と兼用される規制部材は、前記回路基板の周囲の一部を囲む溝部が形成され、前記溝部と連通し、厚み方向に貫通する貫通穴が形成される第１規制部材と、前記貫通穴と連通する穴が形成される第２規制部材と、
を備えた請求項１２に記載のインクジェットヘッドアッセンブリ。
【請求項１４】
前記回路基板は、前記基材として樹脂フィルムが用いられ、柔軟性を有するフレキシブル配線基板である請求項１０から１３のいずれか１項に記載のインクジェットヘッドアッセンブリ。
【請求項１５】
前記乾燥体は乾燥流体であり、
前記乾燥流体を前記規制部材の内部の空間へ供給する乾燥流体供給手段を備えた請求項１０から１４のいずれか１項に記載のインクジェットヘッドアッセンブリ。
【請求項１６】
前記乾燥流体は、前記回路基板の周囲の湿度未満の湿度を有する乾燥気体である請求項１５に記載のインクジェットヘッドアッセンブリ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３３】
なお、本発明に適用可能なノズル配置は、図１７に図示したノズル配置に限定されず、例えば、主走査方向に沿う行方向及び主走査方向に対して斜めの列方向に沿って複数のノズルがマトリクス配置された態様にも適用可能である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４０】
また、先に説明した乾燥気体生成部と、乾燥気体の流路となる乾燥気体流路部材とを備え、乾燥気体流路部材を介して、乾燥気体生成部からインクジェットヘッドへ乾燥気体が供給される構成とすることが可能である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６６】
（第９態様）：第１態様から第８態様のいずれかに記載の回路装置において、回路基板は、配線層を複数備え、各配線層の間に絶縁層が形成される回路装置。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１７３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１７３】
（第１２態様）：第１１態様に記載のインクジェットヘッドアッセンブリにおいて、液室が形成される本体部と、本体部を支持する支持部材と、を備え、回路基板は、支持部材によって本体部と支持部材との間で支持され、支持部材は、規制部材と兼用され、回路基板と接触する面に乾燥体の移動を規制する空間となる構造が形成されるインクジェットヘッドアッセンブリ。
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】
2014003240.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月28日(2014.5.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無線装置であって、
無線通信網からタイミング及び特定の周波数チャネルを取得するとともに、前記無線通信網からのタイミングに基づいて決定された指定の時間間隔内にピアツーピア通信のために、前記特定の周波数チャネルにおいて他の無線装置からのフレームを監視するように構成された少なくとも１つのプロセッサと、
前記少なくとも１つのプロセッサに結合されたメモリと、
を具備する無線装置。
【請求項２】
前記少なくとも１つのプロセッサは、前記指定の時間間隔間にスリープ状態を維持し、他の無線装置からのフレームを監視するために、各指定の時間間隔に先立ってウェイクアップするように構成されている請求項１に記載の無線装置。
【請求項３】
前記無線通信網は、セルラ通信網あるいはブロードキャスト通信網である請求項１に記載の無線装置。
【請求項４】
方法であって、
無線通信網からタイミング及び特定の周波数チャネルを取得することと、
前記無線通信網からのタイミングに基づいて決定された指定の時間間隔及び前記特定の周波数チャネルにおいて他の無線装置からのフレームを監視することと
を具備する方法。
【請求項５】
前記指定の時間間隔間にスリープ状態を維持することと、
他の無線装置からのフレームを監視するために各指定された時間間隔に先立ってウェイクアップすることと、をさらに具備する請求項４に記載の方法。
【請求項６】
無線通信装置であって、
無線通信網からのタイミング及び特定の周波数チャネルを取得するための手段と、
前記無線通信網からのタイミングに基づいて決定された指定された時間間隔及び前記特定の周波数チャネルにおいて他の無線装置からのフレームを監視するための手段と、を具備する無線通信装置。
【請求項７】
前記指定の時間間隔間にスリープ状態を維持するための手段と、
他の無線装置からのフレームを監視するために、各指定の時間間隔に先立ってウェイクアップするための手段と、をさらに具備する請求項６に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月16日(2014.7.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ユーザ網からパケットを受信する第１のエッジ装置と、他のユーザ網へ前記パケットを送信する第２のエッジ装置と、前記第１のエッジ装置と前記第２のエッジ装置との間に構成される前記パケットの中継経路の識別情報と、を関連付けたノード間パス情報を記憶部に記憶するとともに、前記ユーザ網から前記他のユーザ網へ向けて送信されるパケットの宛先アドレスの少なくとも一部と前記第２のエッジ装置とを関連付けたユーザ網経路情報を前記記憶部に記憶し、前記ユーザ網経路情報および前記ノード間パス情報を前記第１のエッジ装置に送信する経路制御装置と、
前記ユーザ網からパケットを受信したとき、前記ユーザ網経路情報および前記ノード間パス情報を参照して、転送すべき前記第２のエッジ装置を特定し、前記受信したパケットに前記識別情報を付加して前記第２のエッジ装置に向けて転送する前記第１のエッジ装置と、
前記第１のエッジ装置から転送されてきた前記パケットから前記識別情報を除去して前記他のユーザ網へ送信する前記第２のエッジ装置と、
を備えることを特徴とする中継転送システム。
【請求項２】
前記第１のエッジ装置は、
前記パケットを受信したとき、前記パケットの前記宛先アドレスを抽出し、当該宛先アドレスの少なくとも一部をキーとして前記ユーザ網経路情報を検索して前記第２のエッジ装置を抽出し、当該第２のエッジ装置をキーとして前記ノード間パス情報を検索して前記識別情報を特定する
ことを特徴とする請求項１に記載の中継転送システム。
【請求項３】
前記経路制御装置は、
前記ユーザ網経路情報を、前記第１のエッジ装置および前記第２のエッジ装置に送信する
ことを特徴とする請求項１に記載の中継転送システム。
【請求項４】
前記経路制御装置は、
前記ユーザ網経路情報を、前記第１のエッジ装置および前記第２のエッジ装置に同報で送信する
ことを特徴とする請求項１に記載の中継転送システム。
【請求項５】
前記経路制御装置は、
前記ノード間パス情報の中から、前記第１のエッジ装置が関連付けられている前記第２のエッジ装置と前記中継経路の識別情報との組の情報を抽出して個別ノード間パス情報を生成し、前記個別ノード間パス情報を当該第１のエッジ装置に送信する
ことを特徴とする請求項１に記載の中継転送システム。
【請求項６】
前記経路制御装置は、
前記ユーザ網の構成変更があった場合、前記ユーザ網経路情報を変更する
ことを特徴とする請求項１に記載の中継転送システム。
【請求項７】
前記経路制御装置は、
前記中継経路の変更があった場合、前記ノード間パス情報を変更する
ことを特徴とする請求項１に記載の中継転送システム。
【請求項８】
前記ユーザ網経路情報は、前記パケットの宛先アドレスの一部であって前記他のユーザ網に割り当てられているアドレスと、前記第２のエッジ装置と、を関連付ける
ことを特徴とする請求項１に記載の中継転送システム。
【請求項９】
前記第１のエッジ装置と前記第２のエッジ装置との間で前記中継経路を構成する複数の中継装置を有し、
前記中継装置は、前記第１のエッジ装置が前記パケットに付加した前記識別情報を用いて前記パケットを前記第２のエッジ装置へ向けて中継する
ことを特徴とする請求項１に記載の中継転送システム。
【請求項１０】
ユーザ網からパケットを受信する第１のエッジ装置と他のユーザ網へ前記パケットを送信する第２のエッジ装置と前記第１のエッジ装置から前記第２のエッジ装置に至る前記パケットの中継経路の識別情報とを関連付けたノード間パス情報と、前記ユーザ網から前記他のユーザ網へ送信されるパケットの宛先アドレスの少なくとも一部と前記第２のエッジ装置とを関連付けたユーザ網経路情報と、が記憶される記憶部と、
前記ユーザ網経路情報および前記ノード間パス情報を前記第１のエッジ装置に送信し、前記第１のエッジ装置によって転送される前記ユーザ網から受信したパケットの前記中継経路を制御する処理部と、
を備えることを特徴とする経路制御装置。
【請求項１１】
前記ユーザ網経路情報は、前記パケットの宛先アドレスの一部であって前記他のユーザ網に割り当てられたアドレスと、前記第２のエッジ装置と、を関連付ける
ことを特徴とする請求項１０に記載の経路制御装置。
【請求項１２】
ユーザ網からパケットを受信する受信部と、
他のユーザ網へ前記パケットを送信する第２のエッジ装置と自身から前記第２のエッジ装置に至る前記パケットの中継経路の識別情報とを関連付けた個別ノード間パス情報と、前記ユーザ網から前記他のユーザ網へ送信されるパケットの宛先アドレスの少なくとも一部と前記第２のエッジ装置とを関連付けたユーザ網経路情報と、が記憶される記憶部と、
前記ユーザ網からパケットを受信したとき、前記個別ユーザ網経路情報および前記ノード間パス情報を参照して、転送すべき前記第２のエッジ装置を特定し、受信したパケットに前記識別情報を付加して前記第２のエッジ装置に転送する処理部と、
を備えることを特徴とするエッジ装置。
【請求項１３】
前記ユーザ網経路情報は、前記パケットの宛先アドレスの一部であって前記他のユーザ網に割り当てられたアドレスと、前記第２のエッジ装置と、を関連付ける
ことを特徴とする請求項１２に記載のエッジ装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
前記課題を解決するために、本発明の中継転送システムは、ユーザ網からパケットを受信する第１のエッジ装置と、他のユーザ網へ前記パケットを送信する第２のエッジ装置と、前記第１のエッジ装置と前記第２のエッジ装置との間に構成される前記パケットの中継経路の識別情報と、を関連付けたノード間パス情報を記憶部に記憶するとともに、前記ユーザ網から前記他のユーザ網へ向けて送信されるパケットの宛先アドレスの少なくとも一部と前記第２のエッジ装置とを関連付けたユーザ網経路情報を前記記憶部に記憶し、前記ユーザ網経路情報および前記ノード間パス情報を前記第１のエッジ装置に送信する経路制御装置と、前記ユーザ網からパケットを受信したとき、前記ユーザ網経路情報および前記ノード間パス情報を参照して、転送すべき前記第２のエッジ装置を特定し、前記受信したパケットに前記識別情報を付加して前記第２のエッジ装置に向けて転送する前記第１のエッジ装置と、前記第１のエッジ装置から転送されてきた前記パケットから前記識別情報を除去して前記他のユーザ網へ送信する前記第２のエッジ装置と、を備えることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月10日(2014.7.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物品を処理するためのチャンバであって、該物品は２つの別の部分を含み、
該チャンバは、
前記物品の第１の部分のための第１のプロセス位置と前記物品の第２の部分のための第２のプロセス位置とを有するハウジングと、
該ハウジング内に配置されたロック解除機構であって、前記物品の前記第２の部分を前記第１の部分からロック解除するよう構成され、可動ロボットにより支持された物品へのロック解除動作を実行するよう構成されたロック解除機構と、
前記物品の前記部分へプロセス混合物を供給するよう構成された供給システムと、
ロボット機構であって、前記容器の前記２つの部分が互いにロックされた該２つの部分を移動するよう構成され、
前記容器の前記２つの別の部分をロック解除するため、前記容器が前記ロック解除機構と係合し移動するように構成され、前記ロック解除機構は、前記ロボットが前記物品を支持する間に前記容器の前記２つの部分をロック解除し、
前記ロボット操作システムは、前記容器の前記２つの部分を一緒に移動し、かつ、順次前記第１の部分を前記第１の洗浄位置に前記第２の部分を前記第２の洗浄位置に配置するように構成され、前記物品が前記プロセス混合物により処理されるロボット機構と、を有することを特徴とするチャンバ。
【請求項２】
前記プロセス混合物は、液体クリーナと気体のキャリアガスとの混合物を含むことを特徴とする、請求項１に記載のチャンバ。
【請求項３】
前記供給システムが前記物品へ洗浄混合物を供給するようにさらに構成されていることを特徴とする、請求項１に記載のチャンバ。
【請求項４】
前記供給システムが前記物品へパージガスを供給するようにさらに構成されていることを特徴とする、請求項１に記載のチャンバ。
【請求項５】
前記物品を乾燥するために乾燥機構をさらに含むことを特徴とする、請求項１に記載のチャンバ。
【請求項６】
前記物品を乾燥するために脱水又はガス吹きつけ機構をさらに含むことを特徴とする、請求項１に記載のチャンバ。
【請求項７】
前記物品のガス抜きかつ汚染除去のために加熱された真空周囲環境を提供する機構をさらに含むことを特徴とする、請求項１に記載のチャンバ。
【請求項８】
容器を洗浄するための洗浄システムであって、該容器は２つの別の部分を含み、
該システムは、
前記容器を受け入れるロードポートと、
洗浄チャンバであって、第１の洗浄位置と、第２の洗浄位置と、ロック解除機構とを備え、該ロック解除機構は前記容器の第２の部分から第１の部分をロック解除するよう構成され、該機構は、可動なロボットにより支持された容器へのロック解除動作を実行するよう構成されるものであり、かつ前記容器の表面へ洗浄混合物を供給するように構成された複数のノズルを有する洗浄チャンバと、
前記ロードポットと前記洗浄チャンバとの間で前記容器の前記部分を引き渡すためのロボット操作システムとを有し、
ロボット機構が、前記容器の前記２つの部分が互いにロックされた該２つの部分を移動するよう構成され、
前記ロボット機構は、前記容器の前記２つの別の部分をロック解除するため、前記容器が前記ロック解除機構と係合し移動するように構成され、前記ロック解除機構は、前記ロボットが前記物品を支持する間に前記容器の前記２つの部分をロック解除し、
前記ロボット操作システムは、前記容器の前記２つの部分を一緒に移動し、かつ、順次前記第１の部分を前記第１の洗浄位置に前記第２の部分を前記第２の洗浄位置に配置するように構成されることを特徴とする洗浄システム。
【請求項９】
洗浄混合物を前記容器へ供給するように構成された第２の複数のノズルをさらに含むことを特徴とする請求項８に記載のシステム。
【請求項１０】
パージガスを前記容器へ供給するように構成された第３の複数のノズルをさらに含むことを特徴とする請求項８に記載のシステム。
【請求項１１】
前記物品を乾燥するための乾燥気候をさらに含むことを特徴とする請求項８に記載のシステム。
【請求項１２】
前記容器のガス抜きかつ汚染除去するための別のチャンバをさらに含むことを特徴とする請求項８に記載のシステム。
【請求項１３】
前記洗浄チャンバは真空にシールされ、前記洗浄プロセスは大気圧より低い圧力で実行されることを特徴とする請求項８に記載のシステム。
【請求項１４】
物品を洗浄するための方法であって、該物品は２つの別々の部分を含み、
該方法は、
前記物品の、それぞれロック解除機構にロックされた前記２つの部分を引き渡し、
前記物品の前記２つの部分を解除するロック解除機構を前記物品と係合し、
前記物品の２つのロック解除された部分を一緒にプロセスチャンバへ引き渡し、
前記物品の前記２つの部分は、前記プロセスチャンバへの引き渡しの間に分離されるものであり、
前記プロセスチャンバにおいて、前記物品の第１の部分を第１の洗浄位置に配置し、
前記プロセスチャンバにおいて、前記物品の第２の部分を第２の洗浄位置に配置し、
前記プロセスチャンバにおいて液体の洗浄混合物を用いて前記物品を洗浄することを特徴とする物品を洗浄するための方法。
【請求項１５】
前記プロセスチャンバにおいて洗浄混合物を使用して前記物品を洗浄することをさらに含むことを特徴とする、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記プロセスチャンバにおいてパージングガスを使用して前記物品をパージすることをさらに含むことを特徴とする、請求項１４に記載の方法。
【請求項１７】
前記物品を乾燥させることをさらに含むことを特徴とする、請求項１４に記載の方法。
【請求項１８】
同じプロセスチャンバにおける加熱された真空周囲環境で、前記物品のガス抜きかつ汚染除去することをさらに含むことを特徴とする、請求項１４に記載の方法。
【請求項１９】
異なるプロセスチャンバにおける加熱された真空雰囲気で、前記物品のガスを抜きかつ浄化することをさらに含むことを特徴とする、請求項１４に記載の方法。
【請求項２０】
さらに、前記第２の洗浄位置から前記第２の部分を取り出し、該第２の部分を前記第１の洗浄位置で前記第１の部分と結合させ、前記物品の２つの部分を前記プロセスチャンバから引き渡すことを含むことを特徴とする、請求項１４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月22日(2014.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のアライメントマークを有する第１のチップ集合体と、第２のチップ集合体とを互いに積層する積層装置であって、
前記第１のチップ集合体と前記第２のチップ集合体とを相対的に移動する移動部と、
前記複数のアライメントマークのうちの少なくとも３つアライメントマークの位置情報を取得し、前記少なくとも３つアライメントマークの位置情報に基づいて、前記第１のチップ集合体の位置を決定し、前記決定の結果に基づいて前記移動部を制御する制御部と
を備える積層装置。
【請求項２】
前記制御部は、設計データから前記位置情報を取得する請求項１に記載の積層装置。
【請求項３】
前記制御部は、前記第１のチップ集合体の前記複数のアライメントマークのうちの前記少なくとも３つのアライメントマークの、検出された位置情報を取得する請求項１に記載の積層装置。
【請求項４】
前記制御部は、前記検出された位置情報に基づいて、前記第２のチップ集合体に対する前記第１のチップ集合体の位置を統計的に決定する請求項３に記載の積層装置。
【請求項５】
前記制御部は、前記複数のアライメントマークのうちの前記３つのアライメントマークに基づいて決定される、前記第１のチップ集合体の誤差パラメータに基づいて、前記第１のチップ集合体の位置を決定する請求項４に記載の積層装置。
【請求項６】
前記制御部は、前記検出された位置情報に基づいて、前記複数のアライメントマークのそれぞれの位置を統計的に決定する請求項３から５のいずれか１項に記載の積層装置。
【請求項７】
前記制御部は、前記第２のチップ集合体の複数のアライメントマークのうちの少なくとも３つのアライメントマークの位置情報を取得し、前記第２のチップ集合体の前記少なくとも３つのアライメントマークの位置情報に基づいて、前記第２のチップ集合体の位置を決定し、前記第１のチップ集合体の前記少なくとも３つのアライメントマークの位置情報および前記第２のチップ集合体の前記少なくとも３つのアライメントマークの位置情報に基づいて前記移動部を制御する請求項１から６のいずれか１項に記載の積層装置。
【請求項８】
前記制御部により取得されるアライメントマークのそれぞれの位置情報に関する少なくとも設計データを格納する格納部をさらに備え、
前記制御部は、
前記アライメントマークのそれぞれの前記取得された位置情報および前記格納部に格納されている対応設計データに基づいて、前記対応設計データに対する前記アライメントマークのそれぞれの位置の誤差パラメータを算出するとともに、
前記誤差パラメータおよび前記対応設計データに統計的に基づいて、前記第１のチップ集合体に設けられた前記複数のアライメントマークの前記位置のそれぞれを計算する請求項１に記載の積層装置。
【請求項９】
前記第１のチップ集合体および前記第２のチップ集合体は、それぞれ、複数のチップが連なった状態である請求項１から８のいずれか１項に記載の積層装置。
【請求項１０】
前記第１のチップ集合体および前記第２のチップ集合体のうちの少なくとも一方は、１つのチップからなる請求項１から９のいずれか１項に記載の積層装置。
【請求項１１】
前記第１のチップ集合体および前記第２のチップ集合体の少なくとも一方は、互いに積層された２以上のチップ集合体の小チップブロックにより形成される請求項１から１０のいずれか１項に記載の積層装置。
【請求項１２】
前記第２のチップ集合体は複数のアライメントマークを有し、
前記制御部は、前記第１のチップ集合体と前記第２のチップ集合体との間の位置ずれが全体として予め定められた基準より小さくなるように、前記第１のチップ集合体と前記第２のチップ集合体とを相対的に移動させる前記移動部の動作を制御する請求項１に記載の積層装置。
【請求項１３】
前記第１のチップ集合体に設けられるべき回路パターンを決定する露光装置から、前記第１のチップ集合体に設けられた前記複数のアライメントマークのうちの前記少なくとも３つのアライメントマークのそれぞれの位置情報を取得する位置決め情報取得部をさらに備え、
前記制御部は、前記位置決め情報取得部から、前記第１のチップ集合体に設けられた前記少なくとも３つのアライメントマークのそれぞれの位置情報を取得する請求項１２に記載の積層装置。
【請求項１４】
複数のアライメントマークを有する第１のチップ集合体を含む複数のチップ集合体を積層する積層装置であって、
前記第１のチップ集合体の前記複数のアライメントマークのうちの少なくとも３つのアライメントマークの位置情報を取得し、前記取得した位置情報に基づいて前記複数のアライメントマークのそれぞれの位置を統計的に決定する制御部と、
前記決定の結果に基づいて、前記第１のチップ集合体と第２のチップ集合体とを相対的に移動する移動部と
を備える積層装置。
【請求項１５】
複数のアライメントマークを有する第１のチップ集合体と、第２のチップ集合体とを互いに積層する積層方法であって、
前記複数のアライメントマークのうちの少なくとも３つアライメントマークの位置情報を取得し、
前記少なくとも３つアライメントマークの位置情報に基づいて、前記第１のチップ集合体の位置を決定し、
前記決定の結果に基づいて、前記第１のチップ集合体と前記第２のチップ集合体とを相対的に移動する
積層方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】積層装置および積層方法
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月8日(2014.10.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の巻線群を備えた多重巻線型電動機を駆動するために上記複数の巻線群にそれぞれ電力供給する複数の電力変換器をＰＷＭ制御する電力変換器制御装置において、
上記多重巻線型電動機の回転子の磁極位置を検出する位置検出器と、
与えられたトルク指令および上記位置検出器からの磁極位置信号に基づいて上記各電力変換器の三相電圧指令を生成する電圧指令演算部と、
上記複数の電力変換器をそれぞれＰＷＭ制御するための複数のキャリア信号を等しい周波数で生成するキャリア生成部と、
上記各電力変換器毎に上記三相電圧指令と上記キャリア信号とを比較してＰＷＭ処理されたスイッチングパルス信号を生成するキャリア比較部とを備え、
上記キャリア生成部は、上記磁極位置信号に基づく上記多重巻線型電動機の回転速度、上記トルク指令、あるいは上記回転速度と上記トルク指令とから演算される変調率のいずれか１である位相差基準信号に基づいて決定される位相差を与えて上記複数のキャリア信号を生成することを特徴とする電力変換器制御装置。
【請求項２】
上記キャリア生成部は、上記位相差基準信号の値が低い領域では上記位相差を９０度とし、上記位相差基準信号の値が高い領域では上記位相差を１８０度とすることを特徴とする請求項１に記載の電力変換器制御装置。
【請求項３】
上記位置検出器からの磁極位置信号から上記多重巻線型電動機の上記回転速度を演算する速度演算部を備え、
上記キャリア生成部は、上記回転速度を上記位相差基準信号として、上記回転速度が所定値以下の時は上記位相差を９０度とし、上記回転速度が所定値を超えると上記位相差を１８０度として上記複数のキャリア信号を生成することを特徴とする請求項１または請求項２に記載の電力変換器制御装置。
【請求項４】
上記キャリア生成部は、上記トルク指令を上記位相差基準信号として、上記トルク指令が所定値以下の時は上記位相差を９０度とし、上記トルク指令が所定値を超えると上記位相差を１８０度として上記複数のキャリア信号を生成することを特徴とする請求項１または請求項２に記載の電力変換器制御装置。
【請求項５】
上記位置検出器からの磁極位置信号から上記多重巻線型電動機の上記回転速度を演算する速度演算部と、上記回転速度と上記トルク指令とから上記変調率を演算する変調率演算部とを備え、
上記キャリア生成部は、上記変調率を上記位相差基準信号として、上記変調率が所定値以下の時は上記位相差を９０度とし、上記変調率が所定値を超えると上記位相差を１８０度として上記複数のキャリア信号を生成することを特徴とする請求項１または請求項２に記載の電力変換器制御装置。
【請求項６】
複数の巻線群を備えた多重巻線型電動機の上記複数の巻線群にそれぞれ電力供給する複数の電力変換器と、請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の電力変換器制御装置とを備え、該電力変換器制御装置が上記複数の電力変換器をＰＷＭ制御して上記多重巻線型電動機を駆動することを特徴とする多重巻線型電動機駆動装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
この発明の請求項１に係る電力変換器制御装置は、複数の巻線群を備えた多重巻線型電動機を駆動するために上記複数の巻線群にそれぞれ電力供給する複数の電力変換器をＰＷＭ制御するものであって、上記多重巻線型電動機の回転子の磁極位置を検出する位置検出器と、与えられたトルク指令および上記位置検出器からの磁極位置信号に基づいて上記各電力変換器の三相電圧指令を生成する電圧指令演算部と、上記複数の電力変換器をそれぞれＰＷＭ制御するための複数のキャリア信号を等しい周波数で生成するキャリア生成部と、上記各電力変換器毎に上記三相電圧指令と上記キャリア信号とを比較してＰＷＭ処理されたスイッチングパルス信号を生成するキャリア比較部とを備える。そして、上記キャリア生成部は、上記磁極位置信号に基づく上記多重巻線型電動機の回転速度、上記トルク指令、あるいは上記回転速度と上記トルク指令とから演算される変調率のいずれか１である位相差基準信号に基づいて決定される位相差を与えて上記複数のキャリア信号を生成するものである。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年8月19日(2014.8.19)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２４】
該多孔性デバイスは、該カテーテルの全体又は一部分の内面及び／又は外面に取り付けることができる。該デバイスは、カテーテル材料の中に組み入れられることもあり、又は、カテーテル先端部の上にぴったり嵌るスリーブ(sleeve)を構成することもある。カテーテルの内腔の中に細胞が移動するのを防ぐために、並びに、組織構造物及び支持血液供給物の成長を防ぐために、孔径は理想的には１μｍ未満である。本発明に関して記述される多孔性デバイスは、水頭症カテーテルの近位端若しくは遠位端における遮断阻害、又は薬物供給カテーテルの出口における遮断阻害、又は他の流体管理カテーテルの端部における遮断阻害を防ぐのに用いることもできる。該デバイスの孔径は、特定寸法範囲の分子のみがカテーテルの中に入ることができるような具合に、選定することもできる。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成25年11月27日(2013.11.27)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００６】
治療後の骨髄移植は、好中球減少症に対抗することもできる。しかし、これらの治療は、患者を感染症に無防備なままにする10〜15日間の治療を必要とする。骨髄幹細胞を刺激することができる作用物質は、幹細胞の生着を容易にし、かつ、促進することができ、それにより骨髄移植後の好中球減少の時間枠を短くする。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
骨髄移植を受けた患者における幹細胞の生着を保護及び刺激するため、又は好中球減少症、外傷及び化学療法もしくは放射線療法に起因する骨髄抑制から選択される症状の治療における使用のための、式I：
【化１】
2010053135.tif 000001
（式中、A及びBは、独立に水素又はR1COであり；
R1は、C7又はC9アルキルであり；そして
Yは、O又はNHである）の化合物を活性成分として含む医薬組成物。
【請求項２】
前記症状が化学療法に起因する骨髄抑制である、請求項1に記載の医薬組成物。
【請求項３】
前記症状が放射線療法に起因する骨髄抑制である、請求項1に記載の医薬組成物。
【請求項４】
前記症状が慢性の好中球減少症である、請求項1に記載の医薬組成物。
【請求項５】
前記症状が一過性の好中球減少症である、請求項1に記載の医薬組成物。
【請求項６】
前記症状が血液の病気に起因する好中球減少症である、請求項1に記載の医薬組成物。
【請求項７】
前記症状が薬物によって誘発された好中球減少症である、請求項1に記載の医薬組成物。
【請求項８】
前記症状が栄養欠乏症に起因する好中球減少症である、請求項1に記載の医薬組成物。
【請求項９】
前記症状が感染症に起因する好中球減少症である、請求項1に記載の医薬組成物。
【請求項１０】
前記症状が放射線療法に起因する好中球減少症である、請求項1に記載の医薬組成物。
【請求項１１】
前記症状が外傷である、請求項1に記載の医薬組成物。
【請求項１２】
骨髄移植を受けた患者における幹細胞の生着を保護及び刺激するための、請求項1に記載の医薬組成物。
【請求項１３】
前記式Iの化合物がカプリル酸トリグリセリドである、請求項1〜12のいずれか1項に記載の医薬組成物。
【請求項１４】
前記式Iの化合物がカプリン酸トリグリセリドである、請求項1〜12のいずれか1項に記載の医薬組成物。
【請求項１５】
式Iの2つの化合物の混合物を含む、請求項1〜12のいずれか1項に記載の医薬組成物であって、一方の化合物におけるA及びBはR1COであり、かつR1はC7アルキルであり、そして、他方の化合物におけるA及びBはR1COであり、かつR1はC9アルキルである、医薬組成物。
【請求項１６】
一方の化合物におけるR1はCH3(CH2)6-であり、そして他方の化合物におけるR1はCH3(CH2)8-である、請求項15に記載の医薬組成物。
【請求項１７】
式Iの化合物の混合物を含む請求項1〜12のいずれか1項に記載の医薬組成物であって、ここで式Iの化合物が以下の式：
【化２】
2010053135.tif 000002
により記載されるC8及びC10脂肪酸トリグリセリドの4つの幾何異性体である医薬組成物。
【請求項１８】
前記患者がヒト・コロニー刺激因子の別個又は同時投与を受けている、請求項1〜17のいずれか1項に記載の医薬組成物。
【請求項１９】
前記コロニー刺激因子がG-CSF又はGM-CSFである、請求項18に記載の医薬組成物。
【請求項２０】
前記患者がヒト・サイトカインの同時投与を受けている、請求項1〜17のいずれか1項に記載の医薬組成物。
【請求項２１】
前記サイトカインがインターロイキン2又はインターロイキン15である、請求項20に記載の医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月18日(2014.9.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ステッピングモータを駆動可能なパルス信号を出力するコントローラと通信可能であり、ＤＣモータの回転速度を制御するモータ制御装置であって、
前記パルス信号と前記ＤＣモータの回転軸に取り付けられたエンコーダの回転に応じた回転信号とに基づいて、前記ＤＣモータの回転速度を制御するＰＷＭ信号を生成するＰＷＭ信号制御手段、を有することを特徴とするモータ制御装置。
【請求項２】
前記パルス信号は、前記ＤＣモータと当該ＤＣモータが駆動する被回転体とのギヤ比に関連して定められることを特徴とする請求項１に記載のモータ制御装置。
【請求項３】
前記パルス信号は、ステッピングモータの励磁方式に関連して定められることを特徴とする請求項１に記載のモータ制御装置。
【請求項４】
前記パルス信号は、前記回転信号の分解能に関連して定められることを特徴とする請求項１に記載のモータ制御装置。
【請求項５】
前記パルス信号に基づく前記ＤＣモータの目標位置を微分する微分回路を有し、前記ＰＷＭ信号制御手段は、前記微分回路の出力に基づいてＰＷＭ信号を生成することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のモータ制御装置。
【請求項６】
ＤＣモータと請求項１〜５のいずれか１項に記載のモータ制御装置とを有するモータ制御システム。
【請求項７】
前記エンコーダは、前記ＤＣモータの回転軸に設けられることを特徴とする請求項６に記載のモータ制御システム。
【請求項８】
請求項１に記載のモータ制御装置と、前記パルス信号を生成する前記コントローラを有するモータ制御システムであって、前記コントローラは予め記憶手段に記憶された回転指示情報に基づいて前記パルス信号を生成することを特徴とするモータ制御システム。
【請求項９】
前記記憶手段に記憶された回転指示情報に基づいてステッピングモータを駆動する回転制御信号を生成するステッピングモータコントローラを有することを特徴とする請求項８に記載のモータ制御システム。
【請求項１０】
請求項６〜９のいずれか１項に記載のモータ制御システムを有する画像形成装置。
【請求項１１】
ステッピングモータを駆動可能なパルス信号を出力するコントローラと通信可能であり、ＤＣモータの回転速度を制御するモータ制御装置で実施されるモータ制御方法であって、
前記パルス信号と前記ＤＣモータの回転軸に取り付けられたエンコーダの回転に応じた回転信号とに基づいて、前記ＤＣモータの回転速度を制御するＰＷＭ信号を生成する工程を有することを特徴とするモータ制御方法。
【請求項１２】
ステッピングモータを駆動可能なパルス信号を出力するコントローラと通信可能であり、ＤＣモータの回転速度を制御するモータ制御装置に、
前記パルス信号と前記ＤＣモータの回転軸に取り付けられたエンコーダの回転に応じた回転信号とに基づいて、前記ＤＣモータの回転速度を制御するＰＷＭ信号を生成する手順を実行させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記課題に鑑み、本発明は、ステッピングモータを駆動可能なパルス信号を出力するコントローラと通信可能であり、ＤＣモータの回転速度を制御するモータ制御装置であって、
前記パルス信号と前記ＤＣモータの回転軸に取り付けられたエンコーダの回転に応じた回転信号とに基づいて、前記ＤＣモータの回転速度を制御するＰＷＭ信号を生成するＰＷＭ信号制御手段、を有することを特徴とする。