(57)【要約】【課題】  ガス処理部を用いてガス処理を行う場合に、ガス処理部の何れの部分に対しても、等しくガスを通すことができるとともに、装置の小型化を達成できるガス処理装置を提供する。【解決手段】  ガス処理フィルタ２０を通過させることにより、ガスＧ１の処理がなされるガス処理装置において、ガス処理フィルタ２０を用いて形成される左右の面状処理部Ｓ１，Ｓ２を、この面状処理部Ｓ１，Ｓ２間の距離が、ガスＧ１，Ｇ２の流れる後方に向かって漸次広がるように、Ｖ字状に配置しているガス処理部２と、ガス処理部２を覆うように配置され、上面側と下面側とが、ガス処理部２の上端側と下端側とに接続されるとともに、ガスＧ１，Ｇ２の流れに沿った左面側４２と右面側４３とが、ガス処理部２の後端側とそれぞれ接続され、ガス処理部２より上流側にあるガスＧ１を、ガス処理部２内に導くケーシング４とを有する。【選択図】        図１
0003163262.tif 000002
【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
ガス処理フィルタを通過させることにより、ガスの処理がなされるガス処理装置において、
前記ガス処理フィルタを用いて形成される左右の面状処理部を、この面状処理部間の距離が、ガスの流れる後方に向かって漸次広がるように、Ｖ字状に配置しているガス処理部と、
前記ガス処理部を覆うように配置され、上面側と下面側とが、前記ガス処理部の上端側と下端側とに接続されるとともに、ガスの流れに沿った左面側と右面側とが、前記ガス処理部の後端側とそれぞれ接続され、前記ガス処理部より上流側にあるガスを、前記ガス処理部内に導くケーシングとを有することを特徴とするガス処理装置。
【請求項２】
ガス処理フィルタを通過させることにより、ガスの処理がなされるガス処理装置において、
前記ガス処理フィルタを用いて形成される左右の面状処理部を、この面状処理部間の距離が、ガスの流れる後方に向かって漸次広がるように、Ｖ字状に配置しているＶ形処理部を、左右に複数個並べて配置し、前記Ｖ形処理部の対向する後端側どうしをシール部材で接続したガス処理部と、
前記ガス処理部を覆うように配置され、上面側と下面側とが、前記ガス処理部の上端側と下端側とに接続されるとともに、ガスの流れに沿った左面側と右面側とが、前記ガス処理部の後端側とそれぞれ接続され、前記ガス処理部より上流側にあるガスを、前記ガス処理部内に導くケーシングとを有することを特徴とするガス処理装置。
【請求項３】
前記ガス処理フィルタが、脱臭用の光触媒フィルタであることを特徴とする請求項１又は２記載のガス処理装置。
【請求項４】
前記光触媒フィルタは、この光触媒フィルタで光源を挟み付けることにより２層構造の光触媒カートリッジを形成するか、又は、この光触媒フィルタを光源で挟み付けたものを、この光触媒フィルタで挟み付けることにより３層構造の光触媒カートリッジを形成していることを特徴とする請求項３記載のガス処理装置。
【請求項５】
前記ケーシングの前記左面側と前記右面側とには、このケーシングに面する前記ガス処理フィルタを、このケーシング外からメンテナンス可能とする、開閉可能なメンテナンス用開口が設けられていることを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載のガス処理装置。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この考案は、光触媒フィルタや除塵フィルタといったガス処理フィルタを使用して、ガスの脱臭や除塵を行うガス処理装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
例えば、空気中に含まれる臭気成分を取り除く脱臭技術には、吸着方式のもの、中和方式のもの、バイオ方式のもの等があるが、設備の簡単化やランニングコストの低減を達成できることから、近年では光触媒方式のものも多く用いられている。
【０００３】
光触媒方式の脱臭技術は、例えば、セラミック多孔体の表面に酸化チタン（ＴｉＯ2）の粉末を焼き付けて固定した光触媒多孔質板に、光源から光（紫外線）を当てることにより、この光触媒多孔質板に付着（接触）した臭気成分を光触媒反応（酸化・還元反応）によって分解して除去するものである。なお、複数の光触媒多孔質板が面状に並べられた状態で一体化されているものを、以下光触媒フィルタという。
【０００４】
図８はこのような光触媒フィルタを使用した従来の脱臭装置（特許文献１）を示している。この脱臭装置１００は、複数の光触媒カートリッジ１１１（一対の光触媒フィルタ間に、紫外線ランプを配置したもの）を面状に並べて形成された、互いに平行な左右の面状処理部Ｓ１，Ｓ２の前端側が、前閉塞板１１２で塞がれ、後端側は開放されたガス処理部１１０と、ガス処理部１１０を覆うように設けられ、前部にガス入口部１２１、後部にガス出口部１２２が設けられるとともに、上面側と下面側とがガス処理部１１０の上端側と下端側とにそれぞれ接続され、かつ、左面側１２３と右面側１２４とがガス処理部１１０の面状処理部Ｓ１，Ｓ２との間で、ガスＧの左流路Ｒ１と右流路Ｒ２とを形成しているケーシング１２０と、左及び右流路Ｒ１，Ｒ２の後端側を閉塞し、ガスＧをガス処理部１１０内に導く一対の後閉塞板１３０，１３０とを備えたものである。
【０００５】
この脱臭装置１００では、ケーシング１２０のガス入口部１２１から入ったガスＧは、前閉塞板１１２に当てられて、左流路Ｒ１及び右流路Ｒ２内に移動した後、ガス処理部１１０の面状処理部Ｓ１，Ｓ２を斜めに横切るように通過して、光触媒カートリッジ１１１中の紫外線の照射された光触媒フィルタにより脱臭処理され、ガス処理部１１０内を通って、ケーシング１２０のガス出口部１２２から外部に排出される。なお、図８中、符号１２３ａ，１２４ａは、メンテナンス用の開口Ｙ１，Ｙ２を閉じる開閉扉であり、光触媒カートリッジ１１１（光触媒フィルタや紫外線ランプ）のメンテナンス作業は、開閉扉１２０ａを開けて、ガス流路Ｒ１，Ｒ２内でなされる。
【０００６】
この脱臭装置１００では、ガスＧが、左右の面状処理部Ｓ１，Ｓ２に沿うように流れて、光触媒カートリッジ１１１全体にむらなく達するため、光触媒カートリッジ１１１、すなわち、一対の光触媒フィルタに対してほぼ均一にガスを通過させることができ、光触媒フィルタを効率的に使用できる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００３−２３０８０６
【考案の概要】
【考案が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、上記従来の脱臭装置１００では、前閉塞板１１２に当てられたガスを、左及び右流路Ｒ１，Ｒ２を通過させつつ、各光触媒カートリッジ１１１（一対の光触媒フィルタ）に均一に流すため、この左及び右流路Ｒ１，Ｒ２の流路面積をある程度大きくとる必要があり、このガスの左及び右流路Ｒ１，Ｒ２等に起因して装置が大型化してしまうという問題があった。
【０００９】
また、この脱臭装置１００では、左及び右流路Ｒ１，Ｒ２中を流れるガスＧの流速が次第に減少し、かつ、ガス処理部１１０内を流れる脱臭済みのガスＧの流速が次第に増加するため、例えば圧力損失を無視した場合、左及び右流路Ｒ１，Ｒ２中のガスの静圧は次第に上昇していくとともに、ガス処理部１１０内のガスの静圧は次第に下降していく。このため、この脱臭装置１００では、光触媒カートリッジ１１１（一対の光触媒フィルタ）の入口と出口間の静圧差は、ガスの上流側のものに比べて、下流側のものが大きくなっており、ガスの上流側の光触媒カートリッジ１１１（一対の光触媒フィルタ）に比べ、下流側の光触媒カートリッジ１１１（一対の光触媒フィルタ）に、多量のガスが通過しやすいという問題があった。
【００１０】
以上の問題は、ガス処理フィルタとして光触媒フィルタを使用して、ガスの脱臭を行うガス処理装置（脱臭装置）に限らず、ガス処理フィルタとして除塵フィルタを使用して、ガス中の塵や異物等を除去する除塵装置のようなガス処理装置にも同様に当てはまる。
【００１１】
この考案は、以上の点に鑑み、ガス処理フィルタを備えたガス処理部を用いてガス処理を行う場合に、ガス処理部の何れの部分に対しても、等しくガスを通すことができるとともに、装置の小型化を達成できるガス処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
この考案の請求項１記載の考案は、ガス処理フィルタを通過させることにより、ガスの処理がなされるガス処理装置において、前記ガス処理フィルタを用いて形成される左右の面状処理部を、この面状処理部間の距離が、ガスの流れる後方に向かって漸次広がるように、Ｖ字状に配置しているガス処理部と、前記ガス処理部を覆うように配置され、上面側と下面側とが、前記ガス処理部の上端側と下端側とに接続されるとともに、ガスの流れに沿った左面側と右面側とが、前記ガス処理部の後端側とそれぞれ接続され、前記ガス処理部より上流側にあるガスを、前記ガス処理部内に導くケーシングとを有することを特徴とする。
【００１３】
この考案では、ケーシング内を進むガスは、Ｖ字状のガス処理部で左右に分けられて、一方は、ケーシングの左面側とガス処理部の左の面状処理部間（以下左流路という）を移動し、他方は、ケーシングの右面側とガス処理部の右の面状処理部間（以下右流路という）を移動する。例えば、左流路を進むガスは、面状処理部から遠い位置にあるものは、互いに乱流を形成しつつも、全体的に後方に進み、その後、後方側の面状処理部に近づき、この面状処理部を斜めに横切るように通過する。また、面状処理部に近い位置にあるガスは、直ちに、前方側の面状処理部を斜めに横切るように通過する。すなわち、左流路又は右流路中のガスは、面状処理部から遠い距離にあるものも、近い距離にあるものも、ほぼ万遍なく面状処理部に到達し、このガス処理部により処理される。
【００１４】
また、左の面状処理部と右の面状処理部からガス処理部内に入ったガス（処理済みのガス）は、斜めの状態で互いにぶつかって合流しつつ、Ｖ字状に広がるガス処理部内をほぼ同一の流速で後方に移動する。一方、例えば、ガスの左流路は、ガスの流れに沿ったケーシングの左面側と、ガス処理部の左の面状処理部等とで形成されていて、下流側に向かって漸次細くなっているため、ガスがガス処理部の左の面状処理部を横切って、ガス処理部内に移動しても、左流路中のガスの流速はほぼ一定となる。このことは、ガスの右流路についても同様である。したがって、ガスの圧力損失を考慮しない場合、ガスの左及び右流路中のガスの静圧は一定であり、かつ、ガス処理部内のガスの静圧も一定となり、ガス処理フィルタの入口部と出口部間の圧力差（静圧差）は、ガス処理部のどの位置をとっても一定となって、ガス処理部に対して均一にガスが流れ込むこととなる。
【００１５】
なお、ガスの左及び右流路中のガスの圧力損失としては、ケーシングやガス処理フィルタによる摩擦損失やガスの分流損失があり、ガス処理部内のガスの圧力損失としては、ガス処理フィルタによる摩擦損失やガスの合流損失があるが、これらの圧力損失の大きさには大差はないと考えられるので、ガスの圧力損失を考慮しても、ガス処理フィルタの入口部と出口部間の圧力差（静圧差）はほぼ一定と考えることができる。
【００１６】
この考案の請求項２記載の考案は、ガス処理フィルタを通過させることにより、ガスの処理がなされるガス処理装置において、前記ガス処理フィルタを用いて形成される左右の面状処理部を、この面状処理部間の距離が、ガスの流れる後方に向かって漸次広がるように、Ｖ字状に配置しているＶ形処理部を、左右に複数個並べて配置し、前記Ｖ形処理部の対向する後端側どうしをシール部材で接続したガス処理部と、前記ガス処理部を覆うように配置され、上面側と下面側とが、前記ガス処理部の上端側と下端側とに接続されるとともに、ガスの流れに沿った左面側と右面側とが、前記ガス処理部の後端側とそれぞれ接続され、前記ガス処理部より上流側にあるガスを、前記ガス処理部内に導くケーシングとを有することを特徴とする。
【００１７】
この考案の作用も、請求項１記載の考案と同様である。
【００１８】
この考案の請求項３記載の考案は、請求項１又は２記載の考案の場合において、前記ガス処理フィルタが、脱臭用の光触媒フィルタであることを特徴とする。
【００１９】
この考案の請求項４記載の考案は、請求項３記載の考案の場合において、前記光触媒フィルタは、この光触媒フィルタで光源を挟み付けることにより２層構造の光触媒カートリッジを形成するか、又は、この光触媒フィルタを光源で挟み付けたものを、この光触媒フィルタで挟み付けることにより３層構造の光触媒カートリッジを形成していることを特徴とする。
【００２０】
この考案では、光触媒フィルタと、例えば紫外線ランプのような光源とが、一定形状の光触媒カートリッジとして一体的に取り扱われるので、この光触媒カートリッジを組み合わせることにより、脱臭装置用の種々の形状のガス処理部を容易に形成できる。特に３層構造の光触媒カートリッジは、高濃度のガスの処理や、ガスの高効率処理に適している。
【００２１】
この考案の請求項５記載の考案は、請求項１乃至４の何れか１項に記載の考案の場合において、前記ケーシングの前記左面側と前記右面側とには、このケーシングに面する前記ガス処理フィルタを、このケーシング外からメンテナンス可能とする、開閉可能なメンテナンス用開口が設けられていることを特徴とする。
【考案の効果】
【００２２】
この考案では、ガスをガス処理部内に送り込む、このガス処理部横の左及び右流路のガス流路面積が、ガスの流れに従って、すなわち、ガス流量の減少に伴って縮小するとともに、ガス処理部内のガス流路面積もガスの流れに従って、すなわち、ガス流量の増大に伴って拡大しているので、ガス処理部内と、ガス処理部横の左及び右流路とのガス流路面積の合計を、従来の装置に比べて減少させることができ、その分、装置の小型化を達成することができる。また、この考案では、ガス処理部の何れの部分に対しても、ガス処理フィルタの入口部と出口部間の圧力差（静圧差）をほぼ一定にできるので、ガス処理部に対して均一にガスを流し込むことができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】この考案の実施形態１に係る脱臭装置の平断面図である。
【図２】図１のＡーＡ矢視の側断面図である。
【図３】この脱臭装置の側面図である。
【図４】光触媒カートリッジの説明図であり、（ａ）は外観斜視図、（ｂ）は光触媒フィルタが２層構造となったものの説明図、（ｃ）は光触媒フィルタが３層構造となったものの説明図である。
【図５】この考案の実施形態２に係る脱臭装置の平断面図である。
【図６】図５のＢーＢ矢視の側断面図である。
【図７】この脱臭装置の側面図である。
【図８】従来の脱臭装置の説明図である。
【考案を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、この考案の実施の形態を図面を参照しつつ説明する。
実施形態１．
図１はこの考案の一実施の形態に係る脱臭装置を示している。
【００２５】
脱臭装置１は、例えば、業務用の厨房設備から排出される種々の臭気成分を含んだ空気（以下、処理ガスＧ１という）を、光触媒を用いて脱臭し、臭いのない空気（以下、脱臭ガスＧ２という）にするものである。
【００２６】
この脱臭装置１は、図１で示されるように、複数の光触媒カートリッジ２０を面状に並べて形成される、左右の面状処理部Ｓ１，Ｓ２を、この面状処理部Ｓ１，Ｓ２間の距離が、ガスＧ１，Ｇ２の流れる後方に向かって漸次広がるように、角度α（例えば２５度）のＶ字状に配置したガス処理部２と、ガス処理部２の後端側外方にそれぞれ密着接続される、左右向きの一対のシール板３，３と、ガス処理部２とシール板３，３とを覆うように配置され、上面壁４０と下面壁４１（図２参照）とが、ガス処理部２とシール板３，３の上端と下端とに密着接続されるとともに、ガスＧ１，Ｇ２の流れに沿った左面壁４２と右面壁４３とが、シール板３，３を介して、ガス処理部２の後端側とそれぞれ密着接続され、ガス処理部２より上流側にある処理ガスＧ１を、ガス処理部２内に導いて脱臭ガスＧ２とするケーシング４とから構成されている。
【００２７】
ガス処理体２は、図１及び図２で示されるように、各面状処理部Ｓ１，Ｓ２に、前後方向に例えば３つの光触媒カートリッジ２０を配置し、上下方向にも例えば３つの光触媒カートリッジ２０を配置したものである。各面状処理部Ｓ１，Ｓ２は、光触媒カートリッジ２０と、この光触媒カートリッジ２０が着脱可能に嵌め込まれる枠体２１とから形成されており、ケーシング４の上面壁４０や下面壁４１に対して垂直に配置されている。各面状処理部Ｓ１，Ｓ２の枠体２１，２１は、前端どうしが接続されているとともに、後端がシール板３に接続され、かつ、上端と下端とがケーシング４の上面壁４０と下面壁４１とに接続されている。
【００２８】
光触媒カートリッジ２０は、図４の（ａ）、（ｂ）で示されるように、光触媒フィルタ２０ａに光、すなわち、紫外線を照射してこれを働かせる光源である、複数の紫外線ランプ２０ｂを、例えば、厚さｔが２０ｍｍの２枚の光触媒フィルタ２０ａで挟み付けたものの外周縁を、処理ガスＧ１によって腐蝕されない金属板２０ｃで覆った２層構造のものであり、例えば、長さＬと幅Ｗが６５０ｍｍ、厚さＴが９０ｍｍの大きさを有している。この光触媒フィルタ２０ａは、例えば、セラミック多孔体の表面に酸化チタン（ＴｉＯ2）の粉末を焼き付けて固定した４枚の光触媒多孔質板Ｐを面状に並べ、これらを処理ガスＧ１によって腐蝕されない金属枠Ｋで囲むようにして一体化したものである。なお、光触媒カートリッジ２０は、光触媒多孔質板Ｐ等を取り外して、紫外線ランプ２０ｂの取り替えができるようになっている。
【００２９】
ケーシング４は、上面壁４０と、下面壁４１と、左面壁４２と、右面壁４３と、前面壁４４と、後面壁４５とで直方体状に形成されており、前面壁４４の中央に処理ガスＧ１の入口部４６が形成され、後面壁４５の中央に脱臭ガスＧ２の出口部４７が形成されている。ケーシング４の左面壁４２と右面壁４３とには、面状処理部Ｓ１，Ｓ２と対向するように、メンテナンス用の開口Ｙ１，Ｙ２が形成され、これが両開きの開閉扉４２ａ，４３ａによって閉じられている。
【００３０】
ケーシング４内には、ガス処理部２の左横に、ケーシング４の左面壁４２とガス処理部２の左の面状処理部Ｓ１とシール板３等とで、処理ガスＧ１の流れる後方に向かって、次第に流路面積が縮小する左流路Ｒ１が形成され、ガス処理部２の右横に、ケーシング４の右面壁４３とガス処理部２の右の面状処理部Ｓ２とシール板３等とで、処理ガスＧ１の流れる後方に向かって、次第に流路面積の縮小する右流路Ｒ２が形成される。また、ガス処理部２内には、左右の面状処理部Ｓ１，Ｓ２等によって、脱臭ガスＧ２の流れる後方に向かって、その流路面積が次第に拡大する中央流路Ｒ３が形成される。
【００３１】
つぎに、この脱臭装置１の作用効果について説明する。
入口部４６からケーシング４内に入った処理ガスＧ１は、不図示の整流板等を介して、その１／２が左流路Ｒ１へ移動し、その１／２が右流路Ｒ２へ移動する。左流路Ｒ１又は右流路Ｒ２中の処理ガスＧ１は、面状処理部Ｓ１，Ｓ２から遠い位置にあるものは、互いに乱流を形成しつつも、全体的に後方に進み、その後、後方側の面状処理部Ｓ１，Ｓ２に近づき、面状処理部Ｓ１，Ｓ２を斜めに横切るように通過する。また、面状処理部Ｓ１，Ｓ２に近い位置にある処理ガスＧ１は、直ちに、前方側の面状処理部Ｓ１，Ｓ２を斜めに横切るように通過する。
【００３２】
すなわち、左流路Ｒ１又は右流路Ｒ２中の処理ガスＧ１は、面状処理部Ｓ１，Ｓ２から遠い位置にあるものも、近い位置にあるものも、ほぼ万遍なく面状処理部Ｓ１，Ｓ２に到達し、光触媒カートリッジ２０中を通過中に、紫外線が照射されている光触媒フィルタ２０ａにより脱臭処理されて、脱臭ガスＧ２に変えられる。そして、脱臭処理されてガス処理部２に入った脱臭ガスＧ２は、左右のものが合流しつつ、ガス処理部２内の中央流路Ｒ３中を後方に移動し、出口部４７からケーシング４外に排出される。
【００３３】
ここで、左流路Ｒ１又は右流路Ｒ２内では、処理ガスＧ１の流量の減少に伴って、流路面積も減少しており、処理ガスＧ１の流速Ｖ１は、ほぼ一定であると考えられる。また、ガス処理部２内においても、脱臭ガスＧ２の増加に伴って、流路面積は増大しており、脱臭ガスＧ２の流速Ｖ２は、ほぼ一定であると考えられる。
【００３４】
このため、左流路Ｒ１又は右流路Ｒ２内と、ガス処理部２内とにおける、ガスＧ１，Ｇ２について、図１中鎖線の位置を基準位置Ｑ０と考え、ガスＧ１，Ｇ２の基準位置Ｑ０における静圧をＰ０，Ｐ００、ガス処理部２の所定位置Ｑ１におけるガスＧ１，Ｇ２の入口側と出口側の静圧をＰ１，Ｐ２、基準位置Ｑ０から所定位置Ｑ１までのガスＧ１，Ｇ２の圧力損失をΔＰ１，ΔＰ２とすると、
Ｐ１＝Ｐ０−ΔＰ１
Ｐ２＝Ｐ００−ΔＰ２
と考えられる。また、ガス処理部２の所定位置Ｑ１における、ガスＧ１，Ｇ２の入口側と出口側の静圧差Ｐ１−Ｐ２、すなわち、処理ガスＧ１の光触媒カートリッジ２０でとれる圧力損失Ｐ１−Ｐ２は、
Ｐ１−Ｐ２＝（Ｐ０−Ｐ００）−（ΔＰ１−ΔＰ２）
となる。
【００３５】
左流路Ｒ１又は右流路Ｒ２内における処理ガスＧ１の圧力損失ΔＰ１には、ケーシング４やガス処理部２による摩擦損失と、処理ガスＧ１の分流損失があり、ガス処理部２の中央流路Ｒ３内における脱臭ガスＧ２の圧力損失ΔＰ２には、ガス処理部２による摩擦損失と、脱臭ガスＧ２の合流損失がある。しかし、これらの圧力損失ΔＰ１，ΔＰ２の値には大きな差はなく、略、ΔＰ１＝ΔＰ２と見なすことができる。したがって、
Ｐ１−Ｐ２＝Ｐ０−Ｐ００＝一定
となり、ガス処理部２のどの位置においても、光触媒カートリッジ２０の入口側と出口側の差圧は一定となって、ガス処理部２には、どの位置においても均一に処理ガスＧ１を流し込むことができる。
【００３６】
また、この脱臭装置１では、処理ガスＧ１をガス処理部２内に送り込む、このガス処理部２横の左及び右流路Ｒ１，Ｒ２のガス流路面積を、ガスの流れに従って、すなわち、ガス流量の減少に伴って縮小させているとともに、ガス処理部２内の中央流路Ｒ３の流路面積も脱臭ガスＧ２の流れに従って、すなわち、ガス流量の増大に伴って拡大しているので、ガス処理部２内の中央流路Ｒ３と、ガス処理部２横の左及び右流路Ｒ１，Ｒ２とのガス流路面積の合計を、従来の装置に比べて減少させることができ、その分、装置の小型化を達成することができる。
【００３７】
さらに、この脱臭装置１では、ケーシング４の左面壁４２と右面壁４３の面状処理部Ｓ１，Ｓ２と向き合った位置に、メンテナンス用の開口Ｋ１，Ｋ２を設けているので、紫外線ランプ２０ｂの交換等のために、光触媒カートリッジ２０を枠体２１から取り外したり、この枠体２１に取り付けたりするのが容易となり、メンテナンス作業の容易化を達成できる。この場合、この脱臭装置１では、ケーシング４外からの作業ができるように、開口Ｋ１，Ｋ２や開閉扉４２ａ，４３ａを形成しているので、ガス処理部２の後部側のケーシング４内空間が狭くても、メンテナンス作業に支障をきたすことはない。
【００３８】
なお、光触媒カートリッジ２０は、図４の（ｃ）で示されるように、光触媒フィルタ２０ａを紫外線ランプ２０ｂで挟み付けたものを、更に、光触媒フィルタ２０ａで挟み付けた３層構造のものであってもよい。３層構造の光触媒カートリッジは、２層構造のものに比べ、高濃度の脱臭成分を含むガスの処理を容易に行うことできるとともに、高い効率でガスの脱臭処理を行うことができる。
【００３９】
また、この実施の形態では、ガス処理部２の面状処理部Ｓ１，Ｓ２間の角度αを例えば２５度としているが、この角度は自由に変えることができる。この角度αを大きくすれば、中央流路Ｒ３における脱臭ガスＧ２のガス流速が減少し、装置が大型化するとともに、この角度αを小さくすれば、中央流路Ｒ３における脱臭ガスＧ２のガス流速が増大し、装置が小型化する。この場合、面状処理部Ｓ１，Ｓ２の接合部間に小片のシール部材を配置し、角度の尖りを防止してもよい。
【００４０】
実施形態２．
つぎに、この考案の他の実施の形態に係る脱臭装置１Ａを、図５から図７を参照しつつ説明する。なお、実施形態１で説明したものと同一機能のものには同一記号を付し、その説明を省略する。
【００４１】
この脱臭装置１Ａでは、ガス処理部５が、光触媒カートリッジ２０を用いて面状に形成される左右の面状処理部Ｓ１，Ｓ２を、この面状処理部Ｓ１，Ｓ２間の距離が、ガスＧ１，Ｇ２の流れる後方に向かって漸次広がるように、角度α（例えば２５度）のＶ字状に配置したＶ形処理部Ｄ（実施形態１のガス処理部２と同じもの）を、左右に２個並列に配置し、このＶ形処理部の対向する後端部どうしをシール部材６で接続したものとなっている。この場合、Ｖ形処理部Ｄの各面状処理部Ｓ１，Ｓ２には、前後方向に例えば２つの光触媒カートリッジ２０が配置され、上下方向にも例えば２つの光触媒カートリッジ２０が配置されている。
【００４２】
この脱臭装置１Ａでは、ガス処理部５の左右両側とケーシング４間に、処理ガスＧ１の右及び左流路Ｒ１，Ｒ２が形成され、２つのＶ形処理部Ｄ間にも、処理ガスＧ１の右及び左流路Ｒ１，Ｒ２が形成されることとなる。また、２つのＶ形処理部Ｄ内に、それぞれ脱臭ガスＧ２の中央流路Ｒ３が形成される。そして、この脱臭装置１Ａの作用も、脱臭装置１と同様である。
【００４３】
したがって、この脱臭装置１Ａにおいても、ガス処理部５のどの位置においても、光触媒カートリッジ２０の入口側と出口側の差圧は一定となって、ガス処理部５には、どの位置においても均一に同量の処理ガスＧ１を通すことができる。
【００４４】
また、この脱臭装置１Ａにおいても、処理ガスＧ１をＶ形処理部Ｄ内に送り込む、このＶ形処理部Ｄ横の左及び右流路Ｒ１，Ｒ２のガス流路面積を、ガスの流れに従って、すなわち、ガス流量の減少に伴って縮小させているとともに、Ｖ形処理部Ｄ内の脱臭ガスＧ２の流路面積も脱臭ガスＧ２の流れに従って、すなわち、ガス流量の増大に伴って拡大しているので、ガス処理部５内と、ガス処理部２横の左及び右流路Ｒ１，Ｒ２とのガス流路面積の合計を、従来の装置に比べて減少させることができ、その分、装置の小型化を達成することができる。
【００４５】
なお、この脱臭装置１Ａにも、ケーシング４にメンテナンス用の開口Ｙ１，Ｙ２を設け、ケーシング４の左面壁４２と右面壁４３とに面した光触媒カートリッジ２０のメンテナンスが容易に行えるようにしているが、左面壁４２や右面壁４３に面しない、内側の光触媒カートリッジ２０のメンテナンスは、開口Ｙ１，Ｙ２を利用しつつ、作業者がケーシング４内に入って行う。
【００４６】
また、以上説明した脱臭装置１，１Ａは、厨房設備の外、例えば、ゴミ、動植物、下水、その他、種々の工場や施設から排出される臭気成分を脱臭するのに用いることができるのはもちろんである。この場合、処理できる処理ガスＧ１の流量も、大から小まで、どの程度のものであってもよい。
【００４７】
さらに、実施形態１、２とも、ガス処理装置が、脱臭装置１，１Ａの場合について説明したが、このガス処理装置は、ガス処理体２，５を除塵フィルタ（例えば、ＨＥＰＡフィルタ）で形成した除塵装置であってもよい。
【符号の説明】
【００４８】
１，１Ａ  脱臭装置
２，５  ガス処理部
４  ケーシング
６  シール部材
２０  光触媒カートリッジ（ガス処理フィルタ）
２０ａ  光触媒フィルタ（ガス処理フィルタ）
４２  左面壁（左面側）
４３  右面壁（右面側）
Ｄ  Ｖ形処理部
Ｇ１  処理ガス
Ｇ２  脱臭ガス
Ｓ１  左の面状処理部
Ｓ２  右の面状処理部
Ｙ１、Ｙ２  開口
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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