【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年5月12日(2014.5.12)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に別々に生成されたパターン間の重ね合わせを決定する多方向重ね合わせマークであって、
前記多方向重ね合わせマークは、
前記基板上に配置される第１レイヤ材料から形成される第１のワーキング・ゾーン・セットであって、複数の第１要素を備え、少なくとも第１のワーキング・ゾーン対を備える第１のワーキング・ゾーン・セットであり、前記複数の第１要素は、第１の方向における重ね合わせ情報を伝達するように各々構成される複数の前記第１要素と、前記第１の方向と異なる第２の方向における重ね合わせ情報を伝達するように各々構成される複数の前記第１要素と、を含み、前記第１のワーキング・ゾーン対は、対角線上で対向し互いに空間的にオフセットされた一対の第１のワーキング・ゾーンを備える、第１のワーキング・ゾーン・セットと、
前記基板上に配置される第２レイヤ材料から形成される第２のワーキング・ゾーン・セットであって、前記第１の方向と前記第２の方向とにおける重ね合わせ情報を伝達するように各々構成される複数の第２要素をそれぞれ備え、対角線上で対向し互いに空間的にオフセットされた少なくとも第２のワーキング・ゾーン対を備える第２のワーキング・ゾーン・セットと、を備え、
前記第１レイヤ材料は前記第２レイヤ材料上に配置され、
前記第１のワーキング・ゾーン・セットと前記第２のワーキング・ゾーン・セットとは、前記第１レイヤ材料と前記第２レイヤ材料との間の重ね合わせを伝達し、同じ繰り返し構造パターンを直交する向きに持つように構成される、多方向重ね合わせマーク。
【請求項２】
請求項１に記載の多方向重ね合わせマークであって、
前記第１のワーキング・ゾーン・セットと前記第２のワーキング・ゾーン・セットの構成は、それぞれ１８０度回転対称である、多方向重ね合わせマーク。
【請求項３】
請求項１に記載の多方向重ね合わせマークであって、さらに、
前記重ね合わせマークの中心に位置する中心構造を備える、多方向重ね合わせマーク。
【請求項４】
請求項１に記載の多方向重ね合わせマークであって、
前記第１のワーキング・ゾーンと前記第２のワーキング・ゾーンとは、計測ツールの視野に対応する前記重ね合わせマークの周縁内に配置される、多方向重ね合わせマーク。
【請求項５】
請求項４に記載の多方向重ね合わせマークであって、
前記周縁は、前記複数の第１要素と前記複数の第２要素との間の重ね合わせ誤差を決定するのに利用可能な特定の計測ツールの視野（ＦＯＶ）と同じか小さい、多方向重ね合わせマーク。
【請求項６】
請求項５に記載の多方向重ね合わせマークであって、
前記周縁は約１０ミクロンから約１００ミクロンの間である、多方向重ね合わせマーク。
【請求項７】
請求項５に記載の多方向重ね合わせマークであって、
前記周縁は約２０ミクロンから約５０ミクロンの間である、多方向重ね合わせマーク。
【請求項８】
請求項１に記載の多方向重ね合わせマークであって、さらに、
前記基板上に配置される第３レイヤ材料であって前記第１レイヤ材料および前記第２レイヤ材料と異なる第３レイヤ材料から形成される第３のワーキング・ゾーン・セットであって、前記第１の方向と前記第２の方向とにおける重ね合わせ情報を伝達するように各々構成される複数の第３要素を備え、対角線上で対向し互いに空間的にオフセットされた少なくとも第３のワーキング・ゾーン対を備える第３のワーキング・ゾーン・セットと、
前記基板上に配置される第４レイヤ材料であって前記第１レイヤ材料、前記第２レイヤ材料および前記第３レイヤ材料と異なる第４レイヤ材料から形成される第４のワーキング・ゾーン・セットであって、前記第１の方向と前記第２の方向とにおける重ね合わせ情報を伝達するように各々構成される複数の第４要素を備え、対角線上で対向し互いに空間的にオフセットされた少なくとも第４のワーキング・ゾーン対を備える第４のワーキング・ゾーン・セットと、を備え、
前記第１のワーキング・ゾーン、前記第２のワーキング・ゾーン、前記第３のワーキング・ゾーンおよび前記第４のワーキング・ゾーンは、前記重ね合わせマークの領域上で実質的に分布される、多方向重ね合わせマーク。
【請求項９】
請求項１に記載の多方向重ね合わせマークであって、さらに、
前記第１レイヤ材料および前記第２レイヤ材料と異なる複数の他のレイヤ材料であって、前記第１の方向と前記第２の方向とにおける重ね合わせ情報を備えるように構成される複数の他のレイヤ材料から形成される複数のワーキング・ゾーン・セットであって、前記複数のワーキング・ゾーンは、各々、複数の要素から形成され、互いに並列に配置される少なくとも４つのワーキング・ゾーン内に配置されて、前記複数の要素から形成される前記複数のワーキング・ゾーンは、各々、互いに交差する位置関係に配置されるワーキング・ゾーン対を備え、前記複数の要素から形成される前記複数のワーキング・ゾーンは、前記重ね合わせマークの領域上で分布される、多方向重ね合わせマーク。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００９】
本発明は、他の実施形態においては、重ね合わせマークの画像をキャプチャするように構成された画像装置を用いて基板の２つ以上の連続するレイヤ間の相対的ズレを決定する重ね合わせマークに関する。重ね合わせマークは、基板の第１レイヤ上に配置されたワーキング・ゾーンの第１セットを含む。ワーキング・ゾーンの第１セットは、対角線上に対向し、マークの周縁内に位置する少なくとも２つのワーキング・ゾーンを含む。ワーキング・ゾーンのそれぞれは、その中に位置する粗くセグメント化された要素の周期的構造を含む。粗くセグメント化された要素は第１方向に概ね向いている。重ね合わせマークはさらに、第１ワーキング・グループに対して交差する位置に配されるワーキング・ゾーンの第２セットを含む。第２ワーキング・グループは基板の第２レイヤ上に配置され、互いに対角線上に対向し、マークの周縁内に位置する少なくとも２つのワーキング・ゾーンを含む。ワーキング・ゾーンのそれぞれは、その中に位置する粗くセグメント化された要素の周期的構造を含む。粗くセグメント化された要素は第１方向に概ね向いている。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４０】
図２を参照して、ワーキング・ゾーン７２Ａおよび７２Ｄ（点線で表される）はウェーハのあるレイヤに形成され、ワーキング・ゾーン７２Ｂおよび７２Ｃ（実線で表される）はウェーハの別のレイヤに形成される。示されるように、ワーキング・ゾーン７２ＡおよびＤはワーキング・ゾーン７２ＢおよびＣに対して角度がつけられている。すなわちワーキング・ゾーン７２ＡおよびＤはワーキング・ゾーン７２ＢおよびＣに対して交差するように位置する。さらに、同一の第１レイヤ上に設けられているワーキング・ゾーン７２Ａおよび７２Ｄは、第１垂直角で互いに反対に位置し、いっぽう同一の第２レイヤ上に設けられているワーキング・ゾーン７２Ｂおよび７２Ｃは、第２垂直角で互いに反対に位置する。すなわち、ワーキング・ゾーン７２Ａはワーキング・ゾーン７２Ｄと対角線上に対置され、ワーキング・ゾーン７２Ｂはワーキング・ゾーン７２Ｃと対角線上に対置される。さらにワーキング・ゾーン７２Ａは、空間的にワーキング・ゾーン７２Ｄからずらされ、ワーキング・ゾーン７２Ｂは、空間的にワーキング・ゾーン７２Ｄからずらされている。例えばワーキング・ゾーン７２Ｄの中心は、ワーキング・ゾーン７２Ａの中心より下に、かつ右に位置し、ワーキング・ゾーン７２Ｃの中心は、ワーキング・ゾーン７２Ｂの中心より下に、かつ左に位置する。交差するように位置するこれらの構造は「Ｘ」字形状のパターンを形成する。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１１８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１１８】
ワーキング・ゾーンの向きはさまざまな方法で説明されえる。例えばワーキング・ゾーン２７２は、正方形の形をしたマーク２７０の４つの角を形成する４つのグループ２７４Ａ〜Ｄに分布されえる。垂直な角度で対向するグループは同じであり、つまり、そこでのワーキング・ゾーンは同じように向いている。これらのグループ２７４Ａ〜Ｄのそれぞれは４つの異なるワーキング・ゾーンを含み、これらはレイヤ、向き、または周期の異なる組み合わせ表しえる。これらのグループの中で垂直な角度で互いに対向するワーキング・ゾーンは、同じ向きではあるが、異なるレイヤおよび周期を表す。例えば、グループ２７４ＡおよびＤは、ワーキング・ゾーン２７２Ｂ−Ｎ’に対向するワーキング・ゾーン２７２Ｂ−Ｍ”、およびワーキング・ゾーン２７２Ａ−Ｎ’に対向するワーキング・ゾーン２７２Ａ−Ｍ”を含み、グループ２７４ＢおよびＣは、ワーキング・ゾーン２７２Ｂ−Ｎ”に対向するワーキング・ゾーン２７２Ｂ−Ｍ’、およびワーキング・ゾーン２７２Ａ−Ｎ”に対向するワーキング・ゾーン２７２Ａ−Ｍ’を含む。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１５８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１５８】
本発明による方法および装置を実現するには多くの代替方法が存在することに注意されたい。よって以下に添付の特許請求の範囲は、そのような改変、組み合わせ、および等価物も本発明の真の精神および範囲に入るとして解釈されるべきであると意図するものである。
本発明は、たとえば、以下のような態様で実現することもできる。
適用例１：
基板の２つ以上の連続するレイヤ間の相対的ズレを決定する重ね合わせマークであって、前記重ね合わせマークは、
第１方向における前記基板の第１および第２レイヤ間の相対的ズレを決定する少なくとも一つのテストパターンであって、前記テストパターンはワーキング・ゾーンの第１セットと、ワーキング・ゾーンの第２セットとを有し、
前記第１セットは前記基板の第１レイヤ上に配置され、対角線上に対向し互いに空間的にオフセットされた少なくとも２つのワーキング・ゾーンを有し、
前記第２セットは前記基板の第２レイヤ上に配置され、対角線上に対向し互いに空間的にオフセットされた少なくとも２つのワーキング・ゾーンを有する
重ね合わせマーク。
適用例２：
適用例１の重ね合わせマークであって、前記テストパターンの前記画像は、画像ツールを介してキャプチャされ、前記キャプチャされた画像から前記ワーキング・ゾーンの前記相対的な変位を計算するために分析アルゴリズムが用いられる重ね合わせマーク。
適用例３：
適用例１の重ね合わせマークであって、前記ワーキング・ゾーンはマークの周縁内に位置する重ね合わせマーク。
適用例４：
重ね合わせマークの画像をキャプチャするように構成された画像化装置を介して基板の２つ以上の連続するレイヤ間の相対的ズレを決定する重ね合わせマークであって、前記重ね合わせマークは、
前記基板の第１レイヤ上に配置され、対角線上に対向し互いに空間的にオフセットされ、前記マークの前記周縁内に位置した少なくとも２つのワーキング・ゾーンを有するワーキング・ゾーンの第１セットであって、前記ワーキング・ゾーンのそれぞれはそこに位置する粗くセグメント化された要素の周期的構造を有し、前記粗くセグメント化された要素は第１方向に向いている第１セットと、
前記第１ワーキング・グループに対して斜めに位置したワーキング・ゾーンの第２セットであって、前記第２ワーキング・グループは、前記基板の第２レイヤ上に配置され、対角線上に対向し互いに空間的にオフセットされ、前記マークの前記周縁内に位置した少なくとも２つのワーキング・ゾーンを有し、前記ワーキング・ゾーンのそれぞれはそこに位置する粗くセグメント化された要素の周期的構造を有し、前記粗くセグメント化された要素は第１方向に向いている第２セットと、
を備える重ね合わせマーク。
適用例５：
基板の２つ以上の連続するレイヤ間、または基板の単一レイヤ上に別々に生成された２つ以上のパターン間の相対的ズレを決定する重ね合わせマークであって、前記重ね合わせマークは、
前記基板の第１および第２レイヤ間、または前記基板の単一レイヤ上の第１および第２パターン間のアライメントを計算するために用いられる複数のワーキング・ゾーンであって、前記ワーキング・ゾーンのそれぞれは前記マークの前記周縁内に配置され、前記ワーキング・ゾーンのそれぞれは前記マークの異なる領域を表し、前記ワーキング・ゾーンは前記マークの前記周縁を実質的に埋めることによって、前記ワーキング・ゾーンの前記組み合わされた領域が実質的に前記マークの合計領域に等しいように構成される複数のワーキング・ゾーン、
を備える重ね合わせマーク。
適用例６：
適用例５の重ね合わせマークであって、前記ワーキング・ゾーンは除外ゾーンによって分離されている重ね合わせマーク。
適用例７：
適用例５の重ね合わせマークであって、前記ワーキング・ゾーンは、第１レイヤまたは第１パターン、または第２レイヤまたは第２パターンのうちの一つを表すように構成される重ね合わせマーク。
適用例８：
適用例７の重ね合わせマークであって、前記ワーキング・ゾーンは、等しい数の第１レイヤまたはパターン、および第２レイヤまたはパターンを表す重ね合わせマーク。
適用例９：
基板の２つ以上の連続するレイヤ間、または基板の単一レイヤ上に別々に生成された２つ以上のパターン間の相対的ズレをスキャニングを介して決定する重ね合わせマークであって、前記重ね合わせマークは、
前記基板の第１および第２レイヤ間の第１方向における相対的ズレを決定する少なくとも一つのテストパターンであって、
前記テストパターンは、ワーキング・ゾーンの第１セットおよびワーキング・ゾーンの第２セットを有し、
前記第１セットは、前記基板の第１レイヤ上に配置され、対角線上に対向し互いに空間的にオフセットされた少なくとも２つのワーキング・ゾーンを有し、
前記第２セットは、前記基板の第２レイヤ上に配置され、対角線上に対向し互いに空間的にオフセットされた少なくとも２つのワーキング・ゾーンを有する、
重ね合わせマーク。
適用例１０：
適用例１および９の重ね合わせマークであって、前記ワーキング・ゾーンの第１セットは、前記ワーキング・ゾーンの第２セットに対して角度がつけられている重ね合わせマーク。
適用例１１：
適用例３、４および５の重ね合わせマークであって、前記マークの前記周縁は、前記重ね合わせマークを画像化するのに用いられる前記計測ツールの視野の光学的周縁に対応し、前記視野は前記計測ツールを介して画像をキャプチャするのに利用できる領域を規定する、重ね合わせマーク。
適用例１２：請求項９および１１の重ね合わせマークであって、前記ワーキング・ゾーンは実質的に前記マークの前記周縁を埋める重ね合わせマーク。
適用例１３：
適用例１、４、５および９の重ね合わせマークであって、前記ワーキング・ゾーンは空間的に互いに分離されることによって隣接するワーキング・ゾーンの部分と重複しない重ね合わせマーク。
適用例１４：
適用例１、４、５および９の重ね合わせマークであって、前記ワーキング・ゾーンは、ツールおよびウェーハに起因するズレに対する前記マークにわたっての不均一性の影響を低減するように構成される重ね合わせマーク。
適用例１５：
適用例１、４、５および９の重ね合わせマークであって、前記ワーキング・ゾーンのそれぞれの中に位置する周期的構造をさらに備え、前記周期的構造のそれぞれは複数の粗くセグメント化された要素を含む、
重ね合わせマーク。
適用例１６：
適用例１５の重ね合わせマークであって、前記粗くセグメント化された要素のピッチ、周期およびデューティサイクルは、前記重ね合わせマークを画像化するのに用いられる計測の解像度と、前記レイヤを形成するのに用いられるプロセスのロバスト性とをバランスさせるように構成される、重ね合わせマーク。
適用例１７：
適用例１５の重ね合わせマークであって、前記粗くセグメント化された要素は平行線である重ね合わせマーク。
適用例１８：
適用例１５の重ね合わせマークであって、前記ウェーハの前記第１および第２レイヤ間、または単一レイヤ上の２つの別々に生成されたパターン間の相対的ズレが、異なるレイヤまたはパターン上の周期的構造の相対位置を比較することによって決定される重ね合わせマーク。
適用例１９：
適用例１５の重ね合わせマークであって、前記複数の粗くセグメント化された要素は、複数の細かくセグメント化された要素によって形成される重ね合わせマーク。
適用例２０：
適用例１９の重ね合わせマークであって、細かくセグメント化された要素は、集積回路の異なるパターン間の相対的なズレにより密接にマッチするズレ情報を提供するように構成される重ね合わせマーク。
適用例２１：
適用例１および９の重ね合わせマークであって、
第２方向における前記基板の第１および第２レイヤ間の相対的なズレを決定する第２テストパターンをさらに含む重ね合わせマーク。
適用例２２：
適用例２１の重ね合わせマークであって、前記第２テストパターンは前記第１テストパターンに直交する重ね合わせマーク。
適用例２３：
適用例２１の重ね合わせマークであって、前記第１方向は前記Ｘ軸方向に対応し、前記第２方向は前記Ｙ軸方向に対応する重ね合わせマーク。
適用例２４：
適用例２１の重ね合わせマークであって、前記基板の第１および第２レイヤ間の前記第１および第２方向における前記相対的なズレを決定する第３および第４テストパターンをそれぞれさらに含む重ね合わせマーク。
適用例２５：
適用例１および４の重ね合わせマークであって、前記第１レイヤは前記第２レイヤの直上または直下に配置される重ね合わせマーク。
適用例２６：
基板の単一レイヤ上の２つ以上の別々に生成されたパターン間の相対的ズレを決定する重ね合わせマークであって、前記重ね合わせターゲットは、
前記基板の第１レイヤ上に位置するテスト領域であって、前記第１レイヤは第１プロセスを用いた第１パターンと、第２プロセスを用いた第２パターンとによって形成される、テスト領域と、
前記テスト領域に位置する複数のワーキング・ゾーンであって、前記ワーキング・ゾーンは前記第１および第２パターン間の相対的なズレを決定するのに用いられる前記テスト領域の実際の領域を表し、前記ワーキング・ゾーンの第１部分は前記第１プロセスを用いて形成され、前記ワーキング・ゾーンの第２部分は前記第２プロセスを用いて形成される、ワーキング・ゾーンと、
前記ワーキング・ゾーンのそれぞれの中に位置する周期的構造であって、前記周期的構造のそれぞれは複数の粗くセグメント化された要素を含み、前記粗くセグメント化された要素のそれぞれは複数の細かくセグメント化された要素によって形成される、周期的構造と、
を備える重ね合わせマーク。
適用例２７：
基板の２つ以上の連続するレイヤ間、または基板の単一レイヤ上に別々に生成された２つ以上のパターン間の相対的ズレを決定する方法であって、前記方法は、
前記基板上に形成された重ね合わせマークの画像をキャプチャすることであって、前記重ね合わせマークは複数のワーキング・ゾーンを有し、前記ワーキング・ゾーンのそれぞれは粗くセグメント化された要素の周期的構造を含む、キャプチャすることと、
前記キャプチャされた画像から複数のワーキング・ゾーンを選択することであって、それぞれのレイヤまたはパターンから少なくとも一つのワーキング・ゾーンが選択される、選択することと、
前記選択されたワーキング・ゾーンのそれぞれについて情報を持った信号を形成することであって、それぞれのレイヤまたはパターンについて少なくとも一つの信号が形成される、形成することと、
第１レイヤまたはパターンからの前記信号を第２レイヤまたはパターンからの信号と比較することによって異なるレイヤまたはパターン間の前記相対的なズレを決定することと、
を含む方法。
適用例２８：
適用例２７の方法であって、情報を持った信号を形成することは、Ｙ重ね合わせ計算のためにＸにわたって平均し、Ｘ重ね合わせ計算のためにＹにわたって平均することによって、前記ワーキング・ゾーンの前記２次元画像を１次元信号に折り畳むことで達成される方法。
適用例２９：
適用例２７の方法であって、第１レイヤまたはパターンからの前記信号を第２レイヤまたはパターンからの信号と比較することによって異なるレイヤまたはパターン間の前記相対的なズレを決定することは、共分散ベースの重ね合わせアルゴリズムを用いて達成される方法。
適用例３０：
適用例２７の方法であって、第１レイヤまたはパターンからの前記信号を第２レイヤまたはパターンからの信号と比較することによって異なるレイヤまたはパターン間の前記相対的なズレを決定することは、フーリエ分解重ね合わせアルゴリズムを用いて達成される方法。
適用例３１：
適用例２７の方法であって、前記粗くセグメント化された要素は、複数の細かくセグメント化された要素によって形成される方法。
適用例３２：
基板の２つ以上の連続するレイヤ間、または基板の単一レイヤ上に別々に生成された２つ以上のパターン間の相対的ズレを決定するのに用いられる重ね合わせマークを設計する方法であって、前記方法は、
第１スケールにしたがって前記マークの第１要素の幾何学的配置を最適化すること、
第２スケールにしたがって前記マークの第２要素の幾何学的配置を最適化すること、
第３スケールにしたがって前記マークの第３要素の幾何学的配置を最適化すること、
を備える方法。
適用例３３：
適用例３２の方法であって、前記第１、第２および第３スケールは異なる方法。
適用例３４：
適用例３３の方法であって、前記第２スケールは前記第１スケールよりも小さく、前記第３スケールは前記第２スケールよりも小さい方法。
適用例３５：
適用例３２の方法であって、幾何学的配置はサイズ、形状または分布として規定される方法。
適用例３６：
適用例３２の方法であって、前記第１スケールは、重ね合わせが測定される２つの異なるレイヤまたはパターンについての情報を含む領域の境界を規定する計測カーネルスケールに対応する方法。
適用例３７：
適用例３６の方法であって、前記計測カーネルスケールは、計測ツールの限界、プロセス問題および回路デザイン条件に基づく方法。
適用例３８：
適用例３６の方法であって、前記計測カーネルスケールは約４ミクロンから約１０ミクロンの範囲である方法。
適用例３９：
適用例３２の方法であって、前記第１要素の幾何学的配置は、前記第１スケールの上限および下限を特定し、前記上限および下限間の第１幾何学的配置の幾何学的配置を微調整することによって最適化される方法。
適用例４０：
適用例３９の方法であって、前記第１要素は、
前記重ね合わせマークの前記異なるレイヤまたはパターンを規定し、重ね合わせ測定に用いられる前記重ね合わせマークの実際の領域を表すワーキング・ゾーンに対応する方法。
適用例４１：
適用例４０の方法であって、微調整は、前記マークの前記周縁を規定し、ツールおよびウェーハに起因するズレに対する前記マークにわたっての不均一性の影響を低減するように構成される複数のワーキング・ゾーンに前記マークを分割することによって実現される方法。
適用例４２：
適用例３２の方法であって、前記第２スケールは、与えられたプロセスレイヤ内の構造間の境界を規定する画像解像度スケールに対応する方法。
適用例４３：
適用例４２の方法であって、画像解像度スケールは、計測ツールの限界およびプロセスロバスト性問題に基づく方法。
適用例４４：
適用例４２の方法であって、前記画像解像度スケールは約０．３ミクロンから２ミクロンの範囲である方法。
適用例４５：
適用例３２の方法であって、前記第２要素の前記幾何学的配置は、前記第２スケールの上限および下限を特定し、前記上限および下限間の第２要素の前記幾何学的配置を微調整することによって最適化される方法。
適用例４６：
適用例４５の方法であって、前記第２要素は、エンコードされ、前記マークを画像化するのに用いられる計測ツールに転送される前記マーク要素の相対位置に関する実際の空間情報を含む周期的構造に対応する方法。
適用例４７：
適用例４６の方法であって、微調整は前記ツールの前記画像解像度を前記プロセスとバランスとることによって実現される方法。
適用例４８：
適用例３２の方法であって、前記第３スケールは、与えられた構造内のサブ構造の前記境界を規定するリソグラフィ解像度スケールに対応する方法。
適用例４９：
適用例４８の方法であって、画像解像度スケールは回路のデザインルール、プロセスロバスト性問題および計測ツールの限界に基づく方法。
適用例５０：
適用例４８の方法であって、前記画像解像度スケールは約０．０１ミクロンから約０．５ミクロンの範囲である方法。
適用例５１：
適用例３２の方法であって、前記第３要素の前記幾何学的配置は、前記第３スケールの上限および下限を特定し、前記上限および下限間の前記第３要素の前記幾何学的配置を微調整することによって最適化される方法。
適用例５２：
適用例５１の方法であって、前記第３要素は、前記回路構造そのものを反映する情報を含む前記細かくセグメント化された要素に対応する方法。
適用例５３：
適用例３２の方法であって、前記第１要素はワーキング・ゾーンであり、前記第２要素は前記ワーキング・ゾーン内に位置する粗くセグメント化された要素の周期的構造であり、前記第３要素は前記粗くセグメント化された要素を形成する複数の細かくセグメント化された要素である方法。
適用例５４：
重ね合わせマークを設計する方法であって、前記重ね合わせマークは計測ツールの視野に対応する周縁を持ち、前記方法は、
前記重ね合わせマークの前記周縁を複数のワーキング・ゾーンで埋めることであって、前記ワーキング・ゾーンの幾何学的配置は第１デザインスケールに基づく、埋めることと、
前記ワーキング・ゾーンのそれぞれを、粗くセグメント化された線の少なくとも一つの周期的構造で埋めることであって、前記粗くセグメント化された線の幾何学的配置は前記第１スケールよりも小さい第２スケールに基づく、埋めることと、
前記粗くセグメント化された線を複数の細かくセグメント化された要素に分割することであって、前記細かくセグメント化された要素の幾何学的配置は第２スケールよりも小さい第３スケールに基づく、分割することと、
を備える方法。
適用例５５：
重ね合わせマークを設計する方法であり、前記方法は、
前記重ね合わせマークの周縁を規定することと、
前記重ね合わせマークを複数のワーキング・ゾーンに分割することであって、前記ワーキング・ゾーンは、第１プロセスに関連する少なくとも第１ワーキング・ゾーンと、第２プロセスに関連する少なくとも第２ワーキング・ゾーンとを含み、前記第２プロセスは前記第１プロセスとは異なる特性を有する、分割することと、
前記ワーキング・ゾーンの幾何学的配置を調節することであって、前記ワーキング・ゾーンの前記幾何学的配置は少なくとも一部は第１スケールに基づく、調節することと、
前記ワーキング・ゾーンのそれぞれの中の周期的構造を位置づけることであって、前記周期的構造は複数の粗くセグメント化された線を有する、位置づけることと、
前記周期的構造の前記幾何学的配置を調整することであって、前記周期的構造の前記幾何学的配置は少なくとも一部は第２スケールに基づき、前記第２スケールは前記第１スケールとは違う特性を持つ、調整すること、
前記粗くセグメント化された線を複数の細かくセグメント化された要素に分割することと、
前記細かくセグメント化された要素の幾何学的配置を調整することであって、前記細かくセグメント化された線の前記幾何学的配置は少なくとも一部は前記第１および第２スケールと異なっている、調整することと、
を備える方法。
適用例５６：
基板の２つ以上の連続するレイヤ間、または基板の単一レイヤ上に別々に生成された２つ以上のパターン間の相対的ズレを決定する重ね合わせマークであって、前記重ね合わせマークは、
複数の細かくセグメント化されたバーと少なくとも一つのダークフィールドとによって形成される複数の粗くセグメント化された線であって、前記複数の粗くセグメント化された線は複数の細かくセグメント化されたバーおよび少なくとも一つのクリアフィールドによって分離される
重ね合わせマーク。
適用例５７：
基板の２つ以上の連続するレイヤ間、または基板の単一レイヤ上に別々に生成された２つ以上のパターン間の相対的ズレを決定する重ね合わせマークであって、前記重ね合わせマークは、
複数の細かくセグメント化されたバーによって形成され、クリアフィールドによって分離される粗くセグメント化された線の第１グループと、
複数の細かくセグメント化されたバーによって形成され、ダークフィールドによって分離される粗くセグメント化された線の第２グループと、
を備える重ね合わせマーク。