【手続補正書】
【提出日】平成26年11月6日(2014.11.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ホログラフィックディスクの記録深さを計算する方法であって、
第１の波長を有する放射トラッキングビームが前記ディスクの基準層上で収束するように、対物レンズと結合された１つ以上のアクチュエータに第１の外部電圧を印加するステップであって、前記基準層は、部分的ダイクロイックコーティング又は部分的メタライズドコーティングの少なくとも一方を含む、第１の外部電圧を印加するステップと、
放射記録ビームが前記ディスクの前記基準層上で収束するように、前記対物レンズと結合された前記１つ以上のアクチュエータに第２の外部電圧を印加するステップであって、前記記録ビームは、前記トラッキングビームの前記第１の波長と異なる第２の波長を有する、第２の外部電圧を印加するステップと、
前記第１の外部電圧と前記第２の外部電圧との差を演算するステップと、
前記差に基づいて、電圧−距離較正曲線を用いて、レンズシフト距離を計算するステップであって、前記レンズシフト距離は、前記放射トラッキングビーム及び前記放射記録ビームがそれぞれ前記基準層上で収束するような、前記対物レンズの距離のシフトを含む、レンズシフト距離を計算するステップと、
前記レンズシフト距離に基づいて前記記録深さを計算するステップと、
を含む方法。
【請求項２】
前記電圧−距離較正曲線は、対物ミクロメータによって得られる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記記録深さを計算する前記ステップは、前記ホログラフィックディスク内で使用されている材料の屈折率を考慮することを含む、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
ホログラフィックディスクの記録深さを計算するシステムであって、
第１の波長を有する放射トラッキングビームを放射するように構成されたトラッキングレーザ源と、
対物レンズと結合された１つ以上のアクチュエータであって、前記対物レンズは、第１の外部電圧が前記アクチュエータに印加されると、第１の波長を有する前記放射トラッキングビームを前記ディスクの基準層上で収束させるように構成され、前記基準層は、部分的ダイクロイックコーティング又は部分的メタライズドコーティングの少なくとも一方を含む、１つ以上のアクチュエータと、
第２の外部電圧が前記アクチュエータに印加されることによって前記ディスクの前記基準層上で収束する放射記録ビームを放射するように構成された記録レーザ源であって、前記放射記録ビームは、前記放射トラッキングビームの前記第１の波長と異なる第２の波長を有する、記録レーザ源と、
処理サブシステムであって、
前記第１の外部電圧と前記第２の外部電圧との差を演算するステップと、
前記差に基づいて、電圧−距離較正曲線を用いて、レンズシフト距離を計算するステップであって、前記レンズシフト距離は、前記放射トラッキングビーム及び前記放射記録ビームがそれぞれ前記基準層上で収束するような、前記対物レンズの距離のシフトを含む、レンズシフト距離を計算するステップと、
前記レンズシフト距離に基づいて前記記録深さを計算するステップと、を行うように構成された処理サブシステムと、
を備えるシステム。
【請求項５】
前記ディスクの前記記録深さを調節するように構成された記録深さ調節光学サブシステムを更に備える、請求項４に記載のシステム。
【請求項６】
前記記録深さ調節光学サブシステムは、複数のレンズを備える、請求項５に記載のシステム。
【請求項７】
前記記録深さ調節光学サブシステムは、前記トラッキングビームの光路又は前記記録ビームの光路のいずれかと結合されている、請求項５に記載のシステム。
【請求項８】
ホログラフィックディスクに特定の深さでデータを正確に記録するための制御システムであって、
放射トラッキングビームを放射するように構成されたトラッキングレーザ源と、
対物レンズと結合された１つ以上のアクチュエータであって、前記対物レンズは、第１の外部電圧が前記アクチュエータに印加されると、前記放射トラッキングビームを前記ディスクの基準層上で収束させるように構成され、前記基準層は、部分的ダイクロイックコーティング又は部分的メタライズドコーティングの少なくとも一方を含む、１つ以上のアクチュエータと、
第２の外部電圧が前記アクチュエータに印加されることによって前記ディスクの前記基準層上で収束する放射記録ビームを放射するように構成された記録レーザ源であって、前記放射記録ビームは、前記放射トラッキングビームの波長と異なる第２の波長を有する、記録レーザ源と、
複数の光学素子を備え、前記放射記録ビームの前記記録深さを変更するように構成された記録深さ調節光学サブシステムと、
処理サブシステムであって、
前記第１の外部電圧と前記第２の外部電圧との差を演算するステップと、
前記差に基づいて、電圧−距離較正曲線を用いて、レンズシフト距離を計算するステップであって、前記レンズシフト距離は、前記放射トラッキングビーム及び前記放射記録ビームがそれぞれ前記基準層上で収束するような、前記対物レンズの距離のシフトを含む、レンズシフト距離を計算するステップと、
前記レンズシフト距離に基づいて前記記録深さを計算するステップと、
現在の記録深さを所定の記録深さと比較するステップと、
前記現在の記録深さが前記所定の深さと等しくなるように、前記記録深さ調節光学サブシステムの前記複数の光学素子を調節するステップと、を行うように構成された処理サブシステムと、
を備える制御システム。
【請求項９】
前記記録深さ調節光学サブシステムの前記複数の光学素子を調節する前記ステップは、複数のレンズのうちの１つ以上を、ビーム伝搬方向に平行移動させることを含む、請求項８に記載のシステム。
【請求項１０】
前記ダイクロイックコーティングは、酸化物及び窒化物から成る複数の誘電体層を含む、請求項４乃至９のいずれかに記載のシステム。
【請求項１１】
前記メタライズドコーティングは、アルミニウム又は金又は銀又はこれらの混合合金のいずれかを含む、請求項４乃至１０のいずれかに記載のシステム。
【請求項１２】
前記トラッキングレーザ源の前記第１の波長は、約４００ｎｍから約８００ｎｍの範囲の波長を含む、請求項４乃至１１のいずれかに記載のシステム。
【請求項１３】
前記記録レーザ源の前記第２の波長は、約３７５ｎｍから約６５０ｎｍの範囲の波長を含む、請求項４乃至１２のいずれかに記載のシステム。
【請求項１４】
前記基準層は、前記放射トラッキングビームを最大約１００％反射し、前記放射記録ビームを最大約１％反射する、請求項４乃至１３のいずれかに記載のシステム。
【請求項１５】
ホログラフィックディスクの記録深さを制御する方法であって、
第１の波長を有する放射トラッキングビームが前記ディスクの基準層上で収束するように、対物レンズと結合された１つ以上のアクチュエータに第１の外部電圧を印加するステップであって、前記基準層は、部分的ダイクロイックコーティング又は部分的メタライズドコーティングの少なくとも一方を含む、第１の外部電圧を印加するステップと、
放射記録ビームが前記ディスクの前記基準層上で収束するように、前記対物レンズと結合された前記１つ以上のアクチュエータに第２の外部電圧を印加するステップであって、前記記録ビームは、前記トラッキングビームの前記第１の波長と異なる第２の波長を有する、第２の外部電圧を印加するステップと、
前記第１の外部電圧と前記第２の外部電圧との差を演算するステップと、
前記差に基づいて、電圧−距離較正曲線を用いて、レンズシフト距離を計算するステップであって、前記レンズシフト距離は、前記放射トラッキングビーム及び前記放射記録ビームが前記基準層上でそれぞれ収束するような、前記対物レンズの距離のシフトを含む、レンズシフト距離を計算するステップと、
前記レンズシフト距離に基づいて前記記録深さを計算するステップと、
現在の記録深さを所定の記録深さと比較するステップと、
前記現在の記録深さが前記所定の深さと等しくなるように、記録深さ調節光学サブシステムの複数の光学素子を調節するステップと、
を含む方法。