Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月22日(2013.11.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属溶湯を貯留する貯留部に横向きの多孔質セラミックスチューブを配した金属溶湯濾過装置において、貯留部内に貯留した金属溶湯に浸漬する浸漬部を、装置を被覆する蓋部に設けた金属溶湯濾過装置。
【請求項２】
浸漬部の下端面が、入湯口の底面よりも下方に位置する請求項１に記載の金属溶湯濾過装置。
【請求項３】
浸漬部を、前記蓋部と一体的に形成した請求項１又は２に記載の金属溶湯濾過装置。
【請求項４】
浸漬部を、窒化珪素結合ＳｉＣセラミックス、窒化珪素系セラミックス、アルミナ−シリカ系セラミックス、ジルコン系セラミックスのいずれかの耐火物で作製した請求項１〜３のいずれかに記載の金属溶湯濾過装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の金属溶湯濾過装置は、金属溶湯を貯留する貯留部に横向きの多孔質セラミックスチューブを配した金属溶湯濾過装置において、貯留部内に貯留した金属溶湯に浸漬する浸漬部を、装置を被覆する蓋部に設けたことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の金属溶湯濾過装置は、浸漬部を設けたことにより、貯留部の金属溶湯の容量を減少させることができ、残湯量を減少させることができる。さらには、金属溶湯の湯面が大気中の酸素に接触する面積が減少するため、金属溶湯の酸化を抑制することができる。この結果、鋳造に用いられる溶湯の分量を増やせると同時に、廃棄する金属酸化物の量を抑制し、溶湯の歩留まり向上と省資源化を図ることができる。
また、浸漬部は、金属溶湯の湯面上部の大気の対流によって熱が奪われるのを防ぐ効果がある。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
蓋部３は、装置全体を覆う板状の被覆部８と、貯留部５内に貯留する金属溶湯の容量を減少させるように貯留部５の上方部分を占める浸漬部９と、備えている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
本実施形態では、被覆部８と浸漬部９とを一体的に形成してあるが、別体に形成することもできる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
浸漬部９は、アルミニウムと反応しにくい耐火物から形成してあり、より具体的には、窒化珪素結合ＳｉＣセラミックス、窒化珪素系セラミックス、アルミナ−シリカ系セラミックス、ジルコン系セラミックスのいずれかから形成することができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
浸漬部９は、被覆部８の底面を逆台形状に膨出させ、貯留部５の内壁に沿うように形成してあり、入湯口付近を残して、貯留部５の上方部分を隙間なく塞ぐことができる。その下端面９ａは、入湯口４の底面４ａよりも下方に位置するようにしてある。具体的には、底面４ａから１ｍｍ以上下方、好ましくは１ｍｍ〜５００ｍｍで、チューブ６の上端より５ｍｍ〜１００ｍｍ上方に位置するのが好ましい。これにより、浸漬部９が溶湯中に浸漬し、貯留部５に貯まる金属溶湯の容量を減少させることができる。なお、装置１の稼働時において、底面４ａと貯留部５に貯めた金属溶湯の湯面とは略同じ高さになる。
本実施形態では、浸漬部９を、貯留部５の上方部分を隙間なく塞ぐように形成してあるが、これに限定されるものではなく、装置稼働時において閉塞部が金属溶湯中に浸漬するように形成してあれば、貯留部に貯まる金属溶湯の容量を減少させることができ、残湯量を減少させることができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
このような濾過装置１は、浸漬部９により、貯留部５に貯まる金属溶湯の容量が従来と比較して減少するため、残湯量を減らすことができる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
さらには、浸漬部９を設けたことにより、金属溶湯が酸素に触れにくくなるため、濾過処理中に金属溶湯が酸化されにくくなり、濾過した金属溶湯中に含まれる酸化物の量が従来比約６０〜８０ｗｔ％減少させることができる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
（実施例１）
実施例１の金属溶湯濾過装置１Ｂは、図６に示すように、従来例１を改良して作製し、蓋部３Ｂに下方に逆台形状に突出した窒化珪素結合ＳｉＣセラミックスからなる浸漬部９Ｂを形成し、その内部にヒーター部１１Ｂを埋設した濾過装置とした。この浸漬部９Ｂの下端面は、入湯口の底面に対して３４０ｍｍ下方に位置させた。
この濾過装置を２０時間稼働させた後、溶湯の入湯を停止し、残湯量、金属酸化物量、電力量を測定した。従来例１の結果を１として、これに対する比率で示した結果を下記表１に示す。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
（実施例２）
実施例２の金属溶湯濾過装置１Ｄは、図８に示すように、従来例２を改良して作製し、底部にヒーター部１１Ｄを備え、蓋部３Ｄに下方に逆台形状に突出した窒化珪素結合ＳｉＣセラミックスからなる浸漬部９Ｄを形成し、浸漬部９Ｄの下端面を入湯口の底面に対して４００ｍｍ下方に位置させた濾過装置とした。
この濾過装置を２０時間稼働させた後、溶湯の入湯を停止し、残湯量、金属酸化物量、電力量を測定した。従来例１の結果を１として、これに対する比率で示した結果を下記表１に示す。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
１金属溶湯濾過装置  ２本体部  ３蓋部  ４入湯口  ４ａ底面  ５貯留部  ６多孔質セラミックスチューブ  ６ａ入湯口側側板  ６ｂ出湯口側側板  ７出湯口  ７ａ底面  ８被覆部  ９浸漬部  ９ａ下端面  １０流路部  １１ヒーター部
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月17日(2014.4.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源から出射された光束を測定光と参照光に分割し、測定光束を被検物に導き，参照光を参照光学系に導いた後、前記被検物から反射された測定光と参照光とが合成された光のスペクトル情報を検出器により検出する干渉光学系と、
測定光と参照光の光路長が一致する深さ位置より被検物表面が奥側に配置された状態で被検物の断層画像を取得し、第１の観察画像としてモニタに出力する第１観察モードと、前記深さ位置より被検物裏面が前側に配置された状態で被検物の断層画像を取得し、第２の観察画像としてモニタに出力する第２観察モードとを有し、取得された断層画像の画像情報及び正逆情報に基づいて、第１観察モードと第２観察モードとの間でモニタ上の表示状態を切換える制御手段と、
を備えることを特徴とする光断層像撮影装置。
【請求項２】
前記制御手段は、前記表示状態を切換えるため、第１観察モードか第２観察モードかを検者が判別するための判別表示を切換える請求項１の光断層像撮影装置。
【請求項３】
前記制御手段は、前記第１観察モードと前記第２観察モードに関わらず、前記深さ位置より奥側に対応する第１画像領域と前記深さ位置より手前側に対応する第２画像領域のいずれか一方の画像情報をモニタに出力する制御手段であって、一方の断層画像の反転状態を前記正逆情報として取得し、前記判別表示を切換える請求項１〜２のいずれかの光断層像撮影装置。
【請求項４】
断層画像における分散を補正するための分散補正データを記憶するメモリを備え、
前記制御手段は、前記メモリから取得される分散補正データを用いてスペクトル情報を補正し、補正されたスペクトル情報をフーリエ解析して被検物の断層画像を取得する制御手段であって
取得された断層画像の画像情報において、前記深さ位置より奥側に対応する第１画像領域と前記深さ位置より手前側に対応する第２画像領域のうち、断層像の解像度が高い方の画像領域を，前記正逆情報に基づいてモニタに選択的に出力する請求項２の光断層像撮影装置。
【請求項５】
断層画像における実像に対する分散を補正するための第１の分散補正データと、断層画像における虚像に対する分散を補正するための第２の分散補正データと、を記憶するメモリを備え、
前記制御手段は、前記メモリから取得される分散補正データを用いてスペクトル情報を補正し、補正されたスペクトル情報をフーリエ解析して被検物の断層画像を取得すると共に、前記第１観察モードと前記第２観察モードに関わらず、前記深さ位置より奥側に対応する第１画像領域と前記深さ位置より手前側に対応する第２画像領域のいずれか一方の画像情報をモニタに出力する制御手段であって、
前記正逆情報に基づいて，メモリから取得する分散補正データを第１の分散補正データと第２の分散補正データとの間で選択的に切換えることにより、観察可能な断層像をモニタに出力する請求項２の光断層像撮影装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
光源から出射された光束を測定光と参照光に分割し、測定光束を被検物に導き，参照光を参照光学系に導いた後、前記被検物から反射された測定光と参照光とが合成された光のスペクトル情報を検出器により検出する干渉光学系と、
測定光と参照光の光路長が一致する深さ位置より被検物表面が奥側に配置された状態で被検物の断層画像を取得し、第１の観察画像としてモニタに出力する第１観察モードと、前記深さ位置より被検物裏面が前側に配置された状態で被検物の断層画像を取得し、第２の観察画像としてモニタに出力する第２観察モードとを有し、取得された断層画像の画像情報及び正逆情報に基づいて、第１観察モードと第２観察モードとの間でモニタ上の表示状態を切換える制御手段と、
を備えることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月17日(2014.4.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技用価値を用いて１ゲームに対して所定数の賭数を設定することによりゲームが開始可能となるとともに、各々が識別可能な複数種類の図柄を変動表示可能な可変表示装置に表示結果が導出されることにより１ゲームが終了し、該可変表示装置に導出された表示結果に応じて入賞が発生可能とされたスロットマシンであって、
第１の権利または第２の権利を付与する権利付与手段と、
前記権利付与手段により付与された前記第１の権利及び前記第２の権利を貯留する権利貯留手段と、
前記権利貯留手段に前記第１の権利が貯留されている場合に該第１の権利を消費して通常よりも遊技者にとって有利な第１の有利状態に制御する第１の有利状態制御手段と、
前記権利貯留手段に前記第２の権利が貯留されている場合に該第２の権利を消費して前記第１の有利状態よりも遊技者にとって有利な第２の有利状態に制御する第２の有利状態制御手段と、
前記権利付与手段により前記第２の権利が付与された場合に、該第２の権利が付与される前から前記権利貯留手段に貯留されている前記第１の権利を前記第２の権利に変更する権利変更手段と、
を備える
ことを特徴とするスロットマシン。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明の請求項１に記載のスロットマシンは、
遊技用価値を用いて１ゲームに対して所定数の賭数を設定することによりゲームが開始可能となるとともに、各々が識別可能な複数種類の図柄を変動表示可能な可変表示装置（リール２Ｌ、２Ｃ、２Ｒ）に表示結果が導出されることにより１ゲームが終了し、該可変表示装置に導出された表示結果に応じて入賞が発生可能とされたスロットマシン（スロットマシン１）であって、
第１の権利（ナビストック１）または第２の権利（ナビストック２）を付与する権利付与手段（ＡＴ抽選）と、
前記権利付与手段（ＡＴ抽選）により付与された前記第１の権利（ナビストック１）及び前記第２の権利（ナビストック２）を貯留する権利貯留手段（ナビストック１記憶領域、ナビストック２記憶領域）と、
前記権利貯留手段（ナビストック記憶領域）に前記第１の権利（ナビストック１）が貯留されている場合に該第１の権利（ナビストック１）を消費して通常よりも遊技者にとって有利な第１の有利状態（平均４０〜５０ゲームのＡＴ）に制御する第１の有利状態制御手段と、
前記権利貯留手段（ナビストック記憶領域）に前記第２の権利（ナビストック２）が貯留されている場合に該第２の権利（ナビストック２）を消費して前記第１の有利状態よりも遊技者にとって有利な第２の有利状態（平均２００ゲームのＡＴ）に制御する第２の有利状態制御手段と、
前記権利付与手段（ＡＴ抽選）により前記第２の権利（ナビストック２）が付与された場合に、該第２の権利が付与される前から前記権利貯留手段（ナビストック１記憶領域）に貯留されている前記第１の権利（ナビストック１）を前記第２の権利（ナビストック２）に変更する権利変更手段と、
を備える
ことを特徴としている。
この特徴によれば、第１の有利状態または第２の有利状態において第２の権利が付与された場合に、該第２の権利が付与される前から権利貯留手段に貯留されている第１の有利状態を伴う第１の権利が、第１の有利状態よりも有利な第２の有利状態を伴う第２の権利に変更されることとなる。また、第１の有利状態または第２の有利状態に制御されている場合には、その期間のうち序盤よりも終盤の方が第１の権利が貯留されている可能性が高く、第１の有利状態または第２の有利状態において第２の権利が付与された場合、第１の有利状態または第２の有利状態の序盤よりも終盤の方がより有利となることから、第１の有利状態または第２の有利状態に制御された場合、その最後まで興趣を持続させることができる。
尚、通常よりも遊技者にとって有利な第１の有利状態とは、通常よりも特定の入賞の発生が許容される確率が高まることや、遊技者にとって有利な表示結果を導出させるための操作態様など、遊技者にとって有利な情報が報知されること等により、通常よりも多くの遊技用価値の獲得が期待できる遊技状態等が該当する。
また、前記第１の有利状態よりも遊技者にとって有利な第２の有利状態とは、第１の有利状態よりも制御されるゲーム数の平均値が大きい状態、第１の有利状態よりもゲーム数が上乗せされる確率の高い状態、第１の有利状態よりも上乗せされるゲーム数の平均値が大きい状態、第１の有利状態よりも特定の入賞の発生が許容される確率が高い状態、第１の有利状態よりも遊技者にとって有利な表示結果を導出させるための操作態様など、遊技者にとって有利な情報が報知される確率の高い状態、遊技者にとって有利な情報が報知される回数の平均値が大きい状態、第１の有利状態よりも継続率の高い状態、第１の有利状態よりも終了条件となる遊技用価値の獲得量（累積、純増のいずれでも可）が大きく設定された状態、第１の有利状態よりも第１の権利または第２の権利が有利な条件で付与される状態などが該当する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の手段３に記載のスロットマシンは、手段２に記載のスロットマシンであって、
前記権利変更手段により前記権利貯留手段（ナビストック１記憶領域）に貯留されている前記第１の権利（ナビストック１）が前記第２の権利（ナビストック２）に変更された場合に特別演出（背景色を白から黒に変更する）を実行する特別演出実行手段を備える
ことを特徴としている。
この特徴によれば、より有利に制御されることへの期待感を効果的に高めることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月25日(2014.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技媒体を用いて遊技を行うことが可能であり、付与条件が成立したことにもとづいて遊技媒体を付与する遊技機であって、
電力供給が停止しても所定期間は記憶内容を保持することが可能であり、制御を行う際に発生する変動データを記憶する変動データ記憶手段と、
操作に応じて操作信号を出力する初期化操作手段と、
電力供給が開始されたときに、前記初期化操作手段からの前記操作信号が入力されたことにもとづいて前記変動データ記憶手段の記憶内容を初期化する初期化処理を実行可能な初期化処理実行手段と、
エラーが発生したか否かを判定するエラー判定手段と、
少なくとも、前記初期化処理実行手段によって前記初期化処理が実行されたこと、および前記エラー判定手段によって前記エラーが発生したと判定されたことを含む信号出力条件が成立したことにもとづいて、遊技機状態信号を外部出力する遊技機状態信号外部出力手段と、
前記付与条件が成立したときに、当該付与条件の成立により付与数が所定数に達することを示す条件成立信号を外部出力する条件成立信号外部出力手段と、
入賞領域を遊技媒体が通過したことにもとづいて、前記入賞領域を遊技媒体が通過したことを報知する報知音を出力する報知音出力手段とを備え、
前記遊技機状態信号外部出力手段は、前記初期化処理実行手段によって前記初期化処理が実行されたときと前記エラー判定手段によって前記エラーが発生したと判定されたときとで、遊技機に設けられた共通の出力端子から前記遊技機状態信号を出力する
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、遊技媒体を用いて遊技を行うことが可能であり、付与条件が成立したことにもとづいて遊技媒体を付与するパチンコ機やスロット機、パロット機などの遊技機に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は、不正行為を防止することができる遊技機を提供することを目的とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明による遊技機は、遊技媒体（例えば、遊技球）を用いて遊技を行うことが可能であり、付与条件が成立したことにもとづいて遊技媒体を付与する遊技機であって、電力供給が停止しても所定期間は記憶内容を保持することが可能であり、制御を行う際に発生する変動データを記憶する変動データ記憶手段と、操作に応じて操作信号を出力する初期化操作手段と、電力供給が開始されたときに、初期化操作手段からの操作信号が入力されたことにもとづいて変動データ記憶手段の記憶内容を初期化する初期化処理を実行可能な初期化処理実行手段と、エラーが発生したか否かを判定するエラー判定手段と、少なくとも、初期化処理実行手段によって初期化処理が実行されたこと、およびエラー判定手段によってエラーが発生したと判定されたことを含む信号出力条件が成立したことにもとづいて、遊技機状態信号を外部出力する遊技機状態信号外部出力手段と、付与条件が成立したときに、当該付与条件の成立により付与数が所定数に達することを示す条件成立信号を外部出力する条件成立信号外部出力手段と、入賞領域を遊技媒体が通過したことにもとづいて、入賞領域を遊技媒体が通過したことを報知する報知音を出力する報知音出力手段とを備え、遊技機状態信号外部出力手段は、初期化処理実行手段によって初期化処理が実行されたときとエラー判定手段によってエラーが発生したと判定されたときとで、遊技機に設けられた共通の出力端子から遊技機状態信号を出力することを特徴とする。
そのような構成によれば、不正行為を防止することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月18日(2014.4.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検体を識別する識別治具と、前記被検体を撮像する際に該被検体近傍に前記識別治具を配置する空間と、を有し、
前記被検体とともに前記空間に配置した前記識別治具を撮影することで該撮像によって得られた前記識別治具の画像情報から該撮像によって得られた被検体の識別を可能とする撮影画像を取得することを特徴とする医用画像診断装置。
【請求項２】
前記医用画像診断装置はＸ線診断装置であって、前記識別治具は、Ｘ線透過係数が異なる２種類以上の部材を含んで構成されていることを特徴とする請求項１に記載の医用画像診断装置。
【請求項３】
前記被検体を配置する天板を有し、該天板は、前記識別治具を収容する収容部を備えていることを特徴とする請求項１又は２に記載の医用画像診断装置。
【請求項４】
前記収容部は、前記天板上を移動可能なように構成されていることを特徴とする請求項３に記載の医用画像診断装置。
【請求項５】
前記識別治具は、バーコードであることを特徴とする請求項１乃至４の何れか一項に記載の医用画像診断装置。
【請求項６】
前記識別治具の形状をパターンマッチングにより識別する手段を備えることを特徴とする請求項１乃至５の何れか一項に記載の医用画像診断装置。
【請求項７】
前記識別治具は、前記被検体毎に異なることを特徴とする請求項１乃至６の何れか一項に記載の医用画像診断装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
上記の課題を解決するために、本発明の医用画像診断装置は、被検体を識別する識別治具と、前記被検体を撮像する際に該被検体近傍に前記識別治具を配置する空間と、を有し、前記被検体とともに前記空間に配置した前記識別治具を撮影することで該撮像によって得られた前記識別治具の画像情報から該撮像によって得られた被検体の識別を可能とする撮影画像を取得する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月25日(2014.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
各々が識別可能な複数種類の識別情報を変動表示可能な可変表示部を備え、
前記可変表示部を変動表示した後に表示結果を導出し、入賞が発生可能なスロットマシンにおいて、
表示結果が導出される前に、複数種類の表示結果のうち導出を許容する表示結果を決定する事前決定手段と、
遊技者が表示結果を導出させるために操作する導出操作手段と、
前記導出操作手段への操作に応じて表示結果を導出させる制御を行なう導出制御手段と、
開始条件が成立してから終了条件が成立するまで通常状態とは異なる特別状態に制御する特別状態制御手段と、
前記入賞とは異なる特典を付与する特典付与手段とを備え、
前記複数種類の表示結果には、所定表示結果と該所定表示結果とは異なる特定表示結果とが含まれ、
前記スロットマシンは、前記通常状態においては高い確率で前記所定表示結果を導出させ、前記特別状態においては高い確率で前記特定表示結果を導出させ得るように制御し、
前記特定表示結果は、前記特典付与手段による特典の付与に関する表示結果であることを特徴とする、スロットマシン。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、たとえば、スロットマシンに関する。詳しくは、各々が識別可能な複数種類の識別情報を変動表示可能な可変表示部を備え、前記可変表示部を変動表示した後に表示結果を導出し、入賞が発生可能なスロットマシンに関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
この発明は、かかる実情に鑑み考え出されたものであり、その目的は、特別な状態において確率が向上する特定の表示結果が導出することによって直に期待感を抱かせ、特別な状態の価値を高めることができるスロットマシンを提供することである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
（１）  各々が識別可能な複数種類の識別情報を変動表示可能な可変表示部を備え、
前記可変表示部を変動表示した後に表示結果を導出し、入賞が発生可能なスロットマシンにおいて、
表示結果が導出される前に、複数種類の表示結果のうち導出を許容する表示結果を決定する事前決定手段と、
遊技者が表示結果を導出させるために操作する導出操作手段と、
前記導出操作手段への操作に応じて表示結果を導出させる制御を行なう導出制御手段と、
開始条件が成立してから終了条件が成立するまで通常状態とは異なる特別状態に制御する特別状態制御手段と、
前記入賞とは異なる特典を付与する特典付与手段とを備え、
前記複数種類の表示結果には、所定表示結果と該所定表示結果とは異なる特定表示結果とが含まれ、
前記スロットマシンは、前記通常状態においては高い確率で前記所定表示結果を導出させ、前記特別状態においては高い確率で前記特定表示結果を導出させ得るように制御し、
前記特定表示結果は、前記特典付与手段による特典の付与に関する表示結果である。
なお、以下の構成を備えるものであってもよい。
遊技用価値を用いて１ゲームに対して所定数の賭数を設定することによりゲームが開始可能となるとともに、各々が識別可能な複数種類の識別情報を変動表示可能な可変表示装置に表示結果が導出されることにより１ゲームが終了し、該可変表示装置に導出された表示結果に応じて入賞が発生可能とされたスロットマシン（スロットマシン１）であって、
前記可変表示装置に表示結果が導出される前に、予め定められた特別遊技状態（ＢＢ３、変形例におけるＲＢ’、ＣＢなど参照）への移行を伴う特別入賞（ＢＢ３等）と、前記特別入賞とは異なる複数種類の一般入賞（メロン１、ブドウ、イチゴ）とを含む複数種類の入賞について発生を許容するか否かを決定する事前決定手段（内部抽選処理）と、
前記事前決定手段の決定結果に応じて、前記可変表示装置に表示結果を導出させる制御を行なう導出制御手段（リール回転処理）と、
前記特別入賞が発生してから所定の終了条件（メダルが１２枚以上払い出されること）が成立するまで前記特別遊技状態に制御する特別遊技状態制御手段（ＢＢ３に制御するための処理）と、
前記入賞とは異なる特典（ナビストック、変形例における確率モード抽選、示唆演出、確定演出、プレミア演出など）を付与する特典付与手段（ＡＴ抽選処理など）とを備え、
通常遊技状態においては前記複数種類の一般入賞のうちの一般特殊入賞（ブドウ）よりも高い確率で、前記複数種類の一般入賞のうちの一般通常入賞（メロン１）を発生させ、前記特別遊技状態においては前記一般通常入賞よりも高い確率で前記一般特殊入賞を発生させ得るように、前記事前決定手段は、前記複数種類の一般入賞各々について発生を許容するか否かを決定するとともに、前記導出制御手段は、前記複数種類の一般入賞各々を発生させる複数種類の入賞表示結果を少なくとも含む複数種類の表示結果のうちいずれかを導出させ（図７、図９（ｂ））、
前記導出制御手段は、前記一般特殊入賞の発生が許容されていることを条件として予め定められた特殊表示結果（ブドウの図柄組合せ）を導出し、
前記特典付与手段は、前記特殊表示結果が導出されたことを条件として、前記特典を付与する（図２２の第１０〜第１２のＡＴ抽選条件）。
【手続補正書】
【提出日】平成26年3月18日(2014.3.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】電力供給システム及び電力供給方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アンテナ及び可変抵抗素子を有する電力放射回路と、前記可変抵抗素子の抵抗値を変化させて、前記電力放射回路のＱ値を変化させる変調信号検出回路と、を有する送電装置と、
共振回路と、トランジスタを有する変調回路と、論理回路と、を有する受電装置と、を有する電力供給システムであって、
前記論理回路は、前記変調回路が有する前記トランジスタのゲートに接続され、前記トランジスタのスイッチング動作により、前記共振回路のインピーダンスが変化することを特徴とする電力供給システム。
【請求項２】
第１の周波数を有する交流電力を供給する電源と、変調信号検出回路と、アンテナ及び可変抵抗素子を有する電力放射回路と、を有する送電装置と、
共振回路と、変調回路と、を有する受電装置を用いた電力供給方法であって、
前記変調回路により第２の周波数で前記共振回路のインピーダンスを変動させて、前記送電装置に前記第１の周波数及び前記第２の周波数を有する反射波を生じさせ、前記変調信号検出回路により前記第２の周波数の振幅を検出し、前記振幅の大きさにより前記可変抵抗素子の抵抗値を変化させることを特徴とする電力供給方法。
【請求項３】
請求項２において、前記第１の周波数と前記第２の周波数は、異なる周波数であることを特徴とする電力供給方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月8日(2014.5.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】無線給電方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
受電体の識別情報を受信する第１のステップと、
前記受電体の位置検出用信号を前記受電体に送信する第２のステップと、
前記位置検出用信号に基づいて検出された、給電装置との位置関係を含む前記受電体の位置情報を受信する第３のステップと、
前記識別情報及び前記位置情報に基づいて、前記受電体に送信する電力強度を調整する第４のステップと、
前記電力強度が調整された電力を前記受電体に供給する第５のステップと、を有することを特徴とする無線給電方法。
【請求項２】
請求項１において、
前記第２のステップの後、前記給電装置との位置関係を含む前記受電体の位置情報を受信できないとき、前記識別情報を有する前記受電体を捜索する信号を、通信可能な範囲に位置する他の給電装置に送信することを特徴とする無線給電方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月29日(2014.4.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
集電体上に活物質層としてシリコン層を形成し、
前記シリコン層上の自然酸化膜を除去後、前記シリコン層上に前記シリコン層を覆うように固体電解質層を形成し、
前記固体電解質層に接するように液体の電解質を設けることを特徴とする蓄電装置の作製方法。
【請求項２】
請求項１において、
前記固体電解質層は、リン酸リチウム、リン酸鉄リチウム、リン酸マンガンリチウム、リン酸クロムリチウム、及び硫化リンリチウムの一以上を含む層であることを特徴とする蓄電装置の作製方法。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記シリコン層は、結晶性の領域及びウィスカー状の領域の一以上を含む層であることを特徴とする蓄電装置の作製方法。
【請求項４】
集電体と、前記集電体上の活物質層と、前記活物質層上の固体電解質層と、を有する電極と、
液体の電解質と、を有し、
前記活物質層は、シリコン層であり、
前記固体電解質層は、前記シリコン層を覆い、
前記電極は、前記固体電解質層において前記液体の電解質と接することを特徴とする蓄電装置。
【請求項５】
請求項４において、
前記固体電解質層は、リン酸リチウム、リン酸鉄リチウム、リン酸マンガンリチウム、リン酸クロムリチウム、及び硫化リンリチウムの一以上を含む層であることを特徴とする蓄電装置。
【請求項６】
請求項４または請求項５において、
前記シリコン層は、結晶性の領域及びウィスカー状の領域の一以上を含む層であることを特徴とする蓄電装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月22日(2014.4.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ユーザによって把持される把持部と、
裸眼立体視可能な立体表示部と、
前記立体表示部に表示される画像の視差を調整するための視差調整用操作部と、
前記立体表示部に立体視画像を表示させる表示制御手段と、を備え、
前記視差調整用操作部は、前記立体表示部が設けられたハウジングと同じハウジングに設けられ、ユーザが前記立体表示部に表示された立体視画像を見ながら当該視差調整用操作部を視認可能である、携帯型の電子機器。
【請求項２】
前記表示制御手段は、前記立体表示部に前記立体視画像が表示されている間に、繰り返しユーザによる前記視差調整用操作部に対する操作を受け付け、当該操作に応じて前記立体表示部に表示された画像の視差を調整して前記立体視画像の表示を更新する、請求項１に記載の電子機器。
【請求項３】
前記視差調整用操作部は、前記立体表示部が収納された第１ハウジングの、前記立体表示部の画面が設けられた主面に対する側面の、前記把持部を把持した場合に操作可能な位置に露出するように設けられる、請求項１又は２に記載の電子機器。
【請求項４】
前記視差調整用操作部は、前記立体表示部が収納された第１ハウジングの、前記把持部をユーザが把持した状態で人差し指を伸ばした位置に露出するように設けられる、請求項１から３の何れかに記載の電子機器。
【請求項５】
前記視差調整用操作部は、前記立体表示部が収納された第１ハウジングの、前記立体表示部の画面が設けられた主面に設けられる、請求項１から４の何れかに記載の電子機器。
【請求項６】
前記視差調整用操作部は、前記第１ハウジングの側面に沿って上下方向に操作可能な操作部である、請求項２から４の何れかに記載の電子機器。
【請求項７】
前記視差調整用操作部は、前記第１ハウジングの側面に沿って上下方向にスライド可能な操作部である、請求項２、３、４および６の何れかに記載の電子機器。
【請求項８】
前記画像の視差は、前記視差調整用操作部が上方向に操作された場合に大きくなり、下方向に操作された場合に小さくなる、請求項７に記載の電子機器。
【請求項９】
前記視差調整用操作部は、前記立体表示部が収納された第１ハウジングの、前記主面および側面から露出するように設けられる、請求項１に記載の電子機器。
【請求項１０】
前記把持部は、前記立体表示部が収納された第１ハウジングと別の第２ハウジングに設けられ、当該第１ハウジングと第２ハウジングとは少なくとも前記電子機器の使用状態において隣接する、請求項１から９の何れかに記載の電子機器。
【請求項１１】
前記第２ハウジングは、前記第１ハウジングの下方に設けられ、
前記第２ハウジングには、前記視差調整用操作部とは異なる操作部が設けられる、請求項１０に記載の電子機器。
【請求項１２】
前記第２ハウジングの中心よりも右側および左側のそれぞれに第１操作部が設けられる、請求項１１に記載の電子機器。
【請求項１３】
前記第２ハウジングの上面には、第２操作部が設けられる、請求項１０から１２の何れかに記載の電子機器。
【請求項１４】
前記第２操作部は、前記第２ハウジングの上面の左右両端部のうち、少なくとも前記視差調整用操作部が設けられた側に設けられる、請求項１３に記載の電子機器。
【請求項１５】
前記第２操作部は、前記第２ハウジングの上面の両端のそれぞれに設けられる、請求項１３または１４に記載の電子機器。
【請求項１６】
前記第１ハウジングには、前記立体表示部の表示状態を示す発光部である立体表示用発光部が設けられる、請求項２から１５の何れかに記載の電子機器。
【請求項１７】
前記立体表示用発光部は、前記立体表示部の画面が設けられた主面に設けられる、請求項１６に記載の電子機器。
【請求項１８】
前記第１ハウジングに設けられる発光部は、前記立体表示用発光部のみである、請求項１６または１７に記載の電子機器。
【請求項１９】
前記第２ハウジングには、アナログ方向スイッチが設けられる、請求項１０から１８の何れかに記載の電子機器。
【請求項２０】
前記第２ハウジングには、タッチスクリーンが設けられる、請求項１０から１９の何れかに記載の電子機器。
【請求項２１】
前記第２ハウジングには、タッチパネルが設けられる、請求項１０から２０の何れかに記載の電子機器。
【請求項２２】
前記立体表示部には、タッチパネル機能を設けない、請求項１から２１の何れかに記載の電子機器。
【請求項２３】
前記立体表示部の画面サイズは、前記タッチスクリーンの画面サイズよりも大きい、請求項２０に記載の電子機器。
【請求項２４】
前記視差調整用操作部に対する操作に応じて２つの仮想カメラの間の距離を調整する仮想カメラ調整手段を備え、
前記表示制御手段は、前記仮想カメラ調整手段によって調整された２つの仮想カメラで仮想空間を撮像して得られる右目用画像と左目用画像とを用いて、前記立体視画像を前記立体表示部に表示させる、請求項１から２３の何れかに記載の電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月22日(2014.4.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】アンテナの作製方法、半導体装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アンテナコイルとコンデンサを有するアンテナの作製方法において、
突起部を有するローラを、第１の厚さの基材に押しつけながら回転させ、
前記突起部を前記基材の第１の面に押しつけることにより、前記基材に、前記第１の厚さより薄い第２の厚さを有する前記コンデンサの誘電体を形成し、
前記基材に開口部を形成し、
前記第２の厚さを有する領域の第１の面上、前記開口部の内部、及び前記基材の第１の面上に、第１の導電性材料を形成し、
前記基材の第１の面と反対側の第２の面上に、第２の導電性材料を形成し、
前記第１の導電材料及び第２の導電性材料を加熱することにより、前記アンテナコイル及び前記コンデンサの電極を形成することを特徴とするアンテナの作製方法。
【請求項２】
請求項１において、前記基材は、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルサルフォン、ポリイミドのいずれか一のフィルムであることを特徴とするアンテナの作製方法。
【請求項３】
請求項１又は請求項２において、前記第１の導電性材料及び前記第２の導電性材料のそれぞれは、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、銅（Ｃｕ）、ニッケル（Ｎｉ）、白金（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）、タンタル（Ｔａ）、モリブデン（Ｍｏ）及びチタン（Ｔｉ）の少なくとも一つを含むことを特徴とするアンテナの作製方法。
【請求項４】
基材の第１の領域に設けられた第１のアンテナコイルと、
前記基材の第２の領域を誘電体とし、前記基材の第２の領域の両面に設けられた電極を有するコンデンサと、
半導体集積回路と第２のアンテナコイルを有するチップと、を有する半導体装置において、
前記基材の第２の領域の厚さは、前記基材の第１の領域の厚さより薄いことを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
請求項４において、前記基材は、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルサルフォン、ポリイミドのいずれか一のフィルムであることを特徴とする半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月10日(2014.6.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】光電変換素子及びその作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上方の第１の導電層と、
前記第１の導電層を覆う第１の絶縁層と、
前記第１の絶縁層上方に設けられ、前記第１の導電層と重畳する第１の半導体層と、
前記第１の半導体層上方の第２の半導体層と、
前記第２の半導体層上方の不純物半導体層と、
前記不純物半導体層上方の第２の導電層と、
少なくとも前記第１の半導体層と前記第２の導電層を覆う第２の絶縁層と、
前記第２の絶縁層上方の透光性を有する第３の導電層と、を有し、
前記第２の絶縁層は、第１の開口部と第２の開口部とを有し、
前記第１の開口部は、前記第１の導電層と重畳して設けられ、
前記第２の開口部は、前記第１の導電層と重畳して設けられ、
前記第３の導電層は、前記第１の開口部を介して前記第１の半導体層と電気的に接続され、
前記第３の導電層は、前記第２の開口部を介して前記第１の導電層と電気的に接続され、
前記第１の開口部には、受光部が設けられており、
前記受光部は、前記第２の導電層と電気的に接続された電極に囲まれていることを特徴とする光電変換素子。
【請求項２】
請求項１において、
前記第１の導電層と前記第２の導電層の間には抵抗素子が設けられていることを特徴とする光電変換素子。
【請求項３】
請求項２において、
前記抵抗素子は、前記第３の導電層を有し、前記第１の導電層及び前記第２の導電層よりも電気抵抗率が高いことを特徴とする光電変換素子。
【請求項４】
第１の導電層を形成し、
前記第１の導電層を覆って第１の絶縁層を形成し、
前記第１の絶縁層上に、複数の半導体層を有する薄膜積層体を形成し、
前記第１の絶縁層及び前記薄膜積層体上に導電膜を形成し、
前記導電膜を加工することで第２の導電層を形成し、
前記薄膜積層体を加工することで、一部が露出した第１の半導体層と、該露出した領域以外の領域上に設けられた第２の半導体層及び不純物半導体層と、を形成し、
少なくとも前記第１の半導体層の露出された部分と、前記第２の導電層を覆って絶縁膜を形成し、
前記絶縁膜に、前記第１の半導体層の露出された部分に重畳して設けられた第１の開口部と、前記第１の導電層により構成される配線と重畳して設けられた第２の開口部と、を形成し、
前記第１の開口部により露出された前記第１の半導体層と、前記第２の開口部により露出された前記第１の導電層により構成される配線と、を電気的に接続する透光性を有する第３の導電層を形成することで、前記第１の開口部に、前記第２の導電層により形成された第３の配線に囲まれた受光部が構成されることを特徴とする光電変換素子の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月3日(2014.7.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板上に配置され、第１伝導型半導体層、活性層、及び第２伝導型半導体層が積層された構造である発光構造物と、
前記発光構造物上に配置されたレンズと、
前記第１伝導型半導体層と電気的に接続され、前記基板を貫通して外部に露出する第１端子部と、
前記第２伝導型半導体層と電気的に接続され、前記基板を貫通して外部に露出する第２端子部とを有し、
前記第２端子部は、前記第１端子部、前記第１伝導型半導体層、及び前記活性層を貫通して前記第２伝導型半導体層と接続される導電性ビアを有し、
前記レンズは、前記発光構造物の側面は覆わないように配置されることを特徴とする発光デバイス。
【請求項２】
前記発光構造物と前記基板との間に配置されるボンディング層をさらに有することを特徴とする請求項１に記載の発光デバイス。
【請求項３】
前記ボンディング層は、電気絶縁性を有することを特徴とする請求項２に記載の発光デバイス。
【請求項４】
前記ボンディング層は、電気導電性を有することを特徴とする請求項２に記載の発光デバイス。
【請求項５】
前記基板は、電気絶縁性基板であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の発光デバイス。
【請求項６】
前記基板は、電気導電性基板であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の発光デバイス。
【請求項７】
前記レンズと前記発光構造物との間に配置される透光性ポリマー層をさらに有することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の発光デバイス。
【請求項８】
前記レンズと前記発光構造物との間に配置され、前記発光構造物から放射された光の波長を変換する光変換層をさらに有することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一項に記載の発光デバイス。
【請求項９】
前記レンズは、表面に形成されたマイクロレンズアレイを含むことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか一項に記載の発光デバイス。
【請求項１０】
基板と、
前記基板上に配置され、第１伝導型半導体層、活性層、及び第２伝導型半導体層が積層された構造である発光構造物と、
前記第１伝導型半導体層と電気的に接続され、前記基板を貫通して外部に露出する第１端子部と、
前記第２伝導型半導体層と電気的に接続され、前記基板を貫通して外部に露出する第２端子部とを有し、
前記第２端子部は、前記第１端子部、前記第１伝導型半導体層、及び前記活性層を貫通して前記第２伝導型半導体層と接続される導電性ビアを有し、
前記第１端子部で前記基板を貫通する領域は、前記基板と同じ物質からなり、前記基板と一体に形成されることを特徴とする発光デバイス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】発光デバイス
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、半導体デバイスに関し、特に発光デバイスに関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
上記課題を解決するためになされた本発明による発光デバイスは、基板と、前記基板上に配置され、第１伝導型半導体層、活性層、及び第２伝導型半導体層が積層された構造である発光構造物と、前記発光構造物上に配置されたレンズと、前記第１伝導型半導体層と電気的に接続され、前記基板を貫通して外部に露出する第１端子部と、前記第２伝導型半導体層と電気的に接続され、前記基板を貫通して外部に露出する第２端子部とを有し、前記第２端子部は、前記第１端子部、前記第１伝導型半導体層、及び前記活性層を貫通して前記第２伝導型半導体層と接続される導電性ビアを有し、前記レンズは、前記発光構造物の側面は覆わないように配置されることを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
前記発光構造物と前記基板との間に配置されるボンディング層をさらに有することが好ましい。
前記ボンディング層は、電気絶縁性を有することが好ましい。
前記ボンディング層は、電気導電性を有することが好ましい。
前記基板は、電気絶縁性基板であることが好ましい。
前記基板は、電気導電性基板であることが好ましい。
前記レンズと前記発光構造物との間に配置される透光性ポリマー層をさらに有することが好ましい。
前記レンズと前記発光構造物との間に配置され、前記発光構造物から放射された光の波長を変換する光変換層をさらに有することが好ましい。
前記レンズは、表面に形成されたマイクロレンズアレイを含むことが好ましい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
また、上記課題を解決するためになされた本発明による発光デバイスは、基板と、前記基板上に配置され、第１伝導型半導体層、活性層、及び第２伝導型半導体層が積層された構造である発光構造物と、前記第１伝導型半導体層と電気的に接続され、前記基板を貫通して外部に露出する第１端子部と、前記第２伝導型半導体層と電気的に接続され、前記基板を貫通して外部に露出する第２端子部とを有し、前記第２端子部は、前記第１端子部、前記第１伝導型半導体層、及び前記活性層を貫通して前記第２伝導型半導体層と接続される導電性ビアを有し、前記第１端子部で前記基板を貫通する領域は、前記基板と同じ物質からなり、前記基板と一体に形成されることを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月30日(2014.5.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の金属酸化物膜と、
前記第１の金属酸化物膜上の酸素を含む第１の絶縁膜と、
前記第１の絶縁膜上の酸化物半導体膜と、
前記酸化物半導体膜と電気的に接続された、ソース電極及びドレイン電極と、
前記酸化物半導体膜上の酸素を含む第２の絶縁膜と、
前記第２の絶縁膜上の第２の金属酸化物膜と、
前記第２の金属酸化物膜上のゲート電極とを有し、
前記第１の金属酸化物膜は、第１３族元素を有し、
前記第２の金属酸化物膜は、第１３族元素を有し、
前記酸化物半導体膜は、前記第１の絶縁膜と接する領域と、前記第２の絶縁膜と接する領域とを有することを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
第１のゲート電極と、
前記第１のゲート電極上の第１の金属酸化物膜と、
前記第１の金属酸化物膜上の酸素を含む第１の絶縁膜と、
前記第１の絶縁膜上の酸化物半導体膜と、
前記酸化物半導体膜と電気的に接続された、ソース電極及びドレイン電極と、
前記酸化物半導体膜上の酸素を含む第２の絶縁膜と、
前記第２の絶縁膜上の第２の金属酸化物膜と、
前記第２の金属酸化物膜上の第２のゲート電極とを有し、
前記第１の金属酸化物膜は、第１３族元素を有し、
前記第２の金属酸化物膜は、第１３族元素を有し、
前記酸化物半導体膜は、前記第１の絶縁膜と接する領域と、前記第２の絶縁膜と接する領域とを有することを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
請求項１または２において、
前記第１の金属酸化物膜は、化学量論的組成より酸素が多い領域を有し、
前記第２の金属酸化物膜は、化学量論的組成より酸素が多い領域を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一において、
前記第１の絶縁膜は、化学量論的組成より酸素が多い領域を有し、
前記第２の絶縁膜は、化学量論的組成より酸素が多い領域を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一において、
前記第１の金属酸化物膜は、酸化ガリウム、酸化アルミニウム、酸化アルミニウムガリウム、および酸化ガリウムアルミニウムから選ばれる一または複数を有し、
前記第２の金属酸化物膜は、酸化ガリウム、酸化アルミニウム、酸化アルミニウムガリウム、および酸化ガリウムアルミニウムから選ばれる一または複数を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一において、
前記第１の絶縁膜は、前記第２の絶縁膜と、接する領域を有することを特徴とする半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年3月31日(2014.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インジウムを主要成分とする第１の酸化物半導体よりなる第１の半導体層と、
前記第１の半導体層の一方の面に接して設けられ、前記第１の酸化物半導体よりもバンドギャップが大きく、酸素以外の元素におけるガリウムの比率が８０％以上でありＩ型である第２の酸化物半導体よりなる第２の半導体層と、
前記第１の半導体層の他方の面に設けられたゲート電極として機能する導電層と、
前記導電層と前記第１の半導体層の間に、ゲート絶縁膜として機能する絶縁層と、
を有し、
前記第２の酸化物半導体の真空準位とフェルミ準位とのエネルギー差が、前記第１の酸化物半導体の真空準位とフェルミ準位とのエネルギー差よりも大きいことを特徴とする電界効果トランジスタ。
【請求項２】
インジウムを主要成分とする第１の酸化物半導体よりなる第１の半導体層と、
前記第１の半導体層の一方の面に接して設けられ、前記第１の酸化物半導体よりもバンドギャップが大きく、Ｉ型である第２の酸化物半導体よりなる第２の半導体層と、
前記第１の半導体層の他方の面に設けられたゲート電極として機能する導電層と、
前記導電層と前記第１の半導体層の間に、ゲート絶縁膜として機能する絶縁層と、
を有し、
前記第２の酸化物半導体の真空準位とフェルミ準位とのエネルギー差が、前記第１の酸化物半導体の真空準位とフェルミ準位とのエネルギー差よりも大きいことを特徴とする電界効果トランジスタ。
【請求項３】
請求項１又は請求項２において、
前記第２の酸化物半導体のバンドギャップが６電子ボルト以下であることを特徴とする電界効果トランジスタ。