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【手続補正書】
【提出日】平成26年5月22日(2014.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液圧ブロックに液圧制御用の電磁弁を組み付けた液圧ユニットと、樹脂製ケースの内部に電磁弁の駆動制御回路を有する回路基板を収納した電子制御ユニットを組み合わせて構成される液圧制御装置であって、前記液圧ユニットの前記液圧ブロックに固定した電磁弁の本体にソレノイドコイルを外嵌し、そのソレノイドコイルを、前記樹脂製ケースに一体成型して設けたコイル押さえアームで前記液圧ブロックに弾性的に押し付けて固定し、さらに、前記コイル押えアームの厚み、幅、もしくはその両方を、前記樹脂製ケースに連なるアームの根元側から先端側に向って減少させた液圧制御装置。
【請求項２】
前記コイル押えアームの先端を、コイル中心を越えてケースのアーム連設点からの離反量が大きくなる方向に延びださせた請求項１に記載の液圧制御装置。
【請求項３】
前記ソレノイドコイルに一体化されるヨークを、コイルの両端に対面させる端壁と両端が前記端壁の一辺に連なった中間壁とからなる側面視コ字状のヨークにし、前記コイル押えアームを前記ヨークの中間壁側に偏らせて、コイル中心よりもヨークの中間壁の近傍において前記コイル押えアームの先端部で前記ヨークの端壁を押圧するようにした請求項１又は２に記載の液圧制御装置。
【請求項４】
前記コイル押えアームの先端に突起を有し、その突起で前記ソレノイドコイルを押圧するようにした請求項１〜３のいずれかに記載の液圧制御装置。
【請求項５】
前記コイル押えアームを、コイル端を直視した図において前記ソレノイドコイルの外周に沿う方向に彎曲させた請求項１〜４のいずれかに記載の液圧制御装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
即ち、前記液圧ユニットの液圧ブロックに固定された電磁弁の本体にソレノイドコイル
を外嵌し、そのソレノイドコイルを、前記樹脂製ケースに一体成型して設けたコイル押え
アームで前記液圧ブロックに弾性的に押し付けてソレノイドコイルを固定し、さらに、前記コイル押えアームの厚み、幅、もしくはその両方を、前記樹脂製ケースに連なるアームの根元側から自由端である先端側に向って減少させた。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
前記コイル押えアームの厚みや幅は、徐々に減少させてもよいし、段階的に減少させてもよい。また、このコイル押えアームは、先端を、コイル中心（ソレノイドコイルの中心）を越えてケースのアーム連設点からの離反量が大きくなる方向に延びださせたものが好ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
さらに、コイル押えアームの厚み、幅、もしくはその両方をアームの根元側から先端側に向かって漸減させたので、コイル押えアームの弾性変形能が高まってそのコイル押えアームの耐力が向上する。その耐力の向上は、押圧の安定性向上やコイル押えアームの寿命向上などにつながる。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月22日(2014.10.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水中使用可能な携帯用機器において、
蓋部材と、
上記携帯機器本体に深さを有し上記蓋部材により露呈、覆われる凹部であって、該深さ方向に該凹部の内部全周に沿って形成されている環状の第１の環状面と、上記蓋部材が該凹部を覆うとき上記蓋部材と対向するように設けられた環状の第２の環状面とを有する本体凹部と、
上記蓋部材に設けられ、上記蓋が上記本体凹部を覆うとき、法線を上記機器外側方向に向けた第１の表面と、法線を上記機器内側方向に向けた第２の表面とからなって略平板状に形成され、略平板の外周端面から外方に向かって環状に突出した第１の凸部と、この第１の凸部から上記厚み方向に離間して上記外周端面から外方に向かって環状に突出した第２の凸部と、該第２の凸部近傍の第２の表面から垂直に環状に突出する第３の凸部とを有しているシール基材と、
上記第１の凸部と上記第２の凸部と上記第３の凸部とを覆い、かつ上記第１の凸部と第２の凸部との間に充填された第１の被覆部と、これに連続して第２の表面全体を覆う第２の被覆部と、上記シール基材の厚み方向における上記第１の凸部と上記第２の凸部との間から該被覆部外周から延びて環状に突出した第１のシール凸部と、上記第１の被覆部と第２の被覆部との連続部分近傍であって上記第２の被覆部の周囲部分から機器本体内側方向に向かって環状に突出した第２のシール凸部とを有した弾性シール部材と、
を具備したことを特徴とした水中使用可能な携帯用機器。
【請求項２】
上記シール基材と上記弾性シール部材は一体に２色成形されていることを特徴とした上記請求項１記載の水中使用可能な携帯用機器。
【請求項３】
上記蓋基材はポリカーボネート樹脂であり、上記弾性シールはシリコン素材から成形されていることを特徴とした上記請求項２記載の携帯用機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記目的を達成するために、本発明の水中使用可能な携帯用機器において、蓋部材と、上記携帯機器本体に深さを有し上記蓋部材により露呈、覆われる凹部であって、該深さ方向に該凹部の内部全周に沿って形成されている環状の第１の環状面と、上記蓋部材が該凹部を覆うとき上記蓋部材と対向するように設けられた環状の第２の環状面とを有する本体凹部と、上記蓋部材に設けられ、上記蓋が上記本体凹部を覆うとき、法線を上記機器外側方向に向けた第１の表面と、法線を上記機器内側方向に向けた第２の表面とからなって略平板状に形成され、略平板の外周端面から外方に向かって環状に突出した第１の凸部と、この第１の凸部から上記厚み方向に離間して上記外周端面から外方に向かって環状に突出した第２の凸部と、該第２の凸部近傍の第２の表面から垂直に環状に突出する第３の凸部とを有しているシール基材と、上記第１の凸部と上記第２の凸部と上記第３の凸部とを覆い、かつ上記第１の凸部と第２の凸部との間に充填された第１の被覆部と、これに連続して第２の表面全体を覆う第２の被覆部と、上記シール基材の厚み方向における上記第１の凸部と上記第２の凸部との間から該被覆部外周から延びて環状に突出した第１のシール凸部と、上記第１の被覆部と第２の被覆部との連続部分近傍であって上記第２の被覆部の周囲部分から機器本体内側方向に向かって環状に突出した第２のシール凸部とを有した弾性シール部材と、を具備した。
【手続補正書】
【提出日】平成26年1月14日(2014.1.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
凹凸形状を有し、かつ通気性を有する支持体上に熱可塑性繊維を含有する第１繊維ウエブを搬送し、該第１繊維ウエブに熱風を吹き付け、該第１繊維ウエブを前記凹凸形状に追随させて賦形する工程と、
前記第１繊維ウエブを前記支持体表面に沿わせた状態で搬送する間に、前記第１繊維ウエブに熱風を吹き付けて、前記支持体の凹凸形状に賦形したまま前記第１繊維ウエブの繊維同士を融着させて第１繊維層を得る前段のエアースルー工程と、
前記第１繊維層と熱可塑性繊維を含有する第２繊維ウエブとを積層し、熱風を吹き付け、第１繊維層の賦形形状に沿わせながら第２繊維ウエブの繊維同士を熱融着して第２繊維層を得ると同時に前記第１繊維層と該第２繊維ウエブの繊維同士を熱融着させて接合する後段のエアースルー工程とを備え、
前記前段のエアースルー工程のうちの第１エアースルー工程における第１の熱風は、温度が８０℃以上１５５℃以下であり、風速が２０ｍ／ｓｅｃ以上１２０ｍ／ｓｅｃ以下であり、吹き付け時間が０．０１秒以上０．５秒以下である積層不織布の製造方法。
【請求項２】
前記前段のエアースルー工程のうちの第２エアースルー工程における第２の熱風は、前記第１繊維ウエブの繊維の低融点成分の融点以上、前記第１繊維ウエブの繊維の高融点成分の融点未満の温度である
請求項１に記載の積層不織布の製造方法。
【請求項３】
前記第２の熱風は、温度が１３０℃以上１５５℃以下であり、風速が１ｍ／ｓｅｃ以上１０ｍ／ｓｅｃ以下であり、吹き付け時間が０．０３秒以上５秒以下である
請求項２に記載の積層不織布の製造方法。
【請求項４】
前記前段のエアースルー工程のうちの第２エアースルー工程を行う第２ノズルと前記後段のエアースルー工程である第３エアースルー工程を行う第３ノズルとの間に空間が配されている
請求項１から３のいずれか１項に記載の積層不織布の製造方法。
【請求項５】
前記空間に冷却部が配され、前記冷却部に前記第１繊維層を強制冷却させる手段を用いる
請求項４に記載の積層不織布の製造方法。
【請求項６】
前記後段のエアースルー工程である第３エアースルー工程の第３の熱風は、温度が１３０℃以上１５５℃以下に制御され、風速が０．４ｍ／ｓｅｃ以上５ｍ／ｓｅｃ以下に制御され、吹き付け時間が２秒以上２０秒以下に制御されている
請求項１から５のいずれか１項に記載の積層不織布の製造方法。
【請求項７】
凹凸形状を有し、かつ通気性を有する支持体上に熱可塑性繊維を含有する第１繊維ウエブを搬送し、該第１繊維ウエブに熱風を吹き付け、該第１繊維ウエブを前記凹凸形状に追随させて賦形する工程と、
前記第１繊維ウエブを前記支持体表面に沿わせた状態で搬送する間に、前記第１繊維ウエブに熱風を吹き付けて、前記支持体の凹凸形状に賦形したまま前記第１繊維ウエブの繊維同士を融着させて第１繊維層を得る前段のエアースルー工程と、
前記第１繊維層と熱可塑性繊維を含有する第２繊維ウエブとを積層し、熱風を吹き付け、第１繊維層の賦形形状に沿わせながら第２繊維ウエブの繊維同士を熱融着して第２繊維層を得ると同時に前記第１繊維層と該第２繊維ウエブの繊維同士を熱融着させて接合する後段のエアースルー工程とを備え、
前記前段のエアースルー工程のうちの第２エアースルー工程における第２の熱風を吹き付ける第２ノズルの吹き出し孔に、幅方向、流れ方向に規則的に開孔し、開孔率が１０％以上４０％以下のパンチングメタルを用いる積層不織布の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】積層不織布の製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は積層不織布の製造方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
（１）本発明は、凹凸形状を有し、かつ通気性を有する支持体上に熱可塑性繊維を含有する第１繊維ウエブを搬送し、該第１繊維ウエブに熱風を吹き付け、該第１繊維ウエブを前記凹凸形状に追随させて賦形する工程と、前記第１繊維ウエブを前記支持体表面に沿わせた状態で搬送する間に、前記第１繊維ウエブに熱風を吹き付けて、前記支持体の凹凸形状に賦形したまま前記第１繊維ウエブの繊維同士を融着させて第１繊維層を得る前段のエアースルー工程と、前記第１繊維層と熱可塑性繊維を含有する第２繊維ウエブとを積層し、熱風を吹き付け、第１繊維層の賦形形状に沿わせながら第２繊維ウエブの繊維同士を熱融着して第２繊維層を得ると同時に前記第１繊維層と該第２繊維ウエブの繊維同士を熱融着させて接合する後段のエアースルー工程とを備え、前記前段のエアースルー工程のうちの第１エアースルー工程における第１の熱風は、温度が８０℃以上１５５℃以下であり、風速が２０ｍ／ｓｅｃ以上１２０ｍ／ｓｅｃ以下であり、吹き付け時間が０．０１秒以上０．５秒以下である積層不織布の製造方法を提供する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
（２）本発明は、凹凸形状を有し、かつ通気性を有する支持体上に熱可塑性繊維を含有する第１繊維ウエブを搬送し、該第１繊維ウエブに熱風を吹き付け、該第１繊維ウエブを前記凹凸形状に追随させて賦形する工程と、前記第１繊維ウエブを前記支持体表面に沿わせた状態で搬送する間に、前記第１繊維ウエブに熱風を吹き付けて、前記支持体の凹凸形状に賦形したまま前記第１繊維ウエブの繊維同士を融着させて第１繊維層を得る前段のエアースルー工程と、前記第１繊維層と熱可塑性繊維を含有する第２繊維ウエブとを積層し、熱風を吹き付け、第１繊維層の賦形形状に沿わせながら第２繊維ウエブの繊維同士を熱融着して第２繊維層を得ると同時に前記第１繊維層と該第２繊維ウエブの繊維同士を熱融着させて接合する後段のエアースルー工程とを備え、前記前段のエアースルー工程のうちの第２エアースルー工程における第２の熱風を吹き付ける第２ノズルの吹き出し孔に、幅方向、流れ方向に規則的に開孔し、開孔率が１０％以上４０％以下のパンチングメタルを用いる積層不織布の製造方法を提供する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の積層不織布の製造方法は、前段のエアースルー工程で第１繊維層を凹凸形状に賦形し、その状態で第１繊維層に未融着の繊維ウエブを重ね合わせ、後段のエアースルー工程を行うことから、嵩高な低目付の積層不織布を得ることができる。さらにこの積層不織布は、第１不織布が明瞭な凹凸形状を有し、熱風の吹き付けによる繊維層の接合によってもその凹凸形状が維持されるので、低荷重でのクッション感（ＫＥＳ・ＷＣ値）が良い積層不織布が得ることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月7日(2014.11.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
分析エレクトロニクスと、供給ブロックを含み且つ導電性構造体に送信信号を送り込む少なくとも１つの結合プローブ（３）を有するセンサ装置と、前記導電性構造体内に配置された反射部材とを備えた距離測定装置であって、前記反射部材が、カップ状要素（６）を形成する、カラーが取り付けられたベースプレートを有し、前記供給ブロックは、前記カラーが突入する凹部、好ましくは環状凹部を備え、前記凹部は、前記カラーと気密性を生じさせる密封リングを備え、前記取り付けられたカラーは、軽い衝撃を可能にするようにプラスチック製プレートを備えた前面に設けられている、距離測定装置。
【請求項２】
前記取り付けられたカラーは、反射部材の端位置に設けられた前記結合プローブ（３）を有し、好ましくは円周方向に延びる溝構造体が、好ましくは前記ベースプレートの前面に設けられ、前記溝構造体は、好ましくは少なくとも２つの溝、好ましくは３つ又は４つ以上の溝を有し、前記溝は、誘電体で満たされ、端位置減衰を行うために、前記端位置で前記カラーを取り囲む環状要素、好ましくはプラスチック製リングが設けられ、端位置減衰を行うために、環状リングが前記カラーの外面に取り付けられた環状要素、好ましくはプラスチック製リングが設けられ、前記プラスチック製リングは、前記カラーの前記外面に対応した表面ペアリングを有し、好ましくは円錐状に延びている、請求項１に記載の距離測定装置。
【請求項３】
前記線構造体は、前記結合プローブ（３）を備えた誘電体拘束システムにＨＦトランシーバを導波路により接続する供給領域（２）を備えた供給ブロックを有し、前記誘電体拘束システムは、好ましくは、水吸収率及び水放出率が低い材料で作られ、大きな直径を備えたシリンダを有する中実且つ個々の支持体中に具体化され、前記導電性構造体は、好ましくは、円形中空導体、好ましくは反射部材としてピストンを備えたシリンダであり、前記反射部材は、好ましくは前記ピストンに取り付けられている、請求項１または２に記載の距離測定装置。
【請求項４】
空気圧補償手段が設けられ、前記供給ブロックは、好ましくは、前記拘束システム、前記結合プローブ及び前記同軸供給領域を挿入できるボアホールを有する、請求項１から３のいずれか一に記載の距離測定装置。
【請求項５】
前記結合プローブは、モノポール刺激システムとして設計され、電磁波の供給は、同軸状に具体化されると共に、多段同軸変換ステップによって前記モノポールに変換され、前記結合プローブは、好ましくは、三段変換モジュールとして設計され、前記三段変換モジュールは、レベルベースを有し、前記レベルベースの中心には、シリンダが設けられ、前記供給領域（２）が前記結合プローブ（３）に連結されることによりピンが前記シリンダに取り付けられ、前記結合プローブは、好ましくは、プラスチック材料、好ましくは、低い水吸収率及び水放出率を備えた、例えば、ＰＰＳ  Ｇｆ４０のプラスチック材料により覆われている、請求項１から４のいずれか一に記載の距離測定装置。
【請求項６】
前記送信信号は、前記結合プローブ（３）によって高い周波数範囲の電磁波として送られ、前記電磁波は、好ましくは、１００ＭＨｚ〜２５ＧＨｚの高い周波数範囲で送られ、好ましくは、少なくとも２つの送信信号が、前記結合プローブ（３）によって互いに異なる周波数の電磁波として放射され、結合された前記電磁波は、好ましくは、同軸構造体により好ましくはＴＥＭモードのモノモーダル伝搬を行い、結合された前記電磁波は、好ましくは、前記円形中空導体により、好ましくはＥ０１モードのモノモーダル伝搬を行う、請求項１から５のいずれか一に記載の距離測定装置。
【請求項７】
前記センサ装置は、送信及び受信ブランチを備えた高周波エレクトロニクスを有し、且つ／好ましくは前記分析エレクトロニクス及び／又は前記センサ装置は、好ましくは供給ブロックに取り付けられたチップ構造体中に、好ましくはインタフェースエレクトロニクスとして設けられ、前記高周波エレクトロニクスは、好ましくは単一チップ構造体として共通基板上に集積されているＰＬＬ、オシレータ（ＶＣＯ）、ミキサ、周波数分配器及び増幅器を有する、請求項１から６のいずれか一に記載の距離測定装置。
【請求項８】
前記基板材料は、シリコンゲルマニウム、シリコン、シリコンゲルマニウムカーバイド又はシリコンカーバイドであり、且つ／又は前記チップ構造体の送信及び受信周波数は、分割比を調節することにより、例えば、外部電圧を別々のステップで、好ましくはデュアルステップで印加することにより選択可能であり、且つ／又は前記分析エレクトロニクスは、好ましくは、ＦＰＧＡ、即ちフリープログラマブルゲートアレイ、として具体化されたＤＳＰ、ＰＬＬ、メモリを有し、前記インタフェースエレクトロニクスは、好ましくは、アナログ、例えば０〜２０ｍＡ、０〜１０Ｖとディジタル、例えばＣＡＮバスの両方として具体化され、前記ＦＰＧＡは、ディジタル−アナログ変換のインタフェースプロトコル及び制御の発生に部分的に割り当てられており、且つ／又はバイパスボアホールが、前記供給ブロックに設けられている、請求項７に記載の距離測定装置。
【請求項９】
請求項１から８のうちいずれか一に記載の距離測定装置を用いて距離を測定する方法であって、
結合プローブ（３）を備えた誘電体拘束システム（５）に導波路によりＨＦトランシーバを接続する供給領域（２）を備えた供給ブロックを有する導電性構造体を用意するステップと、
カップ状要素（６）を形成する、カラーが取り付けられたベースプレートを有する反射部材を用意するステップと、
前記結合プローブ（３）により定められた供給箇所と前記反射部材との間の距離を測定するステップとを有し、
少なくとも２つの送信信号が、互いに異なる周波数を有する電磁波として、前記結合プローブを介して結合され、好ましくは放射されて受信される、方法。
【請求項１０】
前記距離は、電磁波の前記送信信号と前記受信信号との間の位相差のそれぞれの分析により測定され、それぞれの電磁波の少なくとも２つの送信周波数相互間の差は、広い測定範囲をカバーするために小さい、好ましくは絶対値の１％であり、それぞれの電磁波の送信信号の周波数相互間の差は、高い妨害抵抗を達成するために大きい、好ましくは絶対値の２０％である、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記送信信号は、連続的に放射され、３つの送信信号は、好ましくは、前記結合プローブを介して電磁波として放射され、且つ／又はカラーが突入する凹部、好ましくは環状凹部を備えた供給ブロックが好ましくは設けられており、且つ／又は前記凹部は、好ましくは前記カラーと協働して気密性をもたらす密封リングを有し、且つ／又はバイパスボアホールが、好ましくは前記供給ブロックに設けられている、請求項９又は１０に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月26日(2014.9.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
感光体ドラムと、
前記感光体ドラム上の静電潜像にトナーを付着させてトナー画像を現像する現像ローラーと、
前記感光体ドラムで複数のキャリブレーション用テストパッチを含むパターン画像を２セット現像させるパターン画像生成部とを備え、
前記パターン画像は、階調内の各濃度に対応するテストパッチを有し、
前記パターン画像生成部は、１セット目の前記パターン画像の先端と２セット目の前記パターン画像の先端との間隔を、前記現像ローラーの外周長と、前記現像ローラーの回転速度と前記感光体ドラムの回転速度との比との積である濃度変動ピッチで除算した場合の剰余が、少なくとも前記テストパッチの長さより大きくなるように設定すること、
を特徴とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明に係る画像形成装置は、感光体ドラムと、前記感光体ドラム上の静電潜像にトナーを付着させてトナー画像を現像する現像ローラーと、前記感光体ドラムで複数のキャリブレーション用テストパッチを含むパターン画像を２セット現像させるパターン画像生成部とを備える。前記パターン画像は、階調内の各濃度に対応するテストパッチを有する。そして、前記パターン画像生成部は、１セット目の前記パターン画像の先端と２セット目の前記パターン画像の先端との間隔を、前記現像ローラーの外周長と、前記現像ローラーの回転速度と前記感光体ドラムの回転速度との比との積である濃度変動ピッチで除算した場合の剰余が、少なくとも前記テストパッチの長さより大きくなるように、前記間隔を設定する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
そして、パターン画像生成部４１は、露光装置２ａの露光タイミングを制御して、１セット目のパターン画像の先端と２セット目のパターン画像の先端との間隔Ｌを、現像ローラー１２の外周長Ｌｏと、現像ローラー１２の回転速度Ｓと感光体ドラム１ａの回転速度Ｄとの比との積である濃度変動ピッチＰ（＝Ｌｏ×Ｓ／Ｄ）で除算した場合の剰余が、少なくともテストパッチの長さ（副走査方向における長さ）より大きくなるように、その間隔Ｌを設定する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
図４に示す例では、１セット目のパターン画像において２列のテストパッチ列６１が形成される。各テストパッチ列６１は、シアン、マゼンタ、イエロー、およびブラックのそれぞれについて、互いに異なる濃度設定値の８つのテストパッチ６１Ｃ，６１Ｍ，６１Ｙ，６１Ｋを含んでいる。同様に、２セット目のパターン画像において２列のテストパッチ列６２が形成される。各テストパッチ列６２は、シアン、マゼンタ、イエロー、およびブラックのそれぞれについて、互いに異なる濃度設定値の８つのテストパッチ６２Ｃ，６２Ｍ，６２Ｙ，６２Ｋを含んでいる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
この実施の形態では、パターン画像生成部４１は、１セット目のパターン画像６１の先端と２セット目のパターン画像６２の先端との間隔Ｌを、現像ローラー１２の外周長Ｌｏと、現像ローラー１２の回転速度Ｓと感光体ドラム１ａの回転速度Ｄとの比との積である濃度変動ピッチＰ（＝Ｌｏ×Ｓ／Ｄ）で除算した場合の剰余が、少なくともテストパッチの長さ（副走査方向における１つのテストパッチの長さ）より大きくなるように、間隔Ｌを設定する。このため、図５（Ａ）および図５（Ｂ）に示すように、各濃度設定値について、濃度変動ピッチＰ内において、１セット目におけるテストパッチの位置と２セット目におけるテストパッチの位置が遠くなる。なお、図５におけるパッチ番号は、各パターン画像６１，６２内での先頭からのテストパッチの順番を示す。
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2014145934.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月22日(2014.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
チルド室、このチルド室に隣接して設けられた野菜室を有する冷蔵庫本体と、
前記チルド室の奥に配置され、除菌成分を発生する除菌成分発生手段と、
前記チルド室に備えられた容器と、を備え、
前記チルド室の底部には、前記容器で塞がれない位置に位置させて、当該チルド室と前記野菜室とを連通させる連通口が設けられ、
前記除菌成分発生手段にて発生した除菌成分を、前記チルド室に供給するとともに、前記野菜室にも供給する構成としたことを特徴とする冷蔵庫。
【請求項２】
前記チルド室の隣に卵ケースがあって、前記除菌成分は前記卵ケースにも供給されることを特徴とする請求項１記載の冷蔵庫。
【請求項３】
前記除菌成分発生手段にて発生した除菌成分を前記容器内に吹き出す吹出口が設けられ、
前記容器の後ろ上部には切欠き部が形成されていて、
前記吹出口から吹き出された除菌成分は前記切欠き部から前記容器内に供給されることを特徴とする請求項１または２記載の冷蔵庫。
【請求項４】
前記吹出口は筒状をなしていることを特徴とする請求項３記載の冷蔵庫。
【請求項５】
前記チルド室には、当該チルド室内の空気の出口となる空気出口が設けられていることを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の冷蔵庫。
【請求項６】
前記チルド室を冷却する冷却器を備え、
前記除菌成分発生手段は、前記冷却器の除霜水を貯留する貯水部を有し、その貯水部内の水をミスト化して除菌成分を含むミストを前記チルド室および前記野菜室に供給することを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の冷蔵庫。
【請求項７】
前記冷却器は、前記チルド室の後方に配置されていることを特徴とする請求項６記載の冷蔵庫。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本実施形態の冷蔵庫によれば、チルド室、このチルド室に隣接して設けられた野菜室を有する冷蔵庫本体と、前記チルド室の奥に配置され、除菌成分を発生する除菌成分発生手段と、前記チルド室に備えられた容器と、を備える。前記チルド室の底部には、前記容器で塞がれない位置に位置させて、当該チルド室と前記野菜室とを連通させる連通口が設けられている。前記除菌成分発生手段にて発生した除菌成分を、前記チルド室に供給するとともに、前記野菜室にも供給する構成とする。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月30日(2014.10.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
貯蔵室を有する冷蔵庫本体と、
ミストを発生するミスト発生手段と、
前記貯蔵室に設けられ上部に開口を有する収納容器と、
前記冷蔵庫本体において前記収納容器の後部に設けられ、前記ミスト発生手段を収容する覆い部と、を備え、
前記覆い部の前記収納容器よりも上方に、前記ミスト発生手段により発生したミストを前記貯蔵室に供給させるミスト吹出口が設けられていることを特徴とする冷蔵庫。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本実施形態の冷蔵庫は、貯蔵室を有する冷蔵庫本体と、ミストを発生するミスト発生手段と、前記貯蔵室に設けられ上部に開口を有する収納容器と、前記冷蔵庫本体において前記収納容器の後部に設けられ、前記ミスト発生手段を収容する覆い部と、を備え、前記覆い部の前記収納容器よりも上方に、前記ミスト発生手段により発生したミストを前記貯蔵室に供給させるミスト吹出口が設けられていることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成26年8月27日(2014.8.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無機系酸化性殺菌剤が添加される紙パルプ水系に給水される水に、スルファミン酸化合物もしくはその塩、または塩素系酸化剤とスルファミン酸化合物もしくはその塩と、を添加する工程を含み、
前記無機系酸化性殺菌剤が、塩素系酸化剤とアンモニウム塩との混合物、または塩素系酸化剤とアミノ化合物との混合物を含む、紙パルプ水系におけるスライム抑制方法。
【請求項２】
前記紙パルプ水系に給水される水に、塩素系酸化剤とスルファミン酸化合物またはその塩との混合物を添加する、請求項１に記載のスライム抑制方法。
【請求項３】
前記給水される水が工業用水または再利用水である、請求項１又は２に記載のスライム抑制方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月30日(2014.10.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
[銀合金におけるビスマスの合金組成比の最適範囲を特定する実験とその結果]
本発明者等は、図１で示す装飾被膜を構成する層内の銀合金におけるビスマスの合金組成比の最適範囲を特定する実験をおこなった。具体的には、硝酸銀と硝酸ビスマスを混合し、これをアミノアルコール（還元剤）に添加して加熱混合したものを、UFろ過し、配合剤を混合して塗料調合し、スピンコートにて塗工後、80℃で30分間熱処理して装飾被膜を形成した。この際、Bi/Agを種々変化させて種々の装飾被膜を形成している。それぞれの装飾被膜に対して耐候性試験（キセノン試験）を実施した（100W×500MJ/m2）。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
また、図３は、銀合金におけるビスマスの合金組成比：Bi/Ag(質量%)が0質量%、1.0質量%、2.0質量%のTEM像を示した図である。図中、黒い点は銀合金の微粒子（ナノ粒子）を示している。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
同図より、Bi/Agが0質量%、1.0質量%のケースに比して2.0質量%のケースにおいて、数nmオーダーレベルの微小粒子が存在しないことが確認できる。その結果として、耐候性試験における銀合金の凝集が抑制され、色目変化も抑制されている。
【手続補正書】
【提出日】平成26年8月18日(2014.8.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
現像剤を収容する収容部と、
前記現像剤を供給するための供給口と、
前記収容部内に配置されて、前記供給口に回転動作により前記現像剤を搬送する搬送部材と
を有し、
前記供給口に、前記搬送部材の回転軸に対して略垂直な複数のスリットを有したことを特徴とする現像剤収容体。
【請求項２】
前記スリットは、前記収容部の内壁面に沿って前記回転軸に略垂直に、前記回転軸方向に所定の間隔で形成された複数のリブによって形成されることを特徴とする請求項１の現像剤収容体。
【請求項３】
前記搬送部材が回転動作をする過程で前記リブと接することを特徴とする請求項２記載の現像剤収容体。
【請求項４】
前記搬送部材は、前記スリットの上側に配備されたことを特徴とする請求項１乃至３の何れかに記載の現像剤収容体。
【請求項５】
前記スリットは、前記収容部の底部に形成されることを特徴とする請求項１乃至４の何れかに記載の現像剤収容体。
【請求項６】
前記搬送部材は、回転軸方向に前記現像剤を搬送する搬送部と、回転方向に前記現像剤を搬送する提拌部と
を有することを特徴とする請求項１乃至５の何れかに記載の現像剤収容体。
【請求項７】
前記攪拌部は、前記供給口に対向して配備されたことを特徴とする請求項６記載の現像剤収容体。
【請求項８】
前記供給口が、前記現像剤収容体の長手方向の略中央部に配備されたことを特徴とする請求項１乃至７の何れかに記載の現像剤収容体。
【請求項９】
前記搬送部は、スパイラル形状を成していることを特徴とする請求項６又は７記載の現像剤収容体。
【請求項１０】
前記搬送部材は、金属製の線材によって形成されていることを特徴とする請求項１乃至９の何れかに記載の現像剤収容体。
【請求項１１】
前記搬送部材は成形材であることを特徴とする請求項１乃至９の何れかに記載の現像剤収容体。
【請求項１２】
前記搬送部は、回転軸に対して所定の角度を有し、可撓性を有したシート材であることを特徴とする請求項６又は７記載の現像剤収容体。
【請求項１３】
前記攪拌部は、前記搬送部との接続部が、前記搬送部材の回転径と同径の仮想的な円筒上で前記該接続部と接する接平面において、前記搬送部材の回転軸方向に対して所定の角度を有したことを特徴とする請求項６又は７記載の現像剤収容体。
【請求項１４】
前記スリットは、前記搬送部材の回転軸方向の幅をＬ１、回転軸に垂直な方向の長さをＬ２とすると、Ｌ１＜Ｌ２の関係であることを特徴とする請求項１乃至１３の何れかに記載の現像剤収容体。
【請求項１５】
請求項１乃至１４の何れかの現像剤収容体を備えたことを特徴とする現像形成部。
【請求項１６】
請求項１乃至１４の何れかの現像剤収容体を備えたことを特徴とする画像形成装置。
【請求項１７】
請求項１５の現像形成部を備えたことを特徴とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明による現像剤収容体は、現像剤を収容する収容部と、前記現像剤を供給するための供給口と、前記収容部内に配置されて、前記供給口に回転動作により前記現像剤を搬送する搬送部材とを有し、
前記供給口に、前記搬送部材の回転軸に対して略垂直な複数のスリットを有したことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月29日(2014.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
グリッドが挿入される架台に装着可能な放射線検出器と、前記架台に装着されない状態の前記放射線検出器とともに用いられるグリッドユニットと、を有する放射線撮影装置であって、
前記放射線検出器は、
入射した放射線を電気信号に変換し放射線画像を得る放射線センサと、
前記放射線センサを収納する筐体と、
前記筐体に形成された第一の把持部と、
を有し、
前記グリッドユニットは、
グリッドと、
前記グリッドユニットを前記放射線検出器と結合させるための結合部と、
前記放射線検出器と結合されることにより前記放射線検出器の前記第一の把持部とともに１つの把持部を形成し、かつ前記第一の把持部以上の大きさの第二の把持部と、
を有することを特徴とする放射線撮影装置。
【請求項２】
前記放射線検出器の前記第一の把持部は、前記筐体の一辺に沿って設けられ、
前記第二の把持部の該一辺に直行する面による断面が、該面による前記第一の把持部の断面よりも大きいことを特徴とする請求項１に記載の放射線撮影装置。
【請求項３】
前記グリッドユニットを前記放射線検出器に装着した際、前記グリッドユニットの把持部が、前記放射線検出器の把持部を有する側面に重なるように配され、放射線検出器の把持部のＸ線入射面側には重ならないことを特徴とする請求項１に記載のＸ線画像撮影装置。
【請求項４】
前記グリッドユニットの前記結合部は凸部を有し、該凸部が前記放射線検出器の凹部と嵌合することにより前記グリッドユニットと前記放射線検出器が結合される
ことを特徴とする請求項１に記載の放射線撮影装置。
【請求項５】
前記凸部の少なくとも一部を突出または収納させるロック機構をさらに有することを特徴とする請求項４に記載の放射線撮影装置。
【請求項６】
前記凸部は前記グリッドユニットの前記第二の把持部に収納され、前記ロック機構は前記第二の把持部に内蔵されることを特徴とする請求項５に記載のＸ線画像撮影装置。
【請求項７】
前記放射線検出器は、Ｘ線読取領域の中心から把持部を有する辺までの最外距離が、前記Ｘ線読取領域の中心から把持部を有する辺に直行する二辺までの距離と等しい若しくは短いことを特徴とする請求項１に記載のＸ線画像撮影装置。
【請求項８】
前記放射線検出器は、該放射線検出器の状態を報知するための表示部をさらに有し、
前記表示部は、前記放射線検出器と前記グリッドユニットが前記結合した際に少なくとも一部が前記グリッドユニットに覆われず露出する
ことを特徴とする請求項１に記載の放射線撮影装置。
【請求項９】
前記表示部は、前記放射線検出器の前記第一の把持部の開口に隣接して設けられていることを特徴とする請求項８に記載の放射線撮影装置。
【請求項１０】
放射線検出器に電源供給や信号の送受信を行うケーブルの接続部、および、放射線検出器の状態を表示する表示部が、前記放射線検出器の把持部を有する辺にあり、前記グリッドユニットを前記放射線検出器に装着した状態で、前記グリッドユニットの前記第二の把持部が、前記接続部と前記表示部の間に配置されることを特徴とする請求項１に記載のＸ線画像撮影装置。
【請求項１１】
前記グリッドユニットの前記第二の把持部の開口は、前記放射線検出器の前記第一の把持部の開口よりも大きいことを特徴とする請求項１に記載の放射線撮影装置。
【請求項１２】
前記グリッドユニットは、前記グリッドを保持するフレーム部をさらに有することを特徴とする請求項１に記載の放射線撮影装置。
【請求項１３】
前記グリッドユニットは、前記放射線検出器の前記筐体の放射線を入射させるための面を覆うように装着される
ことを特徴とする請求項１に記載の放射線撮影装置。
【請求項１４】
放射線検出器と、該放射線検出器とともに用いられるグリッドユニットと、を有する放射線撮影装置であって、
前記放射線検出器は、
入射した放射線を電気信号に変換し放射線画像を得る放射線センサと、
前記放射線センサを収納する筐体と、
前記筐体に形成された第一の把持部と、
を有し、
前記グリッドユニットは、
グリッドと、
前記グリッドユニットを前記放射線検出器と結合させるための結合部と、
前記放射線検出器と結合されることにより前記放射線検出器の前記把持部とともに１つの把持部を形成し、かつ前記第一の把持部以上の大きさの第二の把持部と、
を有することを特徴とする放射線撮影装置。
【請求項１５】
前記放射線検出器を装着するための架台と、
前記放射線検出器を保持して前記架台に装着された状態とする検出器保持部と、
グリッドを保持して前記架台に装着された状態とするグリッド保持部と、
をさらに有することを特徴とする請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の放射線撮影装置。
【請求項１６】
放射線検出器に装着して用いられるグリッドユニットであって、
グリッドと、
前記グリッドを保持するフレーム部と、
前記グリッドユニットを前記放射線検出器と結合させるための結合部と、
前記放射線検出器と結合されることにより前記放射線検出器の第一の把持部とともに１つの把持部を形成し、かつ前記第一の把持部よりも大きな第二の把持部と、
を有することを特徴とするグリッドユニット。
【請求項１７】
前記放射線検出器の前記第一の把持部は、前記放射線検出器の筐体の一辺に沿って設けられており、
前記第二の把持部が該一辺に直行する面による断面が、該面による前記第一の把持部の断面よりも大きいことを特徴とする請求項１６に記載のグリッドユニット。
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月2日(2014.9.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
次にステップＳ７０５では、演算部は、Ｉｙ＋１をＩｙに代入する（すなわち、Ｂ像信号をＩｙ画素からさらに１画素多くシフトさせる）。そして、ステップＳ７０６では、演算部は、ＩｙがＩｍａｘに達したか否かを判定し、達した場合はステップＳ７０７に進み、ＩｙがＩｍａｘより小さければステップＳ７０３，Ｓ７０４，Ｓ７０５を繰り返す。ステップＳ７０７に進む場合は、１画素行においてＩｙが−Ｉｍａｘから＋ＩｍａｘとなるまでＢ像信号をシフトしたときのそれぞれのシフト位置（Ｉｙ）での相関値の集合である第１の相関データＣ（Ｉｙ）が求まっている。第１の相関データは、１つの画素行におけるシフト量に応じた相関値の変化を示す波形データとして得られる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
次にステップＳ７０７では、演算部は、Ｃ（Ｉｙ）＋Ｃ（Ｉ）をＣ（Ｉ）に代入する。さらに、ステップＳ７０８では、演算部は、Ｙ＋１をＹに代入する。そして、ステップＳ７０９では、演算部は、Ｙがｓに達したか否かを判定し、達した場合はステップＳ７１０に進み、そうでない場合はステップＳ７０２に戻る。このようにして、Ｙがｓになるまで、ｒ行からｓ行の各画素行にて算出した第１の相関データＣ（Ｉｙ）を相互に加算することで、ｒ行からｓ行の全画素行の相関データである第２の相関データＣ（Ｉ）を求める。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
ステップＳ７０９では、演算部は、Ｙがｓ（ｎ）に達したか否かを判定する。ｓ（ｎ）は、ｎ番目の分割領域におけるｓ行の画素行である。Ｙがｓ（ｎ）になるまで、各画素行にて算出した第１の相関データＣｎ（Ｉｙ）を全画素行において加算することで、ｎ番目の分割領域の第２の相関データＣｎ（Ｉ）を求めることができる。Ｙがｓ（ｎ）に達した場合はステップＳ１１０２に進み、Ｙがｓ（ｎ）より小さい場合はステップＳ７０１に戻る。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
ステップＳ１１０２では、演算部は、ｎ＋１をｎに代入し、さらにステップＳ１１０３では、ｎが３に達したか否かを判定する。ｎが３より小さい場合は、演算部は、次の分割領域を選択し、ステップＳ７０１〜Ｓ７０９の処理を行って該次の分割領域の第２の相関データ（Ｃ２（Ｉ），Ｃ３（Ｉ））を求める。こうして、ステップＳ１１０３でｎが３に達すると、演算部は、ステップＳ１１０４に進む。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７１】
合焦状態が確認された後、全体制御・演算部１３０９は、撮像動作を開始する。全体制御・演算部１３０９は、撮影信号処理回路１３０６に、撮像素子１３０５からの出力信号に対して画像処理を行わせて撮影画像（静止画又は動画）を生成させる。撮影画像は、記録媒体インターフェース部１３１０を介して記録媒体１３１１に書き込まれる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】
2013072906.tif 000001
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図９】
2013072906.tif 000002
【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１１】
2013072906.tif 000003
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月9日(2014.9.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一基板と、
前記第一基板に対向する第二基板と、
前記第一基板に設けられた第一反射膜と、
前記第二基板に設けられ、前記第一反射膜と反射膜間ギャップを介して対向する第二反射膜と、
前記反射膜間ギャップを変化させるギャップ変更部と、
前記第一基板に設けられた第一電極と、を備え、
前記第一電極は、前記第一基板及び前記第二基板を基板厚み方向から見た平面視において、前記第一反射膜及び前記第二反射膜が互いに対向して設けられた光干渉領域を含む領域に設けられ、
前記第一反射膜は、前記第一電極を介して前記第一基板に設けられ、
前記第二反射膜は、前記第一電極に電気的に接続されている
ことを特徴とする波長可変干渉フィルター。
【請求項２】
請求項１に記載の波長可変干渉フィルターにおいて、
前記第二基板には、前記第二基板を基板厚み方向から見た平面視において、前記光干渉領域と重なる位置に第二電極が設けられ、
前記第二反射膜は、前記第二電極を介して前記第二基板に設けられ、
前記第一電極は、前記第二電極に電気的に接続されている
ことを特徴とする波長可変干渉フィルター。
【請求項３】
請求項１に記載の波長可変干渉フィルターにおいて、
前記第一基板は、形状変化が発生しない固定基板であり、
前記第二基板は、前記第二反射膜が設けられた可動部と、前記可動部を保持する保持部と、を備え、前記保持部の形状変化により前記可動部が前記第一基板に対して進退可能となる可動基板であり、
前記ギャップ変更部は、前記可動部を前記第一基板に対して進退させることで、前記反射膜間ギャップを変動させる
ことを特徴とする波長可変干渉フィルター。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれかに記載の波長可変干渉フィルターにおいて、
前記第一電極は、透光性を有する
ことを特徴とする波長可変干渉フィルター。
【請求項５】
請求項１から請求項４のいずれかに記載の波長可変干渉フィルターにおいて、
前記第二基板には、前記第二基板を基板厚み方向から見た平面視において、前記光干渉領域外に、駆動用電極を備え、
前記第一電極は、前記第一基板を基板厚み方向から見た平面視において、前記光干渉領域と、前記駆動用電極に対向する駆動用電極対向領域とを含む領域に設けられ、
前記ギャップ変更部は、前記駆動用電極、及び前記第一電極の前記駆動用電極対向領域により構成される
ことを特徴とする波長可変干渉フィルター。
【請求項６】
請求項５に記載の波長可変干渉フィルターにおいて、
前記駆動用電極は、内側駆動用電極と、この内側駆動用電極よりも前記光干渉領域から遠ざかる位置に設けられた外側駆動用電極と、を備える
ことを特徴とする波長可変干渉フィルター。
【請求項７】
請求項５または請求項６に記載の波長可変干渉フィルターにおいて、
前記駆動用電極と前記第一電極の前記駆動用電極対向領域との間の電極間ギャップの寸法は、前記反射膜間ギャップの寸法よりも大きい
ことを特徴とする波長可変干渉フィルター。
【請求項８】
請求項６に記載の波長可変干渉フィルターにおいて、
前記第一電極は、前記内側駆動用電極に対向する内側駆動用電極対向領域と、前記外側駆動用電極に対向する外側駆動用電極対向領域とを備え、
前記外側駆動用電極と前記外側駆動用電極対向領域との間の外側電極間ギャップの寸法は、前記内側駆動用電極と前記内側駆動用電極対向領域との間の内側電極間ギャップの寸法よりも小さく、かつ前記反射膜間ギャップの寸法よりも大きい
ことを特徴とする波長可変干渉フィルター。
【請求項９】
第一基板、前記第一基板に対向する第二基板、前記第一基板に設けられた第一反射膜、前記第二基板に設けられ、前記第一反射膜と反射膜間ギャップを介して対向する第二反射膜、前記反射膜間ギャップを変化させるギャップ変更部、及び、前記第一基板に設けられた第一電極を備えた波長可変干渉フィルターと、
前記波長可変干渉フィルターを収納する筐体と、を備え、
前記第一電極は、前記第一基板及び前記第二基板を基板厚み方向から見た平面視において、前記第一反射膜及び前記第二反射膜が互いに対向して設けられた光干渉領域を含む領域に設けられ、
前記第一反射膜は、前記第一電極を介して前記第一基板に設けられ、前記第二反射膜は、前記第一電極に電気的に接続された
ことを特徴とする光学フィルターデバイス。
【請求項１０】
第一基板と、
前記第一基板に対向する第二基板と、
前記第一基板に設けられた第一反射膜と、
前記第二基板に設けられ、前記第一反射膜と反射膜間ギャップを介して対向する第二反射膜と、
前記反射膜間ギャップを変化させるギャップ変更部と、
前記第一基板に設けられた第一電極と、
前記第一反射膜及び前記第二反射膜により取り出された光を検出する検出部と、を備え、
前記第一電極は、前記第一基板及び前記第二基板を基板厚み方向から見た平面視において、前記第一反射膜及び前記第二反射膜が互いに対向して設けられた光干渉領域を含む領域に設けられ、
前記第一反射膜は、前記第一電極を介して前記第一基板に設けられ、
前記第二反射膜は、前記第一電極に電気的に接続されている
ことを特徴とする光学モジュール。
【請求項１１】
第一基板と、
前記第一基板に対向する第二基板と、
前記第一基板に設けられた第一反射膜と、
前記第二基板に設けられ、前記第一反射膜と反射膜間ギャップを介して対向する第二反射膜と、
前記反射膜間ギャップを変化させるギャップ変更部と、
前記第一基板に設けられた第一電極と、を備え、
前記第一電極は、前記第一基板及び前記第二基板を基板厚み方向から見た平面視において、前記第一反射膜及び前記第二反射膜が互いに対向して設けられた光干渉領域を含む領域に設けられ、
前記第一反射膜は、前記第一電極を介して前記第一基板に設けられ、
前記第二反射膜は、前記第一電極に電気的に接続されている
ことを特徴とする電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成26年8月6日(2014.8.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも偏光フィルムと保護フィルムを備える偏光板であって、
前記偏光フィルムの少なくとも片面に保護フィルムが積層されており、
前記保護フィルムとは反対側の最表面に粘着剤層が設けられており、
前記偏光フィルムの吸収軸と直交する方向の幅２ｍｍあたりの収縮力が、８０℃の温度で２４０分間保持したときに１．０Ｎ以下であり、
前記粘着剤層の２３℃における貯蔵弾性率が０．２０ＭＰａ以上であることを特徴とする、偏光板。
【請求項２】
前記偏光フィルムの前記保護フィルムとは反対側に少なくとも１枚の光学フィルムを備え、最も前記偏光フィルムから遠い前記光学フィルムの前記偏光フィルムとは反対側の面に前記粘着剤層が設けられている、請求項１に記載の偏光板。
【請求項３】
前記偏光フィルムの吸収軸方向の幅２ｍｍあたりの収縮力が、８０℃の温度で２４０分間保持したときに２．５Ｎ以下である、請求項１または２に記載の偏光板。
【請求項４】
前記偏光フィルムの厚みが１０μｍ以下である、請求項１〜３のいずれかに記載の偏光板。
【請求項５】
前記粘着剤層の８０℃における貯蔵弾性率が０．１５ＭＰａ以上である、請求項１〜４のいずれかに記載の偏光板。
【請求項６】
前記光学フィルムが保護フィルムまたは位相差フィルムである、請求項２に記載の偏光板。
【請求項７】
液晶セルの少なくとも片側に、前記粘着剤層を介して請求項１〜６のいずれかに記載の偏光板が貼合された液晶表示装置。
【請求項８】
基材フィルムの一方の面にプライマー溶液を塗工してプライマー層を形成するプライマー層形成工程と、
前記プライマー層の上にポリビニルアルコール系樹脂層を形成し、前記基材フィルム、前記プライマー層および前記ポリビニルアルコール系樹脂層をこの順で備えた積層フィルムを得る、ポリビニルアルコール系樹脂層形成工程と、
前記ポリビニルアルコール系樹脂層に偏光フィルム化処理を施して偏光フィルムとし、前記基材フィルム、前記プライマー層および前記偏光フィルムをこの順で備えた偏光性積層フィルムを得る、偏光フィルム化処理工程と、
前記偏光性積層フィルムの前記基材フィルムとは反対側の面に保護フィルムを貼合する保護フィルム貼合工程と、
前記基材フィルムを前記偏光性積層フィルムから剥離する基材フィルム剥離工程と、
前記保護フィルムとは反対側の最表面に粘着剤層を積層する粘着剤層積層工程と、をこの順で含む、偏光板の製造方法であって、
前記偏光フィルムの吸収軸と直交する方向の幅２ｍｍあたりの収縮力が、８０℃の温度で２４０分間保持したときに１．０Ｎ以下であり、
前記粘着剤層の２３℃における貯蔵弾性率が０．２０ＭＰａ以上であることを特徴とする、偏光板の製造方法。
【請求項９】
前記基材フィルム剥離工程と前記粘着剤層積層工程との間に、
前記基材フィルムが剥離された面側に少なくとも一枚の光学フィルムを積層する光学フィルム積層工程を含む、請求項８に記載の偏光板の製造方法。
【請求項１０】
前記粘着剤層積層工程において、前記偏光フィルムから最も遠い前記光学フィルムの前記偏光フィルムとは反対側の面に前記粘着剤層を積層する、請求項９に記載の偏光板の製造方法。
【請求項１１】
基材フィルムの一方の面にプライマー溶液を塗工してプライマー層を形成するプライマー層形成工程と、
前記プライマー層の上にポリビニルアルコール系樹脂層を形成し、前記基材フィルム、前記プライマー層および前記ポリビニルアルコール系樹脂層をこの順で備えた積層フィルムを得る、ポリビニルアルコール系樹脂層形成工程と、
前記ポリビニルアルコール系樹脂層に偏光フィルム化処理を施して偏光フィルムとし、前記基材フィルム、前記プライマー層および前記偏光フィルムをこの順で備えた偏光性積層フィルムを得る、偏光フィルム化処理工程と、
前記偏光性積層フィルムの前記基材フィルムとは反対側の面に保護フィルムを貼合する保護フィルム貼合工程と、
前記基材フィルムを前記偏光性積層フィルムから剥離する基材フィルム剥離工程と、
前記保護フィルムとは反対側の最表面に、粘着剤層付き光学フィルムを粘着剤層側が最表面となるように積層する粘着剤層付き光学フィルム積層工程と、をこの順で含む、偏光板の製造方法であって、
前記偏光フィルムの吸収軸と直交する方向の幅２ｍｍあたりの収縮力が、８０℃の温度で２４０分間保持したときに１．０Ｎ以下であり、
前記粘着剤層の２３℃における貯蔵弾性率が０．２０ＭＰａ以上であることを特徴とする、偏光板の製造方法。
【請求項１２】
前記基材フィルム剥離工程と、前記粘着剤層付き光学フィルム積層工程との間に、
前記基材フィルムが剥離された面側に少なくとも一枚の他の光学フィルムを積層する光学フィルム積層工程を含む、請求項１１に記載の偏光板の製造方法。
【請求項１３】
前記ポリビニルアルコール系樹脂層形成工程で得られた前記積層フィルムにおいて、前記ポリビニルアルコール系樹脂層の厚みは２０μｍ以下である、請求項８〜１２のいずれかに記載の偏光板の製造方法。
【請求項１４】
前記偏光フィルム化処理工程は、
前記積層フィルムを延伸する延伸工程と、
前記ポリビニルアルコール系樹脂層を二色性物質で染色する染色工程とを含む、
請求項８〜１３のいずれかに記載の偏光板の製造方法。
【請求項１５】
前記延伸工程において、延伸倍率は５倍超である、請求項１４に記載の偏光板の製造方法。
【請求項１６】
前記粘着剤層の８０℃における貯蔵弾性率が０．１５ＭＰａ以上である、請求項８〜１５のいずれかに記載の偏光板の製造方法。
【請求項１７】
前記光学フィルムが保護フィルムまたは位相差フィルムである、請求項９〜１２のいずれかに記載の偏光板の製造方法。