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【手続補正書】
【提出日】平成25年12月19日(2013.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸化物半導体層を含むトランジスタを有する画素部を第１の基板上に形成し、
前記第１の基板上に、少なくとも前記画素部を囲むように、紫外線硬化樹脂を含むシール材を形成し、
前記第１の基板上の前記シール材で囲まれる領域に、液晶を滴下して前記画素部と重なるように液晶層を形成し、
前記第１の基板と第２の基板とをシール材を間にして貼り合わせ、前記シール材に紫外線を照射して前記シール材を硬化させ、
熱処理を行い、前記紫外線照射による前記酸化物半導体層へのダメージを回復させることを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項２】
酸化物半導体層を含むトランジスタを有する画素部を第１の基板上に形成し、
第２の基板上に、紫外線硬化樹脂を含むシール材を形成し、
前記第２の基板上の前記シール材が囲む領域に、液晶を滴下して液晶層を形成し、
前記画素部と前記液晶層が重なるように、前記第１の基板と前記第２の基板とをシール材を間にして貼り合わせ、前記シール材に紫外線を照射して前記シール材を硬化させ、
熱処理を行い、前記紫外線照射による前記酸化物半導体層へのダメージを回復させることを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項３】
酸化物半導体層を含むトランジスタを含む画素部を第１の基板上に形成し、
前記第１の基板上に、少なくとも前記画素部を含む領域を囲むように、紫外線硬化樹脂を含むシール材を形成し、
前記第１の基板と第２の基板とをシール材を間にして貼り合わせ、前記シール材に紫外線を照射して前記シール材を硬化させ、
前記第１の基板、前記第２の基板および前記シール材が囲む空間に、シール材の開口部から液晶を注入して、画素部と重なるように液晶層を形成し、
熱処理を行い、前記紫外線の照射による前記酸化物半導体層へのダメージを回復させることを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項４】
酸化物半導体層を含むトランジスタを含む画素部を第１の基板上に形成し、
第２の基板上に紫外線硬化樹脂を含むシール材を形成し、
前記画素部が第１の基板、第２の基板およびシール材で囲まれるように前記第１の基板と前記第２の基板とをシール材を間にして貼り合わせ、前記シール材に紫外線を照射して前記シール材を硬化させ、
前記第１の基板、前記第２の基板および前記シール材が囲む空間にシール材の開口部から液晶を注入して、画素部と重なるように液晶層を形成し、
熱処理を行い、前記紫外線の照射による前記酸化物半導体層へのダメージを回復させることを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項５】
請求項１または２において、
前記液晶層は紫外線硬化樹脂を含み、
前記シール材を硬化させる前に前記液晶層に光を照射することを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項６】
請求項５において、
前記液晶はブルー相を示すことを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一項において、
前記トランジスタと電気的に接続された画素電極に、紫外線を照射して表面処理を行うことを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項８】
請求項１または請求項２において、
前記液晶層の形成前に、前記シール材に紫外線を照射して前記シール材を仮硬化させることを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項９】
請求項３または請求項４において、
前記第１の基板と前記第２の基板との貼り合わせ前に、前記シール材に紫外線を照射して前記シール材を仮硬化させることを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項１０】
請求項１乃至請求項９のいずれか一項において、
前記シール材を硬化させた後、第１の基板を第２の基板と共に分断することを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項１１】
請求項１乃至請求項１０のいずれか一項において、
前記表示装置の駆動回路部に酸化物半導体層を有する第２のトランジスタを形成し、
前記駆動回路部は、前記シール材と重なる領域を有することを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項１２】
酸化物半導体層を含むトランジスタを有する画素部を第１の基板上に形成し、
前記トランジスタと電気的に接続される発光素子を、前記トランジスタ上に形成し、
前記第１の基板または第２の基板上に、紫外線硬化樹脂を含むシール材を形成し、
前記画素部が第１の基板、第２の基板およびシール材で囲まれるように前記第１の基板と前記第２の基板とをシール材を間にして貼り合わせ、前記シール材に紫外線を照射して前記シール材を硬化させ、
熱処理を行い、前記紫外線の照射による前記酸化物半導体層へのダメージを回復させることを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項１３】
請求項１２において、
前記第１の基板、前記第２の基板、および前記シール材で囲まれる領域に、紫外線硬化樹脂を含む充填材を充填し、
紫外線を照射して、前記シール材と前記充填材を硬化させることを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項１４】
請求項１乃至請求項１３のいずれか一項において、
前記熱処理を１時間以上１５時間以下行うことを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項１５】
請求項１乃至請求項１４のいずれか一項において、
前記熱処理を１２５℃以上２５０℃以下で行うことを特徴とする表示装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月18日(2013.12.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
トランジスタ及び液晶素子を有する画素がマトリクス状に配置された画素部と、
前記トランジスタのゲートに電気的に接続されたゲートドライバと、
前記トランジスタのソース又はドレインに電気的に接続されたソースドライバと、
前記ソースドライバに信号を出力するデータ処理回路とを有し、
前記トランジスタは、酸化物半導体を有し、
前記データ処理回路は、入力されるｍビットのデジタルデータのうち、ｎビット（ｍ、ｎは共に正の整数、かつｍ＞ｎ）を電圧階調に用い、（ｍ−ｎ）ビットを時間階調に用いることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
トランジスタ及び液晶素子を有する画素がマトリクス状に配置された画素部と、
前記トランジスタのゲートに電気的に接続されたゲートドライバと、
前記トランジスタのソース又はドレインに電気的に接続されたソースドライバと、
前記ソースドライバに信号を出力するデータ処理回路とを有し、
前記トランジスタは、真性又は実質的に真性な酸化物半導体を有し、
前記データ処理回路は、入力されるｍビットのデジタルデータのうち、ｎビット（ｍ、ｎは共に正の整数、かつｍ＞ｎ）を電圧階調に用い、（ｍ−ｎ）ビットを時間階調に用いることを特徴とする表示装置。
【請求項３】
トランジスタ及び液晶素子を有する画素がマトリクス状に配置された画素部と、
前記トランジスタのゲートに電気的に接続されたゲートドライバと、
前記トランジスタのソース又はドレインに電気的に接続されたソースドライバと、
前記ソースドライバに信号を出力するデータ処理回路とを有し、
前記トランジスタは、真性又は実質的に真性な酸化物半導体を有し、かつオフ電流が１ａＡ／μｍ以下であり、
前記データ処理回路は、入力されるｍビットのデジタルデータのうち、ｎビット（ｍ、ｎは共に正の整数、かつｍ＞ｎ）を電圧階調の情報として処理し、（ｍ−ｎ）ビットを時間階調の情報として処理することを特徴とする表示装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項において、
前記トランジスタは、
酸化物半導体層と、
ゲート絶縁層を介して前記酸化物半導体層と重なる領域を有するゲート電極と、
前記酸化物半導体層と電気的に接続された第１の導電層と、
前記酸化物半導体層と電気的に接続された第２の導電層と、を有し、
前記ゲート電極と、前記第１の導電層と、前記第２の導電層とは、同一の導電膜を加工する工程を経て形成されたものであることを特徴とする表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月19日(2013.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】液晶表示装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画素を有し、
前記画素は、トランジスタと、液晶素子と、容量素子と、を有し、
前記トランジスタは、前記液晶素子の一方の電極と電気的に接続され、
前記容量素子の一方の電極は、前記画素電極と電気的に接続され、
前記容量素子の他方の電極には、少なくとも信号が入力される液晶表示装置であって、
第１の期間と、第２の期間と、を有し、
前記第１の期間において、前記トランジスタはオンであり、
前記第１の期間において、前記液晶素子の一方の電極には前記トランジスタを介して画像信号が供給され、
前記第２の期間において、前記トランジスタはオフであり、
前記第２の期間において、前記画像信号の電位が前記液晶素子の他方の電極の電位よりも低い場合には、前記信号の電位が下降し、
前記第２の期間において、前記画像信号の電位が前記液晶素子の他方の電極の電位よりも高い場合には、前記信号の電位が上昇することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
画素を有し、
前記画素は、トランジスタと、液晶素子と、容量素子と、を有し、
前記トランジスタは、前記液晶素子の一方の電極と電気的に接続され、
前記容量素子の一方の電極は、前記画素電極と電気的に接続され、
前記容量素子の他方の電極には、少なくとも信号が入力される液晶表示装置であって、
第１の期間と、第２の期間と、第３の期間と、第４の期間と、を有し、
前記第１の期間において、前記トランジスタはオンであり、
前記第１の期間において、前記液晶素子の一方の電極には前記トランジスタを介して第１の画像信号が供給され、
前記第１の画像信号の電位は、前記液晶素子の他方の電極の電位よりも低い値を有し、
前記第２の期間において、前記トランジスタはオフであり、
前記第２の期間において、前記信号の電位が下降し、
前記第３の期間において、前記トランジスタはオンであり、
前記第３の期間において、前記液晶素子の一方の電極には前記トランジスタを介して第２の画像信号が供給され、
前記第２の画像信号の電位は、前記液晶素子の他方の電極の電位よりも高い値を有し、
前記第４の期間において、前記トランジスタはオフであり、
前記第４の期間において、前記信号の電位が上昇することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
画素と、第１の回路と、第２の回路と、第１のスイッチと、第２のスイッチと、を有し、
前記画素は、トランジスタと、液晶素子と、容量素子と、を有し、
前記トランジスタは、前記液晶素子の一方の電極と電気的に接続され、
前記容量素子の一方の電極は、前記画素電極と電気的に接続され、
前記容量素子の他方の電極は、前記第１のスイッチを介して前記第１の回路と電気的に接続され、
前記容量素子の他方の電極は、前記第２のスイッチを介して前記第２の回路と電気的に接続され、
前記第１の回路は、第１の電流を供給する機能を有し、
前記第２の回路は、第２の電流を供給する機能を有し、
前記第１の電流の向きは、前記第１の回路から前記液晶素子の他方の電極に向かう方向であり、
前記第２の電流の向きは、前記液晶素子の他方の電極から前記第２の回路に向かう方向であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
請求項３において、
第１の期間と、第２の期間と、を有し、
前記第１の期間において、前記トランジスタはオンであり、
前記第１の期間において、前記液晶素子の一方の電極には前記トランジスタを介して画像信号が供給され、
前記第２の期間において、前記トランジスタはオフであり、
前記第２の期間において、前記画像信号の電位が前記液晶素子の他方の電極の電位よりも低い場合には、前記第１のスイッチはオフであり、且つ前記第２のスイッチはオンであり、
前記第２の期間において、前記画像信号の電位が前記液晶素子の他方の電極の電位よりも高い場合には、前記第１のスイッチはオンであり、且つ前記第２のスイッチはオフであることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項５】
請求項３において、
第１の期間と、第２の期間と、第３の期間と、第４の期間と、を有し、
前記第１の期間において、前記トランジスタはオンであり、
前記第１の期間において、前記液晶素子の一方の電極には前記トランジスタを介して第１の画像信号が供給され、
前記第１の画像信号の電位は、前記液晶素子の他方の電極の電位よりも低い値を有し、
前記第２の期間において、前記トランジスタはオフであり、
前記第２の期間において、前記第１のスイッチはオフであり、
前記第２の期間において、前記第２のスイッチはオンであり、
前記第３の期間において、前記トランジスタはオンであり、
前記第３の期間において、前記液晶素子の一方の電極には前記トランジスタを介して第２の画像信号が供給され、
前記第２の画像信号の電位は、前記液晶素子の他方の電極の電位よりも高い値を有し、
前記第４の期間において、前記トランジスタはオフであり、
前記第４の期間において、前記第１のスイッチはオンであり、
前記第４の期間において、前記第２のスイッチはオフであることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項において、
前記トランジスタは、酸化物半導体を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項７】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項において、
前記トランジスタは、酸化物半導体を有し、
前記酸化物半導体は、キャリア濃度が１×１０１４／ｃｍ３未満である領域を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか一項において、
前記トランジスタのオフ電流は、１×１０−１７Ａ／μｍ以下であることを特養とする液晶表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年1月8日(2014.1.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
また、熱封緘層の上記の組成は、付着防止層の耐熱性を向上し、その付着防止性能の熱安定性を顕著に向上し得て、容器本体へのヒートシール後においても上記の優れた内容物付着防止効果を良好に維持する。熱封緘層中のワックス成分は疎水性無機微粒子との密着性を高めるために重要な役割を担うが、従来一般的に使用されているワックスでは、付着防止効果の熱安定性に問題があった。これに対し、本発明による付着防止効果の熱安定性、すなわち耐熱性の向上効果は、本発明者らの考察によれば、次のような現象によって達成されているものと考えられる。即ち熱封緘層の外面に付加して設けられた内容物付着防止層が疎水性シリカ等の疎水性微粒子の層によって形成されているものであることとの関係において、該微粒子分散液の塗工後の乾燥時の加熱、あるいは内容物充填後の容器シール時の待機中に受ける熱板からの輻射熱、更にはヒートシール時に直接熱板から受ける熱影響等によって、樹脂組成物中の低融点成分が早期かつ過度に溶融して高い流動性を発現するのを抑制ないし防止しうる。即ち、樹脂組成物のワックスおよび／または粘着付与剤の融点がいずれも高いことで、それらの溶融を遅らせることができ、また抑制することができる。その結果、付着防止層の疎水性無機微粒子が、不本意に熱封緘層中に沈み込んだり、あるいは微粒子間の隙間に熱封緘層の溶融成分が毛細管現象で入り込んで上記隙間を埋めてしまうのを防止しうる。従って、上記微粒子の疎水性表面の露出面積の極端な減少を防いで、良好な内容物付着防止効果を維持しうるものと考えられる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７９】
（２）熱処理後の付着防止性能
各試料Ｎｏ．１〜２０の各蓋材について、第1の耐熱試験は「温度１００℃×時間３０秒」の加熱条件で、第2の耐熱試験は「温度１００℃×時間1０分」の加熱条件で、第３の耐熱試験は「温度１００℃×時間３０分」の加熱条件で、それぞれ各試料を加熱雰囲気中に保管後、常温まで冷却した各試料について前記（１）と同様の付着防止性能評価試験を行った。
【手続補正書】
【提出日】平成26年2月26日(2014.2.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シートへの画像形成、および、シート上の画像の読み取りの少なくとも一方を行うための画像処理装置であって、
装置本体と、
装置本体に設けられて前記シートを積層状態に収容するシート収容部と、
前記シート収容部内の前記シートを送り出すための送出路と、
前記送出路に臨ませて設けられたフィードローラと、
前記フィードローラに対し前記送出路を挟んで対向して設けられたリタードローラ、および該リタードローラに同軸に接続されたトルクリミッタを有するリタードユニットと、  前記リタードローラが前記フィードローラと圧接するように前記リタードユニットを付勢する付勢手段とを備え、
前記リタードユニットは、前記装置本体に着脱可能に設けられている、画像処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の画像処理装置であって、
前記装置本体は、前記シートの送り出し方向と交差する方向に延在する軸体を備え、
前記リタードユニットには、挿通孔が設けられ、
前記リタードユニットは、前記軸体が前記挿通孔に挿通されることにより、前記軸体周りに揺動可能に支持されることを特徴とする、画像処理装置。
【請求項３】
請求項２に記載の画像処理装置であって、
前記軸体は、前記装置本体から上方へ向けて突出配置され、
前記リタードユニットは、前記軸体へ上方から前記挿通孔を嵌合させることにより前記装置本体へ装着されることを特徴とする画像処理装置。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか一項に記載の画像処理装置であって、
前記付勢手段は、前記リタードユニットに対し前記フィードローラに向けて後方から当接する押さえ板と、前記押さえ板を前記フィードローラに向けて付勢する弾性体とを備えている、画像処理装置。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか一項に記載の画像処理装置であって
前記装置本体には、前記リタードユニットに当接して前記リタードユニットの浮き上がりを防ぐ押さえ部が設けられており、
前記リタードユニットは前記付勢手段により付勢されて前記押さえ部と係合することを特徴とする画像処理装置。
【請求項６】
請求項１から５のいずれか一項に記載の画像処理装置であって、
前記シート収容部は、前記シートを直立した状態で収容し、
前記送出路には、前記シートが起立状態で送出され、
前記装置本体は、起立状態に配置された板状部を有する第一部材と、前記板状部に沿って配置された第二部材を有し、
前記第二部材は、前記板状部との間が前記シート収容部として形成された第一の部分と、前記板状部との間が前記送出路として形成された第二の部分とを有し、
前記リタードユニットは、その少なくとも一部が、前記シートの送り出し方向から見て前記第一の部分と前記第二の部分との間に配置されていることを特徴とする画像処理装置。
【請求項７】
装置本体に積層収容されたシートを分離してシート搬送路へ送り出すためのシート給送構造であって、
前記シートの送り出し方向に回転駆動されるフィードローラと、
前記フィードローラに対し前記シート搬送路を挟んだ位置から接するリタードローラと、
前記リタードローラに接続されて、前記リタードローラの所定値以下のトルクによる回転を規制するトルクリミッタと、
前記リタードローラと前記トルクリミッタとを同軸上に回動可能に収容するケースと、  前記ケースを前記フィードローラに向けた所定方向に付勢する付勢手段と、
前記ケースを前記所定方向へ揺動可能とするとともに、前記装置本体への前記ケースの着脱を可能とする着脱機構とを備えたことを特徴とするシート給送構造。
【請求項８】
請求項７に記載のシート給送構造であって、
前記着脱機構は、前記装置本体に固定された軸体と、前記ケースに設けられ、前記軸体を挿通可能な挿通孔とを備えて構成されることを特徴とするシート給送構造。
【請求項９】
請求項８に記載のシート給送構造であって、
前記軸体は鉛直方向に配置されていることを特徴とするシート給送構造。
【請求項１０】
請求項８または９に記載のシート給送構造であって、
前記リタードローラおよび前記トルクリミッタの回転軸は、前記軸体に平行に配置されていることを特徴とするシート給送構造。
【請求項１１】
請求項７から１０のいずれか一項に記載のシート給送構造であって、
前記付勢手段は、前記ケースに対し前記所定方向から接する押さえ板と、前記押さえ部と前記装置本体との間に設けられた押さえバネとを備えて構成されており、
前記押さえ板は、前記装置本体に対して揺動可能に取り付けられており、
前記ケースには前記押さえ板と当接する当接面が設けられていることを特徴とするシート給送構造。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
（適用例１３）  適用例９から１２のいずれか１つに記載のシート給送構造であって、前記付勢手段は、前記ケースに対し前記所定方向から接する押さえ板と、前記押さえ部と前記装置本体との間に設けられた押さえバネとを備えて構成されている。
このような構成により、リタードローラを収納したケースを、簡易な構成でフィードローラ方向に均一に押圧することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
【図１】本発明の実施の形態に係る小切手処理装置を示す外観斜視図である。
【図２】図１に示した小切手処理装置の内部の平面図である。
【図３】図２に示した小切手処理装置におけるシート給送構造に係る部分の平面図で    ある。
【図４】図３に示したシート給送構造の斜視図である。
【図５】同、分解斜視図である。
【図６】図５中矢印IV方向よりシート給送構造を見たときの分解斜視図である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
図５は、シート給送構造１０の分解斜視図である。図中に示すように、リタードユニット１９はシート給送構造１０（装置本体２）に対して着脱可能となっている。リタードユニット１９の着脱機構は次のように構成される。すなわち、リタードユニット１９のケース２２には、リタードローラ２０およびトルクリミッタ２１の軸方向（図中上下方向）と平行に貫通する挿通孔２４が設けられるとともに、シート給送構造１０（装置本体２）には、その底板２５から軸体２６が起立状態に設けられる。そして、リタードユニット１９は、挿通孔２４に軸体２６を挿通させつつシート給送構造１０に対して上方から配置されることにより、シート給送構造１０に対して取り付け可能とされる。このようにして取り付けられたリタードユニット１９は、軸体２６を回転中心として図３、４中Ｂ方向およびその反対方向に揺動可能とされる。また、この場合、挿通孔２４と軸体２６とは単に嵌合されるだけなので、リタードユニット１９を簡単にシート給送構造１０から取り外すことが可能となっている。なお、リタードユニット１９のケース２２の上部には、持ち手部２８が設けられており、持ち手部２８を手で持つことにより、リタードユニット１９の着脱作業を容易に行うことができる。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月9日(2013.12.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録部に供給する記録媒体を重ねて保持する供給保持部と、
前記記録部から前記記録媒体を排出する排出ローラーと、
前記排出ローラーから排出された記録媒体を重ねて保持すると共に、前記供給保持部に向かって回動可能に重ねて配設された排出保持部と、
前記供給保持部における前記記録媒体の保持量の減少に対応して、前記排出保持部が前記排出ローラーから離れるように、前記排出保持部を前記供給保持部に向かって回動させる回動手段と、
を備えたことを特徴とする記録装置。
【請求項２】
前記排出保持部は、前記供給保持部に保持されている前記記録媒体に接触可能な接触部材を有していることを特徴とする請求項１に記載の記録装置。
【請求項３】
前記排出保持部は、前記記録媒体の排出方向下流側を保持する固定保持部と、前記固定保持部に対して回動自在に設けられ前記記録媒体の排出方向上流側を保持する可動保持部と、を有し、
前記可動保持部は、前記供給保持部に向かって回動可能に重ねて配設されており、
前記回動手段は、前記供給保持部における前記記録媒体の保持量の減少に対応して、前記可動保持部が前記排出ローラーから離れるように、前記可動保持部を前記供給保持部に向かって回動させることを特徴とする請求項１または２に記載の記録装置。
【請求項４】
前記回動手段は、前記排出保持部を前記供給保持部に向かって付勢する付勢手段を有していることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の記録装置。
【請求項５】
前記排出保持部は、前記回動手段に代えて自重により回動することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の記録装置。
【請求項６】
前記回動手段は、
前記供給保持部に保持された前記記録媒体の保持量を検出する保持量検出手段と、
前記保持量検出手段の検出結果に基づいて、前記排出保持部を回動させる回動機構と、
を有していることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の記録装置。
【請求項７】
前記接触部材は、自由回転するフリーローラーであることを特徴とする請求項２乃至６のいずれか１項に記載の記録装置。
【請求項８】
前記供給保持部および前記排出保持部の一方にカム部が、他方に前記カム部に当接可能なカムフォロアが設けられ、前記供給保持部を使用状態に挿入セットする際に、前記カム部が前記カムフォロアに当接して、前記フリーローラーを押し上げることを特徴とする請求項７に記載の記録装置。
【請求項９】
前記可動保持部は、保持した前記記録媒体の上流端を支持する支持片を有し、
前記排出保持部が最大保持状態で、前記支持片と回動方向にオーバーラップする固定支持部を、更に備えたことを特徴とする請求項３に記載の記録装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】記録装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、記録部において所定の処理が行われ排出された記録媒体を重ねて保持する記録装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明は、処理した記録媒体の数量に応じて保持容量の変更が可能な記録装置を提供することを課題とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の記録装置は、記録部に供給する記録媒体を重ねて保持する供給保持部と、記録部から記録媒体を排出する排出ローラーと、排出ローラーから排出された記録媒体を重ねて保持すると共に、供給保持部に向かって回動可能に重ねて配設された排出保持部と、供給保持部における記録媒体の保持量の減少に対応して、排出保持部が排出ローラーから離れるように、排出保持部を供給保持部に向かって回動させる回動手段と、を備えたことを特徴とする。
この場合、排出保持部は、供給保持部に保持されている記録媒体に接触可能な接触部材を有していることが好ましい。
一方、排出保持部は、記録媒体の排出方向下流側を保持する固定保持部と、固定保持部に対して回動自在に設けられ記録媒体の排出方向上流側を保持する可動保持部と、を有し、可動保持部は、供給保持部に向かって回動可能に重ねて配設されており、回動手段は、供給保持部における記録媒体の保持量の減少に対応して、可動保持部が排出ローラーから離れるように、可動保持部を供給保持部に向かって回動させることが好ましい。
また、回動手段は、排出保持部を供給保持部に向かって付勢する付勢手段を有していることが好ましい。
同様に、排出保持部は、回動手段に代えて自重により回動することが好ましい。
同様に、回動手段は、供給保持部に保持された記録媒体の保持量を検出する保持量検出手段と、保持量検出手段の検出結果に基づいて、排出保持部を回動させる回動機構と、を有していることが好ましい。
また、接触部材は、自由回転するフリーローラーであることが好ましい。
この場合、供給保持部および排出保持部の一方にカム部が、他方にカム部に当接可能なカムフォロアが設けられ、供給保持部を使用状態に挿入セットする際に、カム部がカムフォロアに当接して、フリーローラーを押し上げることが好ましい。
さらに、可動保持部は、保持した記録媒体の上流端を支持する支持片を有し、排出保持部が最大保持状態で、支持片と回動方向にオーバーラップする固定支持部を、更に備えることが好ましい。
なお、以下の構成としてもよい。
本発明の媒体保持装置は、媒体処理部から排出された記録媒体を重ねて保持すると共に、記録媒体の排出方向下流側を保持する固定保持部に対して回動自在に設けられ記録媒体の排出方向上流側を保持する可動保持部を有する排出保持部と、記録媒体の保持量の増加に対応して、可動保持部を、保持容量が大きくなる方向に回動させる回動手段と、を備えたことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月9日(2013.12.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録部に供給する記録媒体を重ねて保持する供給保持部と、
前記記録部から前記記録媒体を排出する排出ローラーと、
前記排出ローラーから排出された記録媒体を重ねて保持すると共に、前記供給保持部に向かって移動可能に重ねて配設された排出保持部と、
前記供給保持部における前記記録媒体の保持量の減少に対応して、前記排出保持部が前記排出ローラーから離れるように、前記排出保持部を前記供給保持部に向かって移動させる移動手段と、
を備えたことを特徴とする記録装置。
【請求項２】
前記排出保持部は、前記供給保持部に保持されている前記記録媒体に接触可能な接触部材を有していることを特徴とする請求項１に記載の記録装置。
【請求項３】
前記排出保持部の側面に形成された軸と、前記排出保持部の側面と対向するフレームに形成され、前記軸が移動可能なガイドと、を備え、
前記排出保持部は前記ガイドに案内され、姿勢を維持したまま前記供給保持部に向かって移動可能に構成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の記録装置。
【請求項４】
前記移動手段は、前記排出保持部を前記供給保持部に向かって付勢する付勢手段を有していることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の記録装置。
【請求項５】
前記排出保持部は、前記移動手段に代えて自重で移動することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の記録装置。  
【請求項６】
前記移動手段は、
前記供給保持部に保持された前記記録媒体の保持量を検出する保持量検出手段と、
前記保持量検出手段の検出結果に基づいて、前記排出保持部を移動させる移動機構と、
を有していることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の記録装置。
【請求項７】
前記接触部材は、自由回転するフリーローラーであることを特徴とする請求項２乃至６のいずれか１項に記載の記録装置。
【請求項８】
前記供給保持部および前記排出保持部の一方にカム部が、他方に前記カム部と当接可能なカムフォロアが設けられ、前記供給保持部を使用状態に挿入セットする際に、前記カム部が前記カムフォロアに当接して、前記フリーローラーを押し上げることを特徴とする請求項７に記載の記録装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】記録装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、記録部において所定の処理が行われ排出された記録媒体を重ねて保持する記録装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明は、処理した記録媒体の数量に応じて保持容量の変更が可能な記録装置を提供することを課題とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の記録装置は、記録部に供給する記録媒体を重ねて保持する供給保持部と、記録部から記録媒体を排出する排出ローラーと、排出ローラーから排出された記録媒体を重ねて保持すると共に、供給保持部に向かって移動可能に重ねて配設された排出保持部と、供給保持部における記録媒体の保持量の減少に対応して、排出保持部が排出ローラーから離れるように、排出保持部を供給保持部に向かって移動させる移動手段と、を備えたことを特徴とする。
この場合、排出保持部は、供給保持部に保持されている記録媒体に接触可能な接触部材を有していることが好ましい。
また、排出保持部の側面に形成された軸と、排出保持部の側面と対向するフレームに形成され、軸が移動可能なガイドと、を備え、排出保持部はガイドに案内され、姿勢を維持したまま供給保持部に向かって移動可能に構成されていることが好ましい。
さらに、移動手段は、排出保持部を供給保持部に向かって付勢する付勢手段を有していることが好ましい。
同様に、排出保持部は、移動手段に代えて自重で移動することが好ましい。
同様に、移動手段は、供給保持部に保持された記録媒体の保持量を検出する保持量検出手段と、保持量検出手段の検出結果に基づいて、排出保持部を移動させる移動機構と、を有していることが好ましい。
一方、接触部材は、自由回転するフリーローラーであることが好ましい。
この場合、供給保持部および排出保持部の一方にカム部が、他方にカム部と当接可能なカムフォロアが設けられ、供給保持部を使用状態に挿入セットする際に、カム部が前記カムフォロアに当接して、フリーローラーを押し上げることが好ましい。
なお、以下の構成としてもよい。
本発明の媒体保持装置は、媒体処理部に供給する記録媒体を重ねて保持する供給保持部と、媒体処理部から排出された記録媒体を重ねて保持すると共に、供給保持部に対し侵入可能に重ねて配設された排出保持部と、供給保持部における記録媒体の保持量の減少に対応して、排出保持部の保持容量が大きくなるように、排出保持部を供給保持部に侵入するように移動させる移動手段と、を備えたことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月30日(2014.5.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルミナ（Ａｌ2Ｏ3）の含有量が９９．５質量％以上、シリカ（ＳｉＯ2）の含有量が０．１質量％以下のアルミナの焼結体であり、その熱伝導率が３３Ｗ／ｍ・Ｋ以上であり、かつ、曲げ強度が４００ＭＰａ以上であることを特徴とする熱放射部材用セラミックス。
【請求項２】
前記焼結体の結晶粒径が１〜５μｍである請求項１に記載の熱放射部材用セラミックス。
【請求項３】
表面の少なくとも一部に、遠赤外線放射膜をさらに有する請求項１または２に記載の熱放射部材用セラミックス。
【請求項４】
前記遠赤外線放射膜は、耐熱性無機接着剤と、少なくとも２種の遷移元素酸化物を混合し、７００〜１，３００℃で仮焼した微粉末状の混合仮焼成物を、９７：３〜２０：８０の質量比率で含有する遠赤外線放射コーティング組成物のコーティング膜を焼き付けてなる請求項３に記載の熱放射部材用セラミックス。
【請求項５】
発電セルの裏面に請求項１〜４のいずれか１項に記載の熱放射部材用セラミックスを配置してなることを特徴とする太陽電池モジュール。
【請求項６】
基板表面に回路が形成され、該回路上にＬＥＤ素子が設けられているＬＥＤ発光モジュールにおける上記基板が、請求項１〜４のいずれか１項に記載の熱放射部材用セラミックスであることを特徴とするＬＥＤ発光モジュール。
【請求項７】
アルミナ(Ａｌ2Ｏ3)の含有量が９９．９質量％以上で、かつ、平均粒子径が０．２〜０．４μｍであるアルミナ粉末を原料として用い、該粉末を５０〜１００μｍの顆粒状にする顆粒化工程と、該顆粒化工程で得られた顆粒状のアルミナを含む原料を加圧成形する成形工程と、該成形工程で得られた成形体を大気雰囲気中で加熱して、１，４８０〜１，６００℃の焼成温度で焼成して焼結体を得る焼成工程とを有し、請求項１または２に記載の熱放射部材用セラミックスを製造することを特徴とする熱放射部材用セラミックスの製造方法。
【請求項８】
アルミナ(Ａｌ2Ｏ3)の含有量が９９．９質量％以上で、かつ、平均粒子径が０．２〜０．４μｍであるアルミナ粉末を原料として用い、該粉末を５０〜１００μｍの顆粒状にする顆粒化工程と、該顆粒化工程で得られた顆粒状のアルミナを含む原料を加圧成形する成形工程と、該成形工程で得られた成形体を大気雰囲気中で加熱して、１，４８０〜１，６００℃の焼成温度で焼成して焼結体を得る焼成工程と、該焼成工程で得られた焼結体の表面の少なくとも一部に、遠赤外線放射コーティング組成物からなるコーティング膜を形成し、焼き付けして遠赤外線放射膜を形成する工程を有し、請求項３または４に記載の熱放射部材用セラミックスを製造することを特徴とする熱放射部材用セラミックスの製造方法。
【請求項９】
前記遠赤外線放射コーティング組成物は、耐熱性無機接着剤と、少なくとも２種の遷移元素酸化物を混合し、７００〜１，３００℃で仮焼した微粉末状の混合仮焼成物を、９７：３〜２０：８０の質量比率で含有してなる請求項８に記載の熱放射部材用セラミックスの製造方法。
【請求項１０】
前記成形工程において、密度が少なくとも２．４０ｇ／ｃｍ3である成形体を得る請求項７〜９のいずれか１項に記載の熱放射部材用セラミックスの製造方法。
【請求項１１】
さらに、前記焼成工程後に、該焼成工程における焼成温度までの昇温速度に対して、１．３〜２．０倍の速度で焼成物を急冷して焼結体を得る冷却工程を有する請求項７〜１０のいずれか１項に記載の熱放射部材用セラミックスの製造方法。
【請求項１２】
前記焼成工程における焼成を、空気を流通させたバッチ式の炉内で行う請求項７〜１１のいずれか１項に記載の熱放射部材用セラミックスの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年2月27日(2014.2.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（２）で表されるテトラビシクロポルフィリンバナジル錯体の製造方法であって、
下記一般式（１）で表されるテトラビシクロポルフィリン化合物とバナジル化合物とを反応させる工程を含み、
前記反応を、６５℃以上９５℃以下の温度で行うことを特徴とする、テトラビシクロポルフィリンバナジル錯体の製造方法。
2012180294.tif 000001
2012180294.tif 000002
（式（１）及び式（２）において、Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれ独立に１価の有機基を表し、Ｒ５とＲ６、Ｒ７とＲ８、Ｒ９とＲ１０、及びＲ１１とＲ１２の組のそれぞれについて、一方は以下の式（３）に示されるＲＸであり、他方は式（３）に示されるＲＹであり、Ｒ１３〜Ｒ１６は１価の有機基を表す。）
2012180294.tif 000003
【請求項２】
下記一般式（２）で表されるテトラビシクロポルフィリンバナジル錯体。
2012180294.tif 000004
（式（１）及び式（２）において、Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれ独立に１価の有機基を表し、Ｒ５とＲ６、Ｒ７とＲ８、Ｒ９とＲ１０、及びＲ１１とＲ１２の組のそれぞれについて、一方は以下の式（３）に示されるＲＸであり、他方は式（３）に示されるＲＹであり、Ｒ１３〜Ｒ１６は１価の有機基を表す。）
2012180294.tif 000005
【請求項３】
請求項２に記載のテトラビシクロポルフィリンバナジル錯体を含有する半導体層形成用組成物。
【請求項４】
請求項３に記載の半導体層形成用組成物を基材上に塗布する工程と、
前記塗布された半導体層形成用組成物に含まれている前記一般式（２）で表されるテトラビシクロポルフィリンバナジル錯体を、下記一般式（４）で表されるテトラベンゾポルフィリンバナジル錯体へと変換する工程と、
を含むことを特徴とする、電子デバイスの製造方法。
2012180294.tif 000006
（式（４）において、Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれ独立に１価の有機基を表す。）
【請求項５】
前記電子デバイスが光電変換素子であることを特徴とする、請求項４に記載の電子デバイスの製造方法。
【請求項６】
請求項５に記載の製造方法により得られた光電変換素子を備えることを特徴とする太陽電池。
【請求項７】
請求項６に記載の太陽電池を備えることを特徴とする太陽電池モジュール。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】テトラビシクロポルフィリンバナジル錯体の製造方法、テトラビシクロポルフィリンバナジル錯体、半導体層形成用組成物、電子デバイスの製造方法、太陽電池及び太陽電池モジュール
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
［２］  下記一般式（２）で表されるテトラビシクロポルフィリンバナジル錯体。
2012180294.tif 000007
（式（１）及び式（２）において、Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれ独立に１価の有機基を表し、Ｒ５とＲ６、Ｒ７とＲ８、Ｒ９とＲ１０、及びＲ１１とＲ１２の組のそれぞれについて、一方は以下の式（３）に示されるＲＸであり、他方は式（３）に示されるＲＹであり、Ｒ１３〜Ｒ１６は１価の有機基を表す。）
2012180294.tif 000008
［３］  ［２］に記載のテトラビシクロポルフィリンバナジル錯体を含有する半導体層形成用組成物。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
［４］  ［３］に記載の半導体層形成用組成物を基材上に塗布する工程と、
前記塗布された半導体層形成用組成物に含まれている前記一般式（２）で表されるテトラビシクロポルフィリンバナジル錯体を、下記一般式（４）で表されるテトラベンゾポルフィリンバナジル錯体へと変換する工程と、
を含むことを特徴とする、電子デバイスの製造方法。
2012180294.tif 000009
（式（４）において、Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれ独立に１価の有機基を表す。）
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
［５］  前記電子デバイスが光電変換素子であることを特徴とする、［４］に記載の電子デバイスの製造方法。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
［６］  ［５］に記載の製造方法により得られた光電変換素子を備えることを特徴とする太陽電池。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
［７］  ［６］に記載の太陽電池を備えることを特徴とする太陽電池モジュール。
【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2012180294.tif 000010
【手続補正書】
【提出日】平成26年2月24日(2014.2.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式［１］で示されることを特徴とする有機化合物。
【化１】
2012180333.tif 000001
一般式［１］において、ＡおよびＡ’はそれぞれ独立に水素原子、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基、炭素原子数１以上２０以下のアルコキシ基、アリール基から選ばれる。ただし、ＡとＡ’との少なくともいずれか一方は前記アルキル基または前記アルコキシ基または前記アリール基である。
前記アリール基は炭素原子数１以上４以下のアルキル基または炭素原子数１以上４以下のアルコキシ基を置換基として有してよい。
Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、または、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基、炭素原子数１以上２０以下のアルコキシ基、アリール基、アラルキル基、アミノ基、シリル基を表す。ｎは、１または２である。
前記アリール基および前記アラルキル基および前記アミノ基および前記シリル基は炭素原子数１以上４以下のアルキル基を置換基として有してよい。
【請求項２】
前記ＡおよびＡ’はいずれも前記フェニル基または前記メチル基のいずれか一方であることを特徴とする請求項１に記載の有機化合物。
【請求項３】
前記ＡおよびＡ’がいずれも前記メチル基であることを特徴とする請求項２に記載の有機化合物。
【請求項４】
前記ＡおよびＡ’の少なくともいずれか一方は炭素原子数１以上２０以下のアルコキシ基であることを特徴とする請求項１に記載の有機化合物。
【請求項５】
前記ＡおよびＡ’の少なくともいずれか一方は炭素原子数１以上４以下のアルコキシ基であることを特徴とする請求項４に記載の有機化合物。
【請求項６】
前記ＡおよびＡ’の少なくともいずれか一方はメトキシ基またはイソプロポキシ基であることを特徴とする請求項５に記載の有機化合物。
【請求項７】
一対の電極と前記一対の電極の間に配置されるエレクトロクロミック層およびイオン伝導層とを有し、
前記エレクトロクロミック層は請求項１乃至６に記載の有機化合物を有することを特徴とするエレクトロクロミック素子。
【請求項８】
前記エレクトロクロミック層および前記イオン伝導層が溶液層であることを特徴とする請求項７に記載のエレクトロクロミック素子。
【請求項９】
請求項７または８に記載のエレクトロクロミック素子を有することを特徴とする光学フィルタ。
【手続補正書】
【提出日】平成26年1月27日(2014.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
キャリアとパッドとがディスク回転方向で凹凸嵌合する凹凸嵌合部を有し、該凹凸嵌合部よりもディスク半径方向内側で前記パッドの制動トルクを前記キャリアへ伝達するとともに、前記凹凸嵌合部を含む該キャリアと前記パッドとの間に該パッドをディスク半径方向外側に付勢するパッドスプリングが設けられたディスクブレーキにおいて、
前記凹凸嵌合部のうちのディスク半径方向内側の位置で、前記キャリアと前記パッドスプリングとの間には、これらのうちの一方から他方へ向かって突出する突起部が複数設けられており、該複数の突起部のうち少なくとも一つはディスク回転方向にずれて形成されている、ディスクブレーキ。
【請求項２】
前記凹凸嵌合部のうちのディスク半径方向外側の位置には、前記キャリアと当接して前記パッドスプリングを係止する係止爪が該パッドスプリングに突出して設けられている、請求項１記載のディスクブレーキ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記目的を達成するために、本発明は、凹凸嵌合部のうちのディスク半径方向内側の位置のキャリアとパッドスプリングとの間にこれらのうちの一方から他方へ向かって突出する突起部を複数設け、該複数の突起部のうち少なくとも一つはディスク回転方向にずれて形成されている構成とした。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成25年11月25日(2013.11.25)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２７】
吸収したラテックスは、熱硬化性化合物とは別に、従来の乳化重合技術を用いて有利に製造され、次いで、そのままであるかまたは水性分散物の形態でありうる、好ましくは水性分散物として、より好ましくはマイクロ化された水性分散物としての熱硬化性化合物と組み合わせられる。熱硬化性化合物が水性分散物として添加される場合には、エマルションは安定化する量の界面活性剤で、好ましくは約０．５〜約５重量％の範囲の濃度で安定化される。非イオン性界面活性剤が好ましく、例えば、ＡＰＥＯを含まない、非イオン性湿潤剤、例えば、ポリアルキレンオキシドブロックコポリマー、ポリオキシエチレングリコールアルキルエーテル、グルコシドアルキルエーテル、脂肪酸エステル、グリセロールアルキルエステル、ソルビタンアルキルエステルおよびポリオキシエチレングリコールアルキルフェノールエーテルが挙げられ、例えば、商業的に入手可能な湿潤剤、例えば、ＴＲＩＴＯＮ（トライトン）Ｘ−４０５オクチルフェノールエトキシラート（ザダウケミカルカンパニーもしくはその関連会社の商標）が挙げられる。熱硬化性化合物がそのままの化合物としてラテックスと組み合わせられる場合には、室温以上での攪拌によって吸収は促進される。
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月14日(2013.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
板厚（ｔ）が５０ｍｍ以上の厚鋼板であって、板厚方向断面における長大脆性き裂伝播停止部の先端形状において、板厚中央部の板厚（ｔ）の２０％の幅の領域における停止き裂長さが、鋼板表面から板厚（ｔ）の１／４〜１／１０または板厚（ｔ）の３／４〜９／１０となる領域の最大き裂長さに対し、少なくとも板厚（ｔ）の長さだけ前記長大脆性き裂の進行方向に対し短く、凹んだ凹陥部を形成していることを特徴とする長大脆性き裂伝播停止特性に優れる板厚（ｔ）が５０ｍｍ以上の厚鋼板。
【請求項２】
前記板厚中央部で板厚（ｔ）の少なくとも２０％の領域における部位の圧延面での（２１１）面もしくは（１００）面のＸ線強度比が１．５以上、前記板厚（ｔ）の１／４〜１／１０となる領域または前記板厚（ｔ）の３／４〜９／１０となる領域の圧延面での（１１０）面のＸ線強度比が１．３以上であることを特徴とする、請求項１記載の長大脆性き裂伝播停止特性に優れる板厚（ｔ）が５０ｍｍ以上の厚鋼板。
【請求項３】
前記板厚中央部で板厚（ｔ）の少なくとも２０％の領域における部位の圧延面での（２１１）面Ｘ線強度比Ｘ（２１１）と（１００）面Ｘ線強度比Ｘ（１００）および同部位の２ｍｍＶノッチシャルピー衝撃試験により得られる破面遷移温度ｖＴｒｓ（℃）が式：ｖＴｒｓ−１２Ｘ（１００）−２２Ｘ（２１１）≦（Ｔ−７５）／０．６４［Ｔは鋼板の供用温度（℃）］を満足し、且つ前記板厚（ｔ）の１／４〜１／１０となる領域または前記板厚（ｔ）の３／４〜９／１０となる領域の圧延面での（１１０）面のＸ線強度比が１．３以上であることを特徴とする、請求項１または請求項２に記載の長大脆性き裂伝播停止特性に優れる板厚（ｔ）が５０ｍｍ以上の厚鋼板。
【請求項４】
鋼組成が、質量％で、Ｃ：０．１５％以下、Ｓｉ：０．６０％以下、Ｍｎ：０．８０〜１．８０％、Ｓ：０．００１〜０．０５％を含み、Ｔｉ：０．００５〜０．０５０％またはＮｂ：０．００１〜０．１％の内から選んだ少なくとも１種を含み、更に、Ｃｕ：２．０％以下、Ｖ：０．２％以下、Ｎｉ：２．０％以下、Ｃｒ：０．６％以下、Ｍｏ：０．６％以下、Ｗ：０．５％以下、Ｂ：０．００５０％以下、Ｚｒ：０．５％以下の内から選んだ少なくとも１種を含有し、残部Ｆｅおよび不可避的不純物からなることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか一つに記載の長大脆性き裂伝播停止特性に優れる板厚（ｔ）が５０ｍｍ以上の厚鋼板。
【請求項５】
請求項４に記載の成分組成を有する鋼素材を、９００〜１３５０℃の温度に加熱し、次いで鋼板表面温度１０００〜８５０℃の温度域において累積圧下率１０％以上圧延した後、鋼板表面温度９００〜６００℃且つ鋼板内部温度が鋼板表面温度より５０〜１５０℃高温となる状態とし、その後、１パス圧下率７％以上、累積圧下率５０％以上で、圧延終了時の鋼板表面温度８００〜５５０℃で熱間圧延することを特徴とする長大脆性き裂伝播停止特性に優れる板厚（ｔ）が５０ｍｍ以上の厚鋼板の製造方法。
【請求項６】
更に、熱間圧延を終了した後、５℃／ｓ以上の冷却速度で４００℃まで冷却することを特徴とする請求項５記載の長大脆性き裂伝播停止特性に優れる板厚（ｔ）が５０ｍｍ以上の厚鋼板の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月19日(2013.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
下記式（Ｉ）で示されるリン化合物を共重合してなるポリエチレンナフタレート組成物であって、共重合ポリエチレンナフタレートの固有粘度が０．５０ｄＬ／ｇ以上、前記共重合ポリエチレンナフタレート組成物中のリン原子含有量が１００００〜１３０００ｐｐｍであり、さらに下記式（ＩＩ）で表されるリン化合物を前記共重合ポリエチレンナフタレートを構成する２価のカルボン酸に対して１０〜２００ｍｍｏｌ％含有する共重合ポリエチレンナフタレート組成物。
【化１】
2012180474.tif 000001
【化２】
2012180474.tif 000002
［上記式中、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７は、同一又は異なって炭素原子数１〜４のアルキル基を示し、Ｘは、−ＣＨ２−又は―ＣＨ（Ｙ）を示す（Ｙは、ベンゼン環を示す）。］
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
前記共重合ポリエチレンナフタレート組成物中のリン原子の含有量が１１０００〜１３０００ｐｐｍである請求項１または２記載の共重合ポリエチレンナフタレート組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成26年2月27日(2014.2.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明に係る断熱材用組成物は、高温時に分解、燃焼、昇華、炭化から選ばれる作用で熱エネルギーを消費する断熱材を得るための断熱材用組成物であって、繊維状物質、無機質発泡粒子、熱硬化性樹脂、発泡剤を含有して成ることを特徴とするものである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
高温時に分解、燃焼、昇華、炭化から選ばれる作用で熱エネルギーを消費する断熱材を得るための断熱材用組成物であって、繊維状物質、無機質発泡粒子、熱硬化性樹脂、発泡剤を含有して成ることを特徴とする断熱材用組成物。