【手続補正書】
【提出日】平成26年9月8日(2014.9.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
板状の本体内に該本体とは屈折率が異なる異屈折率領域が、該本体に平行な２次元格子の各格子点に配置されて成る２次元フォトニック結晶であって、
各異屈折率領域が、前記２次元格子の各格子点から前記２次元格子面に平行に、最大ずれ量Δpmax（≠0）以下のずれ量Δpだけランダムにずれて配置されている
ことを特徴とする２次元フォトニック結晶。
【請求項２】
前記最大ずれ量Δpmaxが２次元格子の周期長の1/2以下であることを特徴とする請求項１に記載の２次元フォトニック結晶。
【請求項３】
前記ずれ量Δpが0から最大ずれ量Δpmaxの間で一様に分布しており、その方向についても一様に分布していることを特徴とする請求項１又は２に記載の２次元フォトニック結晶。
【請求項４】
板状の本体内に該本体とは屈折率が異なる異屈折率領域が、該本体に平行な２次元格子の各格子点に配置されて成る２次元フォトニック結晶であって、
前記２次元格子の連接する複数個の格子点から成る超格子を単位格子とする超格子構造を備え、
各超格子において、
a) 予め定められた1個又は複数個の格子点において、各格子点から該２次元格子の格子面に平行に、第１最大ずれ量Δp1max（≠0）以下のずれ量Δpだけランダムにずれて配置された第１異屈折率領域と、
b) 前記第１異屈折率領域が配置された格子点以外の格子点において、各格子点から該２次元格子の格子面に平行に、第２最大ずれ量Δp2max以下のずれ量Δpだけランダムにずれて配置された第２異屈折率領域と
が存在することを特徴とする２次元フォトニック結晶。
【請求項５】
前記第２最大ずれ量Δp2maxが0であることを特徴とする請求項４に記載の２次元フォトニック結晶。
【請求項６】
全ての前記第２異屈折率領域のずれ量Δpが0から前記第２最大ずれ量Δp2maxの間で一様に分布しており、その方向についても一様に分布していることを特徴とする請求項４に記載の２次元フォトニック結晶。
【請求項７】
全ての前記第１異屈折率領域のずれ量Δpが0から前記第１最大ずれ量Δp1maxの間で一様に分布しており、その方向についても一様に分布していることを特徴とする請求項４〜６のいずれかに記載の２次元フォトニック結晶。
【請求項８】
板状の本体内に該本体とは屈折率が異なる異屈折率領域が、該本体に平行な２次元格子の各格子点に配置されて成る２次元フォトニック結晶であって、
前記２次元格子の連接する複数個の格子点から成る超格子を単位格子とする超格子構造を備え、
各超格子において格子点がn個の部分集合に分割され、各部分集合において前記異屈折率領域が各格子点から前記２次元格子の格子面に平行に、最大ずれ量Δpkmax（kは1〜nのいずれかの整数。少なくとも１つの部分集合においてΔpkmax≠0。）以下のずれ量Δpだけランダムにずれて配置されていることを特徴とする２次元フォトニック結晶。
【請求項９】
前記部分集合のうちの１つにおいて、最大ずれ量Δpnmaxが0であることを特徴とする請求項８に記載の２次元フォトニック結晶。
【請求項１０】
前記各部分集合のうちの１つ又は複数において、該部分集合に属する全ての異屈折率領域のずれ量Δpが0から前記最大ずれ量Δpnmaxの間で一様に分布していることを特徴とする請求項８又は９に記載の２次元フォトニック結晶。
【請求項１１】
さらに、各異屈折率領域のうちの少なくとも一部において、前記異屈折率領域の平面形状が最小値と該最小値よりも大きい最大値の間でランダムな大きさを有することを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載の２次元フォトニック結晶。
【請求項１２】
板状の本体内に該本体とは屈折率が異なる異屈折率領域が、該本体に平行な２次元格子の各格子点に配置されて成る２次元フォトニック結晶であって、
各異屈折率領域の平面形状が、最小値と該最小値よりも大きい最大値の間でランダムな大きさを有する
ことを特徴とする２次元フォトニック結晶。
【請求項１３】
各異屈折率領域が同一の平面形状を有することを特徴とする請求項１２に記載の２次元フォトニック結晶。
【請求項１４】
個々の異屈折率領域における平面形状の大きさの、全ての異屈折率領域における分布が、前記最小値から前記最大値の間で一様に分布していることを特徴とする請求項１２又は１３に記載の２次元フォトニック結晶。
【請求項１５】
板状の本体内に該本体とは屈折率が異なる異屈折率領域が、該本体に平行な２次元格子の各格子点に配置されて成る２次元フォトニック結晶であって、
前記２次元格子の連接する複数個の格子点から成る超格子を単位格子とする超格子構造を備え、
各超格子において、
a) 予め定められた1個又は複数個の格子点に配置された第１の異屈折率領域であって、平面形状が第１の最小値と該第１の最小値よりも大きい第１の最大値の間でランダムな大きさを有する第１異屈折率領域と、
b) 前記第１異屈折率領域が配置された格子点以外の格子点に配置された第２の異屈折率領域であって、平面形状が第２の最小値と第２の最大値の間でランダムな大きさを有する第２異屈折率領域と
が存在することを特徴とする２次元フォトニック結晶。
【請求項１６】
各第１異屈折率領域及び各第２異屈折率領域が同一の平面形状を有することを特徴とする請求項１５に記載の２次元フォトニック結晶。
【請求項１７】
全ての前記第２異屈折率領域の平面形状の大きさが同じであることを特徴とする請求項１５又は１６に記載の２次元フォトニック結晶。
【請求項１８】
全ての前記第２異屈折率領域の平面形状の大きさが前記第２の最小値から前記第２の最大値の間で一様に分布していることを特徴とする請求項１５又は１６に記載の２次元フォトニック結晶。
【請求項１９】
全ての前記第１異屈折率領域の平面形状の大きさが前記第１の最小値から前記第１の最大値の間で一様に分布していることを特徴とする請求項１５〜１８のいずれかに記載の２次元フォトニック結晶。
【請求項２０】
板状の本体内に該本体とは屈折率が異なる異屈折率領域が、該本体に平行な２次元格子の各格子点に配置されて成る２次元フォトニック結晶であって、
前記２次元格子の連接する複数個の格子点から成る超格子を単位格子とする超格子構造を備え、
各超格子において格子点がn個の部分集合に分割され、各部分集合において前記異屈折率領域の平面形状の大きさが最小値と最大値（少なくとも１つの部分集合において最小値と最大値が異なる値を有する）の間でランダムな大きさを有することを特徴とする２次元フォトニック結晶。
【請求項２１】
各異屈折率領域が同一の平面形状を有することを特徴とする請求項２０に記載の２次元フォトニック結晶。
【請求項２２】
前記部分集合のうちの１つにおいて、前記異屈折率領域の平面形状が同じ大きさを有することを特徴とする請求項２０又は２１に記載の２次元フォトニック結晶。
【請求項２３】
前記部分集合のうちの１つ又は複数において、該部分集合に属する全ての異屈折率領域の大きさが前記最小値から前記最大値の間で一様に分布していることを特徴とする請求項２０〜２２のいずれかに記載の２次元フォトニック結晶。
【請求項２４】
さらに、各異屈折率領域のうちの少なくとも一部において、前記異屈折率領域が、前記２次元格子の各格子点から前記２次元格子面に平行に、最大ずれ量Δpmax（≠0）以下のずれ量Δpだけランダムにずれて配置されていることを特徴とする請求項１２〜２３のいずれかに記載の２次元フォトニック結晶。
【請求項２５】
請求項１〜２４のいずれかに記載の２次元フォトニック結晶の結晶構造が形成された光電変換層を備えることを特徴とする光センサ。
【請求項２６】
前記光電変換層が、p型半導体又はn型半導体から成り前記１対の電極のいずれか一方の電極に接する第１層と、該第１層とは逆極性の半導体から成る第２層を含む積層構造を有し、
前記異屈折率領域が前記光電変換層の厚さ方向に、前記第１層の前記一方の電極との界面から前記第２層よりも手前まで形成されており、
前記異屈折率領域の材料が前記一方の電極の材料から成る
ことを特徴とする請求項２５に記載の光センサ。
【請求項２７】
前記光電変換層がSiの単結晶若しくは多結晶の薄膜、又はCu(In,Ga)Se2の多結晶の薄膜であることを特徴とする請求項２５又は２６に記載の光センサ。