(57)【要約】      （修正有）【課題】足浴において、少量のお湯でも肌がお湯に触れる面積が大きく温浴効果が高く、液膜流れによる癒し効果があり、しかも足の出し入れが容易な、足浴装置を提供する。【解決手段】足浴容器１１内にポンプ１３と縦方向の供給管１４と横方向の穴あき液かけ管１５から構成される循環装置を具備し、容器底からポンプでお湯１２または水をくみ上げ縦方向管を通じ横方向管に設けた複数の穴から足１０のひざ下あるいはふくらはぎにお湯または水をかけ、足の表面に液膜を形成した後に容器にお湯または水が戻るようにする。【選択図】図１
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【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
お湯または水が入る容器に足を入れる足浴に置いて、容器内にポンプと上方向あるいは斜め上方向の供給管と、少なくとも1本以上の横方向あるいは斜め横方向の穴あき液かけ管から構成される循環装置を具備した足浴装置。
【請求項２】
前記穴あき液かけ管が柔軟なチューブを用いたループ形状であり、ループ形状の中に足を入れて足浴を行うことを特徴とする請求項１に記載の足浴装置。
【請求項３】
前記穴あき液かけ管に設けた穴は複数であり、穴の総面積が１ｃｍ２以上６．７ｃｍ２以下であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の足浴装置。
【請求項４】
前記穴あき液かけ管を、足底からの高さが１５ｃｍ以上でひざとの間の高さに設け、かつ穴あき液かけ管の高さを足底からの液面の高さで割った値が１．５以上であることを特徴とする請求項１又は請求項２又は請求項３に記載の足浴装置。
【請求項５】
前記容器にヒーターと温度センサーと制御部からなる温度制御機構を具備することを特徴とする請求項１又は請求項２又は請求項３又は請求項４に記載の足浴装置。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は、お湯または水が入る容器に足を入れる足浴装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
入浴は体の血行を良くしリフレッシュできるなど健康の維持・改善に効果があることから、様々な入浴方法が行われている。全身浴は最も一般的な入浴法で、体全体を短時間で温めることができるが水圧の負担がある。半身浴は、寝湯同様水圧による負担は軽減され、ゆっくりと温めることができる。足湯は、特に体への負担は少なく、気軽に足先からゆっくりと体を温めることができることから、温泉地にも多く設置され、家庭用にも様々な足湯容器が開発されて楽しまれている。
足首位までの深さなら５−６ｃｍでお湯の量も少なく簡易的な足湯容器で良いが、お湯に浸かる面積は狭くふくらはぎは外気にさらされるなど、温浴効果は限定的である。但し本格的な足湯容器は深さ１０−１５ｃｍでお湯も体積で約１０リットッルから約１５リットルも必要で、重さに換算するとお湯だけでも約１０ｋｇから約１５ｋｇにもなる。これではお湯の出し入れや運搬が容易では無く、お湯の扱いに工夫が必要であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】実用新案登録第３１３１６０８では、足湯容器にブーツ形状を提案しており、お湯はブーツの内部だけで少量で軽くて足湯ができる。しかしながらお湯入りのブーツからでは、足とブーツの内面が接する部分の抵抗も大きくなり足を抜くのが容易では無く、ブーツが倒れるとお湯が床にこぼれる危険もある。
【特許文献２】特開２０１４−１１０８２８では、足の甲の上の空間に可動の収納容器を置いている。収納容器の体積分お湯は少なくて済み、また収納容器が可動なので、足の出し入れも容易である。しかしながら収納容器が浮かないように収納容器の中は水かお湯が入っており軽量化にはつながっていない。
【考案の概要】
【考案が解決しようとする課題】
【０００４】
足湯の温浴効果を高めるには足がお湯に浸かる深さを深くしたいが、そのためにはお湯の量がある程度必要で、足湯容器が重くなり取り扱いにくい。また容器の形をブーツのように足の形に近づけると足の出し入れが容易でなくなる。
本出願人は足湯の以上の問題点を解決して少量のお湯で充分な温浴効果が得られ、しかも足の出し入れが容易な足湯装置を想到するに至った。
【０００５】
本考案ではこのような事情に鑑みてなされたもので、容器内のお湯を足のひざ下あるいはふくらはぎにかけ循環させることで、少量のお湯でも、お湯が肌に触れる面積が大きく充分な温浴効果が得られ、しかも足の出し入れが容易で、さらには液膜流れによる癒し効果（お湯でも水でも効果がある）もある足浴装置を提案する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
請求項１記載の考案は、お湯または水が入る容器に足を入れる足浴に置いて、容器内にポンプと上方向あるいは斜め上方向の供給管と、少なくとも1本以上の横方向あるいは斜め横方向の穴あき液かけ管から構成される循環装置を具備したことを特徴とする。
【０００７】
請求項２記載の考案は、請求項１に記載の足浴装置において、穴あき液かけ管が柔軟なチューブを用いたループ形状であり、ループ形状の中に足を入れて足浴を行うことを特徴とする。    
【０００８】
請求項３記載の考案は、請求項１−請求項２に記載の足浴装置において、穴あき液かけ管に設けた穴は複数であり、穴の総面積が１ｃｍ２以上６．７ｃｍ２以下であることを特徴とする。 
【０００９】
請求項４記載の考案は、請求項１−請求項３に記載の足浴装置において、穴あき液かけ管を、足底からの高さが１５ｃｍ以上でひざとの間の高さに設け、かつ穴あき液かけ管の高さを足底からの液面の高さで割った値が１．５以上であることを特徴とする。
【００１０】
請求項５記載の考案は、請求項１−請求項４に記載の足浴装置において、容器にヒーターと温度センサーと制御部からなる温度制御機構を具備することを特徴とする。 
【考案の効果】
【００１１】
請求項１の考案によれば、容器底からポンプでお湯または水などの液をくみ上げ供給管を通じ穴あき液かけ管に設けた複数の穴から足のひざ下あるいはふくらはぎにお湯をかけ、足の表面に液膜を形成した後に容器にお湯または水が戻ることで、少ないお湯の量でお湯が肌に触れる面積が広がり、足の出し入れも容易という効果が得られる。しかも液膜流れには、肌の表面に緩やかな流れ（お湯でも水でも良い）を感じることによる爽快感を伴う癒し効果も加わる。
【００１２】
請求項２記載の考案によれば、柔軟なチューブにより、液をかける穴を足により近くにできるのでお湯をかけやすく、しかも足の出し入れも容易な効果がある。
【００１３】
請求項３記載の考案による穴の総面積の範囲では、液がしぶきとなりにくく、また複数個所から液をかけることで、液膜がひざ下の広い範囲を覆いやすくなる効果がある。
【００１４】
請求項４の考案によれば、お湯や水などの液を広い範囲にかけることができ、入浴効果が高くなる効果がある。また液かけ面の高さを液面の高さ１．５倍以上とすることで、液膜流れの範囲も十分にあり液膜流れによる癒し効果が得られる。
【００１５】
請求項５の考案によれば、お湯が冷めずに、長時間足浴を楽しめる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】（Ａ）本考案の足浴装置の側面図である。（Ｂ）本考案の足浴装置の平面図である。
【図２】（Ａ）本考案の柔軟チューブを用いた足浴装置の側面図である。（Ｂ）本考案の柔軟チューブを用いた足浴装置の平面図である。
【考案を実施するための形態】
【００１７】
続いて、添付した図面を参照しながら本考案を具体化した実施の形態について説明する。 
【００１８】
図１は本考案の足浴装置の穴あき液かけ管がＥの形の例であり、図１Ａの側面図と図１Ｂの平面図で表示した。足１０を足浴容器１１に入れ、お湯１２をポンプ１３から供給管１４を通じくみ上げ、穴あき液かけ管１５の複数の穴からお湯を足にかけ、足の表面を液膜流れ１６で覆い、お湯は容器に戻り循環する。図１Ｂの平面図で穴あき液かけ管１５はＥの形になっており、足の出し入れを妨げない。足の前面にはお湯をかける部分がないが、両側面からかけることで全面にお湯をかけられる。
また温度制御装置は、温度センサー１８とヒーター１９と制御部１７からなり、温度が低下することなく足湯を長時間楽しめる。なお、お湯の飛散防止と保温のために足浴容器１１には足の形をくりぬいた蓋を設けた方が更に良い。その場合は蓋の部分に穴あき液かけ管を設置してもよい。
本実施例では１００ｃｃ／ｓのポンプで内径φ１２ｍｍのチューブで循環供給し、縦２ｍｍ横５ｍｍの長方形穴１１か所から、流速約０．９ｍ／ｓで液を足にかけて、ひざ下から液膜流れが形成できた。
【００１９】
図２は本考案の足浴装置で横方向管に柔軟チューブを用いた例であり、図２Ａの側面図と図２Ｂの平面図で表示した。足１０を足浴容器１１に入れ、お湯１２をポンプ１３から縦方向管１４を通じくみ上げ、穴あき液かけ管１５の複数の穴からお湯を足にかけ、足の表面を液膜流れ１６で覆い、お湯は容器に戻り循環する。穴あき液かけ管１５は閉じた楕円状の柔軟なチューブからなっており、足を入れる前のチューブ位置２１（破線表示）から、足を入れた後のチューブ位置２０（実線表示）となる。足の出し入れはチューブが接触して柔軟に形を変え、またブーツのようには接触部分が少ないので、容易である。両足に楕円形上の全方向から、しかも近い距離からお湯をかけられる。足の間には、前後方向からかけることで全面にお湯をかけられる。足と接触する部分に穴があるとお湯が出にくくなるが、接触部分は穴の方向を上下にずらせば問題はない。
本実施例では１００ｃｃ／ｓのポンプで内径φ１２ｍｍのチューブで循環供給し、φ５ｍｍの穴８か所から、流速約０．６４ｍ／ｓで液を足にかけて、ひざから下へ液膜流れが形成できた。
【００２０】
本考案で穴数は複数、足の表と裏かつ両足なので最低４個以上が好ましい。流速は、流量を穴の総面積で割れば得られるが、０．２−１．５ｍ／ｓ程度が好ましい。流速が高いとしぶきが発生して室内に飛散するし、流速が低いと足の表面までお湯が届かなくなる。目安としては、穴の総面積は１ｃｍ２以上６．７ｃｍ２以下程度とし、ポンプの流量を５０−１５０ｃｃ／ｓの範囲で、前記流速になるように穴の総面積とポンプ流量を調節することが好ましい。例えば穴総面積６．７ｃｍ２で流量１５０ｃｃ／ｓで流速０．２ｍ／ｓ、例えば穴総面積１ｃｍ２で流量１５０ｃｃ／ｓで流速１．５ｍ／ｓとなる。図１と図２の実施例も流速はこの範囲に入っている。
【００２１】
一般のシャワーでは、穴直径が０．３−１ｍｍ、穴数が４０−３００個、流量は１００−２００ｃｃ／ｓ程度である。例えば穴直径が０．５ｍｍで穴数が１００個で、流量が１００ｃｃ／ｓだと、流速は５．１ｍ／ｓとなり、体に勢いよく吹き付けているといえる。高速で細かいしぶきが体に当たることによるマッサージ効果や洗浄効果が期待できる。
本考案では、流速は０．２−１．５ｍ／ｓ程度であり、体にかけるあるいはたらしているといえる。しぶきも飛ばず皮膚の表面に液膜を形成して流れ落ちる。
【００２２】
実施例ではお湯を用い、液膜が肌を覆うことにより温浴効果は高まり、緩やかな液膜流れで爽快感を感じることによる癒し効果もある足浴装置である。なお夏場暑い場合は水を用いると、液膜流れによる清涼感を伴う癒し効果が得られる。本考案は、お湯または水でも癒し効果が得られる足浴装置である。
【００２３】
従来の足湯容器による足浴では、例えば３３ｃｍの正方形容器だと厚み１ｃｍで約１０００ｃｃで約１ｋｇに相当する。深さ１０−１５ｃｍになると約１０ｋｇから１５ｋｇにもなりお湯の取り扱いに工夫が必要である。本考案によると深さは例えば足首付近６ｃｍでも良く、この場合お湯は６ｋｇと取り扱いが容易になる。またお湯をかける位置はお湯の液面より上であれば、高いほど液膜流れで覆われる部分が広くなり、最大ひざ下あるいはふくらはぎの付け根まで可能である。具体的には穴あき液かけ管を足底から１５ｃｍ以上から約３０ｃｍの間に設ければ、お湯に触れる部分が通常の足湯容器の１０―１５ｃｍ以上となるので温浴効果は高いと言える。温泉地での足湯は深さ２０ｃｍ以上のものもあり、温泉地の足湯に近い本格的な温浴効果が、本足浴容器だと得られると言える。また穴あき液かけ管の高さを足底からの液面の高さで割った値は１．５以上とすれば、癒し効果のある液膜流れの範囲も十分にできる。割った値は例えば、液かけ管の高さ１５ｃｍでお湯深さ１０ｃｍ（液膜流れの範囲５ｃｍ）でのとき割った値は最小１．５、液かけ管の高さ３０ｃｍでお湯深さ５ｃｍ（液膜流れの範囲２５ｃｍ）のとき最大６にもなる。
【００２４】
本考案は前記した実施の形態に限定されるものではなく、本考案の要旨を変更しない範囲でその構成を変更することもできる。
【産業上の利用可能性】
【００２５】
容器内のお湯を足のひざ下あるいはふくらはぎにかけ循環させることで、少量のお湯でもお湯が肌に触れる面積が大きく充分な温浴効果が得られ、しかも足の出し入れが容易な一般家庭向けの足浴装置である。
循環ポンプと縦方向の供給管と横方向の液かけ部で簡素な構造であり、体への負担が少なく液膜流れによる癒し効果もあり、高齢者やリハビリ向けでの活用もできる。夏場暑い場合は水を用いると清涼感が感じられる。
【符号の説明】
【００２６】
１０  足
１１  足浴容器
１２  お湯
１３  ポンプ
１４  供給管
１５  柔軟チューブを用いた穴あき液かけ管
１６  液膜流れ
１７  制御部
１８  温度センサー
１９  ヒーター
２０  足を入れた状態での穴あき液かけ管の形状（実線表示）
２１  足を抜いた状態での穴あき液かけ管の形状（破線表示）
【図１】
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【図２】
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