【手続補正書】
【提出日】平成26年8月28日(2014.8.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板ステージに保持された基板の上にパターンを形成する、少なくとも３つのリソグラフィ装置を備えるリソグラフィシステムであって、
前記少なくとも３つのリソグラフィ装置のうち２つのリソグラフィ装置について、一方のリソグラフィ装置に生じる第１振動と、前記第１振動が他方のリソグラフィ装置に伝達することによって前記他方のリソグラフィ装置に生じる第２振動との関係を表す伝達関数を取得する取得部と、
前記少なくとも３つのリソグラフィ装置のうち第１リソグラフィ装置を除くリソグラフィ装置に生じる振動に起因する前記第１リソグラフィ装置に生じる振動を、前記取得部で取得された前記伝達関数に基づいて算出する算出部と、
前記算出部で算出される前記振動量が許容量以下となるように、前記第１リソグラフィ装置を除くリソグラフィ装置を制御する制御部と、
を有することを特徴とするリソグラフィシステム。
【請求項２】
前記制御部は、前記リソグラフィ装置の基板ステージの移動を制御し、前記第１リソグラフィ装置の基板ステージを移動させている期間と重ならないように、前記第１リソグラフィ装置を除くリソグラフィ装置の基板ステージの移動を制御することを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィシステム。
【請求項３】
前記制御部は、前記リソグラフィ装置の基板ステージの移動を制御し、前記第１リソグラフィ装置を除くリソグラフィ装置のそれぞれの基板ステージを移動させている期間が重ならないように、前記第１リソグラフィ装置を除くリソグラフィ装置の基板ステージの移動を制御することを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィシステム。
【請求項４】
前記制御部は、前記第１リソグラフィ装置を除くリソグラフィ装置の基板ステージを加速させる加速度の大きさを制御することを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載のリソグラフィシステム。
【請求項５】
前記少なくとも３つのリソグラフィ装置のそれぞれは、前記少なくとも３つのリソグラフィ装置のそれぞれに生じる振動を計測する計測部を更に有し、
前記取得部は、前記計測部の計測結果から前記伝達関数を算出することを特徴とする請求項１乃至４のうちいずれか１項に記載のリソグラフィシステム。
【請求項６】
前記少なくとも３つのリソグラフィ装置のそれぞれは、複数の梁の上に配置され、
前記制御部は、前記少なくとも３つのリソグラフィ装置のうち前記第１リソグラフィ装置を除くリソグラフィ装置のそれぞれの基板ステージを前記複数の梁の長手方向と平行な方向に移動させる場合に、基板ステージの移動を制御することを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれか１項に記載のリソグラフィシステム。
【請求項７】
前記少なくとも３つのリソグラフィ装置のそれぞれは、複数の梁の上に配置され、
前記少なくとも３つのリソグラフィ装置を、前記複数の梁のうち同一の梁の上に配置されたリソグラフィ装置のグループに分類した場合に、前記取得部は、前記分類されたグループのそれぞれについて、当該グループに含まれるリソグラフィ装置について、前記伝達関数を取得することを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれか１項に記載のリソグラフィシステム。
【請求項８】
基板ステージに保持された基板の上にパターンを形成する、少なくとも３つのリソグラフィ装置を備えるリソグラフィシステムであって、
前記少なくとも３つのリソグラフィ装置のうち２つのリソグラフィ装置について、一方のリソグラフィ装置の基板ステージの移動によって前記一方のリソグラフィ装置に生じる第１振動と、前記第１振動が他方のリソグラフィ装置に伝達することによって前記他方のリソグラフィ装置に生じる第２振動との関係を表す伝達関数を取得する取得部と、
前記少なくとも３つのリソグラフィ装置のそれぞれの基板ステージを移動させてよいかどうかを、前記少なくとも３つのリソグラフィ装置のそれぞれについて順次判定する判定部と、
を有し、
前記判定部は、前記取得部で取得された前記伝達関数に基づいて、前記少なくとも３つのリソグラフィ装置のうち第１リソグラフィ装置の基板ステージの移動に起因する前記第１リソグラフィ装置を除くリソグラフィ装置のそれぞれの振動の振動量と、前記第１リソグラフィ装置を除くリソグラフィ装置のそれぞれの基板ステージの移動に起因する前記第１リソグラフィ装置の振動の振動量とを算出し、前記算出した全ての振動量が許容量以下となる場合に、前記第１リソグラフィ装置の基板ステージの移動を許可することを特徴とするリソグラフィシステム。
【請求項９】
前記少なくとも３つのリソグラフィ装置は、前記基板の上の樹脂とモールドとを接触させて、前記基板の上に前記パターンを形成するインプリント装置であることを特徴とする請求項１乃至８のうちいずれか１項に記載のリソグラフィシステム。
【請求項１０】
前記少なくとも３つのリソグラフィ装置は、前記基板に荷電粒子線で描画を行うことで前記基板の上に前記パターンを形成する荷電粒子線描画装置であることを特徴とする請求項１乃至８のうちいずれか１項に記載のリソグラフィシステム。
【請求項１１】
前記少なくとも３つのリソグラフィ装置は、前記基板にレチクルのパターンを投影光学系によって投影することで前記基板の上に前記パターンを形成する露光装置であることを特徴とする請求項１乃至８のうちいずれか１項に記載のリソグラフィシステム。
【請求項１２】
基板ステージに保持された基板の上にパターンを形成する、少なくとも３つのリソグラフィ装置を備えるリソグラフィシステムであって、
前記少なくとも３つのリソグラフィ装置のうち２つのリソグラフィ装置について、一方のリソグラフィ装置の基板ステージの移動によって前記一方のリソグラフィ装置に生じる第１振動と、前記第１振動が他方のリソグラフィ装置に伝達することによって前記他方のリソグラフィ装置に生じる第２振動との関係を表す伝達関数を取得する取得部と、
前記少なくとも３つのリソグラフィ装置のうち第１リソグラフィ装置を除くリソグラフィ装置の基板ステージの移動に起因する第１リソグラフィ装置の振動の振動量を、前記取得部で取得された前記伝達関数に基づいて算出する算出部と、
前記算出部で算出される前記振動量が許容量以下となるように、前記第１リソグラフィ装置を除くリソグラフィ装置の基板ステージの移動を制御する制御部と、
を有することを特徴とするリソグラフィシステム。
【請求項１３】
前記制御部は、前記第１リソグラフィ装置の基板ステージを加速させている加速期間と重ならないように、前記第１リソグラフィ装置を除くリソグラフィ装置の基板ステージの加速を開始する加速開始時刻を制御することを特徴とする請求項１２に記載のリソグラフィシステム。
【請求項１４】
前記制御部は、前記第１リソグラフィ装置を除くリソグラフィ装置のそれぞれの基板ステージを加速させている加速期間が重ならないように、前記第１リソグラフィ装置を除くリソグラフィ装置の基板ステージの加速を開始する加速開始時刻を制御することを特徴とする請求項１２に記載のリソグラフィシステム。
【請求項１５】
請求項１乃至１４のうちいずれか１項に記載のリソグラフィシステムを用いて基板の上にパターンを形成するステップと、
前記パターンが形成された前記基板を加工するステップと、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
インプリント装置において、基板の上の樹脂とモールドとを接触させる（即ち、樹脂にモールドを押印する）際には、事前に行われた位置合わせによって、原版と基板との間の位置関係は高精度に維持されている。但し、床からの振動が装置に伝わると、原版と基板との間の位置関係がずれて転写精度が低下してしまう。高価な露光装置であれば、カウンタマスを使用して外部に伝わる振動を除去し、周囲の装置に伝わる振動を抑制することが可能であるが、コストやフットプリントの面で有利なインプリント装置では、カウンタマスの使用は極力避けたい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としてのリソグラフィシステムは、基板ステージに保持された基板の上にパターンを形成する、少なくとも３つのリソグラフィ装置を備えるリソグラフィシステムであって、前記少なくとも３つのリソグラフィ装置のうち２つのリソグラフィ装置について、一方のリソグラフィ装置に生じる第１振動と、前記第１振動が他方のリソグラフィ装置に伝達することによって前記他方のリソグラフィ装置に生じる第２振動との関係を表す伝達関数を取得する取得部と、前記少なくとも３つのリソグラフィ装置のうち第１リソグラフィ装置を除くリソグラフィ装置に生じる振動に起因する前記第１リソグラフィ装置に生じる振動を、前記取得部で取得された前記伝達関数に基づいて算出する算出部と、前記算出部で算出される前記振動量が許容量以下となるように、前記第１リソグラフィ装置を除くリソグラフィ装置を制御する制御部と、を有することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
図１（ａ）及び図１（ｂ）は、本発明の一側面としてのリソグラフィシステム１の構成を示す概略図である。リソグラフィシステム１は、図１（ａ）及び図１（ｂ）に示すように、基板の上にパターンを転写（形成）するリソグラフィ装置１０ａ、１０ｂ及び１０ｃと、リソグラフィ装置１０ａ、１０ｂ及び１０ｃを管理する管理部２０とを備えている。リソグラフィ装置１０ａ、１０ｂ及び１０ｃは、デバイス製造工場の床ＤＦに設置され、基板を保持して移動する基板ステージ（移動体）１１ａ、１１ｂ及び１１ｃをそれぞれ有する。リソグラフィシステム１は、クラスタ構成を採用し、本実施形態では、３つのリソグラフィ装置を備えているが、リソグラフィ装置の数を３つに限定するものではなく、少なくとも３つのリソグラフィ装置を備えていればよい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
図２（ａ）は、リソグラフィ装置１０ａ、１０ｂ及び１０ｃのそれぞれの基板ステージ１１ａ、１１ｂ及び１１ｃの加速度プロファイル、即ち、基板ステージ１１ａ、１１ｂ及び１１ｃの加速度を時系列的に示す図である。図２（ａ）を参照するに、基板ステージ１１ｂを加速させている加速期間と基板ステージ１１ｃを加速させている加速期間とが重なっている。基板ステージ１１ｂ及び１１ｃの移動（加速）に起因する振動がリソグラフィ装置１０ａに伝達される時間が等しいとすると、図２（ｂ）に示すように、それらの振動が重なり合う（共振する）ことになる。従って、リソグラフィ装置１０ａにおける振動の振動量が許容量よりも大きくなってしまう。図２（ｂ）は、基板ステージ１１ｂ及び１１ｃのそれぞれの移動に起因するリソグラフィ装置１０ａの振動量（即ち、計測部１２ａの計測データ、例えば、振幅）を示す図である。