【手続補正書】
【提出日】平成26年11月7日(2014.11.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学投影システムの最終光学素子と基板との間の液浸液体を介して基板上に像を投影するリソグラフィ装置で用いられ、前記最終光学素子から離間して配置されたノズルであって、
前記最終光学素子の一側に配置され、液浸液体を供給する第１開口と、
前記最終光学素子の他側に配置され、液浸液体を回収する第２開口と、
前記最終光学素子の下側の空間の周囲に配置された下面と、
前記下面の周囲に配置され、液浸液体を回収する回収部と、を含み、
前記第１開口と前記第２開口は、前記下面より高い位置に配置され、
前記第１開口と前記第２開口は、前記最終光学素子に対して対称に配置され、
前記下面の周囲で、前記基板上の液浸液体を前記回収部から回収するノズル。
【請求項２】
前記回収部は、前記第１開口から供給され、前記第２開口で回収されずに、前記空間に対して前記下面の外側に流れ出た液浸液体を回収する請求項１に記載のノズル。
【請求項３】
光学投影システムの最終光学素子と基板との間の液浸液体を介して基板上に像を投影するリソグラフィ装置で用いられ、前記最終光学素子から離間して配置されたノズルであって、
前記最終光学素子の一側に配置され、液浸液体を供給する第１開口と、
前記最終光学素子の他側に配置され、液浸液体を回収する第２開口と、
前記最終光学素子の下側の空間の周囲に配置された下面と、
前記空間に対して前記下面の外側であって、前記下面の周囲に配置され、液浸液体を回収する回収部と、を含み、
前記第１開口と前記第２開口は、前記下面より高い位置に配置され、
前記回収部は、前記第１開口から供給され、前記第２開口で回収されずに、前記空間に対して前記下面の外側に流れ出た液浸液体を回収するノズル。
【請求項４】
前記回収部は、前記第１開口及び前記第２開口の外側に配置される請求項１〜３のいずれか一項記載のノズル。
【請求項５】
光学投影システムの最終光学素子と基板との間の液浸液体を介して基板上に像を投影するリソグラフィ装置で用いられ、前記最終光学素子から離間して配置されたノズルであって、
前記最終光学素子の一側に配置され、液浸液体を供給する第１開口と、
前記最終光学素子の他側に配置され、液浸液体を回収する第２開口と、
前記最終光学素子の下側の空間の周囲に配置された下面と、
前記下面の周囲であって、前記第１開口及び第２開口の外側に配置され、液浸液体を回収する回収部と、を含み、
前記第１開口と前記第２開口は、前記下面より高い位置に配置され、
前記下面の周囲で、前記基板上の液浸液体を前記回収部から回収するノズル。
【請求項６】
前記第１開口からの供給と前記第２開口からの回収とによって、前記液浸液体が前記最終光学素子を横切って流れる請求項１〜５のいずれか一項記載のノズル。
【請求項７】
前記第１開口は、前記最終光学素子の一側のみに配置され、
前記第２開口は、前記最終光学素子の他側のみに配置されている請求項１〜６のいずれか一項に記載のノズル。
【請求項８】
前記第１開口と第２開口は、同じ高さに配置される請求項１〜７のいずれか一項に記載のノズル。
【請求項９】
前記下面は、前記基板に対して平行になるように配置される請求項１〜８のいずれか一項に記載のノズル。
【請求項１０】
前記ノズルは、前記下面の周囲に配置された前記回収部と前記下面との間に形成されたグルーブを有する請求項１〜９のいずれか一項に記載のノズル。
【請求項１１】
前記ノズルは、前記最終光学素子と前記基板との距離が、前記下面と前記基板との距離よりも大きくなるように配置される請求項１〜１０のいずれか一項に記載のノズル。
【請求項１２】
前記下面と前記基板の距離は、0.5〜2.0mmである請求項１〜１１のいずれか一項に記載のノズル。
【請求項１３】
光学投影システムと、
請求項１〜１２のいずれか一項に記載のノズルと、を備え、
前記ノズルの前記第１開口を介して供給された液浸液体を介して基板を露光するリソグラフィ装置。
【請求項１４】
前記光学投影システムの最終光学素子と前記基板との距離は、1.0〜5.0mmである請求項１３に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１５】
前記ノズルの前記回収部に接続され、前記回収部から液浸液体を回収するための圧力を制御する圧力制御システムをさらに備え、
前記圧力制御システムは、前記回収部に回収流路を介して接続された第１タンクと、前記第１タンクに接続され、前記第１タンク内の圧力を制御する真空レギュレータとを有する請求項１３又は１４記載のリソグラフィ装置。
【請求項１６】
前記圧力制御システムは、前記回収流路に配置され、前記回収部から前記第１タンクへの液体流れを調整するバルブを有する請求項１５記載のリソグラフィ装置。
【請求項１７】
前記圧力制御システムは、前記回収流路に配置され、前記回収部からの前記液体回収が不要の場合にオフとされるバルブを有する請求項１５又は１６記載のリソグラフィ装置。
【請求項１８】
前記回収流路は、前記第１タンクの上部に接続される請求項１５〜１７のいずれか一項記載のリソグラフィ装置。
【請求項１９】
前記真空レギュレータは、前記第１タンクの上部に接続される請求項１５〜１８のいずれか一項記載のリソグラフィ装置。
【請求項２０】
前記圧力制御システムは、前記液体を回収するための圧力を測定する圧力センサを有し、前記圧力センサからのセンサ信号に基づいて前記真空レギュレータが制御される請求項１５〜１９のいずれか一項記載のリソグラフィ装置。
【請求項２１】
前記圧力制御システムは、前記第１タンクの下方に配置されて前記第１タンクに接続され、前記第１タンクからの液体が流入する第２タンクを有する請求項１５〜２０のいずれか一項記載のリソグラフィ装置。
【請求項２２】
前記圧力制御システムは、前記第１タンクと前記第２タンクとの間の圧力を等しくするために、前記第１タンクの上部と前記第２タンクの上部との間に接続される経路を有する請求項２１記載のリソグラフィ装置。
【請求項２３】
請求項１〜１２のいずれか一項に記載のノズルの前記第１開口から供給された液浸液体を介して基板を露光するリソグラフィ方法。
【請求項２４】
前記基板上に像を投影する光学投影システムの最終光学素子と前記基板との距離は、1.0〜5.0mmである請求項２３に記載のリソグラフィ方法。
【請求項２５】
光学投影システムの最終光学素子の周囲に、前記最終光学素子から離間されて配置されたノズルの、前記最終光学素子の一側に配置された第１開口から、液浸液体を供給することと、
前記ノズルの、前記最終光学素子の他側に配置された第２開口から、液浸液体を回収することと、
前記最終光学素子の下側の空間内の、前記最終光学素子と基板との間の液浸液体を介して前記基板上に像を投影することと、
前記ノズルと前記基板との間の液浸液体を、前記空間の周囲に配置された回収部から回収することと、を含み、
前記ノズルは、前記空間の周囲に下面を有し、
前記回収部は、前記下面の周囲に設けられ、
前記第１開口及び前記第２開口は、前記下面より高い位置に設けられ、  前記第１開口と前記第２開口は、前記最終光学素子に対して対称に配置されているリソグラフィ方法。
【請求項２６】
光学投影システムの最終光学素子の周囲に、前記最終光学素子から離間されて配置されたノズルの、前記最終光学素子の一側に配置された第１開口から、液浸液体を供給することと、
前記ノズルの、前記最終光学素子の他側に配置された第２開口から、液浸液体を回収することと、
前記最終光学素子の下側の空間内の、前記最終光学素子と基板との間の液浸液体を介して前記基板上に像を投影することと、
前記ノズルと前記基板との間の液浸液体を、前記空間の周囲に配置された回収部から回収することと、を含み、
前記ノズルは、前記空間の周囲に下面を有し、
前記第１開口及び前記第２開口は、前記下面より高い位置に設けられ、
前記回収部は、前記空間に対して前記下面の外側であって、前記下面の周囲に設けられ、
前記第１開口から供給され、前記第２開口で回収されずに、前記空間に対して前記下面の外側に流れ出た液浸液体を回収部で回収するリソグラフィ方法。
【請求項２７】
光学投影システムの最終光学素子の周囲に、前記最終光学素子から離間されて配置されたノズルの、前記最終光学素子の一側に配置された第１開口から、液浸液体を供給することと、
前記ノズルの、前記最終光学素子の他側に配置された第２開口から、液浸液体を回収することと、
前記最終光学素子の下側の空間内の、前記最終光学素子と基板との間の液浸液体を介して前記基板上に像を投影することと、
前記ノズルと前記基板との間の液浸液体を、前記空間の周囲に配置された回収部から回収することと、を含み、
前記ノズルは、前記空間の周囲に下面を有し、
前記回収部は、前記下面の周囲であって、前記第１開口及び前記第２開口の外側に設けられ、
前記第１開口及び前記第２開口は、前記下面より高い位置に設けられているリソグラフィ方法。
【請求項２８】
液浸リソグラフィシステムにおいてレンズと基板との間の空間から流体を回収する方法であって、
回収流路を介し、多孔質部材を通じて前記空間から前記流体を引き出すことと、
前記空間から前記流体を引き出し中に前記多孔質部材内の前記流体の圧力を前記多孔質部材のバブルポイントより低く維持することと、
を備える方法。