【手続補正書】
【提出日】平成26年9月25日(2014.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一基板と、
前記第一基板に対向した第二基板と、
前記第一基板に設けられた第一反射膜と、
前記第二基板に設けられ、前記第一反射膜と反射膜間ギャップを介して対向する第二反射膜と、
前記第一基板及び前記第二基板を接合する接合部と、
を具備し、
前記第二基板は、前記第二反射膜が設けられる可動部と、前記第二基板を基板厚み方向から見た平面視において前記可動部の外周側に設けられ、前記可動部を前記第一基板に対して進退可能に保持する保持部と、前記平面視において前記保持部の外周側に設けられる基板外周部と、を備え、
前記保持部は、厚み寸法が前記可動部及び前記基板外周部の厚み寸法よりも小さい平坦部と、前記平面視において前記平坦部の外周側に設けられ、前記平坦部から前記基板外周部に向かうに従って厚み寸法が増大する保持外周部と、を備え、
前記接合部は、前記平面視において、前記第一基板及び前記第二基板の互いに対向する面のうち、各基板外周縁に沿った外周領域に設けられ、かつ、当該接合部の内周縁が、前記保持外周部の外周縁よりも内側に設けられた
ことを特徴とする波長可変干渉フィルター。
【請求項２】
請求項１に記載の波長可変干渉フィルターにおいて、
前記接合部の内周縁は、前記平面視において前記平坦部の内周縁よりも外側に設けられた
ことを特徴とする波長可変干渉フィルター。
【請求項３】
請求項２に記載の波長可変干渉フィルターにおいて、
前記接合部の内周縁は、前記平面視において前記保持外周部と重なる位置にある
ことを特徴とする波長可変干渉フィルター。
【請求項４】
請求項３に記載の波長可変干渉フィルターにおいて、
前記接合部の内周縁は、前記平面視において前記平坦部及び前記保持外周部の境界位置にある
ことを特徴とする波長可変干渉フィルター。
【請求項５】
請求項１から請求項４のいずれかに記載の波長可変干渉フィルターにおいて、
前記第一基板は、前記第二基板に対向する面に形成された凹溝部を備え、
前記接合部は、前記第一基板の前記第二基板に対向する面のうち、前記凹溝部の外周側領域全体に設けられる
ことを特徴とする波長可変干渉フィルター。
【請求項６】
第一基板、前記第一基板に対向した第二基板、前記第一基板に設けられた第一反射膜と、前記第二基板に設けられ、前記第一反射膜と反射膜間ギャップを介して対向する第二反射膜、及び前記第一基板及び前記第二基板を接合する接合部を備えた波長可変干渉フィルターと、
前記波長可変干渉フィルターを収納する筐体と、を具備した光学フィルターデバイスであって、
前記第二基板は、前記第二反射膜が設けられる可動部と、前記第二基板を基板厚み方向から見た平面視において前記可動部の外周側に設けられ、前記可動部を前記第一基板に対して進退可能に保持する保持部と、前記平面視において前記保持部の外周側に設けられる基板外周部と、を備え、
前記保持部は、厚み寸法が前記可動部及び前記基板外周部の厚み寸法よりも小さい平坦部と、前記平面視において前記平坦部の外周側に設けられ、前記平坦部から前記基板外周部に向かうに従って厚み寸法が増大する保持外周部と、を備え、
前記接合部は、前記平面視において、前記第一基板及び前記第二基板の互いに対向する面のうち、各基板外周縁に沿った外周領域に設けられ、かつ、当該接合部の内周縁が、前記保持外周部の外周縁よりも内側に設けられた
ことを特徴とする光学フィルターデバイス。
【請求項７】
第一基板と、
前記第一基板に対向した第二基板と、
前記第一基板に設けられた第一反射膜と、
前記第二基板に設けられ、前記第一反射膜と反射膜間ギャップを介して対向する第二反射膜と、
前記第一基板及び前記第二基板を接合する接合部と、
前記第一反射膜及び前記第二反射膜により取り出された光を検出する検出部と、
を具備し、
前記第二基板は、前記第二反射膜が設けられる可動部と、前記第二基板を基板厚み方向から見た平面視において前記可動部の外周側に設けられ、前記可動部を前記第一基板に対して進退可能に保持する保持部と、前記平面視において前記保持部の外周側に設けられる基板外周部と、を備え、
前記保持部は、厚み寸法が前記可動部及び前記基板外周部の厚み寸法よりも小さい平坦部と、前記平面視において前記平坦部の外周側に設けられ、前記平坦部から前記基板外周部に向かうに従って厚み寸法が増大する保持外周部と、を備え、
前記接合部は、前記平面視において、前記第一基板及び前記第二基板の互いに対向する面のうち、各基板外周縁に沿った外周領域に設けられ、かつ、当該接合部の内周縁が、前記保持外周部の外周縁よりも内側に設けられた
ことを特徴とする光学モジュール。
【請求項８】
第一基板、前記第一基板に対向した第二基板、前記第一基板に設けられた第一反射膜、前記第二基板に設けられ、前記第一反射膜と反射膜間ギャップを介して対向する第二反射膜、及び前記第一基板及び前記第二基板を接合する接合部を備えた波長可変干渉フィルターと、
前記波長可変干渉フィルターを制御する制御部と、を具備した電子機器であって、
前記第二基板は、前記第二反射膜が設けられる可動部と、前記第二基板を基板厚み方向から見た平面視において前記可動部の外周側に設けられ、前記可動部を前記第一基板に対して進退可能に保持する保持部と、前記平面視において前記保持部の外周側に設けられる基板外周部と、を備え、
前記保持部は、厚み寸法が前記可動部及び前記基板外周部の厚み寸法よりも小さい平坦部と、前記平面視において前記平坦部の外周側に設けられ、前記平坦部から前記基板外周部に向かうに従って厚み寸法が増大する保持外周部と、を備え、
前記接合部は、前記平面視において、前記第一基板及び前記第二基板の互いに対向する面のうち、各基板外周縁に沿った外周領域に設けられ、かつ、当該接合部の内周縁が、前記保持外周部の外周縁よりも内側に設けられた
ことを特徴とする電子機器。
【請求項９】
第一基板と、前記第一基板に対向した第二基板と、前記第一基板に設けられた第一反射膜と、前記第二基板に設けられ、前記第一反射膜と反射膜間ギャップを介して対向する第二反射膜と、前記第一基板及び前記第二基板を接合する接合部と、を具備し、かつ、前記第二基板が、前記第二反射膜が設けられる可動部と、前記第二基板を基板厚み方向から見た平面視において前記可動部の外周側に設けられ、前記可動部を前記第一基板に対して進退可能に保持する保持部と、前記平面視において前記保持部の外周側に設けられる基板外周部と、を備える波長可変干渉フィルターを製造する製造方法であって、
前記第一基板を加工して、当該第一基板に前記第一反射膜を形成する第一基板形成工程と、
前記第二基板を加工して、当該第二基板に前記第二反射膜を形成する第二基板形成工程と、
前記第一基板及び前記第二基板を接合する接合工程と、を備え、
前記第二基板形成工程は、エッチングにより、厚み寸法が前記可動部及び前記基板外周部の厚み寸法よりも小さい平坦部と、前記平面視において前記平坦部の外周側に設けられ、前記平坦部から前記基板外周部に向かうに従って厚み寸法が増大する保持外周部と、を有し、かつ、前記保持外周部の外周縁が前記接合部の内周縁の外側に位置する保持部を形成し、
前記接合工程は、前記平面視において、前記接合部の内周縁が、前記保持外周部の外周縁よりも内側に位置するようにアライメント調整を行った後、前記第一基板及び前記第二基板を、前記接合部を介して加圧接合する
ことを特徴とする波長可変干渉フィルターの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の波長可変干渉フィルターは、第一基板と、前記第一基板に対向した第二基板と、前記第一基板に設けられた第一反射膜と、前記第二基板に設けられ、前記第一反射膜と反射膜間ギャップを介して対向する第二反射膜と、前記第一基板及び前記第二基板を接合する接合部と、を具備し、前記第二基板は、前記第二反射膜が設けられる可動部と、前記第二基板を基板厚み方向から見た平面視において前記可動部の外周側に設けられ、前記可動部を前記第一基板に対して進退可能に保持する保持部と、前記平面視において前記保持部の外周側に設けられる基板外周部と、を備え、前記保持部は、厚み寸法が前記可動部及び前記基板外周部の厚み寸法よりも小さい平坦部と、前記平面視において前記平坦部の外周側に設けられ、前記平坦部から前記基板外周部に向かうに従って厚み寸法が増大する保持外周部と、を備え、前記接合部は、前記平面視において、前記第一基板及び前記第二基板の互いに対向する面のうち、各基板外周縁に沿った外周領域に設けられ、かつ、当該接合部の内周縁が、前記保持外周部の外周縁よりも内側に設けられたことを特徴とする。
ここで、保持外周部は、平坦部から基板外周部に亘って、上面が曲面となる構成に加え、傾斜平面となる構成をも含むものである。すなわち、第二基板にエッチングにより保持部を形成する場合、その素材やエッチング方法により、保持外周部の形状が異なる。例えば、ウェットエッチングにより等方性エッチングを実施した場合は、サイドエッチングの影響により、エッチング面の断面視が曲線となる保持外周部が形成される。一方、例えばシリコン等の基材をＫＯＨ等により異方性エッチングする場合では、エッチング面の断面視が基板厚み方向に対して傾斜する直線となる保持外周部が形成される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の波長可変干渉フィルターでは、前記接合部の内周縁は、前記平面視において前記平坦部の内周縁よりも外側に設けられていることが好ましい。
本発明は、第二基板の可動部が保持部によって第一基板に対して進退可能となる構成である。つまり、可動部よりも厚み寸法が小さい平坦部を撓ませることで、可動部を形状変化させることなく、可動部を第一基板側に変位させることが可能となる。したがって、平坦部全体が接合部に接合されてしまうと、可動部を撓ませることが困難となる。
これに対して、本発明では、接合部の内周縁が、平坦部の内周縁よりも外側に設けられる。このような構成では、反射膜間ギャップを変化させる際に、平坦部のうち接合部と重ならない領域を撓ませることで、当該可動部を第一基板側に変位させることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の波長可変干渉フィルターでは、前記接合部の内周縁は、前記平面視において前記保持外周部と重なる位置にあることが好ましい。
本発明では、接合部が、保持部の平坦部と重ならない。つまり、反射膜間ギャップを変化させる際、平坦部全体を撓ませることで、可動部を第一基板側に変位させることができる。このような構成では、フィルター平面視において、平坦部の一部が接合部と重なる構成に比べて、平坦部を撓ませやすくなる。また、接合部の内周縁と保持外周部の外周縁とが一致する構成、接合部の内周縁が保持外周部の外周縁よりも外側にある構成に比べて、加圧接合時に発生する、保持外周部を第一基板側に撓ませようとする力が抑えることができるため、第二基板の傾斜を抑制することができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の波長可変干渉フィルターでは、前記接合部の内周縁は、前記平面視において前記平坦部及び前記保持外周部の境界位置にあることが好ましい。
本発明では、接合部が、フィルター平面視において、保持部の平坦部と重ならないため、上記発明と同様に、反射膜間ギャップを変化させる際に、平坦部を撓ませやすくなり、ギャップ調整を容易に実施することができる。これに加え、フィルター平面視において、保持外周部全体が接合部と重なるため、第一基板及び第二基板を加圧接合する際に、保持外周部にモーメント力が発生した場合でも、接合部によりモーメント力による撓みを防止することができ、第二基板の撓みを確実に防止することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明の光学フィルターデバイスは、第一基板、前記第一基板に対向した第二基板、前記第一基板に設けられた第一反射膜と、前記第二基板に設けられ、前記第一反射膜と反射膜間ギャップを介して対向する第二反射膜、及び前記第一基板及び前記第二基板を接合する接合部を備えた波長可変干渉フィルターと、前記波長可変干渉フィルターを収納する筐体と、を具備した光学フィルターデバイスであって、前記第二基板は、前記第二反射膜が設けられる可動部と、前記第二基板を基板厚み方向から見た平面視において前記可動部の外周側に設けられ、前記可動部を前記第一基板に対して進退可能に保持する保持部と、前記平面視において前記保持部の外周側に設けられる基板外周部と、を備え、前記保持部は、厚み寸法が前記可動部及び前記基板外周部の厚み寸法よりも小さい平坦部と、前記平面視において前記平坦部の外周側に設けられ、前記平坦部から前記基板外周部に向かうに従って厚み寸法が増大する保持外周部と、を備え、前記接合部は、前記平面視において、前記第一基板及び前記第二基板の互いに対向する面のうち、各基板外周縁に沿った外周領域に設けられ、かつ、当該接合部の内周縁が、前記保持外周部の外周縁よりも内側に設けられたことを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
本発明の光学モジュールは、第一基板と、前記第一基板に対向した第二基板と、前記第一基板に設けられた第一反射膜と、前記第二基板に設けられ、前記第一反射膜と反射膜間ギャップを介して対向する第二反射膜と、前記第一基板及び前記第二基板を接合する接合部と、前記第一反射膜及び前記第二反射膜により取り出された光を検出する検出部と、を具備し、前記第二基板は、前記第二反射膜が設けられる可動部と、前記第二基板を基板厚み方向から見た平面視において前記可動部の外周側に設けられ、前記可動部を前記第一基板に対して進退可能に保持する保持部と、前記平面視において前記保持部の外周側に設けられる基板外周部と、を備え、前記保持部は、厚み寸法が前記可動部及び前記基板外周部の厚み寸法よりも小さい平坦部と、前記平面視において前記平坦部の外周側に設けられ、前記平坦部から前記基板外周部に向かうに従って厚み寸法が増大する保持外周部と、を備え、前記接合部は、前記平面視において、前記第一基板及び前記第二基板の互いに対向する面のうち、各基板外周縁に沿った外周領域に設けられ、かつ、当該接合部の内周縁が、前記保持外周部の外周縁よりも内側に設けられたことを特徴とする。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
本発明の電子機器は、第一基板、前記第一基板に対向した第二基板、前記第一基板に設けられた第一反射膜、前記第二基板に設けられ、前記第一反射膜と反射膜間ギャップを介して対向する第二反射膜、及び前記第一基板及び前記第二基板を接合する接合部を備えた波長可変干渉フィルターと、前記波長可変干渉フィルターを制御する制御部と、を具備した電子機器であって、前記第二基板は、前記第二反射膜が設けられる可動部と、前記第二基板を基板厚み方向から見た平面視において前記可動部の外周側に設けられ、前記可動部を前記第一基板に対して進退可能に保持する保持部と、前記平面視において前記保持部の外周側に設けられる基板外周部と、を備え、前記保持部は、厚み寸法が前記可動部及び前記基板外周部の厚み寸法よりも小さい平坦部と、前記平面視において前記平坦部の外周側に設けられ、前記平坦部から前記基板外周部に向かうに従って厚み寸法が増大する保持外周部と、を備え、前記接合部は、前記平面視において、前記第一基板及び前記第二基板の互いに対向する面のうち、各基板外周縁に沿った外周領域に設けられ、かつ、当該接合部の内周縁が、前記保持外周部の外周縁よりも内側に設けられたことを特徴とする。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
本発明の波長可変干渉フィルターの製造方法は、第一基板と、前記第一基板に対向した第二基板と、前記第一基板に設けられた第一反射膜と、前記第二基板に設けられ、前記第一反射膜と反射膜間ギャップを介して対向する第二反射膜と、前記第一基板及び前記第二基板を接合する接合部と、を具備し、かつ、前記第二基板が、前記第二反射膜が設けられる可動部と、前記第二基板を基板厚み方向から見た平面視において前記可動部の外周側に設けられ、前記可動部を前記第一基板に対して進退可能に保持する保持部と、前記平面視において前記保持部の外周側に設けられる基板外周部と、を備える波長可変干渉フィルターを製造する製造方法であって、前記第一基板を加工して、当該第一基板に前記第一反射膜を形成する第一基板形成工程と、前記第二基板を加工して、当該第二基板に前記第二反射膜を形成する第二基板形成工程と、前記第一基板及び前記第二基板を接合する接合工程と、を備え、前記第二基板形成工程は、エッチングにより、厚み寸法が前記可動部及び前記基板外周部の厚み寸法よりも小さい平坦部と、前記平面視において前記平坦部の外周側に設けられ、前記平坦部から前記基板外周部に向かうに従って厚み寸法が増大する保持外周部と、を有し、かつ、前記保持外周部の外周縁が前記接合部の内周縁の外側に位置する保持部を形成し、前記接合工程は、前記平面視において、前記接合部の内周縁が、前記保持外周部の外周縁よりも内側に位置するようにアライメント調整を行った後、前記第一基板及び前記第二基板を、前記接合部を介して加圧接合することを特徴とする。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
次に、図６（Ｅ）に示すように、反射膜設置面５１２Ａ上に固定反射膜５４を形成する。ここで、本実施形態では、固定反射膜５４として、Ａｇ合金を用いる。固定反射膜５４として、Ａｇ等の金属膜やＡｇ合金等の合金膜を用いる場合、固定基板５１の電極配置溝５１１や反射膜設置部５１２が形成された面に、固定反射膜５４の膜層を形成した後、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングする。
なお、固定反射膜５４として誘電体多層膜を形成する場合では、例えばリフトオフプロセスにより成膜することができる。この場合、フォトリソグラフィ法などにより、固定基板５１上のミラー形成部分以外にレジスト（リフトオフパターン）を形成する。この後、固定反射膜５４を形成するための材料（例えば、高屈折層をＴｉＯ２、低屈折層をＳｉＯ２とした誘電体多層膜）をスパッタリング法または蒸着法等により成膜する。そして、固定反射膜５４を成膜した後、リフトオフにより、不要部分の膜を除去する。
この後、図６（Ｆ）に示すように、固定基板５１の第一接合部５１３に、接合膜５３を構成するポリオルガノシロキサンを主成分としたプラズマ重合膜５３１を、例えばプラズマＣＶＤ法等により成膜する。このプラズマ重合膜５３１の成膜工程では、例えば、第一接合部５１３に対応する位置が開口したマスクを用いて、固定基板５１の第一接合部５１３にプラズマ重合膜５３１を成膜する。ここで、プラズマ重合膜５３１の厚みとしては、例えば１０ｎｍから１０００ｎｍとすればよい。
以上により、固定基板５１が製造される。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８４】
さらには、本発明の波長可変干渉フィルターをバンドパスフィルターとして用いてもよく、例えば、発光素子が射出する所定波長域の光のうち、所定の波長を中心とした狭帯域の光のみを波長可変干渉フィルターで分光して透過させる光学式レーザー装置にも用いることができる。
また、本発明の波長可変干渉フィルターを生体認証装置に用いてもよく、例えば、近赤外領域や可視領域の光を用いた、血管や指紋、網膜、虹彩などの認証装置にも適用できる。