Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月24日(2014.4.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
図２は、図１に含まれるコンテンツ作成送信装置２の構成を表わす図である。
図２に示すように、コンテンツ作成送信装置２は、サイネージ画像作成部１１と、サイネージ画像記憶部１２と、ＴＳ変換部１３と、緊急通知部１５と、ＯＦＤＭ（Orthogonal
Frequency Division Multiplexing）変調部１４とを備える。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
緊急通知部１５は、緊急時において、ＴＭＣＣ（Transmission and Multiplexing Configuration and Control）信号における緊急警報情報が放送中であるか否かを示す緊急警報起動フラグに「１」を設定し、通常時において、緊急警報起動フラグに「０」を設定する。ここで、緊急時とは、受信装置７＿１〜７＿４が設置されている場所に特有の緊急時をいう。たとえば、受信装置７＿１〜７＿４が１つのビルに設置されているときには、そのビルの火災時などである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
ＩＰ受信部２９は、受信装置７＿１から出力されるＵＤＰパケットを受信する。
ファイル抽出部２８は、抽出されたＵＤＰパケットのペイロード部分から画像ファイルおよび／または音声ファイルを構成するデータを抽出して蓄積部３１に蓄積する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
蓄積部３１は、抽出された画像ファイルまたは音声ファイルを構成するデータを蓄積する。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月24日(2014.4.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明の受信装置および受信システムによれば、緊急警報を受信したときに、待機モー
ドの表示制御装置を通常モードに移行させることができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
混合器３は、コンテンツ作成送信装置２から出力される１つのチャネルの信号と放送局１から送信された複数チャネルの信号とを混合して、出力する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
図２は、図１に含まれるコンテンツ作成送信装置２の構成を表わす図である。
図２に示すように、コンテンツ作成送信装置２は、サイネージ画像作成部１１と、サイネージ画像記憶部１２と、ＴＳ変換部１３と、緊急通知部１５と、ＯＦＤＭ（Orthogonal
Frequency Division Multiplexing）変調部１４とを備える。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
緊急通知部１５は、緊急時において、ＴＭＣＣ（Transmission and Multiplexing Configuration and Control）信号における緊急警報情報が放送中であるか否かを示す緊急警報起動フラグに「１」を設定し、通常時において、緊急警報起動フラグに「０」を設定する。ここで、緊急時とは、受信装置７＿１〜７＿４が設置されている場所に特有の緊急時をいう。たとえば、受信装置７＿１〜７＿４が１つのビルに設置されているときには、そのビルの火災時などである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
ＩＰ受信部２９は、受信装置７＿１から出力されるＵＤＰパケットを受信する。
ファイル抽出部２８は、抽出されたＵＤＰパケットのペイロード部分から画像ファイルおよび／または音声ファイルを構成するデータを抽出して蓄積部３１に蓄積する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
蓄積部３１は、抽出された画像ファイルまたは音声ファイルを構成するデータを蓄積する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
（４）  個別またはグループ制御
個別の受信装置ごとに、または受信装置のグループごとに、待機モードの表示制御装置を通常モードへ移行させたいことがある。これは、受信装置にアドレスを付与し、送信側のコンテンツ作成装置２および放送局１から、待機モードから通常モードへ移行させたい表示制御装置と接続されている受信装置のアドレスを指定した信号を送ることによって実現できる。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年4月8日(2014.4.8)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
弾力性があり、細長いキャリア要素と、これと同様に細長く、拭取対象であるフロントガラスに隣接して配設可能なゴム製のワイパーブレード（２）とを備え、該ワイパーブレード（２）がその縦側面に対向する縦溝（３）を有し、該縦溝（３）には間隙を介して前記キャリア要素の縦片部材（４）が配され、該縦片部材（４）の隣接端がそれぞれ連結部品（６）によって相互連結されたフロントガラス用ワイパー装置（１）であって、揺動ワイパーアーム（８）用の連結具（７）を備えているフロントガラス用ワイパー装置（１）において、
少なくとも１つの前記連結部品（６）の端壁（１２）が開口（１３）を備え、
前記ワイパーブレード（２）のパーツ（１４）が、前記開口（１３）を通り抜け、前記連結部品（６）を超えて永続的に延び、かつ、
前記ワイパーブレード（２）の前記パーツ（１４）を強化するための補強手段を備え、
前記連結部品（６）が前記補強手段を備え、
前記補強手段は、前記連結部品（６）に対して外方に延びる少なくとも１つの縦長な指部（１５）を備え、かつ、
前記指部（１５）は、前記ワイパーブレード（２）の１つの前記縦溝（３）の内側で静止していることを特徴とするフロントガラス用ワイパー装置（１）。
【請求項２】
前記補強手段が前記連結部品（６）に対して２つの縦長指部（１５）を備え、かつ、
前記各指部（１５）は、前記ワイパーブレード（２）の対応する前記縦溝（３）の内側で静止している請求項１に記載のフロントガラス用ワイパー装置（１）。
【請求項３】
１または複数の前記指部（１５）は、前記連結部品（６）の前記開口（１３）を通り抜けて延びている請求項１または２に記載のフロントガラス用ワイパー装置（１）。
【請求項４】
前記補強手段は、前記開口（１３）を通り抜け、前記連結部品（６）を超えて延びる少なくとも１つの前記縦片部材（４）のパーツ（１９）によって形成され、かつ、
該パーツ（１９）は、前記ワイパーブレード（２）の１つの前記縦溝（３）の内側に配されている請求項１ないし３のいずれかに記載のフロントガラス用ワイパー装置（１）。
【請求項５】
前記補強手段は、前記開口（１３）を通り抜け、前記連結部品（６）を超えて延びる２つの前記縦片部材（４）のパーツ（１９）によって形成され、かつ、
該パーツ（１９）は、前記ワイパーブレード（２）の対応する前記縦溝（３）の内側に配されている請求項４に記載のフロントガラス用ワイパー装置（１）。
【請求項６】
１または複数の前記縦片部材（４）および前記連結部品（６）は、１または複数の前記縦片部材（４）が前記連結部品（６）に対して外方向に縦移動するのをブロックする相互協働手段を備えている請求項４または５に記載のフロントガラス用ワイパー装置（１）。
【請求項７】
前記連結部品（６）の前記開口（１３）の端部（２０）が内方に曲げられ、かつ、
前記端部（２０）は、１または複数の前記縦片部材（４）の凹部（２１）の内側で静止している請求項６に記載のフロントガラス用ワイパー装置（１）。
【請求項８】
前記凹部（２１）は、１または複数の前記縦片部材（４）の外部縦面に沿って形成されている請求項７に記載のフロントガラス用ワイパー装置（１）。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１６】
図３による別の実施形態では、開口１３を通り抜け、エンドキャップ６を超えて永続的に延びるワイパーブレード２のパーツ１４が強化され、それは２つの片部材４によって補強されている。すなわち、ワイパーブレード２の溝３に組み込まれた片部材４のパーツ１９も、エンドキャップ６を超えて永続的に延びている。エンドキャップ６の開口１３の端部２０は内方に曲げられる一方で、該端部２０は片部材の外部縦面に形成された凹部２１の内側で静止している。
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月30日(2014.9.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
この発明は、パネル画面を描画するパネル画面描画部と、パネル画面を表示するタッチパネルディスプレイとを備えたものであって、パネル画面描画部は、パネル画面に配置されるアニメーションの表示に関する情報を示す通信プロトコルと、アニメーションのコマが遷移する条件をパラメータとして設定されたプロパティ設定とを含み、アニメーションの配置を示す設定ファイルを取得するように構成され、タッチパネルにて指定された座標と、通信プロトコルに基づく情報を受信する通信データ受信部と、タッチパネルにて指定された座標または通信プロトコルに基づく情報とから設定ファイル内のプロパティ設定に基づいてフィルタ値を計算し出力するフィルタ計算部と、記通信プロトコルに基づく情報またはフィルタ計算部からの出力値に基づいてアニメーションのフレーム番号を計算する動画フレーム番号計算部と、フレーム番号と、設定ファイルに基づいてパネル画面を描画し更新する描画更新部とを有することを特徴とする。
また、この発明は、パネル画面を表示するステップと、パネル画面に配置されるアニメーションの表示に関する情報を示す通信プロトコルと、アニメーションのコマが遷移する条件をパラメータとして設定されたプロパティ設定とを含み、アニメーションの配置を示す設定ファイルを取得するステップと、タッチパネルにて指定された座標と、通信プロトコルに基づく情報を受信するステップと、タッチパネルにて指定された座標と、通信プロトコルに基づく情報とから設定ファイル内のプロパティ設定に基づいてフィルタ値を計算し出力するステップと、通信プロトコルに基づく情報またはフィルタ値に基づいてアニメーションのフレーム番号を計算するステップと、フレーム番号と、設定ファイルに基づいてパネル画面を描画し更新するステップとを有することを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
この発明は、パネル画面を描画するパネル画面描画部と、パネル画面を表示するタッチパネルディスプレイとを備えたものであって、パネル画面描画部は、パネル画面に配置されるアニメーションの表示に関する情報を示す通信プロトコルと、アニメーションのコマが遷移する条件をパラメータとして設定されたプロパティ設定とを含み、アニメーションの配置を示す設定ファイルを取得するように構成され、タッチパネルにて指定された座標と、通信プロトコルに基づく情報を受信する通信データ受信部と、タッチパネルにて指定された座標または通信プロトコルに基づく情報とから設定ファイル内のプロパティ設定に基づいてフィルタ値を計算し出力するフィルタ計算部と、記通信プロトコルに基づく情報またはフィルタ計算部からの出力値に基づいてアニメーションのフレーム番号を計算する動画フレーム番号計算部と、フレーム番号と、設定ファイルに基づいてパネル画面を描画し更新する描画更新部とを有するので、プログラム変更及びコンパイル実施をすることなく、プロパティ設定をカスタマイズすることでユーザが自由にカスタマイズ可能として、アプリケーションのデザイン画像とその動作を設定変更可能とすることができる。
また、この発明は、パネル画面を表示するステップと、パネル画面に配置されるアニメーションの表示に関する情報を示す通信プロトコルと、アニメーションのコマが遷移する条件をパラメータとして設定されたプロパティ設定とを含み、アニメーションの配置を示す設定ファイルを取得するステップと、タッチパネルにて指定された座標と、通信プロトコルに基づく情報を受信するステップと、タッチパネルにて指定された座標と、通信プロトコルに基づく情報とから設定ファイル内のプロパティ設定に基づいてフィルタ値を計算し出力するステップと、通信プロトコルに基づく情報またはフィルタ値に基づいてアニメーションのフレーム番号を計算するステップと、フレーム番号と、設定ファイルに基づいてパネル画面を描画し更新するステップとを有するので、プログラム変更及びコンパイル実施をすることなく、プロパティ設定をカスタマイズすることでユーザが自由にカスタマイズ可能として、アプリケーションのデザイン画像とその動作を設定変更可能とすることができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パネル画面を描画するパネル画面描画部と、前記パネル画面を表示するタッチパネルディスプレイとを備えたパネル表示装置において、
前記パネル画面描画部は、
前記パネル画面に配置されるアニメーションの表示に関する情報を示す通信プロトコルと、前記アニメーションのコマが遷移する条件をパラメータとして設定されたプロパティ設定とを含み、前記アニメーションの配置を示す設定ファイルを取得するように構成され、
前記タッチパネルにて指定された座標と、前記通信プロトコルに基づく情報を受信する通信データ受信部と、
前記タッチパネルにて指定された座標または前記通信プロトコルに基づく情報とから前記設定ファイル内の前記プロパティ設定に基づいてフィルタ値を計算し出力するフィルタ計算部と、
前記通信プロトコルに基づく情報または前記フィルタ計算部からの出力値に基づいて前記アニメーションのフレーム番号を計算する動画フレーム番号計算部と、
前記フレーム番号と、前記設定ファイルに基づいて前記パネル画面を描画し更新する描画更新部とを有すること
を特徴とするパネル表示装置。
【請求項２】
前記パネル画面に表示されるデータの情報に対応するフィルタ条件を前記パラメータとして設定されていることを特徴とする請求項１に記載のパネル表示装置。
【請求項３】
前記通信プロトコルおよび前記プロパティ設定には、カメラ情報に関するパラメータが設定されていることを特徴とする請求項１または２に記載のパネル表示装置。
【請求項４】
前記フィルタ条件は、前記パラメータに設定され、かつ前記フィルタ条件は１次フィルタまたは２次フィルタから選択可能であることを特徴とする請求項２に記載のパネル表示装置。
【請求項５】
パネル画面を表示するステップと、
前記パネル画面に配置されるアニメーションの表示に関する情報を示す通信プロトコルと、前記アニメーションのコマが遷移する条件をパラメータとして設定されたプロパティ設定とを含み、前記アニメーションの配置を示す設定ファイルを取得するステップと、
前記タッチパネルにて指定された座標と、前記通信プロトコルに基づく情報を受信するステップと、
前記タッチパネルにて指定された座標と、前記通信プロトコルに基づく情報とから前記設定ファイル内の前記プロパティ設定に基づいてフィルタ値を計算し出力するステップと、
前記通信プロトコルに基づく情報または前記フィルタ値に基づいて前記アニメーションのフレーム番号を計算するステップと、
前記フレーム番号と、前記設定ファイルに基づいて前記パネル画面を描画し更新するステップと
を有することを特徴とするパネル表示方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年8月6日(2014.8.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】
請求項６に記載の安全保安システムにおいて、前記複数のＣＰＵは２つの異型のＣＰＵであり、前記２つのＣＰＵから送出される前記データを前記データ照合装置に実装された同期調整照合回路で照合することによって、どちらか一方のＣＰＵに障害が内在している場合にも該障害を検出できることを特徴とする安全保安システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１２】
請求項１１に記載の安全保安システムにおいて、前記同期調整照合回路は、前記複数のＣＰＵに対応する複数の直交波形生成回路と複数の排他的論理和回路とを有し、前記複数のＣＰＵから送出される前記データが一致している場合には、信号のレベルが一定間隔で変化する固有の信号を出力することを特徴とする安全保安システム。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明のデータ照合装置は、複数のデータ元から送出されるデータに基づいて同期信号を生成する同期信号生成回路と、前記同期信号に基づいて同期調整信号を生成する同期ずれ検知回路と、前記同期調整信号に基づいて照合タイミングを調整してデータを照合する同期調整照合回路とを有し、前記複数のデータ元から送出される同期の取れていない可能性のあるデータを照合することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また、本発明の安全保安システムは、複数のＣＰＵとデータ照合装置とからなり、前記複数のＣＰＵでは同じデータ処理を実行し、前記データ照合装置には前記ＣＰＵから送出されるデータに基づいて同期信号を生成する同期信号生成回路と、前記同期信号に基づいて同期調整信号を生成する同期ずれ検知回路と、前記同期調整信号に基づいて照合タイミングを調整してデータを照合する同期調整照合回路とを実装し、前記複数のＣＰＵから送出される同期の取れていない可能性のあるデータを照合することを特徴とする。
また、本発明のデータ照合方法は、複数のデータ元から送出されるデータに基づいて同期信号を生成し、前記同期信号に基づいて同期調整信号を生成し、前記同期調整信号に基づいて照合タイミングを調整して前記データを照合し、前記複数のデータ元から送出される同期の取れていない可能性のあるデータを照合することを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
特定のビット列は、データ元から送出されるデータの伝送プロトコルに適したものであればどのようなものでもよく、例えば、調歩同期方式で使われるスタートビットや、イーサネット（登録商標）で使われるプリアンブルなどが考えられる。なお、トリガーを検出するためには十分周期の短いクロック信号が必要であるが、これについては、外部から入力される構成でもよいし、内部にクロックを持つ構成でもよい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
本実施例では、安全保安システムの複数のＣＰＵに同じデータ処理を実行させ、そのＣＰＵから送出されるデータの同期ずれをデータ照合装置で検知し、照合タイミングを調整してデータを照合することのできる安全保安システムの例を説明する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
まず、直交波形生成回路３４、直交波形生成回路３５で、それぞれ相関を持たない直交波形を発生させる。次に、排他的論理和回路３６、排他的論理和回路３７でマルチプレクサ３２が選択して出力した各データに発生させた直交波形を重畳させる。最後に、直交波形が重畳された各データを排他的論理和回路３３で照合する。この結果、複数のデータ元から送出されたデータ１ｃ、データ１ｄが一致している場合には、信号のレベルが一定間隔で変化する固有のデータ照合結果２が出力される。直交波形は、どのようなものでもよく、例えば、直交性質を持つ、三角関数、Ｗａｌｓｈ−Ｈａｄａｍａｒｄ関数、Ｍ系列、Ｗａｖｅｌｅｔなどの直交関数から生成することが考えられる。図４に、直交波形とデータ照合結果２の例を示す。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
本実施例では、データ照合装置４２の回路論理を、ハードウエア記述言語を用いて記述し、この論理をＦＰＧＡ（Field  Programmable  Gate  Array）に実装する。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
従って、本実施例の安全保安システムは、半導体技術の進化による電子部品の改廃に合わせて再設計する必要はなく、一度ハードウエア記述言語で記述したデータ照合装置４２の回路論理を、将来に渡ってその時に入手可能なＦＰＧＡに実装することで実現することができ、長期間低コストで製品ラインナップを維持できる。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月24日(2014.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
導電性シール層２における導電性ゴムは、ゴムに導電性を有するカーボンブラックを配合して均一に混合することによって、前記ゴム中前記カーボンブラックによるマトリクス状の導電構造を形成したもので、前記カーボンブラックの配合率等の条件によって、導電率が１０Ｓ／ｍ以上（体積抵抗率が０．１Ωｍ以下）、好ましくは導電率が２０Ｓ／ｍ以上（体積抵抗率が０．０５Ωｍ以下）となっている。
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月19日(2014.9.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
前記基板の表面は、鏡面仕上げであることが好ましい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
本発明に係る基板加工方法は、結晶基板を加工する基板加工方法であって、レーザ光源からのレーザ光を基板の表面に向けて照射し、前記基板内部にレーザ光を集光するレーザ集光手段を基板上に非接触に配置する位置決め工程と、前記レーザ集光手段と前記基板を相対的に移動させて、前記基板内部に改質層を形成する工程とを有し、前記レーザ集光手段は、レーザ光を光軸に軸対称に集光するとともに、前記基板内部において、前記レーザ集光手段の外周部に入射した光が、前記レーザ集光手段の内周部に入射した光より、前記レーザ集光手段側で集光するように構成されているものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７２】
〔照射例１〕
基板内部加工装置１００において、ｘ軸、ｙ軸方向にそれぞれ最大速度２００ｍｍ／ｓで移動可能なｘｙステージ１１０上に、大きさ５０×５０ｍｍ、厚み０．７ｍｍ、表面が鏡面仕上げ加工された単結晶シリコンからなる基板１０を載置固定した。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７５】
この基板１０を直線状の照射方向に直角に劈開を行い、断面を観察した。この結果、図１５に示すように、基板１０鏡面仕上げ側表面から０．３ｍｍの深さにそれぞれ加工領域の長さが７０μｍのほぼ同じ加工痕を確認した。なお、図中の左側及び右側の加工痕は、それぞれ補正環２１０を０．０ｍｍ及び０．３ｍｍを設定したときに対応している。なお、この加工跡は、前述した周期的構造に相当するものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
前記基板の表面は、鏡面仕上げであることを特徴とする請求項１記載の基板加工装置。
【手続補正６】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
結晶基板を加工する基板加工方法であって、
レーザ光源からのレーザ光を基板の表面に向けて照射し、前記基板内部にレーザ光を集光するレーザ集光手段を基板上に非接触に配置する位置決め工程と、
前記レーザ集光手段と前記基板を相対的に移動させて、前記基板内部に改質層を形成する工程とを有し、
前記レーザ集光手段は、レーザ光を光軸に軸対称に集光するとともに、前記基板内部において、前記レーザ集光手段の外周部に入射した光が、前記レーザ集光手段の内周部に入射した光より、前記レーザ集光手段側で集光するように構成されていることを特徴とする基板加工方法。
【手続補正７】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１４】
前記改質層は、前記基板の表面と平行に形成されることを特徴とする請求項１０記載の基板加工方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月25日(2013.11.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
本実施形態のイオン注入装置１にあっては、図１に示されるように、アンロードロックチャンバ８の後段において、トレイ３を時計回りに９０度回転させてトレイ３の配置を変更するトレイ回転機構（載置台回転手段）２０が設けられている。トレイ回転機構２０は、トレイ３を持ち上げてキャリア２からいったん浮かせ、トレイ３を時計回りに９０度回転させた後、キャリア２上に戻す。トレイ回転機構２０は、トレイ３の中心点を中心にしてトレイ３を回転する。トレイ回転機構２０は、トレイ３を操作するためのアーム部やクランプ部を有している。トレイ回転機構２０は、大気圧環境下に配置されている。すなわち、トレイ回転機構２０は、大気圧環境下でトレイ３を回転させる。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月15日(2014.4.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料に荷電粒子線を照射して、当該試料上に配線加工を行う配線方法において、
前記配線加工を行う配線軌道上にイオン液体を配置し、当該配線軌道に沿って前記荷電粒子線の照射位置を移動することを特徴とする配線方法。
【請求項２】
請求項１において、
前記試料上に前記イオン液体を滴下し、当該滴下されたイオン液体に前記荷電粒子線を照射することを特徴とする配線方法。
【請求項３】
請求項１において、
前記試料を配置するための試料台上に、前記イオン液体を配置し、当該イオン液体が配置された位置から、前記試料に向かって前記荷電粒子線の照射位置を移動することを特徴とする配線方法。
【請求項４】
荷電粒子源と、
荷電粒子線が照射される試料を配置するための試料台と、
当該荷電粒子源から放出される荷電粒子線の照射位置を移動する移動機構を備えた荷電粒子線装置において、
前記試料台或いは前記試料上に配置されたイオン液体の移動軌道を設定する入力装置と、
当該入力装置によって設定された移動軌道に沿って、前記荷電粒子線が照射されるように、前記移動機構を制御する制御装置を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項５】
請求項４において、
前記制御装置は、前記移動軌道に沿って前記照射位置が時間の経過に従って順次移動するように前記移動機構を制御することを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項６】
請求項５において、
前記制御装置は、１の照射位置と、その後に照射される照射位置とが重なるように、前記照射位置を移動することを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項７】
請求項４において、
前記移動機構は、前記荷電粒子線の照射位置を偏向する偏向器であることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項８】
請求項４において、
前記移動機構は、前記試料を移動するための試料ステージであることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項９】
請求項４において、
イオン液体を試料の一部に滴下するプローブを備えることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項１０】
請求項４において、
前記試料台にイオン液体保持部を有することを特徴とする荷電粒子線装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月18日(2014.6.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１２】
複数組の前記第１の貫通部と前記第２の貫通部は、異なる線径の前記内部リード線に対応するように、それぞれ異なる寸法であることを特徴とする請求項１１記載の入力端子台。
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月30日(2014.5.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外周端部に厚肉部を、中央部に薄肉部を有する半導体ウエハを準備する工程と、
前記半導体ウエハの一方の面に支持部材を装着する工程と、
前記支持部材の装着後に、前記半導体ウエハを前記厚肉部と前記薄肉部とに分割する工程と、
前記分割後に、前記支持部材で前記薄肉部を支持した状態で前記薄肉部を切断する工程と、を備える、半導体装置の製造方法。
【請求項２】
前記分割後に前記厚肉部を前記支持部材から分離する工程をさらに備える、請求項１に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項３】
前記支持部材は粘着テープを含み、
前記粘着テープは、前記薄肉部から前記厚肉部にわたって貼付られる、請求項１または請求項２に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項４】
前記厚肉部を、前記粘着テープから分離する前に、前記厚肉部と接する部分における前記粘着テープの粘着力を低下させる工程を備える、請求項３に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項５】
前記厚肉部を前記支持部材から分離した後に、
前記支持部材を伸張させる工程をさらに備える、請求項２〜請求項４のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項６】
前記厚肉部を直接保持して分離する、請求項２〜請求項５のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項７】
前記厚肉部を真空吸着することにより保持する、請求項６に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項８】
前記厚肉部を静電吸着することにより保持する、請求項６に記載の半導体装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月22日(2014.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フィルム基材の一方の側に、第１透明導電体層と第１銅層とをスパッタ法により順次積層し、得られた第１積層体をロール状に巻き取って第１ロールとする第１工程と、
前記第１ロールを大気中で３０時間以上保管して、前記第１銅層の表面に、酸化銅（Ｉ）を含有する酸化皮膜層を形成する第２工程と、
前記第１ロールを巻き戻しながら、前記フィルム基材の他方の側に、第２透明導電体層と第２銅層とをスパッタ法により順次積層し、得られた第２積層体をロール状に巻き取って第２ロールとする第３工程とを含む、
ことを特徴とする、導電性フィルムロールの製造方法。
【請求項２】
前記第２工程において、前記第１ロールを大気中で３６時間〜１８０時間保管することを特徴とする、請求項１記載の導電性フィルムロールの製造方法。
【請求項３】
前記第２工程において、厚み１ｎｍ〜１５ｎｍの酸化皮膜層が形成されることを特徴とする、請求項１記載の導電性フィルムロールの製造方法。
【請求項４】
前記酸化皮膜層は、酸化銅（Ｉ）を５０重量％以上含有することを特徴とする、請求項１記載の導電性フィルムロールの製造方法。
【請求項５】
前記酸化皮膜層は、銅、酸化銅（Ｉ）、酸化銅（II）、炭酸銅及び水酸化銅を含む組成物からなることを特徴とする、請求項１記載の導電性フィルムロールの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年1月15日(2014.1.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
モータの駆動位置に応じて変化するエンコーダ信号を入力し、当該エンコーダ信号に応じて前記モータの駆動指令を出力し、前記モータの駆動位置と駆動速度のすくなくともどちらかを制御するモータ制御装置であって、
所定の周期ごとに前記エンコーダ信号の計数値から前記モータの駆動位置を検出する処理を行う高速処理手段と、
前記高速処理手段が検出した前記モータの駆動位置に応じて、複数回の前記所定の周期で前記モータの駆動指令を算出する処理を行なう低速処理手段と
を備えることを特徴とするモータ制御装置。
【請求項２】
請求項１に記載のモータ制御装置において、
所定の目標位置を生成する目標位置生成手段を備え、
前記高速処理手段あるいは前記低速処理手段のいずれかが、前記目標位置と前記モータの駆動位置の比較結果に応じた第１の目標速度を算出する位置比較処理を行い、
前記高速処理手段はさらに、
前記モータの駆動位置を前記所定の周期ごとに差分し、算出された値に応じて前記モータの駆動速度を算出する速度算出処理と、
前記第１の目標速度と前記モータの駆動速度を比較して速度誤差を算出する速度比較処理と
を行い、
前記低速処理手段は、前記速度誤差に応じて前記駆動指令を算出する
ことを特徴とするモータ制御装置。
【請求項３】
請求項１に記載のモータ制御装置において、
外部から入力されるパルスを計数して目標位置を算出する目標パルス計数手段を備え、
前記高速処理手段あるいは前記低速処理手段のいずれかが、前記目標位置と前記モータの駆動位置の比較結果に応じた第１の目標速度を算出する位置比較処理を行い、
前記高速処理手段はさらに、
前記モータの駆動位置を前記所定の周期ごとに差分し、算出された値に応じて前記モータの駆動速度を算出する速度算出処理と、
前記第１の目標速度と前記モータの駆動速度を比較して速度誤差を算出する速度比較処理と
を行い、
前記低速処理手段は、前記速度誤差に応じて前記駆動指令を算出する
ことを特徴とするモータ制御装置。
【請求項４】
請求項２または３のいずれか一項に記載のモータ制御装置において、
前記高速処理手段あるいは前記低速処理手段のいずれかが、前記目標位置を差分し、算出された値に応じた第２の目標速度を算出する処理を行い、
前記高速処理手段は、前記第１、第２の目標速度を加算した値と前記モータの駆動速度を比較して前記速度誤差とする
ことを特徴とするモータ制御装置。
【請求項５】
請求項４に記載のモータ制御装置において、
前記高速処理手段は、
前記モータの駆動速度あるいは前記速度誤差の低域成分を抽出する低域フィルタ処理を行ない、フィルタ結果を後段の駆動速度あるいは速度誤差として用いる
ことを特徴とするモータ制御装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一項に記載のモータ制御装置において、
前記高速処理手段あるいは前記低速処理手段のいずれかの処理が実行されていないときにメイン処理を実行するメイン処理手段と、
複数回の前記所定の周期ごとに、前記メイン処理を一巡させるメインループ処理手段と
備え、
前記メイン処理手段はすくなくとも、前記モータの駆動指令あるいは前記モータの駆動位置に応じて、異常状態を判定するエラー判定を行なう
ことを特徴とするモータ制御装置。
【請求項７】
モータの駆動位置に応じて変化するエンコーダ信号を入力し、当該エンコーダ信号に応じて前記モータの駆動指令を出力し、前記モータの駆動位置と駆動速度のすくなくともどちらかを制御するモータ制御装置が実行する方法であって、
所定の周期ごとに前記エンコーダ信号の計数値から前記モータの駆動位置を検出する処理を行う高速処理工程と、
前記高速処理工程が検出した前記モータの駆動位置に応じて、複数回の前記所定の周期で前記モータの駆動指令を算出する処理を行なう低速処理工程と
を備えることを特徴とするモータ制御方法。
【請求項８】
モータの駆動位置に応じて変化するエンコーダ信号を入力し、当該エンコーダ信号に応じて前記モータの駆動指令を出力し、前記モータの駆動位置と駆動速度のすくなくともどちらかを制御するモータ制御装置を構成するコンピュータを、
所定の周期ごとに前記エンコーダ信号の計数値から前記モータの駆動位置を検出する処理を行う高速処理手段、
前記高速処理手段が検出した前記モータの駆動位置に応じて、複数回の前記所定の周期で前記モータの駆動指令を算出する処理を行なう低速処理手段
として機能させることを特徴とするモータ制御プログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
上記の課題を解決するため、本発明にあっては、モータの駆動位置に応じて変化するエンコーダ信号を入力し、当該エンコーダ信号に応じて前記モータの駆動指令を出力し、前記モータの駆動位置と駆動速度のすくなくともどちらかを制御するモータ制御装置であって、所定の周期ごとに前記エンコーダ信号の計数値から前記モータの駆動位置を検出する処理を行う高速処理手段と、前記高速処理手段が検出した前記モータの駆動位置に応じて、複数回の前記所定の周期で前記モータの駆動指令を算出する処理を行なう低速処理手段とを備えるようにしている。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月17日(2014.4.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２種以上のモノテルペンアルコールと、
４−メルカプト−４−メチルペンタン−２−オンと
を含み、
前記２種以上のモノテルペンアルコールの含有量の合計が１５ｐｐｂ以上、２０００ｐｐｂ以下であり、
前記４−メルカプト−４−メチルペンタン−２−オンの含有量が１０ｐｐｔ以上、２００ｐｐｂ以下である
ことを特徴とする飲料。
【請求項２】
前記２種以上のモノテルペンアルコールは、リナロール、ゲラニオール、β−シトロネロール、α−テルピネオール及びネロールからなる群より選択される２種以上である
ことを特徴とする請求項１に記載の飲料。
【請求項３】
植物原料を使用して製造される飲料である
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の飲料。
【請求項４】
前記植物原料は、穀類、豆類及びいも類からなる群より選択される１種以上及び／又は前記群より選択される１種以上を発芽させたものである
ことを特徴とする請求項３に記載の飲料。
【請求項５】
２品種以上のホップを使用して製造される飲料である
ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の飲料。
【請求項６】
２種以上のモノテルペンアルコール及び４−メルカプト−４−メチルペンタン−２−オンを含む原料を使用して、請求項１乃至５のいずれかに記載の飲料を製造する
ことを特徴とする飲料の製造方法。
【請求項７】
２種以上のモノテルペンアルコールと、
４−メルカプト−４−メチルペンタン−２−オンと
を含み、
前記２種以上のモノテルペンアルコールの含有量の合計が１５ｐｐｂ以上、２０００ｐｐｂ以下であり、
前記４−メルカプト−４−メチルペンタン−２−オンの含有量が１０ｐｐｔ以上、２００ｐｐｂ以下である
ことを特徴とする添加用組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成26年2月24日(2014.2.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
搬送されるウエブを支持するバックアップローラと、
前記バックアップローラに対向配置され、複数のスロット先端から塗布液をそれぞれ吐出してダイ先端面であるリップ面と前記ウエブとの間のクリアランスに塗布液のビードを形成することにより前記搬送されるウエブに複数の塗布液を同時重層塗布するスロットダイと、
前記塗布液のビードのウエブ搬送方向上流側を減圧する減圧装置と、を備え、
前記複数のスロットを挟んだ両側のリップ面のうち、前記複数の塗布液同士の界面が接触するリップ面のウエブ搬送方向からみて下流側のリップ面端部が断面凸状の湾曲形状に形成されていることを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
前記スロットダイの少なくともリップ面部分はビッカース硬度（Ｈｖ）５００以上の素材で形成されていると共に、前記複数の塗布液同士の界面が接触するリップ面のみのウエブ搬送方向からみて下流側のリップ面端部が断面凸状の湾曲形状に形成されている請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
前記湾曲形状は曲率半径が１μｍ以上の曲率を有する円弧形状である請求項１又は２に記載の塗布装置。
【請求項４】
前記複数のスロットのうち、最下流側のリップ面は他のリップ面よりも前記ウエブとの距離が長いアンダーバイト構造に形成されている請求項１〜３の何れか１に記載の塗布装置。
【請求項５】
請求項１〜４の何れか１つの塗布装置を用いて、粘度が０．５ｍＰａ・ｓ以上４０ｍＰａ・ｓ以下の複数の塗布液をウエブに同時重層塗布する塗布工程と、
前記同時重層塗布された重層塗膜を乾燥する乾燥工程と、を少なくとも備えた塗膜付きフィルムの製造方法であって、
前記塗布工程では、前記複数の塗布液同士の界面が接触するリップ面と前記ウエブとの間のクリアランスのうち最下流の界面が接触するリップ面と前記ウエブとの間の距離をｄ、前記重層塗膜のウエット厚みのうち前記距離ｄに対応するクリアランス位置のビード部分を構成する塗布液のウエット厚みをｈとしたときに、架橋限界＞ｄ≧３ｈを満足するように塗布することを特徴とする塗膜付きフィルムの製造方法。
【請求項６】
前記塗布工程の前段に、前記ダイ先端面であるリップ面の部分をビッカース硬度（Ｈｖ）５００以上の素材で形成し、前記複数の塗布液同士の界面が接触するリップ面のウエブ搬送方向からみて下流側のリップ面端部を断面凸状の湾曲形状に研磨したスロットダイを準備するダイ準備工程を備える請求項５に記載の塗膜付きフィルムの製造方法。
【請求項７】
前記研磨によって前記リップ面端部の曲率半径が１μｍ以上になるように研磨する請求項６に記載の塗膜付きフィルムの製造方法。
【請求項８】
前記研磨は前記複数の塗布液同士の界面が接触するリップ面のみを研磨する請求項７に記載の塗膜付きフィルムの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の塗布装置は前記目的を達成するために、搬送されるウエブを支持するバックアップローラと、前記バックアップローラに対向配置され、複数のスロット先端から塗布液をそれぞれ吐出してダイ先端面であるリップ面と前記ウエブとの間のクリアランスに塗布液のビードを形成することにより前記搬送されるウエブに複数の塗布液を同時重層塗布するスロットダイと、前記塗布液のビードのウエブ搬送方向上流側を減圧する減圧装置と、を備え、前記複数のスロットを挟んだ両側のリップ面のうち、前記複数の塗布液同士の界面が接触するリップ面のウエブ搬送方向からみて下流側のリップ面端部が断面凸状の湾曲形状に形成されていることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
本発明の塗膜付きフィルムの製造方法は前記目的を達成するために、請求項１〜４の何れか１つの塗布装置を用いて、粘度が０．５ｍＰａ・ｓ以上４０ｍＰａ・ｓ以下の複数の塗布液をウエブに同時重層塗布する塗布工程と、前記同時重層塗布された重層塗膜を乾燥する乾燥工程と、を少なくとも備えた塗膜付きフィルムの製造方法であって、前記塗布工程では、前記複数の塗布液同士の界面が接触するリップ面と前記ウエブとの間のクリアランスのうち最下流の界面が接触するリップ面と前記ウエブとの間の距離をｄ、前記重層塗膜のウエット厚みのうち前記距離ｄに対応するクリアランス位置のビード部分を構成する塗布液のウエット厚みをｈとしたときに、架橋限界＞ｄ≧３ｈを満足するように塗布することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月17日(2013.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱膨張率α(20-750)が７×１０-6Ｋ-1以上であり、かつせいぜい不純物を除いてＢａＯおよびＳｒＯを含まず、かつ（酸化物を基礎とするモル％で）
ＳｉＯ2    ３４〜６０
Ｂ2Ｏ3    ０．１〜１４
Ａｌ2Ｏ3    ０〜１３
ＣａＯ    １５〜４５
ＭｇＯ    ０〜３０
Ｌａ2Ｏ3    ０〜１０
Ｙ2Ｏ3    ０〜１０
ＴｉＯ2    ０〜１０
ＺｒＯ2    ０〜１０
ＳｎＯ2    ０〜１０
ＨｆＯ2    ０〜１０
Ｒ2Ｏ3    ０〜１０
を含有し、その際、Ｒ2Ｏ3は、Ｇａ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、Ｄｙ2Ｏ3およびＹｂ2Ｏ3からなる群から選択される酸化物である、ガラス質またはガラスセラミックの接合材料。
【請求項２】
請求項１に記載の接合材料であって、（酸化物を基礎とするモル％で）
ＳｉＯ2    ３４〜５０
Ｂ2Ｏ3    ４〜１４
Ａｌ2Ｏ3    ２〜１３
ＣａＯ    １７〜４５
ＭｇＯ    ０〜＜１０
Ｌａ2Ｏ3    ０〜１０
Ｙ2Ｏ3    ０〜１０
ＴｉＯ2    ０〜１０
ＺｒＯ2    ０〜１０
ＳｎＯ2    ０〜１０
ＨｆＯ2    ０〜１０
Ｒ2Ｏ3    ０〜１０
を含有する前記接合材料。
【請求項３】
請求項１に記載の接合材料であって、（酸化物を基礎とするモル％で）
ＳｉＯ2    ３０〜６０
Ｂ2Ｏ3    ０．１〜１０
Ａｌ2Ｏ3    ０〜２
ＣａＯ    １５〜４０
ＭｇＯ    ０〜３０
Ｌａ2Ｏ3    ０〜１０
Ｙ2Ｏ3    ０〜１０
ＴｉＯ2    ０〜１０
ＺｒＯ2    ０〜１０
ＳｎＯ2    ０〜１０
ＨｆＯ2    ０〜１０
Ｒ2Ｏ3    ０〜１０
を含有する前記接合材料。
【請求項４】
請求項１から３までのいずれか１項に記載の接合材料であって、（酸化物を基礎とするモル％で）
Ｙ2Ｏ3    ＞０〜１０
を含む前記接合材料。
【請求項５】
請求項１から４までのいずれか１項に記載の接合材料であって、Ｎａ2Ｏおよび／またはＫ2Ｏおよび／またはＬｉ2Ｏを含み、（酸化物を基礎とするモル％で）
Σ Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ＋Ｌｉ2Ｏ    ＜１
である前記接合材料。
【請求項６】
請求項１から５までのいずれか１項に記載の接合材料であって、Ｃｓ2Ｏおよび／またはＲｂ2Ｏを含み、（酸化物を基礎とするモル％で）
Σ Ｃｓ2Ｏ＋Ｒｂ2Ｏ    ＜５
である前記接合材料。
【請求項７】
請求項１から６までのいずれか１項に記載の接合材料であって、その結晶相が、ＣａＳｉＯ3および／またはＣａＭｇＳｉ2Ｏ6および／またはＭｇＳｉＯ3および／またはＹＡｌＯ3を含む前記接合材料。
【請求項８】
請求項１から７までのいずれか１項に記載の接合材料を含む接合連結部。
【請求項９】
燃料電池または電解セルまたはセンサおよび／またはアクチュエータにおける連結接合部の製造のための、または焼結体および／または焼結シートの製造のための、または他のガラスおよび／またはガラスセラミックスにおける骨材としての、請求項１から７までのいずれか１項に記載の接合材料の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月1日(2014.5.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
パワーデバイスのゲート端子にゲート駆動信号を入力するパワーデバイス制御回路であって、
前記パワーデバイスを制御するためのパワーデバイス制御信号を受ける制御信号入力回路と、
前記制御信号入力回路に接続された駆動系統制御回路と、
前記駆動系統制御回路から、駆動回路制御信号を受けて前記パワーデバイスを駆動する、複数の駆動系統を有する駆動回路と、
所定の信号が入力されてから一定時間後に、前記駆動回路制御信号によって前記駆動系統を切り替えることにより、前記駆動系統制御回路の前記パワーデバイスを駆動する駆動能力を変化させるタイマ回路と、
を備える、
パワーデバイス制御回路。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１４】
前記パワーデバイスは、
ダイオードを備え、
前記ダイオードは、ＳｉＣまたはＧａＮを材料とすることを特徴とする、
請求項１２に記載のパワーデバイス回路。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
外部からのパワーデバイス制御信号１ａを受ける制御信号入力回路２が、駆動系統制御回路４に接続される。また、タイマ回路３は、パワーデバイス制御信号１ａを受けて、ゲート電圧がミラー電圧に達するまでの時間分のカウントを行い、タイマ信号１ｂを駆動系統制御回路４に入力する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
そこで、本実施の形態では、タイマ回路３を用いて、第２駆動系統５ｂを切り替えて駆動を行う。まず、制御信号入力回路２にパワーデバイス制御信号１ａが入力され（図３（ａ））、それと同時にタイマ回路３にも、パワーデバイス制御信号１ａが入力され、タイマ回路３、即ち、時定数回路のコンデンサの電圧が上昇を始める（図３（ｂ））。パワーデバイス制御信号１ａを受け取った制御信号入力回路２は、駆動系統制御回路４に備わるＭＯＳＦＥＴ４ａをオンして、第１駆動系統５ａを有効にする。これによって、パワーデバイス１００のゲート端子１００ａには、第１駆動系統５ａによる駆動能力で電圧が印加され、ゲート電圧が上昇を開始する（図３（ｃ））。ゲート電圧がミラー電圧に達すると同時に、タイマ設定時間を経過したタイマ回路３即ち時定数回路において、コンデンサの充電が完了して、ＭＯＳＦＥＴ４ｃがオンとなり、第２駆動系統５ｂが有効となる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
従って、第２駆動系統５ｂ切り替え後は、第１駆動系統５ａおよび第２駆動系統５ｂによって、パワーデバイス１００のゲート−エミッタ間により大きな電圧を印加して高い駆動能力で駆動を行う。高い駆動能力に切り替えて駆動を行うことにより、ゲート−コレクタ間容量およびゲート−エミッタ間容量の充電を素早く行うことができ、ミラー期間が短縮される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
＜効果＞
本実施の形態におけるパワーデバイス制御回路２００は、パワーデバイス１００のゲート端子１００ａにゲート駆動信号を入力するパワーデバイス制御回路であって、パワーデバイス１００を制御するためのパワーデバイス制御信号１ａを受ける制御信号入力回路２と、制御信号入力回路２に接続された駆動系統制御回路４と、駆動系統制御回路４から、駆動回路制御信号１ｃを受けてパワーデバイス１００を駆動する、複数の第１〜第ｎ駆動系統５ａ、５ｂ、５ｃを有する駆動回路５と、所定の信号、即ちパワーデバイス制御信号１ａが入力されてから一定時間後に、駆動回路制御信号１ｃによって駆動系統を切り替えることにより、駆動系統制御回路４のパワーデバイス１００を駆動する駆動能力を変化させるタイマ回路３とを備える。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
＜実施の形態３＞
図６に本実施の形態におけるパワーデバイス制御回路２００のブロック図を示す。実施の形態１および実施の形態２と異なり、タイマ回路が２個備わっている。第１タイマ回路６と第２タイマ回路７でタイマカウント時間をずらして設定しておくことで、タイマ信号１ｄ，１ｅが駆動系統制御回路４に入力される時間差が生じ、この時間差を利用して、段階的に第１〜第ｎ駆動系統５ａ，５ｂ，５ｃを切り替えることが可能となる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
＜効果＞
本実施の形態におけるパワーデバイス制御回路２００において、第１、第２駆動系統５ａ，５ｂは、定電流を出力することを特徴とする。従って、定電流駆動によってパワーデバイス１００のターンオンを行うため、パワーデバイス１００のゲート−エミッタ容量およびゲート−コレクタ容量は定電流にて充電される。よって、ゲート電圧は時間に対して線形に変化するので、ゲート電圧の制御が容易になる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
また、本実施の形態におけるパワーデバイス１００は、ＳｉＣまたはＧａＮを材料とすることを特徴とする。従って、ＳｉＣおよびＧａＮは、Ｓｉに比べて耐電圧性が高いため、パワーデバイス１００の小型化が可能なため、パワーデバイス回路を小型化することができる。また、Ｓｉに比べて、より高温下での動作、より高速な動作が可能であるため、例えば、パワーデバイス回路がＩＰＭである場合には、ＩＰＭ自体、もしくはＩＰＭが配設される装置の放熱構造を簡略化することができる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
また、本実施の形態におけるパワーデバイス１００は、ダイオードを備え、このダイオードは、ＳｉＣまたはＧａＮを材料とすることを特徴とする。従って、ＳｉＣおよびＧａＮは、Ｓｉに比べて耐電圧性が高いため、ダイオードを小型化することが可能であり、パワーデバイス回路を小型化することができる。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2013168905.tif 000001
【手続補正１２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2013168905.tif 000002
【手続補正１３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６】
2013168905.tif 000003