(57)【要約】      （修正有）【課題】１つの培養基材でウェルごとに異なる大きさのスフェロイドを形成可能な培養基材を提供する。【解決手段】培養基材は、複数のウェル２を有し、ウェル２内にマイクロウェル３を有し、少なくとも１つ以上のウェル２内のマイクロウェル３が他のウェル２内のマイクロウェル３と、開口径、開口形状、高さ、のいずれか１つ以上が異なっている。【選択図】図１
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【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
内部に培養面が配置された複数のウェルを有し、前記培養面はマイクロウェルを有し、少なくとも１つ以上のウェルが他のウェルと、開口径、開口形状、高さのいずれか１つ以上が異なるマイクロウェルを備えていることを特徴とする培養基材。
【請求項２】
前記培養面は、ウェルの底面に配置されていることを特徴とする請求項１記載の培養基材。
【請求項３】
前記培養面は、ウェルとは別部材からなり、ウェル内に配置されていることを特徴とする請求項１又は２記載の培養基材。
【請求項４】
前記別部材は、インサート形状であることを特徴とする請求項３記載の培養基材。
【請求項５】
前記別部材は、ウェルの底面に貼り付け又は載置されていることを特徴とする請求項３記載の培養基材。
【請求項６】
前記ウェルは側面と底面が異なる材質であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の培養基材。
【請求項７】
前記培養面は、細胞低接着処理面であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の培養基材。
【請求項８】
前記マイクロウェルは、非平坦面からなることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の培養基材。
【請求項９】
前記マイクロウェルは、培養面に稠密に配置されていることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の培養基材。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は、細胞培養に用いる培養基材に関する考案である。
【背景技術】
【０００２】
ヒトや動物など由来の細胞を培養容器などで人工的に培養して三次元的に凝集させるスフェロイド培養がよく知られている。スフェロイド培養では、細胞集団が立体的な構造を形成し、細胞同士が相互作用しているため、生体内での三次元構造により近い状態で培養または維持できると考えられており、それが通常の平面接着培養と比べ優れた特性を示すことが知られている。実際に、がん細胞を用いた抗がん剤スクリーニングや、多能性幹細胞などの増殖や分化などにスフェロイド培養がよく利用されている。
【０００３】
また、容器本体の底部に、細胞及び培養液を収容するための凹部（以下、ウェルともいう）を備え、この凹部の底部には、細胞を重力によって集合させるための複数のマイクロウェルを設けた細胞培養容器において、この凹部の開口端へ近付くにつれて開口面積が広がるように凹部の側面を傾斜面で構成したものも知られている（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１５−０２９４３１号公報
【考案の概要】
【考案が解決しようとする課題】
【０００５】
同じ環境下で細胞培養の様子を比較したい場合、１つの容器内で行うことが適切であるが、例えば、所望のスフェロイドの大きさや形状に合わせて適切なサイズのマイクロウェルを選択したい場合は、別の容器を準備する必要があった。そうなると、複数のマイクロプレートを使用する必要があり、培養試験に場所をとってしまったり、容器内でも使わないウェルが出てきたり、例えばシャーレのような１ウェルしかない容器では均一なスフェロイドを作るために必要量以上の細胞を播種しないといけなかったりするなどして効率が悪いという問題があった。
【０００６】
また、マイクロウェルを用いてスフェロイドを形成する場合、スフェロイドはマイクロウェルの大きさや形状に依存した大きさとなる。所望の大きさや形状のスフェロイドを作るためには、それに合わせて、マイクロウェルの開口径、開口形状、高さのいずれかの因子を調整する必要があった。
【０００７】
本考案の課題は、１つの培養基材でウェルごとに異なる大きさや形状のスフェロイドを形成可能な培養基材を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本考案の培養基材は、内部に培養面が配置された複数のウェルを有し、前記培養面はマイクロウェルを有し、少なくとも１つ以上のウェルが他のウェルと、開口径、開口形状、高さのいずれか１つ以上が異なるマイクロウェルを備えていることを特徴とする。
【０００９】
本考案の培養基材は、前記培養面が、ウェルの底面に配置されていることを特徴とする。
【００１０】
本考案の培養基材は、前記マイクロウェルが、ウェルとは別部材からなり、ウェル内に配置されていることを特徴とする。
【００１１】
本考案の培養基材は、前記別部材が、インサート形状であることを特徴とする。
【００１２】
本考案の培養基材は、前記別部材は、ウェルの底面に貼り付け又は載置されていることを特徴とする。
【００１３】
本考案の培養基材は、前記ウェルが側面と底面が異なる材質であることを特徴とする。
【００１４】
本考案の培養基材は、前記マイクロウェルが、細胞低接着処理面であることを特徴とする。
【００１５】
本考案の培養基材は、前記マイクロウェルが、非平坦面からなることを特徴とする。
【００１６】
本考案の培養基材は、前記マイクロウェルが、培養面に稠密に配置されていることを特徴とする。
【考案の効果】
【００１７】
本考案の培養基材によれば、１つの培養基材中で異なる条件のウェルでの細胞培養ができるので、条件ごとの培養状態の比較がしやすく、且つ通常の培養に比べて場所をとることなく培養が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本考案の培養基材のマイクロウェル及びウェルの平面図とＡ−Ａ´断面図の一例を示す。
【図２】本考案の培養基材のマイクロウェル及びウェルの平面図とＡ−Ａ´断面図の一例を示す。
【図３】本考案の培養基材の培養面を別部材に形成してウェル内に配置する場合の一例を示す
【図４】本考案の培養基材のウェル１つの平面図のバリエーションを示す（マイクロウェルは図面から省略）。
【図５】本考案の培養基材のウェル１つの断面図のバリエーションを示す（マイクロウェルは図面から省略）。
【図６】本考案の培養基材の実施形態の一例を示す。
【図７】本考案の培養基材の実施形態の一例を示す。
【図８】本考案の培養基材の実施形態の一例を示す。
【考案を実施するための形態】
【００１９】
本考案の培養基材１の形状は例えば、シャーレ、フラスコ、多層フラスコ、マイクロプレート、シート、インサート等があげられるが培養基材１上で複数の条件で培養ができるよう仕切られており（本明細書では仕切り部材等で仕切られている区画もウェルと定義する）、且つウェル内に培養面が配置されているものであれば、特に限定しない。本明細書及び図面においては、複数の平底のウェル２を有し、そのウェル２の底面を培養面２１としたマイクロプレートを例に説明する。
【００２０】
本考案の培養基材１は、複数のウェル２を有する。例えば、通常のマイクロプレートの場合、ウェル２の数は６穴、１２穴、２４穴、４８穴、９６穴、３８４穴、１５３６穴等の規格化されたものを用いられるが、本考案においてはこれに限定されない。シャーレやフラスコのような培養面積の広い培養基材１を用いる場合は、仕切り等を用いて区画分けしてもよい。ウェル２の数は、培養基材１のサイズや、所望のウェル２の大きさ等により適宜調整可能である。１つの培養基材１に配置するウェル２の数は２〜１６００個程度が好ましい。
【００２１】
本考案の培養基材１は、少なくとも１つ以上のウェル２内のマイクロウェル３が他のウェル２内のマイクロウェル３と、開口径ｄ１、開口形状、高さｈ１のいずれか１つ以上が異なっている。比較を行うためには、同基材内で異なる条件（開口径ｄ１、開口形状、高さｈ１のいずれか１つ以上が異なる）のマイクロウェル３が形成されたウェル２を有する必要がある。
【００２２】
マイクロウェル３の開口径ｄ１が異なる場合、１つのマイクロウェル３内の容積が変わるため、培地量及び１つのマイクロウェル３内に播種できる細胞の量が変わり、開口径ｄ１が大きいものほど大きいスフェロイドの形成が可能となる。ここでマイクロウェル３の開口径ｄ１とは、図１にも示すように、マイクロウェル３の開口部を上面から見た場合に、開口部の内径のうち最も幅の広い部分を指す。マイクロウェル３の開口径ｄ１は特に限定されないが、培養基材１の大きさや、ウェル２の開口径ｄ２、配置するマイクロウェル３の数等に合わせ適宜選択可能である。マイクロウェル３の開口径ｄ１は０．０５ｍｍ〜３．０ｍｍ程度とすることが好ましい。０．０５ｍｍ未満であると、スフェロイド３が取り出しにくくなるおそれがある。また３．０ｍｍ超であると、スフェロイドがマイクロウェル３から飛び出しやすくなるおそれがある。マイクロウェル３の開口径ｄ１は０．１ｍｍ〜２．５ｍｍであることがより好ましく、０．１５ｍｍ〜２．０ｍｍであることがより一層好ましい。
【００２３】
マイクロウェル３の開口形状が異なる場合、１つのマイクロウェル３内の容積が変わったり、マイクロウェル３内の形状が変わったりするため、異なる形状のスフェロイドの形成が可能となる。マイクロウェル３の開口形状は、特に限定されないが、図１および図２に示すような丸形、ドーナツ形のほかに、格子形、楕円形、ハニカム形などから適宜選択可能である。マイクロウェル３の開口形状は所望のスフェロイドの形状に合わせて適宜調整可能である。
【００２４】
マイクロウェル３の高さｈ１は、特に限定されないが、播種する細胞や条件に適するものを選択してよい。高さｈ１を変えることで、１ウェルあたりの容量が変わるため、形成されるスフェロイドのサイズがウェル２ごとに異なるので、所望のスフェロイドを形成できるマイクロウェル３のサイズの選択が可能となる。また、マイクロウェル３のサイズごとにスフェロイド形成条件や結果の比較が可能となる。マイクロウェル３の高さｈ１は５０μｍ〜１２００μｍ程度とすることが好ましい。また、マイクロウェル３の高さｈ１はマイクロウェル３の開口径ｄ１の０．１〜２．０倍であることが好ましい。マイクロウェル３の高さｈ１がウェル２の開口径ｄ１の０．１倍未満であるとスフェロイドがこぼれやすくなることが問題となる。また、マイクロウェル３の高さｈ１がマイクロウェル３の開口径ｄ１の２．０倍超であるとスフェロイドが取り出しづらくなること、培養面２１の強度が低くなることなどが問題となる。マイクロウェル３の高さｈ１はマイクロウェル３の開口径ｄ１の０．２〜１．８倍であることがより好ましく、０．３〜１．７倍であることがより一層好ましい。なお、マイクロウェル３の高さｈ１は図１および図２に示すように、マイクロウェル３の開口部から底面の長さのうち、最も長い箇所の値を指す。
【００２５】
本考案の培養基材１の培養面２１はウェル２内に配置されている。培養面２１はウェル２内で細胞が落ち込める場所に有していればよく、ウェル２の底面に直接形成されていてもよく、ウェル２内に取り付けた別部材４に形成されていてもよい。なお、本明細書においては培養面２１がウェル２に別部材４で取り付けられていた場合でも、「ウェル内に配置されている」と定義する。
【００２６】
培養面２１をウェル２の底面に配置する場合、ウェル２の底面は平坦面であることが好ましい。平坦面とすることで、マイクロウェル３を形成できる面積が増える、培養面２１全体に均一なウェル２を形成しやすいというメリットがある。また、必要なマイクロウェル３の数が少ない場合は、Ｕ底、Ｖ底の方が細胞が落ち込みやすいため好ましい。
【００２７】
培養面２１を図３に示すようにウェル２とは別部材４で形成し、ウェル２内に配置してもよい。その形状は図３（ａ）のようにインサート形状でもよく、図３（ｂ）のように培養面２１に貼り付け又は載置する形状の部材でもよい。別部材４であれば、例えば通常使用されるマイクロプレートのウェル２に取り付け可能なものを用意しておけば、必要に応じて使いやすい位置や数、培養面積等を有するマイクロウェル３を配置可能となる。ウェル２の周壁に保持部４１を使って固定するインサート形状であれば、培養後に容易に取り外しが可能であるため、培養したスフェロイドの移動が容易となる。また、別部材４をウェル２内に貼り付け又は載置する場合、ウェル２とは異なる材質でマイクロウェル３を形成することが可能となったり、別部材４の厚みを調整することで深いマイクロウェル３を形成したとしても培養面２１の強度を低下させることがなかったりする等のメリットがある。別部材４を貼り付ける手段として、接着剤、超音波溶着、両面接着テープ等、材質に合わせて適宜選択できる。また、別部材４を載置する際、培地を入れた際に別部材４が浮いてしまう場合は、材質及び形状を調整する必要がある。必要に応じてはめ込むための窪み等を形成してもよい。
【００２８】
マイクロウェル３が配置される培養面２１の材質は、ウェル２の培養面２１にマイクロウェル３を直接形成する場合は、ウェル２の培養面２１と同じ材質となる（培養面２１の材質が、マイクロウェル３の形成手段によって変質する材質の場合はこの限りではない）が、別部材４で形成してウェル２内に配置する場合、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ガラス、塩化ビニル、高密度ポリエチレン、ポリエーテルサルファン、ポリエチレンテレフタレート共重合体、ポリプロピレン、パーマノックス（商標）、金属、セラミックス等から適宜選択可能である。また、部分的に材質が違っていてもよい。例えば底面と側面で別材質から形成し、接着してもよい。例えば、ウェル２の底面を培養面２１とした培養基材１において、底面をガラスとした場合、顕微鏡観察がしやすくなるというメリットがある。
【００２９】
培養面２１は、細胞低接着の特性を有していてもよい。なお細胞低接着とは、培養面２１に細胞が接着しない又は接着しづらいことを指す。これらの特性を付与するための処理方法としては一般的に、細胞低接着となる物質をコートすることや、物理処理を行うことがあげられる。細胞低接着処理としては例えば、リン脂質ポリマー（２−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン等）、ポリヒドロキシエチルメタアクリレート、フッ素含有化合物、あるいはポリエチレングリコール等を用いたコートを行ったり、プラズマ処理、コロナ放電、ＵＶオゾン処理等の表面処理を行ったりしてもよい。また、コートや物理処理以外の手段として、培養基材１自体を細胞低接着の効果を有する材料で形成してもよい。細胞低接着の場合は、例えば、シリコーン樹脂や、上記した細胞低接着となる物質様の成分を混ぜ込んだ樹脂等を用いること、および細胞が接着しないように培養面２１に微細な加工をして接着を抑制することなどがあげられる。なお、上記処理は、少なくとも培養面２１に施されていることが好ましいが、培養面２１に限らず、培養面２１の周壁部２２等にも同等の処理を施してもよい。
【００３０】
本考案の培養基材１は、前記ウェル２内に図１のようにマイクロウェル３が培養面２１に稠密に配置されている。マイクロウェル３同士の間には平坦面がない（非平坦面とする）ことが好ましい。例えば、マイクロウェル３同士の間を非平坦面とすることで、播種した細胞がマイクロウェル３内に必ず落ち込むため、マイクロウェル３外に細胞が留まることを防止できる。これにより、細胞がスフェロイドにならないことを抑制することが可能となる。ここで、本明細書における「非平坦」とは、培養面２１の底面（培養基材の底面）に対して水平ではないことを指す。また、「細胞がスフェロイドにならない」とは、単層培養や単細胞浮遊培養、球状とならない積層培養、細胞が培養面２１に接着して培養される、スフェロイドに取り込まれずに単細胞の状態で死んでしまうもの等を含む。
【００３１】
なお、本考案のマイクロウェル３において、必須ではないが、以下の構成を選択、組み合わせてもよい。
【００３２】
マイクロウェル３の底面は、播種する細胞がスフェロイドを形成しやすいように滑らかなＵ底（半球状）であることが好ましい。尖った部分等があると、細胞が刺さってスフェロイドを形成せずに死んでしまったり、死んだ細胞がスフェロイドに取り込まれてしまったりするおそれがある。また、Ｕ底のように、丸みを帯びた形状としておくことで、きれいな球体のスフェロイドを形成しやすくなる。
【００３３】
マイクロウェル３の容積は、特に限定されないが、培養する細胞や条件に適するものを選択してよい。マイクロウェル３の１つあたりの容積が大きいほど、細胞に対して培地量を増やしたり、より大きなスフェロイド形成をしたりすることが出来る。マイクロウェル３の１つあたりの容積は、０．０００１ｍｍ３〜２ｍｍ３程度とすることが好ましい。
【００３４】
マイクロウェル３は、培養面２１の単位面積当たり、１０個／ｃｍ２〜１００００個／ｃｍ２、形成することが好ましい。より好ましくは、１５個／ｃｍ２〜５０００個／ｃｍ２、さらに好ましくは、２０個／ｃｍ２〜１０００個／ｃｍ２である。マイクロウェル３の数は、使用する培養基材１の大きさ、所望のスフェロイドの大きさ及び数によって適宜調整可能である。
【００３５】
マイクロウェル３は得られるスフェロイドの大きさや形状を均一にするために、１つのウェル２内ではマイクロウェル３の条件を均一にすることが好ましい。スフェロイドの大きさはや形状はウェル２の大きさや形状に依存するため、ウェル２の大きさや形状が異なると形成されるスフェロイドの大きさや形状が均一でなくなってしまうため、好ましくない。
【００３６】
本考案のマイクロウェル３の形成方法としては、金型（基材本体製造時に一緒に成形）、レーザ（ＣＯ２レーザ、ＹＡＧレーザ、エキシマレーザ等）、ナノインプリント、プレス、型焼き付け等があげられる。樹脂製の基材にＣＯ２レーザでマイクロウェル３を形成すると、樹脂が溶解及び気化することにより表面が滑らかな面となるため、きれいな球体のスフェロイドが形成しやすくなる。
【００３７】
ＣＯ２レーザでマイクロウェル３を形成する場合、そのレーザ光の強度は５〜５００Ｗであることが好ましい。強度を高くすればするほど、マイクロウェル３を深く、且つ開口部の径を広く形成することができる。つまり、強度が高いほど、大きなスフェロイドを培養するのに好適なマイクロウェル３を形成することが可能となる。照射スポットは円形であることが好ましいが、細胞を凝集できる形状のウェル２が形成できれば特に形は問わない。照射スポットの直径は、２０μｍ〜１５００μｍが適当である。なお、レーザの照射位置に関しても、所望のウェル２の形状に応じて適宜調整可能である。また、培養基材１の材質によっても適宜強度を調整してもよい。例えば、ポリスチレンの場合は５〜３０Ｗ、ガラスの場合は８０〜２００Ｗが好ましい。
【００３８】
なお、本考案の培養基材１において、必須ではないが、以下の構成を選択、組み合わせてもよい。
【００３９】
ウェル２の開口径ｄ２は特に限定されないが、培養基材１の大きさや配置するウェル２の数等に合わせて適宜選択可能である。ここでウェル２の開口径ｄ２とは図４にも示すように、ウェル２の開口部を上面から見た場合に、開口部の内径のうち最も幅の広い部分を指す。開口径ｄ２が異なるウェル２を使って培養を行うと、１ウェルあたりの容量が変わるため、適切な培地量の判別や、培養面２１の面積、形成できるマイクロウェル３の数の調整が可能となる。ウェル２の開口径ｄ２は１〜１５０ｍｍ程度とすることが好ましい。
【００４０】
ウェル２の開口形状は特に限定されないが、図４（ａ）〜（ｃ）に示すような丸型、四角型、ハニカム型などから適宜選択可能である。ここでウェル２の開口形状とは、ウェル２の開口部を上面から見た場合の形状を指す。ウェル２の開口形状を変えることで、培養面積を変えたり、ウェル２の容積が変わることで培地量を変えたりすることも可能である。また、蒸発防止用の水を入れるために一部のウェル２を活用してもよい。その場合、培養面２１を有するウェル２とは別に、培養基材１の外周を囲むような環状（ロの字状）のウェルを形成してもよい。
【００４１】
ウェル２の底面形状は、特に限定されないが、図５（ａ）〜（ｃ）に示すようなＶ底、Ｕ底、平底などから適宜選択可能である。ここでウェル２の底面形状とは、ウェル２の断面から見た底の形状を指す。Ｖ底、Ｕ底であればマイクロウェル３に細胞を凝集しやすくなる。また、平底であれば、Ｖ底やＵ底に比べて底面が広い培養面２１となるため、マイクロウェル３を多く、稠密に形成しやすくなる。
【００４２】
ウェル２の側面は、特に限定されないが、図５（ａ）〜（ｃ）のように垂直でもよく、図５（ｄ）、（ｅ）のようにウェル２の底面に対して傾斜していてもよい。傾斜させる場合は、細胞が傾斜の途中で止まって培養面２１に落ちないことを防止するために、細胞低接着処理を行う、傾斜角度を鋭角にするなどして細胞が落ちやすい状態にしてもよい。
【００４３】
ウェル２の底面積は、特に限定されないが、培養基材１の大きさや配置するウェル２の数等に合わせて適宜選択可能である。底面積が異なるウェル２を使って培養を行うと、培養面２１の大きさが異なることで適切な培地量の判別や、播種する細胞数の調整が可能となる。例えば、平底のウェル２の底面を培養面２１として使用する場合、ウェル２の底面積は１〜２０００ｍｍ２（０．０１〜２０ｃｍ２）程度とすることが好ましい。
【００４４】
ウェル２の高さｈ２は、特に限定されないが、培養する細胞や条件に適するものを選択してよい。高さｈ２を変えることで、１つのウェル２あたりの容量が変わるため、適切な培地量の判別や、播種する細胞数の調整が可能となる。ウェル２の高さｈ２は５〜３０ｍｍ程度とすることが好ましい。
【００４５】
培養基材１の材質は、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ガラス、塩化ビニル、高密度ポリエチレン、ポリエーテルサルファン、ポリエチレンテレフタレート共重合体、ポリプロピレン、パーマノックス（商標）、金属、セラミックス等から適宜選択可能である。また、部分的に素材が違っていてもよい。例えばウェル２の底面と側面で別の材質で形成し、接着してもよい。例えば、底面をガラスとした場合、顕微鏡観察がしやすくなるというメリットがある。
【００４６】
培養基材１は着色してもいい。ウェル２を形成する材質に黒色に呈色する色素（例えば、カーボンなど）や白色に呈色する色素（例えば酸化チタンなど）を入れることで、まわりのウェル２からの蛍光・発光を遮断できるので、蛍光・発光観察に適している。その他にもウェル２の条件（ウェル２の大きさやコートの処理状況など）が一目で判断できるように目印となる着色を行ってもよい。また、着色はウェル２全面でもよく、ウェル２の側面のみ、開口部のみ、底面のみ、培養面２１のみ及びこれらの組合せから適宜選択できる。
【００４７】
本考案の培養基材１は、基材の材質や大きさによって適した方法で製造すればよい。培養基材１の成形は例えば、射出成形、プレス成型、真空成型、ブロー成形等から適宜選択できる。
【００４８】
培養基材１の形状により、例えば周壁部２２近くに、他のマイクロウェル３と同じ大きさのマイクロウェル３を形成できない広さの面が残ってしまう場合がある。この場合、マイクロウェル３を形成できない面を平坦面のまま残しておくと細胞が落ち込む可能性があり、細胞がスフェロイドにならない可能性がある。そのため、マイクロウェル３を形成できない面が残る場合は、その面を非平坦面にすることが好ましい。例えば、傾斜壁を形成する、周壁部２２を厚くする、非平坦面を形成する部品を置く、仕切りをつける等の対応をしてもよい。また、以上の対応は、均一な大きさのマイクロウェル３を形成できない場合に用いることに限られず、例えばマイクロウェル３を培養面２１の一部のみに形成したい場合及びマイクロウェル３の数を規格化したい場合等にも用いることが可能である。
【００４９】
マイクロウェル３内から別のマイクロウェル３にスフェロイドの移動をより抑制するために、仕切りを設けてもよい。仕切りは培養面２１に接合したものでもよく、載置したものでもよく、また培養面２１に接触しないもの（例えば落し蓋形状等）を用いてもよい。また仕切りの材質は特に限定されないが、培養基材と同じ材質でもよく、異なる材質でもよく、また細胞を通さず培地のみを通すメンブレン状の素材からなっていてもよい。
【００５０】
本考案の培養基材１の実施形態について図６〜図８を基に説明する。なお、本考案の培養基材１はこれに限られるものではなく、前記した構成の範囲内で適宜調整可能である。
【００５１】
図６に示した実施形態１（平面図）においては、培養基材１であるマイクロプレートのウェル２ａ、２ｂ、２ｃに異なる開口径ｄ１ａ、ｄ１ｂ、ｄ１ｃのマイクロウェル３ａ、３ｂ、３ｃを形成している。本実施形態においては開口径ｄ１ａ、ｄ１ｂ、ｄ１ｃの関係はｄ１ａ＞ｄ１ｂ＞ｄ１ｃとなっている。マイクロウェルの開口径ｄ１が異なることにより、１つのウェルに落ち込む細胞量が変わり、形成できるスフェロイドの大きさが変わる。よって、本実施形態のように高さｈ１と開口形状を変えず開口径ｄ１のみを変えた場合、形成されるスフェロイドの大きさをマイクロウェル３ごとに比較すると３ａ＞３ｂ＞３ｃとなる。なお、同じ培養面積を有するウェル２にマイクロウェル３ａ、３ｂ、３ｃを形成した場合、ウェル２ａ、２ｂ、２ｃのマイクロウェル３ａ、３ｂ、３ｃの数を比較すると２ｃ＞２ｂ＞２ａとなる。
【００５２】
図７に示した実施形態２（平面図）においては、培養基材１であるマイクロプレートのウェル２ａ、２ｂ、２ｃに異なる開口形状のマイクロウェル３ａ、３ｂ、３ｃを形成している。マイクロウェル３ａは格子形、マイクロウェル３ｂはハニカム形、マイクロウェル３ｃは楕円形とした。開口形状を変えると、マイクロウェル３の配置数やウェル内の容積が変わる。よって、高さｈ１と開口径ｄ１を変えずに開口形状を変えた場合、形成されるスフェロイドの大きさと数が変わる。
【００５３】
図８に示した実施形態３（断面図）においては、培養基材１であるマイクロプレートのウェル２ａ、２ｂ、２ｃに異なる高さｈ１ａ、ｈ１ｂ、ｈ１ｃのマイクロウェル３ａ、３ｂ、３ｃを形成している。本実施形態においては高さｈ１ａ、ｈ１ｂ、ｈ１ｃの関係はｈ１ａ＞ｈ１ｂ＞ｈ１ｃとなっている。マイクロウェル３の高さｈ１が異なることにより、１つのウェル２に落ち込む細胞量が変わり、形成できるスフェロイドの大きさが変わる。よって、本実施形態のように開口径ｄ１と開口形状を変えず高さｈ１のみを変えた場合、形成されるスフェロイドの大きさをマイクロウェルごとに比較すると３ａ＞３ｂ＞３ｃとなる。なお、同じ培養面積を有するウェル２ａ、２ｂ、２ｃにマイクロウェル３ａ、３ｂ、３ｃを形成した場合、ウェル２ごとに形成されるスフェロイドの大きさを比較すると２ａ＞２ｂ＞２ｃとなる。
【産業上の利用可能性】
【００５４】
本考案の培養基材１によれば、１つの培養基材１内で異なる大きさ及び形状のスフェロイドを培養することが可能となる。これにより、同一環境下での培養における培養状況の比較や細胞ごとに適切なスフェロイドサイズ及びスフェロイド形状を選択することが可能となるため、創薬スクリーニングや、培養における最適条件の検討などにおいて有効に利用可能である。
【符号の説明】
【００５５】
１．培養基材、２．ウェル、２１．培養面、２２．周壁部、３．マイクロウェル、４．別部材、４１．保持部、ｄ１．マイクロウェルの開口径、ｈ１．マイクロウェルの高さ、ｄ２．ウェルの開口径、ｈ２．ウェルの高さ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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