Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月9日(2014.6.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の一実施形態に係るＸ線ＣＴ装置は、上述した課題を解決するために、デュアルエナジー撮影可能に構成されたＸ線ＣＴ装置であって、電源制御部と、Ｘ線管と、回転フィルタ体と、フィルタ制御部と、補正用フィルタとを備える。電源制御部は、第１の電圧を第１の期間出力した後第２の電圧を第２の期間出力することを繰り返すよう高圧電源を制御する。Ｘ線管は、高圧電源の出力電圧を印加されて被検体に対してＸ線を照射する。回転フィルタ体は、Ｘ線透過特性が異なる第１のフィルタおよび第２のフィルタと、Ｘ線管が照射するＸ線の照射軸と交差するよう第１のフィルタおよび第２のフィルタが交互に回転方向に沿って配設された回転体と、回転体を回転駆動する駆動部と、を有し、Ｘ線の照射軸と交わった第１のフィルタおよび第２のフィルタの一方によりＸ線管の照射したＸ線を被検体に向けて透過しつつ線質を調整する。フィルタ制御部は、第１の期間はＸ線の照射軸と第１のフィルタとが交わるとともに第２の期間はＸ線の照射軸と第２のフィルタとが交わるよう回転体の回転を制御する。補正用フィルタは、Ｘ線の照射軸と交わる位置に配設され、Ｘ線の線質を調整する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
デュアルエナジー撮影可能に構成されたＸ線ＣＴ装置であって、
第１の電圧を第１の期間出力した後第２の電圧を第２の期間出力することを繰り返すよう高圧電源を制御する電源制御部と、
前記高圧電源の出力電圧を印加されて被検体に対してＸ線を照射するＸ線管と、
Ｘ線透過特性が異なる第１のフィルタおよび第２のフィルタと、前記Ｘ線管が照射するＸ線の照射軸と交差するよう前記第１のフィルタおよび前記第２のフィルタが交互に回転方向に沿って配設された回転体と、前記回転体を回転駆動する駆動部と、を有し、前記Ｘ線の照射軸と交わった前記第１のフィルタおよび前記第２のフィルタの一方により前記Ｘ線管の照射したＸ線を前記被検体に向けて透過しつつ線質を調整する回転フィルタ体と、
前記第１の期間は前記Ｘ線の照射軸と前記第１のフィルタとが交わるとともに前記第２の期間は前記Ｘ線の照射軸と前記第２のフィルタとが交わるよう前記回転体の回転を制御するフィルタ制御部と、
前記Ｘ線の照射軸と交わる位置に配設され、Ｘ線の線質を調整する補正用フィルタと、
を備えたことを特徴とするＸ線ＣＴ装置。
【請求項２】
前記電源制御部は、
前記第１の期間および前記第２の期間が等しくなるよう前記高圧電源を制御し、
前記第１のフィルタおよび前記第２のフィルタは、
互いに中心角が等しい扇状の形状を有し、
前記回転体は、
前記第１のフィルタおよび前記第２のフィルタを交互に回転方向に沿って結合して形成され、
前記フィルタ制御部は、
前記第１の期間は前記Ｘ線の照射軸と前記第１のフィルタとが交わるとともに前記第２の期間は前記Ｘ線の照射軸と前記第２のフィルタとが交わるよう前記回転体を等速回転させる、
請求項１記載のＸ線ＣＴ装置。
【請求項３】
前記電源制御部は、
前記第１の期間および前記第２の期間が異なるよう前記高圧電源を制御し、
前記フィルタ制御部は、
前記第１の期間は前記Ｘ線の照射軸と前記第１のフィルタとが交わるとともに前記第２の期間は前記Ｘ線の照射軸と前記第２のフィルタとが交わるよう前記回転体の回転を制御する、
請求項２記載のＸ線ＣＴ装置。
【請求項４】
前記電源制御部は、
前記第１の期間および前記第２の期間が異なるよう前記高圧電源を制御し、
前記第１のフィルタおよび前記第２のフィルタは、
それぞれ扇状の形状を有するとともに、前記第１のフィルタの中心角に対する前記第２のフィルタの中心角の比が前記第１の期間に対する前記第２の期間の比に等しくなるよう形成され、
前記回転体は、
前記第１のフィルタおよび前記第２のフィルタを交互に回転方向に沿って結合して形成され、
前記フィルタ制御部は、
前記第１の期間は前記Ｘ線の照射軸と前記第１のフィルタとが交わるとともに前記第２の期間は前記Ｘ線の照射軸と前記第２のフィルタとが交わるよう前記回転体を等速回転させる、
請求項１記載のＸ線ＣＴ装置。
【請求項５】
前記電源制御部は、
前記第１の電圧および前記第２の電圧で構成される組を含む２種の電圧で構成される電圧の組について、複数の前記電圧の組から１つを選択し、この選択された組の２種の電圧を交互に出力するよう前記高圧電源を制御し、
前記補正用フィルタは、
前記高圧電源が出力する２種の電圧の一方を印加されて前記Ｘ線管が放射し前記第１のフィルタおよび前記補正用フィルタを透過したＸ線の線質と、前記高圧電源が出力する２種の電圧の他方を印加されて前記Ｘ線管が放射し前記第２のフィルタおよび前記補正用フィルタを透過したＸ線の線質と、がそれぞれＣＴ撮影に適した線質となるＸ線透過特性を有する、
請求項１ないし４のいずれか１項に記載のＸ線ＣＴ装置。
【請求項６】
互いにＸ線透過特性が異なる複数の前記補正用フィルタと、前記Ｘ線管が照射するＸ線の照射軸と交差するよう前記複数の補正用フィルタが回転方向に沿って配設された補正用回転体と、前記補正用回転体を回転駆動する補正用駆動部と、を有し、前記Ｘ線の照射軸と交わった補正用フィルタにより前記Ｘ線管の照射したＸ線を前記被検体に向けて透過しつつ線質を調整する補正用回転フィルタ体、
をさらに備え、
前記電源制御部は、
前記第１の電圧および前記第２の電圧で構成される組を含む２種の電圧で構成される電圧の組について、複数の前記電圧の組から１つを選択し、この選択された組の２種の電圧を交互に出力するよう前記高圧電源を制御し、
前記フィルタ制御部は、
さらに前記補正用回転フィルタ体を制御することにより、前記高圧電源が出力する前記電圧の組に応じて前記Ｘ線の照射軸と交わる前記補正用フィルタを変更し、
前記補正用フィルタのそれぞれは、
前記電圧の組のそれぞれに対応し、前記高圧電源が出力する２種の電圧の一方を印加されて前記Ｘ線管が放射し前記第１のフィルタおよび前記補正用フィルタを透過したＸ線の線質と、前記高圧電源が出力する２種の電圧の他方を印加されて前記Ｘ線管が放射し前記第２のフィルタおよび前記補正用フィルタを透過したＸ線の線質と、がそれぞれＣＴ撮影に適した線質となるＸ線透過特性を有するよう形成された、
請求項１ないし４のいずれか１項に記載のＸ線ＣＴ装置。
【請求項７】
前記回転フィルタ体を複数備え、
前記電源制御部は、
前記第１の電圧および前記第２の電圧で構成される組を含む２種の電圧で構成される電圧の組について、複数の前記電圧の組から１つの組を選択し、この選択された組の２種の電圧を交互に出力するよう前記高圧電源を制御し、
前記回転フィルタ体のそれぞれは、
前記電圧の組のそれぞれに対応し、前記電圧の組の２種の電圧に応じたＸ線透過特性を有する２種のフィルタを有し、
前記電源制御部により選択された電圧の組に応じて１つの前記回転フィルタ体が用いられる、
請求項１ないし４のいずれか１項に記載のＸ線ＣＴ装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月10日(2014.6.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シリコン基板上に他の画素と分離されて形成された画素電極と、前記画素電極上に形成された光電変換膜と、前記光電変換膜上に形成された対向電極とを有し、行列状に配置された複数の画素と、
少なくとも読み出しタイミングが異なる前記画素の行ごとに、前記画素の露光期間以外の所定のタイミングで、前記画素の露光中に前記光電変換膜に印加される電位に対して逆方向となる電位を印加する駆動部と
を備える撮像素子。
【請求項２】
前記対向電極は、少なくとも読み出しタイミングが異なる前記画素の行ごとに、隣接する他の対向電極と分離して形成される
請求項１に記載の撮像素子。
【請求項３】
前記駆動部は、前記画素の露光期間以外の所定のタイミングで、前記対向電極に印加する電位を、前記画素電極のリセットレベルの電位よりも高電位とする
請求項２に記載の撮像素子。
【請求項４】
前記画素は、前記光電変換膜により光電変換された電荷を蓄積する電荷蓄積領域と、前記画素電極に接続されるコンタクト領域と、前記電荷蓄積領域と前記コンタクト領域との間に設けられ、所定の電位の電位障壁を形成する電位障壁部とをさらに有する
請求項１乃至３のいずれかに記載の撮像素子。
【請求項５】
前記駆動部は、少なくとも前記画素の露光期間が開始される前、かつ、前記所定のタイミング以降となる期間において、前記対向電極に、前記画素電極と略等電位の電圧を印加する
請求項１乃至４のいずれかに記載の撮像素子。
【請求項６】
前記画素は、行方向に並ぶ複数の前記光電変換膜を共有して構成される
請求項１乃至５のいずれかに記載の撮像素子。
【請求項７】
前記駆動部は、読み出しタイミングが同一となる前記画素の行ごとに配設されている電源線を介して、各行の画素に供給される電源電圧を、前記画素の露光期間以外の所定のタイミングで前記対向電極の電位よりも低電位にする
請求項１に記載の撮像素子。
【請求項８】
シリコン基板上に他の画素と分離されて形成された画素電極と、前記画素電極上に形成された光電変換膜と、前記光電変換膜上に形成された対向電極とを有し、行列状に配置された複数の画素を備える撮像素子の駆動方法であって、
少なくとも読み出しタイミングが異なる前記画素の行ごとに、前記画素の露光期間以外の所定のタイミングで、前記画素の露光中に前記光電変換膜に印加される電位に対して逆方向となる電位を印加する
ステップを含む駆動方法。
【請求項９】
シリコン基板上に他の画素と分離されて形成された画素電極と、前記画素電極上に形成された光電変換膜と、前記光電変換膜上に形成された対向電極とを有し、行列状に配置された複数の画素と、
少なくとも読み出しタイミングが異なる前記画素の行ごとに、前記画素の露光期間以外の所定のタイミングで、前記画素の露光中に前記光電変換膜に印加される電位に対して逆方向となる電位を印加する駆動部と
を有する撮像素子を備える電子機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
さらに、画素１２’では、コンタクト領域５１の電位が一定に保持されているので、タイミングＴ３において光電変換膜３５に露光中と逆方向の電位を印加したときに、固体撮像素子１１が有する複数の画素１２’の全てで、電位差が略同一となる。これにより、全ての画素１２’で、同程度に電荷トラップを消去することができ、画素１２’ごとに特性が異なることを回避することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８１】
タイミングＴ１の経過した後、垂直駆動部１３は、タイミングＴ２において、転送信号ＴＲＧおよびリセット信号ＲＳＴを再びオンにする。このとき、電源電圧ＶＤＤは、対向電極３６’の電位よりも高電位であるので、タイミングＴ１で電荷蓄積領域３２に注入された電子が、リセットトランジスタ２６、ＦＤ２３、および転送トランジスタ２２を介して、電源電圧ＶＤＤに排出される。即ち、電荷蓄積領域３２に蓄積されていた電荷がリセットされる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９２】
そして、タイミングＴ１−１において、垂直駆動部１３は、転送信号ＴＲＧ１およびリセット信号ＲＳＴをオンにして、ＦＤ２３を介して、光電変換部２１−１の電荷蓄積領域３２をリセットする。このとき、光電変換部２１−１の電荷蓄積領域３２とコンタクト領域５１との間に電位障壁部５２が形成されているため、コンタクト領域５１の電位は一定である。そして、タイミングＴ１−１が経過し、転送信号ＴＲＧおよびリセット信号ＲＳＴがオフにされた時点で、光電変換部２１−１の露光期間が開始される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９３】
また、タイミングＴ１−２において、垂直駆動部１３は、転送信号ＴＲＧ２およびリセット信号ＲＳＴをオンにして、ＦＤ２３を介して光電変換部２１−２の電荷蓄積領域３２をリセットする。このとき、光電変換部２１−２の電荷蓄積領域３２とコンタクト領域５１との間に電位障壁部５２が形成されているため、コンタクト領域５１の電位は一定である。そして、タイミングＴ２−２が経過し、転送信号ＴＲＧ２およびリセット信号ＲＳＴがオフにされた時点で、光電変換部２１−２の露光期間が開始される。
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月6日(2014.6.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画面上の複数の位置に対するタッチ、又は、近接の検出が可能なパネルに対する画面と垂直な方向の垂直操作に対応する操作信号を受け付ける操作信号受付部と、
前記垂直操作に応じて、画像を撮像する複数の撮像部それぞれに関連する処理を、独立に制御する制御部と
を備える撮像制御装置。
【請求項２】
前記制御部は、前記パネルに対するタッチの圧力に応じて、前記複数の撮像部それぞれを、独立に制御する
請求項１に記載の撮像制御装置。
【請求項３】
前記制御部は、前記パネルに近接する物体の、前記パネルからの距離に応じて、前記複数の撮像部それぞれを、独立に制御する
請求項１に記載の撮像制御装置。
【請求項４】
前記撮像部は、光学系を有し、
前記制御部は、前記複数の撮像部が有する光学系それぞれを、独立に制御する
請求項１に記載の撮像制御装置。
【請求項５】
前記光学系は、
レンズと
絞りと
を有し、
前記制御部は、前記複数の撮像部の光学系それぞれが有するレンズの駆動を、独立に制御する
請求項４に記載の撮像制御装置。
【請求項６】
前記制御部は、前記レンズの駆動を制御することにより、前記複数の撮像部それぞれのズーム倍率を、独立に制御する
請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の撮像制御装置。
【請求項７】
前記制御部は、前記複数の撮像部で撮像される画像それぞれを、その画像を撮像した撮像部のズーム倍率に対応するサイズで表示させる
請求項６に記載の撮像制御装置。
【請求項８】
前記制御部は、前記レンズの駆動を制御することにより、前記複数の撮像部それぞれのフォーカスを、独立に制御する
請求項４に記載の撮像制御装置。
【請求項９】
前記制御部は、前記複数の撮像部の光学系それぞれが有する絞りを、独立に制御する
請求項４に記載の撮像制御装置。
【請求項１０】
前記光学系は、光軸と垂直な方向に移動することにより、手ぶれを補正する手ぶれ補正機能を有し、
前記制御部は、前記複数の撮像部の光学系それぞれが有する手ぶれ補正機能のオンとオフの切り換えを、独立に制御する
請求項４に記載の撮像制御装置。
【請求項１１】
前記撮像部は、
光学系と、
前記光学系からの光を画像信号に光電変換する撮像素子と、
前記撮像素子で得られる画像信号の画像処理を行う画像処理部と
を有し、
前記制御部は、前記複数の撮像部が有する前記画像処理部それぞれの画像処理を、独立に制御する
請求項１ないし請求項１０のいずれかに記載の撮像制御装置。
【請求項１２】
前記画像処理部は、前記画像処理として、手ぶれを補正する手ぶれ補正処理を行い、
前記制御部は、前記複数の撮像部が有する前記画像処理部それぞれの手ぶれ補正処理のオンとオフの切り替えを、独立に制御する
請求項１１に記載の撮像制御装置。
【請求項１３】
前記制御部は、前記パネルに対する画面と平行な方向の平行操作に応じて、前記複数の撮像部それぞれの撮像方向を、独立に制御する
請求項１ないし請求項１２のいずれかに記載の撮像制御装置。
【請求項１４】
前記パネルは、前記平行操作の対象となる操作領域を表示する
請求項１３に記載の撮像制御装置。
【請求項１５】
前記制御部は、前記複数の撮像部それぞれで撮像される撮像範囲を表示させる
請求項１３又は請求項１４に記載の撮像制御装置。
【請求項１６】
画面上の複数の位置に対するタッチ、又は、近接の検出が可能なパネルに対する画面と垂直な方向の垂直操作に対応する操作信号を受け付けるステップと、
前記垂直操作に応じて、画像を撮像する複数の撮像部それぞれに関連する処理を、独立に制御するステップと
を含む撮像制御方法。
【請求項１７】
画面上に対するタッチ、又は、近接の検出が可能なパネルに対する画面と平行な方向の平行操作に対応する操作信号を受け付ける操作信号受付部と、
前記平行操作に応じて、画像を撮像する撮像部の撮像方向を制御する制御部と
を備える撮像制御装置。
【請求項１８】
前記パネルは、画面上の複数の位置に対するタッチ、又は、近接の検出が可能であり、
前記制御部は、前記平行操作に応じて、複数の撮像部それぞれの撮像方向を、独立に制御する
請求項１７に記載の撮像制御装置。
【請求項１９】
前記制御部は、前記複数の撮像部それぞれで撮像される撮像範囲を表示させる
請求項１８に記載の撮像制御装置。
【請求項２０】
画面上に対するタッチ、又は、近接の検出が可能なパネルに対する画面と平行な方向の平行操作に対応する操作信号を受け付けるステップと、
前記平行操作に応じて、画像を撮像する撮像部の撮像方向を制御するステップと
を含む撮像制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７４】
したがって、制御部１８は、撮像部１１Ｌが有する光学系５１Ｌと、撮像部１１Ｒが有する光学系５１Ｒとを、独立に制御することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２７６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２７６】
Ｒアイコン８１Ｒは、撮像部１１Ｒを模したアイコンであり、撮像部１１Ｒの撮像方向に対応する方向に向いた状態で表示される。
【手続補正書】
【提出日】平成26年2月26日(2014.2.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
集中制御局装置によって通信を制御される制御局装置であって、
前記制御局装置が制御するカバー領域に対して干渉源となる制御局装置に関する情報を取得し、
前記干渉源となる制御局装置に関する情報を前記集中制御局装置へ通知し、
前記制御局装置の通信の可否に関する情報を前記集中制御局装置から取得することを特徴とする制御局装置。
【請求項２】
前記干渉源となる制御局装置に関する情報は、干渉源となる制御局装置の数又は干渉源となる制御局装置をそれぞれ特定する情報であることを特徴とする請求項１に記載の制御局装置。
【請求項３】
自身の通信相手先となる端末装置の受信能力に関する情報を取得し、前記干渉源となる制御局装置に関する情報と前記受信能力に関する情報とを前記集中制御局装置へ通知することを特徴とする請求項２に記載の制御局装置。
【請求項４】
制御局装置の通信を制御する集中制御局装置であって、
前記制御局装置が制御するカバー領域に対して干渉源となる制御局装置に関する情報を前記制御局装置から取得し、
前記取得した情報と、集中制御局装置及び制御局装置の通信相手先となる端末装置の受信アンテナ数と、各セルにおけるストリーム数とに基づいて、前記集中制御局装置及び前記制御局装置が制御するカバー領域各々における通信の可否を決定することを特徴とする集中制御局装置。
【請求項５】
前記制御局装置の通信相手先となる端末装置の受信能力に関する情報と、集中制御局装置の通信相手先となる端末装置の受信能力に関する情報とを取得し、
前記取得した情報を基に、前記制御局装置が制御するセルにおけるストリーム数を決定し、それらの情報を前記制御局装置へ通知することを特徴とする請求項４に記載の集中制御局装置。
【請求項６】
集中制御局装置によって通信を制御される制御局装置に接続する端末装置であって、
前記端末装置にとって干渉源となる制御局装置に関する情報と、端末装置自身の受信能力に関する情報とを、前記制御局装置を経由して前記集中制御局装置へ通知することを特徴とする端末装置。
【請求項７】
集中制御局装置が通信を制御する第１のカバー領域と、複数の制御局装置がそれぞれ通信を制御する複数の第２のカバー領域とから構成される通信システムにおいて、
前記制御局装置は、
それぞれ制御する第２のカバー領域に対して干渉源となる他の制御局装置に関する情報を取得て前記集中制御局装置へ通知し、
前記集中制御局装置は、
前記制御局装置から取得した情報と、集中制御局装置及び／又は制御局装置の通信相手先となる端末装置の受信アンテナ数と、各セルにおけるストリーム数とに基づいて、前記第１及び第２のカバー領域各々における通信の可否を決定することを特徴とする通信システム。
【請求項８】
集中制御局装置が通信を制御する第１のカバー領域と、複数の制御局装置がそれぞれ通信を制御する複数の第２のカバー領域とから構成される通信システムにおける通信方法であって、
前記制御局装置は、それぞれ制御する第２のカバー領域に対して干渉源となる他の制御局装置に関する情報を取得して前記集中制御局装置へ通知し、
前記集中制御局装置は、前記制御局装置から取得した情報と、集中制御局装置及び制御局装置の通信相手先となる端末装置の受信アンテナ数と、各セルにおけるストリーム数とに基づいて、前記第１及び第２のカバー領域各々における通信の可否を決定することを特徴とする通信方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月13日(2014.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の第一面に、平坦な先端面と側面部とを有する凸部を形成する凸部形成工程と、
前記第一面に、少なくとも前記凸部を覆う機能膜を形成する成膜工程と、
前記基板の前記第一面とは反対側の第二面にマスク層を形成し、当該マスク層に孔部を形成するマスク工程と、
前記孔部を介し前記機能膜をエッチングストッパーとして前記基板をエッチングするエッチング工程と、を備え、
前記成膜工程は、前記凸部の前記先端面に接する主膜部と、前記凸部の前記側面部に接する側壁部と、を有する前記機能膜を形成し、
前記マスク工程は、前記基板を基板厚み方向から見た平面視において、前記先端面と重なる位置に、前記先端面の面積よりも小さい面積の前記孔部を形成し、
前記エッチング工程は、前記基板の前記第二面側から前記機能膜の前記主膜部までを、前記基板の厚み方向にエッチングした後、前記主膜部の表面に沿って前記側壁部までをサイドエッチングすることで、前記主膜部、前記側壁部により囲われる領域を含む開口空間を形成する
ことを特徴とするＭＥＭＳデバイスの製造方法。
【請求項２】
請求項１のＭＥＭＳデバイスの製造方法において、
前記孔部を前記先端面に投影した領域を孔部投影領域とし、前記先端面の外周縁上に位置する点から前記孔部投影領域の外周縁までの最短距離をアライメント設定値とした場合、
前記マスク工程は、アライメント設定値の最大値及び最小値の差分値が、前記凸部の高さ寸法よりも小さくなるように、前記孔部を形成する
ことを特徴とするＭＥＭＳデバイスの製造方法。
【請求項３】
請求項１または請求項２のＭＥＭＳデバイスの製造方法において、
前記孔部を前記先端面に投影した領域を孔部投影領域とし、前記先端面の外周縁上に位置する点から前記孔部投影領域の外周縁までの最短距離をアライメント設定値とした場合、
前記凸部形成工程は、前記凸部の突出寸法が、前記アライメント設定値の最大値及び最小値の差分値よりも大きくなるように、前記凸部を形成する
ことを特徴とするＭＥＭＳデバイスの製造方法。
【請求項４】
請求項２または請求項３に記載のＭＥＭＳデバイスの製造方法において、
前記先端面の外周縁上の各点における前記アライメント設定値は、同一値である
ことを特徴とするＭＥＭＳデバイスの製造方法。
【請求項５】
基板と、前記基板の第一面に設けられた機能膜とを備えたＭＥＭＳデバイスであって、
前記機能膜は、平面状の主膜部と、前記主膜部の外周縁から当該主膜部に対して交差する方向に延設された側壁部と、を有し、
前記基板は、
前記側壁部に接し、前記主膜部及び前記側壁部とともにキャビティを形成するキャビティ形成部と、
当該基板の前記第一面とは反対側の第二面から前記キャビティ形成部に向かって設けられ、前記キャビティと前記第二面の外側の空間とを連通させる連通孔と、を有する
ことを特徴とするＭＥＭＳデバイス。
【請求項６】
請求項５に記載のＭＥＭＳデバイスにおいて、
前記キャビティ形成部は、前記連通孔側から前記主膜部に向かう方向に開口面積が増大する内壁面を有する
ことを特徴とするＭＥＭＳデバイス。
【請求項７】
基板と、前記基板の第一面に設けられた機能膜と、前記機能膜上に設けられた圧電体とを備えた超音波トランスデューサーであって、
前記機能膜は、平面状の主膜部と、前記主膜部の外周縁から当該主膜部に対して交差する方向に延設された側壁部と、を有し、
前記基板は、
前記側壁部に接し、前記主膜部及び前記側壁部とともにキャビティを形成するキャビティ形成部と、
当該基板の前記第一面とは反対側の第二面から前記キャビティ形成部に向かって設けられ、前記キャビティと前記第二面の外側の空間とを連通させる連通孔と、
を有し、
前記圧電体は、前記主膜部の前記キャビティ形成部が設けられる側の面とは反対側の面に下部電極層、圧電層、及び上部電極層を順に積層して構成された
ことを特徴とした超音波トランスデューサー。
【請求項８】
基板と、前記基板の第一面に設けられた機能膜と、前記機能膜上に設けられた第１電極と、前記第１電極と空間を介して対向する位置に支持されている第２電極と、を備えた圧力センサーであって、
前記機能膜は、平面状の主膜部と、前記主膜部の外周縁から当該主膜部に対して交差する方向に延設された側壁部と、を有し、
前記基板は、
前記側壁部に接し、前記主膜部及び前記側壁部とともにキャビティを形成するキャビティ形成部と、
当該基板の前記第一面とは反対側の第二面から前記キャビティ形成部に向かって設けられ、前記キャビティと前記第二面の外側の空間とを連通させる連通孔と、
を有し、
前記第１電極は、前記主膜部の前記キャビティ形成部が設けられる側の面とは反対側の面に設けられた
ことを特徴とした圧力センサー。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ＭＥＭＳデバイスの製造方法、ＭＥＭＳデバイス、圧力センサー、及び超音波トランスデューサー
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月24日(2014.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源から出射された光を分割し、分割された光の一方から生成された測定ビームを眼底に向けて投光する投光光学系と、
眼底で反射された一方の光と他方の光とが合成された干渉光を受光素子に導く受光光学系と、
を備える測定光学系を有し、前記受光素子から出力される干渉信号に基づいて被検眼の眼軸長を測定する眼軸長測定装置において、
被検眼前眼部と略共役な位置に配置された撮像面を持つ撮像素子を有し、眼底反射光によって照明された被検眼瞳孔部における徹照像を撮像素子により撮像する撮像光学系と、
撮像素子によって取得された徹照像を処理することにより、干渉信号のＳ／Ｎ比が許容値を満たすように設定された所定領域における混濁部の二次元分布を求め、求められた二次元分布に基づいて前記所定領域内における光透過領域を特定する光透過領域特定手段と、を備えることを特徴とする眼軸長測定装置。
【請求項２】
請求項１の眼軸長測定装置において、
被検眼に対して測定光学系を駆動させる駆動手段を有し、前記光透過領域特定手段によって特定された光透過領域に前記測定光学系の光軸が位置されるように前記駆動手段を制御する駆動制御手段を備えることを特徴とする眼軸長測定装置。
【請求項３】
光源から出射された光を分割し、分割された光の一方から生成された測定ビームを眼底に向けて投光する投光光学系と、
眼底で反射された一方の光と他方の光とが合成された干渉光を受光素子に導く受光光学系と、
を備える測定光学系を有し、前記受光素子から出力される干渉信号に基づいて被検眼の眼軸長を測定する眼軸長測定装置において、
干渉信号のＳ／Ｎ比が所定値以下であるか否かを判定する判定手段と、
前記判定手段による判定結果に基づいて、前記測定光学系のアライメント位置を切り換えるための切換信号を発するモード切換手段と、
を備えることを特徴とする眼軸長測定装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
（１）  光源から出射された光を分割し、分割された光の一方から生成された測定ビームを眼底に向けて投光する投光光学系と、眼底で反射された一方の光と他方の光とが合成された干渉光を受光素子に導く受光光学系と、を備える測定光学系を有し、前記受光素子から出力される干渉信号に基づいて被検眼の眼軸長を測定する眼軸長測定装置において、被検眼前眼部と略共役な位置に配置された撮像面を持つ撮像素子を有し、眼底反射光によって照明された被検眼瞳孔部における徹照像を撮像素子により撮像する撮像光学系と、撮像素子によって取得された徹照像を処理することにより、干渉信号のＳ／Ｎ比が許容値を満たすように設定された所定領域における混濁部の二次元分布を求め、求められた二次元分布に基づいて前記所定領域内における光透過領域を特定する光透過領域特定手段と、を備えることを特徴とする。
（２）  （１）の眼軸長測定装置において、被検眼に対して測定光学系を駆動させる駆動手段を有し、前記光透過領域特定手段によって特定された光透過領域に前記測定光学系の光軸が位置されるように前記駆動手段を制御する駆動制御手段を備えることを特徴とする。
（３）  光源から出射された光を分割し、分割された光の一方から生成された測定ビームを眼底に向けて投光する投光光学系と、眼底で反射された一方の光と他方の光とが合成された干渉光を受光素子に導く受光光学系と、を備える測定光学系を有し、前記受光素子から出力される干渉信号に基づいて被検眼の眼軸長を測定する眼軸長測定装置において、干渉信号のＳ／Ｎ比が所定値以下であるか否かを判定する判定手段と、前記判定手段による判定結果に基づいて、前記測定光学系のアライメント位置を切り換えるための切換信号を発するモード切換手段と、を備えることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月4日(2014.6.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
橈骨遠位端骨折の骨折部位を掌側から固定するための骨プレートであって、
前記骨プレートの表面と腱とが接触する部分に低摩擦コーティング層が形成されていることを特徴とする骨プレート。
【請求項２】
前記低摩擦コーティング層が、少なくとも遠位端部の遠位側縁部に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の骨プレート。
【請求項３】
前記低摩擦コーティング層が、さらに前記遠位端部の表面に形成されていることを特徴とする請求項２に記載の骨プレート。
【請求項４】
前記低摩擦コーティング層が、さらに近位端部の表面に形成されていることを特徴とする請求項２又は３に記載の骨プレート。
【請求項５】
前記骨プレートには、骨ねじを挿入するためのねじ穴が形成されており、
前記低摩擦コーティング層が、さらに前記ねじ穴の内面に形成されていることを特徴とする請求項２乃至４のいずれか１項に記載の骨プレート。
【請求項６】
前記低摩擦コーティング層が、ホスホリルコリン基含有ポリマーから成ることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の骨プレート。
【請求項７】
前記低摩擦コーティング層の厚さが１〜１００ｎｍであることを特徴とする請求項６に記載の骨プレート。
【請求項８】
前記低摩擦コーティング層が、フッ素系ポリマーから成ることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の骨プレート。
【請求項９】
前記低摩擦コーティング層の厚さが０．１〜２０μｍであることを特徴とする請求項８に記載の骨プレート。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか１項に記載の骨プレートを骨折部位に固定するための骨ねじであって、
前記骨ねじの頭部の上面には、低摩擦コーティング層が形成されていることを特徴とする骨ねじ。
【請求項１１】
前記低摩擦コーティング層が、ホスホリルコリン基含有ポリマーから成ることを特徴とする請求項１０に記載の骨ねじ。
【請求項１２】
前記低摩擦コーティング層が、フッ素系ポリマーから成ることを特徴とする請求項１０に記載の骨ねじ。
【請求項１３】
橈骨遠位部の骨折部位を掌側から固定するための固定システムであって、
請求項１乃至９のいずれか１項に記載の骨プレートと、
請求項１０乃至１２のいずれか１項に記載の骨ねじと、
を含むことを特徴とする固定システム。
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月25日(2014.7.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外周面に図柄の表された第１リールおよび第２リールを収納可能なリールユニットを備える遊技機であって、
前記第１リールと、前記第１リールを回転駆動させる第１モータと、を少なくとも備え、前記リールユニットの左右方向一側端に配置される第１リールモジュールと、
前記第２リールと、前記第２リールを回転駆動させる第２モータと、を少なくとも備え、前記第１リールモジュールの隣に配置される第２リールモジュールと、
前記第１リールモジュールから延びる第１配線ケーブルと、
前記第２リールモジュールから延びる第２配線ケーブルと、
前記第１リールモジュールにおける左右方向一側寄りに設けられ、前記第１配線ケーブルが引き出される第１配線引出部と、
前記第２リールモジュールにおける左右方向一側寄りに設けられ、前記第２配線ケーブルが引き出される第１配線引出部と、
前記第１配線ケーブルが接続される第１コネクタと、前記第２配線ケーブルが接続される第２コネクタとを有する基板と、を備え、
前記第１配線ケーブルと前記第２配線ケーブルは共通の長さのケーブルであり、
前記第１コネクタおよび前記第２コネクタが、前記リールユニットの左右方向一側端寄りに集約して配置される
ことを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記第１コネクタと前記第２コネクタは、前記第１リールモジュールの横幅に収まるように配置される
ことを特徴とする請求項１記載の遊技機。
【請求項３】
前記第１コネクタおよび前記第２コネクタは、
前記リールユニットに収納された状態の前記第１リールモジュールおよび第２リールモジュールの並び方向に沿うとともにその並びに従った順序で配置された
ことを特徴とする請求項１又は２記載の遊技機。
【請求項４】
前記リールユニットの上部には、前記リールユニットを取り扱うときに使用する把手部が備えられ、
前記把手部は、前記基板に設けられた所定のコネクタの少なくとも一部を、前記リールユニットの前方から遮蔽する位置に設けられている
ことを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の遊技機。
【請求項５】
前記複数のリールモジュールを水平方向に積層させて収納可能な収納ラックと、
前記基板が取り付けられる基板カバーと、
を備え、
前記収納ラックには、前記基板カバーを前記収納ラックに取り付けるための取付け部が、前記収納ラックにおける前記第１リールモジュール上方および前記第２リールモジュール上方に分散して配置される
ことを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記目的を達成するため、本発明の遊技機は、外周面に図柄の表された第１リールおよび第２リールを収納可能なリールユニットを備える遊技機であって、前記第１リールと、前記第１リールを回転駆動させる第１モータと、を少なくとも備え、前記リールユニットの左右方向一側端に配置される第１リールモジュールと、前記第２リールと、前記第２リールを回転駆動させる第２モータと、を少なくとも備え、前記第１リールモジュールの隣に配置される第２リールモジュールと、前記第１リールモジュールから延びる第１配線ケーブルと、前記第２リールモジュールから延びる第２配線ケーブルと、前記第１リールモジュールにおける左右方向一側寄りに設けられ、前記第１配線ケーブルが引き出される第１配線引出部と、前記第２リールモジュールにおける左右方向一側寄りに設けられ、前記第２配線ケーブルが引き出される第１配線引出部と、前記第１配線ケーブルが接続される第１コネクタと、前記第２配線ケーブルが接続される第２コネクタとを有する基板と、を備え、前記第１配線ケーブルと前記第２配線ケーブルは共通の長さのケーブルであり、前記第１コネクタおよび前記第２コネクタが、前記リールユニットの左右方向一側端寄りに集約して配置される構成としてある。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月4日(2014.9.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
印刷の際に基板上に画像を形成する装置であって、
第１カラーを有する第１インクを、基板の表面に付着する第１マーキングステーションと、
前記第１マーキングステーションから下流にあり、前記基板の前記表面上の前記第１インクに、第１放射を照射するための、少なくとも１つの第１発光体エネルギー源を含み、前記第１インクを部分硬化させて、前記第１インクの光沢を調整する、第１部分硬化ステーションと、
前記第１部分硬化ステーションから下流にあり、第２カラーを有する第２インクを、前記基板の前記表面に付着する第２マーキングステーションと、
前記第２マーキングステーションから下流にあり、前記基板の前記表面上の前記第１インクおよび前記第２インクに、第２放射を照射するための、少なくとも１つの第２発光体エネルギー源を含み、前記第１インクをさらに部分硬化させるとともに前記第２インクを部分硬化させて、前記第１インクおよび第２インクの光沢を調整する、第２部分硬化ステーションと、
第１部材、第２部材、ならびに前記第１部材および第２部材によって形成されたニップを含み、前記第１部材および第２部材は、前記基板が、前記ニップにおいて受けられると、前記部分硬化した第１インクおよび第２インクに圧力を加えるように構成されて、前記前記第１インクおよび第２インクを前記基板の前記表面上で平坦にする、平坦化デバイスと、
前記基板の前記表面上の前記平坦にされた状態の第１インクおよび第２インクに照射して、前記第１インクおよび第２インクを実質的に完全に硬化させる、平坦化後硬化デバイスとを含む、装置。
【請求項２】
前記第２部分硬化ステーションから下流にあり、第３カラーを有する第３インクを、前記基板の前記表面に付着する第３マーキングステーションと、
前記第３マーキングステーションから下流にあり、前記基板の前記表面上の前記第１インク、第２インクおよび第３インクに、第３放射を照射するための、少なくとも１つの第３発光体エネルギー源を含み、前記第１インクおよび第２インクをさらに部分硬化させるとともに前記第３インクを部分硬化させて、前記第１インク、第２インクおよび第３インクの光沢を調整する、第３部分硬化ステーションと、
前記第３部分硬化ステーションから下流にあり、第４カラーを有する第４インクを、前記基板の前記表面に付着する第４マーキングステーションと、
前記第４マーキングステーションから下流にあり、前記基板の前記表面上の前記第１インク、第２インク、第３インクおよび第４インクに、第４放射を照射するための、少なくとも１つの第４発光体エネルギー源を含み、前記第１インク、第２インクおよび第３インクをさらに部分硬化させるとともに前記第４インクを部分硬化させて、前記第１インク、第２インク、第３インクおよび第４インクの光沢を調整する、第４部分硬化ステーションとをさらに含み、
前記平坦化デバイスは、前記基板が、前記ニップにおいて受けられると、前記部分硬化した第１インク、第２インク、第３インクおよび第４インクに圧力を加えて、前記第１インク、第２インク、第３インクおよび第４インクを前記基板の前記表面上で平坦にし、
前記平坦化後硬化デバイスは、前記基板の前記表面上の前記平坦にされた状態の第１インク、第２インク、第３インクおよび第４インクに照射して、前記第１インク、第２インク、第３インクおよび第４インクを実質的に完全に硬化させ、
前記第１インクはブラックインクであり、前記第２インクはシアンインクであり、前記第３インクはマゼンタインクであり、前記第４インクはイエローインクであり、前記実質的に完全に硬化した第１インク、第２インク、第３インクおよび第４インクはおおよそ同一の光沢を有する、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記第１マーキングステーション、第２マーキングステーション、第３マーキングステーションおよび第４マーキングステーションは、印刷ヘッドを含み、
前記第１インク、第２インク、第３インクおよび第４インクは、紫外線（ＵＶ）硬化性インクを含み、
前記第１放射、第２放射、第３放射および第４放射は、ＵＶ放射を含む、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
印刷の際に基板上に画像を形成する方法であって、
第１マーキングステーションを用いて、第１カラーを有する第１インクを、基板の表面に付着するステップと、
前記第１マーキングステーションから下流の第１部分硬化ステーションに属する少なくとも１つの第１発光体エネルギー源によって放出される第１放射を、前記基板の前記表面上の前記第１インクに照射して、前記第１インクを部分硬化させて、前記第１インクの光沢を調整するステップと、
前記第１部分硬化ステーションから下流の第２マーキングステーションを用いて、第２カラーを有する第２インクを前記基板の前記表面に付着するステップと、
前記第２マーキングステーションから下流の第２部分硬化ステーションに属する少なくとも１つの第２発光体エネルギー源によって放出される第２放射を、前記基板の前記表面上の前記第２インクに照射して、前記第１インクをさらに部分硬化させるとともに前記第２インクを部分硬化させて、前記第１インクおよび前記第２インクの光沢を調整するステップと、
ニップを形成する、第１部材および第２部材を備える平坦化デバイスの前記ニップにおいて、前記基板ならびに前記部分硬化した第１インクおよび第２インクに圧力を加えて、前記第１インクおよび第２インクを前記基板の前記表面上で平坦にするステップと、
前記基板の前記表面上の前記平坦にされた状態の第１インクおよび第２インクに照射して、前記第１インクおよび第２インクを実質的に完全に硬化させるステップとを含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月4日(2014.9.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
印刷の際に基板上に画像を形成する方法であって、
搬送路に沿ってプロセス方向に基板を搬送するステップと、
冷却デバイスを用いて前記基板を冷却するステップと、
複数の固定された印刷ヘッドの少なくとも１つから前記冷却された基板の表面上へインクを直接塗布するステップと、
前記基板の前記表面上の前記インクに、第１の放射部からの第１放射を照射するステップであって、前記第１の放射部は、前記プロセス方向において前記複数の固定印刷ヘッドのすべてに対して、それらの下流に、重ならないように物理的に配置され、前記基板の前記表面上の前記インクを部分的に硬化させる、ステップと、
第１部材の第１表面および第２部材の第２表面を備える平坦化デバイスの挟持部において、前記基板および前記基板の前記表面にすでに塗布された前記部分硬化したインクに圧力を加えて、前記インクを前記基板の前記表面上で平坦にするステップであって、前記第１の部材の前記第１表面は、親水性材料で形成され、前記第１の部材の前記第１表面には、水と洗浄剤とからなる放出液体が塗布される、ステップと、
前記基板の前記表面上の前記平坦にされた状態のインクに、前記プロセス方向において前記挟持部の下流にある第２の放射部から第２放射を照射して、前記基板上の該インクを実質的に完全に硬化させるステップと、を含む、方法。
【請求項２】
前記インクは、１つのモノマー、１つの光開始剤、１つの着色剤、および少なくとも１つの有機ゲル化剤を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
印刷の際に基板上に画像を形成する方法であって、
搬送路に沿ってプロセス方向に基板を搬送するステップと、
冷却デバイスを用いて前記基板を冷却するステップと、
複数の固定された印刷ヘッドの少なくとも１つから前記基板の冷却された表面上へ紫外線（ＵＶ）硬化性インクを直接塗布するステップと、
前記基板の前記表面上の前記ＵＶ硬化性インクに、第１のＵＶ放射部からの第１ＵＶ放射を照射するステップであって、前記第１のＵＶ放射部は、前記プロセス方向において前記複数の固定印刷ヘッドのすべてに対して、それらの下流に、重ならないように物理的に配置され、前記基板の前記表面上の前記ＵＶ硬化性インクを部分的に硬化させる、ステップと、
挟持部を形成する第１ロールの第１表面および第２ロールの第２表面を備える平坦化デバイスの前記挟持部において、前記基板および前記基板の前記表面にすでに塗布された前記部分硬化したＵＶ硬化性インクに圧力を加えて、前記ＵＶ硬化性インクを前記基板の前記表面上で平坦にするステップであって、前記第１ロールの前記第１表面は、親水性材料で形成され、前記第１ロールの前記第１表面には、水と洗浄剤とからなる放出液体が塗布される、ステップと、
前記基板の前記表面上の前記平坦にされた状態のＵＶ硬化性インクに、前記プロセス方向において前記挟持部の下流に配置された第２のＵＶ放射部から第２ＵＶ放射を照射して、前記基板の前記表面上の該ＵＶ硬化性インクを実質的に完全に硬化させるステップと、を含む、方法。
【請求項４】
印刷の際に基板上に画像を形成する装置であって、
搬送路に沿ってプロセス方向に基板を搬送する搬送装置と、
前記基板を冷却する冷却デバイスと、
複数の固定された印刷ヘッドの少なくとも１つから前記基板の冷却された表面上へインクを直接塗布するマーキングデバイスと、
前記プロセス方向において前記複数の印刷ヘッドのすべてに対して、それらの下流に、重ならないように物理的に配置された部分硬化デバイスであって、前記基板の前記表面上の前記インクに第１放射を照射して、前記基板の前記表面上の前記インクを部分的に硬化させる、部分硬化デバイスと、
前記プロセス方向において前記部分硬化装置の下流に配置される平坦化デバイスであって、前記平坦化デバイスは、第１表面を含む第１の部材と、第２表面を含む第２の部材と、前記第１の表面と前記第２の表面とによって形成される挟持部と、を備え、前記第１の表面と前記第２の表面は、前記基板および前記ニップに収容された前記基板に事前に塗布された前記部分的に硬化されたインクに圧力を加えて、前記インクを前記基板の前記表面上で平坦にし、前記第１の部材の前記第１表面は、親水性材料で形成され、前記第１の部材の前記第１表面には、水と洗浄剤とからなる放出液体が塗布される、平坦化デバイスと、
前記プロセス方向において前記挟持部の下流に配置される第２の硬化デバイスであって、前記基板の前記表面上の前記平坦にされた状態のインクに、第２放射を照射して、前記基板の前記表面上の前記インクを実質的に完全に硬化させる第２の硬化デバイスと、を含む、装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月4日(2014.9.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
印刷の際に基板上に画像を形成する装置であって、
第１カラーを有する第１放射線硬化性ゲルインクを、基板の表面に塗布する第１マーキングステーションと、
前記第１マーキングステーションから下流にあり、前記基板の前記表面上の前記第１インクに第１放射を照射するための、第１発光ダイオード（ＬＥＤ）の少なくとも一つの第１アレイを含み、前記第１インクを部分硬化させて、前記第１インクの光沢を調整する部分硬化ステーションであって、前記第１ＬＥＤの各第１アレイ内の各第１ＬＥＤに対して、前記基板が前記第１ＬＥＤの少なくとも１つの第１アレイのそばを通過する際に、当該各第１ＬＥＤから放出される前記第１放射の強度が変化するように、個々に対処可能である、第１部分硬化ステーションと、
前記第１部分硬化ステーションから下流にあり、第２カラーを有する第２放射線硬化性ゲルインクを、前記基板の前記表面に塗布する第２マーキングステーションと、
前記第２マーキングステーションから下流にあり、前記基板の前記表面上の前記第１インクおよび前記第２インクに第２放射を照射するための、第２ＬＥＤの少なくとも１つの第２アレイを含み、前記第１インクをさらに部分硬化させるとともに前記第２インクを部分硬化させて、前記第１インクおよび前記第２インクの光沢を調整する部分硬化ステーションであって、前記第２ＬＥＤの各第２アレイ内の各第２ＬＥＤに対して、前記基板が前記第２ＬＥＤの前記少なくとも１つの第２アレイのそばを通過する際に、当該各第２ＬＥＤから放出される前記第２放射の強度が変化するように、個々に対処可能である、第２部分硬化ステーションと、
前記基板ならびに前記部分硬化した第１インクおよび第２インクに圧力を加えて、前記第１インクおよび第２インクを前記基板の前記表面上で平坦にすることで、平坦化された第１インクおよび第２インクが前記基板の前記表面上に形成される、平坦化デバイスと、
前記基板の前記表面上の前記平坦化された第１インクおよび第２インクに照射して、前記第１インクおよび前記第２インクを実質的に完全に硬化させる、平坦化後硬化デバイスと、を含む装置。
【請求項２】
前記第１ＬＥＤの各第１アレイおよび第２ＬＥＤの各第２アレイは、各第１ＬＥＤおよび各第２ＬＥＤに個々に対処可能にするように構成されたコントローラーへ接続される、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
第１ＬＥＤの前記少なくとも１つの第１アレイは、千鳥配列に配置された少なくとも２つの第１アレイの第１ＬＥＤを含み、
第２ＬＥＤの前記少なくとも１つの第２アレイは、千鳥配列に配置された少なくとも２つの第２アレイの第２ＬＥＤを含む、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
印刷の際に基板上に画像を形成する方法であって、
第１マーキングステーションを用いて、第１カラーを有する第１放射線硬化性ゲルインクを基板の表面に塗布するステップと、
前記第１マーキングステーションから下流の第１部分硬化ステーションの第１発光ダイオード（ＬＥＤ）の少なくとも１つの第１アレイによって放出される第１放射を、前記基板の前記表面上の前記第１インクに照射するステップであって、第１ＬＥＤの各第１アレイ内の各第１ＬＥＤは、前記基板が前記第１ＬＥＤの少なくとも１つの第１アレイのそばを通過する際に、当該各第１ＬＥＤから放出される前記第１放射の強度が変化するように個々に対処可能にされて、前記第１インクを部分硬化させ、前記第１インクの光沢を調整する、ステップと、
前記第１部分硬化ステーションから下流の第２マーキングステーションを用いて、第２カラーを有する第２放射線硬化性ゲルインクを前記基板の前記表面に塗布するステップと、
前記第２マーキングステーションから下流の第２部分硬化ステーションの第２発光ダイオード（ＬＥＤ）の少なくとも一つの第２アレイによって放出される第２放射を、前記基板の前記表面上の前記第２インクに照射するステップであって、第２ＬＥＤの各第２アレイ内の各第２ＬＥＤは、前記基板が前記第２ＬＥＤの少なくとも１つの第２アレイのそばを通過する際に、当該各第２ＬＥＤから放出される前記第２放射の強度が変化するように個々に対処可能にされて、前記第１インクをさらに部分硬化させるとともに前記第２インクを部分硬化させて、前記第１インクおよび前記第２インクの光沢を調整するステップと、
平坦化デバイスを用いて、前記基板ならびに前記部分硬化した第１インクおよび第２インクに圧力を加えて、前記第１インクおよび第２インクを前記基板の前記表面上で平坦にすることで、平坦化された第１インクおよび第２インクが前記基板上に形成されるステップと、
前記基板の前記表面上の前記平坦化された第１インクおよび第２インクに照射して、前記第１インクおよび第２インクを実質的に完全に硬化させるステップと、を含む、方法。