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【手続補正書】
【提出日】平成26年4月9日(2014.4.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スタッカトレイ組立体であって、
垂直方向に可動の昇降機スタッカトレイと、
前記昇降機スタッカトレイの端部に取り付けた少なくとも１個のセンサと、
前記少なくとも１個のセンサとの接触検出状態にある連続可変傾斜形状マーカであって、前記連続可変傾斜形状マーカは、その高さのほぼ全体にわたって複数の可測体を備え、
前記少なくとも１個のセンサは、前記連続可変傾斜形状マーカの前記複数の可測体の少なくとも１個を垂直方向に検出することで前記昇降機スタッカトレイの垂直位置を示すように構成され、
前記少なくとも１個のセンサの大きさを、前記可動昇降機スタッカトレイの移動距離よりも垂直方向において実質的に短くし、
前記複数の可測体は、複数の水平線幅と複数の画素のうちの１つからなり、前記複数の可測体は、前記連続可変傾斜形状マーカが垂直に上昇するにつれて寸法が減少する、
スタッカトレイ組立体。
【請求項２】
前記少なくとも１つのセンサが接触画像センサであり、前記連続可変傾斜形状マーカが三角マーカである、請求項１に記載のスタッカトレイ組立体。
【請求項３】
前記少なくとも１個のセンサが、昇降機スタッカトレイの昇降動作および前記昇降機スタッカトレイの前記垂直位置の両方を示すように構成されている、請求項１に記載のスタッカトレイ組立体。
【請求項４】
前記少なくとも１個のセンサが、前記昇降機スタッカトレイの前記垂直位置を直接示すように構成された、請求項１に記載のスタッカトレイ組立体。
【請求項５】
垂直方向に可動の昇降機スタッカトレイと、
前記スタッカトレイの側部に固定された接触画像センサと、
前記接触画像センサと検出通信状態に配置された三角形マーカと、を備え、
前記三角形マーカは、前記昇降機スタッカトレイの面と平行な面に基部として最大幅部分を有し、
前記昇降スタッカトレイは、少なくとも前記三角形マーカの高さに等しい距離に沿って可動するように構成され、
前記三角形マーカは、前記三角形マーカの高さのほぼ全体にわたって複数の可測体を含み、前記複数の可測体は、前記接触画像センサにより計測されるよう構成され、
前記複数の可測体は、これらが前記基部から前記三角形マーカの上部へ垂直方向に進むにつれ計測値が減少し、
前記接触画像センサは、前記三角形マーカ内の前記複数の可測体の少なくとも１個を歩進検出することで前記昇降機スタッカトレイの垂直位置を示すように構成され、
前記複数の可測体は、複数の水平線幅と複数の画素のうちの１つからなる、
スタッカトレイ組立体。
【請求項６】
前記接触画像センサの大きさが前記昇降機スタッカトレイの移動距離よりも実質的に短い、請求項５に記載のスタッカトレイ組立体。
【請求項７】
可動昇降機を有するスタッカトレイ組立体内でスタッカトレイの位置を決定する方法であって、
前記スタッカトレイ組立体内に昇降機スタッカトレイを配設する工程と、
シート積層体を前記昇降機スタッカトレイ上に積載する工程と、
前記昇降機スタッカトレイの端部に接触画像センサを、連続可変傾斜形状マーカに対して検出関係状態で配設する工程と、
前記連続可変傾斜形状マーカ上に複数の可測体を、当該複数の可測体が前記連続可変傾斜形状マーカの頂部に接近するのにつれて短縮するように配設する工程であって、当該複数の可測体が前記接触画像センサにより検出されるように構成する工程と、
前記昇降機スタッカトレイを移動させる工程と、
を含み、
前記接触画像センサが、前記昇降機スタッカトレイの移動による前記昇降機スタッカトレイの位置を示すものとして前記複数の可測体のうち少なくとも１つを検出し、
前記複数の可測体は、複数の水平線幅と複数の画素のうちの１個からなり、前記複数の可測体は、前記連続可変傾斜形状マーカを前記可測体が垂直に上昇するのにつれて計測値が徐々に減少する、
方法。
【請求項８】
前記連続可変傾斜形状マーカは三角形転写マーカであって、この三角形転写マーカの底辺において増大した可測体を有し、前記三角形転写マークの頂点に近づくにつれ徐々に小さくなる可測体を有する、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記接触画像センサの大きさは、前記昇降機スタッカトレイの垂直移動距離の長さよりも実質的に短い、請求項７に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年3月12日(2014.3.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベシクルまたはリポソームを形成可能な界面活性剤システムを水相、溶媒または油剤の中に分散させることを包含する、マルチラメラベシクルまたはリポソームの分散液を製造するための方法であって、該界面活性剤システムが、５〜９９質量％の下記式で表される少なくとも１種の脂肪族ポリグリコシドを含有することを特徴とする方法。
ＲＯ（Ｘ）ｎ
（式中、Ｒは、直鎖状または分岐状であり、炭素数が８〜１０の飽和または不飽和脂肪族鎖を表し、Ｘはキシロース残基を表し、ｎは平均オリゴマー化度を表し、１〜３の間の値である。）
【請求項２】
化粧品用、医薬品用または植物療法用の活性物質、香料、酵素、栄養物、微量元素、生物材料、エッセンシャルオイル、および有機分子を酸化または分解することが可能な薬剤からなる群より選ばれる少なくとも１種の有効成分をマルチラメラベシクルまたはリポソームに封入するための方法であって、該有効成分は希釈せずに、あるいは油剤、溶媒または水で希釈して界面活性剤システムと混合し、そして得られた混合物を水相、溶媒または油剤に分散することを包含し、該界面活性剤システムが、５〜９９質量％の下記式で表される少なくとも１種の脂肪族ポリグリコシドを含有することを特徴とする方法。
ＲＯ（Ｘ）ｎ
（式中、Ｒは、直鎖状または分岐状であり、炭素数が８〜１０の飽和または不飽和脂肪族鎖を表し、Ｘはキシロース残基を表し、ｎは平均オリゴマー化度を表し、１〜３の間の値である。）
【請求項３】
下記成分を包含する界面活性剤システム。
５〜９９質量％の下記式：
ＲＯ（Ｘ）ｎ
（式中、Ｒは、直鎖状または分岐状であり、炭素数が８〜１０の飽和または不飽和脂肪族鎖を表し、Ｘはキシロース残基を表し、ｎは平均オリゴマー化度を表し、１〜３の間の値である。）
で表される脂肪族ポリグリコシド、
０．１〜７０質量％の、親水性親油性比（ＨＬＢ）が１０以上である少なくとも１種の共界面活性剤、および
０．１〜７０質量％の水。
【請求項４】
下記成分を更に包含することを特徴とする、請求項３に記載の界面活性剤システム。
０〜７０質量％の、直鎖状または分岐状Ｃ１〜Ｃ２０アルコール、Ｃ３〜Ｃ２０グリコールエーテル、アミルグリコシド、ブチルグリコシド、ヘキシルグリコシド、２−エチルヘキシルグリコシド、オクチルグリコシド、イソノニルグリコシド、イソデシルグリコシド、オクチルデシルグリコシド、グリセロール、グリセロールの部分誘導体、テルピノールならびに直鎖状または分岐状Ｃ１〜Ｃ２０アルコールと酢酸、蟻酸、乳酸、コハク酸、酒石酸、グルタル酸、グルタミン酸、アジピン酸、ラウリン酸およびオレイン酸からなる群より選ばれる有機酸とのエステルからなる群より選ばれるヒドロトロープまたは共溶媒。
【請求項５】
下記成分を包含する界面活性剤システム。
５〜９９質量％の下記式：
ＲＯ（Ｘ）ｎ
（式中、Ｒは、直鎖状または分岐状であり、炭素数が８〜１０の飽和または不飽和脂肪族鎖を表し、Ｘはキシロース残基を表し、ｎは平均オリゴマー化度を表し、１〜３の間の値である。）
で表される脂肪族ポリグリコシド、
０．１〜７０質量％の、親水性親油性比（ＨＬＢ）が１０未満である少なくとも１種の共界面活性剤、および
０．１〜７０質量％の水。
【請求項６】
下記成分を更に包含することを特徴とする、請求項５に記載の界面活性剤システム。
０．１〜７０質量％の、直鎖状または分岐状Ｃ１〜Ｃ２０アルコール、Ｃ３〜Ｃ２０グリコールエーテル、アミルグリコシド、ブチルグリコシド、ヘキシルグリコシド、２−エチルヘキシルグリコシド、オクチルグリコシド、イソノニルグリコシド、イソデシルグリコシド、オクチルデシルグリコシド、グリセロール、グリセロールの部分誘導体、テルピノールならびに直鎖状または分岐状Ｃ１〜Ｃ２０アルコールと酢酸、蟻酸、乳酸、コハク酸、酒石酸、グルタル酸、グルタミン酸、アジピン酸、ラウリン酸およびオレイン酸からなる群より選ばれる有機酸とのエステルからなる群より選ばれるヒドロトロープまたは共溶媒。
【請求項７】
化粧品用、医薬品用または植物療法用の活性物質、香料、酵素、栄養物、微量元素、生物材料、エッセンシャルオイルおよび有機分子を酸化または分解することが可能な薬剤からなる群より選ばれる少なくとも１種の有効成分を含有するベシクルまたはリポソームの形のシステムであって、該ベシクルまたはリポソームの総質量に対して１〜９９質量％の有効成分を含有し、該有効成分は希釈されていないか、あるいは油剤、溶媒または水で希釈されていることを特徴とする、請求項３〜６のいずれかに記載のシステム。
【請求項８】
水中油型エマルジョン、水性溶液または水−アルコール系溶液、あるいは水性ゲルまたは水−アルコール系ゲルの形であり、０．０１〜９０質量％のベシクルまたはリポソームを含有する、請求項７に記載のシステム。
【請求項９】
油中水型エマルジョン、溶媒または混合溶媒、あるいはマイクロエマルジョンの形であり、０．０１〜９０質量％のベシクルまたはリポソームを含有する、請求項７に記載のシステム。
【請求項１０】
請求項８または９に記載のベシクルまたはリポソームの分散液を使用することを包含する、水処理または土壌の除染のための、化粧品用、医薬品用、植物療法用または洗浄用の製品の調製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月1日(2014.7.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
燃料電池車両であって、
前記燃料電池車両の床下空間に配置される燃料電池ユニットを備え、
前記燃料電池ユニットは、略水平方向に積層された複数の燃料電池セルを有する燃料電池と、前記燃料電池の側方領域に設けられ前記各燃料電池セルの状態を監視するためのセルモニタと、を含む、燃料電池車両。
【請求項２】
前記燃料電池は、４つの側面を有する略直方体形状を呈しており、
前記セルモニタは、前記燃料電池の少なくとも一つの前記側面に配置されている、請求項１に記載の燃料電池車両。
【請求項３】
前記セルモニタは、前記燃料電池セルが積層されてなる燃料電池スタックの積層面に配置されており、
前記各燃料電池セルのコネクタは、前記積層面に配置されている、請求項１又は２に記載の燃料電池車両。
【請求項４】
前記セルモニタは、前記燃料電池セルの積層方向に対して略平行に延在する少なくとも一つの側面を有しており、
前記セルモニタのコネクタは、前記各燃料電池セルの前記コネクタに最も近い位置にある前記側面に配置されている、請求項３に記載の燃料電池車両。
【請求項５】
前記セルモニタは、前記燃料電池セルの積層方向に対して略平行に延在する少なくとも一つの側面を有しており、
前記セルモニタのコネクタは、鉛直方向下側にある前記側面に配置されている、請求項３又は４に記載の燃料電池車両。
【請求項６】
前記セルモニタのコネクタは、鉛直方向下向きに配置されている、請求項５に記載の燃料電池車両。
【請求項７】
前記各燃料電池セルのコネクタは、前記積層面の鉛直方向下側の領域に配置されている、請求項５又は６に記載の燃料電池車両。
【請求項８】
前記燃料電池は、発電用の反応ガスを排出させるための貫通孔を有し、
前記各燃料電池セルの前記コネクタの少なくとも何れか一つは、前記貫通孔付近に配置されている、
請求項３から７の何れか一項に記載の燃料電池車両。
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月1日(2014.7.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記制御手段は、前記供給側ポンプ及び前記回収側ポンプの駆動によって前記供給側流路部から前記液体吐出ヘッドを経由して前記回収側流路部に流れる液体の流量と、前記第１気体圧力検出手段から得られる第１気体室の圧力値との関係を用いて、前記第１可撓膜の不感帯での動作か否かを検知し、
前記流量と、前記第２気体圧力検出手段から得られる第２気体室の圧力値との関係を用いて、前記第２可撓膜の不感帯での動作か否かを検知する請求項１に記載の液体吐出装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
液体を使用する流路構造物に対して液体を供給する供給側流路部に設けられた供給側ポンプと、
前記供給側ポンプに連通され前記供給側流路部に設けられた供給側サブタンクであって、第１容器の内部が第１可撓膜によって第１液体室と第１気体室とに仕切られて構成され、前記第１液体室が前記流路構造物に連通される供給側サブタンクと、
前記第１気体室内の気体の圧力を検出する第１気体圧力検出手段と、
前記流路構造物に供給された液体の一部又は全部を前記流路構造物から回収する回収側流路部に設けられる回収側ポンプと、
前記回収側ポンプに連通され前記回収側流路部に設けられた回収側サブタンクであって、第２容器の内部が第２可撓膜によって第２液体室と第２気体室とに仕切られて構成され、前記第２液体室が前記流路構造物に連通される回収側サブタンクと、
前記第２気体室内の気体の圧力を検出する第２気体圧力検出手段と、
前記第１気体圧力検出手段及び前記第２気体圧力検出手段で検出した情報を用いて、前記供給側ポンプ及び前記回収側ポンプの駆動を制御する制御手段と、
を備え、
前記制御手段は、前記第１気体圧力検出手段及び前記第２気体圧力検出手段で検出される各気体室の圧力値と前記供給側流路部から前記流路構造物を経由して前記回収側流路部に流れる液体の流量との関係から、前記第１可撓膜及び前記第２可撓膜のそれぞれの不感帯での動作であるか不感帯外での動作であるかを検知する液体供給装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
（第２態様）：第１態様に記載の液体吐出装置において、制御手段は、供給側ポンプ及び回収側ポンプの駆動によって供給側流路部から液体吐出ヘッドを経由して回収側流路部に流れる液体の流量と、第１気体圧力検出手段から得られる第１気体室の圧力値との関係を用いて、第１可撓膜の不感帯での動作か否かを検知し、流量と、第２気体圧力検出手段から得られる第２気体室の圧力値との関係を用いて、第２可撓膜の不感帯での動作か否かを検知する構成とすることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１２】
2013180411.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月18日(2014.7.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転自在なプラテンローラと、
前記プラテンローラに対向設置されるサーマルヘッドと、
前記プラテンローラの上流側に設けられた、用紙の全幅の下側をガイドする固定ガイド部と、
前記固定ガイド部の上流側に設けられた、用紙幅をガイドする幅ガイド板と、用紙下をガイドする下ガイド板と、用紙上をガイドする上ガイド板と、から成る、用紙幅方向で稼働可能な一対の用紙ガイドと、を有し、
前記上ガイド板は、前記固定ガイド部の上部にまで位置し、前記上ガイド板と前記固定ガイド部を平行に形成されていることを特徴とするサーマルプリンタ。
【請求項２】
前記上ガイド板は、固定ガイド部の先端の位置まで形成されていることを特徴とする請求項１のサーマルプリンタ。
【請求項３】
前記幅ガイド板は、前記固定ガイド部の上部にまで形成するとともに、前記上ガイド板よりプラテンローラ側に延出されていることを特徴とする請求項１のサーマルプリンタ。
【請求項４】
前記上ガイド板は、前記プラテンローラ側の先端部がＲ形状であることを特徴とする請求項１又は２のサーマルプリンタ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明に係るサーマルプリンタは、回転自在なプラテンローラと、前記プラテンローラに対向設置されるサーマルヘッドと、前記プラテンローラの上流側に設けられた、用紙の全幅の下側をガイドする固定ガイド部と、前記固定ガイド部の上流側に設けられた、用紙幅をガイドする幅ガイド板と、用紙下をガイドする下ガイド板と、用紙上をガイドする上ガイド板と、から成る、用紙幅方向で稼働可能な一対の用紙ガイドと、を有し、前記上ガイド板は、前記固定ガイド部の上部にまで位置し、前記上ガイド板と前記固定ガイド部を平行に形成されている。
本発明によれば、プラテンローラの上流側に設けられた用紙の全幅の下側をガイドする固定ガイド部と、用紙上をガイドし固定ガイド部の上部にまで形成されている上ガイド板と、により、用紙をプラテンローラまで搬送することで、サーマルヘッドで印字する際の用紙のバタツキを防止することができるので、印字不良や用紙詰まりを防止することができる。
本発明においては、前記上ガイド板は、固定ガイド部の先端の位置まで形成されていることが好ましい。
上ガイド板は、好ましくは固定ガイド部の先端の位置まで形成されていることで、用紙のバタツキをより防止することができるので、印字不良や用紙詰まりを防止することができる。また、用紙幅が確認できる目盛の確認もし易くなる。
本発明においては、前記上ガイド板は、前記プラテンローラ側の先端部がＲ形状であることが好ましい。
上ガイド板の先端部がＲ形状であることで、用紙の印字面に損傷させることなくプラテンローラまで搬送することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月14日(2014.4.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
巻上機のハウジングに収容されたブレーキホイールを引き抜くためのブレーキホイール引き抜き治具において、
保持腕基体と、
保持腕基体の中央部に貫通して設けられ、回動することで保持腕基体に対して垂直方向に進退可能な押込螺杆と、
保持腕基体の両端部にそれぞれ設けられる腕部であって、ブレーキホイールに形成され、電動機の出力軸と結合するためのカップリングボルトが貫通する貫通孔に挿入してブレーキホイールと締結可能な腕部と、
前記保持腕基体の中心部から異なる距離にそれぞれ設けられることで腕部の取り付け位置が調整可能である径調整孔と、
を有することを特徴とするブレーキホイール引き抜き治具。
【請求項２】
請求項１に記載のブレーキホイール引き抜き治具において、
径調整孔は、ブレーキホイールの型式に応じた貫通孔の位置に適合するように設けられていることで、腕部の取り付け位置が調整可能となる、
ことを特徴とするブレーキホイール引き抜き治具。
【請求項３】
請求項１に記載のブレーキホイール引き抜き治具において、
腕部は、腕部本体の先端に形成されたねじ部と、このねじ部に嵌り合うナットとを有する、
ことを特徴とするブレーキホイール引き抜き治具。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか１つに記載のブレーキホイール引き抜き治具において、
保持腕基体の先端は、ブレーキホイールと嵌り合っている巻上機本体の軸の先端面に形成された窪みに嵌るように形成されている、
ことを特徴とするブレーキホイール引き抜き治具。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明は、巻上機のハウジングに収容されたブレーキホイールを引き抜くためのブレーキホイール引き抜き治具において、保持腕基体と、保持腕基体の中央部に貫通して設けられ、回動することで保持腕基体に対して垂直方向に進退可能な押込螺杆と、保持腕基体の両端部にそれぞれ設けられる腕部であって、ブレーキホイールに形成され、電動機の出力軸と結合するためのカップリングボルトが貫通する貫通孔に挿入してブレーキホイールと締結可能な腕部と、前記保持腕基体の中心部から異なる距離にそれぞれ設けられることで腕部の取り付け位置が調整可能である径調整孔とを有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、径調整孔は、ブレーキホイールの型式に応じた貫通孔の位置に適合するように設けられていることで、腕部の取り付け位置が調整可能となることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、腕部は、腕部本体の先端に形成されたねじ部と、このねじ部に嵌り合うナットとを有することができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月6日(2014.10.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
飲料水を冷却する冷水タンク（２）と、交換式の原水容器（４）と冷水タンク（２）との間を連通する原水供給路（６）と、その原水供給路（６）に設けられたポンプ（７）と、前記原水容器（４）内に空気を導入する吸気路（８）と、その吸気路（８）に接続されたオゾン発生装置（９）と、前記ポンプ（７）の作動時に前記オゾン発生装置（９）でオゾンを発生させる制御を行なう制御部（３５）とを有し、
前記制御部（３５）は、前記原水容器（４）内に飲料水が無くなったときに、前記ポンプ（７）を継続して作動させることで前記吸気路（８）および原水供給路（６）内にオゾンを通過させる制御を行なうウォーターサーバー。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月4日(2014.11.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガスタービンエンジンの燃焼器セクションに用いる燃料噴射器であって、
中心軸のまわりに周方向に延在するハブを有する本体と、
空気と燃料とを予混合するための複数の角度付きベーンと、
前記複数の角度付きベーンのうちの少なくとも１つの上に配置された少なくとも１つの凹部と、
を備え、
各ベーンは、前記ハブから外側環状シュラウドまで延在して、前記ハブ上を前記中心軸の周りに周方向に配列され、
各ベーンは、前記ハブの径方向近傍に位置する根元部分と、前記外側環状シュラウド径方向近傍に位置する先端部分とを有し、
各ベーンは、前記根本部分と前記先端部分との間に延在する前縁および後縁を有し、
各ベーンは、前記中心軸に対して角度付けされて、前記燃料噴射器に入ってくる空気に回転運動成分を与え、
前記少なくとも１つの凹部は、実質的に球形の断面を有し、前記少なくとも１つの凹部内を流れる主流の空気に燃料を噴射するために前記少なくとも１つの凹部の上流基部領域内に配置された別個の燃料孔を含み、
前記少なくとも１つの凹部が、改善された燃料−空気混合を提供する、
燃料噴射器。
【請求項２】
圧縮機セクションと、複数の燃焼剤カンを備える燃焼器セクションとを含むガスタービンエンジンと、
前記圧縮機セクションに結合されたタービンセクションと、
前記ガスタービンエンジンからの排気ガスを流す排出セクションと、
燃料と空気の混合物を前記燃焼器セクションに噴射する燃料噴射器と、
を備え、
前記燃料噴射器が、
中心軸のまわりに周方向に延在するハブを有する本体と、
空気と燃料とを予混合するための複数の角度付きベーンと、
前記複数の角度付きベーンのうちの少なくとも１つの上に配置された少なくとも１つの凹部と、
を備え、
各ベーンは、前記ハブから外側環状シュラウドまで延在して、前記ハブ上を前記中心軸の周りに周方向に配列され、
各ベーンは、前記ハブの径方向近傍に位置する根元部分と、前記外側環状シュラウド径方向近傍に位置する先端部分とを有し、
各ベーンは、前記根本部分と前記先端部分との間に延在する前縁および後縁を有し、
各ベーンは、前記中心軸に対して角度付けされて、前記燃料噴射器に入ってくる空気に回転運動成分を与え、
前記少なくとも１つの凹部は、実質的に球形の断面を有し、前記少なくとも１つの凹部内を流れる主流の空気に燃料を噴射するために前記少なくとも１つの凹部の上流基部領域内に配置された別個の燃料孔を含み、
前記少なくとも１つの凹部が、改善された燃料−空気混合を提供する、
ガスタービンシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月29日(2014.10.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転機械（１００）の第１の部品（１１０）と第２の部品（１２０）の間で使用するシール組立体（１３０）であって、当該シール組立体（１３０）が、
軸方向に雌形部材（２８５）を形成する第１の傾斜表面（２８０）を備えた第１の端部（２３０）を有する第１のシールセグメント（２５０）と、
軸方向に前記雌形部材（２８５）と嵌合するように構成された雄形部材（２９５）を形成する第２の傾斜表面（２９０）を備えた第２の端部（２４０）を有する第２のシールセグメント（２６０）と、
前記第１のシールセグメント（２５０）および前記第２のシールセグメント（２６０）から延在する複数のシール歯（１７０）と、
前記複数のシール歯の周りを、前記第１のシールセグメント（２５０）および前記第２のシールセグメント（２６０）から延在するブラシシール（３９０）と、
を備え、
前記第１のシールセグメント（２５０）の前記雌形部材（２８５）と、前記第２のシールセグメント（２６０）の前記雄形部材（２９５）とが連帯して、前記複数のシール歯のうちの少なくとも１つを形成し、
第１のシールセグメント（２５０）の第１の端部（２３０）の第１の傾斜表面（２８０）が、半径方向シールポイント（３００）から軸方向シールポイント（３１０）まで軸方向に延在する継手（２７０）において、第２のシールセグメント（２６０）の第２の端部（２４０）の第２の傾斜表面（２９０）と接触する、
シール組立体（１３０）。
【請求項２】
第１のシールセグメント（２５０）が、第１のセグメント第２の傾斜表面（２９０）を備えた第１のセグメント第２の端部（２４０）を含む、請求項１に記載のシール組立体（１３０）。
【請求項３】
第２のシールセグメント（２６０）が、第２のセグメント第１の傾斜表面（２８０）を備えた第２のセグメント第１の端部（２３０）を含む、請求項１に記載のシール組立体（１３０）。
【請求項４】
複数のシールセグメント（１５０）をさらに含む、請求項１に記載のシール組立体（１３０）。
【請求項５】
前記複数のシールセグメント（１５０）が、一対の位置決めフランジ（１８０）及びネック部（１９０）を含む、請求項４に記載のシール組立体（１３０）。
【請求項６】
第１の傾斜表面（２８０）及び第２の傾斜表面（２９０）が、第１のシールセグメント（２５０）及び第２のシールセグメント（２６０）間で分割された歯（１７０）に沿って延在する、請求項１に記載のシール組立体（１３０）。
【請求項７】
前記継手（２７０）が、第１のシールセグメント（２５０）及び第２のシールセグメント（２６０）の高圧側（３５）から低圧側（４０）に延在する、請求項１に記載のシール組立体（１３０）。
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月3日(2014.9.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】有機発光素子
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の有機発光素子は、陽極と陰極と、
前記陽極と前記陰極との間に配置される有機化合物層と、を有し、
前記有機化合物層が、下記一般式［１］で示されるチオキサントン化合物を有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
陽極と陰極と、
前記陽極と前記陰極との間に配置される有機化合物層と、を有し、
前記有機化合物層が、下記一般式［１］で示されるチオキサントン化合物を有することを特徴とする、有機発光素子。
【化１】
2012102024.tif 000001
（式［１］において、Ｒ1乃至Ｒ8は、それぞれ水素原子、炭素数１乃至４のアルキル基又はフェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、フェナンスレン基、フルオレニル基、トリフェニレニル基、ジベンゾフラニル基及びジベンゾチオフェニル基のいずれかから選択されるアリール基を表す。ただし、Ｒ1乃至Ｒ8のうち少なくともひとつが前記アリール基である。
尚、前記アルキル基及び前記アリール基は、さらにアルキル基、芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基を有してもよい。）
【請求項２】
前記一般式［１］で示されるチオキサントン化合物において、
前記Ｒ1、Ｒ4、Ｒ5及びＲ8が水素原子であることを特徴とする、請求項１に記載の有機発光素子。
【請求項３】
前記有機化合物層が発光層を有し、
前記発光層が、前記チオキサントン化合物を有することを特徴とする、請求項１又は２に記載の有機発光素子。
【請求項４】
前記有機化合物層が、発光層と、前記発光層と前記陰極との間に配置されるホールブロッキング層と、を有し、
前記ホールブロッキング層が、前記チオキサントン化合物を有することを特徴とする、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の有機発光素子。
【請求項５】
前記発光層が、ホストと、ゲストとからなり、
前記ホストが前記チオキサントン化合物であることを特徴とする、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の有機発光素子。
【請求項６】
前記ゲストが燐光発光材料であることを特徴とする、請求項５に記載の有機発光素子。
【請求項７】
前記燐光発光材料がイリジウム錯体であることを特徴とする、請求項６に記載の有機発光素子。
【請求項８】
複数の画素を有し、
前記画素が、請求項１乃至７のいずれか一項に記載の有機発光素子と、前記有機発光素子に接続するスイッチング素子と、を有することを特徴とする表示装置。
【請求項９】
画像を表示するための表示部と、画像情報を入力するための入力部とを有し、
前記表示部が複数の画素を有し、
前記画素が、請求項１乃至７のいずれか一項に記載の有機発光素子と、前記有機発光素子に接続するスイッチング素子と、を有することを特徴とする画像入力装置。
【請求項１０】
請求項１乃至７のいずれか一項に記載の有機発光素子を有することを特徴とする、照明装置。
【請求項１１】
露光光源を有する電子写真方式の画像形成装置であって、
前記露光光源が、請求項１乃至７のいずれか一項に記載の有機発光素子を有することを特徴とする、画像形成装置。
【請求項１２】
電子写真方式の画像形成装置に設けられる露光光源であって、
前記露光光源が、請求項１乃至７のいずれか一項に記載の有機発光素子を有することを特徴とする、露光光源。
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月19日(2014.5.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ホスホジエステラーゼ５阻害剤と鎮静作用を有する生薬とを含有する医薬組成物。
【請求項２】
陰茎勃起機能不全治療用又は陰茎勃起機能不全改善用である請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項３】
ホスホジエステラーゼ５阻害剤投与において得られる陰茎勃起作用を、鎮静作用を有する生薬を含有させることによって、増強させるための請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項４】
ホスホジエステラーゼ５阻害剤投与において得られる陰茎勃起持続時間を、鎮静作用を有する生薬を含有させることによって、持続延長させるための請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項５】
ホスホジエステラーゼ５阻害剤が、シルデナフィル、バルデナフィル、タダラフィル、ウデナフィル及びそれらの薬理上許容される塩からなる群から選択される１種以上である、請求項１−４から選択されるいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項６】
ホスホジエステラーゼ５阻害剤が、シルデナフィルクエン酸塩、バルデナフィル塩酸塩水和物、タダラフィル又はウデナフィルである、請求項１−４から選択されるいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項７】
ホスホジエステラーゼ５阻害剤が、シルデナフィルクエン酸塩である、請求項１−４から選択されるいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項８】
鎮静作用を有する生薬が、カノコソウ、チョウトウコウ、トケイソウ及びホップからなる群から選択される１種以上である、請求項１−７から選択されるいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項９】
ホスホジエステラーゼ５阻害剤と、鎮静作用を有する生薬とを同一の医薬組成物中に含有する、請求項１−８から選択されるいずれか１項に記載の医薬組成物の製造方法。
【請求項１０】
陰茎勃起機能不全治療用又は陰茎勃起機能不全改善用医薬組成物を製造するための、請求項１−８から選択されるいずれか１項に記載の医薬組成物の使用。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年5月16日(2014.5.16)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００１】
本出願は、参照により全体が本明細書に組み込まれる、２００２年１０月１７日に出願された米国特許仮出願第６０／４１９，３９０号の優先権の恩恵を主張する。本出願は、参照により全体が本明細書に組み込まれる、「限定された二酸化炭素の精製方法」という名称の、２００２年１０月１７日出願の米国特許出願第１０／２７３，８１０に関連する。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００３】
ＣＯ２は本質的に湿っているので、ＣＯ２を高水準に精製することは困難である。≧９９．９９９％の純度（汚染物≦百万分の１０部、ｐｐｍ；超高純度）を有する気体を容易に得ることができる。しかし、現在のアメリカ半導体工業会（Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ  Ｉｎｄｕｓｔｒｙ  Ａｓｏｃｉａｔｉｏｎ）のガイドラインを満足するためには、≦１０億分の５部（ｐｐｂ）の汚染物になるまで、気体をさらに精製する必要がある。汚染物が≦１ｐｐｂ、好ましくは≦０．１ｐｐｂであることという将来の要求が生じるであろう。半導体工業が関心を持つ汚染物には、湿気、炭化水素、粒子および金属が含まれる。その他の汚染物には、Ｏ２、ＮＯｘ、ＳＯｘ、ＣＯＳ、およびＰＯｘ、ただしｘ≦３、などの、酸素、窒素、硫黄、およびリン含有化合物、ならびに対応する有機ヘテロ原子誘導体が含まれており、ヘテロ原子には、これに限らないが、酸素、窒素、硫黄、リン酸塩、およびケイ素が含まれる。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
二酸化炭素（ＣＯ２）の流れを、異なる酸化状態の同じまたは異なる金属である少なくとも１種の再生可能な金属酸化物吸着剤からなる混合物に接触させて、一段階で前記流れの汚染物含有量を減少させることを含む、ＣＯ２の流れから汚染物を除去して半導体工業で使用するのに十分な純度の二酸化炭素を生成する方法であって、ここで前記金属酸化物吸着剤が、銅（Ｃｕ）および酸化亜鉛（ＺｎＯ）；またはニッケル（Ｎｉ）および酸化ニッケル（ＮｉＯ）であり、汚染物が被酸化性汚染物および被還元性汚染物であり、汚染物含有量を、１０億分の１００部（１００ｐｐｂ）以下に減少する、前記方法。
【請求項２】
汚染物含有量を、１０ｐｐｂ以下に減少する請求項１に記載の方法。
【請求項３】
汚染物含有量を、１ｐｐｂ以下に減少する請求項２に記載の方法。
【請求項４】
半導体工業で使用するのに十分な純度の二酸化炭素（ＣＯ２）精製用の、少なくとも１種の再生可能な金属酸化物吸着剤からなる混合物の活性化および再生のための方法であって、
異なる酸化状態の同じまたは異なる金属である少なくとも１種の再生可能な金属酸化物吸着剤からなり、二酸化炭素の精製に使用された混合物であって、前記金属酸化物吸着剤が、銅（Ｃｕ）および酸化亜鉛（ＺｎＯ）；ならびにニッケル（Ｎｉ）および酸化ニッケル（ＮｉＯ）からなる群からの少なくとも１種の金属酸化物吸着剤を含む混合物を第１温度に加熱して、そこに吸着された汚染物を放出すること、
前記吸着剤混合物を酸化剤に曝して前記吸着剤を酸化すること、
前記酸化された吸着剤を第２温度に冷却すること、および
冷却された吸着剤を還元剤に曝して半導体工業で使用するのに十分な純度の二酸化炭素の精製に使用可能な少なくとも１種の再生可能な金属酸化物吸着剤からなる混合物を生成すること
を含み、半導体工業で使用するのに十分な純度の二酸化炭素（ＣＯ２）が１０億分の１００部（１００ｐｐｂ）以下の汚染物含有量を有する、前記方法。
【請求項５】
前記第１温度が、３００℃から５５０℃の間にある請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記第１温度が、４００℃である請求項５に記載の方法。
【請求項７】
酸化剤が酸素（Ｏ２）を含む請求項４ないし６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
前記第２温度が、１００℃から２５０℃の間にある請求項４ないし７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
前記還元剤が、水素（Ｈ２）および不活性ガスの混合物を含む請求項４ないし８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
水素ガスが、前記混合物の１容積％から５容積％を占める請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記不活性ガスが、窒素（Ｎ２）およびアルゴン、ならびにそれらの組み合わせからなる群から選択される請求項９または１０に記載の方法。
【請求項１２】
汚染物が酸素、および硫黄を含む汚染物である請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
二酸化炭素（ＣＯ２）の流れを、異なる酸化状態の同じまたは異なる金属である少なくとも１種の再生可能な金属酸化物吸着剤からなる混合物に接触させて、一段階で前記流れの汚染物含有量を減少させることを含む、ＣＯ２の流れから硫黄含有汚染物を除去して半導体工業で使用するのに十分な純度の二酸化炭素を生成する方法であって、ここで前記金属酸化物吸着剤が、鉄（Ｆｅ）および酸化マンガン（ＭｎＯｘ）；酸化ニッケル（ＮｉＯ）および酸化チタン（ＴｉＯｘ）；酸化パラジウム（ＰｄＯｘ）および酸化セリウム（ＣｅＯｘ）；酸化バナジウム（ＶＯｘ）；またはニッケル（Ｎｉ）および酸化ニッケル（ＮｉＯ）であり、汚染物が硫黄含有汚染物であり、汚染物含有量を、１０億分の１００部（１００ｐｐｂ）以下に減少する、前記方法。
【請求項１４】
前記ニッケルおよび酸化ニッケルについて、ニッケル金属が、該金属全体を通して変化する酸化状態を有する請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
半導体工業で使用するのに十分な純度の二酸化炭素（ＣＯ２）の連続精製方法であって、
二層精製装置の第１層内での請求項１または請求項１３に記載の方法によるＣＯ２の精製、
同時に行う、前のステップにおけるＣＯ２の精製の間に、請求項４に記載の方法による、前記二層精製装置の第２層における吸着剤の再生、その後、
前記吸着剤の再生の完了後、前記第一層の吸着剤の再生と同時に、前記第二層における請求項１または請求項１３の方法によるＣＯ２の精製、
半導体工業で使用するのに十分な純度の二酸化炭素の連続精製のために前記ステップを繰り返すこと、
を含み、半導体工業で使用するのに十分な純度の二酸化炭素（ＣＯ２）が１０億分の１００部（１００ｐｐｂ）以下の汚染物含有量を有する、前記方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月2日(2014.10.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板の種原子層が成膜された面と、種原子層を有さない第２の基板の一方の面とを対向させ、
シリコンを含むガスを導入し、化学気相成長を行って、前記第２の基板の前記一方の面からウィスカ集合体を成長させる工程を有することを特徴とするウィスカ集合体の製造方法。
【請求項２】
第１の基板の一方の面上に種原子層を成膜し、
前記第１の基板の前記一方の面と、第２の基板の一方の面とを対向させ、
シリコンを含むガスを導入し、化学気相成長を行って、前記第２の基板の前記一方の面からウィスカ集合体を成長させることを特徴とするウィスカ集合体の製造方法。
【請求項３】
請求項１又は２において、
前記第１の基板と、前記第２の基板との間の距離は、１．０ｃｍ乃至３．０ｃｍであることを特徴とするウィスカ集合体の製造方法。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一において、
前記種原子層の膜厚は、１０ｎｍ乃至１０００ｎｍであることを特徴とするウィスカ集合体の製造方法。
【請求項５】
第１の基板の第１の種原子層が成膜された面と、種原子層を有さない第２の基板の一方の面とを対向させ、かつ第３の基板の第２の種原子層が成膜された面と、前記第２の基板の他方の面とを対向させ、
シリコンを含むガスを導入し、化学気相成長を行って、前記第２の基板の前記一方の面及び前記第２の基板の前記他方の面からウィスカ集合体を成長させることを特徴とするウィスカ集合体の製造方法。
【請求項６】
第１の基板の一方の面上に第１の種原子層を成膜し、
第３の基板の一方の面上に第２の種原子層を成膜し、
前記第１の基板の前記一方の面と、種原子層を有さない第２の基板の一方の面とを対向させ、かつ前記第３の基板の前記一方の面と、前記第２の基板の他方の面とを対向させ、
シリコンを含むガスを導入し、化学気相成長を行って、前記第２の基板の前記一方の面及び前記第２の基板の前記他方の面からウィスカ集合体を成長させることを特徴とするウィスカ集合体の製造方法。
【請求項７】
請求項５又は６において、
前記第１の基板と前記第２の基板との間の距離、及び前記第３の基板と前記第２の基板との間の距離は、それぞれ、１．０ｃｍ乃至３．０ｃｍであることを特徴とするウィスカ集合体の製造方法。
【請求項８】
請求項５乃至７のいずれか一において、
前記第１の種原子層及び前記第２の種原子層の各々の膜厚は、１０ｎｍ乃至１０００ｎｍであることを特徴とするウィスカ集合体の製造方法。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか一において、
前記ウィスカ集合体を成長させる工程は、減圧化学気相成長装置を用いて行うことを特徴とするウィスカ集合体の製造方法。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか一において、
前記ウィスカ集合体を成長させる工程は、６００℃乃至７００℃の温度、２０Ｐａ乃至２００Ｐａの圧力、３００ｓｃｃｍ乃至３０００ｓｃｃｍのＳｉＨ４ガス流量、及び０ｓｃｃｍ乃至１０００ｓｃｃｍのＮ２ガス流量下で行われることを特徴とするウィスカ集合体の製造方法。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれか一において、
前記ウィスカ集合体に含まれるウィスカ単体は、その幅が５０ｎｍ乃至３００ｎｍで、その直径が１００ｎｍ乃至４００ｎｍで、その長さが７００ｎｍ乃至８００ｎｍであることを特徴とするウィスカ集合体の製造方法。
【請求項１２】
請求項１乃至１１のいずれか一において、
前記第１の基板及び前記第２の基板の各々は、アルミノシリケートガラス基板、バリウムホウケイ酸ガラス基板、アルミノホウケイ酸ガラス基板、サファイア基板、又は石英基板であることを特徴とするウィスカ集合体の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月30日(2014.4.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
チタンと金属元素とを含んでなるチタン水溶液であって、
チタンイオンに対する配位数が６であり、下記一般式（１）で表され、二座配位子として機能する第１の配位子と、
Ｚ１ −ＣＯ−ＣＨ２−ＣＯ−Ｚ２           （１）
（式中、Ｚ１およびＺ２は、独立して、アルキル基またはアルコキシ基である。）
カルボキシラートである第２の配位子と、アルコキシドおよび水酸化物イオンからなる群から、独立してそれぞれ選択される第３の配位子および第４の配位子と、Ｈ２Ｏである第５の配位子と、がチタンイオンに配位してなるチタン錯体と、
ペロブスカイト型チタン酸化物におけるＡサイトを占め得る金属のイオンと、
溶媒としての水と、
を少なくとも含んでなることを特徴とする、チタン水溶液。
【請求項２】
前記ペロブスカイト型チタン酸化物におけるＡサイトを占めうる金属のイオンが、Ｃａ、Ｓｒ、ＢａおよびＰｂからなる群から選択される金属元素のイオンである、請求項１に記載のチタン水溶液。
【請求項３】
ペロブスカイト型チタン酸化物被膜を製造するため用いられる、請求項１または２に記載のチタン水溶液。
【請求項４】
前記Ｚ１およびＺ２が、Ｃ１−６アルキル基またはＣ１−６アルコキシ基である、請求項１〜３のいずれか一項に記載のチタン水溶液。
【請求項５】
前記第２の配位子であるカルボキシラートが、式Ｒ１−ＣＯＯ−（式中、Ｒ１はＣ１−４ アルキル基である）で表わされる基であるか、または炭素数１〜６のヒドロキシ酸またはジカルボン酸の共役塩基である、請求項１〜４のいずれか一項に記載のチタン水溶液。
【請求項６】
前記第３または第４の配位子であるアルコキシドが、式Ｒ２−Ｏ−（式中、Ｒ２はＣ１−６アルキル基である）で表わされる基である、請求項１〜５のいずれか一項に記載のチタン水溶液。
【請求項７】
前記第１の配位子が、アセチルアセトナトまたはアセト酢酸エチルである、請求項１〜６のいずれか一項に記載のチタン水溶液。
【請求項８】
前記第２の配位子が、酢酸、プロピオン酸、酪酸、乳酸、酒石酸、シュウ酸、およびクエン酸から選ばれるカルボン酸の共役塩基である、請求項１〜７のいずれか一項に記載のチタン水溶液。
【請求項９】
前記第２の配位子が、酢酸の共役塩基である酢酸イオンである、請求項１〜８のいずれか一項に記載のチタン水溶液。
【請求項１０】
前記第３の配位子および第４の配位子が、イソプロポキシ基である、請求項１〜９のいずれか一項に記載のチタン水溶液。
【請求項１１】
溶媒としてさらに、水よりも比誘電率が低く、水と相溶性があり、かつ非アルカリ性の第二溶媒を含んでなる、請求項１〜１０のいずれか一項に記載のチタン水溶液。
【請求項１２】
前記第二溶媒が、一価アルコール、グリコール系溶媒、エチレングリコール系溶媒、グリセリン系溶媒、セロソルブ系溶媒、およびカルビトール系溶媒からなる群から選択される少なくとも一種である、請求項１１に記載のチタン水溶液。
【請求項１３】
前記第二溶媒が、メタノール、エタノール、プロパノール、およびブタノールからなる群から選択されるものである、請求項１２に記載のチタン水溶液。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか一項に記載のチタン水溶液の製造方法であって、
チタン前駆体と、一般式（１）で表される化合物とを混合し、チタン‐アセチルアセトン錯体を得て、この溶液とカルボン酸イオンを含む水溶液とを混合し、さらに、得られた溶液とアルカリ土類金属イオンを含む水溶液とを混合した後に、場合によって水よりも比誘電率が低く、水と相溶性があり、かつ非アルカリ性の第二溶媒を混合することを少なくとも含んでなることを特徴とする、製造方法。
【請求項１５】
前記チタン錯体が、チタンアルコキシドまたは四塩化チタンである、請求項１４に記載の製造方法。
【請求項１６】
チタン及びアルカリ土類金属を含むペロブスカイト型酸化物被膜の製造方法であって、
基材上に、請求項１〜１３に記載のチタン水溶液を塗布し、
該基材を焼成して被膜を形成させる工程を含んでなる、製造方法。
【請求項１７】
前記基材が、アモルファスガラス層を少なくともその表面に有するものであり、該アモルファスガラス層にチタン水溶液が塗布され、該層上にペロブスカイト型チタン酸化物が形成される、請求項１６に記載の製造方法。
【請求項１８】
請求項１７に記載の製造方法によって得ることができる、ガラス基材上にペロブスカイト型チタン酸化物からなる被膜が直接形成されている部材であって、
前記ガラス基材は少なくとも被膜が形成される表面近傍にアルカリイオンを含有してなるものであり、
前記ペロブスカイト型チタン酸化物からなる被膜が、ペロブスカイト型酸化物の一次粒子径が５０ｎｍ以下であり、かつ緻密な被膜であることを特徴とする、部材
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月4日(2014.11.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材（１１０）を含む構成部品（１００）をコーティングする方法であって、
１つまたは複数の溝（１３２）が形成され、かつ前記基材の表面に沿って少なくとも部分的に延在し、前記方法が、
前記基材（１１０）の前記表面（１１２）の少なくとも一部分の上にコーティング（１５０）を堆積させるステップを含み、
前記溝のそれぞれは、前記基材の外側表面に画成された開口を有し、
前記コーティングは、１つ以上の層を有し、
前記層のうちの少なくとも１つは、不均一なマイクロ構造を有し、かつ１つ以上の透過性のスロットを備え、
前記構造上のコーティングが前記１つまたは複数の溝のそれぞれを完全には架橋せず、角度αを含む１つ以上の角度に体積され、
前記角度αが、前記基材の表面法線に対して約１０〜約８５度の範囲であり、
前記コーティング（１５０）を堆積させるステップによって、前記基材の外側表面の各溝の前記開口が実質的に密閉され、
前記１つまたは複数の溝（１３２）と前記構造上のコーティングとがともに前記基材内に前記構成部品を冷却するための１つ以上のチャネルを画成する、
方法。
【請求項２】
前記コーティングは、２つ以上の層を有し、
前記層のうちの第１の層は、前記構造上のコーティングであり、かつ１つ以上の透過性のスロットを備え、
前記第１の層は、前記１つまたは複数の溝のそれぞれを完全には架橋しない、
請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記溝のそれぞれが、前記溝の前記開口で狭くなって、窪み形状を有して、冷却チャンネルのそれぞれが、窪み形状の冷却チャネルを有する、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記構造上のコーティングは、前記１つまたは複数の溝を完全に架橋して、前記構造上のコーティングが、前記１つ以上のチャネルのそれぞれを密閉する、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記透過性のスロットが、１つ以上のチャネルのそれぞれから前記構成部品の外部表面まで冷却材流体を運ぶように構成された、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記構造上のコーティング（１５０）が前記１つまたは複数の溝（１３２）の上に堆積されるときに、前記１つまたは複数の溝（１３２）が充填されない、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記構造上のコーティング（１５０）を堆積させる前に、前記１つまたは複数の溝（１３２）を充填材で満たすステップと、
前記構造上のコーティング（１５０）を堆積させた後に、前記１つまたは複数の溝（１３２）から前記充填材を除去するステップと、
をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
基材（１１０）と、コーティング（１５０）とを備える構成部品（１００）であって、
前記基材（１１０）が、外側表面（１１２）および内側表面（１１６）を含み、前記内側表面（１１６）が少なくとも１つの中空の内部空間（１１４）を画定し、前記外側表面（１１２）が１つまたは複数の溝（１３２）を画定し、前記１つまたは複数の溝（１３２）の各々が前記基材（１１０）の前記表面（１１２）に少なくとも部分的に沿って延在し、また、底面（１３４）を有し、１つまたは複数のアクセス孔（１４０）が、前記溝（１３２）を前記少なくとも１つの中空の内部空間（１１４）のそれぞれの１つに流体連通させるために、それぞれ１つの前記１つまたは複数の溝（１３２）の前記底面（１３４）を通って延在し、
前記コーティング（１５０）が、前記基材（１１０）の前記表面（１１２）の少なくとも一部分の上に堆積され、前記コーティング（１５０）が１つまたは複数の層（５０）を有し、前記層（５０）のうちの少なくとも１つが１つまたは複数の透過性のスロット（１４４）を画定し、それにより前記それぞれの層（５０）が前記１つまたは複数の溝（１３２）の各々を完全には架橋せず、前記溝（１３２）および前記コーティング（１５０）が一体に、構成部品（１００）を冷却するための１つまたは複数のチャネル（１３０）を画定する、構成部品（１００）。
【請求項９】
前記透過性のスロット（１４４）の各々が前記基材（１１０）の表面法線（５２）に対して角度γで傾斜しており、前記角度γが前記基材（１１０）の前記表面法線（５２）に対して約２５度〜７０度の範囲内にある、請求項８に記載の構成部品（１００）。
【請求項１０】
前記透過性のスロット（１４４）が前記基材（１１０）に対してほぼ垂直に方向付けられる、請求項８に記載の構成部品（１００）。
【請求項１１】
前記コーティング（１５０）が２つ以上の層（５０）を有し、前記層のうちの後で堆積される層（５６）が、先に堆積された層（５４）内に形成された前記透過性のスロット（１４４）を完全には架橋せず、したがって、前記透過性のスロット（１４４）が前記後で堆積される層（５６）を通って延在する、請求項８に記載の構成部品（１００）。
【請求項１２】
前記コーティング（１５０）が２つ以上の層（５０）を有し、前記層のうちの後で堆積される層（５６）が、先に堆積された層（５４）内に形成された前記透過性のスロット（１４４）を架橋し、それにより前記透過性のスロット（１４４）を実質的に密閉する、請求項８に記載の構成部品（１００）。
【請求項１３】
前記透過性のスロット（１４４）が、前記１つまたは複数のそれぞれのチャネル（１３０）から前記構成部品の外部表面まで冷却剤流体を運ぶように構成され、前記コーティング（１５０）には、構造上のコーティング、ボンドコーティング、耐酸化性のコーティング、および、遮熱コーティングのうちの少なくとも１つが含まれ、前記１つまたは複数の溝（１３２）の各々が頂部（１３６）を有し、前記底面（１３４）が前記頂部（１３６）より広く、したがって、前記１つまたは複数の溝（１３２）の各々が窪み形状の溝（１３２）を有する、請求項８に記載の構成部品（１００）。