【手続補正書】
【提出日】平成26年8月12日(2014.8.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上の第１領域に設けられた、転写有機層を含む第１発光素子と、
前記基板上の前記第１領域に隣り合う第２領域に設けられた、転写有機層を含まない第２発光素子と、
前記第１領域と第２領域との間に設けられると共に、前記転写有機層の前記第１領域への形成時に前記転写有機層の前記第２領域への転写を阻止できる大きさを有する段差と
を備えた表示装置。
【請求項２】
前記基板と前記第１発光素子および第２発光素子との間に平坦化絶縁膜を有し、前記平坦化絶縁膜の前記第１領域の厚みｄ１と前記第２領域の厚みｄ２との差（ｄ１＞ｄ２）により前記段差が形成されている
請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記基板と前記第１発光素子との間に第１カラーフィルタ、前記基板と第２発光素子との間に第２カラーフィルタをそれぞれ有し、
前記第１カラーフィルタの厚みｔ１と前記第２カラーフィルタの厚みｔ２との差（ｔ１＞ｔ２）により前記段差が形成されている
請求項１に記載の表示装置。
【請求項４】
前記基板と前記第１発光素子との間に第１カラーフィルタを有し、
前記第１カラーフィルタの厚みｔ１により前記段差が形成されている
請求項１に記載の表示装置。
【請求項５】
前記基板上には、前記第１発光素子および第２発光素子の発光領域に開口を有する開口絶縁膜が設けられ、
前記開口絶縁膜は、前記第２発光素子の開口の周縁に前記段差を形成するリブを有する
請求項１乃至４に記載の表示装置。
【請求項６】
前記第２発光素子の電極の表面は、絶縁材により２以上に分断されている
請求項１乃至５に記載の表示装置。
【請求項７】
前記転写有機層は、第１発光層であり、
前記第２発光素子には、前記第１発光素子に共通の第２発光層が設けられている
請求項１乃至６に記載の表示装置。
【請求項８】
前記第１発光層は黄色発光層であり、
前記第２発光層は青色発光層である
請求項７に記載の表示装置。
【請求項９】
前記第１発光素子は共通の前記転写有機層を含む２以上の素子により構成され、各素子に対向して異なる色のカラーフィルタを有する
請求項８に記載の表示装置。
【請求項１０】
前記第１発光素子では、その発光色が前記カラーフィルタにより３分割されて黄色，赤色および緑色を発光し、
前記第２発光素子では、青色を発光する
請求項９に記載の表示装置。
【請求項１１】
基板上の第１領域と第２領域との間に、ブランケットの前記第１領域への接触を許容し、前記第２領域への接触を阻止できる大きさの段差を設ける工程と、
前記段差を利用して、前記ブランケット側の有機膜を前記第１領域に転写する一方、前記第２領域へは転写しない工程と
を含む表示装置の製造方法。
【請求項１２】
前記ブランケット側の有機膜を前記第１領域に転写した後、前記ブランケットに残存した有機膜をクリーニングする工程を含む
請求項１１に記載の表示装置の製造方法。
【請求項１３】
表示装置を備え、
前記表示装置は、
基板上の第１領域に設けられた、転写有機層を含む第１発光素子と、
前記基板上の前記第１領域に隣り合う第２領域に設けられた、転写有機層を含まない第２発光素子と、
前記第１領域と第２領域との間に設けられると共に、前記転写有機層の前記第１領域への形成時に前記転写有機層の前記第２領域への転写を阻止できる大きさを有する段差とを備えた
電子機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
【図１】本開示の第１の実施の形態に係る表示装置の構成を表す図である。
【図２】図１に示した画素駆動回路の一例を表す図である。
【図３】図１に示した表示領域の構成を表す平面図である。
【図４】図３に示したＩＶ−ＩＶ線の断面図である。
【図５】図１に示した表示装置の製造方法の流れを表す図である。
【図６】図４に示した平坦化絶縁膜の形成方法を表す断面図である。
【図７】比較例に係る発光層形成工程の流れを表す図である。
【図８】図７に示した工程を順に表す断面図である。
【図９】図８に示した転写工程の一部の拡大図である。
【図１０】図５に示した黄色発光層形成工程の詳細な流れを表す図である。
【図１１】図１０に示した工程を表す断面図である。
【図１２】図１１に示した転写工程の一部の拡大図である。
【図１３】図１１に続く工程を表す断面図である。
【図１４】図１３の変形例を表す断面図である。
【図１５】図１４に示した前処理用ロールについて説明するための図である。
【図１６】図１４の変形例を表す断面図である。
【図１７】本開示の変形例１に係る表示装置の構成を表す平面図である。
【図１８】図１７に示したＸＶＩＩＩ−ＸＶＩＩＩ線の断面図である。
【図１９】本開示の変形例２に係る表示装置の構成を表す断面図である。
【図２０】図１９に示した表示装置の変形例を表す断面図である。
【図２１】図１９に示した表示装置の他の変形例を表す断面図である。
【図２２】本開示の第２の実施の形態に係る表示装置の構成を表す平面図である。
【図２３】図２２に示したＸＸＩＩＩ−ＸＸＩＩＩ線の断面図である。
【図２４】図２３に示した開口絶縁膜の形成方法を表す断面図である。
【図２５】図２４に続く工程を表す断面図である。
【図２６】本開示の変形例３に係る表示装置の構成を表す断面図である。
【図２７】本開示の変形例４に係る表示装置の開口絶縁膜の構成を表す平面図である。
【図２８】図２７に示したＸＸＶＩＩＩ−ＸＸＶＩＩＩ線の断面図である。
【図２９】上記実施の形態の表示装置を含むモジュールの概略構成を表す平面図である。
【図３０】上記実施の形態の表示装置の適用例１の外観を表す斜視図である。
【図３１】（Ａ）は適用例２の表側から見た外観を表す斜視図であり、（Ｂ）は裏側からみた外観を表す斜視図である。
【図３２】適用例３の外観を表す斜視図である。
【図３３】適用例４の外観を表す斜視図である。
【図３４】（Ａ）は適用例５の開いた状態の正面図、（Ｂ）はその側面図、（Ｃ）は閉じた状態の正面図、（Ｄ）は左側面図、（Ｅ）は右側面図、（Ｆ）は上面図、（Ｇ）は下面図である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
＜第１の実施の形態＞
［表示装置１の構成］
図１は、本開示の第１の実施の形態に係る表示装置（表示装置１）の構成を表すものである。この表示装置１は、有機ＥＬ（Electroluminescence ）表示装置であり、例えば、基板１１の上に、表示領域１１０として、複数の赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇおよび青色有機ＥＬ素子１０Ｂがマトリクス状に配置されている。この赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇおよび青色有機ＥＬ素子１０Ｂにより、一の画素１０が構成されている。ここで、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒおよび緑色有機ＥＬ素子１０Ｇが、本技術における「第１発光素子」の一具体例、青色有機ＥＬ素子１０Ｂが、本技術における「第２発光素子」の一具体例にそれぞれ対応する。表示領域１１０の周辺には、映像表示用のドライバとして信号線駆動回路１２０および走査線駆動回路１３０が設けられている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
本実施の形態では、この平坦化絶縁膜１４の赤色有機ＥＬ素子１０Ｒおよび緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ側（後述の第１領域Ｒ１）の厚みｄ１と青色有機ＥＬ素子１０Ｂ側（後述の第２領域Ｒ２）の厚みｄ２とが異なり、これらの厚みの差により段差１４Ｓが形成されている（ｄ１＞ｄ２）。詳細は後述するが、この段差１４Ｓは、黄色発光層１７３Ｙを形成する際に、ブランケット（図１１ ブランケット４１）の青色有機ＥＬ素子１０Ｂの領域への接触を阻止できる大きさを有し、これにより、ブランケットから赤色有機ＥＬ素子１０Ｒおよび緑色有機ＥＬ素子１０Ｇのみに黄色発光膜（図１０ 黄色発光膜１７３'）が転写されるようになっている。この段差１４Ｓの大きさ（ｄ１−ｄ２）は、接触を防止するため第２領域Ｒ２の幅ＷR2の１／１００以上であることが望ましく、５００ｎｍ以上であることがより好ましい。例えば画素１０の幅Ｗ10および長さＤ10（画素１０のピッチ）が３６０μｍであるとき、赤、緑および青のサブ画素の幅はそれぞれ１２０μｍであり、第２領域Ｒ２の幅ＷR2も１２０μｍとなる。このとき、段差１４Ｓの大きさ（ｄ１−ｄ２）が３μｍであれば十分に、ブランケットの青色有機ＥＬ素子１０Ｂ形成領域への接触を阻止できる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
正孔注入層１７１は、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇおよび青色有機ＥＬ素子１０Ｂに共通して設けられており、正孔注入効率を高めると共に、リークを防止するバッファ層としての機能を有する。この正孔注入層１７１は、例えば、５ｎｍ〜１００ｎｍの厚みで形成されていることが好ましく、８ｎｍ〜５０ｎｍであることがより好ましい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８９】
平坦化絶縁膜１４の厚みｄ１，ｄ２のみにより段差１４Ｓを設けると（図４）、ブランケット４１の青色有機ＥＬ素子１０Ｂへの接触を確実に防ぐためには、段差１４Ｓ（ｄ１−ｄ２）を大きくする必要がある。特に、ロール４２を用いると高圧がかかるため、より、ｄ１とｄ２との差は大きくなり、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの発光部とカラーフィルタ（図示せず）との距離が長くなる。これにより、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇで発光した光が、赤色フィルタ，緑色フィルタではなく、異なるフィルタを透過して混色を生じ、パネル品質が低下する虞がある。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９０】
これに対し、表示装置２Ａでは、平坦化絶縁膜１４の厚みｄ１，ｄ２による段差１４Ｓに加え、リブ２６Ａによる段差を設けるようにしたので、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの発光部と赤色フィルタ，緑色フィルタとの距離を短くして、混色の発生を抑えることができる。開口の幅ＷLが６０μｍ程度のとき、例えば、平坦化絶縁膜１４の厚みｄ１とｄ２との差（段差１４Ｓの大きさ）が３μｍ、リブ２６Ａの高さＨ26Aが２μｍである。