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【手続補正書】
【提出日】平成26年5月12日(2014.5.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ゲストホスト液晶を挟持する一対の基板と、
前記一対の基板の一方に設けられた透光性の電極と、
前記一対の基板の他方に設けられた、第１の凹凸と、前記第１の凹凸上の第２の凹凸とを有する絶縁層と、
前記絶縁層上に設けられ、前記第２の凹凸に沿うように設けられた画素電極層と、を有し、
前記画素電極層は、反射性を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
ゲストホスト液晶を挟持する一対の基板と、
前記一対の基板の一方に設けられた透光性の電極と、
前記一対の基板の他方に設けられた、第１の凹凸と、前記第１の凹凸上の第２の凹凸とを有する絶縁層と、
前記絶縁層上に設けられ、前記第２の凹凸に沿うように設けられた画素電極層と、を有し、
前記画素電極層は、反射性を有し、
前記第２の凹凸は、前記第１の凹凸より小さいことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２において、
前記画素電極と電気的に接続されたトランジスタを有し、
前記トランジスタは酸化物半導体を含むことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
第１の凹凸を有する有機樹脂を形成し、
前記第１の凹凸上に、プラズマ処理を用いて第２の凹凸を形成し、
前記第２の凹凸上に沿うように反射性を有する電極層を形成することを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
【請求項５】
第１の凹凸を有する有機樹脂を形成し、
前記第１の凹凸上に、酸素ガス雰囲気におけるプラズマ処理を用いて第２の凹凸を形成し、
前記第１の凹凸、及び前記第２の凹凸上に沿うように反射性を有する電極層を形成することを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月29日(2014.4.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】表示装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画素を有し、
前記画素は、表示素子と、トランジスタと、を有し、
前記トランジスタのゲートは、第１の配線と電気的に接続され、
前記トランジスタのソース又はドレインの一方は、第２の配線と電気的に接続され、
前記トランジスタのソース又はドレインの他方は、前記表示素子と電気的に接続される表示装置であって、
第１の期間と、第２の期間と、第３の期間と、を有し、
前記第１の期間は、第４の期間と、第５の期間と、を有し、
前記第２の期間は、第６の期間と、第７の期間と、を有し、
前記第４の期間において、前記第１の配線に第１の電位が与えられ、
前記第４の期間において、前記トランジスタはオンであり、
前記第４の期間において、前記第２の配線に第１の信号が入力され、
前記第５の期間において、前記第１の配線に第２の電位が与えられ、
前記第５の期間において、前記トランジスタはオフであり、
前記第６の期間において、前記第１の配線に前記第１の電位が与えられ、
前記第６の期間において、前記トランジスタはオンであり、
前記第６の期間において、前記第２の配線に第２の信号が入力され、
前記第７の期間において、前記第１の配線に前記第２の電位が与えられ、
前記第７の期間において、前記トランジスタはオフであり、
前記第３の期間において、前記第１の配線に第３の電位が与えられ、
前記第３の期間において、前記トランジスタはオフであり、
前記第３の電位と前記第２の信号の電位との電位差の絶対値は、前記第２の電位と前記第２の信号の電位との絶対値よりも小さいことを特徴とする表示装置。
【請求項２】
画素を有し、
前記画素は、表示素子と、トランジスタと、を有し、
前記トランジスタのゲートは、第１の配線と電気的に接続され、
前記トランジスタのソース又はドレインの一方は、第２の配線と電気的に接続され、
前記トランジスタのソース又はドレインの他方は、前記表示素子と電気的に接続される表示装置であって、
第１の期間と、第２の期間と、第３の期間と、を有し、
前記第１の期間は、第４の期間と、第５の期間と、を有し、
前記第２の期間は、第６の期間と、第７の期間と、を有し、
前記第４の期間において、前記第１の配線に第１の電位が与えられ、
前記第４の期間において、前記トランジスタはオンであり、
前記第４の期間において、前記第２の配線に第１の信号が入力され、
前記第５の期間において、前記第１の配線に第２の電位が与えられ、
前記第５の期間において、前記トランジスタはオフであり、
前記第６の期間において、前記第１の配線に前記第１の電位が与えられ、
前記第６の期間において、前記トランジスタはオンであり、
前記第６の期間において、前記第２の配線に第２の信号が入力され、
前記第７の期間において、前記第１の配線に前記第２の電位が与えられ、
前記第７の期間において、前記トランジスタはオフであり、
前記第３の期間において、前記第１の配線に第３の電位が与えられ、
前記第３の期間において、前記トランジスタはオフであり、
前記第３の電位は、前記第２の電位よりも高く、且つ前記第１の電位よりも低いことを特徴とする表示装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２において、
ゲートドライバを有し、
前記ゲートドライバは、レベルシフタを有し、
前記レベルシフタは、第１の電源線と電気的に接続され、
前記レベルシフタは、第２の電源線と電気的に接続され、
前記第１の電源線には、前記第１の電位が与えられ、
前記第２の電源線には、前記第１の期間及び前記第２の期間において、前記第２の電位が与えられ、
前記第２の電源線には、前記第３の期間において、前記第３の電位が与えられることを特徴とする表示装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項において、
前記トランジスタは、酸化物半導体にチャネル形成領域を有することを特徴とする表示装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項において、
前記トランジスタのオフ電流は、８５℃にて１００ｚＡ／μｍ未満であることを特徴とする表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月23日(2014.4.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＡｒＦエキシマレーザー露光光が適用され、透光性基板上にパターンが形成された薄膜を備えた転写用マスクのための薄膜の評価方法であって、
パルスレーザ光を前記薄膜に間欠的に照射することによって薄膜の耐光性を評価する工程を備えることを特徴とする薄膜の評価方法。
【請求項２】
前記薄膜は、遷移金属及びケイ素を含有する材料からなることを特徴とする請求項１記載の薄膜の評価方法。
【請求項３】
前記パルスレーザ光は、前記薄膜が発熱しない程度に間欠的に照射することを特徴とする請求項１又は２記載の薄膜の評価方法。
【請求項４】
前記パルスレーザ光は間欠発振であり、前記薄膜の一定位置に照射することを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の薄膜の評価方法。
【請求項５】
前記間欠発振の休止期間は、１００ｍｓｅｃ〜３０００ｍｓｅｃであることを特徴とする請求項４記載の薄膜の評価方法。
【請求項６】
前記パルスレーザ光は連続発振であり、該パルスレーザ光に対して前記薄膜を相対的に移動させることにより間欠的に照射することを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の薄膜の評価方法。
【請求項７】
前記パルスレーザ光は、湿度を制御した雰囲気下で照射することを特徴とする請求項１から６のいずれかに記載の薄膜の評価方法。
【請求項８】
前記パルスレーザ光は、雰囲気中の化学汚染物質の量を制御した環境下で照射することを特徴とする請求項１から７のいずれかに記載の薄膜の評価方法。
【請求項９】
前記薄膜は、前記遷移金属とケイ素に、酸素及び窒素から選ばれる１以上の元素を含有させた化合物を主成分とする材料からなる光半透過膜であることを特徴とする請求項１から８のいずれかに記載の薄膜の評価方法。
【請求項１０】
前記薄膜は、遮光膜であることを特徴とする請求項１から８のいずれかに記載の薄膜の評価方法。
【請求項１１】
請求項１から１０のいずれかに記載の薄膜の評価方法によって薄膜の耐光性が評価され、薄膜の耐光性が保証されたマスクブランク。
【請求項１２】
請求項１１に記載のマスクブランクを用い、前記薄膜をパターニングして製造されたことを特徴とする転写用マスク。
【請求項１３】
請求項１２記載の転写用マスクを用い、半導体ウェハ上に回路パターンを形成することを特徴する半導体デバイスの製造方法。
【請求項１４】
ＡｒＦエキシマレーザー露光光が適用され、透光性基板上にパターンが形成された薄膜を備えた転写用マスクの製造方法であって、
前記転写用マスクは、前記薄膜からなる評価用パターンを有し、
パルスレーザ光を前記評価用パターンに間欠的に照射することによって薄膜の耐光性を評価することを特徴とする転写用マスクの製造方法。
【請求項１５】
請求項１４記載の転写用マスクの製造方法によって作製された転写用マスクを用い、半導体ウェハ上に回路パターンを形成することを特徴する半導体デバイスの製造方法。
【請求項１６】
ＡｒＦエキシマレーザー露光光が適用される転写用マスクを作製するためのマスクブランクの製造方法であって、
透光性基板上にパターンが形成された薄膜を備えた評価用の薄膜付基板に対して、パルスレーザ光を間欠的に照射することによって前記薄膜の耐光性を評価し、該耐光性の評価基準を満たす条件を予め求めておき、該条件を用いてマスクブランクを作製するマスクブランクの製造方法。
【請求項１７】
前記条件は、組成であることを特徴とする請求項１６記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項１８】
前記条件は、成膜条件であることを特徴とする請求項１６記載のマスクブランクの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年3月7日(2014.3.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高分子分散型液晶材料を含む液晶層を挟持する第１の基板及び第２の基板と、
前記第１の基板と前記液晶層との間の第１の共通電極層と、
前記第２の基板と前記液晶層との間の透光性の第２の共通電極層と、
前記第１の共通電極層と前記第２の共通電極層との間の画素電極層とを有し、
前記第１の共通電極と前記画素電極との電界により前記液晶層が制御され、
前記第２の共通電極と前記画素電極との電界により前記液晶層が制御されることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
高分子分散型液晶材料を含む液晶層を挟持する第１の基板及び第２の基板と、
前記第１の基板と前記液晶層との間の透光性の第１の共通電極層と、
前記第２の基板と前記液晶層との間の透光性の第２の共通電極層と、
前記第１の共通電極層と前記第２の共通電極層との間の画素電極層とを有し、
前記第１の基板と前記第１の共通電極層との間に設けられた着色層とを有し、
前記第１の共通電極と前記画素電極との電界により前記液晶層が制御され、
前記第２の共通電極と前記画素電極との電界により前記液晶層が制御されることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
請求項２において、前記着色層は黒色層であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項において、前記画素電極層は反射性であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項５】
請求項１乃至３のいずれか一項において、前記画素電極層は透光性であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一項において、前記第１の基板と、前記第１の共通電極層との間にトランジスタが設けられ、前記トランジスタは、前記画素電極層と電気的に接続していることを特徴とする液晶表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月28日(2014.5.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
底面及び側壁を有する底部フレームと、
前記底部フレームの前記底面の上に配置され、複数の溝部を有する一体型導光板と、
前記底部フレームの前記底面の上に配置された複数の反射シートと、
モジュールボード及び複数の発光ダイオードを含み前記底部フレームの底面の上に配置された複数の発光モジュールと、を含み、
前記複数の溝部は傾斜した上面と垂直側面を含み、
前記複数の反射シートは、前記複数の溝部の前記傾斜した上面の下に配置され、
前記複数の発光モジュールは、前記複数の溝部の前記傾斜した上面の下に配置され、
前記複数の溝部のそれぞれは、前記底部フレームの前記底面の上に第１方向に延長され、
前記複数の反射シートのそれぞれは、前記底部フレームの前記底面の上に前記第１方向に延長され、
前記複数の発光モジュールのそれぞれは、前記底部フレームの前記底面の上に前記第１方向に延長され、
前記複数の反射シート及び前記複数の発光モジュールは、前記底部フレームの前記底面の上に前記第１方向に交互に延長され、
前記複数の反射シートは、前記複数の発光モジュールの間に配置された表示装置。
【請求項２】
前記複数の発光ダイオードは前記溝部に収容され、前記複数の発光ダイオードから発光される光は、前記溝部の側面に入射する請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記底部フレームの前記底面に形成された複数の基板溝を含み、
前記それぞれのモジュールボードは、前記対応する複数の基板溝にそれぞれ配置された請求項１または２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記反射シートの一部領域は、前記モジュールボードの上に配置された請求項１〜３のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項５】
前記複数の溝部は、前記一体型導光板の底面に形成された請求項１〜４のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項６】
前記複数の溝部のそれぞれは、対応する前記モジュールボードを収容するために垂直方向に形成された階段構造を有する請求項１〜５のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項７】
前記一体型導光板の溝部は、
前記複数の前記発光ダイオードを収容するようにブロック型に形成されている請求項１〜６のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項８】
前記一体型導光板の溝部は、
前記複数の発光ダイオードでそれぞれの発光ダイオードを孤立させて収容するようにドット型に形成されている請求項１〜６のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項９】
前記基板溝は、前記モジュールボードの厚さと同じ高さを有する請求項３に記載の表示装置。
【請求項１０】
前記基板溝は、前記モジュールボードの厚さより低い高さを有する請求項３に記載の表示装置。
【請求項１１】
前記一体型導光板の上に配置される表示パネルを含む請求項１〜１０のいずれか一項に記載の表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月4日(2014.6.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高解像度レンズ（２２）とシャッタデバイス（３０）との間に配置され、前記高解像度レンズ（２２）を通過させずに視野（１２）から発する第１の複数の画像光子を受け取るように配置されたリレーレンズ（２０）を備え、
前記高解像度レンズ（２２）が、前記視野（１２）から第２の複数の画像光子を受け取り、前記第２の複数の画像光子を前記リレーレンズ（２０）を通して送るように位置決めされ、
前記シャッタデバイス（３０）が、
前記高解像度レンズ（２２）を通過せずに前記リレーレンズ（２０）を通過した前記視野（１２）の前記第１の複数の画像光子の第１の部分を受け取り、
それと同時に、前記高解像度レンズ（２２）を通過し、前記リレーレンズ（２０）を通過した前記視野（１２）の前記第２の複数の画像光子の第２の部分を受け取るように位置決めされる、多重解像度レンズシステム（１０）。
【請求項２】
前記視野の選択された部分から前記リレーレンズ（２０）に向けて画像光子を送るように、前記高解像度レンズ（２２）を横方向で位置決めし直し、
前記視野の選択された部分から画像デジタル化入力部（２８）に向けて画像光子を選択的に送るように前記シャッタデバイス（３０）を操作する
ように構成された制御装置（３８）を備える請求項１記載のシステム（１０）。
【請求項３】
前記シャッタデバイス（３０）と前記画像デジタル化入力部（２８）の間に位置決めされ、選択的に送られた画像光子を前記画像デジタル化入力部（２８）に向けて集束させるように構成された集束レンズ（２６）を備える請求項２記載のシステム（１０）。
【請求項４】
前記制御装置（３８）が、前記視野（１２）を変えることなく、前記高解像度レンズ（２２）を横方向で位置決めし直し、前記シャッタデバイス（３０）を操作するように構成されている請求項２または３に記載のシステム（１０）。
【請求項５】
画像光子が通過できるように選択的に前記シャッタデバイス（３０）が稼働されているときに、前記高解像度レンズ（２２）を通って前記リレーレンズ（２０）に向かって進む視野（１２）の一部分からの画像光子を受け取るように位置決めされた集束レンズ（２６）を備える請求項１乃至４のいずれかに記載のシステム（１０）。
【請求項６】
前記高解像度レンズ（２２）が、前記視野（１２）の画像光子を前記リレーレンズ（２０）に向けて選択的に集束するために、前記リレーレンズ（２０）に対して横方向で位置決め可能である請求項１乃至５のいずれかに記載のシステム（１０）。
【請求項７】
前記高解像度レンズ（２２）が、約１０ｍｍ〜１５ｍｍの間の焦点距離を有し、前記リレーレンズ（２０）の焦点距離（３６）が、前記高解像度レンズ（２２）の焦点距離よりも長い、請求項１乃至６のいずれかに記載のシステム（１０）。
【請求項８】
前記シャッタ（３０）の好ましい領域を画像光子が通過できるように、前記シャッタ（３０）を選択的に稼働させることができる請求項１乃至７のいずれかに記載のシステム（１０）。
【請求項９】
前記シャッタ（３０）が、機械的シャッタおよび液晶ディスプレイの１つである請求項８記載のシステム（１０）。
【請求項１０】
前記リレーレンズ（２０）の開口数が、前記高解像度レンズ（２２）の開口数よりも大きい請求項１乃至９のいずれかに記載のシステム（１０）。
【手続補正書】
【提出日】平成26年1月22日(2014.1.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】液晶表示装置の駆動方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画素を有し、
前記画素は、第１のトランジスタと、第２のトランジスタと、液晶素子と、を有し、
前記第１のトランジスタのチャネル形成領域は、多結晶半導体または単結晶半導体を含み、
前記第２のトランジスタのチャネル形成領域は、多結晶半導体または単結晶半導体を含む液晶表示装置の駆動方法であって、
第１の走査線から第ｎの走査線（ｎは、３以上の自然数）に対して順次選択信号を入力することで、第１行目の画素乃至第ｎ行目の画素に対応する前記第１のトランジスタをオン状態とし、前記第１のトランジスタを介して前記液晶素子に画像信号を入力すると同時に、
第（ｎ＋１）の走査線から第２ｎの走査線に対して順次選択信号を入力することで、第（ｎ＋１）行目の画素乃至第２ｎ行目の画素に対応する前記第２のトランジスタをオン状態とし、前記第２のトランジスタを介して前記液晶素子に画像信号を入力する期間において、
第ｋの走査線（ｋは、２以上ｎ未満の自然数）、及び第（ｎ＋ｋ）の走査線に対する選択信号の入力が終了した後に、第１行目の画素乃至第ｋ行目の画素に対応する光源、及び第（ｎ＋１）行目の画素乃至第（ｎ＋ｋ）行目の画素に対応する光源を発光させることを特徴とする液晶表示装置の駆動方法。
【請求項２】
請求項１において、
前記期間において、第１行目の画素乃至第ｋ行目の画素に対応する光源が呈する光の色と、第（ｎ＋１）行目の画素乃至第（ｎ＋ｋ）行目の画素に対応する光源が呈する光の色と、が異なることを特徴とする液晶表示装置の駆動方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年2月19日(2014.2.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮像部の第１の光学系の状態で被写体を撮像することにより得られる第１の画像データと、撮像部の第２の光学系の状態で被写体を撮像することにより得られ、前記第１の画像データとぼけの状態が異なる第２の画像データとに基づき、前記被写体の奥行き方向の位置に応じた距離情報を演算する距離情報生成部を備え、
前記距離情報生成部は、前記光学系の像高によるぼけの変化を補正して前記距離情報を演算する画像処理装置。
【請求項２】
前記距離情報生成部は、前記第１の画像データに対してフィルタによってぼけを付加するぼかし処理を行い、ぼけが付加された第１の画像データと前記第２の画像データとの類似度を判定し、前記類似度が最大となるぼかし処理の回数を検出し、
検出された前記ぼかし処理の回数から前記距離情報を求め、
前記ぼかし処理において、前記光学系の像高によるぼけの変化を補正する請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記ぼかし処理の回数は、ぼかしを付加しない処理を回数０とする請求項２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記第１の光学系の状態および前記第２の光学系の状態は、フォーカス位置が互いに異なる状態である請求項１乃至請求項３のいずれか１に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記第１の光学系の状態および前記第２の光学系の状態は、絞りが互いに異なる状態である請求項１乃至請求項３のいずれか１に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記フィルタが２次元ガウスフィルタであり、前記２次元ガウスフィルタの標準偏差が像高によるぼけの変化を補正するように設定される請求項２乃至請求項５のいずれか１に記載の画像処理装置。
【請求項７】
前記ぼかし処理の回数を物理距離に変換する請求項２乃至請求項６のいずれか１に記載の画像処理装置。
【請求項８】
前記距離情報生成部は、前記像高によるぼけの変化に応じて異なる特性のフィルタを使用して、前記距離情報を演算する請求項１乃至請求項７のいずれか１に記載の画像処理装置。
【請求項９】
前記フィルタは、第１のフィルタと、前記第１のフィルタと特性の異なる第２のフィルタとを含み、
前記距離情報生成部は、
前記ぼかし処理において、前記第１のフィルタと前記第２のフィルタとを選択的に用いてぼけを付加する請求項２乃至請求項８のいずれか１に記載の画像処理装置。
【請求項１０】
撮像部の第１の光学系の状態で被写体を撮像することにより得られる第１の画像データと、撮像部の第２の光学系の状態で被写体を撮像することにより得られ、前記第１の画像データとぼけの状態が異なる第２の画像データとに基づき、前記被写体の奥行き方向の位置に応じた距離情報を演算し、
前記光学系の像高によるぼけの変化を補正して前記距離情報を演算する画像処理装置における画像処理方法。
【請求項１１】
撮像部の第１の光学系の状態で被写体を撮像することにより得られる第１の画像データと、撮像部の第２の光学系の状態で被写体を撮像することにより得られ、前記第１の画像データとぼけの状態が異なる第２の画像データとに基づき、前記被写体の奥行き方向の位置に応じた距離情報を演算し、
前記光学系の像高によるぼけの変化を補正して前記距離情報を演算する画像処理方法をコンピュータ装置に実行させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上述した課題を解決するために、本開示は、例えば、撮像部の第１の光学系の状態で被写体を撮像することにより得られる第１の画像データと、撮像部の第２の光学系の状態で被写体を撮像することにより得られ、第１の画像データとぼけの状態が異なる第２の画像データとに基づき、被写体の奥行き方向の位置に応じた距離情報を演算する距離情報生成部を備え、距離情報生成部は、光学系の像高によるぼけの変化を補正して距離情報を演算する画像処理装置である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本開示は、例えば、撮像部の第１の光学系の状態で被写体を撮像することにより得られる第１の画像データと、撮像部の第２の光学系の状態で被写体を撮像することにより得られ、第１の画像データとぼけの状態が異なる第２の画像データとに基づき、被写体の奥行き方向の位置に応じた距離情報を演算し、光学系の像高によるぼけの変化を補正して距離情報を演算する画像処理装置における画像処理方法である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本開示は、例えば、撮像部の第１の光学系の状態で被写体を撮像することにより得られる第１の画像データと、撮像部の第２の光学系の状態で被写体を撮像することにより得られ、第１の画像データとぼけの状態が異なる第２の画像データとに基づき、被写体の奥行き方向の位置に応じた距離情報を演算し、光学系の像高によるぼけの変化を補正して距離情報を演算する画像処理方法をコンピュータ装置に実行させるためのプログラムである。
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月5日(2014.6.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
注釈付き文書の画像から文書を再構築するためのコンピュータ実装方法であって、
少なくとも２つの注釈付き文書画像より成るセットをコンピュータメモリ内へ受信することであって、前記注釈付き文書画像は各々静止エレメントと注釈付きデータとを備えることと、
注釈付き文書画像のスキューの測度
注釈付き文書画像の鮮明さの測度、及び
注釈付き文書画像のライン品質の測度
の少なくとも１つに基づいて注釈付き文書画像のセットから代表画像を選択することと、
注釈付き文書画像の各々について、前記選択された代表画像に対するアラインメントを実行することと、
前記アラインされた注釈付き文書画像に基づいて、前記アラインされた注釈付き文書画像から導出された少なくとも幾つかの注釈付きデータが曖昧にされる合意文書画像を形成することと、及び
前記合意文書画像を出力することと、
を含む方法。
【請求項２】
注釈付き文書の画像から文書を再構築するためのコンピュータ実装方法であって、
少なくとも２つの注釈付き文書画像より成るセットをコンピュータメモリ内へ受信することであって、前記注釈付き文書画像は各々静止エレメントと注釈付きデータとを備えることと、
注釈付き文書画像の各々について、前記注釈付き文書画像セットにおける少なくとも１つの他の注釈付き文書画像に対するアラインメントを実行することと、
前記アラインされた注釈付き文書画像に基づいて、前記アラインされた注釈付き文書画像から導出された少なくとも幾つかの注釈付きデータが曖昧にされる合意文書画像を形成することと、
前記合意文書画像に基づいて、クリーンな文書を形成することと、
注釈付き文書画像のセットから注釈情報データを、各注釈付き文書画像をクリーンな文
書と比較することによって抽出することと、
前記クリーンな文書内のバウンディングボックス及び前記注釈付き文書画像内の対応するバウンディングボックスを識別することと、
前記注釈付き文書画像の各ボックス内に含まれる、前記クリーンな文書の前記対応する
ボックスには存在していない注釈ピクセルを抽出するために異なる演算を実行することと
及び
各バウンディングボックスについて、サイズ及びロケーション、前記抽出された注釈ピクセル、及び前記注釈付きデータが抽出された前記注釈付き文書画像を識別する識別子を出力することと、
を含む、前記クリーンな文書と各注釈付き文書画像とを比較することによって、前記注釈付き文書画像セットから注釈情報データを抽出することと、
を含む方法。
【請求項３】
注釈付き文書の画像から文書を再構築するためのコンピュータ実装方法であって、
少なくとも２つの注釈付き文書画像より成るセットをコンピュータメモリ内へ受信することであって、前記注釈付き文書画像は各々静止エレメントと注釈付きデータとを備えることと、
前記注釈付き文書画像のセットから代表画像を選択することと、
注釈付き文書画像のセットの各注釈付き文書画像について、前記選択された代表画像に関して、前記注釈付き文書画像内の幾つかのブロックを選択し、代表画像において、前記注釈付き文書画像内のブロックとサイズ及びロケーションが一致する前記代表画像における同数のブロックを識別し、かつ注釈付き文書画像の各ブロック内の少なくとも１点を前記代表画像内の対応するブロック内の少なくとも１点へマップする変換マトリクスを計算することによって、グローバルアラインメントを実行する
前記選択された代表画像と、前記注釈付き文書画像のセットと、に基づいて、前記アラインされた注釈付き文書画像から導出された少なくとも幾つかの注釈付きデータが曖昧にされる合意文書画像を形成することと、
前記合意文書画像を出力することと、
を含む方法。
【請求項４】
注釈付き文書の画像から文書を再構築するためのコンピュータ実装方法であって、
少なくとも２つの注釈付き文書画像より成るセットをコンピュータメモリ内へ受信することであって、前記注釈付き文書画像は各々静止エレメントと注釈付きデータとを備えることと、
前記注釈付き文書画像の各々について、前記注釈付き文書画像セットにおける少なくとも１つの他の注釈付き文書画像に対するアラインメントを実行することと、
前記アラインされた注釈付き文書画像に基づいて、前記アラインされた注釈付き文書画像から導出された少なくとも幾つかの注釈付きデータが曖昧にされる合意文書画像を形成することであって、
前記アラインされた注釈付き文書画像の各々における対応するピクセルの特性を合計することと、かつ前記合計を所定のしきい値と比較することと、を含み、
各々前記合意文書画像内に一意の位置を有する複数の合意ピクセルを決定することを備えた前記合意文書画像を形成することと、
を含む方法。
【請求項５】
注釈付き文書画像からクリーンな文書を再構築するためのコンピュータベースシステムであって、
コンピュータプロセッサと、
コンピュータメモリであって、
代表スキャン選択モジュール、
グローバルアラインメントモジュール、
合意画像形成モジュール、及び
クリーンアップモジュール
を格納するコンピュータメモリと、
を備え、
前記代表スキャン選択モジュールは、
少なくとも２つの註釈付き文書画像のセットを受信し、
前記註釈付き文書画像のセットから代表画像を選択するように動作可能であり、
前記グローバルアラインメントモジュールは、
前記注釈付き文書画像のセットについて、前記選択された代表画像に対して、グローバルアラインメントを実行するように動作可能であり、
前記グローバルアラインメントを実行することは、
前記注釈付き文書画像内で幾つかのブロックを選択すること、
前記注釈付き文書画像内のブロックとサイズ及びロケーションが一致する前記代表画像における同数のブロックを選択すること、及び
注釈付き文書画像の各ブロック内の少なくとも１点を代表画像内の対応するブロック内の少なくとも１点へマップする変換マトリクスを計算することを含み、
前記合意画像形成モジュールは、
少なくとも前記アラインされた注釈付き文書画像に基づいて、合意文書画像を形成するように動作可能であり、かつ、
前記クリーンアップモジュールは、
少なくとも前記合意文書画像に基づいて、クリーンな文書を形成し、かつ、
前記クリーンな文書を出力するように動作可能であり、
前記コンピュータプロセッサは各モジュールを実装する
コンピュータベースシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月2日(2014.6.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
印刷ジョブの選択が環境的に通知されることを促進する方法であって、
プロセッサが、ネットワークプリンタ群のそれぞれに状態を割り当てるステップであって、運用プリンタの該状態は、プリンタを少なくとも活動状態、スリープ状態、および立ち上げ状態のうちの１つであるとして表すステップと、
ワークステーションで印刷ジョブがユーザにより選択されたとき、印刷のための印刷対象の提案より前にユーザに表示するための前記ワークステーションのグラフィック・ユーザ・インターフェースへ前記割り当てられた状態を与え、印刷ジョブを印刷するプリンタの選択用に、前記ネットワークプリンタ群のうちのユーザが選択可能な複数のプリンタの状態をユーザが比較することを可能にするステップと、を含む方法。
【請求項２】
前記状態を割り当てるステップは、限界遅延量を確立するステップと、現在はスリープ状態のプリンタが、前記限界遅延量が満了する前に立ち上げを行うと期待される場合に、前記プリンタに立ち上げ状態を割り当てるステップとを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記限界遅延量は、前記ユーザが先行して受け入れた遅延時間に基づく、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記状態を割り当てるステップは、最大遅延量を確立するステップと、現在はスリープ状態のプリンタが、前記最大遅延量が満了する前に立ち上げを行うと期待されない場合に、前記プリンタにスリープ状態を割り当てるステップとを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
さらに、各プリンタ状態に対応して、該状態を割り当てられたプリンタと関連付けて、前記グラフィック・ユーザ・インターフェース上にグラフィック的に表示可能なアイコンを与えるステップを含む、請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月4日(2014.7.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
タービン静止ノズル翼形部（１０）であって、当該タービン静止ノズル翼形部（１０）が、
弓形凹状の前縁（１２）と、
ほぼ平坦な後縁（１４）と、
前縁（１２）と後縁（１４）の間の本体部分（１６）であって、負圧側面（１８）と正圧側面（２０）とを有する本体部分（１６）と
を含んでおり、前縁（１２）が前縁（１２）の半径方向高さ（ｈ）の３／４〜４／３の弓形半径を有しており、前縁（１２）が中間点（Ｍｌｅ）及び端点（Ｐｌｅ）を有していて、後縁（１４）が中間点（Ｍｔｅ）及び端点（Ｐｔｅ）を有しており、前縁（１２）の中間点（Ｍｌｅ）から本体部分（１６）の負圧側面（１８）に沿って後縁（１４）の中間点（Ｍｔｅ）まで延びる弓形の長さ（Ｌｍ）が、前縁（１２）の端点（Ｐｌｅ）から本体部分（１６）の負圧側面（１８）に沿って後縁（１４）の端点（Ｐｔｅ）まで延びる弓形の長さ（Ｌｓｂ）よりも小さい、タービン静止ノズル翼形部（１０）。
【請求項２】
前記弓形凹状の前縁（１２）及びほぼ平坦な後縁（１４）の対向する側部にそれぞれ当接した一対の側壁（１１４、１１６）をさらに含む、請求項１記載のタービン静止ノズル翼形部（１０）。
【請求項３】
前記前縁（１２）が、作動流体（２２）を本体部分（１６）に沿って後縁（１４）に向けて案内するように構成される、請求項１又は請求項２記載のタービン静止ノズル翼形部（１０）。
【請求項４】
タービン静止ノズルブレード組立体（１００）であって、当該タービン静止ノズルブレード組立体（１００）が、
弓形凹状の前縁（１２）を有する翼形部（１０）と、
前記前縁（１２）の第１の側部と一体の第１の側壁（１１４）と、
前記前縁（１２）の第２の側部と一体の第２の側壁（１１６）と、
前記弓形凹状の前縁（１２）にほぼ対向する後縁（１４）と、
前縁（１２）と後縁（１４）の間の本体部分（１６）であって、負圧側面（１８）と正圧側面（２０）とを有する本体部分（１６）と
を含んでおり、前縁（１２）が前縁（１２）の半径方向高さ（ｈ）の３／４〜４／３の弓形半径を有しており、前縁（１２）が中間点（Ｍｌｅ）及び端点（Ｐｌｅ）を有していて、後縁（１４）が中間点（Ｍｔｅ）及び端点（Ｐｔｅ）を有しており、前縁（１２）の中間点（Ｍｌｅ）から本体部分（１６）の負圧側面（１８）に沿って後縁（１４）の中間点（Ｍｔｅ）まで延びる弓形の長さ（Ｌｍ）が、前縁（１２）の端点（Ｐｌｅ）から本体部分（１６）の負圧側面（１８）に沿って後縁（１４）の端点（Ｐｔｅ）まで延びる弓形の長さ（Ｌｓｂ）よりも小さい、タービン静止ノズルブレード組立体（１００）。
【請求項５】
前記後縁（１４）が、ほぼ平坦である、請求項４記載のタービン静止ノズルブレード組立体（１００）。
【請求項６】
前記前縁（１２）が、作動流体（２２）を本体部分（１６）に沿って後縁（１４）に向けて案内するように構成される、請求項４又は請求項５記載のタービン静止ノズルブレード組立体（１００）。
【請求項７】
タービン組立体を備える装置（２００）であって、前記タービン組立体が、
ケーシング（１３０）と、
前記ケーシングによって少なくとも部分的に囲まれたタービンロータ（１５０）と、
前記タービンロータ（１５０）を少なくとも部分的に囲みかつ前記ケーシング（１３０）によって少なくとも部分的に囲まれたダイアフラム組立体（１６０）と
を備えており、前記ダイアフラム組立体（１６０）が、静止ノズルブレードのアニュラスを含み、前記静止ノズルブレードの各々が、請求項１乃至請求項３のいずれか１項記載のタービン静止ノズル翼形部（１０）を含む、装置（２００）。
【請求項８】
前記タービン組立体が蒸気タービン組立体又はガスタービン組立体である、請求項７記載の装置（２００）。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月18日(2013.12.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被保持部に直交して構成される基盤、該基盤の両側から直角状に延在する支持部及び該基盤の中央部に形成され該支持部と同方向に形成される膨出部から構成され、該膨出部の両側に複数の遮音開口部を配置して成る遮音部を形成することを特徴とする遮音保持部材。
【請求項２】
支持部の開放端が基盤と同方向なＬ型片に曲折されることを特徴とする請求項１に記載の遮音保持部材。
【請求項３】
遮音部を形成した膨出部が複数個併設されることを特徴とする請求項１または２に記載の遮音保持部材。
【請求項４】
遮音部を形成した膨出部が延在する支持部と傾斜状態に対峙する三角形に形成されることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の遮音保持部材。
【請求項５】
膨出部に配置される遮音開口部が四角形状であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の遮音保持部材。
【請求項６】
中央部分に膨出部の先端部と両側面用の面積を配置し、その外側部分に基盤用の半面積と支持部用の面積を配置して構成された鋼板を、膨出部の両側面に複数の開口部を形成するためのプレスに挿入して、鋼板の膨出部の両側面に相当する位置に開口部を打ち抜いて形成し、次いで鋼板の両側から支持部用の面積分だけを直角に折り曲げて両側の支持部を構成し、しかる後に鋼板中央部の膨出部相当部分を暫時所定量だけ押上げて膨出部を押圧形成してから鋼板を切断することで所定長さの遮音保持部材に構成することを特徴とする遮音保持部材の製造方法。
【請求項７】
鋼板の両側に基盤と同方向なＬ型片相当面積を追加して構成された鋼板を、プレスに挿入して鋼板の膨出部の両側面に相当する位置に開口部を打ち抜いて形成し、次いでＬ型片相当面積分を直角に折り曲げてＬ型片を構成し、しかる後に支持部以下の各工程を順次遂行することを特徴とする請求項６に記載の遮音保持部材の製造方法。
【請求項８】
中央部分に膨出部の先端部と両側面用の面積を配置してその外側部分に基盤用の半面積と支持部用の面積を配置して成る鋼板を、その両側から支持部用の面積分だけ直角に折り曲げて両側の支持部を構成し、次いで膨出部の両側面に複数の開口部を形成するためのプレスに挿入して鋼板の膨出部の両側面に相当する位置に開口部を打ち抜いて形成し、しかる後に鋼板中央部の膨出部相当部分を暫時所定量だけ押上げながら膨出部を押圧形成した後に鋼板を切断することで、所定長さの遮音保持部材に構成することを特徴とする遮音保持部材の製造方法。
【請求項９】
鋼板の両側に基盤と同方向なＬ型片相当面積を追加して構成された鋼板を、その両側からＬ型片相当面積分を直角に折り曲げてＬ型片を構成し、しかる後に支持部用の面積分だけ直角に折り曲げて両側の支持部を構成し、次いでプレスに挿入して鋼板の膨出部の両側面に相当する位置に開口部を打ち抜いて形成する等の次工程を順次遂行することを特徴とする請求項８に記載の遮音保持部材の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月2日(2014.7.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸化物基準においてモルパーセントで、
ＳｉＯ２            ６４．０−７２．０
Ａｌ２Ｏ３            ９．０−１６．０
Ｂ２Ｏ３              １．０−５．０
ＭｇＯ＋Ｌａ２Ｏ３    １．０−７．５
ＣａＯ              ２．０−７．５
ＢａＯ              １．０−７．０
を含むと共に、任意成分としてＳｒＯを含み、
ここで、
（１）Σ（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（Ａｌ２Ｏ３）≦１．５０であり、式中、Ａｌ２Ｏ３、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯが、各酸化物成分のモルパーセントを表し、
（２）任意成分であるＳｒＯを含む場合は、モルパーセントにおけるＢａＯ／ＳｒＯ比が２．０以上であり、
（３）ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＢａＯ、ＳｒＯ，Ｌａ２Ｏ３以外のいかなる酸化物の量も２．０モルパーセント以下であり、 
（４）Ａｓ２Ｏ３およびＳｂ２Ｏ３の含有量が各々０．００５モルパーセント以下であり、
（５）７００℃以上のひずみ点を有し、
（６）６００℃で５分間の熱処理に対して３０ｐｐｍ未満の寸法変化を呈する、
アルカリを含まないガラス。
【請求項２】
請求項１記載のガラスを含む液晶ディスプレイ用基板。
【請求項３】
１５０，０００ポアズ以上の液相線粘度を有することを特徴とする請求項１記載のガラス。
【請求項４】
ダウンドロー法によりアルカリを含まないガラスシートを製造する方法であって、
ガラスシートを構成するガラスが請求項１記載の組成を有するようにバッチ材料を選択し、溶融し、そして清澄する各工程を含み、
溶融および清澄したバッチ材料から前記ダウンドロー法により製造された５０枚の連続したガラスシートの集合体の平均ガス含有レベルが、０．１０ガス含有／立方センチメートル未満であり、前記集合体の各シートの体積が、少なくとも５００立方センチメートルである、アルカリを含まないガラスシートを製造する方法。
【請求項５】
前記ダウンドロー法がフュージョンドロー法であることを特徴とする請求項４記載の方法。
【請求項６】
前記ガラスシートを液晶ディスプレイ用基板として使用することをさらに含むことを特徴とする請求項４または５記載の方法。
【請求項７】
前記ガラスシートを構成するガラスが１５０，０００ポアズ以上の液相線粘度を有することを特徴とする請求項４、５または６記載の方法。
【請求項８】
酸化物基準においてモルパーセントで、
ＳｉＯ２            ６４．０−７２．０
Ａｌ２Ｏ３            ９．０−１６．０
Ｂ２Ｏ３              １．０−５．０
ＭｇＯ＋Ｌａ２Ｏ３    １．０−７．５
ＣａＯ              ３．０−６．０
ＳｒＯ              ０．０−４．５
ＢａＯ              １．０−７．０
を含み、
（１）ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＢａＯ、ＳｒＯ，Ｌａ２Ｏ３以外のいかなる酸化物の量も２．０モルパーセント以下であり、
（２）７１０℃以上のひずみ点を有し、
（３）６００℃で５分間の熱処理に対して３０ｐｐｍ未満の寸法変化であり、
（４）ガラスが２００ポアズの粘度を示す温度である溶融温度が１，６６５℃以下である、
アルカリを含まないガラス。
【請求項９】
請求項８記載のガラスを含む液晶ディスプレイ用基板。
【請求項１０】
１５０，０００ポアズ以上の液相線粘度を有することを特徴とする請求項８または９記載のガラス。
【請求項１１】
ダウンドロー法によりアルカリを含まないガラスシートを製造する方法であって、
ガラスシートを構成するガラスが請求項８記載の組成を有するようにバッチ材料を選択し、溶融し、そして清澄する各工程を含み、
（ａ）前記清澄を、大量のヒ素を用いずに実施し、
（ｂ）溶融および清澄したバッチ材料からダウンドロー法により製造された５０枚の連続したガラスシートの集合体の平均ガス含有レベルが、０．１０ガス含有／立方センチメートル未満であり、前記集合体の各シートの体積が、少なくとも５００立方センチメートルである、アルカリを含まないガラスシートを製造する方法。
【請求項１２】
前記ダウンドロー法がフュージョンドロー法であることを特徴とする請求項１１記載の方法。
【請求項１３】
前記ガラスシートを液晶ディスプレイ用基板として使用することをさらに含むことを特徴とする請求項１１または１２記載の方法。
【請求項１４】
前記ガラスシートを構成するガラスが１５０，０００ポアズ以上の液相線粘度を有することを特徴とする請求項１１、１２または１３記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月2日(2014.7.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸化物基準においてモルパーセントで、
ＳｉＯ２ ６４．０−７２．０
Ａｌ２Ｏ３ ９．０−１６．０
Ｂ２Ｏ３ ＞０．０−５．０
ＭｇＯ              ２．０−７．５
ＣａＯ              ２．０−７．５
ＢａＯ              １．０−６．０
を含むと共に、任意成分としてＳｒＯを含み、
（１）１．１５≦Σ（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（Ａｌ２Ｏ３）≦１．５０
という関係を満たし、式中、Ａｌ２Ｏ３、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＢａＯ、ＳｒＯが、各酸化物成分のモルパーセントを表すものであり、
（２）任意成分であるＳｒＯを含む場合は、モルパーセントにおけるＢａＯ／ＳｒＯ比が２．０以上であり、
（３）ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＢａＯ、ＳｒＯ，Ｌａ２Ｏ３以外のいかなる酸化物の量も２．０モルパーセント以下であり、
（４）７００℃以上のひずみ点を有し、
（５）６００℃で５分間の熱処理に対して３０ｐｐｍ未満の寸法変化を呈し、
（６）２８．０ＧＰａ・ｃｍ３／ｇ以上のヤング率／密度比を有する、
アルカリを含まないガラス。
【請求項２】
３０．０ＧＰａ・ｃｍ３／ｇを超えるヤング率／密度比を有することを特徴とする請求項１記載のアルカリを含まないガラス。
【請求項３】
３２．２ＧＰａ・ｃｍ３／ｇを超えるヤング率／密度比を有することを特徴とする請求項１記載のアルカリを含まないガラス。
【請求項４】
Ａｓ２Ｏ３およびＳｂ２Ｏ３の含有量が各々０．００５モルパーセント以下であることを特徴とする請求項１、２または３記載のアルカリを含まないガラス。
【請求項５】
１５０，０００ポアズ以上の液相線粘度を有することを特徴とする請求項１から４いずれか１項記載のアルカリを含まないガラス。
【請求項６】
請求項１から５いずれか１項記載のガラスを含む液晶ディスプレイ用基板。
【請求項７】
ダウンドロー法によりアルカリを含まないガラスシートを製造する方法であって、
ガラスシートを構成するガラスが請求項１記載の組成を有するようにバッチ材料を選択し、溶融し、そして清澄する各工程を含み、
（ａ）前記清澄を、大量のヒ素を用いずに実施し、
（ｂ）溶融および清澄したバッチ材料からダウンドロー法により製造された５０枚の連続したガラスシートの集合体の平均ガス含有レベルが、０．１０ガス含有／立方センチメートル未満であり、前記集合体の各シートの体積が、少なくとも５００立方センチメートルであることを特徴とする方法。
【請求項８】
前記ダウンドロー法がフュージョンドロー法であることを特徴とする請求項７記載の方法。
【請求項９】
前記ガラスシートを構成するガラスが１５０，０００ポアズ以上の液相線粘度を有することを特徴とする請求項７または８記載の方法。
【請求項１０】
前記ガラスシートを液晶ディスプレイ用基板として使用することをさらに含むことを特徴とする請求項７，８または９記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月6日(2014.10.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
微生物を珪藻頁岩に担持させた微生物担持珪藻頁岩を得る第１工程と、
少なくとも上記微生物担持珪藻頁岩と、バイオマスと、水とを含む混合物を攪拌し、上記微生物による上記バイオマスの分解作用を経た液体生成物を得る第２工程と、
を含むことを特徴とする、バイオマスの液体肥料化方法。
【請求項２】
上記第１工程は、珪藻頁岩に微生物含有液体を吸収させた後、当該珪藻頁岩を乾燥させる、請求項１に記載のバイオマスの液体肥料化方法。
【請求項３】
上記第２工程で得られた液体生成物に別途の珪藻頁岩を浸漬させる第３工程を含む、請求項１または２に記載のバイオマスの液体肥料化方法。
【請求項４】
請求項１または２における上記第２工程で得られた液体生成物であることを特徴とする、液体肥料。
【請求項５】
請求項３における上記第３工程を経た液体生成物であることを特徴とする、液体肥料。
【請求項６】
微生物含有液体を珪藻頁岩に担持させた後、当該珪藻頁岩を乾燥したことを特徴とする、微生物担持体。
【請求項７】
放射性物質を含む汚染水を珪藻頁岩に吸収させる工程と、
上記珪藻頁岩を乾燥させる工程と、
を含むことを特徴とする、汚染水の処理方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年3月19日(2014.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アッパケースとロアケースとからなるケース内に多数のセルが収容され、かつ車体フロアの下面側に取り付けられる電気自動車の駆動用バッテリパックにおいて、
上記ケースの少なくとも上記ロアケースは金属製ダイキャストにて構成されており、
該ロアケースの車両進行方向へ向かう前端壁および後端壁の中の少なくとも一方の端壁に、該端壁から車両進行方向に沿って突出するとともに上下方向に延びた複数の板状のリブが一体に形成され、このリブの上端は、ロアケース周縁のフランジに一体に接続され、下端は、ロアケースの底壁に達している、電気自動車の駆動用バッテリパック。
【請求項２】
上記リブの下端縁が、上記端壁から離れるに従って高くなるように傾斜している、請求項１に記載の電気自動車の駆動用バッテリパック。
【請求項３】
上記ケースは密閉されており、該ケースの内圧の上昇時に開放される安全弁が、上記リブに隣接して上記端壁に設けられている、請求項１または２に記載の電気自動車の駆動用バッテリパック。
【請求項４】
上記安全弁が、隣接する２つのリブの間に配置されている、請求項３に記載の電気自動車の駆動用バッテリパック。
【請求項５】
上記ロアケースの底壁は、車体の最低地上高の高さレベルよりも下方へ突出している、請求項１〜４のいずれかに記載の電気自動車の駆動用バッテリパック。
【請求項６】
上記リブが冷却フィンである、請求項１〜５のいずれかに記載の電気自動車の駆動用バッテリパック。
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月17日(2014.9.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）炭素数８〜２１の炭化水素基と、硫酸エステル塩基又はスルホン酸塩基とを有する陰イオン界面活性剤であって、面積弾性率Ｅが１０ｍＮ／ｍ以上、５０ｍＮ／ｍ以下である陰イオン界面活性剤〔（ｂ）を除く〕０．１〜４０質量％、（ｂ）炭素数５〜１８のアルキル基を有するスルホコハク酸アルキルエステル又はその塩０〜３０質量％、並びに（ｃ）炭素数１０〜１８の脂肪酸又はその塩０〜２０質量％を含有し、（ｂ）と（ｃ）の含有量が同時に０質量％になることはない、手洗い用食器洗浄剤組成物。
【請求項２】
（ａ）成分／〔（ｂ）成分＋（ｃ）成分〕の質量比が０．３以上１００以下である、請求項１記載の手洗い用食器洗浄剤組成物。
【請求項３】
（ａ）が、炭素数８〜１８のアルキル基を有するアルキル硫酸エステル塩、炭素数８〜１８のアルキル基を有し炭素数２〜３のオキシアルキレン基の平均付加モル数が０．１〜６であるポリオキシアルキレンアルキルエーテル硫酸エステル塩、炭素数８〜１５のアルキル基を有するアルキルベンゼンスルホン酸塩、及び炭素数８〜１５のアルカンスルホン酸塩から選ばれる陰イオン界面活性剤である、請求項１又は２記載の手洗い用食器洗浄剤組成物。
【請求項４】
（ａ）が下記一般式（ａ１）で表される陰イオン界面活性剤である、請求項１〜３の何れか１項記載の手洗い用食器洗浄剤組成物。
Ｒ1a−Ｏ−（Ｒ2aＯ）n−ＳＯ3Ｍ        （ａ１）
〔式中、Ｒ1aは、炭素数８〜１８のアルキル基であり、Ｒ2aは、エチレン基及び／又はプロピレン基であり、ｎは平均付加モル数であり０．１以上２以下の数である。Ｍは陽イオンである。〕
【請求項５】
組成物中の全界面活性剤の含有量に対する（ａ）成分、（ｂ）成分、及び（ｃ）成分の合計質量が５０〜１００質量％である請求項１〜４の何れか１項記載の手洗い用食器洗浄剤組成物。
【請求項６】
（ａ）炭素数８〜２１の炭化水素基と、硫酸エステル塩基又はスルホン酸塩基とを有する陰イオン界面活性剤であって、面積弾性率Ｅが１０ｍＮ／ｍ以上、５０ｍＮ／ｍ以下である陰イオン界面活性剤〔（ｂ）を除く〕、（ｂ）炭素数５〜１８のアルキル基を有するスルホコハク酸アルキルエステル又はその塩、並びに（ｃ）炭素数１０〜１８の脂肪酸又はその塩を含有する洗浄液であって、洗浄液中の濃度が（ａ）０．０１〜２質量％、（ｂ）０〜１質量％、並びに（ｃ）０〜１質量％であり、（ｂ）と（ｃ）の濃度が同時に０質量％になることはない、洗浄液。
【請求項７】
請求項１〜５の何れか１項記載の手洗い用食器洗浄剤組成物を用いた洗浄液で食器を手洗い洗浄し、その後、水を用いてすすぎを行う、食器の洗浄方法。
【請求項８】
前記洗浄液中の濃度が（ａ）０．０１〜２質量％、（ｂ）０〜１質量％、並びに（ｃ）０〜１質量％である、請求項７記載の食器の洗浄方法。