Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成26年3月13日(2014.3.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
利用者のパーソナル携帯端末を用いて選曲予約を行わせることが可能なシステムであって、演奏端末識別情報表示手段と、演奏端末識別情報取得手段と、通信基地局情報取得手段と、選曲予約情報送信手段と、ペアリング許可判定データベースと、選曲予約許可手段と、選曲予約情報転送手段と、予約管理手段と、を備え、
前記演奏端末識別情報表示手段は、前記カラオケ演奏端末を識別するための演奏端末識別情報を、表示装置の表示画面に表示し、
前記演奏端末識別情報取得手段は、前記パーソナル携帯端末において、前記表示された演奏端末識別情報を取得してメモリに記憶し、
前記通信基地局情報取得手段は、前記パーソナル携帯端末が通信可能な通信基地局の基地局情報を取得し、
前記選曲予約情報送信手段は、任意のパーソナル携帯端末において、少なくとも、前記記憶された演奏端末識別情報と、当該パーソナル携帯端末の選曲機能により選曲された楽曲の楽曲ＩＤと、前記取得した基地局情報とからなる選曲予約情報を、当該パーソナル携帯端末の通信網を介して中継サーバへ送信し、
前記ペアリング許可判定データベースは、演奏端末識別情報と、通信基地局を識別するための複数の基地局情報とを関連付けてなり、
前記選曲予約許可手段は、前記中継サーバにおいて、任意のパーソナル携帯端末から選曲予約情報を受信した場合に、前記ペアリング許可判定データベースを参照し、当該選曲予約情報に含まれる基地局情報が、当該選曲予約情報に含まれる演奏端末識別情報に関連付けられた基地局情報の少なくとも２つ以上と一致すれば、当該受信した選曲予約情報に基づく選曲予約を許可し、当該基地局情報の少なくとも２つ以上と一致しなければ、当該受信した選曲予約情報に基づく選曲予約を許可せず、
前記選曲予約情報転送手段は、前記中継サーバにおいて、少なくとも、前記選曲予約が許可された選曲予約情報に含まれる楽曲ＩＤを、当該選曲予約情報に含まれる演奏端末識別情報を有するカラオケ演奏端末に転送し、
前記予約管理手段は、前記カラオケ演奏端末において、受信した楽曲ＩＤからなる選曲予約情報を予約待ち行列にて管理する、
ことを特徴とするパーソナル携帯端末を用いたカラオケ選曲システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
＜ＲＯＭ／ＲＡＭ＞
ＲＯＭ６３は、カラオケ本体３１を構成する各機器を制御するためのプログラムデータや数値データを記憶するための機器で、例えば半導体メモリ等で構成される。また、ＲＡＭ６４は、プログラムや各種データを一時的に記憶する一時記憶領域として機能するもので、例えば半導体メモリ等で構成される。本実施形態では、ＲＡＭ６４に、予約待ち行列６４ａが記憶されるようになっている。予約待ち行列６４ａは、選曲予約されたカラオケ楽曲について、演奏順に楽曲ＩＤを並べて構成したデータテーブルである。なお、予約待ち行列６４ａは、楽曲ＩＤの他に、楽曲名、選曲者（利用者）等のデータを含んでいてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成26年1月20日(2014.1.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９９】
図１３に示す結果からは、曲線ＧＣ１に示すように、コンタクト層（ｐ−ＧａＮ層及びｐ＋−ＧａＮ層）の成長時の雰囲気ガスに水素が用いられ成長速度が比較的に遅い場合には、炭素（Ｃ）の濃度が３×１０１６ｃｍ−３の程度であって比較的に低いことがわかる。これに対し、曲線ＧＣ２に示すように、コンタクト層（ｐ−ＧａＮ層及びｐ＋−ＧａＮ層）の成長時の雰囲気ガスに水素が用いられていても成長速度が曲線ＧＣ１の状況に比較して速い場合には、炭素（Ｃ）の濃度が１×１０１８ｃｍ−３の程度であって比較的に高いことがわかる。なお、曲線ＧＣ３に示すように、コンタクト層（ｐ−ＧａＮ層及びｐ＋−ＧａＮ層）の成長時の雰囲気ガスに窒素が用いられた場合には、炭素（Ｃ）の濃度が４×１０１６ｃｍ−３の程度であって比較的に低いが、結晶性が比較的に低いことがわかる。更に、曲線ＧＣ１，ＧＯ１，ＧＭｇ１に示す測定結果が得られた状況、すなわち、コンタクト層（ｐ−ＧａＮ層及びｐ＋−ＧａＮ層）の成長時の雰囲気ガスに水素が用いられ成長速度が比較的に遅い場合には、エピタキシャル積層のｐ側の表面とＰｄ電極との接触抵抗が５×１０−４Ωｍ２の程度であって比較的に低かった。
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月29日(2014.7.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明電極を有する第１の基板と、
前記第１の基板に対向し、画素電極を有する第２の基板と、
前記第１の基板と前記第２の基板との間に配置され、複数のセルを区画する隔壁と、
前記複数のセルに充填され、電気泳動粒子を含む分散媒と、
前記第１の基板と前記隔壁との間に設けられた金属膜と、
を備えていることを特徴とする電気泳動表示装置。
【請求項２】
前記金属膜は、平面的に前記隔壁と重なる部分に設けられていることを特徴とする請求項１に記載の電気泳動表示装置。
【請求項３】
前記金属膜は、平面的に前記隔壁から前記セルの内側にはみ出して設けられていることを特徴とする請求項１または２に記載の電気泳動表示装置。
【請求項４】
前記金属膜と前記透明電極とは、電気的に接続されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の電気泳動表示装置。
【請求項５】
前記第１の基板上に前記透明電極と、前記金属膜と、前記隔壁とが、この順に設けられていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の電気泳動表示装置。
【請求項６】
前記第１の基板と前記金属膜との間に、反射防止膜が設けられていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の電気泳動表示装置。
【請求項７】
前記金属膜は、前記複数のセルを含む表示領域の外側にも設けられていることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の電気泳動表示装置。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の電気泳動表示装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【請求項９】
透明電極を有する第１の基板と、前記第１の基板に対向し画素電極を有する第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板との間に配置され、複数のセルを区画する隔壁と、前記セルに充填され電気泳動粒子を含む分散媒と、前記第１の基板と前記隔壁との間に設けられた金属膜と、を有する電気泳動表示装置の製造方法であって、
前記透明電極および前記金属膜を前記第１の基板上に形成する工程と、
前記透明電極および前記金属膜をレジスト膜で被覆する工程と、
前記第１の基板側から光を照射し、前記金属膜をマスクにしたフォトリソ加工によって、前記第１の基板上に前記隔壁を形成する工程と、
を含むことを特徴とする電気泳動表示装置の製造方法。
【請求項１０】
透明電極を有する第１の基板と、前記第１の基板に対向し画素電極を有する第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板との間に配置され、複数のセルを区画する隔壁と、前記セルに充填され電気泳動粒子を含む分散媒と、前記第１の基板と前記隔壁との間に設けられた金属膜と、を有する電気泳動表示装置の製造方法であって、
前記第２の基板上に前記隔壁を形成する工程と、
前記隔壁上に前記金属膜を形成する工程と、
を含むことを特徴とする電気泳動表示装置の製造方法。
【請求項１１】
透明電極を有する第１の基板と、前記第１の基板に対向し画素電極を有する第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板との間に配置され、複数のセルを区画する隔壁と、前記セルに充填され電気泳動粒子を含む分散媒と、前記第１の基板と前記隔壁との間に設けられた金属膜と、を有する電気泳動表示装置の製造方法であって、
前記第１の基板に対向する第２の基板側の面に樹脂層を形成する工程と、
前記樹脂層を加工し、前記隔壁で区画された前記セルを形成する工程と、
前記隔壁を含む前記セルを金属で覆い、前記隔壁の頂上に前記金属膜、および前記セルの底部に前記画素電極を形成する工程と、
を含むことを特徴とする電気泳動表示装置の製造方法。
【請求項１２】
透光性の基板と、
前記基板上に形成された透明電極と、
前記透明電極上の領域を、複数のセルに区画する隔壁と、
前記複数のセルに充填され、電気泳動粒子を含む分散媒と、
前記複数のセルの開口部を覆い、前記分散媒を前記複数のセルに封じ込める封止膜と、
前記基板と前記隔壁との間に設けられた金属膜と、
を備えることを特徴とする電気泳動表示シート。
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月28日(2014.7.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、該基材上に形成された反射防止膜と、を有する光学素子であって、
前記反射防止膜は、複数の中空微粒子と、該中空微粒子を互いに結合するバインダーと、を有する低屈折率層を含み、
前記低屈折率層は、最表層としての第１層と、該第１層に隣接して前記基材の側に位置する第２層と、からなり、
前記第１層での前記バインダーの充填率は、前記第２層での前記バインダーの充填率よりも低く、
前記第１層のｄ線に対する屈折率は、１．１以上１．２５以下であることを特徴とする光学素子。
【請求項２】
前記第２層のｄ線に対する屈折率は、１．２６以上１．３５以下であることを特徴とする請求項１に記載の光学素子。
【請求項３】
前記低屈折率層の物理膜厚は、９０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下であり、前記第１層の物理膜厚は、２０ｎｍ以上７０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の光学素子。
【請求項４】
前記第１層および前記第２層は、同一の中空微粒子を含むことを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の光学素子。
【請求項５】
前記中空微粒子の平均粒径は、２０ｎｍ以上７０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項に記載の光学素子。
【請求項６】
前記中空微粒子の材質は、シリカであることを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に記載の光学素子。
【請求項７】
前記低屈折率層は、スピンコート法で形成されることを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１項に記載の光学素子。
【請求項８】
複数の光学素子を有する光学系であって、前記複数の光学素子のうち少なくとも１つは、請求項１ないし７のいずれか１項に記載の光学素子であることを特徴とする光学系。
【請求項９】
光学系を有する光学機器であって、前記光学系は、請求項８に記載の光学系であることを特徴とする光学機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記課題を解決するために、本発明は、基材と、該基材上に形成された反射防止膜と、を有する光学素子であって、反射防止膜は、複数の中空微粒子と、該中空微粒子を互いに結合するバインダーと、を有する低屈折率層を含み、低屈折率層は、最表層としての第１層と、該第１層に隣接して基材の側に位置する第２層と、からなり、第１層でのバインダーの充填率は、第２層でのバインダーの充填率よりも低く、第１層のｄ線に対する屈折率は、１．１以上１．２５以下であることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成26年8月22日(2014.8.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
像担持体と、
パッチ画像を前記像担持体に形成する画像形成手段と、
発光手段と、
前記像担持体の移動に伴い移動する前記パッチ画像に前記発光手段により光を照射したときの、前記パッチ画像からの反射光を受光可能に隣接して配置される２つ以上の受光部であって、それぞれが１以上の受光素子を含む複数の受光部と、
前記受光部の配置順が奇数番目の第１の受光部の受光量と、偶数番目の第２の受光部の受光量と、の差に応じた出力信号を出力する出力手段と、
を備えていることを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記パッチ画像は１つ以上のラインを含み、
前記発光手段が照射し、前記パッチ画像で反射する反射光の前記第１の受光部および前記第２の受光部での受光量は、前記像担持体の移動に伴い前記第１の受光部と前記第２の受光部とにおいて異なる変動となる様に、前記発光手段および前記複数の受光部が配置されていることを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記変動には、正反射光の変動と拡散反射光の変動とが含まれており、前記拡散反射光の変動は、前記第１の受光部と前記第２の受光部とで共通していることを特徴とする請求項２に記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記パッチ画像からの拡散反射光を、前記隣接して配置される前記第１の受光部と前記第２の受光部との両方で受光し、前記パッチ画像からの正反射光を前記第１の受光部と前記第２の受光部との何れか一方で受光可能であることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記パッチ画像は、前記パッチ画像の移動方向に沿って第１のピッチで配置される複数のラインを含み、
前記発光手段が照射し、前記移動方向に前記第１のピッチだけ離れた前記像担持体の位置で正反射した光が、前記受光部が配置されているところで第２のピッチとなる場合、前記第１の受光部、及び、前記第２の受光部は、それぞれ、前記第２のピッチで配置されていることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項６】
前記発光手段が照射した光を平行光にする手段を有し、
前記第２のピッチは、前記第１のピッチに等しいことを特徴とする請求項５に記載の画像形成装置。
【請求項７】
前記パッチ画像の全体からの正反射光が前記受光部で受光される際の前記像担持体の移動方向の幅と、前記受光部の前記移動方向の幅と、は同じであることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項８】
前記出力手段の出力信号から前記画像形成手段の画像形成条件を制御する制御手段を備えていることを特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項９】
前記制御手段は、前記出力手段からの出力信号のピーク値から前記画像形成条件を制御することを特徴とする請求項８に記載の画像形成装置。
【請求項１０】
前記出力手段からの出力信号を整流する整流手段と、
前記整流手段の出力を積分する積分手段と、
を有し、
前記制御手段は、前記積分手段により出力された積分値に基づき前記画像形成条件を制御することを特徴とする請求項８に記載の画像形成装置。
【請求項１１】
前記第１の受光部及び前記第２の受光部のそれぞれの前記パッチ画像の移動方向の幅は、前記パッチ画像のラインの幅より狭く、
前記制御手段は、
前記出力手段からの出力信号を整流する整流手段と、
前記整流手段の出力を積分する積分手段と、
を有し、前記制御手段は、前記積分手段により出力された積分値に基づき前記画像形成条件を制御することを特徴とする請求項８に記載の画像形成装置。
【請求項１２】
前記第１および第２の受光部の受光量の差に基づき、前記発光手段の発光強度を制御する光量制御手段を備えていることを特徴とする請求項１から１１のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項１３】
像担持体と、
周期的な特性を有するパッチ画像を前記像担持体に形成する画像形成手段と、
発光手段と、
前記像担持体の移動に伴い移動する前記周期的な特性を有するパッチ画像に前記発光手段より光を照射したときの、前記パッチ画像からの反射光を受光可能に隣接して配置される第１の受光素子、及び第２の受光素子と、
前記第１の受光素子の受光量と、前記第２の受光素子の受光量との差に応じた出力信号を出力する出力手段と、を有し、
前記像担持体の移動に伴い移動する前記周期的な特性を有するパッチ画像からの反射光は、前記パッチ画像の周期的な特性に応じて前記第１の受光素子及び前記第２の受光素子において異なる変動となることを特徴とする画像形成装置。
【請求項１４】
前記周期的な特性を有するパッチ画像は、前記像担持体の移動方向に沿って所定のピッチで配置されることを特徴とする請求項１３に記載の画像形成装置。
【請求項１５】
前記画像形成手段は、前記像担持体の移動方向と直交する方向における画像形成領域のすべての範囲に前記周期的な特性を有するパッチ画像を形成することを特徴とする請求項１４に記載の画像形成装置。
【請求項１６】
前記画像形成手段は、前記像担持体の移動方向と直交する方向における画像形成領域の所定の範囲に前記周期的な特性を有するパッチ画像を形成することを特徴とする請求項１４に記載の画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
画像形成装置は、像担持体と、パッチ画像を前記像担持体上に形成する画像形成手段と、発光手段と、前記像担持体の移動に伴い移動する前記パッチ画像に前記発光手段により光を照射したときの反射光を受光可能に隣接して配置される２つ以上の受光部であって、それぞれが１以上の受光素子を含む複数の受光部と、前記受光部の配置順が奇数番目の第１の受光部の受光量と、偶数番目の第２の受光部の受光量との差に応じた出力信号を出力する出力手段と、を備えていることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月6日(2014.10.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のチャンネルのオーディオ信号の周波数スペクトルに基づいて、前記複数のチャンネルの各チャンネルの混合後の周波数スペクトルにおける他のチャンネルの周波数スペクトルの割合である混合率を決定する決定部と、
前記決定部により決定された前記混合率に基づいて、前記チャンネルごとに、前記複数のチャンネルの前記周波数スペクトルを混合する混合部と、
前記混合部による混合後の前記複数のチャンネルの前記周波数スペクトルを符号化する符号化部と
を備えるオーディオ符号化装置。
【請求項２】
前記決定部は、前記複数のチャンネルの前記周波数スペクトルの相関に基づいて前記混合率を決定する
請求項１に記載のオーディオ符号化装置。
【請求項３】
前記決定部は、前記相関が０に近いほど前記混合率が大きくなり、前記相関が−１に近いほど前記混合率が小さくなるように、前記混合率を決定する
請求項２に記載のオーディオ符号化装置。
【請求項４】
前記決定部は、前記相関が−１より大きい所定の負の閾値より小さい場合、前記混合率を０に決定する
請求項２または３に記載のオーディオ符号化装置。
【請求項５】
前記決定部は、前記複数のチャンネルの前記周波数スペクトルのレベル比に基づいて前記混合率を決定する
請求項１乃至４のいずれかに記載のオーディオ符号化装置。
【請求項６】
前記決定部は、前記レベル比が大きいほど前記混合率が小さくなるように、前記混合率を決定する
請求項５に記載のオーディオ符号化装置。
【請求項７】
前記決定部は、前記複数のチャンネルのうちの少なくとも１つのチャンネルの前記周波数スペクトルのレベルが所定の閾値より小さい場合、前記混合率を０に決定し、前記複数のチャンネルの前記周波数スペクトルのレベルが全て前記所定の閾値以上である場合、前記レベル比に基づいて前記混合率を決定する
請求項５または６に記載のオーディオ符号化装置。
【請求項８】
前記決定部は、前記複数のチャンネルの前記周波数スペクトルのエネルギー比に基づいて前記混合率を決定する
請求項５に記載のオーディオ符号化装置。
【請求項９】
前記決定部は、前記複数のチャンネルの前記周波数スペクトルをそれぞれ所定の周波数帯域ごとに分割し、前記周波数帯域ごとの前記複数のチャンネルの前記周波数スペクトルに基づいて、前記周波数帯域ごとの前記混合率を決定し、
前記混合部は、前記決定部により決定された前記周波数帯域ごとの前記混合率に基づいて、前記チャンネルおよび前記周波数帯域ごとに、前記複数のチャンネルの前記周波数スペクトルを混合する
請求項１乃至８のいずれかに記載のオーディオ符号化装置。
【請求項１０】
前記決定部は、前記周波数帯域ごとの前記周波数スペクトルと前記周波数帯域の周波数に基づいて、前記周波数帯域ごとの前記混合率を決定する
請求項９に記載のオーディオ符号化装置。
【請求項１１】
前記符号化部は、前記混合部による混合後の前記複数のチャンネルの前記周波数スペクトルをインテンシティ・ステレオ符号化する
請求項１乃至１０のいずれかに記載のオーディオ符号化装置。
【請求項１２】
オーディオ符号化装置が、
複数のチャンネルのオーディオ信号の周波数スペクトルに基づいて、前記複数のチャンネルの各チャンネルの混合後の周波数スペクトルにおける他のチャンネルの周波数スペクトルの割合である混合率を決定する決定ステップと、
前記決定ステップの処理により決定された前記混合率に基づいて、前記チャンネルごとに、前記複数のチャンネルの前記周波数スペクトルを混合する混合ステップと、
前記混合ステップの処理による混合後の前記複数のチャンネルの前記周波数スペクトルを符号化する符号化ステップと
を含むオーディオ符号化方法。
【請求項１３】
コンピュータに、
複数のチャンネルのオーディオ信号の周波数スペクトルに基づいて、前記複数のチャンネルの各チャンネルの混合後の周波数スペクトルにおける他のチャンネルの周波数スペクトルの割合である混合率を決定する決定ステップと、
前記決定ステップの処理により決定された前記混合率に基づいて、前記チャンネルごとに、前記複数のチャンネルの前記周波数スペクトルを混合する混合ステップと、
前記混合ステップの処理による混合後の前記複数のチャンネルの前記周波数スペクトルを符号化する符号化ステップと
を含む処理を実行させるためのプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月29日(2014.7.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
Ｓ１０４で、ＣＰＵ６１４は、パッチ発生部６１５を制御し、イエローのパッチ画像の画像データを発生させ、エンジン６２０の露光装置３Ｙに渡す。パッチ画像は、図８に示した通りである。また、ＣＰＵ６１４は、イエローの一次転写部７Ｙに通常の転写電位Ｖｎを設定し、それより下流のマゼンタの一次転写部７Ｍ、シアンの一次転写部７Ｃ、ブラックの一次転写部７Ｋのそれぞれに転写電位Ｖ０を設定する。転写電位Ｖ０は、たとえば、０Ｖである。このように、像形成部１０Ｙは、第１の色の色材を使用した画像を第１の転写電位により像担持体上に転写する第１転写手段の一例である。マゼンタの像形成部１０Ｍ、シアンの像形成部１０Ｃ、ブラックの像形成部１０Ｋは、画像の搬送方向において第１転写手段よりも下流に位置し、第１の色とは異なる第２の色の色材を使用した画像を第２の転写電位により像担持体上に転写する第２転写手段の一例である。また、ＣＰＵ６１４は、第１の転写電位と第２の転写電位とを設定する設定手段の一例である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
Ｓ１０７で、パッチ発生部６１５を制御し、マゼンタのパッチ画像の画像データを発生させ、エンジン６２０の露光装置３Ｍに渡す。パッチ画像は、図８に示した通りである。また、ＣＰＵ６１４は、マゼンタの一次転写部７Ｍに通常の転写電位Ｖｎを設定し、それより下流のシアンの一次転写部７Ｃ、ブラックの一次転写部７Ｋのそれぞれに転写電位Ｖ０を設定する。これにより、マゼンタのパッチ画像が中間転写ベルト６上に形成され、濃度検知センサ５の検知位置まで搬送される。マゼンタのパッチ画像も単色のパッチ画像である。このように、像形成部１０Ｍは、第１の色の色材を使用した画像を第１の転写電位により像担持体上に転写する第１転写手段の一例である。シアンの像形成部１０Ｃ、ブラックの像形成部１０Ｋは、画像の搬送方向において第１転写手段よりも下流に位置し、第１の色とは異なる第２の色の色材を使用した画像を第２の転写電位により像担持体上に転写する第２転写手段の一例である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
Ｓ１１０で、パッチ発生部６１５を制御し、シアンのパッチ画像の画像データを発生させ、エンジン６２０の露光装置３Ｃに渡す。パッチ画像は、図８に示した通りである。また、ＣＰＵ６１４は、シアンの一次転写部７Ｃに通常の転写電位Ｖｎを設定し、それより下流のブラックの一次転写部７Ｋに転写電位Ｖ０を設定する。これにより、シアンのパッチ画像が中間転写ベルト６上に形成され、濃度検知センサ５の検知位置まで搬送される。シアンのパッチ画像も単色のパッチ画像である。このように、像形成部１０Ｃは、第１の色の色材を使用した画像を第１の転写電位により像担持体上に転写する第１転写手段の一例である。ブラックの像形成部１０Ｋは、画像の搬送方向において第１転写手段よりも下流に位置し、第１の色とは異なる第２の色の色材を使用した画像を第２の転写電位により像担持体上に転写する第２転写手段の一例である。
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月9日(2014.6.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
前記気泡サイズ情報生成手段は、前記検査画像情報から得られる前記暗リングを横切る前記ラインセンサカメラの副走査方向の濃淡値プロファイルから前記気泡サイズ情報を生成する請求項１または２記載の貼り合せ板状体検査装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
図６において、処理ユニット７０は、照明ユニット５１からの照明がなされている状態で、移動機構６０によってセンサパネルアッセンブリ１０を移動させて、ランセンサカメラ５０がセンサパネルアッセンブリ１０を光学的に走査するよう制御する（Ｓ１１）。その過程で、ラインセンサカメラ５０の撮影領域ＥＣがカバーガラス１２の透光領域１２ａに対応する部分を移動する際には、センサパネル１１の表面に所定角度αをもって斜めに入射する（図３Ａ参照）照明ユニット５１からの照明光ＲＬ１が、例えば、図７〜図９に示すように、センサパネル１１（透光領域）、接着剤１３及びカバーガラス１２（透光領域１２ａ）内を屈折しつつ通過して反射板５２に達する。そして、その照明光ＲＬ１が反射板５２で乱反射してその反射光の一部が照明光ＲＬ２としてセンサパネルアッセンブリ１０のカバーガラス１２（透光領域１２ａ）側からラインセンサカメラ５０に向けて進む。このように、ラインセンサカメラ５０は、照明ユニット５１によるセンサパネル１１側からの照明（照明光ＲＬ１）と反射板５２によるカバーガラス１２側からの照明（照明光ＲＬ２）とがなされている状態で、センサパネルアッセンブリ１０を走査する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
次に、処理ユニット７０は、前述した主走査方向の場合と同様に、前記検査領域に含まれる気泡部分を表す暗リングをその最大径位置で横切る副走査方向の濃淡プロファイルから、当該暗リングの２つのボトム値に対応した画素位置間の距離に基づいて当該気泡のサイズを表す第２気泡サイズ情報Ｄｙを生成する（Ｓ１５）。そして、処理ユニット７０は、前記第１気泡サイズ情報Ｄｘと前記第２気泡サイズ情報Ｄｙとの差が所定値Δ以下であるか否かを判定する（Ｓ１６）。前記第１気泡サイズ情報Ｄｘと前記第２気泡サイズ情報Ｄｙとの差が所定値Δ以下であると（Ｓ１６でＹＥＳ）、処理ユニット７０は、第１気泡サイズ情報Ｄｘを気泡のサイズについての検査結果情報Ｄとして表示ユニット７１に表示（出力）させる。一方、前記第１気泡サイズ情報Ｄｘと前記第２気泡サイズ情報Ｄｙとの差が所定値Δを越えている場合（Ｓ１６でＮＯ）、処理ユニット７０は、前記第１気泡サイズ情報Ｄｘと前記第２気泡サイズ情報Ｄｙとの平均値情報（（Ｄｘ＋Ｄｙ）／２）を気泡のサイズについての検査結果情報として表示ユニット７１に表示（出力）させる。つまり、処理ユニット７０は、気泡のサイズを表す気泡サイズ情報を検査結果情報として生成する気泡サイズ情報生成手段を有する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６】
2013033028.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成26年1月28日(2014.1.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一次荷電粒子線を放出する荷電粒子源と、当該一次荷電粒子線を試料上に集束する集束レンズと、当該試料上の照射点から放出された二次荷電粒子を検出する検出器とを備える走査型荷電粒子線装置において、
前記検出器により検出可能なエネルギー範囲の二次荷電粒子を検出し、
前記検出器からの信号を波形処理し、二次荷電粒子のエネルギー分布情報を作成する波形処理部と、前記エネルギー分布情報のうち選択された任意のエネルギー範囲の情報のみを用いて画像を形成し、表示部に前記画像を表示する制御部を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項２】
請求項１記載の荷電粒子線装置において、前記荷電粒子源と異なる第二の荷電粒子源を備え、当該第二の荷電粒子源からの荷電粒子線を試料に照射することを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項３】
請求項１の荷電粒子線装置において、
前記制御部は、少なくとも２つ以上のエネルギー範囲を選択でき、それぞれのエネルギー範囲に対応した信号を重畳して前記表示部に画像表示することを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項４】
請求項１の荷電粒子線装置において、
前記波形処理部は、エネルギー分布に微分処理を施したエネルギー分布を取得することを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項５】
請求項３の荷電粒子線装置において、
前記制御部によって選択された複数のエネルギー範囲の信号に対し、信号比を変えて重畳した画像を表示することを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項６】
請求項１の荷電粒子線装置において、
前記検出器は、前記一次荷電粒子線と前記試料の相互作用によって発生した特性Ｘ線も検出し、特定のＸ線に対応したエネルギー範囲と、前記二次荷電粒子の任意のエネルギー範囲を設定し、設定したＸ線のエネルギー範囲に信号があるときのみ、設定したエネルギー範囲の二次荷電粒子の情報を画像表示する機能を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項７】
請求項１の荷電粒子線装置において、
前記検出器は、ＰＩＮ型フォトダイオード、ＰＮ接合型フォトダイオード、アバランシェフォトダイオード、あるいはシリコンドリフト素子であることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項８】
請求項１の荷電粒子線装置において、
前記検出器は、シンチレータ、光電子増倍管で構成された検出器であることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項９】
請求項１の荷電粒子線装置において、
前記検出器は、マイクロチャンネルプレート、あるいは電子増倍管であることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項１０】
請求項１の荷電粒子線装置において、
前記検出器は、超伝導検出素子であることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項１１】
請求項１の荷電粒子線装置において、
前記検出器は、同軸及び/又は円周方向に検出領域に分割され、それぞれの検出領域からの信号を前記波形処理部で処理することを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項１２】
請求項１の荷電粒子線装置において、
前記検出器は、前記二次荷電粒子のエネルギー分布の、低エネルギー側の閾値を設定するエネルギーフィルタを備えたことを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項１３】
請求項１の荷電粒子線装置において、
前記試料を載置する試料台を備え、当該試料台に電圧を印加する電源を備えることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項１４】
請求項１の荷電粒子線装置において、
前記一次荷電粒子線の軌道軸と同軸に電極を備え、当該電極に電圧を印加する電源を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月6日(2014.6.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記課題を解決するために、本発明は、放射線を透過する第一の窓を有する外囲器と、
前記外囲器内に収納され、前記第一の窓と対向する位置に放射線を透過する第二の窓を有する放射線発生管と、
前記外囲器の内壁と前記放射線発生管との間に配置された絶縁性流体と、
を備える放射線発生装置であって、
前記第一の窓及びその周縁部と前記第二の窓及びその周縁部との間に、複数枚の絶縁性板材が隙間を空けて重なって配置されていることを特徴とする放射線発生装置を提供するものである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射線を透過する第一の窓を有する外囲器と、
前記外囲器内に収納され、前記第一の窓と対向する位置に放射線を透過する第二の窓を有する放射線発生管と、
前記外囲器の内壁と前記放射線発生管との間に配置された絶縁性流体と、
を備える放射線発生装置であって、
前記第一の窓及びその周縁部と前記第二の窓及びその周縁部との間に、複数枚の絶縁性板材が隙間を空けて重なって配置されていることを特徴とする放射線発生装置。
【請求項２】
前記絶縁性板材間の隙間に、前記絶縁性流体が満たされていることを特徴とする請求項１に記載の放射線発生装置。
【請求項３】
前記絶縁性板材間の隙間は、前記第一の窓と前記第二の窓との間の耐電圧が、前記複数枚の絶縁性板材に換えて前記各絶縁性板材の厚さの合計と同じ厚さを持った絶縁性板材を配置した場合に比べて大きくなる隙間であることを特徴とする請求項１又は２に記載の放射線発生装置。
【請求項４】
前記絶縁性板材は、０．０１ｍｍ〜６ｍｍの厚さであることを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載の放射線発生装置。
【請求項５】
前記絶縁性板材の材料が、ポリイミド、セラミックス、エポキシ樹脂又はガラスであることを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載の放射線発生装置。
【請求項６】
請求項１〜５の何れか１項に記載の放射線発生装置と、
前記放射線発生装置から放出され被検体を透過した放射線を検出する放射線検出器と、
前記放射線発生装置と前記放射線検出器とを制御する制御手段と、を有することを特徴とする放射線撮影装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年8月13日(2014.8.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
前記の課題は、本発明により、極性が交互に切替わるバイアスを印加して、所定極性に帯電したトナー像を像担持体から記録媒体へ転写する画像形成装置において、複数色のトナーからなるトナー像を転写するカラーモードと、単色のトナーからなるトナー像を転写する単色モードと、を有し、前記バイアスは、記録媒体から前記像担持体へとトナーを戻す極性のピーク電圧を有し、前記カラーモード時の前記ピーク電圧の絶対値は、前記単色モード時の前記ピーク電圧の絶対値以上であることにより解決される。
また、前記の課題は、本発明により、バイアスを印加して、所定極性に帯電したトナー像を像担持体から記録媒体へ転写する画像形成装置において、複数色のトナーからなるトナー像を転写するカラーモードと、単色のトナーからなるトナー像を転写する単色モードと、を有し、前記バイアスは、前記像担持体から記録媒体へとトナーを移動させる方向の電界と、記録媒体から前記像担持体へとトナーを戻す方向の戻し電界と、を交互に形成し、前記カラーモード時の前記戻し電界のピークの絶対値は、前記単色モード時の前記戻し電界のピークの絶対値以上であることにより解決される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の画像形成装置によれば、トナー載り量の多いカラーモード時においても、良好な転写性を得ることができ、かつ、凹凸の大きな用紙に対しても用紙凹部への良好な転写性を得ることができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
極性が交互に切替わるバイアスを印加して、所定極性に帯電したトナー像を像担持体から記録媒体へ転写する画像形成装置において、
複数色のトナーからなるトナー像を転写するカラーモードと、単色のトナーからなるトナー像を転写する単色モードと、を有し、
前記バイアスは、記録媒体から前記像担持体へとトナーを戻す極性のピーク電圧を有し、
前記カラーモード時の前記ピーク電圧の絶対値は、前記単色モード時の前記ピーク電圧の絶対値以上であることを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
バイアスを印加して、所定極性に帯電したトナー像を像担持体から記録媒体へ転写する画像形成装置において、
複数色のトナーからなるトナー像を転写するカラーモードと、単色のトナーからなるトナー像を転写する単色モードと、を有し、
前記バイアスは、前記像担持体から記録媒体へとトナーを移動させる方向の電界と、記録媒体から前記像担持体へとトナーを戻す方向の戻し電界と、を交互に形成し、
前記カラーモード時の前記戻し電界のピークの絶対値は、前記単色モード時の前記戻し電界のピークの絶対値以上であることを特徴とする画像形成装置。
【請求項３】
前記バイアスは直流成分に交流成分を重畳した重畳転写バイアスであり、前記カラーモードと前記単色モードとで前記重畳転写バイアスの前記直流成分及び前記交流成分の双方を変更することを特徴とする、請求項１または２に記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記カラーモード時の前記交流成分のピークツウピーク電圧は、前記単色モード時の前記ピークツウピーク電圧よりも大きいことを特徴とする、請求項３に記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記重畳転写バイアスの前記直流成分及び前記交流成分の双方が定電圧制御されることを特徴とする、請求項３または４に記載の画像形成装置。
【請求項６】
前記重畳転写バイアスの前記直流成分が定電流制御され、前記交流成分が定電圧制御されることを特徴とする、請求項３または４に記載の画像形成装置。
【請求項７】
記録媒体の種類に応じて前記重畳転写バイアスを変更することを特徴とする、請求項３〜６のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項８】
前記トナー像に含まれる単位面積あたりのトナー量が互いに異なる複数のモードのうちからいずれか一つを指定する指定手段を有し、
前記指定手段により指定されたモードが、前記単位面積あたりのトナー量の多いモードであるほど、前記ピークツウピーク電圧を大きくすることを特徴とする、請求項３〜７のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月10日(2014.10.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
蛍光基板３５の発光面積をスポット光の面積とすると、０．７８〜３．１４ｍｍ2とな
る。蛍光基板３５は、上記の円形基板である場合に、回転させることにより、励起光による蛍光体の温度上昇を抑制し、蛍光変換効率を安定に維持することができる。蛍光体層３３に入射した光は、緑、赤成分の色光に蛍光変換されて、蛍光基板３５から出射する。また、反射膜３２側に発光する光は反射膜３２で反射して、蛍光基板３５から出射する。蛍光基板３５から出射した緑および赤の色光は、再びコンデンサレンズ３０で集光され、光束２９に変換された後、ダイクロイックミラー２８を透過する。
【手続補正書】
【提出日】平成26年8月1日(2014.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式［１］で示されることを特徴とするアミノインドロ［３，２，１−ｊｋ］カルバゾール化合物。
【化１】
2013033804.tif 000001
〔一般式［１］におけるｌは１乃至３の整数を表し、ｎおよびｍは、それぞれ独立に０乃至２の整数を表す。Ｒ１乃至Ｒ３２は炭素数１以上８以下のアルキル基または、フッ素原子を表す。前記アルキル基は、フッ素原子を有してよい。〕
【請求項２】
一対の電極と前記一対の電極の間に配置されている有機化合物層とを有する有機発光素子であって、
前記有機化合物層は請求項１に記載のアミノインドロ［３，２，１−ｊｋ］カルバゾール化合物を有することを特徴とする有機発光素子。
【請求項３】
前記有機化合物層は、正孔注入層、正孔輸送層または電子阻止層であることを特徴とする請求項２に記載の有機発光素子。
【請求項４】
複数の画素を有し、前記画素は請求項２または３のいずれか一項に記載の有機発光素子と前記有機発光素子に接続されたスイッチング素子とを有することを特徴とする表示装置。
【請求項５】
画像を表示するための表示部と画像情報を入力するための入力部とを有し、前記表示部は複数の画素を有し、前記画素は請求項２または３のいずれか一項に記載の有機発光素子と前記有機発光素子に接続されたスイッチング素子とを有することを特徴とする画像入力装置。
【請求項６】
請求項２または３のいずれか一項に記載の有機発光素子と前記有機発光素子に接続されたインバータ回路とを有することを特徴とする照明装置。
【請求項７】
露光光源を有する、電子写真方式の画像形成装置であって、
前記露光光源は、請求項２または３に記載の有機発光素子を有することを特徴とする画像形成装置。
【請求項８】
電子写真方式の画像形成装置の露光光源であって、
請求項２または３に記載の有機発光素子を有することを特徴とする露光光源。
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月18日(2014.7.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
【図１】本開示の一実施の形態に係る回路基板の概略構成を表す断面図である。
【図２】図１に示した回路基板の配線接続部付近を拡大して表した断面模式図である。
【図３】図１に示した回路基板の製造方法を工程順に表す断面図である。
【図４】図３に続く工程を表す断面図である。
【図５】図４に続く工程を表す断面図である。
【図６】図５に続く工程を表す断面図である。
【図７】図６に続く工程を表す断面図である。
【図８】比較例に係る回路基板の製造方法を説明するための断面図である。
【図９】比較例に係る回路基板の製造方法を説明するための図である。
【図１０】変形例１に係る回路基板の製造方法を説明するための断面図である。
【図１１】変形例２に係る回路基板の製造方法を説明するための断面図である。
【図１２】上記実施の形態等の回路基板の適用例に係る表示装置の駆動回路構成を表す模式図である。
【図１３】上記実施の形態等の回路基板の適用例１の外観を表す斜視図である。
【図１４】（Ａ）は適用例２の表側から見た外観を表す斜視図であり、（Ｂ）は裏側から見た外観を表す斜視図である。
【図１５】適用例３の外観を表す斜視図である。
【図１６】適用例４の外観を表す斜視図である。
【図１７】（Ａ）は適用例５の開いた状態の正面図、（Ｂ）はその側面図、（Ｃ）は閉じた状態の正面図、（Ｄ）は左側面図、（Ｅ）は右側面図、（Ｆ）は上面図、（Ｇ）は下面図である。
【図１８】適用例６の外観を表す斜視図である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
このような回路基板１において、本実施の形態では、配線接続部１０Ｂにおいて、第１配線層１１Ｂの表面の開口Ｈ１に対向する領域に、表面エネルギー制御膜１５が形成されている。図２に、配線接続部１０Ｂ付近を拡大したものを示す。このように、詳細には、第１配線層１１Ｂと第２配線層１４との間には、表面エネルギー制御膜１５が介在している。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
次いで、図３（Ｃ）に示したように、ゲート絶縁膜１２上に、例えばポジ型の感光性樹脂材料を塗布した後、露光および現像等の工程を経て、配線接続部１０Ｂに対応する領域に開口１１０ａを有するフォトレジスト膜１１０を形成する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
次いで、図５（Ａ）に示したように、シランカップリング処理を行う。具体的には、上記のようにしてゲート絶縁膜１２に開口Ｈ１を形成した基板１０を、シランカップリング剤に浸漬する。これにより、シランカップリング剤は、第１配線層１１Ｂの表面に形成された酸化膜１１ｂ１と選択的に反応し、第１配線層１１Ｂの表面にのみ、上記のようにケイ素または有機ケイ素化合物を含む表面エネルギー制御膜１５が形成される。尚、フォトレジスト膜１１０上にも、シランカップリング剤が付着することがあるが、最終的には後述のようにフォトレジスト膜１１０は剥離するため問題はない。シランカップリング剤としては、例えばオクタデシルトリクロロシラン（ＯＴＳ）を用いることができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
続いて、図６（Ｂ）に示したように、半導体層１３のパターニングを行う。具体的には、例えばレーザーアブレーション法等により、不要な領域（１３ａ）にレーザ光Ｌを照射し、これを選択的に除去することで、所望の領域（１３ｂ１）に半導体層１３を残存させる。ここでは、トランジスタ部１０Ａのゲート電極１１Ａに対向する領域にのみ半導体層１３を残存させる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
ここで、上述したように、第１配線層１１Ｂ上には表面エネルギー制御膜１５が残存するため、実際には、第１配線層１１Ｂと第２配線層１４との間に表面エネルギー制御膜１５が介在するが、このことは、所望の導電性を確保することを妨げない。これは、表面エネルギー制御膜１５が、第１配線層１１Ｂおよび第２配線層１４に比べて非常に薄く形成されることから、表面エネルギー制御膜１５による電気抵抗の増加は、実質的に無視できる程度のものであるためである。
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月1日(2014.7.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁性基材の一方の面から他方の面に貫通する複数の線状導体を備えたコア基板と、
前記一方の面側及び前記他方の面側の少なくとも一面側に接合されたシリコン層と、
前記シリコン層を貫通する貫通配線と、を有し、
前記貫通配線は、バンプを介さずに前記線状導体と電気的に接続されており、
１つの前記貫通配線の端部に対して、複数の前記線状導体が電気的に接続されている配線基板。
【請求項２】
前記貫通配線の端部が複数の前記線状導体の端部と直接接続されている請求項１記載の配線基板。
【請求項３】
複数の前記線状導体の端部と電気的に接続された配線層が形成され、
前記貫通配線の端部が前記配線層と直接接続されている請求項１記載の配線基板。
【請求項４】
前記貫通配線は前記絶縁性基材に形成された凹部内に延在しており、前記凹部には前記線状導体の端部と側面とが露出している請求項２記載の配線基板。
【請求項５】
前記シリコン層に更に他のシリコン層が積層形成されている請求項１乃至４の何れか一項記載の配線基板。
【請求項６】
請求項１乃至５の何れか一項記載の配線基板において、前記シリコン層の少なくとも１層に半導体回路が形成されている半導体装置。
【請求項７】
絶縁性基材の一方の面から他方の面に貫通する複数の線状導体を備えたコア基板と、
前記一方の面側及び前記他方の面側の少なくとも一面側に接合されたガラス層と、
前記ガラス層を貫通する貫通配線と、を有し、
複数の前記線状導体の端部と電気的に接続された配線層が形成され、
前記貫通配線の端部が前記配線層と直接接続されており、
前記配線層の表面が粗化されている配線基板。
【請求項８】
前記ガラス層は、前記一方の面及び前記他方の面の少なくとも一面に直接接合されている請求項７記載の配線基板。
【請求項９】
請求項７又は８記載の配線基板において、前記ガラス層上に前記貫通配線と電気的に接続される機能素子が形成されている半導体装置。
【請求項１０】
絶縁性基材の一方の面から他方の面に貫通する複数の線状導体を備えたコア基板を作製する第１工程と、
前記一方の面側及び前記他方の面側の少なくとも一面側にシリコン層を接合する第２工程と、
前記シリコン層を貫通する貫通孔を形成する第３工程と、
前記貫通孔に導電材料を充填し、バンプを介さずに前記線状導体と電気的に接続された貫通配線を形成する第４工程と、を有し、
前記第４工程では、１つの前記貫通配線の端部に対して、複数の前記線状導体を電気的に接続する配線基板の製造方法。
【請求項１１】
前記第３工程は、前記第２工程よりも前に行われる請求項１０記載の配線基板の製造方法。
【請求項１２】
絶縁性基材の一方の面から他方の面に貫通する複数の線状導体を備えたコア基板を作製する第１工程と、
前記一方の面側及び前記他方の面側の少なくとも一面側に配線層を形成する第２工程と、
前記配線層の表面を粗化する第３工程と、
前記一面側に前記配線層を覆うガラス層を形成する第４工程と、
前記ガラス層を貫通する貫通孔を形成する第５工程と、
前記貫通孔に導電材料を充填し、前記配線層と電気的に接続する第６工程と、を有し、
前記第２工程では、１つの前記配線層に対して、複数の前記線状導体を電気的に接続する配線基板の製造方法。
【請求項１３】
前記第４工程では、前記一方の面側及び前記他方の面側の少なくとも一面側にガラスペーストを塗布した後、固化させて前記ガラス層を形成する請求項１２記載の配線基板の製造方法。
【請求項１４】
前記第４工程では、前記一方の面側及び前記他方の面側の少なくとも一面側に、固体のガラスを配置し、所定の温度で加熱及び押圧して軟化させた後、固化させて前記ガラス層を形成する請求項１２記載の配線基板の製造方法。
【請求項１５】
前記複数の線状導体を給電経路の一部とする電解めっき法により前記貫通孔に前記導電材料を充填する請求項１０乃至１４の何れか一項記載の配線基板の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本配線基板は、絶縁性基材の一方の面から他方の面に貫通する複数の線状導体を備えたコア基板と、前記一方の面側及び前記他方の面側の少なくとも一面側に接合されたシリコン層と、前記シリコン層を貫通する貫通配線と、を有し、前記貫通配線は、バンプを介さずに前記線状導体と電気的に接続されており、１つの前記貫通配線の端部に対して、複数の前記線状導体が電気的に接続されていることを要件とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成26年1月15日(2014.1.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】発光装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板と、
前記第１の基板上の第１の電極と、
前記第１の基板上の発光層と、
前記発光層上の第２の電極と、
前記第２の電極上の第２の基板と、
充填材と、
シール材と、を有し、
前記充填材は、前記第１の基板と前記第２の基板の間に充填され、
前記充填材は、樹脂を含み、
前記シール材は、前記第１の基板と前記第２の基板の端部の側面に設けられ、
前記シール材は、乾燥剤を含むことを特徴とする発光装置。
【請求項２】
第１の基板と、
前記第１の基板上の第１の電極と、
前記第１の基板上の発光層と、
前記発光層上の第２の電極と、
前記第２の電極上の第２の基板と、
充填材と、
シール材と、を有し、
前記充填材は、前記第１の基板と前記第２の基板の間に充填され、
前記充填材は、樹脂および乾燥剤を含み
前記シール材は、前記第１の基板と前記第２の基板の端部の側面に設けられ、
前記シール材は、乾燥剤を含むことを特徴とする発光装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記充填材は、接着剤としての機能を有することを特徴とする発光装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
前記シール材は、前記充填材の側面を覆うように設けられていることを特徴とする発光装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一において、
前記シール材は、前記第１の基板および前記第２の基板の少なくとも一方の外側の表面と接していることを特徴とする発光装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一において、
前記第２の基板と充填剤は、発光層からの光を透過することができることを特徴とする発光装置。