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【手続補正書】
【提出日】平成26年8月8日(2014.8.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁表面を有する基板上に第１の導電膜を形成し、
前記第１の導電膜上に第１のレジストマスクを形成し、
前記第１のレジストマスクを用いて前記第１の導電膜を選択的にエッチングして、第１のゲート電極と第２のゲート電極とを形成し、
前記第１のゲート電極上及び前記第２のゲート電極上に第１の絶縁膜を形成し、
前記第１の絶縁膜上に半導体膜を形成し、
前記半導体膜に加熱処理を行い、
前記半導体膜上に第２の導電膜を形成し、
前記第２の導電膜上に第２のレジストマスクを形成し、
前記第２のレジストマスクを用いて前記第２の導電膜を選択的にエッチングして、第１のソース電極、第１のドレイン電極、第２のソース電極及び第２のドレイン電極を形成し、
前記第１のソース電極上、前記第１のドレイン電極上、前記第２のソース電極上、前記第２のドレイン電極上、及び前記半導体膜上に第２の絶縁膜を形成し、
前記第２の絶縁膜上に第３の絶縁膜を形成し、
前記第３の絶縁膜を第３のレジストマスクとして用いて、前記第１のソース電極及び前記第１のドレイン電極の他方の一部を露出する第１の開口部と、前記第２のゲート電極の一部を露出する第２の開口部と、前記第２のソース電極及び前記第２のドレイン電極の他方の一部を露出する第３の開口部と、前記絶縁表面を有する基板の一部を露出する第４の開口部と、を形成し、
前記第１乃至４の開口部を覆うように前記第３の絶縁膜上に第３の導電膜を形成し、
前記第３の導電膜上に第４のレジストマスクを形成し、
前記第４のレジストマスクを用いて前記第３の導電膜を選択的にエッチングして第１の画素電極と、接続電極と、を形成し、
前記第１乃至第３の開口部、及び前記第１の画素電極の周囲を覆うように第４の絶縁膜を形成し、
前記第１の画素電極上に有機化合物を含む層を選択的に形成し、
前記有機化合物を含む層上に第２の画素電極を選択的に形成し、
前記接続電極は、第１のソース電極及び前記第１のドレイン電極の他方と、前記第２のゲート電極と、を電気的に接続することを特徴とする発光表示装置の作製方法。
【請求項２】
絶縁表面を有する基板上に第１の導電膜を形成し、
前記第１の導電膜上に第１のレジストマスクを形成し、
前記第１のレジストマスクを用いて前記第１の導電膜を選択的にエッチングして、第１のゲート電極と第２のゲート電極とを形成し、
前記第１のゲート電極上及び前記第２のゲート電極上に第１の絶縁膜を形成し、
前記第１の絶縁膜上に半導体膜を形成し、
前記半導体膜に加熱処理を行い、
前記半導体膜上に第２のレジストマスクを形成し、
前記第２のレジストマスクを用いて、前記第２のゲート電極の一部を露出する第１の開口部と、前記絶縁表面を有する基板の一部を露出する第２の開口部と、を形成し、
前記半導体膜及び前記第１及び第２の開口部を覆うように第２の導電膜を形成し、
前記第２の導電膜上に第３のレジストマスクを形成し、
前記第３のレジストマスクを用いて前記第２の導電膜を選択的にエッチングして、第１のソース電極、第１のドレイン電極、第２のソース電極及び第２のドレイン電極を形成し、
前記第１のソース電極上、前記第１のドレイン電極上、前記第２のソース電極上、前記第２のドレイン電極上、及び前記半導体膜上に第２の絶縁膜を形成し、
前記第２の絶縁膜上に第３の絶縁膜を形成し、
前記第３の絶縁膜を第３のレジストマスクとして用いて、前記第２のソース電極及び前記第２のドレイン電極の他方の一部を露出する第３の開口部を形成し、
前記第３の開口部を覆うように前記第３の絶縁膜上に第３の導電膜を形成し、
前記第３の導電膜上に第４のレジストマスクを形成し、
前記第４のレジストマスクを用いて前記第３の導電膜を選択的にエッチングして第１の画素電極を形成し、
前記第３の開口部、及び前記第１の画素電極の周囲を覆うように第４の絶縁膜を形成し、
前記第１の画素電極上に有機化合物を含む層を選択的に形成し、
前記有機化合物を含む層上に第２の画素電極を選択的に形成し、
前記第２のゲート電極は、前記第１のソース電極及び前記第１のドレイン電極の他方と電気的に接続することを特徴とする発光表示装置の作製方法。
【請求項３】
請求項１または２において、
前記半導体膜は酸化物半導体であることを特徴とする発光表示装置の作製方法。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項において、
前記第１の導電膜及び前記第２の導電膜は、アルミニウムを含む材料で形成することを特徴とする発光表示装置の作製方法。
【請求項５】
請求項４において、
前記第１の導電膜または前記第２の導電膜形成後の加熱処理の上限温度は３８０℃であることを特徴とする発光表示装置の作製方法。
【請求項６】
請求項１乃至３のいずれか一項において、
前記第１の導電膜及び前記第２の導電膜は、銅を含む材料で形成することを特徴とする発光表示装置の作製方法。
【請求項７】
請求項６において、
前記第１の導電膜または前記第２の導電膜形成後の加熱処理の上限温度は４５０℃であることを特徴とする発光表示装置の作製方法。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか一項において、
前記第３の絶縁膜は感光性樹脂であることを特徴とする発光表示装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年1月28日(2014.1.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
前記ホームゲートウェイは、所定期間のＣＯ２発生量が最も少なくなるか、または、所定期間の自然エネルギー使用率が最も高くなる運用スケジュールを計算するアルゴリズムを用いて、家電製品の運用スケジュールを計算し、
前記ディスプレーは、前記ホームゲートウェイにて計算された前記家電製品の運用スケジュールを表示する
ことを特徴とする請求項８記載の需要家エネルギー管理システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１０】
前記ホームゲートウェイは、予め記憶されたスケジュール可能な家電機器と当該スケジュール可能な家電機器の各々のスケジュール可能な時間帯を示すスケジュール可能な家電情報に基づいて、家電製品の運用スケジュールを計算することを特徴とする請求項８に記載の需要家エネルギー管理システム。
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月26日(2014.9.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の導電型半導体層と、
前記第１の導電型半導体層の一面上に形成される活性層と、
前記活性層の上に形成され、複数のホールを含む第２の導電型半導体層と、
前記第２の導電型半導体層の上に形成される透明電極と、を含み、
前記透明電極は、光出面に凹凸が備えられ、
前記凹凸は、凸部分が前記第２の導電型半導体層に形成されたホールと対応する位置に配置されるように形成される、半導体発光素子。
【請求項２】
前記複数のホールは、前記第２の導電型半導体層の厚さ方向に形成される、請求項１に記載の半導体発光素子。
【請求項３】
前記複数のホールは、前記第２の導電型半導体層の屈折率未満の屈折率を有する光透過性材料で充填される、請求項１又は２に記載の半導体発光素子。
【請求項４】
前記複数のホールには、空気が充填される、請求項１又は２に記載の半導体発光素子。
【請求項５】
前記透明電極は、前記複数のホールを充填しないように形成される、請求項１乃至４の何れか１項に記載の半導体発光素子。
【請求項６】
前記凹凸は、均一な形状及び周期を有するように配列される、請求項１乃至５の何れか１項に記載の半導体発光素子。
【請求項７】
前記凹凸は、レンチキュラー（ｌｅｎｔｉｃｕｌａｒ）、半球、プリズム、円錐又は多角錐の形状である、請求項１乃至６の何れか１項に記載の半導体発光素子。
【請求項８】
成長用基板上に第２の導電型半導体層、活性層及び第１の導電型半導体層を形成する段階と、
前記第１の導電型半導体層の上に導電性基板を形成する段階と、
前記成長用基板を前記第２の導電型半導体層から分離し当該第２の導電型半導体層に複数のホールを形成する段階と、
前記第２の導電型半導体層の上に透明電極を形成する段階と、を含み、
前記透明電極は、光出面に凹凸が備えられ、
前記凹凸は、前記第２の導電型半導体層に形成されたホールと対応する位置に配置されるように形成される、半導体発光素子の製造方法。
【請求項９】
前記複数のホールは、前記第２の導電型半導体層の厚さ方向に形成される、請求項８に記載の半導体発光素子の製造方法。
【請求項１０】
前記透明電極は、傾斜蒸着（ｏｂｌｉｑｕｅ  ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）によって形成される、請求項８又は９に記載の半導体発光素子の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年3月7日(2014.3.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の無線通信を行う無線通信装置を備えた通信システムに設けられる管理装置であって、
前記複数の無線通信装置から送信される前記複数の無線通信装置間の同期に関する同期情報を受信する受信部と、
前記受信部が受信した前記同期情報を管理する管理部とを備えていることを特徴とする管理装置。
【請求項２】
自装置が管理する前記同期情報に基づいて前記複数の無線通信装置の間の干渉を回避するための干渉回避処理を行う干渉制御部をさらに備えている請求項１に記載の管理装置。
【請求項３】
無線通信を行う無線通信装置としての機能をさらに備えている請求項１又は２に記載の管理装置。
【請求項４】
前記同期情報を、自装置、又は自装置以外に前記通信システムに設けられた他の管理装置のいずれで管理するかを選択する選択部をさらに備えている請求項１〜３のいずれか一項に記載の管理装置。
【請求項５】
前記選択部は、自装置又は前記他の管理装置の内、いずれか一方を優先的に選択する請求項４に記載の管理装置。
【請求項６】
前記同期情報は、前記複数の無線通信装置が自装置の内部クロックを同期させているクロック同期対象を含む請求項１〜５のいずれか一項に記載の管理装置。
【請求項７】
前記同期情報は、前記複数の無線通信装置の内の一の無線通信装置の通信タイミングと、前記一の無線通信装置以外の他の無線通信装置の通信タイミングとの間のタイミングオフセット量を含む請求項１〜５のいずれか一項に記載の管理装置。
【請求項８】
複数の無線通信を行う無線通信装置を備えた通信システムであって、
前記複数の無線通信装置から送信される前記複数の無線通信装置間の同期に関する同期情報を受信し管理する管理装置を備えていることを特徴とする通信システム。
【請求項９】
無線通信を行う無線通信装置の同期に関する同期情報を、当該同期情報を管理する管理装置に向けて送信する送信部を備えていることを特徴とする無線通信を行う無線通信装置。
【請求項１０】
無線通信を行う無線通信装置を備えた通信システムにおける前記無線通信装置の同期に関する同期情報を管理するための管理方法であって、
前記無線通信を行う無線通信装置が、前記同期情報を管理する管理装置に向けて前記同期情報を送信するステップと、
前記同期情報を受信した前記管理装置が当該同期情報を管理するステップと、を含むことを特徴とする管理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】管理装置、通信システム、無線通信装置、及び管理方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、管理装置、及びこれを用いた通信システム、無線通信を行う無線通信装置、管理方法に関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
そこで、本発明は、無線通信を行う無線通信装置における同期の状態を適切に把握し管理することができる管理装置、通信システム、無線通信装置、及び管理方法を提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
本発明によれば、無線通信を行う無線通信装置における同期の状態を適切に把握し管理することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月19日(2014.6.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の送信アンテナを用いた下りＭＩＭＯ伝送のために物理上り制御チャネルにＰＴＩ（Precoder  Type  Indicatior）を含めて移動端末装置から無線基地局装置にフィードバックするＬＴＥ−Ａ（Long  Term  Evolution−Advanced）の無線通信システムであって、
前記移動端末装置は、複数の送信アンテナを用いた下りＭＩＭＯ伝送のために物理上り制御チャネルにＰＴＩ（Precoder  Type  Indicatior）を含めて無線基地局装置にフィードバックするモードにおいて、ＰＴＩの値が０の場合にレポート２及びレポート３に対応するフィードバック情報の送信周期を、ＰＴＩ＝１の場合のレポート２及びレポート３に対応するフィードバック情報の送信周期と異ならせて多重する多重部と、多重した信号を前記物理上り制御チャネルで無線基地局装置に送信する送信部と、を具備することを特徴とする無線通信システム。
【請求項２】
ＬＴＥ−Ａシステムにおける無線基地局装置であって、複数の送信アンテナを用いた下りＭＩＭＯ伝送のために物理上り制御チャネルにＰＴＩ（Precoder  Type  Indicatior）を含めて移動端末装置が無線基地局装置にフィードバックするモードにおいて、ＰＴＩの値が０の場合にレポート２及びレポート３に対応するフィードバック情報の送信周期を、ＰＴＩ＝１の場合のレポート２及びレポート３に対応するフィードバック情報の送信周期と異ならせて多重した信号を、前記物理上り制御チャネルを介して受信することを特徴とする無線基地局装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】無線通信システム及び無線基地局装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、無線通信システム及び無線基地局装置に関し、特に、マルチアンテナ伝送に対応する無線通信システム及び無線基地局装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、複数の送信アンテナを用いた下りＭＩＭＯ伝送において、スループット特性の向上を確保しながら、プリコーディングウェイト生成に必要となるＰＭＩをフィードバックすることができる無線通信システム及び無線基地局装置を提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の無線通信システムは、複数の送信アンテナを用いた下りＭＩＭＯ伝送のために物理上り制御チャネルにＰＴＩ（Precoder  Type  Indicatior）を含めて移動端末装置から無線基地局装置にフィードバックするＬＴＥ−Ａ（Long  Term  Evolution−Advanced）の無線通信システムであって、前記移動端末装置は、複数の送信アンテナを用いた下りＭＩＭＯ伝送のために物理上り制御チャネルにＰＴＩ（Precoder  Type  Indicatior）を含めて無線基地局装置にフィードバックするモードにおいて、ＰＴＩの値が０の場合にレポート２及びレポート３に対応するフィードバック情報の送信周期を、ＰＴＩ＝１の場合のレポート２及びレポート３に対応するフィードバック情報の送信周期と異ならせて多重する多重部と、多重した信号を前記物理上り制御チャネルで無線基地局装置に送信する送信部と、を具備することを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の無線基地局装置は、ＬＴＥ−Ａシステムにおける無線基地局装置であって、複数の送信アンテナを用いた下りＭＩＭＯ伝送のために物理上り制御チャネルにＰＴＩ（Precoder  Type  Indicatior）を含めて移動端末装置が無線基地局装置にフィードバックするモードにおいて、ＰＴＩの値が０の場合にレポート２及びレポート３に対応するフィードバック情報の送信周期を、ＰＴＩ＝１の場合のレポート２及びレポート３に対応するフィードバック情報の送信周期と異ならせて多重した信号を、前記物理上り制御チャネルを介して受信することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月20日(2014.5.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】給電装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アンテナ回路へ出力した電力信号に対して受電体に送電されず前記アンテナ回路へ戻ってくる信号の割合に基づいて、前記受電体に送信する電力信号の周波数を制御する手段を有することを特徴とする給電装置。
【請求項２】
アンテナ回路へ出力した電力信号に対して受電体に送電されず前記アンテナ回路へ戻ってくる信号の割合が基準反射係数以下、または最小となるように、前記受電体に送信する電力信号の周波数を制御する手段を有することを特徴とする給電装置。
【請求項３】
電磁波を送受信する給電装置用送受信回路部と、前記給電装置用送受信回路部が送受信する電磁波の電気信号を処理する給電装置用信号処理回路部と、受電体に送信する電力を供給する電源部とが設けられ、
前記給電装置用送受信回路部は、アンテナ回路と、整流回路と、ミキサと、復調回路と、第１の発振回路と、制御手段とを含み、
前記ミキサは、前記第１の発振回路で生成される第１の電力信号と、前記制御手段で生成される第２の電力信号とを掛け合わせ、前記アンテナ回路に出力し、
前記制御手段は、カプラと、判定回路と、第２の発振回路と、第３の発振回路とを含み、
前記第２の発振回路または前記第３の発振回路の出力が前記第２の電力信号となり、
前記カプラは前記アンテナ回路から反射された信号を検出し、
前記判定回路は、前記カプラが検出した信号から反射係数を計算し、計算し得られた反射係数が基準反射係数以下か否かの判定結果を前記第２の発振回路及び前記第３の発振回路に出力、または最小の反射係数となる電力信号の周波数を検出して当該電力信号の周波数の情報を前記第２の発振回路及び前記第３の発振回路に出力し、
前記第２の発振回路は、時間的に連続的に変化する周波数の電力信号を出力し、
前記第３の発振回路は指定された１つの周波数の電力信号を出力し、
前記判定回路から判定結果が入力され、反射係数が前記基準反射係数以下であるときは、前記第２の発振回路は出力を停止し、前記第３の発振回路は出力を維持し、前記第２の電力信号は第３の発振回路の出力となり、
前記判定回路から判定結果が入力され、反射係数が前記基準反射係数より大きいときは、前記第３の発振回路は出力を停止し、前記第２の発振回路の出力を前記第２の電力信号として出力し、
前記判定回路から最小の反射係数となる電力信号の周波数の情報が前記第３の発振回路に入力されたときは、前記第２の発振回路は出力を停止し、且つ前記第３の発振回路は、最小の反射係数となる電力信号の周波数と前記第１の電力信号の周波数との差の絶対値の周波数の電力信号を前記第２の電力信号として出力することを特徴とする給電装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月9日(2014.6.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
第四の歯部５１は、いわゆるウォーム（ギヤ）部である。従動側歯車４３の軸線方向と直交する方向に延びる第四の歯部５１は、第三の歯部４３２（ウォームホイール部）と噛合している。第三の歯部４３２と第四の歯部５１とは、増速歯車機構を構成する（第三の歯部４３２の方が第四の歯部５１より歯数が多い）。よって、従動側歯車４３の回転は増速されて第四の歯部５１に伝達される。
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月25日(2014.6.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
携帯端末が存在する領域に基づいて該携帯端末が電子機器の制御を行う該電子機器の遠隔制御システムであって、
前記領域として、
前記携帯端末が侵入するときに、オフしている前記電子機器をオンする制御を行う起動領域と、
前記携帯端末が侵入するときに、オンしている前記電子機器をオフする制御を行う停止領域と、
前記起動領域と前記停止領域との間に存在する緩衝領域と、
が設定されていることを特徴とする遠隔制御システム。
【請求項２】
前記遠隔制御システムは複数の電子機器を制御することが可能であり、
それぞれの電子機器に対する前記起動領域、前記停止領域及び前記緩衝領域をそれぞれ異なる設定とすることが可能であることを特徴とする請求項１に記載の遠隔制御システム。
【請求項３】
前記携帯端末と前記電子機器は、
前記携帯端末が前記緩衝領域から前記停止領域に侵入したとき、
または、前記携帯端末が前記緩衝領域から前記起動領域に侵入したときにのみ通信を行うことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の遠隔制御システム。
【請求項４】
携帯端末が存在する領域に基づいて該携帯端末が電子機器の制御を行う該電子機器の遠隔制御システムであって、
前記領域として、
前記電子機器をオンさせる制御を行うことが可能なオン領域と、
前記電子機器をオフさせる制御を行うことが可能なオフ領域と、
前記オン領域と前記オフ領域が重畳する緩衝領域と、が設定され、
前記携帯端末は、
前記オン領域から前記緩衝領域でない前記オフ領域に侵入するときに、オンしている前記電子機器をオフする制御を行い、
前記オフ領域から前記緩衝領域でない前記オン領域に侵入するときに、オフしている前記電子機器をオンする制御を行うことを特徴とする遠隔制御システム。
【請求項５】
前記遠隔制御システムは複数の電子機器を制御することが可能であり、
それぞれの電子機器に対する前記オン領域、前記オフ領域及び前記緩衝領域をそれぞれ異なる設定とすることが可能であることを特徴とする請求項４に記載の遠隔制御システム。
【請求項６】
前記携帯端末と前記電子機器は、
前記携帯端末が前記緩衝領域から前記緩衝領域でない前記オフ領域に侵入したとき、
または、前記携帯端末が前記緩衝領域から前記緩衝領域でない前記オン領域に侵入したときにのみ通信を行うことを特徴とする請求項４または請求項５に記載の遠隔制御システム。
【請求項７】
前記携帯端末の位置は、前記携帯端末の通信する基地局の位置情報またはＧＰＳによって特定されることを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の遠隔制御システム。
【請求項８】
起動領域、停止領域、及び該起動領域と該停止領域の間の緩衝領域のいずれかに存在し、電子機器を遠隔制御可能な携帯端末であって、
前記緩衝領域から前記起動領域に侵入するときに、オフしている前記電子機器をオンさせ、
前記緩衝領域から前記停止領域に侵入するときに、オンしている前記電子機器をオフさせることを特徴とする携帯端末。
【請求項９】
前記携帯端末が前記緩衝領域から前記停止領域に侵入したとき、または、前記携帯端末が前記緩衝領域から前記起動領域に侵入したときにのみ前記電子機器と通信を行うことを特徴とする請求項８に記載の携帯端末。
【請求項１０】
携帯端末の位置に基づいて制御を行う電子機器の遠隔制御システムであって、
前記携帯端末が侵入するときに、第２の状態である前記電子機器を第１の状態に遷移させる制御を行う第１の領域と、
前記携帯端末が侵入するときに、前記第１の状態である前記電子機器を前記第２の状態に遷移させる制御を行う第２の領域と、
前記第１の領域と前記第２の領域の間に存在する緩衝領域と、
を備えることを特徴とする遠隔制御システム。
【請求項１１】
第１の領域、第２の領域、及び該第１の領域と該第２の領域の間の緩衝領域のいずれかに存在し、電子機器と通信可能な携帯端末であって、
前記緩衝領域から前記第１の領域に侵入するときに第２の状態である前記電子機器を第１の状態に遷移させ、
前記緩衝領域から前記第２の領域に侵入するときに前記第１の状態である前記電子機器を前記第２の状態に遷移させることを特徴とする携帯端末。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の遠隔制御システムは、携帯端末が存在する領域に基づいて該携帯端末が電子機器の制御を行う該電子機器の遠隔制御システムであって、前記領域として、前記携帯端末が侵入するときに、オフしている前記電子機器をオンする制御を行う起動領域と、前記携帯端末が侵入するときに、オンしている前記電子機器をオフする制御を行う停止領域と、前記起動領域と前記停止領域との間に存在する緩衝領域と、が設定されていることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月1日(2014.7.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
粒状フィラーが含有された樹脂よりなる絶縁層と導電層とが積層されてなり、前記絶縁層を貫通する貫通孔が形成された配線基板材料のデスミア処理方法において、
前記配線基板材料に対して、酸素を含むガス雰囲気下において波長２２０ｎｍ以下の紫外線を照射する紫外線照射処理工程と、
この紫外線照射処理工程を経由した配線基板材料に物理的振動を与える物理的振動処理工程と
を有することを特徴とするデスミア処理方法。
【請求項２】
前記絶縁層を貫通する前記貫通孔は、レーザ加工によって形成されたものであることを特徴とする請求項１に記載のデスミア処理方法。
【請求項３】
前記紫外線照射処理工程と前記物理的振動処理工程とを交互に繰り返すことを特徴とする請求項１または請求項２のいずれかに記載のデスミア処理方法。
【請求項４】
前記物理的振動処理工程は、超音波振動処理によって行われることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載のデスミア処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明のデスミア処理方法は、粒状フィラーが含有された樹脂よりなる絶縁層と導電層とが積層されてなり、前記絶縁層を貫通する貫通孔が形成された配線基板材料のデスミア処理方法において、
前記配線基板材料に対して、酸素を含むガス雰囲気下において波長２２０ｎｍ以下の紫外線を照射する紫外線照射処理工程と、
この紫外線照射処理工程を経由した配線基板材料に物理的振動を与える物理的振動処理工程と
を有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明のデスミア処理方法は、前記配線基板材料における前記絶縁層を貫通する前記貫通孔がレーザ加工によって形成されたものである場合に好適である。
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月1日(2014.7.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フィラーが含有された樹脂よりなる絶縁層と導電層とが積層されてなり、前記絶縁層を貫通する貫通孔が形成された配線基板材料のデスミア処理方法において、
前記配線基板材料における被処理部分に対して、当該被処理部分が湿潤した状態で紫外線を照射する湿式紫外線照射処理工程と、
この湿式紫外線照射処理工程を経由した配線基板材料に物理的振動を与える物理的振動処理工程と
を有することを特徴とするデスミア処理方法。
【請求項２】
前記湿式紫外線照射処理工程の前処理工程として、
前記配線基板材料における被処理部分が湿潤していない状態で、当該被処理部分のぬれ性を改善するぬれ性改善処理工程と、
このぬれ性改善処理工程を経由した配線基板材料における被処理部分を湿潤する湿潤処理工程と
を有することを特徴とする請求項１に記載のデスミア処理方法。
【請求項３】
前記ぬれ性改善処理工程は、前記配線基板材料における被処理部分に対して、当該被処理部分が湿潤していない状態で紫外線を照射する乾式紫外線照射処理によって行われることを特徴とする請求項２に記載のデスミア処理方法。
【請求項４】
前記物理的振動処理工程を行う前に、前記湿潤処理工程と前記湿式紫外線照射処理工程とを交互に繰り返すことを特徴とする請求項２または請求項３のいずれかに記載のデスミア処理方法。
【請求項５】
前記湿式紫外線照射処理工程と前記物理的振動処理工程とを交互に繰り返すことを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載のデスミア処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明のデスミア処理方法は、フィラーが含有された樹脂よりなる絶縁層と導電層とが積層されてなり、前記絶縁層を貫通する貫通孔が形成された配線基板材料のデスミア処理方法において、
前記配線基板材料における被処理部分に対して、当該被処理部分が湿潤した状態で紫外線を照射する湿式紫外線照射処理工程と、
この湿式紫外線照射処理工程を経由した配線基板材料に物理的振動を与える物理的振動処理工程と
を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月18日(2014.6.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子プリント基板上に実装された一または複数の半導体デバイスが電気品箱に収納された電力変換装置であって、
前記半導体デバイスに接して設けられた受熱部、該受熱部に接して設けられた伝熱部、及び該伝熱部に接して設けられた放熱部を備えるヒートパイプを備え、
前記放熱部の放熱面は、電気品箱の外郭に沿って配され、
前記放熱部は前記受熱部よりも高い位置に配され、
前記ヒートパイプ中の冷媒は、重力と温度勾配によって自発的に循環する構造であることを特徴とする電力変換装置。
【請求項２】
電子プリント基板上に実装された一または複数の半導体デバイスが屈曲した形の電気品箱に収納された電力変換装置であって、
前記半導体デバイスに接して設けられた受熱部、該受熱部に接して設けられた屈曲型の伝熱部、及び該伝熱部に接して設けられた放熱部を備えるヒートパイプを備え、
前記放熱部の放熱面は、電気品箱の外郭の前記受熱部とは異なる方向の面に沿って配され、
前記放熱部は前記受熱部よりも高い位置に配され、
前記ヒートパイプ中の冷媒は、重力と温度勾配によって自発的に循環する構造であることを特徴とする電力変換装置。
【請求項３】
前記半導体デバイス及び前記電子プリント基板が、
絶縁性及び難燃性の樹脂により形成される外装材で覆われていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の電力変換装置。
【請求項４】
前記半導体デバイスを構成する半導体素子が、ワイドギャップ半導体であることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の電力変換装置。
【請求項５】
前記放熱部の放熱面が、凹凸加工されていない平坦な構造であることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の電力変換装置。
【請求項６】
請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の電力変換装置を内部に含み、
前記放熱部がユニットの外郭に沿って配されていることを特徴とする冷蔵庫。
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月7日(2014.5.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
電気化学ポテンシャルの大きい陽極と電気化学ポテンシャルの小さい陰極を備えた電極は、離間し配置、その間に小さい布、樹脂又炭クロス（布又は樹脂に固着）を介在させつつ、さらに少し大きい布、樹脂、又は炭クロスに固着する。電極は２種類以上の金属を積層、又２種類以上の金属を平行に並べ、積層方向に見て中心を一致させた状態で縁同士が接しないようにして面積順に積層しており、電極は少なくとも２種類以上の互いに面積が異なる金属の板を電極とするが、しかし２種類以上金属は、互いに面積が等しい金属の板でも良い。又電気化学反応を減速させるには、陽極材料の面積を陰極材料の面積よりも大きくする。陽極における腐食作用に電子を供給するのは陰極材料である。陰極と陽極の両極を備えた電極は、電位差により電気化学反応（酸化還元反応）が起こり、電気力線による電場形成、静電気発生（電子）、陽イオン、陰イオンの流れをアノード、カソードに吸集、吸着現象により、微粒子、水の中にとけて「イオン」の状態になった放射性物質、金属イオン、遊物質、微生物、腸管出血性大腸菌Ｏ１５７、血液成分等は、電極表面へ吸集、固着する陰極と陽極の両極を備えた電極体に関する。
電極構成は、以下の図に示すように、電位差を持つ２種類以上の金属体、亜鉛板―銅板―銀板を積層に並べ、各異なる種類の金属を平行コンデンサーの相とすることができる。異種平行コンデンサーの異種接触面に混合伝導体（電子伝導体＋イオン伝導体）の機能する、幅の有る布、樹脂又炭クロスを亜鉛板、銅板、銀板の下に挿入、接着剤で固着する。さらに少し大きい布、樹脂、又炭クロスを固着する。２種類以上の金属板と布、樹脂、又炭クロスで例えば３層の相とし閉回路にする。すなわち回路中に異種金属接触面の間に混合伝導体として、布、樹脂、又炭クロスを入れ接着剤で固着、閉路にすることができ、さらに回路中にイオン伝導体、混合伝導体が加わる電極構成で三種類以上の相で閉路を作ると、この回路には電流がれる。さらに積層電極を水蒸気の存在のもと、水に浸漬すると発電機能と電池機能が増強された電極体となる。
本願発明は、基本構成は、金属―混合伝導体―金属の閉路を作る。そのために、混合伝導体として、布、樹脂、又炭クロスを利用、その回路に電気化学反応による、電極表面への吸集、固着を促進するため乾電池、電池、直流電源を電圧印加するものである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９３】
［図３］は、陽極材７、又は８、９、１０の外周に布、樹脂又は炭クロス１１を挿入し、接着剤１２で固着、さらに外の外周に陰極材６を巻き、材料は１８０度捻じって、表と裏がつながった「メビウスの環」を形成、表面電流が一周しただけでは、表面電流は閉じないで、二周して閉じるようにし電気化学を促進、メビウスの環に沿って一周するとベクトルは反転し、表から出発していつの間に裏に抜けるメビウスの環で、表と裏の端面が、異種材料と接触しないように、同材の両端が直線の導線、又メビウス輪状にねじった導線で結線、発生する電圧、電流値を増す電極体１３の傾視図。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０３】
［図１３］は、［００６２］の（図２．１）は、電気分解を行うときは、必ず２つの電極をそれらが互いに接触しないようにして電解質溶液（電解液）に浸して、ここに直流の電源を接続して電流を流す、導線は直流電源の＋はアノード、−はカソードに接続する塩化ナトリゥム水溶液の電気分解図。
［図１４］の電極構成は、電位差を持つ２種類以上の金属体、亜鉛板―銅板―銀板を積層に並べ、各異なる種類の金属を平行コンデンサーの相とすることができる。異種平行コンデンサーの異種接触面に混合伝導体（電子伝導体＋イオン伝導体）の機能する、幅の有る布、樹脂又炭クロスを亜鉛板、銅板、銀板の下に挿入、接着剤で固着する。さらに少し大きい布、樹脂、炭クロスを固着する。２種類以上の金属板と布、樹脂又炭クロスで例えば３層の相とし閉回路にする。すなわち回路中に異種金属接触面の間に混合伝導体として、布、樹脂、又炭クロスを入れ接着剤で固着、閉路にすることができ、さらに回路中にイオン伝導体、混合伝導体が加わる電極構成で三種類以上の相で閉路を作ると、この回路には電流がれる。さらに積層電極を水蒸気の存在のもと、水に浸漬すると発電機能と電池機能が増強された電極体となる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０４】
【図１】本発明の実態形態を示す直流電源で電圧印加する電極体の部分断面図
【図２】電位差を大きくするため、陰極面積は陽極面積よりを大きくした電極                体の傾視図
【図３】電極体の電圧、電流を増やすための「メビウスの環」の傾視図
【図４】中心部に陽極、外周に陰極を配置した電極体の平面図
【図５】図４電極体のＡ−Ａ断面図
【図６】細胞に及ぼす種々の電気効果を示す図
【図７】電極体は直流電源で電圧印加した時の電圧波形図
【図８】電極体は直流電源を印加しない時の電圧波形図
【図９】電極体は直流電源で電圧印加、配線した電極
【図１０】電極体は直流電源で印加しない電極
【図１１】鉛蓄電池の充電法図
【図１２】ＺｎＯの電解採取図
【図１３】塩化ナトリゥム水溶液の電気分解図
【図１４】３積層電極体の構成断面図
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１４
【補正方法】追加
【補正の内容】
【図１４】
2014127466.tif 000001
【手続補正６】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
電気化学ポテンシャル列の大きい電極と電気化学ポテンシャル列の小さい電極は積層、又は平行に組み込み電気二重層キャパシタを形成、その間に布、樹脂、又は炭クロスを挿入、少し大きい布、樹脂、又は炭クロスに固着、陰極と陽極を創り、電気化学ポテンシャル列の電位差（起電力）を原動力として、さらに外部からの電力供給により、電気化学反応（酸化還元反応）は起こり、マイナス電極（陰極）からプラス電極（陽極）に向けて絶えず電子の流れ「電流」、「直流静電気」が発生、マイナスイオンが電極の「プラス電気極」に吸い付けられる（吸着作用）、次々に「マイナス電極」に運ばれていき、マイナス電極側からマイナス電子がはじき飛ばされ（放電、反発作用）プラス電極へ、電気力線に沿って飛んでいき電場が形成、その結果、浮遊する微粒子、水、海水に溶けた放射性物質の「イオン」、並びに水に浮遊する微生物は陰極、又は陽極の電極表面へ電荷移動過程、物質（イオン）移動過程で吸集、固着により除去、又は滅菌するために、陰極と陽極を備えたことを特徴とする電極体。
【手続補正書】
【提出日】平成26年2月24日(2014.2.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
芳香料を霧状の液滴として吐出する水密性芳香料定量吐出装置であって、
前記装置から芳香料を吐出させるスプレーヘッド（１）と、
前記芳香料を前記スプレーヘッドに供給する液体容器（３）とを備え、前記容器は、
第１次容器（３１）と、
第２次容器（３４）と、
前記液体容器と前記スプレーヘッド（１）とを接続する毛細管液体供給部（３３）と、
底部筐体（２）と、
前記底部筐体内に配置され、前記装置からの芳香料の定量吐出を制御する電子制御手段（２３）とを備え、
前記第２次容器（３４）は、前記第１次容器（３１）内に設けられており、かつ前記毛細管液体供給部（３３）と直に接しており、前記第１次容器よりも小型で、前記装置から吐出される単位用量の芳香料を収容し、当該単位用量は装置を起動させた際に吐出される液体の量に対応しており、
前記スプレーヘッド（１）は、さらに、スプレーヘッド本体（１２）を備え、
前記スプレーヘッド本体（１２）は、
排出される液体を収容する加圧室（１７ａ）を有する空間部（１７）と、
前記液体が排出される液体排出手段を有するノズル本体（１６）と、
前記液体が振動し、前記液体排出手段に接触することにより前記装置から霧状の液滴として排出されるように、超音波エネルギーを生成し、かつ、前記超音波エネルギーを前記加圧室（１７ａ）内の液体に伝播する振動素子（１１２）とを備える
水密性芳香料定量吐出装置。
【請求項２】
前記装置は、さらに、前記容器（３）から前記スプレーヘッド（１）までの液体の制御および供給を行う毛細管バルブ手段（１８、１９）を備える
請求項１に記載の水密性芳香料定量吐出装置。
【請求項３】
前記容器（３）は略矩形状であり、この長辺を下にして前記容器が水平に配置されるように、短辺は丸みがあり薄い形状である
請求項１または２に記載の水密性芳香料定量吐出装置。
【請求項４】
前記装置は、さらに、前記振動素子（１１１）と前記空間部（１７）との間に配置され、前記振動素子（１１１）の振動によって生成された超音波エネルギーを前記加圧室（１７ａ）に収容されている液体に伝播させるアクチュエート部（１１２）を備える
上記請求項のいずれか１項に記載の水密性芳香料定量吐出装置。
【請求項５】
前記第２次容器（３４）は、ウィックであり、前記毛細管液体供給部（３３）とは異なる
上記請求項のいずれか１項に記載の水密性芳香料定量吐出装置。
【請求項６】
前記スプレーヘッド（１）は、さらに、前記ノズル本体（１６）を覆って前記水密性芳香料定量吐出装置からの液体漏れを防止するカバー部材（１５）を備え、前記カバー部材（１５）は、前記ノズル本体（１６）の上方に配置され、前記ノズル本体（１６）の前記複数のノズルと一直線上に配置される中央開口部を備える
請求項１に記載の水密性芳香料定量吐出装置。
【請求項７】
前記カバー部材（１５）は、前記ノズル本体（１６）から漏れ出す液体を受けるバッファ室（１５ａ）を備える
請求項６に記載の水密性芳香料定量吐出装置。
【請求項８】
前記スプレーヘッド（１）は、さらに、前記ノズル本体（１６）の前記複数のノズルを保護するように前記ノズル本体（１６）を覆う位置と、前記ノズル本体（１６）の前記複数のノズルを露出させる位置との間を移動することができるノズルマスク（１４）を備える
請求項１に記載の水密性芳香料定量吐出装置。
【請求項９】
前記電子制御手段（２３）は、パルス動作で作動する
上記請求項のいずれか１項に記載の水密性芳香料定量吐出装置。
【請求項１０】
前記装置は、さらに、前記電子制御手段（２３）の電力を供給する電池（２４）を備える
上記請求項のいずれか１項に記載の水密性芳香料定量吐出装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月8日(2014.5.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スクリュ式押出機であって、
材料を入れる供給ホッパであって、前記供給ホッパは、
少なくとも１つの供給口および少なくとも１つの出口を備える本体部分と；
前記本体部分内に配置された１個以上の一連のコンベアスクリュ部材と；
前記コンベアスクリュ部材の間に組み入れられている１個以上の一連の送り翼、移動しない翼、戻し翼をもつ混練部材と；
前記コンベアスクリュ部材と前記１個以上の一連の混練部材を前記押出機の長軸方向に規定されている経路に沿って回転させるドライブシャフトと；つながっており、
前記スクリュ式押出機が、前記１個以上の一連の混練部材を備えた前記供給ホッパから入った材料を混合する構成になっており、前記供給ホッパに対して遠い端部において前記１個以上の混練部材と２個以下のコンベアスクリュ部材との間に１個以上のコンベアスクリュ部材が存在し、前記混練部材の数は、前記コンベアスクリュ部材の数より大きい、スクリュ式押出機。
【請求項２】
前記スクリュ押出機は、前記供給ホッパから離れるにつれて増加する順番で番号づけされた、略等しい長さの少なくとも１２個のセクションに分けられている、請求項１に記載のスクリュ式押出機。
【請求項３】
前記供給ホッパは、２つの第１のセクションのうちの一方に接続されて、前記供給ホッパに対して近い端部において前記１個以上の一連のコンベアスクリュ部材から、樹脂、中和剤、界面活性剤を有する混合物を受け取って運ぶ、請求項２に記載のスクリュ押出し機。
【請求項４】
１個以上の一連の送り翼、戻し翼、移動しない翼をもつ混練部材をセクション６−９に有し、前記混練部材のらせん角度は約４５°〜約９０°であり、混練部材の組み合わせは、全ての送り翼をもつ混練部材を備えるセクションとの関連で、前記スクリュ式押出機内にコロイド状分散物が滞留する時間を長くし、前記混練部材が、激しい分散混合を促進し、滞留時間を長くして、材料間の反応を促進する、請求項２に記載のスクリュ押出し機。
【請求項５】
樹脂を乳化するような構成のスクリュ式押出機であって、
少なくともＮａＯＨおよび樹脂を入れる供給ホッパと；
ここで、前記供給ホッパは、少なくとも１つの供給口および少なくとも１つの出口を有する可とう性で細長い本体部分と連絡しており、前記少なくとも１つの供給口は、少なくとも１つのポンプと接続されており、前記供給ポートとポンプの組み合わせによって、前記押出機は、前記ＮａＯＨと樹脂を制御された速度で受け取ることができ、任意に前記少なくとも１つの出口はコンデンサに接続されている、
前記本体部分内に配置された１個以上の一連のコンベアスクリュ部材であって、該コンベアスクリュ部材は、前記押出機の長軸方向に規定されている経路に沿って回転するように動かすことができる、前記コンベアスクリュ部材と；
前記コンベアスクリュ部材の間に組み入れられている１個以上の一連の送り翼、移動しない翼、戻し翼をもつ混練部材と；
前記コンベアスクリュと１個以上の混練部材を前記経路に沿って回転させるためにドライブシャフトに接続されたモータと；
前記コンベアスクリュと混練部材の回転は、重縮合段階での前記ＮａＯＨと樹脂の混合を容易にするものであり、前記供給ホッパに対して遠い端部において前記１個以上の混練部材と２個以下のコンベアスクリュ部材との間に１個以上のコンベアスクリュ部材が存在し、前記混練部材の数は、前記コンベアスクリュ部材の数より大きい、スクリュ式押出機。
【請求項６】
前記スクリュ押出機は、前記供給ホッパから離れるにつれて増加する順番で番号づけされる、略等しい長さの少なくとも１２個のセクションに分けられており、１個以上の一連の送り翼、戻し翼、移動しない翼をもつ混練部材をセクション６−９に有し、前記混練部材のらせん角度は約４５°〜約９０°であり、混練部材の組み合わせは、全ての送り翼をもつ混練部材を備えるセクションとの関連で、前記スクリュ式押出機内にコロイド状分散物が滞留する時間を長くし、前記混練部材が、激しい分散混合を促進し、滞留時間を長くして、材料間の反応を促進する、請求項５に記載のスクリュ押出し機。
【請求項７】
連続した無溶媒乳化プロセスでラテックスエマルションを製造する方法であって、
ドライブシャフトによって、経路に沿って回転するように動かされるスクリュを備えた請求項１の前記スクリュ式押出機の供給ホッパに、制御された速度で材料を供給することと；
前記スクリュ式押出機の経路内で、前記材料を放散混合によって溶融することと；
前記溶融し、混合した材料に、第１の量の水を注入することと；
前記材料を、第１の一連の１個以上の送り翼、移動しない翼、戻し翼をもつ混練部材で混合することと；
第２の量の水を注入することと；
第２の一連の混練部材を適用することと；
前記スクリュ式押出機の出口から、コロイド状分散物を回収することとを含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月20日(2014.6.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撥油性ポリマー表面コーティングを有するデバイスを製造する方法であって、
導電面を準備し、
シラン含有組成物の薄層を得るために、前記導電面をシラン含有組成物で処理し、
電解質およびモノマーを含む電解質溶液を準備し、
撥油性ポリマー表面コーティングを得るために、前記電解質溶液の存在下、前記処理した導電面上で電気化学重合を行う、方法。
ここで、前記モノマーは、下記のモノマー、又はこれらの混合物からなる群より選択され、
2011240702.tif 000001
Ｒはフルオロアルキル基、ペルフルオロアルキル基、フルオロアルコキシル基、−（ＣＨ2）x−Ｌ−（ＣＨ2）yＣnＦ2n+1からなる群から選択される置換基であり、Ｌは二価のエーテル結合、ｘ及びｙはそれぞれ０〜６の整数、ｎは１〜２０の整数であり、Ａはアルキル基、フルオロアルキル基からなる群から選択される置換基である。
【請求項２】
前記シラン含有組成物は、アミノアルキルシラン、メルカプトアルキル−シラン、シラン含有ピロールからなる群より選択される加水分解性シラン、又はこれらの混合物を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記撥油性ポリマー表面コーティングは、下記の繰り返し単位、又はこれらの混合物からなる群より選択される繰り返し単位を含有するフルオロポリマー組成物を含む、請求項１に記載の方法。
2011240702.tif 000002
ここで、Ｒはフルオロアルキル基、ペルフルオロアルキル基、フルオロアルコキシル基、−（ＣＨ2）x−Ｌ−（ＣＨ2）yＣnＦ2n+1からなる群から選択される置換基であり、Ｌは二価のエーテル結合、ｘ及びｙはそれぞれ０〜６の整数、ｎは１〜２０の整数であり、Ａはアルキル基、フルオロアルキル基からなる群から選択される置換基である。
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月24日(2014.7.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
空気導入口３５２と内部連通口３４５とは、使用状態において第１の収容室３４０Ｆの底面を構成する底面壁３７０Ｃ３の異なる位置にそれぞれ形成されている。底面壁３７０Ｃ３は、使用状態において水平面を構成する。また、内部連通口３４５は、液体収容室区画壁のうち、使用状態において液体収容室３４０を挟んで第２の壁３７０Ｃ２と対向する底面壁３７０Ｃ３に位置する。また、液体出口３４９は、底面壁３７０Ｃ３とは異なる壁に形成されている。詳細には、液体出口３４９は、使用状態において水平面に対して立設状態（本実施例では、垂直状態）となる壁３７０Ｃ４に設けられている。
【手続補正書】
【提出日】平成26年3月4日(2014.3.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体と、該支持体上に該支持体から近い側から順に、第１のインク受容層と第２のインク受容層とを有するインクジェット記録媒体であって、
該第１のインク受容層及び該第２のインク受容層は、いずれも、アルミナ及びアルミナ水和物から選ばれる少なくとも１種と、ポリビニルアルコールと、ホウ酸及びホウ酸塩から選ばれる少なくとも１種と、水溶性ジルコニウム化合物とを含有し、
該第１のインク受容層における、アルミナ及びアルミナ水和物の合計含有量に対する、ホウ酸及びホウ酸塩と水溶性ジルコニウム塩の合計含有量が、該第２のインク受容層における、アルミナ及びアルミナ水和物の合計含有量に対する、ホウ酸及びホウ酸塩と水溶性ジルコニウム塩の合計含有量よりも多いことを特徴とするインクジェット記録媒体。
【請求項２】
前記水溶性ジルコニウム塩が、酢酸ジルコニルである請求項１に記載のインクジェット記録媒体。
【請求項３】
前記第１のインク受容層における、アルミナ及びアルミナ水和物の合計含有量に対する、ホウ酸及びホウ酸塩と水溶性ジルコニウム塩の合計含有量と、前記第２のインク受容層における、アルミナ及びアルミナ水和物の合計含有量に対する、ホウ酸及びホウ酸塩と水溶性ジルコニウム塩の合計含有量との差が、０．２質量％以上３．０質量％以下である請求項１又は２に記載のインクジェット記録媒体。
【請求項４】
前記第１のインク受容層における、アルミナ及びアルミナ水和物の合計含有量に対するホウ酸及びホウ酸塩の合計含有量が、１．０質量％以上２．５質量％以下であり、
前記第２のインク受容層におけるアルミナ及びアルミナ水和物の合計含有量に対するホウ酸及びホウ酸塩の合計含有量が、０．３質量％以上２．０質量％以下である請求項１乃至３の何れか１項に記載のインクジェット記録媒体。
【請求項５】
前記第１のインク受容層における、アルミナ及びアルミナ水和物の合計含有量に対する、水溶性ジルコニウム化合物の含有量が、０．３質量％以上２．２０質量％以下であり、
前記第２のインク受容層における、アルミナ及びアルミナ水和物の合計含有量に対する、水溶性ジルコニウム化合物の含有量が、０．０５質量％以上１．００質量％以下である請求項１乃至４の何れか１項に記載のインクジェット記録媒体。
【請求項６】
前記第１のインク受容層における、アルミナ及びアルミナ水和物の合計含有量に対する、ポリビニルアルコールの含有量が、７．０質量％以上１５．０質量％以下であり、
前記第２のインク受容層における、アルミナ及びアルミナ水和物の合計含有量に対する、ポリビニルアルコールの含有量が、５．０質量％以上１３．０質量％以下である請求項１乃至５の何れか１項に記載のインクジェット記録媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記課題を解決する本発明は、支持体と、該支持体上に該支持体から近い側から順に、第１のインク受容層と第２のインク受容層とを有するインクジェット記録媒体であって、該第１のインク受容層及び該第２のインク受容層は、いずれも、アルミナ及びアルミナ水和物から選ばれる少なくとも１種と、ポリビニルアルコールと、ホウ酸及びホウ酸塩から選ばれる少なくとも１種と、水溶性ジルコニウム化合物とを含有し、該第１のインク受容層における、アルミナ及びアルミナ水和物の合計含有量に対する、ホウ酸及びホウ酸塩と水溶性ジルコニウム塩の合計含有量が、該第２のインク受容層における、アルミナ及びアルミナ水和物の合計含有量に対する、ホウ酸及びホウ酸塩と水溶性ジルコニウム塩の合計含有量よりも多いことを特徴とするインクジェット記録媒体である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
＜インクジェット記録媒体＞
本発明のインクジェット記録媒体は、支持体と、該支持体上に２層以上のインク受容層とを有する。２層以上のインク受容層のうちの２層のインク受容層は、支持体から近い側のインク受容層（下層、第１のインク受容層）と、支持体から遠い側のインク受容層（上層、第２のインク受容層）とからなる。これら２層のインク受容層は、乾燥塗工量が少なくとも０．１ｇ／ｍ２以上の層のことである。上層の上には、例えば光沢調整等の目的で、本発明に規定されない層であって塗工量が０．１ｇ／ｍ２より少ない最表面層を形成してもよい。最表面層は、気相法シリカ、コロイダルシリカ、その他無機微粒子、有機微粒子等の粒子及び親水性バインダー及びその他架橋剤、活性剤等からなる層であることが好ましい。下層は支持体上に直接設けてもよいが、例えば密着性やインク定着性等を向上させるため、下層と支持体との間に本発明に規定する層とは別の層（プレコート層）を設けてもよい。プレコート層は特に限定されるものではなく、公知の組成の層であってよい。