Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月15日(2013.11.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリエステルフィルムと、前記ポリエステルフィルム上に形成された易接着層と、前記易接着層上に形成されたハードコート層と、前記ハードコート層上に形成された低屈折率層とを有して成る反射防止フィルムであって、
前記ハードコート層の屈折率が１．５８〜１．８５であり、
前記易接着層の屈折率が１．６１〜１．７５であり、
前記易接着層が形成されたポリエステルフィルムの易接着層側の反射率が６．１％以上８％以下であり、
前記低屈折率層の屈折率が１．３０〜１．４５であることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項２】
前記易接着層の膜厚が、５ｎｍ〜９０ｎｍであることを特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
前記ハードコート層が、チタン、アルミニウム、セリウム、イットリウム、ジルコニウム、ニオブ、及びアンチモンからなる群から選択される少なくとも１つを含む酸化物から成る高屈折率粒子を含んでなることを特徴とする請求項１又は２に記載の反射防止フィルム。
【請求項４】
前記ハードコート層は帯電防止剤を含んで成ることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項５】
前記帯電防止剤が、インジウム、亜鉛、錫、及びアンチモンからなる群から選択される少なくとも１つを含む酸化物からなる導電性ナノ粒子であることを特徴とする請求項４記載の反射防止フィルム。
【請求項６】
前記ハードコート層のシート抵抗が、１０１５Ω／□以下であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項７】
さらに、屈折率１．６０〜２．００の第２ハードコート層を前記ハードコート層と前記低屈折率層との間に有してなり、前記第２ハードコート層の屈折率は、前記ハードコート層の屈折率より高いことを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項８】
第２ハードコート層の光学膜厚が８０ｎｍ〜６００ｎｍであることを特徴とする請求項７記載の反射防止フィルム。
【請求項９】
前記低屈折率層上に防汚層を有することを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれかに記載の反射防止フィルムを製造する方法であって、
屈折率が１．６１〜１．７５の易接着層を有する、反射率が６．１％以上８％以下のポリエステルフィルムを準備する工程、
前記易接着層上に屈折率が１．５８〜１．８５のハードコート層を形成する工程、および
前記ハードコート層上に屈折率が１．３０〜１．４５の低屈折率層を形成する工程
を含んで成る方法。
【請求項１１】
低屈折率層上に防汚層を形成する工程を更に含む、請求項１０に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明は、ポリエステルフィルムと、前記ポリエステルフィルム上に形成された易接着層と、前記易接着層上に形成されたハードコート層と、前記ハードコート層上に形成された低屈折率層とを有して成る反射防止フィルムであって、前記ハードコート層の屈折率が１．５８〜１．８５であり、前記易接着層の屈折率が１．６１〜１．７５であり、前記易接着層が形成された前記ポリエステルフィルムの前記易接着層側の反射率が６．１％以上８％以下であり、前記低屈折率層の屈折率が１．３０〜１．４５であることを特徴とする反射防止フィルムを提供する。
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月13日(2014.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
このため、図９に示すように、電界緩和領域ＥＲでは、コンデンサＣ１Ｖに加えて、フローティングシリコン層（電極）２１、絶縁膜（誘電体）１７およびポリシリコン膜（電極）２２ｃによるコンデンサＣ２Ｖと、ポリシリコン膜（電極）２２ｃ、絶縁膜（誘電体）１７およびコレクタ電極（電極）１８によるコンデンサＣ３Ｖとが直列に接続された構造になる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７７】
このため、図１１に示すように、電界緩和領域ＥＲでは、コンデンサＣ１Ｖに加えて、フローティングシリコン層（電極）２１、絶縁膜（誘電体）２３およびポリシリコン膜（電極）２２ｄによるコンデンサＣ２Ｖと、ポリシリコン膜（電極）２２ｄ、絶縁膜（誘電体）２３，１７およびポリシリコン膜（電極）２２ｃによるコンデンサＣ３Ｖと、ポリシリコン膜（電極）２２ｃ、絶縁膜（誘電体）１７およびコレクタ電極（電極）１８によるコンデンサＣ４Ｖとが直列に接続された構造になる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１０】
この場合には、図７について説明したのと同様に、高電圧が印加されるエミッタ電極４８（Ｎ-半導体層３ａ）とフローティングシリコン層２１との電圧が、コンデンサＣ１Ｈによる電圧降下と、コンデンサＣ２Ｈによる電圧降下と、コンデンサＣ３Ｈによる電圧降下と、コンデンサＣ４Ｈによる電圧降下とに分割されることになる。その結果、半導体装置ＳＤにおいて、特に、横方向の電界が緩和されることになる。しかも、半導体素子を電気的に分離するためのトレンチ分離構造を形成する際に同時に形成することで、工程数を増やすことなく電界緩和領域ＥＲを形成することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月26日(2013.12.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パワーモジュール用基板の製造方法であって、
セラミックス基板上に、外形がこのセラミックス基板よりも大きく該セラミックス基板から面方向に突出する突出部を有する金属板を前記セラミックス基板と同形状のろう材を介して重ねる積層工程と、
前記セラミックス基板と前記金属板とを加熱状態で厚さ方向に圧縮してこれらを前記ろう材によって接合する加熱圧縮工程と、
前記突出部を除去する除去工程と、
を有することを特徴とするパワーモジュール用基板の製造方法。
【請求項２】
前記加熱圧縮工程において、前記セラミックス基板と前記金属板との間から前記ろう材の余剰分を漏出させて前記突出部の表面に保持させ、
前記除去工程において、前記突出部に保持された前記ろう材の余剰分を除去することを特徴とする請求項１に記載のパワーモジュール用基板の製造方法。
【請求項３】
前記除去工程の前に前記金属板をエッチングして回路パターンを形成する回路形成工程と、
前記回路パターンを位置基準として、互いに接合された前記セラミックス基板および前記金属板を所定寸法のパワーモジュール用基板に分割する分割加工工程と、
を有することを特徴とする請求項１または２に記載のパワーモジュール用基板の製造方法。
【請求項４】
前記加熱圧縮工程の後に前記金属板をエッチングして回路パターンを形成する回路形成工程を有し、
この回路形成工程は前記除去工程を含み、前記回路パターンの形成時に前記突出部および前記余剰分を前記エッチングにより除去する工程であることを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載のパワーモジュール用基板の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】パワーモジュール用基板の製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、大電流、高電圧を制御する半導体装置に用いられるパワーモジュール用基板の製造方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、回路面へのろう材の付着がなく、金属板とセラミックス基板とが確実に接合されるパワーモジュール用基板の製造方法を提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明のパワーモジュール用基板の製造方法においては、次のような製造中間体を用いるとよい。その製造中間体は、セラミックス基板と、このセラミックス基板の表面にろう材によって接合されている金属板とを有し、前記金属板には、前記セラミックス基板から面方向に突出する突出部が形成され、前記金属板の前記突出部における前記セラミックス基板側の表面に、前記セラミックス基板と前記金属板との間から漏出した前記ろう材の余剰分が保持されている。
このパワーモジュール用基板の製造中間体によれば、この突出部をつかんで搬送することができる。また、ろう材の余剰分が金属板の突出部に保持されているので、セラミックス基板と金属板とが確実に接合されるとともに、金属板の表面すなわち回路形成面へのろう材の付着を確実に阻止することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は、パワーモジュール用基板の製造方法であって、セラミックス基板上に、外形がこのセラミックス基板よりも大きく該セラミックス基板から面方向に突出する突出部を有する金属板をセラミックス基板と同形状のろう材を介して重ねる積層工程と、前記セラミックス基板と前記金属板とを加熱状態で厚さ方向に圧縮してこれらを前記ろう材によって接合する加熱圧縮工程と、前記突出部を除去する除去工程と、を有することを特徴とする。
本発明において、前記加熱圧縮工程において、前記セラミックス基板と前記金属板との間から前記ろう材の余剰分を漏出させて前記突出部の表面に保持させ、前記除去工程において、前記突出部に保持された前記ろう材の余剰分を除去するとよい。
本発明において、前記除去工程の前に前記金属板をエッチングして回路パターンを形成する回路形成工程と、前記回路パターンを位置基準として、互いに接合された前記セラミックス基板および前記金属板を所定寸法のパワーモジュール用基板に分割する分割加工工程と、を有するとよい。
本発明において、前記加熱圧縮工程の後に前記金属板をエッチングして回路パターンを形成する回路形成工程を有し、この回路形成工程は前記除去工程を含み、前記回路パターンの形成時に前記突出部および前記余剰分を前記エッチングにより除去する工程であるとよい。
この製造方法によれば、セラミックス基板の表面全面に対してろう材を接触させるので、十分な量のろう材によってセラミックス基板と金属板とを確実に接合することができる。また、セラミックス基板と金属板との間にはみ出したろう材の余剰分をこの突出部に保持させることができる。そして、余剰分を保持した突出部を除去することにより、回路形成面にろう材の付着がないパワーモジュール用基板を容易に形成することができる。
この製造方法において、前記セラミックス基板を搬送する際に、前記突出部をチャックすることが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月5日(2013.12.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１及び第２のトランジスタと、第１乃至第７のスイッチと、第１及び第２の容量素子と、を有し、
前記第１のスイッチは、前記第１のトランジスタのゲートと電気的に接続され、
前記第１の容量素子の第１の端子は、前記第１のトランジスタのゲートと電気的に接続され、
前記第２のスイッチの第１の端子は、入力端子と接続され、
前記第２のスイッチの第２の端子は、前記第１の容量素子の第２の端子と電気的に接続され、
前記第３のスイッチの第１の端子は、前記第１の容量素子の第２の端子と電気的に接続され、
前記第３のスイッチの第２の端子は、前記第１のトランジスタのソースと電気的に接続され、
前記第４のスイッチの第１の端子は、前記第２のトランジスタのゲートと電気的に接続され、
前記第４のスイッチの第２の端子は、前記第２のトランジスタのドレインと電気的に接続され、
前記第２の容量素子は、前記第２のトランジスタのゲートと電気的に接続され、
前記第１のトランジスタと前記第５のスイッチと前記第２のトランジスタとは、第１の配線と第２の配線との間に電気的に直列接続され、
前記第６のスイッチの第１の端子は、前記第１のトランジスタのソース又は前記第２のトランジスタのドレインと電気的に接続され、
前記第６のスイッチの第２の端子は、出力端子と電気的に接続され、
前記第７のスイッチの第１の端子は、前記第１のトランジスタのドレインと電気的に接続され、
前記第７のスイッチの第２の端子は、前記第１のトランジスタのソースと電気的に接続されることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記第２のスイッチは、信号に依存してオン又はオフが制御され、
前記第６のスイッチは、前記信号に依存してオン又はオフが制御されることを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２において、
前記第１のトランジスタのゲート長は、前記第２のトランジスタのゲート長と異なる値であることを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項において、
前記第１のトランジスタのゲート幅は、前記第２のトランジスタのゲート幅と異なる値であることを特徴とする半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月4日(2013.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
印刷デバイスを用いて印刷媒体上に画像を形成し印刷物を生産するためのジョブの実行単位である印刷ジョブ毎にデバイスリンクプロファイルを設定するプロファイル設定装置であって、
実行対象の印刷ジョブに対して、前記印刷デバイス、前記印刷媒体、再現対象の色空間特性である入力色空間特性、及び前記印刷物の色空間特性である出力色空間特性の種目の組み合わせを指定する印刷条件指定部と、
前記印刷条件指定部により指定された前記組み合わせに応じたデバイスリンクプロファイルを、前記実行対象の印刷ジョブに対して設定するプロファイル設定部と
を有することを特徴とするプロファイル設定装置。
【請求項２】
請求項１記載のプロファイル設定装置において、
前記デバイスリンクプロファイルに関するデータベースを参照し、前記組み合わせに応じた前記デバイスリンクプロファイルを検索するプロファイル検索部を更に有し、
前記プロファイル設定部は、前記プロファイル検索部による検索結果に基づいて前記デバイスリンクプロファイルを設定する
ことを特徴とするプロファイル設定装置。
【請求項３】
請求項２記載のプロファイル設定装置において、
前記プロファイル検索部は、前記組み合わせに応じたデバイスリンクプロファイルが存在しない場合、予め決定されたデフォルトのデバイスリンクプロファイルを選択することを特徴とするプロファイル設定装置。
【請求項４】
印刷デバイスを用いて印刷媒体上に画像を形成し印刷物を生産するためのジョブの実行単位である印刷ジョブ毎にデバイスリンクプロファイルを設定する装置を用いたプロファイル設定方法であって、
実行対象の印刷ジョブに対して、前記印刷デバイス、前記印刷媒体、再現対象の色空間特性である入力色空間特性、及び前記印刷物の色空間特性である出力色空間特性の種目の組み合わせを指定するステップと、
指定された前記組み合わせに応じたデバイスリンクプロファイルを、前記実行対象の印刷ジョブに対して設定するステップと
を備えることを特徴とするプロファイル設定方法。
【請求項５】
印刷デバイスを用いて印刷媒体上に画像を形成し印刷物を生産するためのジョブの実行単位である印刷ジョブ毎にデバイスリンクプロファイルを設定するためのプログラムであって、
コンピュータを、
実行対象の印刷ジョブに対して、前記印刷デバイス、前記印刷媒体、再現対象の色空間特性である入力色空間特性、及び前記印刷物の色空間特性である出力色空間特性の種目の組み合わせを指定する印刷条件指定部、
前記印刷条件指定部により指定された前記組み合わせに応じたデバイスリンクプロファイルを、前記実行対象の印刷ジョブに対して設定するプロファイル設定部
として機能させることを特徴とするプログラム。
【請求項６】
請求項１〜３のいずれか１項に記載のプロファイル設定装置と、
デバイスリンクプロファイルに関するデータベースが構築され、前記プロファイル設定装置と相互に通信可能であるサーバ装置と
を有することを特徴とするプロファイル管理システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６】
2013232868.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成26年1月28日(2014.1.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数段階の異なる露出量で撮影を行った露出プラスで撮影されたデータと標準露出で撮影されたデータと露出マイナスで撮影されたデータとを取得する取得手段と、
ユーザによって第１の指示が入力された場合、前記露出プラスで撮影されたデータと前記標準露出で撮影されたデータと前記露出マイナスで撮影されたデータのうちのいずれか１つのデータを出力し、ユーザによって第２の指示が入力された場合、前記露出プラスデータと前記標準露出データと前記露出マイナスデータのうちの少なくとも２つを合成したデータを出力する出力手段と
を有することを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
前記出力手段は、ユーザによって第３の指示が入力された場合、前記露出プラスで撮影されたデータと前記標準露出で撮影されたデータと前記露出マイナスで撮影されたデータのうちのいずれか１つのデータに対して補正処理を行い、当該補正処理後のデータを出力することを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記補正処理は、明るさを補正する処理であることを特徴とする請求項１または２に記載の情報処理装置。
【請求項４】
複数段階の異なる露出量で撮影を行った露出プラスで撮影されたデータと標準露出で撮影されたデータと露出マイナスで撮影されたデータとを取得する取得工程と、
ユーザによって第１の指示が入力された場合、前記露出プラスで撮影されたデータと前記標準露出で撮影されたデータと前記露出マイナスで撮影されたデータのうちのいずれか１つのデータを出力し、ユーザによって第２の指示が入力された場合、前記露出プラスデータと前記標準露出データと前記露出マイナスデータのうちの少なくとも２つを合成したデータを出力する出力工程と
を有することを特徴とする情報処理方法。
【請求項５】
コンピュータを、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の情報処理装置の各手段として機能させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
しかしながら、特許文献１、２、３においては、複数段階の異なる露出量で撮影を行った露出プラスで撮影されたデータと標準露出で撮影されたデータと露出マイナスで撮影されたデータとを取得し、ユーザによって第１の指示が入力された場合、露出プラスで撮影されたデータと標準露出で撮影されたデータと露出マイナスで撮影されたデータのうちのいずれか１つのデータを出力し、ユーザによって第２の指示が入力された場合、露出プラスデータと標準露出データと露出マイナスデータのうちの少なくとも２つを合成したデータを出力する技術の開示がなかった。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
上記課題を解決するため、情報処理装置は次の構成を有する。すなわち、複数段階の異なる露出量で撮影を行った露出プラスで撮影されたデータと標準露出で撮影されたデータと露出マイナスで撮影されたデータとを取得する取得手段と、ユーザによって第１の指示が入力された場合、前記露出プラスで撮影されたデータと前記標準露出で撮影されたデータと前記露出マイナスで撮影されたデータのうちのいずれか１つのデータを出力し、ユーザによって第２の指示が入力された場合、前記露出プラスデータと前記標準露出データと前記露出マイナスデータのうちの少なくとも２つを合成したデータを出力する出力手段とを有する。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
本発明によれば、複数段階の異なる露出量で撮影を行った露出プラスで撮影されたデータと標準露出で撮影されたデータと露出マイナスで撮影されたデータとを取得する取得手段と、ユーザによって第１の指示が入力された場合、前記露出プラスで撮影されたデータと前記標準露出で撮影されたデータと前記露出マイナスで撮影されたデータのうちのいずれか１つのデータを出力し、ユーザによって第２の指示が入力された場合、前記露出プラスデータと前記標準露出データと前記露出マイナスデータのうちの少なくとも２つを合成したデータを出力する出力手段とを有する情報処理装置を提供することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月19日(2013.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
通信のために割当てられる仮想リソースブロック（ＶＲＢ）を決定することと、
第１写像関数に基づいて、前記ＶＲＢを第１物理リソースブロック（ＰＲＢ）に写像することと、
ステップサイズ及び前記ＶＲＢについて設定可能であるホップ値を備えるオフセットを加えた前記第１写像関数の出力に等しい第２写像関数に基づいて、前記ＶＲＢを第２ＰＲＢに写像することと、
通信のために前記第１ＰＲＢと前記第２ＰＲＢを使用することと
を備える無線通信方法。
【請求項２】
前記第１ＰＲＢは第１スロットに複数のサブキャリアを備え、前記第２ＰＲＢは第２スロットに複数のサブキャリアを備える、請求項１の方法。
【請求項３】
前記ＶＲＢは前記第２写像関数の少なくとも１つのパラメータに基づいてホッピングあるいは非ホッピングを設定可能である、請求項１の方法。
【請求項４】
前記ステップサイズはＮ／４またはＮ／２であり、ＮはＰＲＢの総数またはホッピングについてのＰＲＢの数である、請求項１の方法。
【請求項５】
前記ホップ値は非ホッピングを示す第１の値、または前記ステップサイズによるホッピングを示す第２の値に設定される、請求項１の方法。
【請求項６】
前記ホップ値は前記ステップサイズを差し引いたホッピングを示す第３の値に更に設定される、請求項５の方法。
【請求項７】
通信のために割り当てられる仮想リソースブロック（ＶＲＢ）を決定し、
第１写像関数に基づいて、前記ＶＲＢを第１物理リソースブロック（ＰＲＢ）に写像し、
ステップサイズ及び前記ＶＲＢについて設定可能であるホップ値を備えるオフセットを加えた第１写像関数の出力に等しい第２写像関数に基づいて、前記ＶＲＢを第２ＰＲＢに写像し、
通信のために前記第１ＰＲＢと前記第２ＰＲＢを使用する、
ように構成された少なくとも１つのプロセッサを備える無線通信装置。
【請求項８】
前記第１ＰＲＢは第１スロットに複数のサブキャリアを備え、前記第２ＰＲＢは第２スロットに複数のサブキャリアを備える、請求項７の装置。
【請求項９】
前記ＶＲＢは前記第２写像関数の少なくとも１つのパラメータに基づいてホッピングあるいは非ホッピングを設定可能である、請求項７の装置。
【請求項１０】
前記ステップサイズはＮ／４またはＮ／２であり、ＮはＰＲＢの総数またはホッピングについてのＰＲＢの数である、請求項７の装置。
【請求項１１】
前記ホップ値は非ホッピングを示す第１の値、または前記ステップサイズによるホッピングを示す第２の値に設定される、請求項７の装置。
【請求項１２】
前記ホップ値は前記ステップサイズを差し引いたホッピングを示す第３の値に更に設定される、請求項１１の装置。
【請求項１３】
通信のために割り当てられる仮想リソースブロック（ＶＲＢ）を決定する手段と、
第１写像関数に基づいて、前記ＶＲＢを第１物理リソースブロック（ＰＲＢ）に写像する手段と、
ステップサイズ及び前記ＶＲＢについて設定可能であるホップ値を備えるオフセットを加えた前記第１写像関数の出力に等しい第２写像関数に基づいて、前記ＶＲＢを第２ＰＲＢに写像する手段と、
通信のために前記第１ＰＲＢと前記第２ＰＲＢを使用する手段と、
を備える無線通信装置。
【請求項１４】
前記第１ＰＲＢは第１スロットに複数のサブキャリアを備え、前記第２ＰＲＢは第２スロットに複数のサブキャリアを備える、請求項１３の装置。
【請求項１５】
前記ＶＲＢは前記第２写像関数の少なくとも１つのパラメータに基づいてホッピングあるいは非ホッピングを設定可能である、請求項１３の装置。
【請求項１６】
前記ステップサイズはＮ／４またはＮ／２であり、ＮはＰＲＢの総数またはホッピングについてのＰＲＢの数である、請求項１３の装置。
【請求項１７】
前記ホップ値は非ホッピングを示す第１の値、または前記ステップサイズによるホッピングを示す第２の値に設定される、請求項１３の装置。
【請求項１８】
前記ホップ値は前記ステップサイズを差し引いたホッピングを示す第３の値に更に設定される、請求項１７の装置。
【請求項１９】
少なくとも１つのコンピュータに対して、通信のために割り当てられる仮想リソースブロック（ＶＲＢ）を決定させるコードと、
少なくとも１つのコンピュータに対して第１写像関数に基づいて、前記ＶＲＢを第１物理リソースブロック（ＰＲＢ）に写像させるコードと、
少なくとも１つのコンピュータに対して、ステップサイズ及び前記ＶＲＢについて設定可能であるホップ値を備えるオフセットを加えた前記第１写像関数の出力に等しい第２写像関数に基づいて、前記ＶＲＢを第２物理リソースブロック（ＰＲＢ）に写像させるコードと、
少なくとも１つのコンピュータに対して、通信のために前記第１ＰＲＢと前記第２ＰＲＢを使用させるコードと、
を備えるコンピュータ読み取り可能な記憶媒体。
【請求項２０】
前記第１ＰＲＢは第１スロットに複数のサブキャリアを備え、前記第２ＰＲＢは第２スロットに複数のサブキャリアを備える、請求項１９のコンピュータ読み取り可能な記憶媒体。
【請求項２１】
前記ＶＲＢは前記第２写像関数の少なくとも１つのパラメータに基づいてホッピングあるいは非ホッピングを設定可能である、請求項１９のコンピュータ読み取り可能な記憶媒体。
【請求項２２】
前記ステップサイズはＮ／４またはＮ／２であり、ＮはＰＲＢの総数またはホッピングについてのＰＲＢの数である、請求項１９のコンピュータ読み取り可能な記憶媒体。
【請求項２３】
前記ホップ値は非ホッピングを示す第１の値、または前記ステップサイズによるホッピングを示す第２の値に設定される、請求項１９のコンピュータ読み取り可能な記憶媒体。
【請求項２４】
前記ホップ値は前記ステップサイズを差し引いたホッピングを示す第３の値に更に設定される、請求項２３のコンピュータ読み取り可能な記憶媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月14日(2014.5.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の陽極と第１の陰極との間に第１の発光層および第２の発光層を有する第１の発光素子と、第２の陽極と第２の陰極との間に第３の発光層を有する第２の発光素子とが直列に積層されており、
前記第１の陰極と前記第２の陽極とは接しており、
前記第１の発光素子は、少なくとも２つのピークを有する第１の発光スペクトルを示し、
前記第２の発光素子は、前記２つのピークとは異なる位置にピークを有する第２の発光スペクトルを示し、
前記第１の発光スペクトルと前記第２の発光スペクトルとを合わせることにより白色発光を示すことを特徴とする発光装置。
【請求項２】
第１の陽極と第１の陰極との間に第１の発光層および第２の発光層を有する第１の発光素子と、第２の陽極と第２の陰極との間に第３の発光層を有する第２の発光素子とが直列に積層されており、
前記第１の陰極と前記第２の陽極とは接しており、
前記第２の発光素子は、少なくとも２つのピークを有する第２の発光スペクトルを示し、
前記第１の発光素子は、前記２つのピークとは異なる位置にピークを有する第１の発光スペクトルを示し、
前記第１の発光スペクトルと前記第２の発光スペクトルとを合わせることにより白色発光を示すことを特徴とする発光装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記第２の陽極は、ホール輸送性の化合物と、酸化モリブデンとを含むことを特徴とする発光装置。
【請求項４】
請求項１または請求項２において、
前記第２の陽極は、バナジルフタロシアニンを含むことを特徴とする発光装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項において、
前記白色発光は、カラーフィルターを介して外部へ取り出されることを特徴とする発光装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月21日(2014.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明は、画面の複数のエリアに対応する複数の光源と、
入力される画像信号に応じて、各光源の点灯期間と消灯期間のデューティ比を制御する制御手段と、
を備え、
前記制御手段は、入力される画像信号に応じて各光源のデューティ比を制御する場合に、同時点灯する光源の数の変動が抑制されるように、各光源の点灯タイミングを調整することを特徴とする照明装置である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は、画面の複数のエリアに対応する複数の光源を備える照明装置の制御方法であって、
画像信号を入力する工程と、
入力される画像信号に応じて、各光源の点灯期間と消灯期間のデューティ比を制御する制御工程と、
を有し、
前記制御工程では、入力される画像信号に応じて各光源のデューティ比を制御する場合に、同時点灯する光源の数の変動が抑制されるように、各光源の点灯タイミングを調整することを特徴とする照明装置の制御方法である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画面の複数のエリアに対応する複数の光源と、
入力される画像信号に応じて、各光源の点灯期間と消灯期間のデューティ比を制御する制御手段と、
を備え、
前記制御手段は、入力される画像信号に応じて各光源のデューティ比を制御する場合に、同時点灯する光源の数の変動が抑制されるように、各光源の点灯タイミングを調整することを特徴とする照明装置。
【請求項２】
前記制御手段は、デューティ比が互いに等しいか又はデューティ比の差が閾値以内の光源同士が同じグループに属するようにして前記複数の光源をグループ分けし、同じグループに属する光源同士で点灯タイミングが離れるように各光源の点灯タイミングを調整する請求項１に記載の照明装置。
【請求項３】
前記制御手段は、予め定められた複数の点灯タイミングを各光源に割り振ることで各光源の点灯タイミングを調整するものであり、デューティ比が大きい光源のグループから優先的に、同じグループに属する光源同士で点灯タイミングが離れるように点灯タイミングの割り振りを行う請求項２に記載の照明装置。
【請求項４】
前記制御手段は、各光源の点灯タイミングの調整により、点灯タイミングが調整された点灯期間と、当該点灯期間の１つ前の点灯期間と、の少なくとも一部が重なる光源がある場合、当該光源の点灯タイミングと、当該光源とデューティ比が等しいか又はデューティ比の差が閾値以内の光源の点灯タイミングと、を入れ替える請求項１〜３のいずれか１項に記載の照明装置。
【請求項５】
前記制御手段は、前記画面の各エリアに対応する画像の輝度特徴量に応じて、各光源のデューティ比を制御することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の照明装置。
【請求項６】
画面の複数のエリアに対応する複数の光源を備える照明装置の制御方法であって、
画像信号を入力する工程と、
入力される画像信号に応じて、各光源の点灯期間と消灯期間のデューティ比を制御する制御工程と、
を有し、
前記制御工程では、入力される画像信号に応じて各光源のデューティ比を制御する場合に、同時点灯する光源の数の変動が抑制されるように、各光源の点灯タイミングを調整することを特徴とする照明装置の制御方法。
【請求項７】
前記制御工程では、デューティ比が互いに等しいか又はデューティ比の差が閾値以内の光源同士が同じグループに属するようにして前記複数の光源をグループ分けし、同じグループに属する光源同士で点灯タイミングが離れるように各光源の点灯タイミングを調整する請求項６に記載の照明装置の制御方法。
【請求項８】
前記制御工程では、予め定められた複数の点灯タイミングを各光源に割り振ることで各光源の点灯タイミングを調整するものであり、デューティ比が大きい光源のグループから優先的に、同じグループに属する光源同士で点灯タイミングが離れるように点灯タイミングの割り振りを行う請求項７に記載の照明装置の制御方法。
【請求項９】
前記制御工程では、各光源の点灯タイミングの調整により、点灯タイミングが調整された点灯期間と、当該点灯期間の１つ前の点灯期間と、の少なくとも一部が重なる光源がある場合、当該光源の点灯タイミングと、当該光源とデューティ比が等しいか又はデューテ
ィ比の差が閾値以内の光源の点灯タイミングと、を入れ替える請求項６〜８のいずれか１項に記載の照明装置の制御方法。
【請求項１０】
前記制御工程では、前記画面の各エリアに対応する画像の輝度特徴量に応じて、各光源のデューティ比を制御することを特徴とする請求項６〜９のいずれか１項に記載の照明装置の制御方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月1日(2014.5.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を室温よりも低い極低温基板温度に冷却するステップと、
前記基板上に磁性薄膜を堆積させるステップと、
不要な応力異方性を低下させるよう極低温から室温までの一次アニール中に前記磁性薄膜の応力を調整するステップとを含む、方法。
【請求項２】
前記磁性薄膜は単一の連続的な磁気シールド層である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記磁性薄膜を堆積させるステップにおいて、前記磁性薄膜はスパッタリング圧を調節することによって応力調整される、請求項１または請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記基板を前記極低温基板温度に冷却するステップと、
前記磁性薄膜に隣接する第２の磁性薄膜を堆積するステップと、
極低温から室温までの一次アニール中に第２の磁性薄膜の応力を調整するステップとをさらに備える、請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
基板と、
前記基板上に堆積された磁性薄膜とを備え、
前記磁性薄膜の薄膜応力は、室温でほぼゼロである、データ記憶装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月1日(2014.10.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の描画手段が接続されたコンピュータに、
前記複数の描画手段のうちから、画面生成に係る１つの描画手段を順次選択する処理と、
選択された前記１つの描画手段に、画面生成に係る描画と該生成された画面の符号化とを行わせる処理と、
描画及び符号化に伴う、前記複数の描画手段の各々の状態の検出結果を取得する処理と、
を実行させるプログラムであって、
前記選択する処理は、前記検出結果に基づいて前記１つの描画手段を選択するプログラム。
【請求項２】
前記検出結果は、前記複数の描画手段の各々において検出されたエラー発生状態を示すことを特徴とする請求項１に記載のプログラム。
【請求項３】
前記選択する処理は、前記エラー発生状態が予め定められた条件を満たす場合に、該エラー発生状態を示す前記検出結果に係る描画手段を、選択対象から除外する請求項２に記載のプログラム。
【請求項４】
前記エラー発生状態は、前記描画手段により実行される処理におけるビット反転エラーの発生状態である請求項２または３に記載のプログラム。
【請求項５】
前記選択する処理は、前記複数の描画手段のうち、ビット反転エラーの発生数が閾値を超える描画手段を、選択対象から除外する請求項４に記載のプログラム。
【請求項６】
前記選択する処理は、前記複数の描画手段の各々に接続されたメモリにおける所定のアドレス範囲におけるビット反転エラーの発生数に基づいて、選択対象から除外する描画手段を決定する請求項４または５に記載のプログラム。
【請求項７】
複数の描画手段が接続された情報処理装置であって、
前記複数の描画手段のうちから、画面生成に係る１つの描画手段を順次選択する選択手段と、
前記選択手段により選択された前記１つの描画手段に、画面生成に係る描画と該生成された画面の符号化とを行わせる制御手段と、
描画及び符号化に伴う、前記複数の描画手段の各々の状態の検出結果を取得する取得手段と、を有し、
前記選択手段は、前記取得手段により取得された前記検出結果に基づいて前記１つの描画手段を選択する情報処理装置。
【請求項８】
複数の描画手段が接続された情報処理装置の制御方法であって、
前記複数の描画手段のうちから、画面生成に係る１つの描画手段を順次選択する選択工程と、
前記選択工程において選択された前記１つの描画手段に、画面生成に係る描画と該生成された画面の符号化とを行わせる制御工程と、
描画及び符号化に伴う、前記複数の描画手段の各々の状態の検出結果を取得する取得工程と、を有し、
前記選択工程において、前記取得工程において取得された前記検出結果に基づいて前記１つの描画手段が選択される情報処理装置の制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】プログラム、情報処理装置及び制御方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、プログラム、情報処理装置及び制御方法に関し、特に動画符号化処理を利用したＧＰＵメモリの検査方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明は、上述の問題点に鑑みてなされたものであり、符号化処理を利用した効率的なメモリ検査を行うプログラム、情報処理装置及び制御方法を提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
前述の目的を達成するために、本発明のプログラムは、複数の描画手段が接続されたコンピュータに、複数の描画手段のうちから、画面生成に係る１つの描画手段を順次選択する処理と、選択された１つの描画手段に、画面生成に係る描画と該生成された画面の符号化とを行わせる処理と、描画及び符号化に伴う、複数の描画手段の各々の状態の検出結果を取得する処理と、を実行させるプログラムであって、選択する処理は、検出結果に基づいて１つの描画手段を選択する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
前述の目的を達成するために、本発明の情報処理装置は、複数の描画手段が接続された情報処理装置であって、複数の描画手段のうちから、画面生成に係る１つの描画手段を順次選択する選択手段と、選択手段により選択された１つの描画手段に、画面生成に係る描画と該生成された画面の符号化とを行わせる制御手段と、描画及び符号化に伴う、複数の描画手段の各々の状態の検出結果を取得する取得手段と、を有し、選択手段は、取得手段により取得された検出結果に基づいて１つの描画手段を選択する。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月20日(2014.10.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記目的を達成するため、本発明の一態様の情報処理装置は、タッチパネルのタッチ位置を検出する検出手段と、前記タッチパネルを利用した機能の種類を選択する選択手段と、前記選択手段により選択された機能の種類に応じて、前記検出手段により検出されるタッチ位置の補正方法を変化させる制御手段を備えることを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
タッチパネルのタッチ位置を検出する検出手段と、
前記タッチパネルを利用した機能の種類を選択する選択手段と、
前記選択手段により選択された機能の種類に応じて、前記検出手段により検出されるタッチ位置の補正方法を変化させる制御手段
を備える情報処理装置。
【請求項２】
前記選択手段により選択された種類の機能を実行する実行手段を更に備え、
前記制御手段は、前記選択された種類の機能が前記実行手段により実行されている間、この実行中の機能の種類に応じて選択されたタッチ位置の補正方法を用いてタッチ位置の補正動作を行うように制御する、
請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記タッチパネルに対するタッチ位置の検出精度に影響を及ぼす物理的なタッチ状態を検出する状態検出手段を更に備え、
前記制御手段は、前記選択手段により選択される機能の種類と、前記状態検出手段により検出されるタッチ状態とに応じて、前記検出手段により検出されるタッチ位置の補正方法を変化させる、
請求項１又は２に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記制御手段は、検出精度と検出速度との少なくとも一方が異なる複数の補正方法のうち、一の補正方法から他の補正方法に変化させる、
請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記タッチパネルを利用した機能の種類には、タッチ位置に線を描画する機能を含み、
前記制御手段は、前記タッチ位置に線を描画する機能とそれ以外の機能とで、前記タッチ位置の補正方法を変化させる、
請求項１乃至４のうち何れか１項に記載の情報処理装置。
【請求項６】
前記タッチ位置に線を描画する機能の種類においては、線の太さが選択される設定が行われ、
前記制御手段は、前記タッチ位置に異なる太さの線を描画する各設定毎に、タッチ位置の補正方法を変化させる、
請求項５に記載の情報処理装置。
【請求項７】
前記それ以外の機能には、タッチ位置にスタンプを合成する機能を含む、
請求項５又は６に記載の情報処理装置。
【請求項８】
前記タッチ位置の検出精度に影響を及ぼす物理的なタッチ状態の違いには、前記タッチパネル上でタッチが行われる領域の違いを含む、
請求項１乃至７のうち何れか１項に記載の情報処理装置。
【請求項９】
前記タッチ位置の検出精度に影響を及ぼす物理的なタッチ状態の違いには、温度、湿度、気圧、その他機器を利用する周囲環境の違い、及び、経年劣化、その他パネル状態の違いを含む、
請求項１乃至８のうち何れか１項に記載の情報処理装置。
【請求項１０】
前記制御手段は、実行中の機能が、タッチ位置の検出精度を優先するかタッチ位置の検出速度を優先するかに応じて、タッチ位置の検出精度を優先する検出方法とタッチ位置の検出速度を優先する検出方法とのうち何れか一方を選択する、
請求項４に記載の情報処理装置。
【請求項１１】
前記検出手段により検出される複数回のタッチ位置の検出結果に基づいてタッチ位置を補正するタッチ位置補正手段をさらに備え、
前記制御手段は、このタッチ位置の補正強度の設定を変更することにより、タッチ位置の検出精度を優先するのか、それとも検出速度を優先するのかを選択する、
請求項４に記載の情報処理装置。
【請求項１２】
前記タッチ位置補正手段は、複数回のタッチ位置の検出で得られた複数のタッチ座標を平均化することによりタッチ位置を補正する、
請求項１１に記載の情報処理装置。
【請求項１３】
タッチ位置を補正する補正方法の種類が異なる複数のタッチ位置補正手段をさらに備え、
前記制御手段は、この複数のタッチ位置補正手段を選択的に実行させることにより、タッチ位置の検出精度を優先するのか、それとも検出速度を優先するのかを選択する、
請求項１２に記載の情報処理装置。
【請求項１４】
前記複数のタッチ位置補正手段には、複数のタッチ座標をそのまま平均化する補正方法と、複数のタッチ座標の中で正規分布のNσから外れるものを破棄した上で平均化する補正方法を含む、
請求項１３に記載の情報処理装置。
【請求項１５】
情報処理装置が実行する情報処理方法であって、
タッチパネルのタッチ位置を検出する検出処理と、
前記タッチパネルを利用した機能の種類を選択する選択処理と、
前記選択処理により選択された機能の種類に応じて、前記検出処理により検出されるタッチ位置の補正方法を変化させる制御処理
を含む情報処理方法。
【請求項１６】
コンピュータを、
タッチパネルのタッチ位置を検出する検出手段と、
前記タッチパネルを利用した機能の種類を選択する選択手段と、
前記選択手段により選択された機能の種類に応じて、前記検出手段により検出されるタッチ位置の補正方法を変化させる制御手段
として機能させることを特徴とするプログラム。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年2月28日(2014.2.28)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００８】
本発明のこれ以上の詳細、特徴、長所は図面の中に概念的に示した実施例の説明から明瞭になるだろう。
図面１は基材層１の断面を示しており、これに接している背後の層５とマトリックス６を含んでいる。そのマトリックスは全体に感圧接着剤材料を含んでいてもよく、または感圧接着剤層（図示せず）を備えることにより適用表面上に感圧接着剤が施されたものでもよい。感圧接着剤表面または感圧接着剤が施されたマトリックス６は、それぞれがそのマトリックス６を越えて少なくとも部分的に突出し、しかも本発明によって接触している領域内で互いに重なる二つのキャリア層部分２、３で構成されるキャリア層で覆われている。
キャリア層部分２、３がマトリックス６を越えて横端７、８で公知の方法で突出しているため、接着剤の漏洩の可能な場合には、包装袋への粘着を信頼できるほどに回避できる。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月6日(2014.11.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガスストリームからガス状副生成物を除去する方法であって、
ガス状副生成物を含むガスストリームを少なくとも１つの部分燃焼装置を介して生成する段階と、
少なくとも１つの部分燃焼装置から流体圧縮装置へガスストリームを送る段階であって、流体圧縮装置が、少なくとも１つの部分燃焼装置とガス状副生成物除去システムとの間に結合され、流体圧縮装置が、ガスストリームの圧力を２，０６８ｋＰａ（３００ｐｓｉａ）〜３，４４７ｋＰａ（５００ｐｓｉａ）の圧力範囲から５，８６１ｋＰａ（８５０ｐｓｉａ）〜６，８９５ｋＰａ（１０００ｐｓｉａ）の圧力範囲まで増大させる、前記段階と、
ガスストリームをガス状副生成物除去システムに送り、溶媒を用いてガスストリームからガス状副生成物の少なくとも一部を吸収する段階であって、ガスストリームの圧力の増大が溶媒のガス状副生成物の吸収を増大させ、必要とされる溶媒の量を減少させ、ガス状副生成物除去システムで溶媒を循環させるのに使用する電力を低減する、前記段階と、
ガス状副生成物除去システムからガス状副生成物の少なくとも一部を排出する段階と、
を含む方法。
【請求項２】
ガスストリームからガス状副生成物を除去する方法であって、
ガス状副生成物を含むガスストリームを少なくとも１つの部分燃焼装置を介して生成する段階と、
少なくとも１つの部分燃焼装置から流体圧縮装置へガスストリームを送る段階であって、流体圧縮装置が、少なくとも１つの部分燃焼装置とガス状副生成物除去システムとの間に結合され、流体圧縮装置が、ガスストリームの圧力を増大させる、前記段階と、
ガスストリームをガス状副生成物除去システムに送り、溶媒を用いてガスストリームからガス状副生成物の少なくとも一部を吸収する段階であって、ガスストリームの圧力の増大が溶媒のガス状副生成物の吸収を増大させ、必要とされる溶媒の量を減少させ、ガス状副生成物除去システムで溶媒を循環させるのに使用する電力を低減す、溶媒に曝されるガスストリームが５，８６１ｋＰａ（８５０ｐｓｉａ）〜６，８９５ｋＰａ（１０００ｐｓｉａ）の圧力範囲を有している、前記段階と、
ガス状副生成物除去システムからガス状副生成物の少なくとも一部を排出する段階と、
を含む方法。
【請求項３】
ガスストリームが二酸化炭素（ＣＯ2）、硫化カルボニル（ＣＯＳ）、及び硫化水素（Ｈ2Ｓ）のいずれかを含む、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
ガスストリームをガス状副生成物除去システムに送ることが、ガスストリーム中のガス状副生成物の分圧を増大させることを含む、請求項１乃至３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
ガスストリームをガス状副生成物除去システムに送ることが、流体圧縮装置から排出されたガス状副生成物を溶媒に接触させることを含む、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
流体圧縮装置が、ブースタ圧縮機（５００）を含む、請求項１乃至５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
流体圧縮装置が、流体駆動プライムムーバ又は電気駆動プライムムーバに結合される、請求項１乃至６のいずれかに記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月10日(2014.11.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インク組成物であって、
バインダーおよび紫外線吸収材料をさらに含む粒子を水に分散させたものと、
１つ以上の添加剤と、
を含み、
このインク組成物を用いて製造された印刷物は、通常の観察条件では目に見えないが、３５０ｎｍ〜３８０ｎｍの波長では見ることができる、インク組成物。
【請求項２】
前記添加剤は、保湿剤、界面活性剤、粘度制御剤、およびこれらの混合物からなる群より選択される、請求項１に記載のインク組成物。
【請求項３】
前記長波長紫外線吸収材料が、ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール、ヒドロキシフェニルトリアジン、置換されたベンゾフェノン、置換されたシンナメート、およびこれらの混合物からなる群から選択される、請求項１又は２に記載のインク組成物。
【請求項４】
前記紫外線吸収材料が、長波長紫外線吸収材料と、光吸収無機ナノ粒子との組み合わせを含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載のインク組成物。
【請求項５】
前記長波長紫外線吸収材料と前記無機ナノ粒子との比率が、約１：１００〜約１００：１である、請求項４に記載のインク組成物。
【請求項６】
前記無機ナノ粒子は、二酸化チタン、酸化アルミニウム、二酸化ケイ素、酸化亜鉛、およびこれらの混合物からなる群より選択される、請求項４又は５に記載のインク組成物。
【請求項７】
前記長波長紫外線吸収材料は、インク組成物の合計重量の約０．０１〜約５０重量％の量で存在する、請求項４〜６のいずれか１項に記載のインク組成物。
【請求項８】
前記バインダーは、インク組成物の合計重量の約１〜約７０重量％の量で存在する、請求項１〜７のいずれか１項に記載のインク組成物。
【請求項９】
前記添加剤は、インク組成物の合計重量の約０．０１〜約６０重量％の量で存在する、請求項１〜８のいずれか１項に記載のインク組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月10日(2014.11.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
転相組成物であって、
少なくとも１つの結晶性ポリエステルと、
少なくとも１つのアクリレートモノマーと、
を含み、
前記結晶性ポリエステルは、前記アクリレートモノマーの中で溶解され、
当該組成物は、約１０℃〜約４０℃の温度範囲でゲル状態である、転相組成物。
【請求項２】
前記結晶性ポリエステルが、約３重量％〜約２０重量％の量で存在する、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記モノマーが、約８０重量％〜約９７重量％の量で存在する、請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項４】
前記結晶性ポリエステルが、脂肪族結晶性ポリエステル、ポリラクトン、およびこれらの混合物からなる群から選択される、請求項１〜３のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項５】
前記結晶性ポリエステルが、１，２−エタンジオール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，２−ジメチルプロパン−１，３−ジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，７−ヘプタンジオール、１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、１，１２−ドデカンジオールからなる群からの１つと反応させることによって作成される脂肪族結晶性ポリエステルである、請求項４に記載の組成物。
【請求項６】
前記結晶性ポリエステルが、ポリ（ペンタデカラクトン）、ポリ（ペンタデセンラクトン）、ポリ（ヘキサデセンラクトン）、ポリ（ヘキサデセン−７−オリド）、ポリカプロラクトン、ポリドデカラクトン、ポリ（ペンタデカラクトン）コ−ペンタデセンラクトン、ポリ（ペンタデカラクトン）コ−ヘキサデセンラクトン、およびこれらの混合物からなる群から選択されるポリラクトンである、請求項４に記載の組成物。
【請求項７】
前記モノマーが、プロポキシル化ネオペンチルグリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、アルコキシル化ネオペンチルグリコールジアクリレート、イソデシルアクリレート、トリデシルアクリレート、イソボルニルアクリレート、プロポキシル化トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシル化トリメチロールプロパントリアクリレート、ジ−トリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、エトキシル化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、プロポキシル化グリセロールトリアクリレート、イソボルニルメタクリレート、ラウリルアクリレート、ラウリルメタクリレート、ネオペンチルグリコールプロポキシレートメチルエーテルモノアクリレート、イソデシルメタクリレート、カプロラクトンアクリレート、２−フェノキシエチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、イソオクチルメタクリレート、ブチルアクリレートからなる群から選択される、請求項１に記載の組成物。
【請求項８】
前記組成物が、光開始剤、安定化剤または着色剤のうち少なくとも１つをさらに含む、請求項１〜７のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項９】
前記組成物の粘度が、８０℃での粘度約５ｃｐｓ〜約３０ｃｐｓから、約３０℃の温度での粘度約１０4ｃｐｓ〜約１０6ｃｐｓまで変化する、請求項１〜８のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１０】
前記粘度変化が可逆的である、請求項９に記載の組成物。