Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月27日(2014.6.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技球の流下による遊技を実現する遊技領域を表面に画定する遊技盤と、
該遊技盤を保持する遊技機枠と、
前記遊技機枠の下方に配置されるとともに、前記遊技盤の前面側で前記遊技球を貯留するための球皿と、
前記球皿の後方に配置され、該球皿から発射位置に送り出された前記遊技球を前記遊技領域に向けて発射する発射ユニットと、
前記球皿と連結した待機通路及び前記発射ユニットの間に配置され、前記待機通路内で１列に整列された前記遊技球を前記発射ユニットと接続した流出口から前記発射位置に１球ずつ供給する整流器と、
前記流出口の近傍に配置された不正行為不能化手段と、を有し、
前記整流器は、
前記流出口を介して前記遊技球を前記発射位置に供給するための球送り部材と、を有し、
前記不正行為不能化手段は、
前記流出口の近傍に間隙を有して配置され、その間隙が該流出口側で開口し、遊技球に連結された糸がその開口を通して前記間隙に誘導される誘導部と、
前記誘導部と別体に設けられるとともに、前記間隙に誘導された前記糸を切断するカッターと、を有する、遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成26年1月31日(2014.1.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
測定光源から出射された光を測定光と参照光に分割し、前記測定光を被検者眼の所定部位に導く一方、前記参照光を参照光学系に導き、前記所定部位で反射された測定光と参照光との干渉状態を検出器により検出する干渉光学系と、
前記干渉光学系における測定光の光路中に配置され、前記所定部位上で測定光を走査させる光スキャナと、
前記光スキャナを制御し，前記所定部位上のある撮影領域に対して測定光を走査させ、前記検出器からの撮像信号を処理することにより前記撮影領域における断層画像を取得する制御手段と、
前記撮影領域に対する測定光の入射角を変更する入射角変更手段と、を備えることを特徴とする眼科撮影装置。
【請求項２】
請求項１の眼科撮影装置において、
さらに、前記干渉光学系及び前記光スキャナを内蔵する装置本体と、を備え、
前記入射角変更手段は、前記装置本体を移動させる駆動手段であって、前記装置本体を被検者眼に対して移動させることによって、前記撮影領域に対する測定光の入射角を変更することを特徴とする眼科撮影装置。
【請求項３】
請求項２の眼科撮影装置において、
前記入射角変更手段は、設定された前記撮影領域に対する測定光の入射角において、断層画像が取得されるように、被検眼に対する前記装置本体のアライメントずれ量に基づいて、前記装置本体を被検者眼に対して追尾させることを特徴とする眼科撮影装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかの眼科撮影装置において、
さらに、前記撮影領域に関して前記入射角が異なる複数の断層画像を取得する画像取得手段と、
前記画像取得手段によって取得された前記入射角が異なる複数の断層画像を，画像処理により合成し、合成断層画像を取得する画像処理手段と、
を備えることを特徴とする眼科撮影装置。
【請求項５】
請求項４の眼科撮影装置において、
前記画像処理手段は、各断層画像間における撮影部位の傾きを画像処理により補正することを特徴とする眼科撮影装置。
【請求項６】
測定光源から出射された光を測定光と参照光に分割し、前記測定光を被検者眼の所定部位に導く一方、前記参照光を参照光学系に導き、前記所定部位で反射された測定光と参照光との干渉状態を検出器により検出する干渉光学系と、
前記干渉光学系における測定光の光路中に配置され、前記所定部位上で測定光を走査させる光スキャナと、
前記光スキャナを制御し，前記所定部位上のある撮影領域に対して測定光を走査させ、前記検出器からの撮像信号を処理することにより前記撮影領域における断層画像を取得する制御手段と、
前記干渉光学系及び前記光スキャナを内蔵する装置本体と、
前記装置本体を被検者眼に対して移動させることによって、前記撮影領域に対する測定光の入射角を変更する入射角変更手段と、を備え、
前記撮影領域において第１断層画像を取得し、前記第１断層画像を取得した後、前記入射角変更手段によって、前記撮影領域に対する測定光の入射角を変更し、前記撮影領域において第２断層画像を取得する画像取得手段と、
を備えることを特徴とする眼科撮影装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
（１）  測定光源から出射された光を測定光と参照光に分割し、前記測定光を被検者眼の所定部位に導く一方、前記参照光を参照光学系に導き、前記所定部位で反射された測定光と参照光との干渉状態を検出器により検出する干渉光学系と、前記干渉光学系における測定光の光路中に配置され、前記所定部位上で測定光を走査させる光スキャナと、前記光スキャナを制御し，前記所定部位上のある撮影領域に対して測定光を走査させ、前記検出器からの撮像信号を処理することにより前記撮影領域における断層画像を取得する制御手段と、前記撮影領域に対する測定光の入射角を変更する入射角変更手段と、を備えることを特徴とする。
（２）  （１）の眼科撮影装置において、さらに、前記干渉光学系及び前記光スキャナを内蔵する装置本体と、を備え、前記入射角変更手段は、前記装置本体を移動させる駆動手段であって、前記装置本体を被検者眼に対して移動させることによって、前記撮影領域に対する測定光の入射角を変更することを特徴とする。
（３）  （２）の眼科撮影装置において、前記入射角変更手段は、設定された前記撮影領域に対する測定光の入射角において、断層画像が取得されるように、被検眼に対する前記装置本体のアライメントずれ量に基づいて、前記装置本体を被検者眼に対して追尾させることを特徴とする。
（４）  （１）〜（３）のいずれかの眼科撮影装置において、さらに、前記撮影領域に関して前記入射角が異なる複数の断層画像を取得する画像取得手段と、前記画像取得手段によって取得された前記入射角が異なる複数の断層画像を，画像処理により合成し、合成断層画像を取得する画像処理手段と、を備えることを特徴とする。
（５）  （４）の眼科撮影装置において、
前記画像処理手段は、各断層画像間における撮影部位の傾きを画像処理により補正することを特徴とする。
（６）  測定光源から出射された光を測定光と参照光に分割し、前記測定光を被検者眼の所定部位に導く一方、前記参照光を参照光学系に導き、前記所定部位で反射された測定光と参照光との干渉状態を検出器により検出する干渉光学系と、前記干渉光学系における測定光の光路中に配置され、前記所定部位上で測定光を走査させる光スキャナと、前記光スキャナを制御し，前記所定部位上のある撮影領域に対して測定光を走査させ、前記検出器からの撮像信号を処理することにより前記撮影領域における断層画像を取得する制御手段と、前記干渉光学系及び前記光スキャナを内蔵する装置本体と、前記装置本体を被検者眼に対して移動させることによって、前記撮影領域に対する測定光の入射角を変更する入射角変更手段と、を備え、前記撮影領域において第１断層画像を取得し、前記第１断層画像を取得した後、前記入射角変更手段によって、前記撮影領域に対する測定光の入射角を変更し、前記撮影領域において第２断層画像を取得する画像取得手段と、を備えることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成26年1月30日(2014.1.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
測定光源から発せられた光を二次元的に走査する光スキャナと、測定光源から発せられた測定光と参照光との干渉状態を検出する検出器と、を有し、被検者眼の三次元断層像を得るための光コヒーレンストモグラフィーデバイスと、
被検眼の正面観察像を動画像として取得する観察光学系と、
前記光コヒーレンストモグラフィーデバイスによって取得された前記三次元断層像を画像処理により解析し、解析結果に基づいて二次元的な分布を示す解析マップを作成する演算解析手段と、
前記解析マップと、前記観察光学系によって取得される正面観察像の動画像と同時にモニタに表示する表示制御手段と、
を備えることを特徴とする眼科撮影装置。
【請求項２】
請求項１の眼科撮影装置において、
前記表示制御手段は、前記正面観察像の動画像に対して前記解析マップを重畳して表示することを特徴とする眼科撮影装置。
【請求項３】
請求項１又は２の眼科撮影装置において、
前記表示制御手段は、解析に用いた三次元断層像からＯＣＴ正面像を生成し、生成されたＯＣＴ正面像と前記観察光学系によって取得される正面像とをマッチングさせることにより前記解析マップと前記正面像との相対位置を調整することを特徴とする眼科撮影装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかの眼科撮影装置において、前記演算解析手段は、前記検出器から出力される干渉信号において被検眼に対応する干渉信号が取得されたことをトリガとして被検眼の断層像に対する解析処理を自動的に開始することを特徴とする眼科撮影装置。
【請求項５】
請求項１の眼科撮影装置において、
前記演算解析手段は、前記光コヒーレンストモグラフィーデバイスによって取得された前記三次元断層像を画像処理により解析することにより異常部位を特定し、
前記表示制御手段は、前記演算解析手段によって特定された異常部位に対応する断層像を前記三次元断層像から抽出し、抽出された断層像と、前記正面観察像の動画像と、前記解析マップと、をモニタに同時に表示することを特徴とする眼科撮影装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
（１）  測定光源から発せられた光を二次元的に走査する光スキャナと、測定光源から発せられた測定光と参照光との干渉状態を検出する検出器と、を有し、被検者眼の三次元断層像を得るための光コヒーレンストモグラフィーデバイスと、被検眼の正面観察像を動画像として取得する観察光学系と、前記光コヒーレンストモグラフィーデバイスによって取得された前記三次元断層像を画像処理により解析し、解析結果に基づいて二次元的な分布を示す解析マップを作成する演算解析手段と、前記解析マップと、前記観察光学系によって取得される正面観察像の動画像と同時にモニタに表示する表示制御手段と、を備えることを特徴とする。
（２）  （１）の眼科撮影装置において、前記表示制御手段は、前記正面観察像の動画像に対して前記解析マップを重畳して表示することを特徴とする。
（３）  （１）又は（２）の眼科撮影装置において、
前記表示制御手段は、解析に用いた三次元断層像からＯＣＴ正面像を生成し、生成されたＯＣＴ正面像と前記観察光学系によって取得される正面像とをマッチングさせることにより前記解析マップと前記正面像との相対位置を調整することを特徴とする。
（４）  （１）〜（３）のいずれかの眼科撮影装置において、前記演算解析手段は、前記検出器から出力される干渉信号において被検眼に対応する干渉信号が取得されたことをトリガとして被検眼の断層像に対する解析処理を自動的に開始することを特徴とする。
（５）  （１）の眼科撮影装置において、前記演算解析手段は、前記光コヒーレンストモグラフィーデバイスによって取得された前記三次元断層像を画像処理により解析することにより異常部位を特定し、前記表示制御手段は、前記演算解析手段によって特定された異常部位に対応する断層像を前記三次元断層像から抽出し、抽出された断層像と、前記正面観察像の動画像と、前記解析マップと、をモニタに同時に表示することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成26年1月27日(2014.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
造影剤が投与された被検者の関心領域の画素値の経時変化から、前記関心領域の画素値が予め定められた目標値に到達する時間を求め、前記目標値に到達する時間に基づいて本スキャンを開始するタイミングを決定するＸ線ＣＴ装置であって、
前記関心領域の画素値の経時変化を予測する初期モデルを作成する初期モデル作成部と、
前記初期モデルを更新前モデルとして保持する更新前モデル保持部と、
モニタリングスキャンにより取得した計測データに基づいて前記更新前モデルを更新して更新後モデルを作成する更新モデル作成部と、
前記更新前モデルと前記更新後モデルとの差分量に応じて、次のモニタリングスキャンを実施するか否かを判定するスキャン実施判定部と、を備えることを特徴とするＸ線ＣＴ装置。
【請求項２】
請求項１に記載のＸ線ＣＴ装置において、
前記初期モデル作成部は、前記被検者の体重、体格、撮影部位、造影剤の注入位置の少なくとも一つを含む生理学的パラメータと、造影剤の注入速度、注入時間、総注入量の少なくとも一つを含む造影パラメータとに基づき、前記初期モデルを作成することを特徴とするＸ線ＣＴ装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のＸ線ＣＴ装置において、
前記スキャン実施判定部は、前記差分量が予め定められた閾値よりも大きい場合に、次のモニタリングスキャンの実施を決定し、
前記更新前モデル保持部は前記更新後モデルを更新前モデルとして保持し、
前記更新モデル作成部は、前記次のモニタリングスキャンにより取得した計測データに基づいて前記更新前モデルを更新して更新後モデルを作成することを特徴とするＸ線ＣＴ装置。
【請求項４】
請求項３に記載のＸ線ＣＴ装置において、
前記スキャン実施判定部は、前記更新後モデルにより予測される前記関心領域の画素値の経時変化から、前記関心領域の画素値が予め設定された基準値に到達する時間を求め、前記基準値に到達する時間となった後、次のモニタリングスキャンを実施させることを特徴とするＸ線ＣＴ装置。
【請求項５】
請求項３に記載のＸ線ＣＴ装置において、
前記スキャン実施判定部は、前記差分量が予め定められた閾値以下である場合に、前記更新後モデルにより予測される前記関心領域の画素値の経時変化から、前記関心領域の画素値が、前記目標値よりも低い値である第２の目標値に到達する時間を求め、第２の目標値に到達する時間となった後、次のモニタリングスキャンを実施させることを特徴とするＸ線ＣＴ装置。
【請求項６】
請求項３に記載のＸ線ＣＴ装置において、
前記スキャン実施判定部は、前記更新後モデルにより予測される前記関心領域の画素値
の経時変化から、前記関心領域の画素値の最大値が、前記目標値よりも小さい、若しくは
前記目標値に予め設定された閾値を加算した値よりも大きい場合に、前記造影パラメータ
を変更させることを特徴とするＸ線ＣＴ装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年1月21日(2014.1.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一の面側に機能素子を有し、液体供給口が形成されたシリコン基板を含む液体吐出ヘッド用基板の製造方法であって、
（ａ）前記シリコン基板の前記第一の面と反対側の面である第二の面を研削する工程と、
（ｂ）研削して得られた前記第二の面を研磨する工程と、
（ｃ）イオンの入射エネルギーを利用したリアクティブイオンエッチングにより、研磨して得られた前記第二の面をエッチングする工程と、
（ｄ）前記リアクティブイオンエッチング後の前記第二の面にエッチングマスクを形成する工程と、
（ｅ）前記エッチングマスクを用いて前記シリコン基板をウェットエッチング処理し、前記液体供給口を形成する工程と、
をこの順で有することを特徴とする液体吐出ヘッド用基板の製造方法。
【請求項２】
前記工程（ｃ）は、少なくとも前記液体供給口を形成する位置の前記第二の面を前記リアクティブイオンエッチングによりエッチングする工程である請求項１に記載の液体吐出ヘッド用基板の製造方法。
【請求項３】
前記リアクティブイオンエッチングは、プラズマを用いて発生させた前記イオンを前記第二の面に衝突させる方式である請求項１又は２に記載の液体吐出ヘッド用基板の製造方法。
【請求項４】
前記リアクティブイオンエッチングは、ガス種として、ＳＦ6、ＣＨＦ3、ＣＦ4、Ｃ2Ｆ6及びＣ3Ｆ8から選ばれる少なくとも１種を用いる請求項１乃至３のいずれかに記載の液体吐出ヘッド用基板の製造方法。
【請求項５】
前記エッチングマスクは、高分子化合物からなる膜から形成される請求項１乃至４のいずれかに記載の液体吐出ヘッド用基板の製造方法。
【請求項６】
前記高分子化合物が環化ゴム、ポリエーテルアミド、またはベンゾシクロブテンである請求項５に記載の液体吐出ヘッド用基板の製造方法。
【請求項７】
前記ウェットエッチング処理は結晶異方性エッチング処理である請求項１乃至６のいずれかに記載の液体吐出ヘッド用基板の製造方法。
【請求項８】
前記機能素子は液体を吐出するエネルギーを発生する吐出エネルギー発生素子である請求項１乃至７のいずれかに記載の液体吐出ヘッド用基板の製造方法。
【請求項９】
前記工程（ｂ）の後であって前記工程（ｃ）の前に、少なくとも前記第一の面側に設けられた前記シリコン基板の切断時に使用する切断ラインと対向する領域にマスクを形成する工程を含み、
前記工程（ｃ）において、前記マスクを用いて前記リアクティブイオンエッチングを行った後、前記マスクを除去することにより、前記切断ラインと対向する領域にダメージ層を残す請求項１乃至８のいずれかに液体吐出ヘッド用基板の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明は、
第一の面側に機能素子を有し、液体供給口が形成されたシリコン基板を含む液体吐出ヘッド用基板の製造方法であって、
（ａ）前記シリコン基板の前記第一の面と反対側の面である第二の面を研削する工程と、
（ｂ）研削して得られた前記第二の面を研磨する工程と、
（ｃ）イオンの入射エネルギーを利用したリアクティブイオンエッチングにより、研磨して得られた前記第二の面をエッチングする工程と、
（ｄ）前記リアクティブイオンエッチング後の前記第二の面にエッチングマスクを形成する工程と、
（ｅ）前記エッチングマスクを用いて前記シリコン基板をウェットエッチング処理し、前記液体供給口を形成する工程と、
をこの順で有することを特徴とする液体吐出ヘッド用基板の製造方法である。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月12日(2013.12.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体噴射ヘッドに供給する液体を収容し圧力調整部によって圧力が調整可能な第一収容室を有する液体貯留部と、
前記液体を収容する第二収容室を有し、可撓性を有するように形成された袋体と、
前記第一収容室と前記第二収容室とを接続し、前記第一収容室から前記第二収容室への前記液体の流通を許容すると共に前記第二収容室から前記第一収容室への前記液体の流通を抑止する第一流通調整部を有する第一流路と、
前記第一流路とは異なる経路で前記第一収容室と前記第二収容室とを接続し、前記第一収容室から前記第二収容室への前記液体の流通を抑止すると共に前記第二収容室から前記第一収容室への前記液体の流通を許容する第二流通調整部を有する第二流路と、
前記圧力調整部によって前記第一収容室の圧力が第一圧力にされた場合に前記第一流路を介して前記第一収容室から前記第二収容室へと前記液体が移動するように、かつ、前記圧力調整部によって前記第一収容室の圧力が前記第一圧力よりも小さい第二圧力にされた場合に前記第二流路を介して前記第二収容室から前記第一収容室へと前記液体が移動するように、前記第二収容室の体積が小さくなる方向に前記袋体を収縮させることで前記第二収容室に対して前記第一圧力よりも小さく前記第二圧力よりも大きい第三圧力を加える付勢部と
を備える液体収容体。
【請求項２】
前記付勢部は、所定方向に巻かれるように弾性力を作用させる板バネ部材を有し、
前記板バネ部材は、前記弾性力によって前記袋体を巻きながら収縮するように前記袋体に取り付けられている
請求項１に記載の液体収容体。
【請求項３】
液体噴射ヘッドに供給する液体を収容する液体貯留部のうち圧力調整部によって圧力が調整可能に設けられた第一収容室にそれぞれ異なる経路である第一流路及び第二流路を介して接続され、前記液体を収容する第二収容室を有し、可撓性を有するように形成された袋体と、
前記第一流路に設けられ、前記第一収容室から前記第二収容室への前記液体の流通を許容すると共に前記第二収容室から前記第一収容室への前記液体の流通を抑止する第一流通調整部と、
前記第二流路に設けられ、前記第一収容室から前記第二収容室への前記液体の流通を抑止すると共に前記第二収容室から前記第一収容室への前記液体の流通を許容する第二流通調整部を有する第二流路と、
前記第二収容室の体積が小さくなる方向に前記袋体を収縮させることで前記第二収容室を所定圧力で加圧する付勢部と、
前記第一収容室の圧力を前記所定圧力よりも大きい圧力にすることで前記第一流路を介して前記第一収容室から前記第二収容室へと前記液体を移動させる第一動作と、前記第一収容室の圧力を前記所定圧力よりも小さい圧力にすることで前記第二流路を介して前記第二収容室から前記第一収容室へと前記液体を移動させる第二動作と、を前記圧力調整部に交互に行わせて前記第一収容室と前記第二収容室との間で前記液体を往復させる制御部と
を備える攪拌装置。
【請求項４】
液体噴射ヘッドに供給する液体を収容する液体貯留部のうち圧力調整部によって圧力が調整可能に設けられた第一収容室にそれぞれ異なる経路である第一流路及び第二流路を介して接続され、前記液体を収容する第二収容室を有し、可撓性を有するように形成され、前記第一収容室から前記第二収容室への前記液体の流通を許容すると共に前記第二収容室から前記第一収容室への前記液体の流通を抑止する第一流通調整部が前記第一流路に設けられると共に前記第一収容室から前記第二収容室への前記液体の流通を抑止すると共に前記第二収容室から前記第一収容室への前記液体の流通を許容する第二流通調整部が前記第二流路に設けられた袋体を、前記第二収容室の体積が小さくなる方向に収縮させることで前記第二収容室を所定圧力で加圧するステップと、
前記第一収容室の圧力を前記所定圧力よりも大きい圧力にすることで前記第一流路を介して前記第一収容室から前記第二収容室へと前記液体を移動させる第一動作と、前記第一収容室の圧力を前記所定圧力よりも小さい圧力にすることで前記第二流路を介して前記第二収容室から前記第一収容室へと前記液体を移動させる第二動作と、を前記圧力調整部に交互に行わせて前記第一収容室と前記第二収容室との間で前記液体を往復させるステップと
を含む攪拌方法。
【請求項５】
液体を噴射する液体噴射ヘッドと、
前記液体噴射ヘッドに前記液体を収容する液体収容体と
を備え、
前記液体収容体として、請求項１または請求項２に記載の液体収容体が用いられている
液体噴射装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月18日(2013.11.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
非同期ブリッジ及びアップサイジングに用いられ、ライトチャンネルデータをバッファリングするライトバッファと、バーストライト動作時に前記ライトバッファに入出力される前記ライトチャンネルデータに対するチャンネル圧縮を第１及び第２クロックによって各々制御する第１及び第２非同期パッキング制御器と、を含む非同期パッカーと、
前記非同期ブリッジ及びアップサイジングに用いられ、リードチャンネルデータをバッファリングするリードバッファと、バーストリード動作時に前記リードバッファに入出力される前記リードチャンネルデータに対するチャンネル圧縮を前記第１及び第２クロックによって各々制御する第１及び第２非同期アンパッキング制御器と、を含む非同期アンパッカーと、
を具備することを特徴とする非同期統合アップサイジング回路。
【請求項２】
前記ライトバッファはライトアドレスチャンネル、ライトデータチャンネル、及びライト応答チャンネルに各々割り当てられたメモリで構成されることを特徴とする請求項１に記載の非同期統合アップサイジング回路。
【請求項３】
前記第１クロックが前記第２クロックの周波数よりも高い周波数である場合にはアップサイジングのレイテンシーが最適化されるようにバーストライト動作時にライトアドレスチャンネルのリクエストを予め設定されたクロックサイクル数先行して実行することを特徴とする請求項２に記載の非同期統合アップサイジング回路。
【請求項４】
前記第１クロックの周波数が前記第２クロックの周波数よりも低い場合にはアップサイジングのバス活用性が最適化されるようにバーストライト動作時にライトアドレスチャンネルのリクエストを予め設定されたクロックサイクル数後行して実行することを特徴とする請求項２に記載の非同期統合アップサイジング回路。
【請求項５】
前記メモリはファーストインファーストアウト（ＦＩＦＯ）メモリであることを特徴とする請求項２に記載の非同期統合アップサイジング回路。
【請求項６】
前記第１クロックはバスマスタクロックであり、前記第２クロックはアドバンストエクステンシブルインターフェース（ＡＸＩ）バスクロックであることを特徴とする請求項２に記載の非同期統合アップサイジング回路。
【請求項７】
前記バスマスタクロックはメモリコントローラから提供されるクロックであることを特徴とする請求項６に記載の非同期統合アップサイジング回路。
【請求項８】
前記非同期パッカーは前記ライトチャンネルデータに対する非同期パッキングを実行し、前記非同期アンパッカーはリードチャンネルデータに対する非同期アンパッキングを実行することを特徴とする請求項７に記載の非同期統合アップサイジング回路。
【請求項９】
前記リードバッファは、各々リードアドレスチャンネル及びリードデータチャンネルに割り当てられたメモリで構成されることを特徴とする請求項１に記載の非同期統合アップサイジング回路。
【請求項１０】
前記メモリはファーストインファーストアウト（ＦＩＦＯ）メモリであることを特徴とする請求項９に記載の非同期統合アップサイジング回路。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
前記の課題を解決するために、本発明の実施形態の一態様による非同期統合アップサイジング回路は、非同期ブリッジ及びアップサイジングに用いられ、ライトチャンネルデータをバッファリングするライトバッファと、バーストライト動作時に前記ライトバッファに入出力される前記ライトチャンネルデータに対するチャンネル圧縮を第１及び第２クロックによって各々制御する第１及び第２非同期パッキング制御器と、を含む非同期パッカーと、前記非同期ブリッジ及びアップサイジングに用いられ、リードチャンネルデータをバッファリングするリードバッファと、バーストリード動作時に前記リードバッファに入出力される前記リードチャンネルデータに対するチャンネル圧縮を前記第１及び第２クロックによって各々制御する第１及び第２非同期アンパッキング制御器と、を含む非同期アンパッカーと、を具備する。
【手続補正書】
【提出日】平成26年2月27日(2014.2.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁層を導電層で挟んだ多層構造を有する集電体と、前記集電体上に形成された活物質層とを含む電極と、
前記電極と接続される配線引き出し用のタブ電極とを備え、
前記タブ電極が、電池内部の発熱により溶融する金属材料からなる導電材を介して、前記電極と電気的に接続されていることを特徴とする、非水系二次電池。
【請求項２】
前記電極は、複数積層されており、
前記タブ電極は、前記複数の電極の少なくとも一部の電極と、前記導電材を介して、電気的に接続されていることを特徴とする、請求項１に記載の非水系二次電池。
【請求項３】
前記導電材は、前記電極を厚み方向に貫通する貫通部材に構成されていることを特徴とする、請求項または２に記載の非水系二次電池。
【請求項４】
前記電極は、複数積層されており、
前記貫通部材は、前記複数の電極を厚み方向に連続して貫通していることを特徴とする、請求項３に記載の非水系二次電池。
【請求項５】
前記電池内部の発熱により溶融する金属材料からなる導電材は、前記集電体の絶縁層の融点以上の融点を有することを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載の非水系二次電池。
【請求項６】
前記電池内部の発熱により溶融する金属材料は、インジウム、亜鉛、ガリウム、スズ、ビスマスのいずれかを主成分とした合金からなることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項に記載の非水系二次電池。
【請求項７】
前記電極は、正極および負極を含み、
前記正極および前記負極の少なくとも一方は、多層構造を有する前記集電体を用いて形成されていることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか１項に記載の非水系二次電池。
【請求項８】
前記集電体の絶縁層は、フィルム状または繊維状の樹脂からなることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか１項に記載の非水系二次電池。
【請求項９】
前記集電体の絶縁層は、熱可塑性樹脂からなり、１２０℃での熱収縮率が、平面方向のいずれかの方向で１．５％以上であることを特徴とする、請求項１〜８のいずれか１項に記載の非水系二次電池。
【請求項１０】
前記集電体の絶縁層は、ポリオレフィン樹脂のいずれかを含む樹脂または、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリアミドのいずれかを含む樹脂、もしくは、これらの複合材料からなることを特徴とする、請求項１〜９のいずれか１項に記載の非水系二次電池。
【請求項１１】
前記電極は、正極および負極を含むとともに、前記正極および前記負極の間に配されるセパレータをさらに備えており、
前記セパレータは、１２０℃での熱収縮率が、前記集電体の絶縁層より小さいことを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の非水系二次電池。
【請求項１２】
前記セパレータの１８０℃での熱収縮率は、１．０％以下であることを特徴とする、請求項１１に記載の非水系二次電池。
【請求項１３】
前記セパレータは、アラミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース系樹脂のいずれかを含むことを特徴とする、請求項１１または１２に記載の非水系二次電池。
【請求項１４】
絶縁層を導電層で挟んだ多層構造を有する集電体と、前記集電体上に形成された活物質層とを含む電極と、
前記電極と接続される配線引き出し用のタブ電極とを備え、
前記タブ電極が、温度変化に応じて抵抗が増大する導電材を介して、前記電極と電気的に接続されていることを特徴とする、非水系二次電池。
【手続補正書】
【提出日】平成26年2月25日(2014.2.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物体側から像側へ順に、ズーミングに際して不動の正の屈折力の第１レンズ群、ズーミングに際して移動する負の屈折力の第２レンズ群、ズーミングに際して移動する負の屈折力の第３レンズ群、通過光量を調整する開口絞り、ズーミングのためには不動の正の屈折力の第４レンズ群より構成されるズームレンズにおいて、
前記第４レンズ群は第４１レンズ群、光路中より着脱可能な焦点距離変換光学系、第４２レンズ群より構成され、前記第４２レンズ群の焦点距離をｆ４２、前記開口絞りから、前記第４２レンズ群の最も物体側のレンズ面までの距離をＤ、広角端における全系のＦナンバーをＦｎｏとするとき、
１．０４＜ｆ４２／Ｄ＜１．２５
Ｆｎｏ ≦ ２．０
なる条件式を満足することを特徴とするズームレンズ。
【請求項２】
前記第４１レンズ群と前記第４２レンズ群の空気間隔をＤＩとするとき、
１．５５＜ｆ４２／ＤＩ＜１．８５
なる条件式を満足することを特徴とする請求項１のズームレンズ。
【請求項３】
前記第４１レンズ群は、１以上の負レンズと２以上の正レンズを有することを特徴とする請求項１又は２のズームレンズ。
【請求項４】
前記第４１レンズ群は、物体側から像側へ順に、１以上の正レンズと、正レンズＧｒと負レンズとを接合した接合レンズで構成され、該接合レンズよりも物体側に配置された正レンズの合成焦点距離をｆｆ、前記正レンズＧｒの焦点距離をｆｒ、前記接合レンズよりも物体側に配置された正レンズの焦点距離を物体側より順にｆｆ１、ｆｆ２、ｆｆ３、ｆｆ４、・・・とし、
【数１】
2012185272.tif 000001
とするとき、
１．３＜ｆｆ／ｆｒ＜１．８
なる条件式を満足することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項のズームレンズ。
【請求項５】
前記第４１レンズ群は、物体側から像側へ順に、１以上の正レンズ、正レンズと負レンズの接合レンズ、１以上の正レンズより構成されることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項のズームレンズ。
【請求項６】
前記焦点距離変換光学系は、最も長い空気間隔を挟んで、物体側に正の屈折力の第ＩＥｐレンズ群と、像側に負の屈折力の第ＩＥｎレンズ群より構成され、前記第ＩＥｎレンズ群の焦点距離をｆｉｅｎ、前記焦点距離変換光学系が光路中に配置されたとき、前記開口絞りから前記ＩＥｎレンズ群の最も物体側のレンズ面までの距離をＤｉｅｎとするとき、
０．４７＜｜ｆｉｅｎ／Ｄｉｅｎ｜＜０．６０
なる条件式を満足することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項のズームレンズ。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか１項に記載のズームレンズと前記ズームレンズによって形成された像を受光する固体撮像素子を有することを特徴とする撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明のズームレンズは、物体側から像側へ順に、ズーミングに際して不動の正の屈折力の第１レンズ群、ズーミングに際して移動する負の屈折力の第２レンズ群、ズーミングに際して移動する負の屈折力の第３レンズ群、通過光量を調整する開口絞り、ズーミングのためには不動の正の屈折力の第４レンズ群より構成されるズームレンズにおいて、
前記第４レンズ群は第４１レンズ群、光路中より着脱可能な焦点距離変換光学系、第４２レンズ群より構成され、前記第４２レンズ群の焦点距離をｆ４２、前記開口絞りから、前記第４２レンズ群の最も物体側のレンズ面までの距離をＤ、広角端における全系のＦナンバーをＦｎｏとするとき、
１．０４＜ｆ４２／Ｄ＜１．２５
Ｆｎｏ≦２．０
なる条件式を満足することを特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
以下に、本発明の実施の形態を添付の図面に基づいて詳細に説明する。本発明のズームレンズは、物体側から像側へ順に次のとおりである。ズーミングに際して不動の正の屈折力の第１レンズ群、ズーミングに際して移動する負の屈折力の第２レンズ群、ズーミングに際して移動する（ズーミングに際して変動する像面を補正する）負の屈折力の第３レンズ群を有している。更に通過光量を調整する開口絞りＳＰ、そしてズーミングのためには不動の正の屈折力の第４レンズ群より構成されている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
ＳＰは開口絞りであり、第３レンズ群Ｃの像側に配置されている。Ｒはズーミングのためには不動であって結像のための正の屈折力の第４レンズ群（リレーレンズ群）である。第４レンズ群Ｒは第４１レンズ群４１、光路中から挿脱可能な焦点距離変換光学系ＩＥ、第４２レンズ群４２から構成される。Ｐは色分解プリズムや光学フィルタであり、硝子ブロックとして示している。ＩＰは像面であり、固体撮像素子（光電変換素子）の撮像面に相当している。
【手続補正書】
【提出日】平成26年1月20日(2014.1.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記に示す成分（Ａ）、成分（Ｂ）、成分（Ｃ）および成分（Ｄ）を含有し、各成分の構成割合が成分（Ａ）１００質量部に対して成分（Ｂ）５〜５０質量部、成分（Ｃ）１０〜７０質量部および成分（Ｄ）１〜４０質量部である感光性樹脂組成物であって、
前記成分（Ａ）は下記式（１）で表されるイタコン酸ジエステル単量体から誘導される構成単位（ａ１）、下記式（２）で表される芳香族ビニル単量体から誘導される構成単位（ａ２）および下記式（３）で表されるα，β−不飽和カルボン酸単量体から誘導される構成単位（ａ３）を有する共重合体であり、構成単位（ａ１）と構成単位（ａ２）の合計量に対して構成単位（ａ１）が１５〜９５質量％、構成単位（ａ２）が５〜８５質量％であると共に、構成単位（ａ１）と構成単位（ａ２）の合計量１００質量部に対して構成単位（ａ３）が５〜１５０質量部であることを特徴とする感光性樹脂組成物。
【化１】
2012185291.tif 000001
（式中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して炭素数１〜８の直鎖アルキル基、炭素数３〜８の分岐アルキル基、炭素数４〜１２のシクロアルキル基）
【化２】
2012185291.tif 000002
（式中、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立して水素原子またはメチル基）
【化３】
2012185291.tif 000003
（式中のＲ５は水素原子またはメチル基）
成分（Ｂ）：多官能フェノール性化合物とキノンジアジド化合物とをエステル化反応させて得られる、キノンジアジド基を有するエステル化物。
成分（Ｃ）：２個以上のエポキシ基を有する化合物。
成分（Ｄ）：下記式（４）で表されるフェノール化合物。
【化４】
2012185291.tif 000004
（式中、Ｒ６は炭素数１〜４のアルキル基を表す。Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９は、それぞれ独立して水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表す。ｌ、ｍ、ｎ、o、はそれぞれ、１〜２の整数を表す。Ｒ１０およびＲ１１は、それぞれ独立して炭素数１〜２のアルキル基を表す。）
【請求項２】
前記成分（Ａ）は、構成単位（ａ1）、構成単位（ａ２）および構成単位（ａ３）に加えて下記式（５）で表される（メタ）アクリル酸エステル単量体から誘導される構成単位（ａ４）を、構成単位（ａ１）と構成単位（ａ２）の合計量１００質量部に対して１〜１４５質量部有する共重合体であることを特徴とする請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
【化５】
2012185291.tif 000005
（式中のＲ１２は水素原子またはメチル基、Ｒ１３は炭素数１〜１２の直鎖アルキル基、炭素数３〜１２の分岐アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、ベンジル基、炭素数1〜１２のヒドロキシアルキル基または主環構成炭素数３〜１２の脂環式炭化水素基）
【請求項３】
請求項１または２に記載の感光性樹脂組成物から得られるパターン膜を有するフラットパネルディスプレイ。
【請求項４】
請求項１または２に記載の感光性樹脂組成物から得られるパターン膜を有する半導体デバイス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
【化４】
2012185291.tif 000006
（式中、Ｒ６は炭素数１〜４のアルキル基を表す。Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９は、それぞれ独立して水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表す。ｌ、ｍ、ｎ、o、はそれぞれ、１〜２の整数を表す。Ｒ１０およびＲ１１は、それぞれ独立して炭素数１〜２のアルキル基を表す。）
第２の発明の感光性樹脂組成物は、第１の発明において、前記成分（Ａ）は、構成単位（ａ1）、構成単位（ａ２）および構成単位（ａ３）に加えて下記式（５）で表される（メタ）アクリル酸エステル単量体から誘導される構成単位（ａ４）を、構成単位（ａ１）と構成単位（ａ２）の合計量１００質量部に対して１〜１４５質量部有する共重合体であることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
さらに、成分（Ａ）の共重合体は、構成単位（ａ１）、構成単位（ａ２）および構成単位（ａ３）に加えて、下記式（５）で表される（メタ）アクリル酸エステル単量体から誘導される構成単位（ａ４）を、構成単位（ａ１）と構成単位（ａ２）の合計量１００質量部に対して１〜１４５質量部含有することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
この構成単位（ａ４）は、構成単位（ａ１）と構成単位（ａ２）の合計量１００質量部に対して好ましくは１〜１４５質量部含まれる。構成単位（ａ４）の含有量が１質量部を下回ると、構成単位（ａ４）に基づく機能発現が不十分となる。その一方、１４５質量部を上回ると、他成分との相溶性が悪化し、白濁や透明性の低下を招く。
【手続補正書】
【提出日】平成26年2月28日(2014.2.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＰＤＬデータに含まれる図形を取得する取得手段と、
前記取得された図形ごとにエッジ情報を抽出する処理の単位であるエッジ抽出処理を割り当てる割り当て手段と、
前記図形ごとに抽出されたエッジ情報を合成する合成手段と、
前記合成手段で合成されたデータをタイル状のフォーマットで中間データとしてスプールするスプール手段と、
前記スプールされたタイル状の中間データを読み出し、中間データからピクセルを生成するに際し、タイルごとにそれぞれ処理を行う生成手段と、
を有する画像処理装置。
【請求項２】
前記割り当て手段は、図形の絶対座標を、図形の外接矩形の左上の点を原点に持つ相対座標に変換し、図形ごとの各領域においてエッジ情報を抽出する処理の単位であるエッジ抽出処理を割り当てる請求項１記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記エッジ抽出処理は、エッジ情報を抽出すると共に図形の輪郭の中の塗り情報を抽出する請求項１又は２記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記取得手段と、前記割り当て手段及び前記合成手段と、を別々のスレッドで実行させる請求項１乃至３何れか１項記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記取得手段は、
前記図形が、ベクタライズが必要な図形か否かを判断し、ベクタライズが必要であると判断した場合、前記図形にマーキングを施し、図形を第一のデータ保持部に保存するマーキング手段と、
前記第一のデータ保持部に保持されている図形のうち、マーキングが施されている図形に対してベクタライズを施し、図形を第二のデータ保持部に保持するベクタライズ手段と、
を有し、
前記マーキングを施されなかった前記第一のデータ保持部に保持されている図形を前記割り当て手段に渡すと共に、前記第二のデータ保持部に保持されている図形を前記割り当て手段に渡し、前記マーキング手段と、前記ベクタライズ手段と、を別々に実行する請求項１乃至４何れか１項記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記取得手段は、利用可能なＣＰＵのコア数が所定の数より大きい場合は、前記マーキング手段と、前記ベクタライズ手段と、を実行する処理を選択し、利用可能なＣＰＵのコア数が所定の数より小さい場合は、前記マーキング手段と、前記ベクタライズ手段と、を実行する処理を選択しない請求項５記載の画像処理装置。
【請求項７】
画像処理装置が実行する画像処理方法であって、
ＰＤＬデータに含まれる図形を取得する取得ステップと、
前記取得された図形ごとにエッジ情報を抽出する処理の単位であるエッジ抽出処理を割り当てる割り当てステップと、
前記図形ごとに抽出されたエッジ情報を合成する合成ステップと、
前記合成ステップで合成されたデータをタイル状のフォーマットで中間データとしてスプールするスプールステップと、
前記スプールされたタイル状の中間データを読み出し、中間データからピクセルを生成するに際し、タイルごとにそれぞれ処理を行う生成ステップと、
を含む画像処理方法。
【請求項８】
コンピュータを、請求項１乃至６何れか１項記載の各手段として機能させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
そこで、本発明の画像処理装置は、ＰＤＬデータに含まれる図形を取得する取得手段と、前記取得された図形ごとにエッジ情報を抽出する処理の単位であるエッジ抽出処理を割り当てる割り当て手段と、前記図形ごとに抽出されたエッジ情報を合成する合成手段と、前記合成手段で合成されたデータをタイル状のフォーマットで中間データとしてスプールするスプール手段と、前記スプールされたタイル状の中間データを読み出し、中間データからピクセルを生成するに際し、タイルごとにそれぞれ処理を行う生成手段と、を有する。
【手続補正書】
【提出日】平成26年3月4日(2014.3.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カンチレバーと、
Ｘ−Ｙ平面に平行なＸＹ方向に移動可能なＸＹ可動部と、
前記ＸＹ可動部をＸＹ方向に走査するＸＹアクチュエータと、
前記ＸＹ可動部に保持された、Ｘ−Ｙ平面に垂直なＺ方向に前記カンチレバーを走査するＺアクチュエータと、
前記ＸＹ可動部に保持された、前記カンチレバーの変位を検出するための光を前記カンチレバーに入射させる集光部とを備え、
Ｘ−Ｙ平面への投影において、前記Ｚアクチュエータの少なくとも一部は、前記集光部と重ならないように配置されている走査機構。
【請求項２】
前記Ｚアクチュエータは、少なくとも１つの圧電素子を含み、
前記圧電素子と前記集光部は、Ｘ−Ｙ平面への投影において、互いに重ならないように配置されている請求項１に記載の走査機構。
【請求項３】
前記Ｚアクチュエータの重心と前記集光部の重心がいずれも前記ＸＹ可動部の厚み内に収まっている請求項１または２に記載の走査機構。
【請求項４】
前記Ｚアクチュエータが、Ｚ軸に沿って伸縮し得る実質的に同一の二つの積層型圧電素子を有し、前記二つの積層型圧電素子はそれぞれ前記ＸＹ可動部からＺ軸に沿って反対側に延びている請求項３に記載の走査機構。
【請求項５】
前記二つの積層型圧電素子の一方の自由端には、前記カンチレバーを保持するホルダが保持され、前記二つの積層型圧電素子の他方の自由端には、前記ホルダとほぼ同質量の疑似ホルダが保持されている請求項４に記載の走査機構。
【請求項６】
前記集光部は、少なくとも１つのレンズを含むユニットである請求項１から５までのいずれかひとつに記載の走査機構。
【請求項７】
前記ユニットが単レンズである請求項６に記載の走査機構。
【請求項８】
前記カンチレバーは、Ｘ−Ｙ平面に対して５度ないし２０度の角度で保持され、
前記単レンズは、その光軸がＺ軸に対して５度ないし２０度の角度で前記ＸＹ可動部に保持されている請求項７に記載の走査機構。
【請求項９】
前記単レンズの直径が１０ｍｍ以下である請求項７または８に記載の走査機構。
【請求項１０】
前記単レンズのＮＡが０．４以上である請求項７から９までのいずれかひとつに記載の走査機構。
【請求項１１】
前記ＸＹ可動部は、前記Ｚアクチュエータと前記集光部の間に設けられ、前記Ｚアクチュエータと前記集光部との間の振動の伝達を低減する振動低減部を有している請求項１から１０までのいずれかひとつに記載の走査機構。
【請求項１２】
前記振動低減部は、少なくとも前記集光部の外周部において前記Ｚアクチュエータに最も近い部分と前記ＸＹ可動部とに互いに接するように形成されている請求項１１に記載の走査機構。
【請求項１３】
前記Ｚアクチュエータが、Ｚ軸に沿って伸縮し得る実質的に同一の二つの積層型圧電素子を有し、前記二つの積層型圧電素子はそれぞれ前記ＸＹ可動部からＺ軸に沿って反対側に延びている請求項１１または１２に記載の走査機構。
【請求項１４】
前記二つの積層型圧電素子の一方の自由端には前記カンチレバーを保持するホルダが保持され、前記二つの積層型圧電素子の他方の自由端には、前記ホルダ（およびカンチレバー）とほぼ同質量の疑似ホルダが保持されている請求項１３に記載の走査機構。
【請求項１５】
前記集光部は、少なくとも１つのレンズを含むユニットである請求項１１から１４までのいずれかひとつに記載の走査機構。
【請求項１６】
前記ユニットが単レンズである請求項１５に記載の走査機構。
【請求項１７】
前記カンチレバーは、Ｘ−Ｙ平面に対して５度ないし２０度の角度で保持され、
前記単レンズは、その光軸がＺ軸に対して５度ないし２０度の角度で前記ＸＹ可動部に保持されている請求項１６に記載の走査機構。
【請求項１８】
前記単レンズの直径が１０ｍｍ以下である請求項１６または１７に記載の走査機構。
【請求項１９】
前記単レンズのＮＡが０．４以上である請求項１６から１８までのいずれかひとつに記載の走査機構。
【請求項２０】
前記振動低減部は、開口部である請求項１１から１６までのいずれかひとつに記載の走査機構。
【請求項２１】
前記集光部は、前記ＸＹ可動部に保持された、前記カンチレバーの変位を検出するための光を、収束光として前記カンチレバーに入射させる請求項１から２０までのいずれかひとつに記載の走査機構。
【請求項２２】
請求項１から２１までのいずれかひとつに記載の走査機構を備えた走査型プローブ顕微鏡。
【請求項２３】
倒立型光学顕微鏡を備えた請求項２２に記載の走査型プローブ顕微鏡。
【請求項２４】
光学顕微鏡用の照明光源と、光学顕微鏡用の対物レンズを備え、前記照明光源から照射される照明光が前記集光部を通って試料に照射されることにより、前記試料の透過観察が行われる請求項２３に記載の走査型プローブ顕微鏡。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明の走査機構は、カンチレバーと、Ｘ−Ｙ平面に平行なＸＹ方向に移動可能なＸＹ可動部と、前記ＸＹ可動部をＸＹ方向に走査するＸＹアクチュエータと、前記ＸＹ可動部に保持された、Ｘ−Ｙ平面に垂直なＺ方向に前記カンチレバーを走査するＺアクチュエータと、前記ＸＹ可動部に保持された、前記カンチレバーの変位を検出するための光を前記カンチレバーに入射させる集光部とを備えている。Ｘ−Ｙ平面への投影において、前記Ｚアクチュエータの少なくとも一部は、前記集光部と重ならないように配置されている。
【手続補正書】
【提出日】平成26年2月28日(2014.2.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
時間領域分光法により物体の内部情報を可視化する装置であって、
物体からのテラヘルツ波を検出する検出部と、
前記検出部の出力よりテラヘルツ波の時間波形を構築する構築部と、
物体内部にテラヘルツ波が浸透する方向に対して略垂直な方向の物体の画素に対応するテラヘルツ波について、前記検出部に至るまでの画素毎の伝搬距離を第１の変調パターンと第２の変調パターンで逐次空間変調し、第１のテラヘルツ波と第２のテラヘルツ波を出射する変調部と、
前記変調パターンに対応する画素毎のテラヘルツ波の伝搬距離の変化量を時間量に換算し、前記時間量に基づいて、前記構築部からの第１のテラヘルツ波の第１の時間波形と第２のテラヘルツ波の第２の時間波形の時間軸上の位置を調整し、第３の時間波形と第４の時間波形を取得する調整部と、
画素毎に、第３の時間波形と第４の時間波形を加算処理する加算部と、
を有することを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記変調部は、物体と前記検出部の間に配置され、物体から前記検出部に至るテラヘルツ波の伝搬距離について空間変調を行うことを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記変調部の状態をモニタし、該変調部の状態より変調パターンを出力するモニタ部をさらに有し、
前記調整部は、前記モニタ部から出力される変調パターンを参照してテラヘルツ波の時間波形の時間軸上の位置を調整することを特徴とする請求項１または２に記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記変調部が用いる第１の変調パターンと第２の変調パターンを予め記憶しているパターン記憶部をさらに有し、
前記調整部は、前記パターン記憶部が記憶する変調パターンを参照してテラヘルツ波の時間波形の時間軸上の位置を調整することを特徴とする請求項１または２に記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記変調部は、画像を形成する画素毎にテラヘルツ波の伝搬距離が異なるテラヘルツ波透過部材を含むことを特徴とする請求項１から４の何れか１項に記載の画像形成装置。
【請求項６】
前記変調部は、画像を形成する画素毎に物体からのテラヘルツ波の伝搬距離を調整するテラヘルツ波反射部材を含むことを特徴とする請求項１から４の何れか１項に記載の画像形成装置。
【請求項７】
時間領域分光法により物体の内部情報を可視化する方法であって、
物体からのテラヘルツ波を検出部により検出する検出ステップと、
前記検出ステップにおける検出部の出力よりテラヘルツ波の時間波形を構築する波形構築ステップと、
物体内部にテラヘルツ波が浸透する方向に対して略垂直な方向の物体の画素に対応するテラヘルツ波について、検出部に至るまでの伝搬距離を第１の変調パターンと第２の変調パターンで逐次空間変調し、第１のテラヘルツ波と第２のテラヘルツ波を出射する変調ステップと、
前記変調パターンに対応する画素毎のテラヘルツ波の伝搬距離の変化量を時間量に換算し、前記時間量に基づいて、前記波形構築ステップで構築された第１のテラヘルツ波の時間波形と第２のテラヘルツ波の第２の時間波形の時間軸上の位置を調整し、第３の時間波形と第４の時間波形を取得する調整ステップと、
画素毎に、第３の時間波形と第４の時間波形を加算する加算ステップと、
を含むことを特徴とする画像形成方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年3月7日(2014.3.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
窓部を有する文字板と、
前記文字板の背面側に設置された複数の太陽電池素子を備える太陽電池と、
指針が取り付けられ、前記窓部を貫通する軸とを有し、
前記窓部は、前記文字板の他の部位よりも光の透過性の高い部位であり、
前記軸は、前記太陽電池素子に設けられた孔部に挿通されたものであり、
前記窓部から前記太陽電池素子の外周部が視認されないように、前記太陽電池が配置されていることを特徴とする時計。
【請求項２】
複数の前記太陽電池素子は、互いに平面積が同一である請求項１に記載の時計。
【請求項３】
前記太陽電池素子は、略扇形をなすものであり、
前記孔部は、前記扇形の中心角の二等分線上に設けられている請求項１または２に記載の時計。
【請求項４】
前記太陽電池素子は、その外周部の一部が、前記窓部の縁部に沿うような円弧状をなすものである請求項１または２に記載の時計。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
このような目的は下記の本発明により達成される。
本発明の時計は、窓部を有する文字板と、
前記文字板の背面側に設置された複数の太陽電池素子を備える太陽電池と、
指針が取り付けられ、前記窓部を貫通する軸とを有し、
前記窓部は、前記文字板の他の部位よりも光の透過性の高い部位であり、
前記軸は、前記太陽電池素子に設けられた孔部に挿通されたものであり、
前記窓部から前記太陽電池素子の外周部が視認されないように、前記太陽電池が配置されていることを特徴とする。
これにより、文字板の窓部に入射した光を、太陽電池による発電に効率よく利用することができるとともに、美的外観に優れた時計を提供することができる。