【手続補正書】
【提出日】平成26年11月12日(2014.11.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光光により照明された原版に形成されているパターンを、投影光学系を介して基板上に露光する露光装置であって、
前記基板を保持して移動する移動ステージと、
前記移動ステージと前記投影光学系の間に所定の気体を供給する供給手段と、
前記移動ステージと前記投影光学系の間から取得された雰囲気を、前記雰囲気に含まれる特定の気体の濃度の測定をする測定器へ導く取得部とを有し、
前記取得部の前記雰囲気を取得する取得口は、前記移動ステージと共に移動することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記取得部は前記移動ステージに形成された貫通孔を含むことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記取得部には前記移動ステージに保持される工具に設けられた貫通孔を含み、前記取得口は前記工具に設けられた貫通孔の端部であり、投影光学系と対向する面に設けられていることを特徴とする請求項１または２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記移動ステージに形成された貫通孔は、露光時に前記基板を保持するために前記移動ステージに形成された基板を吸着するための吸着孔であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項５】
前記工具の前記投影光学系に対向する面の高さが、露光時に使用する基板の露光面の高さとなることを特徴とする請求項３に記載の露光装置。
【請求項６】
前記測定器による測定結果に基づいて、露光時に基板上の複数の位置の露光に必要とされる露光量に関する情報を取得する露光量の取得手段を有し、前記露光量の取得手段により取得された露光量に関する情報に基づいて露光量を制御して露光することを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項７】
前記露光量の制御として、光源の照度変更を実行することを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
【請求項８】
前記露光量の制御として、照度分布補正フィルタの挿入を実行することを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
【請求項９】
前記露光量の制御として、前記移動ステージのスキャンスピードの変更を実行することを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記測定器は前記取得口から取得した前記雰囲気に含まれる前記特定の気体の濃度を測定するものであって、
前記供給手段から前記所定の気体を取得して前記所定の気体に含まれている前記特定の気体の濃度を測定する測定手段と、
前記測定器で測定した前記取得口から取得した前記雰囲気に含まれる前記特定の気体の濃度と、前記測定手段で測定した前記所定の気体に含まれる前記特定の気体の濃度に基づいて前記所定の気体の供給量を調整する調整手段を有することを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１１】
前記所定の気体は前記特定の気体の濃度の異なる２種類の気体であることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１２】
前記所定の気体は窒素であることを特徴とする請求項１〜１１のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１３】
前記特定の気体は酸素であることを特徴とする請求項１〜１２のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記露光された基板を現像する工程と、を備えることを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明の一側面としての露光装置は、露光光により照明された原版に形成されているパターンを、投影光学系を介して基板上に露光する露光装置であって、前記基板を保持して移動する移動ステージと、前記移動ステージと前記投影光学系の間に所定の気体を供給する供給手段と、前記移動ステージと前記投影光学系の間から取得された雰囲気を、前記雰囲気に含まれる特定の気体の濃度の測定をする測定器へ導く取得部とを有し、前記取得部の前記雰囲気を取得する取得口は、前記移動ステージと共に移動することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本実施形態においては、基板２は、基板吸着用ライン９からの吸着力で、基板保持手段である基板チャック３に固定されている。また、基板チャック３は、基板チャックの吸着用ライン１０からの吸着力で、露光時には水平方向に移動する（スキャンされる）移動ステージ４に固定されている。吸着力は、基板吸着用ライン９や、吸着用ライン１０といった吸着孔に接続されるポンプにより発生される。基板チャック３及び基板２には、投影光学系１と移動ステージ４の間（より具体的には、投影光学系１と基板２の間の空間）の雰囲気を取得するための貫通孔１１、１２がそれぞれ設けられている。そして雰囲気の取得経路（取得部）となる雰囲気の取得用ライン１３が貫通孔１１、１２を含む構成となっている。気体取得ライン１３は、雰囲気を測定する測定器５に接続されている。ここで、雰囲気を測定するとは、雰囲気に含まれる酸素や窒素といった気体の濃度を測定することなどを意味する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
工具６Ｂには封止用チップ１４をはめるための溝（凹状の穴）が設けられている。工具６Ａと６Ｂは貫通孔１１が、接触部分で繋がるように配置され、雰囲気の取得経路（取得部）である取得ライン１３の一部を形成している。図５の（ｄ）もしくは図５の（ｅ）に示したように、Ｏ−リング１５を用いて接触部分の気密が保たれている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
図３に示した例においては、図３（ａ）に示したフローで事前に気体の濃度測定を行い、その結果に基づいて補正テーブルを作成した後、図３（ｂ）に示したフローで実際の露光直前には補正テーブルに基づいたパラメータ調整のみを行う。これにより、「露光時に毎回気体の濃度測定を行う場合」と比較して、気体の濃度測定による露光装置のスループット低下を少なく抑えられる利点がある。本フローチャートは、コンピュータにより実行される。このコンピュータは、露光時に必要とされる露光量の取得する取得手段として機能する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
酸素濃度が高くなると露光感度が下がり、感光時間が長くなるレジストを使用する場合において、パラメータの一例とその効果を説明する。例えば、一つの露光ショットの露光開始直後は酸素濃度が低く、露光終了直前は酸素濃度が高い場合、補正を行わずに露光するとショット露光の開始直後は終了直前と比較して感光しやすいため線幅が太る傾向となる。このため、補正をしない場合はディストーションが発生する。それに対して、ショット露光の開始直後は移動ステージのスキャンスピードを速くして、ショット終了直前は移動ステージのスキャンスピードを遅くする補正を行うことで、ショット内の感光度合いを揃えて、ディストーションの発生量を小さくすることが可能となる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７２】
ステップＳ８０７で条件を満足する（Ｙｅｓ）の場合には、補正テーブルとして酸素濃度値と流量オフセットを設定する（ステップＳ８０９）。ここでは、例えば、ステップＳ８０２で設定した値と、ステップＳ８０３で設定された気体流量である。特に、混合気体を供給する場合には、それぞれの気体の流量として設定された値となる。ここでは、
図８（ｂ）のフローチャートでは、まず、ステップＳ８１１で露光準備を開始する。次に、ステップＳ８１２では、流量制御器１７によって設定された補正テーブルに基づき基板２上、或いは工具６上への気体供給を開始して、ステップＳ８０９で作成した補正テーブルに基づいた流量制御を行う。そして、ステップＳ８１３で露光を開始する。
【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2012109553.tif 000001
【手続補正９】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６】
2012109553.tif 000002
【手続補正１０】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図８】
2012109553.tif 000003