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【手続補正書】
【提出日】平成26年1月8日(2014.1.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検光学系からの光の波面を測定するシアリング干渉測定装置であって、
撮像素子と、
前記被検光学系の瞳を前記撮像素子の撮像面に結像させる瞳結像光学系と、
前記瞳結像光学系の光路に配置され、前記被検光学系からの光の波面を分割することによって複数の波面を形成する回折格子と、
前記回折格子によって分割された複数の波面の間の前記撮像面におけるシア量が変更されるように前記回折格子を駆動する駆動機構と、
前記回折格子によって分割された複数の波面によって前記撮像面に形成される干渉縞を前記撮像素子によって撮像して得られた干渉縞データを処理することにより被検光学系からの光の波面を算出する制御部と、を備え、
前記制御部は、
前記撮像面におけるシア量が第１の目標シア量になるように前記駆動機構に前記回折格子を駆動させたときに前記撮像素子によって得られる第１の干渉縞データを複数のシア量のそれぞれを使って処理することによって得られる複数の波面をそれぞれ近似する複数の多項式のそれぞれにおける少なくとも１つの係数と当該複数のシア量との関係を示す第１の直線を決定し、
前記撮像面におけるシア量が前記第１の目標シア量とは異なる第２の目標シア量になるように前記駆動機構に前記回折格子を駆動させたときに前記撮像素子によって得られる第２の干渉縞データを複数のシア量のそれぞれを使って処理することによって得られる複数の波面をそれぞれ近似する複数の多項式のそれぞれにおける少なくとも１つの係数と当該複数のシア量との関係を示す第２の直線を決定し、
前記第１の直線と前記第２の直線とにおけるシア量の差分が前記第１の目標シア量と前記第２の目標シア量との差分と等しくなる前記第１の直線におけるシア量および前記第２の直線におけるシア量をそれぞれ真のシア量として決定する、
ことを特徴とするシアリング干渉測定装置。
【請求項２】
前記駆動機構は、前記回折格子によって分割された複数の波面の間の前記撮像面におけるシア量が変更されるように前記シアリング干渉測定装置の光軸に平行な方向における前記回折格子の位置を変更する、
ことを特徴とする請求項１に記載のシアリング干渉測定装置。
【請求項３】
前記瞳結像光学系は、
前記被検光学系が配置されるべき面と前記撮像面との間に配置されて前記被検光学系からの光を平行光束にする第１のコリメータレンズと、
前記第１のコリメータレンズと前記撮像面との間に配置された集光レンズと、
前記集光レンズと前記撮像面との間に配置された第２のコリメータレンズとを含み、
前記回折格子は、前記第１のコリメータレンズと前記集光レンズとの間に配置されている、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載のシアリング干渉測定装置。
【請求項４】
前記集光レンズと前記第２のコリメータレンズとの間に配置されて、前記回折格子で発生した回折光のうち特定の次数の回折光を通過させる次数選択窓を更に有することを特徴とする請求項３に記載のシアリング干渉測定装置。
【請求項５】
前記多項式は、Ｚｅｒｎｉｋｅ多項式である、
ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のシアリング干渉測定装置。
【請求項６】
被検光学系からの光の波面を測定するシアリング干渉測定装置の校正方法であって、
前記シアリング干渉測定装置は、
撮像素子と、
前記被検光学系の瞳を前記撮像素子の撮像面に結像させる瞳結像光学系と、
前記瞳結像光学系の光路に配置され、前記被検光学系からの光の波面を分割することによって複数の波面を形成する回折格子と、
前記回折格子によって分割された複数の波面の間の前記撮像面におけるシア量が変更されるように前記回折格子を駆動する駆動機構と、
前記回折格子によって分割された複数の波面によって前記撮像面に形成される干渉縞を前記撮像素子によって撮像して得られた干渉縞データを処理することにより被検光学系からの光の波面を算出する制御部と、を備え、
前記校正方法は、
前記撮像面におけるシア量が第１の目標シア量になるように前記駆動機構に前記回折格子を駆動させたときに前記撮像素子によって得られる第１の干渉縞データを複数のシア量のそれぞれを使って処理することによって得られる複数の波面をそれぞれ近似する複数の多項式のそれぞれにおける少なくとも１つの係数と当該複数のシア量との関係を示す第１の直線を決定するステップと、
前記撮像面におけるシア量が前記第１の目標シア量とは異なる第２の目標シア量になるように前記駆動機構に前記回折格子を駆動させたときに前記撮像素子によって得られる第２の干渉縞データを複数のシア量のそれぞれを使って処理することによって得られる複数の波面をそれぞれ近似する複数の多項式のそれぞれにおける少なくとも１つの係数と当該複数のシア量との関係を示す第２の直線を決定するステップと、
前記第１の直線と前記第２の直線とにおけるシア量の差分が前記第１の目標シア量と前記第２の目標シア量との差分と等しくなる前記第１の直線におけるシア量および前記第２の直線におけるシア量をそれぞれ真のシア量として決定するステップとを含む、
ことを特徴とするシアリング干渉測定装置の校正方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の１つの側面は、被検光学系からの光の波面を測定するシアリング干渉測定装置に係り、前記シアリング干渉測定装置は、撮像素子と、前記被検光学系の瞳を前記撮像素子の撮像面に結像させる瞳結像光学系と、前記瞳結像光学系の光路に配置され、前記被検光学系からの光の波面を分割することによって複数の波面を形成する回折格子と、前記回折格子によって分割された複数の波面の間の前記撮像面におけるシア量が変更されるように前記回折格子を駆動する駆動機構と、前記回折格子によって分割された複数の波面によって前記撮像面に形成される干渉縞を前記撮像素子によって撮像して得られた干渉縞データを処理することにより被検光学系からの光の波面を算出する制御部と、を備え、前記制御部は、前記撮像面におけるシア量が第１の目標シア量になるように前記駆動機構に前記回折格子を駆動させたときに前記撮像素子によって得られる第１の干渉縞データを複数のシア量のそれぞれを使って処理することによって得られる複数の波面をそれぞれ近似する複数の多項式のそれぞれにおける少なくとも１つの係数と当該複数のシア量との関係を示す第１の直線を決定し、前記撮像面におけるシア量が前記第１の目標シア量とは異なる第２の目標シア量になるように前記駆動機構に前記回折格子を駆動させたときに前記撮像素子によって得られる第２の干渉縞データを複数のシア量のそれぞれを使って処理することによって得られる複数の波面をそれぞれ近似する複数の多項式のそれぞれにおける少なくとも１つの係数と当該複数のシア量との関係を示す第２の直線を決定し、前記第１の直線と前記第２の直線とにおけるシア量の差分が前記第１の目標シア量と前記第２の目標シア量との差分と等しくなる前記第１の直線におけるシア量および前記第２の直線におけるシア量をそれぞれ真のシア量として決定する。
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月28日(2013.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
［３］放射線を可視光に変換するシンチレータと、前記可視光を電荷に変換するフォトダイオードとを有する放射線検出器の製造方法であって、
前記フォトダイオードの可視光に対する感度の温度変化率を測定する工程と、
前記フォトダイオードの可視光に対する感度の温度変化率がＢ［％／Ｋ］であるとき、前記シンチレータとして、放射線に対する感度の温度変化率Ａ［％／Ｋ］が下記の式（１）を満足するものを選定する工程と、
を有することを特徴とする放射線検出器の製造方法。
−０．３５［％／Ｋ］＜Ａ＋Ｂ＜０．３５［％／Ｋ］  …（１）
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射線を可視光に変換するシンチレータと、前記可視光を電荷に変換するフォトダイオードとを有する放射線検出器であって、
前記シンチレータの放射線に対する感度の温度変化率をＡ［％／Ｋ］、前記フォトダイオードの可視光に対する感度の温度変化率をＢ［％／Ｋ］とするとき、下記の式（１）を満足することを特徴とする放射線検出器。
−０．３５［％／Ｋ］＜Ａ＋Ｂ＜０．３５［％／Ｋ］  …（１）
【請求項２】
請求項１記載の検出器において、Ａ＜０、Ｂ＞０であることを特徴とする放射線検出器。
【請求項３】
請求項２記載の検出器において、Ａ＜−０．２であることを特徴とする放射線検出器。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の検出器において、前記シンチレータがＣｓＩからなり、且つ前記フォトダイオードがアモルファスシリコンからなることを特徴とする放射線検出器。
【請求項５】
放射線を可視光に変換するシンチレータと、前記可視光を電荷に変換するフォトダイオードとを有する放射線検出器の製造方法であって、
前記シンチレータの放射線に対する感度の温度変化率を測定する工程と、
前記シンチレータの放射線に対する感度の温度変化率がＡ［％／Ｋ］であるとき、前記フォトダイオードとして、可視光に対する感度の温度変化率Ｂ［％／Ｋ］が下記の式（１）を満足するものを選定する工程と、
を有することを特徴とする放射線検出器の製造方法。
−０．３５［％／Ｋ］＜Ａ＋Ｂ＜０．３５［％／Ｋ］  …（１）
【請求項６】
請求項５記載の製造方法において、Ａ＜０であるとき、Ｂ＞０であるフォトダイオードを選定することを特徴とする放射線検出器の製造方法。
【請求項７】
請求項６記載の製造方法において、Ａ＜−０．２であるシンチレータを選定することを特徴とする放射線検出器の製造方法。
【請求項８】
請求項５〜７のいずれか１項に記載の製造方法において、前記シンチレータとしてＣｓＩを選定し、且つ前記フォトダイオードとしてアモルファスシリコンを選定することを特徴とする放射線検出器の製造方法。
【請求項９】
請求項５〜８のいずれか１項に記載の製造方法において、前記シンチレータを７５０〜９００℃の温度範囲で成膜することによって得ることを特徴とする放射線検出器の製造方法。
【請求項１０】
放射線を可視光に変換するシンチレータと、前記可視光を電荷に変換するフォトダイオードとを有する放射線検出器の製造方法であって、
前記フォトダイオードの可視光に対する感度の温度変化率を測定する工程と、
前記フォトダイオードの可視光に対する感度の温度変化率がＢ［％／Ｋ］であるとき、前記シンチレータとして、放射線に対する感度の温度変化率Ａ［％／Ｋ］が下記の式（１）を満足するものを選定する工程と、
を有することを特徴とする放射線検出器の製造方法。
−０．３５［％／Ｋ］＜Ａ＋Ｂ＜０．３５［％／Ｋ］  …（１）
【請求項１１】
請求項１０記載の製造方法において、Ｂ＞０であるとき、Ａ＜０であるシンチレータを選定することを特徴とする放射線検出器の製造方法。
【請求項１２】
請求項１１記載の製造方法において、Ａ＜−０．２であるシンチレータを選定することを特徴とする放射線検出器の製造方法。
【請求項１３】
請求項１０〜１２のいずれか１項に記載の製造方法において、前記シンチレータとしてＣｓＩを選定し、且つ前記フォトダイオードとしてアモルファスシリコンを選定することを特徴とする放射線検出器の製造方法。
【請求項１４】
請求項１０〜１３のいずれか１項に記載の製造方法において、前記シンチレータを７５０〜９００℃の温度範囲で成膜することによって得ることを特徴とする放射線検出器の製造方法。
【請求項１５】
放射線を可視光に変換するシンチレータと、前記可視光を電荷に変換するフォトダイオードとを有する放射線検出器を筐体内に収容して構成される放射線画像撮影装置であって、
前記筐体は、放射線照射源に臨む照射面を備え、
前記放射線検出器は、前記シンチレータの放射線に対する感度の温度変化率をＡ［％／Ｋ］、前記フォトダイオードの可視光に対する感度の温度変化率をＢ［％／Ｋ］とするとき、下記の式（１）を満足するものであり、且つ前記筐体の前記照射面に設けられることを特徴とする放射線画像撮影装置。
−０．３５［％／Ｋ］＜Ａ＋Ｂ＜０．３５［％／Ｋ］  …（１）
【請求項１６】
請求項１５記載の撮影装置において、前記放射線検出器として、Ａ＜０、Ｂ＞０であるものを備えることを特徴とする放射線画像撮影装置。
【請求項１７】
請求項１６記載の撮影装置において、前記放射線検出器として、Ａ＜−０．２であるものを備えることを特徴とする放射線画像撮影装置。
【請求項１８】
請求項１５〜１７のいずれか１項に記載の撮影装置において、前記放射線検出器として、前記シンチレータがＣｓＩからなり、且つ前記フォトダイオードがアモルファスシリコンからなるものを備えることを特徴とする放射線画像撮影装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年1月9日(2014.1.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
右眼用シャッターと左眼用シャッターとを含む立体視用眼鏡で立体視される右眼用画像および左眼用画像を表示する電気光学装置であって、
相互に交差する走査線および信号線と、
前記走査線と前記信号線との交差に対応して配置された画素と、
交互に設けられる右眼用期間および左眼用期間の各々に含まれる第１書込期間において複数の前記走査線を選択単位として順次に選択し、前記複数の走査線のうち特定走査線に対応する画素の画像信号を前記信号線に供給し、前記第１書込期間の経過後の第２書込期間において、前記複数の走査線のうち前記特定走査線以外の走査線を順次に選択し、前記特定走査線以外の走査線に対応する画素の画像信号を前記信号線に供給する駆動回路と
を具備することを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記右眼用期間において前記左眼用シャッターを閉状態に制御するとともに当該右眼用期間の前記第１書込期間の始点から所定の時間が経過した時点で前記右眼用シャッターを閉状態から開状態に変化させ、前記左眼用期間において前記右眼用シャッターを閉状態に制御するとともに当該左眼用期間の前記第１書込期間の始点から所定の時間が経過した時点で左眼用シャッターを閉状態から開状態に変化させる眼鏡制御回路
を具備することを特徴とする請求項１の電気光学装置。
【請求項３】
前記眼鏡制御回路は、前記右眼用期間の前記第１書込期間の終点にて前記右眼用シャッターを閉状態から開状態に変化させ、前記左眼用期間の前記第１書込期間の終点にて前記左眼用シャッターを閉状態から開状態に変化させる
ことを特徴とする請求項２の電気光学装置。
【請求項４】
前記右眼用期間および前記左眼用期間は、複数の単位期間を含み、前記複数の単位期間の各々が、前記第１書込期間と前記第２書込期間とを含み、
前記駆動回路は、前記右眼用期間および前記左眼用期間の各々において、相前後する各単位期間で前記画素の印加電圧が逆極性となるように、前記信号線に画像信号を供給する
ことを特徴とする請求項１から請求項３の何れかの電気光学装置。
【請求項５】
前記右眼用期間および前記左眼用期間の各々は、偶数個の前記単位期間を含む
ことを特徴とする請求項４に記載の電気光学装置。
【請求項６】
前記駆動回路は、前記右眼用期間および前記左眼用期間の各々の前記第１書込期間にて前記選択単位として選択する前記複数の走査線の組合せを前記第１書込期間毎に変化させる
ことを特徴とする請求項１から請求項５の何れかの電気光学装置。
【請求項７】
前記駆動回路は、前記右眼用期間および前記左眼用期間の各々において、一の第１書込期間にて前記選択単位として選択する前記複数の走査線の組合せと、他の第１書込期間にて前記選択単位として選択する前記複数の走査線の組合せとが走査線の１行分だけずれた関係となるように各第１書込期間にて前記選択単位として選択する前記複数の走査線の組合せを選定する
ことを特徴とする請求項６の電気光学装置。
【請求項８】
前記駆動回路は、相互に隣り合う２本の走査線の組合せを前記選択単位として順次に選択する
ことを特徴とする請求項１から請求項７の何れかの電気光学装置。
【請求項９】
請求項１から請求項８の何れかの電気光学装置を具備する電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月4日(2013.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持部を有する第１基板と、
前記支持部に支持される第２基板と、
前記第１基板に設けられた第１光学膜と、
前記第２基板に設けられた、前記第１光学膜と対向する第２光学膜と、
前記支持部の、前記第２基板を支持する支持面に設けられた第１接合膜と、
前記第２基板の被支持面のうちの少なくとも前記支持部に対応する部分に前記第１接合膜よりも厚みが薄い第２接合膜と、を含み、
前記支持部において前記第１接合膜と前記第２接合膜との接合によって、前記第１基板と前記第２基板とが固着されていることを特徴とする光フィルター。
【請求項２】
請求項１記載の光フィルターであって、
前記第２接合膜は、前記第２基板の、前記第１基板側の表面の全領域上に設けられていることを特徴とする光フィルター。
【請求項３】
請求項１または請求項２記載の光フィルターであって、
前記第２接合膜は、前記第２光学膜上に設けられていることを特徴とする光フィルター。
【請求項４】
請求項１記載の光フィルターであって、
前記第２接合膜は、前記第２基板の厚み方向からみた平面視において、前記第２光学膜と重なりを有さない領域において設けられていることを特徴とする光フィルター。
【請求項５】
支持部を有する第１基板と、
前記支持部に支持される第２基板と、
前記第１基板に設けられた第１光学膜と、
前記第２基板に設けられた、前記第１光学膜と対向する第２光学膜と、
前記第２基板の被支持面に設けられた第２接合膜と、
前記第１基板の支持面のうちの少なくとも前記第２基板の被支持部に対応する部分に前記第２接合膜よりも厚みが薄い第１接合膜と、を含み、
前記支持部において前記第１接合膜と前記第２接合膜との接合によって、前記第１基板と前記第２基板とが固着されていることを特徴とする光フィルター。
【請求項６】
請求項５記載の光フィルターであって、
前記第１接合膜は、前記第１基板の、前記第２基板側の表面の全領域上に設けられていることを特徴とする光フィルター。
【請求項７】
請求項５または請求項６記載の光フィルターであって、
前記第１接合膜は、前記第１光学膜上に設けられていることを特徴とする光フィルター。
【請求項８】
請求項５記載の光フィルターであって、
前記第１接合膜は、前記第１基板の厚み方向からみた平面視において、前記第１光学膜と重なりを有さない領域において設けられていることを特徴とする光フィルター。
【請求項９】
支持部を有する第１基板と、前記支持部に支持される第２基板と、前記第１基板に設けられた第１光学膜と、前記第２基板に設けられた、前記第１光学膜と対向する第２光学膜と、前記支持部の、前記第２基板を支持する支持面に設けられた第１接合膜と、前記第２基板の被支持面のうちの少なくとも前記支持部に対応する部分に前記第１接合膜よりも厚みが薄い第２接合膜と、を含み、
前記支持部において前記第１接合膜と前記第２接合膜との接合によって、前記第１基板と前記第２基板とが固着されていることを特徴とする光フィルターの製造方法であって、
基板に凹部と、前記凹部の底面を基準として、前記第１基板の厚み方向に所定距離だけ突出する突起部によって構成される前記支持部と、前記第１光学膜と、を形成して、前記第１基板を形成する工程と、基板に前記第２光学膜を形成して、前記第２基板を形成する工程と、
前記第１基板に設けられた前記支持部の前記支持面の全領域上に、前記第１接合膜を形成する工程と、
前記第２基板の被支持面のうちの少なくとも前記支持部に対応する部分に前記第１接合膜よりも厚みが薄い第２接合膜を形成する工程と、
前記第１接合膜を活性化する工程と、
前記第２接合膜を活性化する工程と、
前記第１基板と前記第２基板とを、前記第１光学膜と前記第２光学膜とが対向し、かつ、前記支持面と前記被支持面とが対向する状態で保持し、前記第１基板と前記第２基板の少なくとも一方に荷重をかけて、活性化された前記第１接合膜と、活性化された前記第２接合膜とを接合し、これによって前記第１基板と前記第２基板とを固着する工程と、を含むことを特徴とする光フィルターの製造方法。
【請求項１０】
請求項９記載の光フィルターの製造方法であって、
前記第２接合膜を形成する工程では、前記第２基板の、前記第１基板側の表面の全領域上に前記第２接合膜を形成することを特徴とする光フィルターの製造方法。
【請求項１１】
請求項９記載の光フィルターの製造方法であって、
前記第２接合膜を形成する工程では、前記第２基板の厚み方向からみた平面視において、前記第２光学膜と重なりを有さない領域において前記第２接合膜を形成することを特徴とする光フィルターの製造方法。
【請求項１２】
支持部を有する第１基板と、前記支持部に支持される第２基板と、前記第１基板に設けられた第１光学膜と、前記第２基板に設けられた、前記第１光学膜と対向する第２光学膜と、前記第２基板の被支持面に設けられた第２接合膜と、前記第１基板の支持面のうちの少なくとも前記第２基板の被支持部に対応する部分に前記第２接合膜よりも厚みが薄い第１接合膜と、を含み、
前記支持部において前記第１接合膜と前記第２接合膜との接合によって、前記第１基板と前記第２基板とが固着されていることを特徴とする光フィルターの製造方法であって、
基板に凹部と、前記凹部の底面を基準として、前記第１基板の厚み方向に所定距離だけ突出する突起部によって構成される前記支持部と、前記第１光学膜と、を形成して、前記第１基板を形成する工程と、基板に前記第２光学膜を形成して、前記第２基板を形成する工程と、
前記第１基板に設けられた前記支持部の前記支持面の全領域上に、前記第１接合膜を形成する工程と、
前記第１接合膜を活性化する工程と、
前記第２接合膜を活性化する工程と、
前記第１基板と前記第２基板とを、前記第１光学膜と前記第２光学膜とが対向し、かつ、前記支持面と前記被支持面とが対向する状態で保持し、前記第１基板と前記第２基板の少なくとも一方に荷重をかけて、活性化された前記第１接合膜と、活性化された前記第２接合膜とを接合し、これによって前記第１基板と前記第２基板とを固着する工程と、を含むことを特徴とする光フィルターの製造方法。
【請求項１３】
請求項１２記載の光フィルターの製造方法であって、
前記第１接合膜を形成する工程では、前記第１基板の、前記第２基板側の表面の全領域上に前記第１接合膜を形成することを特徴とする光フィルターの製造方法。
【請求項１４】
請求項１２記載の光フィルターの製造方法であって、
前記第１接合膜を形成する工程では、前記第１基板の厚み方向からみた平面視において、前記第１光学膜と重なりを有さない領域において前記第１接合膜を形成することを特徴とする光フィルターの製造方法。
【請求項１５】
請求項９〜請求項１４のいずれか一項に記載の光フィルターの製造方法により製造された光フィルターを含む光機器。
【手続補正書】
【提出日】平成26年2月5日(2014.2.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ハロゲン含有ガスを、そのハロゲン含有ガスが高圧充填された容器から外部装置へと供給するハロゲン含有ガス供給装置であって、
前記容器と前記外部装置とを接続する供給管と、
前記供給管に設けられ、前記容器からハロゲン含有ガスを供給するための供給弁と、を備え、
前記供給弁より下流の前記供給管の一部の管内部に、ハロゲン含有ガスの流通方向を変化させる流通方向変化機構が設けられることを特徴とするハロゲン含有ガス供給装置。
【請求項２】
前記流通方向変化機構として、前記供給管内部に配置され開口部を有してガスの流通を部分的に仕切る邪魔板を備え、
前記開口部の面積は、前記供給管の断面積の１／２以下であることを特徴とする請求項１に記載のハロゲン含有ガス供給装置。
【請求項３】
前記邪魔板は、前記供給管の長さ方向に複数配置され、
複数の前記邪魔板は、隣り合う邪魔板の前記開口部が前記供給管の長さ方向に重ならないように配置されることを特徴とする請求項２に記載のハロゲン含有ガス供給装置。
【請求項４】
前記流通方向変化機構として、前記供給管内部に複数の充填物が充填されていることを特徴とする請求項１に記載のハロゲン含有ガス供給装置。
【請求項５】
ハロゲン含有ガスのハロゲンは、フッ素、塩素、臭素、又はヨウ素であることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載のハロゲン含有ガス供給装置。
【請求項６】
前記ハロゲン含有ガスの充填圧力は、５ＭＰａ以上２０ＭＰａ以下であることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載のハロゲン含有ガス供給装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
また、本発明は、前記流通方向変化機構として、前記供給管内部に配置され開口部を有してガスの流通を部分的に仕切る邪魔板を備え、前記開口部の面積は、前記供給管の断面積の１／２以下であることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
ハロゲン含有ガス中のハロゲンガス、ハロゲン化合物のガスの濃度は、特に限定されないが、例えば、フッ素ガス、塩素ガス、臭素ガス、ヨウ素ガス、ＮＦ３ガス、ＢＦ３ガス、ＣｌＦガス、ＣｌＦ３ガス、及びＩＦ７ガスのうち少なくともいずれか１種類が０．１ｖｏｌ％以上１００％以下の範囲である。ハロゲン含有ガスの充填圧力は、５ＭＰａＧ以上２０ＭＰａＧ以下であることが望ましい。５ＭＰａＧ未満では、導入側の導入弁内部の温度上昇を引き起こし難く、また、導入弁の弁室内の表面腐食や導入弁に用いられるシール材の劣化が生じ難い。一方、２０ＭＰａＧ超では、本発明の供給装置を具備することにより導 入弁内部の温度上昇は引き起こさないものの、ハロゲンガスによる接ガス部表面の腐食が生じ易くなるため、好ましくない。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２６】
具体的には、支燃性ガスを、その支燃性ガスが高圧充填された容器から外部装置へと供給する支燃性ガス供給装置であって、前記容器と前記外部装置とを接続する供給管と、前記供給管に設けられ前記容器から支燃性ガスを供給するための供給弁とを備え、前記供給弁より下流の前記供給管の一部の管内部に支燃性ガスの流通方向を変化させる流通方向変化機構が設けられる、と構成しても発明が成立する。
【手続補正書】
【提出日】平成26年2月10日(2014.2.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入射光を回折させ、ＣｄＴｅまたはＣｄＺｎＴｅの結晶材料からなるブレーズ型回折格子の製造方法であって、
機械加工よって被加工物の被加工面に複数の格子溝を形成して前記ブレーズ型回折格子を形成するステップと、
前記形成するステップによって形成される各格子を構成する面のうち少なくとも一つの面が前記結晶材料の（１１０）面となるように前記格子溝を形成するステップと、
を有することを特徴とするブレーズ型回折格子の製造方法。
【請求項２】
前記少なくとも一つの面は前記入射光を最も多く受光する一面であり、該一面は各格子の三角形の断面形状の短辺を有する面であることを特徴とする請求項１に記載のブレーズ型回折格子の製造方法。
【請求項３】
前記格子溝の開き角は９０度であることを特徴とする請求項１または２に記載のブレーズ型回折格子の製造方法。
【請求項４】
前記形成するステップは、ダイヤモンドバイトを用いてシェーパー方式によって前記格子溝を形成することを特徴とする請求項１に記載のブレーズ型回折格子の製造方法。
【請求項５】
前記ブレーズ型回折格子はイマージョン型回折格子であることを特徴とする請求項１に記載のブレーズ型回折格子の製造方法。
【請求項６】
前記入射光を最も多く受光する面が前記結晶材料の（１１０）面となるように前記機械加工を行う加工機に前記被加工物を搭載することによって前記格子溝を形成することを特徴とする請求項２に記載の製造方法。
【請求項７】
入射光を回折させ、ＣｄＴｅまたはＣｄＺｎＴｅの結晶材料からなるブレーズ型回折格子の製造方法であって、
機械加工よって被加工物の被加工面に複数の格子溝を形成して前記ブレーズ型回折格子を形成するステップと、
前記形成するステップによって形成される各格子の三角形の断面形状の短辺を有する面が前記結晶材料の（１１０）面となるように前記格子溝を形成するステップと、
を有することを特徴とするブレーズ型回折格子の製造方法。
【請求項８】
結晶材料で形成されるブレーズ型回折格子であって、
各格子を構成する少なくとも１つの面は前記結晶材料の（１１０）面であることを特徴とするブレーズ型回折格子。
【請求項９】
前記結晶材料はＣｄを含むことを特徴とする請求項８に記載のブレーズ型回折格子。
【請求項１０】
前記結晶材料はＴｅを含むことを特徴とする請求項８または９に記載のブレーズ型回折格子。
【請求項１１】
前記結晶材料はＺｎを含むことを特徴とする請求項８乃至１０の何れか１項に記載のブレーズ型回折格子。
【請求項１２】
ＣｄＴｅまたはＣｄＺｎＴｅの結晶材料で形成されるブレーズ型回折格子であって、
各格子を構成する少なくとも１つの面は前記結晶材料の（１１０）面であることを特徴とするブレーズ型回折格子。
【請求項１３】
各格子の三角形の断面形状の短辺を有する面が前記結晶材料の（１１０）面であることを特徴とする請求項８乃至１２の何れか１項にブレーズ型回折格子。
【請求項１４】
各格子の三角形の断面形状の長辺を有する面が前記結晶材料の（１１０）面であることを特徴とする請求項８乃至１３の何れか１項にブレーズ型回折格子。
【請求項１５】
前記ブレーズ型回折格子はイマージョン型回折格子であることを特徴とする請求項８乃至１４の何れか１項にブレーズ型回折格子。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の一側面としてのＣｄＴｅまたはＣｄＺｎＴｅの結晶材料からなるブレーズ型回折格子の製造方法は、機械加工よって被加工物の被加工面に複数の格子溝を形成して前記ブレーズ型回折格子を形成するステップと、前記形成するステップによって形成される各格子を構成する面のうち少なくとも一つの面が前記結晶材料の（１１０）面となるように前記格子溝を形成するステップと、を有することを特徴とする。
また、本発明の他の側面としての結晶材料で形成されるブレーズ型回折格子は、各格子を構成する少なくとも１つの面が前記結晶材料の（１１０）面であることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月3日(2013.12.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
情報が選択可能な状態で表示される第１レイヤと、当該第１レイヤの上に重ねられ、選択された情報をグルーピングするための透明又は半透明でなる第２レイヤとで構成される画面を表示部に表示させる制御部
を具え、
上記制御部は、
上記第１レイヤに表示させている情報を選択する操作に応じて、選択された情報を上記第２レイヤに表示させてグルーピングの対象にする
情報処理装置。
【請求項２】
上記制御部は、
タッチ操作による操作入力が可能な操作部を介して、上記第１レイヤに表示させている情報を選択する操作が行われると、選択された情報を上記第２レイヤに表示させてグルーピングの対象にする
請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
上記制御部は、
上記第１レイヤに表示させている情報が所定時間タッチされ続けると、当該情報が選択されたと判別する
請求項２に記載の情報処理装置。
【請求項４】
上記制御部は、
上記操作部を介して、上記第１レイヤに表示されている情報が選択されると、選択された情報を縮小し、グループを表すオブジェクトで囲んだ状態で、上記第２レイヤに表示させる
請求項３に記載の情報処理装置。
【請求項５】
上記制御部は、
上記第２レイヤに表示させている上記オブジェクト内を起点とするドラッグに応じて、当該オブジェクトを当該オブジェクト内の情報と共に第２レイヤ上で移動させる
請求項４に記載の情報処理装置。
【請求項６】
上記制御部は、
上記第２レイヤに表示させているオブジェクト外を起点とするドラッグに応じて、上記第１レイヤの表示内容のみをスクロールさせる
請求項５に記載の情報処理装置。
【請求項７】
上記制御部は、
ドラッグに応じて、上記第２レイヤに表示させているオブジェクトを移動させ、当該第２レイヤに表示させている他のオブジェクトに少なくとも接触するまで近づけると、当該２つのオブジェクトを結合して、当該２つのオブジェクト内の情報を同一グループに分類する
請求項６に記載の情報処理装置。
【請求項８】
上記制御部は、
上記操作部を介して、上記第２レイヤに表示させているオブジェクトが選択されると、当該オブジェクト内に複数の情報が存在する場合にそれぞれの表示位置を互いに重ならないよう調整する
請求項７に記載の情報処理装置。
【請求項９】
上記制御部は、
上記第２レイヤに所定の命令を対応付けた領域を設け、ドラッグに応じて、上記第２レイヤに表示させているオブジェクトを当該領域内に移動させると、当該オブジェクト内の情報に対して、当該領域に対応付けられている命令に応じた処理を実行する
請求項８に記載の情報処理装置。
【請求項１０】
上記制御部は、
上記オブジェクトが選択されている状態で、オブジェクト内の情報を起点とするドラッグが行われると、当該ドラッグに応じて、当該情報を移動させ、当該情報をオブジェクト外まで移動させると、当該情報を当該オブジェクトのグループから外す
請求項８に記載の情報処理装置。
【請求項１１】
上記制御部は、
上記第２レイヤに表示させている情報を起点とするドラッグに応じて、上記情報を第２レイヤ上で移動させる
請求項３に記載の情報処理装置。
【請求項１２】
上記制御部は、
上記第２レイヤに表示させている情報を避けた位置を起点とするドラッグに応じて、上記第１レイヤの表示内容のみをスクロールさせる
請求項１１に記載の情報処理装置。
【請求項１３】
上記制御部は、
ドラッグに応じて、上記第２レイヤに表示させている情報を移動させ、当該第２レイヤに表示させている他の情報に少なくとも接触するまで近づけると、当該２つの情報を同じグループに分類する
請求項１２に記載の情報処理装置。
【請求項１４】
上記制御部は、
ドラッグに応じて、上記第２レイヤに表示されている、同じグループに分類されている複数の情報のうちの１つを移動させ、同じグループに分類されている他の情報から所定距離以上引き離すと、当該情報を当該グループから外す
請求項１３に記載の情報処理装置。
【請求項１５】
制御部が、情報が選択可能な状態で表示される第１レイヤと、当該第１レイヤの上に重ねられ、選択された情報をグルーピングするための透明又は半透明でなる第２レイヤとで構成される画面を表示部に表示させ、上記第１レイヤに表示させている情報を選択する操作に応じて、選択された情報を上記第２レイヤに表示させてグルーピングの対象にする
情報処理方法。
【請求項１６】
情報処理装置に対し、
制御部が、情報が選択可能な状態で表示される第１レイヤと、当該第１レイヤの上に重ねられ、選択された情報をグルーピングするための透明又は半透明でなる第２レイヤとで構成される画面を表示部に表示させ、上記第１レイヤに表示させている情報を選択する操作に応じて、選択された情報を上記第２レイヤに表示させてグルーピングの対象にする処理
を実行させるための情報処理プログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
かかる課題を解決するため本発明においては、情報が選択可能な状態で表示される第１レイヤと、当該第１レイヤの上に重ねられ、選択された情報をグルーピングするための透明又は半透明でなる第２レイヤとで構成される画面を表示部に表示させる制御部を設け、制御部は、第１レイヤに表示させている情報を選択する操作に応じて、選択された情報を第２レイヤに表示させてグルーピングの対象にするようにした。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月27日(2013.12.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
イメージセンサ（１１０、２１０）が搭載されたセンサホルダ（１０８、２０８）及び
カメラの光軸（ＯＡ）まわりを回転するように構成された少なくとも１つの調整リング（１１２、２１２）を含み、
前記センサホルダ（１０８、２０８）及び前記少なくとも１つの調整リング（１１２，２１２）が、前記少なくとも１つの調整リング（１１２、２１２）が前記センサホルダ（１０８、２０８）に対して回転するときにセンサの法線方向が光軸の方向に関して調整されるように、少なくとも１つのカム面（１１５、２１５）を介して相互作用するように構成されているデジタルカメラにおいて、
前記少なくとも１つのカム面がカムプロフィールを有して、カメラに装着されたときにレンズ系の光軸内にあるイメージセンサの受光表面の一点とレンズ系との間の距離が、前記少なくとも１つの調整リングの回転の間、一定のままであるようにすることを特徴とするデジタルカメラ（１００、２００）。
【請求項２】
互いに関して同心円状に配置された少なくとも２つの調整リングを更に含む、請求項１記載のカメラ。
【請求項３】
少なくとも１つのカム面（２１５）がセンサホルダに含まれている、請求項１又は２に記載のカメラ。
【請求項４】
少なくとも１つのカム面（１１５、２１５）は調整リング（２１２）に配置されている、請求項１〜３に記載のカメラ。
【請求項５】
調整リングとセンサホルダとの間の相互作用は、少なくとも２つの読み取りヘッド（１１４、２１４）により生じる、請求項１〜４に記載のカメラ。
【請求項６】
少なくとも１つの読み取りヘッド（２１４）はセンサホルダの前（２２０）に置かれ、少なくとも１つの読み取りヘッド（２１４）はセンサホルダ（２０８）の後ろ（２３０）に置かれる、請求項５記載のカメラ。
【請求項７】
少なくとも１つのカム面（２１５）はセンサホルダ（２０８）の前（２２０）に配置され、少なくとも１つのカム面（２１５）はセンサホルダ（２０８）の後ろ（２３０）に配置される、請求項１〜６に記載のカメラ。
【請求項８】
少なくとも１つのカム面（２１５）は、少なくとも１つの調整リング（１１２、２１２）の周縁部に配置される、請求項１〜７に記載のカメラ。
【請求項９】
第１の調整リング及び第２の調整リングを含み、第１の調整リングは、第２の調整リングとは独立に回転するように構成される、請求項２〜８に記載のカメラ。
【請求項１０】
光軸方向の少なくとも２つの読み取りヘッド（２１４）の動作の合計は０である、請求項５〜９に記載のカメラ。
【請求項１１】
選択されたカム面形は、傾斜して切り落とされた円柱の形状である、請求項１〜１０に記載のカメラ。
【請求項１２】
カム面は、調整リング又はセンサホルダの曲線状の壁における溝（４００）である、請求項１〜１１に記載のカメラ。
【請求項１３】
少なくとも１つの調整リング（２１２）は、センサホルダ（２０８）に関して調整リング（２１２）をロックするための回転ロック装置（２１８）を含む、請求項１〜１２に記載のカメラ。
【手続補正書】
【提出日】平成26年1月9日(2014.1.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の測光領域を有し、当該複数の測光領域それぞれの測光値を取得する測光手段と、
複数の焦点検出部を有し、当該複数の焦点検出部それぞれの検出結果を取得する焦点検出手段と、を備え、
前記複数の測光領域のうち少なくとも１つの測光領域に対して前記焦点検出部が複数対応付けられている撮像装置であって、
前記複数の焦点検出部それぞれの検出結果に基づいて、それぞれの前記焦点検出部に対応付けられた前記測光領域の重み付け係数を決定する決定手段と、
前記決定手段により決定された前記複数の測光領域それぞれの重み付け係数と、測光手段により取得された前記複数の測光領域それぞれの測光値と、を用いて重み付け演算を行って得られた測光値に基づいて、露出制御値を演算する露出演算手段とを備え、
前記決定手段は、前記焦点検出部が複数対応付けられている前記測光領域については、複数の前記対応付けられた焦点検出部それぞれの検出結果に基づいて１つの値を決定し、当該決定された値に基づいて重み付け係数を決定することを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記焦点検出手段は、前記複数の焦点検出部それぞれの検出結果として複数のデフォーカス量を取得することを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記決定手段は、前記焦点検出部が複数対応付けられている前記測光領域については、複数の前記対応付けられた焦点検出部それぞれのデフォーカス量を加重平均して演算されたデフォーカス量を、重み付け係数の決定に用いるデフォーカス量に決定することを特徴とする請求項２に記載の撮像装置。
【請求項４】
前記決定手段は、前記焦点検出部が複数対応付けられている前記測光領域については、複数の前記対応付けられた前記焦点検出部それぞれのデフォーカス量を絶対値が小さいデフォーカス量のほうが絶対値が大きいデフォーカス量よりも重み付けが大きくなるように加重平均して演算されたデフォーカス量を、重み付け係数の決定に用いるデフォーカス量に決定することを特徴とする請求項３に記載の撮像装置。
【請求項５】
前記決定手段は、前記焦点検出部が複数対応付けられている前記測光領域については、複数の前記対応付けられた前記焦点検出部それぞれのデフォーカス量を絶対値が小さいデフォーカス量ほど重み付けが大きくなるように加重平均して演算されたデフォーカス量を、重み付け係数の決定に用いるデフォーカス量に決定することを特徴とする請求項３に記載の撮像装置。
【請求項６】
前記複数の焦点検出部の中から合焦させる焦点検出部を自動で選択する第１の選択モードと、前記複数の焦点検出部の中から合焦させる焦点検出部を手動で選択する第２の選択モードとが設定可能な設定手段を備え、
前記決定手段は、前記焦点検出部が複数対応付けられている前記測光領域については、前記設定手段により前記第１の選択モードが設定されている場合は、複数の前記対応付けられた焦点検出部それぞれのデフォーカス量を加重平均して演算されたデフォーカス量を、重み付け係数の決定に用いるデフォーカス量に決定し、前記設定手段により前記第２の選択モードが設定されている場合は、複数対応付けられた前記焦点検出部それぞれのデフォーカス量の中で絶対値が最小となるデフォーカス量を、重み付け係数の決定に用いるデフォーカス量に決定することを特徴とする請求項２ないし５のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項７】
前記決定手段は、前記焦点検出部が複数対応付けられている前記測光領域については、複数対応付けられた前記焦点検出部それぞれのデフォーカス量の中で絶対値が最小となるデフォーカス量を、重み付け係数の決定に用いるデフォーカス量に決定することを特徴とする請求項２に記載の撮像装置。
【請求項８】
複数の測光領域を有し、当該複数の測光領域それぞれの測光値を取得する測光手段と、
複数の焦点検出部を有し、当該複数の焦点検出部それぞれの検出結果を取得する焦点検出手段と、を備え、前記複数の測光領域のうち少なくとも１つの測光領域に対して前記焦点検出部が複数対応付けられている撮像装置の制御方法であって、
前記複数の焦点検出部それぞれの検出結果に基づいて、それぞれの前記焦点検出部に対応付けられた前記測光領域の重み付け係数を決定する決定ステップと、
前記決定ステップで決定された前記複数の測光領域それぞれの重み付け係数と、測光手段により取得された前記複数の測光領域それぞれの測光値と、を用いて重み付け演算を行って得られた測光値に基づいて、露出制御値を演算する露出演算ステップとを有し、
前記決定ステップは、前記焦点検出部が複数対応付けられている前記測光領域については、複数の前記対応付けられた焦点検出部それぞれの検出結果に基づいて１つの値を決定し、当該決定された値に基づいて重み付け係数を決定することを特徴とする撮像装置の制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記目的を達成するために、本発明にかかる撮像装置は、複数の測光領域を有し、当該複数の測光領域それぞれの測光値を取得する測光手段と、複数の焦点検出部を有し、当該複数の焦点検出部それぞれの検出結果を取得する焦点検出手段と、を備え、前記複数の測光領域のうち少なくとも１つの測光領域に対して前記焦点検出部が複数対応付けられている撮像装置であって、前記複数の焦点検出部それぞれの検出結果に基づいて、それぞれの前記焦点検出部に対応付けられた前記測光領域の重み付け係数を決定する決定手段と、前記決定手段により決定された前記複数の測光領域それぞれの重み付け係数と、測光手段により取得された前記複数の測光領域それぞれの測光値と、を用いて重み付け演算を行って得られた測光値に基づいて、露出制御値を演算する露出演算手段とを備え、前記決定手段は、前記焦点検出部が複数対応付けられている前記測光領域については、複数の前記対応付けられた焦点検出部それぞれの検出結果に基づいて１つの値を決定し、当該決定された値に基づいて重み付け係数を決定することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成26年1月7日(2014.1.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
上記ＣＰＵ３３は、操作部３６からのキー操作信号に応じて各種投影動作を実行する。
この操作部３６は、このデータプロジェクタ装置１０専用の図示しないリモートコントローラからの赤外線変調信号を受信するリモコン受光部と、データプロジェクタ装置１０の例えば筐体上面に設けられるキー入力部を含む。操作部３６は、ユーザがデータプロジェクタ装置１０専用のリモートコントローラあるいは本体のキー入力部で操作したキーに基づくキー操作信号をＣＰＵ３３へ出力する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源と、
上記光源からの光を用い、入力される画像信号に応じた光像を形成して投影する投影手段と、
上記投影手段による投影面までの距離を測定する測定手段と、
上記測定手段での測定結果に応じ、上記投影手段より出射する光像の明るさ調整を含む運転モードを可変設定する投影制御手段と
を具備したことを特徴とする投影装置。
【請求項２】
上記投影制御手段は、上記測定手段で測定した投影面までの距離が近いほど、上記投影手段より出射する光像の明るさを下げることを特徴とする請求項１記載の投影装置。
【請求項３】
上記投影制御手段は、上記光源での発光輝度を調整し、上記測定手段で測定した投影面までの距離が近いほど、上記投影手段より出射する光像の明るさを下げることを特徴とする請求項２記載の投影装置。
【請求項４】
上記投影制御手段は、上記測定手段で測定した投影面までの距離が近いほど、上記投影手段より出射する光像の階調調整により明るさを下げることを特徴とする請求項２または３記載の投影装置。
【請求項５】
上記光源による駆動を開始する前後の投影面方向の明るさを検出する検出手段をさらに具備し、
上記投影制御手段は、上記測定手段での測定結果と、上記検出手段で検出した上記光源による駆動を開始する前後の投影面方向の明るさの差とに応じ、上記投影手段より出射する光像の明るさ調整を行なう
ことを特徴とする請求項１〜４いずれか記載の投影装置。
【請求項６】
投影面における光像を合焦させる合焦手段と、
上記合焦手段を用いた合焦指示を受け付ける受付手段と
をさらに具備し、
上記投影制御手段は、上記受付手段によって合焦指示がされたと判断される毎に、上記光源を消灯させてから、上記検出手段によって上記光源による駆動を開始する前後の投影面方向の明るさを検出させ、上記投影手段より出射する光像の明るさ調整を行なう
ことを特徴とする請求項５記載の投影装置。
【請求項７】
上記光源を冷却する冷却手段をさらに具備し、
上記投影制御手段は、上記測定手段での測定結果に応じ、上記投影手段より出射する光像の明るさ調整と上記冷却手段での冷却能力調整を含む運転モードを可変設定する
ことを特徴とする請求項１〜６いずれか記載の投影装置。
【請求項８】
上記投影制御手段は、上記測定手段で測定した投影面までの距離が近いほど、上記冷却手段での冷却能力を下げることを特徴とする請求項７記載の投影装置。
【請求項９】
投影面において光像を合焦させる合焦手段をさらに具備し、
上記投影制御手段は、上記合焦機能を用いて、合焦した位置情報から投影面までの距離を算出することを特徴とする請求項１〜４いずれか記載の投影装置。
【請求項１０】
投影面を撮影する撮像部をさらに具備し、
上記合焦機能は、コントラスト方式の自動合焦機能であり、
上記測定手段は、自動合焦した位置情報から投影面までの距離を算出することを特徴とする請求項９記載の投影装置。
【請求項１１】
投影面を撮影する撮像部をさらに具備し、
上記合焦機能は、位相差方式の自動合焦機能であり、
上記測定手段は、自動合焦した位置から投影面までの距離を算出することを特徴とする請求項９記載の投影装置。
【請求項１２】
光源、及び上記光源からの光を用い、入力される画像信号に応じた光像を形成して投影する投影部を備えた装置での投影方法であって、
上記投影部による投影面までの距離を測定する測定工程と、
上記測定工程での測定結果に応じ、上記投影部より出射する光像の明るさ調整を含む運転モードを可変設定する投影制御工程と
を有したことを特徴とする投影方法。
【請求項１３】
光源、及び上記光源からの光を用い、入力される画像信号に応じた光像を形成して投影する投影部を備えた装置が内蔵したコンピュータが実行するプログラムであって、
上記プログラムを、
上記投影部による投影面までの距離を測定する測定手段、及び
上記測定手段での測定結果に応じ、上記投影部より出射する光像の明るさ調整を含む運転モードを可変設定する投影制御手段
として機能させることを特徴とするプログラム。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2012145734.tif 000001