【手続補正書】
【提出日】平成26年8月22日(2014.8.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマ処理が行われるプラズマ処理室と、
前記プラズマ処理室内の状態をモニタするプロセスモニタと、
プラズマ処理条件の構成要素であるパラメータを制御するアクチュエータと、
前記パラメータの一つを第１の操作変数とし、前記プロセスモニタによりモニタされたプラズマ処理中のモニタ値と前記プラズマ処理中のモニタ値の目標値との第１の偏差を算出し、予め取得された、前記プラズマ処理中のモニタ値と前記第１の操作変数との相関関係および前記第１の偏差を用いて前記第１の操作変数の補正量を算出する第１の補正量計算ユニットと、
Ｎを２以上の自然数としたとき、前記第(Ｎ−１)の操作変数の補正量により前記第(Ｎ−１)の操作変数が前記第(Ｎ−１)の操作変数の限界値を超えるかどうかを判断する第(Ｎ−１)の操作変数追加判断ユニットと、
前記プラズマ処理中のモニタ値と、予め取得された、プラズマ処理中のモニタ値と第(Ｎ−１)の操作変数との相関関係から第(Ｎ−１)の操作変数が限界値の場合として算出されたモニタ値と、の第Ｎの偏差を算出し、予め取得された、プラズマ処理中のモニタ値と第Ｎの操作変数との相関関係および前記第Ｎの偏差を用いて前記第Ｎの操作変数の補正量を算出する第Ｎの補正量計算ユニットと、
前記第(Ｎ−１)の操作変数が前記第(Ｎ−１)の操作変数の補正量により前記第(Ｎ−１)の操作変数の限界値を超えると前記第(Ｎ−１)の操作変数追加判断ユニットが判断した場合、前記第(Ｎ−１)の操作変数を前記第(Ｎ−１)の操作変数の限界値とする前記第(Ｎ−１)の操作変数の補正量および前記第Ｎの補正量計算ユニットにより算出された第Ｎの操作変数の補正量に基づいて次ウェハのプラズマ処理条件を補正する制御装置とを備えることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載のプラズマ処理装置において、
前記第Ｎの操作変数の補正量により前記第Ｎの操作変数が前記第Ｎの操作変数の限界値を超えるかどうかを判断する第Ｎの操作変数追加判断ユニットと、
前記プラズマ処理中のモニタ値と、予め取得された、プラズマ処理中のモニタ値と第Ｎの操作変数との相関関係から第Ｎの操作変数が限界値の場合として算出されたモニタ値と、の第(Ｎ＋１)の偏差を算出し、予め取得された、プラズマ処理中のモニタ値と第(Ｎ＋１)の操作変数との相関関係および前記第(Ｎ＋１)の偏差を用いて前記第(Ｎ＋１)の操作変数の補正量を算出する第(Ｎ＋１)の補正量計算ユニットとをさらに備え、
前記第(Ｎ−１)の操作変数が前記第(Ｎ−１)の操作変数の補正量により前記第(Ｎ−１)の操作変数の限界値を超えると前記第(Ｎ−１)の操作変数追加判断ユニットが判断するとともに前記第Ｎの操作変数が前記第Ｎの操作変数の補正量により前記第Ｎの操作変数の限界値を超えないと前記第Ｎの操作変数追加判断ユニットが判断した場合、前記制御装置は、前記(Ｎ＋１)の操作変数の補正量を０とするとともに前記第(Ｎ−１)の操作変数を前記第(Ｎ−１)の操作変数の限界値とする前記第(Ｎ−１)の操作変数の補正量および前記第Ｎの補正量計算ユニットにより算出された第Ｎの操作変数の補正量に基づいて次ウェハのプラズマ処理条件を補正することを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載のプラズマ処理装置において、
前記Ｎは、２であり、
前記プラズマ処理室は、プラズマエッチング装置に備えられたプラズマ処理室であることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項４】
請求項３に記載のプラズマ処理装置において、
前記プラズマエッチング装置に備えられガスの流量を制御するマスフローコントローラのガス流量を前記第一の操作変数とすることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項５】
プラズマ処理が行われるプラズマ処理室と、前記プラズマ処理室内の状態をモニタするプロセスモニタと、プラズマ処理条件の構成要素であるパラメータを制御するアクチュエータとを備えるプラズマ処理装置を用いてRun-to-Run制御により試料をプラズマ処理するプラズマ処理方法において、
前記パラメータの一つを第１の操作変数とし、前記プロセスモニタによりモニタされたプラズマ処理中のモニタ値と前記プラズマ処理中のモニタ値の目標値との第１の偏差を算出し、予め取得された、前記プラズマ処理中のモニタ値と前記第１の操作変数との相関関係および前記第１の偏差を用いて前記第１の操作変数の補正量を算出し、
Ｎを２以上の自然数としたとき、前記第(Ｎ−１)の操作変数の補正量により前記第(Ｎ−１)の操作変数が前記第(Ｎ−１)の操作変数の限界値を超えるかどうかを判断し、
前記プラズマ処理中のモニタ値と、予め取得された、プラズマ処理中のモニタ値と第(Ｎ−１)の操作変数との相関関係から第(Ｎ−１)の操作変数が限界値の場合として算出されたモニタ値と、の第Ｎの偏差を算出し、予め取得された、プラズマ処理中のモニタ値と第Ｎの操作変数との相関関係および前記第Ｎの偏差を用いて前記第Ｎの操作変数の補正量を算出し、
前記第(Ｎ−１)の操作変数が前記第(Ｎ−１)の操作変数の補正量により前記第(Ｎ−１)の操作変数の限界値を超えると判断した場合、前記第(Ｎ−１)の操作変数を前記第(Ｎ−１)の操作変数の限界値とする前記第(Ｎ−１)の操作変数の補正量および前記算出された第Ｎの操作変数の補正量に基づいて次ウェハのプラズマ処理条件を補正することを特徴とするプラズマ処理方法。
【請求項６】
請求項５に記載のプラズマ処理方法において、
前記第Ｎの操作変数の補正量により前記第Ｎの操作変数が前記第Ｎの操作変数の限界値を超えるかどうかを判断し、
前記プラズマ処理中のモニタ値と、予め取得された、プラズマ処理中のモニタ値と第Ｎの操作変数との相関関係から第Ｎの操作変数が限界値の場合として算出されたモニタ値と、の第(Ｎ＋１)の偏差を算出し、予め取得された、プラズマ処理中のモニタ値と第(Ｎ＋１)の操作変数との相関関係および前記第(Ｎ＋１)の偏差を用いて前記第(Ｎ＋１)の操作変数の補正量を算出し、
前記第(Ｎ−１)の操作変数が前記第(Ｎ−１)の操作変数の補正量により前記第(Ｎ−１)の操作変数の限界値を超えると判断するとともに前記第Ｎの操作変数が前記第Ｎの操作変数の補正量により前記第Ｎの操作変数の限界値を超えないと判断した場合、前記(Ｎ＋１)の操作変数の補正量を０とするとともに前記第(Ｎ−１)の操作変数を前記第(Ｎ−１)の操作変数の限界値とする前記第(Ｎ−１)の操作変数の補正量および前記算出された第Ｎの操作変数の補正量に基づいて次ウェハのプラズマ処理条件を補正することを特徴とするプラズマ処理方法。
【請求項７】
請求項５または請求項６に記載のプラズマ処理方法において、
前記Ｎは、２であり、
前記プラズマ処理は、プラズマエッチングであることを特徴とするプラズマ処理方法。
【請求項８】
請求項７に記載のプラズマ処理方法において、
前記プラズマ処理室に供給されるガスの流量を前記第一の操作変数とすることを特徴とするプラズマ処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明は、プラズマ処理が行われるプラズマ処理室と、前記プラズマ処理室内の状態をモニタするプロセスモニタと、プラズマ処理条件の構成要素であるパラメータを制御するアクチュエータと、前記パラメータの一つを第１の操作変数とし、前記プロセスモニタによりモニタされたプラズマ処理中のモニタ値と前記プラズマ処理中のモニタ値の目標値との第１の偏差を算出し、予め取得された、前記プラズマ処理中のモニタ値と前記第１の操作変数との相関関係および前記第１の偏差を用いて前記第１の操作変数の補正量を算出する第１の補正量計算ユニットと、Ｎを２以上の自然数としたとき、前記第(Ｎ−１)の操作変数の補正量により前記第(Ｎ−１)の操作変数が前記第(Ｎ−１)の操作変数の限界値を超えるかどうかを判断する第(Ｎ−１)の操作変数追加判断ユニットと、前記プラズマ処理中のモニタ値と、予め取得された、プラズマ処理中のモニタ値と第(Ｎ−１)の操作変数との相関関係から第(Ｎ−１)の操作変数が限界値の場合として算出されたモニタ値と、の第Ｎの偏差を算出し、予め取得された、プラズマ処理中のモニタ値と第Ｎの操作変数との相関関係および前記第Ｎの偏差を用いて前記第Ｎの操作変数の補正量を算出する第Ｎの補正量計算ユニットと、前記第(Ｎ−１)の操作変数が前記第(Ｎ−１)の操作変数の補正量により前記第(Ｎ−１)の操作変数の限界値を超えると前記第(Ｎ−１)の操作変数追加判断ユニットが判断した場合、前記第(Ｎ−１)の操作変数を前記第(Ｎ−１)の操作変数の限界値とする前記第(Ｎ−１)の操作変数の補正量および前記第Ｎの補正量計算ユニットにより算出された第Ｎの操作変数の補正量に基づいて次ウェハのプラズマ処理条件を補正する制御装置とを備えることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、本発明は、プラズマ処理が行われるプラズマ処理室と、前記プラズマ処理室内の状態をモニタするプロセスモニタと、プラズマ処理条件の構成要素であるパラメータを制御するアクチュエータとを備えるプラズマ処理装置を用いてRun-to-Run制御により試料をプラズマ処理するプラズマ処理方法において、前記パラメータの一つを第１の操作変数とし、前記プロセスモニタによりモニタされたプラズマ処理中のモニタ値と前記プラズマ処理中のモニタ値の目標値との第１の偏差を算出し、予め取得された、前記プラズマ処理中のモニタ値と前記第１の操作変数との相関関係および前記第１の偏差を用いて前記第１の操作変数の補正量を算出し、Ｎを２以上の自然数としたとき、前記第(Ｎ−１)の操作変数の補正量により前記第(Ｎ−１)の操作変数が前記第(Ｎ−１)の操作変数の限界値を超えるかどうかを判断し、前記プラズマ処理中のモニタ値と、予め取得された、プラズマ処理中のモニタ値と第(Ｎ−１)の操作変数との相関関係から第(Ｎ−１)の操作変数が限界値の場合として算出されたモニタ値と、の第Ｎの偏差を算出し、予め取得された、プラズマ処理中のモニタ値と第Ｎの操作変数との相関関係および前記第Ｎの偏差を用いて前記第Ｎの操作変数の補正量を算出し、前記第(Ｎ−１)の操作変数が前記第(Ｎ−１)の操作変数の補正量により前記第(Ｎ−１)の操作変数の限界値を超えると判断した場合、前記第(Ｎ−１)の操作変数を前記第(Ｎ−１)の操作変数の限界値とする前記第(Ｎ−１)の操作変数の補正量および前記算出された第Ｎの操作変数の補正量に基づいて次ウェハのプラズマ処理条件を補正することを特徴とする。