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【手続補正書】
【提出日】平成26年5月22日(2014.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の印刷ヘッド（１６）を有するインクジェット印刷機（２）での印刷工程の制御方法であって、
・印刷ラインを記録担体（９）上に印刷するためにラインクロックが形成され、
・個々の印刷ヘッド（１６）が、ラインクロックを基準にしたオフセットにより、印刷ヘッド（１６）のノズル（２５）から印刷インキを噴射するために個別に制御され、
・印刷ヘッド（１６）による印刷のために処理された印刷データが、印刷ヘッド（１６）に前置接続された記憶装置（１５）に記憶され、
・個々の印刷ヘッド（１６）によって印刷すべき印刷データユニットが、記録担体（９）上に印刷されるのと同じ順序で記憶装置（１５）からそれぞれの印刷ヘッド（１６）に伝送され、
・印刷データユニットが記憶装置（１５）から印刷ヘッド（１６）に伝送される前記順序は、ＦＩＦＯメモリ（２２）に記録される要求命令によって制御され、
・各要求命令が１つの印刷ヘッド（１６）を指定し、印刷データユニットの伝送順序は、ＦＩＦＯメモリ（２２）内の該要求命令の順序に相当する制御方法。
【請求項２】
ラインクロックはインクリメント発生器（１４）によって形成され、
該インクリメント発生器（１４）は印刷ヘッド（１６）と記録担体（９）との間の相対運動を測定し、
該インクリメント発生器（１４）は、複数のパルスを備えるパルス信号を２つのラインクロックの間で形成し、
個々の印刷ヘッド（１６）が、前記パルスに基づいて印刷インキの噴射のために制御される、ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
記憶装置（１５）から読み出された印刷データユニットは、まず中間メモリ（１８）に記憶され、
該中間メモリ（１８）からそれぞれの印刷ヘッド（１６）に印刷データユニットが、それぞれの印刷ヘッド（１６）によって印刷すべき先行の印刷データユニットが印刷されると直ちに伝送される、ことを特徴とする請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
印刷データユニットを伝送するために要求命令がＦＩＦＯメモリ（２２）から読み出され、
該要求命令に基づいて対応の印刷データユニットが記憶装置から読み出され、それぞれの印刷ヘッド（１６）にさらに伝送される、ことを特徴とする請求項１から３までのいずれか一項記載の方法。
【請求項５】
個々の印刷ヘッド（１６）を制御する際に、オフセットが印刷速度に依存して遅延時間に変換され、
個々の印刷ヘッド（１６）が、ラインクロックに対してそれぞれ計算された遅延時間で制御される、ことを特徴とする請求項１から４までのいずれか一項記載の方法。
【請求項６】
オフセットは、最大画素の直径よりも細かい精度で設定されている、ことを特徴とする請求項１から５のいずれか一項記載の方法。
【請求項７】
複数の印刷ヘッド（１６）と、
順次連続する個々のラインを印刷するラインクロックよりも高精度の分解能を有するパルス信号を形成するインクリメント発生器（１４）と、
印刷ヘッド（１６）の少なくとも１つを制御するための少なくとも１つの印刷データコントローラ（５）とを有し、
印刷ヘッド（１６）は、パルス信号に基づき、ラインクロックを基準にして個別にオフセットして制御される、ことを特徴とする請求項１から６のいずれか一項記載の方法を実施するための印刷機。
【請求項８】
少なくとも１つの印刷データコントローラ（５）は、印刷すべき印刷データを記憶する記憶装置（１５）と、印刷データユニットを記憶装置（１５）から読み出し、該印刷データユニットをそれぞれの印刷ヘッド（１６）にさらに伝送する読み出しモジュール（１９）とを有し、
読み出しモジュール（１９）は、要求モジュール（２１）が要求命令を書き込むＦＩＦＯメモリ（２２）と接続されており、
前記各要求命令により、印刷データコントローラ（５）と接続された印刷ヘッド（１６）のどれに対して、記憶装置（１５）から印刷データユニットが要求されるかが規定される、ことを特徴とする請求項７記載の印刷機。
【請求項９】
要求モジュール（２１）は、レジスタ（２０）およびインクリメント発生器（１４）と接続されており、
該レジスタ（２０）には、印刷データコントローラ（５）と接続された個々の印刷ヘッド（１６）をラインクロックに対して制御するためのオフセットが定義されている、ことを特徴とする請求項８記載の印刷機。
【請求項１０】
中間メモリ（１８）は複数のメモリユニットによって構成されており、
該メモリユニットはそれぞれ１つの印刷ヘッド（１６）に割り当てられており、
読み出しモジュール（１７）は記憶装置（１５）から読み出した印刷データユニットを前記メモリユニットに記憶する、ことを特徴とする請求項８または９記載の印刷機。
【請求項１１】
中間メモリ（１８）のメモリユニットは、デュアルポートＲＡＭとして構成されている、ことを特徴とする請求項１０記載の印刷機。
【請求項１２】
印刷機（２）は要求モジュール（１９）を有し、
該要求モジュールは、レジスタ（２０）およびインクリメント発生器（１４）と接続されており、
該レジスタ（２０）には、印刷データコントローラ（５）と接続された個々の印刷ヘッド（１６）をラインクロックに対して制御するためのオフセットが定義されており、
前記制御モジュール（１９）は、レジスタ（２０）に記憶されたオフセットに応じて、それぞれのパルス信号の際に、対応の印刷データユニットを中間メモリ（１８）のメモリユニットの１つから読み出し、それぞれの印刷ヘッド（１６）にさらに伝送するように構成されている、ことを特徴とする請求項１０または１１記載の印刷機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
印刷データユニットが記憶装置から印刷ヘッドに伝送される順序は、ＦＩＦＯメモリ（ファストインファストアウトメモリ）に記録される要求命令によって制御される。ＦＩＦＯメモリではデータが記憶されている順序で読み出され、最初に記憶されたデータが最初に読み出される。各要求命令は印刷ヘッドを標識付ける。印刷データユニットの伝送順序は、ＦＩＦＯメモリ内の要求命令の順序に相当する。
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月30日(2014.5.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
樽型複合構造体（４４）の製造方法であって、
上に複合レイアップが形成されうる内側ツール表面（２６ａ）を有するＯＭＬモールド（２６）を提供すること（３６）と、
レイアップの形成中にＯＭＬモールドを固定して保持すること（３８）と、
マニピュレータ（３０）をモールドの内側（２４）を通って移動させることと、
マニピュレータのエンドエフェクタ（２８）を用いて複合材料（２２）をツール表面に付着させることであって、エンドエフェクタをツール表面上で周方向（５５）に移動させることを含み、該マニピュレータがパラレル運動機械を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
マニピュレータをモールド内で移動させることが、マニピュレータをＯＭＬモールドの長手軸（３４）に沿って略直線的に変位させることを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
マニピュレータを略直線的に移動させることが、
マニピュレータを支持体上に取り付けることと、
支持体（５４）を用いてマニピュレータの直線移動をガイドすることと
によって実行される、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
樽型複合構造体（４４）を製造するための装置であって、
構造体の外側モールドラインを画定する樽型内側ツール表面を有するモールド（２６）と、
モールドを支持表面（４８）上に固定して取り付けるように構成された手段と、
複合材料（２２）をツール表面に付着させるための複合材料アプリケータヘッド（２８）と、
モールド表面上でヘッドを周方向（５５）に移動させる手段を含む、アプリケータヘッドを操作するためのマニピュレータ（３０）と、
モールドの内側（２４）を通って移動するようにマニピュレータを取り付けるための手段とを備え、該マニピュレータがパラレル運動機械を含むことを特徴とする装置。
【請求項５】
前記パラレル運動機械が、
共通軸の周りを回転する第一、第二及び第三のアーム（６２、６４、６６）と、
アームとアプリケータヘッドの間に枢動可能に連結されたリンク（７４、７６、７８、７９）と
を含む、請求項４に記載の装置。
【請求項６】
取り付け手段が、
その反対端に支持されるように構成されて、モールドの長手軸と実質的に一直線上に並ぶ細長い支持体（５４）と、
支持体に沿って移動するように取り付けられたキャリッジ（９６）と
を含み、マニピュレータはキャリッジに取り付けられている、請求項４に記載の装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
本開示の実施形態は特定の例示的実施形態について説明したが、特定の実施形態は例示を目的としたものであり、限定するものではなく、当業者は他の変形も考えうることを理解されたい。
また、本願は以下に記載する態様を含む。
（態様１）
樽型複合構造体の製造方法であって、
上に複合レイアップが形成されうる内側ツール表面を有するＯＭＬモールドを提供することと、
マニピュレータをモールドの内側を通って移動させることと、
マニピュレータのエンドエフェクタを用いて複合材料をツール表面に付着させることであって、エンドエフェクタをツール表面上で周方向に移動させることを含むことと
を含む方法。
（態様２）
レイアップの形成中にＯＭＬモールドを固定して保持することを更に含む、態様１に記載の方法。
（態様３）
マニピュレータをモールド内で移動させることが、マニピュレータをＯＭＬモールドの長手軸に沿って略直線的に変位させることを含む、態様１に記載の方法。
（態様４）
マニピュレータを略直線的に移動させることが、
マニピュレータを支持体上に取り付けることと、
支持体を用いてマニピュレータの直線移動をガイドすることと
によって実行される、態様３に記載の方法。
（態様５）
樽型複合構造体を製造するための装置であって、
構造体の外側モールドラインを画定する樽型内側ツール表面を有するモールドと、
複合材料をツール表面に付着させるための複合材料アプリケータヘッドと、
モールド表面上でヘッドを周方向に移動させる手段を含む、アプリケータヘッドを操作するためのマニピュレータと、
モールドの内側を通って移動するようにマニピュレータを取り付けるための手段と
を備えた装置。
（態様６）
モールドを支持表面上に固定して取り付けるように構成された手段
を更に備えた、態様５に記載の装置。
（態様７）
マニピュレータがパラレル運動機械を含む、態様５に記載の装置。
（態様８）
パラレル運動機械が、
共通軸の周りを回転する第一、第二及び第三のアームと、
アームとアプリケータヘッドの間に枢動可能に連結されたリンクと
を含む、態様５に記載の装置。
（態様９）
取り付け手段が、
その反対端に支持されるように構成されて、モールドの長手軸と実質的に一直線上に並ぶ細長い支持体と、
支持体に沿って移動するように取り付けられたキャリッジと
を含み、マニピュレータはキャリッジに取り付けられている、態様５に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年8月19日(2014.8.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
走査される患者（２２）を収容する開口（４８）を有する回転式ガントリ（１２）と、
該回転式ガントリ（１２）に配置されて、狭窄状態にありプラーク物質を内部に有する血管を含む前記患者（２２）の関心領域へ向けてＸ線（１６）を投射するように構成されているＸ線源（１４）と、
前記回転式ガントリ（１２）に配置されて、前記Ｘ線源（１４）により放出され前記関心領域により減弱されたＸ線を受光するように配置されているＸ線検出器（１８）と、
該Ｘ線検出器（１８）に接続されて動作するデータ取得システム（ＤＡＳ）（３２）と、
コンピュータ（３６）と
を備えた計算機式断層写真法（ＣＴ）システム（１０）であって、前記コンピュータ（３６）は、
第一の色エネルギ・レベルにおいて前記関心領域の第一のＣＴ画像データ集合を取得し、
前記第一の色エネルギ・レベルよりも高い第二の色エネルギ・レベルにおいて前記関心領域の第二のＣＴ画像データ集合を取得し、
該第二のＣＴ画像データ集合を解析することにより前記関心領域のプラーク物質を識別する
ようにプログラムされている、計算機式断層写真法（ＣＴ）システム（１０）。
【請求項２】
前記コンピュータ（３６）は、
前記プラーク物質の撮像に関連するビーム・ハードニングが最小になるときの色エネルギ・レベルを決定するように当該計算機式断層写真法（ＣＴ）システム（１０）の較正を実行し、
当該計算機式断層写真法（ＣＴ）システム（１０）の前記較正に基づいて、前記プラーク物質の撮像に関連するビーム・ハードニングを最小にするエネルギ・レベル設定に前記第二の色エネルギ・レベルを設定する
ようにさらにプログラムされている、請求項１に記載の計算機式断層写真法（ＣＴ）システム（１０）。
【請求項３】
前記コンピュータ（３６）は、前記第一のＣＴ画像データ集合及び前記第二のＣＴ画像データ集合の各々の一部を用いて前記関心領域の結合画像を再構成するようにさらにプログラムされており、前記結合画像の前記血管は前記第一のＣＴ画像データ集合から再構成され、前記結合画像の前記プラーク物質は前記第二のＣＴ画像データ集合から再構成される、請求項１または２に記載の計算機式断層写真法（ＣＴ）システム（１０）。
【請求項４】
前記コンピュータ（３６）は、
前記第二のＣＴ画像データ集合から前記関心領域の第一の単色画像を再構成し、
該再構成された第一の単色画像からプラーク物質ピクセルを識別してセグメント分割し、
前記セグメント分割されたプラーク物質ピクセルから画像マスクを形成し、
該画像マスクによりマスクされたピクセルが前記第二の単色画像の前記再構成から除外されるように、前記画像マスクを適用しながら前記第一のＣＴ画像データ集合から前記関心領域の第二の単色画像を再構成して、
前記関心領域の前記結合画像を形成するように、前記第二の画像に前記セグメント分割されたプラーク物質ピクセルを加算する
ようにさらにプログラムされている、請求項３に記載の計算機式断層写真法（ＣＴ）システム（１０）。
【請求項５】
前記コンピュータ（３６）は、前記第一のＣＴ画像データ集合及び前記第二のＣＴ画像データ集合を用いて前記関心領域の多重レイヤ画像を形成するようにさらにプログラムされており、前記関心領域の完全画像が前記第一のＣＴ画像データ集合から再構成され、前記プラーク物質の選択的に表示可能な画像が前記第二のＣＴ画像データ集合から再構成される、請求項１乃至４のいずれかに記載の計算機式断層写真法（ＣＴ）システム（１０）。
【請求項６】
前記コンピュータ（３６）は、
前記第二のＣＴ画像データ集合から前記関心領域の第一の単色画像を再構成し、
プラーク物質画像のオーバレイを形成するように、前記再構成された第一の単色画像からプラーク物質ピクセルを識別してセグメント分割し、
前記第一のＣＴ画像データ集合から、前記関心領域の全体画像を含んでおり前記血管及び前記プラーク物質の両方を含む前記関心領域の第二の単色画像を再構成して、
前記第二の単色画像に前記プラーク物質画像のオーバレイをカラーで選択的に表示する
ようにさらにプログラムされている、請求項５に記載の計算機式断層写真法（ＣＴ）システム（１０）。
【請求項７】
前記コンピュータ（３６）は、
前記第二のＣＴ画像データ集合においてプラーク物質ピクセルを識別し、
前記第二のＣＴ画像データ集合から前記識別されたプラーク物質ピクセルを単離し、
修正済み第一のＣＴ画像データ集合を形成するように、前記単離されたプラーク物質ピクセルを前記第一のＣＴ画像データ集合に再投影し、
前記修正済み第一のＣＴ画像データ集合から前記血管の無プラーク単色画像を再構成して、
プラーク補正済み画像を形成するように、前記単離されたプラーク物質ピクセルを前記無プラーク単色画像に加算する
ようにさらにプログラムされている、請求項１乃至６のいずれかに記載の計算機式断層写真法（ＣＴ）システム（１０）。
【請求項８】
前記コンピュータ（３６）は、
前記第一のＣＴ画像データ集合及び前記第二のＣＴ画像データ集合の各々の少なくとも一部を用いて前記関心領域の画像を再構成して、
前記第二のＣＴ画像データ集合の解析により識別されたプラーク物質の量に基づいて前記再構成された画像の前記血管に対して狭窄測定を実行する
ようにさらにプログラムされている、請求項１乃至７のいずれかに記載の計算機式断層写真法（ＣＴ）システム（１０）。
【請求項９】
前記コンピュータ（３６）は、
走査に用いられる色エネルギ・レベルとかかる色エネルギ・レベルに関連するプラーク物質寸法の過大推定誤差との間の相関を与えるルックアップ・テーブルにアクセスして、
該ルックアップ・テーブルの相関に基づいて前記狭窄測定に補正を適用する
ようにさらにプログラムされている、請求項８に記載の計算機式断層写真法（ＣＴ）システム（１０）。
【請求項１０】
前記コンピュータ（３６）は、前記回転式ガントリ（１２）の単一の回転の間に単一のＸ線源（１４）を用いて前記第一及び第二のＣＴ画像データ集合を取得するようにさらにプログラムされている、請求項１乃至９のいずれかに記載の計算機式断層写真法（ＣＴ）システム（１０）。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月26日(2013.12.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マイクロニードル突出用開口部を有するケースと、上記マイクロニードル突出用開口部を介して外部に突出せられるマイクロニードルと、を具備し、上記マイクロニードルを皮膚に穿刺するようにしたことを特徴とするマイクロニードルアレイ装置。
【請求項２】
請求項１記載のマイクロニードルアレイ装置において、
上記ケースにはマイクロニードルアレイが設置されていて、上記マイクロニードルはこのマイクロニードルアレイに設けられているものであることを特徴とするマイクロニードルアレイ装置。
【請求項３】
請求項２記載のマイクロニードルアレイ装置において、
上記マイクロニードルアレイは複数のマイクロニードルを列状に設けた構成になっていることを特徴とするマイクロニードルアレイ装置。
【請求項４】
請求項２又は請求項３記載のマイクロニードルアレイ装置において、
上記ケースは、開口部を備えるとともに流体供給用開口部を備えた下ケースと、上記下ケースの上記開口部を閉塞するように設置され上記マイクロニードル突出用開口部を備えた上ケースと、から構成されていて、
上記下ケースと上ケースとの間にはマイクロニードルアレイ収容凹部を備えるとともに流体供給口と流体排出口を有する流体溝を備えている内部ブロックが設置されていて、
上記マイクロニードルアレイはこの内部ブロックの上記マイクロニードルアレイ収容部に収容・配置されていて、
上記下ケースと上記内部ブロックとの間には流路溝が設けられていて、
上記下ケースの流体供給用開口部及び上記内部ブロックの流体供給口を介して上記流体溝内に流体を供給し、上記供給した流体を上記流体排出口及び上記流路溝を介して上記各マイクロニードルに供給し、上記各マイクロニードルを介して注入するようにしたことを特徴とするマイクロニードルアレイ装置。
【請求項５】
請求項４記載のマイクロニードルアレイ装置において、
上記内部ブロックと上記下ケースの間には上記流体供給口及び上記流体排出口を選択的に開放することができるシャッター板が設けられていることを特徴とするマイクロニードルアレイ装置。
【請求項６】
請求項４又は請求項５記載のマイクロニードルアレイ装置において、
上記流路溝は上記下ケースに設けられていることを特徴とするマイクロニードルアレイ装置。
【請求項７】
請求項４又は請求項５記載のマイクロニードルアレイ装置において、
上記流路溝は上記内部ブロックに設けられていることを特徴とするマイクロニードルアレイ装置。
【請求項８】
請求項４又は請求項５記載のマイクロニードルアレイ装置において、
上記流路溝は上記シャッター板に設けられた貫通孔によって形成されることを特徴とするマイクロニードルアレイ装置。
【請求項９】
請求項１〜請求項８の何れかに記載のマイクロニードルアレイ装置において、
上記マイクロニードルアレイは生体に対して安全なプラスチック材料から構成されていることを特徴とるすマイクロニードルアレイ装置。
【請求項１０】
請求項４〜請求項８の何れかに記載のマイクロニードルアレイ装置において、
上記内部ブロックは弾性部材から構成されていて、且つ、上記下ケースの内部空間に対して若干量大きく成形されていることを特徴とするマイクロニードルアレイ装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記目的を達成するべく本願発明の請求項１によるマイクロニードルアレイ装置は、マイクロニードル突出用開口部を有するケースと、上記マイクロニードル突出用開口部を介して外部に突出せられるマイクロニードルと、を具備し、上記マイクロニードルを皮膚に穿刺するようにしたことを特徴とするものである。
又、請求項２によるマイクロニードルアレイ装置は、請求項１記載のマイクロニードルアレイ装置において、上記ケースにはマイクロニードルアレイが設置されていて、上記マイクロニードルはこのマイクロニードルアレイに設けられているものであることを特徴とするものである。
又、請求項３によるマイクロニードルアレイ装置は、請求項２記載のマイクロニードルアレイ装置において、上記マイクロニードルアレイは複数のマイクロニードルを列状に設けた構成になっていることを特徴とするものである。
又、請求項４によるマイクロニードルアレイ装置は、請求項２又は請求項３記載のマイクロニードルアレイ装置において、上記ケースは、開口部を備えるとともに流体供給用開口部を備えた下ケースと、上記下ケースの上記開口部を閉塞するように設置され上記マイクロニードル突出用開口部を備えた上ケースと、から構成されていて、上記下ケースと上ケースとの間にはマイクロニードルアレイ収容凹部を備えるとともに流体供給口と流体排出口を有する流体溝を備えている内部ブロックが設置されていて、上記マイクロニードルアレイはこの内部ブロックの上記マイクロニードルアレイ収容部に収容・配置されていて、  上記下ケースと上記内部ブロックとの間には流路溝が設けられていて、上記下ケースの流体供給用開口部及び上記内部ブロックの流体供給口を介して上記流体溝内に流体を供給し、上記供給した流体を上記流体排出口及び上記流路溝を介して上記各マイクロニードルに供給し、上記各マイクロニードルを介して注入するようにしたことを特徴とするものである。
又、請求項５によるマイクロニードルアレイ装置は、請求項４記載のマイクロニードルアレイ装置において、上記内部ブロックと上記下ケースの間には上記流体供給口及び上記流体排出口を選択的に開放することができるシャッター板が設けられていることを特徴とするものである。
又、請求項６によるマイクロニードルアレイ装置は、請求項４又は請求項５記載のマイクロニードルアレイ装置において、上記流路溝は上記下ケースに設けられていることを特徴とするものである。
又、請求項７によるマイクロニードルアレイ装置は、請求項４又は請求項５記載のマイクロニードルアレイ装置において、上記流路溝は上記内部ブロックに設けられていることを特徴とするものである。
又、請求項８によるによるマイクロニードルアレイ装置は、請求項４又は請求項５記載のマイクロニードルアレイ装置において、上記流路溝は上記シャッター板に設けられた貫通孔によって形成されることを特徴とするものである。
又、請求項９によるマイクロニードルアレイ装置は、請求項１〜請求項８の何れかに記載のマイクロニードルアレイ装置において、上記マイクロニードルアレイは生体に対して安全なプラスチック材料から構成されていることを特徴とるものである。
又、請求項１０によるマイクロニードルアレイ装置は、請求項４〜請求項８の何れかに記載のマイクロニードルアレイ装置において、上記内部ブロックは弾性部材から構成されていて、且つ、上記下ケースの内部空間に対して若干量大きく成形されていることを特徴とするものである。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月10日(2013.12.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上部にボトル口部を有するボトル本体と、
前記ボトル本体内に貯留される液体に浸漬される浸漬管と、を備えており、
前記浸漬管の上端部は、前記ボトル口部を介して前記ボトル本体の内外を連通する空隙部を設けた状態で、前記ボトル口部の周壁の内側に配置されており、
前記浸漬管は、管本体と、前記管本体の一方端に設けられ前記ボトル口部に接続される固定部とを備え、
前記固定部は、前記ボトル口部の内側に配置される筒状の環状体と、前記環状体の内側に前記管本体を保持する保持部材とを備えており、
前記環状体の内周面と、前記管本体の外周面との間に、前記空隙部が形成されていることを特徴とするボトル。
【請求項２】
前記環状体は、前記ボトル口部の上端部に嵌合するフランジ部を備えていることを特徴とする請求項１に記載のボトル。
【請求項３】
前記環状体の下端部における外周面は、前記ボトル口部の内周面と離隔して配置されることを特徴とする請求項２に記載のボトル。
【請求項４】
前記保持部材は、前記ボトル口部の上下方向に沿って伸びるプレート状部材又は棒状部材であり、前記環状体の内周面と前記管本体の外周面とを接続することを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載のボトル。
【請求項５】
前記管本体の他方端には、一方端から供給されるガスを気泡として前記ボトル本体内に貯留される液体内に放出可能なディフューザー部が設けられている請求項１から４のいずれかに記載のボトル。
【請求項６】
管本体と、前記管本体の一方端に設けられる固定部とを備える浸漬管であって、
前記固定部は、筒状の環状体と、前記環状体の内側に前記管本体を保持する保持部材とを備えており、
前記環状体の内周面と前記管本体の外周面との間には、前記環状体の両端部間を連通する空隙部が形成されていることを特徴とする浸漬管。
【請求項７】
前記管本体の一方端から供給されるガスを放出可能なディフューザー部を更に備えており、
前記ディフューザー部は、
前記管本体の他方端に接続する上部ハウジング部と、前記上部ハウジング部に取り付けられる下部ハウジング部と、を備えており、
前記上部ハウジング部は、一方面側が前記管本体に接続するプレート体と、当該プレート体の他方面に立設する側壁部とを備えており、
前記下部ハウジング部は、前記上部ハウジング部の側壁部で囲まれた領域を覆う蓋部と、当該蓋部の周縁から立設し貫通孔が形成される周壁部とを備えており、
前記下部ハウジング部は、前記周壁部が前記側壁部の外側に配置されると共に、前記側壁部及び前記周壁部との間に隙間を設けた状態で上部ハウジング部に取り付けられることを特徴とする請求項６に記載の浸漬管。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の上記目的は、上部にボトル口部を有するボトル本体と、前記ボトル本体内に貯留される液体に浸漬される浸漬管と、を備えており、前記浸漬管の上端部は、前記ボトル口部を介して前記ボトル本体の内外を連通する空隙部を設けた状態で、前記ボトル口部の周壁の内側に配置されており、前記浸漬管は、管本体と、前記管本体の一方端に設けられ前記ボトル口部に接続される固定部とを備え、前記固定部は、前記ボトル口部の内側に配置される筒状の環状体と、前記環状体の内側に前記管本体を保持する保持部材とを備えており、前記環状体の内周面と、前記管本体の外周面との間に、前記空隙部が形成されていることを特徴とするボトルにより達成される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、このボトルにおいて、前記浸漬管は、管本体と、前記管本体の一方端に設けられ前記ボトル口部に接続される固定部とを備えている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、前記固定部は、前記ボトル口部の内側に配置される筒状の環状体と、前記環状体の内側に前記管本体を保持する保持部材とを備えており、前記環状体の内周面と、前記管本体の外周面との間に、前記空隙部が形成されている。また、前記環状体は、前記ボトル口部の上端部に嵌合するフランジ部を備えていることが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成26年8月1日(2014.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
上述の目的を達成するために、本発明に係る液体噴射装置は、インクを吐出する記録ヘッドと、前記インクを保持するインク貯留部を有するインクタンクであって、前記記録ヘッドに前記インクを供給するインクタンクと、前記インクタンクを収容するタンク収容部と、前記タンク収容部の側壁にある開口部に挿入されることで、前記インクタンクにインクを供給するインク供給口を有するインク供給針と、を備え、前記タンク収容部は、前記側壁に配置された第１の固定部と、前記側壁以外の位置に配置された第２の固定部とを有し、前記第１の固定部は前記インクタンクを前記タンク収容部に収容する方向と交わる方向に突出していることを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明に係る液体噴射装置によれば、インクタンクとタンク収容部とを固定するための、側壁に配置された第１の固定部と、側壁以外の位置に配置された第２の固定部とを有し、第１の固定部はインクタンクをタンク収容部に収容する方向と交わる方向に突出しているので、液体噴射装置を大型化させることなく、タンク収容部の剛性を高めることができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インクを吐出する記録ヘッドと、
前記インクを保持するインク貯留部を有するインクタンクであって、前記記録ヘッドに前記インクを供給するインクタンクと、
前記インクタンクを収容するタンク収容部と、
前記タンク収容部の側壁にある開口部に挿入されることで、前記インクタンクにインクを供給するインク供給口を有するインク供給針と、
を備え、
前記タンク収容部は、前記側壁に配置された第１の固定部と、前記側壁以外の位置に配置された第２の固定部とを有し、前記第１の固定部は前記インクタンクを前記タンク収容部に収容する方向と交わる方向に突出していることを特徴とする液体噴射装置。
【請求項２】
前記第１の固定部は、前記挿入部よりも前記タンク収容部の底面から遠い位置に配置されている請求項１に記載の液体噴射装置。
【請求項３】
前記第２の固定部は、前記タンク収容部の底面に配置されている請求項１または２に記載の液体噴射装置。
【請求項４】
前記第２の固定部は、前記第１の固定部１つに対して複数個配置されている請求項１乃至３のいずれか１項に記載の液体噴射装置。
【請求項５】
前記第１の固定部１つと、前記複数個の第２の固定部とは、前記タンク収容部を上方からみたときに直線状に並ぶように配置されている請求項４に記載の液体噴射装置。
【請求項６】
前記第１の固定部は、前記インクタンクを前記タンク収容部に収容する方向に対して実質的に垂直な方向に突出している請求項１乃至５のいずれか１項に記載の液体噴射装置。
【請求項７】
前記第１の固定部は、前記タンク収容部の側壁の上面に形成されている請求項１乃至６のいずれか１項に記載の液体噴射装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月4日(2014.9.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の微細孔を有する多孔質構造において、酸化膜により、前記微細孔の開口形状および面内分布を維持しながら、前記微細孔の径が一様に小さくなっていることを特徴とする多孔質構造。
【請求項２】
複数の微細孔を有する多孔質体と、酸化膜とを備えた濾過フィルタであって、前記酸化膜により、前記微細孔の開口形状および面内分布を維持しながら、前記微細孔の径が一様に小さくなっていることを特徴とする濾過フィルタ。
【請求項３】
前記酸化膜が、チタン、ガリウム、鉄、クロム、アルミニウム、マグネシウム、ジルコニウム、インジウム、スズ、バナジウムまたはシリコンの単一組成酸化膜またはこれらの混晶酸化膜であることを特徴とする請求項２記載の濾過フィルタ。
【請求項４】
前記酸化膜が、ミストＣＶＤ法で成膜されたものであることを特徴とする請求項２または３に記載の濾過フィルタ。
【請求項５】
前記多孔質体が、軸方向に貫通する少なくとも１つの中空空間を有する円柱状フィルタであることを特徴とする請求項２〜４のいずれかに記載の濾過フィルタ。
【請求項６】
前記多孔質体が、厚さ方向に貫通する前記微細孔が面内に配列されたメソポーラス基板であることを特徴とする請求項２〜４のいずれかに記載の濾過フィルタ。
【請求項７】
複数の微細孔を有する多孔質体が配置された成膜室を昇温する昇温工程と、
溶液を振動させてミストを発生させるミスト発生工程と、
前記ミストを昇温後の前記成膜室内に導入し、前記多孔質体においてＣＶＤ反応を起こさせ、前記多孔質体に酸化膜を成膜する成膜工程と、
を含むことを特徴とする濾過フィルタの製造方法。
【請求項８】
前記酸化膜が、チタン、ガリウム、鉄、クロム、アルミニウム、マグネシウム、ジルコニウム、インジウム、スズ、バナジウムまたはシリコンの単一組成酸化膜またはこれらの混晶酸化膜であることを特徴とする請求項７に記載の製造方法。
【請求項９】
前記多孔質体が、軸方向に貫通する少なくとも１つの中空空間を有する円柱状フィルタであることを特徴とする請求項７または８に記載の製造方法。
【請求項１０】
請求項２〜６のいずれかに記載の濾過フィルタと、
前記濾過フィルタの少なくとも前記酸化膜が成膜された面に光を照射する光照射手段と、
を備えたことを特徴とする濾過装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月23日(2014.10.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
圧電体層と該圧電体層を挟む電極と前記圧電体層の少なくとも一方側の面に設けられたバッファー層とを備えた圧電素子であって、
前記圧電体層は、チタン酸バリウム系複合酸化物であってバリウム、チタン、チタンに対して３モル％以下の銅、チタンに対して２モル％以上５モル％以下のリチウム及びチタンに対して２モル％以上５モル％以下のホウ素を含みペロブスカイト構造を有する複合酸化物からなり、
前記バッファー層は、ビスマス、鉄、マンガン、バリウム及びチタンを含みペロブスカイト構造を有する複合酸化物からなることを特徴とする圧電素子。
【請求項２】
前記バッファー層は、前記圧電体層の両側の面に設けられていることを特徴とする請求項１に記載する圧電素子。
【請求項３】
前記圧電体層は、柱状結晶を有するものであることを特徴とする請求項１または２に記載する圧電素子。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載する圧電素子を具備することを特徴とする液体噴射ヘッド。
【請求項５】
請求項４に記載する液体噴射ヘッドを具備することを特徴とする液体噴射装置。
【請求項６】
請求項１〜３のいずれか一項に記載する圧電素子を具備することを特徴とする超音波デバイス。
【請求項７】
請求項１〜３のいずれか一項に記載する圧電素子を具備することを特徴とするセンサー。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】圧電素子、液体噴射ヘッド、液体噴射装置、超音波デバイス、並びにセンサー
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記課題を解決する本発明の態様は、圧電体層と該圧電体層を挟む電極と前記圧電体層の少なくとも一方側の面に設けられたバッファー層とを備えた圧電素子であって、前記圧電体層は、チタン酸バリウム系複合酸化物であってバリウム、チタン、チタンに対して３モル％以下の銅、チタンに対して２モル％以上５モル％以下のリチウム及びチタンに対して２モル％以上５モル％以下のホウ素を含みペロブスカイト構造を有する複合酸化物からなり、前記バッファー層は、ビスマス、鉄、マンガン、バリウム及びチタンを含みペロブスカイト構造を有する複合酸化物からなることを特徴とする圧電素子にある。
かかる態様では、チタン酸バリウム系の圧電材料でありチタンに対して３モル％以下の銅、２モル％以上５モル％以下のリチウム及び２モル％以上５モル％以下のホウ素を含む圧電体層とし、該圧電体層の厚さ方向の少なくとも一方の側の面に、ビスマス、鉄、マンガン、バリウム及びチタンを含みペロブスカイト構造を有する複合酸化物からなるバッファー層を設けることにより、歪量が大きく、緻密で、さらに低温で焼成できる圧電素子を提供することができる。そして、リーク電流の発生を抑制することもできる。また、鉛を含有しない又は鉛の含有量を抑えられるため、環境への負荷を低減できる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明の他の態様は、上記圧電素子を具備することを特徴とする液体噴射ヘッドにある。また、本発明の他の態様は、上記液体噴射ヘッドを具備することを特徴とする液体噴射装置にある。かかる態様では、環境への負荷を低減し、且つ、リーク電流の発生が抑制され、歪量が大きく、緻密で、さらに低温で焼成できる圧電体層を有する液体噴射ヘッドや液体噴射装置を実現することができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、本発明の他の態様は、上記圧電素子を具備することを特徴とする超音波デバイスにある。また、本発明の他の態様は、上記圧電素子を具備することを特徴とするセンサーにある。かかる態様では、歪量が大きく、緻密で、さらに低温で焼成できる圧電素子を有する超音波ヘッドやセンサーを提供することができる。そして、リーク電流の発生を抑制することもできる。また、鉛を含有しない又は鉛の含有量を抑えられるため、環境への負荷を低減できる。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月14日(2014.10.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板の一方の面側にシード層を形成するシード層形成工程と、
前記シード層形成工程後、前記シード層上に配線層を形成する配線層形成工程と、
前記配線層形成工程後、前記半導体基板の他方の面から前記シード層に達する貫通孔を形成する貫通孔形成工程と、
前記貫通孔形成工程後、前記貫通孔内にメッキで貫通電極を形成する貫通電極形成工程と、
前記貫通電極形成工程後、前記シード層を複数に分断する分断工程とを含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項２】
前記分断工程は、ダイシングライン上で導通しているシード層をダイシングラインに沿ってダイシングすることを特徴とする請求項１に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項３】
半導体基板と、
前記半導体基板の一方の面側に形成されたシード層と、
前記シード層上に形成された配線層と、
前記半導体基板の他方の面から前記半導体基板を貫通して前記シード層に接続する貫通電極とを含むことを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
請求項３に記載の半導体装置において、
前記貫通電極と前記半導体基板との間に設けられた絶縁膜を含み、
前記貫通電極は、前記シード層と前記絶縁膜で囲まれた溝内にメッキにより形成されたことを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
請求項３または請求項４に記載の半導体装置を含むことを特徴とする電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月15日(2014.10.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
図５（Ａ）はリードフレーム１０の表面、図５（Ｂ）はその裏面の平面構成をそれぞれ表すものである。図５のドットで表した領域は、図５（Ａ）は表面から、図５（Ｂ）は裏面からそれぞれ一定の厚みだけ削られ、他の部分に比べて薄くなっている箇所を表している。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
リードフレーム１０は、例えばメッキされた銅（Ｃｕ）により構成され、チップ搭載領域１１（ダイパッド）、端子１２（信号端子）、リード領域１３Ａおよび端子１２とリード領域１３Ａとの間の間隙１４を有している。間隙１４と端子１２との間には端子１２を支持する張出部１５（図２）が設けられている。図５（Ａ）のドット領域は張出部１５、図５（Ｂ）のドット領域はリード領域１３Ａである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
続いて、封止樹脂４１の表面に製品名等のマーク５４を刻印した後（図１２）、図１３に表したようにカッター等により切断線５５でリードフレームシートからリードフレーム１０を切り離す。以上の工程により、図１〜４に示した半導体装置１が完成する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
半導体チップ２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃは互いの電極パッド同士がワイヤ３１により電気的に接続され、リードフレーム１０（チップ搭載領域１１）に搭載されている。即ち、この半導体装置２は所謂マルチチップの構成を有するものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１３】
2013098332.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成26年8月8日(2014.8.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
配線基板と、
前記配線基板上に実装された半導体素子と、
前記半導体素子の上方に配置され、前記半導体素子と熱的に接続され、前記配線基板上に接合された第１放熱手段と、
前記第１放熱手段の上方に配置され、前記第１放熱手段と熱的に接続された第２放熱手段と、を有し、
前記第１放熱手段及び第２放熱手段の一方の放熱手段には、前記第１放熱手段及び前記第２放熱手段の他方の放熱手段に向かって突出する突起部が、前記一方の放熱手段を平面視した状態で、前記一方の放熱手段の中心点に対して同心円となる円周上に複数形成され、
前記他方の放熱手段には、内部を前記突起部が移動可能なように形成された溝部が、前記他方の放熱手段を平面視した状態で、前記他方の放熱手段の中心点に対して同心円となる円周上に複数形成され、
前記第１放熱手段及び前記第２放熱手段の中心点を一致させた状態で前記第１放熱手段及び前記第２放熱手段の少なくとも一方を回転させて前記突起部を前記溝部の終端部に嵌入させることにより、前記第２放熱手段が前記第１放熱手段に取り付けられていることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
前記第１放熱手段には、ベース部と側壁部とによって凹部が形成され、
前記凹部と前記配線基板とによって形成された収容部に前記半導体素子が収容されていることを特徴とする請求項１に記載の半導体装置。
【請求項３】
前記突起部は、前記一方の放熱手段の一側面から突出する第１突起部と、前記第１突起部の一側面から突出し、前記第１突起部よりも幅の狭い第２突起部とを有し、
前記終端部を構成する前記溝部の側壁には、前記第１突起部が嵌合する凹部が形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の半導体装置。
【請求項４】
前記突起部の側面には、前記終端部を構成する前記溝部の側壁が嵌合する凹部が形成されていること特徴とする請求項１〜３のいずれか１つに記載の半導体装置。
【請求項５】
前記溝部の側壁は、前記終端部に向かうに連れて厚く形成されていることを特徴とする請求項４に記載の半導体装置。
【請求項６】
前記一方の放熱手段は、前記突起部を有する取付部を有し、
前記他方の放熱手段は、前記溝部を有する取付部を有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１つに記載の半導体装置。
【請求項７】
前記一方の放熱手段は第１ベース部を有し、前記突起部を有する取付部は前記第１ベース部から側方に突出して形成され、
前記他方の放熱手段は第２ベース部を有し、前記溝部を有する取付部は前記第２ベース部から側方に突出して形成されていることを特徴とする請求項６に記載の半導体装置。
【請求項８】
前記複数の突起部は、前記一方の放熱手段を平面視した状態で、前記一方の放熱手段の中心点に対して点対称となる位置に形成され、
前記複数の溝部は、前記他方の放熱手段を平面視した状態で、前記他方の放熱手段の中心点に対して点対称となる位置に形成されていることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１つに記載の半導体装置。
【請求項９】
前記第２放熱手段は、前記半導体素子から離間する方向に延びるように形成された複数の放熱フィンを有することを特徴とする請求項１〜８のいずれか１つに記載の半導体装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の一観点によれば、配線基板と、前記配線基板上に実装された半導体素子と、前記半導体素子の上方に配置され、前記半導体素子と熱的に接続され、前記配線基板上に接合された第１放熱手段と、前記第１放熱手段の上方に配置され、前記第１放熱手段と熱的に接続された第２放熱手段と、を有し、前記第１放熱手段及び第２放熱手段の一方の放熱手段には、前記第１放熱手段及び前記第２放熱手段の他方の放熱手段に向かって突出する突起部が、前記一方の放熱手段を平面視した状態で、前記一方の放熱手段の中心点に対して同心円となる円周上に複数形成され、前記他方の放熱手段には、内部を前記突起部が移動可能なように形成された溝部が、前記他方の放熱手段を平面視した状態で、前記他方の放熱手段の中心点に対して同心円となる円周上に複数形成され、前記第１放熱手段及び前記第２放熱手段の中心点を一致させた状態で前記第１放熱手段及び前記第２放熱手段の少なくとも一方を回転させて前記突起部を前記溝部の終端部に嵌入させることにより、前記第２放熱手段が前記第１放熱手段に取り付けられている。
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月22日(2014.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多数の部品を所定ピッチで配列した部品供給テープの側縁に沿って形成されたスプロケット孔にスプロケットの歯を噛み合わせながら該スプロケットの回転により該部品供給テープを部品吸着位置へ送るテープフィーダにおいて、
前記スプロケットをその歯が前記部品供給テープのスプロケット孔に噛み合った状態となる噛合位置と前記歯が前記スプロケット孔よりも下方に位置する退避位置との間を上下動させる上下動機構と、
テープフィーダに前記部品供給テープをセットする際に前記スプロケットを前記退避位置へ下降させて前記部品供給テープを前記スプロケットの上方にセットした後に前記スプロケットを前記噛合位置へ上昇させるように前記上下動機構の動作を制御する制御手段と、
前記上下動機構により前記スプロケットを前記噛合位置へ上昇させる際に前記スプロケットの歯が前記部品供給テープのスプロケット孔に噛み合って前記スプロケットが前記噛合位置まで上昇したときに検出信号を出力する噛合検出手段と
を備えていることを特徴とするテープフィーダ。
【請求項２】
前記制御手段は、前記上下動機構により前記スプロケットを前記噛合位置へ上昇させる制御を行っても前記スプロケットの歯が前記部品供給テープのスプロケット孔に噛み合わずに前記噛合検出手段から前記検出信号が出力されないときに、前記スプロケットを回動させて前記スプロケットの歯が前記部品供給テープのスプロケット孔に噛み合って前記噛合検出手段から前記検出信号が出力されるまで前記スプロケットを回動させる自動噛合動作を実行することを特徴とする請求項１に記載のテープフィーダ。
【請求項３】
前記上下動機構は、前記スプロケットを組み付けたスプロケット駆動機構部を上方へ付勢する付勢手段と、前記スプロケット駆動機構部を前記付勢手段に抗して下降させるアクチュエータとを備え、
前記制御手段は、テープフィーダに前記部品供給テープをセットするときに前記アクチュエータにより前記スプロケット駆動機構部を前記付勢手段に抗して下降させることで前記スプロケットを前記退避位置へ下降させ、前記部品供給テープを前記スプロケットの上方にセットした後に、前記付勢手段により前記スプロケット駆動機構部を上昇させることで前記スプロケットを前記噛合位置へ上昇させることを特徴とする請求項１又は２に記載のテープフィーダ。
【請求項４】
前記制御手段は、自動噛合動作を行う際に、まず前記スプロケットを逆回転させて前記スプロケットの歯が前記部品供給テープのスプロケット孔に噛み合って前記噛合検出手段から前記検出信号が出力された後に、前記スプロケットを正回転させて前記部品供給テープを位置決めすることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載のテープフィーダ。
【請求項５】
前記スプロケット、前記上下動機構、前記制御手段及び前記噛合検出手段を設けたフィーダ本体と、
テープリールから引き出した部品供給テープを前記部品吸着位置へ供給するテープサプライヤとを備え、
前記テープリール及び前記テープサプライヤは、前記フィーダ本体に対して着脱可能に装着されるように構成されていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載のテープフィーダ。
【請求項６】
前記フィーダ本体には、前記スプロケット、前記上下動機構及び前記噛合検出手段がそれぞれ複数個ずつ設けられ、
前記フィーダ本体に対して複数のテープサプライヤがそれぞれ独立して着脱可能に装着され、各テープサプライヤに供給された部品供給テープのスプロケット孔に各スプロケットの歯が噛み合わされるように構成されていることを特徴とする請求項５に記載のテープフィーダ。