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【手続補正書】
【提出日】平成26年3月19日(2014.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半径（Ｒ１）、及び大体長手方向の軸線（５８）に沿った長さ（Ｌ１）を持ち、複数のバイパス開口（４１）を画成する上流部分（５１）と、
半径（Ｒ２）、及び大体長手方向の軸線（５８）に沿った長さ（Ｌ２）を持ち、空気流の方向で前記複数バイパス開口から下流に延びる下流端部分（５２）と
を有し、
前記下流端部分（５２）は、該下流端部分（５２）内のみに形成された複数のチャンネル（５６）を画成し、
前記複数の複数のチャンネル（５６）の各々が当該下流端部分（５２）の長さに沿って螺旋状に延在する複数のチャンネル（５６）を画成する下流端部分（５２）と、を有し、
前記複数のチャンネル（５６）の各々が、その中に空気流（８４）を流れさせて、前記下流端部分（５２）を冷却するように構成されており、
前記下流端部分（５２）の少なくとも一部の半径が、前記上流部分（５１）の半径より小さい
ことを特徴とする燃焼器ライナー（３４）。
【請求項２】
前記複数のチャンネル（５６）の各々は、前記下流端部分（５２）の長さ（Ｌ２）よりも長い長さ（９８）を持っている、請求項１記載の燃焼器ライナー（３４）。
【請求項３】
前記複数のチャンネル（５６）の各々は幅（９０）を持ち、前記複数のチャンネル（５６）の各々の前記幅（９０）は前記チャンネル（５６）の長さ（９８）全体にわたって実質的に一定である、請求項１乃至２のいずれか１項に記載の燃焼器ライナー（３４）。
【請求項４】
前記複数のチャンネル（５６）の各々は幅（９０）を持ち、前記複数のチャンネル（５６）の各々の前記幅（９０）は、前記チャンネル（５６）の長さ（９８）にわたって前記チャンネル（５６）を通る空気流（８４）の方向に減少している、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の燃焼器ライナー（３４）。
【請求項５】
前記複数のチャンネル（５６）の各々は実質的に滑らかの表面（９２，９５）を持っている、請求項１乃至４のいずれか１項に記載の燃焼器ライナー（３４）。
【請求項６】
前記複数のチャンネル（５６）の各々は、複数の表面成形部（９６）を含む表面（９２，９５）を持っている、請求項１乃至５のいずれか１項に記載の燃焼器ライナー（３４）。
【請求項７】
前記複数のチャンネル（５６）の各々は深さ（９４）を持ち、前記複数のチャンネル（５６）の各々の前記深さ（９４）は前記チャンネル（５６）の長さ（９８）全体にわたって実質的に一定である、請求項１乃至６のいずれか１項に記載の燃焼器ライナー（３４）。
【請求項８】
前記複数のチャンネル（５６）の各々は深さ（９４）を持ち、前記複数のチャンネル（５６）の各々の前記深さ（９４）は、前記チャンネル（５６）の長さ（９８）にわたって、前記チャンネル（５６）を通る空気流（８４）の方向に減少している、請求項１乃至７のいずれか１項に記載の燃焼器ライナー（３４）。
【請求項９】
前記下流端部分（５２）の長さ（Ｌ２）は前記上流部分（５１）の長さ（Ｌ１）よりも短い、請求項１乃至８のいずれか１項に記載の燃焼器ライナー（３４）。
【請求項１０】
前記下流端部分（５２）の半径（Ｒ２）は、前記下流端部分（５２）の長さ（Ｌ２）にわたって、前記複数のチャンネル（５６）を通る空気流（８４）の方向に減少している、請求項１乃至９のいずれか１項に記載の燃焼器ライナー（３４）。
【手続補正書】
【提出日】平成26年3月18日(2014.3.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
機械ロータ上に支持されたバケット列（１１２）と、周囲の固定ケーシング（１１８）との間のシールシステムであって、
各々のバケットの半径方向外側先端に固定された先端シュラウド（１１４）であって、半径方向突出レール（１１６）が設けられている先端シュラウド（１１４）と、
前記先端シュラウド及び前記半径方向突出レールと半径方向に対向して前記固定ケーシング内に支持されたセル状シール構造体（１２０）であって、前記半径方向突出レールが供用時に前記セル状シール構造体に溝を刻み込むように構成されており、前記セル状シール構造体が、その全軸方向長さ寸法に沿っていかなる半径方向障害もない連続的な水平方向流路を提供するように各々形成された複数のセル（１３８）の環状配列を有するセル状シール構造体（１２０）と
を備えていて、前記半径方向突出レール（１１６）を超えて漏れたガスが前記水平方向流路に沿って流れる、シールシステム。
【請求項２】
前記セル（１３８）の各々が前記ロータの回転軸に対して平行に延在する、請求項１に記載のシールシステム。
【請求項３】
前記セル（１３８）の各々が、前記ロータの回転軸に対して±４５度以内の角度で軸方向に延在する、請求項１に記載のシールシステム。
【請求項４】
前記複数のセル（１３８）の環状配列が、複数の同心状の半径方向に離間しかつ軸方向に延在する環状壁（１３６）に、複数の円周方向に離間しかつ半径方向に延在する隔壁（１３４）を交差させることによって形成される、請求項１に記載のシールシステム。
【請求項５】
前記複数のセル（４１４）の環状配列が、複数の波形の環状シート（４１０，４１２）と平滑な環状シート（４１０，４１２）とを交互に半径方向に積み重ねることによって形成される、請求項１に記載のシールシステム。
【請求項６】
前記複数のセル（６１６）の環状配列が、前記セルの横断面がダイヤモンド形状をなすように４５度の角度で交差する複数の壁（６１２，６１４）によって形成される、請求項１に記載のシールシステム。
【請求項７】
前記複数の別セルの環状配列が、複数の軸方向に延在する管（７１２）を隣接する管と組み合わせて半径方向に積み重ねた環状の配列によって形成され、前記管の内側に前記流路の第１の群（７１０）を形成するとともに、隣接する管同士の隙間に前記流路の第２の群（７１４）を形成している、請求項１に記載のシールシステム。
【請求項８】
前記流路のうち少なくとも前記固定ケーシング（３１８）の壁（３４８）に隣接する半径方向外側の流路（３４６）に冷却剤を供給して対流冷却によって前記壁（３４８）を冷却する手段（３４４）をさらに備える、請求項１乃至請求項７のいずれか１項に記載のシールシステム。
【請求項９】
前記バケットの下流の少なくとも一部のセル壁部（２４２）が、下流方向に延在する機械構成部品（２４０）の表面と整合するように、半径方向外方に傾斜している、請求項１乃至請求項８のいずれか１項に記載のシールシステム。
【請求項１０】
前記機械構成部品（２４０）がタービンディフューザである、請求項９に記載のシールシステム。
【請求項１１】
機械ロータ上に支持されたバケット列（１１２）と、周囲の固定ケーシング（１１８）との間のシールシステムであって、
各々のバケットの半径方向外側先端に固定された先端シュラウド（１１４）であって、半径方向突出レール（１１６）が設けられている先端シュラウド（１１４）と、
前記先端シュラウド及び前記半径方向突出レールと半径方向反対に前記固定ケーシング内に支持されたセル状シール構造体（１２０）であって、前記半径方向突出レールが供用時に前記セル状シール構造体に溝を刻み込むように構成されており、前記セル状シール構造体が、その前方端と後方端の間に連続的に延在する水平方向の周辺密閉流路を提供するように各々形成された複数のセル（１３８）の環状配列を有するセル状シール構造体（１２０）と
を備えていて、前記セル（１３８）が、前記ロータの回転軸に対して平行又はその±４５度以内に配向していて、前記半径方向突出レール（１１６）を超えて漏れたガスが前記水平方向の周辺密閉流路に沿って流れる、シールシステム。
【請求項１２】
前記シール構造体（１２０）が、前記固定ケーシング（１１８）に形成された環状凹部（１２４）内に配置されており、前記環状凹部（１２４）が、オフセット軸方向面（１２４）で接続された前方半径方向肩部（１２２）及び後方半径方向肩部（１２６）によって形成されている、請求項１１に記載のシールシステム。
【請求項１３】
前記流路のうち少なくとも前記オフセット軸方向面（３２４）に隣接する半径方向外側の流路（３４６）に冷却剤を供給して対流冷却によって前記オフセット軸方向面を冷却する手段（３４４）が設けられている、請求項１２に記載のシールシステム。
【請求項１４】
前記後方半径方向肩部（２２６）の下流の少なくとも一部のセル壁部（２４２）が、下流方向に延在するディフューザ構成部品（２４０）の表面と整合するように、半径方向外方に傾斜している、請求項１１又は請求項１２に記載のシールシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成26年3月7日(2014.3.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
装置（１０）の高温部品（３４）の溶融塩腐食をオンラインでモニターするための方法であって、当該方法が、
電極の第１の組及び第２の組の各組の第１の電極（４０）及び第２の電極（４０）の一部分を装置（１０）の腐食性の作動環境（３６）に曝露する工程であって、各組の第１の電極（４０）及び第２の電極（４０）が、装置（１０）の部品（３４）内に配置されているとともに、絶縁材料（３８）によって互いに電気的に絶縁されており、各組の第１及び第２の電極（４０）が、第１の電極（４０）と第２の電極（４０）との間に電位差が存在するとき、第１の電極（４０）と第２の電極（４０）との間で電流が流れるように電気的に結合されている、工程と、
各組の第１の電極（４０）と第２の電極（４０）との間の電位差又はその間に流れる電流の少なくとも１つを測定する工程と、
電位差の測定値及び電流の測定値の少なくとも一方を解析して前記部品（３４）の腐食特性を予測する工程であって、各組の第１の電極（４０）と第２の電極（４０）との間の電位差は少なくとも部分的に第１の電極（４０）又は第２の電極（４０）における溶融塩腐食に基づいている、工程と、
を含んでおり、
第１の組の第１の電極（４０）が第１の部品（３４）の母材金属中のアノード部位と同様の腐食特性を有していて、第１の組の第２の電極（４０）が第１の部品（３４）の母材金属中のカソード部位と同様の腐食特性を有しており、
第２の組の第１の電極（４０）が第２の部品（３４）の母材金属中のアノード部位と同様の腐食特性を有していて、第２の組の第２の電極（４０）が第２の部品（３４）の母材金属中のカソード部位と同様の腐食特性を有している、方法。
【請求項２】
前記部品（３４）の予測された腐食特性に基づいて、装置（１０）に対する矯正処置をいつ実行するべきかを決定する工程を含む、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記部品（３４）の予測された腐食特性に基づいて装置（１０）に対して矯正処置を実行する工程を含む、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
装置（１０）がガスタービン（１０）からなり、前記矯正処置がガスタービン（１０）を停止し検査する工程を含む、請求項３記載の方法。
【請求項５】
装置（１０）がガスタービン（１０）からなり、前記矯正処置がガスタービン（１０）の１以上の機械作動パラメーターを調節する工程を含む、請求項３記載の方法。
【請求項６】
前記部品（３４）の予測された腐食特性を視覚的に表示する工程を含む、請求項１乃至請求項５のいずれか１項記載の方法。
【請求項７】
前記部品（３４）の腐食特性が点食の深さ又は点食の度合の少なくとも１つを含む、請求項１乃至請求項６のいずれか１項記載の方法。
【請求項８】
第１及び第２の電極（４０）が前記部品（３４）と実質的に同様な腐食特性を有する材料から形成される、請求項１乃至請求項７のいずれか１項記載の方法。
【請求項９】
装置（１０）の部品（３４）の溶融塩腐食をオンラインでモニターするためのシステムであって、当該システムが、
装置（１０）の部品（３４）内に配置された腐食感知デバイス（３０）であって、電極の第１の組及び第２の組の各組について第１の電極（４０）及び第２の電極（４０）を含んでいて、各組の第１の電極（４０）及び第２の電極（４０）が絶縁材料（３８）内で互いに電気的に絶縁されており、各組の第１及び第２の電極（４０）が、第１及び第２の電極（４０）の各々の一部分が装置（１０）内の腐食性の作動環境（３６）に曝露されるように配置されており、各組の第１及び第２の電極（４０）が、第１の電極（４０）と第２の電極（４０）との間に電位差が存在するとき、第１の電極（４０）と第２の電極（４０）との間で電流が流れるように電気的に結合されており、各組の第１の電極（４０）と第２の電極（４０）との間の電位差が少なくとも部分的に第１の電極（４０）又は第２の電極（４０）における溶融塩腐食に基づいている、腐食感知デバイス（３０）と、
各組の第１の電極（４０）と第２の電極（４０）との間の電位差又はその間に流れる電流の少なくとも１つを測定し解析して、前記部品の腐食特性を予測することができるように構成された腐食モニターデバイス（３２）と
を含んでおり、
第１の組の第１の電極（４０）が第１の部品（３４）の母材金属中のアノード部位と同様の腐食特性を有していて、第１の組の第２の電極（４０）が第１の部品（３４）の母材金属中のカソード部位と同様の腐食特性を有しており、
第２の組の第１の電極（４０）が第２の部品（３４）の母材金属中のアノード部位と同様の腐食特性を有していて、第２の組の第２の電極（４０）が第２の部品（３４）の母材金属中のカソード部位と同様の腐食特性を有している、システム。
【請求項１０】
各組の第１及び第２の電極が前記部品よりも腐食感受性の高い材料で形成されている、請求項９記載のシステム。
【請求項１１】
第１の組の電極と第２の組の電極とが異なる材料で形成されている、請求項９又は請求項１０記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成26年3月31日(2014.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
最終段動翼環を有する内部ケーシング（４１６）と、
前記最終段動翼環の複数の動翼（４１９）上の先端シュラウド（４１１）と、
前記内部ケーシング（４１６）を囲む排気フード（４３０）と、
前記排気フード（４３０）内の前記最終段動翼環の出口に外側蒸気ガイド（４２３）と内側蒸気ガイド（４２４）とを備える軸径方向ディフューザ（３００）と
を備える低圧蒸気タービン（４１０）であって、
前記外側蒸気ガイド（４２３）の内壁（４１６）は、前記最終段動翼（４１９）の前記出口から下流にある前記外側蒸気ガイド（４２３）の内壁（４８０）上の蒸気（７５）の渦の低減に適合された内向き径方向凹部（４２５）を備えている、低圧蒸気タービン（４１０）。
【請求項２】
前記外側蒸気ガイド（４２３）上の前記内向き径方向凹部（４２５）は、前記最終段動翼（４１９）に対する軸方向（３５０）に所定の深さの凹部（３４０）を備える、請求項１に記載の低圧蒸気タービン（４１０）。
【請求項３】
前記外側蒸気ガイド（４２３）上の前記内向き径方向凹部（４２５）は、前記最終段動翼（４１９）の中心（４５５）から軸方向下流に０．０８＊Ｌlsbの最小距離（４６０）に配置され、Ｌlsbは前記最終段動翼（４１９）の有効長Ｌを表わす、請求項２に記載の低圧蒸気タービン（４１０）。
【請求項４】
前記外側蒸気ガイド（４２３）上の前記内向き径方向凹部（４２５）は、前記最終段動翼（４１９）の中心（４５５）から軸方向下流に０．１６＊Ｌlsbの最大距離（４６５）に配置され、Ｌlsbは、前記最終段動翼（４１９）の有効長Ｌを表わす、請求項２に記載の低圧蒸気タービン（４１０）。
【請求項５】
前記外側蒸気ガイド（４２３）上の前記内向き径方向凹部（４２５）は０．２＊Ｈの最小深さを備え、Ｈは、前記先端シュラウド（４１１）の下面（４２９）から内部ケーシング下面（４１５）までの距離を表わす、請求項４に記載の低圧蒸気タービン（４１０）。
【請求項６】
前記外側蒸気ガイド（４２３）上の前記径方向凹部（４２５）は０．６＊Ｈの最大深さを備え、Ｈは、前記先端シュラウド（４１１）の下面（４２９）から内部ケーシングの下面（４１５）までの距離を表わす、請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の低圧蒸気タービン（４１０）。
【請求項７】
ディフューザ比は、１．２〜２．０の範囲にある、請求項１乃至請求項６のいずれか１項に記載の低圧蒸気タービン（４１０）。
【請求項８】
前記内向き径方向凹部（４２５）は、前記最終段動翼（４１９）の出口から軸方向下流への０．０８＊Ｌlsbの最小距離（４６０）と、前記最終段動翼（４１９）の前記出口から軸方向下流への０．０８＊Ｌlsbの最大距離（４６５）との間に配置され、Ｌlsb前記最終段動翼（４１９）の有効長Ｌを表わし、
前記径方向凹部（４２５）は、０．２＊Ｈの最小深さと０．６＊Ｈの最大深さとを備え、Ｈは、前記先端シュラウド（４１１）の下面（４２９）から内部ケーシングの下面（４１５）までの距離を表わす、請求項７に記載の軸径方向ディフューザ。
【請求項９】
前記外側蒸気ガイド（４２３）の前記下面（４２１）内壁は、径方向外向き凹平滑面として形成される、請求項８に記載の軸径方向ディフューザ（３００）。
【請求項１０】
前記外側蒸気ガイド（４２３）の前記内壁は、径方向外向きの区分的に直線の外向き凹面を形成する、請求項８に記載の軸径方向ディフューザ（３００）。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月23日(2014.10.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に成膜され、珪素が導入されるとともに、酸素がその表面及び内部に導入された非晶質炭素膜と、
前記非晶質炭素膜の水酸基との縮合反応により生成される結合によって前記非晶質炭素膜の表面に固定されるカップリング剤膜とを備え、
前記非晶質炭素膜は、前記カップリング剤膜側の酸素濃度が、前記基材側の酸素濃度よりも高いことを特徴とする積層体。
【請求項２】
シロキサン結合を有し、酸素がその表面及び内部に導入された非晶質炭素膜と、
前記非晶質炭素膜の水酸基との縮合反応により生成される結合によって前記非晶質炭素膜の第１の表面に固定されるカップリング剤膜とを備え、
前記非晶質炭素膜は、前記第１の表面側の酸素濃度が、前記第１の表面と対向する第２の面側の酸素濃度よりも高いことを特徴とする積層体。
【請求項３】
前記該非晶質炭素膜からなる層が、二層以上の層からなり、少なくともその最上層にＳｉ及びＯを含有させたことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の積層体。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月23日(2014.10.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
眼科組成物に、（Ａ）フラビンアデニンジヌクレオチド、ピリドキシン、及びこれらの塩からなる群より選択される少なくとも１種と、（Ｂ）コンドロイチン硫酸、アミノエチルスルホン酸、アスパラギン酸、及びこれらの塩からなる群より選択される少なくとも１種とを配合することを含む、非イオン性シリコーンハイドロゲルコンタクトレンズへの脂質の吸着を抑制する作用を該眼科組成物に付与する方法。
【請求項２】
眼科組成物に、（Ａ）フラビンアデニンジヌクレオチド、ピリドキシン、及びこれらの塩からなる群より選択される少なくとも１種と、（Ｂ）コンドロイチン硫酸、アミノエチルスルホン酸、アスパラギン酸、及びこれらの塩からなる群より選択される少なくとも１種とを配合することを含む、イオン性シリコーンハイドロゲルコンタクトレンズへの花粉タンパク質の蓄積を抑制する作用を該眼科組成物に付与する方法。
【請求項３】
眼科組成物に、（Ａ）フラビンアデニンジヌクレオチド、ピリドキシン、及びこれらの塩からなる群より選択される少なくとも１種と、（Ｂ）コンドロイチン硫酸、アミノエチルスルホン酸、アスパラギン酸、及びこれらの塩からなる群より選択される少なくとも１種とを配合することを含む、非イオン性シリコーンハイドロゲルコンタクトレンズへの角膜上皮細胞の接着を抑制する作用を該眼科組成物に付与する方法。
【請求項４】
シリコーンハイドロゲルコンタクトレンズに適用される眼科組成物（但し、カルボキシメチルセルロースナトリウム  ０．０１ｇ／１００ｍＬ、アスパラギン酸カリウム  １ｇ／１００ｍＬ、アミノエチルスルホン酸  ０．０１ｇ／１００ｍＬ、ブドウ糖  ０．３ｇ／１００ｍＬ、プロピレングリコール  ０．１ｇ／１００ｍＬ、ポリソルベート８０  ０．５ｇ／１００ｍＬ、塩酸ピリドキシン  ０．１ｇ／１００ｍＬ、塩化ナトリウム  ０．４４ｇ／１００ｍＬ、塩化カリウム  ０．０８ｇ／１００ｍＬ、ホウ酸  １ｇ／１００ｍＬ、ホウ砂  ０．２ｇ／１００ｍＬ、エデト酸ナトリウム  ０．０５ｇ／１００ｍＬ、及び精製水を含み、さらにｐＨが７．３であり、浸透圧比が１．３であり、且つ粘度が１．８ｍＰａ・ｓであるコンタクトレンズ用装着点眼液を除く）からなる眼精疲労改善剤又は疲れ目改善剤であって、該眼科組成物が（Ａ）フラビンアデニンジヌクレオチド、ピリドキシン、及びこれらの塩からなる群より選択される少なくとも１種と、（Ｂ）コンドロイチン硫酸、アミノエチルスルホン酸、アスパラギン酸、及びこれらの塩からなる群より選択される少なくとも１種とを含有する、眼精疲労改善剤又は疲れ目改善剤。
【請求項５】
シリコーンハイドロゲルコンタクトレンズに適用される眼科組成物（但し、カルボキシメチルセルロースナトリウム  ０．０１ｇ／１００ｍＬ、アスパラギン酸カリウム  １ｇ／１００ｍＬ、アミノエチルスルホン酸  ０．０１ｇ／１００ｍＬ、ブドウ糖  ０．３ｇ／１００ｍＬ、プロピレングリコール  ０．１ｇ／１００ｍＬ、ポリソルベート８０  ０．５ｇ／１００ｍＬ、塩酸ピリドキシン  ０．１ｇ／１００ｍＬ、塩化ナトリウム  ０．４４ｇ／１００ｍＬ、塩化カリウム  ０．０８ｇ／１００ｍＬ、ホウ酸  １ｇ／１００ｍＬ、ホウ砂  ０．２ｇ／１００ｍＬ、エデト酸ナトリウム  ０．０５ｇ／１００ｍＬ、及び精製水を含み、さらにｐＨが７．３であり、浸透圧比が１．３であり、且つ粘度が１．８ｍＰａ・ｓであるコンタクトレンズ用装着点眼液を除く）からなるシリコーンハイドロゲルコンタクトレンズ装用時の不快感防止剤であって、該眼科組成物が（Ａ）フラビンアデニンジヌクレオチド、ピリドキシン、及びこれらの塩からなる群より選択される少なくとも１種と、（Ｂ）コンドロイチン硫酸、アミノエチルスルホン酸、アスパラギン酸、及びこれらの塩からなる群より選択される少なくとも１種とを含有する、シリコーンハイドロゲルコンタクトレンズ装用時の不快感防止剤。
【請求項６】
シリコーンハイドロゲルコンタクトレンズに適用される眼科組成物（但し、カルボキシメチルセルロースナトリウム  ０．０１ｇ／１００ｍＬ、アスパラギン酸カリウム  １ｇ／１００ｍＬ、アミノエチルスルホン酸  ０．０１ｇ／１００ｍＬ、ブドウ糖  ０．３ｇ／１００ｍＬ、プロピレングリコール  ０．１ｇ／１００ｍＬ、ポリソルベート８０  ０．５ｇ／１００ｍＬ、塩酸ピリドキシン  ０．１ｇ／１００ｍＬ、塩化ナトリウム  ０．４４ｇ／１００ｍＬ、塩化カリウム  ０．０８ｇ／１００ｍＬ、ホウ酸  １ｇ／１００ｍＬ、ホウ砂  ０．２ｇ／１００ｍＬ、エデト酸ナトリウム  ０．０５ｇ／１００ｍＬ、及び精製水を含み、さらにｐＨが７．３であり、浸透圧比が１．３であり、且つ粘度が１．８ｍＰａ・ｓであるコンタクトレンズ用装着点眼液を除く）からなる角膜上皮におけるバリアー機能維持剤であって、該眼科組成物が（Ａ）フラビンアデニンジヌクレオチド、ピリドキシン、及びこれらの塩からなる群より選択される少なくとも１種と、（Ｂ）コンドロイチン硫酸、アミノエチルスルホン酸、アスパラギン酸、及びこれらの塩からなる群より選択される少なくとも１種とを含有する、角膜上皮におけるバリアー機能維持剤。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月21日(2014.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
眼科組成物に、（Ａ）ビタミンＢ１２類と、（Ｂ）クロルフェニラミン、グリチルリチン酸、及びこれらの塩からなる群より選択される少なくとも１種とを配合することを含む、シリコーンハイドロゲルコンタクトレンズへの花粉タンパク質の蓄積を抑制する作用を該眼科組成物に付与する方法。
【請求項２】
眼科組成物に、（Ａ）ビタミンＢ１２類と、（Ｂ）クロルフェニラミン、グリチルリチン酸、及びこれらの塩からなる群より選択される少なくとも１種とを配合することを含む、シリコーンハイドロゲルコンタクトレンズへの角膜上皮細胞の接着を抑制する作用を該眼科組成物に付与する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月21日(2014.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
点眼剤に、（Ａ）ビタミンＢ１２類と、（Ｂ）界面活性剤とを配合することを含む、シリコーンハイドロゲルコンタクトレンズへの花粉タンパク質の蓄積を抑制する作用を該点眼剤に付与する方法。
【請求項２】
点眼剤に、（Ａ）ビタミンＢ１２類と、（Ｂ）界面活性剤とを配合することを含む、シリコーンハイドロゲルコンタクトレンズへの該（Ａ）成分の透過性を向上させる作用を該点眼剤に付与する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月29日(2014.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
イソシアネートのオリゴマー化の方法であって、触媒存在下でイソシアネートモノマーを、カルバメート基及び／又はアロファネート基を有するポリイソシアネートへ連続的に転化する工程を含み、特定の熱交換係数が約２００ｋＷ／ｍ3／℃以上、及び好ましくは約５００ｋＷ／ｍ3／℃〜約４０００ｋＷ／ｍ3／℃である反応器中で前記転化工程が行われる、該方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法であって、前記触媒が、４級アンモニウムヒドロオキサイドである以下の式（Ｉ）から選択されることを特徴とする方法：
【化１】
2014205854.tif 000001
（ただし：
−Ｒ1は、飽和若しくは不飽和いずれかの１〜２０の炭素原子を有するアルキル基、６〜１２の炭素原子を有するアリール基、５〜１２の炭素原子を有するシクロアルキル基、又は窒素原子、酸素原子若しくは硫黄原子を含む５若しくは６員環の複素環系を表し、
−Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は、互いに独立して、飽和又は不飽和いずれかの１〜２０の炭素原子を有するアルキル基、６〜１２の炭素原子を有するアリール基を表し、前記Ｒ2、Ｒ3及びＲ4基は、任意で少なくとも１つのヒドロキシル基又は少なくとも１つのチオール基で置換されてもよい。）
【請求項３】
請求項１又は２に記載の方法であって、前記転化工程をプレート交換−反応器型の反応器、又は多管バッフル反応器中で行うことを特徴とする、該方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法であって、前記転化工程を反応器中１時間未満、好ましくは３０分未満、及びさらに好ましくは１０分未満、及び優先的には約３分間の滞留時間中に行うことを特徴とする、該方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法であって、前記イソシアネートモノマー及び前記触媒を反応器に同時に添加することを特徴とする、該方法。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法であって、前記イソシアネートモノマーが、脂肪族の、脂環式の、及び芳香族のイソシアネートから成る群から選択されることを特徴とする、該方法。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法であって、前記イソシアネートモノマーが、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート、１，１２−ドデカンジイソシアネート、シクロブタン−１，３−ジイソシアネート、シクロヘキサン−１，３及び／若しくは１，４−ジイソシアネート、１−イソシアナト−３，３，５−トリメチル−５−イソシアナトメチルシクロヘキサン、イソシアナトメチルオクチレン−ジイソシアネート、ジシクロヘキシル−メタン−４，４’−ジイソシアネート、トルエンジイソシアネート、メチレンビス−フェニルイソシアネート、２，２，４−トリメチル−１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート、２，４−及び／若しくは２，６−ヘキサヒドロトルイレンジイソシアネート、２，４−及び／若しくは２，６−トルイレンジイソシアネート、ヘキサヒドロ−１，３及び／若しくは１，４−フェニレンジイソシアネート、２−メチル−ペンタメチレンジイソシアネート、１，３−及び／若しくは１，４−フェニレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、トリフェニルメタン−４，４’，４”−トリイソシアネート、リシンジイソシアネート、並びにリシンジ−若しくはリシントリ−イソシアネートのエステル、ジフェニルメタン−２，４’及び／若しくは４，４’−ジイソシアネート、ペルヒドロ２，４’−及び／若しくは４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、及び一般的には、芳香族アミノ前駆体若しくはペルヒドロゲネートカルバメート、ビス−イソシアナトメチルシクロ−ヘキサン、とりわけ１，３−ＢＩＣ及び１，４−ＢＩＣ、ビス−イソシアナト−メチル−ノルボルナン及びＭＤＩ若しくはＴＤＩのオリゴマーから成る群から選択されることを特徴とする、該方法。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法であって、前記触媒が、テトラブチルアンモニウムヒドロオキサイド及びＮ，Ｎ，Ｎ−トリメチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル)アンモニウムヒドロオキサイドから成る群から選択されることを特徴とする、該方法。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法であって、用いられる前記触媒の量が、モノマー重量に対して、約０．０１重量％〜約０．５重量％であることを特徴とする、該方法。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法であって、ヘキサメチレンジイソシアネート三量体を調製するための方法であり、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アンモニウム存在下で、１，６ヘキサメチレンジイソシアネートを転化する工程を含む、該方法。
【請求項１１】
請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法であって、ヘキサメチレンジイソシアネート三量体を調製するための方法であり、テトラブチルアンモニウムヒドロオキサイドの存在下で、１，６ヘキサメチレンジイソシアネートを転化する工程を含む、該方法。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の方法であって、前記イソシアネートモノマーが、３０ｐｐｍ超の加水分解性塩素を含む、該方法。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の方法であって、前述の転化工程が、６５℃〜１８０℃の温度で、維持される反応器中で連続的に行われる該方法。
【請求項１４】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の方法であって、前述の転化工程が、６５℃〜１３０℃の温度で、維持される反応器中で連続的に行われる該方法。
【請求項１５】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の方法であって、前述の転化工程が、８０℃〜１００℃の温度で、維持される反応器中で連続的に行われる該方法。
【請求項１６】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の方法であって、前述の転化工程が、９０℃〜９５℃の温度で、維持される反応器中で連続的に行われる該方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月25日(2014.6.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
識別情報の可変表示を行って表示結果を導出表示する遊技機であって、
可変入賞装置に遊技媒体が進入可能な進入可能状態に制御可能な可変入賞装置制御手段と、
特定演出を実行する特定演出実行手段と、
遊技者にとって有利な有利状態に制御する有利状態制御手段と、
前記有利状態に制御される有利状態制御期間を報知する期間報知手段と、
少なくとも、前記可変入賞装置が前記進入可能状態に制御されることを報知するか、前記期間報知手段によって報知された前記有利状態制御期間の延長を報知する、所定演出を実行可能な所定演出実行手段と、
少なくとも、前記特定演出が実行される識別情報の可変表示中に前記所定演出の実行を制限する所定演出制限手段と、を備える、
ことを特徴とする遊技機。
【請求項２】
識別情報の可変表示を行って表示結果を導出表示する遊技機であって、
可変入賞装置に遊技媒体が進入可能な進入可能状態に制御可能な可変入賞装置制御手段と、
特定演出を実行する特定演出実行手段と、
遊技者にとって有利な有利状態に制御する有利状態制御手段と、
有利状態制御手段によって有利状態に制御されているときと制御されていないときとで共通の演出を実行可能な共通演出実行手段と、
少なくとも、前記可変入賞装置が前記進入可能状態に制御されることを報知するか、前記共通演出実行手段によって前記共通の演出が実行される期間の延長を報知する、所定演出を実行可能な所定演出実行手段と、
少なくとも、前記特定演出が実行される識別情報の可変表示中に前記所定演出の実行を制限する所定演出制限手段と、を備える、
ことを特徴とする遊技機。
【請求項３】
検出有効期間において遊技者の動作を検出可能な検出手段と、
前記検出有効期間を報知する検出有効期間報知手段と、をさらに備える、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
特許文献１に記載された遊技機では、特定演出の実行中に所定演出が実行されると、特定演出に対する遊技者の注目度が低くなり、特定演出の演出効果が低減してしまうという課題がある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
そこで、本発明は、所定演出によって特定演出の演出効果が低減することを防止することを目的とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
（１）本発明による遊技機は、
識別情報（例えば、特別図柄や飾り図柄など）の可変表示を行って表示結果を導出表示する遊技機（例えば、パチンコ遊技機１など）であって、
可変入賞装置（例えば、可変入賞球装置１５など）に遊技媒体が進入可能な進入可能状態に制御可能な可変入賞装置制御手段（例えば、普通図柄プロセス処理を実行するＣＰＵ５６など）と、
特定演出（例えば、スーパーリーチのリーチ演出など）を実行する特定演出実行手段（例えば、ステップＳ８０２の処理を実行する演出制御用ＣＰＵ１０１など）と、
遊技者にとって有利な有利状態（例えば、潜伏モードなど。例えば、実際に遊技者にとって有利になっている状態（確変状態など）でもよい。）に制御する有利状態制御手段（例えば、変形例における潜伏モード（図５１など参照）を実行する演出制御用ＣＰＵ１０１など）と、
前記有利状態に制御される有利状態制御期間を報知する期間報知手段（例えば、変形例において潜伏モードの期間を報知する演出制御用ＣＰＵ１０１など）と、
少なくとも、前記可変入賞装置が前記進入可能状態に制御されることを報知するか、前記期間報知手段によって報知された前記有利状態制御期間の延長を報知する、所定演出（例えば、変形例における、普通図柄の可変表示の表示結果を報知可能であり、潜伏モードの期間延長を報知可能な所定演出、図５６など参照）を実行可能な所定演出実行手段（例えば、変形例において、所定演出を実行する演出制御用ＣＰＵ１０１など）と、
少なくとも、前記特定演出が実行される識別情報の可変表示中に前記所定演出の実行を制限する所定演出制限手段（例えば、ステップＳ７５８などの処理を実行可能な演出制御用ＣＰＵ１０１など）と、を備える、
ことを特徴とする。
また、本発明に係る遊技機は、
識別情報（例えば、特別図柄や飾り図柄など）の可変表示を行って表示結果を導出表示する遊技機（例えば、パチンコ遊技機１など）であって、
可変入賞装置（例えば、可変入賞球装置１５など）に遊技媒体が進入可能な進入可能状態に制御可能な可変入賞装置制御手段（例えば、普通図柄プロセス処理を実行するＣＰＵ５６など）と、
特定演出（例えば、スーパーリーチのリーチ演出など）を実行する特定演出実行手段（例えば、ステップＳ８０２の処理を実行する演出制御用ＣＰＵ１０１など）と、
遊技者にとって有利な有利状態（例えば、確変状態など）に制御する有利状態制御手段（例えば、確変状態に制御するＣＰＵ５６など）と、
有利状態制御手段によって有利状態に制御されているときと制御されていないときとで共通の演出（例えば、潜伏モードの演出など）を実行可能な共通演出実行手段（例えば、変形例における潜伏モード（図５１など参照）を実行する演出制御用ＣＰＵ１０１など）と、
少なくとも、前記可変入賞装置が前記進入可能状態に制御されることを報知するか、前記共通演出実行手段によって前記共通の演出が実行される期間の延長を報知する、所定演出（例えば、変形例における、普通図柄の可変表示の表示結果を報知可能であり、潜伏モードの期間延長を報知可能な所定演出、図５６など参照）を実行可能な所定演出実行手段（例えば、変形例において、所定演出を実行する演出制御用ＣＰＵ１０１など）と、
少なくとも、前記特定演出が実行される識別情報の可変表示中に前記所定演出の実行を制限する所定演出制限手段（例えば、ステップＳ７５８などの処理を実行可能な演出制御用ＣＰＵ１０１など）と、を備える、
ことを特徴とする。
なお、前記遊技機は、
検出有効期間において遊技者の動作を検出可能な検出手段（例えば、プッシュボタン１２０や、スティックコントローラ１２２など）と、
前記検出有効期間を報知する検出有効期間報知手段（例えば、操作が可能なことを報知する演出を実行する演出制御用ＣＰＵ１０１）と、をさらに備える、
ようにしてもよい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
このような構成によれば、所定演出制限手段によって、所定演出によって特定演出の演出効果が低減することを防止できる。
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月4日(2014.7.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ユーザと対戦相手との間でオブジェクトを使用した対戦を行う対戦ゲームを制御するゲーム制御装置であって、
前記対戦に使用する複数のオブジェクトを前記ユーザに対応付ける対応付け手段と、
前記対戦に使用する前記複数のオブジェクトの各々を、前記ユーザにより指定された順序で前記対戦に関与させることで、前記対戦を実行する対戦実行手段と、
を備えたゲーム制御装置。
【請求項２】
前記対戦実行手段は、前記複数のオブジェクトのうち、いずれのオブジェクトが前記対戦に関与しているかを、前記ユーザが認識できるように表示させて、前記対戦を実行する、
請求項１に記載のゲーム制御装置。
【請求項３】
前記対戦実行手段は、前記対戦に関与する前のオブジェクトと、前記対戦に関与した後のオブジェクトのうち、少なくともいずれかを、前記ユーザが認識できるように表示させて、前記対戦を実行する、
請求項１または２に記載のゲーム制御装置。
【請求項４】
前記対戦実行手段は、前記対戦に関与しているオブジェクトにスキルＩＤが対応付けられている場合、当該スキルＩＤにより特定されるスキルの内容を前記ユーザが認識できるように表示させて、前記対戦を実行する、
請求項１〜３のいずれか１項に記載のゲーム制御装置。
【請求項５】
前記ユーザによる入力情報に基づいて、前記複数のオブジェクトの各々の前記対戦に関与する順序を決定する順序付け手段、を備えた、
請求項１〜４のいずれか１項に記載のゲーム制御装置。
【請求項６】
第１パラメータを前記オブジェクトに対応付けて記憶する記憶装置から各オブジェクトに対応付けられた第１パラメータを取得する取得手段、を備え、
前記対戦実行手段は、前記関与させた各オブジェクトの前記対戦における第１パラメータに基づいて前記対戦を実行する、
請求項１〜５のいずれか１項に記載のゲーム制御装置。
【請求項７】
前記対戦においてオブジェクトが関与する順序に基づいて、当該オブジェクトの第１パラメータ、及び／又は、当該オブジェクト以外の他のオブジェクトの第１パラメータを前記対戦において変更する変更手段、を備えた、
請求項６に記載のゲーム制御装置。
【請求項８】
ユーザと対戦相手との間でオブジェクトを使用した対戦を行う対戦ゲームを制御するプログラムであって、コンピュータに、
前記対戦に使用する複数のオブジェクトを前記ユーザに対応付ける対応付け手段と、
前記対戦に使用する前記複数のオブジェクトの各々を、前記ユーザにより指定された順序で前記対戦に関与させることで、前記対戦を実行する対戦実行手段と、
を実現させるためのプログラム。
【請求項９】
通信端末と、当該通信端末からアクセスされるサーバとを含み、ユーザと対戦相手との間でオブジェクトを使用した対戦を行う対戦ゲームを制御するゲームシステムであって、
前記対戦に使用する複数のオブジェクトを前記ユーザに対応付ける対応付け手段と、
前記対戦に使用する前記複数のオブジェクトの各々を、前記ユーザにより指定された順序で前記対戦に関与させることで、前記対戦を実行する対戦実行手段と、
を備えたゲームシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成26年3月18日(2014.3.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｚｎ粉末５質量部以上１０質量部以下と、
Ｓｉ粉末１質量部以上５質量部以下と、
Ｋ−Ａｌ−Ｆ系フラックス３質量部以上１０質量部以下と、
（メタ）アクリル樹脂１質量部以上３質量部以下と
を含有し、
Ｓｉ粉末に対するＺｎ粉末の質量比（Ｚｎ／Ｓｉ）が、１以上５以下である
ことを特徴とする、ろう付け用組成物。
【請求項２】
さらに、炭素−炭素結合により結合される炭素原子数が３以下の多価アルコールを含有する、請求項１に記載のろう付け用組成物。
【請求項３】
管本体と、請求項１または２に記載のろう付け用組成物によって前記管本体の外表面に形成されるろう付け用塗膜とを備え、
前記ろう付け用塗膜において、Ｚｎ粉末、Ｓｉ粉末、Ｋ−Ａｌ−Ｆ系フラックスおよび（メタ）アクリル樹脂の総量が、６ｇ／ｍ２以上２０ｇ／ｍ２以下である
ことを特徴とする、熱交換器用チューブ。
【請求項４】
管本体と、前記管本体の外表面に形成されるろう付け用塗膜とを備え、
前記ろう付け用塗膜において、
Ｚｎ粉末が、１ｇ／ｍ２以上１０ｇ／ｍ２以下であり、
Ｓｉ粉末が、１ｇ／ｍ２以上５ｇ／ｍ２以下であり、
Ｋ−Ａｌ−Ｆ系フラックスが、３ｇ／ｍ２以上１０ｇ／ｍ２以下であり、
（メタ）アクリル樹脂が、１ｇ／ｍ２以上３ｇ／ｍ２以下であり、
Ｓｉ粉末に対するＺｎ粉末の質量比（Ｚｎ／Ｓｉ）が、１以上５以下であり、
Ｚｎ粉末、Ｓｉ粉末、Ｋ−Ａｌ−Ｆ系フラックスおよび（メタ）アクリル樹脂の総量が、６ｇ／ｍ２以上２０ｇ／ｍ２以下である
ことを特徴とする、熱交換器用チューブ。
【請求項５】
請求項３または４に記載の熱交換器用チューブを用いて得られることを特徴とする、熱交換器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１５】
実施例１〜７、９〜１１、参考例８、１２、および、比較例１〜１３
表１および表２に示す配合割合で、メタクリル樹脂溶液に沈降防止剤を加え、十分に撹拌した後、Ｚｎ粉末、Ｓｉ粉末およびＮｏｃｏｌｏｋ（登録商標）  Ｆｌｕｘ（Ｋ−Ａｌ−Ｆ系フラックス、Ｓｏｌｖａｙ社製）を混合し、さらに撹拌混合した。その後、３−メトキシ−３−メチル−１−ブタノールを加えて、固形分濃度５０％のろう付け用組成物を調製した。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１７】
【表１】
2014083570.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月25日(2014.4.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技を行うことが可能な遊技機であって、
遊技の進行を制御する遊技制御用マイクロコンピュータと、
所定事象が発生したことにもとづいて第１リセットを発生させるか第２リセットを発生させるかを設定可能な設定手段とを備え、
前記第１リセットの発生後にはセキュリティチェックを実行する一方、前記第２リセットの発生後にはセキュリティチェックを実行せず、
前記遊技制御用マイクロコンピュータは、
遊技機への電力供給が停止していても、遊技に関する制御を行う際に発生する情報を所定期間保持可能な記憶手段と、
ウオッチドッグタイマとを含み、
前記所定事象の発生には、前記ウオッチドッグタイマのタイムアウトが含まれ、
前記遊技制御用マイクロコンピュータは、
所定の処理を実行可能な所定処理実行手段と、
前記所定の処理の実行中に前記所定事象が発生したときに前記記憶手段の記憶内容を初期化する初期化手段と、
前記ウオッチドッグタイマをユーザプログラムにより起動させるか否かを設定可能な起動設定手段とをさらに含む
ことを特徴とする遊技機。
【請求項２】
遊技制御用マイクロコンピュータは、遊技の進行に関する情報を送信する送信手段を含み、
前記送信手段から送信される情報にもとづいて演出の実行を制御する演出制御手段を備えた
請求項１記載の遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、遊技を行うことが可能なパチンコ遊技機等の遊技機に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
（手段１）本発明による遊技機は、遊技を行うことが可能な遊技機であって、遊技の進行を制御する遊技制御用マイクロコンピュータ（例えば、遊技制御用マイクロコンピュータ５６０）と、所定事象が発生（例えば、ＩＡＴ回路５０６ａからのＩＡＴ信号の入力、ウオッチドッグタイマ（ＷＤＴ）５０６ｂからのタイムアウト信号の入力）したことにもとづいて第１リセット（例えば、システムリセット）を発生させるか第２リセット（例えば、ユーザリセット）を発生させるかを設定可能な設定手段（例えば、遊技制御用マイクロコンピュータ５６０におけるプログラム管理エリアの図１２に示すリセット設定（ＫＲＥＳ）のビット７の設定値に従ってステップＳ１００１，Ｓ１０１１を実行する部分）とを備え、第１リセットの発生後にはセキュリティチェックを実行する一方、第２リセットの発生後にはセキュリティチェックを実行せず（例えば、遊技制御用マイクロコンピュータ５６０は、図４６（Ａ）に示すように、ステップＳ１００４の後にはステップＳ１００６でセキュリティチェックを実行し、図４６（Ｂ）に示すように、ステップＳ１０１４の後にはセキュリティチェックを実行しない）、遊技制御用マイクロコンピュータは、遊技機への電力供給が停止していても、遊技に関する制御を行う際に発生する情報を所定期間保持可能な記憶手段（例えば、ＲＡＭ５５（バックアップＲＡＭ））と、ウオッチドッグタイマ（例えば、ウオッチドッグタイマ（ＷＤＴ）５０６ｂ）とを含み、所定事象の発生には、ウオッチドッグタイマのタイムアウトが含まれ（例えば、ウオッチドッグタイマ（ＷＤＴ）５０６ｂからのタイムアウト信号の入力）、遊技制御用マイクロコンピュータは、所定の処理（例えば、メイン処理におけるループ処理、タイマ割込処理）を実行可能な所定処理実行手段（例えば、遊技制御用マイクロコンピュータ５６０におけるステップＳ１６〜Ｓ１９，Ｓ２０〜Ｓ３４を実行する部分）と、所定の処理の実行中に所定事象が発生したときに記憶手段の記憶内容を初期化する初期化手段（例えば、遊技制御用マイクロコンピュータ５６０において、ステップＳ１６〜Ｓ１９，Ｓ２０〜Ｓ３４の実行中にＩＡＴ回路５０６ａからのＩＡＴ信号やウオッチドッグタイマ（ＷＤＴ）５０６ｂからのタイムアウト信号を入力したときには、図５０および図５１に示す電源断処理を実行することなく、リセット後にメイン処理が開始されたときにステップＳ１０〜Ｓ１３を実行する部分）と、ウオッチドッグタイマをユーザプログラムにより起動させるか否かを設定可能な起動設定手段（例えば、遊技制御用マイクロコンピュータ５６０において、プログラム管理エリアの図１２に示すリセット設定（ＫＲＥＳ）のビット６に”１”が設定されていることにもとづいてステップＳ１００１，Ｓ１０１１を実行することにより、ソフトウェア（ユーザプログラム）によりウオッチドッグタイマ（ＷＤＴ）５０６ｂを起動可能とする部分）とをさらに含むことを特徴とする。また、上述した遊技機において、遊技制御用マイクロコンピュータは、遊技の進行に関する情報を送信する送信手段を含み、送信手段から送信される情報にもとづいて演出の実行を制御する演出制御手段を備えたことを特徴とする。そのような構成により、遊技制御用マイクロコンピュータに関するセキュリティ性を向上させることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月25日(2014.4.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技を行うことが可能な遊技機であって、
乱数値となる数値データを生成する乱数回路を内蔵した遊技制御用マイクロコンピュータを備え、
前記乱数回路は、更新した数値データを保持する数値保持手段を含み、
前記遊技制御用マイクロコンピュータは、
前記数値保持手段が保持する数値データを更新するための乱数用クロック信号の周波数の異常の発生と、前記数値保持手段が保持する数値データの更新状態とを監視可能な乱数回路監視手段と、
前記乱数回路監視手段による監視に関する設定を行う乱数回路設定手段とを含み、
前記乱数回路設定手段は、リセットが発生するごとに前記乱数回路監視手段による監視に関する設定を行う
ことを特徴とする遊技機。
【請求項２】
遊技制御用マイクロコンピュータは、遊技の進行に関する情報を送信する送信手段を含み、
前記送信手段から送信される情報にもとづいて演出の実行を制御する演出制御手段を備えた
請求項１記載の遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、遊技を行うことが可能なパチンコ遊技機等の遊技機に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
（手段１）本発明による遊技機は、遊技を行うことが可能な遊技機であって、乱数値となる数値データを生成する乱数回路（例えば、乱数回路５０８ａ，５０８ｂ）を内蔵した遊技制御用マイクロコンピュータ（例えば、遊技制御用マイクロコンピュータ５６０）を備え、乱数回路は、更新した数値データを保持する数値保持手段（例えば、図８および図９に示す各ハードラッチ乱数値レジスタ、ソフトラッチ乱数値レジスタ）を含み、遊技制御用マイクロコンピュータは、数値保持手段が保持する数値データを更新するための乱数用クロック信号の周波数の異常の発生（例えば、外部クロック周波数異常）と、数値保持手段が保持する数値データの更新状態（例えば、更新異常）とを監視可能な乱数回路監視手段（例えば、更新監視回路５３７）と、乱数回路監視手段による監視に関する設定を行う乱数回路設定手段（例えば、遊技制御用マイクロコンピュータ５６０におけるプログラム管理エリアの図１９に示す乱数クロック監視設定（ＫＲＣＳ）のビット１−０の設定値に従ってステップＳ１００１，Ｓ１０１１を実行することによって、監視周波数を設定する部分）とを含み、乱数回路設定手段は、リセットが発生するごとに乱数回路監視手段による監視に関する設定を行う（例えば、遊技制御用マイクロコンピュータ５６０は、システムリセットを行うことに設定した場合には、システムリセットごとにプログラム管理エリアの図１９に示す乱数クロック監視設定（ＫＲＣＳ）のビット１−０の設定値に従ってステップＳ１００５を実行することによって、監視周波数を設定する）ことを特徴とする。また、上述した遊技機において、遊技制御用マイクロコンピュータは、遊技の進行に関する情報を送信する送信手段を含み、送信手段から送信される情報にもとづいて演出の実行を制御する演出制御手段を備えたことを特徴とする。そのような構成により、乱数用クロック信号の周波数の異常の発生を監視するとともに数値データの更新状態も監視できるので、遊技機が搭載する乱数回路に関するセキュリティ性を向上させることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月20日(2014.5.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
刃と、前記刃を保持するヘッド部と、柄と、前記ヘッド部と前記柄を接続する屈曲部とを備え、
前記屈曲部の屈曲は、素材への作用方向の反対側への屈曲であることを特徴とする皮むき器。
【請求項２】
請求項１に記載の皮むき器であって、
前記屈曲部は、少なくとも１０度屈曲することを特徴とする皮むき器。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の皮むき器であって、
前記屈曲部の屈曲角が１０〜２０度になるように前記柄に力を加えたとき、前記ヘッド部の荷重が５００〜１３００ｇとなるように構成されていることを特徴とする皮むき器。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか一項に記載の皮むき器であって、
前記ヘッド部と前記屈曲部と前記柄とが、一体成形されている
ことを特徴とする皮むき器。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか一項に記載の皮むき器であって、
前記柄周辺に、少なくとも前記柄を引く操作時に指の掛かる指掛け部、または、指を通す貫通した指掛穴を設けた
ことを特徴とする皮むき器。
【請求項６】
請求項１から５のいずれか一項に記載の皮むき器であって、
前記刃の刃先を略三角形の複数の三角刃で構成した
ことを特徴とする皮むき器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明に係る皮むき器は、刃と、前記刃を保持するヘッド部と、柄と、前記ヘッド部と前記柄を接続する屈曲部とを備え、前記屈曲部の屈曲は、素材への作用方向の反対側への屈曲であることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
前記屈曲部は、少なくとも１０度屈曲するように構成してもよい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、前記屈曲部の屈曲角が１０〜２０度になるように前記柄に力を加えたとき、前記ヘッド部の荷重が５００〜１３００ｇとなるように構成されていてもよい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、前記ヘッド部と前記屈曲部と前記柄とが、一体成形されていてもよい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、前記柄周辺に、少なくとも前記柄を引く操作時に指の掛かる指掛け部、または、指を通す貫通した指掛穴を設けることができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、前記刃の刃先を略三角形の複数の三角刃で構成することができる。