Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成26年2月5日(2014.2.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
この発明は、一方向に長い複数のパノラマ画像を取得する取得手段と、前記取得手段により取得した前記複数のパノラマ画像同士を前記一方向に対し直交方向に合成して１つの広角画像を生成する広角画像生成手段とを備えることを特徴とする画像処理装置である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一方向に長い複数のパノラマ画像を取得する取得手段と、
前記取得手段により取得した前記複数のパノラマ画像同士を前記一方向に対し直交方向に合成して１つの広角画像を生成する広角画像生成手段と
を備えることを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
撮像手段と、
前記撮像手段により順次撮像された複数の画像を合成してパノラマ画像を生成するパノラマ画像生成手段と
を更に備え、
前記取得手段は、
前記パノラマ画像生成手段によって生成された複数のパノラマ画像を取得することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
所定のトリガを検出する検出手段と、
パノラマ画像生成手段は、前記検出手段によって所定のトリガが検出されると、当該トリガが検出されるまで前記撮像手段によって順次撮像された複数の画像を合成してパノラマ画像を生成し、
広角画像生成手段は、前記パノラマ生成手段によって生成された複数のパノラマ画像同士を合成して広角画像を生成することを特徴とする請求項２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記パノラマ生成手段は、
前記検出手段によって所定のトリガが検出されると、当該トリガが検出されるまで前記撮像手段によって順次撮像された複数の画像から、前記パノラマ画像を生成することを特徴とする請求項３に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記順次撮像される画像を順次記憶する記憶手段と、
前記検出手段によって所定のトリガが検出されると、前記撮像される画像を前記記憶手段へ記憶させる記憶制御手段を更に備え、
前記記録制御手段により前記画像が記憶された後に、前記検出手段によって所定のトリガが検出されると、当該所定のトリガ間で前記記憶制御手段によって前記記憶手段に記憶された複数の画像から、前記パノラマ画像を生成することを特徴とする請求項４に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記検出手段は、
移動量、または方位センサの情報、または移動方向の変化、またはユーザによる所定の指示操作、またはユーザの音声による指示、またはユーザの動作による指示を、前記所定のトリガとして検出することを特徴とする請求項３に記載の画像処理装置。
【請求項７】
前記記憶制御手段は、
前記検出手段によってトリガが検出された場合には、それ以降の前記撮像手段によって撮像される画像の前記記憶手段への記憶を禁止し、
前記記憶の禁止中に、前記検出手段によってトリガが検出された場合には、それ以降の前記撮像手段によって撮像される画像の前記記憶手段への記憶を再開する
ことを特徴とする請求項３に記載の画像処理装置。
【請求項８】
前記パノラマ画像生成手段は、
前記撮像手段の撮像領域が所定の方向に移動されながら順次撮像された複数の画像から、前記複数のパノラマ画像を生成することを特徴とする請求項２に記載の画像処理装置。
【請求項９】
前記パノラマ画像生成手段は、
前記撮像手段の撮像領域が所定の方向に複数回移動されながら順次撮像された複数の画像から、前記複数のパノラマ画像を生成することを特徴とする請求項１から８の何れか１項に記載の画像処理装置。
【請求項１０】
前記パノラマ画像生成手段は、
前記撮像手段の撮像領域が一方向に移動された過程で順次撮像された複数の画像と、前記一方向とは逆方向に移動された過程で順次撮像された複数の画像とのそれぞれから、前記複数のパノラマ画像を生成することを特徴とする請求項９に記載の画像処理装置。
【請求項１１】
前記パノラマ画像生成手段は、
前記撮像手段による撮像領域が一方向に移動される過程で、所定時間、または所定枚数、または所定の範囲分の画像を前記撮像手段で撮像すると、それらの画像から１つのパノラマ画像を生成し、
前記撮像手段の撮像領域が前記一方向とは逆方向に移動される過程で、所定時間、または所定枚数、または所定の範囲分の画像を前記撮像手段で撮像すると、それらの画像から１つのパノラマ画像を生成する
ことを特徴とする請求項１０に記載の画像処理装置。
【請求項１２】
予め広角画像の撮像範囲を指定する指定手段を更に備え、
前記パノラマ画像生成手段は、
前記指定手段によって指定された撮像範囲に基づいて、前記パノラマ画像を生成することを特徴とする請求項２から１１のいずれかに記載の画像処理装置。
【請求項１３】
合成すべきパノラマ画像同士の撮像範囲を比較する比較手段を更に備え、
前記広角画像生成手段は、
前記比較手段による比較の結果、撮像範囲が小さい方のパノラマ画像に他のパノラマ画像の撮像範囲を合わせて合成することで、前記広角画像を生成することを特徴とする請求項１から１２のいずれかに記載の画像処理装置。
【請求項１４】
前記広角画像生成手段は前記取得手段により取得した前記複数のパノラマ画像の上側の所定領域と下側の所定領域どうしを合成して１つの広角画像を生成することを特徴とする請求項１から１３のいずれかに記載の画像処理装置。
【請求項１５】
一方向に長い複数のパノラマ画像を取得する取得ステップと、
前記取得ステップで取得した前記複数のパノラマ画像同士を前記一方向に対し直行方向に合成して１つの広角画像を生成する広角画像生成ステップと
を含むことを特徴とする画像処理方法。
【請求項１６】
画像処理を行う画像処理装置のコンピュータに、
一方向に長い複数のパノラマ画像を取得する取得機能、
前記取得機能で取得した前記複数のパノラマ画像同士を前記一方向に対し直行方向に合成して１つの広角画像を生成する広角画像生成機能
を実行させることを特徴とするプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月7日(2014.4.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
上記目的を達成するために本発明は、ケース上面に等間隔で配列された複数の操作キーのうち、所定の列の操作キー数を他の列の操作キー数よりも少なく形成し、所定の列の操作キーに対応する押圧キーを同じキー数に形成すると共に、所定の列の操作キーに対応する押圧キーの下端を扉体の摺動方向に位置する他の列の操作キーの間に配置してリモコン送信機を構成したものであり、所定の列の操作キーを他の列よりも少ないキー数に形成し、扉体が閉じた状態では上方の押圧キーによってこれを押圧することで、扉体が途中まで開かれた状態で押圧キーを押圧操作した場合でも、誤って下方の操作キーが押圧されることがないため、誤操作を防ぎ、確実な操作が可能なリモコン送信機を得ることができるという作用を有するものである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
略箱型のケースと、このケース上面に等間隔で配列された複数の操作キーと、この操作キーの上下動に応じて電気的接離を行うスイッチ接点と、上記ケース上面に摺動可能に装着され上記操作キーを覆う扉体と、この扉体上面に配列され上下動によって下端が所定の上記操作キーを押圧する複数の押圧キーと、上記スイッチ接点の電気的接離に応じて、送信手段からリモコン信号を送信する制御手段からなり、所定の列の操作キーを他の列の操作キーよりも少ないキー数に形成し、上記所定の列の操作キーに対応する上記押圧キーを同じキー数に形成すると共に、上記所定の列の操作キーに対応する上記押圧キーの下端を上記扉体の摺動方向に位置する上記他の列の操作キーの間に配置したリモコン送信機。
【手続補正書】
【提出日】平成26年3月11日(2014.3.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の規格に基づくコマンドのうちの第１の種類のコマンドを、第２の規格に基づく第１のコマンドに変換する第１の変換部と、
前記第１の規格に基づく前記コマンドのうちの第２の種類のコマンドを、前記第２の規格に準拠するコマンドであって、前記第１のコマンドと異なる第２のコマンドに変換する第２の変換部と、
前記第１のコマンドと前記第２のコマンドを出力する出力部と
を備える画像処理装置。
【請求項２】
前記第１の規格は、RS232Cであり、前記第２の規格は、HDMI-CECである
請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記画像処理装置は、テレビジョン受像機を制御するコントローラであり、
前記出力部は、前記第１のコマンドと前記第２のコマンドを前記テレビジョン受像機に出力する
請求項２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記第１のコマンドは、前記HDMI-CECの標準コマンドであり、
前記第２のコマンドは、前記HDMI-CECのベンダーコマンドである
請求項３に記載の画像処理装置。
【請求項５】
第１の規格に基づくコマンドのうちの第１の種類のコマンドを、第２の規格に基づく第１のコマンドに変換する第１の変換ステップと、
前記第１の規格に基づく前記コマンドのうちの第２の種類のコマンドを、前記第２の規格に準拠するコマンドであって、前記第１のコマンドと異なる第２のコマンドに変換する第２の変換ステップと、
前記第１のコマンドと前記第２のコマンドを出力する出力ステップと
を含む画像処理方法。
【請求項６】
コンピュータに、
第１の規格に基づくコマンドのうちの第１の種類のコマンドを、第２の規格に基づく第１のコマンドに変換する第１の変換ステップと、
前記第１の規格に基づく前記コマンドのうちの第２の種類のコマンドを、前記第２の規格に準拠するコマンドであって、前記第１のコマンドと異なる第２のコマンドに変換する第２の変換ステップと、
前記第１のコマンドと前記第２のコマンドを出力する出力ステップと
を実行させるプログラムが記録されているコンピュータが読み取り可能な記録媒体。
【請求項７】
コンピュータに、
第１の規格に基づくコマンドのうちの第１の種類のコマンドを、第２の規格に基づく第１のコマンドに変換する第１の変換ステップと、
前記第１の規格に基づく前記コマンドのうちの第２の種類のコマンドを、前記第２の規格に準拠するコマンドであって、前記第１のコマンドと異なる第２のコマンドに変換する第２の変換ステップと、
前記第１のコマンドと前記第２のコマンドを出力する出力ステップと
を実行させるプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
前記画像処理装置は、テレビジョン受像機を制御するコントローラとし、前記出力部は、前記第１のコマンドと前記第２のコマンドを前記テレビジョン受像機に出力することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８６】
本技術は、以下のような構成もとることができる。
（１）
第１の規格に基づくコマンドのうちの第１の種類のコマンドを、第２の規格に基づく第１のコマンドに変換する第１の変換部と、
前記第１の規格に基づく前記コマンドのうちの第２の種類のコマンドを、前記第２の規格に準拠するコマンドであって、前記第１のコマンドと異なる第２のコマンドに変換する第２の変換部と、
前記第１のコマンドと前記第２のコマンドを出力する出力部と
を備える画像処理装置。
（２）
前記第１の規格は、RS232Cであり、前記第２の規格は、HDMI-CECである
前記（１）に記載の画像処理装置。
（３）
前記画像処理装置は、テレビジョン受像機を制御するコントローラであり、
前記出力部は、前記第１のコマンドと前記第２のコマンドを前記テレビジョン受像機に出力する
前記（１）または（２）に記載の画像処理装置。
（４）
前記第１のコマンドは、前記HDMI-CECの標準コマンドであり、
前記第２のコマンドは、前記HDMI-CECのベンダーコマンドである
前記（２）に記載の画像処理装置。
（５）
第１の規格に基づくコマンドのうちの第１の種類のコマンドを、第２の規格に基づく第１のコマンドに変換する第１の変換ステップと、
前記第１の規格に基づく前記コマンドのうちの第２の種類のコマンドを、前記第２の規格に準拠するコマンドであって、前記第１のコマンドと異なる第２のコマンドに変換する第２の変換ステップと、
前記第１のコマンドと前記第２のコマンドを出力する出力ステップと
を含む画像処理方法。
（６）
コンピュータに、
第１の規格に基づくコマンドのうちの第１の種類のコマンドを、第２の規格に基づく第１のコマンドに変換する第１の変換ステップと、
前記第１の規格に基づく前記コマンドのうちの第２の種類のコマンドを、前記第２の規格に準拠するコマンドであって、前記第１のコマンドと異なる第２のコマンドに変換する第２の変換ステップと、
前記第１のコマンドと前記第２のコマンドを出力する出力ステップと
を実行させるプログラムが記録されているコンピュータが読み取り可能な記録媒体。
（７）
コンピュータに、
第１の規格に基づくコマンドのうちの第１の種類のコマンドを、第２の規格に基づく第１のコマンドに変換する第１の変換ステップと、
前記第１の規格に基づく前記コマンドのうちの第２の種類のコマンドを、前記第２の規格に準拠するコマンドであって、前記第１のコマンドと異なる第２のコマンドに変換する第２の変換ステップと、
前記第１のコマンドと前記第２のコマンドを出力する出力ステップと
を実行させるプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月7日(2014.4.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
視差が異なる第１入力画像及び第２入力画像の少なくともいずれか一方の入力画像中の所定の被写体を検出する被写体検出部と、
検出された前記被写体に対応した被写体枠を、表示部に立体表示される前記第１入力画像と前記第２入力画像の間で奥行きがあるように、前記第１入力画像及び前記第２入力画像にそれぞれ合成する合成部と、
を備える、画像処理装置。
【請求項２】
前記被写体検出部は、前記被写体の顔を検出し、
前記被写体枠は、前記顔に対応した顔枠である、請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記合成部は、
前記第１入力画像で検出された前記被写体に対応した第１被写体枠を、前記第１入力画像に合成すると共に、
前記第２入力画像で検出された前記被写体に対応した第２被写体枠を、前記第２入力画像に合成する、請求項１又は２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記第１入力画像に基いて、前記被写体の奥行きを検出する奥行き検出部を更に備え、
前記合成部は、
前記第１入力画像で検出された前記被写体に対応した第１被写体枠を、前記第１入力画像に合成すると共に、
前記第１被写体枠と前記奥行き検出部が検出した前記奥行きとに基いて生成した第２被写体枠を、前記第２入力画像に合成する、請求項１又は２に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記第１入力画像及び前記第２入力画像に基いて、前記被写体の奥行きを検出する奥行き検出部を更に備え、
前記合成部は、
前記第１入力画像で検出された前記被写体に対応した第１被写体枠を、前記第１入力画像に合成すると共に、
前記第１被写体枠と前記奥行き検出部が検出した前記奥行きとに基いて生成した第２被写体枠を、前記第２入力画像に合成する、請求項１又は２に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記第１入力画像に基いて、前記被写体の奥行きを検出する奥行き検出部と、
前記合成部が、前記第１入力画像で検出された前記被写体に対応した第１被写体枠を、前記第１入力画像に合成すると共に、前記第２入力画像で検出された前記被写体に対応した第２被写体枠を、前記第２入力画像に合成する第１処理と、
前記合成部が、前記第１入力画像で検出された前記被写体に対応した第１被写体枠を、前記第１入力画像に合成すると共に、前記第１被写体枠と前記奥行き検出部が検出した前記奥行きとに基いて生成した第２被写体枠を、前記第２入力画像に合成する第２処理と、
のいずれか一方を選択して実行する制御部と、
を更に備える、請求項１〜４のいずれかに記載の画像処理装置。
【請求項７】
前記制御部は、
前記被写体検出部によって検出された前記被写体の数が所定数よりも多い場合には、前記第２処理を選択して実行し、
前記被写体検出部によって検出された前記被写体の数が所定数よりも少ない場合には、前記第１処理を選択して実行する、請求項６に記載の画像処理装置。
【請求項８】
前記制御部は、
入力画像におけるフォーカス位置と、検出された顔の位置とを検出し、
前記フォーカス位置が前記被写体の位置と一致する場合には、前記第２処理を選択して実行し、
前記フォーカス位置が前記被写体の位置と一致しない場合には、前記第１処理を選択して実行する、請求項６に記載の画像処理装置。
【請求項９】
視差が異なる第１入力画像及び第２入力画像の少なくともいずれか一方の入力画像中の所定の被写体を検出することと、
検出された前記被写体に対応した被写体枠を、表示部に立体表示される前記第１入力画像と前記第２入力画像の間で奥行きがあるように、前記第１入力画像及び前記第２入力画像にそれぞれ合成することと、
を有する、画像処理方法。
【請求項１０】
視差が異なる第１入力画像及び第２入力画像の少なくともいずれか一方の入力画像中の所定の被写体を検出することと、
検出された前記被写体に対応した被写体枠を、表示部に立体表示される前記第１入力画像と前記第２入力画像の間で奥行きがあるように、前記第１入力画像及び前記第２入力画像にそれぞれ合成することと、
をコンピュータに実行させるための、プログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月4日(2014.4.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮像手段と、
メモリと、
前記撮像手段により得られた画像データを前記メモリに書き込み、ユーザからの指示に応じて前記メモリに対する前記画像データの書き込みを停止して、前記指示の直前の期間と直後の期間とを含む期間の、所定画面数の前記画像データを前記メモリに保持させる制御手段と、
前記メモリに保持された、前記所定画面数の画像データから、記録すべき画面を選択する選択手段と、
前記選択手段により選択された画面の画像データを記録媒体に記録する記録手段
とを備え、
前記制御手段は、前記指示のタイミングと前記選択手段により選択された画面に対応したタイミングとの差に基づいて、前記メモリに対する前記画像データの書き込みを停止するタイミングを制御する
ことを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記制御手段は、前記差に基づいて、前記指示から、前記メモリへの前記画像データの書き込みを停止するまでの時間を制御することを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記制御手段は、前記所定画面数の画像データの期間の中央となる時間と、前記差とに基づいて、前記指示から、前記メモリへの前記画像データの書き込みを停止するまでの時間を制御することを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】撮像装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、撮像装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は、上記の問題点に鑑み、連写撮影を使い、記録したい瞬間の画像をより確実に記録できる撮像装置を提示することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明に係る撮像装置は、撮像手段と、メモリと、前記撮像手段により得られた画像データを前記メモリに書き込み、ユーザからの指示に応じて前記メモリに対する前記画像データの書き込みを停止して、前記指示の直前の期間と直後の期間とを含む期間の、所定画面数の前記画像データを前記メモリに保持させる制御手段と、前記メモリに保持された、前記所定画面数の画像データから、記録すべき画面を選択する選択手段と、前記選択手段により選択された画面の画像データを記録媒体に記録する記録手段とを備え、前記制御手段は、前記指示のタイミングと前記選択手段により選択された画面に対応したタイミングとの差に基づいて、前記メモリに対する前記画像データの書き込みを停止するタイミングを制御することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月8日(2014.4.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画像を立体表示の奥行き方向に所定の間隔で配置して、立体表示可能な表示装置に画像を表示するための表示制御装置であって、
各グループに含まれる画像の枚数に応じて、同一のグループに属する複数の画像間の表示間隔を前記グループ毎に決定する決定手段と、
前記決定手段で決定したグループ毎の表示間隔に基づき、前記複数の画像を奥行き方向に配置して前記表示装置に表示させる表示制御手段とを有することを特徴とする表示制御装置。
【請求項２】
前記グループの画像を配置する奥行き方向の間隔を一定とすることを特徴とする請求項１に記載の表示制御装置。
【請求項３】
前記決定手段が決定する前記表示間隔は、各グループ内では等間隔とし、各グループ毎に異ならしめていることを特徴とする請求項１または２に記載の表示制御装置。
【請求項４】
前記グループに含まれる画像の数が、所定の上限値を超える場合には、前記表示制御手段は、当該上限値の数の画像を立体表示し、当該上限値を超える残りの数の画像は、最も奥に表示している画像と同じ奥行き座標に表示することを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の表示制御装置。
【請求項５】
前記グループに含まれる画像の数が、所定の上限値を超える場合には、前記表示制御手段は、当該上限値の数の画像を立体表示し、当該上限値を超える残りの数の画像は非表示とすることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の表示制御装置。
【請求項６】
複数の画像を立体表示の奥行き方向に所定の間隔で配置して、立体表示可能な表示装置に画像を表示するための表示制御方法であって、
各グループに含まれる画像の枚数に応じて、同一のグループに属する複数の画像間の表示間隔を前記グループ毎に決定する決定工程と、
前記決定工程で決定したグループ毎の表示間隔に基づき、前記複数の画像を奥行き方向に配置して前記表示装置に表示させる表示制御工程とを有することを特徴とする表示制御方法。
【請求項７】
前記グループの画像を配置する奥行き方向の間隔を一定とすることを特徴とする請求項６に記載の表示制御方法。
【請求項８】
前記決定工程が決定する前記表示間隔は、各グループ内では等間隔とし、各グループ毎に異ならしめていることを特徴とする請求項６または７に記載の表示制御工程。
【請求項９】
前記グループに含まれる画像の数が、所定の上限値を超える場合には、前記表示制御工程では、当該上限値の数の画像を立体表示し、当該上限値を超える残りの数の画像は、最も奥に表示している画像と同じ奥行き座標に表示することを特徴とする請求項６ないし８のいずれか１項に記載の表示制御方法。
【請求項１０】
前記グループに含まれる画像の数が、所定の上限値を超える場合には、前記表示制御工程は、当該上限値の数の画像を立体表示し、当該上限値を超える残りの数の画像は非表示とすることを特徴とする請求項６ないし８のいずれか１項に記載の表示制御方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年1月9日(2014.1.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機高分子の主骨格に、この主骨格自身が発光する発光スペクトルの極大値となる波長とは異なる波長において極大値を持つ光を発光する分子鎖を重合させて成る発光材料と、
前記発光材料に混合されたナノ粒子と、を有し、
前記ナノ粒子は、メソポーラスシリカ粒子であることを特徴とする有機薄膜。
【請求項２】
前記発光材料が、塗布型材料であることを特徴とする請求項１に記載の有機薄膜。
【請求項３】
前記発光材料の主骨格が、フルオレン骨格であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の有機薄膜。
【請求項４】
前記ナノ粒子の粒径が、１０〜１００ｎｍであることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載の有機薄膜。
【請求項５】
基板、第１の電極層、発光層を含む有機層、及び第２の電極層を順に積層して成る有機エレクトロルミネッセンス素子であって、
前記発光層として、請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の有機薄膜を含むことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記課題を解決するため、本発明に係る有機薄膜は、有機高分子の主骨格に、この主骨格自身が発光する発光スペクトルの極大値となる波長とは異なる波長において極大値を持つ光を発光する分子鎖を重合させて成る発光材料と、前記発光材料に混合されたナノ粒子と、を有し、前記ナノ粒子は、メソポーラスシリカ粒子であることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月4日(2014.4.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原版のパターンを基板に投影する投影光学系と、液体を前記投影光学系の最終面と前記基板との間隙に供給する供給管とを有し、前記間隙に前記液体を満たした状態で前記基板を露光する液浸露光装置の前記供給管を洗浄する方法であって、
前記供給管を通して流す洗浄液の流量を増加させる増加工程と前記流量を減少させる減少工程とを含むサイクルを含み、
前記液浸露光装置を設置若しくはメンテナンスした後、又は、少なくとも１枚の基板の露光を終えた後であって、前記液浸露光装置を用いて新たな基板の第１ショット領域を露光する前に、前記サイクルを複数回実行する、ことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記液体を前記間隙から回収する回収管をさらに有し、
前記回収管を通して流す洗浄液の流量を増加させる増加工程と前記流量を減少させる減少工程とを含む第２サイクルをさらに含み、
前記液浸露光装置を設置若しくはメンテナンスした後、又は、少なくとも１枚の基板の露光を終えた後であって、前記液浸露光装置を用いて新たな基板の第１ショット領域を露光する前に、前記第２サイクルを複数回実行する、ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記サイクルおよび前記第２サイクルは、前記流量を前記増加工程で増加された流量に維持する工程と前記流量を前記減少工程で減少された流量に維持する工程とをさらに含む、ことを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記サイクルおよび前記第２サイクルの前記増加工程では、第１流量から前記第１流量より大きな第２流量に前記流量を増加させ、前記減少工程では、前記第２流量から前記第１流量に前記流量を減少させる、ことを特徴とする請求項２又は請求項３記載の方法。
【請求項５】
前記サイクルおよび前記第２サイクルの前記増加工程では、ゼロから第２流量に前記流量を増加させ、前記減少工程では、前記第２流量からゼロに前記流量を減少させる、ことを特徴とする請求項２又は請求項３記載の方法。
【請求項６】
原版のパターンを基板に投影する投影光学系と、液体を前記投影光学系の最終面と前記基板との間隙に供給する供給管とを有し、前記間隙に前記液体を満たした状態で前記基板を露光する液浸露光装置の前記供給管を洗浄する方法であって、
前記供給管を通して第１方向に流す洗浄液の流量を増加させる第１増加工程と、前記第１方向に流す流量を減少させる第１減少工程と、前記洗浄液を流す方向を前記第１方向から該第１方向と反対方向の第２方向に切り替えて前記第２方向に流す流量を増加させる第２増加工程と、前記第２方向に流す流量を減少させる第２減少工程と、を含むサイクルを含み、
前記液浸露光装置を設置若しくはメンテナンスした後、又は、少なくとも１枚の基板の露光を終えた後であって、前記液浸露光装置を用いて新たな基板の第１ショット領域を露光する前に、前記サイクルを複数回実行する、ことを特徴とする方法。
【請求項７】
前記液体を前記間隙から回収する回収管をさらに有し、
前記回収管の第１方向に流す洗浄液の流量を増加させる第１増加工程と、前記第１方向に流す流量を減少させる第１減少工程と、前記洗浄液を流す方向を前記第１方向から該第１方向と反対方向の第２方向に切り替えて前記第２方向に流す流量を増加させる第２増加工程と、前記第２方向に流す流量を減少させる第２減少工程と、を含む第２サイクルをさらに含み、
前記液浸露光装置を設置若しくはメンテナンスした後、又は、少なくとも１枚の基板の露光を終えた後であって、前記液浸露光装置を用いて新たな基板の第１ショット領域を露光する前に、前記第２サイクルを複数回実行する、ことを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記サイクルおよび前記第２サイクルは、前記流量を前記第１増加工程で増加された流量に維持する工程と前記流量を前記第２増加工程で増加された流量に維持する工程とをさらに含む、ことを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】
デバイスを製造する方法であって、
請求項１乃至請求項８のいずれか１項に記載の方法によって前記供給管が洗浄された液浸露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光された基板を現像する工程と、
を含む方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の１つの側面は、原版のパターンを基板に投影する投影光学系と、液体を前記投影光学系の最終面と前記基板との間隙に供給する供給管とを有し、前記間隙に前記液体を満たした状態で前記基板を露光する液浸露光装置の前記供給管を洗浄する方法であって、前記供給管を通して流す洗浄液の流量を増加させる増加工程と前記流量を減少させる減少工程とを含むサイクルを含み、前記液浸露光装置を設置若しくはメンテナンスした後、又は、少なくとも１枚の基板の露光を終えた後であって、前記液浸露光装置を用いて新たな基板の第１ショット領域を露光する前に、前記サイクルを複数回実行する、ことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成26年3月26日(2014.3.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電流を注入することによって光を発生させ、かつ当該光の導波路を構成する第１層と、
前記第１層を挟み、かつ前記光の漏れを抑制する第２層および第３層と、
前記第１層に電流を注入する電極と、を含み、
前記電極により得られる前記光の導波路は、帯状の第１利得領域、帯状の第２利得領域、および帯状の第３利得領域を有し、
前記第１利得領域は、曲率を有する第１利得部分を有し、
前記第２利得領域は、曲率を有する第２利得部分を有し、
前記第１利得領域と前記第２利得領域とは、前記第１層の側面に設けられる反射部にて接続され、
前記第３利得領域は、共振器を構成し、
前記第１利得領域および前記第２利得領域の少なくとも１つと、前記第３利得領域との間の距離は、エバネッセント結合が生じる距離であり、
前記反射部が設けられる側面に対向して出射面となる前記第１層の側面において前記第１利得領域から出射される第１の光と、当該出射面において前記第２利得領域から出射される第２の光とは、同じ方向に出射される、ことを特徴とする発光装置。
【請求項２】
請求項１に記載の発光装置において、
前記反射部は、前記第１層で発生する光の波長帯において、前記出射面における反射率よりも高い反射率を備える、ことを特徴とする発光装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の発光装置において、
前記第１利得領域は、前記第１層と前記第２層との積層方向から見て、前記反射部が設けられた側面の垂線に対して一方側に傾いて前記反射部と接続し、
前記第２利得領域は、前記積層方向から見て、前記垂線に対して他方側に傾いて前記反射部と接続する、ことを特徴とする発光装置。
【請求項４】
請求項３に記載の発光装置において、
前記第１利得領域は、前記垂線に対して第１角度で傾いて前記反射部と接続し、
前記第２利得領域は、前記垂線に対して第２角度で傾いて前記反射部と接続し、
前記第１角度と前記第２角度とは、臨界角以上であって、同じ大きさである、ことを特徴とする発光装置。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれか１項に記載の発光装置において、
前記第１利得領域は、
前記第１利得部分から前記出射面まで、直線状に設けられた第３利得部分を有し、
前記第２利得領域は、
前記第２利得部分から前記出射面まで、直線状に設けられた第４利得部分を有する、ことを特徴とする発光装置。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれか１項に記載の発光装置において、
前記第１利得領域は、
前記反射部から前記第１利得部分まで、直線状に設けられた第５利得部分を有し、
前記第２利得領域は、
前記反射部から前記第２利得部分まで、直線状に設けられた第６利得部分を有する、ことを特徴とする発光装置。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれか１項に記載の発光装置において、
前記第１利得部分および前記第２利得部分は、前記積層方向から見て、円弧の形状を有する、ことを特徴とする発光装置。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれか１項に記載の発光装置において、
前記第３利得領域の長手方向の両端には、反射面が形成されている、ことを特徴とする発光装置。
【請求項９】
請求項１ないし７のいずれか１項に記載の発光装置において、
前記第３利得領域は、分布帰還型の共振器を構成する周期構造が形成されている、ことを特徴とする発光装置。
【請求項１０】
請求項１ないし７のいずれか１項に記載の発光装置において、
前記第３利得領域の長手方向の両端には、分布ブラッグ反射型の共振器が形成されている、ことを特徴とする発光装置。
【請求項１１】
請求項１ないし１０のいずれか１項に記載の発光装置において、
前記第３利得領域と、前記第１利得領域または前記第２利得領域との距離は一定である、ことを特徴とする発光装置。
【請求項１２】
請求項１ないし１１のいずれか１項に記載の発光装置において、
前記第３利得領域と、前記第１利得領域または前記第２利得領域とは平行である、ことを特徴とする発光装置。
【請求項１３】
請求項１ないし１２のいずれか１項に記載の発光装置において、
前記第３利得領域は、複数設けられている、ことを特徴とする発光装置。
【請求項１４】
請求項１ないし１３のいずれか１項に記載の発光装置において、
前記第３利得領域は、屈折率導波型の導波路構造を有する、ことを特徴とする発光装置。
【請求項１５】
請求項１ないし１４のいずれか１項に記載の発光装置において、
前記第１利得領域および前記第２利得領域は、屈折率導波型の導波路構造を有する、ことを特徴とする発光装置。
【請求項１６】
請求項１ないし１５のいずれか１項に記載の発光装置において、
前記第３層の前記第１層側とは反対側に第４層が形成され、
前記第２層に電気的に接続された第１電極と、
前記第３層に電気的に接続され、前記第４層と接する第２電極とを有し、
前記第１利得領域および前記第２利得領域の形状は、前記第４層と前記第２電極との接触面の形状と同じであり、
前記第４層は、前記第２電極とオーミックコンタクトする層である、ことを特徴とする発光装置。
【請求項１７】
請求項１ないし１６のいずれか１項に記載の発光装置において、
前記反射部が設けられた側面は、劈開面である、ことを特徴とする発光装置。
【請求項１８】
請求項１ないし１７のいずれか１項に記載の発光装置と、
前記発光装置から出射された光を集光するマイクロレンズと、
前記マイクロレンズによって集光された光を、画像情報に応じて変調する光変調装置と、
前記光変調装置によって形成された画像を投射する投射装置と、
を含む、ことを特徴とするプロジェクター。
【手続補正書】
【提出日】平成26年2月7日(2014.2.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
３相交流電力から直流電力を生成する電力変換装置であって、
複数台の３相全波整流器を備え、
当該３相全波整流器のそれぞれの入力端子から前記３相交流電力の異なる位相の組の３相交流電圧を入力し、前記複数台の３相全波整流器のそれぞれの出力電圧が合成されて出力することを特徴とする電力変換装置。
【請求項２】
前記複数台の３相全波整流器は、ｎ（ｎは２以上の整数）台の３相全波整流器であり、
前記異なる位相の３相交流電圧は、互いに略（６０／ｎ）度の整数倍の位相差のｎ組の３相交流電圧であり、
当該ｎ組の３相交流電圧を前記ｎ台の３相全波整流器に入力することによって、６ｎパルス整流をすることを特徴とする請求項１に記載の電力変換装置。
【請求項３】
前記複数台の３相全波整流器は、２台の３相全波整流器であり、
前記異なる位相の３相交流電圧は、互いに略３０度の位相差の２組の３相交流電圧であり、
前記２組の３相交流電圧を前記２台の３相全波整流器に入力することによって、１２パルス整流をすることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の電力変換装置。
【請求項４】
前記異なる位相の３相交流電圧は、互いに略（６０／ｎ）度の整数倍の位相差のｎ組の３相交流電圧を２次側から出力する入力多重変圧器から供給されることを特徴とする請求項２に記載の電力変換装置。
【請求項５】
前記異なる位相の３相交流電圧は、互いに略３０度の位相差の２組の３相交流電圧を２次側から出力する入力多重変圧器から供給されることを特徴とする請求項３または請求項４に記載の電力変換装置。
【請求項６】
前記複数台の３相全波整流器のそれぞれの出力が互いに並列に接続されて、それぞれの出力電圧が合成されることを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載の電力変換装置。
【請求項７】
前記複数台の３相全波整流器のそれぞれの出力が互いに直列に接続されて、それぞれの出力電圧が合成されることを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載の電力変換装置。
【請求項８】
前記電力変換装置は、さらに、
入力した直流電圧を所定の直流電圧に変換して出力するＤＣ／ＤＣ変換器を備え、
当該ＤＣ／ＤＣ変換器に前記複数台の３相全波整流器の合成された出力電圧が入力することを特徴とする請求項１乃至請求項７のいずれか一項に記載の電力変換装置。
【請求項９】
前記電力変換装置の出力は、電池負荷に接続されることを特徴とする請求項１乃至請求項８のいずれか一項に記載の電力変換装置。
【請求項１０】
前記電力変換装置の出力は、駆動負荷に接続されることを特徴とする請求項１乃至請求項８のいずれか一項に記載の電力変換装置。
【請求項１１】
３相交流電力から直流電力を生成する電力変換装置であって、
３相全波整流器とＤＣ／ＤＣ変換器を具備したＡＣ／ＤＣ変換器を複数台備え、
当該ＡＣ／ＤＣ変換器のそれぞれの入力端子に前記３相交流電力の異なる位相の組の３相交流電圧を入力し、前記複数台のＡＣ／ＤＣ変換器のそれぞれの出力電圧が合成されて出力することを特徴とする電力変換装置。
【請求項１２】
前記複数台のＡＣ／ＤＣ変換器は、ｎ（ｎは２以上の整数）台のＡＣ／ＤＣ変換器であり、
前記異なる位相の３相交流電圧は、互いに略（６０／ｎ）度の整数倍の位相差のｎ組の３相交流電圧であり、
前記ｎ組の３相交流電圧を前記ｎ台のＡＣ／ＤＣ変換器に入力することによって、６ｎパルス整流をすることを特徴とする請求項１１に記載の電力変換装置。
【請求項１３】
前記複数台のＡＣ／ＤＣ変換器は、２台のＡＣ／ＤＣ変換器であり、
前記異なる位相の３相交流電圧は、互いに略３０度の位相差の２組の３相交流電圧であり、
前記２組の３相交流を前記２台のＡＣ／ＤＣ変換器に入力することによって、１２パルス整流をすることを特徴とする請求項１１または請求項１２に記載の電力変換装置。
【請求項１４】
前記異なる位相の３相交流電圧は、互いに略（６０／ｎ）度の整数倍の位相差のｎ組の３相交流電圧を２次側から出力する入力多重変圧器から供給されることを特徴とする請求項１２に記載の電力変換装置。
【請求項１５】
前記異なる位相の３相交流電圧は、互いに略３０度の位相差の２組の３相交流電圧を２次側から出力する入力多重変圧器から供給されることを特徴とする請求項１３に記載の電力変換装置。
【請求項１６】
前記複数台のＡＣ／ＤＣ変換器のそれぞれの出力が互いに並列に接続されて、それぞれの出力電圧が合成されることを特徴とする請求項１１乃至請求項１５のいずれか一項に記載の電力変換装置。
【請求項１７】
前記複数台のＡＣ／ＤＣ変換器のそれぞれの出力が互いに直列に接続されて、それぞれの出力電圧が合成されることを特徴とする請求項１１乃至請求項１５のいずれか一項に記載の電力変換装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】電力変換装置
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月12日(2014.4.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
貫通孔を有する基板の前記貫通孔内に前記基板に対して選択除去可能な材料を含む充填物が充填された基板を用意する工程と、
前記基板の少なくとも一方の面であって、前記貫通孔の少なくとも一部を含む領域上に、少なくとも表面の一部が絶縁性である構造体を形成する工程と、
前記構造体を形成した基板上にめっき層を形成する工程と、
前記めっき層を形成後、前記充填物と前記構造体を除去する工程と、
を有することを特徴とする貫通孔基板の製造方法。
【請求項２】
前記構造体の前記基板との接触面の径が、前記貫通孔の径よりも小さいことを特徴とする請求項１に記載の貫通孔基板の製造方法。
【請求項３】
前記構造体の前記基板との接触面の径が、前記貫通孔の径よりも大きいことを特徴とする請求項１に記載の貫通孔基板の製造方法。
【請求項４】
前記充填物が金属であることを特徴とする請求項１から３の何れか１項に記載の貫通孔基板の製造方法。
【請求項５】
前記基板の少なくとも一方の面であって、前記貫通孔の開口端の少なくとも一部を含む領域上にシード層を形成することを特徴とする請求項１から４の何れか１項に記載の貫通孔基板の製造方法。
【請求項６】
電子線レンズ用貫通孔基板であって、
基板に形成された所定の開口径を有する貫通孔と、
前記基板の少なくとも一方の面に形成され、前記貫通孔の開口径以下の開口径を有し、前記貫通孔と連通する開口を有するめっき層と、を有することを特徴とする貫通孔基板。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記課題に鑑み、本発明の貫通孔基板の製造方法は、次の工程を有する。貫通孔を有する基板の前記貫通孔内に前記基板に対して選択除去可能な材料を含む充填物が充填された基板を用意する工程。前記基板の少なくとも一方の面であって、前記貫通孔の少なくとも一部を含む領域上に、少なくとも表面の一部が絶縁性である構造体を形成する工程。前記構造体を形成した基板上にめっき層を形成する工程。前記めっき層を形成後、前記充填物と前記構造体を除去する工程。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また、上記課題に鑑み、本発明の貫通孔基板は、電子線レンズ用貫通孔基板であって、基板に形成された所定の開口径を有する貫通孔と、前記基板の少なくとも一方の面に形成され、前記貫通孔の開口径以下の開口径を有し、前記貫通孔と連通する開口を有するめっき層と、を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月11日(2014.4.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コンデンサ素子と、このコンデンサ素子の一対の電極に接続した一対のバスバーと、コンデンサ素子を収容して樹脂モールドしたケースとを備えたケースモールド型コンデンサにおいて、
上記バスバーは、長尺の導電体と、この導電体の長尺方向の端部に設けた外部接続用の端子部と、導電体の側部から突出させてコンデンサ素子の電極に接続する電極接続部とを有し、該導電体が互いに離間した一対の対向板と該一対の対向板をつなぐ曲板とを有することを特徴とするケースモールド型コンデンサ。
【請求項２】
一方の対向板の厚み、他方の対向板の厚み、及び該一方の対向板と該他方の対向板との間隔の和は、上記いずれの対向板の幅よりも小さい請求項１に記載のケースモールド型コンデンサ。
【請求項３】
上記導電体は、中空状の偏平管である請求項１又は２に記載のケースモールド型コンデンサ。
【請求項４】
上記外部接続用の端子部は、円筒形にした請求項３に記載のケースモールド型コンデンサ。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月7日(2014.4.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パルス光を発生する複数の光源と、
前記複数の光源にて発生したパルス光が照射されることによりテラヘルツ波を発生するアンテナと、を備え、
前記アンテナは、所定の距離を有する間隙部を介して対向配置された１対の電極を複数有しており、
前記複数の光源の各々は、前記複数の１対の電極のうちそれぞれ異なる前記１対の電極間の間隙部に前記パルス光を照射し、前記複数の１対の電極のうち少なくとも２つの前記１対の電極間の間隙部に、互いにタイミングをずらしてパルス光を照射するよう構成されていることを特徴とするテラヘルツ波発生装置。
【請求項２】
前記少なくとも２つの１対の電極間の間隙部に互いにタイミングをずらしてパルス光を照射することにより、前記アンテナで発生するテラヘルツ波の出射方向を変更するよう構成されていることを特徴とする請求項１に記載のテラヘルツ波発生装置。
【請求項３】
前記パルス光の照射タイミングのずれ量は、前記パルス光のパルス幅よりも小さいことを特徴とする請求項１または２に記載のテラヘルツ波発生装置。
【請求項４】
前記光源は、半導体レーザーであることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一項に記載のテラヘルツ波発生装置。
【請求項５】
前記複数の１対の電極のうち、一方の電極同士が電気的に接続されていることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか一項に記載のテラヘルツ波発生装置。
【請求項６】
第１のパルス光を発生する第１の光源と、
前記第１のパルス光と位相が異なる第２のパルス光を発生する第２の光源と、
前記第１のパルス光と前記第２のパルス光とが照射されてテラヘルツ波を発生するアンテナと、を備え、
前記アンテナは、
第１電極、第２電極、第３電極、第４電極、を含み、
前記第１電極と前記第２電極との間に電圧が印加され、
前記第３電極と前記第４電極との間に電圧が印加され、
前記第１のパルス光は、前記第１電極と前記第２電極との間に照射され、
前記第２のパルス光は、前記第３電極と前記第４電極との間に照射されることを特徴とするテラヘルツ波発生装置。
【請求項７】
テラヘルツ波を発生するテラヘルツ波発生装置と、
前記テラヘルツ波発生装置から出射し、対象物を透過または反射したテラヘルツ波を検出するテラヘルツ波検出装置と、を備え、
前記テラヘルツ波発生装置は、パルス光を発生する複数の光源と、
前記複数の光源にて発生したパルス光が照射されることによりテラヘルツ波を発生するアンテナと、を備え、
前記アンテナは、所定の距離を有する間隙部を介して対向配置された１対の電極を複数有しており、
前記複数の光源の各々は、前記複数の１対の電極のうちそれぞれ異なる前記１対の電極間の間隙部に前記パルス光を照射し、前記複数の１対の電極のうち少なくとも２つの前記１対の電極間の間隙部に、互いにタイミングをずらしてパルス光を照射するよう構成されていることを特徴とするカメラ。
【請求項８】
テラヘルツ波を発生するテラヘルツ波発生装置と、
前記テラヘルツ波発生装置から出射し、対象物を透過または反射したテラヘルツ波を検出するテラヘルツ波検出装置と、
前記テラヘルツ波検出装置の検出結果に基づいて、前記対象物の画像を生成する画像形成部と、を備え、
前記テラヘルツ波発生装置は、パルス光を発生する複数の光源と、
前記複数の光源にて発生したパルス光が照射されることによりテラヘルツ波を発生するアンテナと、を備え、
前記アンテナは、所定の距離を有する間隙部を介して対向配置された１対の電極を複数有しており、
前記複数の光源の各々は、前記複数の１対の電極のうちそれぞれ異なる前記１対の電極間の間隙部に前記パルス光を照射し、前記複数の１対の電極のうち少なくとも２つの前記１対の電極間の間隙部に、互いにタイミングをずらしてパルス光を照射するよう構成されていることを特徴とするイメージング装置。
【請求項９】
テラヘルツ波を発生するテラヘルツ波発生装置と、
前記テラヘルツ波発生装置から出射し、対象物を透過または反射したテラヘルツ波を検出するテラヘルツ波検出装置と、
前記テラヘルツ波検出装置の検出結果に基づいて、前記対象物を計測する計測部と、を備え、
前記テラヘルツ波発生装置は、パルス光を発生する複数の光源と、
前記複数の光源にて発生したパルス光が照射されることによりテラヘルツ波を発生するアンテナと、を備え、
前記アンテナは、所定の距離を有する間隙部を介して対向配置された１対の電極を複数有しており、
前記複数の光源の各々は、前記複数の１対の電極のうちそれぞれ異なる前記１対の電極間の間隙部に前記パルス光を照射し、前記複数の１対の電極のうち少なくとも２つの前記１対の電極間の間隙部に、互いにタイミングをずらしてパルス光を照射するよう構成されていることを特徴とする計測装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月12日(2014.4.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
間隙を挟んで設けられた２つの電極のうちの一方の電極を含む振動膜が振動可能に支持されたセル構造を少なくとも１つ有する電気機械変換装置であって、
前記振動膜上に設けられた応力緩和層と、
前記応力緩和層上に設けられた光反射層と、を有することを特徴とする電気機械変換装置。
【請求項２】
前記セル構造は、基板と、前記基板の一方の表面側の第一の電極と、第二の電極を有する振動膜と、前記第一の電極と前記振動膜との間に間隙が形成されるように前記振動膜を支持する振動膜支持部と、で形成されることを特徴とする請求項１に記載の電気機械変換装置。
【請求項３】
前記応力緩和層と前記光反射層との間に、該光反射層を支持する光反射層支持層が設けられ、該光反射層支持層は、前記応力緩和層より剛性が高いことを特徴とする請求項１または２に記載の電気機械変換装置。
【請求項４】
前記応力緩和層は、音響インピーダンスが１ＭＲａｙｌｓ以上２ＭＲａｙｌｓ以下であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の電気機械変換装置。
【請求項５】
前記応力緩和層は、ヤング率が０ＭＰａ以上１００ＭＰａ以下であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の電気機械変換装置。
【請求項６】
前記応力緩和層と前記光反射層との間に、該光反射層を支持する光反射層支持層が設けられ、前記光反射層支持層は、音響インピーダンスが１ＭＲａｙｌｓ以上５ＭＲａｙｌｓ以下であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の電気機械変換装置。
【請求項７】
前記応力緩和層と前記光反射層との間に、該光反射層を支持する光反射層支持層が設けられ、前記光反射層支持層は、ヤング率が１００ＭＰａ以上２０ＧＰａ以下であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の電気機械変換装置。
【請求項８】
前記応力緩和層は、ポリジメチルシロキサンであることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の電気機械変換装置。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか１項に記載の電気機械変換装置と、光源と、データ処理装置と、を有し、
前記電気機械変換装置は、前記光源から発振した光が被検体に照射されることにより発生する音響波を受信して電気信号に変換し、
前記データ処理装置は、前記電気信号を用いて画像データを生成することを特徴とする光音響装置。