Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月27日(2014.5.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液滴を吐出する複数のノズルと、前記ノズルが通じる個別液室と、複数の前記個別液室に液体を供給する共通液室と、前記個別液室内の液体を加圧する圧力を発生する圧力発生手段と、を有する記録ヘッドと、
１駆動周期ごとに、少なくとも４つ以上の駆動パルスを時系列で含む駆動波形を生成出力する駆動波形生成手段と、
前記駆動波形生成手段から出力された前記駆動波形に含まれる複数の駆動パルスのうちの所要の１又は２以上の駆動パルスを選択して前記記録ヘッドの前記圧力発生手段に与える手段と、を有し、
前記選択手段で前記駆動パルスを選択することで、前記記録ヘッドから大きさの異なる３種類以上の液滴を選択的に吐出させることが可能であり、
前記駆動波形は、
最も大きな液滴を吐出させる、前記駆動波形の最後に配置された駆動パルスを含む３つ以上の駆動パルスを有し、かつ、
前記個別液室の固有振動周期をＴｃとするとき、最も小さな液滴を吐出させる駆動パルスを、前記駆動波形の出力開始時点から２Ｔｃないし４Ｔｃの範囲内で出力する
波形である
ことを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記最も小さな液滴を吐出させる駆動パルスを、前記駆動波形の出力開始時点から３Ｔｃないし４Ｔｃの範囲内で出力することを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記駆動波形は、前記最も大きな滴を吐出させる複数の駆動パルスのうち、最後の駆動パルスは、前記個別液室の容積を膨張させる第１膨張波形要素と、前記膨張状態を保持する第１保持波形要素と、液滴を吐出するために前記個別液室の容積を収縮させる収縮波形要素と、前記収縮状態を保持する第２保持波形要素と、メニスカスを前記個別液室側に再び戻す第２膨張波形要素とを含むことを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記駆動波形は、前記最も小さな滴と最も大きな滴との間の大きさの滴を吐出させる駆動パルスとして、最後の駆動パルスと、最後の駆動パルスより１つ前の駆動パルスとを含み、
最後の駆動パルスより１つ前の駆動パルスの開始点は、前記最も小さい滴を吐出させる駆動パルスの開始点から２Ｔｃ以上の位置に配置されている
ことを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記最後の駆動パルスと、最後の駆動パルスより１つ前の駆動パルスとは、開始点の間隔が、０．２５Ｔｃないし１．０Ｔｃの範囲内であることを特徴とする請求項４に記載の画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年1月20日(2014.1.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
延伸処理が施されたポリマーフィルムをケーシングの内部で該ケーシングの内部に設けられた複数の搬送ローラの搬送路に沿って搬送して過熱水蒸気を接触させる処理を有し、
前記ケーシングの内部は、前記ケーシングの外部との湿度変化率を１００ｇ／ｍ３・ｓｅｃ以上にするとともに、
前記ケーシングの内部に設けられた前記複数の搬送ローラの１本目の搬送ローラは、前記延伸処理が施されたポリマーフィルムの寸法変化率が０．０５％／ｓｅｃ以下の位置であり、前記延伸処理が施されたポリマーフィルムへの面圧が３５０Ｐａ以下にすることを特徴とするポリマーフィルムの製造方法。
【請求項２】
前記ポリマーフィルムは、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムであることを特徴とする請求項１に記載のポリマーフィルムの製造方法。
【請求項３】
前記延伸処理が施されたポリマーフィルムの厚みは４０〜６０μｍであることを特徴とする請求項１又は２に記載のポリマーフィルムの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は、前記目的を達成するために、延伸処理が施されたポリマーフィルムをケーシングの内部で該ケーシングの内部に設けられた複数の搬送ローラの搬送路に沿って搬送して過熱水蒸気を接触させる処理を有し、前記ケーシングの内部は、前記ケーシングの外部との湿度変化率を１００ｇ／ｍ３・ｓｅｃ以上にするとともに、前記ケーシングの内部に設けられた前記複数の搬送ローラの１本目の搬送ローラは、前記延伸処理が施されたポリマーフィルムの寸法変化率が０．０５％／ｓｅｃ以下の位置であり、前記延伸処理が施されたポリマーフィルムへの面圧が３５０Ｐａ以下にすることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
フィルム製造設備を用いてＴＡＣフィルム３を製造した。紫外線吸収剤溶液に、マット剤液や後述するレターデーション制御剤を含む液を添加し、インラインミキサで混合攪拌して混合添加剤を得た。添加剤供給ラインは、混合添加剤を配管内に送液した。インラインミキサは原料ドープと混合添加剤とを混合攪拌して流延ドープを得た。流延ドラムは、制御部の制御の下、軸を中心に回転し、走行方向における周面の速度を５０ｍ／分以上２００ｍ／分以下の範囲内でほぼ一定となるように保持した。流延ドラムの周面の温度を、−１０℃以上１０℃以下の範囲内でほぼ一定となるように保持した。流延ダイは、流延ドープを周面上に流延し、周面に流延膜を形成した。冷却により、流延膜が自己支持性を有するものとなった後、剥取ローラを用いて、流延ドラムから流延膜を湿潤フィルムとして剥ぎ取った。剥取不良を抑制するために流延ドラムの速度に対する剥取速度（剥取ローラドロー）を、１００．１％〜１１０％の範囲で適切に調整した。湿潤フィルムは、渡り部、ピンテンタ、及び乾燥室へ順次案内された。渡り部、ピンテンタ、及び乾燥室は、湿潤フィルムに乾燥空気をあてて、所定の乾燥処理を行った。この乾燥処理によって得られるＴＡＣフィルム３を冷却室に送った。冷却室では、ＴＡＣフィルム３を３０℃以下になるまで冷却した。その後、ＴＡＣフィルム３に、除電処理、ナーリング付与処理などを行った後、巻取室８に搬送した。巻取室８では、プレスローラで所望のテンションを付与しつつ、ＴＡＣフィルム３を巻取機の巻き芯に巻き取った。フィルム製造設備により製造されたＴＡＣフィルム３は、幅が１６００ｍｍ〜２５００ｍｍであり、膜厚が１１０μｍであった。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月5日(2013.12.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
薄膜形成装置であって、
真空槽と、
前記真空槽の内部で基板を保持可能な基板ホルダと、
前記真空槽の内部で基板ホルダに対向させた状態でターゲットを取り付け可能な電極と、
前記真空槽の内壁への膜の付着を防止するためのシールドと、を有し、
前記シールドは、前記真空槽の側壁から前記基板に向かって突出するように形成された曲面を有し、
前記シールドは、前記曲面として、前記真空槽の側壁から前記基板に向かう方向において前記シールドの断面の曲率半径が連続的に減少する曲面又は前記方向において前記シールドの断面の曲率半径が段階的に減少する曲面を有することを特徴とする薄膜形成装置。
【請求項２】
薄膜形成装置であって、
真空槽と、
前記真空槽の内部で基板を保持可能な基板ホルダと、
前記真空槽の内部で基板ホルダに対向させた状態でターゲットを取り付け可能な電極と、
前記真空槽の内壁への膜の付着を防止するためのシールドと、を有し、
前記シールドは、前記電極から前記基板ホルダに向かって突出するように形成された曲面を有し、
前記シールドは、前記曲面として、前記電極から前記基板ホルダに向かう方向において前記シールドの断面の曲率半径が連続的に減少する曲面又は前記方向において前記シールドの断面の曲率半径が段階的に減少する曲面を有することを特徴とする薄膜形成装置。
【請求項３】
前記段階的に変化する前記曲率半径の曲率変化率が０．３３未満であることを特徴とする請求項１または２に記載の薄膜形成装置。
【請求項４】
前記シールドは、ステンレス、アルミニウム、チタン、鉄、クロム、ニッケル、銅、または、これらの合金で製作されており、前記シールドの表面はブラスト処理、又は、アルミニウム、アルミナ、チタン、ニッケル、銅、イットリア、またはこれらの複合物質で溶射処理されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の薄膜形成装置。
【請求項５】
前記シールドは、タングステン又はチタンを含む膜の成膜で使用されることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の薄膜形成装置。
【請求項６】
基板側の前記曲率半径は、前記真空槽の側壁側の曲率半径よりも小さいことを特徴とする請求項１に記載の薄膜形成装置。
【請求項７】
基板ホルダ側の前記曲率半径は、電極側の前記曲率半径よりも小さいことを特徴とする請求項２に記載の薄膜形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】薄膜形成装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、半導体、磁気記録媒体、太陽電池、液晶ディスプレイ等の製造における成膜工程で使用される薄膜形成装置に関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明の一つの側面にかかる薄膜形成装置は、真空槽と、
前記真空槽の内部で基板を保持可能な基板ホルダと、
前記真空槽の内部で基板ホルダに対向させた状態でターゲットを取り付け可能な電極と、
前記真空槽の内壁への膜の付着を防止するためのシールドと、を有し、
前記シールドは、前記真空槽の側壁から前記基板に向かって突出するように形成された曲面を有し、
前記シールドは、前記曲面として、前記真空槽の側壁から前記基板に向かう方向において前記シールドの断面の曲率半径が連続的に減少する曲面又は前記方向において前記シールドの断面の曲率半径が段階的に減少する曲面を有することを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
あるいは、本発明の他の側面にかかる薄膜形成装置は、真空槽と、
前記真空槽の内部で基板を保持可能な基板ホルダと、
前記真空槽の内部で基板ホルダに対向させた状態でターゲットを取り付け可能な電極と、
前記真空槽の内壁への膜の付着を防止するためのシールドと、を有し、
前記シールドは、前記電極から前記基板ホルダに向かって突出するように形成された曲面を有し、
前記シールドは、前記曲面として、前記電極から前記基板ホルダに向かう方向において前記シールドの断面の曲率半径が連続的に減少する曲面又は前記方向において前記シールドの断面の曲率半径が段階的に減少する曲面を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成26年1月16日(2014.1.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガスタービン（１０）内における静圧回復及び排出物形成を改善するシステムであって、当該システムが、
前記ガスタービン（１０）の圧縮機セクション（１４）の下流に配置されたブリードディフューザ（５２）であって、前記圧縮機セクション（１４）から流れる加圧空気流を拡散させるように構成されたブリードディフューザ（５２）と、
燃焼器（３０）内で主燃焼システム（３２）の下流に設置された二次燃焼システム（５８）であって、燃料供給源（８０）から燃料を受けかつ吐出するように構成された１以上の燃料噴射器（７６）にして前記主燃焼システム（３２）の燃料ノズル組立体（４２）の下流に配置された１以上の燃料噴射器（７６）を備える二次燃焼システム（５８）と、
前記ブリードディフューザ（５２）から前記二次燃焼システム（５８）まで延在するブリードダクト（５４）であって、前記加圧空気流によるブリード空気（５６）を前記二次燃焼システム（５８）に導くように構成されたブリードダクト（５４）と
を備えており、前記二次燃焼システム（５８）内に流入する前記ブリード空気（５６）が、前記１以上の燃料噴射器（７６）から吐出された燃料と混合して空気／燃料混合気を形成する、システム。
【請求項２】
前記ブリードディフューザ（５２）が、前記ガスタービン（１０）の圧縮機吐出ケーシング（２４）によって形成される、請求項１記載のシステム。
【請求項３】
前記ブリードディフューザ（５２）が渦流制御式ディフューザを含み、前記渦流制御式ディフューザが、前記加圧空気流から前記ブリード空気（５６）を吸込むように構成された１以上の渦流チャンバ（６０）を含む、請求項１又は請求項２記載のシステム。
【請求項４】
前記ブリードダクト（５４）が、前記ガスタービン（１０）の圧縮機吐出ケーシング（２４）内に形成された通路（５９）によって部分的に形成される、請求項１乃至請求項３のいずれか１項記載のシステム。
【請求項５】
前記燃焼器（３０）のトランジションピース（３４）を支持するように構成されたブラケット（７０）を含み、前記ブリードダクト（５４）が、前記ブラケット（７０）によって形成された１以上の流路（７２、７４）によって部分的に形成される、請求項１乃至請求項４のいずれか１項記載のシステム。
【請求項６】
前記１以上の燃料噴射器（７６）が、前記ブラケット（７０）の１以上の流路（７２、７４）内に配置される、請求項５記載のシステム。
【請求項７】
前記ブラケット（７０）内に形成された第１の流路（７２）及び第２の流路（７４）を含み、第２の燃焼システム（５８）が、第１の流路（７２）内に配置された第１の燃料噴射器（７６）及び第２の流路（７４）内に配置された第２の燃料噴射器（７６）を含む、請求項５記載のシステム。
【請求項８】
第２の燃焼システム（５８）が、前記ブラケット（７０）とトランジションピース（３４）の間に配置された空気マニホルド（８４）を含み、前記空気マニホルド（８４）が、前記ブリードダクト（５４）から前記ブリード空気（５６）を受けるように構成される、請求項５記載のシステム。
【請求項９】
前記二次燃焼システム（５８）が複数の燃料噴射器（７６）を含み、前記複数の燃料噴射器（７６）が前記空気マニホルド（８４）内に配置される、請求項８記載のシステム。
【請求項１０】
静圧回復及び排出物形成を改善したガスタービン（１０）であって、
該ガスタービン（１０）に流入する空気流を加圧するように構成された圧縮機セクション（１４）と、
前記圧縮機セクション（１４）から流れる前記空気流を受けるように構成された１以上の燃焼器（３０）を備えまた該１以上の燃焼器（３０）が空気／燃料混合気を混合しかつ燃焼させる主燃焼システム（３２）を備えた燃焼器セクション（１６）と、
前記燃焼器セクション（１６）の下流に配置されかつ該燃焼器セクション（１６）から高温燃焼生成物を受けるように構成されたタービンセクション（１８）と、
該ガスタービン（１０）内における静圧回復及び排出物形成を改善する請求項１乃至請求項９のいずれか１項記載のシステムと
を備えるガスタービン（１０）。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月8日(2014.10.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）微生物の細胞の細胞壁を破壊して油を放出させる工程、および
（ｂ）前記工程（ａ）で形成された細胞壁細片の少なくとも一部から油を分離する工程を含む
微生物の細胞から１種以上のポリ不飽和脂肪酸を含有する油を生成する方法であって、
前記段階（ａ）および（ｂ）において前記油のための溶媒を用いない、方法。
【請求項２】
細胞が、物理的、酵素的または機械的に破壊される請求項１記載の方法。
【請求項３】
破壊が、均質化を含む請求項２記載の方法。
【請求項４】
前記均質化中の圧力が、１５０〜９００ｂａｒである、請求項３記載の方法。
【請求項５】
（ｃ）前記微生物由来の油または１種以上のポリ不飽和脂肪酸を抽出、精製または単離する工程
を更に含む請求項１〜４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
工程（ｂ）における分離が遠心分離によるものである請求項１〜５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
前記遠心分離の遠心力が、２，０００〜１５，０００ｇである、請求項６記載の方法。
【請求項８】
分離が、油状の層と水層の形成をもたらす請求項１〜７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
油状の層が、水層よりも上層である請求項８記載の方法。
【請求項１０】
前記油が、Ｃ１８、Ｃ２０またはＣ２２ω−３系またはω−６系ポリ不飽和脂肪酸であるポリ不飽和脂肪酸を含有する請求項１〜９のいずれかに記載の方法。
【請求項１１】
微生物の細胞が、酵母、バクテリア、真菌類または藻類の細胞である請求項１〜１０のいずれかに記載の方法。
【請求項１２】
微生物の細胞が、真菌類または藻類の細胞である請求項１１記載の方法。
【請求項１３】
段階（ａ）の前に、微生物の細胞を、前記油が生産され得る条件で培養または発酵し、および必要に応じて前記細胞を低温殺菌および加熱することを含む請求項１〜１２のいずれかに記載の方法。
【請求項１４】
細胞壁の破壊が、１種以上の細胞壁分解酵素または界面活性剤によって促進される請求項１〜１３のいずれかに記載の方法。
【請求項１５】
分離誘導因子が前記（ｂ）中に存在する請求項１〜１４のいずれかに記載の方法。
【請求項１６】
前記ポリ不飽和脂肪酸が、アラキドン酸、エイコサペンタエン酸及びドコサヘキサエン酸から選ばれる、請求項１〜１５のいずれかに記載の方法。
【請求項１７】
前記ポリ不飽和脂肪酸が、アラキドン酸及びドコサヘキサエン酸から選ばれる、請求項１６記載の方法。
【請求項１８】
段階（ａ）の前に、前記細胞を低温殺菌することを含む請求項１〜１７のいずれかに記載の方法。
【請求項１９】
請求項１〜１８のいずれかに記載の方法で生成される、１種以上のポリ不飽和脂肪酸を含有する微生物由来の油。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月20日(2014.10.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検体の周囲を回転自在なＸ線管を有する架台と、
前記Ｘ線管からのＸ線の線量を前記回転軸で高く周辺で低くするために前記Ｘ線管と前記被検体との間に配置されるフィルタと、
前記Ｘ線管の回転軸に直交する２軸に関し移動自在な天板を有する寝台と、
前記被検体に関する関心位置を前記Ｘ線管の回転軸の位置に一致又は最接近させるために前記天板の移動を制御する制御部とを具備することを特徴とするＸ線コンピュータ断層撮影装置。
【請求項２】
前記制御部は、前記関心位置を前記Ｘ線管の回転中心に一致させるための前記天板の移動距離が前記天板の移動限界の範囲内であるか否かを判断することを特徴とする請求項１記載のＸ線コンピュータ断層撮影装置。
【請求項３】
前記制御部は、前記指定された位置を前記Ｘ線管の回転軸の位置に一致させるために前記天板の移動を制御することを特徴とする請求項１記載のＸ線コンピュータ断層撮影装置。
【請求項４】
前記制御部は、前記関心位置を前記Ｘ線管の回転軸の位置に一致させたときに前記被検体の全域が撮影視野に収まっているか否かを判断することを特徴とする請求項１記載のＸ線コンピュータ断層撮影装置。
【請求項５】
前記制御部は、前記被検体の全域が撮影視野に収まることを限界条件として、画像再構成範囲の中心を前記Ｘ線管の回転軸に最接近させるために前記天板の移動を制御することを特徴とする請求項４記載のＸ線コンピュータ断層撮影装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明に係るＸ線コンピュータ断層撮影装置は、被検体の周囲を回転自在なＸ線管を有する架台と、前記Ｘ線管からのＸ線の線量を前記回転軸で高く周辺で低くするために前記Ｘ線管と前記被検体との間に配置されるフィルタと、前記Ｘ線管の回転軸に直交する２軸に関し移動自在な天板を有する寝台と、前記被検体に関する関心位置を前記Ｘ線管の回転軸の位置に一致又は最接近させるために前記天板の移動を制御する制御部とを具備する。
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月23日(2014.7.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バグフィルターの粉体掃い落とし時に、バグフィルターに上部から瞬間的に増幅空気を送り出すためのバグフィルター清掃用コアンダインジェクターであって、
圧縮空気管から圧縮空気が供給される接続孔を有し、該接続孔を通してパルス状に供給された圧縮空気を噴射する噴射スリットをその内径の円周上に有する環状部材と、該環状部材の下方同軸上に位置し、該噴射スリットから一次空気が瞬間的にパルス状に噴射される際に、該一次空気に上方からの誘引空気を伴った増幅空気をバグフィルターに送り出す内径４０ｍｍ以上２００ｍｍ以下の筒状部材とからなるバグフィルター清掃用コアンダインジェクターであって、
該接続孔は該環状部材の下部に１個のみ存在しており、
該環状部材は、環状部材下部と環状部材上部とからなり、該環状部材下部と該筒状部材はコアンダ面形成体を介して一体となっており、
該環状部材上部の内径側に位置する内径側環状部材上部を噴射スリット上部とし、該コアンダ面形成体を噴射スリット下部として形成された噴射スリットの形状が、該一次空気を水平面より下方に噴射させるようになっていることを特徴とするバグフィルター清掃用コアンダインジェクター。
【請求項２】
上記環状部材下部と上記環状部材上部とが外周側をかしめることによって接続されている請求項１に記載のバグフィルター清掃用コアンダインジェクター。
【請求項３】
上記噴射スリットの形状が、上記内径側環状部材上部と上記コアンダ面形成体の最上点との相対位置を調整することによって上記一次空気を水平面より下方に噴射させるようになっている請求項１又は請求項２に記載のバグフィルター清掃用コアンダインジェクター。
【請求項４】
上記内径側環状部材上部の最下点又は立ち上り点の方が、上記コアンダ面形成体の最上点より環状部材の中心側に位置する請求項３に記載のバグフィルター清掃用コアンダインジェクター。
【請求項５】
上記噴射スリット上部を形成する上記内径側環状部材上部の内側に、上記噴射スリット下部を形成する上記コアンダ面形成体の曲面に沿うように下方に屈曲した一次空気ガイド環が設けてある請求項１又は請求項２に記載のバグフィルター清掃用コアンダインジェクター。
【請求項６】
上記コアンダ面形成体の曲面との距離が等しいように下方に屈曲した一次空気ガイド環が設けてある請求項５に記載のバグフィルター清掃用コアンダインジェクター。
【請求項７】
請求項１ないし請求項６の何れかの請求項に記載のバグフィルター清掃用コアンダインジェクターが、複数の整列したバグフィルターの上部に、それぞれ１個ずつ設置されているものであることを特徴とするバグフィルター本体。
【請求項８】
上記筒状部材の側面であり上記環状部材の片側の下側である部分を圧縮空気管が１本のみ横設されており、上記環状部材の他の側の下側を、圧縮空気が流入しない補助部材が１本のみ横設されている請求項７に記載のバグフィルター本体。
【請求項９】
バグフィルターの粉体掃い落とし時に、バグフィルターに上部から瞬間的に増幅空気を送り出すための請求項１ないし請求項４の何れかの請求項に記載のバグフィルター清掃用コアンダインジェクターを製造するための製造方法であって、
該コアンダインジェクターを、圧縮空気管から圧縮空気が供給される接続孔を有し、該接続孔を通してパルス状に供給された圧縮空気を噴射する噴射スリットをその内径の円周上に有する環状部材と、該環状部材の下方同軸上に位置し、該噴射スリットから一次空気が瞬間的にパルス状に噴射される際に、該一次空気に上方からの誘引空気を伴った増幅空気をバグフィルターに送り出す内径４０ｍｍ以上２００ｍｍ以下の筒状部材とから形成させ、
該環状部材を、環状部材下部と環状部材上部とから形成させ、該環状部材下部と該筒状部材とを、コアンダ面形成体を介して一体とし、
該環状部材上部の内径側に位置する内径側環状部材上部を噴射スリット上部とし、該コアンダ面形成体を噴射スリット下部として形成された噴射スリットの形状を、該一次空気を水平面より下方に噴射させるようにし、
該内径側環状部材上部と該コアンダ面形成体の最上点との相対位置を調整することによって上記一次空気を水平面より下方に噴射させるようにすることを特徴とするバグフィルター清掃用コアンダインジェクターの製造方法。
【請求項１０】
上記内径側環状部材上部の最下点又は立ち上り点の、上記コアンダ面形成体の最上点に対する相対的位置を変化させて、単位時間にバグフィルターに送り出される増幅空気の量が、単位時間に噴射される一次空気の量の２倍以上になるように噴射スリットの形状を設定する請求項９に記載のバグフィルター清掃用コアンダインジェクターの製造方法。
【請求項１１】
増幅空気の量が最大になる点を探索することにより噴射スリットの形状を設定する請求項９又は請求項１０に記載のバグフィルター清掃用コアンダインジェクターの製造方法。
【請求項１２】
内径側環状部材上部の最下点を、コアンダ面形成体の最上点から、上記環状部材の中心側に徐々に移動させることにより、増幅空気の量が最大になる点を探索する請求項１１に記載のバグフィルター清掃用コアンダインジェクターの製造方法。
【請求項１３】
請求項５又は請求項６に記載のバグフィルター清掃用コアンダインジェクターを製造するための製造方法であって、上記内径側環状部材上部の内側に、下方に屈曲した一次空気ガイド環を設けて、単位時間にバグフィルターに送り出される増幅空気の量が、単位時間に噴射される一次空気の量の２倍以上になるように噴射スリットの形状を設定するバグフィルター清掃用コアンダインジェクターの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年8月4日(2014.8.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
その周縁部に上澄み液を排出するオーバーフロー部と、その中心部に垂直に配設された筒状のフィードウェルとを有する沈降分離槽と、撹拌槽とを備えたシックナーを多段に設けて、スラリーを多段洗浄しながら該スラリー中の固形分を分離し、該固形分が除去された溶液を得る固液分離処理方法であって、
上記スラリーは、ニッケル酸化鉱石の湿式製錬方法において該ニッケル酸化鉱石に対して浸出処理を施して得られた浸出スラリーであり、
上記スラリー中の固形分を凝集させるための凝集剤を添加する際に、所定割合の凝集剤を第１段目のシックナーにおけるフィードウェルに添加し、その残りの凝集剤を第２段目のシックナーにおけるオーバーフロー部に添加し、
上記浸出スラリー中の浸出残渣を分離して、ニッケル及びコバルトと共に不純物元素を含む浸出液を得ることを特徴とする固液分離処理方法。
【請求項２】
上記第１段目のシックナーに添加する凝集剤量と、上記第２段目のシックナーに添加する凝集剤量の割合を９５：５〜５０：５０とすることを特徴とする請求項１に記載の固液分離処理方法。
【請求項３】
ニッケル酸化鉱石に硫酸を添加して高温高圧下で浸出して得られた浸出液からニッケル及びコバルトを回収するニッケル酸化鉱石の湿式製錬方法において、
その周縁部に上澄み液を排出するオーバーフロー部と、その中心部に垂直に配設された筒状のフィードウェルとを有する沈降分離槽と、撹拌槽とを備えたシックナーを多段に設けて、上記ニッケル酸化鉱石を浸出して得られた浸出スラリーを多段洗浄しながら該浸出スラリー中の浸出残渣を分離する固液分離処理に際し、
所定の割合の凝集剤を第１段目のシックナーにおけるフィードウェルに添加し、その残りの凝集剤を第２段目のシックナーにおけるオーバーフロー部に添加して、上記浸出スラリーを多段洗浄しながら固液分離処理を施す固液分離工程を含むことを特徴とするニッケル酸化鉱石の湿式製錬方法。
【請求項４】
上記第１段目のシックナーに添加する凝集剤量と、上記第２段目のシックナーに添加する凝集剤量の割合を９５：５〜５０：５０とすることを特徴とする請求項３に記載のニッケル酸化鉱石の湿式製錬方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
すなわち、本発明に係る固液分離処理方法は、その周縁部に上澄み液を排出するオーバーフロー部と、その中心部に垂直に配設された筒状のフィードウェルとを有する沈降分離槽と、撹拌槽とを備えたシックナーを多段に設けて、スラリーを多段洗浄しながら該スラリー中の固形分を分離し、該固形分が除去された溶液を得る固液分離処理方法であって、上記スラリーは、ニッケル酸化鉱石の湿式製錬方法において該ニッケル酸化鉱石に対して浸出処理を施して得られた浸出スラリーであり、上記スラリー中の固形分を凝集させるための凝集剤を添加する際に、所定割合の凝集剤を第１段目のシックナーにおけるフィードウェルに添加し、その残りの凝集剤を第２段目のシックナーにおけるオーバーフロー部に添加し、上記浸出スラリー中の浸出残渣を分離して、ニッケル及びコバルトと共に不純物元素を含む浸出液を得ることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2014138918.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月22日(2014.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
ビームは、建築工学で使用される水平または傾斜支持体である。構造体のビームの仕事は、たとえば床スラブ、屋根、天井、隔壁、橋、道路、レールなどの上部構造を支持することである。
［先行技術文献］
［特許文献１］ 米国特許出願公開第２０１０／００９５５２７Ａ１号明細書
［特許文献２］ 特開昭６０−０４６８８４号公報
［特許文献３］ 米国特許出願公開第２０１０／０６５５３９Ａ１号明細書
【手続補正書】
【提出日】平成26年8月7日(2014.8.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２つの容器の内容物を混合するためのシステムであって、
空洞および前記空洞への開口を画定する第１容器であり、該第１容器には第１の物質が入っており、前記第１容器を封止するように前記開口内に栓が位置決めされる、第１容器と、
空洞を画定する第２容器であり、第２の物質が入っている、第２容器と、
前記第２容器に取り付けられたポートアセンブリとを備え、前記ポートアセンブリが、前記第１容器を受けるように構成され、前記ポートアセンブリが、（ｉ）前記ポートアセンブリの空洞内で軸方向に固定され、前記システムの作動中に前記第１容器が前記第２容器の方へ軸方向に移動するときに前記第１容器の前記栓を前記第１容器の前記空洞内へ押し込むことによって前記第１容器を開くように構成されたアクチュエータと、（ｉｉ）前記ポートアセンブリの前記空洞と前記第２容器の前記空洞との間のシールとを備え、前記シールが、前記システムの作動前の前記第１容器と前記第２容器との間の流体連通を防止する、システム。
【請求項２】
前記シールが、前記システムの作動中に前記第１容器が前記第２容器の方へ軸方向に移動するときに前記アクチュエータに対して軸方向に移動することによって開くように構成された可動プラグを備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記第１容器が、前記第１容器を前記ポートアセンブリに固定するために、前記ポートアセンブリの第２嵌合部材と係合するように構成された第１嵌合部材を備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
前記ポートアセンブリの前記第２嵌合部材が、２つの異なる軸方向位置、すなわち（ｉ）前記第１容器と前記第２容器との間で流体連通が確立されないドッキング位置、および（ｉｉ）前記第１容器と前記第２容器との間で流体連通が確立される作動位置で、前記第１容器を前記第２容器に固定するために、前記第１容器の前記第１嵌合部材と係合するように構成される、請求項３に記載のシステム。
【請求項５】
前記第１容器の前記第１嵌合部材が、断続的な外周周辺部を有する半径方向に突き出るフランジを備える、請求項３に記載のシステム。
【請求項６】
第１容器の内容物を第２容器の内容物と混合することを容易にするポートアセンブリであって、
第１容器に接続されるように構成された保持部と、
第２容器に接続されるように構成されたポートハウジングと、
ポートハウジングの空洞内で軸方向に固定されたアクチュエータとを備え、前記アクチュエータが、第１容器が第２容器の方へ軸方向に移動するときに第１容器の開口を封止する栓を第１容器の空洞内へ押し込むことによって第１容器を開くように構成される、ポートアセンブリ。
【請求項７】
前記ポートアセンブリが、第１容器と第２容器とが前記ポートアセンブリを介して接続されているときに第１容器と第２容器との間の流体連通を防止するシールをさらに備える、請求項６に記載のポートアセンブリ。
【請求項８】
第１容器が第２容器の方へ軸方向に移動することで、前記ポートアセンブリの前記シールを開き、第１容器の栓が第１容器の空洞内へと押し込まれることと共に、第１容器と第２容器との間に流体連通を提供する、請求項７に記載のポートアセンブリ。
【請求項９】
前記シールが、第１容器が第２容器の方へ軸方向に移動するときに前記アクチュエータに対して軸方向に移動することによって開くように構成された可動プラグを備える、請求項８に記載のポートアセンブリ。
【請求項１０】
前記保持部が、少なくとも２つの異なる軸方向位置、すなわち（ｉ）第１容器の栓が第１容器の開口を封止するドッキング位置、および（ｉｉ）第１容器の栓が第１容器の空洞内に位置する作動位置で、第１容器を前記ポートアセンブリに接続するために、第１容器の嵌合部材と係合するように構成される、請求項６に記載のポートアセンブリ。
【請求項１１】
前記ポートアセンブリが、第１容器の栓を第１容器の空洞内へ押し込むことなく、第１容器に接続されるように構成される、請求項６に記載のポートアセンブリ。
【請求項１２】
２つの容器の内容物を混合するための方法であって、
空洞および前記空洞への開口を画定する第１容器を提供するステップであり、該第１容器には第１の物質が入っており、前記第１容器を封止するように前記開口内に栓が位置決めされる、ステップと、
空洞を画定する第２容器にして、第２の物質が入っている第２の容器を提供するステップであり、前記第２容器にポートアセンブリが取り付けられ、前記ポートアセンブリが、前記第１容器に接続されるように構成され、前記ポートアセンブリが、前記ポートアセンブリの空洞内で軸方向に固定されたアクチュエータを備え、前記アクチュエータが、作動中に前記第１容器の前記栓を前記第１容器の前記空洞内へ押し込むことによって前記第１容器を開くように構成される、ステップと、
前記栓が前記第１容器の前記開口を封止するドッキング位置で前記第１容器を前記第２容器に接続するステップと、
前記栓が前記第１容器の前記空洞内に位置し、前記第１容器と前記第２容器とが互いに流体連通する作動位置まで、前記第１容器を前記第２容器の方へ軸方向に移動させるステップとを含む方法。
【請求項１３】
前記ポートアセンブリが、前記ポートアセンブリの前記空洞と前記第２容器の前記空洞との間にシールをさらに備え、前記シールが、前記作動位置まで前記第１容器を前記第２容器の方へ軸方向に移動させる前の前記第１容器と前記第２容器との間の流体連通を防止する、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記シールが、前記第１容器が前記第２容器の方へ軸方向に移動するときに前記アクチュエータに対して軸方向に移動することによって開くように構成された可動プラグを備える、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記第１容器が、前記第１容器を前記ポートアセンブリに接続するために、前記ポートアセンブリの第２嵌合部材と係合するように構成された第１嵌合部材を備える、請求項１２に記載の方法。
【請求項１６】
前記第１容器の前記第１嵌合部材が、断続的な外周周辺部を有する半径方向に突き出るフランジを備える、請求項１５に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月18日(2014.9.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対象の眼を光退色させるための装置であって、
ａ．前記対象の眼の網膜の選択された領域だけを光退色光に曝露し、当該選択された領域における少なくとも１つの視物質の少なくとも一部分を光退色させることによって、光退色に供される対象の眼の網膜の領域を空間的に調整する手段；及び
ｂ．前記光退色光に対する応答を監視するために精神物理学的試験を施行する手段、
を含む、前記装置。
【請求項２】
精神物理学的試験が、暗順応、明所視感度、暗所視感度、視力、コントラスト感度、色彩感度、色識別、視野、またはこれらの組み合わせを測定する、請求項１の装置。
【請求項３】
精神物理学的試験が、比色分析、暗順応分析、視覚感度試験、コントラスト感度試験、空間分解能力試験、光ストレス試験、交照測光試験、副尺視力試験、運動検出試験、物体認識試験、または視野検査試験である、請求項１の装置。
【請求項４】
光退色光が、光退色光に対する光受容器の応答を強める又は最小限にする可視スペクトルの範囲内の調整された波長スペクトルを有する、請求項１の装置。
【請求項５】
調整された波長スペクトルが、
約５０５ｎｍの波長、約５０５ｎｍを中心とする波長、約４１９ｎｍの波長、約４１９ｎｍを中心とする波長、約５３１ｎｍの波長、約５３１ｎｍを中心とする波長、約５５８ｎｍの波長、約５５８ｎｍを中心とする波長、約４６０ｎｍの波長、約４６０ｎｍを中心とする波長、約６５０ｎｍの波長、約６５０ｎｍを中心とする波長、約４１０ｎｍの波長、約４１０ｎｍを中心とする波長、約５７０ｎｍの波長、約５７０ｎｍを中心とする波長、および約４８０ｎｍ以上の波長から成る群から選択される波長
から本質的に成る、請求項１の装置。
【請求項６】
光退色光が制限されて、網膜の選択された領域を光退色光に曝露する、請求項１の装置。
【請求項７】
マスク、選択された領域へだけの投射、対象の網膜の方向付けまたはその組み合わせを使用することによって、光退色光が制限される、請求項６の装置。
【請求項８】
精神物理学的試験が、対象の眼の網膜を標的刺激光に曝露することをさらに含む、請求項１の装置。
【請求項９】
光退色光の調整された波長スペクトルおよび標的刺激光の調整された波長スペクトルが、互いに異なる、請求項８の装置。
【請求項１０】
光退色光の調整された波長スペクトルおよび標的刺激光の調整された波長スペクトルが、同じである、請求項８の装置。
【請求項１１】
標的刺激光源が、調整された波長スペクトルを有する、請求項８の装置。
【請求項１２】
選択された領域が、光退色光および標的刺激光に曝露される、請求項８の装置。
【請求項１３】
選択された領域が、光退色光だけに曝露される、請求項８の装置。
【請求項１４】
選択された領域が、窩から周辺網膜への偏心性の関数として選択される、請求項１の装置。
【請求項１５】
対象が加齢性黄斑変性に罹患しているか、またはその危険性があることを決定するために使用される、請求項１４の装置。
【請求項１６】
選択された領域が、窩の外側にある、完全に斑の内側にある、周辺網膜にある、下垂直子午線に位置する、上垂直子午線上に位置する、約０°から約０．５°偏心して位置する、約２°から約１０°偏心して位置する、約３°から約１０°偏心して位置する、または約１０°から約３０°偏心して位置する、請求項１の装置。
【請求項１７】
選択された領域が、環状領域である、請求項１の装置。
【請求項１８】
選択された領域が、完全に窩を除く環状領域である、請求項１の装置。
【請求項１９】
選択された領域が、環状領域であり、該環状領域は完全に窩を除き、該環状領域は、約２°またはそれより外側に偏心して位置する内側端、および約１０°またはそれより内側に偏心して位置する外側端を有する、請求項１の装置。
【請求項２０】
選択された領域が、視角の約４°から視角の約６°の領域を包含する、請求項１の装置。
【請求項２１】
対象の眼の網膜の一つ以上の選択された領域を光退色光に曝露して、前記一つ以上の選択された領域の各々における少なくとも１つの視物質の少なくとも一部分を光退色させることをさらに含む、請求項１の装置。
【請求項２２】
前記一つ以上の選択された領域の各々は、異なる偏心度を有する、請求項２１の装置。
【請求項２３】
光退色光が、設定強度を有する、請求項１の装置。
【請求項２４】
設定強度が、４．０５  ｌｏｇ  ｓｃｏｔ  Ｔｄ／ｓｅｃ以下、または３．１５ｌｏｇ  ｓｃｏｔ  Ｔｄ／ｓｅｃ以下である、請求項２３の装置。
【請求項２５】
対象の眼の健康を決定するために使用される、請求項１の装置。
【請求項２６】
対象の眼の健康、対象が眼疾患に罹患しているか、対象に眼疾患発現の危険性があるか、および眼疾患の重症度からなる群から選択されるパラメータを決定するために使用される、請求項１の装置。
【請求項２７】
対象の負担が低減される、対象の不快感が低減される、またはこれらの組み合わせである、請求項１の装置。
【請求項２８】
測定のばらつき、測定の偏りまたはこれらの組み合わせが低減される、請求項１の装置。
【請求項２９】
光退色光を使用した精神物理学的試験の施行の時間的経過が低減される、請求項１の装置。
【請求項３０】
対象の眼を光退色させるための装置であって、
ａ．前記対象の眼の網膜の選択された領域だけを光退色光に曝露し、当該選択された領域における少なくとも１つの視物質の少なくとも一部分を光退色させることによって、光退色に供される対象の眼の網膜の領域を空間的に調整する手段；
ｂ．対象の眼の網膜を標的刺激光に曝露する手段；及び
ｃ．前記光退色光に対する応答を監視するために精神物理学的試験を施行する手段、
を含む、前記装置。
【請求項３１】
対象の眼を光退色させるための装置であって、
ａ．光退色光
ｂ．光退色に供される対象の眼の網膜の領域を空間的に調整して、前記網膜の選択された領域だけを光退色光に曝露する手段；及び
ｃ．前記光退色光に対する応答を監視するために精神物理学的試験を施行する手段、
を含む、前記装置。
【請求項３２】
装置が光退色光を制限して、網膜の選択された領域を光退色光に暴露する、請求項３１の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月22日(2014.7.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技媒体を発射することで遊技を実行可能な遊技機であって、
遊技媒体が進入しやすい第１状態と遊技媒体が進入しにくいまたは進入しない第２状態とに変化可能な可変入賞手段と、
移行条件が成立した後、前記可変入賞手段を前記第１状態に変化させる高頻度制御を行う進入頻度制御手段と、
前記進入頻度制御手段によって前記高頻度制御が実行されているときに、前記可変入賞手段に遊技媒体が進入したことに基づいて、入賞演出を実行する入賞演出実行手段と、
を備え、
前記入賞演出実行手段は、複数態様のうちいずれかで前記入賞演出を実行し、一の前記入賞演出の実行中にさらに他の前記入賞演出を実行するときには、当該一の前記入賞演出と当該他の前記入賞演出の態様が重複しないように前記入賞演出を実行する
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記目的を達成するため、本発明の遊技機は、
（１）遊技媒体を発射することで遊技を実行可能な遊技機（例えばパチンコ遊技機１など）であって、遊技媒体が進入しやすい第１状態と遊技媒体が進入しにくいまたは進入しない第２状態とに変化可能な可変入賞手段（例えば普通可変入賞球装置６Ｂが形成する第２始動入賞口など）と、移行条件が成立した後（例えば大当り遊技状態が終了した後など）、前記可変入賞手段を前記第１状態に変化させる高頻度制御（例えば高ベース状態における時短制御など）を行う進入頻度制御手段（例えばＣＰＵ１０３がステップＳ３２３の処理を実行する部分など）と、前記進入頻度制御手段によって前記高頻度制御が実行されているときに、前記可変入賞手段に遊技媒体が進入したことに基づいて、入賞演出を実行する入賞演出実行手段（例えば演出制御用ＣＰＵ１２０がステップＳ１７７の入賞演出設定処理を実行する部分など）と、を備え、前記入賞演出実行手段は、複数態様のうちいずれかで前記入賞演出を実行し、一の前記入賞演出の実行中にさらに他の前記入賞演出を実行するときには、当該一の前記入賞演出と当該他の前記入賞演出の態様が重複しないように前記入賞演出を実行することを特徴とする。
このような構成によれば、遊技の興趣が向上する。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月8日(2014.10.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
鉛直方向に配置されたレールに沿って移動できる構造体を有し、
前記構造体を前記レールに停止させる位置保持手段と、
前記レールに接する制動片と、前記制動片を介して前記レールを加圧する加圧手段とを備えた非常止め手段と、
前記位置保持手段を解除し、前記構造体を落下させる落下指令手段と、
前記非常止め手段を作動させるトリガ手段と、
加速度測定手段と、
前記加速度測定手段が測定した加速度を記録するデータ記録手段と、
から構成されるエレベータ用レールの試験装置。
【請求項２】
さらに、前記レールを加圧する加圧力を測定する加圧力測定手段を備え、
前記加圧力を前記データ記録手段に記録する構成の請求項１に記載のエレベータ用レールの試験装置。
【請求項３】
さらに、前記加速度測定手段は測定した前記加速度から速度を算出し、前記速度を前記データ記録手段に記録する構成の請求項１または請求項２に記載のエレベータ用レールの試験装置。
【請求項４】
前記トリガ手段は、前記構造体が前記レールに沿って落下した後、予め設定した落下距離に達したことを検知し、前記非常止め手段を作動させる構成の請求項１から請求項３のいずれか１項に記載のエレベータ用レールの試験装置。
【請求項５】
実機の乗りかごの重量をｍｅ、非常止め装置の制動片の面積をＳｅ、制動片の加圧力をＰｅとし、
前記構造体の重量をｍｔ、前記非常止め手段の制動片の面積をＳｔ、前記制動片の加圧力をＰｔとした場合、
Ｐｔ／Ｓｔ＝Ｐｅ／Ｓｅ
Ｓｔ＝Ｓｅ・（ｍｔ／ｍｅ）
の関係が成立するように、前記構造体の重量、前記非常止め手段の制動片の面積、前記制動片の加圧力を選定する構成の請求項１から請求項４のいずれか１項に記載のエレベータ用レールの試験装置。
【請求項６】
さらに、前記レールに接する第２制動片と、前記第２制動片を介して前記レールを加圧する第２加圧手段を備える構成の請求項１から請求項５のいずれか１項に記載のエレベータ用レールの試験装置。
【請求項７】
前記構造体は、１本の前記レールに対して、ガイドローラを有するガイド手段で水平方向に保持する構造とした請求項１から請求項６のいずれか１項に記載のエレベータ用レールの試験装置。
【請求項８】
前記構造体は、対向する２本の前記レールに対して、ガイドローラを有するガイド手段で水平方向に保持する構造とした請求項１から請求項６のいずれか１項に記載のエレベータ用レールの試験装置。
【請求項９】
鉛直方向に配置されたレールに沿って移動できる構造体を有し、前記構造体を前記レールに停止させる位置保持手段と、前記レールに接する制動片と、前記制動片を介して前記レールを加圧する加圧手段とを備えた非常止め手段と、前記位置保持手段を解除し、前記構造体を落下させる落下指令手段と、前記非常止め手段に前記レールの加圧を指令するトリガ手段と、加速度測定手段と、前記加速度測定手段が測定した加速度を記録するデータ記録手段と、から構成されるエレベータ用レールの試験装置を用い、
前記構造体を落下させる構造体落下工程と、
前記加速度測定手段で加速度を測定する加速工程と、
前記トリガ手段により非常止め手段を作動させ、前記加速度測定手段で減速度を測定する非常用止め手段作動工程と、
前記測定した加速度データを前記データ記録手段に記録するデータ記録工程とから
成るエレベータ用レールの試験方法。
【請求項１０】
さらに、前記エレベータ用レールの試験装置は前記レールを加圧する加圧力を測定する加圧力測定手段を備え、
さらに、前記加速工程において、前記加圧力測定手段は前記加圧力を測定し、前記加速度測定手段は測定した前記加速度から速度を算出し、
さらに、前記データ記録工程において、前記加圧力および前記速度を前記データ記録手段に記録する請求項９に記載のエレベータ用レールの試験方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月17日(2013.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
音源部６から読み出された音楽コンテンツ等のデータは、デコーダ４に供給される。デコーダ４は制御・演算部７の制御に応じて必要なデコード処理を行う。例えば圧縮データに対しての伸張デコード等を行う。
デコーダ４は必要なデコード処理を行って、例えばＬ、Ｒ各チャンネルのリニアＰＣＭデータとしてのオーディオ信号（主音声信号）を出力する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
デコーダ４から出力されるオーディオ信号に対しては、イコライザ５、ゲイン調整部２、ＤＡＣ／パワーアンプ３を有する音声信号出力処理部１５で、ヘッドホン装置２０への出力のための処理が行われる。（上述のようにＬ、Ｒチャンネルのうちの１系統のみを図示している。）
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
図５（ａ）にヘッドホン装着判定部９の構成例を示す。ヘッドホン装着判定部９は、除算部３１，平均化部３２，判定部３３を備える。
上記のように、ヘッドホン装着判定部９には、音声信号電圧Ｖ０，Ｖ１が入力される。
除算部３１ではＶ０／Ｖ１の除算を行い、除算値Ｖｄｉｖを得る。
除算値Ｖｄｉｖは、平均化部３２で或る程度の時間長で平均化される。音声信号電圧Ｖ０，Ｖ１は、再生している音楽の内容により時間軸上で変動するため、抵抗Ｒ１の両端電圧（音声信号電圧Ｖ０，Ｖ１）の比（除算値Ｖｄｉｖ）として、ある程度、平均化した値を得るためである。平均化部３２は実際にはローパスフィルタ処理を行うものでよい。
平均化された除算値Ｖｄｉｖ＿ａｖは、判定部３３に供給される。判定部３３は、除算値Ｖｄｉｖ＿ａｖを所定の閾値Ｖｄｉｖ＿ｔｈと比較することで、装着状態／非装着状態の判定を行い、その判定結果ＳＧ１を出力する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
ある時点で、累積値が規制値に達したら、制御・演算部７はステップＳ１３に進み、ゲイン調整部５のゲイン規制を行う。
例えば最大ゲインを、図１（ｂ）に示したボリュームＶ１に相当するゲインに規制する。これによって、難聴対策のための出力音量規制が実行されることとなる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
ステップＳ１０２、ステップＳ１０３、ステップＳ１０４の処理の終了後は、処理動作はステップＳ１０５に進む。ステップＳ１０５では、一定時間の待ち時間が設定され、その時間の後上記動作が繰り返される。なお、待ち時間はゼロでもよい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
除算部３１ではＶ０ｆ／Ｖ１ｆの除算を行い、除算値Ｖｄｉｖｆを得る。つまり抽出された特定の周波数帯域での音声信号電圧Ｖ０，Ｖ１の除算値である。
この除算値Ｖｄｉｖｆは、平均化部３２で或る程度の時間長で平均化され、平均化された除算値Ｖｄｉｖｆ＿ａｖが得られる。この平均化された除算値Ｖｄｉｖｆ＿ａｖは、判定部３３に供給される。判定部３３は、図５（ｂ）の処理で平均化された除算値Ｖｄｉｖ＿ａｖを所定の閾値Ｖｄｉｖ＿ｔｈと比較することで、装着状態／非装着状態の判定を行い、その判定結果ＳＧ１を出力する。この場合、閾値Ｖｄｉｖ＿ｔｈは、特定周波数抽出部３６，３７で抽出される特定周波数帯域での振幅比が、（１＋Ｒ１／ＲL_off）に近いか、或いは（１＋Ｒ１／ＲL_on）に近いかを判定する閾値とされていればよい。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
除算部３１ではＶ０ｔ／Ｖ１ｔの除算を行い、除算値Ｖｄｉｖｔを得る。つまり抽出された特定の周波数帯域での音声信号電圧Ｖ０，Ｖ１のエネルギーの除算値である。
この除算値Ｖｄｉｖｔは、平均化部３２で或る程度の時間長で平均化され、平均化された除算値Ｖｄｉｖｔ＿ａｖが得られる。
判定部３３は、図５（ｂ）の処理で、平均化された除算値Ｖｄｉｖｆ＿ａｖについて所定の閾値Ｖｄｉｖ＿ｔｈと比較することで、装着状態／非装着状態の判定を行い、その判定結果ＳＧ１を出力する。この場合、閾値Ｖｄｉｖ＿ｔｈは、ＢＰＦ４０，４１で抽出される特定周波数抽出部のエネルギー比（振幅比）が、（１＋Ｒ１／ＲL_Off）に近いか、或いは（１＋Ｒ１／ＲL_on）に近いかを判定する閾値とされていればよい。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８７】
このように第３の実施の形態では、ヘッドホン装着判定部９は、音声信号出力処理部１５における処理過程の音声信号電圧（信号Ｇｏｕｔ）基づいて、抵抗Ｒ１の音声信号出力処理部１５側端子電圧（音声信号電圧Ｖ０）に相当する信号Ｖ０’’を生成する。そして生成した信号Ｖ０’’と、音声信号電圧Ｖ１の比較処理により、装着状態／非装着状態を判定する。
特に音声信号出力処理部１５における処理過程の音声信号電圧（信号Ｇｏｕｔ）について、該処理過程以降の音声信号出力処理部１５の処理（ＤＡＣ／パワーアンプ部３の処理）に相当する信号補償を解析調整イコライザ４６で加えて、音声信号電圧Ｖ０に相当する信号Ｖ０’’を生成する。
この場合も、第１の実施の形態と同様、適切な装着判定に基づき、制御・演算部７で適切な累積演算が行われ、音圧規制動作がユーザの使用態様に応じて実行される。
また第２の実施の形態と同様、Ａ／Ｄ変換器１０の入力チャンネル数を減らすことができる。