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【手続補正書】
【提出日】平成26年4月22日(2014.4.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外耳道に挿入され、鼓膜側にスピーカが配設されると共に、上記鼓膜側とは反対の側にマイクロホンが配設された耳栓部と、
上記マイクロホンの出力信号を処理して上記スピーカに供給する信号処理部とを備え、
上記信号処理部は、上記マイクロホンの出力信号に対して増幅処理を行う音量調整部を有し、
上記マイクロホンから上記スピーカの系で、少なくとも可聴周波数帯域よりも広い帯域において周波数特性が平坦とされている
音響装置。
【請求項２】
上記信号処理部は、上記マイクロホンの出力信号に対して、上記マイクロホンから上記スピーカの系の周波数特性の逆特性の周波数特性補正を行う周波数特性補正部をさらに有する
請求項１に記載の音響装置。
【請求項３】
上記信号処理部は、上記マイクロホンの出力信号に対してミュート処理を行うミュート処理部をさらに有する
請求項１または２に記載の音響装置。
【請求項４】
上記耳栓部は、タッチセンサを内蔵する着脱用補助具を有し、
上記ミュート処理部は、上記タッチセンサの出力に基づいてミュート動作を行う
請求項３に記載の音響装置。
【請求項５】
上記信号処理部は、上記マイクロホンの出力信号に基づいて異音を検出する異音検出部をさらに有し、
上記ミュート処理部は、上記異音検出部の検出出力に基づいてミュート動作を行う
請求項３に記載の音響装置。
【請求項６】
上記異音検出部は、
上記マイクロホンの出力信号を順次保存する異音検出作業バッファと、
上記異音検出作業バッファに保存された信号を時間方向に走査し、信号ゲインに異常がないかを検査してゲイン異常を検出するゲイン異常検出部と、
上記異音検出作業バッファに保存された信号に対して時間周波数変換を行う時間周波数変換部と、
上記時間周波数変換部の出力に基づいてスペクトル毎にパワーを求めて周波数パワースペクトルを求める周波数パワースペクトル計算部と、
上記周波数パワースペクトル計算部で求められた周波数パワースペクトルを予め規定された異音の周波数パワースペクトルの特徴と比較して異音を検出する異音周波数特徴検出部と、
上記ゲイン異常検出部および上記異音周波数特徴検出部の検出結果に基づいて、上記異音検出部の検出出力を得る異音検出判定部とを有する
請求項５に記載の音響装置。
【請求項７】
上記耳栓部は、上記外耳道に当接する外側部材と、該外側部材に外周が覆われた内側部材とからなり、
上記スピーカおよび上記マイクロホンは、上記内側部材に配設されている
請求項１から６のいずれかに記載の音響装置。
【請求項８】
外耳道に挿入され、鼓膜側にスピーカが配設されると共に、上記鼓膜側とは反対の側にマイクロホンが配設された耳栓部における上記マイクロホンの出力信号から異音を検出する異音検出方法であって、
上記マイクロホンの出力信号を時間方向に走査し、信号ゲインに異常がないかを検査してゲイン異常を検出するゲイン異常検出ステップと、
上記マイクロホンの出力信号に対して時間周波数変換を行う時間周波数変換ステップと、
上記時間周波数変換ステップで得られたスペクトル毎にパワーを求めて周波数パワースペクトルを求める周波数パワースペクトル計算ステップと、
上記周波数パワースペクトル計算ステップで求められた周波数パワースペクトルを予め規定された異音の周波数パワースペクトルの特徴と比較して異音を検出する異音周波数特徴検出ステップと、
上記ゲイン異常検出ステップおよび上記異音周波数特徴検出ステップの検出結果に基づいて異音検出信号を得る異音検出判定ステップと
を有する異音検出方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月18日(2014.4.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１部材と、
振動板と
前記振動板を付勢する付勢部材と、を備え、
前記第１部材は前記振動板に付勢され、
前記付勢部材の付勢方向と、前記振動板の振動面に平行な方向とは、異なる、
ことを特徴とするモーター。
【請求項２】
第１部材は、被駆動部材である、
ことを特徴とする請求項１に記載のモーター。
【請求項３】
前記振動板は、前記第１部材と接触可能な突起を有する
ことを特徴とする請求項１または２に記載のモーター。
【請求項４】
前記振動板には、圧電体が設けられている
ことを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載のモーター。
【請求項５】
前記付勢方向と前記振動面に平行な方向とが成す角度θは、
０＜θ≦３０°
であることを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載のモーター。
【請求項６】
前記振動板を、前記振動面に交差する方向に規制する規制部材を備える、
ことを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載のモーター。
【請求項７】
請求項１から６のいずれか一項に記載のモーターを備えるロボットハンド。
【請求項８】
請求項７に記載のロボットハンドを備えるロボット。
【手続補正書】
【提出日】平成26年3月14日(2014.3.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
皮膚内部のコラーゲンの状態を評価する方法であって、
（ａ）皮膚内部に超短パルス光を照射し、発生した第２高調波発生光（ＳＨＧ光）を検出することにより得られたＳＨＧ光画像を用意する工程、
（ｂ）前記ＳＨＧ光画像に基づいて、皮膚内部のコラーゲンの粗密を定量化する工程
を含む方法。
【請求項２】
工程（ｂ）が、
（ｂ１）ＳＨＧ光画像内の評価対象領域を選択する工程
（ｂ２）選択された評価対象領域内の輝度に基づいて、コラーゲンの粗密を定量的に示す指標を算出する工程
を含む、請求項１記載の方法。
【請求項３】
工程（ｂ２）が、
（ｂ２−１）選択された評価対象領域内の輝度を二次元フーリエ変換し、二次元空間周波数分布を求める工程、
（ｂ２−２）得られた輝度の二次元空間周波数分布をカーブフィッティングし、半値幅を求める工程
を含み、得られた半値幅が、コラーゲンの粗密を定量的に示す指標となる、請求項２記載の方法。
【請求項４】
工程（ａ）において用意されるＳＨＧ光画像が、超短パルス光としてフェムト秒モード同期レーザー光を照射して得られたＳＨＧ光画像である、請求項１〜３の何れか一項に記載の方法。
【請求項５】
工程（ａ）において用意されるＳＨＧ光画像が、皮膚の真皮層に超短パルス光を照射して得られたＳＨＧ光画像である、請求項１〜４の何れか一項に記載の方法。
【請求項６】
皮膚の老化を評価する方法であって、
請求項１〜５の何れか一項に記載の方法を用いて、皮膚内部のコラーゲンの粗密を評価する工程、
皮膚内部のコラーゲンの粗密の評価結果に基づいて、皮膚の老化を評価する工程
を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月16日(2014.4.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
図１は、使い捨てのパンツ型おむつ１の部分破断斜視図である。おむつ１は、前後方向Ａと横方向Ｂと上下方向Ｃとを有し、前後方向Ａにおいては前胴回り域２と後胴回り域３とが対向し、上下方向Ｃにおいてはこれら両域２，３に対して股下域４がつながっている。前胴回り域２の側縁部８と後胴回り域３の側縁部９との間には連結部材６が介在している。図１のおむつ１は、平坦な状態となるように折畳まれていて、前胴回り域２と後胴回り域３とが重なり合っており、連結部材６は二つに折畳まれている。その連結部材６には、圧搾部３１が形成されている。前胴回り域２と後胴回り域３とには、胴回り弾性部材１１が伸長と収縮とが可能な状態で取り付けられており、股下域４には脚回り弾性部材１２が伸長と収縮とが可能な状態で取り付けられている。股下域４では、透液性内面シート５ａと不透液性外面シート５ｂとの間に吸収体５ｃが介在している。おむつ１は、横方向Ｂの寸法を二等分する中心線Ｐに関し、実質的な意味において対称となるように形成されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
図２は、着用状態にあるおむつ１の斜視図であるが、そのおむつ１の着用者の図示は省略されている。着用状態にあるおむつ１では、前胴回り域２と後胴回り域３とが着用者の胴回りにフィットするように湾曲している。連結部材６を介して重なり合っていた前胴回り域２の側縁部８と後胴回り域３の側縁部９とは離間して、折畳まれていた連結部材６が前後方向Ａへ、換言すると胴回り方向Ｄへ伸展した状態にある。また、伸展した連結部材６の前後方向Ａにおける中央部６ａが互いに離間している側縁部８と側縁部９との間に位置している。連結部材６はまた、連結部材６Ｌ，６Ｒを含んでいるものでもある（図１参照）。ここで、参照符号に付けられているＬとＲの記号は、おむつ着用者にとっての左側と右側とを意味している。また、参照符号について、例えば連結部材６Ｌ，６Ｒではなくて、ＬまたはＲの記号を付けられていない連結部材６とあるときの参照符号６は、ＬとＲとを区別することなく連結部材の一方または両方を意味している。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2012235809.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成26年3月25日(2014.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技者が遊技を行うために操作する操作手段と、
前記操作手段の操作に基づいて行われる遊技の内容を制御すると共に遊技の状況を管理する遊技制御手段と、
バックライトを点灯しつつ液晶パネルに画像を表示することにより演出を行う液晶表示装置と、
複数の表示素子を点灯表示することにより演出を行う電飾表示装置と、
前記液晶表示装置及び前記電飾表示装置に実行させる演出の内容を決定し、その決定した内容にしたがって前記液晶表示装置及び前記電飾表示装置を制御する演出制御手段と、
を備え、
前記演出制御手段は、前記遊技制御手段から送出される指令信号に基づいて、遊技者による操作が行われていない状況が所定時間以上継続したと判断したときに、前記バックライトを消灯又は減灯させるように前記液晶表示装置を制御し、前記表示素子の一部を残して他を消灯又は減灯するように前記電飾表示装置を制御することにより前記液晶表示装置及び前記電飾表示装置に節電演出を実行させることを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記演出制御手段は、前記液晶表示装置に前記節電演出を実行させている間、前記液晶パネルには演出の内容を継続して出力し続け、前記バックライトの点灯復帰により当該演出の内容が表示されるように前記液晶パネルを制御することを特徴とする請求項１記載の遊技機。
【請求項３】
前記遊技制御手段は、その管理する遊技の状況に基づいて、遊技が行われておらず遊技に関わる演出も実行されていない非稼働状態になったと判断したときに、その旨を示す非稼働状態発生コマンドを前記演出制御手段に出力し、
前記演出制御手段は、遊技中に前記液晶表示装置及び前記電飾表示装置に実行させる遊技に関わる演出の内容を抽選で選択したときに、その選択した遊技に関わる内容にしたがって前記液晶表示装置及び前記電飾表示装置を制御し、前記遊技制御手段から前記非稼働状態発生コマンドを受信したときに、前記遊技に関わる演出の内容とは異なる内容の客待ち演出を行うように前記液晶表示装置及び前記電飾表示装置を制御し、前記客待ち演出の実行中に遊技者による操作が行われていない状況が所定時間以上継続したときに、前記液晶表示装置及び前記電飾表示装置に実行させる演出を前記客待ち演出から前記節電演出に切り替えることを特徴とする請求項２記載の遊技機。
【請求項４】
遊技者が演出内容の切替えを指示するための演出切替ボタンが操作されたことを検出して前記演出制御手段に出力する演出切替ボタン操作検出手段と、
当該遊技機の前面側における所定距離内に人が存在することを検出して前記演出制御手段に出力する人接近検出手段と、
遊技者が前記操作手段に接触していることを検出して前記遊技制御手段に出力する接触検出手段と、
を更に備え、
前記演出制御手段は、前記液晶表示装置及び前記電飾表示装置に前記節電演出を実行させているときに、前記演出切替ボタン操作検出手段からの検出信号、前記人接近検出手段からの検出信号、及び、前記遊技制御手段を介して送られる前記接触検出手段からの検出信号のうちいずれか一の検出信号を受けたときに、前記液晶表示装置及び前記電飾表示装置に実行させる演出を前記節電演出から前記客待ち演出に切り替えることを決定し、前記液晶パネルに当該節電演出の間に出力し続けている前記客待ち演出の内容をそのまま継続して表示させるように前記液晶パネルを制御すると共に前記バックライトを点灯させるように制御し、前記各表示素子に対して前記客待ち演出にしたがった内容の点灯表示を行わせるように前記電飾表示装置を制御することを特徴とする請求項３記載の遊技機。
【請求項５】
前記演出制御手段は、前記遊技制御手段から送出される指令信号に基づいて、遊技者による操作が行われていない状況が所定時間以上継続したと判断したときに、前記バックライトを減灯させて前記液晶パネルの画像の表示内容が見えなくなるように又は薄暗く表示されるように前記液晶表示装置を制御することを特徴とする請求項１、２、３又は４記載の遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成26年2月12日(2014.2.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
【図１】本発明の実施形態に係る陽子線治療装置を備えた陽子線治療システムの概略    構成図である。
【図２】本発明の実施形態に係る陽子線治療装置の正面図である。
【図３】本発明の実施形態に係る陽子線治療装置の背面図である。
【図４】本発明の実施形態に係る陽子線治療装置の右側面図である。
【図５】本発明の実施形態に係る陽子線治療装置の左側面図である。
【図６】本発明の実施形態に係る陽子線治療装置を斜め後方から示す斜視図である。
【図７】本発明の実施形態に係る陽子線治療装置の回転ガントリーの断面斜視図である。
【図８】回転ガントリーに取り付けられたビーム導入ライン及びビーム照射ノズルを示す斜視図である。
【図９】回転ガントリー内に配置されたビーム導入ラインの断面図である。
【図１０】ビーム導入ラインを構成する四重極電磁石の斜視図である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
サイクロトロン２で加速された陽子ビームは、ビーム輸送ライン３に沿って偏向され、陽子線治療装置１０に供給される。ビーム輸送ライン３には、陽子ビームを偏向させるための偏向磁石や、ビーム成形を行う四重極電磁石等が設けられている。荷電粒子線を調整するための電磁石としては、ビーム成形を行う四重極電磁石、ビームを偏向させる偏向電磁石などが含まれる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
ビーム照射ノズル１１は、円筒本体部１３の内面側に固定され、円筒本体部１３と共に回転軸線Ｐ回りに回転する。ビーム照射ノズル１１は、円筒本体部１３の回転と共に移動し、陽子ビームの出射方向が変更される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
陽子線治療装置１０のビーム輸送ラインであるビーム導入ライン３１は、サイクロトロン２から出射された陽子ビームを輸送するビーム輸送ライン３と接続され、ビーム輸送ライン３によって輸送された陽子ビームをビーム照射ノズル１１に導入する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
図８は、回転ガントリーに取り付けられたビーム導入ライン及びビーム照射ノズルを示す斜視図である。ビーム導入ライン３１は、回転ガントリー１２の回転軸線Ｐ方向に進行する陽子ビームＢを偏向する第１ベント部３２と、第１ベント部３２の下流に設けられ、陽子ビームＢを回転軸線Ｐ方向に対して傾斜させて進行させる傾斜部３３と、傾斜部３３の下流に設けられ、回転軸線Ｐと直交する方向へ陽子ビームＢを偏向する第２ベント部３４と、第２ベント部３４の下流に設けられ、陽子ビームＢを回転軸線Ｐの回転方向へ旋回させる第３ベント部３５と、第３ベント部３５の下流に設けられ、陽子ビームＢをビーム照射ノズル１１の上方（図２に示す状態における上方）へ進行させる直線部３６と、直線部３６の下流に設けられ、陽子ビームＢを軸心側（回転軸線Ｐ側）へ湾曲させる第４ベント部３７と、第４ベント部３７の下流に設けられ、陽子ビームＢをビーム照射ノズル１１へ進行させる直線部３８と、を備える。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
また、図２に示すように、円筒本体部１３の外周面には、円筒本体部１３より外方に張り出したビーム導入ライン３１を支持するための架台１７が設けられている。なお、円筒本体部１３より外方に張り出したビーム導入ライン３１を、ビーム導入ライン張出部３１ａと称する。第３ベント部３５、直線部３６、及び第４ベント部３７は、ビーム導入ライン張出部３１ａに含まれる。架台１７は、円筒本体部１３の外面に固定され、径方向の外側へ張り出している。架台１７は、径方向の内側から、ビーム導入ライン張出部３１ａを支持している。これにより、電磁石（四重極電磁石４１、１３５度偏向電磁石）などの荷重を円筒本体部１３によって受けることができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
このような陽子線治療システム１では、サイクロトロン２から出射された陽子ビームＢが、ビーム輸送ライン３によって輸送され陽子線治療装置１０まで到達する。陽子線治療装置１０まで到達した陽子ビームＢは、ビーム導入ライン３１によって輸送されビーム照射ノズル１１まで到達し、患者の腫瘍に対して照射される。ビーム照射ノズル１１から照射される陽子ビームＢの照射方向は、回転ガントリー１２を回転することで調整することができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
１…陽子線治療システム、２…サイクロトロン、３…ビーム輸送ライン、５…建屋、１０…陽子線治療装置（荷電粒子線照射装置）、１１…ビーム照射ノズル（照射部）、１２…回転ガントリー、１３…円筒本体部、１４…コーン部、１５…第２円筒部、１６…背面パネル、２１…照射室、３１…ビーム導入ライン（回転ガントリーのビーム輸送ライン）、３１ａ…ビーム導入ライン張出部、３２…第１ベント部、３３…傾斜部、３４…第２ベント部、３５…第３ベント部、３６…直線部、３７…第４ベント部、３８…直線部、４５…ヨーク、４６…コイル、５５…ケーシング、６１，６２…遮蔽部材、Ｂ…陽子ビーム、Ｐ…回転軸線。
【手続補正書】
【提出日】平成26年1月20日(2014.1.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の基板に対して処理を行う基板処理装置において、
複数の基板を収納するための搬送容器を載置するための載置台と、
基板の処理を行うための複数の処理モジュールと、
前記載置台と前記処理モジュールとの間で基板を搬送するための基板搬送機構と、
少なくとも基板搬送機構または処理モジュールの動作確認運転を行うための動作確認モードを選択する選択部と、
動作確認用の複数のコントロールジョブを設定すると共に、これらコントロールジョブ毎に、前記搬送容器と当該搬送容器のスロットの位置とで特定される基板に対して実行するレシピを入力してプロセスジョブを設定するジョブ設定部と、
前記選択部から動作確認モードが選択され、前記複数のコントロールジョブを実行する際に、一のコントロールジョブのレシピと順番が一つ後のコントロールジョブのレシピとが並列で実行可能か判断する制御部と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
前記制御部は、前記順番が一つ後のコントロールジョブのレシピが、前記一のコントロールジョブのレシピと並列で実行可能な場合には、前記一のコントロールジョブと並列に実行することを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記制御部は、前記順番が一つ後のコントロールジョブのレシピが、前記一のコントロールジョブのレシピと並列で実行することが可能でない場合には、前記一のコントロールジョブの最終基板が搬送容器に収納された後、引き続いて前記順番が一つ後のコントロールジョブを実行することを特徴とする請求項１または２に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記動作確認用のコントロールジョブの実行回数を設定する回数設定部をさらに備えたことを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一つに記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記制御部は、前記搬送容器を交換することなく、前記複数のコントロールジョブを予め指定された順番でかつ周期的に、設定された回数だけ実行することを特徴とする請求項４に記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記制御部は、前記回数設定部に設定された実行回数を、前記動作確認運転の実行中に変更することができることを特徴とする請求項４または５に記載の基板処理装置。
【請求項７】
前記ジョブ設定部は、コントロールジョブに複数のプロセスジョブを設定することができることを特徴とする請求項１ないし６のいずれか一つに記載の基板処理装置。
【請求項８】
前記制御部は、一のコントロールジョブと、この一のコントロールジョブに対して順番が一つ後のコントロールジョブとにおいて、レシピ上の搬送経路に重複が生じないか否かによって、これらのコントロールジョブを並列で実行することが可能かどうかを判断することを特徴とする請求項１ないし７のいずれか一つに記載の基板処理装置。
【請求項９】
前記制御部は、実行している前記動作確認運転を途中で止めることができることを特徴とする請求項１ないし８のいずれか一つに記載の基板処理装置。
【請求項１０】
前記制御部は、前記動作確認運転のコントロールジョブの実行中に、製品となる基板を処理するための実運転用のコントロールジョブを割り込ませることができることを特徴とする請求項１ないし９のいずれか一つに記載の基板処理装置。
【請求項１１】
複数の基板を収納するための搬送容器を載置台に載置し、基板搬送機構により当該搬送容器から基板を取り出して、複数の処理モジュールのいずれかに搬送して処理を行い、処理後の基板を元の搬送容器に戻す基板処理方法において、
少なくとも基板搬送機構または処理モジュールの動作確認運転を行うための動作確認モードを選択する工程と、
動作確認用の複数のコントロールジョブを設定すると共に、これらコントロールジョブ毎に、前記搬送容器と当該搬送容器のスロットの位置とで特定される基板に対して実行するレシピを入力してプロセスジョブを設定する工程と、
動作確認モードが選択され、前記複数のコントロールジョブを実行する際に、一のコントロールジョブのレシピと、順番が一つ後のコントロールジョブのレシピとが並列で実行可能か判断する工程と、を含むことを特徴とする基板処理方法。
【請求項１２】
前記順番が一つ後のコントロールジョブのレシピが、前記一のコントロールジョブのレシピと並列で実行可能な場合には、前記一のコントロールジョブと並列に実行する工程を含むことを特徴とする請求項１１に記載の基板処理方法。
【請求項１３】
前記順番が一つ後のコントロールジョブのレシピが、前記一のコントロールジョブのレシピと並列で実行することが可能でない場合には、前記一のコントロールジョブの最終基板が搬送容器に収納された後、引き続いて前記順番が一つ後のコントロールジョブを実行する工程を含むことを特徴とする請求項１１に記載の基板処理方法。
【請求項１４】
前記動作確認用のコントロールジョブの実行回数を設定する工程をさらに含み、
前記複数のコントロールジョブは、前記搬送容器を交換することなく、予め指定された順番でかつ周期的に、設定された回数だけ実行されることを特徴とする請求項１１ないし１３のいずれか一つに記載の基板処理方法。
【請求項１５】
前記動作確認用のコントロールジョブの実行回数は、前記動作確認運転の実行中に変更することができることを特徴とする請求項１４に記載の基板処理方法。
【請求項１６】
前記コントロールジョブには、複数のプロセスジョブを設定することができることを特徴とする請求項１１ないし１５のいずれか一つに記載の基板処理方法。
【請求項１７】
前記一のコントロールジョブと、この一のコントロールジョブに対して順番が一つ後のコントロールジョブとは、レシピ上の搬送経路に重複が生じないか否かによって並列で実行することが可能かどうか判断されることを特徴とする請求項１１ないし１６のいずれか一つに記載の基板処理方法。
【請求項１８】
前記動作確認運転は、実行している途中で止めることができることを特徴とする請求項１１ないし１７のいずれか一つに記載の基板処理方法。
【請求項１９】
前記動作確認運転のコントロールジョブの実行中に、製品となる基板を処理するための実運転用のコントロールジョブを割り込ませることができることを特徴とする請求項１１ないし１８のいずれか一つに記載の基板処理方法。
【請求項２０】
複数の基板を収納するための搬送容器を載置台に載置し、基板搬送機構により当該搬送容器から基板を取り出して、複数の処理モジュールのいずれかに搬送して処理を行い、処理後の基板を元の搬送容器に戻す基板処理装置に用いられるコンピュータプログラムを格納した記憶媒体であって、
前記プログラムは請求項１１ないし１９のいずれか一つに記載された基板処理方法を実行するためにステップが組まれていることを特徴とする記憶媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５】
2012235087.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成26年2月3日(2014.2.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
（６）配線回路基板は、複数の配線パターンを覆うとともに複数の接続端子部の表面が露出するように第１の絶縁層上に形成される第２の絶縁層をさらに備えてもよい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
支持基板１０の一端部（先端部）には、Ｕ字状の開口部１１を形成することにより磁気ヘッド搭載部（以下、タング部と呼ぶ。）１２が設けられている。タング部１２は、支持基板１０に対して所定の角度をなすように破線Ｒの箇所で折り曲げ加工される。タング部１２の端部には、複数の端子部として４つの電極パッド２１，２２，２３，２４が形成されている。読取用配線パターンＲ１，Ｒ２および書込用配線パターンＷ１，Ｗ２の幅方向において、各電極パッド２１〜２４の幅は読取用配線パターンＲ１，Ｒ２および書込用配線パターンＷ１，Ｗ２の各々の幅より大きい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
各電極パッド３１〜３４の幅Ｌ１は、例えば５０μｍ以上５００μｍ以下である。各電極パッド３１〜３４の幅Ｌ２は、例えば５０μｍ以上５００μｍ以下である。隣り合う電極パッド３１，３２間の間隔Ｓ、隣り合う電極パッド３２，３３間の間隔Ｓおよび隣り合う電極パッド３３，３４間の間隔Ｓは、例えば５０μｍ以上５００μｍ以下である。各開口部１０ｈの幅Ｌ３は、例えば２０μｍ以上２００μｍ以下である。各開口部１０ｈの幅Ｌ４は、例えば２０μｍ以上２００μｍ以下である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
図９および図１０に示すように、電極パッド３１，３２の各々に重なる支持基板１０の領域には、同一面積の１つの開口部１０ｈが形成される。一方、電極パッド３３，３４の各々に重なる支持基板１０の領域には、同一面積の複数の開口部１０ｈが形成される。また、電極パッド３３，３４に重なる支持基板１０の領域に形成される複数の開口部１０ｈの各々の面積は、電極パッド３１，３２に重なる支持基板１０の領域に形成される１つの開口部１０ｈの面積と等しい。電極パッド３３，３４に対応する開口部１０ｈの数（図１０の例では９個）は電極パッド３１，３２に対応する開口部１０ｈの数（図１０の例では１個）よりも多い。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
（７）サスペンション基板の製造方法
図１のサスペンション基板１の製造工程について説明する。図１３〜図１８は、図１のサスペンション基板１の製造工程を示す模式的工程断面図である。図１３（ａ）〜図１７（ｂ）の上段および図１８の上段に、図１のサスペンション基板１のＡ−Ａ線断面図を示す。図１３（ａ）〜図１７（ｂ）の下段および図１８の下段に、図１のサスペンション基板１のＢ−Ｂ線断面図を示す。本例においては、開口部１０ｈの第１の形成例についてのサスペンション基板１の製造工程について説明するが、開口部１０ｈの第２〜第５の形成例についてのサスペンション基板１の製造工程も開口部１０ｈの第１の形成例についてのサスペンション基板１の製造工程と同様である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６７】
（９−２）上記実施の形態において、開口部１０ｈは矩形状を有するが、これに限定されない。開口部１０ｈは、円形状、楕円形状、ひし形状、多角形状またはその他の形状を有してもよい。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７４】
実施例１〜１４および比較例１におけるサスペンション基板１は、長尺状の支持基板１０、絶縁層４１、電極パッド３１，３２および書込用配線パターンＷ１，Ｗ２を備える。電極パッド３１，３２および書込用配線パターンＷ１，Ｗ２は、支持基板１０上に絶縁層４１を介して形成される。電極パッド３１，３２は、支持基板１０の長手方向の一端部に間隔をおいて配置される。書込用配線パターンＷ１，Ｗ２は、支持基板１０の長手方向に沿って延びるように平行に配置される。電極パッド３１，３２は、それぞれ書込用配線パターンＷ１，Ｗ２の端部に一体的に形成されている。
【手続補正８】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外部回路と電気的に接続可能な配線回路基板であって、
導電性材料により形成される支持基板と、
前記支持基板上に形成された第１の絶縁層と、
前記第１の絶縁層上に形成される複数の配線パターンと、
前記第１の絶縁層上で前記複数の配線パターンの一部にそれぞれ形成され、前記外部回路と電気的に接続可能な複数の接続端子部とを備え、
前記複数の接続端子部のうちの１または複数の接続端子部と少なくとも部分的に重なるように前記支持基板に１または複数の開口部が形成されたことを特徴とする配線回路基板。
【請求項２】
前記複数の接続端子部は、第１および第２の接続端子部を含み、
前記１または複数の開口部は、前記第１の接続端子部に少なくとも部分的に重なる１または複数の第１の開口部と、前記第２の接続端子部に少なくとも部分的に重なる１または複数の第２の開口部とを含むことを特徴とする請求項１記載の配線回路基板。
【請求項３】
前記第１の接続端子部に重なる前記１または複数の第１の開口部の面積の合計と前記第２の接続端子部に重なる前記１または複数の第２の開口部の面積の合計とが異なることを特徴とする請求項２記載の配線回路基板。
【請求項４】
各接続端子部に重なる開口部の面積と当該接続端子部の面積との比率を開口率と定義した場合、前記１または複数の第１の開口部についての開口率と前記１または複数の第２の開口部についての開口率とが異なることを特徴とする請求項２または３記載の配線回路基板。
【請求項５】
前記複数の接続端子部のうちの一の接続端子部の特性インピーダンスが他の接続端子部の特性インピーダンスよりも小さくなるように前記１または複数の開口部が形成されたことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の配線回路基板。
【請求項６】
前記複数の配線パターンを覆うとともに前記複数の接続端子部の表面が露出するように前記第１の絶縁層上に形成される第２の絶縁層をさらに備えることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の配線回路基板。
【請求項７】
外部回路と電気的に接続可能な配線回路基板の製造方法であって、
導電性の支持基板と絶縁層との積層構造を用意するステップと、
前記絶縁層上に複数の配線パターンを形成するとともに前記複数の配線パターンの一部にそれぞれ前記外部回路と電気的に接続可能な複数の接続端子部を形成するステップと、
前記複数の接続端子部のうちの１または複数の接続端子部に少なくとも部分的に重なるように前記支持基板に１または複数の開口部を形成するステップとを備えたことを特徴とする配線回路基板の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月7日(2014.5.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
投影光学系を介して原版のパターンを基板に投影露光する露光装置であって、
前記原版を保持し、前記投影光学系の光軸に直交する第１方向、および、前記光軸および前記第１方向に直交する第２方向に可動で、前記第１方向における位置合わせに用いられる第１マークおよび前記第２方向における位置合わせに用いられる第２マークを有する原版保持部と、
前記基板を保持し、前記第１方向および前記第２方向に可動で、前記第１方向における前記位置合わせに用いられる第３マークおよび前記第２方向における前記位置合わせに用いられる第４マークを有する基板保持部と、
前記第１マーク、前記投影光学系および前記第３マークを通過した光量、および、前記第２マーク、前記投影光学系および前記第４マークを通過した光量をそれぞれ検出する検出部と、
前記原版保持部を前記第２方向に移動させながら前記基板保持部を前記第１方向に移動させるとともに前記原版保持部を前記第１方向に移動させながら前記基板保持部を前記第２方向に移動させたときの前記検出部の出力に基づいて、前記原版保持部と前記基板保持部との前記第１方向における前記位置合わせを行わせるとともに前記第２方向における前記位置合わせを行わせる制御部と、を備え、
前記投影光学系の像面における前記第１マークの前記第２方向の長さは、前記第３マークの前記第２方向の長さよりも大きく、かつ、前記投影光学系の像面における前記第２マークの前記第１方向の長さは、前記第４マークの前記第１方向の長さよりも大きい、
または、前記投影光学系の像面における前記第１マークの前記第２方向の長さは、前記第３マークの前記第２方向の長さよりも小さく、かつ、前記投影光学系の像面における前記第２マークの前記第１方向の長さは、前記第４マークの前記第１方向の長さよりも小さいことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記第１マークの前記第２方向の長さをＬ１Ｙとし、
前記第２マークの前記第１方向の長さをＬ１Ｘとし、
前記第３マークの前記第２方向の長さをＬ２Ｙとし、
前記第４マークの前記第１方向の長さをＬ２Ｘとし、
前記第１方向における前記位置合わせに要求される前記原版保持部の移動量をＤＸとし、
前記第２方向における前記位置合わせに要求される前記原版保持部の移動量をＤＹとすると、
Ｌ１Ｙ≧Ｌ２Ｙ＋２×ＤＹ、および、Ｌ１Ｘ≧Ｌ２Ｘ＋２×ＤＸが成立するように構成されている、
または、Ｌ２Ｙ≧Ｌ１Ｙ＋２×ＤＹ、および、Ｌ２Ｘ≧Ｌ１Ｘ＋２×ＤＸが成立するように構成されていることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記制御部は、前記第１方向における前記位置合わせを行わせるとともに前記第２方向における前記位置合わせを行わせた後に、前記原版保持部または前記基板保持部を前記投影光学系の前記光軸に平行な方向に移動させたときの前記検出部の出力に基づいて、合焦位置を求めることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記検出部は、光電変換素子を含む、
ことを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項５】
請求項１ないし請求項４のいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光された前記基板を現像する工程と、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明は、投影光学系を介して原版のパターンを基板に投影露光する露光装置であって、原版を保持し、投影光学系の光軸に直交する第１方向、および、光軸および第１方向に直交する第２方向に可動で、第１方向における位置合わせに用いられる第１マークおよび第２方向における位置合わせに用いられる第２マークを有する原版保持部と、基板を保持し、第１方向および第２方向に可動で、第１方向における位置合わせに用いられる第３マークおよび第２方向における位置合わせに用いられる第４マークを有する基板保持部と、第１マーク、投影光学系および第３マークを通過した光量、および、第２マーク、投影光学系および第４マークを通過した光量をそれぞれ検出する検出部と、原版保持部を第２方向に移動させながら基板保持部を第１方向に移動させるとともに原版保持部を第１方向に移動させながら基板保持部を第２方向に移動させたときの検出部の出力に基づいて、原版保持部と基板保持部との第１方向における位置合わせを行わせるとともに第２方向における位置合わせを行わせる制御部と、を備え、投影光学系の像面における第１マークの第２方向の長さは、第３マークの第２方向の長さよりも大きく、かつ、投影光学系の像面における第２マークの第１方向の長さは、第４マークの第１方向の長さよりも大きい、または、投影光学系の像面における第１マークの第２方向の長さは、第３マークの第２方向の長さよりも小さく、かつ、投影光学系の像面における第２マークの第１方向の長さは、第４マークの第１方向の長さよりも小さいことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成26年3月10日(2014.3.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数層の絶縁部材を積層した多層基板であり一主面に配線が形成された配線基板を検査する検査方法であって、
前記配線に形成され少なくともニッケル層と金層を含み前記金層が最表層であるめっき膜の膜厚を測定する工程と、
前記配線に測定用プローブの信号ピンを接触させ、前記絶縁部材を介して前記配線と対向配置された金属層と接続されたパッドに前記測定用プローブのグランドピンを接触させ、前記測定用プローブによって高周波信号を供給して前記配線の伝送損失を測定する工程と、
前記配線の伝送損失を予め設定された閾値と比較して前記めっき膜上に更に金めっき処理を行うかを判定する工程と、
を含むことを特徴とする検査方法。
【請求項２】
複数層の絶縁部材を積層した多層基板でありチップが搭載される配線基板の処理方法であって、
前記配線基板の一主面には、ボンディングワイヤを介して前記チップと接続される少なくともニッケル層と金層を含み前記金層が最表層であるめっき膜が形成された配線と、前記配線に測定用プローブの信号ピンを接触させたときに前記測定用プローブのグランドピンが接触可能なパッドとが形成され、前記パッドは前記絶縁部材を介して前記配線と対向配置された金属層と接続され、
前記測定用プローブによって前記配線に高周波信号を供給して前記配線の伝達損失を測定する工程と、
前記配線の伝送損失を予め設定された閾値と比較して前記めっき膜上に更に金めっき処理を行うかを判定する工程と、
前記伝達損失の判定結果に応じて前記めっき膜上に更に金めっき処理を行う工程と、
を含むことを特徴とする配線基板の製造方法。
【請求項３】
前記配線に形成されためっき膜の膜厚を測定する工程を含み、
前記膜厚を測定した前記配線基板に対し、前記伝達損失を測定する工程を行うことを特徴とする請求項２に記載の配線基板の製造方法。
【請求項４】
複数層の絶縁部材を積層した多層基板でありチップが搭載される配線基板を形成するための複数の基板領域と、
前記基板領域の周囲のフレームにおいて、測定用プローブの信号ピンが接触可能に形成され少なくともニッケル層と金層を含み前記金層が最表層であるめっき膜が形成された配線と、
前記フレームに形成され前記測定用プローブのグランドピンが接触可能に形成され、前記絶縁部材を介して前記配線と対向配置された金属層と接続されたパッドと、
を有することを特徴とする基板。
【請求項５】
前記フレームは各基板領域の周囲に形成され、
前記基板の外周部分に形成された外周フレーム部と、
前記基板の中央に他のフレームより広い幅に形成された中央フレーム部と、
を有し、
前記配線及び前記パッドは前記外周フレーム部と前記中央フレーム部とに形成されたこと、
を特徴とする請求項４に記載の基板。
【請求項６】
前記基板領域に前記チップとボンディングワイヤを介して接続される少なくともニッケル層と金層を含むめっき膜が形成された配線と、
前記配線に測定用プローブの信号ピンを接触させたときに前記測定用プローブのグランドピンが接触可能に形成され、前記絶縁部材を介して前記配線と対向配置された金属層と接続されたパッドと、を有することを特徴とする請求項４または５に記載の基板。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】検査方法、配線基板の製造方法及び基板
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
検査方法、配線基板の製造方法及び基板に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の一観点によれば、複数層の絶縁部材を積層した多層基板であり一主面に配線が形成された配線基板を検査する検査方法であって、前記配線に形成され少なくともニッケル層と金層を含み前記金層が最表層であるめっき膜の膜厚を測定する工程と、前記配線に測定用プローブの信号ピンを接触させ、前記絶縁部材を介して前記配線と対向配置された金属層と接続されたパッドに前記測定用プローブのグランドピンを接触させ、前記測定用プローブによって高周波信号を供給して前記配線の伝送損失を測定する工程と、前記配線の伝送損失を予め設定された閾値と比較して前記めっき膜上に更に金めっき処理を行うかを判定する工程と、を含む。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月30日(2014.4.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示部と、前記表示部へのタッチ操作を検出するタッチ検出手段と、ユーザの選択操作に応じて複数のモードのいずれか１つに設定する設定手段と、
前記設定手段により特定のモードが設定されたことに応じて、表示アイテムに対応する特定のコマンドを出力するためのタッチ可能範囲を前記特定のモードと異なるモードの場合よりも広く設定するように制御する制御手段と、を有することを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記特定のコマンドを出力するためのタッチ可能範囲は、前記表示アイテムが表示されている領域よりも、広い領域であることを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記制御手段は、前記特定のモードに設定された場合は、前記表示アイテムを前記タッチ可能範囲に対応させて、前記特定のモードと異なるモードよりも大きく表示するように制御することを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項４】
前記複数のモードはそれぞれシーン別のモードであり、それぞれのモードに応じた撮影設定を行う撮影モードであることを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の撮像装置。
【請求項５】
前記特定のモードは水中モードとスノーモードの少なくとも一方であることを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の撮像装置。
【請求項６】
前記特定のモードはユーザが手にグローブをつけて使用するモードであることを特徴とする請求項１乃至５の何れか１項に記載の撮像装置。
【請求項７】
前記制御手段は、前記特定のモードが選択され、前記特定のモードとは異なるモードの場合と少なくとも１つの同じ表示アイテムが表示されている時に、前記特定のモードとは異なるモードの場合に表示される表示アイテムの数よりも少ない数の表示アイテムを表示させるように制御することを特徴とする請求項１乃至６の何れか１項に記載の撮像装置。
【請求項８】
前記制御手段は、前記表示部に特定のコマンドに対応する少なくとも１つの第１の種別の表示アイテムと、前記表示部に表示されていない他の表示アイテムを表示するための第２の種別の表示アイテムを表示させるように制御することを特徴とする請求項７に記載の撮像装置。
【請求項９】
前記制御手段は、前記第２の種別の表示アイテムに対する操作に応じて前記第１の種別の表示アイテムを、対応するコマンドの使用頻度に応じた優先順位で前記表示部に表示させるように制御することを特徴とする請求項８に記載の撮像装置。
【請求項１０】
前記制御手段は、特定のコマンドを出力するためのタッチ可能範囲を広く設定する前に、ユーザに問い合わせを行う画面を表示させるように制御することを特徴とする請求項１乃至９の何れか１項に記載の撮像装置。
【請求項１１】
表示手段に対するタッチ操作を検出するタッチ検出ステップと、
ユーザの選択操作に応じて複数のモードのいずれか１つに設定する設定ステップと、
前記設定ステップにおいて特定のモードが設定されたことに応じて、表示アイテムに対応する特定のコマンドを出力するためのタッチ可能範囲を前記特定のモードと異なるモードの場合よりも広く設定するように制御する制御ステップと、を有することを特徴とする撮像装置の制御方法。
【請求項１２】
コンピュータを、請求項１乃至１０の何れか１項に記載の撮像装置の各手段として機能させるためのプログラム。
【請求項１３】
コンピュータを、請求項１乃至１０の何れか１項に記載の撮像装置の各手段として機能させるためのプログラムを格納したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の撮像装置は、表示部と、前記表示部へのタッチ操作を検出するタッチ検出手段と、ユーザの選択操作に応じて複数のモードのいずれか１つに設定する設定手段と、前記設定手段により特定のモードが設定されたことに応じて、表示アイテムに対応する特定のコマンドを出力するためのタッチ可能範囲を前記特定のモードと異なるモードの場合よりも広く設定するように制御する制御手段と、を有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
Ｓ７０９では、タッチアイコンに対するタッチ入力領域は拡大するが、タッチアイコンの表示範囲自体は大きくしないので、タッチアイコンが大きくなることによってスルー画像を隠してしまってスルー画像が見えにくくなってしまうことがない。タッチ入力領域の設定を変更した後にＳ７１０に進みユーザが撮影メニューの設定を行う。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月23日(2014.4.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
予め定められたフレームレートを有する動画像に対して巡回型ノイズ低減処理を適用する画像処理装置であって、
前記フレームレートに基づいて、現フレームより前の前フレームの重みである巡回係数を決定する決定手段と、
前記巡回係数を用いて前記前フレームと前記現フレームの画素を混合する第１混合手段と、
前記第１混合手段で得られたフレームを、前記巡回型ノイズ低減処理を適用した前記現フレームとして出力する出力手段と、を有することを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記決定手段は、前記フレームレートが第１の値のときは前記巡回係数を第１の値に決定し、前記フレームレートが前記第１の値よりも低い第２の値のときは前記巡回係数を前記第１の値よりも小さい第２の値に設定することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
さらに、巡回型ノイズ低減処理を適用する現フレームの画素値と、前記巡回型ノイズ低減処理を適用後の、前記現フレームの１フレーム前の前フレームの画素値とから、前記現フレームと前記前フレームとの相関の大きさを表す情報を算出する算出手段を有し、
前記決定手段は、前記相関の大きさと前記フレームレートとに基づいて、前記巡回係数を決定することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記決定手段は、前記算出手段で算出された情報で表される相関の大きさが同じであれば、前記フレームレートが第１の値のときは前記巡回係数を第１の値に決定し、前記フレームレートが前記第１の値よりも低い第２の値のときは前記巡回係数を前記第１の値よりも小さい第２の値に設定することを特徴とする請求項３に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記決定手段は、前記算出手段で算出された情報で表される相関の大きさが予め定めた範囲である場合において、前記算出手段で算出された情報で表される相関の大きさが同じであれば、前記フレームレートが第１の値のときは前記巡回係数を第１の値に決定し、前記フレームレートが前記第１の値よりも低い第２の値のときは前記巡回係数を前記第１の値よりも小さい第２の値に設定することを特徴とする請求項４に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記算出手段が、前記現フレームと前記前フレームの画素値の差分を、前記相関の大きさを表す情報として算出することを特徴とする請求項３乃至請求項５のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項７】
さらに、前記巡回型ノイズ低減処理の適用前と適用後の前記現フレームの画素を混合する第２混合手段をさらに有し、
前記第２混合手段が、前記フレームレートが低いほど前記巡回型ノイズ低減処理を適用後の前記現フレームの重みを小さくして前記混合を行い、
前記第１混合手段は、前記第２混合手段でえられたフレームと前記現フレームの画素を混合することを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項８】
さらに、前記巡回型ノイズ低減処理の適用前に、前記現フレームに対して空間的ノイズ低減処理を適用するフィルタ手段を有することを特徴とする請求項１乃至請求項７のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８の何れか１項に記載の画像処理装置と、
光学系によって結像される光学像を光電変換する撮像素子と、
前記撮像素子から出力されたアナログ画像信号をデジタル画像信号に変換するＡ／Ｄ変換手段を有することを特徴とするデジタルカメラ。
【請求項１０】
予め定められたフレームレートを有する動画像に対して巡回型ノイズ低減処理を適用する画像処理装置の制御方法であって、
前記画像処理装置の決定手段が、前記フレームレートに基づいて、現フレームより前の前フレームの重みである巡回係数を決定する決定工程と、
前記画像処理装置の第１混合手段が、前記巡回係数を用いて前記前フレームと前記現フレームの画素を混合する第１混合工程と、
前記画像処理装置の出力手段が、前記第１混合手段で得られたフレームを、前記巡回型ノイズ低減処理を適用した前記現フレームとして出力する出力工程と、を有することを特徴とする画像処理装置の制御方法。
【請求項１１】
前記決定工程において、前記決定手段が、前記フレームレートが第１の値のときは前記巡回係数を第１の値に決定し、前記フレームレートが前記第１の値よりも低い第２の値のときは前記巡回係数を前記第１の値よりも小さい第２の値に設定することを特徴とする請求項１０に記載の画像処理装置の制御方法。
【請求項１２】
さらに、前記画像処理装置の算出手段が、巡回型ノイズ低減処理を適用する現フレームの画素値と、前記巡回型ノイズ低減処理を適用後の、前記現フレームの１フレーム前の前フレームの画素値とから、前記現フレームと前記前フレームとの相関の大きさを表す情報を算出する算出工程を有し、
前記決定工程において前記決定手段は、前記相関の大きさと前記フレームレートとに基づいて、前記巡回係数を決定することを特徴とする請求項１０に記載の画像処理装置の制御方法。
【請求項１３】
前記決定工程において、前記決定手段が、前記算出工程で算出された情報で表される相関の大きさが同じであれば、前記フレームレートが第１の値のときは前記巡回係数を第１の値に決定し、前記フレームレートが前記第１の値よりも低い第２の値のときは前記巡回係数を前記第１の値よりも小さい第２の値に設定することを特徴とする請求項１２に記載の画像処理装置の制御方法。
【請求項１４】
コンピュータを、請求項１乃至請求項８のいずれか１項に記載の画像処理装置の各手段として機能させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上述の目的は、予め定められたフレームレートを有する動画像に対して巡回型ノイズ低減処理を適用する画像処理装置であって、フレームレートに基づいて、現フレームより前の前フレームの重みである巡回係数を決定する決定手段と、巡回係数を用いて前フレームと現フレームの画素を混合する第１混合手段と、第１混合手段で得られたフレームを、巡回型ノイズ低減処理を適用した現フレームとして出力する出力手段と、を有することを特徴とする画像処理装置によって達成される。