(57)【要約】【課題】処理能力を向上させると共に加工コストをも削減するキュベット整列装置を提供し、併せて、処理中のキュベットの帯電を抑制する。【解決手段】キュベット５がランダムに収められるケース１内で２枚の略半円形の板が所定間隔で平行に固定された平行プレート３が、モータ４に駆動されて回転する間に平行プレート３の間にキュベット５を懸架させて拾い上げ、エッジ３ａ上を滑動させて整列状態で取り出す。エッジ３ａをフォトエッチング法で刃状に加工することで摩擦抵抗が減小し処理能力が向上すると共に加工コストも削減できる。また、ケース１またはケース１とその周辺部材を鋳造金属製としてこれを接地することでキュベット５の帯電を抑制する。【選択図】          図１
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【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
鍔を有する筒状のキュベットをランダムに収容するケースと該ケース内で回転する２枚の略半円形の平行プレートを備え、該平行プレートの両エッジ間に前記鍔を掛けて前記キュベットを前記平行プレートの間に懸架させた後、傾斜した前記エッジ上で滑動させて装置外に取り出すキュベット整列装置において、前記平行プレートの少なくとも前記キュベットが滑動する前記エッジをフォトエッチング法で加工することを特徴とするキュベット整列装置。
【請求項２】
前記ケースが鋳造金属製であることを特徴とする請求項１記載のキュベット整列装置。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は、自動生化学測定等において試料容器（キュベット）を整列して他のラックや収納庫へ収納するためのキュベット整列装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
図４に従来のキュベット整列装置の構成の一例を示す。同図とほぼ同様の構成が特許文献１において詳細に説明されているので概略のみ以下に説明する。
【０００３】
この装置は、同図に示すように、多数のキュベット５がランダムに収められるケース１がベース２に支持されており、２枚の略半円形の板が所定間隔で平行に固定された平行プレート３がケース１内でモータ４に駆動されて回転する構造である。
【０００４】
図３に本装置で用いられるキュベット５を示す。キュベット５は、同図（ａ）に示すように、円筒状の胴部５ｂの端部開口の周縁が横に張り出して形成する鍔５ａを備える。大きさは、一例として鍔５ａの外径１１ｍｍ、胴部５ｂの外径９ｍｍ、高さ３０ｍｍであり、材質としては光学的測定の必要上、透明度の高いアクリル樹脂等が用いられる。
【０００５】
図４において、キュベット５は投入口（図示しない）からケース１内に投入され、このキュベット５群を掻き分けるように平行プレート３が回転し、回転中にいくつかのキュベット５が平行プレート３の２枚の板の間に入り込む。平行プレート３の間隔は胴部５ｂの外径よりも大きく、鍔５ａの外径よりも小さい値に調整されているので、鍔５ａが両側のエッジ３ａに引っ掛かり、図３（ｃ）に示すように、キュベット５は平行プレート３の間に懸架される。さらに平行プレート３が回転して図４に示すように傾斜すると、懸架されたキュベット５は傾斜したエッジ３ａ上を滑動し、ケース１の外部に設けられたスライド６を経由して整列した状態で取り出される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特許第３７０１３２０号公報
【考案の概要】
【考案が解決しようとする課題】
【０００７】
上記のキュベット整列装置では、キュベット処理能力は１時間当たり１０００個程度であるが、この処理能力をさらに高めるためには、傾斜したエッジ上でキュベットをスムーズに滑落させることが重要であり、そのためにキュベットの鍔とエッジとの間の摩擦抵抗を減らすことが必要である。しかし、キュベットの透明性と清浄性を保つために潤滑剤等を用いることはできない。このため従来は、エッジに研磨加工を施すことで摩擦抵抗の低減を図っていたが、加工コストが嵩むことが問題であった。
【０００８】
また、プラスチック製のケース内でキュベット同士、またはキュベットとケース内壁が擦れ合うことでキュベットに静電気が帯電することも問題であった。帯電したキュベットは塵埃の付着により透明度が低下し、また電気的ノイズの原因となって測定を妨害する。
【０００９】
本考案は上記事情に鑑みてなされたものであり、平行プレートのエッジの摩擦抵抗を減少させて処理能力を向上させると共に、加工コストをも削減するキュベット整列装置を提供することを目的とする。また、第２の目的は、本装置で処理中のキュベットの帯電を抑制することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本考案は、上記課題を解決するために、平行プレートの少なくともキュベットが滑動するエッジをフォトエッチング法で加工する。一般にフォトエッチング法で加工すると加工面が鋭利に尖るので、キュベットとエッジとの接触面積が小さくなり、これに伴い摩擦力も減少する。その上、原料板材からのプレートの切り出しとエッジ加工を同時に行うことができるので工程数が減少し、これに伴いコストも削減される。
また、キュベットの帯電防止のためには、ケースまたはケースとその周辺部材を鋳造金属製としてこれを接地する。
【考案の効果】
【００１１】
本考案は上記のように構成されているので、キュベットと平行プレートのエッジ間の摩擦抵抗が減少し、キュベットの滑りが良くなり、装置の処理能力が向上する。また、加工にフォトエッチング法を用いることで工程数が減少し、コストダウンにつながる。
さらに、主要構成部材を鋳造金属を用いて構成することで静電気防除が可能となり、静電気による測定妨害を抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本考案の一実施例を示す図である。
【図２】本考案装置の一部材の加工法を説明する図である。
【図３】本考案および従来装置で用いられるキュベットを示す図である。
【図４】従来の構成例を示す図である。
【考案を実施するための形態】
【００１３】
図１に本考案の一実施例を示す。同図（ａ）は本実施例装置の全体的構成を示すものであるが、これは図４に示す従来構成と同様であってその動作についても下記の通り従来同様である。
多数のキュベット５がランダムに収められるケース１内で２枚の略半円形の板が所定間隔で平行に固定された平行プレート３がモータ４に駆動されて回転する間に、平行プレートの両エッジ３ａ間に鍔５ａを掛けてキュベット５を平行プレート３の間に懸架させて拾い上げ、エッジ３ａ上を滑動させ、スライド６を経由して整列状態で取り出す。
【００１４】
図１（ｂ）は、本考案の特徴である平行プレート３のエッジ３ａを拡大して示す。同図に示す通り、エッジ３ａはフォトエッチング法で加工したことにより、鋭利に尖った断面形状を有する。図３（ｂ）は、本実施例においてキュベット５を尖った断面を有する２つのエッジ３ａ間に懸架した状態を示す。この場合、エッジ３ａとキュベット５の鍔５ａとの接触面積が小さいので、図３（ｃ）に示す従来の場合に比べて摩擦抵抗が小さくなる。
【００１５】
フォトエッチング法は金属の精密加工に用いられる加工法の１つで、金属表面に感光性膜（フォトレジスト）を塗布し、その上に写真原板を重ねて露光し、次に現像処理により感光した膜を除去して露出した金属面を薬品で腐食溶解する加工法である。
【００１６】
図２に、平行プレート３を構成する略半円形板３ｂをフォトエッチング法で加工する過程を示す。
先ず、所定直径の円形金属板３ｃの全面（裏面、周面を含む）をフォトレジストで覆い、同図（ａ）に示す帯状の部分（斜線部）を表裏とも感光させ、感光したフォトレジストを除去した後、腐食液に浸す。
【００１７】
以下、同図（ｂ）〜（ｄ）に加工の進行を同図（ａ）のＡ−Ａ断面で示す。腐食液に浸された円形金属板３ｃは、同図（ｂ）のようにフォトレジスト膜３ｅが除去された部分が両面から腐食されて凹む。さらに腐食が進むと（ｃ）のように、両面からの凹みがつながり、略半円形の部分が切り離される。これを液から取り出し、フォトレジスト膜３ｅを別の薬品で洗浄除去すると（ｄ）の如く刃状の断面を持つエッジ３ａを備えた略半円形板３ｂが得られる。
【００１８】
なお、同じくフォトエッチング法を用いて、原料となる板材から略半円形板３ｂを切り出す工程まで含めて一括して行うより効率的な工作法もある。即ち、同図（ｅ）に示す通り、フォトレジストで覆った原料板材３ｄ上に略半円形の外周に沿う形で帯状に感光させ、以後は上記同様の過程で感光部分を腐食溶解して略半円形板３ｂを切り出せば、同時にエッジ３ａの刃状加工も完了する。この場合、直線部（エッジ３ａ）以外の周縁も刃状に仕上がるが、特に問題はない。
さらに、同様の加工法で、２枚（またはそれ以上）の略半円形板３ｂを１枚の原料板材３ｄから同時に切り出すことも可能である。
【００１９】
上記実施例ではエッジ３ａは直線状であるが、この部分は直線以外の形状、例えば滑らかにカーブする曲線状であってもよい。フォトエッチング法で加工すれば、曲線の加工でも殆どコスト上昇の要因とはならない。
【００２０】
また、本実施例ではキュベット５の帯電防止のため、図１（ａ）におけるケース１、またはケース１とベース２を合体させた部材をアルミ等の金属を用いて鋳造により製作し、これを接地する。但し、特に接地配線を接続しなくても、金属製部材で構成された本装置を適度に導電性を有する台および床上に設置するだけでも帯電防止効果は得られる。なお、鋳造金属製とする副次的効果として、加工精度が向上し、組み立て工数低減によるコスト削減効果も得られる。
【産業上の利用可能性】
【００２１】
本考案は自動生化学測定等に利用できる。
【符号の説明】
【００２２】
１  ケース
２  ベース
３  平行プレート
３ａ  エッジ
３ｂ  略半円形板
３ｃ  円形金属板
３ｄ  原料板材
３ｅ  フォトレジスト膜
４  モータ
５  キュベット
５ａ  鍔
５ｂ  胴部
６  スライド
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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