(57)【要約】【課題】偏光技術を用いた潜像を偽造が困難な潜像形成体を提供する。【解決手段】第１領域もしくは第１偏光潜像部の第１遅相軸と第２領域もしくは第２偏光潜像部の第２遅相軸とがなす角を二等分する第１直線に対して、第３領域もしくは第３偏光潜像部の第３遅相軸と第１直線とがなす角度と第４領域もしくは第４偏光潜像部の第４遅相軸又はこれに直交する軸と第１直線とがなす角度とは互いに等しく、第１領域もしくは第１偏光潜像部の第１遅相軸と第４領域もしくは第４偏光潜像部の第１遅相軸とがなす角を二等分する第２直線に対して第２領域もしくは第２偏光潜像部の第２遅相軸と第２直線とがなす角度と、第３領域もしくは第３偏光潜像部の第３遅相軸又はこれに直交する軸と前記第２直線とがなす角度とは互いに等しい。【選択図】図４
2013109129.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
面内方向に隣り合い、前記面内方向における遅相軸の向きが互いに異なっている第１乃至第４領域を含んだ位相差層を具備し、
前記領域のいずれか２つ以上の領域が、偏光潜像部と偏光背景部を有し、
該偏光潜像部は、網点で構成され且つ網点背景部と網点潜像部とを有し、
該網点潜像部を構成する網点と、該網点背景部を構成する網点とは、網点角度、ピッチ、網点位相のいずれか１つ以上が異なることを特徴とする領域があり、
前記第１領域もしくは第１偏光潜像部の第１遅相軸と前記第２領域もしくは第２偏光潜像部の第２遅相軸とがなす角を二等分する第１直線に対して、
前記第３領域もしくは第３偏光潜像部の第３遅相軸と前記第１直線とがなす角度と、前記第４領域もしくは第４偏光潜像部の第４遅相軸又はこれに直交する軸と前記第１直線とがなす角度とは互いに等しく、
前記第１領域もしくは第１偏光潜像部の第１遅相軸と前記第４領域もしくは第４偏光潜像部の第１遅相軸とがなす角を二等分する第２直線に対して、
前記第２領域もしくは第２偏光潜像部の第２遅相軸と前記第２直線とがなす角度と、前記第３領域もしくは第３偏光潜像部の第３遅相軸又はこれに直交する軸と前記第２直線とがなす角度とは互いに等しいことを特徴とする表示体。
【請求項２】
面内方向に隣り合い、前記面内方向における遅相軸の向きが互いに異なっている第１乃至第４領域を含んだ位相差層を具備し、
前記領域のいずれか２つ以上の領域が、偏光潜像部と偏光背景部を有し、
該偏光潜像部が、万線で構成され且つ万線背景部と万線潜像部とを有し、
該万線潜像部を構成する万線と、該万線背景部を構成する万線とは、万線角度、ピッチ、万線位相のいずれか１つ以上が異なることを特徴とする領域があり、
前記第１領域もしくは第１偏光潜像部の第１遅相軸と前記第２領域もしくは第２偏光潜像部の第２遅相軸とがなす角を二等分する第１直線に対して、
前記第３領域もしくは第３偏光潜像部の第３遅相軸と前記第１直線とがなす角度と、前記第４領域もしくは第４偏光潜像部の第４遅相軸又はこれに直交する軸と前記第１直線とがなす角度とは互いに等しく、
前記第１領域もしくは第１偏光潜像部の第１遅相軸と前記第４領域もしくは第４偏光潜像部の第１遅相軸とがなす角を二等分する第２直線に対して、
前記第２領域もしくは第２偏光潜像部の第２遅相軸と前記第２直線とがなす角度と、前記第３領域もしくは第３偏光潜像部の第３遅相軸又はこれに直交する軸と前記第２直線とがなす角度とは互いに等しいことを特徴とする表示体。
【請求項３】
前記位相差層の面内方向において、前記位相差層の主面に平行な第３直線に対して、前記第１遅相軸がなす角度を第１角度θ1とし、前記第２遅相軸がなす角度を第２角度θ2とし、前記第３遅相軸がなす角度を第３角度θ3とし、及び前記第４遅相軸がなす角度を第４角度θ4としたときに、前記第１角度θ1と前記第２角度θ2と前記第３角度θ3と前記第４角度θ4と整数Ｌ、Ｍ及びＮとは、関係式
θ2＝θ1＋２２．５゜＋９０゜×Ｌ、
θ3＝θ1＋４５゜＋９０゜×Ｍ、及び
θ4＝θ1＋６７．５゜＋９０゜×Ｎ
を満たしていることを特徴とする請求項１に記載の表示体。
【請求項４】
前記位相差層と向き合った反射層を更に具備したことを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の表示体。
【請求項５】
前記位相差層と向き合った偏光層を更に具備したことを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の表示体。
【請求項６】
前記偏光層と向き合った吸収層を更に具備したことを特徴とする請求項５に記載の表示体。
【請求項７】
請求項１乃至６の何れか１項に記載の表示体と、前記表示体上に設けられた粘着層とを具備したことを特徴とする粘着ラベル。
【請求項８】
請求項１乃至６の何れか１項に記載の表示体と、前記表示体を剥離可能に支持した支持体層とを具備したことを特徴とする転写箔。
【請求項９】
請求項１乃至８の何れか１項に記載の表示体に偏光シートを重ね、偏光潜像の出現の有無にて真偽判定を行うことを特徴とする表示体の真偽判定方法。
【請求項１０】
さらに網点もしくは万線パターンからなる顕像化用パターンを形成してなる顕像化用シートを重ね、網点潜像もしくは万線潜像の出現の有無にて真偽判定を行うことを特徴とする請求項９に記載の表示体の真偽判定方法。
【請求項１１】
請求項１乃至９のいずれか１項に記載の表示体に、検証デバイスを重ね、偏光潜像及び網点潜像もしくは万線潜像の出現の有無にて真偽判定を行うことを特徴とする表示体の真偽判定方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、物品の偽造防止及び真贋判定を行うための隠し文字や隠しパターンを、フィルタを用いることによって表示させることを目的とした潜像を用いた偽造防止媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、銀行券、商品券、パスポートなどの有価証券や認証媒体は、偽造防止対策として偽造の困難な媒体の貼付を行ってきた。そこでは、目視による判定(オバート機能)または検証器を用いた判定(コバート機能)により真贋判定を行っている。
【０００３】
しかし、目視により真贋判定が行える偽造防止媒体は偽造されやすい。そこで、近年では、偏光技術を用いた潜像技術が提案され、偏光フィルムを重ねることにより潜像を出現させ真贋判定を行っていることが多い。
【０００４】
しかし、この場合の潜像デバイスの真贋判定にあっては、偏光フィルム等の専用の検証器が必要になる。通常、小売業者もしくはサービス業者は消費者から受け取る近県やチケットを想定して、真贋判定用の検証器を準備し、真贋判定を行うことは出来る。しかし、一般消費者はこれらの状況を想定して事前に検証器を入手しているとは考えにくく、真贋判定を行うことが出来ない。
【０００５】
そこで、この問題を解決するために、特許文献１では互いに重なり合うように記録された複数の潜像を優れたコントラスト比で可視化することができる表示体を提案している。以下に上記先行技術特許を示す。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開2009-258151号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、偏光技術を用いて潜像を形成した潜像形成体であっても、時間の経過、技術の進歩等にともない、偽造されてしまう可能性があり、それが問題となっている。
【０００８】
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、偏光技術を用いた潜像を、単純な画像ではなく複雑な画像にする等、画像自体に工夫を凝らし、さらに偽造が困難な潜像形成体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の第１側面によると、面内方向に隣り合い、前記面内方向における遅相軸の向きが互いに異なっている第１乃至第４領域を含んだ位相差層を具備し、前記領域のいずれか２つ以上の領域が、偏光潜像部と偏光背景部を有し、該偏光潜像部は、網点で構成され且つ網点背景部と網点潜像部とを有し、該網点潜像部を構成する網点と、該網点背景部を構成する網点とは、網点角度、ピッチ、網点位相のいずれか１つ以上が異なることを特徴とする領域があり、前記第１領域もしくは第１偏光潜像部の第１遅相軸と前記第２領域もしくは第２偏光潜像部の第２遅相軸とがなす角を二等分する第１直線に対して、前記第３領域もしくは第３偏光潜像部の第３遅相軸と前記第１直線とがなす角度と、前記第４領域もしくは第４偏光潜像部の第４遅相軸又はこれに直交する軸と前記第１直線とがなす角度とは互いに等しく、前記第１領域もしくは第１偏光潜像部の第１遅相軸と前記第４領域もしくは第４偏光潜像部の第１遅相軸とがなす角を二等分する第２直線に対して、前記第２領域もしくは第２偏光潜像部の第２遅相軸と前記第２直線とがなす角度と、前記第３領域もしくは第３偏光潜像部の第３遅相軸又はこれに直交する軸と前記第２直線とがなす角度とは互いに等しいことを特徴とする表示体を提供する。
【００１０】
本発明の第２側面によると、面内方向に隣り合い、前記面内方向における遅相軸の向きが互いに異なっている第１乃至第４領域を含んだ位相差層を具備し、前記領域のいずれか２つ以上の領域が、偏光潜像部と偏光背景部を有し、該偏光潜像部が、万線で構成され且つ万線背景部と万線潜像部とを有し、該万線潜像部を構成する万線と、該万線背景部を構成する万線とは、万線角度、ピッチ、万線位相のいずれか１つ以上が異なることを特徴とする領域があり、前記第１領域もしくは第１偏光潜像部の第１遅相軸と前記第２領域もしくは第２偏光潜像部の第２遅相軸とがなす角を二等分する第１直線に対して、前記第３領域もしくは第３偏光潜像部の第３遅相軸と前記第１直線とがなす角度と、前記第４領域もしくは第４偏光潜像部の第４遅相軸又はこれに直交する軸と前記第１直線とがなす角度とは互いに等しく、前記第１領域もしくは第１偏光潜像部の第１遅相軸と前記第４領域もしくは第４偏光潜像部の第１遅相軸とがなす角を二等分する第２直線に対して、前記第２領域もしくは第２偏光潜像部の第２遅相軸と前記第２直線とがなす角度と、前記第３領域もしくは第３偏光潜像部の第３遅相軸又はこれに直交する軸と前記第２直線とがなす角度とは互いに等しいことを特徴とする表示体を提供する。
【００１１】
本発明の第３側面によると、前記位相差層の面内方向において、前記位相差層の主面に平行な第３直線に対して、前記第１遅相軸がなす角度を第１角度θ1とし、前記第２遅相軸がなす角度を第２角度θ2とし、前記第３遅相軸がなす角度を第３角度θ3とし、及び前記第４遅相軸がなす角度を第４角度θ4としたときに、前記第１角度θ1と前記第２角度θ2と前記第３角度θ3と前記第４角度θ4と整数Ｌ、Ｍ及びＮとは、関係式
θ2＝θ1＋２２．５゜＋９０゜×Ｌ、
θ3＝θ1＋４５゜＋９０゜×Ｍ、及び
θ4＝θ1＋６７．５゜＋９０゜×Ｎ
を満たしていることを特徴とする請求項１に記載の表示体を提供する。
【００１２】
本発明の第４側面によると、前記位相差層と向き合った反射層を更に具備したことを特徴とする請求項１乃至３に記載の表示体を提供する。
【００１３】
本発明の第５側面によると、前記位相差層と向き合った偏光層を更に具備したことを特徴とする請求項１乃至３に記載の表示体を提供する。
【００１４】
本発明の第６側面によると、前記偏光層と向き合った吸収層を更に具備したことを特徴とする請求項５に記載の表示体を提供する。
【００１５】
本発明の第７側面によると、請求項１乃至６の何れか１項に記載の表示体と、前記表示体上に設けられた粘着層とを具備したことを特徴とする粘着ラベルを提供する。
【００１６】
本発明の第８側面によると、請求項１乃至６の何れか１項に記載の表示体と、前記表示体を剥離可能に支持した支持体層とを具備したことを特徴とする転写箔を提供する。
【００１７】
本発明の第９側面によると、請求項１乃至８の何れか１項に記載の表示体に偏光シートを重ね、偏光潜像の出現の有無にて真偽判定を行うことを特徴とする表示体の真偽判定方法を提供する。
【００１８】
本発明の第１０側面によるとさらに網点もしくは万線パターンからなる顕像化用パターンを形成してなる顕像化用シートを重ね、網点潜像もしくは万線潜像の出現の有無にて真偽判定を行うことを特徴とする請求項９に記載の表示体の真偽判定方法を提供する。
【００１９】
本発明の第１１の側面によると、請求項１乃至９のいずれか１項に記載の表示体に、検証デバイスを重ね、偏光潜像及び網点潜像もしくは万線潜像の出現の有無にて真偽判定を行うことを特徴とする表示体の真偽判定方法を提供する。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、互いに重なり合うように記録された複数の潜像を優れたコントラスト比で可視化することができるようになり、さらに顕像化した偏光潜像部が網点潜像部と網点背景部、もしくは万線潜像部と万線背景部を有するため、顕像化用パターンが形成された顕像化用シートを重ねると、網点潜像、もしくは万線潜像が顕像化され、さらに偽造が困難で、且つ施した全ての潜像に気づかれ難い表示体が実現される。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の実施形態に係る表示体の断面図である。
【図２】請求項４に対応する発明の施形態に係る表示体の断面図である。
【図３】請求項５に対応する発明の実施形態に係る表示体の断面図である。
【図４】図１に示す表示体を概略的に示す平面図である。
【図５】図１に示す表示体に記録されている潜像を概略的に示す平面図である。
【図６】図１に示す表示体に記録されている潜像を概略的に示す平面図である。
【図７】図４に示す潜像の偏光潜像部の一実施形態の例を示す拡大模式図であり、(a)は偏光潜像部、（b）は網点背景部、（ｃ）は網点潜像部を示している。
【図８】本発明で使用している網点の角度、ピッチ及び位相について説明するための図である。
【図９】一対の偏光フィルタ間に表示体を挟んでこれを観察した場合に表示される像を示す平面図である。
【図１０】一対の偏光フィルタ間に表示体を挟んでこれを観察した場合に表示される像を示す平面図である。
【図１１】一対の偏光フィルタ間に表示体を挟んでこれを観察した場合に表示される像を示す平面図である。
【図１２】一対の偏光フィルタ間に表示体を挟んでこれを観察した場合に表示される像を示す平面図である。
【図１３】本発明における検証フィルタの断面図である。
【図１４】図１１に示す検証フィルタを用いて、表示体の検証を行ったときの潜像の一例である。
【図１５】本発明における検証フィルタの断面図である。
【図１６】図１３に示す検証フィルタを用いて、表示体の検証を行ったときの潜像の一例である。
【図１７】本発明における一例の検証フィルタの断面図である。
【図１８】図１５に示す検証フィルタを用いて、表示体の検証を行ったときの潜像の一例である。
【図１９】（ａ）〜（ｄ）はいずれも本発明に用いるマスクの一例を概略的に示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、図面を参照して、本発明に係る偽造防止媒体及びその偽造防止媒体の製造方法等についての実施形態を説明する。
【００２３】
図１は本発明の一実施形態における表示体の断面図である。図１に示した表示体１０は、支持体１２上に積層する位相差層１１を具備している。図２に示した他の実施形態における表示体１０は、支持体１２上に順次積層する反射層１３及び位相差層１１を具備したものである。図３に示した更に他の実施形態における表示体１０は、支持体１２上に順次積層する偏光層１４及び位相差層１１を具備している。これらの表示体１０には少なくとも２つの画像、即ちここでは第１画像Ｐ１及び第２画像Ｐ２が潜像として記録されている。
【００２４】
図４に示すように、位相差層１１は、面内方向に隣り合った少なくとも４つの領域Ａ１乃至Ａ４を含んでいる。ここで、第１領域Ａ１は、図６に示す第２画像Ｐ２のうち図５に示す第１画像Ｐ１と重なり合っていない部分に対応した領域である。第２領域Ａ２は、第１画像Ｐ１及び第２画像Ｐ２の何れも記録されていない部分に対応した領域である。第３領域Ａ３は、第１画像Ｐ１のうち第２画像Ｐ２と重なり合っていない部分に対応した領域である。第４領域Ａ４は、第１画像Ｐ１と第２画像Ｐ２とが重なり合った部分に対応した領域である。
【００２５】
また、詳細については後述するが、前記領域Ａ１乃至Ａ４は、図７に示すような偏光潜像部と偏光背景部を有していても良い。さらに、本発明における偏光潜像部は、微細な網点もしくは万線等の模様で構成されていてもよい。
【００２６】
領域Ａ１乃至Ａ４は、面内方向における遅相軸の向きが互いに異なっている。本態様では、第１遅相軸と第２遅相軸とがなす角を二等分する第１直線Ｌ１に対して、第３遅相軸と第１直線Ｌ１とがなす角度と、第４遅相軸又はこれに直交する軸と第１直線Ｌ１とがなす角度とは互いに等しい。また、第１遅相軸と第４遅相軸とがなす角を二等分する第２直線Ｌ２に対して、第２遅相軸と第２直線Ｌ２とがなす角度と、第３遅相軸又はこれに直交する軸と第２直線Ｌ２とがなす角度とは互いに等しい。
【００２７】
ここで、２つの角度について「等しい」というときには、両者が厳密に等しい場合のみならず、両者が人間の視覚によってこの場合と同一視できるような光学効果をもたらす関係にある場合をも包含するものとする。例えば、これら２つの角度は、約−５゜乃至約５゜の誤差範囲内で一致していればよい。
【００２８】
位相差層１１の位相差値は、所定の設計波長に対して、約二分の一波長であることが好ましい。この設計波長は、例えば、観察者又は読取装置が最も高い感度で認識又は検出できる波長とする。例えば、表示体を肉眼で観察する場合には、可視光のうち最も視認性が高い緑色光に対応した波長を設計波長としてもよい。或いは、潜像の存在を悟られ難くするために、より視認性の低い波長を設計波長としてもよい。
【００２９】
位相差層１１の位相差値を約二分の一波長とした場合、位相差層に直線偏光を入射させると、直線偏光の偏光軸は、位相差層の遅相軸に対して反転する。すなわち、入射光の偏光軸と位相差層の遅相軸とがなす角度をθとすると、入射光の偏光軸と透過光の偏光軸とがなす角度は２θとなる。
【００３０】
このとき、表示体１０を平行ニコル下で観察した場合を考える。ここで、位相差層の入射光の強度を１００とし、検光子となる偏光フィルタの理論的な限界透過率50%を用いると、表示体１０の透過率Ｔは、次式で与えられる。
【数１】
2013109129.tif 000003
【００３１】
上述した通り、本態様では、位相差層に含まれている領域Ａ１乃至Ａ４は、面内方向における遅相軸の向きが互いに異なっている。したがって、位相差層に直線偏光を入射させ、偏光フィルタを介して観察した場合、領域Ａ１乃至Ａ４の透過率は、上式にしたがって互いに異なりうる。即ち、領域Ａ１乃至Ａ４の透過率の差異に基づいて、表示体上に可視像を表示させることが可能となる。なお、表示体を、偏光フィルタを介さずに観察した場合には、表示体上に視認可能な画像は表示されない。
【００３２】
表示体が表示する画像は、例えば、偏光フィルタの偏光軸の向きを面内方向で回転させることにより、以下に説明するように変化する。
【００３３】
第１遅相軸がＸ軸となす角度を第１角度θ1とし、第２遅相軸がＸ軸となす角度を第２角度θ2とし、第３遅相軸がＸ軸となす角度を第３角度θ3とし、第４遅相軸がＸ軸となす角度を第４角度θ4とする。
【００３４】
ここでは、一例として、角度θ1乃至θ4は、関係式
θ2＝θ1＋２２．５゜＋９０゜×Ｌ、
θ3＝θ1＋４５゜＋９０゜×Ｍ、及び
θ4＝θ1＋６７．５゜＋９０゜×Ｎ
を満たしているとする。なお、Ｌ、Ｍ及びＮは、任意の整数である。
【００３５】
以下では、上式において、θ1＝０゜、Ｌ＝０、Ｍ＝−１及びＮ＝０とした場合、すなわち、θ1＝０゜、θ2＝２２．５゜、θ3＝−４５゜及びθ4＝６７．５゜とした場合を例として説明する。
【００３６】
以下、平行ニコルの状態で配置された一対の偏光フィルタの偏光軸と、Ｘ軸とがなす角度、すなわち入射及び出射させる直線偏光の偏光軸とＸ軸とがなす角度をθPとする。また、領域Ａ１乃至Ａ４における透過率をそれぞれＴ1乃至Ｔ4とする。
【００３７】
まず、θP＝１１．２５゜の場合を考える。このとき、偏光フィルタの偏光軸は、第１遅相軸（θ1＝０゜）と第２遅相軸（θ2＝２２．５゜）との角の二等分線に平行である。また、偏光フィルタの偏光軸と第３遅相軸（θ3＝−４５゜）とがなす角度は、偏光フィルタの偏光軸と第４遅相軸（θ4＝６７．５゜）とがなす角度と等しい。
【００３８】
この場合、偏光フィルタの偏光軸と第１遅相軸とがなす角度は、｜θP−θ1｜＝１１．２５゜である。また、偏光フィルタの偏光軸と第２遅相軸とがなす角度は、｜θP−θ2｜＝１１．２５゜である。したがって、第１領域Ａ１及び第２領域Ａ２における透過率は、上式よりＴ1＝Ｔ2＝４７．２％となる。
【００３９】
一方、偏光フィルタの偏光軸と第３遅相軸とがなす角度は、｜θP−θ3｜＝５６．２５゜である。また、偏光フィルタの偏光軸と第４遅相軸とがなす角度は、｜θP−θ4｜＝５６．２５゜である。したがって、第３領域Ａ３及び第４領域Ａ４における透過率は、Ｔ3＝Ｔ4＝７．３％となる。
【００４０】
したがって、透過表示において、領域Ａ１及びＡ２はネガティブ像として観察され、領域Ａ３及びＡ４はポジティブ像として観察される。すなわち、表示体１０は、図９のように第１画像Ｐ１をポジティブ画像として表示させる。
【００４１】
次に、θP＝３３．７５゜の場合を考える。このとき、偏光フィルタの偏光軸は、第１遅相軸（θ1＝０゜）と第４遅相軸（θ4＝６７．５゜）との角の二等分線に平行である。また、偏光フィルタの偏光軸と第２遅相軸（θ2＝２２．５゜）とがなす角度は、偏光フィルタの偏光軸と第３遅相軸に直交する軸（θ3＋９０゜＝４５゜）とがなす角度と等しい。
【００４２】
この場合、偏光フィルタの偏光軸と第１遅相軸とがなす角度は、｜θP−θ1｜＝３３．７５゜である。また、偏光フィルタの偏光軸と第４遅相軸とがなす角度は、｜θP−θ4｜＝３３．７５゜である。したがって、第１領域Ａ１及び第４領域Ａ４における透過率は、Ｔ1＝Ｔ4＝７．３％となる。
【００４３】
一方、偏光フィルタの偏光軸と第２遅相軸とがなす角度は、｜θP−θ2｜＝１１．２５゜である。また、偏光フィルタの偏光軸と第３遅相軸とがなす角度は、｜θP−θ3｜＝７８．７５゜である。したがって、第２領域Ａ２及び第３領域Ａ３における透過率は、Ｔ2＝Ｔ3＝４７．２％となる。
【００４４】
したがって、透過表示において、領域Ａ１及びＡ４はポジティブ像として観察され、領域Ａ２及びＡ３はネガティブ像として観察される。すなわち、表示体１０は、図１０のように第２画像Ｐ２をポジティブ画像として表示させる。
【００４５】
次いで、θP＝５６．２５゜の場合を考える。この場合、偏光フィルタの偏光軸と第１遅相軸とがなす角度は、｜θP−θ1｜＝５６．２５゜である。また、偏光フィルタの偏光軸と第２遅相軸とがなす角度は、｜θP−θ2｜＝３３．７５゜である。したがって、第１領域Ａ１及び第２領域Ａ２における透過率は、Ｔ1＝Ｔ2＝７．３％となる。
【００４６】
一方、偏光フィルタの偏光軸と第３遅相軸とがなす角度は、｜θP−θ3｜＝７８．７５゜である。また、偏光フィルタの偏光軸と第４遅相軸とがなす角度は、｜θP−θ4｜＝１１．２５゜である。したがって、第３領域Ａ３及び第４領域Ａ４における透過率は、Ｔ3＝Ｔ4＝４７．２％となる。
【００４７】
したがって、透過表示において、領域Ａ１及びＡ２はポジティブ像として観察され、領域Ａ３及びＡ４はネガティブ像として観察される。すなわち、表示体１０は、図１１のように第１画像Ｐ１をネガティブ画像として表示させる。
【００４８】
最後に、θP＝７８．７５゜の場合を考える。この場合、偏光フィルタの偏光軸と第１遅相軸とがなす角度は、｜θP−θ1｜＝７８．７５゜である。また、偏光フィルタの偏光軸と第４遅相軸とがなす角度は、｜θP−θ4｜＝１１．２５゜である。したがって、第１領域Ａ１及び第４領域Ａ４における透過率は、Ｔ1＝Ｔ4＝４７．２％となる。
【００４９】
一方、偏光フィルタの偏光軸と第２遅相軸とがなす角度は、｜θP−θ2｜＝５６．２５゜である。また、偏光フィルタの偏光軸と第３遅相軸とがなす角度は、｜θP−θ3｜＝５６．２５゜である。したがって、第２領域Ａ２及び第３領域Ａ３における透過率は、Ｔ2＝Ｔ3＝７．３％となる。
【００５０】
したがって、透過表示において、領域Ａ１及びＡ４はポジティブ像として観察され、領域Ａ２及びＡ３はネガティブ像として観察される。すなわち、表示体１０は、図１２のように第２画像Ｐ２をネガティブ画像として表示させる。
【００５１】
このように、表示体は、観察に用いる偏光フィルタの偏光軸の角度θPを変化させることにより、第１画像Ｐ１のポジティブ画像、第２画像Ｐ２のポジティブ画像、第１画像Ｐ１のネガティブ画像及び第２画像Ｐ２のネガティブ画像を表示させることができる。
【００５２】
さらに、図７に示すように、前記領域Ａ１乃至Ａ４の２つもしくは３つの領域において、偏光潜像部と偏光背景部を有し、前記偏光潜像部が、網点もしくは万線で構成され、且つ、網点もしくは万線背景部と、網点もしくは万線潜像部とを有していることが好ましい。
【００５３】
また、画像が網点もしくは万線で構成される領域の組み合わせとしては、第２画像Ｐ２を構成している領域Ａ１と領域Ａ４の組み合わせであるか、第１画像Ｐ１を構成している領域Ａ３と領域Ａ４の組み合わせであるか、第１画像Ｐ１および第２画像Ｐ２を構成している領域Ａ１と領域Ａ３と領域Ａ４の組み合わせであることが好ましい。
【００５４】
網点もしくは万線潜像部を形成する網点もしくは万線と、網点もしくは万線背景部を形成する網点もしくは万線とは、網点の大きさ、万線の太さ、角度、ピッチ及び位相のいずれか１つ以上が異なっている。なお、偏光潜像部を形成している網点もしくは万線は、デザインに支障がない程度の微細な点となっているので、偏光潜像として顕像化していても、視覚上では、網点もしくは万線模様として確認することはできない。
【００５５】
網点の形状としては、角ドット状、丸ドット状、網ドット状、格子ドット状、またはこれらの組み合わせによるドット状等が挙げられる。
【００５６】
ここで、網点を例に角度、ピッチ及び位相について説明しておく。本発明における網点の角度は図８（ａ）のφを指し、規則的に並んでいる網点の傾きを表す。網点のピッチは図８（ａ）のＤを指し、１つの網点から隣の最近接している網点までの距離を表している。また、ピッチＤ内での網点部と非網点部の比率を網点比率と呼ぶ。
【００５７】
一方で、網点の位相とは、図８（ｂ）のｋを指し、規則的に並んでいる網点の周期を表している。図８（ｂ）では、網点Ａと網点Ｂは、位相がｇだけずれている状態を示している。
【００５８】
網点の大きさ及び万線の太さは、小さすぎても大きすぎても顕像化用シートを重ねた際に網点潜像が視認しづらくなるので、１０〜１０００μｍの範囲、好ましくは１０〜５００μｍに設定することが望ましい。また、網点比率（＝網点部／（網点部＋非網点部））、万線比率（＝万線部／（万線部＋非万線部））は任意に設定してもよいが、１／１０〜９／１０の範囲で、好ましくは１／３〜２／３に設定することが好ましい。さらに好ましくは比率が１／２である。よって、ピッチは２０〜２０００μｍ、好ましくは２０〜１０００μｍの範囲に設定することが好ましい。
【００５９】
顕像化用シートを重ねて回転させ、網点もしくは万線潜像を顕像化するためには、網点もしくは万線背景部と網点もしくは万線潜像部とで、網点の大きさ、万線の太さ、角度、ピッチ及び位相のいずれか１つ以上が異なる網点もしくは万線パターンを使用すれば良い。ただし、それぞれが近似しすぎていると網点もしくは万線潜像が見えづらくなるので考慮する。
【００６０】
図７は、網点で構成された偏光潜像部を示したものである。ただし、図７においては、説明のために、網点を大きくし、ピッチも広くしている。図７（ａ）は、網点潜像部と網点背景部とが合わさった偏光潜像部であり、図７（ｂ）はそのうち網点背景部のみを、図７（ｃ）は網点潜像部のみを切り出して示す図である。
【００６１】
図７に示した偏光潜像部は、網点潜像部と網点背景部を形成する網点が、同一ピッチ及び同一網点比率で、異なる角度で設けられている。Ｘ軸に対して網点潜像部と網点背景部の網点角度が、０°、３０°となっている。このために、顕像化シートを用いた場合、０°方向で網点潜像のネガティブ画像が、３０°方向で網点潜像のポジティブ画像が現れることになる。
【００６２】
次に、例えば、第２画像Ｐ２つまり領域Ａ１と領域Ａ４が偏光潜像部と偏光背景部で構成され、偏光潜像部が前述のように網点角度が３０°異なる網点で構成されている場合について説明を行う。
【００６３】
前述のように、本発明における表示体１０は、表示体１０に偏光フィルタを翳し、Ｘ軸との角度をθP＝１１．２５°、３３．７５°、５６．２５°、７８．７５°と順に変化させたときに、第１画像Ｐ１のポジティブ画像、第２画像Ｐ２の偏光潜像部のポジティブ画像、第１画像Ｐ１のネガティブ画像、第２画像Ｐ２の偏光潜像部のネガティブ画像と順に出現する。
【００６４】
また、偏光フィルタの角度をθP＝３３．７５゜に固定し、第２画像Ｐ２の偏光潜像部がポジティブ画像として観察している状態で、さらに顕像化用シートを用いると、０°方向で網点潜像のネガティブ画像を３０°方向に網点潜像のポジティブ画像を顕像化させることができる。
【００６５】
図１３のように、Ｘ軸との角度をθP＝３３．７５゜にした偏光フィルタ２２とＸ軸との角度を３０°方向にした顕像化シート２１を組み合わせた検証フィルタを作製すると、偏光フィルタのみでは観測できなかった画像を図１４のように顕像化させることができる。
【００６６】
また、図１５のように、Ｘ軸と偏光フィルタの透過軸となす角が１１．２５°である検証フィルタ２３と、Ｘ軸と偏光フィルタの透過軸となす角が３３．７５°である偏光フィルタ２２が一体化した検証機を用いると、図１６のように第１画像Ｐ１のポジティブ画像と第２画像Ｐ２のポジティブ画像を同時に観察することができる。
【００６７】
さらには、図１７のように、Ｘ軸と偏光フィルタの透過軸となす角が１１．２５°である検証フィルタＱ１と、Ｘ軸と偏光フィルタの透過軸となす角が３３．７５°である偏光フィルタに３０°傾けた顕像化用シートを組み合わせた検証フィルタＱ２が一体化した検証機を用いると、図１８のように第１画像Ｐ１のポジティブ画像と第２画像Ｐ２の網点潜像のポジティブ画像を同時に観察することができ、図１５のような偏光フィルタのみでは得られない網点潜像を同時に観察することができる。
【００６８】
このような領域Ａ１及びＡ４からなる位相差層１１には、複屈折性を持つ材料を使用することができる。たとえば、液晶材料を用いることができる。複屈折とは、物質の屈折率が光軸方向によって異なることで、そのために物質中を光が通過するときにその速度が異なってくるので、物質通過後の光には通過速度の差の分だけ位相差が生じる。
【００６９】
また、位相差層１１は光軸が４軸方向にパターンで配置されている。パターンで光軸を配置する方法としては、配向膜に配向処理をし、その上に液晶を塗布することで配向された液晶を得ることができる。液晶材料を配向させるための配向膜の配向処理には、例えばラビング配向法もしくは光配向法を用いることができる。
【００７０】
ラビング配向法は、基材上にポリマー溶液を塗布して作製された配向膜をラビング布で擦る方法であり、擦った方向に配向膜表面の性質が変化し、この方向に液晶分子が並ぶという性質を利用したものである。配向膜には、ポリイミド、ＰＶＡ等が用いられる。
【００７１】
位相差層の光軸を４軸方向に配向させる場合には、図１９に示すようなマスクを用いて、順次マスクを配向膜上に設置し布で擦ることによって作製される。この場合、擦る方向はマスクごとに変えると良い。これにより、配向方向が互いに異なった４つの領域が得られる。
【００７２】
また、光配向法とは、配向膜に偏光等の異方性を有する光を照射もしくは非偏光光を斜めから照射し、配向膜内の分子の再配列や異方的な化学反応を誘起する方法であり、配向膜に異方性を与え、これによって液晶分子が配向することを利用したものである。光配向のメカニズムとしては、アゾベンゼン誘導体の光異方化、桂皮酸エステル、クマリン、カルコンやベンゾフェノン等の誘導体の光二量化や架橋、ポリイミド等の光分解等を挙げることができる。
【００７３】
光配向法においても、図１９のようなフォトマスクを使用できる。図１９(a)〜（ｄ）のフォトマスクを順次切り替えながら、互いに異なる偏光方向を有している偏光、典型的には直線偏光又は楕円偏光を順次照射する。これにより、配向膜内に、面内方向に隣り合い、配向方向が互いに異なった４つの領域を形成することができる。
【００７４】
これらフォトマスクの代わりに、位相差フィルタを使用することもできる。例えば、面内方向に隣り合い、遅相軸の向きが互いに異なった３つ又は４つの領域を備えた位相差フィルタを介して偏光、典型的には直線偏光又は楕円偏光を照射することにより、面内方向に隣り合い、配向方向が互いに異なった３つ又は４つの領域を、１回の露光で形成することができる。
【００７５】
これら配向膜を形成する方法としては、グラビアコーティング法、マイクログラビアコーティング法等の公知の手法を用いることができる。
【００７６】
液晶材料としては、メソゲン基の両端にアクリレートを設けた光硬化型液晶モノマー、ＥＢ若しくはＵＶで硬化させる高分子液晶、ポリマー主鎖にメソゲン基を提げた高分子液晶、分子主鎖自体が配向する液晶性高分子を用いることができる。これらの液晶は、塗布後、相転移を起こすＮＩ点より少し下の温度で熱処理することにより、配向を促進することが可能である。
【００７７】
支持体１２としては、押出加工やキャスト加工により作製された無延伸フィルム及び、延伸加工により作製された延伸フィルム等を用いることができる。延伸フィルムには、伸ばし方により、１軸延伸フィルム及び２軸延伸フィルムがあり、両者とも使用できる。
【００７８】
これらの無延伸フィルム及び延伸フィルムの材料としては、セロハン、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリオレフィン（ＰＯ）、エチレンビニルアルコール（ＥＶＯＨ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ナイロン、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム等があげられる。特に、支持基材の上に設けられる位相差層の位相差値を乱さないため、無延伸フィルムが好ましい。
【００７９】
反射層１３の材料としては、Ａｌ、Ｓｎ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｕ、Ａｇなどの金属材料の単体、またはこれらの化合物などが挙げられる。
【００８０】
また、膜面に垂直な光に対してほぼ透明であるが、斜光に対して屈折率に応じて反射特性を示す透明な反射層も単層または多層で使用できる。透明な反射層として使用できる材料の例を以下に挙げる。以下に示す化学式または化合物名の後に続くカッコ内の数値は屈折率ｎを示す。セラミックスとしては、Ｆｅ2Ｏ3（２．７）、ＴｉＯ2（２．６）、ＣｄＳ（２．６）、ＣｅＯ2（２．３）、ＺｎＳ（２．３）、ＰｂＣｌ2（２．３）、ＣｄＯ（２．２）、ＷＯ3（５）、ＳｉＯ（５）、Ｓｉ2Ｏ3（２．５）、Ｉｎ2Ｏ3（２．０）、ＰｂＯ（２．６）、Ｔａ2Ｏ3（２．４）、ＺｎＯ（２．１）、ＺｒＯ2（５）、ＭｇＯ（１）、ＳｉＯ2（１．４５）、ＭｇＦ2（４）、ＣｅＦ3（１）、ＣａＦ2（１．３〜１．４）、ＡｌＦ3（１）、Ａｌ2Ｏ3（１）、ＧａＯ（２）などが挙げられる。有機ポリマーとしては、ポリエチレン（１．５１）、ポリプロピレン（１．４９）、ポリテトラフルオロエチレン（１．３５）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．６０）などが挙げられるがこの限りでない。
【００８１】
反射層１３を形成する方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法など公知の方法を適宜使用することができる。また、光反射効果を有するインキ等を公知の印刷方法により設ける方法でもよい。
【００８２】
また、反射層１３を回折構造に沿って設けてもよい。回折構造に沿って反射層１３を設ける方法としては、回折構造形成層を予め設け、光の干渉を利用したレリーフ型ホログラム又は回折格子を成す微細な凹凸パターンからなるレリーフ型のプレス版を用いて加熱・加圧して微細な凹凸パターンを複製したのちに、前記真空蒸着法等の公知の方法を用いて反射層を形成することにより、回折構造に沿って反射層を設けることができる。
【００８３】
回折構造形成層は熱による成形性が良好で、プレスムラが生じ難く、明るい再生像が得られる材料によって構成するとよい。例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、セルロース系樹脂、ビニル系樹脂等の熱可塑性樹脂や、反応性水酸基を有するアクリルポリオールやポリエステルポリオール等にポリイソシアネートを架橋剤として添加、架橋したウレタン樹脂や、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂等の熱硬化樹脂、エポキシ（メタ）アクリル、ウレタン（メタ）アクリレート等の紫外線或いは電子線硬化樹脂を、単独もしくはこれらを複合して使用できる。また、前記以外の樹脂であっても、回折構造パターンを形成可能であれば適宜使用できる。
【００８４】
偏光層１４は、例えば、ＰＶＡ（ポリビニルアルコール）にヨウ素若しくは二色性染料を含浸させ且つ延伸配向させた吸収型偏光子、二色性染料を配向膜上で配向させて得られる吸収型偏光子、コレステリック液晶を基材上で配向させた反射型円偏光子、複屈折性多層フィルムを積層してなる反射型偏光子、ブルースター角でレンチキュラーレンズ状に形成したプリズム偏光子、複屈折物質を回折格子状に形成した複屈折回折偏光子、又は回折構造の溝を深く形成した回折偏光子を利用することができる。これら以外であっても、反射光又は透過光について特定の方向の偏光成分を分離又は抽出できる素子であれば使用可能である。
【実施例１】
【００８５】
以下、本発明の実施例について説明をする。支持体１２として厚さ３８μｍのＰＥＴフィルムを準備した。そして、支持体１２上に、ウレタン樹脂からなる回折構造形成層を１μｍの厚さでコーティングした。なお、このコーティングは、グラビアコーティング法で行った。
【００８６】
次に、回折構造形成層面に、回折構造画像をエンボス成型した。その後、回折構造形成層上に、アルミニウムからなる反射層１３を形成した。反射層１３は、真空蒸着法を用いて、厚みが５００Åになるようにして形成した。
【００８７】
その後、反射層１３上に、配向膜溶液をマイクログラビアコーティング法により、０．１μｍの厚さでコーティングして、配向膜を形成した。その後、図１９(a)に示すようなマスクを設置し、Ｘ軸に対してθ1＝０°となるような角度でラビング布を用いて擦り、次に図１９(b)に示すようなマスクを設置し、Ｘ軸に対してθ2＝２２．５°となるような角度でラビング布を用いて擦り、次に図１９(ｃ)に示すようなマスクを設置し、Ｘ軸に対してθ3＝―４５°となるような角度でラビング布を用いて擦り、次に図１９(ｄ)に示すようなマスクを設置し、Ｘ軸に対してθ4＝６７．５°となるような角度でラビング布を用いて擦った。このときマスクをそれぞれ設置する際は、各領域が重ならないように設置し、ラビング処理を行った。
【００８８】
なお、この表示体に含まれている第２画像Ｐ２、すなわち領域Ａ１及びＡ４は、図７に示すような網点背景部と網点潜像部の網点角度が３０°異なる偏光潜像部にて画像が形成されている。
【００８９】
その後、ＤＩＣ株式会社製のＵＶキュアラブル液晶ＵＣＬ−００８をマイクログラビアにて位相差値がλ/４となる膜厚で塗工し、酸素雰囲気下でＵＶ硬化を行い、４軸に光軸方向をもつ位相差層１１を得た。
【００９０】
前記のような表示体に対して、図１７に示すような検証フィルタを準備し、観察を行ったところ、図１８に示すような、左右で異なる画像が観察され、さらに第２画像Ｐ２は網点にて形成されているため、第２画像Ｐ２の中に網点潜像が観察された。
【符号の説明】
【００９１】
１０・・・表示体
１１・・・位相差層
１２・・・支持体
１３・・・反射層
１４・・・偏光層
Ａ１・・・第１領域
Ａ２・・・第２領域
Ａ３・・・第３領域
Ａ４・・・第４領域
Ｐ１・・・第１画像
Ｐ２・・・第２画像
２１・・・Ｘ軸との角度が３０°傾いた顕像化シート
２２・・・Ｘ軸との角度θp=３３．７５°にした偏光フィルタ
２３・・・Ｘ軸との角度θp=１１．２５°にした偏光フィルタ
Ｑ１・・・検証フィルタ
Ｑ２・・・検証フィルタ
【図１】
2013109129.tif 000004
【図２】
2013109129.tif 000005
【図３】
2013109129.tif 000006
【図４】
2013109129.tif 000007
【図５】
2013109129.tif 000008
【図６】
2013109129.tif 000009
【図７】
2013109129.tif 000010
【図８】
2013109129.tif 000011
【図９】
2013109129.tif 000012
【図１０】
2013109129.tif 000013
【図１１】
2013109129.tif 000014
【図１２】
2013109129.tif 000015
【図１３】
2013109129.tif 000016
【図１４】
2013109129.tif 000017
【図１５】
2013109129.tif 000018
【図１６】
2013109129.tif 000019
【図１７】
2013109129.tif 000020
【図１８】
2013109129.tif 000021
【図１９】
2013109129.tif 000022