【手続補正書】
【提出日】平成26年2月13日(2014.2.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記第１基板部は、前記第１主面上において前記平面に投影したときに前記中心軸と前記第２サブ電極と間に設けられ前記第１方向に延在する電極をさらに含む請求項１記載の液晶光学素子。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【図１】第１の実施形態に係る液晶光学素子を示す模式的断面図である。
【図２】第１の実施形態に係る液晶光学素子の使用状態を示す模式的断面図である。
【図３】第１の実施形態に係る液晶光学素子の特性を示す模式図である。
【図４】第１の実施形態に係る別の液晶光学素子を示す模式的断面図である。
【図５】第１の実施形態に係る別の液晶光学素子を示す模式的断面図である。
【図６】第１の実施形態に係る別の液晶光学素子を示す模式的断面図である。
【図７】第２の実施形態に係る液晶光学素子を示す模式的断面図である。
【図８】第３の実施形態に係る液晶光学素子を示す模式的断面図である。
【図９】第３の実施形態に係る別の液晶光学素子を示す模式的断面図である。
【図１０】第４の実施形態に係る液晶光学素子を示す模式的断面図である。
【図１１】第５の実施形態に係る液晶光学素子を示す模式的断面図である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
複数の第１電極１１のうちの最近接の２つの第１電極１１に着目する。最近接の２つの第１電極１１のうちの一方の電極を第１主電極１１ｂとする。最近接の２つの第１電極１１のうちの他方の電極を第２主電極１１ａとする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
最近接の第１電極１１（例えば、第１主電極１１ａ及び第２主電極１１ｂ）の間には、中心軸５９がある。中心軸５９は、Ｘ−Ｙ平面（第１主面１０ａに対して平行な平面）に投影したときに、第１主電極１１ａのＸ軸方向における中心１１ａＣと、第２主電極１１ｂのＸ軸方向における中心１１ｂＣと、を結ぶ線分の中点を通り、Ｙ軸方向に対して平行である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
本実施形態においては、第１主電極１１ａと第１サブ電極１２ａとの間の＋Ｘ方向に沿った距離（第１距離ｄ１１）は、第２主電極１１ｂと第２サブ電極１２ｂとの間の＋Ｘ方向に沿った距離（第２距離ｄ１２）よりも長い。後述するように、第１サブ電極１２ａの＋Ｘ方向に沿った幅（第１幅ｗ１１）が、第２サブ電極１２ｂの＋Ｘ方向に沿った幅（第２幅ｗ１２）よりも狭くても良い。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
本明細書においては、プレチルト角が４５°未満の場合を、便宜的に水平配向と言い、プレチルト角が４５°を超える場合を、便宜的に垂直配向と言う。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
プレチルトの方向は、例えば、クリスタルローテーション法などにより判定できる。また、液晶層３０に電圧を印加させて、液晶の配向を変化させ、このときの液晶層３０の光学特性を観測することでも、プレチルトの方向が判定できる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
液晶のダイレクタ３０ｄをＸ−Ｙ平面に投影したときに、ダイレクタ３０ｄの軸は、＋Ｘ方向に対して平行でも良く、非平行でも良い。プレチルトの方向をＸ軸に投影したときに、プレチルトの方向は、＋Ｘ方向成分を有している。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
制御部７７は、第１電極１１、第２電極１２及び対向電極２１と電気的に接続される。図３では、制御部７７と第１電極１１との間の配線、及び、制御部７７と対向電極２１との間の配線が例示されているが、図を見やすくするために、制御部７７と第２電極１２との間の配線は省略されている。制御部７７は、第１電極１１と対向電極２１との間に第１電圧を印加し、第２電極１２と対向電極２１との間に第２電圧を印加する。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
図４は、第１の実施形態に係る別の液晶光学素子の構成を例示する模式的断面図である。  
図４に表したように、実施形態に係る液晶光学素子１１２においては、第１サブ電極１２ａの＋Ｘ方向に沿った第１幅ｗ１１は、第２サブ電極１２ｂの＋Ｘ方向に沿った第２幅ｗ１２よりも狭い。この例では、第１距離ｄ１１は第２距離ｄ１２と同じである。この他は、液晶光学素子１１１と同じなので説明を省略する。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７２】
このように、第１基板部１０ｕは、第１主面１０ａ上において、Ｘ−Ｙ平面に投影したときに中心軸５９と第２サブ電極１２ｂと間に設けられた電極１２ｂａをさらに含むことができる。電極１２ｂａは、Ｙ軸方向に延在する。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７６】
第３サブ電極１３ａは、第１主面１０ａ上の第１領域Ｒ１に設けられる。第１領域絶縁層１８ａは、第１サブ電極１２ａと第３サブ電極１３ａとの間に設けられる。第４サブ電極１３ｂは、第１主面１０ａ上の第２領域Ｒ２に設けられる。第２領域絶縁層１８ｂは、第２サブ電極１２ｂと第４サブ電極１３ｂとの間に設けられる。この例では、第２領域絶縁層１８ｂは、第１領域絶縁層１８ａと連続している。ただし、実施形態はこれに限らず、第２領域絶縁層１８ｂは、第１領域絶縁層１８ａと不連続でも良い。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９６】
第１スリットｓ１は、Ｘ−Ｙ平面に投影したときに、中心軸５９と第１主電極１１ａとの間の第１領域Ｒ１に設けられる。第１スリットｓ１は、Ｙ軸方向に延在する。中心軸５９は、Ｘ−Ｙ平面に投影したときに、最近接の複数の第１電極１１のうちの一方の電極（第１主電極１１ａ）のＸ軸方向（第１主面１０ａに対して平行でＹ軸方向に対して垂直な第２方向）における中心１１ａＣと、最近接の複数の第１電極１１のうちの他方の電極（第２主電極１１ｂ）のＸ軸方向における中心１１ｂＣと、を結ぶ線分の中点を通り、Ｙ軸方向に対して平行である。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０３】
第１スリット距離ｄ２１は、例えば２０μｍ以上２００μｍ以下である。第１スリット距離ｄ２１は、例えば、液晶層３０の厚さ（Ｚ軸方向に沿った長さ）の０．５倍以上１０倍以下である。第２スリット距離ｄ２２は、例えば、第１電極１１の配設ピッチの０．０５倍以上０．４倍以下である。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２９】
なお、液晶光学素子１３１において、電極の配置をさらに非対称にしても良い。すなわち、第１〜第４の実施形態において、第５の実施形態を適用しても良い。これにより、電界密度をさらに非対称にすることでき、リバースチルトをより抑制し易くなる。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３４】
（構成３）  
第１基板部であって、
第１主面を有する第１基板と、
それぞれが前記第１主面上に設けられ第１方向に延在する複数の第１電極であって、前記第１方向に対して交差する方向に並ぶ複数の第１電極と、
を含む第１基板部と、
第２基板部であって、
前記第１主面と対向する第２主面を有する第２基板と、
前記第２主面上に設けられ前記第１主面に対して平行な平面に投影したときに前記複数の第１電極と重なる対向電極であって前記第１方向に延在するスリットを有する対向電極と、
を含む第２基板部と、
前記第１基板部と前記第２基板部との間に設けられた液晶層であって、最近接の前記複数の第１電極のうちの一方の電極のから前記最近接の前記複数の第１電極のうちの他方の電極へ向かう第２方向に進むに従って液晶のダイレクタが前記第１基板部から前記第２基板部に向かうようなプレチルトを有する液晶層と、
を備え、
前記平面に投影したときに、前記一方の電極と前記スリットとの間の前記第２方向に沿った距離は、前記平面に投影したときに前記他方の電極と前記スリットとの間の前記第２方向に沿った距離よりも短い液晶光学素子。