(57)【要約】本発明は、四角ゲート真空バルブ及びそれを備える半導体製造装置に関し、本発明の四角ゲート真空バルブは、相互に対向される両側面に、第１ゲートと第２ゲートが形成されるゲートフレームと、前記ゲートフレームの上部を遮蔽する遮蔽プレートと、前記ゲートフレームの下部の一側に設けられる第１開口を通じて、前記ゲートフレーム内へ直線移動または回転可能に配置され、前記第１ゲートを選択的に開閉する第１バルブユニットと、及び前記ゲートフレームの下部ので、前記第１開口と離隔配置される第２開口を通じて、前記ゲートフレーム内へ直線移動または回転可能に配置され、前記第２ゲートを選択的に開閉する第２バルブユニットを含む。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
相互に対向される両側面に、第１ゲートと第２ゲートが形成されたゲートフレームと、
前記ゲートフレームの上部を遮蔽する遮蔽プレートと、
前記ゲートフレームの下部の一側に設けられる第１開口を通じて、前記ゲートフレーム内へ直線移動または回転可能に配置され、前記第１ゲートを選択的に開閉する第１バルブユニットと、及び、
前記ゲートフレームの下部の他側で前記第１開口と離隔配置される第２開口を通じて、前記ゲートフレーム内へ直線移動または回転可能に配置され、前記第２ゲートを選択的に開閉する第２バルブユニットとを、含むことを特徴とする四角ゲート真空バルブ。
【請求項２】
前記第１バルブユニットは、
前記第１ゲートを選択的に開閉する第１開閉用ディスクと、
前記第１開閉用ディスクと連結され、前記第１開閉用ディスクを直線移動させる第１ユニットシャフトと、及び、
前記第１ユニットシャフトに結合されて、前記第１ユニットシャフトを回転させる第１回転部とを、含むことを特徴とする請求項１に記載の四角ゲート真空バルブ。
【請求項３】
前記第２バルブユニットは、
前記第２ゲートを選択的に開閉する第２開閉用ディスクと、
前記第２開閉用ディスクと連結され、前記第２開閉用ディスクを直線移動させる第２ユニットシャフトと、及び、
前記第２ユニットシャフトに結合されて、前記第２ユニットシャフトを回転させる第２回転部とを、含むことを特徴とする請求項２に記載の四角ゲート真空バルブ。
【請求項４】
前記第１開閉用ディスク及び第２開閉用ディスクには、密封用圧着リングが備えられることを特徴とする請求項３に記載の四角ゲート真空バルブ。
【請求項５】
前記第１ゲートと前記第２ゲートのサイズは、互いに同一であることを特徴とする請求項１に記載の四角ゲート真空バルブ。
【請求項６】
前記第１ゲートと前記第２ゲートの開閉信号を発生させる信号発生器と、及び、
前記信号発生器からの入力情報に基づいて、前記第１バルブユニットと前記第２バルブユニットの動作をコントロールするコントローラーとを、更に含むことを特徴とする請求項１に記載の四角ゲート真空バルブ。
【請求項７】
相互に離隔配置され、半導体製造のための工程を形成する第１真空チャンバ及び第２真空チャンバと、及び、
前記第１真空チャンバ及び第２真空チャンバの間に連結され、前記第１真空チャンバ及び第２真空チャンバの方への第１ゲート及び第２ゲートを選択的に開閉する四角ゲート真空バルブとを、含み、
前記四角ゲート真空バルブは、
前記第１真空チャンバ及び第２真空チャンバと対応されるように、前記第１ゲートと第２ゲートが形成されたゲートフレームと、
前記ゲートフレームの上部を遮蔽する遮蔽プレートと、
前記ゲートフレームの下部の一側に設けられる第１開口を通じて、前記ゲートフレーム内へ直線移動または回転可能に配置されて、前記第１ゲートを選択的に開閉する第１バルブユニットと、及び、
前記ゲートフレームの下部の他側で前記第１開口と離隔配置される第２開口を通じて、前記ゲートフレーム内へ直線移動または回転可能に配置されて、前記第２ゲートを選択的に開閉する第２バルブユニットとを、含むことを特徴とする四角ゲート真空バルブを備える半導体製造装置。
【請求項８】
前記第１バルブユニットは、
前記第１ゲートを選択的に開閉する第１開閉用ディスクと、
前記第１開閉用ディスクと連結され、前記第１開閉用ディスクを直線移動させる第１ユニットシャフトと、及び、
前記第１ユニットシャフトに結合されて前記第１ユニットシャフトを回転させる第１回転部とを、含み、
前記第２バルブユニットは、
前記第２ゲートを選択的に開閉する第２開閉用ディスクと、
前記第２開閉用ディスクと連結され、前記第２開閉用ディスクを直線移動させる第２ユニットシャフトと、及び、
前記第２ユニットシャフトに結合されて前記第２ユニットシャフトを回転させる第２回転部を含み、
前記第１及び第２開閉用ディスクには、密封用圧着リングが備えられることを特徴とする請求項７に記載の四角ゲート真空バルブを備える半導体製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、四角ゲート真空バルブ及びそれを備える半導体製造装置関し、更に詳しくは、同一な空間内で両側のゲートに対するシーリング（ｓｅａｌｉｎｇ） 動作が可能であるので、限定された空間内で、両側のゲートシーリングが必要な半導体工程に効果的に対応することができるばかりでなく、特に、上部が遮蔽されるゲートフレームに適用可能な四角ゲート真空バルブ及びそれを備える半導体製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体は、固定密度を要求するので、高い清潔度を持つクリーンルーム（ｃｌｅａｎ  ｒｏｏｍ）で特殊な製造技術を通じて製造される。
【０００３】
半導体製造時の真空作業領域と大気領域との密閉技術も、半導体の品質に多大な影響を与えるので、半導体は空気の中に含まれた異物の接触を、最も完璧に遮断することができる真空状態で製造されることが一般的である。
【０００４】
従って、半導体製造設備には、チャンバの真空環境を選択的に造成する手段として、ゲートバルブ（ｇａｔｅｖａｌｖｅ）が広く使われる。
【０００５】
多種のゲートバルブが公知されているが、普通は四角ゲート真空バルブが主に活用されていることで知られている。
【０００６】
もちろん、半導体を製造するためのチャンバ以外にも、ＬＣＤ 蒸着のための蒸着チャンバ、例えば、プロセスチャンバとトランスファーチャンバ、またはトランスファーチャンバとロードロックチャンバの間にも、真空バルブが使われることができる。
【０００７】
真空バルブは、単一方向バルブと双方向バルブの二種類に分類されることができ、これらは、該当工程の特性に合わせて選択し、適用されている。
【０００８】
このような四角ゲート真空バルブは、開口された四角ゲートをディスク（ｄｉｓｋ）が開閉する方式を持つ。
【０００９】
動作を簡単に見ると、開放状態（ｏｐｅｎ  ｍｏｄｅ）であったディスクが、それに連結されたシャフト（ｍａｉｎｓｈａｆｔ）の上昇とともに、ゲートフレーム内へ進入するようになって（ｃｌｏｓｅ  ｍｏｄｅ）、進入が終了した後には、少しの角度変位を起こしながら、ゲートフレームに開口されたゲートを閉めて密閉させる（ｐｕｓｈ  ｍｏｄｅ）。
【００１０】
以後、再びシャフトの下降とともに、ディスクが下降されながらゲートが開かれ、このような動作は、工程の状況に合わせて繰り返されながら、真空を形成したり、真空を解除するようになる。
【００１１】
結果的に、四角ゲート真空バルブは、直線運動メカニズムと、相似点での回転運動メカニズムが一緒に適用されるバルブであると言え、現在、このような方式が広く使われている。
【００１２】
しかし、現在、使用中にある四角ゲート真空バルブの場合、一側のゲイトのみを開閉するための構造を備えているので、ゲートの活用度が多少低下することができる問題点がある。
【００１３】
これに対し、本出願人は、先に両側のゲートシーリングに関する技術を、特許出願したことがあり、現在は審査中である。
【００１４】
ただ、先の技術の場合、四角ゲート真空バルブのゲートフレームの上下部が開放され、ゲートフレームの上下部で、第１バルブユニット及び第２バルブユニットが備えている構造であったので、上下方向の高さが高くなることができるが、特に、ゲートフレームの上部空間の活用が困難な場合には、適用が不可能である点を考慮する場合、改善されたタイプの真空バルブに関する技術開発が必要な実情である。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
本発明の目的は、同一な空間内で両側のゲートに対するシーリング（ｓｅａｌｉｎｇ） 動作が可能であるので、限定された空間内で両側のゲートシーリングが必要な半導体工程に効果的に対応することができるばかりでなく、特に、上部が遮蔽されるゲートフレームに適用可能な、四角ゲート真空バルブ及びそれを備える半導体製造装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
前記目的は、相互に対向される両側面に、第１ゲートと第２ゲートが形成されるゲートフレームと、前記ゲートフレームの上部を遮蔽する遮蔽プレートと、前記ゲートフレームの下部の一側に設けられる第１開口を通じて、前記ゲートフレーム内へ直線移動または回転可能に配置され、前記第１ゲートを選択的に開閉する第１バルブユニットと、及び前記ゲートフレームの下部の他側で前記第１開口と離隔配置される第２開口を通じて、前記ゲートフレーム内へ直線移動または回転可能に配置され、前記第２ゲートを選択的に開閉する第２バルブユニットとを、含むことを特徴とする四角ゲート真空バルブによって達成される。
【００１７】
前記第１バルブユニットは、前記第１ゲートを選択的に開閉する第１開閉用ディスクと、前記第１開閉用ディスクと連結され、前記第１開閉用ディスクを直線移動させる第１ユニットシャフトと、及び前記第１ユニットシャフトに結合されて、前記第１ユニットシャフトを回転させる第１回転部とを、含むことができる。
【００１８】
前記第２バルブユニットは、前記第２ゲートを選択的に開閉する第２開閉用ディスクと、前記第２開閉用ディスクと連結され、前記第２開閉用ディスクを直線移動させる第２ユニットシャフトと、及び前記第２ユニットシャフトに結合されて前記第２ユニットシャフトを回転させる第２回転部とを、含むことができる。
【００１９】
前記第１及び第２開閉用ディスクには、密封用圧着リングが備えられることができる。
【００２０】
前記第１ゲートと前記第２ゲートのサイズは、お互いに同一であることができる。
【００２１】
前記第１ゲートと前記第２ゲートの開閉信号を発生させる信号発生器と、及び前記信号発生器からの入力情報に基づいて、前記第１バルブユニットと前記第２バルブユニットの動作をコントロールするコントローラーとを、更に含むことができる。
【００２２】
一方、前記目的は、相互に離隔配置され、半導体製造のための工程を形成する第１真空チャンバ及び第２真空チャンバと、及び前記第１真空チャンバ及び第２真空チャンバの間に連結され、前記第１及び第２真空チャンバの方への第１ゲート及び第２ゲートを選択的に開閉する四角ゲート真空バルブとを、含み、前記四角ゲート真空バルブは、前記第１真空チャンバ及び第２真空チャンバと対応されるように前記第１ゲートと第２ゲートが形成されるゲートフレームと、前記ゲートフレームの上部を遮蔽する遮蔽プレートと、前記ゲートフレームの下部の一側に設けられる第１開口を通じて、前記ゲートフレーム内へ直線移動または回転可能に配置されて、前記第１ゲートを選択的に開閉する第１バルブユニットと、及び前記ゲートフレームの下部の他側で前記第１開口と離隔配置される第２開口を通じて、前記ゲートフレーム内へ直線移動または回転可能に配置されて、前記第２ゲートを選択的に開閉する第２バルブユニットとを、含むことを特徴とする四角ゲート真空バルブを備える半導体製造装置によっても達成される。
【００２３】
前記第１バルブユニットは、前記第１ゲートを選択的に開閉する第１開閉用ディスクと、前記第１開閉用ディスクと連結され、前記第１開閉用ディスクを直線移動させる第１ユニットシャフトと、及び前記第１ユニットシャフトに結合されて、前記第１ユニットシャフトを回転させる第１回転部を含み、前記第２バルブユニットは、前記第２ゲートを選択的に開閉する第２開閉用ディスクと、前記第２開閉用ディスクを連結され、前記第２開閉用ディスクを直線移動させる第２ユニットシャフトと、及び前記第２ユニットシャフトに結合されて、前記第２ユニットシャフトを回転させる第２回転部とを、含み、前記第１及び第２開閉用ディスクにはには、密封用圧着リングが備えられることができる。
【発明の効果】
【００２４】
本発明によれば、同一な空間内で両側のゲートに対するシーリング（ｓｅａｌｉｎｇ）動作が可能であるので、限定された空間内で両側のゲートシーリングが必要な半導体工程に効果的に対応することができるばかりでなく、特に、上部が遮蔽されるゲートフレームに適用可能な効果がある。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明の一実施例に係る半導体製造装置の概略的な構造図として、第１ゲートが閉まった状態の図面である。
【図２】本発明の一実施例に係る半導体製造装置の概略的な構造図として、第２ゲートが閉まった状態の図面である。
【図３】本発明の一実施例に係る四角ゲート真空バルブの概略的な構造図である。
【図４】四角ゲート真空バルブの動作を段階的に図示した図面である。
【図５】四角ゲート真空バルブの動作を段階的に図示した図面である。
【図６】四角ゲート真空バルブの動作を段階的に図示した図面である。
【図７】四角ゲート真空バルブの動作を段階的に図示した図面である。
【図８】四角ゲート真空バルブの制御ブロック図である。
【図９】本発明の一実施例に係る四角ゲート真空バルブの作動方法の流れ図である。
【図１０】本発明の他の実施例に係る四角ゲート真空バルブの概略的な構造図である。
【図１１】本発明の別の実施例に係る四角ゲート真空バルブの動作を段階的に図示した図面である。
【図１２】本発明の別の実施例に係る四角ゲート真空バルブの動作を段階的に図示した図面である。
【図１３】本発明の別の実施例に係る四角ゲート真空バルブの動作を段階的に図示した図面である。
【図１４】本発明の別の実施例に係る四角ゲート真空バルブの構造図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
本発明は、相互に対向される両側面に、第１ゲートと第２ゲートが形成されるゲートフレームと、前記ゲートフレームの上部を遮蔽する遮蔽プレートと、前記ゲートフレームの下部の一側に設けられる第１開口を通じて、前記ゲートフレーム内へ直線移動または回転可能に配置され、前記第１ゲートを選択的に開閉する第１バルブユニットと、及び、前記ゲートフレームの下部の他側で前記第１開口と離隔配置される第２開口を通じて、前記ゲートフレーム内へ直線移動または回転可能に配置され、前記第２ゲートを選択的に開閉する第２バルブユニットとを、含む四角ゲート真空バルブを提供するものである。
【００２７】
以下は、添付した図面を参照して、本発明の実施例に対して、本発明の当業者が容易に実施することができるように詳細に説明する。
【００２８】
しかし、本発明に関する説明は構造的乃至機能的の説明のための実施例にすぎないので、本発明の権利範囲は、本文に説明された実施例によって制限されることとして解釈されてはならない。
【００２９】
例えば、実施例は多様な変更が可能で、さまざまな形態を持つことができるので、本発明の権利範囲は、技術的思想を実現することができる均等物を含むこととして理解されなければならない。
【００３０】
また、本発明で提示された目的または効果は、特定の実施例が、これを全部含まなければならないとか、そういう効果のみを含まなければならないという意味ではないので、本発明の権利範囲は、これによって制限されることとして理解されてはならない。
【００３１】
本発明の明細書で、本発明の実施例は本発明の開示が完全になるようにし、本発明の当業者に発明の範囲を完全に知らせるために提供されるものである。そして、本発明は請求項の範囲によって定義されるのみである。
【００３２】
従って、いくつかの実施例において、よく知られた構成要素、よく知られた動作及びよく知られた技術は、本発明が曖昧に解釈されることを避けるために、具体的に説明されない。
【００３３】
一方、本発明で叙述される用語の意味は、辞書の意味に制限されなく、次のように理解されなければならない。
【００３４】
ある構成要素が、他の構成要素に「連結されて」いると言及された時には、そのほかの構成要素に直接的に連結されることもできるが、中間に他の構成要素が存在することもできると理解されなければならない。一方、ある構成要素が、他の構成要素に「直接連結されて」いると言及された時には、中間に他の構成要素が存在していないことと理解されなければならない。一方、構成要素との関係を説明するほかの表現、即ち、「〜間に」と「すぐ〜間に」または「〜に隣接する」と「〜に直接隣接する」なども同様に解釈されなければならない。
【００３５】
単数の表現は、文脈上に明らかに別に意味していない限り、複数の表現を含むことと理解されなければならないし、「含む」または「持つ」などの用語は、実施された特徴、数字、段階、動作、構成要素、部分品またはこれらを組み合わせたものが存在することを指定しようとするのであり、一つまたはその以上の他の特徴や数字、段階、動作、構成要素、部分品またはこれらを組み合わせたものなどの存在または付加可能性を予め排除しないことと理解されなければならない。
【００３６】
ここで、使われるすべての用語は、別に定義されていない限り、本発明の当業者によって一般的に理解されることと同様な意味を持つのである。
【００３７】
一般的に使われる辞書に定義されている用語は、関連技術の文脈上に持つ意味と一致するものと解釈されなければならなく、本発明で明らかに定義しない限り、理想的または過度に形式的な意味を持つことと解釈されることができない。
【００３８】
以下、図面を参照しながら本発明の実施例を詳しく説明する。実施例の説明において、同一の構成に対しては同一の参照符号を付与するようにし、場合によって同一の参照符号に対する説明は省略することにする。
【００３９】
図１は、本発明の一実施例に係る半導体製造装置の概略的な構造図として、第１ゲートが閉まった状態の図面であり、図２は、本発明の一実施例に係る半導体製造装置の概略的な構造図として、第２ゲートが閉まった状態の図面である。
【００４０】
これらの図面を参照すれば、本発明の一実施例に係る半導体製造装置は、互いに離隔配置され、半導体製造のための工程を形成する第１真空チャンバ１０１及び第２真空チャンバ１０２と、第１真空チャンバ１０１及び第２真空チャンバ１０２の間に連結され、第１真空チャンバ１０１及び第２真空チャンバ１０２の方への第１ゲート１２１及び第２ゲート１２２を選択的に開閉する四角ゲート真空バルブ１１０とを、含むことができる。
【００４１】
この場合、第１真空チャンバ１０１及び第２真空チャンバ１０２は、その役目が同一であることもでき、それとも相異なることもできる。
【００４２】
例えば、第１真空チャンバ１０１及び第２真空チャンバ１０２は、蒸着チャンバ、プロセスチャンバ、トランスファーチャンバ、またはロードロックチャンバであることができる。もちろん、ディスプレー装置のチャンバも、同一の範囲にあるので本発明の権利範囲に属すると言わなければならない。
【００４３】
四角ゲート真空バルブ１１０は、第１真空チャンバ１０１及び第２真空チャンバ１０２ の方への第１ゲート１２１及び第２ゲート１２２を選択的に開閉する。
【００４４】
この場合、四角ゲート真空バルブ１１０が同一な空間、即ち、限定された空間内で両側の第１ゲート１２１及び第２ゲート１２２に対するシーリング（ｓｅａｌｉｎｇ）動作が可能であるので、限定された空間内で第１ゲート１２１及び第２ゲート１２２ シーリングが必要な半導体工程に効果的に対応することができるようになる。
【００４５】
このような役目を遂行する四角ゲート真空バルブ１１０に対して、図３乃至図９を参照しながら詳しく説明する。
【００４６】
図３は、本発明の一実施例による四角ゲート真空バルブの概略的な構造図であり、図４乃至図７は、それぞれ四角ゲート真空バルブの動作を段階的に図示した図面であり、図８は、四角ゲート真空バルブの制御ブロック図であり、そして、図９は、本発明の一実施例による四角ゲート真空バルブ作動方法の流れ図である。
【００４７】
これら図面を参照すれば、本発明の実施例による四角ゲート真空バルブ１１０は、同一な空間内で両側の第１ゲート１２１及び第２ゲート１２２に対するシーリング（ｓｅａｌｉｎｇ）動作が可能であるので、限定された空間内で第１ゲート１２１及び第２ゲート１２２のシーリングが必要な半導体工程に効果的に対応するようにしたこととして、ゲートフレーム１２０と、遮蔽プレート１７０と、第１バルブユニット１３０と、第２バルブユニット１４０と、信号発生器１５０及びコントローラー１６０を含むことができる。
【００４８】
まず、ゲートフレーム１２０は、本発明の実施例による四角ゲート真空バルブ１１０の外郭のフレームを形成する。
【００４９】
このようなゲートフレーム１２０の両側面には、第１ゲート１２１と第２ゲート１２２が形成される。第１ゲート１２１と第２ゲート１２２は、平面から見る時、四角の形状を持つことができる。
【００５０】
この場合、本発明の実施例の場合、第１ゲート１２１と前記第２ゲート１２２のサイズは互いに同一に形成される。しかし、第１ゲート１２１と前記第２ゲート１２２のサイズは、互いに相異なることもできる。
【００５１】
ゲートフレーム１２０の下部には、第１開口１２０ａと第２開口１２０ｂが形成される。第１開口１２０ａと第２開口１２０ｂはゲートフレーム１２０の下部で相互に離隔間隔を置いて配置される。
【００５２】
このような第１開口１２０ａと第２開口１２０ｂは、第１バルブユニット１３０と第２バルブユニット１４０に挿入されて、動作できる場所を形成する。
【００５３】
一方、遮蔽プレート１７０は、ゲートフレーム１２０の上部を遮蔽する。本出願人によって、先に出願された技術の場合、ゲートフレーム１２０の下部と上部が、全て解放されて、第１バルブユニット１３０と第２バルブユニット１４０がゲートフレーム１２０の下部と上部にそれぞれ設置されたが、この場合、ゲートフレーム１２０の上下方向の高さが高くなるほうしかないので、コンパクトな装置に適用することが困難であった。特に、ゲートフレーム１２０の上部空間を活用することが困難であった。
【００５４】
しかし、本発明の実施例の場合、遮蔽プレート１７０がゲートフレーム１２０の上部を遮蔽しているので、ゲートフレーム１２０の上下方向への高さがコンパクトに設計することができ、特に、ゲートフレーム１２０の上部空間を活用することができる利点がある。遮蔽プレート１７０が、ゲートフレーム１２０の上部に着脱可能にボルトで結合することができる。
【００５５】
次に、第１バルブユニット１３０は、図３乃至図５に図示されたように、ゲートフレーム１２０の第１開口１２０ａを通じて、ゲートフレーム１２０内へ直線移動または回転可能に配置され、第１ゲート１２１を選択的に開閉する役目をする。
【００５６】
このような第１バルブユニット１３０は、第１ゲート１２１を選択的に開閉する第１開閉用ディスク１３１と、第１開閉用ディスク１３１に連結され、第１開閉用ディスク１３１を直線移動させる第１ユニットシャフト１３２と、第１ユニットシャフト１３２とに結合されて、第１ユニットシャフト１３２を回転させる第１回転部１３３を含む。
【００５７】
第１ゲート１２１が四角形である関係で、第１開閉用ディスク１３１も、第１ゲート１２１より大きいサイズの四角形状を持つ。
【００５８】
このような第１開閉用ディスク１３１の周面には、第１密封用圧着リング１３４が備えられ、図５のように、第１ゲート１２１の周面に圧着されることで真空が漏れないようにする。
【００５９】
第１ユニットシャフト１３２は、第１開閉用ディスク１３１を直線移動させる役目をして、第１回転部１３３は、第１開閉用ディスク１３１を回転させる役目をする。もちろん、第１ユニットシャフト１３２の下部領域に第１開閉用ディスク１３１を直線移動または回転させるための駆動部が設置されるが、これに対しては省略した。
【００６０】
次に、第２バルブユニット１４０は、図３、図６及び図７に図示されたように、ゲートフレーム１２０の第２開口１２０ｂを通じて、ゲートフレーム１２０内へ直線移動または回転可能に配置され、第２ゲート１２２を選択的に開閉する役目をする。
【００６１】
第２バルブユニット１４０も、第１バルブユニット１３０と同様に、ゲートフレーム１２０の下部で、ゲートフレーム１２０の第２開口１２０ｂを通じて、ゲートフレーム１２０内へ直線移動または回転される。このような第２バルブユニット１４０は、第１バルブユニット１３０と同一な構造を持つことができる。
【００６２】
第２バルブユニット１４０は、第２ゲート１２２を選択的に開閉する第２開閉用ディスク１４１と、第２開閉用ディスク１４１に連結され、第２開閉用ディスク１４１を直線移動させる第２ユニットシャフト１４２と、第２ユニットシャフト１４２に結合されて、第２ユニットシャフト１４２を回転させる第２回転部１４３とを含む。
【００６３】
第２ゲート１２２が四角形である関係で、第２開閉用ディスク１４１も、第２ゲート１２２より大きいサイズの四角形状を持つ。
【００６４】
このような第２開閉用ディスク１４１の周面には、第２密封用圧着リング１４４が備えられ、図７のように、第２ゲート１２２の周面に圧着されることにより真空が漏れないようにする。
【００６５】
第２ユニットシャフト１４２は、第２開閉用ディスク１４１を直線移動させる役目をし、第２回転部１４３は、第２開閉用ディスク１４１を回転させる役目をする。もちろん、第２ユニットシャフト１４２の上部領域に第２開閉用ディスク１４１を直線移動または回転させるための駆動部が設置されるが、これに対しては省略した。
【００６６】
次に、信号発生器１５０は、第１ゲート１２１と第２ゲート１２２の開閉信号を発生させる。即ち、図５のように、第１ゲート１２１が閉まるようにしたり、図７のように、第２ゲート１２２が閉まるようにする信号を発生させる。発生された信号は、コントローラー１６０へ伝送される。
【００６７】
最後に、コントローラー１６０は、信号発生器１５０からの入力情報に基づいて、第１バルブユニット１３０と第２バルブユニット１４０との動作をコントロールする。即ち、信号発生器１５０からの入力情報に基づいて、図５のように、第１ゲート１２１が閉まるように、または図７のように、第２ゲート１２２が閉まるように、第１バルブユニット１３０と第２バルブユニット１４０の動作をコントロールする。
【００６８】
このようなコントローラー１６０は、中央処理装置（ＣＰＵ）１６１と、メモリー（ＭＥＭＯＲＹ）１６２及びサポート回路（ＳＵＰＰＯＲＴＣＩＲＣＵＩＴ）１６３とを含むことができる。
【００６９】
中央処理装置１６１は、本発明の実施例で信号発生器１５０からの入力情報に基づいて、第１バルブユニット１３０と第２ バルブユニット１４０の動作をコントロールするために、産業的に適用されることができる多様なコンピュータープロセッサの中の一つであることができる。
【００７０】
メモリー（ＭＥＭＯＲＹ）１６２は、中央処理装置１６１に連結される。メモリー１６２は、コンピューターで読み取ることができる記録媒体として、ローカルまたは遠隔地に設置されることができ、例えば、ランダムアクセスメモリー（ＲＡＭ）、ＲＯＭ、フロッピーディスク、ハードディスクまたは任意のデジタル保存形態のように易しく利用可能な少なくとも一つ以上のメモリーである。
【００７１】
サポート回路（ＳＵＰＰＯＲＴＣＩＲＣＵＩＴ）１６３は、中央処理装置１６１に結合されて、プロセッサの典型的な動作を支援する。このようなサポート回路１６３は、キャッシュ、パワーサプライ、クロック回路、入力回路/出力回路及びザブシステムなどを含むことができる。
【００７２】
本発明の実施例おいて、コントローラー１６０は、信号発生器１５０からの入力情報に基づいて、第１バルブユニット１３０と第２ バルブユニット１４０の動作をコントロールする。この場合、コントローラー１６０が、感知部１８０からの情報に基づいて、船体抵抗低減モジュール１４０を通じる気泡発生可否または気泡発生量などをコントロールする一連のプロセスなどは、メモリー１６２に保存されることができる。典型的には、ソフトウェアルーチンが、メモリ１６２に保存されることができる。ソフトウェアルーチンは、またほかの中央処理装置（図示せず）によって保存されるとか実行されることができる。
【００７３】
本発明によるプロセスは、ソフトウェアルーチンによって実行されることと説明したが、本発明のプロセスの中で、少なくとも一部はハードウェアによって行われることも可能である。このように、本発明のプロセスは、コンピューターシステムにおいて行われるソフトウェアに実現されたり、または集積回路のようなハードウェアで実現されたり、またはソフトウェアとハードウェアの組合によって実現されることができる。
【００７４】
以下、本発明の実施例による四角ゲート真空バルブ１１０の作動方法について、図９を参照しながら説明する。
【００７５】
まず、第１バルブユニット１３０の第１開閉用ディスク１３１が、第１ユニットシャフト１３２の動作によってゲートフレーム１２０の第１開口１２０ａを通じて、ゲートフレーム１２０内へ斜めに直線移動されて進入される（ステップＳ１１）。
【００７６】
継いで、ゲートフレーム１２０内へ斜めに直線移動されて進入された第１バルブユニット１３０は、第１回転部１３３によって予め決められた角度ぐらいの変位を起こしながら回転される（ステップＳ１２）。
【００７７】
その後、第１開閉用ディスク１３１が、第１ゲート１２１に加圧されて、第１開閉用ディスク１３１の第１密封用圧着リング１３４が第１ゲート１２１の周面に圧着されるようにしながら第１ゲート１２１を閉めて密閉させる（ステップＳ１３、図５を参照）。
【００７８】
次に、第１バルブユニット１３０が原位置に復帰されて（ステップＳ１４）、後に第２バルブユニット１４０が動作される。
【００７９】
即、第２バルブユニット１４０の第２開閉用ディスク１４１が、第２ユニットシャフト１４２の動作によってゲートフレーム１２０の第２開口１２０ｂを通じて、ゲートフレーム１２０内へ斜めに直線移動されて進入される（ステップＳ１５）。
【００８０】
継いで、ゲートフレーム１２０内へ斜めに直線移動されて進入された第２バルブユニット１４０は、第２回転部１４３によって予め決められた角度ぐらいの変位を起こしながら回転される（ステップＳ１６）。
【００８１】
その後、第２開閉用ディスク１４１が、第２ゲート１２２に加圧されて、第２開閉用ディスク１４１の第２密封用圧着リング１４４が、第２ゲート１２２の周面に圧着されるようにしながら第２ゲート１２２を閉めて密閉させる（ステップＳ１７、図７を参照）。
【００８２】
このような過程、即ち、図５の第１ゲート１２１の密閉段階と図７の第２ゲート１２２の密閉段階は、反復的に進行されることができる。もちろん、信号発生器１５０によって選択的に進行されることもできる。
【００８３】
以上、説明したような構造と作用を持つ本発明の実施例によれば、同一な空間内で両側のゲートに対するシーリング（ｓｅａｌｉｎｇ） 動作が可能であることにより、限定された空間内で両側の第１ゲート１２１及び第２ゲート１２２に対するシーリングが必要な半導体工程に効果的に対応することができるばかりでなく、特に、上部が遮蔽されるゲートフレーム１２０に適用可能な利点がある。
【００８４】
図１０は、本発明の他の実施例に係る四角ゲート真空バルブの概略的な構造図である。
【００８５】
この図面を参照すると、本発明の実施例による四角ゲート真空バルブ２１０も、ゲートフレーム２２０と、第１バルブユニット１３０と、そして第２バルブユニット１４０とを含むことができる。
【００８６】
本発明の実施例の場合、前述した遮蔽プレート１７０（図１を参照）がない代わりに、ゲートフレーム２２０自体が、上部の開放された一体型構造物を形成されている。
【００８７】
本発明の実施例が適用されても、同一な空間内で両側のゲートに対するシーリング（ｓｅａｌｉｎｇ） 動作が可能であることにより、限定された空間内で両側の第１ゲート１２１及び第２ゲート１２２に対するシーリングが必要な半導体工程に効果的に対応することができるばかりでなく、特に、上部が遮蔽されるゲートフレーム２２０に適用可能である。
【００８８】
図１１ないし図１３は、それぞれ本発明の別の実施例に係る四角ゲート真空バルブの動作を段階的に図示した図面である。
【００８９】
これらの図面を参照すると、本発明の実施例に係る四角ゲート真空バルブ３１０も、第１ゲート３２１及び第２ゲート３２２が形成されるゲートフレーム３２０と、遮蔽プレート３７０と、第１バルブユニット３３０と、そして第２バルブユニット３４０とを含むことができる。
【００９０】
一方、第１バルブユニット３３０及び第２バルブユニット３４０ともゲートフレーム３２０の下部に形成される第１開口３２０ａ及び第２開口３２０ｂを通じて、昇降が駆動される昇降駆動バー３３２、３４２と、昇降駆動バー３３２、３４２の上端部に設けられるスライディングヘッド３３３、３４３と、スライディングヘッド３３３、３４３の上に搭載されて、スライディングヘッド３３３、３４３に沿ってスライディングして移動される第１開閉用ディスク３３１及び第２開閉用ディスク３４１と、第１開閉用ディスク３３１及び第２開閉用ディスク３４１に設けられる第１密封用圧着リング３３４及び第２密封用圧着リング３４４とを含む。
【００９１】
昇降駆動バー３３２、３４２は、第１開口３２０ａ及び第２開口３２０ｂに緊密に接触しながら、第１開口３２０ａ及び第２開口３２０ｂで昇降駆動される。
【００９２】
そして、第１密封用圧着リング３３４及び第２密封用圧着リング３４４を備える第１開閉用ディスク３３１及び第２開閉用ディスク３４１は、スライディングヘッド３３３、３４３の上でスライディングして移動される。
【００９３】
第１バルブユニット３３０及び第２バルブユニット３４０が、このような構造を持つ場合、回転部（図示せず）は要らない。即ち、図１１で、図１２のように、昇降駆動バー３３２、３４２が矢印Ａ方向へ上昇された後、図１３のように、第１開閉用ディスク３３１及び第２開閉用ディスク３４１が矢印Ｂ方向へスライディングして駆動されながら、第１密封用圧着リング３３４及び第２密封用圧着リング３４４が圧着されるようにすることで、第１ゲート１２１及び第２ゲート１２２に対するシーリングを実現することができる。
【００９４】
本発明の実施例が適用されても、同一な空間内で両側のゲートに対するシーリング（ｓｅａｌｉｎｇ） 動作が可能であることにより、限定された空間内で両側の第１ゲート３２１及び第２ゲート３２２に対するシーリングが必要な半導体工程に効果的に対応することができるばかりでなく、特に、上部が遮蔽されるゲートフレーム３２０に適用可能である。
【００９５】
図１４は、本発明の別の実施例も係る四角ゲート真空バルブの構造図である。
【００９６】
これらの図面を参照すると、本発明の実施例による四角ゲート真空バルブ４１０も、第１ゲート４２１及び第２ゲート４２２が形成されるゲートフレーム４２０と、遮蔽プレート４７０と、第１バルブユニット４３０と、そして第２バルブユニット４４０とを含むことができる。
【００９７】
この場合、第１バルブユニット４３０及び第２バルブユニット４４０の全てが、ゲートフレーム４２０の下部に形成される第１開口４２０ａ及び第２開口４２０ｂを通じて，昇降駆動される昇降駆動バー４３２、４４２と、昇降駆動バー４３２、４４２の上端部に設けられる第１開閉用ディスク４３１及び第２開閉用ディスク４４１と、第１開閉用ディスク４３１及び第２開閉用ディスク４４１に設けられる第１密封用圧着リング４３４及び第２密封用圧着リング４４４とを含む。
【００９８】
本発明の実施例の場合、回転またはスライディングの動作なしに、昇降駆動バー４３２、４４２のＣ方向への昇降動作によって、第１ゲート４２１及び第２ゲート４２２が開閉されている。
【００９９】
本発明の実施例が適用されても、同一な空間内で両側のゲートに対するシーリング（ｓｅａｌｉｎｇ）動作が可能であることにより、限定された空間内で両側の第１ゲート４２１及び第２ゲート４２２に対するシーリングが必要な半導体工程に効果的に対応することができるばかりでなく、特に、上部が遮蔽されるゲートフレーム４２０に適用可能である。
【０１００】
以上、図面を参照して、本発明に関して詳細に説明したが、本発明は、これによって限定されるのではない。
【０１０１】
前述した実施例で説明した第１バルブユニットと第２バルブユニットは、同時に動くこともできるが、衝突危険を考慮して見れば、第１バルブユニットと第２バルブユニットはひとつずつ交替しながら動くのが好ましいことである。
【０１０２】
このように、本発明は、記載した実施例に限定されるのではなく、本発明の思想及び範囲を逸脱しないで多様に修正及び変形をすることができるということは、当業者にとっては自明なことである。従って、そういう修正例または変形例は、本発明の請求範囲に属すると言わなければならない。
【産業上の利用可能性】
【０１０３】
本発明は、同一な空間内で両側のゲートに対するシーリング（ｓｅａｌｉｎｇ）動作を可能にするので、限定された空間内で両側のゲートシーリングが必要な半導体工程に効果的に対応することができるばかりでなく、特に、上部が遮蔽されるゲートフレームに適用可能な、四角ゲート真空バルブ及びそれを備える半導体製造装置に適用することができる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【国際調査報告】
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