【手続補正書】
【提出日】平成26年11月9日(2014.11.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
荷電粒子ビームを通過させる第１の部材と、
前記第１の部材を通過した荷電粒子ビームを光学的に制御するための第２の部材と、
を含む荷電粒子光学系であって、
前記第２の部材は、前記第２の部材に配置された固定部を介して前記第１の部材に固定され、
前記第１の部材から前記第２の部材の一部への変形応力の伝達が妨害されるように、前記第２の部材の一部と前記固定部との間に、応力抑制構造が設けられていることを特徴とする荷電粒子光学系。
【請求項２】
前記第１の部材は、荷電粒子ビームを選択的に通過させるストップアパーチャアレイであることを特徴とする請求項１に記載の荷電粒子光学系。
【請求項３】
前記第２の部材は、ストップアパーチャアレイ、静電レンズ及び静電偏向器の何れかであることを特徴とする請求項２に記載の荷電粒子光学系。
【請求項４】
前記第２の部材は、静電偏向器であり、
前記静電偏向器は、前記第２の部材の一部である電極支持部と、前記電極支持部に支持される第一の電極と第二の電極と、を有し、
前記第一の電極と第二の電極との間には、荷電粒子ビームを偏向するための電界を発生させるギャップが形成され、
前記電極支持部は、前記固定部に接していることを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載の荷電粒子光学系。
【請求項５】
前記応力抑制構造は、前記固定部と前記第２の部材の一部とを分離するスリットであり、前記スリットは、前記第２の部材の一部が前記固定部に対して片持ち梁構造となるように配されることを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載の荷電粒子光学系。
【請求項６】
前記応力抑制構造は、前記固定部と前記第２の部材の一部とを分離するスリットであり、前記スリットは、前記第２の部材の一部が前記固定部に対して、前記第２の部材の中央部に形成された一対の架橋部を介して、前記固定部に接続されるように配されることを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載の荷電粒子光学系。
【請求項７】
前記応力抑制構造は、前記第２の部材の一部を、前記固定部へ弾性支持するバネであることを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載の荷電粒子光学系。
【請求項８】
前記第２の部材は、所定方向の両端が夫々前記固定部を介して前記第１の部材に対して固定され、前記固定部は、いずれか一方が他方よりも前記所定方向の弾性率が低いことを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載の荷電粒子光学系。
【請求項９】
前記第一及び第二の電極は、前記電界を発生するための電位を生じる電源に接続され、
前記ギャップの寸法の変化に対応して前記電界の強度が一定となるように前記電源の電位を制御する制御部を備えることを特徴とする請求項４に記載の荷電粒子光学系。
【請求項１０】
請求項１に記載の荷電粒子光学系と、
描画パターンに応じて複数の荷電粒子ビームを偏向するブランカーアレイと、を有し、
前記第１の部材は、前記ブランカーアレイにより偏向された荷電粒子ビームを遮断し、前記ブランカーアレイにより偏向されない荷電粒子ビームの少なくとも一部を通過させるための開口を有するストップアパーチャアレイであることを特徴とする荷電粒子描画装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
上記課題に鑑み、本発明の荷電粒子光学系は、荷電粒子ビームを通過過させる第１の部材（ストップアパーチャアレイなど）と、第１の部材を通過した荷電粒子ビームを光学的に制御するための第２の部材（ストップアパーチャアレイ、静電レンズ、静電偏向器など）と、を含む荷電粒子光学系である。そして、第２の部材は、第２の部材に配置された固定部を介して第１の部材に固定され、第１の部材から前記第２の部材の一部への変形応力の伝達が妨害されるように、前記第２の部材の一部と前記固定部との間に、応力抑制構造が設けられている。前記第２の部材が、静電偏向器であり、前記静電偏向器が、前記第２の部材の一部である電極支持部と、前記電極支持部に支持される第一の電極と第二の電極と、を有する構成では、前記第一の電極と第二の電極との間には、荷電粒子ビームを偏向するための電界を発生させるギャップが形成され、電極支持部は、前記固定部に接している。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
また、上記課題に鑑み、本発明の荷電粒子描画装置は、前記荷電粒子光学系と、描画パターンに応じて複数の荷電粒子ビームを偏向するブランカーアレイと、を有する。そして、前記第１の部材は、前記ブランカーアレイにより偏向された荷電粒子ビームを遮断し、前記ブランカーアレイにより偏向されない荷電粒子ビームの少なくとも一部を通過させるための開口を有するストップアパーチャアレイである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明によれば、荷電粒子ビームを偏向する静電偏向器の電極支持部などの第２の部材が、前記第２の部材に配置された固定部を介して前記第１の部材に固定され、前記第１の部材から前記第２の部材の一部への変形応力の伝達が妨害されるように、前記第２の部材の一部と前記固定部との間に、応力抑制構造が設けられているので、偏向器内の電極間ギャップの分布、光学系が利用されている間のギャップ変化などを低減することができる。荷電粒子描画装置などの装置において、複数の要素を組み立てて一体化したり、配置距離を近くしたりすることは、光学系などのスペース効率の向上、組み立て精度の向上、アライメント精度の向上などに寄与して、偏向誤差の低減などによる高性能化をもたらす。しかし、反面、荷電粒子を受けるストップアパーチャアレイ等の部材の発熱による変形応力が、近接する部材に伝達してこれを不均一に変形させるという様な問題を引き起こすことがある。本発明によれば、こうした問題を抑制して、構成の小型化と高い性能の維持とを両立させるという様な効果をもたらすことも可能である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の特徴は、荷電粒子光学系において、前記第２の部材が、前記第２の部材に配置された固定部を介して前記第１の部材に固定され、前記第１の部材から前記第２の部材の一部への変形応力の伝達が妨害されるように、前記第２の部材の一部と前記固定部との間に、応力抑制構造が設けられていることである。第２の部材に固定部を配置する手法としては、例えば、応力抑制構造であるスリットを、第２の部材の一部が固定部に対して片持ち梁構造となるように配する手法などがある。荷電粒子ビームを通過させる第１の部材としては、ストップアパーチャアレイなどがあり、第１の部材を通過した荷電粒子ビームを光学的に制御するための第２の部材としては、ストップアパーチャアレイ、静電レンズ、静電偏向器などがある。組み合わせとしては、第１の部材がストップアパーチャアレイである場合、第２の部材は、他のストップアパーチャアレイ、または、静電レンズ、または、静電偏向器とすることができる。以下の実施形態や実施例では、主に、ストップアパーチャアレイと静電偏向器の組み合わせで説明するが、前記第２の部材の一部と前記固定部との間への応力抑制構造の設け方は基本的に同じである。