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【手続補正書】
【提出日】平成26年9月1日(2014.9.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
検査対象物を撮像する撮像手段と、
該撮像手段で撮像された画像を表示する表示手段と、
該表示手段で表示された画像から色抽出の対象となる画素の指定を受け付ける指定受付手段と、
指定を受け付けた画素の色情報に基づいて、該画素と同一の色とみなされる範囲を色の抽出範囲として設定する抽出範囲設定手段と
を有し、表示された画像における任意の画素の色情報が、設定された色の抽出範囲に含まれる場合には、該画素の色情報が色の抽出範囲内にあることを示す色抽出画素として視認されるように色抽出結果を表示させる画像処理装置において、
前記色の抽出範囲の拡張指示を受け付ける拡張指示受付手段と、
該拡張指示受付手段で拡張指示を受け付けた場合、前記色抽出画素の周囲の画素の色情報を前記色の抽出範囲に含むよう、前記色の抽出範囲を拡張する抽出範囲拡張手段と
を備えることを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記色抽出画素との色差が所定範囲内である画素が、前記色抽出画素の周囲に存在するか否かを判断する判断手段を備え、
該判断手段が、前記色抽出画素との色差が所定範囲内である画素が、前記色抽出画素の周囲に存在すると判断した場合、前記抽出範囲拡張手段は、該画素の色情報を前記色の抽出範囲に含むよう、前記色の抽出範囲を拡張することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記抽出範囲拡張手段は、前記指定受付手段で指定を受け付けた画素を含むよう、前記色の抽出範囲を拡張することを特徴とする請求項１又は２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記判断手段が、前記色抽出画素との色差が所定範囲内である画素が、前記色抽出画素の周囲に存在しないと判断した場合、前記抽出範囲拡張手段は、前記色の抽出範囲に含まれる画素の数が増加するよう、前記色の抽出範囲を拡張することを特徴とする請求項２に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記色の抽出範囲の拡張指示を受け付けたか、又は色抽出の対象となる画素の指定を受け付けたかを判定する受付判定手段を備え、
前記抽出範囲拡張手段は、前記受付判定手段の判定結果に基づいて、前記色抽出範囲を拡張することを特徴とする請求項２乃至４のいずれか一項に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記表示手段で表示されている画面は、前記色の抽出範囲の拡張指示を受け付けるための第１の表示領域と、色抽出の対象となる画素の指定を受け付けるための第２の表示領域とを含むことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の画像処理装置。
【請求項７】
前記抽出範囲拡張手段は、前記拡張指示受付手段で拡張指示を受け付けた場合、前記色抽出画素の周囲１画素の色情報を前記色の抽出範囲に含むよう、前記色の抽出範囲を拡張することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の画像処理装置。
【請求項８】
前記色の抽出範囲の縮小指示を受け付ける縮小指示受付手段と、
該縮小指示受付手段で縮小指示を受け付けた場合、前記抽出範囲拡張手段による前記色の抽出範囲の拡張を全部又は一部取り消して、前記色抽出範囲を縮小する抽出範囲縮小手段と
を備えることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一項に記載の画像処理装置。
【請求項９】
検査対象物を撮像する撮像手段と、
該撮像手段で撮像された画像を表示する表示手段と
を備え、
該表示手段で表示された画像から色抽出の対象となる画素の指定を受け付け、
指定を受け付けた画素の色情報に基づいて、該画素と同一の色とみなされる範囲を色の抽出範囲として設定し、
表示された画像における任意の画素の色情報が、設定された色の抽出範囲に含まれる場合には、該画素の色情報が色の抽出範囲内にあることを示す色抽出画素として視認されるように色抽出結果を表示させる画像処理装置で実行することが可能な画像処理方法において、
前記画像処理装置は、
前記色の抽出範囲の拡張指示を受け付けるステップと、
該拡張指示受付手段で拡張指示を受け付けた場合、前記色抽出画素の周囲の画素の色情報を前記色の抽出範囲に含むよう、前記色の抽出範囲を拡張するステップと
を含むことを特徴とする画像処理方法。
【請求項１０】
前記画像処理装置は、
前記色抽出画素との色差が所定範囲内である画素が、前記色抽出画素の周囲に存在するか否かを判断するステップを含み、
前記色抽出画素との色差が所定範囲内である画素が、前記色抽出画素の周囲に存在すると判断した場合、該画素の色情報を前記色の抽出範囲に含むよう、前記色の抽出範囲を拡張することを特徴とする請求項９に記載の画像処理方法。
【請求項１１】
指定を受け付けた画素を含むよう、前記色の抽出範囲を拡張することを特徴とする請求項９又は１０に記載の画像処理方法。
【請求項１２】
前記色抽出画素との色差が所定範囲内である画素が、前記色抽出画素の周囲に存在しないと判断した場合、前記色の抽出範囲に含まれる画素の数が増加するよう、前記色の抽出範囲を拡張することを特徴とする請求項１０に記載の画像処理方法。
【請求項１３】
前記色の抽出範囲の拡張指示を受け付けたか、又は色抽出の対象となる画素の指定を受け付けたかを判定するステップを含み、
判定結果に基づいて、前記色抽出範囲を拡張することを特徴とする請求項１０乃至１２のいずれか一項に記載の画像処理方法。
【請求項１４】
表示されている画面は、前記色の抽出範囲の拡張指示を受け付けるための第１の表示領域と、色抽出の対象となる画素の指定を受け付けるための第２の表示領域とを含むことを特徴とする請求項９乃至１３のいずれか一項に記載の画像処理方法。
【請求項１５】
拡張指示を受け付けた場合、前記色抽出画素の周囲１画素の色情報を前記色の抽出範囲に含むよう、前記色の抽出範囲を拡張することを特徴とする請求項９乃至１４のいずれか一項に記載の画像処理方法。
【請求項１６】
前記色の抽出範囲の縮小指示を受け付けるステップと、
縮小指示を受け付けた場合、前記色の抽出範囲の拡張を全部又は一部取り消して、前記色抽出範囲を縮小するステップと
を含むことを特徴とする請求項９乃至１５のいずれか一項に記載の画像処理方法。
【請求項１７】
検査対象物を撮像する撮像手段と、
該撮像手段で撮像された画像を表示する表示手段と、
該表示手段で表示された画像から色抽出の対象となる画素の指定を受け付ける指定受付手段と、
指定を受け付けた画素の色情報に基づいて、該画素と同一の色とみなされる範囲を色の抽出範囲として設定する抽出範囲設定手段と
を有し、表示された画像における任意の画素の色情報が、設定された色の抽出範囲に含まれる場合には、該画素の色情報が色の抽出範囲内にあることを示す色抽出画素として視認されるように色抽出結果を表示させる画像処理装置で実行することが可能なコンピュータプログラムにおいて、
前記画像処理装置を、
前記色の抽出範囲の拡張指示を受け付ける拡張指示受付手段、及び
該拡張指示受付手段で拡張指示を受け付けた場合、前記色抽出画素の周囲の画素の色情報を前記色の抽出範囲に含むよう、前記色の抽出範囲を拡張する抽出範囲拡張手段
として機能させることを特徴とするコンピュータプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月9日(2014.10.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
また、複数の予備亀裂１１は、所望の劈開線５の左右に互い違いに配置されている。このため、劈開が所望の劈開線５に対して左右どちらにずれても、そのずれを低減することができる。ただし、劈開が予備亀裂１１とは逆側に進行した場合には、次の予備亀裂１１により修正することになるので、Ｖ字型の予備亀裂７ａ，７ｂに比べて間隔ｄを狭くする必要がある。このため、原子レベルの平滑性を持つ劈開面が小さくなる。
【手続補正書】
【提出日】平成26年8月27日(2014.8.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１金属層、剥離層、及び第２金属層の積層体のうち、前記第１金属層の端部を除去することにより、前記第１金属層を平面視で前記剥離層よりも小さく加工し、前記剥離層の外周部を露出する第１工程と、
基材上に前記積層体の前記第１金属層側を当接させて前記第１金属層と前記基材とを接着するとともに、前記剥離層の外周部と前記基材とを接着することにより、支持体を形成する第２工程と、
前記支持体の前記第２金属層の上に、配線基板を形成する第３工程と、
前記支持体及び前記配線基板のうち、平面視で前記外周部と重複する重複部分を除去する第４工程と、
前記第４工程の後に、前記第２金属層及び前記配線基板を、前記支持体から分離する第５工程と
を含む、配線基板の製造方法。
【請求項２】
第１金属層、剥離層、及び第２金属層の積層体のうち、前記第１金属層の端部と前記剥離層の端部とを除去することにより、前記第１金属層と前記剥離層とを平面視で前記第２金属層よりも小さく加工し、前記第２金属層の外周部を露出する第１工程と、
基材上に前記積層体の前記第１金属層側を当接させて前記第１金属層と前記基材とを接着するとともに、前記第２金属層の外周部と前記基材とを接着することにより、支持体を形成する第２工程と、
前記支持体の前記第２金属層の上に、配線基板を形成する第３工程と、
前記支持体及び前記配線基板のうち、平面視で前記外周部と重複する重複部分を除去する第４工程と、
前記第４工程の後に、前記第２金属層及び前記配線基板を、前記支持体から分離する第５工程と
を含む、配線基板の製造方法。
【請求項３】
前記基材は接着性を有し、前記第２工程において、前記積層体と前記基材とを加熱・加圧して接着する、請求項１又は２記載の配線基板の製造方法。
【請求項４】
前記第４工程では、前記基材、前記積層体、及び前記配線基板のうち、前記重複部分よりも平面視で所定長さ内側の部分まで除去する、請求項１乃至３のいずれか一項記載の配線基板の製造方法。
【請求項５】
前記第５工程において、前記剥離層と前記第１金属層との間で剥離を行い、前記支持体から前記剥離層、前記第２金属層、及び前記配線基板を分離する、請求項１乃至４のいずれか一項記載の配線基板の製造方法。
【請求項６】
前記第５工程において、前記剥離層と前記第２金属層との間で剥離を行い、前記支持体から前記第２金属層、及び前記配線基板を分離する、請求項１乃至４のいずれか一項記載の配線基板の製造方法。
【請求項７】
前記第５工程の後に、前記配線基板と前記第２金属層とを分離する、請求項１乃至６のいずれか一項記載の配線基板の製造方法。
【請求項８】
前記基材はプリプレグである、請求項１乃至７のいずれか一項記載の配線基板の製造方法。
【請求項９】
前記配線基板は、ビルドアップ基板である、請求項１乃至８のいずれか一項記載の配線基板の製造方法。
【請求項１０】
前記基材の両面に前記積層体を積層し、前記基材の両面に前記配線基板を形成する、請求項１乃至９のいずれか一項記載の配線基板の製造方法。
【請求項１１】
前記第１金属層は、前記第２金属層よりも薄い、請求項１乃至１０のいずれか一項記載の配線基板の製造方法。
【請求項１２】
前記基材として、複数の基材を積層させて用いる、請求項１乃至１１のいずれか一項記載の配線基板の製造方法。
【請求項１３】
基材と、
前記基材の上に積層された第１金属層と、
前記第１金属層の上に積層された剥離層と、
前記剥離層の上に積層された第２金属層と
を含み、
平面視で前記第１金属層の端部が前記剥離層の端部よりも前記基材の内方に後退しており、
前記第１金属層と前記基材の表面が接着されているとともに、前記剥離層の外周部と前記基材の表面が接着されている、配線基板製造用の支持体。
【請求項１４】
基材と、
前記基材の上に積層された第１金属層と、
前記第１金属層の上に積層された剥離層と、
前記剥離層の上に積層された第２金属層と
を含み、
平面視で前記第１金属層の端部と前記剥離層の端部とが前記第２金属層の端部よりも前記基材の内方に後退しており、
前記第１金属層と前記基材の表面が接着されているとともに、前記第２金属層の外周部と前記基材の表面が接着されている、配線基板製造用の支持体。
【請求項１５】
前記第１金属層は、前記基材に接着される一方の面及び端面と、前記剥離層に接する他方の面とを有し、前記基材の表面に埋設されている、請求項１３又は１４記載の配線基板製造用の支持体。
【請求項１６】
前記剥離層と前記第２金属層との接合強度は、前記剥離層と前記第１金属層との接合強度よりも大きい、請求項１３乃至１５のいずれか一項記載の配線基板製造用の支持体。
【請求項１７】
前記剥離層と前記第１金属層との接合強度は、前記剥離層と前記第２金属層との接合強度よりも大きい、請求項１３乃至１５のいずれか一項記載の配線基板製造用の支持体。
【請求項１８】
前記基材の表面及び裏面に、前記第１金属層、前記剥離層、及び前記第２金属層が積層される、請求項１３乃至１７のいずれか一項記載の配線基板製造用の支持体。
【請求項１９】
前記第１金属層及び前記第２金属層は、金属箔で形成される、請求項１３乃至１８のいずれか一項記載の配線基板製造用の支持体。
【請求項２０】
前記剥離層は、金属層、無機材料層、又は、有機材料製の樹脂層である、請求項１３乃至１９のいずれか一項記載の配線基板製造用の支持体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の実施の形態の配線基板の製造方法は、第１金属層、剥離層、及び第２金属層の積層体のうち、前記第１金属層の端部を除去することにより、前記第１金属層を平面視で前記剥離層よりも小さく加工し、前記剥離層の外周部を露出する第１工程と、基材上に前記積層体の前記第１金属層側を当接させて前記第１金属層と前記基材とを接着するとともに、前記剥離層の外周部と前記基材とを接着することにより、支持体を形成する第２工程と、前記支持体の前記第２金属層の上に、配線基板を形成する第３工程と、前記支持体及び前記配線基板のうち、平面視で前記外周部と重複する重複部分を除去する第４工程と、前記第４工程の後に、前記第２金属層及び前記配線基板を、前記支持体から分離する第５工程とを含む。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の実施の形態の配線基板製造用の支持体は、基材と、前記基材の上に積層された第１金属層と、前記第１金属層の上に積層された剥離層と、前記剥離層の上に積層された第２金属層とを含み、平面視で前記第１金属層の端部が前記剥離層の端部よりも前記基材の内方に後退しており、前記第１金属層と前記基材の表面が接着されているとともに、前記剥離層の外周部と前記基材の表面が接着されている。
【手続補正書】
【提出日】平成26年8月19日(2014.8.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
正極と負極がセパレーターを介して対面させてなるリチウムイオン二次電池において、
負極活物質が、前記負極活物質は、水熱合成により得られたＬｉＦｅＯ2とＬｉＦｅ5Ｏ8の混合相であり、Ｘ線回折法により得られるＬｉＦｅＯ2（２００）面に帰属するピーク高さとＬｉＦｅ5Ｏ8（３１１）面に帰属するピーク高さの比で算出される値が、０.１８から２０.４である材料からなることを特徴とするリチウムイオン二次電池。
【請求項２】
請求項１において、前記負極活物質は、０．１〜３Ｖでの初期充放電のクーロン効率が７７％以上を示す材料であることを特徴とするリチウムイオン二次電池。
【請求項３】
請求項１または２において、前記負極活物質は、Ｆｅ２Ｏ３を原料とする水熱合成により得られることを特徴とするリチウムイオン二次電池。
【請求項４】
ＬｉＦｅＯ２とＬｉＦｅ５Ｏ８とを含むリチウムイオン二次電池用負極活物質の製造方法であって、Ｆｅ２Ｏ３を原料として用い、水熱合成により製造することを特徴とするリチウムイオン二次電池用負極活物質の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月16日(2014.9.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
太陽電池セルが配置されたセル領域と、前記セル領域の外周に配置された外周領域とを備える太陽電池モジュール本体を保持するモジュール枠体であって、
前記外周領域が嵌め込まれる嵌め込み部と、前記嵌め込み部を支持する支持部とを備え、
前記支持部は、前記嵌め込み部の底部と結合する上端部と、前記太陽電池モジュール本体の受光面と交差する方向で前記上端部から離れて配置され前記上端部に対向する下端部と、前記上端部と前記下端部とを連結し前記外周領域に沿って配置された第１壁部と、前記上端部と前記下端部との間で前記第１壁部に沿って配置され延長して隣接する他のモジュール枠体に挿入される継手部材と、前記継手部材の前記第１壁部からの位置を規制する規制部とを備えることを特徴とするモジュール枠体。
【請求項２】
請求項１に記載のモジュール枠体であって、前記規制部は、突起であることを特徴とするモジュール枠体。
【請求項３】
請求項１または請求項２のいずれか一つに記載のモジュール枠体であって、
前記支持部は、前記第１壁部に対して前記セル領域の側に配置され前記上端部と前記下端部とを連結して前記外周領域に沿って配置された第２壁部を備え、
前記第２壁部は、前記第１壁部に対向する面に配置されて隣接する他のモジュール枠体の第１壁部がねじ止めされるめねじ部を備え、
前記規制部は、前記めねじ部によって構成されていること
を特徴とするモジュール枠体。
【請求項４】
請求項３に記載のモジュール枠体であって、
前記上端部、前記下端部、前記第１壁部、および前記第２壁部は、前記継手部材を内包する中空構造を形成していることを特徴とするモジュール枠体。
【請求項５】
請求項１から請求項４までのいずれか一つに記載のモジュール枠体であって、
前記継手部材は、前記第１壁部に締結されていること
を特徴とするモジュール枠体。
【請求項６】
太陽電池セルが配置されたセル領域および前記セル領域の外周に配置された外周領域を備える太陽電池モジュール本体と、前記外周領域が嵌め込まれた複数のモジュール枠体とを備える太陽電池モジュールであって、
複数の前記モジュール枠体の内少なくとも２つは、請求項１から請求項５までのいずれか一つに記載のモジュール枠体であって、相互に連結されて形成する連結部の平面視での内角が９０度と異なる角度であることを特徴とする太陽電池モジュール。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月30日(2014.10.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料を載置可能なステージと、
試料に照射する荷電粒子ビームを出射する照射部と、
第１の開口部を有し前記荷電粒子ビームを成形するアパーチャと、
前記ステージと前記アパーチャとの間に設けられる対物レンズを備え、
前記アパーチャが第１の部材と前記第１の部材と貼りあわせた第２の部材との積層構造を有し、前記第２の部材の前記第１の開口部端部の位置が、前記第１の部材の前記第１の開口部端部の位置に対し０．５μｍ以上５μｍ以下後退しており、前記第１の開口部側に突出し前記第２の部材が貼りあわせられていない部分の前記第１の部材は略一定の厚さを有することを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項２】
前記第２の部材の荷電粒子ビーム透過率が前記第１の部材よりも小さいことを特徴とする請求項１記載の荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項３】
前記第１の開口部よりも面積が小さい第２の開口部と、前記第２の開口部と同一形状の第３の開口部をさらに備え、前記第２の部材の前記第２および第３の開口部端部の位置が、それぞれ前記第１の部材の前記第２および第３の開口部端部の位置に対し後退していることを特徴とする請求項１または請求項２記載の荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項４】
前記第１の開口部端部において、前記第１の部材と前記第２の部材との境界に空隙があることを特徴とする請求項１ないし請求項３いずれか一項記載の荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項５】
試料をステージに載置し、
前記試料に向けて荷電粒子ビームを出射し、
前記荷電粒子ビームを第１の開口部を有するアパーチャを用いて成形する荷電粒子ビーム描画方法であって、
前記アパーチャが第１の部材と前記第１の部材と貼りあわせた第２の部材との積層構造を有し、前記第２の部材の前記第１の開口部端部の位置が、前記第１の部材の前記第１の開口部端部の位置に対し０．５μｍ以上５μｍ以下後退しており、前記第１の開口部側に突出し前記第２の部材が貼りあわせられていない部分の前記第１の部材は略一定の厚さを有することを特徴とする荷電粒子ビーム描画方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の一態様の荷電粒子ビーム描画装置は、試料を載置可能なステージと、試料に照射する荷電粒子ビームを出射する照射部と、第１の開口部を有し前記荷電粒子ビームを成形するアパーチャと、前記ステージと前記アパーチャとの間に設けられる対物レンズを備え、前記アパーチャが第１の部材と前記第１の部材と貼りあわせた第２の部材との積層構造を有し、前記第２の部材の前記第１の開口部端部の位置が、前記第１の部材の前記第１の開口部端部の位置に対し０．５μｍ以上５μｍ以下後退しており、前記第１の開口部側に突出し前記第２の部材が貼りあわせられていない部分の前記第１の部材は略一定の厚さを有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明の一態様の荷電粒子ビーム描画方法は、試料をステージに載置し、前記試料に向けて荷電粒子ビームを出射し、前記荷電粒子ビームを第１の開口部を有するアパーチャを用いて成形する荷電粒子ビーム描画方法であって、前記アパーチャが第１の部材と前記第１の部材と貼りあわせた第２の部材との積層構造を有し、前記第２の部材の前記第１の開口部端部の位置が、前記第１の部材の前記第１の開口部端部の位置に対し０．５μｍ以上５μｍ以下後退しており、前記第１の開口部側に突出し前記第２の部材が貼りあわせられていない部分の前記第１の部材は略一定の厚さを有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成26年8月25日(2014.8.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
吸着対象物を吸着保持する静電チャックと、
前記静電チャックを固定するベースプレートと、
前記静電チャックと前記ベースプレートとの間に形成された接着層と、
前記静電チャックと前記ベースプレートとの間に形成された断熱層と、を有し、
前記静電チャックは、
前記吸着対象物が載置される載置面を有する基体と、
前記基体の前記載置面の反対面に直接形成された発熱体と、
前記発熱体を覆うように形成された絶縁層と、を有する基板温調固定装置。
【請求項２】
前記断熱層は、前記ベースプレートの上に形成されている請求項１記載の基板温調固定装置。
【請求項３】
前記断熱層は、前記絶縁層の下に形成されている請求項１記載の基板温調固定装置。
【請求項４】
前記発熱体は、めっき膜よりなる請求項１乃至３の何れか一項記載の基板温調固定装置。
【請求項５】
前記接着層は、前記絶縁層よりも耐熱温度の低い材料で形成されている請求項１乃至４の何れか一項記載の基板温調固定装置。
【請求項６】
吸着対象物を吸着保持する静電チャックを作製する工程と、接着層及び断熱層を介して前記静電チャックをベースプレート上に固定する工程と、を有し、
前記静電チャックを作製する工程は、
前記吸着対象物が載置される載置面を有する基体を作製する基体作製工程と、
前記基体の前記載置面の反対面に発熱体を直接形成する発熱体形成工程と、
前記発熱体を覆うように絶縁層を形成する絶縁層形成工程と、を有する基板温調固定装置の製造方法。
【請求項７】
前記静電チャックをベースプレート上に固定する工程は、
前記ベースプレートの上に断熱層を形成する工程と、
前記断熱層の上に接着層を形成する工程と、
前記静電チャックの前記絶縁層側を、前記接着層を介して前記ベースプレート上に固定する工程と、を有する請求項６記載の基板温調固定装置の製造方法。
【請求項８】
前記静電チャックをベースプレート上に固定する工程は、
前記ベースプレートの上に接着層を形成する工程と、
前記静電チャックの前記絶縁層の下に断熱層を形成する工程と、
前記断熱層が形成された前記静電チャックの前記断熱層側を、前記接着層を介して前記ベースプレート上に固定する工程と、を有する請求項６記載の基板温調固定装置の製造方法。
【請求項９】
前記発熱体形成工程では、前記反対面にめっき法により前記発熱体を形成する請求項６乃至８の何れか一項記載の基板温調固定装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年8月22日(2014.8.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁性膜をプラズマエッチングするプラズマ処理方法において、
塩素を含有するガス以外のガスである第一のガスを用いて前記磁性膜をプラズマ処理室でプラズマエッチングし、
前記プラズマエッチングされた磁性膜が配置された被処理基板を前記プラズマ処理室から搬出した後、前記プラズマ処理室をプラズマクリーニングし、
前記プラズマクリーニングは、塩素を含有する第二のガスを用いてプラズマクリーニングする第一のプラズマクリーニングと、前記第一のプラズマクリーニング後、水素を含有するガスを用いてプラズマクリーニングする第二のプラズマクリーニングとを有することを特徴とするプラズマ処理方法。
【請求項２】
請求項１に記載のプラズマ処理方法において、
前記プラズマクリーニングは、前記第一のプラズマクリーニング前、酸素ガスを用いてプラズマクリーニングすることを特徴とするプラズマ処理方法。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載のプラズマ処理方法において、
前記第二のガスは、塩素ガス、三塩素ホウ素ガスまたは塩素ガスと三塩化ホウ素ガスの混合ガスであることを特徴とするプラズマ処理方法。
【請求項４】
請求項１ないし請求項３のいずれか一項に記載のプラズマ処理方法において、
前記水素を含有するガスは、メタノールガスであることを特徴とするプラズマ処理方法。
【請求項５】
請求項１ないし請求項４のいずれか一項に記載のプラズマ処理方法において、
前記磁性膜は、少なくとも、鉄元素、コバルト元素、ニッケル元素の一つを含有する膜であることを特徴とするプラズマ処理方法。
【請求項６】
請求項１ないし請求項５のいずれか一項に記載のプラズマ処理方法において、
前記プラズマ処理室は、ファラデーシールドを具備する誘導結合型プラズマ処理装置に備えられ、
前記第二のプラズマクリーニングは、前記第一のプラズマクリーニングにおける前記ファラデーシールドに印加された電圧より低い電圧を前記ファラデーシールドに印加しながらプラズマクリーニングすることを特徴とするプラズマ処理方法。
【請求項７】
塩素を含有するガス以外のガスである第一のガスを用いて磁性膜をプラズマ処理室でプラズマエッチングする第一の工程と、
前記プラズマエッチングされた磁性膜が配置された被処理基板を前記プラズマ処理室から搬出する第二の工程と、
塩素を含有する第二のガスによりプラズマを前記プラズマ処理室内に生成する第三の工程と、
水素を含有するガスによりプラズマを前記プラズマ処理室内に生成する第四の工程とを有し、
前記第一の工程から前記第四の工程までの各工程を順次行う、または、前記第一の工程と前記第二の工程を所定回数、繰り返した後、前記第三の工程と前記第四の工程を行うことを特徴とするプラズマ処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明は、磁性膜をプラズマエッチングするプラズマ処理方法において、塩素を含有するガス以外のガスである第一のガスを用いて前記磁性膜をプラズマ処理室でプラズマエッチングし、前記プラズマエッチングされた磁性膜が配置された被処理基板を前記プラズマ処理室から搬出した後、前記プラズマ処理室をプラズマクリーニングし、前記プラズマクリーニングは、塩素を含有する第二のガスを用いてプラズマクリーニングする第一のプラズマクリーニングと、前記第一のプラズマクリーニング後、水素を含有するガスを用いてプラズマクリーニングする第二のプラズマクリーニングとを有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、本発明は、塩素を含有するガス以外のガスである第一のガスを用いて磁性膜をプラズマ処理室でプラズマエッチングする第一の工程と、前記プラズマエッチングされた磁性膜が配置された被処理基板を前記プラズマ処理室から搬出する第二の工程と、塩素を含有する第二のガスによりプラズマを前記プラズマ処理室内に生成する第三の工程と、水素を含有するガスによりプラズマを前記プラズマ処理室内に生成する第四の工程とを有し、前記第一の工程から前記第四の工程までの各工程を順次行う、または、前記第一の工程と前記第二の工程を所定回数、繰り返した後、前記第三の工程と前記第四の工程を行うことを特徴とするプラズマ処理方法である。
【手続補正書】
【提出日】平成26年2月7日(2014.2.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
同軸上に配置されていない互いに平行な第１回転軸及び第２回転軸を有する供試体のねじり試験を行うねじり試験機であって、
前記第１回転軸を把持する第１把持部と、
前記第２回転軸を把持する第２把持部と、
前記第１把持部及び前記第２把持部の少なくとも一方を回転駆動する駆動手段と、
を備え、
前記第１把持部及び前記第２把持部の少なくとも一方は、他方に対して、該少なくとも一方が把持する回転軸と直交する方向に移動可能に構成されたねじり試験機。
【請求項２】
前記第１把持部は、前記ねじり試験機本体に対して回転不能に構成されており、
前記第２把持部は、前記ねじり試験機本体に対して回転可能に構成されており、
前記駆動手段は、前記第２把持部を回転駆動する
ことを特徴とする請求項１に記載のねじり試験機。
【請求項３】
前記第１把持部は、前記ねじり試験機本体に対し、前記第１回転軸と直交する方向に移動可能に構成されている
ことを特徴とする請求項２に記載のねじり試験機。
【請求項４】
前記第１把持部は、直交する２方向において独立して移動可能に構成された
ことを特徴とする請求項３に記載のねじり試験機。
【請求項５】
前記第１把持部及び前記第２把持部の少なくとも一方は、他方に対して、前記一方が把持する回転軸方向に移動可能に構成された
ことを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか一項に記載のねじり試験機。
【請求項６】
前記可動部は、前記一方の把持部が把持する回転軸方向への該把持部の移動を阻止するロック機構を更に備えた
ことを特徴とする請求項５に記載のねじり試験機。
【請求項７】
前記一方の把持部の、該把持部が把持する回転軸方向への移動をガイドするガイド機構を備えた
ことを特徴とする請求項５に記載のねじり試験機。
【請求項８】
前記ガイド機構は、
ベースプレートと、
該ベースプレート上に配置され、前記一方の把持部を備えた可動部と、
前記ベースプレートと前記可動部との間に配置され、前記可動部を前記一方の把持部が把持する回転軸方向にスライド自在に支持するリニアガイドと、
を備えた
ことを特徴とする請求項７に記載のねじり試験機。
【請求項９】
前記可動部は、前記一方の把持部が把持する回転軸方向への前記可動部の移動を阻止するロック機構を更に備えた
ことを特徴とする請求項８に記載のねじり試験機。
【請求項１０】
前記ロック機構は、
前記リニアガイドに向かって進退可能に構成された押圧ピンを備え、
前記押圧ピンにより前記リニアガイドを前記ベースプレート側に押し込むことで、前記可動部の重量が前記押圧ピンを介して前記リニアガイドに支持される可動状態となり、
前記押圧ピンを退避させて、前記押圧ピンの先端が前記リニアガイドから離れると、前記リニアガイドによる前記可動部のスライド自在な支持が解除され、ロック状態となるように構成された
ことを特徴とする請求項９に記載のねじり試験機。
【請求項１１】
前記押圧ピンは、先端部に回転自在に保持されたボールを備え、周面に雄ねじが形成されており、
前記ロック手段は、前記可動部に固定された、前記押圧ピンと係合するめねじが形成された押圧ピン支持部材を備え、
前記押圧ピン支持部材と係合した前記押圧ピンを回すことで、ロック状態と可動状態が切り換えられるように構成された
ことを特徴とする請求項１０に記載のねじり試験機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の実施形態によれば、同軸上に配置されていない互いに平行な第１回転軸及び第２回転軸を有する供試体に対して、第１回転軸を把持する第１把持部と、第２回転軸を把持する第２把持部と、第１把持部及び第２把持部の少なくとも一方を回転駆動する駆動手段と、を備え、第１把持部及び第２把持部の少なくとも一方を、他方に対して、少なくとも一方が把持する回転軸と直交する方向に移動可能に構成されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
本発明の実施形態の構成によれば、入出力軸の相対的な配置が異なる様々な供試体のねじり試験が可能なねじり試験機が提供される。
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月20日(2014.6.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】駆動カップリング装置、及びそれを用いた画像形成装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、回転体の駆動伝達において接続対象が一意的に決定される駆動カップリング装置と、それを用いた画像形成装置に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１回転軸の回転中心を第１の円の中心とする円柱状端部の周縁部に凸部を突出させて凹凸形状とした第１カップリング部材と、
第２回転軸の回転中心を第２の円の中心とする円柱状端部の周縁部に凸部を突出させて凹凸形状とし、前記第１カップリング部材と互いに対面して嵌合する第２カップリング部材を備え、
前記第１カップリング部材は、
前記周縁部を、円周と、所定距離内側の同心円と、所定角度の中心角となるよう前記第１の円を等分割したときの２本の半径と、で区画される部位を単位部位とし、該単位部位を突出させて凸部とする場合を０と定義し、前記単位部位を突出させない場合を１と定義したとき前記周縁部の一周が１又は０の擬似乱数の周期的な凹凸形状となるように形成され、
前記第２カップリング部材は、
前記周縁部を、前記第１カップリング部材の前記周期的な凹凸形状と対応した凸凹形状に形成されている、
ことを特徴とする駆動カップリング装置。
【請求項２】
前記擬似乱数は、Ｍ系列の擬似乱数である、ことを特徴とする請求項１記載の駆動カップリング装置。
【請求項３】
伝動部が分離可能な機構において、請求項１または２に記載の駆動カップリング装置を用いている、
ことを特徴とする画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月5日(2014.11.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の目的を達成するために、例えば、本発明の情報処理装置は、メモリ内のコンテンツデータを管理する管理手段と、
外部装置に接続された可搬型記憶媒体内のディレクトリと前記メモリ内のディレクトリとの対応を設定するために前記外部装置と通信する通信手段と、
前記可搬型記憶媒体を接続する接続手段と、
前記接続手段に接続された前記可搬型記憶媒体に記録されている変更ログ情報にしたがって、前記メモリ内のディレクトリ構成を変更する変更手段と
を備えることを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
情報処理装置であって、
メモリ内のコンテンツデータを管理する管理手段と、
外部装置に接続された可搬型記憶媒体内のディレクトリと前記メモリ内のディレクトリとの対応を設定するために前記外部装置と通信する通信手段と、
前記可搬型記憶媒体を接続する接続手段と、
前記接続手段に接続された前記可搬型記憶媒体に記録されている変更ログ情報にしたがって、前記メモリ内のディレクトリ構成を変更する変更手段と
を備えることを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
前記可搬型記憶媒体に記録されているコンテンツデータを該可搬型記憶媒体から読み出し、該読み出したコンテンツデータを前記メモリに登録する登録手段
を更に備えることを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記管理手段は、コンテンツデータと、ネットワークを介して該コンテンツデータにアクセスするために使用するアドレスと、を前記メモリ内で管理しており、
前記可搬型記憶媒体には、前記外部装置が取得したコンテンツデータと、該コンテンツデータが格納されたディレクトリ構成と、ネットワークを介して該コンテンツデータにアクセスするために使用するアドレスと、が記録されており、
前記登録手段は、前記可搬型記憶媒体に記録されているコンテンツデータと、該コンテンツデータのアドレスと、を前記可搬型記憶媒体から読み出して前記メモリに登録する
ことを特徴とする請求項２に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記登録手段は、前記可搬型記憶媒体に記録されているコンテンツデータのうち、まだ前記メモリに登録されていないコンテンツデータを前記可搬型記憶媒体から読み出し、該読み出したコンテンツデータを前記メモリに登録することを特徴とする請求項２又は３に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記通信手段は、ＵＰｎＰデバイスである前記情報処理装置と前記外部装置の間でコンテンツデータの同期をはかるための前記対応を設定するために前記外部装置と通信することを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載の情報処理装置。
【請求項６】
可搬型記憶媒体を接続可能な情報処理装置が行う情報処理方法であって、
前記情報処理装置の管理手段が、メモリ内のコンテンツデータを管理する管理工程と、
前記情報処理装置の通信手段が、外部装置に接続された可搬型記憶媒体内のディレクトリと前記メモリ内のディレクトリとの対応を設定するために前記外部装置と通信する通信工程と、
前記情報処理装置の変更手段が、前記情報処理装置に接続された前記可搬型記憶媒体に記録されている変更ログ情報にしたがって、前記メモリ内のディレクトリ構成を変更する変更工程と
を備えることを特徴とする情報処理方法。
【請求項７】
前記情報処理装置の登録手段が、前記可搬型記憶媒体に記録されているコンテンツデータを該可搬型記憶媒体から読み出し、該読み出したコンテンツデータを前記メモリに登録する登録工程
を更に備えることを特徴とする請求項６に記載の情報処理方法。
【請求項８】
前記通信工程では、ＵＰｎＰデバイスである前記情報処理装置と前記外部装置の間でコンテンツデータの同期をはかるための前記対応を設定するために前記外部装置と通信することを特徴とする請求項６又は７に記載の情報処理方法。
【請求項９】
コンピュータを、請求項１乃至５の何れか１項に記載の情報処理装置の各手段として機能させるためのコンピュータプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月9日(2013.12.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｃ.Ｉ.ピグメントレッド２４２と、下記一般式（１）で表される顔料誘導体とからなるカラーフィルタ用顔料組成物であって、ＢＥＴ法による比表面積が、０．０１ｍ2／ｇ以上、６０ｍ2／ｇ未満であることを特徴とするカラーフィルタ用顔料組成物。
一般式（１）
Ｐ−Ｌｍ
[一般式（１）中、
Ｐは、ジケトピロロピロール残基、ベンゾイソインドール残基、アントラキノン残基、ジアントラキノン残基、チアジンインジゴ残基、アゾ色素残基、キノフタロン残基、またはキナクリドン残基であり、
ｍは、１〜４の整数であり、
Ｌは、それぞれ独立に、−ＯＨ、−ＳＯ3Ｈ、−ＣＯＯＨ；およびこれら酸性基の１価〜３価の金属塩ないしアルキルアンモニウム塩、置換基を有しても良いフタルイミドメチル基、下記式（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）、（ｅ）、または（ｆ）で表される基である。］
【化１】
2013120309.tif 000001
〔式（ａ）〜（ｆ）中、
Ｘは、−ＳＯ2−、−ＣＯ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ2ＮＨＣＯＣＨ2−、−ＣＨ2ＮＨＳＯ2ＣＨ2−、または直接結合であり、
Ｙは、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−、または直接結合であり、
ｎは、１〜１０の整数であり、
Ｒ16、Ｒ17は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有しても良い炭素数１〜３０のアルキル基、または置換基を有しても良い炭素数２〜３０のアルケニル基であり、Ｒ16とＲ17は一体となって窒素、酸素、および硫黄原子を含む複素環を形成しても良い。
Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20、Ｒ21、およびＲ22は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有しても良い炭素数１〜２０のアルキル基、または置換基を有しても良い炭素数２〜２０のアルケニル基である。
Ｒ23は、式（ａ）または式（ｂ）で表される基である。
Ｒ24は、塩素原子、−ＯＨ、アルコキシル基、式（ａ）、または式（ｂ）で表される基である。
Ｚは、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＳＯ2ＮＨ−、または−ＮＨＳＯ2−である。
Ｒ25は、水素原子、−ＮＨ2、−ＮＨＣＯＣＨ3、−ＮＨＲ26、または式（ｃ）で表される基であり、ここでＲ26は、置換基を有して良い炭素数１〜２０のアルキル基、または置換基を有しても良い炭素数２〜２０のアルケニル基である。〕
【請求項２】
一般式（１）中、Ｐが、アゾ色素残基、またはキノフタロン残基であり、Ｌが、それぞれ独立に、式（ａ）、または（ｃ）で表される基であることを特徴とする請求項１記載のカラーフィルタ用顔料組成物。
【請求項３】
顔料組成物中の顔料誘導体の含有量が１３〜３５重量％である請求項１または２いずれか記載のカラーフィルタ用顔料組成物。
【請求項４】
さらに、Ｃ.Ｉ.ピグメントレッド１７７、Ｃ.Ｉ.ピグメントレッド２５４、Ｃ.Ｉ.ピグメントイエロー１５０から選ばれる顔料を少なくとも１種含有する請求項１〜３いずれか記載のカラーフィルタ用顔料組成物。
【請求項５】
請求項１〜４記載の顔料組成物に、バインダー樹脂、および有機溶剤を含んでなるカラーフィルタ用着色組成物。
【請求項６】
さらに、光重合性単量体および／または光重合開始剤を含んでなる請求項５記載のカラーフィルタ用着色組成物。
【請求項７】
請求項５または６記載のカラーフィルタ用着色組成物から形成されるフィルタセグメントを具備することを特徴とするカラーフィルタ。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月7日(2014.11.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電圧、電気抵抗等の測定対象を切り替え、装置本体に接続された一対のテストリードを用いて被測定物の物理量を測定する測定部と、測定結果を表示する表示部とを備えた測定装置において、
前記対をなすテストリードの一方のテストリードに制御信号を発するセンサ部を設け、他方のテストリードに前記センサ部に作用する作用部を設け、前記テストリードを離接させることにより、前記センサ部と前記作用部とを離接させて制御信号のＯＮ・ＯＦＦを行い、測定対象又は測定レベルレンジの切り替えを行うことを特徴とする測定装置。
【請求項２】
前記センサ部は、切り替えられる前記測定対象又は測定レベルレンジの数に対応して複数設けられ、前記作用部を所定の前記センサ部に離接させて制御信号のＯＮ・ＯＦＦを行い、所定の測定対象又は測定レベルレンジに切り替えることができることを特徴とする請求項１に記載の測定装置。
【請求項３】
前記測定装置は、前記装置本体が一方のテストリードに設けられた携帯用テスタであって、前記センサ部は、前記装置本体が設けられたテストリードに設けられ、前記対をなすテストリードは、リード線で接続されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の測定装置。
【請求項４】
前記測定装置は、前記装置本体に前記対をなすテストリードがリード線で接続されているデジタルマルチメータであることを特徴とする請求項１又は２に記載の測定装置。
【請求項５】
前記装置本体に前記表示部が一体に設けられていることを特徴とする請求項１〜４のいずれかの項に記載の測定装置。
【請求項６】
前記表示部は、前記装置本体とは別体として設けられていることを特徴とする請求項１〜４のいずれかの項に記載の測定装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
本発明の他の実施態様によると、前記測定装置は、前記装置本体に前記対をなすテストリードがリード線で接続されているデジタルマルチメータである。
【手続補正書】
【提出日】平成26年2月26日(2014.2.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
空気吹出し口に吹出し空気の風向を上下に偏向する上側上下風向板及び下側上下風向板を備えた空気調和機において、
前記上側風向板は、第１の面と、前記第１の面によって前記上側風向板の回動軸に連結された第２の面とを有し、
水平方向付近への送風状態における前記下側上下風向板の角度は、前記第２の面の角度よりも前記第１の面の角度に近く、
下方向への送風状態における前記下側上下風向板の角度は、前記第１の面の角度よりも前記第２の面の角度に近いことを特徴とする空気調和機。
【請求項２】
請求項１の空気調和機において、下方向への送風状態において、前記第１の面は風上方向に凹形状であることを特徴とする空気調和機。
【請求項３】
請求項１の空気調和機において、
前記空気吹出し口の上方に位置し、筺体を構成する下パネルを備え、
前記下パネルは前記上側風向板の回動軸が配置される溝部を有し、
暖房運転時の前記上側風向板の回動範囲で、前記上側風向板の前記回動軸と前記下パネルの前記溝部の隙間が最小となる前記上側風向板の回動位置における暖房時最小間隙が、冷房運転時の前記上側風向板の回動範囲で、前記上側風向板の前記回動軸と前記下パネルの前記溝部の隙間が最小となる前記上側風向板の回動位置における冷房時最小間隙より小さいことを特徴とする空気調和機。
【請求項４】
請求項１の空気調和機において、冷房の最大能力運転時の前記上側風向板の回動位置から、停止時の前記上側風向板を閉じた状態までの前記上側風向板の回動角度が１８〜５１度であることを特徴とする空気調和機。
【請求項５】
請求項１の空気調和機において、前記第１の面の長さが、前記空気吹出し口の吹出し風路の高さの４０〜６０％であることを特徴とする空気調和機。
【請求項６】
請求項１の空気調和機において、前記上側風向板の通気開口の反吹出し風路側に、通気開口を覆うように開口カバーを設けたことを特徴とする空気調和機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明が解決しようとする課題は、空気吹出し口に吹出し空気の風向を上下に偏向する上側上下風向板及び下側上下風向板を備えた空気調和機において、前記上側風向板は、第１の面と、前記第１の面によって前記上側風向板の回動軸に連結された第２の面とを有し、水平方向付近への送風状態における前記下側上下風向板の角度は、前記第２の面の角度よりも前記第１の面の角度に近く、下方向への送風状態における前記下側上下風向板の角度は、前記第１の面の角度よりも前記第２の面の角度に近い構成にしたことにより達成される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
請求項２に記載の空気調和機は請求項１の空気調和機において、下方向への送風状態において、前記第１の面は風上方向に凹形状である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
請求項３に記載の空気調和機は請求項１の空気調和機において、前記空気吹出し口の上方に位置し、筺体を構成する下パネルを備え、前記下パネルは前記上側風向板の回動軸が配置される溝部を有し、暖房運転時の上側風向板の回動範囲で、上側風向板の回動軸と下パネルの溝部の隙間が最小となる上側風向板の回動位置における暖房時最小間隙が、冷房運転時の上側風向板の回動範囲で、上側風向板の回動軸と下パネルの溝部の隙間が最小となる上側風向板の回動位置における冷房時最小間隙より小さいものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
請求項５に記載の空気調和機は請求項１の空気調和機において、前記第１の面の長さが、前記空気吹出し口の吹出し風路の高さの４０〜６０％であるものである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月14日(2014.7.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子ハウジングおよび少なくとも１つのエンジンマッピングにより制御される燃焼パラメータを有する熱機関の動作を最適化する方法において、
アルコールと、エーテルと、水とを含む含酸素化合物のうちの少なくとも一つを含む混合物であるバイオ燃料を近赤外分析し、バイオ燃料に含まれる、水と、アルコールおよびエーテルのうちの少なくとも一方との割合を決定する工程と、
前記分析し決定する工程の結果に基づいて前記マッピングの選択および修正の少なくとも一方を行ない、熱機関の動作を最適化する工程と、
を備え、
バイオ燃料を近赤外分析する工程は、前記混合物中の含酸素化合物の合計含有量（Ｐ＿Ｏｘ）を測定する工程と、Ｈ−Ｏ−Ｈ結合の値から前記含酸素化合物における水分含量（Ｐ＿Ｈ２Ｏ）を測定する工程と、Ｃ−Ｏ−Ｃ結合の値から前記含酸素化合物におけるエーテルの含量（Ｐ＿ＥＴＨＥＲ）を測定する工程と、を含む、方法。
【請求項２】
燃料の消費を最適化し、エンジンのＩＳＯの性能での排気ガスの排出を制限するかまたはＩＳＯの消費および排出時のエンジンの性能を増加させるよう、前記マッピングの選択および修正の少なくとも一方を行うことを特徴とする請求項１に記載の最適化する方法。
【請求項３】
前記近赤外分析する工程が、相互作用のまたはカップリングの共鳴のアーチファクトに起因する調波または組み合わせの領域に対する相互作用に基づき前記マッピングを補正する段階を含むことを特徴とする請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記近赤外分析する工程が、分子構造に基づき前記マッピングを補正する段階を含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記近赤外分析する工程が、原油精錬処理により生成された燃料ベース由来のＣ−ＣおよびＣ−Ｈ結合の数および種類に基づき前記マッピングを補正する段階を含むことを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記近赤外分析する工程が、少なくとも１つの温度検出器からのバイオ燃料の温度の測
定値に基づき前記マッピングを補正する段階を含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記バイオ燃料の組成の近赤外分析の結果に基づき、該バイオ燃料の物理化学的性質の予測値の補正する段階を実行する請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
近赤外分析は、７８０ｎｍから２，５００ｎｍの間のシリコン検出領域のスペクトル領域における測定を行なうセンサによって実行されることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
近赤外分析は、８５０〜９８０ｎｍの間のシリコン検出領域のスペクトル領域における測定を行なうセンサによって実行されることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月22日(2014.7.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持層、少なくとも１つの接着剤層、及びＵＶ硬化シリコーンで被覆された剥離ライナを含み、前記少なくとも１つの接着剤層が活性医薬成分及び鉱油を含み、前記剥離ライナが前記接着剤層と接触しており、前記剥離ライナと前記接着剤層との間の剥離力が、インチ当たり５〜１５０グラムである、経皮送達デバイス。
【請求項２】
前記剥離力が、インチ当たり１０〜９０グラムである請求項１に記載の経皮送達デバイス。
【請求項３】
前記剥離力が、インチ当たり１０〜６０グラムである請求項１に記載の経皮送達デバイス。
【請求項４】
前記剥離ライナが、ポリエチレンテレフタラート、ポリプロピレン、ポリエステル、及びポリエチレンからなる群から選択される基材フィルムを含む請求項１に記載の経皮送達デバイス。
【請求項５】
前記基材フィルムが、厚さ０．５ミル〜５ミル（１２．７μｍ〜１２７μｍ）である請求項４に記載の経皮送達デバイス。
【請求項６】
前記ＵＶ硬化シリコーンコーティングが、厚さ２０００オングストローム〜１００００オングストローム（２００ｎｍ〜１０００ｎｍ）の範囲である請求項１に記載の経皮送達デバイス。
【請求項７】
前記活性医薬成分が、クロニジン及びスコポラミンからなる群から選択される請求項１に記載の経皮送達デバイス。
【請求項８】
前記活性医薬成分が、前記の少なくとも１つの接着剤層の質量の１質量％〜３０質量％の量で存在する請求項１に記載の経皮送達デバイス。
【請求項９】
前記の少なくとも１つの接着剤層が、シリコーン、天然及び合成ゴム、ポリイソブチレン、ポリイソブチレンブレンド、ネオプレン、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリシロキサン、アクリル系接着剤、ビニルアセタート接着剤、ポリアクリラート、エチレンビニルアセタートコポリマー、スチレン−イソプレンコポリマー、ポリウレタン、並びにそれらの混合物からなる群から選択される接着剤を含む請求項１に記載の経皮送達デバイス。
【請求項１０】
前記接着剤層中の前記接着剤の量が、前記接着剤層の質量の３４質量％〜６１．５質量％である請求項９に記載の経皮送達デバイス。
【請求項１１】
前記の少なくとも１つの接着剤層が更に、１種以上の添加剤を含む請求項１に記載の経皮送達デバイス。
【請求項１２】
前記少なくとも１つの接着剤層がポリイソブチレンを含み、前記剥離ライナと接触している請求項１に記載の経皮送達デバイス。