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【手続補正書】
【提出日】平成26年4月14日(2014.4.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光反射性を有する反射層と、
前記反射層上に第１絶縁層を介して画素毎に配置された、光透過性を有する第１電極と、
前記第１電極上に配置された、少なくとも発光層を含む有機機能層と、
前記有機機能層上に配置された、光反射性および光透過性を有する第２電極と、を備え、
前記有機機能層からの光を共振させる光共振器が、前記反射層と前記第２電極の間に形成されており、
前記反射層と前記第１絶縁層と前記第１電極とを用いて、保持容量を構成することを特徴とする有機ＥＬ装置。
【請求項２】
前記第１電極に接続された第１トランジスターをさらに備え、
前記保持容量は、前記第１トランジスターのソースと前記第１トランジスターのゲートとの間に接続されてなることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ装置。
【請求項３】
前記反射層は、前記画素毎に配置されてなることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の有機ＥＬ装置。
【請求項４】
前記反射層は、前記第１トランジスターの前記ゲートに電気的に接続されてなることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の有機ＥＬ装置。
【請求項５】
前記第１トランジスターのゲート電極とは第２絶縁層を介して異なる層であって、前記反射層とは第３絶縁層を介して異なる層に設けられた第１信号配線を備え、
前記ゲート電極は、前記第２絶縁層に設けられた第１コンタクトホールを介して前記第１信号配線と接続されてなり、
前記反射層は、前記第３絶縁層に設けられた第２コンタクトホールを介して前記第１信号配線と接続されてなることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の有機ＥＬ装置。
【請求項６】
第２信号配線と前記第１トランジスターのゲートとの間に接続された第２トランジスターを備えることを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載に記載の有機ＥＬ装置。
【請求項７】
前記第２トランジスターのドレインは、前記第２絶縁層に設けられた第３コンタクトホールを介して前記第２信号配線に接続されてなることを特徴とする請求項６に記載の有機ＥＬ装置。
【請求項８】
光反射性および光透過性を有する反射半透過層と、
前記反射半透過層上に絶縁層を介して画素毎に配置された、光透過性を有する第１電極と、
前記第１電極上に配置された、少なくとも発光層を含む有機機能層と、
前記有機機能層上に配置された、光反射性を有する第２電極と、を備え、
前記有機機能層からの光を共振させる光共振器が、前記反射半透過層と前記第２電極との間に形成されており、
前記反射半透過層と前記絶縁層と前記第１電極とを用いて、保持容量を構成することを特徴とする有機ＥＬ装置。
【請求項９】
少なくとも光反射性を有する反射層と、
前記反射層上に第１絶縁層を介して配置された第１電極と、
少なくとも光反射性を有する第２電極と、
前記第１電極と前記第２電極との間に配置され、且つ、少なくとも発光層を含む有機機能層と、を備え、
前記有機機能層からの光を共振させる光共振器が、前記反射層と前記第２電極との間に形成されており、
前記反射層と前記第１絶縁層と前記第１電極とを用いて、保持容量を構成することを特徴とする有機ＥＬ装置。
【請求項１０】
隣り合う前記画素は異なる色の発光が得られることを特徴とする請求項１乃至請求項９のいずれか１項有機ＥＬ装置。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の有機ＥＬ装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月16日(2014.4.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空排気装置が接続され内部を減圧可能な処理室と、前記処理室内へガスを供給する装置と、前記処理室内部で処理される被処理材を保持する手段と、前記処理室内部にプラズマを発生させるプラズマ発生手段と、前記被処理材を保持する手段にバイアス電位を印加するバイアス印加手段とを有するプラズマ処理装置において、
前記被処理材を保持する手段の上面は段差部を有し、前記被処理材を保持する手段の最上段には前記被処理材が載置され、前記段差部の直径は前記被処理材の直径より小さくしてあり、前記被処理材を保持する手段と同電位になるよう設けたリング状部材を前記段差部に配置し、かつ前記リング状部材の上面が前記被処理材を保持する手段の上面より高くしてあり、前記リング状部材の内径側の表面と上面と外径側の表面とを覆う誘電体材料の部材を備えて、前記リング状部材に印加されたバイアス電力が前記処理室内の前記プラズマに印加されないようにしたことを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載のプラズマ処理装置において、前記リング状部材の上面が前記被処理材を保持する手段の上面より０．０ｍｍ以上５．０ｍｍ以下の範囲で高い位置に配置されていることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項３】
請求項１または２記載のプラズマ処理装置において、前記リング状部材の上面の内径は、前記被処理材の外径より１．０ｍｍ以上１０ｍｍ以下の範囲で大きいことを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項４】
請求項１または２記載のプラズマ処理装置において、前記誘電体材料の厚みは、１．０ｍｍ以上５．０ｍｍ以下の範囲であることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項５】
請求項１または２記載のプラズマ処理装置において、前記リング状部材と前記被処理材を保持する手段とは、同一部品として形成されていることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項６】
請求項１または２記載のプラズマ処理装置において、前記リング状部材の表面は、陽極酸化膜または溶射被膜で被覆されていることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項７】
真空排気装置により処理室内部を減圧し、前記処理室内へガスを供給し、前記処理室内部で処理される被処理材を保持し、該処理室内部にプラズマを発生させ、前記被処理材を保持する手段にバイアス電位を印加し、前記被処理材を温度調節された電極上に静電気力により吸着して前記被処理材をプラズマ処理する方法において、
上面に段差部を有する前記被処理材を保持する手段を用い、前記保持する手段の最上段に前記被処理材を保持し、前記段差部の直径が前記被処理材の直径より小さくしてある前記被処理材を保持する手段に対し前記段差部に前記被処理材を保持する手段と同電位となるように配置されたリング状部材を用い、かつ前記リング状部材の上面を前記処理材を保持する手段の上面より高く設け、また前記段差部と前記リング状部材との間隔と前記リング状部材の上面を覆う誘電体からなる部材を用い、前記リング状部材に印加されたバイアス電力が前記処理室内の前記プラズマに印加されないようにエッチング処理を行うことを特徴とするプラズマ処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明では、ウエハを保持する手段の上面に段差部を有し、前記保持する手段の最上段にウエハが載置され、前記段差部の直径がウエハの直径より小さくしてあり、前記段差部にウエハを保持する手段と同電位となるように設けたリング状部材が配置され、かつ前記リング状部材の上面が前記保持する手段の上面より高くしてあり、前記リング状部材の内径側の表面と上面と外径側の表面とを覆う誘電体の部材を備えて、前記リング状部材に印加されたバイアス電力が前記処理室内の前記プラズマに印加されないようにしたことで、ウエハ外周部周辺の等電位面の湾曲を改善し、ウエハ外周部周辺の等電位面をウエハと平行にすることでウエハに入射するイオンの軌道をウエハに垂直方向とし、Ｅ．Ｅ部のエッチングレートを高精度に均一化できる。
【手続補正書】
【提出日】平成26年3月27日(2014.3.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
通信装置であって、
無線通信パラメータの設定処理を行う際に用いられる識別情報を出力する出力手段と、
前記設定処理を行うために他の通信装置と接続する接続手段と、
無線通信パラメータの設定処理を指示されていることを示す所定の信号を、前記出力手段により前記識別情報が出力されるよりも前から送信し続けている装置との、前記接続手段による接続を制限する制限手段と、
を有することを特徴とする通信装置。
【請求項２】
前記出力手段による前記識別情報の出力とは、前記識別情報の表示部への表示であることを特徴とする請求項１に記載の通信装置。
【請求項３】
前記接続手段により接続された他の通信装置から、無線通信パラメータを取得する取得手段を更に有することを特徴とする請求項１または２に記載の通信装置。
【請求項４】
前記出力手段により出力される識別情報を生成する生成手段を更に有することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の通信装置。
【請求項５】
前記生成手段は、前記出力手段により出力される識別情報をランダムに生成することを特徴とする請求項４に記載の通信装置。
【請求項６】
前記接続手段により前記設定処理を行うために他の通信装置と接続する際に、前記出力手段により前記識別情報が出力されるよりも前から前記所定の信号を送信し続けている装置を検出する検出手段を更に有し、
前記制限手段は、前記検出手段により検出された装置との前記接続手段による接続を制限することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の通信装置。
【請求項７】
無線通信パラメータの設定処理の開始指示を判定する判定手段を更に有し、
前記検出手段が、前記判定手段により前記開始指示が判定されてから前記出力手段により前記識別情報が出力されるまでの間に、前記所定の信号を送信し続けている装置を検出した場合に、前記制限手段は、前記検出手段により検出された当該装置との前記接続手段による接続を制限することを特徴とする請求項６に記載の通信装置。
【請求項８】
前記所定の信号は、ＩＥＥＥ８０２．１１シリーズで規定されたビーコン信号であることを特徴とする請求項７に記載の通信装置。
【請求項９】
前記所定の信号は、ＩＥＥＥ８０２．１１シリーズで規定されたプローブレスポンス信号であることを特徴とする請求項７に記載の通信装置。
【請求項１０】
前記識別情報は、ＰＩＮ（Personal Information Number）コードであることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の通信装置。
【請求項１１】
前記設定処理は、ＷＰＳ（Wi-Fi Protected Service）に準拠した設定処理であることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の通信装置。
【請求項１２】
前記設定処理により設定される無線通信パラメータには、暗号方式、暗号鍵、認証方式、および、認証鍵の情報が少なくとも含まれることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の通信装置。
【請求項１３】
通信装置の処理方法であって、
出力手段が、無線通信パラメータの設定処理を行う際に用いられる識別情報を出力する出力工程と、
接続手段が、前記設定処理を行うために他の通信装置と接続する接続工程と、
制限手段が、無線通信パラメータの設定処理を指示されていることを示す所定の信号を、前記出力工程により前記識別情報が出力されるよりも前から送信し続けている装置との、前記接続工程による接続を制限する制限工程と、
を有することを特徴とする通信装置の処理方法。
【請求項１４】
コンピュータを、
無線通信パラメータの設定処理を行う際に用いられる識別情報を出力する出力手段、
前記設定処理を行うために他の通信装置と接続する接続手段、
無線通信パラメータの設定処理を指示されていることを示す所定の信号を、前記出力手段により前記識別情報が出力されるよりも前から送信し続けている装置との、前記接続手段による接続を制限する制限手段
として機能させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】通信装置、その処理方法、及び、プログラム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明は、上記課題を鑑みてなされたものであり、無線通信パラメータの設定処理を行う際に、通信装置が不必要な接続試行を行うことを抑制することを目的とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
上記課題を解決するため、本発明の一態様は、
通信装置であって、
無線通信パラメータの設定処理を行う際に用いられる識別情報を出力する出力手段と、
前記設定処理を行うために他の通信装置と接続する接続手段と、
無線通信パラメータの設定処理を指示されていることを示す所定の信号を、前記出力手段により前記識別情報が出力されるよりも前から送信し続けている装置との、前記接続手段による接続を制限する制限手段とを有する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明によれば、無線通信パラメータの設定処理を行う際に、通信装置が不必要な接続試行を行うことを制限できる。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月10日(2014.4.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の通信パスを用いてソースノードから宛先ノードへデータを送信する無線通信システムにおけるソースノードであって、
送信すべきデータについての所定の圧縮率で圧縮したデータ又は非圧縮のデータを第１の通信パスで送信し、前記送信すべきデータを前記所定の圧縮率よりも高い圧縮率で圧縮したデータを前記第１の通信パスとは異なる第２の通信パスで送信する送信手段と、
前記第１の通信パスでエラーが発生し、前記第２の通信パスでエラーが発生しなかった場合、前記第２の通信パスで送信するデータを前記所定の圧縮率で圧縮したデータ又は非圧縮のデータに変更する変更手段と、
を有することを特徴とするソースノード。
【請求項２】
前記変更手段により前記第２の通信パスで送信するデータを前記所定の圧縮率で圧縮したデータ又は非圧縮のデータに変更した場合、前記第１及び第２の通信パスとは異なる新たな通信パスを探索する探索手段を更に備え、
前記送信手段は、前記探索された新たな通信パスで前記所定の圧縮率よりも高い圧縮率で圧縮したデータを送信することを特徴とする請求項１に記載のソースノード。
【請求項３】
前記ソースノード及び前記宛先ノードの少なくとも一方は、アンテナ指向角を制御して前記データを送受信することを特徴とする請求項１又は２に記載のソースノード。
【請求項４】
前記送信手段は、前記アンテナ指向角が互いに異なる複数の通信パスを用いて送信することを特徴とする請求項３に記載のソースノード。
【請求項５】
前記変更手段は、前記第１の通信パスでのエラーが所定期間継続した場合に、前記第２の通信パスで送信するデータを前記所定の圧縮率で圧縮したデータ又は非圧縮のデータに変更することを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載のソースノード。
【請求項６】
複数の通信パスを用いてソースノードから宛先ノードへデータを送信する無線通信システムにおけるソースノードの送信方法であって、
前記ソースノードは、送信すべきデータについての所定の圧縮率で圧縮したデータ又は非圧縮のデータを第１の通信パスで送信し、前記送信すべきデータを前記所定の圧縮率よりも高い圧縮率で圧縮したデータを前記第１の通信パスとは異なる第２の通信パスで送信している際に、前記第１の通信パスでエラーが発生し、前記第２の通信パスでエラーが発生しなかった場合、前記第２の通信パスで送信するデータを前記所定の圧縮率で圧縮したデータ又は非圧縮のデータに変更することを特徴とするソースノードの送信方法。
【請求項７】
請求項１乃至５の何れか１項に記載のソースノードと当該ソースノードからのデータを受信する宛先ノードとを有することを特徴とする無線通信システム。
【請求項８】
コンピュータを請求項１乃至５の何れか１項に記載のソースノードの各手段として機能させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は、複数の通信パスを用いてソースノードから宛先ノードへデータを送信する無線通信システムにおけるソースノードであって、送信すべきデータについての所定の圧縮率で圧縮したデータ又は非圧縮のデータを第１の通信パスで送信し、前記送信すべきデータを前記所定の圧縮率よりも高い圧縮率で圧縮したデータを前記第１の通信パスとは異なる第２の通信パスで送信する送信手段と、前記第１の通信パスでエラーが発生し、前記第２の通信パスでエラーが発生しなかった場合、前記第２の通信パスで送信するデータを前記所定の圧縮率で圧縮したデータ又は非圧縮のデータに変更する変更手段と、を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月10日(2014.7.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
搬送室と、
前記搬送室と第１のゲートバルブを介して接続されたロードロック室と、
前記搬送室と第２のゲートバルブを介して接続された基板加熱室と、
前記搬送室と第３のゲートバルブを介して接続された成膜室と、を有し、
前記成膜室は、リークレートが１×１０−１０Ｐａ・ｍ３／秒以下であることを特徴とする成膜装置。
【請求項２】
搬送室と、
前記搬送室と第１のゲートバルブを介して接続されたロードロック室と、
前記搬送室と第２のゲートバルブを介して接続された基板加熱室と、
前記搬送室と第３のゲートバルブを介して接続された成膜室と、を有し、
前記成膜室は、リークレートが１×１０−１０Ｐａ・ｍ３／秒以下であり、
前記基板加熱室は、プラズマ処理室を兼ねることを特徴とする成膜装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記成膜室は、精製機を介して成膜ガス供給源と接続することを特徴する成膜装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
前記成膜室において成膜する際のターゲットと基板との距離は、スパッタ粒子、ガス分子またはイオンの平均自由行程よりも短く設定することを特徴とする成膜装置。
【請求項５】
搬送室と、
前記搬送室と第１のゲートバルブを介して接続されたロードロック室と、
前記搬送室と第２のゲートバルブを介して接続された基板加熱室と、
前記搬送室と第３のゲートバルブを介して接続された成膜室と、を有し、
前記成膜室は、リークレートが１×１０−１０Ｐａ・ｍ３／秒以下である成膜装置を用いた成膜方法であって、
真空排気された前記基板加熱室において、不活性雰囲気、減圧雰囲気または乾燥空気雰囲気において２５０℃以上基板の歪み点未満で、基板を熱処理し、
熱処理された前記基板を、大気に暴露することなく前記成膜室に移動し、
前記成膜室に９９．９９９９９９％以上の純度である成膜ガスを導入し、
前記成膜ガスを用いてターゲットをスパッタリングして、前記基板上に膜を成膜することを特徴とする成膜方法。
【請求項６】
搬送室と、
前記搬送室と第１のゲートバルブを介して接続されたロードロック室と、
前記搬送室と第２のゲートバルブを介して接続された基板加熱室と、
前記搬送室と第３のゲートバルブを介して接続された成膜室と、を有し、
前記成膜室は、リークレートが１×１０−１０Ｐａ・ｍ３／秒以下であり、
前記基板加熱室は、プラズマ処理室を兼ねる成膜装置を用いた成膜方法であって、
真空排気された前記基板加熱室において、基板をプラズマ処理し、
プラズマ処理された前記基板を、大気に暴露することなく前記成膜室に移動し、
前記成膜室に９９．９９９９９９％以上の純度である成膜ガスを導入し、
前記成膜ガスを用いてターゲットをスパッタリングして、前記基板上に膜を成膜することを特徴とする成膜方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月19日(2013.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可撓性を有する基板を有し、
前記基板上に第１のトランジスタを有し、
前記基板上に第２のトランジスタを有し、
前記第１のトランジスタ上及び前記第２のトランジスタ上に絶縁膜を有し、
前記絶縁膜に開口部を有し、
前記開口部は、前記第１のトランジスタと前記第２のトランジスタとの間に位置し、
前記開口部内に第１の金属を有し、
前記絶縁膜上に第２の金属を有し、
前記第１のトランジスタ又は前記第２のトランジスタは、前記第２の金属と重なる領域を有し、
前記第２の金属は、前記第１の金属より曲がりにくい性質を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
可撓性を有する基板を有し、
前記基板上に第１の回路を有し、
前記基板上に第２の回路を有し、
前記第１の回路上及び前記第２の回路上に絶縁膜を有し、
前記絶縁膜に開口部を有し、
前記開口部は、前記第１の回路と前記第２の回路との間に位置し、
前記開口部内に第１の金属を有し、
前記絶縁膜上に第２の金属を有し、
前記第１の回路又は前記第２の回路は、前記第２の金属と重なる領域を有し、
前記第２の金属は、前記第１の金属より曲がりにくい性質を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
フィルムを有し、
前記フィルム上に第１のトランジスタを有し、
前記フィルム上に第２のトランジスタを有し、
前記第１のトランジスタ上及び前記第２のトランジスタ上に絶縁膜を有し、
前記絶縁膜に開口部を有し、
前記開口部は、前記第１のトランジスタと前記第２のトランジスタとの間に位置し、
前記開口部内に第１の金属を有し、
前記絶縁膜上に第２の金属を有し、
前記第１のトランジスタ又は前記第２のトランジスタは、前記第２の金属と重なる領域を有し、
前記第２の金属は、前記第１の金属より曲がりにくい性質を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
フィルムを有し、
前記フィルム上に第１の回路を有し、
前記フィルム上に第２の回路を有し、
前記第１の回路上及び前記第２の回路上に絶縁膜を有し、
前記絶縁膜に開口部を有し、
前記開口部は、前記第１の回路と前記第２の回路との間に位置し、
前記開口部内に第１の金属を有し、
前記絶縁膜上に第２の金属を有し、
前記第１の回路又は前記第２の回路は、前記第２の金属と重なる領域を有し、
前記第２の金属は、前記第１の金属より曲がりにくい性質を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
プラスチック基板を有し、
前記プラスチック基板上に第１のトランジスタを有し、
前記プラスチック基板上に第２のトランジスタを有し、
前記第１のトランジスタ上及び前記第２のトランジスタ上に絶縁膜を有し、
前記絶縁膜に開口部を有し、
前記開口部は、前記第１のトランジスタと前記第２のトランジスタとの間に位置し、
前記開口部内に第１の金属を有し、
前記絶縁膜上に第２の金属を有し、
前記第１のトランジスタ又は前記第２のトランジスタは、前記第２の金属と重なる領域を有し、
前記第２の金属は、前記第１の金属より曲がりにくい性質を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項６】
プラスチック基板を有し、
前記プラスチック基板上に第１の回路を有し、
前記プラスチック基板上に第２の回路を有し、
前記第１の回路上及び前記第２の回路上に絶縁膜を有し、
前記絶縁膜に開口部を有し、
前記開口部は、前記第１の回路と前記第２の回路との間に位置し、
前記開口部内に第１の金属を有し、
前記絶縁膜上に第２の金属を有し、
前記第１の回路又は前記第２の回路は、前記第２の金属と重なる領域を有し、
前記第２の金属は、前記第１の金属より曲がりにくい性質を有することを特徴とする半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月18日(2014.4.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
活性層と、フォトニック結晶と、を備えた面発光レーザであって、
面内方向に、第１の領域と、前記第１の領域の外に設けられた第２の領域と、を有し、
前記第１の領域に、前記活性層の少なくとも一部と、前記面レーザの面内方向に共振モードを有する第１のフォトニック結晶と、が設けられ、
前記第２の領域に、前記第１の領域の外に漏れた光を面外方向へ回折させる第２のフォトニック結晶と、前記面外方向へ回折された光を吸収する光吸収体と、が設けられている
ことを特徴とする面発光レーザ。
【請求項２】
前記第１の領域の放射係数が、前記第２の領域の放射係数より小さいことを特徴とする面発光レーザ。
【請求項３】
前記前記第１のフォトニック結晶と前記第２のフォトニック結晶には、それぞれ孔が周期的に設けられ、
前記第１のフォトニック結晶の孔径と前記第２のフォトニック結晶の孔径が異なることを特徴とする請求項１又は２に記載の面発光レーザ。
【請求項４】
前記第１のフォトニック結晶の厚さと前記第２のフォトニック結晶の厚さが異なることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の面発光レーザ。
【請求項５】
前記第１の領域と前記第２の領域それぞれに、フォトニック結晶中の光強度分布を制御する光強度分布制御層を有し、
前記第１の領域に設けられた光強度分布制御層の厚さと前記第２の領域に設けられた光強度分布制御層の厚さが異なることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の面発光レーザ。
【請求項６】
前記第１の領域と前記第２の領域のうち一方に、フォトニック結晶中の光強度分布を制御する光強度分布制御層を有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の面発光レーザ。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか１項に記載の面発光レーザと、感光ドラム、とを有することを特徴とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】面発光レーザ及び画像形成装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明に係る面発光レーザは、活性層と、フォトニック結晶と、を備えた面発光レーザであって、面内方向に、第１の領域と、前記第１の領域の外に設けられた第２の領域と、を有し、前記第１の領域に、前記活性層の少なくとも一部と、前記面レーザの面内方向に共振モードを有する第１のフォトニック結晶と、が設けられ、前記第２の領域に、前記第１の領域の外に漏れた光を面外方向へ回折させる第２のフォトニック結晶と、前記面外方向へ回折された光を吸収する光吸収体と、が設けられていることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成26年3月25日(2014.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学的に透明な色素増感された半導体層を担持して光発電能力をもつ光電極と、これに電荷輸送層を介して電気的に接合する光学的に透明な内部対極と、該内部対極にイオン性電解質層を介して電気的に接合する光学的に透明な外部対極が順次積層されて構成されて一体となった平板状の電気化学キャパシタであって、
前記内部対極がその両面の１つの面において電荷輸送層に接し、他の１つの面において光学的に透明な蓄電活物質を担持してイオン性電解質層に接し、
前記外部対極が光学的に透明な蓄電活物質を担持してイオン性電解質層に接し、
前記電気化学キャパシタが可視光の波長領域での光透過率が１６％以上であり、
機械的特性においてフレキシブルであり、
前記光電極と前記外部対極とを外部回路で連結して前記光電極を光照射することにより前記内部対極の蓄電活物質に正電荷を、前記外部対極の蓄電活物質に負電荷をそれぞれ蓄積して充電が行われる電気化学キャパシタ。
【請求項２】
前記蓄電活物質が金属酸化物の粒子である請求項１に記載の電気化学キャパシタ。
【請求項３】
前記蓄電活物質が、導電性ポリマーである請求項１に記載の電気化学キャパシタ。
【請求項４】
前記金属酸化物の粒子が酸化ルテニウム、酸化マンガンから選ばれる酸化還元物質のナノ粒子であることを特徴とする請求項１または２に記載の電気化学キャパシタ。
【請求項５】
前記光電極、前記内部対極、及び前記外部対極が、それぞれ透明導電基板を構成要素として含み、かかる透明導電基板がいずれも光学的に透明な導電性プラスチックフィルムである請求項１〜４のいずれか一項に記載の電気化学キャパシタ。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月10日(2014.4.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
通信装置と、基地局装置が構築する第一の無線ネットワークに接続する情報処理装置とを有する通信システムであって、
前記通信装置は、
前記第一の無線ネットワークに接続する接続手段と、
第二の無線ネットワークを構築する構築手段と、
前記第一の無線ネットワークにおいて自らを識別するための識別情報を、前記第二の無線ネットワークを介して前記情報処理装置へ送信する送信手段と、を備え、
前記情報処理装置は、
前記第二の無線ネットワークに接続する接続手段と、
前記第二の無線ネットワークを介して受信した前記識別情報を用いて、前記第一の無線ネットワークを介して前記通信装置と通信するための設定を実行する実行手段と、
を備えることを特徴とする通信システム。
【請求項２】
通信装置であって、
基地局装置が構築する第一の無線ネットワークに接続する接続手段と、
第二の無線ネットワークを構築する構築手段と、
情報処理装置が前記第一の無線ネットワークにおいて前記通信装置を識別するための識別情報を、前記第二の無線ネットワークを介して前記情報処理装置へ送信する送信手段と、
を備えることを特徴とする通信装置。
【請求項３】
前記接続手段は、前記情報処理装置が前記第一の無線ネットワーク上に送出した、前記通信装置が前記第一の無線ネットワークに接続するために必要なパラメータを取得し、該パラメータを用いて前記第一の無線ネットワークに接続する、
ことを特徴とする請求項２に記載の通信装置。
【請求項４】
ユーザからの操作を受け付ける受付手段をさらに備え、
前記受付手段がユーザの操作を受け付けたことに応じて、前記接続手段が前記第一の無線ネットワークに接続するとともに、前記構築手段が前記第二の無線ネットワークを構築する
ことを特徴とする請求項２又は３に記載の通信装置。
【請求項５】
前記情報処理装置が前記第一の無線ネットワークを介して前記通信装置と通信するための設定を実行済みであるか否かを判定する判定手段をさらに備え、
前記送信手段は、前記判定手段において前記設定が実行済みでないと判定された場合に、前記識別情報を前記情報処理装置へ送信する
ことを特徴とする請求項２から４のいずれか一項に記載の通信装置。
【請求項６】
前記情報処理装置が、前記第二の無線ネットワークを介して受信した前記識別情報を用いて、前記第一の無線ネットワークを介して前記通信装置と通信するための設定を実行するか否かを示す実行情報を、前記情報処理装置から受信する受信手段をさらに備え、
前記送信手段は、前記情報処理装置から前記設定を実行する旨の前記実行情報が通知された場合に、前記識別情報を前記情報処理装置へ送信する
ことを特徴とする請求項２から５のいずれか一項に記載の通信装置。
【請求項７】
前記第一の無線ネットワークにおける自らの識別情報の送信相手として、前記情報処理装置が正当であることを認証する認証手段をさらに備え、
前記送信手段は、前記認証手段において前記情報処理装置が正当な送信相手であると認証されたことを条件として、前記識別情報を前記情報処理装置へ送信する
ことを特徴とする請求項２から６のいずれか一項に記載の通信装置。
【請求項８】
基地局装置が構築する第一の無線ネットワークに接続する情報処理装置であって、
前記第一の無線ネットワークに接続する通信装置により構築される第二の無線ネットワークに接続する接続手段と、
前記第二の無線ネットワークを介して、前記第一の無線ネットワークにおける前記通信装置を識別するための識別情報を取得し、該識別情報を用いて、前記第一の無線ネットワークを介して前記通信装置と通信するための設定を実行する実行手段と、
を備えることを特徴とする情報処理装置。
【請求項９】
前記通信装置が前記第一の無線ネットワークに接続するために必要なパラメータを該第一の無線ネットワーク上に送出する送出手段をさらに備える
ことを特徴とする請求項８に記載の情報処理装置。
【請求項１０】
前記接続手段は、前記第一の無線ネットワークの接続にも用いられ、前記第二の無線ネットワークに接続する場合、前記第一の無線ネットワークの接続を切断する
ことを特徴とする請求項８又は９に記載の情報処理装置。
【請求項１１】
自らが前記実行手段において前記設定を実行するか否かを示す実行情報を、前記通信装置に通知する通知手段をさらに備える
ことを特徴とする請求項８から１０のいずれか一項に記載の情報処理装置。
【請求項１２】
基地局装置が構築する第一の無線ネットワークに接続する接続手段を有する通信装置と、前記第一の無線ネットワークに接続する情報処理装置とを有する通信システムの制御方法であって、
前記通信装置が、第二の無線ネットワークを構築する構築工程と、
前記情報処理装置が、前記第二の無線ネットワークに接続する接続工程と、
前記通信装置が、前記第一の無線ネットワークにおいて自らを識別するための識別情報を、前記第二の無線ネットワークを介して前記情報処理装置へ送信する送信工程と、
前記情報処理装置が、前記第二の無線ネットワークを介して受信した前記識別情報を用いて、前記第一の無線ネットワークを介して前記通信装置と通信するための設定を実行する実行工程と、
を有することを特徴とする制御方法。
【請求項１３】
基地局装置が構築する第一の無線ネットワークに接続する接続手段を有する通信装置の制御方法であって、
構築手段が、第二の無線ネットワークを構築する構築工程と、
送信手段が、情報処理装置が前記第一の無線ネットワークにおいて前記通信装置を識別するための識別情報を、前記第二の無線ネットワークを介して前記情報処理装置へ送信する送信工程と、
を有することを特徴とする制御方法。
【請求項１４】
基地局装置が構築する第一の無線ネットワークに接続する情報処理装置の制御方法であって、
接続手段が、前記第一の無線ネットワークに接続する通信装置により構築される第二の無線ネットワークに接続する接続工程と、
実行手段が、前記第二の無線ネットワークを介して、前記第一の無線ネットワークにおける前記通信装置を識別するための識別情報を取得し、該識別情報を用いて、前記第一の無線ネットワークを介して前記通信装置と通信するための設定を実行する実行工程と、
を有することを特徴とする制御方法。
【請求項１５】
コンピュータを請求項２から７のいずれか一項に記載の通信装置、又は、請求項８から１１のいずれか一項に記載の情報処理装置が備える各手段として機能させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】通信システム、通信装置、情報処理装置、制御方法、およびプログラム
【手続補正書】
【提出日】平成26年3月28日(2014.3.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
他の通信装置と無線接続するための通信パラメータを前記他の通信装置と共有する共有手段と、
前記通信パラメータを用いて無線接続を要求する要求手段と、
前記要求手段が要求した無線接続に失敗した場合、前記要求手段による要求が前記他の通信装置に対して行われたか否かを判定する判定手段と、
前記判定手段による判定結果に応じて、前記他の通信装置の設定が変更されたことを通知させるための通知制御手段と、
を有することを特徴とする通信装置。
【請求項２】
前記他の通信装置の識別情報を記憶する記憶手段を更に有し、
前記判定手段は、前記識別情報に基づいて、前記要求手段による要求が前記他の通信装置に対して行われたか否かを判定する、
ことを特徴とする請求項１に記載の通信装置。
【請求項３】
前記記憶手段は、前記通信パラメータを用いた前記他の通信装置との無線接続に成功すると、前記通信パラメータと共に、前記他の通信装置の識別情報を記憶する、
ことを特徴とする請求項２に記載の通信装置。
【請求項４】
前記要求手段が要求した無線接続に失敗した場合、前記要求手段による要求の宛先装置から、当該宛先装置の識別情報を取得する取得手段を更に有し、
前記判定手段は、前記他の通信装置の識別情報と前記宛先装置の識別情報とに基づいて、前記要求手段による要求が前記他の通信装置に対して行われたか否かを判定する、
ことを特徴とする請求項２又は３に記載の通信装置。
【請求項５】
前記他の通信装置の識別情報をユーザに入力させる入力手段を更に有する、
ことを特徴とする請求項２から４のいずれか１項に記載の通信装置。
【請求項６】
前記他の通信装置の識別情報は、当該他の通信装置のＭＡＣアドレスである、
ことを特徴とする請求項２から５のいずれか１項に記載の通信装置。
【請求項７】
前記通信パラメータは、ＳＳＩＤ、セキュリティ方式、セキュリティ鍵、及び利用する周波数帯の少なくとも一つを含む、
ことを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の通信装置。
【請求項８】
前記通知制御手段は、表示部に表示させることにより、前記他の通信装置の設定が変更されたことをユーザに対して通知させる、
ことを特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載の通信装置。
【請求項９】
前記判定手段による判定結果に応じて、前記共有手段は前記他の通信装置と無線接続するための通信パラメータの共有処理を再度実行する、
ことを特徴とする請求項１から８のいずれか１項に記載の通信装置。
【請求項１０】
通信装置の制御方法であって、
他の通信装置と無線接続するための通信パラメータを前記他の通信装置と共有する共有工程と、
前記通信パラメータを用いて無線接続を要求する要求工程と、
前記要求工程において要求した無線接続に失敗した場合、前記要求手段による要求が前記他の通信装置に対して行われたか否かを判定する判定工程と、
前記判定工程における判定結果に応じて、前記他の通信装置の設定が変更されたことを通知させるための通知制御工程と、
を有することを特徴とする制御方法。
【請求項１１】
コンピュータを請求項１から９のいずれか１項に記載の通信装置が備える各手段として機能させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】通信装置、制御方法、およびプログラム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記目的を達成するため、本発明の通信装置は、他の通信装置と無線接続するための通信パラメータを前記他の通信装置と共有する共有手段と、前記通信パラメータを用いて無線接続を要求する要求手段と、前記要求手段が要求した無線接続に失敗した場合、前記要求手段による要求が前記他の通信装置に対して行われたか否かを判定する判定手段と、前記判定手段による判定結果に応じて、前記他の通信装置の設定が変更されたことを通知させるための通知制御手段と、を有する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明により、通信パラメータの変更がなされ、通信装置が他の通信装置と無線接続できなくなった場合に、接続できない原因を通信端末が自ら通知するように制御を行うので、ユーザの使い勝手が向上する。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月18日(2014.4.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、振動膜と、前記基板と前記振動膜との間に間隙が形成されるように前記振動膜を支持する振動膜支持部と、から構成されるセルと、前記基板に絶縁物を介して配置された前記セルの引き出し配線と、を有し、
前記絶縁物は前記振動膜支持部の厚さよりも厚いことを特徴とする電気機械変換装置。
【請求項２】
前記基板は第一の電極として機能するシリコン基板であり、前記振動膜は第二の電極として機能する単結晶シリコン振動膜であり、前記引き出し配線は前記単結晶シリコン振動膜と電気的に接続されている請求項１に記載の電気機械変換装置。
【請求項３】
前記絶縁物は、熱酸化物である請求項１または２に記載の電気機械変換装置。
【請求項４】
前記絶縁物の厚さは、前記振動膜支持部の厚さと前記振動膜の厚さとを合わせた厚さ以上である請求項1乃至３のいずれか１項に記載の電気機械変換装置。
【請求項５】
前記セルを複数含む素子の周囲のシリコン層に形成された溝により各素子間の電気的絶縁をする請求項２乃至４のいずれか１項に記載の静電容量型電気機械変換装置。
【請求項６】
基板と、振動膜と、前記基板と前記振動膜との間に間隙が形成されるように前記振動膜を支持する振動膜支持部と、から構成されるセルを有する電気機械変換装置の作製方法であって、
第一のシリコン基板の一方の表面に絶縁層を形成し、前記間隙となる凹部と前記振動膜支持部となる部分を形成する工程と、
第二のシリコン基板を前記絶縁層に接合する工程と、
前記第二のシリコン基板を薄化し少なくとも前記振動膜となる部分を含むシリコン層を形成する工程と、
前記振動膜となる部分以外のシリコン層の部分の酸化を行う工程と、
前記酸化工程で生成された酸化物の上に導電層を形成し前記セルの引き出し配線を形成する工程と、を有することを特徴とする電気機械変換装置の作製方法。
【請求項７】
前記第二のシリコン基板としてＳＯＩ基板を用いる請求項６に記載の電気機械変換装置の作製方法。
【請求項８】
前記酸化工程の前に、前記シリコン層の前記振動膜となる部分を少なくとも保護する保護膜を形成する工程と、
前記酸化工程の後に、前記保護膜を除去する工程と、をさらに有し、
前記酸化工程では、前記保護膜を形成した前記振動膜となる部分以外のシリコン層の部分の熱酸化を行うことで、前記酸化物を形成する請求項６又は７に記載の電気機械変換装置の作製方法。
【請求項９】
前記保護膜として、窒化シリコン膜を形成する請求項８に記載の電気機械変換装置の作製方法。
【請求項１０】
前記第二のシリコン基板としてＳＯＩ基板を用い、前記第二のシリコン基板を薄化する際、前記ＳＯＩ基板の酸化シリコン層と表面シリコン層とを残し、
前記保護膜として、前記酸化シリコン層と、前記酸化シリコン層の上に形成する前記窒化シリコン膜とからなる二層構造を形成する請求項９に記載の電気機械変換装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月21日(2014.4.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被写体を撮像する撮像手段と、
前記被写体の測光を行う測光手段と、
ユーザの指示に従って、撮像感度を設定する感度設定手段と、
前記測光手段の測光結果に基づいて、前記感度設定手段により設定された撮像感度を変更する感度変更手段と、
ユーザの指示に従って、前記感度変更手段が前記感度設定手段により設定された撮像感度を変更する際の範囲を設定する範囲設定手段と、
前記感度設定手段により設定された撮像感度が前記範囲設定手段により設定された範囲外の場合、前記感度設定手段により設定された露出制御値を変更する際の範囲を、前記感度設定手段により設定された撮像感度が含まれる範囲となるように変更する範囲変更手段と、を有することを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記範囲変更手段は、前記感度設定手段により設定された撮像感度が前記範囲設定手段により設定された範囲内の場合、前記感度設定手段により設定された感度を変更する際の範囲を変更しないことを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記感度変更手段は、前記感度設定手段により設定された撮像感度が前記範囲設定手段により設定された範囲外の場合、前記範囲変更手段により変更された範囲内で前記感度設定手段により設定された撮像感度を変更することを特徴とする請求項１または２に記載の撮像装置。
【請求項４】
前記感度変更手段は、前記感度設定手段により設定された撮像感度が前記範囲設定手段により設定された範囲内の場合、前記範囲設定手段により設定された範囲内で前記感度設定手段により設定された撮像感度を変更することを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項５】
前記感度変更手段は、前記感度設定手段により設定された撮像感度では目標露出とならない場合に、前記感度設定手段により設定された撮像感度を変更することを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項６】
前記範囲変更手段は、前記感度設定手段により設定された感度を変更する際の範囲を変更した後に前記感度設定手段により設定された感度が前記範囲設定手段により設定された範囲内となった場合、前記感度設定手段により設定された感度を変更する際の範囲を前記範囲設定手段により設定された範囲に戻すことを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項７】
被写体を撮像する撮像手段と、前記被写体の測光を行う測光手段と、を有する撮像装置の制御方法であって、
ユーザの指示に従って、撮像感度を設定する感度設定ステップと、
前記測光手段の測光結果に基づいて、前記感度設定ステップで設定された撮像感度を変更する感度変更ステップと、
ユーザの指示に従って、前記感度変更ステップにおいて前記感度設定ステップで設定された撮像感度を変更する際の範囲を設定する範囲設定ステップと、
前記感度設定ステップで設定された撮像感度が前記範囲設定ステップで設定された範囲外の場合、前記感度設定ステップで設定された撮像感度を変更する際の範囲を、前記感度設定ステップで設定された撮像感度が含まれる範囲となるように変更する範囲変更ステップと、を有することを特徴とする撮像装置の制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記目的を達成するために、本発明にかかる撮像装置は、被写体を撮像する撮像手段と、前記被写体の測光を行う測光手段と、ユーザの指示に従って、撮像感度を設定する感度設定手段と、前記測光手段の測光結果に基づいて、前記感度設定手段により設定された撮像感度を変更する感度変更手段と、ユーザの指示に従って、前記感度変更手段が前記感度設定手段により設定された撮像感度を変更する際の範囲を設定する範囲設定手段と、前記感度設定手段により設定された撮像感度が前記範囲設定手段により設定された範囲外の場合、前記感度設定手段により設定された露出制御値を変更する際の範囲を、前記感度設定手段により設定された撮像感度が含まれる範囲となるように変更する範囲変更手段と、を有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
被写体を撮像する撮像手段と、前記被写体の測光を行う測光手段と、を有する撮像装置の制御方法であって、ユーザの指示に従って、撮像感度を設定する感度設定ステップと、前記測光手段の測光結果に基づいて、前記感度設定ステップで設定された撮像感度を変更する感度変更ステップと、ユーザの指示に従って、前記感度変更ステップにおいて前記感度設定ステップで設定された撮像感度を変更する際の範囲を設定する範囲設定ステップと、前記感度設定ステップで設定された撮像感度が前記範囲設定ステップで設定された範囲外の場合、前記感度設定ステップで設定された撮像感度を変更する際の範囲を、前記感度設定ステップで設定された撮像感度が含まれる範囲となるように変更する範囲変更ステップと、を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月1日(2014.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに空隙を隔てて配置されている第１電極及び第２電極を有するＭＥＭＳ振動子と、
前記第１電極からの信号を受け取る第１入力端子と、第１出力端子とを有し、利得が１よりも大きい利得部と、
前記第１出力端子からの信号を受け取る第２入力端子と、前記第２電極に向けて信号を送る第２出力端子とを有し、利得が１よりも小さい利得制限部と、
前記第１出力端子と前記第２入力端子との間に接続されている出力端子と、
を備えている、発振回路。
【請求項２】
前記第１電極と前記第１入力端子との間、および前記第２電極と前記第２出力端子との間の少なくとも一方にキャパシターが接続されている、請求項１に記載の発振回路。
【請求項３】
前記第１電極と接地電位との間、および前記第２電極と接地電位との間にそれぞれキャパシターが接続されている、請求項１または２に記載の発振回路。
【請求項４】
前記第１電極と前記第２電極との間にバイアス電圧を印加する電圧印加部と、
前記利得制限部及び前記電圧印加部を制御する制御部と、
を有し、
前記制御部は、
前記利得制限部における利得と、前記電圧印加部が印加する前記バイアス電圧とを関連付けて制御する、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の発振回路。
【請求項５】
前記制御部は、
前記電圧印加部が印加する前記バイアス電圧が大きくなるほど、前記利得制限部における利得が小さくなるように制御する、請求項４に記載の発振回路。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月2日(2014.4.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
弾性体および該弾性体に振動を励起する電気−機械エネルギ変換素子により構成された振動子と、前記弾性体との摩擦により回転する回転子とを有する振動型駆動装置であって、
前記弾性体において前記振動の節となる軸方向の部分に、該弾性体の径方向の外側に向かって開口して該弾性体の周方向に延びた凹部を有しており、
前記凹部のうち前記軸方向にて互いに対向する側に設けられた２つの面が、内周側に向かって前記軸方向にて互いに近づくように前記径方向に対して傾斜し、
かつ前記凹部の内周側の部分における前記２つの面の間に、弾性体に振動の振幅を拡大するために設けた凹曲面が形成されていることを特徴とする振動型駆動装置。
【請求項２】
弾性体および該弾性体に振動を励起する電気−機械エネルギ変換素子により構成された振動子と、前記弾性体との摩擦により回転する回転子とを有する振動型駆動装置であって、
前記弾性体において前記振動の節となる軸方向の部分に、該弾性体の径方向の外側に向かって開口して該弾性体の周方向に延びた凹部を有しており、
前記凹部のうち前記軸方向にて互いに対向する側に設けられた２つの面が、径方向に平行に延びており、かつ前記凹部の内周側の部分における前記２つの面の間に、弾性体に振動の振幅を拡大するために設けた凹曲面が形成されていることを特徴とする振動型駆動装置。
【請求項３】
前記凹曲面が複数形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の振動型駆動装置。
【請求項４】
前記凹部の内周側から外周側に向かって前記複数の凹曲面が形成されており、
該複数の凹曲面の曲率半径が、前記凹部の内周側から外周側に向かって大きくなっていることを特徴とする請求項３に記載の振動型駆動装置。
【請求項５】
前記２つの面の間に２つの前記凹曲面が形成され、かつ該２つの前記凹曲面の間に溝部が形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の振動型駆動装置。
【請求項６】
前記２つの面および前記凹曲面が、凹凸による粗さを有することを特徴とする請求項１又は２に記載の振動型駆動装置。
【請求項７】
請求項１から６のいずれか一項に記載の振動型駆動装置と、
該振動型駆動装置により駆動される被駆動部材とを有することを特徴とする機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明の一側面としての振動型駆動装置は、弾性体および該弾性体に振動を励起する電気−機械エネルギ変換素子により構成された振動子と、弾性体との摩擦により回転する回転子とを有する。弾性体において振動の節となる軸方向の部分に、該弾性体の径方向の外側に向かって開口して該弾性体の周方向に延びる凹部を有する。そして、凹部のうち軸方向にて互いに対向する側に設けられた２つの面が、内周側に向かって軸方向にて互いに近づくように径方向に対して傾斜しており、かつ凹部の内周側の部分における該２つの面の間に、弾性体に振動の振幅を拡大するために設けた凹曲面が形成されていることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、本発明の他の一側面としての振動型駆動装置は、弾性体および該弾性体に振動を励起する電気−機械エネルギ変換素子により構成された振動子と、弾性体との摩擦により回転する回転子とを有する。弾性体において振動の節となる軸方向の部分に、該弾性体の径方向の外側に向かって開口して該弾性体の周方向に延びる凹部を有する。そして、凹部のうち軸方向にて互いに対向する側に設けられた２つの面が、径方向に平行に延びており、かつ凹部の内周側の部分における該２つの面の間に、弾性体に振動の振幅を拡大するために設けた凹曲面が形成されていることを特徴とする。