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【手続補正書】
【提出日】平成25年11月25日(2013.11.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アデノシン一リン酸及び／又はその塩を有効成分として含有することを特徴とする、浮腫軽減又は改善用外用剤。
【請求項２】
アデノシン一リン酸及び／又はその塩を有効成分として含有することを特徴とする、紅斑軽減又は改善用外用剤。
【請求項３】
アデノシン一リン酸及び／又はその塩を０．５〜１０重量％の割合で含有する、請求項１又は２に記載の外用剤。
【請求項４】
有効成分がアデノシン一リン酸及び／又はその塩のみからなる、請求項１〜３のいずれかに記載の外用剤。
【請求項５】
浮腫又は紅斑の軽減又は改善用外用剤を製造するための、アデノシン一リン酸及び／又はその塩の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月18日(2013.11.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対向する２つの主表面を有する基板からなるマスクブランク用基板の製造方法であって、
前記基板の主表面に対して研削を行う工程と、
研削が行われた前記基板の主表面に対して、前記基板の軟化点以上の燃焼温度の火炎を接触させる工程と、
前記火炎を接触させる工程を行った後に、前記基板の主表面に対して研磨を行う工程と
を有することを特徴とするマスクブランク用基板の製造方法。
【請求項２】
前記基板は、合成石英ガラスからなることを特徴とする請求項１に記載のマスクブランク用基板の製造方法。
【請求項３】
前記火炎は、１６００℃以上の燃焼温度であることを特徴とする請求項１又は２に記載のマスクブランク用基板の製造方法。
【請求項４】
前記火炎を接触させる工程は、前記基板の主表面を軟化させ、前記基板の主表面近傍に存在する内部クラックを除去することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のマスクブランク用基板の製造方法。
【請求項５】
前記火炎を接触させる工程は、前記研削が行われた前記基板の主表面に対して、局所的に火炎を照射しつつ、前記主表面の全面を走査することによって行われることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のマスクブランク用基板の製造方法。
【請求項６】
前記火炎を接触させる工程が行われた前記基板の主表面に対してエッチング処理を行うことで欠陥を顕在化させる欠陥顕在化工程を有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載のマスクブランク用基板の製造方法。
【請求項７】
前記研磨を行う工程は、前記基板の主表面に対するコロイダルシリカ砥粒を用いた研磨が行われる工程であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載のマスクブランク用基板の製造方法。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載のマスクブランク用基板の製造方法で製造されたマスクブランク用基板の主表面上にパターン形成用の薄膜を成膜する工程を有することを特徴とするマスクブランクの製造方法。
【請求項９】
請求項８に記載のマスクブランクの製造方法で製造されたマスクブランクのパターン形成用の薄膜に転写パターンを形成する工程を有することを特徴とする転写用マスクの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月10日(2014.11.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
選択可能な待機領域内の１つまたは複数の軌道により規定され、複数の直線レグ（１０８、１１２、１２８、１３０）および複数の旋回レグ（１１０、１２４、１２６）を含む実質的に楕円形のトラックを含むホールディングパターン（１０２）中で飛行する航空機（１０６）に対する待機経路を自動的に生成するための待機経路計算システムであって、
前記航空機が、前記待機経路を離れるべき時間を指示する待機離脱時刻を受信し、
前記ホールディングパターン内の前記航空機の現在位置を決定し、
現在の待機軌道を完了するための時間量を決定し、
現在の待機軌道を完了するための前記決定された時間量が、前記待機離脱時刻までに残された時間に満たない場合、前記航空機は前記ホールディングパターン中での飛行を維持し、
前記待機離脱時刻に前記ホールディングパターンを出るように次の軌道を短縮するための時間量を決定し、
新しいホールディングパターン直線レグ時間に前記航空機（１０６）の速度を積算して、新しいホールディングパターン直線レグ距離を決定する、
ように構成されたプロセッサ（３０４）を備える、システム。
【請求項２】
前記待機離脱時刻が、選択可能なウェイポイントにおける必要な到着時刻（ＲＴＡ）に間に合うように計算される、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記プロセッサ（３０４）が、前記現在の待機軌道を完了するための前記時間と、前記待機離脱時刻との間の差を決定するようにさらに構成される、請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
前記プロセッサ（３０４）が、現在のホールディングパターン直線レグ時間を用いて、いくつかの複数の直線レグにより分割された次の軌道を短縮するための時間量未満の新しいホールディングパターン直線レグ時間を決定するようにさらに構成される、請求項１に記載のシステム。
【請求項５】
第１の新しいホールディングパターン直線レグ距離が、最小の許容可能な直線レグ距離（１３４）未満である場合、前記プロセッサ（３０４）は、複数の軌道に対する複数のホールディングパターン直線レグ距離に対して調整を行う決定をするようにさらに構成される、請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
前記プロセッサ（３０４）が、
前記複数の軌道の第１のものに対するホールディングパターン（１０２）直線レグ距離を、最小の許容可能な直線レグ距離（１３４）に設定し、かつ
前記航空機（１０６）の速度が乗算された新しいホールディングパターン直線レグ時間を用いて、前記複数の軌道の第２のものに対するホールディングパターン直線レグ距離を決定する、
ようにさらに構成される、請求項５に記載のシステム。
【請求項７】
前記プロセッサ（３０４）が、複数の軌道に対する前記ホールディングパターン（１０２）直線レグ距離を、最小の許容可能な直線レグ距離（１３４）と、前記航空機（１０６）の速度が乗算された新しいホールディングパターン直線レグ時間を用いて決定されたホールディングパターン直線レグ距離との平均に設定するようにさらに構成される、請求項５に記載のシステム。
【請求項８】
第１の新しいホールディングパターン（１０２）の直線レグ距離が、最小の許容可能な直線レグ距離（１３４）に等しい場合、前記プロセッサ（３０４）は、前記第１の新しいホールディングパターン（１０２）の直線レグ距離を、前記最小の許容可能な直線レグ距離と等しくすべく調整するようにさらに構成される、請求項５に記載のシステム。
【請求項９】
ａ）選択可能な待機領域内で１つまたは複数の軌道により規定され、複数の直線レグ（１０８、１１２、１２８、１３０）および複数の旋回レグ（１１０、１２４、１２６）を含む実質的に楕円形のトラックを含むホールディングパターン（１０２）中で飛行する航空機（１０６）により、待機離脱時刻を受信するステップと、
ｂ）前記ホールディングパターン内の前記航空機の現在位置を決定すること、
ｃ）現在の待機軌道を完了するための時間量を決定するステップと、
ｄ）現在の待機軌道を完了するための前記決定された時間量が、前記待機離脱時刻までに残された時間に満たない場合、前記ホールディングパターン中の飛行を維持してステップｂ）に戻るステップと、
ｅ）前記待機離脱時刻に前記ホールディングパターンを出るように次の軌道を短縮するための時間量を決定するステップと、
ｆ）新しいホールディングパターン直線レグ時間に前記航空機（１０６）の速度を積算して、新しいホールディングパターン直線レグ距離を決定するステップと、
をプロセッサ（３０４）に実行させるコンピュータプログラムを含む非一時的なコンピュータ可読媒体。
【請求項１０】
前記現在の待機軌道を完了するための前記時間と、前記待機離脱時刻との間の差を決定することを前記プロセッサ（３０４）に実行させるコンピュータプログラムを含む、請求項９に記載の非一時的なコンピュータ可読媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月22日(2013.11.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エチレン系共重合体樹脂シートの押出成形用エンボス型ロールであって、
軸芯部の外周にシリコーンゴム層、接着層およびフッ素樹脂層が順次積層されてなり、かつ、算術平均粗さ（Ｒａ）が５．０μｍ以上であり、最大高さ粗さ（Ｒｚ）が２５〜４０μｍであることを特徴とする押出成形用エンボス型ロール。
【請求項２】
エンボス型が、凹凸の深さ・高さ、および分布が、規則性および一貫性がなく不均一である、請求項１に記載の押出成形用エンボス型ロール。
【請求項３】
前記シリコーンゴムのＪＩＳ  Ｋ  ６２５３  デュロメータ  タイプＡによるゴム硬度が３０〜８０である、請求項１または２に記載の押出成形用エンボス型ロール。
【請求項４】
前記フッ素樹脂層の厚みが０．３〜０．７ｍｍである、請求項１〜３のいずれか一項に記載の押出成形用エンボス型ロール。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の押出成形用エンボス型ロールを用いたエチレン系共重合体樹脂シートの製造方法であって、
前記エチレン系共重合体樹脂１００重量部に対して、添加剤の添加量が１〜３０重量部であることを特徴とするエチレン系共重合体樹脂シートの製造方法。
【請求項６】
請求項５に記載の製造方法により得られるエチレン系共重合体樹脂シートが太陽電池封止材として用いられるものであって、エンボス加工面の算術平均粗さ（Ｒａ）が１．２５〜５．０μｍ、最大高さ粗さ（Ｒｚ）が６．２５〜２０μｍであることを特徴とするエチレン系共重合体樹脂シート。
【請求項７】
エンボス加工面の凹凸の深さ・高さ、および分布が規則性および一貫性がなく不均一である、請求項６に記載のエチレン系共重合体樹脂シート。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は、かかる知見のもとでなし得たものであり、以下の構成を特徴とする。
（１）エチレン系共重合体樹脂シートの押出成形用エンボス型ロールであって、軸芯部の外周にシリコーンゴム層、接着層およびフッ素樹脂層が順次積層されてなり、かつ、算術平均粗さ（Ｒａ）が５．０μｍ以上であり、最大高さ粗さ（Ｒｚ）が２５〜４０μｍであることを特徴とする押出成形用エンボス型ロール。
（２）エンボス型が、凹凸深さや高さや分布が規則性や一貫性がなく不均一である、前記（１）に記載の押出成形用エンボス型ロール。
（３）前記シリコーンゴムのＪＩＳ Ｋ ６２５３ デュロメータ タイプＡによるゴム硬度が３０〜８０である、前記（１）または（２）に記載の押出成形用エンボス型ロール。
（４）前記フッ素樹脂層の厚みが０．３〜０．７ｍｍである、前記（１）〜（３）のいずれかに記載の押出成形用エンボス型ロール。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
（５）前記（１）〜（４）のいずれかに記載の押出成形用エンボス型ロールを用いたエチレン系共重合体樹脂シートの製造方法であって、
前記エチレン系共重合体樹脂１００重量部に対して、添加剤の添加量が１〜３０重量部であることを特徴とするエチレン系共重合体樹脂シートの製造方法。
（６）前記（５）に記載の製造方法により得られるエチレン系共重合体樹脂シートが太陽電池封止材として用いられるものであって、エンボス加工面の算術平均粗さ（Ｒａ）が１．２５〜５．０μｍ、最大高さ粗さ（Ｒｚ）が６．２５〜２０μｍである、エチレン系共重合体樹脂シート。
（７）エンボス加工面の凹凸の深さや高さや分布が規則性や一貫性がなく不均一である、（６）に記載のエチレン系共重合体樹脂シート。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月1日(2014.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
硬化性樹脂成分が、単官能エチレン性不飽和単量体（Ａ）、ウレタン基を含有しない多官能エチレン性不飽和単量体（Ｂ）、ウレタン基含有エチレン性不飽和単量体（Ｃ）および光重合開始剤（Ｄ）を含有してなる請求項１記載のモデル材。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
モデル材中の硬化性樹脂成分、すなわち、（Ａ）〜（Ｃ）のＳＰ値の加重平均値を１０．３以下に設計できる場合は、（Ａ）として、水溶性の単官能エチレン性不飽和単量体（Ａ２）を含有させることができる。本発明において、「水溶性」とは、水に対する溶解度（２５℃）が１（ｇ／水１００ｇ）以上であることを意味するものとする。
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月2日(2014.6.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スクリーン紗と、
前記スクリーン紗に、スウォード硬度５０以上であるウレタン樹脂が分散された水性ウレタンエマルションおよび着色剤を含有する樹脂組成物を塗布することにより形成された樹脂塗膜と、
を有することを特徴とするレーザ製版用スクリーン印刷用版。
【請求項２】
樹脂組成物が、さらに、カゼインを含有することを特徴とする請求項１記載のレーザ製版用スクリーン印刷用版。
【請求項３】
樹脂組成物が、さらに、水性カルボジイミドを含有することを特徴とする請求項１または２記載のレーザ製版用スクリーン印刷用版。
【請求項４】
樹脂組成物が、樹脂組成物全量に対して、着色剤を０．１〜２０重量％含有することを特徴とする請求項１〜３いずれか１項に記載のレーザ製版用スクリーン印刷用版。
【請求項５】
樹脂塗膜上にフィルムが積層されてなることを特徴とする請求項１〜４いずれか１項に記載のレーザ製版用スクリーン印刷用版。
【請求項６】
フィルムが、ポリイミド系フィルム、ポリエーテルイミド系フィルム、ポリアミド系フィルム、または、水性ウレタンエマルションおよび着色剤を含有する樹脂組成物から形成されてなるフィルム、であることを特徴とする請求項５記載のレーザ製版用スクリーン印刷用版。
【請求項７】
スクリーン紗に、水性ウレタンエマルションおよび着色剤を含有する樹脂組成物を塗布することにより、スクリーン紗に樹脂塗膜を形成することを特徴とするレーザ製版用スクリーン印刷用版の製造方法。
【請求項８】
スクリーン紗に、水性ウレタンエマルションおよび着色剤を含有する樹脂組成物を塗布することにより、スクリーン紗に樹脂塗膜を形成し、前記樹脂塗膜を接着剤として、前記樹脂塗膜上に、
ポリイミド系フィルム、ポリエーテルイミド系フィルム、ポリアミド系フィルム、および、水性ウレタンエマルションと着色剤とを含有する樹脂組成物から形成されてなるフィルムからなる群より選ばれるフィルムを接着させることを特徴とするレーザ製版用スクリーン印刷用版の製造方法。
【請求項９】
請求項１〜６いずれか１項に記載のレーザ製版用スクリーン印刷用版にレーザ光を照射することにより、樹脂塗膜、または、前記フィルムおよび樹脂塗膜に所定パターンの開口を形成することを特徴とするスクリーン印刷版の製造方法。
【請求項１０】
請求項９記載のスクリーン印刷版の製造方法により製造されたスクリーン印刷版。
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月14日(2013.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の上に、第１電極と、第２電極と、前記第１電極と前記第２電極との間に配置される発光層を有する有機化合物層と、を有し、前記第２電極から光が取り出される有機ＥＬ素子であって、
前記第２電極が、前記基板側から第１金属層と、前記第１金属層に接する第２金属層と、を順に有し、
前記第２金属層は、Ａｇを含み、膜厚が５．０ｎｍ以上２０ｎｍ以下である金属層であり、
前記第１金属層は、ＭｇとＡｇとを有し、膜厚が１．０ｎｍ以上５．０ｎｍ以下である金属層であることを特徴とする有機ＥＬ素子。
【請求項２】
前記ＭｇとＡｇとを有する金属層におけるＡｇの体積比率が、０体積％より大きく８０体積％以下であることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ素子。
【請求項３】
前記ＭｇとＡｇとを有する金属層におけるＡｇの体積比率が、５体積％以上５０体積％以下であることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ素子。
【請求項４】
前記ＭｇとＡｇとを有する金属層におけるＡｇの体積比率が、３０体積％以上５０体積％以下であることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ素子。
【請求項５】
前記ＭｇとＡｇとを有する金属層におけるＡｇの重量比率が、０．０重量％より大きく９６．０重量％以下であることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ素子。
【請求項６】
前記ＭｇとＡｇとを有する金属層におけるＡｇの重量比率が、２４．１重量％以上８５．８重量％以下であることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ素子。
【請求項７】
前記ＭｇとＡｇとを有する金属層におけるＡｇの重量比率が、７２．１重量％以上８５．８重量％以下であることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ素子。
【請求項８】
前記第１金属層の膜厚が、１．０ｎｍ以上２．０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の有機ＥＬ素子。
【請求項９】
有機ＥＬ素子を有する複数の画素と、前記画素の発光を制御する制御手段と、を有する発光装置であって、
前記有機ＥＬ素子が、請求項１乃至８のいずれか１項に記載の有機ＥＬ素子であることを特徴とする発光装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の発光装置において、前記複数の画素は、赤色発光画素と緑色発光画素と青色発光画素とを含むことを特徴とする発光装置。
【請求項１１】
請求項１乃至８のいずれか一項に記載の有機ＥＬ素子を有することを特徴とする照明装置。
【請求項１２】
請求項１乃至８のいずれか一項に記載の有機ＥＬ素子を有することを特徴とする露光装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月20日(2013.11.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像を構成する複数のオブジェクトのそれぞれを表すベクタデータを処理する情報処理装置であって、
前記ベクタデータを、それぞれのオブジェクトに展開する処理を伴う処理時間を取得する取得手段と、
前記取得手段で取得された処理時間に基づいて、前記複数のオブジェクトのそれぞれを表すベクタデータを用いて前記画像を再現する時間を特定する特定手段と、
前記特定手段で特定された時間が所定の閾値を超過するオブジェクトについて、当該オブジェクトのアニメーションの種類と、前記取得手段で取得された各処理時間と、前記特定手段で特定された時間と、前記所定の閾値とに基づいて、前記複数のオブジェクトを表すベクタデータうち、予めラスタ形式のデータに変換するかを決定する決定手段と、
を備えることを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
前記取得手段は、前記処理時間として、前記ベクタデータを読み込んでから表示手段にオブジェクトを表示可能な状態に変換するまでの時間を取得することを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記取得手段は、前記処理時間として、前記ベクタデータを読み込んでから表示手段の設定された位置にオブジェクトを表示可能な状態に変換するまでの時間を取得することを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記取得手段は、前記処理時間として、前記ベクタデータを読み込んでから表示手段の設定された位置にオブジェクトを表示可能な状態に変換するまでの最大の処理時間を取得することを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記特定手段は、前記再現する時間として、前記画像を構成する複数のオブジェクトを表すベクタデータを読み込んでから表示手段の所定の位置に所定の大きさで前記オブジェクトそれぞれを表示可能な状態に変換するまでの時間を特定することを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項６】
前記決定手段は、前記再現する時間が前記所定の閾値以内であり、かつ予めラスタ形式のデータに変換するベクタデータの個数が少なくなるよう、前記複数のオブジェクトを表すベクタデータうち、予めラスタ形式のデータに変換するものを決定することを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項７】
前記決定手段は、前記複数のオブジェクトを表すベクタデータうち、前記処理時間が長いオブジェクトを表すベクタデータから順に、予めラスタ形式のデータに変換するデータとして決定することを特徴とする請求項６に記載の情報処理装置。
【請求項８】
前記決定手段は、前記複数のオブジェクトを表すベクタデータうちの少なくとも一部については、前記処理時間が長いオブジェクトを表すベクタデータから順に、予めラスタ形式のデータに変換するデータとして決定することを特徴とする請求項６に記載の情報処理装置。
【請求項９】
更に、前記決定手段で決定されたベクタデータから変換されたラスタ形式のデータと、前記決定手段で決定されなかったベクタデータとから、前記画像を表すデータを構成するデータを生成する生成手段と、
前記生成手段で生成されたデータを保持する保持手段と、
を備えることを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項１０】
取得手段と、特定手段と、決定手段とを備え、画像を構成する複数のオブジェクトのそれぞれを表すベクタデータを処理する情報処理装置の動作方法であって、
前記取得手段が、前記ベクタデータを、それぞれのオブジェクトに展開する処理を伴う処理時間を取得する取得工程と、
前記特定手段が、前記取得工程で取得された処理時間に基づいて、前記複数のオブジェクトのそれぞれを表すベクタデータを用いて前記画像を再現する時間を特定する特定工程と、
前記決定手段が、前記特定工程で特定された時間が所定の閾値を超過するオブジェクトについて、当該オブジェクトのアニメーションの種類と、前記取得工程で取得された各処理時間と、前記特定工程で特定された時間と、前記所定の閾値とに基づいて、前記複数のオブジェクトを表すベクタデータうち、予めラスタ形式のデータに変換するかを決定する決定工程と、
を備えることを特徴とする動作方法。
【請求項１１】
請求項１０に記載の動作方法をコンピュータに実行させるためのプログラムを記憶したコンピュータで読み取り可能な記憶媒体。
【請求項１２】
画像を構成する複数のオブジェクトのそれぞれを表すベクタデータを処理する情報処理装置であって、
前記ベクタデータを、それぞれのオブジェクトに展開する処理を伴う処理時間を取得する取得手段と、
前記取得手段で取得された処理時間に基づいて、前記複数のオブジェクトのそれぞれを表すベクタデータを用いて前記画像を再現する時間を特定する特定手段と、
前記特定手段で特定された時間が所定の閾値を超過するオブジェクトについて、当該オブジェクトをラスタ形式のデータに変換した場合のデータサイズと、前記取得手段で取得された各処理時間と、前記特定手段で特定された時間と、前記所定の閾値とに基づいて、前記複数のオブジェクトを表すベクタデータうち、予めラスタ形式のデータに変換するかを決定する決定手段と、
を備えることを特徴とする情報処理装置。
【請求項１３】
取得手段と、特定手段と、決定手段とを備え、画像を構成する複数のオブジェクトのそれぞれを表すベクタデータを処理する情報処理装置の動作方法であって、
前記取得手段が、前記ベクタデータを、それぞれのオブジェクトに展開する処理を伴う処理時間を取得する取得工程と、
前記特定手段が、前記取得工程で取得された処理時間に基づいて、前記複数のオブジェクトのそれぞれを表すベクタデータを用いて前記画像を再現する時間を特定する特定工程と、
前記決定手段が、前記特定工程で特定された時間が所定の閾値を超過するオブジェクトについて、当該オブジェクトをラスタ形式のデータに変換した場合のデータサイズと、前記取得工程で取得された各処理時間と、前記特定工程で特定された時間と、前記所定の閾値とに基づいて、前記複数のオブジェクトを表すベクタデータうち、予めラスタ形式のデータに変換するかを決定する決定工程と、
を備えることを特徴とする動作方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載の動作方法をコンピュータに実行させるためのプログラムを記憶したコンピュータで読み取り可能な記憶媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記の目的を達成する本発明に係る情報処理装置は、
画像を構成する複数のオブジェクトのそれぞれを表すベクタデータを処理する情報処理装置であって、
前記ベクタデータを、それぞれのオブジェクトに展開する処理を伴う処理時間を取得する取得手段と、
前記取得手段で取得された処理時間に基づいて、前記複数のオブジェクトのそれぞれを表すベクタデータを用いて前記画像を再現する時間を特定する特定手段と、
前記特定手段で特定された時間が所定の閾値を超過するオブジェクトについて、当該オブジェクトのアニメーションの種類と、前記取得手段で取得された各処理時間と、前記特定手段で特定された時間と、前記所定の閾値とに基づいて、前記複数のオブジェクトを表すベクタデータうち、予めラスタ形式のデータに変換するかを決定する決定手段と、
を備えることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成26年1月29日(2014.1.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
部品の検討対象フィーチャの幾何学的公差上の制約をグラフィック描写する方法であって、
部品の幾何学的寸法と公差に関する情報に基づいて、部品の検討対象フィーチャの公差ゾーンを含んで、ディスプレイ装置に部品をグラフィック表示する工程と、
ディスプレイ装置上で、公差ゾーンを部品に対して複数の自由度で動かす工程と、
を備えた方法。
【請求項２】
上記自由度が、ｘ、ｙ、ｚ軸に沿ったそれぞれの平行移動とｘ、ｙ、ｚ軸を中心としたそれぞれの回転によって定義される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
上記動かす工程が、上記公差ゾーンを上記部品に対して上記ｘ、ｙ、ｚ軸の１つ以上に沿って平行移動すること、および、上記公差ゾーンを上記部品に対して上記ｘ、ｙ、ｚ軸の１つ以上を中心として回転させることを含む、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
上記グラフィック表示する工程が上記検討対象フィーチャと関連した複数の公差ゾーンをグラフィック表示することを含み、上記動かす工程が、複数の公差ゾーンを上記複数の自由度で動かすことを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
上記グラフィック表示する工程が上記検討対象フィーチャを上記検討対象フィーチャの公差ゾーンとともにディスプレイ装置にグラフィック表示することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
上記公差ゾーンのグラフィック表示が、上記検討対象フィーチャのグラフィック表示面からオフセットしたオフセット表面を含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
上記検討対象フィーチャのグラフィック表示に対する上記オフセット表面のオフセットが上記検討対象フィーチャに関連した公差を表わす、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
第1参照データムを追加する工程を含み、この第1参照データムに関して上記検討対象フィーチャが許容され、この第1参照データムは上記ディスプレイ装置に、上記グラフィック表示された部品に重なる第1データムシミュレータとしてグラフィックの形態で表示される、請求項２に記載の方法。
【請求項９】
上記第1参照データムが上記公差ゾーンを動かす上記自由度の一部を制約し、上記動かす工程が、上記第1参照データムにより制約されなかった自由度で、上記公差ゾーンを上記ディスプレイ装置上で部品に対して動かすことを含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
上記動かす工程が、上記第1データムシミュレータを上記公差ゾーンと一緒に動かすことを含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
上記第1参照データムの位置および方向を表す三方軸を表示する工程と、この三方軸を上記公差ゾーンの動きとともに動かす工程とをさらに備えた、請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
上記第1参照データムが、表面、軸、エッジの１つである、請求項９に記載の方法。
【請求項１３】
上記第1参照データムが、平面の形態での上記第1データムシミュレータとして上記ディスプレイ装置上に描写された平坦面であり、この平坦面の参照データムが、上記公差ゾーンの動きをｘ、ｙ軸に沿った平行移動およびｚ軸を中心とした回転に制約する、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
上記平坦面の参照データムが上記部品の意図する面に対応する、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
第２参照データムを追加する工程を含み、この第２参照データムに関して上記検討対象フィーチャが許容され、この第２参照データムは上記ディスプレイ装置に、上記グラフィック表示された部品に重なる第２データムシミュレータとしてグラフィックの形態で表示される、請求項９に記載の方法。
【請求項１６】
上記第２参照データムが、上記第1参照データムによって制約されない上記自由度の１つ以上を制約する、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
上記第1および第２参照データムによって制約されない自由度で、上記公差ゾーンを上記部品に対して上記ディスプレイ装置上でさらに動かす工程を含む、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
上記動かす工程が、上記第1データムシミュレータを上記公差ゾーンと一緒に、上記第1参照データムによって制約されない自由度で動かすことを含み、
上記さらに動かす工程が、上記第２データムシミュレータを上記公差ゾーンと一緒に、上記第1および第２参照データムによって制約されない自由度で動かすことを含む、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
上記第1および第２参照データムの少なくとも一方の位置および方向を表す三方軸を表示する工程と、この三方軸を上記公差ゾーンの動きとともに動かす工程とをさらに備えた、請求項１７に記載の方法。
【請求項２０】
上記第1参照データムが、平面の形態での上記第1データムシミュレータとして上記ディスプレイ装置上に描写された平坦面であり、この平坦面の参照データムが、上記公差ゾーンの動きをｘ、ｙ軸に沿った平行移動およびｚ軸を中心とした回転に制約し、上記第２参照データムが、円筒の形態での上記第２データムシミュレータとして上記ディスプレイ装置上に描写された円筒面であり、この円筒面の参照データムが、上記公差ゾーンのさらなる動きをｚ軸を中心とした回転に制約する、請求項１７に記載の方法。
【請求項２１】
上記検討対象フィーチャの特徴を定義したフィーチャコントロールフレームを表示する工程を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項２２】
上記フィーチャコントロールフレーム内の材料条件修飾子の変化に従って上記公差ゾーンの描写を変える工程を含む、請求項２１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月11日(2013.12.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置及びその作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ゲート電極と、ゲート絶縁膜と、酸化物半導体層と、を有する半導体装置であって、
前記酸化物半導体層の上方の絶縁層と、を有し、
前記酸化物半導体層は、表面と略垂直な方向にｃ軸が配向する結晶領域を有し、
前記絶縁層は、水素と、窒素とを、含んでおり、
前記酸化物半導体層は、水素を含んでいることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
ゲート電極と、ゲート絶縁膜と、酸化物半導体層と、を有する半導体装置の作製方法であって、
前記酸化物半導体層に第１の加熱処理を行い、表面と略垂直な方向にｃ軸が配向する結晶領域を形成し、
前記酸化物半導体層の上方に、水素と、窒素と、を含む絶縁層を形成し、
前記酸化物半導体層及び前記絶縁層に第２の加熱処理を行い、前記絶縁層から前記酸化物半導体層の方向へ水素を拡散させることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年3月25日(2014.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入力されたオーディオ信号を出力するヘッドホン装置において、
内部が空洞の形状を成し、前方に前後に貫通する孔を備える凸部を備えるハウジングと、
前記ハウジングの内壁にそれぞれ固定され入力したオーディオ信号を放音する振動板をそれぞれ有する第１のドライバーユニット及び第２のドライバーユニットとを備え、
前記第１のドライバーユニット及び前記第２のドライバーユニットは、前記第１のドライバーユニット及び前記第２のドライバーユニットをそれぞれ駆動させた場合、前記第１のドライバーユニット及び前記第２のドライバーユニットをそれぞれ単体で駆動させた状態で放出される磁束密度より増大した磁束密度となるようにそれぞれの前記振動板が互いに対向するよう並行に配設されていることを特徴とするヘッドホン装置。
【請求項２】
入力されたオーディオ信号を出力するヘッドホン装置において、
内部が空洞の形状を成し、前方に前後に貫通する孔を備える凸部を備えるハウジングと、
前記ハウジングの内壁にそれぞれ固定され入力したオーディオ信号を放音する振動板をそれぞれ有する第１のドライバーユニット及び第２のドライバーユニットとを備え、
前記第１のドライバーユニット及び前記第２のドライバーユニットは、前記第１のドライバーユニット及び前記第２のドライバーユニットをそれぞれ駆動させた場合、前記第１のドライバーユニット及び前記第２のドライバーユニットをそれぞれ単体で駆動させた状態で放出される磁束密度より増大した磁束密度となるようにそれぞれの前記振動板が互いに対向すると共に当該それぞれの振動板が予め定めた角度だけ傾斜して配設されていることを特徴とするヘッドホン装置。
【請求項３】
請求項１または２記載のヘッドホン装置において、
前記第１のドライバーユニットの前記振動板から前記第２のドライバーユニットの前記振動板までの距離は、略２ｍｍであることを特徴とするヘッドホン装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載のヘッドホン装置において、
前記貫通する孔は、前記第１のドライバーユニット及び前記第２のドライバーユニットに対して略垂直となる位置に配設されることを特徴とするヘッドホン装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本願の請求項１記載の発明は、入力されたオーディオ信号を出力するヘッドホン装置において、内部が空洞の形状を成し、前方に前後に貫通する孔を備える凸部を備えるハウジングと、前記ハウジングの内壁にそれぞれ固定され入力したオーディオ信号を放音する振動板をそれぞれ有する第１のドライバーユニット及び第２のドライバーユニットとを備え、前記第１のドライバーユニット及び前記第２のドライバーユニットは、前記第１のドライバーユニット及び前記第２のドライバーユニットをそれぞれ駆動させた場合、前記第１のドライバーユニット及び前記第２のドライバーユニットをそれぞれ単体で駆動させた状態で放出される磁束密度より増大した磁束密度となるようにそれぞれの前記振動板が互いに対向するよう並行に配設されていることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本願の請求項２記載の発明は、入力されたオーディオ信号を出力するヘッドホン装置において、内部が空洞の形状を成し、前方に前後に貫通する孔を備える凸部を備えるハウジングと、前記ハウジングの内壁にそれぞれ固定され入力したオーディオ信号を放音する振動板をそれぞれ有する第１のドライバーユニット及び第２のドライバーユニットとを備え、前記第１のドライバーユニット及び前記第２のドライバーユニットは、前記第１のドライバーユニット及び前記第２のドライバーユニットをそれぞれ駆動させた場合、前記第１のドライバーユニット及び前記第２のドライバーユニットをそれぞれ単体で駆動させた状態で放出される磁束密度より増大した磁束密度となるようにそれぞれの前記振動板が互いに対向すると共に当該それぞれの振動板が予め定めた角度だけ傾斜して配設されていることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
本実施例のヘッドホン装置１は、第１のドライバーユニット７ａと第２のドライバーユニット７ｂをそれぞれ振動板７０２が対向するように配設する構成としたが、この配設に限られず、例えば、第１のドライバーユニット７ａの振動板７０２とは反対の背面と第２のドライバーユニット７ｂの振動板７０２とは反対の背面が対向するように配設しても良い。このことにより、第１のドライバーユニット７ａの磁気回路の部分と第２のドライバーユニット７ｂの磁気回路の部分との距離を更に近づけることができるため、それぞれのドライバーユニットから放出される磁界が互いに作用し合ってそれぞれのドライバーユニットから放出される磁束密度の更に増大させることができ、この磁束密度の更なる増大により、更に高感度で高音質なオーディオ信号を省電力で放音させることができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
１  ヘッドホン装置、２ ハウジング、２０２ 凸部、２０３ 溝部、
２０４ 孔、２０５ 孔、
４ イヤーパッド、４０１ 孔、４０２ 鍔部、５ ブッシュ、５０３ 孔、
６ ケーブル、６０２ リード線、
７ａ 第１のドライバーユニット、７ｂ 第２のドライバーユニット、
７０１ フレーム、７０２ 振動板、７０３ ボイスコイル、７０４ マグネット、
７０５ サスペンション、
８ 入力端子、９ 空間、１０ 再生装置、１１ 出力端子、
１００ ヘッドホン装置、２００ ハウジング、３００ 前部
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月12日(2014.9.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記目的を達成するため、本発明の一態様の撮像装置は、表示手段と、被写体を連続して撮像して、複数の画像データを順次出力する撮像手段と、前記撮像手段により順次出力された複数の画像データを合成する合成手段と、前記合成手段により合成された複数の画像データに対応する複数の画像を、前記撮像手段により所定の撮像方向で連続して撮像すべき範囲とともに前記表示手段に表示させる第１の表示制御手段と、前記撮像手段による撮像中における本撮像装置の移動に関する情報を取得する取得手段と、前記取得手段により取得された移動に関する情報に基づいて、前記第１の表示制御手段により前記表示手段に表示された前記複数の画像と前記撮像すべき範囲との相対的な位置関係を変化させるように、前記複数の画像と前記撮像すべき範囲とを前記表示手段に表示させる第２の表示制御手段と、を備えたことを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示手段と、
被写体を連続して撮像して、複数の画像データを順次出力する撮像手段と、
前記撮像手段により順次出力された複数の画像データを合成する合成手段と、
前記合成手段により合成された複数の画像データに対応する複数の画像を、前記撮像手段により所定の撮像方向で連続して撮像すべき範囲とともに前記表示手段に表示させる第１の表示制御手段と、
前記撮像手段による撮像中における本撮像装置の移動に関する情報を取得する取得手段と、
前記取得手段により取得された移動に関する情報に基づいて、前記第１の表示制御手段により前記表示手段に表示された前記複数の画像と前記撮像すべき範囲との相対的な位置関係を変化させるように、前記複数の画像と前記撮像すべき範囲とを前記表示手段に表示させる第２の表示制御手段と、
を備えることを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記取得手段は、前記一方向とは直交する方向における本撮像装置の移動に関する情報を取得し、
前記第２の表示制御手段は、前記複数の画像と前記撮像すべき範囲との前記直交方向における相対的な位置関係を変化させるように、前記複数の画像と前記撮像すべき範囲とを前記表示手段に表示させることを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記撮像すべき範囲の外側の前記撮像方向と直交する方向の所定の領域を、前記撮像すべき範囲の移動可能領域として設定する移動領域設定手段とを更に備え、
前記第２の表示制御手段は、前記移動可能領域まで、前記複数の画像のうちの最新の画像の位置に前記撮像すべき範囲の位置を前記直交する方向に追従するように前記表示手段に表示させる一方、前記移動可能領域を限度に、前記複数の画像のうちの最新の画像の位置に前記撮像すべき範囲の位置を前記直交する方向に追従しないように前記表示手段に表示させることで、本撮像装置の移動方向が所定の移動方向から外れたことを報知する、
ことを特徴とする請求項２に記載の撮像装置。
【請求項４】
前記撮像手段により撮像される画像のうち、前記取得手段により取得された前記撮像方向と直交する方向の移動量が前記移動可能領域を超える撮像時に撮像された画像を合成することなく、前記取得手段により取得した前記撮像方向と直交する方向の移動量が前記移動可能領域を超えない画像を合成する合成手段を更に備えることを特徴とする請求項４に記載の撮像装置。
【請求項５】
前記取得手段が前記移動可能領域を超える前記移動量を所定時間継続して取得することを条件に、前記連続的な撮像を終了するエラー制御手段、
を備えることを特徴とする請求項４又は５に記載の撮像装置。
【請求項６】
撮像装置が実行する画像処理方法であって、
撮像手段により順次出力された複数の画像データを合成する合成ステップと、
前記撮像手段により順次出力された画像データに対応する複数の画像を、前記撮像手段により所定の撮像方向で連続して撮像すべき範囲とともに表示手段に表示させる第１の表示制御ステップと、
前記撮像手段による撮像中における撮像装置の移動に関する情報を取得する取得ステップと、
前記取得ステップにより取得された移動に関する情報に基づいて、前記第１の表示制御ステップにより前記表示手段に表示された前記複数の画像と前記撮像すべき範囲との相対的な位置関係を変化させるように、前記複数の像と前記撮像すべき範囲とを前記表示手段に表示させる第２の表示制御手段
を含むことを特徴とする画像処理方法。
【請求項７】
コンピュータを、
撮像手段により順次出力された複数の画像データを合成する合成手段、
前記撮像手段により順次出力された画像データに対応する複数の画像を、前記撮像手段により所定の撮像方向で連続して撮像すべき範囲とともに前記表示手段に表示させる第１の表示制御手段、
前記撮像手段による撮像中における撮像装置の移動に関する情報を取得する取得手段、
前記取得手段により取得された移動に関する情報に基づいて、前記第１の表示制御手段により前記表示手段に表示された前記複数の画像と前記撮像すべき範囲との相対的な位置関係を変化させるように、前記複数の画像と前記撮像すべき範囲とを前記表示手段に表示させる第２の表示制御手段、
として機能させることを特徴とするプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月22日(2014.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
色及び種類の異なる複数の画像情報を取得する取得部と、
前記取得部で取得される複数の画像情報の中から、特定の色及び種類の画像情報を選択する情報選択部と、
前記情報選択部で選択された画像情報を累積加算して記憶する累積記憶部と、
前記累積記憶部で累積加算された画像情報の平均値を取得する平均値取得部と、
前記平均値取得部で取得された画像情報の平均値を色別に記憶する色別記憶部と、
前記取得部で取得された画像情報の種類に応じて、対象画像のシェーディング補正が行われるように演算を行うと共に、補正情報又は補正済み画像情報が記憶されるように前記情報選択部、前記累積記憶部、前記平均値取得部及び前記色別記憶部の各々を制御する演算制御部と、
を備える画像補正装置。
【請求項２】
前記演算制御部が、
前記取得部で補正情報を生成するための基準情報を取得した場合には、前記情報選択部で前記基準情報が選択されて、前記平均値取得部で取得された画像情報の平均値が補正情報として記憶されるように、前記情報選択部、前記累積記憶部、前記平均値取得部及び前記色別記憶部の各々を制御する第１の制御を行う、
請求項１に記載の画像補正装置。
【請求項３】
前記演算制御部が、
前記取得部で補正対象となる対象情報を取得した場合には、前記色別記憶部に記憶された補正情報を用いて前記対象情報を補正する演算を行うと共に、前記情報選択部で補正済みの画像情報が選択されて、前記平均値取得部で取得された画像情報の平均値が補正済み画像情報として記憶されるように、前記情報選択部、前記累積記憶部、前記平均値取得部及び前記色別記憶部の各々を制御する第２の制御を更に行う、
請求項１又は請求項２に記載の画像補正装置。
【請求項４】
前記演算制御部が、
前記取得部で補正情報を生成するための基準情報を取得した場合には、前記情報選択部で前記基準情報が選択されて、前記平均値取得部で取得された画像情報の平均値が補正情報として記憶されるように、前記情報選択部、前記累積記憶部、前記平均値取得部及び前記色別記憶部の各々を制御する第１の制御を行い、前記取得部で補正対象となる対象情報を取得した場合には、前記色別記憶部に記憶された補正情報を用いて前記対象情報を補正する演算を行うと共に、前記情報選択部で補正済みの画像情報が選択されて、前記平均値取得部で取得された画像情報の平均値が補正済み画像情報として記憶されるように、前記情報選択部、前記累積記憶部、前記平均値取得部及び前記色別記憶部の各々を制御する第２の制御を行い、
前記第１の制御で補正情報が記憶された前記色別記憶部の領域に、前記第２の制御で取得された前記補正済み画像情報を上書き記憶する、請求項１に記載の画像補正装置。
【請求項５】
請求項１から請求項４までの何れか１項に記載の画像補正装置と、
物体から光学的に画像を読み取って前記画像補正装置に色及び種類の異なる複数の画像情報を出力する画像読取部と、
を備えた画像読取装置。
【請求項６】
請求項１から請求項４までの何れか１項に記載の画像補正装置と、
物体から光学的に画像を読み取って前記画像補正装置に色及び種類の異なる複数の画像情報を出力する画像読取部と、
前記画像補正装置によりシェーディング補正された補正済み画像情報に基づいて、媒体上に画像を形成する画像形成部と、
を備えた画像形成装置。
【請求項７】
色及び種類の異なる複数の画像情報を取得する取得部と、前記取得部で取得される複数の画像情報の中から、特定の色及び種類の画像情報を選択する情報選択部と、前記情報選択部で選択された画像情報を累積加算して記憶する累積記憶部と、前記累積記憶部で累積加算された画像情報の平均値を取得する平均値取得部と、前記平均値取得部で取得された画像情報の平均値を色別に記憶する色別記憶部と、を備えた画像補正装置を制御するプログラムであって、
コンピュータを、
前記取得部で取得された画像情報の種類に応じて、対象画像のシェーディング補正が行われるように演算を行うと共に、補正情報又は補正済み画像情報が記憶されるように前記情報選択部、前記累積記憶部、前記平均値取得部及び前記色別記憶部の各々を制御する演算制御部として機能させる、
プログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
請求項４に記載の発明は、前記演算制御部が、前記取得部で補正情報を生成するための基準情報を取得した場合には、前記情報選択部で前記基準情報が選択されて、前記平均値取得部で取得された画像情報の平均値が補正情報として記憶されるように、前記情報選択部、前記累積記憶部、前記平均値取得部及び前記色別記憶部の各々を制御する第１の制御を行い、前記取得部で補正対象となる対象情報を取得した場合には、前記色別記憶部に記憶された補正情報を用いて前記対象情報を補正する演算を行うと共に、前記情報選択部で補正済みの画像情報が選択されて、前記平均値取得部で取得された画像情報の平均値が補正済み画像情報として記憶されるように、前記情報選択部、前記累積記憶部、前記平均値取得部及び前記色別記憶部の各々を制御する第２の制御を行い、前記第１の制御で補正情報が記憶された前記色別記憶部の領域に、前記第２の制御で取得された前記補正済み画像情報を上書き記憶する、請求項１に記載の画像補正装置である。
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月19日(2014.9.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
従来の技術として、撮影時に顔識別が出来なかった画像や顔識別機能を利用しなかった画像について、再度顔検出を行うことにより画像中の人物の分類を行う技術が知られている（例えば特許文献１参照）。該従来技術は、顔識別が出来なかった画像や顔識別機能を利用しなかった画像について再度の顔検出を行い、新たに検出された顔の人物を既存の所定の人物として関連付けて記録することや新規の人物として関連付けて記録するというものである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
顔画像は、登録時、あるいは前もって撮影されたその被写体の顔画像であり、顔を特徴付ける（個人識別可能とする）顔特徴情報（簡易な顔特徴情報、及び詳細な顔特徴情報）の抽出に用いられるとともに、個人情報の登録時などに特定の被写体を指定する際のサムネイルとして用いられる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
簡易な顔特徴情報は、顔画像が登録された時点で抽出、登録され、撮影時の被写体を特定するために用いられる。詳細な顔特徴情報は、顔画像が登録された時点で抽出、登録され、撮像後の画像に特定の人物が存在するか判別するために用いられる。優先度は、１＜２＜３＜４＜５の順となっており、優先度が高い被写体ほど優先してメイン被写体と認識される。なお、優先度は重複しても良い。また、当該装置に登録されていない被写体の優先度は最低レベル「１」、もしくはそれ以下として判断する。解析フラグは、特定の人物を指定するために用いられ、「ＯＮ」で指定、「ＯＦＦ」で無指定となる。
【手続補正書】
【提出日】平成26年8月29日(2014.8.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
振動片と、
電子素子と、
第１主面、および前記第１主面の反対側であって凹状の収納部を有している第２主面を備え、前記第１主面側に前記振動片が搭載され、前記収納部に前記電子素子が収納されており、前記第２主面側に設けられている複数の電極端子を備えている容器体と、
を備え、
前記第２主面側における前記電極端子と前記収納部との間には、前記電極端子と外部部材とを接合する接合部材の前記収納部への侵入を規制する規制部が設けられており、
厚さ方向の断面において、前記規制部は、前記第２主面側における前記電極端子が設けられている面とは高さが異なる面を含んで構成されていることを特徴とする振動デバイス。
【請求項２】
請求項１に記載の振動デバイスにおいて、
前記規制部は、前記電極端子が設けられている面よりも前記第１主面側に下がっている面を含んで構成されていることを特徴とする振動デバイス。
【請求項３】
請求項２に記載の振動デバイスにおいて、
前記規制部は、前記下がっている面が平面視で前記収納部を取り巻くように設けられていることを特徴とする振動デバイス。
【請求項４】
請求項１に記載の振動デバイスにおいて、
前記規制部は、前記電極端子が設けられている面よりも前記外部部材側に上がっている面を含んで構成されていることを特徴とする振動デバイス。
【請求項５】
請求項４に記載の振動デバイスにおいて、
前記規制部は、前記上がっている面が平面視で前記収納部を取り巻くように設けられていることを特徴とする振動デバイス。
【請求項６】
請求項１に記載の振動デバイスにおいて、
前記規制部は、前記第２主面側の一部を覆う被膜を含んで構成されていることを特徴とする振動デバイス。
【請求項７】
請求項６に記載の振動デバイスにおいて、
前記規制部は、前記被膜が平面視で前記収納部を取り巻くように設けられていることを特徴とする振動デバイス。
【請求項８】
請求項１ないし請求項７のいずれか一項に記載の振動デバイスにおいて、
前記電子素子は、サーミスターであることを特徴とする振動デバイス。
【請求項９】
請求項１ないし請求項７のいずれか一項に記載の振動デバイスにおいて、
前記電子素子は、前記振動片を駆動する発振回路を備えていることを特徴とする振動デバイス。
【請求項１０】
請求項９に記載の振動デバイスにおいて、
前記電子素子は、前記振動片の温度変化に伴う周波数変動を補正する温度補償回路を備えていることを特徴とする振動デバイス。
【請求項１１】
請求項１ないし請求項１０のいずれか一項に記載の振動デバイスにおいて、
前記第１主面側は、前記振動片を覆う金属製の蓋体により気密に封止され、複数の前記電極端子のいずれか１つは、前記蓋体と電気的に接続されていることを特徴とする振動デバイス。
【請求項１２】
請求項１１に記載の振動デバイスにおいて、
前記蓋体と電気的に接続されている前記電極端子は、アース端子であることを特徴とする振動デバイス。
【請求項１３】
請求項１ないし請求項１２のいずれか一項に記載の振動デバイスを備えたことを特徴とする電子機器。