Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月22日(2014.10.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は、上記目的を達成するために提案されたものであり、ノズル形成面に開口したノズルに連通する圧力室、該圧力室に液体を供給する共通液室が形成された基板、並びに該基板における共通液室のノズル形成面側の開口面を密封する可撓性フィルム、を有する液体噴射ヘッドと、
窪み状の封止空部を有し、該封止空部内に前記ノズル形成面を臨ませて封止可能な封止部材と、を備え、
該封止部材は、前記ノズル形成面の封止状態で前記可撓性フィルムの前記共通液室とは反対側の面のうち当該共通液室に対応する部分の全面を封止空部内に臨ませて封止可能に構成されたことを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明によれば、共通液室のノズル形成面側の開口面を可撓性フィルムで密封したため、共通液室の下側でコンプライアンスを付与することができる。また、ノズル形成面を封止する封止部材で可撓性フィルムも封止できるため、この封止した部分からの水分の蒸発を防止でき、すなわち共通液室からの水分の蒸発を防止でき、液体噴射ヘッド内の液体の増粘をより確実に抑制できる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、上記構成において、前記液体噴射ヘッドは、前記可撓性フィルムの前記共通液室とは反対側の面を覆った状態で保護すると共に、前記可撓性フィルムの前記共通液室に対応する部分のうち少なくとも一部に当該可撓性フィルムの可撓変形を阻害しない空間を設けた保護基板を備え、
前記封止部材は、前記保護基板の可撓性フィルムとは反対側の面側から、当該保護基板を含めて可撓性フィルムを前記封止空部内に臨ませた状態で封止可能であることが望ましい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ノズル形成面に開口したノズルに連通する圧力室、
該圧力室に液体を供給する共通液室が形成された基板、
並びに該基板における共通液室のノズル形成面側の開口面を密封する可撓性フィルム、を有する液体噴射ヘッドと、
窪み状の封止空部を有し、該封止空部内に前記ノズル形成面を臨ませて封止可能な封止部材と、を備え、
該封止部材は、前記ノズル形成面の封止状態で前記可撓性フィルムの前記共通液室とは反対側の面のうち当該共通液室に対応する部分の全面を封止空部内に臨ませて封止可能に構成されたことを特徴とする液体噴射装置。
【請求項２】
前記液体噴射ヘッドは、前記可撓性フィルムの前記共通液室とは反対側の面を覆った状態で保護すると共に、前記可撓性フィルムの前記共通液室に対応する部分のうち少なくとも一部に当該可撓性フィルムの可撓変形を阻害しない空間を設けた保護基板を備え、
前記封止部材は、前記保護基板の可撓性フィルムとは反対側の面側から、当該保護基板を含めて可撓性フィルムを前記封止空部内に臨ませた状態で封止可能であることを特徴とする請求項１に記載の液体噴射装置。
【請求項３】
前記保護基板は、前記可撓性フィルムの周囲を囲繞する壁部と、前記可撓性フィルムの前記共通液室とは反対側の面から離間した底部と、を備えたことを特徴とする請求項２に記載の液体噴射装置。
【請求項４】
前記保護基板は、前記可撓性フィルムに積層され、共通液室に対応する部分のうち少なくとも一部に開口を設けたことを特徴とする請求項２に記載の液体噴射装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月20日(2014.10.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体を噴射する液体噴射ヘッドに付着した前記液体を払拭するワイピング部材を搭載したワイパーカセットと、前記ワイパーカセットを着脱自在に且つ嵌合態様での装着可能に構成されたワイパーホルダーと、を備えたワイパーユニットであって、
前記ワイパーカセットは、前記ワイパーホルダーからの取り外し方向と交わる方向へ延在するように設けられる力点作用部と、前記取り外し方向および前記力点作用部が延在する方向に交わる方向に突出する突起と、前記ワイパーホルダーに装着された状態で固定する係止爪とを有し、
前記ワイパーホルダーは、前記突起を前記取り外し方向にガイドする係合部と、前記係止爪と係止する孔とを有し、
前記取り外し方向及び前記突起の突出方向と交わる方向において、前記力点作用部と前記係止爪の間に前記突起が位置することを特徴とするワイパーユニット。
【請求項２】
請求項１に記載のワイパーユニットにおいて、
前記取り外し方向において、前記力点作用部と前記係止爪の間に前記突起が位置することを特徴とするワイパーユニット。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載のワイパーユニットにおいて、
前記取り外し方向において、前記力点作用部は、前記係止爪よりも前記取り外し方向側に位置することを特徴とするワイパーユニット。
【請求項４】
請求項１〜請求項３の内いずれか一項に記載のワイパーユニットにおいて、
前記ワイピング部材は長尺状であり、
前記ワイパーカセットは、
前記ワイピング部材の長手方向の一端を巻装する繰り出しローラーと、
前記ワイピング部材の長手方向の他端を巻装する巻き取りローラーと、
前記巻き取りローラーに支持された巻き取り歯車と、をさらに備え、
前記力点作用部は、前記巻き取り歯車よりも前記取り外し方向側に位置することを特徴とするワイパーユニット。
【請求項５】
請求項４に記載のワイパーユニットにおいて、
前記取り外し方向及び前記突起の突出方向と交わる方向において、前記巻き取り歯車は、前記係止爪と前記突起との間に位置することを特徴とするワイパーユニット。
【請求項６】
請求項４又は請求項５に記載のワイパーユニットにおいて、
前記ワイパーカセットは、
前記繰り出しローラーから前記巻き取りローラーへの前記ワイピング部材の繰り出しにともなって従動回転する中継ローラーと、
前記ワイピング部材の繰出量を検出するために前記ワイパーホルダーに設けられた回転量検出部が有する検出歯車と噛合可能に前記中継ローラーに支持された中継歯車と、をさらに備え、
前記力点作用部は、前記中継歯車よりも前記取り外し方向側に位置することを特徴とするワイパーユニット。
【請求項７】
液体を噴射する液体噴射ヘッドと、
請求項１〜請求項６の内いずれか一項に記載のワイパーユニットと
を備えたことを特徴とする液体噴射装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記目的を達成するために、本発明のワイパーユニットは、液体を噴射する液体噴射ヘッドに付着した前記液体を払拭するワイピング部材を搭載したワイパーカセットと、前記ワイパーカセットを着脱自在に且つ嵌合態様での装着可能に構成されたワイパーホルダーと、を備えたワイパーユニットであって、前記ワイパーカセットは、前記ワイパーホルダーからの取り外し方向と交わる方向へ延在するように設けられる力点作用部と、前記取り外し方向および前記力点作用部が延在する方向に交わる方向に突出する突起と、前記ワイパーホルダーに装着された状態で固定する係止爪とを有し、前記ワイパーホルダーは、前記突起を前記取り外し方向にガイドする係合部と、前記係止爪と係止する孔とを有し、前記取り外し方向及び前記突起の突出方向と交わる方向において、前記力点作用部と前記係止爪の間に前記突起が位置する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また、本発明のワイパーユニットは、前記取り外し方向において、前記力点作用部と前記係止爪の間に前記突起が位置する。
上記構成によれば、ワイパーカセットがワイパーホルダーから取り外される際には、ワイパーカセットが突起を傾動中心として傾動すると、係止爪によるワイパーホルダーに対する固定はより確実に解除される。したがって、ワイパーホルダーからワイパーカセットを更に容易に取り外すことができる。
また、本発明のワイパーユニットは、前記取り外し方向において、前記力点作用部は、前記係止爪よりも前記取り外し方向側に位置する。
また、本発明のワイパーユニットにおいて、前記ワイピング部材は長尺状であり、前記ワイパーカセットは、前記ワイピング部材の長手方向の一端を巻装する繰り出しローラーと、前記ワイピング部材の長手方向の他端を巻装する巻き取りローラーと、前記巻き取りローラーに支持された巻き取り歯車と、をさらに備え、前記力点作用部は、前記巻き取り
歯車よりも前記取り外し方向側に位置する。
また、本発明のワイパーユニットは、前記取り外し方向及び前記突起の突出方向と交わる方向において、前記巻き取り歯車は、前記係止爪と前記突起との間に位置する。
また、本発明のワイパーユニットにおいて、前記ワイパーカセットは、前記繰り出しローラーから前記巻き取りローラーへの前記ワイピング部材の繰り出しにともなって従動回転する中継ローラーと、前記ワイピング部材の繰出量を検出するために前記ワイパーホルダーに設けられた回転量検出部が有する検出歯車と噛合可能に前記中継ローラーに支持された中継歯車と、をさらに備え、前記力点作用部は、前記中継歯車よりも前記取り外し方向側に位置する。
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月4日(2014.9.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の色の印刷解像度よりも第２の色の印刷解像度が高い印刷に用いられる画像データを、圧縮データを解凍することで生成する画像処理装置であって、
前記第２の色のプレーンよりも前記第１の色のプレーンの画素を間引いて前記圧縮データを解凍する解凍処理手段、
を備えた画像処理装置。
【請求項２】
前記圧縮データの前記第１の色のプレーンの解像度と前記第２の色のプレーンの解像度とに基づき、前記第１の色のプレーンの解像度と前記第２の色のプレーンの解像度が等倍であるときには、前記第２の色のプレーンよりも前記第１の色のプレーンを間引いて解凍する一方、前記第１の色のプレーンの解像度よりも前記第２の色のプレーンの解像度が高いときには前記第１の色のプレーンの間引率と前記第２の色のプレーンの間引率とを等しくする、請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
どの色のプレーンであるかに加え、指定された印刷サイズと解凍後の画像サイズとに基づいた間引率で画素を間引いて前記圧縮データを解凍する、請求項１又は２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記圧縮データは、ＪＰＥＧデータ、ＭＰＥＧデータのうちいずれか１以上である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項５】
第１の色の印刷解像度よりも第２の色の印刷解像度が高い印刷を行って印刷画像を生成する印刷画像生成方法であって、
前記第２の色のプレーンよりも前記第１の色のプレーンの画素を間引いて前記圧縮データを解凍するステップと、
解凍した画像データを印刷することで印刷画像を生成するステップと、
を含む印刷画像生成方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月5日(2014.11.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
軸方向に往復動可能に支持されたラック軸と、前記ラック軸が挿通されるとともにモータ駆動により回転する中空シャフトと、前記ラック軸が収容されるラックハウジングに対して前記中空シャフトを回転可能に支持する複数の軸受とを備え、前記中空シャフトの回転を前記ラック軸の往復動に変換することにより操舵系にステアリング操作を補助するためのアシスト力を付与する電動パワーステアリング装置において、
前記各軸受の少なくとも一つの軸方向両端にそれぞれ設けられ、該軸受を前記ラックハウジングに対して軸方向に弾性支持する弾性部材と、
弾性支持された前記軸受の外周に設けられ、径方向への変位を規制した状態で該軸受を支持する支持部材とを備え、
前記中空シャフトは、前記支持部材と前記ラックハウジング及び弾性支持された前記軸受との少なくとも一方とが互いに摺動することにより、前記ラックハウジングに対して軸方向に移動するように設けられ、
前記支持部材には、径方向に弾性変形可能なバネ状部が形成され、
前記支持部材は、前記バネ状部の弾性力に応じた摺動抵抗を発生させることを特徴とする電動パワーステアリング装置。
【請求項２】
軸方向に往復動可能に支持されたラック軸と、前記ラック軸が挿通されるとともにモータ駆動により回転する中空シャフトと、前記ラック軸が収容されるラックハウジングに対して前記中空シャフトを回転可能に支持する複数の軸受とを備え、前記中空シャフトの回転を前記ラック軸の往復動に変換することにより操舵系にステアリング操作を補助するためのアシスト力を付与する電動パワーステアリング装置において、
前記各軸受の少なくとも一つの軸方向両端にそれぞれ設けられ、該軸受を前記中空シャフトに対して軸方向に弾性支持する弾性部材と、
弾性支持された前記軸受の内周に設けられ、径方向への変位を規制した状態で該軸受を支持する支持部材とを備え、
前記中空シャフトは、前記支持部材と前記中空シャフト及び弾性支持された前記軸受との少なくとも一方とが互いに摺動することにより、前記ラックハウジングに対して軸方向に移動するように設けられ、
前記支持部材には、径方向に弾性変形可能なバネ状部が形成され、
前記支持部材は、前記バネ状部の弾性力に応じた摺動抵抗を発生させることを特徴とする電動パワーステアリング装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の電動パワーステアリング装置において、
前記支持部材の摺動面は、低摩擦係数を有するように表面処理されたことを特徴とする電動パワーステアリング装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記目的を達成するため、請求項１に記載の発明は、軸方向に往復動可能に支持されたラック軸と、前記ラック軸が挿通されるとともにモータ駆動により回転する中空シャフトと、前記ラック軸が収容されるラックハウジングに対して前記中空シャフトを回転可能に支持する複数の軸受とを備え、前記中空シャフトの回転を前記ラック軸の往復動に変換することにより操舵系にステアリング操作を補助するためのアシスト力を付与する電動パワーステアリング装置において、前記各軸受の少なくとも一つの軸方向両端にそれぞれ設けられ、該軸受を前記ラックハウジングに対して軸方向に弾性支持する弾性部材と、弾性支持された前記軸受の外周に設けられ、径方向への変位を規制した状態で該軸受を支持する支持部材とを備え、前記中空シャフトは、前記支持部材と前記ラックハウジング及び弾性支持された前記軸受との少なくとも一方とが互いに摺動することにより、前記ラックハウジングに対して軸方向に移動するように設けられ、前記支持部材には、径方向に弾性変形可能なバネ状部が形成され、前記支持部材は、前記バネ状部の弾性力に応じた摺動抵抗を発生させることを要旨とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
請求項２に記載の発明は、軸方向に往復動可能に支持されたラック軸と、前記ラック軸が挿通されるとともにモータ駆動により回転する中空シャフトと、前記ラック軸が収容されるラックハウジングに対して前記中空シャフトを回転可能に支持する複数の軸受とを備え、前記中空シャフトの回転を前記ラック軸の往復動に変換することにより操舵系にステアリング操作を補助するためのアシスト力を付与する電動パワーステアリング装置において、前記各軸受の少なくとも一つの軸方向両端にそれぞれ設けられ、該軸受を前記中空シャフトに対して軸方向に弾性支持する弾性部材と、弾性支持された前記軸受の内周に設けられ、径方向への変位を規制した状態で該軸受を支持する支持部材とを備え、前記中空シャフトは、前記支持部材と前記中空シャフト及び弾性支持された前記軸受との少なくとも一方とが互いに摺動することにより、前記ラックハウジングに対して軸方向に移動するように設けられ、前記支持部材には、径方向に弾性変形可能なバネ状部が形成され、前記支持部材は、前記バネ状部の弾性力に応じた摺動抵抗を発生させることを要旨とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載の電動パワーステアリング装置において、前記支持部材の摺動面は、低摩擦係数を有するように表面処理されたことを要旨とする。
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月10日(2014.6.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＥＦＧ法によるβ−Ｇａ２Ｏ３結晶の成長時における双晶密度が許容値以下となるように、前記許容値が小さいほど種結晶の引き上げ方向に対する前記β−Ｇａ２Ｏ３結晶の肩広げ角度の目標値を大きく設定する第１ステップと、
前記第１ステップで設定した目標値の肩広げ角度で前記β−Ｇａ２Ｏ３結晶が成長するように結晶成長時における温度又は前記種結晶の引き上げ速度を制御して、前記β−Ｇａ２Ｏ３結晶を成長させる第２ステップとを有するβ−Ｇａ２Ｏ３単結晶の製造方法。
【請求項２】
前記第２ステップにおいて、前記種結晶は、β−Ｇａ２Ｏ３融液を受容するルツボに立設されたスリットを有するダイの幅広面と（−２０１）面もしくは（１０１）面とが平行になるように固定され、前記種結晶をその［０１０］方向に引き上げることにより前記β−Ｇａ２Ｏ３結晶を成長させる請求項１に記載のβ−Ｇａ２Ｏ３単結晶の製造方法。
【請求項３】
前記第２ステップにおいて、前記種結晶は、β−Ｇａ２Ｏ３融液を受容するルツボに立設されたスリットを有するダイの幅広面と（３１０）面もしくは（３−１０）面とが平行になるように固定され、前記種結晶をその［００１］方向に引き上げることにより前記β−Ｇａ２Ｏ３結晶を成長させる請求項１に記載のβ−Ｇａ２Ｏ３単結晶の製造方法。
【請求項４】
双晶密度が０．７本／ｃｍ〜３７本／ｃｍであるβ−Ｇａ２Ｏ３単結晶。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】β−Ｇａ２Ｏ３単結晶及びその製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、β−Ｇａ２Ｏ３単結晶及びその製造方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は、前記事情に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、β−Ｇａ２Ｏ３結晶の双晶密度を許容値以下とすることが可能なβ−Ｇａ２Ｏ３単結晶及びその製造方法を提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
すなわち、本発明は、上記目的を達成するために、［１］〜［４］のβ−Ｇａ２Ｏ３単結晶及びその製造方法を提供する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
［３］前記第２ステップにおいて、前記種結晶は、β−Ｇａ２Ｏ３融液を受容するルツボに立設されたスリットを有するダイの幅広面と（３１０）面もしくは（３−１０）面とが平行になるように固定され、前記種結晶をその［００１］方向に引き上げることにより前記β−Ｇａ２Ｏ３結晶を成長させる前記［１］に記載のβ−Ｇａ２Ｏ３単結晶の製造方法。
［４］双晶密度が０．７本／ｃｍ〜３７本／ｃｍであるβ−Ｇａ２Ｏ３単結晶。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月12日(2014.11.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
上記目的を達成するために、請求項１の画像処理装置は、外部からＵＲＬのリストを含むデータをインポートするインポート手段と、前記インポート手段による前記データのインポートに応じて、当該データに含まれるリストに記載された各々のＵＲＬにアクセスし、アイコンデータを取得する取得手段と、前記取得手段により取得されたアイコンデータが示すアイコンを表示するように制御する表示制御手段とを備えたことを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外部からＵＲＬのリストを含むデータをインポートするインポート手段と、
前記インポート手段による前記データのインポートに応じて、当該データに含まれるリストに記載された各々のＵＲＬにアクセスし、アイコンデータを取得する取得手段と、
前記取得手段により取得されたアイコンデータが示すアイコンを表示するように制御する表示制御手段と
を備えたことを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
情報を表示する表示手段をさらに備え、
前記表示制御手段は、前記取得手段による前記アイコンデータの取得に失敗した場合、予め定められたアイコンを表示するように前記表示手段を制御することを特徴とする請求項１記載の画像処理装置。
【請求項３】
情報を表示する表示手段をさらに備え、
前記表示制御手段は、前記取得手段により前記アイコンデータが取得できなかったときは、アイコンデータの取得ができなかったことを示すアイコンを表示するように前記表示手段を制御することを特徴とする請求項１記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記リストに含まれる各ＵＲＬは、ウェブブラウザーのショートカットボタンとして登録されているＵＲＬであることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記ＵＲＬにアクセスする際に認証を行う認証手段をさらに備えたことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項６】
画像処理装置と、サーバーとを備えた画像処理システムであって、
前記画像処理装置は、
外部からＵＲＬのリストを含むデータをインポートするインポート手段と、
前記インポート手段による前記データのインポートに応じて、当該データに含まれるリストに記載された各々のＵＲＬにアクセスし、アイコンデータを取得する取得手段と、
前記取得手段により取得されたアイコンデータが示すアイコンを表示するように制御する表示制御手段と
を備え、
前記サーバーは、前記画像処理装置に前記アイコンデータを提供するアイコンデータ提供手段を備えたことを特徴とする画像処理システム。
【請求項７】
画像処理装置の制御方法であって、
外部からＵＲＬのリストを含むデータをインポートするインポートステップと、
前記インポートステップによる前記データのインポートに応じて、当該データに含まれるリストに記載された各々のＵＲＬにアクセスし、アイコンデータを取得する取得ステップと、
前記取得ステップにより取得されたアイコンデータが示すアイコンを表示するように制御する表示制御ステップと
を備えたことを特徴とする画像処理装置の制御方法。
【請求項８】
画像処理装置の制御方法をコンピュータに実行させるためのプログラムであって、
前記画像処理装置の制御方法は、
外部からＵＲＬのリストを含むデータをインポートするインポートステップと、
前記インポートステップによる前記データのインポートに応じて、当該データに含まれるリストに記載された各々のＵＲＬにアクセスし、アイコンデータを取得する取得ステップと、
前記取得ステップにより取得されたアイコンデータが示すアイコンを表示するように制御する表示制御ステップと
を備えたことを特徴とするプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月12日(2014.11.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像形成装置であって、
パケットを受信する受信手段と、
第１の電力状態よりも消費電力が小さい第２の電力状態に移行するための移行条件を満たしたことを検知する検知手段と、
前記移行条件を満たしたことを前記検知手段が検知した場合に、受信パケットを破棄するための第１の破棄設定を有効に設定する設定手段と、
前記設定手段が前記第１の破棄設定を有効に設定した場合に、所定の通知を外部装置に送信する送信手段と、を備え、
前記送信手段が前記所定の通知を前記外部装置に送信した後に、前記画像形成装置は前記第２の電力状態に移行することを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記所定の通知の宛先を記憶する記憶手段を更に備え、
前記送信手段は、前記記憶手段に記憶されている前記宛先に前記所定の通知を送信することを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記宛先はＩＰアドレスであることを特徴とする請求項２に記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記所定の通知は、前記画像形成装置が前記第２の電力状態に移行することを示す通知であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記第１の破棄設定は、受信パケットをすべて破棄するための設定であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項６】
前記画像形成装置が前記第２の電力状態から前記第１の電力状態に移行した場合に、前記設定手段は、前記第１の破棄設定を無効に設定することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項７】
前記送信手段が前記所定の通知を前記外部装置に送信した場合に、前記設定手段は、送信パケットを破棄するための第２の破棄設定を有効に設定することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項８】
前記第２の破棄設定は、送信パケットをすべて破棄するための設定であることを特徴とする請求項７に記載の画像形成装置。
【請求項９】
前記設定手段が前記第２の破棄設定を有効に設定した場合に、前記画像形成装置は前記第２の電力状態に移行することを特徴とする請求項７又は８に記載の画像形成装置。
【請求項１０】
前記画像形成装置が前記第２の電力状態から前記第１の電力状態に移行した場合に、前記設定手段は、前記第１の破棄設定と前記第２の破棄設定を無効に設定することを特徴とする請求項７乃至９のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項１１】
前記第２の電力状態はスリープ状態であることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項１２】
前記第２の電力状態はシャットダウン状態であることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項１３】
画像形成装置の制御方法であって、
パケットを受信する受信ステップと、
第１の電力状態よりも消費電力が小さい第２の電力状態に移行するための移行条件を満たしたことを検知する検知ステップと、
前記移行条件を満たしたことを前記検知ステップで検知した場合に、受信パケットを破棄するための第１の破棄設定を有効に設定する設定ステップと、
前記設定ステップで前記第１の破棄設定を有効に設定した場合に、所定の通知を外部装置に送信する送信ステップと、
前記送信ステップで前記所定の通知を前記外部装置に送信した後に、前記画像形成装置を前記第２の電力状態に移行させる移行ステップと、
を有することを特徴とする画像形成装置の制御方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載の画像形成装置の制御方法をコンピュータに実行させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
本発明の目的は、画像形成装置を管理する管理アプリケーションが画像形成装置の状態を不整合なく正確に管理できるように、画像形成装置が適切に第２の電力状態に移行する仕組みを提供することである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
本発明は、画像形成装置であって、パケットを受信する受信手段と、第１の電力状態よりも消費電力が小さい第２の電力状態に移行するための移行条件を満たしたことを検知する検知手段と、前記移行条件を満たしたことを前記検知手段が検知した場合に、受信パケットを破棄するための第１の破棄設定を有効に設定する設定手段と、前記設定手段が前記第１の破棄設定を有効に設定した場合に、所定の通知を外部装置に送信する送信手段と、を備え、前記送信手段が前記所定の通知を前記外部装置に送信した後に、前記画像形成装置は前記第２の電力状態に移行することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
本発明によれば、画像形成装置が適切に第２の電力状態に移行するため、画像形成装置を管理する管理アプリケーションが画像形成装置の状態を不整合なく正確に管理することができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５】
2013103447.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月26日(2014.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
紙基材面または該紙基材面にオフセット印刷インキで印刷した該印刷面に活性エネルギー線硬化型ワニスを塗布し、該塗布面にポリオレフィンフィルムを貼り合わせ、該ポリオレフィンフィルムを透して活性エネルギー線を照射して前記塗布面のワニスを硬化させ、その後に該ポリオレフィンフィルムを剥離させる積層体の製造方法であって、
該活性エネルギー線硬化型ワニスが、
１）重量平均分子量が５０００〜１２０００のスチレン−アクリル樹脂（Ａ１）を１０〜３９重量％
（但し、前記（Ａ１）は、
スチレン系単量体（ａ１）７０〜９０重量％、
（ａ１）と共重合可能でカルボキシル基を有する（メタ）アクリル酸単量体
（ａ２）１〜２０重量％、
（ａ１）および（ａ２）と共重合可能でアミノ基及びカルボキシル基を含まない
（メタ）アクリル酸エステル単量体（ａ３）５〜２５重量％、
を共重合させてなり、（ａ１）と（ａ２）と（ａ３）との合計は１００重量％とする）
２）（メタ）アクリロイル基を少なくとも1個有する光重合性単量体（Ｂ）を５０〜８５重量％、
３）光重合開始剤（Ｃ）を０〜２０重量％
ならびに
４）シリコーン系添加剤（Ｄ１）を０．１〜１０重量％
（但し、１）〜４）の合計は１００重量％とする）
を含有することを特徴とする積層体の製造方法。
【請求項２】
活性エネルギー線硬化型ワニスが、更に
スチレン系単量体（ａ１）７０〜９５重量％、
（ａ１）と共重合可能なアミノ基を有する（メタ）アクリル酸単量体（ａ４）５〜３０重量％、
を共重合させてなる重量平均分子量が５０００〜１２０００のスチレン−アクリル樹脂（Ａ２）を含むことを特徴とする請求項１に記載の積層体の製造方法。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の製造方法で製造した積層体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
即ち、第１の発明は、紙基材面または該紙基材面にオフセット印刷インキで印刷した該印刷面に活性エネルギー線硬化型ワニスを塗布し、該塗布面にポリオレフィンフィルムを貼り合わせ、該ポリオレフィンフィルムを透して活性エネルギー線を照射して前記塗布面のワニスを硬化させ、その後に該ポリオレフィンフィルムを剥離させる積層体の製造方法であって、
該活性エネルギー線硬化型ワニスが、
１）重量平均分子量が５０００〜１２０００のスチレン−アクリル樹脂（Ａ１）を１０〜３９重量％
（但し、前記（Ａ１）は、
スチレン系単量体（ａ１）７０〜９０重量％、
（ａ１）と共重合可能でカルボキシル基を有する（メタ）アクリル酸単量体
（ａ２）１〜２０重量％、
（ａ１）および（ａ２）と共重合可能でアミノ基及びカルボキシル基を含まない
（メタ）アクリル酸エステル単量体（ａ３）５〜２５重量％、
を共重合させてなり、（ａ１）と（ａ２）と（ａ３）との合計は１００重量％とする）
２）（メタ）アクリロイル基を少なくとも1個有する光重合性単量体（Ｂ）を５０〜８５重量％、
３）光重合開始剤（Ｃ）を０〜２０重量％
ならびに
４）シリコーン系添加剤（Ｄ１）を０．１〜１０重量％
（但し、１）〜４）の合計は１００重量％とする）
を含有することを特徴とする積層体の製造方法に関するものである。
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月19日(2014.9.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
単核性洗剤粒子中に、下記の（Ａ）成分を２０〜８０質量％、（Ｂ）成分を５〜３０質量％及び（Ｄ）成分を含有し、（Ｃ）成分の量が（Ｃ）成分／（Ｂ）成分の質量比として０／１００〜４０／６０である単核性洗剤粒子を含有する、粉末洗剤組成物。
〔（Ａ）成分は以下の（ａ１）成分を５〜７８質量％、（ａ２）成分を１０〜９０質量％及び（ａ３）成分を０．５〜２０質量％含有するベース顆粒：
（ａ１）アルカリ金属炭酸塩及びアルカリ金属硫酸塩から選ばれる一種以上の無機塩
（ａ２）ゼオライト
（ａ３）カルボン酸基を有する構成単位を含んで構成される高分子化合物、
（Ｂ）成分は下記一般式（１）：
Ｒ1Ｏ−［（Ｃ2Ｈ4Ｏ）m／（ＡＯ）n］Ｈ      （１）
〔式中、Ｒ1は炭素数８〜２２の鎖式炭化水素基であり、ＡＯは炭素数３〜５のオキシアルキレン基である。ｍ、ｎは平均付加モル数であって、ｍは１３〜２４の数であり、ｎは１〜３の数である。「／」はＣ2Ｈ4Ｏ基及びＡＯ基がランダム又はブロックのいずれかに結合したものであってもよいことを示す。〕で表される非イオン界面活性剤、
（Ｃ）成分は陰イオン界面活性剤（脂肪酸又はその塩を除く）、及び
（Ｄ）成分は表面改質剤。〕
【請求項２】
単核性洗剤粒子が（Ｃ）成分としての陰イオン界面活性剤（但し、脂肪酸又はその塩を除く）をさらに含有し、該単核性洗剤粒子中の（Ｃ）成分／（Ｂ）成分の質量比が０／１００を超えて４０／６０以下である、請求項１に記載の粉末洗剤組成物。
【請求項３】
洗剤添加用粒子をさらに含有する粉末洗剤組成物であって、該洗剤添加用粒子の含有量が単核性洗剤粒子１００質量部に対して０質量部を超えて３０質量部以下である、請求項１又は２に記載の粉末洗剤組成物。
【請求項４】
（Ｂ）成分が下記一般式（１−５−１）：
Ｒ1Ｏ−（ＥＯ）m1−（ＰＯ）n−（ＥＯ）m2−Ｈ      （１−５−１）
〔式中、Ｒ1は炭素数８〜２２の鎖式炭化水素基であり、ＥＯはオキシエチレン基であり、ＰＯはオキシプロピレン基である。ｍ１、ｎ、ｍ２はそれぞれ平均付加モル数であって、ｍ１＋ｍ２＝１４〜２０の数であり、ｎは１〜３の数である。〕で表される非イオン界面活性剤である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の粉末洗剤組成物。
【請求項５】
単核性洗剤粒子が、（Ａ）成分であるベース顆粒に、（Ｂ）成分である非イオン界面活性剤又は（Ｂ）成分と（Ｃ）成分の陰イオン界面活性剤とを担持又は付着させ、その後（Ｄ）成分である表面改質剤で被覆された構造を有する、請求項１〜４のいずれか１項記載の粉末洗剤組成物。
【請求項６】
（Ｃ）成分の陰イオン界面活性剤が、平均炭素数１０〜２０のアルキル基を有するアルキルベンゼンスルホン酸塩である、請求項１〜５のいずれか１項記載の粉末洗剤組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月10日(2014.9.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対象者の運動量情報を加速度情報として検知する加速度情報検知部を有し、
前記運動量情報の基準情報を記憶すると共に、少なくとも、目標の前記基準情報である目標基準情報に対応する前記加速度情報である目標加速度基準情報を記憶する加速度基準情報記憶部と、を有し、
前記加速度情報が、前記目標加速度基準情報に達したか否かを判断すると共に、前記目標加速度基準情報に達したときに、前記表示部に達した旨を表示し、
前記目標加速度基準情報に達した前記加速度情報の累積時間が目標時間に達したか否かを判断すると共に、前記目標時間に達したときに、前記表示部に達した旨を表示することを特徴する運動量測定装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月31日(2014.10.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
生体内に存在する生体内成分を測定するために用いられ、所定の波長帯域に属する測定光を、前記生体に向かって射出する光源と、
複数のセンサが所定の配置で規則的に配設されており、前記光源から射出され前記生体を透過した前記測定光を当該複数のセンサで検出する検出部と、
前記検出部により検出された検出結果を利用し、前記光源からの光学的距離に応じて減衰した光量に基づいて前記生体内成分の成分量を解析する解析部と、
を備える、測定装置。
【請求項２】
前記解析部は、前記生体の皮下組織をモデル化し、前記検出結果を着目する前記生体内成分による吸収の線形和として解析することで、前記生体内成分の成分量を算出する、請求項１に記載の測定装置。
【請求項３】
前記検出部は、複数のレンズが格子状に規則的に配設されたマイクロレンズアレイを利用したセンサにより、前記生体を透過した測定光を検出する、請求項１又は２に記載の測定装置。
【請求項４】
前記光源は、互いに異なる波長を有する複数種類の前記測定光を時分割で前記生体に射出する、請求項１〜３の何れか１項に記載の測定装置。
【請求項５】
前記解析部は、前記生体内成分として、メラニン、血中成分又は水分の少なくとも何れかの成分量を算出する、請求項１〜４の何れか１項に記載の測定装置。
【請求項６】
前記解析部は、血液量、脂肪厚又は真皮層厚の少なくとも何れかを更に算出する、請求項５に記載の測定装置。
【請求項７】
前記測定装置は、前記生体に含まれる物質を計測する生体物質計測装置を更に備え、
前記生体物質計測装置又は前記解析部は、前記生体物質計測装置における計測結果を、前記生体内成分の成分量を利用して補正する、請求項１〜６の何れか１項に記載の測定装置。
【請求項８】
前記生体物質計測装置又は前記解析部は、前記生体物質計測装置における計測処理毎に補正処理を実施する、請求項７に記載の測定装置。
【請求項９】
前記生体物質計測装置は、前記測定装置と一体に形成されている、請求項７又は８に記載の測定装置。
【請求項１０】
生体内に存在する生体内成分を測定するために用いられ、所定の波長帯域に属する測定光を、前記生体に向かって射出することと、
前記生体を透過した前記測定光を、複数のセンサが所定の配置で規則的に配設された検出ユニットで検出することと、
検出された検出結果を利用し、前記測定光の光源からの光学的距離に応じて減衰した光量に基づいて前記生体内成分の成分量を解析することと、
を含む、測定方法。
【請求項１１】
生体内に存在する生体内成分を測定するために用いられ、所定の波長帯域に属する測定光を、前記生体に向かって射出する光源と、複数のセンサが所定の配置で規則的に配設されており、前記光源から射出され前記生体を透過した前記測定光を当該複数のセンサで検出する検出部と、を備える測定機器を制御可能なコンピュータに、
前記光源及び前記検出部を制御する制御機能と、
前記検出部により検出された検出結果を利用し、前記光源からの光学的距離に応じて減衰した光量に基づいて前記生体内成分の成分量を解析する解析機能と、
を実現させるためのプログラム。
【請求項１２】
生体内に存在する生体内成分を測定するために用いられ、所定の波長帯域に属する測定光を、前記生体に向かって射出する光源と、複数のセンサが所定の配置で規則的に配設されており、前記光源から射出され前記生体を透過した前記測定光を当該複数のセンサで検出する検出部と、を備える測定機器を制御可能なコンピュータに、
前記光源及び前記検出部を制御する制御機能と、
前記検出部により検出された検出結果を利用し、前記光源からの光学的距離に応じて減衰した光量に基づいて前記生体内成分の成分量を解析する解析機能と、
を実現させるためのプログラムが記録された記録媒体。
【請求項１３】
生体に含まれる計測対象物質を計測する生体物質計測装置と、
前記生体内に存在する前記計測対象物質とは異なる生体内成分を測定するために用いられ、所定の波長帯域に属する測定光を、前記生体に向かって射出する光源と、
複数のセンサが所定の配置で規則的に配設されており、前記光源から射出され前記生体を透過した前記測定光を当該複数のセンサで検出する検出部と、
前記検出部により検出された検出結果を利用し、前記光源からの光学的距離に応じて減衰した光量に基づいて前記生体内成分の成分量を解析する解析部と、
を備える、測定装置。
【請求項１４】
生体に含まれる計測対象物質を計測する生体物質計測装置と、
前記生体内に存在する前記計測対象物質とは異なる生体内成分を測定するために用いられ、所定の波長帯域に属する測定光を、前記生体に向かって射出する光源と、
複数のセンサが所定の配置で規則的に配設されており、前記光源から射出され前記生体を透過した前記測定光を当該複数のセンサで検出する検出部と、
前記検出部により検出された検出結果を利用し、前記光源からの光学的距離に応じて減衰した光量に基づいて前記生体内成分の成分量を解析する解析部と、
を備え、
前記生体物質計測装置又は前記解析部は、前記生体物質計測装置における計測結果を、前記生体内成分の成分量を利用して補正する、測定装置。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年5月29日(2014.5.29)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）１５〜５００μｍの平均粒子直径、および（ｂ）（ｉ）７５〜１５０℃のＴｇまたは（ｉｉ）少なくとも０．５％の架橋剤の重合残基を有するポリマー粒子と、８０℃以下のＴｇを有する膜形成性ポリマーとを含む膜であって、前記ポリマー粒子と連続ポリマー相との間の４００ｎｍ〜８００ｎｍで測定される平均屈折率差が０．０２以下であり、並びに前記ポリマー粒子と連続ポリマー相との間の８００ｎｍ〜２５００ｎｍで測定される平均屈折率差が少なくとも０．０４である膜。
【請求項２】
前記平均粒子直径が１１０〜３００μｍであり、前記ポリマー粒子と前記連続ポリマー相との間の４００ｎｍ〜８００ｎｍで測定される屈折率差が０．０１以下であり、並びに前記ポリマー粒子と前記連続ポリマー相との間の８００ｎｍ〜２５００ｎｍで測定される平均屈折率差が少なくとも０．０８である、請求項１に記載の膜。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４５】
【表８】
2012067297.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月26日(2013.11.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
すなわち本発明は、以下のとおりである。
（１）（Ａ１）（ａ１）カプロアミド単位５０重量％以上９８重量％未満および（ａ２）ヘキサメチレンアジパミド単位２重量％以上５０重量％未満の共重合ポリアミドを含む（Ａ）ポリアミド樹脂１００重量部に対して、（Ｂ）トリアジン系化合物を１０〜３０重量部配合してなることを特徴とするポリアミド樹脂組成物。
（２）（Ａ）ポリアミド樹脂が、さらに（Ａ２）（ａ１）カプロアミド単位２重量％以上５０重量％未満および（ａ２）ヘキサメチレンアジパミド単位５０重量％以上９８重量％未満の共重合ポリアミドを含むことを特徴とする（１）記載のポリアミド樹脂組成物。
（３）前記（Ａ１）と（Ａ２）の比が、（Ａ１）／（Ａ２）＝１５／８５〜８５／１５である（２）記載のポリアミド樹脂組成物。
（４）（Ａ）ポリアミド樹脂が、さらに（Ａ３）ポリヘキサメチレンアジパミド樹脂を含むことを特徴とする（１）〜（３）のいずれか記載のポリアミド樹脂組成物。
（５）前記（Ａ１）と（Ａ３）の重量比が、（Ａ１）／（Ａ３）＝１０／９０〜９０／１０である（４）記載のポリアミド樹脂組成物。
（６）トリアジン系化合物がメラミンシアヌレートであることを特徴とする（１）〜（５）のいずれか記載のポリアミド樹脂組成物。
（７）トリアジン系化合物の平均粒子径が１５μｍ以下であることを特徴とする（１）〜（６）のいずれか記載のポリアミド樹脂組成物。
（８）（Ａ）ポリアミド樹脂１００重量部に対して、（Ｃ）ジアミン化合物と脂肪酸化合物との重縮合物を０．１〜１．０重量部配合してなることを特徴とする（１）〜（７）のいずれか記載のポリアミド樹脂組成物。
（９）（１）〜（８）いずれか記載のポリアミド樹脂組成物を、射出成形、押出成形、ブロー成形から選ばれる少なくとも１種の方法で成形してなる成形品。
（１０）成形品が、筐体、外装部品またはコネクターであることを特徴とする（９）記載の成形品。
（１１）ＩＥＣ６０６９５−２−１３に準拠した試験において、グローワイヤー着火温度が、製品厚み０．７５ｍｍ、１．５ｍｍ、３ｍｍのすべてにおいて７７５℃以上である（９）または（１０）記載の成形品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
トリアジン系化合物の平均粒子径が１５μｍ以下であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか記載のポリアミド樹脂組成物。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年1月6日(2014.1.6)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多段エマルションポリマーの重量を基準にして１．０重量％〜４重量％のリン含有酸モノマー、
多段エマルションポリマーの重量を基準にして０重量％〜０．０５重量％の多エチレン性不飽和モノマー、および
少なくとも１種の第２のモノエチレン性不飽和モノマー、
を共重合単位として含む多段エマルションポリマーであって；
当該エマルションポリマーは−２０℃〜５０℃の計算Ｔｇを有し；
当該エマルションポリマーは、全モノマー重量の１０％〜５０％を含む段階中に、前記リン含有酸モノマーの７５重量％〜１００重量％が前記第２のモノエチレン性不飽和モノマーと共に添加される、前記少なくとも１種の第２のモノエチレン性不飽和モノマーの乳化共重合により形成される；
多段エマルションポリマー。
【請求項２】
全添加モノマー重量の０〜６５％で始まる段階中に、前記リン含有酸モノマーの７５重量％〜１００重量％が前記第２のモノエチレン性不飽和モノマーと共に添加される、請求項１に記載の多段エマルションポリマー。
【請求項３】
前記リン含有酸モノマーの７５重量％〜１００重量％が前記第２のモノエチレン性不飽和モノマーと共に添加される前記段階が前記エマルションポリマーの重量を基準にして０．０１重量％〜０．６重量％の第２の酸含有モノマーの添加をさらに含む、請求項１または２に記載の多段エマルションポリマー。
【請求項４】
前記第２の酸含有モノマーがメタクリル酸およびスチレンスルホン酸ナトリウムからなる群から選択される、請求項３に記載の多段エマルションポリマー。
【請求項５】
前記リン含有酸モノマーの７５重量％〜１００重量％が前記第２のモノエチレン性不飽和モノマーと共に添加される前記段階が前記エマルションポリマーの重量を基準にして０．０１〜３重量％のアルデヒド反応性基含有モノマーの添加をさらに含む、請求項１または２に記載の多段エマルションポリマー。
【請求項６】
多段エマルションポリマーの重量を基準にして１．０重量％〜４重量％のリン含有酸モノマー、
多段エマルションポリマーの重量を基準にして０重量％〜０．０５重量％の多エチレン性不飽和モノマー、および
少なくとも１種の第２のモノエチレン性不飽和モノマー、
を共重合単位として含み、−２０℃〜５０℃の計算Ｔｇを有する多段エマルションポリマーを形成する方法であって；
（ａ）前記少なくとも１種の第２のモノエチレン性不飽和モノマーを乳化共重合すること；および
（ｂ）全モノマー重量の１０％〜５０％を含む段階中に、前記リン含有酸モノマーの７５重量％〜１００重量％を前記第２のモノエチレン性不飽和モノマーと共に添加することを含む；
多段エマルションポリマーを形成する方法。
【請求項７】
全添加モノマー重量の０〜６５％で始まる段階中に、前記リン含有酸モノマーの７５重量％〜１００重量％が前記第２のモノエチレン性不飽和モノマーと共に添加される、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
ａ）ＴｉＯ２粒子と、ｂ）前記ＴｉＯ２粒子の表面上に吸着した請求項１または２または３の多段エマルションポリマーの複数のポリマー粒子とを含む複合体粒子。
【請求項９】
請求項８に記載の複合体粒子を含む水性コーティング組成物。
【請求項１０】
（ａ）請求項９に記載の水性コーティング組成物を形成し；
（ｂ）前記水性コーティング組成物を基体に適用し；並びに
（ｃ）前記適用された水性コーティング組成物を乾燥させるかまたは乾燥可能にする；
ことを含む、塗膜を提供する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年8月4日(2014.8.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】電子装置、電子装置の作製方法、及びスパッタリングターゲット
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも第１の金属元素と第２の金属元素とを有する酸化物よりなるターゲットを用いて、ＡＣスパッタリング法又はＤＣスパッタリング法により、酸化物膜を形成する工程と、
前記酸化物膜を加熱処理する工程と、
前記酸化物膜の表面をエッチングして、絶縁性酸化物膜を得る工程と、を有し、
前記絶縁性酸化物膜中の第１の金属元素の濃度は、前記ターゲット中の第１の金属元素の濃度の５０％以下であることを特徴とする電子装置の作製方法。
【請求項２】
少なくとも第１の金属元素と第２の金属元素とを有する酸化物よりなるターゲットを用いて、ＡＣスパッタリング法又はＤＣスパッタリング法により、酸化物膜を形成する工程と、
前記酸化物膜を加熱処理する工程と、
前記酸化物膜の表面をエッチングして、絶縁性酸化物膜を得る工程と、を有し、
前記ターゲットの導電率は、前記絶縁性酸化物膜の導電率よりも高いことを特徴とする電子装置の作製方法。
【請求項３】
少なくとも第１の金属元素と第２の金属元素とを有する酸化物よりなるターゲットを用いて、ＡＣスパッタリング法又はＤＣスパッタリング法により、酸化物膜を形成する工程と、
前記酸化物膜を加熱処理し、前記酸化物膜中の第１の金属元素の濃度を低下させて、絶縁性酸化物膜を得る工程と、を有することを特徴とする電子装置の作製方法。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一において、
前記絶縁性酸化物膜に接して半導体性酸化物膜が設けられることを特徴とする電子装置の作製方法。
【請求項５】
少なくとも第１の金属元素と第２の金属元素とを有する酸化物よりなるターゲットを用いて、ＡＣスパッタリング法又はＤＣスパッタリング法により、酸化物膜を形成する工程と、
前記酸化物膜を加熱処理し、前記第１の金属元素の濃度の高い領域を形成する工程と、
前記酸化物膜に接して半導体性酸化物膜を形成する工程と、を有し、
前記半導体性酸化物膜において、前記第１の金属元素に対する第２の金属元素の比率は、０．２以上であることを特徴とする電子装置の作製方法。
【請求項６】
基板と、
前記基板上の酸化物膜と、
前記酸化物膜上に接して設けられた半導体性酸化物膜と、を有し、
前記酸化物膜は、少なくとも第１の金属元素と第２の金属元素を有し、
前記酸化物膜における前記第１の金属元素の濃度は、前記基板に面する部分よりも、前記半導体性酸化物膜に接する部分の方が高く、
前記酸化物膜における前記第２の金属元素の濃度は、前記基板に面する部分よりも、前記半導体性酸化物膜に接する部分の方が低いことを特徴とする電子装置。
【請求項７】
請求項６において、
前記半導体性酸化物膜はアモルファス状態を有することを特徴とする電子装置。
【請求項８】
請求項６において、
前記半導体性酸化物膜は単結晶状態であることを特徴とする電子装置。
【請求項９】
請求項７において、
前記半導体性酸化物膜は結晶を有することを特徴とする電子装置。
【請求項１０】
請求項８又は９において、
前記半導体性酸化物膜はｃ軸配向した結晶を有することを特徴とする電子装置。
【請求項１１】
少なくとも第１の金属元素と第２の金属元素とを有する導電性酸化物よりなり、ＡＣスパッタリング法又はＤＣスパッタリング法により成膜する装置に用いられるスパッタリングターゲットであり、前記第２の金属元素の酸化物は絶縁性酸化物であることを特徴とするスパッタリングターゲット。
【請求項１２】
請求項１１において、
前記第１の金属元素は亜鉛であることを特徴とするスパッタリングターゲット。
【請求項１３】
請求項１１又は１２において、
前記第２の金属元素はガリウムであることを特徴とするスパッタリングターゲット。