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【手続補正書】
【提出日】平成26年3月28日(2014.3.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
トランジスターと、
前記トランジスターと電気的に接続された画素電極と、
前記画素電極に電気的に接続された保持容量と、
を含み、
前記保持容量は、容量配線を含み、
前記容量配線は、前記基板と前記画素電極との間に配置された絶縁層に埋め込まれるように配置されたことを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記保持容量は、前記画素電極と前記容量配線との間に配置された誘電体層をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記容量配線は、前記トランジスターのソースからドレインに向かう方向に交差するように延びていることを特徴とする請求項１または２に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記容量配線の前記画素電極の側の面は、前記絶縁層と共に平坦化されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の電気光学装置。
【請求項５】
前記容量配線は、第１導電層と、前記第１導電層を覆うように配置される第２導電膜と、を含むことを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の電気光学装置。
【請求項６】
前記画素電極の側から前記基板の側を見たとき、
前記画素電極は、前記容量配線のうちの第１の容量配線と、前記第１の容量配線に隣り合う第２の容量配線に重なるように配置されていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の電気光学装置。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれかに記載の電気光学装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【請求項８】
基板を覆うようにトランジスターを形成する工程と、
絶縁層を形成する工程と、
前記絶縁層に埋め込まれるように容量配線を形成する工程と、
前記トランジスターと電気的に接続された画素電極を形成する工程と、
を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項９】
前記容量配線を覆うように誘電体層を形成する工程をさらに含むことを特徴とする請求項８に記載の電気光学装置。
【請求項１０】
基板を覆うように容量配線を形成する工程と、
前記容量配線を覆うように絶縁層を形成する工程と、
前記絶縁層を除去して、前記絶縁層から前記容量配線を露出させ、露出した前記容量配線と前記絶縁層の表面とを平坦化する工程と、
露出した前記容量配線および前記絶縁層を覆う誘電体層を形成する工程と、
前記誘電体層を介して前記容量配線と一部が重なるように画素電極を形成する工程と、
を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１１】
前記絶縁層に埋め込まれるように容量配線を形成する工程は、
前記絶縁層に溝を形成する工程と、
前記溝を埋め、前記絶縁層を覆うように容量配線を形成する工程と、
前記容量配線を除去して、前記容量配線と前記絶縁層の表面とを平坦化する工程と、
を含むことを特徴とする請求項８または９に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項１２】
前記前記絶縁層に埋め込まれるように容量配線を形成する工程は容量配線を形成する工程は、第１導電膜を形成する工程と、前記第１導電膜を覆うように第２導電膜を形成する工程と、を含むことを特徴とする請求項８、９、及び１１のいずれかに記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項１３】
前記基板を覆うように容量配線を形成する工程は、第１導電膜を形成する工程と、前記第１導電膜を覆うように第２導電膜を形成する工程と、を含むことを特徴とする請求項１０に記載の電気光学装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
本発明の一態様の電気光学装置は、基板と、トランジスターと、前記トランジスターと電気的に接続された画素電極と、前記画素電極に電気的に接続された保持容量と、を含み、前記保持容量は、容量配線を含み、前記容量配線は、前記基板と前記画素電極との間に配置された絶縁層に埋め込まれるように配置されたことを特徴とする。
本発明の一態様の電気光学装置の製造方法は、基板を覆うようにトランジスターを形成する工程と、絶縁層を形成する工程と、前記絶縁層に埋め込まれるように容量配線を形成する工程と、前記トランジスターと電気的に接続された画素電極を形成する工程と、を含むことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成26年3月28日(2014.3.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
トランジスターと、
第１の配線と、
前記トランジスターと電気的に接続された第２の配線と、
前記第１の配線と前記第２の配線とを電気的に接続する中継配線と、
前記第１の配線及び第２の配線と、前記中継配線と、の間に配置される第１絶縁層と、
を含むことを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記第１の配線には、所定の電位が供給されることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記第１の配線には、外部接続用端子が電気的に接続されていることを特徴とする請求項１または２に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記第２の配線は、前記トランジスターのソースまたはドレインと電気的に接続されることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の電気光学装置。
【請求項５】
前記トランジスターは、周辺回路に含まれることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の電気光学装置。
【請求項６】
前記第１の配線と、前記第２の配線とは同じ配線層に配置されることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の電気光学装置。
【請求項７】
前記第１の配線及び第２の配線と、前記中継配線と、の間に配置される第２絶縁層をさらに含むことを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の電気光学装置。
【請求項８】
前記トランジスターは、静電気保護回路に含まれることを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載の電気光学装置。
【請求項９】
前記トランジスターは、インバーター回路に含まれることを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載の電気光学装置。
【請求項１０】
前記トランジスターは、ＮＡＮＤ回路に含まれることを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載の電気光学装置。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれかに記載の電気光学装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。
本発明の一態様の電気光学装置は、トランジスターと、第１の配線と、前記トランジスターと電気的に接続された第２の配線と、前記第１の配線と前記第２の配線とを電気的に接続する中継配線と、前記第１の配線及び第２の配線と、前記中継配線と、の間に配置される第１絶縁層と、を含むことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成26年2月28日(2014.2.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一連のオリジナルフレーム画像と、前記一連のオリジナルフレーム画像に基づいて生成された一連の補間フレーム画像とを時分割的に表示する液晶表示部と、
間欠的に発光するバックライトと、
前記オリジナルフレーム画像の表示期間に対応する第１の期間における前記バックライトの第１の発光量と、前記補間フレーム画像の表示期間に対応する第２の期間における前記バックライトの第２の発光量とを独立して制御するバックライト制御部と
を備えた表示装置。
【請求項２】
各オリジナルフレーム画像に基づいて、そのオリジナルフレーム画像を液晶表示部に表示した際に表示面から射出されるであろう表示光量を求める演算部を備え、
前記バックライト制御部は、前記演算部の演算結果に基づいて、前記第１の発光量および前記第２の発光量を制御する
請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記バックライト制御部は、
前記表示光量が増加した場合には、前記第１の発光量を減少させるとともに、前記第２の発光量を増加させ、
前記表示光量が減少した場合には、前記第１の発光量が増加させるとともに、前記第２の発光量を減少させる
請求項２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記バックライト制御部は、複数のフレーム期間にわたり、徐々に前記第１の発光量および前記第２の発光量をそれぞれ変化させる
請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項５】
前記バックライト制御部は、前記第１の発光量および前記第２の発光量の和を一定に制御する
請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項６】
前記第１の発光量は、前記第２の発光量と同じもしくは前記第２の発光量よりも大きい
請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項７】
前記バックライト制御部は、前記第１の発光量および前記第２の発光量を、前記バックライトの発光輝度により制御する
請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項８】
前記バックライト制御部は、前記第１の発光量および前記第２の発光量を、前記第１の期間の長さおよび前記第２の期間の長さによりそれぞれ制御する
請求項１から請求項７のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項９】
前記表示装置周辺における光の環境光量を検出する環境光センサ部をさらに備え、
前記バックライト制御部は、前記環境光センサ部の検出結果に基づいて、前記第１の発光量および前記第２の発光量を制御する
請求項１から請求項８のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項１０】
前記バックライト制御部は、
前記環境光量が増加した場合には、前記第１の発光量を増加させるとともに、前記第２の発光量を減少させ、
前記環境光量が減少した場合には、前記第１の発光量を減少させるとともに、前記第２の発光量を増加させる
請求項９に記載の表示装置。
【請求項１１】
前記バックライトは複数の部分発光部を有し、
前記バックライト制御部は、各部分発光部について、前記第１の発光量と前記第２の発光量とを独立して制御する
請求項１から請求項１０のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項１２】
前記一連のオリジナルフレーム画像に基づいて前記一連の補間フレーム画像を生成する補間画像生成部をさらに備えた
請求項１から請求項１１のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項１３】
一連のオリジナルフレーム画像と、前記一連のオリジナルフレーム画像に基づいて生成された一連の補間フレーム画像とを時分割的に表示する表示部と、
前記オリジナルフレーム画像の表示期間における前記表示部の発光量が、前記オリジナルフレーム画像の画像情報に対応する第１の基本発光量に第１のオフセット発光量を加えた第１の合計発光量になるように前記表示部を制御するとともに、前記補間フレーム画像の表示期間における前記表示部の発光量が、前記補間フレーム画像の画像情報に対応する第２の基本発光量に第２のオフセット発光量を加えた第２の合計発光量になるように前記表示部を制御する表示制御部と
を備え、
前記表示制御部は、前記第１のオフセット発光量と前記第２のオフセット発光量とを独立して制御する
表示装置。
【請求項１４】
一連のオリジナルフレーム画像と、前記一連のオリジナルフレーム画像に基づいて生成された一連の補間フレーム画像を、液晶表示部に時分割的に表示し、
前記オリジナルフレーム画像の表示期間に対応する第１の期間におけるバックライトの第１の発光量と、前記補間フレーム画像の表示期間に対応する第２の期間におけるそのバックライトの第２の発光量とを独立して制御し、間欠的にバックライトを発光させる
表示方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
次に、タイミングｔ５〜ｔ８の期間において、液晶表示部３０では、最上部から最下部に向かって線順次走査が行われ、補間フレーム画像Ｆｉの表示が再度行われる（図５（Ａ））。すなわち、この例では、タイミングｔ４〜ｔ８の期間において、補間フレーム画像Ｆｉの表示が２回繰り返される。そして、液晶表示部３０において液晶素子ＬＣの応答がほぼ終了した後のタイミングｔ６〜ｔ７の期間において、バックライト駆動部１７は、バックライト４０が、表示光量演算部１６により求められた表示光量Ｂに応じた輝度Ｉｉで発光するように駆動する（図５（Ｂ）〜（Ｄ））。具体的には、バックライト４０は、表示光量Ｂが大きいほど高い輝度Ｉｉで発光する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
図７は、表示光量Ｂが変化したときのバックライト４０の輝度の変化を表すものであり、（Ａ）は表示光量Ｂを示し、（Ｂ）はバックライト４０の輝度Ｉ，Ｉｉを示す。この例は、表示光量Ｂが、１００％から５０％に変化する場合を示している。すなわち、図７は、バックライト４０の輝度が、図５（Ｂ）の状態から図５（Ｃ）の状態に変化する場合を示している。表示光量Ｂが１００％の時には、バックライト駆動部１７は、バックライト４０の輝度Ｉ，Ｉｉが同じになるように、バックライト４０を駆動する。そして、タイミングｔ１０において、表示光量Ｂが５０％に変化した後（図７（Ａ））、バックライト駆動部４０は、輝度Ｉが徐々に増加し、輝度Ｉｉが徐々に減少するように、バックライト４０を駆動する（図７（Ｂ））。すなわち、バックライト駆動部１７は、この表示光量Ｂの変化に応じて、すぐに輝度Ｉ，Ｉｉが変化しないように制御する。この、輝度Ｉ，Ｉｉが最終値になるまでの時間（時定数）は、例えば１秒程度に設定することが可能である。これにより、輝度Ｉ，Ｉｉが急激に変化することがないため、観察者が表示画像を不自然に感じるおそれを低減することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１２】
（１０）前記バックライト制御部は、
前記環境光量が増加した場合には、前記第１の発光量を増加させるとともに、前記第２の発光量を減少させ、
前記環境光量が減少した場合には、前記第１の発光量を減少させるとともに、前記第２の発光量を増加させる
前記（９）に記載の表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年3月25日(2014.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
結着樹脂及び磁性酸化鉄を少なくとも含有する磁性トナー粒子とシリカ微粒子を有する磁性トナーであって、前記磁性トナーは、４０℃、１００ｋＨｚにおける誘電損率が０．５０ｐＦ／ｍ以上０．９０ｐＦ／ｍ以下であり、前記シリカ微粒子は、シリコーンオイルによる表面処理が施されており、前記シリコーンオイルの炭素量基準の固定化率が、２０質量％以上であることを特徴とする磁性トナー。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
＜結着樹脂のＤＳＣ曲線の測定方法＞
本発明における結着樹脂のＤＳＣ曲線の吸熱ピークは以下の方法で測定される。結着樹脂の吸熱ピークのピーク温度は、示差走査熱量分析装置「Ｑ１０００」（ＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いてＡＳＴＭ Ｄ３４１８−８２に準じて測定する。
装置検出部の温度補正はインジウムと亜鉛の融点を用い、熱量の補正についてはインジウムの融解熱を用いる。
具体的には、結着樹脂約５ｍｇを精秤し、これをアルミニウム製のパンの中に入れ、リファレンスとして空のアルミニウム製のパンを用い、測定温度範囲３０乃至２００℃の間で、昇温速度１０℃／ｍｉｎで測定を行なう。尚、測定においては、一度２００℃まで昇温させ、続いて降温速度１０℃／ｍｉｎにて３０℃まで降温し、その後、昇温速度１０
℃／ｍｉｎで再度昇温を行なう。この昇温過程において比熱変化が得られる。このときの比熱変化が出る前と出た後のベースラインの中間点の線と示差熱曲線との交点を、結着樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）とする。
一方、この２度目の昇温過程で温度３０℃以上２００℃以下の範囲において、得られた比熱変化を解析する。得られた温度に対するＨｅａｔＦｌｏｗのＤＳＣ曲線において、Ｈｅａｔ Ｆｌｏｗの極小値を示す温度を吸熱ピーク温度（ここで、第１の吸熱ピーク温度をＰ１［℃］、第１の吸熱ピーク温度をＰ２［℃］）とする。
【手続補正書】
【提出日】平成26年3月28日(2014.3.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
１２２は通信制御回路で、通信器１１５を介してカメラから撮影画像データをサーバーコンピュータへの送信を行ったり、サーバーコンピュータから画像データや各種情報の受信を行ったりする。１２３は姿勢検知回路で、姿勢検知センサ１１６の出力信号からカメラの姿勢を判別する。１２４は撮像素子駆動回路で、固体撮像素子１０７の撮像動作を制御し、固体撮像素子１０７から取得したアナログ画像信号をデジタル信号に変換してＣＰＵ１２１に出力する。１２５は画像処理回路で、固体撮像素子１０７から取得した画像信号のγ変換、カラー補間、画像圧縮等の処理を行ない、デジタル画像データを生成する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
図２は２次元ＣＭＯＳエリアセンサの縦（Ｙ方向）１３行と横（Ｘ方向）１５列の範囲を、撮影光学系から観察した状態を示している。カラーフィルタはベイヤー配列が適用され、奇数行の画素には、左から順に緑（Ｇｒｅｅｎ）と赤（Ｒｅｄ）のカラーフィルタが交互に設けられる。また、偶数行の画素には、左から順に青（Ｂｌｕｅ）と緑（Ｇｒｅｅｎ）のカラーフィルタが交互に設けられる。２１１ｉ、２２１ｉ等の円はオンチップマイクロレンズを表わす。オンチップマイクロレンズの内側に配置された複数の矩形はそれぞれ光電変換部である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
そして、第２及び第３の各画素６２１，６２２では、４個の光電変換部ａ〜ｄの出力信号の加算方法が以下のように分類される。
（ｉ）ａ、ｂ、ｃ、ｄの信号を加算
（ｉｉ）ａ、ｂの信号を加算
（ｉｉｉ）ｃ、ｄの信号を加算
（ｉｖ）ｃまたはｄの信号
図９は、図７における遮光部ｐ１，ｐ２が設けられた画素の瞳強度分布を示している。以下では（Ａ）画素について説明を行うが、（Ｂ）画素は（Ａ）画素に対して遮光部の開口が左右（ここではＸ軸方向）対称なだけであるため瞳強度分布も左右対称な特性となる。また、図８に示す遮光部ｐ３，ｐ４については、瞳強度は図９とは異なるものの、瞳強度分布は左右対称な特性となる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
また、撮影光学系のＦ値が暗く（Ｆナンバーが大きい）なってくると焦点検出用光束のケラレが大きくなり、一対の焦点検知用信号の相似性が損なわれてくるため焦点検出能力が低下してくる。更にこのケラレ現象はデフォーカス量に依存するため、デフォーカス量が大きいときには焦点検出能力が一層低下してしまう。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
ここで、撮影光学系の射出瞳面上における焦点検出用瞳と、固体撮像素子の各画素における光電変換部とは、オンチップマイクロレンズを介して共役関係にある。そこで、焦点検出用画素の開口をスリット形状として評価しうる被写体の縞パターン方向を開口の短辺方向とすることで、焦点検出用の瞳分割方向における瞳寸法を小さくすることで上記焦点検出能力の低下を回避する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
第２の読み出しモードは間引き読み出しモードと称し、動画又はプレビュー画像の表示のみを行うためのモードである。この場合に必要な画素数は全画素よりも少ないため、第１の画素２１１はＸ方向及びＹ方向ともに所定比率に間引いた画素のみ読み出す。また第２及び第３の各画素２２１，２２２，６２１，６２２からすべての信号を読み出すことで、焦点検出機能は維持される。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７９】
図１３（ａ）においては、画面中央に人物の顔が存在している。そこで公知の顔認識技術によって顔の存在が検出されると、顔領域を中心に第３の画素２２２による一対の焦点検出用信号ＡＦｂ及びＡＦｃが得られる。また、顔以外の領域は、所定ピッチで焦点検出領域が撮影画面全面にわたって設定される。図１３（ａ）の左は木の幹に対応した焦点検出領域とその信号が、右上には山の稜線に対応した焦点検出領域とその信号が示されている。そして、各焦点検出領域にて得られた一対の信号はそれぞれ横ずれしているため、公知の相関演算により横ずれ量を計算し、さらに上記横ずれ量を基線長で除算を行うことでデフォーカス量を算出する。
【手続補正書】
【提出日】平成26年2月24日(2014.2.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
前記光ファイバの出射端側のコアの断面形状が矩形状又は略矩形状である請求項１〜３のいずれか１項に記載の微小粒子分析装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
以下、本開示を実施するための形態について、添付の図面を参照して詳細に説明する。なお、本開示は、以下に示す各実施形態に限定されるものではない。また、説明は、以下の順序で行う。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
［検出部３］
検出部３は、例えば、ＣＣＤ（Charge Coupled Device；電荷結合素子）及びＰＭＴ（Photo-Multiplier Tube；光電子増倍管）などの光検出器３３、対物レンズ３１、波長フィルタ３２などを備えている。そして、微小粒子５から発せられた蛍光及び／又は散乱光は、対物レンズ３１で集光された後、波長フィルタ３２により検出対象の波長のみが反射され、光検出器３３に入射する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
本実施形態の微小粒子分析装置１においては、光照射部２の光源２１から出射されたレーザ光を、トップハット型光ファイバ２５を介して、マイクロチップ（図示せず）に形成された流路内を通流する微小粒子５に照射する。そして、微小粒子５から発せられた蛍光及び／又は散乱光を、検出部３の対物レンズ３１で捕捉した後、波長フィルタ３２により試料から発せられた光以外の外乱成分を除去し、光検出器３３で検出する。
【手続補正書】
【提出日】平成26年3月27日(2014.3.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被測定物が設置される位置に対して第１の方向に配置された第１ガスセルと、
前記第１ガスセルに対して前記第１の方向に設置された第２ガスセルと、
前記第１ガスセルを通過した第１の光を用いて磁場の測定を行う第１測定部と、
前記第２ガスセルを通過した第２の光を用いて磁場の測定を行う第２測定部と、
前記第１の方向は第１の軸方向に平行であり、前記被測定物、前記第１ガスセル、および前記第２ガスセルを、前記第１の軸方向において挟むように対向して配置された一対の磁場発生部と、
前記第１測定部及び前記第２測定部における所定の成分の測定結果を基にして生成された所定の信号を出力する出力部と、を含み、
前記第１の光及び前記第２の光は前記第１の軸方向とは異なる方向から照射され、
前記磁場発生部は、前記第２の測定部で計測される前記所定の成分の測定値が、前記第１の測定部で計測される前記所定の成分の測定値よりも小さくなる磁場を発生させることを特徴とする磁場測定装置。
【請求項２】
前記所定の成分は、磁場の前記第１の方向の成分であることを特徴とする請求項１に記載の磁場測定装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の磁場測定装置を、互いに異なる方向ごとに複数備える
ことを特徴とする磁場測定システム。
【請求項４】
前記互いに異なる方向は、前記第１の軸方向に平行な方向と前記第１の軸に直角に交わる方向である
ことを特徴とする請求項３に記載の磁場測定システム。
【請求項５】
第１測定部が、被測定物の設置される位置からみて予め決められた第１の方向に配置された第１ガスセルに光を照射して、当該第１ガスセルにおける磁場の前記方向の成分を測定し、
第２測定部が、前記第１ガスセルからみて前記第１の方向に配置された第２ガスセルに光を照射して、当該第２ガスセルにおける磁場の前記第１の方向の成分を測定し、
磁場発生手段が、前記被測定物、前記第１ガスセル、および前記第２ガスセルを前記第
１の方向に沿って挟み、前記第２測定部により測定された前記成分が小さくなるように、前記第２ガスセルに向けて磁場を発生させ、
出力部が、前記第１測定部と前記第２測定部とがそれぞれ測定した前記成分の差に応じた信号を出力する
ことを特徴とする磁場測定方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明に係るひとつの磁場測定装置は、被測定物が設置される位置に対して第１の方向に配置された第１ガスセルと、前記第１ガスセルに対して前記第１の方向に設置された第２ガスセルと、前記第１ガスセルを通過した第１の光を用いて磁場の測定を行う第１測定部と、前記第２ガスセルを通過した第２の光を用いて磁場の測定を行う第２測定部と、前記第１の方向は第１の軸方向に平行であり、前記被測定物、前記第１ガスセル、および前記第２ガスセルを、前記第１の軸方向において挟むように対向して配置された一対の磁場発生部と、前記第１測定部及び前記第２測定部における所定の成分の測定結果を基にして生成された所定の信号を出力する出力部と、を含み、前記第１の光及び前記第２の光は前記第１の軸方向とは異なる方向から照射され、前記磁場発生部は、前記第２の測定部で計測される前記所定の成分の測定値が、前記第１の測定部で計測される前記所定の成分の測定値よりも小さくなる磁場を発生させることを特徴とする。
上記のひとつの磁場測定装置において、前記所定の成分は、磁場の前記第１の方向の成分であることが好ましい。
本発明に係るひとつの磁場測定システムは、上記のひとつの磁場測定装置を、互いに異なる方向ごとに複数備えることが好ましい。
上記のひとつの磁場測定システムにおいて、前記互いに異なる方向は、前記第１の軸方向に平行な方向と前記第１の軸に直角に交わる方向であるが好ましい。
本発明に係るひとつの磁場測定方法は、第１測定部が、被測定物の設置される位置からみて予め決められた第１の方向に配置された第１ガスセルに光を照射して、当該第１ガスセルにおける磁場の前記方向の成分を測定し、第２測定部が、前記第１ガスセルからみて前記第１の方向に配置された第２ガスセルに光を照射して、当該第２ガスセルにおける磁場の前記第１の方向の成分を測定し、磁場発生手段が、前記被測定物、前記第１ガスセル、および前記第２ガスセルを前記第１の方向に沿って挟み、前記第２測定部により測定された前記成分が小さくなるように、前記第２ガスセルに向けて磁場を発生させ、出力部が、前記第１測定部と前記第２測定部とがそれぞれ測定した前記成分の差に応じた信号を出力することを特徴とする。
本発明は、被測定物が設置される位置からみて予め決められた方向に配置された第１ガスセルと、前記第１ガスセルからみて前記方向に配置された第２ガスセルと、前記第１ガスセルに光を照射して、当該第１ガスセルにおける磁場の前記方向の成分を測定する第１測定部と、前記第２ガスセルに光を照射して、当該第２ガスセルにおける磁場の前記方向の成分を測定する第２測定部と、前記被測定物、前記第１ガスセル、および前記第２ガスセルを前記方向に沿って挟み、前記第２測定部により測定された前記成分が小さくなるように、前記第２ガスセルに向けて磁場を発生させる磁場発生手段と、前記第１測定部と前記第２測定部とがそれぞれ測定した前記成分の差に応じた信号を出力する出力部とを備えることを特徴とする磁場測定装置を提供する。この構成によれば、ガスセルに光を照射してそのガスセルにおける磁場の予め決められた方向の成分を測定する測定部に対し、その測定部が測定可能な範囲を超えた外乱がある場合でも、その外乱に影響されずに被測定物の磁場を測定することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成26年2月4日(2014.2.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
検査対象となる表示パネルを保持するパネル保持部と、
前記パネル保持部に保持された前記表示パネルを撮像して画像データを取得する撮像部とを備え、
前記表示パネルに画像を形成するための最小単位である所定の色を表示する複数の絵素が設けられ、
前記撮像部に前記絵素を撮像するための複数の画素が設けられ、
前記絵素の１色のみの表示が前記撮像部によって撮像されて前記画像データが取得され、
取得された前記画像データに基づいて前記絵素毎の前記画素に対する基準位置が設定され、
設定された前記絵素の基準位置に基づいて前記画像データのモアレ成分を除去するためのモアレ補正係数が算出され、
算出された前記モアレ補正係数に基づいて前記モアレ成分が除去されて前記画像データから輝度ムラ検出データが生成され、
生成された前記輝度ムラ検出データと予め定められた基準データとを比較して前記表示パネルに表示される画像の輝度ムラの発生箇所を検出する
輝度ムラ検出装置。
【請求項２】
前記撮像部が１回の撮像によって前記表示パネルの全ての表示領域を撮像するようにした
請求項１に記載の輝度ムラ検出装置。
【請求項３】
前記撮像部の全領域が、複数の所定の数の前記画素によって構成された画素ブロックが複数設けられて成り、
前記各画素ブロックにおいてそれぞれ前記各画素によって前記絵素の輝度値を検出して当該輝度値の総和を算出し、
前記画素ブロック毎に前記表示パネルの前記輝度ムラ検出データを生成するようにした
請求項１又は請求項２に記載の輝度ムラ検出装置。
【請求項４】
前記複数の画素が格子状に配列され、
前記画素の並び方向における一方向が第１の方向とされ、
前記画素ブロックに含まれる前記複数の画素のうちの所定の位置に存在する一部の画素によって前記絵素の輝度値が検出されるように前記第１の方向における前記基準位置を設定した
請求項３に記載の輝度ムラ検出装置。
【請求項５】
前記画素の並び方向における前記第１の方向に直交する方向が第２の方向とされ、
前記第１の方向に並ぶ前記各画素によってそれぞれ前記第２の方向に並ぶ複数の第１の画素ラインが構成され、
前記各第１の画素ラインの全ての前記画素によって検出された前記絵素の輝度値の総和が前記第１の画素ライン毎に算出され、
算出された前記各第１の画素ラインの総和に基づいて周期関数が定義され、
定義された前記周期関数に基づいて前記第２の方向における前記基準位置を設定するようにした
請求項４に記載の輝度ムラ検出装置。
【請求項６】
前記第２の方向に並ぶ前記各画素によってそれぞれ前記第１の方向に並ぶ複数の第２の画素ラインが構成され、
前記各第２の画素ラインの全ての前記画素によって検出された前記絵素の輝度値の総和が前記第２の画素ライン毎に算出され、
前記複数の第２の画素ラインのうち前記第１の方向における一端に位置する前記第２の画素ラインが基準ラインとされ、
前記基準ラインを基準にして所定の位置にある前記第２の画素ラインが特定ラインとされ、
前記特定ラインにおいて検出された前記輝度値の総和と前記基準ラインから前記特定ラインまでの前記各第２の画素ラインにおいてそれぞれ検出された前記輝度値の各総和とを比較して前記第１の方向における前記基準位置を設定するようにした
請求項５に記載の輝度ムラ検出装置。
【請求項７】
前記モアレ補正係数が前記絵素の所定の色毎に定められるようにした
請求項１、請求項２、請求項３、請求項４、請求項５又は請求項６に記載の輝度ムラ検出装置。
【請求項８】
前記モアレ成分による前記表示パネルにおける輝度が前記表示パネルの中央を基準として同心円状に変化するように前記表示パネルに対する前記撮像部の位置及び向きが調整されるようにした
請求項１、請求項２、請求項３、請求項４、請求項５、請求項６又は請求項７に記載の輝度ムラ検出装置。
【請求項９】
画像を形成するための最小単位である所定の色を表示する複数の絵素が設けられパネル保持部に保持された表示パネルに前記絵素の１色のみを表示し、
前記表示パネルに表示された前記絵素の１色のみの表示を撮像部によって撮像して画像データを取得し、
取得した前記画像データに基づいて前記絵素毎の前記画素に対する基準位置を設定し、
設定した前記絵素の基準位置に基づいて前記画像データのモアレ成分を除去するためのモアレ補正係数を算出し、
算出したモアレ補正係数に基づいて前記モアレ成分を除去して前記画像データから輝度ムラ検出データを生成し、
生成した前記輝度ムラ検出データと予め定められた基準データとを比較して前記表示パネルに表示される画像の輝度ムラの発生箇所を検出する
輝度ムラ検出方法。
【請求項１０】
輝度ムラ検出装置によって輝度ムラの発生箇所に関する判別が行われた表示パネルと、
前記表示パネルを保持する筐体とを備え、
前記輝度ムラ検出装置が、
検査対象となる表示パネルを保持するパネル保持部と、
前記パネル保持部に保持された前記表示パネルを撮像して画像データを取得する撮像部を有する撮像部とを備え、
前記表示パネルに画像を形成するための最小単位である所定の色を表示する複数の絵素が設けられ、
前記撮像部に前記絵素を撮像するための複数の画素が設けられ、
前記絵素の１色のみの表示が前記撮像部によって撮像されて前記画像データが取得され、
取得された前記画像データに基づいて前記絵素毎の前記画素に対する基準位置が設定され、
設定された前記絵素の基準位置に基づいて前記画像データのモアレ成分を除去するためのモアレ補正係数が算出され、
算出されたモアレ補正係数に基づいて前記モアレ成分が除去されて前記画像データから輝度ムラ検出データが生成され、
生成された前記輝度ムラ検出データと予め定められた基準データとを比較して前記表示パネルに表示される画像の輝度ムラの発生箇所を検出する
表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１７１】
（６）前記第２の方向に並ぶ前記各画素によってそれぞれ前記第１の方向に並ぶ複数の第２の画素ラインが構成され、前記各第２の画素ラインの全ての前記画素によって検出された前記絵素の輝度値の総和が前記第２の画素ライン毎に算出され、前記複数の第２の画素ラインのうち前記第１の方向における一端に位置する前記第２の画素ラインが基準ラインとされ、前記基準ラインを基準にして所定の位置にある前記第２の画素ラインが特定ラインとされ、前記特定ラインにおいて検出された前記輝度値の総和と前記基準ラインから前記特定ラインまでの前記各第２の画素ラインにおいてそれぞれ検出された前記輝度値の各総和とを比較して前記第１の方向における前記基準位置を設定するようにした前記（５）に記載の輝度ムラ検出装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月7日(2014.5.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
開口部を有する支持体と、
前記支持体上に設けられて、前記開口部を閉塞するダイアフラム部を有する支持膜、及び前記ダイアフラム部上に設けられて、撓むことで電気信号を出力する圧電体を備えた圧力検出部と、
前記圧力検出部上に、前記支持膜の膜厚み方向に沿う筒状の空洞部を有するとともに、前記支持膜を膜厚み方向から見た平面視において、前記空洞部の筒状内周壁が前記開口部の内周縁と重なる位置、または前記開口部の内周縁よりも外側に形成される枠体と、
前記枠体を閉塞する封止膜と、
前記空洞部の筒状内周壁、前記封止膜、前記圧力検出部により形成される内部空間に充填される圧力媒体と、を備える圧力センサーが複数配置されてなるセンサーアレイであって、
隣り合う前記圧力センサーの枠体間には、間隙が形成されていることを特徴とするセンサーアレイ。
【請求項２】
請求項１に記載のセンサーアレイであって、
第２開口部を有する第２支持体、前記第２支持体上に設けられて、前記第２開口部を閉塞する第２ダイアフラム部を有する第２支持膜、及び前記第２ダイアフラム部上に設けられて、電圧の印加により撓む第２圧電体を備えた超音波トランスデューサー部を有する超音波センサーと、を備えることを特徴とするセンサーアレイ。
【請求項３】
請求項２に記載のセンサーアレイであって、
前記超音波センサーは、前記超音波トランスデューサー部上に、前記第２支持膜の膜厚み方向に沿う筒状の第２空洞部を有するとともに、前記第２支持膜を膜厚み方向から見た平面視において、前記第２空洞部の筒状内周壁が前記第２開口部の内周縁と重なる位置、または前記第２開口部の内周縁よりも外側に形成される第２枠体を更に備えることを特徴とするセンサーアレイ。
【請求項４】
請求項３に記載のセンサーアレイであって、
複数の前記圧力センサー及び複数の前記超音波センサーを備え、
隣り合う前記圧力センサーの枠体の間、隣り合う前記超音波センサーの第２枠体の間、または隣り合う前記圧力センサーの枠体と前記超音波センサーの第２枠体との間には、間隙が形成されていることを特徴とするセンサーアレイ。
【請求項５】
請求項４に記載のセンサーアレイであって、前記支持体と前記第２支持体は共通の共通支持体であり、前記共通支持体から前記圧力センサーの頂部までの高さは、前記共通支持体から前記超音波センサーの頂部までの高さより高く形成されていることを特徴とするセンサーアレイ。
【請求項６】
請求項４または５に記載のセンサーアレイであって、
前記圧力センサー及び前記超音波センサーは、交互に配置される２次元アレイ構造を備えていることを特徴とするセンサーアレイ。
【請求項７】
請求項１または４に記載のセンサーアレイであって、
前記間隙は、前記圧力センサーに対して第１の圧力が印加された際に、前記枠体が撓んで、隣の前記圧力センサーの前記枠体、または隣の前記超音波センサーの前記第２枠体と接触する寸法に設定されており、
前記第１の圧力は、前記圧力センサーの許容圧力よりも小さいことを特徴とする、センサーアレイ。
【請求項８】
複数の圧力センサーを含むセンサーアレイの製造方法であって、
支持体上に支持膜を形成し、前記支持膜上に圧電体を形成して、複数の圧力検出部を形成する圧力検出部形成工程と、
前記複数の圧力検出部上に前記圧電体を覆う枠体層を形成する枠体層形成工程と、
前記枠体層形成工程により形成される前記枠体層の一部を除去して、筒状内周壁を有する空洞部を備え、隣り合う枠体間に間隙を有するように枠体を形成する枠体形成工程と、
前記空洞部内に圧力媒体を充填する充填工程と、
ロールコート法により前記空洞部を閉塞し、前記圧力媒体を封止する封止膜を形成する膜形成工程と、を備えることを特徴とするセンサーアレイの製造方法。
【請求項９】
請求項８に記載のセンサーアレイの製造方法であって、
前記支持膜を膜厚み方向から見た平面視で前記間隙と重なる位置において前記支持膜を分割する溝を形成する工程、をさらに備えることを特徴とするセンサーアレイの製造方法。
【請求項１０】
請求項８に記載のセンサーアレイの製造方法であって、
前記支持体の下側にセンサー基板を貼る工程と、
前記センサー基板の少なくとも一部を残して、前記支持膜を膜厚み方向から見た平面視で前記間隙と重なる位置において前記支持体を分割する溝を形成する工程と、
をさらに備えることを特徴とするセンサーアレイの製造方法。
【請求項１１】
請求項８に記載のセンサーアレイの製造方法であって、
前記膜形成工程を行った後、前記圧力センサーを一つ以上含むブロックに分割する行程と、
前記ブロックを、前記圧力センサーの下側がセンサー基板側にくるよう前記センサー基板に貼り付ける行程と、をさらに備えることを特徴とするセンサーアレイの製造方法。
【請求項１２】
複数の圧力センサーと複数の超音波センサーとを含むセンサーアレイの製造方法であって、
支持体上に支持膜を形成し、前記支持膜上に圧電体を形成して、複数の圧力検出部及び複数の超音波トランスデューサー部を形成する圧電体センサー部形成工程と、
前記複数の圧力検出部及び複数の超音波トランスデューサー部上に前記圧電体を覆う枠体層を形成する枠体層形成工程と、
前記枠体層形成工程により形成される前記枠体層の一部を除去して、筒状内周壁を有する空洞部を備え、かつ間隙により区分される複数の枠体を形成する枠体形成工程と、
一部の前記空洞部内に圧力媒体を充填する充填工程と、
ロールコート法により前記空洞部を閉塞し、前記圧力媒体を封止する封止膜を形成する膜形成工程と、を備えることを特徴とするセンサーアレイの製造方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載のセンサーアレイの製造方法であって、
前記支持膜を膜厚み方向から見た平面視において、前記間隙と重なる位置において前記支持膜を分割する溝を形成する工程をさらに備えることを特徴とするセンサーアレイの製造方法。
【請求項１４】
請求項１２に記載のセンサーアレイの製造方法であって、
前記支持体の下側にセンサー基板を貼る工程と、
前記センサー基板の少なくとも一部を残して、前記支持膜を膜厚み方向から見た平面視で前記間隙と重なる位置において前記支持体を分割する溝を形成する工程をさらに備えることを特徴とするセンサーアレイの製造方法。
【請求項１５】
請求項１２に記載のセンサーアレイの製造方法であって、
前記膜形成工程を行った後、前記圧力センサーまたは超音波センサーを少なくとも一つ以上含むブロックに分割する行程と、
前記ブロックを、前記圧力センサーの下側がセンサー基板側にくるよう前記センサー基板に貼り付ける行程とを、さらに備えることを特徴とするセンサーアレイの製造方法。
【請求項１６】
請求項１〜７のいずれか一項に記載のセンサーアレイを備え、物体を把持する把持装置であって、
前記物体を把持するとともに、前記物体に接触する接触面に少なくとも１つの前記センサーアレイが設けられる一対の把持アームと、
前記センサーアレイから出力される電気信号に基づいて、前記物体の把持状態を検出する把持検出手段と、
前記把持状態に基づいて、前記把持アームの駆動を制御する駆動制御手段と、を備えることを特徴とする把持装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年2月21日(2014.2.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
作動流体が封入されたシリンダと、
前記シリンダ内に摺動可能に嵌装され、該シリンダ内を２室に区画するピストンと、
前記ピストンに連結されると共に前記２室の内の一方の室を介して前記シリンダの外部に延出されたピストンロッドと、
前記シリンダ内に設けられ、前記ピストンロッドに弾性的に作用して前記ピストンロッドの伸び切りを抑制する弾性部材と、
前記ピストンの移動により前記２室間を作動流体が流れるように連通する第１通路と、
前記２室のうちの一方の室に連通される第２通路と、を備え、
前記第１通路は、前記ピストンの移動によって生じる前記作動流体の流れを抑制して減衰力を発生させる減衰バルブを有し、
前記第２通路は、前記ピストンロッドが伸び方向に移動したとき前記弾性部材によって面積が調整される可変オリフィスと、前記可変オリフィスと直列に設けられたハウジングと、を有し、
前記ハウジングのフリーピストンの一方側は前記第２通路と接続されて圧力室を形成し、前記フリーピストンの他方側は前記２室の内の他方の室と連通することを特徴とする緩衝器。
【請求項２】
前記可変オリフィスは、前記ピストンロッドが伸び方向に移動したとき前記弾性部材によって面積が減少するよう調整されることを特徴とする請求項１に記載の緩衝器。
【請求項３】
前記可変オリフィスは、前記ピストンロッドが伸び方向に移動したとき前記弾性部材によって面積が増加するよう調整されることを特徴とする請求項１に記載の緩衝器。
【請求項４】
前記減衰バルブは、第１の固定オリフィスを有する第１減衰バルブと、第２の固定オリフィスを有する第２減衰バルブと、を直列に配し、前記第１減衰バルブと前記第２減衰バルブとの間と、前記可変オリフィスの下流側とが連通する構成としたことを特徴とする請求項１に記載の緩衝器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記目的を達成するために、本発明は、ピストンの移動により２室間を作動流体が流れるように連通する第１通路と、前記２室のうちの一方の室に連通される第２通路と、を備え、前記第１通路は、前記ピストンの移動によって生じる前記作動流体の流れを抑制して減衰力を発生させる減衰バルブを有し、前記第２通路は、ピストンロッドが伸び方向に移動したとき弾性部材によって面積が調整される可変オリフィスと、前記可変オリフィスと直列に設けられたハウジングと、を有し、前記ハウジングのフリーピストンの一方側は前記第２通路と接続されて圧力室を形成し、前記フリーピストンの他方側は前記２室の内の他方の室と連通する。
【手続補正書】
【提出日】平成26年2月17日(2014.2.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
作動液が封入されたシリンダと、
作動液及びガスが封入されたリザーバと、
前記シリンダ内に摺動可能に嵌装されて該シリンダ内を第１室と第２室とに画成するピストンと、
一端部が前記ピストンに連結され、他端部が前記第１室を通って外部へ延出されたピストンロッドと、
前記第２室と前記リザーバとを画成するベースバルブと、
前記ピストンに設けられて前記第２室側から前記第１室側への作動液の流通を許容する第１逆止弁と、
前記ベースバルブに設けられて前記リザーバ側から前記第２室側への作動液の流通を許容する第２逆止弁と、前記第１室と前記リザーバとを接続する通路と、該通路の作動液の流れを制御して減衰力を調整する減衰力調整機構とを備え、
前記第１及び第２逆止弁の少なくとも一方に対して、並列にオリフィス通路を設け、該オリフィス通路にはサブ逆止弁を設け、該サブ逆止弁は、前記オリフィス通路が並列に設けられた逆止弁に対して、より低い圧力で開弁して同じ方向の作動液の流れを許容する構成とし、
前記減衰力調整機構はパイロット型制御弁であり、前記第１及び第２逆止弁の開弁時のピストン速度は、前記パイロット型制御弁の開弁時のピストン速度より低速であることを特徴とする減衰力調整式緩衝器。
【請求項２】
前記減衰力調整機構は、パイロット型圧力制御弁であることを特徴とする請求項１に記載の減衰力調整式緩衝器。
【請求項３】
前記減衰力調整機構は、パイロット型流量制御弁であることを特徴とする請求項１に記載の減衰力調整式緩衝器。
【請求項４】
前記第１及び第２逆止弁の開弁時のピストン速度を０．１ｍ／ｓ以下としたことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の減衰力調整式緩衝器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記の課題を解決するために、本発明に係る減衰力調整式緩衝器は、作動液が封入されたシリンダと、作動液及びガスが封入されたリザーバと、前記シリンダ内に摺動可能に嵌装されて該シリンダ内を第１室と第２室とに画成するピストンと、一端部が前記ピストンに連結され、他端部が前記第１室を通って外部へ延出されたピストンロッドと、前記第２室と前記リザーバとを画成するベースバルブと、前記ピストンに設けられて前記第２室側から前記第１室側への作動液の流通を許容する第１逆止弁と、前記ベースバルブに設けられて前記リザーバ側から前記第２室側への作動液の流通を許容する第２逆止弁と、前記第１室と前記リザーバとを接続する通路と、該通路の作動液の流れを制御して減衰力を調整する減衰力調整機構とを備え、
前記第１及び第２逆止弁の少なくとも一方に対して、並列にオリフィス通路を設け、該オリフィス通路にはサブ逆止弁を設け、該サブ逆止弁は、前記オリフィス通路が並列に設けられた逆止弁に対して、より低い圧力で開弁して同じ方向の作動液の流れを許容する構成とし、前記減衰力調整機構はパイロット型制御弁であり、前記第１及び第２逆止弁の開弁時のピストン速度は、前記パイロット型制御弁の開弁時のピストン速度より低速であることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成26年2月21日(2014.2.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
背景画像と任意の対象物画像を含む矩形画像を、矩形以外の任意の形状の表示領域を有する表示部に表示させる画像表示装置において、
前記表示領域の形状に対応する曲線座標に基づいて、前記矩形画像の背景画像に第１の画像変形処理を行なう第1変形処理手段と、
前記第1変形処理手段によって変形処理された前記背景画像と、前記第1変形処理手段によって変形処理されていない前記対象物画像とを合成する画像合成処理手段と、
前記画像合成処理手段によって合成された画像を、前記表示領域に表示する表示手段と、
を備えることを特徴とする画像表示装置。
【請求項２】
前記画像合成処理手段は、
前記対象物画像に対して前記第1変形処理手段による変形処理とは異なる第２の変形処理を行なう第２変形処理手段をさらに備え、
前記第1変形処理手段によって変形処理された前記背景画像と、前記第２変形処理手段によって変形処理された前記対象物画像とを合成することを特徴とする請求項１記載の画像表示装置。
【請求項３】
前記第1変形処理手段は、前記表示領域の中央付近の領域に対して、前記表示領域の周縁部近傍の領域で、前記矩形画像の変形が大きくなるように、前記矩形画像を変形することを特徴とする請求項１又は２記載の画像表示装置。
【請求項４】
前記第1変形処理手段は、任意の絵画調パターンに基づいて絵画変換する絵画変換処理手段をさらに備えることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の画像表示装置。
【請求項５】
前記第２変形処理手段は、任意の絵画調パターンに基づいて絵画変換する絵画変換処理手段をさらに備えることを特徴とする請求項２記載の画像表示装置。
【請求項６】
前記画像合成処理手段は、前記対象物画像が前記表示領域内に表示不可能な場合には、当該表示領域内に表示可能となるように、前記対象物画像を変形させ、当該変形された前記対象物画像の大きさが所定の基準値以下の場合には、前記対象物画像から抽出された特徴部分画像と、前記対象物画像とを置換して、前記第1変形処理手段によって前記変形処理された前記背景画像と前記特徴部分画像とを合成することを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の画像表示装置。
【請求項７】
背景画像と任意の対象物画像を含む矩形画像を、矩形以外の任意の形状の表示領域を有する表示部に表示させる画像表示装置において、
前記表示領域の形状に対応する曲線座標に基づいて、前記矩形画像の背景画像に第１の画像変形処理を行なう第1変形処理ステップと、
前記第1変形処理ステップによって変形処理された前記背景画像と、前記第1変形処理ステップによって変形処理されていない前記対象物画像とを合成する画像合成処理ステップと、
前記画像合成処理ステップによって合成された画像を、前記表示領域に表示する表示ステップと、
を含むことを特徴とする画像処理方法。
【請求項８】
コンピュータに画像表示装置を制御させて、所望の画像を表示させる画像処理プログラムであって、
表示領域の形状に対応する曲線座標に基づいて、背景画像と任意の対象画像を含む矩形画像の背景画像に第１の画像変形処理を行なう第1変形処理手段、
前記第1変形処理手段によって変形処理された前記背景画像と、前記第1変形処理手段によって変形処理されていない前記対象物画像とを合成する画像合成処理手段、
前記画像合成処理手段によって合成された画像を、前記表示領域に表示する表示手段、
として機能させることを特徴とする画像処理プログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明に係る画像表示装置は、
背景画像と任意の対象物画像を含む矩形画像を、矩形以外の任意の形状の表示領域を有する表示部に表示させる画像表示装置において、
前記表示領域の形状に対応する曲線座標に基づいて、前記矩形画像の背景画像に第１の画像変形処理を行なう第1変形処理手段と、
前記第1変形処理手段によって変形処理された前記背景画像と、前記第1変形処理手段によって変形処理されていない前記対象物画像とを合成する画像合成処理手段と、
前記画像合成処理手段によって合成された画像を、前記表示領域に表示する表示手段と、
を備えることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明に係る画像処理方法は、
背景画像と任意の対象物画像を含む矩形画像を、矩形以外の任意の形状の表示領域を有する表示部に表示させる画像表示装置において、
前記表示領域の形状に対応する曲線座標に基づいて、前記矩形画像の背景画像に第１の画像変形処理を行なう第1変形処理ステップと、
前記第1変形処理ステップによって変形処理された前記背景画像と、前記第1変形処理ステップによって変形処理されていない前記対象物画像とを合成する画像合成処理ステップと、
前記画像合成処理ステップによって合成された画像を、前記表示領域に表示する表示ステップと、
を含むことを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明に係る画像処理プログラムは、
コンピュータに画像表示装置を制御させて、所望の画像を表示させる画像処理プログラムであって、
表示領域の形状に対応する曲線座標に基づいて、背景画像と任意の対象画像を含む矩形画像の背景画像に第１の画像変形処理を行なう第1変形処理手段、
前記第1変形処理手段によって変形処理された前記背景画像と、前記第1変形処理手段によって変形処理されていない前記対象物画像とを合成する画像合成処理手段、
前記画像合成処理手段によって合成された画像を、前記表示領域に表示する表示手段、
として機能させる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】