【手続補正書】
【提出日】平成26年1月24日(2014.1.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材、および前記透明基材の少なくとも一面に備えられた電気伝導性パターンを含む伝導体であって、前記透明基材の全体面積の３０％以上が、前記電気伝導性パターンと交差する直線を描いた時、前記直線と前記電気伝導性パターンの隣接する交点間の距離の平均値に対する標準偏差の比率（距離分布比率）が２％以上である電気伝導性パターンを有し、
前記伝導体は、開口率が７０％以上であることを特徴とする伝導体。
【請求項２】
前記電気伝導性パターンと交差する直線は、前記電気伝導性パターンとの隣接する交点間の距離の標準偏差が最も小さい線であることを特徴とする、請求項１に記載の伝導体。
【請求項３】
前記電気伝導性パターンと交差する直線は、前記電気伝導性パターンのいずれか１点の接線に対して垂直した方向に延びた直線であることを特徴とする、請求項１または２に記載の伝導体。
【請求項４】
前記電気伝導性パターンと交差する直線は、前記電気伝導性パターンとの交点が８０個以上である、請求項１から３のいずれか一項に記載の伝導体。
【請求項５】
前記電気伝導性パターンと交差する直線と前記電気伝導性パターンの隣接する交点間の距離の平均値に対する標準偏差の比率（距離分布比率）が２０％以上である、請求項１から４のいずれか一項に記載の伝導体。
【請求項６】
前記電気伝導性パターンは、ボロノイダイアグラムをなす図形の境界線形態のパターンを有する、請求項１から５のいずれか一項に記載の伝導体。
【請求項７】
前記電気伝導性パターンは、線幅が１００マイクロメータ以下であり、線間間隔が３０ｍｍ以下であり、透明基材の表面からの線の高さが１〜１００マイクロメータである、請求項１から６のいずれか一項に記載の伝導体。
【請求項８】
直径２０ｃｍの任意の円に対する透過率偏差が５％以下であることを特徴とする、請求項１から７のいずれか一項に記載の伝導体。
【請求項９】
前記透明基材は、ガラス、プラスチック基板またはプラスチックフィルムである、請求項１から８のいずれか一項に記載の伝導体。
【請求項１０】
前記伝導体は、単位面積当たり抵抗値が、常温において、０．０１ｏｈｍ／ｓｑｕａｒｅ〜１０００ｏｈｍ／ｓｑｕａｒｅである、請求項１から９のいずれか一項に記載の伝導体。
【請求項１１】
前記伝導体は、外部要因によって電流を伝導させるように構成される、請求項１から１０のいずれか一項に記載の伝導体。
【請求項１２】
１分を基準に平均電流が１Ａ以下である、請求項１から１１のいずれか一項に記載の伝導体。
【請求項１３】
前記電気伝導性パターンは黒化されたものである、請求項１から１２のいずれか一項に記載の伝導体。
【請求項１４】
透明基材上に電気伝導性パターンを形成するステップを含む伝導体の製造方法であって、前記透明基材の全体面積の３０％以上が、前記電気伝導性パターンと交差する直線を描いた時、前記直線と前記電気伝導性パターンの隣接する交点間の距離の平均値に対する標準偏差の比率（距離分布比率）が２％以上である前記電気伝導性パターンを有し、
前記伝導体は、開口率が７０％以上であることを特徴とする伝導体の製造方法。
【請求項１５】
前記電気伝導性パターンを、印刷法、フォトリソグラフィ法、フォトグラフィ法、マスクを用いた方法、スパッタリング法、またはインクジェット法を利用して形成する、請求項１４に記載の伝導体の製造方法。
【請求項１６】
前記透明基材上に電気伝導性パターンの形成前にボロノイダイアグラムジェネレータを利用して前記電気伝導性パターンを決定するステップをさらに含む、請求項１４または１５に記載の伝導体の製造方法。
【請求項１７】
前記電気伝導性パターンを、線幅１００マイクロメータ以下、線間間隔３０ｍｍ以下、透明基材の表面からの線の高さ１〜１００マイクロメータになるように形成する、請求項１４から１６のいずれか一項に記載の伝導体の製造方法。
【請求項１８】
透明基材、および前記透明基材の少なくとも一面に備えられた電気伝導性パターンを含む伝導体であって、前記透明基材の全体面積の３０％以上が、分布が連続的な閉鎖図形からなり、前記閉鎖図形の面積の平均値に対する標準偏差の比率（面積分布比率）が２％以上である電気伝導性パターンを有し、
前記伝導体は、開口率が７０％以上であることを特徴とする伝導体。
【請求項１９】
前記透明基材の全体面積の３０％以上が、分布が連続的な閉鎖図形からなり、前記閉鎖図形の面積の平均値に対する標準偏差の比率（面積分布比率）が２０％以上である電気伝導性パターンを有することを特徴とする、請求項１８に記載の伝導体。
【請求項２０】
前記閉鎖図形は、少なくとも１００個である、請求項１８または１９に記載の伝導体。
【請求項２１】
前記電気伝導性パターンは、ボロノイダイアグラムをなす図形の境界線形態のパターンを有する、請求項１８から２０のいずれか一項に記載の伝導体。
【請求項２２】
前記電気伝導性パターンは、ドローネパターンをなす少なくとも１つの三角形からなる図形の境界線形態のパターンを有する、請求項１８から２１のいずれか一項に記載の伝導体。
【請求項２３】
前記電気伝導性パターンは、線幅が１００マイクロメータ以下であり、線間間隔が３０ｍｍ以下であり、透明基材の表面からの線の高さが１〜１００マイクロメータである、請求項１８から２２のいずれか一項に記載の伝導体。
【請求項２４】
直径２０ｃｍの任意の円に対する透過率偏差が５％以下であることを特徴とする、請求項１８から２３のいずれか一項に記載の伝導体。
【請求項２５】
前記透明基材は、ガラス、プラスチック基板またはプラスチックフィルムである請求項１８から２４のいずれか一項に記載の伝導体。
【請求項２６】
前記伝導体は、単位面積当たり抵抗値が、常温において、０．０１ｏｈｍ／ｓｑｕａｒｅ〜１０００ｏｈｍ／ｓｑｕａｒｅである、請求項１８から２５のいずれか一項に記載の伝導体。
【請求項２７】
前記伝導体は、外部要因によって電流を伝導させるように構成される、請求項１８から２６のいずれか一項に記載の伝導体。
【請求項２８】
１分を基準に平均電流が１Ａ以下である、請求項１８から２７のいずれか一項に記載の伝導体。
【請求項２９】
前記電気伝導性パターンは黒化されたものである、請求項１８から２８のいずれか一項に記載の伝導体。
【請求項３０】
透明基材上に電気伝導性パターンを形成するステップを含む伝導体の製造方法であって、
前記透明基材の全体面積の３０％以上に、分布が連続的である閉鎖図形が形成され、前記伝導体が、前記閉鎖図形の面積の平均値に対する標準偏差の比率（面積分布比率）が２％以上である電気伝導性パターンを有し、
前記伝導体は、開口率が７０％以上である、伝導体の製造方法。
【請求項３１】
前記電気伝導性パターンを、印刷法、フォトリソグラフィ法、フォトグラフィ法、マスクを用いた方法、スパッタリング法、またはインクジェット法を利用して形成する、請求項３０に記載の伝導体の製造方法。
【請求項３２】
前記透明基材上に電気伝導性パターンの形成前にボロノイダイアグラムジェネレータまたはドローネパターンジェネレータを利用して前記電気伝導性パターンを決定するステップをさらに含む、請求項３０または３１に記載の伝導体の製造方法。
【請求項３３】
前記電気伝導性パターンを、線幅１００マイクロメータ以下、線間間隔３０ｍｍ以下、透明基材の表面からの線の高さ１〜１００マイクロメータになるように形成する、請求項３０から３２のいずれか一項に記載の伝導体の製造方法。
【請求項３４】
請求項１〜１３および１８〜２９のうちのいずれか一項による伝導体を含む電磁波遮蔽フィルム。
【請求項３５】
前記透明基材の電気伝導性パターンが備えられた面の周縁部に備えられた接地部をさらに含む、請求項３４に記載の電磁波遮蔽フィルム。
【請求項３６】
請求項１〜１３および１８〜２９のうちのいずれか一項による伝導体を含むタッチパネル。
【請求項３７】
下部基材；上部基材；および前記下部基材の上部基材に接する面および前記上部基材の下部基材に接する面のうちの少なくとも一面に備えられた電極層を含み、前記下部基材および前記下部基材の上部基材に接する面に備えられた電極層；および前記上部基材および前記上部基材の下部基材に接する面に備えられた電極層のうちの１つまたは２つともが前記伝導体である、請求項３６に記載のタッチパネル。
【請求項３８】
請求項１〜１３および１８〜２９のうちのいずれか一項による伝導体を補助電極として含む有機発光素子照明。