【手続補正書】
【提出日】平成26年10月24日(2014.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体原料を気化器にて気化させ、気化されたガスを半導体製造用の反応容器内に供給するための原料供給装置において、
（１）液体原料を供給するための原料供給路と洗浄液を供給するための洗浄液供給路と、パージガスを供給するためのガス供給路と、一端側が気化器へ接続された流路の他端側と、が接続され、プロセス終了後に液体原料を含む流体を流路から排出するための液抜き機構を備え、
（２）前記液抜き機構は、上部側に伸びる流路のポートである上部ポートと、中央ポートと、下部側に伸びる流路のポートである下部ポートと、が上からこの順番に並ぶ三方弁と、上部側に伸びる流路のポートである上部ポートと、下部側に伸びる流路のポートである下部ポートと、が上からこの順番に並ぶ二方弁と、を組み合わせて構成され、
（３）前記液抜き機構は、中央ポートに前記ガス供給路が接続された三方弁からなるガス供給バルブと、このガス供給バルブの下部ポートにその上部ポートが接続され、前記洗浄液供給路がその中央ポートに接続された三方弁からなる洗浄液供給バルブと、この洗浄液供給バルブの下部ポートにその上部ポートが接続され、一端側が気化器へ接続された流路の他端側がその中央ポートに接続され、排液路がその下部ポートに接続された三方弁からなる下段側補助バルブと、から構成された一方のバルブ連接構造部と、
前記一方のバルブ連接構造部の横に並べて設けられ、前記ガス供給バルブの上部ポートにその上部ポートが接続された二方弁からなる上段側補助バルブと、この上段側補助バルブの下部ポートにその上部ポートが接続され、前記原料供給路がその中央ポートに接続された三方弁からなる原料供給バルブと、この原料供給バルブの下部ポートにその上部ポートが接続され、一端側が気化器へ接続された流路の他端側がその中央ポートに接続され、排液路がその下部ポートに接続された三方弁からなる原料排出バルブと、から構成された他方のバルブ連接構造部と、を備えたことを特徴とする原料供給装置。
【請求項２】
前記液抜き機構を上部側の液抜き機構と呼ぶとすると、上部側の液抜き機構の下方側に下部側の液抜き機構が設けられ、
前記下部側の液抜き機構は、上部側に伸びる流路のポートである上部ポートと、中央ポートと、下部側に伸びる流路のポートである下部ポートと、が上からこの順番に並ぶ三方弁と、上部側に伸びる流路のポートである上部ポートと、下部側に伸びる流路のポートである下部ポートと、が上からこの順番に並ぶ二方弁と、を組み合わせて構成され、
前記下部側の液抜き機構は、洗浄液が供給される供給路にその上部ポートが接続され、前記上部側の液抜き機構の排液路にその中央ポートが接続された三方弁からなる上部側の流体排出バルブと、この流体排出バルブの下部ポートにその上部ポートが接続され、真空排気路がその中央ポートに接続された三方弁からなる排液吸入バルブと、この排液吸入バルブの下部ポートにその上部ポートが接続され、排液路がその下部ポートに接続された二方弁からなる下部側の流体排出バルブと、から構成されたバルブ連接構造部を備えたことを特徴とする請求項１記載の原料供給装置。
【請求項３】
前記液抜き機構の洗浄液供給バルブにその一端側が接続された前記洗浄液供給路の途中に補助液抜き機構が接続され、
前記補助液抜き機構は、上部側に伸びる流路のポートである上部ポートと、中央ポートと、下部側に伸びる流路のポートである下部ポートと、が上からこの順番に並ぶ三方弁と、上部側に伸びる流路のポートである上部ポートと、下部側に伸びる流路のポートである下部ポートと、が上からこの順番に並ぶ二方弁と、を組み合わせて構成され、
前記補助液抜き機構は、前洗浄液供給バルブ側の洗浄液流路がその上部ポートに接続された二方弁からなる上段バルブと、この上段バルブの下部ポートにその上部ポートが接続され、洗浄液貯留部に接続された洗浄液供給路がその中央ポートに接続された三方弁からなる中段バルブと、この三方弁からなる中段バルブの下部ポートにその上部ポートが接続され、真空排気路及び排液路の間で切り替えられる流路にその下部ポートが接続された二方弁からなる下段バルブと、から構成されたバルブ連接構造部を備えたことを特徴とする請求項１または２記載の原料供給装置。
【請求項４】
請求項２に記載した下部側の液抜き機構と、この下部側の液抜き機構よりも高い位置に設けられ、請求項３に記載した前記補助液抜き機構と、を備え、
前記下部側の液抜き機構の上部側の流体排出バルブの上部ポートに接続される供給路は、前記補助液抜き機構の前記二方弁からなる前記下段バルブの下部ポートに接続される流路であることを特徴とする原料供給装置。
【請求項５】
前記真空排気路の圧力を検出する圧力検出部が設けられていることを特徴とする請求項２ないし４のいずれか一項に記載の原料供給装置。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれか一項に記載の原料供給装置と、
この原料供給装置から供給される液体材料を気化するための気化器と、
この気化器において液体材料を気化して得られた処理ガスを、内部に収納した基板に対して供給するための半導体製造用の反応容器と、を備えたことを特徴とする半導体製造装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】原料供給装置及び半導体製造装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、液体材料を供給するための原料供給装置及びこの原料供給装置を備えた半導体製造装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、液体原料を気化器にて気化させ、気化されたガスを半導体製造用の反応容器内に供給するための原料供給装置において、気化器の上流側の流路から液体材料を容易に排出できる技術を提供することにある。他の目的はこの原料供給装置を用いた半導体製造装置を提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は、液体原料を気化器にて気化させ、気化されたガスを半導体製造用の反応容器内に供給するための原料供給装置において、
（１）液体原料を供給するための原料供給路と洗浄液を供給するための洗浄液供給路と、パージガスを供給するためのガス供給路と、一端側が気化器へ接続された流路の他端側と、が接続され、プロセス終了後に液体原料を含む流体を流路から排出するための液抜き機構を備え、
（２）前記液抜き機構は、上部側に伸びる流路のポートである上部ポートと、中央ポートと、下部側に伸びる流路のポートである下部ポートと、が上からこの順番に並ぶ三方弁と、上部側に伸びる流路のポートである上部ポートと、下部側に伸びる流路のポートである下部ポートと、が上からこの順番に並ぶ二方弁と、を組み合わせて構成され、
（３）前記液抜き機構は、中央ポートに前記ガス供給路が接続された三方弁からなるガス供給バルブと、このガス供給バルブの下部ポートにその上部ポートが接続され、前記洗浄液供給路がその中央ポートに接続された三方弁からなる洗浄液供給バルブと、この洗浄液供給バルブの下部ポートにその上部ポートが接続され、一端側が気化器へ接続された流路の他端側がその中央ポートに接続され、排液路がその下部ポートに接続された三方弁からなる下段側補助バルブと、から構成された一方のバルブ連接構造部と、
前記一方のバルブ連接構造部の横に並べて設けられ、前記ガス供給バルブの上部ポートにその上部ポートが接続された二方弁からなる上段側補助バルブと、この上段側補助バルブの下部ポートにその上部ポートが接続され、前記原料供給路がその中央ポートに接続された三方弁からなる原料供給バルブと、この原料供給バルブの下部ポートにその上部ポートが接続され、一端側が気化器へ接続された流路の他端側がその中央ポートに接続され、排液路がその下部ポートに接続された三方弁からなる原料排出バルブと、から構成された他方のバルブ連接構造部と、を備えたことを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明の半導体製造装置は、前記記載の原料供給装置と、
この原料供給装置から供給される液体材料を気化するための気化器と、
この気化器において液体材料を気化して得られた処理ガスを、内部に収納した基板に対して供給するための半導体製造用の反応容器と、を備えたことを特徴とする。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
本発明は、液体原料を供給するための原料供給路と洗浄液を供給するための洗浄液供給路と、パージガスを供給するためのガス供給路と、一端側が気化器へ接続された流路の他端側と、が接続され、プロセス終了後に液体原料を含む流体を流路から排出するための液抜き機構を設け、この液抜き機構に、バルブの配置を工夫したバルブ連接構造部を採用しているため、気化器に供給される原料の供給路から原料を容易に排出することに寄与できる。