【手続補正書】
【提出日】平成25年11月27日(2013.11.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
電極間に位置付けられ、少なくともバッファガスが収容された放電空間内の発光材料が、気化用ビームの高エネルギーパルス放射を照射することによって気化され、電極間にパルス式に流れる放電電流により、ＥＵＶ光を発生させる放電プラズマに変換される、気体放電プラズマからＥＵＶ光を発生させる方法において、上記の目的は以下を特徴とする構成によって達成される。
− 高エネルギーパルス放射のチャネル生成用ビームが、気化用ビームに加えて、少なくとも２つの部分的ビームとして供給され、その際、部分的ビームの強度は個々には気体絶縁破壊に必要な閾値強度未満であり、部分的ビームの強度を合算すると閾値強度より大きくなる。
− 部分的ビームは、部分的ビームのビームウエストが電極間の離間軸（spacing axis）に沿った単に局所的な重畳領域においてパルス同期された状態で重なり、少なくとも放電空間内に存在するバッファガスの電離によって重畳領域に沿って導電放電チャネルが生成されるようなやり方で成形され、集光され、放電空間へと向けられる。
− チャネル生成用ビームの高エネルギーパルス放射は、パルス放電電流に関して、それぞれの場合において放電チャネルが生成された後に放電電流パルスがその最大値に到達するようなやり方でトリガされる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
上記の目的はさらに、放電空間内に設置された電極と、高エネルギーパルス放射の気化用ビームを供給する放射源を有する、ガス放電プラズマからＥＵＶ光を発生させる装置において達成され、この装置では、チャネル生成用ビームの高エネルギーパルス放射を供給するための少なくとも１つの別の放射源が設けられ、チャネル生成用ビームの光路内に、チャネル生成用ビームを部分的ビームに分割するための少なくとも１つのビーム分割ユニットが配置され、その際、部分的ビームの強度は個々には電子なだれ多光子電離のための気体絶縁破壊に必要な閾値強度未満の強度を有するが、強度を合算するとその閾値強度より大きいものであり、それぞれの部分的ビームを成形し、放電空間内の電極間の重畳領域において２つの部分的ビームを集光してパルス同期した状態で重畳させることにより、少なくとも放電空間内に存在するバッファガスの電離の結果として重畳領域内の離間軸に沿って導電放電チャネルを生成するための少なくとも１つのビーム成形ユニットが設置され、電極間に生成されるパルス放電電流でチャネル生成用ビームの高エネルギーパルス放射をトリガするための手段が、それぞれの場合において放電チャネルが生成された後に、放電電流パルスがその最大値に到達するように配置される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
部分的ビームが異なる放射源から供給される実施形態も、本発明の範囲内である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電極の間に位置し少なくともバッファガスを含んだ放電空間内の発光材料が、気化用ビームの高エネルギーパルス放射を照射することによって気化され、前記電極の間にパルス式に流れる放電電流によりＥＵＶ光を発生させる放電プラズマに変換される、気体放電プラズマからＥＵＶ光を発生させる方法において、
−  高エネルギーパルス放射のチャネル生成用ビーム（４）が、前記気化用ビーム（１．１）に加えて少なくとも２つの部分的ビーム（４．１、４．２）として供給され、その際、前記部分的ビーム（４．１、４．２）の強度（Ｉ１、Ｉ２）は個々には気体絶縁破壊に必要な閾値強度より小さいが、前記部分的ビーム（４．１、４．２）の前記強度（Ｉ１、Ｉ２）の合算は前記閾値強度より大きいこと、
−  前記部分的ビーム（４．１、４．２）のビーム焦点が前記電極（２）の間の離間軸（１０）に沿った単に局所的な重畳領域（１５）にてパルス同期された状態で重畳され、少なくとも前記放電空間（６）の中に存在するバッファガス（７）の電離によって前記重畳領域（１５）に沿って導電放電チャネル（８）が生成されるようなやり方で、前記部分的ビーム（４．１、４．２）が成形され、集光され、前記放電空間（６）へと向けられること、および
−  前記パルス放電電流で、それぞれ、前記放電チャネル（８）が生成された後に放電電流パルスがその最大値に到達するようなやり方で、前記チャネル生成用ビーム（４）の高エネルギーパルス放射がトリガされること、
を特徴とする方法。
【請求項２】
前記発光材料（３）の気化は、前記放電チャネル（８）の生成の前に始まることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記発光材料（３）の気化は、前記放電チャネル（８）の生成と同時に始まることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記発光材料（３）の気化は、前記放電チャネル（８）の生成直後に始まることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記チャネル生成用ビーム（４）の前記部分的ビーム（４．１、４．２）は、長いビームウエストを有するように成形され、前記電極（２）の間に延びる前記離間軸（１０）に関してそれぞれ、大きくても１５°の鋭角（１４）で向けられ、重畳されて、前記重畳領域（１５）が前記離間軸（１０）に沿って形成されることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記部分的ビーム（４．１、４．２）は、それぞれ、前記電極（２）の間の選択された離間軸（１０）に沿った重畳領域（１５）の中に線焦点で集光、重畳されて、共通の線焦点（１７）が前記離間軸（１０）に沿って形成されることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記気化用ビーム（５）の高エネルギー放射はナノ秒範囲のパルス幅で使用され、前記チャネル生成用ビーム（４）の放射はピコ秒範囲またはそれ未満のパルス幅で使用されることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
放電空間内に設けられた電極と、高エネルギーパルス照射の気化用ビームを供給するための放射源を有する、気体放電プラズマからＥＵＶ光を発生させる装置において、
−  チャネル生成用ビーム（４）の高エネルギーパルス放射を供給するために少なくとも１つの別の放射源（１．１）が設けられること、
−  前記チャネル生成用ビーム（４）の光路の中に、前記チャネル生成用ビーム（４）を部分的ビーム（４．１、４．２）に分割するための、少なくとも１つのビーム分割ユニット（１１）が配置され、その際、前記部分的ビーム（４．１、４．２）の強度（Ｉ１、Ｉ２）は個々には気体絶縁破壊に必要な閾値強度より小さいが、前記部分的ビーム（４．１、４．２）の前記強度（Ｉ１、Ｉ２）の合算は多光子電離のために前記閾値強度より大きいこと、
−  前記それぞれの部分的ビーム（４．１、４．２）を成形し、前記放電空間（６）の中の前記電極（２）の間の重畳領域（１５）に沿って２つの部分的ビーム（４．１、４．２）のビームウエストを集光してパルス同期した状態で重畳させることにより、少なくとも前記放電空間（６）の中に存在するバッファガス（７）の電離の結果として前記重畳領域（１５）に沿って導電放電チャネル（８）を生成するために、少なくとも１つのビーム成形ユニット（１３）が設けられること、および
−  前記電極（２）に印加されるパルス放電電流で前記チャネル生成用ビーム（４）の高エネルギーパルス放射を同期させるための手段が、それぞれ、前記放電チャネル（８）が生成された後に、放電電流パルスがその最大値に到達するように、配置されること、
を特徴とする装置。
【請求項９】
前記ビーム成形ユニット（１３）は、前記部分的ビーム（４．１、４．２）が前記電極（２）の間に延びる離間軸（１０）へ向けられるように構成され、前記重畳領域（１５）は、前記部分的ビーム（４．１、４．２）の前記離間軸（１０）に沿って形成されることを特徴とする、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記ビーム成形ユニット（１３）は、前記部分的ビームがそれぞれ線焦点を有し、前記重畳領域（１５）の中で、前記離間軸（１０）に沿った共通の線焦点（１７）に重畳されることを特徴とする、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
前記ビーム成形ユニット（１３）は、前記部分的ビーム（４．１、４．２）が長いビームウエストを持つように形成され、それぞれ、前記離間軸（１０）に関して最大１５°の鋭角（１４）で前記離間軸（１０）に沿って重畳されるように構成されることを特徴とする、請求項９に記載の装置。
【請求項１２】
前記電極（２）は、相互に平行に方向付けられ、離間されたディスク型電極（２）であり、陽極（２．１）として機能する電極（２）の直径は陰極（２．２）として機能する電極（２）より小さく、前記チャネル生成用ビーム（４）は、前記陽極（２．１）の外端付近を通過して、前記陰極（２．２）の方向に方向付けられ、ビーム成形ユニット（１３）によって、前記電極（２）の間の前記重畳領域（１５）の中に前記２つの部分的ビーム（４．１、４．２）の形態で焦点が結ばれ、前記焦点は長いレーザウエストとして形成されることを特徴とする、請求項８、９または１１に記載の装置。
【請求項１３】
前記電極（２）は、相互に平行に方向付けられ、離間された循環するリボン型電極（２）であり、その表面の領域はそれぞれ、液体発光材料（３）の入った浴槽（１８）の中を導かれ、前記チャネル生成用ビーム（４）は、陽極（２．１）として機能する電極（２）の付近を通過するように、前記離間軸（１０）に沿って前記陰極（２．２）へ向けられることを特徴とする、請求項８、９、１１または１２に記載の装置。
【請求項１４】
前記電極（２）は、それぞれ、その周表面（２．３）が相互により近い領域にて、回転軸（Ｄ）の周囲で回転する２つのディスク型電極（２）であり、前記部分的ビーム（４．１、４．２）は、前記電極（２）の間の前記離間軸（１０）に沿って共通の前記線焦点（１７）で重畳されることを特徴とする、請求項８〜１０および１２のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１５】
前記発光材料（３）は、前記陰極（２．２）の陽極（２．１）と対向する表面上で、前記空間軸（１０）の基底部周辺の少なくとも１つの表面領域に供給されることを特徴とする、請求項１２〜１４のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１６】
前記発光材料（３）は、その進行方向が前記離間軸（１０）と交差する液滴の連続として、前記電極（２）の間に液滴の形態で供給されることを特徴とする、請求項１２〜１４のいずれか一項に記載の装置。