Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月5日(2014.5.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に光電変換素子と抵抗素子を有し、
前記光電変換素子は、第１の電極層、第２の電極層及び光電変換層を有し、
前記抵抗素子は、前記第２の電極層、第３の電極層及び半導体層を有し、
前記基板上に前記第１の電極層を有し、
前記基板上及び前記第１の電極層上に前記光電変換層を有し、
前記光電変換層上に前記第２の電極層を有し、
前記基板上に前記半導体層を有し、
前記半導体層上に前記第２の電極層及び前記第３の電極層を有し、
前記光電変換層及び前記半導体層は同じ半導体膜をエッチング加工する工程を経て形成され、
照射光によって、前記光電変換素子から光電流が出力され、前記抵抗素子の抵抗が変化することを特徴とする光電変換装置。
【請求項２】
基板上に光電変換素子と抵抗素子を有し、
前記光電変換素子は、ゲート電極層、ゲート絶縁層、第１の電極層、第２の電極層及び光電変換層を有し、
前記抵抗素子は、前記第２の電極層、第３の電極層及び半導体層を有し、
前記基板上に前記ゲート電極層を有し、
前記基板上及び前記ゲート電極層上に前記ゲート絶縁層を有し、
前記ゲート絶縁層上に前記光電変換層を有し、
前記光電変換層上に前記第１の電極層及び前記第２の電極層を有し、
前記ゲート絶縁層上に前記半導体層を有し、
前記半導体層上に前記第２の電極層及び前記第３の電極層を有し、
前記光電変換層及び前記半導体層は同じ半導体膜をエッチング加工する工程を経て形成され、
照射光によって、前記光電変換素子から光電流が出力され、前記抵抗素子の抵抗が変化することを特徴とする光電変換装置。
【請求項３】
光電変換素子と、
抵抗素子と、を有し、
前記光電変換素子と前記抵抗素子は電気的に接続され、
照射光によって、前記光電変換素子から光電流が出力され、前記抵抗素子の抵抗が変化することを特徴とする光電変換装置。
【請求項４】
請求項３において、
前記光電変換素子の一方の端子は、前記抵抗素子の一方の端子に電気的に接続され、
前記光電変換素子の他方の端子は、高電源電位を供給する配線に電気的に接続され、
前記抵抗素子の他方の端子は、低電源電位を供給する配線に電気的に接続され、
前記光電変換素子の前記一方の端子及び前記抵抗素子の前記一方の端子は、出力電圧端子に電気的に接続されることを特徴とする光電変換装置。
【請求項５】
請求項３又は４において、
前記光電変換素子の受光面又は前記抵抗素子の受光面に光強度調整手段を有することを特徴とする光電変換装置。
【請求項６】
請求項３乃至５のいずれか一において、
基板上に前記光電変換素子と前記抵抗素子を有し、
前記光電変換素子は、第１の電極層、第２の電極層及び光電変換層を有し、
前記抵抗素子は、前記第２の電極層、第３の電極層及び半導体層を有し、
前記基板上に前記第１の電極層を有し、
前記基板上及び前記第１の電極層上に前記光電変換層を有し、
前記光電変換層上に前記第２の電極層を有し、
前記基板上に前記半導体層を有し、
前記半導体層上に前記第２の電極層及び前記第３の電極層を有し、
前記光電変換層及び前記半導体層は同じ半導体膜をエッチング加工する工程を経て形成されることを特徴とする光電変換装置。
【請求項７】
請求項３乃至５のいずれか一において、
基板上に前記光電変換素子と前記抵抗素子を有し、
前記光電変換素子は、ゲート電極層、ゲート絶縁層、第１の電極層、第２の電極層及び光電変換層を有し、
前記抵抗素子は、前記第２の電極層、第３の電極層及び半導体層を有し、
前記基板上に前記ゲート電極層を有し、
前記基板上及び前記ゲート電極層上に前記ゲート絶縁層を有し、
前記ゲート絶縁層上に前記光電変換層を有し、
前記光電変換層上に前記第１の電極層及び前記第２の電極層を有し、
前記ゲート絶縁層上に前記半導体層を有し、
前記半導体層上に前記第２の電極層及び前記第３の電極層を有し、
前記光電変換層及び前記半導体層は同じ半導体膜をエッチング加工する工程を経て形成されることを特徴とする光電変換装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月6日(2013.12.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】表示装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可撓性を有する表示装置であって、
前記表示装置は、画素部を有し、
前記画素部の外周部に、金属層を有することを特徴とする表示装置。
【請求項２】
可撓性を有する表示装置であって、
前記表示装置は、画素部を有し、
前記画素部の外周部に、複数の金属層を有することを特徴とする表示装置。
【請求項３】
可撓性を有する表示装置であって、
前記表示装置は、画素部を有し、
前記画素部の外周部に、連続的に設けられた金属層を有することを特徴とする表示装置。
【請求項４】
可撓性を有する表示装置であって、
前記表示装置は、画素部を有し、
前記画素部の外周部に、島状に設けられた金属層を有することを特徴とする表示装置。
【請求項５】
可撓性を有する表示装置であって、
前記表示装置は、画素部を有し、
前記画素部の外周部に、連続的に設けられた金属層を複数有することを特徴とする表示装置。
【請求項６】
可撓性を有する表示装置であって、
前記表示装置は、画素部を有し、
前記画素部の外周部に、連続的に設けられた金属層と、島状に設けられた金属層と、を有することを特徴とする表示装置。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一において、
前記画素部は、トランジスタと、前記トランジスタと電気的に接続された発光素子とを有することを特徴とする表示装置。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか一において、
前記画素部は、カラーフィルタを有することを特徴とする表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月18日(2014.7.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１導電型半導体層、活性層及び第２導電型半導体層を含む発光構造物と、
前記第１導電型半導体層上の第１電極と、
前記第２導電型半導体層上の一部の領域に形成されたＣＢＬ（current  blocking  layer）と、
前記ＣＢＬと前記第２導電型半導体層上に形成され、前記ＣＢＬを取り囲むオーミック層と、
前記オーミック層を取り囲んで配置される反射電極と、
前記発光構造物の下部領域に形成され、前記反射電極を取り囲むチャネルレイヤ（channel layer）と、
接合層を通じて前記チャネルレイヤと結合する支持基板と、を含む発光素子。
【請求項２】
前記チャネルレイヤは、金属からなる、請求項１に記載の発光素子。
【請求項３】
前記チャネルレイヤは、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｉｒ及びＷで構成される群から選択される物質からなる、請求項２に記載の発光素子。
【請求項４】
前記オーミック層は、ＩＴＯ、ＡＺＯ、ＩＺＯ、Ｎｉ、Ｐｔ及びＡｇからなるグループから選択された物質からなる、請求項１乃至３のいずれかに記載の発光素子。
【請求項５】
前記支持基板は、Ｍｏ、Ｓｉ、Ｗ、Ｃｕ及びＡｌからなるグループから選択された物質からなる、請求項１乃至４のいずれかに記載の発光素子。
【請求項６】
前記第１電極は、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｉｒ及びＷからなるグループから選択された物質からなる、請求項１乃至５のいずれかに記載の発光素子。
【請求項７】
前記接合層は、Ｉｎ、Ｓｎ、Ａｇ、Ｎｂ、Ｎｉ、Ａｕ及びＡｌからなるグループから選択された物質を含む、請求項１乃至６のいずれかに記載の発光素子。
【請求項８】
前記チャネルレイヤは、前記反射電極を取り囲む、請求項１乃至７のいずれかに記載の発光素子。
【請求項９】
前記発光構造物の側面を取り囲むパッシベーション層をさらに含み、前記チャネルレイヤは、前記パッシベーション層と前記反射電極を分離するようにして配置される、請求項１乃至８のいずれかに記載の発光素子。
【請求項１０】
前記パッシベーション層は、前記発光構造物の周囲において前記チャネルレイヤと接触する、請求項９に記載の発光素子。
【請求項１１】
前記チャネルレイヤは、前記発光構造物と少なくとも一部の領域において接触する、請求項１乃至１０のいずれかに記載の発光素子。
【請求項１２】
キャビティが形成されたボディーと、
前記ボディーに配置され、互いに電気的に分離された第１リードフレーム及び第２リードフレームと、
前記キャビティ内に配置され、前記第１リードフレーム及び第２リードフレームに電気的に連結される請求項１乃至１１のうちいずれか１項の発光素子と、を含む発光素子パッケージ。
【請求項１３】
キャビティが形成されたボディーと、前記ボディーに配置され、互いに電気的に分離された第１リードフレーム及び第２リードフレームと、前記キャビティ内に配置され、前記第１リードフレーム及び第２リードフレームに電気的に連結される請求項１乃至１１のうちいずれか１項の発光素子とを含む発光素子パッケージと、
前記発光素子パッケージに電気的に連結された回路基板と、
前記発光素子パッケージ及び回路基板を支持する基板と、
前記発光素子パッケージから放出される光を伝達する光学部材と、を含む照明システム。
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月2日(2014.7.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を有する集積回路と、
前記基板の内部に配置されているアクティブ・ビアと、
熱伝導コアを含むヒートスプレッダと、
前記熱伝導コアを貫通しておりかつ前記アクティブ・ビアに導電結合されているヒートスプレッダ・ビアとを含む、電子デバイス。
【請求項２】
前記基板の内部に配置されておりかつ前記熱伝導コアに接続されている基板プラグをさらに含む、請求項１に記載の電子デバイス。
【請求項３】
前記集積回路は第１の集積回路であり、前記熱伝導コアは前記第１の集積回路と第２の集積回路との間に配置されており、前記アクティブ・ビアは、前記第１の集積回路と前記第２の集積回路との間で信号を伝達するように構成されている、請求項１に記載の電子デバイス。
【請求項４】
前記熱伝導コアは電気絶縁層であり、前記ヒートスプレッダ・ビアは前記電気絶縁層に直接接触しており、前記基板の内部に配置されている基板プラグが、前記電気絶縁層の内部に配置されているヒートスプレッダ・プラグに接続されている、請求項１に記載の電子デバイス。
【請求項５】
電子デバイス基板に取り付けられるように構成されているヒートスプレッダであって、
熱伝導コアと、
前記熱伝導コアを貫通しているヒートスプレッダ・ビアと、
集積回路基板プラグへのはんだ接続を形成するように構成されている前記熱伝導コアの接続点であって、前記集積回路基板プラグは集積回路基板内に配置されている、接続点と
を含む、ヒートスプレッダ。
【請求項６】
前記熱伝導コアは導電層であり、前記熱伝導コアと前記ヒートスプレッダ・ビアとの間に配置されている誘電層をさらに含む、請求項５に記載のヒートスプレッダ。
【請求項７】
前記熱伝導コアは電気絶縁層であり、はんだボールへの冶金接続を形成するように構成されているヒートスプレッダ・プラグをさらに含む、請求項５に記載のヒートスプレッダ。
【請求項８】
電子デバイスを形成する方法であって、
基板を有する集積回路を設ける工程と、
前記基板の内部にアクティブ・ビアを配置する工程と、
ヒートスプレッダの熱伝導コアを貫通する、対応するヒートスプレッダ・ビアに前記アクティブ・ビアを接続する工程であって、前記ヒートスプレッダ・ビアは前記アクティブ・ビアに導電結合される、工程と
を含む方法。
【請求項９】
前記熱伝導コアは導電層であり、
前記ヒートスプレッダ・ビアと前記熱伝導コアとの間に誘電層を配置し、前記熱伝導コアの表面上にはんだパッドを形成する工程をさらに含む
請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記熱伝導コアは電気絶縁層であり、
前記電気絶縁層の内部に配置されているヒートスプレッダ・プラグと前記基板の内部に配置されている基板プラグとの間に冶金接続を形成する工程をさらに含む、
請求項８に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年8月22日(2014.8.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コンポーネントを接合する方法において、
蒸発がないプロセスを用いてナノ粒子調製物を提供する段階と、
前記ナノ粒子調製物を圧縮する段階であって、前記ナノ粒子調製物を提供する段階は、前記ナノ粒子調製物をナノ粒子分散液として提供し、さらに前記ナノ粒子分散液を基板に塗布するとともに、前記ナノ粒子分散液から溶剤を除外する段階を含み、そして蒸発がない前記ナノ粒子調製物を圧縮する段階は、ナノ粒子構造を形成する、段階と、
から成ることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記ナノ粒子調製物を提供する段階は、液体中にナノ粒子を分散させる段階を含み、前記液体中にナノ粒子を分散させる段階は、有機溶剤または水溶液中に前記ナノ粒子を分散させる段階を含むことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記ナノ粒子調製物はナノ粒子を含み、前記ナノ粒子調製物を圧縮する段階は、ナノ粒子構造を形成し、さらに、基板に前記ナノ粒子構造を搭載する段階および前記ナノ粒子構造に半導体チップを搭載する段階を含むことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項４】
前記ナノ粒子調製物を圧縮する段階は、機械的圧力および空気的圧力のうちの１つを印加する段階を含み、前記ナノ粒子調製物を圧縮する段階は、前記ナノ粒子調製物に超音波エネルギーを印加する段階を含むことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項５】
表面を有する支持構造と、
前記支持構造上に配置されたナノ粒子プリフォームであって、前記ナノ粒子プリフォームは、金属粒子を含むプリカーサから派生した材料を含む、
ことを特徴とするコンポーネント。
【請求項６】
前記ナノ粒子分散液を基板に塗布する段階は、前記ナノ粒子分散液をプリント回路板またはリードフレームに塗布する段階を含むことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項７】
コンポーネントを接合する方法において、
ナノ粒子を液体と結合することによりナノ粒子分散液を提供する段階と、
前記ナノ粒子分散液をモールド内へ分配する段階と、
前記ナノ粒子分散液の液体部分を除去する段階と、
前記ナノ粒子を圧縮してナノ粒子プリフォームを形成する段階と、
半導体チップを前記ナノ粒子プリフォームに搭載する段階と、
前記ナノ粒子プリフォームを蒸発させる段階と、
から成ることを特徴とする方法。
【請求項８】
前記ナノ粒子を液体と結合する段階は、前記ナノ粒子をアルコール、アセトン、有機溶剤からなる液体のグループから選択された液体と結合する段階を含むことを特徴とする請求項７記載の方法。
【請求項９】
前記ナノ粒子を液体と結合する段階は、クロミウム、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、銀、ゲルマニウム、イットリウム、カドミウム、インジウム、錫、アンチモン、セリウム、プラチナ、金、ビスマス、鉛、および、パラジウムからなるナノ粒子のグループから選択されたナノ粒子を結合する段階を含むことを特徴とする請求項７記載の方法。
【請求項１０】
前記ナノ粒子分散液を提供する段階は、前記ナノ粒子分散液をコロイド状の分散液として提供することを特徴とする請求項７記載の方法。
【請求項１１】
コンポーネントを接合する方法において、
ナノ粒子をアルコールまたはアセトンのうちの１つである液体と結合することによりナノ粒子分散液を形成する段階と、
前記ナノ粒子分散液を基板上へ分配する段階と、
圧力と熱を前記基板へ印加することによって溶剤を除外する段階と、
前記ナノ粒子を圧縮してナノ粒子プリフォームを形成する段階と、
ワークピースを前記ナノ粒子プリフォームに搭載する段階と、
前記ナノ粒子プリフォームを加熱する段階と、
から成ることを特徴とする方法。
【請求項１２】
前記ワークピースを前記ナノ粒子プリフォームに搭載する段階は、半導体チップ、キャパシタ、チップ・キャパシタ、レジスタ、インダクタ、リードフレーム、プリント回路板、クリップ・コネクタからなるワークピースのグループから選択されたワークピースを搭載する段階を含むことを特徴とする請求項１１記載の方法。
【請求項１３】
前記ナノ粒子分散液を形成する段階は、銀のナノ粒子を液体と混合する段階を含むことを特徴とする請求項１１記載の方法。
【請求項１４】
前記ナノ粒子プリフォームを加熱する段階は、前記ナノ粒子プリフォームに機械的または空気的に生成された圧力を印加する段階を含むことを特徴とする請求項１１記載の方法。
【請求項１５】
前記ナノ粒子分散液は、コロイド状の分散液であることを特徴とする請求項１１記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年1月8日(2014.1.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学装置であって、
基板上に形成され、そして光学的放射を放出するように構成された複数の放射源と、
パターン付透明材からなるパターン化要素と、
前記放射源から放出された前記放射を前記パターン化要素に向けるように構成された集光レンズと、
ここにおいてそれぞれの前記放射源から放出された前記光学的放射は、１つの照明パターンの異なるそれぞれの部分を形成するため前記パターン付透明材の異なるそれぞれの領域を通過し、
前記パターン化要素からの前記１つの照明パターンの異なるそれぞれの部分を視覚野の上へ投影するように構成される投影光学系と、そして
前記放射源をパルスモードで順次活性化するように接続される制御装置と、
を有することを特徴とする光学装置。
【請求項２】
前記パターン付透明材はマイクロレンズアレイを有する、ことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
画像形成組立体と、
前記画像形成組立体は、画像センサと、前記画像センサが前記視覚野の電子画像を形成するように前記画像センサ上に前記視覚野の光学的画像を形成するように構成された対物光学系と、を有し、
前記視覚野の深さマップを生成するため前記電子画像の中のパターンを分析するように構成される制御装置と、
を有することを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記制御装置は、それぞれの前記複数の放射源からの順次放出に起因して生成される前記１つの照明パターンの異なるそれぞれの部分を包含する、前記画像センサにより生成された画像を分析することにより前記深さマップを生成するように構成される、ことを特徴とする請求項３に記載の装置。
【請求項５】
前記画像センサは、多重のグループ内に配置された１つの配列のセンサ要素を有し、前記センサ要素は、連続するそれぞれの露出期間において、前記視覚野の異なるそれぞれの区域から放射を獲得するように回転シャッタによりトリガーされ、そして、前記制御装置は、前記回転シャッタと同期して前記放射源を活性化するように接続される、ことを特徴とする請求項３に記載の装置。
【請求項６】
前記放射源は、１つの行列の光放出要素を有し、前記光放出要素は、基板上に配置され、そして前記放射を前記基板に垂直な方向に放出するように構成される、ことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記放射源は１列の端部放出要素を有し、前記端部放出要素は、基板上に配置され、そして前記放射を前記基板に平行な方向に放出するように構成され、
ここにおいて前記装置は、前記端部放出要素から放出された前記放射を前記基板から離れそして前記パターン化要素に向いた方向に向けるために前記基板上に配置された反射素子を有する、ことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項８】
前記反射素子はプリズムを有する、ことを特徴とする請求項７に記載の装置。
【請求項９】
画像化の方法であって、
光学的放射を放出するため複数の放射源を基板上に配置するステップと、
それぞれの前記放射源から放出された光学的放射が、１つのパターン付透明材の異なるそれぞれの領域を通過するようにさせ、それにより１つの照明パターンの異なるそれぞれの部分を形成させるため、前記放射源から放出された前記放射を前記パターン付透明材を有するパターン化要素に向けるステップと、
前記パターン化要素からの前記１つの照明パターンの異なるそれぞれの部分を視覚野の上へ投影するステップと、そして
前記放射源をパルスモードで順次活性化するステップと、
を有することを特徴とする、画像化の方法。
【請求項１０】
前記パターン付透明材はマイクロレンズアレイを有する、ことを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
画像センサが前記視覚野の電子画像を形成するため、前記画像センサ上に前記視覚野の光学的画像を形成するステップと、そして
前記視覚野の深さマップを生成するため前記電子画像の中のパターンを分析するステップと、
を有することを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
前記パターンを分析するステップは、それぞれの前記複数の放射源からの順次放出に起因して生成される前記１つの照明パターンの異なるそれぞれの部分を包含する、前記画像センサにより生成された画像を分析するステップを有する、ことを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記画像センサは、多重のグループ内に配置された１つの配列のセンサ要素を有し、前記センサ要素のグループは前記視覚野の異なるそれぞれの区域からの放射を獲得し、
ここにおいて前記方法は、前記視覚野の電子画像を形成するため、連続するそれぞれの露出期間において前記視覚野からの放射を獲得するように回転シャッタで前記センサ要素のグループをトリガーするステップを有し、そして
前記放射源をパルスモードで順次活性化する前記ステップは、前記回転シャッタと同期して前記放射源を動作させるステップを有する、
ことを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
前記放射源は、１つの行列の光放出要素を有し、前記光放出要素は、基板上に配置され、そして前記放射を前記基板に垂直な方向に放出するように構成される、ことを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１５】
前記放射源は１列の端部放出要素を有し、前記端部放出要素は、基板上に配置され、そして前記放射を前記基板に平行な方向に放出するように構成され、
ここにおいて前記複数の放射源を配置するステップは、前記端部放出要素から放出された前記放射を前記基板から離れそして前記パターン化要素に向いた方向に向けるため、反射素子を前記基板上に配置するステップを有する、ことを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１６】
前記反射素子はプリズムを有する、ことを特徴とする請求項１５に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月5日(2014.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）：
ｘＢａＴｉＯ３−ｙＢｉＦｅＯ３−ｚＢｉ（Ｍ０．５Ｔｉ０．５）Ｏ３    （１）
（式中、ＭはＭｇおよびＮｉから選択される少なくとも１種の元素であり、ｘは０．２５≦ｘ≦０．７５、ｙは０．１５≦ｙ≦０．７０、ｚは０．０５≦ｚ≦０．６０の範囲の数値を表わす。但し、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１である。）
で表わされるペロブスカイト型金属酸化物からなることを特徴とする圧電材料。
【請求項２】
前記一般式（１）において、ｘは０．２５≦ｘ≦０．５５、ｙは０．２０≦ｙ≦０．７０、ｚは０．０５≦ｚ≦０．２５の範囲であることを特徴とする請求項１に記載の圧電材料。
【請求項３】
下記一般式（２）： 
ｘＢａＴｉＯ３−ｙＢｉＦｅＯ３−ｚＢｉ（Ｍ０．５Ｔｉ０．５）Ｏ３    （２）
（式中、ＭはＭｇおよびＮｉから選択される少なくとも１種の元素であり、ｘは０．１０≦ｘ＜０．２５、ｙは０．１５≦ｙ≦０．３０、ｚは０．４５≦ｚ≦０．７５の範囲の数値を表わす。但し、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１である。）
で表わされるペロブスカイト型金属酸化物からなることを特徴とする圧電材料。
【請求項４】
前記圧電材料に０．０５質量％以上３．０質量％以下のＭｎおよびＣｕから選択される少なくとも一種の元素を含有することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の圧電材料。
【請求項５】
前記圧電材料がセラミックスであり、前記セラミックスを構成する結晶粒の平均円相当径が５００ｎｍ以上５μｍ以下であり、前記結晶粒の最大円相当径が５μｍ以上１０μｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の圧電材料。
【請求項６】
前記圧電材料がセラミックスであり、前記セラミックスを構成する結晶粒が拡散相転移構造を有することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の圧電材料。
【請求項７】
下記一般式（３）：
ｌＢａＴｉＯ３−ｍＢｉＦｅＯ３−ｎＢｉ（Ｍ０．５Ｔｉ０．５）Ｏ３    （３）
（式中、ＭはＭｇおよびＮｉから選択される少なくとも１種の元素であり、ｌは０＜ｌ＜１、ｍは０＜ｍ＜１、ｎは０＜ｎ＜１の範囲の数値を表わす。但し、ｌ＋ｍ＋ｎ＝１である。）
で表わされるペロブスカイト型金属酸化物からなる圧電材料であって、前記圧電材料がセラミックスであり、前記セラミックスを構成する結晶粒が拡散相転移構造を有することを特徴とする圧電材料。
【請求項８】
第一の電極、圧電材料および第二の電極を少なくとも有する圧電素子であって、前記圧電材料が請求項１乃至７のいずれか１項に記載の圧電材料であることを特徴とする圧電素子。
【請求項９】
請求項８に記載の圧電素子を配した振動部を備えた液室と、前記液室と連通する吐出口とを少なくとも有する液体吐出ヘッド。
【請求項１０】
請求項８に記載の圧電素子を配した振動体と、前記振動体と接触する移動体とを少なくとも有する超音波モータ。
【請求項１１】
請求項８に記載の圧電素子を振動板に配した振動体を有する塵埃除去装置。
【請求項１２】
請求項８に記載の圧電素子を配したデバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月8日(2014.10.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
そこで本発明者等は鋭意検討し、焼成工程を必要としないシリカナノチューブの製造方法及び様々な大きさのシリカナノチューブを選択的に製造する方法を見出し、本発明に至った。即ち、本発明は、ノニオン界面活性剤及び自己反応性を有するシリカ前駆体化合物によりミエリン像を形成し、該シリカ前駆体化合物を反応させた後、溶媒洗浄にて該ノニオン界面活性剤を除去する精製工程を行うことを特徴とするシリカナノチューブの製造方法である。
【手続補正書】
【提出日】平成26年1月9日(2014.1.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技をすることによって獲得された遊技価値情報が記憶された記憶媒体を読み取る遊技価値情報読取手段と、
前記遊技価値情報と、前記遊技価値情報を所定の景品と交換するときの景品交換価値と、に基づいて余り分の端数遊技価値情報を算出する端数演算手段と、
前記端数遊技価値情報を表示する所定の表示手段と、を備えた景品交換装置であって、
前記端数演算手段は、
前記景品交換価値が前記遊技価値情報より大きいときに、不足分となる不足遊技価値情報を算出し、
前記表示手段は、
前記不足遊技価値情報を表示することを特徴とする景品交換装置。
【請求項２】
前記景品を選択する選択手段を備え、
前記選択手段による前記景品の選択に伴い、この景品の前記景品交換価値が入力される場合において、前記遊技価値情報より大きい前記景品交換価値の景品の選択を許容する
ことを特徴とする請求項１記載の景品交換装置。
【請求項３】
所定の記録媒体から遊技者を特定可能な情報を読取る読取手段を備えるとともに、前記情報に関連付けられ、遊技場に予め預け入れられた当該遊技者の貯留遊技価値情報を引き出し可能に構成され、
前記記録媒体を所有する遊技者の前記貯留遊技価値情報から前記不足遊技価値情報を補填する補填手段を備えることを特徴とする請求項１又は２記載の景品交換装置。
【請求項４】
前記貯留遊技価値情報の所有者を確認するための暗証番号の入力によって前記貯留遊技価値情報を引き出し可能であって、
前記補填手段は、前記暗証番号の入力なしに前記不足遊技価値情報を補填する
ことを特徴とする請求項３記載の景品交換装置。
【請求項５】
前記暗証番号の入力なしに前記不足遊技価値情報を補填するときに、
前記表示手段は、前記貯留遊技価値情報を表示しないことを特徴とする請求項４記載の景品交換装置。
【請求項６】
所定の条件の成立により、前記暗証番号の入力なしに行う前記貯留遊技価値情報の引き出しを不能とする制限手段を備えることを特徴とする請求項４又は５記載の景品交換装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の景品交換装置によれば、景品交換時の利便性が向上する。
【手続補正書】
【提出日】平成26年1月17日(2014.1.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明によれば、紙間の狭小化とスループットの維持を達成しつつ、製造コストの上昇を抑制することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成26年1月16日(2014.1.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ノズル開口に連通する圧力発生室と、
圧電体層と該圧電体層に設けられた電極とを備えた圧電素子と、を具備し、
前記圧電体層は、ビスマス及び鉄を含むペロブスカイト型構造を有する複合酸化物からなり、ナトリウム、カリウム、カルシウム、ストロンチウム及びバリウムからなる群から選択される少なくとも一種の第１ドープ元素と、セリウムからなる第２ドープ元素とを含むことを特徴とする液体噴射ヘッド。
【請求項２】
前記ビスマス及び前記第１ドープ元素及び第２ドープ元素はＡサイトに含まれており、前記鉄はＢサイトに含まれていることを特徴とする請求項１に記載の液体噴射ヘッド。
【請求項３】
前記複合酸化物は、ペロブスカイト型構造のＡサイトに欠損を有し、かつＢサイトにビスマスを有することを特徴とする請求項２に記載の液体噴射ヘッド。
【請求項４】
前記複合酸化物は、ビスマス及び鉄に加えて、チタン酸バリウムをさらに含むことを特徴とする請求項１〜３の何れか一項に記載の液体噴射ヘッド。
【請求項５】
請求項１〜４の何れか一項に記載する液体噴射ヘッドを具備することを特徴とする液体噴射装置。
【請求項６】
圧電体層と前記圧電体層に設けられた電極とを備え、
前記圧電体層は、ビスマス及び鉄を含むペロブスカイト型構造を有する複合酸化物からなり、ナトリウム、カリウム、カルシウム、ストロンチウム及びバリウムからなる群から選択される少なくとも一種の第１ドープ元素と、セリウムからなる第２ドープ元素とを含むことを特徴とする圧電素子。
【請求項７】
請求項６に記載の圧電素子を具備することを特徴とする超音波センサー。
【請求項８】
請求項６に記載の圧電素子を具備することを特徴とする赤外線センサー。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】液体噴射ヘッド、液体噴射装置、圧電素子、超音波センサー及び赤外線センサー
【手続補正書】
【提出日】平成26年1月20日(2014.1.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】表皮付き竹材
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記の課題を解決するため、第１に、平板形成した竹材を積層する際に表面と裏面の少なくとも一方に表皮付きの層を配置し、積層接着をすることを特徴とするものである。
また、第２に、上記平板形成した竹材は、所要長さに切断された丸太状の竹材を２〜４分割した後、炭酸ナトリウムなどの水溶液中に浸漬し、１５〜６０分間に煮沸してアク抜き、油抜きを行い、このアク抜き、油抜きをした竹材をオートクレーブで内部温度１２０℃〜１８０℃の条件にて１０分〜１２０分間蒸気加熱し、プレスで加圧し、平板化することにより形成したことを特徴とするものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
平板形成した竹を厚さ方向にスライスして竹材単体を形成し、その内表皮付き竹材単体を、積層部材の表面と裏面の少なくとも一方に表皮を外側に向けて位置させ、内部は皮なしの竹材単体を位置させて積層したことを特徴とする表皮付き竹材。
【請求項２】
上記平板形成した竹は、所要長さに切断された丸太状の竹材を２〜４分割した後、炭酸ナトリウムなどの水溶液中に浸漬し、１５〜６０分間に煮沸してアク抜き、油抜きを行い、このアク抜き、油抜きをした竹材をオートクレーブで内部温度１２０℃〜１８０℃の条件にて１０分〜１２０分間蒸気加熱し、プレスで加圧し、平板化したことを特徴とする請求項１記載の表皮付き竹材。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2012148527.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成26年8月8日(2014.8.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体の吐出口と連通する液体の流路を有する液体吐出ヘッドの製造方法において、
前記流路となる領域を囲むように固体部材が設けられた基板を提供する工程と、
金属あるいは金属の化合物からなる前記流路の型を前記領域内に形成する工程と、
前記固体部材と前記型とに接して前記固体部材と前記型とを被覆するように、樹脂からなる被覆層を設ける工程と、
前記型を除去して前記流路を形成する工程と、
を有することを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項２】
前記基板を提供する工程において、金属あるいは金属の化合物からなる金属層が前記領域内に設けられていて、
前記型を形成する工程において、前記金属層を利用してめっきを行い、金属あるいは金属の化合物からなるめっき層を前記型として前記領域内の前記金属層の表面に形成する請求項１に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項３】
前記固体部材と前記基板との間に、前記固体部材と前記基板とに接して前記金属層が設けられている請求項２に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項４】
前記めっきが、前記金属層に通電しながら前記めっき層の形成を行う電解めっきである請求項２または３に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項５】
前記めっきが、前記金属層に通電せずに前記めっき層の形成を行う無電解めっきである請求項２または３に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項６】
前記基板を提供する工程は、
金属あるいは金属の化合物からなり、前記金属層を形成するための金属材料層が設けられた基板を提供する工程と、
前記領域内に前記金属層を、前記領域の外側に前記金属層と離間した外側金属層を、それぞれ前記金属材料層から形成する工程と、
前記外側金属層の上面と側面とを覆うように前記固体部材を設ける工程と、
を有する請求項５に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項７】
前記金属層が金、銅、およびそれらを含む合金から選ばれるいずれか１つからなる請求項４に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項８】
前記めっき層が金、銅、ニッケル、およびそれらを含む合金から選ばれるいずれか１つからなる請求項７に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項９】
前記金属層がアルミニウムからなり、前記めっき層がニッケルからなる請求項５または６に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項１０】
前記金属層は第１の金属層と第２の金属層とがこの順に積層されたものであり、前記領域内から前記固体部材と前記基板との間にわたって設けられており、
めっき層を除去した後に、前記領域内の前記第２の金属層を、前記第１の金属層に対して選択的に溶解させて除去する工程と、
前記領域内の前記第１の金属層を、前記第２の金属層に対して選択的に溶解させて除去する工程と、
を有する請求項２乃至９のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項１１】
前記第１の金属層が金からなり、前記第２の金属層が銅からなる請求項１０に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項１２】
液体を吐出するために利用されるエネルギーを発生するエネルギー発生素子が前記基板の前記領域内に設けられ、前記被覆層の前記エネルギー発生素子と対向する位置に前記吐出口を形成する請求項２乃至１１のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項１３】
請求項１に記載の液体吐出ヘッドの製造方法であって、
前記流路となる領域と、前記流路となる領域とは離間した領域と、をそれぞれ囲むように固体部材が設けられた基板を提供する工程と、
金属あるいは金属の化合物からなる前記流路の型を前記流路となる領域に、金属あるいは金属の化合物からなる応力緩和部材を前記流路となる領域とは離間した領域に、それぞれ形成する工程と、
前記固体部材と前記型と前記応力緩和部材に接して前記固体部材と前記型と前記応力緩和部材を被覆するように、樹脂からなる被覆層を設ける工程と、
前記型を除去して前記流路を形成する工程と、
を有する請求項１に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項１４】
液体の吐出口と連通する液体の流路を有する液体吐出ヘッドの製造方法であって、
金属あるいは金属の化合物からなる金属層を有する基板を提供する工程と、
前記金属層を有する基板の表面からレーザー加工を行う工程と、
前記レーザー加工された基板を、前記金属層が残った状態で異方性エッチングし、供給口を形成する工程と、
前記流路となる領域を囲むように固体部材を設ける工程と、
金属あるいは金属の化合物からなる前記流路の型を前記領域内に形成する工程と、
前記固体部材と前記型とに接して前記固体部材と前記型とを被覆するように、ドライフィルムからなる被覆層を設ける工程と、
前記型及び金属層を除去する工程と、
を有する請求項１に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年2月4日(2014.2.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
車両の操舵系に操舵補助力を付与するモータと、
前記モータに流れる電流を検出する電流検出器と、
前記モータを駆動するコントローラと、
前記コントローラ内の基板温度を検出する基板温度センサと、
前記基板温度センサの今回値と前回値の差が所定の閾値より大きくなった場合に前記基板温度センサの異常を検出する基板温度センサ異常検出手段と、
前記基板温度センサが検出した基板温度を記憶する記憶手段と、
前記電流検出器が検出した各相モータ電流からモータ推定発熱量を推定演算するモータ発熱量推定演算手段と、
前記基板温度及び前記モータ推定発熱量に基づいてモータ推定温度を推定演算するモータ温度推定演算手段と、を備え、
前記コントローラは、前記モータ推定温度の上昇に応じて、前記モータ電流を制限する制限値を低下させる電動パワーステアリング装置であって、
前記記憶手段は、前記基板温度センサ異常検出手段が異常を検出した場合、前記基板温度センサの前回値を記憶するとともに、前記基板温度センサの異常が検出された後、前記基板温度センサの異常が継続して検出されている間は、記憶した値を保持するものであり、
前記モータ温度推定演算手段は、前記基板温度センサの異常が検出された後、前記基板温度センサの異常が継続して検出されている間は、前記記憶手段が保持する値を前記基板温度として、モータ推定温度を推定演算することを特徴とする電動パワーステアリング装置。
【請求項２】
前記コントローラは、前記基板温度センサの異常が所定時間以上継続した場合に、前記基板温度センサの異常を確定し、
前記モータ温度推定演算手段は、前記基板温度センサの異常が確定された後は、前記基板温度センサが検出可能な最大温度として設定された所定値に基づいてモータ推定温度を推定演算することを特徴とする請求項１に記載の電動パワーステアリング装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記課題を解決するために、請求項１に記載の発明は、車両の操舵系に操舵補助力を付与するモータと、前記モータに流れる電流を検出する電流検出器と、前記モータを駆動するコントローラと、前記コントローラ内の基板温度を検出する基板温度センサと、前記基板温度センサの今回値と前回値の差が所定の閾値より大きくなった場合に前記基板温度センサの異常を検出する基板温度センサ異常検出手段と、前記基板温度センサが検出した基板温度を記憶する記憶手段と、前記電流検出器が検出した各相モータ電流からモータ推定発熱量を推定演算するモータ発熱量推定演算手段と、前記基板温度及び前記モータ推定発熱量に基づいてモータ推定温度を推定演算するモータ温度推定演算手段と、を備え、前記コントローラは、前記モータ推定温度の上昇に応じて、前記モータ電流を制限する制限値を低下させる電動パワーステアリング装置であって、前記記憶手段は、前記基板温度センサ異常検出手段が異常を検出した場合、前記基板温度センサの前回値を記憶するとともに、前記基板温度センサの異常が検出された後、前記基板温度センサの異常が継続して検出されている間は、記憶した値を保持するものであり、前記モータ温度推定演算手段は、前記基板温度センサの異常が検出された後、前記基板温度センサの異常が継続して検出されている間は、前記記憶手段が保持する値を前記基板温度として、モータ推定温度を推定演算すること、を要旨とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記構成によれば、基板温度センサ異常検出手段が異常を検出した場合、基板温度センサの前回値を記憶するとともに、基板温度センサの異常が検出された後、基板温度センサの異常が継続して検出されている間は、記憶した値を保持する。そして、モータ温度推定演算手段は、基板温度センサの異常が検出された後、基板温度センサの異常が継続して検出されている間は、記憶手段が保持する値を基板温度として、モータ推定温度を推定演算するようにした。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
請求項２に記載の発明は、前記コントローラは、前記基板温度センサの異常が所定時間以上継続した場合に、前記基板温度センサの異常を確定し、前記モータ温度推定演算手段は、前記基板温度センサの異常が確定された後は、前記基板温度センサが検出可能な最大温度として設定された所定値に基づいてモータ推定温度を推定演算すること、を要旨とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
上記構成によれば、コントローラは、基板温度センサの異常が所定時間以上継続した場合には、基板温度センサの異常を確定する。そして、モータ温度推定演算手段は、基板温度センサの異常が確定された後は、基板温度センサが検出可能な最大温度として設定された所定値に基づいてモータ推定温度を推定演算するようにした。
【手続補正書】
【提出日】平成26年1月7日(2014.1.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
車内通信ネットワークを介して車両側コンピュータと通信する通信手段と、
電源から所定の電子回路への電力の供給をＯＮ／ＯＦＦするスイッチと、
前記通信手段で受信した車両側コンピュータからの信号に基づいて、前記スイッチをＯＮする制御手段と
を備えることを特徴とする電源制御装置。
【請求項２】
前記制御手段は、前記通信手段によって前記車両側コンピュータからの信号を受信できた後に前記スイッチをＯＮにすること特徴とする請求項１に記載の電源制御装置。
【請求項３】
電源のノイズを検出するノイズ検出手段を更に備え、
前記制御手段は、前記通信手段で受信した車両側コンピュータからの信号と、前記ノイズ検出手段で検出したノイズ信号とに基づいて、前記スイッチをＯＮすることを特徴とする請求項１又は２に記載の電源制御装置。
【請求項４】
電源のノイズを検出するノイズ検出手段を更に備え、
前記ノイズ検出手段がノイズを検出した後、前記制御手段は、前記車両側コンピュータに対して応答要求し、当該車両側コンピュータからの応答出力を検出した時に前記スイッチをＯＮする
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の電源制御装置。
【請求項５】
電源のノイズを検出するノイズ検出手段を更に備え、
前記ノイズ検出手段がノイズを検出した後、前記制御手段は、前記車両側コンピュータに対して応答要求し、当該車両側コンピュータからの応答出力を検出するまで前記スイッチのＯＦＦを維持する
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の電源制御装置。
【請求項６】
前記ノイズ検出手段は、車両始動時に発生するノイズを検出する
ことを特徴とする請求項３〜５の何れか１項に記載の電源制御装置。
【請求項７】
前記ノイズ検出手段は、電装品の電源ＯＮ時に発生するノイズを検出する
ことを特徴とする請求項３〜５の何れか１項に記載の電源制御装置。
【請求項８】
前記制御手段は、前記ノイズ検出手段によって車両始動時に発生するノイズが検出されない場合であっても、前記車両側コンピュータからの信号を受信できるときには、前記スイッチをＯＦＦとしない
ことを特徴とする請求項３〜５の何れか１項に記載の電源制御装置。
【請求項９】
前記車両始動時に発生するノイズは、エンジンを有する車両のエンジン始動時に発生する電圧降下を含むノイズである
ことを特徴とする請求項６又は８に記載の電源制御装置。
【請求項１０】
前記車両始動時に発生するノイズは、車両への電源供給をオンにした際に発生する電圧降下を含むノイズである
ことを特徴とする６又は８に請求項記載の電源制御装置。
【請求項１１】
前記通信手段は、車両側コンピュータから自発出力信号を出力する車内通信ネットワークと、車両側コンピュータから応答出力信号を出力する車内通信ネットワークとの双方を用いる
ことを特徴とする請求項１〜１０の何れか１項に記載の電源制御装置。
【請求項１２】
前記通信手段は、異なる複数の車内通信ネットワークと接続して通信可能な構成であり、
前記制御手段は、前記通信手段に接続された異なる複数の車内通信ネットワークを監視し、前記異なる複数の車内通信ネットワークの前記通信手段が通信可能な車内通信ネットワークからの情報を用いて前記スイッチのＯＮ／ＯＦＦの判定を行う
ことを特徴とする請求項１〜１１の何れか１項に記載の電源制御装置。
【請求項１３】
前記車内通信ネットワーク用の接続端子と電源用の供給端子を含む自己故障診断用の車内コネクタと接続する接続手段を備える
ことを特徴とする請求項１１又は１２に記載の電源制御装置。
【請求項１４】
前記接続手段を有する筐体内には、前記通信手段と、電源のノイズを検出するノイズ検出手段と、前記制御手段とを備える
ことを特徴とする請求項１３に記載の電源制御装置。
【請求項１５】
前記制御手段は、
前記通信手段が自発出力信号を検出した場合と、
前記ノイズ検出手段がノイズを検出した後に、前記通信手段が応答要求信号を送出し、その応答要求信号に対する応答出力信号を検出した場合に、
前記スイッチをＯＮする
ことを特徴とする請求項３〜１０の何れか１項に記載の電源制御装置。
【請求項１６】
前記制御手段は、
前記ノイズ検出手段が車両始動時に発生するノイズを検出したことをトリガーとして、前記通信手段から応答要求信号を送出する
ことを特徴とする請求項１５に記載の電源制御装置。
【請求項１７】
前記制御手段は、
所定時間を計測するタイマー手段を備え、
前記通信手段から応答要求信号を送出してから所定時間以内に、前記通信手段から応答要求信号に対する応答出力信号を検出した場合に前記スイッチをＯＮする
ことを特徴とする請求項１５又は１６に記載の電源制御装置。
【請求項１８】
前記制御手段は、
所定時間を計測するタイマー手段を備え、
前記通信手段が前の自発出力信号を検出してから所定時間以内に次の自発出力信号を検出できる場合には、
前記スイッチをＯＦＦにしない
ことを特徴とする請求項１５に記載の電源制御装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月15日(2013.11.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
第６の発明は、
前記鉄粉として、平均粒径が１μｍ以上５００μｍ以下である鉄粉を用いることを特徴
とする第１から第５の発明のいずれかに記載の有機ハロゲン化合物処理用鉄粉の製造方法である。
【手続補正書】
【提出日】平成26年1月14日(2014.1.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
前記吐出量調整工程において、吐出装置とワークとの相対移動速度を変えることなく吐出量の補正を行うことを特徴とする請求項１ないし５のいずれかに記載の液体材料の塗布方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
すなわち、第１の発明は、基板とその上に載置されたワークとの間隙に毛細管現象を利用して吐出装置から吐出した液体材料を充填する液体材料の塗布方法であって、連続した複数の塗布領域からなる塗布パターン作成工程と、一の吐出パルスに複数の休止パルスを所定の比率で組み合わせたサイクルを複数作成し、各塗布領域に割り当てるサイクル割当工程と、各塗布領域について割り当てられたサイクルで塗布を実施する塗布工程と、予め設定した補正周期で、補正周期の時点における吐出装置からの吐出量を計測し、吐出量の補正量を算出する補正量算出工程と、前記補正量算出工程で算出した補正量に基づき、１以上のサイクルについて、一の吐出パルスに対する休止パルスの比率を調整する吐出量調整工程と、を含み、休止パルスの長さを吐出パルスの長さと比べ充分に短く設定したことを特徴とする液体材料の塗布方法である。
第２の発明は、第１の発明において、休止パルスの長さが吐出パルスの長さの２０分の１以下であることを特徴とする。
第３の発明は、第１または２の発明において、前記サイクル割当工程において、各サイクルに同じ長さの吐出パルスおよび同じ長さの休止パルスを割り当てることを特徴とする。
第４の発明は、第１ないし３のいずれかの発明において、前記吐出量調整工程において、吐出パルスおよび休止パルスの長さを変えないことを特徴とする。
第５の発明は、第１ないし４のいずれかの発明において、前記吐出量調整工程において、塗布パターンの全長および各塗布領域の長さを変えないことを特徴とする。
第６の発明は、第１ないし５のいずれかの発明において、前記吐出量調整工程において、吐出装置とワークとの相対移動速度を変えることなく吐出量の補正を行うことを特徴とする。
第７の発明は、第１ないし６のいずれかの発明において、前記補正量算出工程以前の工程において、補正を行うかを判断する許容範囲を設定し、許容範囲を越える場合に補正を実行することを特徴とする。
第８の発明は、第１ないし７のいずれかの発明において、前記補正周期は、ユーザーが補正周期として入力した時間情報、ワークの枚数、または基板の枚数に基づき設定されることを特徴とする。
第９の発明は、第１ないし８のいずれかの発明において、前記吐出量調整工程において、複数サイクルについて、一の吐出パルスに対する休止パルスの比率を調整することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月17日(2014.10.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
人の頭部形状に関する高次の基底ベクトルについて、少なくとも一つの重み係数が互いに異なる第一および第二の頭部画像が対比可能に配置されていることを特徴とする顔印象判定チャート。
【請求項２】
前記高次の基底ベクトルの寄与率が１％以上であり、
前記第一および第二の頭部画像は、前記高次を除く寄与率が１％以上の他の基底ベクトルの重み係数が共通である請求項１に記載の顔印象判定チャート。
【請求項３】
前記第一および第二の頭部画像からなる画像ペアを複数組含み、
一の組の前記画像ペアにかかる前記第一および第二の頭部画像は、第１の高次の重み係数が互いに異なり、
他の組の前記画像ペアにかかる前記第一および第二の頭部画像は、第２の高次の重み係数が互いに異なることを特徴とする請求項１または２に記載の顔印象判定チャート。
【請求項４】
顔印象の傾向と、前記重み係数の次数と、の関係を示す印象対応チャートをさらに含む請求項１から３のいずれか一項に記載の顔印象判定チャート。
【請求項５】
第三の頭部画像をさらに含み、前記第三の頭部画像の前記高次の基底ベクトルの前記重み係数が、前記第一の頭部画像の前記重み係数と前記第二の頭部画像の前記重み係数との中間の大きさである請求項１から４のいずれか一項に記載の顔印象判定チャート。
【請求項６】
前記第一の頭部画像と前記第二の頭部画像とに連続的に遷移する動画像である請求項１から５のいずれか一項に記載の顔印象判定チャート。
【請求項７】
前記第一および第二の頭部画像が、共通のテクスチャを備えている請求項１から６のいずれか一項に記載の顔印象判定チャート。
【請求項８】
前記第一および第二の頭部画像がシート上に印刷されている請求項１から７のいずれか一項に記載の顔印象判定チャート。
【請求項９】
前記第一および第二の頭部画像がディスプレイ装置に表示されている請求項１から７のいずれか一項に記載の顔印象判定チャート。