【手続補正書】
【提出日】平成25年12月4日(2013.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の第１指標が設けられた第１基板を載置する第１ステージと、
前記第１ステージに対向して配置され、前記第１基板の前記複数の第１指標を検出する複数の第１検出部と、
前記複数の第１検出部のうち少なくとも２つの第１検出部の互いの間隔を調整する調整機構と、
前記第１ステージに対向して配置され、第２指標が設けられた第２基板を載置する第２ステージと、
前記第２ステージに対向して配置され、前記第２指標を検出する少なくとも１つの第２検出部と、
前記調整機構によって前記間隔が調整された前記第１検出部により検出された前記複数の第１指標の位置を算出し、前記第２検出部により検出された前記第２指標の位置を算出する制御演算部と
を備える位置検出装置。
【請求項２】
前記制御演算部は、前記複数の第１検出部のうち少なくとも１つと前記第２検出部とを対向させて、対向する検出部間の光軸調整を行う請求項１に記載の位置検出装置。
【請求項３】
前記複数の第１検出部のうち少なくとも１つの焦点面または前記第２検出部の焦点面に前記光軸調整に用いる調整用指標を備える請求項２に記載の位置検出装置。
【請求項４】
前記調整用指標は、前記複数の第１検出部の観察視野または前記第２検出部の観察視野に対して進退する請求項３に記載の位置検出装置。
【請求項５】
前記複数の第１検出部の少なくとも１つの焦点面または前記第２検出部の焦点面に設置される拡散板と、
前記拡散板に前記光軸調整に用いる調整用指標を投影する投影部と
を備える請求項２に記載の位置検出装置。
【請求項６】
前記拡散板は、前記複数の第１検出部の少なくとも１つの観察視野または前記第２検出部の観察視野に対して進退する請求項５に記載の位置検出装置。
【請求項７】
前記複数の第１検出部の少なくとも１つは、前記調整機構により調整されない請求項１から６のいずれか１項に記載の位置検出装置。
【請求項８】
前記第１ステージを少なくとも前記第１基板の載置面方向に移動させる移動機構を備える請求項１から７のいずれか１項に記載の位置検出装置。
【請求項９】
前記複数の第１検出部は、前記移動機構による前記第１基板の移動方向に直交する方向に配列されている請求項８に記載の位置検出装置。
【請求項１０】
前記制御演算部は、前記移動機構によって移動される前記第１ステージに載置された前記第１基板の画像情報を前記少なくとも２つの第１検出部により取得し、前記画像情報に基づいて前記複数の第１検出部の少なくとも１つが前記複数の第１指標の少なくとも１つの第１指標を光軸中心で取得できるように前記調整機構により調整した後に、再度、前記移動機構によって移動される前記第１ステージに載置された前記第１基板の画像情報を取得して、前記第１指標の位置を算出する請求項９に記載の位置検出装置。
【請求項１１】
前記制御演算部は、前記第１ステージに前記第１基板として載置された基板について前記少なくとも２つの第１検出部により前記複数の第１指標の位置を算出した後に、前記基板を前記第２ステージに前記第２基板として移載し、前記第２検出部により前記複数の第１指標として用いた指標を前記第２指標として位置を確認する請求項１から１０のいずれか１項に記載の位置検出装置。
【請求項１２】
前記第２検出部は複数であり、
前記制御演算部は、前記第１検出部により取得した前記複数の第１指標のうち予め定められた基準に基づいて選択した選択指標を、複数の前記第２検出部のうち特定の前記第２検出部により位置を確認する請求項１１に記載の位置検出装置。
【請求項１３】
前記複数の第１検出部はそれぞれ、前記第１ステージが第１軸に平行な方向に移動する動作と連動して、該各第１検出部の検出領域内に順次配置される、前記第１軸と平行な方向に沿って配列された前記複数の第１指標を検出する請求項１から１２のいずれか１項に記載の位置検出装置。
【請求項１４】
請求項１から１３のいずれか１項に記載の位置検出装置を備える基板貼り合わせ装置。
【請求項１５】
第１ステージに第１基板を載置する第１載置工程と、
前記第１ステージに対向して配置され、複数の第１検出部により前記第１基板に設けられた複数の第１指標を検出する第１検出工程と、
前記複数の第１検出部の少なくとも２つの第１検出部の互いの間隔を調整機構により調整する調整工程と、
前記第１ステージに対向して配置された第２ステージに、第２指標が設けられた第２基板を載置する第２載置工程と、
前記第２ステージに対向して配置され、少なくとも１つの第２検出部により前記第２指標を検出する第２検出工程と、
前記調整機構によって前記間隔が調整された前記第１検出部により検出された前記複数の第１指標の位置を算出し、前記第２検出部により検出された前記第２指標の位置を算出す演算制御工程と
を含む位置検出方法。
【請求項１６】
前記演算制御工程は、前記複数の第１検出部のうち少なくとも１つと前記第２検出部とを対向させて、対向する検出部間の光軸調整を行う請求項１５に記載の位置検出方法。
【請求項１７】
前記演算制御工程は、前記複数の第１検出部のうち少なくとも１つの焦点面または前記第２検出部の焦点面に備えられた調整用指標に基づいて前記光軸調整を行う請求項１６に記載の位置検出方法。
【請求項１８】
前記調整用指標は、前記複数の第１検出部の観察視野または前記第２検出部の観察視野に対して進退する請求項１７に記載の位置検出方法。
【請求項１９】
前記演算制御工程は、前記複数の第１検出部の少なくとも１つの焦点面または前記第２検出部の焦点面に設置される拡散板に、前記光軸調整に用いる調整用指標を投影する請求項１６に記載の位置検出方法。
【請求項２０】
前記拡散板は、前記複数の第１検出部の少なくとも１つの観察視野または前記第２検出部の観察視野に対して進退する請求項１９に記載の位置検出方法。
【請求項２１】
前記調整工程は、前記複数の第１検出部の少なくとも１つを前記調整機構により調整しない請求項１５から２０のいずれか１項に記載の位置検出方法。
【請求項２２】
移動機構により前記第１ステージを少なくとも前記第１基板の載置面方向に移動させる移動工程を含む請求項１５から２１のいずれか１項に記載の位置検出方法。
【請求項２３】
前記複数の第１検出部は、前記移動機構による前記第１基板の移動方向に直交する方向に配列されている請求項２２に記載の位置検出方法。
【請求項２４】
前記演算制御工程は、前記移動機構によって移動される前記第１ステージに載置された前記第１基板の画像情報を前記少なくとも２つの第１検出部により取得し、前記画像情報に基づいて前記複数の第１検出部の少なくとも１つが前記複数の第１指標の少なくとも１つの第１指標を光軸中心で取得できるように前記調整機構により調整した後に、再度、前記移動機構によって移動される前記第１ステージに載置された前記第１基板の画像情報を取得して、前記第１指標の位置を算出する請求項２３に記載の位置検出方法。
【請求項２５】
前記演算制御工程は、前記第１ステージに前記第１基板として載置された基板について前記少なくとも２つの第１検出部により前記複数の第１指標の位置を算出した後に、前記基板を前記第２ステージに前記第２基板として移載し、前記第２検出部により前記複数の第１指標として用いた指標を前記第２指標として位置を確認する請求項１５から２４のいずれか１項に記載の位置検出方法。
【請求項２６】
前記第２検出部は複数であり、
前記演算制御工程は、前記少なくとも２つの第１検出部により取得した前記複数の第１指標のうち予め定められた基準に基づいて選択した選択指標を、複数の前記第２検出部のうち特定の前記第２検出部により位置を確認する請求項２５に記載の位置検出方法。
【請求項２７】
前記第１ステージを第１方向に移動して、前記第１基板上で前記第１方向の位置が異なる指標を検出する際に、前記第１方向とは異なる第２方向に関して位置が異なる検出領域を有する前記少なくとも２つの第１検出部を用いて、前記第１基板の前記第１方向の位置によって、異なる個数の指標を検出する検出工程を含む請求項１５に記載の位置検出方法。
【請求項２８】
前記検出工程は、前記第１方向に移動される前記第１基板上で前記第２方向の位置がほぼ同一の複数の指標を、複数の前記検出領域の１つで検出する請求項２７に記載の位置検出方法。
【請求項２９】
前記検出工程は、前記第１方向に移動される前記第１基板上での前記複数の第１指標の前記第２方向の位置に応じて、複数の前記検出領域の前記第２方向の相対位置を調整する請求項２７または２８に記載の位置検出方法。
【請求項３０】
第１軸及びこれと交差する第２軸を含む予め定められた平面内で移動するステージ上に、互いに異なる複数の位置にそれぞれ指標が形成されている基板を載置する工程と、
前記第２軸に平行な方向に関して検出領域が異なる位置に配置された複数の検出部を用いて、前記基板上の互いに異なる位置の指標を同時に検出する工程と、を含み、
前記ステージの前記平面内での位置によって、前記複数の検出部により同時検出される前記基板上の指標の個数が異なる
基板貼り合わせ方法。
【請求項３１】
予め定められた平面内で第１及び第２方向に可動なステージ上に基板を載置する第１工程と、
前記ステージを前記第１方向に移動して、前記基板上で前記第１方向の位置が異なる指標を検出する際に、前記第２方向に関して位置が異なる検出領域を有する検出部を用いて、前記基板の前記第１方向の位置によって、異なる個数の指標を検出する第２工程と
を含む基板貼り合わせ方法。
【請求項３２】
前記検出部は、前記第１方向に移動される前記基板上で前記第２方向の位置がほぼ同一の複数の指標を、複数の前記検出領域の１つで検出する請求項３１に記載の基板貼り合わせ方法。
【請求項３３】
前記検出部は、前記第１方向に移動される前記基板上での前記指標の前記第２方向の位置に応じて、複数の前記検出領域の前記第２方向の相対位置が調整される請求項３１または３２に記載の基板貼り合わせ方法。
【請求項３４】
複数の基板を重ね合わせて製造されるデバイスの製造方法であって、
前記複数の基板を重ね合わせる工程は、
複数の第１指標が設けられた第１基板を第１ステージに載置する第１載置ステップと、
前記第１ステージに対向して配置され、複数の第１検出部のうち少なくとも２つの第１検出部の互いの観察器の間隔を調整する調整ステップと、
前記複数の第１検出部により、前記第１基板の前記複数の第１指標の位置を算出する第１算出ステップと、
第２基板を前記第１ステージに対向して配置された第２ステージに載置する第２載置ステップと、
前記第２ステージに対向して配置され、少なくとも１つの第２検出部により、前記第２基板の第２指標の位置を算出する第２算出ステップと
前記第１算出ステップにより算出された前記複数の第１指標の位置と、前記第２算出ステップにより算出された前記第２指標の位置に基づいて、前記第１基板と前記第２基板を重ね合わせる積層工程と
を含むデバイスの製造方法。
【請求項３５】
前記第１ステージは、第１軸及びこれと交差する第２軸を含む予め定められた平面内で移動し、
前記第２軸に平行な方向に関して検出領域が異なる位置に配置された前記少なくとも２つの第１検出部を用いて、前記第１基板上の互いに異なる位置の指標を同時に検出する検出工程を含み、
前記第１ステージの前記平面内での位置によって、前記第１検出部により同時検出される前記第１基板上の指標の個数が異なる請求項３４に記載のデバイスの製造方法。
【請求項３６】
前記第１ステージは、予め定められた平面内で第１及び第２方向に移動し、
前記第１ステージを前記第１方向に移動して、前記第１基板上で前記第１方向の位置が異なる指標を検出する際に、前記第２方向に関して位置が異なる検出領域を有する前記第１検出部を用いて、前記第１基板の前記第１方向の位置によって、異なる個数の指標を検出する検出工程を含む請求項３４に記載のデバイスの製造方法。
【請求項３７】
前記検出工程は、前記第１方向に移動される前記第１基板上で前記第２方向の位置がほぼ同一の複数の指標を、複数の前記検出領域の１つで検出する請求項３６に記載のデバイスの製造方法。
【請求項３８】
前記検出工程は、前記第１方向に移動される前記第１基板上での前記複数の第１指標の前記第２方向の位置に応じて、複数の前記検出領域の前記第２方向の相対位置を調整する請求項３６または３７に記載のデバイスの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】位置検出装置、基板貼り合わせ装置、位置検出方法、基板貼り合わせ方法、及びデバイスの製造方法