(57)【要約】      （修正有）【課題】湯水に炭酸ガスを溶解させることでレジオネラ属菌の増殖を抑制する増殖抑制装置を提供する。【解決手段】レジオネラ属菌の増殖抑制装置、８０ｂは、炭酸ガスを供給するガス供給部と、かつ人体に対しては無害の炭酸ガスを水設備１００の湯または水に注入し溶解させる溶解手段４０と、を有し、レジオネラ属菌の増殖を抑制する。特に温浴設備等では薬剤添加部２６等による殺菌作用が効果的に機能し、水設備１００におけるレジオネラ属菌の発生及び増殖を大幅に抑制することが可能となる。【選択図】図２
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【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
湯または水を溜める水槽と、前記水槽の湯または水を循環する循環配管と、を有する水設備のレジオネラ属菌の増殖抑制装置であって、
炭酸ガスを供給するガス供給部を備え、前記ガス供給部からの炭酸ガスを前記循環配管を流下する湯または水に注入し溶解させることを特徴とするレジオネラ属菌の増殖抑制装置。
【請求項２】
循環配管から分岐したガス注入配管を有し、ガス供給部からの炭酸ガスを前記ガス注入配管を流下する湯または水に注入し溶解させることで、前記循環配管を流下する湯または水に炭酸ガスを溶解させることを特徴とする請求項１記載のレジオネラ属菌の増殖抑制装置。
【請求項３】
炭酸ガスの注入により、湯または水中の炭酸ガスの溶存濃度を５００ｍｇ／Ｌ〜１５００ｍｇ/Ｌとすることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のレジオネラ属菌の増殖抑制装置。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は、温浴施設等の水設備に対するレジオネラ属菌の増殖抑制装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
温浴施設、宿泊施設の大浴場等では浴槽（水槽）に貯留した湯水を循環、濾過、殺菌して再利用するものも多い。しかしながら、一般的な次亜塩素酸系の殺菌剤は水質条件によってはレジオネラ属菌に対する殺菌効果が低下することがあり、循環式の温浴施設等におけるレジオネラ属菌の人間への感染が問題となっている。この問題点に対し、本願考案者らはレジオネラ属菌の温床が濾過器にあることに着目し、下記［特許文献１］に記載の発明を行った。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００５−１９３２１４号公報
【考案の概要】
【考案が解決しようとする課題】
【０００４】
［特許文献１］に記載の発明のように、濾過器の洗浄等によってレジオネラ属菌の温床を除去することは菌の増殖抑制に有効な手段の一つである。しかしながら、レジオネラ属菌のさらなる増殖抑制のためには、様々なアプローチから複合的な対策を講じることが望ましい。
【０００５】
本考案は上記事情に鑑みてなされたものであり、湯水に炭酸ガスを溶解させることでレジオネラ属菌の増殖を抑制する増殖抑制装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本考案は、
（１）湯または水を溜める水槽１０と、前記水槽１０の湯または水を循環する循環配管２０と、を有する水設備１００のレジオネラ属菌の増殖抑制装置であって、炭酸ガスを供給するガス供給部（ガスボンベ３２、レギュレータ３６、ガス供給管３４）を備え、前記ガス供給部からの炭酸ガスを前記循環配管２０を流下する湯または水に注入し溶解させることを特徴とするレジオネラ属菌の増殖抑制装置８０ａ、８０ｂを提供することにより、上記課題を解決する。
（２）循環配管２０から分岐したガス注入配管５０を有し、ガス供給部からの炭酸ガスを前記ガス注入配管５０を流下する湯または水に注入し溶解させることで、前記循環配管２０を流下する湯または水に炭酸ガスを溶解させることを特徴とする上記（１）記載のレジオネラ属菌の増殖抑制装置８０ｂを提供することにより、上記課題を解決する。
（３）炭酸ガスの注入により、湯または水中の炭酸ガスの溶存濃度を５００ｍｇ／Ｌ〜１５００ｍｇ/Ｌとすることを特徴とする上記（１）または（２）に記載のレジオネラ属菌の増殖抑制装置８０ａ、８０ｂを提供することにより、上記課題を解決する。
【考案の効果】
【０００７】
本考案に係るレジオネラ属菌の増殖抑制装置は、レジオネラ属菌に対する増殖抑制効果を有する炭酸ガスを水設備の循環配管を介して湯または水に注入し溶解させる。これにより、レジオネラ属菌の増殖を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本考案に係る第１の形態の増殖抑制装置の概略構成図である。
【図２】本考案に係る第２の形態の増殖抑制装置の概略構成図である。
【図３】本考案に係る第２の形態の増殖抑制装置の他の例の概略構成図である。
【図４】液中の炭酸ガスの溶存濃度とレジオネラ属菌の増殖率の関係を示すグラフである。
【考案を実施するための形態】
【０００９】
本考案に係るレジオネラ属菌の増殖抑制装置について図面に基づいて説明する。ここで、図１〜図３は、本考案に係るレジオネラ属菌の増殖抑制装置８０ａ、８０ｂと、これを備えた水設備１００の概略構成図である。尚、ここでは水設備１００として、２つの浴槽（水槽１０）を備えた温浴設備を例に説明を行うが、本考案はこれに限定されるわけではなく、クーリングタワー等を備えた水冷却設備やプール等、如何なる循環型の水設備に適用しても良い。また、ここでの湯または水（湯水）とは、水道水及びこの水道水を加熱した湯に限定されるものではなく、温泉水、地下水、海水、工業用水等、如何なるものとしても良い。
【００１０】
先ず、温浴設備としての水設備１００は、浴槽としての水槽１０と、この水槽１０の湯水を殺菌、濾過、加温して循環させる循環配管２０と、を備えている。また、循環配管２０にはポンプ手段２２が設置されており、このポンプ手段２２が動作することで吸水口１２から水槽１０内の湯水を吸引し、吐出口１４から水槽１０内に還流させる。また、循環配管２０の上流側には周知のヘアキャッチャ２４が設けられ、毛髪等の比較的大きなゴミを捕集、除去する。また、ヘアキャッチャ２４の下流側には、本考案に係るレジオネラ属菌の増殖抑制装置８０ａ、８０ｂと、例えば塩素系の殺菌剤を添加する薬剤添加部２６と、所定の濾材が充填された濾過器２８と、湯水に対する加温を行う加温手段２９と、が接続する。尚、ポンプ手段２２の能力が不足する場合には、図１、図３に示すように適宜、適切な場所に補助ポンプ手段２２ａを設けても良い。
【００１１】
また、本考案に係るレジオネラ属菌の増殖抑制装置８０ａ、８０ｂは、炭酸ガスを供給するガス供給部と、供給された炭酸ガスを湯水に溶解させる溶解手段４０と、を有している。そして、ガス供給部は、例えば液化炭酸ガスが充填したガスボンベ３２と、このガスボンベ３２から供給される炭酸ガスの圧力（流量）を調整するレギュレータ３６と、ガスボンベ３２から供給される炭酸ガスを湯水に注入するガス供給管３４と、を有している。
【００１２】
尚、図１は循環配管２０に直接炭酸ガスを注入する第１の形態の増殖抑制装置８０ａを示しており、図２、図３は循環配管２０から並列に分岐したガス注入配管５０を介して炭酸ガスを注入する第２の形態の増殖抑制装置８０ｂを示している。尚、第２の形態の増殖抑制装置８０ｂは循環配管２０からガス注入配管５０を分岐して設置するため、既存の水設備１００への比較的軽微な改造により設置が可能となる。また、増殖抑制装置８０ａ、８０ｂの設置位置に特に限定は無く図３に示すように濾過器２８の下流側に設けても良い。ただし、温浴設備においては濾過器２８がレジオネラ属菌の最大の温床となる可能性が高いため、図１、図２に示すように濾過器２８の上流側に増殖抑制装置８０ａ、８０ｂを設けることが好ましい。
【００１３】
また、増殖抑制装置８０ａ、８０ｂを構成する溶解手段４０に関しても特に限定は無く、例えば以下の手法を用いることができる。先ず、第１の手法としては、溶解手段４０として溶解槽を設け、この溶解槽に炭酸ガスの注入された湯水を貯留する。そして、溶解槽内を加圧することで炭酸ガスを湯水に溶解させるものである。
【００１４】
また、第２の手法としては、例えばガス供給管３４の先に溶解手段４０としてのマイクロバブル化器を設け、湯水中に炭酸ガスをマイクロバブル化して注入し溶解させるものである。また、第３の手法としては、溶解手段４０としてスタティックミキサ等の攪拌手段を設け、物理的な攪拌によって湯水中に炭酸ガスを溶解させるものである。また、第４の手法としては、溶解手段４０として溶解槽を設け、この溶解槽に湯水を散布もしくは噴霧して湯水中に炭酸ガスを溶解させるものである。勿論、上記の以外の手法やこれらの手法を複数組み合わせて溶解手段４０を構築しても良い。
【００１５】
次に、液中の炭酸ガスの溶存濃度とレジオネラ属菌の増殖率に関する実験結果を以下に示す。尚、実験は以下の条件にて行った。
【００１６】
先ず、培養液として抗生物質を添加した液体ＢＣＹＥ培地を８００ｍＬ用意した。次に、この培養液にレジオネラ属菌（レジオネラ属菌標準株ＡＴＣＣ  ３３１５２：Ｌ．ｐ）液を１００ＣＦＵ／ｍＬの濃度となるように移植した。次に、この培養液を３６℃に維持しながら攪拌し、少量採水した後、炭酸ガスを供給量を変化させて添加した。次に、培養液を攪拌しながら３６℃に維持しレジオネラ属菌（Ｌ．ｐ）の培養を３日間行った。次に、３日後の培養液を採水し、培養液のＣＯ２（ａｑ）濃度及びｐＨを測定した。また、培養前後の培養液を周知の手法で検査培養し、検体のコロニー数をカウントすることでレジオネラ属菌（Ｌ．ｐ）の増殖率を評価した。尚、レジオネラ属菌（Ｌ．ｐ）の増殖率は（培養後の培養検体の菌数）／（培養前の培養検体の菌数）とした。
【００１７】
ここで、上記の実験結果を図４に示す。尚、図４中の横軸が培養後（３日間経過後）の培養液の炭酸ガスの溶存濃度であり、縦軸がレジオネラ属菌（Ｌ．ｐ）の増殖率（培養後の培養検体の菌数）／（培養前の培養検体の菌数）である。また、図４中の黒丸は炭酸ガスを添加せずに同様の実験を行った際の増殖率である。
【００１８】
図４から、液中の炭酸ガス溶存濃度が４００ｍｇ／Ｌまでの範囲ではレジオネラ属菌（Ｌ．ｐ）の増殖率に有意差は認められなかった。しかしながら、炭酸ガスの溶存濃度が５００ｍｇ／Ｌ、６００ｍｇ／Ｌではレジオネラ属菌（Ｌ．ｐ）の増殖率は約１／１０に減少し、また炭酸ガス溶存濃度が８００ｍｇ／Ｌ〜１５００ｍｇ/Ｌの範囲ではレジオネラ属菌（Ｌ．ｐ）はほとんど増加せず、顕著な増殖抑制効果が認められた。これらのことから、液中の炭酸ガスの溶存濃度が５００ｍｇ／Ｌ〜１５００ｍｇ/Ｌにおいてレジオネラ属菌（Ｌ．ｐ）に対する増殖抑制効果が認められ、特に８００ｍｇ／Ｌ〜１５００ｍｇ/Ｌでは極めて高い増殖抑制効果を有することが判る。このことから、本考案に係るレジオネラ属菌の増殖抑制装置８０ａ、８０ｂでは、炭酸ガスの溶存濃度が５００ｍｇ／Ｌ〜１５００ｍｇ/Ｌとなるように炭酸ガスを注入、溶解させることが好ましい。
【００１９】
次に、本考案に係るレジオネラ属菌の増殖抑制装置８０ａ、８０ｂの動作を説明する。尚、ここでは図１、図２に示す温浴設備（水設備１００）の例を用いて説明を行う。
【００２０】
先ず、浴槽（水槽１０）には一定量の湯水が貯留されている。尚、水槽１０の水量が減少した場合には、給水配管１６から適宜、温泉水や水道水等が供給される。また、水槽１０には循環配管２０が接続している。そして、循環配管２０のポンプ手段２２が動作すると、水槽１０内の湯水は吸水口１２から循環配管２０に取り込まれ、ヘアキャッチャ２４に通水される。そして、ヘアキャッチャ２４にて毛髪等の比較的大きなゴミが除去される。そして、ヘアキャッチャ２４を通過した湯水は循環配管２０を流下して増殖抑制装置８０ａ、８０ｂ側に送水される。
【００２１】
増殖抑制装置８０ａ、８０ｂでは、ガス供給部を構成するレギュレータ３６が予め設定された値に開口して、ガスボンベ３２からの炭酸ガスをガス供給管３４に所定の圧力で供給する。そして、図１に示す第１の形態の増殖抑制装置８０ａでは、ガス供給管３４、溶解手段４０を介して循環配管２０を流下する湯水に直接、炭酸ガスを注入、溶解する。また、第２の形態の増殖抑制装置８０ｂでは、循環配管２０から分岐したガス注入配管５０を流下する湯水にガス供給管３４、溶解手段４０を介して炭酸ガスを注入、溶解する。そして、ガス注入配管５０は循環配管２０と合流し、これにより循環配管２０内を流下する湯水に炭酸ガスが注入、溶解される。このときの炭酸ガスの注入量は循環配管２０内を流下する湯水に対し炭酸ガスの溶存濃度が５００ｍｇ／Ｌ〜１５００ｍｇ/Ｌとなるようにすることが好ましく、８００ｍｇ／Ｌ〜１５００ｍｇ/Ｌとすることが特に好ましい。そして、この炭酸ガスの溶存濃度において湯水中のレジオネラ属菌は活性が阻害され、増殖が抑制される。尚、増殖抑制装置８０ａ、８０ｂは常時動作させても良いし、所定の間隔で間欠的に動作させても良い。
【００２２】
炭酸ガスが溶解した湯水は、次に薬剤添加部２６に送水され、この薬剤添加部２６において塩素系殺菌剤等の周知の殺菌剤が所定量投入される。これにより、循環配管２０内の湯水は殺菌され、湯水中のレジオネラ属菌を含む細菌類は死滅もしくは減少する。また、レジオネラ属菌が残留した場合でも、このレジオネラ属菌は炭酸ガスによって活性が阻害されているため、その増殖は抑制される。
【００２３】
次に、循環配管２０内の湯水は濾過器２８に送水される。そして、濾過器２８内に充填した濾材によって濾過され、細かな夾雑物が除去される。このとき、濾過器２８に通水する湯水は所定の濃度の炭酸ガスが溶解しているから、濾過器２８内に存在するレジオネラ属菌も活性が阻害され、増殖が抑制される。
【００２４】
そして、濾過器２８を通過した湯水は、次に加温手段２９に送水され適宜加温される。そして、吐出口１４から水槽１０内に還流する。尚、湯水中に溶解した炭酸ガスは、入浴した人間に対し冷え性、肩凝り、血行障害の改善など、好ましい影響を及ぼす。
【００２５】
以上のように、本考案に係るレジオネラ属菌の増殖抑制装置８０ａ、８０ｂは、レジオネラ属菌に対する増殖抑制効果を有し、かつ人体に対しては無害の炭酸ガスを水設備１００の湯または水に注入し溶解させることでレジオネラ属菌の増殖を抑制する。この抑制効果により、特に温浴設備等では薬剤添加部２６等による殺菌作用が効果的に機能し、水設備１００におけるレジオネラ属菌の発生及び増殖を大幅に抑制することが可能となる。また、湯中に溶解した炭酸ガスは、入浴した人間に対し好ましい影響を及ぼし、温浴設備自体の付加価値の向上に寄与することができる。
【００２６】
尚、本例で示した増殖抑制装置８０ａ、８０ｂ、水設備１００の各部の構成、機構、動作、配管経路、及び、炭酸ガスの供給機構、注入方法、溶解方法等は一例であるから、特に本例に限定される訳ではなく、本考案は本考案の要旨を逸脱しない範囲で変更して実施することが可能である。
【符号の説明】
【００２７】
１０    水槽
２０    循環配管
３２    ガスボンベ
３４    ガス供給管
３６    レギュレータ
５０    ガス注入配管
８０ａ、８０ｂ    増殖抑制装置
１００  水設備
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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