Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月3日(2014.7.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルミニウムに対して包晶反応を示す包晶元素としてＴｉ：０．００１％（質量％、以下同じ）〜０．１％、Ｃｒ：０．０００１％〜０．４％のうちの１種または２種を含有し、陽極酸化処理皮膜を形成すべき純アルミニウム系、Ａｌ−Ｍｎ系、Ａｌ−Ｍｇ系またはＡｌ−Ｍｇ−Ｓｉ系のアルミニウム合金板であって、該アルミニウム合金板の最表層部における固溶状態の包晶元素の濃度が、アルミニウム合金板の幅方向において０．０５ｍｍ以上の幅の帯として変化し、隣り合う帯における濃度の差が０．００８％（質量％、以下同じ）以下であることを特徴とする陽極酸化処理後の表面品質に優れたアルミニウム合金板。
【請求項２】
前記アルミニウム合金板が、Ｔｉ：０．００１％〜０．１％、Ｃｒ：０．０００１％〜０．４％のうち１種または２種を包晶元素として含有し、さらに、Ｍｇ：０．３％〜６．０％、Ｃｕ：０．５％以下、Ｍｎ：０．５％以下、Ｆｅ：０．４％以下、Ｓｉ：０．３％以下のうちの１種または２種以上を含有し、残部Ａｌおよび不可避的不純物からなることを特徴とする請求項１記載の陽極酸化処理後の表面品質に優れたアルミニウム合金板。
【請求項３】
請求項１または２に記載のアルミニウム合金板を製造する方法であって、鋳塊の圧延面に存在する結晶粒の中心部の直径５μｍ領域部と該結晶粒の粒界から２．５μｍ離れた粒界近傍部の直径５μｍ領域部の包晶元素の濃度の差が０．０４０％以下の鋳塊を用い、熱間圧延、冷間圧延を経て製造することを特徴とする陽極酸化処理後の表面品質に優れたアルミニウム合金板の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記の目的を達成するための請求項１による陽極酸化処理後の表面品質に優れたアルミニウム合金板は、アルミニウムに対して包晶反応を示す包晶元素としてＴｉ：０．００１％〜０．１％、Ｃｒ：０．０００１％〜０．４％のうちの１種または２種を含有し、陽極酸化処理皮膜を形成すべき純アルミニウム系、Ａｌ−Ｍｎ系、Ａｌ−Ｍｇ系またはＡｌ−Ｍｇ−Ｓｉ系のアルミニウム合金板であって、該アルミニウム合金板の最表層部における固溶状態の包晶元素の濃度が、アルミニウム合金板の幅方向において０．０５ｍｍ以上の幅の帯として変化し、隣り合う帯における濃度の差が０．００８％以下であることを特徴とする。以下の説明において、合金元素の含有量および包晶元素の濃度の差は、いずれも質量％として示す。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
請求項２による陽極酸化処理後の表面品質に優れたアルミニウム合金板は、請求項１において、前記アルミニウム合金板が、Ｔｉ：０．００１％〜０．１％、Ｃｒ：０．０００１％〜０．４％のうち１種または２種を包晶元素として含有し、さらに、Ｍｇ：０．３％〜６．０％、Ｃｕ：０．５％以下、Ｍｎ：０．５％以下、Ｆｅ：０．４％以下、Ｓｉ：０．３％以下のうちの１種または２種以上を含有し、残部Ａｌおよび不可避的不純物からなることを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
請求項３による陽極酸化処理後の表面品質に優れたアルミニウム合金板の製造方法は、請求項１または２に記載のアルミニウム合金板を製造する方法であって、鋳塊の圧延面に存在する結晶粒の中心部の直径５μｍ領域部と該結晶粒の粒界から２．５μｍ離れた粒界近傍部の直径５μｍ領域部の包晶元素の濃度の差が０．０４０％以下の鋳塊を用い、熱間圧延、冷間圧延を経て製造することを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
アルミニウムに対して包晶反応を示す包晶元素としてＴｉ、Ｃｒのうちの1種または２種を含有するアルミニウム合金板を、常法に従って熱間圧延、冷間圧延を経て製造した場合、製造されたアルミニウム合金板の表層部においては、固溶状態の包晶元素が板の長さ方向（圧延方向）に延びる帯として存在し、その帯における固溶状態の包晶元素の濃度は板幅方向において帯毎に変化する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
包晶元素として含有させるＴｉおよびＣｒについて説明する。
Ｔｉは、鋳造組織の粗大化を抑制するよう機能する元素として用いられ、好ましい含有量は０．００１％〜０．１％であり、下限値未満では鋳造組織の粗大化を抑制できなくなり、上限値を超えると、粗大な金属間化合物が生成して、陽極酸化処理後に金属間化合物を原因とした筋模様が発生し易くなる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
得られた板材の幅方向の任意の５か所について、ＥＰＭＡを用いて、各々１０ｍｍ長さの線分析を行い、固溶Ｔｉと固溶Ｃｒの分布状態を調査し、隣り合う帯における固溶Ｔｉと固溶Ｃｒの濃度の総和の平均値の差を求めた。１０ｍｍ長さの線分析を行うと、複数の帯を測定することになり、濃度差の値も複数得られるが、各か所で隣り合う帯の濃度差の最も大きい値を代表値とした。５か所の代表値を用いて平均値を算出した。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
上記の板材をショットブラストにより粗面化仕上げした後、燐酸および硫酸による化学研磨を行い、その後、硫酸による陽極酸化処理により、１０μｍ厚さの陽極酸化皮膜を形成した。得られた陽極酸化処理材について、目視にて帯状筋模様の発生有無を確認し、また、陽極酸化処理材の幅方向の５か所について、筋模様の発生しているものは筋模様の部分を、筋模様の発生していないものは任意の部分について、ＥＰＭＡを用いて、各々１０ｍｍ長さの線分析を行い、固溶Ｔｉと固溶Ｃｒの分布状態を調査し、隣り合う帯における固溶Ｔｉと固溶Ｃｒの濃度の総和の平均値の差を求めた。１０ｍｍ長さの線分析を行うと、複数の帯を測定することになり、濃度差の値も複数得られるが、各か所で隣り合う帯の濃度差の最も大きい値を代表値とした。５か所の代表値を用いて平均値を算出した。
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月14日(2013.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一方に研磨パッドの表面粗さの維持及び目詰まりを除去するためのコンディショナー部が設けられ、他方にシリンダーが設けられ、その間に加圧センサーが一体的に設けられた複数のコンディショナー本体部と、
前記シリンダーを稼動して、前記複数のコンディショナー本体部の複数のコンディショナー部の一部又は全部に対し圧力を加える加圧手段と、
前記加圧センサーからのセンサー信号に基づいて前記加圧手段を制御する制御手段と、を有し、
前記コンディショナー本体部は、柱状に構成され、
前記複数のコンディショナー本体部が、板状のコンディショナー冶具の２つの主面のうち研磨機に取り付けられる側の主面とは反対側の主面に取り付けられ、
前記コンディショナー冶具に前記複数のコンディショナー本体部が取り付けられる方向は、前記コンディショナー部がいずれも同じ向きに露出する方向であり、
前記コンディショナー冶具が、該コンディショナー冶具の中心軸線まわりに回転可能に研磨機に取り付けられることを特徴とする研磨パッドのコンディショナー。
【請求項２】
一方に研磨パッドの表面粗さの維持及び目詰まりを除去するためのコンディショナー部が設けられ、他方に機械ネジ手段が設けられ、その間に加圧センサーが一体的に設けられた複数のコンディショナー本体部と、
モータによって前記機械ネジ手段を回転させ、前記複数のコンディショナー本体部の複数のコンディショナー部の一部又は全部に対し圧力を加える加圧手段と、
前記加圧センサーからのセンサー信号に基づいて前記加圧手段の前記モータを制御する制御手段と、を有し、
前記コンディショナー本体部は、柱状に構成され、
前記複数のコンディショナー本体部が、板状のコンディショナー冶具の２つの主面のうち研磨機に取り付けられる側の主面とは反対側の主面に取り付けられ、
前記コンディショナー冶具に前記複数のコンディショナー本体部が取り付けられる方向は、前記コンディショナー部がいずれも同じ向きに露出する方向であり、
前記コンディショナー冶具が、該コンディショナー冶具の中心軸線まわりに回転可能に研磨機に取り付けられることを特徴とする研磨パッドのコンディショナー。
【請求項３】
一方に研磨パッドの表面粗さの維持及び目詰まりを除去するためのコンディショナー部が設けられ、他方に電磁コイル手段が設けられ、その間に加圧センサーが一体的に設けられた複数のコンディショナー本体部と、
前記電磁コイル手段を励磁して、前記複数のコンディショナー本体部の複数のコンディショナー部の一部又は全部に対し圧力を加える加圧手段と、
前記加圧センサーからのセンサー信号に基づいて前記加圧手段を制御する制御手段と、を有し、
前記コンディショナー本体部は、柱状に構成され、
前記複数のコンディショナー本体部が、板状のコンディショナー冶具の２つの主面のうち研磨機に取り付けられる側の主面とは反対側の主面に取り付けられ、
前記コンディショナー冶具に前記複数のコンディショナー本体部が取り付けられる方向は、前記コンディショナー部がいずれも同じ向きに露出する方向であり、
前記コンディショナー冶具が、該コンディショナー冶具の中心軸線まわりに回転可能に研磨機に取り付けられることを特徴とする研磨パッドのコンディショナー。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記目的を達成するために、本発明の研磨パッドのコンディショナーは、一方に研磨パッドの表面粗さの維持および目詰まりを除去するためのコンディショナー部が設けられ、他方にシリンダーが設けられ、その間に加圧センサーが一体的に設けられた複数のコンディショナー本体部と、前記シリンダーを稼動して、前記複数のコンディショナー本体部の複数のコンディショナー部の一部又は全部に対し圧力を加える加圧手段と、前記加圧センサーからのセンサー信号に基づいて前記加圧手段を制御する制御手段と、を有し、前記コンディショナー本体部は、柱状に構成され、前記複数のコンディショナー本体部が、板状のコンディショナー冶具の２つの主面のうち研磨機に取り付けられる側の主面とは反対側の主面に取り付けられ、前記コンディショナー冶具に前記複数のコンディショナー本体部が取り付けられる方向は、前記コンディショナー部がいずれも同じ向きに露出する方向であり、前記コンディショナー冶具が、該コンディショナー冶具の中心軸線まわりに回転可能に研磨機に取り付けられることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月1日(2014.5.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アリピプラゾール結晶質形態IIを調製する方法であって：アリピプラゾール結晶質化合物１を提供し；そしてアリピプラゾール結晶質化合物１を乾燥させてアリピプラゾール結晶質形態IIを調製し、
前記アリピプラゾール結晶質形態IIが１６．５±０．２、１８．７±０．２、２１．９±０．２、２２．４±０．２及び２３．５±０．２度２θにおけるピークを有するＸＲＤパターンを特徴とし、及び
前記アリピプラゾール結晶質化合物１が１５．５±０．２、１９．５±０．２、２２．６±０．２、２４．９±０．２及び３０．６±０．２度２θにおけるＸ線粉末回折ピークを有する、方法。
【請求項２】
前記乾燥段階を３５℃の温度で行う、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記乾燥段階を、１００ｍｍＨｇ以下の圧力で行う、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
アリピプラゾール結晶質形態II及び医薬的に許容できる賦形剤を含んで成る医薬組成物であって、
前記アリピプラゾール結晶質形態IIが１６．５±０．２、１８．７±０．２、２１．９±０．２、２２．４±０．２及び２３．５±０．２度２θにおけるピークを有するXRDパターンを特徴とする、医薬組成物。
【請求項５】
アリピプラゾール結晶質形態IIと医薬的に許容できる賦形剤を混合することを含んで成る、医薬製剤を調製する方法であって、
前記アリピプラゾール結晶質形態IIが１６．５±０．２、１８．７±０．２、２１．９±０．２、２２．４±０．２及び２３．５±０．２度２θにおけるピークを有するＸＲＤパターンを特徴とする、方法。
【請求項６】
統合性失調症を治療する医薬組成物であって、統合性失調症に関連する症状を治療、改善、又は軽減するために有効な量においてアリピプラゾール結晶質形態IIを含んで成り、
前記アリピプラゾール結晶質形態IIが１６．５±０．２、１８．７±０．２、２１．９±０．２、２２．４±０．２及び２３．５±０．２度２θにおけるピークを有するＸＲＤパターンを特徴とする、医薬組成物。
【請求項７】
１日あたり０．１ｍｇ／ｋｇ〜１０ｍｇ／ｋｇの体重で投与する、請求項６に記載の医薬組成物。
【請求項８】
１ｍｇ〜２００ｍｇ／投与量の量で投与する、請求項７に記載の医薬組成物。
【請求項９】
１６．５±０．２、１８．７±０．２、２１．９±０．２、２２．４±０．２及び２３．５±０．２度２θにピークを有するＸＲＤパターンを特徴とする、アリピプラゾール結晶質形態II。
【請求項１０】
１０．２±０．２、１１．８±０．２、２０．０±０．２、２０．７±０．２、２６．２±０．２、２７．３±０．２及び２９．０±０．２度２θにおけるＸＲＤピークをさらに特徴とする、請求項９に記載のアリピプラゾール結晶質形態II。
【請求項１１】
１００℃〜１３０℃の範囲に広く且つ小さな吸熱並びに１４８℃〜１５０℃の範囲に融解吸熱を示すＤＳＣをさらに特徴とする、請求項９又は１０に記載のアリピプラゾール結晶質形態II。
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月20日(2013.11.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）高剪断力下で、コア材料を含む油相を水相中に乳化させることにより、水中油エマルジョンを調製するステップであって、前記油相及び前記水相の一方又は両方がゾルゲル前駆体を含んでいるステップ、
（ｂ）（ａ）で得られたエマルジョンに高圧均質化を行って、ナノエマルジョンを得るステップ、及び
（ｃ）ゾルゲル前駆体を加水分解し、及び重縮合するための条件を適用して、コア材料を封入した金属酸化物シェルを有するナノカプセルを得るステップであって、該ナノカプセルは、直径が、ｄ１０＝１０〜８０ｎｍ、ｄ５０＝３０〜２００ｎｍ、及びｄ９０＝７０〜５００ｎｍである粒度分布を有しているステップと
を含む、コアシェル構造を有するナノカプセルを調製するための方法であって、
前記ゾルゲル前駆体が、金属アルコキシドモノマー、半金属アルコキシドモノマー、金属エステルモノマー、半金属エステルモノマー、及び式Ｍ（Ｒ）ｎ（Ｐ）ｍのモノマー（但し、Ｍは金属又は半金属元素であり、Ｒは加水分解性置換基であり、ｎは２から６までの整数であり、Ｐは非重合性置換基であり、ｍは０から６の整数である）、部分的に加水分解し、及び部分的に縮合したこれらのポリマー、並びにこれらの任意の混合物から選択され、
ステップ（ｃ）の条件が、ナノカプセルの懸濁液を得るために、前記ナノエマルジョンと別の水溶液とを、２〜１３の範囲で適切に選択されたｐＨで混合し及び攪拌するステップを含む、上記方法。
【請求項２】
ステップ（ａ）で得られたエマルジョンが、１〜１０μｍの範囲の中央粒度直径（ｄ５０）を有することを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記コア材料が、日焼け防止剤、歯科用薬剤、芳香剤、香料、着色剤及び染料、食品着色剤、食品添加物、ワックス、抗酸化剤、湿潤剤、ビタミン、農薬、生物学的分子、薬物、触媒、試薬、及びこれらの混合物から選択される、少なくとも１種の活性成分を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記金属又は半金属元素が、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｌ、及びＺｎから選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記ゾルゲル前駆体が、シリコンアルコキシドモノマー、シリコンエステルモノマー、式Ｓｉ（Ｒ）ｎ（Ｐ）ｍのモノマー（但し、Ｒは加水分解性置換基であり、ｎは２から４までの整数であり、Ｐは非重合性置換基であり、ｍは０から２までの整数である）、部分的に加水分解し、及び部分的に縮合したこれらのポリマー、並びにこれらの任意の混合物から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記シリコンアルコキシドモノマーが、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、及びこれらの混合物から選択される、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
ステップ（ｃ）の条件が、酸又は塩基から選択された触媒を添加するステップを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記ナノカプセルが、直径で、ｄ１０＝１０〜３０ｎｍ、ｄ５０＝３０〜１５０ｎｍ、ｄ９０＝７０〜３００ｎｍの粒度分布を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
金属酸化物シェルの表面を化学的に改質するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
請求項１から９までのいずれか一項に記載の方法によって調整されたナノカプセル。
【請求項１１】
少なくとも１種の金属酸化物を含むナノカプセルシェル内に封入された、コア材料を有するナノカプセルであって、直径が、ｄ１０＝１０〜８０ｎｍ、ｄ５０＝３０〜２００ｎｍ、ｄ９０＝７０〜５００ｎｍの粒度分布を有する、請求項１０に記載のナノカプセル。
【請求項１２】
請求項１から９までのいずれか一項に記載の方法により得られたナノカプセルを含み、界面活性剤を実質的に含まない組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月29日(2014.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
基板ホルダ１６の第１保持部材１５４の端部には、基板ホルダ１６を搬送したり、吊下げ支持したりする際の支持部となる一対の略Ｔ字状のハンド１９０が連接されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2013237894.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成26年2月17日(2014.2.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
偏光子の少なくとも片面に、活性エネルギー線硬化型接着剤組成物の硬化物層により形成された接着剤層を介して、透明保護フィルムが貼り合わされた偏光板の製造方法であって、
前記偏光子の前記接着剤層を形成する面および／または前記透明保護フィルムの前記接着剤層を形成する面に前記活性エネルギー線硬化型接着剤組成物を塗工した後、前記偏光子と前記透明保護フィルムとを貼り合わせる工程、次いで、活性エネルギー線照射によって前記活性エネルギー線硬化型接着剤組成物を硬化して前記接着剤層を形成する工程、を有し、
前記活性エネルギー線は、波長範囲３８０〜４４０ｎｍの積算照度と波長範囲２５０〜３７０ｎｍの積算照度との比が１００：０〜１００：５０であることを特徴とする偏光板の製造方法。
【請求項２】
前記活性エネルギー線は、ガリウムランプを光源とし、バンドパスフィルターを使用して３８０ｎｍ以下の短波長の光を遮断したものである請求項１に記載の偏光板の製造方法。
【請求項３】
前記活性エネルギー線硬化型接着剤組成物が、光重合開始剤として、下記一般式（１）で表される化合物；
【化１】
2013237849.tif 000001
（式中、Ｒ１およびＲ２は−Ｈ、−ＣＨ２ＣＨ３、−ｉＰｒまたはＣｌを示し、Ｒ１およびＲ２は同一または異なっても良い）を含有する請求項１または２に記載の偏光板の製造方法。
【請求項４】
前記活性エネルギー線硬化型接着剤組成物が、光重合開始剤として、さらに下記一般式（２）で表される化合物；
【化２】
2013237849.tif 000002
（式中、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は−Ｈ、−ＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ３、−ｉＰｒまたはＣｌを示し、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は同一または異なっても良い）を含有する請求項１〜３のいずれかに記載の偏光板の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
本発明に係る偏光板の製造方法は、偏光子の接着剤層を形成する面および／または透明保護フィルムの接着剤層を形成する面に活性エネルギー線硬化型接着剤組成物を塗工した後、偏光子と透明保護フィルムを貼り合わせる工程、次いで、活性エネルギー線照射によって活性エネルギー線硬化型接着剤組成物を硬化して接着剤層を形成する工程、を有する。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月3日(2013.12.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
紫外線硬化材料と、ウレタン結合、尿素結合、イソシアネート基から選択される少なくとも１種を含む化合物とジブチル錫ジラウレートよりなる含金属化合物から構成される連鎖移動剤を含有し、前記連鎖移動剤に含まれるウレタン結合、尿素結合、イソシアネート基から選択される少なくとも１種を含む化合物１００質量部に対して含金属化合物の配合量が０．０００５質量部以上であり、光照射のみで照射光の届かない部位が硬化可能であることを特徴とする紫外線硬化性組成物（ただし、分子内に２個以上のイソシアネート基を有する化合物を含む組成物、および、ウレタンアクリレートオリゴマー、ノニルフェノキシエチルアクリレート、イソボルニルアクリレート、ラウリルアクリレート、ジブチル錫ジラウレート、光重合開始剤を含む組成物を除く）。
【請求項２】
前記紫外線硬化材料と前記連鎖移動剤の配合比が質量比で９０：１０〜１０：９０の範囲内である事を特徴とする請求項１記載の紫外線硬化性組成物。
【請求項３】
前記連鎖移動剤に含まれるウレタン結合、尿素結合から選択される少なくとも１種を含む化合物と含金属化合物との配合比が質量比で１００：０．００１〜１００：１０の範囲内であることを特徴とする請求項１または２に記載の紫外線硬化性組成物。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の紫外線硬化性組成物が硬化されてなることを特徴とする硬化物。
【手続補正書】
【提出日】平成26年2月26日(2014.2.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
軟骨欠損の修復のためのインプラントであって、軟骨細胞様細胞が包埋されたコラーゲンマトリックスを含んでなり、該インプラントには小腔が存在せず、トランスフォーミング増殖因子β１（ＴＧＦ−β１）を添加したコラーゲン含有培地で、間葉系幹細胞の軟骨細胞様細胞への分化と前記インプラントの形成が可能な条件下、間葉系幹細胞を７〜２０日間培養することによって作製され、該軟骨細胞様細胞がグリコサミノグリカンを分泌する、インプラント。
【請求項２】
前記間葉系幹細胞が、骨髄、脂肪組織、筋肉組織、乳歯の歯髄、臍帯血、臍帯、胎盤、臍帯内膜から単離される、請求項１記載のインプラント。
【請求項３】
前記コラーゲンマトリックスがＩ型またはＩＩ型コラーゲンを含んでなる、請求項１記載のインプラント。
【請求項４】
請求項１のインプラントを作製する方法であって、
間葉系幹細胞を用意する工程と、
トランスフォーミング増殖因子β１（ＴＧＦ−β１）を添加したコラーゲン含有培地で、間葉系幹細胞の軟骨細胞様細胞への分化とインプラントの形成が可能な条件下、間葉系幹細胞を７〜２０日間培養する工程、
を含んでなる、方法。
【請求項５】
前記間葉系幹細胞が、骨髄、脂肪組織、筋肉組織、乳歯の歯髄、臍帯血、臍帯、胎盤、臍帯内膜から単離される、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記コラーゲン含有培地が約１％から約１０％ｗ／ｖの濃度でコラーゲンを含有する、請求項４に記載の方法。
【請求項７】
前記コラーゲン含有培地が約３％ｗ／ｖの濃度でコラーゲンを含有する、請求項６記載の方法。
【請求項８】
前記コラーゲンがＩ型またはＩＩ型コラーゲンである、請求項４に記載の方法。
【請求項９】
前記培養工程の後に、軟骨細胞様細胞がグリコサミノグリカンを分泌しており、かつインプラントに小腔が存在しないことを確認することをさらに含んでなる、請求項４に記載の方法。
【請求項１０】
前記培養工程がカプセル内で実行される、請求項４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年2月6日(2014.2.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
患者の左心耳内に配置可能な器具であって、
運搬のための第１の細長い形態及び前記左心耳内への配置のための第２の拡張形態を呈する保持部材と、
前記保持部材に非取り付け状態で前記保持部材内に位置決めされていて、前記保持部材の前記拡張形態において前記保持部材内で浮動可能な物体と、を有し、
前記保持部材は、大きな横方向寸法を有し、前記保持部材は、前記保持部材を前記左心耳に固定するための少なくとも１つの左心耳壁係合部材を有する、器具。
【請求項２】
前記保持部材は、形状記憶材料で構成され、前記保持部材は、前記拡張形態では、形状記憶位置に向かって動く、請求項１記載の器具。
【請求項３】
前記物体は、メッシュから成る、請求項１又は２に記載の器具。
【請求項４】
前記物体は、複数本の絡み合わされた繊維から成る、請求項１又は２に記載の器具。
【請求項５】
前記物体は、複数本の絡み合わされたリボンから成る、請求項１又は２に記載の器具。
【請求項６】
前記保持部材は、複数本のストラットを有し、前記ストラット相互間には空間が形成され、前記材料は、前記空間内で自由に浮動する、請求項１乃至５の何れか１項に記載の器具。
【請求項７】
前記係合部材は、複数個の歯を有する、請求項１乃至６の何れか１項に記載の器具。
【請求項８】
前記保持部材は、複数本のストラットを有し、前記ストラットは、前記係合部材で終端する、請求項１乃至７の何れか１項に記載の器具。
【請求項９】
前記保持部材は、巻線から成る、請求項１乃至８の何れか１項に記載の器具。
【請求項１０】
前記器具は、一連のストラットを形成するようレーザ切断された管を有する、請求項１乃至９の何れか１項に記載の器具。
【請求項１１】
前記物体は、前記左心耳内への前記ストラットの配置後に前記ストラットによって形成されている前記空間内に位置決め可能である、請求項１０記載の器具。
【手続補正書】
【提出日】平成26年8月22日(2014.8.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記保持手段は、片持状態で収納室内にある前記保持軸の開放端近傍の外周面に軸芯方向に沿って弾性部材を設け、挿入される筒芯と一体回転可能に筒芯の内周面を前記弾性部材の弾性変形により付勢圧接するとともに、前記保持軸と一体に形成されたインサートガイド台のテーパー面と嵌挿される筒芯の内部が嵌合することで、ロールペーパーを保持する手段を備えたことを特徴とした請求項１に記載のペーパーホルダー。
【手続補正書】
【提出日】平成26年2月5日(2014.2.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明は、予め定めた所定の条件を満たす場合に、前記モータが位置ホールド状態であるかを判断する位置ホールド状態判断部と、前記位置ホールド状態であると判断され、前記モータの回転が停止したときの目標とする停止位置に対する誤差を所定の範囲に収まるように補正する位置誤差補正部と、前記位置ホールド状態で、かつ前記誤差の補正後において、前記モータがロック状態であると判断される時間よりも短い時間に、前記モータの回転方向を変化させる制御を行なうモータ制御部と、を備えることを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
予め定めた所定の条件を満たす場合に、前記モータが位置ホールド状態であるかを判断する位置ホールド状態判断部と、
前記位置ホールド状態であると判断され、前記モータの回転が停止したときの目標とする停止位置に対する誤差を所定の範囲に収まるように補正する位置誤差補正部と、
前記位置ホールド状態で、かつ前記誤差の補正後において、前記モータがロック状態であると判断される時間よりも短い時間に、前記モータの回転方向を変化させる制御を行なうモータ制御部と、
を備えることを特徴とするモータ制御装置。
【請求項２】
前記モータ制御部は、前記モータの回転位置を保持しつつ停止制御がなされる状態であって、かつ、前記誤差の補正後の所定時間経過時において、前記モータの出力を現在の回転方向に対して反転させることを特徴とする請求項１に記載のモータ制御装置。
【請求項３】
前記モータ制御部は、前記モータの出力を反転させる際に前記モータに印加するＰＷＭ値を、該モータが制御される駆動デューティに基づく出力予定のＰＷＭ値以下の値とすることを特徴とする請求項２に記載のモータ制御装置。
【請求項４】
前記モータロック状態判断部が用いる前記モータの回転情報は、前記モータに設けられたエンコーダセンサからの出力信号であることを特徴とする請求項１、２または３に記載のモータ制御装置。
【請求項５】
前記モータロック状態判断部が用いる前記モータの回転情報は、前記モータの内部のホール素子からの出力信号であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一つに記載のモータ制御装置。
【請求項６】
前記モータ制御部は、前記位置誤差補正部による前記誤差の補正の完了を、該誤差が所定の値以下の状態が所定時間以上継続したかどうかにより判断することを特徴とする請求項１〜５のいずれか一つに記載のモータ制御装置。
【請求項７】
前記モータ制御部は、前記位置誤差補正部による前記誤差の補正の完了を、該誤差が０となったかどうかにより判断することを特徴とする請求項１〜６のいずれか一つに記載のモータ制御装置。
【請求項８】
前記モータ制御部は、前記モータの目標速度、目標位置の変化の有無、または該モータ制御部の内部ステートに基づいて、前記モータ位置を保持しつつ停止制御がなされる状態に制御状態を変えることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一つに記載のモータ制御装置。
【請求項９】
予め定めた所定の条件を満たす場合に、前記モータが位置ホールド状態であるかを判断する位置ホールド状態判断工程と、
前記位置ホールド状態であると判断され、前記モータの回転が停止したときの目標とする停止位置に対する誤差を所定の範囲に収まるように補正する位置誤差補正工程と、
前記位置ホールド状態で、かつ前記誤差の補正後において、前記モータがロック状態であると判断される時間よりも短い時間に、前記モータの回転方向を変化させる制御を行なうモータ制御工程と、
を含むこと特徴とするモータ制御方法。
【請求項１０】
予め定めた所定の条件を満たす場合に、前記モータが位置ホールド状態であるかを判断する位置ホールド状態判断ステップと、
前記位置ホールド状態であると判断され、前記モータの回転が停止したときの目標とする停止位置に対する誤差を所定の範囲に収まるように補正する位置誤差補正ステップと、
前記位置ホールド状態で、かつ前記誤差の補正後において、前記モータがロック状態であると判断される時間よりも短い時間に、前記モータの回転方向を変化させる制御を行なうモータ制御ステップと、
をコンピュータに実行させるためのプログラム。
【請求項１１】
予め定めた所定の条件を満たす場合に、前記モータが位置ホールド状態であるかを判断する位置ホールド状態判断部と、前記位置ホールド状態であると判断され、前記モータの回転が停止したときの目標とする停止位置に対する誤差を所定の範囲に収まるように補正する位置誤差補正部と、前記位置ホールド状態で、かつ前記誤差の補正後において、前記モータがロック状態であると判断される時間よりも短い時間に、前記モータの回転方向を変化させる制御を行なうモータ制御部と、を備えるモータ制御装置を有し、
前記モータ制御装置により駆動が制御される前記モータを駆動源として用紙搬送を行うことを特徴とする画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月17日(2014.4.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の制御端子と、第１の第１端子と、第１の第２端子と、を有する第１スイッチング素子と、
第２の制御端子と、第２の第１端子と、第２の第２端子と、を有する第２スイッチング素子と、
第１配線であって、
一端が前記第１の第１端子に接続され第１のインダクタンスを有する第１の端子間配線と、
一端が前記第２の第１端子に接続され他端が前記第１の端子間配線の他端に接続され前記第１のインダクタンスとは異なる第２のインダクタンスを有する第２の端子間配線と、
一端が前記第１の第２端子に接続され第３のインダクタンスを有する第３の端子間配線と、
一端が前記第２の第２端子に接続され他端が前記第３の端子間配線の他端に接続され前記第３のインダクタンスとは異なる第４のインダクタンスを有する第４の端子間配線と、
を含む第１配線と、
一端が前記第１の制御端子に接続された第１抵抗器と、
一端が前記第２の制御端子に接続され、他端が前記第１抵抗器の他端に接続された第２抵抗器と、
前記第１の第１端子と前記第２の第１端子との間、及び、前記第１の制御端子と前記第２の制御端子との間、の少なくとも一方に設けられた第２配線と、
を備えた半導体装置。
【請求項２】
前記第１スイッチング素子及び前記第２スイッチング素子を実装する第１基板をさらに備え、
前記第２配線は、前記第１基板に設けられた配線パターンを含む請求項１記載の半導体装置。
【請求項３】
前記第１基板と離間して設けられた第２基板をさらに備え、
前記第１配線の一部は、前記第２基板に設けられた請求項２記載の半導体装置。
【請求項４】
前記第１基板及び前記第２基板を収納する筐体をさらに備えた請求項３記載の半導体装置。
【請求項５】
前記第２配線は、ボンディングワイヤを含む請求項１〜４のいずれか１つに記載の半導体装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
実施形態に係る半導体装置は、第１スイッチング素子と、第２スイッチング素子と、第１配線と、第１抵抗器と、第２抵抗器と、第２配線と、を備える。
前記第１スイッチング素子は、第１の制御端子と、第１の第１端子と、第１の第２端子と、を有する。
前記第２スイッチング素子は、第２の制御端子と、第２の第１端子と、第２の第２端子と、を有する。
前記第１配線は、第１の端子間配線と、第２の端子間配線と、第３の端子間配線と、第４の端子間配線と、を含む。前記第１の端子間配線は第１のインダクタンスを有する。前記第１の端子間配線の一端は前記第１の第１端子に接続される。前記第２の端子間配線は前記第１のインダクタンスとは異なる第２のインダクタンスを有する。前記第２の端子間配線の一端は前記第２の第１端子に接続され、前記第２の端子間配線の他端は前記第１の端子間配線の他端と接続される。前記第３の端子間配線は第３のインダクタンスを有する。前記第３の端子間配線の一端は前記第１の第２端子に接続される。前記第４の端子間配線は前記第３のインダクタンスとは異なる第４のインダクタンスを有する。前記第４の端子間配線の一端は前記第２の第２端子に接続され、前記第４の端子間配線の他端は前記第３の端子間配線の他端と接続される。
前記第１抵抗器の一端は、前記第１の制御端子に接続される。
前記第２抵抗器の一端は、前記第２の制御端子に接続される。前記第２抵抗器の他端は、第１抵抗器の他端に接続される。
前記第２配線は、前記第１の第１端子と前記第２の第１端子との間、及び、前記第１の制御端子と前記第２の制御端子との間、の少なくとも一方に設けられる。
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月23日(2014.5.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１始動領域または第２始動領域を遊技媒体が通過したことにもとづいて、遊技を行う遊技機であって、
前記第１始動領域を遊技媒体が通過したことにもとづいて、複数の発光手段による点灯組合せを表示する第１表示手段と、
前記第２始動領域を遊技媒体が通過したことにもとづいて、複数の発光手段による点灯組合せを表示する第２表示手段と、
前記第１始動領域または前記第２始動領域を遊技媒体が通過したことにもとづいて判定用乱数値と表示用乱数値を抽出する乱数抽出手段と、
前記点灯組合せが前記第１表示手段または前記第２表示手段に表示されるよりも前に、前記乱数抽出手段が抽出した前記判定用乱数値にもとづいて、遊技者にとって有利な特定遊技状態に制御するか否かを決定する事前決定手段と、
前記乱数抽出手段により抽出した前記判定用乱数値が前記事前決定手段により前記特定遊技状態に制御すると決定する値である場合に、前記乱数抽出手段が抽出した前記表示用乱数値にもとづいて前記特定遊技状態の価値を決定する付与価値決定手段と、
前記乱数抽出手段により抽出した判定用乱数値が前記事前決定手段により前記特定遊技状態に制御すると決定する値である場合に、所定の演算パラメータと前記乱数抽出手段が抽出した前記表示用乱数値を用いて所定の演算を行い、演算結果から前記特定遊技状態の価値に応じた点灯組合せデータを生成する点灯組合せ生成手段と、
前記点灯組合せ生成手段により生成した点灯組合せデータを前記点灯組合せとして前記第１表示手段または前記第２表示手段に表示する表示制御手段と、を備え、
前記点灯組合せ生成手段は、前記第１始動領域を遊技媒体が通過したことにもとづいて抽出された表示用乱数値であるか前記第２始動領域を遊技媒体が通過したことにもとづいて抽出された表示用乱数値であるかに応じて異なる演算パラメータにより前記所定の演算を行う、
ことを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記表示制御手段により表示される前記点灯組合せを変更する組合せ変更手段を、
さらに備えることを特徴とする請求項１に記載の遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
（１）上記目的を達成するため、本発明に係る遊技機は、
第１始動領域または第２始動領域を遊技媒体が通過したことにもとづいて、遊技を行う遊技機であって、
前記第１始動領域を遊技媒体が通過したことにもとづいて、複数の発光手段による点灯組合せを表示する第１表示手段（例えば第１特別図柄表示装置４Ａなど）と、
前記第２始動領域を遊技媒体が通過したことにもとづいて、複数の発光手段による点灯組合せを表示する第２表示手段（例えば第２特別図柄表示装置４Ｂなど）と、
前記第１始動領域または前記第２始動領域を遊技媒体が通過したことにもとづいて判定用乱数値と表示用乱数値を抽出する乱数抽出手段（例えばステップＳ２０９の処理を実行するＣＰＵ１０３など）と、
前記点灯組合せが前記第１表示手段または前記第２表示手段に表示されるよりも前に、前記乱数抽出手段が抽出した前記判定用乱数値にもとづいて、遊技者にとって有利な特定遊技状態に制御するか否かを決定する事前決定手段（例えばステップＳ２４０の処理を実行するＣＰＵ１０３など）と、
前記乱数抽出手段により抽出した前記判定用乱数値が前記事前決定手段により前記特定遊技状態に制御すると決定する値である場合に、前記乱数抽出手段が抽出した前記表示用乱数値にもとづいて前記特定遊技状態の価値を決定する付与価値決定手段（例えばステップＳ１８とステップＳ２４４の処理を実行するＣＰＵ１０３など）と、
前記乱数抽出手段により抽出した判定用乱数値が前記事前決定手段により前記特定遊技状態に制御すると決定する値である場合に、所定の演算パラメータと前記乱数抽出手段が抽出した前記表示用乱数値を用いて所定の演算を行い、演算結果から前記特定遊技状態の価値に応じた点灯組合せデータを生成する点灯組合せ生成手段（例えばステップＳ１８の処理を実行するＣＰＵ１０３など）と、
前記点灯組合せ生成手段により生成した点灯組合せデータを前記点灯組合せとして前記第１表示手段または前記第２表示手段に表示する表示制御手段（例えばステップＳ５５４の処理を実行するＣＰＵ１０３など）と、を備え、
前記点灯組合せ生成手段は、前記第１始動領域を遊技媒体が通過したことにもとづいて抽出された表示用乱数値であるか前記第２始動領域を遊技媒体が通過したことにもとづいて抽出された表示用乱数値であるかに応じて異なる演算パラメータにより前記所定の演算を行う（例えばステップＳ５４４の処理において、ステップＳ２３９で選択したパラメータを用いるなど）、
ことを特徴とする。
また、前記表示制御手段により表示される前記点灯組合せを変更する組合せ変更手段を、
さらに備えるようにしてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月25日(2013.12.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示を行う第１表示装置を有した外部機器と接触もしくは非接触により通信を行う第１通信手段と、
撮像を行う撮像手段と、
前記撮像手段が撮像した画像を表示可能な第２表示装置と、
前記第１通信手段とは異なる通信手段である第２通信手段と、
前記第１通信手段により前記外部機器との通信が成立した後、前記第２通信手段により撮像の実行に関する信号の受信に応じて前記撮像手段による撮像を実行し、当該撮像した画像を前記外部機器に送信する制御手段と、を備えた電子機器。
【請求項２】
請求項１記載の電子機器において、
前記第１通信手段は、前記外部機器との接触により通信を行う電子機器。
【請求項３】
請求項１または２記載の電子機器において、
前記第１通信手段の一部は、前記電子機器の側面に設けられている電子機器。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか一項に記載の電子機器において、
前記第２表示装置の右側に設けられた操作部材を有し、
前記第１通信手段の一部は、前記第２表示装置の左側側面に設けられている電子機器。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか一項に記載の電子機器において、
前記第１通信手段は、前記電子機器の電源がオフのときに前記外部機器との接触により、前記電子機器の電源をオンにする電子機器。
【請求項６】
請求項１記載の電子機器において、
前記第１通信手段は、人体通信により外部機器と通信する電子機器。
【請求項７】
請求項１から５のいずれか一項に記載の電子機器において、
前記第２通信手段は、無線通信である電子機器。
【請求項８】
表示を行う第１表示装置を有した外部機器と接触もしくは非接触により通信を行う第１通信処理と、
撮像手段が撮像した画像を第２表示装置に表示する処理と、
前記第１通信処理とは異なる通信を行う第２通信処理と、
前記第１通信処理により前記外部機器との通信が成立した後、前記第２通信処理により撮像の実行に関する信号の受信に応じて前記撮像手段による撮像を実行し、当該撮像した画像を前記外部機器に送信する処理とをコンピュータに実行させる電子機器用プログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】電子機器及び電子機器用プログラム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、電子機器及び電子機器用プログラムに関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
請求項１に記載の発明による電子機器は、表示を行う第１表示装置を有した外部機器と接触もしくは非接触により通信を行う第１通信手段と、撮像を行う撮像手段と、前記撮像手段が撮像した画像を表示可能な第２表示装置と、前記第１通信手段とは異なる通信手段である第２通信手段と、前記第１通信手段により前記外部機器との通信が成立した後、前記第２通信手段により撮像の実行に関する信号の受信に応じて前記撮像手段による撮像を実行し、当該撮像した画像を前記外部機器に送信する制御手段と、を備える。
請求項８に記載の発明による電子機器用プログラムは、表示を行う第１表示装置を有した外部機器と接触もしくは非接触により通信を行う第１通信処理と、撮像手段が撮像した画像を第２表示装置に表示する処理と、前記第１通信処理とは異なる通信を行う第２通信処理と、前記第１通信処理により前記外部機器との通信が成立した後、前記第２通信処理により撮像の実行に関する信号の受信に応じて前記撮像手段による撮像を実行し、当該撮像した画像を前記外部機器に送信する処理とをコンピュータに実行させる。
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月12日(2014.5.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一の基板と第二の基板とを互いに重ね合わせる基板重ね合わせ方法であって、
前記第一の基板を支持基板に保持する保持工程と、
前記第一の基板に設けられたマークと前記支持基板に設けられた指標との相対位置を測定する測定工程と、
前記支持基板と、前記第二の基板との相対位置を調整して、前記第一の基板と前記第二の基板との位置合わせを行う位置合わせ工程と、
位置合わせされた前記第一の基板および前記第二の基板を互いに重ね合わせる工程と、
を含む基板重ね合わせ方法。
【請求項２】
前記支持基板の前記指標は、前記支持基板の中心に対して対称に一対設けられる請求項１に記載の基板重ね合わせ方法。
【請求項３】
前記保持工程は、前記支持基板の前記指標に対して、前記第一の基板の前記マークを予め定められた範囲内に位置決めして保持する工程を含む請求項１または２に記載の基板重ね合わせ方法。
【請求項４】
前記支持基板の前記指標が形成された領域には開口部が形成され、
前記測定工程は、前記支持基板の前記第一の基板が保持された面と反対の面から、前記開口部を通して前記指標を観察する観察工程を含み、
前記位置合わせ工程は、前記観察工程における観察結果を用いて前記支持基板と前記第二の基板との相対位置を調整する請求項１から３のいずれか一項に記載の基板重ね合わせ方法。
【請求項５】
前記第二の基板を第二の支持基板に保持する第二の保持工程と、
前記第二の支持基板の前記第二の基板が保持された面から、前記第二の基板に設けられたマークおよび前記第二の支持基板に設けられた指標の少なくとも一方を観察する第二の観察工程と
をさらに含み、
前記位置合わせ工程は、前記第二の観察工程における観察結果を用いて前記支持基板と前記第二の基板との相対位置を調整する請求項１から４のいずれか一項に記載の基板重ね合わせ方法。
【請求項６】
前記位置合わせ工程は、前記第一の基板に設けられた前記マークと前記第二の基板に設けられたマークとの位置誤差が最小になるように、前記第一の基板と前記第二の基板との位置合わせを行う請求項１から５のいずれか一項に記載の基板重ね合わせ方法。
【請求項７】
前記保持工程は、互いに向かい合った一対のステージを有して前記位置合わせ工程を行う位置決め部に前記第一の基板と前記第二の基板とを搬送する前に、前記第一の基板を前記支持基板に位置合わせして保持する工程をさらに含む請求項１から６のいずれか一項に記載の基板重ね合わせ方法。
【請求項８】
第一の基板と第二の基板とを互いに重ね合わせる基板重ね合わせ方法であって、
前記第一の基板を第一の支持基板に保持する第一の保持工程と、
前記第二の基板を第二の支持基板に保持する第二の保持工程と、
前記第一の基板に設けられた第一のマークと前記第一の支持基板に設けられた第一の指標との相対位置を測定する第一の測定工程と、
前記第二の基板に設けられた第二のマークと前記第二の支持基板に設けられた第二の指標との相対位置を測定する第二の測定工程と、
前記第一の支持基板の前記第一の指標と前記第二の支持基板の前記第二の指標との相対位置を測定する第三の測定工程と、
前記第三の測定工程の測定結果に基づいて、前記第一の基板と前記第二の基板との位置合わせを行う位置合わせ工程と、
位置合わせされた前記第一の基板および前記第二の基板を互いに重ね合わせる工程と、
を含む基板重ね合わせ方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】基板重ね合わせ方法
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月16日(2014.5.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２次元面内に形成された第１の放射素子と第２の放射素子とを備えたダイポールアンテナであって、
上記第１の放射素子は、直線状であり、
上記第２の放射素子は、上記第１の放射素子の周りを旋回する螺旋状である、
ことを特徴とするダイポールアンテナ。
【請求項２】
上記第２の放射素子上の異なる点同士を短絡する短絡部と、上記第２の放射素子の最外周上の点をグランドに接続する接地部と、を更に備えている、
ことを特徴とする請求項１に記載のダイポールアンテナ。
【請求項３】
上記短絡部は、上記第２の放射素子を構成する区間のうち、互いに隣接する３つ以上の区間の短絡する、
ことを特徴とする請求項２に記載のダイポールアンテナ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、他のアンテナと共に統合アンテナ装置に搭載し得るアンテナ、特に、そのようなダイポールアンテナに関する。