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【手続補正書】
【提出日】平成26年4月8日(2014.4.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性支持体上に少なくとも感光層を有する電子写真感光体において、該感光層中に下記式（１）で表される電荷輸送物質と下記式（２）で表される構造単位を有するポリエステル樹脂を含有することを特徴とする電子写真感光体。
【化１】
2013025189.tif 000001
（式（１）Ｒ１〜Ｒ７はそれぞれ独立して水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基を表す。ｎは１以上５以下の整数を表し、ｋ、ｌ、ｑ、ｒはそれぞれ独立して１以上５以下の整数を、ｍ、ｏ、ｐはそれぞれ独立して１以上４以下の整数を表す。）
【化２】
2013025189.tif 000002
（式（２）中、Ａｒ１〜Ａｒ４はそれぞれ独立して置換基を有していてもよいアリーレン基を表し、Ｘは単結合、酸素原子、硫黄原子、又はアルキレン基を表す。sは１以上２以
下の整数を表す。Ｙは、単結合、酸素原子、硫黄原子、又はアルキレン基を表す）。
【請求項２】
前記式（１）で表される化合物が位置異性体混合物であることを特徴とする請求項１記載の電子写真感光体。
【請求項３】
導電性支持体上に少なくとも感光層を有する電子写真感光体において、該感光層中にＣｕＫα特性Ｘ線による粉末Ｘ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角（２θ±０．２゜）が少なくとも２４．１°、２７．２°に回折ピークを示す結晶型のオキシチタニウムフタロシアニンを含有することを特徴とする請求項１ないし２記載の電子写真感光体。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の電子写真感光体、ならびに、該電子写真感光体を帯電させる帯電装置、該帯電した電子写真感光体を露光させて静電潜像を形成する露光装置、及び、該電子写真感光体上に形成された静電潜像を現像する現像装置からなる群から選ばれる少なくとも１つ、を備えたことを特徴とする電子写真感光体カートリッジ。
【請求項５】
請求項１〜３のいずれかに記載の電子写真感光体、該電子写真感光体を帯電させる帯電装置と、該帯電した電子写真感光体を露光させて静電潜像を形成する露光装置、および、該電子写真感光体上に形成された静電潜像を現像する現像装置、を備えたことを特徴とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
（式（２）中、Ａｒ１〜Ａｒ４はそれぞれ独立して置換基を有していてもよいアリーレン基を表し、Ｘは単結合、酸素原子、硫黄原子、又はアルキレン基を表す。sは１以上２以
下の整数を表す。Ｙは、単結合、酸素原子、硫黄原子、又はアルキレン基を表す）。
＜２＞前記式（１）で表される化合物が位置異性体混合物であることを特徴とする＜１＞記載の電子写真感光体。
＜３＞導電性支持体上に少なくとも感光層を有する電子写真感光体において、該感光層中にＣｕＫα特性Ｘ線による粉末Ｘ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角（２θ±０．２゜）が少なくとも２４．１°、２７．２°に回折ピークを示す結晶型のオキシチタニウムフタロシアニンを含有することを特徴とする＜１＞ないし＜２＞記載の電子写真感光体。＜４＞  ＜１＞〜＜３＞のいずれかに記載の電子写真感光体、ならびに、該電子写真感光体を帯電させる帯電装置、該帯電した電子写真感光体を露光させて静電潜像を形成する露光装置、及び、該電子写真感光体上に形成された静電潜像を現像する現像装置からなる群から選ばれる少なくとも１つ、を備えたことを特徴とする電子写真感光体カートリッジ。＜５＞  ＜１＞〜＜３＞のいずれかに記載の電子写真感光体、該電子写真感光体を帯電させる帯電装置と、該帯電した電子写真感光体を露光させて静電潜像を形成する露光装置、および、該電子写真感光体上に形成された静電潜像を現像する現像装置、を備えたことを特徴とする画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月30日(2014.4.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
照明装置であって、
光源部と、
反射率の異なる複数の反射部を有する反射手段を移動させる駆動手段と、
前記駆動手段によって前記光源部に対して前記反射部の相対位置を変更することによって色域を制御する制御手段を備えることを特徴とする照明装置。
【請求項２】
前記反射手段は、
前記光源部からの光に対する透過部および反射部からなる第１反射部材と、
前記透過部を透過した光を、前記反射部とは異なる反射率で反射する反射部を有する第２反射部材を有し、
前記駆動手段は前記第１反射部材を移動させることを特徴とする請求項１記載の照明装置。
【請求項３】
前記第２反射部材に形成した前記反射部の反射率は、前記第１反射部材の前記反射部の反射率より低くされ、
前記第１反射部材の移動によって、前記透過部からの光に対して前記第２反射部材の前記反射部の反射面積が変化することを特徴とする請求項２記載の照明装置。
【請求項４】
前記第１反射部材の透過部は当該反射部材に形成した複数の穴部であることを特徴とする請求項３記載の照明装置。
【請求項５】
前記光源部は、導光部材と該導光部材に対向する発光素子を有し、
前記発光素子から前記導光部材に入射した光の一部は、前記第１反射部材の前記透過部から前記第２反射部材の前記反射部に到達して反射されて前記導光部材に戻り、
前記駆動手段は、前記第２反射部材の前記反射部の反射方向に対して直交する方向に前記第１反射部材を移動させることを特徴とする請求項２ないし４のいずれか１項記載の照明装置。
【請求項６】
映像信号に従って映像表示を行う表示手段と、
請求項１ないし５のいずれか１項記載の照明装置を備えることを特徴とする表示装置。
【請求項７】
前記制御手段は、操作指示信号に従って前記駆動手段を制御することにより、前記照明装置の色域を変更することを特徴とする請求項６記載の表示装置。
【請求項８】
映像信号を解析する映像解析手段をさらに備え、
前記制御手段は、前記映像解析手段からの解析結果を取得し、前記駆動手段を制御することにより、前記映像解析手段が解析した表示色を含む色域に変更することを特徴とする請求項６記載の表示装置。
【請求項９】
光源部を備えた照明装置にて実行される制御方法であって、
反射率の異なる複数の反射部を有する反射手段を移動させ、前記光源部に対して前記反射部の相対位置を変更することで色域を制御することを特徴とする照明装置の制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の一実施形態の照明装置は、光源部と、反射率の異なる複数の反射部を有する反射手段を移動させる駆動手段と、前記駆動手段によって前記光源部に対して前記反射部の相対位置を変更することによって色域を制御する制御手段を備える。
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月2日(2014.7.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１のストリームと第２のストリームを非同期に再生する再生部を備え、
前記第１のストリームは、第１のブラウジングユニットと第２のブラウジングユニットから構成され、
前記第２のブラウジングユニットは、前記第１のブラウジングユニットの一部分を含むブラウジングユニットであり、
前記再生部は、
前記第１のブラウジングユニット後、前記第２のブラウジングユニットを再生し、前記第２のブラウジングユニットの再生後、前記第１のブラウジングユニットの先頭からの再生に遷移する
再生装置。
【請求項２】
前記第１のストリームは映像であり、前記第２のストリームは音である
請求項１に記載の再生装置。
【請求項３】
前記第１のブラウジングユニットは、ループ再生の対象となるブラウジングユニットであり、
前記第２のブラウジングユニットは、ループ再生用のブラウジングユニットである
請求項１または請求項２に記載の再生装置。
【請求項４】
前記第１のブラウジングユニットを再生するためのプレイアイテムの静止モードは、次のプレイアイテムに遷移することを指示するモードに設定され、
前記再生部は、前記第１のブラウジングユニットから前記第２のブラウジングユニットに再生が遷移したことを検知したとき、前記第１のブラウジングユニットに再生に遷移する
請求項１乃至３のいずれかに記載の再生装置。
【請求項５】
前記第１のブラウジングユニットを再生するためのプレイアイテムの静止モードは、一時停止を指示するモードに設定され、
前記再生部は、前記第１のブラウジングユニットの再生が終了し、一時停止の状態になったことを検知したとき、前記第２のブラウジングユニットに再生を遷移し、前記第２のブラウジングユニットに再生が遷移したことを検知したとき、前記第１のブラウジングユニットに再生を遷移する
請求項１乃至３のいずれかに記載の再生装置。
【請求項６】
前記第１のブラウジングユニットは、ループ再生の対象となる複数のブラウジングユニット内の１つのブラウジングユニットであり、
前記第２のブラウジングユニットは、前記複数のブラウジングユニットに共通して用いられるループ再生用のブラウジングユニットである
請求項１乃至５のいずれかに記載の再生装置。
【請求項７】
所定のストリームを再生する再生部を備える再生装置の再生方法において、
第１のストリームは、第１のブラウジングユニットと第２のブラウジングユニットから構成され、
前記第２のブラウジングユニットは、前記第１のブラウジングユニットの一部分を含むブラウジングユニットであり、
前記再生部は、
前記第１のストリームと第２のストリームを非同期に再生し、
前記第１のブラウジングユニット後、前記第２のブラウジングユニットを再生し、前記第２のブラウジングユニットの再生後、前記第１のブラウジングユニットの先頭からの再生に遷移する
ステップを含む再生方法。
【請求項８】
所定のストリームを再生する再生部を備える再生装置を制御するコンピュータに、
第１のストリームは、第１のブラウジングユニットと第２のブラウジングユニットから構成され、
前記第２のブラウジングユニットは、前記第１のブラウジングユニットの一部分を含むブラウジングユニットであり、
前記再生部は、
前記第１のストリームと第２のストリームを非同期に再生し、
前記第１のブラウジングユニット後、前記第２のブラウジングユニットを再生し、前記第２のブラウジングユニットの再生後、前記第１のブラウジングユニットの先頭からの再生に遷移する
ステップを含む処理を実行させるためのコンピュータ読み取り可能なプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月23日(2014.5.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転するシャフトと、
前記シャフトと共に回転し、複数の孔部が設けられたロータフレームと、
前記ロータフレームに固定され、ディスク記憶媒体を保持するための調芯リングと
を備え、
前記調芯リングは、その底面に複数の係合部が設けられていることを特徴とするスピンドルモータ。
【請求項２】
前記複数の係合部は、前記ロータフレームの複数の孔部に周方向において引っ掛かる形状を有していることを特徴とする請求項１に記載のスピンドルモータ。
【請求項３】
前記複数の係合部は、軸中心に向かう方向から見た断面の形状が先端の部分が周方向に延在した略Ｌ字形状を有し、
前記調芯リングを前記ロータフレームに接触させながら周方向に回転させることで、前記略Ｌ字形状の部分が周方向において前記複数の孔部に固定されることを特徴とする請求項２に記載のスピンドルモータ。
【請求項４】
前記シャフトを回転自在な状態で保持するハウジングと、
前記ハウジングに設けられたフランジ部と、
前記ロータフレームの一部を折り曲げることで形成された複数の爪部と
を備え、
前記ロータフレームの一部を折り曲げることで前記複数の孔部が設けられており、前記複数の爪部が前記フランジ部に非接触な状態で係合することで、前記ロータフレームの抜け落ちが防止されていることを特徴とする請求項２または３に記載のスピンドルモータ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の発明において、前記複数の係合部は、軸中心に向かう方向から見た断面の形状が先端の部分が周方向に延在した略Ｌ字形状を有し、
前記調芯リングを前記ロータフレームに接触させながら周方向に回転させることで、前記略Ｌ字形状の部分が周方向において前記複数の孔部に固定されることを特徴とする。請求項３に記載の発明によれば、ロータフレームに対して調芯リングを軸方向において押し付け、その後に回転させることで、調芯リングをロータフレームから軸方向に引き離すことができない構造が得られる。この構造によれば、組み立て作業が簡単でありながら、より確実な係合状態が得られる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
請求項４に記載の発明は、請求項２または３に記載の発明において、前記シャフトを回転自在な状態で保持するハウジングと、前記ハウジングに設けられたフランジ部と、前記ロータフレームの一部を折り曲げることで形成された複数の爪部とを備え、前記ロータフレームの一部を折り曲げることで前記複数の孔部が設けられており、前記複数の爪部が前記フランジ部に非接触な状態で係合することで、前記ロータフレームの抜け落ちが防止されていることを特徴とする。請求項４に記載の発明によれば、調芯リングの係合部に係合するロータフレーム側の孔部が、ロータフレームの抜け落ちを防止する爪部を構成するために形成された孔（切り欠いた部分）を用いて構成されるので、作業工数の増加が抑えられ、またシンプルな構造とできる。
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月10日(2014.6.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
搭載または接続された機器に関する電力関連情報を取得する電力関連情報取得部と、
該電力関連情報取得部により取得した前記電力関連情報をネットワークを介して接続された還元処理装置に送信する通信部と
を備える情報処理装置。
【請求項２】
前記電力関連情報は、前記機器の電源がオンにされている時間を示し、
前記電力関連情報取得部は、前記機器の電源がオンにされている時間を測定する
請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記送信部を介して、さらに、前記機器の型式を示す機器型式情報を送信する
請求項１または２に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記送信部を介して、さらに、前記機器を識別するための機器識別情報を送信する
請求項１から３のいずれかに記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記電力関連情報を記憶する記憶部をさらに備え、
該記憶部は、前記機器の電源がオフにされた時点で前記電力関連情報取得部が取得していた前記電力関連情報を記憶し、
前記通信部は、前記機器の電源がオンにされた時点で前記記憶部に記憶された前記電力関連情報を前記還元処理装置に送信する
請求項１から４のいずれかに記載の情報処理装置。
【請求項６】
前記電力関連情報を記憶する記憶部をさらに備え、
該記憶部は、前記通信部がネットワークに接続されていない場合に前記電力関連情報を記憶し、
前記通信部は、ネットワークに接続された時点で前記記憶部に記憶された前記電力関連情報を前記還元処理装置に送信する
請求項１から５のいずれかに記載の情報処理装置。
【請求項７】
前記電力関連情報は、前記機器の使用電力であり、
前記電力関連情報取得部は、前記使用電力を測定する
請求項１から６のいずれかに記載の情報処理装置。
【請求項８】
前記電力関連情報はさらに、前記機器が待機状態である待機時間を示し、
前記電力関連情報取得部は、前記機器の電源がオンにされている時間を測定するとともに、前記機器が待機状態である時間を測定する
請求項１から７のいずれかに記載の情報処理装置。
【請求項９】
機器に搭載または接続された情報処理装置から送信される電力関連情報をネットワークを介して受信する通信部と、
前記電力関連情報に基づいて還元処理の基準となる還元基準を算出する還元基準算出部と、
前記還元基準に基づいて所定の還元処理を行う還元処理部と
を備える還元処理装置。
【請求項１０】
前記電力関連情報は前記機器の電源がオンにされている時間を示し、
前記還元基準算出部は、前記還元基準として、前記電力関連情報と前記機器の消費電力情報とに基づいて前記機器の使用電力量を算出し、
前記還元処理部は、前記機器の使用電力量に基づいて前記所定の還元処理を行う
請求項９に記載の還元処理装置。
【請求項１１】
前記通信部は、前記情報処理装置から送信された前記機器の型式を示す機器型式情報を受信し、
前記還元基準算出部は、前記機器型式情報に基づいて、前記機器ごとの消費電力情報を格納する機器データベースを参照することにより前記機器の前記消費電力情報を取得し、前記電力関連情報と前記機器の消費電力情報とに基づいて前記機器の使用電力量を算出する
請求項９または１０に記載の還元処理装置。
【請求項１２】
前記還元基準算出部は、前記還元基準として、前記使用電力量を前記機器のユーザごとに累積することにより累積使用電力量を算出し、
前記還元処理部は、前記累積使用電力量に基づいて、前記ユーザごとに前記所定の還元処理を行う
請求項９から１１のいずれかに記載の還元処理装置。
【請求項１３】
前記通信部は、前記情報処理装置から送信された、前記機器を識別するための機器識別情報を受信し、
前記還元基準算出部は、前記機器識別情報に基づいて、前記機器のユーザ情報を格納するユーザデータベースを参照することにより、前記ユーザを特定し、該ユーザごとに前記使用電力量を累積して前記累積使用電力量を算出する
請求項９から１２のいずれかに記載の還元処理装置。
【請求項１４】
前記還元基準算出部は、前記還元基準として、前記機器の使用電力量と電力料金単価とに基づいて前記機器の使用により生じる電力料金を算出する
請求項９から１３のいずれかに記載の還元処理装置。
【請求項１５】
前記還元処理部は、前記ユーザごとに前記還元基準に基づいて振り込み処理を行う
請求項９から１４のいずれかに記載の還元処理装置。
【請求項１６】
前記還元処理部は、前記還元基準に基づいてグリーン電力証書の購入処理を行う
請求項９から１５のいずれかに記載の還元処理装置。
【請求項１７】
前記還元基準に基づいて、発電設備による発電量を決定する発電量決定部をさらに備え、該発電量決定部により決定された発電量を前記発電設備に供給する
請求項９から１６のいずれかに記載の還元処理装置。
【請求項１８】
機器に関する電力関連情報を取得し、
該電力関連情報をネットワークを介して接続された還元処理装置に送信する
情報処理方法。
【請求項１９】
機器に搭載または接続された情報処理装置から送信される電力関連情報をネットワークを介して受信し、
前記電力関連情報に基づいて還元処理の基準となる還元基準を算出し、
前記還元基準に基づいて所定の還元処理を行う
還元処理方法。
【請求項２０】
搭載または接続された機器に関する電力関連情報を取得する電力関連情報取得部と、
該電力関連情報取得部により取得した前記電力関連情報をネットワークを介して接続された還元処理装置に送信する第１の通信部とを備える情報処理装置と、
前記情報処理装置から送信される電力関連情報をネットワークを介して受信する第２の通信部と、
前記電力関連情報に基づいて還元処理の基準となる還元基準を算出する還元基準算出部と、
前記還元基準に基づいて所定の還元処理を行う還元処理部と
を備える還元処理装置と
からなる還元システム。
【手続補正書】
【提出日】平成26年3月31日(2014.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表層側から順に、導体により形成された第１のグランド層と、少なくとも一つの信号線を含む信号配線パターンが形成された信号配線層と、前記第１のグランド層による前記信号配線パターンのインピーダンスコントロールを可能とするための開口部を有する導体により形成された第２のグランド層とがそれぞれの間に絶縁層を挟んで積層された部分を含む積層型回路基板であって、
前記開口部の内側に、それぞれの間に開口が形成されるように配置された複数のグランド線が設けられていることを特徴とする積層型回路基板。
【請求項２】
前記各グランド線は、前記信号線が延びる方向に対して、１０度以上８０度以下の角度をなす方向に延びており、
前記複数のグランド線のうち互いに平行に延びる２本のグランド線が５０ｍｍ以上離れ、かつ前記各グランド線の幅が３ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の積層型回路基板。
【請求項３】
前記複数のグランド線が、四角形の前記開口を形成するように互いに交差していることを特徴とする請求項１又は２に記載の積層型回路基板。
【請求項４】
前記信号線は、第１の部分と、該第１の部分が延びる方向に対して直交する方向に延びる第２の部分と、前記第１の部分および前記第２の部分に対して４５度の角度をなして該第１および第２の部分を繋ぐ第３の部分とを有しており、
前記グランド線が、前記第１、第２および第３の部分のうちいずれかの部分に対して積層方向において重なる位置を通り、当該部分が延びる方向に対して１０度の角度をなす方向に延びていることを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の積層型回路基板。
【請求項５】
前記信号線が、高速差動信号用の信号線であることを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の積層型回路基板。
【請求項６】
請求項１から５のいずれか一項に記載の積層型回路基板を搭載していることを特徴とする電子機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の一側面としての積層型回路基板は、表層側から順に、導体により形成された第１のグランド層と、少なくとも一つの信号線を含む信号配線パターンが形成された信号配線層と、第１のグランド層による信号配線パターンのインピーダンスコントロールを可能とするための開口部を有する導体により形成された第２のグランド層とがそれぞれの間に絶縁層を挟んで積層された部分を含む。該回路基板は、上記開口部の内側に、それぞれの間に開口が形成されるように配置された複数のグランド線が設けられていることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成26年3月17日(2014.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
静電型の荷電粒子線レンズであって、
前記荷電粒子線レンズは、
光軸方向を法線とする第１の面と、前記第１の面と反対側の第２の面とを有する第１の平板と、
前記第２の面と対向する第３の面と、前記第３の面と反対側の第４の面とを有する第２の平板と、
前記第４の面と対向する第５の面と、前記第５の面と反対側の第６の面とを有する第３の平板と、を有し、
前記第１の平板は、前記第１の面から前記第２の面へ貫通する第１の貫通口を有し、
前記第２の平板は、前記第３の面から前記第４の面へ貫通する第２の貫通口を有し、
前記第３の平板は、前記第５の面から前記第６の面へ貫通する第３の貫通口を有し、
前記第１の平板及び前記第２の平板、前記第３の平板は、前記荷電粒子線が前記第１の貫通口、前記第２の貫通口、前記第３の貫通口へ順次通過できるように配され、
前記光軸に垂直な面での貫通口の開口面を開口断面とし、
前記開口断面を挟む、中心が同一な２つの同心円のなかで、２つの同心円の半径の差が最小になる２つの同心円を、半径の小さい方からそれぞれ内接円、外接円とするとき、
前記第１の面及び前記第６の面における開口断面の内接円と外接円との半径の差は、
前記第２の面及び前記第３の面、前記第４の面、前記第５の面における開口断面の内接円と外接円との半径の差より大きいことを特徴とする荷電粒子線レンズ。
【請求項２】
前記第１の面と前記第２の面とを第１の電位とし、
前記第３の面と前記第４の面とを第２の電位とし、
前記第５の面と前記第６の面とを第３の電位とし、
前記荷電粒子線の電荷の極性を負とした場合、
前記第２の面と前記第３の面のいずれか電位の低い面の開口断面の内接円と外接円の半径の差は、
前記第２の面と前記第３の面のいずれか電位の高い面の開口断面の内接円と外接円の半径の差よりも小さいことを特徴とする請求項１に記載の荷電粒子線レンズ。
【請求項３】
前記第１の面と前記第２の面とを第１の電位とし、
前記第３の面と前記第４の面とを第２の電位とし、
前記第５の面と前記第６の面とを第３の電位とし、
前記荷電粒子線の電荷の極性を負とした場合、
前記第４の面と前記第５の面のいずれか電位の低い面の開口断面の内接円と外接円の半径の差は、
前記第４の面と前記第５の面のいずれか電位の高い面の開口断面の内接円と外接円の半径の差よりも小さいことを特徴とする請求項１又は２に記載の荷電粒子線レンズ。
【請求項４】
前記第１の電位と前記第３の電位はアース電位であり、
前記第２の電位は負極性の電位であり、
前記第３の面の開口断面の内接円と外接円との半径の差は、
前記第４の面の開口断面の内接円と外接円との半径の差よりも小さいことを特徴とする請求項２又は３に記載の荷電粒子線レンズ。
【請求項５】
前記第１の面と前記第２の面とを第１の電位とし、
前記第３の面と前記第４の面とを第２の電位とし、
前記第５の面と前記第６の面とを第３の電位とし、
前記荷電粒子線の電荷の極性を正とした場合に、
前記第２の面と前記第３の面のいずれか電位の高い面の開口断面の内接円と外接円の半径の差は、
前記第２の面と前記第３の面のいずれか電位の低い面の開口断面の内接円と外接円の半径の差よりも小さいことを特徴とする請求項１に記載の荷電粒子線レンズ。
【請求項６】
前記第１の平板及び前記第２の平板、前記第３の平板のうち少なくとも一つが複数の層が接合された構造であることを特徴とする請求項１〜５の何れか１項に記載の荷電粒子線レンズ。
【請求項７】
請求項１に記載された荷電粒子線レンズと、
前記荷電粒子線レンズを通る電子ビームを放射する電子源と、
前記荷電粒子線レンズと前記電子源とを制御する制御手段と、を有することを特徴とする露光装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は、静電型の荷電粒子線レンズであって、前記荷電粒子線レンズは、光軸方向を法線とする第１の面と、前記第１の面と反対側の第２の面とを有する第１の平板と、前記第２の面と対向する第３の面と、前記第３の面と反対側の第４の面とを有する第２の平板と、前記第４の面と対向する第５の面と、前記第５の面と反対側の第６の面とを有する第３の平板とを有し、前記第１の平板は、前記第１の面から前記第２の面へ貫通する第１の貫通口を有し、前記第２の平板は、前記第３の面から前記第４の面へ貫通する第２の貫通口を有し、前記第３の平板は、前記第５の面から前記第６の面へ貫通する第３の貫通口を有し、前記第１の平板及び前記第２の平板、前記第３の平板は、前記荷電粒子線が前記第１の貫通口、前記第２の貫通口、前記第３の貫通口へ順次通過できるように配され、前記光軸に垂直な面での貫通孔の開口面を開口断面とし、前記開口断面を挟む、中心が同一な２つの同心円のなかで、２つの同心円の半径の差が最小になる２つの同心円を、半径の小さい方からそれぞれ内接円、外接円とするとき、前記第１の面及び前記第６の面における開口断面の内接円と外接円との半径の差は、前記第２の面及び前記第３の面、前記第４の面、前記第５の面における開口断面の内接円と外接円との半径の差より大きいことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成26年3月5日(2014.3.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の固体光源と、
前記複数の固体光源からの光をそれぞれ略平行化する複数のコリメーターレンズと、
前記複数のコリメーターレンズからの光を集光する集光光学系と、
前記集光光学系からの光のうち、少なくとも一部から蛍光を生成する蛍光層と、を備える光源装置であって、
前記複数のコリメーターレンズから前記蛍光層までの光路中に、少なくとも１つのアナモフィック面を備え、
前記複数の固体光源は、前記複数のコリメーターレンズの焦点位置とは、光軸方向に異なる位置に配置されていることを特徴とする光源装置。
【請求項２】
請求項１に記載の光源装置において、
前記集光光学系は第１の集光レンズを備え、
前記第１の集光レンズの射出面又は入射面のうち少なくとも一面はアナモフィック面からなることを特徴とする光源装置。
【請求項３】
請求項１に記載の光源装置において、
前記集光光学系は、１枚の集光レンズからなり、
前記集光レンズの射出面がアナモフィック面からなり、
前記集光レンズの入射面は、回転対称系の非球面からなることを特徴とする光源装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか１項に記載の光源装置において、
前記複数のコリメーターレンズから前記集光光学系までの光路中に、前記複数のコリメーターレンズからの光を光軸の間隔が狭くなるように反射する反射部をさらに備えることを特徴とする光源装置。
【請求項５】
請求項４に記載の光源装置において、
前記アナモフィック面は、前記光軸の間隔を狭くする方向に対して垂直な母線を有するシリンドリカル面からなることを特徴とする光源装置。
【請求項６】
請求項４または５に記載の光源装置において、
前記反射部は、ストライプ状に形成され、前記光軸の間隔を狭くする方向に対して垂直な方向に沿う複数の反射面を有し、
前記反射面は、アナモフィック面からなることを特徴とする光源装置。
【請求項７】
請求項６に記載の光源装置において、
前記アナモフィック面は、前記光軸の間隔を狭くする方向に対して垂直な母線を有するシリンドリカル面からなることを特徴とする光源装置。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載の光源装置において、
前記蛍光層は、前記集光光学系の焦点位置とは、光軸方向に異なる位置に配置されていることを特徴とする光源装置。
【請求項９】
請求項１〜８に記載の光源装置において、
前記固体光源は、半導体レーザーからなることを特徴とする光源装置。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれかに記載の光源装置を備える照明装置と、
前記照明装置からの光を変調する光変調装置と、
前記光変調装置からの光を投写する投写光学系と、を備えることを特徴とするプロジェクター。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
［１］本発明の光源装置は、複数の固体光源と、前記複数の固体光源からの光をそれぞれ略平行化する複数のコリメーターレンズと、前記複数のコリメーターレンズからの光を集光する集光光学系と、前記集光光学系からの光のうち、少なくとも一部から蛍光を生成する蛍光層とを備える光源装置であって、前記複数のコリメーターレンズから前記蛍光層までの光路中に、少なくとも１つのアナモフィック面を備え、前記複数の固体光源は、前記複数のコリメーターレンズの焦点位置とは、光軸方向に異なる位置に配置されていることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
［２］本発明の光源装置においては、前記集光光学系は第１の集光レンズを備え、前記第１の集光レンズの射出面又は入射面のうち少なくとも一面はアナモフィック面からなることが好ましい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
［３］本発明の光源装置においては、前記集光光学系は、１枚の集光レンズからなり、前記集光レンズの射出面がアナモフィック面からなり、前記集光レンズの入射面は、回転対称系の非球面からなることが好ましい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
このような構成とすることにより、回転対称系の非球面からなる入射面を用いて、蛍光層に入射する光の入射具合を調整することが可能となる。
本発明の光源装置においては、前記複数のコリメーターレンズから前記集光光学系までの光路中に、前記複数のコリメーターレンズからの光を光軸の間隔が狭くなるように反射する反射部をさらに備えることが好ましい。
このような構成とすることにより、先願に係る光源装置と同様に、従来の光源装置と比較して、後段の光学要素に入射する光における光軸の間隔を狭くすることが可能となる。その結果、後段の光学要素の大型化を抑制し、従来の光源装置よりも光源装置の小型化及び軽量化が可能となる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
集光光学系５０は、図１及び図２に示すように、１枚の集光レンズからなり、反射部４０を経由してきたコリメーターレンズアレイ３０からの光を所定の集光位置に集光する。集光光学系５０を構成する集光レンズは本発明における第１の集光レンズである。
集光光学系５０は、入射面５２が回転対称系の非球面からなり、射出面５４が、光軸の間隔を狭くする方向（ｘ軸方向）に対して垂直な母線（ｙ軸方向に沿う母線）を有するシリンドリカル面からなる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
蛍光層６４は、集光光学系５０の焦点位置とは光軸方向に異なる位置（つまり、デフォーカスとなる位置）に配置されている。
蛍光層６４には、反射部４０が備えるアナモフィック面（シリンドリカル面）と集光光学系５０が備えるアナモフィック面と、固体光源２４とコリメーターレンズ３２との前述したような位置関係と、により、図５に示すようにピーク強度が低減された光が入射する。このときのピーク強度は、約６５Ｗ／ｍｍ２である。
【手続補正書】
【提出日】平成26年3月17日(2014.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
静電型の荷電粒子線レンズであって、
前記荷電粒子線レンズは、光軸方向を法線とする第１の面と、前記第１の面とは反対側の第２の面とを有する平板からなり、
前記平板は、前記第１の面から前記第２の面に貫通する貫通孔を有し、
前記貫通孔の法線に垂直な面での開口面を開口断面とし、
前記開口断面の回帰分析により得られた円の直径を代表直径とするとき、
前記第１の面側である第１の領域における開口断面の代表直径と、
前記第２の面側である第２の領域における開口断面の代表直径とが各々、
前記第１の面と前記第２の面とで挟まれた内部の領域である第３の領域における開口断面の代表直径よりも小さいことを特徴とする荷電粒子線レンズ。
【請求項２】
前記開口断面を挟む、中心が同一な２つの同心円のなかで、２つの同心円の半径の差が最小になる２つの同心円を、半径の小さい方からそれぞれ内接円、外接円とするとき、
前記第１の領域における開口断面の外接円と内接円の半径の差と、
前記第２の領域における開口断面の外接円と内接円の半径の差とが各々、
前記第３の領域における開口断面の外接円と内接円の半径の差よりも小さいことを特徴とする請求項１に記載の荷電粒子線レンズ。
【請求項３】
前記第１の領域及び前記第２の領域における開口断面の代表直径は、
前記第３の領域における開口断面の代表直径の４０％より大きいことを特徴とする請求項１又は２に記載の荷電粒子線レンズ。
【請求項４】
前記第１の領域及び前記第２の領域の厚さは、
前記第３の領域の厚さよりも小さいことを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載の荷電粒子線レンズ。
【請求項５】
前記第１の領域の厚さは、
前記第１の領域における開口断面の代表直径の１／８より大きく、
前記第２の領域の厚さは、
前記第２の領域における開口断面の代表直径の１／８より大きいことを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載の荷電粒子線レンズ。
【請求項６】
前記第１の領域及び前記第２の領域の少なくとも一方が、前記第３の領域に対して積層又は接合された構造であることを特徴とする請求項１〜５の何れか１項に記載の荷電粒子線レンズ。
【請求項７】
前記平板は、電気伝導性膜で覆われていることを特徴とする請求項１〜６の何れか１項に記載の荷電粒子線レンズ。
【請求項８】
請求項１に記載された荷電粒子線レンズと、
前記荷電粒子線レンズを通る電子ビームを放射する電子源と、
前記荷電粒子線レンズと前記電子源とを制御する制御手段と、を有することを特徴とする露光装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は、静電型の荷電粒子線レンズであって、前記荷電粒子線レンズは、光軸方向を法線とする第１の面と、前記第１の面とは反対側の第２の面とを有する平板からなり、前記平板は、前記第１の面から前記第２の面に貫通する貫通孔を有し、前記貫通孔の法線に垂直な面での開口面を開口断面とし、前記開口断面の回帰分析により得られた円の直径を代表直径とするとき、前記第１の面側である第１の領域における開口断面の代表直径と、前記第２の面側である第２の領域における開口断面の代表直径とが各々、前記第１の面と前記第２の面とで挟まれた内部の領域である第３の領域における開口断面の代表直径よりも小さいことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成26年3月17日(2014.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
局所加工ツールとワークとを相対運動させて前記ワークを加工する局所加工方法であって、
前記局所加工ツールによる第一の加工量を設定する工程と、
前記第一の加工量と前記ワークの温度・加工レートから前記ワークの第一の加工時間分布を求める工程と、
前記第一の加工時間分布に従い加工した際のワーク温度を求める工程と、
求められた前記ワーク温度と、前記温度・加工レートと、前記第一の加工時間分布から、第二の加工量を求める工程と、
前記第一の加工量と前記第二の加工量との差である、加工誤差量に応じて、第二の加工時間分布を設定する工程と、
前記第二の加工時間分布に基づき、前記局所加工ツールが前記ワークを加工する工程と、
を有することを特徴とする局所加工方法。
【請求項２】
加工時のワークの温度変化による熱膨張も含めて温度・加工レートを算出する工程を更に有し、ワーク温度と、該加工レートと、加工時間分布と、該ワークの熱膨張係数から第二の加工量を求めることを特徴とする、請求項１記載の局所加工方法。
【請求項３】
前記局所加工ツールは、プラズマジェット、プラズマＣＶＭ、ＰＡＣＥ、イオンビーム、またはガスクラスターイオンビームを利用するツールであることを特徴とする請求項１または２記載の局所加工方法。
【請求項４】
前記ワーク温度は、ワークの温度の時間変化Ｔ（ｕ，ｖ，ｘ，ｙ，ｔ）であることを特徴とする請求項１〜３にいずれか記載の局所加工方法。
【請求項５】
請求項１乃至４いずれか一項記載の局所加工方法を用いて素子を製造することを特徴とする素子の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】局所加工方法および素子の製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
前述の課題を鑑みて本発明が提供する局所加工方法は、局所加工ツールとワークとを相対運動させて前記ワークを加工する局所加工方法であって、前記局所加工ツールによる第一の加工量を設定する工程と、前記第一の加工量と前記ワークの温度・加工レートから前記ワークの第一の加工時間分布を求める工程と、前記第一の加工時間分布に従い加工した際のワーク温度を求める工程と、求められた前記ワーク温度と、前記温度・加工レートと、前記第一の加工時間分布から、第二の加工量を求める工程と、前記第一の加工量と前記第二の加工量との差である、加工誤差量に応じて、第二の加工時間分布を設定する工程と、前記第二の加工時間分布に基づき、前記局所加工ツールが前記ワークを加工する工程と、を有することを特徴とする局所加工方法である。
また、本発明が提供する素子の製造方法は、上記局所加工方法を用いて素子を製造することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成26年3月17日(2014.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の導電性基板に第１の貫通孔を形成する工程と、
第２の導電性基板に第２の貫通孔を形成する工程と、
前記第１の貫通孔と前記第２の貫通孔とが連通するように前記第１の導電性基板と前記第２の導電性基板と、を位置合わせする工程と、
前記第１の導電性基板と前記第２の導電性基板とを接合する工程と、
を有することを特徴とする荷電粒子線レンズの製造方法。
【請求項２】
第１の導電性基板に第１の貫通孔を形成する工程と、
第２の導電性基板に第２の貫通孔を形成する工程と、
第３の導電性基板に第３の貫通孔を形成する工程と、
前記第１の貫通孔と前記第２の貫通孔と前記第３の貫通孔とが連通するように前記第１の導電性基板と、前記第２の導電性基板と、前記第３の導電性基板と、を位置合わせする工程と、
前記第１から第３の導電性基板を接合する工程と、
を有することを特徴とする荷電粒子線レンズの製造方法。
【請求項３】
前記第２の導電性基板は、ＳＯＩ基板のデバイス層からなり、
前記デバイス層と前記第１の導電性基板とを接合したのちに、前記ＳＯＩ基板のハンドル層および前記ＳＯＩ基板のＢＯＸ層を除去する工程を有することを特徴とする請求項１又は２に記載の荷電粒子線レンズの製造方法。
【請求項４】
前記第２の導電性基板は、ＳＯＩ基板のデバイス層からなり、
前記ＳＯＩ基板のデバイス層に貫通孔を形成する工程と、
前記デバイス層に分離層を介して支持基板を接合する工程と、
前記ＳＯＩ基板のうちハンドル層およびＢＯＸ層を除去する工程と、
前記デバイス層のうち前記ＢＯＸ層が形成されていた面を接合面として前記第１の導電性基板を接合する工程と、
前記支持基板を前記分離層で分離する工程と、を有することを特徴とする請求項１又は２に記載の荷電粒子線レンズの製造方法。
【請求項５】
第１の導電性基板に第１の貫通孔を形成する工程と、
前記第１の導電性基板と第２の導電性基板とを接合する工程と、
前記第１の導電性基板と第２の導電性基板とを接合した後に、前記第２の導電性基板に前記第１の貫通孔と連通する第２の貫通孔を形成する工程と、を有することを特徴とする荷電粒子線レンズの製造方法。
【請求項６】
第１の導電性基板と第２の導電性基板とを接合して接合電極を形成する工程と、
前記接合電極の前記第１の導電性基板側から第１の貫通孔を形成する工程と、
前記接合電極の前記第２の導電性基板側から前記第１の貫通孔と連通する第２の貫通孔を形成する工程と、を有することを特徴とする荷電粒子線レンズの製造方法。
【請求項７】
前記第１の貫通孔の直径と前記第２の貫通孔の直径とが異なることを特徴とする請求項１〜６の何れか１つに記載の荷電粒子線レンズの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は上記課題を解決するために本発明者らが鋭意検討を行った結果完成に至ったものであり、その骨子とするところは、少なくとも第１の貫通孔を有する第１の導電性基板と、第２の貫通孔を有する第２の導電性基板と、を接合してなる接合電極４を有する電子線レンズの製造方法であって、
前記第１の導電性基板に前記第１貫通孔を形成する工程と、
前記第２の導電性基板に前記第２の貫通孔を形成する工程と、
前記第１の貫通孔と前記第２の貫通孔とが連通するように前記第１の導電性基板と前記第２の導電性基板と、を位置合わせする工程と、前記第１の導電性基板と前記第２の導電性基板とを接合する工程と、を有することを特徴とするものである。
【手続補正書】
【提出日】平成26年3月17日(2014.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、下部反射ミラーと活性層と選択酸化層と上部反射ミラーとを含む積層体と、前記積層体の表面に形成された表面レリーフ構造と、を備え、メサ構造に構成された面発光レーザの製造方法であって、
下部反射ミラーと活性層と選択酸化層と上部反射ミラーとを含む積層体を形成する工程と、
前記積層体の上に、マスク膜を形成する工程と、
前記マスク膜に、メサ構造を画定するための第１のパターンと表面レリーフ構造を画定するための第２のパターンを形成する工程と、
前記第１のパターンと前記第２のパターンが形成された前記マスク膜の上と前記第１のパターンと前記第２のパターンに対応する前記積層体の上に、保護膜を形成する工程と、
前記第２のパターンに対応する前記積層体の上の前記保護膜を残して、前記第１のパターンに対応する積層体の上の前記保護膜を除去する工程と、
前記保護膜が除去された前記マスク膜の前記第１のパターンを用いて、前記メサ構造を形成する工程と、
前記メサ構造を形成する工程の後に、前記選択酸化層を選択的に酸化して電流狭窄構造を形成する工程と、
前記電流狭窄構造を形成する工程の後に、前記第２のパターンに対応する前記積層体の上の前記保護膜を除去する工程と、
前記保護膜が除去された前記マスク膜の前記第２のパターンを用いて、前記積層体の表面に前記表面レリーフ構造を形成する工程と、
を有することを特徴とする面発光レーザの製造方法。
【請求項２】
前記保護膜は、前記マスク膜よりも薄い膜厚を有することを特徴とする請求項１に記載の面発光レーザの製造方法。
【請求項３】
前記保護膜を形成する工程において、前記保護膜は前記マスク膜の側壁にまで形成されることを特徴とする請求項１又は２に記載の面発光レーザの製造方法。
【請求項４】
前記第１のパターンの中心軸と前記第２のパターンの中心軸とが一致していることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の面発光レーザの製造方法。
【請求項５】
複数の面発光レーザを有する面発光レーザアレイの製造方法であって、
前記複数の面発光レーザの少なくとも一つの面発光レーザを、請求項１から４のいずれか１項に記載の面発光レーザの製造方法を用いて製造することを特徴とする面発光レーザアレイの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の面発光レーザの製造方法は、基板上に、下部反射ミラーと活性層と選択酸化層と上部反射ミラーとを含む積層体と、前記積層体の表面に形成された表面レリーフ構造と、を備え、メサ構造に構成された面発光レーザの製造方法であって、下部反射ミラーと活性層と選択酸化層と上部反射ミラーとを含む積層体を形成する工程と、前記積層体の上に、マスク膜を形成する工程と、前記マスク膜に、メサ構造を画定するための第１のパターンと表面レリーフ構造を画定するための第２のパターンを形成する工程と、前記第１のパターンと前記第２のパターンが形成された前記マスク膜の上と前記第１のパターンと前記第２のパターンに対応する前記積層体の上に、保護膜を形成する工程と、前記第２のパターンに対応する前記積層体の上の前記保護膜を残して、前記第１のパターンに対応する積層体の上の前記保護膜を除去する工程と、前記保護膜が除去された前記マスク膜の前記第１のパターンを用いて、前記メサ構造を形成する工程と、前記メサ構造を形成する工程の後に、前記選択酸化層を選択的に酸化して電流狭窄構造を形成する工程と、前記電流狭窄構造を形成する工程の後に、前記第２のパターンに対応する前記積層体の上の前記保護膜を除去する工程と、前記保護膜が除去された前記マスク膜の前記第２のパターンを用いて、前記積層体の表面に前記表面レリーフ構造を形成する工程と、を有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
次に、図３（ｃ）に示すように、バッファードフッ酸（ＢＨＦ）を用いたウエットエッチングにより、第一のレジストパターン２２４を第一の誘電体膜２２２に転写する。
なお、この転写はウエットエッチングによるだけでなく、ドライエッチングによって行ってもよい。
この際に、第一の誘電体膜２２２には、中心軸が同一である大小二つの異なる環状の開口パターンによる前記第１のパターンと第２のパターンが形成されるように転写される。
上記バッファードフッ酸を用いたウエットエッチングを行った後に、第一のレジストパターン２２４除去する。
次に、図３（ｄ）に示すように、第１のパターン２２６及び第２のパターン２２８が形成された第一の誘電体膜２２２を有した積層された半導体層上に、ＣＶＤ成膜技術を用いて第二の誘電体膜２３０を成膜する。
この第二の誘電体膜２３０は、表面レリーフ構造を保護するための層であり、例えば２００ｎｍで形成する。
第二の誘電体膜２３０としては、例えばシリコンオキサイド膜、シリコンナイトライド膜、シリコンオキシナイトライド膜が挙げられる。
このように、本実施例では、表面レリーフ構造は第二の誘電体膜２３０で保護されているため、後の工程（図５（ａ））でレジストを除去するための酸素プラズマアッシングを実施しても、表面レリーフ構造表面への損傷を低減することができる。
ところで、この工程においては、第一の誘電体膜２２２に形成した第１のパターン２２６を覆うように第二の誘電体膜２３０が形成され、フォトリソグラフィにより決定したパターン形状が変化してしまうことになる。
しかし、第二の誘電体膜２３０は例えばプラズマＣＶＤ法を用いて成膜するため、第二の誘電体膜２３０は第一の誘電体膜２２２に形成した第１のパターン２２６の側壁に、第一の誘電体膜２２２の膜厚より薄い均一な厚さで成膜される。
このため、メサ構造を画定するための第１のパターン２２６の幅は狭まるが、均一な膜厚の第二の誘電体膜２３０が等方的に成膜されることから、後の工程（図４（ｄ））のメサ構造の形成に際し、ドライエッチングにおいて支障をきたすことは少ない。
【手続補正書】
【提出日】平成26年2月12日(2014.2.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上面に開口部を有するケースと、このケース内に収容され、一対の電極を有するコンデンサ素子と、このコンデンサ素子の一対の電極にそれぞれ電極接続部を接続して外部接続端子部を有する一対のバスバーと、前記ケース内に充填したモールド樹脂とを備えたケースモールド型コンデンサにおいて、
前記コンデンサ素子は、周面に貫通孔を有し、その貫通孔に有機樹脂が充填されたことを特徴とするケースモールド型コンデンサ。
【請求項２】
前記コンデンサ素子は、小判形の形状を有し、前記貫通孔は小判形の偏平面の中心部に設けられた請求項１に記載のケースモールド型コンデンサ。
【請求項３】
前記コンデンサ素子は、偏平面をケースの底面に対して平行に配設した請求項２に記載のケースモールド型コンデンサ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
上記目的を達成するために本発明は、上面に開口部を有するケースと、このケース内に収容され、一対の電極を有するコンデンサ素子と、このコンデンサ素子の一対の電極にそれぞれ電極接続部を接続して外部接続端子部を有する一対のバスバーと、前記ケース内に充填したモールド樹脂とを備えたケースモールド型コンデンサにおいて、前記コンデンサ素子は、周面に貫通孔を有し、その貫通孔に有機樹脂が充填されたことを特徴とするものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
以上のように本発明によれば、コンデンサ素子が周面に貫通孔を有し、その貫通孔に有機樹脂を充填することにより、コンデンサ素子の剛性が高くなり、また、貫通孔内の金属化フィルムが有機樹脂で固定されるので、コンデンサ素子に電流を流して金属化フィルム間にローレンツ力が発生しても、金属化フィルムの振動を抑えることができる。その結果、コンデンサ素子の振動が低減し、ケースモールド型コンデンサの騒音の発生が抑制される。