【手続補正書】
【提出日】平成25年12月24日(2013.12.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に設けられた膜形成領域に配向膜形成液を塗布する配向膜形成液の塗布装置において、
前記基板を載置するステージと、
このステージに載置された前記基板における前記膜形成領域が設けられた表面に沿う第１の方向に沿って配列された複数のノズルを備えた塗布ヘッドと、
前記ステージと前記塗布ヘッドとを前記表面に沿い前記第１の方向とは交差する第２の方向に沿って走査移動させる移動装置と、
前記膜形成領域が当該膜形成領域以外の前記表面に対して高い親液性とされた基板に対し、少なくとも１列分の前記配向膜形成液の液滴が前記膜形成領域の外側の領域上に塗布され、かつ、前記膜形成領域の外側の領域上に塗布される前記液滴の配置間隔および１滴の液滴の量が、前記膜形成領域内に塗布される前記液滴の配置間隔および１滴の液滴の量よりも大となるように、前記膜形成領域に対して前記ノズルから前記配向膜形成液の液滴を吐出させるべく、前記移動装置と前記塗布ヘッドを制御する制御装置と、
を備えることを特徴とする配向膜形成液の塗布装置。
【請求項２】
前記制御装置は、前記膜形成領域の外側の領域上に前記液滴を塗布し、その後、前記膜形成領域内に前記液滴を塗布するように前記移動装置と前記塗布ヘッドとを制御することを特徴とする請求項１記載の配向膜形成液の塗布装置。
【請求項３】
基板の表面に設けられた膜形成領域に配向膜形成液を塗布することで配向膜が形成されてなる配向膜形成基板の製造方法において、
前記膜形成領域を当該膜形成領域以外の前記表面に対して高い親液性とされた前記基板に対し、少なくとも１列分の前記配向膜形成液の液滴を前記膜形成領域の外側の領域上に塗布し、かつ、前記膜形成領域の外側の領域上に塗布される前記液滴の配置間隔および１滴の液滴の量が、前記膜形成領域内に塗布される前記液滴の配置間隔および１滴の液滴の量よりも大となるように、前記膜形成領域に対して前記配向膜形成液の液滴を塗布することを特徴とする配向膜形成基板の製造方法。
【請求項４】
前記膜形成領域の外側の領域上に前記液滴を塗布し、その後、前記膜形成領域内に前記液滴を塗布することを特徴とする請求項３記載の配向膜形成基板の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】配向膜形成液の塗布装置および配向膜形成基板の製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の実施形態に係る第１の特徴は、基板に設けられた膜形成領域に配向膜形成液を塗布する配向膜形成液の塗布装置において、
前記基板を載置するステージと、
このステージに載置された前記基板における前記膜形成領域が設けられた表面に沿う第１の方向に沿って配列された複数のノズルを備えた塗布ヘッドと、
前記ステージと前記塗布ヘッドとを前記表面に沿い前記第１の方向とは交差する第２の方向に沿って走査移動させる移動装置と、
前記膜形成領域が当該膜形成領域以外の前記表面に対して高い親液性とされた基板に対し、少なくとも１列分の前記配向膜形成液の液滴が前記膜形成領域の外側の領域上に塗布され、かつ、前記膜形成領域の外側の領域上に塗布される前記液滴の配置間隔および１滴の液滴の量が、前記膜形成領域内に塗布される前記液滴の配置間隔および１滴の液滴の量よりも大となるように、前記膜形成領域に対して前記ノズルから前記配向膜形成液の液滴を吐出させるべく、前記移動装置と前記塗布ヘッドを制御する制御装置と、
を備えることである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の実施形態に係る第２の特徴は、基板の表面に設けられた膜形成領域に配向膜形成液を塗布することで配向膜が形成されてなる配向膜形成基板の製造方法において、
前記膜形成領域を当該膜形成領域以外の前記表面に対して高い親液性とされた前記基板に対し、少なくとも１列分の前記配向膜形成液の液滴を前記膜形成領域の外側の領域上に塗布し、かつ、前記膜形成領域の外側の領域上に塗布される前記液滴の配置間隔および１滴の液滴の量が、前記膜形成領域内に塗布される前記液滴の配置間隔および１滴の液滴の量よりも大となるように、前記膜形成領域に対して前記配向膜形成液の液滴を塗布することである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
マスク部材１３は、ステージ１１に載置された基板Ｗにおける膜形成領域Ｒに対向する部分が紫外線を透過可能に形成され、膜形成領域Ｒに対向しない他の部分が紫外線を遮光可能に形成された板状の部材である。このマスク部材１３は、ステージ１１の上方に、ステージ１１に載置された基板Ｗの上面との間に数ｍｍ程度の間隔を隔てて配置されてなる。光源１２から照射された紫外光は、このマスク部材１２によって膜形成領域Ｒに対向しない部分で遮光され、膜形成領域Ｒのみに照射されることとなる。その結果、基板Ｗにおける膜形成領域Ｒの親液性が膜形成領域Ｒ以外の部分よりも高められる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
各塗布ヘッド２７は、複数のノズルを直線状に等間隔で配列して設けている。そして、これら３つ塗布ヘッド２７は、それぞれがＹ軸方向に沿い、かつ、各塗布ヘッド２７のノズルの配列方向がＹ軸方向に沿うように枠体２６に支持される。また、３つ塗布ヘッド２７は、図４に示すように、平面視において千鳥状に、そして、隣接する塗布ヘッド２７同士の一部が重なるように配置することで、３つの塗布ヘッド２７によって構成されるＹ方向に沿うノズル列の各ノズルの配置間隔が塗布ヘッド２７間においても等間隔となるように設定されている。なお、３つの塗布ヘッド２７によって構成されるノズル列の長さは、移送ステージ２３に載置される基板ＷのＹ軸方向の長さよりも長くなるように設定される。すなわち、本実施形態では、塗布ヘッド２７を３つ配列した例としたが、塗布ヘッド２７の数は、１つの塗布ヘッド２７のノズル列の長さと移送ステージ２３に載置される基板ＷのＹ軸方向の長さとの関係に基づいて決定されるものであり、前記Ｙ軸方向の長さがノズル列の長さの３倍以上であれば、配列する塗布ヘッド２７の数は４つ以上となる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
図８に示すように、第３の実施形態における配向膜形成液の液滴の配置パターンは、最外周に沿って配列された１列分の塗布位置が膜形成領域Ｒの外側である額縁領域Ｇ上に設定される。なお、図８に示す配置パターンにおける行方向、列方向での液滴の配置間隔が、塗布された液滴が膜形成領域Ｒ上で濡れ広がることで、隣接する液滴同士が互いに付着し合って一体化して膜を形成することが可能な大きさで設定されている点も第１の実施形態と同様である。なお、第３の実施形態においては、膜形成領域Ｒよりも撥液性の高い、つまり、配向膜形成液が濡れ広がり難い（濡れ広がりが弱い）、額縁領域Ｇ上にも配向膜形成液の液滴を滴下する。そのため、この額縁領域Ｇ上においても隣接する液滴同士が付着し合えるように、図６に示す配置パターンよりも行列方向の配置間隔が狭く、また、１滴の液滴量が少なく設定される。ここで、１滴の液滴量を少なく設定するのは、単位面積当たりの塗布量を第１の実施形態と同等にするためである。単位面積当たりの塗布量は、１滴の液滴量が一定であれば、液滴の行列方向の配置間隔が密になるほど増加する。したがって、単位面積当たりの塗布量を一定とする場合、液滴の行列方向の配置間隔を狭くした分、１滴の液滴量を少なくする必要がある。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
また、上述の実施形態において、膜形成領域Ｒに対して設定する配置パターンを、矩形の膜形成領域Ｒの辺に沿う行列状の配置とした例で説明したが、これに限られるものではなく、例えば、膜形成領域Ｒの辺に対して傾斜した行列状の配置でも良く、千鳥配置でも良い。