【手続補正書】
【提出日】平成26年6月3日(2014.6.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１リフレクターと、
第２リフレクターと、
前記第１及び第２リフレクターの間に配置される少なくとも一つの光源と、を含み、
前記第２リフレクターは、正反射領域と乱反射領域を含み、
前記正反射領域は、前記第２リフレクターの全体領域の５％〜５０％を占める、バックライトユニット。
【請求項２】
前記第２リフレクターは、少なくとも一つの平面を含み、前記第２リフレクターの平面は、前記第１リフレクターと平行な面である、請求項１に記載のバックライトユニット。
【請求項３】
前記第２リフレクターは、少なくとも一つの変曲点を持つ少なくとも２個の傾斜面を含み、前記変曲点を中心に隣接する第１及び第２傾斜面の曲率は互いに異なる、請求項１に記載のバックライトユニット。
【請求項４】
前記第２リフレクターから一定空間をおいて配置される光学部材をさらに含み、前記第２リフレクターと前記光学部材との間の空間には、エアーガイドが形成される、請求項１〜３のいずれか１項に記載のバックライトユニット。
【請求項５】
前記第２リフレクターから一定空間をおいて配置される光学部材をさらに含み、前記第２リフレクターと前記光学部材との間の空間には導光板がない、請求項１〜３のいずれか１項に記載のバックライトユニット。
【請求項６】
前記乱反射領域は、入射光をランバート分布及びガウス分布のうち少なくとも一つで反射し、前記乱反射領域の全ての地点は、前記各地点に入射する光の入射角が、前記各地点を通る法線を基準に、少なくとも５５°以上である、請求項１〜５のいずれか１項に記載のバックライトユニット。
【請求項７】
前記乱反射領域は、第１及び第２乱反射領域を含み、
前記第１及び第２乱反射領域は、入射光をランバート分布及びガウス分布のうち少なくとも一つで反射し、
前記第１乱反射領域の全ての地点は、前記各地点に入射する光の入射角が、前記各地点を通る法線を基準に少なくとも５５°以上であり、
前記第２乱反射領域の全ての地点は、前記各地点に入射する光の入射角が、前記各地点を通る法線を基準に少なくとも６０°以上である、請求項１〜５のいずれか１項に記載のバックライトユニット。
【請求項８】
前記第２リフレクターは、少なくとも一つの変曲点を持つ傾斜面を含み、前記傾斜面に沿って、凹ライン及び凸ラインが交互に配列されるパターンを有する、請求項１〜７のいずれか１項に記載のバックライトユニット。
【請求項９】
前記第２リフレクターの正反射領域は、前記光源から遠ざかるほど面積比率が減る、請求項１〜８のいずれか１項に記載のバックライトユニット。
【請求項１０】
前記光源に隣接する第２リフレクターの正反射領域は、前記光源から遠く離れた第２リフレクターの乱反射領域に比べて面積がより小さい、請求項１〜９のいずれか１項に記載のバックライトユニット。
【請求項１１】
前記第２リフレクターの正反射領域は、前記第２リフレクターの全体領域の２０〜３０％を占める、請求項１〜１０のいずれか１項に記載のバックライトユニット。
【請求項１２】
前記第２リフレクターの正反射領域と乱反射領域との面積比は、１：１〜２０である、請求項１〜９及び１１のいずれか１項に記載のバックライトユニット。
【請求項１３】
前記第２リフレクターは、前記正反射領域及び乱反射領域を含む単一層からなる、請求項１〜１２のいずれか１項に記載のバックライトユニット。
【請求項１４】
前記第２リフレクターは、乱反射層と、前記乱反射層の一部分が露出されるように前記乱反射層上に形成される正反射層と、を含む二重層からなる、請求項１〜１２のいずれか１項に記載のバックライトユニット。
【請求項１５】
第１乱反射領域は、ランバート分布で反射する光量とガウス分布で反射する光量のうち、ガウス分布で反射する光量がより多く、第２乱反射領域は、ランバート分布で反射する光量とガウス分布で反射する光量のうち、ランバート分布で反射する光量がより多い、請求項７〜１４のいずれか１項に記載のバックライトユニット。
【請求項１６】
前記第１乱反射領域と前記第２乱反射領域との面積比は、１：１〜５である、請求項７〜１５のいずれか１項に記載のバックライトユニット。
【請求項１７】
前記正反射領域と前記第２乱反射領域との面積比は、１：１〜２０である、請求項７〜１６のいずれか１項に記載のバックライトユニット。
【請求項１８】
前記第１乱反射領域は、前記正反射領域と前記第２乱反射領域との間に位置する、請求項７〜１７のいずれか１項に記載のバックライトユニット。
【請求項１９】
前記第１及び第２乱反射領域は、
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）からなる第１層と、
前記第１層上に形成され、ＴｉＯ２及びＳｉＯ２のうち、少なくとも一粒子からなる第２層と、
を含む、請求項７〜１８のいずれか１項に記載のバックライトユニット。
【請求項２０】
前記第２リフレクターの凹ラインは、前記傾斜面から凹んだ曲面であり、前記第２リフレクターの凸ラインは、前記傾斜面から膨らんでいる曲面である、請求項８〜１９のいずれか１項に記載のバックライトユニット。
【請求項２１】
前記凹ラインの曲率は、前記凹ラインと傾斜面との接点と前記凹ラインの頂点とをつなぐ直線が前記傾斜面となす角度θが０．０１〜１５°であることを満たし、
前記角度θは、下記方程式１により定義される、請求項８〜２０のいずれか１項に記載のバックライトユニット：
方程式１： θ＝ｔａｎ−１(ｈ／ｗ)＝０．０１〜１５°
ここで、ｈは、前記凹ラインの最大深さ（前記凹ラインの頂点と前記傾斜面との間の最短距離）であり、ｗは、前記凹ラインの幅（前記凹ラインと傾斜面との接点と、前記凹ラインの頂点と傾斜面とをつなぐ垂直線との間の最短距離）である。
【請求項２２】
前記互いに隣接する凹ライン及び凸ラインの曲率は、互いに異なる、請求項８〜２１のいずれか１項に記載のバックライトユニット。
【請求項２３】
前記一つの凹ラインの両側には、第１凸ライン及び第２凸ラインが配置され、前記第１凸ラインの曲率は、隣接する凹ラインの曲率と同一または異なり、前記第２凸ラインの曲率と異なり、
前記一つの凸ラインの両側には、第１凹ライン及び第２凹ラインが配置され、前記第１凹ラインの曲率は、隣接する凸ラインの曲率と同一または異なり、前記第２凹ラインの曲率と異なる、請求項８〜２２のいずれか１項に記載のバックライトユニット。
【請求項２４】
前記凹ライン及び凸ラインの長さは、前記光源から遠い領域と前記光源に隣接した領域において互いに同一である、請求項８〜２３のいずれか１項に記載のバックライトユニット。
【請求項２５】
前記単一層は、同一の平面上に配列される正反射層及び乱反射層で構成され、前記正反射層と乱反射層は、互いに同一の厚さを有する、請求項１３及び１５〜２４のいずれか１項に記載のバックライトユニット。
【請求項２６】
前記単一層は、同一の平面上に配列される正反射層及び乱反射層で構成され、前記正反射層及び乱反射層は、一部分が互いに重なり、前記乱反射層と重なった正反射層の厚さは、前記乱反射層と重ならない正反射層の厚さよりも薄い、請求項１３及び１５〜２４のいずれか１項に記載のバックライトユニット。
【請求項２７】
前記乱反射層上に形成される正反射層は、前記乱反射層の一部が露出されるように多数のホール（ｈｏｌｅ）が形成される、請求項１４〜２４のいずれか１項に記載のバックライトユニット。
【請求項２８】
前記正反射層に形成されるホールは、前記光源から遠ざかるほど、前記ホールの個数が増加する、請求項２７に記載のバックライトユニット。
【請求項２９】
ディスプレイパネルと、
前記ディスプレイパネルに光を照射するバックライトユニットと、を含み、
前記バックライトユニットは、請求項１乃至２８のいずれか１に記載のバックライトユニットである、ディスプレイ装置。