【手続補正書】
【提出日】平成26年10月30日(2014.10.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
また、当該圧力式流量制御装置に於いては、圧力検出器Ｐ及び温度検出器Ｔからの検出値がディジタル信号に変換されて温度補正・流量演算回路ＣＤａへ入力され、ここで検出圧力の温度補正及び流量演算が行われたあと、流量演算値Ｑｔが比較回路ＣＤｂへ入力される。一方、設定流量入力信号Ｑｓが端子Ｉｎから入力され、入出力回路ＣＤｃでディジタル値に変換されたあと比較回路ＣＤｂへ入力され、ここで前記温度補正・流量演算回路ＣＤａからの流量演算値Ｑｔと比較される。そして、設定流量入力信号Ｑｓが流量演算値Ｑｔより大きい場合には、コントロール弁ＣＶの駆動部へ制御信号Ｐｄが出力され、コントロール弁ＣＶがその駆動機構ＣＶａを介して開放方向へ駆動される。即ち、設定流量入力信号Ｑｓと演算流量値Ｑｔとの差（Ｑｓ−Ｑｔ）が零となるまで開弁方向へ駆動される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、制御部ＡＣＱ及び自動調圧器ＡＣＰの制御系が所謂フィードバック制御を採用しておらず、その結果、開閉弁Ｖ１、Ｖ２の開閉作動によって生ずる一次側圧力Ｐ１の変動を自動調圧器ＡＣＰが迅速に調整することが困難となり、流量Ｑ１（又は流量Ｑ２）に変動を生じ易いという問題がある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本願発明は、従前の圧力式流量制御装置を用いたガス分流供給装置に於ける上述の如き問題、即ち（イ）各ガス供給ライン（各分流ライン）に圧力式流量制御装置を設ける場合には、ガス供給装置の小型化、低コスト化が図り難いこと、また（ロ）ガス供給源側に設けた自動調圧器により各オリフィスの１次側圧力Ｐ１を調整し、各オリフィスを通して圧力Ｐ１に比例した各分流ガス流量Ｑ１、Ｑ２を供給する場合には、ガス供給装置の組立製造に手数が掛かって装置の小型、コンパクト化が困難なこと、何れかの分流路の開閉時に
オリフィス１次側圧力Ｐ１に変動が生じて他の分流路の分流量が変動し易いこと、オリフィス１次側圧力Ｐ１と２次側圧力Ｐ２の比Ｐ１／Ｐ２が臨界膨張条件外の値（例えばＯ２やＮ２の場合には約２以下）になると分流流量Ｑ１、Ｑ２の高精度な制御が困難になること等の問題を解決せんとするものであり、構造の簡素化と小型を図ったガス分流供給装置でもって、同じプロセスを行う多数のプロセスチャンバへプロセスガスを経済的にしかも高精度な流量制御を行いつつ分流供給することができると共に、圧力式流量制御装置と熱式流量制御装置とを有機的に一体化することにより、臨界膨張条件を外れた状態下に於いても高精度なガス分流供給ができ、且つ、必要に応じて任意に供給中のプロセスガスの実流量監視を行えるようにした半導体製造装置のガス分流供給装置を提供するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
請求項２の発明は、プロセスガス入口１１に接続した圧力式流量制御部１ａを構成するコントロール弁３と，コントロール弁３の下流側に接続した熱式質量流量制御部１ｂを構成する熱式流量センサ２と，熱式流量センサ２の下流側に連通するガス供給主管８と，ガス供給主管８の下流側に並列状に接続した複数の分岐管路９ａ、９ｎと，各分岐管路９ａ、９ｎに介設した分岐管路開閉弁１０ａ、１０ｎと，前記コントロール弁３の下流側のガス供給主管８に設けたオリフィス６と，前記コントロール弁３とオリフィス６の間のプロセスガス通路近傍に設けた温度センサ４と，前記コントロール弁３とオリフィス６の間のプロセスガス通路に設けた圧力センサ５と，前記分岐管路９ａ、９ｎの出口側に設けた分流ガス出口１１ａ、１１ｎと，前記圧力センサ５からの圧力信号及び温度センサ４からの温度信号が入力され、前記オリフィス６を流通するプロセスガスの総流量Ｑを演算すると共に、演算した流量値と設定流量値との差が減少する方向に前記コントロール弁３を開閉作動させる制御信号Ｐｄを弁駆動部３ａへ出力すると共に、前記分岐管路開閉弁１０ａ、１０ｎへ各分岐管路開閉弁１０ａ、１０ｎを夫々一定時間だけ順次開放した後これを閉鎖する開閉制御信号Ｏｄａ、Ｏｄｎを出力する圧力式流量演算制御部７ａ及び前記熱式流量センサ２からの流量信号２ｃが入力され当該流量信号２ｃからガス供給主管８を流通するプロセスガスの総流量Ｑを演算表示する熱式流量演算制御部７ｂとからなる演算制御部７と，を具備し、前記オリフィス６を流通するプロセスガス流が臨界膨張条件を満たすガス流のときは前記圧力式流量制御部１ａによりプロセスガスの流量制御を、また、プロセスガス流が臨界膨張条件を満たさないガス流のときは前記熱式質量流量制御部１ｂによりプロセスガスの流量制御を行うと共に、前記分岐管路開閉弁１０ａ、１０ｎの開閉によりプロセスガスを分流供給するようにしたことを発明の基本構成とするものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
図３は、本発明に係る半導体製造装置のガス分流供給装置の第２実施形態に係る構成説明図であり、当該ガス分流供給装置１は、圧力式流量制御部１ａと熱式流量制御部１ｂの二つの部分から構成されている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
即ち、当該ガス分流供給装置１は、熱式流量制御部１ｂを形成する熱式流量センサ部２と、圧力式流量制御部１ａを形成するコントロール弁３、温度センサ４、圧力センサ５、オリフィス６と、圧力式流量制御部１ａの演算制御部７ａ及び熱式流量制御部１ｂの演算制御部７ｂを形成する演算制御部７と、ガス供給主管８等から構成されており、オリフィス６を流通するガスが臨界膨張条件下にある場合、例えばＯ２やＮ２ガスであってオリフィス６の上流側圧力Ｐ１と下流側圧力Ｐ２とがＰ１／Ｐ２＞２の関係にある場合には、圧力式流量制御部１ａによって総流量Ｑの流量制御を行いつつ、圧力式流量制御部１ａからの開閉制御信号Ｏｄａ、Ｏｄｎによって各分岐管路開閉弁１０ａ、１０ｎの開閉が、図１のタイムチャートＴＭに示されているように、夫々一定時間だけ順次開放された後閉鎖される。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
また、オリフィス６を流通するガスが臨界膨張条件を外れた状態にある場合には、熱式流量制御部１ｂによってプロセスガス流量Ｑｎの流量制御を行いつつ、各分岐管路開閉弁１０ａ、１０ｎが、上記と同様に図１のタイムチャートＴＭに従って夫々一定時間だけ順次開放された後閉鎖されることにより、流量Ｑａ・Ｑｎの分流ガスが各チャンバＣＨａ、ＣＨｎへ供給されて行く。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
本発明は半導体製造装置のガス分流供給設備としてのみならず、化学品製造装置等のガス分流供給設備にも広く適用できるものである。
【手続補正９】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2013156801.tif 000001
【手続補正１０】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2013156801.tif 000002
【手続補正１１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2013156801.tif 000003