Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成26年3月3日(2014.3.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（Ｇ１）で表される構造を含む有機金属錯体。
【化１】
2011213715.tif 000001
（式中、Ｒ１は、置換基を有していてもよい炭素数１〜９のハロアルキル基を表す。また、Ｒ２は、炭素数１〜６のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数５〜８のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜１２のアリール基のいずれか一を表す。また、Ａｒは、置換基を有していてもよい炭素数６〜１３のアリーレン基を表す。また、Ｍは第９族元素または第１０族元素を表す。）
【請求項２】
一般式（Ｇ２）で表される有機金属錯体。
【化２】
2011213715.tif 000002
（式中、Ｒ１は、置換基を有していてもよい炭素数１〜９のハロアルキル基を表す。また、Ｒ２は、炭素数１〜６のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数５〜８のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜１２のアリール基のいずれか一を表す。また、Ａｒは、置換基を有していてもよい炭素数６〜１３のアリーレン基を表す。また、Ｍは第９族元素または第１０族元素を表す。また、Ｍが第９族元素のときはｎ＝２であり、Ｍが第１０族元素のときはｎ＝１である。また、Ｌは、モノアニオン性の二座配位子を表す。）
【請求項３】
一般式（Ｇ３）で表される構造を含む有機金属錯体。
【化３】
2011213715.tif 000003
（式中、Ｒ１１は、置換基を有していてもよい炭素数１〜９のハロアルキル基を表す。また、Ｒ１２〜Ｒ１６は、各々独立して、水素、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、またはフェニル基を表す。また、Ｒ１７〜Ｒ２０は、各々独立して、水素、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数１〜４のアルキルチオ基、炭素数６〜１２のアリールチオ基、炭素数１〜４のアルキルアミノ基、炭素数６〜２４のモノまたはジアリールアミノ基、シアノ基、ハロゲン基、炭素数１〜４のハロアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基のいずれか一を表す。さらに、Ｒ１７〜Ｒ２０のうち、互いに隣接する置換基同士が直接結合して環状構造を形成してもよい。また、Ｍは第９族元素または第１０族元素を表す。）
【請求項４】
一般式（Ｇ４）で表される有機金属錯体。
【化４】
2011213715.tif 000004
（式中、Ｒ１１は、置換基を有していてもよい炭素数１〜９のハロアルキル基を表す。また、Ｒ１２〜Ｒ１６は、各々独立して、水素、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、またはフェニル基を表す。また、Ｒ１７〜Ｒ２０は、各々独立して、水素、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数１〜４のアルキルチオ基、炭素数６〜１２のアリールチオ基、炭素数１〜４のアルキルアミノ基、炭素数６〜２４のモノまたはジアリールアミノ基、シアノ基、ハロゲン基、炭素数１〜４のハロアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基のいずれか一を表す。さらに、Ｒ１７〜Ｒ２０のうち、互いに隣接する置換基同士が直接結合して環状構造を形成してもよい。また、Ｍは第９族元素または第１０族元素を表す。また、Ｍが第９族元素のときはｎ＝２であり、Ｍが第１０族元素のときはｎ＝１である。また、Ｌは、モノアニオン性の二座配位子を表す。）
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一において、
前記モノアニオン性の二座配位子が、ベータジケトン構造を有するモノアニオン性の二座キレート配位子、カルボキシル基を有するモノアニオン性の二座キレート配位子、フェノール性水酸基を有するモノアニオン性の二座キレート配位子、２つの配位元素がいずれも窒素であるモノアニオン性の二座キレート配位子のいずれか一である有機金属錯体。
【請求項６】
請求項１乃至４のいずれか一において、
前記モノアニオン性の二座配位子は、構造式（Ｌ１）乃至（Ｌ６）のいずれか一で表される配位子である有機金属錯体。
【化５】
2011213715.tif 000005
（式中、Ｒ７１〜Ｒ９０は水素、炭素数１〜４のアルキル基、ハロゲン基、ハロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、または炭素数１〜４のアルキルチオ基のいずれか一を表す。また、Ａ１、Ａ２、Ａ３はＮ（窒素）、またはＣ（炭素）−Ｒを表し、Ｒは水素、炭素数１〜４のアルキル基、ハロゲン基、炭素数１〜４のハロアルキル基、またはフェニル基を表す。）
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一に記載の有機金属錯体を含む層を一対の電極間に有する発光素子。
【請求項８】
請求項７において、
前記有機金属錯体を含む層は発光層である発光素子。
【請求項９】
請求項１乃至６のいずれか一に記載の有機金属錯体を含む第１の発光ユニットと、
前記有機金属錯体よりも長波長の発光を呈する発光材料を含む第２の発光ユニットと、
を一対の電極間に有する発光素子。
【請求項１０】
請求項１乃至６のいずれか一に記載の有機金属錯体を含む第１の発光ユニットと、
前記有機金属錯体よりも長波長の発光を呈する第１の発光材料を含む第２の発光ユニットと、
前記有機金属錯体よりも長波長、かつ前記第１の発光材料よりも短波長の発光を呈する第２の発光材料を含む第３の発光ユニットと、
を一対の電極間に有する発光素子。
【請求項１１】
請求項７乃至１０のいずれか一に記載の発光素子を画素部に有する表示装置。
【請求項１２】
請求項１１に記載の表示装置を表示部に用いた電子機器。
【請求項１３】
請求項７乃至１０のいずれか一に記載の発光素子を光源として用いた照明装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月9日(2014.4.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板上に形成された静電駆動膜と、
前記基板に取り付けられることで前記基板との間にインクキャビティを形成しているノズルプレートと、を備えるインクジェットプリントヘッドであって、
前記ノズルプレート内にシリコン・オン・インシュレータ構造と段付きノズルとが形成されており、
前記シリコン・オン・インシュレータ構造が、第１シリコン層と第２シリコン層との間に配置された二酸化シリコン層を含み、前記第１シリコン層及び前記第２シリコン層の各々の厚さが約１２．５μｍであり、前記ノズルプレートの全体的な厚さが約２５μｍであり、
前記静電駆動膜が、屈曲されることにより、前記インクキャビティ内のインクに圧力をかけ、前記段付きノズルを通じて前記インクを押し出し、
前記段付きノズルが、
インク滴のサイズを調節するよう設定された、約２５μｍの出口直径と、
前記インク滴の前記サイズから独立して前記インク滴の速度を調節するよう設定され、約３５μｍから約５０μｍの範囲内である入口直径と、
傾斜した側壁により形成され、その外側表面が前記入口直径である、第１の部分と、
傾斜した側壁により形成され、その外側表面が前記出口直径であり、前記第１の部分と位置合わせされている、第２の部分と、
を有する、インクジェットプリントヘッド。
【請求項２】
前記プリントヘッドが、インク供給手段からインクの供給を受けるよう構成されている、請求項１に記載のインクジェットプリントヘッド。
【請求項３】
前記プリントヘッドが、少なくとも１つのインク移送チャネルを通じて前記インクの供給を受ける、請求項１に記載のインクジェットプリントヘッド。
【請求項４】
前記インク滴が、前記段付きノズル内で形成される、請求項１に記載のインクジェットプリントヘッド。
【請求項５】
前記第１の部分が、異方性ウェットエッチングによりエッチングされる、請求項１に記載のインクジェットプリントヘッド。
【請求項６】
前記第２の部分が、異方性ウェットエッチングによりエッチングされる、請求項１に記載のインクジェットプリントヘッド。
【手続補正書】
【提出日】平成26年1月22日(2014.1.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
チオール基を有する修飾剤と３官能以上の（メタ）アクリレートモノマーとを付加反応を用いてチオール基とアクリロイル基及び／またはメタクリロイル基とを共有結合させることにより多官能（メタ）アクリレートモノマー変性修飾剤を得る第１ステップと、
該第１ステップにて得られた前記多官能（メタ）アクリレートモノマー変性修飾剤を金属酸化物微粒子に修飾させる第２ステップと、
を有することを特徴とするハードコート用樹脂組成物の製造方法。
【請求項２】
請求項１のハードコート用樹脂組成物の製造方法において、
前記第１ステップにおける前記共有結合は、前記チオール基を有する修飾剤と前記３官能以上の（メタ）アクリレートモノマーとのスルフィド結合であることを特徴とするハードコート用樹脂組成物の製造方法。
【請求項３】
請求項２のハードコート用樹脂組成物の製造方法において、
前記修飾剤は、チオール基を有するシランカップリング剤であることを特徴とするハードコート用樹脂組成物の製造方法。
【請求項４】
請求項３のハードコート用樹脂組成物の製造方法において、
前記第２ステップ後に２官能以下の（メタ）アクリレートモノマー，及び／またはフッ素樹脂を添加する第３ステップを有することを特徴とするハードコート用樹脂組成物の製造方法。
【請求項５】
有機−無機ハイブリッドのハードコート用樹脂組成物において、
ハイブリッド材料として、チオール基を有するシランカップリング剤の前記チオール基と３官能以上の（メタ）アクリレートモノマーのアクリロイル基及び／またはメタクリロイル基とがスルフィド結合してなる多官能（メタ）アクリレートモノマー変性修飾剤にて修飾された金属酸化物微粒子を有することを特徴とするハードコート用樹脂組成物。
【請求項６】
請求項５のハードコート用樹脂組成物において、
さらに２官能以下の（メタ）アクリレートモノマー、及び／またはフッ素樹脂を含むことを特徴とするハードコート用樹脂組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月2日(2014.10.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
抽出溶媒または希釈剤としての１，３−プロパンジオールと抽出物を含有する組成物であって、
１，３−プロパンジオールは生物学的に誘導され、少なくとも８５％の生物由来炭素含有量を有し、
抽出物が、天然の抽出物ソースから抽出されたものであり、
組成物が石油由来グリコールを含む組成物より環境への影響が少ない、
前記組成物。
【請求項２】
１，３−プロパンジオールは少なくとも９５％の生物由来炭素を有する請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
１，３−プロパンジオールは１００％生物由来炭素を有する請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
天然の抽出物ソースが、植物、野菜、海洋性ソース、藻類、菌類、プランクトン、魚、動物または牛乳から選択される請求項１〜３のいずれかに記載の組成物。
【請求項５】
抽出物が、エッセンシャルオイル、ハーバル抽出物、植物抽出物、野菜抽出物、海洋性抽出物、藻類抽出物、菌類抽出物、プランクトン抽出物、魚抽出物、たんぱく質抽出物、脂質抽出物、動物抽出物および牛乳抽出物からなる群より選択される請求項１〜４のいずれかに記載の組成物。
【請求項６】
１，３−プロパンジオールが、４００ｐｐｍ未満の全有機不純物濃度を有し、１０ｐｐｍ未満の過酸化物濃度を有し、１０ｐｐｍ未満のカルボニル基濃度を有し、２２０ｎｍにおいて０．２００未満、２５０ｎｍにおいて０．０７５未満、２７５ｎｍにおいて０．０７５未満の紫外線吸収を有する請求項１〜５のいずれかに記載の組成物。
【請求項７】
１，３−プロパンジオールが、発酵によって生物学的に製造される請求項１〜６のいずれかに記載の組成物。
【請求項８】
１，３−プロパンジオールが３００ｐｐｍ未満の全有機不純物濃度を有する、請求項１〜７のいずれかに記載の組成物。
【請求項９】
１，３−プロパンジオールが１５０ｐｐｍ未満の全有機不純物濃度を有する、請求項１〜８のいずれかに記載の組成物。
【請求項１０】
１，３−プロパンジオールが０．１５未満の「ｂ」色値を有し、２７５ｎｍにおいて０．０７５未満の吸光度を有する、請求項１〜９のいずれかに記載の組成物。
【請求項１１】
パーソナルケア製品または化粧品である、請求項１〜１０のいずれかに記載の組成物。
【請求項１２】
（ａ）１，３−プロパンジオールを提供し；
（ｂ）１，３−プロパンジオールと天然の抽出物ソースを混合し、抽出物ソースから１，３−プロパンジオールへと抽出物を抽出し；
（ｃ）１，３−プロパンジオールによる抽出物から抽出物ソースを分離する
ことを含む、天然の抽出物ソースから抽出物を抽出する方法であって、
１，３−プロパンジオールが、生物学的に誘導され、少なくとも８５％の生物由来炭素含有量を有する、前記方法。
【請求項１３】
１，３−プロパンジオールは少なくとも９５％の生物由来炭素を有する請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
抽出物はエッセンシャルオイルである請求項１２または１３に記載の方法。
【請求項１５】
抽出物はハーバル抽出物である請求項１２または１３に記載の方法。
【請求項１６】
天然の抽出物ソースが、植物、野菜、海洋性ソース、藻類、菌類、プランクトン、魚、動物または牛乳から選択される請求項１２〜１５のいずれかに記載の方法。
【請求項１７】
抽出物は、エッセンシャルオイル、ハーバル抽出物、植物抽出物、野菜抽出物、たんぱく質抽出物、海洋性抽出物、藻類抽出物、菌類抽出物、プランクトン抽出物、魚抽出物、脂質抽出物、動物抽出物および牛乳抽出物からなる群から選択される請求項１２または１３に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月15日(2014.4.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
組み合わせであって、有効量のニューレギュリンタンパク質もしくはその機能的フラグメント、またはニューレギュリンタンパク質もしくはその機能的フラグメントをコードする核酸、または該ニューレギュリンの産生および／もしくは機能を増強する薬剤、ならびにウイルス性心筋炎もしくは拡張型（うっ血性）心筋症（ＤＣＭ）のための有効量の予防剤もしくは治療剤を含む、組み合わせ。
【請求項２】
哺乳動物におけるウイルス性心筋炎または拡張型（うっ血性）心筋症（ＤＣＭ）を予防、処置、または遅延するための組成物であって、有効量のニューレギュリンタンパク質もしくはその機能的フラグメント、またはニューレギュリンタンパク質もしくはその機能的フラグメントをコードする核酸、または該ニューレギュリンの産生および／もしくは機能を増強する薬剤を含み、それによって、該ウイルス性心筋炎またはＤＣＭが予防、処置、または遅延される、組成物。
【請求項３】
その予防、処置、または遅延が必要とされるかまたは望ましい哺乳動物における心臓毒性を予防、処置、または遅延するためのキットであって、有効量の予防剤または治療剤、および有効量の（ｉ）ニューレギュリンタンパク質もしくはその機能的フラグメント；（ｉｉ）ニューレギュリンタンパク質もしくはその機能的フラグメントをコードする核酸；または（ｉｉｉ）該ニューレギュリンの産生もしくは機能を増強する薬剤を含み、それによって、該予防剤または治療剤の投与に伴う心臓毒性が予防、処置、または遅延される、キット。
【請求項４】
組み合わせであって、有効量のニューレギュリンタンパク質もしくはその機能的フラグメント、またはニューレギュリンタンパク質もしくはその機能的フラグメントをコードする核酸、または該ニューレギュリンの産生および／もしくは機能を増強する薬剤、ならびに心筋梗塞のための有効量の予防剤もしくは治療剤を含む、組み合わせ。
【請求項５】
哺乳動物における心筋梗塞を予防、処置、または遅延するための組成物であって、有効量のニューレギュリンタンパク質もしくはその機能的フラグメント、またはニューレギュリンタンパク質もしくはその機能的フラグメントをコードする核酸、または該ニューレギュリンの産生および／もしくは機能を増強する薬剤を含み、それによって、該心筋梗塞が予防、処置、または遅延される、組成物。
【請求項６】
哺乳動物における疾患を予防、処置、または遅延するための薬学的組成物であって、ニューレギュリンタンパク質またはその機能的フラグメントを：
（ａ）約１７０Ｕ／ｋｇ以下の安全用量で；または
（ｂ）約３，６００Ｕ／ｋｇ以下の総レジメンで、
含む、薬学的組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成26年8月14日(2014.8.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
膣腔、子宮頸部または子宮の内層のウイルス感染の治療のための動物に対する光線力学的療法（ＰＤＴ）に用いる組成物の製造における、５−アミノレブリン酸（５−ＡＬＡ）ヘキシルエステルまたはその薬剤として使用し得る塩の使用であって、該ＰＤＴは（ａ）、（ｂ）を含み：（ａ）該組成物を該動物に投与すること；および
（ｂ）該５−ＡＬＡヘキシルエステルを光活性化すること、
（ｉ）と（ｉｉｉ）とを組み合わせて用いることによって、該ＰＤＴによる副作用を抑えるかあるいは少なくする：
（ｉ）該組成物が、０．５〜６重量％の濃度で該５−ＡＬＡヘキシルエステルを含むこと、
（ｉｉｉ）該光活性化が、発光ダイオード（ＬＥＤ）からなり、フルエンス率が５〜４０ｍＷ／ｃｍ2の光源を用いて行われることを特徴とする使用。
【請求項２】
上記ＰＤＴによる副作用が、痛みおよび／または紅斑である請求項１に記載の使用。
【請求項３】
上記組成物が５−ＡＬＡヘキシルエステルの塩酸塩を含む、請求項１または２に記載の使用。
【請求項４】
上記光活性化が４００〜７００ｎｍの波長範囲の光で行われる請求項１〜３のいずれか一項に記載の使用。
【請求項５】
上記ＰＤＴが４０〜２００Ｊ／ｃｍ2の光線量で行われる請求項１〜４のいずれかに記載の使用。
【請求項６】
上記ＰＤＴが１００Ｊ／ｃｍ2の光線量で行われる請求項５に記載の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月22日(2014.10.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
超音波照射の存在下で少なくとも1種の活性成分の結晶粒子を調製するための方法であって、該方法は、フィードチャンバー、超音波フローセルチャンバー及びポンプを含む閉フローループを使用し、該方法は、該超音波フローセルチャンバー内で第一の流れにおける少なくとも1種の溶質の溶媒溶液と該フィードチャンバーからポンプにより供給された第二の流れにおける反溶媒とを該反溶媒:溶媒の流速比を20:1より高く接触させてそれらを混合させる工程であって、該超音波フローセルチャンバー内の混合物は超音波照射され、該超音波照射により核生成及び引き続いて少なくとも1種の溶質の結晶化が誘導され、該混合物は該超音波フローセルから該フィードチャンバーに流れ、連続的な閉フローループを完成する工程、第２の流れが該閉フローループを再循環される工程、
及び生成した結晶を回収する工程を含む、方法。
【請求項２】
前記溶質が少なくとも1種の活性成分又はその前駆体を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記溶質が2種の活性成分の混合物を含む、請求項１又は請求項２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項４】
前記活性成分がプロピオン酸フルチカゾンである、請求項２記載の方法。
【請求項５】
前記活性成分が抗アレルギー剤、気管支拡張剤及び抗炎症性ステロイドから選択される、請求項２又は３記載の方法。
【請求項６】
液体である前記反溶媒が液体である前記溶媒と混和性である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
液体である前記反溶媒及び溶媒が同一のものであり、該反溶媒が該溶媒と異なる温度で保持される、請求項６記載の方法。
【請求項８】
液体である前記反溶媒及び溶媒の温度が-10℃〜+120℃であり、該溶媒及び反溶媒の温度が少なくとも50℃の温度差で分けられる、請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
前記溶質が吸入治療に好適な活性成分又はキャリア物質である、請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年8月6日(2014.8.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
天然血管による応答と実質的に同様の応力および歪に対する機械的応答を有する組織工学足場であって、前記足場は、（ａ）外側表面、および内側管腔表面を備える第１の弾性管状エレメントと；（ｂ）外側表面、および前記第１の弾性管状エレメントの前記外側表面に接触した内側管腔表面を備える第２の引っ張り波形管状エレメントとを備え、応力および歪に対する前記組織工学足場の機械的応答がＪ字型応力／歪曲線を特徴とする組織工学足場。
【請求項２】
天然血管による応答と実質的に同様の応力および歪に対する機械的応答を有する組織工学足場であって、前記足場は、（ａ）外側表面、および内側管腔表面を備える第１の弾性管状エレメントと；（ｂ）外側表面、および前記第１の弾性管状エレメントの前記外側表面に接触した内側管腔表面を備える第２の引っ張り波形管状エレメントとを備え、ここで、前記組織工学足場は、Ｊ字型応力／歪曲線を特徴とし、かつ
（ｉ）０．１ＭＰａ〜０．５ＭＰａの円周方向管弾性率１
（ｉｉ）３．０ＭＰａ〜６．０ＭＰａの円周方向管弾性率２；および
（ｉｉｉ）０．５７から１．１２の円周方向弾性率移行部
のうちの少なくとも１つを有する組織工学足場。
【請求項３】
前記第２の引っ張り波形管状エレメントが、繊維ネットワークを含み、前記繊維の方向が円周方向に配向している、請求項２に記載の組織工学足場。
【請求項４】
前記弾性エレメントが、第１の弾性率を有する弾性成分を含み、前記引っ張りエレメントが、前記第１の弾性率より大きい第２の弾性率を有する引っ張り成分を含む、請求項１または２に記載の組織工学足場。
【請求項５】
前記第２の弾性率が、前記第１の弾性率より少なくとも１桁大きい、請求項４に記載の組織工学足場。
【請求項６】
前記弾性エレメントが、天然弾性成分を含む、請求項１または２に記載の組織工学足場。
【請求項７】
前記弾性エレメントが、合成弾性成分を含む、請求項１または２に記載の組織工学足場。
【請求項８】
前記弾性エレメントが、天然弾性成分および合成弾性成分を含む、請求項１または２に記載の組織工学足場。
【請求項９】
前記天然弾性成分が、エラスチン、レシリン、アブダクチン、および絹からなる群から選択される、請求項６または８に記載の組織工学足場。
【請求項１０】
前記合成弾性成分が、ラテックス、ポリウレタン（ＰＵ）、ポリカプロラクトン（ＰＣＬ）、ポリ−Ｌ−ラクチド酸（ＰＬＬＡ）、ポリジアキサノン（ＰＤＯ）、ポリ（Ｌ−ラクチド−コ−カプロラクトン）（ＰＬＣＬ）、およびポリ（エーテルウレタン尿素）（ＰＥＵＵ）からなる群から選択される、請求項７または８に記載の組織工学足場。
【請求項１１】
前記引っ張りエレメントが、天然引っ張り成分を含む、請求項１または２に記載の組織工学足場。
【請求項１２】
前記引っ張りエレメントが、合成引っ張り成分を含む、請求項１または２に記載の組織工学足場。
【請求項１３】
前記引っ張りエレメントが、天然引っ張り成分および合成引っ張り成分を含む、請求項１または２に記載の組織工学足場。
【請求項１４】
前記天然引っ張り成分が、コラーゲン、セルロース、絹、およびケラチンからなる群から選択される、請求項１１または１３に記載の組織工学足場。
【請求項１５】
前記合成引っ張り成分が、ナイロン、Ｄａｃｒｏｎ（登録商標）（ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ））、Ｇｏｒｅｔｅｘ（登録商標）（ポリテトラフルオロエチレン）、ポリエステル、ポリグリコール酸（ＰＧＡ）、ポリ−乳酸−コ−グリコール酸（ＰＬＧＡ）、およびポリ（エーテルウレタン尿素）（ＰＥＵＵ）からなる群から選択される、請求項１２または１３に記載の組織工学足場。
【請求項１６】
以下、すなわち
（ｉ）孔径が、前記第２の管状エレメントの前記外側表面での１００ミクロンから、前記第１の管状エレメントの前記内側表面での５〜１５ミクロンに徐々に減少する孔勾配；
（ｉｉ）０．４５ＭＪ／ｍ３〜１．０ＭＪ／ｍ３の円周方向管靭性；
（ｉｉｉ）０．１ＭＪ／ｍ３〜０．５ＭＪ／ｍ３の軸方向管靭性；
（ｉｖ）０．０５〜０．３のタンジェントδ；および
（ｖ）４００ＭＰａ〜０．１２ＭＰａの貯蔵弾性率
のうちの少なくとも１つを有する、請求項１または２に記載の組織工学足場。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月28日(2014.10.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
図７に示すように、トイレットペーパー１２が取り付けられた拭き取りアーム３は、くり抜き部６，６ａから露出する際、閉手段１０を押し上げるようにして、露出する。拭き取りアーム駆動部２は、拭き取りが終わると、トイレットペーパー１２を便器内に落とし、拭き取りアーム３を元の位置に戻すように動作する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
拭き取りアーム３の動作方法に関係なく、くり抜き部６，６ａを閉じる閉手段１０を設ければ、水分等がくり抜き部６，６ａや本体等に侵入して故障や汚れ、不衛生の原因となることを防止することができる。閉手段１０の構造は、上記の例に限定されるものではなく、電気モータ等で開閉する仕組みを有していてもよいし、上下にスライドして開閉する構造であってもよく、また、左右にスライドして開閉する構造であってもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成26年2月20日(2014.2.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
二次元配列された小型像拡大素子(MMM)を有する光学器具であり、
個々の前記小型像拡大素子は透明体材料からなる透明体によって構成され、
前記透明体は、
前記透明体に光が入射する側には前記透明体の内部に向かって凸面鏡が配置され、
前記凸面鏡の焦点は前記透明体から離れる方向に位置し、前記凸面鏡は前記透明体に光が入射する側において、光入射領域以外の領域内に位置しており、
前記透明体の光入射側とは対向する側にある、前記透明体から光が出射する側には前記透明体の内部に向かって凹面鏡が配置され、前記凹面鏡の焦点は前記透明体を通り越えた方向に位置し、前記凹面鏡は中央部付近に開口部を有し、
別々の前記小型像拡大素子によって形成される物体の拡大像が、その位置、高さ、寸法において等しくなるように、個々の前記小型像拡大素子の前記透明体の前記凸面鏡および前記凹面鏡が配置される、
ことを特徴とする光学器具。
【請求項２】
請求項１の光学器具において、
隣接するいずれの前記小型像拡大素子の対に対しても、その小型像拡大素子対が有する前記凹面鏡の開口部の間の最短距離が 15 mm よりも短い
ことを特徴とする光学器具。
【請求項３】
請求項１の光学器具において、
二次元配列された小型像拡大素子に加えて、二次元配列された小型光束増倍素子(MBM)を含み、個々の前記小型光束増倍素子はそれぞれ対応する前記小型像拡大素子の近傍に位置するとともに、前記小型光束増倍素子の各々は少なくとも１個の光束分割部からなり、光入射用の１本の光路を光出射用の２本またはそれ以上の本数の光路に変換することを特徴とする光学器具。
【請求項４】
請求項１の光学器具において、
二次元配列された小型像拡大素子に加えて、二次元配列された光線角度補償素子(RAA)を含み、個々の前記光線角度補償素子はそれぞれ対応する前記小型像拡大素子の近傍に位置するとともに、前記光線角度補償素子の各々は少なくとも１対の鏡面、または１個か複数の透明な光学的楔機能素子からなり、光路の進行方向角度を調節する
ことを特徴とする光学器具。
【請求項５】
請求項１の光学器具において、
前記小型像拡大素子は前記凸面鏡の周囲に沿って第一の領域を有し、前記第一の領域は前記小型像拡大素子の内部に向かって黒色または光吸収性がある
ことを特徴とする光学器具。
【請求項６】
請求項１の光学器具において、
前記小型像拡大素子は前記凸面鏡の中央付近に第二の領域を有し、前記第二の領域は前記小型像拡大素子の内部に向かって黒色または光吸収性がある
ことを特徴とする光学器具。
【請求項７】
請求項１の光学器具において、
前記凹面鏡部分の領域で、前記小型像拡大素子の外部に向かった表面が黒色または光吸収性がある
ことを特徴とする光学器具。
【請求項８】
請求項１の光学器具において、
前記凸面鏡は前記凹面鏡に比較して、小さい径と短い焦点距離を有する
ことを特徴とする光学器具。
【請求項９】
請求項１の光学器具において、
前記凹面鏡および前記凸面鏡の形状が放物面である
ことを特徴とする光学器具。
【請求項１０】
請求項１の光学器具において、
前記凹面鏡と前記凸面鏡が共通の軸を有する
ことを特徴とする光学器具。
【請求項１１】
請求項１の光学器具において、
前記凹面鏡と前記凸面鏡の焦点が実質的に同位置にある
ことを特徴とする光学器具。
【請求項１２】
請求項１の光学器具において、
１個またはそれ以上の個数のルーバーフィルターを含み、それらは二次元配列された前記小型像拡大素子の少なくとも一方の側に配置される
ことを特徴とする光学器具。
【請求項１３】
請求項１の光学器具において、
光学器具を連続的に移動する機構を含み、その機構は、光学器具を横方向、縦方向の両方向に対して、１秒当り前記小型像拡大素子の寸法の３倍よりも速く移動する
ことを特徴とする光学器具。
【請求項１４】
請求項３の光学器具において、
個々の前記小型光束増倍素子は相互に平行な２枚、またはそれ以上の枚数の、部分反射または完全反射の鏡面を含む
ことを特徴とする光学器具。
【請求項１５】
請求項４の光学器具において、
個々の前記光学的楔機能素子は、光学器具の中心軸上に位置する光学的楔機能素子を除き光入射面と光出射面が非平行な透明体からなり、前記光入射面または前記光出射面への法線が光学器具の中心軸に近づく方向または中心軸から離れる方向に傾く
ことを特徴とする光学器具。
【請求項１６】
請求項４の光学器具において、
前記光線角度補償素子は少なくとも前記小型像拡大素子の一方の側に配置され、物体から目に向かうための光路のうち前記小型像拡大素子の各々の内部で当該小型像拡大素子の軸に沿って通過する光路が、前記光線角度補償素子による変換を経て光学器具の出射光路となり、その出射光路の延長が光学器具から 50 cm よりも近い位置にある一点、またはその一点から 1 cm 以内を通過する
ことを特徴とする光学器具。
【請求項１７】
請求項４の光学器具において、
光学器具を通過した後の光路の、光学器具の中心軸に対する角度が、光学器具を通過する前の光路の、光学器具の中心軸に対する角度に比較して、前記小型像拡大素子の像拡大倍率または像拡大倍率から 20% 以内の数値に相当する倍率だけ増大される
ことを特徴とする光学器具。
【請求項１８】
請求項４の光学器具において、
前記小型像拡大素子の光出射側に配置された前記光線角度補償素子によって生じる、光波長による光路の角度分散が、当該光線角度補償素子以外の、光路に沿って配置された前記小型像拡大素子を含む全ての部品によって生じる、光波長による光路の角度分散の累積を打消す
ことを特徴とする光学器具。
【請求項１９】
請求項４の光学器具において、
光学器具の面内で横方向の位置と、光学器具の面内で縦方向の位置と、光学器具の面内にある横方向の軸の回りの回転と、光学器具の面内にある縦方向の軸の回りの回転のうちの１個またはそれ以上の個数の調節機構を含む
ことを特徴とする光学器具。
【請求項２０】
請求項４の光学器具において、
２個の光学器具をその中心軸が相互に平行となるよう配置する
ことを特徴とする光学器具。
【手続補正書】
【提出日】平成26年1月21日(2014.1.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カチオン重合可能な化合物と、
アニオン部とカチオン部とを有する、少なくとも一つの光酸発生剤と、
４級アンモニウム構造と４級ホスホニウム構造とのうちのいずれかを有するカチオン部と、アニオン部と、を有する塩と、を含み、
前記塩のアニオン部は、前記光酸発生剤のアニオン部由来の第１の酸中の前記アニオン部と入れ替わって前記第１の酸の酸強度より酸強度が小さい第２の酸を形成することが可能である感光性樹脂組成物。
【請求項２】
前記塩により形成される前記第２の酸は、フッ素原子を含有するアンチモン酸類、フッ素原子を含有するリン酸類、フッ素原子を含有するホウ酸類、スルホン酸類、及びカルボン酸類の少なくとも１つである請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項３】
前記塩のモル数は、前記光酸発生剤の中で最も酸強度の強い酸を発生する光酸発生剤のモル数の０．２５倍よりも多い請求項１又は２に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項４】
前記塩のモル数は、前記光酸発生剤の中で最も酸強度の強い酸を発生する光酸発生剤のモル数の０．５倍よりも多い請求項１又は２に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項５】
前記塩のモル数は、前記光酸発生剤の中で最も酸強度の強い酸を発生する光酸発生剤のモル数の等倍よりも多い請求項１又は２に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項６】
更に、アミン化合物を含有する請求項１乃至５のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。
【請求項７】
前記カチオン重合可能な化合物がエポキシ樹脂である請求項１乃至６のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。
【請求項８】
前記第２の酸は、フッ素原子を含有するアンチモン酸類、フッ素原子を含有するリン酸類、又はフッ素原子を含有するホウ酸類である請求項１乃至７のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。
【請求項９】
カチオン重合可能な化合物と；アニオン部とカチオン部とを有する、少なくとも一つの光酸発生剤と；４級アンモニウム構造と４級ホスホニウム構造とのうちのいずれかを有するカチオン部と、アニオン部と、を有する塩と；を含む感光性樹脂組成物が設けられた基板を用意する工程と、
ここで、前記塩のアニオン部は、前記光酸発生剤のアニオン部由来の第１の酸中の前記アニオン部と入れ替わって前記第１の酸の酸強度より酸強度が小さい第２の酸を形成することが可能であり、
前記ネガ型感光性樹脂組成物を部分的に露光し、露光部を硬化させる工程と、
前記硬化によって得られた硬化部を加熱する工程と、
を含むパターン形成方法。
【請求項１０】
前記塩により形成される前記第２の酸は、フッ素原子を含有するアンチモン酸類、フッ素原子を含有するリン酸類、フッ素原子を含有するホウ酸類、スルホン酸類、及びカルボン酸類の少なくとも１つである請求項９に記載のパターン形成方法。
【請求項１１】
前記塩のモル数は、前記光酸発生剤の中で最も酸強度の強い酸を発生する光酸発生剤のモル数の０．２５倍よりも多い請求項９又は１０に記載のパターン形成方法。
【請求項１２】
前記カチオン重合可能な化合物がエポキシ樹脂である請求項９乃至１１のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項１３】
液体を吐出するための吐出口が設けられた吐出口部材を備える液体吐出ヘッドであって、
前記吐出口部材は、カチオン重合可能な化合物；アニオン部とカチオン部とを有する光酸発生剤；４級アンモニウム構造と４級ホスホニウム構造とのうちのいずれかを有するカチオン部と、アニオン部と、を有する塩、ここで、前記塩のアニオン部は、前記光酸発生剤のアニオン部由来の第１の酸中の前記アニオン部と入れ替わって前記第１の酸の酸強度より酸強度が小さい第２の酸を形成することが可能である；を含む樹脂組成物の硬化物からなる液体吐出ヘッド。
【請求項１４】
前記塩により形成される前記第２の酸は、フッ素原子を含有するアンチモン酸類、フッ素原子を含有するリン酸類、フッ素原子を含有するホウ酸類、スルホン酸類、及びカルボン酸類の少なくとも１つである請求項１３に記載の液体吐出ヘッド。
【請求項１５】
前記塩のモル数は、前記光酸発生剤の中で最も酸強度の強い酸を発生する光酸発生剤のモル数の０．２５倍よりも多い請求項１３又は１４に記載の液体吐出ヘッド。
【請求項１６】
前記カチオン重合可能な化合物がエポキシ樹脂である請求項１３乃至１５のいずれかに記載の液体吐出ヘッド。
【手続補正書】
【提出日】平成26年2月4日(2014.2.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シフトレジスタを有し、
前記シフトレジスタは、第１及び第２のトランジスタと、を有し、
前記第１のトランジスタのソース又はドレインの一方には、第１のクロック信号が入力され、
前記第２のトランジスタのソース又はドレインの一方には、第２のクロック信号又は第１の電圧が選択的に入力され、
前記第２のトランジスタのゲートは、前記第１のトランジスタのゲートと電気的に接続されることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
前記第２のトランジスタのチャネル幅は、前記第１のトランジスタのチャネル幅よりも大きいことを特徴とする請求項１に記載の半導体装置。
【請求項３】
前記第２のクロック信号又は前記第１の電圧を伝達する配線の配線幅は、前記第１のクロック信号を伝達する配線の配線幅よりも大きいことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の半導体装置。
【請求項４】
シフトレジスタを有し、
前記シフトレジスタは、第１及び第２の回路を有し、
前記第１の回路は、第１及び第２のトランジスタを有し、
前記第２の回路は、第３乃至第５のトランジスタを有し、
前記第１のトランジスタのソース又はドレインの一方には、第１のクロック信号が入力され、
前記第２のトランジスタのソース又はドレインの一方には、第２のクロック信号又は第１の電圧が選択的に入力され、
前記第２のトランジスタのゲートは、前記第１のトランジスタのゲートと電気的に接続され
前記第３のトランジスタのソース又はドレインの一方には、第３のクロック信号が入力され、
前記第４のトランジスタのソース又はドレインの一方には、第４のクロック信号又は第２の電圧が選択的に入力され、
前記第４のトランジスタのゲートは、前記第３のトランジスタのゲートと電気的に接続され、
前記第５のトランジスタのソース又はドレインの一方は、前記第３のトランジスタのゲートと電気的に接続され、
前記第５のトランジスタのゲートは、前記第１のトランジスタのソース又はドレインの他方と電気的に接続されることを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
前記第１の回路は、第６のトランジスタを有し、
前記第６のトランジスタのソース又はドレインの一方には、第３の電圧が入力され、
前記第６のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第１のトランジスタのゲートと電気的に接続され、
前記第６のトランジスタのゲートは、前記第３のトランジスタのソース又はドレインの他方と電気的に接続されることを特徴とする請求項４に記載の半導体装置。
【請求項６】
前記第２のトランジスタのチャネル幅は、前記第１のトランジスタのチャネル幅よりも大きいことを特徴とする請求項４又は請求項５に記載の半導体装置。
【請求項７】
前記第２のクロック信号又は前記第１の電圧を伝達する配線の配線幅は、前記第１のクロック信号を伝達する配線の配線幅よりも大きいことを特徴とする請求項４乃至請求項６のいずれか一項に記載の半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年2月3日(2014.2.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸により重合可能な化合物と、光酸発生剤と、分子内に縮合環もしくは２つ以上のベンゼン環を含有する化合物と、を含有する感光性樹脂組成物であって、
前記光酸発生剤が、下記（ｂ１）で表されるカチオン部構造及び下記（ｂ２）で表されるアニオン部構造を含有するオニウム塩を含み、かつ前記光酸発生剤が、前記感光性樹脂組成物が吸収する波長３６５ｎｍの光のうち５０％以上を吸収し、
【化１】
2011180586.tif 000001
［Ｒ1乃至Ｒ3は、それぞれ独立して炭素数１以上３０以下の有機基を表す。ただし、上記（ｂ１）で表されるカチオン部構造は、酸素原子を２つ以上含有し、かつ、チオキサントン骨格、９，１０−ジアルコキシアントラセン骨格、およびアントラキノン骨格から選ばれる少なくとも１つの骨格を有する。Ｘは、炭素原子、窒素原子、リン原子、ホウ素原子及びアンチモン原子から選ばれる。Ｙは、−Ｓ（＝Ｏ）2−、−ＣＦ2−Ｏ−、−ＣＦ2−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＦ2−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＣＦ2−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−及び単結合から選ばれる。Ｒ4は、フッ素原子で置換されていてもよい炭素数１以上３０以下の炭化水素基を表し、Ｙが−Ｓ（＝Ｏ）2−又は単結合の場合、少なくとも１つのフッ素原子を有する。Ｘが炭素原子の場合、ｍ及びｎは、ｍ＋ｎ＝３且つｎ＝０乃至２を満たす整数である。Ｘが窒素原子の場合、ｍ及びｎは、ｍ＋ｎ＝２且つｎ＝０乃至１を満たす整数である。Ｘがリン原子又はアンチモン原子の場合、ｍ及びｎは、ｍ＋ｎ＝６且つｎ＝０乃至６を満たす整数である。Ｘがホウ素原子の場合、ｍ及びｎは、ｍ＋ｎ＝４且つｎ＝０乃至３を満たす整数である。］
前記分子内に縮合環もしくは２つ以上のベンゼン環を含有する化合物が、以下のいずれかの置換基
【化２】
2011180586.tif 000002
を有する、ビフェニル化合物、ナフタレン化合物及びアントラセン化合物の少なくとも１種である
ことを特徴とする感光性樹脂組成物。
【請求項２】
前記（ｂ２）中のＸがリン原子である請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項３】
前記光酸発生剤は、前記（ｂ１）で表されるカチオン部構造が少なくとも２つのチオキサントン骨格を含有し、かつ前記（ｂ２）中のＹが単結合、Ｒ4がＣＦ3またはＣ2Ｆ5、及びｍが３以上である請求項１または２に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項４】
露光後、前記光酸発生剤から発生した酸を失活させることができる化合物、を含有する請求項１乃至３のいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項５】
前記分子内に縮合環もしくは２つ以上のベンゼン環を含有する化合物が、
（Ａ）２つのフェニル基のそれぞれが以下の置換基を一つ有するビフェニル、
【化３】
2011180586.tif 000003
及び
（Ｂ）以下の置換基により一置換または二置換されたナフタレンまたはアントラセン、
【化４】
2011180586.tif 000004
から選択される少なくとも１種である請求項１乃至４のいずれか１項記載の感光性樹脂組成物。
【請求項６】
前記分子内に縮合環もしくは２つ以上のベンゼン環を含有する化合物が、下記のいずれかの構造の化合物の少なくとも１種である請求項１乃至５のいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物。
【化５】
2011180586.tif 000005
【請求項７】
基板上に形成される微細構造体の製造方法であって、
請求項１乃至６のいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物を前記基板上に成膜する工程と、
該感光性樹脂組成物をフォトリソグラフィーによりパターニングする工程と、
該パターニング後の感光性樹脂組成物を、１４０℃以上の温度で加熱処理する工程と
を有することを特徴とする微細構造体の製造方法。
【請求項８】
請求項１乃至６のいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物の層に吐出口が形成されていることを特徴とする液体吐出装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記目的を達成する本発明は、（ａ）酸により重合可能な化合物と、（ｂ）光酸発生剤と、（ｄ）分子内に縮合環もしくは２つ以上のベンゼン環を含有する化合物と、を含有する感光性樹脂組成物である。
（ｂ）成分としての光酸発生剤は、下記（ｂ１）で表されるカチオン部構造及び下記（ｂ２）で表されるアニオン部構造を含有するオニウム塩を含み、かつ感光性樹脂組成物が吸収する波長３６５ｎｍの光のうち５０％以上が光酸発生剤により吸収される。
（ｄ）成分としての分子内に縮合環もしくは２つ以上のベンゼン環を含有する化合物として、以下の式（Ｉ）及び式（ＩＩ）のいずれかの置換基を有する、ビフェニル化合物、ナフタレン化合物、アントラセン化合物の少なくとも１種が用いられる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【化１】
2011180586.tif 000006
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、本発明は、上記の感光性樹脂組成物の層に吐出口が形成されている液体吐出装置である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
【図１】実施例でモデルパターンを形成する際に用いたマスクを示す図である。
【図２】インクジェット記録ヘッドの構造の一例を示す図である。
【図３】図２の基板上にエネルギー発生素子が所定のピッチで複数個配置されていることを示す図である。
【図４】図２及び図３のＡ−Ｂ断面に相当する部分の断面図によってインクジェット記録ヘッドの製造工程を示す図である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
＜実施例１〜９、比較例１〜４＞
表１に記載の配合（単位は質量部）に従って、（ａ）成分としての多官能エポキシ樹脂と、（ｂ）成分としての光酸発生剤と、溶剤と、（ｄ）成分と、必要に応じて（ｃ）成分を配合した感光性樹脂組成物を得た。なお、実施例９は参考例である。また、溶剤としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート／プロピレンカーボネート＝２５／１の質量比率の混合溶剤を用い、その配合量は、（ａ）成分１００質量部に対して８０質量部とした。
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月3日(2014.9.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＩｎとＬａとＺｎとを有する結晶を含む酸化物半導体膜。
【請求項２】
酸化インジウム層、酸化ランタン層及び酸化亜鉛層が層状に配列した結晶構造を有する酸化物半導体膜。
【請求項３】
請求項２において、
前記酸化ランタン層は、ランタン原子が酸素原子を６配位した構造を有し、
前記酸化インジウム層は、インジウム原子が酸素原子を５配位した構造を有する酸化物半導体膜。
【請求項４】
酸化物半導体膜、ゲート絶縁膜、ソース電極、ドレイン電極、及びゲート電極を有し、
前記酸化物半導体膜は、ＩｎとＬａとＺｎとを有する結晶を含む半導体装置。
【請求項５】
酸化物半導体膜、ゲート絶縁膜、ソース電極、ドレイン電極、及びゲート電極を有し、
前記酸化物半導体膜は、酸化インジウム層、酸化ランタン層及び酸化亜鉛層が層状に配列した結晶構造を有する半導体装置。
【請求項６】
請求項５において、
前記酸化ランタン層は、ランタン原子が酸素原子を６配位した構造を有し、
前記酸化インジウム層は、インジウム原子を酸素原子が５配位した構造を有する半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月7日(2014.10.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画素が長さＷのピッチで配された画素領域において、前記複数の画素のいずれかに対応して設けられた、第１方向および前記第１方向に直交する第２方向において表面が曲率を有するマイクロレンズと、
前記画素領域の周辺領域に設けられ、前記マイクロレンズの形状と相関がある、モニタ用構造体と、を有し、
前記モニタ用構造体の前記第２方向に垂直な断面の形状が、前記第２方向における前記長さＷ以上の長さｄに渡って、同一であることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
前記モニタ用構造体は、前記マイクロレンズと同じ材料からなる請求項１に記載の半導体装置。
【請求項３】
前記断面の形状は前記マイクロレンズの頂点を含む断面と同じ形状である請求項１または２に記載の半導体装置。
【請求項４】
前記モニタ用構造体の断面の形状は、前記マイクロレンズと同じ断面の形状を有する請求項１乃至３のいずれか１項に記載の半導体装置。
【請求項５】
前記画素領域の上に前記マイクロレンズを含む複数のマイクロレンズが設けられている請求項１乃至４のいずれか１項に記載の半導体装置。
【請求項６】
前記周辺領域は、前記モニタ用構造体を含む複数のモニタ用構造体を有する請求項５に記載の半導体装置。
【請求項７】
前記第１方向および前記第２方向の少なくとも一方における前記マイクロレンズの幅が前記長さＷに一致する請求項１乃至６のいずれか１項に記載の半導体装置。
【請求項８】
前記長さｄは前記長さＷより大きい請求項１乃至７のいずれか１項に記載の半導体装置。
【請求項９】
前記マイクロレンズと前記モニタ用構造体は、反射防止膜を含む請求項１乃至８のいずれか１項に記載の半導体装置。
【請求項１０】
前記画素領域には、光電変換素子が設けられている請求項１乃至９のいずれか１項に記載の半導体装置。
【請求項１１】
複数の画素が長さＷのピッチで配された画素領域に、前記複数の画素のいずれかに対応し、第１方向および前記第１方向に直交する第２方向において表面が曲率を有するマイクロレンズを形成する工程を有し、
前記画素領域とは別の領域に、前記第２方向に垂直な断面の形状が、前記第２方向において前記長さＷ以上の長さｄに渡って同一なモニタ用構造体を、前記マイクロレンズと同時に形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項１２】
前記モニタ用構造体を、前記画素領域を含む複数の画素領域が配された半導体ウエハの上に形成する請求項１１に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１３】
前記モニタ用構造体の形状を測定する工程を有する請求項１１または１２に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１４】
前記測定する工程では、前記モニタ用構造体を測定装置によって前記第１方向に走査することでモニタ用構造体の高さを求める請求項１３に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１５】
前記測定する工程の後、前記マイクロレンズ及び前記モニタ用構造体を除去し、別のマイクロレンズ及び別のモニタ用構造体を形成する工程を有する請求項１３または１４に記載の半導体装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の半導体装置は、複数の画素が長さＷのピッチで配された画素領域において、前記複数の画素のいずれかに対応して設けられた、第１方向および前記第１方向に直交する第２方向において表面が曲率を有するマイクロレンズと、前記画素領域の周辺領域に設けられ、前記マイクロレンズの形状と相関がある、モニタ用構造体と、を有し、前記モニタ用構造体の前記第２方向に垂直な断面の形状が、前記第２方向における前記長さＷ以上の長さｄに渡って、同一であることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また、本発明の半導体装置の製造方法は、複数の画素が長さＷのピッチで配された画素領域に、前記複数の画素のいずれかに対応し、第１方向および前記第１方向に直交する第２方向において表面が曲率を有するマイクロレンズを形成する工程を有し、前記画素領域とは別の領域に、前記第２方向に垂直な断面の形状が、前記第２方向において前記長さＷ以上の長さｄに渡って同一なモニタ用構造体を、前記マイクロレンズと同時に形成することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の半導体装置は、画素領域に設けられたマイクロレンズと、画素領域の他の領域に設けられたモニタ用構造体とを有する。モニタ用構造体は、マイクロレンズの形状と相関がある形状を有する。具体的には、モニタ用構造体は、底面を有し、底面に垂直な方向での断面の形状が、断面に直交する方向に渡って同一形状となる。あるいは、底面が矩形の領域を少なくとも有し、その矩形の領域においてモニタ用構造体の断面の形状が、断面に垂直な方向に渡って同一形状となる。つまり、このモニタ用構造体は、ある断面形状が所定の長さだけ延在する形状である。例えば、円柱の半分や、いわゆるかまぼこ型などである。このようなモニタ用構造体を有することで、マイクロレンズの形状についてＡＦＭ等の走査によって形状測定をする場合に、高い測定精度を有しつつ、測定時間の短縮が可能となる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
平面構造１１１のＥ−Ｆ線における断面構造１１２ａに示すように、モニタ用構造体１１５は半円の形状１１６ａを有する。また、平面構造１１１のＧ−Ｈ線における断面構造１１２ｂに示すようにモニタ用構造体１１５は半円の形状１１６ｂを有する。このように矩形の領域１１４において、モニタ用構造体１１５は半円の形状を連続して有している。この時、Ｅ−Ｆ線及びＧ−Ｈ線に直交する断面である、Ｉ−Ｊ線における断面構造１１３において、モニタ用構造体１１５は断面形状１１７を有する。断面形状１１７は、領域１１４（長さｄの範囲）において、一定の高さｈ’を有する。この高さｈ’は、図１（ａ）のマイクロレンズ１０５の高さｈと相関がある。また、この長さｄは、ＡＦＭ等の測定装置におけるＹ方向の分解能よりも長い。例えば、マイクロレンズのピッチである長さＷに対して、モニタ用構造体１１５の長手方向の寸法ｍは、Ｗ＜ｍの関係となっていることが好ましい。そして、領域１１４の長さｄは、Ｗ≦ｄ＜ｍの関係を有することが好ましい。また、長さｄは長さＷの１倍以上５００倍以下（Ｗ≦ｄ≦５００Ｗ）であるとよい。モニタ用構造体１１５が長すぎても半導体装置のチップ上に配置が難しいため、画素領域２０２に配置される画素の長さ以下であると良い。例えば、画素領域２０２に画素が二次元に配置され、横方向に５００個の画素が配置されている場合には、長さｄは５００画素分の長さ以下、つまり長さＷの５００倍以下の長さにするとよい。例えば、長さＷを１．８６μｍとし、１００個の画素が配置されているとすると、領域１１４の長さｄを約１８０μｍとすることができる。この時、モニタ用構造体１１５の長手方向の寸法ｍを約１９０μｍとなる。