(57)【要約】  本発明は、プラズマを生成するための装置、方法及びかかる装置の使用方法に関する。本発明はプラズマを生成するための装置（１）に関し、少なくとも１つの第一電極（３）と、第一電極（３）から間隔を隔てて配置される少なくとも１つの第二電極（５）と、少なくとも１つの第一電極（３）と少なくとも１つの第二電極（５）との間に電位差が電圧源（７）によって発生するように、第一電極（３）及び第二電極（５）から選択される少なくとも１つの電極（３、５９）に接続される電圧源（７）とを備える。少なくとも１つの第一電極（３）及び少なくとも１つの第二電極（５）は、少なくとも１つの第一電極（３）と少なくとも１つの第二電極（５）との間の放電領域（１１）に放電のための少なくとも１つの放電路（９）を画定する。この場合、磁場装置（１５）は、放電領域（１１）に磁場を発生させるために、少なくとも１つの第一電極（３）及び少なくとも１つの第二電極（５）に関連して構成及び配置され、磁場の磁場ベクトル（Ｂ）は、放電路（９）に対して斜めに配向されている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマを生成するための装置（１）であって、
少なくとも１つの第一電極（３）と、
前記第一電極（３）から間隔を隔てて配置される少なくとも１つの第二電極（５）と、
前記少なくとも１つの第一電極（３）と前記少なくとも１つの第二電極（５）との間に電位差が電圧源（７）によって発生するように、前記第一電極（３）及び前記第二電極（５）から選択される少なくとも１つの電極（３、５）に接続される電圧源（７）と、
を備え、
前記少なくとも１つの第一電極（３）及び前記少なくとも１つの第二電極（５）は、前記少なくとも１つの第一電極（３）と前記少なくとも１つの第二電極（５）との間の放電領域（１１）において放電のための少なくとも１つの放電路（９）を画定し、
磁場装置（１５）は、前記放電領域（１１）に磁場を発生させるために、前記少なくとも１つの第一電極（３）及び前記少なくとも１つの第二電極（５）に関連して構成及び配置され、
前記磁場の磁場ベクトル（Ｂ）は、前記放電路（９）に対して斜めに配向されていることを特徴とする装置（１）。
【請求項２】
請求項１に記載の装置（１）であって、
前記電圧源（７）は、直流電圧源として具現化されていることを特徴とする装置（１）。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の装置（１）であって、
ａ）  前記少なくとも１つの第一電極（３）は、ロッド又はワイヤ状電極として具現化され、前記少なくとも１つの第二電極（５）は、リング状電極として具現化され、円周方向から見ると前記少なくとも１つの第一電極（３）を包含し、及び／又は
ｂ）  前記少なくとも１つの第一電極（３）及び前記少なくとも１つの第二電極（５）は、ロッド又はワイヤ状電極として具現化され、及び／又は
ｃ）  前記少なくとも１つの第二電極（５）は、複数の開口部（２１）を有する平らな電極として具現化されていることを特徴とする装置（１）。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の装置（１）であって、
前記電極（３、５）のうちの少なくとも１つの伸張に沿った前記少なくとも１つの第一電極（３）と前記少なくとも１つの第二電極（５）との間の距離が、
ａ）一定である、又は
ｂ）拡大する、又は
ｃ）第一部分で一定で、第二部分で拡大することを特徴とする装置（１）。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の装置（１）であって、
前記磁場装置（１５）が、少なくとも１つの永久磁石及び／又は少なくとも１つの電磁石を備えることを特徴とする装置（１）。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の装置（１）であって、
前記磁場装置（１５）は、
ａ）少なくとも１つのリングマグネット又は少なくとも１つのコイルを備え、及び／又は
ｂ）前記第一電極（３）及び前記第二電極（５）から選択される少なくとも１つの電極に沿って配置される複数の棒磁石（１７）又はコイルを備え、及び／又は
ｃ）前記少なくとも１つの第一電極（３）及び前記少なくとも１つの第二電極（５）から選択される少なくとも１つの電極（３、５）に沿って配置される少なくとも１つのストリップマグネットを備えることを特徴とする装置（１）。
【請求項７】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の装置（１）であって、
前記装置（１）は、前記放電領域（１１）と接触する流体内にある管部（２３）を備えることによって、流体が前記放電領域（１１）を通過して前記管部（２３）に沿って搬送されることを可能とすることを特徴とする装置（１）。
【請求項８】
特に請求項１〜７のいずれか１つに記載の装置（１）を使用するプラズマを生成するための方法であって、
少なくとも２つの電極（３、５）間にある放電領域（１１）の放電路（９）に沿って少なくとも１つの放電フィラメント（１３）を発生させ、
前記放電領域（１１）を浸透する磁場が、放電路（９）に対して斜めに形成され、
前記放電フィラメント（１３）は、前記磁場により動かされ、前記放電領域（１１）内で伝搬する動きとなる方法。
【請求項９】
請求項８に記載の方法であって、
流体は、前記放電領域（１１）を通過して搬送され、前記放電フィラメント（１３）の伝搬する動き及び前記流体が前記放電領域（１１）を通る流速は、好適には前記放電領域（１１）を通過して移動する前記流体の全ての容積要素が少なくとも一度は前記放電フィラメント（１３）により掃引されるように相互に調整されることを特徴とする方法。
【請求項１０】
請求項８又は９のいずれか１項に記載の方法であって、
前記放電領域（１１）内は、主に大気圧によって占められることを特徴とする方法。
【請求項１１】
請求項８〜１０のいずれか１項に記載の方法であって、
空気、窒素、希ガス（特にアルゴン）、ニ酸化炭素、気体混合体又は少なくとも１つの気体と少なくとも１つの液体との混合体（特に水蒸気）が流体として使用される方法。
【請求項１２】
請求項８〜１１のいずれか１項に記載の方法であって、
前記放電領域（１１）を通過して移動する前記流体からは、
ａ）  臭気、
ｂ）  アレルゲン、
ｃ）  微生物、及び／又は
ｄ）  粒子が清浄化されることを特徴とする方法。
【請求項１３】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の装置（１）を使用する方法であって、
ａ）  空気浄化装置として、
住居、
調理場、特に食事施設、
畜舎若しくは食肉生産施設、
化学工場、
オフィス、
工場、
下水処理場、
埋立地、又は
医療施設において使用する方法、及び／又は
ｂ）  流体から、
臭気、
アレルゲン、
微生物、及び／又は
粒子の液体の清浄化を行うために使用する方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマを生成するための装置、方法及びかかる装置の使用方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマを生成するための装置及び方法は、基本的には周知である。このような装置では、一般的に、時間的及び／又は空間的定常性のある放電が２つの電極間で発生し、その放電によってプラズマが生成される。いわゆる低温、非熱又は大気プラズマを生成可能な装置及び方法は、表面若しくは流体流れの消毒若しくは殺菌及び／又は創傷治療に特に有益である。しかしながら、放電に通常備わる空間的定常性によって、例えば、比較的少ない容量のプラズマしか生成できない若しくは比較的少ない容量のプラズマしか流体に印加できず、又は相応に高いエネルギー及び／若しくは電力の印加を伴う複数の放電若しくは広範囲での放電が必要となり、さらには複雑な構成の装置が必要となったりすることがある。
【発明の概要】
【０００３】
本発明の目的は、上述のデメリットが発生しないプラズマを生成するための装置、方法及びかかる装置の用途を作り出すことに基づく。
【０００４】
本発明の目的は独立請求項の主題を作り出すことにより達成される。有益な実施形態は従属請求項により明らかとなる。
【０００５】
本発明の目的は、具体的には、プラズマを生成するために構成される装置を作り出すことにより達成される。装置は、少なくとも１つの第一電極及び第一電極から間隔を隔てて配置される少なくとも１つの第二電極を備える。装置はさらに、第一と第二電極との間に電位差が電圧源によって発生するように、少なくとも１つの第一電極及び少なくとも１つの第二電極から選択される少なくとも１つの電極に接続される電圧源を備える。第一電極及び第二電極は、第一電極と第二電極との間の放電領域において放電のための少なくとも１つの放電路を画定する。磁場装置は、放電領域内で磁場を形成するため、第一電極及び第二電極に対して構成及び配置され、それによって磁場の磁場ベクトルは放電路に対して斜めに配向されているようになっている。このように、放電領域では、放電に対してローレンツ力又はホール効果が働く。具体的には、電極間で発達する放電フィラメントに対して働き、これによって放電又は放電フィラメントは空間的に非定常となり、ローレンツ力によって動かされて放電領域内で伝搬する。その結果、電極間に発生する放電によって、放電又は放電フィラメント自体の容量に比べ、より広範囲を掃引でき、それによって１度の放電のみで比較的大きな容量をカバーでき、特に、より大きな容量のプラズマを実現すること及び／又はより大きな容量の流体を処理することができる。その結果、装置は小型で簡易で経済的な構造で、比較的より大きな容量のプラズマの実現及び／又は比較的より大きな容量の流体に対する作用若しくは処理を可能にする。
【０００６】
装置は非熱プラズマを生成するように構成されることが望ましい。これは具体的に、プラズマの電子の運動エネルギーの分布を示す、電子温度とも呼ばれる温度が、プラズマを構成するイオン、特に原子又は分子イオンの運動エネルギーの分布を示す、イオン温度とも呼ばれる温度と同一でなく、具体的にはそれよりもずっと高いプラズマであると理解される。そのため、電子温度はイオン温度よりずっと高い。イオン温度は具体的に、２５°Ｃ乃至最大１００°Ｃの範囲で選択できる。このようなプラズマは、イオン温度が比較的低いことに基づき、低温プラズマと呼ぶこともできる。
【０００７】
特に大気圧で、従って具体的には約１０１３ｍｂａｒで、このような非熱又は低温プラズマを生成するように構成された装置が望ましい。このようなプラズマは、大気プラズマとも呼ばれる。
【０００８】
ここでのプラズマとは、特に、異なる電荷を持つ荷電粒子が気相において同時に存在する物質状態を指す。特定の容積で平均化されると、観測される容積に対して中性電荷が結果的に生じる。プラズマは、励起粒子及び／又は遊離基、すなわち特に非帯電反応性原子及び／又は分子とも呼ばれる電子的、振動的又は回転的に励起した状態の非帯電原子及び／又は分子を含むことが望ましく、これらは、反応性粒子又は反応性種とも呼ばれる。
【０００９】
「電極」という用語は、ここでは特に電位を印加され得る電気的伝導性素子を意味する。
【００１０】
第一電極と第二電極とが互いに間隔を隔てて配置されるということは、具体的には、特にそれらが異なる電位に接続できるように、互いに空間的に離間しているということである。従って、電極間の距離は、一方のみが共通の等電位に接続できるよう、互いに接触又は影響しないくらい大きく選択される。同時に、２つの電極間の距離は、少なくとも電極間に放電を発生させることが可能な範囲内で選択される。
【００１１】
ここでは、概して、電圧源は電位差を作り出すことに適した機器であると理解される。そのため、電圧源が２つの電極のうちの１つ、つまり第一電極又は第二電極にのみ接続されることができる。２つの電極のうちのもう一方、つまり第二電極又は第一電極は、特に電圧源が接続されているのと同じ接地に接続される。代替的に、電圧源が第一電極及び第二電極の両方に電気的に接続されることも可能である。電極のうちの１つを接地とは異なる電位に接続させ、２つの電極のうちのもう一方を接地させるように電圧源を設けることもできる。代替的又は追加的に、電圧源は両方の電極が、相互に異なり、両方とも接地とも異なる電位に接続されるように設けられることも可能である。追加的に、電圧源は、電流が流れている間、すなわち第一電極と第二電極との間に放電が発生している時に、特定の電位差も維持できるように特定の電力を生成できるように構成されることが望ましい。
【００１２】
ここで、放電路は、具体的に、第一電極と第二電極との間に十分に高い電位差が発生する場合に、それに沿って第一電極と第二電極との間の放電が見込まれる、所定の放電路であると理解される。放電路は、第一電極と第二電極との間に十分に高い電位差を印加することで放電の発達が見込まれる第一電極と第二電極との間における最短の接続部であることが望ましい。
【００１３】
放電領域は、具体的に、少なくとも１つの放電路が配置され、磁場によって動かされる放電が、特に、少なくとも１つの電極に沿って伝搬できることが望ましい、第一電極と第二電極との間にある空間であると理解される。
【００１４】
磁場ベクトルが放電路に対して斜めに配向されているということは、具体的に、磁場ベクトルが放電路によって定義される方向に垂直な成分を持つこと又は磁場ベクトルが放電路によって定義される方向に対して完全に垂直に配向されていることを意味する。このように、ローレンツ力は、放電中に放電路に沿って流れる帯電した粒子に対して働く。
【００１５】
電圧源及び第一並びに第二電極は、具体的に、放電及びそれとともに特に放電フィラメントが、第一電極と第二電極との間の放電領域内の放電路に沿って発生することができるように構成される。第一電極、第二電極及び電圧源は装置のプラズマ源として具現化されていることが望ましい。
【００１６】
第一電極及び第二電極は共に放電領域のための放電平面又は放電表面を画定することが望ましい。放電表面は、電極同士の方向によっては曲線を描くこともできる。装置の作動中、放電フィラメントは放電平面又は放電表面内で伸びる。磁場ベクトルは放電平面又は放電表面に対して斜めに配向されていることが望ましく、放電平面又は放電表面に対して垂直なことが望ましい。
【００１７】
本発明の更なる発展によれば、電圧源は直流電圧源として具現化されている。特に、２つの電極、すなわち第一電極及び／又は第二電極のうち少なくとも１つに、一定又は経時的には本質的に一定な電位を印加するように構成される。電圧源は、このように簡易で経済的に具現化できる。特に、複雑で高周波での電圧源の駆動は必要とされない。
【００１８】
第一と第二電極との間に最小０.５ｋＶ乃至最大９ｋＶ、好適には最小１ｋＶ乃至最大６ｋＶの電位差が発生するように電圧源が構成されることが望ましい。第一電極と第二電極との間のフラッシュオーバー電圧が最大６ｋＶ、好適には６ｋＶ未満で、第一電極と第二電極との間の放電中の作動電圧が最大４ｋＶ、好適には４ｋＶ未満となるように装置が構成されることが望ましい。
【００１９】
電圧源は、最小０. ５ｍＡ乃至最大２０ｍＡの直流を供給するように構成されることが望ましく、好適には最大４ｋＶ、好適には４ｋＶ未満、特に好適には最小１ｋＶ乃至最大４ｋＶの作動電圧が望ましい。これに従い、電圧源は最小０.５Ｗ乃至最大８０Ｗの出力を持つことが好ましい。
【００２０】
本発明の更なる発展によれば、少なくとも１つの第一電極がロッド又はワイヤ状電極として具現化され、少なくとも１つの第二電極は、円周方向から見て第一電極を包含するリング状電極として具現化されている。そのため、軸方向は第二電極領域内のロッド又はワイヤ状第一電極の伸張によって定義され、円周方向は軸方向を同心円状に包含する。そのため、半径方向は軸方向に垂直に伸びる。
【００２１】
このような実施形態での放電路は半径方向に伸び、磁場ベクトルは少なくとも１つの成分を軸方向に有するか完全に軸方向に伸びる。それに応じて、ローレンツ力が円周方向に働き、放電、特に放電フィラメントが、円周方向、従ってリング状第二電極に沿って、輪帯状ディスクの形状、好適には円状で伝搬する。そのため、放電又は放電フィラメントの伝搬速度は、磁場の強度に依存する。このように、特に時間平均で効果的に放電領域を浸透する、擬似的なプラズマカーテン又はプラズマ表面が生成される。この現象は、磁気的に構成されたプラズマカーテン（ＭＯＰＳ）とも呼ばれる。
【００２２】
本発明の更なる発展によれば、少なくとも１つの第一電極及び少なくとも１つの第二電極がワイヤ状又はロッド状の電極として具現化されている。そのため、それらは少なくとも平面内又は共通の曲面に沿った範囲内に伸びることが望ましく、放電領域はこの平面又は表面内に位置する。そして、磁場ベクトルは、放電又は放電フィラメントが放電領域の平面又は表面に沿って伝搬するように、少なくとも１つのこの平面又は表面に垂直な成分を有している。このように、プラズマカーテン又はプラズマ表面は、ワイヤ又はロッド状電極間の放電領域で、特に時間平均で効果的に発達する。
【００２３】
本発明の更なる発展によれば、少なくとも１つの第二電極は、好適には複数の開口部を有する、平らな電極として具現化されている。開口部は多数の異なった外面的形態、例えば、特に円形若しくはだ円形状などの丸形又は少なくとも拡大及び／若しくは平行な壁部の範囲を有する形状などを有することができる。この場合、第一電極はワイヤ又はロッド状電極として具現化されることが望ましい。そして、開口部により画定される表面に垂直に配向し、この場合、各開口部の、好適には同軸又は中心に、第一電極が配置されることが望ましい。又は、第一電極は開口部により画定される平面に配置されて開口部に沿って伸びることが望ましい。この場合でも、各開口部は第一電極と関連付けられることが望ましい。しかしながら、複数の開口部、好適には全ての開口部が、放電が開口部の領域でしか発生できないように、例えば絶縁材を備える得る共通の第一電極に関連付けられることも可能である。第一電極はそこで、開口部の平面内に伸びると、開口部の第一壁部及び第二反対側壁部に隣接して配置され、第一電極と開口部の反対側壁部との間に放電が発生するように、隣接する第一壁部から隔絶されることが望ましい。
【００２４】
ここで説明されている電極の様々な実施形態はすべて、簡易に構成されており、簡単で経済的に製造できる。さらに、特に放電領域を流れる流体流れに対してプラズマを発生する点において明確な利点を呈する。
【００２５】
少なくとも１つの第二電極が複数の開口部を有する平らな電極として具現化されている場合、磁場ベクトルは、開口部で画定される平面又は表面に垂直な少なくとも１つの成分を有することが望ましい。いずれの場合も、放電はその後、開口部によって画定され、好適には平ら又は平面に具現化され得る各放電領域内の開口部の境界に沿ってローレンツ力により動かされ、伝搬する。
【００２６】
本発明の更なる発展によれば、電極のうちの少なくとも１つ、すなわち第一電極又は第二電極の伸張に沿った第一電極と第二電極との間の距離が一定である。これは、特に、例えばロッド又はワイヤ状電極である第一電極が、リング状第二電極の中央部又は途中位置に位置し、軸方向に伸びる場合である。その後、第一電極と第二電極との間に具現化された円環リング状放電領域内で、放電が円状のように動いて行われ、放電領域は一定の半径形状となる。第一電極と第二電極との間の一定の距離は、第一電極及び第二電極がそれぞれロッド又はワイヤ状電極として具現化された場合にも存在し得る。それらはその後、常に一定の距離をもって相互に離間し、特定の経路に沿って一緒に、最も簡易的な場合は直線的に伸張する。第二電極が、複数の開口部を有する、すなわち開口部が円状の境界を有する場合に、平らな電極として具現化され、ワイヤ又はロッド状電極である第一電極が、いずれの場合もそのような開口部の途中位置に配置され、軸方向に伸びている場合又は少なくとも１つのエッジを開口部が有し、それに沿って第一電極もエッジまで一定の距離を保って伸びる場合、一定距離は可能となる。例えば、この場合、開口部は矩形形状を有することができる。一定距離は、原則として、放電を動かす２つの電極間の電位差が電圧源によって維持される限り放電は維持できるため、有益である。従って、特に、連続的に放電が行える。
【００２７】
代替的又は追加的に、伸張に沿った第一電極と第二電極との間の距離は電極のうちの少なくとも１つから拡大することが望ましい。これは、特に両方の電極がワイヤ及び／又はロッド状電極として具現化されている場合に可能になる。電極のうちの１つがその伸張に沿って特定の方向をたどると電極間の距離が大きくなるように、それらはそれらの伸張に沿って相互に離間できる。しかしながら、このような実施形態は、第二電極が複数の開口部を有している場合にも実現できる。少なくとも１つのこのような開口部は相応の形状のエッジを有することが望ましく、第一電極は開口部において拡大した距離を有する適切なかたちで配置され得る。電極間の拡大した距離は、特に、電極の特定の部分、すなわち互いからの距離が電圧源によって動かされて放電するには遠くなりすぎたところにおいて、放電を終了できる可能性を提供する。そのため、磁場及び放電の動きをもたらすローレンツ力を考慮すると、２つの電極の極性は、好適には放電が２つの電極が互いから最小の距離を有する位置で発達し、その後、放電領域内で電極の距離が互いから広がっていく方向に伝搬するように選択されることが望ましい。電圧源の特性値又は設定パラメータに依存するが、放電はその後、それが崩壊する特定領域に到達する。これは、電圧源が、当該領域に存在する電極間の距離では、もはや放電を駆動することができないからである。放電は、電極同士の互いからの距離が最小である位置で新たに発生し、一連の動作が新たに開始することが望ましい。このようにして、負荷領域に沿って周期的に伝搬する放電を擬似的に反復的及び連続的に発生させることができる。
【００２８】
代替的又は追加的に、第一電極と第二電極との間の距離が第一部分内で一定で、第二部分で拡大することが望ましい。そのため、ここでの「部分」という用語は、特に電極のうちの少なくとも１つの伸張に関連し、特に両方の電極の伸張に関連する。このような実施形態は、特に両方の電極がワイヤ又はロッド状電極として具現化されている場合に可能であるが、第二電極が、対応して形成される複数の開口部を有する平らな電極として具現化されている場合にも可能である。その場合の第一電極は、開口部の領域内で対応するように設けられる。互いから一定距離を保つ電極の部分及び互いから拡大する距離を有する部分を備える実施形態には、放電が伝搬すべき領域及び電極同士の距離が互いから広がることによってそれが消滅する領域を精密に調整できるという利点がある。
【００２９】
電極間の距離は最小１ｍｍ乃至最大３０ｍｍが望ましい。そのため、特にこの範囲内では一定の値を持つことも、この範囲内で拡大することもできる。
【００３０】
一定の距離範囲内又は全体で、電極は最小１ｍｍで好適には最大１ｍの長さを有することが望ましい。このような範囲で、上述の電圧値の放電は空気中で維持され、無理なく伝搬されることができる。しかしながら、基本的には、より長い距離又は長さが可能である。
【００３１】
本発明の更なる発展によれば、磁場装置は少なくとも１つの永久磁石を備える。好適な実施形態によれば、永久磁石はリング状マグネットとして具現化でき、好適には、円周方向に見ると、リング状の第二電極を包含することが望ましい。又は、特に電極の実施形態がロッド又はワイヤ状である場合、又は第二電極が複数の開口部を有する平らな電極として具現化されている場合、永久磁石は第一電極及び第二電極の電極列に隣接して配置される。この場合、特に開口部に隣接して、平らな第二電極上に分布するように配置される複数の永久磁石を磁場装置が備えることも可能である。いずれの場合も、磁場装置は複数の永久磁石を備えることが可能である。永久磁石には、磁場装置の電気的制御を必要としないという利点があるため、比較的低い電力消費で簡易的に装置を具現化できる。
【００３２】
代替的又は追加的に、磁場装置は少なくとも１つの電磁石を備えることができる。電磁石の利点としては、磁場装置が所定の方法でオンオフできることにある。加えて、磁場装置の磁場強度の簡易な変化も可能である。さらに、磁場装置の磁場強度は、電磁石中の電流に基本的に依存し、永久磁石の場合に起こり得る経年影響による弱化を受けることがない。
【００３３】
本発明の更なる発展によれば、磁場装置は少なくとも１つのリングマグネットを備えることができる。これは、具体的に、円周方向に見て少なくとも１つの第一電極及び少なくとも１つの第二電極の配列を包含できる又は電極のうちの少なくとも１つに隣接するように、好適には両方の電極、つまり電極列の電極に隣接するように位置できる。
【００３４】
代替的又は追加的に、磁場装置は少なくとも１つの電気コイルを備えることができる。これは、リングマグネットに類似して、少なくとも１つの電極、好適には両方の電極を円周方向に包含できる又は電極のうちの少なくとも１つに隣接するように、好適には両方の電極に隣接するように位置できる。
【００３５】
磁場装置が複数のリングマグネット及び／又は複数のコイルを備えることが可能である。
【００３６】
コイルとは、特に電気誘導コイルであると理解され、その最も簡易な形態はコイル状の電気伝導体を有する又はコイル状の電気伝導体を備えることができる。
【００３７】
代替的又は追加的に、磁場装置は、少なくとも１つの第一電極及び／又は少なくとも１つの第二電極から選択される少なくとも１つの電極に沿って配置される複数の棒磁石又はコイルを備える。そのため、複数の棒磁石又はコイルがリング形状の第二電極の周り及び／又は平らな第二電極の少なくとも１つの開口部の周りに配置されることも可能である。棒磁石のＮ極／Ｓ極の向き及び／又はコイルの縦軸は、リング状第二電極の縦軸に平行又は平らな第二電極に垂直に配向されていることが望ましい。複数の棒磁石及び／又はコイルがワイヤ又はロッド状電極に沿って配置されることも可能である。そのため、特に、棒磁石のＮ極／Ｓ極の向き及び／又はコイルの縦軸が電極の伸張に対し垂直に配置される。
【００３８】
場合によっては複数の棒磁石及び／又はコイルを備える実施形態は、１つのリングマグネット又はたった１つだけのコイルを備える実施形態よりも実現することがより簡易である。
【００３９】
代替的又は追加的に、磁場装置は、電極のうちの少なくとも１つに沿って伸びる少なくとも１つのストリップマグネットを備えていることが望ましい。この実施形態は、少なくとも２つのロッド又はワイヤ状電極の電極列に関連して特に有益である。このようなストリップマグネットはこれらの電極のうち少なくとも１つの伸張に沿って容易に位置付けることができる。このようなストリップマグネットの平らな電極の少なくとも１つの開口部に沿った位置決めもまた、簡単にできる。
【００４０】
ここでのストリップマグネットは、特に第一方向に沿って伸びる磁気素子であると理解され、第一方向に沿った伸張は第二方向の要素の幅及び第三方向の要素の高さよりも大きい。第一方向、第二方向及び第三方向は、互いに垂直である。このようなストリップマグネットは例えば、幅が約３ｍｍで、高さが１ｃｍ乃至２ｃｍで、長さが２０ｃｍまでであることが可能である。このようなストリップマグネットは、擬似的に複数の磁気素子が一体的に順番に配置されて一枚を形成するもので、例えば、磁性体を焼結処理して製造することができる。
【００４１】
このようなストリップマグネットは、特にワイヤ又はロッド状電極の配列に沿って又は平らな電極の開口部のエッジのうちの少なくとも１つに沿って配置されることが可能で、磁場プロファイルの点では、分離した棒磁石が相互に隣接して設置されるよりも、構造的により簡易で、同時により有利な実施形態を呈する。
【００４２】
本発明の更なる発展によれば、装置は放電領域と接触する流体内にある管部を備え、流体を放電領域に通して管部に沿って搬送できる。この方法で、放電領域で生成されるプラズマによって流体を処理して、例えば、消毒若しくは殺菌、悪臭の除去、アレルゲンの除去、流体の微生物を不活性にすること又は粒子の除去ができる。この場合、流体が放電領域を通過して完全に搬送されるように、放電が伝搬する放電領域は、放電領域の位置に装置の内径を完全に含むことが望ましい。このようにして、放電領域を通過して運ばれる流体全体が、放電による影響を受け、それとともにプラズマによる影響も受けることを確実にすることができる。
【００４３】
本発明の目的は、以下のステップを備えるプラズマを生成するための方法を作り出すことによっても達成される。少なくとも２つの電極の間に放電領域内の放電路に沿った少なくとも１つの放電フィラメントが作られ、放電領域を浸透する磁場は放電路に対して斜め、好適には放電路に対して垂直に形成される。そのため、放電フィラメントは磁場により動かされ、放電領域内で伝搬する動きとなる。方法は、前述の実施形態例による装置を使用して実施されることが望ましい。これにより、特に、装置に関連して既に説明されている利点がもたらされる。
【００４４】
放電フィラメントは、具体的には、電位勾配に沿って流れる荷電粒子の流れであると理解される。そのため、一般的に２つの電極間の放電は、荷電粒子の移動が放電チャネルに沿って始まる前に、具体的には放電チャネルに沿って粒子をイオン化することで、まず放電チャネル、具体的にはいわゆるストリーマを形成して生じる。荷電粒子は続いて、放電中に、作られた放電チャネルに沿って流れ、このように放電フィラメントが形成される。荷電粒子は磁場においてローレンツ力を受け、ローレンツ力は放電チャネルに沿って伝搬する個々の粒子それぞれに働くため、擬似的に放電フィラメントに影響を与えて、それによって放電フィラメントは最終的に全体として放電領域に沿って伝搬する。
【００４５】
本発明の更なる発展によれば、流体は放電領域を通過して搬送される。そのため、流体は有利な方法で放電フィラメントによる、特に放電により形成されたプラズマによる影響を受けることができる。
【００４６】
放電フィラメントの伝搬の動き及び流体の放電領域を通る流速は、放電領域を通過して移動する流体の全ての容積要素が放電フィラメントにより少なくとも一度は掃引されるように調整されることが望ましい。この点において、すなわち、例えば、周期的な円状の動き若しくは一般的な循環的な動きの第一実施形態及び／又は第一位置で放電が発達してから特定の経路に沿って伝搬し、例えば電極同士の互いからの距離が広がっていく中で、第二位置で消滅するような周期的な動きの第二実施形態によって、放電領域で放電フィラメントの周期的な動きが作られることが望ましいということとなる。放電はその後、第一位置で新たに始まり、全ての一連の動作が特定の周期で循環的に繰り返えされる。
【００４７】
ここでの移動流体の容積要素は、具体的には放電領域を通過して軸方向、つまり放電路、具体的には磁場ベクトルの方向に対して垂直に移動し、軸方向で計測すると放電フィラメントが厚みを持つ概念的容積であると理解される。
【００４８】
放電領域を通過して移動する流体の全ての容積要素が放電によって少なくとも一度掃引されることを確実にするため、放電領域内で伝搬する放電フィラメントの当該周波数は流体の流速に合うように調整される。
【００４９】
例えば、ロッド又はワイヤ状第一電極が中心にあるリング状第二電極の配列のため、軸方向に計測される厚さｄを有する輪帯状リングの形状の放電及び速度ｖを有する流体の軸方向の流速は、結果的な軌道又は回転数の放電Ωが２πｖ/ｄより大きくなくてはならず、放電が、移動流体の観点から、擬似的なプラズマカーテンのように見えるようにするため、移動流体の全ての容積要素が放電フィラメントにより少なくとも一度は掃引される。例えば、具体例として、軸方向で計測された放電の厚さｄが１ｍｍで、流体の流速が１ｍ/ｓの場合、放電の回転数が６０００ｓ-１（角周波数として算出）より大きくなくてはならない又は因数２πを考慮して、１０００ｓ-１より大きい周波数でなくてはならない。放電の回転数はローレンツ力及び例えば以下の数式の結果によって決定される。
【００５０】
【数１】
2018528578.tif 000003
【００５１】
ｖφ＝ｒΩ＝２πｒｆは、２つの電極３及び５の筒状配列の途中位置からの距離ｒにおける方位角（円周）回転速度であり、ｖｒは放電の放射状膨張速度で、電圧源のパラメーから、好適には電極距離から容易に算出でき、さらにωｅは、磁場Ｂにおける電子ジャイロ周波数で、ｖｅｎは主要なブレーキ機構としての大気中性粒子との衝突頻度である。
【００５２】
数式によると、例えば流速１ｍ/ｓの移動流体を効果的に扱う際に提供されなくてはならず、０.０１Ｔよりも大きく、好適には０.１Ｔよりも大きい軸方向の磁場を通して実現できる回転数を容易に決定することができる。しかしながら、最小０.１Ｔ乃至最大１Ｔの磁場強度が使用には特に望ましい。そのため、磁場装置用の利用できるマグネットのタイプは、今なお、特に上限を限定している。必然的に、より大きな磁場強度が望ましく、対応する磁場装置が利用できる程度まで優先的に採用される。しかしながら、現時点では、最小０．１Ｔ乃至最大１Ｔの範囲の対応する磁場強度を、特に小さく、好ましくは円筒形のネオジム永久磁石では容易に提供することが可能である。
【００５３】
方法の実施形態は、放電領域が大気圧、好適には１０１３ｍｂａｒ又は局所的に主要な周辺圧力で保持されることを特徴とすることが望ましい。このように、排出のための装置も、また、放電領域を高圧にするように構成される装置も必要としないので、方法は特に安価であり、容易に実施できる。そのため、ここで提案された装置の助けを借りれば、大気圧でプラズマ放電を生成させることは容易である。しかし、当然ながら、装置を用いて、方法の適用範囲内で、他の圧力下、具体的にはより高い圧力又はより低い圧力下で作動させることもできる。
【００５４】
本発明の更なる発展によれば、空気、窒素、希ガス（特にアルゴン）、ニ酸化炭素、気体混合体及び少なくとも１つの気体と少なくとも１つの液体との混合体（特に水蒸気）から構成されるグループから選ばれる流体が放電領域を通過して搬送される。そのため、「気体」及び「液体」という言葉は、具体的には通常条件に関連する。つまり、それらは具体的に２５°Ｃ又は２９８Ｋ及び１０１３ｍｂａｒでの物質の結合状態を指す。ここで提案される装置及びここで提案される方法は、特に流体、具体的には上記のグループから選択されたものを活性化又は浄化するために使用される。
【００５５】
本発明の更なる発展によれば、放電領域を通過して流れる流体から、ａ）臭気、ｂ）アレルゲン、ｃ）微生物、特に細菌、バクテリア、胞子、真菌及びウイルス並びに／又はｄ）粒子が清浄化される。このように、装置及び方法は、それらの適用においてかなり多用途になるように、様々な流体から様々な汚染を非常に有利に清浄化することができる。
【００５６】
最後に、本目的は、空気浄化装置として上記の実施形態例による装置の用途（使用方法）を確立することによっても達成される。そのため、装置は、特に、例えば卓上装置又は換気及び／若しくは空調システムの一部として、住居内、調理場内、特に食事施設の調理場内若しくは商業的調理場内、畜舎若しくは食肉生産施設内、化学工場内、オフィス内、工場内、下水処理場内、埋立地及び／又は例えば診療所、病棟若しくは老人ホーム、又は病院などの医療施設内で空気浄化装置として、適用されることが可能である。これらの全ての場所において、装置は、特に上述したタイプの汚染から空気を清浄化するために、有意義で好都合で有利な方法で使用することができる。
【００５７】
化学工場とは、特に、少なくとも1つの化学薬品の製造工場、製油所、少なくとも1つの医薬品の製造工場、研究施設、実験施設、分析研究施設又は化学実験、試験及び／若しくは反応が行われるその他の施設と理解される。
【００５８】
代替的又は追加的に、装置の使用方法は、流体から臭気、アレルゲン、微生物、特に細菌、バクテリア、胞子、真菌及び／又はウイルス並びに／若しくは粒子を、特に電子解離（電子衝突解離）によって浄化することであることが推奨される。特に、この目的のために、装置を有利に採用することができる。
【００５９】
一方では装置の説明、また他方では方法及び用途の説明は互いに補完的なものであると理解される。方法又は用途に関連して明示的又は暗示的に記載された装置の特徴は、個別の又は互いに組み合わされる装置の好適な実施形態例の特徴であることが望ましい。装置に関連して明示的又は暗示的に記載された方法の手順的ステップ又は用途の態様は、個別の又は互いに組み合わされるステップ又は方法若しくは用途の好適な実施形態の態様であることが望ましい。方法及び／又は用途は、少なくとも１つの手順的ステップ又は装置の発明的又は好適な実施形態例の少なくとも１つの特徴によって決定される１つの態様によって特徴付けられることが望ましい。装置は、方法又は用途の発明的又は好適な実施形態の少なくとも１つのステップ又は態様によって決定される少なくとも１つの特徴によって特徴付けられることが望ましい。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
以下、図面を参照し、本発明をさらに詳細に説明する。図面は以下の通りである。
【図１】図１は、装置の第一実施形態例の模式図である。
【図２】図２は、装置の第二実施形態例の模式図である。
【図３】図３は、装置の第三実施形態例の模式図である。
【図４】図４は、装置の第四実施形態例の模式図である。
【図５】図５は、装置の第五実施形態例の模式図である。
【図６】図６は、装置の第六実施形態例の模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００６１】
図１は、プラズマを生成するための装置１の第一実施形態例の模式図を表わしている。そのため、図１ａ)には、１つの第一電極３及び１つの第二電極５を備える装置１が示されている。ここで、第一電極３はロッド又はワイヤ状電極として具現化されており、第二電極５はリング状電極として具現化され、円周方向から見ると、第一電極３を包含する。そのため、軸方向は図１ａ)の像平面に対し垂直に伸びる。半径方向は軸方向に対し垂直に配向されて像平面に配置される。円周方向は軸方向の周りを同心円状に伸びる。第一電極３及び第二電極５は、互いに間隔を隔てて配置される。
【００６２】
特に、ここで具現化されている第二電極５は円環状リングであり、第一電極３は第二電極５によって画定される円の中央部に配置される。電圧源７は装置１の一部として模式的に示されており、電圧源７によって第一電極３と第二電極５との間に電位差が発生するように第一電極３及び第二電極５に接続される。第一電極３及び第二電極５は、第一電極３と第二電極５との間の放電領域１１での放電のための放電路９を画定する。そのため、ここでは、第一電極３及び第二電極５の配列の円筒対称な構造に基づいて、円環リング状の放電領域１１の円周に沿って、特に半径方向に伸びる放電路９のグループ全体が画定されることがわかる。放電路９は、第一電極３と第二電極５と間が一定距離なため、放電が実際にどの点で最初に発生するのか確証をもって予測できないため、従って潜在的な放電路のグループからいずれの放電路９が最初に実現されるのか確証をもって予測できない。
【００６３】
電圧源７は直流電圧源として具現化されていることが望ましい。具体的には、第一電極３と第二電極５との間に最小０. ５ｋＶ乃至最大９ｋＶ、好適には最小１ｋＶ乃至最大６ｋＶの電位差を形成するように構成される。電圧源は最小０.５ｍＡ乃至最大２０ｍＡの電流強度を供給するように構成されることがさらに望ましい。
【００６４】
図１ａ)では、装置１の動作を段階的にさらに詳細に説明するため、磁場装置はまだ示されていない。例えば、磁場装置がオフ又は取外されていて磁場の影響がない状態で第一電極３と第二電極５との間で放電が開始された場合、模式的に示す放電フィラメント１３がここで発生し、空気又は気体の動きによって起こり得る干渉を除外すれば、例えば放電領域１１内で半径方向に伸びる。そのため、一旦形成された放電路９は経時的に一定のままであるという点で、この放電フィラメント１３は、磁場の影響がなければ安定している。
【００６５】
図１ｂ)は、磁場装置１５を補完した装置１を示す。磁場装置１５は、放電領域１１内に磁場を形成するように第一電極３及び第二電極５に対して構成及び配置され、それによって磁場の磁場ベクトルＢは放電路９に対して斜め、好適には垂直に配向されている。ここでは、磁場ベクトルＢが図１の像平面に垂直であることがわかる。ここで具体的に説明される装置１の実施形態例では、磁場装置１５は永久磁石、特にリングマグネットとして具現化されていることが望ましく、円周方向から見て、第二電極５及び第一電極３を包含する。しかしながら、代替的に、磁場装置１５は対応して配置される電磁石、特に電気コイルを備えることもできる。
【００６６】
簡潔に図示するという理由で、電圧源７は図１ｂ)には示されていない。しかしながら、存在している。
【００６７】
今、第一電極３と第二電極５との間で放電が開始された場合、ローレンツ力が放電フィラメント１３に働いて、それによって放電フィラメント１３が回転するようになり、円環リング状の放電領域１１に沿って特定の回転数で伝搬する。回転数は、特に磁場の磁場強度に依存する。放電フィラメント１３は、このように放電領域１１全体を掃引し、特に時間平均で見ると、この内部で一種のプラズマカーテンを形成し、放電領域１１全体はプラズマにより影響を受ける。
【００６８】
図２は、装置１の第二実施形態例の模式図を表わしている。同一及び機能的に同一な要素は、同一の符号を付してあるので、前述の説明が参照される。本実施形態例での磁場装置１５は、複数の棒磁石１７を備える。棒磁石１７は、円周方向から見て、好適には等しい角度間隔、すなわち対称に、第一電極３及び第二電極５の周りに配置される。棒磁石１７は、ここでも、磁場ベクトルＢが図２の像平面に対し垂直に配向されている。棒磁石１７の代わりに、磁場装置１５は電極３及び５の配列の周りに対応して配置される複数の電磁石、特にコイルを備えることもできる。装置１が、具体的には磁場装置１５が６つの棒磁石１７を備えることが特に望ましい。
【００６９】
棒磁石１７の配列又は空間的分散型のコイルの配列は、図１ｂ)に示すような、電極３及び５の配列を包含する、より大きなリングマグネット又は対応してより大きなコイルを備える磁場装置１５よりもより簡易でより経済的に製造できる。
【００７０】
しかしながら、放電フィラメント１３の放電領域１１に沿った回転を考慮すると、結果として生じる物理的効果は、図１ｂ)による第一実施形態例と図２による第二実施形態例とで同じである。ただ考慮しなくてはならないことは、一般的に、複数の棒磁石１７又は複数のコイルによって作成された磁場は、第一実施形態例の場合のようなリング状マグネット又は単一コイルによって作成された磁場よりも均質性に劣る。このため、図２による第二実施形態例の場合では、ローレンツ力が局地的に変化するため、放電フィラメント１３は放電領域１１内の円周線に沿った回転速度も変化する。
【００７１】
図３は、装置１の第三実施形態例の模式図を表わしている。同一及び機能的に同一な要素は、同一の符号を付してあるので、前述の説明が参照される。本実施形態例では、第一電極３及び第二電極５は両方ともロッド又は特にワイヤ状の電極として具現化され、相互に離間された距離を有する。ここでは永久磁石、特にリングマグネット又は棒磁石を備えることが望ましい磁場装置１５は、電極３及び５の配列に隣接して配置され、すなわちここでも、磁場ベクトルＢが図３の像平面に対し垂直に配向されている。代替的に磁場装置１５は電磁石又は少なくとも１つのコイルを備えることができる。電極３及び５に電位差が印加される場合、特に電極３と５との間の最短距離の位置において放電フィラメント１３が発生して、磁場によってローレンツ力が放電フィラメント１３に働く。それによって、電圧源７がもはや、放電を動かせなくなるように、放電フィラメント１３は、電極３と５との間の距離が終端領域１９にて遠くなりすぎるまで、電極３及び５の伸張（ここでは右向き）に沿って進んで、放電領域１１を掃引する。終端領域１９の具体的な位置は、特に電圧、つまり、電極３と５との間の電位差に依存する。放電が崩壊すると、電極３と５との間の最小距離の位置でこれは新たに始まり、前述の一連の動作を循環するように繰り返す。これもまた、特に時間平均で、放電領域１１内でプラズマカーテンを擬似的に形成することを引き起こし、特定の周期を有する放電フィラメント１３によって周期的に掃引される。そのため、この周波数は特に磁場の磁場強度及び放電フィラメント１３の起点と終端領域１９との間の電極３及び５の長さに依存する。
【００７２】
放電領域１１内での電極３と５との間の距離は、最小１ｍｍ乃至最大３０ｍｍの間であることが望ましい。
【００７３】
終端領域１９内での電極３と５との間の距離は、例えば３ｃｍとすることができる。
【００７４】
図４は、装置１の第四実施形態例の模式図を表わしている。同一及び機能的に同一な要素は、同一の符号を付してあるので、前述の説明が参照される。本実施形態例でも、電極３及び５はロッド又は具体的にはワイヤ状の電極として具現化されている。電極３と５との間の距離は、一部分において一定で、一部分において拡大する。すなわち、第一部分２０において一定で、第二部分２２において拡大する。このため、電極３及び５が相互から最短で放電フィラメント１３が最初に発生する所定位置２４が設けられる。
【００７５】
ここでは、磁場装置１５はストリップマグネットを備え、電極３及び５の配列に沿って伸びる。ここでも、磁場ベクトルＢが図４の像平面に対し垂直となるように配向されている。本実施形態例の装置１の動作は、上述の図３による第三実施形態例の動作と基本的に同一である。しかしながら、電極３と５との間で一定の距離を有する相対的に延長された均等な領域には、最終的に拡大する電極３及び５を有する第二部分が接続し、その中で終端領域１９が最終的に形成される。電極３及び５が相互に一定距離を有する第一部分は、好適には１００ｃｍまでの長さを有することができ、これは、特に、いかなる場合であっても、一続きに並べれば、現在入手可能なストリップマグネットがこの長さになるためである。そのため、そのような方法で実現される領域の長さは、入手可能なストリップマグネットの長さに特に依存し、いくつかのストリップマグネットを順番に並べることもできる。このように、放電領域１１の全長には、本質的な限界は基本的に設定されていない。実際における限界は、装置１の実用的な寸法に基づく一方で、他方では放電フィラメント１３が放電領域１１を掃引する際の望ましい周波数に基づいて、決定される。これらの周波数は、ストリップマグネットの磁場強度に特に依存し、他方では放電フィラメント１３の起点２４から終端領域１９までの電極３及び５の長さに依存する。ストリップマグネットの代わりに、電極３及び５の伸張に沿って、複数の棒磁石を相互に隣接して並べることも、電磁石、特にコイルを相互に隣接するように対応した形で並べることも可能である。
【００７６】
図５は、装置１の第五実施形態例の模式図を表わしている。同一及び機能的に同一な要素は、同一の符号を付してあるので、前述の説明が参照される。本実施形態例での第二電極５は、複数の開口部２１を有する平らな電極として具現化されている。ここで開口部２１は、円状に具現化されている。しかしながら、規則的又は不規則な境界を有する他の開口部、特に矩形の開口部又は例えば、図３及び４による実施形態例の電極３及び５の配向のタイプに対応するような所定の不規則なエッジを特徴に持つ開口部も考えられる。
【００７７】
第一電極３はここでは図示されていない。具体的に図示された実施形態例では、各開口部２１にはワイヤ又はロッド状の電極が中心に配置されることが望ましく、そのような電極の大半は互いに電気的に接続されることが望ましく、第二電極５の電位とは異なる共通電位に接続できる。他の実施形態の場合、第一電極３が、特に平坦電極５の表面に平行に、少なくとも１つの開口部２１の少なくとも１つのエッジに沿った範囲内まで少なくとも伸びることも可能である。この場合でも、第一電極３はワイヤ又はロッド状電極として具現化され得る。
【００７８】
ここでは、磁場装置１５は複数の棒磁石１７を備えているが、より明確にするため、符号１７は１つにのみ付している。棒磁石１７は開口部２１の周りに並べられ、磁場を発生させ、その磁場ベクトルが第二電極５の表面に対し垂直に配向されていることが望ましい。開口部２１で発生する放電フィラメントは、図１から４に関連して説明された方法で開口部２１中に伝搬する。ここで具体的に説明される実施形態例での動作挙動は、特に図２による実施形態例のようになる。
【００７９】
棒磁石１７の代わりに、電磁石、特にコイルを備えることも、電磁石及び棒磁石１７と両方とも備えることもできる。代替的に、各開口部２１又は場合によっては複数の開口部２１、特にそれぞれの場合において、リングマグネットによって包含されていることも可能である。複数の開口部２１に対する共通のリングマグネット又は共通のコイルもまた可能である。
【００８０】
様々な隣接するマグネット及び／又はコイルは、付随的に平行又は反平行の磁場を有することができる。
【００８１】
装置１の作動中、流体が開口部２１を通り、その後、開口部２１で発生したプラズマによって処置されることが望ましい。
【００８２】
図１から４による装置１の他の実施形態例の放電領域１１も、作動中に流体がそれらを通ることが望ましく、放電領域１１で処置される。
【００８３】
図５に図示されるように、円状の境界を有する開口部２１が選択される場合、開口部２１の総面積と開口部のない第二電極５の総面積が１:１の関係になることが根本的に可能である。ストリップマグネットと併用されることが望ましい、矩形状の境界を有する開口部又は実質的に矩形状の境界を有する開口部が選択される場合、開口部２１の総面積と開口部のない第二電極５の総面積が９:１の関係になることが可能で、これによって、好都合に、第二電極５を浸透する流体の流動抵抗は顕著に抑えられる。
【００８４】
図６は、装置１の第六実施形態例の模式図を表わしている。同一及び機能的に同一な要素は、同一の符号を付してあるので、前述の説明が参照される。装置１は、ここでは流管として具現化され、その中に第一電極３がロッド状電極として中心に、好適には同軸に配置される。第二電極５は、リング状電極として具現化され、ここでは中空の円筒状電極で、特に円筒の管状要素として具現化されている。そのため、第二電極５は、装置１の作動中、放電領域１１を浸透する流体の流管又は導電管として同時に機能する。その点において、装置１は、流体を放電領域１１を通して管部２３に沿って搬送できるように、放電領域１１に接触する流体内に管部２３を備える。そのため、管部２３は流体取込口２５及び流体排出口２７と接触する流体中にあり、流体取込口２５及び流体排出口２７は、特に可撓管の接続のためのネジ付コネクタ等のここには図示されていない、さらなる流体ラインに通じる接続要素である。
【００８５】
磁場装置１５は、ここでは放電領域１１内の電極３及び５の配列を包含するリングマグネットとして具現化されている。
【００８６】
そのため、図６による第六実施形態例の動作は、図１ｂ) による第一実施形態例に関して説明された動作と同一であり、それによって円環リング状放電領域１１に沿って伝搬する放電が発生する。磁場ベクトルＢは、第一電極３の長手伸張に平行となるように選択されることが望ましく、従って軸方向、特に装置１の長手方向に向かう。
【００８７】
放電路１１に沿った放電フィラメント１３の伝搬の動き及び放電領域１１を通る流体の流速は、放電領域１１を通過して流れる流体の全ての容積要素が放電フィラメント１３によって少なくとも一度は掃引されて相互に調整されることが望ましく、それによって移動流体としての観点から、擬似的に放電の特にプラズマカーテンが具現化され、それを通して流体が移動し、流体が処置される。その結果、流体から、臭気、アレルゲン、微生物、特に細菌、バクテリア、胞子、菌類及び／若しくはウイルス又は粒子、特にナノ粒子、好適には汚れ又はごみが清浄化されることが望ましい。
【００８８】
放電領域１１内を、主に大気圧又は好適には、低真空ではなく、特に中又は高真空でなく、高圧でもない、大気圧に近似する圧力が占めるように、流体が放電領域１１を通過して搬送されることが望ましい。
【００８９】
流体としては、空気、窒素、例えばアルゴン等の希ガス、ニ酸化炭素、ガス混合体又は例えば、水蒸気等の少なくとも１つの気体と１つの液体との混合体が使用されることが望ましい。
【００９０】
装置１は、特に住居、調理場、特に食事施設の調理場等の商業的調理場、畜舎若しくは食肉生産施設、化学工場、オフィス、工場、下水処理場、埋立地又は前述の物質又は他の物質の少なくとも１つからなる空気を浄化する必要のあるその他の施設で空気浄化装置として好都合に使用できる。この中に、例えば、診療所又は病院等の医療施設もまた当然含まれる。
【００９１】
つまり、装置１では、装置１の使用方法と用途によって、流体の効率的な浄化がほとんど労力を必要とせず低コストで可能となることがわかる。
【図１】
2018528578.tif 000004
【図２】
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【図３】
2018528578.tif 000006
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【国際調査報告】
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