【手続補正書】
【提出日】平成26年1月8日(2014.1.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＥＵＶ露光用感活性光線または感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成すること、
露光光源としてＥＵＶ光を用いて前記膜を露光すること、及び、
露光した前記膜を現像することを含むパターン形成方法であって、
前記ＥＵＶ露光用感活性光線または感放射線性樹脂組成物として、活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する繰り返し単位（Ａ）と、酸の作用により分解し、アルカリ水溶液に対する溶解性が増大する構造を有する繰り返し単位（Ｂ）を有する樹脂（Ｐ）、および、製膜により膜表面に偏在し保護膜を形成する化合物（Ｕ）を含有する組成物であって、化合物（Ｕ）の含有率が該組成物中の全固形分を基準として０．０１〜３０質量％であるＥＵＶ露光用感活性光線または感放射線性樹脂組成物を用いるパターン形成方法。
【請求項２】
化合物（Ｕ）の含有率が前記組成物中の全固形分を基準として０．１〜２０質量％である請求項１に記載のパターン形成方法。
【請求項３】
化合物（Ｕ）の含有率が前記組成物中の全固形分を基準として１〜１５質量％である請求項１に記載のパターン形成方法。
【請求項４】
繰り返し単位（Ａ）が、下記一般式（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位である請求項１〜３のいずれか１項に記載のパターン形成方法。
【化１】
2013257582.tif 000001
式中、
Ｒ04は、水素原子、置換又は無置換のアルキル基、置換又は無置換のシクロアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基又は置換又は無置換のアルコキシカルボニル基を表す。
Ｘ1’は、置換又は無置換のアリーレン基、置換又は無置換のアルキレン基、置換又は無置換のシクロアルキレン基、−Ｏ−、−ＳＯ2 −、−ＣＯ−、−Ｎ（Ｒ33）−又はこれらの複数を組み合わせた２価の連結基を表し、Ｒ33は、水素原子、置換又は無置換のアルキル基、置換又は無置換のシクロアルキル基、置換又は無置換のアルケニル基、置換又は無置換のアリール基又は置換又は無置換のアラルキル基を表す。但し、Ｘ1’は少なくとも１種のアリーレン基を含む。
Ａは、活性光線又は放射線の照射により分解して酸アニオンを生じる構造部位を表す。
【請求項５】
繰り返し単位（Ｂ）が、−Ａｒ−Ｏ−Ｂ０で表される基を含む請求項１〜４のいずれか１項に記載のパターン形成方法。ここで、−Ａｒ−は単環もしくは多環の置換基を有していてもよい２価の芳香族基を示し、Ｂ0は、Ａ0又は−ＣＯ−Ｏ−Ａ0基を示し、Ａ0は、−Ｃ（Ｒ01）（Ｒ02）（Ｒ03）、−Ｓｉ（Ｒ01）（Ｒ02）（Ｒ03）もしくは−Ｃ（Ｒ04）（Ｒ05）−Ｏ−Ｒ06基を示し、Ｒ01、Ｒ02、Ｒ03、Ｒ04及びＲ05は、同一または異なり、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基もしくはアリール基を示し、Ｒ06はアルキル基もしくはアリール基を示す。但し、Ｒ01〜Ｒ03の内少なくとも２つは水素原子以外の基であり、又、Ｒ01〜Ｒ03及びＲ04〜Ｒ06の内の２つの基が結合して環を形成してもよい。
【請求項６】
繰り返し単位（Ｂ）が、下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位である請求項１〜５のいずれか１項に記載のパターン形成方法。
【化２】
2013257582.tif 000002
式中、Ｒ01、Ｒ02及びＲ03は、各々独立に、水素原子、置換又は無置換のアルキル基、置換又は無置換のシクロアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基又は置換又は無置換のアルコキシカルボニル基を表す。またＲ03は、置換又は無置換のアルキレン基を表し、Ａｒ１と結合して５員若しくは６員環を形成していてもよい。  
Ａｒ1は、芳香環基を表す。  
ｎ個のＹは、各々独立に、水素原子又は酸の作用により脱離する基を表す。但し、Ｙの少なくとも１つは、酸の作用により脱離する基を表す。  
ｎは、１〜４の整数を表す。
【請求項７】
樹脂（Ｐ）が、更に、下記一般式（ＶＩ）で表される繰り返し単位（Ｃ）を有する請求項１〜６のいずれか１項に記載のパターン形成方法。
【化３】
2013257582.tif 000003
式中、Ｒ01、Ｒ02及びＲ03は、各々独立に、水素原子、置換又は無置換のアルキル基、置換又は無置換のシクロアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基又は置換又は無置換のアルコキシカルボニル基を表す。またＲ03は、置換又は無置換のアルキレン基を表し、Ａｒ１と結合して５員若しくは６員環を形成していてもよい。
Ａｒ1は、芳香環基を表す。
ｎは、１〜４の整数を表す。
【請求項８】
化合物（Ｕ）が樹脂であり、下記（ｘ）〜（ｚ）の群から選ばれる基を少なくとも１つ有する請求項１〜７のいずれか１項に記載のパターン形成方法。
（ｘ）アルカリ可溶性基、
（ｙ）アルカリ現像液の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する基、
（ｚ）酸の作用により分解する基。
【請求項９】
活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する繰り返し単位（Ａ）と、酸の作用により分解し、アルカリ水溶液に対する溶解性が増大する構造を有する繰り返し単位（Ｂ）を有する樹脂（Ｐ）、および、製膜により膜表面に偏在し保護膜を形成する化合物（Ｕ）を含有するＥＵＶ露光用感活性光線または感放射線性樹脂組成物であって、化合物（Ｕ）の含有率が前記組成物中の全固形分を基準として０．０１〜３０質量％であり、且つ、繰り返し単位（Ｂ）が、−Ａｒ−Ｏ−Ｂ０で表される基を含むＥＵＶ露光用感活性光線または感放射線性樹脂組成物。ここで、−Ａｒ−は単環もしくは多環の置換基を有していてもよい２価の芳香族基を示し、Ｂ0は、Ａ0又は−ＣＯ−Ｏ−Ａ0基を示し、Ａ0は、−Ｃ（Ｒ01）（Ｒ02）（Ｒ03）、−Ｓｉ（Ｒ01）（Ｒ02）（Ｒ03）もしくは−Ｃ（Ｒ04）（Ｒ05）−Ｏ−Ｒ06基を示し、Ｒ01、Ｒ02、Ｒ03、Ｒ04及びＲ05は、同一または異なり、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基もしくはアリール基を示し、Ｒ06はアルキル基もしくはアリール基を示す。但し、Ｒ01〜Ｒ03の内少なくとも２つは水素原子以外の基であり、又、Ｒ01〜Ｒ03及びＲ04〜Ｒ06の内の２つの基が結合して環を形成してもよい。
【請求項１０】
化合物（Ｕ）の含有率が前記組成物中の全固形分を基準として０．１〜２０質量％である請求項９に記載のＥＵＶ露光用感活性光線または感放射線性樹脂組成物。
【請求項１１】
化合物（Ｕ）の含有率が前記組成物中の全固形分を基準として１〜１５質量％である請求項９に記載のＥＵＶ露光用感活性光線または感放射線性樹脂組成物。
【請求項１２】
繰り返し単位（Ａ）が、下記一般式（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位である請求項９〜１１のいずれか１項に記載のＥＵＶ露光用感活性光線または感放射線性樹脂組成物。
【化４】
2013257582.tif 000004
式中、
Ｒ04は、水素原子、置換又は無置換のアルキル基、置換又は無置換のシクロアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基又は置換又は無置換のアルコキシカルボニル基を表す。
Ｘ1’は、置換又は無置換のアリーレン基、置換又は無置換のアルキレン基、置換又は無置換のシクロアルキレン基、−Ｏ−、−ＳＯ2 −、−ＣＯ−、−Ｎ（Ｒ33）−又はこれらの複数を組み合わせた２価の連結基を表し、Ｒ33は、水素原子、置換又は無置換のアルキル基、置換又は無置換のシクロアルキル基、置換又は無置換のアルケニル基、置換又は無置換のアリール基又は置換又は無置換のアラルキル基を表す。但し、Ｘ1’は少なくとも１種のアリーレン基を含む。
Ａは、活性光線又は放射線の照射により分解して酸アニオンを生じる構造部位を表す。
【請求項１３】
繰り返し単位（Ｂ）が、下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位である請求項９〜１２のいずれか１項に記載のＥＵＶ露光用感活性光線または感放射線性樹脂組成物。
【化５】
2013257582.tif 000005
式中、Ｒ01、Ｒ02及びＲ03は、各々独立に、水素原子、置換又は無置換のアルキル基、置換又は無置換のシクロアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基又は置換又は無置換のアルコキシカルボニル基を表す。またＲ03は、置換又は無置換のアルキレン基を表し、Ａｒ１と結合して５員若しくは６員環を形成していてもよい。  
Ａｒ1は、芳香環基を表す。  
ｎ個のＹは、各々独立に、水素原子又は酸の作用により脱離する基を表す。但し、Ｙの少なくとも１つは、酸の作用により脱離する基を表す。  
ｎは、１〜４の整数を表す。
【請求項１４】
樹脂（Ｐ）が、更に、下記一般式（ＶＩ）で表される繰り返し単位（Ｃ）を有する請求項９〜１３のいずれか１項に記載のＥＵＶ露光用感活性光線又は感放射線性樹脂組成物。
【化６】
2013257582.tif 000006
式中、Ｒ01、Ｒ02及びＲ03は、各々独立に、水素原子、置換又は無置換のアルキル基、置換又は無置換のシクロアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基又は置換又は無置換のアルコキシカルボニル基を表す。またＲ03は、置換又は無置換のアルキレン基を表し、Ａｒ１と結合して５員若しくは６員環を形成していてもよい。
Ａｒ1は、芳香環基を表す。
ｎは、１〜４の整数を表す。
【請求項１５】
化合物（Ｕ）が樹脂であり、下記（ｘ）〜（ｚ）の群から選ばれる基を少なくとも１つ有する請求項９〜１４のいずれか１項に記載のＥＵＶ露光用感活性光線又は感放射線性樹脂組成物。
（ｘ）アルカリ可溶性基、
（ｙ）アルカリ現像液の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する基、
（ｚ）酸の作用により分解する基。