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【手続補正書】
【提出日】平成25年12月17日(2013.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板上に設けられ、前記基板の表面に対して直交する方向に平面波として伝搬する超音波を発信する超音波トランスデューサーと、
前記超音波トランスデューサー上に配置され、前記超音波トランスデューサーから発信された超音波を屈折させる音響屈折部と、
前記音響屈折部上に設けられる弾性変形可能な弾性膜と、
前記弾性膜の内部に設けられ、超音波を反射可能な超音波反射体と、
を備え、
前記音響屈折部は、前記超音波トランスデューサーから発信された超音波を前記超音波反射体に向かって屈折させる
ことを特徴とする超音波センサー。
【請求項２】
請求項１に記載の超音波センサーにおいて、
前記超音波反射体は、球体である
ことを特徴とする超音波センサー。
【請求項３】
請求項１に記載の超音波センサーにおいて、
前記超音波反射体は、複数の反射面を有する多面体である
ことを特徴とする超音波センサー。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれかに記載の超音波センサーにおいて、
前記音響屈折部は、前記超音波トランスデューサーから発信される超音波の進行上に、前記基板の表面に対して傾斜する傾斜平面を備え、
前記傾斜平面は、
前記傾斜平面の法線方向と、前記超音波トランスデューサーから発信される超音波の発信方向との成す角度をθ１、前記傾斜平面の法線方向と、当該傾斜平面から超音波反射体に向かう方向との成す角度をθ２、前記音響屈折部内の音速をＣ１、前記弾性膜内の音速をＣ２とした場合、（ｓｉｎθ１）／Ｃ１＝（ｓｉｎθ２）／Ｃ２の関係を満たす傾斜角度に形成された
ことを特徴とする超音波センサー。
【請求項５】
請求項１から請求項３のいずれかに記載の超音波センサーにおいて、
前記音響屈折部は、前記超音波トランスデューサーから発信される超音波の進行上に、凹曲面を備え、
前記凹曲面は、前記超音波を前記超音波反射体に向かって収束させる曲率に形成された  ことを特徴とする超音波センサー。
【請求項６】
請求項１から請求項３のいずれかに記載の超音波センサーにおいて、
前記音響屈折部は、前記超音波トランスデューサーから発信される超音波の進行上に、凸曲面を備えた
ことを特徴とする超音波センサー。
【請求項７】
請求項１から請求項６のいずれかに記載の超音波センサーにおいて、
前記基板上には、
前記弾性膜、前記超音波反射体、前記超音波トランスデューサー、および前記音響屈折部により構成されたセンサー本体が複数アレイ状に配置された
ことを特徴とする超音波センサー。
【請求項８】
請求項７に記載の超音波センサーにおいて、
前記基板上の隣り合う前記センサー本体の間には、空気中に超音波を発信するとともに、前記接触物にて反射された超音波を受信する近接検出用超音波素子が設けられた
ことを特徴とする超音波センサー。
【請求項９】
請求項１から請求項８のいずれかに記載の超音波センサーと、
前記超音波センサーの前記超音波トランスデューサーの超音波の発信および受信を制御する制御部と、
を備えたことを特徴とする触覚センサー。
【請求項１０】
請求項９に記載の触覚センサーにおいて、
前記制御部は、
前記超音波トランスデューサーから超音波を発信させる超音波発信制御部と、
前記超音波トランスデューサーの超音波の発信タイミングから、前記超音波反射体により反射された超音波が前記超音波トランスデューサーにより受信される受信タイミングまでの時間を計測する時間計測部と、
前記時間計測部により計測された時間に基づいて、前記超音波反射体の移動量および移動方向を算出する移動量算出部と、
を備えたことを特徴とする触覚センサー。
【請求項１１】
請求項１０に記載の触覚センサーにおいて、
前記制御部は、
前記移動量算出部により算出された前記超音波反射体の移動量および移動方向と、前記弾性膜のヤング率とに基づいて、前記弾性膜に作用する応力を算出する応力算出部を備える
ことを特徴とする触覚センサー。
【請求項１２】
請求項１１に記載の触覚センサーにおいて、
前記超音波センサーは、前記基板上に、前記弾性膜、前記超音波反射体、前記超音波トランスデューサー、および前記音響屈折部により構成されたセンサー本体を複数備えるとともに、前記複数のセンサー本体がアレイ状に配置されて構成され、
当該触覚センサーは、
前記弾性膜に作用する応力に対する、前記弾性膜に接触した接触物の状態が記録された相関データを記憶する記憶部と、
前記応力算出部により算出された前記応力と、前記相関データに基づいて、前記接触物の状態を判別する接触物判別部と、
を備えたことを特徴とする触覚センサー。
【請求項１３】
請求項９から請求項１２のいずれかに記載の触覚センサーを備え、対象物を把持する把持装置であって、
前記対象物を把持するとともに、前記対象物に接触する接触面に前記触覚センサーが設けられる少なくとも一対の把持アームと、
前記触覚センサーから出力される信号に基づいて、前記対象物のすべり状態を検出する把持検出手段と、
前記すべり状態に基づいて、前記把持アームの駆動を制御する駆動制御手段と、
を備えることを特徴とする把持装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月16日(2013.12.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板上に設けられた複数の超音波素子と、
前記複数の超音波素子上に配置される弾性変形可能な弾性膜と、
前記弾性膜の内部に設けられ、超音波を反射可能な超音波反射体と、
を備え、
前記超音波反射体は、前記超音波素子に対向する素子対向面を、前記複数の超音波素子の各々に対応して複数有する
ことを特徴とする超音波センサー。
【請求項２】
請求項１に記載の超音波センサーにおいて、
前記基板の表面に沿う一軸をＸ軸とし、前記基板の表面に沿いＸ軸に直交する方向をＹ軸、およびＸ軸とＹ軸に直交する方向をＺ軸とした際に、
前記超音波反射体は、
前記基板に最も近い位置に位置する頂部と、
前記頂部からＸ軸における＋Ｘ方向に連続して設けられる第一素子対向面と、
前記頂部からＸ軸における−Ｘ方向に連続して設けられる第二素子対向面と、
を有し、
前記第一素子対向面は、Ｙ軸に対して平行な直線と、ＸＺ平面で＋Ｘ方向に向かうに従って前記基板から離れる第一傾斜角度で傾斜した直線と、で規定される平面であり、
前記第二素子対向面は、Ｙ軸に対して平行な直線と、ＸＺ平面で−Ｘ方向に向かうに従って前記基板から離れる第二傾斜角度で傾斜した直線と、で規定される平面であり、
前記基板上には、前記第一素子対向面に対向する第一超音波素子、および前記第二素子対向面に対向する第二超音波素子がＸ軸に沿って配設されている
ことを特徴とする超音波センサー。
【請求項３】
請求項２に記載の超音波センサーにおいて、
前記第一傾斜角度および前記第二傾斜角度は、Ｘ軸に対して４５度である
ことを特徴とする超音波センサー。
【請求項４】
請求項２または請求項３に記載の超音波センサーにおいて、
前記超音波反射体は、
前記頂部からＹ軸における＋Ｙ方向に連続して設けられる第三素子対向面と、
前記頂部からＹ軸における−Ｙ方向に連続して設けられる第四素子対向面と、
を有し、
前記第三素子対向面は、Ｘ軸に対して平行な直線と、ＹＺ平面で＋Ｙ方向に向かうに従って前記基板から離れる第三傾斜角度で傾斜した直線と、で規定される平面であり、
前記第四素子対向面は、Ｘ軸に対して平行な直線と、ＹＺ平面で−Ｙ方向に向かうに従って前記基板から離れる第四傾斜角度で傾斜した直線と、で規定される平面であり、
前記基板上には、前記第三素子対向面に対向する第三超音波素子、および前記第四素子対向面に対向する第四超音波素子がＹ軸に沿って配設されている
ことを特徴とする超音波センサー。
【請求項５】
請求項４に記載の超音波センサーにおいて、
前記第三傾斜角度および前記第四傾斜角度は、Ｙ軸に対して４５度である
ことを特徴とする超音波センサー。
【請求項６】
請求項２から請求項５のいずれかに記載の超音波センサーにおいて、
前記頂部は、前記基板の表面に対して平行な第五素子対向面であり、
前記基板上には、前記第五素子対向面に対向する第五超音波素子が配設されている
ことを特徴とする超音波センサー。
【請求項７】
請求項６に記載の超音波センサーにおいて、
前記超音波反射体は、四角錐台形状である
ことを特徴とする超音波センサー。
【請求項８】
請求項１から請求項７のいずれかに記載の超音波センサーにおいて、
前記基板上には、
前記弾性膜、前記超音波反射体、および前記超音波反射体の複数の前記素子対向面に対向する複数の前記超音波素子により構成されたセンサー本体が複数アレイ状に配置された  ことを特徴とする超音波センサー。
【請求項９】
請求項８に記載の超音波センサーにおいて、
前記基板上の隣り合う前記センサー本体の間には、空気中に超音波を発信するとともに、接触物にて反射された超音波を受信する近接検出用超音波素子が設けられた
ことを特徴とする超音波センサー。
【請求項１０】
請求項１から請求項９のいずれかに記載の超音波センサーと、
前記超音波センサーの各超音波素子の超音波の発信および受信を制御する制御部と、
を備えたことを特徴とする触覚センサー。
【請求項１１】
請求項１０に記載の触覚センサーおいて、
前記制御部は、
前記超音波素子から超音波を発信させる超音波発信制御部と、
前記超音波素子の超音波の発信タイミングから、前記超音波反射体により反射された超音波が前記超音波素子により受信される受信タイミングまでの時間を計測する時間計測部と、
前記時間計測部により計測された時間に基づいて、前記超音波反射体の移動量および移動方向を算出する移動量算出部と、
を備えたことを特徴とする触覚センサー。
【請求項１２】
請求項１１に記載の触覚センサーにおいて、
前記制御部は、
前記移動量算出部により算出された前記超音波反射体の移動量および移動方向と、前記弾性膜のヤング率とに基づいて、前記弾性膜に作用する応力を算出する応力算出部を備える
ことを特徴とする触覚センサー。
【請求項１３】
請求項１２に記載の触覚センサーにおいて、
前記超音波センサーは、前記基板上に、前記弾性膜、前記超音波反射体、および前記超音波反射体の複数の前記素子対向面に対向する複数の前記超音波素子が配置されて構成されたセンサー本体を複数備えるとともに、前記複数のセンサー本体がアレイ状に配置されて構成され、
当該触覚センサーは、
前記弾性膜に作用する応力に対する、前記弾性膜に接触した接触物の状態が記録された相関データを記憶する記憶部と、
前記応力算出部により算出された前記応力と、前記相関データに基づいて、前記接触物の状態を判別する接触物判別部と、
を備えたことを特徴とする触覚センサー。
【請求項１４】
請求項１０から請求項１３のいずれかに記載の触覚センサーを備え、対象物を把持する把持装置であって、
前記対象物を把持するとともに、前記対象物に接触する接触面に前記触覚センサーが設けられる少なくとも一対の把持アームと、
前記触覚センサーから出力される信号に基づいて、前記対象物のすべり状態を検出する把持検出手段と、
前記すべり状態に基づいて、前記把持アームの駆動を制御する駆動制御手段と、
を備えることを特徴とする把持装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月14日(2013.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
加工物の表面欠陥を検出する検出器と、
前記検出器の位置を操作するロボットと、
前記検出器が前記加工物の表面をスキャンするために前記ロボットを操作するロボットコントローラと、
前記検出器が前記加工物の表面欠陥を検出したときの前記表面欠陥の位置情報または表面欠陥を検出したときの前記ロボットの姿勢情報を記憶する記憶装置と、
前記加工物の表面を指し示す光を照射する指示器と、
記憶された前記表面欠陥の位置情報または前記ロボットの姿勢情報に対応する前記表面欠陥の位置に光を照射するように前記指示器が照射する光の角度を操作する指示器コントローラと、
を備える表面欠陥検出・指示システム。
【請求項２】
前記ロボットコントローラは、前記加工物を前記ロボットの動作範囲内に置いた状態で前記検出器が前記加工物の表面をスキャンするものであり、
前記指示器は、前記加工物を前記ロボットの動作範囲外に置いた状態で前記加工物の表面を指し示すものである
ことを特徴とする請求項１に記載の表面欠陥検出・指示システム。
【請求項３】
前記記憶装置または別の記憶装置に前記加工物の表面をスキャンするための前記ロボットの軌道を教示データとして記憶させ、
前記教示データは前記加工物の表面と前記検出器との間の距離と角度を一定に保つように作成され、
前記ロボットコントローラは記憶された前記教示データに従って前記ロボットを操作し、
前記表面欠陥の位置は前記加工物の表面と前記検出器との間の距離と角度の情報と記憶された前記ロボットの姿勢情報に基づいて特定される
ことを特徴とする請求項１に記載の表面欠陥検出・指示システム。
【請求項４】
前記検出器の受光部は画像データを取得するカメラであって、
前記記憶装置または別の記憶装置に前記検出器で表面欠陥が検出されたときの画像データを記憶させ、
前記記憶装置または別の記憶装置に前記加工物の表面をスキャンするための前記ロボットの軌道を教示データとして記憶させ、
前記教示データは前記加工物の表面と前記検出器との間の距離と角度を一定に保つように作成され、
前記ロボットコントローラは記憶された前記教示データに従って前記ロボットを操作し、
前記表面欠陥の位置は前記加工物の表面と前記検出器との間の距離と角度の情報と記憶された前記ロボットの姿勢情報と記憶された前記画像データ中に占める表面欠陥の位置に基づいて特定される
ことを特徴とする請求項１に記載の表面欠陥検出・指示システム。
【請求項５】
前記検出器の受光部は画像データを取得するカメラであって、
前記記憶装置または別の記憶装置に前記検出器で表面欠陥が検出されたときの画像データを記憶させ、
前記画像データを画面表示させるディスプレイを更に備え、
前記ディスプレイが記憶された前記画像データを画面表示させるのと合わせて前記指示器コントローラが前記画像データに対応する表面欠陥に向けて光を照射する
ことを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれかに記載の表面欠陥検出・指示システム。
【請求項６】
請求項１ないし請求項５のいずれかに記載の表面欠陥検出・指示システムを備えた加工物の製造設備において、
前記加工物に対して、塗装、研磨、あるいは、薬品処理などといった表面処理を行う表面処理工程と、
前記検出器が前記加工物の表面をスキャンするように前記ロボットコントローラが前記ロボットを操作し、前記検出器が前記加工物の表面欠陥を検出したときには、前記表面欠陥の位置情報または表面欠陥を検出したときの前記ロボットの姿勢情報を前記記憶装置に記憶する検査工程と、
記憶された前記表面欠陥の位置情報または前記ロボットの姿勢情報に対応する前記表面欠陥の位置に光を照射するように、前記指示器コントローラが前記指示器の照射する光の角度を操作するとともに、その照射した光が指し示す前記加工物の表面部位に対して、再塗装、再研磨、あるいは、再薬品処理などといった再表面処理を行う再表面処理工程と、
によって加工物の表面処理を行うことを特徴とする表面処理の伴う加工物の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月24日(2013.12.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】撮像装置、制御プログラムおよび制御方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１または複数のレンズからなるレンズ群を有する光学系と、前記光学系によって集光された光を受光して電子的な画像データを生成する撮像部とを備え、前記光学系の光軸を変位させることが可能な撮像装置であって、
前記光学系の光軸の変位量を検出する変位量検出部と、
前記撮像部が生成した画像データに対応する画像を表示可能な表示部と、
前記変位量検出部の検出結果に基づいて前記光学系の合焦制御のための領域情報を前記画像とともに前記表示部に表示させる表示制御部と、
を備えたことを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記表示制御部は、
前記変位量検出部が検出した前記変位量が限界値に達している場合、変位限界に達していることを報知する変位限界警告情報を前記表示部に表示させることを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記表示制御部は、
前記光学系から合焦位置までの距離が、該光学系の光軸の変位量に応じて定まる最至近距離より小さい場合、前記合焦位置が至近限界より近いことを報知する至近限界警告情報を前記表示部に表示させることを特徴とする請求項１または２に記載の撮像装置。
【請求項４】
当該撮像装置の視野領域へ向けて補助光を照射する補助光照射部と、
前記光学系の光軸の変位量および前記光学系から合焦位置までの距離に応じて前記補助光照射部の照射量を調節する調光部と、
をさらに備えたことを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の撮像装置。
【請求項５】
前記光学系は、当該撮像装置の本体部に対して着脱自在であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の撮像装置。
【請求項６】
１または複数のレンズからなるレンズ群を有する光学系と、前記光学系によって集光された光を受光して電子的な画像データを生成する撮像部と、前記撮像部が生成した画像データに対応する画像を表示可能な表示部とを備え、前記光学系の光軸を変位させることが可能な撮像装置に、
前記光学系の光軸の変位量を検出する変位量検出ステップと、
前記変位量検出ステップの検出結果に基づいて前記光学系の合焦制御のための領域情報を前記画像とともに前記表示部に表示させる表示制御ステップと、
を実行させることを特徴とする制御プログラム。
【請求項７】
１または複数のレンズからなるレンズ群を有する光学系と、前記光学系によって集光された光を受光して電子的な画像データを生成する撮像部と、前記撮像部が生成した画像データに対応する画像を表示可能な表示部とを備え、前記光学系の光軸を変位させることが可能な撮像装置が行う制御方法であって、
前記光学系の光軸の変位量を検出する変位量検出ステップと、
前記変位量検出ステップの検出結果に基づいて前記光学系の合焦制御のための領域情報を前記画像とともに前記表示部に表示させる表示制御ステップと、
を有することを特徴とする制御方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月19日(2013.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
先ず、第１レンズ１０及び第４レンズ１４として、シリコン（Ｓi）、カルコゲナイドガラス、硫化亜鉛（ＺｎＳ）の何れかによって作製されたものを用いる。
さらに、第２レンズ１１及び第３レンズ１３として、樹脂材料で作製されたレンズを用いるものとし、なおかつ、これら第２レンズ１１及び第３レンズ１３としては、物体側の面又は像面側の面の少なくとも一方の面を非球面として、収差補正機能をもたせる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
但し、単に樹脂製のレンズを配したのみでは、それら樹脂製のレンズの紫外線に依る性能劣化を避けることができない。そこで本実施の形態では、上記のように第２レンズ１１及び第３レンズ１３を、シリコン、カルコゲナイトガラス、硫化亜鉛の何れかで構成された第１レンズ１０及び第４レンズ１４により挟み込むように配している。
ここで、シリコン、カルコゲナイトガラス、硫化亜鉛の何れかで構成された第１レンズ１０及び第４レンズ１４は、可視光領域の透過率が低い結晶質材料で構成されていることになる。通常、光学系における各レンズは鏡筒内に配置され、当該鏡筒の端部に位置するレンズ以外のレンズは、可視光の直接的な照射を受けることはない。この点を考慮すれば、上記の構成により、樹脂製の第２レンズ１１及び第３レンズ１３を可視光から有効に保護できることが分かる。
このように樹脂製のレンズの可視光からの保護が図られることで、製品出荷後の実際の使用に伴う経時的な性能劣化を抑制して、より安定な赤外線光学系を実現することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
実施例２の場合の各レンズの形状（及び開口絞り１２）についての係数及び面間隔を図８に示す。
なお、面番号の定義は実施例１の場合と同様とである。
また、この場合も面Ｓ０としての物体は、対物レンズである第１レンズ１０から１０００ｍｍ離れた位置に設定している。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
ここで、この場合としても、第１レンズ１０及び第４レンズ１４で用いるＳｉの屈折率、第２レンズ１１及び第３レンズ１３で用いる高密度ポリエチレンの屈折率、開口絞り１２の直径、焦点距離、Ｆナンバ、水平画角の各値は、実施例１の場合と同様である。
また、第２レンズ１１及び第３レンズ１３の厚さについては、前述の最大光線長が共に０．９３ｍｍとなるように設定した（すなわち最大光線長≦１）。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７１】
実施例３の場合の各レンズの形状（及び開口絞り１２）についての係数及び面間隔を図１１に示す。
なお、面番号の定義は実施例１の場合と同様とである。
また、この場合も面Ｓ０としての物体は、対物レンズである第１レンズ１０から１０００ｍｍ離れた位置に設定している。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月22日(2014.10.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
照明光を出力する照明装置と、
前記照明光を変調して映像を出力する表示パネルと、
前記照明装置および前記表示パネルを駆動する駆動回路と
を備え、
前記照明装置は、
離間して互いに対向配置された一対の透明基板と、
前記一対の透明基板のいずれか一方の側面に配置された光源と、
前記一対の透明基板の双方の表面に設けられた電極と、
前記一対の透明基板の間隙に設けられた光変調層と
を有し、
前記電極は、前記一対の透明基板の側面のうち前記光源からの光が入射する光入射面と直交する方向に配列された複数の部分電極を有し、
前記光変調層は、前記電極によって生じる電場の大きさおよび方向に応じて、前記光源からの光に対して全体的もしくは部分的に散乱性もしくは透明性を示し、
前記駆動回路は、前記複数の部分電極を所定の単位ごとに順次駆動することにより、前記光変調層のうち散乱性を示す部分を前記光入射面と直交する方向に走査する
表示装置。
【請求項２】
前記表示パネルは、２次元配置された複数の画素を有し、
前記複数の部分電極は、前記複数の画素の１つの配列方向と平行な第１の方向に配列されており、
前記駆動回路は、前記複数の画素を所定の単位ごとに前記第１の方向に順次駆動するとともに、前記複数の部分電極を前記複数の画素の駆動と同期して駆動する
請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記駆動回路は、常時、前記光源を点灯させる
請求項１または請求項２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記光源は、独立駆動可能な複数の点光源を有し、
前記駆動回路は、映像信号に応じて前記複数の点光源の全部または一部を点灯させる
請求項１または請求項２に記載の表示装置。
【請求項５】
前記一対の透明基板のうち前記光源が側面に配置された基板は、その表面または内部に、前記第１の方向に延在する帯状の複数の凸部を有する
請求項４に記載の表示装置。
【請求項６】
前記駆動回路は、前記光変調層が散乱性を示している時に前記光源を点灯させ、前記光変調層が全領域で透明性を示している時に前記光源を消灯させる
請求項１または請求項２に記載の表示装置。
【請求項７】
前記光源は、前記導光板の側面のうち互いに対向する第１側面および第２側面にそれぞれ配置され、
前記駆動回路は、前記複数の部分電極を所定の単位ごとに順次駆動すると共に、駆動対象の部分電極が前記第１側面寄りに位置しているときには前記第１側面に配置された光源を前記第２側面に配置された光源よりも明るくし、駆動対象の部分電極が前記第２側面寄りに位置しているときには前記第２側面に配置された光源を前記第１側面に配置された光源よりも明るくする
請求項１、請求項２、請求項４、請求項５または請求項６に記載の表示装置。
【請求項８】
前記駆動回路は、前記複数の部分電極のうち駆動対象の部分電極の、前記光源からの距離に応じて、前記光源の光量を調整する
請求項１ないし請求項７のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項９】
各部分電極は、複数の細線電極からなり、
前記駆動回路は、前記複数の部分電極を所定の単位ごとに順次駆動する際に、駆動対象の部分電極に含まれる複数の細線電極に対して、前記光源からの距離に応じて変調された電圧を印加する
請求項１ないし請求項８のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項１０】
前記駆動回路は、前記複数の部分電極を所定の単位ごとに順次駆動する際に、駆動対象の部分電極に隣接する他の部分電極に含まれる１または複数の細線電極に対して、当該細線電極Ｂが駆動対象の部分電極に該当しているときに印加する電圧の波高値よりも小さな波高値の電圧を印加する
請求項９に記載の表示装置。
【請求項１１】
各部分電極は、パターニングされたものであり、
各部分電極のパターン密度が前記光源からの距離に応じて異なっている
請求項１ないし請求項１０のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項１２】
各部分電極は、複数の開口を有し、
前記開口の径は、前記光源からの距離に拘わらず一定となっており、
前記開口の密度が、前記光源からの距離に応じて異なっている
請求項１１に記載の表示装置。
【請求項１３】
各部分電極は、複数の開口を有し、
前記開口の径が、前記光源からの距離に応じて異なっており、
前記開口の密度が、前記光源からの距離に応じて異なっている
請求項１１に記載の表示装置。
【請求項１４】
各部分電極は、前記光入射面と平行な方向に延在する帯状の形状となっており、
前記光変調素子は、前記光入射面と平行な方向に延在するとともに、各部分電極に１つずつ電気的に接続された複数の金属配線を有する
請求項１ないし請求項１３のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項１５】
離間して互いに対向配置された一対の透明基板と、
前記一対の透明基板のいずれか一方の側面に配置された光源と、
前記一対の透明基板の双方の表面に設けられた電極と、
前記一対の透明基板の間隙に設けられた光変調層と、
前記光源および前記電極を駆動する駆動回路と
を有し、
前記電極は、前記一対の透明基板の側面のうち前記光源からの光が入射する光入射面と直交する方向に配列された複数の部分電極を有し、
前記光変調層は、前記電極によって生じる電場の大きさおよび方向に応じて、前記光源からの光に対して全体的もしくは部分的に散乱性もしくは透明性を示し、
前記駆動回路は、前記複数の部分電極を所定の単位ごとに順次駆動することにより、前記光変調層のうち散乱性を示す部分を前記光入射面と直交する方向に走査する
照明装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年3月31日(2014.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】液晶表示装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ｍ行ｎ列（ｍは２以上の偶数、ｎは２以上の自然数）に配設された複数の画素を有する画素部を含み、
異なる色を呈する光を発する複数の光源が順次点灯し、前記画素毎に光の透過を制御することで前記画素部において画像を形成する液晶表示装置であって、
Ｂ行目（ＢはＡ未満の自然数、Ａはｍ／２以下の自然数）に配設された画素に対して画像信号を供給し、次いで（Ａ＋Ｂ）行目に配設された画素に対して画像信号を供給する第Ｂの期間を有し、
第１の期間から順次、第（Ａ−１）の期間を有し、
第Ｂの期間の後に、１行目乃至Ｂ行目用光源、及び、（Ａ＋１）行目乃至（Ａ＋Ｂ）行目用光源を点灯させることを特徴とする液晶表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月10日(2014.4.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像データを生成する画像生成部と；
画像表示装置への前記画像データの送信、および、前記画像表示装置の表示面における前記画像データの表示向きに関する情報の受信を行う通信部と；
を備え、
前記画像生成部は、前記通信部により受信される前記表示向きに関する情報に応じて前記画像データを生成する、画像生成装置。
【請求項２】
前記画像表示装置の表示面における前記画像データの表示向きは前記画像表示装置の姿勢に応じて変更され、
前記表示向きに関する情報は、前記画像表示装置の姿勢を示す情報である、請求項１に記載の画像生成装置。
【請求項３】
前記画像生成部は、前記表示向きに関する情報により特定される表示向きに適合するように前記画像データを生成する、請求項１または２に記載の画像生成装置。
【請求項４】
前記通信部は、前記画像表示装置が前記画像データの表示向きを前記画像表示装置の姿勢に応じて変更する表示変更機能を有するか否かを示すケーパビリティ情報を受信し、
前記画像生成部は、前記画像表示装置が前記表示変更機能を有することを前記ケーパビリティ情報が示す場合、前記表示向きに関する情報に応じて前記画像データを生成する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の画像生成装置。
【請求項５】
前記通信部は、前記画像生成装置が前記表示向きに関する情報に応じて前記画像データを生成する機能を有することを示す情報を前記画像表示装置に送信し、
前記情報の送信に基づいて前記画像表示装置から前記表示向きに関する情報の送信が開始される、請求項１〜４のいずれか一項に記載の画像生成装置。
【請求項６】
コンピュータを、
画像データを生成する画像生成部と；
画像表示装置への前記画像データの送信、および、前記画像表示装置の表示面における前記画像データの表示向きに関する情報の受信を行う通信部と；
を備え、
前記画像生成部は、前記通信部により受信される前記表示向きに関する情報に応じて前記画像データを生成する、画像生成装置として機能させるための、プログラム。
【請求項７】
表示部、および、
前記表示部における画像データの表示向きに関する情報を送信する送信部、
を有する画像表示装置と；
画像データを生成する画像生成部、
前記画像表示装置への前記画像データの送信、および、前記表示向きに関する情報の受信を行う通信部、
を有し、
前記画像生成部は、前記通信部により受信される前記表示向きに関する情報に応じて前記画像データを生成する、画像生成装置と；
を備える、画像表示システム。
【請求項８】
走査線ごとに第１の画像データまたは第２の画像データを割り当てる表示方式に対応している表示部と、
前記第１の画像データおよび前記第２の画像データが並べて配置されたフレーム画像データを生成する画像生成装置に、前記第１の画像データおよび前記第２の画像データの配置方向を指示する情報を送信する送信部と、
を備え、
前記送信部は、前記表示部に表示される画像データの水平方向が前記走査線の形成方向である場合には垂直方向の配置を指示する情報を送信し、前記画像データの水平方向が前記走査線の形成方向と交差する場合には水平方向の配置を指示する情報を送信する、画像表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月4日(2014.7.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
各々が識別可能な複数種類の識別情報を変動表示する変動表示部に導出表示された識別情報の表示結果が予め定められた特定表示結果となったときに、遊技者にとって有利な特定遊技状態に制御する遊技機であって、
前記特定遊技状態に制御するか否かを、識別情報の表示結果が導出表示される前に決定する事前決定手段と、
前記特定遊技状態に制御される可能性を報知する予告演出として１段階から複数段階の予告ステップよりなるステップアップ予告演出を実行する予告演出実行手段と、
前記ステップアップ予告演出が実行される前に該ステップアップ予告演出において実行され得る予告態様を表示する予告態様事前表示手段とを備え、
前記予告演出実行手段は、
前記ステップアップ予告演出において、少なくとも前記予告態様事前表示手段により表示された予告態様により予告演出を実行する通常制御と、前記予告態様事前表示手段により表示された予告態様と異なる予告態様により予告演出を実行する特定制御と、のいずれかにより前記ステップアップ予告演出を実行し、
前記予告態様事前表示手段により表示された予告態様の種類に応じて、前記特定制御により前記ステップアップ予告演出を実行する確率を異ならせる、遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
（１）  各々が識別可能な複数種類の識別情報（特別図柄、演出図柄等の図柄）を変動表示する変動表示部（演出表示装置９）に導出表示された識別情報の表示結果が予め定められた特定表示結果（大当り図柄）となったときに、遊技者にとって有利な特定遊技状態（大当り遊技状態）に制御する遊技機（パチンコ遊技機１）であって、
前記特定遊技状態に制御するか否かを、識別情報の表示結果が導出表示される前に決定する事前決定手段（遊技制御用マイクロコンピュータ５６０、図９のＳ６０）と、
前記特定遊技状態に制御される可能性を報知する予告演出として１段階から複数段階の予告ステップよりなるステップアップ予告演出を実行する予告演出実行手段（演出制御用マイクロコンピュータ１００、図１９のＳ５０４〜Ｓ５０７）と、
前記ステップアップ予告演出が実行される前に該ステップアップ予告演出において実行され得る予告態様を表示する予告態様事前表示手段（演出制御用マイクロコンピュータ１００、図１９のＳ５０４〜Ｓ５０７）とを備え、
前記予告演出実行手段は、
前記ステップアップ予告演出において、少なくとも前記予告態様事前表示手段により表示された予告態様により予告演出を実行する通常制御（演出制御用マイクロコンピュータ１００、図１２〜図１４）と、前記予告態様事前表示手段により表示された予告態様と異なる予告態様により予告演出を実行する特定制御（演出制御用マイクロコンピュータ１００、図１２、図１５）と、のいずれかにより前記ステップアップ予告演出を実行し、
前記予告態様事前表示手段により表示された予告態様の種類に応じて、前記特定制御により前記ステップアップ予告演出を実行する確率を異ならせる（演出制御用マイクロコンピュータ１００、図１７、図１８）。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
このような構成によれば、予告態様事前表示手段により表示された予告態様の種類に応じて、特定制御によりステップアップ予告演出を実行する確率を異ならせるので、遊技者に対して、ステップアップ予告演出が実行される前にそのステップアップ予告演出において実行され得る予告態様に興味を持たせることができるとともに、予告態様と異なる予告態様でステップアップ予告演出が実行される場合もあるのでステップアップ予告演出自体にも興味を持たせることができ、遊技の興趣が向上する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
（５）  前記（１）から（４）の遊技機において、
前記予告態様事前表示手段は、前記ステップアップ予告演出において実行され得る予告態様の候補として複数の候補を表示した後（変形例の（１２）に示すように、袋を複数出す）、いずれかの候補を特定する演出（変形例の（１２）に示すように、複数の袋の中のいずれの袋を選ぶかという演出）が可能である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
このような構成によれば、ステップアップ予告演出において実行され得る予告態様の候補として複数の候補を表示した後、いずれかの候補を特定する演出が可能であるので、いずれの候補が特定されるかについて遊技者に注目させることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月25日(2014.7.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の遊技を行う遊技機であって、
遊技者による動作を検出する動作検出手段と、
遊技者にとって有利な価値を付与するか否か決定する事前決定手段と、
前記動作の有効期間に前記動作が検出されたことに基づいて、前記有利な価値を付与する可能性を報知する特別演出を実行する特別演出実行手段と、
計時を行う計時手段と、
前記計時手段による計時結果が所定条件を満たすときに特定演出を実行する特定演出実行手段とを備え、
前記特定演出実行手段は、前記有効期間において前記動作が検出されてから前記特別演出が開始されるまでの間に特定の時間となったときは、前記特定演出の実行を制限し、
報知を行う第１報知手段と、
前記第１報知手段とは異なる遊技に関わる報知を行う第２報知手段と、を更に備え、
前記計時手段による計時結果が特定条件を満たすときに、前記第１報知手段による報知を制限し、前記第２報知手段による報知を制限しない、
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
（１）上記目的を達成するため、本発明に係る遊技機は、
所定の遊技を行う遊技機（例えば、パチンコ遊技機１など）であって、
遊技者による動作（例えば、プッシュボタン３１Ｂの押下など）を検出する動作検出手段（例えば、プッシュセンサ３５Ｂなど）と、
遊技者にとって有利な価値を付与するか否か決定する事前決定手段（例えば、ステップＳ２３９の処理を実行する遊技制御用マイクロコンピュータ１００のＣＰＵ１０３など）と、
前記動作の有効期間に前記動作が検出されたことに基づいて、前記有利な価値を付与する可能性を報知する特別演出を実行する特別演出実行手段（例えば、ステップＳ５１５の処理を実行する演出制御基板１２のＣＰＵ１２０など）と、
計時を行う計時手段（例えば、リアルタイムクロックモジュール１２６など）と、
前記計時手段による計時結果が所定条件を満たすときに（例えば、一斉動作情報テーブルに設定した一斉演出開始時刻など）特定演出（例えば、一斉演出など）を実行する特定演出実行手段（例えば、ステップＳ１３６の処理を実行する演出制御基板１２のＣＰＵ１２０など）とを備え、
前記特定演出実行手段は、前記有効期間において前記動作が検出されてから前記特別演出が開始されるまでの間に特定の時間となったときは、前記特定演出の実行を制限し（例えば、ステップＳ５１２の処理を実行する演出制御基板１２のＣＰＵ１２０など）、
報知を行う第１報知手段（例えば、演出制御用マイクロコンピュータが、予告やリーチ演出等の可変表示や客待ちデモ演出を実行する際の表示やランプ、音に関する演出を制御する部分）と、
前記第１報知手段とは異なる遊技に関わる報知を行う第２報知手段（例えば、演出制御用マイクロコンピュータが、エラー等の異常が発生したときにエラー報知の際の表示やランプ、音に関する演出を制御する部分）と、を更に備え、
前記計時手段による計時結果が特定条件を満たすときに、前記第１報知手段による報知を制限し、前記第２報知手段による報知を制限しない（例えば、ＲＴＣの計時結果がある時間（例えば１２時）を示す時間となったときに、可変表示や客待ちデモ演出でランプを用いた演出を実行することを禁止し、その間には球切れエラー状態の報知を行うことを許容しておく部分）、
ことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月11日(2014.7.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上部に紙付きの廃石膏の投入口を下部に微細化石膏を排出する排出口を設けたケース（１００）内に、上から、石膏粗破砕用の破砕歯（２０５、２０６）を設け水平平行配置した一対の粗破砕ロール（２０２、２０３）を有する粗破砕機（２００）と、
前記粗破砕機（２００）から落下してきた粗破砕石膏を水平平行配置した一対の圧潰ロール（３０３、３０４）の圧潰面（３０５、３０６）間のロール間隙部で圧潰して細破砕しながら石膏と紙を分離する圧潰機（３００）と、
前記圧潰機（３００）から落下してきた細破砕石膏粒を分別刃（４０５、４０６）をスクリュー配置した一対の分別ロール（４０３、４０４）により更に微細化して落下させる共に紙片を分別搬送してケース外に排出する分別機（４００）と、
前記分別機（４００）から落下してきた微細化石膏をスクリューロール（５０２）により前記排出口に搬出する搬出機（５００）と、
を順に配設した廃石膏ボードの処理装置において、
前記圧潰機（３００）の一対の圧潰ロール（３０３、３０４）は、各々駆動モーター（３０１，３０２）を設けると共にロール間隙を可変可能に設け、
前記粗破砕機（２００）への廃石膏の供給量に応じて前記粗破砕機（２００）の駆動モーター（２０１）と前記圧潰機（３００）の一方の駆動モーター（３０１）と前記分別機（４００）の駆動モーター（４０１）と前記搬出機（５００）の駆動モーター（５０１）による当該ロールの回転速度のバランスを配分設定制御する駆動モータ制御盤（７００）を備え、
駆動モータ制御盤（７００）には、圧潰機（３００）の一対の圧潰ロール（３０３，３０４）のロール間隙を前記粗破砕機（２００）への廃石膏の供給量に応じて制御する間隙設定制御装置（６００）と、前記圧潰機（３００）の一方の駆動モーター（３０１）による圧潰ロール（３０４）の回転速度を基準にし他方の駆動モーター（３０２）による圧潰ロール（３０３）の回転速度を所定の比率で増速する速度差設定制御装置（７２０）を備え、
たことを特徴とする廃石膏ボードの処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】（１）、上部に紙付きの廃石膏の投入口を下部に微細化石膏を排出する排出口を設けたケース（１００）内に、上から、石膏粗破砕用の破砕歯（２０５、２０６）を設け水平平行配置した一対の粗破砕ロール（２０２、２０３）を有する粗破砕機（２００）と、
前記粗破砕機（２００）から落下してきた粗破砕石膏を水平平行配置した一対の圧潰ロール（３０３、３０４）の圧潰面（３０５、３０６）間のロール間隙部で圧潰して細破砕しながら石膏と紙を分離する圧潰機（３００）と、
前記圧潰機（３００）から落下してきた細破砕石膏粒を分別刃（４０５、４０６）をスクリュー配置した一対の分別ロール（４０３、４０４）により更に微細化して落下させる共に紙片を分別搬送してケース外に排出する分別機（４００）と、
前記分別機（４００）から落下してきた微細化石膏をスクリューロール（５０２）により前記排出口に搬出する搬出機（５００）と、
を順に配設した廃石膏ボードの処理装置において、
前記圧潰機（３００）の一対の圧潰ロール（３０３、３０４）は、各々駆動モーター（３０１，３０２）を設けると共にロール間隙を可変可能に設け、
前記粗破砕機（２００）への廃石膏の供給量に応じて前記粗破砕機（２００）の駆動モーター（２０１）と前記圧潰機（３００）の一方の駆動モーター（３０１）と前記分別機（４００）の駆動モーター（４０１）と前記搬出機（５００）の駆動モーター（５０１）による当該ロールの回転速度のバランスを配分設定制御する駆動モータ制御盤（７００）を備え、
駆動モータ制御盤（７００）には、圧潰機（３００）の一対の圧潰ロール（３０３，３０４）のロール間隙を前記粗破砕機（２００）への廃石膏の供給量に応じて制御する間隙設定制御装置（６００）と、前記圧潰機（３００）の一方の駆動モーター（３０１）による圧潰ロール（３０４）の回転速度を基準にし他方の駆動モーター（３０２）による圧潰ロール（３０３）の回転速度を所定の比率で増速する速度差設定制御装置（７２０）を備え、
たことを特徴とする廃石膏ボードの処理装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年2月14日(2014.2.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体素子が形成されるフラットパネルディスプレイ用のガラス基板の製造方法であって、
半導体素子が形成されるガラス基板の半導体素子形成面と反対側のガラス表面を洗浄処理する工程と、
洗浄された前記ガラス表面にエッチング処理をする工程と、を有し、
前記エッチング処理された前記ガラス表面のＲａ（原子間力顕微鏡により測定される表面凹凸の算術平均粗さ）が０．３（ｎｍ）以上１．０（ｎｍ）以下であって、Ｒz−Ｒzjis（Ｒzjisは原子間力顕微鏡により測定される表面凹凸の１０点平均粗さであり、Ｒzは原子間力顕微鏡により測定される表面凹凸の最大高さである）が０．２（ｎｍ）以下になるように、前記ガラス表面の前記洗浄処理および前記エッチング処理が行われる、ことを特徴とするガラス基板の製造方法。
【請求項２】
前記ガラス基板の洗浄処理は、大気圧プラズマ洗浄である、請求項１に記載のガラス基板の製造方法。
【請求項３】
洗浄処理された前記ガラス基板のガラス表面における水の接触角度は、１０度以下である、請求項１または２に記載のガラス基板の製造方法。
【請求項４】
半導体素子が形成されるフラットパネルディスプレイ用のガラス基板であって、
ガラス基板の半導体素子形成面と反対側のガラス表面のＲａ（原子間力顕微鏡により測定される表面凹凸の算術平均粗さ）が０．３（ｎｍ）以上１．０（ｎｍ）以下であって、Ｒz−Ｒzjis（Ｒzjisは原子間力顕微鏡により測定される表面凹凸の１０点平均粗さであり、Ｒzは原子間力顕微鏡により測定される表面凹凸の最大高さである）が０．２（ｎｍ）以下である、ことを特徴とするガラス基板。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月24日(2013.12.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
粒子内部に第一のメソ孔を備え、粒子外周部がシリカにより被覆されており、
前記シリカの被覆により形成されたシリカ被覆部に、前記第一のメソ孔よりも小さい第二のメソ孔を備えていることを特徴とするメソポーラスシリカ微粒子。
【請求項２】
界面活性剤と、水と、アルカリと、前記界面活性剤によって形成されるミセルの体積を増大させる疎水部を備えた疎水部含有添加物と、シリカ源とを混合して界面活性剤複合シリカ微粒子を作製する界面活性剤複合シリカ微粒子作製工程と、前記界面活性剤複合シリカ微粒子に前記シリカ源を加えて、シリカで粒子外周部を被覆するシリカ被覆工程と、を含む工程により製造することを特徴とするメソポーラスシリカ微粒子の製造方法。
【請求項３】
前記シリカ被覆工程が、前記シリカ源と前記界面活性剤とを加えて、界面活性剤が複合されたシリカで表面を被覆するものであることを特徴とする請求項２に記載のメソポーラスシリカ微粒子の製造方法。
【請求項４】
請求項１に記載のメソポーラスシリカ微粒子がマトリクス形成材料中に含有されたことを特徴とするメソポーラスシリカ微粒子含有成型物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
メソポーラスシリカ微粒子においては、前記シリカの被覆により形成されたシリカ被覆部に、前記第一のメソ孔よりも小さい第二のメソ孔を備えている。
【手続補正書】
【提出日】平成26年1月14日(2014.1.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
炭素基材の表面に、Ｃｒ３Ｃ２以外の炭化クロムを含む炭化クロム層を形成する第１ステップと、
上記炭素基材を還元性雰囲下で加熱処理し、上記Ｃｒ３Ｃ２以外の炭化クロムをＣｒ３Ｃ２に転化させる第２ステップと、
を有することを特徴とする炭素材料の製造方法。
【請求項２】
上記第１ステップにおいて、クロム粒子と熱分解性ハロゲン化水素発生剤とを含む表面改質剤に埋め込まれた炭素基材を、該炭素基材以外の炭素部材とともに加熱処理することにより、炭素基材の表面にＣｒ３Ｃ２以外の炭化クロムを含む炭化クロム層を形成する、請求項１に記載の炭素材料の製造方法。
【請求項３】
上記Ｃｒ３Ｃ２以外の炭化クロムが、Ｃｒ２Ｃ、Ｃｒ７Ｃ３、及びＣｒ２３Ｃ６からなる群から選択される少なくとも１種から構成される、請求項１又は２に記載の炭素材料の製造方法。
【請求項４】
上記還元性雰囲は水素ガス雰囲気である、請求項１〜３の何れか１項に記載の炭素材料の製造方法。
【請求項５】
上記第２ステップにおける加熱処理は、５００℃以上１５００℃以下で行う、請求項１〜４の何れか１項に記載の炭素材料の製造方法。
【請求項６】
上記第２ステップにおける加熱処理は１０〜１０００Ｐａの減圧下で行う、請求項１〜５の何れか１項に記載の炭素材料の製造方法。
【請求項７】
炭素基材の表面に炭化クロム層が形成された炭素材料において、
上記炭化クロム層がＣｒ３Ｃ２を主成分としていることを特徴とする炭素材料。
【請求項８】
炭素材料を純水に浸して洗浄した後、洗浄後の炭素材料を３０００ｍＬの純水中で超音波をかけて粒子を抽出し、パーティクルカウンタでパーティクル数を測定した際、０．２μｍ以上のパーティクル数が前記炭素材料の表面１００ｍｍ２当たり１００個未満である、請求項７に記載の炭素材料。
【請求項９】
炭素材料を純水に浸して洗浄した後、洗浄後の炭素材料を３０００ｍＬの純水中で超音波をかけて粒子を抽出し、パーティクルカウンタでパーティクル数を測定した際、０．１μｍ以上のパーティクル数が前記炭素材料の表面１００ｍｍ２当たり１０００個未満である、請求項７又は８に記載の炭素材料。
【請求項１０】
前記炭化クロム層は斜方晶の構造となっている、請求項７〜９のいずれか１項に記載の炭素材料。
【請求項１１】
請求項７〜１０のいずれか１項に記載の炭素材料からなる治具。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月10日(2013.12.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面に凹部を有する支持基板と、
該支持基板の表面に積層状態に接合され、前記凹部に対応する位置に凸部が形成された上板基板と、
該上板基板の表面において前記凸部を跨ぐ位置に設けられた発熱抵抗体と、
該発熱抵抗体の両側に設けられた一対の電極とを備え、
前記一対の電極の少なくとも一方が、
前記凹部に対応する領域内において前記発熱抵抗体に接続される薄肉部と、
前記発熱抵抗体に接続され前記薄肉部よりも厚く形成された厚肉部とを有し、
前記一対の電極が、前記凸部よりも外側の領域に形成されているサーマルヘッド。
【請求項２】
前記凸部が、前記凹部に対応する領域内に形成されている請求項１に記載のサーマルヘッド。
【請求項３】
前記凸部が、平坦な先端面と、該先端面の両端に該先端面に向かって漸次先細となるように傾斜して形成された側面とを有している請求項１または請求項２に記載のサーマルヘッド。
【請求項４】
前記薄肉部が、前記凹部に対応する領域よりも外側まで広がっている請求項１から請求項３のいずれかに記載のサーマルヘッド。
【請求項５】
前記一対の電極の両方が前記薄肉部を有している請求項１から請求項４のいずれかに記載のサーマルヘッド。
【請求項６】
請求項１から請求項５のいずれかに記載のサーマルヘッドと、
該サーマルヘッドの前記発熱抵抗体に感熱記録媒体を押し付けながら送り出す加圧機構とを備えるプリンタ。
【請求項７】
支持基板の表面に開口部を形成する開口部形成工程と、
該開口部形成工程により前記開口部が形成された前記支持基板の表面に上板基板の裏面を積層状態に接合する接合工程と、
該接合工程により前記支持基板に接合された前記上板基板を薄板化する薄板化工程と、
前記接合工程により前記支持基板に接合された前記上板基板の表面に凸部を形成する凸部形成工程と、
前記上板基板の表面において、前記開口部に対応する領域に発熱抵抗体を形成する抵抗体形成工程と、
該抵抗体形成工程により形成された発熱抵抗体の両端に、前記凹部に対応する領域内において前記発熱抵抗体に接続される薄肉部と、前記発熱抵抗体に接続され前記薄肉部よりも厚く形成された厚肉部とを有する電極層を、前記凸部よりも外側の領域に配されるように形成する電極層形成工程とを備えるサーマルヘッドの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記目的を達成するために、本発明は以下の手段を提供する。
本発明の第１の態様は、表面に凹部を有する支持基板と、該支持基板の表面に積層状態に接合され、前記凹部に対応する位置に凸部が形成された上板基板と、該上板基板の表面において前記凸部を跨ぐ位置に設けられた発熱抵抗体と、該発熱抵抗体の両側に設けられた一対の電極とを備え、前記一対の電極の少なくとも一方が、前記凹部に対応する領域内において前記発熱抵抗体に接続される薄肉部と、前記発熱抵抗体に接続され前記薄肉部よりも厚く形成された厚肉部とを有し、前記一対の電極が、前記凸部よりも外側の領域に形成されているサーマルヘッドである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
上記のサーマルヘッドにおいて、前記一対の電極が、前記凸部よりも外側の領域に形成されている。
薄肉部を含む電極を凸部の外側に配置することで、薄肉部にプラテンローラからの圧力がかかることを防止することができ、サーマルヘッドとしての信頼性を向上することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
本発明の第３の態様は、支持基板の表面に開口部を形成する開口部形成工程と、該開口部形成工程により前記開口部が形成された前記支持基板の表面に上板基板の裏面を積層状態に接合する接合工程と、該接合工程により前記支持基板に接合された前記上板基板を薄板化する薄板化工程と、前記接合工程により前記支持基板に接合された前記上板基板の表面に凸部を形成する凸部形成工程と、前記上板基板の表面において、前記開口部に対応する領域に発熱抵抗体を形成する抵抗体形成工程と、該抵抗体形成工程により形成された発熱抵抗体の両端に、前記凹部に対応する領域内において前記発熱抵抗体に接続される薄肉部と、前記発熱抵抗体に接続され前記薄肉部よりも厚く形成された厚肉部とを有する電極層、前記凸部よりも外側の領域に配されるように形成する電極層形成工程とを備えるサーマルヘッドの製造方法である。