【手続補正書】
【提出日】平成26年1月31日(2014.1.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空容器内にて第１の処理ガス及び第２の処理ガスを順番に供給するサイクルを複数回行って基板に成膜処理を行う成膜装置において、
基板を載置する基板載置領域がその一面側に形成され、前記真空容器内にて前記基板載置領域を公転させるための回転テーブルと、
この回転テーブルの周方向に互いに分離領域を介して離間した領域に夫々第１の処理ガス及び第２の処理ガスを供給する第１の処理ガス供給部及び第２の処理ガス供給部と、
基板に対してプラズマ処理を行うために、前記真空容器内にプラズマ発生用ガスを供給するプラズマ発生ガス供給部と、
プラズマ発生用ガスを誘導結合によりプラズマ化するために、前記基板載置領域に対向するように設けられ、縦向きの軸の周りに巻回されたアンテナと、
前記アンテナの周囲に発生した電磁界における電界成分の通過を阻止するために、前記アンテナと基板との間に介在して設けられ、導電性の板状体からなるファラデーシールドと、を備え、
前記ファラデーシールドは、
前記アンテナの周囲に発生した電磁界における磁界成分を基板側に通過させるために、前記板状体に形成され、前記アンテナと交差する方向に各々伸びると共に当該アンテナの長さ方向に沿って配列されたスリットの群と、
前記板状体における前記スリットの群に囲まれる領域に開口する、プラズマの発光状態確認用の窓部と、を備え、
前記窓部と前記スリットの群との間には、当該窓部が前記スリットに連通しないように、導電路が前記窓部を囲むように介在し、
前記スリットの群における前記窓部側と反対側の端部には、導電路が当該スリットの群を囲むように設けられていることを特徴とする成膜装置。
【請求項２】
前記アンテナは、前記回転テーブルの半径方向に伸びる帯状体領域を囲むように配置されていることを特徴とする請求項１に記載の成膜装置。
【請求項３】
前記アンテナ及び前記ファラデーシールドは、プラズマ処理を行う領域から誘電体により気密に区画されていることを特徴とする請求項１または２に記載の成膜装置。
【請求項４】
基板を収納する真空容器と、
基板を載置する基板載置領域がその一面側に形成された載置台と、
基板に対してプラズマ処理を行うために、前記真空容器内にプラズマ発生用ガスを供給するプラズマ発生ガス供給部と、
プラズマ発生用ガスを誘導結合によりプラズマ化するために、前記基板載置領域に対向するように設けられ、縦向きの軸の周りに巻回されたアンテナと、
前記アンテナの周囲に発生した電磁界における電界成分の通過を阻止するために、前記アンテナと基板との間に介在して設けられ、導電性の板状体からなるファラデーシールドと、を備え、
前記ファラデーシールドは、
前記アンテナの周囲に発生した電磁界における磁界成分を基板側に通過させるために、前記板状体に形成され、前記アンテナと交差する方向に各々伸びると共に当該アンテナの長さ方向に沿って配列されたスリットの群と、
前記板状体における前記スリットの群に囲まれる領域に開口する、プラズマの発光状態確認用の窓部と、を備え、
前記窓部と前記スリットの群との間には、当該窓部が前記スリットに連通しないように、導電路が前記窓部を囲むように介在し、
前記スリットの群における前記窓部側と反対側の端部には、導電路が当該スリットの群を囲むように設けられていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項５】
基板に対してプラズマ処理を行うためのプラズマを発生させるプラズマ発生装置において、
プラズマ発生用ガスを誘導結合によりプラズマ化するために、基板に対向するように設けられ、この基板からプラズマ発生用ガスの供給される領域に向かって伸びる軸の周りに巻回されたアンテナと、
前記アンテナの周囲に発生した電磁界における電界成分の通過を阻止するために、前記アンテナと基板との間に介在して設けられ、導電性の板状体からなるファラデーシールドと、を備え、
前記ファラデーシールドは、
前記アンテナの周囲に発生した電磁界における磁界成分を基板側に通過させるために、前記板状体に形成され、前記アンテナと交差する方向に各々伸びると共に当該アンテナの長さ方向に沿って配列されたスリットの群と、
前記板状体における前記スリットの群に囲まれる領域に開口する、プラズマの発光状態確認用の窓部と、を備え、
前記窓部と前記スリットの群との間には、当該窓部が前記スリットに連通しないように、導電路が前記窓部を囲むように介在し、
前記スリットの群における前記窓部側と反対側の端部には、導電路が当該スリットの群を囲むように設けられていることを特徴とするプラズマ発生装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の成膜装置は、
真空容器内にて第１の処理ガス及び第２の処理ガスを順番に供給するサイクルを複数回行って基板に成膜処理を行う成膜装置において、
基板を載置する基板載置領域がその一面側に形成され、前記真空容器内にて前記基板載置領域を公転させるための回転テーブルと、
この回転テーブルの周方向に互いに分離領域を介して離間した領域に夫々第１の処理ガス及び第２の処理ガスを供給する第１の処理ガス供給部及び第２の処理ガス供給部と、
基板に対してプラズマ処理を行うために、前記真空容器内にプラズマ発生用ガスを供給するプラズマ発生ガス供給部と、
プラズマ発生用ガスを誘導結合によりプラズマ化するために、前記基板載置領域に対向するように設けられ、縦向きの軸の周りに巻回されたアンテナと、
前記アンテナの周囲に発生した電磁界における電界成分の通過を阻止するために、前記アンテナと基板との間に介在して設けられ、導電性の板状体からなるファラデーシールドと、を備え、
前記ファラデーシールドは、
前記アンテナの周囲に発生した電磁界における磁界成分を基板側に通過させるために、前記板状体に形成され、前記アンテナと交差する方向に各々伸びると共に当該アンテナの長さ方向に沿って配列されたスリットの群と、
前記板状体における前記スリットの群に囲まれる領域に開口する、プラズマの発光状態確認用の窓部と、を備え、
前記窓部と前記スリットの群との間には、当該窓部が前記スリットに連通しないように、導電路が前記窓部を囲むように介在し、
前記スリットの群における前記窓部側と反対側の端部には、導電路が当該スリットの群を囲むように設けられていることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の基板処理装置は、
基板を収納する真空容器と、
基板を載置する基板載置領域がその一面側に形成された載置台と、
基板に対してプラズマ処理を行うために、前記真空容器内にプラズマ発生用ガスを供給するプラズマ発生ガス供給部と、
プラズマ発生用ガスを誘導結合によりプラズマ化するために、前記基板載置領域に対向するように設けられ、縦向きの軸の周りに巻回されたアンテナと、
前記アンテナの周囲に発生した電磁界における電界成分の通過を阻止するために、前記アンテナと基板との間に介在して設けられ、導電性の板状体からなるファラデーシールドと、を備え、
前記ファラデーシールドは、
前記アンテナの周囲に発生した電磁界における磁界成分を基板側に通過させるために、前記板状体に形成され、前記アンテナと交差する方向に各々伸びると共に当該アンテナの長さ方向に沿って配列されたスリットの群と、
前記板状体における前記スリットの群に囲まれる領域に開口する、プラズマの発光状態確認用の窓部と、を備え、
前記窓部と前記スリットの群との間には、当該窓部が前記スリットに連通しないように、導電路が前記窓部を囲むように介在し、
前記スリットの群における前記窓部側と反対側の端部には、導電路が当該スリットの群を囲むように設けられていることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明のプラズマ発生装置は、
基板に対してプラズマ処理を行うためのプラズマを発生させるプラズマ発生装置において、
プラズマ発生用ガスを誘導結合によりプラズマ化するために、基板に対向するように設けられ、この基板からプラズマ発生用ガスの供給される領域に向かって伸びる軸の周りに巻回されたアンテナと、
前記アンテナの周囲に発生した電磁界における電界成分の通過を阻止するために、前記アンテナと基板との間に介在して設けられ、導電性の板状体からなるファラデーシールドと、を備え、
前記ファラデーシールドは、
前記アンテナの周囲に発生した電磁界における磁界成分を基板側に通過させるために、前記板状体に形成され、前記アンテナと交差する方向に各々伸びると共に当該アンテナの長さ方向に沿って配列されたスリットの群と、
前記板状体における前記スリットの群に囲まれる領域に開口する、プラズマの発光状態確認用の窓部と、を備え、
前記窓部と前記スリットの群との間には、当該窓部が前記スリットに連通しないように、導電路が前記窓部を囲むように介在し、
前記スリットの群における前記窓部側と反対側の端部には、導電路が当該スリットの群を囲むように設けられていることを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明は、基板に対してプラズマ処理を行うにあたり、誘導結合プラズマを発生させるアンテナと基板との間に、導電体からなるファラデーシールドを設けている。そして、アンテナと交差する方向に伸びるスリットを当該アンテナに沿ってファラデーシールドに設けると共に、アンテナの長さ方向に沿うように、各々のスリットの長さ方向における一端側及び他端側に導電路を各々配置している。そのため、アンテナにおいて発生する電磁界のうち電界成分の通過を阻止しつつ、前記電磁界のうち磁界成分を基板側に通過させることができるので、基板へのプラズマによる電気的なダメージを抑えることができる。