Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成26年3月13日(2014.3.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
テスト画像内のオブジェクトを分類するための方法であって、トレーニング画像のセット内のトレーニング画像毎に、
前記トレーニング画像内のウィンドウから特徴を抽出するステップであって、該ウィンドウは前記オブジェクトを含む、抽出するステップと、
前記特徴の係数ｃをランダムにサンプリングするステップと、
前記係数の可能なセット毎にｎ連結を求めるステップと、
前記係数の可能な連結毎に、関係演算子を用いてブール値命題を定義して、命題空間を生成するステップと、
前記命題空間にブール演算子の連結関数を適用することによって識別器の複合仮説を構築し、前記命題空間内の全ての可能な論理命題を構築するステップと、
前記テスト画像から抽出された特徴に前記識別器の前記複合仮説を適用して、前記テスト画像が前記オブジェクトを含むか否かを検出するステップと
を含み、
前記各ステップは、プロセッサが実行する、方法。
【請求項２】
前記係数は、トレーニングデータセット画像に関して、前記テスト画像内で正規化される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記特徴はピクセル輝度である、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記特徴は勾配ヒストグラムである、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記特徴は、前記トレーニング画像に関連付けられる記述子ベクトルの前記係数である、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記ブール値命題はｐｉｊであり、前記関係演算子はｇであり、ｐｉｊ＝ｇ（ｃｉ，ｃｊ）であり、ここで、ｃｉ及びｃｊは前記特徴の係数である、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記ブール値命題はマージンに基づく相似則
【数１】
2011248879.tif 000001
であり、ここでτはマージン値である、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記ブール演算子は、論理積及び論理和を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記ブール演算子は、ファジー論理システム、三値論理システム、多値論理システムにおいて適用される演算子を含む非二値論理演算子を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記特徴は、ｄ次元ベクトルｘ内に格納される、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記識別器は、ＡｄａＢｏｏｓｔ手順、離散ＡｄａＢｏｏｓｔ手順、ＬｏｇｉｔＢｏｏｓｔ手順、ＢｒｏｗｎＢｏｏｓｔ手順、及びＧｅｎｔｌｅＢｏｏｓｔ手順の変形を含むブースティングされた学習器の形態である、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記論理命題は、前記識別器の前記複合仮説を適用するとき、前記命題毎の応答のルックアップテーブルにおいて符号化される、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記構築された複合仮説のそれぞれは、ｎルックアップテーブルにおいて符号化され、該ルックアップテーブルはｎ次元である、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
前記複合仮説の前記適用は、前記ルックアップテーブルにアクセスすると共に前記応答の重み付けされた和を合算することによって行われる、請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
前記ルックアップテーブルのインデックスは、前記画像内のピクセルの輝度値の範囲内にある、請求項１２に記載の方法。
【請求項１６】
前記ルックアップテーブルの前記インデックスは、ベクトル値の量子化された範囲内にある、請求項１２に記載の方法。
【請求項１７】
前記識別器はブースティングされた識別器であり、拒絶カスケードを構成する、請求項１に記載の方法。
【請求項１８】
前記マージン値は、前記トレーニング画像のセットに対する対応する複合仮説の検出性能を最適化する、請求項７に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月16日(2014.5.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
装置であって、
第１の導電面と、
前記第１の導電面上に配置された絶縁面と、
前記装置上に配置された第２の導電面と、
信号が前記第２の導電面と接触する使用者に結合するように構成され、これによって前記絶縁面上をスライドする前記使用者の少なくとも１本の指に触感が知覚されるコントローラとを含み、変調された信号が前記第２の導電面上に印加されている間、前記第１の導電面は一定電圧に維持される装置。
【請求項２】
前記信号が前記使用者に結合することは、前記第２の導電面を含む前記装置の裏面に前記信号を直接供給すること、又は容量性、抵抗性、及び／又は誘導性要素を介して前記裏面に前記信号を結合することを含む請求項１記載の装置。
【請求項３】
前記コントローラは、前記絶縁面上の少なくとも１本の指の位置に基づいて、前記信号の振幅及び／又は周波数及び／又はＤＣ（直流）オフセットを修正するように構成される請求項１記載の装置。
【請求項４】
前記信号は、直流（ＤＣ）オフセットを含む請求項１記載の装置。
【請求項５】
前記信号は、低周波信号と高周波信号を組み合わせることによって生成される請求項１記載の装置。
【請求項６】
前記第１導電面に結合され、前記絶縁面上をスライドする前記少なくとも１本の指に関連するインピーダンス値を測定するように構成されるセンサを更に含み、前記コントローラは、前記センサから前記インピーダンス値を受信し、前記インピーダンス値に基づいて前記第１導電面にアクチュエーション信号を送信するように構成される請求項１記載の装置。
【請求項７】
前記第１導電面は、グラウンドへの経路に結合される請求項１記載の装置。
【請求項８】
グラフィカルユーザインターフェイスを表示するディスプレイ画面を更に含み、前記少なくとも１本の指で知覚される触感は、前記グラフィカルユーザインターフェイス内に表示されるオブジェクトに関連する請求項１記載の装置。
【請求項９】
触覚フィードバックを提供する方法であって、
変調された信号を使用者と接触する第１の導電面上に印加させるステップであって、装置は第２の導電面上に配置された絶縁面を含むステップと、
前記絶縁面に沿ってスライドする前記使用者の少なくとも１本の指に応答して、前記変調された信号に基づく前記少なくとも１本の指で触感を知覚させるステップと、
前記第１の導電面を使用する前記使用者に前記変調された信号を結合している間、前記第２の導電面上に一定電圧を印加するステップとを含む方法。
【請求項１０】
信号を生成する装置であって、
絶縁面と、
前記装置と接触する使用者のグラウンドに対するインピーダンス値を検出するように構成されるセンサと、
コントローラとを含み、前記コントローラは、
前記インピーダンス値に基づいて信号を生成し、
前記信号を前記使用者に結合させ、これによって前記絶縁面上をスライドする少なくとも１本の指に触感が知覚されるように構成される装置。
【請求項１１】
前記センサは、前記インピーダンス値における変化を検出するように構成される請求項１０記載の装置。
【請求項１２】
前記変化に応答して、前記コントローラは前記使用者に結合される前記信号を修正し、前記信号の修正後、知覚される前記触感は一定を維持する請求項１１記載の装置。
【請求項１３】
前記信号が前記使用者に結合される前に前記信号を増幅するように構成されたトランジスタベースの増幅器を更に含み、前記信号を修正することは前記増幅器のゲインを修正することを含む請求項１２記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月20日(2014.5.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プロセス制御プラントのミキサー非搭載貯蔵タンクにおける供給原材料の特性を特定するための方法であって、
新しい原料ゾーンに旧原料ゾーンの原料特性値を適用することと、
タンク排出口に対する貯蔵タンクレベル測定値に基づいて送出ゾーンを確立することと、
前記ミキサー非搭載貯蔵タンク内の原料の総量に対する原料特性の平均値を計算することと、
前記送出ゾーンの混合係数を計算することと、
前記原料特性の平均値と前記混合係数とに基づいて、前記送出ゾーンの送出原料特性値を計算することと、
を含み、
前記送出ゾーンの前記原料が、前記ミキサー非搭載貯蔵タンク内の他の原料と部分的に混合される、
方法。  
【請求項２】
前記混合係数が、散布図用の最良適合回帰線の傾きを含み、
前記散布図が、混合を伴わない前記原料特性値（Ｐ）を減算した研究室由来の原料特性値（Ｑｌａｂ）と、混合を伴わない前記原料特性値（Ｐ）を減算した完全混合を伴う前記原料特性値（Ａ）とを含む、
請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記送出原料特性値を、送出原料特性値（Ｑ）とし、
前記送出原料特性値（Ｑ）を計算することが、
（数１）
Ｑ＝（１−ｍ）Ｐ＋ｍＡ
を含み、式中、ｍが前記混合係数を含み、Ｐが混合を伴わない原料特性値を含み、Ａが前記原料特性の平均値を含む、
請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記送出ゾーンにある前記ミキサー非搭載貯蔵タンク内の他の複数の原料ゾーンの影響が、送出ゾーンｉにおける前記混合係数ｍｉの指数補正
（数２）
ｍi＝ｍiｅ（i-1)/l
を含み、式中、ｌが、他の複数のゾーンの前記影響のために以前に修正されたいくつかの原料ゾーンを含み、ｉが、前記影響が適用されるゾーンのインデックスｉ、ｉ＋ｌを含み、ｉ≦ｌであり、かつｉ≦ｎであり、ｎが、前記ミキサー非搭載貯蔵タンクに現在他のいくつかの原料ゾーンを含む、
請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記タンク排出口が栓流を含み、
前記タンク排出口に対する貯蔵タンクレベル測定値に基づいて送出ゾーンを確立することが、前記ミキサー非搭載貯蔵タンク内で新しい原料ゾーンの位置を決定することを含み、かつ
前記新しい原料ゾーンが上部位置または中間位置にある場合に、前記送出ゾーンの前記送出原料特性値が前記ミキサー非搭載貯蔵タンク内の前記原料の総量のレベルに基づき、又は、
前記新しい原料ゾーンが底部位置にある場合に、前記送出ゾーンの前記送出原料特性値が前記新しい原料ゾーンの前記送出原料特性値を含む、
請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記原料特性値が、ｐＨバランス、反応性、毒性、濃度、密度、分子量、および粘性のうちの１つもしくは複数を含む、
請求項１に記載の方法。
【請求項７】
傾き値０が完全無混合の原料特性に対応し、傾き値１が完全混合の原料特性に対応する、
請求項１に記載の方法。
【請求項８】
プロセス制御プラントのミキサー非搭載貯蔵タンク内の供給原材料の特性を特定するためのコンピュータ装置であって、
コンピュータに実施されたアプリケーションを有するコンピュータ可読メモリを備え、
前記アプリケーションが、
前記ミキサー非搭載貯蔵タンクへの新たな原料の移送を検出する第１のルーチンと、
前記新たな原料の移送に対応する原料特性値で以てデータ構造を更新し、前記ミキサー非搭載貯蔵タンク内の原料の総量の前記原料特性値の平均を計算する第２のルーチンであって、前記原料の総量が新しい原料ゾーン内の前記新たな原料の移送を含む第２のルーチンと、
前記新しい原料ゾーンの位置と前記ミキサー非搭載貯蔵タンク内の送出ゾーンの位置とを決定する第３のルーチンと、
前記送出ゾーンの混合係数に基づいて送出原料特性値（Ｑ）を計算する第４のルーチンであって、前記混合係数が、混合を伴わない前記原料特性値（Ｐ）を減算した研究室由来の原料特性値（Ｑｌａｂ）と、混合を伴わない前記原料特性値（Ｐ）を減算した完全混合を伴う前記原料特性値（Ａ）との散布図用の最良適合回帰線の傾きを含む第４のルーチンと、
を備えるコンピュータ装置。
【請求項９】
前記送出原料特性値（Ｑ）を計算する前記第４のルーチンが
（数３）
Ｑ＝（１−ｍ）Ｐ＋ｍＡ
を含み、式中、ｍが前記混合係数を含み、Ｐが混合を伴わない原料特性値を含み、Ａが前記原料特性値の前記平均を含む、
請求項８に記載のコンピュータ装置。
【請求項１０】
前記新しい原料ゾーンが前記ミキサー非搭載貯蔵タンクの上部位置または中間位置にある場合に、前記第４のルーチンが前記ミキサー非搭載貯蔵タンク内の前記原料の総量のレベルに基づく前記送出ゾーンの送出原料特性値を含み、
前記新しい原料ゾーンが前記ミキサー非搭載貯蔵タンクの底部位置にある場合に、前記第４のルーチンが前記新しい原料ゾーンの前記原料特性値を含む前記送出ゾーンの前記送出原料特性値を含み、
前記ミキサー非搭載貯蔵タンクは、栓流貯蔵タンクである、
請求項８に記載のコンピュータ装置。
【請求項１１】
前記原料特性値が、ｐＨバランス、反応性、毒性、濃度、密度、分子量、および粘性のうちの１つもしくは複数を含む、
請求項８に記載のコンピュータ装置。
【請求項１２】
傾き値０が完全無混合の原料特性に対応し、傾き値１が完全混合の原料特性に対応する、
請求項８に記載のコンピュータ装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月2日(2013.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像の明るさを補正する補正手段と、
前記補正手段により補正された後の画像の注目画素に対し、前記補正手段による明るさの補正量が大きいほど、ローパスフィルタによる補正強度を高めて前記ローパスフィルタを用いたフィルタ処理を行い、前記補正手段による明るさの補正量が小さいほど、ハイパスフィルタによる補正強度を高めて前記ハイパスフィルタを用いたフィルタ処理を行うフィルタ処理手段と
を有することを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
画像の明るさを補正する補正手段と、
前記補正前の画像または前記補正手段による補正後の画像のいずれかから、画像に含まれるエッジの強度を検出するエッジ判定手段と、
前記補正手段による補正後の画像の注目画素に対し、前記補正手段による明るさの補正量が所定の値よりも大きく、かつ、前記エッジの強度が小さいほど、ローパスフィルタによる補正強度を高めて前記ローパスフィルタを用いたフィルタ処理を行い、前記補正手段による明るさの補正量が前記所定の値よりも小さく、かつ、前記エッジの強度が大きいほど、ハイパスフィルタによる補正強度を高めて前記ハイパスフィルタを用いたフィルタ処理を行うフィルタ処理手段と
を有することを特徴とする画像処理装置。
【請求項３】
前記補正手段は、前記画像に基づいて生成された低周波画像を用いて明るさを補正することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記低周波画像は、複数の低周波画像が合成されることによって得られる画像であることを特徴とする請求項３に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記ローパスフィルタによるフィルタ処理は、平均値フィルタ、メディアンフィルタ、ガウシアンフィルタのうち少なくとも一つによる高周波成分を低減させるフィルタ処理であることを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記ハイパスフィルタによるフィルタ処理は、アンシャープマスク、グラディエントフィルタ、ラプラシアンフィルタのうち少なくとも一つによる高周波成分を強調させるフィルタ処理であることを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項７】
前記明るさの補正量と前記エッジの強度とを用いて、前記フィルタ処理手段によってフィルタ処理された画像の注目画素を該注目画素の周辺画素に置き換える処理を行う置き換え手段を更に有することを特徴とする請求項２に記載の画像処理装置。
【請求項８】
前記明るさの補正量と前記エッジの強度とを用いて画素毎に閾値を算出し、前記注目画素と前記周辺画素の差分が前記閾値を越えていない場合、前記置き換え処理を行い、前記差分が前記閾値を越えている場合、前記置き換え処理を行わないことを特徴とする請求項７に記載の画像処理装置。
【請求項９】
前記フィルタ処理を適用した後の画像を印刷媒体に印刷する印刷手段を更に有することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の画像処理装置。
【請求項１０】
画像の明るさを補正する補正工程と、
前記補正工程において補正された後の画像の注目画素に対し、前記補正工程における明るさの補正量が大きいほど、ローパスフィルタによる補正強度を高めて前記ローパスフィルタを用いたフィルタ処理を行い、前記補正工程における明るさの補正量が小さいほど、ハイパスフィルタによる補正強度を高めて前記ハイパスフィルタを用いたフィルタ処理を行うフィルタ処理手段と
を有することを特徴とする画像処理方法。
【請求項１１】
画像の明るさを補正する補正工程と、
前記補正前の画像または前記補正工程による補正後の画像のいずれかから、画像に含まれるエッジの強度を検出するエッジ判定工程と、
前記補正工程による補正後の画像の注目画素に対し、前記補正工程における明るさの補正量が所定の値よりも大きく、かつ、前記エッジの強度が小さいほど、ローパスフィルタによる補正強度を高めて前記ローパスフィルタを用いたフィルタ処理を行い、前記補正工程における明るさの補正量が前記所定の値よりも小さく、かつ、前記エッジの強度が大きいほど、ハイパスフィルタによる補正強度を高めて前記ハイパスフィルタを用いたフィルタ処理を行うフィルタ処理工程と
を有することを特徴とする画像処理方法。
【請求項１２】
コンピュータを、請求項１乃至９のいずれか一項に記載の画像処理装置として機能させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の画像処理装置は、上記課題を解決するために、以下の構成を有する。すなわち、画像形成装置は、画像の明るさを補正する補正手段と、前記補正手段により補正された後の画像の注目画素に対し、前記補正手段による明るさの補正量が大きいほど、ローパスフィルタによる補正強度を高めて前記ローパスフィルタを用いたフィルタ処理を行い、前記補正手段による明るさの補正量が小さいほど、ハイパスフィルタによる補正強度を高めて前記ハイパスフィルタを用いたフィルタ処理を行うフィルタ処理手段とを有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明における別の構成として、画像処理装置は以下の構成を有する。すなわち、画像形成装置は、画像の明るさを補正する補正手段と、前記補正前の画像または前記補正手段による補正後の画像のいずれかから、画像に含まれるエッジの強度を検出するエッジ判定手段と、前記補正手段による補正後の画像の注目画素に対し、前記補正手段による明るさの補正量が所定の値よりも大きく、かつ、前記エッジの強度が小さいほど、ローパスフィルタによる補正強度を高めて前記ローパスフィルタを用いたフィルタ処理を行い、前記補正手段による明るさの補正量が前記所定の値よりも小さく、かつ、前記エッジの強度が大きいほど、ハイパスフィルタによる補正強度を高めて前記ハイパスフィルタを用いたフィルタ処理を行うフィルタ処理手段とを有する。
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月14日(2013.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像に対して複数の補正処理の指示を入力する入力手段と、
補正処理の機能に対して、前記入力された複数の補正処理の指示に基づく処理情報を登録する登録手段と、
前記入力された複数の補正処理の指示に基づき、前記画像に対して、複数の補正処理の機能に関する補正処理を行う補正手段と、
前記補正処理の機能に対して、前記登録手段によって登録された処理情報が複数ある場合、前記複数の処理情報のいずれかを選択する選択手段と
を有することを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記選択手段は、前記補正処理の機能に対して、アンドゥ操作、または、リドゥ操作を指示することで、処理情報を選択することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記補正手段は、前記複数の補正処理の機能に関する補正処理を順次実行することを特徴とする請求項１または２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
補正処理の指示に基づき、前記選択手段によって選択された処理情報を更新する更新手段をさらに有することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の画像処理装置。
【請求項５】
画像に対して複数の補正処理の指示を入力する入力工程と、
補正処理の機能に対して、前記入力された複数の補正処理の指示に基づく処理情報を登録する登録工程と、
前記入力された複数の補正処理の指示に基づき、前記画像に対して、複数の補正処理の機能に関する補正処理を行う補正工程と、
前記補正処理の機能に対して、前記登録手段によって登録された処理情報が複数ある場合、前記複数の処理情報のいずれかを選択する選択工程と
を有することを特徴とする画像処理方法。
【請求項６】
画像に対して複数の補正処理の指示を入力する入力手段と、
補正処理の機能に対して、前記入力された複数の補正処理の指示に基づく処理情報を登録する登録手段と、
前記入力された複数の補正処理の指示に基づき、前記画像に対して、複数の補正処理の機能に関する補正処理を行う補正手段と、
前記補正処理の機能に対して、前記登録手段によって登録された処理情報が複数ある場合、前記複数の処理情報のいずれかを選択する選択手段と
してコンピュータを機能させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】画像処理装置、画像処理方法及びプログラム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
上記目的を達成するために本発明は以下の構成を有する。すなわち、画像に対して複数の補正処理の指示を入力する入力手段と、
補正処理の機能に対して、前記入力された複数の補正処理の指示に基づく処理情報を登録する登録手段と、
前記入力された複数の補正処理の指示に基づき、前記画像に対して、複数の補正処理の機能に関する補正処理を行う補正手段と、
前記補正処理の機能に対して、前記登録手段によって登録された処理情報が複数ある場合、前記複数の処理情報のいずれかを選択する選択手段と
を有する。
【手続補正書】
【提出日】平成26年2月25日(2014.2.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
圧縮機、熱源機側熱交換器、第１の膨張装置、液側接続配管、第２の膨張装置、利用側熱交換器、ガス側接続配管を順次接続して構成されている冷凍サイクル装置において、
前記冷凍サイクルに使用する冷媒をＲ３２とし、
前記液側接続配管と、前記ガス側接続配管の管外径を、
（Ｄ０−１）／８インチ
（ここで、「Ｄ０／８インチ」は冷媒Ｒ４１０Ａを使用した場合の接続配管外径である）
とし、且つ前記液接続配管では前記Ｄ０の範囲を「２≦Ｄ０≦４」とし、前記ガス接続配管では前記Ｄ０の範囲を「３≦Ｄ０≦８」にすると共に、
定格冷凍能力が７．１ｋＷから１２．５ｋＷまでの範囲では、前記液接続配管では前記Ｄ０を３（即ち配管径が１／４インチ）、前記ガス接続配管では前記Ｄ０を５（即ち配管径が１／２インチ）とし、
定格冷凍能力が３．６ｋＷから７．１ｋＷ未満の範囲では、前記液接続配管では前記Ｄ０を２．５（即ち配管径が３／１６インチ）、前記ガス側接続配管では前記Ｄ０を４（即ち配管径が３／８インチ）とした
ことを特徴とする冷凍サイクル装置。
【請求項２】
圧縮機、熱源機側熱交換器、第１の膨張装置、液側接続配管、第２の膨張装置、利用側熱交換器、ガス側接続配管を順次接続して構成されている冷凍サイクル装置において、
前記冷凍サイクルに使用する冷媒をＲ３２とし、
前記液側接続配管と、前記ガス側接続配管の管外径を、
Ｄ０／８インチ
とし、且つ前記液接続配管では前記Ｄ０の範囲を「１≦Ｄ０≦３」とし、前記ガス接続配管では前記Ｄ０の範囲を「２≦Ｄ０≦７」にすると共に、
定格冷凍能力が７．１ｋＷから１２．５ｋＷまでの範囲では、前記液接続配管では前記Ｄ０を２（即ち配管径が１／４インチ）、前記ガス接続配管では前記Ｄ０を４（即ち配管径が１／２インチ）とし、
定格冷凍能力が３．６ｋＷから７．１ｋＷ未満の範囲では、前記液接続配管では前記Ｄ０を１．５（即ち配管径が３／１６インチ）、前記ガス側接続配管では前記Ｄ０を３（即ち配管径が３／８インチ）とした
ことを特徴とする冷凍サイクル装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月16日(2014.10.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電源に接続されて直流電力を供給する電源回路と、
前記電源回路から供給される直流電力を交流電力に変換するインバータと、
モータを有し、冷媒を圧縮するコンプレッサと、
前記冷媒が送り込まれて熱交換する熱交換器と、
前記モータの駆動を制御する制御部と、を備える空気調和装置であって、
前記電源回路は、
前記電源の一端に接続されて電磁エネルギとして蓄積可能なリアクトルと、
前記リアクトルの他端に一端が接続されたヒューズと、
前記ヒューズの他端と前記電源の他端との間の短絡／開放を逐次実行する部分スイッチング回路と、
前記短絡／開放を検出する通電検出手段と、を備え、
前記通電検出手段が前記短絡／開放の遷移停止を検出すると、前記部分スイッチング回路の故障を報知させる報知部を備えることを特徴とする空気調和装置。
【請求項２】
前記通電検出手段が前記遷移停止を検出した場合に、
前記モータの出力が低出力となるように前記モータの回転速度を抑制することを特徴とする請求項１に記載の空気調和装置。
【請求項３】
前記電源は、商用電源又は内部直流電源であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の空気調和装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月20日(2014.6.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明に係る空気調和装置は、対象空間を設定に基づいて空気調和する空気調和装置であって、外出先から帰宅する装置利用者の位置及び位置を計測した時刻のデータを含む信号を受信する通信部と、対象空間における熱負荷を算出する熱負荷算出部と、通信部が受信したデータに基づいて対象空間への装置利用者の到着予測時間を予測し、また、熱負荷算出部が算出した熱負荷に基づいて、設定した対象空間にするまでの到達時間を算出し、到達時間と到着予測時間との比較に基づいて、設定に基づく対象空間の空気調和を開始させる制御部とを備えるものである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
対象空間を設定に基づいて空気調和する空気調和装置であって、
外出先から帰宅する装置利用者の位置及び該位置を計測した時刻のデータを含む信号を受信する通信部と、
前記対象空間における熱負荷を算出する熱負荷算出部と、
前記通信部が受信したデータに基づいて前記対象空間への前記装置利用者の到着予測時間を予測し、また、前記熱負荷算出部が算出した前記熱負荷に基づいて、前記設定した前記対象空間にするまでの到達時間を算出し、該到達時間と前記到着予測時間との比較に基づいて、前記設定に基づく前記対象空間の空気調和を開始させる制御部と
を備えることを特徴とする空気調和装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月16日(2014.9.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
タッチパネル用基材上に、酸価が７５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシル基を有するバインダーポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤と、を含有する感光性樹脂組成物からなる感光層を設ける第１工程と、
前記感光層の所定部分を活性光線の照射により硬化させる第２工程と、
前記感光層の前記所定部分以外を除去し、前記感光層の前記所定部分の硬化膜パターン形成する第３工程と、
を備え、
前記感光性樹脂組成物が前記光重合開始剤としてオキシムエステル化合物及び／又はホスフィンオキサイド化合物を含む、樹脂硬化膜パターンの形成方法。
【請求項２】
前記感光性樹脂組成物が紫外線吸収剤を更に含む、請求項１に記載の樹脂硬化膜パターンの形成方法。
【請求項３】
前記紫外線吸収剤が３６０ｎｍ以下の波長域に最大吸収波長を有するものである、請求項２に記載の樹脂硬化膜パターンの形成方法。
【請求項４】
前記感光層の３６５ｎｍにおける吸光度が、０．４以下であり、３３４ｎｍにおける吸光度が、０．４以上である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の樹脂硬化膜パターンの形成方法。
【請求項５】
前記感光層は４００〜７００ｎｍにおける可視光透過率の最小値が８５％以上である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の樹脂硬化膜パターンの形成方法。
【請求項６】
前記感光層はＣＩＥＬＡＢ表色系でのｂ＊が−０．２〜１．０である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の樹脂硬化膜パターンの形成方法。
【請求項７】
前記基材がタッチパネル用電極を備え、当該電極の保護膜として前記樹脂硬化膜パターンを形成する、請求項１〜６のいずれか一項に記載の樹脂硬化膜パターンの形成方法。
【請求項８】
支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた前記感光性樹脂組成物からなる感光層と、を備える感光性エレメントを用意し、当該感光性エレメントの感光層を前記基材上に転写して前記感光層を設ける、請求項１〜７のいずれか一項に記載の樹脂硬化膜パターンの形成方法。
【請求項９】
酸価が７５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシル基を有するバインダーポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤と、を含有し、
前記光重合開始剤がオキシムエステル化合物及び／又はホスフィンオキサイド化合物を含み、
タッチパネル用基材上に樹脂硬化膜パターンを形成するために用いられる、感光性樹脂組成物。
【請求項１０】
紫外線吸収剤を更に含む、請求項９に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項１１】
前記紫外線吸収剤が３６０ｎｍ以下の波長域に最大吸収波長を有するものである、請求項１０に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項１２】
３６５ｎｍにおける吸光度が、０．４以下であり、３３４ｎｍにおける吸光度が、０．４以上である、請求項９〜１１のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項１３】
４００〜７００ｎｍにおける可視光透過率の最小値が８５％以上である、請求項９〜１２のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項１４】
ＣＩＥＬＡＢ表色系でのｂ＊が−０．２〜１．０である、請求項９〜１３のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項１５】
支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた請求項９〜１４のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物からなる感光層と、を備える、感光性エレメント。
【請求項１６】
前記感光層の厚みが１０μｍ以下である、請求項１５に記載の感光性エレメント。
【請求項１７】
タッチパネル用電極を有する基材上に、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法により前記電極の一部又は全部を被覆する保護膜として樹脂硬化膜パターンを形成する工程、を備える、タッチパネルの製造方法。
【請求項１８】
請求項９〜１４のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物の硬化物からなる樹脂硬化膜。
【手続補正書】
【提出日】平成26年8月29日(2014.8.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダと、露光光を照射する露光光照射装置とを備え、マスクと基板との間に微小なギャップを設け、前記露光光照射装置から露光光をマスクへ照射して、マスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置において、
前記露光光照射装置は、
露光光を発生する光源と、
縦横に配列された複数のレンズを有し、該複数のレンズにより前記光源から発生した露光光を重ね合わせて照射するフライアイレンズと、
前記フライアイレンズの複数のレンズから照射された露光光を反射して、露光光を平行にする凹面鏡と、
前記フライアイレンズの近傍に配置され、露光光の一部を遮光する開口絞りとを備え、
露光するパターンの細密度に応じ、前記開口絞りにより前記フライアイレンズの複数のレンズから照射される露光光の広がりを調整したことを特徴とするプロキシミティ露光装置。
【請求項２】
前記開口絞りは、露光光を通過させる開口が、前記フライアイレンズの縦横に配列された複数のレンズの一部に対応して形成されたことを特徴とする請求項１に記載のプロキシミティ露光装置。
【請求項３】
前記開口絞りは、前記光源と前記フライアイレンズとの間に配置され、前記フライアイレンズへ入射する露光光の入射角を調節して、前記フライアイレンズの複数のレンズから照射される露光光の広がりを調整することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のプロキシミティ露光装置。
【請求項４】
基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダと、露光光を照射する露光光照射装置とを備え、マスクと基板との間に微小なギャップを設け、露光光照射装置から露光光をマスクへ照射して、マスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置の露光光照射方法であって、
露光光照射装置に、露光光を発生する光源と、縦横に配列された複数のレンズを有し、複数のレンズにより光源から発生した露光光を重ね合わせて照射するフライアイレンズと、フライアイレンズの複数のレンズから照射された露光光を反射して、露光光を平行にする凹面鏡と、フライアイレンズの近傍に配置され、露光光の一部を遮光する開口絞りとを設け、
露光するパターンの細密度に応じ、開口絞りによりフライアイレンズの複数のレンズから照射される露光光の広がりを調整することを特徴とするプロキシミティ露光装置の露光光照射方法。
【請求項５】
開口絞りに、露光光を通過させる開口を、フライアイレンズの縦横に配列された複数のレンズの一部に対応させて形成することを特徴とする請求項４に記載のプロキシミティ露光装置の露光光照射方法。
【請求項６】
開口絞りを、光源とフライアイレンズとの間に配置し、フライアイレンズへ入射する露光光の入射角を調節して、フライアイレンズの複数のレンズから照射される露光光の広がりを調整することを特徴とする請求項４又は請求項５に記載のプロキシミティ露光装置の露光光照射方法。
【請求項７】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載のプロキシミティ露光装置を用いて基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
【請求項８】
請求項４乃至請求項６のいずれか一項に記載のプロキシミティ露光装置の露光光照射方法を用いて基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月30日(2014.10.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
中空光ファイバとレンズ部材とを接合する光学装置の製造方法であって、前記中空光ファイバの接合面側を予め融解して遷移領域を設ける工程と、前記遷移領域を所定の長さに形成する工程と、前記中空光ファイバとレンズ部材とを接合する接合工程とを有し、前記遷移領域の長さは、前記レンズ部材が前記遷移領域より遠方で合焦するような長さとなるように形成することを特徴とする光学装置の製造方法。
【請求項２】
前記遷移領域を所定の長さに形成する工程は、所定の長さに形成された前記遷移領域の端面を研磨する工程であることを特徴とする請求項１に記載の光学装置の製造方法。
【請求項３】
前記接合工程は、前記遷移領域の端面と前記レンズ部材とを融着することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の光学装置の製造方法。
【請求項４】
中空光ファイバとレンズ部材とを接合した光学装置において、前記レンズ部材は、前記中空光ファイバとの接合部に形成された遷移領域より遠方で合焦するような特性を有するように構成されたことを特徴とする光学装置。
【請求項５】
前記レンズ部材は、ＮＡ（開口数）の異なるレンズ部材が複数連なって構成されていることを特徴とする請求項４に記載の光学装置。
【請求項６】
前記レンズ部材の他端には、前記中空光ファイバとＭＦＤ（モードフィールド径）が異なる第２の光ファイバが接合されており、前記中空光ファイバと前記第２の光ファイバの各々のモードフィールド径に応じて、前記複数のレンズ部材の各屈折率が選択されることを特徴とする請求項５に記載の光学装置。
【請求項７】
前記中空光ファイバは、ＰＣＦ（フォトニック結晶ファイバ）であることを特徴とする請求項４〜６のいずれか一項に記載の光学装置。
【請求項８】
前記レンズ部材は、ＧＩレンズ（屈折率分布型レンズ）であることを特徴とする請求項４〜７のいずれか一項に記載の光学装置。
【請求項９】
前記中空光ファイバと、前記レンズ部材の外径は、ほぼ同径であることを特徴とする請求項４〜８のいずれか一項に記載の光学装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月24日(2014.9.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
図１において、本実施形態に係るガルバノスキャナ１００は、可動子２００及び固定子３００からなる。可動子２００は、ガルバノミラー１、回転軸３、及び永久磁石１０を含み、固定子３００は、コイル１５、ヨーク１６、ハウジングケース１７、第１の熱伝導性メッシュ２０、第２の熱伝導性メッシュ２１を含む。また、固定子３００の外周部には水冷ジャケット２２が設けられ、水冷ジャケット２２には、入口配管２４及び出口配管２５が接続されている。
【手続補正書】
【提出日】平成26年3月14日(2014.3.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の原子発振器、および前記第１の原子発振器からの出力信号を出力するセンサー側送信手段を有する位置検出センサーと、
第２の原子発振器、および前記センサー信号を受信する基地局側受信手段を有する基地局装置と、
位相比較信号の規定値を記憶する記憶手段と、
前記第１の原子発振器から出力信号の位相と前記第２の原子発振器からの出力信号の位相とを比較して位相比較信号を出力する比較手段と、
前記出力された位相比較信号と前記規定値とを比較して前記位置検出センサーの変位を検出する変位検出手段と、
を備えている位置検出システム。
【請求項２】
前記基地局装置は、
前記比較手段、前記記憶手段、および前記変位検出手段を備えている請求項１に記載の位置検出システム。
【請求項３】
前記位置検出センサーは、
前記基地局装置からの基準信号を受信するセンサー側受信手段、前記基準信号と前記第１の原子発振器からの出力信号を比較して前記位相比較信号を出力する前記比較手段、前記変位検出手段、前記記憶手段、および前記変位検出手段の出力信号を送信するセンサー側送信手段を備え、
前記基地局装置は、
前記センサー出力信号を受信する基地局側受信手段、および前記第２の原子発振器からの出力に基づいて前記基準信号を生成して送信する基地局側送信手段を備えている請求項１または２記載の位置検出システム。
【請求項４】
前記位置検出センサーは、
前記比較手段と、前記センサー出力信号として前記位相比較信号を送信する前記センサー側送信手段とを、備え、
前記基地局装置は、
前記記憶手段と、前記センサー側送信手段から送信された前記位相比較信号を受信する前記基地局側受信手段と、前記基地局側受信手段により受信された前記位相比較信号と前記位相比較信号の規定値を比較して前記位置検出センサーの変位を検出する変位検出手段と、を備えている請求項１乃至３のいずれか一項に記載の位置検出システム。
【請求項５】
前記位置検出センサーを複数備えている請求項１乃至４のいずれか一項に記載の位置検出システム。
【請求項６】
前記センサー側送信手段は、
前記センサー出力信号を位置検出センサーごとに異なる周波数に変調する変調手段を含み、
前記基地局側受信手段は、
変調された前記センサー出力信号を復調する復調手段を含む請求項５に記載の位置検出システム。
【請求項７】
前記位置検出センサーは、
前記第１の原子発振器からの出力に基づいて計時を行うタイマーを備え、
前記複数の位置検出センサーのそれぞれは、
前記タイマーの出力に基づいて、互いに異なるタイミングで前記センサー出力信号を送信させるように送信タイミングを制御する送信タイミング制御部を備えている請求項５または６に記載の位置検出システム。
【請求項８】
前記基地局装置は、
前記位置検出センサーに前記センサー出力信号の送信の許可を与える送信開始信号を送信する手段を含み、
前記各位置検出センサーは、
前記送信開始信号を受信する手段と、
前記送信開始信号に基づいて、他の位置検出センサーとは異なるタイミングで前記センサー出力信号を送信させるように送信タイミングを制御する送信タイミング制御部を備えている請求項５乃至７のいずれか一項に記載の位置検出システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】位置検出システム
【手続補正書】
【提出日】平成26年3月19日(2014.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
方法であって、
位置データをＧＰＳレシーバから、前記ＧＰＳレシーバを含む携帯機器の現在位置に基づいて受信する工程と、
前記携帯機器が移動しているか否かを判定する工程と、
前記携帯機器がしきい時間よりも長い間、エリアから移動していないことに応じて、前記現在位置を、登録された位置として登録する工程と、
前記現在位置が、前記登録された位置からしきい距離未満であるか否かを判定する工程と、
前記ＧＰＳレシーバの一定の受信間隔を前記ＧＰＳレシーバの先行する受信間隔に基づいて増加させる工程であって、前記受信間隔を増加させる工程は、前記携帯機器が、前記登録された位置から前記しきい距離未満であることに応じる工程と、
前記受信間隔に基づいて、一定期間にわたり、前記ＧＰＳレシーバが更なる位置データを受信することを抑制する工程と
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
請求項１記載の方法において、前記携帯機器が移動しているかを判定する工程は、前記現在位置が、先行位置から第２のしきい距離超であるかを判定する工程を含むことを特徴とする方法。
【請求項３】
請求項１記載の方法において、前記携帯機器が前記エリアから移動した場合に前記受信間隔をリセットする工程を更に含むことを特徴とする方法。
【請求項４】
請求項１記載の方法において、ユーザ入力に基づいて、前記しきい時間を調節する工程を更に含むことを特徴とする方法。
【請求項５】
請求項１記載の方法において、一定期間にわたり、前記位置データを監視する工程を更に含み、前記現在位置は、前記期間中の反復インスタンスにおいて前記しきい時間よりも長い間、前記エリアから移動していない場合にのみ、登録された位置として登録されることを特徴とする方法。
【請求項６】
請求項１記載の方法において、前記受信間隔を、先行する受信間隔を２倍にすることによって増加させることを特徴とする方法。
【請求項７】
請求項１記載の方法において、
前記増加させた受信間隔を最大受信間隔と比較する工程と、
前記増加させた受信間隔が前記最大受信間隔よりも大きい場合、前記増加させた受信間隔を前記最大受信間隔に制限する工程と
を更に含むことを特徴とする方法。
【請求項８】
請求項１記載の方法において、前記登録された位置からの前記しきい距離はユーザの好みに基づくことを特徴とする方法。
【請求項９】
請求項１記載の方法において、前記登録された位置からの前記しきい距離を前記位置データに基づいて設定する工程を更に含むことを特徴とする方法。
【請求項１０】
請求項１記載の方法において、登録された位置として位置を予め設定する工程を更に含むことを特徴とする方法。
【請求項１１】
携帯機器であって、
前記携帯機器の現在位置に基づいて位置データを提供するよう構成されたＧＰＳレシーバと、
前記位置データを前記ＧＰＳレシーバから受信し、
前記携帯機器が移動しているか否かを判定し、
前記携帯機器がしきい時間よりも長い間、エリアから移動していないことに応じて、前記現在位置を、登録された位置として登録し、
前記現在位置が、前記登録された位置からしきい距離未満であるか否かを判定し、
前記ＧＰＳレシーバの一定の受信間隔を前記ＧＰＳレシーバの先行する受信間隔に基づいて増加させ、前記受信間隔の増加は、前記携帯機器が、前記登録された位置から前記しきい距離未満であることに応じ、
前記受信間隔に基づいて、一定期間にわたり、前記ＧＰＳレシーバが更なる位置データを受信することを抑制する
よう構成された処理回路と
を備えることを特徴とする携帯機器。
【請求項１２】
請求項１１記載の携帯機器において、前記携帯機器が移動しているかを判定することは、前記現在位置が、先行位置からしきい距離超であるかを判定することを含むことを特徴とする携帯機器。
【請求項１３】
請求項１１記載の携帯機器において、前記携帯機器が前記エリアから移動した場合に前記受信間隔をリセットすることを更に含むことを特徴とする携帯機器。
【請求項１４】
請求項１１記載の携帯機器において、前記処理回路は、一定期間にわたり、前記位置データを監視するよう更に構成され、前記現在の位置は、前記期間中の反復インスタンスにおいて前記しきい時間よりも長い間、前記エリアから移動していない場合にのみ、登録された位置として登録されることを特徴とする携帯機器。
【請求項１５】
請求項１１記載の携帯機器において、前記処理回路は、
前記増加させた受信間隔を最大受信間隔と比較し、
前記増加させた受信間隔が前記最大受信間隔よりも大きい場合、前記増加させた受信間隔を前記最大受信間隔に制限する
よう更に構成されたことを特徴とする携帯機器。
【請求項１６】
請求項１１記載の携帯機器において、前記処理回路は、前記位置データに基づいて前記登録された位置からの前記しきい距離を設定するよう更に構成された携帯機器。
【請求項１７】
コンピュータ装置によって実行されると、前記コンピュータ装置に動作を行わせる命令を記憶させた、一時的でないコンピュータ読み取り可能な媒体であって、前記動作は、
前記携帯機器の現在位置に基づいてＧＰＳレシーバから位置データを受信する工程と、
前記携帯機器が移動しているか否かを判定する工程と、
前記携帯機器がしきい時間よりも長い間、エリアから移動していないことに応じて、前記現在位置を、登録された位置として登録する工程と、
前記現在位置が、前記登録された位置からしきい距離未満であるか否かを判定する工程と、
前記ＧＰＳレシーバの一定の受信間隔を前記ＧＰＳレシーバの先行する受信間隔に基づいて増加させる工程であって、前記受信間隔を増加させる工程は、前記携帯機器が、前記登録された位置から前記しきい距離未満であることに応じる工程と、
前記受信間隔に基づいて、一定期間にわたり、前記ＧＰＳレシーバが更なる位置データを受信することを抑制する工程
とを含むことを特徴とする一時的でないコンピュータ読み取り可能な媒体。
【請求項１８】
請求項１７記載の一時的でないコンピュータ読み取り可能な媒体において、前記携帯機器が移動しているかを判定する工程は、前記現在位置が、先行位置からしきい距離超であるかを判定することを含むことを特徴とする一時的でないコンピュータ読み取り可能な媒体。
【請求項１９】
請求項１７記載の一時的でないコンピュータ読み取り可能な媒体において、前記動作は、一定期間にわたり、前記位置データを監視する工程を更に含み、前記期間中の反復インスタンスにおいて前記しきい時間よりも長い間、前記携帯機器が前記エリアから移動していない場合にのみ、前記現在位置が、登録された位置として登録されることを特徴とする一時的でないコンピュータ読み取り可能な媒体。
【請求項２０】
請求項１７記載の一時的でないコンピュータ読み取り可能な媒体において、前記動作は、
前記増加させた受信間隔を最大受信間隔と比較する工程と、
前記増加させた受信間隔が前記最大受信間隔よりも大きい場合、前記増加させた受信間隔を前記最大受信間隔に制限する工程と
を更に含むことを特徴とする一時的でないコンピュータ読み取り可能な媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成26年2月14日(2014.2.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の面に集積回路と電極とが形成された半導体基板と、
振動部を有し、前記半導体基板の前記第１の面と対向する面に電極が形成されたセンサー素子と、
前記半導体基板の前記第１の面と対向して設けられた１又は複数の再配置配線と、を含み、
前記再配置配線の少なくとも１つは、
前記半導体基板に形成された前記電極と前記センサー素子の前記電極とを電気的に接続し、
前記集積回路は、
前記センサー素子の検出信号が入力されるチャージアンプを有し、
前記チャージアンプは、
前記半導体基板の前記第１の面に直交する方向から視た平面視において、前記センサー素子の前記振動部と重ならないように配置されている、慣性センサー。
【請求項２】
請求項１において、
前記チャージアンプは、
前記半導体基板の前記第１の面に直交する方向から視た平面視において、電位が変化する前記再配置配線と重ならないように配置されている、慣性センサー。
【請求項３】
請求項１又は２において、
前記再配置配線の少なくとも１つは、固定電位が供給され、
前記チャージアンプは、
前記半導体基板の前記第１の面に直交する方向から視た平面視において、前記固定電位が供給される前記再配置配線と重なるように配置されている、慣性センサー。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれかにおいて、
前記半導体基板は、
前記第１の面に、固定電位が供給されるシールド配線が、前記第１の面に直交する方向から視た平面視において前記チャージアンプと重なるように形成されている、慣性センサ
ー。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれかにおいて、
前記センサー素子は、
前記振動部に質量を調整可能な質量調整部が形成されており、
前記再配置配線の少なくとも１つは、
前記半導体基板の前記第１の面に直交する方向から視た平面視において、前記センサー素子の前記質量調整部と重なるように配置されている、慣性センサー。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれかにおいて、
前記半導体基板と前記センサー素子との間に設けられ、前記半導体基板と前記センサー素子との温度係数の違いにより生じる応力差を吸収するための絶縁層を、含む、慣性センサー。
【手続補正書】
【提出日】平成26年1月29日(2014.1.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料を含むサンプル液が通流する液体流路と、
圧縮気体が通流する気体流路と、を有し、
前記液体流路の始端に連通するサンプル液導入口と、前記気体流路の終端に連通する気体供給口が同一平面上に形成されており、
前記サンプル液導入口と、前記気体供給口を囲むようにシール材が配設されているマイクロチップ。
【請求項２】
前記気体供給口は、直径が１〜５００μｍである請求項１に記載のマイクロチップ。
【請求項３】
前記気体流路の始端に連通する気体導入口が、前記気体供給口とは異なる面上に形成されている請求項１又は２に記載のマイクロチップ。
【請求項４】
前記気体流路の始端に連通する気体導入口が、前記気体供給口と同一面上で、かつ前記シール材の外側の領域に形成されている請求項１又は２に記載のマイクロチップ。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載のマイクロチップと、
試料を含むサンプル液が充填され、上部が開口した容器と、
前記マイクロチップを保持するチップ保持部と、
該チップ保持部を回転させる回転機構と、
前記マイクロチップの気体流路に圧縮気体を導入する気体導入部と、
を有するサンプル液供給装置。
【請求項６】
前記チップ保持部により前記マイクロチップを保持すると共に、前記容器の開口端部を前記マイクロチップのシール材に密着させた状態で、前記回転機構により前記保持部を回転させて、前記容器内のサンプル液をマイクロチップのサンプル液導入口に接触させる請求項５に記載のサンプル液供給装置。
【請求項７】
気体導入部から導入された圧縮気体が、前記気体流路を通流して、前記容器内に供給される請求項５又は６に記載のサンプル液供給装置。
【請求項８】
前記回転機構により前記保持部を回転させることにより、前記マイクロチップに直結された容器内のサンプル液を撹拌する請求項５〜７のいずれか１項に記載のサンプル液供給装置。
【請求項９】
試料を含むサンプル液が充填された容器の上部に設けられた開口端部を、マイクロチップの一方の面に配設されたシール材に密着させ、前記容器を前記マイクロチップに直結する工程と、
前記容器が直結した状態で、前記マイクロチップを回転させて、前記容器内のサンプル液を、前記マイクロチップの前記シール材で囲まれる領域に形成され液体流路の始端に連通するサンプル液導入口に接触させる工程と、
前記マイクロチップに設けられ気体流路の始端に連通する気体導入口に圧縮気体を導入し、前記気体流路の終端に連通し前記マイクロチップの前記シール材で囲まれる領域に形成された気体供給口から、前記圧縮気体を前記容器内に供給する工程と、
を有するサンプル液供給方法。
【請求項１０】
前記圧縮気体の導入量を変更することにより、前記液体流路に流入するサンプル液の量を調整する請求項９に記載のサンプル液供給方法。
【請求項１１】
請求項５〜８のいずれか１項に記載のサンプル液供給装置を備えた分析装置。
【請求項１２】
前記マイクロチップの液体流路を通流する試料に光を照射する光照射部と、
前記試料から発せられた光を検出する検出部と、
を備える請求項１１に記載の分析装置。