【手続補正書】
【提出日】平成26年9月16日(2014.9.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示領域に配置されると共に有機ＥＬ素子を含む複数の画素と、
画素間に配置された複数の導電性配線層と
を備え、
前記有機ＥＬ素子は、少なくとも、正孔注入層と、電子と正孔との再結合により発光する発光層とを含む複数の層を有し、
前記複数の層のうち少なくとも前記正孔注入層は、前記表示領域内の複数の画素において共通に形成されるとともに、前記導電性配線層に電気的に接続されている
表示パネル。
【請求項２】
前記導電性配線層は、前記正孔注入層が共通に形成されている複数の画素の間に配置されている
請求項１に記載の表示パネル。
【請求項３】
前記導電性配線層は、前記表示領域外の金属部材に接しており、
前記金属部材は、前記有機ＥＬ素子の閾値電圧よりも小さな第１電圧が印加される部材である
請求項１または請求項２に記載の表示パネル。
【請求項４】
前記第１電圧は、グラウンド電圧、または前記有機ＥＬ素子のカソードの電圧と同一の電圧である
請求項３に記載の表示パネル。
【請求項５】
前記正孔注入層は、前記表示領域内の全ての画素において共通に形成されている
請求項１ないし請求項４のいずれか一項に記載の表示パネル。
【請求項６】
前記複数の層は、正孔輸送層と、電子輸送層をさらに含んでいる
請求項１ないし請求項５のいずれか一項に記載の表示パネル。
【請求項７】
表示領域に配置されると共に有機ＥＬ素子を含む複数の画素と、画素間に配置された複数の導電性配線層とを有する表示パネルと、
各画素を駆動する駆動回路と
を備え、
前記有機ＥＬ素子は、少なくとも、正孔注入層と、電子と正孔との再結合により発光する発光層とを含む複数の層を有し、
前記複数の層のうち少なくとも前記正孔注入層は、前記表示領域内の複数の画素において共通に形成されるとともに、前記導電性配線層に電気的に接続されている
表示装置。
【請求項８】
表示装置を備え、
前記表示装置は、
表示領域に配置されると共に有機ＥＬ素子を含む複数の画素と、画素間に配置された複数の導電性配線層とを有する表示パネルと、
各画素を駆動する駆動回路と
を有し、
前記有機ＥＬ素子は、少なくとも、正孔注入層と、電子と正孔との再結合により発光する発光層とを含む複数の層を有し、
前記複数の層のうち少なくとも前記正孔注入層は、前記表示領域内の複数の画素において共通に形成されるとともに、前記導電性配線層に電気的に接続されている
電子機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
【図１】本技術による一実施の形態に係る表示装置の構成の一例を表す図である。
【図２】画素の構成の一例を表す図である。
【図３】有機ＥＬ素子の断面構成の一例を表す図である。
【図４】図１の表示パネルにおける画素間のリーク電流について説明するための図である。
【図５】比較例に係る表示パネルにおける画素間のリーク電流について説明するための図である。
【図６】上記実施の形態の表示装置を含むモジュールの概略構成を表す平面図である。
【図７】上記実施の形態の表示装置の適用例１の外観を表す斜視図である。
【図８】（Ａ）は適用例２の表側から見た外観を表す斜視図であり、（Ｂ）は裏側から見た外観を表す斜視図である。
【図９】適用例３の外観を表す斜視図である。
【図１０】適用例４の外観を表す斜視図である。
【図１１】（Ａ）は適用例５の開いた状態の正面図、（Ｂ）はその側面図、（Ｃ）は閉じた状態の正面図、（Ｄ）は左側面図、（Ｅ）は右側面図、（Ｆ）は上面図、（Ｇ）は下面図である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
＜１．実施の形態＞
［構成］
図１は、本技術による一実施の形態に係る表示装置１の概略構成を表したものである。この表示装置１は、表示パネル１０と、表示パネル１０を駆動する駆動回路２０とを備えている。駆動回路２０は、例えば、タイミング生成回路２１、映像信号処理回路２２、信号線駆動回路２３、書込線駆動回路２４、および電源線駆動回路２５を有している。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
（表示パネル１０）
表示パネル１０は、複数の画素１１が表示パネル１０の表示領域１０Ａ全面に渡って２次元配置されたものである。画素１１は、表示パネル１０上の画面を構成する最小単位の点に対応するものである。表示パネル１０がカラー表示パネルである場合には、画素１１は、例えば赤、緑または青などの単色の光を発する副画素に相当し、表示パネル１０がモノクロ表示パネルである場合には、画素１１は、白色光を発する画素に相当する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
ＴＦＴ基板１４は、画素回路１２などの形成された基板であって、かつ、少なくとも最上面に、画素回路１２と電気的に接続された金属層（図示せず）を有している。有機ＥＬ素子１３は、その金属層に接して形成されている。金属配線層１５は、表示領域１０Ａ内において行方向または列方向に延在する帯状の配線層であり、表示領域１０Ａ外の金属部材１６（図１参照）に電気的に接している。金属部材１６は、有機ＥＬ素子１３の閾値電圧よりも小さな電圧が印加される部材である。ここで、金属部材１６に印加される電圧は、グラウンド電圧、または有機ＥＬ素子１３のカソードの電圧と同一の電圧となっている。金属配線層１５は、例えば、後述のアノード電極３１と同一の層に形成されており、後述の正孔注入層３２Ａの下側の面に接している。また、金属配線層１５は、例えば、アノード電極３１の形成工程と同一の工程で、アノード電極３１と一括で形成されている。金属配線層１５は、アノード電極３１の端部から十分に離れていることが好ましく、例えば、互いに隣接するアノード電極３１同士の間の中間の位置に配置されていることが好ましい。なお、金属配線層１５は、アノード電極３１とは異なる層であって、かつ正孔注入層３２Ａに接することの可能な層に形成されていてもよい。また、金属配線層１５は、正孔注入層３２Ａ、後述の正孔輸送層３２Ｂおよび後述の電子輸送層３２Ｄのうち少なくとも正孔注入層３２Ａと電気的に接続することの可能な構成となっていてもよい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
映像信号処理回路２２は、外部から入力されたデジタルの映像信号２０Ａを補正すると共に、補正した後の映像信号をアナログに変換して信号線駆動回路２３に出力するものである。信号線駆動回路２３は、映像信号処理回路２２から入力されたアナログの映像信号を、制御信号２１Ａの入力に応じて（同期して）各信号線ＤＴＬに出力するものである。書込線駆動回路２４は、制御信号２１Ａの入力に応じて（同期して）、複数の書込線ＷＳＬを所定の単位ごとに順次選択するものである。電源線駆動回路２５は、例えば、制御信号２１Ａの入力に応じて（同期して）、複数の電源線ＤＳＬを所定の単位ごとに順次選択するものである。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
有機ＥＬ素子が低分子蒸着型である場合に、有機ＥＬ素子をアレイ状に並べるときには、発光層は、通常、蒸着マスクを用いて画素毎に選択的に蒸着することにより形成される。しかし、有機層のうち発光層以外の層は、生産性の向上や、生産コストの削減を考えると、各画素で共通に形成されることが望ましい。とはいえ、正孔注入層を各画素で共通化すると、正孔注入層の抵抗率の低さにより、隣接する画素間でリーク電流が生じる。例えば、図５に示したように、発光画素からのリーク電流が、発光画素に隣接する画素（図５の右側の画素）に到達する。そのため、所望の画素以外の画素までもが発光するので、混色が発生し、画質が低下してしまう。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
一方、本実施の形態では、正孔注入層３２Ａ、正孔輸送層３２Ｂおよび電子輸送層３２Ｄのうち少なくとも正孔注入層３２Ａが、画素１１間に配置された金属配線層１５に電気的に接続されている。これにより、リーク電流が隣接画素に到達する前に、金属配線層１５で引き抜かれる。その結果、例えば、図５に示したように、金属配線層１５の位置で、電流密度が急激に減少するので、隣接する画素１１間でリーク電流が生じるのを抑制することができる。その結果、混色や画質低下を抑制することが可能となる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
＜２．適用例＞
以下、上記各実施の形態およびそれらの変形例で説明した表示装置１の適用例について説明する。上述の表示装置１は、テレビジョン装置、デジタルカメラ、ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話等の携帯端末装置あるいはビデオカメラなど、外部から入力された映像信号あるいは内部で生成した映像信号を、映像として表示するあらゆる分野の電子機器の表示装置に適用することが可能である。