【手続補正書】
【提出日】平成26年8月6日(2014.8.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
第１電極１３は、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの画素毎に設けられている。第１電極１３は、例えば厚みが１０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であり、ボトムエミッション型の場合には、透明導電膜、例えばインジウムとスズの酸化物（ＩＴＯ）、ＩｎＺｎＯ（インジウム亜鉛オキシド）、および酸化亜鉛（ＺｎＯ）とアルミニウム（Ａｌ）との合金のうちのいずれかよりなる単層膜または２種以上からなる積層膜により構成されている。この第１電極１３は、トップエミッション型の場合には、光反射性に優れた導電性材料を用いて構成される。この第１電極１３は、例えば、クロム（Ｃｒ），金（Ａｕ），白金（Ｐｔ），ニッケル（Ｎｉ），銅（Ｃｕ），タングステン（Ｗ）あるいは銀（Ａｇ）等の金属元素の単体または合金よりなる。あるいは、第１電極１３は、それらの金属元素の単体または合金よりなる金属膜と、ＩＴＯ、ＩｎＺｎＯ、酸化亜鉛（ＺｎＯ）とアルミニウム（Ａｌ）との合金等の透明導電膜との積層構造を有していてもよい。尚、第１電極１３が陽極として機能する場合には、第１電極１３は正孔注入性の高い材料により構成されていることが望ましいが、そうでない材料（例えば、アルミニウム合金等）であっても、適切な正孔注入層１４を別途設けることによって第１電極１３として使用することができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
この第１電極１３とＴＦＴ１１の配線接続部分には、高導電材料の金属や金属酸化物が用いられ、その接続面は第１電極１３と接触抵抗が少ない材料が用いられる。そのような材料としては、モリブデン（Ｍｏ），チタン（Ｔｉ）などが使用されるか、あるいは、これらのモリブデン，チタンなどをバリアメタルとして使用した、アルミニウム（Ａｌ），銅（Ｃｕ）などが用いられてもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
正孔輸送層１５は、赤色発光層１６Ｒ，緑色発光層１６Ｇ，青色発光層１６Ｂへの正孔輸送効率を高めるためのものである。この正孔輸送層１５についても、上記正孔注入層１４と同様、例えば高分子材料からなり、印刷法等によって成膜される。その重量平均分子量（Ｍｗ）は５万〜３０万であることが好ましく、特に１０万〜２０万であることが好ましい。重量平均分子量（Ｍｗ）が５万未満では、発光層１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂを形成するときに、高分子材料中の低分子成分が脱落し、これによって有機ＥＬ素子の初期性能が低下したり、素子の劣化を引き起こすおそれがある。一方、３０万を越えると、材料がゲル化するため、成膜が困難になる。このような正孔輸送層１５を構成する高分子材料としては、後述の有機溶媒に可溶な発光材料、例えば、ポリビニルカルバゾール、ポリフルオレン、ポリアニリン、ポリシランまたはそれらの誘導体、側鎖または主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体、ポリチオフェンおよびその誘導体、ポリピロール等が挙げられる。この正孔輸送層１５の厚みは、素子の全体構成にもよるが、例えば１０ｎｍ〜２００ｎｍである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
電子輸送層１７は、発光層１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂへの電子輸送効率を高めるためのものである。この電子輸送層１７の材料としては、例えば、キノリン、ペリレン、フェナントロリン、ビススチリル、ピラジン、トリアゾール、オキサゾール、フラーレン、オキサジアゾール、フルオレノン、またはこれらの誘導体や金属錯体が挙げられる。具体的には、トリス（８−ヒドロキシキノリン）アルミニウム（略称Ａｌｑ3）、アントラセン、ナフタレン、フェナントレン、ピレン、ペリレン、ブタジエン、クマリン、Ｃ60、アクリジン、スチルベン、１，１０−フェナントロリンまたはそれらの誘導体や金属錯体が挙げられる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
尚、上記構成に限定されず、例えば各色発光層が各画素に共通して設けられていてもよい（例えば、ＲＧＢの３色の発光層が積層されたタンデム構造を有していてもよい）。また、一部の発光層のみが各画素に共通して設けられていてもよい（例えば、Ｒ画素には赤色発光層、Ｇ画素には緑色発光層がそれぞれ塗り分けられ、青色発光層は全画素に共通して設けられていてもよい）。更に、画素毎に塗り分けられる機能層としては、発光層に限定されず、正孔注入層１４、正孔輸送層１５および電子輸送層１７のうちの１層または２層以上が、画素毎に形成されるようにしてもよい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
第２電極１８は、例えば、厚みが２ｎｍ以上２００ｎｍ以下であり、導電膜により構成されている。具体的には、ボトムエミッション型の場合には、アルミニウム（Ａｌ），マグネシウム（Ｍｇ），カルシウム（Ｃａ）およびナトリウム（Ｎａ）のうちの少なくとも１種を含む単体金属または合金が挙げられる。あるいは、トップエミッション型の場合には、ＩＴＯ等の透明導電膜が用いられてもよい。この第２電極１８は、第１電極１３と絶縁された状態で機能層（電子輸送層１７）上に形成され、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの共通電極となっている。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
但し、本明細書および特許請求の範囲の記載において、印刷パターン層と駆動基板１０Ａとの“間”の層とは、印刷パターン層と駆動基板１０Ａとの間に積層された上記下地層（例えば、第１電極１３、正孔注入層１４および正孔輸送層１５）のうち、印刷パターン層に対向する部分を示すものである。例えば、突条部２２は、上記下地層のうちの表示領域に対応する部分よりも高くなるように形成されていればよい。一方、上記下地層のうちの、印刷パターン層の形成されない領域、例えば周辺領域に対応する部分では、この限りではなく、即ち下地層が突条部よりも高い位置に設けられていてもよい。例えば、突条部２２の形成タイミングによって、下地層の一部（例えば、正孔注入層，正孔輸送層等：後述の変形例１，２参照）が、周辺領域において突条部よりも上層に（突条部を覆って）形成されることがある（表示領域では、突条部が下地層よりも突出して設けられる）。このように、突条部２２は、印刷パターン層と駆動基板１０Ａとの間に設けられる各層のうち、少なくとも印刷パターン層が形成される表示領域に対応する部分よりも、突出していればよい。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
図５（Ａ）〜（Ｃ）は、駆動基板１０Ａを真上から見たものであり、突条部２２の基板面上の配置箇所を模式的に表したものである。突条部２２は、例えば、駆動基板１０Ａの周辺領域Ｓ２の一部に設けられていることが望ましい。具体的には、駆動基板１０Ａの面形状が矩形状である場合には、図５（Ａ）に示したように、周辺領域Ｓ２のうち矩形状の１つの短辺に沿って設けられてよいし、図５（Ｂ）に示したように、周辺領域Ｓ２のうち矩形状の２つの短辺に沿って設けられてよい。あるいは図５（Ｃ）に示したように、４つの辺の全てに（発光領域Ｓ１を囲むように）突条部２２が設けられていてもよい。このように、突条部２２が配設される領域は、周辺領域Ｓ２のいずれの箇所であってもよいが、特に大型ディスプレイに適用される場合等、駆動基板１０Ａの１辺側のみではディストーションの制御が困難となる場合もあることから、図５（Ｂ），（Ｃ）の例のように、矩形状の２辺以上の領域に設けられることがより望ましい。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
［作用・効果］
有機ＥＬ表示装置１では、各画素に対して走査線駆動回路１３０から書き込みトランジスタＴｒ２のゲート電極を介して走査信号が供給されると共に、信号線駆動回路１２０から画像信号が書き込みトランジスタＴｒ２を介して保持容量Ｃｓに保持される。この保持容量Ｃｓに保持された信号に応じて駆動トランジスタＴｒ１がオンオフ制御され、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに駆動電流Ｉｄが注入される。これにより、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂでは、発光層１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂにおいて正孔と電子との再結合により発光が起こる。このようにして生じた光は、下面発光（ボトムエミッション）の場合には第１電極１３および駆動基板１０Ａを透過して、上面発光（トップエミッション）の場合には、第２電極１８，カラーフィルタ（図示せず）および封止用基板２１を透過してそれぞれ取り出される。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９０】
尚、本開示は、以下の（１）〜（１９）に記載したような構成であってもよい。
（１）駆動基板上に複数の画素を含む発光領域を備え、前記複数の画素はそれぞれ、前記駆動基板側から順に、画素毎に設けられた第１電極と、少なくとも有機電界発光層を含む機能層と、第２電極とを有し、前記機能層は、画素毎に塗り分けられた印刷パターン層を含み、前記駆動基板上に、前記印刷パターン層と前記駆動基板との間のいずれの層よりも突出した突部が設けられている有機ＥＬ表示装置。
（２）前記突部は、前記駆動基板上の前記発光領域の周辺領域の一部に設けられている上記(1)に記載の有機ＥＬ表示装置。
（３）前記駆動基板の面形状が矩形状であり、前記突部は、前記周辺領域のうち、前記矩形状の少なくとも１つの辺に沿って設けられた１または複数の突条部である上記(1)また
は(2)に記載の有機ＥＬ表示装置。
（４）前記突条部は、前記周辺領域のうち、前記矩形状の対向する２辺のそれぞれに沿って設けられている上記(3)に記載の有機ＥＬ表示装置。
（５）前記突条部は、前記周辺領域のうち、前記矩形状の全ての辺のそれぞれに沿って設けられている上記(3)に記載の有機ＥＬ表示装置。
（６）前記駆動基板側から順に、複数の前記第１電極と、各第１電極に対向して開口を有する画素分離膜とを有し、前記突部は、前記画素分離膜と同一の樹脂材料により構成されている上記(1)ないし(5)のいずれかに記載の有機ＥＬ表示装置。
（７）前記駆動基板の表面に平坦化膜を備え、前記突部は、前記平坦化膜と同一の樹脂材料により形成されている上記(1)ないし(5)のいずれかに記載の有機ＥＬ表示装置。
（８）前記突部は、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂またはノボラック樹脂により構成されている上記(1)ないし(7)のいずれかに記載の有機ＥＬ表示装置。
（９）駆動基板上の発光領域に、複数の第１電極と、少なくとも有機電界発光層を含む機能層と、第２電極とをこの順に形成することにより、複数の画素を形成する工程と、前記駆動基板上に突部を形成する工程とを含み、前記機能層の一部として、画素毎に塗り分けられた印刷パターン層を形成し、前記突部を形成する工程では、前記印刷パターン層を形成するよりも前に、前記突部を、前記駆動基板上に形成されたいずれの層よりも突出するように形成する有機ＥＬ表示装置の製造方法。
（１０）前記印刷パターン層を、オフセット印刷法を用いて成膜する上記(9)に記載の有
機ＥＬ表示装置の製造方法。
（１１）前記オフセット印刷法では、平板状またはシート状のブランケットを用いる上記(10)に記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。
（１２）前記オフセット印刷法では、前記ブランケットに前記印刷パターン層を形成した後、前記ブランケットを、前記駆動基板上に前記印刷パターン層を間にして重ね合わせて圧着させる上記(10)または(11)に記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。
（１３）前記ブランケットは、少なくとも表面側にシリコーンゴムよりなる層を有する上記(11)または(12)に記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。
（１４）前記ブランケットは、硬質部材によって支持されている上記(11)ないし(13)のいずれかに記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。
（１５）前記突部を、前記駆動基板上の前記発光領域の周辺領域の一部に形成する上記(9)ないし(14)のいずれかに記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。
（１６）前記第１電極を形成した後、前記駆動基板上に、前記第１電極に対向して開口を有する画素分離膜を形成する工程を含み、前記突部を、前記画素分離膜と同一工程において形成する上記(9)ないし(15)のいずれかに記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。
（１７）前記第１電極を形成する前に、前記駆動基板の表面に平坦化膜を形成する工程を含み、前記突部を、前記平坦化膜と同一工程において形成する上記(9)ないし(15)のいずれかにに記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。
（１８）前記突部の材料として、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂またはノボラック樹脂を用いる上記(9)ないし(17)のいずれかにに記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。
（１９）駆動基板上に複数の画素を含む発光領域を備え、前記複数の画素はそれぞれ、前記駆動基板側から順に、画素毎に設けられた第１電極と、少なくとも有機電界発光層を含む機能層と、第２電極とを有し、前記機能層は、画素毎に塗り分けられた印刷パターン層を含み、前記駆動基板上に、前記印刷パターン層と前記駆動基板との間に設けられたいずれの層よりも突出した突部が設けられている有機ＥＬ表示装置を備えた電子機器。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１８】
前記突部の材料として、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂またはノボラック樹脂を用いる
請求項９に記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。