(57)【要約】  ２０度、６０度または８５度の少なくとも１つの入射角で測定されたとき、少なくとも２０単位の相対的な光沢差がある少なくとも３つの光沢レベルを有する、少なくとも３つの異なる光沢コントラスト領域を含む装飾されたガラスセラミック物品。本書に定義されるように、表面を装飾して、少なくとも元の基体の表面の一部に１つ以上のコントラストレベルを有する方法が開示される。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
２０度、６０度または８５度の少なくとも１つの入射角で測定されたとき、少なくとも２０単位の相対的な光沢差がある少なくとも３つの光沢レベルを有する、少なくとも３つの異なる光沢コントラスト領域を含む、装飾されたガラスセラミック物品。
【請求項２】
光沢性外観と滑らかな表面のテクスチャーを有する基体、および
第１の粗さを有する第１の粗いテクスチャーを有する第１のマットコントラスト領域と、第２の粗さを有する第２の粗いテクスチャーを有する第２のマットコントラスト領域とを含み、前記第１の粗さが前記第２の粗さより大きい、前記基体表面の複数のコントラスト領域を含む、装飾された光沢性物品。
【請求項３】
第１のマット外観と第１の粗さを有する第１の粗面テクスチャーを有する基体、および
第２のマットコントラスト領域と第２の粗さを有する第２の粗いテクスチャー、および、第３のマットコントラスト領域と第３の粗さを有する第３の粗いテクスチャーを含み、前記第１の粗さは前記第２の粗さより粗くなく、前記第２の粗さは前記第１の粗さまたは前記第３の粗さとは異なる、前記基体表面の前記複数のコントラスト領域を含む、装飾されたマット物品。
【請求項４】
化学的にエッチング可能な元の基体表面の少なくとも一部に２つまたはそれ以上のコントラストレベルを有する美的な表面特徴を有する物品を製作する方法であって、
前記基体の前記元の表面領域の少なくとも一部において第１のマスキングを行い、部分的にマスクされた基体を形成するステップ、
前記マスクされた基体のマスクされていない表面領域部の少なくとも一部において第１の化学的粗化を行い、前記マスクされた基体にマット仕上げ領域を製作するステップ、
前記第１のマスクを除去し、前記元の表面領域と前記マット仕上げ領域に関する第１のコントラスト領域を製作するステップ、
前記マット仕上げ表面領域の少なくとも一部において第２のマスキングを行い、マスクされたマット仕上げ領域を形成するステップ、
前記マスクされていないマット仕上げ領域の少なくとも一部において第１の化学研磨を行い、第１の研磨マット仕上げ領域を製作するステップ、および
前記第２のマスクを除去し、前記マスクされていない元の表面領域、前記マット仕上げ表面領域および前記研磨マット仕上げ領域に関する第２のコントラスト領域を製作するステップ、
を含む方法。
【請求項５】
前記第１のマスキングが、ワックス、ポリマー、水不溶性フィルムもしくは水不溶性コート、ＵＶ硬化性フィルムもしくはＵＶ硬化性コート、接着剤、積層、またはこれらの組合せの少なくとも１つから選択された耐エッチ性の材料を適用し、前記第１のマスキングが、インクジェット式印刷、スクリーン印刷、ラミネーション、またはこれらの組合せで前記表面に前記マスクを施す、請求項４に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【関連出願の相互参照】
【０００１】
本願は、２０１５年６月１９日に出願された米国仮特許出願第６２／１８２，０３０号の米国特許法第１１９条に基づく優先権を主張するものであり、本願は上記特許出願の内容に依拠したものであり、また上記特許出願の内容は参照によりその全体が本明細書に援用される。
【０００２】
本出願は一般に、同一出願人による以下複数の米国特許出願に関連する。「ＭＥＴＨＯＤＳ  ＴＯ  ＴＥＸＴＵＲＥ  ＯＰＡＱＵＥ、ＣＯＬＯＲＥＤ  ＡＮＤ  ＴＲＡＮＳＬＵＣＥＮＴ  ＭＡＴＥＲＩＡＬＳ」と題する、２０１２年１１月２日に出願された米国特許出願第６１／７２１，７９７号は、ガラスセラミック物品の表面を改質する方法について述べており、この方法は、ガラスセラミック物品の未損傷表面および初期光沢度を有するガラスセラミック物品を提供する工程、ガラスセラミック物品の未損傷表面に約５秒から１５分未満のエッチング時間化学エッチング液を塗布する工程、および化学エッチング液を除去する工程を含む。また、「ＭＥＴＨＯＤ  ＯＦ  ＰＲＩＮＴＩＮＧ  ＤＥＣＯＲＡＴＩＯＮＳ  ＯＮ  ＳＵＢＳＴＲＡＴＥＳ」と題する、２０１４年１０月１４日に出願された米国特許出願第１４／５１３，４０７号は、基体に装飾を印刷する方法について述べており、インクジェット式印刷によって基体に所定のデザインのインクコーティングを施すことを含む。また、「ＴＥＸＴＵＲＥＤ  ＳＵＲＦＡＣＥＳ  ＡＮＤ  ＭＥＴＨＯＤＳ  ＯＦ  ＭＡＫＩＮＧ  ＡＮＤ  ＵＳＩＮＧ  ＳＡＭＥ」と題する、２０１２年１１月２８日に共同出願された米国特許９，０２３，４５７号は、指紋無付着性が改善された、テクスチャー加工品の製作および使用方法について述べている。この方法は一般に、ナノ構造の金属を含有する特性を含むマスクを利用し、ナノ構造の特性をも含むテクスチャー表面を製作する。本出願は、これらの同一出願人または共同出願人による関連する特許文献の優先権を主張していない。
【０００３】
本書に述べられた各公報または特許文献の全ての開示は、参照によって組み込まれる。
【技術分野】
【０００４】
本開示は、表面を装飾する方法、およびその方法で製作された物品に関する。
【発明の概要】
【０００５】
実施形態において、本開示は装飾された物品および、その装飾された物品の製作方法を提供する。この装飾された物品は、光沢性基体、またはマット仕上げ（「荒削り」）の基体に、たとえば物品の少なくとも１つの表面などに、美的な特徴を備えることができ、この美的な特徴は、１つ以上、たとえば複数のコントラストレベルを備えることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００６】
【図１】装飾された物品を製作する、本開示の一方法の概要を示す。
【図２】本開示の条件で異なるグレースケールにエッチングされた光沢性基体サンプルを示す。
【図３】図２から選択された、本開示の装飾された光沢性基体部品の反射スペクトルと色を示す。
【図４Ａ】光沢表面に、複数のコントラストレベルを備える美的な特徴を生成する、典型的な工程の図式的な概要である。
【図４Ｂ】荒削り表面に、複数のコントラストレベルを備える美的な特徴を生成する、典型的な工程の図式的な概要である。
【図５】本開示の方法で製作された、美的なまたは装飾された光沢性基体表面の例を示す。
【図６】図５Ｂ（右側）に示された、光沢性基体表面の星形パターンのＺｙｇｏによる画像を示す。
【図７】本開示の方法のパターン化ステップ前（右）後（左）の、光沢性基体表面のリング・オン・リング（ＲｏＲ）および摩耗時リング・オン・リング（ａＲｏＲ）の結果を示す。
【図８】研磨されたサンプルまたは荒削りサンプル（すなわち研磨されていないサンプル）のいずれからでも始めることができ、次いで、本開示のエッチング方法を使用して、物品の強度を著しく損なわずに、表面にグレースケールパターンを製作することができることを説明する棒グラフを示す。
【図９】フッ化アンモニウムおよびフッ化水素酸を含み、時間経過に伴い所望の光沢レベルを得るのに使用することができるエッチング液組成物の等高線を示す図である。
【図１０】白いセラミック基板をエッチングして特異な光沢を得るのに使用した、ＨＦおよび硫酸を含有するエッチング液のための時間に対する、光沢６０のグラフを示す。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
本開示の種々の実施形態は、図面がある場合にはそれを参照して詳細に説明されるだろう。種々の実施形態に言及することによって、本発明の範囲が限定されることはなく、本発明は本明細書に添付された特許請求の範囲によってのみ限定されるものである。さらに、本明細書において述べられたいかなる例も限定的なものではなく、特許請求された発明の多くの可能な実施形態のうちのいくつかを単に述べたに過ぎない。
【０００８】
定義
本書で使用される「光沢性基体」、「光沢表面」および同様の用語は、本明細書においてたとえば次の少なくとも１つを指す。光沢特性を有するガラス、ガラスセラミック、セラミック、またはこれらの組合せ、たとえば基体、断片、または部品であり、光沢６０の５０光沢単位（ＧＵ）およびそれを超えるＧＵ値を有し、たとえば５５ＧＵおよびそれを超えるか、たとえば５５から９０ＧＵまでで、この中間にある値および範囲を含み、光沢範囲は６０°光沢計測手順で測定される。光沢範囲は、光沢レベルに応じて、選択された入射角、たとえば、６０°（たとえば半光沢、−１０ＧＵから７０ＧＵまで）、２０°（たとえば高光沢、７０ＧＵ超）、および８５°（たとえば低光沢、１０ＧＵ未満）で、測定することができる（ｇｌｏｓｓ−ｍｅｔｅｒｓ．ｃｏｍ／ＧｌｏｓｓＩｎｔｒｏ２．ｈｔｍを参照）。
【０００９】
本明細書で使用される「荒削り基体」、「荒削り表面」、「マット仕上げ表面」、「マット仕上げ」および同様の用語は、以下の少なくとも１つを指す。たとえば、ガラス、ガラスセラミック、セラミック、またはこれらの組合せであり、特に言及した荒削り基体または荒削り表面には光沢性はなく、たとえば、研磨されていない基体、断片、または部品であり、光沢６０の４９光沢単位（ＧＵ）またはそれ未満の値を有し、たとえば、４９ＧＵおよびそれ未満、たとえば、４９ＧＵから０．００１ＧＵまで、４５ＧＵから０．１ＧＵまで、４０ＧＵから１ＧＵまでで、この中間にある値および範囲を含む。
【００１０】
「粗い」、「粗化する」、「化学的に粗化する」、「エッチ」、「化学エッチング」および同様の用語は、たとえば、第１の表面を化学的なエッチング液組成物と接触させ、より大きな表面粗さを有する第２の表面を製作すること、たとえば、第１の光沢表面から第２のマット仕上げ表面を製作することを指す。
【００１１】
「研磨する」、「研磨」、「化学的に研磨」「研磨エッチ」「研磨エッチング」および同様の用語は、たとえば、第１の表面を化学研磨組成物と接触させ、低減された表面粗さと、表面形態または表面色外観の一方または両方における変化とを有する、第２の化学的研磨表面を製作することを指す。
【００１２】
「含む」または同様の用語は包含を意味するがこれには限定されない、すなわち、包括的ではあるが排他的ではない。
【００１３】
本開示の実施形態の説明において使用される、たとえば組成物における成分の量、濃度、容積、プロセス温度、プロセス時間、収量、流量、圧力、粘度、および同様の値、およびこれらの範囲、または構成要素の寸法、および同様の値、およびこれらの範囲、を修飾する「約」は、たとえば、材料、組成物、合成物、濃縮物、構成部品、製造物品、または使用配合物、を準備するために使用される典型的な測定および取扱手順によって、これらの手順における不用意によるエラーによって、方法を実行するために使用される出発材料または成分の、製造、ソース、または純度における違いを通じて、および同様の考慮事項によって、生じうる数量のばらつきを意味する。「約」という用語は、特定の初期濃度または混合物を有する組成物または配合物の、経年変化に起因して異なる量、および、特定の初期濃度または混合物を有する組成物または配合物の、混合または処理に起因して異なる量も含有する。
【００１４】
「随意的な」または「随意的に」とは、続いて説明される事象または状況が、生じる可能性もあるし、または生じない可能性もあること、さらにその説明が、その事象または状況が生じる場合と生じない場合とを含むことを意味する。
【００１５】
本明細書において使用される場合、名詞は、そうではないことを文脈が明白に規定していない限り、少なくとも１つまたは１つ以上の対象を指す。
【００１６】
当業者によく知られている略語が使用される場合がある（たとえば、時間の「ｈ」または「ｈｒｓ」、グラムの「ｇ」または「ｇｍ」、ミリリットルの「ｍＬ」、室温の「ｒｔ」、ナノメートルの「ｎｍ」、および同様の略語）。
【００１７】
構成要素、成分、添加剤、寸法、条件、時間、および同様の態様について開示された特定の好ましい値、並びにこれらの範囲は、単に例示のためであり、それらは、他の定義された値、または定義された範囲内の他の値を排除するものではない。本開示の組成物および方法は、本書に記載された値、特定の値、より特定の値、および好ましい値のいずれの値またはいずれの組合せをも含み得、明示的または暗に含まれる中間値および範囲を含む。
【００１８】
セラミック材料は、そのユニークな機能性により、絶縁体および半導体として消費者用電子機器（たとえば携帯電話、コンピューター、およびテレビ）に広く使用されてきた。近年、セラミック材料とガラスセラミック材料は、電子機器のカバーとしても使用されてきた。機能性、外観、「触感」（すなわち触れたときの手ざわり感）またはこれらの組合せはそのような材料の望ましい特徴であり得る。
【００１９】
エッチングはつや消しの表面を有するガラスを製作するのに広く使用されてきた。ガラス表面に耐エッチ性のマスクを適用することで、エッチング工程は覆われていない領域を選択的につや消しし、その結果、たとえば、ガラスにイメージまたは特徴を導入する（および美的外観を強める）ことができる。既存の工程は、２つのシステム（すなわち２つのレベル、たとえばつや消しの有無、または、エッチングの有無）で特徴を生成することのみができる。
【００２０】
「光沢性基体」はＣｏｒｎｉｎｇ社で開発された合成の光沢性黒ガラスセラミック材料について記述するのに他で使用されてきた。Ｃｏｒｎｉｎｇ社の先行研究は、光沢性基体表面をエッチングし、マット仕上げを製作する方法を開発した（前述の同一出願人による、米国特許出願第６１／７２１，７９７号明細書を参照）。
【００２１】
ガラスセラミックスは、たとえば特開平１１−１００２２９号公報および特開平１１−１００２３０号公報に記載されており、これらは環境汚染のない、調理器具のトッププレートとして適切である赤外線透過ガラスセラミックスについて述べている。韓国登録特許第１３３６９３５号公報は、ガラス表面をエッチングし、美的な表面状態を実現する方法について述べている。
【００２２】
実施形態において、本開示は装飾された物品と、装飾された物品を製作する方法を提供する。装飾された物品は、物品の初期状態では光沢性である基体またはマット仕上げである基体に加えられた、コントラストレベルからなる１つ以上の美的な特徴を有し得、１つ以上の、たとえば複数のコントラストレベルなどを有し得る。
【００２３】
実施形態において、光沢性基体から始める、開示された方法は、少なくとも１つ、たとえば２つ以上のマスキングステップ、少なくとも１つの化学的粗化ステップ、少なくとも１つの化学研磨ステップ、および少なくとも１つのデマスキングステップを含む。
【００２４】
実施形態において、マット仕上げ基体から始める、開示された方法は、少なくとも１つ、たとえば２つ以上のマスキングステップ、少なくとも１つ、たとえば２つ以上の化学研磨ステップ、および少なくとも１つのデマスキングステップを含む。
【００２５】
実施形態において、開示された方法は、表面が改質された機能性と美的な外観を有する、光沢性基体材またはマット仕上げ基体材を製作する。
【００２６】
実施形態において、開示された方法は、化学的粗化、マスキング、および化学研磨ステップを組み合わせ、光沢性基体表面に特徴を生成する。
【００２７】
実施形態において、開示された方法は、たとえば白か、黒か、または中間のグレースケールなどの、ガラス、ガラスセラミック、セラミック材料、またはこれらの組合せのいずれにも適用することができる。しかしながら、色彩に富んだセラミックまたはガラスセラミック材料も選択することができる。セラミック基体は均質に埋め込まれた結晶を有し、この結晶は、エッチング工程中に均質なマット仕上げ表面の形成を容易にする。対照的に、ガラス基体については、均質な外観を生成するほうがより難しい。また、光沢性表面とマット仕上げ表面のコントラストは、透明性ガラス表面においてよりも色彩に富んだセラミック基体において、より明らかであるか、または、コントラストはより大きい。「色彩に富んだ」および同様の用語は、人間に可視の色、すなわち、グレースケール、白、または黒を含む有色の、半透明または不透明な、セラミックまたはガラスセラミック材料を意味する。
【００２８】
化学的粗化工程は、たとえば上述の共同で所有し譲渡された米国特許出願第６１／７２１，７９７号明細書に記載されている光沢性基体の化学的粗化工程のいずれかであり得る。
【００２９】
マスキング技術は、光沢性基体表面に耐エッチ性の材料を適用し得るあらゆる技術であり得る。化学研磨剤は、任意の鉱酸または有機酸（たとえば硫酸、塩酸、硝酸、クエン酸、酢酸および同様の酸）と共に、フッ化水素酸（ＨＦ）を含有するエッチング液のいずれかであり得る。全体的にその工程は、光沢性基体表面に、複数レベルの色とコントラストを生成し、表面に美的な特徴を生成する（たとえば図５参照）。
【００３０】
既存の方法と比較して、開示された方法は、多くの点において異なる。たとえば、ほとんどの既存の方法がガラスに作用するのに対し、開示された方法は、ガラスセラミック（たとえば光沢性基体）を含む、多くの表面に作用し、開示された方法は、複数レベルの色およびグレースケールを生成することができ、一方で、他の方法は２つのレベルのコントラストのみ（すなわち２つのシステム）を生成することができる。さらに、開示された方法で処理された光沢性基体部品は、（たとえばエッチングおよびイオン交換の後）選択可能な優れた触感、指紋無付着性および十分な機械的強さを有する、たとえば、マット仕上げおよび美的外観を処理することができる。
【００３１】
開示された方法は、以下のようないくつかの利点を提供している。開示された方法の粗化工程と研磨工程は、光沢性基体の色、光沢およびコントラストを異なるレベル（複数レベル）へと変えることができる。開示された方法は、光沢性基体表面または荒削りもしくはマット仕上げ基体表面に、美的外観を生成することができるか、または、光沢性基体表面と荒削り基体表面とを組み合わせたものに美的外観を生成することができる。仕上げ表面は、たとえば、十分な美的外観、ある範囲の触感（たとえば、Ｃ．Ｊ．Ｂａｒｎｅｓらによる、「Ｓｕｒｆａｃｅ  ｆｉｎｉｓｈ  ａｎｄ  ｔｏｕｃｈ−ａ  ｃａｓｅ  ｓｔｕｄｙ  ｉｎ  ａ  ｎｅｗ  ｈｕｍａｎ  ｆａｃｔｏｒｓ  ｔｒｉｂｏｌｏｇｙ」Ｗｅａｒ、２５７（２００４）７４０−７５０参照）と、たとえば、リング・オン・リング法、および、たとえば、１００ｋｇｆ（約９８０Ｎ）から２５０ｋｇｆ（約２４５０Ｎ）までの破損荷重解析によって測定されるようなある範囲の十分な機械的強さを有する。実施形態において、たとえば、標準サンプルおよび対照でパネリストに調査を行い、相対的な触感評価を選定するなどの、既知の方法を適用することによって、触感は評価することができる。粗い断面は、たとえば、粗化されていない光沢性部分のように、指紋と汚れを目立たせない。
【００３２】
レーザーアブレーションまたはサンドブラストとはかなり異なって、開示された装飾法は、ガラスの強度を著しく低下させることはない。
【００３３】
開示された方法は、光沢およびテクスチャーを使用し、パターンデザインに視覚的な「面外の」次元を追加するが、印刷されるかまたは塗装される部分において、この次元は容易に達成可能ではなく、この次元は３Ｄ効果に特に有利である。
【００３４】
生成された装飾またはイメージは、材料の統合部分で、たとえば、塗料またはインクから作られた装飾物またはイメージに関して問題となるように、抹消したり、剥離したり、退色したり、風化したりしないであろう。
【００３５】
実施形態において、本開示は、表面外観、手ざわり感（「触感」）、光沢性基体材料の色をエッチングして異なるレベルに操作する方法を提供する（図１参照）。実施形態において、表面マスキングとエッチングの組合せにより、たとえば、光沢性基体表面に、規則的なパターン、凹凸模様、線画、グラフィックイメージ、３Ｄイメージ、美的な特徴、および同様の装飾物、またはこれらの組合せなど、１つ以上の装飾物を生成することができる（図５Ａから図５Ｄを参照）。
【００３６】
実施形態において、本開示は、２０度、６０度または８５度の少なくとも１つの入射角で測定されたとき、少なくとも２０単位の相対的な光沢差がある少なくとも３つの光沢レベルを有する、少なくとも３つの異なる光沢コントラスト領域を含む、装飾されたガラスセラミック物品を提供する。
【００３７】
実施形態において、本開示は、
光沢性外観と滑らかな表面のテクスチャーを有する基体、
第１の粗さを有する第１の粗いテクスチャーを有する第１のマットコントラスト領域と、第２の粗さを有する第２の粗いテクスチャーを有する第２のマットコントラスト領域とを含み、第１の粗さは第２の粗さより大きい、基体表面の複数のコントラスト領域、
を含む、装飾された光沢性物品を提供する。
【００３８】
実施形態において、マット表面は、たとえば８０ｎｍ以上の粗度（Ｒａ）を有し得る。別のコントラスト領域に関してマット表面の粗度の差は、たとえば１００ｎｍ超、１１０ｎｍから５００ｎｍまでなどであり得る。
【００３９】
実施形態において、本開示は、
第１のマット外観と第１の粗さを有する第１の粗面テクスチャーを有する基体、および
第２のマットコントラスト領域と第２の粗さを有する第２の粗いテクスチャー、および、第３のマットコントラスト領域と第３の粗さを有する第３の粗いテクスチャーを含む、基体表面の複数のコントラスト領域であって、第１の粗面テクスチャーは第２の粗さより粗くなく、第２の粗さは第１の粗さまたは第３の粗さとは異なり、すなわち、第１の粗さまたは第３の粗さより小さいか、またはより大きい、基体表面の複数のコントラスト領域、
を含む、装飾されたマット物品を提供する。別のコントラスト領域に対する粗度の差はたとえば１００ｎｍ超で、たとえば、１１０ｎｍから５００ｎｍまでであり得る。
光沢化手順
実施形態において、本開示は、化学的にエッチング可能な元の基体表面の少なくとも一部に２つまたはそれ以上（すなわち少なくとも２つ）のコントラストレベルを有する美的な表面特徴を有する物品を製作する方法を提供する。この方法は、
基体の元の表面領域の少なくとも一部において第１のマスキングを行い、部分的にマスクされた基体を形成するステップ、
マスクされた基体のマスクされていない表面領域の少なくとも一部において第１の化学的粗化を行い、マスクされた基体にマット仕上げ領域を製作するステップ、
第１のマスクを除去し、元の表面領域とマット仕上げ領域に関する第１のコントラスト領域を製作するステップ、
マット仕上げ表面領域の少なくとも一部において第２のマスキングを行い、マスクされたマット仕上げ領域を形成するステップ、
マスクされていないマット仕上げ領域の少なくとも一部において第１の化学研磨を行い、第１の研磨マット仕上げ領域を製作するステップ、および
第２のマスクを除去し、マスクされていない元の表面領域、マット仕上げ表面領域および研磨マット仕上げ表面領域に関する第２のコントラスト領域を製作するステップを含む。
【００４０】
実施形態において、第１のマスキングは、ワックス、ポリマー、水不溶性フィルムもしくは水不溶性コート、ＵＶ硬化性フィルムもしくはＵＶ硬化性コート、接着剤、積層、またはこれらの組合せの少なくとも１つから選択された耐エッチ性の材料を適用し、第１のマスキングはインクジェット式印刷、スクリーン印刷、ラミネーション、またはこれらの組合せで表面にマスクを施す。
【００４１】
実施形態において、第１の化学的粗化は、マット仕上げ外観を有する粗面を製作し、元の表面は、光沢性ガラス、光沢性ガラスセラミック、光沢性セラミック、またはこれらの組合せの少なくとも１つから選択された基体である。
【００４２】
実施形態において、第１の化学的粗化は、元の基体表面、すなわち光沢性ガラスまたは光沢性ガラスセラミックを、フッ化水素酸（ＨＦ）を含有するエッチング液でエッチングするステップを含み、２００ｎｍ  ＲＭＳから１，０００ｎｍ  ＲＭＳまでの表面粗さを有する粗面を製作し、第１の化学研磨は、
マット仕上げ表面を研磨するステップ、
表面粗さを低減するステップ、
元の表面の色を変えるステップ、
またはこれらの組合せの少なくとも１つを行う。
【００４３】
実施形態において、第１の化学研磨は、元の表面の外観ではなくマット仕上げ表面の外観のみを変える。
【００４４】
実施形態において、第１のマスクの除去は、たとえば、マスクした元の表面領域のマスクと適切な有機溶剤の接触により、達成できる。
【００４５】
実施形態において、元の基体は５０マイクロメートルから１００ミリメートルまでの厚さを有することができ、たとえば、典型的なエレクトロニクス用途では５０マイクロメートルから１．５ミリメートルまでで、典型的な消費者用用途では３ミリメートルから１００ミリメートルまでであり、元の基体は、平板、曲線状、またはこれらの組合せから選択された幾何学的形状を有し、製作された物品の強度は不変か、または元の基体の強度と比較して、０．１パーセントから２０パーセントまで低減され、すなわち、この方法は、実質的に元の基体と比較して、製作された物品の強度を実質的に低減しない。
【００４６】
実施形態において、元の表面領域についての第１のコントラスト領域、元の表面領域についての第２のコントラスト領域、およびマット仕上げ領域は、各々、５％から２５％までの相対反射率の差異を有する。
【００４７】
前述の方法の実施形態において、
元の基体が黒い不透明な光沢性セラミック基体である場合、それは、０．００１％から２０％までの正反射光を含む、９０％から９９％までの総反射率を有し、０．００１％から２０％までの全透過率を有する。
【００４８】
元の基体が白い不透明な光沢性セラミック基体である場合、それは、０．００１％から２０％までの正反射光を含む、７５％から９９％までの総反射率を有し、０．００１％から２０％までの全透過率を有する。
【００４９】
元の基体が灰色の不透明な光沢性セラミック基体である場合、基体は４０％から７５％までの総反射率を有し、０．００１％から２０％までの全透過率を有する。
【００５０】
実施形態において、第２のマスクの除去は、元の表面領域とマット仕上げ領域についての第２のコントラスト領域を製作し、その結果生じる基体は２つ以上の表面テクスチャーを有し、２つ以上の表面テクスチャーは、各々、他の表面テクスチャーに対して５％から２０％までの光沢差を有する。
【００５１】
実施形態において、第１のエッチングは、ＨＦ、ＮＨ４Ｆ、ＮＨ５Ｆ２、ＫＦ、ＮａＦ、ＫＨＦ２、ＮａＨＦ２、またはこれらの組合せから選択されたフッ酸を含む溶液において行われ、第１の化学研磨は、ＨＦ、鉱酸、有機酸、またはこれらの組合せを含有する溶液において行われる。鉱酸は、たとえばＨＣｌ、Ｈ２ＳＯ４、ＨＮＯ３から選択された１つ以上の酸であり得、有機酸は、たとえば、酢酸、クエン酸および同様の有機酸の１つ以上で、またはこれらの組合せであり得る。
【００５２】
実施形態において、
元の基体は、８０から１００までの光沢度（光沢８５）と、０．２ｎｍＲＭＳから１０ｎｍＲＭＳまでの表面粗さを有する光沢性基体であり、
マット仕上げ領域は、４０から６０までの光沢度（光沢８５）と１０ｎｍＲＭＳから１，０００ｎｍＲＭＳまでの表面粗さを有し、
第１のコントラスト領域は、８０から１００までの光沢度（光沢８５）と、０．２ｎｍＲＭＳから１００ｎｍＲＭＳまでの表面粗さを有し、
第１の化学研磨マット仕上げ領域は、４０から６０までの光沢度（光沢８５）と、２００ｎｍＲＭＳから１，０００ｎｍＲＭＳまでの表面粗さを有し、
第２のコントラスト領域は、１０から３０までの光沢度（光沢８５）を有し、２００ｎｍＲＭＳから、２００ｎｍＲＭＳから１，０００ｎｍＲＭＳまでの、第１の化学研磨マット仕上げ領域のＲＭＳより低い、ＲＭＳまでの表面粗さを有する。
【００５３】
実施形態において、本方法はさらに、前述の方法ステップを、記載された順番で１回または複数回繰り返すステップを含む。
【００５４】
実施形態において、本開示は、前述の方法にしたがって装飾された、少なくとも１つの元の表面を有する物品を提供する。
マット手順
実施形態において、本開示は、化学的にエッチング可能なマット仕上げ基体の表面の少なくとも一部に、２つ以上すなわち少なくとも２つのコントラストレベルを有する美的な表面特徴を有する物品を製作する方法を提供する。この方法は、
マット仕上げ基体の表面領域の少なくとも一部で第１のマスキングを行い、部分的にマスクされた基体を形成するステップ、
マスクされた基体のマスクされていない表面領域の少なくとも一部において第１の化学研磨を行い、部分的にマスクされた基体領域に第１の化学研磨マット仕上げ基体領域を製作するステップ、
第１のマスクを除去し、マット仕上げ基体領域と化学研磨マット仕上げ基体領域についての第１のコントラスト領域を製作するステップ、
化学研磨マット仕上げ表面領域の少なくとも一部に第２のマスキングを行い、第２のマスクをされたマット仕上げ領域を形成するステップ、
マスクされていない化学研磨マット仕上げ基体領域の少なくとも一部に第２の化学研磨を行い、第２の化学研磨マット仕上げ領域を製作するステップ、および
第２のマスクを除去し、マスクされていないマット仕上げ基体表面領域、第１の化学研磨マット仕上げ領域、第１および第２の化学研磨マット仕上げ領域についての第２のコントラスト領域を製作するステップを含む。
【００５５】
実施形態において、マット仕上げの基体は、たとえば、５０マイクロメートルから１００ミリメートルまでの厚さを有することができ、たとえば、典型的なエレクトロニクス用途では５０マイクロメートルから１．５ミリメートルまで、典型的な消費者用途では３ミリメートルから１００ミリメートルまでであり、マット仕上げの基体は、平板、曲線状、またはこれらの組合せから選択された幾何学的形状を有し、製作された物品の強度は不変か、またはマット仕上げの基体の強度と比較して、０．１パーセントから２０パーセントまで低減され、すなわち、この方法は、実質的に元のマット仕上げの基体と比較して、製作された物品の強度を低減しない。
【００５６】
実施形態において、本方法はさらに、前述の方法のステップを、記載された順番で１回または複数回繰り返すステップを含む。
【００５７】
実施形態において、本方法は少なくとも２つの異なるコントラスト領域を製作し、各々異なるコントラスト領域は、他のコントラスト領域と比較して、異なる光沢と異なる色特性を有する。
【００５８】
実施形態において、本開示は、前述の方法にしたがって少なくとも１つのマット仕上げ表面が装飾された物品を提供する。
【００５９】
図面を参照すると、図１は、開示されたエッチング工程（１００）の概要を示し、この工程は光沢性基体サンプルの色と外観を変えることができる。鮮明な光沢性基体部品（１１０）は、光沢表面を有し（すなわち、低い表面粗さを有する）、任意選択的に黒か他の色を有する。化学的粗化ステップ（１０５）は、光沢性基体の表面粗さを増大させる。化学的粗化後の光沢性基体は、マット仕上げ外観（１２０）（高い表面粗さ）を有しており、黒か他の色であり得る。一定期間にわたる化学研磨ステップ（１２５）は徐々に表面粗さを低減し、表面の表面形態を変える。たとえば、化学研磨（１２５）後の黒いマット基体（１２０）の色は灰色（１３０）であり得る。
【００６０】
図２Ａから図２Ｇは、表１に記載された条件によって異なるグレースケールレベルへとエッチングされた光沢性基体サンプルを示す。図２Ａは、粗化処理と研磨処理両方の前後の光沢性基体のイメージを示す。図２Ｂから図２Ｆは、粗化ステップのみの後（図２Ｂ）、粗化ステップと、１分、３分、６分、９分と１２分の研磨ステップの後（図２Ｃから図２Ｇ）（表１中のサンプル３番からサンプル７番を示す）の光学顕微鏡５００倍のイメージである。これらのイメージの棒目盛は、１／２インチ（１．２７ｃｍ）＝６４マイクロメートルである。
【００６１】
【表１】
2018528911.tif 000003
【００６２】
実施形態において、異なる領域中においてまたは領域間において、光沢、または異なる角度における光沢によるだけではなく、他の光学的性質（たとえば、ＤＯＩと色）によっても、コントラストを生成させることができる。代表例において、異なるコントラスト領域の特性は表１に記載される。たとえば、光沢性領域の特性は表１のサンプル１番として記載される。マット仕上げ領域の特性は表１のサンプル２番として記載される。研磨領域の特性は表１のサンプル３番から７番として記載される。
【００６３】
図３Ａから図３Ｄは、光沢性基体部品（表１のサンプル１番から７番）の反射スペクトルと色を示す。図３Ａは、表１に記載された部品のＳＣＩ反射率（正反射光を含む）を示す。
【００６４】
図３Ｂと図３Ｃは、サンプルの、Ｌ＊値と、色座標のａ＊対ｂ＊のグラフとをそれぞれ示す。図３Ｂは、研磨時間の関数として与えられたＬ＊を示す。データポイントの下の数は、表１のサンプル番号に相当する。図３Ｃは、Ｆ０２  ＳＣＩのａ＊ｂ＊を示す。データポイントの下の数字（１から７）は、表１のサンプル番号に相当する。図３Ｄは、表面粗さ（ナノメートル）の関数として８５度における光沢を示す。データポイントの下の数字（１から７）は、表１のサンプル番号に相当する。図３Ｂと図３Ｃを参照すると、化学的粗化後（サンプル２番）、粗化領域において化学的粗化された光沢性基体はより黒っぽく（低いＬ＊値）、出発基体が黒い光沢表面である場合には、化学的粗化前の光沢性基体と比較すると、光沢性基体の化学的粗化領域は、青い色外観を有している。粗化された光沢性基体部品の継続的な化学研磨は徐々に明るさ（Ｌ＊）を増加させ、たとえば、１．５Ｍ  ＨＦと０．６Ｍ  ＨＣｌのエッチング液による研磨時間の関数として、または研磨深さの関数として、青から黄色へと化学的研磨領域の色を変化させる（図３Ｃ）。ａ＊値の変化は小さい。光沢性基体表面を化学的にエッチングする影響は、表２にまとめられており、表中、上向きの矢印（「↑」）は相対的な増加を示し、下向き矢印（「↓」）は相対的な減少を示す。
【００６５】
【表２】
2018528911.tif 000004
【００６６】
図面を参照すると、図４Ａは、光沢性基体表面から始める、開示された方法を図示する。図４Ａは、光沢性表面を有する基体または光沢性基体からなる出発材料に、複数のコントラストレベルを有する美的特徴を生成する工程の図式的な概要を示す。図４Ａで示される工程により達成することができる典型的な美的特徴は、たとえば、光沢性基体表面における立方体のパターンであり得る。
【００６７】
たとえば、ステップ１は選択された領域の第１のマスキング（４０５）（保護）であり、たとえば、光沢性基体表面（４１０）の平行四辺形の形状をしたマスク（４１５）でマスクされている間、これに続く粗化ステップからマスクされた領域を保護する。このステップにおいて、たとえば、インクジェット式印刷、および、１つのマスクまたは複数並んだマスクなどの同様の適切な手法により、光沢性基体表面（４１０）に、耐エッチ性のマスク材料が適用され得る（４０５）。
【００６８】
ステップ２は、表面（４２０）領域の選択された部分か、または、保護されていないすなわちマスクされていない光沢性基体表面（４２０）領域全体の化学的粗化（４２５）である。このステップにおいて、保護されていない（すなわち、マスクされていない）領域は粗化され、マット仕上げ外観（４３０）が生成される。
【００６９】
ステップ３において、第１のマスク（４１５）は、たとえば、マスクを有機溶剤（たとえばアセトン）に選択的にまたは完全に浸すことにより、またはリフトオフ法により、除去され（４３５）、前もって保護された光沢性領域（４４２）が現れる。現われた光沢性領域（４４２）と隣接または取り巻くマット仕上げ領域（４４４）の間のコントラストが達成される。
【００７０】
ステップ４において、マット仕上げ領域の第２のすなわち新たなマスキング（保護）（４４５）が行われ、これに続く化学研磨から、新たにマスクされた領域を保護する、第２のマスクされた領域（４１５）を形成する。第２のマスキング方法は、ステップ１の最初のすなわち第１のマスキングと同様かまたは同じであり得る。
【００７１】
ステップ５において、マスクされた領域（４１５）を有する、マット仕上げ基体表面（４５０）に化学研磨（４５５）が行われる。ステップ５において、たとえば、フッ化水素酸（ＨＦ）を含有するエッチング液が、保護されていないマット仕上げ表面を研磨し、その表面粗さを低減し、結果として生じる研磨基体表面領域（４６０）の色を変化させる。化学研磨は、マット仕上げ表面の外観を変えるだけであり、光沢表面領域（４４２）は変えないことに注意されたい。
【００７２】
ステップ６において、第２のマスク（４１５）は、たとえば、部品のマスクされた部分または部品全体を有機溶剤（たとえばアセトン）に浸すことにより、除去すること（４６５）ができ、３段階にパターン化された基体表面（４７０）を提供することができる。したがって、３レベル（すなわち３段階）のコントラストとそれに伴うパターンは、基体の１つ以上の領域を交互にエッチングしたりマスキングしたりする前述のステップ後に達成することができる。
【００７３】
実施形態において、開示された装飾方法の出発基体として、光沢仕上げを有する部品を選択することができる。図４Ａを参照すると、光沢性仕上げを有する部品が出発基体として選択されるとき、以下の連続ステップは３段階の表面のイメージまたはテクスチャーを達成するために使用することができる。
【００７４】
ステップ１。たとえば、細かい表面仕上げを有し、低いＲａを有し、光沢性外観を有する、光沢性仕上げの基体（４１０）表面を、たとえば、美的または幾何学模様を有する、たとえば、少なくとも１つのマスク領域または２つ以上のマスク領域（１２０）で、マスクする（４０５）（光沢性基体（４１０）から始める全ステップの図式的な概要に関する図４Ａを参照）。
【００７５】
ステップ２。マスクされた光沢性基体を化学的に粗化（４２５）して、化学的に粗化された基体（４３０）と１つ以上のマスク領域（１２０）を製作する。
【００７６】
ステップ３。マスクの除去（４３５）。
【００７７】
ステップ４。化学的に粗化されマスクを除かれた基体（４４０）に１つ以上の追加のマスクまたはマスク領域（４４５）を適用する。
【００７８】
ステップ５。化学研磨（４５５）。
【００７９】
ステップ６。第２のマスクを除去（４６５）してマスクなしとし、一度粗化され（エッチングされ）、一度化学的に研磨され、領域Ａ、ＢおよびＣを有する、基体（４７０）を提供する。これらの領域の粗さまたは「暗さ」は以下の順である。Ａ（粗化仕上げ）はＣ（粗化および研磨仕上げ）より大きく、ＣはＢ（元の光沢性仕上げ４１０）より大きい。
【００８０】
実施形態において、前述の方法は、１つ以上の立体感のある（「３Ｄ」）特徴を有する、表面が装飾された物品を製作することができる。たとえば、図４Ａの参照番号を参照すると、
光沢性基体（４１０）は、たとえば、８０から１００まで、またはそれ以上の光沢度（８５度における光沢、すなわち、「光沢８５」）を有し得、
マット仕上げ領域（４４４）は、たとえば、４０から６０までの光沢度（光沢８５）を有し、
第１のコントラスト領域（４３０）は、たとえば、８０から１００までの光沢度（光沢８５）を有し、
第１の研磨マット仕上げ領域（４４４）は、たとえば、４０から６０までの光沢度（光沢８５）を有し、
第２のコントラスト領域（４７０）は、たとえば、１０から３０までの光沢度（光沢８５）を有する。代替として、光沢６０または光沢２０の値は、表面が装飾された物品の光沢特性を特徴づけるために使用することができる。
【００８１】
実施形態において、本開示は、マット仕上げ基体または荒削り基体の表面の少なくとも一部に、たとえば、少なくとも２つ（すなわち複数）、２つ、３つまたはそれ以上のコントラストレベルなどの複数のコントラストレベルを有する、美的な特徴を製作する方法を提供する。
【００８２】
図面を参照すると、図４Ｂは、荒削りまたはマット表面の基体から始める、開示された方法を図示する。
【００８３】
たとえば、
マット仕上げ基体（４１２）または荒削り基体（４１２）の表面領域の少なくとも一部に第１のマスキングをし（４０６）、マスクされたマット仕上げ基体またはマスクされた荒削り基体を形成し、すなわち、除去可能な保護マスク（４１６）（黒い平行四辺形）でマット仕上げ基体表面または荒削り基体の一部を覆い、
マスクされたマット仕上げ基体のマスクされていない表面領域（４１２）の少なくとも一部に第１の化学研磨（４５６）をし、マスクされたマット仕上げ基体に第２のマット仕上げ領域（４３２）を製作し、
第１のマスクを除去またはデマスキングし（４３６）、第１のコントラスト領域（４１７）、すなわち２段階のコントラスト領域を有する部品または断片（４４１）を製作し、そのコントラストとテクスチャーは、元の第１のマット仕上げ領域（４１２）のテクスチャー、または新たに形成されたか、もしくは、変形された第２のマット仕上げ領域（４３２）のテクスチャーとは異なり得、
第２のマスキングをし（４４６）、第２のマット仕上げ表面領域（４４１）の少なくとも一部に第２のマスク（４１８）を形成し、
第２のマスクをされたマット仕上げ領域（４５１）の少なくとも一部に第２の化学研磨（４５７）をし、マスクされた断片（４６１）を形成し、および
第２のマスクを除去し（４６７）（すなわち第２のデマスキングをし）、マスク（４１８）の除去から、３段階のコントラスト領域、すなわち、第１のコントラスト領域（Ｂ）、第２のコントラスト領域（Ａ）および第２の化学的研磨マット仕上げ領域（Ｃ）を有する断片（４７１）を製作する。
【００８４】
実施形態において、開示された装飾方法については出発基体として、「マット」仕上げ、または、「荒削り」仕上げを有する部品を選択することができる。図４Ｂを参照すると、マット仕上げまたは荒削り仕上げを有する部品が出発基体として選択されるとき、以下の連続ステップは、もう一つの選択肢として、３段階のイメージまたはテクスチャー結果を達成するために使用することができる。
【００８５】
ステップ１。たとえば、美的または幾何学模様を有する、たとえば、少なくとも１つのマスク領域または２つ以上のマスク領域（４１６）で、たとえば、マットまたは荒削り表面仕上げを有し、高いＲａを有し、マットでつやのない、または低光沢もしくは光らない外観を有する、マット仕上げ基体（４１２）表面をマスクする（４０６）（マット基体（４１２）から始める全ステップの図式的な概要に関する図４Ｂを参照）。
【００８６】
ステップ２。マスクされたマット基体に第１の化学的研磨をし（４５６）、化学的研磨基体（４３２）と１つ以上のマスクされた領域（４１６）を製作する。
【００８７】
ステップ３。マスクを除去（４３６）または「デマスキング」し、化学的研磨基体（４４１）、および、前もってマスクされた、すなわち、マット仕上げを有する、マスクを除去された領域（４１７）を提供する。
【００８８】
ステップ４。マスク（４４６）、たとえば、１つ以上の追加のマスク（４１８）、または、マスクされた領域を、化学的に研磨しマスクを除去された基体（４４１）へ適用し、第２のマスクされた基体（４５１）を提供する。
【００８９】
ステップ５。第２の化学研磨を行い（４５７）、まだ無傷のままであるマスクされた領域（４１８）を有する、第２の化学的研磨基体（４６１）を提供する。
【００９０】
ステップ６。第２のマスク（４１８）を除去し（４６７）、マスクなしの、領域Ａ、ＢおよびＣを有する、化学的に２回研磨された基体（４７１）を提供する。これらの領域の粗さまたは「暗さ」外観は、ＡとＢはＣより大きいが、これは、ＡとＢの両方は１回研磨されるが、Ｃは２回研磨されるからである。ＡとＢとの間において、どちらがより黒っぽいかは、第１の研磨（４５６）ステップと第２の研磨（４５７）ステップの、どちらがより多くの表面を除去するか（またはより長時間研磨されるか）に依存する。第１の研磨（４５６）ステップが第２の研磨（４５７）ステップより長期でより広範囲な場合、そのとき、相対的な黒さに関して、ＡはＢより大きく、ＢはＣより大きい（すなわち、Ａ＞Ｂ＞Ｃ）。第２の研磨（４５７）ステップが第１の研磨（４５６）ステップより長期でより広範囲な場合、そのとき、相対的な黒さに関して、ＢはＡより大きく、ＡはＣより大きい（すなわち、Ｂ＞Ａ＞Ｃ）。
【００９１】
実施形態において、マスクは、たとえば、いかなる適切な耐エッチ性の材料でもあり得る。
【００９２】
実施形態において、たとえばインクジェット式印刷、スクリーン印刷、ラミネーションおよび同様の方法またはこれらの組合せで、基体表面に、マスクが適用される。
【００９３】
実施形態において、第１のエッチングは、たとえば、基体表面にマット仕上げ外観を有する粗面を製作する。
【００９４】
実施形態において、第１の化学研磨は、フッ化水素酸（ＨＦ）を含有するエッチング液でのエッチングを含むことができ、第１の化学研磨は、
マット仕上げ表面を研磨し、すなわち、光沢性基体と基体のマット仕上げ外観との間の中間の表面粗さを有する、低減されたかまたは緩和されたマット仕上げ外観表面を製作するステップ、
表面粗さを低減するステップ、
光沢表面の色を変えるステップ、
またはこれらの組合せの、少なくとも１つを行う。
【００９５】
実施形態において、第１の化学研磨（４５５）は、光沢表面ではなくマット仕上げ表面の外観のみを変える。
【００９６】
実施形態において、第１のマスク（４１５または４１６）の除去またはデマスキング（４３５または４３６）は、たとえば、適切な有機溶剤に、マスクされた光沢性領域のマスクを接触（たとえば浸漬、液浸、浸入等）させるか、または適切なリフトオフ法の使用により、達成することができる。
【００９７】
実施形態において、光沢性基体（４１０）は、たとえば、ガラス、ガラスセラミック、セラミックまたはこれらの組合せの少なくとも１つであり得る。
【００９８】
実施形態において、第１のコントラスト領域（Ａ）と第２のコントラスト領域（Ｂ）には５％から２５％の相対反射率の差異がある。実施形態において、相対反射率の差異は、基体の最も反射する部分と最も反射しない部分との間において、好ましくは１０％であり、より好ましくは２０％であり得る。
【００９９】
実施形態において、マスキング、表面改質またはエッチングのいずれよりも先立つ出発基体は、たとえば、０．００１％から２０％の全透過率、好ましくは２０％未満であり、０．００１％から２０％の反射率、好ましくは２０％未満で正反射光を含む。
【０１００】
実施形態において、第２のマスク（４１５または４１８）を除去し（４６５または４６７）、第２のコントラスト領域（Ｂ）を製作した後、その結果生じる基体は２つ以上の表面テクスチャー、すなわち３段階の表面テクスチャーを有し、２つ以上の表面テクスチャーは、各々、他の表面テクスチャーに対して５％から２０％までの光沢差、すなわち視覚的なコントラストを有し、好ましくは１０％の光沢差、より好ましくは少なくとも２０％の光沢差、すなわち、基体の最大反射部分と最少反射部分とのコントラストである。
【０１０１】
実施形態において、第１のエッチングは、たとえば、ＨＦ、ＮＨ４Ｆ、ＮＨ５Ｆ２、ＫＦ、ＮａＦ、ＫＨＦ２、ＮａＨＦ２、および同様のエッチング液、またはこれらの組合せから選択されたフッ化酸を含む溶液において行うことができる。
【０１０２】
実施形態において、第１の化学研磨は、たとえば、ＨＣｌ、Ｈ２ＳＯ４、ＨＮＯ３、酢酸、クエン酸、および同様の鉱酸または有機酸、またはこれらの組合せから選択された１つ以上の酸を含む溶液において行うことができる。
【０１０３】
実施形態において、第１の化学研磨は、たとえば、ＨＦ、鉱酸、有機酸、またはこれらの組合せを含む溶液において行うことができる。
【０１０４】
図５Ａから図５Ｄは、開示された方法により製作された美的な光沢性基体表面の例を示す。図５Ａは、光沢性基体（無地に加工された葉と星）の２レベル（２段階）の表面特徴のデザインを示す。図５Ｂは、図５Ａのイメージのデザインに基づいて仕上げられた、光沢性基体表面の外観を示す。図５Ｃは、立方体のパターンの３レベル（３段階）のデザインを示す。図５Ｄは、図５Ｃのイメージのデザインに基づいて、光沢性基体に実現された３Ｄパターンを示す。
【０１０５】
図６は、開示された工程にしたがって、光沢性基体表面を加工することにより得られた、星形パターンの干渉計測定のイメージを示し、この星形パターンも、図５Ｂ右側に示されている。粗化された領域と研磨された領域との間に、鮮明な境界が観察された。研磨ステップは、光沢性基体表面の約１２マイクロメートルを除去した。
【０１０６】
図７は、公称厚さ１ｍｍに対する、パターン化工程前後における、光沢性基体表面のリング・オン・リング（ＲｏＲ）と摩耗時リング・オン・リング（ａＲｏＲ）の結果を示す。光沢性基体パターン化工程は、パターンなしの断片と比較して、わずかに断片の強度を低下させた。ａＲｏＲの結果は、光沢性基体パターン化工程が光沢性基体断片の残留強度を変えない（すなわち、低減しない）ことを示唆する。
【０１０７】
実施形態において、最大表面粗さが、たとえば、２００ｎｍＲＭＳから１０００ｎｍＲＭＳまでであり得、好ましくは７５０ｎｍ未満で、より好ましくは５００ｎｍ未満で、たとえば、２００ｎｍＲＭＳから４５０ｎｍＲＭＳまでである。
【０１０８】
実施形態において、光沢性基体を使用する開示された方法は、下記工程を１回以上の、たとえば１回から１００回の、以下のステップの全体的かまたは部分的な繰り返しをさらに含むことができる。
【０１０９】
部分的にマスクされた光沢性基体のマスクされていない表面領域の少なくとも一部において第２の化学的粗化を行い、部分的にマスクされた光沢性基体にマット仕上げ領域を製作し、
マスクを除去し、光沢性領域とマット仕上げ領域の間の光沢度を有する、第３のコントラスト領域、すなわち中間のコントラスト領域を製作し、
マット仕上げ表面領域の少なくとも一部に第３のマスキングを行い、部分的にマスクされたマット仕上げ表面領域を形成し、
マスクされていないマット仕上げ領域の少なくとも一部に第２の化学研磨を行い、第２の研磨マット仕上げ領域を製作し、
第３のマスクを除去し、マスクされていない光沢性領域と、マット仕上げ表面領域と、第２の研磨マット仕上げ領域との間に、第４のコントラスト領域、すなわち第２の３段階のコントラスト領域を製作する。
【０１１０】
図８は、荒削りサンプル、すなわち、研磨されていないサンプルおよび光沢のないサンプルから始めて、次に、開示されたマスキング工程、エッチング工程および研磨工程を使用して、実質的に、物品の強度を損なわずに、表面にグレースケールパターンを製作することを説明する棒グラフを示す。破損荷重解析についてテストされた代表的なサンプルは以下のとおりであった。
【０１１１】
荒削り、非摩耗（８００）、
荒削り、５ｐｓｉ（３４４７４Ｐａ）の摩耗（８１０）、荒削り、格子縞パターン（「ｐｕｒｉｎａ」）、非摩耗（８２０）、荒削り、ｐｕｒｉｎａ、５ｐｓｉ（３４４７４Ｐａ）の摩耗（８３０）、研磨、非摩耗（８４０）、研磨、５ｐｓｉ（３４４７４Ｐａ）の摩耗（８５０）、研磨「３Ｄ正方形」デザイン、非摩耗（８６０）、研磨「３Ｄ正方形」デザイン、５ｐｓｉ（３４４７４Ｐａ）の摩耗（８７０）、研磨、ｐｕｒｉｎａ、非摩耗（８８０）、および、研磨、ｐｕｒｉｎａ、５ｐｓｉ（３４４７４Ｐａ）の摩耗（８９０）。
【０１１２】
最初の荒削りサンプルは公称厚さ０．９ｍｍであった。最初の研磨サンプルは公称厚さ０．７ｍｍであった。その結果生じたパターン有無の荒削りサンプルと、その結果生じたパターン有無の研磨サンプルは、たとえば、ＫＮＯ３中４３０℃で８時間、イオン交換された。
【０１１３】
荒削り表面サンプルから始める代替アプローチ（たとえば図４Ｂ）は、上述の関連する光沢性基体の方法（たとえば図４Ａ）から工程段階を削除することができる。たとえば、荒削り方法において、既に粗い荒削り表面またはマット表面を粗化する必要性がないので、光沢性基体方法のステップ２は削除することができる。任意選択的に、荒削り表面サンプル法から光沢性基体方法のステップ５を削除することができる。これは、（４７１）は既に３段階の装飾特性を有しており、マット表面仕上げを有する３段階の装飾を得るために、化学的に（４７１）の表面を研磨する必要がないからである。
【０１１４】
研磨された部品から始めて製作された部品と類似した灰色の色彩も得られる。パターンは荒削りのサンプル表面を有するサンプルに施された。ＲｏＲと摩耗ＲｏＲデータは、グレースケールパターンを製作するのに使用される上記方法の１つ以上のステップを削除しても、研磨されていない表面を使用することにより、許容できる強度値を提供できることを示唆する。
【０１１５】
実施形態において、研磨された部品は、たとえば、公称厚さ０．１ｍｍ〜１０ｍｍであり得、荒削り部品は、たとえば、厚さ０．１ｍｍ〜１０ｍｍであり得、この中間にある値および範囲を含む。実施形態において、比較可能な厚さの光沢性部品と比較して、より薄い荒削り部品にとって破損荷重値は、一般により低い。
【０１１６】
ともに得られた図７と図８は、より厚い荒削り部品が、わずかに高い破損荷重値を有することを示す。また、荒削り部品からのデータは、完成部品の強度がパターン化により、すなわち、開示された方法にしたがって基体表面を装飾することにより、悪化しないことを示す。
【０１１７】
実施形態において、荒削り部品と開示された荒削り表面装飾方法は、物品の強度と外観基準を満たす所望の表面装飾を提供するために使用することができる。
【０１１８】
粗面処理と研磨。光沢性基体表面は、たとえば、フッ化水素酸（ＨＦ）、フッ化アンモニウム（ＮＨ４Ｆ）、およびプロピレングリコール（ＰＧ）を含有する化学的エッチング液で粗化することができる。エッチングの間に、結晶は光沢性基体表面において成長し、粗面を発現させるための内側のマスクとして役立つ。粗化されたガラス表面は、ＨＦと鉱酸（たとえばＨ２ＳＯ４、ＨＣｌ、ＨＮＯ３、または同様の酸、およびこれらの混合物）を含有するエッチング液により化学的に研磨することができる。研磨処理は、エッチング基体表面上の鋭い先端または突起を鈍化させ、エッチング基体表面の形態を変える。粗化ステップと研磨ステップの両方が、光沢性基体表面の表面形態と表面粗さを変える。
【０１１９】
輝度と色の操作  実施形態において、本開示は、粗化および研磨などの化学処理の後に、外観（すなわち色）を変える方法を提供する（図１を参照）。たとえば、表１において、最初は光沢性があり、のちに異なる化学処理が行われる、７つの基体サンプルが記載されている。エッチングの後、表面粗さは、約５６０ｎｍまで著しく増大し、小さい表面突起が形成された（図２Ｂ）。さらに、化学研磨は徐々に表面粗さを低減するが、突起（または表１の形状、図２Ｃから図２Ｆで示されるイメージ）の距離を増加させる。形態の変化は、光沢性基体の輝度と色に直接影響を与える。図３Ａは、化学粗化と化学研磨両方の前後における光沢性基体の反射スペクトルを示す。ガラスが粗化されると、反射光の全体的な強度は減少するが、粗化されたガラスが化学的に研磨されると、反射光は増加する。これは、図３ＢにおいてＬ＊として（たとえば、Ｆ０２  ＳＣＩ  Ｌ＊とあるように）示される。同時に、化学的粗化は、黒い光沢性基体について光沢性基体表面色を黒から青へと変化させるが、化学研磨は、黒いマット基体表面色を相対的によりプラスのｂ＊値（図３Ｃ）へと変える。化学的に光沢性基体表面をエッチングする影響は、表２にまとめられる。
【０１２０】
光沢性基体表面のパターン生成  作業者は、光沢性基体断片の色を変化させ、光沢を変化させ、テクスチャーを変化させ、外観を変化させる機能によって、印刷または塗装などの他の方法では不可能であると考えられる、光沢性基体表面にパターンとイメージを生成することができる。美的なパターン、デザインまたは画像を備えた光沢性基体断片は、より魅力的であり、顧客にとっては望ましいと考えられる。実施形態において、本開示は、エッチングと表面のマスキング手法を組み合わせることにより、光沢性基体表面にパターンを生成する方法を提供する。図４Ａは光沢性基体表面に立方体のパターンを生成するための工程系統図を示す。この方法は、マスキング、エッチング（粗化および研磨）、およびマスクの除去を含む、デザインを達成する６ステップを使用する。本発明概念と方法は、粗化剤、研磨剤、またはこの両方に、選択的に表面を晒すことにより、同一表面に複数レベル（色とグレースケール）のコントラストを提供する。図４Ｂは、図４Ａのように、同様な立方体のパターンを生成するための工程系統図を示すが、代わりに、荒削りのまたはマット仕上げ基体表面から始める。
【０１２１】
図５Ａから図５Ｄは、設計パターンのイメージと対応する、装飾された光沢性基体断片の仕上げ外観を示す。２レベルのコントラストは、３ステップの簡単な工程により達成することができ、このステップは、マスキング、粗化、および、図５Ａと５Ｂに示される葉と星などのマスクの除去を含む。３レベル（３段階）のコントラスト（たとえば図示された３Ｄの立方体デザイン）は、６ステップの連続により達成することができ、このステップは、マスキング、粗化、マスクの除去、異なる領域のマスキング、化学研磨、および、図５Ｃと図５Ｄに示されるような、マスクの除去を含む。
【０１２２】
開示された美的な光沢性基体の追加の特徴は、異なる角度で断片部を見ることによりコントラストを変化させるという特徴である。たとえば、それぞれ、表１のサンプル２番は８分間のみ粗化され、サンプル６番は８分間粗化され９分間研磨された。サンプル６番と比較すると、サンプル２番は２０°でより低い光沢度を有するが、６０°（光沢６０）および８５°（光沢８５）でより高い光沢度を有する（表１）。
【０１２３】
機械的性能−イオン交換強化法  光沢性基体断片部は、パターン化の有無で、４３０℃においてＫＮＯ３（硝酸カリウム）で８時間とイオン交換され、ＲｏＲとａＲｏＲのテストにより評価された。結果は、以下によれば、光沢性基体表面のパターンで相対的な表面強さがわずかに減少することを示した。小さい正方形配列（２段階のコントラスト）は、３Ｄ正方形配列（３段階のコントラスト）より大きく、小さい正方形配列（２段階のコントラスト）より大きなパターンはない。ａＲｏＲ結果は、パターン化なしの光沢性基体部分と、パターン化ありの光沢性基体部分との間の残留強度に有意差がないことを示唆する。
【０１２４】
手順
化学的粗化  代表的な粗化エッチング液は、たとえば、ＨＦ、ＮＨ４Ｆ、およびプロピレングリコール（ＰＧ）の混合物を含むことができる。代表的な粗化工程において、エッチング液は、たとえば、６重量％ＨＦ、５重量％ＮＨ４Ｆ、および２５重量％ＰＧを含む。光沢性基体部分は、機械的攪拌を伴わないで８分間エッチング液に垂直に浸される。次いで、粗化された部分は、ＤＩ水の中で簡単に洗い流され、５分間鉱酸（たとえば、３Ｍ  ＨＣｌ）に浸され、不溶性スラッジを除去した。最後に、その部品はＤＩ水の中で洗い流される。
【０１２５】
化学研磨  代表的な研磨エッチング液組成物は、たとえば、ＨＦを含むことができ、任意選択的に鉱酸（たとえば、Ｈ２ＳＯ４、ＨＣｌ、ＨＮＯ３またはこれらの混合物）と混合することができる。典型的な化学研磨ステップにおいて、研磨エッチング液は、たとえば、２．５重量％ＨＦ水溶液、および、１．５重量％ＨＣｌ水溶液を含むことができ、また、この研磨エッチング液は、１．４５Ｍ  ＨＦ水溶液と０．６Ｍ  ＨＣｌ水溶液の混合物として提供され得る。異なる時間（たとえば、１から１２分）、粗化された光沢性基体部品を研磨エッチング液に浸すことにより、その部品は、異なる（すなわち差異のある）表面粗さ、光沢度、色、反射またはこれらの組合せの少なくとも１つを達成することができる。たとえばＤＩ水において洗い流すことにより、研磨された部品を清浄にすることができる。
【０１２６】
印刷方式  マスクは標準のインクジェット式印刷技術を使用して、光沢性基体表面に適用された。代替として、または、追加として、マスクはまた、たとえばスクリーン印刷、フォトリソグラフィー、塗装、昇華、および同様の方法、またはこれらの組合せにより適用することができる。
【０１２７】
マスク除去  化学エッチング（すなわち、粗化）または、化学研磨の後、マスクは光沢性基体表面から除去することができる。実施形態において、マスクは、たとえば、マスクされた部分をアセトンに２分間浸すことによって除去され、マスクは光沢性基体表面から分離する。マスクを除去するために選択された溶剤は、たとえば、マスクを生成するのに選択された材料またはコーティング、たとえば、インク、バインダー、塗料、および同様の材料またはコーティングなどと、溶剤におけるマスクの可溶性に依存し得る。
【実施例】
【０１２８】
以下の実施例は、本開示の装飾された物品の成形、使用および分析と、上記の一般的な手順にしたがって製作する方法を示す。
【０１２９】
実施例１
２段階のコントラストイメージを生成。光沢性基体表面に葉と星のイメージを生成する実例。２段階のコントラストイメージを達成するために、光沢性基体断片は、６重量％ＨＦ、５重量％ＮＨ４Ｆ、２５重量％プロピレングリコール（ＰＧ）の混合物において、８分間粗化された。表面は、連続して、ＤＩ水において洗い流し、３Ｍ  ＨＣｌ水溶液に５分間浸し、ＤＩ水において洗い流すことにより洗浄された。「葉」と「星」のイメージマスクはインクジェット式印刷により粗化された光沢性基体表面上に印刷された。次いで、マスクされた断片は、２．５重量％ＨＦ水溶液と１．５重量％ＨＣｌ水溶液の混合物において６分間研磨され、ＤＩ水において洗い流した。マスクは、断片を２分間アセトンに浸すことにより除去された。デザインと達成された表面装飾は図５Ａと図５Ｂに示される。化学研磨の深さは干渉計（Ｚｙｇｏ）によって特徴づけられ、除去深さは約１２マイクロメートルであった。
【０１３０】
この実施例は、色（外観）、および表面粗さ、すなわち結果として生じる装飾されたガラス、ガラスセラミックまたはセラミック材または部品の触感を操作する化学的戦略のための方法を提供する。
【０１３１】
実施例２
３段階のコントラストイメージを生成。光沢性基体表面の３Ｄ正方形（立方体）パターンを生成する実例。図４Ａに図示された、開示された６ステップ法が使用された。３つの正方形領域になる予定の、第１の正方形または菱形のマスクをした後、光沢性基体は、実施例１における手順に続いて、６重量％ＨＦ、５重量％ＮＨ４Ｆ、２５重量％ＰＧの、水性混合物において８分間化学的に粗化された。次いで、マスクは、粗化された断片部を２分間アセトンに浸すことにより除去された。次いで、その部品は洗浄され、別の正方形または菱形の領域に第２のマスクをした。次いで、第２のマスクをされた、または、再度マスクされた部分は、２．５重量％ＨＦ／１．５重量％ＨＣｌの水性混合物において化学的に６分間研磨され、ＤＩ水で洗浄された。第２のマスクは２分間アセトンに浸すことにより除去された。装飾された光沢性基体断片のデザインと最終的な外観は、図５Ｃ（テンプレート）と５Ｄ（仕上がった断片）においてそれぞれ示される。
【０１３２】
実施例３
改質剤と、光沢性基体を粗化するエッチング液が少ないガラス基板
５ｍｏｌ％未満などの低い割合で改質剤を有する板ガラス、たとえば、Ｋ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ、Ｌｉ２Ｏ、および同様の酸化物などのアルカリ酸化物またはこれらの混合物、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、および同様の酸化物などのアルカリ土類酸化物、またはこれらの混合物、および、黒インク（以下を参照）でマスクされた表面領域は、６重量％フッ化水素酸と５重量％塩化カリウム水溶液の水性混合物を含有するエッチング液で８分間エッチングされ、マット仕上げされ、表面のマスクにより保護されなかったガラスの領域においてエッチングされた表面を提供する。エッチングされた領域においてガラスの表面粗さ（Ｒａ）が測定されると、約３００ｎｍ（たとえば、２６７ｎｍ）であった。本工程フローは、ステップ（４２５）の粗化剤がこの実施例の粗化剤と取り替えられる以外は、図４Ａの工程フローと同様である。
【０１３３】
実施例４
大部分が結晶相の白いガラスセラミックおよびセラミック
光沢レベルはエッチング液組成物の変更により制御することができる。部品は特定のエッチング液で８分間エッチングされ、所望の光沢レベルと表面外観が達成された。図９は、グラフの軸に明示された重量パーセントで、フッ化アンモニウムとフッ化水素酸を含有する、水性エッチング液の光沢６０の等高線図を示す。この組成物では、約８分間のエッチングなど、選択されたエッチング時間間隔後に、最終光沢レベルを測定することができる。開示されたマスキング法とディファレンシャルエッチング法を使用すると、多数のコントラストレベルを有する模様表面を達成することができる。開示されたマスキング法とディファレンシャルエッチング法は、白、黒、および中間の灰色のレベルのスペクトルなどの異なるグレースケールレベルから始めるパターン化ガラスセラミック材料を提供することができる。
【０１３４】
実施形態において、図９で示される光沢度と同じかまたは同様の光沢度は、異なるエッチング液の使用により達成することができる。同様の光沢レベルもフッ化水素酸水溶液を使用して、ガラスセラミック材料をエッチングすることにより達成することができ、フッ化水素酸水溶液は、たとえば、０．１Ｍから３ＭまでのＨＦ水溶液（すなわち、０．１７から５重量％ＨＦまでの水溶液）で、任意選択的に、鉱酸、たとえば、Ｈ２ＳＯ４、ＨＮＯ３、ＨＣｌおよび同様の酸、またはこれらの混合物を、たとえば、０．１Ｍから３Ｍまでの鉱酸水溶液中に含む。たとえば、水に１．５Ｍ  ＨＦと０．９Ｍ  硫酸を含有するエッチング液を使用すると、表３と図１０に説明されるように、異なる光沢レベルは、白いセラミック材を異なる時間エッチングすることにより達成することができる。
【０１３５】
【表３】
2018528911.tif 000005
【０１３６】
ＳＱＳ  Ｂｌａｃｋとして商業上知られている、Ｓｕｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓの黒インクが、黒いマスクを製作するために使用され、多機能アクリル酸エステル４０重量％から７０重量％、ｎ−ビニルカプロラクタム２５重量％〜４０重量％、トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド２．５重量％から５重量％、およびトリデシルアクリル酸エステル１重量％から２．５重量％を含むと考えられている。
【０１３７】
黒インクマスクはたとえばインクを噴射させ硬化させることにより堆積させ、堆積させて硬化させられた黒インクマスクは、たとえば、適切な溶剤においてマスクを溶かして、除去された。マスクされてエッチングされたサンプルは、１分から３分間アセトンに浸された。他の溶剤は基体表面から黒インクを除去するために使用することができるが、より長い浸透時間が必要とされ得る。
【０１３８】
実施形態において、溶剤で処理された基体はさらに熱処理され、残余の表面汚染物を燃焼する。実施形態において、白いガラスセラミックの燃焼法は、大気において６００℃で少なくとも１時間加熱することが必要である。燃焼法の温度は、残余の有機物を燃焼させるのに十分に高いように選択されているが、ガラスセラミックまたは形成されたイメージを曲げたり歪めるほど、または、結晶相の成長のサイズを大きくしたりまたは、他の方法で形態を変化させるほど高くない。
【０１３９】
実施形態において、インクはＭａｃＤｅｒｍｉｄ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ  ＳｏｌｕｔｉｏｎｓのＭａｃＤｅｒｍｉｄ  ＣｉｒｃｕｉｔＪｅｔ  ２００  ＵＶ  ＩｎｋＪｅｔ  Ｅｔｃｈ  Ｒｅｓｉｓｔとして商業上知られている、エッチ耐性材料である。
【０１４０】
実施形態において、マスキング、化学粗化、マスク除去、および基体洗浄は、たとえば、ＭａｃＤｅｒｍｉｄ  ＣｉｒｃｕｉｔＪｅｔ  ２００（たとえば２５秒／部分）などのエッチレジストの適用、酸エッチ（たとえば、１０分／バッチ）の適用、たとえば、Ｎ−メチルピロリドンＭａｃＤｅｒｍｉｄ  ＣｉｒｃｕｉｔＪｅｔ  Ｓｔｒｉｐｐｅｒ  ＮＰを使用する、エッチレジストの除去、または、他の適切な有機溶媒または適切な有機溶媒の混合物、たとえば、５分／バッチ、たとえば、約３重量％ＫＯＨ水溶液を有する、準清潔な調合物での洗浄を含むことができる。
【０１４１】
実施形態において、ＭａｃＤｅｒｍｉｄ  ＣｉｒｃｕｉｔＪｅｔマスク材料とエッチ手順を使用した、開示された基体装飾法に関する以下の所見は注目すべきである。
【０１４２】
印刷および硬化エッチレジスト
印字品質は優れているように見えた。サテライトインク滴または破線の痕跡はなかった。
【０１４３】
エッチ  エッチ浴槽中の、１つまたは２つのサンプル集合のＣｉｒｃｕｉｔＪｅｔでマスクされた基体を、５分間から始めて、１０分間の時間間隔で、途中で取り上げると、このセットにはより大きい線幅があった。ＣｉｒｃｕｉｔＪｅｔでマスクされたサンプル集合の第２のセットは、合計で１０分間エッチ浴槽に耐え、これらのサンプルにはより大きい線幅があった。
【０１４４】
除去  エッチレジスト（ＥＲ）はＭａｃＤｅｒｍｉｄ  Ｃｉｒｃｕｉｔ  Ｓｔｒｉｐｐｅｒ  ＮＰまたはＮ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）などの有機溶媒で取り除くか除去することができる。
【０１４５】
洗浄  準清浄な洗浄液（約３重量％ＫＯＨ水溶液）が、マスクを除去するために使用された。
【０１４６】
したがって、ＭａｃＤｅｒｍｉｄ  Ｃｉｒｃｕｉｔｊｅｔマスク材料と方法は開示された方法において選択肢として使用可能である。しかしながら、厚さが薄すぎるマスクは、エッチ浴槽中に基体から途中で剥離され得る。
【０１４７】
本開示を、様々な特定の実施形態及び方法を参照して記載してきた。しかしながら、多くの改変形態及び変更形態が、本開示の範囲内にありながら可能であると理解すべきである。
【０１４８】
以下、本発明の好ましい実施形態を項分け記載する。
【０１４９】
実施形態１  
２０度、６０度または８５度の少なくとも１つの入射角で測定されたとき、少なくとも２０単位の相対的な光沢差がある少なくとも３つの光沢レベルを有する、少なくとも３つの異なる光沢コントラスト領域を含む、装飾されたガラスセラミック物品。
【０１５０】
実施形態２
光沢性外観と滑らかな表面のテクスチャーを有する基体、および
第１の粗さを有する第１の粗いテクスチャーを有する第１のマットコントラスト領域と、第２の粗さを有する第２の粗いテクスチャーを有する第２のマットコントラスト領域とを含み、前記第１の粗さが前記第２の粗さより大きい、前記基体表面の複数のコントラスト領域を含む、装飾された光沢性物品。
【０１５１】
実施形態３
第１のマット外観と第１の粗さを有する第１の粗面テクスチャーを有する基体、および
第２のマットコントラスト領域と第２の粗さを有する第２の粗いテクスチャー、および、第３のマットコントラスト領域と第３の粗さを有する第３の粗いテクスチャーを含む、前記基体表面の複数のコントラスト領域であって、前記第１の粗さは前記第２の粗さほど粗くなく、前記第２の粗さは前記第１の粗さまたは前記第３の粗さとは異なる、前記基体表面の前記複数のコントラスト領域を含む、装飾されたマット物品。
【０１５２】
実施形態４
化学的にエッチング可能な元の基体表面の少なくとも一部に２つまたはそれ以上のコントラストレベルを有する美的な表面特徴を有する物品を製作する方法であって、
前記基体の前記元の表面領域の少なくとも一部において第１のマスキングを行い、部分的にマスクされた基体を形成するステップ、
前記マスクされた基体のマスクされていない表面領域部の少なくとも一部において第１の化学的粗化を行い、前記マスクされた基体にマット仕上げ領域を製作するステップ、
前記第１のマスクを除去し、前記元の表面領域と前記マット仕上げ領域に関する第１のコントラスト領域を製作するステップ、
前記マット仕上げ表面領域の少なくとも一部において第２のマスキングを行い、マスクされたマット仕上げ領域を形成するステップ、
前記マスクされていないマット仕上げ領域の少なくとも一部において第１の化学研磨を行い、第１の研磨マット仕上げ領域を製作するステップ、および
前記第２のマスクを除去し、前記マスクされていない元の表面領域、前記マット仕上げ表面領域および前記研磨マット仕上げ領域に関する第２のコントラスト領域を製作するステップ、
を含む方法。
【０１５３】
実施形態５
前記第１のマスキングが、ワックス、ポリマー、水不溶性フィルムもしくは水不溶性コート、ＵＶ硬化性フィルムもしくはＵＶ硬化性コート、接着剤、積層、またはこれらの組合せの少なくとも１つから選択された耐エッチ性の材料を適用し、前記第１のマスキングが、インクジェット式印刷、スクリーン印刷、ラミネーション、またはこれらの組合せで前記表面に前記マスクを施す、実施形態４に記載の方法。
【０１５４】
実施形態６
前記第１の化学的粗化が、マット仕上げ外観を有する粗面を製作し、前記元の表面が、光沢性ガラス、光沢性ガラスセラミック、光沢性セラミック、またはこれらの組合せの少なくとも１つから選択された基体である、実施形態４または５に記載の方法。
【０１５５】
実施形態７
前記第１の化学的粗化が、フッ化水素酸（ＨＦ）を含有するエッチング液で前記元の基体表面をエッチングするステップを含み、２００ｎｍ  ＲＭＳから１，０００ｎｍ  ＲＭＳまでの表面粗さを有する粗面を製作し、前記第１の化学研磨が、
前記マット仕上げ表面を研磨するステップ、
前記表面粗さを低減するステップ、
前記元の表面の色を変えるステップ、
またはこれらの組合せの少なくとも１つを行う、実施形態４から６のいずれか１つに記載の方法。
【０１５６】
実施形態８
前記第１の化学研磨が、前記元の表面の外観ではなく前記マット仕上げ表面の外観のみを変える、実施形態４から７のいずれか１つに記載の方法。
【０１５７】
実施形態９
前記第１のマスクの除去が、前記マスクした元の表面領域の前記マスクと適切な有機溶剤の接触により行なわれる、実施形態４から８のいずれか１つに記載の方法。
【０１５８】
実施形態１０
前記元の基体が、５０マイクロメートルから１００ミリメートルまでの厚さを有し、前記元の基体が、平板、曲線状、またはこれらの組合せから選択された幾何学的形状を有し、前記製作された物品の強度が不変か、または前記元の基体の強度と比較して、０．１パーセントから２０パーセントまで低減される、実施形態４から９のいずれか１つに記載の方法。
【０１５９】
実施形態１１
前記元の表面領域についての前記第１のコントラスト領域、前記元の表面領域についての前記第２のコントラスト領域、および前記マット仕上げ領域が、各々、５％から２５％までの相対反射率の差異を有する、実施形態４から１０のいずれか１つに記載の方法。
【０１６０】
実施形態１２
前記元の基体が黒い不透明な光沢性セラミック基体である場合、それは、０．００１％から２０％までの正反射光を含む、９０％から９９％までの総反射率を有し、０．００１％から２０％までの全透過率を有し、
前記元の基体が白い不透明な光沢性セラミック基体である場合、それは、０．００１％から２０％までの正反射光を含む、７５％から９９％までの総反射率を有し、０．００１％から２０％までの全透過率を有し、
前記元の基体が灰色の不透明な光沢性セラミック基体である場合、基体は４０％から７５％までの総反射率を有し、０．００１％から２０％までの全透過率を有する、実施形態４から１１のいずれか１つに記載の方法。
【０１６１】
実施形態１３
前記第２のマスクの除去が、前記元の表面領域と前記マット仕上げ領域についての前記第２のコントラスト領域を製作し、その結果生じた基体が２つ以上の表面テクスチャーを有し、前記２つ以上の表面テクスチャーが、各々、他の表面テクスチャーに対して５％から２０％までの光沢差を有する、実施形態４から１２のいずれか１つに記載の方法。
【０１６２】
実施形態１４
第１のエッチングが、ＨＦ、ＮＨ４Ｆ、ＮＨ５Ｆ２、ＫＦ、ＮａＦ、ＫＨＦ２、ＮａＨＦ２、またはこれらの組合せから選択されたフッ酸を含む溶液において行われ、前記第１の化学研磨が、ＨＦ、鉱酸、有機酸、またはこれらの組合せを含有する溶液において行われる、実施形態４から１３のいずれか１つに記載の方法。
【０１６３】
実施形態１５
前記元の基体が、８０から１００までの光沢度（光沢８５）と、０．２ｎｍＲＭＳから１０ｎｍＲＭＳまでの表面粗さを有する光沢性基体であり、
前記マット仕上げ領域が、４０から６０までの光沢度（光沢８５）と１０ｎｍＲＭＳから１，０００ｎｍＲＭＳまでの表面粗さを有し、
前記第１のコントラスト領域が、８０から１００までの光沢度（光沢８５）と、０．２ｎｍＲＭＳから１００ｎｍＲＭＳまでの表面粗さを有し、
前記第１の化学研磨マット仕上げ領域が、４０から６０までの光沢度（光沢８５）と、２００ｎｍＲＭＳから１，０００ｎｍＲＭＳまでの表面粗さを有し、および
前記第２のコントラスト領域が、１０から３０までの光沢度（光沢８５）を有し、２００ｎｍＲＭＳから、２００ｎｍＲＭＳから１，０００ｎｍＲＭＳまでの前記第１の化学研磨マット仕上げ領域のＲＭＳより低い、ＲＭＳまでの表面粗さを有する、実施形態４から１４のいずれか１つに記載の方法。
【０１６４】
実施形態１６
実施形態１に記載の前記ステップを、記載された順番で１回または複数回繰り返すステップを含む、実施形態４から１５のいずれか１つに記載の方法。
【０１６５】
実施形態１７
実施形態４から１６のいずれか１つに記載の方法にしたがって装飾された、少なくとも１つの元の表面を有する物品。
【０１６６】
実施形態１８
化学的にエッチング可能なマット仕上げ基体の表面の少なくとも一部に２つまたはそれ以上のコントラストレベルを有する美的な表面特徴を有する物品を製作する方法であって、
前記マット仕上げ基体の表面領域の少なくとも一部で第１のマスキングを行い、部分的にマスクされた基体を形成するステップ、
前記マスクされた基体のマスクされていない表面領域部の少なくとも一部において第１の化学研磨を行い、前記部分的にマスクされた基体領域に第１の化学研磨マット仕上げ基体領域を製作するステップ、
前記第１のマスクを除去し、前記マット仕上げ基体領域と前記化学研磨マット仕上げ基体領域についての第１のコントラスト領域を製作するステップ、
化学研磨マット仕上げ表面領域の少なくとも一部に第２のマスキングを行い、第２のマスクをされたマット仕上げ領域を形成するステップ、
前記マスクされていない化学研磨マット仕上げ基体領域の少なくとも一部に第２の化学研磨を行い、第２の化学研磨マット仕上げ領域を製作するステップ、
前記第２のマスクを除去し、前記マスクされていないマット仕上げ基体表面領域、前記第１の化学研磨マット仕上げ領域、前記第１および第２の化学研磨マット仕上げ領域についての第２のコントラスト領域を製作するステップを含む方法。
【０１６７】
実施形態１９
前記マット仕上げの基体が、５０マイクロメートルから１００ミリメートルまでの厚さを有し、前記マット仕上げの基体が、平板、曲線状、またはこれらの組合せから選択された幾何学的形状を有し、前記製作された物品の強度が、前記マット仕上げの強度と比較して、不変か、または、０．１パーセントから２０パーセントまで低減される、実施形態１８に記載の方法。
【０１６８】
実施形態２０
実施形態１５に記載の前記ステップを、記載された順番で１回または複数回繰り返すステップを含む、実施形態１８または１９に記載の方法。
【０１６９】
実施形態２１
前記方法が、少なくとも２つの異なるコントラスト領域を製作し、各々異なるコントラスト領域が、異なる光沢と異なる色特性を有する、実施形態１８から２０のいずれか１つに記載の方法。
【０１７０】
実施形態２２
実施形態１８から２１のいずれか１つに記載の方法にしたがって装飾された、少なくとも１つのマット仕上げ表面を有する物品。
【符号の説明】
【０１７１】
Ａ、４１７    第１のコントラスト領域
Ｂ    第２のコントラスト領域
Ｃ    第２の化学的研磨マット仕上げ領域
１００    エッチング工程
１０５、４２５    化学的粗化ステップ
４５６    化学研磨
１１０    光沢性基体部品
１２０、４１２    マット基体、マット仕上げ基体
１２５    化学研磨ステップ
１３０    灰色
４０５、４０６    第１のマスキング
４１０    光沢性基体
４１５、４１６    マスク
４２０    マスクされていない光沢性基体表面
４３０    化学的に粗化された基体、マット仕上げ外観、第１のコントラスト領域
４３２    第２のマット仕上げ領域、化学的研磨基体
４３５、４３６    第１のマスクの除去    
４４０    化学的に粗化されマスクを除かれた基体
４４１    ２段階のコントラスト領域を有する部品または断片、第２のマット仕上げ表面領域
４４２    前もって保護された光沢性領域
４４４    マット仕上げ領域
４４５、４４６    第２のマスキング
４５０    マット仕上げ基体表面
４５１    第２のマスクをされたマット仕上げ領域
４５５    第１の化学研磨
４５７    第２の化学研磨
４６０    研磨基体表面領域
４６１    第２の化学的研磨基体
４６５、４６７    第２のマスクの除去
４７０、４７１    ３段階にパターン化された基体表面        
【図１】
2018528911.tif 000006
【図２】
2018528911.tif 000007
【図３】
2018528911.tif 000008
【図４Ａ】
2018528911.tif 000009
【図４Ｂ】
2018528911.tif 000010
【図５】
2018528911.tif 000011
【図６】
2018528911.tif 000012
【図７】
2018528911.tif 000013
【図８】
2018528911.tif 000014
【図９】
2018528911.tif 000015
【図１０】
2018528911.tif 000016
【国際調査報告】
2018528911.tif 000017
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