Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成26年2月18日(2014.2.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可視光領域の励起光を射出するレーザー光源と、
前記励起光の一部を透過させるとともに、前記励起光によって励起されて可視光領域の蛍光を発する発光素子と、を備え、
前記発光素子は、光透過性を有する基材と、該基材の内部に含まれる複数の蛍光体粒子と、該基材の内部に含まれる光透過性を有する複数のフィラー粒子と、を含む発光層を有することを特徴とする光源装置。
【請求項２】
前記複数のフィラー粒子の平均粒子径と前記複数の蛍光体粒子の平均粒子径のうち少なくとも一方は、前記励起光を幾何光学散乱させる大きさであることを特徴とする請求項１に記載の光源装置。
【請求項３】
前記複数の蛍光体粒子および前記複数のフィラー粒子の総体積が、前記発光層の体積の３５％以上４５％以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の光源装置。
【請求項４】
前記複数のフィラー粒子の平均粒子径は、５μｍ以上であることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の光源装置。
【請求項５】
前記複数の蛍光体粒子の平均粒子径は、５μｍ以上であることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の光源装置。
【請求項６】
前記発光層の膜厚が、前記複数の蛍光体粒子の平均粒子径の１０倍以下の厚さであることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の光源装置。
【請求項７】
前記複数のフィラー粒子は、前記基材の屈折率よりも大きい屈折率を有する材料からなることを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の光源装置。
【請求項８】
前記複数のフィラー粒子は、前記基材の屈折率の１．２倍以上１．３倍以下である屈折率を有する材料からなることを特徴とする請求項７に記載の光源装置。
【請求項９】
前記複数の蛍光体粒子は、前記基材の屈折率よりも大きい屈折率を有する材料からなることを特徴とする請求項１から８のいずれか１項に記載の光源装置。
【請求項１０】
前記複数の蛍光体粒子は、前記基材の屈折率の１．２倍以上１．３倍以下である屈折率を有する材料からなることを特徴とする請求項９に記載の光源装置。
【請求項１１】
前記発光素子は、前記発光層において前記励起光が入射する側の面に、前記励起光を透過し前記蛍光を反射する波長選択膜を有することを特徴とする請求項１から１０のいずれか１項に記載の光源装置。
【請求項１２】
前記基材の形成材料が、樹脂組成物であることを特徴とする請求項１から１１のいずれか１項に記載の光源装置。
【請求項１３】
前記基材の形成材料が、無機材料からなることを特徴とする請求項１から１１のいずれか１項に記載の光源装置。
【請求項１４】
請求項１から１３のいずれか１項の光源装置と、前記光源装置から射出される光を変調する光変調素子と、前記光変調素子によって変調された光を投写する投写光学系と、を備えることを特徴とするプロジェクター。
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月27日(2014.6.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の上方に第１の導電層を有し、
前記基板の上方に第２の導電層を有し、
前記第１の導電層の上方と前記第２の導電層の上方とに第１の絶縁層を有し、
前記第１の絶縁層の上方に、ＩｎとＧａとＺｎとを有する第１の酸化物層を有し、
前記第１の絶縁層の上方に、ＩｎとＧａとＺｎとを有する第２の酸化物層を有し、
前記第１の酸化物層の上方に第３の導電層を有し、
前記第１の酸化物層の上方に第４の導電層を有し、
前記第３の導電層の上方と前記第４の導電層の上方とに第２の絶縁層を有し、
前記第２の絶縁層の上方に第５の導電層を有し、
前記第１の酸化物層は、光を透過する機能を有し、
前記第２の酸化物層は、光を透過する機能を有し、
前記第５の導電層は、光を透過する機能を有し、
前記第１の導電層は、トランジスタのゲート電極として機能する領域を有し、
前記第２の導電層は、前記第２の酸化物層と電気的に接続されており、
前記第３の導電層は、前記トランジスタのソース電極又は前記トランジスタのドレイン電極の一方として機能する領域を有し、
前記第４の導電層は、前記トランジスタのソース電極又は前記トランジスタのドレイン電極の他方として機能する領域を有し、
前記第５の導電層は、前記第４の導電層と電気的に接続されており、
前記第１の酸化物層は、前記第１の導電層と重なる領域を有し、
前記第２の酸化物層は、前記第５の導電層と重なる領域を有し、
前記第４の導電層は、前記第２の導電層と重なる領域を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
基板の上方に第１の導電層を有し、
前記基板の上方に第２の導電層を有し、
前記第１の導電層の上方と前記第２の導電層の上方とに第１の絶縁層を有し、
前記第１の絶縁層の上方に、ＩｎとＧａとＺｎとを有する第１の酸化物層を有し、
前記第１の絶縁層の上方に、ＩｎとＧａとＺｎとを有する第２の酸化物層を有し、
前記第１の酸化物層の上方に第３の導電層を有し、
前記第１の酸化物層の上方に第４の導電層を有し、
前記第３の導電層の上方と前記第４の導電層の上方とに第２の絶縁層を有し、
前記第２の絶縁層の上方に第５の導電層を有し、
前記第１の酸化物層は、光を透過する機能を有し、
前記第２の酸化物層は、光を透過する機能を有し、
前記第５の導電層は、光を透過する機能を有し、
前記第１の導電層は、トランジスタのゲート電極として機能する領域を有し、
前記第２の導電層は、前記第２の酸化物層と電気的に接続されており、
前記第３の導電層は、前記トランジスタのソース電極又は前記トランジスタのドレイン電極の一方として機能する領域を有し、
前記第４の導電層は、前記トランジスタのソース電極又は前記トランジスタのドレイン電極の他方として機能する領域を有し、
前記第５の導電層は、前記第４の導電層と電気的に接続されており、
前記第１の酸化物層は、前記トランジスタのチャネル形成領域として機能する領域を有し、
前記第２の導電層は、第１の容量素子の一方の電極として機能する領域を有し、
前記第４の導電層は、前記第１の容量素子の他方の電極として機能する領域を有し、
前記第２の酸化物層は、第２の容量素子の一方の電極として機能する領域を有し、
前記第５の導電層は、前記第２の容量素子の他方の電極として機能する領域を有することを特徴とする液晶表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月17日(2014.7.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】発光表示装置の作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、剥離層を形成し、
前記剥離層上に、第１の導電層と、第２の導電層を形成し、
前記第１の導電層と、前記第２の導電層上に、第１の絶縁層を形成し、
前記第１の絶縁層上に、酸化物半導体層を形成し、
前記第１の絶縁層と、前記酸化物半導体層とを同時にエッチングして、前記第１の絶縁層に第１の開口を形成し、前記酸化物半導体層に第２の開口を形成し、
前記酸化物半導体層上に、第３の導電層と、第４の導電層と、第５の導電層と、第６の導電層とを形成し、
前記第３の導電層と、前記第４の導電層と、前記第５の導電層と、前記第６の導電層との上に、第２の絶縁層を形成し、
前記酸化物半導体層と、前記第２の絶縁層とを同時にエッチングして、前記酸化物半導体層に第３の開口を形成し、前記第２の絶縁層に第４の開口を形成し、
前記第２の絶縁層上に、第７の導電層を形成し、
前記第７の導電層の端部と重なる領域を有する、第３の絶縁層を形成する発光表示装置の作製方法であって、
前記第１の開口は、前記第２の開口と重なり、
前記第３の開口は、前記第４の開口と重なり、
前記第１の導電層は、第１のトランジスタの第１のゲート電極として機能する領域を有し、
前記第２の導電層は、第２のトランジスタの第２のゲート電極として機能する領域を有し、
前記第３の導電層は、前記第１のトランジスタの第１のソース電極又は第１のドレイン電極の一方として機能する領域を有し、
前記第４の導電層は、前記第１のトランジスタの第１のソース電極又は第１のドレイン電極の他方として機能する領域を有し、
前記第５の導電層は、前記第２のトランジスタの第２のソース電極又は第２のドレイン電極の一方として機能する領域を有し、
前記第６の導電層は、前記第２のトランジスタの第２のソース電極又は第２のドレイン電極の他方として機能する領域を有し、
前記第７の導電層は、画素電極として機能する領域を有し、
前記第２のゲート電極は、前記第１の開口及び前記第２の開口を介して、前記第１のソース電極又は前記第１のドレイン電極の他方と、電気的に接続され、
前記画素電極は、前記第２のソース電極又は前記第２のドレイン電極の他方と、電気的に接続されていることを特徴とする発光表示装置の作製方法。
【請求項２】
基板上に、剥離層を形成し、
前記剥離層上に、第１の導電層と、第２の導電層を形成し、
前記第１の導電層と、前記第２の導電層上に、第１の絶縁層を形成し、
前記第１の絶縁層上に、酸化物半導体層を形成し、
前記第１の絶縁層と、前記酸化物半導体層とを同時にエッチングして、前記第１の絶縁層に第１の開口を形成し、前記酸化物半導体層に第２の開口を形成し、
前記酸化物半導体層上に、第３の導電層と、第４の導電層と、第５の導電層と、第６の導電層とを形成し、
前記第３の導電層と、前記第４の導電層と、前記第５の導電層と、前記第６の導電層との上に、第２の絶縁層を形成し、
前記酸化物半導体層と、前記第２の絶縁層とを同時にエッチングして、前記酸化物半導体層に第３の開口を形成し、前記第２の絶縁層に第４の開口を形成し、
前記第２の絶縁層上に、第７の導電層を形成し、
前記第７の導電層の端部と重なる領域を有する、第３の絶縁層を形成し、
前記第７の導電層及び前記第３の絶縁層上に、接着剤を用いて、支持基材を貼り合わせ、
前記剥離層から、前記基板を剥離する発光表示装置の作製方法であって、
前記第１の開口は、前記第２の開口と重なり、
前記第３の開口は、前記第４の開口と重なり、
前記第１の導電層は、第１のトランジスタの第１のゲート電極として機能する領域を有し、
前記第２の導電層は、第２のトランジスタの第２のゲート電極として機能する領域を有し、
前記第３の導電層は、前記第１のトランジスタの第１のソース電極又は第１のドレイン電極の一方として機能する領域を有し、
前記第４の導電層は、前記第１のトランジスタの第１のソース電極又は第１のドレイン電極の他方として機能する領域を有し、
前記第５の導電層は、前記第２のトランジスタの第２のソース電極又は第２のドレイン電極の一方として機能する領域を有し、
前記第６の導電層は、前記第２のトランジスタの第２のソース電極又は第２のドレイン電極の他方として機能する領域を有し、
前記第７の導電層は、画素電極として機能する領域を有し、
前記第２のゲート電極は、前記第１の開口及び前記第２の開口を介して、前記第１のソース電極又は前記第１のドレイン電極の他方と、電気的に接続され、
前記画素電極は、前記第２のソース電極又は前記第２のドレイン電極の他方と、電気的に接続されていることを特徴とする発光表示装置の作製方法。
【請求項３】
請求項２において、
前記基板を剥離した後に、被剥離面に支持体を貼り合わせる工程を有し、
前記支持体は、１．５［ＭＰａ・ｍ１／２］以上の破壊じん性値を有することを特徴とする発光表示装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月30日(2014.7.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明は、印刷データに基づき感光体にトナーによって形成したドットパターンを、画像形成媒体に定着する定着手段と、前記印刷データにおける印字モードと、前記印刷データにおける描画属性と、に基づいて前記定着時の定着温度を制御する定着温度制御手段と、を備えることを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
印刷データに基づき感光体にトナーによって形成したドットパターンを、画像形成媒体に定着する定着手段と、
前記印刷データにおける印字モードと、前記印刷データにおける描画属性と、に基づいて前記定着時の定着温度を制御する定着温度制御手段と、
を備えることを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記定着温度制御手段は、前記描画属性に基づいて前記定着時の定着温度を下げる制御を行うことを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記定着温度制御手段は、前記印刷データにおいて各描画属性が占める描画面積に応じて前記定着時の定着温度を制御することを特徴とする請求項１または２に記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記定着温度制御手段は、前記印刷データ全体の前記描画面積のうち、最も占める割合が大きい描画属性の前記描画面積に基づいて前記定着時の定着温度を制御することを特徴とする請求項３に記載の画像形成装置。
【請求項５】
定着温度の履歴を保持する定着温度履歴保持手段を備え、
前記定着温度制御手段は、前記定着温度履歴保持手段に保持されている定着温度の履歴を参照して前記定着時の定着温度を制御することを特徴とする請求項１または２に記載の画像形成装置。
【請求項６】
前記定着温度制御手段は、前記定着温度履歴保持手段に保持されている定着温度の履歴を参照し、最も使用回数の多い定着温度が、前記印刷データにおける印字モードと、前記印刷データにおける描画属性と、に基づいて設定された定着温度より低い場合、定着温度を前記最も使用回数の多い定着温度に設定することを特徴とする請求項５に記載の画像形成装置。
【請求項７】
印刷データに基づき感光体にトナーによって形成したドットパターンを、画像形成媒体に定着する定着工程と、
前記印刷データにおける印字モードと、前記印刷データにおける描画属性と、に基づいて前記定着時の定着温度を制御する定着温度制御工程と、
を含むことを特徴とする画像形成方法。
【請求項８】
印刷データに基づき感光体にトナーによって形成したドットパターンを、画像形成媒体に定着する定着ステップと、
前記印刷データにおける印字モードと、前記印刷データにおける描画属性と、に基づいて前記定着時の定着温度を制御する定着温度制御ステップと、
をコンピュータに実行させるためのプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月1日(2014.9.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画素部を含む入出力部と、
画像処理回路、複数のプログラムが記憶された記憶回路、及びＣＰＵを備えるデータ処理部と、を含み、
前記画素部は、表示選択信号が入力され、前記表示選択信号に従って表示データ信号が入力され、入力される表示データ信号のデータに応じた表示状態になる複数の表示回路と、それぞれ入射する光の照度に応じたデータである光データを生成する複数の光検出回路と、を備える入出力装置の駆動方法であって、
前記画素部に被読み取り物が重畳するとき、前記複数の光検出回路のそれぞれにより第１の光データを生成し、
前記第１の光データを用いて前記画像処理回路により画像データを生成して前記記憶回路に保持し、
前記ＣＰＵにより、前記記憶回路から前記画像データを読み出し、
前記画像データを画像信号として前記入出力部に入力し、
前記入出力部により、前記画像信号から複数の表示データ信号を生成し、
生成した前記複数の表示データ信号を前記複数の表示回路のそれぞれに順次入力し、
前記複数の表示回路により、前記画素部に前記複数の表示データ信号のデータに応じた画像を表示することにより、前記被読み取り物と重畳する前記画素部の領域に前記被読み取り物と鏡像の関係になる画像を表示し、
前記被読み取り物と鏡像の関係になる画像を含む画像を表示している間に、前記複数の光検出回路のそれぞれにより第２の光データを生成することを特徴とする入出力装置の駆動方法。
【請求項２】
表示回路制御部、光検出回路制御部、及び画素部を含む入出力部と、
画像処理回路、複数のプログラムが記憶された記憶回路、及びＣＰＵを備えるデータ処理部と、を含み、
前記表示回路制御部は、表示選択信号を出力する表示駆動回路と、画像信号が入力され、入力された画像信号から複数の表示データ信号を出力する表示データ信号出力回路と、を含み、前記光検出回路駆動部は、前記光検出駆動回路を含み、前記画素部は、前記表示選択信号が入力され、前記表示選択信号に従って前記複数の表示データ信号のいずれか一つが入力され、入力される表示データ信号のデータに応じた表示状態になる複数の表示回路と、前記光検出駆動回路に従って、それぞれ入射する光の照度に応じたデータである光データを生成する複数の光検出回路と、を備える入出力装置の駆動方法であって、
前記画素部に被読み取り物が重畳するとき、前記複数の光検出回路のそれぞれにより第１の光データを生成し、
前記第１の光データを用いて前記画像処理回路により画像データを生成して前記記憶回路に保持し、
前記ＣＰＵにより、前記記憶回路から前記画像データを読み出し、
前記画像データを画像信号として前記表示データ信号出力回路に入力し、
前記表示データ信号出力回路により、前記画像信号から複数の表示データ信号を生成し、
生成した前記複数の表示データ信号を前記複数の表示回路のそれぞれに順次入力し、
前記複数の表示回路により、前記画素部に前記複数の表示データ信号のデータに応じた画像を表示することにより、前記被読み取り物と重畳する前記画素部の領域に前記被読み取り物と鏡像の関係になる画像を表示し、
前記被読み取り物と鏡像の関係になる画像を含む画像を表示している間に、前記複数の光検出回路のそれぞれにより第２の光データを生成することを特徴とする入出力装置の駆動方法。
【請求項３】
請求項１又は請求項２において、
前記複数の表示回路により、前記画素部に前記複数の表示データ信号のデータに応じた画像を表示することにより、前記被読み取り物と重畳しない前記画素部の領域に前記被読み取り物を鏡像反転させた画像を表示することを特徴とする入出力装置の駆動方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月25日(2014.6.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画素が設けられた画素部と、
第１のシャッター及び第２のシャッターを有する遮光部と、
共通電位を出力する信号源と、
前記画素部における画像信号の書き込み、右目用の画像の表示、及び左目用の画像の表示に同期するように、前記第１のシャッター及び前記第２のシャッターの透過率と、前記信号源から出力される前記共通電位の高さとを制御する制御部と、を有し、
前記複数の画素は、
前記画素への前記画像信号の書き込みを制御するスイッチング用トランジスタと、
画素電極と、
前記共通電位の与えられる共通電極と、
前記画素電極と前記共通電極の間に設けられた電界発光層を有する発光素子と、
前記画像信号に従って前記画素電極の電位を制御する駆動用トランジスタと、を有する表示装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記共通電極の電位を信号源によって、制御し、
書き込み期間中において、前記複数の画素の前記発光素子を全て消灯させ、
表示期間中において、前記複数の画素の前記発光素子を前記画像信号に従って点灯させることを特徴とする表示装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記第１のシャッター及び前記第２のシャッターは、液晶素子を用いている表示装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか１項において、
前記スイッチング用トランジスタまたは前記駆動用トランジスタは、活性層に酸化物半導体を含む表示装置。
【請求項５】
請求項４において、
前記酸化物半導体は、Ｉｎ−Ｇａ−Ｚｎ系の酸化物半導体である表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月25日(2014.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
印刷システム内の接触クリーナ・ロール式クリーニングシステムであって、
フレームと、
主要面と主要面上に破片を有する可動面と、
前記フレーム上に支持され、前記主要面と転がり接触を成すように配置されるクリーナ・ロールであって、尖ったグリットが埋め込まれた粗い質感の外面を有し、それによって前記可動面上の前記破片を除去する、回転可能クリーナ・ロールと、を含み、
前記回転可能クリーナ・ロールは、前記破片を前記主要面から除去して移動させることを可能にする表面エネルギーを有する材料で形成され、
前記除去された材料は、前記印刷システム内の印刷媒体によって運び出される、システム。
【請求項２】
前記クリーナ・ロールの速度は、前記クリーナ・ロールがクリーニング中の前記可動面のような直線的表面速度に一致する、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記可動面は、外部加熱ロール、融着ロール、ベルト融着器、スプレッダで構成されるグループから選択される、請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
前記回転可能クリーナ・ロールは、可動面の動作温度に耐えることができる、針金または他の堅いファイバで作られるブラシを含む、請求項３に記載のシステム。
【請求項５】
印刷システム内の表面をクリーニングする方法であって、
主要面と主要面上に破片を有する可動面を移動させるステップと、
フレーム上に支持され、前記主要面と転がり接触を成すように配置されるクリーナ・ロールであって、尖ったグリットが埋め込まれた粗い質感の外面を有し、それによって前記可動面上の前記破片を除去する、回転可能クリーナ・ロールを回転させるステップと、を含み、
前記回転可能なクリーナ・ロールは、前記破片を前記主要面から除去して移動させることができる表面エネルギーを有する材料で形成され、
前記除去された材料は、印刷動作中に印刷媒体によって運び出される、方法。
【請求項６】
前記クリーナ・ロールの速度は、該クリーナ・ロールがクリーニング中の前記可動面のような直線的表面速度に一致する、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記尖ったグリット用の材料は、アルミナ、タングステンカーバイドまたはシリカで構成されるグループから選択される、請求項５に記載の方法。
【請求項８】
可動面から破片を除去するクリーニングカートリッジであって、
フレームと、
前記フレーム上に支持され、前記主要面と転がり接触を成すように配置されるクリーナ・ロールであって、尖ったグリットが埋め込まれた粗い質感の外面を有し、それによって前記可動面上の前記破片を除去する、回転可能クリーナ・ロールと、を含み、
前記回転可能クリーナ・ロールは、前記破片を前記主要面から除去して移動させることを可能にする表面エネルギーを有する材料で形成され、
前記除去された材料は、前記印刷システム内の印刷媒体によって運び出される、クリーニングカートリッジ。
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月11日(2014.9.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数組のインターレースされた筋状部を基板に堆積して、インターレースされた合成画像を、画像処理装置を用いて形成することであって、複数の第１筋状部が第１画像に対応し、複数の第２筋状部が第２画像に対応しているように、各一組の前記インターレースされた筋状部は１つの第１筋状部および１つの第２筋状部を含む、前記筋状部を堆積することと、
前記画像処理装置を用いて、複数の半円筒型の形状をした凸部分を堆積して、前記インターレースされた合成画像にレンチキュラー・レンズ・シートを形成することであって、各半円筒型の形状をした凸部分は、前記インターレースされた合成画像の対応する一組のインターレースされた筋状部とそえられている、前記凸部分を堆積することと、
を含むレンチキュラー装置の形成方法。
【請求項２】
前記画像処理装置が、インクジェットプリンタまたはゼログラフィックプリンタを含んでいる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記レンチキュラー・レンズ・シートが、重合体、トナー材料、固体インク、ＵＶ硬化性材料、および、それらの組み合わせからなるグループから選択された透過性材料から形成される、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記レンチキュラー・レンズ・シートの厚さＴが、約０．０５ｍｍから約３ｍｍである、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記複数の半円筒型の形状をした凸部分は、約１０ｌｐｉから約３００ｌｐｉの範囲のレンズピッチを有する請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月24日(2014.9.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
光源（２、３）と、光軸（１６）を中心として延びる照明ビーム経路（１５’）を生成するための開口部（９）を有する開口装置と、を含む顕微鏡照明システム（１）であって、前記光軸（１６）から偏心して延びる照明ビーム経路（１５）が、前記開口部（９）を変位することによって傾斜入射照明用に生成可能であるシステムにおいて、  前記開口装置が、回転軸（１１）を中心に回転可能でありかつ異なるサイズの複数の開口部（９）を周方向に形成した開口ホイール（８）を含み、前記開口部のそれぞれが、前記開口ホイール（８）を回転させることによって、前記光軸（１６）を中心に、または前記光軸（１６）の回りの所定領域内で前記光軸（１６）から偏心して配置可能である顕微鏡照明システム（１）。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２１】
顕微鏡で検査されるべき対象物（３６）の傾斜入射照明のための方法であって、顕微鏡照明システム（１）の光軸（１６）から偏心して延びる照明ビーム経路（１５）が、顕微鏡照明システム（１）のビーム経路に位置する開口部（９）を、前記光軸（１６）に関する中心合わせされた位置から移動させることによって、傾斜入射照明用に生成され、  開口部（９）をその中心合わせされた位置から変位させるために、回転軸（１１）を中心に回転可能でかつ異なるサイズの複数の開口部（９）を周方向に形成した開口ホイール（８）が、次のようなやり方、すなわち、前記開口ホイール（８）を回転させることによって、各開口部（９）を初期位置において前記光軸（１６）を中心に配置でき、かつさらなる回転によって、かかる開口部を、前記光軸の回りの所定領域内で前記光軸（１６）から偏心して配置できるようなやり方で、前記顕微鏡照明システム（１）の前記光軸（１６）に対して配置される方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年1月15日(2014.1.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
本発明の実施形態に係る変位計測装置では移動体の移動速度を算出する他、移動体の変位量も計測する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
この他、本発明の実施形態に係る変位計測装置では、移動体１０上に周期的に配置された識別可能なマーク列１１に対して、発光部より光を照射し、照射光のマーク列１１からの透過光、または反射光を受光部にて検出する。そして検出信号から、移動体１０の変位量を算出する。
【手続補正書】
【提出日】平成25年12月24日(2013.12.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を洗浄処理する基板洗浄装置において、
基板に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、
基板に洗浄部材を当接させて洗浄する洗浄手段と、
前記基板の洗浄中、基板を保持する第１の基板保持手段と、
前記第１の基板保持手段により基板を保持する位置よりも下方側の退避位置と、当該第１の基板保持手段との間で基板の受け渡しを行う前記退避位置よりも上方側の受け渡し位置との間で昇降を行う昇降機構を備えた第２の基板保持手段と、
前記第２の基板保持手段への洗浄液の滴下を防止するため、前記退避位置に退避した第２の基板保持手段の上面を覆うカバー部材と、を備えたことを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項２】
前記カバー部材は、前記第２の基板保持手段の側方へ退避した位置と、当該第２の基板保持手段の上面を覆う位置との間を横方向に移動させる支持部に支持されていることを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。
【請求項３】
前記カバー部材の上面には、当該カバー部材の中央側から周縁側へ向けて低くなる傾斜面が形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の基板洗浄装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明に係る基板洗浄装置は、基板を洗浄処理する基板洗浄装置において、
基板に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、
基板に洗浄部材を当接させて洗浄する洗浄手段と、
前記基板の洗浄中、基板を保持する第１の基板保持手段と、
前記第１の基板保持手段により基板を保持する位置よりも下方側の退避位置と、当該第１の基板保持手段との間で基板の受け渡しを行う前記退避位置よりも上方側の受け渡し位置との間で昇降を行う昇降機構を備えた第２の基板保持手段と、
前記第２の基板保持手段への洗浄液の滴下を防止するため、前記退避位置に退避した第２の基板保持手段の上面を覆うカバー部材と、を備えたことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
前記基板洗浄装置は、以下の構成を備えていてもよい。
（ａ）前記カバー部材は、前記第２の基板保持手段の側方へ退避した位置と、当該第２の基板保持手段の上面を覆う位置との間を横方向に移動させる支持部に支持されていること。
（ｂ）前記カバー部材の上面には、当該カバー部材の中央側から周縁側へ向けて低くなる傾斜面が形成されていること。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
本発明に係る基板洗浄装置によれば、第１の基板保持手段が基板を保持する位置よりも下方側に退避した第２の基板保持手段の上面をカバー部材により覆うので、当該第２の基板保持手段の上面への洗浄液の滴下を防止し、清浄な状態に維持することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成26年2月19日(2014.2.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基地局装置と通信する端末装置であって、
前記端末装置が８アンテナポートの伝送路状況測定用参照信号を用いるＰＤＳＣＨ送信モードをサポートしているかを、端末ケイパビリティ情報を用いて前記基地局装置に通知する、端末装置。
【請求項２】
基地局装置と通信する端末装置であって、
前記端末装置が８アンテナポートの伝送路状況測定用参照信号を用いるＰＤＳＣＨ送信モードの機能をサポートしていることを示す「１」が設定された情報を、前記基地局装置に通知する、端末装置。
【請求項３】
基地局装置と通信する端末装置であって、
前記端末装置が８アンテナポートの伝送路状況測定用参照信号を用いるＰＤＳＣＨ送信モードの機能をサポートしていないことを示す「０」が設定された情報を、前記基地局装置に通知する、端末装置。
【請求項４】
前記ＰＤＳＣＨ送信モードは、情報データ信号が最大８レイヤー送信の送信方式である、請求項１に記載の端末装置。
【請求項５】
所定の情報が含まれる前記端末ケイパビリティ情報は前記ＰＤＳＣＨ送信モードをサポートしていることを示す、請求項１に記載の端末装置。
【請求項６】
基地局装置と通信する端末装置の送信方法であって、
前記端末装置が８アンテナポートの伝送路状況測定用参照信号を用いるＰＤＳＣＨ送信モードをサポートしているかを、端末ケイパビリティ情報を用いて前記基地局装置に通知する手段を有する、送信方法。
【請求項７】
基地局装置と通信する端末装置の送信方法であって、
前記端末装置が８アンテナポートの伝送路状況測定用参照信号を用いるＰＤＳＣＨ送信モードの機能をサポートしていることを示す「１」が設定された情報を、前記基地局装置に通知する手段を有する、送信方法。
【請求項８】
基地局装置と通信する端末装置の送信方法であって、
前記端末装置が８アンテナポートの伝送路状況測定用参照信号を用いるＰＤＳＣＨ送信モードの機能をサポートしていないことを示す「０」が設定された情報を、前記基地局装置に通知する手段を有する、送信方法。
【請求項９】
端末装置と通信する基地局装置であって、
前記端末装置が８アンテナポートの伝送路状況測定用参照信号を用いるＰＤＳＣＨ送信モードをサポートしているかを、端末ケイパビリティ情報を用いて前記端末装置から受信する、基地局装置。
【請求項１０】
端末装置と通信する基地局装置であって、
前記端末装置が８アンテナポートの伝送路状況測定用参照信号を用いるＰＤＳＣＨ送信モードの機能をサポートしていることを示す「１」が設定された情報、または、前記端末装置が８アンテナポートの伝送路状況測定用参照信号を用いるＰＤＳＣＨ送信モードの機能をサポートしていないことを示す「０」が設定された情報を、前記端末装置から受信する、基地局装置。
【請求項１１】
端末装置と通信する基地局装置の受信方法であって、
前記端末装置が８アンテナポートの伝送路状況測定用参照信号を用いるＰＤＳＣＨ送信モードをサポートしているかを、端末ケイパビリティ情報を用いて前記端末装置から受信する手段を有する、受信方法。
【請求項１２】
端末装置と通信する基地局装置の受信方法であって、
前記端末装置が８アンテナポートの伝送路状況測定用参照信号を用いるＰＤＳＣＨ送信モードの機能をサポートしていることを示す「１」が設定された情報、または、前記端末装置が８アンテナポートの伝送路状況測定用参照信号を用いるＰＤＳＣＨ送信モードの機能をサポートしていないことを示す「０」が設定された情報を、前記端末装置から受信する手段を有する、受信方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月4日(2014.4.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パターン化されたビームを投射する投射系と、
基板を支持する基板テーブルであって、浸漬液と接触する上表面を含む基板テーブルと、
前記投射系の最終要素と前記基板および前記上表面の少なくとも一つとの間の空間を浸漬液で充填する液体供給システムと、を含み、
前記浸漬液が、前記上表面の少なくとも一部との間で９０°より大きい接触角を有する、リソグラフィ装置。
【請求項２】
パターン化されたビームを投射する投射系と、
基板を支持する基板テーブルであって、浸漬液と接触する上表面を含む基板テーブルと、
前記投射系の最終要素と前記基板および前記上表面の少なくとも一つとの間の空間を浸漬液で充填する液体供給システムと、を含み、
前記上表面の少なくとも一部が、疎液性である、リソグラフィ装置。
【請求項３】
前記液体供給システムの上にあり実質的に前記基板に平行な、前記投射系の少なくとも一部は、疎液性である、請求項１または２に記載のリソグラフィ装置。
【請求項４】
疎液性の前記一部は、水に対して疎水性である、請求項２または３に記載のリソグラフィ装置。
【請求項５】
前記空間に前記浸漬液を閉じ込めるシール部材をさらに備え、
前記シール部材の底面は、親液性である、請求項１ないし４のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
【請求項６】
親液性の前記底面は、水に対して親水性である、請求項５に記載のリソグラフィ装置。
【請求項７】
前記最終要素の表面の少なくとも一部は、親液性である、請求項１ないし６のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
【請求項８】
親液性の前記一部は、水に対して親水性である、請求項７に記載のリソグラフィ装置。
【請求項９】
センサの表面は、前記上表面の少なくとも一部を形成する、請求項１ないし８のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
【請求項１０】
シャッタ部材の表面は、前記上表面の少なくとも一部を形成する、請求項１ないし９のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
【請求項１１】
前記上表面の前記一部は、被覆を有する、請求項１ないし１０のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
【請求項１２】
前記浸漬液は水である、請求項１ないし１１のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
【請求項１３】
パターン化されたビームを投射するステップと、
浸漬液と接触する上表面を含む基板テーブルの上に基板を支持するステップと、
前記投射系の最終要素と前記基板および前記上表面の少なくとも一つとの間の空間を浸漬液で充填するステップと、を含み、
前記浸漬液が、前記上表面の少なくとも一部との間で９０°より大きい接触角を有する、デバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
【手続補正書】
【提出日】平成26年1月30日(2014.1.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カラー画像を撮像する撮像部と、
モノクロ画像を撮像する複数の撮像部と、
前記モノクロ画像を撮像する複数の撮像部で得られるモノクロ画像に基づいて、被写体の三次元データを算出する三次元データ算出部と、
前記カラー画像を撮像する撮像部で得られるカラー画像と、前記三次元データとを対応付けたカラー三次元画像データを生成する合成部と
を具備する多眼方式の撮像装置。
【請求項２】
前記モノクロ画像を撮像する複数の撮像部は、前記カラー画像を撮像する撮像部よりも外側に配置されることを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記モノクロ画像を撮像する複数の撮像部に具備される撮像素子の画素数は、前記カラー画像を撮像する撮像部に具備される撮像素子の画素数よりも少ないことを特徴とする請求項１または２に記載の撮像装置。
【請求項４】
カラー画像を撮像する撮像部と、モノクロ画像を撮像する複数の撮像部とを有する多眼方式の撮像装置によって得られた画像からカラー三次元画像データを生成する画像処理方法であって、
前記モノクロ画像を撮像する複数の撮像部で得られるモノクロ画像に基づいて、被写体の三次元データを算出する三次元データ算出ステップと、
前記カラー画像を撮像する撮像部で得られるカラー画像と、前記三次元データ算出ステップで得られた三次元データとを対応付けて、カラー三次元画像データを生成する合成ステップと
を具備する画像処理方法。
【請求項５】
前記三次元データは、前記多眼方式の撮像装置のカメラパラメータに基づいて決定されることを特徴とする請求項４に記載の画像処理方法。
【請求項６】
前記カメラパラメータは、前記多眼方式の撮像装置の各撮像部の相対位置、センササイズ、センサ画素数、センサピッチ、画角のいずれかひとつ以上であることを特徴とする請求項５に記載の画像処理方法。
【請求項７】
請求項４乃至６のいずれか１項に記載の画像処理方法を、コンピュータに実行させるためのプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月13日(2014.5.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
制御部２４は、電力計算部２２により求められたPow(n)を受信した場合、シンボルカウンタ２５に対して、シンボル位置mのインクリメントを指示する。続いて、制御部２４は、入力されたPow(n)と、電力保持部２６が保持する電力Pow_largerとを比較してPow(n)の方が大きい場合、Pow_largerをPow(n)に置き換えるように電力保持部２６に指示し、また、シンボル位置保持部２７が保持するシンボル位置Pos_largerをシンボル位置mに置き換えるように指示する。制御部２４は、このようにして、より電力の大きくなるシンボル位置Pos_largerを更新していく。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
以上の処理により、1フレーム長の間の入力電力が最大となるようなピーク位置Pos_maxが求まる。ステップＳ２１の処理の後、ステップＳ１１に戻り、次のフレーム長の間の入力電力に対してピーク位置をサーチする処理が行われる。
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月27日(2013.11.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
従来から周知のように、近年の車両には、電子キーから無線により送信されたＩＤコードでキー照合を行う電子キーシステムが搭載され、ゆえに車体には種々のアンテナ装置が設置されている。この種のアンテナ装置には、例えばバーアンテナ等が使用されている（特許文献１等参照）。ところで、アンテナ装置が磁束を出すとき、近くに金属があると、金属に発生する渦電流でエネルギーが消費されてしまうので、電界強度が低下する懸念がある。よって、アンテナ装置を車体に搭載するときには、金属ボディから距離を空けて配置する必要がある。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の構成によれば、コイルの磁束が磁性体を通るようになるので、磁束がアンテナ設置場所側には行き難くなる。よって、アンテナ設置場所側で消費されてしまう損失磁界が少なく抑えられるので、電界強度の低下を抑制することが可能となる。また、アンテナ装置のコイル軸心方向の全長を、それぞれのコイル端から８〜３０ｍｍの長さにすれば、実験の結果、電界強度低下を充分抑えられることが分かった。このため、極力小さいサイズの磁性体によって電界強度の低下を抑えることが可能となるので、アンテナ装置の電界強度確保と、アンテナ装置のコイル軸心方向の体格の小型化とを両立することが可能となる。また、磁性体の低コスト化にも繋がる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明では、前記磁性体は、前記コイルと前記アンテナ装置設置場所の間において、前記アンテナ装置設置場所側に配置されていることを要旨とする。この構成によれば、コイルから出力された磁束は、コイルと磁性体との間を通る成分が多くなり、磁性体とアンテナ装置設置場所との間を通る成分が少なく抑えられる。よって、アンテナ装置設置場所に至ってしまう磁束が少なく抑えられるので、アンテナ装置の電界強度確保に効果が高くなる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明では、前記コイルは、前記アンテナ線の群を主巻線と補助巻線とに分けた分割巻線であり、この分割によってできたスペースに前記アンテナ線を更に巻き付けることにより、前記コイルのターン数が増やされていることを要旨とする。この構成によれば、コイルのアンテナ線を分割巻線とするとともに、巻線分割によりできるスペースに更にアンテナ線を巻き付けることにより、コイルターン数を増やした。このため、仮に磁性体でエネルギーが消費される状況となっても、電界強度を補完することが可能となるので、電界強度確保に効果が高くなる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
この原理を図７に示すと、図７（ａ）に示すように、磁性体シート１８がアンテナユニット１５側にある場合、金属１４と磁性体シート１８との間に空間があるため、アンテナユニット１５の磁界（磁束）が金属１４側に回り込む面積が大きくなる現状がある。よって、金属１４に発生する渦電流が多くなり、磁界が打ち消されてしまう。このため、磁界のエネルギーがロスし、結果、電界強度の低下が大きくなる。一方、図７（ｂ）に示すように、磁性体シート１８が金属１４側にある場合、金属１４と磁性体シート１８との間に空間（隙間）がないため、ここに磁界（磁束）が回り込まず、金属１４に衝突する磁界（磁束）は磁性体シート１８外の場所のみとなる。よって、金属１４に発生する渦電流が少なく済み、打ち消される磁界量も少なく抑えられる。このため、磁界のエネルギーロスが少なく、結果、電界強度の低下を抑制できると考えられる。よって、本例の磁性体シート１８は、金属１４に密着されることにより、磁性体シート１８から金属１４までの距離Ｒ２が０に設定されている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
（４）コイル１７を分割式とした場合、これによってできるスペースに更にアンテナ線を巻き付けて、コイルターン数Ｎを増加させることができる。よって、仮に磁性体シート１８自体でエネルギー損失が発生したとしても、このターン数増加にて補完することができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
（ロ）請求項１〜４、前記技術的思想（イ）のいずれかにおいて、前記長さは、８〜２５mm、８〜２０mm、８〜１５mm、１０〜１５mm離れた長さに設定されている。この構成によれば、離れ長さを適度な距離に設定することで、所望の電界強度低下抑制効果を得ることができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】
2012244244.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月28日(2014.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
信号の入力動作および出力動作のうちの少なくとも一方の動作を行う複数の画素と、
前記画素に接続された１または複数の信号線と、
前記信号線を含む複数の配線と、
前記複数の配線のうちの一の信号線と他の一の配線との間に配設され、第１トランジスタおよび容量素子を有する１または複数の静電気保護回路と、
前記静電気保護回路に接続された第１制御線と
を備え、
前記静電気保護回路では、
前記第１トランジスタのゲートが、前記第１制御線と直接もしくは間接的に接続され、
前記第１トランジスタにおけるソースおよびドレインのうちの一方が、前記一の信号線および前記容量素子の一端に接続されると共に、他方が前記他の一の配線に接続され、
前記容量素子の他端が、前記第１トランジスタのゲートに接続されている
信号伝達装置。
【請求項２】
前記静電気保護回路は、抵抗素子を更に有し、
前記抵抗素子の一端は、前記第１制御線に接続され、
前記抵抗素子の他端は、前記第１トランジスタのゲートおよび前記容量素子の他端に接続されている
請求項１に記載の信号伝達装置。
【請求項３】
前記抵抗素子が、第２トランジスタにより構成されている
請求項２に記載の信号伝達装置。
【請求項４】
前記抵抗素子の一端および他端が、前記第２トランジスタのソースまたはドレインであり、
前記第２トランジスタのゲートには、第２制御線が接続されている
請求項３に記載の信号伝達装置。
【請求項５】
装置電源がオン状態のときに前記第２トランジスタがオン状態となるように、前記第２制御線の電位が設定されている
請求項４に記載の信号伝達装置。
【請求項６】
装置電源がオン状態のときに前記第１トランジスタがオフ状態となるように、前記第１制御線の電位が設定されている
請求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載の信号伝達装置。
【請求項７】
前記他の一の配線が、前記複数の配線のうちの、他の一の信号線、一の電源線または一の接地線である
請求項１ないし請求項６のいずれか１項に記載の信号伝達装置。
【請求項８】
前記複数の静電気保護回路が、
前記一の信号線と前記他の一の信号線との間に配設された、１または複数の第１保護回路と、
前記一の信号線と、前記一の電源線または前記一の接地線との間に配設された、１または複数の第２保護回路とからなる
請求項７に記載の信号伝達装置。
【請求項９】
前記第１保護回路および前記第２保護回路が、隣接する複数の配線間で連続的に配設されている
請求項８に記載の信号伝達装置。
【請求項１０】
前記複数の画素は、信号の入力動作としての撮像動作を行うものであり、撮像装置として構成されている
請求項１ないし請求項９のいずれか１項に記載の信号伝達装置。
【請求項１１】
前記複数の画素は、前記撮像動作として、入射した放射線に応じて電気信号を発生するものであり、放射線撮像装置として構成されている
請求項１０に記載の信号伝達装置。
【請求項１２】
前記放射線がＸ線である
請求項１１に記載の信号伝達装置。
【請求項１３】
前記複数の画素は、信号の出力動作としての表示動作を行うものであり、表示装置として構成されている
請求項１ないし請求項９のいずれか１項に記載の信号伝達装置。
【請求項１４】
撮像装置と、この撮像装置により得られた撮像信号に基づく画像表示を行う表示装置とを備え、
前記撮像装置は、
撮像動作を行う複数の画素と、
前記画素に接続された１または複数の信号線と、
前記信号線を含む複数の配線と、
前記複数の配線のうちの一の信号線と他の一の配線との間に配設され、第１トランジスタおよび容量素子を有する１または複数の静電気保護回路と、
前記静電気保護回路に接続された第１制御線と
を備え、
前記静電気保護回路では、
前記第１トランジスタのゲートが、前記第１制御線と直接もしくは間接的に接続され、
前記第１トランジスタにおけるソースおよびドレインのうちの一方が、前記一の信号線および前記容量素子の一端に接続されると共に、他方が前記他の一の配線に接続され、
前記容量素子の他端が、前記第１トランジスタのゲートに接続されている
撮像表示システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
（静電気保護部１８）
静電気保護部１８は、ＥＳＤ現象に起因した外部からの静電気入力に対して、内部の素子（具体的には、画素２０内のトランジスタ２２や光電変換素子２１等）を保護する機能（ＥＳＤ保護機能）を有している。具体的には、信号線Ｌsig等を介して入力する静電気に対して内部の素子を保護する役割を担っている。なお、ここでは、静電気保護部１８が撮像領域（撮像部１１）内に配設されている場合の例を示しているが、これには限られない。
【手続補正書】
【提出日】平成26年5月7日(2014.5.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
膜面に対して垂直な磁化を有し、情報を磁性体の磁化状態により保持する記憶層と、
上記記憶層に記憶された情報の基準となる、膜面に対して垂直な磁化を有する磁化固定層と、
上記記憶層と上記磁化固定層の間に設けられる非磁性体による中間層と、
上記記憶層に隣接し、上記中間層と反対側に設けられる、２層以上の酸化物で形成されたキャップ層と、
を有し、
上記記憶層、上記中間層、上記磁化固定層を有する層構造の積層方向に流れる電流に伴って発生するスピントルク磁化反転を利用して上記記憶層の磁化を反転させることにより情報の記憶を行う記憶素子。
【請求項２】
上記キャップ層は、酸化ケイ素、酸化マグネシウム、酸化タンタル、酸化アルミニウム、酸化コバルト、フェライト、酸化チタン、酸化クロム、チタン酸ストロンチウム、酸化アルミニウムランタン、酸化亜鉛による層、もしくはこれらの酸化物の混合物による層のいずれかを含む請求項１に記載の記憶素子。
【請求項３】
２層以上で形成される上記キャップ層において、上記記憶層に隣接する層は、酸化マグネシウムの層である請求項１又は請求項２に記載の記憶素子。
【請求項４】
上記記憶層を構成する強磁性層材料がＣｏ−Ｆｅ−Ｂである請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の記憶素子。
【請求項５】
情報を磁性体の磁化状態により保持する記憶素子と、
互いに交差する２種類の配線とを備え、
上記記憶素子は、
膜面に対して垂直な磁化を有し、情報を磁性体の磁化状態により保持する記憶層と、上記記憶層に記憶された情報の基準となる、膜面に対して垂直な磁化を有する磁化固定層と、上記記憶層と上記磁化固定層の間に設けられる非磁性体による中間層と、上記記憶層に隣接し、上記中間層と反対側に設けられる、２層以上の酸化物で形成されたキャップ層とを有し、上記記憶層、上記中間層、上記磁化固定層を有する層構造の積層方向に流れる電流に伴って発生するスピントルク磁化反転を利用して上記記憶層の磁化を反転させることにより情報の記憶を行う構成とされ、
上記２種類の配線の間に上記記憶素子が配置され、
上記２種類の配線を通じて、上記記憶素子に上記積層方向の電流が流れ、これに伴ってスピントルク磁化反転が起こる記憶装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
なかでもＭＲＡＭは、磁性体の磁化方向によりデータ記憶を行うために高速かつほぼ無限（１０15回以上）の書換えが可能であり、すでに産業オートメーションや航空機などの分野で使用されている。
ＭＲＡＭはその高速動作と信頼性から、今後コードストレージやワーキングメモリへの展開が期待されているが、現実には低消費電力化、大容量化に課題を有している。
これはＭＲＡＭの記録原理、すなわち配線から発生する電流磁界により磁化を反転させるという方式に起因する本質的な課題である。この問題を解決するための一つの方法として、電流磁界によらない記録（すなわち磁化反転）方式が検討されており、なかでもスピントルク磁化反転に関する研究は活発である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
尚、各試料の酸化物キャップ層１８の上部には、キャップ保護層１９（Ｔａ，Ｒｕ，Ｗ等）を積層させている