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【手続補正書】
【提出日】平成26年7月1日(2014.7.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
天然に存在する鉱物のうち加熱に弱いあるいは水・油によって膨潤してしまう脆弱試料を用いて、上下面が研磨された薄片試料を作製する方法であって、
前記脆弱試料を樹脂により包理固化し、直方体に成形切断した後、該試料の研磨される面と直行する４面、又はさらに研磨される一方の面と反対側の面を加えた５面に、岩石又は鉱物を貼り付けて研磨を行うことを特徴とする薄片試料の作製方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
すなわち、上記課題を解決するための本発明は、以下のとおりである。
［１］天然に存在する鉱物のうち加熱に弱いあるいは水・油によって膨潤してしまう脆弱試料を用いて、上下面が研磨された薄片試料を作製する方法であって、脆弱試料を樹脂により包理固化し、直方体に整形切断した後、該試料の研磨される面と直行する４面、又はさらに研磨される一方の面と反対側の面を加えた５面に、岩石又は鉱物を貼り付けて研磨を行うことを特徴とする薄片試料の作製方法。
［２］前記岩石又は鉱物の干渉色を、偏光顕微鏡を用いて観察することにより、薄片試料の厚さ調製を行うことを特徴とする［１］に記載の薄片試料の作製方法。
［３］前記樹脂として、常温あるいは低温で硬化が可能でかつ硬化時間が短い樹脂を用いることを特徴とする［１］又は［２］に記載の薄片試料の作製方法。
［４］アルミナ粉末を含浸させたシルククロスを用いた研磨を行うことを特徴とする［１］〜［３］のいずれかに記載の薄片試料の作製方法。
［５］［１］〜［４］のいずれかに記載の方法で作製された薄片試料を用いて、走査型電子顕微鏡、エネルギー分散X線分光法、電子線マイクロアナライザー、又は反射顕微鏡による観察・分析を行うことを特徴とする脆弱試料の観察・分析方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
＜接着面の研磨＞
試料をスライドガラスへ貼り付けるための基準となる面を研磨するが、試料に水分や油分が浸透するとイモゴライト等が膨潤することから、ここでも乾式法の研磨とする。
１３）可変式自動研磨機の盤上に粘着シートを貼り、精密研磨専用の円形耐水研磨紙を粘着シートに貼る。耐水研磨紙の番砥については、320番→500番→800番→1200番→2400番→4000番の順に使用するが、使用前に番砥粒子の大きさを均等にするため、同番砥またはそれよりも粒子の細かい番砥の研磨紙によるすり合わせを行い、その後洗浄し乾燥させる。
１４）前記の研磨する試料を耐水研磨紙の中央に置き、円盤を低速回転(40〜50回転／分程度)させ、研磨紙の中心から外へまたは外から中心へ、試料が一度通過した研磨紙の上を繰り返し通過することが無いように研磨を行う。細かい番砥の研磨紙を用いた際には、試料の研磨面に残っている磨き屑をエアーガンにて吹き飛ばす。また研磨面に試料の脱落が見られる場合には、シアノアクリレート系接着剤を滴下して補強を行う。
研磨の工程においては、研磨面に前の段階の研磨材の磨き屑が残らないようにブラッシングとエアーガンによるクリーニング作業を施すこと、試料の縁だけが減りすぎて起こる“縁だれ”が生じないようにすること、さらには硬さの異なる鉱物や樹脂の境界に段差が生じないように平滑に研磨することに注意する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
＜試料のスライドグラスへの接着と2次切断＞
１５）エポキシ系常温硬化型の２液混合接着剤（セメダインスーパー60分硬化型）を用いて、前記の接着面が研磨された試料をスライドガラスに貼り付ける。スライドガラスについては、55mm×78mmを用いる。
１６）エポキシ系常温硬化型の２液混合接着剤の厚さを均一にし、試料がずれて接着されないようにジグで固定し、常温の状態で一昼夜放置して接着剤を硬化させる。
１７）接着硬化後の試料を、専用のチャックホルダーに固定し、１０）で使用したバンドソーを使用し慎重に時間をかけて乾式切断する。スライドガラスに接着された切断後の試料の厚さは、約0.8mmとする。
１８）切断面の試料の脱落を防ぐために、シアノアクリレート系接着剤にて試料表面を固結させる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
＜仕上げ研磨＞
１９）１３）・１４）での乾式法による接着面の研磨作業工程と同様に、40〜50回転にてスライドガラスを指先で押さえながら試料を擦り減らす。耐水研磨紙の番砥は、320番→500番→800番→1200番→2400番→4000番の順で、試料の厚さが約35ミクロンになるまで研磨する。その後にアルミナ粒子が蒸着されたラッピングフィルム6000番（1,5μm）で研磨する。
各研磨工程での試料の厚さの目安は、320番で100μm、500番で80μm、800番で60μm、1200番で40μm、2400番と4000番で35μm、ラッピングフィルム6000番で31μmとする。必要であれば320番で研磨を終え100μm厚となった時点でシアノアクリレート系接着剤による試料面の固結を図る。
２０）最終研磨として、アルミナ粉末（φ1μm）にエチルアルコールを加え、ペースト状にした後、可変型自動研磨装置の回転盤に取り付けたシルククロス円盤上に、回転盤を回転させながらアルミナのペーストを平らに塗布する。図３は、アルミナ粉末を含浸させたシルククロスの写真である。回転台の回転数をあげ、アルコールを蒸発させる。その後、スライドガラスを保持具に取り付け、50回転にて30μmになるまで研磨する。
図４は、脆弱試料の、高度な平滑面を有する薄片試料の写真である。
【手続補正書】
【提出日】平成26年8月12日(2014.8.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
自装置と該自装置とは別の他装置での共有が可能な部材を交換部材として有する画像形成装置であって、
前記交換部材を認証するための第１認証情報を複数格納する第１認証情報格納部と、
複数の前記第１認証情報の中から何れかの前記第１認証情報を選択するための認証データを格納する認証データ格納部と、
前記交換部材と通信を行う第１通信部と、
前記第１通信部を制御する制御部とを備え、
前記交換部材は、
前記第１認証情報に対応する第２認証情報を複数格納する第２認証情報格納部と、
前記第１通信部と通信を行う第２通信部とを備え、
前記認証データは自装置と該自装置に対して出荷がずれた他装置とでは異なるものであって、
前記制御部は前記認証データに基づき選択した前記第１認証情報を用いて前記交換部材の認証を試み、選択した前記第１認証情報に対応した前記第２認証情報が前記第２認証情報格納部に格納されていたときに、前記第１通信部と前記第２通信部との間の通信を確立すること
を特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記認証データは複数個存在し、
前記制御部は複数の前記認証データの中から一の前記認証データを選択し、当該認証データに基づき選択した前記第１認証情報を用いて前記交換部材の認証を試み、選択した前記第１認証情報に対応した前記第２認証情報が前記第２認証情報格納部に格納されていたときに、前記第１通信部と前記第２通信部との間の通信を確立すること
を特徴とする請求項１記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記認証データは複数個存在し、
前記制御部は複数の前記認証データの中から少なくとも二以上の前記認証データを選択し、当該認証データに基づき選択した前記第１認証情報を用いて前記交換部材の認証を試み、選択した前記第１認証情報に対応した前記第２認証情報が前記第２認証情報格納部に格納されていたときに、前記第１通信部と前記第２通信部との間の通信を確立すること
を特徴とする請求項１記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記認証データは複数個存在し、
前記制御部は複数の前記認証データの中から一の前記認証データをランダムに選択し、当該認証データに基づき選択した前記第１認証情報を用いて前記交換部材の認証を試み、選択した前記第１認証情報に対応した前記第２認証情報が前記第２認証情報格納部に格納されていたときに、前記第１通信部と前記第２通信部との間の通信を確立すること
を特徴とする請求項１記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記認証データは複数個存在し、
前記制御部は複数の前記認証データの中から少なくとも二以上の前記認証データをランダム選択し、当該認証データに基づき選択した前記第１認証情報を用いて前記交換部材の認証を試み、選択した前記第１認証情報に対応した前記第２認証情報が前記第２認証情報格納部に格納されていたときに、前記第１通信部と前記第２通信部との間の通信を確立すること
を特徴とする請求項１記載の画像形成装置。
【請求項６】
前記自装置は前記認証データ格納部に第１認証データを格納し、
前記他装置は前記認証データ格納部に前記第１認証データとは異なる第２認証データを格納すること
を特徴とする請求項１記載の画像形成装置。
【請求項７】
前記交換部材はトナーカートリッジであって、
前記トナーカートリッジから供給されるトナーを用いて画像形成を行う画像形成部を備えること
を特徴とする請求項１乃至請求項６の何れか１項記載の画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明に係る画像形成装置は、自装置と該自装置とは別の他装置での共有が可能な部材を交換部材として有する画像形成装置であって、前記交換部材を認証するための第１認証情報を複数格納する第１認証情報格納部と、複数の前記第１認証情報の中から何れかの前記第１認証情報を選択するための認証データを格納する認証データ格納部と、前記交換部材と通信を行う第１通信部と、前記第１通信部を制御する制御部とを備え、前記交換部材は、前記第１認証情報に対応する第２認証情報を複数格納する第２認証情報格納部と、前記第１通信部と通信を行う第２通信部とを備え、前記認証データは自装置と該自装置に対して出荷がずれた他装置とでは異なるものであって、前記制御部は前記認証データに基づき選択した前記第１認証情報を用いて前記交換部材の認証を試み、選択した前記第１認証情報に対応した前記第２認証情報が前記第２認証情報格納部に格納されていたときに、前記第１通信部と前記第２通信部との間の通信を確立することを特徴としている。
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月21日(2013.11.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
受光面およびその裏面を有する光電変換部と、前記裏面の上に並べて設けられた第１電解用電極および第２電解用電極と、第１または第２電解用電極の周縁部上に設けられたシール部とを備え、
第１および第２電解用電極が電解液と接触するとき、
第１および第２電解用電極は、前記光電変換部が受光することより生じる起電力を利用して電解液を電気分解しそれぞれ第１気体および第２気体が発生するように設けられ、
前記シール部は、電解液に対する耐食性を有し、かつ、第１または第２電解用電極と前記光電変換部との間に電解液が流入しないように設けられたことを特徴とする気体製造装置。
【請求項２】
前記光電変換部は、受光することによりその受光面と裏面との間に起電力が生じ、
第１電解用電極は、前記光電変換部の裏面と電気的に接続するように設けられ、
第２電解用電極は、前記光電変換部の受光面と電気的に接続するように設けられた請求項１に記載の装置。
【請求項３】
第２電解用電極と前記光電変換部の裏面との間に設けられた絶縁部をさらに備えた請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記シール部は、第２電解用電極と前記絶縁部との間の界面に電解液が流入しないように設けられた請求項３に記載の装置。
【請求項５】
前記光電変換部の受光面に接触する第１電極をさらに備える請求項３または４に記載の装置。
【請求項６】
第１電極と第２電解用電極とを電気的に接続する第１導電部をさらに備える請求項５に記載の装置。
【請求項７】
前記絶縁部は、前記光電変換部の側面を覆うように設けられ、
第１導電部は、前記絶縁部の一部であり前記光電変換部の側面を覆う部分の上に設けられた請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記絶縁部は、前記光電変換部の側面を覆うように設けられ、
第２電解用電極は、前記絶縁部の一部であり前記光電変換部の側面を覆う部分の上に設けられ、かつ、第１電極と接触する請求項５に記載の装置。
【請求項９】
前記絶縁部と第２電解用電極との間に第２導電部をさらに備え、
前記シール部は、第２電解用電極と第２導電部との間の界面に電解液が流入しないように設けられた請求項３に記載の装置。
【請求項１０】
前記光電変換部の裏面と第１電解用電極との間、および前記光電変換部の裏面と前記絶縁部との間に設けられた第２電極をさらに備え、
前記シール部は、第１電解用電極と第２電極との間の界面に電解液が流入しないように設けられた請求項３〜９のいずれか１つに記載の装置。
【請求項１１】
前記光電変換部は、受光することにより前記光電変換部の裏面の第１および第２区域間に電位差が生じ、
第１区域は、第１電解用電極と電気的に接続するように設けられ、第２区域は、第２電解用電極と電気的に接続するように設けられた請求項１に記載の装置。
【請求項１２】
第１および第２電解用電極と前記光電変換部の裏面に設けられ、かつ、第１区域上および第２区域上に開口を有する絶縁部をさらに備える請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
透光性基板をさらに備え、
前記光電変換部は、前記透光性基板の上に設けられた請求項１〜１２のいずれか１つに記載の装置。
【請求項１４】
前記光電変換部は、直列接続した複数の光電変換層を含み、
前記複数の光電変換層は、受光することにより生じる起電力を第１電解用電極および第２電解用電極に供給するように設けられた請求項１〜１３のいずれか１つに記載の装置。
【請求項１５】
請求項１〜１４のいずれか１つに記載の気体製造装置を前記光電変換部の受光面が水平面に対し傾斜するように設置し、
前記気体製造装置の下部から前記気体製造装置に電解液を導入し、太陽光を前記光電変換部の受光面に入射させることにより第１電解用電極および第２電解用電極からそれぞれ第１気体および第２気体を発生させ、前記気体製造装置の上部から第１気体および第２気体を排出する気体製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月4日(2014.11.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高温バナジウム攻撃に対して耐性のバナジウム耐性皮膜系であって、
（ａ）超合金基材、
（ｂ）燃料の燃焼に起因する腐食性副生物による攻撃に対して耐性のボンドコートであって、前記超合金基材上のＭＣｒＡｌＹからなる第１の層（式中、ＭはＮｉ、Ｆｅ、Ｃｏ及びこれらの組合せからなる群から選択される元素である。）と、第１の層上の貴金属を含む第２の層とを含むボンドコート、
（ｃ）ボンドコート上のセラミック皮膜であって、Ｙ3+よりも小さい原子半径を有する希土類元素の陽イオンで安定化された酸化ジルコニウムを含んでいて、該陽イオンが前記元素の酸化物を形成し、該酸化物がＹ3+よりも低いＶ2Ｏ5との生成エンタルピーを有している、セラミック皮膜、及び
（ｄ）前記セラミック皮膜上の犠牲セラミック酸化物層であって、イットリアで安定化された酸化ジルコニウムと、Ｙ3+よりも大きい原子半径を有する希土類元素の陽イオンで安定化された酸化ジルコニウムであって、該陽イオンが前記元素の酸化物を形成し、該酸化物がイットリアで安定化された酸化ジルコニウムよりもＶ2Ｏ5による攻撃を受け易い、希土類元素の陽イオンで安定化された酸化ジルコニウムとを含む犠牲セラミック酸化物層
を含む、バナジウム耐性皮膜系。
【請求項２】
Ｙ3+よりも小さい原子半径を有する希土類元素がＹｂ3+、Ｌｕ3+、Ｓｃ3+及びＣｅ4+からなる群から選択される少なくとも１種の陽イオンを含む、請求項１記載のバナジウム耐性皮膜系。
【請求項３】
前記セラミック皮膜の酸化ジルコニウムが、５〜１０重量％の量の、Ｙ3+よりも小さい原子半径を有する希土類元素で安定化されている、請求項１又は請求項２記載のバナジウム耐性皮膜系。
【請求項４】
セラミック皮膜の厚さが０．００７〜０．０４０インチ（０．１８〜１．０ｍｍ）である、請求項１記載のバナジウム耐性皮膜系。
【請求項５】
犠牲セラミック酸化物層が、２〜２０重量％のイットリアで安定化された酸化ジルコニウムと、４〜１２重量％の量の、Ｙ3+よりも大きい原子半径を有する希土類元素の陽イオンで安定化された酸化ジルコニウムを含んでいる、請求項１乃至請求項４のいずれか１項記載のバナジウム耐性皮膜系。
【請求項６】
犠牲セラミック酸化物層におけるＹ3+よりも大きい原子半径を有する希土類元素の陽イオンが、Ｌａ3+、Ｃｅ3+、Ｐｒ3+、Ｎｄ3+、Ｐｍ3+、Ｓｍ3+、Ｅｕ3+、Ｇｄ3+、Ｔｂ3+、Ｄｙ3+及びＨｏ3+からなる群から選択される、請求項１乃至請求項５のいずれか１項記載のバナジウム耐性皮膜系。
【請求項７】
犠牲セラミック酸化物層におけるイットリアで安定化された酸化ジルコニウムが外表面に開いた亀裂及び気孔を含んでおり、該亀裂及び気孔に、Ｙ3+よりも大きい原子半径を有する希土類元素の陽イオンが侵入している、請求項１乃至請求項６のいずれか１項記載のバナジウム耐性皮膜系。
【請求項８】
外表面から０．０００１〜０．０００５インチ（２．５〜１３μｍ）の深さまでＹ3+よりも大きい原子半径を有する希土類元素の陽イオンが前記亀裂及び気孔に侵入している、請求項４記載のバナジウム耐性皮膜。
【請求項９】
犠牲セラミック酸化物層が、イットリアで安定化された酸化ジルコニウムと、Ｙ3+よりも大きい原子半径を有する希土類元素の陽イオンで安定化された酸化ジルコニウムとを共堆積したものからなる、請求項１乃至請求項８のいずれか１項記載のバナジウム耐性皮膜系。
【請求項１０】
前記共堆積によって形成された犠牲セラミック酸化物層が、イットリアで安定化された酸化ジルコニウムと、Ｙ3+よりも大きい原子半径を有する希土類元素の陽イオンで安定化された酸化ジルコニウムとの均一組成を有する、請求項９記載のバナジウム耐性皮膜系。
【請求項１１】
前記共堆積によって形成された犠牲セラミック酸化物層が、イットリアで安定化された酸化ジルコニウムと、Ｙ3+よりも大きい原子半径を有する希土類元素の陽イオンで安定化された酸化ジルコニウムとの傾斜組成を有する、請求項９記載のバナジウム耐性皮膜系。
【請求項１２】
前記ボンドコートの第２層の貴金属が、Ｐｔ、Ｉｒ、Ｉｒ−Ｈｆ、Ｉｒ−Ｐｔ及びＰｔ−Ｒｈからなる群から選択される、請求項１乃至請求項１１のいずれか１項記載のバナジウム耐性皮膜系。
【請求項１３】
前記ボンドコートの合計厚さが０．００２〜０．０１５インチ（０．０５〜０．３８ｍｍ）である、請求項１乃至請求項１２のいずれか１項記載のバナジウム耐性皮膜系。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月12日(2014.11.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
タービン構成要素（５４）を製造する方法であって、
前記タービン構成要素（５４）の外部表面（１０２）内に１つ又はそれ以上のチャンネル（１１０）を形成する段階（５６）と、
前記１つ又はそれ以上のチャンネル（１１０）と前記タービン構成要素（５４）の内部領域（１１８）との間に１つ又はそれ以上の孔（１１６）を形成する段階（５８）と、
１つのフィラー材料を前記１つ又はそれ以上のチャンネル（１１０）内に機械的に圧入し、前記１つ又はそれ以上のチャンネル（１１０）に形状を一致させ実質的に充填するようにする段階（６０）と
を含み、
前記１つのフィラー材料は、前記チャンネル（１１０）の各々の断面に形状が一致する金属又は金属合金ワイヤーを含み、
前記方法は、さらに、
前記金属又は金属合金ワイヤーで充填された前記１つ又はそれ以上のチャンネル（１１０）上で前記タービン構成要素（５４）の外部表面（１０２）に１つ又はそれ以上のコーティング（１３０）を施工する段階（６４）と、
前記コーティング（１３０）を通して１つ又はそれ以上の孔（１４０）を形成する段階（６６）と、
前記チャンネル（１１０）から前記金属又は金属合金ワイヤーを除去する段階（６８）と、
を含む方法。
【請求項２】
前記１つ又はそれ以上のコーティング（１３０）がニッケル又はコバルト合金を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記チャンネル（１１０）から前記金属又は金属合金を除去した後に、前記タービン構成要素（５４）を熱処理する段階（７２）を含む、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記少なくとも１つのコーティング（１３０）を施工する段階（６４）が、高速酸素燃料溶射法、イオンプラズマ堆積、低圧プラズマ溶射、高速空気燃料溶射法、又はコールドスプレーのうちの１つ又はそれ以上を用いて、前記タービン構成要素（５４）の外部表面（１０２）上に前記コーティング（１３０）を堆積する段階を含む、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記１つ又はそれ以上のチャンネル（１１０）が、研磨液体ジェット、フライス放電加工、レーザ機械加工、又はプランジ電解加工のうちの１つ又はそれ以上を用いて形成される、請求項１乃至４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記金属又は金属合金ワイヤーが、銅、モリブデン、ニッケル、タングステン、アルミニウム、モネル、又はニクロムのうちの１つ又はそれ以上を含む、請求項１乃至５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
前記金属又は金属合金ワイヤーを除去する段階（６８）が、前記金属又は金属合金ワイヤー又は粉体（１２０）を浸出、溶解、エッチング、酸化、又は溶融する段階を含む、請求項１乃至６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
前記コーティング（１３０）上にトップコーティング（１３４）を施工し、前記トップコーティング（１３４）並びに前記コーティング（１３０）を通して前記１つ又はそれ以上の孔（１４０）を形成する段階（６６）を含む、請求項１乃至７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
前記１つ又はそれ以上のチャンネル（１１０）を形成する段階（５６）、前記１つ又はそれ以上の孔（１１６）を形成する段階（５８）、前記コーティング（１３０）を通して前記１つ又はそれ以上の孔（１４０）を形成する段階（６６）、又は前記１つ又はそれ以上のチャンネル（１１０）を充填する段階（６０）のうちの少なくとも１つが、ロボットインタフェースを制御するプログラムプロセスに従って実施される、請求項１乃至８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
前記チャンネル（１１０）から前記金属又は金属合金ワイヤーを除去する段階（６８）の後に、前記チャンネルの表面又は前記タービン構成要素（５４）の外部表面の一方又は両方に耐酸化性コーティングを施工する段階（７０）を含む、請求項１乃至９のいずれか１項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月6日(2014.11.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子電力量計（１０２）であって、
前記電子電力量計（１０２）に動作可能に結合される変流器（１０４）と、
前記変流器（１０４）の第１の側部（１１１）の第１のシールド（１１０）と、
前記変流器（１０４）の第２の側部（１２１）の第２のシールド（１２０）と
を備え、
前記第２の側部（１２１）が前記第１の側部（１１１）に実質的に平行であり、
前記第１のシールド（１１０）および前記第２のシールド（１２０）が、実質的にディスク形の本体と、前記本体の中心を通る開口（２１４）と、前記本体にある間隙（２１６）と、実質的に透磁性かつ伝導性の金属とを含み、
前記間隙（２１６）が、前記本体の縁部（２１２）から前記開口（２１４）まで延び、
前記開口（２１４）が、前記変流器（１４）を通るポテンシャルリンク（１０６）を収容する、
電子電力量計（１０２）。
【請求項２】
電子電力量計（１０２）であって、
前記電子電力量計（１０２）に動作可能に結合される変流器（１０４）と、
前記変流器（１０４）の第１の側部（１１１）の第１のシールド（１１０）と、
前記変流器（１０４）の第２の側部（１２１）の第２のシールド（１２０）と
を備え、
前記第２の側部（１２１）が前記第１の側部（１１１）に実質的に平行であり、
前記第１のシールド（１１０）および前記第２のシールド（１２０）のうちの少なくとも一方が、実質的に、外部磁石（１０８）から約５０００ガウスまで遮蔽し、
前記第１のシールド（１１０）および前記第２のシールド（１２０）が、実質的にディスク形の本体と、前記本体の中心を通る開口（２１４）と、前記本体にある間隙（２１６）と、実質的に透磁性かつ伝導性の金属とを含み、
前記間隙（２１６）が、前記本体の縁部（２１２）から前記開口（２１４）まで延び、
前記開口（２１４）が、前記変流器（１４）を通るポテンシャルリンク（１０６）を収容する、
電子電力量計（１０２）。
【請求項３】
前記実質的に透磁性かつ伝導性の金属が、低炭素鋼を含む、請求項１または２に記載の電子電力量計（１０２）。
【請求項４】
前記低炭素鋼の炭素含有量が、約０．２６％未満である、請求項３記載の電子電力量計（１０２）。
【請求項５】
前記変流器（１０４）の形状が、実質的にトロイド状である、請求項１乃至４のいずれかに記載の電子電力量計（１０２）。
【請求項６】
前記第１のシールド（１１０）および前記第２のシールド（１２０）のうちの一方が、前記第１のシールド（１１０）および前記第２のシールド（１２０）のうちの他方よりも厚い、請求項１乃至５のいずれかに記載の電子電力量計（１０２）。
【手続補正書】
【提出日】平成26年9月17日(2014.9.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
図４は、試薬カセット引出し１１０４と、試薬格納器１１０６の開かれた前側ドア１１２５と、試薬挿入物１１３０を備えて成る試薬カセット１１２２とを示している。試薬カセット１１２２はＹ操作器１１０５上に位置決めされる。Ｙ操作器１１０５は、試薬カセット１１０２を試薬格納器１１０６内に載置するところである。試薬格納器１１０６の内部は複数の回転盤１１１３を備えて成り、その上に、試薬カセット１１２２が載置されて位置決めされ得る。各回転盤１１１３は、内部にカセット１１０２が位置決めされる中心合わせブロック１１１４を備えて成る。中心合わせブロック１１１４の好適な個数は、４個のブロック１１１４である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８８】
図５は、分析器のモジュールであって、一実施形態においては処理モジュール４０２（図１０）であるモジュールの下側部分１１４９を示している。下側部分１１４９の頂部は、処理プレート１１５０である。上記下側部分は更に、フレーム１１５７を備えて成る。積層器１１５１も示される。処理プレート１１５０は、（例えば図４に示された）試薬カセット１１２２を分注デバイスに対して呈示するステーション１１５６と、試薬カセット１１２２を分注デバイスに対して呈示する該ステーション１１５６の内側における昇降器プレート１１５２とを備えて成る。試薬カセット１１２２は、情報を記憶するタグ１１６０を備えて成る。昇降器プレート１１５２は、Ｚ方向に移動され得る。一時的格納器１１５３も示される。図６は、一時的格納器１１５３と、試薬カセットを分注デバイスへと呈示するステーション１１５６と、上記格納物を取出すための緊急ドア１１５４と、空気吐出口１１４７とを示している。図７は、緊急ドア１１５４が取り外されると共に、カセット１１０２を一時的格納器１１５３の内側に保持する保持ユニット１１５５及びカセット１１２２が視認され得ることを除き、図６と同一の特徴を示している。図８及び図９には、上記一時的格納器の内側が示される。図８は、フレーム１１５８と、保持ユニット１１５５と、該保持ユニット内に保持された試薬カセット１１２２と、試薬カセット１１２２を呈示するステーション１１５６と、昇降器プレート１１５２とを示している。特に、図９は昇降器１１５９も示している。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
分析対象物を検出又は定量する自動分析器であって、
前記分析対象物を単離及び／又は分析するために必要な試薬を収容する少なくとも１つの試薬カセットの一時的格納器のユニットであって、冷却ユニットを有する該一時的格納器ユニットと、
分注デバイスに対して少なくとも１つの試薬カセットを呈示するステーションを有して液体を移送する移送ユニットであって、分注デバイスに対して少なくとも１つの試薬カセットを呈示する前記ステーションが前記一時的格納ユニットの外部に配置される移送ユニットと、
前記分析対象物を分析して検出可能信号を獲得する分析ユニットと、
密閉式の試薬格納器であって、
ａ．該試薬格納器の能動的冷却のための冷却ユニットと、
ｂ．内部格納／取出しシステムと、
ｃ．試薬の投入及び取出しのための蓋体と、
ｄ．試薬カセットの内容物を識別するための識別ユニットと、
を有する密閉式の試薬格納器と、
を具備する自動分析器。
【請求項２】
前記一時的格納器が、少なくとも１つの試薬カセットを呈示する前記ステーションに試薬カセットを呈示する昇降器プレートを有し、該昇降器プレートが、Ｚ方向に移動され得る請求項１に記載の分析器。
【請求項３】
前記試薬カセットが情報を記憶するタグを有し、前記情報が前記試薬カセットの供与時間を含む請求項１又は２に記載の分析器。
【請求項４】
前記一時的格納器の前記冷却ユニットが、該一時的格納器の内側の温度を閾温度より低く維持するように設定される請求項１から３のいずれか一項に記載の分析器。
【請求項５】
前記情報が、異なる複数の温度における供与時間を含む請求項３又は４に記載の分析器。
【請求項６】
自動分析器において分析対象物を分析するための試薬を収容する試薬カセットを分注デバイスへと呈示する方法であって、
ａ）能動的冷却を行う密閉式の試薬格納器内に格納された試薬カセットを、一時的格納ユニットへと移送する段階であって、前記一時的格納ユニットが冷却ユニットを有する段階と、
ｂ）前記自動分析器により前記試薬カセットが必要とされるまで、前記試薬カセットを前記一時的格納ユニット内に保持する段階と、
ｃ）前記一時的格納ユニットから前記試薬カセットを、該試薬カセットを前記分注デバイスへと呈示するステーションへと移送する段階であって、前記少なくとも１つの試薬カセットを呈示する前記ステーションが前記一時的格納器の外部に配置される段階と、
ｄ）前記試薬の分注が完了したときに、前記試薬カセットを前記一時的格納ユニットへと戻し移送する段階と、を含み、
前記試薬カセットが情報を記憶するタグを有し、且つ、該タグには、前記自動分析器の供与時間の情報が記憶される方法。
【請求項７】
前記段階ｂ）〜ｄ）が、少なくとも一回だけ反復される請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記試薬カセットが、前記密閉式の試薬格納器から前記一時的格納ユニットまで、操作器システムにより移送される請求項６又は７に記載の方法。
【請求項９】
前記試薬カセットが、前記密閉式の試薬格納器から第１位置まで第１操作器により移送され、且つ、前記第１位置から前記一時的格納器まで第２操作器により移送される請求項６から８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記試薬カセットが情報を記憶するタグを有し、且つ、該タグには、前記自動分析器の異なる温度の複数の区画における供与時間の情報が記憶される請求項６から９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
ｅ）前記試薬カセットが空でなければ、該試薬カセット内に収容された試薬が新たな試験のために要求されるまで長期の格納のために該試薬カセットを前記密閉式の試薬格納器へと移送し、又は、前記試薬カセットを消耗品廃棄ステーションへと移送する段階をさらに含む請求項６から１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
前記一時的格納器内の前記試薬カセットが、該試薬カセットを分注デバイスへと呈示する前記ステーションへと、昇降器により移送される請求項６から１１のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月21日(2013.11.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも、検体配置部に配置された検体の旋光度を測定する信号光の光路上に配置された、前記検体配置部を挟んで信号光のリング光干渉計のループ光路（以下、リング光路という）を形成するように配置された偏波面保存光ファイバと、前記検体配置部と、前記偏波面保存光ファイバと前記検体配置部の間に配置された偏光変換光学系を有する旋光成分分析装置において、前記旋光成分分析測定装置は、前記リング光路を伝搬する左右両回り信号光が前記偏波面保存光ファイバ内を同一の偏光状態で伝搬するとともに、前記検体部分では互いに直交する偏光状態で伝搬するように構成されている偏光変換光学系が前記検体を挟んで対向偏光変換光学系に成るように構成されており、前記偏光変換光学系は偏光面回転素子として、偏光面回転素子の一方の側から信号光としての偏光ビームを入射させたときには信号光の偏光面を当該信号光の進行方向に向かって時計回りまたは反時計回りに所定角度だけ回転させ、偏光面回転素子の他方の側から信号光として偏光ビームを入射させたときには当該信号光の偏光面を当該信号光の進行方向に向かって前記一方の側から入射させた場合とは逆方向に所定角度だけ回転させるように作用する偏光面回転素子を用いており、前記旋光成分分析装置はさらに、前記検体に導かれる前記信号光の波長を変化させる波長変化手段と前記検体の温度を変化させる温度変化手段の少なくとも一方を有しており、信号光の波長変化と検体の温度変化の少なくとも一方による検体の位相差情報の変化の測定結果から検体に含まれる旋光性分の情報を求めることを特徴とする旋光成分分析装置であって、Ｎを整数として、検体の温度または光源波長あるいはその両方をＮ通り変化させた場合の検体の旋光度を測定し、Ｎ元１次連立方程式を解くことによって検体に含まれるＮ種類の旋光物質の成分濃度を求めることを特徴とする旋光成分分析測定装置。
【請求項２】
請求項１に記載の旋光成分分析測定装置において、前記旋光成分分析測定装置は検体の温度または光源波長あるいはその両方の変化情報と、検体の旋光度変化と旋光成分と旋光成分濃度のうちの少なくとも１つとの対応関係を判断できる対応表を用いて検体に含まれるＮ種類の旋光物質の成分濃度を求めることを特徴とする旋光成分分析測定装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の旋光成分分析測定装置において、前記対向偏光変換コリメータがそれぞれ前記検体を挟む鉗子状のツールの前記検体を挟み込む部分に対向して組み込まれており、前記対向偏光変換コリメータ間で両信号光の光結合を調整する手段を有していることを特徴とする旋光成分分析装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月31日(2014.10.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＧＮＳＳデバイスにおけるマルチパス誤差の影響を緩和する方法であって、該方法は、
複数のＧＮＳＳ衛星から信号を受信することと、
少なくとも１つの画像センサから画像データを受信することと、
少なくとも１つの配向センサから配向データを受信することであって、該配向データは、地平線に対する該ＧＮＳＳデバイスのピッチおよびロールを表現する傾斜データを含む、ことと、
該画像データおよび該配向データに基づいて妨害データを決定することであって、該妨害データは妨害領域を示す、ことと、
該妨害データ、該配向データ、およびＧＮＳＳ衛星位置データに基づいて、該妨害領域に対する該複数のＧＮＳＳ衛星のうちの少なくとも１つのＧＮＳＳ衛星の位置を決定することであって、該ＧＮＳＳ衛星位置データは、該少なくとも１つのＧＮＳＳ衛星の位置を表現する、ことと、
該少なくとも１つのＧＮＳＳ衛星のうちの１つの衛星が、その衛星の位置が該妨害領域内である場合に、妨害された衛星であるか否かを決定することと、
該複数のＧＮＳＳ衛星からの該信号に基づいて該ＧＮＳＳデバイスの位置を決定することであって、妨害された衛星からの信号に基づく測定値は、除外されるか、または、該複数のＧＮＳＳ衛星のうちの他の衛星に基づく測定値に対して重み付けの比率を下げられる、ことと
を含む、方法。
【請求項２】
前記配向データは、前記ＧＮＳＳデバイスが向いている磁気方位を表現する磁気方位データをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記少なくとも１つのＧＮＳＳ衛星のうちの１つの衛星が、前記妨害領域に対するその衛星の位置がマルチパス閾値より高いマルチパス誤差に対応する場合に、疑わしい衛星であるか否かを決定することをさらに含み、
前記ＧＮＳＳデバイスの位置を決定することは、該衛星からの信号を除外すること、または該衛星からの信号の重み付けの比率を下げることをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記画像データは、異なる配向における前記画像センサから受信された画像データの組み合わせである、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
複数のＧＮＳＳ衛星から信号を受信することと、
少なくとも１つの画像センサから画像データを受信することと、
少なくとも１つの配向センサから配向データを受信することであって、該配向データは、地平線に対するＧＮＳＳデバイスのピッチおよびロールを表現する傾斜データを含む、ことと、
該画像データおよび該配向データに基づいて妨害データを決定することであって、該妨害データは妨害領域を示す、ことと、
該妨害データ、該配向データ、およびＧＮＳＳ衛星位置データに基づいて、該妨害領域に対する該複数のＧＮＳＳ衛星のうちの少なくとも１つのＧＮＳＳ衛星の位置を決定することであって、該ＧＮＳＳ衛星位置データは、該少なくとも１つのＧＮＳＳ衛星の位置を表現する、ことと、
該少なくとも１つのＧＮＳＳ衛星のうちの１つの衛星が、その衛星の位置が該妨害領域内である場合に、妨害された衛星であるか否かを決定することと、
該複数のＧＮＳＳ衛星からの該信号に基づいて該ＧＮＳＳデバイスの位置を決定することであって、妨害された衛星からの信号に基づく測定値は、除外されるか、または、該複数のＧＮＳＳ衛星のうちの他の衛星に基づく測定値に対して重み付けの比率を下げられる、ことと
を行うためのコンピュータ実行可能命令を記憶するコンピュータ読み取り可能記憶媒体。
【請求項６】
前記配向データは、前記ＧＮＳＳデバイスが向いている磁気方位を表現する磁気方位データをさらに含む、請求項５に記載のコンピュータ読み取り可能記憶媒体。
【請求項７】
前記少なくとも１つのＧＮＳＳ衛星のうちの１つの衛星が、前記妨害領域に対するその衛星の位置がマルチパス閾値より高いマルチパス誤差に対応する場合に、疑わしい衛星であるか否かを決定するためのコンピュータ実行可能命令をさらに記憶し、
前記ＧＮＳＳデバイスの位置を決定することは、該衛星からの信号を除外すること、または該衛星からの信号の重み付けの比率を下げることをさらに含む、請求項５に記載のコンピュータ読み取り可能記憶媒体。
【請求項８】
前記画像データは、異なる配向における前記画像センサから受信された画像データの組み合わせである、請求項５に記載のコンピュータ読み取り可能記憶媒体。
【請求項９】
マルチパス誤差の影響を緩和するＧＮＳＳデバイスであって、該ＧＮＳＳデバイスは、
複数のＧＮＳＳ衛星から信号を受信するように構成された少なくとも１つのアンテナと、
画像データを生成するように構成された少なくとも１つの画像センサと、
配向データを生成するように構成された少なくとも１つの配向センサであって、該配向データは、地平線に対する該ＧＮＳＳデバイスのピッチおよびロールを表現する傾斜データを含む、配向センサと、
プロセッサと
を備え、
該プロセッサは、
該画像データおよび該配向データに基づいて妨害データを決定することであって、該妨害データは妨害領域を示す、ことと、
該妨害データ、該配向データ、およびＧＮＳＳ衛星位置データに基づいて、該妨害領域に対する該複数のＧＮＳＳ衛星のうちの少なくとも１つのＧＮＳＳ衛星の位置を決定することであって、該ＧＮＳＳ衛星位置データは、該少なくとも１つのＧＮＳＳ衛星の位置を表現する、ことと、
該少なくとも１つのＧＮＳＳ衛星のうちの１つの衛星が、その衛星の位置が該妨害領域内である場合に、妨害された衛星であるか否かを決定することと、
該複数のＧＮＳＳ衛星からの該信号に基づいて該ＧＮＳＳデバイスの位置を決定することであって、妨害された衛星からの信号に基づく測定値は、除外されるか、または、該複数のＧＮＳＳ衛星のうちの他の衛星に基づく測定値に対して重み付けの比率を下げられる、ことと
を実行するように構成される、ＧＮＳＳデバイス。
【請求項１０】
前記配向データは、前記ＧＮＳＳデバイスが向いている磁気方位を表現する磁気方位データをさらに含む、請求項９に記載のＧＮＳＳデバイス。
【請求項１１】
前記プロセッサは、
前記少なくとも１つのＧＮＳＳ衛星のうちの１つの衛星が、前記妨害領域に対するその衛星の位置がマルチパス閾値より高いマルチパス誤差に対応する場合に、疑わしい衛星であるか否かを決定するようにさらに構成され、
前記ＧＮＳＳデバイスの位置を決定することは、疑わしい衛星からの信号を除外すること、または疑わしい衛星からの信号の重み付けの比率を下げることをさらに含む、請求項９に記載のＧＮＳＳデバイス。
【請求項１２】
前記画像データは、異なる配向における前記画像センサから受信された画像データの組み合わせである、請求項９に記載のＧＮＳＳデバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月31日(2014.10.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
関心地点の位置を決定するためのコンピュータ実装された方法であって、前記方法は、
１つ以上のプロセッサにより、複数の衛星から位置データを受信することと、
前記１つ以上のプロセッサにより、少なくとも１つの配向センサから傾斜データを受信することであって、前記傾斜データは、地平線に対して平行な平面に対するデバイスの傾斜を表す、ことと、
前記デバイスの前記傾斜が垂直から第１の閾値度数内にあることを前記傾斜データが示すことに応答して、前記１つ以上のプロセッサにより、前記位置データを使用して前記関心地点の位置の決定を開始することであって、前記関心地点の位置を決定することは、前記傾斜データを使用して、誤った水平化に関連する前記位置データの誤差を修正することを含む、ことと、
前記デバイスの前記傾斜が垂直から前記第１の閾値度数外にあるように前記デバイスが傾けられたことを前記傾斜データが示すことに応答して、前記１つ以上のプロセッサにより、前記関心地点の位置の決定を停止することと
を含む、方法。
【請求項２】
前記位置データの前記誤差は、前記デバイスの前記傾斜が垂直から非ゼロ度数であることにより生じる、請求項１に記載のコンピュータ実装された方法。
【請求項３】
前記コンピュータ実装された方法は、
前記１つ以上のプロセッサにより、前記デバイスの前記傾斜が垂直から前記第１の閾値度数内にあることを前記傾斜データが示している間において前記関心地点の位置の決定を継続することをさらに含む、請求項１に記載のコンピュータ実装された方法。
【請求項４】
前記関心地点の位置を決定することは、
前記１つ以上のプロセッサにより、前記関心地点に対する複数の位置測定を生成することと、
前記１つ以上のプロセッサにより、前記複数の位置測定の各々について、前記傾斜データを使用して、誤った水平化に関連する前記位置データの誤差を修正することと
を含む、請求項１に記載のコンピュータ実装された方法。
【請求項５】
垂直からの前記第１の閾値度数は、垂直からの５度である、請求項１に記載のコンピュータ実装された方法。
【請求項６】
垂直からの前記第１の閾値度数は、垂直からの１５度である、請求項１に記載のコンピュータ実装された方法。
【請求項７】
前記コンピュータ実装された方法は、
前記デバイスの前記傾斜が垂直から第２の閾値度数外にあることを前記傾斜データが示すことに応答して、前記１つ以上のプロセッサにより、前記デバイスの１つ以上のボタンまたは前記デバイスのタッチスクリーンディスプレイを非アクティブ化することをさらに含む、請求項１に記載のコンピュータ実装された方法。
【請求項８】
垂直からの前記第２の閾値度数は、垂直からの３０度である、請求項７に記載のコンピュータ実装された方法。
【請求項９】
関心地点の位置を決定するための装置であって、前記装置は、
複数の衛星から位置データを受信するように構成された少なくとも１つのアンテナと、
地平線に対して平行な平面に対する前記装置の傾斜を表す傾斜データを取得するように構成された配向回路網と、
前記少なくとも１つのアンテナおよび前記配向回路網に作用可能に結合されたプロセッサと
を備え、
前記プロセッサは、
前記装置の前記傾斜が垂直から第１の閾値度数内にあることを前記傾斜データが示すことに応答して、前記位置データを使用して前記関心地点の位置の決定を開始することであって、前記関心地点の位置を決定することは、前記傾斜データを使用して、誤った水平化に関連する前記位置データの誤差を修正することを含む、ことと、
前記装置の前記傾斜が垂直から前記第１の閾値度数外にあるように前記装置が傾けられたことを前記傾斜データが示すことに応答して、前記関心地点の位置の決定を停止することと
を実行するように構成される、装置。
【請求項１０】
前記位置データの前記誤差は、前記装置の前記傾斜が垂直から非ゼロ度数であることにより生じる、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
前記プロセッサは、前記装置の前記傾斜が垂直から前記第１の閾値度数内にあることを前記傾斜データが示している間において前記関心地点の位置の決定を継続するようにさらに構成される、請求項９に記載の装置。
【請求項１２】
前記関心地点の位置を決定することは、
前記関心地点に対する複数の位置測定を生成することと、
前記複数の位置測定の各々について、前記傾斜データを使用して、誤った水平化に関連する前記位置データの誤差を修正することと
を含む、請求項９に記載の装置。
【請求項１３】
垂直からの前記第１の閾値度数は、垂直からの５度である、請求項９に記載の装置。
【請求項１４】
垂直からの前記第１の閾値度数は、垂直からの１５度である、請求項９に記載の装置。
【請求項１５】
画像データを取得するように構成された画像回路網であって、前記画像回路網は、光学センサおよび光軸を含む、画像回路網と、
前記装置を位置付けすることにおいてユーザを補助するために前記傾斜データおよび前記画像データの表現を表示するように構成されたタッチセンシティブディスプレイと
をさらに備える、請求項９に記載の装置。
【請求項１６】
前記プロセッサは、
前記装置の前記傾斜が垂直から第２の閾値度数外にあることを前記傾斜データが示すことに応答して、前記装置の１つ以上のボタンまたは前記装置の前記タッチスセンシティブディスプレイを非アクティブ化するようにさらに構成される、請求項１５に記載の装置。
【請求項１７】
垂直からの前記第２の閾値度数は、垂直からの３０度である、請求項１６に記載の装置。
【請求項１８】
前記画像データは、少なくとも１つの画像を含み、前記画像データは、前記装置から見られた前記関心地点の視野を表す、請求項１５に記載の装置。
【請求項１９】
前記配向回路網は、２軸傾斜計および２軸加速度計のうちの少なくとも１つを含む、請求項９に記載の装置。
【請求項２０】
前記位置データは、前記装置の地理上の位置を表す、請求項９に記載の装置。
【請求項２１】
前記傾斜データに基づいて前記地平線に対して平行な平面に対する前記デバイスの前記傾斜を表す平面気泡水準器の表示を生じさせることをさらに含む、請求項１に記載のコンピュータ実装された方法。
【請求項２２】
前記プロセッサに作用可能に結合されたディスプレイをさらに備え、
前記プロセッサは、
前記傾斜データに基づいて前記地平線に対して平行な平面に対する前記装置の前記傾斜を表す平面気泡水準器を前記ディスプレイ上に表示させるようにさらに構成される、請求項９に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月22日(2013.11.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可視光の波長域における光を分光する分光測定装置であって、
前記可視光の波長域にピーク波長を有さず、短波長から長波長に向かうに従って光量が増大する光を射出する第１光源と、
前記可視光の波長域にピーク波長を有する光を射出する第２光源と、
前記第１光源及び前記第２光源から射出される光を混合する光混合器と、
前記光混合器で混合された光が入射され、前記混合された光の入射光のうち、特定波長の光を透過させる波長可変干渉フィルターと、
前記波長可変干渉フィルターを透過した光を受光する受光部と、
前記波長可変干渉フィルターの透過する光の波長を切り替え、前記受光部により受光された光に基づいて、前記波長可変干渉フィルターを透過した光の分光特性を測定する測定制御部と、を備える
ことを特徴とする分光測定装置。
【請求項２】
請求項１に記載の分光測定装置において、
前記第２光源は、３８５ｎｍ以上４５０ｎｍ以下の範囲内にピーク波長を有する
ことを特徴とする分光測定装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の分光測定装置において、
前記波長可変干渉フィルターは、駆動電圧の印加により当該波長可変干渉フィルターを透過する光の波長を変更可能なアクチュエーターを有し、
当該分光測定装置は、
前記駆動電圧、及び前記波長可変干渉フィルターを透過する光の波長の関係である透過特性データを記憶する記憶部と、
前記透過特性データを校正する校正部と、を備え、
前記校正部は、前記第２光源からの光を標準反射板に照射させ、かつ前記アクチュエーターに印加する前記駆動電圧を順次変更した際に前記受光部により受光された前記標準反射板からの反射光の光量が最大となる前記駆動電圧と、前記第２光源のピーク波長とに基づいて、前記透過特性データを校正する
ことを特徴とする分光測定装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれかに記載の分光測定装置において、
前記第２光源は、複数設けられ、かつ複数の前記第２光源の前記ピーク波長はそれぞれ異なる
ことを特徴とする分光測定装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の分光測定装置では、前記第２光源は、３８５ｎｍ以上４５０ｎｍ以下の範囲内にピーク波長を有することが好ましい。
ところで、波長可変干渉フィルターの波長可変域を３８０ｎｍ〜７８０ｎｍとし、タングステンランプ等の短波長域の光量が小さい第１光源を用いた場合では、第１光源は特に短波長域の光量が低下する。そこで、精度の高い分光特性の測定を行うには、短波長域の光量を補う必要がある。本発明によれば、３８５ｎｍ以上４５０ｎｍ以下の範囲内にピーク波長を有する第２光源を用いたので、短波長域の光量を第２光源で補うことが可能となる。従って、短波長域においても光量を十分得ることが可能となり、精度の高い分光特性の測定を実施することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の分光測定装置では、前記波長可変干渉フィルターは、駆動電圧の印加により当該波長可変干渉フィルターを透過する光の波長を変更可能なアクチュエーターを有し、当該分光測定装置は、前記駆動電圧、及び前記波長可変干渉フィルターを透過する光の波長の関係である透過特性データを記憶する記憶部と、前記透過特性データを校正する校正部と、を備え、前記校正部は、前記第２光源からの光を標準反射板に照射させ、かつ前記アクチュエーターに印加する前記駆動電圧を順次変更した際に前記受光部により受光された前記標準反射板からの反射光の光量が最大となる前記駆動電圧と、前記第２光源のピーク波長とに基づいて、前記透過特性データを校正することが好ましい。
波長可変干渉フィルターは、環境温度の変化により、反射膜等の温度に依存する線膨張係数が変動するため、反射膜等の内部応力が変動し、透過特性が変化するおそれがある。これに対して、本発明では、校正部により、波長可変干渉フィルターを所定の環境温度下に設置した際の透過特性の変化に対して、適切な較正を実施できる。
また、本発明の分光測定装置では、前記第２光源は、複数設けられ、かつ複数の前記第２光源の前記ピーク波長はそれぞれ異なることが好ましい。
本発明では、校正部による透過特性データの校正を実施する際に、それぞれ異なるピーク波長を有する第２光源を用いて、より精度の高い校正を実施できる。