(57)【要約】  それぞれＸＰＳによって測定される１〜３０原子％の酸素、０．１〜３０原子％の窒素、又は両方を含む炭素化合物又はケイ素化合物を含む処理された接触表面を有する基材が記載される。処理された接触表面は、本方法による処理前の表面の生体分子回収率よりも大きい生体分子回収率を有する。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
接触表面と内部とから本質的になるポリマー基材であって、前記接触表面が、
・１〜３０原子％、任意選択的に５〜２０原子％、任意選択的に５〜１０原子％の酸素原子、
・０〜３０原子％、任意選択的に０〜２０原子％、任意選択的に０〜１０原子％の窒素原子、及び
・７０〜９９原子％、任意選択的に８０〜９５原子％、任意選択的に９０〜９５原子％の炭素原子
を含み、前記原子％値がＸ線光電子分光（ＸＰＳ）によって測定される、ポリマー基材。
【請求項２】
・１〜３０原子％、任意選択的に５〜２０原子％、任意選択的に５〜１０原子％のグラフト化された酸素原子、
・０〜３０原子％、任意選択的に０〜２０原子％、任意選択的に０〜１０原子％のグラフト化された窒素原子
を含む、請求項１に記載の基材。
【請求項３】
前記内部が、少なくとも８０原子％、任意選択的に少なくとも８５原子％、任意選択的に少なくとも９０原子％、任意選択的に少なくとも９５原子％、任意選択的に１００原子％の炭素原子と、前記接触表面より多い原子％の炭素原子とを含む、請求項１又は２に記載の基材。
【請求項４】
前記接触表面が、０．１〜１０原子％、任意選択的に０．１〜５原子％、任意選択的に１〜５原子％の、酸素がグラフトされている炭素原子を含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の基材。
【請求項５】
前記接触表面が、０．１〜１０原子％、任意選択的に０．１〜５原子％の水素結合受容性基を含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の基材。
【請求項６】
前記グラフト化された酸素原子又は窒素原子が、各場合に炭素又はケイ素に結合されている−Ｎ+−、−Ｎ−、＝Ｏ、−Ｏ−、−Ｏ2、−Ｏ3、Ｃ＝Ｏ、Ｏ−Ｃ＝Ｏ、Ｃ−Ｏ−Ｃ、又は≡Ｎから選択される部位の形態で存在し、任意選択的にこれらの２つ以上から選択されるか、又はこれらの２つ以上の任意の組み合わせである、請求項１〜５のいずれか一項に記載の基材。
【請求項７】
前記接触表面が、Ｘ線光電子分光（ＸＰＳ）によって測定される極性グラフト種、任意選択的にＣ＝Ｏ（カルボニル）、Ｃ−Ｏ−Ｃ（エーテル）、Ｃ−Ｎ−Ｃ（アミン）、Ｃ−Ｎ+−Ｃ（アンモニウム）、ＣＯ2（カルボキシル）、ＣＯ3、Ｓｉ＝Ｏ、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ、Ｓｉ−Ｎ−Ｓｉ、Ｓｉ−Ｎ+−Ｓｉ、ＳｉＯ2、ＳｉＯ3、Ｃ≡Ｎ、Ｓｉ≡Ｎ、又はこれらの２つ以上の組み合わせの１つ以上で修飾された炭素化合物又はケイ素化合物を含む、請求項１〜６のいずれか一項に記載の基材。
【請求項８】
前記接触表面が、熱可塑性材料、例えば熱可塑性樹脂、例えば射出成形された熱可塑性樹脂を含む、請求項１〜７のいずれか一項に記載の基材。
【請求項９】
前記接触表面が、例えばオレフィンポリマー、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレン（ＰＥ）、環状オレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、環状オレフィンポリマー（ＣＯＰ）、ポリメチルペンテン、ポリスチレン、水素化ポリスチレン、ポリシクロヘキシルエチレン（ＰＣＨＥ）、若しくはこれらの２つ以上の組み合わせなどの炭化水素ポリマー、又は例えばポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリ塩化ビニリデン（ＰＶｄＣ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリカーボネート、ポリ乳酸、エポキシ樹脂、ナイロン、ポリウレタン、ポリアクリロニトリル、ポリアクリロニトリル（ＰＡＮ）、アイオノマー樹脂、Ｓｕｒｌｙｎ（登録商標）アイオノマー樹脂、又は前記材料の任意の２つ以上の組み合わせ、複合材料、若しくはブレンド物などのヘテロ原子置換炭化水素ポリマーを含む、請求項１〜８のいずれか一項に記載の基材。
【請求項１０】
前記接触表面が、少なくとも１０％、任意選択的に少なくとも２０％、任意選択的に少なくとも３０％、任意選択的に少なくとも４０％、任意選択的に少なくとも４５％、任意選択的に少なくとも５０％、任意選択的に少なくとも５５％、任意選択的に少なくとも６０％、任意選択的に少なくとも６５％、任意選択的に少なくとも７０％、任意選択的に少なくとも７５％、任意選択的に少なくとも８０％、任意選択的に少なくとも８５％、任意選択的に少なくとも９０％、任意選択的に少なくとも９５％の生体分子回収率を有する、請求項１〜９のいずれか一項に記載の基材。
【請求項１１】
前記生体分子回収率が、哺乳類血清アルブミン；ウシ血清アルブミン（ＢＳＡ）；フィブリノゲン（ＦＢＧ）；トランスフェリン（ＴＦＮ）；卵白オボトランスフェリン（コンアルブミン）；膜結合メラノトランスフェリン；プロテインＡ（ＰｒＡ）；プロテインＧ（ＰｒＧ）；プロテインＡ／Ｇ；プロテインＬ；インスリン；医薬用タンパク質；血液又は血液成分のタンパク質；及び前記タンパク質の任意の組み換え型、修飾型、全長前駆体、シグナルペプチド、プロペプチド、又は成熟変異体の少なくとも１つに関して決定される、請求項１０に記載の基材。
【請求項１２】
以下：
・６６，０００ダルトンの原子質量を有するＢＳＡに関し、前記生体分子回収率が、少なくとも２０％、任意選択的に少なくとも３０％、任意選択的に少なくとも４０％、任意選択的に少なくとも５０％、任意選択的に少なくとも６０％、任意選択的に少なくとも７０％、任意選択的に少なくとも８０％、任意選択的に少なくとも９０％、任意選択的に少なくとも９５％、任意選択的に少なくとも９９％、任意選択的に１０％〜９０％、任意選択的に２０％〜９０％、任意選択的に３０％〜９０％、任意選択的に４０％〜９０％、任意選択的に５０％〜９０％、任意選択的に６０％〜９０％、任意選択的に７０％〜９０％、任意選択的に８０％〜９０％であること；
・３４０，０００ダルトンの原子質量を有するＦＢＧに関し、前記生体分子回収率が、少なくとも１０％、任意選択的に少なくとも２０％、任意選択的に少なくとも３０％、任意選択的に少なくとも４０％、任意選択的に少なくとも５０％、任意選択的に少なくとも６０％、任意選択的に少なくとも７０％、任意選択的に少なくとも８０％、任意選択的に少なくとも９０％、任意選択的に少なくとも９５％、任意選択的に少なくとも９９％、任意選択的に１０％〜９０％、任意選択的に２０％〜９０％、任意選択的に３０％〜９０％、任意選択的に４０％〜９０％、任意選択的に５０％〜９０％、任意選択的に６０％〜９０％、任意選択的に７０％〜９０％、任意選択的に８０％〜９０％、任意選択的に１５％〜２０％であること；
・８０，０００ダルトンの原子質量を有するＴＦＮに関し、前記生体分子回収率が、少なくとも３０％、任意選択的に少なくとも２０％、任意選択的に少なくとも３０％、任意選択的に少なくとも４０％、任意選択的に少なくとも５０％、任意選択的に少なくとも６０％、任意選択的に少なくとも７０％、任意選択的に少なくとも８０％、任意選択的に少なくとも９０％、任意選択的に少なくとも９５％、任意選択的に少なくとも９９％、任意選択的に１０％〜９０％、任意選択的に２０％〜９０％、任意選択的に３０％〜９０％、任意選択的に４０％〜９０％、任意選択的に５０％〜９０％、任意選択的に６０％〜９０％、任意選択的に７０％〜９０％、任意選択的に８０％〜９０％、任意選択的に３０％〜５０％であること；
・４５，０００ダルトンの原子質量を有するＰｒＡに関し、前記生体分子回収率が、少なくとも１０％、任意選択的に少なくとも２０％、任意選択的に少なくとも３０％、任意選択的に少なくとも４０％、任意選択的に少なくとも５０％、任意選択的に少なくとも６０％、任意選択的に少なくとも７０％、任意選択的に少なくとも８０％、任意選択的に少なくとも９０％、任意選択的に少なくとも９５％、任意選択的に少なくとも９９％、任意選択的に１０％〜９０％、任意選択的に２０％〜９０％、任意選択的に３０％〜９０％、任意選択的に４０％〜９０％、任意選択的に５０％〜９０％、任意選択的に６０％〜９０％、任意選択的に７０％〜９０％、任意選択的に８０％〜９０％、任意選択的に１０％〜９０％であること；及び
・２０，０００ダルトンの原子質量を有するＰｒＧに関し、前記生体分子回収率が、少なくとも１０％、任意選択的に少なくとも２０％、任意選択的に少なくとも３０％、任意選択的に少なくとも４０％、任意選択的に少なくとも５０％、任意選択的に少なくとも６０％、任意選択的に少なくとも７０％、任意選択的に少なくとも８０％、任意選択的に少なくとも９０％、任意選択的に少なくとも９５％、任意選択的に少なくとも９９％、任意選択的に１０％〜９０％、任意選択的に２０％〜９０％、任意選択的に３０％〜９０％、任意選択的に４０％〜９０％、任意選択的に５０％〜９０％、任意選択的に６０％〜９０％、任意選択的に７０％〜９０％、任意選択的に８０％〜９０％、任意選択的に５％〜９０％であること
のいずれか１つ以上が当てはまる、請求項１０に記載の基材。
【請求項１３】
前記接触表面が容器の内腔表面である、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の基材。
【請求項１４】
前記接触表面が実験器具製品の流体接触表面である、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の基材。
【請求項１５】
前記接触表面が、マイクロプレート、遠沈菅、ピペットチップ、ウェルプレート、マイクロウェルプレート、ＥＬＩＳＡプレート、マイクロタイタープレート、９６ウェルプレート、３８４ウェルプレート、バイアル、瓶、広口瓶、シリンジ、カートリッジ、ブリスター包装、アンプル、真空採血管、試料管、遠沈管、又はクロマトグラフィーバイアルの流体接触表面である、請求項１４に記載の基材。
【請求項１６】
前記接触表面が水性タンパク質と接触する、請求項１〜１５のいずれか一項に記載の基材。
【請求項１７】
前記接触表面が、０°〜９０°、任意選択的に２０°〜８０°、任意選択的に４０°〜８０°、任意選択的に５０°〜７０°、任意選択的に５５°〜６５°の蒸留水との接触角を有する、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の基材。
【請求項１８】
前記接触表面が、前記変換され且つ任意選択的に調整された接触表面上において、５キロボルト毎ｃｍ（５ｋＶ／ｃｍ）未満、任意選択的に３ｋＶ／ｃｍ未満、任意選択的に２ｋＶ／ｃｍ未満、任意選択的に１ｋＶ／ｃｍ未満の静電荷帯電を有する、請求項１〜１７のいずれか一項に記載の基材。
【請求項１９】
前記接触表面が、１つ以上の非重合性化合物の調整プラズマ、変換プラズマ、又は両方で処理されて前記表面を形成する、請求項１〜１８のいずれか一項に記載の基材。
【請求項２０】
前記非重合性化合物が、Ｏ2、Ｎ2、空気、Ｏ3、Ｎ2Ｏ、Ｈ2、Ｈ2Ｏ、Ｈ2Ｏ2、ＮＨ3、Ａｒ、Ｈｅ、及びＮｅからなる群から選択される要素の１つ以上を含むか、それらから本質的になるか、又はそれらからなる、請求項１９に記載の基材。
【請求項２１】
前記接触表面が５〜１０００ｎｍの厚さのＰＥＣＶＤ堆積コーティングである、請求項１〜２０のいずれか一項に記載の基材。
【請求項２２】
前記ＰＥＣＶＤ堆積コーティングが、シロキサン、オルガノシロキサン、ポリエチレングリコール（ＰＥＧ）を含むガス前駆体；又はアセチレン、メタン、プロパン、ブタン、エタンを含むモノマーガス前駆体、及び／或いは空気、酸素、若しくは水蒸気を含むコモノマーガスの任意の１つ又は組み合わせを使用して適用される、請求項２１に記載の基材。
【請求項２３】
ＰＥＣＶＤ堆積コーティングが、酸素ヘテロ原子及び任意選択的に窒素ヘテロ原子を更に含むアモルファス炭素コーティングである、請求項２１に記載の基材。
【請求項２４】
前記アモルファス炭素コーティングが、アセチレン、エチレン、メタン、エタン、プロパン、ブタン、又はこれらの２つ以上の組み合わせを含むモノマーガス前駆体、及び空気、酸素、水蒸気、又はこれらの２つ以上の組み合わせを含むコモノマーガスを使用して適用される、請求項２３に記載の基材。
【請求項２５】
・炭素を含む接触表面を有するポリマー物品を準備すること；及び
・変換された表面と接触する、０．０１ｎＭ〜１．４ｎＭ、任意選択的に０．０５ｎＭ〜１．４ｎＭ、任意選択的に０．１ｎＭ〜１．４ｎＭの濃度を有する水性タンパク質分散液について、変換プラズマを用いて前記接触表面を処理する前の前記接触表面の生体分子回収率よりも大きい前記生体分子回収率を有する前記変換された表面を形成するのに有効な条件下において、水蒸気及び酸素を含む前記変換プラズマを用いて前記接触表面を処理すること
を含む、請求項１〜２４のいずれか一項に記載のポリマー基材を形成する方法。
【請求項２６】
前記処理工程の前記条件が、前記変換された表面と接触する、０．０１ｎＭ〜１．４ｎＭ、任意選択的に０．０５ｎＭ〜１．４ｎＭ、任意選択的に０．１ｎＭ〜１．４ｎＭの濃度を有する水性タンパク質分散液について、８０％超の生体分子回収率を提供するのに有効である、請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
前記プラズマが前記接触表面からの遠隔地点で生成され、前記変換プラズマの最も明るい地点での放射エネルギー密度に対する変換プラズマ処理の前記遠隔地点での前記放射エネルギー密度の割合が０．５未満、任意選択的に０．２５未満、任意選択的に実質的に０、任意選択的に０である、請求項２５又は２６に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本明細書は、２０１６年４月８日に出願された米国仮特許出願第６２／３２０，２４６号明細書の優先権を主張する。この出願は、開示の継続性を与えるために、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。
【０００２】
本技術は、概して、表面への生体分子の付着が低減されたプラスチック基材の表面又は表面修飾（本開示では接触表面という場合がある）に関する。より詳しくは、本技術は、基材表面へのタンパク質の付着が低減された、例えば医療器具又は実験器具製品などのプラスチック基材に関する。
【背景技術】
【０００３】
血液、生体分子、及び血液検体の試験では、これらの生体物質と共に使用されるプラスチック器具への生体分子の吸着又は結合を最小限にすることが望まれる。プラスチック製のマイクロウェルプレート、クロマトグラフィーバイアル、及び他の容器、並びに試料の調製及び移動に使用されるピペット（「ピペット（ｐｉｐｅｔ）」と綴られる場合もある）、ピペットチップ、遠沈管、顕微鏡用スライド、及び他の種類の実験器具（ラボウェアとも呼ばれる）は、通常、疎水性表面を有し、タンパク質、ＤＮＡ、及びＲＮＡなどの生体分子を容易に吸着する。これら及び他の種類のポリマープラスチック製実験器具の構成要素の表面は、生体分子試料の結合を生じる場合がある。そのため、様々な生体分子の付着を低減するための、生体物質と接触するプラスチック製実験器具及び他の物品の表面を得ることが望まれる。
【０００４】
本発明は、化学的、生化学的、医学的、及び／又は生物的な利用を実施するための、コーティングされた容器の製造の技術分野にも関する。これらの方法及びシステムは、医学診断、医療、食品及び飲料の試験、食品及び飲料の包装、環境モニタリング、製造品質工学、創薬、及び科学研究を含む様々な用途において必須である。
【０００５】
インビトロの実験室及び分析試験は、一般的に試験試料を含み、これを位置付ける専用の実験用ガラス器具及びプラスチック器具上で行われる。慣例的には、ガラス器具が使用され且つ使用され続けているが、ガラス器具は割れ易く、非常に高価であり、微粒子の問題を有する傾向があり、重金属溶出物を生じ、また、タンパク質及び他の生体物質の凝集を生じさせる場合がある。
【０００６】
これらの問題のいくつかは、ガラス器具を射出成形プラスチック器具で置き換えることによって対処することができる。特に、ガラス器具の多くの問題点のため、医薬、医学研究、創薬、及び科学研究の領域などの生体物質の領域ではプラスチック器具が好ましい。プラスチック器具はガラス器具の問題のいくつかに対応するものの、プラスチック器具もいくつかの問題を生じさせる。これは、生体分子のプラスチック器具への非特異的な吸着を生じさせる場合があるだけでなく、生体分子のプラスチック器具への非特異的な結合も生じさせる場合がある。プラスチック器具も浸出性物質を含み、これはプラスチック器具の使用を妨げるか、又はプラスチック器具を多くの種類のインビトロの実験室及び分析試験に望ましくないものとする。
【０００７】
また、ピペット、ピペットチップ、及び遠沈管は、試料の調製及び移動並びに試薬溶液の移動のために使用される別の種類の実験器具であるが、これも同様にガラス器具又はプラスチック器具の場合がある。血液、生体分子、及び血液検体の試験では、プラスチック製品への生体分子の吸着及び非特異的な生体分子の結合を最小限にすることが望まれる。更に、インビトロ及び分析試験において、プラスチック器具への生体分子の吸着及び生体分子の非特異的な結合を最小限にすることが望まれる。プラスチック製のマイクロウェルプレート、バイアル、及び他の容器、並びに試料を調製及び移動するために使用される疎水性表面を有するピペット、ピペットチップ、遠沈管、及び他の種類の実験器具は、タンパク質、ＤＮＡ、及びＲＮＡなどの生体分子を容易に吸着する。これら及び他の種類のポリマープラスチック製実験器具の構成要素の表面は、試料との非特異的な結合を生じる場合がある。これら及び他の種類のガラス製実験器具の構成要素の表面は、微粒子の問題を生じさせる場合があり、重金属の溶出性物質を有しており、また、タンパク質及び他の生体分子の凝集を生じさせる場合がある。ポリエチレングリコール（ＰＥＧ）及び双性イオンポリマー系コーティングなどのこれまでの親水性コーティングは、優れた生体分子吸着性能を付与することが見出されてきた。これらのポリマー系コーティングの多くは物品表面に共有結合せず、流体である内容物中に移動（溶解、分散）して分析試験の障害となる及び／又はプラスチック表面を露出させてタンパク質を表面吸着させる可能性を有しており、そのため、これらの利用が限定される。物品表面に共有結合するポリマー系コーティングは、流体である内容物中に移動（溶解、分散）する可能性を有さず、分析試験を妨げるこの原因を取り除くであろう。更に、共有結合するポリマー系コーティングは、ポリマー系表面コーティングの移動を防止し、それにより物品表面の望ましくない露出を防止するであろう。
【０００８】
そのため、マイクロウェルプレート、バイアル、他の容器、ピペット、ピペットチップ、遠沈管などのプラスチック実験器具の表面のための、プラスチック表面への生体分子の吸着を阻害する、共有結合するポリマー系コーティングが求められている。同様に、マイクロウェルプレート、バイアル、他の容器、ピペット、ピペットチップ、遠沈管などのプラスチック実験器具の表面のための、ポリマー系表面コーティングの移動を防止することでプラスチック表面の望ましくない露出を防止する、共有結合するポリマー系コーティングが求められている。
【０００９】
例えば、薬剤などの規制された製品のための包装を製造する上で考慮すべき重要なことは、包装内に入れられる医薬製品が汚染物質を実質的に含まないことを確実にすることである。そのため、医薬品包装の製造プロセス及び医薬品包装への製品の充填プロセスは、典型的にはクリーンルーム条件で行われる。
【００１０】
潜在的な汚染の１つの原因は微粒子である。微粒子による汚染は様々な原因に由来する場合があり、これは一般的には２つのカテゴリー：（１）内因性の汚染物質；及び（２）外因性の汚染物質に分けることができる。内因性の汚染物質は、例えばレーザーエッチング残渣、ろ材、クリーンルームのユニフォーム繊維、フィルターハウジング由来のゴム及びプラスチック粒子、ニードルシールドなどの製品及びプロセスに関連する微粒子である。外因性の汚染物質は、例えば毛髪、皮膚細胞、花粉、衣服の繊維、塩、及び土などの製品又はプロセスとは無関係の発生源由来である。
【００１１】
ろ過システム及び適正製造基準により、容器が製造又は充填される領域の表面粒子数及び浮遊粒子数が抑制できるものの、これらのことは必ずしも容器表面上の粒子数を許容可能なレベルまで低減するとは限らない。ある具体的な課題は、帯電した粒子を引き付ける傾向がある、製造されたプラスチック容器の静電荷によってもたらされる。浮遊粒子／表面粒子の数が比較的低い場合であっても、強い静電荷を有するプラスチック容器が粒子状汚染物質を引き付けて、これらを容器に付着させる場合がある。
【００１２】
この問題に対して試みられた解決策としては、エトキシル化アルキルアミン、エトキシル化アルキルアミド、ステアリン酸グリセロール、脂肪酸エステル、ポリオールのエステル又はエーテル、及びアルキルスルホン酸ナトリウムなどのポリマー用の帯電防止剤の使用が挙げられる。ポリマー中でのそのような添加剤の量は、典型的には０．１重量％〜３重量％で様々である。これらの添加剤は、これらが取り込まれるプラスチック物品の静電荷の低減にある程度有効であるものの、添加剤はポリマーマトリックス中で可動性であり、表面にブルームする傾向がある。表面にブルームする添加剤は、そのような添加剤を含むポリマーで作られた容器の表面及び内容物（特に液体の内容物）を汚染する場合がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
そのため、それ自体が汚染物質の原因となり得る典型的な帯電防止剤を使用することなしに、これらの静電荷を低減するために処理されたプラスチック物品が必要とされている。同様に、典型的な帯電防止剤を使用することなしにこれらの静電荷を低減するための、プラスチック物品の処理方法が必要とされている。更に、これらのコーティングの多くは、反応物及び溶媒を含む流体相の化学薬品を必要とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明のある態様は、接触表面と内部とから本質的になるポリマー基材である。接触表面は、１〜３０の原子状の酸素原子と、０〜３０原子％の窒素原子と、７０〜９９原子％の炭素原子とを含む。原子％の値はＸ線光電子分光（ＸＰＳ）によって測定される。
【００１５】
本発明のもう１つの態様は、炭素を含む接触表面を有するポリマー物品を準備すること、及び接触表面の処理することによる、先行する請求項のいずれかに記載の基材を形成する方法である。接触表面は、水蒸気と酸素とを含む変換プラズマを用いて処理される。処理は、変換プラズマを用いて接触表面を処理する前の接触表面の生体分子回収率よりも大きい生体分子回収率を有する変換された表面を形成するのに有効な条件下で行われる。生体分子回収率は、変換された表面と接触する、０．０１ｎＭ〜１．４ｎＭ、任意選択的に０．０５ｎＭ〜１．４ｎＭ、任意選択的に０．１ｎＭ〜１．４ｎＭの濃度を有する水性タンパク質分散液について決定される。
【００１６】
本発明の別の態様は、流体媒体中へのポリマーの溶解／分散の懸念なしに生体分子の表面吸着を著しく抑制し、生体分子の表面との非特異的な結合を著しく抑制することが可能である、共有結合しているポリマー双性イオンの単層又はエポキシ変性双性イオン含有コポリマーの単層を付与することにより、先行技術のコーティング及びコーティングされた容器の欠点を克服する。実施形態（ｉ）は、表面に結合しているヒドロキシル基と、双性イオン官能基を含むシロキサン官能性ポリマーとの反応を提供する。実施形態（ｉｉ）は、確実に表面での共有結合を得るために、ヒドロキシル化プラスチック又はＳｉＯｘでコーティングされているガラス表面と、エポキシ変性双性イオン含有コポリマーとの反応を提供する。
【００１７】
本発明は、ヒドロキシル化プラスチック又はＳｉＯｘでコーティングされているガラス表面と、実施形態（ｉ）では縮合（水又は揮発性アルコールの喪失（例えば、表面ＳｉＯＨ＋ポリマー（双性イオン−シロキサン−Ｓｉ（ＯＲ）ｘ）→表面ＳｉＯ−Ｓｉ（ポリマー（双性イオン−シロキサン）））＋ＲＯＨによって生じる双性イオン−シロキサンコポリマーとの間、又は実施形態（ｉｉ）ではエポキシ変性双性イオン含有コポリマー（ヒドロキシル化プラスチック又はＳｉＯｘでコーティングされているガラス表面のシリルアミンカップリング剤を用いた官能化、及びそれに続くエポキシ変性双性イオン含有コポリマーの単層を形成するための双性イオン性エポキシコポリマーによる追加的な官能化によって生じる）との間の共有結合の形成を利用する。
【００１８】
本発明は、概して、例えば分析化学、医学研究、創薬、及び科学研究の目的のためなどに使用される実験器具及び実験容器（例えば、クロマトグラフィーバイアル、マイクロプレート、ピペット、ピペットチップ、遠沈試験管等）、又はビーカー、丸底フラスコ、エルレンマイヤーフラスコ、メスシリンダー等など、物質が入っており生体分子と接触する他の容器及び／又は表面などの容器の表面をコーティングするための方法に関する。生体分子としては、例えば、単純な生体分子（例えば、ヌクレオチド、アミノ酸、単糖、及び脂肪酸）、核酸分子、ポリヌクレオチド、ポリペプチド、多糖、脂質、ステロイド、又はこれらの複合体（例えば、糖タンパク質、リポタンパク質、糖脂質、ＤＮＡ−タンパク質複合体）、抗体、受容体、受容体融合構造体、受容体融合タンパク質、キメラタンパク質、抗体融合構造体、抗体融合タンパク質、並びに細胞、ウイルス、及びバクテリアを挙げることができる。本発明の好ましい用途は、例えば非経口容器であるが、本明細書に開示の方法によって処理される経口容器も範囲内である。
【００１９】
より詳しくは、本発明は、例えば共有結合している（ｉ）ポリマー双性イオンの単層又は（ｉｉ）エポキシ変性双性イオン含有コポリマーの単層に関し、これらはタンパク質などの非特異的な生体分子の実験室環境での吸着、及び／又は非特異的な結合に対する優れた耐性を示すことが知られており、双性イオンの堆積は多段階プロセスを使用して行われてきた。ここで、低コストと製品性能とを両立する商業的に実行可能なプロセスは、共有結合している（ｉ）ポリマー双性イオンの単層コーティング又は（ｉｉ）エポキシ変性双性イオン含有コポリマーの単層の、タンパク質などの特有の生体分子に対する耐吸着特性の概念に基づいて開発された。これらの製品の共有結合している（ｉ）ポリマー双性イオンの単層コーティング又は（ｉｉ）エポキシ変性双性イオン含有コポリマーの単層コーティングは、例えばタンパク質又は他のペプチド又はポリペプチドの試料などの試料を含む生体分子との接触にこれらを適応させるためのこれらの試料接触特性を改善することで、例えば非結合特性又は低結合特性などを有する表面を与える。例えば、本発明は、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に抵抗力を有する表面コーティングを得るための、共有結合している（ｉ）ポリマー双性イオンの単層コーティング又は（ｉｉ）エポキシ変性双性イオン含有コポリマーの単層コーティングでのこれらの製品の表面のコーティング方法を意図している。これらの共有結合している（ｉ）ポリマー双性イオンの単層コーティング又は（ｉｉ）エポキシ変性双性イオン含有コポリマーの単層コーティングは、生体分子を含む試料と接触する表面のためのコーティングとして使用される場合に好都合な特性を有する。
【００２０】
更に、ある態様によれば、本発明は、プラスチック容器の静電荷を低減する方法である。本発明は、（ｉ）表面に結合しているヒドロキシル基又は（ｉｉ）ヒドロキシル化プラスチック又はＳｉＯｘでコーティングされているガラス表面と、双性イオン官能基を含むシロキサン官能性ポリマーとの反応を利用することで、流体媒体中へのポリマーの溶解／分散の懸念なしに生体分子の吸着を著しく抑制し、非特異的な生体分子の表面への結合を著しく抑制することが可能である、共有結合している（ｉ）ポリマー双性イオンの単層コーティング又は（ｉｉ）エポキシ変性双性イオン含有コポリマーの単層を得る。コーティングは、コーティングされていないこと以外は容器が本質的に同一である参照容器と比較して、容器の静電荷を低減する。
【００２１】
本発明は、逐次的な反応を利用する。
【００２２】
実施形態（ｉ）では、これらの逐次反応は、（１）ヒドロキシ修飾された表面又はＳｉＯｘプラズマで修飾された表面を利用すること、次に（２）縮合（水又は揮発性アルコールの喪失（例えば、表面ＳｉＯＨ＋ポリマー（双性イオン−シロキサン−Ｓｉ（ＯＲ）ｘ）→表面ＳｉＯ−Ｓｉ（ポリマー（双性イオン−シロキサン）））＋ＲＯＨによって生じる双性イオン−シロキサンコポリマーを形成することを含む。ある実施形態では、ヒドロキシル官能性表面は、（Ａ）例えばＣ−ＯＨ部位を形成する炭素系ポリマー表面（ＡＣ）上への、又はＳｉ−ＯＨ部位を形成するケイ素系（ＳｉＯ２又はシリコーン）表面（ＡＳｉ）上へのＯ２／プラズマ反応により形成することができる。更に、ヒドロキシル官能性表面は、（Ｂ）例えばポリビニルアルコール（ＰＶＯＨ）などのポリマー又はケイ素系ポリマー表面（ＳｉＯ２又はシリコーン）など、新生表面が元々有しているものであってもよい。そのため、Ｏ２／プラズマによる表面作製方法は、表面上に元々備わっているヒドロキシル部位が存在する場合には任意選択的であってもよい。
【００２３】
実施形態（ｉｉ）では、これらの逐次反応は、（１）ヒドロキシ修飾表面又はＳｉＯｘプラズマ修飾表面を形成すること、次に（２）ヒドロキシ修飾表面又はＳｉＯｘプラズマ修飾表面をシリルアミンカップリング剤と反応させることによりアミン修飾表面を形成すること、次に（３）アミン修飾表面とエポキシ変性双性イオン含有コポリマーとの縮合により連結されたアミンを形成することを含む。
【００２４】
コーティングは、ポリマー状と親水性（イオン性部位へ水を結合）との両方であってもよく、プラスチック表面への生体分子の吸着及び非特異的な生体分子の結合に対する、耐久性のある立体的な及び結合水のバリアを与える。
【００２５】
双性イオン層は、予め形成されるポリマー双性イオンコーティングよりも薄い場合がある一方、蒸発による溶剤コーティング法は、（ａ）光学的に観察可能な不均一性、（ｂ）無駄なコーティング（必要とされる／望まれるよりも厚いコーティング）となる不均一なコーティングを生じる場合があり、本発明の材料は、生体分子の吸着及び／又は結合の優れた抑制をもたらすはずである。
【００２６】
関連する可能性がある特許の非網羅的なリストとしては、米国特許第６，０６８，８８４号明細書、米国特許第４，８４４，９８６号明細書、米国特許出願公開第２００６００４６００６号明細書、米国特許出願公開第２００４０２６７１９４号明細書、米国特許出願公開第２０１４０００４０２２号明細書、及び米国特許出願公開第２０１３０２０９７６６号明細書が挙げられる。
【００２７】
本明細書で引用する全ての参照文献は、それらの全体が参照により本明細書に組み込まれる。
【００２８】
本発明は、生体分子の低結合性若しくは非結合性及び／又は生体分子の低吸着性若しくは非吸着性を示す、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を得るための方法を提供する。
【００２９】
方法の実施形態（ｉ）は、（ａ）反応チャンバー内に基材を準備する工程；（ｂ）反応チャンバー内を真空引きする工程；（ｃ）Ｏ２を含有するガスを基材表面近傍に供給する工程；（ｄ）ガスからプラズマを発生させることでヒドロキシル官能性の基材表面を形成し、任意選択的に基材を加熱する工程；（ｅ）溶媒と少なくとも１つの双性イオン性コポリマーとを含有するコポリマー溶液を供給する工程であって、少なくとも１つの双性イオン性コポリマーが少なくとも１つのシロキサン部位と、少なくとも１つの双性イオン部位とを含む、工程；（ｆ）ヒドロキシル官能性表面を少なくとも１つの双性イオン性コポリマーと反応させ、任意選択的に基材を加熱する工程；（ｇ）任意選択的に待機する工程；（ｈ）コポリマー溶液を除去し、任意選択的に、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を乾燥させ、任意選択的に表面を加熱し、その結果、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を形成する工程を含む。
【００３０】
方法の実施形態（ｉｉ）は、（ａ）反応チャンバー内に基材を準備する工程；（ｂ）反応チャンバー内を真空引きする工程；（ｃ）Ｏ２を含有し、任意選択的にアルゴンを含有し、任意選択的に窒素を含有するガスを基材表面近傍に供給する工程；（ｄ）ガスからプラズマを発生させることで作製された基材表面を形成し、任意選択的に基材を加熱する工程；（ｅ）少なくとも１つのシリルアミンカップリング剤を含有する蒸気を供給してアミンで修飾された基材を得る工程；（ｆ）任意選択的に重合開始剤の存在下で、溶媒を含有するコポリマー溶液を供給する工程であって、コポリマーが少なくとも１つの共重合可能な双性イオン性モノマーと、少なくとも１つの共重合可能なエポキシモノマーとを含有する、工程；（ｇ）コポリマーをアミンで修飾された基材と反応させ、任意選択的に基材を加熱する工程；（ｈ）任意選択的に待機する工程；（ｉ）コポリマーを除去し、任意選択的に、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を乾燥させ、任意選択的に表面を加熱し、その結果、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を形成する工程を含む。
【００３１】
実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれも、生体分子の低結合性若しくは非結合性及び／又は生体分子の低吸着性若しくは非吸着性を示す、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を得るための方法を提供する。
【００３２】
実施形態（ｉ）は、（ａ）反応チャンバー内に基材を準備する工程；（ｂ）反応チャンバー内を真空引きする工程；（ｃ）有機ケイ素前駆体を含有し、任意選択的にＯ２を含有するガスを基材表面近傍に供給する工程；（ｄ）ガスからプラズマを発生させることで結果として形成されたヒドロキシル官能性の基材表面を形成する工程；（ｅ）溶媒と少なくとも１つの双性イオン性コポリマーとを含有するコポリマー溶液を供給する工程であって、少なくとも１つの双性イオン性コポリマーが少なくとも１つのシロキサン部位と、少なくとも１つの双性イオン部位とを含む、工程；（ｆ）ヒドロキシル官能性表面を少なくとも１つの双性イオン性コポリマーと反応させ、任意選択的に基材を加熱する工程；（ｇ）任意選択的に待機する工程；（ｈ）コポリマー溶液を除去し、任意選択的に、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を乾燥させ、任意選択的に表面を加熱し、その結果、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を形成する工程を含む。
【００３３】
実施形態（ｉｉ）は、（ａ）ＳｉＯｘでコーティングされているガラス表面である基材を反応チャンバー内に準備する工程；（ｂ）反応チャンバー内を真空引きする工程；（ｃ）Ｏ２を含有し、任意選択的にアルゴンを含有し、任意選択的に窒素を含有するガスを基材表面近傍に供給する工程；（ｄ）ガスからプラズマを発生させることで作製された基材表面を形成し、任意選択的に基材を加熱する工程；（ｅ）少なくとも１つのシリルアミンカップリング剤を含有する蒸気を供給してアミンで修飾された基材を得る工程；（ｆ）任意選択的に重合開始剤の存在下で、溶媒を含有するコポリマー溶液を供給する工程であって、コポリマーが少なくとも１つの共重合可能な双性イオン性モノマーと、少なくとも１つの共重合可能なエポキシモノマーとを含有する、工程；（ｇ）コポリマーをアミンで修飾された基材と反応させ、任意選択的に基材を加熱する工程；（ｈ）コポリマー溶液を除去する工程；（ｉ）任意選択的に、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を乾燥させる工程；（ｊ）任意選択的に表面を加熱し、その結果、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を形成する工程を含む。
【００３４】
実施形態（ｉ）は、生体分子の低結合性若しくは非結合性及び／又は生体分子の低吸着性若しくは非吸着性を示す、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を得るための方法を提供し、方法は、（ａ）ヒドロキシル官能性表面を有する基材を準備する工程；（ｂ）溶媒と少なくとも１つの双性イオン性コポリマーとを含有するコポリマー溶液を供給する工程であって、少なくとも１つの双性イオン性コポリマーが少なくとも１つのシロキサン部位と、少なくとも１つの双性イオン部位とを含む、工程；（ｃ）ヒドロキシル官能性表面を少なくとも１つの双性イオン性コポリマーと反応させ、任意選択的に基材を加熱する工程；（ｄ）任意選択的に待機する工程；（ｅ）コポリマー溶液を除去し、任意選択的に、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を乾燥させ、任意選択的に表面を加熱し、その結果、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を形成する工程を含む。
【００３５】
実施形態（ｉ）は、双性イオン性コポリマーを、作製された基材表面に共有結合させる方法を提供する。
【００３６】
実施形態（ｉｉ）は、少なくとも１つのシリルアミンカップリング剤が、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、４−アミノブチルトリエトキシシラン、Ｍ−アミノフェニルトリメトキシシラン、Ｐ−アミノフェニルトリメトキシシラン、Ｏ−アミノフェニルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリス（メトキシエトキシエトキシ）シラン、１１−アミノウンデシルトリエトキシシラン、３−（Ｍ−アミノフェノキシ）プロピルトリメトキシシラン、アミノプロピルシラントリオール、３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、３−アミノプロピルジイソプロピルエトキシシラン、３−アミノプロピルジメチルエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−［３−（トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（６−アミノヘキシル）アミノメチルトリエトキシシラン、Ｎ−（６−アミノヘキシル）アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−１１−アミノウンデシルトリメトキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェネチルトリメトキシシラン、Ｎ−３−［（アミノ（ポリプロピレンオキシ）］、アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルシラントリオール、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノイソブチルメチルジメトキシシラン、（アミノエチルアミノ）−３−イソブチルジメチルメトキシシラン、（３−トリメトキシシリルプロピル）ジエチレントリアミン、Ｎ−ブチルアミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−エチルアミノイソブチルトリメトキシシラン、Ｎ−メチルアミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニルアミノプロピルトリメトキシシラン、３−（Ｎ−アリルアミノ）プロピルトリメトキシシラン、（シクロヘキシルアミノメチル）トリエトキシシラン、Ｎ−シクロヘキシルアミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−エチルアミノイソブチルメチルジエトキシシラン、（フェニルアミノメチル）メチルジメトキシシラン、Ｎ−フェニルアミノメチルトリエトキシシラン、Ｎ−メチルアミノプロピルメチルジメトキシシラン、ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−（Ｎ−スチリルメチル−２−アミノエチルアミノ）−プロピルトリメトキシシラン塩酸塩、（２−Ｎ−ベンジルアミノエチル）−３−アミノプロピル−トリメトキシシラン、ビス（トリエトキシシリルプロピル）アミン、ビス（トリメトキシシリルプロピル）アミン、ビス［（３−トリメトキシシリル）プロピル］−エチレンジアミン、ビス［（３−トリメトキシシリル）プロピル］−エチレンジアミン、ビス（メチルジエトキシシリルプロピル）アミン、Ｎ−アリル−アザ−２，２−ジメトキシシラ−シクロペンタン、Ｎ−アミノエチル−アザ−２，２，４−トリメチル−シラシクロペンタン、Ｎ−（３−アミノプロピルジメチルシラ）アザ−２，２−ジメチル−２−シラシクロペンタン、Ｎ−Ｎ−ブチル−アザ−２，２−ジメトキシシラ−シクロペンタン、２，２−ジメトキシ−１，６−ジアザ−２−シラシクロ−オクタン、Ｎ−メチル−アザ−２，２，４−トリメチルシラ−シクロペンタン、１−（Ｎ−（Ｎ’，Ｎ’−ジメチルアミノエチル））−１−アザ−２，２，４−トリメチル−２−シラシクロペンタン、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される方法を提供する。
【００３７】
実施形態（ｉｉ）は、少なくとも１つの共重合可能な双性イオン性モノマーが、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート（ＭＰＣを含む）、２−（メタクリルオキシ）エチル２−（ジメチルアンモニオ）エチルホスフェート（別名＝２−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン；２−（メタクリルオキシ）エチル−２−（ジメチルアンモニオ）エチルカルボキシレート；２−（メタクリルオキシ）エチル−２−（ジメチルアンモニオ）プロピルスルホネート；２−（メタクリルアミド）エチル−２−（ジメチルアンモニオ）プロピルスルホネート；リン酸２−（メタクリロイルオキシ）エチル２−（トリメチルアンモニオ）エチルエステル）；３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、４−（メタ）アクリロイルオキシブチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、５−（メタ）アクリロイルオキシペンチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、６−（メタ）アクリロイルオキシヘキシル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２’−（トリプロピルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２’−（トリブチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシブチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシペンチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシヘキシル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、４−（メタ）アクリロイルオキシブチル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、５−（メタ）アクリロイルオキシペンチル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、６−（メタ）アクリロイルオキシヘキシル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、４−（メタ）アクリロイルオキシブチル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、５−（メタ）アクリロイルオキシペンチル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、６−（メタ）アクリロイルオキシヘキシル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、２−（ビニルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（アリルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ｐ−ビニルベンジルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ｐ−ビニルベンゾイルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（スチリルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ｐ−ビニルベンジル）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ビニルオキシカルボニル）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（アリルオキシカルボニル）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（アクリロイルアミノ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ビニルカルボニルアミノ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（アリルオキシカルボニルアミノ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ブチロイルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（クロトノイルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、エチル−（２’−トリメチルアンモニオエチルホスホリルエチル）フマレート、ブチル−（２’−トリメチルアンモニオエチルホスホリルエチル）フマレート、ヒドロキシエチル−（２’−トリメチルアンモニオエチルホスホリルエチル）フマレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート；ポリアルキレングリコール（メタ）アクリレートモノマー、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート；ω−カルボキシ（メタ）アクリレート、フタル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヘキサヒドロフタル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトン（ｎ＝２〜５）モノ（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルオキシエチルサクシネート；Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、ビニルピリジン、（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリル酸、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、無水マレイン酸、及びグリコ−２−ヒドロキシエチルモノメタクリレート（ＧＥＭＡ）、□−カルボキシエチル−３，３−ジメチルアンモニウムエチルメタクリレート、及びスルホプロピル−３，３−ジメチルアンモニウムエチルメタクリレート、並びにこれらの組み合わせからなる群から選択される方法を提供する。
【００３８】
実施形態（ｉｉ）は、少なくとも１つの共重合可能なエポキシモノマーが、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート（ＧＭＡ）、（Ｅ）−（オキシラン−２−イル）メチルブト−２−エノエート、（３，３−ジメチルオキシラン−２−イル）メチルメタクリレート、（Ｅ）−（オキシラン−２−イル）メチルシンナメート、（オキシラン−２−イル）メチル２−メチレンブタノエート、１−（オキシラン−２−イル）プロピルアクリレート、１−（オキシラン−２−イル）エチルメタクリレート、（オキシラン−２−イル）メチル３−メチル−２−メチレンブタノエート、（オキシラン−２−イル）メチル２−メチレンペンタノエート、（３−メチルオキシラン−２−イル）メチルアクリレート、２−（オキシラン−２−イル）プロパン−２−イルアクリレート、（オキシラン−２−イル）メチル２−メチレンヘキサノエート、（３−メチルオキシラン−２−イル）メチルメタクリレート、及び（３，３−ジメチルオキシラン−２−イル）メチルアクリレート、並びにこれらの組み合わせからなる群から選択される方法を提供する。
【００３９】
実施形態（ｉｉ）は、エポキシ変性双性イオン性コポリマーを、アミンで修飾された基材に共有結合させる方法を提供する。
【００４０】
実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれにおいても、溶媒は、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、塩化メチレン、１，２−ジクロロエタン、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される。
【００４１】
実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれも、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングが、処理されていない基材と比較して低減された生体分子の結合を有する方法を提供する。
【００４２】
実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれも、生体分子がヌクレオチド、アミノ酸、糖、脂肪酸、核酸分子、ポリペプチド、ポリヌクレオチド、多糖、脂質、ステロイド、糖タンパク質、リポタンパク質、糖脂質、ＤＮＡ、ＤＮＡ−タンパク質複合体、ＲＮＡ、ＲＮＡ−複合体、抗体、及び受容体、受容体融合構造体、受容体融合タンパク質、キメラタンパク質、抗体融合構造体、及び抗体融合タンパク質からなる群から選択される、方法を提供する。
【００４３】
実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれも、基材が容器の表面である方法を提供する。
【００４４】
実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれも、容器が、マイクロプレート；遠沈管；ピペットチップ；キュベット；マイクロウェルプレート；ＥＬＩＳＡプレート；マイクロタイタープレート；９６ウェルプレート；３８４ウェルプレート；１５３６ウェルプレート；丸底フラスコ；及びエルレンマイヤーフラスコからなる群から選択される方法を提供する。
【００４５】
実施形態（ｉ）は、１つの代替形態として、（ａ）反応チャンバー内に基材を準備すること；（ｂ）反応チャンバー内を真空引きすること；（ｃ）有機ケイ素前駆体を含有し、任意選択的にＯ２を含有するガスを基材表面近傍に供給すること；（ｄ）ガスからプラズマを発生させることでヒドロキシル官能性の基材表面を形成すること；（ｅ）溶媒と少なくとも１つの双性イオン性コポリマーとを含有するコポリマー溶液を供給することであって、少なくとも１つの双性イオン性コポリマーが少なくとも１つのシロキサン部位と少なくとも１つの双性イオン部位を含む、供給すること；（ｆ）ヒドロキシル官能性表面を少なくとも１つの双性イオン性コポリマーと反応させ、任意選択的に基材を加熱すること；（ｇ）任意選択的に待機すること；（ｈ）コポリマー溶液を除去し、任意選択的に、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を乾燥させ、任意選択的に表面を加熱し、その結果、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を形成することによって製造される、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた基材を提供する。
【００４６】
実施形態（ｉ）は、もう１つの代替形態として、（ａ）ヒドロキシル官能性表面を有する基材を準備すること；（ｂ）溶媒と少なくとも１つの双性イオン性コポリマーとを含有するコポリマー溶液を供給することであって、少なくとも１つの双性イオン性コポリマーが少なくとも１つのシロキサン部位と、少なくとも１つの双性イオン部位とを含む２つ以上のモノマーを含む、供給すること；（ｃ）ヒドロキシル官能性表面を少なくとも１つの双性イオン性コポリマーと反応させ、任意選択的に基材を加熱すること；（ｄ）任意選択的に待機すること；（ｅ）コポリマー溶液を除去し、任意選択的に、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を乾燥させ、任意選択的に表面を加熱し、その結果、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた基材を形成することによって製造される、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた基材を更に提供する。
【００４７】
実施形態（ｉｉ）は、（ａ）反応チャンバー内に基材を準備すること；（ｂ）反応チャンバー内を真空引きすること；（ｃ）Ｏ２を含有し、任意選択的にアルゴンを含有し、任意選択的に窒素を含有するガスを基材表面近傍に供給すること；（ｄ）ガスからプラズマを発生させることで作製された基材表面を形成し、任意選択的に基材を加熱すること；（ｅ）少なくとも１つのシリルアミンカップリング剤を含有する蒸気を供給してアミンで修飾された基材を得ること；（ｆ）任意選択的に重合開始剤の存在下で、溶媒を含有するコポリマー溶液を供給することであって、コポリマーが少なくとも１つの共重合可能な双性イオン性モノマーと、少なくとも１つの共重合可能なエポキシモノマーとを含有する、供給すること；（ｇ）コポリマーをアミンで修飾された基材と反応させ、任意選択的に基材を加熱すること；コポリマー溶液を除去し、任意選択的に、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を乾燥させ、任意選択的に表面を加熱し、その結果、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた基材を形成することによって製造される、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた基材を提供する。
【００４８】
実施形態（ｉ）は、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングが、処理されていない基材と比較して低減された生体分子の結合を有する、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた基材を提供する。生体分子は、ヌクレオチド、アミノ酸、糖、脂肪酸、核酸分子、ポリペプチド、ポリヌクレオチド、多糖、脂質、ステロイド、糖タンパク質、リポタンパク質、糖脂質、ＤＮＡ、ＤＮＡ−タンパク質複合体、ＲＮＡ、ＲＮＡ−複合体、抗体、及び受容体、受容体融合構造体、受容体融合タンパク質、キメラタンパク質、抗体融合構造体、及び抗体融合タンパク質からなる群から選択される。
【００４９】
実施形態（ｉｉ）は、（ａ）ＳｉＯｘでコーティングされているガラス表面である基材を反応チャンバー内に準備すること；（ｂ）反応チャンバー内を真空引きすること；（ｃ）Ｏ２を含有し、任意選択的にアルゴンを含有し、任意選択的に窒素を含有するガスを基材表面近傍に供給すること；（ｄ）ガスからプラズマを発生させることで作製された基材表面を形成し、任意選択的に基材を加熱すること；（ｅ）少なくとも１つのシリルアミンカップリング剤を含有する蒸気を供給してアミンで修飾された基材を得ること；（ｆ）任意選択的に重合開始剤の存在下で、溶媒を含有するコポリマー溶液を供給することであって、コポリマーが少なくとも１つの共重合可能な双性イオン性モノマーと、少なくとも１つの共重合可能なエポキシモノマーとを含有する、供給すること；（ｇ）コポリマーをアミンで修飾された基材と反応させ、任意選択的に基材を加熱すること；（ｈ）任意選択的に待機すること；（ｉ）コポリマー溶液を除去し、任意選択的に、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を乾燥させ、任意選択的に表面を加熱し、その結果、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた基材を形成することによって製造される、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた基材を提供する。
【００５０】
実施形態（ｉｉ）において、少なくとも１つのシリルアミンカップリング剤は、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、４−アミノブチルトリエトキシシラン、Ｍ−アミノフェニルトリメトキシシラン、Ｐ−アミノフェニルトリメトキシシラン、Ｏ−アミノフェニルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリス（メトキシエトキシエトキシ）シラン、１１−アミノウンデシルトリエトキシシラン、３−（Ｍ−アミノフェノキシ）プロピルトリメトキシシラン、アミノプロピルシラントリオール、３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、３−アミノプロピルジイソプロピルエトキシシラン、３−アミノプロピルジメチルエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−［３−（トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（６−アミノヘキシル）アミノメチルトリエトキシシラン、Ｎ−（６−アミノヘキシル）アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−１１−アミノウンデシルトリメトキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェネチルトリメトキシシラン、Ｎ−３−［（アミノ（ポリプロピレンオキシ）］、アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルシラントリオール、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノイソブチルメチルジメトキシシラン、（アミノエチルアミノ）−３−イソブチルジメチルメトキシシラン、（３−トリメトキシシリルプロピル）ジエチレントリアミン、Ｎ−ブチルアミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−エチルアミノイソブチルトリメトキシシラン、Ｎ−メチルアミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニルアミノプロピルトリメトキシシラン、３−（Ｎ−アリルアミノ）プロピルトリメトキシシラン、（シクロヘキシルアミノメチル）トリエトキシシラン、Ｎ−シクロヘキシルアミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−エチルアミノイソブチルメチルジエトキシシラン、（フェニルアミノメチル）メチルジメトキシシラン、Ｎ−フェニルアミノメチルトリエトキシシラン、Ｎ−メチルアミノプロピルメチルジメトキシシラン、ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−（Ｎ−スチリルメチル−２−アミノエチルアミノ）−プロピルトリメトキシシラン塩酸塩、（２−Ｎ−ベンジルアミノエチル）−３−アミノプロピル−トリメトキシシラン、ビス（トリエトキシシリルプロピル）アミン、ビス（トリメトキシシリルプロピル）アミン、ビス［（３−トリメトキシシリル）プロピル］−エチレンジアミン、ビス［（３−トリメトキシシリル）プロピル］−エチレンジアミン、ビス（メチルジエトキシシリルプロピル）アミン、Ｎ−アリル−アザ−２，２−ジメトキシシラ−シクロペンタン、Ｎ−アミノエチル−アザ−２，２，４−トリメチル−シラシクロペンタン、Ｎ−（３−アミノプロピルジメチルシラ）アザ−２，２−ジメチル−２−シラシクロペンタン、Ｎ−Ｎ−ブチル−アザ−２，２−ジメトキシシラ−シクロペンタン、２，２−ジメトキシ−１，６−ジアザ−２−シラシクロ−オクタン、Ｎ−メチル−アザ−２，２，４−トリメチルシラ−シクロペンタン、１−（Ｎ−（Ｎ’，Ｎ’−ジメチルアミノエチル））−１−アザ−２，２，４−トリメチル−２−シラシクロペンタン、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される。
【００５１】
実施形態（ｉｉ）は、少なくとも１つの共重合可能な双性イオン性モノマーが、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート（ＭＰＣを含む）、２−（メタクリルオキシ）エチル２−（ジメチルアンモニオ）エチルホスフェート（別名＝２−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン；２−（メタクリルオキシ）エチル−２−（ジメチルアンモニオ）エチルカルボキシレート；２−（メタクリルオキシ）エチル−２−（ジメチルアンモニオ）プロピルスルホネート；２−（メタクリルアミド）エチル−２−（ジメチルアンモニオ）プロピルスルホネート；リン酸２−（メタクリロイルオキシ）エチル２−（トリメチルアンモニオ）エチルエステル）；３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、４−（メタ）アクリロイルオキシブチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、５−（メタ）アクリロイルオキシペンチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、６−（メタ）アクリロイルオキシヘキシル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２’−（トリプロピルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２’−（トリブチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシブチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシペンチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシヘキシル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、４−（メタ）アクリロイルオキシブチル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、５−（メタ）アクリロイルオキシペンチル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、６−（メタ）アクリロイルオキシヘキシル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、４−（メタ）アクリロイルオキシブチル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、５−（メタ）アクリロイルオキシペンチル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、６−（メタ）アクリロイルオキシヘキシル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、２−（ビニルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（アリルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ｐ−ビニルベンジルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ｐ−ビニルベンゾイルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（スチリルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ｐ−ビニルベンジル）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ビニルオキシカルボニル）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（アリルオキシカルボニル）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（アクリロイルアミノ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ビニルカルボニルアミノ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（アリルオキシカルボニルアミノ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ブチロイルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（クロトノイルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、エチル−（２’−トリメチルアンモニオエチルホスホリルエチル）フマレート、ブチル−（２’−トリメチルアンモニオエチルホスホリルエチル）フマレート、ヒドロキシエチル−（２’−トリメチルアンモニオエチルホスホリルエチル）フマレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート；ポリアルキレングリコール（メタ）アクリレートモノマー、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート；ω−カルボキシ（メタ）アクリレート、フタル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヘキサヒドロフタル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトン（ｎ＝２〜５）モノ（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルオキシエチルサクシネート；Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、ビニルピリジン、（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリル酸、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、無水マレイン酸、及びグリコ−２−ヒドロキシエチルモノメタクリレート（ＧＥＭＡ）、ｂ−カルボキシエチル−３，３−ジメチルアンモニウムエチルメタクリレート、及びスルホプロピル−３，３−ジメチルアンモニウムエチルメタクリレート、並びにこれらの組み合わせからなる群から選択される、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた基材を提供する。
【００５２】
実施形態（ｉ）は、（ａ）ヒドロキシル官能性表面を有する基材を準備すること；（ｂ）溶媒と少なくとも１つの双性イオン性コポリマーとを含有するコポリマー溶液を供給することであって、少なくとも１つの双性イオン性コポリマーが少なくとも１つのシロキサン部位と、少なくとも１つの双性イオン部位とを含む２つ以上のモノマーを含む、供給すること；（ｃ）ヒドロキシル官能性表面を少なくとも１つの双性イオン性コポリマーと反応させ、任意選択的に基材を加熱すること；（ｄ）任意選択的に待機すること；（ｅ）コポリマー溶液を除去し、任意選択的に、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を乾燥させ、任意選択的に表面を加熱し、その結果、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた基材を形成することによって製造される、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた基材を提供する。
【００５３】
実施形態（ｉ）は、作製された基材表面に双性イオン性コポリマーが共有結合する、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた基材を提供する。
【００５４】
実施形態（ｉｉ）の少なくとも１つの共重合可能なエポキシモノマーは、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート（ＧＭＡ）、（Ｅ）−（オキシラン−２−イル）メチルブト−２−エノエート、（３，３−ジメチルオキシラン−２−イル）メチルメタクリレート、（Ｅ）−（オキシラン−２−イル）メチルシンナメート、（オキシラン−２−イル）メチル２−メチレンブタノエート、１−（オキシラン−２−イル）プロピルアクリレート、１−（オキシラン−２−イル）エチルメタクリレート、（オキシラン−２−イル）メチル３−メチル−２−メチレンブタノエート、（オキシラン−２−イル）メチル２−メチレンペンタノエート、（３−メチルオキシラン−２−イル）メチルアクリレート、２−（オキシラン−２−イル）プロパン−２−イルアクリレート、（オキシラン−２−イル）メチル２−メチレンヘキサノエート、（３−メチルオキシラン−２−イル）メチルメタクリレート、及び（３，３−ジメチルオキシラン−２−イル）メチルアクリレート、並びにこれらの組み合わせからなる群から選択される。
【００５５】
実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれも、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングが、処理されていない基材と比較して低減された生体分子の結合を有する、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた基材を提供する。
【００５６】
実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれも、生体分子がヌクレオチド、アミノ酸、糖、脂肪酸、核酸分子、ポリペプチド、ポリヌクレオチド、多糖、脂質、ステロイド、糖タンパク質、リポタンパク質、糖脂質、ＤＮＡ、ＤＮＡ−タンパク質複合体、ＲＮＡ、ＲＮＡ−複合体、抗体、及び受容体、受容体融合構造体、受容体融合タンパク質、キメラタンパク質、抗体融合構造体、及び抗体融合タンパク質からなる群から選択される、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた基材を提供する。
【００５７】
本発明は、基材が容器の表面である、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた基材を提供する。
【００５８】
本発明は、容器がマイクロプレート；遠沈管；ピペットチップ；キュベット；マイクロウェルプレート；ＥＬＩＳＡプレート；マイクロタイタープレート；９６ウェルプレート；及び３８４ウェルプレートからなる群から選択される、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた基材を提供する。
【００５９】
１つの代替形態における実施形態（ｉ）は、（ａ）反応チャンバー内に基材を準備すること；（ｂ）反応チャンバー内を真空引きすること；（ｃ）Ｏ２を含有するガスを基材表面近傍に供給すること；（ｄ）ガスからプラズマを発生させることでヒドロキシル官能性の基材表面を形成し、任意選択的に基材を加熱すること；（ｅ）溶媒と少なくとも１つの双性イオン性コポリマーとを含有するコポリマー溶液を供給することであって、少なくとも１つの双性イオン性コポリマーが少なくとも１つのシロキサン部位と、少なくとも１つの双性イオン部位とを含む２つ以上のモノマーを含む、供給すること；（ｆ）ヒドロキシル官能性表面を少なくとも１つの双性イオン性コポリマーと反応させ、任意選択的に基材を加熱すること；（ｇ）任意選択的に待機すること；（ｈ）コポリマー溶液を除去し、任意選択的に、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を乾燥させ、任意選択的に表面を加熱し、その結果、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた容器を形成することによって製造される、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングで少なくとも一部がコーティングされている内部表面を有する容器を提供する。
【００６０】
もう１つの代替形態における実施形態（ｉ）は、（ａ）ヒドロキシル官能性表面基材を準備すること；（ｂ）溶媒と少なくとも１つの双性イオン性コポリマーとを含有するコポリマー溶液を供給することであって、少なくとも１つの双性イオン性コポリマーが少なくとも１つのシロキサン部位と、少なくとも１つの双性イオン部位とを含む２つ以上のモノマーを含む、供給すること；（ｃ）ヒドロキシル官能性表面を少なくとも１つの双性イオン性コポリマーと反応させ、任意選択的に基材を加熱すること；（ｃ）任意選択的に待機すること；（ｄ）コポリマー溶液を除去し、任意選択的に、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を乾燥させ、任意選択的に表面を加熱し、その結果、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた容器を形成することによって製造される、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングで少なくとも一部がコーティングされている内部表面を有する容器を提供する。
【００６１】
実施形態（ｉｉ）は、（ａ）反応チャンバー内に基材を準備すること；（ｂ）反応チャンバー内を真空引きすること；（ｃ）Ｏ２を含有し、任意選択的にアルゴンを含有し、任意選択的に窒素を含有するガスを基材表面近傍に供給すること；（ｄ）ガスからプラズマを発生させることで作製された基材表面を形成し、任意選択的に基材を加熱すること；（ｅ）少なくとも１つのシリルアミンカップリング剤を含有する蒸気を供給してアミンで修飾された基材を得ること；（ｆ）任意選択的に重合開始剤の存在下で、溶媒を含有するコポリマー溶液を供給することであって、コポリマーが少なくとも１つの共重合可能な双性イオン性モノマーと、少なくとも１つの共重合可能なエポキシモノマーとを含有する、供給すること；（ｇ）コポリマーをアミンで修飾された基材と反応させ、任意選択的に基材を加熱すること；（ｈ）任意選択的に待機すること；（ｉ）コポリマー溶液を除去し、任意選択的に、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を乾燥させ、任意選択的に表面を加熱し、その結果、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた容器を形成することによって製造される、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングで少なくとも一部がコーティングされている内部表面を有する容器を提供する。
【００６２】
実施形態（ｉ）は、（ａ）反応チャンバー内に基材を準備すること；（ｂ）反応チャンバー内を真空引きすること；（ｃ）有機ケイ素前駆体と任意選択的なＯ２とを含有するガスを基材表面近傍に供給すること；（ｄ）ガスからプラズマを発生させることで基材表面上にヒドロキシル官能性の表面を形成すること；（ｅ）溶媒と少なくとも１つの双性イオン性コポリマーとを含有するコポリマー溶液を供給することであって、少なくとも１つの双性イオン性コポリマーが少なくとも１つのシロキサン部位と、少なくとも１つの双性イオン部位とを含む２つ以上のモノマーを含む、供給すること；（ｆ）ヒドロキシル官能性表面を少なくとも１つの双性イオン性コポリマーと反応させ、任意選択的に基材を加熱すること；（ｇ）任意選択的に待機すること；（ｈ）コポリマー溶液を除去し、任意選択的に、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を乾燥させ、任意選択的に表面を加熱し、その結果、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた容器を形成することによって製造される、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングで少なくとも一部がコーティングされている内部表面を有する容器を提供する。
【００６３】
実施形態（ｉｉ）は、（ａ）ＳｉＯｘでコーティングされているガラス表面である基材を反応チャンバー内に準備すること；（ｂ）反応チャンバー内を真空引きすること；（ｃ）Ｏ２を含有し、任意選択的にアルゴンを含有し、任意選択的に窒素を含有するガスを基材表面近傍に供給すること；（ｄ）ガスからプラズマを発生させることで作製された基材表面を形成し、任意選択的に基材を加熱すること；（ｅ）少なくとも１つのシリルアミンカップリング剤を含有する蒸気を供給してアミンで修飾された基材を得ること；（ｆ）任意選択的に重合開始剤の存在下で、溶媒を含有するコポリマー溶液を供給することであって、コポリマーが少なくとも１つの共重合可能な双性イオン性モノマーと、少なくとも１つの共重合可能なエポキシモノマーとを含有する、供給すること；（ｇ）コポリマーをアミンで修飾された基材と反応させ、任意選択的に基材を加熱すること；（ｈ）任意選択的に待機すること；（ｉ）コポリマー溶液を除去し、任意選択的に、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を乾燥させ、任意選択的に表面を加熱し、その結果、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた容器を形成することによって製造される、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングで少なくとも一部がコーティングされている内部表面を有する容器を提供する。
【００６４】
実施形態（ｉ）は、（ａ）ヒドロキシル官能性表面基材を準備すること；（ｂ）溶媒と少なくとも１つの双性イオン性コポリマーとを含有するコポリマー溶液を供給することであって、少なくとも１つの双性イオン性コポリマーが少なくとも１つのシロキサン部位と、少なくとも１つの双性イオン部位とを含む２つ以上のモノマーを含む、供給すること；（ｃ）ヒドロキシル官能性表面を少なくとも１つの双性イオン性コポリマーと反応させ、任意選択的に基材を加熱すること；（ｃ）任意選択的に待機すること；（ｄ）コポリマー溶液を除去し、任意選択的に、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を乾燥させ、任意選択的に表面を加熱し、その結果、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた容器を形成することによって製造される、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングで少なくとも一部がコーティングされている内部表面を有する容器を提供する。
【００６５】
実施形態（ｉ）は、その代わりに、（ａ）ヒドロキシル官能性表面基材を準備すること；（ｂ）溶媒と少なくとも１つの双性イオン性コポリマーとを含有するコポリマー溶液を供給することであって、少なくとも１つの双性イオン性コポリマーが少なくとも１つのシロキサン部位と、少なくとも１つの双性イオン部位とを含む２つ以上のモノマーを含む、供給すること；（ｃ）ヒドロキシル官能性表面を少なくとも１つの双性イオン性コポリマーと反応させ、任意選択的に基材を加熱すること；（ｃ）任意選択的に待機すること；（ｄ）コポリマー溶液を除去し、任意選択的に、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を乾燥させ、任意選択的に表面を加熱し、その結果、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた容器を形成することによって製造される、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングで少なくとも一部がコーティングされている内部表面を有する容器を提供する。
【００６６】
本発明は、作製された基材表面に双性イオン性コポリマーが共有結合している、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた容器を提供する。
【００６７】
実施形態（ｉｉ）は、少なくとも１つのシリルアミンカップリング剤が、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、４−アミノブチルトリエトキシシラン、Ｍ−アミノフェニルトリメトキシシラン、Ｐ−アミノフェニルトリメトキシシラン、Ｏ−アミノフェニルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリス（メトキシエトキシエトキシ）シラン、１１−アミノウンデシルトリエトキシシラン、３−（Ｍ−アミノフェノキシ）プロピルトリメトキシシラン、アミノプロピルシラントリオール、３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、３−アミノプロピルジイソプロピルエトキシシラン、３−アミノプロピルジメチルエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−［３−（トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（６−アミノヘキシル）アミノメチルトリエトキシシラン、Ｎ−（６−アミノヘキシル）アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−１１−アミノウンデシルトリメトキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェネチルトリメトキシシラン、Ｎ−３−［（アミノ（ポリプロピレンオキシ）］、アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルシラントリオール、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノイソブチルメチルジメトキシシラン、（アミノエチルアミノ）−３−イソブチルジメチルメトキシシラン、（３−トリメトキシシリルプロピル）ジエチレントリアミン、Ｎ−ブチルアミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−エチルアミノイソブチルトリメトキシシラン、Ｎ−メチルアミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニルアミノプロピルトリメトキシシラン、３−（Ｎ−アリルアミノ）プロピルトリメトキシシラン、（シクロヘキシルアミノメチル）トリエトキシシラン、Ｎ−シクロヘキシルアミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−エチルアミノイソブチルメチルジエトキシシラン、（フェニルアミノメチル）メチルジメトキシシラン、Ｎ−フェニルアミノメチルトリエトキシシラン、Ｎ−メチルアミノプロピルメチルジメトキシシラン、ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−（Ｎ−スチリルメチル−２−アミノエチルアミノ）−プロピルトリメトキシシラン塩酸塩、（２−Ｎ−ベンジルアミノエチル）−３−アミノプロピル−トリメトキシシラン、ビス（トリエトキシシリルプロピル）アミン、ビス（トリメトキシシリルプロピル）アミン、ビス［（３−トリメトキシシリル）プロピル］−エチレンジアミン、ビス［（３−トリメトキシシリル）プロピル］−エチレンジアミン、ビス（メチルジエトキシシリルプロピル）アミン、Ｎ−アリル−アザ−２，２−ジメトキシシラ−シクロペンタン、Ｎ−アミノエチル−アザ−２，２，４−トリメチル−シラシクロペンタン、Ｎ−（３−アミノプロピルジメチルシラ）アザ−２，２−ジメチル−２−シラシクロペンタン、Ｎ−Ｎ−ブチル−アザ−２，２−ジメトキシシラ−シクロペンタン、２，２−ジメトキシ−１，６−ジアザ−２−シラシクロ−オクタン、Ｎ−メチル−アザ−２，２，４−トリメチルシラ−シクロペンタン、１−（Ｎ−（Ｎ’，Ｎ’−ジメチルアミノエチル））−１−アザ−２，２，４−トリメチル−２−シラシクロペンタン、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた容器を提供する。
【００６８】
実施形態（ｉｉ）は、少なくとも１つの共重合可能な双性イオン性モノマーが、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート（ＭＰＣを含む）、２−（メタクリルオキシ）エチル２−（ジメチルアンモニオ）エチルホスフェート（別名＝２−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン；２−（メタクリルオキシ）エチル−２−（ジメチルアンモニオ）エチルカルボキシレート；２−（メタクリルオキシ）エチル−２−（ジメチルアンモニオ）プロピルスルホネート；２−（メタクリルアミド）エチル−２−（ジメチルアンモニオ）プロピルスルホネート；リン酸２−（メタクリロイルオキシ）エチル２−（トリメチルアンモニオ）エチルエステル）；３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、４−（メタ）アクリロイルオキシブチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、５−（メタ）アクリロイルオキシペンチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、６−（メタ）アクリロイルオキシヘキシル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２’−（トリプロピルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２’−（トリブチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシブチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシペンチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシヘキシル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、４−（メタ）アクリロイルオキシブチル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、５−（メタ）アクリロイルオキシペンチル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、６−（メタ）アクリロイルオキシヘキシル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、４−（メタ）アクリロイルオキシブチル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、５−（メタ）アクリロイルオキシペンチル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、６−（メタ）アクリロイルオキシヘキシル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、２−（ビニルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（アリルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ｐ−ビニルベンジルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ｐ−ビニルベンゾイルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（スチリルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ｐ−ビニルベンジル）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ビニルオキシカルボニル）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（アリルオキシカルボニル）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（アクリロイルアミノ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ビニルカルボニルアミノ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（アリルオキシカルボニルアミノ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ブチロイルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（クロトノイルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、エチル−（２’−トリメチルアンモニオエチルホスホリルエチル）フマレート、ブチル−（２’−トリメチルアンモニオエチルホスホリルエチル）フマレート、ヒドロキシエチル−（２’−トリメチルアンモニオエチルホスホリルエチル）フマレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート；ポリアルキレングリコール（メタ）アクリレートモノマー、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート；ω−カルボキシ（メタ）アクリレート、フタル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヘキサヒドロフタル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトン（ｎ＝２〜５）モノ（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルオキシエチルサクシネート；Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、ビニルピリジン、（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリル酸、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、無水マレイン酸、及びグリコ−２−ヒドロキシエチルモノメタクリレート（ＧＥＭＡ）、ｂ−カルボキシエチル−３，３−ジメチルアンモニウムエチルメタクリレート、及びスルホプロピル−３，３−ジメチルアンモニウムエチルメタクリレート、並びにこれらの組み合わせからなる群から選択される、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた容器を提供する。
【００６９】
実施形態（ｉｉ）は、少なくとも１つの共重合可能なエポキシモノマーが、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート（ＧＭＡ）、（Ｅ）−（オキシラン−２−イル）メチルブト−２−エノエート、（３，３−ジメチルオキシラン−２−イル）メチルメタクリレート、（Ｅ）−（オキシラン−２−イル）メチルシンナメート、（オキシラン−２−イル）メチル２−メチレンブタノエート、１−（オキシラン−２−イル）プロピルアクリレート、１−（オキシラン−２−イル）エチルメタクリレート、（オキシラン−２−イル）メチル３−メチル−２−メチレンブタノエート、（オキシラン−２−イル）メチル２−メチレンペンタノエート、（３−メチルオキシラン−２−イル）メチルアクリレート、２−（オキシラン−２−イル）プロパン−２−イルアクリレート、（オキシラン−２−イル）メチル２−メチレンヘキサノエート、（３−メチルオキシラン−２−イル）メチルメタクリレート、及び（３，３−ジメチルオキシラン−２−イル）メチルアクリレート、並びにこれらの組み合わせからなる群から選択される、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた容器を提供する。
【００７０】
実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれも、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングが、処理されていない基材と比較して低減された生体分子の結合を有する、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた容器を提供する。
【００７１】
実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれも、生体分子がヌクレオチド、アミノ酸、糖、脂肪酸、核酸分子、ポリペプチド、ポリヌクレオチド、多糖、脂質、ステロイド、糖タンパク質、リポタンパク質、糖脂質、ＤＮＡ、ＤＮＡ−タンパク質複合体、ＲＮＡ、ＲＮＡ−複合体、抗体、及び受容体、受容体融合構造体、受容体融合タンパク質、キメラタンパク質、抗体融合構造体、及び抗体融合タンパク質からなる群から選択される、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた容器を提供する。
【００７２】
実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれも、容器が、マイクロプレート；遠沈管；ピペットチップ；キュベット；マイクロウェルプレート；ＥＬＩＳＡプレート；マイクロタイタープレート；９６ウェルプレート；及び３８４ウェルプレート；１５３６ウェルプレート；丸底フラスコ；及びエルレンマイヤーフラスコからなる群から選択される、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた容器を提供する。
【００７３】
実施形態（ｉ）は、双性イオン性コポリマーが、（３−アクリルオキシプロピル）トリメトキシシラン、メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、ｎ−（３−アクリルオキシ−２−ヒドロキシプロピル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、ｏ−（メタクリルオキシエチル）−ｎ−（トリエトキシシリルプロピル）ウレタン、ｎ−（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロピル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、メタクリルオキシメチルトリエトキシシラン、メタクリルオキシメチルトリメトキシシラン、メタクリルオキシプロピルトリエトキシシラン、（３−アクリルオキシプロピル）メチル−ジメトキシシラン、（メタクリルオキシメチル）メチル−ジエトキシシラン、（メタクリルオキシメチル）メチル−ジメトキシシラン、メタクリルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、メタクリルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、メタクリルオキシプロピルジメチルエトキシシラン、メタクリルオキシプロピルジメチルメトキシシラン、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される少なくとも１つのシロキサン部位と；２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート（ＭＰＣを含む）、２−（メタクリルオキシ）エチル２−（ジメチルアンモニオ）エチルホスフェート（別名＝２−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン；２−（メタクリルオキシ）エチル−２−（ジメチルアンモニオ）エチルカルボキシレート；２−（メタクリルオキシ）エチル−２−（ジメチルアンモニオ）プロピルスルホネート；２−（メタクリルアミド）エチル−２−（ジメチルアンモニオ）プロピルスルホネート；リン酸２−（メタクリロイルオキシ）エチル２−（トリメチルアンモニオ）エチルエステル）；３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、４−（メタ）アクリロイルオキシブチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、５−（メタ）アクリロイルオキシペンチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、６−（メタ）アクリロイルオキシヘキシル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２’−（トリプロピルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２’−（トリブチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシブチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシペンチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシヘキシル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、４−（メタ）アクリロイルオキシブチル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、５−（メタ）アクリロイルオキシペンチル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、６−（メタ）アクリロイルオキシヘキシル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、４−（メタ）アクリロイルオキシブチル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、５−（メタ）アクリロイルオキシペンチル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、６−（メタ）アクリロイルオキシヘキシル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、２−（ビニルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（アリルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ｐ−ビニルベンジルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ｐ−ビニルベンゾイルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（スチリルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ｐ−ビニルベンジル）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ビニルオキシカルボニル）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（アリルオキシカルボニル）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（アクリロイルアミノ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ビニルカルボニルアミノ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（アリルオキシカルボニルアミノ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ブチロイルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（クロトノイルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、エチル−（２’−トリメチルアンモニオエチルホスホリルエチル）フマレート、ブチル−（２’−トリメチルアンモニオエチルホスホリルエチル）フマレート、ヒドロキシエチル−（２’−トリメチルアンモニオエチルホスホリルエチル）フマレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート；ポリアルキレングリコール（メタ）アクリレートモノマー、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート；ω−カルボキシ（メタ）アクリレート、フタル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヘキサヒドロフタル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトン（ｎ＝２〜５）モノ（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルオキシエチルサクシネート；Ｎ−ビニル−２��ピロリドン、ビニルピリジン、（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリル酸、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、無水マレイン酸、及びグリコ−２−ヒドロキシエチルモノメタクリレート（ＧＥＭＡ）、−カルボキシエチル−３，３−ジメチルアンモニウムエチルメタクリレート、及びスルホプロピル−３，３−ジメチルアンモニウムエチルメタクリレート、並びにこれらの組み合わせからなる群から選択される少なくとも１つの双性イオン部位とを含むことを提供する。
【００７４】
生体分子の低結合性若しくは非結合性及び／又は生体分子の低吸着性若しくは非吸着性を示す、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を付与するための実施形態（ｉ）による方法が述べられ、方法は、
（ａ）反応チャンバー内に基材を準備する工程；
（ｂ）反応チャンバー内を真空引きする工程；
（ｃ）Ｏ2を含有するガスを基材表面近傍に供給する工程；
（ｄ）ガスからプラズマを発生させることでヒドロキシル官能性の基材表面を形成し、任意選択的に基材を加熱する工程；
（ｅ）溶媒と少なくとも１つの双性イオン性コポリマーとを含有するコポリマー溶液を供給する工程であって、少なくとも１つの双性イオン性コポリマーが少なくとも１つのシロキサン部位と、少なくとも１つの双性イオン部位とを含む、工程；
（ｆ）ヒドロキシル官能性表面を少なくとも１つの双性イオン性コポリマーと反応させ、任意選択的に基材を加熱する工程；
（ｇ）任意選択的に待機する工程；
（ｈ）コポリマー溶液を除去し、任意選択的に、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を乾燥させ、任意選択的に表面を加熱し、その結果、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を形成する工程
を含む。
【００７５】
実施形態（ｉ）において、任意選択的に、
（ａ）反応チャンバー内に基材を準備する工程；
（ｂ）反応チャンバー内を真空引きする工程；
（ｃ）有機ケイ素前駆体と任意選択的なＯ2とを含有するガスを基材表面近傍に供給する工程；
（ｄ）ガスからプラズマを発生させることでヒドロキシル官能性の基材表面を形成する工程；
（ｅ）溶媒と少なくとも１つの双性イオン性コポリマーとを含有するコポリマー溶液を供給する工程であって、少なくとも１つの双性イオン性コポリマーが少なくとも１つのシロキサン部位と、少なくとも１つの双性イオン部位とを含む、工程；
（ｆ）ヒドロキシル官能性表面を少なくとも１つの双性イオン性コポリマーと反応させ、任意選択的に基材を加熱する工程；
（ｇ）任意選択的に待機する工程；
（ｈ）コポリマー溶液を除去し、任意選択的に、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を乾燥させ、任意選択的に表面を加熱し、その結果、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を形成する工程
を含む方法である。
【００７６】
実施形態（ｉ）において、任意選択的に、
（ａ）ヒドロキシル官能性表面を有する基材を準備する工程；
（ｂ）溶媒と少なくとも１つの双性イオン性コポリマーとを含有するコポリマー溶液を供給する工程であって、少なくとも１つの双性イオン性コポリマーが少なくとも１つのシロキサン部位と、少なくとも１つの双性イオン部位とを含む、工程；
（ｃ）ヒドロキシル官能性表面を少なくとも１つの双性イオン性コポリマーと反応させ、任意選択的に基材を加熱する工程；
（ｄ）任意選択的に待機する工程；
（ｅ）コポリマー溶液を除去し、任意選択的に、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を乾燥させ、任意選択的に表面を加熱し、その結果、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を形成する工程
を含む方法である。
【００７７】
実施形態（ｉ）において、任意選択的に、
（ａ）ヒドロキシル官能性表面を有する基材を準備する工程；
（ｂ）溶媒と少なくとも１つの双性イオン性コポリマーとを含有するコポリマー溶液を供給する工程であって、少なくとも１つの双性イオン性コポリマーが少なくとも１つのシロキサン部位と、少なくとも１つの双性イオン部位とを含む、工程；
（ｃ）ヒドロキシル官能性表面を少なくとも１つの双性イオン性コポリマーと反応させ、任意選択的に基材を加熱する工程；
（ｄ）任意選択的に待機する工程；
（ｅ）コポリマー溶液を除去し、任意選択的に、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を乾燥させ、任意選択的に表面を加熱し、その結果、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を形成する工程
を含む方法である。
【００７８】
実施形態（ｉ）において、任意選択的に、双性イオン性コポリマーは、（３−アクリルオキシプロピル）トリメトキシシラン、メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、ｎ−（３−アクリルオキシ−２−ヒドロキシプロピル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、ｏ−（メタクリルオキシエチル）−ｎ−（トリエトキシシリルプロピル）ウレタン、ｎ−（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロピル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、メタクリルオキシメチルトリエトキシシラン、メタクリルオキシメチルトリメトキシシラン、メタクリルオキシプロピルトリエトキシシラン、（３−アクリルオキシプロピル）メチル−ジメトキシシラン、（メタクリルオキシメチル）メチル−ジエトキシシラン、（メタクリルオキシメチル）メチル−ジメトキシシラン、メタクリルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、メタクリルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、メタクリルオキシプロピルジメチルエトキシシラン、メタクリルオキシプロピルジメチルメトキシシラン、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される少なくとも１つのシロキサン部位と；２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート（ＭＰＣを含む）、２−（メタクリルオキシ）エチル２−（ジメチルアンモニオ）エチルホスフェート（別名＝２−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン；２−（メタクリルオキシ）エチル−２−（ジメチルアンモニオ）エチルカルボキシレート；２−（メタクリルオキシ）エチル−２−（ジメチルアンモニオ）プロピルスルホネート；２−（メタクリルアミド）エチル−２−（ジメチルアンモニオ）プロピルスルホネート；リン酸２−（メタクリロイルオキシ）エチル２−（トリメチルアンモニオ）エチルエステル）；３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、４−（メタ）アクリロイルオキシブチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、５−（メタ）アクリロイルオキシペンチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、６−（メタ）アクリロイルオキシヘキシル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２’−（トリプロピルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２’−（トリブチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシブチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシペンチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシヘキシル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、４−（メタ）アクリロイルオキシブチル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、５−（メタ）アクリロイルオキシペンチル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、６−（メタ）アクリロイルオキシヘキシル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、４−（メタ）アクリロイルオキシブチル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、５−（メタ）アクリロイルオキシペンチル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、６−（メタ）アクリロイルオキシヘキシル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、２−（ビニルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（アリルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ｐ−ビニルベンジルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ｐ−ビニルベンゾイルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（スチリルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ｐ−ビニルベンジル）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ビニルオキシカルボニル）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（アリルオキシカルボニル）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（アクリロイルアミノ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ビニルカルボニルアミノ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（アリルオキシカルボニルアミノ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ブチロイルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（クロトノイルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、エチル−（２’−トリメチルアンモニオエチルホスホリルエチル）フマレート、ブチル−（２’−トリメチルアンモニオエチルホスホリルエチル）フマレート、ヒドロキシエチル−（２’−トリメチルアンモニオエチルホスホリルエチル）フマレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート；ポリアルキレングリコール（メタ）アクリレートモノマー、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート；ω−カルボキシ（メタ）アクリレート、フタル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヘキサヒドロフタル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトン（ｎ＝２〜５）モノ（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルオキシエチルサクシネ��ト；Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、ビニルピリジン、（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリル酸、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、無水マレイン酸、及びグリコ−２−ヒドロキシエチルモノメタクリレート（ＧＥＭＡ）、β−カルボキシエチル−３，３−ジメチルアンモニウムエチルメタクリレート、及びスルホプロピル−３，３−ジメチルアンモニウムエチルメタクリレート、並びにこれらの組み合わせからなる群から選択される少なくとも１つの双性イオン部位とを含む。
【００７９】
実施形態（ｉ）において、任意選択的に、双性イオン性コポリマーは、作製された基材表面に共有結合する。
【００８０】
実施形態（ｉ）において、任意選択的に、溶媒は、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、塩化メチレン、１，２−ジクロロエタン、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される。
【００８１】
実施形態（ｉ）において、任意選択的に、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面は、処理されていない基材と比較して低減された生体分子の結合を有する。
【００８２】
実施形態（ｉ）において、任意選択的に、生体分子は、ヌクレオチド、アミノ酸、糖、脂肪酸、核酸分子、ポリペプチド、ポリヌクレオチド、多糖、脂質、ステロイド、糖タンパク質、リポタンパク質、糖脂質、ＤＮＡ、ＤＮＡ−タンパク質複合体、ＲＮＡ、ＲＮＡ−複合体、抗体、及び受容体、受容体融合構造体、受容体融合タンパク質、キメラタンパク質、抗体融合構造体、及び抗体融合タンパク質からなる群から選択される。
【００８３】
実施形態（ｉ）において、任意選択的に、基材は容器の表面である。
【００８４】
実施形態（ｉ）において、任意選択的に、容器は、マイクロプレート；遠沈管；ピペットチップ；キュベット；マイクロウェルプレート；ＥＬＩＳＡプレート；マイクロタイタープレート；９６ウェルプレート；３８４ウェルプレート；１５３６ウェルプレート；丸底フラスコ；及びエルレンマイヤーフラスコからなる群から選択される。
【００８５】
実施形態（ｉ）において、任意選択的に、
（ａ）反応チャンバー内に基材を準備すること；
（ｂ）反応チャンバー内を真空引きすること；
（ｃ）Ｏ2を含有するガスを基材表面近傍に供給すること；
（ｄ）ガスからプラズマを発生させることでヒドロキシル官能性の基材表面を形成し、任意選択的に基材を加熱すること；
（ｅ）溶媒と少なくとも１つの双性イオン性コポリマーとを含有するコポリマー溶液を供給することであって、少なくとも１つの双性イオン性コポリマーが少なくとも１つのシロキサン部位と、少なくとも１つの双性イオン部位とを含む、供給すること；
（ｆ）ヒドロキシル官能性表面を少なくとも１つの双性イオン性コポリマーと反応させ、任意選択的に基材を加熱すること；
（ｇ）任意選択的に待機すること；
（ｈ）コポリマー溶液を除去し、任意選択的に、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を乾燥させ、任意選択的に表面を加熱し、その結果、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた基材を形成すること
によって製造される、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた基材である。
【００８６】
実施形態（ｉ）において、任意選択的に、
（ａ）反応チャンバー内に基材を準備すること；
（ｂ）反応チャンバー内を真空引きすること；
（ｃ）有機ケイ素前駆体と任意選択的なＯ2とを含有するガスを基材表面近傍に供給すること；
（ｄ）ガスからプラズマを発生させることでヒドロキシル官能性の基材表面を形成すること；
（ｅ）溶媒と少なくとも１つの双性イオン性コポリマーとを含有するコポリマー溶液を供給することであって、少なくとも１つの双性イオン性コポリマーが少なくとも１つのシロキサン部位と、少なくとも１つの双性イオン部位とを含む、供給すること；
（ｆ）ヒドロキシル官能性表面を少なくとも１つの双性イオン性コポリマーと反応させ、任意選択的に基材を加熱すること；
（ｇ）任意選択的に待機すること；
（ｈ）コポリマー溶液を除去し、任意選択的に、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を乾燥させ、任意選択的に表面を加熱し、その結果、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた基材を形成すること
によって製造される基材である。
【００８７】
実施形態（ｉ）において、任意選択的に、
（ａ）ヒドロキシル官能性表面を有する基材を準備すること；
（ｂ）溶媒と少なくとも１つの双性イオン性コポリマーとを含有するコポリマー溶液を供給することであって、少なくとも１つの双性イオン性コポリマーが少なくとも１つのシロキサン部位と少なくとも１つの双性イオン部位とを含む２つ以上のモノマーを含む、供給すること；
（ｃ）ヒドロキシル官能性表面を少なくとも１つの双性イオン性コポリマーと反応させ、任意選択的に基材を加熱すること；
（ｄ）任意選択的に待機すること；
（ｅ）コポリマー溶液を除去し、任意選択的に、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を乾燥させ、任意選択的に表面を加熱し、その結果、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた基材を形成すること
によって製造される基材である。
【００８８】
実施形態（ｉ）において、任意選択的に、
（ａ）ヒドロキシル官能性表面を有する基材を準備すること；
（ｂ）溶媒と少なくとも１つの双性イオン性コポリマーとを含有するコポリマー溶液を供給することであって、少なくとも１つの双性イオン性コポリマーが少なくとも１つのシロキサン部位と少なくとも１つの双性イオン部位とを含む２つ以上のモノマーを含む、供給すること；
（ｃ）ヒドロキシル官能性表面を少なくとも１つの双性イオン性コポリマーと反応させ、任意選択的に基材を加熱すること；
（ｄ）任意選択的に待機すること；
（ｅ）コポリマー溶液を除去し、任意選択的に、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を乾燥させ、任意選択的に表面を加熱し、その結果、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた基材を形成すること
によって製造される基材である。
【００８９】
実施形態（ｉ）において、任意選択的に、双性イオン性コポリマーは、（３−アクリルオキシプロピル）トリメトキシシラン、メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、ｎ−（３−アクリルオキシ−２−ヒドロキシプロピル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、ｏ−（メタクリルオキシエチル）−ｎ−（トリエトキシシリルプロピル）ウレタン、ｎ−（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロピル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、メタクリルオキシメチルトリエトキシシラン、メタクリルオキシメチルトリメトキシシラン、メタクリルオキシプロピルトリエトキシシラン、（３−アクリルオキシプロピル）メチル−ジメトキシシラン、（メタクリルオキシメチル）メチル−ジエトキシシラン、（メタクリルオキシメチル）メチル−ジメトキシシラン、メタクリルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、メタクリルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、メタクリルオキシプロピルジメチルエトキシシラン、メタクリルオキシプロピルジメチルメトキシシラン、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される少なくとも１つのシロキサン部位と；２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート（ＭＰＣを含む）、２−（メタクリルオキシ）エチル２−（ジメチルアンモニオ）エチルホスフェート（別名＝２−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン；２−（メタクリルオキシ）エチル−２−（ジメチルアンモニオ）エチルカルボキシレート；２−（メタクリルオキシ）エチル−２−（ジメチルアンモニオ）プロピルスルホネート；２−（メタクリルアミド）エチル−２−（ジメチルアンモニオ）プロピルスルホネート；リン酸２−（メタクリロイルオキシ）エチル２−（トリメチルアンモニオ）エチルエステル）；３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、４−（メタ）アクリロイルオキシブチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、５−（メタ）アクリロイルオキシペンチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、６−（メタ）アクリロイルオキシヘキシル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２’−（トリプロピルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２’−（トリブチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシブチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシペンチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシヘキシル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、４−（メタ）アクリロイルオキシブチル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、５−（メタ）アクリロイルオキシペンチル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、６−（メタ）アクリロイルオキシヘキシル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、４−（メタ）アクリロイルオキシブチル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、５−（メタ）アクリロイルオキシペンチル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、６−（メタ）アクリロイルオキシヘキシル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、２−（ビニルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（アリルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ｐ−ビニルベンジルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ｐ−ビニルベンゾイルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（スチリルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ｐ−ビニルベンジル）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ビニルオキシカルボニル）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（アリルオキシカルボニル）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（アクリロイルアミノ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ビニルカルボニルアミノ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（アリルオキシカルボニルアミノ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ブチロイルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（クロトノイルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、エチル−（２’−トリメチルアンモニオエチルホスホリルエチル）フマレート、ブチル−（２’−トリメチルアンモニオエチルホスホリルエチル）フマレート、ヒドロキシエチル−（２’−トリメチルアンモニオエチルホスホリルエチル）フマレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート；ポリアルキレングリコール（メタ）アクリレートモノマー、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート；ω−カルボキシ（メタ）アクリレート、フタル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヘキサヒドロフタル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトン（ｎ＝２〜５）モノ（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルオキシエチルサクシネ��ト；Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、ビニルピリジン、（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリル酸、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、無水マレイン酸、及びグリコ−２−ヒドロキシエチルモノメタクリレート（ＧＥＭＡ）、β−カルボキシエチル−３，３−ジメチルアンモニウムエチルメタクリレート、及びスルホプロピル−３，３−ジメチルアンモニウムエチルメタクリレート、並びにこれらの組み合わせからなる群から選択される少なくとも１つの双性イオン部位とを含む。
【００９０】
実施形態（ｉ）において、任意選択的に、双性イオン性コポリマーは、作製された基材表面に共有結合する。
【００９１】
実施形態（ｉ）において、任意選択的に、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングは、処理されていない基材と比較して低減された生体分子の結合を有する。
【００９２】
実施形態（ｉ）において、任意選択的に、生体分子は、ヌクレオチド、アミノ酸、糖、脂肪酸、核酸分子、ポリペプチド、ポリヌクレオチド、多糖、脂質、ステロイド、糖タンパク質、リポタンパク質、糖脂質、ＤＮＡ、ＤＮＡ−タンパク質複合体、ＲＮＡ、ＲＮＡ−複合体、抗体、及び受容体、受容体融合構造体、受容体融合タンパク質、キメラタンパク質、抗体融合構造体、及び抗体融合タンパク質からなる群から選択される。
【００９３】
実施形態（ｉ）において、任意選択的に、基材は容器の表面である。
【００９４】
実施形態（ｉ）において、任意選択的に、容器は、マイクロプレート；遠沈管；ピペットチップ；キュベット；マイクロウェルプレート；ＥＬＩＳＡプレート；マイクロタイタープレート；９６ウェルプレート；及び３８４ウェルプレートからなる群から選択される。
【００９５】
実施形態（ｉ）において、任意選択的に、
（ａ）反応チャンバー内に基材を準備すること；
（ｂ）反応チャンバー内を真空引きすること；
（ｃ）Ｏ2を含有するガスを基材表面近傍に供給すること；
（ｄ）ガスからプラズマを発生させることでヒドロキシル官能性の基材表面を形成し、任意選択的に基材を加熱すること；
（ｅ）溶媒と少なくとも１つの双性イオン性コポリマーとを含有するコポリマー溶液を供給することであって、少なくとも１つの双性イオン性コポリマーが少なくとも１つのシロキサン部位と少なくとも１つの双性イオン部位とを含む２つ以上のモノマーを含む、供給すること；
（ｆ）ヒドロキシル官能性表面を少なくとも１つの双性イオン性コポリマーと反応させ、任意選択的に基材を加熱すること；
（ｇ）任意選択的に待機すること；
（ｈ）コポリマー溶液を除去し、任意選択的に、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を乾燥させ、任意選択的に表面を加熱し、その結果、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた容器を形成すること
によって製造される、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングで少なくとも一部がコーティングされている内部表面を有する容器である。
【００９６】
実施形態（ｉ）において、任意選択的に、
（ａ）反応チャンバー内に基材を準備すること；
（ｂ）反応チャンバー内を真空引きすること；
（ｃ）有機ケイ素前駆体と任意選択的なＯ2とを含有するガスを基材表面近傍に供給すること；
（ｄ）ガスからプラズマを発生させることで基材表面上にヒドロキシル官能性の表面を形成すること；
（ｅ）溶媒と少なくとも１つの双性イオン性コポリマーとを含有するコポリマー溶液を供給することであって、少なくとも１つの双性イオン性コポリマーが少なくとも１つのシロキサン部位と少なくとも１つの双性イオン部位とを含む２つ以上のモノマーを含む、供給すること；
（ｆ）ヒドロキシル官能性表面を少なくとも１つの双性イオン性コポリマーと反応させ、任意選択的に基材を加熱すること；
（ｇ）任意選択的に待機すること；
（ｈ）コポリマー溶液を除去し、任意選択的に、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を乾燥させ、任意選択的に表面を加熱し、その結果、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた容器を形成すること
によって製造される、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングである。
【００９７】
実施形態（ｉ）において、任意選択的に、
（ａ）ヒドロキシル官能性表面基材を準備すること；
（ｂ）溶媒と少なくとも１つの双性イオン性コポリマーとを含有するコポリマー溶液を供給することであって、少なくとも１つの双性イオン性コポリマーが少なくとも１つのシロキサン部位と少なくとも１つの双性イオン部位とを含む２つ以上のモノマーを含む、供給すること；
（ｃ）ヒドロキシル官能性表面を少なくとも１つの双性イオン性コポリマーと反応させ、任意選択的に基材を加熱すること；
（ｃ）任意選択的に待機すること；
（ｄ）コポリマー溶液を除去し、任意選択的に、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を乾燥させ、任意選択的に表面を加熱し、その結果、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた容器を形成すること
によって製造される、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングである。
【００９８】
実施形態（ｉ）において、任意選択的に、
（ａ）ヒドロキシル官能性表面基材を準備すること；
（ｂ）溶媒と少なくとも１つの双性イオン性コポリマーとを含有するコポリマー溶液を供給することであって、少なくとも１つの双性イオン性コポリマーが少なくとも１つのシロキサン部位と少なくとも１つの双性イオン部位とを含む２つ以上のモノマーを含む、供給すること；
（ｃ）ヒドロキシル官能性表面を少なくとも１つの双性イオン性コポリマーと反応させ、任意選択的に基材を加熱すること；
（ｃ）任意選択的に待機すること；
（ｄ）コポリマー溶液を除去し、任意選択的に、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を乾燥させ、任意選択的に表面を加熱し、その結果、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた容器を形成すること
によって製造される、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングである。
【００９９】
実施形態（ｉ）において、任意選択的に、双性イオン性コポリマーは、（３−アクリルオキシプロピル）トリメトキシシラン、メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、ｎ−（３−アクリルオキシ−２−ヒドロキシプロピル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、ｏ−（メタクリルオキシエチル）−ｎ−（トリエトキシシリルプロピル）ウレタン、ｎ−（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロピル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、メタクリルオキシメチルトリエトキシシラン、メタクリルオキシメチルトリメトキシシラン、メタクリルオキシプロピルトリエトキシシラン、（３−アクリルオキシプロピル）メチル−ジメトキシシラン、（メタクリルオキシメチル）メチル−ジエトキシシラン、（メタクリルオキシメチル）メチル−ジメトキシシラン、メタクリルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、メタクリルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、メタクリルオキシプロピルジメチルエトキシシラン、メタクリルオキシプロピルジメチルメトキシシラン、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される少なくとも１つのシロキサン部位と；２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート（ＭＰＣを含む）、２−（メタクリルオキシ）エチル２−（ジメチルアンモニオ）エチルホスフェート（別名＝２−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン；２−（メタクリルオキシ）エチル−２−（ジメチルアンモニオ）エチルカルボキシレート；２−（メタクリルオキシ）エチル−２−（ジメチルアンモニオ）プロピルスルホネート；２−（メタクリルアミド）エチル−２−（ジメチルアンモニオ）プロピルスルホネート；リン酸２−（メタクリロイルオキシ）エチル２−（トリメチルアンモニオ）エチルエステル）；３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、４−（メタ）アクリロイルオキシブチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、５−（メタ）アクリロイルオキシペンチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、６−（メタ）アクリロイルオキシヘキシル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２’−（トリプロピルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２’−（トリブチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシブチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシペンチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシヘキシル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、４−（メタ）アクリロイルオキシブチル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、５−（メタ）アクリロイルオキシペンチル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、６−（メタ）アクリロイルオキシヘキシル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、４−（メタ）アクリロイルオキシブチル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、５−（メタ）アクリロイルオキシペンチル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、６−（メタ）アクリロイルオキシヘキシル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、２−（ビニルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（アリルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ｐ−ビニルベンジルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ｐ−ビニルベンゾイルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（スチリルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ｐ−ビニルベンジル）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ビニルオキシカルボニル）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（アリルオキシカルボニル）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（アクリロイルアミノ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ビニルカルボニルアミノ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（アリルオキシカルボニルアミノ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ブチロイルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（クロトノイルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、エチル−（２’−トリメチルアンモニオエチルホスホリルエチル）フマレート、ブチル−（２’−トリメチルアンモニオエチルホスホリルエチル）フマレート、ヒドロキシエチル−（２’−トリメチルアンモニオエチルホスホリルエチル）フマレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート；ポリアルキレングリコール（メタ）アクリレートモノマー、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート；ω−カルボキシ（メタ）アクリレート、フタル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヘキサヒドロフタル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトン（ｎ＝２〜５）モノ（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルオキシエチルサクシネ��ト；Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、ビニルピリジン、（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリル酸、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、無水マレイン酸、及びグリコ−２−ヒドロキシエチルモノメタクリレート（ＧＥＭＡ）、β−カルボキシエチル−３，３−ジメチルアンモニウムエチルメタクリレート、及びスルホプロピル−３，３−ジメチルアンモニウムエチルメタクリレート、並びにこれらの組み合わせからなる群から選択される少なくとも１つの双性イオン部位とを含む。
【０１００】
実施形態（ｉ）において、任意選択的に、双性イオン性コポリマーは、作製された基材表面に共有結合する。
【０１０１】
実施形態（ｉ）において、任意選択的に、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングは、処理されていない基材と比較して低減された生体分子の結合を有する。
【０１０２】
実施形態（ｉ）において、任意選択的に、生体分子は、ヌクレオチド、アミノ酸、糖、脂肪酸、核酸分子、ポリペプチド、ポリヌクレオチド、多糖、脂質、ステロイド、糖タンパク質、リポタンパク質、糖脂質、ＤＮＡ、ＤＮＡ−タンパク質複合体、ＲＮＡ、ＲＮＡ−複合体、抗体、及び受容体、受容体融合構造体、受容体融合タンパク質、キメラタンパク質、抗体融合構造体、及び抗体融合タンパク質からなる群から選択される。
【０１０３】
実施形態（ｉ）において、任意選択的に、容器は、マイクロプレート；遠沈管；ピペットチップ；キュベット；マイクロウェルプレート；ＥＬＩＳＡプレート；マイクロタイタープレート；９６ウェルプレート；及び３８４ウェルプレート；１５３６ウェルプレート；丸底フラスコ；及びエルレンマイヤーフラスコからなる群から選択される。
【０１０４】
実施形態（ｉｉ）
（ａ）反応チャンバー内に基材を準備する工程；
（ｂ）反応チャンバー内を真空引きする工程；
（ｃ）Ｏ2を含有し、任意選択的にアルゴンを含有し、任意選択的に窒素を含有するガスを基材表面近傍に供給する工程；
（ｄ）ガスからプラズマを発生させることで作製された基材表面を形成し、任意選択的に基材を加熱する工程；
（ｅ）少なくとも１つのシリルアミンカップリング剤を含有する蒸気を供給してアミンで修飾された基材を得る工程；
（ｆ）任意選択的に重合開始剤の存在下で、溶媒を含有するコポリマー溶液を供給する工程であって、コポリマーが少なくとも１つの共重合可能な双性イオン性モノマーと、少なくとも１つの共重合可能なエポキシモノマーとを含有する、工程；
（ｇ）コポリマーをアミンで修飾された基材と反応させ、任意選択的に基材を加熱する工程；
（ｈ）任意選択的に待機する工程；
（ｉ）コポリマーを除去し、任意選択的に、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を乾燥させ、任意選択的に表面を加熱し、その結果、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を形成する工程
を含む、生体分子の低結合性若しくは非結合性及び／又は生体分子の低吸着性若しくは非吸着性を示す、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を付与するための実施形態（ｉｉ）による方法が述べられる。
【０１０５】
（ａ）ＳｉＯｘでコーティングされているガラス表面である基材を反応チャンバー内に準備する工程；
（ｂ）反応チャンバー内を真空引きする工程；
（ｃ）Ｏ2を含有し、任意選択的にアルゴンを含有し、任意選択的に窒素を含有するガスを基材表面近傍に供給する工程；
（ｄ）ガスからプラズマを発生させることで作製された基材表面を形成し、任意選択的に基材を加熱する工程；
（ｅ）少なくとも１つのシリルアミンカップリング剤を含有する蒸気を供給してアミンで修飾された基材を得る工程；
（ｆ）任意選択的に重合開始剤の存在下で、溶媒を含有するコポリマー溶液を供給する工程であって、コポリマーが少なくとも１つの共重合可能な双性イオン性モノマーと、少なくとも１つの共重合可能なエポキシモノマーとを含有する、工程；
（ｇ）コポリマーをアミンで修飾された基材と反応させ、任意選択的に基材を加熱する工程；
（ｈ）任意選択的に待機する工程；
（ｉ）コポリマー溶液を除去し、任意選択的に、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を乾燥させ、任意選択的に表面を加熱し、その結果、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を形成する工程
を含む、実施形態（ｉｉ）の方法である。
【０１０６】
少なくとも１つのシリルアミンカップリング剤が、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、４−アミノブチルトリエトキシシラン、Ｍ−アミノフェニルトリメトキシシラン、Ｐ−アミノフェニルトリメトキシシラン、Ｏ−アミノフェニルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリス（メトキシエトキシエトキシ）シラン、１１−アミノウンデシルトリエトキシシラン、３−（Ｍ−アミノフェノキシ）プロピルトリメトキシシラン、アミノプロピルシラントリオール、３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、３−アミノプロピルジイソプロピルエトキシシラン、３−アミノプロピルジメチルエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−［３−（トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（６−アミノヘキシル）アミノメチルトリエトキシシラン、Ｎ−（６−アミノヘキシル）アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−１１−アミノウンデシルトリメトキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェネチルトリメトキシシラン、Ｎ−３−［（アミノ（ポリプロピレンオキシ）］、アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルシラントリオール、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノイソブチルメチルジメトキシシラン、（アミノエチルアミノ）−３−イソブチルジメチルメトキシシラン、（３−トリメトキシシリルプロピル）ジエチレントリアミン、Ｎ−ブチルアミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−エチルアミノイソブチルトリメトキシシラン、Ｎ−メチルアミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニルアミノプロピルトリメトキシシラン、３−（Ｎ−アリルアミノ）プロピルトリメトキシシラン、（シクロヘキシルアミノメチル）トリエトキシシラン、Ｎ−シクロヘキシルアミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−エチルアミノイソブチルメチルジエトキシシラン、（フェニルアミノメチル）メチルジメトキシシラン、Ｎ−フェニルアミノメチルトリエトキシシラン、Ｎ−メチルアミノプロピルメチルジメトキシシラン、ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−（Ｎ−スチリルメチル−２−アミノエチルアミノ）−プロピルトリメトキシシラン塩酸塩、（２−Ｎ−ベンジルアミノエチル）−３−アミノプロピル−トリメトキシシラン、ビス（トリエトキシシリルプロピル）アミン、ビス（トリメトキシシリルプロピル）アミン、ビス［（３−トリメトキシシリル）プロピル］−エチレンジアミン、ビス［（３−トリメトキシシリル）プロピル］−エチレンジアミン、ビス（メチルジエトキシシリルプロピル）アミン、Ｎ−アリル−アザ−２，２−ジメトキシシラ−シクロペンタン、Ｎ−アミノエチル−アザ−２，２，４−トリメチル−シラシクロペンタン、Ｎ−（３−アミノプロピルジメチルシラ）アザ−２，２−ジメチル−２−シラシクロペンタン、Ｎ−Ｎ−ブチル−アザ−２，２−ジメトキシシラ−シクロペンタン、２，２−ジメトキシ−１，６−ジアザ−２−シラシクロ−オクタン、Ｎ−メチル−アザ−２，２，４−トリメチルシラ−シクロペンタン、１−（Ｎ−（Ｎ’，Ｎ’−ジメチルアミノエチル））−１−アザ−２，２，４−トリメチル−２−シラシクロペンタン、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、実施形態（ｉｉ）の方法である。
【０１０７】
少なくとも１つの共重合可能な双性イオン性モノマーが、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート（ＭＰＣを含む）、２−（メタクリルオキシ）エチル２−（ジメチルアンモニオ）エチルホスフェート（別名＝２−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン；２−（メタクリルオキシ）エチル−２−（ジメチルアンモニオ）エチルカルボキシレート；２−（メタクリルオキシ）エチル−２−（ジメチルアンモニオ）プロピルスルホネート；２−（メタクリルアミド）エチル−２−（ジメチルアンモニオ）プロピルスルホネート；リン酸２−（メタクリロイルオキシ）エチル２−（トリメチルアンモニオ）エチルエステル）；３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、４−（メタ）アクリロイルオキシブチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、５−（メタ）アクリロイルオキシペンチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、６−（メタ）アクリロイルオキシヘキシル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２’−（トリプロピルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２’−（トリブチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシブチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシペンチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシヘキシル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、４−（メタ）アクリロイルオキシブチル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、５−（メタ）アクリロイルオキシペンチル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、６−（メタ）アクリロイルオキシヘキシル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、４−（メタ）アクリロイルオキシブチル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、５−（メタ）アクリロイルオキシペンチル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、６−（メタ）アクリロイルオキシヘキシル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、２−（ビニルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（アリルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ｐ−ビニルベンジルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ｐ−ビニルベンゾイルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（スチリルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ｐ−ビニルベンジル）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ビニルオキシカルボニル）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（アリルオキシカルボニル）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（アクリロイルアミノ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ビニルカルボニルアミノ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（アリルオキシカルボニルアミノ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ブチロイルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（クロトノイルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、エチル−（２’−トリメチルアンモニオエチルホスホリルエチル）フマレート、ブチル−（２’−トリメチルアンモニオエチルホスホリルエチル）フマレート、ヒドロキシエチル−（２’−トリメチルアンモニオエチルホスホリルエチル）フマレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート；ポリアルキレングリコール（メタ）アクリレートモノマー、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート；ω−カルボキシ（メタ）アクリレート、フタル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヘキサヒドロフタル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトン（ｎ＝２〜５）モノ（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルオキシエチルサクシネート；Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、ビニルピリジン、（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリル酸、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、無水マレイン酸、及びグリコ−２−ヒドロキシエチルモノメタクリレート（ＧＥＭＡ）、β−カルボキシエチル−３，３−ジメチルアンモニウムエチルメタクリレート、及びスルホプロピル−３，３−ジメチルアンモニウムエチルメタクリレート、並びにこれらの組み合わせからなる群から選択される、実施形態（ｉｉ）の方法である。
【０１０８】
少なくとも１つの共重合可能なエポキシモノマーが、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート（ＧＭＡ）、（Ｅ）−（オキシラン−２−イル）メチルブト−２−エノエート、（３，３−ジメチルオキシラン−２−イル）メチルメタクリレート、（Ｅ）−（オキシラン−２−イル）メチルシンナメート、（オキシラン−２−イル）メチル２−メチレンブタノエート、１−（オキシラン−２−イル）プロピルアクリレート、１−（オキシラン−２−イル）エチルメタクリレート、（オキシラン−２−イル）メチル３−メチル−２−メチレンブタノエート、（オキシラン−２−イル）メチル２−メチレンペンタノエート、（３−メチルオキシラン−２−イル）メチルアクリレート、２−（オキシラン−２−イル）プロパン−２−イルアクリレート、（オキシラン−２−イル）メチル２−メチレンヘキサノエート、（３−メチルオキシラン−２−イル）メチルメタクリレート、及び（３，３−ジメチルオキシラン−２−イル）メチルアクリレート、並びにこれらの組み合わせからなる群から選択される、実施形態（ｉｉ）の方法である。
【０１０９】
エポキシ変性双性イオン性コポリマーがアミンで修飾された基材に共有結合する、実施形態（ｉｉ）の方法である。
【０１１０】
溶媒が、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、塩化メチレン、１，２−ジクロロエタン、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、実施形態（ｉｉ）の方法である。
【０１１１】
非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングが、処理されていない基材と比較して低減された生体分子の結合を有する、実施形態（ｉｉ）の方法である。
【０１１２】
生体分子が、ヌクレオチド、アミノ酸、糖、脂肪酸、核酸分子、ポリペプチド、ポリヌクレオチド、多糖、脂質、ステロイド、糖タンパク質、リポタンパク質、糖脂質、ＤＮＡ、ＤＮＡ−タンパク質複合体、ＲＮＡ、ＲＮＡ−複合体、抗体、及び受容体、受容体融合構造体、受容体融合タンパク質、キメラタンパク質、抗体融合構造体、及び抗体融合タンパク質からなる群から選択される、実施形態（ｉｉ）の方法である。
【０１１３】
基材が容器の表面である、実施形態（ｉｉ）の方法である。
【０１１４】
容器が、マイクロプレート；遠沈管；ピペットチップ；キュベット；マイクロウェルプレート；ＥＬＩＳＡプレート；マイクロタイタープレート；９６ウェルプレート；３８４ウェルプレート；１５３６ウェルプレート；丸底フラスコ；及びエルレンマイヤーフラスコからなる群から選択される、実施形態（ｉｉ）の方法である。
【０１１５】
（ａ）反応チャンバー内に基材を準備すること；
（ｂ）反応チャンバー内を真空引きすること；
（ｃ）Ｏ2を含有し、任意選択的にアルゴンを含有し、任意選択的に窒素を含有するガスを基材表面近傍に供給すること；
（ｄ）ガスからプラズマを発生させることで作製された基材表面を形成し、任意選択的に基材を加熱すること；
（ｅ）少なくとも１つのシリルアミンカップリング剤を含有する蒸気を供給してアミンで修飾された基材を得ること；
（ｆ）任意選択的に重合開始剤の存在下で、溶媒を含有するコポリマー溶液を供給することであって、コポリマーが少なくとも１つの共重合可能な双性イオン性モノマーと、少なくとも１つの共重合可能なエポキシモノマーとを含有する、供給すること；
（ｇ）コポリマーをアミンで修飾された基材と反応させ、任意選択的に基材を加熱すること；
（ｈ）任意選択的に待機すること；
（ｉ）コポリマー溶液を除去し、任意選択的に、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を乾燥させ、任意選択的に表面を加熱し、その結果、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた基材を形成すること
によって製造される、実施形態（ｉｉ）の非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた基材である。
【０１１６】
非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた基材が、
（ａ）ＳｉＯｘでコーティングされているガラス表面である基材を反応チャンバー内に準備すること；
（ｂ）反応チャンバー内を真空引きすること；
（ｃ）Ｏ2を含有し、任意選択的にアルゴンを含有し、任意選択的に窒素を含有するガスを基材表面近傍に供給すること；
（ｄ）ガスからプラズマを発生させることで作製された基材表面を形成し、任意選択的に基材を加熱すること；
（ｅ）少なくとも１つのシリルアミンカップリング剤を含有する蒸気を供給してアミンで修飾された基材を得ること；
（ｆ）任意選択的に重合開始剤の存在下で、溶媒を含有するコポリマー溶液を供給することであって、コポリマーが少なくとも１つの共重合可能な双性イオン性モノマーと、少なくとも１つの共重合可能なエポキシモノマーとを含有する、供給すること；
（ｇ）コポリマーをアミンで修飾された基材と反応させ、任意選択的に基材を加熱すること；
（ｈ）任意選択的に待機すること；
（ｉ）コポリマー溶液を除去し、任意選択的に、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を乾燥させ、任意選択的に表面を加熱し、その結果、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた基材を形成すること
によって製造される、実施形態（ｉｉ）の方法である。
【０１１７】
少なくとも１つのシリルアミンカップリング剤が、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、４−アミノブチルトリエトキシシラン、Ｍ−アミノフェニルトリメトキシシラン、Ｐ−アミノフェニルトリメトキシシラン、Ｏ−アミノフェニルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリス（メトキシエトキシエトキシ）シラン、１１−アミノウンデシルトリエトキシシラン、３−（Ｍ−アミノフェノキシ）プロピルトリメトキシシラン、アミノプロピルシラントリオール、３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、３−アミノプロピルジイソプロピルエトキシシラン、３−アミノプロピルジメチルエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−［３−（トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（６−アミノヘキシル）アミノメチルトリエトキシシラン、Ｎ−（６−アミノヘキシル）アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−１１−アミノウンデシルトリメトキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェネチルトリメトキシシラン、Ｎ−３−［（アミノ（ポリプロピレンオキシ）］、アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルシラントリオール、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノイソブチルメチルジメトキシシラン、（アミノエチルアミノ）−３−イソブチルジメチルメトキシシラン、（３−トリメトキシシリルプロピル）ジエチレントリアミン、Ｎ−ブチルアミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−エチルアミノイソブチルトリメトキシシラン、Ｎ−メチルアミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニルアミノプロピルトリメトキシシラン、３−（Ｎ−アリルアミノ）プロピルトリメトキシシラン、（シクロヘキシルアミノメチル）トリエトキシシラン、Ｎ−シクロヘキシルアミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−エチルアミノイソブチルメチルジエトキシシラン、（フェニルアミノメチル）メチルジメトキシシラン、Ｎ−フェニルアミノメチルトリエトキシシラン、Ｎ−メチルアミノプロピルメチルジメトキシシラン、ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−（Ｎ−スチリルメチル−２−アミノエチルアミノ）−プロピルトリメトキシシラン塩酸塩、（２−Ｎ−ベンジルアミノエチル）−３−アミノプロピル−トリメトキシシラン、ビス（トリエトキシシリルプロピル）アミン、ビス（トリメトキシシリルプロピル）アミン、ビス［（３−トリメトキシシリル）プロピル］−エチレンジアミン、ビス［（３−トリメトキシシリル）プロピル］−エチレンジアミン、ビス（メチルジエトキシシリルプロピル）アミン、Ｎ−アリル−アザ−２，２−ジメトキシシラ−シクロペンタン、Ｎ−アミノエチル−アザ−２，２，４−トリメチル−シラシクロペンタン、Ｎ−（３−アミノプロピルジメチルシラ）アザ−２，２−ジメチル−２−シラシクロペンタン、Ｎ−Ｎ−ブチル−アザ−２，２−ジメトキシシラ−シクロペンタン、２，２−ジメトキシ−１，６−ジアザ−２−シラシクロ−オクタン、Ｎ−メチル−アザ−２，２，４−トリメチルシラ−シクロペンタン、１−（Ｎ−（Ｎ’，Ｎ’−ジメチルアミノエチル））−１−アザ−２，２，４−トリメチル−２−シラシクロペンタン、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、実施形態（ｉｉ）の方法である。
【０１１８】
少なくとも１つの共重合可能な双性イオン性モノマーが、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート（ＭＰＣを含む）、２−（メタクリルオキシ）エチル２−（ジメチルアンモニオ）エチルホスフェート（別名＝２−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン；２−（メタクリルオキシ）エチル−２−（ジメチルアンモニオ）エチルカルボキシレート；２−（メタクリルオキシ）エチル−２−（ジメチルアンモニオ）プロピルスルホネート；２−（メタクリルアミド）エチル−２−（ジメチルアンモニオ）プロピルスルホネート；リン酸２−（メタクリロイルオキシ）エチル２−（トリメチルアンモニオ）エチルエステル）；３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、４−（メタ）アクリロイルオキシブチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、５−（メタ）アクリロイルオキシペンチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、６−（メタ）アクリロイルオキシヘキシル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２’−（トリプロピルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２’−（トリブチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシブチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシペンチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシヘキシル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、４−（メタ）アクリロイルオキシブチル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、５−（メタ）アクリロイルオキシペンチル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、６−（メタ）アクリロイルオキシヘキシル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、４−（メタ）アクリロイルオキシブチル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、５−（メタ）アクリロイルオキシペンチル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、６−（メタ）アクリロイルオキシヘキシル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、２−（ビニルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（アリルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ｐ−ビニルベンジルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ｐ−ビニルベンゾイルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（スチリルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ｐ−ビニルベンジル）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ビニルオキシカルボニル）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（アリルオキシカルボニル）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（アクリロイルアミノ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ビニルカルボニルアミノ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（アリルオキシカルボニルアミノ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ブチロイルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（クロトノイルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、エチル−（２’−トリメチルアンモニオエチルホスホリルエチル）フマレート、ブチル−（２’−トリメチルアンモニオエチルホスホリルエチル）フマレート、ヒドロキシエチル−（２’−トリメチルアンモニオエチルホスホリルエチル）フマレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート；ポリアルキレングリコール（メタ）アクリレートモノマー、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート；ω−カルボキシ（メタ）アクリレート、フタル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヘキサヒドロフタル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトン（ｎ＝２〜５）モノ（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルオキシエチルサクシネート；Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、ビニルピリジン、（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリル酸、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、無水マレイン酸、及びグリコ−２−ヒドロキシエチルモノメタクリレート（ＧＥＭＡ）、β−カルボキシエチル−３，３−ジメチルアンモニウムエチルメタクリレート、及びスルホプロピル−３，３−ジメチルアンモニウムエチルメタクリレート、並びにこれらの組み合わせからなる群から選択される、実施形態（ｉｉ）の方法である。
【０１１９】
少なくとも１つの共重合可能なエポキシモノマーが、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート（ＧＭＡ）、（Ｅ）−（オキシラン−２−イル）メチルブト−２−エノエート、（３，３−ジメチルオキシラン−２−イル）メチルメタクリレート、（Ｅ）−（オキシラン−２−イル）メチルシンナメート、（オキシラン−２−イル）メチル２−メチレンブタノエート、１−（オキシラン−２−イル）プロピルアクリレート、１−（オキシラン−２−イル）エチルメタクリレート、（オキシラン−２−イル）メチル３−メチル−２−メチレンブタノエート、（オキシラン−２−イル）メチル２−メチレンペンタノエート、（３−メチルオキシラン−２−イル）メチルアクリレート、２−（オキシラン−２−イル）プロパン−２−イルアクリレート、（オキシラン−２−イル）メチル２−メチレンヘキサノエート、（３−メチルオキシラン−２−イル）メチルメタクリレート、及び（３，３−ジメチルオキシラン−２−イル）メチルアクリレート、並びにこれらの組み合わせからなる群から選択される、実施形態（ｉｉ）の方法である。
【０１２０】
非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングが、処理されていない基材と比較して低減された生体分子の結合を有する、実施形態（ｉｉ）の方法である。
【０１２１】
生体分子が、ヌクレオチド、アミノ酸、糖、脂肪酸、核酸分子、ポリペプチド、ポリヌクレオチド、多糖、脂質、ステロイド、糖タンパク質、リポタンパク質、糖脂質、ＤＮＡ、ＤＮＡ−タンパク質複合体、ＲＮＡ、ＲＮＡ−複合体、抗体、及び受容体、受容体融合構造体、受容体融合タンパク質、キメラタンパク質、抗体融合構造体、及び抗体融合タンパク質からなる群から選択される、実施形態（ｉｉ）の方法である。
【０１２２】
基材が容器の表面である、実施形態（ｉｉ）の方法である。
【０１２３】
容器が、マイクロプレート；遠沈管；ピペットチップ；キュベット；マイクロウェルプレート；ＥＬＩＳＡプレート；マイクロタイタープレート；９６ウェルプレート；及び３８４ウェルプレートからなる群から選択される、実施形態（ｉｉ）の方法である。
【０１２４】
（ａ）反応チャンバー内に基材を準備すること；
（ｂ）反応チャンバー内を真空引きすること；
（ｃ）Ｏ2を含有し、任意選択的にアルゴンを含有し、任意選択的に窒素を含有するガスを基材表面近傍に供給すること；
（ｄ）ガスからプラズマを発生させることで作製された基材表面を形成し、任意選択的に基材を加熱すること；
（ｅ）少なくとも１つのシリルアミンカップリング剤を含有する蒸気を供給してアミンで修飾された基材を得ること；
（ｆ）任意選択的に重合開始剤の存在下で、溶媒を含有するコポリマー溶液を供給することであって、コポリマーが少なくとも１つの共重合可能な双性イオン性モノマーと、少なくとも１つの共重合可能なエポキシモノマーとを含有する、供給すること；
（ｇ）コポリマーをアミンで修飾された基材と反応させ、任意選択的に基材を加熱すること；
（ｈ）任意選択的に待機すること；
（ｉ）コポリマー溶液を除去し、任意選択的に、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を乾燥させ、任意選択的に表面を加熱し、その結果、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた容器を形成すること
によって製造される、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングで少なくとも一部がコーティングされている内部表面を有する実施形態（ｉｉ）の容器である。
【０１２５】
（ａ）ＳｉＯｘでコーティングされているガラス表面である基材を反応チャンバー内に準備すること；
（ｂ）反応チャンバー内を真空引きすること；
（ｃ）Ｏ2を含有し、任意選択的にアルゴンを含有し、任意選択的に窒素を含有するガスを基材表面近傍に供給すること；
（ｄ）ガスからプラズマを発生させることで作製された基材表面を形成し、任意選択的に基材を加熱すること；
（ｅ）少なくとも１つのシリルアミンカップリング剤を含有する蒸気を供給してアミンで修飾された基材を得ること；
（ｆ）任意選択的に重合開始剤の存在下で、溶媒を含有するコポリマー溶液を供給することであって、コポリマーが少なくとも１つの共重合可能な双性イオン性モノマーと、少なくとも１つの共重合可能なエポキシモノマーとを含有する、供給すること；
（ｇ）コポリマーをアミンで修飾された基材と反応させ、任意選択的に基材を加熱すること；
（ｈ）任意選択的に待機すること；
（ｉ）コポリマー溶液を除去し、任意選択的に、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を乾燥させ、任意選択的に表面を加熱し、その結果、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングされた容器を形成すること
によって製造される、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングで少なくとも一部がコーティングされている内部表面を有する実施形態（ｉｉ）の容器である。
【０１２６】
少なくとも１つのシリルアミンカップリング剤が、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、４−アミノブチルトリエトキシシラン、Ｍ−アミノフェニルトリメトキシシラン、Ｐ−アミノフェニルトリメトキシシラン、Ｏ−アミノフェニルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリス（メトキシエトキシエトキシ）シラン、１１−アミノウンデシルトリエトキシシラン、３−（Ｍ−アミノフェノキシ）プロピルトリメトキシシラン、アミノプロピルシラントリオール、３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、３−アミノプロピルジイソプロピルエトキシシラン、３−アミノプロピルジメチルエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−［３−（トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（６−アミノヘキシル）アミノメチルトリエトキシシラン、Ｎ−（６−アミノヘキシル）アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−１１−アミノウンデシルトリメトキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェネチルトリメトキシシラン、Ｎ−３−［（アミノ（ポリプロピレンオキシ）］、アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルシラントリオール、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノイソブチルメチルジメトキシシラン、（アミノエチルアミノ）−３−イソブチルジメチルメトキシシラン、（３−トリメトキシシリルプロピル）ジエチレントリアミン、Ｎ−ブチルアミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−エチルアミノイソブチルトリメトキシシラン、Ｎ−メチルアミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニルアミノプロピルトリメトキシシラン、３−（Ｎ−アリルアミノ）プロピルトリメトキシシラン、（シクロヘキシルアミノメチル）トリエトキシシラン、Ｎ−シクロヘキシルアミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−エチルアミノイソブチルメチルジエトキシシラン、（フェニルアミノメチル）メチルジメトキシシラン、Ｎ−フェニルアミノメチルトリエトキシシラン、Ｎ−メチルアミノプロピルメチルジメトキシシラン、ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−（Ｎ−スチリルメチル−２−アミノエチルアミノ）−プロピルトリメトキシシラン塩酸塩、（２−Ｎ−ベンジルアミノエチル）−３−アミノプロピル−トリメトキシシラン、ビス（トリエトキシシリルプロピル）アミン、ビス（トリメトキシシリルプロピル）アミン、ビス［（３−トリメトキシシリル）プロピル］−エチレンジアミン、ビス［（３−トリメトキシシリル）プロピル］−エチレンジアミン、ビス（メチルジエトキシシリルプロピル）アミン、Ｎ−アリル−アザ−２，２−ジメトキシシラ−シクロペンタン、Ｎ−アミノエチル−アザ−２，２，４−トリメチル−シラシクロペンタン、Ｎ−（３−アミノプロピルジメチルシラ）アザ−２，２−ジメチル−２−シラシクロペンタン、Ｎ−Ｎ−ブチル−アザ−２，２−ジメトキシシラ−シクロペンタン、２，２−ジメトキシ−１，６−ジアザ−２−シラシクロ−オクタン、Ｎ−メチル−アザ−２，２，４−トリメチルシラ−シクロペンタン、１−（Ｎ−（Ｎ’，Ｎ’−ジメチルアミノエチル））−１−アザ−２，２，４−トリメチル−２−シラシクロペンタン、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、実施形態（ｉｉ）の容器である。
【０１２７】
少なくとも１つの共重合可能な双性イオン性モノマーが、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート（ＭＰＣを含む）、２−（メタクリルオキシ）エチル２−（ジメチルアンモニオ）エチルホスフェート（別名＝２−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン；２−（メタクリルオキシ）エチル−２−（ジメチルアンモニオ）エチルカルボキシレート；２−（メタクリルオキシ）エチル−２−（ジメチルアンモニオ）プロピルスルホネート；２−（メタクリルアミド）エチル−２−（ジメチルアンモニオ）プロピルスルホネート；リン酸２−（メタクリロイルオキシ）エチル２−（トリメチルアンモニオ）エチルエステル）；３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、４−（メタ）アクリロイルオキシブチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、５−（メタ）アクリロイルオキシペンチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、６−（メタ）アクリロイルオキシヘキシル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２’−（トリプロピルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２’−（トリブチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシブチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシペンチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシヘキシル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、４−（メタ）アクリロイルオキシブチル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、５−（メタ）アクリロイルオキシペンチル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、６−（メタ）アクリロイルオキシヘキシル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、４−（メタ）アクリロイルオキシブチル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、５−（メタ）アクリロイルオキシペンチル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、６−（メタ）アクリロイルオキシヘキシル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、２−（ビニルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（アリルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ｐ−ビニルベンジルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ｐ−ビニルベンゾイルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（スチリルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ｐ−ビニルベンジル）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ビニルオキシカルボニル）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（アリルオキシカルボニル）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（アクリロイルアミノ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ビニルカルボニルアミノ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（アリルオキシカルボニルアミノ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ブチロイルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（クロトノイルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、エチル−（２’−トリメチルアンモニオエチルホスホリルエチル）フマレート、ブチル−（２’−トリメチルアンモニオエチルホスホリルエチル）フマレート、ヒドロキシエチル−（２’−トリメチルアンモニオエチルホスホリルエチル）フマレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート；ポリアルキレングリコール（メタ）アクリレートモノマー、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート；ω−カルボキシ（メタ）アクリレート、フタル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヘキサヒドロフタル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトン（ｎ＝２〜５）モノ（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルオキシエチルサクシネート；Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、ビニルピリジン、（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリル酸、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、無水マレイン酸、及びグリコ−２−ヒドロキシエチルモノメタクリレート（ＧＥＭＡ）、β−カルボキシエチル−３，３−ジメチルアンモニウムエチルメタクリレート、及びスルホプロピル−３，３−ジメチルアンモニウムエチルメタクリレート、並びにこれらの組み合わせからなる群から選択される、実施形態（ｉｉ）の容器である。
【０１２８】
少なくとも１つの共重合可能なエポキシモノマーが、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート（ＧＭＡ）、（Ｅ）−（オキシラン−２−イル）メチルブト−２−エノエート、（３，３−ジメチルオキシラン−２−イル）メチルメタクリレート、（Ｅ）−（オキシラン−２−イル）メチルシンナメート、（オキシラン−２−イル）メチル２−メチレンブタノエート、１−（オキシラン−２−イル）プロピルアクリレート、１−（オキシラン−２−イル）エチルメタクリレート、（オキシラン−２−イル）メチル３−メチル−２−メチレンブタノエート、（オキシラン−２−イル）メチル２−メチレンペンタノエート、（３−メチルオキシラン−２−イル）メチルアクリレート、２−（オキシラン−２−イル）プロパン−２−イルアクリレート、（オキシラン−２−イル）メチル２−メチレンヘキサノエート、（３−メチルオキシラン−２−イル）メチルメタクリレート、及び（３，３−ジメチルオキシラン−２−イル）メチルアクリレート、並びにこれらの組み合わせからなる群から選択される、実施形態（ｉｉ）の容器である。
【０１２９】
非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングが、処理されていない基材と比較して低減された生体分子の結合を有する、実施形態（ｉｉ）の容器である。
【０１３０】
生体分子が、ヌクレオチド、アミノ酸、糖、脂肪酸、核酸分子、ポリペプチド、ポリヌクレオチド、多糖、脂質、ステロイド、糖タンパク質、リポタンパク質、糖脂質、ＤＮＡ、ＤＮＡ−タンパク質複合体、ＲＮＡ、ＲＮＡ−複合体、抗体、及び受容体、受容体融合構造体、受容体融合タンパク質、キメラタンパク質、抗体融合構造体、及び抗体融合タンパク質からなる群から選択される、実施形態（ｉｉ）の容器である。
【０１３１】
容器が、マイクロプレート；遠沈管；ピペットチップ；キュベット；マイクロウェルプレート；ＥＬＩＳＡプレート；マイクロタイタープレート；９６ウェルプレート；３８４ウェルプレート；１５３６ウェルプレート；丸底フラスコ；及びエルレンマイヤーフラスコからなる群から選択される、実施形態（ｉｉ）の容器である。
【０１３２】
本技術を以降の図面と組み合わせて述べる。図面内の同じ符号は同じ要素を示す。
【図面の簡単な説明】
【０１３３】
【図１】包括的に記載されている第１の実施形態で有用な遠隔変換プラズマ処理装置を示し、そのいくつかの特徴は任意選択的である。
【図２】第１のより詳しい実施形態によってマイクロプレートの遠隔変換プラズマ処理を行うための例示的なプラズマ反応装置の構成を示す。
【図３】未調整且つ未変換のポリプロピレンマイクロプレートであるＥｐｐｅｎｄｏｒｆ  ＬｏＢｉｎｄ（登録商標）ブランドのマイクロプレートと、第１のより詳しい実施形態による例示的な遠隔変換プラズマ処理プロセスで処理したマイクロプレートとの間の比較の生体分子回収結果を示す棒グラフである。
【図４】第１のより詳しい実施形態による例示的な遠隔変換プラズマ処理プロセスで処理したマイクロプレートと、遠隔変換プラズマ処理の代わりに直接変換プラズマ処理を使用した以外は同じプロセス工程及び条件で処理したマイクロプレートとの間の比較の生体分子回収結果を示す棒グラフである。
【図５】第１のより詳しい実施形態による例示的な遠隔変換プラズマ処理プロセスで処理したマイクロプレートと、非重合性化合物工程のみで第２の工程なしで処理したマイクロプレートとの間の比較の生体分子回収結果を示す棒グラフである。
【図６】第１のより詳しい実施形態によってマイクロプレートの遠隔変換プラズマ処理を行うための、図１の例示的なラジオ波励起プラズマ反応装置の構成を示す。
【図７】第１のより詳しい実施形態によってマイクロプレートの遠隔変換プラズマ処理を行うための、図１の別の例示的なプラズマ反応装置の構成を示す。
【図８】第１のより詳しい実施形態によってマイクロプレートの遠隔変換プラズマ処理を行うための、図１の例示的なマイクロ波励起プラズマ反応装置の構成を示す。
【図９】未調整且つ未変換のポリプロピレンビーカー、第１のより詳しい実施形態によって処理されたポリプロピレンビーカー、及びガラスビーカーからの生体分子（ＴＦＮ）の回収率のプロットである。
【図１０】本発明の方法の第１の実施形態又は第２の実施形態のいずれかを行うための例示的な反応装置の構成を示す。別の好適な反応装置の構成は、米国特許第７，９８５，１８８号明細書（参照により本明細書に組み込まれる）に示され記載されている図２のものである。
【図１１】実施例６についてのタンパク質回収率対タンパク質濃度（ＢＳＡ）のプロットである。
【図１２】実施例６についてのタンパク質回収率対タンパク質濃度（ＰｒＡ）のプロットである。
【図１３】実施例６についてのタンパク質回収率対タンパク質濃度（ＰｒＧ）のプロットである。
【図１４】実施例１４についてのタンパク質回収率対タンパク質濃度（ＢＳＡ）のプロットである。
【図１５】実施例１４についてのタンパク質回収率対タンパク質濃度（ＰｒＡ）のプロットである。
【図１６】実施例１４についてのタンパク質回収率対タンパク質濃度（ＰｒＧ）のプロットである。
【図１７】実施例１５の低タンパク質結合処理されたマイクロプレート由来の抽出された有機種を特徴付けるＧＣ−ＭＳ（ガスクロマトグラフィー−マススペクトル）プロットであり、ピークの帰属を示す。
【図１８】実施例１５のイソプロパノールブランクについての図１７と同様のプロットである。
【図１９】図１８との比較のための、ピーク帰属なしの図１７と同様の実施例１５からのプロットである。
【図２０】ＳｉＯ２低タンパク質結合処理されたプレート（下のプロット）対イソプロパノールブランクのプレート（上のプロット）の、ＬＣ−ＭＳイソプロパノール抽出イオンクロマトグラム（ポジティブＡＰＣＩモード）の実施例１６からの比較である。
【図２１】ＳｉＯ２で未調整且つ未変換のプレート（下のプロット）対イソプロパノールブランクのプレート（上のプロット）の、ＬＣ−ＭＳイソプロパノール抽出イオンクロマトグラム（ポジティブＡＰＣＩモード）の実施例１６からの比較であり、未調整且つ未変換のプレートの抽出物中のポリプロピレン成分の存在を示す。
【図２２】ＳｉＯ２低タンパク質結合処理されたプレート（下のプロット）対イソプロパノールブランクのプレート（上のプロット）の、ＬＣ−ＭＳイソプロパノール抽出イオンクロマトグラム（ネガティブＡＰＣＩモード）の実施例１６からの比較である。
【図２３】全ての実施形態に関する、接触表面１６４と内部１６６とを有する基材１６２の図である。
【発明を実施するための形態】
【０１３４】
本明細書及び添付の図面中では、以下の参照符号が使用される。
【０１３５】
【表１】
2018537556.tif 000003
【０１３６】
本明細書中では、表面への生体分子の付着を低減するための方法が開示される。最も一般的には、１つ以上の非重合性化合物の変換プラズマを用いて表面を処理することで処理された接触表面を形成することを含む、任意選択的に基材の全体若しくは一部の表面又は材料表面であってもよい表面を処理するための方法が提供される。
【０１３７】
用語「接触表面」及び「表面」は、別段の明示的な記載又はこれが使用される文脈による示唆がない限り同じものを意味し、各用語は、試料又は他の材料と接触する位置にあり、これと接触する試料又は他の材料とのその相互作用を決定する表面特性を有する表面を示す。接触表面のいくつかの例は、容器の内部表面（例えば、容器の内腔の境界を付ける）、又は容器、シート、ブロック、若しくは他の物体の外表面である。
【０１３８】
用語「内部」は、接触表面ではないが、バルク製品又はコーティングの内側の一部を形成するバルク製品又はコーティングの一部を示す。基材の接触表面がその特性を修正するために処理される実施形態では、基材の内部には処理によって修飾されない任意の部分が含まれる。
【０１３９】
用語「生体分子」は、任意のヌクレオチド若しくはペプチド、又はこれらの任意の組み合わせを含めるために任意の実施形態に関して使用される。ヌクレオチドには、オリゴヌクレオチド及びポリヌクレオチド（別名核酸、例えばデオキシリボ核酸（ＤＮＡ）及びリボ核酸（ＲＮＡ））が含まれる。ペプチドには、アミノ酸、オリゴペプチド、ポリペプチド、及びタンパク質が含まれる。ヌクレオチド及びペプチドには、本技術によって処理されていない表面に付着する変性された又は誘導体化されたヌクレオチド及びペプチドも更に含まれる。
【０１４０】
ここで定義される生体分子としては、これらに限定されるものではないが、以下の水性タンパク質：例えばウシ血清アルブミン（ＢＳＡ）などの哺乳類血清アルブミン；フィブリノゲン（ＦＢＧ）；例えば血液セロトランスフェリン（又はシデロフィリン、別名トランスフェリン）などのトランスフェリン（ＴＦＮ）；ラクトトランスフェリン（ラクトフェリン）；ミルクトランスフェリン；卵白オボトランスフェリン（コンアルブミン）；膜結合メラノトランスフェリン；プロテインＡ（ＰｒＡ）；プロテインＧ（ＰｒＧ）；プロテインＡ／Ｇ；プロテインＬ；例えば六量体インスリン、単量体インスリン、ブタインスリン、ヒトインスリン、組み換えインスリン、及び医薬品グレードのインスリンなどのインスリン；医薬用タンパク質；血液又は血液成分のタンパク質；これらのタンパク質の任意の組み換え型、修飾型、全長前駆体、シグナルペプチド、プロペプチド、又は成熟変異体；並びにこれらの２つ以上の組み合わせの１つ以上が挙げられる。
【０１４１】
表面への生体分子の付着は、表面と接触して貯蔵される水性媒体中に分散されている生体分子の水中濃度の減少として、任意の実施形態について定義される。これは、文字通りの「付着」、吸着、又は他の機構であるかどうかに関わらず、濃度減少の機構によって限定されない。
【０１４２】
任意の実施形態中で言及される「プラズマ」は、通常、気体形態であるその成分粒子の大規模なイオン化及び白熱（すなわち、これはグロー放電を生じる、すなわち、これは発光する）によって特徴付けられる、物質の４つの基本状態の１つの物理状態にあるその通常の意味を有する。
【０１４３】
「変換プラズマ処理」とは、処理された接触表面への１つ以上の生体分子の付着を低減する任意のプラズマ処理を指す。
【０１４４】
「調整プラズマ処理」とは、更に変換プラズマ処理を行うための表面を作製するための表面の任意のプラズマ処理を指す。「調整プラズマ処理」には、それ自体が処理された接触表面への１つ以上の生体分子の付着を低減するプラズマ処理が含まれるが、これに引き続いて処理された接触表面への１つ以上の生体分子の付着を更に低減する変換プラズマ処理が行われる。「調整プラズマ処理」には、それ自体では処理された接触表面への１つ以上の生体分子の付着を低減しないプラズマ処理も含まれる。
【０１４５】
「遠隔」変換プラズマ処理は、一般的には、例えばジュール毎ｃｍ３単位でのプラズマの放射エネルギー密度がプラズマグロー放電の任意の地点での最大放射エネルギー密度（以下では「最も明るい地点」という）よりも大幅に少ない「遠隔」地点に位置するが、処理される遠隔表面への１つ以上の生体分子の付着を低減するためのグロー放電の一部に遠隔表面が十分に近い表面の変換プラズマ処理である。「遠隔」は、遠隔表面が表面を調整するためのグロー放電の一部に十分に近くなければならないことを除いて、遠隔調整プラズマ処理に関しても同様に定義される。
【０１４６】
プラズマの最も明るい地点での放射エネルギー密度は、最も明るい地点での可視スペクトル（３８０ナノメートル（ｎｍ）〜７５０ｎｍの波長）における光の最も強い発光線の放射強度を測定することによって分光学的に決定される。遠隔地点での放射エネルギー密度は、遠隔地点での光の同じ発光線の放射エネルギー密度を測定することによって分光学的に決定される。ある地点の「遠隔性」は、最も明るい地点での放射エネルギー密度に対する遠隔地点での放射エネルギー密度の割合を測定することによって数値化される。本明細書では、「遠隔」を比率の特定の範囲として定量的に定義する。広義には、比率は０〜０．５、任意選択的に０〜０．２５、任意選択的に約０、任意選択的にまさに０である。プラズマの暗い放電領域又はアフターグロー領域は、発光のためにはエネルギー的に十分でないものの、１つ以上の生体分子の付着を低減するために処理された接触表面を修飾するためにはエネルギー的に十分であるエネルギー種を含むことから、比率がゼロである場所は遠隔地点に測定可能な可視光が存在しないことを示すものの、遠隔変換プラズマ処理は比率がゼロである場所で行われてもよい。
【０１４７】
「非重合性化合物」は、表面の具体的なプラズマ処理において使用される条件下で処理された接触表面上で重合しない、又は他に付加的なコーティングを形成しない化合物として、全ての実施形態について運用上定義される。非重合条件下で使用することができる化合物の多数の非限定的な例は、Ｏ２、Ｎ２、空気、Ｏ３、Ｎ２Ｏ、Ｈ２、Ｈ２Ｏ２、ＮＨ３、Ａｒ、Ｈｅ、Ｎｅ、及び前述のものの任意の２つ以上の組み合わせである。これらには、アルコール、有機酸、及び極性有機溶媒だけでなく、それらが用いられる条件と異なるプラズマ条件下で重合できる材料も含まれ得る。「非重合性」には、既存のポリマー表面と反応して結合し、表面でその組成を局所的に修飾する化合物も含まれる。非重合性コーティングの本質的な特徴的性質は、これが処理時間の増加に伴って厚みを増大させない（すなわち付加的なコーティングを形成しない）ことである。
【０１４８】
「基材」は、物品又は他の固体形態（顆粒、ビーズ、又は粒子など）である。
【０１４９】
「基材」は、基材の元々の表面（本明細書中のいずれの場所で使用されていても「表面」には表面の一部も含まれる）、又は任意の適切なコーティング法又は処理法（基材上へのコーティングの形成に有効な条件下で行われる液体塗布、気体からの凝縮、又はプラズマ強化化学蒸着などの化学蒸着等）によって作製されるコーティングされた接触表面又は処理された接触表面のいずれかとして広義には定義される。
【０１５０】
処理された接触表面は、全ての実施形態について、本明細書に記載されているようなプラズマ処理が行われ、そのような処理の結果として生体分子の付着が低減された表面として定義される。
【０１５１】
用語「任意選択的に」及び「或いは」は、本明細書及び請求項において同じ意味を有すると見なされ、互換的に使用することができる。
【０１５２】
任意の実施形態における「材料」は、基材を形成する任意の材料であってもよく、熱可塑性材料、任意選択的に熱可塑性の射出成形可能な材料が含まれるが、これらに限定されない。任意の実施形態の基材は、例えばオレフィンポリマー；ポリプロピレン（ＰＰ）；ポリエチレン（ＰＥ）；環状オレフィンコポリマー（ＣＯＣ）；環状オレフィンポリマー（ＣＯＰ）；ポリメチルペンテン；ポリエステル；ポリエチレンテレフタレート；ポリエチレンナフタレート；ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）；ＰＶｄＣ（ポリ塩化ビニリデン）；ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）；ポリカーボネート；ポリメチルメタクリレート；ポリ乳酸；ポリ乳酸；ポリスチレン；水素化ポリスチレン；ポリ（シクロヘキシルエチレン）（ＰＣＨＥ）；エポキシ樹脂；ナイロン；ポリウレタン、ポリアクリロニトリル；ポリアクリロニトリル（ＰＡＮ）；アイオノマー樹脂；又はＳｕｒｌｙｎ（登録商標）アイオノマー樹脂などの材料（ただし、これらに限定されない）から形成されてもよい。
【０１５３】
本明細書全体を通じて使用される用語「容器」は、液体、気体、固体、これらの任意の２つ以上を入れるか運ぶために適した任意の種類の物品であってもよい。容器の１つの例は、少なくとも１つの開口（例えば、用途に応じて１つ、２つ、又はそれを超える）と、内部接触表面を画定する壁とを有する物品である。
【０１５４】
任意選択的に基材の表面であってもよい表面の処理のための本発明の方法は、チャンバー中で１つ以上の非重合性化合物の変換プラズマを用いて表面を処理することで、処理された接触表面を形成することを含む。
【０１５５】
任意の実施形態によって様々な異なる表面を処理することができる。表面の１つの例は容器の内腔表面であり、この容器は、例えばバイアル、瓶、広口瓶、シリンジ、カートリッジ、ブリスター包装、又はアンプルである。追加の例としては、材料の表面は、例えばマイクロプレート、遠沈管、ピペットチップ、ウェルプレート、マイクロウェルプレート、ＥＬＩＳＡプレート、マイクロタイタープレート、９６ウェルプレート、３８４ウェルプレート、遠沈管、クロマトグラフィーバイアル、真空採血管、又は試料管などの実験器具製品の接触表面であってもよい。
【０１５６】
任意の実施形態の処理された接触表面は、任意選択的にＰＥＣＶＤにより堆積したＳｉＯxＣyＨz又はＳｉＮxＣyＨzのコーティング又は層であってもよく、この中のＸ線光電子分光（ＸＰＳ）により測定されるｘは約０．５〜約２．４であり、ＸＰＳにより測定されるｙは約０．６〜約３であり、ラザフォード後方散乱分光法（ＲＢＳ）により測定されるｚは約２〜約９である。処理される表面のもう１つの例は、ＳｉＯx（ＸＰＳにより測定されるｘは約１．５〜約２．９である）、任意選択的に周期表のＩＩＩ族及び／又はＩＶ族（例えば、ＩＩＩ族ではホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム、スカンジウム、イットリウム、又はランタン（アルミニウム及びホウ素が好ましい）、及びＩＶ族ではケイ素、ゲルマニウム、スズ、鉛、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、又はトリウム（ケイ素及びスズが好ましい））からの金属元素の化合物である有機金属前駆体の酸化物又は窒化物のバリアコーティング又は層である。
【０１５７】
任意の実施形態において表面を処理するために用いられるガスは、不活性ガスであっても反応性ガスであってもよく、Ｏ2、Ｎ2、空気、Ｏ3、Ｎ2Ｏ、ＮＯ2、Ｎ2Ｏ4、Ｈ2、Ｈ2Ｏ2、Ｈ2Ｏ、ＮＨ3、Ａｒ、Ｈｅ、Ｎｅ、Ｘｅ、Ｋｒ、窒素含有ガス、他の非重合性ガス、Ａｒ／Ｏ2混合物などのガスの組み合わせ、Ａｒを用いた前処理調整工程後のＮ2／Ｏ2混合物、揮発性極性有機化合物、Ｃ1〜Ｃ12炭化水素と酸素との組み合わせ、Ｃ1〜Ｃ12炭化水素と窒素との組み合わせ、ケイ素含有ガス、又はこれらの２つ以上の組み合わせのいずれかであってもよい。処理には本明細書で規定される非重合性ガスが用いられる。
【０１５８】
任意の実施形態の揮発性極性有機化合物は、例えば、水（例えば、水道水、蒸留水、又は脱イオン水）；アルコール（例えば、Ｃ1〜Ｃ12アルコール、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノール）；グリコール（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ポリエチレングリコール等）；グリセリン、Ｃ1〜Ｃ12直鎖若しくは環状のエーテル（例えば、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、グリム（ＣＨ3ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ3））；ジエチレンオキシド、トリエチレンオキシド、及びテトラエチレンオキシドなどの式−ＣＨ2ＣＨ2Ｏn−の環状エーテル；環状アミン；環状エステル（ラクトン、例えばアセトラクトン、プロピオラクトン、ブチロラクトン、バレロラクトン、及びカプロラクトン）；Ｃ1〜Ｃ12アルデヒド（例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、又はブチルアルデヒド）；Ｃ1〜Ｃ12ケトン（例えば、アセトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、又はジブチルケトン）；Ｃ1〜Ｃ12カルボン酸（例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、又は酪酸）；アンモニア、Ｃ1〜Ｃ12アミン（例えば、メチルアミン、ジメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、ペンチルアミン、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ウンデシルアミン、又はドデシルアミン）；フッ化水素、塩化水素、Ｃ1〜Ｃ12エポキシド（例えば、エチレンオキシド又はプロピレンオキシド）；又はこれらの任意の２つ以上の組み合わせであってもよい。
【０１５９】
任意の実施形態のＣ1〜Ｃ12炭化水素は、任意選択的にメタン、エタン、エチレン、アセチレン、ｎ−プロパン、ｉ−プロパン、プロペン、プロピン、ｎ−ブタン、ｉ−ブタン、ｔ−ブタン、ブタン、１−ブチン、２−ブチン、又はこれらの任意の２つ以上の組み合わせであってもよい。
【０１６０】
任意の実施形態のケイ素含有ガスは、シラン、有機ケイ素前駆体、又はこれらの任意の２つ以上の組み合わせであってもよい。ケイ素含有ガスは、任意選択的に、Ｓｉ1〜Ｓｉ4の置換若しくは無置換のシラン（例えば、シラン、ジシラン、トリシラン、又はテトラシラン）；炭化水素若しくはハロゲンで置換されているＳｉ1〜Ｓｉ4シラン（例えば、テトラメチルシラン（ＴｅｔｒａＭＳ）、テトラエチルシラン、テトラプロピルシラン、テトラブチルシラン、トリメチルシラン（ＴｒｉＭＳ）、トリエチルシラン、トリプロピルシラン、トリブチルシラン、トリメトキシシラン）、ヘキサフルオロジシランなどのフッ化シラン、オクタメチルシクロテトラシラン若しくはテトラメチルシクロテトラシランなどの環状シラン、又はこれらの任意の２つ以上の組み合わせの任意の１つ以上を含むかこれから本質的になるかこれからなる、非環状又は環状の置換又は無置換のシランであってもよい。ケイ素含有ガスは、直鎖シロキサン、単環式シロキサン、多環式シロキサン、ポリシルセスキオキサン、アルキルトリメトキシシラン、直鎖シラザン、単環式シラザン、多環式シラザン、ポリシルセスキアザン、又はこれらの任意の２つ以上の組み合わせであってもよく、例えばヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）、テトラメチルジシロキサン（ＴＭＤＳＯ）、オクタメチルシクロテトラシロキサン（ＯＭＣＴＳ）、テトラメチルジシラザン、ヘキサメチルジシラザン、オクタメチルトリシラザン、オクタメチルシクロテトラシラザン、テトラメチルシクロテトラシラザン、又はこれらの任意の２つ以上の組み合わせであってもよい。
【０１６１】
任意の実施形態においてプラズマ処理で使用されるプラズマの励起のために使用される電力は、例えば１〜１０００ワット、任意選択的に１００〜９００ワット、任意選択的に５０〜６００ワット、任意選択的に１００〜５００ワット、任意選択的に５００〜７００ワット、任意選択的に１〜１００ワット、任意選択的に１〜３０ワット、任意選択的に１〜１０ワット、任意選択的に１〜５ワットであってもよい。
【０１６２】
任意の実施形態においてプラズマ処理で使用されるプラズマの励起のために使用される電力のエネルギーの周波数又は種類は、プラズマゾーンでプラズマを生じさせる任意の種類のエネルギーであってもよい。例えば、これは直流（ＤＣ）であっても、又は３Ｈｚ〜３００ＧＨｚの周波数を有する交流（電磁エネルギー）であってもよい。この範囲の電磁エネルギーには、通常、ラジオ波（ＲＦ）エネルギー及びマイクロ波エネルギーが含まれ、より具体的には、３〜３０Ｈｚの超低周波（ＥＬＦ）、３０〜３００Ｈｚの極超長波（ＳＬＦ）、３００Ｈｚ〜３ｋＨｚの音声周波又は極超長波（ＶＦ又はＵＬＦ）、３〜３０ｋＨｚの超長波（ＶＬＦ）、３０〜３００ｋＨｚの低周波（ＬＦ）、３００ｋＨｚ〜３ＭＨｚの中波（ＭＦ）、３〜３０ＭＨｚの高周波（ＨＦ）、３０〜３００ＭＨｚの超短波（ＶＨＦ）、３００ＭＨｚ〜３ＧＨｚの極超短波（ＵＨＦ）、３〜３０ＧＨｚのマイクロ波（ＳＨＦ）、３０〜３００ＧＨｚのミリ波（ＥＨＦ）、又はこれらの周波数の２つ以上の任意の組み合わせとして特徴付けられる。例えば、一般的に使用されている周波数の２つの非限定的な例として、一般的には１３．５６ＭＨｚである高周波エネルギーが有用なＲＦエネルギーであり、一般的には２．５４ＧＨｚである極超短波エネルギーが有用なマイクロ波エネルギーである。
【０１６３】
任意の実施形態においてプラズマ励起エネルギーは、処理工程中に連続的であっても、処理工程中の複数回のパルスであってもよい。パルス化される場合、これは、プラズマ処理中の規則的又は異なる順序での、１ミリ秒〜１秒の範囲の時間の作動と、その後の１ミリ秒〜１秒の範囲の時間の停止との交互のパルスであってもよい。１つの完全なデューティサイクル（１つの「作動」期間と１つの「停止」期間）は、１〜２０００ミリ秒（ｍｓ）、任意選択的に１〜１０００ミリ秒（ｍｓ）、任意選択的に２〜５００ｍｓ、任意選択的に５〜１００ｍｓ、任意選択的に１０〜１００ｍｓの長さであってもよい。
【０１６４】
任意の実施形態において、任意選択的に、デューティサイクルの電源のオンとオフとの間の部分の関係は、例えば各デューティサイクルの時間の１〜９０％、任意選択的に時間の１〜８０％、任意選択的に時間の１〜７０％、任意選択的に時間の１〜６０％、任意選択的に時間の１〜５０％、任意選択的に時間の１〜４５％、任意選択的に時間の１〜４０％、任意選択的に時間の１〜３５％、任意選択的に時間の１〜３０％、任意選択的に時間の１〜２５％、任意選択的に時間の１〜２０％、任意選択的に時間の１〜１５％、任意選択的に時間の１〜１０％、任意選択的に時間の１〜５％が電源オンであり、残りの時間が電源オフであってもよい。
【０１６５】
任意選択的に、Ｍａｒｋ  Ｊ．Ｋｕｓｈｎｅｒ，Ｐｕｌｓｅｄ  Ｐｌａｓｍａ−Ｐｕｌｓｅｄ  Ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ  Ｓｏｕｒｃｅｓ  Ｆｏｒ  Ｒｅｍｏｔｅ  Ｐｌａｓｍａ  Ａｃｔｉｖａｔｅｄ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ，Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．７３，４０９８（１９９３）に記載されているプラズマのパルス化を使用することができる。
【０１６６】
任意の実施形態によるプラズマ処理中のプロセスガスの流量は、１〜３００ｓｃｃｍ（標準立方センチメートル毎分）、任意選択的に１〜２００ｓｃｃｍ、任意選択的に１〜１００ｓｃｃｍ、任意選択的に１〜５０ｓｃｃｍ、任意選択的に５〜５０ｓｃｃｍ、任意選択的に１〜１０ｓｃｃｍであってもよい。
【０１６７】
任意の実施形態において、任意選択的に、プラズマチャンバーは、ガスの供給前に０．００１ミリトル（ｍＴｏｒｒ，０．０００１３パスカル）〜１００Ｔｏｒｒ（１３，０００パスカル）の基準圧力まで減圧される。任意選択的に、任意の実施形態における供給ガス圧は、０．００１〜１０，０００ｍＴｏｒｒ（０．０００１３〜１３００パスカル）、任意選択的に１ｍＴｏｒｒ〜１０Ｔｏｒｒ（０．１３〜１３００パスカル）、任意選択的に０．００１〜５０００ｍＴｏｒｒ（０．０００１３〜６７０パスカル）、任意選択的に１〜１０００ｍＴｏｒｒ（０．１３〜１３０パスカル）の範囲であってもよい。
【０１６８】
任意の実施形態において、中でプラズマが生成される処理容積は、例えば、１００ｍＬ〜５０リットル、好ましくは８リットル〜２０リットルであってもよい。任意選択的に、処理される表面が１００ｍＬより小さい内腔容積を有する容器の内部表面である場合、処理容積は内腔容積以下に制限される場合がある。例えば、それに応じた処理容積を有する０．１〜１００ｍＬ、或いは０．５〜１０ｍＬの内腔容積の容器が想定される。
【０１６９】
任意の実施形態におけるプラズマ処理時間は、例えば１〜３００秒、任意選択的に３〜３００秒、任意選択的に３０〜３００秒、任意選択的に１５０〜２５０秒、任意選択的に１５０〜２００秒、任意選択的に９０〜１８０秒であってもよい。
【０１７０】
任意の実施形態において、プラズマ処理工程の数は様々であってもよい。例えば、１つのプラズマ処理を使用することができ、任意選択的に同じ又は異なる条件を用いて２つ以上のプラズマ処理を使用することができる。
【０１７１】
任意の実施形態において、使用されるプラズマ処理装置は、例えば複数の例示として本明細書に記載されている図１、図７、図８、又は図１０のものなどの任意の好適な装置であってもよい。任意の実施形態において、例えば米国特許第７，９８５，１８８号明細書の図２中に示されている、処理される容器の内腔を真空チャンバーとして用いるタイプのプラズマ処理装置も使用することができる。
【０１７２】
任意の実施形態のプラズマ処理プロセスは、任意選択的にイオン化ガスを使用する処理と組み合わされてもよい。イオン化ガスは、いくつかの例として、プラズマ処理に好適であるとして特定されているいずれかのガスであってもよい。イオン化ガスは、任意の適切な方法で運ばれてもよい。例えば、これはイオン化ブローオフガン又は他のイオン化ガス源から運ばれてもよい。都合のよいガス送出圧力は、１〜１２０ｐｓｉ（ポンド毎平方インチ）（６〜８３０ｋＰａ，キロパスカル）（ゲージ圧、又は任意選択的に絶対圧）、任意選択的に５０ｐｓｉ（３５０ｋＰａ）である。イオン化ガスの含水率は０〜１００％であってもよい。イオン化ガスを用いた極性処理接触表面は、例えば１〜３００秒間、任意選択的に１０秒間などの任意の適切な処理時間行うことができる。
【０１７３】
ポリマー基材の組成
任意の実施形態において、任意選択的に、前述の処理の結果物は、接触表面と内部とから本質的になるポリマー基材である。任意の実施形態において、任意選択的に、接触表面は、１〜３０原子％、任意選択的に５〜２０原子％、任意選択的に５〜１０原子％の酸素原子；０〜３０原子％、任意選択的に０〜２０原子％、任意選択的に０〜１０原子％の窒素原子；及び８０〜９９原子％、任意選択的に８０〜９５原子％、任意選択的に９０〜９５原子％の炭素原子を含み、ここで、原子％の値はＸ線光電子分光（ＸＰＳ）によって測定される。
【０１７４】
任意の実施形態において、任意選択的に、規定した割合の範囲内の酸素及び／又は窒素原子は、炭素原子にグラフトされる。或いは、炭素、酸素、及び窒素原子は、基材の上に堆積して接触表面を形成してもよい。
【０１７５】
任意の実施形態において、任意選択的に、基材の内部は、少なくとも８０原子％、任意選択的に少なくとも８５原子％、任意選択的に少なくとも９０原子％、任意選択的に少なくとも９５原子％、任意選択的に少なくとも１００原子％の炭素原子と、接触表面より多い原子％の炭素原子とを含む。
【０１７６】
任意の実施形態において、任意選択的に、接触表面は、０．１〜１０原子％、任意選択的に０．１〜５原子％、任意選択的に１〜５原子％の、酸素がグラフトされている炭素原子を含む。
【０１７７】
任意の実施形態において、任意選択的に、接触表面は、０．１〜１０原子％、任意選択的に０．１〜５原子％の水素結合受容性基を含む。そのような水素結合受容性基の例としては、限定するものではないが、いずれの場合も炭素に結合する−Ｎ＋−、−Ｎ−、＝Ｏ、−Ｏ−、−Ｏ２、−Ｏ３、Ｃ＝Ｏ、Ｏ−Ｃ＝Ｏ、Ｃ−Ｏ−Ｃ、又は≡Ｎから選択される部位が挙げられ、任意選択的にこれらの２つ以上から選択されるか、又はこれらの２つ以上の任意の組み合わせである。
【０１７８】
任意の実施形態において、任意選択的に、接触表面は、極性のグラフト種、任意選択的にＸ線光電子分光（ＸＰＳ）によって測定されるＣ＝Ｏ（カルボニル）、Ｃ−Ｏ−Ｃ（エーテル）、Ｃ−Ｎ−Ｃ（アミン）、Ｃ−Ｎ＋−Ｃ（アンモニウム）、ＣＯ２（カルボキシル）、ＣＯ３、Ｓｉ＝Ｏ、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ、Ｓｉ−Ｎ−Ｓｉ、Ｓｉ−Ｎ＋−Ｓｉ、ＳｉＯ２、ＳｉＯ３、Ｃ≡Ｎ、Ｓｉ≡Ｎ、又はこれらの２つ以上の組み合わせの１つ以上で修飾された炭素化合物又はケイ素化合物を含む。
【０１７９】
任意の実施形態において、任意選択的に、接触表面は、熱可塑性材料、例えば熱可塑性樹脂、例えば射出成形された熱可塑性樹脂を含む。好適な樹脂のいくつかの非限定的な例としては、例えばオレフィンポリマー、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレン（ＰＥ）、環状オレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、環状オレフィンポリマー（ＣＯＰ）、ポリメチルペンテン、ポリスチレン、水素化ポリスチレン、ポリシクロヘキシルエチレン（ＰＣＨＥ）、若しくはこれらの２つ以上の組み合わせなどの炭化水素ポリマー；又は例えばポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリ塩化ビニリデン（ＰＶｄＣ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリカーボネート、ポリ乳酸、エポキシ樹脂、ナイロン、ポリウレタン、ポリアクリロニトリル、ポリアクリロニトリル（ＰＡＮ）、アイオノマー樹脂、Ｓｕｒｌｙｎ（登録商標）アイオノマー樹脂、又は上述の材料の任意の２つ以上の組み合わせ、複合材料、若しくはブレンド物などのヘテロ原子置換炭化水素ポリマーが挙げられる。
【０１８０】
任意の実施形態において、任意選択的に、接触表面は、少なくとも１０％、任意選択的に少なくとも２０％、任意選択的に少なくとも３０％、任意選択的に少なくとも４０％、任意選択的に少なくとも４５％、任意選択的に少なくとも５０％、任意選択的に少なくとも５５％、任意選択的に少なくとも６０％、任意選択的に少なくとも６５％、任意選択的に少なくとも７０％、任意選択的に少なくとも７５％、任意選択的に少なくとも８０％、任意選択的に少なくとも８５％、任意選択的に少なくとも９０％、任意選択的に少なくとも９５％の生体分子回収率を有する。任意の実施形態において、任意選択的に、生体分子回収率は、哺乳類血清アルブミン；ウシ血清アルブミン（ＢＳＡ）；フィブリノゲン（ＦＢＧ）；トランスフェリン（ＴＦＮ）；卵白オボトランスフェリン（コンアルブミン）；膜結合メラノトランスフェリン；プロテインＡ（ＰｒＡ）；プロテインＧ（ＰｒＧ）；プロテインＡ／Ｇ；プロテインＬ；インスリン；医薬用タンパク質；血液又は血液成分のタンパク質；これらのタンパク質の任意の組み換え型、修飾型、全長前駆体、シグナルペプチド、プロペプチド、又は成熟変異体の少なくとも１つに関して決定される。
【０１８１】
任意の実施形態において、任意選択的に、６６，０００ダルトンの原子質量を有するＢＳＡに関し、生体分子回収率は、少なくとも２０％、任意選択的に少なくとも３０％、任意選択的に少なくとも４０％、任意選択的に少なくとも５０％、任意選択的に少なくとも６０％、任意選択的に少なくとも７０％、任意選択的に少なくとも８０％、任意選択的に少なくとも９０％、任意選択的に少なくとも９５％、任意選択的に少なくとも９９％、任意選択的に１０〜９０％、任意選択的に２０〜９０％、任意選択的に３０〜９０％、任意選択的に４０〜９０％、任意選択的に５０〜９０％、任意選択的に６０〜９０％、任意選択的に７０〜９０％、任意選択的に８０〜９０％である。
【０１８２】
任意の実施形態において、任意選択的に、３４０，０００ダルトンの原子質量を有するＦＢＧに関し、生体分子回収率は、少なくとも１０％、任意選択的に少なくとも２０％、任意選択的に少なくとも３０％、任意選択的に少なくとも４０％、任意選択的に少なくとも５０％、任意選択的に少なくとも６０％、任意選択的に少なくとも７０％、任意選択的に少なくとも８０％、任意選択的に少なくとも９０％、任意選択的に少なくとも９５％、任意選択的に少なくとも９９％、任意選択的に１０〜９０％、任意選択的に２０〜９０％、任意選択的に３０〜９０％、任意選択的に４０〜９０％、任意選択的に５０〜９０％、任意選択的に６０〜９０％、任意選択的に７０〜９０％、任意選択的に８０〜９０％、任意選択的に１５％〜２０％である。
【０１８３】
任意の実施形態において、任意選択的に、８０，０００ダルトンの原子質量を有するＴＦＮに関し、生体分子回収率は、少なくとも３０％、任意選択的に少なくとも２０％、任意選択的に少なくとも３０％、任意選択的に少なくとも４０％、任意選択的に少なくとも５０％、任意選択的に少なくとも６０％、任意選択的に少なくとも７０％、任意選択的に少なくとも８０％、任意選択的に少なくとも９０％、任意選択的に少なくとも９５％、任意選択的に少なくとも９９％、任意選択的に１０〜９０％、任意選択的に２０〜９０％、任意選択的に３０〜９０％、任意選択的に４０〜９０％、任意選択的に５０〜９０％、任意選択的に６０〜９０％、任意選択的に７０〜９０％、任意選択的に８０〜９０％、任意選択的に３０〜５０％である。
【０１８４】
任意の実施形態において、任意選択的に、４５，０００ダルトンの原子質量を有するＰｒＡに関し、生体分子回収率は、少なくとも１０％、任意選択的に少なくとも２０％、任意選択的に少なくとも３０％、任意選択的に少なくとも４０％、任意選択的に少なくとも５０％、任意選択的に少なくとも６０％、任意選択的に少なくとも７０％、任意選択的に少なくとも８０％、任意選択的に少なくとも９０％、任意選択的に少なくとも９５％、任意選択的に少なくとも９９％、任意選択的に１０〜９０％、任意選択的に２０〜９０％、任意選択的に３０〜９０％、任意選択的に４０〜９０％、任意選択的に５０〜９０％、任意選択的に６０〜９０％、任意選択的に７０〜９０％、任意選択的に８０〜９０％、任意選択的に１０〜９０％である。
【０１８５】
任意の実施形態において、任意選択的に、２０，０００ダルトンの原子質量を有するＰｒＧに関し、生体分子回収率は、少なくとも１０％、任意選択的に少なくとも２０％、任意選択的に少なくとも３０％、任意選択的に少なくとも４０％、任意選択的に少なくとも５０％、任意選択的に少なくとも６０％、任意選択的に少なくとも７０％、任意選択的に少なくとも８０％、任意選択的に少なくとも９０％、任意選択的に少なくとも９５％、任意選択的に少なくとも９９％、任意選択的に１０〜９０％、任意選択的に２０〜９０％、任意選択的に３０〜９０％、任意選択的に４０〜９０％、任意選択的に５０〜９０％、任意選択的に６０〜９０％、任意選択的に７０〜９０％、任意選択的に８０〜９０％、任意選択的に５〜９０％である。
【０１８６】
任意の実施形態において、任意選択的に、接触表面は、例えば実験器具製品の流体接触表面などの容器の内腔表面である。好適な実験器具製品の例としては、マイクロプレート、遠沈菅、ピペットチップ、ウェルプレート、マイクロウェルプレート、ＥＬＩＳＡプレート、マイクロタイタープレート、９６ウェルプレート、３８４ウェルプレート、バイアル、瓶、広口瓶、シリンジ、カートリッジ、ブリスター包装、アンプル、真空採血管、試料管、遠沈管、又はクロマトグラフィーバイアルが挙げられる。
【０１８７】
任意の実施形態において、任意選択的に、接触表面は水性タンパク質と接触する。
【０１８８】
任意の実施形態において、任意選択的に、接触表面は０°〜９０°、任意選択的に２０°〜８０°、任意選択的に４０°〜８０°、任意選択的に５０°〜７０°、任意選択的に５５°〜６５°の蒸留水との接触角を有する。
【０１８９】
任意の実施形態において、任意選択的に、接触表面は、変換され且つ任意選択的に調整された接触表面上において、５キロボルト毎ｃｍ（５ｋＶ／ｃｍ）未満、任意選択的に３ｋＶ／ｃｍ未満、任意選択的に２ｋＶ／ｃｍ未満、任意選択的に１ｋＶ／ｃｍ未満の、帯電した静電荷を有する。
【０１９０】
任意の実施形態において、任意選択的に、接触表面は、１つ以上の非重合性化合物の調整プラズマ、変換プラズマ、又は両方で処理されて表面を形成する。任意の実施形態において、任意選択的に、非重合性化合物は、Ｏ2、Ｎ2、空気、Ｏ3、Ｎ2Ｏ、Ｈ2、Ｈ2Ｏ、Ｈ2Ｏ2、ＮＨ3、Ａｒ、Ｈｅ、及びＮｅからなる群から選択される要素の１つ以上を含むか、それらから本質的になるか、又はそれらからなる。
【０１９１】
任意の実施形態において、任意選択的に、接触表面は、５〜１０００ｎｍの厚さのＰＥＣＶＤ堆積コーティングである。任意の実施形態において、任意選択的に、ＰＥＣＶＤ堆積コーティングは、シロキサン、オルガノシロキサン、ポリエチレングリコール（ＰＥＧ）を含むガス前駆体；アセチレン、メタン、プロパン、ブタン、エタンを含むモノマーガス前駆体、及び／又は空気、酸素、若しくは水蒸気を含むコモノマーガスの任意の１つ又は組み合わせを使用して適用される。任意の実施形態において、任意選択的に、ＰＥＣＶＤ堆積コーティングは、酸素ヘテロ原子及び任意選択的に窒素ヘテロ原子を更に含むアモルファスカーボンコーティングである。例えば、アモルファスカーボンコーティングは、例えばアセチレン、エチレン、メタン、エタン、プロパン、ブタン、又はこれらの２つ以上の組み合わせなどの炭素含有モノマーガス前駆体、及び空気、酸素、水蒸気、又はこれらの２つ以上の組み合わせなどの反応性ガスを使用して適用され得る。
【０１９２】
生体分子の接触及び回収
任意の実施形態のプラズマ処理後、例えば容器の内腔表面などの処理された接触表面は、水性タンパク質又は他の生体分子と接触することができる。好適なタンパク質のいくつかの非限定的な例は、例えばウシ血清アルブミン（ＢＳＡ）などの哺乳類血清アルブミン；フィブリノゲン（ＦＢＧ）；例えば血液セロトランスフェリン（又はシデロフィリン、別名トランスフェリン）などのトランスフェリン（ＴＦＮ）；ラクトトランスフェリン（ラクトフェリン）；ミルクトランスフェリン；卵白オボトランスフェリン（コンアルブミン）；及び膜結合メラノトランスフェリン；プロテインＡ（ＰｒＡ）；プロテインＧ（ＰｒＧ）；プロテインＡ／Ｇ；プロテインＬ；例えば六量体インスリン、単量体インスリン、ブタインスリン、ヒトインスリン、組み換えインスリン、及び医薬品グレードのインスリンなどのインスリン；医薬用タンパク質；血液又は血液成分のタンパク質；これらのタンパク質の任意の組み換え型、修飾型、全長前駆体、シグナルペプチド、プロペプチド、又は成熟変異体；又はこれらの２つ以上の組み合わせを含む水性タンパク質である。
【０１９３】
任意選択的に、処理された接触表面は、ウシ血清アルブミン（ＢＳＡ）；フィブリノゲン（ＦＢＧ）；例えば血液セロトランスフェリン（又はシデロフィリン、別名トランスフェリン）などのトランスフェリン（ＴＦＮ）；ラクトトランスフェリン（ラクトフェリン）；ミルクトランスフェリン；卵白オボトランスフェリン（コンアルブミン）；及び膜結合メラノトランスフェリン；プロテインＡ（ＰｒＡ）；プロテインＧ（ＰｒＧ）；プロテインＡ／Ｇ；プロテインＬ；例えば六量体インスリン、単量体インスリン、ブタインスリン、ヒトインスリン、組み換えインスリン、及び医薬品グレードのインスリンなどのインスリン；医薬用タンパク質；血液又は血液成分のタンパク質；これらのタンパク質又はペプチドの任意の組み換え型、修飾型、全長前駆体、シグナルペプチド、プロペプチド、又は成熟変異体の少なくとも１つに関しての未調整且つ未変換の表面のタンパク質回収率よりも大きいタンパク質回収率を有する。
【０１９４】
第１のより詳しい実施形態
第１のより詳しい実施形態の基材を有する容器は、例えば上で定義したいずれかの材料から作られていてもよい。透明でガラス状のポリマーが望まれる用途（例えば、シリンジ及びバイアル用）のために、環状オレフィンポリマー（ＣＯＰ）、環状オレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、又はポリカーボネートが好ましい場合がある。ポリプロピレンなどの直鎖ポリオレフィン及びポリスチレンなどの芳香族ポリオレフィンも想定される。そのような基材は、非常に小さく正確な許容誤差（通常、ガラスで得られるよりもはるかに小さい）のため、例えば射出成形又は射出延伸ブロー成形（これは本開示の任意の実施形態において射出成形としても分類される）によって製造されてもよい。例えば、ホウケイ酸ガラス基材などのプラズマ処理されたガラス基材も想定される。
【０１９５】
第１のより詳しい実施形態の容器は、例えば、流体を保持するため（例えば、生体材料又は生物学的に活性な化合物若しくは組成物を保持するため、例えば血液又は尿などの生物体液を採取又は貯蔵するため）の試料管若しくはキュベット、例えば薬剤若しくは医薬組成物などの生物学的に活性な化合物若しくは組成物を貯蔵若しくは送達するためのシリンジ（又は例えばシリンジバレルなどのその一部）、生体材料若しくは生物学的に活性な化合物若しくは組成物を貯蔵するためのバイアル、生体材料若しくは生物学的に活性な化合物若しくは組成物を移送するためのパイプ又は他の導管（例えば、カテーテル）、などの容器であってもよい。想定される容器の他の非限定的な例は、例えばタイタ―プレート又はマイクロタイタープレート（別名マイクロプレート）などのウェル型又は非ウェル型のスライド又はプレートが挙げられる。容器の他の例としては、ピペット、ピペットチップ、エルレンマイヤーフラスコ、ビーカー、及びメスシリンダーなどの測定器具及び移送器具が挙げられる。非限定的な実施形態を実施するための実際の低減に関して本明細書で記載されている具体的な容器は、ポリプロピレン製９６ウェルマイクロプレート及びビーカーである。しかし、当業者であれば、任意の種類の表面若しくは容器又は他の種類の物体に対応して処理するために、本明細書に記載の方法及び装置の構成に対して、本発明の技術との整合性がとれる修正形態及び適応形態がなされ得ることを理解するであろう。
【０１９６】
第１のより詳しい実施形態の容器の表面は、例えば上で列挙したいずれかの熱可塑性樹脂などの基材材料自体から作られていてもよい。任意選択的に、基材はバルク材料であってもよく、又はＰＥＣＶＤで堆積されたＳｉＯｘＣｙＨｚ又はＳｉＮｘＣｙＨｚ（式中、Ｘ線光電子分光（ＸＰＳ）により測定されるｘは約０．５〜約２．４であり、ＸＰＳにより測定されるｙは約０．６〜約３であり、ラザフォード後方散乱分光法（ＲＢＳ）により測定されるｚは約２〜約９である）のｐＨ保護コーティング又は層であってもよい。基材のもう１つの例は、ＰＥＣＶＤで堆積されたＳｉＯｘ（ＸＰＳにより測定されるｘは約１．５〜約２．９である）、任意選択的に周期表のＩＩＩ族及び／又はＩＶ族（例えば、ＩＩＩ族ではホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム、スカンジウム、イットリウム、又はランタン（アルミニウム及びホウ素が好ましい）、及びＩＶ族ではケイ素、ゲルマニウム、スズ、鉛、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、又はトリウム（ケイ素及びスズが好ましい））からの金属元素の化合物である有機金属前駆体の酸化物又は窒化物のバリアコーティング又は層である。これらのコーティング又は層を堆積させるための方法及び装置は、２０１３年５月１６日に公開された国際公開第２０１３／０７１１３８号パンフレットに詳細に記載されており、これは、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。
【０１９７】
第１のより詳しい実施形態の方法は、遠隔変換プラズマ処理の使用を採用する。直接プラズマ処理と異なり、遠隔変換プラズマの場合、プラズマのイオンも電子も物品表面とほとんど接触しない。典型的には、より低いエネルギーを有する中性種はプラズマアフターグロー中に存在し、これは、スパッタリングなしで、又はイオン若しくは電子によって誘起される他のより高いエネルギーの化学反応なしで、物品表面と反応するのに十分なエネルギーを有する。遠隔変換プラズマの結果は、「直接」プラズマの高いエネルギーの影響がない穏やかな表面修飾である。
【０１９８】
第１のより詳しい実施形態の方法は、Ｏ２、Ｎ２、空気、Ｏ３、Ｎ２Ｏ、Ｈ２、Ｈ２Ｏ２、ＮＨ３、Ａｒ、Ｈｅ、Ｎｅ、他の非重合性ガス、及び前述のものの任意の２つ以上の組み合わせなどの非重合性ガスを用いる。これらは非重合性アルコール、非重合性有機酸、及び非重合性極性有機溶媒を含んでいてもよい。調整工程（非重合性化合物工程）にＡｒ、Ｎ２、Ａｒ／Ｏ２混合物、又はＮ２／Ｏ２混合物を使用し、前処理調整工程にＡｒを用いる実験が行われた。これら及び他の非重合性ガスは、必ずしもコーティングを堆積させない。むしろ、これらは表面を修飾するために（例えば、処理された接触表面を形成するために）表面と反応し、処理された接触表面は、未調整且つ未変換の表面の生体分子回収率よりも大きい生体分子回収率を有する。例えば、表面反応は、表面上に新しい化学官能基（カルボニル、カルボキシル、ヒドロキシル、ニトリル、アミド、アミンが挙げられるがこれらに限定されない）を生じさせることができる。これらの極性化学基は、表面エネルギーを増加させ、また、未調整且つ未変換の表面が典型的に含み得るそのままの状態では疎水性のポリマーの親水性を増加させると考えられる。疎水性表面は、通常、生体分子を表面によく結合させる一方、水分子を引き付ける親水性表面は、その表面への生体分子の結合を阻止し易くする。本発明はこの作用の原理に限定されないが、この機構によって表面への生体分子の結合が防止されると考えられる。
【０１９９】
任意選択的に、第１のより詳しい実施形態の方法は、基材表面に生体分子を付着させる基材表面の性質を弱めるために使用することができる。好ましくは、方法は、これらに限定されるものではないが、以下の水性タンパク質：例えばウシ血清アルブミン（ＢＳＡ）などの哺乳類血清アルブミン；フィブリノゲン（ＦＢＧ）；例えば血液セロトランスフェリン（又はシデロフィリン、別名トランスフェリン）などのトランスフェリン（ＴＦＮ）；ラクトトランスフェリン（ラクトフェリン）；ミルクトランスフェリン；卵白オボトランスフェリン（コンアルブミン）；及び膜結合メラノトランスフェリン；プロテインＡ（ＰｒＡ）；プロテインＧ（ＰｒＧ）；プロテインＡ／Ｇ；プロテインＬ；例えば六量体インスリン、単量体インスリン、ブタインスリン、ヒトインスリン、組み換えインスリン、及び医薬品グレードのインスリンなどのインスリン；医薬用タンパク質；血液又は血液成分のタンパク質；これらのタンパク質の任意の組み換え型、修飾型、全長前駆体、シグナルペプチド、プロペプチド、又は成熟変異体；並びにこれらの２つ以上の組み合わせの１つ以上を含む広範囲の生体分子について生体分子の付着を低減する。
【０２００】
図１は、本明細書における遠隔変換プラズマ処理を行うための図２、６、７、及び８のそれぞれのより具体的な実施形態で共通の特徴を有する第１のより詳しい実施形態の遠隔変換プラズマ処理装置の概略的な全体図である。境界２０（プラズマは目に見えるグロー放電としてここで規定される）を有するプラズマガスゾーン１５中でのプラズマの生成を支援することができる流体供給源１２からのプラズマガスは、流体入口１３を介してプラズマゾーン１５へ導入され、プラズマエネルギー源１８からのプラズマエネルギーはプラズマゾーン１５に供給されて、プラズマゾーン１５中に境界２０を有するプラズマを生じさせる。
【０２０１】
第１のより詳しい実施形態のプラズマエネルギーは、広義にはプラズマゾーン１５中でプラズマを生じさせる任意の種類のエネルギーであってもよい。例えば、これは直流（ＤＣ）であっても、３Ｈｚ〜３００ＧＨｚの周波数を有する交流（電磁エネルギー）であってもよい。この範囲の電磁エネルギーには、通常、ラジオ波（ＲＦ）エネルギー及びマイクロ波エネルギーが含まれ、より具体的には、３〜３０Ｈｚの超低周波（ＥＬＦ）、３０〜３００Ｈｚの極超長波（ＳＬＦ）、３００Ｈｚ〜３ｋＨｚの音声周波又は極超長波（ＶＦ又はＵＬＦ）、３〜３０ｋＨｚの超長波（ＶＬＦ）、３０〜３００ｋＨｚの低周波（ＬＦ）、３００ｋＨｚ〜３ＭＨｚの中波（ＭＦ）、３〜３０ＭＨｚの高周波（ＨＦ）、３０〜３００ＭＨｚの超短波（ＶＨＦ）、３００ＭＨｚ〜３ＧＨｚの極超短波（ＵＨＦ）、３〜３０ＧＨｚのマイクロ波（ＳＨＦ）、３０〜３００ＧＨｚのミリ波（ＥＨＦ）、又はこれらの周波数の２つ以上の任意の組み合わせとして特徴付けられる。例えば、一般的に使用されている周波数の２つの非限定的な例として、一般的には１３．５６ＭＨｚである高周波エネルギーが有用なＲＦエネルギーであり、一般的には２．５４ＧＨｚである極超短波エネルギーが有用なマイクロ波エネルギーである。
【０２０２】
第１のより詳しい実施形態の最適なアプリケーター２３の特性は、周知のように、エネルギーの周波数及び出力レベルによって決定される。プラズマがラジオ波によって励起される場、例えば、アプリケーター２３は電極であってもよい一方、プラズマがマイクロ波エネルギーによって励起される場合、例えば、アプリケーター２３は導波管であってもよい。
【０２０３】
第１のより詳しい実施形態のアフターグロー領域２４はプラズマ境界２０の外側であるが近傍に位置しており、処理ガス１７を含む。アフターグロー領域２４は、プラズマ境界２０の外側且つ反応チャンバー壁１及び蓋１９内部の処理容積１０全体であってもよく、又はアフターグロー領域２４は、処理容積１０の大きさ及びその中で維持される条件次第で処理容積１０の一部であってもよい。アフターグロー領域２４中の処理ガス１７はプラズマの形成に十分な程度にはイオン化されないが、これは、プラズマなしで同じ温度及び圧力で同じガス組成で行うよりもこれが接触する表面を修飾できるようにするために十分なエネルギーを有する。
【０２０４】
当業者は、いくつかのガス条件が十分に化学的に反応性を有しており、プラズマがない場合に第１のより詳しい実施形態の装置９中の基材を修飾することを理解するであろう。領域の外側に目に見えるグロー放電を生じる所定の装置、プラズマ、ガス供給物、及び圧力若しくは真空条件についての、遠隔変換プラズマ処理装置の領域又はそれに隣接する領域がアフターグロー中にあるかどうかの試験は、第１のより詳しい実施形態のプラズマエネルギー１８が存在しないか又は不十分である結果として、プラズマゾーンを通常画定する領域内にプラズマが存在しない場合の同じ装置、ガス供給物、及び圧力若しくは真空条件に曝された基材と比較して、所定の装置、プラズマ、ガス供給物、及び圧力下の領域に位置する基材が修飾されたか否かである。
【０２０５】
第１のより詳しい実施形態の遠隔変換プラズマ処理は、プラズマゾーン１５内にプラズマを供給することによって行われ、これはアフターグロー領域又は遠隔変換プラズマ（同じ領域についての２つの用語）２４内にアフターグローを生じさせる。これは、アフターグロー領域２４内に少なくとも部分的に位置する基材表面と接触し、これを修飾する。
【０２０６】
遠隔変換プラズマ処理装置における第１のより詳しい実施形態の１つの選択肢として、プラズマガスは、プラズマゾーンに入り、励起してプラズマを形成し、それからより少ないエネルギーを有する場所であるアフターグロー領域２４へと下流側に続き、その後、処理ガス１７として定義され、基材と接触する。すなわち、プラズマゾーン１５を通って流れるガスの少なくとも一部は、プラズマを形成するためにエネルギーが付与されてアフターグロー領域２４まで続き、プラズマゾーン１５中でよりエネルギーが大きくなり、これがアフターグロー領域２４に入るときまでにエネルギーが小さくなる（ただし、プラズマゾーン１５に入る前のガスと比較してなおエネルギーを有する）。この選択肢が採用される場合、プラズマ及びアフターグロー領域２４は、ガスが連通し、同じガスの少なくとも一部が両方のゾーンを通って供給される。任意選択的に、ガスが流れる横断面全体にプラズマが生じない場合として、他のガスがプラズマゾーン１５とアフターグロー領域２４の両方を流れる一方、ガスの一部をプラズマゾーン１５の境界２０の外側にある状態にすることによってプラズマを回避させ、アフターグロー領域２４には依然として流れるようにさせてもよい。
【０２０７】
第１のより詳しい実施形態の遠隔変換プラズマ処理装置の別の選択肢として、プラズマガスは、処理ガス１７と異なる分子であってもよく（ただし、プラズマガスと処理ガスは同じ組成であっても異なる組成であってもよい）、プラズマガスはプラズマゾーン１５内のみにあるかこれのみを通って供給され、アフターグロー領域２４に存在しない一方、処理ガスはプラズマガスによってエネルギーを与えられるがプラズマガスとは別個であり、アフターグロー領域２４内ではプラズマを形成するのに不十分なエネルギーのみを与えられる。
【０２０８】
第１のより詳しい実施形態のアプリケーター２３の特性は、例えばプラズマエネルギー１８の出力レベル及び周波数などの適用条件に応じて様々であってもよい。例えば、アプリケーターは電極、アンテナ、又は導波管などとして構成されてもよい。
【０２０９】
任意選択的に、プラズマが基材１４と接触するか不必要に接近するのを防止するために、又は基材１４が不均一に影響を受けることを防止するために、第１のより詳しい実施形態の処理領域にあるプラズマと少なくとも一部の基材１４との間にシールド１６が配置されてもよい。１つの例に関して、図１中の任意選択的なシールド１６は、これをガス（特にアフターグローを形成する中性種の流れ）が流れることができるように穴が開けられていてもよいが、シールド１６は、第１のより詳しい実施形態のシールドをプラズマが突き抜けるのを防止するために、プラズマを形成するエネルギーの選択に適するように構成されるか備えられる。例えば、プラズマを形成するエネルギー又はプラズマがこれを通過できないように、穴開けがサイズ調整されてもよく、又はシールドが電気的なバイアスがかけられているか電気的に接地されていてもよい。プラズマゾーンがシールドと交差する大きい領域を有している場合、この大きい領域は任意選択的に平らにされ、プラズマ境界２０が第１のより詳しい実施形態の図１に示されている「平らなスポット」２６を有し、これは処理される基材の表面と平行に配置することができるため、第１のより詳しい実施形態の図８に示されている後端部と一直線にならない基材１４の他の部分よりも基材１４の一部にはるかに近くに延在する先細の後端部で終端するプラズマと異なり、大きい領域全体にわたって等距離にある点において、この構成は有利である。
【０２１０】
第１のより詳しい実施形態のもう１つのシールドの選択肢は、シールドがガスもプラズマも通過させないように形成され、プラズマの一部又は全てと、処理領域の一部又は全てとの間の直接的な経路の障害として機能できることである。障害は、プラズマゾーン１５からアフターグロー領域２４へのガス横断面の流れの一部を塞ぐことができ、そのため、プラズマがこれを回避も通過もできない一方、イオン化ガスはシールドを避けるように流れて迂回経路によってアフターグロー領域２４に到達することができる。
【０２１１】
第１のより詳しい実施形態のまた別のシールドの選択肢は、プラズマとの接触に耐えることができる基材の一部がプラズマに曝露され、基材１４の別の部分又は遠隔変換プラズマ処理を受ける別の基材がプラズマから保護されるように、処理される基材１４が処理中に装置内に位置できることである。
【０２１２】
第１のより詳しい実施形態の更に別のシールドの選択肢は、プラズマ領域と処理領域とを通過するガスの流れが、例えばプラズマ領域と処理領域との間を９０°の角度向きを変えるなどで急激に曲げることができ、その結果、装置自体の壁が一定の処理条件下でのプラズマに対する視線（ｌｉｎｅ−ｏｆ−ｓｉｇｈｔ）から処理領域を保護できることである。
【０２１３】
第１のより詳しい実施形態の処理容積中の基材の方向は様々であってもよく、基材、アプリケーター、ガス、及び真空源は、任意選択的に、基材全体が遠隔変換プラズマに実質的に均一又は不均一に曝露されるように配置されてもよい。
【０２１４】
第１のより詳しい実施形態のもう１つの選択肢は、基材自体が反応器壁又は反応器壁の一部として機能することができ、その結果、反応器内に導入された処理ガス１７が、反応器壁として機能する基材の一部を処理することである。
【０２１５】
第１のより詳しい実施形態のもう１つの選択肢は、処理ガス１７の活性化剤である非重合性化合物又は水蒸気に加えて、反応器内に希釈ガスとして機能する第２の非重合性ガスを導入することである。希釈ガスは、所定の処理装置又は適用される条件でこれらが処理ガス１７に分類されるほどには基材１４と実質的に相互作用しない、流体入口１３で導入されるガスとして定義される。希釈ガスは、プラズマの生成に寄与しても寄与しなくてもよい。希釈ガスは、入口１３から、又は反応器内の別の場所から導入されてもよい。希釈ガスは、非重合性化合物又は水蒸気の添加速度の１体積％〜１０，０００体積％、任意選択的に１０体積％〜１０００体積％、任意選択的に１００体積％〜１０００体積％の割合で添加されてもよい。
【０２１６】
第１のより詳しい実施形態のもう１つの選択肢として、非重合性化合物又は水蒸気の一部又は全ては、処理ガス１７への途中のプラズマゾーン１５を迂回するような方法で処理容積１０に添加されてもよい。
【０２１７】
第１のより詳しい実施形態の図２は、図１の装置のもう１つの実施形態を示す。この装置も同様に、第１のより詳しい実施形態による遠隔変換プラズマ処理を行うために使用することができる。この実施形態のチャンバーは、反応チャンバー壁１１によって画定され密閉される処理容積１０を含み、反応チャンバー壁１１は任意選択的に導電性でなくてもよい。処理容積１０は流体供給源１２（この事例では、処理容積１０内に軸方向に発射する管状の流体入口１３であるが、例えば「シャワーヘッド」型の流体供給源などの他の流体供給源も想定される）を備えている。任意選択的に、処理容積１０は、処理チャンバー壁１１により、又は容器若しくは処理される他の物品の内部の内腔により画定されてもよい。供給ガスは処理容積１０内に供給される。環境大気圧以上の適切な条件下でのプラズマ処理も想定されるものの、プラズマ反応チャンバーは、減圧でプラズマ処理する用途のために、周囲圧力と比較して処理容積１０を少なくともある程度脱気するための真空源２２を任意選択的な特徴として含む。
【０２１８】
プラズマ反応チャンバーは、ここで、プラズマ反応チャンバーの少なくとも一部を取り囲む電極の形態である任意選択的な外側のアプリケーター２３も含む。ラジオ波（ＲＦ）プラズマエネルギー源１８は、アプリケーター２３によって反応チャンバーと連結されており、ガスを励起する電力を供給してプラズマを形成する。プラズマは、任意選択的に流体供給源１２の直近に制限される目に見えるグロー放電２０を形成する。
【０２１９】
マイクロプレート１４は、任意選択的に、処理が望まれるマイクロプレート１４の表面（生体分子を含む溶液と接触／これを保持するように構成され、意図されている表面）が流体供給源１２と向かい合うような方向に配置されてもよい。しかし、処理される表面は、加えて又は代わりに、図２に示されているように流体供給源１２から見て外側を向いていてもよい。更に、図示の実施形態では、マイクロプレート１４が流体供給源１２の直接的な「視線」（すなわち遮られていない経路を有すること）にあることを阻止するために、マイクロプレート１４はシールド１６で保護される。実施において、流体供給源から１／２〜１０インチ（１〜２５ｃｍ）、任意選択的に２．５〜５．５インチ（６〜１４ｃｍ）の水平距離でマイクロプレート１４の表面を配置することが想定されているものの、非限定的な例として、マイクロプレート１４のそれぞれの表面は、流体供給源から約２．７５インチ（７ｃｍ）の水平距離に位置していてもよい。この方式では、プロセスは、マイクロプレート１４の表面を処理するために、（直接プラズマと対照的に）遠隔変換プラズマを利用する。この非限定的な実施形態では、システムは、１バッチ当たり８分の総処理時間で１バッチ当たり２０部品（マイクロプレート）の処理能力を有する。
【０２２０】
第１のより詳しい実施形態の図６は、図１の装置のもう１つの実施形態を示す。図６中のマイクロプレートを処理するために使用される方法は、ラジオ波（ＲＦ）プラズマ系を利用する。システムは、ガス供給インプットと、真空ポンプと、整合回路によって供給されるＲＦ電力とを有する。マイクロプレートは、ウェル３２を含む表側の面がチャンバーの周囲に沿ってプラズマと反対を向いてプラズマから保護される状態の方向で示されている。
【０２２１】
これらの詳細は、第１のより詳しい実施形態の図６中に示されており、ここには第１のより詳しい実施形態によって遠隔変換プラズマ処理を行うためにプラズマ反応チャンバー内で使用するための、第１のより詳しい実施形態の図２の装置の全ての要素を有する別の例示的な構成が示されている。第１のより詳しい実施形態のチャンバーは、流体供給源１２（この事例では、処理容積１０内に軸方向に発射する管状の流体入口１３であるが、例えば「シャワーヘッド」型の流体供給源などの他の流体供給源も想定される）を有する反応チャンバー壁１１によって画定され密閉される処理容積１０を含んでいた。この実施形態の反応チャンバー壁１１は、基材を出し入れすることができるように開けることができ、プロセスを収容するために及び任意選択的に処理容積を脱気するために密封することができる、取り外し可能な蓋１３を備えていた。第１のより詳しい実施形態では、流体供給源１２は、電気的に接地された金属素材から作られており、内部電極の形態でアプリケーターとしても機能した。よく知られているように、第１のより詳しい実施形態のプラズマは、任意選択的に内部電極なしで生じさせることができる。
【０２２２】
供給ガスは処理容積１０内に供給された。プラズマ反応チャンバーは、処理容積１０を少なくともある程度脱気するための真空源２２の任意選択的な特徴を含んでいた。プラズマ反応チャンバー壁１１は、プラズマ反応チャンバーの少なくとも一部を取り囲む外部アプリケーター又は電極の形態であるアプリケーター２３としても機能した。この事例ではラジオ波（ＲＦ）源であるプラズマエネルギー源１８は、プラズマを形成するためのガスを励起する電力を供給するために、反応チャンバー壁２４によって画定されるアプリケーター２３及び流体供給源１２と連結された。プラズマゾーン１５は、流体供給源１２の直近にプラズマ境界２０によって制限される目に見えるグロー放電を形成した。アフターグロー領域（別名遠隔変換プラズマ領域２４）は、目に見えるグロー放電の境界２０から半径方向又は軸方向に外側であり、処理される基材を越えて存在する領域である。
【０２２３】
表側の面２８と裏面３０とを有するマイクロプレート１４は、その上の処理が望まれるマイクロプレート１４の表側の面（生体分子を含む溶液と接触／これを保持するように構成され、意図されている表側の面）上のウェル３２が流体供給源１２と反対側に向き、裏面３０が流体供給源１２を向くような方向に配置された。マイクロプレート１４の表側の面２８は、マイクロプレートの表側の面２８が流体供給源１２の直接的な「視線」にあることを阻止するために、それ自体の裏面３０で保護された。この方式では、方法は、ウェル３２の表面を処理するために、（直接プラズマと対照的に）遠隔変換プラズマを利用した。
【０２２４】
第１のより詳しい実施形態の図７は、対応する特徴を有する図１の装置の別の実施形態を示す。図７の実施形態は、基材１４のより広い領域全体にわたって処理ガス１７をより均一に生成及び塗布するための、「シャワーヘッド」の流体入口１３とアプリケーター２３としての平板電極とを備えている。
【０２２５】
第１のより詳しい実施形態の図８は、対応する特徴を有する図１の装置の別の実施形態を示す。図８の実施形態は、導波管として構成されたアプリケーター２３を通って運ばれるマイクロ波プラズマエネルギー１８を供給する。この実施形態では、プラズマゾーン１５と基材支持体２１とは、管路によって連結された別個の容器内に準備される。
【０２２６】
第１のより詳しい実施形態において、任意選択的に、処理された接触表面は、ウシ血清アルブミン（ＢＳＡ）；フィブリノゲン（ＦＢＧ）；例えば血液セロトランスフェリン（又はシデロフィリン、別名トランスフェリン）などのトランスフェリン（ＴＦＮ）；ラクトトランスフェリン（ラクトフェリン）；ミルクトランスフェリン；卵白オボトランスフェリン（コンアルブミン）；及び膜結合メラノトランスフェリン；プロテインＡ（ＰｒＡ）；プロテインＧ（ＰｒＧ）；プロテインＡ／Ｇ；プロテインＬ；例えば六量体インスリン、単量体インスリン、ブタインスリン、ヒトインスリン、組み換えインスリン、及び医薬品グレードのインスリンなどのインスリン；医薬用タンパク質；血液又は血液成分のタンパク質；これらのタンパク質の任意の組み換え型、修飾型、全長前駆体、シグナルペプチド、プロペプチド、又は成熟変異体、並びにこれらの２つ以上の組み合わせの少なくとも１つに関しての未調整且つ未変換の表面の生体分子回収率よりも大きい生体分子回収率を有する。
【０２２７】
第１より詳しい実施形態のある任意選択的な実施形態では、プラズマ処理プロセスは、遠隔変換プラズマを使用する以下の２つの工程：（１）酸素プラズマ工程（より一般的には非重合性化合物のプラズマ工程）、及びそれに続く（２）水蒸気プラズマ工程を含むか、それらから本質的になるか、又はそれらからなる。前述の工程の前、その間、又はその後に追加的な工程が付加されてもよく、その場合でも第１のより詳しい実施形態の範囲内のままであることを理解すべきである。また、酸素プラズマ工程は、窒素又は本明細書に列挙されている任意の非重合性ガスなどを含む（ただし、これらに限定されない）、酸素への任意選択的なガスを利用できることも理解すべきである。第１のより詳しい実施形態の別の任意選択的な実施形態として、プラズマ処理プロセスは、１つのプラズマ工程に組み込まれた酸素と水蒸気との遠隔変換プラズマの使用を含むか、それらから本質的になるか、又はそれらからなる。この任意選択的な実施形態は、本明細書における予備的な調整工程がない変換工程として特徴付けられる。
【０２２８】
第１のより詳しい実施形態の調整工程（非重合性化合物のプラズマ工程）及び２番目の処理工程（水蒸気プラズマ工程）のための任意選択的なプロセスパラメータの範囲は、第１のより詳しい実施形態の表１中に示されている。
【０２２９】
【表２】
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【０２３０】
任意選択的に、非重合性ガスのプラズマ工程前に前処理工程が必要とされない。
【０２３１】
任意選択的に、第１のより詳しい実施形態において、基材表面を処理するために使用される遠隔変換プラズマは、ＲＦにより生成するプラズマであってもよい。任意選択的に、第１のより詳しい実施形態と合致するプラズマ強化化学蒸着（ＰＥＣＶＤ）又は他のプラズマプロセスが使用されてもよい。
【０２３２】
任意選択的に、プラズマ反応チャンバー中の処理容積は、１００ｍＬ〜５０Ｌ、好ましくは特定の用途のために８Ｌ〜２０Ｌであってもよい。任意選択的に、処理容積は、他の形状及び構成も想定されるものの、概して円筒状であってもよい。
【０２３３】
処理される基材の開示
これら及び他の方法によって得られる処理された基材、及び特に処理された接触表面が想定される。
【０２３４】
任意の実施形態における基材のある態様では、変換され且つ任意選択的に調整された接触表面は、Ｘ線光電子分光（ＸＰＳ）によって測定される１〜３０原子％のグラフト化された酸素、任意選択的に２〜２０原子％のグラフト化された酸素、任意選択的に４〜１２原子％のグラフト化された酸素、任意選択的に１〜２原子％のグラフト化された酸素、任意選択的に２〜３原子％のグラフト化された酸素、任意選択的に３〜４原子％のグラフト化された酸素、任意選択的に４〜５原子％のグラフト化された酸素、任意選択的に５〜６原子％のグラフト化された酸素、任意選択的に６〜７原子％のグラフト化された酸素、任意選択的に７〜８原子％のグラフト化された酸素、任意選択的に８〜９原子％のグラフト化された酸素、任意選択的に９〜１０原子％のグラフト化された酸素、任意選択的に１０〜１１原子％のグラフト化された酸素、任意選択的に１１〜１２原子％のグラフト化された酸素、任意選択的に１２〜１３原子％のグラフト化された酸素、任意選択的に１３〜１４原子％のグラフト化された酸素、任意選択的に１４〜１５原子％のグラフト化された酸素、任意選択的に１５〜１６原子％のグラフト化された酸素、任意選択的に１６〜１７原子％のグラフト化された酸素、任意選択的に１７〜１８原子％のグラフト化された酸素、任意選択的に１８〜１９原子％のグラフト化された酸素、任意選択的に１９〜２０原子％のグラフト化された酸素、任意選択的に２０〜２１原子％のグラフト化された酸素、任意選択的に２１〜２２原子％のグラフト化された酸素、任意選択的に２２〜２３原子％のグラフト化された酸素、任意選択的に２３〜２４原子％のグラフト化された酸素、任意選択的に２４〜２５原子％のグラフト化された酸素、任意選択的に２５〜２６原子％のグラフト化された酸素、任意選択的に２６〜２７原子％のグラフト化された酸素、任意選択的に２７〜２８原子％のグラフト化された酸素、任意選択的に２８〜２９原子％のグラフト化された酸素、任意選択的に２９〜３０原子％のグラフト化された酸素を含む炭素化合物又はケイ素化合物を含む。
【０２３５】
変換され且つ任意選択的に調整された接触表面上の具体的な種（典型的には化学元素）の「原子％」又は「ａｔ．％」は、ＸＰＳによって検出される全ての種の原子、分子、又は部位の数で割った、ＸＰＳによって検出される具体的な種の原子、分子、又は部位の数に１００％を乗じたものである。したがって、８９個の炭素原子と、５個の窒素原子と、１１個の炭素原子とが基材上で検出された全ての原子である場合、炭素の原子％は、
１００％×８９／（８９＋５＋１１）＝８４．８ａｔ．％Ｃ
である。
【０２３６】
本明細書において、「グラフト化された酸素」又は別のグラフト種とは、基材表面の原子又は原子群に化学的に（より具体的には共有結合的に）結合している、ＸＰＳ分析により検出される酸素又は別のグラフト種を指す。基材表面でポリマーの分子上にグラフトされている種は、典型的にはポリマー分子の両端間にグラフトされ、ポリマー主鎖中に挿入されるかペンダント基として結合される。
【０２３７】
任意の実施形態における基材のある態様では、変換され且つ任意選択的に調整された接触表面は、Ｘ線光電子分光（ＸＰＳ）によって測定される０〜３０原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に０．１〜３０原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に０．１〜２０原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に０．１〜１０原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に０．１〜１原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に１〜２原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に２〜３原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に３〜４原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に４〜５原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に５〜６原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に６〜７原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に７〜８原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に８〜９原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に９〜１０原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に１０〜１１原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に１１〜１２原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に１２〜１３原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に１３〜１４原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に１４〜１５原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に１５〜１６原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に１６〜１７原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に１７〜１８原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に１８〜１９原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に１９〜２０原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に２０〜２１原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に２１〜２２原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に２２〜２３原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に２３〜２４原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に２４〜２５原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に２５〜２６原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に２６〜２７原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に２７〜２８原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に２８〜２９原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に２９〜３０原子％のグラフト化された窒素を含む炭素化合物又はケイ素化合物を含む。
【０２３８】
任意の実施形態における基材のある態様では、変換され且つ任意選択的に調整された接触表面は、Ｘ線光電子分光（ＸＰＳ）によって測定される０〜３０原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に０〜２０原子％のグラフト化された窒素、０．１〜３０原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に０．１〜２０原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に０．１〜１０原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に０．１〜１原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に１〜２原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に２〜３原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に３〜４原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に４〜５原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に５〜６原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に６〜７原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に７〜８原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に８〜９原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に９〜１０原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に１０〜１１原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に１１〜１２原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に１２〜１３原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に１３〜１４原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に１４〜１５原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に１５〜１６原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に１６〜１７原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に１７〜１８原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に１８〜１９原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に１９〜２０原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に２０〜２１原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に２１〜２２原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に２２〜２３原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に２３〜２４原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に２４〜２５原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に２５〜２６原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に２６〜２７原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に２７〜２８原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に２８〜２９原子％のグラフト化された窒素、任意選択的に２９〜３０原子％のグラフト化された窒素を更に含む。
【０２３９】
任意の実施形態における基材のある態様では、変換され且つ任意選択的に調整された接触表面は、各場合に炭素又はケイ素と結合するための、例えば−Ｎ+−、−Ｎ−、＝Ｏ、−Ｏ−、−Ｏ2、−Ｏ3、又は≡Ｎの１つ以上など、Ｘ線光電子分光（ＸＰＳ）によって測定されるグラフトされている水素結合受容性官能基を含む。
【０２４０】
任意の実施形態における基材のある態様では、変換され且つ任意選択的に調整された接触表面は、極性のグラフト種、任意選択的にＸ線光電子分光（ＸＰＳ）によって測定されるＣ＝Ｏ（カルボニル）、Ｃ−Ｏ−Ｃ（エーテル）、Ｃ−Ｎ−Ｃ（アミン）、Ｃ−Ｎ+−Ｃ（アンモニウム）、ＣＯ2（カルボキシル）、ＣＯ3、Ｓｉ＝Ｏ、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ、Ｓｉ−Ｎ−Ｓｉ、Ｓｉ−Ｎ+−Ｓｉ、ＳｉＯ2、ＳｉＯ3、Ｃ≡Ｎ、Ｓｉ≡Ｎ、又はこれらの２つ以上の組み合わせの１つ以上で修飾された炭素化合物又はケイ素化合物を含む。
【０２４１】
グラフト種
任意の実施形態における基材のある態様では、変換され且つ任意選択的に調整された接触表面は、極性グラフト種で修飾された炭化水素を含み、Ｃ＝Ｏ（カルボニル）、Ｃ−Ｏ−Ｃ（エーテル）、Ｃ−Ｎ−Ｃ（アミン）、ＣＯ2（カルボキシル）、ＣＯ3、Ｎ−Ｃ3、Ｎ+Ｃ4、Ｃ≡Ｎ、又はこれらのグラフト種の２つ以上の組み合わせを形成している炭素の総原子割合は、基材中の炭素又は水素と結合している炭素の総原子割合の１〜４０％、任意選択的に５〜３０％、任意選択的に１０〜２０％である。
【０２４２】
任意の実施形態における基材のある態様では、変換され且つ任意選択的に調整された接触表面は、極性グラフト種で修飾されたケイ素化合物を含み、Ｓｉ＝Ｏ、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ、Ｓｉ−Ｎ−Ｓｉ、ＳｉＯ2、ＳｉＯ3、Ｎ−Ｓｉ3、Ｎ+Ｓｉ4、Ｓｉ≡Ｎ、又はこれらの２つ以上の組み合わせを形成するケイ素の総原子割合は、基材中の酸素と結合しているケイ素の総原子割合の１〜４０％、任意選択的に５〜３０％、任意選択的に１０〜２０％である。
【０２４３】
任意の実施形態における基材のある態様では、Ｃ＝Ｏ（カルボニル）、Ｃ−Ｏ−Ｃ（エーテル）、Ｃ−Ｎ−Ｃ（アミン）、ＣＯ2（カルボキシル）、又はＣＯ3、又はこれらの２つ以上の組み合わせを形成する炭素の総原子割合は、基材中の炭素又は水素と結合している炭素の総原子割合の１〜４０％、任意選択的に５〜３０％、任意選択的に１０〜２０％である。
【０２４４】
任意の実施形態における基材のある態様では、Ｃ−Ｏ−Ｃ（エーテル）又はＣ−Ｎ−Ｃ（アミン）、又はこの２つの組み合わせを形成する炭素の総原子割合は、基材中の炭素又は水素と結合している炭素の総原子割合の１〜４０％、任意選択的に５〜３０％、任意選択的に１０〜２０％である。
【０２４５】
任意の実施形態における基材のある態様では、変換され且つ任意選択的に調整された変換され且つ任意選択的に調整された接触表面は、０°〜９０°、任意選択的に２０°〜８０°、任意選択的に４０°〜８０°、任意選択的に５０°〜７０°、任意選択的に５５°〜６５°の蒸留水との接触角を有する。
【０２４６】
任意の実施形態における基材のある態様では、変換され且つ任意選択的に調整された接触表面は、少なくとも４０％、少なくとも４５％、任意選択的に少なくとも５０％、任意選択的に少なくとも５５％、任意選択的に少なくとも６０％、任意選択的に少なくとも６５％、任意選択的に少なくとも７０％、任意選択的に少なくとも７５％、任意選択的に少なくとも８０％、任意選択的に少なくとも８５％、任意選択的に少なくとも９０％、任意選択的に少なくとも９５％の生体分子回収率を有する。
【０２４７】
任意の実施形態における基材のある態様では、変換され且つ任意選択的に調整された接触表面は、容器の内腔表面である。
【０２４８】
任意の実施形態における基材のある態様では、生体分子回収率は、哺乳類血清アルブミン；ウシ血清アルブミン（ＢＳＡ）；フィブリノゲン（ＦＢＧ）；トランスフェリン（ＴＦＮ）；卵白オボトランスフェリン（コンアルブミン）；膜結合メラノトランスフェリン；プロテインＡ（ＰｒＡ）；プロテインＧ（ＰｒＧ）；プロテインＡ／Ｇ；プロテインＬ；インスリン；医薬用タンパク質；血液又は血液成分のタンパク質；及びこれらのタンパク質の任意の組み換え型、修飾型、全長前駆体、シグナルペプチド、プロペプチド、又は成熟変異体の少なくとも１つに関して決定される。
【０２４９】
任意の実施形態における基材のある態様では、変換され且つ任意選択的に調整された接触表面は、熱可塑性材料、例えば熱可塑性樹脂、例えば射出成形された熱可塑性樹脂を含む。
【０２５０】
任意の実施形態における基材のある態様では、変換され且つ任意選択的に調整された接触表面は、例えばオレフィンポリマー、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレン（ＰＥ）、環状オレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、環状オレフィンポリマー（ＣＯＰ）、ポリメチルペンテン、ポリスチレン、水素化ポリスチレン、ポリシクロヘキシルエチレン（ＰＣＨＥ）、又はこれらの２つ以上の組み合わせなどの炭化水素を含む。変換され且つ任意選択的に調整された接触表面は、任意選択的に、例えばポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリ塩化ビニリデン（ＰＶｄＣ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリカーボネート、ポリ乳酸、エポキシ樹脂、ナイロン、ポリウレタン、ポリアクリロニトリル、ポリアクリロニトリル（ＰＡＮ）、アイオノマー樹脂、Ｓｕｒｌｙｎ（登録商標）アイオノマー樹脂、又は上述の材料の任意の２つ以上の組み合わせ、複合材料、若しくはブレンド物などのヘテロ原子置換炭化水素ポリマーを含む。
【０２５１】
任意の実施形態における基材のある態様では、変換され且つ任意選択的に調整された接触表面は、ＰＥＣＶＤにより堆積したＳｉＯxＣyＨz又はＳｉＮxＣyＨzのコーティング又は層であり、この中でＸ線光電子分光（ＸＰＳ）により測定されるｘは約０．５〜約２．４であり、ＸＰＳにより測定されるｙは約０．６〜約３であり、ラザフォード後方散乱分光法（ＲＢＳ）により測定されるｚは約２〜約９である。
【０２５２】
任意の実施形態における基材のある態様では、変換され且つ任意選択的に調整された接触表面は、ＳｉＯx（ＸＰＳにより測定されるｘは約１．５〜約２．９である）、任意選択的に周期表のＩＩＩ族及び／又はＩＶ族（例えば、ＩＩＩ族ではホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム、スカンジウム、イットリウム、又はランタン（アルミニウム及びホウ素が好ましい）、及びＩＶ族ではケイ素、ゲルマニウム、スズ、鉛、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、又はトリウム（ケイ素及びスズが好ましい））からの金属元素の化合物である有機金属前駆体の酸化物又は窒化物のバリアコーティング又は層である。
【０２５３】
任意の実施形態における基材のある態様では、変換され且つ任意選択的に調整された接触表面は、実験器具製品の接触表面である。例えば、変換され且つ任意選択的に調整された接触表面は、限定するものではないが、マイクロプレート、遠沈菅、ピペットチップ、ウェルプレート、マイクロウェルプレート、ＥＬＩＳＡプレート、マイクロタイタープレート、９６ウェルプレート、３８４ウェルプレート、バイアル、瓶、広口瓶、シリンジ、カートリッジ、ブリスター包装、アンプル、真空採血管、試料管、遠沈管、又はクロマトグラフィーバイアルの接触表面であってもよい。
【０２５４】
任意の実施形態における基材のある態様では、変換され且つ任意選択的に調整された接触表面は、容器の内腔表面である。
【０２５５】
任意の実施形態における基材のある態様では、変換され且つ任意選択的に調整された接触表面は、水性タンパク質と接触する。任意の実施形態における基材のある態様では、水性タンパク質は、例えばウシ血清アルブミン（ＢＳＡ）などの哺乳類血清アルブミン；フィブリノゲン（ＦＢＧ）；例えば血液セロトランスフェリン（又はシデロフィリン、別名トランスフェリン）などのトランスフェリン（ＴＦＮ）；ラクトトランスフェリン（ラクトフェリン）；ミルクトランスフェリン；卵白オボトランスフェリン（コンアルブミン）；及び膜結合メラノトランスフェリン；プロテインＡ（ＰｒＡ）；プロテインＧ（ＰｒＧ）；プロテインＡ／Ｇ；プロテインＬ；例えば六量体インスリン、単量体インスリン、ブタインスリン、ヒトインスリン、組み換えインスリン、及び医薬品グレードのインスリンなどのインスリン；医薬用タンパク質；血液又は血液成分のタンパク質；又はこれらのタンパク質の任意の組み換え型、修飾型、全長前駆体、シグナルペプチド、プロペプチド、若しくは成熟変異体；又はこれらの２つ以上の組み合わせを含む。
【０２５６】
任意の実施形態における基材のある態様では、変換され且つ任意選択的に調整された接触表面は、ウシ血清アルブミン（ＢＳＡ）；フィブリノゲン（ＦＢＧ）；例えば血液セロトランスフェリン（又はシデロフィリン、別名トランスフェリン）などのトランスフェリン（ＴＦＮ）；ラクトトランスフェリン（ラクトフェリン）；ミルクトランスフェリン；卵白オボトランスフェリン（コンアルブミン）；及び膜結合メラノトランスフェリン；プロテインＡ（ＰｒＡ）；プロテインＧ（ＰｒＧ）；プロテインＡ／Ｇ；プロテインＬ；例えば六量体インスリン、単量体インスリン、ブタインスリン、ヒトインスリン、組み換えインスリン、及び医薬品グレードのインスリンなどのインスリン；医薬用タンパク質；血液又は血液成分のタンパク質；又はこれらのタンパク質の任意の組み換え型、修飾型、全長前駆体、シグナルペプチド、プロペプチド、若しくは成熟変異体の少なくとも１つに関しての未調整且つ未変換の表面のタンパク質回収率よりも大きいタンパク質回収率を有する。
【０２５７】
任意の実施形態における基材のある態様では、変換され且つ任意選択的に調整された接触表面は、本明細書の手順後、ＮＵＮＣ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、６６，０００ダルトンの原子質量を有するウシ血清アルブミン（ＢＳＡ）について、未調整且つ未変換の表面のタンパク質回収率よりも大きいタンパク質回収率を有する。
【０２５８】
任意の実施形態における基材のある態様では、変換され且つ任意選択的に調整された接触表面は、本明細書の手順後、ＮＵＮＣ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、ＢＳＡについて、７０％超、任意選択的に８０％超、任意選択的に９０％超、任意選択的に最大１００％の、２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０２５９】
任意の実施形態における基材のある態様では、変換され且つ任意選択的に調整された接触表面は、本明細書の手順後、ＮＵＮＣ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、３４０，０００ダルトンの原子質量を有するフィブリノゲン（ＦＢＧ）について、未調整且つ未変換の表面のタンパク質回収率よりも大きい２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０２６０】
任意の実施形態における基材のある態様では、変換され且つ任意選択的に調整された接触表面は、本明細書の手順後、ＮＵＮＣ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、ＦＢＧについて、２０％超、任意選択的に４０％超、任意選択的に６０％超、任意選択的に８０％超、任意選択的に最大８４％の、２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０２６１】
任意の実施形態における基材のある態様では、変換され且つ任意選択的に調整された接触表面は、本明細書の手順後、ＮＵＮＣ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、８０，０００ダルトンの原子質量を有するトランスフェリン（ＴＦＮ）について、未調整且つ未変換の表面のタンパク質回収率よりも大きい２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０２６２】
任意の実施形態における基材のある態様では、変換され且つ任意選択的に調整された接触表面は、本明細書の手順後、ＮＵＮＣ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、ＴＦＮについて、６０％超、任意選択的に６５％超、任意選択的に６９％超、任意選択的に最大７０％の、２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０２６３】
任意の実施形態における基材のある態様では、変換され且つ任意選択的に調整された接触表面は、本明細書の手順後、ＮＵＮＣ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、４５，０００ダルトンの原子質量を有するプロテインＡ（ＰｒＡ）について、未調整且つ未変換の表面のタンパク質回収率よりも大きい２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０２６４】
任意の実施形態における基材のある態様では、変換され且つ任意選択的に調整された接触表面は、本明細書の手順後、ＮＵＮＣ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、ＰｒＡについて、９％超、任意選択的に２０％超、任意選択的に４０％超、任意選択的に６０％超、任意選択的に最大６７％の、２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０２６５】
任意の実施形態における基材のある態様では、変換され且つ任意選択的に調整された接触表面は、本明細書の手順後、ＮＵＮＣ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、２０，０００ダルトンの原子質量を有するプロテインＧ（ＰｒＧ）について、未調整且つ未変換の表面のタンパク質回収率よりも大きい２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０２６６】
任意の実施形態における基材のある態様では、変換され且つ任意選択的に調整された接触表面は、本明細書の手順後、ＮＵＮＣ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、ＰｒＧについて、１２％超、任意選択的に２０％超、任意選択的に４０％超、任意選択的に６０％超、任意選択的に８０％超、任意選択的に最大９０％の、２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０２６７】
任意の実施形態における基材のある態様では、変換され且つ任意選択的に調整された接触表面は、本明細書の手順後、Ｅｐｐｅｎｄｏｒｆ  ＬｏＢｉｎｄ（登録商標）タンパク質低結合９６ウェル丸底プレート上で、６６，０００ダルトンの原子質量を有するウシ血清アルブミン（ＢＳＡ）について、未調整且つ未変換の表面のタンパク質回収率よりも大きい２４時間時点のタンパク質回収率を有する。ＬｏＢｉｎｄ（登録商標）はＥｐｐｅｎｄｏｒｆ  ＡＧ，Ｈａｍｂｕｒｇ，Ｇｅｒｍａｎｙの商標である。
【０２６８】
任意の実施形態における基材のある態様では、変換され且つ任意選択的に調整された接触表面は、本明細書の手順後、Ｅｐｐｅｎｄｏｒｆ  ＬｏＢｉｎｄ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、ＢＳＡについて、９５％超の２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０２６９】
任意の実施形態における基材のある態様では、変換され且つ任意選択的に調整された接触表面は、本明細書の手順後、Ｅｐｐｅｎｄｏｒｆ  ＬｏＢｉｎｄ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、３４０，０００ダルトンの原子質量を有するフィブリノゲン（ＦＢＧ）について、未調整且つ未変換の表面のタンパク質回収率よりも大きい２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０２７０】
任意の実施形態における基材のある態様では、処理された接触表面は、本明細書の手順後、Ｅｐｐｅｎｄｏｒｆ  ＬｏＢｉｎｄ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、ＦＢＧについて、７２％超の２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０２７１】
任意の実施形態における基材のある態様では、処理された接触表面は、本明細書の手順後、Ｅｐｐｅｎｄｏｒｆ  ＬｏＢｉｎｄ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、８０，０００ダルトンの原子質量を有するトランスフェリン（ＴＦＮ）について、未調整且つ未変換の表面のタンパク質回収率よりも大きい２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０２７２】
任意の実施形態における基材のある態様では、処理された接触表面は、本明細書の手順後、Ｅｐｐｅｎｄｏｒｆ  ＬｏＢｉｎｄ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、ＴＦＮについて、６９％超の２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０２７３】
任意の実施形態における基材のある態様では、処理された接触表面は、本明細書の手順後、Ｅｐｐｅｎｄｏｒｆ  ＬｏＢｉｎｄ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、４５，０００ダルトンの原子質量を有するプロテインＡ（ＰｒＡ）について、未調整且つ未変換の表面のタンパク質回収率よりも大きい２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０２７４】
任意の実施形態における基材のある態様では、処理された接触表面は、本明細書の手順後、Ｅｐｐｅｎｄｏｒｆ  ＬｏＢｉｎｄ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、２０，０００ダルトンの原子質量を有するプロテインＧ（ＰｒＧ）について、未調整且つ未変換の表面のタンパク質回収率よりも大きい２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０２７５】
任意の実施形態における基材のある態様では、処理された接触表面は、本明細書の手順後、Ｅｐｐｅｎｄｏｒｆ  ＬｏＢｉｎｄ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、ＰｒＧについて、９６％超の２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０２７６】
任意の実施形態における基材のある態様では、処理された接触表面は、本明細書の手順後、ＧＲＩＥＮＥＲ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、６６，０００ダルトンの原子質量を有するウシ血清アルブミン（ＢＳＡ）について、未調整且つ未変換の表面のタンパク質回収率よりも大きい２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０２７７】
任意の実施形態における基材のある態様では、処理された接触表面は、本明細書の手順後、ＧＲＩＥＮＥＲ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、ＢＳＡについて、６０％超、任意選択的に最大８６％の、２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０２７８】
任意の実施形態における基材のある態様では、処理された接触表面は、本明細書の手順後、ＧＲＩＥＮＥＲ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、３４０，０００ダルトンの原子質量を有するフィブリノゲン（ＦＢＧ）について、未調整且つ未変換の表面のタンパク質回収率よりも大きい２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０２７９】
任意の実施形態における基材のある態様では、処理された接触表面は、本明細書の手順後、ＧＲＩＥＮＥＲ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、ＦＢＧについて、５０％超、任意選択的に最大６５％の、２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０２８０】
任意の実施形態における基材のある態様では、処理された接触表面は、本明細書の手順後、ＧＲＩＥＮＥＲ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、８０，０００ダルトンの原子質量を有するトランスフェリン（ＴＦＮ）について、未調整且つ未変換の表面のタンパク質回収率よりも大きい２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０２８１】
任意の実施形態における基材のある態様では、処理された接触表面は、本明細書の手順後、ＧＲＩＥＮＥＲ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、ＴＦＮについて、５０％超、任意選択的に最大６０％の、２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０２８２】
任意の実施形態における基材のある態様では、処理された接触表面は、本明細書の手順後、ＧＲＩＥＮＥＲ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、４５，０００ダルトンの原子質量を有するプロテインＡ（ＰｒＡ）について、未調整且つ未変換の表面のタンパク質回収率よりも大きい２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０２８３】
任意の実施形態における基材のある態様では、処理された接触表面は、本明細書の手順後、ＧＲＩＥＮＥＲ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、ＰｒＡについて、２５％超、任意選択的に最大５６％の、２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０２８４】
任意の実施形態における基材のある態様では、処理された接触表面は、本明細書の手順後、ＧＲＩＥＮＥＲ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、２０，０００ダルトンの原子質量を有するプロテインＧ（ＰｒＧ）について、未調整且つ未変換の表面のタンパク質回収率よりも大きい２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０２８５】
任意の実施形態における基材のある態様では、処理された接触表面は、本明細書の手順後、ＧＲＩＥＮＥＲ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、ＰｒＧについて、６０％超、任意選択的に最大７５％の、２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０２８６】
任意の実施形態における基材のある態様では、炭素化合物又はケイ素化合物は、ポリプロピレン、任意選択的にポリプロピレンホモポリマーから本質的になる。
【０２８７】
任意の実施形態における基材のある態様では、処理されたポリプロピレン接触表面は、本明細書の手順後、６６，０００ダルトンの原子質量を有するウシ血清アルブミン（ＢＳＡ）について、未調整且つ未変換のポリプロピレン接触表面のタンパク質回収率よりも大きいタンパク質回収率を有する。
【０２８８】
任意の実施形態における基材のある態様では、処理されたポリプロピレン接触表面は、本明細書の手順後、３４０，０００ダルトンの原子質量を有するフィブリノゲン（ＦＢＧ）について、未調整且つ未変換のポリプロピレン接触表面のタンパク質回収率よりも大きいタンパク質回収率を有する。
【０２８９】
任意の実施形態における基材のある態様では、処理されたポリプロピレン接触表面は、本明細書の手順後、８０，０００ダルトンの原子質量を有するトランスフェリン（ＴＦＮ）について、未調整且つ未変換のポリプロピレン接触表面のタンパク質回収率よりも大きいタンパク質回収率を有する。
【０２９０】
任意の実施形態における基材のある態様では、処理されたポリプロピレン接触表面は、本明細書の手順後、４５，０００ダルトンの原子質量を有するプロテインＡ（ＰｒＡ）について、未調整且つ未変換のポリプロピレン接触表面のタンパク質回収率よりも大きいタンパク質回収率を有する。
【０２９１】
任意の実施形態における基材のある態様では、処理されたポリプロピレン接触表面は、本明細書の手順後、２０，０００ダルトンの原子質量を有するプロテインＧ（ＰｒＧ）について、未調整且つ未変換のポリプロピレン接触表面のタンパク質回収率よりも大きいタンパク質回収率を有する。
【０２９２】
任意の実施形態における基材のある態様では、炭素化合物又はケイ素化合物は、ポリプロピレンから本質的になり、変換され且つ任意選択的に調整された接触表面は、以下の特性の任意の１つ以上を有する：
・０〜９０°の水接触角；
・ＸＰＳによって定量化される、処理前の炭素化合物又はケイ素化合物よりも少ない、基材中の炭素又は水素と結合している炭素の総原子割合の水素結合供与性官能基（例えば、−ＯＨ、−Ｎ−Ｈ、−Ｎ−Ｈ2、−Ｎ+Ｈ3、又はこれらの２つ以上の組み合わせ）；
・ＸＰＳによって定量化される、処理前の炭素化合物又はケイ素化合物よりも多い、基材中の炭素又は水素と結合している炭素の総原子割合の水素結合受容性官能基（例えば、−Ｃ＝Ｏ（カルボニル）、Ｃ−Ｏ−Ｃ（エーテル）、Ｃ−Ｎ−Ｃ（アミン）、Ｃ−Ｎ＋−Ｃ（アンモニウム）、ＣＯ2（カルボキシル）、若しくはＣＯ3、又はこれらの２つ以上の組み合わせ）；及び
・静電荷センサー  −  ３Ｍ  Ｓｔａｔｉｃ  Ｓｅｎｓｏｒ７１８を使用して定量化される、例えば２キロボルト毎インチ（２ｋＶ／ｉｎ、５ｋＶ／ｃｍ）未満、任意選択的に３ｋＶ／ｃｍ未満、任意選択的に２ｋＶ／ｃｍ未満、任意選択的に１ｋＶ／ｃｍ未満の、変換され且つ任意選択的に調整された接触表面上への静電荷の帯電などの中性の電荷又は中性に近い電荷。
【０２９３】
任意の実施形態における基材のある態様では、変換され且つ任意選択的に調整された接触表面は、ＸＰＳによって定量化される、処理前の炭素化合物又はケイ素化合物よりも少ない、基材中の炭素又は水素と結合している炭素の総原子割合の水素結合供与性官能基（例えば、−ＯＨ、−Ｎ−Ｈ、−Ｎ−Ｈ2、−Ｎ+Ｈ3、又はこれらの２つ以上の組み合わせ）を有する。
【０２９４】
任意の実施形態における基材のある態様では、変換され且つ任意選択的に調整された接触表面は、ＸＰＳによって定量化される、処理前の炭素化合物又はケイ素化合物よりも多い、基材中の炭素又は水素と結合している炭素の総原子割合の水素結合受容性官能基（例えば、−Ｃ＝Ｏ（カルボニル）、Ｃ−Ｏ−Ｃ（エーテル）、Ｃ−Ｎ−Ｃ（アミン）、Ｃ−Ｎ＋−Ｃ（アンモニウム）、ＣＯ2（カルボキシル）、若しくはＣＯ3、又はこれらの２つ以上の組み合わせ）を有する。
【０２９５】
任意の実施形態における基材のある態様では、変換され且つ任意選択的に調整された接触表面は、前述の通り定量化される、例えば２キロボルト毎インチ（２ｋＶ／ｉｎ、５ｋＶ／ｃｍ）未満、任意選択的に３ｋＶ／ｃｍ未満、任意選択的に２ｋＶ／ｃｍ未満、任意選択的に１ｋＶ／ｃｍ未満の、変換され且つ任意選択的に調整された接触表面上への静電荷の帯電などの中性の電荷又は中性に近い電荷を有する。
【０２９６】
ＰＥＣＶＤコーティング及び層
生体分子の付着を低減するためのもう１つの手法は、それぞれＸＰＳによって測定される（ｉ）ＳｉＯx（ｘは約０．５〜約２．４である）の原子割合のバリアコーティング若しくは層；又はＳｉＯxＣyＨz（ｘは約０．５〜２．４であり、ｙは約０．６〜約３である）の原子割合のｐＨ保護コーティング若しくは層を接触表面として付与することである。基材上にこれらを製造するためのそのようなコーティング及び方法は、ＷＯ２０１４ＵＳ２３８１３に記載されており、これは参照により本明細書に組み込まれる。
【０２９７】
実施例
以降の実施例を参照しつつ、様々な態様を更に詳細に説明するが、第１のより詳しい実施形態はこれらに限定されると見なされないと理解すべきである。
【０２９８】
全ての実施形態の試験
実施例中に別段の指示がない限り、全ての実施形態におけるプレートの試験に以降の手順を使用した。
【０２９９】
目的：この実験の目的は、表面がコーティングされているマイクロタイタープレート（マイクロタイタープレートは本開示では「マイクロプレート」とも呼ばれ、ウェルを有するタイプの「プレート」と呼ばれる場合もあり、本開示では３つの用語の全てが同じ意味を有する）に経時的に結合するタンパク質の量を決定することであった。
【０３００】
材料：ＢＩＯＴＥＫ（登録商標）Ｓｙｎｅｒｇｙ  Ｈ１マイクロプレートリーダー及びＢＩＯＴＥＫ  Ｇｅｎ５（登録商標）ソフトウェア、ＭＩＬＬＩＰＯＲＥ（登録商標）ＭＩＬＬＩ−Ｑ（登録商標）Ｗａｔｅｒ  Ｓｙｓｔｅｍ（Ｍｅｒｃｋ  ＫＧＡＡ，Ｄａｒｍｓｔａｄｔ，Ｇｅｒｍａｎｙより販売）、ＭＩＬＬＩＰＯＲＥ（登録商標）Ｄｉｒｅｃｔ  Ｄｅｔｅｃｔスペクトロメーター、ＡＬＥＸＡ  ＦＬＵＯＲ（登録商標）４８８標識タンパク質（ウシ血清アルブミン（ＢＳＡ）、フィブリノゲン（ＦＢＧ）、トランスフェリン（ＴＦＮ）、プロテインＡ（ＰｒＡ）、及びプロテインＧ（ＰｒＧ）（Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ  Ｐｒｏｂｅｓ，Ｉｎｃ．，Ｅｕｇｅｎｅ，Ｏｒｅｇｏｎ  ＵＳＡにより販売）、１０Ｘリン酸緩衝生理食塩水（ＰＢＳ）、ＮＵＮＣ（登録商標）黒色９６ウェルオプティカルボトムプレート、１Ｌのプラスチック瓶、２５〜１００ｍＬのガラスビーカー、アルミニウム箔、１〜１０ｍＬのピペット、１００〜１０００μＬのピペット、０．１〜５μＬのピペット、５０〜３００μＬのマルチチャンネルピペット。
【０３０１】
上で挙げたものの１つ以上である選択されたタンパク質を、単一の表面コーティングされたマイクロプレート上で試験した。各タンパク質は、ＡＬＥＸＡ  ＦＬＵＯＲ（登録商標）４８８で標識された蛍光標識粉末として受け取った。
・５ｍｇのＢＳＡ：６６，０００Ｄａ
・５ｍｇのＦＢＧ；３４０，０００Ｄａ
・５ｍｇのＴＦＮ：８０，０００Ｄａ
・１ｍｇのＰｒＡ：４５，０００Ｄａ
・１ｍｇのＰｒＧ：２０，０００Ｄａ
【０３０２】
受け取った後、各バイアルのタンパク質を追加的に光から保護するためにアルミニウム箔で包み、適宜ラベル付けし、貯蔵のために冷凍庫に入れた。
【０３０３】
１ＸのＰＢＳ（リン酸緩衝溶液）の溶液を１０ＸのＰＢＳのストック溶液から調製した。１００ｍＬの１０ＸのＰＢＳをプラスチックの１Ｌ瓶に添加し、次いでＭＩＬＬＩＰＯＲＥ（登録商標）Ｑ−ｐｏｄからの９００ｍＬの蒸留水を添加して１ＸのＰＢＳを形成した。１００〜１０００μＬのピペットを使用して、１０００μＬの１ＸのＰＢＳをタンパク質の各バイアル内に別々にピペットで入れることでタンパク質溶液を作った。その後、溶液を完全に混合するために各バイアルを逆にしてボルテックスした。
【０３０４】
その後、各タンパク質をＭＩＬＬＩＰＯＲＥ（登録商標）Ｄｉｒｅｃｔ  Ｄｅｔｅｃｔ上で試験して正確なタンパク質濃度を得た。０．１〜５μＬのピペットを使用して、２μＬのＰＢＳの試料をＤｉｒｅｃｔ  Ｄｉｔｅｃｔの読み降りカードの１つ目のスポットの上に載せ、ソフトウェア中のブランクとして印を付けた。１つ目のタンパク質の２μＬの試料を、その後、残りの３つのスポット上に載せ、試料として印を付けた。カードを読み取った後、３つのタンパク質濃度の平均をｍｇ／ｍＬ単位で記録した。これを残りの４つのタンパク質について繰り返した。その後、タンパク質溶液を保管のために冷蔵庫内に入れた。
【０３０５】
各タンパク質について、１ＸのＰＢＳを用いて標準曲線を作成した。標準曲線は２５ｎＭで開始し、例えば１２．５ｎＭ、６．２５ｎＭ、３．１２５ｎＭ、及び１．５６２５ｎＭの１つ以上などの他の試験濃度を得るために２倍段階希釈を行った。いくつかの場合、０．５ｎＭまでの追加的な希釈液も調製した。標準曲線から調製した１２．５ｎＭの溶液を試験に使用した。
【０３０６】
全ての試験するタンパク質についての希釈を行った後、各タンパク質の標準曲線を作成し、以下の通り試験した。２５〜１００ｍＬのガラスビーカーを５列に並べた。各ビーカーをアルミニウム箔で包み、ビーカー内の溶液の対応する曲線のタンパク質の名称及び濃度でラベル付けした。列１はＢＳＡについての標準曲線であり、列２はＦＢＧ、列３はＴＦＮ、列４はＰｒＡ、列５はＰｒＧであった。したがって、１番目の列は、以下の通りラベル付けした：ＢＳＡ  ２５ｎＭ、ＢＳＡ  １２．５ｎＭ、ＢＳＡ  ６．２５ｎＭ、ＢＳＡ  ３．１２５ｎＭ、ＢＳＡ  １．５６ｎＭ。
【０３０７】
標準曲線を作成した後、これを、マイクロプレートリーダーを使用して試験し、その後、以下の標準曲線を作成及び試験し、これを同じように続けた。
【０３０８】
分析のために、ＢＩＯＴＥＫ（登録商標）Ｓｙｎｅｒｇｙ  Ｈ１マイクロプレートリーダー及びＢＩＯＴＥＫ  Ｇｅｎ５（登録商標）ソフトウェアを使用した。
【０３０９】
１つ目の標準曲線を作成した後、Ｓｙｎｅｒｇｙ  Ｈ１上で試験される準備が整った。５０〜３００μＬのマルチチャンネルピペットを使用して、黒色オプティカルボトムプレートのウェルＡ１〜Ａ４に２００ｍＬの１ＸのＰＢＳをピペットで入れた。次いで、２００μＬの２５ｎＭ溶液をウェルＢ１〜Ｂ４にピペットで入れ、２００μＬの１２．５ｎＭ溶液をウェルＣ１〜Ｃ４にピペットで入れ、２００μＬの１２．５ｎＭ溶液をウェルＤ１〜Ｄ４にピペットで入れ、２００μＬの１２．５ｎＭ溶液をウェルＥ１〜Ｅ４にピペットで入れ、２００μＬの１２．５ｎＭ溶液をウェルＦ１〜Ｆ４にピペットで入れ、及び２００μＬの１２．５ｎＭ溶液をウェルＧ１〜Ｇ４にピペットで入れた。同様の手順を使用して、他のタンパク質溶液の希釈液を用いてウェルを満たした。
【０３１０】
マイクロプレートを溶液で満たした後、これをアルミニウム箔で包み、区分と時間とをラベル付けした。
【０３１１】
１．５時間後、５０〜３００μＬのマルチチャンネルピペットを使用し、アルミニウム箔を突き破って、１．５時間の列（列１）のウェルから２００μＬのＢＳＡ溶液をピペットで出して黒色オプティカルボトムマイクロプレート内に入れた。黒色マイクロプレートをマイクロプレートトレー内に入れた。次いで、対応する実験を開くことによって他の４つのタンパク質を同じ方法で読み込んだ。同じことを２．５時間、４．５時間、及び２４時間後に行った。２４時間の読み取り後、メニューバーから「Ｐｌａｔｅ→Ｅｘｐｏｒｔ」をその後選択した。エクセル表計算が現れ、その後、所望の名前で所望の位置に保存することができる。
【０３１２】
ＢＩＯＴＥＫ  Ｇｅｎ５（登録商標）ソフトウェアによって生成したデータを使用して、標準曲線とＳＰＬ１との両方からの１２．５ｎＭ溶液濃度を平均化した。１．５時間時点の４つのウェルの濃度を平均化した。その後、これを２．５時間、４．５時間及び２４時間についても行った。その後、各時点の平均濃度を最初の１２．５ｎＭの平均濃度で割って１００を乗じることで、各時点でのパーセント回収率を得た。
％回収率＠１．５時間＝［平均ＢＳＡ  １．５時間］／［平均１２．５ｎＭ溶液］＊１００
【０３１３】
もう１つの態様では、実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれも、例えば化学蒸着（ＣＶＤ）を使用する、例えば基材への生体分子に関する非結合特性によって特徴付けられる、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有する表面コーティングを適用する方法に関する。任意の実施形態において、基材は、ガラス又はポリマーなどの熱可塑性樹脂（例えば、ポリカーボネートポリマー、オレフィンポリマー、環状オレフィンコポリマー、ポリプロピレンポリマー、ポリエステルポリマー、ポリエチレンテレフタレートポリマー、又はこれらの任意の２つ以上の組み合わせ）を含んでいてもよい。
【０３１４】
非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティング
その主な態様では、実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれも、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有する容器の表面コーティングを提供する。この非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有する表面コーティングは、有利には以下の通りの方法を行うことによって作製される。
【０３１５】
表面の修飾は、例えば様々な条件でポリプロピレンマイクロプレート（ＮＵＮＣ、９６ウェル、０．５ｍｌ、丸底）などの市販の製品に対して行われてもよい。例えば、実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれも、ｉ）例えばヒドロキシル化プラスチック又はＳｉＯｘでコーティングされたガラス表面などを得るための基材調整段階；ｉｉ）非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有する表面コーティングを得るための共重合段階の２つの段階を含み得る。
【０３１６】
実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれの方法も、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有する表面コーティングを生じさせる。例えば、本発明は、生体分子の低結合性又は非結合性を示す、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有する表面がコーティングされた表面を得るための方法を提供する。本発明は、生体分子の吸着を抑制する、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有する表面がコーティングされた表面を得るための方法も提供する。好ましい実施形態では、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングは、準備された基材に共有結合するが、準備された基材と他の方式で結合してもよい。
【０３１７】
共重合可能なシロキサンモノマー
実施形態（ｉ）は、例えば（３−アクリルオキシプロピル）トリメトキシシラン；メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン；ｎ−（３−アクリルオキシ−２−ヒドロキシプロピル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン；ｏ−（メタクリルオキシエチル）−ｎ−（トリエトキシシリルプロピル）ウレタン；ｎ−（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロピル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン；メタクリルオキシメチルトリエトキシシラン；メタクリルオキシメチルトリメトキシシラン；メタクリルオキシプロピルトリエトキシシラン；（３−アクリルオキシプロピル）メチル−ジメトキシシラン；（メタクリルオキシメチル）メチル−ジエトキシシラン；（メタクリルオキシメチル）メチル−ジメトキシシラン；メタクリルオキシプロピルメチルジエトキシシラン；メタクリルオキシプロピルメチルジメトキシシラン；メタクリルオキシプロピルジメチルエトキシシラン；メタクリルオキシプロピルジメチルメトキシシランなどの共重合可能なシロキサンモノマーを利用する。
【０３１８】
共重合可能なエポキシポリマー
実施形態（ｉｉ）は、例えば共重合可能なエポキシモノマーを利用する場合がある。重合可能なエポキシモノマーの非限定的な例としては、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート（ＧＭＡ）、（Ｅ）−（オキシラン−２−イル）メチルブト−２−エノエート、（３，３−ジメチルオキシラン−２−イル）メチルメタクリレート、（Ｅ）−（オキシラン−２−イル）メチルシンナメート、（オキシラン−２−イル）メチル２−メチレンブタノエート、１−（オキシラン−２−イル）プロピルアクリレート、１−（オキシラン−２−イル）エチルメタクリレート、（オキシラン−２−イル）メチル３−メチル−２−メチレンブタノエート、（オキシラン−２−イル）メチル２−メチレンペンタノエート、（３−メチルオキシラン−２−イル）メチルアクリレート、２−（オキシラン−２−イル）プロパン−２−イルアクリレート、（オキシラン−２−イル）メチル２−メチレンヘキサノエート、（３−メチルオキシラン−２−イル）メチルメタクリレート、及び（３，３−ジメチルオキシラン−２−イル）メチルアクリレートが挙げられる。これらのモノマーは単独で使用されてもこれらの混合物として使用されてもよい。
【０３１９】
シリルアミンカップリング剤
実施形態（ｉｉ）は、シリルアミンカップリング剤を利用する場合がある。非限定的な例としては、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、４−アミノブチルトリエトキシシラン、Ｍ−アミノフェニルトリメトキシシラン、Ｐ−アミノフェニルトリメトキシシラン、Ｏ−アミノフェニルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリス（メトキシエトキシエトキシ）シラン、１１−アミノウンデシルトリエトキシシラン、３−（Ｍ−アミノフェノキシ）プロピルトリメトキシシラン、アミノプロピルシラントリオール、３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、３−アミノプロピルジイソプロピルエトキシシラン、３−アミノプロピルジメチルエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−［３−（トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（６−アミノヘキシル）アミノメチルトリエトキシシラン、Ｎ−（６−アミノヘキシル）アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−１１−アミノウンデシルトリメトキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェネチルトリメトキシシラン、Ｎ−３−［（アミノ（ポリプロピレンオキシ）］アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルシラントリオール、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノイソブチルメチルジメトキシシラン、（アミノエチルアミノ）−３−イソブチルジメチルメトキシシラン、（３−トリメトキシシリルプロピル）ジエチレントリアミン、Ｎ−ブチルアミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−エチルアミノイソブチルトリメトキシシラン、Ｎ−メチルアミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニルアミノプロピルトリメトキシシラン、３−（Ｎ−アリルアミノ）プロピルトリメトキシシラン、（シクロヘキシルアミノメチル）トリエトキシシラン、Ｎ−シクロヘキシルアミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−エチルアミノイソブチルメチルジエトキシシラン、（フェニルアミノメチル）メチルジメトキシシラン、Ｎ−フェニルアミノメチルトリエトキシシラン、Ｎ−メチルアミノプロピルメチルジメトキシシラン、ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−（Ｎ−スチリルメチル−２−アミノエチルアミノ）−プロピルトリメトキシシラン塩酸塩、（２−Ｎ−ベンジルアミノエチル）−３−アミノプロピル−トリメトキシシラン、ビス（トリエトキシシリルプロピル）アミン、ビス（トリメトキシシリルプロピル）アミン、ビス［（３−トリメトキシシリル）プロピル］−エチレンジアミン、ビス［（３−トリメトキシシリル）プロピル］−エチレンジアミン、ビス（メチルジエトキシシリルプロピル）アミン、Ｎ−アリル−アザ−２，２−ジメトキシシラ−シクロペンタン、Ｎ−アミノエチル−アザ−２，２，４−トリメチル−シラシクロペンタン、Ｎ−（３−アミノプロピルジメチルシラ）アザ−２，２−ジメチル−２−シラシクロペンタン、Ｎ−Ｎ−ブチル−アザ−２，２−ジメトキシシラ−シクロペンタン、２，２−ジメトキシ−１，６−ジアザ−２−シラシクロ−オクタン、Ｎ−メチル−アザ−２，２，４−トリメチルシラ−シクロペンタン、及び１−（Ｎ−（Ｎ’，Ｎ’−ジメチルアミノエチル））−１−アザ−２，２，４−トリメチル−２−シラシクロペンタンが挙げられる。これらの試薬は単独で使用されてもこれらの混合物として使用されてもよい。
【０３２０】
共重合可能な双性イオン性モノマー
実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれも、例えば共重合可能な双性イオン性モノマーを利用することができる。共重合可能なモノマーの非限定的な例としては、例えば２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート（ＭＰＣ）、２−（メタクリルオキシ）エチル２−（ジメチルアンモニオ）エチルホスフェート（別名＝２−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン、２−（メタクリルオキシ）エチル−２−（ジメチルアンモニオ）エチルカルボキシレート、２−（メタクリルオキシ）エチル−２−（ジメチルアンモニオ）プロピルスルホネート、２−（メタクリルアミド）エチル−２−（ジメチルアンモニオ）プロピルスルホネート、リン酸２−（メタクリロイルオキシ）エチル２−（トリメチルアンモニオ）エチルエステル）、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、４−（メタ）アクリロイルオキシブチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート５−（メタ）アクリロイルオキシペンチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、６−（メタ）アクリロイルオキシヘキシル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２’−（トリプロピルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２’−（トリブチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシブチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシペンチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシヘキシル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、４−（メタ）アクリロイルオキシブチル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、５−（メタ）アクリロイルオキシペンチル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、６−（メタ）アクリロイルオキシヘキシル−３’−（トリメチルアンモニオ）プロピルホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、４−（メタ）アクリロイルオキシブチル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、５−（メタ）アクリロイルオキシペンチル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、６−（メタ）アクリロイルオキシヘキシル−４’−（トリメチルアンモニオ）ブチルホスフェート、２−（ビニルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（アリルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ｐ−ビニルベンジルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ｐ−ビニルベンゾイルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（スチリルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ｐ−ビニルベンジル）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ビニルオキシカルボニル）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（アリルオキシカルボニル）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（アクリロイルアミノ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ビニルカルボニルアミノ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（アリルオキシカルボニルアミノ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（ブチロイルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、２−（クロトノイルオキシ）エチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート、エチル−（２’−トリメチルアンモニオエチルホスホリルエチル）フマレート、ブチル−（２’−トリメチルアンモニオエチルホスホリルエチル）フマレート、ヒドロキシエチル−（２’−トリメチルアンモニオエチルホスホリルエチル）フマレート、β−カルボキシエチル−３，３−ジメチルアンモニウムエチルメタクリレート、及びスルホプロピル−３，３−ジメチルアンモニウムエチルメタクリレートが挙げられる。これらのモノマーは単独で使用されてもこれらの混合物として使用されてもよい。
【０３２１】
実施形態（ｉ）で有用なラジカル重合性モノマーの例には、例えば２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート及び２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレートなどのヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートモノマー；ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、及びメトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレートなどのポリアルキレングリコール（メタ）アクリレートモノマー；フタル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヘキサヒドロフタル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトン（ｎ＝２〜５）モノ（メタ）アクリレート、及び（メタ）アクリロイルオキシエチルサクシネートなどのω−カルボキシ（メタ）アクリレート；Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、ビニルピリジン、（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリル酸、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、無水マレイン酸、及びグリコ−２−ヒドロキシエチルモノメタクリレート（ＧＥＭＡ）も含まれる。
【０３２２】
実施形態（ｉ）について、コポリマーは、例えば、溶媒中、任意選択的に重合開始剤の存在下で、少なくとも１つのモノマーと任意選択的な１つ以上のモノマーとを含むモノマー組成物をラジカル重合することによって得ることができる。ラジカル重合は、窒素、アルゴン、二酸化炭素、又はヘリウムなどの不活性ガスで雰囲気を置換した系内で行われてもよい。
【０３２３】
実施形態（ｉｉ）について、コポリマーは、例えば、溶媒中、任意選択的に重合開始剤の存在下で、少なくとも１つの共重合可能な双性イオン性モノマーと、任意選択的な１つ以上の双性イオン性モノマーと、少なくとも１つの共重合可能なエポキシモノマーと、任意選択的な１つ以上の共重合可能なエポキシモノマーとを含むモノマー組成物をラジカル重合することによって得ることができる。重合は、窒素、アルゴン、二酸化炭素、又はヘリウムなどの不活性ガスで雰囲気を置換した系内で行われてもよい。
【０３２４】
実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれについても、重合開始剤に関して制限はない。ラジカル重合のための従来の重合開始剤を使用することができる。開始剤の例としては、ｔ−ブチルペルオキシピバレート、ｔ−ブチルペルオキシネオデカノエート、ｔ−ブチルペルオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ブチルペルオキシアセテート、１，１，３，３−テトラメチルブチルペルオキシ−２−エチルヘキサノエート、コハク酸ペルオキシド、ベンゾイルペルオキシド、３，５，５−トリメチルヘキサノイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルペルアセテート、クメンヒドロペルオキシド、２，５−ジ（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）−２，５−ジメチル−３−ヘキシン、ジクミルペルオキシド、２，５−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）−２，５−ジメチルヘキサン、２，４−ペンタンジオンペルオキシド、１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン，１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサン、ベンゾイルペルオキシド、２−ブタノンペルオキシド、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシベンゾエート、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ及び２−エチルヘキシルカーボネートなどの有機過酸化物；，；２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２−アミジノプロパン）ジヒドロクロリド、ジメチル２，２’−アゾビスイソブチレート、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）、２，２’−アゾビス（２−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−プロピオンアミド、４，４’−アゾビス（４−シアノ吉草酸）、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオンアミジン）、及び２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオニトリル）などのアゾ化合物；過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸アンモニウム、過硫酸−亜硫酸水素塩系、及びヒドロキシメタンスルフィン酸などの無機ラジカル開始剤が挙げられる。これらの重合開始剤は単独で使用されてもこれらの混合物として使用されてもよい。
【０３２５】
実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれについても、使用される重合開始剤の量は、望ましくはモノマーの総量１００重量部当たり、０．００１重量部〜１０重量部、より好ましくは０．０１重量部〜５重量部である。
【０３２６】
実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれについても、コポリマーの構造単位として機能するモノマーを溶解させコポリマーと反応しない溶媒である限り、コポリマーを製造するための溶媒に関して制限はない。溶媒は混合溶媒であってもよい。溶媒は、例えば、水、メタノール、エタノール、エタノール、イソプロパノール、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、塩化メチレン、１，２−ジクロロエタン等、又はこれらの組み合わせであってもよい。
【０３２７】
基材表面の作製
実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれも、作製された基材表面を得るための基材表面の作製を提供する。作製された基材表面は、例えばポリプロピレンマイクロプレートなどのヒドロキシル化プラスチック表面を得るために容器の平らな表面上を酸素プラズマ処理することによって例えば作製されてもよい。或いは、実施形態（ｉ）について、ある実施形態では、ヒドロキシル官能性表面は、（Ａ）例えばＣ−ＯＨ部位を形成する炭素系ポリマー表面（ＡＣ）上への、又はＳｉ−ＯＨ部位を形成するケイ素系（ＳｉＯ２又はシリコーン）表面（ＡＳｉ）上へのＯ２／プラズマ反応により形成することができる。更に、ヒドロキシル官能性表面は、（Ｂ）例えばポリビニルアルコール（ＰＶＯＨ）などのポリマー又はケイ素系ポリマー表面（ＳｉＯ２又はシリコーン）等、新生表面が元々有しているものであってもよい。そのため、Ｏ２／プラズマによる表面作製方法は、表面上に元々備わっているヒドロキシル部位が存在する場合には任意選択的であってもよい。
【０３２８】
実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれも、例えばＳｉＯｘでコーティングされたガラス表面を形成するためのＳｉＯｘ堆積による基材表面の作製を提供する。ＳｉＯｘでコーティングされた表面は、例えばプラズマ強化化学蒸着（ＰＥＣＶＤ）によって作製することができる。本明細書に規定されている任意のコーティング（例えば、ケイ素、酸素、及び任意選択的な炭素を含むコーティング）を堆積させるためのＰＥＣＶＤ装置及び方法は、例えば国際公開第２０１３／０７１１３８号パンフレット（２０１３年５月１６日公開）に開示されており、これは参照により本明細書に組み込まれる。
【０３２９】
任意の実施形態において有用なＰＥＣＶＤタイプの化学蒸着プロセスのもう１つの例は、プラズマインパルス化学蒸着（ＰＩＣＶＤ）である。ＰＩＣＶＤのための好適な装置及びプロセス条件は、例えば米国特許第７３９９５００号明細書に見ることができる。
【０３３０】
任意の実施形態において有用な化学蒸着プロセスのもう１つの例は、パルスプラズマ強化化学蒸着（ＰＰＥＣＶＤ）である。ＰＰＥＣＶＤのための好適な装置及びプロセス条件は、例えばＳ．Ｊ．Ｌｉｍｂ，Ｋ．Ｋ．Ｓ．Ｌａｕ，Ｄ．Ｊ．Ｅｄｅｌｌ，Ｅ．Ｆ．Ｇｌｅａｓｏｎ，Ｋ．Ｋ．Ｇｌｅａｓｏｎ，Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ  Ｄｅｓｉｇｎ  Ｏｆ  Ｆｌｕｏｒｏｃａｒｂｏｎ  Ｆｉｌｍ  Ａｒｃｈｉｔｅｃｔｕｒｅ  Ｂｙ  Ｐｕｌｓｅｄ  Ｐｌａｓｍａ  Ｅｎｈａｎｃｅｄ  Ａｎｄ  Ｐｙｒｏｌｙｔｉｃ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ，ＰＬＡＳＭＡ  ＰＯＬＹＭＥＲＩＺＡＴＩＯＮ  ４  １９９９  ２１〜３２に見ることができ、これは参照により本明細書に組み込まれる。
【０３３１】
実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれにおいても有用な化学蒸着プロセスのもう１つの例は、熱分解化学蒸着（ＰＣＶＤ）である。ＰＣＶＤのための好適な装置及びプロセス条件は、例えばＳ．Ｊ．Ｌｉｍｂ，Ｋ．Ｋ．Ｓ．Ｌａｕ，Ｄ．Ｊ．Ｅｄｅｌｌ，Ｅ．Ｆ．Ｇｌｅａｓｏｎ，Ｋ．Ｋ．Ｇｌｅａｓｏｎ，Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ  Ｄｅｓｉｇｎ  Ｏｆ  Ｆｌｕｏｒｏｃａｒｂｏｎ  Ｆｉｌｍ  Ａｒｃｈｉｔｅｃｔｕｒｅ  Ｂｙ  Ｐｕｌｓｅｄ  Ｐｌａｓｍａ  Ｅｎｈａｎｃｅｄ  Ａｎｄ  Ｐｙｒｏｌｙｔｉｃ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ，ＰＬＡＳＭＡ  ＰＯＬＹＭＥＲＩＺＡＴＩＯＮ  ４  １９９９  ２１〜３２に見ることができ、これは参照により本明細書に組み込まれる。
【０３３２】
実施形態（ｉ）で有用な化学蒸着プロセスのもう１つの例は、例えばヘキサフルオロプロピレンオキシドなどの前駆体の熱分解である。熱分解のための好適な装置及びプロセス条件は、例えばＪ．Ｗａｎｇ，Ｘ．Ｓｏｎｇ，Ｒ．ｌｉａ，Ｊ．Ｓｈｅｎ，Ｇ．Ｙａｎｇ，Ｈ．Ｈｕａｎｇ，Ｆｌｕｏｒｏｃａｒｂｏｎ  Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｗｉｔｈ  Ｓｕｐｅｒｈｙｄｒｏｐｈｏｂｉｃ  Ｐｒｏｐｅｒｔｙ  Ｐｒｅｐａｒｅｄ  Ｂｙ  Ｐｙｒｏｌｙｓｉｓ  Ｏｆ  Ｈｅｘａｆｌｕｏｒｏｐｒｏｐｙｌｅｎｅ  Ｏｘｉｄｅ，ＡＰＰＬＩＥＤ  ＳＵＲＦＡＣＥ  ＳＣＩＥＮＣＥ  ２５８  ２０１２  ９７８２〜９７８５に見ることができ、これは参照により本明細書に組み込まれる。
【０３３３】
実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれにおいても、好ましくは、ＰＥＣＶＤは、低結合性若しくは非結合性及び／又は生体分子の吸着に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を得るための基材上のバリア層を生じさせるために使用される。ＰＥＣＶＤを使用してコーティングを適用するための方法は米国特許第７，９８５，１８８号明細書中で教示されており、これはその全体が参照により本明細書に組み込まれる。
【０３３４】
実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれとの関係でも、以下のＰＥＣＶＤ法は、通常、最初のバリア層を付与するために適用され、これは、（ａ）基材表面の近傍に、それぞれ本明細書に規定の通り、実施形態（ｉ）の場合には前駆体を含む気体状の反応物、実施形態（ｉｉ）の場合にはシリルアミンカップリング剤、及び任意選択的にＯ２を供給する工程；及び（ｂ）気体状の反応物からプラズマを発生させることでプラズマ強化化学蒸着（ＰＥＣＶＤ）によって基材表面上にコーティングを形成する工程を含む。実施形態（ｉ）のある態様では、バリアコーティングは、シラザン及びシロキサンのいずれかであってもよい。実施形態（ｉｉ）のある態様では、バリアコーティングはシリルアミンとなる。
【０３３５】
実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれのＰＥＣＶＤ方法でも、コーティングの特徴は、有利には以下の条件：プラズマ特性、プラズマを照射する際の圧力、プラズマを生成するためにかけられる出力、気体状の反応物中のＯ２の存在及び相対的な量、プラズマ体積、並びに前駆体（実施形態（ｉ）の場合）又はシリルアミンカップリング剤（実施形態（ｉｉ）の場合）の１つ以上によって定められる。任意選択的に、コーティングの特性は、気体状の反応物中のＯ２の存在及び相対的な量、並びに／又はプラズマを生成するためにかけられる出力によって定められる。
【０３３６】
実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれの更に好ましい態様でも、プラズマは減圧（周囲圧力又は大気圧と比較して）で生成される。任意選択的に、減圧は３００ｍＴｏｒｒ未満、任意選択的に２００ｍＴｏｒｒ未満、更に任意選択的に１００ｍＴｏｒｒ未満である。
【０３３７】
実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれのＰＥＣＶＤも、任意選択的にマイクロ波又はラジオ波、任意選択的にラジオ波の周波数で電力供給される電極で前駆体を含む気体状の反応物にエネルギーを与えることによって行われる。実施形態を行うために好ましいラジオ波は、「ＲＦ波」とも呼ばれる。本発明を行うための典型的なラジオ波の範囲は、１０ｋＨｚ〜３００ＭＨｚ未満、任意選択的に１〜５０ＭＨｚ、更に任意選択的に１０〜１５ＭＨｚの周波数である。例えば、１３．５６ＭＨｚの周波数が好ましく、これはＰＥＣＶＤ作業を行うための政府が認可した周波数である。本発明は、例えば２７．１２ＭＨｚ、又は４０．６８ＭＨｚなどの他の周波数で行ってもよい。
【０３３８】
実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれについても、マイクロ波電源に対してＲＦ電源を使用することの複数の利点が存在する：ＲＦは低出力で作動するため、基材／容器の加熱が少ない。本発明の焦点はプラスチック基材上にプラズマコーティングを載せることであるため、基材の融解／歪みを防止するためにより低い処理温度が望ましい。マイクロ波ＰＥＣＶＤを使用する場合に基材の過熱を防止するために、出力をパルス化することによりマイクロ波ＰＥＣＶＤはショートバーストで行われる。出力のパルス化は、コーティングのサイクル時間を延ばし、これは本発明において望ましくない。より高い周波数のマイクロ波も、プラスチック基材中の残留水、オリゴマー、及び他の材料など揮発性物質のガスの放出を生じさせる場合がある。このガスの放出はＰＥＣＶＤコーティングを妨げる場合がある。ＰＥＣＶＤのためにマイクロ波を使用することの主な懸念事項は、基材からのコーティングの剥離である。剥離は、コーティング層の堆積前にマイクロ波が基材の表面を変化させるために生じる。剥離の可能性を減らすために、コーティングと基材との間の良好な接着を得るためのマイクロ波ＰＥＣＶＤ用の界面コーティング層が開発された。ＲＦ  ＰＥＣＶＤでは剥離の危険性がないためそのような界面コーティング層は必要とされない。最後に、本発明によるバリア層は、有利には低出力で適用される。マイクロ波出力よりもＲＦ電力は低い出力で作動し、ＰＥＣＶＤプロセスを制御する。それにも関わらず、マイクロ波は、あまり好ましくはないものの、例えば３００ＭＨｚ〜３００ＧＨｚなどの適切な処理条件下で利用可能である。
【０３３９】
更に、実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれの本明細書に記載の全てのＰＥＣＶＤ法についても、プラズマを生じさせるために使用される出力（ワット）と、その中でプラズマが生成する内腔の容積との間に固有の関係が存在する。典型的には、内腔は、本発明によりコーティングされる容器の内腔である。同じ電極系が用いられる場合、ＲＦ出力は容器の容積に合わせる必要がある。例えば、Ｏ２に対する前駆体の比率などの気体状の反応物の組成、及びＰＥＣＶＤコーティング法の出力以外の全ての他のパラメータが設定された後、容器の形状が維持されてその容積のみが変化する場合、これらは典型的には変化しないであろう。この場合、出力は容積に正比例することになる。そのため、本明細書によって与えられる出力対容積比から出発して、同じ形状の容器内の同じ又は同様のコーティングを得るためにかけなければならない出力を容易に見出すことができる。
【０３４０】
実施形態（ｉ）のために前駆体が準備される。好ましくは、前記前駆体は有機ケイ素化合物（以降では「有機ケイ素前駆体」ともいう）、より好ましくは例えば直鎖シロキサン、単環式シロキサン、多環式シロキサン、ポリシルセキシオキサン、アルキルトリメトキシシラン、トリアルコキシシラン、これらの前駆体のシラザン類似体（すなわち直鎖シラザン、単環式シラザン、多環式シラザン、ポリシルセキシオキサザン（ｐｏｌｙｓｉｌｓｅｓｑｕｉｏｘａｚａｎｅ））、シラザン、トリメチルシラン、トリアルキルシラザン、テトラメチルシラザン、及びこれらの前駆体の任意の２つ以上の組み合わせからなる群から選択される有機ケイ素化合物である。前駆体は、例えばＰＥＣＶＤなどによってバリアコーティングを形成するのに有効な条件下で基材に塗布される。その結果、前駆体は重合され、架橋され、部分的若しくは完全に酸化され、又はこれらの任意の組み合わせが行われる。
【０３４１】
実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれかの追加的な態様では、コーティングは、例えばＳｉＯｘコーティングなどのバリアコーティングである。典型的には、バリアコーティングは、ガス又は液体に対する、好ましくは水蒸気、酸素、及び／又は空気に対するバリアである。バリアは、例えば採血管の内部など、バリアコーティングでコーティングされた容器内部を真空にする及び／又は真空を維持するためにも使用することができる。
【０３４２】
実施形態（ｉ）の方法は、同じ又は異なる反応条件下で同じ又は異なる有機ケイ素前駆体からＰＥＣＶＤによって製造される１つ以上のコーティングを適用することを含んでいてもよい。例えば、容器は、有機ケイ素前駆体としてヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）を使用してＳｉＯｘバリアコーティングで最初にコーティングされてもよい。
【０３４３】
実施形態（ｉｉ）の方法は、同じ又は異なる反応条件下で同じ又は異なるシリルアミンカップリング剤からＰＥＣＶＤによって製造される１つ以上のコーティングを適用することを含んでいてもよい。例えば、容器は、ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯを使用してＳｉＯｘバリアコーティングで最初にコーティングされた後、シリルアミンカップリング剤でコーティングされてもよい。
【０３４４】
基材表面
実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれのためにも、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有するコーティングは、例えば容器の壁又はその一部などの基材表面に適用され得、これはガラスであってもよく、又はこれは、例えばオレフィンポリマー；ポリプロピレン（ＰＰ）；ポリエチレン（ＰＥ）；環状オレフィンコポリマー（ＣＯＣ）；環状オレフィンポリマー（ＣＯＰ）；ポリメチルペンテン；ポリエステル；ポリエチレンテレフタレート；ポリエチレンナフタレート；ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）；ＰＶｄＣ（ポリ塩化ビニリデン）；ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）；ポリカーボネート；ポリメチルメタクリレート；ポリ乳酸；ポリ乳酸；ポリスチレン；水素化ポリスチレン；ポリ（シクロヘキシルエチレン）（ＰＣＨＥ）；エポキシ樹脂；ナイロン；ポリウレタン、ポリアクリロニトリル；ポリアクリロニトリル（ＰＡＮ）；アイオノマー樹脂；Ｓｕｒｌｙｎ（登録商標）アイオノマー樹脂；ガラス；ホウケイ酸ガラス、又はこれらの任意の２つ以上の組み合わせを含む熱可塑性材料である。
【０３４５】
コーティングされた容器
実施例（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれのためにも、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有する表面コーティングでコーティングされた物品は、例えばシリンジバレル、又は例えばシリンジプランジャー若しくは容器の蓋などの容器の接触表面上に前記コーティングを有する容器の一部又は容器の蓋などの壁上、好ましくは内壁上に、非特異的な生体分子の吸着及び／又は結合に対する抵抗力を有する表面コーティングを有する容器であってもよい。本発明は、上述の方法により得られるコーティング、前記コーティングでコーティングされた表面、及び前記コーティングでコーティングされた容器を更に提供する。
【０３４６】
実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれとの関係でも、「容器」は、例えば実験器具及び医療器具などのより広い集合の例示的な部分集合である。容器自体は物質を入れる又は運ぶのに適した任意の種類の物品であってもよい。物質は、液体、気体、固体、又はこれらの任意の２つ以上であってもよい。容器の１つの例は、少なくとも１つの開口と、内部接触表面を画定する壁とを有する物品である。任意選択的に、内部接触表面の少なくとも一部は、本開示により処理される「接触表面」を画定する。本発明との関係における用語「少なくとも」は、その用語に続く整数「〜と同じか又はそれより多い」ことを意味する。したがって、本発明との関係において、容器は１つ以上の開口を有する。
【０３４７】
実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれについても、試料管（１つの開口）又はシリンジバレル（２つの開口）の開口のような１つ又は２つの開口が好ましい。容器が２つ以上の開口を有する場合、これらは同じ大きさのものであっても異なる大きさのものであってもよい。２つ以上の開口が存在する場合、１つの開口は本発明による官能化されたバリアコーティング法のためのガス入口用に使用することができる一方、他方の開口は蓋をされるか開けられたままにされる。
【０３４８】
実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれの容器も、例えば血液又は尿のような体液を採取又は貯蔵するためなどの試料管、例えば薬剤又は医薬組成物などの生物学的に活性な化合物若しくは組成物を貯蔵若しくは送達するためのシリンジ（又は例えばシリンジバレルなどのその一部）、生体材料又は生物学的に活性な化合物若しくは組成物を貯蔵するためのバイアル、例えば生体材料又は生物学的に活性な化合物若しくは組成物を移送するためのカテーテルなどのパイプ、又は例えば生体材料又は生物学的に活性な化合物若しくは組成物を保持するためなどの流体を保持するためのキュベットであってもよい。
【０３４９】
実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれの容器も任意の形状であってもよい。容器の１つの例は、その開口端の少なくとも１つに隣接する実質的に円筒状の壁を有する。通常、このタイプの容器の内壁は、例えば試料管又はシリンジバレル内のように円筒状に形作られている。一般的に概して円筒状である試料管及びシリンジ又はこれらの部品（例えば、シリンジバレル）、バイアル、及びペトリ皿も想定される。
【０３５０】
実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれに関しても想定される容器のいくつかの他の非限定的な例は、例えばタイタ―プレート又はマイクロタイタープレートなどのウェル型又は非ウェル型のスライド又はプレートが挙げられる。想定される容器のまた別の非限定的な例としては、インペラ接触表面、ポンプチャンバー接触表面等など、ポンプで運ばれる材料と接触するポンプの接触表面が挙げられる。想定される容器の更に別の非限定的な例としては、複数の例として、静脈点滴システム、血液処理システム（人工心肺又は血液成分分離装置など）、透析システム、又はインスリン送達システムなどの流体の封入、ポンプ移送、処理、濾過、及び送達のシステムの一部が挙げられる。そのような容器の部品の例は、管類、ポンプ内部接触表面、薬剤又は生理食塩水が入った袋又は瓶、互いの系の部品を接続するためのアダプタ及び管類コネクタ、静脈注射針及び注射針アセンブリ、膜及びフィルター等である。容器の他の例としては、ピペット、ピペットチップ、エルレンマイヤーフラスコ、ビーカー、及びメスシリンダーなどの測定及び移送器具が挙げられる。
【０３５１】
実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれも、アンプル、バイアル、シリンジ、瓶、袋、又は他の封入容器、撹拌ロッド、インペラ、撹拌ペレット等など、医薬品又は他の材料と接触して使用される又は使用できる器具の任意の接触表面（これらも「接触表面」の定義の範囲内である）への用途を更に有する。
【０３５２】
実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれも、アンプル、バイアル、シリンジ、瓶、袋、又は他の封入容器、撹拌ロッド、インペラ、撹拌ペレット等など、生体分子又は生体分子溶液と接触して使用される又は使用できる器具の任意の接触表面（これらも「接触表面」の定義の範囲内である）への用途を更に有する。
【０３５３】
実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれかによって処理することができる流体又は組織との接触表面を有するいくつかの具体的な医療器具及び実験器具は、寒天ペトリ皿；血液培養器具；血液試料カセット；血液採取システム；瓶；毛細管血採取器具；カテーテル；セルリフター；セルスクレーパー；セルスプレッダー；遠心分離機の構成要素；採取及び移送器具；容器；カバーガラス；クライオ／フリーザーボックス；凸面顕微鏡スライド；直接試験及び血清学的器具；平板顕微鏡スライド；微生物学的器具及び消耗品；微生物学的試験器具；顕微鏡スライド；分子診断器具；ペトリ皿；ピペット；ピペットチップ；試料採取容器；試料採取管；試料採取／貯蔵器具；振とうフラスコ；エルレンマイヤーフラスコ；ビーカー；メスシリンダー；及びシリンジである。
【０３５４】
実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれも、物品が例えばマイクロプレート；遠沈管；ピペットチップ；ピペット；マイクロウェルプレート；ＥＬＩＳＡプレート；マイクロタイタープレート；９６ウェルプレート；３８４ウェルプレート；１５３６ウェルプレート；丸底フラスコ；ビーカー；メスシリンダー；及びエルレンマイヤーフラスコの少なくとも１つを含む、本発明の官能化されたバリアコーティングで処理された容器を提供する。
【０３５５】
実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれとの関係でも、「容器」は、少なくとも１つの開口と、内部表面を画定する壁とを有する任意の種類の容器であってもよい。基材は、内腔を有する容器の内壁であってもよい。本発明は具体的な容積の容器に必ずしも限定されないものの、内腔が例えば０．５〜５０ｍＬ、任意選択的に１〜１０ｍＬ、任意選択的に０．５〜５ｍＬ、任意選択的に１〜３ｍＬなどの空孔容積を有する容器が想定される。基材表面は、少なくとも１つの開口と、内部表面とを有する容器の内部表面の一部又は全てであってもよい。
【０３５６】
容器のコーティング
実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれかの上述のコーティング方法によって容器がコーティングされる場合、コーティング方法は複数の工程を含む。開口端と、閉口端と、内部表面とを有する容器が準備される。表面の修飾は、例えば様々な条件でポリプロピレンマイクロプレート（ＮＵＮＣ、９６ウェル、０．５ｍｌ、丸底）などの市販の製品に対して行われてもよい。例えば、方法は、ｉ）例えばヒドロキシル化プラスチック又はＳｉＯｘでコーティングされたガラス表面などを得るための基材調整段階；ｉｉ）非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有する表面コーティングを得るための共重合試薬段階の２つの段階を例えば含み得る。
【０３５７】
好ましくは、実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれの方法も、容器ホルダーと容器の内部との間に密封された連通が得られるように容器ホルダー上に容器の開口端を取り付けることによって行われる。この好ましい態様では、気体状の反応物は容器ホルダーを通して容器内に導入される。特に好ましい態様では、本発明のコーティング方法のために、容器ホルダーと、内部電極と、外部電極と、電源とを含むプラズマ強化化学蒸着（ＰＥＣＶＤ）装置が使用される。
【０３５８】
実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれの容器ホルダーも、処理するために取り付けられた位置で容器を受けるポートを有する。内部電極は、容器ホルダー上に取り付けられた容器内に収容されるように配置される。外部電極は、容器ホルダー上に取り付けられた容器を受けるように位置する内部を有する。電源は、内部電極及び／又は外部電極に交流を供給し、容器ホルダー上に取り付けられた容器内にプラズマを形成する。典型的には、電源は外部電極に交流を供給する一方、内部電極は接地される。この実施形態では、容器がプラズマ反応チャンバーを画定する。
【０３５９】
実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれかのいくつかの実施形態では、容器は米国特許第６８２８０２８号明細書に記載の通り調製されたコポリマー溶液中に浸漬される。
【０３６０】
実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれにおいても、基材は、任意選択的に反応チャンバー内に配置されてもよく、反応チャンバーは真空引きされ、酸素を含むガスが反応チャンバーに添加される。作製された基材表面を形成するために、プラズマがガスから任意選択的に加熱しながら生成される。
【０３６１】
実施形態（ｉ）では、作製された基材は、その後、溶媒と少なくとも１つの双性イオン性コポリマーとを含むコポリマー溶液で処理される。実施形態（ｉｉ）では、作製された基材は、その後、任意選択的に酸素の存在下で、任意選択的に加熱しながら、少なくとも１つのシリルアミンカップリング剤を含む蒸気と反応することでアミンにより官能化された基材表面を形成する。実施形態（ｉｉ）において、アミンにより官能化された基材表面は、その後、任意選択的に重合開始剤の存在下で、溶媒と少なくとも１つの共重合可能な双性イオン性モノマーと少なくとも１つの共重合可能なエポキシモノマーとを含むコポリマー溶液で処理される。実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれにおいても、任意選択的な以下の工程は、加熱し、コポリマー溶液を除去し、任意選択的に、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を乾燥させ、任意選択的に基材表面を加熱し、その結果、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を形成することである。
【０３６２】
実施形態（ｉ）において、任意選択的に、基材は反応チャンバー内に配置され、反応チャンバーは真空引きされ、有機ケイ素前駆体を含有し、任意選択的に酸素も含むガスが反応チャンバーに添加される。プラズマは、任意選択的にラジオ波照射により、任意選択的にマイクロ波照射により、任意選択的に加熱により、プラズマ強化化学蒸着（ＰＥＣＶＤ）によってガスから生成されて、作製された基材表面を形成する。作製された基材を、その後、任意選択的に加熱しながら、溶媒と少なくとも１つの双性イオン性コポリマーとを含むコポリマー溶液で処理し、任意選択的に待機し、コポリマー溶液を除去し、任意選択的に、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を乾燥させ、任意選択的に基材表面を加熱することで、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面が形成される。
【０３６３】
実施形態（ｉｉ）では、任意選択的に、ＳｉＯｘでコーティングされたガラス表面である基材は反応チャンバー内に配置され、反応チャンバーは真空引きされ、酸素を含むガスが反応チャンバーに添加される。プラズマは、任意選択的にラジオ波照射により、任意選択的にマイクロ波照射により、任意選択的に加熱により、プラズマ強化化学蒸着（ＰＥＣＶＤ）によってガスから生成されて作製された基材表面を形成する。作製された基材は、その後、任意選択的に酸素の存在下で、任意選択的に加熱しながら、少なくとも１つのシリルアミンカップリング剤を含む蒸気と反応することでアミンにより官能化された基材表面を形成する。アミンで官能化された基材を、その後、任意選択的に重合開始剤の存在下で、任意選択的に加熱しながら、溶媒と少なくとも１つの共重合可能な双性イオン性モノマーと少なくとも１つの共重合可能なエポキシモノマーとを含むコポリマー溶液で処理し、任意選択的に待機し、コポリマー溶液を除去し、任意選択的に、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を乾燥させ、任意選択的に基材表面を加熱することで、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面が形成される。
【０３６４】
いくつかの実施形態において、基材は反応チャンバー内に配置され、反応チャンバーは真空引きされ、有機ケイ素前駆体を含有し、任意選択的に酸素も含むガス（実施形態（ｉ）の場合）又は酸素を含有するガス（実施形態（ｉｉ）の場合）が反応チャンバーに添加される。実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれにおいても、プラズマは、任意選択的にラジオ波照射により、任意選択的にマイクロ波照射により、任意選択的に加熱により、パルスプラズマ強化化学蒸着（ＰＰＥＣＶＤ）によってガスから生成されて作製された基材表面を形成する。実施形態（ｉｉ）において、作製された基材表面は、その後、任意選択的に酸素の存在下で、任意選択的に加熱しながら、少なくとも１つのシリルアミンカップリング剤を含む蒸気と反応することでアミンにより官能化された基材表面を形成する。アミンで官能化された基材を、その後、任意選択的に重合開始剤の存在下で、任意選択的に加熱しながら、溶媒と少なくとも１つの共重合可能な双性イオン性モノマーと少なくとも１つの共重合可能なエポキシモノマーとを含むコポリマー溶液で処理し、任意選択的に待機し、コポリマー溶液を除去し、任意選択的に、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を乾燥させ、任意選択的に基材表面を加熱することで、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面が形成される。
【０３６５】
実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれにおいても、任意選択的に、基材は反応チャンバー内に配置され、反応チャンバーは真空引きされ、酸素を含むガスが反応チャンバーに添加される。プラズマは、任意選択的にラジオ波照射により、任意選択的にマイクロ波照射により、任意選択的に加熱により、熱分解化学蒸着（ＰＣＶＤ）によってガスから生成されて作製された基材表面を形成する。実施形態（ｉ）では、作製された基材は、その後、溶媒と少なくとも１つの双性イオン性コポリマーとを含むコポリマー溶液で処理される。実施形態（ｉｉ）では、作製された基材表面は、その後、任意選択的に酸素の存在下で、任意選択的に加熱しながら、少なくとも１つのシリルアミンカップリング剤を含む蒸気と反応することでアミンにより官能化された基材表面を形成する。アミンで官能化された基材を、その後、任意選択的に重合開始剤の存在下で、任意選択的に加熱しながら、溶媒と少なくとも１つの共重合可能な双性イオン性モノマーと少なくとも１つの共重合可能なエポキシモノマーとを含むコポリマー溶液で処理し、任意選択的に待機し、コポリマー溶液を除去し、任意選択的に、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を乾燥させ、任意選択的に基材表面を加熱することで、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面が形成される。
【０３６６】
実施形態（ｉｉ）において、任意選択的に、基材は真空プラズマチャンバー内に置かれ、真空プラズマ反応器は脱気され、その後、酸素を含有し、任意選択的にアルゴンを含み任意選択的に窒素を含むガスが添加される。その後、ガスはＲＦ波のエネルギーで照射される。照射を終了し、基材を少なくとも１つのシリルアミンカップリング剤を含有する蒸気に曝露することで、アミンで修飾された基材が得られる。アミンで修飾された基材を、その後、任意選択的に重合開始剤の存在下で、任意選択的に加熱しながら、溶媒と少なくとも１つの共重合可能な双性イオン性モノマーと少なくとも１つの共重合可能なエポキシモノマーとを含むコポリマー溶液で処理し、任意選択的に待機し、コポリマー溶液を除去し、任意選択的に、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を乾燥させ、任意選択的に基材表面を加熱することで、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面が形成される。
【０３６７】
実施形態（ｉｉ）において、任意選択的に、ＳｉＯｘでコーティングされたガラス表面である基材は真空プラズマチャンバー内に置かれ、真空プラズマ反応器は脱気され、その後、酸素を含有し、任意選択的にアルゴンを含み任意選択的に窒素を含むガスが添加される。その後、ガスはＲＦ波のエネルギーで照射される。照射を終了し、基材を少なくとも１つのシリルアミンカップリング剤を含有する蒸気に曝露することで、アミンで修飾された基材が得られる。
【０３６８】
アミンにより修飾された基材表面は、その後、任意選択的に重合開始剤の存在下で、溶媒と少なくとも１つの共重合可能な双性イオン性モノマーと少なくとも１つの共重合可能なエポキシモノマーとを含むコポリマー溶液で処理される。実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）のいずれにおいても、方法は、任意選択的に、加熱し、コポリマー溶液を除去し、任意選択的に、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を乾燥させ、任意選択的に基材表面を加熱し、その結果、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を形成することが継続される。
【０３６９】
実施形態（ｉ）において、任意選択的に，基材は反応チャンバー内に配置され、反応チャンバーは真空引きされ、有機ケイ素前駆体を含有し、任意選択的に酸素も含むガスが反応チャンバーに添加される。作製された基材を、その後、任意選択的に加熱しながら、溶媒と少なくとも１つの双性イオン性コポリマーとを含むコポリマー溶液で処理し、任意選択的に待機し、コポリマー溶液を除去し、任意選択的に、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面を乾燥させ、任意選択的に基材表面を加熱することで、非特異的な生体分子の吸着及び／又は非特異的な結合に対する抵抗力を有するコーティングされた表面が形成される。
【０３７０】
以降の実施例を参照しつつ本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれに限定されると見なされないことが理解されるべきである。
【実施例】
【０３７１】
第１のより詳しい実施形態の実施例１
ポリプロピレンの９６ウェルマイクロプレートを、第１のより詳しい実施形態の任意選択的な態様に従ってプラズマ処理した。マイクロプレートを処理するために使用したプロセスは、ラジオ波（ＲＦ）プラズマシステムを使用した。システムは、ガス供給口と、真空ポンプと、整合回路によって供給されるＲＦ電力とを有していた。マイクロプレートは、チャンバーの周囲に沿ってプラズマと反対を向いてプラズマから保護された。これらの詳細は図２中に示されている。保護により、マイクロプレートの表面上の遠隔地点での放射密度と、プラズマ放電の最も明るい地点との間の比率が０．２５未満である遠隔プラズマ処理となった。
【０３７２】
この非限定的な実施例により使用された２工程の遠隔変換プラズマプロセスは、第１のより詳しい実施形態の表２にまとめられている。
【０３７３】
【表３】
2018537556.tif 000005
【０３７４】
第１のより詳しい実施形態のこの遠隔変換プラズマプロセスによって得られる処理されたマイクロプレートの表面上の生体分子の結合に対する抵抗力は、全ての実施形態の試験を行うことによって分析した。パーセント回収率は、溶液中に残るタンパク質（すなわちマイクロプレートの表面に結合しなかったもの）の最初の濃度の割合である。
【０３７５】
この試験において、パーセント回収率のために３つの異なる種類のマイクロプレートのサンプルを試験した。サンプルには、（１）未調整且つ未変換のポリプロピレンマイクロプレート（「未調整且つ未変換」のサンプル）；（２）ＳｉＯ２  Ｍｅｄｉｃａｌ  Ｐｒｏｄｕｃｔｓによって成形され本明細書の実施例１に記載の第１のより詳しい実施形態により変換されたポリプロピレンマイクロプレート（「ＳＩＯ」サンプル）；及び（３）「Ｅｐｐｅｎｄｏｒｆ  ＬｏＢｉｎｄ」ブランドのマイクロプレート（「Ｅｐｐｅｎｄｏｒｆ  ＬｏＢｉｎｄ」サンプル）が含まれていた。図３中の棒グラフは、この比較試験の結果を示す。第１のより詳しい実施形態の図３が示すように、変換されたＳｉＯ２プレートは、未調整且つ未変換のサンプルと比較した生体分子回収率の６０％の増加と、Ｅｐｐｅｎｄｏｒｆ  ＬｏＢｉｎｄサンプルと比較した生体分子回収率の８〜１０％の増加とを有していた。
【０３７６】
したがって、第１のより詳しい実施形態の遠隔変換プラズマ処理により、他の公知の方法よりも低い生体分子の付着（又は逆により高い生体分子の回収率）が得られることが示された。実際、ＳｉＯ２サンプルとＥｐｐｅｎｄｏｒｆ  ＬｏＢｉｎｄサンプルとの比較データは、Ｅｐｐｅｎｄｏｒｆ  ＬｏＢｉｎｄがタンパク質に耐性を有する実験器具の業界標準と見なされていたことから特に驚くべきことであった。ＳｉＯ２プレートのＥｐｐｅｎｄｏｒｆ  ＬｏＢｉｎｄサンプルと比較した効果の８〜１０％の増加は、最新技術と比較した著しい改善を表している。
【０３７７】
第１のより詳しい実施形態の実施例２
第１のより詳しい実施形態のこの実施例では、２番目のサンプルが遠隔変換プラズマの代わりに直接プラズマで処理された以外（これは重要な除外である）はＳＩＯと同じプロセス工程及び条件で変換された同じマイクロプレート（「直接プラズマ」サンプル）と、実施例１のＳｉＯ２プレートとが比較された。驚くべきことに、図４中に示されているように、直接プラズマサンプルは２４時間後に７２％の生体分子回収率を有していた一方、ＳＩＯ２プレート（これは遠隔変換プラズマによる以外には同じ条件／プロセス工程で処理された）は、２４時間後に９０％の生体分子回収率を有していた。この注目すべき工程の変更は、直接プラズマの代わりに第１のより詳しい実施形態の遠隔変換プラズマを使用することのみから得られる予期しなかった改善を示す。
【０３７８】
第１のより詳しい実施形態の実施例３
第１のより詳しい実施形態のこの実施例では、２番目の処理工程（水蒸気プラズマ工程又は変換プラズマ処理）が行われずに第１のより詳しい実施形態の方法の調整工程（すなわち非重合性化合物プラズマ工程又は調整プラズマ処理）のみで処理された同じマイクロプレート（「工程１のみ」のサンプル）と実施例１のＳＩＯサンプルとが比較された。図５中に示されているように、工程１のみのサンプルは約２５℃（特段の指示がない限り本明細書中の全てのタンパク質試料のエージングは２５℃である）で２４時間後に５０％の生体分子回収率を有していた一方、ＳＩＯ２プレート（遠隔変換プラズマによっても行われた以外は同じ条件／プロセス工程で処理された）は２４時間後に９０％の生体分子回収率を有していた。したがって、第１のより詳しい実施形態の実施形態による方法の両方の工程を使用すると、調整工程単独のみを使用するよりも大幅に改善された生体分子回収率となる。
【０３７９】
第１のより詳しい実施形態の実施例４（仮想実施例）
第１のより詳しい実施形態の更に想定される任意選択的な利点は、利点を相殺する高い溶出性物質のプロファイルなしで生体分子の付着に対する高いレベルの抵抗力を与えることである。例えば、Ｅｐｐｅｎｄｏｒｆ  ＬｏＢｉｎｄ（登録商標）実験器具は、化学添加剤のために生体分子の付着に対する抵抗力を有するが、化学添加剤は基材から基材と接触する溶液に溶出する傾向がある。対照的に、第１のより詳しい実施形態は、基材にその生体分子の付着に対する抵抗性を付与するためにポリマー基材中に混合される化学添加剤に依存しない。また、第１のより詳しい実施形態の方法は、処理された基材から化合物又は粒子が溶出しないか溶出させない。更に、本開示に記載のｐＨ保護プロセスが変換された表面から化合物又粒子が溶出しないか溶出させないことも決定された。
【０３８０】
したがって、ある任意選択的な態様では、本開示の技術（本明細書に記載の第１のより詳しい実施形態）は、変換処理前の表面の生体分子回収率を有する変換物を形成するために材料又はワークピースとしても言及される表面を処理するための方法に関し、この中のいずれの調整処理又は変換処理も基材の溶出物プロファイルを物質的に増加させない。本出願人らは、これが未調整且つ未変換の表面と変換された表面との間の実際の比較試験により裏付けられると考えている。
【０３８１】
第１のより詳しい実施形態の実施例５
未調整且つ未変換のポリプロピレン（ＵＴＰＰ）製実験用ビーカー、第１のより詳しい実施形態により遠隔変換プラズマ処理されたポリプロピレン（ＴＰＰ）製実験用ビーカー、及び未調整且つ未変換のガラス製実験用ビーカーからの生体分子回収率を比較するために、第１のより詳しい実施形態の実施例１と同様の試験を行った。使用した生体分子は凍結乾燥したＢＳＡ、ＦＢＧ、ＴＦＮ、ＰｒＡ、及びＰｒＧの１２ｎＭ分散液であった。
【０３８２】
第１のより詳しい実施形態の１回目の試験では、生体分子分散液はビーカー内で作製され、複数回吸引することでこれを混合した。生体分子の回収率は相対蛍光単位（ＲＦＵ）で測定した。最初のＲＦＵの読み取り（０分）を１００％回収率のベースラインとして設定し、次いでビーカー内の生体分子分散液をピペットチップで１分間撹拌し、その後の残りの試験時間にわたり、実験台の上でそのまま静置した。生体分子回収率は最初に測定し、その後、それぞれ５分間隔で試料を抜き出してパーセンテージ生体分子回収率を測定した。結果は表３に示されている。
【０３８３】
【表４】
2018537556.tif 000006
【０３８４】
表４に示されている結果を有する第１のより詳しい実施形態の２回目の試験は、第１のより詳しい実施形態によって処理されていないガラスビーカーを基材として使用したことを除いて１回目の試験と同じ方法で行った。
【０３８５】
【表５】
2018537556.tif 000007
【０３８６】
第１のより詳しい実施形態の図９は上の表のＴＦＮの結果をプロットしており、未調整且つ未変換のポリプロピレン製ビーカーについてのプロット３４、処理されたポリプロピレン製ビーカーについての３６、及びガラスについての３８を示す。図９が示すように、処理されたポリプロピレン製ビーカーは、１０〜３０分後に最も高い生体分子回収率を与え、ガラスは１０〜３０分後により低い生体分子回収率を生じ、未調整且つ未変換のポリプロピレン製ビーカーは最初の測定後の全ての時間で最も低い生体分子回収率を与えた。
【０３８７】
第１のより詳しい実施形態の実施例６
タンパク質とプレートとを２４時間接触させた後の、タンパク質濃度に対する２つのマルチウェルポリプロピレンプレートからの生体分子の回収率を比較するために、第１のより詳しい実施形態の実施例１と同様の試験を行った。「ＳｉＯ２」プレートはポリプロピレンから成形され、実施例１に従ってプラズマ処理した。「ＣＡ」（競合Ａ）プレートは、低減された非特異的なタンパク質の結合を与えるコーティングを備えた市販の競合品のポリプロピレン製プレートであった。
【０３８８】
結果は表５及び図１１〜１３に示されており、全ての試験濃度で、変換されたＳｉＯ２プレートから各種類の本質的に全てのタンパク質が回収され、そのため、回収率は濃度と無関係であったことを示す。対照的に、ＣＡプレートからのタンパク質回収率は特に低濃度において濃度に大きく依存した。
【０３８９】
【表６】
2018537556.tif 000008
【０３９０】
第１のより詳しい実施形態の実施例７
実施例６に記載の種類の変換された「ＳｉＯ２」プレート及び「ＣＡ」プレートからの生体分子の回収率を比較するために、第１のより詳しい実施形態の実施例１と同様の試験を行った。使用した生体分子は凍結乾燥したＢＳＡ、ＦＢＧ、ＴＦＮ、ＰｒＡ、及びＰｒＧの１．５又は３ｎＭの分散液であった。
【０３９１】
条件及び結果は表６に示されている。ＢＳＡ、ＰｒＡ、ＰｒＧ、及びＴＦＮタンパク質について、変換されたＳｉＯ２プレートはＣＡプレートと比較して著しく優れたタンパク質回収率を与えた。ＦＢＧタンパク質について、変換されたＳｉＯ２プレートはＣＡプレートよりも優れたタンパク質回収率を与えた。
【０３９２】
【表７】
2018537556.tif 000009
【０３９３】
第１のより詳しい実施形態の実施例８
９６ウェル、５００μＬのＳｉＯ２及びＣＡのプレートを比較するために、第１のより詳しい実施形態の実施例７と同様の試験を行った。条件及び結果は表７に示されている。ＢＳＡ、ＰｒＡ、ＰｒＧ、及びＴＦＮタンパク質だけでなく、１．５ｎＭの濃度のＦＢＧについても、変換されたＳｉＯ２プレートはＣＡプレートと比較して著しく優れたタンパク質回収率を与えた。３ｎＭの濃度のＦＢＧは変則的であった。
【０３９４】
【表８】
2018537556.tif 000010
【０３９５】
第１のより詳しい実施形態の実施例９
９６ウェル、１０００μＬの変換されたＳｉＯ２プレート及びＣＡプレートを比較するために、第１のより詳しい実施形態の実施例７と同様の試験を行った。条件及び結果は表８に示されている。ＢＳＡ、ＰｒＡ、及びＰｒＧタンパク質について、変換されたＳｉＯ２プレートはＣＡプレートと比較して著しく優れたタンパク質回収率を与えた。ＦＢＧタンパク質は実質的に優れたタンパク質回収率を示さなかった。
【０３９６】
【表９】
2018537556.tif 000011
【０３９７】
第１のより詳しい実施形態の実施例１０
３８４ウェルの５５μＬ（変換されたＳｉＯ２）対２００μＬ（ＣＡ）のシャロープレートを比較するために、第１のより詳しい実施形態の実施例７と同様の試験を行った。条件及び結果は表８に示されている。ＢＳＡ、ＰｒＡ、及びＰｒＧタンパク質について、変換されたＳｉＯ２プレートはＣＡプレートと比較して著しく優れたタンパク質回収率を与えた。ＦＢＧタンパク質は実質的に優れたタンパク質回収率を示さなかった。
【０３９８】
【表１０】
2018537556.tif 000012
【０３９９】
第１のより詳しい実施形態の実施例１１
ＳｔａｂｉｌＢｌｏｔ（登録商標）ＢＳＡ  Ｂｌｏｃｋｅｒ（ＢＳＡタンパク質の付着を低減するために使用される市販の処理剤、ＳｕｒＭｏｄｉｃｓ，Ｉｎｃ．，Ｅｄｅｎ  Ｐｒａｉｒｉｅ，ＭＮ，ＵＳＡから販売）で処理されたポリプロピレン製プレートと、第１のより詳しい実施形態のＳｉＯ２変換されたプレートとを比較するために、第１のより詳しい実施形態の実施例１と同様の試験を行った。条件及び結果は表１０に示されている。ここで、変換されたＳｉＯ２は実施例１のプレートであり、プレートＡは５％のＢＳＡブロッカーで１時間処理されたポリプロピレン製プレートであり、プレートＢは１％のＢＳＡブロッカーで１時間処理されたポリプロピレン製プレートである。ＦＢＧタンパク質以外は、ここでも本発明の技術がＢＳＡブロッカーのプレートと比較して優れた結果を与えた。
【０４００】
【表１１】
2018537556.tif 000013
【０４０１】
第１のより詳しい実施形態の実施例１２
１〜４か月のより長い期間にわたっての、実施例１によってＳｉＯ２変換されたプレートのタンパク質回収率を比較するために、第１のより詳しい実施形態の実施例７と同様の試験を行った。条件及び結果は表１１に示されており、これは、相当な期間にわたって全てのタンパク質について、タンパク質の付着に対する略変わらない抵抗性が観察されたことを示す。
【０４０２】
【表１２】
2018537556.tif 000014
【０４０３】
第１のより詳しい実施形態の実施例１３
ディープ（５００μＬ）ウェルを有する２つの９６ウェルプレート（全ての９６ウェルプレートで２時間後に２ｎＭのＰｒＡタンパク質を試験したことを除いて実施例１に従って作製された変換されたＳｉＯ２プレートと、これも９６ウェルプレートで２時間後に２ｎＭのＰｒＡタンパク質を試験した他方の競合Ａプレート）を使用して、単一のプレートの異なるウェル間での結合の均一性を試験した。１つのプレート上の各ウェルからのタンパク質回収率を測定し、その後、平均化し、整理し（９６ウェル内で最も高い回収率と最も低い回収率を決定）、標準偏差を計算した。変換されたＳｉＯ２プレートについて、平均回収率は９５％であり、回収率の範囲は１１％であり、標準偏差は２％であった。ＣＡプレートについて、平均回収率は６４％であり、回収率の範囲は１４％であり、標準偏差は３％であった。
【０４０４】
１０００μＬのウェルを有する９６ウェルプレートも使用して前の段落と同じ試験を行った。変換されたＳｉＯ２プレートについて、平均回収率は１００％であり、回収率の範囲は１３％であり、標準偏差は３％であった。ＣＡプレートについて、平均回収率は６２％であり、回収率の範囲は２５％であり、標準偏差は３％であった。
【０４０５】
この試験は、ＣＡプレートのタンパク質に抵抗力のあるコーティングと同様に、実施例１の変換処理により、異なるウェル間で少なくとも均一な回収率にできることを示した。これは、ＳｉＯ２プラズマ処理がプレート全体にわたって非常に均一であることを示唆している。
【０４０６】
第１のより詳しい実施形態の実施例１４
この実施例は、タンパク質とプレートとを９６時間接触させた後の、タンパク質濃度に対する２つのマルチウェルポリプロピレン製プレートからのタンパク質の回収率を比較するために行った。ＳｉＯ２プレートはポリプロピレンから成形され、実施例６に従ってプラズマ変換した。「ＥＰＰ」プレートは、市販の競合品であるポリプロピレンＥｐｐｅｎｄｏｒｆ  ＬｏＢｉｎｄ（登録商標）プレートであった。試験手順は、最も小さいタンパク質濃度が実施例６のものよりもはるかに低い０．１ｎＭであったことを除いて実施例６と同じである。
【０４０７】
結果は表１２及び図１４〜１６に示されている。実際、変換されたＳｉＯ２プレート（プロット１５２、１５４、及び１５８）とＥｐｐｅｎｄｏｒｆ  ＬｏＢｉｎｄ（登録商標）プレート（すなわち「ＥＰＰ」プレート、プロット１５０、１５６、及び１６０）との比較データは、Ｅｐｐｅｎｄｏｒｆ  ＬｏＢｉｎｄがタンパク質に耐性を有する実験器具の業界標準と見なされていたことから特に驚くべきものであった。実施例で試験した全ての３つのタンパク質（すなわちＢＳＡ、ＰｒＡ、及びＰｒＧ）について、変換されたＳｉＯ２プレートについて濃度に関わらずタンパク質回収率は実質的に一定で高かった。しかし、「ＥＰＰ」プレートについて、タンパク質回収率は低濃度で劇的に下がった。特に極低濃度（例えば、０．１ｎＭから１．５ｎＭ未満）では、ＳｉＯ２変換されたプレートについてのタンパク質回収率は「ＥＰＰ」プレートよりもはるかに優れていた。
【０４０８】
ＳｉＯ２変換されたプレートの実際のタンパク質回収率は、１００％にデータ点に割り当てられる誤差限界を加えたものを超えないはずであることから、表１２中のアスタリスクが記されているデータによって示されているＰｒＧタンパク質について、０．１ｎＭのＳｉＯ２変換されたプレートのデータ点を異常値として見なした。他のデータ点の傾向から大きく逸脱していることから、０．１ｎＭのＥＰＰプレートのＰｒＧデータ点も異常値として見なした。これらの異常なデータ点は図１６に示されていない。
【０４０９】
【表１３】
2018537556.tif 000015
【０４１０】
第１のより詳しい実施形態の実施例１５
ＧＣ−ＭＳ法を使用した、本発明の低タンパク質結合性を有する変換されたマイクロプレートから抽出した有機種の特徴付け
この試験は、本発明の変換処理が基材と接触する溶液に溶出物を追加することになるかどうかを評価するために、９６ウェルマイクロプレート上で行った。マイクロプレートはポリプロピレンから成形され、実施例６に従ってプラズマで変換された。
【０４１１】
抽出手順
９６ウェルマイクロプレート中の合計１６個のウェルに３００μＬのイソプロパノール（ＩＰＡ）を添加した。添加後、プレートをガラスプレートで確実に覆い、室温で７２時間貯蔵した。抽出後、１６個のウェルの中身を１つの別個のバイアル内で合わせ、蓋をし、反転させて混合した。各一定分量をＧＣ−ＭＳ分析用のオートサンプラーのバイアルに移した。
【０４１２】
ＧＣ−ＭＳ分析条件及び結果
ＧＣ−ＭＳ（ガスクロマトグラフィー−マススペクトル）分析条件は表１３に示されており、割り当てがなされた８個のピークの注釈付きの得られたプロットが図１７に示されており、ピークの帰属は表１４に記載されている。
【０４１３】
【表１４】
2018537556.tif 000016
【０４１４】
【表１５】
2018537556.tif 000017
【０４１５】
図１８及び図１９は、図１７と同じ方法で測定されたＧＣ−ＭＳプロットを示し、イソプロパノールブランク（図１８）対実施例１５に従って変換されたＳｉＯ２の低タンパク質結合処理されたマイクロプレート（図１９）についての抽出された有機種を特徴付けている。
【０４１６】
第１のより詳しい実施形態の実施例１６
ＬＣ−ＭＳ法を使用したＳｉＯ２低タンパク質結合性を有する変換されたマイクロプレートから抽出した有機種の特徴付け
ＬＣ−ＭＳ（液体クロマトグラフィー−マススペクトル）法を使用して有機抽出物を分析し、本発明の変換処理が基材と接触する溶液に有機溶出物を追加することになるかどうかを評価した。抽出手順は実施例１５と同じである。
【０４１７】
ＬＣ−ＭＳ分析条件及び結果
分析は、Ａｇｉｌｅｎｔ  Ｇ６５３０Ａ  Ｑ−ＴＯＦマススペクトロメーターを用いて行い、抽出物はポジティブとネガティブとの両方のＡＰＣＩモードで分析した。ポジティブＡＰＣＩについてのＬＣ−ＭＳ条件は表１５中に示されており、ネガティブＡＰＣＩについてのＬＣ−ＭＳ条件は表１６中に示されている。
【０４１８】
図２０は、ＳｉＯ２低タンパク質結合変換されたプレート（下のプロット）対イソプロパノールブランク（上のプロット）の、ＬＣ−ＭＳイソプロパノール抽出イオンクロマトグラム（ポジティブＡＰＣＩモード）の比較を示す。
【０４１９】
図２２は、ＳｉＯ２低タンパク質結合変換されたプレート（下のプロット）対イソプロパノールブランク（上のプロット）の、ＬＣ−ＭＳイソプロパノール抽出イオンクロマトグラム（ネガティブＡＰＣＩモード）の比較を示す。
【０４２０】
イソプロパノールブランク（上のプロット）に対して、ＳｉＯ２変換されたプレートについての唯一の一致していないピークはｍ／ｚ５２９のものであり、これは未調整且つ未変換のＳｉＯ２プレートのイソプロパノール抽出物（図２１、下のプロット）中のＩｒｇａｎｏｘ（登録商標）１０７６と一致する。したがって、この抽出された化合物は、本発明の低タンパク質結合処理によって追加されたものではない。これは、未調整且つ未変換のＳｉＯ２プレートからも抽出されたことから、樹脂由来である。
【０４２１】
【表１６】
2018537556.tif 000018
【０４２２】
【表１７】
2018537556.tif 000019
【０４２３】
第１のより詳しい実施形態の実施例１７
ＩＣＰ−ＭＳ法を使用した、ＳｉＯ２マイクロプレートから抽出した無機種の特徴付け
３つの種類の９６ウェルマイクロプレートの無機抽出物レベルを比較するためにＩＣＰ−ＭＳ法を使用した。３つの種類のマイクロプレートは、未調整且つ未変換の市販のＬａｂｃｙｔｅポリプロピレンマイクロプレート（Ｌａｂｃｙｔｅ）、未調整且つ未変換の市販のＰｏｒｖａｉｒポリプロピレンマイクロプレート（Ｐｏｒｖａｉｒ）、及びＳｉＯ２  Ｍｅｄｉｃａｌ  Ｐｒｏｄｕｃｔｓ，Ｉｎｃ．によりポリプロピレンから成形され、実施例６に従ってプラズマで変換された、ＳｉＯ２低結合プラズマ変換マイクロプレートである。
【０４２４】
抽出手順
２％ｖ／ｖの硝酸（ＨＮＯ３）の脱イオン（ＤＩ）水溶液で満たしたマイクロプレートのウェルをガラスプレートで覆い、室温で７２時間抽出した。その後、約３ｍＬの溶液をオートサンプラーチューブに移し、Ａｇｉｌｅｎｔ  ７７００ｘスペクトロメーターを使用してＩＣＰ−ＭＳにより分析した。条件は表１７に示されている。
【０４２５】
ＩＣＰ−ＭＳ分析条件及び結果
結果は表１８に示されている。結果は、変換されたＳｉＯ２プレートの硝酸抽出物が、未調整且つ未変換のＬａｂｃｙｔｅ及びＰｏｒｖａｉｒプレートと略等しい低レベルの無機物を有することを示す。したがって、ＳｉＯ２  Ｍｅｄｉｃａｌ  Ｐｒｏｄｕｃｔｓの低タンパク質結合変換処理は、無機抽出物を追加しない。
【０４２６】
【表１８】
2018537556.tif 000020
【０４２７】
【表１９】
2018537556.tif 000021
【０４２８】
第１のより詳しい実施形態の実施例１８
処理された接触表面の特性を決定するために、特にポリマーへグラフトされた部位の導入を定性的に及び定量的に示すために、実施例１の処理された９６ウェルマイクロプレートに対してＸ線光電子分光（ＸＰＳ）分析を行った。
【０４２９】
本開示において、用語「グラフト化」は、その組成及び特性を改良する目的で元々の材料に特定の部位を化学的に結合させるために、プラズマ処理又は他の手段によってなどでマイクロプレート又は他の基材の元々の表面を修飾することを指し、表面に多くの又は全てのグラフト化された部位を残し、その表面の特性を改良するが、表面を覆うコーティングを組み込むことにはならない。
【０４３０】
ＸＰＳは、２つのウェル間のマイクロプレートの上面と、ウェルの側壁の略半分降りた位置の、２つの位置の処理された接触表面上で行った。全ての隣接するウェルの汚染を避けるためにランドに試料がないままにする必要があることから、側壁での測定が最も適切である。
【０４３１】
ＸＰＳのために使用した分析パラメータは、以下の通りである。
装置  ＰＨＩ  Ｑｕａｎｔｕｍ  ２０００
Ｘ線源  モノクロＡｌｋa  １４８６．６ｅＶ
受光角度  ±２３°
取り出し角  ４５°
分析面積  ６００μｍ（マイクロメートル）
電荷補正  Ｃ１ｓ  ２８４．８ｅＶ
イオン銃条件  Ａｒ＋、１ｋｅＶ、２×２ｍｍラスター
スパッタレート  １５．６Å／分（ＳｉＯ２と均等）
【０４３２】
ＸＰＳは水素を検出しないが、炭素、窒素、及び酸素は検出する。未処理のポリプロピレン表面などの炭化水素のＸＰＳは、炭素のみに加えて微量の複数の他の元素を検出するであろう。しかし、実施例１の処理された接触表面のＸＰＳは、表１９の原子割合（１００％に正規化）を与えた。
【０４３３】
【表２０】
2018537556.tif 000022
【０４３４】
この結果は、ポリプロピレンマイクロプレートの上面及び側壁でのポリプロピレン中への相当量の原子割合（約８〜９原子％）の酸素のグラフト化を示すが、主成分が炭素のままであることから、元の表面を覆うコーティングの形成又はバルク組成の変化はない。
【０４３５】
第１のより詳しい実施形態の実施例１９
実施例１に従って処理されたポリプロピレンマイクロプレートの表面の化学成分に注目して、別のＸＰＳ分析を行った。表２０に示されている化学成分が検出された。右の列は側壁のデータを正規化しており、Ｃ及びＨに結合している１００原子パーセントのＣに対する割合として正規化されている。
【０４３６】
【表２１】
2018537556.tif 000023
【０４３７】
これらの部位は、表面の特性を変化させるが、やはり元の表面を覆うコーティングの形成又はバルク組成の変化はない。
【０４３８】
第１のより詳しい実施形態の実施例２０
第１のより詳しい実施形態の実施例１に従って処理された９６ウェルのマイクロプレート上での蒸留水の接触角を測定した。接触角試験のための分析装置は、協和界面科学株式会社（東京、日本）製の接触角計ＤＭ−７０１型であった。接触角を得るために、各試験片から得た小片の内側表面上に５つの水滴を載せた。試験条件及びパラメータは下にまとめられている。プレートを壊して処理された接触表面を露出させた。各試験片について、最も代表的な小片を試験のために選択した。全てのサンプルについて、１μＬ（１マイクロリットル）の液径を使用した。試験片の湾曲のため、曲率補正ルーチンを使用して接触角を正確に測定した。
【０４３９】
第１のより詳しい実施形態の接触角試験条件及びパラメータ
・試験装置  −  ＤＭ−７０１接触角計
・液体ディスペンサー  −  ２２ゲージステンレス鋼針
・液径  −  μＬ（１マイクロリットル）
・試験液  −  蒸留水
・環境  −  大気中の空気、室温（約２５℃）
・各試験片についての曲率半径（マイクロメートル、μｍ）  −  測定の通り
【０４４０】
対照として、未処理のポリプロピレンマイクロプレート表面の接触角を同じ方法で測定した。未処理のポリプロピレンの接触角は８２°であった一方、第１のより詳しい実施形態の処理された接触表面の接触角は６０°であった。この試験は、コーティングの付加又はバルク材料の変化なしで、プラズマ処理によって低接触角の親水性表面が更に多く付与されることを示す。
【０４４１】
第２のより詳しい実施形態
ポリオレフィン及び様々な他のポリマーに適用することができ、任意選択的にタンパク質の付着を５０％超削減する、第２のより詳しい実施形態による方法が開発された。方法は、プラズマ処理によって大気圧又は減圧で行うことができる１〜４工程又はそれを超える工程を基本とする。方法は、幅広い高分子材料（多くの他の材料に加えて、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリスチレン）、及び多くの他の製品に加えて、実験器具、診断用装置、コンタクトレンズ、医療器具、又はインプラントなどの製品に適用することができる。
【０４４２】
第２のより詳しい実施形態の第１の任意選択的な工程は、水、揮発性の極性有機化合物、又はこれらの任意の２つ以上の組み合わせを含む極性液体処理剤で表面を処理して極性処理された接触表面を形成することである。
【０４４３】
第２のより詳しい実施形態の第２の任意選択的な工程は、表面をイオン化ガスで処理することである。
【０４４４】
第２のより詳しい実施形態の第３の任意選択的な工程は、窒素含有ガス、不活性ガス、酸化ガス、又はこれらの２つ以上の組み合わせを含む調整プラズマで表面を処理して調整された接触表面を形成することである。
【０４４５】
第２のより詳しい実施形態の第４の工程は、水；揮発性極性有機化合物；Ｃ1〜Ｃ12炭化水素及び酸素；Ｃ1〜Ｃ12炭化水素及び窒素；ケイ素含有ガス；又はこれらの２つ以上の組み合わせの変換プラズマで表面を処理して処理された接触表面を形成することである。
【０４４６】
第２のより詳しい実施形態の処理される表面は、様々な異なる材料製であってもよい。材料の複数の有用な種類は、熱可塑性材料、例えば任意選択的に射出成形された熱可塑性樹脂であってもよいポリマーなどの例えば熱可塑性樹脂である。例えば、材料は、オレフィンポリマー、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレン（ＰＥ）、環状オレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、環状オレフィンポリマー（ＣＯＰ）、ポリメチルペンテン、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリ塩化ビニリデン（ＰＶｄＣ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリカーボネート、ポリ乳酸、ポリスチレン、水素化ポリスチレン、ポリシクロヘキシルエチレン（ＰＣＨＥ）、エポキシ樹脂、ナイロン、ポリウレタン、ポリアクリロニトリル、ポリアクリロニトリル（ＰＡＮ）、アイオノマー樹脂、Ｓｕｒｌｙｎ（登録商標）アイオノマー樹脂、又は上述の材料の任意の２つ以上の任意の組み合わせ、複合材料、若しくはブレンド物であってもよく、又はこれらが含まれ得る。
【０４４７】
第２のより詳しい実施形態によって様々な異なる表面を処理することができる。表面の１つの例は容器の内腔表面であり、この容器は、例えばバイアル、瓶、広口瓶、シリンジ、カートリッジ、ブリスター包装、又はアンプルである。追加の例としては、材料の表面は、例えばマイクロプレート、遠沈管、ピペットチップ、ウェルプレート、マイクロウェルプレート、ＥＬＩＳＡプレート、マイクロタイタープレート、９６ウェルプレート、３８４ウェルプレート、遠沈管、クロマトグラフィーバイアル、真空採血管、又は試料管などの実験器具製品の接触表面であってもよい。
【０４４８】
第２のより詳しい実施形態のまた別の例は、表面がＰＥＣＶＤにより堆積したＳｉＯxＣyＨz又はＳｉＮxＣyＨzのコーティング又は層であってもよいことであり、この中でＸ線光電子分光（ＸＰＳ）により測定されるｘは約０．５〜約２．４であり、ＸＰＳにより測定されるｙは約０．６〜約３であり、ラザフォード後方散乱分光法（ＲＢＳ）により測定されるｚは約２〜約９である。別の例は、表面が、ＳｉＯｘ（ＸＰＳにより測定されるｘは約１．５〜約２．９である）、任意選択的に周期表のＩＩＩ族及び／又はＩＶ族（例えば、ＩＩＩ族ではホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム、スカンジウム、イットリウム、又はランタン（アルミニウム及びホウ素が好ましい）、及びＩＶ族ではケイ素、ゲルマニウム、スズ、鉛、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、又はトリウム（ケイ素及びスズが好ましい））からの金属元素の化合物である有機金属前駆体の酸化物又は窒化物のバリアコーティング又は層である。
【０４４９】
第２のより詳しい実施形態の極性液体処理剤は、例えば、水（例えば、水道水、蒸留水、又は脱イオン水）；アルコール（例えば、Ｃ1〜Ｃ12アルコール、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノール）；グリコール（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ポリエチレングリコール等）；グリセリン、Ｃ1〜Ｃ12直鎖若しくは環状のエーテル（例えば、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、グリム（ＣＨ3ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ3））；ジエチレンオキシド、トリエチレンオキシド、及びテトラエチレンオキシドなどの式−ＣＨ2ＣＨ2Ｏn−の環状エーテル；環状アミン；環状エステル（ラクトン、例えばアセトラクトン、プロピオラクトン、ブチロラクトン、バレロラクトン、及びカプロラクトン）；Ｃ1〜Ｃ12アルデヒド（例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、又はブチルアルデヒド）；Ｃ1〜Ｃ12ケトン（例えば、アセトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、又はジブチルケトン）；Ｃ1〜Ｃ12カルボン酸（例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、又は酪酸）；アンモニア、Ｃ1〜Ｃ12アミン（例えば、メチルアミン、ジメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、ペンチルアミン、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ウンデシルアミン、又はドデシルアミン）；フッ化水素、塩化水素、Ｃ1〜Ｃ12エポキシド（例えば、エチレンオキシド又はプロピレンオキシド）；又はこれらの任意の２つ以上の組み合わせであってもよい。これに関連して、「液体」は、処理の温度、圧力、又は他の条件下での液体を意味する。
【０４５０】
第２のより詳しい実施形態の極性液体処理剤との表面の接触は、噴霧、ディッピング、フラッディング、浸漬、流し塗り、塗布器による転写、蒸気の凝縮、又は極性液体処理剤のその他の塗布などの任意の有用な方式で行うことができる。表面を第２のより詳しい実施形態の極性液体処理剤と接触させた後、表面は、例えば１秒〜３０分間放置されてもよい。
【０４５１】
第２のより詳しい実施形態のイオン化ガス処理では、イオン化ガスは、いくつかの例としては、空気；窒素；酸素；不活性ガス（例えば、アルゴン、ヘリウム、ネオン、キセノン、又はクリプトン）；又はこれらの任意の２つ以上の組み合わせであってもよい。イオン化ガスは、任意の適切な方法で運ばれてもよい。例えば、これはイオン化ブローオフガン又は他のイオン化ガス源から運ばれてもよい。都合のよいガス送出圧力は、１〜１２０ｐｓｉ（６〜８３０ｋＰａ）（ゲージ圧、又は任意選択的に絶対圧）、任意選択的に５０ｐｓｉ（３５０ｋＰａ）である。イオン化ガスの含水率は０〜１００％であってもよい。イオン化ガスで極性処理された接触表面は、例えば１〜３００秒間、任意選択的に１０秒間などの任意の適切な処理時間行うことができる。
【０４５２】
第２のより詳しい実施形態の調整プラズマ処理では、窒素含有ガス、不活性ガス、酸化ガス、又はこれらの２つ以上の組み合わせをプラズマ処理装置内で使用することができる。窒素含有ガスは、窒素、亜酸化窒素、二酸化窒素、四酸化二窒素、アンモニア、又はこれらの任意の２つ以上の組み合わせであってもよい。不活性ガスは、アルゴン、ヘリウム、ネオン、キセノン、クリプトン、又はこれらの任意の２つ以上の組み合わせであってもよい。酸化ガスは、酸素、オゾン、又はこれらの任意の２つ以上の組み合わせであってもよい。
【０４５３】
第２のより詳しい実施形態の変換プラズマ処理では、水；揮発性極性有機化合物；Ｃ1〜Ｃ12炭化水素及び酸素；Ｃ1〜Ｃ12炭化水素及び窒素；ケイ素含有ガス；又はこれらの２つ以上の組み合わせをプラズマ処理装置内で使用することができる。極性液体処理剤は、例えば本明細書中で述べた極性液体処理剤のいずれかであってもよい。Ｃ1〜Ｃ12炭化水素は、任意選択的にメタン、エタン、エチレン、アセチレン、ｎ−プロパン、ｉ−プロパン、プロペン、プロピン、ｎ−ブタン、ｉ−ブタン、ｔ−ブタン、ブタン、１−ブチン、２−ブチン、又はこれらの任意の２つ以上の組み合わせであってもよい。
【０４５４】
第２のより詳しい実施形態のケイ素含有ガスは、シラン、有機ケイ素前駆体、又はこれらの任意の２つ以上の組み合わせであってもよい。ケイ素含有ガスは、任意選択的に、Ｓｉ1〜Ｓｉ4の置換若しくは無置換のシラン（例えば、シラン、ジシラン、トリシラン、又はテトラシラン）；炭化水素若しくはハロゲンで置換されているＳｉ1〜Ｓｉ4シラン（例えば、テトラメチルシラン（ＴｅｔｒａＭＳ）、テトラエチルシラン、テトラプロピルシラン、テトラブチルシラン、トリメチルシラン（ＴｒｉＭＳ）、トリエチルシラン、トリプロピルシラン、トリブチルシラン、トリメトキシシラン）、ヘキサフルオロジシランなどのフッ化シラン、オクタメチルシクロテトラシラン若しくはテトラメチルシクロテトラシランなどの環状シラン、又はこれらの任意の２つ以上の組み合わせの任意の１つ以上を含むか、それから本質的になるか、又はそれからなる、非環状又は環状の置換又は無置換のシランであってもよい。ケイ素含有ガスは、直鎖シロキサン、単環式シロキサン、多環式シロキサン、ポリシルセキシオキサン、アルキルトリメトキシシラン、直鎖シラザン、単環式シラザン、多環式シラザン、ポリシルセスキアザン、又はこれらの任意の２つ以上の組み合わせであってもよい。ケイ素含有ガスは、テトラメチルジシラザン、ヘキサメチルジシラザン、オクタメチルトリシラザン、オクタメチルシクロテトラシラザン、テトラメチルシクロテトラシラザン、又はこれらの任意の２つ以上の組み合わせであってもよい。
【０４５５】
第２のより詳しい実施形態の調整プラズマによる処理、処理プラズマによる処理、又は両方は、プラズマチャンバー内で行うことができる。プラズマチャンバーは、２枚の金属プレート間に処理容積を有していてもよい。処理容積は、例えば１００ｍＬ〜５０リットル、例えば約１４リットルであってもよい。任意選択的に、処理容積は略円筒状であってもよい。
【０４５６】
第２のより詳しい実施形態のプラズマチャンバーは、処理チャンバーの少なくとも一部を取り囲む略円筒状の外部電極を有していてもよい。
【０４５７】
第２のより詳しい実施形態のプラズマチャンバーへのガスの供給のために、チューブ状のガス入口が処理容積内に突出していてもよく、これを通して供給ガスがプラズマチャンバー内に供給される。プラズマ反応チャンバーは、任意選択的に処理容積を少なくともある程度脱気するための真空源を含んでいてもよい。
【０４５８】
第２のより詳しい実施形態において、任意選択的に、調整プラズマ又は変換プラズマのための励起エネルギーは、１〜１０００Ｗ、任意選択的に１００〜９００Ｗ、任意選択的に５００〜７００Ｗ、任意選択的に１〜１００Ｗ、任意選択的に１〜３０Ｗ、任意選択的に１〜１０Ｗ、任意選択的に１〜５Ｗであってもよい。
【０４５９】
第２のより詳しい実施形態において、任意選択的に、プラズマチャンバーは、調整プラズマ又は変換プラズマによる処理にガスを供給する前に０．００１ミリトル（ｍＴｏｒｒ）〜１００Ｔｏｒｒの基準圧力まで減圧される。
【０４６０】
第２のより詳しい実施形態において、任意選択的に、ガスは、全てのガスについて１ｍＴｏｒｒ〜１０Ｔｏｒｒの全圧及び１〜３００ｓｃｃｍ、任意選択的に１〜１００ｓｃｃｍの供給量において調整プラズマ処理又は変換プラズマ処理のために供給される。
【０４６１】
第２のより詳しい実施形態において、任意選択的に、ガスは、１〜３００秒間、任意選択的に９０〜１８０秒間にわたり調整プラズマ処理又は変換プラズマ処理のために供給される。
【０４６２】
第２のより詳しい実施形態の処理後、例えば容器の内腔表面などの処理された接触表面は、水性タンパク質と接触することができる。好適なタンパク質のいくつかの非限定的な例は、例えばウシ血清アルブミン（ＢＳＡ）などの哺乳類血清アルブミン；フィブリノゲン（ＦＢＧ）；例えば血液セロトランスフェリン（又はシデロフィリン、別名トランスフェリン）などのトランスフェリン（ＴＦＮ）；ラクトトランスフェリン（ラクトフェリン）；ミルクトランスフェリン；卵白オボトランスフェリン（コンアルブミン）；及び膜結合メラノトランスフェリン；プロテインＡ（ＰｒＡ）；プロテインＧ（ＰｒＧ）；プロテインＡ／Ｇ；プロテインＬ；例えば六量体インスリン、単量体インスリン、ブタインスリン、ヒトインスリン、組み換えインスリン、及び医薬品グレードのインスリンなどのインスリン；医薬用タンパク質；血液又は血液成分のタンパク質；これらのタンパク質の任意の組み換え型、修飾型、全長前駆体、シグナルペプチド、プロペプチド、又は成熟変異体；又はこれらの２つ以上の組み合わせを含む水性タンパク質である。
【０４６３】
第２のより詳しい実施形態において、任意選択的に、処理された接触表面は、ウシ血清アルブミン（ＢＳＡ）などの哺乳類血清アルブミン；フィブリノゲン（ＦＢＧ）；例えば血液セロトランスフェリン（又はシデロフィリン、別名トランスフェリン）などのトランスフェリン（ＴＦＮ）；ラクトトランスフェリン（ラクトフェリン）；ミルクトランスフェリン；卵白オボトランスフェリン（コンアルブミン）；及び膜結合メラノトランスフェリン；プロテインＡ（ＰｒＡ）；プロテインＧ（ＰｒＧ）；プロテインＡ／Ｇ；プロテインＬ；例えば六量体インスリン、単量体インスリン、ブタインスリン、ヒトインスリン、組み換えインスリン、及び医薬品グレードのインスリンなどのインスリン；医薬用タンパク質；血液又は血液成分のタンパク質；これらのタンパク質の任意の組み換え型、修飾型、全長前駆体、シグナルペプチド、プロペプチド、又は成熟変異体の少なくとも１つに関しての未調整且つ未変換の表面のタンパク質回収率よりも大きいタンパク質回収率を有する。
【０４６４】
第２のより詳しい実施形態において、任意選択的に、処理された接触表面は、本明細書の手順後、Ｎｕｎｃ  Ａ／Ｓ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ，Ｄｅｎｍａｒｋから販売されているＮＵＮＣ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、６６，０００ダルトンの原子質量を有するウシ血清アルブミン（ＢＳＡ）について、未調整且つ未変換の表面のタンパク質回収率よりも大きい２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０４６５】
第２のより詳しい実施形態において、任意選択的に、処理された接触表面は、本明細書の手順後、ＮＵＮＣ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、ＢＳＡについて、７０％超、任意選択的に８０％超、任意選択的に９０％超、任意選択的に最大１００％の、２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０４６６】
第２のより詳しい実施形態において、任意選択的に、処理された接触表面は、本明細書の手順後、ＮＵＮＣ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、３４０，０００ダルトンの原子質量を有するフィブリノゲン（ＦＢＧ）について、未調整且つ未変換の表面のタンパク質回収率よりも大きい２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０４６７】
第２のより詳しい実施形態において、任意選択的に、処理された接触表面は、本明細書の手順後、ＮＵＮＣ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、ＦＢＧについて、２０％超、任意選択的に４０％超、任意選択的に６０％超、任意選択的に最大８０％、任意選択的に最大８４％の、２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０４６８】
第２のより詳しい実施形態において、任意選択的に、処理された接触表面は、本明細書の手順後、ＮＵＮＣ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、８０，０００ダルトンの原子質量を有するトランスフェリン（ＴＦＮ）について、未調整且つ未変換の表面のタンパク質回収率よりも大きい２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０４６９】
第２のより詳しい実施形態において、任意選択的に、処理された接触表面は、本明細書の手順後、ＮＵＮＣ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、ＴＦＮについて、６０％超、任意選択的に６５％超、任意選択的に６９％超、任意選択的に最大７０％の、２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０４７０】
第２のより詳しい実施形態において、任意選択的に、処理された接触表面は、本明細書の手順後、ＮＵＮＣ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、４５，０００ダルトンの原子質量を有するプロテインＡ（ＰｒＡ）について、未調整且つ未変換の表面のタンパク質回収率よりも大きい２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０４７１】
第２のより詳しい実施形態において、任意選択的に、処理された接触表面は、本明細書の手順後、ＮＵＮＣ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、ＰｒＡについて、９％超、任意選択的に２０％超、任意選択的に４０％超、任意選択的に６０％超、任意選択的に最大６７％の、２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０４７２】
第２のより詳しい実施形態において、任意選択的に、処理された接触表面は、本明細書の手順後、ＮＵＮＣ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、２０，０００ダルトンの原子質量を有するプロテインＧ（ＰｒＧ）について、未調整且つ未変換の表面のタンパク質回収率よりも大きい２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０４７３】
第２のより詳しい実施形態において、任意選択的に、処理された接触表面は、本明細書の手順後、ＮＵＮＣ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、ＰｒＧについて、１２％超、任意選択的に２０％超、任意選択的に４０％超、任意選択的に６０％超、任意選択的に８０％超、任意選択的に最大９０％の、２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０４７４】
第２のより詳しい実施形態において、任意選択的に、処理された接触表面は、本明細書の手順後、Ｅｐｐｅｎｄｏｒｆ  ＬｏＢｉｎｄ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、６６，０００ダルトンの原子質量を有するウシ血清アルブミン（ＢＳＡ）について、未調整且つ未変換の表面のタンパク質回収率よりも大きい２４時間時点のタンパク質回収率を有する。Ｅｐｐｅｎｄｏｒｆ  ＬｏＢｉｎｄ（登録商標）プレートは、Ｅｐｐｅｎｄｏｒｆ  ＬｏＢｉｎｄ  ＡＧ，Ｈａｍｂｕｒｇ，Ｇｅｒｍａｎｙから販売されている。
【０４７５】
第２のより詳しい実施形態において、任意選択的に、処理された接触表面は、本明細書の手順後、Ｅｐｐｅｎｄｏｒｆ  ＬｏＢｉｎｄ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、ＢＳＡについて、９５％超の２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０４７６】
第２のより詳しい実施形態において、任意選択的に、処理された接触表面は、本明細書の手順後、Ｅｐｐｅｎｄｏｒｆ  ＬｏＢｉｎｄ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、３４０，０００ダルトンの原子質量を有するフィブリノゲン（ＦＢＧ）について、未調整且つ未変換の表面のタンパク質回収率よりも大きい２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０４７７】
第２のより詳しい実施形態において、任意選択的に、処理された接触表面は、本明細書の手順後、Ｅｐｐｅｎｄｏｒｆ  ＬｏＢｉｎｄ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、ＦＢＧについて、７２％超の２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０４７８】
第２のより詳しい実施形態において、任意選択的に、処理された接触表面は、本明細書の手順後、Ｅｐｐｅｎｄｏｒｆ  ＬｏＢｉｎｄ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、８０，０００ダルトンの原子質量を有するトランスフェリン（ＴＦＮ）について、未調整且つ未変換の表面のタンパク質回収率よりも大きい２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０４７９】
第２のより詳しい実施形態において、任意選択的に、処理された接触表面は、本明細書の手順後、Ｅｐｐｅｎｄｏｒｆ  ＬｏＢｉｎｄ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、ＴＦＮについて、６９％超の２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０４８０】
第２のより詳しい実施形態において、任意選択的に、処理された接触表面は、本明細書の手順後、Ｅｐｐｅｎｄｏｒｆ  ＬｏＢｉｎｄ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、４５，０００ダルトンの原子質量を有するプロテインＡ（ＰｒＡ）について、未調整且つ未変換の表面のタンパク質回収率よりも大きい２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０４８１】
第２のより詳しい実施形態において、任意選択的に、処理された接触表面は、本明細書の手順後、Ｅｐｐｅｎｄｏｒｆ  ＬｏＢｉｎｄ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、２０，０００ダルトンの原子質量を有するプロテインＧ（ＰｒＧ）について、未調整且つ未変換の表面のタンパク質回収率よりも大きい２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０４８２】
第２のより詳しい実施形態において、任意選択的に、処理された接触表面は、本明細書の手順後、Ｅｐｐｅｎｄｏｒｆ  ＬｏＢｉｎｄ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、ＰｒＧについて、９６％超の２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０４８３】
第２のより詳しい実施形態において、任意選択的に、処理された接触表面は、本明細書の手順後、ＧＲＩＥＮＥＲ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、６６，０００ダルトンの原子質量を有するウシ血清アルブミン（ＢＳＡ）について、未調整且つ未変換の表面のタンパク質回収率よりも大きい２４時間時点のタンパク質回収率を有する。ＧＲＩＥＮＥＲ（登録商標）プレートは、オーストリアのＧｒｅｉｎｅｒ  Ｈｏｌｄｉｎｇ  ＡＧから販売されている。
【０４８４】
第２のより詳しい実施形態において、任意選択的に、処理された接触表面は、本明細書の手順後、ＧＲＩＥＮＥＲ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、ＢＳＡについて、６０％超、任意選択的に最大８６％の２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０４８５】
第２のより詳しい実施形態において、任意選択的に、処理された接触表面は、本明細書の手順後、ＧＲＩＥＮＥＲ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、３４０，０００ダルトンの原子質量を有するフィブリノゲン（ＦＢＧ）について、未調整且つ未変換の表面のタンパク質回収率よりも大きい２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０４８６】
第２のより詳しい実施形態において、任意選択的に、処理された接触表面は、本明細書の手順後、ＧＲＩＥＮＥＲ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、ＦＢＧについて、５０％超、任意選択的に最大６５％の、２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０４８７】
第２のより詳しい実施形態において、任意選択的に、処理された接触表面は、本明細書の手順後、ＧＲＩＥＮＥＲ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、８０，０００ダルトンの原子質量を有するトランスフェリン（ＴＦＮ）について、未調整且つ未変換の表面のタンパク質回収率よりも大きい２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０４８８】
第２のより詳しい実施形態において、任意選択的に、処理された接触表面は、本明細書の手順後、ＧＲＩＥＮＥＲ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、ＴＦＮについて、５０％超、任意選択的に最大６０％の２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０４８９】
第２のより詳しい実施形態において、任意選択的に、処理された接触表面は、本明細書の手順後、ＧＲＩＥＮＥＲ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、４５，０００ダルトンの原子質量を有するプロテインＡ（ＰｒＡ）について、未調整且つ未変換の表面のタンパク質回収率よりも大きい２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０４９０】
第２のより詳しい実施形態において、任意選択的に、処理された接触表面は、本明細書の手順後、ＧＲＩＥＮＥＲ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、ＰｒＡについて、２５％超、任意選択的に最大５６％の、２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０４９１】
第２のより詳しい実施形態において、任意選択的に、処理された接触表面は、本明細書の手順後、ＧＲＩＥＮＥＲ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、２０，０００ダルトンの原子質量を有するプロテインＧ（ＰｒＧ）について、未調整且つ未変換の表面のタンパク質回収率よりも大きい２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０４９２】
第２のより詳しい実施形態において、任意選択的に、処理された接触表面は、本明細書の手順後、ＧＲＩＥＮＥＲ（登録商標）９６ウェル丸底プレート上で、ＰｒＧについて、６０％超、任意選択的に最大７５％の２４時間時点のタンパク質回収率を有する。
【０４９３】
実施例２１
以降は第２のより詳しい実施形態の方法の詳述及び実施例である。
【０４９４】
第２のより詳しい実施形態の方法は、ＮＵＮＣ（登録商標）によって製造された９６ウェルのポリプロピレンマイクロプレートに対して行った。
【０４９５】
第２のより詳しい実施形態の以下の工程を部品に対して行った。
【０４９６】
受け取った状態のままのプレートに、第２のより詳しい実施形態に従って、本明細書では極性液体処理剤と呼ぶ水道水（任意の極性溶媒と同様、脱イオン水又は他の水も使用できる）を噴霧することによって接触させ、１分３０秒間そのまま置くことで、極性処理された接触表面を得た。
【０４９７】
その後、第２のより詳しい実施形態に従ってイオン化空気を部品に吹き付けた。これを本明細書では、極性処理された接触表面の５０ｐｓｉの圧力のイオン化ガスとの接触という。任意選択的に、空気の代わりに又は空気に加えて、ガス（窒素、アルゴン、又は他の任意の圧縮ガス）を使用することもできる。ガス（部品への吹き付けに使用される）の含水率は０〜１００％であってもよい。１〜３００秒の時間を使用することができるものの、部品は約１０秒間吹き付けられた。
【０４９８】
その後、部品を第２のより詳しい実施形態の以下の工程のためのキャリアの上に載せた。載せる前又は載せた後に１〜３００秒（合計で１〜６００秒）の保持時間を採用することができる。
【０４９９】
その後、第２のより詳しい実施形態に従ってイオン化された加圧ガスで処理された接触表面を調整プラズマで処理するために部品をプラズマチャンバー内に入れた。この理論の範囲又は正確さにより本発明を限定するものではないが、第２のより詳しい実施形態の調整プラズマが、マイクロプレートの表面から非高分子性の添加剤を取り除き及び／又は親水性のナノテクスチャー加工された表面（別名頂部と凹部のナノ構造）を形成し、これにより表面の官能化が行い易くなるという理論を立てることができる。この理論によれば、ナノ構造は、あらゆる疎水性の窪みに比較的大きいタンパク質が接近することを立体的に防ぐ一方、「頂部」の親水化を促進するであろう。更にこの理論によれば、生成するラジカルの相対的な安定性を考慮すると、プラズマによる調整（別名活性化）は、調整工程時にヒドロキシル（ラジカル）官能基又はメチル／メチレンラジカルよりもアミン（ラジカル）官能基を利用して行う方がよいであろう（アミンラジカルは、例えばヒドロキシルラジカルよりも安定であり、メチルラジカルよりも簡単に形成される）。これは、処理工程時に更に作られるか修飾される「ハンドル」又は連結点となることができる。
【０５００】
本実施例で使用された第２のより詳しい実施形態の例示的なプラズマ処理チャンバーは、図１０に示される構成を有していた（任意選択的なチャンバーも使用することができる  −  以下を参照されたい）。
【０５０１】
第２のより詳しい実施形態の図１０を参照すると、アルミニウムの底部１１２とアルミニウムの蓋１１４（これは使用時に閉じられるが、図１０では出し入れ時のような開いた状態で示されている）を有する円筒状のセラミックチャンバー１１０が示されている。チャンバー１１０は、直径約１２インチ（３０ｃｍ）であり、深さ８インチ（２０ｃｍ）である。バルブ２０によって制御される、真空ポンプ１１８へ真空管１１６を供給するチャンバーのポンピングポートは、底部（アルミニウム底部１１２）にあり、これは直径約４インチ（１０ｃｍ）であり、１／２インチ（１２ｍｍ）の直径のガス入口１２２は処理領域１２４内へポンピングポートを通って同心円状に突出していた。ポンピングポート全体にプラズマスクリーン（図示せず）が取り付けられ、これは銅スクリーンとスチールウールから構成された。ガスはチャンバー１０の下のガス系１２６を通ってガス入口１２２へ供給された。圧縮ガス（例えば、供給源１３０から）及び３６インチ（９０ｃｍ）の長さのキャピラリー１３２（０．００６インチ（０．１５ｍｍ）内部ＩＤ）のために１２８などのマスフローコントローラーが使用され、閉止弁１３６を経由してマニホールド１３４内へ供給される水の供給量が制御された。セラミックチャンバー１１０は、外側を同心円状に包む銅電極１３８を有していた。これは約７インチ（１８ｃｍ）の高さであった。電極１３８は、最適な電力結合（低反射出力）のためにマッチングされるＣＯＭＤＥＬ（登録商標）１０００−ワットＲＦ（１３．５６ＭＨｚ）電源４２の５０オームの出力を可能にするＣＯＭＤＥＬ（登録商標）マッチング回路１４０と接続された。ＣＯＭＤＥＬ（登録商標）装置は、Ｃｏｍｄｅｌ，Ｉｎｃ．，Ｇｌｏｕｃｅｓｔｅｒ，Ｍａｓｓａｃｈｕｓｅｔｔｓ，ＵＳＡから販売されている。電源１４２は、標準同軸ケーブル１４４を介してＣＯＭＤＥＬ（登録商標）マッチングネットワーク４０と連結された。プロセス圧力を測定するために、２つのキャパシタンスマノメータ（０〜１Ｔｏｒｒ及び０〜１００Ｔｏｒｒ）（図示せず）が真空管１１６（別名ポンプライン）に取り付けられた。
【０５０２】
第２のより詳しい実施形態の方法は、大気プラズマ又はジェットを使用することによるなど、多様なプラズマ処理チャンバー内で行うことができる。部品は、１〜１０００個の部品のバッチ（上述の通り）で処理されてもよく、又はロードロックを用いた半連続運転で処理されてもよい。大気中での処理の場合、チャンバーは必要とされないであろう。任意選択的に米国特許第７，９８５，１８８号の図２及び添付の明細書に記載のように１つの部品を処理してもよい。
【０５０３】
イオン化された加圧ガスで処理された接触表面を第２のより詳しい実施形態の調整プラズマで処理するために装填した後、チャンバー内部の圧力は５０ｍＴｏｒｒまで減圧された。１０-6Ｔｏｒｒまでの又は１００Ｔｏｒｒの高い基本圧力も許容可能である。基本圧力に到達した後、３０ｓｃｃｍ（標準立方センチメートル毎分）で窒素ガス（純度９９．９％、９９．９９９％の高純度又は９５％の低純度も使用することができる）がチャンバーに入れられ、４０ｍＴｏｒｒ（１ｍＴｏｒｒの低い圧力又は１０Ｔｏｒｒの高い圧力も使用することができる）の処理圧力に到達した。その後、１３．５６ＭＨｚの周波数で９０〜１８０秒間、６００ワットを使用してプラズマを生じさせたが、１〜３００秒の処理時間でも良好に作用するであろう。１Ｈｚ〜１０ＧＨｚの周波数も可能である。処理時間が完了した後、プラズマを停止させ、ガスを抜いて（これは必須ではないが）基本圧力に戻した。第２のより詳しい実施形態のこの調整プラズマ処理により、マイクロプレート上に調整された接触処理表面が生じた。
【０５０４】
次に、調整された接触表面は、同じ装置中で第２のより詳しい実施形態の変換プラズマを用いて処理されたが、代わりに他の装置を使用することもできる。
【０５０５】
この理論の範囲又は正確さにより本発明を限定するものではないが、第２のより詳しい実施形態の作用の１つのメカニズムとして、変換プラズマが、調整プラズマ処理により生じた親水化された部位又は「ハンドル」の更なる官能化（親水性の「エクステンダー」）を与えると理論付けすることができる。この理論によれば、この延長機能は、（１）ポリエチレンオキシドの縮合（ＰＥＧ化）法又は（２）表面「ハンドル」（調整プラズマ処理由来の官能基）及び／又は親水性エクステンダー種のプラズマ活性化によるベタイン／双性イオン（内部イオン対）法に行うことによって得ることができる。この理論によれば、本明細書における「エクステンダー」とは、変換プラズマの成分である。この理論によれば、処理された接触表面上により多い親水性種を形成するための表面「ハンドル」及び「エクステンダー」種の再結合により、親水性の立体的に安定化された表面が与られ、水の立体的な反発（ｈｙｄｒｏｓｔｅｒｉｃ  ｒｅｐｕｌｓｉｏｎ）によりタンパク質の表面への結合の抑制がもたらされる。この理論によれば、処理された接触表面上にベタイン種又はスルホベタイン種を生じさせるために、環状エステル（ラクトン）又は環状スルホエステル（サルトン）を利用することができる。
【０５０６】
変換プラズマは、第２のより詳しい実施形態に従って以下の通り照射される。チャンバーを脱気し（又は脱気された状態のままにし）、約３０ｓｃｃｍの流れで０．００６インチ（０．１５ｍｍ）の直径のキャピラリー（長さ３６インチ（９１ｃｍ））からチャンバー内へ水蒸気を流し入れることで、２６〜７０ｍＴｏｒｒ（ミリトル）の処理圧力を得た。水蒸気の流れは１〜１００ｓｃｃｍの範囲であってもよく、１ｍＴｏｒｒ〜１００Ｔｏｒｒの圧力も可能である。その後、６００ワットでプラズマを生じさせ、９０〜１８０秒間持続させたが、１〜３００秒の処理時間でも良好に作用するであろう。その後、プラズマを停止し、真空ポンプのバルブを閉め、次いでチャンバーを通気して大気に戻した。その結果、処理された接触表面が形成された。チャンバーを通気するために室内空気を使用したが、窒素を使用することもできるであろう。任意選択的に、水蒸気又は他の極性溶媒を含む材料を使用することもできるであろう。
【０５０７】
第２のより詳しい実施形態のチャンバーを通気させた後、蓋を外してキャリアを取り出した。次いで部品を取り出した。この時点で部品はそのままの状態で直ちに使用でき、又はこれらは保管又は輸送のためにプラスチック製の袋、アルミニウム箔、又は他の包装内に包装されてもよい。
【０５０８】
得られた表面（第２のより詳しい実施形態の上述の処理により）はタンパク質の付着の大幅な低減を示した。結果は表２１〜２４に示されている。
【０５０９】
様々な他の物品を処理するために、第２のより詳しい実施形態の同様なプロセスを使用することができる。これらには、例えば、マイクロプレート、遠沈管、ピペットチップ、ウェルプレート、マイクロウェルプレート、ＥＬＩＳＡプレート、マイクロタイタープレート、例示した９６ウェルプレート、３８４ウェルプレートの接触表面などの実験器具；例えばバイアル、瓶、広口瓶、シリンジ、カートリッジ、ブリスター包装、アンプル、真空採血管、試料管、遠沈管、クロマトグラフィーバイアルなどの容器；又はカテーテル、ステント、心臓弁、導線、ペースメーカー、インスリンポンプ、外科用品、人工心肺、コンタクトレンズ等など、タンパク質を含む血液及び他の液体若しくは医薬品と接触することになる表面を有する医療器具などが含まれる。
【０５１０】
第２のより詳しい実施形態の任意選択的なプロセス
上述の通り水を部品に塗布してもよく（第２のより詳しい実施形態のミスト又は高湿キャビネットにより）、その後、
・第２のより詳しい実施形態の上で記載した通りの、イオン化空気の部品／製品への吹き付け、その後、
・窒素を含むプラズマ（イオン化ガス）を利用する減圧での第２のより詳しい実施形態の前処理、その後、以下の１つの最終処理：
ｉ．メタン及び空気
ｉｉ．メタン及び窒素
ｉｉｉ．メタン及び水
ｉｖ．上の任意の組み合わせ
ｖ．任意の他の炭化水素ガス
ｖｉ．シラン及び窒素
ｖｉｉ．シラン及び水
ｖｉｉｉ．シランの代わりに任意の有機ケイ素
が行われる。
【０５１１】
【表２２】
2018537556.tif 000024
【０５１２】
【表２３】
2018537556.tif 000025
【０５１３】
【表２４】
2018537556.tif 000026
【０５１４】
【表２５】
2018537556.tif 000027
【０５１５】
第２のより詳しい実施形態の表に対する注釈：
処理  −  これは、プレートが本明細書に記載の第２のより詳しい実施形態の方法により処理されたかどうかを示す（ｎｓ３，Ｎ  −  窒素プラズマのみ（イオン化された加圧ガスで処理された接触表面の調整プラズマによる処理）、Ｈ  −  水プラズマのみ（水、揮発性極性有機化合物、Ｃ1〜Ｃ12炭化水素及び酸素、炭化水素及び窒素、ケイ素含有ガス、又はこれらの２つ以上の組み合わせを含む変換プラズマでの調整された接触表面の処理による処理された接触表面の形成）、１／＋／Ｈ  −  イオン化された窒素プラズマと水プラズマ、すなわち極性処理された接触表面とイオン化ガスとの接触；イオン化された加圧ガスで処理された接触表面の調整プラズマでの処理による調整された接触表面の形成：及び調整された接触表面の変換プラズマでの処理）、Ｕ／Ｃ  −  未被覆又は処理済み、これらは受け取ったままの状態のプレートであった、Ｌｉｐｉｄｕｒｅ  −  これは市販の液体の塗布され且つ硬化された化学品である。
【０５１６】
プレート  −  ＮＵＮＣ（登録商標）  −  Ｅｐｐは、プラスチックメーカーであるＥｐｐｅｎｄｏｒｆ  ＬｏＢｉｎｄ（登録商標）の略称である。
【０５１７】
噴霧  −  第２のより詳しい実施形態のコーティング前に、プレートに水を「霧状にして吹き付けた」又は噴霧したことを示す。これは、水、揮発性の極性有機化合物、又はこれらの任意の２つ以上の組み合わせを含む極性液体処理剤に表面を接触させて極性処理された接触表面を形成することの例である。
【０５１８】
Ｗ／Ｄは、第２のより詳しい実施形態のいずれかの場合において、プレートが噴霧されてから直ちにイオン化空気を吹き付けられた（Ｗ）か否か、又はこれらが１〜２０分おいてからイオン化空気を吹き付けられたか（Ｄ）か否か（極性処理された接触表面のイオン化ガスとの接触）を示す。
・Ｎ−時間＝秒単位での窒素ガス処理時間
・Ｈ−時間＝秒単位での水ガス処理時間
・出力  −  標準はＲＦ電源にかけられる６００ワットであり、５０％は３００ワットであった。
・ＢＳＡ、ＦＢＧ、ＰｒＡ、ＰｒＧ、ＴＦＮは全て試験で使用したタンパク質であった。
【０５１９】
第２のより詳しい実施形態のヒドロキシル含有率についての試験
例えば９６ウェルマイクロプレートのウェル表面など、各記載したプロセスによって製造された処理された接触表面を、未調整且つ未変換の表面と比較したＸＰＳ、ＳＩＭＳ、及び水との接触角によって分析し、本発明の処理により生じる相違を決定する。以下の結果が考慮される。
【０５２０】
第２のより詳しい実施形態のＸＰＳ分析
第２のより詳しい実施形態の処理された接触表面の原子組成を特徴付けるために、「本発明で予定されている極性液体、イオン化ガス、調整プラズマ、又は変換プラズマによる処理のいずれか又は全ての前」対「第２のより詳しい実施形態の変換プラズマ処理後」のＸ線光電子分光（ＸＰＳ）が使用される。
【０５２１】
本発明の処理は、基本構造を被覆する又はバルク材料を修飾するのではなく、表面で基本構造を修飾すると考えられることから、第２のより詳しい実施形態のＸＰＳデータは、相対感度要素、及び表面が表面の直下のバルク材料と異なる組成を有すると仮定したモデルを使用して定量化される。分析体積は分析面積（スポット径又は開口サイズ）と情報の深さの積である。光電子はＸ線侵入深さ（典型的には数ミクロン）の範囲内で生じるが、上面の脱出深さ又は深さの範囲内の光電子のみが検出される。
【０５２２】
第１のより詳しい実施形態及び第２のより詳しい実施形態のＸＰＳ装置は、Ｐｈｙｓｉｃａｌ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ，Ｉｎｃ．，Ｅｄｅｎ  Ｐｒａｉｒｉｅ，Ｍｉｎｎｅｓｏｔａ，ＵＳＡから販売されているＰＨＩTMＱｕａｎｔｕｍ  ２０００  ＸＰＳシステムである。ＰＨＩTMＸＰＳは、Ｘ線源としてＭｏｎｏｃｈｒｏｍａｔｅｄ  Ａｌｋａ  １４８６．６ｅＶ  Ｘ線エネルギーを使用する。示されている値は、検出された元素を使用して１００％に正規化した。検出限界は約０．０５〜０．１原子パーセントであった。
【０５２３】
ＸＰＳは水素を測定又は検出しないが、酸素、ケイ素、窒素、及び炭素を検出及び測定する。結果として、表面のヒドロキシル濃度の増加を調べるためにＸＰＳを使用する場合、調べられるアーティファクトは、未調整且つ未変換の表面の酸素レベル及び／又は処理された接触表面の下の酸素レベルと比較した物品の表面での酸素の増加である。
【０５２４】
第２のより詳しい実施形態のＸＰＳ分析は、本発明の極性液体処理剤、イオン化ガス、調整プラズマ、及び／又は変換プラズマの処理工程のいずれかを使用する処理、又はこれらの処理の累積的な結果が、処理された接触表面で酸素濃度の増加を生じさせるか否かを決定するために使用される。変換プラズマ処理の結果として、処理された接触表面で検出される酸素のレベルは、処理された表面の下の酸素レベルよりも大きく、また極性液体、イオン化ガス、調整プラズマ、又は変換プラズマによるいずれかの処理前の対応する表面で検出される酸素のレベルよりも大きいと見込まれる。
【０５２５】
ＳＩＭＳ分析
第２のより詳しい実施形態の本発明の処理された及び未調整且つ未変換のサンプルの二次イオン質量分析（ＳＩＭＳ）が計画される。ＳＩＭＳは、固体表面及び薄膜の組成を分析するために使用される。ＳＩＭＳでは、処理された及び未調整且つ未変換の表面は、集束イオンビームを向けることによって処理され、これは各表面に対して様々な組成を有していてもよく、これは表面材料から二次イオンを放出させる。１〜２ｎｍ（ナノメートル）の深さまでの表面の化学組成を決定するために、二次イオンの質量／電荷比がマススペクトロメーターにより測定される。酸素及びヒドロキシル基を求めていることから、イオンビームは検出の妨げとなる酸素ビームではないと考えられる。イオンビームは、例えばセシウムイオンビームであってもよく、これは容易に未調整且つ未変換の及び処理された接触表面並びにバルクサンプルの全ての成分から区別することができる。第２のより詳しい実施形態のＳＩＭＳ分析の結果は、未処理且つ未変換の表面に対して、処理された接触表面から検出される酸素、ヒドロキシル、及び酸素含有部位の合計を増加させると考えられる。
【０５２６】
接触角分析
本発明の処理の効果を決定するために、第２のより詳しい実施形態の、未調整且つ未変換の表面に対する処理された接触表面についての接触角分析を行うことができる。
【０５２７】
第２のより詳しい実施形態の接触角試験のための分析装置は、協和界面科学株式会社（東京、日本）製の接触角計ＤＭ−７０１型である。接触角を得るために、各試験片から得た小片の内表面上に５つの水滴を載せる。試験条件及びパラメータは下にまとめられている。各試験片について、最も代表的な小片を試験のために選択する。全ての試料について、１μＬ（１マイクロリットル）の液径を使用する。試験片の湾曲のため、曲率補正ルーチンを使用して接触角を正確に測定する。
【０５２８】
第２のより詳しい実施形態の接触角試験条件及びパラメータ
・試験装置  −  ＤＭ−７０１接触角計
・液体ディスペンサー  −  ２２ゲージステンレス鋼針
・液径  −  μＬ（１マイクロリットル）
・試験液  −  蒸留水
・環境  −  大気中の空気、室温（約２５℃）
【０５２９】
第２のより詳しい実施形態の結果
本明細書で述べた第２のより詳しい実施形態のＣＯＰプラスＳｉＯxＣyＨzｐＨ保護コーティングから作製した試験片が、全ての試験した試験片で最も大きい平均接触角を有している。ＣＯＰプラスｐＨ保護コーティングから作製した試験片についての平均接触角は９９．１°（度）である。未被覆のＣＯＰ試験片についての平均接触角は９０．５°である。ガラス試験片は１０．６°の著しく低い平均接触角を有している。このデータは、ｐＨ保護コーティングが未被覆のＣＯＰ容器の接触角を増加させることを示す。表面安定化層又はｐＨ保護コーティングを有さないＳｉＯxでコーティングされている容器はガラスと同様の結果を示すと見込まれ、これは表面安定化層又はｐＨ保護コーティングと比較した親水性コーティングの関係を示す。
【０５３０】
第２のより詳しい実施形態の本発明の変換プラズマ処理は、直接ＣＯＰ基材に行われるかＳｉＯxＣyＨz（ｐＨ保護コーティング又は層）表面に行われるかに関わらず、基材の接触角を大幅に小さくすると期待される。任意選択的な他の処理と共に、表面上への本発明の変換プラズマ処理を使用することで、０°〜９０°、任意選択的に２０°〜８０°、任意選択的に４０°〜８０°、任意選択的に５０°〜７０°、任意選択的に５５°〜６５°、任意選択的に５°〜９０°、任意選択的に１０°〜７０°、任意選択的に１０°〜４０°の接触角が達成可能であると見込まれる。
【０５３１】
実施例２２  −  第２のより詳しい実施形態のｐＨ保護コーティング又は層を有するバイアル
環状オレフィンコポリマー（ＣＯＣ）樹脂を射出成形して、５ｍｌのＣＯＣバイアルのバッチを形成する。環状オレフィンポリマー（ＣＯＰ）樹脂を射出成形して、５ｍｌのＣＯＰバイアルのバッチを形成する。製造したＣＯＣ及びＣＯＰのバイアルに対して、ＸＰＳ、ＳＩＭＳ、及び接触角試験を行う。これらのバイアルは、以下でサンプル１バイアルと呼ばれる。
【０５３２】
それぞれＣＯＣ及びＣＯＰのバイアルのサンプルを、この実施例で述べられている第２のより詳しい実施形態の同じプロセスによってコーティングする。ＣＯＣ及びＣＯＰのバイアルは、プラズマ促進化学蒸着（ＰＥＣＶＤ）によって２層のコーティングで被覆される。第１の層は、酸素及び溶質のバリア特性を有するＳｉＯxからなり、第２の層はＳｉＯxＣyＨzｐＨ保護コーティング又は層である。（任意選択的に、非プラズマＣＶＤ（化学蒸着）、物理蒸着（蒸気がその化学組成を変えずに表面上に凝縮される）、スパッタリング、大気圧堆積など、ＰＥＣＶＤ（プラズマ促進化学蒸着）以外の他の堆積方法も使用できるが、限定されない）。
【０５３３】
第２のより詳しい実施形態のＳｉＯxＣyＨzｐＨ保護コーティング又は層を形成するために、ＯＭＣＴＳ、アルゴン、及び酸素を含む前駆体ガス混合物を各バイアル内へ導入する。バイアル内部のガスは、ラジオ波（１３．５６ＭＨｚ）電源によって容量結合電極間で励起される。これらのＣＯＣバイアルの準備及び対応するこれらのＣＯＰバイアルの準備は、米国特許出願公開第２０１５−００２１３３９Ａ１号明細書の実施例ＤＤ及び関連する開示に詳細に記載されている。ＣＯＣ及びＣＯＰのバイアルの得られたＳｉＯxＣyＨzｐＨ保護コーティング又は層表面に対して、ＸＰＳ、ＳＩＭＳ、及び接触角試験を行う。これらのバイアルは、以下でサンプル２バイアルと呼ばれる。
【０５３４】
ＣＯＣ及びＣＯＰのバイアルの内部を、その後、唯一の供給ガスとしての窒素ガスを使用して第２のより詳しい実施形態の調整プラズマで更に処理し、その後、唯一の供給ガスとしての水蒸気を使用して第２のより詳しい実施形態の変換プラズマで処理することで（共に本明細書に記載の通り）、処理された内部表面を有するバイアルを得る。ＣＯＣ及びＣＯＰのバイアルの得られた処理された内部表面に対して、ＸＰＳ、ＳＩＭＳ、及び接触角試験を行う。これらのバイアルは、以下でサンプル３バイアルと呼ばれる。
【０５３５】
ＳｉＯx又はＳｉＯxＣyＨzコーティングなしのサンプル１バイアルと同じバイアルも、唯一の供給ガスとしての窒素ガスを使用して第２のより詳しい実施形態の調整プラズマで直接処理し、その後、唯一の供給ガスとしての水蒸気を使用して第２のより詳しい実施形態の変換プラズマで処理することで（共に本明細書に記載の通り）、処理された内部表面を有するバイアルを得る。これらのバイアルは、以下でサンプル４バイアルと呼ばれる。
【０５３６】
第２のより詳しい実施形態のそれぞれのバイアル及び予想される試験結果は、第２のより詳しい実施形態の表２３中にまとめられている。第２のより詳しい実施形態の表１６において、「＝」は同じ基材（ＣＯＣ又はＣＯＰ）のサンプル１と同じであること意味し、「＜」は同じ基材のサンプル１より小さいことを意味し、「＞」は同じ基材のサンプル１より大きいことを意味する。
【０５３７】
第１のより詳しい実施形態の実施例２３
この実験では、処理された表面の特性を決定するために、特にポリマーへグラフトされた部位の導入を定性的に及び定量的に示すために、６つのタイプの９６ウェルマイクロプレートに対してプラズマ処理した後、Ｘ線光電子分光（ＸＰＳ）分析を行った。
【０５３８】
６つのタイプの９６ウェルマイクロプレートは、未処理のポリプロピレンＰｏｒｖａｉｒマイクロプレートと、第１のより詳しい実施形態に従って下のプラズマ処理１〜５の方法の１つで処理されたマイクロプレートとである。詳細なプラズマ処理手順は下に示されており、変数は表２５に示されている。
【０５３９】
プラズマ処理１（すなわちＯ２及び水の２段階処理）：
真空チャンバーの内部にある固定具にマイクロプレートを取り付けた後、真空チャンバーの蓋を閉じた。真空を作動させ、チャンバー内部から大気ガスを除去する一方、チャンバーを密閉した。大気ガスを排出して酸素ガスの侵入を生じさせるためにプラズマの活性化は３０秒遅らせた。チャンバーの圧力はこの３０秒間安定化させた。酸素プラズマを真空チャンバー内で活性化させた。３００秒後に酸素プラズマを失活させた。チャンバーの真空を開放し、蓋を開けた。チャンバーの内部にある固定具からマイクロプレートを取り外した。
【０５４０】
３０秒後、酸素をチャンバーから排気し、１０ｓｃｃｍの流量で水蒸気をチャンバー内に導入した。水プラズマをチャンバー内で活性化させた。１８０秒後に水プラズマを失活させた。チャンバーの真空を開放した。チャンバーの蓋を開けた。チャンバーの内部にある固定具からマイクロプレートを取り外した。
【０５４１】
プラズマ処理２（すなわち１段階でのＯ２／水混合物処理）：
真空チャンバーの内部にある固定具にマイクロプレートを取り付けた後、真空チャンバーの蓋を閉じた。その後、チャンバー内部から大気ガスを除去した一方、チャンバーを密閉した後に真空を作動させた。大気ガスを排出して酸素ガス及び水蒸気の侵入を生じさせるためにプラズマの活性化は３０秒遅らせた。酸素は９５ｓｃｃｍの速度で流した。水蒸気は１０ｓｃｃｍの速度で流した。チャンバーの圧力はこの３０秒間安定化させた。その後、酸素−水プラズマを真空チャンバー内で活性化させた。３００秒後に酸素−水プラズマを失活させた。処理が完了した後、チャンバーの真空を開放し、チャンバーの蓋を開けた。チャンバーの内部にある固定具からマイクロプレートを取り外す。
【０５４２】
プラズマ処理３（すなわちＯ２処理のみ）：
真空チャンバーの内部にある固定具にマイクロプレートを取り付けた後、真空チャンバーの蓋を閉じた。チャンバーを密閉してチャンバー内部から大気ガスを除去した後に真空を作動させた。大気ガスを排出して酸素ガスの侵入を生じさせるためにプラズマの活性化は３０秒遅らせた。酸素は９５ｓｃｃｍの速度で流した。チャンバーの圧力はこの３０秒間安定化させた。酸素プラズマを真空チャンバー内で活性化させた。３００秒後に酸素プラズマを失活させた。処理が完了した後、チャンバーの真空を開放し、チャンバーの蓋を開けた。チャンバーの内部にある固定具からマイクロプレートを取り外した。
【０５４３】
プラズマ処理４（すなわち水処理のみ）：
真空チャンバーの内部にある固定具にマイクロプレートを取り付けた後、真空チャンバーの蓋を閉じた。チャンバー内部から大気ガスを除去した一方、チャンバーを密閉した後に真空を作動させた。大気ガスを排出して水蒸気の侵入を生じさせるためにプラズマの活性化は３０秒遅らせた。水蒸気は１０ｓｃｃｍの速度で流した。チャンバーの圧力はこの３０秒間安定化させた。水プラズマをチャンバー内で活性化させた。１８０秒後に水プラズマを失活させた。処理が完了した後、チャンバーの真空を開放し、チャンバーの蓋を開けた。チャンバーの内部にある固定具からマイクロプレートを取り外す。
【０５４４】
プラズマ処理５（すなわち空気処理のみ）：
真空チャンバーの内部にある固定具にマイクロプレートを取り付けた後、真空チャンバーの蓋を閉じた。チャンバー内部から大気ガスを除去した一方、チャンバーを密閉した後に真空を作動させた。未調節の大気ガスを排出して調節した大気ガスを侵入させるためにプラズマの活性化は３０秒遅らせた。大気ガスは１００ｓｃｃｍの速度で流した。チャンバーの圧力はこの３０秒間安定化させた。大気プラズマを真空チャンバー内で活性化させた。３００秒後に大気プラズマを失活させた。処理が完了した後、チャンバーの真空を開放し、チャンバーの蓋を開けた。チャンバーの内部にある固定具からマイクロプレートを取り外した。
【０５４５】
【表２６】
2018537556.tif 000028
【０５４６】
実施例１８に記載されているものと同じ方法でＸＰＳを行った。６つのタイプのマイクロプレートについてのＸＰＳの結果は表２６及び表２７に示されている。表２６は、Ｏ、Ｎ等などのグラフト化された原子の原子パーセントを示す。表２７は、全て水素結合受容性基であるＣ−Ｏ、Ｃ＝Ｏ、及びＯ−Ｃ＝Ｏなどの特定の炭素含有種に帰属される表２６中で報告されているグラフト化されている炭素の原子パーセント、並びにポリプロピレンの形態で残っている炭素から本質的になる炭素−炭素又は水素−炭素結合（「Ｃ−（Ｃ，Ｈ）」）に含まれる表２６中で報告されている炭素の原子パーセントを示す。表２７中の全ての炭素含有種の合計は、少なくともいくつかの場合には標準的な実験誤差のために表２６中に報告されている炭素の原子パーセントからわずかに変動する。
【０５４７】
【表２７】
2018537556.tif 000029
【０５４８】
【表２８】
2018537556.tif 000030
【０５４９】
タンパク質結合特性と表面の特徴との関係を決定するために、６つのタイプのマイクロプレートに対してタンパク質回収率の試験も行った。試験手順は「全ての実施形態の試験」に記載されている。表面に２４時間接触させた後の、１．５ｎＭの５つのタンパク質（すなわちＢＳＡ、ＦＢＧ、ＰｒＡ、ＰｒＧ、及びＴＦＮ）についての６つのタイプのマイクロプレートの回収率は、表２８に示されている。結果は、水素結合受容性基であるグラフト化されたＯ原子及び「Ｃ−Ｏ」、「Ｃ＝Ｏ」、及び「Ｏ−Ｃ＝Ｏ」種を組み込むと、タンパク質の結合が低下する（すなわちタンパク質回収が増える）ことを示す。例えば、プラズマ処理１は、最も多い量のグラフト化されたＯ原子を導入し、これにより処理された表面は最も高いタンパク質回収率を有する。
【０５５０】
【表２９】
2018537556.tif 000031
【０５５１】
実施例２４  −  バリア及びｐＨ保護コーティング
この実験では、処理された表面の特性を決定するために、３つのタイプの９６ウェルマイクロプレートに対してＸ線光電子分光（ＸＰＳ）分析を行った。３つのタイプのマイクロプレートは、未処理のポリプロピレン（ＵＴＰＰ）Ｐｏｒｖａｉｒマイクロプレート、液体接触表面としてバリアコーティングを有するマイクロプレート、液体接触表面としてｐＨ保護コーティングを有するマイクロプレートである。バリアコーティング及びｐＨ保護コーティングの塗布方法は本明細書に記載されている。実施例１４に記載されているものと同じ方法でＸＰＳを行った。３つのタイプのマイクロプレートについてのＸＰＳの結果は表２９に示されている。表２９は、表面のＣ、Ｎ、Ｏ、及びＳｉの原子パーセントを示す。
【０５５２】
【表３０】
2018537556.tif 000032
【０５５３】
３つのタイプのマイクロプレートのタンパク質回収率についても試験した。試験手順は「全ての実施形態の試験」に記載されている。表面に２４時間接触させた後の、１．５ｎＭの５つのタンパク質（すなわちＢＳＡ、ＦＢＧ、ＰｒＡ、ＰｒＧ、及びＴＦＮ）についての３つのタイプのマイクロプレートの回収率は、表３０に示されている。結果は、バリアコーティングされた表面は、未処理のポリプロピレン表面と比べてタンパク質の結合を減らすことを示す。
【０５５４】
【表３１】
2018537556.tif 000033
【０５５５】
仮想例２５
更に、ガス前駆体を使用してタンパク質の結合に対する抵抗力を与える他の想定されるＰＥＣＶＤコーティングされた接触表面は、シロキサン、オルガノシロキサン、又はポリエチレングリコール（ＰＥＧ）前駆体のＰＥＣＶＤによって被覆された表面を含み、その結果、コーティングが接触表面を特徴付ける。そのようなＰＥＣＶＤによって被覆される表面は、本明細書に記載のバリアコーティング又は層である。
【０５５６】
仮想例２６
・１〜３０原子％、任意選択的に５〜２０原子％、任意選択的に５〜１０原子％の、グラフト化された酸素原子、
・０〜３０原子％、任意選択的に０〜２０原子％、任意選択的に０〜１０原子％の、グラフト化された窒素原子、及び
・８０〜９５原子％、任意選択的に９０〜９５原子％の炭素原子
を含む、タンパク質の結合に対する抵抗力を与える本発明の接触表面を形成するために想定される代替の方法は、アセチレン、エチレン、メタン、プロパン、ブタン、エタン、又はこれらの２つ以上の組み合わせなどをモノマーガス前駆体として使用し、更に必要な酸素及び任意選択的に窒素ヘテロ原子を与える空気、酸素、水蒸気、又はこれらの任意の２つ以上の組み合わせなどのコモノマーガスとの組み合わせを用いるか、又はこれらコモノマーガスを後続のＰＥＣＶＤ処理工程として用いる、ＰＥＣＶＤによるアモルファス炭素のコーティングの塗布である。
【０５５７】
仮想例２７、実施形態（ｉ）
（工程１）市販の成形されたポリプロピレン９６ウェルマイクロプレートを真空プラズマ（Ｒｆ又はマイクロ波）反応器内に入れる。反応器を約１ｔｏｒｒまで脱気し、次いで酸素／アルゴンガス混合物（各１０／１０ｓｓｃｍ）を約５０ワットのＲｆ出力で５秒間開始する。表面Ｃ−ＯＨの増加は、３３００ｃｍ−１（ＣＯ−Ｈ伸縮）及び１６００ｃｍ−１（Ｃ−ＯＨ伸縮）の増加を観察するＦＴＩＲ−ＡＴＲによってモニタリングすることができる。
【０５５８】
（工程２）その後、ヒドロキシ修飾されたマイクロプレートをプラズマ反応器から取り出し、米国特許第６８２８０２８号明細書中でのコポリマーについての記載と同様の方法で合成した、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート（ＭＰＣ）と、トリメトキシシリルエチルメタクリレートとのコポリマーの２％ｗ／ｖエタノール溶液中に浸漬する。
【０５５９】
溶液を除去し、６０〜８０℃で２時間、マイクロプレートを真空下で加熱及び乾燥させる。
【０５６０】
タンパク質、全血、及び血清の抑制についてのマイクロプレートウェルの性能は、当該技術分野で確立されているＵＶ、蛍光標識タンパク質、放射性標識タンパク質などの標準的なタンパク質回収法により評価することができる。本出願人は、回収率は平均で６０％より良いはずであると見込んでいる。
【０５６１】
仮想例２８、実施形態（ｉｉ）
（工程１）市販の成形されたポリプロピレン９６ウェルマイクロプレートを真空プラズマ（Ｒｆ又はマイクロ波）反応器内に入れる。反応器を約１ｔｏｒｒまで脱気し、次いで酸素／アルゴンガス混合物（各１０／１０ｓｓｃｍ）を約５０ワットのＲｆ出力で５秒間開始する。表面Ｃ−ＯＨの増加は、３３００ｃｍ−１（ＣＯ−Ｈ伸縮）及び１６００ｃｍ−１（Ｃ−ＯＨ伸縮）の増加を観察するＦＴＩＲ−ＡＴＲによってモニタリングすることができる。
【０５６２】
（工程２）電源を停止し、酸素／アルゴンガスを停止し、Ｎ−（アミノエチル）−２，２，３−トリメチル−２−アザ−１−シラシクロペンタン）［Ｇｅｌｅｓｔ］が入っている予め脱気されている容器からの前記アザ試薬の蒸気に、処理したばかりのマイクロプレートを１分間曝露した。表面アルキル−ＮＨ２の増加は、３３００ｃｍ−１（Ｏ−Ｈ伸縮）の減少及び約１１４０ｃｍ−１（Ｃ−Ｎ伸縮）の増加を観察するＦＴＩＲ−ＡＴＲによってモニタリングすることができる。
【０５６３】
（工程３）その後、アミンで表面修飾されたマイクロプレートをプラズマ反応器から取り出し、米国特許第６８２８０２８Ｂ１号明細書（参照により組み込まれる）の実施例１に記載の通り合成した、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２’−（トリメチルアンモニオ）エチルホスフェート（ＭＰＣ）とジグリシジルメタクリレート（ＧＭＡ）とのコポリマーの２％ｗ／ｖエタノール溶液中に浸漬する。
【０５６４】
溶液を除去し、６０〜８０℃で２時間、マイクロプレートを真空下で加熱及び乾燥させる。
【０５６５】
タンパク質、全血、及び血清の抑制についてのマイクロプレートウェルの性能は、当該技術分野で確立されているＵＶ、蛍光標識タンパク質、放射性標識タンパク質などの標準的なタンパク質回収法により評価することができる。本出願人は、回収率は平均で６０％より良いはずであると見込んでいる。
【０５６６】
仮想例２９、実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）
最初の基材がＳｉＯｘプラズマコーティングされたポリプロピレンマイクロプレートである以外、実施形態（ｉ）について実施例２７で及び実施形態（ｉｉ）について実施例２で記載されているものと同じ手順を利用する。ＳｉＯｘプラズマコーティングは他の技術で記載されている。成形されたプラスチック物品からの潜在的な溶出性及び浸出性の組成物からの溶質バリア性能を得るために、ＳｉＯｘコーティングは、ウェル全体で少なくとも５ナノメートルの厚さである必要がある。
【０５６７】
表面Ｓｉ−ＯＨの増加は、３３００ｃｍ−１（ＳｉＯ−Ｈ伸縮）の増加を観察するＦＴＩＲ−ＡＴＲによってモニタリングすることができる。
【０５６８】
実施例３０（実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）
タンパク質結合評価手順（実施形態（ｉ）及び（ｉｉ）の全てのコーティングされたマイクロプレートについての概要）
目的：この実験の目的は、表面コーティングされたマイクロタイタ―プレートへの経時的なタンパク質の結合量を決定することである。
【０５６９】
材料：ＢｉｏＴｅｋ  Ｓｙｎｅｒｇｙ  Ｈ１マイクロプレートリーダー及びＧｅｎ５ソフトウェア、Ｍｉｌｌｉｐｏｒｅ  Ｍｉｌｌｉ−Ｑ  Ｗａｔｅｒ  Ｓｙｓｔｅｍ、Ｍｉｌｌｉｐｏｒｅ  Ｄｉｒｅｃｔ  Ｄｅｔｅｃｔスペクトロメーター、Ａｌｅｘａ  Ｆｌｕｏｒ４８８標識タンパク質（ウシ血清アルブミン、フィブリノゲン、トランスフェリン、プロテインＡ、及びプロテインＧ）、１０Ｘリン酸緩衝生理食塩水（ＰＢＳ）、Ｎｕｎｃ黒色９６ウェルオプティカルボトムプレート、１Ｌのプラスチック瓶、２５〜１００ｍＬのガラスビーカー、アルミニウム箔、１〜１０ｍＬのピペット、１００〜１０００μＬのピペット、０．１〜５μＬのピペット、５０〜３００μＬのマルチチャンネルピペット。
【０５７０】
実験：
−  表面がコーティングされた１つのマイクロプレートに対して５つのタンパク質：ウシ血清アルブミン（ＢＳＡ）、フィブリノゲン（ＦＢＧ）、トランスフェリン（ＴＦＮ）、プロテインＡ（ＰｒＡ）、及びプロテインＧ（ＰｒＧ）を試験する。
−  各タンパク質は、Ａｌｅｘａ  Ｆｌｕｏｒ  ４８８で標識された蛍光標識粉末として受け取る。
○５ｍｇのＢＳＡ：６６，０００Ｄａ
○５ｍｇのＦＢＧ：３４０，０００Ｄａ
○５ｍｇのＴＦＮ：８０，０００Ｄａ
○１ｍｇのＰｒＡ：４５，０００Ｄａ
○１ｍｇのＰｒＧ：２０，０００Ｄａ
−  受け取った後、各バイアルのタンパク質を追加的に光から保護するためにアルミニウム箔で包み、適宜ラベル付けし、貯蔵のために冷凍庫に入れる。
−  １ＸのＰＢＳの溶液を１０ＸのＰＢＳのストック溶液から調製する。
○１００ｍＬの１０ＸのＰＢＳをプラスチック製の１Ｌの瓶に添加し、引き続きＭｉｌｌｉｐｏｒｅ  Ｑ−ｐｏｄからの蒸留水９００ｍＬを添加する。
−  １００〜１０００μＬのピペットを使用して、１０００μＬの１ＸのＰＢＳを、タンパク質の各バイアル内に別々にピペットで入れることでタンパク質溶液を調製する。
−  その後、溶液を完全に混合するために各バイアルを逆にしてボルテックスする。
−  その後、各タンパク質をＭｉｌｌｉｐｏｒｅ  Ｄｉｒｅｃｔ  Ｄｅｔｅｃｔ上で試験して正確なタンパク質濃度を得る。
○０．１〜５μＬのピペットを使用して、２μＬのＰＢＳの試料をＤｉｒｅｃｔ  Ｄｅｔｅｃｔの読み降りカードの１つ目のスポットの上に載せ、ソフトウェア中のブランクとして印を付ける。
○その後、１つ目のタンパク質の２μＬの試料を残りの３つのスポット上に載せ、試料として印を付ける。
○カードを読み取った後、３つのタンパク質濃度の平均をｍｇ／ｍＬ単位で記録する。
○これを残りの４つのタンパク質について繰り返す。
−  その後、タンパク質溶液を保管のために冷蔵庫内に入れる。
【０５７１】
タンパク質結合分析
−  各タンパク質について、１ＸのＰＢＳを用いて標準曲線を作成する。
○標準曲線は２５ｎＭで開始し、残りの１２．５ｎＭ、６．２５ｎＭ、３．１２５ｎＭ、及び１．５６２５ｎＭの４つの濃度を得るために段階希釈を行う。
○標準曲線から調製した１２．５ｎＭの溶液を試験に使用する。
−  必要とされる２５ｎＭ標準の量は、以下の通りである：
○マイクロプレート上で、各タンパク質を入れるべき合計で１６個のウェルのために、４つの時点について試験し、各時点で４つのウェルを試験する。
○２５０μＬの１２．５ｎＭ溶液を各ウェル内に入れる。
○１６ウェル＊２５０μＬの１２．５ｎＭ溶液＝４０００μＬ＝４ｍＬの１２．５ｎＭの標準溶液。
○標準曲線を得るために使用した溶液及び最初の試料の読み取りのために使用した溶液を考慮してその体積に２ｍＬを追加する。
○そのため、合計６ｍＬの１２．５ｎＭ標準溶液が必要とされる。
○段階希釈が行われることから、必要とされる２５ｎＭの体積を得るためにその数を２倍する。
○６ｍＬ＊２＝１２ｍＬの２５ｎＭ溶液が必要とされる。
○何らかのミスが生じる場合の保険として、２０ｍＬの２５ｎＭ標準溶液を調製する。
○２つ以上のマイクロプレートを試験する場合、この計算は調節することができる。
・例えば、２つのマイクロプレートを試験する場合：
・（４時点）（４ウェル）＝１６ウェル
・（１６ウェル）（２プレート）＝３２ウェル
・（３２ウェル）（２５０μＬ溶液）＝８０００μＬ＝必要とされる８ｍＬの１２．５ｎＭ溶液
・８ｍＬ＋２ｍＬ＝必要とされる１０ｍＬの１２．５標準溶液
・（１０ｍＬの溶液）＊２＝必要とされる２０ｍＬの２５ｎＭ標準溶液
・＝３０ｍＬの２５ｎＭ標準溶液
−  ２５ｎＭ溶液を調製するために必要とされる各タンパク質の量は、Ｍｉｌｌｉｐｏｒｅ  Ｄｉｒｅｃｔ  Ｄｅｔｅｃｔから得られるタンパク質濃度を使用して計算される。
・１ｍｇ／ｍＬ＝１ｇ／Ｌ
・Ｄａ＝ｇ／ｍｏｌ
・１ｎＭ＝１．０Ｅ−９Ｍ
・１Ｌ＝１．０Ｅ６μＬ
・１μＬ＝０．００１Ｌ
Ｐｒ（Ｍ）＝Ｐｒ（ｇ／Ｌ）÷Ｐｒ  ＭＷ（ｇ／ｍｏｌ）
Ｍ1Ｖ1＝Ｍ2Ｖ2
（Ｐｒ（Ｍ））Ｖ1＝（２．５Ｅ−８Ｍ）（Ｖ2Ｌ）
→Ｖ1＝（２．５Ｅ−８Ｍ）（Ｖ2Ｌ）÷［Ｐｒ（Ｍ）］
→Ｖ1＝ＰｒのｘＬ
→Ｖ1＝（ＰｒのｘＬ）（１．０Ｅ６μＬ）
→Ｖ1＝ＰｒのｘμＬ
ｘｍＬのＰｒ溶液＝（ｘμＬ）（０．００１ｍＬ）
必要とされるｘｍＬの溶液−ｘｍＬのＰｒ＝必要とされるｘｍＬの１Ｘ  ＰＢＳ
２５ｎＭのＰｒ溶液＝ｘμＬのＰｒ＋ｘｍＬの１Ｘ  ＰＢＳ
例）２０ｍＬの２５ｎＭのＢＳＡ溶液が必要とされ、ＢＳＡの濃度は５．１６５ｍｇ／ｍＬである
５．１６５ｇ／ＬのＢＳＡ÷６６０００ｇ／ｍｏｌのＢＳＡ＝７．８２６Ｅ−５  ＭのＢＳＡ
Ｍ1Ｖ1＝Ｍ2Ｖ2
（７．８２６Ｅ−５ＭのＢＳＡ）Ｖ1＝（２．５Ｅ−８Ｍの標準溶液）（０．０２Ｌ）
Ｖ1＝５．０Ｅ−１０÷７．８２６Ｅ−５
Ｖ1＝６．３８９Ｅ−６Ｌ
Ｖ1＝（６．３８９Ｅ−６Ｌ）（１．０Ｅ６μＬ）
Ｖ1＝必要とされる６．３８９μＬのＢＳＡ
（６．３８９μＬ）（０．００１ｍＬ）＝０．００６３８９ｍＬの２５ｎＭ溶液
合計２０ｍＬの溶液−０．００６３８９ｍＬの２５ｎＭのＢＳＡ＝１９．９９４ｍＬの１ＸのＰＢＳ
２５ｎＭのＢＳＡ溶液＝６．３８９μＬのＢＳＡ＋１９．９９４ｍＬのＰＢＳ
【０５７２】
−  ５つ全てのタンパク質についての計算を行った後、各タンパク質についての標準曲線を作成し、試験する。
○２５、１００ｍＬのガラスビーカーを５列に並べる。
○各ビーカーをアルミニウム箔で包み、ビーカー内の溶液の対応する曲線のタンパク質の名称及び濃度でラベル付けする。
○列１はＢＳＡについての標準曲線であり、列２はＦＢＧ、列３はＴＦＮ、列４はＰｒＡ、列５はＰｒＧである。
○したがって、１番目の列は、以下の通りラベル付けされる：ＢＳＡ  ２５ｎＭ、ＢＳＡ  １２．５ｎＭ、ＢＳＡ  ６．２５ｎＭ、ＢＳＡ  ３．１２５ｎＭ、ＢＳＡ  １．５６ｎＭ。
○第１の曲線は、ｘｍＬの１ＸのＰＢＳとｘμＬのタンパク質を、２５ｎＭとラベル付けされた第１のビーカーに添加することによって作成する。
○２５ｎＭの溶液の半分を１２．５ｎＭビーカー内にピペットで入れ、その後、１ＸのＰＢＳを１２．５ｍＬのビーカー内にピペットで入れ、必要とされる最終溶液を調製する。
・例えば、２０ｍＬの２５ｎＭ溶液を調製する場合、１０ｍＬの２５ｎＭ溶液と、１０ｍＬの１ＸのＰＢＳを１２．５ｎＭのビーカーに添加することで、２０ｍＬの１２．５ｎＭ溶液を得る。
・その後、同じことを行って他の３つの濃度を調製する。
○標準曲線を作成した後、マイクロプレートリーダーを使用して試験し、その後、以下の標準曲線を作成して試験し、以降同様とする。
【０５７３】
−  分析のためにＢｉｏ  Ｔｅｋ  Ｓｙｎｅｒｇｙ  Ｈ１マイクロプレートリーダー及びＧｅｎ５ソフトウェアを使用する。
−  ソフトウェアを含むコンピューターにｓｙｎｅｒｇｙ  Ｈ１を繋ぎ、ソフトウェアを開いてリーダーをオンにする。
○ソフトウェアにおいて、「Ｐｒｏｔｏｃｏｌｓ→Ｃｒｅａｔｅ  Ｎｅｗ」をクリックしてプロトコルを設定する。
○「Ｍｕｌｔｉ−ｐｌａｔｅ  Ａｓｓａｙ  Ｐｒｏｔｏｃｏｌ」を選択し、入力するプレートの数は５である。
○プロトコルを形成した後、「Ｐｒｏｃｅｄｕｒｅ→Ｒｅａｄ」を選択する。
○「ｒｅａｄ  ｗｉｎｄｏｗ」において、「Ｆｌｕｏｒｅｓｃｅｎｃｅ  ｉｎｔｅｎｓｉｔｙ」及び「Ｅｎｄｐｏｉｎｔ／Ｋｉｎｅｔｉｃ」を選択し、「ＯＫ」を押す。
・「Ｒｅａｄ  Ｓｔｅｐ」ウインドウで「Ｅｘｃｉｔａｔｉｏｎ」波長を４８５に設定し、「Ｅｍｉｓｓｉｏｎ」波長を５２８に設定する。
・「Ｔｏｐ  ｒｅａｄ」を選択する。
・「Ｆｉｌｔｅｒ  Ｓｅｔ  １  Ｏｐｔｉｏｎｓ」ウインドウ、「Ｒｅａｄ  Ｓｔｅｐ」ウインドウ、及び「Ｐｒｏｃｅｄｕｒｅ」ウインドウで「Ｏｐｔｉｏｎｓ→Ａｕｔｏｍａｔｉｃ  Ｇａｉｎ  Ａｄｊｕｓｔｍｅｎｔ」を選択し、「ＯＫ」を押す。
○その後、「Ｐｌａｔｅ  Ｌａｙｏｕｔ」リンクを選択する。
・「Ｐｌａｔｅ  Ｌａｙｏｕｔ」ウインドウで「Ｂｌａｎｋｓ」、「Ｓｔａｎｄａｒｄ  Ｃｕｒｖｅｓ」、及び「Ｓａｍｐｌｅｓ」を選択し、次に「Ｎｅｘｔ」ボタンを選択する。
・「Ｂｌａｎｋ」タブで繰り返しの数を４に設定し、「Ｎｅｘｔ」を押す。
・「Ｓｔａｎｄａｒｄ  Ｃｕｒｖｅ」タブで繰り返しの数を４に設定し、ｎＭを「Ｕｎｉｔ」ボックスに入れ、０．５を「Ｆａｃｔｏｒ」ボックスに入れる。「ＳＴＤ１」ボックスに２５を入力し、「ＳＴＤ２，ＳＴＤ３，ＳＴＤ４  ＡＮＤ  ＳＴＤ５」についてのボックスをクリックして残りの標準曲線の値を入れる。その後、「ｎｅｘｔ」ボタンをクリックする。
・「Ｓａｍｐｌｅ」タブで繰り返し数を４に設定して「Ｆｉｎｉｓｈ」ボタンをクリックする。
・「Ｐｌａｔｅ  Ｌａｙｏｕｔ」ウインドウを表し、「Ｐｌａｔｅ１」タブ上で「ＢＬＫ」をクリックしてスポットＡ１〜Ａ４に入れ、２５ｎＭをＢ１〜Ｂ４に入れ、１２．５ｎＭをＣ１〜Ｃ４に入れ、６．２５ｎＭをＤ１〜Ｄ４に入れ、３．１２５ｎＭをＥ１〜Ｅ４に入れ、１．５６２５をＦ１〜Ｆ４に入れ、ＳＰＬ１をＧ１〜Ｇ４に入れる。
・「Ｐｌａｔｅ２」、「Ｐｌａｔｅ３」、「Ｐｌａｔｅ４」、及び「Ｐｌａｔｅ５」のタブについて、ＳＰＬ２をＡ１、Ｂ１、Ｃ１、及びＤ１のスポットに入れる。
・２つ以上のマイクロプレートを試験する場合にはＳＰＬ３をＡ２、Ｂ２、Ｃ２、及びＤ２のスポットに入れ、試験するマイクロプレートの数に応じて以下同様とする。
・その後、「ＯＫ」ボタンを選択する。
○その後、「Ｄａｔａ  Ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ」リンクを選択し、「Ｄａｔａ  Ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ」ウインドウで「Ｓｔａｎｄａｒｄ  Ｃｕｒｖｅ」リンクを選択し、「Ｙ  Ａｘｉｓ  Ｄａｔａ」についてのドロップダウンメニューで「４８５，５２８」を選択する。その後、「Ｓｔａｎｄａｒｄ  Ｃｕｒｖｅ」と「Ｄａｔａ  Ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ」ウインドウとの両方で「ＯＫ」を選択する。
○その後、「Ｒｅｐｏｒｔ／Ｅｘｐｏｒｔ  Ｂｕｉｌｄｅｒｓ」リンクを選択し、「Ｎｅｗ  Ｅｘｐｏｒｔ  ｔｏ  Ｅｘｃｅｌ」を選択する。
・「Ｃｏｎｔｅｎｔ」リンクを選択し、「Ｇｅｎｅｒａｌ  Ｆｏｒｍａｔ」ドロップダウンボックスを「Ｍａｔｒｉｘ」から「Ｒｏｗ−ｗｉｓｅ  Ｔａｂｌｅ」へと変更する。
・「Ｎｅｗ  Ｅｘｐｏｒｔ  ｔｏ  Ｅｘｃｅｌ」及び「Ｒｅｐｏｒｔ／Ｅｘｐｏｒｔ  Ｂｕｉｌｄｅｒｓ」の両方のウインドウで「ＯＫ」選択する。
○その後、プロトコルを「Ｆｉｌｅ→Ｓａｖｅ  Ａｓ  Ｐｒｏｔｏｃｏｌ１」をクリックしてセーブする。
【０５７４】
−  １つ目の標準曲線を形成した後、ＳｙｎｅｒｇｙＨ１上での試験の準備が整う。
○５０〜３００μＬのマルチチャンネルピペットを使用して、２００μＬの１ＸのＰＢＳを黒色オプティカルボトムマイクロプレートのウェルＡ１〜Ａ４にピペットで入れる。
・その後、２００μＬの２５ｎＭ溶液をウェルＢ１〜Ｂ４にピペットで入れる。
・２００μＬの１２．５ｎＭ溶液をウェルＣ１〜Ｃ４にピペットで入れる。
・２００μＬの６．２５ｎＭ溶液をウェルＤ１〜Ｄ４にピペットで入れる。
・２００μＬの３．１２５ｎＭ溶液をウェルＥ１〜Ｅ４にピペットで入れる。
・２００μＬの１．５６２５ｎＭ溶液をウェルＦ１〜Ｆ４にピペットで入れる。
・２００μＬの１２．５ｎＭ溶液をウェルＧ１〜Ｇ４にピペットで入れる。
−  Ｇｅｎ５ソフトウェアを開き、「Ｅｘｐｅｒｉｍｅｎｔｓ→Ｃｒｅａｔｅ  Ｕｓｉｎｇ  ａｎ  Ｅｘｉｓｔｉｎｇ  Ｐｒｏｔｏｃｏｌ→Ｐｒｏｔｏｃｏｌ１」を選択する。
○プレート１〜５は、プレート名（例えば、Ｐｌａｔｅ１）をクリックし、「Ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ」を右クリックし、テキストボックスにプレートの名前を入力し、「ＯＫ」をクリックすることによってラベル付けすることができる。
・Ｐｌａｔｅ１：標準
・Ｐｌａｔｅ２：１．５時間
・Ｐｌａｔｅ３：２．５時間
・Ｐｌａｔｅ４：４．５時間
・Ｐｌａｔｅ５：２４時間
○その後、標準曲線を含む黒色のオプティカルボトムマイクロプレートを、Ｓｙｎｅｒｇｙ  Ｈ１のトレーの上に置く。
○その後、「Ｐｌａｔｅ１（Ｓｔａｎｄａｒｄｓ）」を右クリックし、オプション「Ｒｅａｄ  Ｐｌａｔｅ１」を選択する。
○その後、実験は「Ｆｉｌｅ→Ｓａｖｅ  Ａｓ」をクリックすることによって保存することができる。
○各タンパク質は独自の実験を必要とするため、第１の実験をＢＳＡとして保存し、第２の実験をＦＢＧとして保存し、以下同様とする。
○各標準曲線を作成した後、上の工程を繰り返す。
【０５７５】
−  標準曲線を作成して試験をした後、１２．５ｎＭの溶液以外の全てを廃棄してもよい。
−  試験するマイクロプレートを６つの区分に区切る。
○Ｓｈａｐｒｉｅを使用して、行Ｄ＆Ｅ、列４＆５、及び８＆９間に線を引く。
○左上隅の１つ目の区分をＢＳＡとラベル付けし、上中央区分はＦＢＧ、右上区分はＴＦＮ、左下区分はＰｒＡ、右下区分はＰｒＧ、下中央区分はなしのままにする。
・ＢＳＡの区分について、１列目に１．５時間の印を付け、２列目が２．５時間、３列目が４．５時間、及び４列目が２４時間である。
・ＦＢＧについて、５列目が１．５時間、６列目が２．５時間、７列目が４．５時間、及び８列目が２４時間である。
・ＴＦＮ：９列目が１．５時間、１０列目が２．５時間、１１列目が４．５時間、及び１２列目が２４時間である。
・ＰｒＡ：１列目が１．５時間、２列目が２．５時間、３列目が４．５時間、及び４列目が２４時間である。
・ＰｒＧ：９列目が１．５時間、１０列目が２．５時間、１１列目が４．５時間、及び１２列目が２４時間である。
−  マイクロプレートをラベル付けした後、充填の準備が整う。
○５０〜３００μＬのマルチチャンネルピペットを使用して、２５０μＬの１２．５ｎＭのＢＳＡをＢＳＡ区分のウェルにピペットで入れる。
○これを各タンパク質について行う。
−  マイクロプレートを溶液で満たした後、これをアルミニウム箔で包み、区分と時点をラベル付けする。
【０５７６】
−  １．５時間後、５０〜３００μＬのマルチチャンネルピペットを使用し、アルミニウム箔を突き破り、１．５時間の列（列１）の４つのウェルから２００μＬのＢＳＡをピペットで出して黒色オプティカルボトムマイクロプレートに入れる。
○Ｇｅｎ５ソフトウェアを開き、「Ｅｘｐｅｒｉｍｅｎｔｓ→ＢＳＡ」を選択する。
○黒色マイクロプレートをマイクロプレートトレー内に置く。
○その後、「Ｐｌａｔｅ２（１．５ｈｒ）」を右クリックし、「Ｒｅａｄ  Ｐｌａｔｅ２」オプションを選択する。
○その後、「Ｆｉｌｅ→Ｓａｖｅ」を選択する。
−  次いで、対応する実験を開けることによって他の４つのタンパク質を同じ方法で読み込む。
−  同じことを２．５時間、４．５時間、及び２４時間後に行う。
−  ２４時間後、その後にメニューバーから「Ｐｌａｔｅ→Ｅｘｐｏｒｔ」を選択する。
−  エクセル表計算が現れ、その後、所望の名前で所望の位置にこれを保存することができる。
【０５７７】
データ：
−  Ｇｅｎ５ソフトウェアによって生成したデータを使用して、標準曲線とＳＰＬ１の両方からの１２．５ｎＭ溶液濃度を平均化する。
○１．５時間時点の４つのウェルの濃度を平均化する。
○その後、これを２．５時間、４．５時間及び２４時間についても行う。
○その後、各時点の平均濃度を最初の１２．５ｎＭの平均濃度で割って１００を乗じることで、各時点のパーセント回収率を得る。
・％回収率＠１．５時間＝［平均ＢＳＡ  １．５時間］／［平均１２．５ｎＭ溶液］＊１００
その後、エクセルでグラフを作成し、経時での各タンパク質のパーセント回収率をグラフ化する。
【０５７８】
本技術を具体的な実施例及びその実施形態を参照しつつ詳細に説明してきたが、その趣旨及び範囲から逸脱することなく、それらに対する様々な変更形態及び修正形態がなされ得ることは当業者に明白であろう。追加的な開示は請求項中に示されており、これらは本明細書の一部と見なされ、各請求項は任意選択的且つ任意選択的な実施形態を規定する。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【国際調査報告】
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