(57)【要約】  本発明は、高温でのビス（フルオロスルホニル）−イミドおよびその誘導体の製造方法に関する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）の化合物の製造方法であって、
【化１】
2018514577.tif 000017
この方法は工程ＳＴＥＰ１を含み；
ＳＴＥＰ１は反応ＲＥＡＣ１−１を含み；
ＲＥＡＣ１−１において、混合物ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥは温度ＴＥＭＰ１−１でＨＦと反応し、ＴＥＭＰ１−１は少なくとも８０℃であり；
ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥは、３つの成分、即ち、式（ＩＩ）の化合物、式（ＩＩＩ）の化合物および式（ＩＶ）の化合物を含み；
【化２】
2018514577.tif 000018
Ｘは、Ｘ１またはＸ２と同一であり；
Ｘ１およびＸ２は、同一または異なっており、互いに独立して、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｊ、ＲＥＳＦおよびトリルからなる群から選択され；
ＲＥＳＦは、置換されていないかまたは置換基ＯＣＦ３で置換されているフッ化Ｃ１−９アルキルであり；
Ｒｎ＋は、Ｈ＋、Ｌｉ＋、Ｎａ＋、Ｋ＋、Ｍｇ２＋、Ｃａ２＋、Ｚｎ２＋、Ｃｕ２＋、Ａｌ３＋、Ｔｉ３＋、Ｆｅ２＋、Ｆｅ３＋、Ｂ３＋、
【化３】
2018514577.tif 000019
、
［Ｎ（Ｒ２０）（Ｒ２１）（Ｒ２２）Ｒ２３］＋および［Ｐ（Ｒ２０）（Ｒ２１）（Ｒ２２）Ｒ２３］＋からなる群から選択され；
Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ２２およびＲ２３は、同一または異なっており、互いに独立して、Ｈ、Ｃ１−８アルキル、Ｃ５−６シクロアルキル、フェニル、ベンジル、ビニルおよびアリルからなる群から選択され；
ｎは、１、２または３である、前記方法。
【請求項２】
Ｘ１およびＸ２は、同一または異なっており、互いに独立して、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、ＲＥＳＦおよびトリルからなる群から選択され；
Ｒｎ＋は、Ｈ＋、Ｌｉ＋、Ｎａ＋、Ｋ＋、Ｍｇ２＋、Ａｌ３＋、
【化４】
2018514577.tif 000020
および［Ｎ（Ｒ２０）（Ｒ２１）（Ｒ２２）Ｒ２３］＋からなる群から選択され；
Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ２２およびＲ２３は、同一または異なっており、互いに独立して、Ｈ、Ｃ１−４アルキル、フェニル、ベンジル、ビニルおよびアリルからなる群から選択され；
ｎは、１、２または３である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
ＴＥＭＰ１−１は８０から３００℃である、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ中の３つの成分の総含有率は５０から１００％であり、％はＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥの総重量に基づく重量％である、請求項１から３の一項以上に記載の方法。
【請求項５】
ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ中の３つの成分の相対比は、
２から９９％の式（ＩＩ）の化合物、
４９から０．５％の式（ＩＩＩ）の化合物、および
４９から０．５％の式（ＩＶ）の化合物であり；
％は重量％であり、ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ中の３つの成分の総合重量に基づき、３つの成分の相対比は合計で１００％になる、請求項１から４の一項以上に記載の方法。
【請求項６】
ＲＥＡＣ１−１は連続的に行われる、請求項１から５の一項以上に記載の方法。
【請求項７】
ＳＴＥＰ１は、工程ＳＴＥＰ１−１および工程ＳＴＥＰ１−３の２つの連続する工程を含み；
ＳＴＥＰ１−１において、ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥとＨＦとの混合物であるＭＩＸＴＵＲＥ１−１が、装置ＤＥＶＩＣＥ１−１中でＴＥＭＰ１−１まで加熱され、ＲＥＡＣ１−１がＤＥＶＩＣＥ１−１中で起こり、反応混合物をもたらし、
ＳＴＥＰ１−３において、ＤＥＶＩＣＥ１−１からの反応混合物が、装置ＤＥＶＩＣＥ１−３を通り、ＤＥＶＩＣＥ１−３は背圧調整のための装置である
請求項１から６の一項以上に記載の方法。
【請求項８】
ＳＴＥＰ１は、ＳＴＥＰ１−１とＳＴＥＰ１−３との間で行われる、第３の工程ＳＴＥＰ１−２を含み、
ＳＴＥＰ１−２において、ＤＥＶＩＣＥ１−１からの反応混合物が、装置ＤＥＶＩＣＥ１−２を通り、ＤＥＶＩＣＥ１−２は反応混合物を冷却するための装置である
請求項７に記載の方法。
【請求項９】
この方法はさらに工程ＳＴＥＰ１−４を含み、ＳＴＥＰ１−４はＳＴＥＰ１−３の後に行われ、
ＳＴＥＰ１−４において、ＤＥＶＩＣＥ１−３からの反応混合物が、装置ＤＥＶＩＣＥ１−４を通り、ＤＥＶＩＣＥ１−４は反応混合物中の液体成分から気体成分を分離するための装置である
請求項７または８に記載の方法。
【請求項１０】
工程ＳＴＥＰ０において、ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥが調製され；
ＳＴＥＰ０はＳＴＥＰ１の前に行われ；
ＳＴＥＰ０は反応ＲＥＡＣ０−１を含み；
ＲＥＡＣ０−１は、式（ＩＩＩ）の化合物と式（ＩＶ）の化合物との反応である
請求項１から９の一項以上に記載の方法。
【請求項１１】
ＲＥＡＣ０−１は温度ＴＥＭＰ０−１で行われ、ＴＥＭＰ０−１は１８０から３００℃である、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
ＲＥＡＣ０−１は連続的に行われる、請求項１０または１１に記載の方法。
【請求項１３】
ＳＴＥＰ０は１つの工程ＳＴＥＰ０−１を含み；
ＳＴＥＰ０−１は反応ＲＥＡＣ０−１を含み；
ＳＴＥＰ０−１において、式（ＩＩＩ）の化合物および式（ＩＶ）の化合物の混合物ＭＩＸＴＵＲＥ０−１が、ＤＥＶＩＣＥ０−１中でＴＥＭＰ０−１まで加熱され、ＲＥＡＣ０−１がＤＥＶＩＣＥ０−１中で起こり、反応混合物が生じる
請求項１０から１２の一項以上に記載の方法。
【請求項１４】
ＳＴＥＰ０はもう１つの工程ＳＴＥＰ０−２を含み；
ＳＴＥＰ０−２はＳＴＥＰ０−１の後に行われ；
ＳＴＥＰ０−２において、ＤＥＶＩＣＥ０−１からの反応混合物が、装置ＤＥＶＩＣＥ０−２を通り、ＤＥＶＩＣＥ０−２は反応混合物を冷却するための装置である
請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
ＲＥＡＣ０−１およびＲＥＡＣ１−１は連続的かつ継続的に行われる、請求項１０から１４の一項以上に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高温でのビス（フルオロスルホニル）−イミドおよびその誘導体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
発明の背景
以下の文章では、特に断りのない限り、以下の意味が使用される。
ＡＣＮ  アセトニトリル；
ＣＩＳＩ  式（２）の化合物であるビス（クロロスルホニル）−イミド；
【０００３】
【化１】
2018514577.tif 000002
ＣＳＩ  式（３）の化合物であるクロロスルホニルイソシアネート；
【０００４】
【化２】
2018514577.tif 000003
ＣＳＯＳ、ＣＳＡ  クロロスルホン酸；
ＤＣＢ  ジクロロベンゼン（特記しない限り１，２−ジクロロベンゼン）；
ＤＣＥ  ジクロロエタン（特記しない限り１，２−ジクロロエタン）；
ＤＣＭ  ジクロロメタン；
ＤＦＡＣｌ  ジフルオロ酢酸クロリド；
ＤＦＡＦ  ジフルオロ酢酸フルオリド；
ハロゲン  Ｆ、Ｃｌ、ＢｒまたはＩ、好ましくはＦ、ＣｌまたはＢｒ、より好ましくはＦまたはＣｌ。
ＨＦＳＩ  式（１）の化合物であるビス（フルオロスルホニル）−イミド；
【０００５】
【化３】
2018514577.tif 000004
ＬｉＦＳＩ  式（４）の化合物であるリチウムビス（フルオロスルホニル）−イミド；
【０００６】
【化４】
2018514577.tif 000005
ＴＥＡ  トリエチルアミン；
ＴＦＡＣｌ  トリフルオロ酢酸クロリド；
ＴＦＡＦ  トリフルオロ酢酸フルオリド；
ＶＮ  バレロニトリル；
重量％（ｗｔ％）、重量％（％  ｂｙ  ｗｅｉｇｈｔ）  重量％（ｐｅｒｃｅｎｔ  ｂｙ  ｗｅｉｇｈｔ）。
【０００７】
ＨＦＳＩは、リチウムイオン電池のような電気化学的装置において、ＨＦＳＩのリチウム塩ＬｉＦＳＩの形態である電解質の製造に使用される、中間体である。
【０００８】
ＷＯ２００９／１２３３２８Ａ１号には、対称または非対称のクロロスルホニルイミドと第１１族から第１５属および第４周期から第６周期（ヒ素およびアンチモンを除く）の元素からなる群から選択される少なくとも１つの元素を含むフッ化物化合物との反応によって、溶媒中で、それぞれ対称または非対称のフルオロスルホニルイミドの金属塩を製造する方法を開示し、これらの金属塩は、その後、第２の工程において、陽イオン交換反応にて様々なアミンと対称および非対称のフルオロスルホニルイミドとの塩に変換される。
【０００９】
ＵＳ２０１５／０２４６８１２Ａ１号は、反応が有機溶媒中で行われる、対称および非対称のクロロスルホニルイミドからの対称および非対称のフルオロスルホニルイミドの製造方法を開示する。
【００１０】
ＷＯ２０１５／０１２８９７Ａ１号は、ＨＦを用いてＣｌＳＩからＦＳＩを製造する方法を開示し、この反応によって生成されたＨＣｌは、ＨＦＳＩを少なくとも８０％の収率で生成するために、反応中に選択的に除去される。反応は、周囲圧力（例えば、大気圧）で行われる。反応時間は３時間よりもはるかに長い。両方の要件、即ち、比較的長い反応時間および反応中にＨＣｌを反応混合物から分離するための要件は、反応を連続的に実施する場合、反応中にＨＣｌの必要な分離のための装置を備えた特別な連続攪拌タンク反応器（「ＣＳＴＲ」）機構を必要とする。連続的に作用する簡単な管状反応器で反応を行うことにより、問題が生じる。
【００１１】
Ｃｌの代わりにＢｒおよびＩをＦに対して交換すること、即ち、水素ビス（ハロスルホニル）イミド（ＨＸＳＩ）（各Ｘは独立して、Ｃｌ、Ｂｒ、またはＩのような非フルオロハロゲン化物である）をフッ化水素により交換して水素ビス（フルオロスルホニル）イミド（ＨＦＳＩ）を生成することも開示されている。
【００１２】
ＷＯ２０１５／００４２２０Ａ１号は、高温での連続反応におけるイミドジスルフリル化合物の製造方法を開示する。
【００１３】
米国特許第７，９１９，６２９Ｂ２号は、蒸留したＣｌＳＩとＨＦとの反応を実施例１０に開示し、とりわけ、１３０℃で２時間の実施例に対し、５５％という収率を報告している。
【００１４】
必ずしも溶媒を必要とせず、必ずしも金属塩を必要とせず、わずかな工程しか有さず、高収率でＨＦＳＩを生成し、バッチ式および連続式反応器における連続様式の両方で行うことができ、ならびに連続式管状反応器でも行うことができる、ＨＦＳＩの製造方法が必要であった。
【００１５】
この方法は、ＷＯ２０１５／０１２８９７Ａ１号に開示されているような収率を高めるためのＨＣｌの分離を反応中に必要とすべきではなく、比較的短い反応時間で反応を行うことができるべきである。
【００１６】
予想外にも、ＣｌＳＩから出発して、溶媒を必要とせず、金属塩を必要とせず、わずかな工程しか有さず、ＣｌＳＩ中のＨＦまたはその逆の難溶性および乏しい混和性かかわらずＨＦＳＩを高収率で生成する、バッチ式または連続式の両方で、および連続式管状反応器でも行うことができるＨＦＳＩの製造方法が見出された。この方法は、短い反応時間を特徴とする。
【００１７】
予想外にも、この方法は、反応によって形成されるＨＣｌの分離を反応中に必要とせず、なお良好な収率でＨＦＳＩを提供する。これは、ＷＯ２０１５／０１２８９７Ａ１号の開示の観点から予想外であった。さらに、ＨＦとの反応において、ＣｌＳＩ、ＣＳＩおよびクロロスルホン酸を含む混合物の使用が、ＵＳ７，９１９，６２９Ｂ２号に開示されるようなＣｌＳＩ単独の使用よりも大幅に高い収率を提供することは予想外であった。これは、本明細書において、比較例（ｉ）対実施例７で例示される。
【００１８】
この反応は、先行技術の開示と比較して比較的短い反応時間で行うことができ、バッチ式だけでなく、連続様式においても、および連続式管状反応器においても、反応を行うことを可能にする。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１９】
【特許文献１】国際公開第２００９／１２３３２８号
【特許文献２】米国特許出願公開第２０１５／０２４６８１２号明細書
【特許文献３】国際公開第２０１５／０１２８９７号
【特許文献４】国際公開第２０１５／００４２２０号
【特許文献５】米国特許第７，９１９，６２９号明細書
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【００２０】
本発明の主題は、式（Ｉ）の化合物の製造方法であり、
【００２１】
【化５】
2018514577.tif 000006
この方法は工程ＳＴＥＰ１を含み；
ＳＴＥＰ１は反応ＲＥＡＣ１−１を含み；
ＲＥＡＣ１−１において、混合物ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥは温度ＴＥＭＰ１−１でＨＦと反応し、ＴＥＭＰ１−１は少なくとも８０℃であり；
ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥは、３つの成分、即ち、式（ＩＩ）の化合物、式（ＩＩＩ）の化合物および式（ＩＶ）の化合物を含み；
【００２２】
【化６】
2018514577.tif 000007
2018514577.tif 000008
ＸはＸ１またはＸ２と同一であり；
Ｘ１およびＸ２は同一または異なっており、互いに独立してＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｊ、ＲＥＳＦおよびトリルからなる群から選択され；
ＲＥＳＦは、置換されていないかまたは置換基ＯＣＦ３で置換されているフッ化Ｃ１−９アルキルであり；
Ｒｎ＋は、Ｈ＋、Ｌｉ＋、Ｎａ＋、Ｋ＋、Ｍｇ２＋、Ｃａ２＋、Ｚｎ２＋、Ｃｕ２＋、Ａｌ３＋、Ｔｉ３＋、Ｆｅ２＋、Ｆｅ３＋、Ｂ３＋、
【００２３】
【化７】
2018514577.tif 000009
、［Ｎ（Ｒ２０）（Ｒ２１）（Ｒ２２）Ｒ２３］＋および［Ｐ（Ｒ２０）（Ｒ２１）（Ｒ２２）Ｒ２３］＋からなる群から選択され；
Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ２２およびＲ２３は同一または異なっており、互いに独立してＨ、Ｃ１−８アルキル、Ｃ５−６シクロアルキル、フェニル、ベンジル、ビニルおよびアリルからなる群から選択され；
ｎは１、２または３である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
「ＸはＸ１またはＸ２と同一である」という表現は、Ｘが式（ＩＩＩ）の化合物に由来する（ＸがＸ１であることを意味する）か、またはＸが式（ＩＶ）の化合物に由来する（ＸがＸ２であることを意味する）ことを意味する。
【００２５】
好ましくは、ＸはＸ２と同一であり、それはＸが式（ＩＶ）の化合物に由来することを意味する。
【００２６】
「フッ化アルキル」は、少なくとも１つのＨがＦと交換されることを意味する。
【００２７】
好ましくは、ＲＥＳＦは、置換されていないかまたは置換基ＯＣＦ３で置換されているフッ素Ｃ１−６アルキルであり；
より好ましくは、ＲＥＳＦは、置換されていないかまたは置換基ＯＣＦ３で置換されているフッ化Ｃ１−４アルキルであり；
さらにより好ましくは、ＲＥＳＦは、置換されていないかまたは置換基ＯＣＦ３で置換されているフッ化Ｃ１−２アルキルである。
【００２８】
特に、本明細書中の任意のＲＥＳＦは、ペルフルオロアルキルである。
【００２９】
ＲＥＳＦの特定の実施形態は、例えば、ＣＦ３、ＣＨＦ２、ＣＨ２Ｆ、Ｃ２Ｆ５、Ｃ２ＨＦ４、Ｃ２Ｈ２Ｆ３、Ｃ２Ｈ３Ｆ２、Ｃ２Ｈ４Ｆ、Ｃ３Ｆ７、Ｃ３ＨＦ６、Ｃ３Ｈ２Ｆ５、Ｃ３Ｈ４Ｆ３、Ｃ３Ｈ６Ｆ、Ｃ４Ｆ９、Ｃ４Ｈ２Ｆ７、Ｃ４Ｈ４Ｆ５、Ｃ４Ｈ８Ｆ、Ｃ５Ｆ１１、Ｃ５Ｈ１０Ｆ、Ｃ３Ｆ５ＯＣＦ３、Ｃ２Ｆ４ＯＣＦ３、Ｃ２Ｈ２Ｆ２ＯＣＦ３、ＣＦ２ＯＣＦ３、Ｃ６Ｆ１３、Ｃ６Ｈ１２Ｆ、Ｃ７Ｆ１５、Ｃ８Ｆ１７およびＣ９Ｆ１９であり；
好ましくはＣＦ３、ＣＨＦ２、ＣＨ２Ｆ、フルオロエチル、ジフルオロエチル、２，２，２−トリフルオロエチル、ペンタフルオロエチル、３，３，３−トリフルオロプロピル、ペルフルオロ−ｎ−プロピル、フルオロプロピル、ペルフルオロイソプロピル、フルオロブチル、３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチル、ペルフルオロ−ｎ−ブチル、ペルフルオロイソブチル、ペルフルオロ−ｔ−ブチル、ペルフルオロ−ｓｅｃ−ブチル、フルオロペンチル、ペルフルオロペンチル、ペルフルオロイソペンチル、ペルフルオロ−ｔ−ペンチル、フルオロヘキシル、ペルフルオロ−ｎ−ヘキシルおよびペルフルオロイソヘキシルであり；
より好ましくは、トリフルオロメチル、ペンタフルオロエチルおよびペルフルオロ−ｎ−プロピルであり；
さらにより好ましくは、トリフルオロメチルおよびペンタフルオロエチルである。
【００３０】
好ましくは、
Ｘ１およびＸ２は同一または異なっており、互いに独立してＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｊ、ＲＥＳＦからなる群から選択され、ＲＥＳＦは好ましくはＣ１−６ペルフルオロアルキルおよびトリルであり；
Ｒｎ＋は、Ｈ＋、Ｌｉ＋、Ｎａ＋、Ｋ＋、Ｍｇ２＋、Ｃａ２＋、Ｚｎ２＋、Ｃｕ２＋、Ａｌ３＋、Ｔｉ３＋、Ｆｅ２＋、Ｆｅ３＋、Ｂ３＋、
【００３１】
【化８】
2018514577.tif 000010
、［Ｎ（Ｒ２０）（Ｒ２１）（Ｒ２２）Ｒ２３］＋および［Ｐ（Ｒ２０）（Ｒ２１）（Ｒ２２）Ｒ２３］＋からなる群から選択され；
Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ２２およびＲ２３は同一または異なっており、互いに独立してＨ、Ｃ１−８アルキル、Ｃ５−６シクロアルキル、フェニル、ベンジル、ビニルおよびアリルからなる群から選択され；
ｎは１、２または３である。
【００３２】
より好ましくは、
Ｘ１およびＸ２は同一または異なっており、互いに独立してＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、ＲＥＳＦからなる群から選択され、ＲＥＳＦは好ましくはＣ１−６ペルフルオロアルキルおよびトリルであり；
Ｒｎ＋は、Ｈ＋、Ｌｉ＋、Ｎａ＋、Ｋ＋、Ｍｇ２＋、Ａｌ３＋、
【００３３】
【化９】
2018514577.tif 000011
および［Ｎ（Ｒ２０）（Ｒ２１）（Ｒ２２）Ｒ２３］＋からなる群から選択され；
Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ２２およびＲ２３は同一または異なっており、互いに独立してＨ、Ｃ１−４アルキル、フェニル、ベンジル、ビニルおよびアリルからなる群から選択され；
ｎは１、２または３である。
【００３４】
さらにより好ましくは、
Ｘ１およびＸ２は同一または異なっており、互いに独立してＦ、ＣｌおよびＲＥＳＦからなる群から選択され、ＲＥＳＦは好ましくはＣ１−４ペルフルオロアルキルであり；
Ｒｎ＋は、Ｈ＋、Ｌｉ＋、Ｎａ＋、
【００３５】
【化１０】
2018514577.tif 000012
および［Ｎ（Ｒ２０）（Ｒ２１）（Ｒ２２）Ｒ２３］＋からなる群から選択され；
Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ２２およびＲ２３は同一または異なっており、互いに独立してＨおよびＣ１−４アルキルからなる群から選択され；
ｎは１である。
【００３６】
特に、
Ｘ１およびＸ２は同一または異なっており、互いに独立してＣｌおよびＲＥＳＦからなる群から選択され、ＲＥＳＦは好ましくはＣ１−２ペルフルオロアルキルであり；
Ｒｎ＋は、Ｈ＋、Ｌｉ＋、Ｎａ＋、
【００３７】
【化１１】
2018514577.tif 000013
および［Ｎ（Ｒ２０）（Ｒ２１）（Ｒ２２）Ｒ２３］＋からなる群から選択され；
Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ２２およびＲ２３は同一または異なっており、互いに独立してＣ１−４アルキルであり；
ｎは１である。
【００３８】
より特には、
Ｘ１およびＸ２は同一または異なっており、互いに独立してＣｌおよびＣＦ３であり；
Ｒｎ＋は、Ｈ＋、Ｌｉ＋、Ｎａ＋からなる群から選択され；
ｎは１である。
【００３９】
さらにより特には、
Ｘ１およびＸ２は同一または異なっており、互いに独立してＣｌおよびＣＦ３であり；
Ｒｎ＋はＨ＋であり；
ｎは１である。
【００４０】
式（Ｉ）の化合物の特定の実施形態は、式（１）の化合物および式（１−ＣＦ３）の化合物である。
【００４１】
【化１２】
2018514577.tif 000014
【００４２】
式（ＩＩ）の化合物の特定の実施形態は、式（２）の化合物および式（２−ＣＦ３）の化合物である。
【００４３】
【化１３】
2018514577.tif 000015
【００４４】
式（ＩＶ）の化合物の特定の実施形態は、クロロスルホン酸およびトリフルオロメチルスルホン酸である。
【００４５】
特定の一実施形態では、
式（Ｉ）の化合物は式（１）の化合物であり、
式（ＩＩ）の化合物は式（２）の化合物であり、
式（ＩＩＩ）の化合物は式（３）の化合物であり、
式（ＩＶ）の化合物はクロロスルホン酸であり、
それはＸ、Ｘ１およびＸ２がＣｌであり、Ｒｎ＋がＨ＋であり、ｎが１であることを意味する。
【００４６】
別の特定の実施形態では、
式（Ｉ）の化合物は式（１−ＣＦ３）の化合物であり、
式（ＩＩ）の化合物は式（２−ＣＦ３）の化合物であり、
式（ＩＩＩ）の化合物は式（３）の化合物であり、
式（ＩＶ）の化合物はトリフルオロメチルスルホン酸であり、
それはＸ１がＣｌであり、Ｒｎ＋がＨ＋であり、ＸおよびＸ２がＣＦ３であり、ｎが１であることを意味する。
【００４７】
好ましくは、ＲＥＡＣ１−１は圧力ＰＲＥＳＳＵＲＥ１−１で行われる。
【００４８】
好ましくは、ＰＲＥＳＳＵＲＥ１−１は少なくとも周囲圧力、より好ましくは少なくとも２バール、さらにより好ましくは少なくとも５バール、非常にさらにより好ましくは少なくとも１０バール、大変非常にさらにより好ましくは少なくとも２０バール、特に少なくとも３０バール、より特には少なくとも４０バール、さらにより特には少なくとも４５バール、非常にさらにより特には少なくとも５０バール、大変非常にさらにより特には少なくとも５５バール、具体的には少なくとも６０バール、より具体的には少なくとも６５バール、さらにより具体的には少なくとも７０バール、非常にさらにより具体的には少なくとも７５バール、大変非常にさらにより具体的には少なくとも８０バールである。
【００４９】
圧力の上限は、主に、装置および圧力を提供しそして／またはその圧力に耐えるその能力によって決定される。純粋にこのような考察から、本発明を限定するものではないが、ＰＲＥＳＳＵＲＥ−１は、好ましくは１０００バールまで、より好ましくは７５０バールまで、さらにより好ましくは６００バールまで、特に５００バールまでである。
【００５０】
ＰＲＥＳＳＵＲＥ１−１の下限のいずれかをＰＲＥＳＳＵＲＥ１−１の上限のいずれかと組み合わせることができる；
好ましくはＰＲＥＳＳＵＲＥ１−１は、周囲圧力から１０００バールまで、より好ましくは２から１０００バールまで、さらにより好ましくは５から１０００バールまで、非常にさらにより好ましくは１０から１０００バールまで、大変非常により好ましくは２０から１０００、特に３０から１０００バールまで、より特には４０から１０００バールまで、さらにより特には４５から１０００バールまで、非常さらにより特には５０から１０００バールまで、具体的には５５から１０００バールまで、より具体的には６０から１０００バールまで、さらにより具体的には６５から１０００バールまで、非常にさらにより具体的には７０から７５０バールまで、大変非常にさらにより具体的には７５から６００バールまで、非常に大変非常にさらにより具体的には８０から５００バールまでである。
【００５１】
好ましくは、ＴＥＭＰ１−１は、少なくとも８０℃、より好ましくは少なくとも９０℃、さらにより好ましくは少なくとも１００℃、特に少なくとも１１０℃、より特には少なくとも１２０℃、さらにより特には少なくとも１２５℃、具体的には少なくとも１３０℃、より具体的には少なくとも１３５℃、さらにより具体的には少なくとも１４０℃、非常にさらにより具体的には少なくとも１４５℃、大変非常にさらにより具体的には少なくとも １５０℃、非常に大変非常にさらにより具体的には少なくとも１５５℃、とても非常に大変非常にさらにより具体的には少なくとも１６０℃である。
【００５２】
温度の上限は、主に、高温での成分の滞留時間によって決定され、滞留時間が短いほど温度は高くなり得、また、高温での選択された装置の材質の腐食に対する耐性も高くなり得る。純粋にこのような考察から、本発明を限定するものではないが、ＴＥＭＰ１−１は、好ましくは３００℃まで、より好ましくは２９０℃まで、さらにより好ましくは２８０℃まで、特に２７０℃まで、より特には２６０℃まで、さらにより特には２５０℃まで、具体的には２４０℃まで、より具体的には２３０℃までであることができる。
【００５３】
好ましくは、ＴＥＭＰ１−１は８０から３００℃まで、より好ましくは９０から３００℃まで、１００から３００℃まで、さらにより好ましくは１１０から２９０℃まで、特に１２０から２８０℃まで、より特には１３０から２８０℃まで、さらにより特には１３０から２８０℃まで、具体的には１４０から２８０℃まで、より具体的には１４５から２８０℃まで、さらにより具体的には１５０から２５０℃まで、非常にさらにより具体的には１５０から２３０℃まで、大変非常にさらにより具体的には１５５から２３０℃までである。
【００５４】
ＴＥＭＰ１−１の所与の最小点、最大点および／または範囲のいずれかは、ＰＲＥＳＳＵＲＥ１−１の所与の最小点、最大点および／または範囲のいずれかと組み合わせることができる。
【００５５】
好ましくは、ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥとＨＦとの混合物を装置ＤＥＶＩＣＥ１−１中でＴＥＭＰ１−１になるまで加熱し、ＤＥＶＩＣＥ１−１中でＲＥＡＣ１−１が起こる。
【００５６】
好ましくは、ＴＩＭＥ１−１は、混合物が、好ましくはＤＥＶＩＣＥ１−１中で、好ましくはＴＥＭＰ１−１になるまで、加熱に曝される時間である。ＴＩＭＥ１−１の間、ＲＥＡＣ１−１が起こる。従って、ＴＩＭＥ１−１は好ましくは滞留時間であり、好ましくはＤＥＶＩＣＥ１−１における混合物の滞留時間である。
【００５７】
好ましくは、ＴＩＭＥ１−１は１分間から２時間まで、より好ましくは２分間から１．５時間まで、さらにより好ましくは５分間から１時間まで、特に５分間から３０分間までである。
【００５８】
好ましくは、ＲＥＡＣ１−１において生成されるＨＣｌは、ＲＥＡＣ１−１の間に選択的に除去されず、式（Ｉ）の化合物を少なくとも８０％の収率で生成し；
より好ましくは、ＲＥＡＣ１−１中に生成されるＨＣｌは、ＲＥＡＣ１−１の間に選択的に除去されず、より高い収率で式（Ｉ）の化合物を生成し；
さらにより好ましくは、ＲＥＡＣ１−１中に生成されるＨＣｌは、ＲＥＡＣ１−１の間に選択的に除去されない。
【００５９】
別の好ましい実施形態では、ＲＥＡＣ１−１において生成されるＨＣｌは、選択的に除去されず、式（Ｉ）の化合物を少なくとも８０％の収率で生成し；
より好ましくは、ＲＥＡＣ１−１中に生成されるＨＣｌは、選択的に除去されず、より高い収率で式（Ｉ）の化合物を生成し；
さらにより好ましくは、ＲＥＡＣ１−１中に生成されるＨＣｌは、選択的に除去されない。
【００６０】
ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥは、例えば、３つの成分を混合することによって、既知の方法に従って調製することができる。
【００６１】
式（ＩＩ）の化合物、式（ＩＩＩ）の化合物、および式（ＩＶ）の化合物の３成分化合物以外のＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ中の他の成分は、例えば、溶媒であってもよい。そのような溶媒は、ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥの３成分に対しておよびＨＦに対して不活性である任意の溶媒であり得る。このような溶媒の例は、ＵＳ２０１５／０２４６８１２Ａ１に開示されている。
【００６２】
有機溶媒としては、特に、エステル類、ニトリル類またはジニトリル類、エーテル類またはジエーテル類、アミン類またはホスフィン類を言及することができ、例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、アセトニトリル、プロピオニトリル、イソブチロニトリル、グルタロニトリル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ジエチルイソプロピルアミン、ピリジン、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィンおよびジエチルイソプロピルホスフィンなど、好ましくは酢酸エチル、酢酸ブチル、アセトニトリル、ジオキサン、テトラヒドロフランおよびメチルテトラヒドロフランが挙げられる。
【００６３】
好ましくは、ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥにおける３つの成分の総含有率は、５０から１００％まで、より好ましくは７５から１００％まで、さらにより好ましくは９０から１００％まで、特に９５から１００％まで、より特には９７．５から１００％まで、さらにより特には９８から１００％までであり、％はＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥの総重量に基づく重量％である。
【００６４】
好ましい実施形態において、ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥは、３つの成分、即ち、式（ＩＩ）の化合物、式（ＩＩＩ）の化合物および式（ＩＶ）の化合物を含む。
【００６５】
別の好ましい実施形態では、ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥは、３つの成分、即ち、式（ＩＩ）の化合物、式（ＩＩＩ）の化合物、および式（ＩＶ）の化合物から本質的になる。
【００６６】
別の好ましい実施形態では、ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ中の３つの成分の相対比は、
２から９９％までの式（ＩＩ）の化合物、
４９から０．５％までの式（ＩＩＩ）の化合物、および
４９から０．５％までの式（ＩＶ）の化合物であり；
より好ましくは、
２から９８％までの式（ＩＩ）の化合物、
４９から１％までの式（ＩＩＩ）の化合物、および
４９から１％までの式（ＩＶ）の化合物であり；
さらにより好ましくは、
２から９６％までの式（ＩＩ）の化合物、
４９から２％までの式（ＩＩＩ）の化合物、および
４９から２％までの式（ＩＶ）の化合物であり；
特に、
５０から９６％までの式（ＩＩ）の化合物、
２５から２％までの式（ＩＩＩ）の化合物、および
２５から２％までの式（ＩＶ）の化合物であり；
より特には、
７０から９６％までの式（ＩＩ）の化合物、
１５から２％までの式（ＩＩＩ）の化合物、および
１５から２％までの式（ＩＶ）の化合物であり；
さらにより特には、
７５から９６％までの式（ＩＩ）の化合物、
１２．５から２％までの式（ＩＩＩ）の化合物、および
１２．５から２％までの式（ＩＶ）の化合物であり；
具体的には、
７５から９４％までの式（ＩＩ）の化合物、
１２．５から３％までの式（ＩＩＩ）の化合物、および
１２．５から３％までの式（ＩＶ）の化合物であり；
より具体的には、
７５から９２％までの式（ＩＩ）の化合物、
１２．５から４％までの式（ＩＩＩ）の化合物、および
１２．５から４％までの式（ＩＶ）の化合物であり；
％は重量％であり、ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ中の３つの成分の総合重量に基づき、３つの成分の相対比は合計で１００％になる。
【００６７】
好ましくは、ＨＦのモル量は、式（ＩＩ）の化合物のモル量に基づいて、２から４０倍まで、より好ましくは２から２０倍まで、さらにより好ましくは２から１２．５倍まで、特に２から１０倍まで、より特には２から５倍まで、さらにより特には２から４倍まで、具体的には２から３倍まで、より具体的には２から２．５倍までである。
【００６８】
原理的には、式（ＩＩ）の化合物のモル量に対して、準化学量論量、即ち、２当量未満で、ＨＦを使用することも可能である。当然のことながら、そのような場合、収率は、式（ＩＩ）の化合物に関してより低くなる。しかし、この実施形態も本発明に含まれる。従って、好ましくは、ＨＦのモル量は、式（ＩＩ）の化合物のモル量に基づいて、０．１から４０倍まで、より好ましくは０．２から４０倍まで、さらにより好ましくは０．５から４０倍まで、特に１から４０倍まで、より特には１．５から４０倍まで、さらにより特には１．７５から４０倍までである。
【００６９】
好ましくは、残基Ｘ１およびＸ２の少なくとも１つはＣｌ、ＢｒまたはＪ、より好ましくはＣｌまたはＢｒ、さらにより好ましくはＣｌである。
【００７０】
好ましくは、ＨＦの量の下限ＬＯＷＬＩＭＩＴは、残基Ｘ１およびＸ２の一方のみがＣｌ、ＢｒまたはＪである場合、式（ＩＩ）の化合物のモル量に基づいて１当量であり；
ＬＯＷＬＩＭＩＴは、残基Ｘ１およびＸ２の両方が同一であるかまたは異なっており、Ｃｌ、ＢｒおよびＪからなる群から選択される場合、２当量である。
【００７１】
好ましくは、ＨＦのモル量は、式（ＩＩ）の化合物のモル量に基づいて、ＬＯＷＬＩＭＩＴから４０倍まで、より好ましくはＬＯＷＬＩＭＩＴから２０倍まで、さらにより好ましくはＬＯＷＬＩＭＩＴから１２．５倍まで、特にＬＯＷＬＩＭＩＴから１０倍まで、より特にはＬＯＷＬＩＭＩＴから５倍まで、さらにより特にはＬＯＷＬＩＭＩＴから４倍まで、具体的にはＬＯＷＬＩＭＩＴから３倍まで、より具体的にはＬＯＷＬＩＭＩＴから２．５倍までである。
【００７２】
原理的には、式（ＩＩ）の化合物のモル量に関して、準化学量論量、即ち、ＬＯＷＬＩＭＩＴ未満でＨＦを使用することも可能である。当然のことながら、そのような場合、収率は、式（ＩＩ）の化合物に関してより低くなる。しかし、この実施形態も本発明に含まれる。従って、ＨＦのモル量は、式（ＩＩ）の化合物のモル量に基づいて、ＬＯＷＬＩＭＩＴの０．１から４０倍まで、より好ましくは０．２から４０倍まで、さらにより好ましくは０．５から４０倍まで、特に１から４０倍まで、より特には１．５から４０倍まで、さらにより特には１．７５から４０倍までであっても、好ましい。
【００７３】
これらのより低い範囲のいずれも、本明細書に与えられた上限範囲のいずれかと組み合わせることができ、その逆も可能である。
【００７４】
好ましくは、ＲＥＡＣ１−１は連続的に行われる。
【００７５】
好ましい実施形態では、ＳＴＥＰ１は、工程ＳＴＥＰ１−１および工程ＳＴＥＰ１−３の２つの連続する工程を含み；
ＳＴＥＰ１−１において、ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥとＨＦとの混合物である、混合物ＭＩＸＴＵＲＥ１−１は、装置ＤＥＶＩＣＥ１−１中でＴＥＭＰ１−１まで加熱され、ＲＥＡＣ１−１がＤＥＶＩＣＥ１−１で起こって反応混合物をもたらし、
ＳＴＥＰ１−３において、ＤＥＶＩＣＥ１−１からの反応混合物は、背圧調整のための装置である装置ＤＥＶＩＣＥ１−３を通る。
【００７６】
好ましくは、ＳＴＥＰ１は、ＳＴＥＰ１−３の前または後のいずれか、好ましくはＳＴＥＰ１−１とＳＴＥＰ１−３との間で行われる、第３の工程ＳＴＥＰ１−２を含み、ＳＴＥＰ１−２では、ＤＥＶＩＣＥ１−１からの反応混合物は、反応混合物を冷却するための装置である装置ＤＥＶＩＣＥ１−２を通る。
【００７７】
好ましくは、反応混合物は、ＤＥＶＩＣＥ１−２もしくはＤＥＶＩＣＥ１−３またはＤＥＶＩＣＥ１−２とＤＥＶＩＣＥ１−３との組み合わせの、反応混合物に対する作用によって、冷却される。
【００７８】
ＤＥＶＩＣＥ１−１、ＤＥＣＩＶＥ１−２およびＤＥＶＩＣＥ１−３は連続して作動する装置である。
【００７９】
時間ＴＩＭＥ１−２は、反応混合物が、好ましくはＴＥＭＰ１−２にまで冷却される時間である。好ましくは、冷却を、ＤＥＶＩＣＥ１−２の作動、ＤＥＶＩＣＥ１−３の作動、またはＤＥＶＩＣＥ１−２およびＤＥＶＩＣＥ１−３の作動によって行うことができる。従って、ＴＩＭＥ１−２は、好ましくは滞留時間であり、好ましくはＤＥＶＩＣＥ１−２および／またはＤＥＶＩＣＥ１−３における反応混合物の滞留時間である。
【００８０】
好ましくは、ＴＩＭＥ１−２は、０．１秒間から２時間まで、より好ましくは０．５秒間から１時間まで、さらにより好ましくは１秒間から３０分間まで、特に１０秒間から３０分間まで、より特には２５秒間から２５分間まで、さらにより特には１分間から２５分間までである。
【００８１】
ＳＴＥＰ１−２の冷却は、好ましくはＴＥＭＰ１−２の温度になるまで行われ、好ましくは、ＴＥＭＰ１−２は、０から１５０℃まで、より好ましくは１０から１００℃まで、さらにより好ましくは１０から５０℃まで、特に１５から４０℃まで、より特には１５から３０℃までである。
【００８２】
好ましくは、本方法は、さらに工程ＳＴＥＰ１−４を含み、ＳＴＥＰ１−４はＳＴＥＰ１−３の後に行われ、ＳＴＥＰ１−４では、ＤＥＶＩＣＥ１−３からの反応混合物は、反応混合物中の液体成分から気体成分を分離するための装置である装置ＤＥＶＩＣＥ１−４を通る。
【００８３】
ＲＥＡＣ１−１の副生成物は、ＨＣｌである。
【００８４】
好ましくは、ＭＩＸＴＵＲＥ１−１は、ＤＥＶＩＣＥ０−１に供給され、ＤＥＶＩＣＥ１−１を通過する間に、最初に供給されたＭＩＸＴＵＲＥ１−１が、ＲＥＡＣ１−１によって徐々に反応混合物に変換される。
【００８５】
ＤＥＶＩＣＥ１−１は、チューブ、マイクロリアクター、シェルおよびチューブ熱交換器、プレート熱交換器、および流体から熱を交換することを目的とする任意の一般的な装置からなる群から選択されることが好ましく；
より好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ１−１はチューブであり；
さらに好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ１−１はコイル状のチューブである。
【００８６】
ＤＥＶＩＣＥ１−２は、チューブ、マイクロリアクター、シェルおよびチューブ熱交換器、プレート熱交換器、および反応混合物から熱を交換することを目的とする任意の一般的な装置からなる群から選択されることが好ましく；
より好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ１−２はチューブであり；
さらに好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ１−２はコイル状のチューブである。
【００８７】
特に、ＤＥＶＩＣＥ１−１およびＤＥＶＩＣＥ１−２は、コイル状のチューブである。
【００８８】
ＤＥＶＩＣＥ１−３は、従来の背圧制御装置であることが好ましい。
【００８９】
好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ１−４は、気体成分を液体から分離することができる装置であり、この目的に適した任意の既知の装置をこの目的に使用することができ、より好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ１−４は、容器、カラムまたはサイクロンである。
【００９０】
好ましくはＤＥＶＩＣＥ１−１における加熱を、任意の既知の手段で行うことができ、好ましくは、該加熱は、電気加熱または流体の熱媒体による加熱によって行われる。
【００９１】
好ましくはＤＥＶＩＣＥ１−２における冷却を、任意の既知の手段で行うことができ、好ましくは、該冷却は、流体の冷却媒体によって行われる。
【００９２】
反応の規模、ひいては方法が行われる装置の規模に依存して、反応混合物の冷却は、反応混合物に対するＤＥＶＩＣＥ１−２の作用、即ち、反応混合物がＤＥＶＩＣＥ１−２を通過する間だけでなく、さらに反応混合物に対するＤＥＶＩＣＥ１−３の作用によっても行われ、即ち、ＤＥＶＩＣＥ１−３を通る通過は、冷却に寄与する。これは、特に、反応の規模が比較的小さい場合、例えば、この方法が実験室規模で行われる場合に当てはまり、一方、該方法が生産規模で行われる場合には、通常、冷却は、主にＤＥＶＩＣＥ１−２を通過する間に行われる。
【００９３】
別の実施形態では、特に生産規模では、ＤＥＶＩＣＥ１−３の作用により、膨張および圧力解放によって冷却を達成することもできる。
【００９４】
また、ＤＥＶＩＣＥ１−２を通過する間の冷却と、ＤＥＶＩＣＥ１−３によって行われる膨張による冷却との組み合わせも可能である。
【００９５】
従って、この説明がＤＥＶＩＣＥ１−２における冷却について言及する場合、この言及は、ＤＥＶＩＣＥ１−３における冷却ならびにＤＥＶＩＣＥ１−２およびＤＥＶＩＣＥ１−３の両装置における冷却も含む。
【００９６】
好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ１−１における加熱およびＤＥＶＩＣＥ１−２における冷却は、チューブ・イン・チューブ機構の形態、チューブ・イン・コンテナ機構の形態、シェルおよびチューブ熱交換器、プレート熱交換器または混合物もしくは反応混合物からの熱を交換することを目的とする任意の一般的な装置の形態で実現され；
より好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ１−１での加熱およびＤＥＶＩＣＥ１−２での冷却は、チューブ・イン・チューブ機構の形態またはチューブ・イン・コンテナ機構の形態で実現される。
【００９７】
ＲＥＡＣ１−１は、好ましくはＤＥＶＩＣＥ１−１において、混合物をＴＥＭＰ１−１まで、好ましくはＤＥＶＩＣＥ１−１中で、加熱することによって引き起こされる。
【００９８】
ＤＥＶＩＣＥ１−１中および好ましくはＤＥＶＩＣＥ１−２中のＰＲＥＳＳＵＲＥ１−１は、ＤＥＶＩＣＥ１−３によって制御され、維持される。
【００９９】
ＨＦおよびＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥは、予備混合物としてＤＥＶＩＣＥ１−１に供給されてもよく、またはＤＥＶＩＣＥ１−１に別々に供給されて、ＤＥＶＩＣＥ１−１中で混合されてもよい。
【０１００】
ＤＥＶＩＣＥ１−１の前にまたはＤＥＶＩＣＥ１−１の中で、ＨＦおよびＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥを混合する目的のために、混合のための任意の適切な設備を使用することができ、これらは、技術水準において公知であり、例えば、ＴまたはＹピース等の一般的な分岐接続、またはスタティックミキシング装置が挙げられる。
【０１０１】
好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ１−１におけるＴＥＭＰ１−１までの加熱は、ＨＦおよびＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥの両方がＤＥＶＩＣＥ１−１中に存在する場合にのみ行われる。
【０１０２】
ＨＦおよびＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥの供給は、別々にまたは混合物の形態で、装置ＤＥＶＩＣＥ１−０によって行われる。
【０１０３】
ＤＥＶＩＣＥ１−０は、ポンプ等の、圧力を背景にして流体を搬送するために従来から使用されている加圧装置である。ＨＦおよびＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥがＤＥＶＩＣＥ１−１に別々に供給される場合、ＤＥＶＩＣＥ１−０は、好ましくは各成分試薬に対してそれぞれの装置を有し、即ち、ＨＦを搬送するための装置ＤＥＶＩＣＥ１−０−ＨＦとＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥを搬送するための装置ＤＥＶＩＣＥ１−０−ＭＩＸＴＲＩＰとを有する。
【０１０４】
好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ１−１およびＤＥＶＩＣＥ１−２は、作動の間、互いに永久的な流体接続状態であり、両方ともＰＲＥＳＳＵＲＥ１−１の下にある。
【０１０５】
好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ１−０は、ＤＥＶＩＣＥ１−３に対しＤＥＶＩＣＥ１−１中およびＤＥＶＩＣＥ１−２中でＰＲＥＳＳＵＲＥ１−１を構築する装置であり、これはＴＥＭＰ１−１でＲＥＡＣ１−１を実行するために必要である。
【０１０６】
より好ましくは、ＨＦとＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥとは、予備混合された後に、ＤＥＶＩＣＥ１−１に供給される。
【０１０７】
ＰＲＥＳＳＵＲＥ１−１は、選択されたＴＥＭＰ１−１における蒸気圧のために必要とされる圧力であってもよく、ＰＲＥＳＳＵＲＥ１−１はまた、蒸気圧よりも高くてもよい。蒸気圧よりも高いＰＲＥＳＳＵＲＥ１−１を選択する際の考慮事項は、例えば、ＤＥＶＩＣＥ１−０の要件とすることができる。特に、ＲＥＡＣ１−１が連続的に行われる場合、通常、蒸気圧より高いＰＲＥＳＳＵＲＥ１−１が選択され、そして蒸気圧より高く設定される。
【０１０８】
ＤＥＶＩＣＥ１−１および任意のＤＥＶＩＣＥ１−２が、構造上の制約または密度変動等のために、チューブ、特にコイル状チューブである場合、ホットスポットまたはコールドスポットが、それらを回避する努力にもかかわらず発生し得る。従って、本明細書で言及される全ての温度は、起こり得るホットスポットまたはコールドスポットの観点から、平均温度であることが意図される。
【０１０９】
ＤＥＶＩＣＥ１−３に使用できる従来の背圧制御装置は、不連続に、即ち、交互に開閉することにより作動し、圧力を保持しながら生成物流を放出する。これは当然、圧力の変動につながる。ＰＲＥＳＳＵＲＥ１−１のこれらの起こり得る変動を考慮して、本明細書で言及される全ての圧力は、平均圧力であることが意図される。
【０１１０】
ＨＦおよびＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥの混合物およびＲＥＡＣ１−１から生じる反応混合物と接触する全ての部分は、それぞれの条件下で化学薬品の攻撃に耐性のあるそれぞれの材料、即ち、ステンレス鋼、ハステロイ（例えば、ハステロイＢまたはハステロイＣ）、チタン、タンタル、炭化ケイ素、窒化ケイ素等から製造され、それらはまた、不動態化処理されてもよく、またはＰＴＦＥのような化学薬品に対して不活性な材料で裏打ちされてもよい。
【０１１１】
式（Ｉ）の化合物は、ＤＥＶＩＣＥ１−３から使用することができる。
【０１１２】
好ましくは、いかなる気体成分も、式（Ｉ）の化合物から分離される。この分離は、好ましくはＤＥＶＩＣＥ１−４で行われる。従って、式（Ｉ）の化合物は、ＤＥＶＩＣＥ１−３またはＤＥＶＩＣＥ１−４から、好ましくはさらに精製することなく、任意のその後の反応に使用することができる。ＤＥＶＩＣＥ１−３またはＤＥＶＩＣＥ１−４からの生成物をさらに精製することができ、好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ１−３またはＤＥＶＩＣＥ１−４から得られた液相は、あらゆる残留低沸点残留物を除去することによってさらに精製され、好ましくは、この精製は、薄膜蒸発器、拭き取り薄膜蒸発器、流下膜式蒸留、蒸留、精留、フラッシュ蒸留または短路蒸留を使用して、より好ましくは拭き取り薄膜蒸発器を使用して、行われる。
【０１１３】
好ましくは、工程ＳＴＥＰ０において、ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥが調製され；
ＳＴＥＰ０は、ＳＴＥＰ１の前に実行され；
ＳＴＥＰ０は、反応ＲＥＡＣ０−１を含み；
ＲＥＡＣ０−１は、式（ＩＩＩ）の化合物と式（ＩＶ）の化合物との反応である。
【０１１４】
好ましくは、ＲＥＡＣ０−１における式（ＩＶ）の化合物のモル量は、式（ＩＩＩ）の化合物のモル量の０．５から１．５倍まで、より好ましくは０．７５から１．２５倍まで、さらにより好ましくは０．８５から１．１５倍までである。
【０１１５】
好ましくは、ＲＥＡＣ０−１は、温度ＴＥＭＰ０−１で行われ、ＴＥＭＰ０−１は、１８０から３００℃まで、より好ましくは１９０から２８０℃まで、さらにより好ましくは２００から２６０℃まで、特に２１０から２５５℃まで、より特には２２０から２５５℃までである。
【０１１６】
好ましくは、ＲＥＡＣ０−１は、時間ＴＩＭＥ０−１で行われ、ＴＩＭＥ０−１は、０．５秒間から４時間まで、より好ましくは１秒間から２時間まで、さらにより好ましくは１分間から１時間まで、特に２分間から３０分間まで、より特には２分間から２０分間まで、さらにより特には３分間から１７分間までである。
【０１１７】
ＲＥＡＣ０−１は、圧力ＰＲＥＳＳＵＲＥ０−１にて行われ、好ましくはＰＲＥＳＳＵＲＥ０−１は、１０から１０００バールまで、より好ましくは２０から６００バールまで、さらにより好ましくは５０から５００バールまで、特に６０から４００バールまで、より特には６５から３００バールまで、さらには６５から２００バールまで、具体的には６５から１５０バールまでである。
【０１１８】
好ましくは、ＲＥＡＣ０−１は、連続的に行われる。
【０１１９】
好ましい実施形態では、ＳＴＥＰ０は、１つの工程ＳＴＥＰ０−１を含み；
ＳＴＥＰ０−１は、反応ＲＥＡＣ０−１を含み；
ＳＴＥＰ０−１では、式（ＩＩＩ）の化合物および式（ＩＶ）の化合物の混合物ＭＩＸＴＵＲＥ０−１がＤＥＶＩＣＥ０−１中でＴＥＭＰ０−１になるまで加熱されて、ＲＥＡＣ０−１がＤＥＶＩＣＥ０−１で起こり、反応混合物が生じる。
【０１２０】
別のより好ましい実施形態では、ＳＴＥＰ０は、別の工程ＳＴＥＰ０−３を含み；
ＳＴＥＰ０−３は、ＳＴＥＰ０−１の後に実行され；
ＳＴＥＰ０−３では、ＤＥＶＩＣＥ０−１からの反応混合物は、背圧調整のための装置である装置ＤＥＶＩＣＥ０−３を通る。
【０１２１】
別のより好ましい実施形態では、ＳＴＥＰ０は、別の工程ＳＴＥＰ０−２を含み；
ＳＴＥＰ０−２は、ＳＴＥＰ０−１の後またはＳＴＥＰ０−３の後に実行され；
ＳＴＥＰ０−２では、ＤＥＶＩＣＥ０−１またはＤＥＶＩＣＥ０−３からの反応混合物は、反応混合物を冷却するための装置である装置ＤＥＶＩＣＥ０−２を通る。
【０１２２】
別の好ましい実施形態では、ＳＴＥＰ０は、ＳＴＥＰ０−１、ＳＴＥＰ０−２およびＳＴＥＰ０−３の３つの工程全てを含み；
好ましくは、ＳＴＥＰ０−２は、ＳＴＥＰ０−１の後かつＳＴＥＰ０３の前に実行される。
【０１２３】
好ましくは、反応混合物は、ＤＥＶＩＣＥ０−２もしくはＤＥＶＩＣＥ０−３またはＤＥＶＩＣＥ０−２とＤＥＶＩＣＥ０−３との組み合わせの、反応混合物に対する作用によって、冷却される。
【０１２４】
好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ０−１、ＤＥＣＩＶＥ０−２およびＤＥＶＩＣＥ０−３は、連続して作動する装置である。
【０１２５】
好ましくは、この方法は、ＳＴＥＰ０−３の後に行われる別の工程ＳＴＥＰ０−４を含み、ＳＴＥＰ０−４では、ＤＥＶＩＣＥ０−３からの反応混合物は、反応混合物からＣＯ２を分離するための装置である装置ＤＥＶＩＣＥ０−４を通る。
【０１２６】
好ましくは、ＲＥＡＣ０−１は、管状反応器中で行われる。
【０１２７】
好ましくは、ＭＩＸＴＵＲＥ０−１は、ＤＥＶＩＣＥ０−１に供給され、ＤＥＶＩＣＥ０１を通過する間に、最初に供給されたＭＩＸＴＵＲＥ０−１は、ＲＥＡＣ０−１によって徐々に反応混合物に変換される。
【０１２８】
好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ０−１からの反応混合物は、ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥである。
【０１２９】
ＤＥＶＩＣＥ０−１は、チューブ、マイクロリアクター、シェルおよびチューブ熱交換器、プレート熱交換器および混合物からの熱を交換することを目的とする任意の一般的な装置からなる群から選択されることが好ましく；
より好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ０−１は、チューブであり；
さらに好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ０−１は、コイル状のチューブである。
【０１３０】
ＤＥＶＩＣＥ０−２は、チューブ、マイクロリアクター、シェルおよびチューブ熱交換器、プレート熱交換器および混合物からの熱を交換することを目的とする任意の一般的な装置からなる群から選択されることが好ましく；
より好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ０−２は、チューブであり；
さらに好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ０−２は、コイル状のチューブである。
【０１３１】
特に、ＤＥＶＩＣＥ０−１およびＤＥＶＩＣＥ０−２は、コイル状のチューブである。
【０１３２】
好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ０−３は、従来の背圧調整装置である。
【０１３３】
好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ０−４は、気体ＣＯ２を液体から分離することができる装置であり、この目的に適した任意の既知の装置をこの目的のために使用することができ、より好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ０−４は、カラム、サイクロンまたは容器である。
【０１３４】
好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ０−１における加熱を、任意の既知の手段で行うことができ、好ましくは、該加熱は、電気加熱または流体の熱媒体による加熱によって行われる。
【０１３５】
ＤＥＶＩＣＥ０−２における冷却を、任意の既知の手段で行うことができ、好ましくは、該加熱は、流体の冷却媒体によって行われる。
【０１３６】
反応の規模、ひいてはこの方法が行われる装置の規模に依存して、反応混合物の冷却は、反応混合物に対するＤＥＶＩＣＥ０−２の作用によって、即ち、反応混合物のＤＥＶＩＣＥ０−２の通過中に行われるか、またはそれは反応混合物に対するＤＥＶＩＣＥ０−３の作用によって行われてもよく、即ち、ＤＥＶＩＣＥ０−３の通過が冷却に寄与してもよい。これは、特に、反応の規模が比較的小さい場合、例えば、この方法が実験室規模で行われる場合に当てはまり、一方この方法が生産規模で行われる場合、冷却は、通常、主にＤＥＶＩＣＥ０−２を通過する間に行われる。
【０１３７】
別の実施形態では、特に生産規模では、ＤＥＶＩＣＥ０−３の作用による膨張および圧力解放によって、冷却を達成することもできる。
【０１３８】
また、ＤＥＶＩＣＥ０−２の通過時の冷却とＤＥＶＩＣＥ０−３の作用による膨張による冷却との組み合わせも、可能である。
【０１３９】
好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ０−１における加熱およびＤＥＶＩＣＥ０−２における冷却は、チューブ・イン・チューブ機構の形態、チューブ・イン・コンテナ機構の形態、シェルおよびチューブ熱交換器、プレート熱交換器または混合物または反応混合物からの熱を交換することを目的とする任意の一般的な装置の形態で実現され；
より好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ０−１での加熱およびＤＥＶＩＣＥ０−２での冷却は、チューブ・イン・チューブ機構の形態またはチューブ・イン・コンテナ機構の形態で実現される。
【０１４０】
ＲＥＡＣ０−１は、好ましくはＤＥＶＩＣＥ０−１において、ＭＩＸＴＵＲＥ０−１をＴＥＭＰ０−１まで加熱することによって引き起こされる。
【０１４１】
ＳＴＥＰ０−２における冷却は、好ましくは、温度ＴＥＭＰ０−２になるまで行われ、好ましくは、ＴＥＭＰ０−２は０から１８０℃まで、より好ましくは０から１５０℃まで、さらにより好ましくは１０から１２０℃まで、特に１５から１００℃まで、より特には１５から９０℃まで、さらにより特には１５から８５℃まで、具体的には２０から８５℃までである。
【０１４２】
好ましくは、ＲＥＡＣ０−１は、ＤＥＶＩＣＥ０−２においてもしくはＤＥＶＩＣＥ０−３において、または両方において反応混合物を冷却すること、好ましくはＴＥＭＰ０−２までの冷却によって、停止される。
【０１４３】
式（２）の化合物を式（３）の化合物とクロロスルホン酸との反応によりＲＥＡＣ０−１において調製する場合、式（２）の純粋な化合物の融点は、約３５℃である。したがって、反応混合物中の式（３）の残留化合物および残留クロロスルホン酸が当然に反応後の反応混合物の融点を低下させ、ＴＥＭＰ０−２の値をより低くすることから、ＴＥＭＰ０−２の考えられる最低値は、反応の変換によって支配される。
【０１４４】
ＤＥＶＩＣＥ０−１におけるおよび任意選択のＤＥＶＩＣＥ０−２におけるＰＲＥＳＳＵＲＥ０−１は、ＤＥＶＩＣＥ０−３によって制御および保持される。
【０１４５】
ＴＩＭＥ０−１は、ＭＩＸＴＵＲＥ０−１が加熱に、そしてＴＥＭＰ０−１にさらされる時間である。ＴＩＭＥ０−１の間、ＲＥＡＣ０−１が起こる。従って、ＴＩＭＥ０−１は滞留時間であり、ＲＥＡＣ０−１がＤＥＶＩＣＥ０−１中で起こる場合、ＴＩＭＥ０−１は、好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ０−１における混合物の滞留時間である。
【０１４６】
時間ＴＩＭＥ０−２は、反応混合物がＴＥＭＰ０−２になるまで冷却される時間である。冷却は、ＤＥＶＩＣＥ０−２の作動、ＤＥＶＩＣＥ０−３の作動、またはＤＥＶＩＣＥ０−２およびＤＥＶＩＣＥ０−３の作動によって行うことができる。冷却は、反応を停止させる。従って、ＴＩＭＥ０−２は、滞留時間であり、好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ０−２、ＤＥＶＩＣＥ０−３、またはその両方における反応混合物の滞留時間である。
【０１４７】
好ましくは、ＴＩＭＥ０−２は、０．１秒間から２時間まで、より好ましくは０．５秒間から１時間まで、さらにより好ましくは１秒間から３０分間まで、特に１０秒間から３０分間まで、より特には２５秒間から２５分間まで、さらにより特には１分間から２５分間までである。
【０１４８】
好ましくは、ＴＩＭＥ０−２は、ＴＩＭＥ０−１の０．０００１から０．５倍まで、より好ましくは０．００１から０．３倍までである。
【０１４９】
式（ＩＩＩ）の化合物および式（ＩＶ）の化合物は、予備混合物としてＤＥＶＩＣＥ０−１に供給されてもよく、または別々にＤＥＶＩＣＥ０−１に供給されて、ＤＥＶＩＣＥ０−１において混合されてもよい。
【０１５０】
ＤＥＶＩＣＥ０−１の前またはＤＥＶＩＣＥ０−１の中における混合の目的のために、混合のための任意の適切な設備を使用することができ、これらは、技術水準で公知であり、例えば、ＴまたはＹピース等の一般的な分岐接続、またはスタティックミキシング装置が挙げられる。
【０１５１】
好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ０−１におけるＴＥＭＰ０−１までの加熱は、式（ＩＩＩ）の化合物および式（ＩＶ）の化合物がＤＥＶＩＣＥ０−１中に混合物として存在するようになった後にのみ行われる。
【０１５２】
別々にまたは混合物の形態の式（ＩＩＩ）の化合物および式（ＩＶ）の化合物の供給は、装置ＤＥＶＩＣＥ０−０によって行われる。
【０１５３】
ＤＥＶＩＣＥ０−０は、ポンプ等の、圧力を背景にして流体を搬送するために従来から使用されている加圧装置である。式（ＩＩＩ）の化合物および式（ＩＶ）の化合物がＤＥＶＩＣＥ０−１に別々に供給される場合、好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ０−０は、それぞれの成分に対してそれぞれの装置を有し、即ち、式（ＩＩＩ）の化合物を搬送するための装置ＤＥＶＩＣＥ０−０−ＣＯＭＰ３と、式（ＩＶ）の化合物を搬送するための装置ＤＥＶＩＣＥ０−０−ＣＳＡとを有する。
【０１５４】
好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ０−１および任意のＤＥＶＩＣＥ０−２および任意のＤＥＶＩＣＥ０−３は、作動の間、互いに永久的な流体接続状態であり、両方ともＰＲＥＳＳＵＲＥ０−１の下にある。
【０１５５】
好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ０−０は、ＤＥＶＩＣＥ０−１およびＤＥＶＩＣＥ０−２において、ＤＥＶＩＣＥ０−３に対してＰＲＥＳＳＵＲＥ０−１を構築する装置であり、ＴＥＭＰ０−１においてＲＥＡＣ０−１を実行するために必要である。
【０１５６】
より好ましくは、式（ＩＩＩ）の化合物および式（ＩＶ）の化合物は、周囲圧力および周囲温度で混合され、次にＤＥＶＩＣＥ０−１に供給される。
【０１５７】
ＤＥＶＩＣＥ０−１および／またはＤＥＶＩＣＥ０−２がチューブ、特にコイル状のチューブである場合、構造上の制約または密度変動等により、ホットスポットまたはコールドスポットが、それらを回避する努力にもかかわらず生じる可能性がある。従って、言及されたあらゆる温度は、起こりうるホットスポットまたはコールドスポットの点を考慮して、平均温度であることが意図される。
【０１５８】
ＤＥＶＩＣＥ０−３のために使用することができる従来の背圧調整装置は、通常、不連続に作動し、即ち、開閉することによって、圧力を保持しながら生成物流を放出する。これは当然、圧力の変動につながる。従って、ＰＲＥＳＳＵＲＥ０−１は、平均圧力であることが意図される。
【０１５９】
ＭＩＸＴＵＲＥ０−１および反応混合物と接触する全ての部分は、それぞれの条件下で化学薬品の攻撃に耐性のあるそれぞれの材料、即ち、ステンレス鋼、ハステロイ（例えば、ハステロイＢまたはハステロイＣ）、チタン、タンタル、炭化ケイ素、窒化ケイ素等から作られており、それらはまた、不動態化処理されてもよく、または化学薬品に対して不活性な材料、例えば、ＰＴＦＥで裏打ちされてもよい。
【０１６０】
ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥは、さらなる精製なしで、ＤＥＶＩＣＥ０−１、ＤＥＶＩＣＥ０−２、ＤＥＶＩＣＥ０−３またはＤＥＶＩＣＥ０−４、好ましくはＤＥＶＩＣＥ０−３またはＤＥＶＩＣＥ０−４からＲＥＡＣ１−１のために使用することができ、さらに精製する場合には、好ましくは、ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ、例えば、ＤＥＶＩＣＥ０−４から得られる液相は、あらゆる低沸点残留物を除去することによってさらに精製され、好ましくは、この精製は、薄膜蒸発器、拭き取り薄膜蒸発器、流下膜蒸発、蒸留、精留、フラッシュ蒸留または短路蒸留によって；より好ましくは拭き取り薄膜蒸発器によって行われる。
【０１６１】
特に好ましい実施形態では、ＲＥＡＣ０−１およびＲＥＡＣ１−１は、好ましくは成分の流れを中断することなく、連続的かつ継続的に行われ、好ましくはＤＥＶＩＣＥ０−１およびＤＥＶＩＣＥ１−１は接続されており、好ましくは、（例えばＤＥＶＩＣＥ０−２を介して）流体接続されている。
【０１６２】
この場合、ＤＥＶＩＣＥ０−３、ＤＥＶＩＣＥ０−４およびＤＥＶＩＣＥ１−０は、必ずしも必要とされるものではなく、むしろＰＲＥＳＳＵＲＥ０−１およびＰＲＥＳＳＵＲＥ１−１は同一であってもよく、ＤＥＶＩＣＥ０−０により、ＤＥＶＩＣＥ１−３の作動に対して構築することができる。
【０１６３】
装置の全機構の寸法および構造に依存して、ＤＥＶＩＣＥ０−２もまた必ずしも必要とされるものではないか、またはＤＥＶＩＣＥ０−２は、ＤＥＶＩＣＥ０−１およびＤＥＶＩＣＥ１−１を接続するチューブ等の装置（単数または複数）によって簡単に実現することができる。
【０１６４】
好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ０−１または任意のＤＥＶＩＣＥ０−２からの反応混合物を、ＲＥＡＣ１−１のためのＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥとして使用することができ；
より好ましくは、任意のＤＥＶＩＣＥ０−２からの反応混合物は、ＲＥＡＣ１−１のためのＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥとして使用され得；
さらにより好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ０−１からの反応混合物をＤＥＶＩＣＥ０−２中で１２０から２１０℃まで、好ましくは１２０から２００℃まで、より好ましくは１２０から１８０℃までの温度ＴＥＭＰ０−２にまで冷却し；次いでＤＥＶＩＣＥ０−２からの混合物は、ＤＥＶＩＣＥ１−１において、ＲＥＡＣ１−１のためのＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥとして使用される。
【０１６５】
別の好ましい実施形態において、任意のＤＥＶＩＣＥ０−３または任意のＤＥＶＩＣＥ０−４からの反応混合物を、ＲＥＡＣ１−１のためのＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥとして使用することができる。
【０１６６】
別の好ましい実施形態では、ＰＲＥＳＳＵＲＥ０−１およびＰＲＥＳＳＵＲＥ１−１は同一ではなく、より好ましくは、ＰＲＥＳＳＵＲＥ１−１は、ＰＲＥＳＳＵＲＥ０−１よりも低く；
より好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ０−３からの反応混合物が、ＲＥＡＣ１−１のためのＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥとして使用され；
さらにより好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ０−４からの反応混合物が、ＲＥＡＣ１−１のためのＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥとして使用される。
【０１６７】
ＤＥＶＩＣＥ０−１またはＤＥＶＩＣＥ０−２からの反応混合物がＲＥＡＣ１−１のためのＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥとして直接使用される場合、ＳＴＥＰ０−１の後のあらゆる冷却、好ましくはＳＴＥＰ０−２における冷却は、ＲＥＡＣ０−１からの反応混合物の場合のように徹底的である必要はなく、即ち、ＤＥＶＩＣＥ０−１、ＤＥＶＩＣＥ０−２またはＤＥＶＩＣＥ０−３からの反応混合物は、ＲＥＡＣ１−１のためのＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥとして直ちに使用されず、その間に幾分かの時間間隔がある。この場合、ＳＴＥＰ０−１の後のあらゆる冷却、例えば、ＳＴＥＰ０−２における冷却は、冷却後の目標温度がＲＥＡＣ０−１から得られた反応混合物の分解温度未満であることを確実にすべきであることが、好ましい。
【実施例】
【０１６８】
方法：
ＨＦＳＩの収率を、特に断らない限り、溶媒としてのＤ３−アセトニトリル中でベンゼンスルホニルフルオリドを内部基準として使用する１９Ｆ−ＮＭＲによって決定した。
【０１６９】
材料
混合物ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−９０−５−５を、ＷＯ２０１５／００４２２０Ａ１号の実施例１５に従って調製する。このＷＯ２０１５／００４２２０Ａ１号の実施例１５に記載された９５％の変換率は、混合物中に５％の残留ＣＳＩが存在することを意味する。従って、当量のクロロスルホン酸が、混合物中にも存在すると考えられる。従って、ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−９０−５−５は、式（２）の化合物約９０％、式（３）の化合物５％およびクロロスルホン酸５％を含み、％はＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−９０−５−５の総重量に基づく重量％である。
【０１７０】
混合物ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−８５−７．５−７．５を、ＷＯ２０１５／００４２２０Ａ１号の実施例５に従って調製する。このＷＯ２０１５／００４２２０Ａ１号の実施例５に記載された９２．４％の変換率は、混合物中に７．６％の残留ＣＳＩが存在することを意味する。従って、当量のクロロスルホン酸が混合物中にも存在すると考えられる。従って、ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−８５−７．５−７．５は、式（２）の化合物およそ８５％、式（３）の化合物およそ７．５％およびクロロスルホン酸およそ７．５％を含み、％はＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−８５−７．５−７．５の総重量に基づく重量％である。
【０１７１】
［実施例１］
本実施例を、以下を用いて実施した。
・  ＤＥＶＩＣＥ１−０−ＨＦ：ＩＳＣＯテレダイン（Ｔｅｌｅｄｙｎｅ）製ピストンポンプ２６０Ｄ
・  ＤＥＶＩＣＥ１−０−ＭＩＸＴＲＩＰ：ＩＳＣＯテレダイン製ピストンポンプ２６０Ｄ
・  ＤＥＶＩＣＥ１−１は、ハステロイＣで作られた３．８ｍＬの内部容積ＶＯＬＵＭＥ１を有する１／８インチのコイル状のチューブである。加熱のために、コイル状のチューブ・イン・コンテナ機構を使用した。加熱媒体は従来の油であった。
・  ＤＥＶＩＣＥ１−２は、ハステロイＣで作られた約１．５ｍＬの内部容積を有する１／８インチのコイル状のチューブである。冷却を、このチューブと室温を有する空気とを単に接触させることによって行った。
・  ＤＥＶＩＣＥ１−３：０．０１というＣｖ値を有するＳＡＭＳＯＮ  Ｍｉｃｒｏｖａｌｖｅタイプ３５１０−７の空気圧制御バルブ。
・  ＤＥＶＩＣＥ１−４：本質的にＨＣｌおよび過剰のＨＦである、あらゆる気体成分を、ステンレス鋼製の換気された容器内で反応混合物から分離した。
【０１７２】
ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−９０−５−５を、ＨＦと同時に、８０バールのＰＲＥＳＳＵＲＥ１−１にてＤＥＶＩＣＥ１−１に供給した（ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−９０−５−５をＤＥＶＩＣＥ１−０−ＭＩＸＴＲＩＰによって０．１１８ｍＬ／分の流速で供給し、ＨＦをＤＥＶＩＣＥ１−０−ＨＦによって０．１３７ｍｌ／分の流速で供給した）。ＴＩＭＥ１−１は約１５分間、ＴＥＭＰ１−１は１６０℃であった。これらの流速から得られたＨＦ：ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−９０−５−５のモル比は、約８：１であった。次いで、ＤＥＶＩＣＥ１−１からの反応混合物を、ＤＥＶＩＣＥ１−２において、室温であるＴＥＭＰ１−２にまで冷却した。ＴＩＭＥ１−２は約５．９分間であった。次にＤＥＶＩＣＥ１−３によって膨張させ、ＤＥＶＩＣＥ１−４に入れた。収集した液体は、ＨＦＳＩであり、１９Ｆ  ＮＭＲにより確認された。
【０１７３】
収率は、ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−９０−５−５中の式（２）の化合物に基づいて、８９％であった。
【０１７４】
［実施例２］
ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−９０−５−５をＤＥＶＩＣＥ１−０−ＭＩＸＴＲＩＰにより０．１９８ｍｌ／分の流速で供給し、ＨＦをＤＥＶＩＣＥ１−０−ＨＦによって０．０５７ｍｌ／分の流速で供給したことを唯一の相違点として、実施例１を繰り返し、これらの流速から、約２：１であるＨＦ：ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−９０−５−５のモル比を得た。
【０１７５】
他のパラメータは、実施例１と同じであった。
【０１７６】
収率は、ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−９０−５−５中の式（２）の化合物に基づいて、７２％であった。
【０１７７】
［実施例３］
本実施例を、以下を用いて実施した。
・  ＤＥＶＩＣＥ０−０：ＩＳＣＯテレダイン製ピストンポンプ２６０Ｄ
・  ＤＥＶＩＣＥ１−０−ＨＦ：ＩＳＣＯテレダイン製ピストンポンプ２６０Ｄ
・  ＤＥＶＩＣＥ０−１：ハステロイＣで作られた５ｍＬの内部容積ＶＯＬＵＭＥ０を有する１／８インチのコイル状のチューブ。加熱のために、コイル状のチューブ・イン・コンテナ機構を使用した。加熱媒体は従来の油であった。
・  ＤＥＶＩＣＥ１−１は、ハステロイＢで作られた３．８ｍＬの内部容積ＶＯＬＵＭＥ１を有する１／８インチのコイル状のチューブである。加熱のために、コイル状のチューブ・イン・コンテナ機構を使用した。加熱媒体は従来の油であった。
・  ＤＥＶＩＣＥ１−２はハステロイＣで作られた約１．５ｍＬの内部容積を有する１／８インチのコイル状のチューブである。冷却は、このチューブを室温を有する空気と単に接触させることによって行った。
・  ＤＥＶＩＣＥ１−３：０．０１というＣｖ値を有するＳＡＭＳＯＮ  Ｍｉｃｒｏｖａｌｖｅタイプ３５１０−７の空気圧制御バルブ。
・  ＤＥＶＩＣＥ１−４：停止目的ならびに全てのＨＣｌおよびＨＦを中和するために、１５重量％のＮａＯＨ水溶液を充填したガラス容器。
【０１７８】
ＣＳＯＳおよび式（３）の化合物の等モル混合物を、ＤＥＶＩＣＥ０−０により、８０バールのＰＲＥＳＳＵＲＥ０−１にて０．７７ｍｌ／分の流速で、ＤＥＶＩＣＥ０−１に供給した。ＤＥＶＩＣＥ０−１のＴＥＭＰ０−１は、２３０℃であり、ＴＩＭＥ０−１は約５分間であった。
【０１７９】
得られた本実施例のＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥの流れを、ＤＥＶＩＣＥ０−１から出した。
【０１８０】
このＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥの試料を採取し、分析により式（３）の化合物約１０．７重量％の含有率を明らかにした。これは、このＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ中の３成分の相対比が、
８０％の式（２）の化合物、
１０％の式（３）の化合物、および
１０％のクロロスルホン酸
であることを意味し、
％はこのＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥの総重量に基づく重量％である。
【０１８１】
次いで、このＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥの流れに、ＤＥＶＩＣＥ１−０−ＨＦにより０．２４ｍｌ／分の流速で８０バールのＰＲＥＳＳＵＲＥ１−１にて、室温のＨＦを供給し、このＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥとＨＦとの混合物を生じさせ、この混合物をＤＥＶＩＣＥ  １−１に入れた。ＤＥＶＩＣＥ１−１のＴＥＭＰ１−１は、１６０℃であり、ＴＩＭＥ１−１は、約３分間であった。これらの流速から得られたＨＦ：このＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥのモル比は、約３：１であった。次いでＤＥＶＩＣＥ１−１から出した反応混合物をＤＥＶＩＣＥ１−２に入れた。ＴＥＭＰ１−２は、室温であった。次いで、ＤＥＶＩＣＥ１−２から出した反応混合物をＤＥＶＩＣＥ１−３によって膨張させ、次に停止目的のためにＤＥＶＩＣＥ１−４に供給した。反応混合物の試料を、ＤＥＶＩＣＥ１−３とＤＥＶＩＣＥ１−４との間で採取し、この試料を水と混合し（試料１重量部および水９重量部）、１９Ｆ  ＮＭＲで分析し、それがＨＦＳＩであることを確認した。
【０１８２】
収率は、式（３）の化合物に基づいて、７０％であった。
【０１８３】
［実施例４］
以下の相違点を除いて、実施例１を繰り返した。
【０１８４】
ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−９０−５−５を、ＤＥＶＩＣＥ１−０−ＭＩＸＴＲＩＰにより１．０７ｍｌ／分の流速で供給した。
【０１８５】
ＨＦを、ＤＥＶＩＣＥ１−０−ＨＦにより０．４６ｍｌ／分の流速で供給した。
【０１８６】
ＴＩＭＥ１−１は、約２．５分間であった。
【０１８７】
これらの流速から得られたＨＦ：ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−９０−５−５のモル比は、約３：１であった。
【０１８８】
ＴＩＭＥ１−２は、約１．５分間であった。
【０１８９】
収率は、ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−９０−５−５中の式（２）の化合物に基づいて、９０％であった。
【０１９０】
［実施例５］
以下の相違点を除いて実施例１を繰り返した。
【０１９１】
ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−８５−７．５−７．５を、ＤＥＶＩＣＥ１−０−ＭＩＸＴＲＩＰにより１．２２ｇ／分の流速で供給した。
【０１９２】
ＨＦを、ＤＥＶＩＣＥ１−０−ＨＦにより０．１８ｇ／分の流速で供給した。
【０１９３】
ＴＩＭＥ１−１は、約５分間であった。
【０１９４】
これらの流速から得られたＨＦ：ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−８５−７．５−７．５のモル比は、約１．９：１であった。
【０１９５】
これらの条件下で、ＨＦＳＩを生成した。
【０１９６】
収率６１．６％
【０１９７】
［実施例６］
実施例５に従って調製した２３４．９ｇのＨＦＳＩを、１０から２０℃までの温度を維持しながら水（３７３ｇ）およびＴＥＡ（２８５．２ｇ）の溶液に加えた。次いで、ＴＥＡ（１２５．６ｇ）の添加によりｐＨ値を９に調整した。次に混合物をＶＮで抽出した（それぞれ１４０ｇで２回）。有機層を合わせて（４７５．６８ｇ、２１．６９重量％ＨＦＳＩ、ＡＣＮ中の定量的１９Ｆ−ＮＭＲにより決定）、２５℃にて水（それぞれ１５３．６ｇで２回）で抽出した。有機層にＮＨ３（３．９１ｇ）を加え、それにより再び水層を形成し、これを分離させて捨てた。次いで、有機層にＬｉＯＨ水溶液（９５．８１ｇ、約１２．５重量％、ＬｉＯＨ×Ｈ２Ｏ「電池グレード」および水から調製）を加え、形成した水層を分離させて捨て、次いで水性ＬｉＯＨ（９５．６１ｇ、約１２．５重量％、ＬｉＯＨ×Ｈ２Ｏ「電池グレード」および水から調製）を添加した。水層を再び分離させて、捨てた。ＶＮ／ＴＥＡ中のＬｉＦＳＩの溶液を得た（４１４．８３ｇ）。
【０１９８】
溶液を６０℃にて真空下（３０ミリバール）で濃縮し、濾過してＬＩＦＳＩの溶液（１４０．２２ｇ、３６．７１重量％）を得た。次いで、このＬｉＦＳＩ溶液を６０℃にて真空下（約７ミリバール）で蒸留した。蒸留の間、ＤＣＢ（５４３ｇ）を連続的に添加し、それと同時に蒸留物（４６７ｇ）を回収して、その間、蒸留容器中の容積をほぼ常に同じに維持した。ＤＣＢの添加が完了した後、結晶が形成した。この結晶を濾過によって収集し、ＤＣＭで洗浄した（それぞれ５０ｇで２回）。この結晶を真空下、６０℃で乾燥させた。ＬｉＦＳＩ（４０．２３ｇ）を、白色固体として得た。
【０１９９】
比較例（ｉ）
ＵＳ７，９１９，６２９Ｂ２号の実施例１０のうち、１３０℃で２時間の実験を繰り返した。
【０２００】
収率は５５％であった。これは、その実験におけるＭｉｃｈｏｔによる報告と同じ収率である。
【０２０１】
［実施例７］
報告された１ｇのＣｌＳＩの代わりに１ｇのＭＩＸＴＵＲＥ  ＴＲＩＰＬＥ−８５−７．５−７．５を使用したという差異を用いて、比較例（ｉ）を繰り返した。
【０２０２】
収率は８２％であり、比較例（ｉ）においてＣｌＳＩで得られた収率５５％よりもかなり高い。
【０２０３】
［実施例８から１４］
実施例５を、表１に記載の差異を用いて繰り返した。
【０２０４】
これらの条件下で、ＨＦＳＩを生成した。
【０２０５】
【表１】
2018514577.tif 000016
【０２０６】
［実施例１５］
実施例を、以下を用いて実施した。
・  ＤＥＶＩＣＥ１−０−ＨＦ：ＩＳＣＯテレダイン製ピストンポンプ２６０Ｄ
・  ＤＥＶＩＣＥ１−０−ＭＩＸＴＲＩＰ：ＩＳＣＯテレダイン製ピストンポンプ２６０Ｄ
・  ＤＥＶＩＣＥ１−１は、ハステロイＣで作られた３２ｍＬの内部容積ＶＯＬＵＭＥ１を有する１／４インチのコイル状のチューブである。加熱のために、コイル状のチューブ・イン・コンテナ機構を使用した。加熱媒体は従来の油であった。
・  ＤＥＶＩＣＥ１−２はハステロイＣで作られた約１．５ｍＬの内部容積を有する１／８インチのチューブである。冷却を、このチューブと室温を有する空気とを単に接触させることによって行った。
・  ＤＥＶＩＣＥ１−３：０．０１というＣｖ値を有するＳＡＭＳＯＮ  Ｍｉｃｒｏｖａｌｖｅタイプ３５１０−７の空気圧制御バルブ。
・  ＤＥＶＩＣＥ１−４：本質的にＨＣｌおよび過剰のＨＦである、あらゆる気体成分を、テフロン（登録商標）製の換気された容器内で反応混合物から分離した。
【０２０７】
ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−８５−７．５−７．５を、ＨＦと同時に、５０バールのＰＲＥＳＳＵＲＥ１−１にてＤＥＶＩＣＥ１−１に供給した（ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−８５−７．５−７．５をＤＥＶＩＣＥ１−０−ＭＩＸＴＲＩＰにより４．６ｍｌ／分の流速で供給し、ＨＦをＤＥＶＩＣＥ１−０−ＨＦにより１．７７ｍｌ／分の流速で供給した）。ＴＩＭＥ１−１は約５分間であり、ＴＥＭＰ１−１は１６０℃であった。これらの流速から得られたＨＦ：ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−８５−７．５−７．５のモル比は、約２．４：１であった。次いで、ＤＥＶＩＣＥ１−１からの反応混合物を、ＤＥＶＩＣＥ１−２において、室温であるＴＥＭＰ１−２まで冷却した。ＴＩＭＥ１−２は、約１５秒間であった。次にＤＥＶＩＣＥ１−３によって膨張させ、ＤＥＶＩＣＥ１−４に入れた。収集した液体は、ＨＦＳＩであり、１９Ｆ  ＮＭＲにより確認された。
【０２０８】
収率は、ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−８５−７．５−７．５中の式（２）の化合物に基づいて、８９％であった。
【手続補正書】
【提出日】平成30年1月5日(2018.1.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）の化合物の製造方法であって、
【化１】
2018514577.tif 000021
この方法は工程ＳＴＥＰ１を含み；
ＳＴＥＰ１は反応ＲＥＡＣ１−１を含み；
ＲＥＡＣ１−１において、混合物ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥは温度ＴＥＭＰ１−１でＨＦと反応し、ＴＥＭＰ１−１は少なくとも８０℃であり；
ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥは、３つの成分、即ち、式（ＩＩ）の化合物、式（ＩＩＩ）の化合物および式（ＩＶ）の化合物を含み；
【化２】
2018514577.tif 000022
Ｘは、Ｘ１またはＸ２と同一であり；
Ｘ１およびＸ２は、同一または異なっており、互いに独立して、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＲＥＳＦおよびトリルからなる群から選択され；
ＲＥＳＦは、置換されていないかまたは置換基ＯＣＦ３で置換されているフッ化Ｃ１−９アルキルであり；
Ｒｎ＋は、Ｈ＋、Ｌｉ＋、Ｎａ＋、Ｋ＋、Ｍｇ２＋、Ｃａ２＋、Ｚｎ２＋、Ｃｕ２＋、Ａｌ３＋、Ｔｉ３＋、Ｆｅ２＋、Ｆｅ３＋、Ｂ３＋、
【化３】
2018514577.tif 000023
、
［Ｎ（Ｒ２０）（Ｒ２１）（Ｒ２２）Ｒ２３］＋および［Ｐ（Ｒ２０）（Ｒ２１）（Ｒ２２）Ｒ２３］＋からなる群から選択され；
Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ２２およびＲ２３は、同一または異なっており、互いに独立して、Ｈ、Ｃ１−８アルキル、Ｃ５−６シクロアルキル、フェニル、ベンジル、ビニルおよびアリルからなる群から選択され；
ｎは、１、２または３であり、
ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ中の３つの成分の総含有率は５０から１００％であり、％はＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥの総重量に基づく重量％であり、
ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ中の３つの成分の相対比は、
２から９８％の式（ＩＩ）の化合物、
４９から１％の式（ＩＩＩ）の化合物、および
４９から１％の式（ＩＶ）の化合物であり；
％は重量％であり、ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ中の３つの成分の総合重量に基づき、３つの成分の相対比は合計で１００％になる、
前記方法。
【請求項２】
Ｘ１およびＸ２は、同一または異なっており、互いに独立して、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、ＲＥＳＦおよびトリルからなる群から選択され；
Ｒｎ＋は、Ｈ＋、Ｌｉ＋、Ｎａ＋、Ｋ＋、Ｍｇ２＋、Ａｌ３＋、
【化４】
2018514577.tif 000024
および［Ｎ（Ｒ２０）（Ｒ２１）（Ｒ２２）Ｒ２３］＋からなる群から選択され；
Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ２２およびＲ２３は、同一または異なっており、互いに独立して、Ｈ、Ｃ１−４アルキル、フェニル、ベンジル、ビニルおよびアリルからなる群から選択され；
ｎは、１、２または３である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
ＴＥＭＰ１−１は８０から３００℃である、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ中の３つの成分の総含有率は７５から１００％であり、％はＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥの総重量に基づく重量％である、請求項１から３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ中の３つの成分の相対比は、
２から９６％の式（ＩＩ）の化合物、
４９から２％の式（ＩＩＩ）の化合物、および
４９から２％の式（ＩＶ）の化合物であり；
％は重量％であり、ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ中の３つの成分の総合重量に基づき、３つの成分の相対比は合計で１００％になる、請求項１から４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
ＲＥＡＣ１−１は連続的に行われる、請求項１から５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
ＳＴＥＰ１は、工程ＳＴＥＰ１−１および工程ＳＴＥＰ１−３の２つの連続する工程を含み；
ＳＴＥＰ１−１において、ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥとＨＦとの混合物であるＭＩＸＴＵＲＥ１−１が、装置ＤＥＶＩＣＥ１−１中でＴＥＭＰ１−１まで加熱され、ＲＥＡＣ１−１がＤＥＶＩＣＥ１−１中で起こり、反応混合物をもたらし、
ＳＴＥＰ１−３において、ＤＥＶＩＣＥ１−１からの反応混合物が、装置ＤＥＶＩＣＥ１−３を通り、ＤＥＶＩＣＥ１−３は背圧調整のための装置である
請求項１から６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
ＳＴＥＰ１は、ＳＴＥＰ１−１とＳＴＥＰ１−３との間で行われる、第３の工程ＳＴＥＰ１−２を含み、
ＳＴＥＰ１−２において、ＤＥＶＩＣＥ１−１からの反応混合物が、装置ＤＥＶＩＣＥ１−２を通り、ＤＥＶＩＣＥ１−２は反応混合物を冷却するための装置である
請求項７に記載の方法。
【請求項９】
この方法はさらに工程ＳＴＥＰ１−４を含み、ＳＴＥＰ１−４はＳＴＥＰ１−３の後に行われ、
ＳＴＥＰ１−４において、ＤＥＶＩＣＥ１−３からの反応混合物が、装置ＤＥＶＩＣＥ１−４を通り、ＤＥＶＩＣＥ１−４は反応混合物中の液体成分から気体成分を分離するための装置である
請求項７または８に記載の方法。
【請求項１０】
工程ＳＴＥＰ０において、ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥが調製され；
ＳＴＥＰ０はＳＴＥＰ１の前に行われ；
ＳＴＥＰ０は反応ＲＥＡＣ０−１を含み；
ＲＥＡＣ０−１は、式（ＩＩＩ）の化合物と式（ＩＶ）の化合物との反応である
請求項１から９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
ＲＥＡＣ０−１は温度ＴＥＭＰ０−１で行われ、ＴＥＭＰ０−１は１８０から３００℃である、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
ＲＥＡＣ０−１は連続的に行われる、請求項１０または１１に記載の方法。
【請求項１３】
ＳＴＥＰ０は１つの工程ＳＴＥＰ０−１を含み；
ＳＴＥＰ０−１は反応ＲＥＡＣ０−１を含み；
ＳＴＥＰ０−１において、式（ＩＩＩ）の化合物および式（ＩＶ）の化合物の混合物ＭＩＸＴＵＲＥ０−１が、ＤＥＶＩＣＥ０−１中でＴＥＭＰ０−１まで加熱され、ＲＥＡＣ０−１がＤＥＶＩＣＥ０−１中で起こり、反応混合物が生じる
請求項１０から１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
ＳＴＥＰ０はもう１つの工程ＳＴＥＰ０−２を含み；
ＳＴＥＰ０−２はＳＴＥＰ０−１の後に行われ；
ＳＴＥＰ０−２において、ＤＥＶＩＣＥ０−１からの反応混合物が、装置ＤＥＶＩＣＥ０−２を通り、ＤＥＶＩＣＥ０−２は反応混合物を冷却するための装置である
請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
ＲＥＡＣ０−１およびＲＥＡＣ１−１は連続的かつ継続的に行われる、請求項１０から１４のいずれか一項に記載の方法。
【国際調査報告】
2018514577.tif 000025
2018514577.tif 000026