(57)【要約】【課題】ポリマー安定化液晶ディスプレイにおけるＯＤＦムラを低減する使用を提供する。【解決手段】本発明はポリマー維持配向（ＰＳＡ：ｐｏｌｙｍｅｒ  ｓｕｓｔａｉｎｅｄ  ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）タイプの液晶（ＬＣ：ｌｉｑｕｉｄ  ｃｒｙｓｔａｌ）ディスプレイにおいてＯＤＦムラを低減する方法と、この方法で作製されるＰＳＡ  ＬＣディスプレイとに関する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリマー安定化（ＰＳＡ：ｐｏｌｙｍｅｒ  ｓｔａｂｉｌｉｓｅｄ  ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モードの液晶ディスプレイ（ＬＣＤ：ｌｉｑｕｉｄ  ｃｒｙｓｔａｌ  ｄｉｓｐｌａｙ）における液晶滴下工法（ＯＤＦ：ｏｎｅ  ｄｒｏｐ  ｆｉｌｌｉｎｇ）ムラを低減する方法であって、
・０．００５〜０．０５％の第１重合性化合物および０．１〜１．０％の第２重合性化合物を含み、ただし第１重合性化合物は第２重合性化合物よりも速い重合速度を有し、ただし第１重合性化合物は式Ｆ１〜Ｆ６から選択され、第２重合性化合物は式Ｓ１〜Ｓ３から選択される重合性成分Ａ）と、および
・１種類以上のメソゲンまたは液晶化合物を含み、以後「ＬＣホスト混合物」とも呼ぶ液晶成分Ｂ）と
を含むＬＣ媒体をＰＳＡディスプレイで使用する方法。
【化１】
2018527606.tif 000129
（式中、個々の基は、それぞれ互いに独立に、それぞれの出現で同一または異なって、以下の意味を有する：
Ｐ            重合性基、
Ｓｐ          スペーサー基または単結合、
Ｓｐ’        スペーサー基、
Ｌ            Ｆ、Ｃｌ、ＣＮまたは１〜１２個のＣ原子を有し直鎖状もしくは分岐状で単フッ素化もしくは多フッ素化されてよいアルキル、アルコキシ、アルケニル、アルキニル、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシもしくはアルコキシカルボニルオキシ、好ましくはＦ、
Ｒａ、Ｒｂ    −Ｓｐ−Ｐ、−Ｓｐ’（Ｐ）２、ＨまたはＬに与える意味の１つ、
ｒ            ０、１、２、３または４、
ｓ            ０、１、２または３、
ｔ            ０、１または２。）
【請求項２】
式Ｆ１〜Ｆ６およびＳ１〜Ｓ３の化合物において、基ＰはＣＷ１−ＣＯ−Ｏ−を表し、式中Ｗ１は、Ｈ、Ｆ、ＣＦ３または１〜５個のＣ原子を有するアルキルであることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
式Ｆ１〜Ｆ６の化合物は、以下のサブ式から選択されることを特徴とする請求項１または２に記載の方法。
【化２】
2018527606.tif 000130
【化３】
2018527606.tif 000131
【化４】
2018527606.tif 000132
【化５】
2018527606.tif 000133
【化６】
2018527606.tif 000134
【化７】
2018527606.tif 000135
（式中Ｐ、Ｓｐ、Ｓｐ’、Ｌ、ｒ、ｓおよびｔは請求項１または２で定義する通りであり、Ｌ’は請求項１で与えるＬの意味の１つを有する。）
【請求項４】
式Ｓ１〜Ｓ３の化合物は、以下のサブ式から選択されることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【化８】
2018527606.tif 000136
【化９】
2018527606.tif 000137
（式中ＰおよびＳｐ’は請求項１または２で与える意味を有し、Ｌ’は請求項１で与えるＬの意味の１つを有する。）
【請求項５】
式Ｆ１〜Ｆ６およびＳ１〜Ｓ３ならびにそれらのサブ式の化合物において基ＳＰ’および単結合でないそれらの基Ｓｐは、−（ＣＨ２）ｐ１−、−（ＣＨ２）ｐ１−Ｏ−、−（ＣＨ２）ｐ１−Ｏ−ＣＯ−、−（ＣＨ２）ｐ１−ＣＯ−Ｏ−、−（ＣＨ２）ｐ１−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−を表し、式中ｐ１は１〜６の整数を表し、ただしこれらの基は、２個のＯ原子がそれぞれ互いに直接隣接しないようにして重合性基Ｐに連結されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
式Ｆ１〜Ｆ６およびＳ１〜Ｓ３ならびにそれらのサブ式の化合物において基Ｌ’は、Ｆを表すことを特徴とする請求項３〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
ＬＣ法は、０．００５〜０．０２％の第１重合性化合物および０．２〜０．４％の第２重合性化合物を含むことを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
成分Ｂ）は、式ＡＮおよびＡＹから選択される１種類以上の化合物を含むことを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【化１０】
2018527606.tif 000138
（式中、個々の基は、それぞれの出現において同一または異なって、それぞれ互いに独立に以下の意味を有する：
【化１１】
2018527606.tif 000139
【化１２】
2018527606.tif 000140
【化１３】
2018527606.tif 000141
ＲＡ１      ２〜９個のＣ原子を有するアルケニル、また環Ｘ、ＹおよびＺの少なくとも１つがシクロヘキセニルを表す場合、ＲＡ２の意味の１つも、
ＲＡ２      １〜１２個のＣ原子を有するアルキル、ただし加えて、１個または２個の隣接しないＣＨ２基は、Ｏ原子が互いに直接連結しないようにして、−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯ−、−ＯＣＯ−または−ＣＯＯ−で置き換えられてよく、
Ｚｘ        −ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｃ２Ｆ４−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ２Ｏ−または単結合、
Ｌ１〜４    Ｈ、Ｆ、Ｃｌ、ＯＣＦ３、ＣＦ３、ＣＨ３、ＣＨ２ＦまたはＣＨＦ２Ｈ、
ｘ          １または２、
ｚ          ０または１。）
【請求項９】
成分Ｂ）は、式ＣＹおよびＰＹから選択される１種類以上の化合物を含むことを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
【化１４】
2018527606.tif 000142
（式中、個々の基は以下の意味を有する：
ａは、１または２を表し、
ｂは、０または１を表し、
【化１５】
2018527606.tif 000143
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ互いに独立に、１〜１２個のＣ原子を有するアルキルを表し、ただし加えて、１個または２個の隣接していないＣＨ２基は、Ｏ原子が互いに直接連結しないようにして、−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−または−ＣＯ−Ｏ−で置き換えられていてもよく、
Ｚｘは、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−Ｏ−、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−または単結合を表し、
Ｌ１〜４は、それぞれ互いに独立に、Ｆ、Ｃｌ、ＯＣＦ３、ＣＦ３、ＣＨ３、ＣＨ２Ｆ、ＣＨＦ２を表す。）
【請求項１０】
成分Ｂ）は、式ＺＫおよびＤＫから選択される１種類以上の化合物を含むことを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法。
【化１６】
2018527606.tif 000144
（式中、個々の基は、それぞれの出現において同一または異なって以下の意味を有する：
【化１７】
2018527606.tif 000145
【化１８】
2018527606.tif 000146
【化１９】
2018527606.tif 000147
Ｒ３およびＲ４は、それぞれ互いに独立に、１〜１２個のＣ原子を有するアルキルを表し、ただし加えて１個または２個の隣接しないＣＨ２基は、Ｏ原子が互いに直接連結しないようにして、−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−または−ＣＯ−Ｏ−で置き換えられてよく、
Ｚｙは、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ２Ｆ４−、−ＣＦ＝ＣＦ−または単結合を表し、
Ｒ５およびＲ６は、それぞれ互いに独立に、１〜１２個のＣ原子を有するアルキルを表し、ただし加えて１個または２個の隣接しないＣＨ２基は、Ｏ原子が互いに直接連結しないようにして、−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯ−、−ＯＣＯ−または−ＣＯＯ−で置き換えられてよく、好ましくは１〜６個のＣ原子を有するアルキルまたはアルコキシを表し、
ｅは、１または２を表す。）
【請求項１１】
成分Ａ）の重合性化合物は重合されていることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
ＰＳＡモードのＬＣＤを製造する方法であって、
ａ）請求項１〜１１のいずれか１項で定義する通りの成分Ａ）およびＢ）を含むＬＣ媒体の液滴（２）の配列を第１基板（１）上に分配する工程と、
ｂ）ＬＣ媒体で覆われている第１基板（１）の表面最上部の上に、第２基板（４）を好ましくは真空条件下で提供し、第１基板（１）および第２基板（４）の間でＬＣ媒体の液滴（２）を広げさせ連続層を形成する工程と、
ｃ）成分Ａ）の重合性化合物の光重合を引き起こすＵＶ放射にＬＣ媒体を曝露する工程と
を含む方法。
【請求項１３】
第１および第２基板（１、４）が、ガラス基板である請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
第１基板（１）が第１電極構造を備え、第２基板（４）が第２電極構造を備える請求項１２または１３に記載の方法。
【請求項１５】
２枚の第１および第２基板（１、４）の一方に第１および第２電極構造が設けられ、２枚の基板（１、４）の他方には電極構造が設けられていない請求項１２または１３に記載の方法。
【請求項１６】
第１基板（１）および第２基板（４）が、それぞれＬＣ媒体（２）と接触する配向層を備える請求項１２〜１５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１７】
シーラント材料（３）が第１基板（１）および第２基板（４）の間に提供され、シーラント材料（３）を硬化して第１基板（１）および第２基板（４）を共に接着する請求項１２〜１６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１８】
光放射に曝露してシーラント材料（３）を硬化し、光放射がＬＣ媒体の重合性成分Ａ）の重合を引き起こさないように光放射を選択し、および／またはシーラント材料（３）を硬化するために使用する光放射からＬＣ媒体を保護する請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
フォトマスクによって、シーラント材料（３）を硬化するために使用する光放射からＬＣ媒体を保護する請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
工程ｃ）において、第１基板および第２電極に電圧を印加する請求項１２〜１９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２１】
請求項１２〜２０のいずれか１項に記載の方法で調製されるＬＣディスプレイ。
【請求項２２】
ＰＳ−ＶＡ、ＰＳ−ＯＣＢ、ＰＳ−ＩＰＳ、ＰＳ−ＦＦＳ、ＰＳ−ＵＢ−ＦＦＳ、ＰＳ−正−ＶＡまたはＰＳ−ＴＮディスプレイである請求項２２に記載のＬＣディスプレイ。
【請求項２３】
請求項１〜１１のいずれか１項に定義する通りの成分Ａ）およびＢ）を含むＬＣ媒体。
【請求項２４】
請求項１〜１２のいずれか１項に定義する通りの成分Ａ）およびＢ）を含むＬＣ媒体を調製する方法であって、
請求項１または８〜１０のいずれか１項に定義する通りのＬＣ成分Ｂ）を、１種類以上の第１および第２重合性化合物または請求項１〜７のいずれか１項に定義する通りの重合性成分Ａ）と、および任意成分として更なるＬＣ化合物および／または添加剤と混合する工程を含む方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はポリマー維持配向（ＰＳＡ：ｐｏｌｙｍｅｒ  ｓｕｓｔａｉｎｅｄ  ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）タイプの液晶（ＬＣ：ｌｉｑｕｉｄ  ｃｒｙｓｔａｌ）ディスプレイにおいてＯＤＦムラを低減する方法と、この方法で作製されるＰＳＡ  ＬＣディスプレイとに関する。
【背景技術】
【０００２】
当面のところ広範な関心があり商業的な使用が見出されてきた液晶ディスプレイ・モードは、所謂ＰＳ（「ｐｏｌｙｍｅｒ  ｓｕｓｔａｉｎｅｄ：ポリマー維持」）またはＰＳＡ（「ｐｏｌｙｍｅｒ  ｓｕｓｔａｉｎｅｄ  ａｌｉｇｎｍｅｎｔ：ポリマー維持配向」）モードであり、それらについては、用語「ポリマー安定化（ｐｏｌｙｍｅｒ  ｓｔａｂｉｌｉｓｅｄ）」も使用することがある。ＰＳＡディスプレイにおいては、ＬＣ混合物（以降、「ホスト混合物」とも呼ぶ。）と、典型的には１重量％未満、例えば０．２〜０．４重量％での少量の１種類以上の重合性化合物、好ましくは重合性単量体化合物とを含有するＬＣ媒体を使用する。ＬＣ媒体をディスプレイに充填後、ディスプレイの電極に電圧を任意に印加しながら、通常ＵＶ光重合により、その場で重合性化合物を重合または架橋する。重合は、ＬＣ媒体が液晶相を示す温度、通常、室温において行われる。反応性メソゲンまたは「ＲＭ（ｒｅａｃｔｉｖｅ  ｍｅｓｏｇｅｎ）」としても知られる重合性メソゲンまたは液晶化合物をＬＣホスト混合物に添加することが、特に適切であることが証明されてきた。
【０００３】
ＰＳ（Ａ）モードは、当面のところ、さまざまな従来のタイプのＬＣディスプレイ中で使用されている。よって、例えば、ＰＳ−ＶＡ（「ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  ａｌｉｇｎｅｄ（垂直配向）」）、ＰＳ−ＯＣＢ（「ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ  ｂｅｎｄ（光学補償ベンド）」）、ＰＳ−ＩＰＳ（「ｉｎ−ｐｌａｎｅ  ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ（面内スイッチング）」）、ＰＳ−ＦＦＳ（「ｆｒｉｎｇｅ  ｆｉｅｌｄ  ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ（フリンジ場スイッチング）」）、ＰＳ−ＵＢ−ＦＦＳ（「超高輝度（Ｕｌｔｒａ  Ｂｒｉｇｈｔｎｅｓｓ）ＦＦＳ」）およびＰＳ−ＴＮ（「ｔｗｉｓｔｅｄ  ｎｅｍａｔｉｃ（ツイストネマチック）」）ディスプレイが既知である。ＰＳ−ＶＡおよびＰＳ−ＯＣＢディスプレイの場合、好ましくは、電圧を印加しながら、ＰＳ−ＩＰＳディスプレイの場合は、電圧を印加するか印加せず、好ましくは、印加せずに、ＲＭの重合を行う。結果として、ディスプレイセル中にＬＣ分子のプレチルト角が生成する。例えば、ＰＳ−ＯＣＢディスプレイの場合、ベンド構造を安定化することが可能であり、オフセット電圧が不必要となるか低減できる。ＰＳ−ＶＡディスプレイの場合、プレチルトは応答時間に対して正の効果を有する。ＰＳ−ＶＡディスプレイに対しては、標準的なＭＶＡ（「ｍｕｌｔｉ  ｄｏｍａｉｎ  ＶＡ（マルチドメインＶＡ）」）またはＰＶＡ（「ｐａｔｔｅｒｎｅｄ  ＶＡ（パターン化ＶＡ）」）ピクセルおよび電極レイアウトを使用できる。突起を設けないで一方側のみが構造化された電極を使用することも可能で、製造が著しく簡略化され、コントラストおよび透明性が改良される。
【０００４】
更に、所謂、正−ＶＡ（「ｐｏｓｉｔｉｖｅ  ＶＡ」）モードが、特に適切であることが証明されてきた。従来のＶＡおよびＰＳ−ＶＡディスプレイと同様に、電圧が印加されていない初期状態において、正−ＶＡディスプレイ中のＬＣ分子の初期配向はホメオトロピックであり、即ち、基板に対して実質的に垂直である。しかしながら、従来のＶＡおよびＰＳ−ＶＡディスプレイとは対照的に、正−ＶＡディスプレイにおいては、正の誘電異方性を有するＬＣ媒体が使用される。ＩＰＳおよびＰＳ−ＩＰＳディスプレイと同様に、正−ＶＡディスプレイにおける２つの電極は２枚の基板の一方のみに配置されており、好ましくは、相互に噛み合った櫛形の（インターデジタル）構造を示す。インターデジタル電極に電圧を印加すると、電極はＬＣ媒体の層に実質的に平行な電界を生成し、ＬＣ分子は基板に対して実質的に平行な配向にスイッチされる。正−ＶＡディスプレイにおいても、ＬＣ媒体にＲＭを加え、次いでディスプレイ内で重合するポリマー安定化が有利であることが証明されてきた。よって、スイッチ時間の著しい短縮を実現できる。
【０００５】
ＰＳ−ＶＡディスプレイは、例えば、欧州特許出願公開第１１７０６２６号公報（特許文献１）、米国特許第６８６１１０７号明細書（特許文献２）、米国特許第７１６９４４９号明細書（特許文献３）、米国特許出願公開第２００４／０１９１４２８号公報（特許文献４）、米国特許出願公開第２００６／００６６７９３号公報（特許文献５）および米国特許出願公開第２００６／０１０３８０４号公報（特許文献６）に記載されている。ＰＳ−ＯＣＢディスプレイは、例えば、Ｔ．−Ｊ−Ｃｈｅｎら、Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．４５巻、２００６年、２７０２〜２７０４頁（非特許文献１）およびＳ．Ｈ．Ｋｉｍ、Ｌ．−Ｃ−Ｃｈｉｅｎ、Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．４３巻、２００４年、７６４３〜７６４７頁（非特許文献２）に記載されている。ＰＳ−ＩＰＳディスプレイは、例えば、米国特許第６１７７９７２号明細書（特許文献７）およびＡｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．１９９９年、７５巻（２１号）、３２６４頁（非特許文献３）に記載されている。ＰＳ−ＴＮディスプレイは、例えば、Ｏｐｔｉｃｓ  Ｅｘｐｒｅｓｓ  ２００４年、１２巻（７号）、１２２１頁（非特許文献４）に記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】欧州特許出願公開第１１７０６２６号公報
【特許文献２】米国特許第６８６１１０７号明細書
【特許文献３】米国特許第７１６９４４９号明細書
【特許文献４】米国特許出願公開第２００４／０１９１４２８号公報
【特許文献５】米国特許出願公開第２００６／００６６７９３号公報
【特許文献６】米国特許出願公開第２００６／０１０３８０４号公報
【特許文献７】米国特許第６１７７９７２号明細書
【非特許文献】
【０００７】
【非特許文献１】Ｔ．−Ｊ−Ｃｈｅｎら、Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．４５巻、２００６年、２７０２〜２７０４頁
【非特許文献２】Ｓ．Ｈ．Ｋｉｍ、Ｌ．−Ｃ−Ｃｈｉｅｎ、Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．４３巻、２００４年、７６４３〜７６４７頁
【非特許文献３】Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．１９９９年、７５巻（２１号）、３２６４頁
【非特許文献４】Ｏｐｔｉｃｓ  Ｅｘｐｒｅｓｓ  ２００４年、１２巻（７号）、１２２１頁
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ＰＳＡディスプレイは、アクティブマトリクス（ＡＭ：ａｃｔｉｖｅ−ｍａｔｒｉｘ）またはパッシブマトリクス（ＰＭ：ｐａｓｓｉｖｅ−ｍａｔｒｉｘ）ディスプレイの一方として動作できる。ＡＭディスプレイの場合、個々のピクセルは、通常、例えば、トランジスタ（薄膜トランジスタ（ｔｈｉｎ−ｆｉｌｍ  ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）またはＴＦＴなど））などの集積非線形アクティブ素子によってアドレスされ、一方、先行技術より既知の通り、ＰＭディスプレイの場合、個々のピクセルは、通常、マルチプレックス法によってアドレスされる。
【０００９】
ＰＳＡディスプレイも、ディスプレイセルを形成する基板の一方または両方に配向層を含んでよい。配向層はＬＣ媒体と接触してＬＣ分子の初期配を誘発するように、通常、電極上に塗工される（そのような電極が存在する場合）。配向層は、例えばポリイミドを含むかポリイミドから成ってよく、ラビングされていてもよく、光配向法で調製されてもよい。
【００１０】
特に、モニターおよび特にはテレビ用途向けには、ＬＣディスプレイの応答時間のみならずコントラストおよび輝度（よって、透過性）も最適化することが依然として望まれている。ここで、ＰＳＡ法は重要な利点を提供できる。特に、ＰＳ−ＶＡ、ＰＳ−ＩＰＳ、ＰＳ−ＦＦＳおよびＰＳ−正−ＶＡディスプレイの場合、他のパラメータに著しい悪影響を及ぼすことなく、試験用セルにおける測定可能なプレチルトと相関して、応答時間の短縮を達成できる。
【００１１】
ＰＳＡディスプレイにおいて使用するためのＲＭとして、フッ素化されていてもよいビフェニルジアクリレートまたはビフェニルジメタクリレートが先行技術において示唆されてきた。
【００１２】
しかしながら、例えば、不適切なチルト角を生成できるに過ぎないか、全くチルト角を生成できないため、または、例えば、電圧保持率（ＶＨＲ：ｖｏｌｔａｇｅ  ｈｏｌｄｉｎｇ  ｒａｔｉｏ）がＴＦＴディスプレイ用途にとって不適切であるため、ＬＣホスト混合物およびＲＭの全ての組み合わせがＰＳＡディスプレイにおける使用に適しているわけではないという課題が生じる。加えて、先行技術から既知のＬＣ混合物およびＲＭは、ＰＳＡディスプレイにおいて使用する際に、幾つかの不都合を依然として有することが見出されてきた。よって、ＬＣホスト混合物に可溶性の全ての既知のＲＭが、ＰＳＡディスプレイにおける使用に適しているわけではない。加えて、ＰＳＡディスプレイにおけるプレチルトを直接測定することに加え、ＲＭに関する適切な選択要件を見出すことは、しばしば困難である。光開始剤を添加することなくＵＶ光重合することが望ましい場合、特定の用途には好都合であるが、適切なＲＭの選択の余地は更に狭くなる。
【００１３】
加えて、ＬＣホスト混合物／ＲＭの選択された組み合わせは、低い回転粘度および良好な電気特性、特に高いＶＨＲを有していなければならない。ＰＳＡディスプレイにおいては、ＵＶ曝露が完成後のディスプレイを動作する際の通常の曝露として起こるのみならず、ディスプレイの製造工程において不可欠な部分であるため、ＵＶ光照射後の高いＶＨＲが特に重要である。
【００１４】
特に小さいプレチルト角を生成するＰＳＡディスプレイ用の改良された材料が入手可能となることが、特に望ましい。好ましい材料は、従来技術の材料と比較して、同じ曝露時間後に、より低いプレチルト角を生成できるもの、および／または、より短い曝露時間後に少なくとも同じプレチルト角を生成できるものである。これにより、ディスプレイ製造時間（「タクトタイム」）を短縮でき、製造プロセスのコストを低減できる。
【００１５】
ＰＳＡディスプレイの製造における更なる課題は、ディスプレイ内にプレチルト角を生成するのに必要な重合工程の後の残存量の重合していないＲＭの存在および除去である。例えば、ディスプレイの動作の際に制御されていない態様で重合するために、未反応のＲＭがディスプレイの特性に悪影響を及ぼすことがある。
【００１６】
よって、先行技術より既知のＰＳＡディスプレイは、しばしば、望ましくない効果である所謂「画像の固着」または「画像の焦付き」を示し、即ち、個々のピクセルの一時的なアドレスによってＬＣディスプレイ内に生成された画像が、これらのピクセル内の電界のスイッチが切られた後、または、他のピクセルがアドレスされた後においてすら、依然として視ることができ、残存する。
【００１７】
例えば、低いＶＨＲを有するＬＣホスト混合物を使用すると、画像の固着を発生することがある。昼光またはディスプレイのバックライトのＵＶ成分がＬＣ分子の望ましくない分解反応を引き起こすことがあり、イオン性またはフリーラジカルの不純物の生成が開始されることがある。これらは、特に、電極または配向層において蓄積されることがあり、そこで、それらのために、有効印加電圧が低下する。また、この効果は、ポリマー成分を有さない従来のＬＣディスプレイにおいても観察されることがある。
【００１８】
ＰＳＡディスプレイにおいて、未重合のＲＭが存在することによって生じる追加の画像固着の効果が、しばしば観察される。残存するＲＭの制御されていない重合が、環境から、またはバックライトによるＵＶ光によって開始される。このため、スイッチが入っているディスプレイ領域において、多数のアドレスサイクル後にチルト角が変化する。その結果、スイッチが入っている領域において、透過率の変化が生じることがあり、一方、スイッチが入っていない領域においては、透過率は不変のままである。
【００１９】
従ってＰＳＡディスプレイを製造する際には、ＲＭの重合が可能な限り完全に進むこと、および、ディスプレイにおける未重合ＲＭの存在を排除できるか、最小限まで低減できることが望ましい。よって、ＲＭの高効率で完全な重合を可能とするか後押しするＲＭおよびＬＣホスト混合物が要求される。加えて、ＲＭの残存量が制御された反応が望ましい。これは、先行技術のＲＭよりも迅速で効果的に重合する改良されたＲＭを提供すれば達成できるであろう。
【００２０】
ＰＳＡディスプレイの動作において観察されてきた更なる課題は、プレチルト角の安定性である。よってＲＭを重合してディスプレイを製造する際に生成されたプレチルト角が一定のままではなく、ディスプレイが動作する際の電圧ストレスをディスプレイに与えた後にプレチルト角が低下することがあることが観察された。このため、例えば、暗状態での透過が増加し、従ってコントラストが低下することで、ディスプレイの性能に悪影響を与える可能性がある。
【００２１】
解決すべき他の問題は、先行技術のＲＭがしばしば高い融点を有し、多くの一般的に使用されるＬＣ混合物において限られた溶解度しか示さないことである。結果として、ＲＭはＬＣ混合物から自発的に結晶化する傾向がある。加えて自発的重合の危険性によりＲＭをより良好に溶解させるためにＬＣホスト混合物を加温することができないので、室温でさえも高い溶解度が要求される。加えて例えばＬＣ媒体をＬＣディスプレイに充填する（クロマトグラフィー効果）場合に相分離の危険性があり、このためディスプレイの均質性を大きく損なう可能性がある。このため自発的な重合（上参照）の危険性を低減するためにＬＣ媒体は通常低温でディスプレイに充填され、溶解性に悪影響を与えるという事実により更に悪化する。
【００２２】
先行技術で観察された他の課題は、特に、液晶滴下工法（ＯＤＦ：ｏｎｅ  ｄｒｏｐ  ｆｉｌｌｉｎｇ）でディスプレイにＬＣ媒体を充填する場合、ＬＣディスプレイ（ＰＳＡタイプのディスプレイが挙げられるが、これらに限定されない。）内で従来のＬＣ媒体を使用すると、しばしば、ディスプレイ内にムラの発生がもたらされることである。この現象は、「ＯＤＦムラ」または「ＯＤＦ滴下ムラ」としても知られる。よって、ＯＤＦムラの低減につながるＬＣ媒体を提供することが望まれる。
【００２３】
現在ＯＤＦは、ＬＣ媒体をＡＭ  ＬＣＤに装填するための好ましい方法である。図１にＯＤＦプロセスを、例示的および概略的に図式化する。第１工程（ａ）においてＬＣ媒体の液滴（２）の配列を一方のＬＣＤガラス基板（１）上に分配し、そこではＬＣ液滴（２）と基板（１）の縁との間の境界領域（３）にシーラント材料が提供される。第２工程（ｂ）において真空組立室内で、対向するガラス基板（４）を第１基板（１）に合わせて固定し、このようにして２枚の基板（１、４）間でＬＣ液滴（２）を強制的に広げて連続層を形成する。液滴を分配し基板を合わせる際に流動力学が異なるため、ＬＣ分配および組立プロセスを確認するものとして種々のタイプの輝度の不均一性、所謂ムラが観察され得る。
【００２４】
特にディスプレイモードがＭＶＡ、ＰＶＡまたはＰＳ−ＶＡなどのＶＡ型モードの場合、ディスプレイ領域全体にわたって液滴が均一に広がらないため、製造後に液滴の跡が視認される。例えばＭＶＡまたはＰＶＡなどの従来のＶＡモードでは、不均一性は時間が経過すると一般に消滅する。しかしながらＰＳＡディスプレイにおいては不均一性が残り、液滴の跡は重合プロセスによって「固定」される。ＯＤＦ滴ムラを最小限に抑えるための通常の方法は、プロセス条件、パネル設計および／または使用するＬＣ材料、それに含まれるＬＣホスト混合物またはＲＭなどを最適化すること、例えばＲＭ濃度を低下させることである。
【００２５】
しかしながら照射スペクトルの短波長部分の強度を増加して、重合プロセスのタクトタイムを短縮した後でさえ、ＯＤＦムラの発生が観察されてきた。またＲＭの濃度を低下すると、プレチルト角の生成に悪影響を及ぼし得る。
【００２６】
このように上記の通りの欠点を示さないか、僅かな程度にのみ示し、改良された特性を有するＰＳＡディスプレイならびにＰＳＡディスプレイで使用するためのＬＣ媒体および重合性化合物に対する大きな要望が依然としてある。
【００２７】
特に大きな作動温度範囲、低温でも短い応答時間、低い閾電圧、低いプレチルト角、多数の中間諧調、高いコントラストおよび広い視野角、ＵＶ曝露後の高い信頼性および高い値のＶＨＲと同時に高い比抵抗を可能にし、ＲＭの場合には融点が低く、ＬＣホスト混合物中での高い溶解度有するＰＳＡディスプレイならびにこのようなＰＳＡディスプレイで使用するためのＬＣ混合物およびＲＭに対する大きな要望がある。携帯用途向けのＰＳＡディスプレイでは、低い閾電圧および高い複屈折を示す利用可能なＬＣ媒体を有することが特に望ましい。
【００２８】
更にＰＳＡディスプレイ、特にＰＳ−ＶＡディスプレイにおけるＯＤＦムラを低減する手段および方法に対する大きな要望がある。
【００２９】
本発明は上に示す欠点を有しないか低減された程度に有するＰＳＡディスプレイならびにそれで使用する改良されたＲＭ、ＬＣホスト混合物およびそれらを含むＬＣ媒体などの材料を製造するための改良された方法を提供することに基づく。
【００３０】
特に本発明の目的は、ディスプレイの製造プロセスにおいて生じるＰＳＡディスプレイ中のＯＤＦムラを低減する問題を解決することである。
【００３１】
本発明の他の目的はＰＳＡディスプレイにおいて使用するためで、非常に高い比抵抗値、高いＶＨＲ値、高い信頼性、低い閾電圧、短い応答時間、高い複屈折を可能にし、特により長い波長で良好なＵＶ吸収を示し、それが含有するＲＭを迅速かつ完全に重合させ、可能な限り迅速に低いプレチルト角を生成させ、より長い時間および／またはＵＶ曝露後ですらプレチルトの高い安定性を可能にし、ディスプレイにおける画像固着の発生を減少または防止し、ディスプレイにおけるＯＤＦムラの発生を低減または防止するＬＣ媒体を提供することである。
【００３２】
上記の目的は本発明に従って、本出願に記載され特許請求される通りの方法および材料で達成された。
【００３３】
驚くべきことに上述の問題の少なくとも幾つかは、以降に開示および特許請求する通りの重合性成分およびＬＣホスト混合物を含むＬＣ媒体を使用することで解決できることが見出された。
【００３４】
特に驚くべきことに第１ＲＭを含有するＬＣ媒体に、第１ＲＭよりも速い重合速度を有する少量の第２ＲＭを添加すると、ＯＤＦムラのレベルが減少することが見出された。所定のＵＶ励起スペクトルにおいて第１ＲＭよりも速く反応する第２ＲＭを添加することで、ＯＤＦ滴ムラのレベルが低減される。第２ＲＭの濃度は、ＬＣディスプレイの全体的な性能に影響を与えない程度に十分に低くなければならない。ＬＣ媒体における第２ＲＭの適切かつ好ましい濃度範囲は例えば、約１００ｐｐｍであるが、ＬＣ媒体における第１ＲＭの適切かつ好ましい濃度範囲は例えば、０．２〜０．５％の範囲である。
【００３５】
加えて以降に開示および特許請求する通りのＬＣ媒体をＰＳＡディスプレイで使用することで、高いＶＨＲ、高いＵＶ吸収、迅速かつ完全な重合、迅速かつ強力なチルト角の生成を達成することが可能になる。
【００３６】
更に本発明によるＬＣ媒体の使用は、特に低ＵＶエネルギーおよび／または３００〜３８０ｎｍの範囲、特に３４０ｎｍ超のより長いＵＶ波長で、迅速かつ完全なＵＶ光重合反応を促進し、このことはディスプレイの製造プロセスにとって著しい利点である。加えて本発明によるＬＣ媒体を使用することで、大きく安定したプレチルト角を迅速に生成させ、ディスプレイにおける画像固着およびＯＤＦムラを減少させ、ＵＶ光重合後の高いＶＨＲ値をもたらし、速い応答時間、低い閾電圧および高い複屈折を達成することが可能になる。
【課題を解決するための手段】
【００３７】
本発明は、ポリマー安定化（ＰＳＡ：ｐｏｌｙｍｅｒ  ｓｔａｂｉｌｉｓｅｄ  ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モードの液晶ディスプレイ（ＬＣＤ：ｌｉｑｕｉｄ  ｃｒｙｓｔａｌ  ｄｉｓｐｌａｙ）における液晶滴下工法（ＯＤＦ：ｏｎｅ  ｄｒｏｐ  ｆｉｌｌｉｎｇ）ムラを低減する方法であって、
・０．００５〜０．０５％の第１重合性化合物および０．１〜１．０％の第２重合性化合物を含み、好ましくはこれらから成り、ただし第１重合性化合物は第２重合性化合物よりも同一の重合条件下で速い重合速度を有し、ただし第１重合性化合物は好ましくは式Ｆ１〜Ｆ６から選択され、第２重合性化合物は好ましくは式Ｓ１〜Ｓ３から選択される重合性成分Ａ）と、および
・１種類以上のメソゲンまたは液晶化合物を含み、好ましくはこれらから成り、以後「ＬＣホスト混合物」とも呼ぶ液晶成分Ｂ）と
を含み、好ましくはこれらから成るＬＣ媒体をＰＳＡディスプレイで使用する方法に関する。
【００３８】
【化１】
2018527606.tif 000002
式中、個々の基は、それぞれ互いに独立に、それぞれの出現で同一または異なって、以下の意味を有する：
Ｐ            重合性基、好ましくはＣＨ２＝ＣＷ１−ＣＯ−Ｏ−、
Ｗ１          Ｈ、Ｆ、ＣＦ３または１〜５個のＣ原子を有するアルキル、
Ｓｐ          スペーサー基または単結合、
Ｓｐ’        スペーサー基、
Ｌ            Ｆ、Ｃｌ、ＣＮまたは１〜１２個のＣ原子を有し直鎖状もしくは分岐状で単フッ素化もしくは多フッ素化されてよいアルキル、アルコキシ、アルケニル、アルキニル、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシもしくはアルコキシカルボニルオキシ、
Ｒａ、Ｒｂ    −Ｓｐ−Ｐ、−Ｓｐ’（Ｐ）２、ＨまたはＬに与える意味の１つ、
ｒ            ０、１、２、３または４、
ｓ            ０、１、２または３、
ｔ            ０、１または２。
【００３９】
本発明は更に、ＰＳＡモードのＬＣＤにおけるＯＤＦムラを低減する方法であって、
・０．００５〜０．０５％の式Ｆ１〜Ｆ６から選択される第１重合性化合物および０．１〜１．０％の式Ｓ１〜Ｓ３から選択される第２重合性化合物を含む重合性成分Ａ）と、および
・１種類以上のメソゲンまたは液晶化合物を含み、好ましくはこれらから成り、以後「ＬＣホスト混合物」とも呼ぶ液晶成分Ｂ）と
を含むＬＣ媒体をＰＳＡディスプレイで使用する方法に関する。
【００４０】
本発明は更に、好ましくはＯＤＦムラが低減されたＰＳＡモードのＬＣＤを製造する方法であって、
ａ）上記および下記の通りの成分Ａ）およびＢ）を含むＬＣ媒体の液滴配列を第１基板、好ましくはガラス基板上に分配する工程と、
ｂ）ＬＣ媒体で覆われている第１基板の表面最上部の上に、好ましくはガラス基板である第２基板を好ましくは真空条件下で提供し、第１基板および第２基板の間でＬＣ液滴を広げさせ連続層を形成する工程と、
ｃ）成分Ａ）の重合性化合物の光重合を引き起こすＵＶ放射にＬＣ媒体を曝露する工程と
を含み、
ただし第１基板は第１電極構造を備え、第２基板は第２電極構造を備えているか、またはただし第１および第２基板の一方に第１および第２電極構造が備えられ、第１および第２基板の他方には電極構造が設けられておらず、
ただし好ましくは第１基板は、ＬＣ媒体と接触する第１配向層を備えており、好ましくは第２基板は、ＬＣ媒体と接触する第２配向層を備えており、
ただし好ましくは第１または第２の基板上で好ましくはＬＣ材料の液滴と基板の縁との間の領域に設けられたシーラント材料によって、第１基板および第２基板は一緒に固定または接着されており、
ただし好ましくは例えば熱および/または光放射に曝露することで、シーラント材料を硬化し、
ただし光放射に曝露してシーラント材料を硬化する場合、好ましくは光放射がＬＣ媒体の重合性成分Ａ）の重合を引き起こさないように光放射を選択し、および／または例えばフォトマスクによって、シーラント材料を硬化するために使用する光放射からＬＣ媒体を保護し、
ただし好ましくは工程ｃ）において、第１および第２電極に電圧を印加する
方法に関する。
【００４１】
本発明は更に、上記および下記の通りの重合性成分Ａ）および液晶性成分Ｂ）を含むＬＣ媒体に関する。
【００４２】
以降、本発明によるＬＣ媒体の液晶成分Ｂ）を「ＬＣホスト混合物」とも呼び、好ましくは非重合性の低分子量化合物より選択されるＬＣ化合物のみを含有し、重合開始剤、禁止剤などの添加剤を含有してよい。
【００４３】
本発明は更に、成分Ａ）の重合性化合物が重合されている上記および下記の通りのＬＣ媒体またはＬＣディスプレイに関する。
【００４４】
本発明は更に、上記および下記の通りのＬＣ媒体を調製する方法であって、上記および下記の通りのＬＣホスト混合物またはＬＣ成分Ｂ）を、上記および下記の通りの重合性成分Ａ）と、および任意成分として更なるＬＣ化合物および／または添加剤と混合する工程を含む方法に関する。
【００４５】
本発明は更に、ＬＣディスプレイ、特にＰＳＡディスプレイにおけるＬＣ媒体の使用に関する。
【００４６】
本発明は更に、電界または磁界を好ましくは印加しながら、ＰＳＡディスプレイにおいて、成分Ｂ）の重合性化合物（１種類または多種類）をその場で重合することによって、ＬＣ媒体中にチルト角を生成するために、ＰＳＡディスプレイにおいて本発明によるＬＣ媒体を使用すること、特に、ＬＣ媒体を含有するＰＳＡディスプレイにおいて使用することに関する。
【００４７】
本発明は更に、本発明による１種類以上の式Ｉの化合物またはＬＣ媒体を含むＬＣディスプレイ、特に、ＰＳＡディスプレイ、特に好ましくは、ＰＳ−ＶＡ、ＰＳ−ＯＣＢ、ＰＳ−ＩＰＳ、ＰＳ−ＦＦＳ、ＰＳ−ＵＢ−ＦＦＳ、ＰＳ−正−ＶＡまたはＰＳ−ＴＮディスプレイに関する。
【００４８】
本発明は更に、上記の通りの重合性成分Ａ）を重合することで得られるポリマーを含むか、または、本発明によるＬＣ媒体を含むＬＣディスプレイに関し、それらは好ましくはＰＳＡディスプレイ、非常に好ましくは、ＰＳ−ＶＡ、ＰＳ−ＯＣＢ、ＰＳ−ＩＰＳ、ＰＳ−ＦＦＳ、ＰＳ−ＵＢ−ＦＦＳ、ＰＳ−正−ＶＡまたはＰＳ−ＴＮディスプレイである。
【００４９】
本発明は更に、２枚の基板（それらの少なくとも一方は光に対して透明である。）と、それぞれの基板上に提供された電極または基板の一方のみ上に提供された２つの電極と、上および下に記載する通りの１種類以上の重合性化合物およびＬＣ成分を含み基板間に配置されたＬＣ媒体の層（ただし、重合性化合物はディスプレイの基板間で重合されている。）とを含むＰＳＡタイプのＬＣディスプレイに関する。
【００５０】
本発明は更に、上および下に記載される通りのＬＣディスプレイを製造する方法であって、上および下に記載される通りの１種類以上の重合性化合物を含むＬＣ媒体をディスプレイの基板間に充填または他の方法で提供する工程と、重合性化合物を重合する工程とを含む方法に関する。
【００５１】
本発明によるＰＳＡディスプレイは、好ましくは透明層の形態で基板の一方または両方に設ける２つの電極を有する。幾つかのディスプレイ、例えば、ＰＳ−ＶＡ、ＰＳ−ＯＣＢまたはＰＳ−ＴＮディスプレイにおいては、２枚の基板のそれぞれに１つの電極を設ける。他のディスプレイ、例えば、ＰＳ−正−ＶＡ、ＰＳ−ＩＰＳまたはＰＳ−ＦＦＳまたはＰＳ−ＵＢ−ＦＦＳディスプレイにおいては、２枚の基板の一方のみに両方の電極を設ける。
【００５２】
好ましい実施形態において、ディスプレイの電極に電圧を印加しながらＬＣディスプレイ内で重合性成分を重合する。
【００５３】
重合性成分の重合性化合物は、好ましくは光重合で重合し、非常に好ましくはＵＶ光重合で重合する。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】図１に本発明によるディスプレイを製造する方法において使用する通りのＯＤＦプロセスを、例示的および概略的に図式化する。
【発明を実施するための形態】
【００５５】
他に述べない限り重合性化合物は、アキラル化合物より選択する。
【００５６】
本明細書において使用する場合、用語「より速い重合速度」および「より遅い重合速度」は、各化合物を同じ条件下、好ましくはＬＣ媒体中で所定の時間、好ましくは３０〜２４０秒間、非常に好ましくは１２０秒間、非常に好ましくは例に記載の条件下で重合したときに、より速い重合速度を有する重合性化合物が、より遅い重合速度を有する化合物よりも所定の時間後に未反応化合物の量が少ないことを示すことを意味する。未反応化合物の量（「残留ＲＭ」とも呼ぶ。）は好ましくは、実施例の項に記載の通りに測定する。
【００５７】
本明細書において使用する場合、用語「電極構造」としては、連続層でよい電極層、パターン化電極もしくはピクセル電極または電極、パターン化電極もしくはピクセル電極のアレイが挙げられる。
【００５８】
本明細書において使用する場合、用語「活性層」および「可スイッチ層」は、電界または磁界などの外部からの刺激で分子の配向が変化し、結果として偏光または非偏光に対する層の透過性が変化する、例えばＬＣ分子などの構造的および光学的異方性を有する１種類以上の分子を含む電気光学的ディスプレイ、例えばＬＣディスプレイにおける層を意味する。
【００５９】
本明細書において使用する場合、用語「チルト」および「チルト角」は、ＬＣディスプレイ（本明細書において、好ましくは、ＰＳＡディスプレイ）においてＬＣ媒体のＬＣ分子のセル表面に対してチルトした配向を意味すると解する。本明細書において、チルト角は、ＬＣ分子の分子長軸（ＬＣダイレクタ）と、ＬＣセルを形成する平坦で平行な外板の表面との間の平均角（９０°未満）を意味する。本明細書においては、低い値のチルト角（即ち、角度９０°から大きく外れている）は、大きいチルトに対応する。チルト角を測定する適切な方法は、例において与えられている。他に示さない限り、上および下で開示されるチルト角度の値は、この測定方法に関する。
【００６０】
本明細書で使用する場合、用語「反応性メソゲン」および「ＲＭ（ｒｅａｃｔｉｖｅ  ｍｅｓｏｇｅｎ）」は、メソゲンまたは液晶骨格と、その骨格に連結され重合に適切な１個以上の官能基とを含有する化合物を意味すると解し、また、その官能基を「重合性基」または「Ｐ」とも呼ぶ。
【００６１】
他に述べない限り本明細書において使用する場合、用語「重合性化合物」は重合性モノマー化合物を意味すると解する。
【００６２】
本明細書において使用する場合、用語「低分子量化合物」は「ポリマー化合物」または「ポリマー」に対する用語で、モノマーであり、および／または重合反応で調製されない化合物を意味すると解する。
【００６３】
本明細書において使用する場合、用語「非重合性化合物」は、ＲＭの重合のために通常適用する条件下において重合に適する官能基を含有しない化合物を意味すると解する。
【００６４】
本明細書において使用する場合、用語「メソゲン基」は当業者に既知で文献に記載されており、その引力および斥力的相互作用の異方性によって、低分子量または高分子物質中で液晶（ＬＣ：ｌｉｑｕｉｄ−ｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｅ）相の発生に本質的に寄与する基を意味する。メソゲン基を含有する化合物（メソゲン化合物）は、それ自身では必ずしもＬＣ相を有する必要はない。また、他の化合物と混合後および／または重合後のみに、メソゲン化合物がＬＣ相挙動を示すことも可能である。典型的なメソゲン基は、例えば、剛直な棒状または円盤状の形状のユニットである。メソゲンまたはＬＣ化合物に関して使用される用語および定義の概説は、Ｐｕｒｅ  Ａｐｐｌ．Ｃｈｅｍ．２００１年、７３巻（５号）、８８８頁およびＣ．Ｔｓｃｈｉｅｒｓｋｅ、Ｇ．Ｐｅｌｚｌ、Ｓ．Ｄｉｅｌｅ、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．２００４年、１１６巻、６３４０〜６３６８頁において与えられている。
【００６５】
本明細書において使用する場合、用語「スペーサー基」は、以降では「Ｓｐ」とも呼ばれ、当業者に既知で文献に記載されており、例えば、Ｐｕｒｅ  Ａｐｐｌ．Ｃｈｅｍ．２００１年、７３巻（５号）、８８８頁およびＣ．Ｔｓｃｈｉｅｒｓｋｅ、Ｇ．Ｐｅｌｚｌ、Ｓ．Ｄｉｅｌｅ、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．２００４年、１１６巻、６３４０〜６３６８頁を参照。本明細書で使用する場合、用語「スペーサー基」または「スペーサー」は、重合性メソゲン化合物中でメソゲン基および重合性基（１個または複数）を連結している屈曲性の基、例えばアルキレン基を意味する。
【００６６】
上および下において、
【００６７】
【化２】
2018527606.tif 000003
は、トランス−１，４−シクロヘキシレン環を表し、
【００６８】
【化３】
2018527606.tif 000004
は、１，４−フェニレン環を表す。
【００６９】
上および下において、「有機基」は、炭素または炭化水素基を表す。
【００７０】
「炭素基」は、少なくとも１個の炭素原子を含有する一価または多価の有機基を表し、ただし、これは、更なる種類の原子を含有しない（例えば、−Ｃ≡Ｃ−など）か、または、例えば、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｂ、Ｐ、Ｓｉ、Ｓｅ、Ａｓ、ＴｅまたはＧｅなどの１種類以上の更なる原子を含有していてもよい（例えば、カルボニルなど）かのいずれかである。用語「炭化水素基」は、１個以上のＨ原子を追加的に含有しており、例えば、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｂ、Ｐ、Ｓｉ、Ｓｅ、Ａｓ、ＴｅまたはＧｅなどの１種類以上のヘテロ原子を含有していてもよい炭素基を表す。
【００７１】
「ハロゲン」は、Ｆ、Ｃｌ、ＢｒまたはＩを表す。
【００７２】
−ＣＯ−、−Ｃ（＝Ｏ）−および−Ｃ（Ｏ）−は、カルボニル基、即ち、
【００７３】
【化４】
2018527606.tif 000005
を表す。
【００７４】
炭素または炭化水素基は、飽和または不飽和基のいずれでもよい。不飽和基は、例えば、アリール、アルケニルまたはアルキニル基である。３個より多いＣ原子を有する炭素または炭化水素基は、直鎖状、分岐状および／または環状のいずれでもよく、また、スピロ連結または縮合環を含有していてもよい。
【００７５】
また、用語「アルキル」、「アリール」、「ヘテロアリール」などは、多価の基、例えば、アルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレンなども包含する。
【００７６】
用語「アリール」は、芳香族炭素基またはそれらより誘導される基を表す。用語「ヘテロアリール」は、１個以上のヘテロ原子（好ましくは、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｅ、Ｔｅ、ＳｉおよびＧｅより選択される。）を含有し、上で定義される通りの「アリール」を表す。
【００７７】
好ましい炭素および炭化水素基は、置換されていてもよく、１〜４０個、好ましくは１〜２０個、特に好ましくは１〜１２個のＣ原子を有し、直鎖状、分岐状または環状のアルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシおよびアルコキシカルボニルオキシ、置換されていてもよく、５〜３０個、好ましくは６〜２５個のＣ原子を有するアリールまたはアリールオキシ、または、置換されていてもよく、５〜３０個、好ましくは６〜２５個のＣ原子を有するアルキルアリール、アリールアルキル、アルキルアリールオキシ、アリールアルキルオキシ、アリールカルボニル、アリールオキシカルボニル、アリールカルボニルオキシおよびアリールオキシカルボニルオキシであり、ただし、１個以上のＣ原子は、好ましくはＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｅ、Ｔｅ、ＳｉおよびＧｅより選択されるヘテロ原子で置き換えられてもよい。
【００７８】
更に好ましい炭素および炭化水素基は、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル、Ｃ２〜Ｃ２０アルケニル、Ｃ２〜Ｃ２０アルキニル、Ｃ３〜Ｃ２０アリル、Ｃ４〜Ｃ２０アルキルジエニル、Ｃ４〜Ｃ２０ポリエニル、Ｃ６〜Ｃ２０シクロアルキル、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアルケニル、Ｃ６〜Ｃ３０アリール、Ｃ６〜Ｃ３０アルキルアリール、Ｃ６〜Ｃ３０アリールアルキル、Ｃ６〜Ｃ３０アルキルアリールオキシ、Ｃ６〜Ｃ３０アリールアルキルオキシ、Ｃ２〜Ｃ３０ヘテロアリール、Ｃ２〜Ｃ３０ヘテロアリールオキシである。
【００７９】
Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、Ｃ２〜Ｃ１２アルケニル、Ｃ２〜Ｃ１２アルキニル、Ｃ６〜Ｃ２５アリールおよびＣ２〜Ｃ２５ヘテロアリールが特に好ましい。
【００８０】
更に好ましい炭素および炭化水素基は、直鎖状、分岐状または環状で、１〜２０個、好ましくは１〜１２個のＣ原子を有するアルキルであり、該基は無置換であるか、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、ＩまたはＣＮで一置換または多置換されており、ただし、１個以上の隣接していないＣＨ２基は、Ｏおよび／またはＳ原子が互いに直接連結しないようにして、それぞれ互いに独立に、−Ｃ（Ｒｘ）＝Ｃ（Ｒｘ）−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｎ（Ｒｘ）−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−で置き換えられていてもよい。
【００８１】
Ｒｘは、好ましくは、Ｈ、Ｆ、Ｃｌ、ＣＮ、直鎖状、分岐状または環状で１〜２５個のＣ原子を有するアルキル鎖（ただし加えて、１個以上の隣接していないＣ原子は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−によって置き換えられていてもよく、ただし、１個以上のＨ原子はＦまたはＣｌにより置き換えられていてもよい。）を表すか、または、置換されていてもよく６〜３０個のＣ原子を有するアリールまたはアリールオキシ基、または置換されていてもよく２〜３０個のＣ原子を有するヘテロアリールまたはヘテロアリールオキシ基を表す。
【００８２】
好ましいアルキル基は、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、２−メチルブチル、ｎ−ペンチル、ｓ−ペンチル、シクロペンチル、ｎ−ヘキシル、シクロヘキシル、２−エチルヘキシル、ｎ−ヘプチル、シクロヘプチル、ｎ−オクチル、シクロオクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル、ｎ−ウンデシル、ｎ−ドデシル、ドデカニル、トリフルオロメチル、ペルフルオロ−ｎ−ブチル、２，２，２−トリフルオロエチル、ペルフルオロオクチル、ペルフルオロヘキシルなどである。
【００８３】
好ましいアルケニル基は、例えば、エテニル、プロペニル、ブテニル、ペンテニル、シクロペンテニル、ヘキセニル、シクロヘキセニル、ヘプテニル、シクロヘプテニル、オクテニル、シクロオクテニルなどである。
【００８４】
好ましいアルキニル基は、例えば、エチニル、プロピニル、ブチニル、ペンチニル、ヘキシニル、オクチニルなどである。
【００８５】
好ましいアルコキシ基は、例えば、メトキシ、エトキシ、２−メトキシエトキシ、ｎ−プロポキシ、ｉ−プロポキシ、ｎ−ブトキシ、ｉ−ブトキシ、ｓ−ブトキシ、ｔ−ブトキシ、２−メチルブトキシ、ｎ−ペントキシ、ｎ−ヘキソキシ、ｎ−ヘプトキシ、ｎ−オクトキシ、ｎ−ノノキシ、ｎ−デコキシ、ｎ−ウンデコキシ、ｎ−ドデコキシなどである。
【００８６】
好ましいアミノ基は、例えば、ジメチルアミノ、メチルアミノ、メチルフェニルアミノ、フェニルアミノなどである。
【００８７】
アリールおよびヘテロアリール基は単環でも多環でもよく、即ち、それらは１個の環（例えば、フェニルなど）または２個以上の環を含有してもよく、また、該基は縮合されていてもよく（例えば、ナフチルなど）または共有結合によって連結されていてもよく（例えば、ビフェニルなど）、または、縮合および連結された環の組み合わせを含有していてもよい。ヘテロアリール基は、好ましくは、Ｏ、Ｎ、ＳおよびＳｅより選択される１個以上のヘテロ原子を含有する。
【００８８】
６〜２５個のＣ原子を有する単環式、二環式または三環式アリール基および５〜２５個の環原子を有する単環式、二環式または三環式ヘテロアリール基が特に好ましく、これらの基は縮合された環を含有していてもよく、置換されていてもよい。更に、５員、６員または７員のアリールおよびヘテロアリール基が好ましく、ただし加えて、１個以上のＣＨ基は、Ｏ原子および／またはＳ原子が互いに直接連結しないようにして、Ｎ、ＳまたはＯで置き換えられていてもよい。
【００８９】
好ましいアリール基は、例えば、フェニル、ビフェニル、ターフェニル、［１，１’：３’，１”］ターフェニル−２’−イル、ナフチル、アントラセン、ビナフチル、フェナントレン、９，１０−ジヒドロフェナントレン、ピレン、ジヒドロピレン、クリセン、ペリレン、テトラセン、ペンタセン、ベンゾピレン、フルオレン、インデン、インデノフルオレン、スピロビフルオレンなどである。
【００９０】
好ましいヘテロアリール基は、例えば、ピロール、ピラゾール、イミダゾール、１，２，３−トリアゾール、１，２，４−トリアゾール、テトラゾール、フラン、チオフェン、セレノフェン、オキサゾール、イソキサゾール、１，２−チアゾール、１，３−チアゾール、１，２，３−オキサジアゾール、１，２，４−オキサジアゾール、１，２，５−オキサジアゾール、１，３，４−オキサジアゾール、１，２，３−チアジアゾール、１，２，４−チアジアゾール、１，２，５−チアジアゾール、１，３，４−チアジアゾールなどの５員環；ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、１，３，５−トリアジン、１，２，４−トリアジン、１，２，３−トリアジン、１，２，４，５−テトラジン、１，２，３，４−テトラジン、１，２，３，５−テトラジンなどの６員環；またはインドール、イソインドール、インドリジン、インダゾール、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、プリン、ナフタイミダゾール、フェナントロイミダゾール、ピリダイミダゾール、ピラジンイミダゾール、キノキサリンイミダゾール、ベンゾキサゾール、ナフトキサゾール、アントロキサゾール、フェナントロキサゾール、イソキサゾール、ベンゾチアゾール、ベンゾフラン、イソベンゾフラン、ジベンゾフラン、キノリン、イソキノリン、プテリジン、ベンゾ−５，６−キノリン、ベンゾ−６，７−キノリン、ベンゾ−７，８−キノリン、ベンゾイソキノリン、アクリジン、フェノチアジン、フェノキサジン、ベンゾピリダジン、ベンゾピリミジン、キノキサリン、フェナジン、ナフチリジン、アザカルバゾール、ベンゾカルボリン、フェナントリジン、フェナントロリン、チエノ［２，３ｂ］チオフェン、チエノ［３，２ｂ］チオフェン、ジチエノチオフェン、イソベンゾチオフェン、ジベンゾチオフェン、ベンゾチアジアゾチオフェンなどの縮合基；またはこれらの基の組み合わせである。
【００９１】
また、上および下で述べるアリールおよびヘテロアリール基は、アルキル、アルコキシ、チオアルキル、フッ素、フルオロアルキルまたは更なるアリールまたはヘテロアリール基で置換されてよい。
【００９２】
（非芳香族）脂環式およびヘテロ環式基は、飽和環、即ち、排他的に単結合を含有するものと、また、部分的に不飽和な環、即ち、多重結合も含有してよいものとの両者を包含する。ヘテロ環式環は、好ましくは、Ｓｉ、Ｏ、Ｎ、ＳおよびＳｅより選択される１個以上のヘテロ原子を含有する。
【００９３】
（非芳香族）脂環式およびヘテロ環式基は、単環式、即ち、１個のみの環を含有（例えば、シクロヘキサンなど）してもよく、または、多環式、即ち、複数の環を含有（例えば、デカヒドロナフタレンまたはビシクロオクタンなど）していてもよい。飽和基が、特に好ましい。更に、単環式、二環式または三環式で、５〜２５個の環原子を有する基が好ましく、該基は縮合環を含有していてもよく、置換されていてもよい。更に、５員、６員、７員または８員の炭素環式基が好ましく、ただし加えて、１個以上のＣ原子はＳｉで置き換えられていてもよく、および／または、１個以上のＣＨ基はＮで置き換えられていてもよく、および／または、１個以上の隣接していないＣＨ２基は−Ｏ−および／または−Ｓ−で置き換えられていてもよい。
【００９４】
好ましい脂環式およびヘテロ環式基は、例えば、シクロペンタン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロチオフラン、ピロリジンなどの５員基、シクロヘキサン、シリナン、シクロヘキセン、テトラヒドロピラン、テトラヒドロチオピラン、１，３−ジオキサン、１，３−ジチアン、ピペリジンなどの６員基、シクロヘプタンなどの７員基、および、テトラヒドロナフタレン、デカヒドロナフタレン、インダン、ビシクロ［１．１．１］ペンタン−１，３−ジイル、ビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジイル、スピロ［３．３］ヘプタン−２，６−ジイル、オクタヒドロ−４，７−メタノインダン−２，５−ジイルなどの縮合基である。
【００９５】
好ましい置換基は、例えば、アルキルまたはアルコキシなどの溶解促進基、フッ素、ニトロまたはニトリルなどの電子吸引基、または、ポリマーにおいてガラス転移温度（Ｔｇ）を上昇させるための置換基、特に、例えば、ｔ−ブチルまたは置換されていてもよいアリール基などの嵩高い基である。
【００９６】
以後「Ｌ」とも呼ぶ好ましい置換基は例えば、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、−ＣＮ、−ＮＯ２、−ＮＣＯ、−ＮＣＳ、−ＯＣＮ、−ＳＣＮ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｘ）２、−Ｃ（＝Ｏ）Ｙ１、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒｘ、−Ｎ（Ｒｘ）２、それぞれ１〜２５個のＣ原子を有する直鎖状または分岐状のアルキル、アルコキシ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシまたはアルコキシカルボニルオキシ（ただし１個以上のＨ原子は、ＦまたはＣｌで置き換えられてよい。）、１〜２０個のＳｉ原子を有する置換されてよいシリルまたは６〜２５個、好ましくは６〜１５個のＣ原子を有する置換されてよいアリールである。
【００９７】
ただしＲｘは、Ｈ、Ｆ、Ｃｌ、ＣＮまたは１〜２５個のＣ原子を有する直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキルを表し、ただし１個以上の隣接していないＣＨ２基は、Ｏおよび／またはＳ原子がそれぞれ互いに直接連結しないようにして、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−で置き換えられてよく、ただし１個以上のＨ原子は、Ｆ、Ｃｌ、Ｐ−またはＰ−Ｓｐ−でそれぞれ置き換えられてよい。
【００９８】
Ｙ１は、ハロゲンを表す。
【００９９】
「置換されたシリルまたはアリール」は好ましくは、ハロゲン、−ＣＮ、Ｒ０、−ＯＲ０、−ＣＯ−Ｒ０、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ０、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ０または−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−Ｒ０での置換を意味し、ただしＲ０はＨまたは１〜２０個のＣ原子のアルキルを表す。
【０１００】
特に好ましい置換基Ｌは例えば、Ｆ、Ｃｌ、ＣＮ、ＮＯ２、ＣＨ３、Ｃ２Ｈ５、ＯＣＨ３、ＯＣ２Ｈ５、ＣＯＣＨ３、ＣＯＣ２Ｈ５、ＣＯＯＣＨ３、ＣＯＯＣ２Ｈ５、ＣＦ３、ＯＣＦ３、ＯＣＨＦ２、ＯＣ２Ｆ５、更にフェニルである。
【０１０１】
【化５】
2018527606.tif 000006
式中、Ｌは上で示される意味の１つを有する。
【０１０２】
重合性基Ｐは、例えば、フリーラジカルまたはイオン性連鎖重合、重付加または重縮合などの重合反応に適するか、または、例えば、ポリマー主鎖上への付加または縮合といったポリマー類似反応に適する基である。連鎖重合のための基、特に、Ｃ＝Ｃ二重結合またはＣ≡Ｃ三重結合を含有するもの、および、例えば、オキセタンまたはエポキシド基などの開環重合に適する基が特に好ましい。
【０１０３】
好ましい基Ｐは、ＣＨ２＝ＣＷ１−ＣＯ−Ｏ−、ＣＨ２＝ＣＷ１−ＣＯ−、
【０１０４】
【化６】
2018527606.tif 000007
ＣＨ２＝ＣＷ２−（Ｏ）ｋ３−、ＣＷ１＝ＣＨ−ＣＯ−（Ｏ）ｋ３−、ＣＷ１＝ＣＨ−ＣＯ−ＮＨ−、ＣＨ２＝ＣＷ１−ＣＯ−ＮＨ−、ＣＨ３−ＣＨ＝ＣＨ−Ｏ−、（ＣＨ２＝ＣＨ）２ＣＨ−ＯＣＯ−、（ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２）２ＣＨ−ＯＣＯ−、（ＣＨ２＝ＣＨ）２ＣＨ−Ｏ−、（ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２）２Ｎ−、（ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２）２Ｎ−ＣＯ−、ＨＯ−ＣＷ２Ｗ３−、ＨＳ−ＣＷ２Ｗ３−、ＨＷ２Ｎ−、ＨＯ−ＣＷ２Ｗ３−ＮＨ−、ＣＨ２＝ＣＷ１−ＣＯ−ＮＨ−、ＣＨ２＝ＣＨ−（ＣＯＯ）ｋ１−Ｐｈｅ−（Ｏ）ｋ２−、ＣＨ２＝ＣＨ−（ＣＯ）ｋ１−Ｐｈｅ−（Ｏ）ｋ２−、Ｐｈｅ−ＣＨ＝ＣＨ−、ＨＯＯＣ−、ＯＣＮ−およびＷ４Ｗ５Ｗ６Ｓｉ−から成る群より選択され、式中、Ｗ１は、Ｈ、Ｆ、Ｃｌ、ＣＮ、ＣＦ３、フェニルまたは１〜５個のＣ原子を有するアルキル、特に、Ｈ、Ｆ、ＣｌまたはＣＨ３を表し、Ｗ２およびＷ３は、それぞれ互いに独立に、Ｈまたは１〜５個のＣ原子を有するアルキル、特に、Ｈ、メチル、エチルまたはｎ−プロピルを表し、Ｗ４、Ｗ５およびＷ６は、それぞれ互いに独立に、Ｃｌ、１〜５個のＣ原子を有するオキサアルキルまたはオキサカルボニルアルキルを表し、Ｗ７およびＷ８は、それぞれ互いに独立に、Ｈ、Ｃｌまたは１〜５個のＣ原子を有するアルキルを表し、Ｐｈｅは、Ｐ−Ｓｐ−以外の上で定義する通りの１個以上の基Ｌで置換されていてもよい１，４−フェニレンを表し、ｋ１、ｋ２およびｋ３は、それぞれ互いに独立に、０または１を表し、ｋ３は、好ましくは、１を表し、ｋ４は１〜１０の整数を表す。
【０１０５】
非常に好ましい基Ｐは、ＣＨ２＝ＣＷ１−ＣＯ−Ｏ−、ＣＨ２＝ＣＷ１−ＣＯ−、
【０１０６】
【化７】
2018527606.tif 000008
ＣＨ２＝ＣＷ２−Ｏ−、ＣＨ２＝ＣＷ２−、ＣＷ１＝ＣＨ−ＣＯ−（Ｏ）ｋ３−、ＣＷ１＝ＣＨ−ＣＯ−ＮＨ−、ＣＨ２＝ＣＷ１−ＣＯ−ＮＨ−、（ＣＨ２＝ＣＨ）２ＣＨ−ＯＣＯ−、（ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２）２ＣＨ−ＯＣＯ−、（ＣＨ２＝ＣＨ）２ＣＨ−Ｏ−、（ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２）２Ｎ−、（ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２）２Ｎ−ＣＯ−、ＣＨ２＝ＣＷ１−ＣＯ−ＮＨ−、ＣＨ２＝ＣＨ−（ＣＯＯ）ｋ１−Ｐｈｅ−（Ｏ）ｋ２−、ＣＨ２＝ＣＨ−（ＣＯ）ｋ１−Ｐｈｅ−（Ｏ）ｋ２−、Ｐｈｅ−ＣＨ＝ＣＨ−およびＷ４Ｗ５Ｗ６Ｓｉ−から成る群より選択され、式中、Ｗ１は、Ｈ、Ｆ、Ｃｌ、ＣＮ、ＣＦ３、フェニルまたは１〜５個のＣ原子を有するアルキル、特に、Ｈ、Ｆ、ＣｌまたはＣＨ３を表し、Ｗ２およびＷ３は、それぞれ互いに独立に、Ｈまたは１〜５個のＣ原子を有するアルキル、特に、Ｈ、メチル、エチルまたはｎ−プロピルを表し、Ｗ４、Ｗ５およびＷ６は、それぞれ互いに独立に、Ｃｌ、１〜５個のＣ原子を有するオキサアルキルまたはオキサカルボニルアルキルを表し、Ｗ７およびＷ８は、それぞれ互いに独立に、Ｈ、Ｃｌまたは１〜５個のＣ原子を有するアルキルを表し、Ｐｈｅは１，４−フェニレンを表し、ｋ１、ｋ２およびｋ３は、それぞれ互いに独立に、０または１を表し、ｋ３は、好ましくは、１を表し、ｋ４は１〜１０の整数を表す。
【０１０７】
非常に特に好ましい基Ｐは、ＣＨ２＝ＣＷ１−ＣＯ−Ｏ−、特に、ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＯ−Ｏ−およびＣＨ２＝ＣＦ−ＣＯ−Ｏ−、更に、ＣＨ２＝ＣＨ−Ｏ−、（ＣＨ２＝ＣＨ）２ＣＨ−Ｏ−ＣＯ−、（ＣＨ２＝ＣＨ）２ＣＨ−Ｏ−、
【０１０８】
【化８】
2018527606.tif 000009
から成る群より選択する。
【０１０９】
更に好ましい重合性基Ｐは、ビニルオキシ、アクリレート、メタクリレート、フルオロアクリレート、クロロアクリレート、オキセタンおよびエポキシド基から成る群より選択され、最も好ましくは、アクリレートおよびメタクリレートより選択する。
【０１１０】
好ましいスペーサー基Ｓｐ’および単結合と異なる好ましいスペーサー基Ｓｐは、それぞれの基Ｐ−Ｓｐ−またはＰ−Ｓｐ’−が式Ｐ−Ｓｐ”−Ｘ”−に一致するように式Ｓｐ”−Ｘ”から選択し、ただし、
Ｓｐ”は、１〜２０個、好ましくは１〜１２個のＣ原子を有するアルキレンを表し、該基は、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、ＩまたはＣＮで一置換または多置換されていてもよく、ただし加えて、１個以上の隣接していないＣＨ２基は、Ｏおよび／またはＳ原子が互いに直接連結しないようにして、それぞれ互いに独立に、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（Ｒ０）−、−Ｓｉ（Ｒ０Ｒ００）−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ００）−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｎ（Ｒ０）−、−Ｎ（Ｒ０）−ＣＯ−Ｎ（Ｒ００）−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられていてもよく、
Ｘ”は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−Ｎ（Ｒ０）−、−Ｎ（Ｒ０）−ＣＯ−、−Ｎ（Ｒ０）−ＣＯ−Ｎ（Ｒ００）−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｓ−、−ＳＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝ＣＲ０−、−ＣＹ２＝ＣＹ３−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−または単結合を表し、
Ｒ０およびＲ００は、それぞれ互いに独立に、Ｈまたは１〜２０個のＣ原子を有するアルキルを表し、
Ｙ２およびＹ３は、それぞれ互いに独立に、Ｈ、Ｆ、ＣｌまたはＣＮを表し、
Ｘ”は、好ましくは、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯＯ−、−ＣＯ−ＮＲ０−、−ＮＲ０−ＣＯ−、−ＮＲ０−ＣＯ−ＮＲ００−または単結合である。
【０１１１】
典型的なスペーサー基Ｓｐ、Ｓｐ’および−Ｓｐ”−Ｘ”−は、例えば、−（ＣＨ２）ｐ１−、−（ＣＨ２）ｐ１−Ｏ−、−（ＣＨ２）ｐ１−Ｏ−ＣＯ−、−（ＣＨ２）ｐ１−ＣＯ−Ｏ−、−（ＣＨ２）ｐ１−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｑ１−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＮＨ−ＣＨ２ＣＨ２−または−（ＳｉＲ０Ｒ００−Ｏ）ｐ１−で、式中、ｐ１は１〜１２の整数であり、ｑ１は１〜３の整数であり、Ｒ０およびＲ００は上に示す意味を有する。
【０１１２】
非常に好ましい基Ｓｐ、Ｓｐ’および−Ｓｐ”−Ｘ”−は、−（ＣＨ２）ｐ１−、−（ＣＨ２）ｐ１−Ｏ−、−（ＣＨ２）ｐ１−Ｏ−ＣＯ−、−（ＣＨ２）ｐ１−ＣＯ−Ｏ−、−（ＣＨ２）ｐ１−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−で、式中ｐ１は上に示す意味を有し、ただしこれらの基は、２個のＯ原子がそれぞれ互いに直接隣接しないようにして重合性基Ｐに連結されている。
【０１１３】
特に好ましい基Ｓｐ”は、それぞれの直鎖状で、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、ヘキシレン、ヘプチレン、オクチレン、ノニレン、デシレン、ウンデシレン、ドデシレン、オクタデシレン、エチレンオキシエチレン、メチレンオキシブチレン、エチレンチオエチレン、エチレン−Ｎ−メチルイミノエチレン、１−メチルアルキレン、エテニレン、プロペニレンおよびブテニレンである。
【０１１４】
本発明の他の好ましい実施形態において、式Ｆ１〜Ｆ６およびそれらのサブ式の化合物は、基Ｓｐ−ＰがＳｐ（Ｐ）ｓ（ただし、ｓは２以上である。）に対応するように１個以上の重合性基Ｐで置換されたスペーサー基Ｓｐ（分岐状の重合性基）を含有する。
【０１１５】
この好ましい実施形態による式Ｆ１〜Ｆ６の好ましい化合物はｓが２のもの、即ち、基Ｓｐ（Ｐ）２またはＳｐ’（Ｐ）２を含有する化合物である。
【０１１６】
式Ｆ１〜Ｆ６およびそれらのサブ式の化合物における好ましい基Ｓｐ（Ｐ）２またはＳｐ’（Ｐ）２は、以下の式から選択する。
【０１１７】
【化９】
2018527606.tif 000010
式中、Ｐは式Ｆ６で定義する通りであり、
ａｌｋｙｌは、単結合または１〜１２個のＣ原子を有する直鎖状もしくは分岐状のアルキレンを表し、該基は無置換であるか、または、Ｆ、ＣｌもしくはＣＮで一置換もしくは多置換されており、ただし、１個以上の隣接していないＣＨ２基は、それぞれ互いに独立に、Ｏおよび／またはＳ原子が互いに直接連結しないようにして、−Ｃ（Ｒ０）＝Ｃ（Ｒ０）−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｎ（Ｒ０）−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−または−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−で置き換えられていてもよく、ただし、Ｒ０は上に示す意味を有し、
ａａおよびｂｂは、それぞれ互いに独立に、０、１、２、３、４、５または６を表し、
Ｘは、Ｘ”に示す意味の１つを有し、好ましくは、Ｏ、ＣＯ、ＳＯ２、Ｏ−ＣＯ−、ＣＯ−Ｏまたは単結合である。
【０１１８】
好ましいスペーサー基Ｓｐ（Ｐ）２およびＳｐ’（Ｐ）２は、式Ｓｐ１、Ｓｐ２およびＳｐ３から選択する。
【０１１９】
非常に好ましいスペーサー基Ｓｐ（Ｐ）２およびＳｐ’（Ｐ）２は、以下のサブ式から選択する。
【０１２０】
【化１０】
2018527606.tif 000011
化合物中に存在する全ての重合性基Ｐが同じ意味を有し、非常に好ましくはアクリレートまたはメタクリレートを表す式Ｆ１〜Ｆ６およびＳ１〜Ｓ３およびそれらのサブ式の化合物が好ましい。
【０１２１】
成分Ａ）中に存在する式Ｆ１〜Ｆ６およびＳ１〜Ｓ３の全ての化合物中に存在する全ての重合性基Ｐが同じ意味を有し、非常に好ましくはアクリレートまたはメタクリレートを表す成分Ａ）が更に好ましい。
【０１２２】
それぞれ互いに異なる少なくとも２個の重合性基Ｐを含む式Ｆ１〜Ｆ６およびＳ１〜Ｓ３およびそれらのサブ式の化合物、ならびに１種類以上のこのような化合物を含む成分Ａ）が更に好ましい。
【０１２３】
式Ｆ１〜Ｆ６の好ましい化合物は、少なくとも１個の基Ｓｐが単結合であり、少なくとも１個の基Ｓｐが単結合ではないものである。
【０１２４】
式Ｆ１〜Ｆ６の更に好ましい化合物は、全ての基Ｓｐが単結合のものである。
【０１２５】
式Ｓ１〜Ｓ３の好ましい化合物は、少なくとも１個の基Ｓｐが単結合であり、少なくとも１個の基Ｓｐが単結合ではないものである。
【０１２６】
式Ｓ１〜Ｓ３の更に好ましい化合物は、全ての基Ｓｐが単結合のものである。
【０１２７】
上記および下記の通りの式Ｆ１〜Ｆ６およびＳ１〜Ｓ３およびそれらのサブ式の化合物において、ＬおよびＬ’は好ましくは、Ｆ、Ｃｌ、ＯＣＨ３、ＯＣ２Ｈ５、Ｏ（ＣＨ２）２ＣＨ３、ＯＣ（ＣＨ３）３、ＯＣＦ３、ＯＣＦ２ＨまたはＯＣＦＨ２、非常に好ましくは、Ｆ、Ｃｌ、ＯＣＨ３またはＯＣＦ３、最も好ましくはＦまたはＯＣＨ３を表す。
【０１２８】
好ましくは成分Ａ）における第１重合性化合物は式Ｆ１〜Ｆ５、非常に好ましくは式Ｆ１、Ｆ２およびＦ３から選択する。
【０１２９】
式Ｆ１およびＦ２の好ましい化合物は、以下のサブ式から選択する。
【０１３０】
【化１１】
2018527606.tif 000012
【０１３１】
【化１２】
2018527606.tif 000013
式中、Ｐ、Ｓｐ’、Ｌおよびｒは式Ｆ１〜Ｆ６で与える意味を有し、Ｌ’は式Ｆ１で与える通りのＬの意味の１つまたは上記もしくは下記の通りのＬの好ましい意味の１つを有する。
【０１３２】
式Ｆ３の好ましい化合物は、ＲａおよびＲｂの一方がＰ−Ｓｐ−または−Ｓｐ’（Ｐ）２を表し、他方がＨのものである。
【０１３３】
式Ｆ３の更に好ましい化合物は、ＲａおよびＲｂの両者がＨを表すものである。
【０１３４】
式Ｆ３の好ましい化合物は、以下のサブ式から選択する。
【０１３５】
【化１３】
2018527606.tif 000014
【０１３６】
【化１４】
2018527606.tif 000015
式中、Ｐ、Ｌ、Ｓｐ、Ｓｐ’およびｒは式Ｆ１〜Ｆ６で与える意味を有する。
【０１３７】
式Ｆ３の非常に好ましい化合物は、以下のサブ式から選択する。
【０１３８】
【化１５】
2018527606.tif 000016
【０１３９】
【化１６】
2018527606.tif 000017
式中、Ｐ、Ｓｐ’、Ｌおよびｒは式Ｆ１〜Ｆ６で与える意味を有する。
【０１４０】
式Ｆ４の好ましい化合物は、以下のサブ式から選択する。
【０１４１】
【化１７】
2018527606.tif 000018
式中、Ｐ、Ｓｐ、Ｓｐ’、Ｌ、ｒおよびｓは式Ｆ１〜Ｆ６で与える意味を有する。
【０１４２】
式Ｆ５の好ましい化合物は、以下のサブ式から選択する。
【０１４３】
【化１８】
2018527606.tif 000019
式中、Ｐ、Ｌおよびｒは式Ｆ１〜Ｆ６で与える意味を有する。
【０１４４】
式Ｆ６の好ましい化合物は、以下のサブ式から選択する。
【０１４５】
【化１９】
2018527606.tif 000020
式中、Ｐ、ＳｐおよびＳｐ’は式Ｆ１〜Ｆ６で与える意味を有する。
【０１４６】
好ましくは成分Ａ）における第２重合性化合物は式Ｓ１およびＳ２、非常に好ましくは式Ｓ１から選択する。
【０１４７】
式Ｓ１の好ましい化合物は、以下のサブ式から選択する。
【０１４８】
【化２０】
2018527606.tif 000021
式中、ＰおよびＳｐ’は式Ｆ１〜Ｆ６およびＳ１〜Ｓ３で与える意味を有し、Ｌ’は式Ｆ１〜Ｆ６およびＳ１〜Ｓ３で与える通りのＬの意味の１つまたは上記もしくは下記の通りのＬの好ましい意味の１つを有する。
【０１４９】
式Ｓ２の好ましい化合物は、以下のサブ式から選択する。
【０１５０】
【化２１】
2018527606.tif 000022
式中、ＰおよびＳｐ’は式Ｆ１〜Ｆ６およびＳ１〜Ｓ３で与える意味を有し、Ｌ’は式Ｆ１〜Ｆ６およびＳ１〜Ｓ３で与える通りのＬの意味の１つまたは上記もしくは下記の通りのＬの好ましい意味の１つを有する。
【０１５１】
サブ式Ｆ１ａ〜Ｆ６ｄおよびＳ１ａ〜Ｓ２ｅの化合物において好ましくは、Ｓｐ’は−（ＣＨ２）ｐ１−、−（ＣＨ２）ｐ１−Ｏ−、−（ＣＨ２）ｐ１−Ｏ−ＣＯ−、−（ＣＨ２）ｐ１−ＣＯ−Ｏ−または−（ＣＨ２）ｐ１−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−を表し、式中ｐ１は１〜１２、好ましくは１〜６、特に好ましくは１、２または３の整数を表し、ただしこれらの基は、２個のＯ原子がそれぞれ互いに直接隣接しないようにして重合性基Ｐに連結されている。
【０１５２】
サブ式Ｆ１ａ〜Ｆ６ｄおよびＳ１ａ〜Ｓ２ｅの化合物において好ましくは、Ｌ’はＦである。
【０１５３】
式Ｆ１〜Ｆ６の非常に好ましい化合物は、以下のサブ式から選択する。
【０１５４】
【化２２】
2018527606.tif 000023
【０１５５】
【化２３】
2018527606.tif 000024
【０１５６】
【化２４】
2018527606.tif 000025
【０１５７】
【化２５】
2018527606.tif 000026
【０１５８】
【化２６】
2018527606.tif 000027
【０１５９】
【化２７】
2018527606.tif 000028
式Ｓ１〜Ｓ３の非常に好ましい化合物は、以下のサブ式から選択する。
【０１６０】
【化２８】
2018527606.tif 000029
【０１６１】
【化２９】
2018527606.tif 000030
本発明によるＬＣ媒体において、上記および下記の通りの重合性成分Ａ）の使用と共にＬＣホスト混合物または成分Ｂ）を使用することで、ＰＳＡディスプレイにおいて有利な特性がもたらされる。特に、以下の利点の１つ以上を達成できる：
・低減されたＯＤＦムラ、
・低減された画像固着、
・より長い波長でも良好なＵＶ吸収、
・ＲＭの迅速かつ完全な重合、
・特に低いＵＶエネルギーおよび／またはより長いＵＶ波長ですら、低いプレチルト角の迅速な生成、
・ＵＶ曝露後の高いプレチルト角安定性、
・ＵＶ曝露および／または熱処理後の高い信頼性および高いＶＨＲ値、
・高い複屈折、
・低減された粘度
・より速い応答時間。
【０１６２】
本発明によるＬＣ媒体は、より長いＵＶ波長で高い吸収を示すので、重合のためにより長いＵＶ波長を使用することが可能であり、ディスプレイ製造プロセスに有利である。
【０１６３】
１種類、２種類または３種類、好ましくは１種類の式Ｆ１〜Ｆ８の重合性化合物と、および１種類、２種類または３種類、好ましくは１種類の式Ｓ１〜Ｓ３の重合性化合物とを含むＬＣ媒体が特に好ましい。
【０１６４】
ＬＣ媒体中のＦ１〜Ｆ８の化合物の割合は、好ましくは０．００５〜０．０５％、非常に好ましくは０．００５〜０．０３％、最も好ましくは０．００５〜０．０２％である。
【０１６５】
ＬＣ媒体中のＳ１〜Ｓ３の化合物の割合は、好ましくは０．１〜１．０％、非常に好ましくは０．１〜０．５％、最も好ましくは０．２〜０．４％である。
【０１６６】
ＰＳＡディスプレイを製造するために、任意に電極に電圧を印加しながら、ＬＣディスプレイの基板間でＬＣ媒体中において、その場での重合により、ＬＣ媒体に含有される重合性化合物を重合または架橋（１つの化合物が２個以上の重合性基を含有する場合）する。
【０１６７】
本発明によるＰＳＡディスプレイの構造は、冒頭で引用した先行技術に記載される通りのＰＳＡディスプレイの通常の構成に対応している。突起のない構成が好ましく、特に加えて、カラーフィルター側の電極が構造化されておらず、ＴＦＴ側の電極のみがスリットを有するものが好ましい。ＰＳ−ＶＡディスプレイ用に特に適切で好ましい電極構造は、例えば、米国特許出願公開第２００６／００６６７９３号公報に記載されている。
【０１６８】
本発明の好ましいＰＳＡタイプＬＣディスプレイは、
・ピクセル領域を定義するピクセル電極、それぞれのピクセル領域に配置されたスイッチ素子に連結されておりマイクロスリットパターンを施してもよいピクセル電極、および任意にピクセル電極上に配置された第１配向層を含む第１基板と；
・第１基板に面している第２基板の全体部分上に配置してもよい通常の電極層、および任意の第２配向層を含む第２基板と；
・上および下に記載する通りの重合性成分Ａ）および液晶成分Ｂ）（ただし、重合性成分Ａは好ましくは重合されている。）を含むＬＣ媒体を含み、第１および第２基板間に配置されたＬＣ層と
を含む。
【０１６９】
第１および／または第２配向層は、ＬＣ層のＬＣ分子の配向方向を制御する。例えば、ＰＳ−ＶＡディスプレイにおいては、配向層がＬＣ分子をホメオトロピック（または垂直）配向（即ち、表面に垂直）またはチルト配向とするように配向層を選択する。そのような配向層は、例えば、ポリイミドを含み、ポリイミドはラビングされていてもよく、光配向法で調製できる。
【０１７０】
ＯＤＦプロセスを使用することによる本発明によるＰＳＡ  ＬＣＤを製造する方法を、図１に例示的および概略的に図式化する。第１工程（ａ）においてＬＣ媒体の液滴（２）の配列を一方のＬＣＤガラス基板（１）上に分配し、そこではＬＣ液滴（２）と基板（１）の縁との間の境界領域にシーラント材料（３）が提供される。第２工程（ｂ）において好ましくは真空条件下、例えば真空組立室内で、対向するガラス基板（４）を第１基板（１）に合わせて固定し、このようにして２枚の基板（１、４）間でＬＣ液滴（２）を強制的に広げて連続層を形成する。次いで例えばＵＶ光重合で、ＬＣ媒体の重合性成分Ａ）を重合する（図示せず）。
【０１７１】
ＬＣ媒体（２）が上記および下記の通りの重合性成分Ａ）を含有する場合、例えば液滴を分配し基板を合わせる際に流動力学が異なるために生じ得るＯＤＦムラが著しく低減されることが観察された。
【０１７２】
ＯＤＦによりＰＳＡディスプレイを調製する本発明による方法は好ましくは、以下の工程を含む：
ａ）上記および下記の通りの成分Ａ）およびＢ）を含むＬＣ媒体の液滴（２）の配列を第１基板（１）、好ましくはガラス基板上に分配する工程、
ｂ）ＬＣ媒体で覆われている第１基板（１）の表面最上部の上に、好ましくはガラス基板である第２基板（４）を好ましくは真空条件下で提供し、第１基板（１）および第２基板（４）の間でＬＣ液滴を広げさせ連続層を形成する工程、
ただし第１基板（１）は第１電極構造を備え、第２基板（４）は第２電極構造を備えているか、あるいは第１および第２基板（１、４）の一方に第１および第２電極構造が設けられ、第１および第２基板（１、４）の他方には電極構造が設けられておらず、
ｃ）好ましくは第１および第２電極に電圧を印加しながら、成分Ａ）の重合性化合物の光重合を引き起こすＵＶ放射にＬＣ媒体（２）を曝露する工程。
【０１７３】
好ましくは第１基板（１）は、ＬＣ媒体と接触する第１配向層を備えている。更に好ましくは第２基板（４）は、ＬＣ媒体と接触する第２配向層を備えている。
【０１７４】
好ましくは第１基板（１）および／もしくは第２基板（４）上または第１基板（１）および第２基板（４）の間で、好ましくはＬＣ材料の液滴（２）とそれぞれの基板（１、４）の縁との間の領域に設けられたシーラント材料（３）によって、第１基板（１）および第２基板（４）は一緒に固定または接着されている。
【０１７５】
好ましくは例えば熱および/または光放射に曝露することで、シーラント材料（３）を硬化する。光放射に曝露してシーラント材料（３）を硬化する場合、好ましくは光放射がＬＣ媒体の重合性成分Ａ）の重合を引き起こさないように光放射を選択し、および／または例えばフォトマスクによって、シーラント材料（３）を硬化するために使用する光放射からＬＣ媒体を保護する。
【０１７６】
ＰＳＡディスプレイは、カラーフィルター、ブラックマトリクス、パッシベーション層、光学レタデーション層、個々のピクセルをアドレスするためのトランジスタ素子などの更なる要素を含んでよく、これらは全て当業者に既知で、特許性のある技量を発揮することなく用いることができる。
【０１７７】
電極構造は、個々のディスプレイのタイプに応じて当業者が設計できる。例えば、ＰＳ−ＶＡディスプレイ用に２個、４個またはそれ以上の異なるチルト配向方向を生成するために、スリットおよび／または隆起もしくは突起を有する電極を提供することで、ＬＣ分子のマルチドメイン配向性を誘発できる。
【０１７８】
重合すれば成分Ａ）の重合性化合物は架橋されたポリマーを形成し、ＬＣ媒体中にＬＣ分子の一定のプレチルトが生じる。特定の理論に縛られることを望むものではないが、重合性化合物で形成される架橋されたポリマーの少なくとも一部分が、ＬＣ媒体より相分離または沈殿し、基板もしくは電極またはそれらの上に提供された配向層上でポリマーの層を形成する
と考えられる。顕微鏡測定データ（ＳＥＭおよびＡＦＭなど）で、形成されたポリマーの少なくとも一部がＬＣ／基板の界面に蓄積していることを確認した。
【０１７９】
成分Ａ）の重合性化合物の重合は単一の工程で行うことができる。また、最初に、プレチルト角を生成するために第１工程において任意に電圧を印加しながら重合を行い、続いて、第２重合工程において電圧を印加せずに、第１工程において反応しなかった化合物を重合または架橋する（「最終硬化」）ことも可能である。
【０１８０】
適切で好ましい重合方法は、例えば、熱または光重合で、好ましくは光重合であり、特にはＵＶ誘発光重合で、ＵＶ照射に重合性化合物を曝露することで達成できる。
【０１８１】
１種類以上の重合開始剤をＬＣ媒体に添加できる。重合に適切な条件および開始剤の適切なタイプおよび量は当業者に既知であり、文献に記載されている。例えば、商業的に入手可能な光重合開始剤Ｉｒｇａｃｕｒｅ６５１（登録商標）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４（登録商標）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７（登録商標）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８９（登録商標）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ３６９（登録商標）またはＤａｒｏｃｕｒｅ１１７３（登録商標）（Ｃｉｂａ社）がフリーラジカル重合に適する。重合開始剤を用いる場合、開始剤の割合は、好ましくは、０．００１〜５重量％、特に好ましくは、０．００１〜１重量％である。
【０１８２】
また、成分Ａ）で使用する重合性化合物は開始剤を伴わない重合にも適しており、このことは、例えば、材料費がより低く、特に、開始剤またはその劣化生成物の残存し得る量によるＬＣ媒体の汚染がより少ないなどの特筆すべき利点を伴う。このように、開始剤を加えることなく、重合を行うこともできる。よって、好ましい実施形態において、ＬＣ媒体は重合開始剤を含まない。
【０１８３】
また、例えば、保存または輸送中におけるＲＭの好ましくない自発的な重合を防止するために、ＬＣ媒体は１種類以上の安定剤を含んでもよい。安定剤の適切なタイプおよび量は当業者に既知であり、文献に記載されている。例えば、Ｉｒｇａｎｏｘ（登録商標）シリーズ（Ｃｉｂａ社）からの商業的に入手可能な安定剤、例えば、Ｉｒｇａｎｏｘ（登録商標）１０７６などが特に適切である。安定剤を用いる場合、安定剤の割合は、ＲＭまたは重合性成分（成分Ａ）の総量を基礎として、好ましくは、１０〜５００，０００ｐｐｍ、特に好ましくは、５０〜５０，０００ｐｐｍである。
【０１８４】
成分Ａ）で使用する重合性化合物は、ＰＳＡディスプレイを調製する１個以上の以下の特徴を含む方法において特に良好なＵＶ吸収性を示し、よって、その方法に特に適する：
・重合性媒体を、チルト角を生成するための第１ＵＶ曝露工程（「ＵＶ−１工程」）と、重合を完結するための第２ＵＶ曝露工程（「ＵＶ−２工程」）とを含む２段階工程でディスプレイ内においてＵＶ光に曝露する；
・重合性媒体を、エネルギー節約ＵＶランプ（「グリーンＵＶランプ」としても知られている。）で生成したＵＶ光にディスプレイ内で曝露する。これらのランプは３００〜３８０ｎｍの吸収スペクトルにおいて比較的低い強度（従来のＵＶランプの１／１００〜１／１０である。）で特徴付けられ、好ましくはＵＶ２工程で使用し、ＵＶ１工程においても高い強度を避ける必要がある場合は使用できる；
・ＰＳ−ＶＡ工程において短い波長のＵＶ光に曝露するのを避けるために、重合性媒体を、より長い波長（好ましくは３４０ｎｍ以上である。）にシフトした放射スペクトルを有するＵＶランプで生成したＵＶ光にディスプレイ内で曝露する。
【０１８５】
より低い強度を使用するか、より長い波長のＵＶへシフトするかの何れによっても、ＵＶ光で引き起こされ得る損傷から有機層を保護する。
【０１８６】
本発明の好ましい実施形態は、上および下に記載するＰＳＡディスプレイを調製する方法に関し、１個以上の以下の特徴を含む：
・重合性ＬＣ媒体を、チルト角を生成するための第１ＵＶ曝露工程（「ＵＶ−１工程」）と、重合を完結するための第２ＵＶ曝露工程（「ＵＶ−２工程」）とを含む２段階でＵＶ光に曝露する；
・重合性ＬＣ媒体を、３００〜３８０ｎｍの波長範囲内で０．５ｍＷ／ｃｍ２〜１０ｍＷ／ｃｍ２の強度を有するＵＶランプで生成したＵＶ光に曝露する（好ましくは、このＵＶランプをＵＶ２工程で使用し、ＵＶ１工程でも使用できる。）；
・重合性ＬＣ媒体を、３４０ｎｍ以上で、好ましくは４００ｎｍ以下の波長を有するＵＶ光に曝露する。
【０１８７】
この好ましい方法は、例えば、所望のＵＶランプを使用するか、それぞれ所望の波長を有するＵＶ光を実質的に透過し、それぞれ所望でない波長を有する光を実質的に遮断するバンドパスフィルターおよび／またはカットオフフィルターを使用することで実施可能である。例えば、３００〜４００ｎｍの波長λのＵＶ光で照射が望ましい場合、λが３００ｎｍ超４００ｎｍ未満の波長を実質的に透過するワイドバンドパスフィルターを使用して、ＵＶ曝露を実施可能である。３４０ｎｍ超の波長λのＵＶ光で照射することが望ましい場合、３４０ｎｍ超の波長λを実質的に透過するカットオフフィルターを用いて、ＵＶ曝露を実施可能である。
【０１８８】
「実質的に透過する」は、フィルターが、所望の波長の入射光の、大部分、好ましくは少なくとも５０％の強度で透過することを意味する。「実質的に遮断する」は、フィルターが、所望でない波長の入射光の大部分、好ましくは少なくとも５０％の強度で透過しないことを意味する。「所望（所望でない）波長」は、例えば、バンドパスフィルターの場合は、与えられるλの範囲内（外）の波長を意味し、カットオフフィルターの場合は、与えられるλの値の上（下）の波長を意味する。
【０１８９】
この好ましい方法は、より長い波長のＵＶを用いてのディスプレイの製造を可能にし、これにより、ＵＶ光の短波長成分の有害作用および損傷作用を低減または回避できる。
【０１９０】
ＵＶ照射エネルギーは好ましくは、６〜１００Ｊであり、製造工程の条件による。
【０１９１】
好ましくは本発明によるＬＣ媒体は、重合性成分Ａ）と、上記および下記の通りのＬＣ成分Ｂ）（またはＬＣホスト混合物）とから本質的になる。しかしながら、ＬＣ媒体は、好ましくは、コモノマー、キラルドーパント、重合開始剤、禁止剤、安定剤、界面活性剤、湿潤剤、潤滑剤、分散剤、疎水化剤、接着剤、流動性向上剤、消泡剤、脱気剤、希釈剤、反応性希釈剤、助剤、着色剤、色素、顔料およびナノ粒子が挙げられるリストより限定することなく選ばれる１種類以上の更なる成分または添加剤を追加的に含んでよい。
【０１９２】
重合性成分Ａ）が、式Ｆ１〜Ｆ２から選択される少なくとも１種類の重合性化合物および式Ｓ１〜Ｓ３から選択される少なくとも１種類の重合性化合物から排他的に成るＬＣ媒体が好ましい。
【０１９３】
ＬＣ媒体中の重合性成分Ａ）全体の割合は、好ましくは０を超え〜５％以下、非常に好ましくは０を超え〜１％以下、最も好ましくは０．０５〜０．５％である。
【０１９４】
ＬＣ媒体中のＬＣ成分Ｂ）の割合は、好ましくは９５〜１００％未満、非常に好ましくは９９〜１００％未満である。
【０１９５】
上記の通りの重合性成分Ａ）に加え、本発明によるＬＣ媒体は、非重合性の低分子量化合物より選択する１種類以上、好ましくは２種類以上のＬＣ化合物を含むＬＣ成分Ｂ）またはＬＣホスト混合物を含む。これらのＬＣ化合物は、重合性化合物の重合に適用される条件において、重合反応に対し安定でありおよび／または非反応性であるように選択する。
【０１９６】
これらの化合物の例は、下に示す化合物である。
【０１９７】
ＬＣ成分Ｂ）またはＬＣホスト混合物がネマチックＬＣ相を有し、好ましくはキラル液晶相を有さないＬＣ媒体が好ましい。
【０１９８】
アキラルな重合性化合物および成分Ａ）および／またはＢ）の化合物はアキラルな化合物から成る群より排他的に選択されるＬＣ媒体が更に好ましい。
【０１９９】
ＬＣ成分Ｂ）またはＬＣホスト混合物は好ましくは、ネマチックＬＣ混合物である。
【０２００】
好ましい実施形態において、ＬＣ媒体は、負の誘電異方性を有する化合物を基礎とするＬＣ成分Ｂ）またはＬＣホスト混合物を含有する。その様なＬＣ媒体は、特にＰＳ−ＶＡおよびＰＳ−ＵＢ−ＦＦＳディスプレイにおける使用に適する。そのようなＬＣ媒体の特に好ましい実施形態は、下の項目ａ）〜ｚ４）のものである。
【０２０１】
ａ）成分Ｂ）またはＬＣホスト混合物が、式ＣＹおよびＰＹから選択する１種類以上の化合物を含むＬＣ媒体。
【０２０２】
【化３０】
2018527606.tif 000031
式中、
ａは、１または２を表し、
ｂは、０または１を表し、
【０２０３】
【化３１】
2018527606.tif 000032
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ互いに独立に、１〜１２個のＣ原子を有するアルキル（ただし加えて、１個または２個の隣接していないＣＨ２基は、Ｏ原子が互いに直接連結しないようにして、−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯ−、−ＯＣＯ−または−ＣＯＯ−で置き換えられていてもよい。）、好ましくは、１〜６個のＣ原子を有するアルキルまたはアルコキシを表し、
ＺｘおよびＺｙは、それぞれ互いに独立に、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｃ２Ｆ４−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ２Ｏ−または単結合、好ましくは、単結合を表し、
Ｌ１〜４は、それぞれ互いに独立に、Ｆ、Ｃｌ、ＯＣＦ３、ＣＦ３、ＣＨ３、ＣＨ２Ｆ、ＣＨＦ２を表す。
【０２０４】
好ましくは、Ｌ１およびＬ２の両方がＦを表すか、または、Ｌ１およびＬ２の一方がＦを表し、他方がＣｌを表すか、または、Ｌ３およびＬ４の両方がＦを表すか、または、Ｌ３およびＬ４の一方がＦを表し、他方がＣｌを表す。
【０２０５】
式ＣＹの化合物は、好ましくは、以下のサブ式から成る群より選択する。
【０２０６】
【化３２】
2018527606.tif 000033
【０２０７】
【化３３】
2018527606.tif 000034
【０２０８】
【化３４】
2018527606.tif 000035
【０２０９】
【化３５】
2018527606.tif 000036
【０２１０】
【化３６】
2018527606.tif 000037
式中、ａは１または２を表し、ａｌｋｙｌおよびａｌｋｙｌ＊は、それぞれ互いに独立に、１〜６個のＣ原子を有する直鎖状のアルキル基を表し、ａｌｋｅｎｙｌは２〜６個のＣ原子を有する直鎖状のアルケニル基を表し、（Ｏ）は酸素原子または単結合を表す。ａｌｋｅｎｙｌは、好ましくは、ＣＨ２＝ＣＨ−、ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２ＣＨ２−、ＣＨ３−ＣＨ＝ＣＨ−、ＣＨ３−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ−、ＣＨ３−（ＣＨ２）２−ＣＨ＝ＣＨ−、ＣＨ３−（ＣＨ２）３−ＣＨ＝ＣＨ−またはＣＨ３−ＣＨ＝ＣＨ−（ＣＨ２）２−を表す。
【０２１１】
式ＣＹ２、ＣＹ８、ＣＹ１０およびＣＹ１６から選択する化合物、非常に好ましくは式ＣＹ２およびＣＹ１０のものが特に好ましい。
【０２１２】
式ＰＹの化合物は、好ましくは、以下のサブ式から成る群より選択する。
【０２１３】
【化３７】
2018527606.tif 000038
【０２１４】
【化３８】
2018527606.tif 000039
【０２１５】
【化３９】
2018527606.tif 000040
式中、ａｌｋｙｌおよびａｌｋｙｌ＊は、それぞれ互いに独立に、１〜６個のＣ原子を有する直鎖状のアルキル基を表し、ａｌｋｅｎｙｌは２〜６個のＣ原子を有する直鎖状のアルケニル基を表し、（Ｏ）は酸素原子または単結合を表す。ａｌｋｅｎｙｌは、好ましくは、ＣＨ２＝ＣＨ−、ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２ＣＨ２−、ＣＨ３−ＣＨ＝ＣＨ−、ＣＨ３−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ−、ＣＨ３−（ＣＨ２）２−ＣＨ＝ＣＨ−、ＣＨ３−（ＣＨ２）３−ＣＨ＝ＣＨ−またはＣＨ３−ＣＨ＝ＣＨ−（ＣＨ２）２−を表す。
【０２１６】
式ＰＹ２、ＰＹ８、ＰＹ１０およびＰＹ１６から選択する化合物、非常に好ましくは式ＰＹ２およびＰＹ１０のものが特に好ましい。
【０２１７】
好ましくは成分Ｂ）またはＬＣホスト混合物は式ＰＹ２の１種類以上の化合物を、好ましくは１〜２０％、非常に好ましくは８〜２０重量％で含む。
【０２１８】
ｂ）成分Ｂ）またはＬＣホスト混合物が、アルケニル基を含む１種類以上のメソゲンまたはＬＣ化合物（以降、「アルケニル化合物」とも呼ぶ。）（ただし、該アルケニル基は、ＬＣ媒体中に含有される重合性化合物を重合するために使用される条件下における重合反応に対して安定である。）を含むＬＣ媒体。
【０２１９】
好ましくは、成分Ｂ）またはＬＣホスト混合物は、式ＡＮおよびＡＹから選択する１種類以上のアルケニル化合物を含む。
【０２２０】
【化４０】
2018527606.tif 000041
式中、個々の基は、それぞれの出現において同一または異なって、それぞれ互いに独立に以下の意味を有する：
【０２２１】
【化４１】
2018527606.tif 000042
【０２２２】
【化４２】
2018527606.tif 000043
【０２２３】
【化４３】
2018527606.tif 000044
ＲＡ１は、２〜９個のＣ原子を有するアルケニルで、環Ｘ、ＹおよびＺの少なくとも１つがシクロヘキセニルを表す場合、ＲＡ２の意味の１つも表し、
ＲＡ２は、１〜１２個のＣ原子を有するアルキルで、ただし加えて、１個または２個の隣接していないＣＨ２基は、Ｏ原子が互いに直接連結しないようにして、−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯ−、−ＯＣＯ−または−ＣＯＯ−で置き換えられていてもよく、
Ｚｘは、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｃ２Ｆ４−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ２Ｏ−または単結合であり、好ましくは単結合であり、
Ｌ１、２は、Ｈ、Ｆ、Ｃｌ、ＯＣＦ３、ＣＦ３、ＣＨ３、ＣＨ２ＦまたはＣＨＦ２Ｈであり、好ましくは、Ｈ、ＦまたはＣｌであり、
ｘは、１または２であり、
ｚは、０または１である。
【０２２４】
式ＡＮおよびＡＹの好ましい化合物は、ＲＡ２が、エテニル、プロペニル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニルおよびヘプテニルから選択するものである。
【０２２５】
好ましい実施形態において、成分Ｂ）またはＬＣホスト混合物は、以下のサブ式から選択する式ＡＮの１種類以上の化合物を含む。
【０２２６】
【化４４】
2018527606.tif 000045
【０２２７】
【化４５】
2018527606.tif 000046
式中、
ａｌｋｙｌおよびａｌｋｙｌ＊は、それぞれ互いに独立に、１〜６個のＣ原子を有する直鎖状のアルキル基を表し、
ａｌｋｅｎｙｌおよびａｌｋｅｎｙｌ＊は、それぞれ互いに独立に、２〜７個のＣ原子を有する直鎖状のアルケニル基を表す。ａｌｋｅｎｙｌおよびａｌｋｅｎｙｌ＊は、好ましくは、ＣＨ２＝ＣＨ−、ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２ＣＨ２−、ＣＨ３−ＣＨ＝ＣＨ−、ＣＨ３−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ−、ＣＨ３−（ＣＨ２）２−ＣＨ＝ＣＨ−、ＣＨ３−（ＣＨ２）３−ＣＨ＝ＣＨ−またはＣＨ３−ＣＨ＝ＣＨ−（ＣＨ２）２−を表す。
【０２２８】
好ましくは、成分Ｂ）またはＬＣホスト混合物は、式ＡＮ１、ＡＮ２、ＡＮ３およびＡＮ６から選択する１種類以上の化合物、非常に好ましくは式ＡＮ１の１種類以上の化合物を含む。
【０２２９】
他の好ましい実施形態において、成分Ｂ）またはＬＣホスト混合物は、以下のサブ式から選択する式ＡＮの１種類以上の化合物を含む。
【０２３０】
【化４６】
2018527606.tif 000047
式中、
ｍは、１、２、３、４、５または６を表し、
ｉは、０、１、２または３を表し、
Ｒｂ１は、Ｈ、ＣＨ３またはＣ２Ｈ５である。
【０２３１】
他の好ましい実施形態において、成分Ｂ）またはＬＣホスト混合物は、以下のサブ式から選択する１種類以上の化合物を含む。
【０２３２】
【化４７】
2018527606.tif 000048
式ＡＮ１ａ２およびＡＮ１ａ５の化合物が最も好ましい。
【０２３３】
他の好ましい実施形態において、成分Ｂ）またはＬＣホスト混合物は、以下のサブ式から選択する式ＡＹの１種類以上の化合物を含む。
【０２３４】
【化４８】
2018527606.tif 000049
【０２３５】
【化４９】
2018527606.tif 000050
【０２３６】
【化５０】
2018527606.tif 000051
【０２３７】
【化５１】
2018527606.tif 000052
式中、
ａｌｋｙｌおよびａｌｋｙｌ＊は、それぞれ互いに独立に、１〜６個のＣ原子を有する直鎖状のアルキル基を表し、
「（Ｏ）」は、Ｏ−原子または単結合を表し、
ａｌｋｅｎｙｌおよびａｌｋｅｎｙｌ＊は、それぞれ互いに独立に、２〜７個のＣ原子を有する直鎖状のアルケニル基を表す。ａｌｋｅｎｙｌおよびａｌｋｅｎｙｌ＊は、好ましくは、ＣＨ２＝ＣＨ−、ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２ＣＨ２−、ＣＨ３−ＣＨ＝ＣＨ−、ＣＨ３−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ−、ＣＨ３−（ＣＨ２）２−ＣＨ＝ＣＨ−、ＣＨ３−（ＣＨ２）３−ＣＨ＝ＣＨ−またはＣＨ３−ＣＨ＝ＣＨ−（ＣＨ２）２−を表す。
【０２３８】
他の好ましい実施形態において、成分Ｂ）またはＬＣホスト混合物は、以下のサブ式から選択する式ＡＹの１種類以上の化合物を含む。
【０２３９】
【化５２】
2018527606.tif 000053
式中、
ｍおよびｎは、それぞれ互いに独立に、１、２、３、４、５または６を表し、
ａｌｋｅｎｙｌは、ＣＨ２＝ＣＨ−、ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２ＣＨ２−、ＣＨ３−ＣＨ＝ＣＨ−、ＣＨ３−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ−、ＣＨ３−（ＣＨ２）２−ＣＨ＝ＣＨ−、ＣＨ３−（ＣＨ２）３−ＣＨ＝ＣＨ−またはＣＨ３−ＣＨ＝ＣＨ−（ＣＨ２）２−を表す。
【０２４０】
好ましくは、ＬＣ媒体中の式ＡＮおよびＡＹの化合物の割合は２〜７０重量％、非常に好ましくは５〜６０重量％、最も好ましくは１０〜５０重量％である。
【０２４１】
好ましくは、ＬＣ媒体またはＬＣホスト混合物は、式ＡＮおよびＡＹから選択する１〜５種類、好ましくは１種類、２種類または３種類の化合物を含有する。
【０２４２】
式ＡＮおよび／またはＡＹのアルケニル化合物を添加することで、ＬＣ媒体の粘度を低下し、応答時間を短くすることが可能になる。
【０２４３】
ｃ）成分Ｂ）またはＬＣホスト混合物が、以下の式の１種類以上の化合物を含むＬＣ媒体。
【０２４４】
【化５３】
2018527606.tif 000054
式中、個々の基は、以下の意味を有する：
【０２４５】
【化５４】
2018527606.tif 000055
【０２４６】
【化５５】
2018527606.tif 000056
Ｒ３およびＲ４は、それぞれ互いに独立に、１〜１２個のＣ原子を有するアルキルを表し、ただし加えて、１個または２個の隣接していないＣＨ２基は、Ｏ原子が互いに直接連結しないようにして、−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−または−ＣＯ−Ｏ−で置き換えられていてもよく、
Ｚｙは、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｃ２Ｆ４−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ２Ｏ−または単結合、好ましくは、単結合を表す。
【０２４７】
式ＺＫの化合物は、好ましくは、以下のサブ式から成る群より選択する。
【０２４８】
【化５６】
2018527606.tif 000057
【０２４９】
【化５７】
2018527606.tif 000058
式中、ａｌｋｙｌおよびａｌｋｙｌ＊は、それぞれ互いに独立に、１〜６個のＣ原子を有する直鎖状のアルキル基を表し、ａｌｋｅｎｙｌは、２〜６個のＣ原子を有する直鎖状のアルケニル基を表す。ａｌｋｅｎｙｌは、好ましくは、ＣＨ２＝ＣＨ−、ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２ＣＨ２−、ＣＨ３−ＣＨ＝ＣＨ−、ＣＨ３−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ−、ＣＨ３−（ＣＨ２）２−ＣＨ＝ＣＨ−、ＣＨ３−（ＣＨ２）３−ＣＨ＝ＣＨ−またはＣＨ３−ＣＨ＝ＣＨ−（ＣＨ２）２−を表す。
【０２５０】
式ＺＫ１の化合物が特に好ましい。
【０２５１】
式ＺＫの特に好ましい化合物は、以下のサブ式より選択する。
【０２５２】
【化５８】
2018527606.tif 000059
式中、プロピル、ブチルおよびペンチル基は直鎖状の基である。
【０２５３】
式ＺＫ１ａの化合物が最も好ましい。
【０２５４】
ｄ）成分Ｂ）またはＬＣホスト混合物が、以下の式の１種類以上の化合物を追加的に含むＬＣ媒体。
【０２５５】
【化５９】
2018527606.tif 000060
式中、個々の基は、それぞれの出現において同一または異なって、以下の意味を有する：
Ｒ５およびＲ６は、それぞれ互いに独立に、１〜１２個のＣ原子を有するアルキル（ただし加えて、１個または２個の隣接していないＣＨ２基は、Ｏ原子が互いに直接連結しないようにして、−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯ−、−ＯＣＯ−または−ＣＯＯ−で置き換えられていてもよい。）、好ましくは、１〜６個のＣ原子を有するアルキルまたはアルコキシを表し、
【０２５６】
【化６０】
2018527606.tif 000061
【０２５７】
【化６１】
2018527606.tif 000062
および、
ｅは、１または２を表す。
【０２５８】
式ＤＫの化合物は、好ましくは、以下のサブ式から成る群より選択する。
【０２５９】
【化６２】
2018527606.tif 000063
【０２６０】
【化６３】
2018527606.tif 000064
式中、ａｌｋｙｌおよびａｌｋｙｌ＊は、それぞれ互いに独立に、１〜６個のＣ原子を有する直鎖状のアルキル基を表し、ａｌｋｅｎｙｌは、２〜６個のＣ原子を有する直鎖状のアルケニル基を表す。ａｌｋｅｎｙｌは、好ましくは、ＣＨ２＝ＣＨ−、ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２ＣＨ２−、ＣＨ３−ＣＨ＝ＣＨ−、ＣＨ３−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ−、ＣＨ３−（ＣＨ２）２−ＣＨ＝ＣＨ−、ＣＨ３−（ＣＨ２）３−ＣＨ＝ＣＨ−またはＣＨ３−ＣＨ＝ＣＨ−（ＣＨ２）２−を表す。
【０２６１】
ｅ）成分Ｂ）またはＬＣホスト混合物が、以下の式の１種類以上の化合物を追加的に含むＬＣ媒体。
【０２６２】
【化６４】
2018527606.tif 000065
式中、個々の基は以下の意味を有する：
【０２６３】
【化６５】
2018527606.tif 000066
少なくとも１個の環Ｆは、シクロヘキシレンと異なり、
ｆは、１または２を表し、
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ互いに独立に、１〜１２個のＣ原子を有するアルキルを表し、ただし加えて、１個または２個の隣接していないＣＨ２基は、Ｏ原子が互いに直接連結しないようにして、−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯ−、−ＯＣＯ−または−ＣＯＯ−で置き換えられていてもよく、
Ｚｘは、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｃ２Ｆ４−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ２Ｏ−または単結合、好ましくは、単結合を表し、
Ｌ１およびＬ２は、それぞれ互いに独立に、Ｆ、Ｃｌ、ＯＣＦ３、ＣＦ３、ＣＨ３、ＣＨ２Ｆ、ＣＨＦ２を表す。
【０２６４】
好ましくは、基Ｌ１およびＬ２の両方がＦを表すか、または、基Ｌ１およびＬ２の一方がＦを表し、他方がＣｌを表す。
【０２６５】
式ＬＹの化合物は、好ましくは、以下のサブ式から成る群より選択する。
【０２６６】
【化６６】
2018527606.tif 000067
【０２６７】
【化６７】
2018527606.tif 000068
【０２６８】
【化６８】
2018527606.tif 000069
【０２６９】
【化６９】
2018527606.tif 000070
式中、Ｒ１は上で示される意味を有し、ａｌｋｙｌは１〜６個のＣ原子を有する直鎖状のアルキル基を表し、（Ｏ）は酸素原子または単結合を表し、ｖは１〜６の整数を表す。Ｒ１は、好ましくは、１〜６個のＣ原子を有する直鎖状のアルキル、または、２〜６個のＣ原子を有する直鎖状のアルケニル、特に、ＣＨ３、Ｃ２Ｈ５、ｎ−Ｃ３Ｈ７、ｎ−Ｃ４Ｈ９、ｎ−Ｃ５Ｈ１１、ＣＨ２＝ＣＨ−、ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２ＣＨ２−、ＣＨ３−ＣＨ＝ＣＨ−、ＣＨ３−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ−、ＣＨ３−（ＣＨ２）２−ＣＨ＝ＣＨ−、ＣＨ３−（ＣＨ２）３−ＣＨ＝ＣＨ−またはＣＨ３−ＣＨ＝ＣＨ−（ＣＨ２）２−を表す。
【０２７０】
特に好ましくは成分Ｂ）またはＬＣホスト混合物は、式ＬＹ１０の１種類以上の化合物を含む。
【０２７１】
ｆ）成分Ｂ）またはＬＣホスト混合物が、以下の式から成る群より選択する１種類以上の化合物を追加的に含むＬＣ媒体。
【０２７２】
【化７０】
2018527606.tif 000071
式中、ａｌｋｙｌはＣ１〜６−アルキルを表し、ＬｘはＨまたはＦを表し、Ｘは、Ｆ、Ｃｌ、ＯＣＦ３、ＯＣＨＦ２またはＯＣＨ＝ＣＦ２を表す。ＸがＦを表す式Ｇ１の化合物が特に好ましい。
【０２７３】
ｇ）成分Ｂ）またはＬＣホスト混合物が、以下の式から成る群より選択する１種類以上の化合物を追加的に含むＬＣ媒体。
【０２７４】
【化７１】
2018527606.tif 000072
【０２７５】
【化７２】
2018527606.tif 000073
式中、Ｒ５はＲ１に上で示される意味の１つを有し、ａｌｋｙｌはＣ１〜６−アルキルを表し、ｄは０または１を表し、ｚおよびｍは、それぞれ互いに独立に、１〜６の整数を表す。これらの化合物におけるＲ５は、特に好ましくは、Ｃ１〜６−アルキルまたは−アルコキシまたはＣ２〜６−アルケニルであり、ｄは、好ましくは、１である。本発明によるＬＣ媒体は、好ましくは、上述の式の１種類以上の化合物を、５重量％以上の量で含む。
【０２７６】
ｈ）成分Ｂ）またはＬＣホスト混合物が、以下の式から成る群より選択する１種類以上のビフェニル化合物を追加的に含むＬＣ媒体。
【０２７７】
【化７３】
2018527606.tif 000074
式中、ａｌｋｙｌおよびａｌｋｙｌ＊は、それぞれ互いに独立に、１〜６個のＣ原子を有する直鎖状のアルキル基を表し、ａｌｋｅｎｙｌおよびａｌｋｅｎｙｌ＊は、それぞれ互いに独立に、２〜６個のＣ原子を有する直鎖状のアルケニル基を表す。ａｌｋｅｎｙｌおよびａｌｋｅｎｙｌ＊は、好ましくは、ＣＨ２＝ＣＨ−、ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２ＣＨ２−、ＣＨ３−ＣＨ＝ＣＨ−、ＣＨ３−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ−、ＣＨ３−（ＣＨ２）２−ＣＨ＝ＣＨ−、ＣＨ３−（ＣＨ２）３−ＣＨ＝ＣＨ−またはＣＨ３−ＣＨ＝ＣＨ−（ＣＨ２）２−を表す。
【０２７８】
ＬＣホスト混合物における式Ｂ１〜Ｂ３のビフェニルの割合は、好ましくは、少なくとも３重量％、特に５重量％以上である。
【０２７９】
式Ｂ２の化合物が特に好ましい。
【０２８０】
式Ｂ１〜Ｂ３の化合物は、好ましくは、以下のサブ式から成る群より選択する。
【０２８１】
【化７４】
2018527606.tif 000075
式中、ａｌｋｙｌ＊は、１〜６個のＣ原子を有するアルキル基を表す。本発明による媒体は、特に好ましくは、式Ｂ１ａおよび／またはＢ２ｃの１種類以上の化合物を含む。
【０２８２】
ｉ）成分Ｂ）またはＬＣホスト混合物が、以下の式の１種類以上のターフェニル化合物を追加的に含むＬＣ媒体。
【０２８３】
【化７５】
2018527606.tif 000076
式中、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ互いに独立に、上で示される意味の１つを有し、および
【０２８４】
【化７６】
2018527606.tif 000077
式中、Ｌ５は、ＦまたはＣｌ、好ましくは、Ｆを表し、Ｌ６は、Ｆ、Ｃｌ、ＯＣＦ３、ＣＦ３、ＣＨ３、ＣＨ２ＦまたはＣＨＦ２、好ましくは、Ｆを表す。
【０２８５】
式Ｔの化合物は、好ましくは、以下のサブ式から成る群より選択する。
【０２８６】
【化７７】
2018527606.tif 000078
【０２８７】
【化７８】
2018527606.tif 000079
【０２８８】
【化７９】
2018527606.tif 000080
式中、Ｒは１〜７個のＣ原子を有する直鎖状のアルキルまたはアルコキシ基を表し、Ｒ＊は２〜７個のＣ原子を有する直鎖状のアルケニル基を表し、（Ｏ）は酸素原子または単結合を表し、ｍは１〜６の整数を表す。Ｒ＊は、好ましくは、ＣＨ２＝ＣＨ−、ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２ＣＨ２−、ＣＨ３−ＣＨ＝ＣＨ−、ＣＨ３−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ−、ＣＨ３−（ＣＨ２）２−ＣＨ＝ＣＨ−、ＣＨ３−（ＣＨ２）３−ＣＨ＝ＣＨ−またはＣＨ３−ＣＨ＝ＣＨ−（ＣＨ２）２−を表す。
【０２８９】
Ｒは、好ましくは、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシまたはペントキシを表す。
【０２９０】
本発明によるＬＣホスト混合物は、好ましくは、式Ｔおよびその好ましいサブ式のターフェニルを、０．５〜３０重量％、特に、１〜２０重量％の量で含む。
【０２９１】
式Ｔ１、Ｔ２、Ｔ３、Ｔ５およびＴ２１の化合物、特に式Ｔ１およびＴ２およびＴ５のものが非常に好ましい。これらの化合物において、Ｒは、好ましくは、それぞれ１〜５個のＣ原子を有するアルキル、更に、アルコキシを表す。
【０２９２】
混合物のΔｎの値が０．１以上となる場合、好ましくは、本発明によるＬＣ媒体中においてターフェニルを用いる。好ましいＬＣ媒体は、好ましくは、化合物Ｔ１〜Ｔ２４の群より選択され、２〜２０重量％の１種類以上の式Ｔのターフェニル化合物を含む。
【０２９３】
ｋ）成分Ｂ）またはＬＣホスト混合物が、以下の式から成る群より選択する１種類以上のクオーターフェニル化合物を追加的に含むＬＣ媒体。
【０２９４】
【化８０】
2018527606.tif 000081
式中、
ＲＱは、１〜９個のＣ原子を有するアルキル、アルコキシもしくはオキサアルキル、または２〜９個のＣ原子を有するアルケニルもしくはアルケニルオキシであり、ＲＱは全てフッ素化されていてもよく、
ＸＱは、Ｆ、Ｃｌ、１〜６個のＣ原子を有するハロゲン化されたアルキルもしくはアルコキシ、または２〜６個のＣ原子を有するハロゲン化されたアルケニルもしくはアルケニルオキシであり、
ＬＱ１〜ＬＱ６は、それぞれ互いに独立にＨまたはＦであり、ただし、ＬＱ１〜ＬＱ６の少なくとも１つはＦである。
【０２９５】
式Ｑの好ましい化合物は、ＲＱが２〜６個のＣ原子を有する直鎖状のアルキル、非常に好ましくは、エチル、ｎ−プロピルまたはｎ−ブチルを表すものである。
【０２９６】
式Ｑの好ましい化合物は、ＬＱ３およびＬＱ４がＦのものである。式Ｑの更に好ましい化合物は、ＬＱ３、ＬＱ４ならびにＬＱ１およびＬＱ２の１個または２個がＦのものである。
【０２９７】
式Ｑの好ましい化合物は、ＸＱがＦまたはＯＣＦ３、非常に好ましくはＦを表すものである。
【０２９８】
式Ｑの化合物は、好ましくは、以下のサブ式より選択する。
【０２９９】
【化８１】
2018527606.tif 000082
式中、ＲＱは式Ｑの意味の１つまたは上および下で与える好ましい意味の１つを有し、好ましくは、エチル、ｎ−プロピルまたはｎ−ブチルである。
【０３００】
式Ｑ１の化合物、特にＲＱがｎ−プロピルである化合物が特に好ましい。
【０３０１】
好ましくは、ＬＣホスト混合物における式Ｑの化合物の割合は０重量％より多く〜５重量％以下、非常に好ましくは０．１〜２重量％、最も好ましくは０．２〜１．５重量％である。
【０３０２】
好ましくは、ＬＣホスト混合物は１〜５種類、好ましくは１または２種類の式Ｑの化合物を含有する。
【０３０３】
ＬＣホスト混合物に式Ｑのクオーターフェニル化合物を添加することで、高いＵＶ吸収を維持しながらＯＤＦムラを低減でき、迅速および完全な重合が可能となり、チルト角の強力および迅速な生成が可能となり、ＬＣ媒体のＵＶ安定性が増加する。
【０３０４】
加えて、負の誘電異方性を有するＬＣ媒体に式Ｑの化合物を添加すると、式Ｑの化合物は正の誘電異方性を有しているため、誘電定数ε‖およびε⊥の値をより良好に制御でき、特に、誘電異方性Δεを一定に保ちながら誘電定数ε‖の高い値を達成することが可能となり、よって、キックバック電圧を低減し、画像の固着を低減する。
【０３０５】
ｌ）成分Ｂ）またはＬＣホスト混合物が、式Ｃの１種類以上の化合物を追加的に含むＬＣ媒体。
【０３０６】
【化８２】
2018527606.tif 000083
式中、
ＲＣは、１〜９個のＣ原子を有するアルキル、アルコキシ、オキサアルキルもしくはアルコキシアルキルまたは２〜９個のＣ原子を有するアルケニルもしくはアルケニルオキシを表し、該基はフッ素化されていてもよく、
ＸＣは、Ｆ、Ｃｌ、１〜６個のＣ原子を有するハロゲン化されたアルキルもしくはアルコキシまたは２〜６個のＣ原子を有するハロゲン化されたアルケニルもしくはアルケニルオキシを表し、
ＬＣ１、ＬＣ２は、それぞれ互いに独立に、ＨまたはＦを表し、ただし、ＬＣ１およびＬＣ２の少なくとも一方はＦである。
【０３０７】
式Ｃの好ましい化合物は、ＲＣが２〜６個のＣ原子を有する直鎖状のアルキル、非常に好ましくは、エチル、ｎ−プロピルまたはｎ−ブチルを表すものである。
【０３０８】
式Ｃの好ましい化合物は、ＬＣ１およびＬＣ２がＦであるものである。
【０３０９】
式Ｃの好ましい化合物は、ＸＣがＦまたはＯＣＦ３、非常に好ましくはＦを表すものである。
【０３１０】
式Ｃの好ましい化合物は、以下の式から選択する。
【０３１１】
【化８３】
2018527606.tif 000084
式中、ＲＣは式Ｃの意味の１つまたは上および下に与える式Ｃの好ましい意味の１つを有し、好ましくは、エチル、ｎ−プロピルまたはｎ−ブチル、非常に好ましくはｎ−プロピルである。
【０３１２】
好ましくは、ＬＣホスト混合物中における式Ｃの化合物の割合は、０より大きく〜１０重量％以下、非常に好ましくは０．１〜８重量％、最も好ましくは０．２〜５重量％である。
【０３１３】
好ましくは、ＬＣホスト混合物は、１〜５種類、好ましくは１種類、２種類または３種類の式Ｃの化合物を含有する。
【０３１４】
加えて、負の誘電異方性を有するＬＣ媒体に式Ｃの化合物を添加すると、式Ｃの化合物は正の誘電異方性を有しているため、誘電定数ε‖およびε⊥の値をより良好に制御でき、特に、誘電異方性Δεを一定に保ちながら誘電定数ε‖の高い値を達成することが可能となり、よって、キックバック電圧を低減し、画像の固着を低減する。加えて、式Ｃの化合物を添加することで、ＬＣ媒体の粘度を低下させ、応答時間の短縮が可能となる。
【０３１５】
ｍ）成分Ｂ）またはＬＣホスト混合物が、以下の式から成る群より選択する１種類以上の化合物を追加的に含むＬＣ媒体。
【０３１６】
【化８４】
2018527606.tif 000085
式中、Ｒ１およびＲ２は上で示される意味を有し、好ましくは、それぞれ互いに独立に、１〜６個のＣ原子を有する直鎖状のアルキルまたは２〜６個のＣ原子を有する直鎖状のアルケニルを表す。
【０３１７】
好ましい媒体は、式Ｏ１、Ｏ３およびＯ４より選択する１種類以上の化合物を含む。
【０３１８】
ｎ）成分Ｂ）またはＬＣホスト混合物が、以下の式の１種類以上の化合物を追加的に、好ましくは３重量％より多く、特には５重量％以上、非常に特に好ましくは５〜３０重量％の量で含むＬＣ媒体。
【０３１９】
【化８５】
2018527606.tif 000086
式中、
【０３２０】
【化８６】
2018527606.tif 000087
Ｒ９は、Ｈ、ＣＨ３、Ｃ２Ｈ５またはｎ−Ｃ３Ｈ７を表し、（Ｆ）は任意のフッ素置換基を表し、ｑは、１、２または３を表し、Ｒ７はＲ１に示される意味の１つを有する。
【０３２１】
式ＦＩの特に好ましい化合物は、以下のサブ式から成る群より選択する。
【０３２２】
【化８７】
2018527606.tif 000088
式中、Ｒ７は、好ましくは、直鎖状のアルキルを表し、Ｒ９は、ＣＨ３、Ｃ２Ｈ５またはｎ−Ｃ３Ｈ７を表す。式ＦＩ１、ＦＩ２およびＦＩ３の化合物が特に好ましい。
【０３２３】
ｏ）成分Ｂ）またはＬＣホスト混合物が、以下の式から成る群より選択する１種類以上の化合物を追加的に含むＬＣ媒体。
【０３２４】
【化８８】
2018527606.tif 000089
式中、Ｒ８はＲ１に示される意味を有し、ａｌｋｙｌは１〜６個のＣ原子を有する直鎖状のアルキル基を表す。
【０３２５】
ｐ）成分Ｂ）またはＬＣホスト混合物が、例えば、以下の式から成る群より選択する化合物などのテトラヒドロナフチルまたはナフチル単位を含有する１種類以上化合物を追加的に含むＬＣ媒体。
【０３２６】
【化８９】
2018527606.tif 000090
【０３２７】
【化９０】
2018527606.tif 000091
式中、
Ｒ１０およびＲ１１は、それぞれ互いに独立に、１〜１２個のＣ原子を有するアルキル（ただし加えて、１個または２個の隣接していないＣＨ２基は、Ｏ原子が互いに直接連結しないようにして、−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯ−、−ＯＣＯ−または−ＣＯＯ−で置き換えられていてもよい。）、好ましくは、１〜６個のＣ原子を有するアルキルまたはアルコキシを表し、
および、Ｒ１０およびＲ１１は、好ましくは、１〜６個のＣ原子を有する直鎖状のアルキルもしくはアルコキシまたは２〜６個のＣ原子を有する直鎖状のアルケニルを表し、
Ｚ１およびＺ２は、それぞれ互いに独立に、−Ｃ２Ｈ４−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−（ＣＨ２）４−、−（ＣＨ２）３Ｏ−、−Ｏ（ＣＨ２）３−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｃ２Ｆ４−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−ＣＦ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＦ−、−ＣＨ２−または単結合を表す。
【０３２８】
ｑ）成分Ｂ）またはＬＣホスト混合物が、以下の式の１種類以上のジフルオロジベンゾクロマンおよび／またはクロマンを追加的に、好ましくは３〜２０重量％の量、特に３〜１５重量％の量で含むＬＣ媒体。
【０３２９】
【化９１】
2018527606.tif 000092
式中、
Ｒ１１およびＲ１２は、それぞれ互いに独立に、Ｒ１１に対して上で示される意味の１つを有し、
環Ｍは、トランス−１，４−シクロヘキシレンまたは１，４−フェニレンであり、
Ｚｍは、−Ｃ２Ｈ４−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＯ−Ｏ−または−Ｏ−ＣＯ−であり、
ｃは、０、１または２である。
【０３３０】
式ＢＣ、ＣＲおよびＲＣの特に好ましい化合物は、以下のサブ式から成る群より選択する。
【０３３１】
【化９２】
2018527606.tif 000093
【０３３２】
【化９３】
2018527606.tif 000094
【０３３３】
【化９４】
2018527606.tif 000095
式中、ａｌｋｙｌおよびａｌｋｙｌ＊は、それぞれ互いに独立に、１〜６個のＣ原子を有する直鎖状のアルキル基を表し、（Ｏ）は酸素原子または単結合を表し、ｃは１または２であり、ａｌｋｅｎｙｌおよびａｌｋｅｎｙｌ＊は、それぞれ互いに独立に、２〜６個のＣ原子を有する直鎖状のアルケニル基を表す。ａｌｋｅｎｙｌおよびａｌｋｅｎｙｌ＊は、好ましくは、ＣＨ２＝ＣＨ−、ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２ＣＨ２−、ＣＨ３−ＣＨ＝ＣＨ−、ＣＨ３−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ−、ＣＨ３−（ＣＨ２）２−ＣＨ＝ＣＨ−、ＣＨ３−（ＣＨ２）３−ＣＨ＝ＣＨ−またはＣＨ３−ＣＨ＝ＣＨ−（ＣＨ２）２−を表す。
【０３３４】
１種類、２種類または３種類の式ＢＣ−２の化合物を含むＬＣホスト混合物が、非常に特に好ましい。
【０３３５】
ｒ）成分Ｂ）またはＬＣホスト混合物が、以下の式の１種類以上のフッ素化されたフェナントレンおよび／またはジベンゾフランを追加的に含むＬＣ媒体。
【０３３６】
【化９５】
2018527606.tif 000096
式中、Ｒ１１およびＲ１２は、それぞれ互いに独立に、Ｒ１１に対して上で示される意味の１つを有し、ｂは０または１を表し、ＬはＦを表し、ｒは１、２または３を表す。
【０３３７】
式ＰＨおよびＢＦの特に好ましい化合物は、以下のサブ式から成る群より選択する。
【０３３８】
【化９６】
2018527606.tif 000097
式中、ＲおよびＲ’は、それぞれ互いに独立に、１〜７個のＣ原子を有する直鎖状のアルキルまたはアルコキシ基を表す。
【０３３９】
好ましくは成分Ｂ）またはＬＣホスト混合物は、式ＢＦ１、好ましくはサブ式ＢＦ１ａから選択される１種類以上の化合物を含む。
【０３４０】
【化９７】
2018527606.tif 000098
式中、ａｌｋｙｌは１〜６個のＣ原子を有する直鎖状のアルキル基を表し、（Ｏ）は酸素原子または単結合を表す。両方の基（Ｏ）が酸素原子を表し、ａｌｋｙｌが、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチルまたはヘキシルであり、好ましくは直鎖状である式ＢＦ１ａの化合物が非常に好ましい。
【０３４１】
ＬＣ媒体中における式ＢＦ１またはＢＦ１ａの化合物の割合は、好ましくは０．５〜２０％、非常に好ましくは０．５〜１０％、最も好ましくは１〜５％である。
【０３４２】
好ましくはＬＣ媒体は、式ＢＦ１またはＢＦ１ａの１〜５種類、好ましくは１種類、２種類または３種類の化合物を含有する。
【０３４３】
ｓ）成分Ｂ）またはＬＣホスト混合物が、以下の式の１種類以上の単環化合物を追加的に含むＬＣ媒体。
【０３４４】
【化９８】
2018527606.tif 000099
式中、
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ互いに独立に、１〜１２個のＣ原子を有するアルキル（ただし加えて、１個または２個の隣接していないＣＨ２基は、Ｏ原子が互いに直接連結しないようにして、−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯ−、−ＯＣＯ−または−ＣＯＯ−で置き換えられていてもよい。）、好ましくは、１〜６個のＣ原子を有するアルキルまたはアルコキシを表し、
Ｌ１およびＬ２は、それぞれ互いに独立に、Ｆ、Ｃｌ、ＯＣＦ３、ＣＦ３、ＣＨ３、ＣＨ２ＦまたはＣＨＦ２を表す。
【０３４５】
好ましくは、Ｌ１およびＬ２の両方がＦを表すか、Ｌ１およびＬ２の一方がＦで他方がＣｌを表す。
【０３４６】
式Ｙの化合物は、好ましくは、以下のサブ式から成る群より選択する。
【０３４７】
【化９９】
2018527606.tif 000100
式中、ＡｌｋｙｌおよびＡｌｋｙｌ＊は、それぞれ互いに独立に、１〜６個のＣ原子を有する直鎖状のアルキル基を表し、Ａｌｋｏｘｙは、１〜６個のＣ原子を有する直鎖状のアルコキシ基を表し、ＡｌｋｅｎｙｌおよびＡｌｋｅｎｙｌ＊は、それぞれ互いに独立に、２〜６個のＣ原子を有する直鎖状のアルケニル基を表し、Ｏは酸素原子または単結合を表す。ＡｌｋｅｎｙｌおよびＡｌｋｅｎｙｌ＊は、好ましくは、ＣＨ２＝ＣＨ−、ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２ＣＨ２−、ＣＨ３−ＣＨ＝ＣＨ−、ＣＨ３−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ−、ＣＨ３−（ＣＨ２）２−ＣＨ＝ＣＨ−、ＣＨ３−（ＣＨ２）３−ＣＨ＝ＣＨ−またはＣＨ３−ＣＨ＝ＣＨ−（ＣＨ２）２−を表す。
【０３４８】
特に好ましい式Ｙの化合物は、以下のサブ式から成る群より選択する。
【０３４９】
【化１００】
2018527606.tif 000101
式中、Ａｌｋｏｘｙは、好ましくは、３個、４個または５個のＣ原子を有する直鎖状のアルコキシを表す。
【０３５０】
ｔ）上および下に記載する通りの重合性化合物は別として、末端ビニルオキシ基（−Ｏ−ＣＨ＝ＣＨ２）を含有する化合物を含有しないＬＣ媒体。
【０３５１】
ｕ）成分Ｂ）またはＬＣホスト混合物が、１〜８種類、好ましくは１〜５種類の式ＣＹ１、ＣＹ２、ＰＹ１および／またはＰＹ２の化合物を含むＬＣ媒体。これらの化合物のＬＣホスト混合物全体における割合は、好ましくは５〜７０％、特に好ましくは１０〜３５％である。これらの個々の化合物の含有量は、好ましくは、それぞれの場合で２〜２０％である。
【０３５２】
ｖ）成分Ｂ）またはＬＣホスト混合物が、１〜８種類、好ましくは１〜５種類の式ＣＹ９、ＣＹ１０、ＰＹ９および／またはＰＹ１０の化合物を含むＬＣ媒体。これらの化合物のＬＣホスト混合物全体における割合は、好ましくは５〜６０％、特に好ましくは１０〜３５％である。これらの個々の化合物の含有量は、好ましくは、それぞれの場合で２〜２０％である。
【０３５３】
ｗ）成分Ｂ）またはＬＣホスト混合物が、１〜１０種類、好ましくは１〜８種類の式ＺＫの化合物、特に、式ＺＫ１、ＺＫ２および／またはＺＫ６の化合物を含むＬＣ媒体。これらの化合物のＬＣホスト混合物全体における割合は、好ましくは３〜２５％、特に好ましくは５〜４５％である。これらの個々の化合物の含有量は、好ましくは、それぞれの場合で２〜２０％である。
【０３５４】
ｘ）ＬＣホスト混合物全体における式ＣＹ、ＰＹおよびＺＫの化合物の割合は７０％を超え、好ましくは、８０％を超えるＬＣ媒体。
【０３５５】
ｙ）ＬＣホスト混合物が、好ましくは式ＡＮおよびＡＹから選択し、非常に好ましくは式ＡＮ１、ＡＮ３およびＡＮ６から選択し、最も好ましくは式ＡＮ１ａ、ＡＮ３ａおよびＡＮ６ａから選択するアルケニル基を含有する１種類以上の化合物を含有するＬＣ媒体。これらの化合物のＬＣホスト混合物中における濃度は、好ましくは、２〜７０％、非常に好ましくは、３〜５５％である。
【０３５６】
ｚ１）成分Ｂ）またはＬＣホスト混合物が、式ＰＹ１〜ＰＹ８、非常に好ましくは式ＰＹ２より選択する１種類以上、好ましくは１〜５種類の化合物を含有するＬＣ媒体。ＬＣホスト混合物全体におけるこれらの化合物の割合は、好ましくは１〜３０％、特に好ましくは２〜２０％である。これらの個々の化合物の割合は、好ましくは、それぞれの場合で１〜２０％である。
【０３５７】
ｚ２）成分Ｂ）またはＬＣホスト混合物が、式Ｔ１、Ｔ２、Ｔ３、Ｔ５およびＴ２１から、非常に好ましくは式Ｔ２から選択する１種類以上、好ましくは１種類、２種類または３種類の化合物を含有するＬＣ媒体。ＬＣホスト混合物全体におけるこれらの化合物の割合は、好ましくは１〜２０％である。
【０３５８】
ｚ３）ＬＣホスト混合物が、式ＣＹおよびＰＹから選択する１種類以上の化合物と、式ＡＮおよびＡＹから選択する１種類以上の化合物と、式ＺＫの１種類以上の化合物とを含有するＬＣ媒体。
【０３５９】
ｚ４）ＬＣホスト混合物が、式ＡＹ１４、好ましくは式ＡＹ１４ａの１種類以上、好ましくは１種類、２種類または３種類の化合物と、式ＢＦ１、好ましくは式ＢＦ１ａの１種類以上、好ましくは１種類、２種類または３種類の化合物と、および式ＰＹ２の１種類以上、好ましくは１種類、２種類または３種類の化合物とを含有するＬＣ媒体。ＬＣホスト混合物中における式ＡＹ１４またはＡＹ１４ａの化合物の割合は、好ましくは０．０５〜２％、非常に好ましくは０．１〜１％である。ＬＣホスト混合物中における式ＢＦ１またはＢＦ１ａの化合物の割合は、好ましくは０．５〜１０％、非常に好ましくは１〜５％である。ＬＣホスト混合物中における式ＰＹ２の化合物の割合は、好ましくは１〜２０％、非常に好ましくは１０〜２０％である。
【０３６０】
上述の好ましい実施形態の化合物を、上記の重合された化合物と組み合わせることにより、本発明によるＬＣ媒体において、低い閾電圧、低い回転粘度および非常に良好な低温安定性と、同時に、常に高い透明点および高いＨＲ値とが生じ、ＰＳＡディスプレイにおいて特に低いプレチルト角を迅速に確立できる。特に、先行技術からの媒体と比較し、ＰＳＡディスプレイにおいて、ＬＣ媒体は、著しく短縮された応答時間、また、特に、短縮された中間階調応答時間を示す。
【０３６１】
本発明のＬＣ媒体およびＬＣホスト混合物は、好ましくは、少なくとも８０Ｋ、特に好ましくは、少なくとも１００Ｋのネマチック相範囲、および、２０℃において、２５０ｍＰａ・ｓ以下、好ましくは、２００ｍＰａ・ｓ以下の回転粘度を有する。
【０３６２】
本発明によるＶＡタイプのディスプレイにおいては、スイッチオフ状態で、ＬＣ媒体層における分子は電極表面に垂直に配向しているか（ホメオトロピック的）、または、チルトホメオトロピック配向を有している。電極に電圧を印加すると、分子長軸が電極表面に平行なＬＣ分子の再配向が起きる。
【０３６３】
特にＰＳ−ＶＡおよびＰＳ−ＵＢ−ＦＦＳタイプのディスプレイにおいて使用するためで、負の誘電異方性を有する化合物を基礎とする本発明によるＬＣ媒体は、２０℃および１ｋＨｚにおいて、好ましくは、−０．５〜−１０、特に、−２．５〜−７．５の負の誘電異方性Δεを有する。
【０３６４】
ＰＳ−ＶＡおよびＰＳ−ＵＢ−ＦＦＳタイプのディスプレイにおいて使用するためで、本発明によるＬＣ媒体における複屈折率Δｎは、好ましくは、０．１６未満、特に好ましくは、０．０６〜０．１４、非常に特に好ましくは、０．０７〜０．１２である。
【０３６５】
また本発明によるＬＣ媒体は、当業者に既知で文献に記載されている、例えば、重合開始剤、禁止剤、安定剤、表面活性化物質またはキラルドーパントなどの更なる添加剤を含んでもよい。これらは重合性でも非重合性でもよい。従って、重合性の添加剤は重合性成分または成分Ａ）に属すると見なす。従って、非重合性の添加剤は非重合性成分または成分Ｂ）に属すると見なす。
【０３６６】
好ましい実施形態において、ＬＣ媒体は、例えば、１種類以上のキラルドーパントを、好ましくは、０．０１〜１％、非常に好ましくは、０．０５〜０．５％の濃度において含有する。キラルドーパントは、好ましくは、下の表Ｂからの化合物から成る群より選択され、非常に好ましくは、Ｒ−またはＳ−１０１１、Ｒ−またはＳ−２０１１、Ｒ−またはＳ−３０１１、Ｒ−またはＳ−４０１１およびＲ−またはＳ−５０１１から成る群より選択する。
【０３６７】
もう一つの好ましい実施形態において、ＬＣ媒体は、１種類以上のキラルドーパントのラセミ体を含有し、キラルドーパントは、好ましくは、先の段落で述べたキラルドーパントより選択する。
【０３６８】
更に、例えば、０〜１５重量％の多色性色素、更に、導電性を向上するために、ナノ粒子、導電性塩、好ましくは、エチルジメチルドデシルアンモニウム４−ヘキソキシベンゾエート、テトラブチルアンモニウムテトラフェニルボレートまたはクラウンエーテルの錯塩（例えば、Ｈａｌｌｅｒら、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．２４巻、２４９〜２５８頁（１９７３年）参照）、または、ネマチック相の誘電異方性、粘度および／または配向を改変するための物質をＬＣ媒体に加えることも可能である。このタイプの物質は、例えば、独国特許出願公開第２２  ０９  １２７号公報、独国特許出願公開第２２  ４０  ８６４号公報、独国特許出願公開第２３  ２１  ６３２号公報、独国特許出願公開第２３  ３８  ２８１号公報、独国特許出願公開第２４  ５０  ０８８号公報、独国特許出願公開第２６  ３７  ４３０号公報および独国特許出願公開第２８  ５３  ７２８号公報に記載されている。
【０３６９】
本発明によるＬＣ媒体の好ましい実施形態ａ）〜ｚ）の個々の成分は既知であるか、それらを調製する方法は文献に記載されている標準的な方法に基づいているため、それらを調製する方法は当業者によって先行技術より容易に導くことができるかの何れかである。式ＣＹの対応する化合物は、例えば、欧州特許出願公開第０  ３６４  ５３８号公報に記載されている。式ＺＫの対応する化合物は、例えば、独国特許出願公開第２６  ３６  ６８４号公報および独国特許出願公開第３３  ２１  ３７３号公報に記載されている。
【０３７０】
本発明に従って使用できるＬＣ媒体は、例えば、１種類以上の上述の化合物を、上で定義する通りの１種類以上の重合性化合物と、および、任意成分として、更なる液晶化合物および／または添加剤と混合することで、それ自身は従来の様式によって調製される。一般に、より少量で使用される成分の所望量を、主要な構成成分を構成する成分に、有利には昇温して、溶解する。また、有機溶媒中、例えば、アセトン、クロロホルムまたはメタノール中における成分の溶液を混合し、完全に混合後、例えば蒸留により、溶媒を再び除去することも可能である。本発明は、更に、本発明によるＬＣ媒体を調製する方法に関する。
【０３７１】
また、本発明によるＬＣ媒体が、例えば、Ｈ、Ｎ、Ｏ、Ｃｌ、Ｆが対応する重水素などの同位体に置き換えられた化合物も含んでもよいことは、当業者に言うまでもない。
【０３７２】
以下の例は、本発明を限定することなく本発明を説明する。しかしながら、それらは、当業者に対して、好ましく用いられる化合物、それらのそれぞれの濃度およびそれらの互いの組み合わせと共に、好ましい混合の考え方を示す。加えて、例は、どのような特性および特性の組み合わせが入手可能であるかを例示する。
【０３７３】
以下の略称を使用する：
（ｎ、ｍ、ｚ：それぞれの場合において互いに独立に、１、２、３、４、５または６。）
【０３７４】
【表１】
2018527606.tif 000102
【０３７５】
【表２】
2018527606.tif 000103
【０３７６】
【表３】
2018527606.tif 000104
【０３７７】
【表４】
2018527606.tif 000105
【０３７８】
【表５】
2018527606.tif 000106
【０３７９】
【表６】
2018527606.tif 000107
【０３８０】
【表７】
2018527606.tif 000108
【０３８１】
【表８】
2018527606.tif 000109
【０３８２】
【表９】
2018527606.tif 000110
【０３８３】
【表１０】
2018527606.tif 000111
【０３８４】
【表１１】
2018527606.tif 000112
【０３８５】
【表１２】
2018527606.tif 000113
【０３８６】
【表１３】
2018527606.tif 000114
【０３８７】
【表１４】
2018527606.tif 000115
【０３８８】
【表１５】
2018527606.tif 000116
【０３８９】
【表１６】
2018527606.tif 000117
本発明の好ましい実施形態において、本発明によるＬＣ媒体は、表Ａからの化合物から成る群より選択される１種類以上の化合物を含む。
【０３９０】
表Ｂに、本発明によるＬＣ媒体に添加できる可能性のあるキラルドーパントを示す。
【０３９１】
【表１７】
2018527606.tif 000118
ＬＣ媒体は、好ましくは０〜１０重量％、特には０．０１〜５重量％、特に好ましくは０．１〜３重量％のドーパントを含む。ＬＣ媒体は、好ましくは、表Ｂからの化合物から成る群より選択される１種類以上のドーパントを含む。
【０３９２】
表Ｃに、本発明によるＬＣ媒体に添加できる可能性のある安定剤を示す（ｎは、ここで、１〜１２の整数、好ましくは、１、２、３、４、５、６、７または８を表し、末端のメチル基は示していない）。
【０３９３】
【表１８】
2018527606.tif 000119
【０３９４】
【表１９】
2018527606.tif 000120
【０３９５】
【表２０】
2018527606.tif 000121
【０３９６】
【表２１】
2018527606.tif 000122
【０３９７】
【表２２】
2018527606.tif 000123
ＬＣ媒体は、好ましくは０〜１０重量％、特には１ｐｐｍ〜５重量％、特に好ましくは１ｐｐｍ〜１重量％の安定剤を含む。ＬＣ媒体は、好ましくは、表Ｃからの化合物から成る群より選択される１種類以上の安定剤を含む。
【０３９８】
加えて、以下の略称および記号を使用する：
Ｖ０は２０℃における容量閾電圧［Ｖ］であり、
ｎｅは２０℃および５８９ｎｍにおける異常屈折率であり、
ｎ０は２０℃および５８９ｎｍにおける通常屈折率であり、
Δｎは２０℃および５８９ｎｍにおける光学的異方性であり、
ε⊥は２０℃および１ｋＨｚにおけるダイレクターに垂直な誘電率であり、
ε‖は２０℃および１ｋＨｚにおけるダイレクターに平行な誘電率であり、
Δεは２０℃および１ｋＨｚにおける誘電異方性であり、
ｃｌ．ｐ．、Ｔ（Ｎ，Ｉ）は透明点［℃］であり、
γ１は２０℃における回転粘度［ｍＰａ・ｓ］であり、
Ｋ１は２０℃における「スプレイ（ｓｐｌａｙ）」変形に対する弾性定数［ｐＮ］であり、
Ｋ２は２０℃における「ツイスト（ｔｗｉｓｔ）」変形に対する弾性定数［ｐＮ］であり、
Ｋ３は２０℃における「ベンド（ｂｅｎｄ）」変形に対する弾性定数［ｐＮ］である。
【０３９９】
他に明記しない限り、本出願において全ての濃度は重量パーセントで示され、対応する混合物全体に関し、全ての固体または液晶成分を含み、溶媒を含まない。
【０４００】
他に明記しない限り、例えば、融点Ｔ（Ｃ，Ｎ）、スメクチック（Ｓ）からネマチック（Ｎ）相への転移Ｔ（Ｓ，Ｎ）および透明点Ｔ（Ｎ，Ｉ）などの本出願において示される全ての温度の値は摂氏度（℃）で示される。ｍ．ｐ．は融点を表し、ｃｌ．ｐ．は透明点である。更に、Ｃは結晶状態であり、Ｎはネマチック相であり、Ｓはスメクチック相であり、Ｉは等方相である。これらの記号の間のデータは、転移温度を表す。
【０４０１】
全ての物理的特性は「メルク液晶、液晶の物理的特性」１９９７年１１月、ドイツ国メルク社に従って決定されるか決定されたものであり、それぞれの場合で他に明示しない限り、２０℃の温度が適用され、Δｎは５８９ｎｍで決定され、Δεは１ｋＨｚで決定される。
【０４０２】
本発明については、用語「閾電圧」は、他に明示しない限り、フレデリックス閾値としても既知の容量閾値（Ｖ０）に関する。また、例において、一般的に通常であるが、１０％相対コントラスト（Ｖ１０）に対する光学的閾値も示す場合がある。
【０４０３】
他に明記しない限り、上および下に記載される通り、ＰＳＡディスプレイ内で重合性化合物を重合するプロセスは、ＬＣ媒体が液晶相、好ましくは、ネマチック相を示す温度において行われ、最も好ましくは、室温において行われる。
【０４０４】
他に明記しない限り、試験用セルを調製し、それらの電気光学的および他の特性を測定する方法は、以降に記載する通りの方法またはそれらに類似して行う。
【０４０５】
容量閾電圧の測定用に使用されるディスプレイは２５μｍの間隔で離れている２枚の平坦で平行なガラス製外板から成り、それぞれの外板は内側に電極層および最上部にラビングされていないポリイミド配向層を有しており、液晶分子のホメオトロピックエッジ配向を生じる。
【０４０６】
チルト角の測定用に使用されるディスプレイまたは試験用セルは４μｍの間隔で離れている２枚の平坦で平行なガラス製外板から成り、それぞれの外板は内側に電極層および最上部にポリイミド配向層を有しており、ただし、２つのポリイミド層は互いに逆平行にラビングされており、液晶分子のホメオトロピックエッジ配向を生じる。
【０４０７】
重合性化合物は、同時に電圧をディスプレイに印加（通常、１０Ｖ〜３０Ｖの交流、１ｋＨｚ）しながら、所定の時間で規定の強度のＵＶＡ光での照射によって、ディスプレイまたは試験用セル内で重合する。例においては、他に示さない限り、重合のために、強度５０ｍＷ／ｃｍ２のメタルハライドランプを使用する。強度は、標準的なＵＶＡメーター（ＵＶＡセンサーを備える高域Ｈｏｅｎｌｅ  ＵＶメーター）を使用して強度を測定する。
【０４０８】
チルト角は、結晶回転実験（Ａｕｔｒｏｎｉｃ−Ｍｅｌｃｈｅｒｓ  ＴＢＡ−１０５）によって決定される。ここで、低い値（即ち、角度９０°からの大きな外れ）が大きなチルトに対応する。
【０４０９】
ＶＨＲ値を以下の通り測定する：０．３％の重合性モノマー化合物をＬＣホスト混合物に加え、得られた混合物を、ラビングしていないＶＡ−ポリイミド配向層を含むＶＡ−ＶＨＲ試験用セル中に導入する。他に述べない限り、ＬＣ層厚ｄは、およそ６μｍである。１Ｖ、６０Ｈｚ、６４μ秒パルスにおいてＵＶ曝露の前後におけるＶＨＲ値を決定する（測定装置：Ａｕｔｒｏｎｉｃ−Ｍｅｌｃｈｅｒｓ  ＶＨＲＭ−１０５）。
【０４１０】
重合後のＬＣ媒体中の残存ＲＭの量を以下の通り決定する：ＭＥＫ（メチルエチルケトン）を使用してＬＣ媒体を試験用セルから濯ぎ出し、未反応ＲＭの残存量をＨＰＬＣで測定する。
【実施例】
【０４１１】
＜例１＞
ネマチックＬＣホスト混合物Ｎ１を、以下の通り配合する。
【０４１２】
【表２３】
2018527606.tif 000124
ネマチックＬＣホスト混合物Ｎ１に１種類以上の以下の反応性メソゲンを添加して、重合性混合物を調製する。
【０４１３】
【化１０１】
2018527606.tif 000125
重合性混合物の組成を、下表１に示す。
【０４１４】
【表２４】
2018527606.tif 000126
重合性混合物Ｐ１およびＰ２は、より速い重合速度の第１重合性化合物Ｆ１−１またはＦ２−１を少量で含有し、より遅い重合速度の第２重合性化合物Ｓ１−１を含有する本発明による混合物である。重合性混合物Ｃ１は、より遅い重合速度の第２重合性化合物Ｓ１−１のみを含有する先行技術による比較混合物である。
【０４１５】
＜使用例＞
それぞれの重合性混合物Ｃ１、Ｐ１およびＰ２について、ＰＳＶＡ試験用セルを以下の通りのＯＤＦ法で製造する（図１も参照）。
【０４１６】
マイクロプランジャーポンプ（メーカー：Ｍｕｓａｓｈｉ）を用い２．３５ｍｇの３×３液滴の等距離な配列で、重合性ＬＣ混合物の液滴を１０×１０ｃｍの第１基板上に分配する。分配後、第１基板を真空組立器具に移す。およそ０．６Ｐａの真空を適用し、第１基板の最上部およびＬＣ液滴上に第２基板を提供し、真空下で第１基板に第２基板を制御して押圧することで第１基板に合わせて固定する。境界領域内のシーラント材料で、第１および第２基板を共に保持する。続いてロングパスフィルター（３４０ｎｍより長いλ）を使用し、中心波長３６５ｎｍ付近の感度でＵＶ強度計（ウシオＵＩＴおよび検出器ＵＶＤ−３６５ＰＤ）により測定した１００ｍＷ／ｃｍ２のＵＶ光で３０秒間、次いで１２０℃で１時間の加熱処理でシーラントを硬化する。ＵＶ硬化の際に重合性ＬＣ混合物のＵＶ曝露を防止するために、シーラントライン間の領域を金属マスクで覆う。
【０４１７】
第１および第２基板は、パターン化ＩＴＯ電極およびＶＡ−ポリイミド配向層（ＪＡＬＳ−２３４７−Ｒ６）でＬＣ媒体に面する側が被覆されたガラス基板である。最終ＬＣ層厚は、およそ３．２μｍである。
【０４１８】
真空組立後にＲＭのＵＶ重合プロセスによって、通常の方法でチルトを安定化する。この目的のために１０Ｖの直流電圧を印加しながら金属ハロゲンランプからの１．８ｍＷ／ｃｍ２のＵＶ光（３１３ｎｍに中央感度を有するＯＣＲ強度計で測定）で、それぞれの試験用セルを３０秒発光で照射する。第２ＵＶ照射工程において０．２８ｍＷ／ｃｍ２発光（３１３ｎｍに中央感度を有するＯＣＲ強度計で測定）タイプＣＨａｒｉｓｏｎ−Ｔｏｓｈｉｂａランプを使用し、ＲＭ濃度を２時間で検出不可能な程度まで低下させた。
【０４１９】
ＬＣＤ解析システム（Ｏｔｓｕｋａ  ＬＣＤ−５２００）に搭載し、ＬＣ液滴および非液敵領域に渡って試験用セルの光透過率を線走査することでムラの程度を決定する。コンピュータディスプレイシステム上の中間階調レベル３２に対応する振幅を有する６０Ｈｚの矩形波信号で、試験用セルを駆動する。ムラの程度は、液滴間の領域と液滴領域との間の式１による透過率差の比として定義される。
【０４２０】
【数１】
2018527606.tif 000127
３種類の混合物についてＯＤＦムラの程度を表２に示す。
【０４２１】
【表２５】
2018527606.tif 000128
先行技術による重合性混合物Ｃ１から製造された試験用セルと比較して、本発明による重合性混合物Ｐ１およびＰ２から製造された試験用セルについてはＯＤＦムラの程度を著しく低下できたことが表２より見て取れる。
【図１（ａ）】
2018527606.tif 000148
【図１（ｂ）】
2018527606.tif 000149
【国際調査報告】
2018527606.tif 000150
2018527606.tif 000151
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