(57)【要約】  複屈折マトリックス材料（１１）および複屈折マトリックス材料（１１）内に分散された複数の散乱粒子（１２）を含む光学散乱層（１０）。散乱粒子（１２）は、可視光について通常屈折率（「ｎｏ」）に一致する粒子屈折率（「ｎｐ」）を有する。散乱粒子の屈折率を複屈折マトリックス材料の屈折率の１つと一致させることによって、異方性散乱が得られる。
2018510500.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
−  電気光学層（３０）と、
−  光学散乱層（１０）の面内方向（ＸＹ）に通常屈折率（「ｎｏ」）および前記光学散乱層（１０）の平面（ＸＹ）に垂直な法線方向（Ｚ）に異常屈折率（「ｎｅ」）を有する複屈折マトリックス材料（１１）、ならびに前記マトリックス材料（１１）内に分散された複数の散乱粒子（１２）を含む光学散乱層（１０）であって、前記散乱粒子（１２）は、前記複屈折マトリックス材料（１１）の前記通常屈折率（「ｎｏ」）に一致する粒子屈折率（「ｎｐ」）を有する、光学散乱層（１０）と、
−  前記電気光学層（３０）をその間に有するマイクロキャビティを形成する少なくとも２つの反射界面（１ａ、１ｂ）であって、前記反射界面の少なくとも１つ（１ａ）は、半透明であり、前記光学散乱層（１０）は、前記マイクロキャビティの内部にかつ／または前記マイクロキャビティの界面（１ｂ、１ｃ）に提供される、少なくとも２つの反射界面（１ａ、１ｂ）とを備える電気光学デバイススタック（１００）。
【請求項２】
前記電気光学層（３０）は、前記マイクロキャビティの内部で光（Ｌ）を放出するまたは吸収するように構成され、前記光（Ｌ）は、前記マイクロキャビティの前記反射界面（１ａ、１ｂ）の間で反射され、前記界面の反射率は、前記光（Ｌ）が平均して、前記半透明界面（１ａ）を介して前記マイクロキャビティから出る前に少なくとも２回前記光学散乱層（１０）に出会うように構成される、請求項１に記載の電気光学デバイススタック（１００）。
【請求項３】
前記複屈折マトリックス材料（１１）は、その光学軸が前記光学散乱層（１０）の前記平面（ＸＹ）に垂直な前記法線方向（Ｚ）と一致している一軸性である、請求項１または２に記載の電気光学デバイススタック。
【請求項４】
前記粒子屈折率（「ｎｐ」）に一致する前記通常屈折率（「ｎｏ」）は、前記マトリックス材料（１１）の前記異常屈折率（「ｎｅ」）よりも小さい、請求項１から３のいずれか一項に記載の電気光学デバイススタック。
【請求項５】
前記粒子屈折率（「ｎｐ」）は、等方性である、請求項１から４のいずれか一項に記載の電気光学デバイススタック。
【請求項６】
前記光学散乱層（１０）の面内方向（Ｘ、Ｙ）に伝搬する可視光についての前記複屈折マトリックス材料（１１）内の前記散乱粒子（１２）の散乱断面積（σ２）対前記光学散乱層（１０）の前記平面（ＸＹ）に垂直な方向（Ｚ）に伝搬する可視光についての前記複屈折マトリックス材料（１１）内の前記散乱粒子（１２）の散乱断面積（σ１）の間の比は、３を超える、請求項１から５のいずれか一項に記載の電気光学デバイススタック。
【請求項７】
前記散乱粒子（１２）の直径は、５００から２０００ナノメートルの間である、請求項１から６のいずれか一項に記載の電気光学デバイススタック。
【請求項８】
前記散乱粒子（１２）の濃度および前記光学散乱層（１０）の厚さは、前記光学散乱層（１０）の１平方センチメートル当たりの粒子数が１０４から１０１０の間の表面密度を提供するように構成される、請求項１から７のいずれか一項に記載の電気光学デバイススタック。
【請求項９】
前記散乱粒子（１２）は、水および／または酸素が前記光学散乱層（１０）を通って透過するのを防止するように構成される、請求項１から８のいずれか一項に記載の電気光学デバイススタック。
【請求項１０】
前記電気光学層は、半導体有機層である、請求項１から９のいずれか一項に記載の電気光学デバイススタック（１００）。
【請求項１１】
可視光について、前記複屈折マトリックス材料（１１）の前記異常屈折率と前記通常屈折率との間の差（「ｎｅ」−「ｎｏ」）は、少なくとも０．１である、請求項１から１０のいずれか一項に記載の電気光学デバイススタック（１００）。
【請求項１２】
前記散乱粒子（１２）は、可視光について、多くても０．０５の屈折率差（「ｎｏ」−「ｎｐ」）内で前記通常屈折率（「ｎｏ」）に一致する粒子屈折率（「ｎｐ」）を有する、請求項１から１１のいずれか一項に記載の電気光学デバイススタック（１００）。
【請求項１３】
前記反射界面の少なくとも１つ（１ａ）は、前記電気光学層（３０）によって放出されるまたは吸収される光（Ｌ）の２０から９０パーセントの間を反射するように構成される、請求項１から１２のいずれか一項に記載の電気光学デバイススタック（１００）。
【請求項１４】
請求項１から１３のいずれか一項に記載の電気光学デバイススタック（１００）を備える電子デバイス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、光学散乱層を備える電気光学デバイススタック、電気光学デバイススタックを備える電子デバイス、および光学散乱層を製造するための方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学散乱層は、層を通って進む光の方向を変える（散乱させる）こともある。これは、例えば光がデバイスの外部に向け直される電気光学デバイススタックにおける光取り出し（ｏｕｔ−ｃｏｕｐｌｉｎｇ）を改善することができる。例えば、散乱層を用いた光取り出しは、ＯＬＥＤなどの電気光学デバイスの効率を高めるのに有利なこともある。そのような層がないと、１００ｌｍ／Ｗ以上の効率に達することは、困難である。しかしながら、散乱層は、曇りをもたらすこともある。例えば、透明デバイスが提供されるとき、正透過度が、散乱層を加えることによって低減されるということが、不都合となることもある。例えば、反射背面が提供されるとき、デバイスの鏡のような外観が、散乱層を加えることによって失われるということが、不都合となることもある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】ＷＯ２００９０８６９１１Ａ１
【非特許文献】
【０００４】
【非特許文献１】Ｙ．Ｋｕｒｉｏｚ、「Ｐ−１２８：Ｏｒｉｅｎｔａｔｉｏｎ  ｏｆ  ａ  Ｒｅａｃｔｉｖｅ  Ｍｅｓｏｇｅｎ  ｏｎ  Ｐｈｏｔｏｓｅｎｓｉｔｉｖｅ  Ｓｕｒｆａｃｅ」  Ｖｏｌｕｍｅ  ３８、Ｉｓｓｕｅ  １、６８８〜６９０ページ、２００７年５月
【非特許文献２】Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．  １９９８  １２０  ６５１８
【非特許文献３】Ａｄｖ  Ｍａｔ  ２００８  ２０  ３２６８
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
したがって、曇りの出現なしに光取り出しを改善することができる光学散乱層を提供することが望まれる。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本開示の第１の態様は、光学散乱層を提供する。光学散乱層は、光学散乱層の面内方向に通常屈折率および光学散乱層の平面に垂直な法線方向に異常屈折率を有する複屈折マトリックス材料を含む。光学散乱層はさらに、マトリックス材料内に分散された（溶解されたまたはさもなければ広げられた）複数の散乱粒子を含む。散乱粒子は、可視光について、光学散乱層の通常屈折率に一致する粒子屈折率を有する。
【０００７】
理論によって束縛されることなく、下記の事項が観察される。散乱粒子の屈折率と法線方向での複屈折マトリックス材料の屈折率との間の不一致により、その法線方向に電場成分を有する光は、粒子によって散乱されることもある。電場成分は、伝搬方向に垂直であるので、これは、法線に関して比較的高角度で伝搬する光に影響を及ぼすこともあることに留意する。同時に、散乱粒子の屈折率を光学散乱層の面内方向での複屈折マトリックスの屈折率と一致させることによって、法線方向に伝搬する、すなわち光学散乱層の面内方向に電場成分を有する光は、散乱粒子によって最小限の影響を受ける。空気からの入射光のより高密度の媒体内への屈折は、入射角よりも低い角度での透過光のこの媒体内での伝搬をもたらすこともある。そのため、複屈折散乱の正透明度は、より高角度においてさえ、高いままのこともある。したがって、光学散乱層が、法線に関して比較的低角度で、正面から見られるとき、曇りの出現を最小限にしながら、法線に関して比較的高角度で光を散乱させることによって光取り出しを改善することができる光学散乱層が、提供される。
【０００８】
付加的な相乗的利点は、次の特徴の１つまたは複数の組み合わせによって達成されることもある。その光学軸が光学散乱層の平面に垂直な法線方向と一致している一軸性複屈折マトリックス材料を提供することによって、層に法線入射する光への効果は、偏光に無関係とすることができる。したがって、法線入射（低視野角）で伝搬するランダム偏光でさえ、複屈折によって比較的影響を受けないこともある。粒子の屈折率をマトリックス材料の屈折率の最も低いものと一致させることによって、比較的より高い散乱比が、特に、低いまたは法線入射角で比較的低い散乱を有しながら、高入射角で比較的高い散乱を達成するために、異なる方向に進む光の間で達成可能である。通常屈折率以下の粒子屈折率を提供することによって、さらなる最適散乱差が達成されてもよい。等方性屈折率を有する散乱粒子を提供することによって、散乱粒子の配向と無関係に、単一屈折率をマトリックス材料のそれらと一致させることは、より容易なこともある。
【０００９】
好ましくは、材料のパラメータ（例えば屈折率、粒径）は、最大散乱比、例えば少なくとも５、少なくとも１０、またはさらに大きい、例えば少なくとも２０、もしくは５０でさえも提供するように選択される。より高い散乱比は、低視野角からの曇りが最小の状態でより良い光取り出しを提供することができる。好ましくは、粒子のサイズは、光の波長と同じ程度である。例えば、散乱粒子の直径は、４００から２５００ナノメートルの間、好ましくは５００から２０００ナノメートルの間である。水および／または酸素と反応する物質を含む散乱粒子を使用することによって、光学散乱層の蒸気または酸素透過速度は下げることができる。例えばＯＬＥＤに使用されるなどの有機層との組み合わせでの相乗的利点はそれ故に、光学散乱層を湿気および／または酸素バリアとして付加的に使用することによって達成される。好ましくは、水および／または酸素との反応が、マトリックス材料との一致のために所望の限界の外側に散乱粒子の屈折率を大幅に変えない、散乱粒子が選択される。別法として、または反応性粒子に加えて、水および／または酸素と反応せず、それ故に一定の屈折率を保つ不活性散乱粒子が、使用されてもよい。
【００１０】
光学散乱層は、例えば電子デバイスのための電気光学デバイススタックにおいて使用されてもよい。例えば、デバイススタックは、光学散乱層を介してデバイススタックの外部に光を放出するように構成される電気光学層を備えてもよい。光学散乱層は、原理的には光の経路内のどこにでも位置決めすることができる。
【００１１】
デバイススタックは、反射性または半反射性界面を有する光学マイクロキャビティを備えるまたは形成してもよい。マイクロキャビティの内部のどこかに散乱層を提供することによって、光は、散乱層を多数回通過することができ、その場合光は、各通過において向け直される。別法として、または加えて、散乱層は、マイクロキャビティの界面に提供されてもよい。光学散乱層の界面での反射は例えば、光学散乱層内に延び、光の方向に依存する光のエバネセント電場によって体験される屈折率によって影響を受けることもある。したがって、これは、マイクロキャビティ内の各通過に対して光を向け直すまたは優先的に反射するという同様の効果を有することができる。したがって、マイクロキャビティの内部にかつ／またはマイクロキャビティの界面に光学散乱層を提供することによって、散乱効率は、光が散乱層に一度だけ出会うデバイスと比較して改善することができる。
【００１２】
光学散乱層は、例えばトップエミッション、透明およびボトムエミッションのデバイスに使用することができ、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＮおよび当業者に知られている他の材料などの、単一無機高密度層と結合される、またはそのような高密度無機層の２つの間に挟まれる、または１つもしくは複数の層の２つ以上の配置の間に挟まれるとき、バリア層としての機能を果たしてもよい。表面に垂直なマトリックスの屈折率に一致する散乱粒子を有する複屈折光取り出し層は、ある角度範囲から見るとき、散乱がより見えにくくなることを可能にすることになる。屈折率を調整することによって、正面から見ると、より少ない曇り、例えばより良い透明度またはより鏡のような改善された外観を提供する可能性もあり（散乱が抑制されるので）、一方より高い角度では、散乱は、より高い光取り出しを可能にするということになる。例えば、ＯＬＥＤスタックは、また高角度でも、基板内のすべての方向に光を放出することができる。ＯＬＥＤに応じて、これは、総量の例えば２０〜６０％の間のこともある。この光を高角度で散乱させることによって、光取り出しは、改善することができる。
【００１３】
本開示の第２の態様は、例えば第１の態様による光学散乱層を製造するための方法を提供する。本方法は、複数の散乱粒子を液体（例えば結晶性）マトリックス材料内に混合するステップと、混合物を層として堆積し、硬化するステップとを含む。マトリックス材料は、光学散乱層の面内方向に通常屈折率および光学散乱層の平面に垂直な法線方向に異常屈折率を有するように提供され、一方分散された散乱粒子は、可視光について通常屈折率に一致する粒子屈折率を有する。
【００１４】
本開示の装置、システムおよび方法のこれらの特徴、態様、および利点ならびに他の特徴、態様、および利点は、下記の説明、添付の請求項、および付随する図面からより良く理解されることになるであろう。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１Ａ】一片の光学散乱層を通って異なる角度で伝搬する光を概略的に例示する図である。
【図１Ｂ】一片の光学散乱層を通って異なる角度で伝搬する光を概略的に例示する図である。
【図２Ａ】光学散乱層を含む電気光学デバイススタックの実施形態を概略的に例示する図である。
【図２Ｂ】光学散乱層を含む電気光学デバイススタックの実施形態を概略的に例示する図である。
【図３Ａ】電気光学デバイススタックの別の実施形態を概略的に例示する図である。
【図３Ｂ】ある濃度の散乱粒子を有する光学散乱層を概略的に例示する図である。
【図４Ａ】光学散乱層を製造するための方法を概略的に例示する図である。
【図４Ｂ】光学散乱層を製造するための方法を概略的に例示する図である。
【図５Ａ】様々なパラメータの関数として粒子散乱断面積の依存性を例示するグラフを示す図である。
【図５Ｂ】様々なパラメータの関数として粒子散乱断面積の依存性を例示するグラフを示す図である。
【図６Ａ】様々なパラメータの関数として粒子散乱断面積の依存性を例示するグラフを示す図である。
【図６Ｂ】様々なパラメータの関数として粒子散乱断面積の依存性を例示するグラフを示す図である。
【図７Ａ】様々なパラメータの関数として粒子散乱断面積の依存性を例示するグラフを示す図である。
【図７Ｂ】様々なパラメータの関数として粒子散乱断面積の依存性を例示するグラフを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
別段の規定がない限り、本明細書で使用されるすべての用語（技術的用語および科学的用語を含む）は、説明および図面という文脈において読まれるようにこの発明が属する技術分野の当業者によって普通に理解されるのと同じ意味を有する。さらに、一般的に使用される辞書で規定されるそれらなどの用語は、関連技術という文脈においてそれらの意味と一致する意味を有すると解釈されるべきであり、本明細書で明確にそのように規定されない限り、理想的なまたは過度に形式的な意味に解釈されないことになるということが理解されよう。場合によっては、よく知られたデバイスおよび方法の詳細な説明は、本システムおよび方法の説明を分かりにくくしないように省略されることもある。特定の実施形態を述べるために使用される専門用語は、本発明を限定することを目的としていない。本明細書で使用される場合、単数形「ａ」、「ａｎ」および「ｔｈｅ」は、文脈が明らかに別に示さない限り、複数形を同様に含むことを目的とする。用語「ａｎｄ／ｏｒ」は、関連する記載事項の１つまたは複数の任意の組み合わせおよびすべての組み合わせを含む。用語「ｃｏｍｐｒｉｓｅｓ」および／または「ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ」は、述べられる特徴の存在を明示するが、しかし１つまたは複数の他の特徴の存在または追加を除外しないことが理解されよう。さらに、方法の特定のステップが、別のステップの後と呼ばれるとき、別段の指示がない限り、それは、前記他のステップのすぐ後に続くことができ、または１つもしくは複数の中間ステップが、特定のステップを実行する前に実行されてもよいことが理解されよう。同様に、構造体またはコンポーネントの間の接続が述べられるとき、この接続は、別段の指示がない限り、直接にまたは中間の構造体もしくはコンポーネントを通じて確立されてもよいことが理解されよう。本明細書で述べられるすべての出版物、特許出願、特許、および他の参考文献は、参照により全体として組み込まれる。対立する場合には、規定を含む本明細書が、管理することになる。
【００１７】
材料の屈折率「ｎ」は、ｎ＝ｃ／ｖと定義することができ、ただし「ｃ」は、真空内での光の速度であり、「ｖ」は、材料内での光の速度、より正確には光の位相速度である。理論によって束縛されることなく、材料の屈折率は、材料の構造および材料を通って進む光の振動電磁場がその構造に結合する仕方に依存することもあることに留意する。材料に応じて、材料の屈折率は、等方性である、すなわち任意の方向に伝搬する光について同じである、または異方性である、すなわち伝搬する光の異なる方向およびその偏光について異なることもある。
【００１８】
本明細書で使用される場合、語句「ある方向での屈折率」は、その方向にその分極、すなわち電場成分の方向を有する、直線偏光の実効比ｃ／ｖを意味する。大部分の自然発生的な材料については、光周波数における磁場成分の影響は、無視することができ、電場成分が、支配的である。例えば、材料の結晶構造は、電場の方向に応じて光に異なって結合することもある。電場は、光の伝搬方向に垂直であることに留意する。したがって、ある方向に進む光についての屈折率は、実際は光の伝搬方向に垂直な方向での材料構造によって決定される。
【００１９】
語句「複屈折材料」は、材料が、材料の様々な軸に沿って異なる屈折率を有することを示すために使用される。複屈折は、例えば材料の異常屈折率と通常屈折率との間の最大差、Δｎ＝ｎｅ−ｎｏとして定量化することができる。例えば、一軸性複屈折材料は、光学軸に沿った異常屈折率および光学軸に垂直なすべての方向での通常屈折率の寄与を有する。一軸性の複屈折は、Δｎ＝「ｎｅ」−「ｎｏ」の符号に従って正または負に分類することができる。例えば、正の複屈折は、「ｎｅ」が「ｎｏ」よりも大きいことを意味する。歴史的に、かつ本明細書で使用される場合、用語「複屈折」はまた、３つ以上の屈折率によって特徴付けられる材料、例えば３つの主軸を有する二軸性材料を含んでもよい。複屈折の起源は、異方性結晶形成、ストレス誘導複屈折、電場（カー効果）もしくは磁場（ファラデー効果）そのものまたは分子の強制配向、例えば脂質、界面活性剤もしくは液晶などの両親媒性分子の薄膜によって誘導される複屈折を含むこともある。
【００２０】
屈折率は一般に、光の波長（「分散」）に依存する。別段の指示がない限り、本明細書で使用されるような屈折率は、可視光、すなわち３９０から７００ナノメートルの間の波長を有する光についてのそれであり、無視できる波長依存性を有するかかつ／または、もし屈折率についての比較値が述べられるならば、その比較は、全可視波長範囲について当てはまる。さらに、別段の指示がない限り、使用される屈折率は、通常の光強度についてのそれであり、すなわち高強度において生じることもある非線形効果を考慮しない。ランダムまたは円偏光については、光に影響を及ぼす屈折率は、光の２つの偏光方向に従って寄与を分割することによって決定することができる。複屈折材料では、これは、光の１つの偏光成分が他の偏光成分と異なって屈折されるようにすることもある。
【００２１】
散乱は、放射線ビームの空間分布が変えられるプロセスである。例えば、光は、媒体内に分散された粒子との相互作用によって散乱されることもある。散乱断面積、すなわち光が散乱されることになる確率は、例えば光の波長に対する粒径に依存することもある。さらに、それは、粒子と周囲の媒体、例えばマトリックス材料との間の屈折率の差に依存することもある。本明細書で使用されるような複屈折マトリックス材料では、マトリックスおよび粒子の屈折率の間の差は、伝搬する光およびその電場の方向に応じて異なることもある。この効果は、異なる方向での異なる散乱度を得るために使用することができる。異なる方向に伝搬する光の散乱断面積の間の差は、本明細書では「散乱差」と呼ばれる。異なる方向での光の散乱断面積の間の比は、本明細書では「散乱比」または「コントラスト」と呼ばれる。
【００２２】
一定義によると、材料は、特に本明細書で述べられるような所望の効果を提供するために、もし材料内の屈折率の間の最大差が、少なくとも０．０１、好ましくはより大きく、例えば少なくとも０．０５、少なくとも０．１、少なくとも０．２、少なくとも０．３、または少なくとも０．５であるならば、複屈折と考えられてもよい。現在の目的のためには、マトリックス材料が、より複屈折性であるほど、異なる方向からマトリックス材料内の粒子と相互作用する光の散乱差は、より高いこともある。
【００２３】
一定義によると、２つの屈折率は、もし屈折率の間の差が、多くても０．０５、好ましくはより小さく、例えば多くても０．０２、好ましくはさらにより小さく、例えば等しいならば、一致すると考えられる。現在の目的のためには、散乱粒子の屈折率および材料の屈折率の少なくとも１つが、より同等であるほど、より少ない散乱が、一致する屈折率の方向にその偏光を有する光について生じることもある。したがって、より高い散乱コントラストまたは比が、達成可能である。
【００２４】
本発明は、本発明の実施形態が図示される、付随する図面を参照して以下でより完全に述べられる。この発明は、しかしながら、多くの異なる形で具体化されてもよく、本明細書で説明される実施形態に限定されると解釈されるべきでない。それどころか、これらの実施形態は、この開示が徹底的でかつ完全であり、当業者に本発明の範囲を完全に伝えることになるように提供される。例示的実施形態の説明は、付随する図面に関連して読まれることを目的とし、その図面は、書面による説明全体の一部と考えるべきである。図面では、システム、コンポーネント、層、および領域の絶対的および相対的サイズは、明確にするために誇張されることもある。実施形態は、本発明のおそらくは理想的な実施形態および中間構造体の概略的説明図および／または横断面説明図を参照して述べられることもある。説明および図面では、類似の数字は、全体にわたって類似の要素を指す。相対的用語ならびにその派生語は、その時に述べられるまたは議論中の図面に示されるような向きを指すと解釈されるべきである。これらの相対的用語は、説明の都合のためであり、システムが、特に述べられない限り、特定の向きに構成されるまたは動作されることを必要としない。
【００２５】
図１Ａは、一片の光学散乱層１０を通って法線入射角で伝搬する光「Ｌ」を概略的に例示する。図１Ｂは、より大きい入射角θ１で伝搬する同じ光「Ｌ」を概略的に例示する。
【００２６】
光学散乱層１０は、光学散乱層１０の面内方向Ｘに通常屈折率「ｎｏ」および光学散乱層１０の平面に垂直な法線方向Ｚに異常屈折率「ｎｅ」を有する複屈折マトリックス材料１１を含む。複数の散乱粒子１２は、マトリックス材料１１内に分散される（現在の図は、１つの粒子を例示する）。散乱粒子１２は、通常屈折率「ｎｏ」に一致する粒子屈折率「ｎｐ」を有する。
【００２７】
図によって例示されるように、法線入射角で伝搬する光（図１Ａ）は、白色矢印によって示される電場「Ｅ」の方向において一致する屈折率「ｎｏ」および「ｎｐ」に起因して粒子１２による比較的低い散乱を経験することもある。一軸性材料１１について、屈折率「ｎｏ」はまた、方向「Ｙ」（ここでは図示されない）内にもあることに留意する。したがって、また図示される以外の光の偏光についても、屈折率は一致していることもある。他方では、より高い入射角θ１で伝搬する光（図１Ｂ）は、一致しない屈折率「ｎｅ」および「ｎｐ」に起因して粒子１２による比較的高い散乱を経験することもある。入射角θ１が、より高いほど、一致しない屈折率「ｎｅ」の寄与は、より高くなる。
【００２８】
一実施形態では、第２の屈折率と通常屈折率との間の差「ｎｅ」−「ｎｏ」は、例えば可視光について少なくとも０．１である。一実施形態では、第１の屈折率と異常屈折率との間の相対的差｜「ｎｏ」−「ｎｅ」｜／「ｎｏ」＋「ｎｅ」は、少なくとも０．０５である。一実施形態では、可視光について、屈折率差「ｎｏ」−「ｎｐ」は、多くても０．０５である。一実施形態では、第１の屈折率と粒子屈折率との間の相対的差｜ｎｐ−「ｎｅ」｜／ｎｐ＋「ｎｅ」は、多くても０．０２である。一実施形態では、粒子屈折率「ｎｐ」は、等方性である。一実施形態では、粒子屈折率「ｎｐ」は、通常屈折率「ｎｏ」以下である。一実施形態では、通常屈折率「ｎｏ」と粒子屈折率「ｎｐ」との間の差「ｎｏ」−「ｎｐ」は、少なくとも０．０１である。
【００２９】
一実施形態では、複屈折マトリックス材料１１は、その光学軸が光学散乱層１０の平面ＸＹに垂直である法線方向Ｚと一致している一軸性である。一実施形態では、異常屈折率「ｎｅ」は、光学散乱層１０の平面ＸＹに垂直な法線方向Ｚにあり、その場合通常屈折率「ｎｏ」は、面内方向Ｘおよび第３の方向Ｙの両方にあり、第１および第３の方向Ｘ、Ｙは、光学散乱層１０の面内にある。一実施形態では、異常屈折率「ｎｅ」は、通常屈折率「ｎｏ」よりも大きく、すなわち正の一軸性複屈折材料である。
【００３０】
一実施形態では、光学散乱層１０の平面に垂直な方向に伝搬する光について光学散乱層１０内の散乱粒子１２の平均または中央の散乱断面積σ１は、３９０から７００ナノメートルの間の波長範囲の可視光について比較的低く、例えば１０−１μｍ２未満、好ましくは１０−２μｍ２未満、より好ましくは１０−３μｍ２未満、例えば１０−１２μｍ２から１０−４μｍ２の間である。一実施形態では、散乱粒子１２の粒径、屈折率「ｎｐ」、および濃度は、法線入射角で光学散乱層１０を進む可視光の１０％未満、好ましくは１％未満、より好ましくは０．１％未満が、光学散乱層１０内で散乱されるように、マトリックス材料１１の屈折率「ｎｏ」および光学散乱層１０の層厚さとの関連で選択される。例えば、現在の目的のために、光の一部は、その伝搬方向が、１つまたは複数の散乱粒子１２との相互作用によって１０度より多くだけ変えられるとき、「散乱される」と考えることができる。例えば、法線入射で光学散乱層を進む可視光の１０％未満は、１０度を超える方向変化を受ける。より一般的に、散乱は、光が通り抜ける媒体内の局所的不均一度に起因して、光が、１つまたは複数の経路だけ直線軌道から外れることを強制される、物理的プロセスとして定義することができる。
【００３１】
一実施形態では、光学散乱層１０の面内方向に伝搬する光について光学散乱層１０内の散乱粒子１２の平均または中央の散乱断面積σ２は、３９０から７００ナノメートルの間の波長範囲の可視光について比較的高く、例えば１０−１μｍ２を超え、好ましくは１μｍ２を超え、より好ましくは１０μｍ２を超え、例えば１０μｍ２から１０００μｍ２の間である。一実施形態では、散乱粒子１２の粒径、屈折率「ｎｐ」、および濃度は、４５度の入射角で光学散乱層１０を進む可視光の１０％よりも多く、好ましくは２５％よりも多く、より好ましくは５０％よりも多くが、光学散乱層１０内で散乱されるように、マトリックス材料１１の屈折率「ｎｏ」および「ｎｅ」ならびに光学散乱層１０の層厚さとの関連で選択される。
【００３２】
一実施形態では、光学散乱層１０の面内方向Ｘ、Ｙに伝搬する可視光について複屈折マトリックス材料１１内の散乱粒子１２の散乱断面積σ２対光学散乱層１０の平面ＸＹに垂直な方向Ｚに伝搬する可視光について複屈折マトリックス材料１１内の散乱粒子１２の散乱断面積σ１の間の比または散乱コントラストは、３を超え、好ましくは５を超え、または１０を超えさえする。
【００３３】
一実施形態では、マトリックス材料１１は、光活性化複屈折材料を含む。一実施形態では、マトリックス材料１１は、延伸ホイルおよび／または圧縮ホイルを含む。また他の方法が、マトリックス材料の屈折率を制御しかつ／または決定するために想定されてもよい。
【００３４】
図２Ａおよび図２Ｂは、本明細書で述べられるような光学散乱層１０を備える電気光学デバイススタック１００の実施形態を概略的に例示する。電気光学デバイススタック１００はさらに、光学散乱層１０を介して光「Ｌ」をデバイススタック１００の外部に放出するまたは外部から受け取るように構成される電気光学層３０を備える。好ましくは、光学散乱層１０は、より高い光取り出しを可能にするために電気光学層３０に近接している。一実施形態では、電気光学層３０は、電極、例えば電圧「Ｖ」を印加するためのカソード２１とアノード２２との間に挟まれる。またさらなる導電層、例えば正孔注入層および／または電子注入層が、電極の間に含まれてもよい。一実施形態では、デバイススタックは、例えばホイルまたは金属を含む、基板４０を含む。別の実施形態では、アノードおよびカソードの位置は入れ替えられてもよい。電極はまた多層を備えてもよい。
【００３５】
一実施形態では、図２Ａに示されるように、電極２１、２２、および基板４０を含むすべての層は、可視光に対して透明であり、それ故に透明デバイススタック１００を提供する。有利には、透明デバイススタック１００内に異方性散乱層１０を使用することによって、外部光「Ｅ」は、最小の散乱を有して低入射角（法線視野角）でデバイススタック１００を通って伝搬することができ、一方、より高角度で電気光学層３０内に生成される光「Ｌ」は、光取り出しを改善するように散乱可能である。一実施形態では、電気光学層は、例えばＯＬＥＤデバイスを提供する、半導体有機層である。
【００３６】
一実施形態では、図２Ｂに示されるように、電気光学デバイススタック１００は、電気光学層３０をその間に有する少なくとも２つの反射界面１ａ、１ｂを有する多層化構造を備える。一実施形態では、反射界面の少なくとも１つ１ａは、２つの反射界面１ａ、１ｂおよび／または１ａ、１ｃの間にマイクロキャビティを形成するために半透明である。
【００３７】
例えば、トップエミッションデバイスでは、図示されるように、反射界面１ａは半透明とすることができ、反射界面１ｂは完全に反射性とすることができる。例えば、ボトムエミッションデバイス（図示されず）では、反射界面１ａは完全に反射性とすることができ、反射界面１ｂは半透明、例えば透明基板とすることができる。例えば、キャビティを有する透明デバイス（図示されず）では、両方の反射界面１ａおよび１ｂは半透明とすることができる。例えば、半透明界面１ａおよび／または１ｂは、例えば電気光学層によって放出されかつ／または吸収される光、例えば可視光である光の２０から９９パーセントの間、好ましくは光の５０から９０パーセントの間または光の６０から８０パーセントの間を反射するように構成される。
【００３８】
一実施形態では、光学散乱層１０は、マイクロキャビティのエッジまたは界面１ｂ、１ｃに提供される。一実施形態では、散乱層は、反射界面１ａ、１ｂの間に提供される。別法としてまたは加えて、散乱層１０と例えば電極の１つ２２との間の界面１ｃは、マイクロキャビティの反射面を形成してもよい。界面１ｃでの反射は例えば、光学散乱層１０内に延びる光Ｌのエバネセント電場によって経験されかつ光Ｌの方向に依存する屈折率によって影響を受けることもある。
【００３９】
半透明層が、より反射性であるほど、光は、平均してキャビティ内の光学散乱層をより多くの回数通過することもある。一実施形態では、電気光学層３０は、マイクロキャビティの内部で光Ｌを放出するまたは吸収するように構成され、その場合光Ｌは、マイクロキャビティの反射界面１ａ、１ｂの間で反射され、界面の反射率は、光Ｌが平均して、半透明界面１ａを介してマイクロキャビティから出る前に、一回よりも多く、例えば少なくとも２回光学散乱層１０に出会うように構成される。例えば、光は、少なくとも２回光学散乱層を通って進みかつ／または少なくとも２回光学散乱層の界面から反射されてもよい。光はまた、平均して２回よりも多く、例えば少なくとも３回、４回、５回または半透明界面の反射率がより高いほど、より多くの回数光学散乱層１０に出会うこともある。
【００４０】
弱い（ｗｅａｋ）キャビティ（半透明界面の低反射率）についてさえ、光学散乱層１０は、キャビティ内の（主）モードに影響を及ぼすこともあることに留意する。したがって、また例えば１０または２０パーセントの比較的低い反射についても、光学散乱層は有利にデバイスの性能に影響することもある。効率について、好ましくは、キャビティ界面は、キャビティモードの建設的干渉を可能にするために比較的距離を置かれる。典型的には、これは、キャビティ界面が、キャビティが設計される光Ｌの波長の０．５倍の倍数に距離を置かれることを意味する。キャビティ界面の間の距離はまた、反射界面に生じることもある光の任意の位相シフトに応じて調整されてもよい。
【００４１】
複屈折散乱層の適用は、例えば反射界面の間の距離が、光Ｌの少なくとも１波長、光Ｌの少なくとも１．５波長、またはより大きい場合、キャビティ界面の間のより高い距離において特に有益であることが分かる。光学散乱層がないと、光は、特により高いキャビティ距離において比較的非効率的に放出されることもあるということが分かる。
【００４２】
一実施形態では、電極２１、２２は、マイクロキャビティ内に配置され、可視光に対して透明である。一実施形態では、多層化構造は、反射界面の１つ１ｂを形成するために金属製または金属化基板を備える。一実施形態では、反射界面の１つ１ａは、無機バリア層４１と有機バリア層４２との間の界面によって形成される。別の実施形態では、電極の１つは半透明であり、それ故に反射界面の１つを形成する。本明細書で述べられるような電気光学デバイススタック１００は、例えば電子デバイスのディスプレイに応用を見いだすことができる。
【００４３】
別法として、または図示される実施形態に加えて、一実施形態では、光学散乱層は無機層上に適用される。一実施形態では、光学散乱層は無機バリア層によって覆われる。一実施形態では、バリア層は基板と光学散乱層との間に提供される。また層および界面の他の変形も可能である。
【００４４】
図３Ａは、光学散乱層１０を含む電気光学デバイススタックの別の実施形態を概略的に例示する。一実施形態では、光学散乱層１０内の散乱粒子は、水および／または酸素が光学散乱層１０を通って透過するのを実質的に防止するために水および／または酸素と反応する。一実施形態では、さらなる有機または無機層５１、５２が、バリア特性を改善するために提供される。一実施形態では、無機材料、例えばＳｉＮの層５１、５２は、光学散乱層１０の片側または両側に提供される。一実施形態では、さらなるバリア層を有するまたは有さない光学散乱層１０は、１０−５ｇ／ｍ２／日を下回る水蒸気透過速度を提供する。またスタック１００の上面には、１つまたは複数のバリア層４５が提供されてもよい。
【００４５】
図３Ｂは、マトリックス材料１１内に濃度「Ｃ」の散乱粒子１２を有する光学散乱層１０を概略的に例示する。一実施形態では、散乱粒子１２の直径は、５００から２０００ナノメートルの間である。一実施形態では、散乱粒子１２の濃度および光学散乱層１０の厚さは、光学散乱層１０の１平方センチメートル当たりの粒子数が１０４から１０１０の間、好ましくは１０５から１０７の間の密度を提供するように構成される。
【００４６】
図４Ａは、光学散乱層１０を製造するための方法の実施形態を概略的に例示する。本方法は、複数の散乱粒子１２を液体マトリックス材料１１内に混合するステップを含む。混合物は、例えば溶媒を蒸発させ、冷却し、（光誘導）重合、その他によって、固化させるまたは硬化させるために層として堆積される。同時にまたは連続して、複屈折特性が、マトリックス材料１１内に誘導され、その場合散乱粒子１２は、可視光についてマトリックス材料の屈折率の１つと一致する粒子屈折率を有する。
【００４７】
一実施形態では、複屈折特性は、マトリックス材料内の液晶モノマーを配向させ、その配向を光活性化によって堅固なネットワークに凍結させることによってマトリックス材料内に誘導される。一実施形態では、マトリックス材料１１は、光配向層（図示されず）上に提供される。一実施形態では、光配向層は、異方性二量化によって形成されるポリマーを含む。
【００４８】
一実施形態では、溶液層１０ｆが、堆積デバイス２０１によって基板４０上に堆積される。一実施形態では、溶液膜の層１０ｆは、溶液内の分子が、例えばアニーリングによって配向されながら、オーブン２０２によって乾燥される。一実施形態では、乾燥された膜１０ｃは、例えばＵＶランプ２０３による照射によって硬化される。
【００４９】
例えば、また反応性メソゲンまたはＲＭとしても知られている、いくつかの光活性複屈折材料を開示するＷＯ２００９０８６９１１Ａ１について言及される。ＲＭは、その場重合のプロセスを通じて、例えばＬＣディスプレイのような光学または電気光学デバイスのコンポーネントとして使用するための、補償、遅延または偏光膜のような光学膜を作るために使用されてもよい。膜の光学特性は、混合製剤（ｍｉｘｔｕｒｅ  ｆｏｒｍｕｌａｔｉｏｎ）または基板特性などの、多くの異なる要因によって制御されてもよい。膜の光学特性は、特に混合物の複屈折性を変えることによって制御されてもよい。ＲＭ膜は、重合可能な材料、好ましくは重合可能な液晶材料として形成されてもよく、オプションとして、好ましくは重合可能なかつ／またはメソゲン性もしくは液晶性である１つまたは複数のさらなる化合物を含む。ＲＭ膜は、重合可能なＬＣ材料を好ましくは薄膜の形でその配向状態に重合することによって得られる異方性ポリマーとして形成されてもよい。
【００５０】
いくつかの実施形態では、光活性複屈折層は、例えば金属化プラスチックの適切な物理的準備（すなわち、ラビング）によって、プレ配向層なしに提供されてもよいことが、予測可能であるが、好ましくは、光活性複屈折層は、配向が、配向目的のために構成される機能を有する光配向層によって提供される方法で、光配向層上に提供されてもよい。これに関して、Ｙ．  Ｋｕｒｉｏｚ、「Ｐ−１２８：  Ｏｒｉｅｎｔａｔｉｏｎ  ｏｆ  ａ  Ｒｅａｃｔｉｖｅ  Ｍｅｓｏｇｅｎ  ｏｎ  Ｐｈｏｔｏｓｅｎｓｉｔｉｖｅ  Ｓｕｒｆａｃｅ」Ｖｏｌｕｍｅ  ３８、Ｉｓｓｕｅ  １、６８８〜６９０ページ、２００７年５月で述べられる材料に言及され、そこでは異なる主鎖（ポリビニルアルコール、ポリシロキサン、セルロース）のサイドフラグメント（ｓｉｄｅ  ｆｒａｇｍｅｎｔ）内に桂皮酸の誘導体を含有する光配向ポリマーが、論じられる。これらの材料の光配向特性は、ＵＶ偏光を用いた照射でのサイドフラグメントの異方性二量化および桂皮（ｃｉｎｎａｍｏｉｌ）フラグメントの可能性のあるトランス−シス異性化によって引き起こされる。セルロースベースの桂皮酸塩ポリマーは、感光性を持ち、ＵＶ暴露後に大部分の市販のネマチックＬＣ混合物の高品質配向を提供する。
【００５１】
図４Ｂは、光学散乱層を製造するための別のまたはさらなる方法を概略的に例示し、その場合複屈折特性は、マトリックス材料１１を引き延ばしかつ／または圧縮することによって誘導される。例えばポリマーホイルを引き延ばすことによって、複屈折特性が誘導されてもよい。一実施形態は、例えば法線入射で層１０を通って散乱する量を監視しながら、光学散乱層１０に機械的応力を印加するステップを含む。一実施形態では、機械的応力は、最小量の散乱が観察されるまで、例えば引き延ばされるホイルに印加される。この最小値において、マトリックス材料１１の通常屈折率「ｎｏ」は、散乱粒子１２のそれに一致することもある。また複屈折性を誘導するまたは制御するための他のプロセスが、一致する屈折率を得るために散乱の関数として行われてもよい。
【００５２】
図５Ａは、屈折率「ｎｍ」＝１．５５を有するマトリックス内で粒子屈折率「ｎｐ」＝２．６を有する粒子についての参考計算を示す。例えば、ＰＥＮホイル内のＴｉＯ２粒子。グラフは、粒子の半径「Ｒ」（直径の半分）の関数として散乱断面積「σ」（ここでは粒子の幾何学的面積πＲ２によって正規化される）を示す。この図および下記において、３つの同様のグラフが、光の異なる波長に対応して示される。特に、波長λａ、λｂ、λｃは、４６０ｎｍ、５５０ｎｍ、６４０ｎｍにおける光の波長（真空内での波長）にそれぞれ対応する。
【００５３】
図５Ｂは、屈折率「ｎｍ」＝１．５５を有するマトリックス（左の３つのグラフ）および屈折率「ｎｍ」＝１．７５を有するマトリックス（右の３つのグラフ）内で「ｎｐ」＝１．５０を有する粒子についての計算を示す。これは、マトリックス材料内での異なる屈折率についての散乱断面積の差を例示してもよい。例えば、粒子半径Ｒ＝６００ｎｍ（一点鎖線）について、より高い屈折率不一致（１．５０対１．７５）についての散乱断面積σ２は、より低い屈折率不一致（１．５０対１．５５）についての散乱断面積σ１よりもはるかに大きい。そのような状況は、例えば「ｎｏ」＝１．５５および「ｎｅ」＝１．７５を有する複屈折マトリックス材料１１を有する光学散乱層１０内で生じることもある。例えば、ＰＥＮホイルは、これらの屈折率を有する複屈折マトリックス材料を提供するために引き延ばされてもよい。これらのグラフに示されるような粒子の半径Ｒは、粒子の直径の半分に対応する。もちろんまた非球形の粒子が使用されてもよく、その場合直径は、粒子の最大横断面直径を指す。
【００５４】
図６Ａは、図５Ｂに示されるように、ＰＥＮの２つの屈折率（１．５５および１．７５）を使用する、複屈折マトリックス内でｎ＝１．５を有する粒子についての散乱断面積のコントラスト比σ２／σ１を示す。グラフは、１ミクロンを下回る半径Ｒを有する粒子について最大コントラスト比を示すことに留意する。ＰＥＮ（高屈折率）内で高角度に散乱するために最適なのは、約０．５〜０．８ミクロンであり、コントラスト比＞４を意味する。もし６００ｎｍ粒子が採用されるならば、青色光についてのピークにおいて、青色光（λａ）についてのコントラストは、約８．５である。
【００５５】
図６Ｂは、マトリックスのそれ（「ｎｍ」＝１．５５）に近い屈折率および一致しない屈折率（「ｎｍ」＝１．７５）を有する粒子による散乱についての尺度として、０度における散乱強度についての計算を示す。Ｒ＝６００ｎｍの選択されたサイズについて、０．０２の差（一点鎖線「ｎｐ」＝１．５３における）が、青色光λａについて最善であり、散乱強度について最高のコントラストσ２／σ１（因子６７）を与えたようだ。
【００５６】
図７Ａは、図５Ｂと同様のグラフを示すが、しかしマトリックス屈折率「ｎｍ」＝１．５５および１．７５における粒子屈折率「ｎｐ」＝１．５３についてである。
【００５７】
図７Ｂは、対応するコントラスト比のグラフを示す。グラフは、粒子半径Ｒ＝１ミクロンより下で最大コントラスト比を示す。ＰＥＮ（高屈折率）内で高角度に散乱するために最適なのは、約０．８ミクロンであり（青色から赤色について）、コントラスト比＞２７．５（青色について）および５５に至るまでさえも意味する。もし６７０ｎｍ粒子が採用されるならば、青色光についてのピークにおいて、青色光についてのコントラストは、約４１である。
【００５８】
マトリックスの最低屈折率に等しいまたはそれよりもわずかに低い屈折率を有する材料は、最も適していることが、上記のことから結論される。１．５〜１．６の適度な屈折率「ｎｐ」を有する目的とするマトリックスよりも低い屈折率を有する粒子は、例えばＳｉＯ２（ｎ＝１．４６）などの純粋な酸化物を含んでもよく、フッ素化ＰＦＢＭＡ（ｎ＜１．３９）Ｊ．  Ａｍ．  Ｃｈｅｍ．  Ｓｏｃ．  １９９８  １２０  ６５１８、ミクロンサイズの粒子についてＡｄｖ  Ｍａｔ  ２００８  ２０  ３２６８で報告されたＳｉＯ２およびＴｉＯ２（１．４から１．６の間で調整可能なｎ）などの複数材料のナノ粒子の混合から成る球状粒子、純粋なポリマー材料、ＰＭＭＡ  １．４９、フッ素化ポリマー１．３５以上、ＭｇＦ２  １．３８〜１．３８５、ある種の塩（典型的なフィラーではないけれども）、ホウ砂Ｎａ２（Ｂ４Ｏ５）（ＯＨ）４・８（Ｈ２Ｏ）  ｎ〜１．４５、エプソム塩ＭｇＳＯ４・７（Ｈ２Ｏ）  ｎ≒１．４３、ウレキサイトＮａＣａＢ５Ｏ６（ＯＨ）６・５（Ｈ２Ｏ）  ｎ≒１．４９、シリコン酸化物などの他の低屈折率材料を用いたポリマーナノ粒子のドーピング、空孔を有するシリコン酸化物粒子が、低屈折率フィラーとして使用されてもよい。
【００５９】
マトリックスの屈折率と粒子の屈折率との間の差は、非常に透明な散乱層については好ましくは０．０５未満、より好ましくは０．０２５未満である。マトリックスとの粒子のより高い屈折率コントラストは可能であるが、しかしこのマトリックス／粒子系を用いて形成される層は、ある程度の曇りを示すこともある。その場合、より低い屈折率を有する材料が、選択されてもよい。マトリックスの屈折率が増やされる場合は、複屈折が維持されるならば、他の粒子が、同じ応用のために利用可能になる。
【００６０】
粒径は、例えば最も高い屈折率不一致（例えば粒子対マトリックス）について、例えばＰＥＮ内で１．５３と仮定されるｎを有する６７０ｎｍ粒子と選択されてもよく、それは、低視野角（ｎｏ＝１．５５）においてほとんど散乱しないことになる。高角度では、屈折率不一致は増加し、散乱断面積の因子４０〜６５の増加につながる。低視野角でのこの低い曇り、および高角度での高い散乱において、散乱は、例えば透明な発光デバイスでの応用に有効であることになる。さらなる応用は、例えば太陽に向かって固定位置を有する太陽電池を含むこともある。この場合、高角度で有効である反射防止コーティングが望まれることもある。
【００６１】
明確さおよび簡潔な説明のために、特徴は、同じまたは別個の実施形態の一部として本明細書で述べられるが、しかしながら、本発明の範囲は、述べられる特徴のすべてまたはいくつかの組み合わせを有する実施形態を含んでもよいことが、認識されることになる。例えば、実施形態は、複屈折散乱層を含むデバイススタックについて示されたが、また代替方法が、同様の機能および結果を達成するために本開示の便益を有する当業者によって想定されてもよい。例えば層が、代替デバイススタックを提供するために追加されまたは除外されてもよい。論じられ、図示されるような実施形態の様々な要素は、曇りのない改善された効率のＯＬＥＤデバイスなどの、ある利点をもたらす。もちろん、上記の実施形態またはプロセスの任意の１つは、設計および利点を見いだし、一致させることのさらなる改善をさえ提供するために１つまたは複数の他の実施形態またはプロセスと組み合わされてもよいことが、認識されるべきである。この開示は、特定の利点をＯＬＥＤにもたらし、一般に層内での異方性光散乱について任意の応用のために適用されてもよいことが、認識される。
【００６２】
本システムおよび方法は、その具体的な例示的実施形態を参照して特に詳細に述べられたが、多数の変更および代替実施形態が、本開示の範囲から逸脱することなく当業者によって考案されてもよいこともまた、認識されるべきである。例えば、指定される方法または機能を行うために配置されかつ／または構成されるべきデバイスまたはシステムが開示される、実施形態は、本質的にその方法または機能をそのようなものとしてかつ／または方法もしくはシステムの他の開示される実施形態と組み合わせて開示する。さらに、方法の実施形態は、本質的にそれぞれのハードウェアにおいて、可能であれば方法またはシステムの他の開示される実施形態と組み合わせて、それらの実施を開示すると考えられる。さらに、例えば非一時的コンピュータ可読記憶媒体上に、プログラム命令として具体化されてもよい方法は、本質的にそのような実施形態として開示されると考えられる。
【００６３】
最後に、上記の議論は、本システムおよび／または方法の単に説明に役立つことを目的とし、添付の請求項をどんな特定の実施形態または実施形態の群に限定すると解釈されるべきでない。したがって、明細書および図面は説明に役立つ仕方で見られるべきであり、添付の請求項の範囲を限定することを目的としていない。添付の請求項を解釈する際に、単語「ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ」は、所与の請求項に記載されるそれら以外の要素または行為の存在を排除せず、要素に先行する単語「ａ」または「ａｎ」は、複数のそのような要素の存在を排除せず、請求項内の任意の参照符号は、それらの範囲を限定せず、いくつかの「手段」は、同じもしくは異なる事項または実施される構造もしくは機能によって表されてもよく、開示されるデバイスまたはその部分のいずれかは、別に具体的に述べられない限り、一緒に組み合わされてもよくまたはさらなる部分に分離されてもよいということを理解すべきである。ある対策が、相互に異なる請求項に列挙されるという単なる事実は、これらの対策の組み合わせが、有利に使用できないということを示さない。特に、請求項のすべての機能する組み合わせは、本質的に開示されると考えられる。
【符号の説明】
【００６４】
１ａ  反射界面
１ｂ  反射界面
１ｃ  反射界面
１０  光学散乱層
１０ｆ  溶液層
１０ｃ  乾燥された膜
１１  複屈折マトリックス材料
１２  散乱粒子
２１  カソード、電極
２２  アノード、電極
３０  電気光学層
４０  基板
４１  無機バリア層
４２  有機バリア層
４５  バリア層
５１  有機または無機層
５２  有機または無機層
１００  電気光学デバイススタック
２０１  堆積デバイス
２０２  オーブン
２０３  ＵＶランプ
【図１Ａ】
2018510500.tif 000003
【図１Ｂ】
2018510500.tif 000004
【図２Ａ】
2018510500.tif 000005
【図２Ｂ】
2018510500.tif 000006
【図３Ａ】
2018510500.tif 000007
【図３Ｂ】
2018510500.tif 000008
【図４Ａ】
2018510500.tif 000009
【図４Ｂ】
2018510500.tif 000010
【図５Ａ】
2018510500.tif 000011
【図５Ｂ】
2018510500.tif 000012
【図６Ａ】
2018510500.tif 000013
【図６Ｂ】
2018510500.tif 000014
【図７Ａ】
2018510500.tif 000015
【図７Ｂ】
2018510500.tif 000016
【国際調査報告】
2018510500.tif 000017
2018510500.tif 000018
2018510500.tif 000019