(57)【要約】  ＭｏＶＮｂＴｅＯを含む酸化的脱水素化触媒であって、組成物の改善されたコンシステンシー、並びに４２０℃未満でエチレンへの２５％転化率及び９５％超のエチレンへの選択率を有する触媒を、前記触媒の前駆体を、か焼前に触媒前駆体１ｇ当りＨ２Ｏ２の３０％溶液０．３０から２．８ｍＬに等価な量のＨ２Ｏ２で処理することによって調製する。
2018525222.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
実験式（ＰＩＸＥによって測定）： 
Ｍｏ１．０Ｖ０．２２−０３３Ｔｅ０．１０−０．１６Ｎｂ０．１５−０．１９Ｏｄ
（式中、ｄは酸化物の価数を満たす数である。）で表される酸化的脱水素化触媒のコンシステンシーを改善する方法であって、
前記方法が、か焼前に前駆体を、触媒前駆体１グラム当たりＨ２Ｏ２の３０％溶液０．３０から２．８ｍＬに等価な量のＨ２Ｏ２で処理することを含む、方法。
【請求項２】
前記前駆体が：
ｉ）七モリブデン酸アンモニウム（四水和物）とテルル酸との水溶液を温度３０℃から８５℃にて形成し、窒素含有塩基を用いて前記溶液のｐＨを６．５〜８．５に調整して、可溶性金属塩を形成する工程；
ｉｉ）硫酸バナジルの水溶液を室温から８０℃の温度にて調製する工程；
ｉｉｉ）工程ｉ）及びｉｉ）からの各前記溶液を一緒に混合する工程；
ｉｖ）シュウ酸一酸化ニオブ（ＮｂＯ（Ｃ２Ｏ４Ｈ）３）の溶液を、工程ｉｉｉ）の前記溶液にゆっくり添加して、スラリーを形成する工程；及び
ｖ）得られたスラリーをオートクレーブ中、不活性雰囲気下、温度１５０℃から１９０℃で１０時間以上、加熱する工程；
を含む方法によって調製される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
工程ｖ）で得られた固体が、ろ過され、脱イオン水で洗浄され、前記洗浄された固体が４から１０時間、温度７０から１００℃で乾燥される、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
不活性雰囲気中で温度２００℃から６００℃にて１から２０時間、前記触媒をか焼することを更に含む、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記前駆体が、触媒前駆体１ｇ当たりＨ２Ｏ２の３０％ｗ／ｗ水溶液０．３から２．８ｍＬの等価量で、５分から１０時間、温度２０から８０℃で処理される、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記か焼された触媒におけるＭｏ：Ｖのモル比が、１：０．２２から１：０．２９である、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記か焼された触媒におけるＭｏ：Ｔｅのモル比が、１：０．１１超であり、かつ１：０．１５未満である、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記か焼された触媒が、嵩密度１．２０から１．５３ｇ／ｃｃを有する、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記触媒の結晶相における、式（ＴｅＯ）０．３９（Ｍｏ３．５２Ｖ１．０６Ｎｂ０．４２）Ｏ１４を有する相の量が、ＸＲＤによる測定により、前記測定結晶相の７５重量％超である、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記触媒の結晶相における、式（ＴｅＯ）０．３９（Ｍｏ３．５２Ｖ１．０６Ｎｂ０．４２）Ｏ１４を有する相の量が、ＸＲＤによる測定により、前記測定結晶相の８５重量％超である、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
体積比７０：３０から９５：５、温度４００℃未満、ガス時空間速度５００ｈｒ−１以上、及び圧力０．８から１．２気圧のエタンと酸素との混合フィードの酸化的脱水素化の方法であって、前記方法が、前記混合物を請求項１０に記載の前記か焼された触媒上を通過させることを含む、方法。
【請求項１２】
エチレンへの選択率が、９０％以上である、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記ガス時空間速度が、３０００ｈｒ−１以上である、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記温度が、４００℃未満である、請求項１４に記載の方法。
【請求項１５】
前記か焼された生成物が前記反応器内に固定床を形成する、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
実験式（ＰＩＸＥによって測定）：
Ｍｏ１．０Ｖ０．２２−０３３Ｔｅ０．１０−０．１６Ｎｂ０．１５−０．１８Ｏｄ
（式中、ｄは、酸化物の価数を満たす数である。）を有し、且つ、ＸＲＤによる測定により、結晶成分の７５重量％以上が、式（ＴｅＯ）０．３９（Ｍｏ３．５２Ｖ１．０６Ｎｂ０．４２）Ｏ１４を有する、触媒。
【請求項１７】
ＸＲＤによる測定により、式（ＴｅＯ）０．７１（Ｍｏ０．７３Ｖ０．２Ｎｂ０．０７）３Ｏ９を有する前記触媒の前記結晶相が、２．４から１２重量％である、請求項１６に記載の触媒。
【請求項１８】
請求項１６に記載の前記触媒を用いて播種された反応器の表面。
【請求項１９】
ステンレス鋼、シリカ、アルミナコーティング及びポリテトラフルオロエチレンからなる群から選択される、請求項１８に記載の表面。
【請求項２０】
請求項１６に記載の触媒を用いて播種されたステンレス鋼、シリカ、アルミナ及びポリテトラフルオロエチレンの粒子を含有する反応器。
【請求項２１】
請求項１６に記載の触媒を用いて播種された完全フッ素化エチレンプロピレンポリマーコーティング。
【請求項２２】
４２０℃以下でエチレンへの２５％転化率及び９０％以上のエチレンへの選択率を有するシード触媒の存在下で調製される、ＰＩＸＥによって測定される実験式：
Ｍｏ１Ｖ０．３４−０．３９Ｔｅ０．０９−０．１４Ｎｂ０．１４−０．１６Ｏｄ
（式中、ｄは、酸化物の価数を満たす数である。）を有する触媒。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、低級アルカンを低級アルケンへ酸化的脱水素化するための触媒を製造する改善された方法に関する。アルカンの酸化的脱水素化のための多成分金属酸化物触媒が知られている。このような触媒は、典型的に、金属の溶液を混合し、次いでその溶液から金属酸化物の「混合物」を沈殿させ、そしてそれをか焼することによって製造される。結果として、その触媒は、種々の金属酸化物や相の不均一な混合物であり、幾つかの高度に活性な種に加えて、活性が非常に低い幾つかの種もまた包含する場合がある。本出願人は、沈殿した金属酸化物を、か焼前に、制御された量の過酸化水素で処理することによって、触媒の活性が改善されることを見出した。
【背景技術】
【０００２】
Ｊａｎｏｓｋｉに対して１９５９年７月２１日に発行され、Ｓｕｎ  Ｏｉｌ  Ｃｏｍｐａｎｙに譲渡された米国特許第２，８９５，９２０号には、脱水素化等の炭化水素の転化のための触媒を調製する方法が教示されている。触媒には、コバルト、鉄、ニッケル、モリブデン、マンガン、クロム、バナジウム、スズ及びタングステンの酸化物が含まれている。この触媒にはニオブは含まれていない。この触媒を製造する方法では、ヒドロゲルは、還元することが困難な金属酸化物（単数又は複数）及び幾つかの酸化状態で存在することができる金属酸化物から調製される。金属のヒドロゲルを調製し、過酸化水素の存在下でエージングさせる。エージングしたヒドロゲルを、その金属を沈殿させる化合物を用いて処理し、次にこれをろ過し、乾燥させ、か焼する。処理の順序は、本発明の順序とは異なる。本発明の方法では、ヒドロゲルは調製しない。
【０００３】
Ｆａｔｔｏｒｅらに対して１９６９年１０月２１日に発行され、Ｍｏｎｔｅｃａｔｉｎｉ  Ｅｄｉｓｏｎ  Ｓ．ｐ．Ａ．に譲渡された米国特許第３，４７４，０４２号には、モリブデン又はタングステンを含む金属酸化物触媒が教示されている。触媒は、金属酸化物を過酸化水素又は過酸化水素を形成する化合物と反応させることによって、タングステン及びモリブデンのペルオキシ化合物を形成することによって調製される。過酸化物対金属酸化物のモル比は、０．２５から１０、典型的に１から３の範囲であることができる。溶液は、噴霧乾燥又は担体に含浸させることができる。
【０００４】
Ｎｉｔｔｏ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  ｉｎｄｕｓｔｒｙ  Ｃｏ．，Ｌｔｄ．に譲渡された、Ｓａｓａｋｉらに対して１９８７年１１月２４日に発行された米国特許第４，７０９，０７０号には、アルカンの酸化、アンモ酸化及び酸化的脱水素化に使用される複合金属酸化物触媒の活性を再生する方法が教示されている。再活性化前の触媒は、本発明の触媒とはかなり異なる。それらには、Ｆｅ、Ｓｂ、Ｃｕ及びＣｏ等の本発明の触媒には存在しない多くの元素が含有される。「失活した」触媒は、Ｔｅ化合物、Ｍｏ化合物又はそれらの混合物を用いて処理される。Ｔｅ及びＭｏ化合物は、酸化物であってもよい。ある場合には、Ｔｅ及びＭｏ化合物は、それらをＨ２Ｏ２と、酸化物、オキシ酸、オキシ酸の塩、ヘテロポリ酸又はそれらのモリブデン塩の存在下で接触させることによって調製することができる（第９欄、第３８行から第４２行参照）。この特許には、触媒前駆体全体を、Ｈ２Ｏ２で処理することは何ら教示されていない。
【０００５】
２００９年４月２日に提出された出願からＧａｆｆｎｅｙらに対して２０１２年１月３１日に発行され、Ｌｕｍｍｕｓ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ  Ｉｎｃ．に譲渡された米国特許第８，１０５，９７２号には、アルカンの酸化的脱水素化のための触媒が教示されている。触媒は、従来的な方法で、金属酸化物成分を水熱処理することによって形成される。得られた触媒を回収し、乾燥させ、か焼する。次に、か焼された触媒を酸により処理する。この方法には、後か焼処理（ｐｏｓｔ  ｃａｌｃｉｎｉｎｇ  ｔｒｅａｔｍｅｎｔ）が教示されているので、本発明の主題とは乖離している。更に、この特許には、Ｈ２Ｏ２を用いる処理が教示されていない。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、か焼前に、触媒前駆体をＨ２Ｏ２で処理することによって、酸化的脱水素化のための改善された触媒を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
発明の開示
本発明の一実施形態では、酸化的脱水素化触媒の前駆体は、Ｍｏ、Ｖ、Ｔｅ、及びＮｂの化合物を水熱反応させ、そしてか焼前に、前駆体をＨ２Ｏ２で処理することによって調製される。
一実施形態では、本発明は、実験式（ｅｍｐｉｒｉｃａｌ  ｆｏｒｍｕｌａ：経験式）（ＰＩＸＥによって測定）：
Ｍｏ１．０Ｖ０．２２−０３３Ｔｅ０．１０−０．１６Ｎｂ０．１５−０．１９Ｏｄ
（式中、ｄは酸化物の価数を満たす数である。）を有する酸化的脱水素化触媒のコンシステンシー（ｃｏｎｓｉｓｔｅｎｃｙ）を改善する方法であって、前記方法が、前駆体を、か焼前に、触媒前駆体１グラム当たりＨ２Ｏ２の３０％溶液０．３０から２．８ｍＬに等価な量のＨ２Ｏ２で処理することを含む、方法を提供する。
【０００８】
更なる実施形態では、前駆体は：
ｉ）七モリブデン酸アンモニウム（四水和物）とテルル酸との水溶液を、温度３０℃から８５℃にて形成し、その溶液のｐＨを６．５から８．５、好ましくは７から８、最も好ましくは７．３から７．７に、窒素含有塩基を用いて調整して、可溶性金属塩を形成する工程；
ｉｉ）硫酸バナジルの水溶液を、室温から８０℃（好ましくは５０℃から７０℃、最も好ましくは５５℃から６５℃）の温度にて調製する工程；
ｉｉｉ）工程ｉ）及びｉｉ）からの各溶液を一緒に混合する工程；
ｉｖ）シュウ酸一酸化ニオブ（ｎｉｏｂｉｕｍ  ｍｏｎｏｘｉｄｅ  ｏｘａｌａｔｅ）（ＮｂＯ（Ｃ２Ｏ４Ｈ）３）の溶液を、工程ｉｉｉ）の溶液にゆっくり（滴下して）添加して、スラリーを形成する工程；及び
ｖ）得られたスラリーを、オートクレーブ中、不活性雰囲気下、１５０℃から１９０℃の温度で１０時間以上加熱する工程
によって、調製される。
【０００９】
更なる実施形態では、工程ｖ）から得られた固体をろ過し、脱イオン水で洗浄し、洗浄した固体を、４から１０時間、７０から１００℃の温度で乾燥させる。
更なる実施形態では、前駆体を、不活性雰囲気中で２００℃から６００℃の温度にて１から２０時間、か焼する。
更なる実施形態では、前駆体を、触媒前駆体１グラム当たりＨ２Ｏ２の３０％ｗ／ｗ溶液０．３から２．８ｍＬの等価量で、５分から１０時間、２０から８０℃の温度で処理する。
更なる実施形態では、触媒におけるＭｏ：Ｖのモル比は、１：０．２２から１：０．２９である。
更なる実施態様では、触媒におけるＭｏ：Ｔｅのモル比は、１：０．１１超かつ１：０．１５未満である。
更なる実施形態では、触媒におけるＭｏ：Ｖのモル比は、１：０．２２から１：０．２５である。
更なる実施形態では、触媒におけるＭｏ：Ｔｅのモル比は、１：０．１１から１：０．１３である。
更なる実施形態では、触媒は、嵩密度１．２０から１．５３ｇ／ｃｃを有する。
【００１０】
更なる実施形態では、触媒の結晶相において、式（ＴｅＯ）０．３９（Ｍｏ３．５２Ｖ１．０６Ｎｂ０．４２）Ｏ１４を有する相の量は、ＸＲＤによって測定で、測定結晶相の７５重量％超である。
更なる実施形態では、触媒の結晶相において、式（ＴｅＯ）０．３９（Ｍｏ３．５２Ｖ１．０６Ｎｂ０．４２）Ｏ１４を有する相の量は、ＸＲＤによる測定で、測定結晶相の８５重量％超である。
本発明の更なる実施形態は、体積比７０：３０から９５：５のエタンと酸素との混合フィードを、温度４２０℃未満、好ましくは４００℃未満、ガス時空間速度５００ｈｒ−１以上、及び圧力０．８から１．２気圧で酸化的脱水素化する方法であって、前記混合物に前記触媒上を通過させることを含む方法を提供する。
更なる実施形態では、エチレンへの転化率は、９０％以上である。
更なる実施形態では、ガス時空間速度は、１０００ｈｒ−１以上である。
【００１１】
更なる実施形態において、か焼された触媒は、反応器内に固定床を形成する。
更なる実施形態では、触媒は、実験式（ＰＩＸＥによって測定）：
Ｍｏ１．０Ｖ０．２２−０３３Ｔｅ０．１０−０．１６Ｎｂ０．１５−０．１８Ｏｄ
（式中、ｄは酸化物の価数を満たす数である。）を有し、結晶成分の７５重量％以上が、式（ＴｅＯ）０．３９（Ｍｏ３．５２Ｖ１．０６Ｎｂ０．４２）Ｏ１４を有し、それはＸＲＤにより測定した。
更なる実施形態では、式（ＴｅＯ）０．７１（Ｍｏ０．７３Ｖ０．２Ｎｂ０．０７）３Ｏ９を有する触媒の結晶相は、２．４から１２重量％であり、それはＸＲＤによって測定した。
更なる実施形態では、反応器の表面（内部）は、上記触媒を用いて播種される。
【００１２】
更なる実施形態では、反応器の表面は、ステンレス鋼、シリカ、アルミナコーティング及びポリテトラフルオロエチレンからなる群から選択される。
更なる実施形態では、反応器は、上記触媒を用いて播種された、ステンレス鋼、シリカ、アルミナ及びポリテトラフルオロエチレンの粒子（例えば、フレーク、顆粒、小球、フィラメント等の不規則なもの、又は球、楕円、棒、矩形プリズム（直角及び非直角の両方）、五角プリズム、ピラミッド等の規則的なもの）を含有する。
更なる実施形態では、上記触媒を用いて播種された完全フッ素化エチレンプロピレンポリマー反応器コーティングが提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】図１は、ＯＤＨ触媒を試験するために使用される反応器の模式図である。
【図２】図２は、各例で調製した、４２０℃未満の２５％転化率の温度及び９５％超のエチレンへの選択率を有する触媒１．４１ｇ当りの３０％Ｈ２Ｏ２の体積に対する、エタンからエチレンへの２５％転化率の温度のプロットである。
【図３】図３は、各例で調製した、４２０℃未満の２５％転化率の温度及び９５％超のエチレンへの選択率を有する触媒１．４１ｇ当りの３０％Ｈ２Ｏ２の体積に対する、エチレンへの２５％転化率の温度におけるエチレン転化の選択率のプロットである。
【００１４】
発明を実施するための最良の形態
数の範囲
実施例又は他の指示がある場合を除き、明細書及び特許請求の範囲で使用された成分の量、反応条件等を指す全ての数又は表現は、全ての場合において「約」の用語によって修飾されるものと理解されるべきである。従って、断りのない限り、以下の明細書及び添付の特許請求の範囲に記載された数値パラメータは、本発明が得ることを望む特性に応じて変化させることができる近似値である。最低限、特許請求の範囲の範囲に対する均等論の適用を制限する試みとしてではなく、各数値パラメータは、少なくとも報告された有効数字の数に照らして且つ通常の丸め技術を適用して解釈されるべきである。
【００１５】
本発明の広い範囲を示す数値範囲及びパラメータが近似値であるにもかかわらず、特定の実施例に示した数値は、可能な限り正確に報告している。しかし、いずれの数値も、それぞれの試験測定値に見られる標準偏差から必然的に生じる特定の誤差を本質的に含む。
また、本明細書に列挙されるいずれの数値範囲も、その中に包含される全ての部分範囲を含むことを意図していると理解すべきである。例えば、「１から１０」の範囲は、記載した最小値１と記載した最大値１０との間且つそれ自体を含む全ての部分範囲を包含することを意図している。即ち、それは、１に等しいかそれ超の最小値と１０に等しいかそれ未満の最大値を有する。開示された数値範囲は連続的であるため、それには、最小値と最大値との間の全ての値が含まれる。明確に断りのない限り、本明細書で特定される様々な数値範囲は近似値である。
【００１６】
本明細書に記載されている全ての組成範囲は、実際には合計で１００％に制限され、１００％を超えない（体積％又は重量％）。組成物中に複数の成分が存在する場合、各成分の最大量の合計は１００％を超えることがあるが、実際に使用される成分の量が１００％の最大値になることは理解され、当業者であれば容易に理解する。
本明細書では、エタンからエチレンへの２５％転化率における温度という表現は、典型的に、２５％転化率未満及び超過のデータ点の温度に対するエチレンへの転化率のグラフをプロットすることによって決定される。次に、データのプロットを作成するか、又はデータを式に当てはめ、そしてエタンからエチレンへの２５％転化率の温度を決定する。ある場合には、各例においてデータは、２５％転化率が生じる温度を決定するために外挿する必要があった。
【００１７】
本明細書では、２５％転化率における選択率という表現は、温度の関数として選択率をプロットすることによって決定される。次に、データを、温度に対する選択率のグラフ上にプロットするか又は式に当てはめる。次に、２５％転化率が生じる温度を計算することにより、グラフ又は式のいずれかからその温度における選択率を決定することができる。
本発明のか焼された触媒は、典型的に、ＰＩＸＥによって測定した式：
Ｍｏ１．０Ｖ０．２２−０３３Ｔｅ０．１０−０．１６Ｎｂ０．１５−０．１９Ｏｄ
（式中、ｄは酸化物の価数を満たす数である。）を有する。幾つかの実施形態では、か焼された触媒中のＭｏ：Ｖのモル比は、１：０．２２から１：０．３３であり、他の実施形態では、か焼された触媒中のＭｏ：Ｖのモル比は、１：０．２２から１：０．２９であり、幾つかの実施形態では、１：０．２２から１：０．２５である。他の実施形態では、か焼された触媒中のＭｏ：Ｔｅのモル比は、１：０．１０超且つ１：０．１６未満であり、更なる実施形態では、か焼された触媒中のＭｏ：Ｔｅのモル比は、１：０．１１から１：０．１５である。
【００１８】
触媒前駆体は、典型的に、金属成分の酸化物又は塩の溶液又はスラリー（懸濁液）を混合することによって調製される。
幾つかの実施形態では、前駆体は、以下の工程を含むプロセスによって調製することができる：
ｉ）七モリブデン酸アンモニウム（四水和物）とテルル酸との水溶液を、温度３０℃から８５℃にて形成し、その溶液のｐＨを、６．５から８．５、好ましくは７から８、最も好ましくは７．３から７．７に、好ましくは窒素含有塩基を用いて調整して、可溶性金属塩を形成する工程；
ｉｉ）硫酸バナジルの水溶液を、室温から８０℃（好ましくは５０℃から７０℃、最も好ましくは５５℃から６５℃）の温度にて調製する工程；
ｉｉｉ）工程ｉ）及びｉｉ）からの各溶液を一緒に混合する工程；
ｉｖ）シュウ酸一酸化ニオブ（ＮｂＯ（Ｃ２Ｏ４Ｈ）３）の溶液を、工程ｉｉｉ）の溶液にゆっくり（滴下して）添加して、スラリーを形成する工程；
ｖ）得られたスラリーを、オートクレーブ中、不活性雰囲気下、温度１５０℃から１９０℃で１０時間以上、加熱する工程。
【００１９】
更なる実施形態では、工程ｖ）からのスラリーをろ過し、脱イオン水で洗浄し、４から１０時間、温度７０から１００℃で乾燥させる。
更なる実施形態では：
工程ｉ）の後、以下の工程の１つ以上をプロセスに組み込むことができる：
ａ）水性溶媒を蒸発させて、固体を得る工程；
ｂ）その固体を、温度８０℃から１００℃で乾燥させる工程；及び
ｃ）その固体を、水中に温度４０℃から８０℃（好ましくは５０℃から７０℃、最も好ましくは５５℃から６５℃）にて再溶解させる工程。
更なる実施形態では、工程ｉｉ）の後、溶液を温度２０℃から３０℃の温度に冷却する。
更なる実施形態では、工程ｖｉ）の一部として、溶液を温度２０℃から３０℃に冷却する。
【００２０】
更なる実施形態では、前駆体は、以下の工程を含むプロセスによって製造することができる：
ｉ）七モリブデン酸アンモニウム（四水和物）とテルル酸との水溶液を、温度３０℃から８５℃にて形成し、その溶液のｐＨを７．３から７．７（好ましくは７．４から７．５）に、窒素含有塩基を用いて調整して、可溶性金属塩を形成する工程；
ｉｉ）水性溶媒を蒸発させて、固体を得る工程；
ｉｉｉ）その固体を、温度８０℃から１００℃で乾燥させる工程；及び
ｉｖ）その固体を、水中に、温度４０℃から８０℃（好ましくは５０℃から７０℃、最も好ましくは５５℃から６５℃）にて再溶解させる工程；
ｖ）硫酸バナジルの水溶液を、室温から８０℃（好ましくは５０℃から７０℃、最も好ましくは５５℃から６５℃）の温度にて調製する工程；
ｖｉ）工程ｉｖ）及びｖ）からの各溶液を温度２０から３０℃に冷却する工程
ｖｉｉ）工程ｖｉ）からの各冷却溶液を一緒に混合する工程；
ｖｉｉｉ）シュウ酸一酸化ニオブ（ＮｂＯ（Ｃ２Ｏ４Ｈ）３）の溶液をステップｖｉｉ）の溶液にゆっくり（滴下して）添加して、（褐色の）スラリーを形成する工程；
ｉｘ）得られたスラリーを、オートクレーブ中、酸素を含まない雰囲気下、温度１５０℃から１９０℃で１０時間以上、加熱する工程；
ｘ）オートクレーブを室温に冷却し、ろ過し、得られた固体を脱イオン水で洗浄する工程；及び
ｘｉ）洗浄した固体を、４から１０時間、温度７０から１００℃で乾燥する工程。
【００２１】
幾つかの実施形態では、（触媒）反応器は、４２０℃以下で２５％のエチレンへの転化率及び９０％以上のエチレンへの選択率を有する触媒を用いて播種された、ステンレス鋼、シリカ、アルミナコーティング及びポリテトラフルオロエチレン、好ましくはポリテトラフルオロエチレン（ＴＥＦＬＯＮ）からなる群から選択されるコーティングのライナーを有することができる。
シード触媒は、実験式（ＰＩＸＥによって測定）：
Ｍｏ１．０Ｖ０．２２−０３３Ｔｅ０．１０−０．１６Ｎｂ０．１５−０．１８Ｏｄ
（式中、ｄは酸化物の価数を満たす数である。）を有し、式（ＴｅＯ）０．３９（Ｍｏ３．５２Ｖ１．０６Ｎｂ０．４２）Ｏ１４の結晶成分を７５重量％以上有する触媒であってよい。
【００２２】
幾つかの実施形態では、（触媒前駆体）反応器は、４２０℃以下でエチレンへの２５％転化率及び９０％以上のエチレンへの選択率を有する触媒を用いて播種された、完全フッ素化エチレンプロピレンポリマー（ＦＥＰ）のコーティングのライナーを有することができる。
幾つかの実施形態では、シード触媒は、実験式（ＰＩＸＥによって測定）Ｍｏ１．０Ｖ０．２２−０３３Ｔｅ０．１０−０．１６Ｎｂ０．１５−０．１８Ｏｄ（式中、ｄは、酸化物の価数を満たす数である。）を有し、結晶成分の７５重量％以上が式（ＴｅＯ）０．３９（Ｍｏ３．５２Ｖ１．０６Ｎｂ０．４２）Ｏ１４を有し、それはＸＲＤにより測定した。
シード触媒の装填量は、反応器（例えば、鋼、ＴＥＦＬＯＮ又はＦＥＰ）の表面の１から１５重量％であることができる。
ある場合には、（触媒前駆体）反応器は、４２０℃以下でエチレンへの２５％転化率及び９０％以上のエチレンへの選択率を有する触媒を用いて播種されたステンレス鋼、シリカ、アルミナ及びポリテトラフルオロエチレンの粒子を含有する。
【００２３】
幾つかの実施形態では、シード触媒は、実験式（ＰＩＸＥによって測定）Ｍｏ１．０Ｖ０．２２−０３３Ｔｅ０．１０−０．１６Ｎｂ０．１５−０．１９Ｏｄ（式中、ｄは酸化物の価数を満たす数である。）を有し、結晶成分の７５重量％以上が式（ＴｅＯ）０．３９（Ｍｏ３．５２Ｖ１．０６Ｎｂ０．４２）Ｏ１４を有し、それはＸＲＤにより測定した。
粒子は、（例えばフレーク、顆粒、小球、フィラメント等の不規則なもの、又は球、楕円、棒（攪拌棒）、矩形プリズム（直角及び非直角の両方）、五角プリズム、ピラミッド等の規則的なもの）であることができる。
粒子へのシード触媒の装填量は、粒子の１から１５重量％の範囲であることができる。
状況によっては、粒子上のシード触媒が何らかの理由で消耗した粒子を、適切な装填量のシード粒子を有する新たなシード粒子で交換する方が、触媒反応器の内表面のシードコーティングを補充するよりも容易である場合がある。
【００２４】
４２０℃以下でエチレンへの２５％転化率及び９０％以上のエチレンへの選択率を有する触媒を用いて播種された水熱反応器から製造された触媒は、一般的に、ＰＩＸＥによって測定された実験式：Ｍｏ１Ｖ０．３４−０．３９Ｔｅ０．０９−０．１４Ｎｂ０．１４−０．１６Ｏｄ（式中、ｄは酸化物の価数を満たす数である。）を有する。
過酸化物処理は、大気圧及び室温（例えば、１５℃から３０℃）から約８０℃、ある場合には３５℃から７５℃、他の場合には４０℃から６５℃で行うことができる。過酸化物は、濃度１０から３０重量％、ある場合には、１５から２５重量％を有する。処理時間は、１から１０時間、ある場合には２から８時間、他の場合には４から６時間の範囲であってよい。
【００２５】
触媒前駆体は、前駆体１グラム当りＨ２Ｏ２の３０重量％水溶液０．３から２．８ｍＬ、幾つかの実施形態では、０．３から２．５ｍＬの等価量で処理される。Ｈ２Ｏ２の分布を均一にし、温度上昇を抑制するために、処理は、スラリー（例えば、前駆体が少なくとも部分的に懸濁している）中で行うべきである。Ｈ２Ｏ２を用いた後か焼処理の場合、Ｈ２Ｏ２と、突然、遅れて激しく反応するが、本発明の方法では、より制御され、より安全な瞬間的な反応である。
次に、処理した触媒前駆体をか焼して、活性な酸化的脱水素化触媒を生成する。処理した前駆体は、不活性雰囲気中、温度２００℃から６００℃で１から２０時間か焼することができる。か焼に使用されるパージガスは、２００から６００℃、好ましくは、３００から５００℃の、窒素、ヘリウム、アルゴン、ＣＯ２（好ましくは高純度＞９０％）の１種以上を含む不活性ガス（前記ガス又は混合物には、１容量％未満の水素又は空気が含有される。）である。か焼工程には、１から２０、ある場合には５から１５、他の場合には約８から１２時間、一般的に約１０時間かかることがある。得られた混合酸化物触媒は、典型的に水に不溶性の脆い固体である。典型的に、か焼された生成物は、嵩密度１．２０から１．５３ｇ／ｃｃを有する。この嵩密度は、１．５ｍＬの圧縮且つ粉砕された触媒の重さに基づいている。
【００２６】
得られた酸化的脱水素化触媒は不均一である。それは、非晶質成分と結晶成分とを有する。触媒の元素分析は、任意の適切な技術によって確認することができる。１つの有用な技術としては、粒子線励起Ｘ線分析（ＰＩＸＥ）である。Ｈ２Ｏ２を用いた処理の前及び処理の後の触媒前駆体のＰＩＸＥ分析から、Ｍｏ対Ｖの実験的モル比は、過酸化水素で処理することなくか焼された材料と比較して、典型的に１：０．３３〜１：０．４０から１：０．２２〜１：０．３３にまで、ある場合には１．０：０．２２〜１．０：０．２５にまで減少することが確認される。更に、Ｍｏ：Ｔｅのモル比は、タイトになり、そのように処理せずにか焼された酸化的脱水素化触媒と比較して、典型的に１：０．０３〜１：０．１３の範囲から１：０．１０超且つ１：０．１６未満にまで、ある場合には１．０：０．１１〜１．０：０．１５（ｆｒｏｍ  １．０：０．１１  ｔｏ  １：０  ｔｏ  ０．１５）にまで、（ベース触媒を上回って）増加することがわかった。
【００２７】
触媒は、１種以上の結晶性成分及び非晶質成分を有する。結晶成分は、Ｘ線回折（ＸＲＤ）を使用して分析することができる。Ｒｉｇａｋｕ、Ｓｈｉｍａｄｚｕ、Ｏｌｙｍｐｕｓ及びＢｒｕｋｅｒを含むＸ線回折計の多くの供給者が存在する。粉末サンプルにＸ線を照射する。サンプルから放出されたＸ線は、回折格子を通過し、ゴニオメータ（記録計）に集められる。結果は、典型的に、コンピュータプログラム（典型的に、機器供給者から提供される）を使用して分析し、結晶相（単数又は複数）の組成を決定するコンピュータを使用してデータベース（国際回折データセンター：ＩＣＤＤ）と比較する。
２θＸ線回折パターンは、０から２０°の２θでのピーク高さの最大ピーク高さに対する比が１５％未満、ある場合には１０％未満である。
【００２８】
触媒の結晶相も不均一である。Ｘ線回折結果を、コンピュータプログラムによって分析し、データベース内にある構造（例えば、デコンボルーションされたもの）と比較して、様々な可能性のある結晶種及びそれらの相対量を特定する。
結晶相は、典型的に、以下の結晶種を含む：
（Ｍｏ０．６Ｎｂ０．２２Ｖ０．１８）５Ｏ１４；
ＴｅＯ０．７１（Ｍｏ０．７３Ｖ０．２Ｎｂ０．０７）３Ｏ９；
（ＴｅＯ）０．３９（Ｍｏ３．５２Ｖ１．０６Ｎｂ０．４２）Ｏ１４；
Ｖ１．１Ｍｏ０．９Ｏ５；Ｍｏ４Ｖ６Ｏ２５；及び
ＶＯＭｏＯ４
前駆体及びか焼された触媒のＸ線回折分析から、処理により、結晶相の組成が変化することがわかる。本発明による処理によって、実験式（ＴｅＯ）０．３９（Ｍｏ３．５２Ｖ１．０６Ｎｂ０．４２）を有する結晶成分の相は、結晶相の７５重量％以上、ある場合には８５重量％以上、ある場合には９０重量％以上、ある場合には、９５重量％以上に増加する。
【００２９】
幾つかの実施形態では、実験式ＴｅＯ０．７１（Ｍｏ０．７３Ｖ０．２Ｎｂ０．０７）３Ｏ９を有する結晶成分の相は、約２．４から１２重量％の量で存在し、幾つかの実施形態では、その相は約８重量％未満の量で存在し、更に別の実施形態では３．５重量％未満で存在する。
か焼された触媒生成物は、典型的に水に不溶性の乾燥した脆い生成物である。必要であれば、触媒を、粉砕等のサイジング工程に供して、所望の粒子サイズにすることができる。触媒がどのように使用されるかに応じて、粒子サイズは異なっていてよい。例えば、担体を用いた噴霧乾燥の場合、粒子サイズは約５から７５μｍ、ある場合には１０から６０μｍの範囲であることができる。担持されていない形態にて床で使用する場合、粒子は、約０．１から０．５ｍｍ、ある場合には０．２から０．４ｍｍのサイズを有することができる。
【００３０】
本発明において、酸化的脱水素化反応器へのフィードには、爆発／可燃性の上限未満の量で酸素が含まれる。例えば、エタンの酸化的脱水素化の場合、典型的に、酸素は、約１６モル％以上、好ましくは約１８モル％以上、例えば約２２から２７モル％、又は２３から２６モル％の量で存在する。これは、フィード又は最終的な生成物の燃焼に起因する選択率の低下をもたらす可能性があるので、過剰の酸素は多過ぎないことが望ましい。加えて、フィード流中に過剰の酸素が多過ぎると、反応の下流端で追加的な分離工程が必要となる場合がある。
実用的な流動床又は移動床を維持するために、床を通る質量ガス流量は、流動化に必要な最小流よりも大きくなければならず、好ましくはＵｍｆの約１．５から約１０倍、より好ましくはＵｍｆの約２から約６倍である。Ｕｍｆは、流動化を達成するのに必要な最小質量ガス流量の略語として容認された形で使用されている（Ｃ．Ｙ．Ｗｅｎ及びＹ．Ｈ．Ｙｕによる“Ｍｅｃｈａｎｉｃｓ  ｏｆ  Ｆｌｕｉｄｉｚａｔｉｏｎ”、Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ  Ｐｒｏｇｒｅｓｓ  Ｓｙｍｐｏｓｉｕｍ  Ｓｅｒｉｅｓ、第６２巻、１００から１１１頁（１９６６年）。典型的に、必要とされる表面ガス速度は、０．３から５ｍ／ｓの範囲である。
反応器は、固定床反応器であってもよい。
【００３１】
酸化的脱水素化プロセスには、エタンと酸素の混合フィードを、４２０℃未満、ある場合には４１０℃未満、ある場合には４００℃未満、ある場合には３９０℃未満、ある場合には３８０℃未満、ある場合には３７５℃の低い温度で、ガス時空間速度５００ｈｒ−１以上、典型的に１０００ｈｒ−１以上、望ましくは２８００ｈｒ−１以上、好ましくは、少なくとも３０００ｈｒ−１で１つ以上の床を、圧力０．８から１．２気圧で通過させること、及び前記混合物に酸化的脱水素化触媒上を通過させることが含まれる。幾つかの実施形態では、酸化的脱水素化反応器は、４００℃未満、典型的に３７５℃から４００℃の温度で操作される。
【００３２】
反応器からの出口圧力は、１０５ｋＰａ（１５ｐｓｉ）から１７２．３ｋＰａ（２５ｐｓｉ）であり、入口圧力は、床を横切った圧力降下分だけ高く、これは、反応器構成、床の粒子サイズ及び空間速度を含む多数の要因に依存する。一般的に、圧力降下は、６８９ｋＰａ（１００ｐｓｉ）未満、好ましくは２０６．７ｋＰａ（３０ｐｓｉ）未満であってよい。
酸化脱水素化反応器中の１種以上のアルカンの滞留時間は、０．００２から２０秒である。
【００３３】
担体／結合剤
必要であれば、酸化的脱水素化触媒を担持又は結合させることができる幾つかの方法がある。
セラミック担体を形成するための、及び結合剤のための好ましい成分には、流動床反応器及び固定床反応器の両方の場合に、チタン酸化物、ジルコニウム酸化物、アルミニウム酸化物、マグネシウム酸化物、ケイ素酸化物、リン酸塩、リン酸ホウ素、リン酸ジルコニウム及びそれらの混合物が含まれる。流動床では、典型的に、触媒は、一般的に結合剤と共に噴霧乾燥され、典型的に４０から１００μｍのサイズ（有効直径）の範囲の球状粒子を形成する。しかしながら、流動床における摩耗を最小にするために粒子の表面領域に確実に十分な耐久性をもたせるように注意する必要がある。
固定床用触媒の担体は、更に、二酸化ケイ素、溶融二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、二酸化チタン、二酸化ジルコニウム、二酸化トリウム、酸化ランタン、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化バリウム、酸化スズ、二酸化セリウム、酸化亜鉛、酸化ホウ素、窒化ホウ素、炭化ホウ素、酸化イットリウム、ケイ酸アルミニウム、窒化ケイ素、炭化ケイ素及びそれらの混合物からなる群から選択される酸化物、二酸化物、窒化物、炭化物から形成されたセラミック前駆体であることができる。
【００３４】
一実施形態では、固定床用の担体は、酸化的脱水素化触媒の場合、２０ｍ２／ｇ未満、あるいは１５ｍ２／ｇ未満、場合によっては３．０ｍ２／ｇ未満の低い表面積を有することができる。このような担体は、圧縮成形によって調製することができる。より高い圧力では、セラミック前駆体内の隙間は圧縮されて破壊される。担体前駆体に及ぼされる圧力に応じて、担体の表面積は、約２０から１０ｍ２／ｇであることができる。
低表面積の担体は、球状、リング状、サドル状等の任意の従来の形状であることができる。
担体は、使用前に（すなわち、触媒を添加する前に）乾燥させることが重要である。一般的に、担体は、少なくとも２００℃の温度で２４時間まで、典型的に５００℃から８００℃の温度で約２から２０時間、好ましくは４から１０時間加熱することができる。得られる担体は、吸着水を含まず、約０．１から５ミリモル／担体１ｇ、好ましくは０．５から３ミリモル／担体１ｇの表面ヒドロキシル含量を有するべきである。
【００３５】
シリカ上のヒドロキシル基の量は、Ｊ．Ｂ．Ｐｅｒｉ及びＡ．Ｌ．Ｈｅｎｓｌｅｙ，Ｊｒ．によって、Ｊ．Ｐｈｙｓ．  Ｃｈｅｍ．第７２（８）巻、第２９２６頁、１９６８年に開示された方法に従って測定することができ、この内容全体を参照により本明細書に援用する。
固定床触媒用の乾燥された担体は、圧縮成形によって必要な形状に圧縮することができる。担体の粒子サイズに応じて、圧縮部分の形状を保持するために不活性結合剤と組み合わせることができる。
【００３６】
装填
典型的に、固定床触媒の場合、担体への触媒の装填は、それぞれ前記触媒の１から３０重量％、典型的に５から２０重量％、好ましくは８から１５重量％、そして前記担体の９９から７０重量％、典型的に８０から９５重量％、好ましくは８５から９２重量％である。
触媒は、多くの方法で担体に添加することができる。例えば、触媒は、水性スラリーから低表面積の担体の表面の１つに、含浸、ウォッシュコーティング、はけ塗り又は噴霧によって堆積させることができる。触媒はまた、スラリーからセラミック前駆体（例えば、アルミナ）と共沈させて、低表面積で担持された触媒を形成することもできる。
【００３７】
流動床の場合の触媒の装填は、床の体積、床を通るアルカンの流量、床のエネルギー収支、結合剤の種類等を含む多くの因子に基づいて選択することができる。流動床の場合、触媒の装填は、１０重量％から９０重量％まで、典型的に２０重量％超、望ましくは３５重量％超の範囲の広範な値を含むことができる。
この方法は、少なくとも９０％、場合によっては９５％、望ましくは９８％超のエタンからエチレンへの転化率、及び９５％以上、ある場合には９７％超のエチレンへの選択率を有するように操作されるべきである。
【００３８】
酸化的脱水素化プロセス
本発明の触媒は、流動床又は固定床の発熱反応に使用することができる。固定床反応器は管状反応器であり、更なる実施形態では、固定床反応器は、シェル内側に多数の管（例えば、シェル−管タイプ熱交換器の構造）を含む。更なる実施形態では、固定床反応器は、直列及び／又は並列の多数のシェルを含むことができる。反応は、酸化的脱水素化を含む１つ以上の脱水素化工程及び炭化水素の酸化的カップリングを含む水素転移工程を含むことができる。
典型的に、これらの反応は、温度約３７５℃から約４１０℃まで、圧力約１００から２１，０００ｋＰａ（１５から３０００ｐｓｉ）、好ましくは出口圧力１０５ｋＰａ（１５ｐｓｉ）から１７２．３ｋＰａ（２５ｐｓｉ）で、酸化的脱水素化触媒の存在下で行われる。炭化水素流は、Ｃ２−４脂肪族炭化水素を含むある範囲の化合物を含有することができる。
【００３９】
幾つかの実施形態では、反応には、脂肪族炭化水素、典型的にＣ１−４脂肪族炭化水素、特にメタン（例えば、エタン流が幾らかのメタンを含有する場合）の酸化的カップリング及びＣ２−４脂肪族炭化水素の酸化的脱水素化が含まれる。このような反応は、炭化水素の混合フィード、幾つかの実施形態では、体積比７０：３０から９５：５のメタン又はエタン又はその両方と酸素との混合フィードを使用して、温度４２０℃未満、好ましくは４００℃未満で、ガス時空間速度２８０ｈｒ−１以上、幾つかの実施形態では、５００ｈｒ−１以上、典型的に１０００ｈｒ−１以上、望ましくは２８００ｈｒ−１以上、好ましくは少なくとも３０００ｈｒ−１、及び圧力０．８から１．２気圧で行うことができる。典型的に、このプロセスは、全体の転化率約５０から約１００％、典型的に約７５から９８％、及びエチレンへの選択率９０％以上、ある場合には９５％以上、更なる実施形態では、９８％以上を有することができる。ある場合には、制御上限温度は、約４００℃未満、幾つかの実施形態では３８５℃未満である。
得られた生成物流を処理して、エチレンを、酢酸等の副生成物もまた含有する場合がある生成物流の残り、及び反応器に再循環させる未反応フィードから分離する。
【００４０】
分離
反応器からの生成物流には、比較的低い含量のエタンが、２０重量％未満、ある場合には１５重量％未満、ある場合には１０重量％未満が含まれるべきである。追加的に、生成物流には、低い含量の副生成物、例えば水、二酸化炭素及び一酸化炭素が、一般的に累積的に５重量％未満、好ましくは３重量％未満の範囲で含まれるべきである。
フィード及び副生成物は、生成物流から分離する必要がある場合がある。幾つかのプロセスは、所謂、希釈したエチレン流を使用することができる。例えば、生成物流があまり多くのエタンを含有していない場合、例えば約１５体積％未満である場合、この流れは、気相、スラリー又は溶液プロセス等の重合反応器で更なる精製をすることなく直接使用することができる。
最も一般的な手法は、極低温Ｃ２スプリッタを使用することであろう。吸着（油、イオン性液体及びゼオライト）を含む他の既知のエチレン／エタン分離技術もまた使用することができる。
次に、本発明を以下の非限定的な実施例によって説明する。
【実施例】
【００４１】
実施例では、酸化的脱水素化反応に使用される固定床反応器ユニットを図１に模式的に示す。反応器は、外径２ｍｍ（３／４インチ）、長さ１１７ｃｍ（４６インチ）の固定床ステンレス鋼管反応器を用いた。反応器は、セラミック断熱材で封止された電気炉内にある。反応器には番号１から７で示された７つの熱電対がある。熱電対は、反応器のその区域の温度を監視するために使用する。熱電対３及び４は、反応器床の熱を制御するためにも使用される。フィードは、反応器の頂部から底部に流れる。入口には、反応器内の空気のドラフトを防止するためのセラミックカップ８がある。セラミックカップの下には、石英ウールの層９がある。石英ウールの層の下には、触媒的に不活性な石英粉末の層がある。石英粉末の下には触媒を含む固定床１０がある。固定床の下には、石英粉末の層１１、石英ウールの層１２及びセラミックカップ１３がある。床の出口には、生成物流の組成を測定するガス分析器があった。ＧＨＳＶは２６８５ｈｒ−１であり、圧力は大気圧（ａｍｂｉｅｎｔ）であった。
実施例では、床温度は熱電対２、３及び４からの温度の平均をとった。フィード流は床と同じ温度を有すると仮定した。
【００４２】
課題の本質
ベースライン実験
２つの異なるベースライン触媒を、地理的に離れた実験室で調製した。
第１の実験室では、予め調製した有効な触媒の結晶を表面に有するＴＥＦＬＯＮ（登録商標）製のライナーを備えた反応器を、水熱処理に使用した。
ガラス器具での手順におけるプレ触媒の形成は以下の通りであった：
（ＮＨ４）６Ｍｏ６ＴｅＯ２４・ｘＨ２Ｏ（６．４０６９ｇ）を、１００ｍＬのガラスビーカー内の２０ｍＬの蒸留水に添加し、温水浴（８０℃）で攪拌した。ＶＯＳＯ４ｘＨ２Ｏ（３．６５０５ｇ）を、５０ｍＬのビーカー内で１０ｍＬの蒸留水に室温で溶解した。ＶＯＳＯ４溶液を（ＮＨ４）６Ｍｏ６ＴｅＯ２４溶液に注ぎ、直ちに褐色溶液を得た（溶液１）。
Ｈ３［ＮｂＯ（Ｃ２Ｏ４）３］７．５Ｈ２Ｏ（２．３３１８ｇ）を、１０ｍＬの温水に溶解し、空気雰囲気下で溶液１に添加した。密な濃褐色がかった灰色のスラリーが形成され、これを１０分間、空気雰囲気下で撹拌した。
【００４３】
水熱処理
次に、スラリーのサンプルを、予め製造しておいた触媒を用いて播種されたＴＥＦＬＯＮライナーを有するオートクレーブ中で、不活性雰囲気下、温度１５０℃から１９０℃で、１０時間以上加熱した。スラリーをろ過し、脱イオン水で洗浄し、４から１０時間、温度７０から１００℃で乾燥させた。
ベースライン触媒のサブサンプルを直ちにか焼した。
この方法で２つのサンプルを調製した。
第１のサンプル（Ａ）は、約３７０℃でエタンからエチレンへの２５％の転化率及びこの温度で９８％の選択率を有した。
第２のサンプル（Ｂ）は、約３５４℃でエタンからエチレンへの２５％の転化率及びこの温度で９９％の選択率を有した。
このことから、水熱処理では触媒シードを有しても、ばらつきがあることがわかる。（これは、種結晶の違いによる可能性がある。）
【００４４】
プレ触媒Ａの３つのサブサンプルとプレ触媒Ｂの４つのサブサンプルを、様々な量のＨ２Ｏ２で処理し、次にか焼し、次に、７８％のエタンと２２％の酸素との混合物を流量６００ｃｍ３／ｈで酸化的脱水素化するために使用した。
結果を以下の表１に示す。
【表１】
2018525222.tif 000003
４２０℃未満の温度で２５％の転化率及び高い選択率を有する触媒を、触媒１ｇ当たり０．３から２．８ｍＬの量の３０％過酸化水素で処理した場合、測定可能な性能損失は引き起こさない。
【００４５】
第２の実験室
プレ触媒の調製
（ＮＨ４）６Ｍｏ６ＴｅＯ２４・ｘＨ２Ｏ（６．４ｇ）を、温水浴を用いて１００ｍＬの丸底フラスコ内で２０ｍＬの水に溶解した。透明な溶液を室温に冷却した。ＶＯＳＯ４ｘ３．４７Ｈ２Ｏ（３．４ｇ）を、３０ｍＬのビーカー内で１０ｍＬの水に溶解した（温水浴もまた用いた）。形成された青色の溶液を室温に冷却した。ＶＯＳＯ４溶液を、（ＮＨ４）６Ｍｏ６ＴｅＯ２４溶液に注いだ。ビーカーを、水（２×０．５ｍＬ）ですすぎ、すすぎ溶液をフラスコに加えた。形成された褐色の溶液を窒素でバブリングして、１０分間撹拌した。Ｈ３［ＮｂＯ（Ｃ２Ｏ４）３］（０．３４３１ｍｍｏｌ／溶液１ｇ、１３．２９ｇ、４．５６ｍｍｏｌのＮｂ）の水溶液を、上記の褐色の溶液にピペットでゆっくり添加した（約２．５分間で）。くすんだレッドストーン色のスラリーが形成され、これに対して、Ｎ２によるバブリングを行いながら約１０分間攪拌した。
【００４６】
非播種ＴＥＦＬＯＮライナー付反応器における水熱処理
スラリーを非播種のテフロン（登録商標）ライナーを有する６０ｍＬのオートクレーブに移し、これを脱気し、Ｎ２を再充填した（周囲圧力）。内容物をマグネチックスターラで攪拌しながら（３００ｒｐｍ）、オートクレーブを加熱スリーブで加熱した。混合物を内部温度１７５℃で４８時間加熱した。オートクレーブを室温に冷却し、内容物をろ過し、５００ｍＬの水で洗浄した。その固形物を９０℃で一晩乾燥させ、粉砕し、２５０ミクロンのふるいでふるった。紫色の固体を６００℃でか焼した（窒素流のＯ２レベル：０．４ｐｐｍ）。この触媒は、か焼後、褐色に見えた。
触媒を上記のように試験した。
ＯＤＨ反応を、フィードガスの自然発火温度を避けるために４２０℃までの温度で実施した。転化率は低かったので、温度の関数としての転化率のグラフから、２５％転化率が生じる温度の概算を得るために直線的に外挿する必要があった。２５％転化率が生じる推定温度は６３５℃であった。これは、エタン８２％及び酸素１８％を含むフィードガスの自然発火温度を大きく上回るので、商業的には実行できないと考えられる。
【００４７】
播種されたテフロンライナー付反応器
第２の実験室では、プロ触媒を以下の一般的な手順を使用して調製した。
触媒の調製手順は以下の通りであった。
上記のように調製されたスラリーを、ＴＥＦＬＯＮライナーを備えた３００ｍＬのオートクレーブに注いだ。反応器は専用であり、水熱処理の間に洗浄しないので、前の使用の際に作られた触媒の結晶が残っていた。オートクレーブを閉じた。上部空間の酸素をＮ２（２０ｐｓｉ）でパージした。パージ後、バルブを閉じ、オートクレーブを２３℃のオーブンに入れた。温度を１７５℃に上げ、この温度で、攪拌することなく、５０時間保持した。オートクレーブをオーブンから取り出し、室温に冷却した。オートクレーブの圧力を、水バブラーを介して解放した。オートクレーブを開けた。固体をろ過し、５００ｍＬの水ですすぎ、８０℃で一晩乾燥させた。褐色の固体（６．１９ｇ）を石英ボートに装填し、精製窒素のゆっくりとした流れ（３０ｍＬ／分）下でか焼した（室温から６００℃、４時間、６００℃で２時間保持）。得られた固体は黒色の粉末であり、これを粉砕し、２５０ミクロンのふるいでふるった（５．９４ｇ）。得られた個体は、緩かった（ｌｏｏｓｅ）（ふわふわしていた）。
【００４８】
触媒を、ＯＤＨ反応器中で上記の条件を使用して試験した。
この実験から、エチレンへの２５％転化率が生じる温度は、３７０℃から３８３℃の範囲であり、これらの温度での選択率は９０％超であった。このことは、触媒の性質が不均一であること、結晶相が複雑であること、及び一様にフィードの自然発火温度未満であることを考慮すると、かなりタイトである。
核形成部位の性質は明らかではなかった。この部位に、４００℃未満で２５％の転化率及びこの温度で９５％超のエチレンへの選択率を有する触媒が含まれる場合、得られる触媒としては、より高い確率でこれらの特性を有する触媒が得られると考えられる。
【００４９】
播種されたＴＥＦＬＯＮライナー付き水熱反応器にて上記のように調製された多数の触媒サンプルを、以下の例に記載されたようにＸＲＤ分析に供して、触媒の結晶相を測定した。結果を以下の表に示す。
【表２】
2018525222.tif 000004
このことから、水熱反応器の反応器壁（ＴＥＦＬＯＮライナー又は鋼）が触媒を用いて播種されていても、最終的な触媒にはかなりのばらつきがある場合があることがわかる。
播種を施された反応器から得られたか焼された触媒のサンプルは、ＰＩＸＥによる測定で以下の実験式を有する：
Ｍｏ１Ｖ０．３４−０．３９Ｔｅ０．０９−０．１４Ｎｂ０．１４−０．１６Ｏｄ
式中、ｄは酸化物の価数を満たす数である。サンプルは、温度３７２℃から３８３℃で２５％の転化率、及びこれらの温度で９３から９６％のエチレンへの選択率を有した。
【００５０】
第２の実験室で
一連の触媒を、清浄なガラス製反応器で調製し、ＴＥＦＬＯＮライナーなし且つ触媒播種なしのステンレス鋼製反応器での水熱処理に供した。
総体的な反応工程：
（ＮＨ４）６Ｍｏ６ＴｅＯ２４・ｘＨ２Ｏ（１９．２０８６ｇ、１５．１５ｍｍｏｌ、１．００モル当量）を、温水浴を用いて５００ｍＬの丸底フラスコ内で６０ｍＬの蒸留水に溶解した。得られた透明且つ無色の溶液を、室温に冷却させた。ＶＯＳＯ４ｘ３．４７Ｈ２Ｏ（１０．２１８５ｇ、６２．５９ｍｍｏｌ、４．１３モル当量）を、温水浴を用いて３０ｍＬのビーカー内で２５ｍＬの蒸留水に溶解した。最終的に形成された透明な青色溶液を室温に冷却した。
ＶＯＳＯ４溶液を（ＮＨ４）６Ｍｏ６ＴｅＯ２４溶液に注ぐと、褐色の溶液が直ちに得られた。ＶＯＳＯ４溶液が入ったビーカーを、２つの１ｍＬアリコートの水ですすぎ、これらのすすぎ液（ｒｉｎｓｉｎｇｓ）をそのフラスコに加えた。得られた褐色の溶液を、窒素のバブリングと共に１５分間、撹拌した。Ｈ３［ＮｂＯ（Ｃ２Ｏ４）３］水溶液（０．３４２０ｍｍｏｌ（Ｎｂ）／ｇ（溶液）、３９．９７３７ｇ（溶液）、１３．６８ｍｍｏｌ（Ｎｂ）、０．９０３モル当量）を、Ｎ２バブリング下でゆっくりと（７分間かけて滴下して）褐色の溶液にピペットを介して添加した。くすんだ紫色のスラリーが形成され、これをＮ２のバブリングと共に１０分間撹拌した。
【００５１】
総体的な水熱処理工程
スラリーを、ＴＥＦＬＯＮ攪拌棒を備えた６００ｍＬのライナーの付かない鋼製オートクレーブに注いだ。オートクレーブを閉じ、１０回、オートクレーブ内側の雰囲気を排気（真空に）し、Ｎ２（バルク窒素ラインから３０ｐｓｉ）で満たした後、Ｎ２（バルク窒素ラインから３０ｐｓｉ）でパージし、Ｎ２圧力を水のバブラーに解放（正圧の解放）することを追加的に１０回繰返した。オートクレーブを周囲圧力のＮ２雰囲気下に放置し、オートクレーブ上部のニードルバルブを使用して容器を密封した。
オートクレーブを加熱ブランケット装置に入れ、オートクレーブの内側と外側の熱電対を介して熱コントローラによって熱を制御した。加熱ブランケット及びオートクレーブを断熱セラミック繊維テープに包んで、確実に適切な断熱を行った。温度を１７３℃に１時間かけて上げ、この温度で４８時間攪拌しながら反応を進行させた。
次に、オートクレーブを攪拌することなくゆっくりと室温に冷却した。冷却後、オートクレーブ内側の反応過程の間に蓄積した過剰の圧力を、水のバブラーを介して解放し、オートクレーブを開けた。固体（濃い紫色）をろ過し、約３００ｍＬの蒸留水ですすぎ（濾液は鮮青色）、９０℃のオーブンで一晩乾燥させた。
【００５２】
総体的なか焼工程
乾燥された触媒の固体を、乳鉢／乳棒を使用して粉砕し、２５０ミクロンの気孔率のふるいでふるった。０．２５ミクロン未満の粒子サイズの濃紫色の固体を石英ボートに装填し、ボートをか焼に使用するガラス炉管に入れた。か焼の間、空気を確実に排除するために、その装置を窒素下でパージした。か焼は、ゆっくりとした精製した窒素流（３０ｍＬ／分）（水のバブラーを介するベント）下で、以下の条件（即ち、４時間かけて室温から６００℃にし、６００℃で２時間保持した。）で進行した。得られた固体は、黒色の粉末であり、これを粉砕し、２５０ミクロンのふるいでふるい、緩く且つふわふわした粉末を得た。
触媒を上記のように試験した。２５％転化率（測定又は直線的な外挿のいずれか）の温度は、３８０から５０４℃の範囲であった。これは、調製物間で明らかな差異がなかったので、２５％転化率の温度は広範な広がりを示した。５つのサンプルのうち２つは、大規模な商業的なＯＤＨ反応器についての「合理的な」上限温度であると考えられる４００℃未満の２５％転化率の温度を有した。
【００５３】
これらの例は、所望の特性（４００℃未満の２５％転化率の温度及びこの温度で９０％超のエチレンへの選択率）を有する触媒シードを使うことなく、４００℃未満で２５％転化率を有する触媒を製造する際のばらつきを更に示している。
文献では、性能を改善するために過酸化水素を用いてか焼後にＯＤＨ触媒を処理することが知られている（Ｃａｔａｌｙｓｉｓ  Ｃｏｍｍｕｎｉｃａｔｉｏｎｓ  ２００５，６，２１５−２２０；Ｃａｔａｌｙｓｉｓ  Ｃｏｍｍｕｎｉｃａｔｉｏｎｓ  ２０１２，２１，２２−２６；Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｃａｔａｌｙｓｉｓ  ２０１２，２８５，４８−６０参照）。
【００５４】
第２の実験室では、上記触媒のように調製された触媒のサンプルを、６００℃で２から４時間か焼した。次に、か焼されたサンプルを、触媒１ｇ当たりＨ２Ｏ２の３０％ｗ／ｗの水溶液約１２から１６ｍＬで処理した。反応は、反応の兆候がない（例えば、熱又は泡立ちがない）又は反応を開始するインキュベーション時間が非常に予測できない（例えば、２０分から３時間）、そして反応が開始した場合、反応が非常に速く（秒単位で）、激しい（爆発の可能性）という点で一定していなかった。
触媒をか焼した後にＨ２Ｏ２を添加することは、上記の複雑さ及び安全性に関連する事項に起因して、触媒を調製するための商業的に実行可能なルートとはならない。
【００５５】
本発明
第１の実験室
第１の実験室では、播種されたＴＥＦＬＯＮライナーを用いて調製されたベースライン触媒前駆体の部分を、か焼前に前駆体１ｇ当りＨ２Ｏ２の３０％ｗ／ｗ水溶液５．６ｍｌまでで処理した。前駆体を処理することで、即座に、制御され且つ観察可能な反応が起こった（泡立ち及び約６０℃を超えない穏やかな熱）。次に、処理された前駆体を通常の方法でか焼した。
次に、触媒をＯＤＨ反応器で試験した。
処理によって、過酸化物量３．５ｃｃまでで選択率がわずかに変化し（９９％と９８％との間）、過剰のＨ２Ｏ２をより多く使用した場合（５．６ｃｃ）のみ、測定可能な選択率の損失を生じる。
図２は、第１の実験室で調製された２４０℃未満の２５％転化率の温度及び９５％超のエチレンへの選択率を有する触媒１．４１ｇ当りの３０％Ｈ２Ｏ２の体積に対する、エタンからエチレンへの２５％転化率の温度のプロットである。
【００５６】
図３は、第１の実験室で調製された２４０℃未満の２５％転化率の温度及び９５％超のチレンへの選択率を有する触媒１．４１ｇ当りの３０％Ｈ２Ｏ２の体積に対する、エチレンへの２５％転化率の温度におけるエチレン転化の選択率のプロットである。
これらのプロットは、２４０℃未満の２５％転化率の温度と９５％超のエチレンへの選択率を有する触媒１．４ｇ当りの３０％Ｈ２Ｏ２の体積を示し、そこで、当該触媒は、触媒１．４ｇ当りの３０％Ｈ２Ｏ２約５．６ｍＬ（即ち、触媒１ｇ当りＨ２Ｏ２の３０％溶液０．３０〜２．８ｍＬ）まで比較的変化しないことが分かる。
【００５７】
第２の実験室で
上記のように調製され、そしてＴＥＦＬＯＮライナーなし且つ播種なしのステンレス製反応器で処理されたベースライン触媒前駆体の部分を、か焼前の前駆体１ｇ当りＨ２Ｏ２の３０％ｗ／ｗ水溶液０．３５から１．４２ｍＬまでで処理した。前駆体を処理することで、即座に、制御され且つ観察可能な反応が起こった（泡立ち及び約６０℃を超えない穏やかな熱）。
ベースライン触媒及び本発明に従って処理された第２の実験室からの触媒の一連のＰＩＸＥ特性が得られた。
典型的なベースライン未処理触媒は、以下に示すＰＩＸＥ特性を有していた：
（Ｍｏ１．００Ｖ０．３７−０．３９Ｔｅ０．０３−０．０８Ｎｂ０．１４−０．１５Ｆｅ０．００３−０．００６）Ｏ７．８９−９．０７
ライナーなしの水熱反応器中で処理されたベースライン触媒では、少量の鉄及びクロムが検出された。鉄は、Ｍｏ１モル当たり最小値０．００２６から最大値０．０４１６モルの範囲であった。クロムは、Ｍｏ１モル当たり０．０００から０．００６５モルの範囲である。
【００５８】
か焼の前に本発明に従って処理された触媒の場合、ＰＩＸＩＥ分析は（Ｍｏ１．００Ｖ０．２８−０．２９Ｔｅ０．１３Ｎｂ０．１５−０．１６Ｆｅ０．００８）Ｏ８．１７であった。
上記の基本構造の触媒中の鉄及びクロムの各量は、触媒の酸化的脱水素化特性に寄与しないと考えられる。
【００５９】
第２の実験室で調製された、４２０℃未満の２５％転化率の温度及び９５％超のエチレンへの選択率を有する触媒の過酸化水素処理。
サンプル１Ａ
触媒前駆体を、上記のように調製し、ＴＥＦＬＯＮライナーを付けず且つ２４０℃未満の２５％転化率の温度及び９５％超のエチレンへの選択率を有する触媒が播種されていないステンレス鋼水熱反応器中で、過酸化水素を用いて処理した。
粗紫色触媒前駆体５．４６７２ｇを、過酸化水素処理に使用した。触媒前駆体を、攪拌棒を備えた４００ｍＬのビーカーに添加し、蒸留水２０ｍＬを添加して黒ずんだスラリーを得た。スラリーを攪拌により混合し、Ｈ２Ｏ２４ｍＬ（Ｈ２Ｏに３０％ｗ／ｗ；１．４１ｇＯＤＨ：１ｍＬＨ２Ｏ２の比）を全て一気に添加すると、激しい泡立ち及び熱を生じた。反応物は自己発熱し、泡立ち、暗紫色のスラリーから黒色のスラリーに変化した。反応物を攪拌し、終了まで５分間反応させた。固体をろ過し、水約１００ｍＬですすぎ、９０℃のオーブンで一晩乾燥させて、か焼工程用の灰色の前駆体４．４２９６ｇを生成した。サンプルを上記のようにか焼した。
【００６０】
サンプル１Ｃ
粗紫色触媒前駆体５．５６７９ｇを、終了まで２時間反応させた以外は、例１Ａと同じ方法で処理した。わずかな泡立ちが、２時間の反応時間後でも、反応によって生じていることが観察された。固体をろ過し（濾液の色は黄色であった。）、水約１００ｍＬですすぎ、９０℃のオーブン中で一晩乾燥させて、か焼工程用の鮮紫色の前駆体４．６２３１ｇを得た。得られたサンプルを上記のようにか焼した。
【００６１】
サンプル１Ｂ
上記のようにガラス製フラスコにて調製された前駆体のサンプルは、処理せず、上記のようにか焼した。
次に、サンプルをエチレンの酸化的脱水素化にて使用した。
酸化的脱水素化試験の結果を以下の表に示す。
【表３】
2018525222.tif 000005
４２０℃未満の２５％転化率の温度及び９５％超のエチレンへの選択率を有する触媒の前駆体を、触媒前駆体１．４ｇ当り３０％Ｈ２Ｏ２１ｍＬで処理した場合、その触媒は悪影響を受けない。
【００６２】
次に、サンプルを，Ｒｉｇａｋｕ  Ｕｌｔｉｍａ  Ｘ−Ｒａｙ  Ｄｉｆｆｒａｃｔｏｍｅｔｅｒ；２８５ｍｍ半径シータ／シータゴニオメーター；Ｄ／ｔｅＸ−ＵＬＴＲＡ  Ｈｉｇｈ  Ｓｐｅｅｄ  Ｄｅｔｅｃｔｏｒ；及びＡＳＣ−４８Ａｕｔｏｍａｔｉｃ  Ｓａｍｐｌｅチェンジャーを使用してＸＲＤ分析に供した。使用されたソフトウェアは、Ｄａｔａ  Ａｃｑｕｉｓｉｔｉｏｎ  Ｒｉｇａｋｕ“Ｓｔａｎｄａｒｄ  Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ”アプリケーション；分析ソフトウェアＭＤＩ  Ｊａｄｅ２０１０バージョン２．６．６  ２０１４であり、比較データベースは、ＩＣＤＤ  ＰＤＦ−４＋２０１４（３５４，２６４の無機データパターンを有する）であった。
【表４】
2018525222.tif 000006
この表から、（ＴｅＯ）０．３９（Ｍｏ３．５２Ｖ１．０６２Ｎｂ）０．４２）Ｏ１４相の含量が増加し、（ＴｅＯ）０．７１（Ｍｏ０．７３Ｖ０．２Ｎｂ）０．０７）３Ｏ９層の含量を減少させることが望ましいことが示唆される。
４２０℃未満の２５％転化率の温度及び９５％超のエチレンへの選択率を有する触媒の更なるサンプルを試験した。
【００６３】
例２Ａ
粗紫色触媒前駆体７．０５５２ｇを、反応が終わるまで２０分間反応させたことを除いて、例１Ａと同じ方法で処理した。固体をろ過し、水約１００ｍＬですすぎ、９０℃のオーブンで一晩乾燥させて、か焼工程用の黒色前駆体５．８９０７ｇを得た。
例２Ｂ
ベースライン触媒は処理しなかった。
酸化的脱水素化試験の結果を以下の表に示す。
【表５】
2018525222.tif 000007
４２０℃未満の２５％転化率の温度及び９５％超のエチレンへの選択率を有する触媒の前駆体を、触媒前駆体１．４ｇ当り３０％Ｈ２Ｏ２１ｍＬで処理した場合、その触媒は悪影響を受けない。
【００６４】
次に、サンプルを上記のようにＸＲＤ分析に供した。
【表６】
2018525222.tif 000008
Ｈ２Ｏ２で処理すると、構造（ＴｅＯ）０．３９（Ｍｏ３．５２Ｖ１．０６２Ｎｂ）０．４２）Ｏ１４を有する相の相対的な割合が増加し、触媒の性能が向上する。
【００６５】
４２０℃未満の２５％転化率の温度及び９５％超のエチレンへの選択率を有しない触媒を、Ｈ２Ｏ２で処理する例。
ベースライン
３Ｂ
Ｈ２Ｏ２で処理することなくか焼された触媒前駆体のサンプルを、酸化的脱水素化反応器中で試験した。これは、２５％転化率に対する推定温度が５０４℃である上記触媒であった。
３Ａ
未処理サンプル用の粗紫色触媒前駆体５．９３５４ｇを、過酸化水素で処理した。触媒前駆体を、撹拌棒を備えた２５０ｍＬの丸底フラスコに添加し、蒸留水２０ｍＬを添加して、黒ずんだスラリーを得た。スラリーを撹拌して混合し、Ｈ２Ｏ２８．５ｍＬ（Ｈ２Ｏに３０％ｗ／ｗ；０．７０５ｇＯＤＨ：１ｍＬＨ２Ｏ２の比）を全て一気に添加し、激しい泡立ち及び熱を生じた。反応物は自己発熱し、泡立ち、暗紫色のスラリーから黒色のスラリーに変化した。終了まで２時間、反応物を攪拌した。暗紫色の固体をろ過し、水約１００ｍＬですすぎ、９０℃のオーブンで一晩乾燥させて、か焼工程用の灰色の固体３．７４９４ｇを得た。
【００６６】
３Ｃ
Ｈ２Ｏ２１．７５ｍＬ（Ｈ２Ｏに３０％ｗ／ｗ；２．８２ｇＯＤＨ：１ｍＬＨ２Ｏ２の比）を全て一気に添加したことを除いて、粗紫色触媒前駆体４．９７５５ｇを上記３Ａのように処理した。泡立ち及び熱がより少なかった。反応物のスラリーは暗紫色のままであった。終了まで２時間、反応物を攪拌した。暗紫色の固体をろ過し、水約１００ｍＬですすぎ、９０℃のオーブンで一晩乾燥させて、か焼工程用の灰色の固体３．８３２６ｇを得た。
次に、サンプルを、酸化的脱水素化反応器中で試験した。結果を以下の表に示す。
【表７】
2018525222.tif 000009
４２０℃超の２５％転化率の温度及び９５％未満のエチレンへの選択率を有する触媒の前駆体を、触媒前駆体０．７〜２．８ｇ当り３０％Ｈ２Ｏ２１ｍＬで処理した場合、触媒は有意に改善される。
【００６７】
次に、サンプルを上記のようにＸＲＤ分析に供した。
【表８】
2018525222.tif 000010
データから、相（ＴｅＯ）０．３９（Ｍｏ３．５２Ｖ１．０６２Ｎｂ）０．４２）Ｏ１４の含量が増加すると、触媒の活性及び選択率が有意に増加することが示唆される。
【００６８】
例４
Ｈ２Ｏ２による母液の処理・ろ過なし
前駆体のサンプルを、上記のように調製した。一部をベースライン基準として使用した（Ｈ２Ｏ２での処理なし）。次に、水熱処理からの粗紫色触媒前駆体４．９６ｇ及び水性母液（約５００ｍＬ）を、攪拌棒を備えた２５０ｍＬの丸底フラスコに添加して、黒ずんだスラリーを得た。その黒ずんだスラリーを、窒素雰囲気下に保持した。スラリーを攪拌して混合し、Ｈ２Ｏ２３．６ｍＬ（Ｈ２Ｏに３０％ｗ／ｗ；１．３９ｇＯＤＨ：１ｍＬＨ２Ｏ２の比）を全て一度に添加したが、激しい泡立ち及び熱は見られなかった。反応物は暗紫色のスラリーから黒色のスラリーに変化した。終了まで３時間、反応物を撹拌した。暗紫色の固体をろ過し、水約２００ｍＬですすぎ、９０℃のオーブンで一晩乾燥させて、か焼工程用の灰色の固体３．３７２０ｇを得た。
【００６９】
酸化的脱水素化反応器における活性について触媒を試験した。結果を以下の表に示す。
【表９】
2018525222.tif 000011
前駆体を、反応器からの分離前、乾燥前の前駆体１．４ｇ当り１ｍＬＨ２Ｏ２（３０重量％）を用いて処理した場合、か焼された脱水素化触媒の活性が改善される。
【００７０】
例５
サンプル１００ｇ
複数の触媒サンプル（約４０，４０及び２０ｇ）を、５Ｌの丸底フラスコに入れ、蒸留水４００ｍＬを添加して、紫色のスラリーを得た。１００ｍＬの滴下漏斗を、フラスコに取り付け、Ｈ２Ｏ２３９ｍＬ（３０％ｗｔ／ｗｔ；約２．８２ｇＯＤＨ／１ｍＬＨ２Ｏ２）を、攪拌されているスラリーに１６分間かけてゆっくりと滴下して添加した。スラリーは、暗紫色から黒色に変化した。固体をろ過し、脱イオン水ですすぎ、９０℃のオーブンで一晩乾燥させた。次に、固体を、乳鉢と乳棒で粉砕し、２５０ミクロンの気孔率のふるいでふるい、か焼用の緩くてふわふわした粉末１０１．７ｇを回収した。
全ての粉末を、上部の空間をガスが流れることができるボートとして機能する石英管に装填した。石英管ボートを、より大きな石英管の内側に置き、か焼用ユニットに入れた。か焼ユニットは、か焼のために十分に嫌気的な環境を確保するために、バルクの精製窒素下で完全にパージされた。精製窒素は、サンプル上を１分当り１５０標準立方センチメートルで流れた。サンプルを、室温から６００℃に４時間で加熱し、６００℃で４時間保持し、室温に４時間で冷却した。
【００７１】
得られた触媒１００ｇのうち約２ｇの少量のサンプルを、上記のように酸化的脱水素化反応器でふるい分けした。それは、３７６．５℃で２５％転化率及びこの転化率で９７％のエチレンへの選択率を示した。
【００７２】
産業上の利用可能性
本発明は、改善された活性を有するアルケン製造のための酸化的脱水素化触媒を提供する。
【図１】
2018525222.tif 000012
【図２】
2018525222.tif 000013
【図３】
2018525222.tif 000014
【国際調査報告】
2018525222.tif 000015
2018525222.tif 000016
2018525222.tif 000017
2018525222.tif 000018