(57)【要約】金属−酸化物−金属（ＭＯＭ）タイプキャパシタは、第１の電圧を受けるように構成された第１の端子と、ここで、第１の端子は、第１の誘電体層上に形成されている、第１の誘電体層上に形成されたフィンガの第１のセットと、フィンガの第１のセットは、第２の誘電体層上に形成された導電性トレースを介して第１の端子に結合されている、第２の電圧を受けるように構成された第２の端子と、ここで、第２の端子は、第１の誘電体層上に形成されている、第１の誘電体層上に形成されたフィンガの第２のセットと、ここで、フィンガの第２のセットは、第２の端子に結合されており、ここにおいて、第２のセットのフィンガには、第１のセットのフィンガが点在している、を含む。【選択図】図２
2018534767.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
装置であって、
キャパシタを備え、前記キャパシタは、
第１の誘電体層上に配設された第１の端子と、ここにおいて、前記第１の端子は、第１の電圧電位のソースに電気接続される、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第１のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第１のセットは、第２の誘電体層上に配設された導電性トレースを介して前記第１の端子に電気結合される、
前記第１の誘電体層上に配設された第２の端子と、ここにおいて、前記第２のキャパシタ端子は、第２の電圧電位のソースに電気接続される、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第２のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第２のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第２のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第１のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在する、
を備える装置。
【請求項２】
フィンガの前記第１のセット及び前記第２のセットは、フィンガの前記第１のセットに沿った電流フローが、前記第１の電圧電位と前記第２の電圧電位との差分の変化に応答して、フィンガの前記第２のセットに沿った電流フローとは反対方向となるように構成される、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記キャパシタは、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第３のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第３のセットは、前記第１の端子に電気結合される、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第４のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第４のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第４のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第３のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在し、フィンガの前記第３のセット中の電流は、前記第１の電圧電位と前記第２の電圧電位との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第４のセット中の電流と同じ方向に流れる、
を更に備える、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記キャパシタは、
前記第２の誘電体層上に配設されたフィンガの第３のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第３のセットは、前記第１の端子に電気結合される、
前記第２の誘電体層上に配設されたフィンガの第４のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第４のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第４のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第３のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在し、フィンガの前記第３のセット中の電流は、前記第１の電圧電位と前記第２の電圧電位との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第４のセット中の電流と同じ方向に流れる、
を更に備える、請求項２に記載の装置。
【請求項５】
前記キャパシタは、
前記第２の誘電体層上に配設されたフィンガの第３のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第３のセットは、前記第１の端子に電気結合される、
前記第２の誘電体層上に配設されたフィンガの第４のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第４のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第４のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第３のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在し、フィンガの前記第３のセット中の電流は、前記第１の電圧電位と前記第２の電圧電位との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第４のセット中の電流のフローとは逆の方向に流れる、
を更に備える、請求項２に記載の装置。
【請求項６】
フィンガの前記第１のセット及び前記第２のセットは、フィンガの前記第１のセットに沿った電流フローが、前記第１の電圧電位と前記第２の電圧電位との差分の変化に応答して、フィンガの前記第２のセット中の電流フローと同じ方向になるように構成される、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記第２の誘電体層上に配設された前記導電性トレースに沿った電流フローは、前記第１の電圧電位と前記第２の電圧電位との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第１のセット及び前記第２のセットに沿った電流フローとは反対方向である、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記キャパシタは、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第３のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第３のセットは、前記第１の端子に電気結合される、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第４のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第４のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第４のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第３のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在する、
を更に備え、
フィンガの前記第３のセット中の電流は、前記第１の電圧電位と前記第２の電圧電位との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第４のセット中の電流と同じ方向に流れ、
フィンガの前記第１のセット及び前記第２のセット中の電流の前記フローは、フィンガの前記第３のセット及び前記第４のセット中の前記電流フローとは反対方向である、
請求項６に記載の装置。
【請求項９】
前記キャパシタは、
第３の誘電体層上に配設されたフィンガの第３のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第３のセットは、前記第１の端子に電気結合される、
前記第３の誘電体層上に配設されたフィンガの第４のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第４のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第４のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第３のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在する、
を更に備え、
フィンガの前記第３のセット中の電流は、前記第１の電圧電位と前記第２の電圧電位との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第４のセット中の電流と同じ方向に流れ、
フィンガの前記第１のセット及び前記第２のセット中の電流の前記フローは、フィンガの前記第３のセット及び前記第４のセット中の前記電流フローと同じ方向又は反対方向である、
請求項６に記載の装置。
【請求項１０】
前記キャパシタの真上又は真下にある第３の誘電体層上に配設されたインダクタを更に備える、請求項１に記載の装置。
【請求項１１】
方法であって
キャパシタの第１の端子に第１の電圧を印加することと、ここにおいて、前記第１の端子は、第１の誘電体層上に配設される、
前記キャパシタの第２の端子に第２の電圧を印加することと、ここにおいて、前記第２の端子は、前記第１の誘電体層上に配設される、
を備え、前記キャパシタは、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第１のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第１のセットは、第２の誘電体層上に配設された導電性トレースを介して前記第１の端子に電気結合される、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第２のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第２のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第２のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第１のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在する、
を備える、方法。
【請求項１２】
前記第１の電圧と前記第２の電圧との差分を変化させることと、
前記第１の電圧と前記第２の電圧との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第２のセット中の電流フローとは反対方向に、フィンガの前記第１のセットに沿った電流フローを発生させることと
を更に備える、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記キャパシタは、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第３のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第３のセットは、前記第１の端子に電気結合される、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第４のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第４のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第４のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第３のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在する、
を更に備え、前記方法は、
前記第１の電圧と前記第２の電圧との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第４のセット中の電流フローと同じ方向に、フィンガの前記第３のセット中の電流フローを発生させること
を更に備える、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記キャパシタは、
前記第２の誘電体層上に配設されたフィンガの第３のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第３のセットは、前記第１の端子に電気結合される、
前記第２の誘電体層上に配設されたフィンガの第４のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第４のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第４のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第３のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在する、
を更に備え、前記方法は、
前記第１の電圧と前記第２の電圧との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第４のセット中の電流フローと同じ方向に、フィンガの前記第３のセット中の電流フローを発生させること
を更に備える、請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
前記キャパシタは、
前記第２の誘電体層上に配設されたフィンガの第３のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第３のセットは、前記第１の端子に電気結合される、
前記第２の誘電体層上に配設されたフィンガの第４のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第４のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第４のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第３のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在する、
を備え、前記方法は、
前記第１の電圧と前記第２の電圧との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第４のセット中の電流フローとは逆の方向に、フィンガの前記第３のセット中の電流フローを発生させること
を更に備える、請求項１２に記載の方法。
【請求項１６】
前記第１の電圧と前記第２の電圧との差分を変化させることと、
前記第１の電圧と前記第２の電圧との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第２のセット中の電流フローと同じ方向に、フィンガの前記第１のセットに沿った電流フローを発生させることと
を更に備える、請求項１１に記載の方法。
【請求項１７】
前記第１の電圧と前記第２の電圧との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第１のセット及び前記第２のセットに沿った電流フローとは反対方向に、前記第２の誘電体層上に配設された前記導電性トレースに沿った電流フローを発生させることを更に備える、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記キャパシタは、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第３のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第３のセットは、前記第１の端子に電気結合される、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第４のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第４のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第４のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第３のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在する、
を更に備え、前記方法は、
前記第１の電圧電位と前記第２の電圧電位との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第４のセット中の電流フローと同じ方向に、フィンガの前記第３のセット中の電流フローを発生させること、ここにおいて、フィンガの前記第１のセット及び前記第２のセット中の電流の前記フローは、フィンガの前記第３のセット及び前記第４のセット中の前記電流フローとは反対方向である、
を更に備える、請求項１６に記載の方法。
【請求項１９】
前記キャパシタは、
第３の誘電体層上に配設されたフィンガの第３のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第３のセットは、前記第１の端子に電気結合される、
前記第３の誘電体層上に配設されたフィンガの第４のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第４のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第４のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第３のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在する、
を更に備え、前記方法は、
前記第１の電圧電位と前記第２の電圧電位との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第４のセット中の電流フローと同じ方向に、フィンガの前記第３のセット中の電流フローを発生させること、ここにおいて、フィンガの前記第１のセット及び前記第２のセット中の電流の前記フローは、フィンガの前記第３のセット及び前記第４のセット中の前記電流フローと同じ方向又は反対方向である、
を更に備える、請求項１６に記載の方法。
【請求項２０】
前記キャパシタの真上又は真下にある第３の誘電体層上に配設されたインダクタにわたって前記第１の電圧及び前記第２の電圧又は電圧の異なるセットを印加することを更に備える、請求項１１に記載の方法。
【請求項２１】
装置であって、
キャパシタの第１の端子に第１の電圧を印加するための手段と、ここにおいて、前記第１の端子は、第１の誘電体層上に配設される、
前記キャパシタの第２の端子に第２の電圧を印加するための手段と、ここにおいて、前記第２の端子は、前記第１の誘電体層上に配設される、
を備え、前記キャパシタは、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第１のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第１のセットは、第２の誘電体層上に配設された導電性トレースを介して前記第１の端子に電気結合される、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第２のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第２のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第２のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第１のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在する、
を備える、装置。
【請求項２２】
前記第１の電圧と前記第２の電圧との差分を変化させるための手段と、
前記第１の電圧と前記第２の電圧との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第２のセット中の電流フローとは反対方向に、フィンガの前記第１のセットに沿った電流フローを発生させるための手段と
を更に備える、請求項２１に記載の装置。
【請求項２３】
前記キャパシタは、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第３のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第３のセットは、前記第１の端子に電気結合される、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第４のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第４のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第４のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第３のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在する、
を更に備え、前記装置は、
前記第１の電圧と前記第２の電圧との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第４のセット中の電流フローと同じ方向に、フィンガの前記第３のセット中の電流フローを発生させるための手段
を更に備える、請求項２２に記載の装置。
【請求項２４】
前記キャパシタは、
前記第２の誘電体層上に配設されたフィンガの第３のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第３のセットは、前記第１の端子に電気結合される、
前記第２の誘電体層上に配設されたフィンガの第４のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第４のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第４のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第３のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在する、
を更に備え、前記装置は、
前記第１の電圧と前記第２の電圧との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第４のセット中の電流フローと同じ方向に、フィンガの前記第３のセット中の電流フローを発生させるための手段
を更に備える、請求項２２に記載の装置。
【請求項２５】
前記キャパシタは、
前記第２の誘電体層上に配設されたフィンガの第３のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第３のセットは、前記第１の端子に電気結合される、
前記第２の誘電体層上に配設されたフィンガの第４のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第４のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第４のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第３のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在する、
を更に備え、前記装置は、
前記第１の電圧と前記第２の電圧との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第４のセットの電流フローとは逆の方向に、フィンガの前記第３のセット中の電流フローを発生させるための手段
を更に備える、請求項２２に記載の装置。
【請求項２６】
前記第１の電圧と前記第２の電圧との差分を変化させるための手段と、
前記第１の電圧と前記第２の電圧との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第２のセット中の電流フローと同じ方向に、フィンガの前記第１のセットに沿った電流フローを発生させるための手段と
を更に備える、請求項２１に記載の装置。
【請求項２７】
前記第１の電圧と前記第２の電圧との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第１のセット及び前記第２のセットに沿った電流フローとは反対方向に、前記第２の誘電体層上に配設された前記導電性トレースに沿った電流フローを発生させるための手段を更に備える、請求項２６に記載の装置。
【請求項２８】
前記キャパシタは、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第３のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第３のセットは、前記第１の端子に電気結合される、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第４のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第４のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第４のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第３のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在する、
を更に備え、前記装置は、
前記第１の電圧電位と前記第２の電圧電位との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第４のセット中の電流フローと同じ方向に、フィンガの前記第３のセット中の電流フローを発生させるための手段、ここにおいて、フィンガの前記第１のセット及び前記第２のセット中の電流の前記フローは、フィンガの前記第３のセット及び前記第４のセット中の前記電流フローとは反対方向である、
を更に備える、請求項２６に記載の装置。
【請求項２９】
前記キャパシタは、
第３の誘電体層上に配設されたフィンガの第３のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第３のセットは、前記第１の端子に電気結合される、
前記第３の誘電体層上に配設されたフィンガの第４のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第４のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第４のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第３のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在する、
を更に備え、前記装置は、
前記第１の電圧電位と前記第２の電圧電位との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第４のセット中の電流フローと同じ方向に、フィンガの前記第３のセット中の電流フローを発生させるための手段、ここにおいて、フィンガの前記第１のセット及び前記第２のセット中の電流の前記フローは、フィンガの前記第３のセット及び前記第４のセット中の前記電流フローと同じ方向又は反対方向である、
を更に備える、請求項２６に記載の装置。
【請求項３０】
前記キャパシタの真上又は真下にある第３の誘電体層上に配設されたインダクタにわたって前記第１の電圧及び前記第２の電圧又は電圧の異なるセットを印加するための手段を更に備える、請求項２１に記載の装置。
【発明の詳細な説明】
【関連出願への相互参照】
【０００１】
[0001]本願は、２０１５年９月２５日に米国特許商標庁に出願された非仮出願第１４／８６６，１１１号の優先権及びその利益を主張し、その内容全体は、参照によって本明細書に組み込まれる。
【技術分野】
【０００２】
[0002]本開示の態様は一般にキャパシタに関し、より具体的には、近隣回路への低減された磁気結合及び高い直列共振周波数（ＳＲＦ）を有する金属−酸化物−金属（ＭＯＭ）タイプキャパシタに関する。
【背景技術】
【０００３】
[0003]集積回路（ＩＣ）は、より高い密度の回路構成要素を有するように設計されている。１つのそのような構成要素は、金属−酸化物−金属（ＭＯＭ）キャパシタである。多くの場合、ＩＣにおいて、複数のＭＯＭキャパシタが様々な目的で用いられる。例えば、ＩＣは、電力供給レールと接地との間に結合された複数のＭＯＭキャパシタを用い得る。そのようなＭＯＭキャパシタの１つの目的は、電力供給レールに結合された回路がかなりの量の電流を引き込むときのそのレールの電圧（例えば、ＶＤＤ）の低下を低減することである。電荷を蓄積するＭＯＭキャパシタは、電力レールの電圧の低下を低減するために電力供給レールに電荷を供給する。
【０００４】
[0004]ＭＯＭキャパシタは典型的に、第１の電圧電位（例えば、電力供給レール）のソースに結合するための第１の端子と、第２の電圧電位（例えば、接地）のソースに結合するための第２の端子とから成る。第１及び第２の端子は典型的に、誘電体層上に配設される。ＭＯＭキャパシタは更に、同じく誘電体層上に配設された離間フィンガの第１のセット（例えば、メタライゼーションストリップ）から成る。フィンガの第１のセットは、第１の端子に電気結合され、第２の端子に向かって略並列に延在する。
【０００５】
[0005]ＭＯＭキャパシタは更に、同じく誘電体層上に配設された離間フィンガの第２のセット（例えば、メタライゼーションストリップ）から成る。フィンガの第２のセットは、第２の端子に電気結合され、第１の端子に向かって略並列に延在する。フィンガの第２のセットは、それらのうちの少なくともいくつかが、第１のセットの隣接フィンガ間に各々位置するようにそれぞれ構成される。第１のセットのフィンガと第２のセットのフィンガとの間の間隔は、それらの間に有意な（significant）容量結合を形成するのに十分な程度に狭い。
【０００６】
[0006]第１の端子に印加される第１の電圧（例えば、ＶＤＤ）と、第２の端子に印加される第２の電圧（例えば、接地）との差分に変化があるとき、電流フローが、フィンガの第１及び第２のセットに沿って発生する。フィンガの第１及び第２のセット中の電流フローは、同じ方向（例えば、第１の端子から第２の端子に向かう又は逆）である。そのため、フィンガ中の電流によって作り出される電磁場は、隣接フィンガ中の電流によって作り出される電磁場と建設的に結びつく。この結果、ＭＯＭキャパシタは、近隣回路に影響を与える可能性がある実質的な総合的電磁場を発生させる。そのため、追加的に、ＭＯＭキャパシタは、高い寄生インダクタンスを示し、これにより、ＭＯＭキャパシタは、固有の低い直列共振周波数（ＳＲＦ）を有する。
【発明の概要】
【０００７】
[0007]以下に、１つ又は複数の実施形態の基本的な理解を与えるために、そのような実施形態の簡略化された概要を提示する。この概要は予期される全ての実施形態の広範な概観ではなく、全ての実施形態の重要な又は不可欠な要素を識別するようにも、任意の又は全ての実施形態の範囲を線引きするようにも意図されない。その唯一の目的は、後に提示されるより詳細な説明への前置きとして、１つ又は複数の実施形態のいくつかの概念を簡略化された形式で提示することである。
【０００８】
[0008]本開示の態様は、第１の誘電体層上に配設された第１の端子と、ここにおいて、第１の端子は、第１の電圧電位のソースに電気接続される、第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第１のセットと、ここにおいて、フィンガの第１のセットは、第２の誘電体層上に配設された導電性トレースを介して第１の端子に電気結合される、第１の誘電体層上に配設された第２の端子と、ここにおいて、第２のキャパシタ端子は、第２の電圧電位のソースに電気接続される、第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第２のセットと、ここにおいて、フィンガの第２のセットは、第２の端子に電気結合され、第２のセットのフィンガのうちの少なくともいくつかは、第１のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在する、を備えるキャパシタを含む装置に関する。
【０００９】
[0009]本開示の別の態様は、キャパシタの第１の端子に第１の電圧を印加することと、ここにおいて、第１の端子は、第１の誘電体層上に配設される、キャパシタの第２の端子に第２の電圧を印加することと、ここにおいて、第２の端子は、第１の誘電体層上に配設される、を備え、キャパシタは、第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第１のセットと、ここにおいて、フィンガの第１のセットは、第２の誘電体層上に配設された導電性トレースを介して第１の端子に電気結合される、第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第２のセットと、ここにおいて、フィンガの第２のセットは、第２の端子に電気結合され、第２のセットのフィンガのうちの少なくともいくつかは、第１のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在する、を備える、方法に関する。
【００１０】
[0010]本開示の別の態様は、キャパシタの第１の端子に第１の電圧を印加するための手段と、ここにおいて、第１の端子は、第１の誘電体層上に配設される、キャパシタの第２の端子に第２の電圧を印加するための手段と、ここにおいて、第２の端子は、第１の誘電体層上に配設される、を備え、キャパシタは、第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第１のセットと、ここにおいて、フィンガの第１のセットは、第２の誘電体層上に配設された導電性トレースを介して第１の端子に電気結合される、第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第２のセットと、ここにおいて、フィンガの第２のセットは、第２の端子に電気結合され、第２のセットのフィンガのうちの少なくともいくつかは、第１のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在する、を備える、装置に関する。
【００１１】
[0011]前述した目的及び関連する目的を達成するために、１つ又は複数の実施形態は、以下に十分に説明される、及び、特許請求の範囲において具体的に示される特徴を備える。以下の説明及び添付の図面は、１つ又は複数の実施形態の特定の実例となる態様を詳細に示す。しかしならが、これらの態様は、様々な実施形態の原理が用いられ得る様々な方法のほんの一部しか示さず、説明の実施形態は、そのような態様及びそれらの同等物を全て含むよう意図される。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１Ａ】[0012]図１Ａは、本開示のある態様にかかる、例示的な金属−酸化物−金属（ＭＯＭ）タイプキャパシタの上面図を例示する。
【図１Ｂ】[0013]図１Ｂは、本開示の別の態様にかかる、上層インダクタを有する図１ＡのＭＯＭタイプキャパシタの垂直断面図を例示する。
【図２】[0014]図２は、本開示の別の態様にかかる、別の例示的な金属−酸化物−金属（ＭＯＭ）タイプキャパシタの上面図を例示する。
【図３Ａ】[0015]図３Ａは、本開示の別の態様にかかる、別の例示的な金属−酸化物−金属（ＭＯＭ）タイプキャパシタの上面図を例示する。
【図３Ｂ】図３Ｂは、本開示の別の態様にかかる、別の例示的な金属−酸化物−金属（ＭＯＭ）タイプキャパシタの垂直断面図を例示する。
【図４】[0016]図４は、本開示の別の態様にかかる、例示的な金属−酸化物−金属（ＭＯＭ）タイプキャパシタの別個の層の上面図を例示する。
【図５】[0017]図５は、本開示の別の態様にかかる、別の金属−酸化物−金属（ＭＯＭ）タイプキャパシタの別個の層の上面図を例示する。
【図６】[0018]図６は、本開示の別の態様にかかる、更に別の例示的な金属−酸化物−金属（ＭＯＭ）タイプキャパシタの別個の層の上面図を例示する。
【図７】[0019]図７は、本開示の別の態様にかかる、更に別の例示的な金属−酸化物−金属（ＭＯＭ）タイプキャパシタの別個の層の上面図を例示する。
【図８Ａ】[0020]図８Ａは、本開示の別の態様にかかる、例示的な金属−酸化物−金属（ＭＯＭ）タイプキャパシタを覆う例示的なインダクタの上面図を例示する。
【図８Ｂ】図８Ｂは、本開示の別の態様にかかる、例示的な金属−酸化物−金属（ＭＯＭ）タイプキャパシタを覆う例示的なインダクタの垂直断面図を例示する。
【図９】[0021]図９は、本開示の別の態様にかかる、減結合（de-coupling）金属−酸化物−金属（ＭＯＭ）タイプキャパシタを用いる例示的な集積回路（ＩＣ）の概略図を例示する。
【図１０】[0022]図１０は、本開示の別の態様にかかる、金属−酸化物−金属（ＭＯＭ）タイプキャパシタを動作する例示的な方法のフロー図を例示する。
【発明の詳細な説明】
【００１３】
[0023]添付の図面に関連して以下に示される詳細な説明は、様々な構成の説明として意図され、本明細書で説明される概念が実践され得る唯一の構成を表すよう意図されるものではない。詳細な説明は、様々な概念の完全な理解を与える目的で特定の詳細を含む。しかしながら、これらの概念がこれらの特定の詳細なしに実践され得ることは当業者には明らかであろう。いくつかの事例では、そのような概念をあいまいにしないために、周知の構造及び構成要素はブロック図の形式で示される。
【００１４】
[0024]図１Ａは、本開示のある態様にかかる、例示的な金属−酸化物−金属（ＭＯＭ）タイプキャパシタ１００の上面図を例示する。ＭＯＭキャパシタ１００は、第１の電圧電位（例えば、ＶＤＤ）のソースに電気接続のために構成され得る第１の端子１１０を備える。第１の端子１１０は、誘電体層（図１Ａには示されない）上に配設された導電体（例えば、パターン化されたメタライゼーション層）として構成され得る。ＭＯＭキャパシタ１００は、第１の端子１１０に電気結合され、それから略並列に延在する離間フィンガ（例えば、伸長導電性ストリップ）の第１のセット１１２を更に備える。フィンガの第１のセット１１２も同じく、誘電体層上に形成される。
【００１５】
[0025]同様に、ＭＯＭキャパシタ１００は、第２の電圧電位（例えば、接地）のソースに電気接続のために構成され得る第２の端子１２０を備える。第２の端子１２０はまた、誘電体層上に配設された導電体（例えば、パターン化されたメタライゼーション層）として構成され得る。ＭＯＭキャパシタ１００は、第２の端子１２０に電気結合され、それから略並列に延在する離間フィンガ（例えば、伸長導電性ストリップ）の第２のセット１２２を更に備える。フィンガの第２のセット１２２も同じく、誘電体層上に形成される。
【００１６】
[0026]第１のセット１１２のフィンガには、略並列に、かつ、間隔を空けて、第２のセット１２２のフィンガが点在している。換言すると、第１のセット１１２のフィンガのうちの少なくともいくつかは、第２のセット１２２の隣接フィンガ間に各々位置している。逆に、第２のセット１２２のフィンガのうちの少なくともいくつかは、第１のセット１１２の隣接フィンガ間に各々位置している。述べたように、第１のセット１１２のフィンガは、第２のセット１２２のフィンガと略並列に延在する。更に、第１のセット１１２のフィンガは、それらが電気接続されるのではなく容量結合されるように第２のセット１２２のフィンガから離間されている。
【００１７】
[0027]動作中、第１の電圧電位と第２の電圧電位との差分の変化は、第１及び第２のセットのフィンガに沿って水平方向の電流フローを生じさせる。例えば、例示するように、（実線の矢印で表される）電流は、第１のセット１１２及び第２のセット１２２のフィンガに沿って、第１の端子１１０から第２の端子１２０に向かって流れる。
【００１８】
[0028]第１のセット１１２及び第２のセット１２２のフィンガに沿って流れる電流の各々は、（対応するフィンガを囲む小さい破線の楕円で表される）個々の電磁（ＥＭ）場を生じさせる。１つのフィンガ中の電流に関連付けられた個々のＥＭ場は、隣接フィンガ中の電流に関連付けられた個々のＥＭ場と建設的に結びつく。これは、フィンガ中の電流が、同じ方向に（例えば、第１の端子１１０から第２の端子１２０に向かって）流れるためである。結果として、ＭＯＭキャパシタ１００は、（フィンガの第１及び第２のセットを囲む大きな破線の楕円で表される）実質的な総合的ＥＭ場を発生させる。例示するように、ＭＯＭキャパシタ１００で発生する総合的ＥＭ場は、近隣回路１５０及び１６０の動作に悪影響を与え得る。
【００１９】
[0029]図１Ｂは、本開示の別の態様にかかる、上層インダクタ１７０を有するＭＯＭキャパシタ１００の垂直断面図を例示する。例示するように、ＭＯＭキャパシタ１００は、複数の層上に実施され得る。例えば、第１の端子１１０、フィンガの第１のセット１１２、第２の端子１２０、フィンガの第２のセットが、それぞれ、電気絶縁（誘電体層（例えば、酸化被膜））ＯＸ１、ＯＸ２、ＯＸ３、及びＯＸ４上に配設された略同一の導電層Ｍ１、Ｍ２、Ｍ３、及びＭ４として実施され得る。メタライゼーション層Ｍ１、Ｍ２、Ｍ３、及びＭ４並びに酸化被膜ＯＸ１、ＯＸ２、ＯＸ３、及びＯＸ４は、基板１０２の上方に略垂直積層の形でＩＣ配設され得る。
【００２０】
[0030]導電性（例えば、メタライズド）ビアホールの第１のセット１１４は、層Ｍ１、Ｍ２、Ｍ３、及びＭ４上に実施された第１の端子部１１０を電気的に連結（couple together）させ得る。同様に、導電性（例えば、メタライズド）ビアホールの第２のセット１２４は、層Ｍ１、Ｍ２、Ｍ３、及びＭ４上に実施された第２の端子部１２０を電気的に連結させ得る。ＭＯＭキャパシタ１００の全ての層における第１のセット１１２及び第２のセット１２２のフィンガ中の電流はまた、同じ方向に流れる。故に、図１Ｂに描写される垂直配向の破線の楕円によって表される比較的大きい総合的ＥＭ場（ＣＡＰ ＥＭ場）を生じさせる。
【００２１】
[0031]同じく図１Ｂに例示されるが、インダクタ１７０は、ＭＯＭキャパシタ１００の上方に形成される。例えば、インダクタ１７０は、入力ポート及び出力ポートを有するスパイラル状にパターン化された導電（例えば、メタライゼーション）層Ｍ５を備えるスパイラルインダクタとして構成され得る。インダクタ１７０は、ＭＯＭキャパシタ１００の最上位メタライゼーション層Ｍ４の上方に配設された電気絶縁層（誘電体層（例えば、酸化被膜））ＯＸ５上に形成され得る。保護（電気絶縁）層ＯＸ６は、保護層ＯＸ６の下層のインダクタ及び他の構成要素を保護するために、インダクタ１７０の上方に配設され得る。
【００２２】
[0032]例示するように、動作中、インダクタ１７０もまた、電磁場（インダクタＥＭ場）を発生させる。インダクタ１７０が、ＭＯＭキャパシタ１００の上方に位置しているため、ＣＡＰ ＥＭ場は、インダクタＥＭ場に悪影響を与え得るか又はそれに干渉し得る。故に、図１Ａ−１Ｂを参照して説明したように、ＭＯＭキャパシタ１００で発生するＥＭ場は、キャパシタ１００から垂直方向に離間している近隣回路１５０及び１６０だけでなく、インダクタ１７０のような、キャパシタ１００から水平方向に離間しているものにも悪影響を与えるであろう。
【００２３】
[0033]ＭＯＭキャパシタ１００の別の欠点は、比較的大きいＥＭ場がキャパシタに比較的大きい直列寄生インダクタンスを示させることである。そのため、ＭＯＭキャパシタ１００は、インダクタに直列に結合されたキャパシタとしてモデリングされ得る。その結果、直列キャパシタ−インダクタの共振周波数を下回る低周波数では、インダクタがワイヤとして機能するため、ＭＯＭキャパシタ１００は、基本的に、対象のキャパシタとして機能する。共振周波数に近い又はそれを上回るより高い周波数では、寄生インダクタンスのインピーダンスは高くなるため、ＭＯＭキャパシタ１００は、もはや、対象のキャパシタとして機能しない。故に、ＭＯＭキャパシタ１００の別の欠点は、それが本質的に、比較的低い直列共振周波数（ＳＲＦ）を有することであり、これは、キャパシタの対象の機能を、ＳＲＦを遙かに下回る周波数に制限する。
【００２４】
[0034]図２は、本開示の別の態様にかかる、別の例示的な金属−酸化物−金属（ＭＯＭ）タイプキャパシタ２００の上面図を例示する。要するに、ＭＯＭキャパシタ２００は、キャパシタのＳＲＦを増加させるだけでなく、発生した総合的ＥＭ場を低減するように構成される。これは、フィンガの第２のセットに沿った電流フローと反対方向になるようにフィンガの第１のセットに沿った電流フローを有することで達成される。追加的に、ＭＯＭキャパシタ２００は、キャパシタへの又はそれからの回路配線を容易にするために、第１及び第２の端子が同じ層に位置するように構成される。
【００２５】
[0035]具体的には、ＭＯＭキャパシタ２００は、第１の電圧電位（例えば、ＶＤＤ）のソースに電気接続のための第１の端子２１０を備える。第１の端子２１０は、第１の誘電体層（図２には示されない）上に配設された導電性パッド（例えば、パターン化されたメタライゼーション層の一部）として構成され得る。ＭＯＭキャパシタ２００は、第１の端子２１０に電気結合され、それから略並列に延在する離間フィンガ（例えば、導電性ストリップ）の第１のセット２１２を更に備える。
【００２６】
[0036]フィンガの第１のセット２１２は、第１の誘電体層上に配設され、直接第１の端子２１０に電気接続されるそれぞれの第１の部分２１２ａを含む。フィンガの第１のセット２１２は、第２の誘電体層（図２には示されない）上に配設されるそれぞれの第２の部分２１２ｂを含み、これらは、別の層上に配設されていることを示すために点線で表される。第２の誘電体層は、第１の誘電体層の上方又は下方にあり得る。第２の部分２１２ｂは、導電性（例えば、メタライズド）ビアホール２１４ａを介して第１の部分２１２ａに電気結合される。フィンガの第１のセット２１２は、第１の誘電体層上に配設されたそれぞれの第３の部分２１２ｃを含む。第３の部分２１２ｃは、導電性（例えば、メタライズド）ビアホール２１４ｂを介して第２の部分２１２ｂに電気結合される。
【００２７】
[0037]ＭＯＭキャパシタ２００は、第２の電圧電位（例えば、接地）のソースに電気接続のための第２の端子２２０を備える。第２の端子２２０は、第１の誘電体層上に配設された導電性パッド（例えば、パターン化されたメタライゼーション層の一部）として構成され得る。この例では、第２の端子２２０の一部が、フィンガの第１のセット２１２の第２の部分２１２ｂの直上又は直下に位置している。ＭＯＭキャパシタ２００は、第２の端子２２０に電気結合され、それから略並列に延在する離間フィンガ（例えば、導電性ストリップ）の第２のセット２２２を更に備える。フィンガの第２のセット２２２は、第１の誘電体層上に配設される。
【００２８】
[0038]第１のセット２１２のフィンガの第３の部分２１２ｃには、略並列に、かつ、間隔を空けて、第２のセット２２２のフィンガが点在している。換言すると、第１のセット２１２のフィンガ部分２１２ｃのうちの少なくともいくつかは、第２のセット２２２の隣接フィンガ間に各々位置している。逆に、第２のセット２２２のフィンガのうちの少なくともいくつかは、第１のセット２１２の隣接フィンガ部分２１２ｃ間に各々位置している。述べたように、第１のセット２１２のフィンガ部分２１２ｃは、第２のセット２２２のフィンガと略並列に延在する。更に、第１のセット２１２のフィンガ部分２１２ｃは、それらが電気接続されるのではなく容量結合されるように第２のセット２２２のフィンガから離間されている。
【００２９】
[0039]動作中、第１の電圧電位と第２の電圧電位との差分の変化は、第１のセット２１２及び第２のセット２２２のフィンガに沿って水平方向の電流フローを生じさせる。例えば、例示するように、（実線の矢印で表される）電流は、第１の端子２１０からフィンガの第１のセット２１２に沿ってフィンガの端に向かって流れる。対照的に、電流は、フィンガの第２のセット２２２に沿ってフィンガ２２２の端から第２の端子２２０に向かって流れる。従って、フィンガの第１のセット２１２に沿った電流フローは、フィンガの第２のセット２２２に沿った電流フローとは反対方向である。
【００３０】
[0040]第１のセット２１２及び第２のセット２２２のフィンガに沿って流れる電流の各々は、（対応するフィンガを囲む小さい破線の楕円で表される）個々の電磁（ＥＭ）場を生じさせる。１つのフィンガ中の電流に関連付けられた個々のＥＭ場は、隣接フィンガ中の電流に関連付けられた個々のＥＭ場と破壊的に結びつく。これは、フィンガ中の電流が、反対方向に流れるためである。結果として、ＭＯＭキャパシタ２００は、大幅に低減された総合的ＥＭ場を発生させる。
【００３１】
[0041]従って、ＭＯＭキャパシタ２００は、垂直方向及び／又は水平方向の近隣回路及びデバイスとの電磁干渉を低減するという利点を有する。加えて、ＭＯＭキャパシタ２００で発生する、低減された総合的ＥＭ場は、キャパシタに、比較的低い直列寄生インダクタンスを示させる。結果として、ＭＯＭキャパシタ２００は、固有の高い直列共振周波数（ＳＲＦ）を有する。これは、ＭＯＭキャパシタ２００が、より広い周波数範囲にわたって、その対象とする容量機能（capacitance function）に使用されることを可能にする。
【００３２】
[0042]図３Ａ−３Ｂは、本開示の別の態様にかかる、別の例示的な金属−酸化物−金属（ＭＯＭ）タイプキャパシタ３００の上面図及び垂直断面図を例示する。要するに、ＭＯＭキャパシタ３００は、導電性（例えば、メタライズド）ビアホールが、第１の端子の真下又は真上に代わりに位置し、フィンガの第１のセットの端に電気接続されたパッドを分離している点を除き、ＭＯＭキャパシタ２００のものに類似する。ＭＯＭキャパシタのフィンガの真下又は真上にメタライズドビアホールを配置しないのには製造及び信頼性に関する理由がある。
【００３３】
[0043]具体的には、ＭＯＭキャパシタ３００は、第１の電圧電位（例えば、ＶＤＤ）のソースに電気接続のための第１の端子３１０を備える。第１の端子３１０は、第１の誘電体層３３０上に形成される。ＭＯＭキャパシタ３００は、第１の端子３１０に電気結合され、それから略並列に延在する離間フィンガの第１のセット３１２を更に備える。ＭＯＭキャパシタ２００と同様に、フィンガの第１のセット３１２は以下を含む：（１）第１の誘電体層３３０上に配設され、第１の端子３１０に直接接続された第１の部分３１２ａ、（２）（第１の誘電体層３３０の下に示されているが、上にもなり得る）第２の誘電体層３４０上に配設され、導電性（例えば、メタライズド）ビアホール３１４ａを介して第１の端子３１０に電気接続されている第２の部分３１２ｂ、及び（３）第１の誘電体層３３０上に配設され、第１の誘電体層３３０及び導電性（例えば、メタライズド）ビアホール３１４ｂ上に配設されたそれぞれのパッド３１６を介して第２の部分３１２ｂに電気接続された第３の部分３１２ｃ。
【００３４】
[0044]ＭＯＭキャパシタ３００は、第２の電圧電位（例えば、接地）のソースに電気接続のための第２の端子３２０を更に備える。第２の端子３２０は、第１の誘電体層３３０上に配設される。この例では、第２の端子３２０の一部が、フィンガの第１のセット３１２の第２の部分３１２ｂの直上又は直下に位置している。ＭＯＭキャパシタ３００は、第２の端子３２０に電気結合され、それから略並列に延在する離間フィンガの第２のセット３２２を更に備える。フィンガの第２のセット３２２は、第１の誘電体層３３０上に配設される。
【００３５】
[0045]第１のセット３１２のフィンガの第３の部分３１２ｃには、略並列に、かつ、間隔を空けて、第２のセット３２２のフィンガが点在している。換言すると、第１のセット３１２のフィンガ部分３１２ｃのうちの少なくともいくつかは、第２のセット３２２の隣接フィンガ間に各々位置している。逆に、第２のセット３２２のフィンガのうちの少なくともいくつかは、第１のセット３１２の隣接フィンガ部分３１２ｃ間に各々位置している。述べたように、第１のセット３１２のフィンガ部分３１２ｃは、第２のセット３２２のフィンガと略並列に延在する。更に、第１のセット３１２のフィンガ部分３１２ｃは、それらが電気接続されるのではなく容量結合されるように第２のセット３２２のフィンガから離間されている。
【００３６】
[0046]ＭＯＭキャパシタ２００と同様に、ＭＯＭキャパシタ３００は、第１の電圧電位と第２の電圧電位との差分の変化に応答して、フィンガの第１のセット３１２及び第２のセット３２２に沿った電流がフィンガ３１２ｂに沿って流れる電流と反対方向に流れることにより大幅に低減した総合的ＥＭ場を発生させる。ＭＯＭキャパシタ３００はまた、ＭＯＭキャパシタが、より広い周波数帯域にわたってその対象の容量機能に対して使用されることを可能にするために、より高い直列共振周波数（ＳＲＦ）を有する。メタライズドビアホール３１４ａ及び３１４ｂが、これらフィンガのうちのどのフィンガの直上又は直下にも位置していないため、ＭＯＭキャパシタ３００は、より容易に製造可能であり、より小さい信頼性問題を有する。
【００３７】
[0047]図４は、本開示の別の態様にかかる、例示的な金属−酸化物−金属（ＭＯＭ）タイプキャパシタ４００の別個の層の上面図を例示する。要するに、ＭＯＭキャパシタ４００は、本明細書でより詳細に説明されるいくついかの追加の機能を伴った、前述したＭＯＭキャパシタ２００の例示的なより詳細なバージョンである。例示するように、ＭＯＭキャパシタ４００は、（右に描写されている）第１の層１を備え、これは、下位層として構成され得る。ＭＯＭキャパシタ４００は、（左に描写されている）第２の層２を更に備え、これは、上位層として構成され得る。
【００３８】
[0048]第２の層２を参照すると、ＭＯＭキャパシタ４００は、第１の電圧電位に電気接続のための第１の端子４１０を備える。ＭＯＭキャパシタ４００は、第２の電圧電位に電気接続のための第２の端子４２０を更に備える。第１の端子４１０及び第２の端子４２０は、誘電体層４０２（例えば、酸化被膜）上に形成される。
【００３９】
[0049]ＭＯＭキャパシタ４００は、第１の端子４１０に電気結合され、それから第２の端子４２０に向かって略並列に延在する離間フィンガのセット４１２ａを備える。追加的に、ＭＯＭキャパシタ４００は、第２の端子４２０に電気結合され、それから第１の端子４１０に向かって略並列に延在する離間フィンガの別のセット４２２ａを備える。フィンガのセット４１２ａ及び４２２ａは、誘電体層４０２上に配設される。フィンガのセット４１２ａには、前述したように、フィンガのセット４２２ａが点在している。
【００４０】
[0050]ＭＯＭキャパシタ４００は、第２の端子４２０に電気結合され、それから略並列に第１の端子４１０から離れる方向に延在する離間フィンガのセット４２２ｃを更に備える。ＭＯＭキャパシタは、略並列に延在し、フィンガのセット４２２ｃが点在している離間フィンガのセット４１２ｃを更に備える。フィンガのセット４１２ｃ及び４２２ｃは、誘電体層４０２上に配設される。
【００４１】
[0051]第１の層１を参照すると、ＭＯＭキャパシタ４００は、フィンガのセット４１２ａ及び４１２ｃと略並列に延在し、それの真下にある離間フィンガのセット４１２ｂを備える。フィンガのセット４１２ｂの一部は、メタライゼーションパッド４１５で終端し、これは、第１の端子４１０に類似して、及び、それの真下にくるように構成され得る。メタライゼーションパッド４１５は、複数の導電性（例えば、メタライズド）ビアホール４１４ａを介して第１の端子４１０に電気接続される。フィンガのセット４１２ｂはまた、複数の導電性（例えば、メタライズド）ビアホール４１４ｂを介してフィンガのセット４１２ｃに電気接続される。メタライゼーションパッド４１５を含むフィンガのセット４１２ｂは、誘電体層４０４（例えば、酸化被膜）上に配設される。
【００４２】
[0052]ＭＯＭキャパシタ４００は、略並列に延在し、フィンガのセット４１２ｂが点在している離間フィンガのセット４２２ｂを更に備える。フィンガのセット４２２ｃは、誘電体層４０４上に配設される。フィンガのセット４２２ｂもまた、フィンガのセット４２２ａ及び４２２ｃと略並列に延在し、それの真下にある。フィンガのセット４２２ｂは、複数の導電性（例えば、メタライズド）ビアホール４２４を介してフィンガの第２のセット４２２ａ及び第２の端子４２０に電気接続される。
【００４３】
[0053]ＭＯＭキャパシタ４００の全容量は、セクション４１２ａ／４２２ａ、４１２ｂ／４２２ｂ、及び４１２ｃ／４２２ｃのような、点在フィンガの異なるセクションによって形成される。第１の端子４１０及び第２の端子４２０にそれぞれ印加される第１の電圧電位と第２の電圧電位との差分の変化は、フィンガのセット４１２ａ、４２２ａ、４１２ｂ、４２２ｂ、４１２ｃ、及び４２２ｃに沿って流れるように電流を生じさせる。フィンガのセット４１２ａ及び４２２ａに沿った電流フローは、同じ方向である。フィンガのセット４１２ａ及び４２２ａの真下の領域にあるフィンガのセット４１２ａ及び４２２ｂに沿った電流フローは、同じ方向である。フィンガのセット４１２ｃ及び４２２ｃの真下の領域にあるフィンガのセット４１２及び４２２ｂに沿った電流フローは、反対方向である。そして、フィンガのセット４１２ｃ及び４２２ｃに沿った電流フローは、反対方向である。
【００４４】
[0054]隣接フィンガ中の電流のうちの少なくともいくつかが反対方向に流れるため、ＭＯＭキャパシタ４００は、低減されたＥＭ場を発生させる。ＭＯＭキャパシタ４００で発生するＥＭ場の大半は、４１２ａ／４２２ａの真下にある点在フィンガセクション４１２ａ／４２２ａ及び４１２ｂ／４２２ｂで生じ、ここでは、隣接フィンガ中の電流は、同じ方向に流れる。このセクション４１２ａ／４２２ａの理由は、２つの筋目（two folds）があり得る、即ち、（１）第１の端子４１０及び第２の端子４２０への接続を容易にするためにこれらの端子間にいくらかの間隔を確保すること、及び（２）このセクション４１２ａ／４２２ａはいくらかのＥＭ場を発生させるが、それは、第１の端子４１０と第２の端子４２０との間で追加の容量を提供するので、ＭＯＭキャパシタ４００の総合的な容量を増加させることである。
【００４５】
[0055]図５は、本開示の別の態様にかかる、別の例示的な金属−酸化物−金属（ＭＯＭ）タイプキャパシタ５００の別個の層の上面図を例示する。ＭＯＭキャパシタ５００は、ＭＯＭキャパシタ４００のものに類似するが、追加の容量のために更に２つの層を含む。ＭＯＭキャパシタ５００が、ＭＯＭキャパシタ４００の層以外に１つの追加の層だけを含み得ること、又は、ＭＯＭキャパシタ４００の層以外に２つより多くの追加の層を含み得ることは理解されるものとする。
【００４６】
[0056]ＭＯＭキャパシタ５００は、第１の層１と、第２の層２と、第３の層３と、第４の層４とを備え、これらは、その順序で最下位から最上位へと位置し得る。次に続く説明では、ＭＯＭキャパシタ４００の要素と同じ又は類似するＭＯＭキャパシタ５００の要素は、最上位の数字が「４」の代わりに「５」であり、いくつかは対応する層を示すための追加の接尾辞を有することを除いて同じ参照番号で識別される。
【００４７】
[0057]より具体的には、ＭＯＭキャパシタ５００の第４の層４（例えば、最上位層）は、ＭＯＭキャパシタ４００の第２の層２と実質的に同じに構成され得る。故に、ＭＯＭキャパシタ５００は、第１の端子５１０及び第２の端子５２０と、点在フィンガのセクション５１２ａ／５２２ａと、点在フィンガの別のセクション５１２ｃ／５２２ｃとを備え、それらは全て、誘電体層５０２（例えば、酸化被膜）上に形成される。
【００４８】
[0058]ＭＯＭキャパシタ５００の第１の層１、第２の層２、及び第３の層３は、ＭＯＭキャパシタ４００の第１の層１と実質的に同じに構成され得る。故に、ＭＯＭキャパシタ５００は、第１の層１に関連付けられた誘電体層５０４−１（例えば、酸化被膜）上に形成された点在フィンガのセクション５１２ｂ−１／５２２ｂ−１と、第２の層２に関連付けられた誘電体層５０４−２（例えば、酸化被膜）上に形成された点在フィンガのセクション５１２ｂ−２／５２２ｂ−２と、第３の層３に関連付けられた誘電体層５０４−３（例えば、酸化被膜）上に形成された点在フィンガのセクション５１２ｂ−３／５２２ｂ−３とを備える。
【００４９】
[0059]第１の端子５１０は、それぞれ、導電性（例えば、メタライズド）ビアホール及びメタライゼーションパッド５１４ａ−３／５１５−３、５１４ａ−２／５１５−２、及び５１４ａ−１／５１５−１を介してフィンガのセット５１２ｂ−３、５１２ｂ−２、及び５１２ｂ−２に電気結合される。メタライゼーションパッド５１５−３、５１５−２、及び５１５−１は、それぞれ、誘電体層５０４−３、５０４−２、及び５０４−１上に配設される。第２の端子５２０及びフィンガのセット５２２ａは、それぞれ、導電性（例えば、メタライズド）ビアホール５２４−３、５２４−２、及び５２４ａ−１を介してフィンガのセット５２２ｂ−３、５２２ｂ−２、及び５２２ｂ−１に電気結合される。また、フィンガのセット５１２ｃは、それぞれ、導電性（例えば、メタライズド）ビアホール５１４ｂ−３、５１４ｂ−２、及び５１４ｂ−１を介してフィンガのセット５１２ｂ−３、５１２ｂ−２、及び５１２ｂ−１に電気結合される。
【００５０】
[0060]そのため、ＭＯＭキャパシタ５００は、追加の容量が、第１の層１及び第２の層２の点在フィンガセクションよって供給されているが、基本的に、ＭＯＭキャパシタ４００のものと同じである。点在フィンガセクション５１２ａ／５２２ａ中の電流は、同じ方向に流れるため、いくらかのＥＭ場を生じさせる。点在フィンガセクション５２２ｃ／５１２ｃ中の電流は、反対方向に流れるため、有意なＥＭ場は生じさせない。セクション５１２ａ／５２２ａの真下にある点在フィンガセクション５１２ｂ−１／５２２ｂ−１、５１２ｂ−２／５２２ｂ−２、及び５１２ｂ−３／５２２ｂ−３中のそれぞれの電流は、それぞれ、同じ方向に流れるため、いくらかのＥＭ場を生じさせる。セクション５１２ａ／５２２ａの真下にある点在フィンガセクション５１２ｂ−１／５２２ｂ−１、５１２ｂ−２／５２２ｂ−２、及び５１２ｂ−３／５２２ｂ−３中のそれぞれの電流は、反対方向に流れるため、有意なＥＭ場は生じさせない。
【００５１】
[0061]故に、ＭＯＭキャパシタ５００は、点在フィンガの全てにより顕著な容量を供給するが、点在フィンガ全体の一部だけが同じ方向に流れる電流を有するため低減されたＥＭ場を生じさせるように構成される。
【００５２】
[0062]図６は、本開示の別の態様にかかる、別の例示的な金属−酸化物−金属（ＭＯＭ）タイプキャパシタ６００の別個の層の上面図を例示する。ＭＯＭキャパシタ６００は、前述したＭＯＭキャパシタ３００の例示的なより詳細な実施であり得る。すなわち、ＭＯＭキャパシタ４００とは異なり、ＭＯＭキャパシタ６００は、フィンガの真下又は真上に導電性（例えば、メタライズド）ビアホールを有さない。前述したように、フィンガの真下又は真上にビアホールを配置しないのには製造及び信頼性に関する理由がある。
【００５３】
[0063]具体的には、第２の層２を考慮すると、ＭＯＭキャパシタ６００は、第１の電圧電位（例えば、ＶＤＤ）のソースに電気接続のための第１の端子６１０と、第２の電圧電位（例えば、接地）のソースに電気接続のための第２の端子６２０とを備える。第１の端子６１０及び第２の端子６２０は、誘電体層６０２（例えば、酸化被膜）上に形成される。
【００５４】
[0064]ＭＯＭキャパシタ６００は、第１の端子６１０に電気結合され、それから第２の端子６２０に向かって略並列に延在する離間フィンガのセット６１２ａを更に備える。ＭＯＭキャパシタ６００は、第２の端子６２０に電気結合され、それから第１の端子６１０に向かって略並列に延在する離間フィンガのセット６２２ａを更に備える。セット６１２ａのフィンガは、セット６２２のフィンガが点在している。フィンガの両方のセット６１２ａ及び６２２ａは、誘電体層６０２上に形成される。
【００５５】
[0065]ＭＯＭキャパシタ６００は、第２の端子６２０に電気結合され、それから略並列に、かつ、第１の端子６１０から離れる方向に延在する離間フィンガのセット６２２ｂを更に備える。ＭＯＭキャパシタ６００は、フィンガのセット６２２ｂが点在している離間フィンガのセット６１２ｂを更に備える。追加的に、ＭＯＭキャパシタ６００は、それぞれ、セット６１２ｂのフィンガの端に結合された複数の導電性パッド６１６を備える。フィンガのセット６１２ｂ及び６２２ｂ並びにパッド６１６は、誘電体層６０２上に配設される。
【００５６】
[0066]第１の層１を参照すると、ＭＯＭキャパシタ６００は、誘電体層６０４（例えば、酸化被膜）上に形成された、パターン化された導電性（例えば、メタライゼーション）トレース６１８を備える。この例では、導電性トレース６１８全体が、導電性（例えば、メタライズド）ビアホール６１４ａを介して第１の端子６１０に電気結合される。同様に、導電性トレース６１８全体が、導電性（例えば、メタライズド）ビアホール６１４ａを介して導電性パッド６１６に電気結合される。この例では、導電性トレース６１８は、その上でビアホール６１４ａが電気接続される導電性パッドから、その上でビアホールの別個のセット６１４ｂが電気接続される複数の導電性パッドにそれぞれ延在する並列の導電性ストリップにパターン化される。
【００５７】
[0067]ＭＯＭキャパシタ６００の全容量は、セクション６１２ａ／６２２ａ及び６１２ｂ／６２２ｂのような、点在フィンガの異なるセクションによって形成される。第１の端子６１０及び第２の端子６２０にそれぞれ印加される第１の電圧電位と第２の電圧電位との差分の変化は、フィンガのセット６１２ａ、６２２ａ、６１２ｂ、及び６２２ｂに沿って流れるように電流を生じさせる。フィンガのセット６１２ａ及び６２２ａ中の電流は、第１の端子６１０から第２の端子６２０に向かって同じ方向に流れる。フィンガのセット６１２ｂ及び６２２ｂ中の電流は、導電性パッド６１６から第２の端子６２０に向かって同じ方向に流れる。導電性トレース６１８に沿った電流フローは、ビアホール６１４ａからビアホール６１４ｂに向かう。
【００５８】
[0068]ＭＯＭキャパシタ６００で発生するＥＭ場の大半は、点在フィンガセクション６１２ａ／６２２ａ及び６１２ｂ／６２２ｂで生じ、ここでは、隣接フィンガ中の電流は、同じ方向に流れる。また、いくらかのＥＭ場は、トレース６１８に沿った電流がセクション６１２ａ／６２２ａに沿った電流と同じ方向であるため、電流が、セクション６１２ａ／６２２ａの真下の領域にある導電性トレース６１８中を流れることで発生する。セクション６１２ａ／６２２ｂの真下の領域にある導電性トレース６１８に沿った電流がセクション６１２ｂ／６２２ｂ中の電流の方向とは反対であるため、トレース６１８のその領域ではいくらかのＥＭ場キャンセレーションが生じる。
【００５９】
[0069]このセクション６１２ａ／６２２ａの理由は、２つの筋目があり得る、即ち、（１）第１の端子６１０及び第２の端子６２０への接続を容易にするためにこれらの端子間にいくらかの間隔を確保すること、及び（２）このセクション６１２ａ／６２２ａはいくらかのＥＭ場を発生させるが、それは、第１の端子６１０と第２の端子６２０との間で追加の容量を提供するので、ＭＯＭキャパシタ６００の総体的な容量を増加させることである。
【００６０】
[0070]図７は、本開示の別の態様にかかる、例示的な金属−酸化物−金属（ＭＯＭ）タイプキャパシタ７００の別個の層の上面図を例示する。ＭＯＭキャパシタ７００は、ＭＯＭキャパシタ６００のものに類似するが、追加の容量のために更に２つの層を含む。具体的には、ＭＯＭキャパシタ６００は、第１の層１と、第２の層２と、第３の層３と、第４の層４とを備え、これらは、その順序で最下位から最上位へと位置し得る。ＭＯＭキャパシタ７００が、ＭＯＭキャパシタ６００の層以外に１つの追加の層だけを含み得ること、又は、ＭＯＭキャパシタ６００の層以外に２つより多くの追加の層を含み得ることは理解されるものとする。
【００６１】
[0071]ＭＯＭキャパシタ７００の第４の層４（例えば、最上位層）は、ＭＯＭキャパシタ６００の第２の層２と実質的に同じに構成され得る。すなわち、ＭＯＭキャパシタ７００は、第１の端子７１０及び第２の端子７２０と、点在フィンガのセクション７１２ａ／７２２ａと、点在フィンガの別のセクション７１２ｃ／７２２ｃとを備え、それらは全て、誘電体層７０２（例えば、酸化被膜）上に配設される。また、ＭＯＭキャパシタ７００は、セット７１２ｂのフィンガのそれぞれの端に結合された導電性パッド７１６を備える。パッド７１６が誘電体層７０２上に配設される。
【００６２】
[0072]ＭＯＭキャパシタ７００の第１の層１は、ＭＯＭキャパシタ６００の第１の層１と実質的に同じに構成され得る。すなわち、ＭＯＭキャパシタ７００は、誘電体層７０８（例えば、酸化被膜）上に形成された、パターン化された導電性（例えば、メタライゼーション）トレース７１８を備える。同様に、導電性トレース７１８全体は、導電性（例えば、メタライズド）ビアホール７４５ａを介して第１の端子７１０に電気結合される。同様に、導電性トレース７１８全体が、導電性（例えば、メタライズド）ビアホール７５４ａを介して導電性パッド７１６に電気結合される。この例では、導電性トレース７１８は、その上でビアホール７５４aが電気接続される導電性パッドから、その上でビアホールの別個のセット７５４ｂが電気接続される複数の導電性パッドにそれぞれ延在する並列の導電性ストリップにパターン化される。
【００６３】
[0073]第３の層３を考慮すると、ＭＯＭキャパシタ７００は、フィンガのセット７１２ａと略並列に延在し、それの真下にある離間フィンガのセット７３２ａを備える。フィンガのセット７３２ａは、対応する導電性パッド上に配設された複数の導電性（例えば、メタライズド）ビアホール７１４ａを介して第１の端子７１０に電気結合される。ＭＯＭキャパシタ７００は、フィンガのセット７２２ｂと略並列に延在し、それの真下にある離間フィンガのセット７４２ｂを更に備える。フィンガのセット７４２ａは、対応するパッド上に配設された複数の導電性ビアホール７２４を介して第２の端子７２０に電気結合される。フィンガのセット７４２ａには、フィンガのセット７３２ａが点在している。
【００６４】
[0074]ＭＯＭキャパシタ７００は、フィンガのセット７２２ｂと略並列に延在し、それの真下にある離間フィンガのセット７４２ｂを更に備える。フィンガのセット７４２ｂは、対応する導電性パッド上に配設された導電性（例えば、メタライズド）ビアホール７２４を介して第２の端子７２０に電気結合される。ＭＯＭキャパシタ７００はまた、フィンガのセット７１２ｂと略並列に延在し、それの真下にある離間フィンガのセット７３２ｂを備える。フィンガのセット７３２ｂは、それぞれ、対応する導電性パッド上に配設された導電性（例えば、メタライズド）ビアホール７１４ｂを介して第１の端子７１０に電気結合される。第３の層３の全ての導電性素子は、誘電体層７０４（例えば、酸化被膜）上に配設される。
【００６５】
[0075]第２の層２を考慮すると、ＭＯＭキャパシタ７００は、フィンガのセット７３２ａと略並列に延在し、それの真下にある離間フィンガのセット７５２ａを備える。フィンガのセット７５２ａは、対応する導電性パッド上に配設された複数の導電性（例えば、メタライズド）ビアホール７３４ａを介して第１の端子７１０に電気結合される。ＭＯＭキャパシタ７００は、フィンガのセット７４２ａと略並列に延在し、それの真下にある離間フィンガのセット７６２ａを更に備える。フィンガのセット７６２ａは、対応する導電性パッド上に配設された複数の導電性ビアホール７４４を介して第２の端子７２０に電気結合される。フィンガのセット７６２ａには、フィンガのセット７５２ａが点在している。
【００６６】
[0076]ＭＯＭキャパシタ７００は、フィンガのセット７４２ｂと略並列に延在し、それの真下にある離間フィンガのセット７６２ｂを更に備える。フィンガのセット７６２ｂは、対応する導電性パッド上に配設された導電性（例えば、メタライズド）ビアホール７４４を介して第２の端子７２０に電気結合される。ＭＯＭキャパシタ７００はまた、フィンガのセット７３２ｂと略並列に延在し、それの真下にある離間フィンガのセット７５２ｂを備える。フィンガのセット７５２ｂは、それぞれ、対応する導電性パッド上に配設された導電性（例えば、メタライズド）ビアホール７３４ｂを介して第１の端子７１０に電気結合される。第２の層２の全ての導電性素子は、誘電体層７０６（例えば、酸化被膜）上に配設される。
【００６７】
[0077]ＭＯＭキャパシタ７００の全容量は、セクション７１２ａ／７２２ａ、７１２ｂ／７２２ｂ、７３２ａ／７４２ａ、７３２ｂ／７４２ｂ、７５２ａ／７６２ａ、及び７５２ｂ／７６２ｂのような、点在フィンガの異なるセクションによって形成される。第１の端子７１０及び第２の端子７２０にそれぞれ印加される第１の電圧電位と第２の電圧電位との差分の変化は、フィンガのセット７１２ａ、７２２ａ、７１２ｂ、７２２ｂ、７３２ａ、７４２ａ、７３２ｂ、７４２ｂ、７５２ａ、７６２ａ、７５２ｂ、及び７６２ｂに沿って流れるように電流を生じさせる。
【００６８】
[0078]点在フィンガセクション７１２ａ／７２２ａ中の電流は、（例えば、第１の端子７１０から第２の端子７２０に向かって）同じ方向に流れる。点在フィンガセクション７３２ａ／７４２ａ中の電流は、（例えば、ビアホール７１４ａからビアホール７２４に向かって）同じ方向に流れる。点在フィンガセクション７５２ａ／７６２ａ中の電流は、（例えば、ビアホール７３４ａからビアホール７４４に向かって）同じ方向に流れる。
【００６９】
[0079]点在フィンガセクション７１２ｂ／７２２ｂ中の電流は、（例えば、パッド７１６から第２の端子７２０に向かって）同じ方向に流れる。点在フィンガセクション７３２ｂ／７４２ｂ中の電流は、（例えば、ビアホール７１４ｂからビアホール７２４に向かって）同じ方向に流れる。点在フィンガセクション７５２ｂ／７６２ｂ中の電流は、例えば、ビアホール７３４ｂからビアホール７４４に向かって）同じ方向に流れる（。
【００７０】
[0080]セクション７１２ａ／７２２ａ、７３２ａ／７４２ａ、及び７５２ａ／７６２ａの下の領域にある導電性トレース７１８に沿って流れる電流は、それらのセクション中の電流と同じ方向に流れる。セクション７１２ｂ／７２２ｂ、７３２ｂ／７４２ｂ、及び７５２ｂ／７６２ｂの下の領域にある導電性トレース７１８に沿って流れる電流は、それらのセクション中の電流と反対方向に流れる。従って、その領域内ではＥＭ場キャンセレーションが生じる。
【００７１】
[0081]前述したように、このセクション７１２ａ／７２２ａの理由は、２つの筋目があり得る、即ち、（１）第１の端子７１０及び第２の端子７２０への接続を容易にするためにこれらの端子間にいくらかの間隔を確保すること、及び（２）このセクション７１２ａ／７２２ａはいくらかのＥＭ場を発生させるが、それは、第１の端子７１０と第２の端子７２０との間で追加の容量を提供するので、ＭＯＭキャパシタ７００の全容量を増加させることである。
【００７２】
[0082]図８Ａ−８Ｂは、本開示の別の態様にかかる、金属−酸化物−金属（ＭＯＭ）タイプキャパシタ８２０を覆うスパイラルインダクタ８７０を備える例示的な集積回路（ＩＣ）８００の上面図及び垂直断面図を例示する。この例では、ＩＣ８００は、基板８０２と、５つの導電（例えば、メタライゼーション）層Ｍ１、Ｍ２、Ｍ３、Ｍ４、Ｍ５と、６つの電気絶縁（誘電体）層（例えば、酸化被膜）ＯＸ１、ＯＸ２、ＯＸ３、ＯＸ４、ＯＸ５、及びＯＸ６層とを備える。
【００７３】
[0083]第１の酸化被膜ＯＸ１は、基板８０２と第１のメタライゼーション層Ｍ１との間に位置する。第２の酸化被膜ＯＸ２は、第１のメタライゼーション層Ｍ１と第２のメタライゼーション層Ｍ２との間に位置する。第３の酸化被膜ＯＸ３は、第２のメタライゼーション層Ｍ２と第３のメタライゼーション層Ｍ３との間に位置する。第４の酸化被膜ＯＸ４は、第３のメタライゼーション層Ｍ３と第４のメタライゼーション層Ｍ４との間に位置する。第５の酸化被膜ＯＸ５は、第４のメタライゼーション層Ｍ４と第５のメタライゼーション層Ｍ５との間に位置する。そして、第６の酸化被膜ＯＸ６は、第５のメタライゼーション層Ｍ５の上方に位置し、ＩＣ８００のための保護層として機能し得る。
【００７４】
[0084]例示するように、スパイラルインダクタ８７０は、主に、メタライゼーション層Ｍ５上に実施される。図８Ａで例示するように、短い破線の短形で表されるインダクタ８７０の一部は、インダクタ８７０の内端への接続のために別の層（例えば、メタライゼーション層Ｍ４）上に実施され得る。図８Ｂに例示するように、ＭＯＭキャパシタ８２０は、メタライゼーション層Ｍ１〜Ｍ４上に実施される。また、図８Ａに示されるように、ＭＯＭキャパシタ８２０は、スパイラルインダクタ８７０より下の中央に位置し得る。ＭＯＭキャパシタ８２０が、低減されたＥＭ場を発生させるように構成されるため、インダクタ８７０の真下にあるＭＯＭキャパシタ８２０は、インダクタ８７０の動作に悪影響を与えないであろう。
【００７５】
[0085]図９は、本開示の別の態様にかかる、金属−酸化物−金属（ＭＯＭ）タイプキャパシタを減結合キャパシタとして用いる例示的な集積回路（ＩＣ）９００の概略図を例示する。具体的には、ＩＣ９００は、第１の電圧レール（例えば、ＶＤＤ）と第２の電圧レール（例えば、接地）との間に結合された複数のＭＯＭキャパシタＣを備える。ＭＯＭキャパシタＣは、本明細書で説明された実施形態のうちの任意のもののように構成され得る。
【００７６】
[0086]ＩＣ９００は、第１の電圧レール（例えば、ＶＤＤ）と第２の電圧レール（例えば、接地）との間に結合された１つ又は複数のＩＣコア９１０を更に備える。１つ又は複数のＩＣコア９１０がイネーブルにされると、ＩＣコアは、第１の電圧レールから負荷電流ＩＬを引き込む。第１のレール電圧ＶＤＤを供給する電源の非理想的な特性により、負荷電流ＩＬは、第１のレール電圧ＶＤＤを低下させ得る。この電圧低下を克服するために、集合的に電荷Ｑを蓄積する、複数のＭＯＭキャパシタＣが必要に応じて電荷ＱをＩＣコアに供給して、第１のレール電圧ＶＤＤの低下に抵抗する。
【００７７】
[0087]図１０は、本開示の別の態様にかかる、金属−酸化物−金属（ＭＯＭ）タイプキャパシタを動作する例示的な方法１０００のフロー図を例示する。方法１０００は、キャパシタの第１の端子に第１の電圧を印加することを備え、ここにおいて、第１のキャパシタ端子は、第１の誘電体層上に配設される（ブロック１０１０）。方法１０００は、キャパシタの第２の端子に第２の電圧を印加することを更に備え、ここにおいて、第２の端子は、第１の誘電体層上に配設される（ブロック１０２０）。
【００７８】
[0088]方法１０００に従って、キャパシタは、第１の誘電体層上に形成されたフィンガの第１のセットと、ここにおいて、フィンガの第１のセットは、第２の誘電体層上に形成された導電性トレースを介して第１の端子に電気結合される、第１の誘電体層上に形成されたフィンガの第２のセットと、ここにおいて、フィンガの第２のセットは、第２の端子に電気結合され、第２のセットのフィンガのうちの少なくともいくつかは、第１のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在する、を備える。
【００７９】
[0089]更に、方法１０００は、第１の電圧と第２の電圧との差分の変化に応答して、フィンガの第１のセットに沿って流れるように電流を発生させること（ブロック１０３０）を備える。また、方法１０００は、第１の電圧と第２の電圧との差分の変化に応答して、フィンガの第２のセットに沿って流れるように電流を発生させること（ブロック１０４０）を備える。
【００８０】
[0090]方法１０００は、フィンガの第２のセットに沿った電流とは反対方向に流れるようにフィンガの第１のセットに沿った電流を構成すること（ブロック１０５０）を更に備え得る。又は、ブロック１０５０に代わり、方法１０００は、フィンガの第２のセットに沿った電流と同じ方向に流れるようにフィンガの第１のセットに沿った電流を構成すること（ブロック１０６０）と、フィンガの第１のセット及び第２のセットに沿った電流のフローとは逆の方向に流れるように、第２の誘電体層上に配設された導電性トレースに沿って流れるべき電流を構成すること（ブロック１０７０）とを更に備える。
【００８１】
[0091]本開示の以上の説明は、当業者による本開示の実行又は使用を可能にするために提供される。本開示に対する様々な修正は当業者には容易に明らかであり、本明細書で定義された包括的な原理は、本開示の精神又は範囲から逸脱することなく、他の変形に適用され得る。従って、本開示は、本明細書で説明された例に限定されるよう意図されるものではなく、本明細書で開示された原理及び新規な特徴と一致する最も広い範囲を与えられることとなる。
【図１Ａ】
2018534767.tif 000003
【図１Ｂ】
2018534767.tif 000004
【図２】
2018534767.tif 000005
【図３Ａ】
2018534767.tif 000006
【図３Ｂ】
2018534767.tif 000007
【図４】
2018534767.tif 000008
【図５】
2018534767.tif 000009
【図６】
2018534767.tif 000010
【図７】
2018534767.tif 000011
【図８Ａ】
2018534767.tif 000012
【図８Ｂ】
2018534767.tif 000013
【図９】
2018534767.tif 000014
【図１０】
2018534767.tif 000015
【手続補正書】
【提出日】平成30年6月8日(2018.6.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
装置であって、
キャパシタを備え、前記キャパシタは、
第１の誘電体層上に配設された第１の端子と、ここにおいて、前記第１の端子は、第１の電圧電位のソースに電気接続される、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第１のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第１のセットは、第２の誘電体層上に配設された導電性トレースを介して前記第１の端子に電気結合される、
前記第１の誘電体層上に配設された第２の端子と、ここにおいて、前記第２のキャパシタ端子は、第２の電圧電位のソースに電気接続される、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第２のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第２のセットは、直接前記第２の端子に電気結合されるだけであり、前記第２のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第１のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在する、
を備える装置。
【請求項２】
フィンガの前記第１のセット及び前記第２のセットは、フィンガの前記第１のセットに沿った電流フローが、前記第１の電圧電位と前記第２の電圧電位との差分の変化に応答して、フィンガの前記第２のセットに沿った電流フローとは反対方向となるように構成される、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記キャパシタは、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第３のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第３のセットは、前記第１の端子に電気結合される、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第４のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第４のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第４のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第３のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在し、フィンガの前記第３のセット中の電流は、前記第１の電圧電位と前記第２の電圧電位との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第４のセット中の電流と同じ方向に流れる、
を更に備える、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記キャパシタは、
前記第２の誘電体層上に配設されたフィンガの第３のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第３のセットは、前記第１の端子に電気結合される、
前記第２の誘電体層上に配設されたフィンガの第４のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第４のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第４のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第３のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在し、フィンガの前記第３のセット中の電流は、前記第１の電圧電位と前記第２の電圧電位との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第４のセット中の電流と同じ方向に流れる、
を更に備える、請求項２に記載の装置。
【請求項５】
前記キャパシタは、
前記第２の誘電体層上に配設されたフィンガの第３のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第３のセットは、前記第１の端子に電気結合される、
前記第２の誘電体層上に配設されたフィンガの第４のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第４のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第４のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第３のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在し、フィンガの前記第３のセット中の電流は、前記第１の電圧電位と前記第２の電圧電位との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第４のセット中の電流のフローとは逆の方向に流れる、
を更に備える、請求項２に記載の装置。
【請求項６】
フィンガの前記第１のセット及び前記第２のセットは、フィンガの前記第１のセットに沿った電流フローが、前記第１の電圧電位と前記第２の電圧電位との差分の変化に応答して、フィンガの前記第２のセット中の電流フローと同じ方向になるように構成される、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記第２の誘電体層上に配設された前記導電性トレースに沿った電流フローは、前記第１の電圧電位と前記第２の電圧電位との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第１のセット及び前記第２のセットに沿った電流フローとは反対方向である、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記キャパシタは、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第３のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第３のセットは、前記第１の端子に電気結合される、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第４のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第４のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第４のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第３のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在する、
を更に備え、
フィンガの前記第３のセット中の電流は、前記第１の電圧電位と前記第２の電圧電位との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第４のセット中の電流と同じ方向に流れ、
フィンガの前記第１のセット及び前記第２のセット中の電流の前記フローは、フィンガの前記第３のセット及び前記第４のセット中の前記電流フローとは反対方向である、
請求項６に記載の装置。
【請求項９】
前記キャパシタは、
第３の誘電体層上に配設されたフィンガの第３のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第３のセットは、前記第１の端子に電気結合される、
前記第３の誘電体層上に配設されたフィンガの第４のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第４のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第４のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第３のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在する、
を更に備え、
フィンガの前記第３のセット中の電流は、前記第１の電圧電位と前記第２の電圧電位との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第４のセット中の電流と同じ方向に流れ、
フィンガの前記第１のセット及び前記第２のセット中の電流の前記フローは、フィンガの前記第３のセット及び前記第４のセット中の前記電流フローと同じ方向又は反対方向である、
請求項６に記載の装置。
【請求項１０】
前記キャパシタの真上又は真下にある第３の誘電体層上に配設されたインダクタを更に備える、請求項１に記載の装置。
【請求項１１】
方法であって
キャパシタの第１の端子に第１の電圧を印加することと、ここにおいて、前記第１の端子は、第１の誘電体層上に配設される、
前記キャパシタの第２の端子に第２の電圧を印加することと、ここにおいて、前記第２の端子は、前記第１の誘電体層上に配設される、
を備え、前記キャパシタは、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第１のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第１のセットは、第２の誘電体層上に配設された導電性トレースを介して前記第１の端子に電気結合される、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第２のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第２のセットは、直接前記第２の端子に電気結合されるだけであり、前記第２のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第１のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在する、
を備える、方法。
【請求項１２】
前記第１の電圧と前記第２の電圧との差分を変化させることと、
前記第１の電圧と前記第２の電圧との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第２のセット中の電流フローとは反対方向に、フィンガの前記第１のセットに沿った電流フローを発生させることと
を更に備える、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記キャパシタは、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第３のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第３のセットは、前記第１の端子に電気結合される、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第４のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第４のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第４のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第３のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在する、
を更に備え、前記方法は、
前記第１の電圧と前記第２の電圧との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第４のセット中の電流フローと同じ方向に、フィンガの前記第３のセット中の電流フローを発生させること
を更に備える、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記キャパシタは、
前記第２の誘電体層上に配設されたフィンガの第３のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第３のセットは、前記第１の端子に電気結合される、
前記第２の誘電体層上に配設されたフィンガの第４のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第４のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第４のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第３のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在する、
を更に備え、前記方法は、
前記第１の電圧と前記第２の電圧との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第４のセット中の電流フローと同じ方向に、フィンガの前記第３のセット中の電流フローを発生させること
を更に備える、請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
前記キャパシタは、
前記第２の誘電体層上に配設されたフィンガの第３のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第３のセットは、前記第１の端子に電気結合される、
前記第２の誘電体層上に配設されたフィンガの第４のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第４のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第４のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第３のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在する、
を備え、前記方法は、
前記第１の電圧と前記第２の電圧との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第４のセット中の電流フローとは逆の方向に、フィンガの前記第３のセット中の電流フローを発生させること
を更に備える、請求項１２に記載の方法。
【請求項１６】
前記第１の電圧と前記第２の電圧との差分を変化させることと、
前記第１の電圧と前記第２の電圧との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第２のセット中の電流フローと同じ方向に、フィンガの前記第１のセットに沿った電流フローを発生させることと
を更に備える、請求項１１に記載の方法。
【請求項１７】
前記第１の電圧と前記第２の電圧との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第１のセット及び前記第２のセットに沿った電流フローとは反対方向に、前記第２の誘電体層上に配設された前記導電性トレースに沿った電流フローを発生させることを更に備える、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記キャパシタは、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第３のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第３のセットは、前記第１の端子に電気結合される、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第４のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第４のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第４のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第３のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在する、
を更に備え、前記方法は、
前記第１の電圧電位と前記第２の電圧電位との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第４のセット中の電流フローと同じ方向に、フィンガの前記第３のセット中の電流フローを発生させること、ここにおいて、フィンガの前記第１のセット及び前記第２のセット中の電流の前記フローは、フィンガの前記第３のセット及び前記第４のセット中の前記電流フローとは反対方向である、
を更に備える、請求項１６に記載の方法。
【請求項１９】
前記キャパシタは、
第３の誘電体層上に配設されたフィンガの第３のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第３のセットは、前記第１の端子に電気結合される、
前記第３の誘電体層上に配設されたフィンガの第４のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第４のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第４のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第３のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在する、
を更に備え、前記方法は、
前記第１の電圧電位と前記第２の電圧電位との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第４のセット中の電流フローと同じ方向に、フィンガの前記第３のセット中の電流フローを発生させること、ここにおいて、フィンガの前記第１のセット及び前記第２のセット中の電流の前記フローは、フィンガの前記第３のセット及び前記第４のセット中の前記電流フローと同じ方向又は反対方向である、
を更に備える、請求項１６に記載の方法。
【請求項２０】
前記キャパシタの真上又は真下にある第３の誘電体層上に配設されたインダクタにわたって前記第１の電圧及び前記第２の電圧又は電圧の異なるセットを印加することを更に備える、請求項１１に記載の方法。
【請求項２１】
装置であって、
キャパシタの第１の端子に第１の電圧を印加するための手段と、ここにおいて、前記第１の端子は、第１の誘電体層上に配設される、
前記キャパシタの第２の端子に第２の電圧を印加するための手段と、ここにおいて、前記第２の端子は、前記第１の誘電体層上に配設される、
を備え、前記キャパシタは、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第１のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第１のセットは、第２の誘電体層上に配設された導電性トレースを介して前記第１の端子に電気結合される、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第２のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第２のセットは、直接前記第２の端子に電気結合されるだけであり、前記第２のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第１のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在する、
を備える、装置。
【請求項２２】
前記第１の電圧と前記第２の電圧との差分を変化させるための手段と、
前記第１の電圧と前記第２の電圧との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第２のセット中の電流フローとは反対方向に、フィンガの前記第１のセットに沿った電流フローを発生させるための手段と
を更に備える、請求項２１に記載の装置。
【請求項２３】
前記キャパシタは、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第３のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第３のセットは、前記第１の端子に電気結合される、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第４のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第４のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第４のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第３のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在する、
を更に備え、前記装置は、
前記第１の電圧と前記第２の電圧との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第４のセット中の電流フローと同じ方向に、フィンガの前記第３のセット中の電流フローを発生させるための手段
を更に備える、請求項２２に記載の装置。
【請求項２４】
前記キャパシタは、
前記第２の誘電体層上に配設されたフィンガの第３のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第３のセットは、前記第１の端子に電気結合される、
前記第２の誘電体層上に配設されたフィンガの第４のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第４のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第４のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第３のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在する、
を更に備え、前記装置は、
前記第１の電圧と前記第２の電圧との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第４のセット中の電流フローと同じ方向に、フィンガの前記第３のセット中の電流フローを発生させるための手段
を更に備える、請求項２２に記載の装置。
【請求項２５】
前記キャパシタは、
前記第２の誘電体層上に配設されたフィンガの第３のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第３のセットは、前記第１の端子に電気結合される、
前記第２の誘電体層上に配設されたフィンガの第４のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第４のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第４のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第３のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在する、
を更に備え、前記装置は、
前記第１の電圧と前記第２の電圧との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第４のセットの電流フローとは逆の方向に、フィンガの前記第３のセット中の電流フローを発生させるための手段
を更に備える、請求項２２に記載の装置。
【請求項２６】
前記第１の電圧と前記第２の電圧との差分を変化させるための手段と、
前記第１の電圧と前記第２の電圧との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第２のセット中の電流フローと同じ方向に、フィンガの前記第１のセットに沿った電流フローを発生させるための手段と
を更に備える、請求項２１に記載の装置。
【請求項２７】
前記第１の電圧と前記第２の電圧との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第１のセット及び前記第２のセットに沿った電流フローとは反対方向に、前記第２の誘電体層上に配設された前記導電性トレースに沿った電流フローを発生させるための手段を更に備える、請求項２６に記載の装置。
【請求項２８】
前記キャパシタは、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第３のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第３のセットは、前記第１の端子に電気結合される、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第４のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第４のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第４のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第３のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在する、
を更に備え、前記装置は、
前記第１の電圧電位と前記第２の電圧電位との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第４のセット中の電流フローと同じ方向に、フィンガの前記第３のセット中の電流フローを発生させるための手段、ここにおいて、フィンガの前記第１のセット及び前記第２のセット中の電流の前記フローは、フィンガの前記第３のセット及び前記第４のセット中の前記電流フローとは反対方向である、
を更に備える、請求項２６に記載の装置。
【請求項２９】
前記キャパシタは、
第３の誘電体層上に配設されたフィンガの第３のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第３のセットは、前記第１の端子に電気結合される、
前記第３の誘電体層上に配設されたフィンガの第４のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第４のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第４のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第３のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在する、
を更に備え、前記装置は、
前記第１の電圧電位と前記第２の電圧電位との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第４のセット中の電流フローと同じ方向に、フィンガの前記第３のセット中の電流フローを発生させるための手段、ここにおいて、フィンガの前記第１のセット及び前記第２のセット中の電流の前記フローは、フィンガの前記第３のセット及び前記第４のセット中の前記電流フローと同じ方向又は反対方向である、
を更に備える、請求項２６に記載の装置。
【請求項３０】
前記キャパシタの真上又は真下にある第３の誘電体層上に配設されたインダクタにわたって前記第１の電圧及び前記第２の電圧又は電圧の異なるセットを印加するための手段を更に備える、請求項２１に記載の装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８１】
[0091]本開示の以上の説明は、当業者による本開示の実行又は使用を可能にするために提供される。本開示に対する様々な修正は当業者には容易に明らかであり、本明細書で定義された包括的な原理は、本開示の精神又は範囲から逸脱することなく、他の変形に適用され得る。従って、本開示は、本明細書で説明された例に限定されるよう意図されるものではなく、本明細書で開示された原理及び新規な特徴と一致する最も広い範囲を与えられることとなる。
以下に本願発明の当初の特許請求の範囲に記載された発明を付記する。
［Ｃ１］
装置であって、
キャパシタを備え、前記キャパシタは、
第１の誘電体層上に配設された第１の端子と、ここにおいて、前記第１の端子は、第１の電圧電位のソースに電気接続される、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第１のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第１のセットは、第２の誘電体層上に配設された導電性トレースを介して前記第１の端子に電気結合される、
前記第１の誘電体層上に配設された第２の端子と、ここにおいて、前記第２のキャパシタ端子は、第２の電圧電位のソースに電気接続される、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第２のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第２のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第２のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第１のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在する、
を備える装置。
［Ｃ２］
フィンガの前記第１のセット及び前記第２のセットは、フィンガの前記第１のセットに沿った電流フローが、前記第１の電圧電位と前記第２の電圧電位との差分の変化に応答して、フィンガの前記第２のセットに沿った電流フローとは反対方向となるように構成される、Ｃ１に記載の装置。
［Ｃ３］
前記キャパシタは、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第３のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第３のセットは、前記第１の端子に電気結合される、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第４のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第４のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第４のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第３のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在し、フィンガの前記第３のセット中の電流は、前記第１の電圧電位と前記第２の電圧電位との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第４のセット中の電流と同じ方向に流れる、
を更に備える、Ｃ２に記載の装置。
［Ｃ４］
前記キャパシタは、
前記第２の誘電体層上に配設されたフィンガの第３のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第３のセットは、前記第１の端子に電気結合される、
前記第２の誘電体層上に配設されたフィンガの第４のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第４のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第４のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第３のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在し、フィンガの前記第３のセット中の電流は、前記第１の電圧電位と前記第２の電圧電位との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第４のセット中の電流と同じ方向に流れる、
を更に備える、Ｃ２に記載の装置。
［Ｃ５］
前記キャパシタは、
前記第２の誘電体層上に配設されたフィンガの第３のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第３のセットは、前記第１の端子に電気結合される、
前記第２の誘電体層上に配設されたフィンガの第４のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第４のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第４のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第３のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在し、フィンガの前記第３のセット中の電流は、前記第１の電圧電位と前記第２の電圧電位との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第４のセット中の電流のフローとは逆の方向に流れる、
を更に備える、Ｃ２に記載の装置。
［Ｃ６］
フィンガの前記第１のセット及び前記第２のセットは、フィンガの前記第１のセットに沿った電流フローが、前記第１の電圧電位と前記第２の電圧電位との差分の変化に応答して、フィンガの前記第２のセット中の電流フローと同じ方向になるように構成される、Ｃ１に記載の装置。
［Ｃ７］
前記第２の誘電体層上に配設された前記導電性トレースに沿った電流フローは、前記第１の電圧電位と前記第２の電圧電位との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第１のセット及び前記第２のセットに沿った電流フローとは反対方向である、Ｃ６に記載の装置。
［Ｃ８］
前記キャパシタは、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第３のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第３のセットは、前記第１の端子に電気結合される、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第４のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第４のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第４のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第３のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在する、
を更に備え、
フィンガの前記第３のセット中の電流は、前記第１の電圧電位と前記第２の電圧電位との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第４のセット中の電流と同じ方向に流れ、
フィンガの前記第１のセット及び前記第２のセット中の電流の前記フローは、フィンガの前記第３のセット及び前記第４のセット中の前記電流フローとは反対方向である、
Ｃ６に記載の装置。
［Ｃ９］
前記キャパシタは、
第３の誘電体層上に配設されたフィンガの第３のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第３のセットは、前記第１の端子に電気結合される、
前記第３の誘電体層上に配設されたフィンガの第４のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第４のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第４のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第３のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在する、
を更に備え、
フィンガの前記第３のセット中の電流は、前記第１の電圧電位と前記第２の電圧電位との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第４のセット中の電流と同じ方向に流れ、
フィンガの前記第１のセット及び前記第２のセット中の電流の前記フローは、フィンガの前記第３のセット及び前記第４のセット中の前記電流フローと同じ方向又は反対方向である、
Ｃ６に記載の装置。
［Ｃ１０］
前記キャパシタの真上又は真下にある第３の誘電体層上に配設されたインダクタを更に備える、Ｃ１に記載の装置。
［Ｃ１１］
方法であって
キャパシタの第１の端子に第１の電圧を印加することと、ここにおいて、前記第１の端子は、第１の誘電体層上に配設される、
前記キャパシタの第２の端子に第２の電圧を印加することと、ここにおいて、前記第２の端子は、前記第１の誘電体層上に配設される、
を備え、前記キャパシタは、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第１のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第１のセットは、第２の誘電体層上に配設された導電性トレースを介して前記第１の端子に電気結合される、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第２のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第２のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第２のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第１のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在する、
を備える、方法。
［Ｃ１２］
前記第１の電圧と前記第２の電圧との差分を変化させることと、
前記第１の電圧と前記第２の電圧との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第２のセット中の電流フローとは反対方向に、フィンガの前記第１のセットに沿った電流フローを発生させることと
を更に備える、Ｃ１１に記載の方法。
［Ｃ１３］
前記キャパシタは、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第３のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第３のセットは、前記第１の端子に電気結合される、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第４のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第４のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第４のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第３のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在する、
を更に備え、前記方法は、
前記第１の電圧と前記第２の電圧との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第４のセット中の電流フローと同じ方向に、フィンガの前記第３のセット中の電流フローを発生させること
を更に備える、Ｃ１２に記載の方法。
［Ｃ１４］
前記キャパシタは、
前記第２の誘電体層上に配設されたフィンガの第３のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第３のセットは、前記第１の端子に電気結合される、
前記第２の誘電体層上に配設されたフィンガの第４のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第４のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第４のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第３のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在する、
を更に備え、前記方法は、
前記第１の電圧と前記第２の電圧との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第４のセット中の電流フローと同じ方向に、フィンガの前記第３のセット中の電流フローを発生させること
を更に備える、Ｃ１２に記載の方法。
［Ｃ１５］
前記キャパシタは、
前記第２の誘電体層上に配設されたフィンガの第３のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第３のセットは、前記第１の端子に電気結合される、
前記第２の誘電体層上に配設されたフィンガの第４のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第４のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第４のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第３のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在する、
を備え、前記方法は、
前記第１の電圧と前記第２の電圧との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第４のセット中の電流フローとは逆の方向に、フィンガの前記第３のセット中の電流フローを発生させること
を更に備える、Ｃ１２に記載の方法。
［Ｃ１６］
前記第１の電圧と前記第２の電圧との差分を変化させることと、
前記第１の電圧と前記第２の電圧との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第２のセット中の電流フローと同じ方向に、フィンガの前記第１のセットに沿った電流フローを発生させることと
を更に備える、Ｃ１１に記載の方法。
［Ｃ１７］
前記第１の電圧と前記第２の電圧との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第１のセット及び前記第２のセットに沿った電流フローとは反対方向に、前記第２の誘電体層上に配設された前記導電性トレースに沿った電流フローを発生させることを更に備える、Ｃ１６に記載の方法。
［Ｃ１８］
前記キャパシタは、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第３のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第３のセットは、前記第１の端子に電気結合される、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第４のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第４のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第４のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第３のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在する、
を更に備え、前記方法は、
前記第１の電圧電位と前記第２の電圧電位との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第４のセット中の電流フローと同じ方向に、フィンガの前記第３のセット中の電流フローを発生させること、ここにおいて、フィンガの前記第１のセット及び前記第２のセット中の電流の前記フローは、フィンガの前記第３のセット及び前記第４のセット中の前記電流フローとは反対方向である、
を更に備える、Ｃ１６に記載の方法。
［Ｃ１９］
前記キャパシタは、
第３の誘電体層上に配設されたフィンガの第３のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第３のセットは、前記第１の端子に電気結合される、
前記第３の誘電体層上に配設されたフィンガの第４のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第４のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第４のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第３のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在する、
を更に備え、前記方法は、
前記第１の電圧電位と前記第２の電圧電位との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第４のセット中の電流フローと同じ方向に、フィンガの前記第３のセット中の電流フローを発生させること、ここにおいて、フィンガの前記第１のセット及び前記第２のセット中の電流の前記フローは、フィンガの前記第３のセット及び前記第４のセット中の前記電流フローと同じ方向又は反対方向である、
を更に備える、Ｃ１６に記載の方法。
［Ｃ２０］
前記キャパシタの真上又は真下にある第３の誘電体層上に配設されたインダクタにわたって前記第１の電圧及び前記第２の電圧又は電圧の異なるセットを印加することを更に備える、Ｃ１１に記載の方法。
［Ｃ２１］
装置であって、
キャパシタの第１の端子に第１の電圧を印加するための手段と、ここにおいて、前記第１の端子は、第１の誘電体層上に配設される、
前記キャパシタの第２の端子に第２の電圧を印加するための手段と、ここにおいて、前記第２の端子は、前記第１の誘電体層上に配設される、
を備え、前記キャパシタは、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第１のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第１のセットは、第２の誘電体層上に配設された導電性トレースを介して前記第１の端子に電気結合される、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第２のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第２のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第２のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第１のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在する、
を備える、装置。
［Ｃ２２］
前記第１の電圧と前記第２の電圧との差分を変化させるための手段と、
前記第１の電圧と前記第２の電圧との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第２のセット中の電流フローとは反対方向に、フィンガの前記第１のセットに沿った電流フローを発生させるための手段と
を更に備える、Ｃ２１に記載の装置。
［Ｃ２３］
前記キャパシタは、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第３のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第３のセットは、前記第１の端子に電気結合される、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第４のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第４のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第４のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第３のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在する、
を更に備え、前記装置は、
前記第１の電圧と前記第２の電圧との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第４のセット中の電流フローと同じ方向に、フィンガの前記第３のセット中の電流フローを発生させるための手段
を更に備える、Ｃ２２に記載の装置。
［Ｃ２４］
前記キャパシタは、
前記第２の誘電体層上に配設されたフィンガの第３のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第３のセットは、前記第１の端子に電気結合される、
前記第２の誘電体層上に配設されたフィンガの第４のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第４のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第４のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第３のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在する、
を更に備え、前記装置は、
前記第１の電圧と前記第２の電圧との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第４のセット中の電流フローと同じ方向に、フィンガの前記第３のセット中の電流フローを発生させるための手段
を更に備える、Ｃ２２に記載の装置。
［Ｃ２５］
前記キャパシタは、
前記第２の誘電体層上に配設されたフィンガの第３のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第３のセットは、前記第１の端子に電気結合される、
前記第２の誘電体層上に配設されたフィンガの第４のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第４のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第４のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第３のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在する、
を更に備え、前記装置は、
前記第１の電圧と前記第２の電圧との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第４のセットの電流フローとは逆の方向に、フィンガの前記第３のセット中の電流フローを発生させるための手段
を更に備える、Ｃ２２に記載の装置。
［Ｃ２６］
前記第１の電圧と前記第２の電圧との差分を変化させるための手段と、
前記第１の電圧と前記第２の電圧との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第２のセット中の電流フローと同じ方向に、フィンガの前記第１のセットに沿った電流フローを発生させるための手段と
を更に備える、Ｃ２１に記載の装置。
［Ｃ２７］
前記第１の電圧と前記第２の電圧との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第１のセット及び前記第２のセットに沿った電流フローとは反対方向に、前記第２の誘電体層上に配設された前記導電性トレースに沿った電流フローを発生させるための手段を更に備える、Ｃ２６に記載の装置。
［Ｃ２８］
前記キャパシタは、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第３のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第３のセットは、前記第１の端子に電気結合される、
前記第１の誘電体層上に配設されたフィンガの第４のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第４のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第４のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第３のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在する、
を更に備え、前記装置は、
前記第１の電圧電位と前記第２の電圧電位との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第４のセット中の電流フローと同じ方向に、フィンガの前記第３のセット中の電流フローを発生させるための手段、ここにおいて、フィンガの前記第１のセット及び前記第２のセット中の電流の前記フローは、フィンガの前記第３のセット及び前記第４のセット中の前記電流フローとは反対方向である、
を更に備える、Ｃ２６に記載の装置。
［Ｃ２９］
前記キャパシタは、
第３の誘電体層上に配設されたフィンガの第３のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第３のセットは、前記第１の端子に電気結合される、
前記第３の誘電体層上に配設されたフィンガの第４のセットと、ここにおいて、フィンガの前記第４のセットは、前記第２の端子に電気結合され、前記第４のセットの前記フィンガのうちの少なくともいくつかは、前記第３のセットのフィンガの隣接対間に各々位置し、それと略並列に延在する、
を更に備え、前記装置は、
前記第１の電圧電位と前記第２の電圧電位との前記差分の前記変化に応答して、フィンガの前記第４のセット中の電流フローと同じ方向に、フィンガの前記第３のセット中の電流フローを発生させるための手段、ここにおいて、フィンガの前記第１のセット及び前記第２のセット中の電流の前記フローは、フィンガの前記第３のセット及び前記第４のセット中の前記電流フローと同じ方向又は反対方向である、
を更に備える、Ｃ２６に記載の装置。
［Ｃ３０］
前記キャパシタの真上又は真下にある第３の誘電体層上に配設されたインダクタにわたって前記第１の電圧及び前記第２の電圧又は電圧の異なるセットを印加するための手段を更に備える、Ｃ２１に記載の装置。
【国際調査報告】
2018534767.tif 000016
2018534767.tif 000017
2018534767.tif 000018