(57)【要約】  ガラスエッジ仕上げ装置のためのガラス支持システムは、ガラス基板のエッジに沿ってガラス供給方向に長手に延在するように構成された真空部材を備える。その真空部材は、中に配置された圧力チャンバを含む真空本体およびその圧力チャンバと連通し、中を延在する真空開口のアレイを有する支持面を有する。その真空開口のアレイは、多数の並んだ行であって、その多数の行の各々に沿った真空開口の間に実質的に均一な間隔を有する行で配列されている。
2018522810.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス支持システムにおいて、
ガラス基板のエッジに沿ってガラス供給方向に長手に延在するように構成された真空部材であって、その中に配置された圧力チャンバを含む真空本体および前記圧力チャンバと連通し、中を延在する真空開口のアレイを有する支持面を備える真空部材、
を備え、
前記真空開口のアレイは、多数の並んだ行で、該多数の行の各々に沿った前記真空開口の間に実質的に均一な間隔で配列されている、ガラス支持システム。
【請求項２】
前記真空開口のアレイが、多数の並んだ列であって、該多数の列の各々に沿った前記真空開口の間に実質的に均一な間隔を有する列で配置されている、請求項１記載のガラス支持システム。
【請求項３】
前記ガラス基板が移動できる経路を提供するために、上側エッジ案内部材および該上側エッジ案内部材から間隔が空けられた下側エッジ案内部材を含むエッジ案内アセンブリをさらに備える、請求項１または２記載のガラス支持システム。
【請求項４】
前記上側エッジ案内部材および前記下側エッジ案内部材の少なくとも一方が、前記ガラス基板と接触するように構成された動的支持面を形成するローラを含む、請求項３記載のガラス支持システム。
【請求項５】
前記上側エッジ案内部材および前記下側エッジ案内部材の少なくとも一方が、前記ガラス基板と接触するように構成された材料のバーを備える、請求項３記載のガラス支持システム。
【請求項６】
前記上側エッジ案内部材および前記下側エッジ案内部材の少なくとも一方が、前記ガラス基板と接触するように構成された案内面を備えたベルトを含むベルトアセンブリを備える、請求項３記載のガラス支持システム。
【請求項７】
ガラスエッジ仕上げ装置において、
ガラス移送システム、および
前記ガラス移送システムによってガラス供給方向に動かされるガラス支持システムであって、厚さが約０．７ｍｍ以下であり、略平面および該略平面に対して垂直な面外方向を有するガラス基板を支持するように構成され、
前記ガラス基板のエッジに沿って、前記ガラス供給方向に長手に延在するように構成された真空部材であり、中に配置された圧力チャンバを含む真空本体、および前記圧力チャンバと連通し、中を延在する、１００ｃｍ2の支持表面積当たり少なくとも約２５の開口の開口密度を持つ真空開口のアレイを有する支持面を備えた真空部材、
を含むガラス支持システム、
を備えたガラスエッジ仕上げ装置。
【請求項８】
前記ガラス基板が移動できる経路を提供するために、上側エッジ案内部材および該上側エッジ案内部材から間隔が空けられた下側エッジ案内部材を含むエッジ案内アセンブリをさらに備える、請求項７記載のガラスエッジ仕上げ装置。
【請求項９】
前記上側エッジ案内部材および前記下側エッジ案内部材の少なくとも一方が、前記ガラス基板と接触するように構成された動的支持面を形成するローラを含む、請求項８記載のガラスエッジ仕上げ装置。
【請求項１０】
前記上側エッジ案内部材および前記下側エッジ案内部材の少なくとも一方が、前記ガラス基板と接触するように構成された材料のバーを備える、請求項８記載のガラスエッジ仕上げ装置。
【請求項１１】
前記上側エッジ案内部材および前記下側エッジ案内部材の少なくとも一方が、前記ガラス基板と接触するように構成された案内面を備えたベルトを含むベルトアセンブリを備える、請求項８記載のガラスエッジ仕上げ装置。
【請求項１２】
ガラス基板のエッジを仕上げる方法において、
前記ガラス基板をガラス支持システム上で支持する工程であって、該ガラス基板は、略平面、約０．７ｍｍ以下の厚さ、および前記略平面に対して垂直な面外方向を有し、前記ガラス支持システムは、
前記ガラス基板のエッジに沿ってガラス供給方向に長手に延在するように構成された真空部材であり、中に配置された圧力チャンバを含む真空本体および前記圧力チャンバと連通し、中を延在する、１００ｃｍ2当たり少なくとも約２５の開口の開口密度を持つ真空開口のアレイを有する支持面を備える真空部材、
を含むものである工程、
前記真空開口のアレイを通じて、負圧を前記略平面に印加する工程、および
砥石車アセンブリを使用して、前記ガラス基板のエッジを面取りする工程、
を有してなる方法。
【請求項１３】
前記ガラス基板が移動できる通路を提供するために、上側エッジ案内部材および該上側エッジ案内部材から間隔が空けられた下側エッジ案内部材を含むエッジ案内アセンブリを使用して、前記ガラス基板を支持する工程をさらに含む、請求項１２記載の方法。
【請求項１４】
前記真空開口のアレイが、多数の並んだ列であって、該多数の列の各々に沿った前記真空開口の間に実質的に均一な間隔を有する列で配置されている、請求項１２または１３記載の方法。
【請求項１５】
前記真空開口のアレイが、多数の並んだ行であって、該多数の行の各々に沿った前記真空開口の間に実質的に均一な間隔を有する行で配列されている、請求項１４記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【優先権】
【０００１】
本出願は、その内容が依拠され、ここに全て引用される、２０１５年７月２１日に出願された米国仮特許出願第６２／１９４９５２号の米国法典第３５編第１１９条の下での優先権の恩恵を主張するものである。
【技術分野】
【０００２】
本開示は、ガラス基板をエッジ仕上げするための方法および装置に関し、より詳しくは、エッジの面取りの対称性を増すために使用される方法および装置に関する。
【背景技術】
【０００３】
従来のガラスエッジ仕上げ装置は、主に、より薄いガラス基板と比べて剛性が比較的高い比較的厚いガラス基板のために開発されてきた。一例として、ガラス板は、機械的刻みおよび分割過程を使用して形成された後、典型的に、砥石車を使用して研磨されるエッジを有する。特定の用途において、例えば、自動車産業において、ガラス板の外周のプロファイルが丸まったガラス板のエッジを提供することが望ましいであろう。
【０００４】
フラットパネルディスプレイおよび他の用途では、しばしば、自動車産業に用いられるよりもずっと薄いガラス板が使用される。より薄いガラス板は、より厚いガラス板と比べて、低下した剛性および増加した可撓性を有することができる。低下した剛性および増加した可撓性を有するそのような薄いガラス板をエッジ仕上げすると、少なくとも一部には、エッジ仕上げ過程に伴う力のために、難題がもたらされ得る。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
したがって、比較的薄いガラス基板を含むガラス基板をエッジ仕上げするための方法および装置が必要とされている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
可撓性ガラス基板の機械的信頼性を改善するための１つの技術は、例えば、所定のエッジ強度を達成するために、可撓性ガラス基板のエッジを研削し、研磨して、可撓性ガラス層における望ましくない亀裂および割れ目を除去することである。この目的を達成するために、ガラス基板を効果的に仕上げしつつ、ここで面取りと称される過程においてエッジに丸い形状を与えるために、エッジ仕上げ装置が使用される、ガラス基板を仕上げるための方法および装置がここに記載されている。
【０００７】
１つの実施の形態によれば、ガラスエッジ仕上げ装置のためのガラス支持システムは、ガラス基板のエッジに沿ってガラス供給方向に長手に延在するように構成された真空部材、例えば、真空チャックを備える。その真空部材は、その中に配置された圧力チャンバを含む真空本体およびその圧力チャンバと連通し、中を延在する真空開口のアレイを有する支持面を備える。その真空開口のアレイは、多数の並んだ行であって、その多数の行の各々に沿った真空開口の間に実質的に均一な間隔を有する行で配列されている。
【０００８】
別の実施の形態によれば、ガラスエッジ仕上げ装置は、ガラス移送システムおよびそのガラス移送システムによってガラス供給方向に動かされるガラス支持システムを備える。そのガラス支持システムは、厚さが約０．７ｍｍ以下のガラス基板を支持するように構成できる。そのガラス基板は、略平面およびその略平面に対して垂直な面外方向を有する。ガラス供給方向はその面外方向に対して垂直である。そのガラス支持システムは、ガラス基板のエッジに沿って、ガラス供給方向に長手に延在するように構成された真空部材、例えば、真空チャックを備え得る。その真空部材は、その中に配置された圧力チャンバを含む真空本体を備えており、さらに、その圧力チャンバと連通し、中を延在する真空開口のアレイを有する支持面を含むことがある。その真空開口のアレイは、１００ｃｍ2の支持表面積当たり少なくとも約２５の開口を含み得る。
【０００９】
さらに別の実施の形態によれば、厚さが約０．７ｍｍ以下のガラス基板のエッジを仕上げる方法が提供される。その方法は、そのガラス基板をガラス支持システム上で支持する工程を有してなる。そのガラス基板は、略平面、その略平面に対して垂直な面外方向、およびその面外方向に対して垂直なガラス供給方向を有する。そのガラス支持システムは、ガラス基板のエッジに沿ってガラス供給方向に長手に延在するように構成された真空部材、例えば、真空チャックを備えることがある。その真空部材は、その中に配置された圧力チャンバを含む真空本体およびその圧力チャンバと連通し、中を延在する真空開口のアレイを有する支持面を備え得る。その真空開口のアレイは、１００ｃｍ2の支持表面積当たり少なくとも約２５の開口を含むことがある。真空開口のアレイを通じて、負圧をその真空部材に面する略平面に印加することができる。ガラス基板のエッジは、砥石車アセンブリを使用して面取りされることがある。
【００１０】
さらに別の実施の形態によれば、ガラスエッジ仕上げ装置は、ガラス移送システムおよびそのガラス移送システムによってガラス供給方向に動かされるガラス支持システムを備える。そのガラス支持システムは、厚さが約０．７ｍｍ以下のガラス基板を支持するように構成されることがある。そのガラス基板は、略平面およびその略平面に対して垂直な面外方向を有する。ガラス供給方向はその面外方向に対して垂直である。そのガラス支持システムは、ガラス基板のエッジに沿って、ガラス供給方向に長手に延在するように構成された真空部材、例えば、真空チャックを備え得る。その真空部材は、その中に配置された圧力チャンバを含む真空本体およびその圧力チャンバと連通し、中を延在する複数の真空開口を有する支持面を備えることがある。砥石車アセンブリも提供されることがあり、この砥石車アセンブリは、ガラス基板がガラス移送システムによってガラス供給方向に砥石車アセンブリにより動かされるときに、ガラス基板のエッジを面取りするように構成される。エッジ案内アセンブリが、砥石車アセンブリと真空部材との間に配置されることがあり、ガラス基板が移動できる経路を提供するために上側エッジ案内部材およびその上側エッジ案内部材から間隔が置かれた下側エッジ案内部材を備え得る。
【００１１】
ここに記載された追加の特徴および利点は、以下の詳細な説明に述べられており、一部は、その説明から当業者に容易に明白となるか、または以下の詳細な説明、特許請求の範囲、並びに添付図面を含む、ここに記載された実施の形態を実施することによって認識されるであろう。
【００１２】
先の一般的な説明および以下の詳細な説明の両方とも、様々な実施の形態を記載しており、請求項の主題の性質および特徴を理解するための概要または骨子を提供する目的であることが理解されよう。添付図面は、様々な実施の形態のさらなる理解を与えるために含まれ、本明細書に包含され、その一部を構成する。図面は、ここに記載された様々な実施の形態を示しており、説明と共に、請求項の主題の原理および作動を説明する働きをする。
【００１３】
本開示のこれらと他の特徴、態様および利点は、本開示の以下の詳細な説明を、添付図面を参照して読んだときに、より良く理解される。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】ガラス基板の面取りされたエッジの説明図
【図２】ガラスエッジの面外の垂直変位と結果として生じたエッジの面取り部非対称性との間の関係を示すグラフ
【図３】ガラス仕上げ装置の説明図
【図４】図３の仕上げ装置に使用するための真空部材およびガラス基板の詳細図
【図５】ガラスエッジの平坦性を示すグラフ
【図６】分離して示された図４の真空部材の上面図
【図７】例示の真空部材の斜視図
【図８】図７の真空部材の断面図
【図９】別の例示の真空部材の断面図
【図１０】別の例示の真空部材の断面図
【図１１】別の例示の真空部材の上面図
【図１２】さらに別の例示の真空部材の上面図
【図１３】別の例示の真空部材の上面図
【図１４】多数の真空部材を含むガラス支持構造の説明図
【図１５】図３のガラス仕上げ装置に使用するための砥石車の詳細説明図
【図１６】規則的な分布の真空開口を使用することにより与えられる、減少したエッジ面取り部非対称性を示すグラフ
【図１７】ガラス基板に沿った位置に対するガラスの剛性をプロットしたグラフ
【図１８】ガラス基板の厚さに対するガラス基板の曲げ剛性を示すグラフ
【図１９】エッジ案内アセンブリと砥石車の説明図
【図２０】エッジ案内アセンブリの説明図
【図２１】ガラスエッジ仕上げ装置の説明図
【図２２】図２１のガラスエッジ仕上げ装置の別の説明図
【図２３】別のガラスエッジ仕上げ装置の説明図
【図２４】図２３のガラスエッジ仕上げ装置の別の説明図
【図２５】エッジ案内アセンブリの説明図
【図２６】エッジ案内アセンブリの別の説明図
【図２７】エッジ案内アセンブリの別の説明図
【図２８】エッジ案内アセンブリを使用することにより与えられる、減少したエッジ面取り部非対称性を示す代表的なグラフ
【発明を実施するための形態】
【００１５】
ガラスは本質的に強い材料であるが、その強度と機械的信頼性は、表面欠陥または不具合のサイズ密度分布および時間経過による応力へのその材料の累積暴露の関数である。エッジ強度は、ガラス基板の機械的信頼性の重要な要因であり得る。製品ライフサイクル中ずっと、ガラス基板は、様々な種類の静的および動的機械的応力に暴露されるであろう。ここに記載された実施の形態は、広く、ガラス基板を効果的に仕上げ、ガラス基板のエッジ強度および機械的信頼性を改善するために、エッジ仕上げ装置が使用される、ガラス基板を仕上げるための方法および装置に関する。
【００１６】
ガラスリボンから、またはより大きいガラス基板から切り取られたガラス基板は、切取り操作中に形成された鋭いエッジを有する傾向にある。そのガラス基板の鋭いエッジは、取扱い中に損傷を受けやすい。エッジの不具合、例えば、切り屑、亀裂などは、ガラスの強度を低下させるであろう。ガラス基板のエッジは、損傷を受けやすい鋭いエッジをなくすために、研削および形削り、例えば、面取りによって、鋭いエッジを除去するために加工されることがある。ガラス基板から鋭いエッジを除去することにより、ガラス基板の不具合が最小になり、それによって、取扱い中のガラス板に対する損傷の傾向が低下するであろう。
【００１７】
ガラス基板のエッジを研削し、形削りするために、「カップ」ホイールおよび「成形」ホイールの使用を含む、様々な砥石車が使用されることがある。カップホイールは、形状が略円形であり、カップホイールの外周から間隔が置かれた窪んだ中央領域を備える。このカップホイールはガラス基板と接触させられ、そこで、カップホイールの平坦面がガラス基板と接触する一方で、カップホイールの外周面はガラス基板から間隔が置かれている。成形ホイールは、その成形ホイールの外周面のエッジに配置された溝を備える。その溝は、基板のエッジの加工形状に対応するプロファイルを備える。成形ホイールの溝がガラス基板のエッジと接触させられて、そのエッジを研削し、形削りする。
【００１８】
例示の基板のエッジ１２を示している、図１を参照すると、「第一の表面」という用語およびその用語の他の変種は、ガラス基板１０の第一の比較的平坦な領域を示すためにここに使用される。この第一の表面は図１に１４で示されている。同様に、「第二の表面」という用語およびその用語の他の変種は、基板１０の第二の比較的平坦な表面領域を示すためにここに使用され、これは、第一の表面１４に対して実質的に平行である。この第二の表面は図１に１６で示されている。
【００１９】
「第一の面取り部」および「第一の面取り部分」という用語、並びにその用語の他の変種は、第一の表面１４と基板のエッジ１２の先端１８との間に位置する、基板のエッジの第一の部分を示すためにここに用いられる。その第一の面取り部は図１に２０で示されている。同様に、「第二の面取り部」および「第二の面取り部分」という用語、並びにその用語の他の変種は、第二の表面１６と先端１８との間に位置する、基板のエッジの第二の部分を示すためにここに用いられる。この第二面の取り部は図１に２２で示されている。特定の実施の形態において、第一と第二の面取り部２０および２２は、図１に示されるように、湾曲していることがある；しかしながら、第一と第二の面取り部は、他の非限定的実施の形態において、比較的平らであってもよい。
【００２０】
「先端」という用語、およびその用語の他の変種は、第一と第二の面取り部２０および２２が収束する、基板のエッジ１２の端部領域を示すためにここに用いられる。図１は、先端１８を、所定の長さを有する平坦区域として示していることに留意されたい；しかしながら、先端１８は、基板のエッジ１２が表面１４から表面１６まで実質的に連続した曲面であるように、第一と第二の面取り部が合わさる有限点でもあり得る。
【００２１】
「第一の面取り部と表面との界面」という用語、およびその用語の他の変種は、第一の面取り部分が比較的平坦な第一の表面１４と合わさる領域を示すためにここに用いられる。この第一の面取り部と表面との界面は図１に２６で示されている。同様に、「第二の面取り部と表面との界面」という用語、およびその用語の他の変種は、第二の面取り部分が比較的平坦な第二の表面１６と合わさる領域を示すためにここに用いられる。この第二の面取り部と表面との界面は図１に２８で示されている。
【００２２】
ガラス基板１０は、以下に限られないが、例えば、約０．０１から約０．２００ｍｍの範囲、例えば、約０．０５ｍｍから約０．１ｍｍ、約０．１ｍｍから約０．１５ｍｍ、約０．１５ｍｍから約０．３ｍｍ、約０．１００ｍｍから約０．２００ｍｍの範囲と、それらの間の全ての範囲と部分的な範囲の厚さを含む約０．３ｍｍ以下の厚さ３０を有する可撓性ガラス基板であることがある。例示の厚さとしては、０．３、０．２７５、０．２５、０．２２５、０．２、０．１９、０．１８、０．１７、０．１６、０．１５、０．１４、０．１３、０．１２、０．１１、０．１０、０．０９、０．０８、０．０７、０．０６、０．０５、０．０４、０．０３、０．０２、または０．０１ｍｍが挙げられる。いくつかの実施の形態において、ガラス基板１０の厚さ３０は、約０．７ｍｍ以下であることがある。ガラス基板１０は、ガラス、ガラスセラミックまたはその複合体から形成されることがある。高品質のガラス基板を形成するフュージョン法（例えば、ダウンドロー法）を様々な装置に使用することができ、そのような用途の１つはフラットパネルディスプレイである。フュージョン法で製造されるガラス基板は、他の方法で製造されるガラス基板と比べて、平坦性および平滑性が優れた表面を有する。そのフュージョン法は、米国特許第３３３８６９６号および同第３６８２６０９号の各明細書に記載されている。他の適切なガラス基板形成法としては、フロート法、アップドロー法およびスロットドロー法が挙げられる。
【００２３】
理論で束縛する意図はないが、比較的薄いガラス基板１０（約０．７ｍｍ以下）について、水平に向けられたガラス基板１０の第一の面取り部と表面との界面２６および第二の面取り部と表面との界面２８に関する対称形状特徴には、ガラス基板１０の曲げ中の塑性変形に対するエッジ抵抗に直接的な影響があり得る。「エッジ面取り部非対称性」とここに称されることもある、第一の面取り部分２０と第二の面取り部分２２との間のエッジの非対称性は、ガラス基板１０のエッジ強度に直接関連する。エッジ面取り部非対称性は、基板の厚さ３０の方向における先端１８までの第一と第二の面取り部分２０および２２のそれぞれの幅Ｗ1およびＷ2により測定されることがある。面取り過程中のガラス基板１０の面外の基板のエッジ１２の撓みにより、エッジ面取り部非対称性が生じ得る。図２は、厚さ約０．５ｍｍのガラス基板１０に関する、基板のエッジ１２の撓みと結果として生じたエッジ面取り部非対称性との間の例示の関係を示す。図から分かるように、位置範囲Ｒでは、基板のエッジ１２の撓みが大幅に増し（線３１で示されるように）、結果として、エッジ面取り部非対称性が増す（線３２および４０に示されるように）。
【００２４】
特に、薄いガラス基板１０に関する、エッジ水平平坦性（すなわち、最小の垂直変位）は、面取り過程中の支持の有効性の影響を受け得る。図３を参照すると、面取り過程を実施するのに適したガラスエッジ仕上げ装置４０は、ガラス移送システム４４およびガラス支持システム４６を含む支持装置４２を備える。ガラス移送システム４４は、ガラス支持システム４６を供給方向に移動させる（例えば、平行移動させる）ことができ、この供給方向は、ガラス基板５０のエッジ４８と概略（平行に）揃えることができる。ガラス支持システム４６は、ガラス移送システム４４により供給方向に搬送されるか、または他の様式で動かされるであろう。ガラス支持システム４６は、ガラス基板５０の互いに反対のエッジ４８および５８に沿って、かついくつかの実施の形態において、供給方向にガラス基板５０の実質的に全長に沿って延在する、エッジ真空部材５４および５６、例えば、真空チャックを含む真空システム５２を備える。いくつかの実施の形態において、真空部材５４および５６は、単一の細長い真空部材から形成されることがある。他の実施の形態において、多数の真空部材が使用され、例えば、供給方向に並んで整列されることがある。エッジ真空部材５４および５６のみが示されているが、内側真空部材も利用してよい（図１４参照）。
【００２５】
図４は、真空部材５６およびガラス基板５０の詳細図を示している。真空部材５６は、面取り過程中にガラス基板５０のエッジ４８の動き（水平および垂直）を抑制するのに十分な真空吸引力を印加することができる。ここに用いたように、「真空吸引力」は、吸引圧力を乗じた真空部材５６の全ての真空開口の累積面積を称する。図から分かるように、真空吸引力は、ガラス基板５０のエッジ４８の近くにそこから間隔が置かれた真空部材５６によって印加することができる。真空部材５６のこの位置により、突出部が始まる真空部材５６の外縁６２からエッジ４８まで、エッジ４８（または供給方向）に対して垂直な方向に測定される突出距離ＤOHを有する突出領域６０がガラス基板５０に形成される。いくつかの実施の形態において、突出距離ＤOHは、約１０ｍｍ以上、約１５ｍｍ以上、約２０ｍｍ以上などの、約６ｍｍ以上であることがある。いくつかの実施の形態において、突出距離ＤOHは、約５ｍｍと約３０ｍｍの間であることがある。
【００２６】
下記に記載されるように、真空部材５６には、真空開口６６のアレイ６４が設けられており、そのアレイ６４の１つ以上の領域は、真空開口６６の規則的な、一定間隔のまたは均一な分布（例えば、行および／または列）を有することがある。真空開口６６のアレイ６４のそのような配列は、面取りまたは他のエッジ仕上げ過程中に自由にぶら下がるエッジに関して比較的平坦なエッジ４８をガラス基板５０に生じることができ、これにより、水平に向けられたガラス基板５０に関する第一の面取り部と表面との界面２６、および第二の面取り部と表面との界面２８の間の対称性を改善することができる（図１）。例えば、図５は、異なる突出距離および圧力値での、厚さが０．５ｍｍおよび０．３ｍｍのガラス基板に関するエッジの平坦性を示す。図から分かるように、ガラス基板の長さの少なくとも一部、ほとんどまたは全てに亘り、約０．１ｍｍ未満などの最小化された垂直変位をガラスエッジに達成することができる。
【００２７】
図６を参照すると、真空部材５６は、分離して示されており、中に配置された圧力チャンバおよび真空開口６６のアレイ６４を提供する真空本体７０を備える。真空開口６６は、真空部材５６の支持面７２から延在する通路６７（図８）と連通し、真空本体７０内に配置された圧力チャンバと連通している。図７および８を手短に参照すると、いくつかの実施の形態において、支持面７２は、ガラス基板５０と接触し、上にそのガラス基板を損傷せずに支持するのに適した柔軟材料（例えば、シリコーン、ゴム、軟質プラスチックなど）の層として形成される柔軟部材７４により設けられることがある。柔軟部材７４は、真空開口６６と圧力チャンバ７８との間に通路６７を設けるために（図８）、真空本体７０に設けられた開口のアレイ７６にぴったり一致する真空開口６６のアレイ６４を備えることがある。他の実施の形態において、その真空本体は、支持面７２の真空開口６６のアレイ６４と一致せず、それでも、圧力チャンバ７８からそこに負圧を分配することができるスロットおよび／または開口を備えることがある。矢印７５により示される排気口を、圧力チャンバ７８から空気または他の適切な気体を吸い込むために設けてもよい。
【００２８】
前記真空部材は、単体または多部材構造であってもよい。例えば、図９を参照すると、真空部材８１は、単体モノリス構造を有する真空本体８３を有することがある。真空本体８３は、中に設けられた圧力チャンバ８５および真空部材８１をガラス移送システムに接続できるようにする、圧力チャンバ８５から離れた、真空本体８３の一部として形成された接続手段８７を備えることがある。吸気口７７および排気口７９は、圧力チャンバ８５に正圧と負圧を供給することができる。図１０は、真空部材９１が、チャンバ筐体部材９５およびキャップ部材９７により形成された真空本体９３を備える。真空部材９１をガラス移送システムに接続するために、接続手段９９が設けられることがある。
【００２９】
再び図６を参照すると、アレイ６４の真空開口６６は、行Ｒ1〜Ｒxおよび列Ｃ1〜Ｃxの両方に配置され、それによって、局所的吸引点を与えることができる。この例において、特定の行Ｒの真空開口６６は、実質的に同じ幅、またはこの例においては、半径（例えば、約２ｍｍ以下などの約５ｍｍ以下）を有し、各々が、特定の行Ｒに沿って互いから等間隔が空けられている。他の実施の形態において、その真空開口の１つ以上が１つまたは複数の異なる半径を有することがある。一例として、隣接する真空開口６６に、特定の行Ｒに亘り約２０ｍｍで等間隔が空けられていることがある。他の実施の形態において、隣接する真空開口６６の間の間隔は、例えば、ガラス基板のサイズ、仕上げ操作の種類などに応じて、約１５ｍｍまたは約１０ｍｍまたさらにはそれより小さい間隔などの２０ｍｍ未満であることがある。図６の実施の形態において、真空開口６６は、Ｓ1で示されるように、中心間が１０ｍｍで等間隔が空けられている。
【００３０】
特定の列Ｃの真空開口６６は、実質的に同じ半径（例えば、約２ｍｍ以下などの約５ｍｍ以下）を有し、各々が、特定の列Ｃに沿って互いから等間隔が空けられている。他の実施の形態において、その真空開口の１つ以上が１つまたは複数の異なる半径を有することがある。一例として、隣接する真空開口６６に、特定の列Ｃに沿って約２０ｍｍで等間隔が空けられていることがある。他の実施の形態において、隣接する真空開口６６の間の間隔は、例えば、ガラス基板のサイズ、仕上げ操作の種類などに応じて、約１５ｍｍまたは約１０ｍｍまたさらにはそれより小さい間隔などの２０ｍｍ未満であることがある。図６の実施の形態において、真空開口６６は、Ｓ2で示されるように、中心間が１０ｍｍで等間隔が空けられており、真空開口の矩形行列を形成している。
【００３１】
局所的吸引点を形成する真空開口のどの適切なアレイを使用してもよい。いくつかの実施の形態において、４ｍｍ以下などの約１０ｍｍ以下の幅（または直径）を有し、１００ｃｍ2当たり約２５の真空開口から約２００の真空開口を有するアレイが設けられることがある。図６の実施の形態において、アレイ６４は、１００ｃｍ2当たり約１００の真空開口６６を有する。
【００３２】
図１１〜１３は、真空開口の他のアレイ配置を有する他の真空部材の実施の形態を示している。図１１の実施の形態において、真空部材８０は、真空部材５６に関して上述した特徴の多くを備えている。この例示の実施の形態において、真空部材８０は、行Ｒ1〜Ｒxおよび列Ｃ1〜Ｃxの両方に配置された真空開口８４のアレイを備え、それによって、局所的吸引点を与える。しかしながら、この実施の形態において、行間隔Ｓ1は、列に沿った列間隔Ｓ2より大きい。図１２は、行に沿った行間隔Ｓ1が、列に沿った列間隔Ｓ2より大きい真空部材８１の別の例示の実施の形態を示す。図１３は、行に沿った行間隔Ｓ1が、列に沿った列間隔Ｓ2より大きい真空部材８６の別の例示の実施の形態を示す。この実施の形態において、行は互いからずれて、斜めの列を形成する。下記の表は、０．２ｍｍ厚のガラス基板を使用した、５０ｋＰａの圧力を印加した状態の図６および１１〜１３に示された真空部材の実施の形態の特定の性質を示している。これらの値は、例示に過ぎず、制限を意図しない。
【００３３】
【表１】
2018522810.tif 000003
【００３４】
表から分かるように、有限要素解析（ＦＥＡ）を使用して決定した最大主応力により、使用中に２０ＭＰａ未満の応力が生じ得、それにより、ガラス基板のエッジでのまたはその近くでのガラス損傷の傾向が減少し得る。最大主応力は、ガラス基板への全引張応力効果の指標である。
【００３５】
図１４を参照すると、多数の真空部材１０２、１０４、１０６および１０８を備えた例示のガラス支持システム１００が示されている（例えば、図３の仕上げ装置に使用するための）。一例として、真空部材は、上述した真空部材のいずれか１つ以上であって差し支えない。図から分かるように、真空部材１０２および１０８は、ガラス基板１１４のエッジ１１０および１１２の最も近くにある最も外側の真空部材であり、真空部材１０４および１０６は、エッジ１１０および１１２から最も遠くにある最も内側の真空部材である。真空部材１０２、１０４、１０６および１０８は、全てが同じ寸法の（または異なる寸法の）ものであってよく、ガラス基板１１４の実質的に全長に沿って延在し得る。ガラス仕上げ操作のために、上述したように、突出領域１１６および１１８を設けてもよい。
【００３６】
図３に戻ると、ガラス基板５０がガラス支持システム４６により一旦支持されたら、ガラス基板５０およびガラス支持システム４６は、ガラス移送システム４４によって、仕上げ装置４０のエッジ研削システム１２０に平行移動される。エッジ研削システム１２０は、一般に、ガラス基板５０の互いの反対のエッジ４８および５８に配置された砥石車アセンブリ１２２および１２４を備えることがある。他の実施の形態において、ただ１つの砥石車アセンブリだけを使用してもよい、または４つまでの砥石車アセンブリ、すなわち、ガラス基板５０の各エッジ４８、５８、１２６および１２８に１つずつがあってもよい。
【００３７】
砥石車アセンブリ１２２および１２４の各々は、ガラス基板５０のエッジ４８および５８を研削し形削りするために使用される砥石車１２７および砥石車１２７を回転させるために使用されるモータ１２９を備えることがある。いくつかの実施の形態において、砥石車アセンブリ１２２および１２４の各々は、それぞれのエッジ４８および５８に向かってとそれから離して砥石車１２７を動かすために使用できる駆動機構１３０をさらに備えることがある。砥石車アセンブリ１２２および１２４、ガラス支持システム４６、並びにガラス移送システム４４の操作を制御する制御装置１３５が設けられることがある。図示された実施の形態において、砥石車１２７は成形ホイールである。しかしながら、他の砥石車を使用してもよい。一時的に図１５を参照すると、成形ホイール１２７は略円柱形状を有し、また成形ホイール１２７は、それぞれのエッジ４８および５８に望ましいプロファイルに相補的なプロファイルを有し、かつ成形ホイール１２７の研削面として働く１つ以上の凹部１３２を備える。他の実施の形態において、砥石車１２７の一方または両方は、それらの平面でガラス基板５０のエッジと接触する一対のカップホイールを備えることがある。
【００３８】
再び図３を参照すると、真空部材５４および５６を含むガラス支持システム４６でガラス基板５０を支持した状態で、ガラス移送システム４４は、支持システム４６およびガラス基板５０を砥石車アセンブリ１２２および１２４に平行移動させ、そこで、砥石車１２７がガラス基板５０のエッジ４８および５８と係合する。今度は図１６を参照すると、表示されたグラフは、例えば、図６の真空部材５６により示されるような、真空開口の規則的分布により与えられる、減少したエッジ面取り部非対称性を示す。図から分かるように、真空部材５６はエッジ４８をさらに安定化させ、これにより、第一の面取り部と表面との界面２６（線１４０により示される）および第二の面取り部と表面との界面２８（線１４２により示される）の間に比較的高度の対称性が維持される。線１４４により示されるように、非対称係数（ＦＯＡ）は、第一の面取り部と表面との界面２６および第二の面取り部と表面との界面２８の間の対称性における比較的小さい変化を示す。このＦＯＡは、ガラス基板５０の厚さおよび第一の面取り部と表面との界面２６および第二の面取り部と表面との界面２８の間の面取り差分（面取り幅の差）と等しい。ＦＯＡが高いほど、第一の面取り部と表面との界面２６および第二の面取り部と表面との界面２８の間の対称性が低くなる。
【００３９】
まだ図１６を参照すると、ＦＯＡは、ガラス基板５０の前方領域１５０および後方領域１５２で（すなわち、角で）増加する傾向にあるであろうことが分かる。図１７を参照すると、エッジ４８および５８の剛性は、全般的な突き出たエッジ４８および５８と比べて、前縁と後縁の角１５４、１５６、１５８および１６０（図３）で比較的低い（例えば、６０パーセントまで低い）。さらに、図１８に示されるように、曲げ剛性（Ｄ）は、ガラス基板の厚さが約０．６ｍｍ未満では、比較的低いままである傾向にあり、約０．２５ｍｍ以下では比較的平坦になる。曲げ剛性（Ｄ）は、ヤング率（Ｅ）、厚さ（ｔ）およびポアソン比（ν）の関数であり、下記の式により与えられる：
【００４０】
【数１】
2018522810.tif 000004
【００４１】
より低い剛性を有することに加え、ガラス基板５０の入ってくる前縁の角１５４および１５６（図３）は、冷却液（例えば、水）の直接噴射および砥石車１２７との急な衝突に曝されるであろう。これにより、面取り過程中にガラス基板５０のより大きい垂直変位が生じ得る。角１５４、１５６、１５８および１６０に近いエッジの品質は、エッジ面取り部の非対称性のために、ある場合には、期待されるよりも低いことがあり、これにより、特に取扱い中に、ガラスの割れおよび破損の問題が生じ得る。
【００４２】
図３に戻ると、仕上げ装置４０は、砥石車／ガラスの界面でガラス基板のエッジ４８および５８に局所的支持を与えるエッジ案内アセンブリ１７０を備えることがある。図から分かるように、エッジ案内アセンブリ１７０は、ガラスのエッジ４８および５８の垂直支持を増加させるために、真空部材５４および５６の外側に、ガラス移送システム４４に対して静止しており、真空部材５４および５６と、それぞれの砥石車１２７との間に、配置されるまたは位置付けられることがある。図１９は、砥石車１２７およびエッジ案内アセンブリ１７０の概略図を示している。この実施の形態において、ガラス基板と接触し、それを支持する案内長さＬは、砥石車のホイール直径Ｄ以下である。ガラス基板５０と接触したエッジ案内アセンブリ１７０と砥石車１２７との間の距離Ｔは、突出距離ＤOHを最小にするために、少なくとも一部には、ガラス基板の厚さに基づいて調節することができ、これにより、エッジの安定性を増すことができる。
【００４３】
図２０を参照すると、エッジ案内アセンブリ１７０の概略図は、下側エッジ案内部材１７２および上側エッジ案内部材１７４を備える。下側エッジ案内部材１７２は、ガラス基板５０の広い表面１７８と接触するように配置された案内面１７６を備える。上側エッジ案内部材１７４も、ガラス基板５０の広い表面１８２と接触するように配置された、案内面１７６に面する案内面１８０を備える。案内面１７６および１８０は、固体であっても、または以下に記載するように、ローラ、ベルトなどの移動部材から形成されてもよい。案内面１７６および１８０は、ガラス基板５０と接触し、それを案内するためのどの適切な材料から形成されてもよい。そのエッジ案内アセンブリは、面取り過程中にガラス基板５０を位置付けるために、上側エッジ案内部材１７４および下側エッジ案内部材１７２の一方または両方を、閉鎖位置と開放配置（点線により示される）との間で互いに向けて、また互いから離して動くことができる１つ以上の位置決めアクチュエータ１８４および１８６（例えば、空気圧シリンダ）をさらに備えることがある。他の実施の形態において、上側エッジ案内部材１７４および下側エッジ案内部材１７２の一方または両方が、他方に対する位置が固定されていてもよい。
【００４４】
図２１および２２を参照すると、砥石車２０４および図示された上昇した水平の向きに砥石車２０４を支持する支持構造２０６を含む砥石車アセンブリ２０２を備えた仕上げ装置２００が示されている。仕上げ装置２００はエッジ案内アセンブリ２０８をさらに備えることがある。エッジ案内アセンブリ２０８は下側エッジ案内部材２１０および上側エッジ案内部材２１２を備えることができる。下側エッジ案内部材２１０および上側エッジ案内部材２１２の両方とも、ガラス基板のエッジと接触し、それを案内するように構成された動的支持面を形成するローラ２０５、２１５（図２１に２０５および図２２に２１５）を備える。図２１に示された例において、エッジ案内アセンブリ２０８は、上側エッジ案内部材２１２がアクチュエータアセンブリ２１４によって下側エッジ案内部材２１０から引っ込められている開放配置で示されている。下側エッジ案内部材２１０は位置が固定されていてもよい。いくつかの実施の形態において、エッジ案内アセンブリ２０８は、砥石車２０４を支持する支持構造２０６によって、少なくとも部分的に支持されることがある。いくつかの実施の形態において、エッジ案内アセンブリ２０８の少なくとも一部は、支持構造２０６から独立したそれ自体の支持構造を備える。アクチュエータアセンブリ２１４は、上述したようにガラス基板のエッジを支持するために、上側エッジ案内部材２１２を下側エッジ案内部材２１０により近い伸展位置に動かすことができる（図２２）。
【００４５】
図２３および２４を参照すると、別の仕上げ装置２２０は、砥石車２２４および図示された上昇した水平の向きに砥石車２２４を支持する支持構造２２６を含む砥石車アセンブリ２２２を備える。仕上げ装置２２０はエッジ案内アセンブリ２２８をさらに備える。エッジ案内アセンブリ２２８は下側エッジ案内部材２３０および上側エッジ案内部材２３２を備える。下側エッジ案内部材２３０および上側エッジ案内部材２３２の両方とも、ガラス基板２３６のエッジ２３４と接触し、それを案内するように構成された動的支持面を形成するローラ２３５を備える。図２３および２４に示された例において、エッジ案内アセンブリ２２８は、下側エッジ案内部材２３０がアクチュエータアセンブリ２３８によって上側エッジ案内部材２３２に向かって伸展されている閉鎖配置で示されている。上側エッジ案内部材２３２は位置が固定されていてもよい。
【００４６】
図２５を参照すると、別のエッジ案内アセンブリ２５０が示されており、それは、下側案内部材２５２および上側案内部材２５４を備えることがある。この実施の形態において、下側と上側の案内部材２５２および２５４の両方とも、ベルトアセンブリ２５６および２５８を備える。下側案内部材２５２のベルトアセンブリ２５６は、ガラス基板と接触し、それを案内するのに適した案内面２６２を有するベルト２６０を備える。ベルト２６０は、それらの周りでベルト２６０が移動する端部ローラ２６４および２６６、並びに端部ローラ２６４および２６６の間のベルト２６０の部分を支持できる中間ローラ２６８によって駆動され、支持されることがある。上側案内部材２５４のベルトアセンブリ２５８は、ガラス基板と接触し、それを案内するのに適した案内面２７０を有するベルト２６９を備える。ベルト２６９は、中間ローラを使用せずに、それらの周りでベルト２６９が移動する端部ローラ２７２および２７４によって駆動され、支持される。エッジ案内アセンブリ２５０は、ローラ配置が異なる下側と上側の案内部材２５２および２５４を示しているが、それらのローラ配置が同じであってもよい。
【００４７】
図２６を参照すると、別のエッジ案内アセンブリ２８０が示されており、それは、下側案内部材２８２および上側案内部材２８４を備える。この実施の形態において、下側と上側の案内部材２８２および２８４の両方とも、ガラス基板と接触するのに適した材料の固体バー２８６および２８８として形成することができる。下側案内部材２８２および上側案内部材２８４は、互いから間隔が空けられて、供給方向に延在し、ガラス基板の全厚を受け入れるようなサイズの溝２９０を形成することができる。いくつかの実施の形態において、溝２９０は、引き込み部分２９２および導出部分２９４を備えることがある。引き込み部分２９２および導出部分２９４は、ガラス基板をその溝に出入りするように案内するために、溝２９０の残りよりも幅広いことがある。
【００４８】
図２７を参照すると、別のエッジ案内アセンブリ３００が示されており、それは、下側案内部材３０２および上側案内部材３０４を備える。この実施の形態において、上側案内部材３０４は、ガラス基板と接触するのに適した材料の固体バー３０６として形成されている。下側案内部材３０２は、ローラ３１０により形成された動的案内面３０８を有する。他の実施の形態において、上側および／または下側案内部材は、空気ベアリング、空気／圧力ベアリングまたは超音波非接触ベアリングを使用して形成されることがある。
【００４９】
図２８は、例えば、図２７のエッジ案内アセンブリ３００により示されるような、エッジ案内アセンブリの使用により与えられる、減少したエッジ面取り部非対称性を示す代表的なグラフを示している。図から分かるように、エッジ案内アセンブリ３００はエッジをさらに安定化させ、これにより、第一の面取り部と表面との界面（線３１２により示される）および第二の面取り部と表面との界面（線３１４により示される）の間に比較的高度の対称性が維持される。線３１６により示されるように、ＦＯＡは、第一の面取り部と表面との界面および第二の面取り部と表面との界面の間に比較的小さい変化を示す。
【００５０】
上述したガラス支持システムおよび方法は、面取りまたは他の仕上げ過程中のガラスエッジの非対称性を減少させるために使用できる、規則的に間隔が空けられた局所的吸引点のアレイを有する真空部材およびエッジ案内アセンブリの一方または両方を提供することができる。ガラスエッジの非対称性の減少は、ガラス基板の面外の撓みを減少させ、平坦なエッジを砥石車に提示することによって達成できる。ガラスエッジの対称性を改善することにより、ガラスエッジの強度を改善することができ、これにより、ガラスの割れまたは破損の可能性を減少させることができる。
【００５１】
請求項に記載された主題の精神および範囲から逸脱せずに、ここに記載された実施の形態に、様々な改変および変更を行えることが、当業者に明白であろう。それゆえ、本明細書は、ここに記載された様々な実施の形態の改変および変更を、そのような改変および変更が、付随の特許請求の範囲およびその同等物の範囲に入るという条件で網羅することが意図されている。
【００５２】
以下、本発明の好ましい実施形態を項分け記載する。
【００５３】
実施形態１
ガラス支持システムにおいて、
ガラス基板のエッジに沿ってガラス供給方向に長手に延在するように構成された真空部材であって、中に配置された圧力チャンバを含む真空本体および前記圧力チャンバと連通し、中を延在する真空開口のアレイを有する支持面を備える真空部材、
を備え、
前記真空開口のアレイは、多数の並んだ行で、該多数の行の各々に沿った前記真空開口の間に実質的に均一な間隔で配列されている、ガラス支持システム。
【００５４】
実施形態２
前記真空開口のアレイが、多数の並んだ列であって、該多数の列の各々に沿った前記真空開口の間に実質的に均一な間隔を有する列で配置されている、実施形態１に記載のガラス支持システム。
【００５５】
実施形態３
前記真空開口のアレイが、１００ｃｍ2の支持表面積当たり少なくとも約２５の開口を有する、実施形態１に記載のガラス支持システム。
【００５６】
実施形態４
前記真空開口の幅が約１０ｍｍ以下である、実施形態１に記載のガラス支持システム。
【００５７】
実施形態５
前記真空開口の半径が約２ｍｍ以下である、実施形態１に記載のガラス支持システム。
【００５８】
実施形態６
前記支持面が柔軟材料から作られている、実施形態１に記載のガラス支持システム。
【００５９】
実施形態７
前記ガラス基板が移動できる経路を提供するために、上側エッジ案内部材および該上側エッジ案内部材から間隔が空けられた下側エッジ案内部材を含むエッジ案内アセンブリをさらに備える、実施形態１に記載のガラス支持システム。
【００６０】
実施形態８
前記上側エッジ案内部材および前記下側エッジ案内部材の少なくとも一方が、前記ガラス基板と接触するように構成された動的支持面を形成するローラを含む、実施形態７に記載のガラス支持システム。
【００６１】
実施形態９
前記上側エッジ案内部材および前記下側エッジ案内部材の少なくとも一方が、前記ガラス基板と接触するように構成された材料のバーを備える、実施形態７に記載のガラス支持システム。
【００６２】
実施形態１０
前記上側エッジ案内部材および前記下側エッジ案内部材の少なくとも一方が、前記ガラス基板と接触するように構成された案内面を備えたベルトを含むベルトアセンブリを備える、実施形態７に記載のガラス支持システム。
【００６３】
実施形態１１
ガラスエッジ仕上げ装置において、
ガラス移送システム、および
前記ガラス移送システムによってガラス供給方向に動かされるガラス支持システムであって、厚さが約０．７ｍｍ以下であり、略平面および該略平面に対して垂直な面外方向を有するガラス基板を支持するように構成され、
前記ガラス基板のエッジに沿って、前記ガラス供給方向に長手に延在するように構成された真空部材であり、中に配置された圧力チャンバを含む真空本体、および前記圧力チャンバと連通し、中を延在する、１００ｃｍ2の支持表面積当たり少なくとも約２５の開口の開口密度を持つ真空開口のアレイを有する支持面を備えた真空部材、
を含むガラス支持システム、
を備えたガラスエッジ仕上げ装置。
【００６４】
実施形態１２
前記真空開口のアレイが、多数の並んだ列であって、該多数の列の各々に沿った前記真空開口の間に実質的に均一な間隔を有する列で配置されている、実施形態１１に記載のガラスエッジ仕上げ装置。
【００６５】
実施形態１３
前記真空開口のアレイが、多数の並んだ行であって、該多数の行の各々に沿った前記真空開口の間に実質的に均一な間隔を有する行で配列されている、実施形態１２に記載のガラスエッジ仕上げ装置。
【００６６】
実施形態１４
前記真空開口の幅が約１０ｍｍ以下である、実施形態１１に記載のガラスエッジ仕上げ装置。
【００６７】
実施形態１５
前記真空開口の幅が約４ｍｍ以下である、実施形態１１に記載のガラスエッジ仕上げ装置。
【００６８】
実施形態１６
前記支持面が柔軟材料から作られている、実施形態１１に記載のガラスエッジ仕上げ装置。
【００６９】
実施形態１７
前記ガラス基板が移動できる経路を提供するために、上側エッジ案内部材および該上側エッジ案内部材から間隔が空けられた下側エッジ案内部材を含むエッジ案内アセンブリをさらに備える、実施形態１１に記載のガラスエッジ仕上げ装置。
【００７０】
実施形態１８
前記上側エッジ案内部材および前記下側エッジ案内部材の少なくとも一方が、前記ガラス基板と接触するように構成された動的支持面を形成するローラを含む、実施形態１７に記載のガラスエッジ仕上げ装置。
【００７１】
実施形態１９
前記上側エッジ案内部材および前記下側エッジ案内部材の少なくとも一方が、前記ガラス基板と接触するように構成された材料のバーを備える、実施形態１７に記載のガラスエッジ仕上げ装置。
【００７２】
実施形態２０
前記上側エッジ案内部材および前記下側エッジ案内部材の少なくとも一方が、前記ガラス基板と接触するように構成された案内面を備えたベルトを含むベルトアセンブリを備える、実施形態１７に記載のガラスエッジ仕上げ装置。
【００７３】
実施形態２１
前記ガラス基板のエッジを面取りするように構成された砥石車アセンブリをさらに備える、実施形態１７に記載のガラスエッジ仕上げ装置。
【００７４】
実施形態２２
ガラス基板のエッジを仕上げる方法において、
前記ガラス基板をガラス支持システム上で支持する工程であって、該ガラス基板は、略平面、約０．７ｍｍ以下の厚さ、および前記略平面に対して垂直な面外方向を有し、前記ガラス支持システムは、
前記ガラス基板のエッジに沿ってガラス供給方向に長手に延在するように構成された真空部材であり、中に配置された圧力チャンバを含む真空本体および前記圧力チャンバと連通し、中を延在する、１００ｃｍ2当たり少なくとも約２５の開口の開口密度を持つ真空開口のアレイを有する支持面を備える真空部材、
を含むものである工程、
前記真空開口のアレイを通じて、負圧を前記略平面に印加する工程、および
砥石車アセンブリを使用して、前記ガラス基板のエッジを面取りする工程、
を有してなる方法。
【００７５】
実施形態２３
前記ガラス基板が移動できる経路を提供するために、上側エッジ案内部材および該上側エッジ案内部材から間隔が空けられた下側エッジ案内部材を含むエッジ案内アセンブリを使用して、前記ガラス基板を支持する工程をさらに含む、実施形態２２に記載の方法。
【００７６】
実施形態２４
前記真空開口のアレイが、多数の並んだ列であって、該多数の列の各々に沿った前記真空開口の間に実質的に均一な間隔を有する列で配置されている、実施形態２２に記載の方法。
【００７７】
実施形態２５
前記真空開口のアレイが、多数の並んだ行であって、該多数の行の各々に沿った前記真空開口の間に実質的に均一な間隔を有する行で配列されている、実施形態２４に記載の方法。
【００７８】
実施形態２６
前記真空部材上に前記ガラス基板を位置決めして、該真空部材と該ガラス基板のエッジとの間に突出部を与える工程をさらに含む、実施形態２２に記載の方法。
【００７９】
実施形態２７
ガラスエッジ仕上げ装置において、
ガラス移送システム、
前記ガラス移送システムによってガラス供給方向に可動であるガラス支持システムであって、厚さが約０．７ｍｍ以下であり、略平面およびその略平面に対して垂直な面外方向を有するガラス基板を支持するように構成され、
前記ガラス供給方向に前記ガラス基板のエッジに沿って長手に延在するように構成された真空部材であり、中に配置された圧力チャンバを含む真空本体および前記圧力チャンバと連通し、中を延在する複数の真空開口を有する支持面を備えた真空部材、
を含むガラス支持システム、
砥石車アセンブリであって、前記ガラス基板が前記ガラス移送システムによって前記ガラス供給方向に該砥石車アセンブリにより動かされるときに、該ガラス基板のエッジを面取りするように構成された砥石車アセンブリ、および
前記ガラス基板が移動できる経路を提供するために上側エッジ案内部材および該上側エッジ案内部材から間隔が置かれた下側エッジ案内部材を備えた、前記砥石車アセンブリと前記真空部材との間に配置されたエッジ案内アセンブリ、
を備えたガラスエッジ仕上げ装置。
【００８０】
実施形態２８
前記上側エッジ案内部材および前記下側エッジ案内部材の少なくとも一方が、前記ガラス基板と接触するように構成された動的支持面を形成するローラを含む、実施形態２７に記載のガラスエッジ仕上げ装置。
【００８１】
実施形態２９
前記上側エッジ案内部材および前記下側エッジ案内部材の少なくとも一方が、前記ガラス基板と接触するように構成された材料のバーを備える、実施形態２７に記載のガラスエッジ仕上げ装置。
【００８２】
実施形態３０
前記上側エッジ案内部材および前記下側エッジ案内部材の少なくとも一方が、前記ガラス基板と接触するように構成された案内面を備えたベルトを含むベルトアセンブリを備える、実施形態２７に記載のガラスエッジ仕上げ装置。
【符号の説明】
【００８３】
１０、５０、１１４    ガラス基板
１２、４８、１１０、１１２    エッジ
１４    第一の表面
１６    第二の表面
１８    先端
２０    第一の面取り部分
２２    第二の面取り部分
２６    第一の面取り部と表面との界面
２８    第二の面取り部と表面との界面
４０、２００、２２０    ガラスエッジ仕上げ装置
４２    支持装置
４４    ガラス移送システム
４６、１００    ガラス支持システム
５４、５６、８０、８１、８６、９１、１０２、１０４、１０６、１０８    真空部材
６４    真空開口のアレイ
６６    真空開口
７０、８３、９３    真空本体
７２    支持面
７４    柔軟部材
７６    開口のアレイ
７８、８５、９９    圧力チャンバ
１２０    エッジ研削システム
１２２、１２４、２０２、２２２    砥石車アセンブリ
１２７、２０４、２２４    砥石車、成形ホイール、カップホイール
１２９    モータ
１３０    駆動機構
１７０、２０８、２２８、２５０、２８０、３００    エッジ案内アセンブリ
１７２、２１０、２３０、２５２、２８２、３０２    下側エッジ案内部材
１７４、２１２、２３２、２５４、２８４、３０４    上側エッジ案内部材
１７６、１８０、２６２、２７０、３０８    案内面
１８４、１８６    位置決めアクチュエータ
２０５、２１５、２６４、２６６、２６８、３１０    ローラ
２５６、２５８    ベルトアセンブリ
２６０、２６９    ベルト
２８６、２８８、３０６    固体バー
２９０    溝
【図１】
2018522810.tif 000005
【図２】
2018522810.tif 000006
【図３】
2018522810.tif 000007
【図４】
2018522810.tif 000008
【図５】
2018522810.tif 000009
【図６】
2018522810.tif 000010
【図７】
2018522810.tif 000011
【図８】
2018522810.tif 000012
【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【国際調査報告】
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