(57)【要約】  本発明はパターンを有する透明ガラスに関するものであって、さらに具体的には安価なコストでガラスの表面にドット、線形または波形パターンの凹凸面を形成することができ、その上に耐指紋コーティング層を形成することにより、耐指紋、防汚、撥水及び光透過率を向上させることができるようにする目的で、ガラス基材の表面に対して蒸着工程またはエッチング工程により複数のドット（ｄｏｔ）、複数の線形、複数の波形の中の何れか一つのパターン溝（１０２）を有した凹凸面（１００）が形成され、前記凹凸面にプライマー層（４０）と耐指紋コーティング層（５０）が形成され、前記パターン溝の幅または広さと各パターン溝間の離隔距離が一定となることにより凹凸面が規則的に配列されたことを特徴とする、パターンを有する透明ガラスに関するものである。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基材の表面に対して蒸着工程またはエッチング工程により、複数のドット（ｄｏｔ）、複数の線形、複数の波形の中の何れか一つのパターン溝を有した凹凸面が形成され、
前記凹凸面の表面上に厚さ１０〜５０ｎｍの耐指紋コーティング層が形成され、
前記パターン溝は、幅または広さが０．３〜５μｍ、パターン溝間の距離が０．５〜５μｍであるが、各パターン溝の幅または広さと各パターン溝間の離隔距離が一定とすることにより凹凸面が規則的に配列されたことを特徴とするパターンを有する透明ガラス。
【請求項２】
前記凹凸面と前記耐指紋コーティング層との間に厚さ１０〜３０ｎｍのプライマー層が介在することを特徴とする、請求項１に記載のパターンを有する透明ガラス。
【請求項３】
前記蒸着工程は、前記パターン溝と対応するパターン領域を閉鎖し、残りの領域を露出させるマスクを付着する段階と、前記マスクの露出領域に対して真空環境下で酸化物またはフッ化物を０．２〜２μｍの高さで蒸着する段階と、前記マスクを除去する段階とを含むことを特徴とする、請求項１または２に記載のパターンを有する透明ガラス。
【請求項４】
前記エッチング工程は、前記パターン溝と対応するパターン領域を露出させ、残りの領域が閉鎖されたマスクを付着する段階と、乾式エッチングを通じて前記マスクの露出領域のガラスの表面を０．２〜２μｍの深さまでエッチングすることにより前記パターン溝を形成する段階と、前記マスクを除去する段階とを含むことを特徴とする、請求項１または２に記載のパターンを有する透明ガラス。
【請求項５】
前記エッチング工程は、前記パターン溝と対応するパターン領域を閉鎖し、残りの領域を露出させるマスクを付着する段階と、前記マスクの露出領域に対してエッチングレジストを塗布して前記ガラス基材の表面にエッチングレジスト層を形成する段階と、前記マスクを除去する段階と、湿式エッチングを通じて前記エッチングレジスト層が形成されていない領域のガラスの表面を０．２〜２μｍの深さまでエッチングすることにより前記パターン溝を形成する段階と、リムーバで前記エッチングレジスト層を除去する段階とを含むことを特徴とする、請求項１または２に記載のパターンを有する透明ガラス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はパターンを有する透明ガラスに関し、さらに具体的にはスマートフォンやタブレットＰＣ、ネットブック、ノートパソコンなどに装着されるディスプレイ用ガラスまたは眼鏡レンズのような光学ガラスの表面にドット、線形または波形パターンの凹凸面を形成し、その上に耐指紋コーティング層を形成することにより耐指紋、防汚、撥水及び光透過率を向上させるパターンを有する透明ガラスに関する。
【背景技術】
【０００２】
最近、スマートフォンやタブレットＰＣ、ネットブック、ノートパソコンなどのディスプレイガラスは、簡単に破られないようにするために強化ガラスで製造されており、このような強化ガラスの表面に特定のイメージやロゴ、文字などを付与する技術が試みられている。
【０００３】
これと関連した先行技術の一例として、韓国登録特許第１０−１２９５２５１号（特許文献１）には、（ａ）透明ディスプレイ部材の表面を保護するために上部または下部面にコーティング層を形成する段階；（ｂ）前記コーティング層の上部及び下部にロゴ、キャラクター、文字を含む各種イメージが構成された感光性フィルム（ＤＦＲ；Ｄｒｙ  Ｆｉｌｍ  Ｐｈｏｔｏｒｅｓｉｓｔ）を付着する段階；（ｃ）前記感光性フィルムにＵＶ（Ｕｌｔｒａ  Ｖｉｏｌｅｔ）を照射するが、フォトマスクを通じて必要な領域のみをＵＶで露光されるようにする露光（Ｅｘｐｏｓｅ）工程を行う段階；（ｄ）前記感光性フィルムが付着された透明ディスプレイ部材中ＵＶを照射した領域を除いた残りの領域に位置した感光性フィルムを除去する現像（Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ）工程を行う段階；（ｅ）前記ＵＶを照射した領域を除いた残りの領域に位置したコーティング層を除去するエッチング（Ｅｔｃｈｉｎｇ）工程を行う段階；及び（ｆ）前記エッチング工程が完了すると、各種イメージ領域に付着構成されている感光性フィルムを除去するストリップ工程を行う段階を含む透明ディスプレイ部のイメージマルチ蒸着方法が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】韓国登録特許第１０‐１２９５２５１号（２０１３年８月９日公告）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１の方法を適用する場合、強化ガラスの表面に素材の保護のためのコーティング層を形成した後、感光性フィルム付着工程、ＵＶ露光工程、現像工程、エッチング工程、ストリップ工程などが必要であるところ、このような工程を行うための装備や装置が多すぎるだけでなく、多くの時間を要するため、経済的でないという問題点がある。
【０００６】
さらに、パターンが強化ガラスの表面に直接形成されるのではなく、強化ガラスの表面にコーティングした保護コーティング層によるパターンが形成されるため、スマートフォンやタブレットＰＣのように指のタッチが頻繁に行われる場合、長時間使用すると、保護コーティング層が摩耗したり剥離することがあり、パターンの耐久性がよくないという問題点がある。
【０００７】
前記従来技術が内包した問題点を解決するための本発明は、高度の技術力及び高価の装備なしで簡単かつ安価なコストでガラスの表面にドット、線形または波形パターンの凹凸面を形成することができ、その上に耐指紋コーティング層を形成することにより、耐指紋、防汚、撥水及び光透過率を向上させることができるパターンを有する透明ガラスを提供することにその目的がある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記目的を達成するための本発明は、ガラス基材の表面に対して蒸着工程またはエッチング工程により複数のドット（ｄｏｔ）、複数の線形、複数の波形の中の何れか一つのパターン溝を有した凹凸面が形成され、前記凹凸面の表面上に厚さ１０〜５０ｎｍの耐指紋コーティング層が形成され、前記パターン溝は、幅または広さが０．３〜５μｍ、深さまたは高さが０．２〜２μｍ、パターン溝間の距離が０．５〜５μｍであるが、各パターン溝の幅または広さと各パターン溝間の離隔距離が一定となることにより、凹凸面が規則的に配列されたことを特徴とする。
【０００９】
この場合、前記耐指紋コーティング層の耐久性を向上させるために、前記凹凸面と前記耐指紋コーティング層との間に厚さ１０〜３０ｎｍのプライマー層を介在させることができる。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、ガラスの表面に陽刻または陰刻により形成された凹凸面の溝径または幅が０．３μｍ〜５μｍの範囲であって、高度の技術力及び高価の装備を用いなくても容易に製造及び商用化が可能であり、製造コストが高くないため、価格競争力があるだけでなく、マスクを利用して四角または円形のドット（ｄｏｔ）、線形、波形など用途によってパターンを任意に自由に設計することができる。
【００１１】
また、ガラス表面の接触角が１４０度以上保持されて防汚性および撥水性に優れ、しかも光透過率を向上させることができる等の利点がある。
【００１２】
さらに、凹凸面上に耐指紋コーティング層を形成することにより耐指紋性を向上させることができるだけでなく、プライマー層を媒介として耐指紋コーティング層を形成することにより耐指紋コーティング層の耐久性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明によるパターンを有する透明ガラス表面の部分拡大図である。
【図２】本発明によるパターンを有する透明ガラス断面の部分拡大図である。
【図３】本発明によるパターンを有する透明ガラスの蒸着工程を示すためのガラス断面の部分拡大図である。
【図４】本発明によるパターンを有する透明ガラスの乾式エッチング工程を示すためのガラス断面の部分拡大図である。
【図５】本発明によるパターンを有する透明ガラスの湿式エッチング工程を示すためのガラス断面の部分拡大図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本発明は様々な変更を加えることができ、様々な実施例を有することができるところ、一例として本発明はガラス基材の表面に対して蒸着工程またはエッチング工程により複数のドット（ｄｏｔ）、複数の線形、複数の波形の中の何れか一つのパターン溝を有する凹凸面が形成され、前記凹凸面の表面上に厚さ１０〜５０ｎｍの耐指紋コーティング層が形成され、前記パターン溝は、幅または広さが０．３〜５μｍ、深さまたは高さが０．２〜２μｍ、パターン溝間の距離が０．５〜５μｍであるが、各パターン溝の幅または広さと各パターン溝間の離隔距離が一定となることにより凹凸面が規則的に配列されることができる。
【００１５】
この場合、前記耐指紋コーティング層の耐久性を向上させるために、前記凹凸面と前記耐指紋コーティング層との間に厚さ１０〜３０ｎｍのプライマー層が介在されることができる。
【００１６】
以下では、本発明の好ましい形態の構造を例示し、これに基づいて本発明を詳細に説明する。しかし、これは、本発明を例示された形態のみに限定しようとするものではなく、本発明の思想及び技術範囲は例示された形態の通常の変更や均等物ないし代替物までを含む。
【００１７】
図１は、本発明によるパターンを有する透明ガラス表面の部分拡大図であり、図２は、本発明によるパターンを有する透明ガラス断面の部分拡大図である。
【００１８】
図１及び図２のように、本発明のパターンを有する透明ガラスは、ガラス基材１０の表面に複数の円形ドット（図１（ａ）参照）、複数の四角形ドット（図１（ｂ）参照）、複数の線形（図１（ｃ）参照）、複数の波形（図１（ｄ）参照）の中の何れか一つのパターンを有するパターン溝１０２を有する凹凸面１００が形成される。
【００１９】
前記パターン溝１０２は、図２（ａ）のように蒸着工程により形成されるか、図２（ｂ）のようにエッチング工程により形成されることができる。
【００２０】
図２（ａ）のように蒸着工程を通じてガラス基材１０の表面に対してパターン溝１０２以外の領域に蒸着層１０１を形成すると、結果的に蒸着層１０１が形成されていない領域にはパターン溝１０２が形成され、これと異なり、図２（ｂ）のようにガラス基材１０の表面に対してパターン溝１０２と対応する領域をエッチングしてパターン溝１０２を形成することができる。
【００２１】
前記パターン溝１０２の幅または広さ（直径）は０．３〜５μｍの範囲であり得ると共に、パターン溝１０２間の距離は０．５〜５μｍの範囲内で任意に調節可能である。
【００２２】
前記パターン溝１０２の幅または広さ（直径）が０．３μｍより小さい場合、そしてパターン溝１０２間の距離が０．５μｍより小さいと、精密で高価な装備と複雑な工程が要求されて製造コストの上昇により価格競争力が低下するので、商用化が難しいだけでなく、各パターン溝１０２の幅または広さを一定に形成することが困難であり、規則的な凹凸面の配列が難しく、逆にパターン溝１０２の幅または広さとパターン溝１０２間の距離がそれぞれ５μｍより大きいと、ガラス表面のパターンが目視で識別可能となって商品性に劣る同時に、本発明における目的のような耐指紋、防汚、撥水及び光透過率の向上を期待し難い。
【００２３】
前記パターン溝１０２の高さ、すなわち前述の蒸着工程により形成された蒸着層１０１の高さをはじめ、エッチング工程によりエッチングされたパターン溝１０２の深さは０．２〜２μｍの範囲で調節することができる。
【００２４】
パターン溝１０２の高さまたは深さが０．２μｍより小さいと、凹凸面の高低差が小さくてガラス基材１０の表面の凹凸面により発揮される耐指紋、防汚、撥水及び光透過率の向上を期待し難く、逆に２μｍより大きいと、蒸着工程またはエッチング工程に要する時間が多すぎて大量生産性が良くないだけでなく、各パターン溝１０２の高さまたは深さが一定せず、ガラス基材１０の全面に対して均一なパターンの凹凸面を期待し難い。
【００２５】
一方、前記ガラス基材１０の表面において、パターン溝１０２により形成された凹凸面１００にはプライマー層４０と耐指紋コーティング層５０が順次に積層されるか、プライマー層４０を排除し、凹凸面１００に直接耐指紋コーティング層５０が形成されることができる。
【００２６】
前記プライマー層４０はバインダー樹脂の一種であって、前記耐指紋コーティング層５０の接着性を向上させて耐指紋コーティング層５０の離脱や剥離を最小化するために用いられるが、一例として、アクリル系高分子樹脂、水分散ポリエステル共重合体樹脂を含むことができる。
【００２７】
前記プライマー層４０と耐指紋コーティング層５０または前記耐指紋コーティング層５０の最大厚さは、前記パターン溝１０２の幅または広さの範囲の最小値より小さいものが好ましく、一例として、前記プライマー層４０の厚さは１０〜３０ｎｍ、前記耐指紋コーティング層５０の厚さは１０〜５０ｎｍであり得る。
【００２８】
前記プライマー層４０と耐指紋コーティング層５０の厚さが１０ｎｍより小さいと、ガラス基材１０の表面全体に対して均一な厚さを保持し難く、万一、全面に対して均一な厚さをなすためには精密な高価の装備が要求されるため、価格競争力が低下し、逆にプライマー層４０と耐指紋コーティング層５０の厚さがそれぞれ３０ｎｍと５０ｎｍより大きいと、パターン溝１０２が形成された領域と形成されていない領域との境界が大部分喪失されて凹凸面１００が明確でなくなるので、本発明における目的のような耐指紋、防汚、撥水及び光透過率の向上の効果を期待し難い。
【００２９】
以下では、前記ガラス基材１０の表面にパターン溝１０２を形成するための蒸着工程とエッチング工程について説明し、このような説明を通じて本発明がより具体化されるものである。
【００３０】
図３は、本発明によるパターンを有する透明ガラスの蒸着工程を示すためのガラス断面の部分拡大図である。
【００３１】
図３（ｂ）のように、本発明の一実施例によるパターンを有する透明ガラスは、ガラス基材１０の表面に０．２μｍ〜２μｍの高さＤで酸化物またはフッ化物からなった透明蒸着層１０１を形成すると、前記透明蒸着層１０１により所定のパターンの凹凸面１００が陽刻で形成される。
【００３２】
前記透明蒸着層１０１を形成するための蒸着工程は、図３（ａ）のように、ガラス基材１０を洗浄、乾燥した後、マスク２０を付着する段階と、前記マスク２０のホール２１に対して真空環境下で酸化物またはフッ化物を０．２〜２μｍの高さで蒸着する段階と、前記マスク２０を除去する段階とを含む。
【００３３】
ここで前記マスク２０は、前記パターン溝１０２と対応するパターン領域が閉鎖され、残りの領域が露出されたホール２１が形成され、これにより、図３（ｂ）のようにマスク２０中で閉鎖された領域へは蒸着がなされず、ホール２１を通じて酸化物またはフッ化物がガラス基材１０の表面に蒸着されてドット、線形、波形の中の何れか一つのパターン溝１０２を有した凹凸面１００を形成することができる。
【００３４】
前記酸化物またはフッ化物の蒸着は減圧された真空環境の条件で行うことができ、公知の真空蒸着設備を利用することが可能である。
【００３５】
前記透明蒸着層１０１を形成するための酸化物はＳｉＯ２、ＭｇＦ２を例として挙げることができ、前記フッ化物はフッ素有機物とシランが連結された構造であり得る。しかし、本発明において透明蒸着層１０１を形成する物質は前記列挙された物質に限定されず、透明蒸着層１０１を形成することができる公知の物質であれば、列挙されなかった他の物質を適用することも可能である。
【００３６】
前記プライマー層４０及び／または耐指紋コーティング層５０は、前述のマスク２０の除去段階を行った後、前記凹凸面１００が形成されたガラス基材１０の表面に形成される。
【００３７】
前記耐指紋コーティング層５０は電子機器のディスプレイ用ガラスだけでなく、光学ガラスなど他の分野でも一般的に施行されている工程であって、例えば、フッ素コーティング剤と揮発性溶剤との混合物であり得ると共に、その他にも耐指紋コーティング剤として知られた公知の物質を適用することができるため、それに関する物質には制限がない。
【００３８】
図４は、本発明によるパターンを有する透明ガラスの乾式エッチング工程を示すためのガラス断面の部分拡大図である。
【００３９】
図４（ｂ）のように、本発明の一実施例によるパターンを有する透明ガラスは、ガラス基材１０の表面に対して０．２μｍ〜２μｍの深さＤでパターン溝１０２が形成されることにより、ガラス基材１０の表面に形成されたパターン溝１０２により凹凸面１００が陰刻で形成される。
【００４０】
このような凹凸面１００を形成するために、図４（ａ）のようにガラス基材１０を洗浄、乾燥した後、マスク２０を付着する段階と、乾式エッチング（ｄｒｙ  ｅｔｃｈｉｎｇ）を通じて前記マスク２０のホール２１により露出されたガラス基材１０の表面を０．２〜２μｍの深さにエッチングすることにより前記パターン溝１０２を形成する段階と、前記マスク２０を除去する段階とを含む。
【００４１】
前記マスク２０は前記パターン溝１０２と対応する領域が露出されたホール２１が形成され、残りの領域、すなわちパターン溝１０２と対応しない領域は閉鎖されている。
【００４２】
したがって、マスク２０において閉鎖領域はエッチングがなされず、ホール２１が位置した部分のみにエッチングがなされるため、図４（ｂ）のようにパターン溝１０２により凹凸面１００が形成されたガラス基材１０を製造することができる。
【００４３】
乾式エッチングは、不活性アルゴンガスを高周波放電でイオン化するか、ハロゲン元素を含むガスのプラズマ（ｐｌａｓｍａ）を利用することができ、このような乾式エッチング法は一般的に商用化されている公知の技法を選択して適用することができる。
【００４４】
乾式エッチングを通じてパターン溝１０２を形成する場合、光反射率を下げるためにパターン溝１０２の側断面形状が等脚台形となるようにエッチングすることができる。 
【００４５】
前記プライマー層４０及び／または耐指紋コーティング層５０は、前述のマスク２０の除去段階を行った後、前記凹凸面１００が形成されたガラス基材１０の表面に形成される。
【００４６】
図５は、本発明によるパターンを有する透明ガラスの湿式エッチング工程を示すためのガラス断面の部分拡大図である。
【００４７】
図５（ｃ）のように、本発明の一実施例によるパターンを有する透明ガラスは、ガラス基材１０の表面に対して０．２μｍ〜２μｍの深さＤでパターン溝１０２が形成されることにより、ガラス基材１０の表面に形成されたパターン溝１０２により所定のパターンの凹凸面１００が陰刻で形成される。
【００４８】
前記凹凸面１００を形成するために、図５（ａ）のようにガラス基材１０を洗浄、乾燥した後、マスク２０を付着する段階と、前記マスク２０のホール２１に対してエッチングレジストを塗布して前記ガラス基材１０の表面にエッチングレジスト層３０を形成する段階と、前記マスク２０を除去する段階と、湿式エッチングを通じて前記エッチングレジスト層３０が形成されていない領域のガラスの表面を０．２〜２μｍの深さにエッチングすることにより前記パターン溝１０２を形成する段階と、リムーバで前記エッチングレジスト層３０を除去する段階とを含む。
【００４９】
前記マスク２０は、前記パターン溝１０２と対応するパターン領域が閉鎖され、残りの領域が露出されたホール２１が形成される。
【００５０】
したがって、ガラス基材１０の表面にホール２１が穿孔されたマスク２０を当接した後、エッチングレジストインクを印刷すると、前記ホール２１を通じてエッチングレジストインクが通過してエッチングレジスト層３０が形成され、これを乾燥させる。
【００５１】
その後、ガラス基材１０の表面から前記マスク２０を除去すると、図５（ｂ）のようにガラス基材１０の表面にエッチングレジスト層３０が所定のパターン、すなわち前記ホール２１と対応するパターンで形成され、この状態でフッ酸などの酸性エッチング液に浸漬するか、散布するなどの湿式エッチング（ｗｅｔ  ｅｔｃｈｉｎｇ）工程を行うと、ガラス基材１０の表面中でエッチングレジスト３０の形成されていない部分がエッチングされてパターン溝１０２が形成される。
【００５２】
次に、パターン溝１０２を形成した後、アセトンなどのリムーバを利用してガラス基材１０を洗浄すると、前記エッチングレジスト３０が除去されて図５（ｃ）のようにパターン溝１０２により凹凸面１００が形成されたガラス基材１０を製造することができ、前記パターン溝１０２は、ドット、線形、波形の中の何れか一つのパターンを有する。 
【００５３】
このような湿式エッチングを通じてパターン溝１０２を形成する場合、光反射率を下げるためにパターン溝１０２の側断面形状を半円状とすることができる。
【００５４】
前記プライマー層４０及び／または耐指紋コーティング層５０はエッチングレジスト層３０が除去された状態で前記凹凸面１００が形成されたガラス基材１０の表面に形成される。
【００５５】
図３〜図５において、前記パターン溝１０２の幅または広さＷは前述のように０．３〜５μｍであり、パターン溝１０２間の距離Ｓは０．５〜５μｍであり、パターン溝１０２の深さまたは高さは０．２〜２μｍであって、このような数値の範囲は高度の精密性を要しないので高価の蒸着またはエッチング装備を排除することができ、製造が容易であるため、最小のコストで凹凸面１００の形成が可能でありながらも、ガラス基材１０の表面全面に各パターン溝１０２の幅または広さＷと各パターン溝１０２間の離隔距離Ｓを一定かつ均一に加工することができるため、ガラス基材１０の表面に形成された凹凸面１００が規則的に配列されることができる。
【００５６】
［試験例１］
‐光透過率試験
本発明のパターンを有するガラスの光透過率を確認するために、厚さ０．８ｍｍの強化ガラスの表面に対して前述の乾式エッチング工程を通じて深さが２μｍのパターン溝を形成した。この時、パターン溝は円形ドットであって各パターン溝の広さ（直径）は３μｍであり、各パターン溝間の距離は前後左右に３μｍの間隔をなすようにし、実験データの信頼性のために３つの試料（ＡＧ１〜ＡＧ３）を準備した。
【００５７】
また、比較材としてパターン溝を形成していない平板状の厚さ０．８ｍｍの強化ガラス（ｂａｒｅ）を準備した。
【００５８】
このように本発明の一実施例による試料ＡＧ１〜ＡＧ３と、パターンのない比較材試料（ｂａｒｅ）に対して分光光度計（モデル名：Ｕ−４１００）を利用して可視光線の波長である４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲の光透過率を測定し、その結果は下記表１のとおりである。
【００５９】
【表１】
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【００６０】
表１から確認されるように４００ｎｍ〜７００ｎｍの波長の光透過率それぞれの平均値を見ると、本発明のパターン試料ＡＧ１は９２．９６ｎｍ、ＡＧ２は９２．７９ｎｍ、ＡＧ３は９２．８４ｎｍであって、比較材の平均値である９２．４５ｎｍより高いということを確認した。
【００６１】
［試験例２］
‐接触角試験 
前述の試験例１と同一の試料及び比較材を作製した後、３μｍウォータードロップの表面接触角を測定したところ、本発明のパターン溝が形成された試料の平均接触角は１４０±１°であり、比較材は１０１±０．８°と測定され、本発明によるパターン溝が形成されたガラス基材の撥水性が優れていることを確認した。
【００６２】
このように前述の説明は、本発明の技術思想を示す限られた実施例によって説明したが、本発明は特定の実施例や数値に限られず、実施例の構成要素の一部を変更、混合するなど、特許請求の範囲で請求する本発明の要旨を逸脱することなく本発明が属する技術分野において通常の知識を有する者により多様な変形実施が可能であり、そのような変形実施は本発明の技術的思想や見通しから個別的に理解されてはならない。
【符号の説明】
【００６３】
１０…ガラス基材
２０…マスク
２１…ホール
３０…エッチングレジスト
４０…プライマー層
５０…耐指紋コーティング層
１００…凹凸面
１０１…蒸着層
１０２…パターン溝
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【国際調査報告】
2018522809.tif 000009
2018522809.tif 000010
2018522809.tif 000011
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