(57)【要約】  ガス利用プロセスツール、例えば、半導体製品、フラットパネルディスプレイ、太陽電池パネルなどの製造のためのガス利用ツールにガスを送出のためのガス供給システムおよび方法について記載される。ガス供給システムは、吸着剤に基づくガス供給容器および／または内部圧力調整ガス供給容器によって配置されたガスキャビネットを内部に備えることができ、ガスキャビネット内に配置されてもよい、またはスタンドアロン様式で動作してもよいガス混合マニホールについて記載される。一態様において、供出動作の圧力制御終了後に容器内に残留するガスの利用を実現する供出動作のために、ガス供給圧力低下を伴う冷却の影響を受けやすい容器がそのような圧力制御終了後に処理されるガス供給システムについて記載される。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つのガス供給容器であって、前記容器から供出されるガスの圧力低下を伴う供出動作において冷却の影響を受けやすい少なくとも１つのガス供給容器と、
前記容器の消耗を示す圧力に対して圧力低下を検出するように、且つ前記容器の供出動作を終了させるように構成された監視システムと、
前記容器内の残留ガスの圧力を前記容器の消耗を示す前記圧力よりも高くして、これによって前記容器の更新された供出動作が可能になるような程度まで前記容器が温められるように、前記容器の供出動作の終了時に前記容器を温めるように構成された加温システムと、
を備える、ガス供給システム。
【請求項２】
前記ガス供給容器が吸着剤からのガス脱離を含む供出動作において、前記吸着剤を前記容器によって供給されるガスのための貯蔵媒体として含む、請求項１に記載のガス供給システム。
【請求項３】
前記吸着剤が炭素吸着剤を含む、請求項２に記載のガス供給システム。
【請求項４】
前記加温システムが前記ガス供給容器を加熱するように配置されたヒータを備える、請求項１に記載のガス供給システム。
【請求項５】
前記加温システムが前記ガス供給容器を加熱するように配置された加熱ジャケットを備える、請求項１に記載のガス供給システム。
【請求項６】
前記監視システムが第１の容器の供出動作を終了させると、第２の容器が供出動作を開始してガス供給の連続性を確保するように動作可能に配置された複数の前記ガス供給容器を備える、請求項１に記載のガス供給システム。
【請求項７】
前記第１の容器が温められて前記第１の容器の更新された供出動作が可能になると、前記第２の容器の供出動作を終了させ、前記温められた第１の容器の更新された供出動作が開始されるように動作可能に配置されている、請求項６に記載のガス供給システム。
【請求項８】
前記少なくとも１つのガス供給容器がガスキャビネット内に配置されている、請求項１から７のいずれか一項に記載のガス供給システム。
【請求項９】
前記複数のガス供給容器の２つ以上から供出されたガスを混合するための混合マニホールドによって動作可能に配置された複数のガス供給容器を前記ガスキャビネット内に備える、請求項８に記載のガス供給システム。
【請求項１０】
同一のドーパント種を含む異なる並行流ガスを送出するためのガス供給システムであって、前記並行流ガスが、吸着剤に基づくガス供給容器、内部圧力調整ガス供給容器、およびこれらの組合せの中から選択されたそれぞれの容器から送出される、ガス供給システム。
【請求項１１】
前記異なる並行流ガスが第１のガス供給容器内にＧｅＦ４、および第２のガス供給容器内にＧｅＨ４を含む、請求項１０に記載のガス供給システム。
【請求項１２】
複数のガス入力部および複数の混合ガス出力部を有するガス混合マニホールドと、
前記ガス混合マニホールドを動作させるように、且つ信号伝送線路を介して前記ガス混合マニホールドからフィードバックを受信するように構成された監視制御システムと、
少なくとも１つの遠隔入力／出力インタフェースユニットに対して前記監視制御システムを相互に接続する少なくとも１つの遠隔光ファイバリンクと、
を備えるガス混合システム。
【請求項１３】
前記遠隔入力／出力インタフェースユニットが、前記ガス混合マニホールドを動作させるために直接前記ガス混合マニホールドに、または前記ガス混合マニホールドを動作させるために前記監視制御システムに制御信号を送信するように構成されている、請求項１２に記載のガス混合システム。
【請求項１４】
複数の遠隔入力／出力インタフェースユニットを備え、間違った比率の混合物が生成されるのを防止するために、および／またはガス混合物受取り関係において前記ガス混合マニホールドに連結された１つまたは複数のプロセスツールのプロセスツール要求間の衝突を回避するために、ソフトウェアインターロックを用いて構成されている、請求項１３に記載のガス混合システム。
【請求項１５】
前記ガス混合マニホールドがガスキャビネット内に配置されている、請求項１２に記載のガス混合システム。
【請求項１６】
前記混合マニホールドにおけるそれぞれの混合動作の後に前記混合マニホールドを真空引きするために構成されている、請求項１２に記載のガス混合システム。
【請求項１７】
前記混合マニホールドが前記マニホールドによって生成されたガス混合物中のガス純度および／またはガス成分比率を、検出および／または検証するように構成されたオンボードセンサを備える、請求項１２に記載のガス混合システム。
【請求項１８】
前記容器から供出されるガスの圧力低下を伴う供出動作において冷却の影響を受けやすい少なくとも１つのガス供給容器からガスを供給する方法であって、
前記容器から供出されるガスの圧力を監視するステップと、
前記容器の消耗を示す圧力に対して圧力低下を検出すると、前記容器の供出動作を終了させるステップと、
前記容器内の残留ガスの圧力を前記容器の消耗を示す前記圧力よりも高くして、これによって前記容器の更新された供出動作が可能になるような程度まで前記容器が温められるように、前記容器の供出動作の終了時に前記容器を温めるステップと、
を含む、方法。
【請求項１９】
同一のドーパント種を含む並行流ガスを供給する方法であって、吸着剤に基づくガス供給容器、内部圧力調整ガス供給容器、およびこれらの組合せの中から選択されたそれぞれの容器から前記並行流ガスを送出するステップを含む、方法。
【請求項２０】
混合ガスを供給する方法であって、請求項１２に記載のガス混合システムにおける異なるガス供給容器からのガスを混合するステップと、前記ガス混合マニホールドの前記複数の混合ガス出力部の１つにおいて前記ガス混合マニホールドから混合ガスを排出するステップと、を含む、方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願の相互参照
「ＧＡＳ  ＣＡＢＩＮＥＴＳ」に対してＪｏｓｅｐｈ  Ｒ．Ｄｅｓｐｒｅｓ、Ｂａｒｒｙ  Ｌｅｗｉｓ  Ｃｈａｍｂｅｒｓ、Ｊｏｓｅｐｈ  Ｄ．Ｓｗｅｅｎｅｙ、Ｒｉｃｈａｒｄ  Ｓ．Ｒａｙ、およびＳｔｅｖｅｎ  Ｅ．Ｂｉｓｈｏｐの名前で２０１５年５月１７日に出願された米国仮特許出願第６２／１６２，７７７号の利益が、米国特許法第１１９条の規定により請求される。米国仮特許出願第６２／１６２，７７７号の開示が、すべての目的のために、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。
【０００２】
本開示は、半導体製品、フラットパネルディスプレイ、および光起電力パネルの製造などのガス利用用途に対してガスを供給するための有用性を有するガス混合システムおよび方法、ならびにガスキャビネットに関する。
【背景技術】
【０００３】
多くの産業用途のガス供給容器の使用において、ガス供給容器を、下流のガス利用ツールにガスを送出するための流れ回路に容器が連結されているエンクロージャとしてのガスキャビネット内に配備することが一般的である。そのような点において、ガスキャビネットは、格納構造であり、この格納構造では、ガスキャビネット内のガス供給容器から下流のツールに供出されるガスを導くための流れ回路に加えて、ガスが確実に所望の温度、圧力、流量、および組成でガスキャビネットから供給されるように、監視制御計器が設けられることがある。また、ガスキャビネットは、換気ガスをガスキャビネットの内部容積を通して流すための入口および排気アセンブリを備えて構成されてもよく、それにより、ガスキャビネット内のガス供給容器からの、または流れ回路および継ぎ手からのいかなるガス漏洩も、ガスキャビネットから掃き出され、処理設備または他の処分に引き渡すことができる。
【０００４】
産業用プロセスのためのガスを供給する際にガスキャビネットが幅広く使用されているため、この技術は、ガスキャビネットの設計、機能性、動作、および使用における改善を求め続けている。
【発明の概要】
【０００５】
本開示は、ガス供給システムおよび方法、ならびにガス利用ツールにガスを送出するためのガス供給容器を収容するように構成されたガスキャビネットに関する。
【０００６】
一態様において、本開示は、少なくとも１つのガス供給容器であって、容器から供出されるガスの圧力低下を伴う供出動作において冷却の影響を受けやすい少なくとも１つのガス供給容器と、容器の消耗を示す圧力に対して圧力低下を検出するように、且つ容器の供出動作を終了させるように構成された監視システムと、容器内の残留ガスの圧力を容器の消耗を示す圧力よりも高くして、これによって容器の更新された供出動作が可能になるような程度まで容器が温められるように、容器の供出動作の終了時に容器を温めるように構成された加温システムと、を備えるガス供給システムに関する。
【０００７】
別の態様において、本開示は、同一のドーパント種を含む異なる並行流ガスを送出するためのガス供給システムに関し、並行流ガスが、吸着剤に基づくガス供給容器、内部圧力調整されたガス供給容器、およびこれらの組合せの中から選択されたそれぞれの容器から送出される。
【０００８】
さらなる態様において、本開示は、複数のガス入力部および複数の混合ガス出力部を有するガス混合マニホールドと、ガス混合マニホールドを動作させるように、且つ信号伝送線路を介してガス混合マニホールドからフィードバックを受信するように構成された監視制御システムと、少なくとも１つの遠隔入力／出力インタフェースユニットに対して監視制御システムを相互に接続する少なくとも１つの遠隔光ファイバリンクと、を備えるガス混合システムに関する。
【０００９】
本開示のさらなる態様は、容器から供出されるガスの圧力低下を伴う供出動作において冷却の影響を受けやすい少なくとも１つのガス供給容器からガスを供給する方法であって、前記方法が、容器から供出されるガスの圧力を監視するステップと、容器の消耗を示す圧力に対して圧力低下を検出すると、容器の供出動作を終了させるステップと、容器内の残留ガスの圧力を容器の消耗を示す圧力よりも高くして、これによって容器の更新された供出動作が可能になるような程度まで容器が温められるように、容器の供出動作の終了時に容器を温めるステップと、を含む、方法に関する。
【００１０】
本開示のさらなる態様は、同一のドーパント種を含む並行流ガスを供給する方法であって、吸着剤に基づくガス供給容器、内部圧力調整されたガス供給容器、およびこれらの組合せの中から選択されたそれぞれの容器から並行流ガスを送出するステップを含む、方法に関する。
【００１１】
本開示のさらなる別の態様は、混合ガスを供給する方法であって、本開示のガス混合システムにおける異なるガス供給容器からのガスを混合するステップと、ガス混合マニホールドの複数の混合ガス出力部の１つにおいてガス混合マニホールドから混合ガスを排出するステップと、を含む、方法に関する。
【００１２】
本開示の他の態様、特徴、および実施形態は、以下の記載および添付の特許請求の範囲からより完全に明らかになるであろう。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本開示によるガスキャビネットにおいて利用することができる吸着剤に基づくガス供給容器の部分断面斜視図である。
【図２】本開示によるガスキャビネットにおいて利用することができる圧力調整ガス供給容器の部分断面斜視図である。
【図３】例えば、本開示のガスキャビネットにおいて、ガス供給容器からガスを供給するために利用することができるガス混合システムの概略図である。
【図４】本開示の一実施形態による吸着剤に基づくガス供給容器を組み込むガスキャビネットアセンブリの正面斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本開示は、ガス利用ツールにガスを供給するように構成された、半導体製品、フラットパネルディスプレイ、太陽電池パネルなどの製造において有用性を有するガス供給システムおよび方法、ならびにガスキャビネットに関する。
【００１５】
一態様において、本開示は、少なくとも１つのガス供給容器であって、容器から供出されるガスの圧力低下を伴う供出動作において冷却の影響を受けやすい少なくとも１つのガス供給容器と、容器の消耗を示す圧力に対して圧力低下を検出するように、且つ容器の供出動作を終了させるように構成された監視システムと、容器内の残留ガスの圧力を容器の消耗を示す圧力よりも高くして、これによって容器の更新された供出動作が可能になるような程度まで容器が温められるように、容器の供出動作の終了時に容器を温めるように構成された加温システムと、を備えるガス供給システムに関する。
【００１６】
そのようなシステムでは、ガス供給容器は、吸着剤からのガス脱離を含む供出動作において、吸着剤を容器によって供給されるガスのための貯蔵媒体として含むことができる。吸着剤は、例えば、炭素吸着剤または他の適切な吸着媒体を含むことができる。
【００１７】
そのようなガス供給システムにおける加温システムは、ガス供給容器を加熱するように配置されたヒータ、例えば、加熱ジャケット、または他の熱入力装置もしくはアセンブリを備えることができる。
【００１８】
上記のガス供給システムは、監視システムが第１の容器の供出動作を終了させると、第２の容器が供出動作を開始してガス供給の連続性を確保するように動作可能に配置された複数のガス供給容器を備えることができる。そのような点でのガス供給システムは、第１の容器が温められて第１の容器の更新された供出動作が可能になると、第２の容器の供出動作を終了させ、温められた第１の容器の更新された供出動作が開始されるように動作可能に配置されてもよい。
【００１９】
上記のようなガス供給システムの他の実施形態において、ガス供給容器は、ガスキャビネット内に配置されてもよい。複数のガス供給容器の２つ以上から供出されたガスを混合するための混合マニホールドによって動作可能に配置された複数のガス供給容器がガスキャビネット内に設けられてもよい。
【００２０】
別の態様における本開示は、同一のドーパント種を含む異なる並行流ガスを送出するためのガス供給システムに関し、並行流ガスが、吸着剤に基づくガス供給容器、内部圧力調整ガス供給容器、およびこれらの組合せの中から選択されたそれぞれの容器から送出される。異なる並行流ガスは、例えば、第１のガス供給容器内にＧｅＦ４、および第２のガス供給容器内にＧｅＨ４を含むことができる。
【００２１】
本開示のさらなる別の態様は、複数のガス入力部および複数の混合ガス出力部を有するガス混合マニホールドと、ガス混合マニホールドを動作させるように、且つ信号伝送線路を介してガス混合マニホールドからフィードバックを受信するように構成された監視制御システムと、少なくとも１つの遠隔入力／出力インタフェースユニットに対して監視制御システムを相互に接続する少なくとも１つの遠隔光ファイバリンクと、を備える、ガス混合システムに関する。
【００２２】
そのようなガス混合システムでは、遠隔入力／出力インタフェースユニットは、ガス混合マニホールドを動作させるために直接ガス混合マニホールドに、またはガス混合マニホールドを動作させるために監視制御システムに制御信号を送信するように構成されてもよい。本システムは、複数の遠隔入力／出力インタフェースユニットを備えることができ、ガス混合システムは、間違った比率の混合物が生成されるのを防止するために、および／またはガス混合物受取り関係でガス混合マニホールドに連結された１つまたは複数のプロセスツールのプロセスツール要求間の衝突を回避するために、ソフトウェアインターロックを用いて構成されている。ガス混合マニホールドは、ガスキャビネット内に配置されてもよい。ガス混合システムは、混合マニホールドにおけるそれぞれの混合動作の後に混合マニホールドを真空引きするために構成されてもよい。混合マニホールドは、マニホールドによって生成されたガス混合物中のガス純度および／またはガス成分比率を、検出および／または検証するように構成されたオンボードセンサを備えることができる。
【００２３】
本開示の別の態様は、容器から供出されるガスの圧力低下を伴う供出動作において冷却の影響を受けやすい少なくとも１つのガス供給容器からガスを供給する方法に関し、前記方法が、容器から供出されるガスの圧力を監視するステップと、容器の消耗を示す圧力に対して圧力低下を検出すると、容器の供出動作を終了させるステップと、容器内の残留ガスの圧力を容器の消耗を示す圧力よりも高くして、これによって容器の更新された供出動作が可能になるような程度まで容器が温められるように、容器の供出動作の終了時に容器を温めるステップと、を含む。
【００２４】
本開示のさらなる別の態様は、同一のドーパント種を含む並行流ガスを供給する方法であって、吸着剤に基づくガス供給容器、内部圧力調整ガス供給容器、およびこれらの組合せの中から選択されたそれぞれの容器から並行流ガスを送出するステップを含む、方法に関する。
【００２５】
別の態様において、本開示は、混合ガスを供給する方法であって、本開示のガス混合システムにおける異なるガス供給容器からのガスを混合するステップと、ガス混合マニホールドの複数の混合ガス出力部の１つにおいてガス混合マニホールドから混合ガスを排出するステップと、を含む、方法に関する。
【００２６】
本開示の前述の態様は、以降でより完全に記載され、詳述される。
【００２７】
半導体製造などの様々なガス供給動作では、毎分数リットルのオーダの高流量が、吸着剤に基づく容器または圧力調整容器などのガス供給容器により実現されることが求められる。
【００２８】
典型的なプロセスは、毎分２Ｌのガスを２時間持続して流し、続いてガス利用ツールがウェーハを交換するため２０分の非流動期間を伴うことがある。次いで、さらに２時間の流動時間がこの待機時間に続く。本プロセスは、一日または他の操業運転期間を通して、２時間のガス流動と、これに続く２０分の待機とを交互にし続ける。本プロセスでは、最小の所望の送出圧力は、３００ｔｏｒｒのオーダである場合がある。この典型的なプロセスでは、２つの５０Ｌのガス供給容器が据え付けられているガスキャビネットが用いられることがある。
【００２９】
本プロセスの動作において遭遇する問題は、ガスが供出動作中にガス供給容器から流されるにつれ、容器が冷却し始め、それによって容器内のガス圧が減少することである。ガス供給容器の圧力が、そのような減少圧力供出動作中に３００ｔｏｒｒの設定点に達すると、ガスキャビネット監視制御システムは、圧力減少および設定点到達を容器のガス内容物の消耗を示すものとして解釈し、そのような「消耗した」容器を、例えば、そのような容器の弁ヘッドの弁を閉じることによって、スイッチオフし、新鮮なガス供給容器を、例えば、そのような新鮮なガス供給容器の弁ヘッドの弁を開けることによって、スイッチオンし、下流のガス利用ツールへのガス供給の連続性を確保する。そのようなやり方では、もとのガス供給容器が使用停止され、ガスキャビネットからのそのような容器の取外しと、供出されるガスを含有するさらなる新鮮な容器の設置と、を伴う交換がスケジューリングされる。
【００３０】
したがって、ガス供出動作に付随する容器の冷却は、結果として、継続的な供出動作のためのかなりの残留ガスを依然として有する時点で、ガス供給容器の空または消耗状態を早まって示すことになる。この冷却媒介された空または消耗状態の表示は、吸着貯蔵媒体からのガスの脱離が冷却に実質的に寄与する吸着剤含有容器の場合、特に深刻である。
【００３１】
本開示は、ガスキャビネット内のまたはガスキャビネットに関連付けられた、改良されたガス監視制御システムによってこの問題を解決すること意図しており、ガス監視制御システムは、もとの供出ガス供給容器が「空」であると見なされた場合に、供出ガス供給容器が、直ちにガスキャビネットから取り外されるようにスケジューリングされるのではなく、むしろアイドル状態で維持され、ガスを容器から再び供出することができる温度まで温められ、それにより、容器内のかなりのガスの残留在庫が供出に利用可能となるように動作する。そのような加温は、容器およびその内容物を、周囲温度（室温）を超えて加温すること、および／または容器を取り囲む加熱ジャケットを作動させることによってあるいは他の適切なやり方で増強加熱することを含むことができる。加温温度は、例えば、本開示の特定の実施形態では、３５℃〜５０℃の範囲にある温度への加温であってもよい。
【００３２】
そのような加温は、ガスの脱離の結果としての先の冷却が克服されるように実行される。したがって、アクティブな供出動作に切り替えられた第２のガス供給容器が２時間の供出期間、前述のプロセスで利用されてもよく、一方、冷却がモニタされた結果として以前にラインから外された第１のガス供給容器を適切な温度に温めて、引き続き次の２時間の供出期間ガスを供給するために第１のガス供給容器を利用できるようにする。このような動作により、各ガス供給容器のガス在庫のより徹底的な利用、ならびに必要とされるガス容器交換回数を減らすことが可能になる。
【００３３】
別の態様における本開示は、気相堆積チャンバ、エピタキシャル成長チャンバ、注入チャンバ、または他のガス利用ツールなどの、プロセスツールに異なるガスを同時に流す、ガスの並行流に関する。イオン注入の場合のそのようなガスは、同一のドーパント種、例えば、ＧｅＦ４およびＧｅＨ４を含有する並行流ガスを含んでもよく、並行流ガスは、吸着剤に基づくガス貯蔵および供出容器、内部圧力調整容器、すなわち内部に圧力調整装置が配置された容器、ならびにそのような吸着剤に基づく容器と内部圧力調整容器の組合せの中から選択されたそれぞれの容器から送出される。
【００３４】
そのようなタイプのガス供給容器が図１および図２に示されている。
【００３５】
図１は、本開示によるガスキャビネットにおいて利用することができる吸着剤に基づくガス供給容器１００の部分断面斜視図である。容器１００は、吸着剤１０４が配置されたコンテナ１０２を含む。コンテナ１０２は、その上方端で、全開位置と全閉位置との間で選択的に平行移動可能な弁要素が配置された内部弁チャンバを含む弁ヘッド１０６に連結されている。弁チャンバは、コンテナ１０２の内部容積ならびにガス供出ポート１１０と連通する。弁チャンバの弁要素は、図示するような手回しハンドル、あるいは空気圧アクチュエータ、電気ソレノイドアクチュエータ、または他の適切な自動アクチュエータなどの自動アクチュエータを含むことができる弁アクチュエータ１０８と連結されている。
【００３６】
コンテナ１０２内の吸着剤１０４は、任意の適切なタイプのものであってもよく、例えば、炭素吸着剤、アルミノケイ酸塩、シリカ、吸着剤粘土、分子ふるい、またはガス貯蔵および供出媒体としての使用に、貯蔵および輸送条件中のガスの吸着貯蔵に適した、ならびに供出条件下でガス供出ポート１１０を介してコンテナから排出するためにガスを脱離放出するのに効果的な、その他の吸着剤を含むことができ、弁ヘッド１０６の弁要素は、そのような供出のために開放されている。
【００３７】
供出条件下での吸着剤からのガスの脱離は、コンテナおよび含有吸着剤が加熱される、熱媒介された脱離であってもよい。あるいは、脱離は、例えば、圧力がコンテナ１０２内の圧力よりも低い流れ回路に連結されているガス供出ポート１１０を用いて、圧力差によって達成されてもよい。さらなる代替形態として、脱離は、結果として吸着されたガスの吸着剤からの放出となる物質移動勾配と、ガス供出ポート１１０を介して容器から排出するためのキャリヤーガスへの通路と、を生成するように、キャリヤーガスをコンテナの内部容積を通して流すことによって達成されてもよい。前述の脱離およびガス供出モードは、関与するガスおよびその最終使用法に応じて、所与の用途において特定の組合せで利用されてもよい。
【００３８】
図２は、本開示によるガスキャビネットにおいて利用することができる圧力調整されたガス供給容器２００の部分断面斜視図である。容器２００は、密閉された内部容積２０４を画成するコンテナ２０２を含む。コンテナ２０２は、その上方端でフランジ２２６と連結され、このフランジ２２６がコンテナ２０２の内部容積２０４および容器のガス排出ポート２２２と連通する弁チャンバの弁要素を収容する弁ヘッド２２０と連結されている。弁要素は、アクチュエータ２２４と連結され、このアクチュエータ２２４は、図示するような手動の手回しハンドル、あるいは任意の適切なタイプの自動アクチュエータを含むことができる。
【００３９】
コンテナ２０２の容器２００は、ガス供出導管２１２によって相互に接続された圧力調整器２０８および２１０の直列接続配置を含む内部圧力調整アセンブリを保持する。圧力調整器２０８は、ガス入口管２１４によってフィルタ２０６に接続されている。フィルタ２０６は、管２１４、圧力調整器２０８、ガス供出導管２１２、圧力調整器２１０、および圧力調整器２１０を弁ヘッド２２０と接続するガス供出導管（図２の図面ではそのようなガス供出導管は目に見えない）を含むガス排出経路に微粒子が入るのを防止する目的で、中心に置かれたマトリックスまたは他のフィルタ素子を含むことができる。
【００４０】
調整器２０８および２１０は、下方の圧力調整器２０８がより高い設定点圧力を有し、上方の圧力調整器２１０がより低い設定点圧力を有する設定点調整器タイプのものであってもよく、それぞれの設定点において、容器からガス供出ポート２２２に所望の圧力条件でガスを確実に供出するように圧力が与えられる。
【００４１】
それぞれの並行流ガスは、各コンテナがガスキャビネット内に配置された図１および図２に示すタイプのコンテナによって供給されてもよく、ガスキャビネットにおいて、コンテナは、下流のガス利用ツールに対してそれぞれのガスを供給するための流れ回路と連結されている。並行流ガスは、別々のガス流通路において下流のツールに流されてもよく、あるいは、そのようなガスは、例えば、ガスキャビネットに配置された混合チャンバ内で互いに混合されてもよい。
【００４２】
それぞれのガスに対して別々の吸着剤に基づく容器または内部圧力調整容器を設けることによって、それぞれのガスを、低い、例えば、大気圧よりも低い圧力で供給することができ、そのような圧力は、互いに同じであっても、または異なっていてもよい。このようにして、異なる圧力で異なるガスを供給することによって、それぞれのガスのブレンドを促進して圧力を均等にすることができるが、初めに不均等な圧力を使用して、非常に効率的なやり方で、ガス成分それぞれの互いに対する所望の相対的な比率でガスの混合を達成する。例えば、より低い流量の、より高圧のガスが、より高い流量の、より低圧のガスと混合されることがある。他のガスに対する特定のガスの流量および圧力の他の変形形態を用いて、下流のガス利用ツールにおける混合ガス組成を提供することができる。
【００４３】
並行流ガスのそのような混合は、本開示のさらなる態様によるガス混合システムによって達成され得る。
【００４４】
多くのガス利用プロセスシステムでは、上記の並行流ガス混合物などの特殊ガス混合物が用いられる。様々なプロセスにおいて、混合物のそれぞれのガス成分の混合比を変える能力から実質的な利益を得ることができる。これは、３２ｎｍ以下のプロセスノードで利用されるプラズマドーピングプロセスにおいて特に当てはまる。
【００４５】
本開示のガス混合システムは、ほんの少数の入力ガスによって、複数の出力混合物を生成する能力を有する混合マニホールドを備える。本ガス混合システムは、出力チャネル間の混合分離を有する分離されたマニホールド、ガス混合物の含有量を確保するためのマニホールドのサイクルパージ、プロセスツール通信、偶然的なガス混合物の汚染を防止するためにチャネルをインターロックする能力を有するコンピュータ制御、混合割合を確認するためのメトロロジーによるガスサンプリング、および長距離遠隔通信を特徴とする。
【００４６】
そのようなガス混合システムは、上で例示したように、吸着剤に基づくガス供給容器および／または内部圧力調整ガス供給容器を保持するガスキャビネットにおいて用いられることがある。ガス混合システムは、複数の予混合入力部または後混合出力部を備えることができる。様々な実施形態において、ガス混合システムは、プロセスツール通信および遠隔制御装置と共に、２つの入力部および１つの出力部を有する混合マニホールドを備える。
【００４７】
図３は、例えば、本開示のガスキャビネットにおいてガス供給容器からガスを供給するために利用することができる、本開示のさらなる実施形態によるガス混合システム３００の概略図である。
【００４８】
ガス混合システム３００は、複数のガス入力部３０４および複数の混合ガス出力部３０６を有するガス混合マニホールド３０２を含む。ガス混合マニホールド３０２は、双方向信号伝送線路３１０によってガス混合マニホールドと双方向信号伝送関係で結びつけられるような図３に示す制御ＰＣ３１２などの中央処理装置によって制御されるように構成される。そのような信号伝送線路は、制御ＰＣ３１２から混合マニホールド３０２への制御信号の伝送、ならびに混合マニホールドから制御ＰＣへの監視およびフィードバック信号の伝送に対応する。そのような監視およびフィードバック信号の伝送に対応するために、混合マニホールド３０２は、例えば、ガス組成、流量、圧力、温度、組成などを監視するために、適切な監視、検出、および信号生成構成要素を備えることができる。
【００４９】
制御ＰＣ３１２は、例えば、ガス入力部３０４および／または混合ガス出力部３０６に関連付けられたガス流制御弁を閉じるもしくは開けるためのアクチュエータの作動を伴う所定のサイクル時間プログラムに従って、混合マニホールド３０２を制御するようにプログラム可能に構成されてもよい。より一般には、制御ＰＣ３１２は、下流のガス利用ツールに混合ガスを供給する任意の適切なやり方で混合マニホールド３０２の動作を制御するようにプログラム可能に構成されてもよい。
【００５０】
ガス混合システム３００は、ローカルなガス混合システム構成要素と長距離インタフェース接続するための光ファイバによって可能になるインタフェースを備えることもでき、本システムは、複数の遠隔インタフェースおよび関連付けられた通信能力を備えることができ、それにより、混合ガスを対応するプロセスツール接続によって複数のプロセスツールに供給するように配置される。ローカルなガス混合マニホールド３０２は、商標ＳＤＳの下でＥｎｔｅｇｒｉｓ社（Ｂｉｌｌｅｒｉｃａ、Ｍａｓｓａｃｈｕｓｅｔｔｓ、ＵＳＡ）から市販されている容器などの吸着剤に基づく容器および／または商標ＶＡＣの下でＥｎｔｅｇｒｉｓ社（Ｂｉｌｌｅｒｉｃａ、Ｍａｓｓａｃｈｕｓｅｔｔｓ、ＵＳＡ）から市販されている容器などの内部圧力調整容器の据付けのために構成されているような、例えば、Ｅｎｔｅｇｒｉｓ社（Ｂｉｌｌｅｒｉｃａ、Ｍａｓｓａｃｈｕｓｅｔｔｓ、ＵＳＡ）から市販されているＴＸ４キャビネットのような適切なタイプのガスキャビネット内に据え付けられてもよい。
【００５１】
図３に示すように、ガス混合マニホールド３０２は、制御ＰＣ中央処理装置３１２および入力／出力（Ｉ／Ｏ）駆動装置によって制御され、複数の（少なくとも２つの）入力および出力ポートが設けられてもよい。ガス混合システム３００は、混合マニホールド３０２などのシステムまたはその構成要素をガスキャビネット内に据え付ける代わりに、スタンドアロンのシステムとして提供されてもよい。制御ＰＣ中央処理装置３１２は、双方向光ファイバ伝送線路３１６によって遠隔光ファイバ（ＦＯ）リンク３１４にリンクされているとして示されている。
【００５２】
そのような配置では、混合マニホールド３０２における混合動作は、制御ＰＣ３１２または遠隔光ファイバリンク３１４に関連付けられた遠隔インタフェースからの予めプログラムされた制御によって達成されてもよい。制御ＰＣ３１２および／または遠隔インタフェースは、プロセスツールとインタフェースし、ツールからの制御信号を使用して、変更されたガス混合物をツールに送出することもできる。そのようなやり方で、遠隔インタフェースを光ファイバによってリンクさせることができ、非常に遠距離の信号伝送が可能になる。間違った比率の混合物が生成されるのを防止するために、またはプロセスツール要求間の衝突を避けるためにソフトウェアインターロックが混合動作に用いられてもよい。
【００５３】
したがって、混合マニホールドは、ガスを混合マニホールドに入力するための（同一のもしくは異なるサイズ、タイプなどの）複数のガス供給容器を保持するガスキャビネット内に据え付けられても、またはそのようなガスキャビネットに関連付けられてもよい。混合マニホールドは、それぞれの混合動作の後に排気されてもよく、混合マニホールドは、マニホールドによって生成されたガス混合物中のガス純度およびガス成分比率を、検出および／または検証するように構成されたオンボードセンサを備えることができる。
【００５４】
図４は、本開示の一実施形態による吸着剤に基づくガス供給容器を組み込むガスキャビネットアセンブリの正面斜視図であり、このガスキャビネットアセンブリと共に図３のガス混合システムが用いられてもよく、例えば、混合マニホールド３０２は、ガス入力部３０４および混合ガス出力部３０６に連結された、関連付けられた流れ回路を有するガスキャビネット内に据え付けられてもよい。吸着剤に基づくガス供給容器のみの代わりに、ガスキャビネットアセンブリは、代替として、内部圧力調整容器、またはさらなる代替として、吸着剤に基づくガス供給容器と内部圧力調整容器の組合せを組み込むことができる。
【００５５】
ガスキャビネットアセンブリ４００は、ガスキャビネット４０２を含む。ガスキャビネット４０２は、前面ドア４１４および４２０を有するハウジングを共に画成する側壁４０４および４０６と、床４０８と、背面壁４１０と、天井４１１と、を有する。ハウジングおよびそれぞれのドアは、内部容積４１２を囲む。
【００５６】
ドアは、文字通り、自動閉鎖および自動ラッチするように配置されてもよい。そのような目的のために、ドア４１４は、協同してドア４２０上のロック要素４２４に係合するラッチ要素４１８を有してもよい。ドア４１４および４２０は、ドアの閉鎖時に気密封止を生成するようなやり方で、斜角がつけられ、および／またはガスケットが施されてもよい。
【００５７】
図示するようなドア４１４および４２０には、窓４１６および４２２がそれぞれ備え付けられていてもよい。窓は、破損しにくいようにワイヤ補強および／または強化されたガラスであってもよいが、同時に、内部容積４１２およびマニホールド４２６の視野の遮りをもたらさないほどに十分な面積のものであってもよく、図４に示す簡略化された形態のものであってもよく、または図３に例示的に示すようなタイプのガス混合マニホールドを備えてもよい。
【００５８】
図示するようなマニホールド４２６は、ガス供給容器４３３と閉流動連通して接合可能な入口接続ライン４３０によって構成されてもよい。マニホールド４２６は、例えば、流量制御弁、マスフローコントローラ、供給容器から供出されているガスの圧力、温度、流量、濃度などプロセス条件を監視するためのプロセスガス監視計器、ガスキャビネットに複数のそのような容器が据え付けられている場合にガス供給容器をスイッチオーバーするための自動スイッチングアセンブリを含むマニホールド制御装置、リーク検出機器、ならびに１つまたは複数の供給容器からリークが検出された際にガスキャビネットの内部容積をパージするための自動化パージ装置および関連付けられたアクチュエータを含む、任意の適切な構成要素を含むことができる。
【００５９】
マニホールド４２６は、キャビネットの壁４０４の出口４２８に接続し、この出口４２８は、供給容器から供出されたガスをガスキャビネットに連結された下流のガス利用ユニットに運ぶための配管に接続されてもよい。
【００６０】
ガス利用ユニットは、例えば、イオン注入装置、化学気相堆積反応炉、フォトリソグラフィートラック、拡散チャンバ、プラズマ発生装置、酸化チャンバなどを含むことができる。マニホールド４２６は、供給容器およびガスキャビネットからガス利用ユニットに供出される所定の流量のガスを供給するために構築され配置されてもよい。
【００６１】
ガスキャビネットは、キャビネットの内部容積内のガス供給容器からガスを供出するプロセスを監視するために、キャビネットの内部容積内のマニホールド要素および補助要素と連結された屋根取付けディスプレイ４７２を有する。
【００６２】
ガスキャビネットには、矢印Ｅによって示す方向にキャビネットの内部容積からのガスを排出するための排出導管４７８に対して連結器具４７６を介して連結された屋根取付け排気ファン４７４が設けられてもよい。ガスキャビネットからのガス漏洩のすべての望ましくない流出に対するさらなる保護手段として、排気ファン４７４を適切な回転速度で動作させて、キャビネットの内部容積内で所定の真空または負圧をかけることができる。したがって、排出導管は、例えば、排気流からすべての漏洩ガスを除去するためのスクラバまたは抽出ユニットなどの下流のガス処理ユニット（図示せず）に連結されてもよい。そのような目的のために流入空気を供給するために、キャビネット、例えば、ドアは、キャビネットから内部容積ガスを取り除くためのスイープ流またはパージ流として周囲空気の正味の流入を可能にするように構築されてもよい。したがって、ドアは、ルーバーが付けられてもよく、またはその他の方法で、周囲ガスを進入させるために構築されてもよい。
【００６３】
ガス供給容器４３３は、容器の内部容積を囲む壁４３２を含む、漏れ止めガス容器を適切に含むことができる。微粒子固体吸着剤媒体、例えば、炭素、分子ふるい、シリカ、アルミナなどの物理的な吸着剤材料がコンテナの内部容積内に配置される。吸着剤は、供出されるガスに対する高い吸着親和性および能力を有するタイプのものであってもよい。
【００６４】
供出される試薬ガスが好ましくは超高純度、例えば、「７−９」の純度、より好ましくは「９−９」の純度、さらにはそれ以上である半導体製造などの用途については、吸着材料は、容器内で貯蔵されたガスの分解を引き起こし、容器の内圧を所望の設定点の貯蔵圧力を著しく上回るレベルにまで上昇させる汚染物質種を実質的に含まず、好ましくは、本質的に完全に含まないものでなければならない。
【００６５】
例えば、大気圧を著しく超えない圧力、例えば、約２５〜約８００ｔｏｒｒの範囲の圧力で、貯蔵状態のガスを保持するために、本発明の吸着剤に基づく貯蔵および供出容器を利用することが望ましいことがある。そのような大気圧または大気圧より低い圧力レベルは、高圧圧縮ガスボンベの使用に関して、あるレベルの安全性および信頼性を提供する。
【００６６】
図４に示すように、ガス供給容器４３３は、キャビネットの床４０８に載置させた下方端と、容器を漏れ止め封止するように弁ヘッド４３８が固定された上方ネック部分４３６と、を有する細長い垂直に直立した形態のものである。ガス供給容器４３３の製造において、ガス供給容器４３３は、吸着剤で充填され、その後、吸着ガスが吸着剤に装填される前または後に、弁ヘッド４３８が、例えば、溶接、ろう付け、はんだ付け、適切なシーラント材料による圧縮接合固定などによって容器のネック部分に固定されてもよく、それにより、その後、容器は、ネック接合部において弁ヘッドと文字通り漏れ止めになる。
【００６７】
弁ヘッド４３８には、容器からのガスを選択的に供出することを可能にする適切な配管または他の流動手段にガス供給容器を接合するための継ぎ手４４２が設けられている。弁ヘッドには、接続配管にガス流を流す、または終了させるために、弁ヘッドの弁を手動で開閉するための手回しハンドル４３９が設けられてもよい。あるいは、弁ヘッドには、適切な流れ制御手段にリンクした自動弁アクチュエータが設けられてもよく、それによって供出動作中のガスの流れが所望のレベルに維持される。
【００６８】
動作において、ガス供給容器４３３の内部容積とマニホールドの外部配管／流れ回路との間の圧力差が確立され、それによってガスが吸着剤材料から脱離し、容器からガス流マニホールド４２６に流入する。それによって、物質移動のための濃度駆動力が生成され、これによって、ガスが吸着剤から脱離し、容器の自由ガス容積内に入り、弁ヘッドの弁が開いている間に容器から流出する。
【００６９】
あるいは、供出されるガスは、ガス供給容器４３３内の吸着剤から少なくとも部分的に熱的に脱離してもよい。そのような目的のために、ガスキャビネットの床４０８は、容器を載置させる電気的に作動可能な抵抗加熱領域を有することができ、それにより、床の抵抗加熱領域の電気的な作動によって、容器および容器内の吸着剤に熱を伝える。そのような加熱の結果として、貯蔵されたガスは、容器内の吸着剤から脱離し、続いて供出され得る。
【００７０】
ガス供給容器は、代わりに、容器ケーシングを包むもしくは取り囲む加熱ジャケットまたは加熱ブランケットを配備することによってそのような目的のために加熱されてもよく、それにより、容器およびその内容物が適切に加熱されて、貯蔵されたガスの脱離およびその後のガスの供出を達成する。
【００７１】
さらなる手法として、ガス供給容器内の貯蔵されたガスの脱離は、圧力差媒介脱離および熱媒介脱離の両方の推進力の下で実行されてもよい。
【００７２】
さらなる別の代替形態として、供給容器には、キャビネットの内部または外部のキャリヤーガス源（図示せず）に接続されてもよいキャリヤーガス入口ポート４４９が設けられてもよい。そのようなガス源は、適切なガス、例えば、不活性ガスまたは下流のガス利用ユニットでのプロセスに有害でない他のガスの流れを提供することができる。そのようなやり方で、容器の中を通ってガスを流し、容器内の吸着剤からの吸着質ガスの脱離をもたらす濃度勾配を発生させることができる。キャリヤーガスは、窒素、アルゴン、クリプトン、キセノン、ヘリウムなどのガスであってもよい。
【００７３】
図４に示すように、ガス供給容器４３３は、従来型のストラップファスナ４４６および４４８によってガスキャビネット内の適所に保持される。ネックリングなどの他のファスナが使用されてもよく、あるいは他の固定構造、例えば、容器の下方端を嵌合可能に受けるガスキャビネットの床の受取りくぼみもしくは空胴、ガスキャビネットの内部容積内の所望の位置に容器を固定して保持するガイド部材またはコンパートメント構造が用いられてもよい。
【００７４】
図４のガスキャビネットでは、１つのガス供給容器４３３のみが示されているが、そのようなガスキャビネットは、１つ、２つ、または３つの容器を保持するように構築され配置されるものとして示されている。ガス供給容器４３３に加えて、任意選択の第２のガス供給容器４６０および任意選択の第３のガス供給容器４６２が、それぞれのストラップファスナ４６４および４６６（任意選択のガス供給容器４６０用）、ならびにストラップファスナ４６８および４７０（任意選択のガス供給容器４６２用）に関連付けられて、図４の破線表現で示されている。
【００７５】
本開示のガスキャビネットは、１つまたは２つ以上のガス供給容器を含むように大幅に変更されてもよいことが明らかであろう。そのようなやり方で、任意の数のガス供給容器を単一の一体型のエンクロージャ内に保持することができ、それによって、供給されるガスの管理における安全性およびプロセス信頼性が向上する。
【００７６】
そのようなやり方で、複数の吸着剤含有ガス供給容器および／または内部圧力調整容器および／または任意の他の適切なタイプの容器が、下流のガス消費ユニットで必要とされる様々なガス成分を供給するために、あるいはそれぞれが同一のガスを含有する複数の容器を提供するために設けられてもよい。したがって、ガスキャビネットにおける複数の容器内のガスは、互いに同じであっても、異なっていてもよく、それぞれの容器を同時に動作させて、下流のガス消費ユニットに対するガスを抽出することができ、またはそれぞれの容器をサイクルタイマープログラムおよび自動弁／マニホールド動作手段によって動作させ、容器を連続的に開けて、動作の連続性を提供し、またはその他の方法で下流のガス消費ユニットの処理要求に対応することができる。
【００７７】
ディスプレイ４７２は、プロセスの動作状態、下流に流される供出ガスの容積、供出動作のための残り時間またはガス容積などを示す視覚的な出力を提供するために、関連付けられたコンピュータ／マイクロプロセッサ手段によってプログラム的に配置されてもよい。ディスプレイは、ガスキャビネットに対するメンテナンスイベントの時間もしくは頻度、またはガスキャビネットに据え付けたときの図３に示されるタイプの混合マニホールドの動作などの、ガスキャビネットアセンブリの動作、使用、およびメンテナンスに適切なその他の適切な情報を示す出力を提供するように配置されてもよい。
【００７８】
また、ディスプレイは、ガスキャビネット内の容器の交換の必要性、漏洩イベント、サイクル終了の接近、またはガスキャビネットの動作、使用、およびメンテナンスに有用な任意のイベント、状態、もしくはプロセス条件を知らせる可聴警報出力手段を備えることができる。
【００７９】
したがって、ガスキャビネットアセンブリは、半導体製造設備におけるプロセスユニットのような下流のガス利用ユニットに試薬ガスを供給するための柔軟な手段を提供するために、形態および機能が大幅に変更されてもよいことを認識されるであろう。ガスキャビネットアセンブリからの供給ガスは、任意の適切なタイプのものであってもよく、例えば、シラン、ジボラン、ゲルマン、アンモニア、ホスフィン、アルシン、スチビン、硫化水素、セレン化水素、テルル化水素、三フッ化ホウ素、タングステンヘキサフルオリド、塩素、塩化水素、臭化水素、ヨウ化水素、フッ化水素、ゲルマニウムテトラフルオリドなどを含む、水素化物ガス、ハロゲン化物ガス、およびガス状有機金属Ｖ族化合物のうちのいずれか１つまたは複数を例えば含むことができ、そのようなガスは、水素、キセノン、アルゴン、アンモニア、一酸化炭素、二酸化炭素などの並行流ガス種を混合して含むことができる。
【００８０】
柔軟で、費用効率が高く、効率的なやり方で１つまたは複数のプロセスツールに適切な組成および特性のガスを供給するために、ガスキャビネットアセンブリは、その内部に、図１および図２に関連して上に記載されたタイプのガス供給容器と一緒に据え付けられた図３に示すタイプの混合マニホールドを有することができる。
【００８１】
本開示は、特定の態様、特徴、および例示的な実施形態を参照して本明細書に記載されているが、本開示の有用性は、このように限定されるものではなく、むしろ本明細書の記載に基づいて、本開示の分野の当業者に自明であるような、数多くの他の変形、修正、および代替の実施形態に及び、そのような実施形態を包含することを認識されるであろう。それに応じて、以降で特許請求されるような開示は、その趣旨および範囲内で、そのような変形、修正および代替の実施形態すべてを含むものとして、広く解釈され、理解されることが意図されている。
【図１】
2018522167.tif 000003
【図２】
2018522167.tif 000004
【図３】
2018522167.tif 000005
【図４】
2018522167.tif 000006
【手続補正書】
【提出日】平成30年1月22日(2018.1.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つのガス供給容器であって、前記容器から供出されるガスの圧力低下を伴う供出動作において冷却の影響を受けやすい少なくとも１つのガス供給容器と、
前記容器の消耗を示す圧力に対して圧力低下を検出するように、且つ前記容器の供出動作を終了させるように構成された監視システムと、
前記容器内の残留ガスの圧力を前記容器の消耗を示す前記圧力よりも高くして、これによって前記容器の更新された供出動作が可能になるような程度まで前記容器が温められるように、前記容器の供出動作の終了時に前記容器を温めるように構成された加温システムと、
を備える、ガス供給システム。
【請求項２】
前記ガス供給容器が吸着剤からのガス脱離を含む供出動作において、前記吸着剤を前記容器によって供給されるガスのための貯蔵媒体として含む、請求項１に記載のガス供給システム。
【請求項３】
前記監視システムが第１の容器の供出動作を終了させると、第２の容器が供出動作を開始してガス供給の連続性を確保するように動作可能に配置された複数の前記ガス供給容器を備える、請求項１に記載のガス供給システム。
【請求項４】
前記少なくとも１つのガス供給容器がガスキャビネット内に配置されている、請求項１から３のいずれか一項に記載のガス供給システム。
【請求項５】
前記複数のガス供給容器の２つ以上から供出されたガスを混合するための混合マニホールドによって動作可能に配置された複数のガス供給容器を前記ガスキャビネット内に備える、請求項４に記載のガス供給システム。
【請求項６】
複数のガス入力部および複数の混合ガス出力部を有するガス混合マニホールドと、
前記ガス混合マニホールドを動作させるように、且つ信号伝送線路を介して前記ガス混合マニホールドからフィードバックを受信するように構成された監視制御システムと、
少なくとも１つの遠隔入力／出力インタフェースユニットに対して前記監視制御システムを相互に接続する少なくとも１つの遠隔光ファイバリンクと、
を備えるガス混合システム。
【請求項７】
前記遠隔入力／出力インタフェースユニットが、前記ガス混合マニホールドを動作させるために直接前記ガス混合マニホールドに、または前記ガス混合マニホールドを動作させるために前記監視制御システムに制御信号を送信するように構成されている、請求項６に記載のガス混合システム。
【請求項８】
複数の遠隔入力／出力インタフェースユニットを備え、間違った比率の混合物が生成されるのを防止するために、および／またはガス混合物受取り関係において前記ガス混合マニホールドに連結された１つまたは複数のプロセスツールのプロセスツール要求間の衝突を回避するために、ソフトウェアインターロックを用いて構成されている、請求項７に記載のガス混合システム。
【請求項９】
前記混合マニホールドが前記マニホールドによって生成されたガス混合物中のガス純度および／またはガス成分比率を、検出および／または検証するように構成されたオンボードセンサを備える、請求項６に記載のガス混合システム。
【請求項１０】
容器から供出されるガスの圧力低下を伴う供出動作において冷却の影響を受けやすい少なくとも１つのガス供給容器からガスを供給する方法であって、
前記容器から供出されるガスの圧力を監視するステップと、
前記容器の消耗を示す圧力に対して圧力低下を検出すると、前記容器の供出動作を終了させるステップと、
前記容器内の残留ガスの圧力を前記容器の消耗を示す前記圧力よりも高くして、これによって前記容器の更新された供出動作が可能になるような程度まで前記容器が温められるように、前記容器の供出動作の終了時に前記容器を温めるステップと、
を含む、方法。
【国際調査報告】
2018522167.tif 000007
2018522167.tif 000008