(57)【要約】  対向する第１の構造化主面及び第２の構造化主面を含む拡散体について説明する。第１の主面は、一様な第１のヘーズをもたらす複数の第１の表面構造を含む。第２の主面は、エッジの隣にある第１の部分と、第１の部分の隣にある第２の部分とを含む。第１の部分は、第１の領域と、第１の領域と第２の部分との間にある第２の領域とを含む。第２の主面は、第２の部分にわたる一様な第２のヘーズをもたらし、第１の部分における第３のヘーズをもたらす、複数の第２の表面構造を含む。第１の領域の第３のヘーズは、第２のヘーズよりも高く、第２の領域の第３のヘーズは、単調に減少している。第２の部分は、第２の主面の表面積の少なくとも９０パーセントの表面積を有する。
2018521335.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対向する第１の主面及び第２の主面と、前記第１の主面と前記第２の主面との間に延在するエッジとを備える拡散体であって、前記第１の主面は、略一様な第１のヘーズをもたらす複数の第１の表面構造を備え、前記第２の主面は、前記エッジの隣にある第１の部分と、前記エッジとは反対側にあり前記第１の部分の隣にある第２の部分とを備え、前記第１の部分は、前記エッジの隣にある第１の領域と、前記第１の領域と前記第２の部分との間にある第２の領域とを含み、前記第２の主面は、前記第２の主面の前記第２の部分にわたる略一様な第２のヘーズをもたらし、前記第２の主面の前記第１の部分における第３のヘーズをもたらす、複数の第２の表面構造を備え、前記第３のヘーズは、前記第２の主面の前記第１の部分と前記第２の部分との間の連続境界に沿って前記第２のヘーズと略等しく、前記第１の領域の前記第３のヘーズは、前記第２のヘーズよりも高く、前記第２の領域の前記第３のヘーズは、前記エッジから前記連続境界に向かう方向に沿う距離によって単調に減少しており、前記第２の部分は、前記第２の主面の表面積の少なくとも９０パーセントの表面積を有する、拡散体。
【請求項２】
前記拡散体は、前記エッジに沿う長さと、直交する面内方向の幅とを有し、前記第２の部分の幅は、前記拡散体の前記幅の少なくとも９０パーセントであり、前記第１の部分及び前記第２の部分並びに前記第１の領域及び前記第２の領域のそれぞれは、前記拡散体の前記長さの少なくとも９０パーセントに沿って延在しており、前記第１の領域は、前記エッジに隣接し、前記第２の領域は、前記第１の領域に隣接し、前記第２の部分は、前記第２の領域に隣接している、請求項１に記載の拡散体。
【請求項３】
前記複数の第１の表面構造は、隣り合う構造間にリッジが形成されるように配置された稠密に詰まった構造を備え、前記構造は、直交する２つの面内方向に沿うサイズが制限されている、請求項１に記載の拡散体。
【請求項４】
前記第１の主面は、直交する第１の面内方向と第２の面内方向のそれぞれと関連する、第１のフーリエパワースペクトルと第２のフーリエパワースペクトルにより特徴付け可能である微細構成を有し、
前記第１のフーリエパワースペクトルが、
ゼロ周波数に対応せず、第１の基準線を定義する隣り合う２つの谷内に留まる１つ以上の第１の周波数ピークを含む限り、そのような任意の第１の周波数ピークが、０．８よりも小さい第１のピーク率を有し、前記第１のピーク率が、前記第１の周波数ピークと前記第１の基準線との間にあるエリアを前記第１の周波数ピークの真下のエリアにより割った値に等しく、かつ、
前記第２のフーリエパワースペクトルが、
ゼロ周波数に対応せず、第２の基準線を定義する隣り合う２つの谷内に留まる１つ以上の第２の周波数ピークを含む限り、そのような任意の第２の周波数ピークが、０．８よりも小さい第２のピーク率を有し、前記第２のピーク率が、前記第２の周波数ピークと前記第２の基準線との間にあるエリアを前記第２の周波数ピークの真下のエリアで割った値に等しい、請求項３に記載の拡散体。
【請求項５】
前記第１の主面は、平面図における単位エリア当たり２００ｍｍ／ｍｍ２よりも短い全リッジ長により特徴付けられる、請求項４に記載の拡散体。
【請求項６】
前記稠密に詰まった構造は、基準面における等価円直径（ＥＣＤ）及び厚さ方向に沿う平均高さにより特徴付けられ、各構造のアスぺクト比が、前記構造の前記平均高さを前記構造の前記ＥＣＤで割った値に等しく、前記構造の平均アスぺクト比が０．１５よりも小さい、請求項４に記載の拡散体。
【請求項７】
前記第３のヘーズは、少なくとも６０パーセントの最高値を有する、請求項１に記載の拡散体。
【請求項８】
前記第１のヘーズは、前記第２のヘーズよりも高く、前記第３のヘーズは、前記第１のヘーズよりも高い最高値を有する、請求項１に記載の拡散体。
【請求項９】
前記第２の主面の前記第２の部分の約１０パーセント以下が、約４０度よりも大きい傾斜度を有する、請求項１に記載の拡散体。
【請求項１０】
前記第２の主面の前記第１の部分の前記第２の領域は、前記第１のエッジから前記連続境界に向かう方向に沿う距離によってほぼ連続的に変化する傾斜分布を有する、請求項１に記載の拡散体。
【請求項１１】
前記第２の主面の前記第１の部分又は前記第２の主面の前記第２の部分の少なくとも１つのエリアが、第１の方向の第１の半値半幅（ＨＷＨＭ）を有する第１の表面角度分布と、前記第１の方向とは異なる第２の方向の第２のＨＷＨＭを有する第２の表面角度分布とを有し、前記第１のＨＷＨＭは、前記第２のＨＷＨＭとは異なる、請求項１に記載の拡散体。
【請求項１２】
前記第２の主面は、振幅分布及び間隔分布を有する表面構造を含み、前記振幅分布及び前記間隔分布の少なくとも一方が、前記第２の主面の前記第１の部分の前記第２の領域において変化し、前記振幅分布及び前記間隔分布のそれぞれが、前記第２の主面の前記第２の部分を通して略一様である、請求項１に記載の拡散体。
【請求項１３】
入力エッジ及び出力主面を有する光ガイドと、
請求項１に記載の拡散体であって、前記拡散体の前記第２の主面が前記光ガイドの前記出力主面に面し、前記拡散体の前記エッジが前記光ガイドの前記入力エッジの隣になるように、前記光ガイドに近接して配置された拡散体と
を備えるディスプレイ。
【請求項１４】
請求項１に記載の拡散体を作製する方法であって、
第１の構造化面を有する第１のマイクロ複製ツールを用意すること、
対向する第１の側面及び第２の側面を有する基材を用意すること、
前記第１のマイクロ複製ツールを用いて、前記基材の前記第１の側面に前記拡散体の前記第１の主面を形成することを含み、
前記第１のマイクロ複製ツールを用意する前記ステップは、
第１の電気メッキ処理により金属を電気溶着することによって前記金属の第１の層を形成し、第１の平均粗度を有する前記第１の層の第１の主面を生じさせること、
第２の電気メッキ処理により前記第１の主面に前記金属を電気溶着することによって前記第１の層の前記第１の主面に前記金属の第２の層を形成し、前記第１の平均粗度よりも小さい第２の平均粗度を有する前記第２の層の第２の主面を生じさせること
を含む、方法。
【請求項１５】
拡散体を作製する方法であって、
第１の構造化面を有する第１のマイクロ複製ツールを用意することであって、
前記第１の構造化面は、表面構造の略一様な分布を有する、ことと、
対向する第１の主面及び第２の主面を有する基材を用意することと、
前記第１のマイクロ複製ツールを用いて前記基材の前記第１の主面を構造化することと、
第２の構造化面を有する第２のマイクロ複製ツールを用意することであって、
前記第２の構造化面は、前記第２の構造化面の第１の部分の領域において変化し、前記第２の構造化面の第２の部分にわたり略一様である、表面構造の分布を有し、前記第２の部分は、前記第２の構造化面の表面積の少なくとも９０パーセントの表面積を有する、ことと、
前記第２のマイクロ複製ツールを用いて前記基材の前記第２の主面を構造化することとを含み、
前記第１のマイクロ複製ツールを用意する前記ステップは、
第１の電気メッキ処理により金属を電気溶着することによって前記金属の第１の層を形成し、第１の平均粗度を有する前記第１の層の第１の主面を生じさせることと、
第２の電気メッキ処理により前記第１の主面に前記金属を電気溶着することによって前記第１の層の前記第１の主面に前記金属の第２の層を形成し、前記第１の平均粗度よりも小さい第２の平均粗度を有する前記第２の層の第２の主面を生じさせることとを含み、
前記第２のマイクロ複製ツールを用意する前記ステップは、切削システムを用いて、予備形成されたツールの表面に構造を切削することを含む、方法。
【請求項１６】
光学フィルムであって、
第１の方向に沿って線形に延在する略平行な複数の上部構造を備える構造化上面と、
前記第１の方向とは異なる第２の方向に沿って線形に延在する略平行な複数の下部構造を備える構造化下面と
を備え、
前記上部構造及び前記下部構造のそれぞれが、前記構造の基部のそれぞれ対向する第１の端部及び第２の端部から延在し、前記構造のピークで交わる、対向する第１の湾曲面及び第２の湾曲面を備える、光学フィルムと、
前記光学フィルムと略同一の広がりを有する光学拡散体であって、
前記光学フィルムの前記構造化下面に面する構造化上面であって、
前記構造化上面にわたる略一様な第１の光学ヘーズを有する構造化上面と、
構造化下面であって、前記構造化下面の第１のエッジに沿う第１の部分と、
前記第１の部分から前記構造化下面の反対側にある第２のエッジまで延在する第２の部分とを有し、前記第２の部分は、前記第２の部分にわたる略一様な第２の光学ヘーズを有し、前記第１の部分の少なくとも一部の領域が、前記第１の光学ヘーズ以上の第３の光学ヘーズを有し、前記第２の光学ヘーズは、前記第１の光学ヘーズよりも低い、構造化下面とを備える、光学拡散体とを備える光学スタック。
【請求項１７】
前記光学フィルムと前記光学拡散体は、前記光学フィルム及び前記光学拡散体の対応するエッジに沿って接合されて、前記光学フィルムと前記光学拡散体の間に空隙を形成している、請求項１６に記載の光学スタック。
【請求項１８】
光源と、
前記光源に近接する入力面、及び出力面を有する光ガイドと、
前記光ガイドに配置された光学拡散体であって、
構造化上面であって、
前記構造化上面にわたる略一様な第１の光学ヘーズを有する構造化上面と、
前記光ガイドの前記出力面に面する構造化下面であって、
前記構造化下面の第１のエッジに沿い前記光ガイドの前記入力面に近接する第１の部分と、前記第１の部分から前記構造化下面の反対側にある第２のエッジまで延在する第２の部分とを有し、前記第２の部分は、前記第２の部分にわたる略一様な第２の光学ヘーズを有し、前記第１の部分の少なくとも一部の領域が、前記第１の光学ヘーズ以上の第３の光学ヘーズを有し、前記第２の光学ヘーズは、前記第１の光学ヘーズとは異なる、構造化下面とを備える光学拡散体と、
前記光学拡散体に配置された光学フィルムであって、
前記光学拡散体の前記構造化上面に面する略線形の平行な複数の第１の構造を備える第１の構造化面と、
前記光学拡散体の前記構造化上面とは反対に面する略線形の平行な複数の第２の構造を備える第２の構造化面とを備え、
前記第１の構造及び前記第２の構造はそれぞれ、対向する第１の湾曲面及び第２の湾曲面を備え、前記第１の湾曲面と前記第２の湾曲面は、異なる曲率軸を有する、光学フィルムとを備えるバックライト。
【発明の詳細な説明】
【背景技術】
【０００１】
液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）に用いるバックライトは、光ガイドと、光ガイドの入力エッジに光を出射する複数の発光ダイオード（ＬＥＤ）とを含むことができる。ディスプレイには、光ガイドとＬＣＤパネルの間に拡散体を組み込むことができる。ディスプレイでは、バックライトの入力エッジの近くで好ましくない照度変化が往々にして見られることがある。
【発明の概要】
【０００２】
本説明の一部の態様では、対向する第１の主面及び第２の主面と、第１の主面と第２の主面との間に延在するエッジとを含む拡散体が提供される。第１の主面は、略一様な第１のヘーズをもたらす複数の第１の表面構造を含み、第２の主面は、エッジの隣にある第１の部分と、エッジとは反対側にあり第１の部分の隣にある第２の部分とを含む。第１の部分は、エッジの隣にある第１の領域と、第１の領域と第２の部分との間にある第２の領域とを含む。第２の主面は、第２の主面の第２の部分にわたる略一様な第２のヘーズをもたらし、第２の主面の第１の部分における第３のヘーズをもたらす、複数の第２の表面構造を含む。第３のヘーズは、第２の主面の第１の部分と第２の部分との間の連続境界に沿って第２のヘーズと略等しい。第１の領域の第３のヘーズは、第２のヘーズよりも高く、第２の領域の第３のヘーズは、エッジから連続境界に向かう方向に沿う距離によって単調に減少している。第２の部分は、第２の主面の表面積の少なくとも９０パーセントの表面積を有する。
【０００３】
本説明の一部の態様では、拡散体を作製する方法が提供される。方法は、第１の構造化面を有する第１のマイクロ複製ツールを用意することと、対向する第１の主面及び第２の主面を有する基材を用意することと、第１のマイクロ複製ツールを用いて基材の第１の主面を構造化することと、第２の構造化面を有する第２のマイクロ複製ツールを用意することと、第２のマイクロ複製ツールを用いて基材の第２の主面を構造化することとを含む。第１の構造化面は、表面構造の略一様な分布を有する。第２の構造化面は、第２の構造化面のある領域において変化し、第２の構造化面の第２の部分にわたり略一様である、表面構造の分布を有する。第２の部分は、第２の構造化面の表面積の少なくとも９０パーセントの表面積を有する。第１のマイクロ複製ツールを用意するステップは、第１の電気メッキ処理により金属を電気溶着することによって金属の第１の層を形成し、第１の平均粗度を有する第１の層の第１の主面を生じさせることと、第２の電気メッキ処理により第１の主面に金属を電気溶着することによって第１の層の第１の主面に金属の第２の層を形成し、第１の平均粗度よりも小さい第２の平均粗度を有する第２の層の第２の主面を生じさせることとを含む。第２のマイクロ複製ツールを用意するステップは、切削システムを用いて、予備形成されたツールの表面に構造を切削することを含む。
【０００４】
本説明の一部の態様では、光学フィルムと、光学フィルムと略同一の広がりを有する光学拡散体とを含む光学スタックが提供される。光学フィルムは、第１の方向に沿って線形に延在する略平行な複数の上部構造を含む構造化上面と、第１の方向とは異なる第２の方向に沿って線形に延在する略平行な複数の下部構造を含む構造化下面とを含み、上部構造及び下部構造のそれぞれが、構造の基部のそれぞれ対向する第１の端部及び第２の端部から延在し、構造のピークで交わる、対向する第１の湾曲面及び第２の湾曲面を含む。光学拡散体は、光学フィルムの構造化下面に面する構造化上面であって、構造化上面にわたる略一様な第１の光学ヘーズを有する構造化上面と、
構造化下面の第１のエッジに沿う第１の部分と、第１の部分から構造化下面の反対側にある第２のエッジまで延在する第２の部分とを有する構造化下面であって、第２の部分は、第２の部分にわたる略一様な第２の光学ヘーズを有し、第１の部分の少なくとも一部の領域が、第１の光学ヘーズ以上の第３の光学ヘーズを有し、第２の光学ヘーズは、第１の光学ヘーズよりも低い、構造化下面とを含む。
【０００５】
本説明の一部の態様では、光源と、光源に近接する入力面、及び出力面を有する光ガイドと、光ガイドに配置された光学拡散体と、光学拡散体に配置された光学フィルムとを含むバックライトが提供される。光学拡散体は、構造化上面であって、構造化上面にわたる略一様な第１の光学ヘーズを有する構造化上面と、光ガイドの出力面に面する構造化下面であって、構造化下面の第１のエッジに沿い光ガイドの入力面に近接する第１の部分と、第１の部分から構造化下面の反対側にある第２のエッジまで延在する第２の部分とを有し、第２の部分は、第２の部分にわたる略一様な第２の光学ヘーズを有し、第１の部分の少なくとも一部の領域が、第１の光学ヘーズ以上の第３の光学ヘーズを有し、第２の光学ヘーズは、第１の光学ヘーズとは異なる、構造化下面とを含む。光学フィルムは、光学拡散体の構造化上面に面する略線形の平行な複数の第１の構造を含む第１の構造化面と、光学拡散体の構造化上面とは反対に面する略線形の平行な複数の第２の構造を備える第２の構造化面とを含み、第１の構造及び第２の構造はそれぞれ、対向する第１の湾曲面及び第２の湾曲面を備え、第１の湾曲面と第２の湾曲面は、異なる曲率軸を有する。
【図面の簡単な説明】
【０００６】
【図１Ａ】拡散体を含むディスプレイの概略側面図である。
【図１Ｂ】図１Ａのディスプレイの光ガイド及び光源の概略上面図である。
【図２Ａ】拡散体の側面図である。
【図２Ｂ】図２Ａの拡散体の概略下面図である。
【図２Ｃ】図２Ａの拡散体の概略下面図である。
【図３Ａ】位置に応じたヘーズを示すグラフである。
【図３Ｂ】位置に応じたヘーズを示すグラフである。
【図３Ｃ】位置に応じたヘーズを示すグラフである。
【図３Ｄ】位置に応じたヘーズを示すグラフである。
【図４】構造化面の一部分の概略平面図である。
【図５】構造化面の一部分の概略側面又は断面図である。
【図６】構造化面の一部分の概略平面図である。
【図７】パワースペクトル密度−空間周波数のグラフである。
【図８】構造化層の一部分の概略側面又は断面図である。
【図９】構造化面の作製に用いる工程を示す概略フロー図である。
【図１０】切削ツールシステムの概略側面又は断面図である。
【図１１】構造化層の一部分の概略側面図である。
【図１２Ａ】ヘーズ測定技術の概略図である。
【図１２Ｂ】ヘーズ測定技術の概略図である。
【図１２Ｃ】ヘーズ測定技術の概略図である。
【図１３】距離に応じたヘーズのグラフである。
【図１４Ａ】ホットスポット測定技術の概略図である。
【図１４Ｂ】ホットスポット測定技術の概略図である。
【図１５】距離に応じたホットスポットコントラストのグラフである。
【図１６】相補的累積傾斜分布のグラフである。
【図１７】光学フィルムの分割された正面側立断面図である。
【図１８】光学フィルム及び拡散体を含むバックライトの分割された正面側立断面図である。
【図１９】別の光学フィルムの分割された正面側立断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
以下の説明では、本説明の一部を成し、例示を目的として示される添付図面を参照する。図面は、必ずしも縮尺通りではない。本開示の範囲又は趣旨から逸脱することなく、他の実施形態も検討され、行われうると理解すべきである。それゆえ、以下の詳細な説明は、限定的な意味で捉えられるべきではない。
【０００８】
液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）などの透過型ディスプレイに用いるバックライトは、光ガイドと、光ガイドの入力エッジに光を出射するように配置された、複数の発光ダイオード（ＬＥＤ）を含みうる光源とを含むことが多い。光ガイドは、典型的に、光ガイドの出力面を通じて光が抽出されるように配置された抽出特徴を含む。ディスプレイから出力される光の一様性を向上させるために、光ガイドとディスプレイパネルの間に拡散体を置くことができる。しかし、ホットスポット（低強度の領域により囲まれた比較的高強度の領域）を排除するために、高い度合のヘーズが典型的に必要とされ、一様な高いヘーズを有する拡散体は、望ましくないことにディスプレイの輝度を抑制することがある。このことには、出射エッジの近くで高く、出射エッジから離れたところで低いヘーズを有するようにヘーズが変化する拡散体を用いて対処することができる。しかし、このことは、ヘーズの変化と関連する望ましくないアーチファクトを視認可能にすることがある。
【０００９】
本説明によれば、拡散体フィルムの２つの別個の拡散表面であって、一方の表面のみのヘーズが変化する２つの表面の効果を組み合わせることによって、ヘーズの変化により生じうる望まれない光学アーチファクトを伴わずに、一様な高い輝度をもたらしうることが発見された。一部の実施形態では、本説明による光学拡散体は、略一様なヘーズをもたらす第１の表面と、入力エッジの近くで変化し、入力エッジから離れたところで略一様なヘーズを有する、反対側にある第２の表面とを有する。一部の実施形態では、第２の表面が光ガイドの出力面に面する拡散体フィルムを組み込んだディスプレイが提供される。拡散体の第２の表面は、光ガイドに隣接して拡散体が置かれたときに光学アーチファクトが作り出されないように、密着防止（ＡＷＯ）機能をもたらすこともできる。拡散体の第２の表面の構造は、従来のＡＷＯ層よりもロバストな密着防止機能をもたらすことができる。これは、望ましいレベルのヘーズをもたらすために、第２の主面の構造が従来のＡＷＯ層よりも大きく及び／又は稠密に配置されているためである。
【００１０】
図１Ａは、入力エッジ１０６及び出力面１０８を有する光ガイド１０４と、出力面１０８の隣に配置され、第１の主面１１２が出力面１０８とは反対に面し、反対側にある第２の主面１１４が出力面１０８に面する、拡散体１１０と、拡散体１１０の隣に配置され、光ガイド１０４とは反対側にある光学フィルム１２０と、光学フィルム１２０の隣に配置され、拡散体１１０の反対側にあるディスプレイパネル１３０と、入力エッジ１０６の隣に配置された光源１４０とを含むディスプレイ１０２の概略側面図である。光学フィルム１２０は、例えば交差したプリズムフィルムなどのＢｒｉｇｈｔｎｅｓｓ  Ｅｎｈａｎｃｅｍｅｎｔ  Ｆｉｌｍ（ＢＥＦ）でもよい。拡散体１１０は、本明細書で説明する拡散体のいずれかとすることができる。図１Ｂは、光源１４０と、出力面１０８を有する光ガイド１０４とを含む、ディスプレイ１０２の一部分の概略上面図である。例示する実施形態には、複数の光源１４０が含まれる。光ガイド１０４とディスプレイパネル１３０の間に好適な拡散体１１０が置かれていない場合、各光源１４０の近くの領域でホットスポットが視認されることがある。拡散体１１０と光ガイド１０４が空隙により隔てられてもよく、拡散体１１０と光学フィルム１２０が空隙により隔てられてもよい。
【００１１】
光学フィルム１２０は、拡散体１１０の隣にある転向フィルム又は再利用フィルムを含んでもよい。好適な転向フィルム又は再利用フィルムとしては、「ＯＰＴＩＣＡＬ  ＦＩＬＭ」と題する、本出願と同日出願の米国仮出願第６２／１５２４８６号で説明されるフィルムが挙げられ、同出願は、本説明と矛盾しない範囲で参照により本明細書に組み込まれる。そのような光学フィルムについては、本明細書の他の箇所で更に説明する。
【００１２】
図２Ａは、第１の主面２１２と、反対側にある第２の主面２１４と、第１の主面２１２と第２の主面２１４との間に延在する第１のエッジ２２３と、反対側にある第２のエッジ２２５とを含む拡散体２１０の側面図である。第２の主面２１４は、第１のエッジ２２３の隣にある第１の部分２１６と、第１の部分２１６の隣にある第２の部分２１８とを含む。第１の主面２１２は、略一様な第１のヘーズをもたらす複数の第１の表面構造２１３を含む。第２の主面２１４は、第２の主面２１４の第２の部分２１８にわたる略一様な第２のヘーズと、第２の主面２１４の第１の部分２１６における第３のヘーズとをもたらす複数の第２の表面構造２１５を含む。第３のヘーズは、第１の部分２１６のうち第１のエッジ２２３に最も近い第１の領域２１６ａ（図２Ｂを参照）で略一定でもよく、第１の部分２１６の第２の領域２１６ｂ（図２Ｂを参照）で単調に減少してもよい。
【００１３】
第１の構造化主面２１２及び第２の構造化主面２１４は、直交する面内方向に概ね沿って延在し、図２Ａ〜図２Ｃに示すように局所的なデカルトｘ−ｙ−ｚ座標系を定義するために用いることができる。拡散体２１０の基準面が、ｘ方向及びｙ方向に延在し、拡散体２１０の厚さが、ｚ方向に沿う。ｘ方向は、第１のエッジ２２３から連続境界２１７（図２Ｂを参照）に向かう方向と説明することができ、ｙ方向は、ｘ方向と直交する面内方向と説明することができる。ｙ方向は、エッジ２２３に沿う方向と説明することもでき、ｘ方向は、ｙ方向と直交する面内方向と説明することができる。
【００１４】
図２Ａに例示する実施形態では、表面構造２１３は、基材層２３３の主面に配置された第１の層２３４に形成され、表面構造２１５は、基材層２３３のうち第１の層２３４とは反対側にある主面に配置された第２の層２３６に形成される。基材層２３３は、対向する主面２３７及び主面２３９を含む。第１の層２３４及び第２の層２３６の一方又は両方は、ツール（例えば、マイクロ複製ツール）に対して硬化性樹脂を注型して硬化させる、注型及び硬化処理により形成されてもよい。第１の層２３４及び／又は第２の層２３６の形成に用いる材料の硬化は、紫外線（ＵＶ）照射、熱、又は他の既知の任意の方法で行うことができる。代わりに、拡散体２１０は、単一層であり、表面構造２１３及び２１５が単一層の外側主面に直接形成されてもよい。この場合、例えば、十分な熱及び圧力で熱可塑性基材をエンボス加工することによって、第１の構造化主面及び第２の構造化主面を形成することができる。
【００１５】
典型的に、拡散体を構成する１又は複数の層は、高度に光透過性であり、少なくとも可視スペクトルの大部分の光を透過させる。よって、そのような１又は複数の層は、典型的に、そのような光に対して低吸収性である。キャリアフィルム又は基材層２３３として用いる例示的な材料としては、ポリアクリレート及びポリメタクリレート、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリスチレン、シクロオレフィンポリマーなどの光透過性ポリマー、コポリマー、又はそれらのポリマー分類の組合せが挙げられる。第１のパターン化層２３４又は第２のパターン化層２３６として用いる例示的な材料としては、アクリレート及びエポキシ樹脂などの光透過性ポリマーが挙げられる。しかし、他のポリマー材料及び非ポリマー材料を用いてもよい。１又は複数の層は、例えば、１．４〜１．８、又は１．５〜１．８、又は１．５〜１．７の範囲の好適な任意の屈折率を有することができるが、この範囲外の値を用いることもできる。屈折率は、５５０ｎｍ若しくは別の好適な設計波長で規定されてもよく、又は可視波長範囲にわたる平均値でもよい。屈折率は、２５℃で規定されてもよい。
【００１６】
図２Ｂは、拡散体２１０の概略下面図であり、第２の主面２１４の第１の部分２１６及び第２の部分２１８と、第２の主面２１４の第１の部分２１６と第２の部分２１８との間の連続境界２１７とを示している。第１の部分２１６は、幅Ｗ１ａを有する第１の領域２１６ａと、幅Ｗ１ｂを有する第２の領域２１６ｂとを含む。第１の部分２１６は、エッジ２２３の隣にあり、第２の部分２１８は、第１の部分２１６の隣にありエッジ２２３とは反対側にあり、第１の領域２１６ａは、第１のエッジ２２３の隣にあり、第２の領域２１６ｂは、第１の領域２１６ａと第２の部分２１８との間にある。第１の部分２１６及び第２の部分２１８は、拡散体２１０の長さＬにわたって延在してもよく、又は拡散体の長さＬの少なくとも９０パーセントにわたって延在してもよい。第１の領域２１６ａ及び第２の領域２１６ｂは、拡散体２１０の長さＬにわたって延在してもよく、又は拡散体の長さの少なくとも９０パーセントにわたって延在してもよい。第１の領域２１６ａは、エッジ２２３に隣接してもよく、第２の領域２１６ｂは、第１の領域２１６ａに隣接してもよく、第２の部分２１８は、第２の領域２１６ｂに隣接してもよい。第１の部分２１６は、幅Ｗ１＝Ｗ１ａ＋Ｗ１ｂを有し、第２の部分２１８は、幅Ｗ２を有する。第１の部分２１６の第１の領域２１６ａでは第２のヘーズよりも高く、第１の部分の第２の領域２１６ｂでは第１のエッジ２２３からの距離によって単調に減少し（すなわち、ｘによって単調に減少し）、第２の主面２１４の第１の部分２１６と第２の部分２１８との間の連続境界２１７に沿って第２のヘーズに略等しい第３のヘーズを有することによって、ヘーズの変化と関連する光学アーチファクトを生じずに、光ガイドの入力エッジの隣にある光源と関連するホットスポットを実質的に抑制できることが判明している。一部の実施形態では、第２の部分の幅Ｗ２は、拡散体の幅Ｗ１＋Ｗ２の少なくとも９０パーセントである。一部の実施形態では、Ｗ１をＷ２で割った値が、０．９よりも小さく又は０．９５よりも小さい。一部の実施形態では、Ｗ１は、１ｍｍよりも大きく、又は２ｍｍよりも大きく、又は３ｍｍよりも大きく、又は５ｍｍよりも大きく、又は１ｃｍよりも大きい。一部の実施形態では、Ｗ１ａ及びＷ１ｂの一方又は両方は、０．５ｍｍよりも大きく、又は１ｍｍよりも大きく、又は２ｍｍよりも大きく、又は３ｍｍよりも大きく、又は５ｍｍよりも大きく、又は１ｃｍよりも大きい。
【００１７】
第１の主面２１２及び第２の主面２１４のヘーズについては、表面構造２１３及び２１５の振幅（例えば、高さ）、間隔、側方寸法（例えば、直径）及び／又は傾斜の基本分布の観点から説明することができる。それらの分布を、分布が変化する長さスケールよりも小さいが、表面構造２１３及び２１５のサイズよりも大きい領域で決定することができる。例えば、分布を、第１の部分２１６のエリア２３１及び第２の部分２１８のエリア２３２で決定してもよい。エリア２３１は、第１の領域２１６ａ内、第２の領域２１６ｂ内でもよく、又は第１の領域２１６ａと第２の領域２１６ｂとに跨ってもよい。エリア２３１又はエリア２３２は、本明細書の他の箇所で更に説明する平均等価円直径（ＥＣＤａｖｇ）の１、２、３、４、又は５倍の直径を有する、エリア２３１内の構造の円形領域でもよい。代わりに、エリア２３１又は２３２は、例えば、１００マイクロメートル、又は１ｍｍ、又は２ｍｍ、又は３ｍｍ、又は５ｍｍの固定された直径を有する円形領域でもよい。エリア２３１又はエリア２３２などの、表面のエリアのヘーズ又は透明度を、本明細書の他の箇所で更に説明するようなヘーズメーターを用いて決定することができる。一部の実施形態では、表面構造２１５の振幅、間隔又は傾斜の分布のうちの少なくとも１つが、第１の部分２１６の第２の領域２１６ｂにおけるエリア２３１の位置（例えば、ｘ位置）によって変化する。一部の実施形態では、表面構造２１５の振幅、間隔又は傾斜の分布のうちの少なくとも１つが、第１の部分２１６の第１の領域２１６ａにおけるエリア２３１の位置（例えば、ｙ位置）によって変化する。一部の実施形態では、表面構造２１５の振幅、間隔及び傾斜の各分布が、第２の部分２１８におけるエリア２３２の位置によって変化しない。同様に、一部の実施形態では、表面構造２１３の振幅、間隔及び傾斜の各分布は、第１の主面２１２上の位置によって変化しない。一部の実施形態では、表面構造２１５の振幅、間隔及び傾斜の各分布は、第１の部分２１６の第１の領域２１６ａにおけるエリア２３１のｘ位置によって変化しない。一部の実施形態では、表面構造２１５の振幅、間隔及び傾斜の分布は、ｙ座標によって変化しない。そのような実施形態では、ｙ座標に延在するエリアでヘーズを決定してもよい。このことは、図２Ｃに例示されており、エリア２３１ｃが、例えば、１ｍｍ、２ｍｍ又は３ｍｍの幅を有する細片でもよい。
【００１８】
一部の実施形態では、傾斜の分布は、本明細書の他の箇所で更に説明するような表面角度分布によって特徴付け可能である。表面角度分布は、２つの直交方向（例えば、ｘ方向及びｙ方向）のそれぞれの半値半幅（ＨＷＨＭ）により特徴付け可能でもよい。一部の実施形態では、第２の主面２１４の第１の部分２１６（例えば、エリア２３１又は２３１ｃ）又は第２の主面２１４の第２の部分２１８（例えば、エリア２３２）のうちの少なくとも１つの領域が、第１の方向（例えば、ｘ方向）の第１の半値半幅（ＨＷＨＭ）を有する第１の表面角度分布と、第１の方向とは異なる第２の方向（例えば、ｙ方向）の第２のＨＷＨＭを有する第２の表面角度分布とを有する。一部の実施形態では、第１のＨＷＨＭは、第２のＨＷＨＭとは異なる。一部の実施形態では、第２の主面２１４の任意の領域での第１のＨＷＨＭは、その領域の第２のＨＷＨＭとは異なる。第１のＨＷＨＭ及び第２のＨＷＨＭのそれぞれは、約１５度よりも小さくてもよく、又は約１０度よりも小さくてもよく、又は約６度よりも小さくてもよく、例えば、約１度〜、約６度、又は約１０度、又は約１５度の範囲内でもよい。第１のＨＷＨＭと第２のＨＷＨＭは、例えば、少なくとも１度又は少なくとも２度だけ異なってもよい。
【００１９】
一部の実施形態では、第２の部分２１８は、第２の主面２１４の表面積の少なくとも９０パーセント、又は少なくとも９５パーセント、又は少なくとも９９パーセントの表面積を有する。一部の実施形態では、第２の部分２１８は、第２のエッジ２２５まで延在しない。代わりに、ヘーズの第２の変化を含み第２のエッジ２２５の隣にある第３の部分があってもよい。第３の部分のヘーズの第２の変化は、第１の部分２１６のヘーズの変化と同様であってもよい。このタイプの拡散体は、両側面からエッジ照明されるバックライトに有用であることがある。同様に、拡散体は、第１のエッジ２２３と第２のエッジ２２５との間に延在する第３のエッジ及び第４のエッジを有してもよく、第３のエッジ及び／又は第４のエッジのそれぞれ隣にあり、ヘーズが変化しうる第４の部分及び／又は第５の部分があってもよい。
【００２０】
図１１は、光散乱粒子１１６６を含み、山１１７２及び谷１１７４を含む構造化面１１７１を有する、構造化層１１４０の断面図である。光線１１７５の方向は、光線１１７５が構造化面１１７１を通って出るときに屈折により変化する。構造化面１１７１の幾何形状が逐一変化するので、構造化面１１７１を通って出る光の方向のシフトは、逐一変化する。この方向のシフトの変化によって、層１１４０のヘーズへの表面寄与が生じる。粒子１１６６も、層１１４０のヘーズに寄与する。例えば、光線１１７８は、粒子１１６６のうちの１つ以上により散乱し、それによりヘーズに寄与する。山１１７２の下には谷１１７４の下よりも多くの粒子１１６６があるので、山１１７２を通過する光は、谷１１７４を通過する光よりも散乱する傾向がある。したがって、構造化層の表面構造は、構造化面との空気界面での屈折によりヘーズへの寄与を生じさせることと、構造内に含まれた粒子により散乱を生じさせることの両方によって、ヘーズをもたらすことができる。
【００２１】
拡散体のうち構造化面を有する層によりもたらされるヘーズ又は透明度は、低ヘーズ基材（例えば、１パーセントよりも低い、又は０．５パーセントよりも低いヘーズ）上に層を再現し、本明細書の他の箇所で説明するようなヘーズメーターを用いて再現層及び基材によるヘーズ又は透明度を測定することによって、決定することができる。例えば、光学的に透明な基材上に再現された第１の層２３４又は第２の層２３６を有するサンプルを加工することができ、サンプルによるヘーズ又は透明度を測定することができる。代わりに、拡散体のうち構造化面を有する層によりもたらされるヘーズ又は透明度は、（例えば、共焦点走査型レーザー顕微鏡（ＣＳＬＭ）又は原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用いて）表面の微細構成を測定し、層の屈折率及び層に含まれうる任意の光散乱粒子の屈折率を測定し、従来の光線追跡技術を用いてヘーズ又は透明度への表面構造の寄与を計算することによって、決定することができる。
【００２２】
一部の実施形態では、拡散体は、光散乱粒子又はビーズを含まなくてもよく、又は実質的に含まなくてもよい。そのような実施形態では、所与の表面によりもたらされるヘーズは、反対側の表面の材料の屈折率にマッチングする屈折率の材料で反対側の表面をコーティングすることによって、測定することができる。ヘーズメーターの光源に面する所与の表面を有するサンプルにより測定される全体ヘーズは、所与の表面によりもたらされるヘーズとなる。所与の表面の透明度も、この屈折率マッチング技術を用いて決定することができる。
【００２３】
ヘーズすなわち光学ヘーズは、ＡＳＴＭ  Ｄ１００３−１３  「Ｓｔａｎｄａｒｄ  Ｔｅｓｔ  Ｍｅｔｈｏｄ  ｆｏｒ  Ｈａｚｅ  ａｎｄ  Ｌｕｍｉｎｏｕｓ  Ｔｒａｎｓｍｉｔｔａｎｃｅ  ｏｆ  Ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔ  Ｐｌａｓｔｉｃｓ」で説明されるように測定することができる。ＡＳＴＭ  Ｄ１００３−１３規格に取り挙げられており、ＢＹＫ−Ｇａｒｄｎｅｒ  Ｉｎｃ．（メリーランド州Ｓｉｌｖｅｒ  Ｓｐｒｉｎｇｓ）から入手可能なＨＡＺＥ−ＧＡＲＤ  ＰＬＵＳメーターを用いてヘーズを決定することができる。ヘーズに関連する透明度すなわち光学透明度も、ＨＡＺＥ−ＧＡＲＤ  ＰＬＵＳヘーズメーターを用いてＡＳＴＭ  Ｄ１００３−１３規格に従って測定することができる。
【００２４】
ＡＳＴＭ  Ｄ１００３−１３規格で規定されるように、ＨＡＺＥ−ＧＡＲＤ  ＰＬＵＳヘーズメーターは、サンプルにより散乱した、光源からの光を測定するために用いる、コリメート光源と積分球の間にある開口を含む。構造化層のエリアのヘーズ又は透明度は、測定されるエリアの形状の切欠きを有し、切欠きエリアの中心を開口の中心と位置合わせして開口の上に置かれたカバーシートを有するＨＡＺＥ−ＧＡＲＤ  ＰＬＵＳヘーズメーターを用いて、測定することができる。カバーシートは、エリアの外側の領域からの光が積分球に入るのを阻止するので、サンプルのうち切欠きエリアに及ぶエリアのみのヘーズ又は透明度が決定される。例えば、２ｍｍスリット以外の箇所の光を阻止するカバーシートを開口の上に置くことができ、ヘーズメーターを用いて、開口の隣に置いたサンプルのヘーズを決定することができる。得られたヘーズ読取り値は、サンプルのうち２ｍｍスリットの正面のエリアのヘーズである。例えば、サンプルのうちｙ方向で一様なヘーズを測定するには、２ｍｍスリットが有用である。他の切欠き形状を用いてもよい。例えば、２ｍｍの直径を有する円形切欠きを用いてもよく、又はエリア２３１、２３２又は２３１ｃについて本明細書の他の箇所で説明する幾何形状のうちのいずれかに対応するエリアを有する切欠きを用いてもよい。構造化面を有する層のヘーズは、コリメート光源に面する構造化面によって決定されてもよい。拡散体が、略一様なヘーズをもたらす第１の表面と、第２の表面全体にわたる非一様なヘーズをもたらす第２の表面とを有するとき、拡散体の全体ヘーズは、光源に面する第１の構造化面によって、又は光源に面し、より高いヘーズをもたらす表面によって決定されてもよい。
【００２５】
ディスプレイに用いるとき、第２の主面２１４が光ガイドの出力主面に面し、第１のエッジ２２３が光ガイドの入力エッジの隣となるように、拡散体２１０を光ガイドに近接して配置してもよい。第１の主面２１２と関連する略一様なヘーズである第１のヘーズは、第２の主面２１４の第２の部分２１８と関連する略一様なヘーズである第２のヘーズよりも高くてもよい。第１のヘーズは、少なくとも約２パーセント、少なくとも約５パーセント、少なくとも約１０パーセント、又は少なくとも約１５パーセント、又は少なくとも約２０パーセントだけ第２のヘーズよりも高くてもよい。例えば、第１のヘーズが５０パーセントであり、第２のヘーズが１０パーセントである場合、第１のヘーズは、第２のヘーズよりも４０パーセントだけ高い。一部の実施形態では、第２の主面２１４の第１の部分２１６と関連する第３のヘーズの最高値は、第１のヘーズよりも高い。例えば、第３のヘーズは、少なくとも約２パーセント、少なくとも約５パーセント、少なくとも約１０パーセント、又は少なくとも約１５パーセント、又は少なくとも約２０パーセントだけ第１のヘーズよりも高くてもよい。
【００２６】
図３は、本説明の拡散体のヘーズ分布を例示している。拡散体の第１の主面は、略一様であり値Ｈ１を有する第１のヘーズ３５１をもたらす。拡散体の第２の主面は、第２の部分３１８（第２の部分２１８に対応する）の第２のヘーズ３５２と、第１の部分３１６（第１の部分２１６に対応する）の第３のヘーズ３５３とをもたらす。第１の部分３１６の第１の領域３１６ａ（第１の領域２１６ａに対応する）における第３のヘーズ３５３は、第２の部分３１８における第２のヘーズ３５２よりも高く、第１の主面によりもたらされる第１のヘーズ３５１よりも高い。第２の領域３１６ｂにおける第３のヘーズ３５３は、第１のエッジから第１の部分３１６と第２の部分３１８との間の境界に向かう方向に沿う距離によって単調に減少する（すなわち、ｘ座標によって単調に減少する）。拡散体は、第１の構造化主面と第２の構造化主面（例えば、第１の主面２１２と第２の主面２１４）の組合せによりもたらされる全体ヘーズ３５４を有する。全体ヘーズ３５４は、第３のヘーズ３５３による寄与により位置によって変化することができる。一部の実施形態では、基材（例えば、基材２３３）に含まれた光散乱粒子は、全体ヘーズへの追加の寄与をもたらす。全体ヘーズが第１の表面及び第２の表面による寄与の単純な線形和にならないことに留意されたい。第２の部分３１８における第２の主面の第２のヘーズ３５２は、約Ｈ２であり、第１の部分３１６における第２の主面の第３のヘーズ３５３は、最高値Ｈｍを有する。例示する実施形態では、
Ｈｍ＞Ｈ１＞Ｈ２となる。
【００２７】
ヘーズ値のこの構成は、高輝度出力をもたらす一方で、ヘーズの変化による望まれない光学アーチファクトを追加せずにホットスポットの視認性を抑制するのに特に有利であることが判明している。一部の実施形態では、Ｈｍ−Ｈ１は、少なくとも約２パーセント、又は少なくとも約５パーセント、又は少なくとも約１０パーセントであり、及び／又はＨ１−Ｈ２は、少なくとも約２パーセント、又は少なくとも約５パーセント、又は少なくとも約１０パーセントである。一部の実施形態では、Ｈｍは、少なくとも５０パーセント、又は少なくとも６０パーセント、又は少なくとも７０パーセントである。一部の実施形態では、Ｈ１は、約１０パーセント〜、又は約１５パーセント〜、約５０パーセントまで、又は約６０パーセントまで、又は約７０パーセントまで、又は約８０パーセントまで、又は約９０パーセントまで、又は約９５パーセントまで、又は約１００パーセントまでの範囲内である。一部の実施形態では、Ｈ１は、約５０パーセントよりも高く、又は約６０パーセントよりも高く、又は約７０パーセントよりも高い。一部の実施形態では、第１の主面は、約１パーセント〜、又は約２パーセント〜、又は約３パーセント〜、約３０パーセントまで、又は約４０パーセントまでの範囲内の光学透明度を有する。一部の実施形態では、Ｈ２は、約０．５パーセント〜、又は約１パーセント〜、又は約２パーセント〜、約１５パーセントまで、又は約１８パーセントまで、又は約２０パーセントまで、又は約４０パーセントまで、又は約５０パーセントまで、又は約７０パーセントまで、又は約９０パーセントまで、又は約９５パーセントまでの範囲内である。一部の実施形態では、第２の主面は、第２の主面の全ての部分及び領域で約８５％以下の光学透明度を有する。一部の実施形態では、第２の主面の第１の部分又は第２の部分は、１パーセントよりも高く、又は２パーセントよりも高く、又は３パーセントよりも高く、かつ、５０パーセントよりも低く、又は６０パーセントよりも低く、又は９０パーセントよりも低く、又は１００パーセントよりも低くてもよい、光学透明度を有してもよい。一部の実施形態では、第２の主面の第２の部分は、約５パーセント〜約１００パーセントの範囲内の光学透明度を有してもよく、第１の主面は、約３パーセント〜約２０パーセントの範囲内の光学透明度を有してもよい。
【００２８】
代替的なヘーズ分布を図３Ｂに示している。第１の主面は、略一定の第１のヘーズ３５１ｂをもたらし、第２の主面の第２の部分は、略一定の第２のヘーズ３５２ｂをもたらし、第２の主面の第１の部分は、第１の部分の第１の領域で略一定の値３５３ａを取り、第２の主面の第２の部分の第２の領域で単調に減少する値３５３ｂを有する第３のヘーズをもたらす。
【００２９】
本明細書で説明するいずれの実施形態でも、第２の主面の第１の部分の第２の領域における第３のヘーズは、図３Ｂに例示するように線形的に単調に減少してもよく、又は単調に減少するヘーズは、ｘ座標の多項式関数又は区分定義された多項式関数により説明されうる。多項式関数は、三次スプラインでありうるスプラインでもよい。三次スプラインなどの非線形関数によって、単純な線形減少関数よりも光学アーチファクトが抑制されることが判明している。
【００３０】
第１の部分２１６のヘーズは、ｙ座標に依存してもよく、依存しなくてもよい。図３Ｃ及び図３Ｄは、第１の部分２１６の固定されたｘ座標についてｙ座標に応じた第３のヘーズ３５３ｃ及び３５３ｄをそれぞれ示している。ｘ座標は、第１の領域２１６ａ又は第２の領域２１６ｂのいずれにあってもよい。第３のヘーズ３５３ｃは、ｙ座標に依存しないが、第３のヘーズ３５３ｄは、ｙ座標によって周期的に変化する。第３のヘーズは、例えば、一様性を向上させるために、エッジ照明型ディスプレイに含まれたＬＥＤに対応して周期的に変調されてもよい。ヘーズの最高領域は、ホットスポットが生じうる領域であってもよい。ホットスポット領域は、バックライトに用いる抽出器の構成を理由に、ＬＥＤの場所からオフセットすることがある。一部の場合、抽出器がＬＥＤ間の場所にホットスポットを発生させることがあるので、ヘーズの最高領域をＬＥＤ間に置くことが望ましいことがある。
【００３１】
一部の実施形態では、拡散体の全体ヘーズは、ヘーズの急な変化によりもたらされる光学アーチファクトが生じないように、拡散体全体で滑らかに変化する。しかし、第２の主面２１４の第１の部分２１６における第２の領域２１６ｂの幅Ｗ１ｂの長さスケールで、ヘーズが著しく変化することが望ましいことがある。この長さスケールは小さい（例えば、拡散体の全体幅（Ｗ１＋Ｗ２）の１０パーセントよりも小さい）が、拡散体の第１の主面が、第２の主面のヘーズの変化により生じうる任意のアーチファクトを隠せる一様なヘーズを有する場合、ヘーズは、望ましくない光学アーチファクトを実質的に伴わずに幅Ｗ１ｂのスケールで変化することができる。ヘーズの急激な変化による光学アーチファクトを回避すると同時に、幅Ｗ１ｂの長さスケールでヘーズを著しく変化させるために、光の波長よりも大きい、又は画素サイズよりも大きい、又は本明細書の他の箇所で更に説明する平均等価円直径（ＥＣＤａｖｇ）よりも大きい長さスケールでヘーズが徐々に変化することが望ましいことがある。一部の実施形態では、このことは、十分に大きいＷ１ｂを選ぶことによって達成される。例えば、Ｗ１ｂは、約０．５ｍｍよりも大きく、又は約１ｍｍよりも大きく、又は約２ｍｍよりも大きく、又は約３ｍｍよりも大きく、又は約５ｍｍよりも大きくてもよい。
【００３２】
ヘーズは、ヘーズの急な遷移がない場合、連続的に又は略連続的に変化すると考えられうる。例えば、第１の部分２１６の第３のヘーズは、第３のヘーズが第２の主面上の位置によって急に変化しない場合、略連続的に変化すると考えられうる。第１の位置と第２の位置が互いに０．１ｍｍ以内にあるときに、第１の位置の第１のヘーズ値が、第２の位置の第２のヘーズ値とは１０パーセントを超えて異なる場合、ヘーズが急に変化すると考えられうる。一部の実施形態では、第３のヘーズは、第１の部分２１６で急な変化を示さない。一部の実施形態では、０．１ｍｍ以下だけ離れた、又は０．５ｍｍ以下だけ離れた、第１の位置と第２の位置との各対について、第１の位置の第３のヘーズと第２の位置の第３のヘーズとの間の大きさの差が、２０パーセントよりも小さく、又は１０パーセントよりも小さい。
【００３３】
望ましいヘーズ分布を生じさせる任意のタイプの構造化面を用いてもよい。例としては、プリズムがランダムに変形しうる、又は不均等に離間しうるプリズム構造又はプリズム状構造と、不均等に離間し、一方向にある程度伸びうるランダム又は不規則な構造と、直交する２つの面内方向に沿うサイズが限定されうる他のランダム又は不規則な構造とが挙げられる。
【００３４】
第２の構造化主面は、例えば、基材２３３の側面２３９に層２３６を印刷することによって、加工されてもよい。勾配を有するパターンを印刷して、ヘーズの望ましい勾配を生じさせることができる。印刷は、例えば、オフセット印刷又はインクジェット印刷を用いて行ってもよい。透明樹脂又はビーズ充填樹脂を印刷して、層２３６を形成してもよい。例えば、ガラスビーズ又はポリマービーズを有するか又は有しないＵＶ硬化性アクリル樹脂を用いてもよい。印刷パターンは、高さ、間隔及び／又は直径若しくは側方寸法の勾配を有する、小ドット又は小型レンズの形をとってもよい。代わりに、高さ、間隔、側方寸法、及び／又は傾斜分布の勾配を伴うパターンを有する複製ツールに対する注型及び硬化によって、第２の構造化主面を加工することができる。
【００３５】
第１の主面２１２が、国際公開第２０１４／０８１６９３号（Ｐｈａｍ等）で概ね説明されるように形成された表面構造を有すること、及び／又は第２の主面２１４が、米国特許第８，６５７，４７２号（Ａｒｏｎｓｏｎ等）又は同第８，８８８，３３３号（Ｙａｐｅｌ等）で概ね説明されるように形成された表面構造を有することが特に有利であることが判明しているが、一部の場合、第２の主面のヘーズが、米国特許第８，６５７，４７２号（Ａｒｏｎｓｏｎ等）又は同第８，８８８，３３３号（Ｙａｐｅｌ等）の表面のヘーズよりも高くなることが望ましいことがある。国際公開第２０１４／０８１６９３号（Ｐｈａｍ等）、米国特許第８，６５７，４７２号（Ａｒｏｎｓｏｎ等）、及び米国特許第８，８８８，３３３号（Ｙａｐｅｌ等）のそれぞれは、本説明と矛盾しない範囲で参照により本明細書に組み込まれる。国際公開第２０１４／０８１６９３号（Ｐｈａｍ等）に従って形成された構造は、役立つ程度のヘーズ及び光学透明度をもたらす一方、米国特許第８，６５７，４７２号（Ａｒｏｎｓｏｎ等）又は同第８，８８８，３３３号（Ｙａｐｅｌ等）に従って形成された構造は、有用な程度のヘーズ及び光学透明度をもたらしながら、ディスプレイの光ガイドに隣接して置かれたときに光学的な欠陥を防止する密着防止機能ももたらす。本明細書の他の箇所で更に議論するように、米国特許第８，６５７，４７２号（Ａｒｏｎｓｏｎ等）又は同第８，８８８，３３３号（Ｙａｐｅｌ等）の構造を作製するのに用いるツールを、第２の主面２１４の第１の部分２１６におけるヘーズが連続的に変化するように適合させることができる。第１の主面及び第２の主面の一方の説明に用いる、ＥＣＤの大きさ又は傾斜度の分布などの数量は、他の主面を説明する際にも用いることができる。
【００３６】
国際公開第２０１４／０８１６９３号（Ｐｈａｍ等）で説明されるような第１の主面と、米国特許第８，６５７，４７２号（Ａｒｏｎｓｏｎ等）又は米国特許第８，８８８，３３３号（Ｙａｐｅｌ等）で説明されるような第２の主面とを形成するときには、第１の主面が、第２の主面の第２の部分のヘーズ（第２のヘーズ）よりも高いヘーズ（第１のヘーズ）を有することが望ましいことがある。これは、少なくとも２つの理由による。第１に、第２のヘーズが増加する場合、望ましい全体ヘーズを生じさせるために第１のヘーズを低下させることが望ましいことがあり、国際公開第２０１４／０８１６９３号（Ｐｈａｍ等）のメッキ処理を用いて、より低いヘーズの表面を作製するには多くの時間及びコストを要することになる。第２に、第１の主面がディスプレイの出力方向に面するように、ディスプレイに置かれるように拡散体を構成することができる。そのような構成では、高いヘーズを有する第１の構造化主面は、再利用効果をもたらすことによって、ディスプレイの正面輝度を高めることに寄与することができる。更に、第２の主面の第１の部分におけるヘーズの変化により生じうる任意のアーチファクトを隠すために、相対的に高い第１のヘーズを役立てることができる。
【００３７】
第１の構造化主面２１２又は第２の構造化主面２１４の微細構成は、第１の構造化主面２１２又は第２の構造化主面２１４と平行な基準面（ｘ−ｙ平面）に対する厚さ方向（ｚ軸）に沿う偏差の観点から表すことができる。多くの場合、構造化面の微細構成は、独立した別個の構造を特定できるようなものである。そのような構造は、構造化面ツールの対応する窪みにより作られた出っ張りの形をとってもよく、又は構造化面ツールの対応する出っ張りにより作られた窪みの形をとってもよい。構造は、典型的に、直交する２つの面内方向に沿うサイズが制限される。例えば、第１の構造化主面２１２又は第２の構造化主面２１４を平面図で見るとき、独立した構造は、典型的に、任意の面内方向に沿って線形態様で無限に延在することがない。出っ張り又は窪みのいずれにしても、構造は、一部の場合、稠密に詰まっていてもよく、すなわち、隣り合う多くの構造又は大部分の構造の境界の少なくとも部分が実質的に交わるか、又は合致するように配置されてもよい。構造は、構造化面に不規則に又は非一様に分散してもよい。一部の場合、構造のうちの一部、大部分、又は略全て（例えば、＞９０％、又は＞９５％、又は＞９９％）は、湾曲していてもよく、又は丸みを帯びた、そうでなければ湾曲した基面を備えてもよい。一部の場合、構造のうちの少なくとも一部が、ピラミッド形状でもよく、そうでなければ略平坦な切子面により定義されてもよい。所与の構造のサイズは、平面図における等価円直径（ＥＣＤ）の観点から表すことができ、構造化面の構造は、例えば、１５マイクロメートルよりも小さい、又は１０マイクロメートルよりも小さい、又は４〜１０マイクロメートル、又は４〜１５マイクロメートルの範囲内の平均ＥＣＤを有してもよい。構造化面及び構造は、本明細書の他の箇所で議論するような他のパラメータ、例えば、ＥＣＤなどの特徴的な横寸法に対する深さ又は高さのアスぺクト比、又は平面図上の単位エリア当たり表面におけるリッジの全長によって、特徴付けることもできる。構造化面に、又は構造化面上に、又は拡散体内のどこかにビーズを使用せずに、拡散体の光学ヘーズ、光学透明度、及び他の特徴をもたらすことができる。
【００３８】
独立した個別の構造を特定できる構造化面の場合、構造の横寸法又は面内寸法などの特徴的なサイズの観点から構造化面を説明することができる。各構造は、例えば、最大横寸法、最小横寸法、及び平均横寸法を有するとして特徴付けられてもよい。独立した構造が、直交する２つの面内方向に沿うサイズで制限される場合、例えば、いずれの面内方向に沿っても線形態様で無限に延在することがない場合、各構造は、等価円直径「ＥＣＤ」を有するとして特徴付けられてもよい。所与の構造のＥＣＤは、平面図における構造のエリアと同じであるエリアを平面図において有する円の直径として定義することができる。例えば、図４を参照すると、仮想的な構造化面４２０ａの平面図を示している。構造化面は、出っ張り又は窪みでありうる識別可能な構造４２１ａ、４２１ｂ、４２１ｃ、４２１ｄを備える。構造４２１ａには円４２３ａが重ね合わされており、円は、この平面図において構造４２１ａのエリアと凡そ等しいエリアを有する。円４２３ａの直径（ＥＣＤ）は、構造４２１ａの等価円直径（ＥＣＤ）である。構造化面の代表的な領域における全ての構造のＥＣＤ値を平均することによって、それらの構造化面又は構造は、平均等価円直径ＥＣＤａｖｇを有すると考えられうる。
【００３９】
例示的な構造の高さについて、図５における仮想的な構造化面の図面に例示している。図では、光学拡散フィルム５２０が、構造化主面５２０ａを有するパターン化層５２２を含む。構造化面５２０ａは、認識できる独立した構造５２１ａ、５２１ｂを含む。構造化面は、ｘ−ｙ平面に沿って延在し、又はｘ−ｙ平面を定義する。ｘ−ｙ平面と平行な３つの基準面、ＲＰ１、ＲＰ２、及びＲＰ３を示している。基準面ＲＰ１、ＲＰ３は、（それぞれ）構造５２１ａの最高部分及び最低部分の観点から定義されてもよい。基準面ＲＰ２は、ゼロ又は略ゼロの曲率に対応する位置に配置されてもよく、つまり、その位置の表面は、ピークの上部に置けるように内側に湾曲しておらず、窪みの下部に置けるように外側に湾曲してもいない。それらの基準面を仮定して、ＲＰ１とＲＰ２の間の高さｈ１と、ＲＰ２とＲＰ３の間の高さｈ２を定義することができる。構造の平均高さを｜ｈ１｜と｜ｈ２｜の平均として定義することができる。一部の実施形態では、第１の構造化面は、基準面（例えば、基準面ＲＰ２）における等価円直径（ＥＣＤ）と、厚さ方向に沿う平均高さとによって特徴付けられる稠密に詰まった構造を含み、各構造のアスぺクト比が、構造の平均高さを構造のＥＣＤで割った値に等しい。一部の実施形態では、構造の平均アスぺクト比が、０．１５よりも小さく、又は０．１０よりも小さい。一部の実施形態では、構造の平均アスぺクト比が、０．０１〜０．１５の範囲内である。
【００４０】
一部の実施形態では、稠密に詰まった構造は、リッジ状の特徴を生じる傾向にあるが、リッジ状の特徴は、稠密に詰まった構造がない場合に生じることもある。図６における仮想的な構造化面の図面には、リッジを例示している。図では、光学拡散フィルムが構造化主面６２０ａを含む。構造化面６２０ａは、認識できる独立した構造６２１ａ、６２１ｂ、６２１ｃを含む。構造化面は、ｘ−ｙ平面に沿って延在し、又はｘ−ｙ平面を定義する。長く鋭ったピーク領域として説明されうるリッジが、構造６２１ａ、６２１ｂの境界が集まる少なくとも短いセグメントに沿って形成される。リッジ又はセグメントは、点ｐ１、ｐ２、ｐ３を含む。既知の微細構成に基づく、それらの各点での局所的な傾斜及び曲率は、勾配と平行でありリッジと垂直である方向（軸ａ１、ａ２、ａ３を参照）に沿って、及び勾配と垂直でありリッジと平行である方向（軸ｂ１、ｂ２、ｂ３を参照）に沿って計算することができる。そのような曲率及び傾斜を用いて、点が長く鋭ったピーク領域にあることを確認することができる。例えば、２つの垂直方向（例えばａ１、ｂ１）に沿う十分に異なる曲率、リッジと垂直である（例えばａ１）鋭った曲率、勾配方向（例えばリッジに沿う、ｂ１を参照）にあり平均傾斜よりも小さい傾斜、及び十分に長いセグメント長によって、リッジ上の点を特定してもよい。
【００４１】
第１の構造化主面及び／又は第２の構造化主面は、平面図の単位エリア当たりにおける、２００ｍｍ／ｍｍ２よりも短い、若しくは１５０ｍｍ／ｍｍ２よりも短い、又は１０〜２００ｍｍ／ｍｍ２、若しくは１０〜１５０ｍｍ／ｍｍ２の範囲内の全リッジ長によって特徴付けられてもよい。
【００４２】
サンプルのエリア当りリッジ長は、国際公開第２０１４／０８１６９３号（Ｐｈａｍ等）で説明されるように決定することができる。この技術では、所与の拡散体サンプルについて、サンプルの中心部分から約１ｘ１ｃｍのサンプル片が切り出される。サンプル片は、顕微鏡スライドに装着され、特徴付けられるその構造化面は、Ａｕ−Ｐｄスパッタコーティングされる。共焦点走査型レーザー顕微鏡（ＣＳＬＭ）を用いて、構造化面の２つの高さプロファイルが得られる。可能であればいつでも、微細構成の良好なサンプリングを与えるように視野が選ばれる。本明細書の他の箇所で説明する原理に従って高さプロファイルを分析するために、リッジ分析が用いられる。
【００４３】
リッジ分析は、２Ｄ高さマップ上でリッジのピークを特定し、単位サンプルエリア当たりのリッジの全長を計算することを可能にする。各画素について、勾配方向に沿う曲率及び勾配方向と交差する曲率を計算することができる。曲率及び傾斜の閾値処理を行ってリッジを特定することができる。
【００４４】
以下は、リッジ分析に用いうるリッジの定義である。
１．曲率の定義：（ａ）ｇ曲率は、勾配方向に沿う曲率である。（ｂ）ｔ曲率は、勾配方向と交差する（垂直な）方向に沿う曲率である。（ｃ）ｇ曲率は、勾配に沿う３つの点を用いて３つの点に外接する円を計算することによって計算される。ｇ曲率＝１／Ｒ、ここで、Ｒは、この円の半径である。（ｄ）ｔ曲率は、勾配と交差する方向に沿う３つの点を用いて３つの点に外接する円を計算することによって計算される。ｇ曲率＝１／Ｒ、ここで、Ｒは、この円の半径である。（ｅ）曲率は、それらの３つの点の中心点に割り当てられる。（ｆ）３つの点の間隔は、着目していない微細な特徴による寄与を抑制するほど十分に大きいが、着目した特徴による寄与を保つほど十分に小さくなるように選ばれる。
２．リッジ上の点の曲率は、２つの垂直方向の間で十分に異なる。（ａ）ｇ曲率とｔ曲率は、少なくとも２倍だけ異なる（いずれかがより大きくなりうる）。
３．リッジは、谷の大部分よりも鋭っている。（ａ）曲率は、ｇ曲率分布の１パーセンタイル点の絶対値よりも大きい（ｇ曲率の１％が、１パーセンタイル点よりも小さい）。
４．傾斜は、平均傾斜よりも小さい。（ａ）リッジ上のｇ傾斜（勾配に沿う傾斜）が、表面の平均ｇ傾斜よりも小さい。（ｂ）リッジの上部の傾斜は、非常に傾斜した表面上にない限り、典型的に略ゼロである。
５．リッジは、十分に長い。（ａ）潜在的なリッジは、その全長（分岐を含む）が、潜在的なリッジ上部に沿う平均曲率半径よりも小さい場合には、リッジとみなされない。（ｂ）潜在的なリッジは、その全長が潜在的なリッジの平均幅の３分の１よりも小さい場合には、リッジとみなされない。（ｃ）これらの寸法が概略測定されることに留意されたい。
６．分岐は、十分に長い。（ａ）リッジの中央セクションからの分岐は、リッジの平均幅の１．５倍よりも大きい場合には、リッジの連続部とみなされる。そうでなければ、分岐は除去される。（ｂ）これらの寸法が概略測定されることに留意されたい。
【００４５】
リッジを特定した後、高さマップにおける全てのリッジの全長が計算され、高さマップのエリアで割られる。
【００４６】
一部の実施形態では、フーリエパワースペクトルを用いて、拡散体の第１の主面又は第２の主面の空間的な不規則性又はランダム性の程度が決定される。微細構成は、構造化面が延在する基準面に対して定義することができる。例えば、拡散体２１０の第１の構造化主面２１２（図２Ａを参照）は、概ねｘ−ｙ平面にあり、概ねｘ−ｙ平面に沿って延在する。ｘ−ｙ平面を基準面として用いて、基準面内の位置に応じた、基準面に対する第１の主面２１２の高さとして、すなわち、（ｘ，ｙ）位置に応じた表面のｚ座標として、第１の構造化主面２１２の微細構成を説明することができる。表面のｚ座標は、表面プロファイル又は高さプロファイルＨ（ｘ，ｙ）と称されることがある。このような方法で構造化面の微細構成を測定する場合、微細構成関数の空間周波数成分を分析して、表面の空間的な不規則性又はランダム性の程度を決定する（又は構造化面に存在する空間的な周期性を特定する）ことができる。
【００４７】
一般的な手法は、高速フーリエ変換（ＦＦＴ）関数を用いて空間周波数成分を分析することである。微細構成が、直交する２つの面内方向（ｘ及びｙ）に沿う高さ情報を提供するため、表面の空間周波数成分は、各面内方向に沿う空間周波数成分を分析することによって十分に特徴付けられる。構造化面における十分に大きい代表的な部分にわたる微細構成を測定し、各面内方向のフーリエパワースペクトルを計算することによって、空間周波数成分を決定することができる。得られた２つのパワースペクトルを、パワースペクトル密度（ＰＳＤ）−空間周波数のグラフにプロットすることができる。得られた曲線が局所的な任意の周波数ピーク（ゼロ周波数に対応しない）を含む範囲で、そのようなピークの大きさを、図７と関連して他の箇所で更に説明する「ピーク率」の観点から表すことができる。
【００４８】
フーリエパワースペクトルを決定する詳細な手順については、国際公開第２０１４／０８１６９３号（Ｐｈａｍ等）で説明されている。この手法では、所与の拡散体サンプルについて、サンプルの中心部分から約１ｘ１ｃｍのサンプル片が切り出される。サンプル片は、顕微鏡スライドに装着され、特徴付けられるその構造化面は、Ａｕ−Ｐｄスパッタコーティングされる。共焦点走査型レーザー顕微鏡（ＣＳＬＭ）を用いて、構造化面の２つの高さプロファイルが得られる。可能であればいつでも、微細構成の良好なサンプリング及び存在する任意の周期性を与えるように視野が選ばれる。２次元（２Ｄ）パワースペクトル密度（ＰＳＤ）は、各２Ｄ高さプロファイルについて計算される。２Ｄ  ＰＳＤは、２Ｄ高さプロファイルＨ（ｘ，ｙ）の２Ｄ空間フーリエ変換の大きさの自乗である。ＭＡＴＡＬＢの高速フーリエ変換（ＦＦＴ）関数を用いてＰＳＤを計算するために、ＭＡＴＬＡＢが用いられる。２Ｄ高さプロファイルの有限な空間寸法により生じるＦＦＴ中のリンギングを抑制するのに役立てるために、ＦＦＴを用いる前に、２Ｄ高さプロファイルに２Ｄハミング窓が適用される。２Ｄ  ＰＳＤは、ｘ方向で合計されて、（ダウンウェブ方向でありうる）ｙ方向の１次元（１Ｄ）ＰＳＤを与える。同様に、２Ｄ  ＰＳＤは、ｙ方向で合計されて、（クロスウェブ方向でありうる）ｘ方向の１Ｄ  ＰＳＤを与える。
【００４９】
空間周波数ピークに関する１Ｄ  ＰＳＤの分析について、図７と関連して説明する。この図には、仮想的なフーリエパワースペクトル曲線を例示目的で示している。上で議論した１Ｄ  ＰＳＤ関数（ｘ又はｙ）のいずれかを表しうる曲線が、パワースペクトル密度（ＰＳＤ）−空間周波数のグラフ上に現れる。垂直軸（ＰＳＤ）は、ゼロで始まる線形スケール上にプロットされることが想定される。曲線は、（ａ）ゼロ周波数に対応せず、（ｂ）基準線を定義する隣り合う２つの谷内に留まる、周波数ピークを有するとして示されている。隣り合う２つの谷は、空間周波数ｆ１で点ｐ１により特定され、空間周波数ｆ２で点ｐ２により特定される。周波数ｆ１は、ピークが始まる周波数とみなすことができ、周波数ｆ２は、ピークが終わる周波数とみなすことができる。基準線は、ｐ１とｐ２を結ぶ直線セグメント（破線）である。ピークの大きさは、グラフ上のエリアＡ及びＢの観点から表すことができる。エリアＡは、周波数ピークと基準線の間にあるエリアである。エリアＢは、基準線の下又は真下のエリアである。つまり、Ｂ＝（ＰＳＤ（ｆ１）＋ＰＳＤ（ｆ２））＊（ｆ２−ｆ１）／２である。Ａ＋Ｂの合計は、周波数ピークの下又は真下のエリアである。これらの定義を仮定すると、以下のような相対ピーク振幅、すなわち「ピーク率」の観点からピークの大きさを定義することができる。
ピーク率＝Ａ／（Ａ＋Ｂ）。
【００５０】
各サンプルについて２つの１Ｄ  ＰＳＤ（ｘ方向で１つ、ｙ方向で１つの、２つのフーリエパワースペクトル）を評価することができ、フーリエパワースペクトルが任意の周波数ピークを含む範囲で、各曲線の最も卓越したピークを特定することができる。各曲線の最も卓越したピークについて、上で説明したピーク率を計算することができる。最も卓越したピークが測定されるので、計算されたピーク率は、所与のフーリエパワースペクトル中に存在しうる全てのピークの上限である。このようにしてピーク率を決定する例については、国際公開第２０１４／０８１６９３号（Ｐｈａｍ等）で説明されている。
【００５１】
一部の実施形態では、第１の主面は、直交する第１の面内方向及び第２の面内方向とそれぞれ関連する第１のフーリエパワースペクトル及び第２のフーリエパワースペクトルにより特徴付け可能である微細構成を有し、第１のフーリエパワースペクトルが、ゼロ周波数に対応せず、第１の基準線を定義する隣り合う２つの谷内に留まる、１つ以上の第１の周波数ピークを含む限り、そのような任意の第１の周波数ピークが、０．８よりも小さい、又は０．７よりも小さい第１のピーク率を有し、第２のフーリエパワースペクトルが、ゼロ周波数に対応せず、第２の基準線を定義する隣り合う２つの谷内に留まる、１つ以上の第２の周波数ピークを含む限り、そのような任意の第２の周波数ピークが、０．８よりも小さい、又は０．７よりも小さい第２のピーク率を有する。
【００５２】
本説明の拡散体の第１の主面又は第２の主面のいずれかを特徴付ける別の数量は、表面の傾斜分布である。傾斜分布は、比較的緩やかな傾斜（例えば、大部分の傾斜が４０度よりも小さい）を有することが望ましい実施形態における第２の主面の特に有用な特徴付けをもたらす。一部の実施形態では、第２の主面の第２の部分の約２０パーセント以下、又は約１０パーセント以下、又は約７パーセント以下、又は約５パーセント以下、又は約３パーセント以下が、約２０度よりも大きい、又は約１５度よりも大きい、又は約１０度よりも大きい、又は約７度よりも大きい、又は約５度よりも大きい、又は約３．５度よりも大きい傾斜度を有する。一部の実施形態では、第２の表面主面は、より急な傾斜を有してもよい。例えば、一部の実施形態では、第２の主面の約２０パーセント以下、約１０パーセント以下、約７パーセント以下が、約２０度よりも大きい、又は約３０度よりも大きい、又は約３５度よりも大きい、又は約４０度よりも大きい傾斜度を有する。一部の実施形態では、第２の主面の相当な部分が、１度よりも大きい傾斜度を有し、第２の主面の相当な部分が、１０度よりも小さい、又は１５度よりも小さい傾斜度を有する。一部の実施形態では、第２の主面の第２の部分の少なくとも約５０パーセント、又は少なくとも約７０パーセント、又は少なくとも約８０パーセント、又は少なくとも約８５パーセント、又は少なくとも約９０パーセントが、１度よりも大きい傾斜度を有する。一部の実施形態では、第２の主面の第２の部分の約８５パーセント以下、又は約８０パーセント以下が、約１５度よりも大きい、又は約１０度よりも大きい傾斜度を有する。
【００５３】
図８は、構造化層８４０の一部分の概略側面図である。構造化層８４０は、例えば、図２Ａの第２の層２３６に対応することができる。図８は、主面８４２とは反対側にある主面８１４の、マイクロ構造でありうる構造８６０を示している。構造８６０は、構造の表面にわたる傾斜分布を有する。例えば、構造は、場所８１０の傾斜θを有し、ここで、θは、場所８１０の構造面と垂直な（α＝９０°）垂線８２０と、同じ場所の構造８６０の表面と接する接線８３０との間の角度である。傾斜θは、接線８３０と層８４０の主面８４２との間の角度でもある。
【００５４】
例えば、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）又は共焦点走査型レーザー顕微鏡（ＣＳＬＭ）を用いて、表面プロファイルＨ（ｘ，ｙ）（すなわち、直交する面内座標ｘ及びｙに応じた基準面の上方の表面の高さＨ）を決定することによって、第１の主面又は第２の主面を特徴付けることができる。以下の２つの式によって、ｘ方向及びｙ方向のそれぞれに沿う傾斜Ｓｘ及びＳｙを計算することができる。
【化１】
2018521335.tif 000003
【化２】
2018521335.tif 000004
【００５５】
以下の式によって、傾斜度Ｓｍを計算することができる。
【化３】
2018521335.tif 000005
【００５６】
ｘ方向の傾斜分布及びｙ方向の傾斜分布並びに傾斜度を決定することができる。
【００５７】
一部の実施形態では、第２の主面の第１の部分又は第２の主面の第２の部分における少なくとも１つの領域が、第１の方向の第１の半値半幅（ＨＷＨＭ）を有する第１の表面角度分布（例えば、ｘ方向の傾斜の分布Ｓｘが、σｘのＨＷＨＭを有しうる）と、第１の方向とは異なる第２の方向の第２の半値半幅（ＨＷＨＭ）を有する第２の表面角度分布（例えば、ｙ方向の傾斜の分布Ｓｙが、σｙのＨＷＨＭを有しうる）とを有する。一部の実施形態では、第１のＨＷＨＭは、第２のＨＷＨＭに略等しく、一部の実施形態では、第１のＨＷＨＭは、第２のＨＷＨＭとは異なる。例えば、｜σｘ−σｙ｜が、約１度〜、約５度まで、又は約１０度まで、又は約１５度までの範囲内である。一部の実施形態では、σｘ及びσｙのそれぞれが、約１度〜、約１０度まで、又は約１５度までの範囲内である。一部の実施形態では、σｘ及びσｙの大きい方と、σｘ及びσｙの小さい方との比率は、１よりも大きく、又は１．１よりも大きく、又は１．２よりも大きく、又は１．５よりも大きく、かつ、１５よりも小さく、又は１０よりも小さく、又は５よりも小さい。一部の実施形態では、｜σｘ−σｙ｜をσｘ＋σｙで割った値は、０．０５よりも大きく、又は０．１よりも大きく、又は０．２よりも大きい。
【００５８】
構造の分布は、構造の振幅（例えば、山から谷への高さ）を変化させること、又は隣り合う構造間の間隔を変化させることによって、変化させることができる。一部の実施形態では、第２の主面は、振幅分布及び間隔分布を有する表面構造を含み、振幅分布及び間隔分布の少なくとも一方が、第２の主面の第１の部分を通して変化し、振幅分布及び間隔分布のそれぞれが、第２の主面の第２の部分において略一様である。高さ分布、及び／又は間隔分布、及び／又は構造の形状分布を変化させることによって、傾斜分布を変化させることができる。一部の実施形態では、第２の主面は、第２の主面の第１の部分を通して略連続的に変化し（例えば、第１のエッジ２２３から第２の主面２１４の第１の部分２１６と第２の部分２１８の間の連続境界２１７まで略連続的に変化する傾斜分布）、第２の主面の第２の部分において略一様な傾斜分布を有する表面構造を含む。
【００５９】
一部の実施形態では、第１の主面は、構造化面を有するツールによるマイクロ複製により作製される。ツールの構造化面は、国際公開第２０１４／０８１６９３号（Ｐｈａｍ等）で説明されるように、第１の電気メッキ処理により金属を電気溶着することによって金属の第１の層を形成し、第１の平均粗度を有する第１の層の主面を生じさせること、第２の電気メッキ処理により第１の層に金属を電気溶着することによって第１の層の主面に金属の第２の層を形成し、第１の平均粗度よりも小さい第２の平均粗度を有する第２の層の主面を生じさせることによって、作製することができ、第２の層の主面がツールの構造化面に対応する。
【００６０】
図９は、例えば、拡散体の第１の主面などの構造化面を作製するプロセスの例示的なバージョン９０１を示している。プロセスのステップ９０２では、金属層が電気メッキされうる下地の役割を果たしうる基部又は基材が用意される。基材は、例えばシート、プレート、又はシリンダなど、多くの形のうちの１つを取ることができる。円形シリンダは、連続ロール商品の生成に用いることができる点で有利である。基材は、典型的に金属製であり、例示的な金属としては、ニッケル、銅、及び真ちゅうが挙げられる。しかし、他の金属を用いてもよい。基材は、後続のステップで電気溶着層が形成される露出面（「基面」）を有する。基面は、平滑かつ平坦でもよく、又は略平坦でもよい。研磨された平滑なシリンダの外側湾曲面は、特に、シリンダの表面上の所与の点の付近にある局所的な小領域を考慮するときには、略平坦であるとみなすことができる。基面は、基部平均粗度により特徴付けられてもよい。この点に関して、基面の表面「粗度」、又は本明細書で述べる他の表面「粗度」は、平均粗度Ｒａ又は自乗平均粗度Ｒｒｍｓなどの一般的に認められた任意の粗度測定値により数量化されてもよく、粗度は、問題となる表面の該当エリア全体を正しく表すのに十分大きなエリアにわたり測定されることが想定される。
【００６１】
プロセス９０１のステップ９０３では、第１の電気メッキ処理により基材の基面に金属の第１の層が形成される。このステップが始まる前に、基材の基面を下塗りしてもよく、そうでなければ接着性を高めるように処理してもよい。金属は、基面を構成するものと実質的に同じ金属でもよい。例えば、基面が銅を含む場合、ステップ９０３で形成される第１の電気メッキ層も銅で作られてもよい。金属の第１の層を形成するために、第１の電気メッキ処理は、第１の電気メッキ溶液を用いる。第１の電気メッキ溶液の組成、例えば、溶液に用いる金属塩のタイプ、及び、電流密度、メッキ時間、及び基材速度などの他のプロセスパラメータは、第１の電気メッキ層が平滑かつ平坦に形成されず、代わりに、構造化され、不規則な平坦切子面特徴により特徴付けられた第１の主面を有するように、選択される。不規則な特徴のサイズ及び密度は、電流密度、メッキ時間、及び基材速度により決定される一方、第１の電気メッキ溶液に用いる金属塩のタイプは、特徴の幾何形状を決定する。この点に関する更なる教示は、米国特許出願公開第２０１０／０３０２４７９号（Ａｒｏｎｓｏｎ等）に見出すことができる。第１のメッキ処理は、第１の電気メッキ層の第１の主面が、基材の基部平均粗度よりも大きい第１の平均粗度を有するように行われる。
【００６２】
ステップ９０３で、第１の平均粗度のその構造化主面を有する金属の第１の電気メッキ層が作製された後、第２の電気メッキ処理によってステップ９０４で金属の第２の電気メッキ層が形成される。金属の第２の層は、第１の電気メッキ層を覆い、それらの組成が略同じでありうるので、２つの電気メッキ層は、もはや識別可能ではなくなることがあり、第１の層の第１の主面は、略跡形もなくなり、もはや検出可能ではなくなることがある。それにもかかわらず、第２の電気メッキ処理は、第２の電気メッキ層の露出した第２の主面が、構造化され非平坦ではあるが、第１の主面の第１の平均粗度よりも小さい第２の平均粗度を有するような方法である点で、第１の電気メッキ処理とは異なる。第２の電気メッキ処理は、第１の主面よりも抑制された粗度を第２の主面に提供するために、多くの点で第１の電気メッキ処理とは異なってもよい。
【００６３】
一部の場合、ステップ９０４の第２の電気メッキ処理は、ボックス９０４ａに示すように、少なくとも有機レベラーを添加することによって、第１の電気メッキ溶液とは異なる第２の電気メッキ溶液をステップ９０３で用いてもよい。有機レベラーは、小さい穴には比較的厚い堆積を生じさせ、小さい出っ張りには比較的薄い堆積を生じさせ、小さい表面不規則性の深さ又は高さを最終的に小さくする可能性をメッキ槽に取り入れる材料である。レベラーによって、メッキ部位は、素地金属よりも大きい表面平滑度を有する。例示的な有機レベラーとしては、非限定的に、スルホン化硫化ヒドロカルビル化合物、アリルスルホン酸、様々な種類のポリエチレングリコール、及び、バイチオカルバメート又はチオ尿素及びそれらの誘導体を含むチオカルバメートが挙げられうる。第１の電気メッキ溶液は、多くても微量の有機レベラーを含んでもよい。第１の電気メッキ溶液は、１００、又は７５、又は５０ｐｐｍよりも低い全体濃度の有機炭素を有してもよい。第１の電気メッキ溶液中の任意の有機レベラーの濃度に対する第２の電気メッキ溶液中の有機レベラーの濃度の比率は、例えば、少なくとも５０、又は１００、又は２００、又は５００でもよい。第２の主面の平均粗度は、第２の電気メッキ溶液中の有機レベラーの量を調節することによって、調整することができる。
【００６４】
ステップ９０４の第２の電気メッキ処理も、又は代わりに、第１の主面よりも第２の主面の粗度を抑制する効果を有する少なくとも１つの電気メッキ技術又は特徴を第２のステップ９０４に含めることによって、ステップ９０３の第１の電気メッキ処理とは異なってもよい。シービング（thieving）（ボックス９０４ｂ）及びシールディング（shielding）（ボックス９０４ｃ）は、そのような電気メッキ技術又は特徴の例である。更に、有機レベラーに加えて又はその代わりに、１つ以上の有機微細化剤（ボックス９０４ｄ）を第２の電気メッキ溶液に添加して、第２の主面の平均粗度を抑制してもよい。
【００６５】
ステップ９０４が完了した後、第１の電気メッキ層及び第２の電気メッキ層を有する基材は、光学拡散フィルムを形成するオリジナルツールとして用いることができる。一部の場合、ツールの構造化面、すなわち、ステップ９０４で生成された、第２の電気メッキ層の第２の構造化主面を不動態化してもよく、そうでなければ、第２の金属又は他の好適な材料で保護してもよい。例えば、第１の電気メッキ層及び第２の電気メッキ層を銅で構成する場合、第２の構造化主面をクロムの薄いコーティングで電気メッキすることができる。クロム又は他の好適な材料の薄いコーティングは、第２の構造化主面の微細構成及び平均粗度を実質的に保つほど十分に薄いことが好ましい。
【００６６】
光学拡散フィルムの製作に際してオリジナルツール自体を用いるのではなく、オリジナルツールの第２の構造化主面をマイクロ複製することによって、１つ以上の複製ツールを作製してもよく、複製ツール（１つまたは複数）を用いて、拡散体の構造化面を製作してもよい。オリジナルツールから作製された第１の複製は、第２の構造化主面に対応するが、その反転された形態である第１の複製構造化面を有する。例えば、第２の構造化主面の出っ張りは、第１の複製構造化面の窪みに対応する。第１の複製から第２の複製が作製されてもよい。第２の複製は、オリジナルツールの第２の構造化主面に対応し、その反転されていない形態である、第２の複製構造化面を有する。
【００６７】
ステップ９０４の後、構造化面ツールを作製した後に、オリジナルツール又は複製ツールからのマイクロ複製によって、（オリジナルツールに対して反転されているか反転されていないかにかかわらず）同じ構造化面を有する光学拡散フィルムをステップ９０６で作製することができる。第１の構造化主面は、例えば、事前形成フィルムのエンボス加工、又はキャリアフィルム上での硬化層の注型及び硬化を含む、好適な任意の処理によりツールから形成されてもよい。
【００６８】
図１０は、例えば、ヘーズが変化する第２の主面の構造化面などの構造化面を生成するためにマイクロ複製できるツールの切削に用いることができる切削ツールシステム１０００の概略側面図である。切削ツールシステム１０００は、ねじ切り旋盤旋削処理により、駆動体１０３０によって中心軸１０２０の周囲を回転する、及び／又はこれに沿って移動することができるロール１０１０と、ロール材料を切削するためのカッター１０４０とを含む。カッターは、サーボ１０５０に装着され、駆動体１０６０によってｘ方向に沿ってロールの中、及び／又はロール沿いに移動させることができる。一般的に、カッター１０４０は、ロール及び中心軸１０２０に対して垂直に装着され、ロールが中心軸の周りを回転する際にロール１０１０の刻装可能な材料に送り込まれる。次に、カッターは、中心軸と平行に駆動されて、ねじ切りを生成する。カッター１０４０は、高頻度かつ低変位で同時に作動して、例えば、マイクロ複製時に構造８６０をもたらす特徴をロール内に生成することができる。
【００６９】
サーボ１０５０は、高速ツールサーボ（ＦＴＳ）であり、固体圧電（ＰＺＴ）装置（ＰＺＴスタックと称されることが多い）を含むが、このＰＺＴスタックは、カッター１０４０の位置を迅速に調節する。ＦＴＳ１０５０によって、カッター１０４０のｘ方向、ｙ方向、及び／若しくはｚ方向、又は軸外方向での高精密な高速動作が可能になる。カッター１０４０は、ｘ方向、ｙ方向及び／又はｚ方向に移動できるので、ｘ方向及びｙ方向のいずれか又は両方で変化する振幅又は傾斜の分布を有する構造化面を形成することができる。サーボ１０５０は、静止位置に関して制御された動作を生じうる、任意の高品質変位サーボであってもよい。一部の場合、サーボ１０５０は、約０．１マイクロメートルよりも高い分解能で０〜約２０マイクロメートルの範囲内の変位を確実にかつ繰り返しもたらすことができる。
【００７０】
駆動体１０６０は、カッター１０４０をｘ方向に沿って中心軸１０２０と平行に移動させることができる。一部の場合、駆動体１０６０の変位分解能は、約０．１マイクロメートルよりも高く、又は約０．０１マイクロメートルよりも高い。駆動体１０３０により生じる回転運動は、駆動体１０６０により生じる並進運動と同期して、結果として得られる構造８６０の形状を正確に制御する。
【００７１】
切削ツールシステム１０００を用いて、第１の構造化主面２１２（図２Ａを参照）の形成に用いうるツールを作製することができ、及び／又は切削ツールシステム１０００を用いて、第２の構造化主面２１４の形成に用いうるツールを作製することができる。第２の構造化主面２１４を形成するツールの作製に用いるとき、駆動体１０３０により生じる回転運動及び駆動体１０６０により生じる並進運動は、ツールのうち第２の構造化主面２１４の第１の部分２１６に対応する部分における振幅分布、間隔分布、構造形状分布、及び傾斜分布のうちの１つ以上の変化を生じさせるように選択される。
【００７２】
ロール１０１０の刻装可能な材料は、カッター１０４０により刻装できる任意の材料でもよい。例示的なロール材料としては、銅などの金属、様々なポリマー、及び様々なガラス材料が挙げられる。カッター１０４０は任意のタイプのカッターでもよく、用途に望ましい任意の形状を有することができる。好適なカッターについては、米国特許第８，６５７，４７２号（Ａｒｏｎｓｏｎ等）又は同第８，８８８，３３３号（Ｙａｐｅｌ等）で説明されている。
【００７３】
第２の構造化主面は、例えば、事前形成フィルムのエンボス加工、又は基材上での硬化層の注型及び硬化を含む、好適な任意の処理により得られたツールから形成されてもよい。オリジナルツール又はツールの複製を用いて、本明細書の他の箇所で説明するように構造化面を形成してもよい。
【００７４】
一部の実施形態では、光学フィルムと、光学フィルムの構造化下面に面する拡散体の構造化上面（例えば、第１の主面１１２又は２１２）を有し、光学フィルムと略同一の広がりを有する、本説明の光学拡散体のうちのいずれかとを含む光学スタックが提供される。光学フィルムは、第１の方向に沿って線形に延在する略平行な複数の上部構造を備える構造化上面と、第１の方向とは異なる第２の方向に沿って線形に延在する略平行な複数の下部構造を備える構造化下面とを含み、上部構造及び下部構造のそれぞれが、構造の基部の対向する第１の端部及び第２の端部からそれぞれ延在し、構造のピークで交わる、対向する第１の湾曲面及び第２の湾曲面を備えてもよい。一部の実施形態では、光学フィルムと光学拡散体は、それらの対応するエッジに沿って接合されて、光学フィルムと光学拡散体の間に空隙を形成する。一部の実施形態では、構造化上面及び構造化下面のそれぞれが、略ランダムに配置された複数の構造を備える。一部の実施形態では、光学拡散体は、光学フィルムの構造化下面に面する構造化上面であって、構造化上面にわたる略一様な第１の光学ヘーズを有する構造化上面と、構造化下面の第１のエッジに沿う第１の部分と、第１の領域から構造化下面の反対側にある第２のエッジまで延在する第２の部分とを有する構造化下面であって、第１の部分の少なくとも一部の領域が、第１の光学ヘーズ以上の第３の光学ヘーズを有し、第２の部分は、第２の部分にわたる略一様な第２の光学ヘーズを有し、第２の光学ヘーズは、第１の光学ヘーズよりも低い、構造化下面とを含む。一部の実施形態では、上面の第１の光学ヘーズは、略一様であり、約７０％よりも高く、拡散体の第１の部分の第１の領域における第３の光学ヘーズは、約９５％よりも高く、第２の主面の第２の部分の第２の光学ヘーズは、略一様であり、約７０％よりも低い。
【００７５】
一部の実施形態では、光源と、光源に近接した入力面、及び出力面を有する光ガイドと、光ガイドに配置された、本説明の光学拡散体のうちのいずれかと、光学拡散体に配置された光学フィルムとを含むバックライトが提供される。一部の実施形態では、光学拡散体は、構造化上面であって、構造化上面にわたる略一様な第１の光学ヘーズを有する構造化上面と、光ガイドの出力面に面する構造化下面であって、構造化下面の第１のエッジに沿い光ガイドの入力面に近接する第１の部分と、第１の部分から構造化下面の反対側にある第２のエッジまで延在する第２の部分とを有し、第１の部分の少なくとも第１の領域が、第１の光学ヘーズ以上の第３の光学ヘーズを有し、第２の部分は、第２の部分にわたる略一様な第２の光学ヘーズを有し、第２の光学ヘーズは、第１の光学ヘーズとは異なる、構造化下面とを有する。光学フィルムは、光学拡散体の構造化上面に面する略線形の平行な複数の第１の構造を含む第１の構造化面と、光学拡散体の構造化上面とは反対に面する略線形の平行な複数の第２の構造を含む第２の構造化面とを含み、第１の構造及び第２の構造はそれぞれ、対向する第１の湾曲面及び第２の湾曲面を備え、第１の湾曲面と第２の湾曲面は、異なる曲率軸を有する。
【００７６】
図１７は、本説明の拡散体と共に有利に用いうる例示的な光学フィルムの分割された正面側立断面図である。光学フィルム１７００は、マイクロ構造１７１２を有する構造化上面１７１０と、第１の面１７２２及び第２の面１７２４を伴うマイクロ構造を有する構造化下面１７２０とを含む。
【００７７】
図１７では、構造化面（構造化上面１７１０及び構造化下面１７２０）は、マイクロ構造の長さ方向が概ね平行にならないように配置されている。一部の実施形態では、マイクロ構造の長さ方向は、互いに直交するように配向される。しかし、構造化上面と構造化下面の両方の同時に存在する断面を一層容易に示すために、（図１８と共に）図１７は、分割された正面側立断面図であり、つまり、各構造化面の左にある基準座標系が示唆するように、図は、実際には繋ぎ合わされた２つの斜視図である。
【００７８】
構造化上面１７１０は、マイクロ構造１７１２を含む。一部の実施形態では、構造化上面は、平行な複数のマイクロ構造を含む。一部の実施形態では、平行なマイクロ構造は、線形のマイクロ構造でもよい。線形は、１つのマイクロ構造のピークが、（例えば、上部平面図で見ると）構造化上面を横切る線であることを意味する。一部の実施形態では、製造プロセスの限界を含む現実的な理由から、線形のマイクロ構造は、厳密な線形からの小さな偏差を含んでもよい。一部の実施形態では、マイクロ構造は、周期的又は非周期的なピッチの変化を除いて、線形でもよい。一部の実施形態では、マイクロ構造は、線形でもよいが、周期的又は非周期的のいずれかで高さが変化してもよい。一部の実施形態では、隣り合うマイクロ構造間に空間又は「ランド」があってもよい。一部の実施形態では、構造化上面１７１０は、隣り合うマイクロ構造間の、約０．５μｍ〜約５μｍの範囲内の間隔を含んでもよい。間隔は、一定でもよく又は変化してもよい。
【００７９】
マイクロ構造１７１２は、実質的に湾曲していてもよい。一部の実施形態では、マイクロ構造１７１２は、略シリンダ又は略半シリンダの形状を有する。一部の実施形態では、マイクロ構造１７１２は、マイクロ構造の長さと直交する断面に沿う半円又は半楕円である。一部の実施形態では、マイクロ構造１７１２は、マイクロ構造１７１２の基部と直交する線に沿ってマイクロ構造１７１２のピークからマイクロ構造１７１２の基部までで測定される高さｈにより特徴付けられる。構造化上面１７１０の最低点を用いて、マイクロ構造１７１２の基部を決定してもよい。マイクロ構造１７１２は、曲率半径Ｒにより特徴付けられてもよく、ｈ／Ｒの比率は、好適な任意の値でもよい。一部の実施形態では、ｈ／Ｒは、０．４以下である。
【００８０】
一部の実施形態では、構造の面のうち構造が延在する方向にわたって取られた全断面の曲率中心をまとめて、曲率「軸」と称してもよい。一部の実施形態では、湾曲面の曲率軸は異なる。
【００８１】
構造化上面１７１０は、好適な任意の方法及び好適な任意の材料で形成されてもよい。例えば、構造化上面１７１０は、選択的にエッチング又は研削されてもよい。一部の実施形態では、構造化上面１７１０は、少なくとも部分的に２つの光子マスタリング処理によって形成されてもよい。一部の実施形態では、構造化上面１７１０は、反転形状のツールを利用する注型及び硬化処理に依存する。一部の場合、構造化上面は、適切な光露出が、樹脂を硬化させ、モールド又はツールから分離させ、その形状を恒久的に保持するような、ＵＶ架橋性又はＵＶ硬化性の樹脂から形成されてもよい。一部の実施形態では、構造化上面１７１０は、３Ｄ印刷などの追加の工程により形成されてもよい。一部の実施形態では、構造化上面１７１０は、射出成形されてもよい。構造化上面１７１０は、モノリシックな材料片に形成されてもよく、又は基材又は寸法的に安定した層若しくは耐反り性の層に配置された材料の上部層に形成されてもよい。透明度、耐傷性若しくは耐摩耗性、耐反り性、複屈折性若しくはその欠如、マイクロ複製の可能性、ヘーズ、Ｔｇ（ガラス遷移温度）、他の表面との潜在的な接合性、又は他の好適な任意の特徴などの、材料特性、物理特性、又は光学特性のために、１つ又は複数の材料が選択されてもよい。
【００８２】
構造化下面１７２０は、第１の面１７２２及び第２の面１７２４をそれぞれに有するマイクロ構造を含む。構造化上面１７１０の場合と同じように、マイクロ構造は、線形のマイクロ構造でもよいが、この図に示す例示的な構成では、上部構造及び下部構造のマイクロ構造が、互いに略直交して伸びるように、図１７では斜視図が分割されていることを思い出されたい。構造化下面１７２０は、一部の実施形態では０．５μｍ〜３μｍの間隔で、離間した隣り合う構造を含んでもよい。
【００８３】
第１の面１７２２は、略平坦であり、マイクロ構造の長さと直交する断面により直線として現れる。他の実施形態では、第１の面１７２２は、ある程度の曲率を有してもよい。第２の面１７２４は、湾曲しており、マイクロ構造の長さと直交する断面により弧又は曲線として現れる。一部の実施形態では、マイクロ構造は、例えば、２つよりも多い面、又は２つの面とピーク又は接合部分とを含んでもよい。一部の実施形態では、第２の面１７２４は、一定の曲率を有してもよく、又は区分定義された曲率を有してもよい。一部の実施形態では、第２の面１７２４は、連続的に変化する曲率を有してもよい。一部の実施形態では、各第１の面は、同じ又は略同じ形状及びサイズでもよい。一部の実施形態では、各第２の面は、同じ又は略同じ形状及びサイズでもよい。一部の実施形態では、第１の面及び第２の面の１つ以上は、周期的に、非周期的に、又はある勾配のいずれかで、形状又はサイズの１つ以上が変化してもよい。
【００８４】
光学フィルム１７００は、全体的に、好適な任意の材料又は材料の組合せから形成され、好適な任意の寸法を有してもよい。一部の実施形態では、光学フィルム１７００は、特定の表示用途又は照明用途のためにサイズ決定又は形状決定されてもよい。光学フィルム１７００の構造化面の構造は、説明したように直交して伸びてもよく、又は第１の方向及び第２の方向に単純に延在し又は伸びてもよく、ここで、第１の方向と第２の方向は、互いに異なる。例えば、第１の方向と第２の方向との間の角度は、７８〜９０度でもよい。一部の実施形態では、構造化上面及び構造化下面は、同じエリアに及んでもよい。一部の実施形態では、構造化上面１７１０及び構造化下面１７２０は、同じモノリシックフィルムの２つの側面でもよい。一部の実施形態では、２つの構造化面又はそれらのそれぞれの基材は、互いに積層されてもよく又は取り付けられてもよい。
【００８５】
図１８は、光学フィルム及び拡散体を含むバックライトの分割された正面側立断面図である。バックライト１８００は、マイクロ構造１８１２を有する構造化上面１８１０と、第１の面１８２２及び第２の面１８２４を含む構造化下面１８２０と、任意選択的な中間層１８３０とを有する光学フィルム１８０２を含む。バックライト１８００は、拡散体１８４０、光ガイド１８５０、反射体１８６０、及び光源１８７０を更に含む。
光学フィルム１８０２は、図１７に示す光学フィルムと同様に、マイクロ構造１８１２を有する構造化上面１８１０と、第１の面１８２２及び第２の面１８２４を伴うマイクロ構造を有する構造化下面１８２０とを含む。光学フィルム１８０２は、例えば、反射偏光子、又は反射偏光子と１／４波長層若しくは１／４波長プレートとの組合せでありうる中間層１８３０も含む。図１８の中間層１８３０は、簡略化されており、それ自体が、１／４波長プレートと線形反射偏光子の両方を表してもよいが、それらは、別個の層として取り扱われてもよい。光学フィルム１８０２は、モノリシック層でもよく、又はいくつかの積層部分又は層により形成されてもよい。
【００８６】
中間層１８３０又は中間層１８３０の部品としての使用に適した反射偏光子は、多層反射偏光子でもよい。多層反射偏光子は、適切に配向されたときに、強め合う干渉により特定の偏光を反射する、適切な厚さの内部屈折率界面を有する、交互する高屈折率層と低屈折率層の共押出しされた束から形成される。反射偏光子の例としては、ＤＢＥＦ及びＡＰＦ（ミネソタ州Ｓｔ．Ｐａｕｌにある３Ｍ  Ｃｏｍｐａｎｙから入手可能）が挙げられる。
【００８７】
バックライト１８００の残りは、光学フィルム１８０２と光ガイド１８５０の間に配置された拡散体１８４０、光ガイド１８５０自体、反射体１８６０、及び光源１８７０を含む。拡散体１８４０は、拡散体の第１の部分（例えば、部分２１６）が光源１８７０の最も近くに配置された、本明細書で説明する拡散体のうちのいずれかとすることができる。
【００８８】
一部の実施形態では、拡散体１８４０は、光ガイド１８５０又は光学フィルム１８０２の略全てのエリアに及んでもよい。一部の実施形態では、拡散体１８４０は、光ガイド１８５０又は構造化下面１８２０のピークに対する物理的損傷を防止するように設計されてもよい。損傷には、例えば、衝撃又は衝突などのショックを受けた後の、引っ掻き傷又は構造化面の部分的な曲げ若しくは破損が含まれうる。特定の用途では、拡散体１８４０は、緩衝作用を適切に生じさせる特徴など、ショック吸収に有利な物理特性を有してもよい。
【００８９】
一部の実施形態では、拡散体１８４０は、光ガイド１８５０及び光学フィルム１８０２の１つ以上に積層又は取り付けられてもよい。拡散体１８４０は、例えば、感圧層若しくは光学的に透明な接着層で、又は１片以上のエッジテープ若しくはリムテープによって、光ガイド１８５０に取り付けられてもよい。一部の実施形態では、拡散体１８４０は、低屈折率接着層で光ガイド１８５０に接合されてもよい。そのような低屈折率接着層は、複数の間隙を含んでもよい。
【００９０】
光ガイド１８５０は、好適な任意のサイズ又は形状でもよく、好適な任意の材料から形成されてもよい。一部の実施形態では、光ガイド１８５０は、例えば、射出成形されたアクリル製のモノリシック片でもよく、又は他の好適な任意の材料から形成されてもよい。光ガイド１８５０は、高透過性、低吸収性、若しくは低散乱性などの有利な光学的特徴、又は剛性、可撓性、若しくは耐温度性及び耐反り性などの有利な物理的特徴のために選択された材料を有してもよい。一部の実施形態では、光ガイド１８５０は、楔状の光ガイドでもよい。一部の実施形態では、光ガイド１８５０は、印刷されたドット、ネガティブなマイクロ特徴（すなわち、空気／光ガイド界面が、臨界未満角度での光の散乱又は反射により内部全反射を無効にする傾向があり、光ガイドの他の表面に光を通過させる凹み）、又はポジティブなマイクロ特徴などの抽出特徴を含んでもよく、又は収容してもよい。抽出特徴は、光ガイドのエリア（終局的に、バックライト１８００全体）にわたって光が均質に抽出されるような勾配パターンで配置されてもよい。言い換えると、抽出特徴は、光ガイドのうち全体的により多くの光がある、光源に近接するエリアなどの部分に、稠密に詰まっていなくてもよい。代わりに、一部の用途では、抽出特徴は、電話キーパッドその他の数字又はボタンの下などの、多くの光出力が望まれるエリアに稠密に詰まっていてもよい。抽出特徴は、サイズ、形状、及び数が、周期的に、ある勾配で、又は非周期的に、変化してもよい。
【００９１】
反射体１８６０は、広帯域光反射体である好適な任意の層である。一部の実施形態では、反射体１８６０は、アルミニウム若しくは銀などの金属反射体、又は金属反射面が置かれた基材である。一部の実施形態では、反射体１８６０は多層光学フィルムである。
本明細書で説明する多層光学フィルム反射偏光子と同様に、多層光学フィルム反射体は、注意深く選択され、配向されると複屈折を創り出しうる、ポリマー材料の交互する高屈折率層と低屈折率層を含む。層は、共押出しされ、強め合う干渉により広域の光スペクトルが層間の界面で反射するように配向される。各層対の光学厚さは、異なる層対が、異なる波長の光の反射に寄与するように設計される。例示的な多層光学フィルム反射体は、Ｅｎｈａｎｃｅｄ  Ｓｐｅｃｕｌａｒ  ＲｅｆｌｅｃｔｏｒすなわちＥＳＲ（ミネソタ州Ｓｔ．Ｐａｕｌにある３Ｍ  Ｃｏｍｐａｎｙから入手可能）である。好適な反射体は、光のうち少なくとも９０％、９５％、９８％、又は９９％さえ反射することができる。反射体は、拡散面（又は均等拡散面）、鏡面、又は半鏡面として特徴付けられる反射パターンを提供することができる。
【００９２】
光源１８７０は、好適な任意の光源又は光源の組合せでもよい。発光ダイオード（ＬＥＤ）、冷陰極蛍光管（ＣＣＦＬ）、又は白熱電球などの従来の光源を用いてもよい。図１８には光源１８７０を単一物体として示しているが、一部の実施形態では、ＬＥＤの組合せを用いて十分に白色の入力光を提供してもよいが、用途によっては、好適な任意のスペクトル又はスペクトルの組合せを利用してもよい。一部の実施形態では、ＬＥＤは、蛍光体又は他のダウンコンバート要素を用いてもよい。光源１８７０は、光ガイド１８５０への光の結合を支援し、又は光ガイドの光入力の形状決定に役立てるために、好適な出射光学系又はコリメート光学系を含んでもよい。光源１８７０は、光ガイド１８５０のいずれかの側面に配置されてもよく、例えば、光源１８７０からの光が光ガイドを出て第１の平坦面に最初に入射するように、代わりに、光源１８７０からの光が光ガイドを出て第２の湾曲面に最初に入射するように、配置されてもよい。バックライト１８００の残りの部品を適宜調節することができる。
【００９３】
用途によっては、バックライト１８００の全体設計のうちの一部の特徴、例えば、光学フィルム１８０２の構造化下面１８２０の設計及び光ガイド１８５０の出力分布は、その性能に著しい影響を及ぼしうる。  光ガイド１８５０の設計は、光学フィルム１８０２が、他の特定の入力角度よりも望ましい出力を提供する特定の入力角度を有しうることを考慮してもよい。言い換えると、光ガイド及びバックライト全体は、それらの入力角度を有する光学フィルム１８０２を提供するように設計されてもよい。逆も可能であり、光学フィルム１８０２は、光ガイドの出力角度が、望ましい出力を提供する入力角度となるように設計されてもよい。拡散体１８４０は、ホットスポットの抑制及び光学フィルム１８０２の保護をもたらすように設計されてもよい。
【００９４】
光学フィルム１８０２は、光源１８７０により放射され、最終的にバックライト１８００から出る光の少なくとも一部が、構造化上面１８１０により再利用されるように構成されてもよい。再利用は、光が反射され、そうでなければ光ガイド１８５０に向かって戻るように方向転換されることを意味する。そのような光は、反射体１８６０により反射され、光学フィルム１８０２に向かって戻るように方向付けられる。構造化上面１８１０により方向転換された光の少なくとも一部が好ましい視野角ではなく、そうでなければ使用可能な又は望ましい角度ではないことがあるので、方向転換は、光がバックライトにより再び循環されるので、再利用と称されることがある。一部の実施形態では、光源１８７０により放射された光の少なくとも１０％が、構造化上面１８１０により再利用される。一部の実施形態では、光源１８７０により放射された光の少なくとも２０％が、構造化上面１８１０により再利用される。
【００９５】
図１９は、本説明の拡散体と共に用いうる別の光学フィルムの、図１８の場合と同じように分割された正面側立断面図である。光学フィルム１９００は、第１の上線１９１４及び第２の上線１９１６により特徴付けられるマイクロ構造１９１２を有する構造化上面１９１０と、第１の面１９２２及び第２の面１９２４を有し、第１の下線１９２６及び第２の下線１９２８により特徴付けられるマイクロ構造を伴う構造化下面１９２０とを含む。光学フィルム１９００は、中間層１９３０を含んでもよい。
【００９６】
図７の光学フィルム１９００は、マイクロ構造１９１２が第１の上線１９１４及び第２の上線１９１６により特徴付けられ、構造化下面１９２０のマイクロ構造が、２つの弧状面、そうでなければ湾曲面を有し、第１の下線１９２６及び第２の下線１９２８により特徴付けられる点を除いて、図１８の光学フィルム１８０２と同様である。一部の実施形態では、構造化上面１９１０のマイクロ構造は、構造化下面１９２０のマイクロ構造について示し説明したような、２つの弧状面、そうでなければ湾曲面を有してもよい。（上部構造又は下部構造のいずれかの）湾曲面は、同じ曲率半径を有してもよく、又は異なる曲率半径を有してもよい。一部の実施形態では、上部構造又は下部構造のいずれかの湾曲面は、同じ曲率中心を有してもよいが、一部の実施形態では、異なる曲率中心を有してもよい。一部の実施形態では、それらは、区分定義された曲率を有してもよく、又は変化する曲率を有してもよい。一部の実施形態では、構造化上面１９１０の各マイクロ構造１９１２の各面は、２０μｍ〜４０μｍの曲率半径を有してもよい。一部の実施形態では、構造化下面１９２０の各マイクロ構造の各面は、４０μｍ〜８０μｍ又は６０μｍ〜８０μｍの曲率半径を有してもよい。一部の実施形態では、構造の面のうち構造が延在する方向を横切る全ての断面の曲率中心をまとめて、曲率「軸」と称してもよい。一部の実施形態では、区分定義された曲率を有する面は、各面に複数の曲率軸を有してもよい。一部の実施形態では、湾曲面の曲率軸は異なる。一部の実施形態では、各湾曲面の各曲率軸は異なる。
【００９７】
一部の実施形態では、上部構造及び下部構造のそれぞれは、対向する第１の湾曲面及び第２の湾曲面を含み、第１の湾曲面と第２の湾曲面は、異なる曲率軸を有する。
【００９８】
第１の上線１９１４及び第２の上線１９１６は、マイクロ構造１９１２の基部の第１の端部及び第２の端部の交点をマイクロ構造のピークと結ぶ線である。一部の実施形態では、第１の上線１９１４と第２の上線１９１６は、それら自体によって約６０度〜１２０度の範囲内の角度を形成してもよい。第１の上線と第２の上線は、それら自体とマイクロ構造の基部との間に、５〜６０度又は３５〜４５度の角度を形成してもよい。これらの線と基部との間の角度は、２つの上線について同じでもよく、又は異なってもよい。
【００９９】
第１の下線１９２６及び第２の下線１９２８は、同様に、下部マイクロ構造の第１の端部及び第２の端部の交点（すなわち、そこでは、第１の面１９２２及び第２の面１９２４がマイクロ構造の基部と交差する）をマイクロ構造のピークに結ぶ線である。第１の下線１９２６と第２の下線１９２８は、それら自体の間に６０度〜１３０度の範囲内の角度を形成してもよい。第１の下線と第２の下線は、それら自体とマイクロ構造の基部との間に、２５〜８８度又は５５〜６５度の角度を形成してもよい。これらの線と基部との間の角度は、２つの下線について同じでもよく、又は異なってもよい。
【０１００】
ピークが丸みを帯びるか又は湾曲している一部の実施形態では、第１の下線及び第２の下線がそれぞれ第１の端部及び第２の端部に結ばれる点を除いて、代わりに湾曲したピークのそれぞれの側面と接して伸びるように、例えば、第１の下線１９２６と第２の下線１９２８との間に形成される角度を特徴付けることが好ましいことがある。それらが最終的に交差する点に形成される角度は、５０度〜７０度の範囲内でもよい。一部の実施形態では、上部マイクロ構造及び下部マイクロ構造のピークの任意の曲率半径が、その特定のマイクロ構造の面又は側面（ピークを含まない）のいずれかの曲率半径よりも小さい。
【０１０１】
用途によっては、特定の幾何学的特徴、特に、構造化面の幾何学的特徴が、本明細書で説明する光学フィルムにとって特に好適となることがある。例えば、図７では、光学フィルムの上部及び下部の各構造は、構造の線形範囲と垂直な断面から見て、同じ曲率中心を有しない弧である第１の面及び第２の面を有してもよい。一部の実施形態では、構造は、例えばピークからピークまでで測定される一定のピッチで離間する。一部の実施形態では、構造化上面の第１のピッチ及び構造化下面の第２のピッチが、１０〜１００μｍ又は１０〜５０μｍである。一部の実施形態では、構造化上面又は構造化下面のいずれかが、ピッチの変化を有する。一部の実施形態では、ピッチは、対応する構造化面の構造の各面の曲率半径に関連して表されてもよい。一部の実施形態では、構造化面のピッチに対する構造化面の構造の第１の面及び第２の面の曲率半径の比率が、０．８〜１０、１．５〜２０、１〜３、又は２〜５である。一部の実施形態では、その比率は、構造化上面については０．８〜１０、構造化下面については１．５〜２０でもよい。一部の実施形態では、その比率は、構造化上面については１〜３、構造化下面については２〜５でもよい。一部の実施形態では、構造の少なくとも一方の高さは、構造の線形範囲に沿って変化する。
【実施例】
【０１０２】
エッジグレーデッド拡散体フィルム
グレーデッド拡散体フィルムを以下のように作製した。１１０°の頂角を有するダイヤモンドを伴う刻装器を用いて、電気メッキされたシリンダ状のマイクロ複製ツールを切削して、ツールの周縁で深さが変化する六角形状の一組の凹みを生成した。ここで、ツール内のダイヤモンド切削が深いほど、ツールの多くの表面積が影響を受け、切削が浅いほど、ツールの少ない表面積が影響を受けた。ツール上の最初の１０ｍｍの六角形状の凹みが最も深かった。周縁の次の１３ｍｍ〜約２３ｍｍについては、深さが単調に減少した。１０ｍｍ〜約１７ｍｍは、凡そ三次スプラインに対応するプロファイルに従って深さが減少した。約１７ｍｍ〜約２３ｍｍは、ツールの周縁に連続する一定の深さまで深さが線形に変化した。このようにして、平行な複数の周縁切削を行った。
【０１０３】
標準的な注型及び硬化処理によって、ツール上の構造を（約１ミル厚の）ＰＥＴフィルムにマイクロ複製した。マイクロ構造の高さがツール構造と逆のパターンに従うので、深い溝から立ち上がるマイクロ構造は、浅い溝から立ち上がるマイクロ構造よりも高くなり、フィルムの前面は、高い構造の１０ｍｍ長のセグメントを有し、これに、１３ｍｍの長さにわたり高さが徐々に抑制されるマイクロ構造が続き、その後は高さが約９５ｍｍで一定となった。
【０１０４】
ツールのエリアにわたって切削された一様な拡散構造を有する第２の電気メッキされたマイクロ複製ツールを作製した。ＰＥＴフィルムのうち上で説明した構造とは反対側に、これらの構造をマイクロ複製した。
【０１０５】
これらの一様な第２の拡散構造も、同構造を別個のフィルム上にマイクロ複製し、Ｈａｚｅ  Ｇａｒｄ  Ｐｌｕｓヘーズメーター（メリーランド州ＣｏｌｕｍｂｉａにあるＢＹＫ−Ｇａｒｄｎｅｒから入手可能）を用いてヘーズを測定することによって、特徴付けられた。ヘーズは約９５％であった。
【０１０６】
ヘーズの特徴付け
ヘーズへの上面による寄与を排除するために、「エッジグレーデッド拡散体フィルム」で説明した一様に拡散するフィルムの上面を、上部構造の屈折率に近い屈折率を有する樹脂でコーティングした。得られたフィルムを評価して、フィルムの下側の各セグメントと関連するヘーズを決定した。測定装置を図１２Ａ〜図１２Ｃに示している。Ｅｎｈａｎｃｅｄ  Ｓｐｅｃｕｌａｒ  Ｒｅｆｌｅｃｔｏｒ（ＥＳＲ）フィルム１２６８（ミネソタ州Ｓｔ．Ｐａｕｌにある３Ｍ  Ｃｏ．から入手可能）を用いて作り出された２ｍｍスリット１２６５を有する構造上にフィルム１２１０を配置して、ヘーズメーターの部分１２７６にあるヘーズメーター計測装置の開口１２７７（凡そ１インチ（２．５４ｃｍ）の直径を有する）を覆って上部分及び下部分を隠した。下部構造のサイズのグレーディングがスリットのエッジと垂直に走るように、フィルムを配向した。ヘーズの測定値が１ミリメートル毎に取られるたびに、フィルムをスリットにわたって段階的に移動させた。図１２Ａでは、フィルム１２１０のエッジが、スリット１２６５のエッジと位置合わせされている。図１２Ｂでは、フィルム１２１０は、約１ｍｍの距離１２８３ｂだけシフトされており、図１２Ｃでは、フィルム１２１０は、約２ｍｍの距離１２８３ｃだけシフトされている。Ｈａｚｅ  Ｇａｒｄ  Ｐｌｕｓヘーズメーターを用いて、スリットの上にあるフィルムセグメントのヘーズを測定した。ヘーズメーターは、図１２Ａ〜図１２Ｃに示すような方向１２７３を有する入射光を発生した。図１３は、フィルムにわたる位置に応じたヘーズを示している。フィルムの左端部分のヘーズは、１００％に近かった。フィルムの左エッジから１０ｍｍのところでマイクロ構造の高さが減少し始めるので、ヘーズは、１００％近から１０％未満まで低下した。
【０１０７】
ホットスポットコントラストの測定
図１４Ａ〜図１４Ｂに例示する装置を組み立てて、「エッジグレーデッド拡散体フィルム」で説明したフィルム１２１０についてＬＥＤホットスポットの光学拡散をテストした。市販されているエッジ照明型スマートフォンから、フレックス回路基板１４４２上にある光ガイド１４０４と、関連する１２個のＬＥＤ１４４０の組とを取り外した。米国特許出願公開第２０１３／０００４７２８号（Ｂｏｙｄ等）で説明される種類の２つの交差プリズムフィルムからなる層１４２０を、サイズが変化するマイクロ構造を伴う側面とは反対側にある、フィルムの一様な上部拡散面に、取り付けずに配した。変化するマイクロ構造を有する側面が、光ガイドに面するともに、最大の構造を伴うエッジが、ＬＥＤ１４４０の列と平行となり、ＬＥＤ１４４０の列に最も近くなるように配向された状態で、得られたフィルムを光ガイドに配置した。ＬＥＤに取り付けられたフレックス回路基板１４４２は、光ガイドの上に部分的に延在した。光ガイドの上方約４２ｃｍ、光ガイドのうちフレックスプレートが終端する領域１４５５の直上に配置したＰｒｏｍｅｔｒｉｃ  ＰＭ−１６１３Ｆ−１撮像光度計１４９２（英国Ｍｉｌｔｏｎ  ＫｅｙｎｅｓにあるＰｒｏ−Ｌｉｔｅ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙから入手可能）を用いて、ホットスポット測定値を取った。フレックスプレートが終端する接合部に沿ってフィルム１２１０を１度に１ミリメートルずつ段階的に移動させながら、１ミリメートル毎に測定値を取った。図１４Ａには、ＬＥＤ１４４０の最も近くのフィルム１２１０の端部が層１４２０の端部と位置合わせされるゼロ位置を例示している。図１４Ｂは、距離１４８３ｂだけ変位されたフィルム１２１０を示している。図１５には、フィルムのエッジからの距離に応じたホットスポットコントラスト（独立した各測定領域にわたる輝度の谷の振幅に対する輝度の山の振幅の比率として定義される）を示している。上側の拡散フィルムと下側の拡散フィルムとのこの組合せを有する市販のスマートフォンでは、コントラスト比率１．８未満の値によって、ホットスポットの許容可能な抑制がもたらされることが判明した。
【０１０８】
第１の主面の特徴付け
国際公開第２０１４／０８１６９３号（Ｐｈａｍ等）で説明されるような構造化拡散体フィルムを作製した。構造化面は、本説明の拡散体の第１の主面として用いるのに適していた。表面を、原子間力顕微鏡により特徴付け、表面傾斜の分布を決定するために分析した。表面の相補的累積傾斜分布（ＦＣＣ）を図１６に示している。相補的累積傾斜分布関数については、例えば、米国特許出願公開第２０１２／００６４２９６号（Ｗａｌｋｅｒ等）で説明されており、同文献は、本説明と矛盾しない範囲で参照により本明細書に組み込まれる。ｘ軸上の各傾斜値について、ｙ値は、その値よりも大きい傾斜の部分を示している。
【０１０９】
以下は、本説明の例示的な実施形態のリストである。
【０１１０】
実施形態１は、対向する第１の主面及び第２の主面と、第１の主面と第２の主面との間に延在するエッジとを備える拡散体であって、第１の主面は、略一様な第１のヘーズをもたらす複数の第１の表面構造を備え、第２の主面は、エッジの隣にある第１の部分と、エッジとは反対側にあり第１の部分の隣にある第２の部分とを備え、第１の部分は、エッジの隣にある第１の領域と、第１の領域と第２の部分との間にある第２の領域とを含み、第２の主面は、第２の主面の第２の部分にわたる略一様な第２のヘーズをもたらし、第２の主面の第１の部分における第３のヘーズをもたらす、複数の第２の表面構造を備え、第３のヘーズは、第２の主面の第１の部分と第２の部分との間の連続境界に沿って第２のヘーズと略等しく、第１の領域の第３のヘーズは、第２のヘーズよりも高く、第２の領域の第３のヘーズは、エッジから連続境界に向かう方向に沿う距離によって単調に減少しており、第２の部分は、第２の主面の表面積の少なくとも９０パーセントの表面積を有する、拡散体である。
【０１１１】
実施形態２は、実施形態１の拡散体であって、第１の領域の第３のヘーズは、第１のエッジから連続境界に向かう方向に沿う距離に実質的に依存していない。
【０１１２】
実施形態３は、実施形態１の拡散体であって、第２の領域は、少なくとも１ｍｍの幅を有する。
【０１１３】
実施形態４は、実施形態１の拡散体であって、第３のヘーズは、第１のエッジから連続境界に向かう方向と直交する面内方向に沿う距離に依存している。
【０１１４】
実施形態５は、実施形態１の拡散体であって、第３のヘーズは、第１のエッジから連続境界に向かう方向と直交する面内方向に沿う距離に実質的に依存していない。
【０１１５】
実施形態６は、実施形態１の拡散体であって、０．１ｍｍ以下だけ離れた第１の位置と第２の位置との各対について、第１の位置の第３のヘーズと第２の位置の第３のヘーズとの間の差が、１０パーセントよりも小さい。
【０１１６】
実施形態７は、実施形態１の拡散体であって、拡散体は、エッジに沿う長さと、直交する面内方向の幅とを有し、第２の部分の幅は、拡散体の幅の少なくとも９０パーセントであり、第１の部分及び第２の部分並びに第１の領域及び第２の領域のそれぞれは、拡散体の長さの少なくとも９０パーセントに沿って延在しており、第１の領域は、エッジに隣接し、第２の領域は、第１の領域に隣接し、第２の部分は、第２の領域に隣接している。
【０１１７】
実施形態８は、実施形態１の拡散体であって、複数の第１の表面構造は、隣り合う構造間にリッジが形成されるように配置された稠密に詰まった構造を備え、構造は、直交する２つの面内方向に沿うサイズが制限されている。
【０１１８】
実施形態９は、実施形態８の拡散体であって、第１の主面は、直交する第１の面内方向と第２の面内方向のそれぞれと関連する、第１のフーリエパワースペクトルと第２のフーリエパワースペクトルにより特徴付け可能である微細構成を有し、
第１のフーリエパワースペクトルが、
ゼロ周波数に対応せず、第１の基準線を定義する隣り合う２つの谷内に留まる１つ以上の第１の周波数ピークを含む限り、そのような任意の第１の周波数ピークが、０．８よりも小さい第１のピーク率を有し、第１のピーク率が、第１の周波数ピークと第１の基準線との間にあるエリアを第１の周波数ピークの真下のエリアにより割った値に等しく、かつ、
第２のフーリエパワースペクトルが、
ゼロ周波数に対応せず、第２の基準線を定義する隣り合う２つの谷内に留まる１つ以上の第２の周波数ピークを含む限り、そのような任意の第２の周波数ピークが、０．８よりも小さい第２のピーク率を有し、第２のピーク率が、第２の周波数ピークと第２の基準線との間にあるエリアを第２の周波数ピークの真下のエリアで割った値に等しい。
【０１１９】
実施形態１０は、実施形態９の拡散体であって、第１の主面は、平面図における単位エリア当たり２００ｍｍ／ｍｍ２よりも短い全リッジ長により特徴付けられる。
【０１２０】
実施形態１１は、実施形態９の拡散体であって、稠密に詰まった構造は、基準面における等価円直径（ＥＣＤ）及び厚さ方向に沿う平均高さにより特徴付けられ、各構造のアスぺクト比が、構造の平均高さを構造のＥＣＤで割った値に等しく、構造の平均アスぺクト比が０．１５よりも小さい。
【０１２１】
実施形態１２は、実施形態１の拡散体であって、第１のヘーズは、第２のヘーズよりも高い。
【０１２２】
実施形態１３は、実施形態１の拡散体であって、第１のヘーズは、１０パーセント〜１００パーセントの範囲内である。
【０１２３】
実施形態１４は、実施形態１３の拡散体であって、第１のヘーズは、７０パーセント〜１００パーセントの範囲内である。
【０１２４】
実施形態１５は、実施形態１の拡散体であって、第２のヘーズは、約０．５パーセント〜約９５パーセントの範囲内である。
【０１２５】
実施形態１６は、実施形態１の拡散体であって、第２のヘーズは、約１パーセント〜約７０パーセントの範囲内である。
【０１２６】
実施形態１７は、実施形態１の拡散体であって、第３のヘーズは、少なくとも６０パーセントの最高値を有する。
【０１２７】
実施形態１８は、実施形態１の拡散体であって、第１のヘーズは、第２のヘーズよりも高く、第３のヘーズは、第１のヘーズよりも高い最高値を有する。
【０１２８】
実施形態１９は、実施形態１８の拡散体であって、第１のヘーズは、第２のヘーズよりも少なくとも２パーセントだけ高く、最高値は、第１のヘーズよりも少なくとも２パーセントだけ高い。
【０１２９】
実施形態２０は、実施形態１８の拡散体であって、第１のヘーズは、第２のヘーズよりも少なくとも１０パーセントだけ高く、最高値は、第１のヘーズよりも少なくとも１０パーセントだけ高い。
【０１３０】
実施形態２１は、実施形態１の拡散体であって、第２の主面の第２の部分の約１０パーセント以下が、約４０度よりも大きい傾斜度を有する。
【０１３１】
実施形態２２は、実施形態１の拡散体であって、第２の主面の第２の部分の約１０パーセント以下が、約３０度よりも大きい傾斜度を有する。
【０１３２】
実施形態２３は、実施形態１の拡散体であって、第２の主面の第２の部分の約７パーセント以下が、約３０度よりも大きい傾斜度を有する。
【０１３３】
実施形態２４は、実施形態１の拡散体であって、第２の主面の第２の部分の約７パーセント以下が、約２０度よりも大きい傾斜度を有する。
【０１３４】
実施形態２５は、実施形態１の拡散体であって、第２の主面の第２の部分の約７パーセント以下が、約１０度よりも大きい傾斜度を有する。
【０１３５】
実施形態２６は、実施形態１の拡散体であって、第２の主面の第２の部分の約８５パーセント以下が、約１０度よりも大きい傾斜度を有する。
【０１３６】
実施形態２７は、実施形態１の拡散体であって、第２の主面の第２の部分の約８０パーセント以下が、約１０度よりも大きい傾斜度を有する。
【０１３７】
実施形態２８は、実施形態２１〜２７のうちのいずれかの拡散体であって、第２の主面の第２の部分の少なくとも５０パーセントが、約１度よりも大きい傾斜度を有する。
【０１３８】
実施形態２９は、実施形態２１〜２７のうちのいずれかの拡散体であって、第２の主面の第２の部分の少なくとも約８０パーセントが、約１度よりも大きい傾斜度を有する。
【０１３９】
実施形態３０は、実施形態２１〜２７のうちのいずれかの拡散体であって、第２の主面の第２の部分の少なくとも約８５パーセントが、約１度よりも大きい傾斜度を有する。
【０１４０】
実施形態３１は、実施形態２１〜２７のうちのいずれかの拡散体であって、第２の主面の第２の部分の少なくとも約９０パーセントが、約１度よりも大きい傾斜度を有する。
【０１４１】
実施形態３２は、実施形態１の拡散体であって、第２の主面の第１の部分の第２の領域は、第１のエッジから連続境界に向かう方向に沿う距離によって略連続的に変化する傾斜分布を有する。
【０１４２】
実施形態３３は、実施形態１の拡散体であって、第２の主面の第１の部分又は第２の主面の第２の部分の少なくとも１つのエリアが、第１の方向の第１の半値半幅（ＨＷＨＭ）を有する第１の表面角度分布と、第１の方向とは異なる第２の方向の第２のＨＷＨＭを有する第２の表面角度分布とを有し、第１のＨＷＨＭは、第２のＨＷＨＭとは異なる。
【０１４３】
実施形態３４は、実施形態３３の拡散体であって、第２のＨＷＨＭに対する第１のＨＷＨＭの比が、１．１よりも大きく、約１０よりも小さい。
【０１４４】
実施形態３５は、実施形態１の拡散体であって、第２の主面は、振幅分布及び間隔分布を有する表面構造を含み、振幅分布及び間隔分布の少なくとも一方が、第２の主面の第１の部分の第２の領域において変化し、振幅分布及び間隔分布のそれぞれが、第２の主面の第２の部分を通して略一様である。
【０１４５】
実施形態３６は、ディスプレイであって、
入力エッジ及び出力主面を有する光ガイドと、
実施形態１の拡散体であって、拡散体の第２の主面が光ガイドの出力主面に面し、拡散体のエッジが光ガイドの入力エッジの隣になるように、光ガイドに近接して配置された拡散体と
を備えるディスプレイである。
【０１４６】
実施形態３７は、実施形態１の拡散体を作製する方法であって、
第１の構造化面を有する第１のマイクロ複製ツールを用意することと、
対向する第１の側面及び第２の側面を有する基材を用意することと、
第１のマイクロ複製ツールを用いて、基材の第１の側面に拡散体の第１の主面を形成することとを含み、
第１のマイクロ複製ツールを用意するステップは、
第１の電気メッキ処理により金属を電気溶着することによって金属の第１の層を形成し、第１の平均粗度を有する第１の層の第１の主面を生じさせることと、
第２の電気メッキ処理により第１の主面に金属を電気溶着することによって第１の主面に金属の第２の層を形成し、第１の平均粗度よりも小さい第２の平均粗度を有する第２の層の第２の主面を生じさせることと
を含む方法である。
【０１４７】
実施形態３８は、実施形態３７の方法であって、オフセット印刷、インクジェット印刷、並びに第２のマイクロ複製ツールに対する注型及び硬化のうちの１つ以上によって、拡散体の第２の主面を基材の第２の側面に形成するステップを更に含む。
【０１４８】
実施形態３９は、実施形態３８の方法であって、拡散体の第２の主面を形成するステップは、透明樹脂又はビーズ充填樹脂のオフセット印刷又はインクジェット印刷を含む。
【０１４９】
実施形態４０は、実施形態３８の方法であって、拡散体の第２の主面を形成するステップは、第２のマイクロ複製ツールに対して注型及び硬化することを含み、方法は、切削システムを用いて、予備形成されたツールの表面に構造を切削して、第２のマイクロ複製ツールを作製するステップを更に含む。
【０１５０】
実施形態４１は、拡散体を作製する方法であって、
第１の構造化面を有する第１のマイクロ複製ツールを用意することであって、
第１の構造化面は、表面構造の略一様な分布を有する、ことと、
対向する第１の主面及び第２の主面を有する基材を用意することと、
第１のマイクロ複製ツールを用いて基材の第１の主面を構造化することと、
第２の構造化面を有する第２のマイクロ複製ツールを用意することであって、
第２の構造化面は、第２の構造化面の第１の部分の領域において変化し、第２の構造化面の第２の部分にわたり略一様である、表面構造の分布を有し、第２の部分は、第２の構造化面の表面積の少なくとも９０パーセントの表面積を有する、ことと、
第２のマイクロ複製ツールを用いて基材の第２の主面を構造化することとを含み、
第１のマイクロ複製ツールを用意するステップは、
第１の電気メッキ処理により金属を電気溶着することによって金属の第１の層を形成し、第１の平均粗度を有する第１の層の第１の主面を生じさせることと、
第２の電気メッキ処理により第１の主面に金属を電気溶着することによって第１の層の第１の主面に金属の第２の層を形成し、第１の平均粗度よりも小さい第２の平均粗度を有する第２の層の第２の主面を生じさせることとを含み、
第２のマイクロ複製ツールを用意するステップは、切削システムを用いて、予備形成されたツールの表面に構造を切削することを含む、方法である。
【０１５１】
実施形態４２は、実施形態４１の方法であって、第１のマイクロ複製ツールを用いて基材の第１の主面を構造化することは、第１のマイクロ複製ツールに対して樹脂を注型及び硬化することを含む。
【０１５２】
実施形態４３は、実施形態４１の方法であって、第２のマイクロ複製ツールを用いて基材の第２の主面を構造化することは、第２のマイクロ複製ツールに対して樹脂を注型及び硬化することを含む。
【０１５３】
実施形態４４は、実施形態４１の方法であって、第２の構造化面の第１の部分又は第２の構造化面の第２の部分の少なくとも１つのエリアが、第１の方向の第１の半値半幅（ＨＷＨＭ）を有する第１の表面角度分布と、第１の方向とは異なる第２の方向の第２のＨＷＨＭを有する第２の表面角度分布とを有し、第１のＨＷＨＭは、第２のＨＷＨＭとは異なる。
【０１５４】
実施形態４５は、光学スタックであって、
光学フィルムであって、
第１の方向に沿って線形に延在する略平行な複数の上部構造を備える構造化上面と、
第１の方向とは異なる第２の方向に沿って線形に延在する略平行な複数の下部構造を備える構造化下面とを備え、
上部構造及び下部構造のそれぞれが、構造の基部のそれぞれ対向する第１の端部及び第２の端部から延在し、構造のピークで交わる、対向する第１の湾曲面及び第２の湾曲面を備える、光学フィルムと、
光学フィルムと略同一の広がりを有する光学拡散体であって、
光学フィルムの構造化下面に面する構造化上面であって、
構造化上面にわたる略一様な第１の光学ヘーズを有する構造化上面と、
構造化下面の第１のエッジに沿う第１の部分と、
第１の部分から構造化下面の反対側にある第２のエッジまで延在する第２の部分とを有する構造化下面であって、第２の部分は、第２の部分にわたる略一様な第２の光学ヘーズを有し、第１の部分の少なくとも一部の領域が、第１の光学ヘーズ以上の第３の光学ヘーズを有し、第２の光学ヘーズは、第１の光学ヘーズよりも低い、構造化下面とを備える光学拡散体とを備える、光学スタックである。
【０１５５】
実施形態４６は、実施形態４５の光学スタックであって、光学フィルムと光学拡散体は、光学フィルム及び光学拡散体の対応するエッジに沿って接合されて、光学フィルムと光学拡散体の間に空隙を形成している。
【０１５６】
実施形態４７は、実施形態４５の光学スタックであって、構造化上面及び構造化下面のそれぞれが、略ランダムに配置された複数の構造を備える。
【０１５７】
実施形態４８は、実施形態４５の光学スタックであって、第１の光学ヘーズは、約７０％よりも高く、第２の光学ヘーズは、約９５％よりも高く、第３の光学ヘーズは、約７０％よりも低い。
【０１５８】
実施形態４９は、バックライトであって、
光源と、
光源に近接する入力面、及び出力面を有する光ガイドと、
光ガイドに配置された光学拡散体であって、
構造化上面であって、構造化上面にわたる略一様な第１の光学ヘーズを有する構造化上面と、
光ガイドの出力面に面する構造化下面であって、
構造化下面の第１のエッジに沿い光ガイドの入力面に近接する第１の部分と、第１の部分から構造化下面の反対側にある第２のエッジまで延在する第２の部分とを有し、第２の部分は、第２の部分にわたる略一様な第２の光学ヘーズを有し、第１の部分の少なくとも一部の領域が、第１の光学ヘーズ以上の第３の光学ヘーズを有し、第２の光学ヘーズは、第１の光学ヘーズとは異なる、構造化下面とを備える光学拡散体と、
光学拡散体に配置された光学フィルムであって、
光学拡散体の構造化上面に面する略線形の平行な複数の第１の構造を備える第１の構造化面と、
光学拡散体の構造化上面とは反対に面する略線形の平行な複数の第２の構造を備える第２の構造化面とを備え、
第１の構造及び第２の構造はそれぞれ、対向する第１の湾曲面及び第２の湾曲面を備え、第１の湾曲面と第２の湾曲面は、異なる曲率軸を有する、光学フィルムとを備える、バックライトである。
【０１５９】
以上、本明細書で具体的な実施形態を図示し説明してきたが、本開示の範囲を逸脱することなく、図示及び説明された具体的な実施形態を、様々な代替的かつ／又は均等な実現形態で置き換えることができることは、当業者であれば認識されるであろう。本出願は、本明細書で説明した具体的な実施形態のいかなる適合例又は変形例をも包含することを意図している。したがって、本開示は、特許請求の範囲及びその均等物によってのみ限定されるものとする。
【図１Ａ】
2018521335.tif 000006
【図１Ｂ】
2018521335.tif 000007
【図２Ａ】
2018521335.tif 000008
【図２Ｂ】
2018521335.tif 000009
【図２Ｃ】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図３Ｃ】
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【図３Ｄ】
2018521335.tif 000014
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２Ａ】
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【図１２Ｂ】
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【図１２Ｃ】
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【図１３】
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【図１４Ａ】
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【図１４Ｂ】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【国際調査報告】
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