(57)【要約】  微小光学層、微小光学層を含むガラスユニット及び微小光学層を提供するために使用され得る転写テープが提供される。転写テープは、構造化表面を有する取り外し可能なテンプレート層と、テンプレート層の構造化表面上の少なくとも一部に配置された第１の表面及び構造化表面と対向する微細構造化表面を有するバックフィル層と、を含む。微細構造化表面は微細構造化表面上に配置された層とともに、異方性拡散体をなす。
2018521357.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
構造化表面を有する取り外し可能なテンプレート層と、
前記テンプレート層の前記構造化表面上の少なくとも一部に配置された第１の表面及び前記構造化表面と対向する第２の表面を有するバックフィル層であって、前記第２の表面は微細構造化表面を含む、バックフィル層と、
前記微細構造化表面上の少なくとも一部に配置された層であって、前記層は、前記バックフィル層とは異なる屈折率を有する、層と、を含み、
前記微細構造化表面は、前記微細構造化表面上の少なくとも一部に配置された前記層とともに、異方性拡散体をなす、転写テープ。
【請求項２】
前記拡散体は、２０〜８５％の光学ヘイズ及び５０％以下の光学的透明度を有する、請求項１に記載の転写テープ。
【請求項３】
前記拡散体は、２５〜６５％の光学ヘイズ及び７〜３７％の光学的透明度を有する、請求項１に記載の転写テープ。
【請求項４】
前記バックフィル層は第１の屈折率を有し、前記層は第２の屈折率を有し、前記第１の屈折率は、前記第２の屈折率より少なくとも０．０５高い、請求項１〜３のいずれか一項に記載の転写テープ。
【請求項５】
前記微細構造化表面は、第１の方向に第１の半値半幅（ＨＷＨＭ）を有する表面角度分布、及び前記第１の方向とは異なる第２の方向に第２のＨＷＨＭを有する第２の表面角度分布を有し、前記第１のＨＷＨＭは、前記第２のＨＷＨＭとは異なる、請求項１〜３のいずれか一項に記載の転写テープ。
【請求項６】
主表面を有するガラス板と、
前記主表面の少なくとも一部に接着された微小光学層であって、前記微小光学層は、構造化表面及び対向する微細構造化表面を有し、硬化したバックフィル層と、前記バックフィル層とは異なる屈折率を有する前記微細構造化表面に隣接する層と、を含み、
前記微細構造化表面は、前記微細構造化表面に隣接する前記層とともに、異方性拡散体をなす、微小光学ガラス。
【請求項７】
主表面を有するガラス板と、
前記主表面の少なくとも一部に接着された微小光学層と、
異なる屈折率を有する層に隣接する微細構造化境界面であって、前記微細構造化境界面は前記微小光学層に近接している、微細構造化境界面と、を含む、微小光学ガラスであって、
３０°〜６０°の入射角で、前記微小光学ガラスは日光の少なくとも８０％を上向きに方向転換させ、太陽柱は出現せず、
前記微細構造化境界面は、非対称構造を含み、可視光を異方性拡散させるようになっている、微小光学ガラス。
【請求項８】
前記微細構造化境界面は、２０〜８５％の光学ヘイズ及び５０％以下の光学的透明度を有する、請求項７に記載の微小光学ガラス。
【請求項９】
室内側の外表面を有するガラス板から間隙によって隔てられている日光側の板外表面を有するガラス板であって、各板は前記間隙に隣接する内表面を有する、ガラス板と、
ガラス板の内表面の少なくとも一部に接着された微小光学層であって、前記微小光学層は、硬化したバックフィル層を含み、前記微小光学層は、構造化表面と、これに対向する、前記バックフィル層とは異なる屈折率を有する層に隣接する、微細構造化表面と、を有し、前記微細構造化表面は前記層とともに異方性拡散体をなす、微小光学層と、を含む、断熱ガラスユニット。
【請求項１０】
断熱ガラスユニットであって、
室内側の外表面を有するガラス板から間隙によって隔てられている日光側の板外表面を有するガラス板であって、各板は前記間隙に隣接する内表面を有する、ガラス板と、
前記断熱ガラスユニットの内表面上に配置された微小光学層と、
前記微小光学層と前記室内側の外表面との間に配置された微細構造化境界面であって、前記微細構造化境界面は非対称構造を含み、前記微細構造化境界面は、可視光を異方性拡散させるようになっている、微細構造化境界面と、を含む、断熱ガラスユニット。
【請求項１１】
構造化表面を有する第１のテンプレートを準備する工程と、
硬化性バックフィル層が前記第１のテンプレートの前記構造化表面と適合する主表面及び対向する平坦表面を有するように、前記構造化表面上に前記硬化性バックフィル層を提供する工程と、
前記硬化性バックフィル層の前記平坦表面を第２のテンプレートと接触させる工程であって、前記第２のテンプレートは、非対称構造を有する微細構造化表面を含む、工程と、
前記バックフィル材料を硬化させて、それにより構造化表面及び対向する微細構造化表面を有する硬化したバックフィル層を形成する工程と、を含む、転写テープの製造方法。
【請求項１２】
構造化表面を有する第１のテンプレートと、
硬化性バックフィル層が前記第１のテンプレートの前記構造化表面と適合する主表面及び対向する表面を有するような、前記構造化表面上の前記硬化性バックフィル層と、
前記バックフィル層の前記対向する表面と接触させて配置された微細構造化表面を有する第２のテンプレートであって、前記微細構造化表面は非対称構造を含む、第２のテンプレートと、を含む、転写テープを準備する工程と、
前記第２のテンプレート層を取り外す工程と、
前記硬化した微細構造化バックフィル層を、接着剤でガラス板に接着する工程であって、前記接着剤は、前記バックフィル層とは異なる屈折率を有する、工程と、を含む、微小光学ガラスの製造方法。
【請求項１３】
構造化表面を有する第１のテンプレートと、
硬化性バックフィル層が前記第１のテンプレートの前記構造化表面と適合する主表面及び非対称構造を含む対向する微細構造化表面を有するような、前記構造化表面上の前記硬化性バックフィル層と、
前記硬化したバックフィル層の前記微細構造化表面上に配置された層であって、前記層は、前記硬化したバックフィル層とは異なる屈折率を有する、層と、を含む、転写テープを準備する工程と、
前記硬化したバックフィル層とは異なる屈折率を有する前記層に接着剤を適用する工程と、
前記硬化した微細構造化バックフィル層をガラス板に接着する工程と、を含む、微小光学ガラスの製造方法。
【請求項１４】
構造化表面を有する第１のテンプレートと、
硬化性バックフィル層が前記第１のテンプレートの前記構造化表面と適合する主表面及び非対称構造を含む対向する微細構造化表面を有するような、前記構造化表面上の前記硬化性バックフィル層と、
前記硬化したバックフィル層の前記微細構造化表面上に配置された接着剤層であって、前記接着剤層は、前記硬化したバックフィル層とは異なる屈折率を有する、接着剤層と、を含む、転写テープを準備する工程と、
前記バックフィル層の前記微細構造化表面上に配置された接着剤層によって、前記硬化した微細構造化バックフィル層をガラス板に接着する工程と、を含む、微小光学ガラスの製造方法。
【請求項１５】
構造化表面及び対向する表面を有する第１のテンプレートと、
硬化したバックフィル層が、前記第１のテンプレートの前記構造化表面と適合する主表面及び非対称微細構造を含む対向する表面を有するような、前記構造化表面上の前記バックフィル層と、
前記バックフィル層の前記対向する表面上に配置された接着剤層と、
前記接着剤層上に配置された剥離ライナーと、を含む、転写テープを準備する工程と、
切断部分は前記剥離ライナーに残り、未切断部分は取り外すことができるように、前記第１のテンプレート、バックフィル層及び接着剤層を切断する工程と、を含む、転写テープの製造方法。
【請求項１６】
構造化表面及び対向する表面を有する第１のテンプレートと、
硬化したバックフィル層が、前記第１のテンプレートの前記構造化表面と適合する主表面及び対向する表面を有するような、前記構造化表面上の前記バックフィル層と、を含む、転写テープを準備する工程と、
粗表面を有するガラスを準備する工程であって、前記粗表面は、第１の方向に第１の半値半幅（ＨＷＨＭ）を有する勾配分布、及び前記第１の方向とは異なる第２の方向に第２のＨＷＨＭを有する第２の表面角度分布を有し、前記第１のＨＷＨＭは、前記第２のＨＷＨＭとは異なる、工程と、
前記ガラスの前記粗表面を前記バックフィル層の前記対向する表面に接着剤で接着する工程であって、前記接着剤は、前記硬化したバックフィル層と実質的に同じ屈折率を有し、前記接着剤は、前記ガラスとは異なる屈折率を有する、工程と、を含む、微小光学ガラスの製造方法。
【請求項１７】
構造化表面及び対向する表面を有する第１のテンプレートと、
硬化したバックフィル層が、前記第１のテンプレートの前記構造化表面と適合する主表面及び非対称微細構造を含む対向する表面を有するような、前記構造化表面上の前記バックフィル層と、を含む、転写テープを準備する工程と、
粗表面及び平坦表面を有するガラスを準備する工程と、
前記ガラスの前記平坦表面を前記バックフィル層に接着剤で接着する工程であって、前記接着剤は、前記硬化したバックフィル層と実質的に同じ屈折率を有し、前記接着剤は、前記ガラスと実質的に同じ屈折率を有する、工程と、を含む、微小光学ガラスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【背景技術】
【０００１】
断熱ガラスユニット（ＩＧＵ）は、建築用外壁窓による熱損失を低減するために使用される。通常、ＩＧＵは、２枚のガラス板と、スペーサーフレームと、そしてこれら３つの要素により形成される内部空間とを有する。ＩＧＵに組み込まれた微小光学要素を使用することで、ＩＧＵを通過する日光を部分的に室内天井に向けて方向変換させ、既存の室内照明を増幅させ、それにより建物のエネルギー効率を向上させることができる。多くの場合、例えば、米国特許出願公開第２０１４／００２１４９２号（Ｗｏｌｋ  ｅｔ  ａｌ．）及び米国特許出願公開第２０１４／０１７８６４６号（Ｗｏｌｋ  ｅｔ  ａｌ．）などに記載されているような、屈折性又は回折性光学構造をＩＧＵの内部空間内などのガラス表面に適用することによって、微小光学要素を窓ガラスに直接組み込むことは好都合であり得る。
【発明の概要】
【０００２】
本明細書のいくつかの態様では、構造化された表面（構造化表面）を有する取り外し可能なテンプレート層と、テンプレート層の構造化表面上の少なくとも一部に配置された第１の表面及び構造化表面と対向する第２の表面を有するバックフィル層であって、第２の表面は微細構造化表面を含む、バックフィル層と、微細構造化表面上の少なくとも一部に配置された層と、を含む転写テープが提供される。層は、バックフィル層とは異なる屈折率を有し、微細構造化表面は、微細構造化表面上の少なくとも一部に配置された層とともに、異方性拡散体をなす。
【０００３】
本明細書のいくつかの態様では、主表面を有するガラス板と、主表面の少なくとも一部に接着された微小光学層であって、微小光学層は、構造化表面及び対向する微細構造化表面を有し、硬化したバックフィル層と、バックフィル層とは異なる屈折率を有する微細構造化表面に隣接する層と、を含む、微小光学ガラスが提供される。微細構造化表面は、微細構造化表面に隣接する層とともに、異方性拡散体をなす。
【０００４】
本明細書のいくつかの態様では、主表面を有するガラス板と、主表面の少なくとも一部に接着された微小光学層と、異なる屈折率を有する層に隣接する微細構造化境界面と、を含む、微小光学ガラスが提供される。微細構造化境界面は、微小光学層に近接している。３０°〜６０°の入射角で、微小光学ガラスは日光の少なくとも８０％を上向きに方向転換させ、太陽柱（solar column）は出現しない。微細構造化境界面は、非対称構造を含み、可視光を異方性拡散させるようになっている。
【０００５】
本明細書のいくつかの態様では、室内側の外表面を有するガラス板から間隙によって隔てられている日光側の板外表面を有するガラス板であって、各板は間隙に隣接する内表面を有する、ガラス板と、ガラス板の内表面の少なくとも一部に接着された微小光学層と、を含む、断熱ガラスユニットが提供される。微小光学層は、硬化したバックフィル層を含み、微小光学層は、構造化表面及びバックフィル層とは異なる屈折率を有する層に隣接する、対向する微細構造化表面を有する。微細構造化表面は層とともに、異方性拡散体をなす。
【０００６】
転写テープ、微小光学ガラス及び断熱ガラスユニットの製造方法もまた記載されている。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１Ａ】転写テープの概略断面図である。
【図１Ｂ】転写テープの概略断面図である。
【図１Ｃ】転写テープの概略断面図である。
【図２Ａ】微小光学ガラスの概略断面図である。
【図２Ｂ】微小光学ガラスの概略断面図である。
【図２Ｃ】微小光学ガラスの概略断面図である。
【図２Ｄ】微小光学ガラスの概略断面図である。
【図３】断熱ガラスユニット（ＩＧＵ）の一部を示す概略断面図である。
【図４】微小光学ガラスの概略正面図である。
【図５】微小光学ガラスの概略正面図である。
【図６】転写フィルムの形成を示す概略プロセスフロー図である。
【図７】微小光学ガラスの形成を示す概略プロセスフロー図である。
【図８Ａ】スコア加工された（scored）転写フィルムの形成を示す概略プロセスフロー図である。
【図８Ｂ】パターン形成された微小光学ガラスの形成を示す概略プロセスフロー図である。
【図９】微細構造化表面の頂面図を示す走査型電子顕微鏡写真である。
【図１０】微細構造化表面の斜視図を示す走査型電子顕微鏡写真である。
【図１１】微細構造化表面上に配置された日光方向転換構造の斜視図を示す走査型電子顕微鏡写真である。
【図１２】埋め込み微細構造化境界面を有する微小光学ガラスの形成の代替方法を示す概略プロセスフロー図である。
【図１３】微小光学層と室内側の外表面との間に配置された微細構造化境界面を有する微小光学ガラスの形成の代替方法を示す概略プロセスフロー図である。
【図１４】微小光学ガラスの双方向透過率分布関数（ＢＴＤＦ）プロットである。
【図１５】微細構造化表面の光学顕微鏡写真である。
【図１６】微細構造化表面の光学顕微鏡写真である。
【図１７】微細構造化表面の光学顕微鏡写真である。
【図１８】微小光学ガラスの双方向透過率分布関数（ＢＴＤＦ）プロットである。
【図１９】微小光学ガラスの双方向透過率分布関数（ＢＴＤＦ）プロットである。
【図２０】微小光学ガラスの双方向透過率分布関数（ＢＴＤＦ）プロットである。  図は、必ずしも一定の比率の縮尺ではない。図中に用いられる同じ数字は、同じ構成要素を示す。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
断熱ガラスユニット（ＩＧＵ）に組み込まれた日光方向転換微小光学素子（Ｄａｙｌｉｇｈｔ  ｒｅｄｉｒｅｃｔｉｎｇ  ｍｉｃｒｏｏｐｔｉｃｓ）は、例えば、ＩＧＵを通過する日光の一部を室内の天井に向けて方向転換させるために使用することができる。日光方向転換微小光学素子は、日光の大部分を上向きに方向転換させる。しかしながら、光の一部は下向きに進み、グレア（ぎらつき）の原因となり得る。特に（例えばプリズム形）構造が直線状で水平の向きになっている場合、入射光は主に垂直方向に屈折／反射される。太陽光は約０．５度の広がりで高度にコリメートされており、ソーラーディスクとして現れる。日光方向転換フィルムの作用は、この光を垂直に広げ、「太陽柱」と呼ばれるものを形成することである。
【０００９】
下に向けられた光の総量と太陽柱の明るさの両方が、グレアを引き起こすもととなる。本明細書に記載されている通り、微細構造化異方性拡散層を使用することにより、太陽柱の可視性を低下させながらもなお、３０〜６０°の範囲の入射角で光の少なくとも８０％を上向きに方向転換させることによって、グレアは減少する。
【００１０】
図１Ａは、例示される転写テープ１００の概略断面図を示す。転写テープ１００は、構造化表面１１４を有するテンプレート層１１０と、テンプレート層１１０上の少なくとも一部に配置されたバックフィル層１２０とを含む。テンプレート層１１０は典型的には、バックフィル層１２０から取り外すことができる。バックフィル層１２０は、構造化表面１１４と対向する微細構造化表面１２２を含む。バックフィル層１２０は、構造化表面１１４に隣接して配置された、それに適合する主（転写構造化）表面１２４を含む。換言すれば、バックフィル層の転写構造化表面１２４は通常、テンプレート層の構造表面１１４のネガ型複製（negative replication）である。本明細書に記載の多くの実施形態において、転写テープ１００は、バックフィル層１２０とは異なる屈折率を有する微細構造化表面１２２に隣接して配置された層１５０を更に含む。典型的な実施形態では、バックフィル層と、微細構造化層に隣接する（例えば接着剤）層との屈折率の差は、少なくとも０．０５又は０．１０である。微細構造化表面は隣接する層とともに、異方性拡散体としての機能を果たす。典型的な実施形態では、層１５０は、ガラス表面などのレセプタ基板に接着することができる接着剤である。いくつかの実施形態では、微細構造化層上に配置された層は光学接着剤層である。（例えば接着剤）層１５０は、微細構造化表面上に連続層として配置されてもよい。あるいは、接着剤層は、米国特許出願公開第２０１４／０１７６４６号に記載されているように、また例えば図１Ｂ及び２Ｄに示されているように、パターン形成されてもよい。
【００１１】
隣接層とともに微細構造化表面から形成される拡散体は、好ましくは、異方性拡散体をなす。異方性拡散体はまた、バックフィル層とバックフィル層の微細構造化表面に隣接する層との間の微細構造化境界面に関して記述されてもよい。微細構造化境界面は、可視光を異方性拡散させるようになっていてもよい。本明細書において使用する場合、異方性又は非対称拡散体は、可視光を異方性拡散させるようになっている拡散体である。異方性拡散体は、第１の方向とは異なる第２の方向よりも、第１の方向により拡散しやすい。
【００１２】
転写テープ１００は、構造化表面１１４と対向する、テンプレート層１１０の平坦表面１１２上に配置された任意選択のキャリアフィルム１４０を含み得る。任意選択のキャリアフィルム１４０は、運搬中及びその後の製造工程中にテンプレート層１１０を支持するのに有用であり得、場合によってはテンプレート層１１０の製造中に使用することができる。場合によっては、任意選択のキャリアフィルム１４０をテンプレート層１１０に接着して、２つの層が容易に離れないようにしてもよい。転写テープ１００は、任意選択のキャリアフィルム１４０と対向して、配置された任意選択の剥離ライナー１７０を更に含み、転写テープ１００の残りの層、特に（例えば接着剤）層１５０をその間に挟むことができる。
【００１３】
特定の一実施形態では、任意選択の転写層１３０により、構造化表面１１４を転写構造化表面１２４から容易に分離できるようにするために、任意選択の転写層１３０は、テンプレート層１１０のテンプレート構造化表面１１４上に配置され、前述の表面に適合され得る。任意選択の転写層１３０は、転写剥離コーティングを含むことができる。
【００１４】
図１Ｂは、転写テープ１０１の概略断面図を示す。図１Ｂに示す要素のそれぞれは、上記で述べた図１Ａに示す同じ参照番号の要素に対応する。バックフィル層１２０は、バックフィル層１２０がある転写テープ１０１の第１の部分１２３が、バックフィル層１２０がない第２の部分１２５に隣接して位置するように、テンプレート層１１０上にパターン配置されている。転写テープ１０１の第１及び第２の部分１２３、１２５によって形成されるパターンは、転写テープ１０１の表面に広がる複数の島、線又は島と線との組み合わせを含むことができ、後述するように、転写テープ１０１の一方の端から対向する端まで面密度の勾配を更に含むことができる。
【００１５】
図１Ｃは、転写テープ１０２の概略断面図を示す。図１Ｃに示す要素のそれぞれは、上記で述べた図１Ａに示す同じ参照番号の要素に対応する。図１Ｃにおいて、転写テープ１０２は、平坦領域１１６を含む構造化表面１１４を有するテンプレート層１１０と、テンプレート層１１０の平坦領域１１６を有する構造化表面１１４に隣接してそれぞれ配置され、かつその外形に追従する、転写平坦領域１２６を含む転写構造化表面１２４を含むバックフィル層１２０と、を含む。転写テープ１０２は、構造化表面１１４、１２４を有する第１の部分１２７、及びパターン配置されている平坦領域１１６、１２６を有する、隣接する第２の領域１２９を含む。転写テープ１０２の第１及び第２の部分１２７、１２９によって形成されるパターンは、転写テープ１０２の表面に広がる複数の島、線又は島と線との組み合わせを含むことができ、転写テープ１０２の一方の端から対向する端まで面密度の勾配を更に含むことができる。図１Ｂ及び１Ｃのパターン形成されたバックフィル層は、拡散層として機能する微細構造表面１２２及び隣接する（例えば接着剤）層１５０を含む。パターン形成されたバックフィル層は、テンプレート層１１０のテンプレート構造化表面１１４上に配置され、かつ適合する転写層及び／又は任意選択の剥離ライナー１７０を更に含んでもよい。
【００１６】
図２Ａ〜２Ｄは、微小光学ガラスの概略断面図を示す。
【００１７】
図２Ａにおいて、微小光学ガラス２０３は、主表面２８２を有するガラス板などのレセプタ基板２８０と、主表面２８２の少なくとも一部に接着された微小光学層２９３と、を含む。微小光学層２９３は、微細構造化表面２２２及び対向する構造化表面２２４を有する硬化したバックフィル層２２０と、微細構造化表面２２２に隣接する表面２５４を有する硬化した（例えば接着剤）層２５０と、を含み、硬化した（例えば接着剤）層２５０は主表面２８２に直接隣接している。硬化した（例えば接着剤）層２５０は、硬化したバックフィル層２２０とは異なる屈折率を有する。典型的には、硬化した（例えば接着剤）層２５０は、硬化したバックフィル層２２０より低い屈折率を有する。更に、（例えば接着剤）層２５０は通常、レセプタ基板２８０（例えばガラス）に屈折率整合（index matched）されている。「屈折率整合された」は、屈折率の差の絶対値が０．０５、０．０４、０．０３、０．０２、０．０１又は０．００１未満であることを意味する。構造化表面２２４は、硬化したバックフィル層２２０より低い屈折率を有する低屈折率材料（空気など）に隣接している。
【００１８】
本明細書において使用する場合、屈折率は、別段の定めがない限り、２５℃で５５０ｎｍの波長で測定した屈折率を指す。
【００１９】
図２Ｂにおいて、微小光学ガラス２０３は、主表面２８２を有するガラス板などのレセプタ基板２８０と、主表面２８２の少なくとも一部に接着された微小光学層２９３と、を含む。微小光学層２９３は、微細構造化表面２２２及び対向する構造化表面２２４を有する硬化したバックフィル層２２０と、微細構造化表面２２２に隣接する表面２５４を有する硬化した層２５０と、を含み、硬化した層２５０は主表面２８２に直接隣接している。硬化した層２５０は、硬化したバックフィル層２２０とは異なる屈折率を有する。典型的には、硬化した層２５０は、硬化したバックフィル層２２０より低い屈折率を有する。この実施形態では、硬化した層２５０とレセプタ基板２８０の間に更なる接着剤層２５１が配置される。この実施形態では、接着剤層２５１は通常、レセプタ基板２８０（例えばガラス）に屈折率整合されている。構造化表面２２４は、硬化したバックフィル層２２０より低い屈折率を有する低屈折率材料（空気など）に隣接している。
【００２０】
図２Ｃにおいて、微小光学ガラス２０４は、主表面２８２を有するガラス板などのレセプタ基板２８０と、主面２８２の少なくとも一部に接着された微小光学層２９４と、を含む。微小光学層２９４は、微細構造化表面２２２並びにパターン配置された、構造化表面２２４を有する第１の部分２２７’及び隣接する平坦領域２２６を有する第２の部分２２９’を含む対向する表面を有する、硬化したバックフィル層２２０を含む。微小光学層２９４は、微細構造化表面２２２に隣接する表面２５４を有する硬化した（例えば接着剤）層２５０を更に含む。特定の一実施形態では、微小光学層２９４は、図１Ｃに示し説明するように、転写テープ１０２から転写することによって得ることができる。特定の一実施形態では、微小光学層２９４の第２の部分２２９’（すなわち、平坦領域２２６）は、転写テープ１００の未硬化部分のリフロー（ｒｅｆｌｏｗ）によって得ることができ、リフロー技術は上記で引用された本出願人の係属出願に記載されている。
【００２１】
構造化表面２２４及び平坦領域２２６は、硬化したバックフィル層２２０より低屈折率の材料（例えば空気）に隣接している。第１及び第２の部分２２７’、２２９’により形成される、微小光学ガラス２０１のパターンは、レセプタ基板２８０の表面に広がる複数の島、線又は島と線との組み合わせを含んでもよく、他の箇所に示す通り、レセプタ基板２８０の一方の端から反対側の端まで構造化表面２２４の面密度の勾配を更に含んでもよい。
【００２２】
図２Ｄにおいて、微小光学ガラス２０５は、主表面２８２を有するガラス板などのレセプタ基板２８０と、主面２８２の少なくとも一部に接着された微小光学層２９５と、を含む。微小光学層２９５は、微細構造化表面２２２並びにパターン配置された、構造化表面２２４を有する第１の部分２２３’及び微小光学層２９５がない隣接する第２の部分２２５を含む対向する表面を有する、硬化したバックフィル層２２０を含む。微小光学層２９５は、微細構造化表面２２２に隣接する表面２５４を有する硬化した（例えば接着剤層２５０を更に含み、硬化した拡散層（すなわち微細構造化表面２２２と２５０）は、主表面２８２に直接隣接している。第１の部分２２３’の構造化表面２２４及び隣接する第２の部分２２５は、硬化したバックフィル層２２０より低い屈折率を有する低屈折率材料に隣接している。第１及び第２の部分２２３’、２２５により形成される、微小光学ガラス２０５のパターンは、レセプタ基板２８０の表面に広がる複数の島、線又は島と線との組み合わせを含んでもよく、他の箇所に示す通り、レセプタ基板２８０の一方の端から反対側の端まで構造化表面２２４の面密度の勾配を更に含んでもよい。
【００２３】
図３Ａは、断熱ガラスユニット（ＩＧＵ）３００の一部の概略断面図を示す。ＩＧＵ３００は、第１のガラス板３８０’を含み、第１のガラス板３８０’は、間隙３９４によって、第１のガラス板３８０’と向かい合う第２のガラス板３８０から隔てられている。第１のガラス板３８０’は、日光側の外側（すなわち外）表面「ａ」及び第１の板内表面「ｂ」を含む。第２のガラス板３８０は、第２の板内表面「ｃ」及び室内側の（すなわち外）表面「ｄ」を含む。微小光学層３９０は、微細構造化表面３２２と、微細構造化表面と直接隣接している硬化したバックフィル層とは異なる（例えば低い）屈折率を有する層３５０と、を含む。層３５０は典型的には、微小光学層３９０を第２の板内表面「ｃ」の少なくとも一部に更に接着する接着剤である。（例えば接着剤）層３５０の屈折率は、通常、ガラス３８０に屈折率整合されている。
【００２４】
構造化表面３２４は、第１のガラス板３８０’と第２のガラス板３８０との間の間隙３９４を充填している低屈折率材料３９２に隣接している。場合によっては、低屈折率材料３９２は、ガス又は真空であってもよい。低屈折率層又は材料は、微小光学層３９０との屈折率の対比をもたらす。
【００２５】
微小光学層を含むガラス板は、図２Ｂに示すような更なる層を有してもよいことが理解されるべきである。
【００２６】
図４は、本開示の一態様による微小光学ガラス４０１、又は代替として微小光学ガラス４０１を形成するのに有用な転写テープの概略正面図を示す。微小光学ガラス４０１は、図２Ｃ〜２Ｄに示す領域２２５、２２６と類似した領域４２５によって隔てられた、構造化表面の島４２７及び線４２３’のパターン４２６をガラス板３８０上に含む。パターン４２６は、微小光学ガラス４０１の縁から遠ざかるにつれて構造化表面の線４２３’及び島４２７の面密度が減少する、勾配パターンを示す。
【００２７】
図５は、本開示の一態様による微小光学ガラス５０２の概略正面図である。微小光学ガラス５０２は、図２Ｃ〜２Ｄに示す領域２２５、２２６と類似した領域５２５’によって隔てられた、構造化表面の線５２３’のパターン５２８をガラス板５８０上に含む。パターン５２８は、微小光学ガラス５０２の縁から遠ざかるにつれて、構造化表面の線５２３’の面密度が減少する、勾配パターンを示す。パターン５２６、５２８は勾配パターンである必要はなく、島、点、線又は任意の他の規則的若しくは不規則形状の任意の所望の取り合わせで構成されてもよいことが理解されるべきである。
【００２８】
図６は、転写フィルムを形成する例示的な方法の概略プロセスフロー図である。方法は、構造化表面６１４を有するテンプレート層６１０と、任意選択のキャリアフィルム６４０とを含む、（例えば第１の）テンプレート６１６を準備する工程を含む。方法は、バックフィル層６２０が、第１のテンプレートの構造化表面と適合する主表面及び典型的には実質的に平坦な（図示せず）対向する表面を有するように、すなわち第２のテンプレート６１５と接触する前に、構造化表面６１４上に硬化性バックフィル層６２０（バックフィル材料で構成される）を提供する工程を更に含む。
【００２９】
テンプレート層６１０の構造化表面６１４は、複数の山６１１及び谷６１２を含む。バックフィル層６２０は典型的には、山６１１の最大高さを超える厚さを有する。
【００３０】
方法は、バックフィル層の対向する（例えば平坦な）表面を、第２のテンプレート６１５と接触させる工程を更に含む。第２のテンプレートは、微細構造化層表面６１７及び任意選択のキャリアフィルム６４１を含む。方法は、バックフィル層を硬化させる工程を更に含み、すなわちこの間、第１のテンプレート６１６の構造化表面６１４及び第２のテンプレート６１５の微細構造化表面６１７をバックフィル層６２０と接触させる。
【００３１】
いくつかの実施形態では、転写テープ６０１は、第１及び第２のテンプレート６１６及び６１５と、それらの間の硬化したバックフィル層６２０と、を含む、又はこれらからなり得る。この実施形態では、接着剤層６５０は、レセプタ基板（例えばガラス板）に適用するときに、この転写テープ構造体に適用され得る。この実施形態では、微小光学ガラスの製造方法は、転写テープ６０１を準備する工程と、第２のテンプレート６１５を取り外す工程と、硬化した微細構造化バックフィル層をガラス板６８０に接着剤６５０で接着する工程であって、接着剤は、硬化したバックフィル層６２０とは異なる屈折率を有する（例えば、屈折率は少なくとも０．０５又は少なくとも０．１異なり得る）、工程と、を含む。
【００３２】
別の実施形態では、転写テープ６０２の製造方法は、第２のテンプレート層を取り外す工程を更に含む。この実施形態では、転写テープ６０２は、第１のテンプレート６１６と、硬化したバックフィル層６２０と、を含むか、又はこれらからなり得る。この実施形態でもまた、接着剤層６５０は、レセプタ基板（例えばガラス板）に適用するときに、この転写テープ構造体に適用され得る。この実施形態では、微小光学ガラスの製造方法は、転写テープを準備する工程と、硬化した微細構造化バックフィル層をガラス板６８０に接着剤６５０で接着する工程であって、接着剤は、硬化したバックフィル層６２０とは異なる屈折率を有する、工程と、を含む。
【００３３】
更に別の実施形態では、転写テープ６０３の製造方法は、硬化したバックフィル層の微細構造化表面上に層６５０を提供する工程であって、層は、硬化したバックフィル層とは異なる屈折率を有する、工程を更に含む。しかしながら、この実施形態では、層６５０は接着剤ではない。取り外し可能な剥離ライナー（図示せず）は、接着剤層の露出した主表面６５７上に、すなわち硬化したバックフィル層６２０の微細構造化表面に対して対向する表面上に、提供され得る。この実施形態では、微小光学ガラスの製造方法は、転写テープを準備する工程と、存在する場合は剥離ライナーを取り外す工程と、硬化した微細構造化バックフィル層をガラス板６８０に接着剤によって接着する工程と、を含む。
【００３４】
図７は、バックフィル材料の微細構造化表面に隣接する層が接着剤であり、転写テープ６０３が微小光学ガラスに使用されるときに転写テープ上にこのような接着剤が存在する、転写テープを使用して微小光学ガラスを形成する例示的な方法の概略プロセスフロー図である。したがって、この実施形態は、転写テープを準備する工程であって、転写テープが第１のテンプレート６１６と硬化したバックフィル層６５０とを含む、工程を含む。硬化したバックフィル層６２０（バックフィル材料で構成される）は、バックフィル層６２０が、第１のテンプレートの構造化表面６１４と適合する主表面及び対向する微細構造化表面６２２を有するように、構造化表面６１４上に配置されている。転写テープは、微細構造化表面６２２上に配置された接着剤６５０を更に含む。微小光学ガラスの方法は、バックフィル層の微細構造化表面上に提供された接着剤６５０によって、硬化したバックフィル層をガラス板６８０に接着させる工程を含む。
【００３５】
微小光学ガラスの方法はそれぞれ、第１のテンプレート６１６を取り外す工程を更に含む。したがって、微小光学ガラスは、ガラス板６８０と、ガラス板を微小光学層に接着する接着剤層と、ガラス板６８０と硬化した微小光学層６１０との間の微細構造化表面６２２と、を含む。第１のテンプレート６１６は典型的には、硬化したバックフィル層６２０からテンプレートを剥離することによって取り外される。更に、微小光学ガラス方法及び微小光学ガラス物品のいずれにおいても、接着剤は典型的には、レセプタ基板（ガラス）に屈折率整合されている。
【００３６】
微細構造化拡散境界面を提供する代替方法
バックフィル層が微細構造化表面を含む本明細書に記載の方法及び物品は好ましい実施形態であるが、ガラスの微小光学層と室内側の外表面との間に拡散層を提供する代替方法がある。
【００３７】
図１２を参照すると、一実施形態において、微小光学ガラスの製造方法は、転写テープ１２００を準備する工程であって、転写テープは、構造化表面１２１４を有する第１のテンプレート層１２１０と、任意選択のキャリアフィルム１２４０（前述した実施形態と同じ）と、を含む、工程を含む。転写テープは、硬化したバックフィル層が、第１のテンプレートの構造化表面１２１４と適合する主表面を有するように、構造化表面１２１４上に硬化したバックフィル層１２２０を更に含む。この実施形態では、硬化したバックフィル層１２１０の対向する表面１２１５は微細構造化されておらず、平坦である。この方法は、異方性粗表面１２２２を有するガラスを準備する工程を更に含む。粗表面は、表面を削ること、又は表面に拡散層（例えば、別々の及び表面に接着された微細構造化層形態）若しくはコーティングを提供することによって提供され得る。粗表面又は拡散層又はコーティングは、本明細書の他の箇所に記載されている微細構造化表面３２２と同じ特徴を有し得る。方法は、ガラス１２８０の粗表面１２２０を硬化したバックフィル層１２２０の対向する（平坦）表面に接着剤層１２５０で接着する工程を更に含む。接着剤１２５０は典型的には、硬化したバックフィル層１２２０と実質的に同じ屈折率を有する。更に、接着剤１２５０は典型的には、ガラス１２８０とは異なる屈折率を有する。
【００３８】
図１３を参照すると、別の実施形態において、微小光学ガラスの製造方法は、転写テープ１３００を準備する工程であって、転写テープは、構造化表面１３１４を有する第１のテンプレート層１３１０と、任意選択のキャリアフィルム１３４０（前述した実施形態と同じ）と、を含む、工程を含む。転写テープは、硬化したバックフィル層が、第１のテンプレートの構造化表面１３１４と適合する主表面を有するように、構造化表面１３１４上に硬化したバックフィル層１３２０を更に含む。この実施形態では、硬化したバックフィル層１３１０の対向する表面１３１５は微細構造化されておらず、平坦である。この方法は、異方性粗表面１３２２及び平坦表面１３２１（粗面化されていない表面）を有するガラスを準備する工程を更に含む。粗表面は、表面を削ること、又は表面に拡散層若しくはコーティングを提供することによって提供され得る。粗表面又は拡散コーティングは、本明細書の他の箇所に記載されている微細構造化表面３２２と同じ特徴を有し得る。方法は、ガラス１３８０の平坦表面１３２１を硬化したバックフィル層１３２０の対向する（平坦）表面に接着剤層１３５０で接着する工程を更に含む。接着剤１３５０は典型的には、硬化したバックフィル層１３２０と実質的に同じ屈折率（屈折率整合されている）を有する。更に、接着剤１３５０は典型的には、ガラス１３８０と同じ屈折率を有する。
【００３９】
テンプレート層
構造化表面１１４は典型的には一次元（１Ｄ）であり、構造が一方向だけに規則的であることを意味し、すなわち、最も近接した特徴部（feature）は表面に沿って一方向に等間隔であるが、直交する方向には等間隔でない。一次元構造は、例えば、連続する若しくは長いプリズム若しくは隆起部、直線格子、円筒形若しくは曲面レンズ状形成部、及び無秩序構造を含む不規則構造などを含む。
【００４０】
構造化表面１１４は通常、任意の所望の高さ、例えば微小光学屈折面に適した高さである、表面特徴部を含み得、この高さは、数ｎｍから数μｍの範囲の高さ、例えば約１μｍを超える、又は約５μｍを超える、又は約１０μｍを超える、又は約２０μｍを超える、又は約５０μｍを超える、又は約１００μｍを超える、又は更には約２０００μｍ以上の高さなどであり得る。微小光学屈折表面は、建築用ガラスなどに使用される材料を通して光を装飾的、機能的、又は装飾的かつ機能的に再分配するのに有用であり得る。
【００４１】
構造化表面１１４は、微細構造化表面１２２よりサイズが小さい構造を有し得るが、便宜上、（例えば導光する）構造１１４に関して「構造」又は「構造化（された）」という用語が本明細書で使用されている。更に、「微細構造化（された）」という用語は、微細構造化拡散層１２２に関して使用されている。
【００４２】
好ましい一実施形態では、構造化表面１１４から形成される微小光学屈折構造（例えば図３の３９０）は、３０°〜６０°の範囲の入射角（例えば４５°）で、光の少なくとも７５又は８０％を上向きに方向転換させるのに好適である。
【００４３】
図１１に示すものなどのいくつかの実施形態では、（例えば光方向転換）構造は、拡散微細構造化表面の微細構造に比べてサイズが実質的に大きい。例えば、いくつかの実施形態では、拡散微細構造の平均（山）高さは、５、４、３、２、又は１μｍ以下である。
【００４４】
微細構造化表面
図３を参照すると、フィルムを通過した太陽光は、構造化微小光学層３９０によって上向きに方向転換され、その後、主表面３２２（又は、後述するような別の粗表面）のトポグラフィによる屈折（及びある程度の回折）の結果として散乱及び拡散される。微細構造化表面３２２（１２２２及び１３２２も同様）は、太陽柱の出現を減少させるために主に存在し得る。
【００４５】
微細構造化表面は、直交する面内方向に概ね広がっており、これを使用して局所的なデカルトのｘ−ｙ−ｚ座標系を定義することができる。次に、微細構造化表面のトポグラフィは、微細構造化表面に平行に位置する基準平面（ｘ−ｙ平面）に対する厚さ方向（ｚ軸）の逸脱として表すことができる。多くの場合、微細構造化表面のトポグラフィは、異なる個々の微細構造を特定できるようなものである。そのような微細構造は、微細構造化表面工具の対応する凹部により形成される突出部、又は微細構造化表面工具の突出部により形成される凹部の形態であり得る。いくつかの実施形態では、微細構造は、２つの直交する面内方向に沿ったサイズが制限されており、すなわち、微細構造化表面を平面図で見る場合、個々の微細構造は、いずれの面内方向に沿っても直線的に無制限に延在することはない。別の実施形態では、微細構造化表面は、ある面内方向に延在するレンズ状要素を含み得る。突出部又は凹部のいずれであっても、微細構造は場合によっては高密度で存在していてもよく、すなわち、多くの又は大部分の隣接する微細構造の境界の少なくとも一部が、実質的に接触又は一致するように配置されていてもよい。微細構造はまた、典型的には不規則又は不均一に、微細構造化表面上に分散している。場合によっては、微細構造の一部、大部分、又は実質的に全て（例えば、＞９０％、又は＞９５％、又は＞９９％）が、湾曲していてもよく、又は円形の若しくは別の湾曲したベース面を有してもよい。場合によっては、微細構造の少なくとも一部は、角錐形であってもよく、又は実質的に平坦な小平面によって画定される別の形であってもよい。
【００４６】
微細構造化表面はまた、以下の通り定義されるＲａ及びＲｚなどの様々な粗さ測定基準に関しても特徴付けることができる。
【００４７】
Ｒａ−測定される配列全体にわたって算出される平均粗さ
【数１】
2018521357.tif 000003
（式中、Ｚｊｋは各最小単位（pixel）の測定された高さと配列の平均高さとの差、
Ｒｚは、評価区域内で上位１０個の大きさの山と谷の離隔距離の、平均最大表面高さである。）
【数２】
2018521357.tif 000004
（式中、Ｈは山の高さであり、Ｌは谷の高さであり、Ｈ及びＬは、共通の基準面を有する。）
【００４８】
いくつかの実施形態では、Ｒａは、３、２．５、２、又は１．５μｍ以下である。いくつかの実施形態では、Ｒｚは、３０、２５、２０、又は１５μｍ以下である。
【００４９】
いくつかの実施形態では、ある微細構造のサイズは、平面図での等価円直径（ＥＣＤ）として表すことができ、微細構造は、例えば、１５μｍ未満、又は１０μｍ未満、又は４〜１０μｍの範囲の平均ＥＣＤを有し得る。微細構造化表面及び構造はまた、本明細書の他の箇所で論じている他のパラメータを用いて、例えば、ＥＣＤなどの特徴的横断寸法に対する深さ若しくは高さのアスペクト比によって、又は平面図における単位面積当たりの表面上の隆起部の合計長さによって、特徴付けることができる。
【００５０】
光の拡散又は散乱は、「光学ヘイズ」、又は単に「ヘイズ」によって表すことができる。いくつかの実施形態では、微細構造化拡散体は、微細構造化表面に隣接する層が空気である場合、高いヘイズ、例えば、８５％を超える、又は９０％を超えるヘイズを有する。別の実施形態では、拡散体は比較的低いヘイズ、例えば、８５％未満、又は７５％未満、又は６０％未満のヘイズを有する。更に、拡散層の上記光学ヘイズ、光学的透明度、及び他の特徴は、微細構造化表面の一部若しくは全体に又は光学フィルム内の別の場所にビーズ（例えばマット粒子）を使用することなく、提供することができる。ヘイズ、又は光学ヘイズは、ＡＳＴＭ  Ｄ１００３−１３「プラスチック透明材料の光線透過率の標準試験法（Standard Test Method for Haze and Luminous Transmittance of Transparent Plastics）」に記載されている通り測定することができる。ＡＳＴＭ  Ｄ１００３−１３標準に挙げられている、ＢＹＫ−Ｇａｒｄｎｅｒ  Ｉｎｃ．（Ｓｉｌｖｅｒ  Ｓｐｒｉｎｇｓ，Ｍｄ．）から入手可能なＨＡＺＥ−ＧＡＲＤ  ＰＬＵＳ計器を使用して、ヘイズを決定することができる。透明度又は光学的透明度はヘイズに関連しており、これもまた、ＨＡＺＥ−ＧＡＲＤＰＬＵＳヘイズ計を使用して、ＡＳＴＭ  Ｄ１００３−１３標準に従って測定することができる。光線透過率もまた、ＨＡＺＥ−ＧＡＲＤＰＬＵＳヘイズ計を使用して、ＡＳＴＭ  Ｄ１００３−１３標準に従って測定することができる。
【００５１】
いくつかの実施形態では、微細構造化拡散体は、日光方向転換特性が損なわれないように、半頂角２．５°の円錐の外側に散乱される垂直入射角での入射光は大部分を拡散させるが、約１５°（又は更には１０°）未満の半頂角の円錐の内側に散乱される入射光は拡散させない。
【００５２】
拡散微細構造化表面は、任意の好適な作製方法を使用して製造することができる。微細構造は通常、米国特許第５，１７５，０３０号（Ｌｕ  ｅｔ  ａｌ．）及び同第５，１８３，５９７号（Ｌｕ）に記載されているように、重合性樹脂組成物を工具表面と接触させてキャスティング（casting）及び硬化させることにより、作製される。工具は、任意の利用可能な作製方法を使用して、例えばエングレービング又はダイヤモンド切削を使用することによって作製することができる。例示的なダイヤモンド切削システム及び方法は、例えば、ＰＣＴ出願公開第ＷＯ００／４８０３７号（Ｃａｍｐｂｅｌｌ  ｅｔ  ａｌ．）、並びに米国特許第７，３５０，４４２号（Ｅｈｎｅｓ  ｅｔ  ａｌ．）及び同第７，３２８，６３８号（Ｇａｒｄｉｎｅｒ  ｅｔ  ａｌ．）に記載されている高速ツールサーボ（ＦＴＳ）を含み、これを利用することができる。いくつかの実施形態では、微細構造化表面は、米国特許第８，６５７，４７２号（Ａｒｏｎｓｏｎ  ｅｔ  ａｌ．）又は同第８，８８８，３３３号（Ｙａｐｅｌ  ｅｔ  ａｌ．）に概ね記載されている通り形成され得るが、場合によっては、微細構造化表面又は得られる微細構造化境界面のヘイズは、米国特許第８，６５７，４７２号（Ａｒｏｎｓｏｎ  ｅｔ  ａｌ．）又は同第８，８８８，３３３号（Ｙａｐｅｌ  ｅｔ  ａｌ．）の表面により提供されるヘイズを超えることが望ましい場合がある。
【００５３】
あるいは、工具は、電着によって作製されてもよい。一実施形態では、国際特許第ＷＯ２０１４／０８１６９３号（Ｐｈａｍ  ｅｔ  ａｌ．）に記載されているように、第１の平均粗さを有する第１層の第１主表面をもたらす第１の電気メッキ工程を使用して金属を電着させることによって、金属の第１層を形成することと、第１の平均粗さより小さい第２の平均粗さを有する第２層の第２主表面をもたらす第２の電気メッキ工程を使用して第１主表面上に金属を電着させることによって、第１層の第１主表面上に金属の第２層を形成することと、によって、工具は調製される。国際公開第２０１４／０８１６９３号（Ｐｈａｍ  ｅｔ  ａｌ．）、米国特許第８，６５７，４７２号（Ａｒｏｎｓｏｎ  ｅｔ  ａｌ．）、及び米国特許第８，８８８，３３３号（Ｙａｐｅｌ  ｅｔ  ａｌ．）はそれぞれ、それらが本明細書と矛盾しない程度に、参照により本明細書に援用される。
【００５４】
微細構造化表面は典型的には、バックフィル層の対向する表面である。したがって、微細構造化表面の屈折率は、バックフィル層と同じである。層１５０は隣接して配置され、典型的には、微細構造化表面と直接接触している。層１５０は、バックフィル層とは異なる屈折率を有する材料を含む。屈折率の差は、少なくとも０．０５又は０．１０である。バックフィル層の微細構造化表面は、この隣接する層とともに、拡散境界面を形成する。好ましい実施形態では、層１５０は、バックフィル層をレセプタ基板（例えばガラス板）に接着するのに適してもいる（光学的に透明な）接着剤である。しかしながら、転写テープは、別個の接着剤層並びに図２Ｂに関して記載したものなどの他の任意選択の層を提供してもよい。
【００５５】
典型的には、光方向転換フィルムに関連して使用される拡散体は、高ヘイズ拡散体（例えば、９０％を超えるヘイズ）であった。本明細書によれば、比較的低いヘイズ及び比較的低い透明度を有する拡散体（可視光を拡散するようになっているバリア要素のいずれの別個の拡散層も）は、日光方向転換微小光学素子とともに使用される場合、他の拡散体より特に有利であることが見出された。例えば、好適な拡散体は、２０％〜８５％の範囲の光学ヘイズ及び５０％以下の光学的透明度を有し得る。２０％〜７５％の範囲の光学ヘイズ及び５％〜４０％の範囲の光学的透明度を有する拡散体は、特に有利であることが見出された。いくつかの実施形態では、光学ヘイズは、２０、又は２５又は３０％〜５５、５７、６０、６５、７０、７５、８０、又は８５％の範囲であり、光学的透明度は、５、又は７、又は１０％〜３５、又は３７、又は４０、又は４５、又は５０％の範囲である。
【００５６】
これらの範囲のヘイズ及び透明度を有する拡散体は、部屋の窓に光方向転換光学素子（ｌｉｇｈｔ  ｒｅｄｉｒｅｃｔｉｎｇ  ｏｐｔｉｃｓ）を有する部屋の居住者が、わずかに位置を変えるだけで太陽柱を完全に避けられる程度に太陽柱の角度の広がり（angular spread）を十分に小さく保ちながら、グレアを実質的に減少させる、太陽柱の角度の広がりをもたらすことが見出された。広い角度の散乱によりヘイズは高くなり、一方、狭い角度の散乱により透明度は低くなる。透明度は低く（例えば、４０％未満）、ヘイズは低い（例えば、７５％未満）ことが所望され得る。より大きいヘイズ値（例えば、８５％を超える）は、明るい領域は拡散されるが、わずかに位置を変えるだけでは回避できないように太陽柱を広げる可能性があり、複数の居住者にグレアを引き起こす可能性がある。より高い透明度値（例えば、５０％を超える）は、非常に不快な太陽柱のグレアを減少させるには不十分な角度の広がりをもたらす可能性がある。
【００５７】
場合によっては、本明細書の拡散体の微細構造化表面（又は微細構造化表面を含む微細構造化境界面）を、表面の勾配分布に関して特徴付けることが有用であることがある。いくつかの実施形態では、微細構造化表面の約２０％以下、又は約１０％以下、又は約７％以下、又は約５％以下、又は約３％以下は、約２０°を超える、約１５°を超える、約１０°を超える、又は約７°を超える、約５°を超える、又は約３．５°を超える勾配の大きさを有する。いくつかの実施形態では、微細構造化表面はより急な勾配を有し得る。例えば、いくつかの実施形態では、微細構造化表面の約２０％以下、約１０％以下、約７％以下は、約２０°を超える、又は約３０°を超える、又は約３５°を超える、又は約４０°を超える勾配の大きさを有する。
【００５８】
微細構造化表面の大部分、又は実質的に全てが、ヘイズに寄与する勾配を有することが望ましい場合がある。いくつかの実施形態では、微細構造化表面のかなりの部分が、１°を超える勾配の大きさを有する。いくつかの実施形態では、構造化表面の少なくとも約８０％、又は少なくとも約８５％、又は少なくとも約９０％、又は少なくとも約９５％は、１°を超える、又は２°を超える、又は３°を超える勾配の大きさを有する。いくつかの実施形態では、構造化表面の５％未満、又は２％未満、又は１％未満は、３°未満、又は２°未満、又は１°未満の勾配の大きさを有する。
【００５９】
微細構造化表面を、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）又は共焦点走査型レーザー顕微鏡（ＣＳＬＭ）を使用して特徴付けて、例えば、表面プロファイルＨ（ｘ，ｙ）（すなわち、直交する面内軸ｘ及びｙの関数としての、基準平面から表面までの高さＨ）を決定することができる。次に、それぞれｘ及びｙ方向の勾配Ｓｘ及びＳｙを、以下の２つの式から算出することができる：
【数３】
2018521357.tif 000005
【数４】
2018521357.tif 000006
勾配の大きさＳｍは、以下の式から算出することができる：
【数５】
2018521357.tif 000007
ｘ方向の勾配の分布、ｙ方向の勾配の分布、及び勾配の大きさを決定することができる。
【００６０】
いくつかの実施形態では、微細構造化表面は、非対称の光拡散表面構造を含み、構造化表面は、第１の方向と直交する第２の方向よりも第１の方向に、より高度に拡散させるように構成されている。日光方向転換微小光学素子が窓又はＩＧＵにおいて使用される場合、第１の方向は水平方向であり、第２の方向は垂直方向であり得る。垂直軸に沿った拡散を制限して、上向きにしようとする光が下向きに方向転換されるのを最小限にすることが所望され得る。この場合、等方性拡散体を使用している場合は全体の拡散及びグレアが制限されると考えられるが、異方性拡散体であれば、垂直軸に沿った拡散を制限しながら、水平軸に沿った高度な拡散をもたらすことができる。異方性又は非対称拡散体は、望ましくない垂直方向の拡散によって日光方向転換微小光学素子の性能を低下させることなく、水平方向に拡散させることによって、グレアを最小限に抑え、太陽柱効果を軽減するように設計することができる。
【００６１】
場合によっては、水平方向に比較的高い度合いで拡散させ、垂直方向にはより低い度合いで拡散させることが望ましいことがある。例えば、天井をより均一に照明するために、垂直方向のある程度の拡散が望ましい場合もある。第１の方向（例えば、水平方向）に高い度合いで、第１の方向と直交する第２の方向（例えば、垂直方向）には低いがゼロではない程度に、拡散させることができる好適な非対称又は異方性拡散体は、第１の方向よりも第２の方向に更に長くなっており、第１及び第２の方向に異なる曲率半径を有する、構造によって提供され得る。この構造は、１つ又は２つの面内方向に、拡散表面上にランダムに又は疑似ランダムに分散していてもよい。光方向転換層の構造化表面は、第１の方向に延在する（例えば、第１の方向に光方向転換層の幅の端から端まで延在する）要素（例えば、プリズム）を含んでもよく、第２の方向に光を方向転換させるようになっていてもよい。
【００６２】
好適な異方性拡散表面を図１５〜１７に示す。これらの図は、切削工具を使用して製造されてパターン化されたロールとされ、その後米国特許第８，６５７，４７２号（Ａｒｏｎｓｏｎ  ｅｔ  ａｌ．）に記載されているように微細構造複製（microreplicate）されたサンプルの上面図の光学顕微鏡写真である。図１５のサンプルは、幾何学的に非対称であり、非対称な勾配分布を有していた。詳細には、サンプルは、ｘ方向に沿って約０．０７°の平均の勾配の大きさ、及びｙ方向に沿って約１．４８°の平均の勾配の大きさを有していた。図１６のサンプルは、幾何学的に非対称であり、非対称な勾配分布を有していた。詳細には、サンプルは、ｘ方向に沿って約０．１８°の平均の勾配の大きさ、及びｙ方向に沿って約０．８５°の平均の勾配の大きさを有していた。図１５〜１７のサンプルの表面構造は、ほぼ半楕円体（楕円の半分）又はほぼ半双円錐体（双円錐体の半分）の構造と記述され得る。
【００６３】
いくつかの実施形態では、微細構造化表面の非対称表面構造は、第１の方向と直交する第２の方向（例えば、水平方向）よりも長く第１の方向（例えば、垂直方向）に延在する。いくつかの実施形態では、表面構造は、第１の方向に第１の平均長さ、及び第１の方向と直交する第２の方向に第２の平均長さを有する。第１の長さを第２の長さで割った値は、面内アスペクト比と記述することができる。いくつかの実施形態では、面内アスペクト比又は第１の長さを第２の長さで割った値は、１．１を超え、又は１．２を超え、又は１．５を超え、又は２を超え、又は５を超え、又は１０を超える。いくつかの実施形態では、面内アスペクト比は、１．１から２０まで、又は１００まで、又は２００まで、又は５００まで、又は１０００までの範囲である。いくつかの実施形態では、表面構造は、第１の方向に無制限に延在するレンズ状要素である。光方向転換層の構造化表面は、第２の方向に延在する（例えば、第２の方向に光方向転換層の幅の端から端まで延在する）要素（例えば、プリズム）を含んでもよく、第１の方向に光を方向転換させるようになっていてもよい。
【００６４】
いくつかの実施形態では、微細構造化表面は、第１の方向に第１の半値半幅（ＨＷＨＭ）を有する表面角度分布（例えば、ｘ方向の勾配の分布Ｓｘは、σｘのＨＷＨＭを有し得る）及び第１の方向とは異なる第２の方向に第２のＨＷＨＭを有する第２の表面角度分布（例えば、ｙ方向の勾配の分布Ｓｙは、σｙのＨＷＨＭを有し得る）を有する。いくつかの実施形態では、第１のＨＷＨＭは第２のＨＷＨＭと実質的に等しく、いくつかの実施形態では、第１のＨＷＨＭは第２のＨＷＨＭと異なる。例えば、｜σｘ−σｙ｜は、約１°から約５°まで、又は約１０°まで、又は約１５°までの範囲であってもよい。いくつかの実施形態では、σｘ及びσｙのそれぞれは、約１°から約１０°まで、又は約１５°までの範囲である。いくつかの実施形態では、σｘ及びσｙのうちの小さい方に対する、σｘ及びσｙのうちの大きい方の比率は、１より大きく、又は１．１より大きく、又は１．２より大きく、又は１．５より大きく、かつ２０未満、又は１５未満、又は１０未満である。いくつかの実施形態では、｜σｘ−σｙ｜をσｘ＋σｙで割った値は、０．０５より大きく、又は０．１より大きく、又は０．２より大きい。
【００６５】
光学接着剤層
いくつかの実施形態では、層１５０、２５０、又は３５０は（例えば光学）接着剤層である。（例えば光学）接着剤は、感圧性接着剤又は感圧性ではない構造用接着剤であってもよい。典型的な実施形態では、接着剤は、３５０〜８００ｎｍの波長範囲で約９０％を超える光線透過率、約２又は１．５％未満のヘイズを有する材料に関して「光学的に透明」である。ヘイズは典型的には１又は０．５％未満である。更に、不透明度は典型的には約１％未満である。典型的には、光学的に透明な接着剤は、目視で気泡を含まない。光学接着剤はまた、初期及び加速劣化の後に黄変しないことが望ましい。例えば、ＣＩＥＬＡＢ  ｂ＊は典型的には、１０ｍｉｌ（約２５０μｍ）の厚さで１．５、又は１．０又は０．５未満である。
【００６６】
当技術分野で様々な光学接着剤が知られているが、いくつかの実施形態では、光学接着剤は、ポリジオルガノシロキサンなどの有機ケイ素ポリマーを含む。「ポリジオルガノシロキサン」という用語は、次式の二価のセグメントを意味する
【化１】
2018521357.tif 000008
（式中、各Ｒ１は独立に、アルキル、ハロアルキル、アラルキル、アルケニル、アリール、又はアルキル、アルコキシ、若しくはハロで置換されたアリールであり、各Ｙは独立に、アルキレン、アラルキレン、又はこれらの組み合わせであり、下付き文字ｎは独立に、１〜１５００の整数である）。いくつかの実施形態では、ｎは、少なくとも２５、５０、又はそれ以上である。
【００６７】
いくつかの実施形態では、光学接着剤は、米国特許第７，９４７，３７６号（Ｓｈｅｒｍａｎ  ｅｔ  ａｌ．）及び米国特許第８，７６５，８８１号（Ｈａｙｓ  ｅｔ  ａｌ．）に記載されているような、ポリジオルガノシランポリオキサミドコポリマーを含む。
【００６８】
ポリジオルガノシロキサンは、低いガラス転移温度、熱安定性及び酸化安定性、耐紫外線性、低表面エネルギー及び低疎水性、並びに多数の気体に対する高透過性などの、多くの望ましい特性を有する。更に、コポリマーは、良好な又は優れた機械的強度を呈する。
【００６９】
感圧性接着剤及び加熱活性化接着剤は、ポリジオルガノシロキサンポリオキサミドを、シリケート粘着付与樹脂などの粘着付与剤と組み合わせることによって、配合することができる。本明細書において使用する場合、「感圧性接着剤」という用語は、十分に強力で持続する粘着性、微小光学層をガラスなどのレセプタ基板に接着するのに十分な強度、及びいくつかの実施形態では典型的な、レセプタ基板からきれいに取り外すのに十分な凝集力を有する接着剤を指す。本明細書で使用する場合、「加熱活性化接着剤」という用語は、室温では本質的に非粘着性であるが、活性化温度を上回る室温を上回る温度、例えば約３０℃を上回る温度などでは粘着性になる、接着剤組成物を指す。加熱活性化接着剤は典型的には、活性化温度を上回る温度で、感圧性接着剤の特性を有する。
【００７０】
シリケート粘着付与樹脂などの粘着付与樹脂を、ポリジオルガノシロキサンポリオキサミドコポリマーに添加して、コポリマーの接着性を提供する又は高める。シリケート粘着付与樹脂は、得られる接着剤組成物の物理的特性に影響を与え得る。例えば、シリケート粘着付与樹脂含量を増加させると、温度が高くなるにつれて、接着剤組成物はガラス状からゴム状に転移する。
【００７１】
好適なシリケート粘着付与樹脂としては、以下の構造単位Ｍ（すなわち、一価のＲ¢３ＳｉＯ１／２単位）、Ｄ（すなわち、二価のＲ¢２ＳｉＯ２／２単位）、Ｔ（すなわち、三価のＲ¢ＳｉＯ３／２単位）及びＱ（すなわち、四価のＳｉＯ４／２単位）、並びにこれらの組み合わせで構成される樹脂が挙げられる。典型的なシリケート樹脂としては、ＭＱシリケート粘着付与樹脂、ＭＱＤシリケート粘着付与樹脂、及びＭＱＴシリケート粘着付与樹脂が挙げられる。これらのシリケート粘着付与樹脂は通常、１００〜５０，０００の範囲、又は５００〜１５，０００の範囲の数平均分子量を有し、通常、メチルＲ’基を有する。
【００７２】
ＭＱシリケート粘着付与樹脂は、Ｒ３ＳｉＯ１／２単位（「Ｍ」単位）及びＳｉＯ４／２単位（「Ｑ」単位）を有するコポリマー樹脂であり、ここで、Ｍ単位はＱ単位に結合しており、その各々が少なくとも１つの他のＱ単位に結合している。ＳｉＯ４／２単位（「Ｑ」単位）は、ヒドロキシル基に結合してＨＯＳｉＯ３／２単位（「ＴＯＨ」単位）をもたらし、それにより、シリケート粘着付与樹脂のケイ素結合ヒドロキシル含量に対応するものもあり、他のＳｉＯ４／２単位にのみ結合しているものもある。
【００７３】
好適なシリケート粘着付与樹脂は、Ｄｏｗ  Ｃｏｒｎｉｎｇ（Ｍｉｄｌａｎｄ，ＭＩ）、Ｇｅｎｅｒａｌ  Ｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｓｉｌｉｃｏｎｅｓ（Ｗａｔｅｒｆｏｒｄ，ＮＹ）及びＲｈｏｄｉａ  Ｓｉｌｉｃｏｎｅｓ（Ｒｏｃｋ  Ｈｉｌｌ，ＳＣ）などの供給源から市販されている。特に有用なＭＱシリケート粘着付与樹脂の例としては、ＳＲ−５４５及びＳＲ−１０００という商品名で入手可能なものが挙げられ、これらは両方とも、ＧＥ  Ｓｉｌｉｃｏｎｅｓ（Ｗａｔｅｒｆｏｒｄ，ＮＹ）から市販されている。このような樹脂は一般に、有機溶媒中にて供給され、受け取ったままの状態で本発明の接着剤の配合物に用いてもよい。２種以上のシリケート樹脂のブレンドを接着剤組成物に含むことができる。
【００７４】
接着剤組成物は、典型的には、ポリジオルガノシロキサンポリオキサミド及びシリケート粘着付与樹脂の合計重量を基準にして、２０重量％〜８０重量％のポリジオルガノシロキサンポリオキサミド及び２０重量％〜８０重量％のシリケート粘着付与樹脂を含有する。例えば、接着剤組成物は、３０重量％〜７０重量％のポリジオルガノシロキサンポリオキサミド及び３０重量％〜７０重量％のシリケート粘着付与樹脂、３５重量％〜６５重量％のポリジオルガノシロキサンポリオキサミド及び３５重量％〜６５重量％のシリケート粘着付与樹脂、４０重量％〜６０重量％のポリジオルガノシロキサンポリオキサミド及び４０重量％〜６０重量％のシリケート粘着付与樹脂、又は４５重量％〜５５重量％のポリジオルガノシロキサンポリオキサミド及び４５重量％〜５５重量％のシリケート粘着付与樹脂を含有し得る。
【００７５】
接着剤組成物は、無溶媒であってもよく、又は溶媒を含有してもよい。好適な溶媒としては、トルエン、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、脂肪族炭化水素（例えば、ヘキサンなどのアルカン）、又はこれらの混合物が挙げられるが、これらに限定されない。接着剤組成物は、当技術分野において既知の他の添加剤を更に含むことができる。
【００７６】
キャリアフィルム
第１及び第２のテンプレート層は、任意選択のキャリアフィルム（例えば１４０、６４０、６４１）を含んでもよい。光学キャリアフィルムは、例えば他の層を機械的に支持することができる熱的に安定な軟質フィルムを含む、任意の適切なフィルムであり得る。任意選択のキャリアフィルム１４０は、５０℃、又は代替として７０℃を上回る、又は代替として１２０℃を上回る温度で、熱的に安定であり得る。任意選択のキャリアフィルム１４０の一例は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）である。いくつかの実施形態では、任意のキャリアフィルム１４０としては、紙、剥離コーティングした紙、不織布、織布（布地）、金属フィルム、及び金属箔を挙げることができる。
【００７７】
様々な熱硬化性又は熱可塑性ポリマーで構成される様々な有機ポリマーフィルム基材が、任意選択のキャリアフィルム１４０として使用するのに適している。支持体は、単層フィルム又は多層フィルムであり得る。任意選択のキャリアフィルムとして用いることができるポリマーの例示的な例としては、（１）ポリ（クロロトリフルオロエチレン）、ポリ（テトラフルオロエチレン−コヘキサフルオロプロピレン）、ポリ（テトラフルオロエチレン−コ−ペルフルオロ（アルキル）ビニルエーテル）、ポリ（フッ化ビニリデン−コヘキサフルオロプロピレン）などのフッ素化ポリマー；（２）Ｅ．Ｉ．ｄｕＰｏｎｔ  Ｎｅｍｏｕｒｓ（Ｗｉｌｍｉｎｇｔｏｎ，ＤＥ）から入手可能なＳＵＲＬＹＮ−８９２０  Ｂｒａｎｄ及びＳＵＲＬＹＮ−９９１０  Ｂｒａｎｄなどの、ナトリウムイオン又は亜鉛イオンを有するイオノマーエチレンコポリマーポリ（エチレン−コ−メタクリル酸）；（３）低密度ポリエチレン、線形低密度ポリエチレン、及び超低密度ポリエチレンなどの低密度ポリエチレン；可塑化ポリ（塩化ビニル）などの可塑化ハロゲン化ビニルポリマー；（４）ポリ（エチレン−コ−アクリル酸）「ＥＡＡ」、ポリ（エチレン−コ−メタクリル酸）「ＥＭＡ」、ポリ（エチレン−コ−マレイン酸）、及びポリ（エチレン−コ−フマル酸）などの酸官能性ポリマー、並びにポリ（エチレン−コ−アルキルアクリレート）（ここでアルキル基はメチル、エチル、プロピル、ブチルなど、又はＣＨ３（ＣＨ２）ｎ−であり、ｎは０〜１２である）、及びポリ（エチレン−コ−ビニルアセテート）「ＥＶＡ」などのアクリル官能性ポリマーを含むポリエチレンコポリマー；並びに（５）（例えば）脂肪族ポリウレタンが挙げられる。任意選択のキャリアフィルムは、典型的には２〜８個の炭素原子を有するアルキレンを少なくとも５０重量％含み、最も一般的にはエチレン及びプロピレンが用いられる、オレフィンポリマー材料であってもよい。他の本体層としては、例えば、ポリ（エチレンナフタレート）、ポリカーボネート、ポリ（メタ）アクリレート（例えば、ポリメチルメタクリレート又は「ＰＭＭＡ」）、ポリオレフィン（例えば、ポリプロピレン又は「ＰＰ」）、ポリエステル（例えば、ポリエチレンテレフタレート又は「ＰＥＴ」）、ポリアミド、ポリイミド、フェノール樹脂、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース（ＴＡＣ）、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリルコポリマー、環状オレフィンコポリマー、及びエポキシなどが挙げられる。いくつかの実施形態では、任意選択のキャリアフィルムとしては、紙、剥離コーティングした紙、不織布、織布（布地）、金属フィルム及び金属箔を挙げることができる。
【００７８】
テンプレートはキャリアフィルムを含むことができるが、テンプレート層は、微小光学層がレセプタ基板（例えばガラス板）上に転写された後に取り外される。
【００７９】
したがって、微小光学層がレセプタ基板（例えばガラス板）上に転写されたら、微小光学層とガラス板との間に有機ポリマーフィルム基材は存在しない。更に、断熱ガラスユニットは典型的には、有機ポリマーフィルム基材を含まない。このような有機ポリマーフィルム基材は典型的には、少なくとも１又は２ｍｉｌ（約２５又は５０μｍ）の厚さを有する。
【００８０】
取り外し可能なテンプレート
テンプレート層１１０は、例えば、エンボス加工、複製プロセス、押出、キャスティング、又は表面構造化によって形成することができる。テンプレート層１１０は、ナノ構造、マイクロ構造（微細構造）、又は階層構造を含んでもよい構造化表面１１４を有し得ることが理解されるべきである。いくつかの実施形態では、テンプレート層１１０は、パターン形成、化学線パターン形成、エンボス加工、押出、及び共押出に適合性であり得る。
【００８１】
典型的には、テンプレート層１１０は、複製プロセス中に低い粘度を有することができ、その後、急速に硬化して、複製されるナノ構造、マイクロ構造、又は階層的構造中に「固定される」持続性の架橋ポリマーネットワークを形成することができる、光硬化性材料を含む。テンプレート層１１０には、光重合の当業者に知られている任意の光硬化性樹脂を使用することができる。テンプレート層１１０に使用される樹脂は、架橋されている場合、本開示の転写テープの使用中にバックフィル層１２０から剥離することができる、又は剥離層及び剥離層を適用するプロセスに適合可能であるべきである。
【００８２】
テンプレート層１１０として使用することができるポリマーとしてはまた、スチレンアクリロニトリルコポリマー、スチレン（メタ）アクリレートコポリマー、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、スチレン無水マレイン酸コポリマー、有核半結晶性ポリエステル、ポリエチレンナフタレートのコポリマー、ポリイミド、ポリイミドコポリマー、ポリエーテルイミド、ポリスチレン、シンジオタクチック（syndiodactic）ポリスチレン、ポリフェニレンオキシド、環状オレフィンポリマー並びにアクリロニトリル、ブタジエン、及びスチレンのコポリマーが挙げられる。好ましいポリマーの１つは、Ｉｎｅｏｓ  ＡＢＳ（ＵＳＡ）Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから入手可能なＬｕｓｔｒａｎ  ＳＡＮ  Ｓｐａｒｋｌｅ材料である。放射線硬化テンプレート層１１０用のポリマーとしては、多官能性アクリレートなどの架橋アクリレート、又はエポキシ、並びに単官能性及び多官能性モノマーとブレンドされたアクリル化ウレタンが挙げられる。
【００８３】
パターン形成された構造化テンプレート層は、放射線硬化性組成物の層を放射線透過性支持体の表面上に堆積させて、露出面を有する層を提供し、遠位表面部分及び隣接する陥没表面部分を含む、正確に成形され位置付けられた相互作用的な機能的不連続性という三次元微細構造を、前記支持体上の放射線硬化性組成物の層の露出面に付与することができるパターンを有する予備成形表面と、原型とを、十分な接触圧力の下で接触させて、前記パターンを前記層に付与し、放射線硬化性組成物の層を原型のパターン形成された表面と接触させている間に、キャリアを介して前記硬化性組成物を十分なレベルの放射線に曝露して、前記組成物を硬化させることによって形成することができる。このキャスティング及び硬化プロセスは、支持体のロールを使用して連続的に行うことができ、硬化性材料の層を支持体上に堆積させ、硬化性材料を原型に対して積層し、化学線を使用して硬化性材料を硬化させる。その後、得られるパターン形成された構造化テンプレートを配置した支持体のロールを巻き取ることができる。この方法は、例えば、米国特許第６，８５８，２５３号（Ｗｉｌｌｉａｍｓ  ｅｔ  ａｌ．）で開示されている。
【００８４】
押出又はエンボス加工したテンプレート層では、テンプレート層を構成する材料は、付与される頂部構造化表面の特定のトポグラフィに応じて選択することができる。一般に、材料は、材料が固化する前に構造が完全に複製されるように選択される。この選択は、押出プロセス中に材料が保持される温度、及び上部構造化表面を付与するために使用される工具の温度、並びに押出が行われる速度に一部依存する。典型的には、上層に使用される押出可能なポリマーは、大部分の動作条件下で押出複製及びエンボス加工を行いやすいように、約１４０℃未満のＴｇ、又は約８５℃〜約１２０℃のＴｇを有する。いくつかの実施形態では、任意選択のキャリアフィルム及びテンプレート層は、同時に共押出することができる。この実施形態は、少なくとも２つの共押出層、すなわち、１つのポリマーを有する上層と、別のポリマーを有する下層とを必要とする。上層が第１の押出可能なポリマーを含むならば、第１の押出可能なポリマーは、約１４０℃未満のＴｇ、又は約８５℃〜約１２０℃のＴｇを有し得る。上層が第２の押出可能なポリマーを含むならば、任意選択のキャリアフィルムとしての機能も果たし得る第２の押出可能なポリマーは、約１４０℃未満のＴｇ、又は約８５℃〜約１２０℃のＴｇを有する。分子量及び溶融粘度などの他の特性もまた考慮されるべきであり、これは使用される特定の１種以上のポリマーによって決まるはずである。テンプレート層に使用される材料もまた、任意選択のキャリアフィルムが良好な接着性を有し、その結果、物品の製品寿命中に２つの層の層間剥離を最小限に抑えるように選択するべきである。
【００８５】
押出又は共押出されたテンプレート層は、テンプレート層にパターン化された構造を付与することができる原型ロール上にキャスティングすることができる。これは、バッチ式で、又は連続的なロールツーロールプロセスで行うことができる。更に、任意選択のキャリアフィルムは、押出又は共押出されたテンプレート層上に押出することができる。いくつかの実施形態では、任意選択のキャリアフィルム及びテンプレート層の両層は、同時に共押出することができる。
【００８６】
テンプレート層ポリマーとして使用され得る有用なポリマーとしては、スチレンアクリロニトリルコポリマー、スチレン（メタ）アクリレートコポリマー、ポリメチルメタクリレート、スチレン無水マレイン酸コポリマー、有核半結晶性ポリエステル、ポリエチレンナフタレートのコポリマー、ポリイミド、ポリイミドコポリマー、ポリエーテルイミド、ポリスチレン、シンジオタクチック（syndiodactic）ポリスチレン、ポリフェニレンオキシド、並びにアクリロニトリル、ブタジエン、及びスチレンのコポリマー、からなる群から選択される１種以上のポリマーが挙げられる。第１の押出可能なポリマーとして使用することができる特に有用なポリマーとしては、Ｄｏｗ  Ｃｈｅｍｉｃａｌから入手可能なＴＹＲＩＬコポリマーとして知られているスチレンアクリロニトリルコポリマーが挙げられ、例としてはＴＹＲＩＬ８８０及び１２５が挙げられる。テンプレートポリマーとして使用することができる特に有用な他のポリマーとしては、どちらもＮｏｖａ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ製のスチレン無水マレイン酸コポリマーＤＹＬＡＲＫ３３２及びスチレンアクリレートコポリマーＮＡＳ３０が挙げられる。また、ケイ酸マグネシウム、酢酸ナトリウム、又はメチレンビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェノール）酸リン酸ナトリウムなどの核剤とブレンドしたポリエチレンテレフタレートも有用である。
【００８７】
更なる有用なポリマーとしては、ＣｏＰＥＮ（ポリエチレンナフタレートのコポリマー）、ＣｏＰＶＮ（ポリビニルナフタレンのコポリマー）、及びポリエーテルイミドを含むポリイミドが挙げられる。好適な樹脂組成物としては、寸法安定性、耐久性、耐候性があり、かつ所望の構成に容易に成形可能である透明材料が挙げられる。好適な材料の例としては、Ｒｏｈｍ  ａｎｄ  Ｈａａｓ社製のＰＬＥＸＩＧＬＡＳという製品名の樹脂などの、約１．５の屈折率を有するアクリル、約１．５９の屈折率を有するポリカーボネート、熱硬化アクリレート及びエポキシアクリレートなどの反応性材料、Ｅ．Ｉ．Ｄｕｐｏｎｔ  ｄｅ  Ｎｅｍｏｕｒｓ  ａｎｄ  Ｃｏ．，Ｉｎｃ．から製品名ＳＵＲＬＹＮで市販されているものなどのポリエチレン系イオノマー、（ポリ）エチレン−コ−アクリル酸、ポリエステル、ポリウレタン、並びに酢酸酪酸セルロースが挙げられる。テンプレート層は、米国特許第５，６９１，８４６号（Ｂｅｎｓｏｎ）で開示されているような、任意選択のキャリアフィルム上に直接キャスティングすることによって調製することができる。放射線硬化構造用のポリマーとしては、多官能性アクリレートなどの架橋アクリレート、又はエポキシ、並びに単官能性及び多官能性モノマーとブレンドされたアクリル化ウレタンが挙げられる。
【００８８】
テンプレート層の調製に使用される重合性組成物は、放射線硬化性部分について単官能性でも多官能性（例えば、ジ−、トリ−、及びテトラ−）でもよい。好適な単官能性重合性前駆体の例としては、スチレン、α−メチルスチレン、置換スチレン、ビニルエステル、ビニルエーテル、オクチル（メタ）アクリレート、ノニルフェノールエトキシレート（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、２−（２−エトキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、β−カルボキシエチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、脂環式エポキシド、α−エポキシド、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸、Ｎ−ビニルカプロラクタム、ステアリル（メタ）アクリレート、ヒドロキシル官能性カプロラクトンエステル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシイソプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシイソブチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフリル（メタ）アクリレート、及びこれらの任意の組み合わせが挙げられる。
【００８９】
好適な多官能性重合性前駆体の例としては、エチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンプロパントリ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ポリ（１，４−ブタンジオール）ジ（メタ）アクリレート、上記材料の任意の置換、エトキシル化、若しくはプロポキシ化されたもの、又はこれらの任意の組み合わせが挙げられる。
【００９０】
重合反応は一般に、三次元の「架橋」高分子ネットワークの形成をもたらし、Ｓｈａｗ  ｅｔ  ａｌ．の「Ｎｅｇａｔｉｖｅ  ｐｈｏｔｏｒｅｓｉｓｔｓ  ｆｏｒ  ｏｐｔｉｃａｌ  ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ」、ＩＢＭ  Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｒｅｓｅａｒｃｈ  ａｎｄ  Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ（１９９７）４１，８１−９４で概説されているように、ネガ型フォトレジストとして当技術分野において知られている。ネットワークの形成は、共有、イオン若しくは水素結合のいずれかによって、又は物理的架橋機構、例えば鎖の絡み合いなどによって発生し得る。この反応はまた、１つ以上の中間化学種、例えば、フリーラジカル生成光開始剤、光増感剤、光酸発生剤、光塩基発生剤、又は熱酸発生剤によって、開始することもできる。使用される硬化剤のタイプは、使用される重合性前駆体及び重合性前駆体を硬化するために使用される放射線の波長によって決まる。好適な市販のフリーラジカル生成光開始剤の例としては、ベンゾフェノン、ベンゾインエーテル及びアシルホスフィン光開始剤が挙げられ、例えば、Ｃｉｂａ  Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ（Ｔａｒｒｙｔｏｗｎ，ＮＹ）から「ＩＲＧＡＣＵＲＥ」及び「ＤＡＲＯＣＵＲ」の商品名で販売されているものなどである。他の例示的な光開始剤としては、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン（ＤＭＰＡＰ）、２，２−ジメトキシアセトフェノン（ＤＭＡＰ）、キサントン及びチオキサントンが挙げられる。
【００９１】
硬化速度を高めるために、共開始剤及びアミン共力剤を含んでもよい。架橋マトリックス中の硬化剤の好適な濃度は、重合性前駆体の全重量に対して、約１重量％〜約１０重量％の範囲であり、特に好適な濃度は約１重量％〜約５重量％の範囲である。重合性前駆体はまた、任意の添加剤、例えば熱安定剤、紫外線安定剤、フリーラジカル捕捉剤、及びこれらの組み合わせを含んでもよい。好適な市販の紫外線安定剤の例としては、ベンゾフェノン型の紫外線吸収剤が挙げられ、これは、ＢＡＳＦ  Ｃｏｒｐ．（Ｆｌｏｒｈａｍ  Ｐａｒｋ，ＮＪ）から「ＵＶＩＮＯＬ４００」という商品名で；Ｃｙｔｅｃ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ（Ｗｅｓｔ  Ｐａｔｔｅｒｓｏｎ，ＮＪ）から「ＣＹＡＳＯＲＢ  ＵＶ−１１６４」という商品名で；並びにＢＡＳＦ  Ｃｏｒｐ．（Ｆｌｏｒｈａｍ  Ｐａｒｋ，ＮＪ）から「ＴＩＮＵＶＩＮ９００」及び「ＴＩＮＵＶＩＮ１１３０」という商品名で、入手可能である。重合性前駆体中の紫外線安定剤の好適な濃度の例は、重合性前駆体の全重量に対して、約０．１重量％〜約１０重量％の範囲であり、特に好適な総濃度は約１重量％〜約５重量％の範囲である。
【００９２】
好適なフリーラジカル捕捉剤の例としては、ヒンダードアミン系光安定剤（ＨＡＬＳ）化合物、ヒドロキシルアミン、立体障害フェノール、及びこれらの組み合わせが挙げられる。好適な市販のＨＡＬＳ化合物の例としては、ＢＡＳＦ  Ｃｏｒｐ．（Ｆｌｏｒｈａｍ  Ｐａｒｋ，ＮＪ）の商品名「ＴＩＮＵＶＩＮ２９２」及び「ＴＩＮＵＶＩＮ１２３」、並びにＣｙｔｅｃ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ（Ｗｅｓｔ  Ｐａｔｔｅｒｓｏｎ，ＮＪ）の商品名「ＣＹＡＳＯＲＢ  ＵＶ−２４」が挙げられる。重合性前駆体中のフリーラジカル捕捉剤の好適な濃度の例は、約０．０５重量％〜約０．２５重量％の範囲である。
【００９３】
テンプレート層１１０は典型的には、硬化したバックフィル層１２０から取り外されて、最終的な微小光学ガラスをもたらす。バックフィル層１２０がテンプレート層１１０に接着するのを抑制する方法の１つは、前述の剥離コーティングであってもよい任意選択の転写層１３０を適用することである。
【００９４】
剥離層
適用される任意の層への接着の抑制は、剥離層又はコーティングを適用することによって実現することができ、したがって、剥離コーティングは、剥離を容易にするために転写フィルム中の層のいずれかに適用することができ、例えば、剥離ライナーにおいて使用することができる。支持体キャリアフィルムの表面に剥離コーティングを適用する方法の１つは、プラズマ蒸着によるものである。オリゴマーを使用して、プラズマ架橋剥離コーティングを作製することができる。オリゴマーは、コーティング前に液体形態又は固体形態であり得る。典型的に、オリゴマーは、１０００を超える分子量を有する。また、オリゴマーの揮発性が高すぎないように、オリゴマーは典型的には、１０，０００未満の分子量を有する。１０，０００を超える分子量を有するオリゴマーは、通常、揮発性が低すぎ、コーティング中に液滴を生じさせることがある。一実施形態では、オリゴマーは、３０００を超え、かつ７０００未満の分子量を有する。別の実施形態では、オリゴマーは、３５００を超え、かつ５５００未満の分子量を有する。典型的には、オリゴマーは、低摩擦表面コーティングを提供する特性を有する。好適なオリゴマーとしては、シリコーン含有炭化水素、反応性シリコーン含有トリアルコキシシラン、芳香族及び脂肪族炭化水素、フルオロケミカル、並びにこれらの組み合わせが挙げられる。例えば、好適な樹脂としては、ジメチルシリコーン、炭化水素系ポリエーテル、フルオロケミカルポリエーテル、エチレンテトラフルオロエチレン、及びフルオロシリコーンが挙げられるが、これらに限定されない。フルオロシラン表面化学、真空蒸着、及び表面フッ素化を使用して、剥離コーティングを提供することもできる。
【００９５】
プラズマ重合した薄フィルムは、剥離層又はコーティングとして使用可能な従来のポリマーとは異なる材料の分類を構成する。プラズマポリマーでは、重合は不規則であり、架橋度は極めて高く、結果として生じるポリマーフィルムは、対応する「従来の」ポリマーフィルムとは非常に異なる。したがって、当業者には、プラズマポリマーが、独特に異なる分類の材料であり、開示される物品において有用であると考えられる。加えて、剥離コーティングをテンプレート層に適用する他の方法があり、ブルーミング、コーティング、共押出、スプレーコーティング、電着、又は浸漬コーティングが挙げられるが、これらに限定されない、
【００９６】
剥離コーティング又は層は、フッ素含有材料、ケイ素含有材料、フルオロポリマー、シリコーンポリマー、又は１２〜３０個の炭素原子を有するアルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレートを含むモノマーから誘導されるポリ（メタ）アクリレートエステルであり得る。一実施形態では、アルキル基は分枝状であってもよい。有用なフルオロポリマー及びシリコーンポリマーの例示的な例は、米国特許第４，４７２，４８０号（Ｏｌｓｏｎ）、同第４，５６７，０７３号及び同第４，６１４，６６７号（ともにＬａｒｓｏｎ  ｅｔ  ａｌ．）において見出すことができる。有用なポリ（メタ）アクリレートエステルの例示的な例は、米国特許出願公開第２００５／１１８３５２号（Ｓｕｗａ）において見出すことができる。ライナーの取り外しは、転写層の表面トポロジーを不利に変化させるものであってはならない。
【００９７】
バックフィル層
バックフィル層１２０の材料は、通常、複数の要件を満たし得る。まず、この材料は、この材料をコーティングするテンプレート層１１０の構造化表面１１４に適合し得る。これは、コーティング溶液が、気泡を取り込むことなく極小の特徴部の中に流入できる程度に十分低い粘度を有するはずであり、複製される構造が良好な忠実度を有することを意味する。この材料が溶媒ベースである場合、下にあるテンプレート層１１０を溶解しない溶媒によりコーティングされるべきである。テンプレート層１１０の溶解は、バックフィル層１２０のクラック又は他の好ましくない欠陥を生じさせる。溶媒は、テンプレート層１１０のガラス転移温度の沸点よりも低い沸点を有することが望ましい。好ましくは、イソプロパノール、ブチルアルコール、又は他のアルコール溶媒を使用する。第２に、材料は、十分な物理的一体性（例えば、「グリーン強度」）で硬化するべきである。バックフィル層１２０の材料が硬化後に十分なグリーン強度を有さない場合、バックフィル層１２０の転写構造化表面１２４特徴部は崩れる可能性があり、複製忠実度（replication fidelity）は低下する可能性がある。第３に、いくつかの実施形態では、硬化した材料の屈折率を調整して、適切な光学効果をもたらすべきである。第４に、バックフィル層１２０の材料は、その後のプロセス工程の温度の上限範囲を上回る温度で、熱的に安定である（例えば、最小限のクラッキング、ブリスタリング、又はポッピングを示す）べきである。
【００９８】
有機部分と無機部分の組み合わせを含むポリマーは、当技術分野において知られている。ポリマー中の有機部分は、硬化性、柔軟性などのために使用することができ、一方、無機部分は、より高い耐熱性、耐候性などのために使用することができる。そのようなポリマーの１つは、Ｎａｇａｓｅ  Ｃｏ．（Ｏｓａｋａ，Ｊａｐａｎ）から、「ＳＡ−２５０Ｐ」という商品名で入手可能である。ポリマーは、例えば紫外光を吸収する光開始剤と組み合わせた紫外線照射などの、当技術分野において既知の方法を使用して硬化させることができる。硬化後、このポリマーは、屈折計及びＵＶ−Ｖｉｓ分光光度計によりそれぞれ測定される、約１．６の屈折率、及び高い透過率（Ｔ＞８８％）を有する。有機部分と無機部分の組み合わせを含む他の硬化性ポリマーは、硬化後、約１．５０の屈折率を有する。
【００９９】
場合によっては、高度に分枝化した（branched：分枝化された）有機ケイ素材料は、高度に分枝化した有機ケイ素オリゴマー、高度に分枝化した有機ケイ素ポリマー又はこれらの組み合わせを含む。バックフィル層１２０は、紫外（ＵＶ）線、電離放射線などの化学線、熱硬化、又はこれらの組み合わせによって硬化可能であり得る。高度に分枝化した有機ケイ素材料は、有機ケイ素材料と屈折率整合され、ナノ粒子充填シルセスキオキサンなどの複合材料を形成することができる、ガラス又はセラミックなどの無機粒子を更に含んでもよい。
【０１００】
バックフィル材料は、ある分類の高度に分枝化した有機ケイ素オリゴマー並びに、更に反応して、Ｓｉ−ＯＨ基のホモ縮合、残っている加水分解性基（例えばアルコキシ）とのヘテロ縮合により、及び／又は有機官能基（例えばビニル、アクリレート、又はメタクリレートなどのエチレン性不飽和）の反応により架橋ネットワークを形成し得る、一般式（下記）のポリマーを含んでもよく、又はこれらからなってもよい。この分類の材料は、下記一般式のオルガノシランから主に得られる。
ＲｘＳｉＺ４−ｘ
［式中、
Ｒは、水素、置換若しくは非置換Ｃ１〜Ｃ２０アルキル、置換若しくは非置換Ｃ２〜Ｃ１０アルキレン、置換若しくは非置換Ｃ２〜Ｃ２０アルケニレン、Ｃ２〜Ｃ２０アルキニレン、置換若しくは非置換Ｃ３〜Ｃ２０シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６〜Ｃ２０アリール、置換若しくは非置換Ｃ６〜Ｃ２０アリーレン、置換若しくは非置換Ｃ７〜Ｃ２０アリールアルキル基、置換若しくは非置換Ｃ１〜Ｃ２０ヘテロアルキル基、置換若しくは非置換Ｃ２〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基、及び／又はこれらの組み合わせから選択される。
Ｚは、加水分解性基、例えばハロゲン（元素Ｆ、Ｂｒ、Ｃｌ、又はＩを含有）、Ｃ１〜Ｃ２０アルコキシ、Ｃ５〜Ｃ２０アリールオキシ、及び／又はこれらの組み合わせである。］
【０１０１】
組成の大部分は、ＲＳｉＯ３／２単位からなっていてよく、したがって材料の分類はシルセスキオキサン（又はＴ樹脂）と呼ばれることが多いが、モノ−（Ｒ３Ｓｉ−Ｏ１／２）、ジ−（Ｒ２ＳｉＯ２／２）、及びテトラ官能基（Ｓｉ−Ｏ４／２）を含有していてもよい。下記式の有機修飾ジシラン：
Ｚ３−ｎ  Ｒｎ  Ｓｉ−Ｙ−Ｓｉ  Ｒｎ  Ｚ３−ｎ
は、材料の特性を更に改変する（いわゆる架橋シルセスキオキサンを形成する）ために、加水分解性組成物に使用されることが多い。Ｒ基及びＺ基は上記で定義されている。材料は、金属アルコキシド（Ｍ（ＯＲ）ｍ）と更に配合し、反応させて、金属シルセスキオキサンを形成することができる。
【０１０２】
バックフィル材料は、高度に分枝化した有機ケイ素オリゴマー及び下記一般式のポリマーを含んでもよく、又はこれらからなってもよい：
【化２】
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Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５は独立に、水素、置換又は非置換Ｃ１〜Ｃ２０アルキル、置換又は非置換Ｃ２〜Ｃ１０アルキレン、置換又は非置換Ｃ２〜Ｃ２０アルケニレン、Ｃ２〜Ｃ２０アルキニレン、置換又は非置換Ｃ３〜Ｃ２０シクロアルキル、置換又は非置換Ｃ６〜Ｃ２０アリール、置換又は非置換Ｃ６〜Ｃ２０アリーレン、置換又は非置換Ｃ７〜Ｃ２０アリールアルキル基、置換又は非置換Ｃ１〜Ｃ２０ヘテロアルキル基、置換又は非置換Ｃ２〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基、及び／又はこれらの組み合わせから選択され、
Ｚは、ハロゲン（元素Ｆ、Ｂｒ、Ｃｌ、又はＩを含有）、Ｃ１〜Ｃ２０アルコキシ、Ｃ〜Ｃ２０アリールオキシ、及び／又はこれらの組み合わせなどの加水分解性基である。
ｍは０〜５００の整数であり、
ｎは１〜５００の整数であり、
ｐは０〜５００の整数であり、
ｑは０〜１００の整数である。
【０１０３】
本明細書で使用する場合、「置換」という語は、化合物の水素の代わりに、ハロゲン（元素Ｆ、Ｂｒ、Ｃｌ、又はＩを含有）、ヒドロキシ基、アルコキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、アジド基、アミジノ基、ヒドラジノ基、ヒドラゾノ基、カルボニル基、カルバミル基、チオール基、エステル基、カルボキシ基又はその塩、スルホン酸基又はその塩、リン酸基又はその塩、アルキル基、Ｃ２〜Ｃ２０アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ２０アルキニル基、Ｃ６〜Ｃ３０アリール基、Ｃ７〜Ｃ１３アリールアルキル基、Ｃ１〜Ｃ４オキシアルキル基、Ｃ１〜Ｃ２０ヘテロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ２０ヘテロアリールアルキル基、Ｃ３〜Ｃ３０シクロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ１５シクロアルケニル基、Ｃ６〜Ｃ１５シクロアルキニル基、ヘテロシクロアルキル基、及びその組み合わせからなる群から選択される少なくとも１つの置換基によって置換されたものを示す。
【０１０４】
得られる高度に分枝化した有機ケイ素ポリマーは、１５０〜３００，０００Ｄａの範囲、又は好ましくは１５０〜３０，０００Ｄａの範囲の分子量を有する。
【０１０５】
バックフィルに使用することができる材料としては、ポリシロキサン樹脂、ポリシラザン、ポリイミド、架橋又はラダー型シルセスキオキサン、シリコーン、シリコーンハイブリッド材料、及び多くの他のものが挙げられる。これらの分子は典型的には、高い寸法安定性、機械的強度、及び耐化学薬品性をもたらす無機成分と、溶解性及び反応性に役立つ有機成分と、を有する。
【０１０６】
多くの実施形態では、熱的に安定な分子種は、ケイ素、ハフニウム、ストロンチウム、チタン、又はジルコニウムを含む。いくつかの実施形態では、熱的に安定な分子種は、金属、金属酸化物又は金属酸化物前駆体を含む。金属酸化前駆体を、無機ナノ粒子の非晶質「バインダー」として機能させるために使用してもよく、又は単独で使用してもよい。
【０１０７】
本明細書に記載のバックフィル組成物は、無機ナノ粒子を含んでもよい。これらのナノ粒子は、様々なサイズ及び形状であってよい。ナノ粒子は、約１０００ｎｍ未満、約１００ｎｍ未満、約５０ｎｍ未満、又は約３５ｎｍ未満の平均粒径を有してもよい。ナノ粒子は、約３ｎｍ〜約５０ｎｍ、又は約３ｎｍ〜約３５ｎｍ、又は約５ｎｍ〜約２５ｎｍの平均粒径を有してもよい。ナノ粒子が凝集する場合、凝集粒子の最大断面寸法はこれらの範囲のいずれかであってもよく、約１００ｎｍより大きくてもよい。約５０ｎｍ未満の一次径を有する、シリカ及びアルミナなどの「ヒュームド」ナノ粒子、例えば、Ｃａｂｏｔ  Ｃｏ．（Ｂｏｓｔｏｎ，ＭＡ）から入手可能なＣＡＢ−ＯＳＰＥＲＳＥ  ＰＧ００２ヒュームドシリカ、ＣＡＢ−Ｏ−ＳＰＥＲＳＥ２０１７Ａヒュームドシリカ、及びＣＡＢ−ＯＳＰＥＲＳＥ  ＰＧ００３ヒュームドアルミナなどもまた使用することができる。それらの測定は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）に基づいて行うことができる。ナノ粒子は、実質的に完全に凝集していてもよい。コロイド状シリカなどの完全凝集ナノ粒子は、通常、内部にヒドロキシルを実質的に有さない。非シリカ含有完全凝集ナノ粒子は、典型的には、（独立粒子として測定した）結晶化度が５５％を超え、好ましくは６０％を超え、より好ましくは７０％を超える。例えば、結晶化度は、約８６％まで、又はそれ以上の範囲であり得る。結晶化度は、Ｘ線回折技術によって決定することができる。凝集した結晶性（例えば、ジルコニア）ナノ粒子は、高い屈折率を有するが、非晶質ナノ粒子は、典型的には、より低い屈折率を有する。球形、棒状、シート状、管状、ワイヤー状、立方体、円錐、及び四面体などの、様々な形状の無機又は有機ナノ粒子を使用することができる。
【０１０８】
粒子のサイズは、概して、透明度又は散乱などの所望の光学的効果を生じるように選択される。ナノ材料組成物はまた、様々な光学的特性（すなわち屈折率、複屈折）、電気的特性（例えば導電性）、機械的特性（例えば靭性、鉛筆硬度、耐ひっかき性）又はこれらの特性の組み合わせを付与し得る。光学又は材料特性を最適化するため、及び組成物の全体のコストを下げるために、有機酸化物粒子タイプと無機酸化物粒子タイプの混合物を使用することが望ましい場合がある。
【０１０９】
好適な無機ナノ粒子の例としては、元素のジルコニウム（Ｚｒ）、チタン（Ｔｉ）、ハフニウム（Ｈｆ）、アルミニウム（Ａｌ）、鉄（Ｆｅ）、バナジウム（Ｖ）、アンチモン（Ｓｂ）、錫（Ｓｎ）、金（Ａｕ）、銅（Ｃｕ）、ガリウム（Ｇａ）、インジウム（Ｉｎ）、クロム（Ｃｒ）、マンガン（Ｍｎ）、コバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）、亜鉛（Ｚｎ）、イットリウム（Ｙ）、ニオブ（Ｎｂ）、モリブデン（Ｍｏ）、テクネチウム（Ｔｅ）、ルテニウム（Ｒｕ）、ロジウム（Ｒｈ）、パラジウム（Ｐｄ）、銀（Ａｇ）、カドミウム（Ｃｄ）、ランタン（Ｌａ）、タンタル（Ｔａ）、タングステン（Ｗ）、レニウム（Ｒｈ）、オスミウム（Ｏｓ）、イリジウム（Ｉｒ）、白金（Ｐｔ）、及びこれらの任意の組み合わせなどを含む金属ナノ粒子又はそのそれぞれの酸化物が挙げられる。
【０１１０】
好適な無機ナノ粒子の例としては、ランタン（Ｌａ）、セリウム（ＣｅＯ２）、プラセオジム（Ｐｒ６Ｏ１１）、ネオジム（Ｎｄ２Ｏ３）、サマリウム（Ｓｍ２Ｏ３）、ユーロピウム（Ｅｕ２Ｏ３）、ガドリニウム（Ｇｄ２Ｏ３）、テルビウム（Ｔｂ４Ｏ７）、ジスプロシウム（Ｄｙ２Ｏ３）、ホルミウム（Ｈｏ２Ｏ３）、エルビウム（Ｅｒ２Ｏ３）、ツリウム（Ｔｍ２Ｏ３）、イッテルビウム（Ｙｂ２Ｏ３）、及びルテチウム（Ｌｕ２Ｏ３）などの、希土類元素として知られる元素及びそれらの酸化物が挙げられる。
【０１１１】
典型的には、ナノ粒子は、表面処理剤で処理される。ナノサイズの粒子を表面処理することにより、ポリマー樹脂中での安定した分散をもたらすことができる。好ましくは、このような表面処理は、実質的に均一な組成物中に粒子がよく分散されるように、ナノ粒子を安定化させる。更に、安定化された粒子が、硬化中に組成物の一部と共重合又は反応できるように、ナノ粒子は、その表面の少なくとも一部を表面処理剤で改質することができる。一般に、表面処理剤は、粒子表面に付着（共有結合、イオン結合又は強い物理吸着により）する第１の末端、及び粒子を組成物と適合性にし、かつ／又は硬化中に組成物と反応する、第２の末端を有する。表面処理剤の例としては、アルコール、アミン、カルボン酸、スルホン酸、ホスホン酸、シラン、及びチタネートが挙げられる。好ましいタイプの処理剤は、部分的には、金属酸化物表面の化学的性質により決定される。シリカにはシランが好ましく、ケイ質フィラーには他のものが好ましい。ジルコニアなどの金属酸化物には、シラン及びカルボン酸が好ましい。表面改質は、モノマーとの混合に続いて又は混合後のいずれかで行うことができる。シランの場合、組成物へ組み込む前にシランを粒子又はナノ粒子の表面と反応させることが好ましい。表面改質剤の必要量は、粒径、粒子タイプ、改質剤の分子量、及び改質剤のタイプなどのいくつかの因子によって決まる。一般に、ほぼ単層の改質剤を粒子の表面に付着させることが好ましい。必要とされる付着手順又は反応条件もまた、使用される表面改質剤によって決まる。シランの場合、酸性又は塩基性条件下で、高温で約１〜２４時間、表面処理することが好ましい。カルボン酸などの表面処理剤は、高温も長時間も必要としない場合がある。
【０１１２】
本組成物に適している表面処理剤の代表的な実施形態としては、例えば、イソオクチルトリメトキシ−シラン、Ｎ−（３−トリエトキシシリルプロピル）メトキシエトキシエトキシエチルカルバメート（ＰＥＧ３ＴＥＳ）、Ｎ−（３−トリエトキシシリルプロピル）メトキシエトキシエトキシエチルカルバメート（ＰＥＧ２ＴＥＳ）、３−（メタクリロイルオキシ）プロピルトリメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタクリロイルオキシ）プロピルトリエトキシシラン、３−（メタクリロイルオキシ）プロピルメチルジメトキシシラン、３−（アクリロイルオキシプロピル）メチルジメトキシシラン、３−（メタクリロイルオキシ）プロピルジメチルエトキシシラン、３−（メタクリロイルオキシ）プロピルジメチルエトキシシラン、ビニルジメチルエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ｎ−オクチルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ビニルメチルジアセトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリフェノキシシラン、ビニルトリ−ｔ−ブトキシシラン、ビニルトリス−イソブトキシシラン、ビニルトリイソプロペノキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、スチリルエチルトリメトキシシラン、メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−５グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、アクリル酸、メタクリル酸、オレイン酸、ステアリン酸、ドデカン酸、２−［２−（２−メトキシエトキシ）エトキシ］酢酸（ＭＥＥＡＡ）、β−カルボキシエチルアクリレート、２−（２−メトキシエトキシ）酢酸、メトキシフェニル酢酸、及びこれらの混合物などの化合物が挙げられる。更に、「Ｓｉｌｑｕｅｓｔ  Ａ１２３０」という商品名でＯＳＩ  Ｓｐｅｃｉａｌｔｉｅｓ（Ｃｒｏｍｐｔｏｎ  Ｓｏｕｔｈ  Ｃｈａｒｌｅｓｔｏｎ，ＷＶ）から市販されている独自開発のシラン表面改質剤が特に適していることが分かっている。
【０１１３】
いくつかの実施形態では、バックフィル層は、複製プロセス中に低い粘度を有することができ、その後、急速に硬化して、複製されるナノ構造、マイクロ構造、又は階層的構造中に「固定される（locking in）」持続性の架橋ポリマーネットワークを形成することができる、光硬化性（例えばポリシロキサン）材料を含む。
【０１１４】
パターン形成
転写テープ、微小光学ガラス及び断熱ガラスユニットは、図４及び５に示すような微小光学パターンを含むことができる。いくつかの実施形態では、バックフィル層は、テンプレート層の構造化表面上にパターン配置される。あるいは、またより典型的にはそれと組み合わせて、接着剤層が、（例えばパターン形成された）バックフィル層の微細構造化表面上にパターン配置される。いくつかの実施形態では、上端の構造化表面領域の面積割合は９０％を超え、対向する下端の構造化表面領域の面積割合は１０％未満である。バックフィル層材料及び／又は接着剤は、スクリーン印刷、フレキソ印刷、インクジェット印刷、及びグラビア印刷など、当業者に既知の技術などによって、材料をパターン状に印刷又は他の方法で堆積させることによって適用することができる。
【０１１５】
バックフィル層及び接着剤がパターン形成される場合、バックフィル層及び接着剤層は、図１Ｂ及び２Ｃに示すものなど、ｘ軸に沿って不連続、ｙ軸に沿って不連続（例えば垂直又は水平な縞模様）又はｘ軸とｙ軸の両方に沿って不連続（例えば島）であってもよい。
【０１１６】
別の実施形態では、転写テープが製造される場合、バックフィル層及び接着剤層がｚ軸及びｙ軸に沿って連続である、転写テープの製造方法が記載されている。したがって、バックフィル層及び接着剤層はパターンコーティングされていない。しかしながら、転写テープは、未切断部分が取り外されたら転写テープが図１Ｂに示すようなパターン形成されたバックフィル層及び接着剤を含むように、（例えばスコア）カットされる。
【０１１７】
図８Ａを参照すると、方法は、任意選択のキャリアフィルム８４０及びテンプレート層８１０を含む（第１の）テンプレートと、第１のテンプレートの少なくとも一部に配置された微小光学層と、を含む、転写テープ８０１を準備する工程を含む。微小光学層は、硬化したバックフィル層８２０を含み、微小光学層は、構造化表面８１４及び対向する表面を有する。接着剤層８５０は、微小光学層の対向する表面上に配置されている。典型的な実施形態では、剥離ライナー８７０は、接着剤層８５０の対向する表面上に提供される。次に、切断部分が剥離ライナーに残り、未切断部分は取り外す（例えば連続する１枚として）ことができるように、連続的な剥離ライナー８７０上に配置された連続的なバックフィル層８２０及び連続的な接着剤層８５０を有する転写テープの、第１のテンプレート８０２、硬化したバックフィル層８２０、及び接着剤層８５０をスコアカットする。スコアカットは、レーザー切断及びロータリーダイカッティングなどの任意の好適な手段によって行うことができる。
【０１１８】
いくつかの実施形態では、微小光学層の対向する表面は、微細構造化表面８２２である。この実施形態では、接着剤８５０は、バックフィル層とは異なる屈折率を有する。微細構造化表面８２２を示しているが、この態様は、スコアカット転写テープに関して任意選択である。
【０１１９】
図８Ｂに関して、転写テープ８０１又は８０２を、微小光学ガラスの製造方法において用いることができる。そのような方法は、剥離ライナー８７０上に配置された複数のスコア加工部分を有する転写テープ８０１を準備する工程と、剥離ライナー８７０を取り外す工程と、スコアカット部分の接着剤８５０をガラス板８８０に接着する工程と、を含む。方法は、任意選択のキャリアフィルム８４０及びテンプレート層８１０を含む第１のテンプレート８４０を取り外す工程を更に含む。転写テープ８０２を用いる場合、第１のテンプレート８４０の未切断部分は、微小光学層８２０及び接着剤８５０とともに（「Ｘ」の部分で示す）、接着剤８５０をガラス板８８０に接着する前に取り外される（例えば連続する１枚として）。接着剤８５０は典型的には、ガラス板８４０に屈折率整合されている。
【０１２０】
剥離ライナー
任意選択の剥離ライナー１７０は、取り扱い中に、パターン形成された構造化層を保護、及び／又は接着剤層（例えば１５０、８５０）を保護することができ、構造化層又は構造化層の一部をレセプタ基板に転写するために、所望される場合に容易に取り外すことができる、剥離ライナーであり得る。本開示のパターン形成された構造化テープに有用な例示的なライナーは、ＰＣＴ特許出願公開第ＷＯ２０１２／０８２５３６号（Ｂａｒａｎ  ｅｔ  ａｌ．）に開示されている。
【０１２１】
ライナーは、軟質であっても硬質であってもよい。好ましくは、軟質である。好適なライナー（好ましくは、軟質ライナー）は、典型的には、少なくとも厚さ０．５ｍｉｌ（１２．７μｍ）、かつ典型的には厚さ２０ｍｉｌ（５０８μｍ）以下である。ライナーは、その第１の表面上に配置された剥離コーティングを有するバッキングであってもよい。場合により、剥離コーティングは、その第２の表面上に配置されてもよい。このバッキングがロールの形態の転写物品に使用される場合、第２の剥離コーティングは、第１の剥離コーティングより低い剥離値を有する。硬質ライナーとして機能し得る好適な材料としては、金属、金属合金、金属−マトリックス複合材料、金属化プラスチック、無機ガラス及びガラス化された有機樹脂、成形セラミック、並びにポリマーマトリックス補強複合材料が挙げられる。
【０１２２】
例示的なライナー材料としては、紙及びポリマー材料が挙げられる。例えば、軟質バッキングとしては、高密度クラフト紙（Ｌｏｐａｒｅｘ  Ｎｏｒｔｈ  Ａｍｅｒｉｃａ（Ｗｉｌｌｏｗｂｒｏｏｋ，ＩＬ）から市販されているものなど）、ポリエチレンコートクラフト紙などのポリコート紙、及びポリマーフィルムが挙げられる。好適なポリマーフィルムとしては、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリプロピレン、ポリエチレン、セルロース、ポリアミド、ポリイミド、ポリシリコーン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレンフタレート、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、又はそれらの組み合わせが挙げられる。不織布又は織布ライナーも有用であり得る。不織布又は織布ライナーを用いた実施形態は、剥離コーティングを組み込んでもよい。ＣＬＥＡＲＳＩＬ  Ｔ５０剥離ライナー；Ｓｏｌｕｔｉａ／ＣＰ  Ｆｉｌｍｓ（Ｍａｒｔｉｎｓｖｉｌｌｅ，ＶＡ）から入手可能なシリコーンコーティングされた２ｍｉｌ（約５０μｍ）のポリエステルフィルムライナー、及びＬｏｐａｒｅｘ（Ｈａｍｍｏｎｄ，ＷＩ）から入手可能なＬＯＰＡＲＥＸ  ５１００剥離ライナー、フルオロシリコーンコーティングされた２ｍｉｌ（約５０μｍ）のポリエステルフィルムライナーは、有用な剥離ライナーの例である。
【０１２３】
他の添加剤
フィルムの保管、輸送及び取り扱いのプロセス中に途中で硬化するのを防止するために、抗酸化剤、安定剤、及び阻害剤など、当技術分野で知られている様々な添加剤を転写テープの層のいずれかに含むことができる。
【０１２４】
レセプタ基板
転写フィルム及び転写フィルムを適用する関連プロセスの特別な利点は、建築用ガラスなどの大きな表面を有するレセプタ表面に構造を付与できることである。ロールツーロール加工及び円筒形マスターテンプレート（master template）を組み合わせて使用することにより、大きい寸法の積層転写フィルムが可能となる。本明細書で開示されている転写プロセスの更なる利点は、平坦でないレセプタ表面に構造を付与できることである。レセプタ基板は、転写テープが軟質フォーマットであるために、湾曲させる、捻じ曲げる、又は凹状若しくは凸状の特徴部を持たせることができる。レセプタ基板としては、例えば、自動車用ガラス、板ガラス、回路化軟質フィルムなどの軟質電子基板、ディスプレイバックプレーン、ソーラーガラス、金属、ポリマー、ポリマー複合材料、及びガラス繊維を挙げることができる。更に、他の箇所に記載されているように、当業者に既知の技術によりテンプレートフィルム上にパターン状に材料を印刷又は他の方法で堆積することによって転写層をパターン形成できることは、更なる利点である。
【０１２５】
特に示さない限り、本明細書及び特許請求の範囲において使用される加工寸法（feature size）、量及び物理的特性を表す、記載及び特許請求の範囲における数字は全て、全ての場合において、「約」という用語によって修飾されているものとして理解されるべきである。したがって、特に反対の記載がない限り、上記の明細書及び添付の特許請求の範囲において説明されている数値パラメータは、本明細書において開示される教示を利用して当業者が得ようとする所望の特性に応じて変わり得る近似値である。少なくとも、各数値パラメータは、報告される有効桁数を考慮し、通常の四捨五入を適用することによって少なくとも解釈されるべきであるが、このことは、請求項がカバーする範囲について均等論の適用を制限しようとするものではない。本発明の広い範囲を記載する数値範囲及びパラメータは近似値であるが、具体例に記載されている数値は、可能な限り正確に報告されている。しかしながら、どの数値も、それぞれの試験測定値に見られる標準偏差から必然的に生じるある一定の誤差を本質的に含んでいる。
【０１２６】
端点による数値範囲の列挙には、その範囲内に包含される全ての数値（例えば、１〜５の範囲は、例えば、１、１．５、２、２．７５、３、３．８０、４及び５を含む）、及びその範囲内の任意の範囲が含まれる。
【０１２７】
本明細書及び添付の特許請求の範囲において使用する場合、単数形「ａ」、「ａｎ」及び「ｔｈｅ」は、その内容に別段の明確な指示がない限り、複数の参照物を有する実施形態を包含する。本明細書及び添付の特許請求の範囲において使用する場合、「又は」という用語は、その内容に別段の明確な指示がない限り、一般に、「及び／又は」を含む意味で用いられる。
【０１２８】
限定するものではないが、「下部」、「上部」、「下方」、「下」、「上」、及び「頂部」を含むがこれらに限定されない空間に関する用語は、本明細書で使用する場合、ある要素と別の要素との空間的な関係を述べる説明を容易にするために用いられている。このような空間に関する用語は、図面に示され本明細書に記載されている特定の向きに加えて、使用中又は動作中の装置の異なる向きを包含する。例えば、図に示される物体を反転させるか又は裏返したら、その前には他の要素の下又は下方と述べられていた部分は、それらの他の要素の上となるであろう。
【０１２９】
本明細書で使用する場合、要素、構成要素又は層が、例えば、別の要素、構成要素又は層と「一致する境界面」を形成する、これらの「上にある」、これらと「接続される」、「結合される」、又は「接触している」と述べられる場合、それは、例えば、特定の要素、構成要素又は層の直接上にあるか、これらと直接接続されるか、直接結合されるか、直接接触していてもよく、又は介在する要素、構成要素若しくは層がこれらの上にあるか、これらと接続されるか、結合されるか、若しくは接触していてもよい。例えばある要素、構成要素、又は層が、別の要素の「直接上にある」か、それに「直接接続される」、「直接結合する」、又は「直接接触している」と表される場合、介在する要素、構成要素、又は層等は存在しない。
【０１３０】
「化学線」という用語は、ポリマーを架橋する、又は硬化させることができる発光波長を指し、紫外線波長、可視波長、及び赤外線波長を含むことができ、ラスタ化レーザーによるデジタル露光、熱デジタル撮像、及び電子ビーム走査を含むことができる。
【０１３１】
「ポリシロキサン」という用語は、ケイ素−酸素結合を含み、炭素−炭素及び／又は炭素−水素結合を含むこともある、高度に分枝化したオリゴマー又はポリマー有機ケイ素化合物を意味する。
【０１３２】
以下は、本明細書の例示的な実施形態のリストである。
【０１３３】
実施形態１は、
構造化表面を有する取り外し可能なテンプレート層と、
テンプレート層の構造化表面上の少なくとも一部に配置された第１の表面及び構造化表面と対向する第２の表面を有するバックフィル層であって、第２の表面は微細構造化表面を含む、バックフィル層と、
微細構造化表面上の少なくとも一部に配置された層であって、層は、バックフィル層とは異なる屈折率を有する、層と、を含み、
微細構造化表面は、微細構造化表面上の少なくとも一部に配置された層とともに、異方性拡散体をなす、転写テープである。
【０１３４】
実施形態２は、拡散体が、２０〜８５％の光学ヘイズ及び５０％以下の光学的透明度を有する、実施形態１に記載の転写テープである。
【０１３５】
実施形態３は、拡散体が、２０〜７５％の光学ヘイズ及び５〜４０％の光学的透明度を有する、実施形態１に記載の転写テープである。
【０１３６】
実施形態４は、拡散体が、２５〜６５％の光学ヘイズ及び７〜３７％の光学的透明度を有する、実施形態１に記載の転写テープである。
【０１３７】
実施形態５は、拡散体が、３０〜６０％の光学ヘイズ及び１０〜３５％の光学的透明度を有する、実施形態１に記載の転写テープである。
【０１３８】
実施形態６は、バックフィル層が第１の屈折率を有し、層が第２の屈折率を有し、第１の屈折率が、第２の屈折率より少なくとも０．０５高い、前述の実施形態のいずれか１つに記載の転写テープである。
【０１３９】
実施形態７は、第１の屈折率が、第２の屈折率より少なくとも０．１高い、実施形態６に記載の転写テープである。
【０１４０】
実施形態８は、微細構造化表面が、第１の方向に第１の半値半幅（ＨＷＨＭ）を有する表面角度分布、及び第１の方向とは異なる第２の方向に第２のＨＷＨＭを有する第２の表面角度分布を有し、第１のＨＷＨＭが、第２のＨＷＨＭとは異なる、前述の実施形態のいずれか１つに記載の転写テープである。
【０１４１】
実施形態９は、第１のＨＷＨＭ／第２のＨＷＨＭの比率が１．１を超える、実施形態８に記載の転写テープである。
【０１４２】
実施形態１０は、微細構造化表面が、第１の方向により拡散しやすく、第１の方向と直交する第２の方向にはより拡散しにくい、前述の実施形態のいずれか１つに記載の転写テープである。
【０１４３】
実施形態１１は、構造化表面が、第１の方向に延在する要素を含む、実施形態１０に記載の転写テープである。
【０１４４】
実施形態１２は、構造化表面が、光を第２の方向に方向転換させるようになっている、実施形態１０に記載の転写テープである。
【０１４５】
実施形態１３は、微細構造化表面が、１．２を超える面内アスペクト比を有する非対称微細構造を含む、前述の実施形態のいずれか１つに記載の転写テープである。
【０１４６】
実施形態１４は、微細構造化表面が、レンズ状構造を含む、前述の実施形態のいずれか１つに記載の転写テープである。
【０１４７】
実施形態１５は、微細構造化表面が、ほぼ半楕円体（semi−ellipsoidal）又はほぼ半双円錐体（semi−biconic）の構造を含む、前述の実施形態のいずれか１つに記載の転写テープである。
【０１４８】
実施形態１６は、微細構造化表面が、ランダムに又は疑似ランダムに分散した構造を含む、前述の実施形態のいずれか１つに記載の転写テープである。
【０１４９】
実施形態１７は、微細構造化表面の少なくとも８０％が、約１°を超える勾配の大きさを有する、前述の実施形態のいずれか１つに記載の転写テープである。
【０１５０】
実施形態１８は、微細構造化表面の少なくとも９０％が、約１°を超える勾配の大きさを有する、前述の実施形態のいずれか１つに記載の転写テープである。
【０１５１】
実施形態１９は、微細構造化表面の２％未満が、１°未満の勾配の大きさを有する、前述の実施形態のいずれか１つに記載の転写テープである。
【０１５２】
実施形態２０は、層が接着剤を含む、前述の実施形態のいずれか１つに記載の転写テープである。
【０１５３】
実施形態２１は、接着剤が、ポリジオルガノシロキサンポリオキサミドコポリマーを含む、実施形態２０に記載の転写テープである。
【０１５４】
実施形態２２は、バックフィル層が、層を超える屈折率を有する、前述の実施形態のいずれか１つに記載の転写テープである。
【０１５５】
実施形態２３は、バックフィル材料が、ポリシロキサン材料を含む、前述の実施形態のいずれか１つに記載の転写テープである。
【０１５６】
実施形態２４は、構造化表面と対向するテンプレート層の平坦表面上に配置されたキャリアフィルムを更に含む、前述の実施形態のいずれか１つに記載の転写テープである。
【０１５７】
実施形態２５は、テンプレート層の構造化表面とバックフィル層との間に配置された転写層を更に含む、前述の実施形態のいずれか１つに記載の転写テープである。
【０１５８】
実施形態２６は、転写層が剥離コーティングを含む、前述の実施形態のいずれか１つに記載の転写テープである。
【０１５９】
実施形態２７は、構造化表面が微小光学屈折面を含む、前述の実施形態のいずれか１つに記載の転写テープである。
【０１６０】
実施形態２８は、構造化表面が、高さ約１０μｍを超える表面特徴部を含む、前述の実施形態のいずれか１つに記載の転写テープである。
【０１６１】
実施形態２９は、バックフィル層が、テンプレート層の構造化表面上にパターン配置されている、前述の実施形態のいずれか１つに記載の転写テープである。
【０１６２】
実施形態３０は、層が、バックフィル層の微細構造化表面上にパターン配置されている、前述の実施形態のいずれか１つに記載の転写テープである。
【０１６３】
実施形態３１は、パターンが、複数の島、線又は島と線の組み合わせを含む、実施形態２９又は３０に記載の転写テープである。
【０１６４】
実施形態３２は、
主表面を有するガラス板と、
主表面の少なくとも一部に接着された微小光学層であって、微小光学層は、構造化表面及び対向する微細構造化表面を有し、硬化したバックフィル層と、バックフィル層とは異なる屈折率を有する微細構造化表面に隣接する層と、を含み、
微細構造化表面は、微細構造化表面に隣接する層とともに、異方性拡散体をなす、微小光学ガラスである。
【０１６５】
実施形態３３は、微細構造化表面に隣接する層が接着剤であり、接着剤が、微小光学層をガラス板の主表面に接着している、実施形態３２に記載の微小光学ガラスである。
【０１６６】
実施形態３４は、微小光学層とガラス板との間に有機ポリマーフィルム基材が存在しない、実施形態３２〜３３のいずれか１つに記載の微小光学ガラスである。
【０１６７】
実施形態３５は、実施形態２〜３１のいずれか１つ又は組み合わせによって更に特徴付けられる、実施形態３２〜３４のいずれか１つに記載の微小光学ガラスである。
【０１６８】
実施形態３６は、
主表面を有するガラス板と、
主表面の少なくとも一部に接着された微小光学層と、
異なる屈折率を有する層に隣接する微細構造化境界面であって、微細構造化境界面は微小光学層に近接している、微細構造化境界面と、を含む、微小光学ガラスであって、
３０°〜６０°の入射角で、微小光学ガラスは日光の少なくとも８０％を上向きに方向転換させ、太陽柱は出現せず、
微細構造化境界面は、非対称構造を含み、可視光を異方性拡散させるようになっている、微小光学ガラスである。
【０１６９】
実施形態３７は、微細構造化境界面が、２０〜８５％の光学ヘイズ及び５０％以下の光学的透明度を有する、実施形態３６に記載の微小光学ガラスである。
【０１７０】
実施形態３８は、微細構造化境界面が、２０〜７５％の光学ヘイズ及び５〜４０％の光学的透明度を有する、実施形態３６に記載の微小光学ガラスである。
【０１７１】
実施形態３９は、微細構造化境界面が、２５〜６５％の光学ヘイズ及び７〜３７％の光学的透明度を有する、実施形態３６に記載の微小光学ガラスである。
【０１７２】
実施形態４０は、微細構造化境界面が、３０〜６０％の光学ヘイズ及び１０〜３５％の光学的透明度を有する、実施形態３６に記載の微小光学ガラスである。
【０１７３】
実施形態４１は、微細構造化境界面が、第１の方向に第１の半値半幅（ＨＷＨＭ）を有する表面角度分布、及び第１の方向とは異なる第２の方向に第２のＨＷＨＭを有する第２の表面角度分布を有し、第１のＨＷＨＭが、第２のＨＷＨＭとは異なる、微小光学ガラスを対象とする前述の実施形態のいずれか１つに記載の微小光学ガラスである。
【０１７４】
実施形態４２は、第１のＨＷＨＭ／第２のＨＷＨＭの比率が、１．１を超え約１０未満である、実施形態４１に記載の微小光学ガラスである。
【０１７５】
実施形態４３は、微細構造化境界面が、第１の方向により拡散しやすく、第１の方向と直交する第２の方向にはより拡散しにくい、微小光学ガラスを対象とする前述の実施形態のいずれか１つに記載の微小光学ガラスである。
【０１７６】
実施形態４４は、微細構造化境界面が、レンズ状構造を含む、微小光学ガラスを対象とする前述の実施形態のいずれか１つに記載の微小光学ガラスである。
【０１７７】
実施形態４５は、微細構造化境界面が、ほぼ半楕円体又はほぼ半双円錐の構造を含む、微小光学ガラスを対象とする前述の実施形態のいずれか１つに記載の微小光学ガラスである。
【０１７８】
実施形態４６は、微細構造化境界面が、ランダムに又は疑似ランダムに分散した構造を含む、微小光学ガラスを対象とする前述の実施形態のいずれか１つに記載の微小光学ガラスである。
【０１７９】
実施形態４７は、微細構造化境界面の少なくとも８０％が、約１°を超える勾配の大きさを有する、微小光学ガラスを対象とする前述の実施形態のいずれか１つに記載の微小光学ガラスである。
【０１８０】
実施形態４８は、微細構造化境界面の少なくとも９０％が、約１°を超える勾配の大きさを有する、微小光学ガラスを対象とする前述の実施形態のいずれか１つに記載の微小光学ガラスである。
【０１８１】
実施形態４９は、微細構造化境界面の２％未満が、１°未満の勾配の大きさを有する、微小光学ガラスを対象とする前述の実施形態のいずれか１つに記載の微小光学ガラスである。
【０１８２】
実施形態５０は、層が接着剤層であり、微細構造化境界面が硬化した樹脂層と接着剤層との間にあり、硬化した樹脂層が、接着剤層より少なくとも０．０５大きい屈折率を有する、微小光学ガラスを対象とする前述の実施形態のいずれか１つに記載の微小光学ガラスである。
【０１８３】
実施形態５１は、層が空気層であり、微細構造化境界面が、硬化した樹脂層と空気層の間にある、微小光学ガラスを対象とする前述の実施形態のいずれか１つに記載の微小光学ガラスである。
【０１８４】
実施形態５２は、
室内側の外表面を有するガラス板から間隙によって隔てられている日光側の板外表面を有するガラス板であって、各板は間隙に隣接する内表面を有する、ガラス板と、
ガラス板の内表面の少なくとも一部に接着された微小光学層であって、微小光学層は、硬化したバックフィル層を含み、微小光学層は、構造化表面と、これに対向する、バックフィル層とは異なる屈折率を有する層に隣接する、微細構造化表面と、を有し、微細構造化表面は層とともに異方性拡散体をなす、微小光学層と、を含む、断熱ガラスユニットである。
【０１８５】
実施形態５３は、微細構造化表面に隣接する層が接着剤であり、接着剤が、微小光学層をガラス板の主表面に接着している、実施形態５２に記載の断熱ガラスユニットである。
【０１８６】
実施形態５４は、実施形態２〜３１のいずれか１つ又は組み合わせによって更に特徴付けられる、実施形態５２又は５３に記載の断熱ガラスユニットである。
【０１８７】
実施形態５５は、断熱ガラスユニットであって、
室内側の外表面を有するガラス板から間隙によって隔てられている日光側の板外表面を有するガラス板であって、各板は間隙に隣接する内表面を有する、ガラス板と、
断熱ガラスユニットの内表面上に配置された微小光学層と、
微小光学層と室内側の外表面との間に配置された微細構造化境界面であって、微細構造化境界面は非対称構造を含み、微細構造化境界面は、可視光を異方性拡散させるようになっている、微細構造化境界面と、を含む、断熱ガラスユニットである。
【０１８８】
実施形態５６は、実施形態３６〜５１のいずれか１つ又は組み合わせによって更に特徴付けられる、実施形態５５に記載の断熱ガラスユニットである。
【０１８９】
実施形態５７は、微小光学層が、構造化表面及び対向する平坦表面を有し、平坦表面が、ガラス板の日光側の内表面の微細構造化境界面に接着剤で接着されている、実施形態５５又は５６に記載の断熱ガラスユニットである。
【０１９０】
実施形態５８は、微小光学層が、構造化表面及び対向する平坦表面を有し、微細構造化境界面が、ガラス板の室内側の外表面上に配置されている、実施形態５５又は５６に記載の断熱ガラスユニットである。
【０１９１】
実施形態５９は、微小光学層とガラス板との間に有機ポリマーフィルム基材が存在しない、実施形態５５〜５８のいずれか１つに記載の断熱ガラスユニットである。
【０１９２】
実施形態６０は、外側表面を通過する日光が内表面を通過する前に構造化表面により屈折するように、構造化表面が、間隙を充填する気体に隣接している、実施形態５５〜５９のいずれか１つに記載の断熱ガラスユニットである。
【０１９３】
実施形態６１は、実施形態２０〜３１のいずれか１つ又は組み合わせによって更に特徴付けられる、実施形態５５〜６０のいずれか１つに記載の断熱ガラスユニットである。
【０１９４】
実施形態６２は、
構造化表面を有する第１のテンプレートを準備する工程と、
硬化性バックフィル層が第１のテンプレートの構造化表面と適合する主表面及び対向する平坦表面を有するように、構造化表面上に硬化性バックフィル層を提供する工程と、
硬化性バックフィル層の平坦表面を第２のテンプレートと接触させる工程であって、第２のテンプレートは、非対称構造を有する微細構造化表面を含む、工程と、
バックフィル材料を硬化させて、それにより構造化表面及び対向する微細構造化表面を有する硬化したバックフィル層を形成する工程と、を含む、転写テープの製造方法である。
【０１９５】
実施形態６３は、第２のテンプレート層を取り外す工程を更に含む、実施形態６２に記載の方法である。
【０１９６】
実施形態６４は、硬化したバックフィル層の微細構造化表面上に層を提供する工程であって、層が、硬化したバックフィル層とは異なる屈折率を有する、工程を更に含む、実施形態６２〜６３のいずれか１つに記載の方法である。
【０１９７】
実施形態６５は、硬化したバックフィル層の微細構造化表面上に提供される層が、接着剤である、実施形態６４に記載の方法である。
【０１９８】
実施形態６６は、接着剤の対向する表面上に取り外し可能な剥離ライナーを提供する工程を更に含む、実施形態６５に記載の方法である。
【０１９９】
実施形態６７は、構造化表面が、複数の山及び谷を含む、実施形態６２〜６６のいずれか１つに記載の方法である。
【０２００】
実施形態６８は、バックフィル層が、山の最大高さを超える厚さを有する、実施形態６７に記載の方法である。
【０２０１】
実施形態６９は、転写テープが、実施形態１〜３１のいずれか１つ又は組み合わせによって更に特徴付けられる、実施形態６２〜６８のいずれか１つに記載の方法である。
【０２０２】
実施形態７０は、
構造化表面を有する第１のテンプレートと、
硬化性バックフィル層が第１のテンプレートの構造化表面と適合する主表面及び対向する表面を有するような、構造化表面上の硬化性バックフィル層と、
バックフィル層の対向する表面と接触させて配置された微細構造化表面を有する第２のテンプレートであって、微細構造化表面は非対称構造を含む、第２のテンプレートと、を含む、転写テープを準備する工程と、
第２のテンプレート層を取り外す工程と、
硬化した微細構造化バックフィル層を、接着剤でガラス板に接着する工程であって、接着剤は、バックフィル層とは異なる屈折率を有する、工程と、を含む、微小光学ガラスの製造方法である。
【０２０３】
実施形態７１は、
構造化表面を有する第１のテンプレートと、
硬化性バックフィル層が第１のテンプレートの構造化表面と適合する主表面及び非対称構造を含む対向する微細構造化表面を有するような、構造化表面上の硬化性バックフィル層と、
硬化したバックフィル層の微細構造化表面上に配置された層であって、層は、硬化したバックフィル層とは異なる屈折率を有する、層と、を含む、転写テープを準備する工程と、
硬化したバックフィル層とは異なる屈折率を有する層に接着剤を適用する工程と、
硬化した微細構造化バックフィル層をガラス板に接着する工程と、を含む、微小光学ガラスの製造方法である。
【０２０４】
実施形態７２は、
構造化表面を有する第１のテンプレートと、
硬化性バックフィル層が第１のテンプレートの構造化表面と適合する主表面及び非対称構造を含む対向する微細構造化表面を有するような、構造化表面上の硬化性バックフィル層と、
硬化したバックフィル層の微細構造化表面上に配置された接着剤層であって、接着剤層は、硬化したバックフィル層とは異なる屈折率を有する、接着剤層と、を含む、転写テープを準備する工程と、
バックフィル層の微細構造化表面上に配置された接着剤層によって、硬化した微細構造化バックフィル層をガラス板に接着する工程と、を含む、微小光学ガラスの製造方法である。
【０２０５】
実施形態７３は、
構造化表面及び対向する表面を有する第１のテンプレートと、
硬化したバックフィル層が、第１のテンプレートの構造化表面と適合する主表面及び非対称微細構造を含む対向する表面を有するような、構造化表面上のバックフィル層と、
バックフィル層の対向する表面上に配置された接着剤層と、
接着剤層上に配置された剥離ライナーと、を含む、転写テープを準備する工程と、
切断部分は剥離ライナーに残り、未切断部分は取り外すことができるように、第１のテンプレート、バックフィル層、及び接着剤層を切断する工程と、を含む、転写テープの製造方法である。
【０２０６】
実施形態７４は、転写テープが、実施形態１〜３１のいずれか１つ又は組み合わせによって更に特徴付けられる、実施形態７３に記載の方法である。
【０２０７】
実施形態７５は、
実施形態７３又は７４に記載の転写テープを準備する工程と、
剥離ライナーを取り外す工程と、
スコアカット部分の接着剤をガラス板に接着する工程と、
第１のテンプレートを取り外す工程と、を含む、微小光学ガラスの製造方法である。
【０２０８】
実施形態７６は、接着剤が、ガラス板に屈折率整合されている、実施形態７５に記載の微小光学ガラスの製造方法である。
【０２０９】
実施形態７７は、
構造化表面及び対向する表面を有する第１のテンプレートと、
硬化したバックフィル層が、第１のテンプレートの構造化表面と適合する主表面及び対向する表面を有するような、構造化表面上のバックフィル層と、を含む、転写テープを準備する工程と、
粗表面を有するガラスを準備する工程であって、粗表面は、第１の方向に第１の半値半幅（ＨＷＨＭ）を有する勾配分布及び第１の方向とは異なる第２の方向に第２のＨＷＨＭを有する第２の表面角度分布を有し、第１のＨＷＨＭは、第２のＨＷＨＭとは異なる、工程と、
ガラスの粗表面をバックフィル層の対向する表面に接着剤で接着する工程であって、接着剤は、硬化したバックフィル層と実質的に同じ屈折率を有し、接着剤は、ガラスとは異なる屈折率を有する、工程と、を含む、微小光学ガラスの製造方法である。
【０２１０】
実施形態７８は、
構造化表面及び対向する表面を有する第１のテンプレートと、
硬化したバックフィル層が、第１のテンプレートの構造化表面と適合する主表面及び非対称微細構造を含む対向する表面を有するような、構造化表面上のバックフィル層と、を含む、転写テープを準備する工程と、
粗表面及び平坦表面を有するガラスを準備する工程と、
ガラスの平坦表面をバックフィル層に接着剤で接着する工程であって、接着剤は、硬化したバックフィル層と実質的に同じ屈折率を有し、接着剤は、ガラスと実質的に同じ屈折率を有する、工程と、を含む、微小光学ガラスの製造方法である。
【０２１１】
実施形態７９は、ガラスの粗表面が、微細構造化されたコーティングを含む、実施形態７８又は７８に記載の方法である。
【０２１２】
実施形態８０は、微細構造化されたコーティングが、マット粒子を含まない、実施形態７９に記載の方法である。
【０２１３】
実施形態８１は、微小光学ガラスが、実施形態３２〜５１のいずれか１つ又は組み合わせによって更に特徴付けられる、微小光学ガラスの製造方法を対象とする前述の実施形態のいずれか１つに記載の微小光学ガラスの製造方法である。
【０２１４】
本明細書に引用される全ての参考文献及び刊行物は、それらが本開示と直接矛盾し得る場合を除き、それらの全容を参照によって本開示に明確に援用するものである。本明細書において具体的な実施形態を図示し説明したが、本開示の範囲を逸脱することなく、図示及び説明された具体的な実施形態を、様々な代替的かつ／又は均等な実現形態で置き換えることができることが、当業者には認識されるであろう。本出願は、本明細書において説明した具体的な実施形態のいかなる適合例又は変形例をも包含することを意図している。したがって、本開示は、特許請求の範囲及びその均等物によってのみ限定されるものとする。
【実施例】
【０２１５】
拡散体が埋め込まれた日光方向転換転写フィルムを調製した。評価するために、これらのフィルムをガラス基板に転写した。これらの実施例は、単に例示のために過ぎず、添付の特許請求の範囲を限定することを意図していない。実施例及び本明細書のその他の箇所における部、百分率、比などは全て、特に断りのない限り、重量によるものである。
【表１】
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【０２１６】
比較例１：ガラス上の微細構造化対称埋め込み拡散体を有する日光方向転換微細構造
日光方向転換微細構造化テンプレート／剥離コーティングされたフィルム
使用した支持基材は、ＡＰ１を含む接着促進プライマーコーティングを有する３ｍｉｌ（約７６μｍ）の二軸配向ＰＥＴフィルムであった。複製樹脂は、０．５％光開始剤ＰＩ１を含むＲ１とＲ２との７５／２５ブレンドであった。複製しようとする領域全体にわたって樹脂が均一に分散するような方法及び割合で、複製樹脂をＰＥＴ基材上に適用した。樹脂の複製を、１２５°Ｆ（５２℃）に加熱した工具上で３０ｆｐｍ（９ｍ／ｍｉｎ）で行った。所望の日光方向転換構造と同じであるが相補的な形状を有する工具を、ダイヤモンド切削プロセスを使用して事前に作製しておいた。所望の周期的構造は、１つの周期につき２つの山及び４つの小平面、関数の片側につき１つの小平面を含んでいた。ダイヤモンド切削プロセスの結果として、山はわずかに丸くなっていた。更なる詳細は、「ＯＰＴＩＣＡＬ  ＳＴＲＵＣＴＵＲＥＳ  ＦＯＲ  ＲＥＤＩＲＥＣＴＩＮＧ  ＤＡＹＬＩＧＨＴ」という名称の、米国特許出願シリアル番号第６２／０９４６２６号（代理人整理番号７６０６３ＵＳ００２）に記載されており、これは、本明細書と矛盾しない程度に、参照により本明細書に援用される。工具と接触している間に、６００Ｗ／ｉｎ（２４ｋＷ／ｍ）で動作するＦｕｓｉｏｎ「Ｄ」ランプからの放射線にフィルムを透過させて、樹脂を硬化させた。次に、複製された日光方向転換微細構造化テンプレートフィルム（ＰＥＴ基材上の複製された樹脂）を工具から取り外し、更なる加工に備えて巻いてロールにした。
【０２１７】
キャスティングされる（cast）材料を後で取り外すことができるように、複製された日光方向転換微細構造化テンプレートフィルムは、低圧プラズマチャンバー内で表面処理した。チャンバーから空気を除去した後、それぞれ３００ｍＴｏｒｒのチャンバー全圧で６００及び３００ｓｃｃｍの流量でペルフルオロヘキサン（Ｃ６Ｆ１４）及び酸素をチャンバーに導入した。フィルムに４０ｆｔ／ｍｉｎ（１２ｍ／ｍｉｎ）で処理ゾーンを移動させながら、ＲＦ電力３０００Ｗでフィルムを処理した。これにより日光方向転換微細構造化テンプレート／剥離コーティングされたフィルムが形成された。
【０２１８】
埋め込み微細構造化対称拡散テンプレート／剥離コーティングされたフィルム
ＡＰ１を含む接着促進プライマーコーティングを有する３ｍｉｌ（約７６μｍ）の二軸配向ＰＥＴフィルムは、フィルム上に複製された円筒形複製工具による構造を有していた。これにより、光方向転換光学素子と接着剤との間の拡散境界面である、埋め込み微細構造化対称拡散体テンプレート（拡散テンプレート）が形成された。円筒形複製工具は、国際公開第２０１４／０８１６９３号（Ｐｈａｍ  ｅｔ  ａｌ．）に記載の「第１の工具（ｆｉｒｓｔ  ｔｏｏｌ）」に使用された方法により製造した。複製樹脂は、０．５％ＰＩ１を含む光開始剤パッケージを含む、Ｒ１、Ｒ２及びＲ５の６０／２０／２０ブレンドであった。複製しようとする領域全体にわたって樹脂が均一に分散するような方法及び割合で、複製樹脂をＰＥＴフィルム上に適用した。樹脂の複製を、１２５°Ｆ（５２℃）に加熱した複製工具上で１００ｆｐｍで行った。所望の拡散構造と同じであるが相補的な形状を有する複製工具を、国際公開第２０１４／０８１６９３号（Ｐｈａｍ  ｅｔ  ａｌ．）に記載のプロセスを使用して事前に作製しておいた。工具と接触している間に、６００Ｗ／ｉｎ（２４ｋＷ／ｍ）で動作するＦｕｓｉｏｎ「Ｄ」ランプからの放射線にフィルムを透過させて、樹脂を硬化させた。次に、埋め込み微細構造化対称拡散テンプレートフィルム（複製樹脂及びＰＥＴ基材）を工具から取り外し、更なる加工に備えて巻いてロールにした。埋め込み微細構造化対称拡散テンプレートフィルムを低圧プラズマチャンバー内で剥離処理して、方向転換光学樹脂の硬化後にこのフィルムを取り外せるようにした。チャンバーから空気を除去した後、それぞれ３００ｍＴｏｒｒのチャンバー全圧で６００及び３００ｓｃｃｍの流量でペルフルオロヘキサン（Ｃ６Ｆ１４）及び酸素をチャンバーに導入した。フィルムに４０ｆｔ／ｍｉｎ（１２ｍ／ｍｉｎ）で処理ゾーンを移動させながら、ＲＦ電力３０００Ｗでフィルムを処理した。これにより埋め込み微細構造化対称拡散テンプレート／剥離コーティングされたフィルムが形成された。
【０２１９】
バックフィルコーティングされた日光方向転換微細構造化テンプレート／埋め込み微細構造化対称拡散境界面を有する剥離フィルム
ノッチバーハンドスプレッドコーター（notch bar handspread coater）を使用して、前述の日光方向転換微細構造化テンプレート／剥離コーティングされたフィルムを、液状コーティング溶液で３ｍｉｌ（約７６μｍ）埋め戻した。コーティング溶液は、１３．５ｇのＲ３及び３．４ｇのＲ４、０．３ｇのＰＩ１、２９．０ｇのＳ１及び５３．８ｇのＮＰ１からなっていた。次に、コーティングされた日光方向転換微細構造化テンプレート／剥離コーティングされたフィルムを６０℃で１０分間乾燥させて溶媒を除去した。次に、卓上サイズの２ロールラミネーターを使用して、前述の埋め込み微細構造化対称拡散テンプレート／剥離コーティングされたフィルムを、コーティングの露出している表面に積層した。その後、連続ベルト硬化ステーション及び１００％電力のＦｕｓｉｏｎ  Ｈ−ｂｕｌｂを使用して、フィルムを硬化させた。５０ｆｔ／ｍｉｎ（１５ｍ／ｍｉｎ）で２回通過させた。
【０２２０】
接着剤コーティング
埋め込み微細構造化対称拡散テンプレート／剥離コーティングされたフィルムを、硬化したコーティングの表面から取り外した。コーティングの、この時点では拡散表面上に、ハンドスプレッドノッチバーコーターを使用して、酢酸エチル中の粘着付与されたシリコーン接着剤（ＡＤＨ１）の液状コーティングを３ｍｉｌ（約７６μｍ）コーティングした。これを室温で３０分間、その後コンベクションオーブン中で７０℃で３０分間、乾燥させて溶媒を除去した。卓上サイズの２ロールラミネーターを使用して、この構造体全体を、ガラスに接着性の２”×３”（５．１ｃｍ×７．６ｃｍ）顕微鏡スライドガラスに固定した。次に、日光方向転換微細構造化テンプレート／剥離コーティングされたフィルムを、積層物の最上部から取り外した。これにより、ガラス上の微細構造化対称埋め込み拡散体を有する日光方向転換微細構造が形成された。透過モードのイメージングスフェア（Ｒａｄｉａｎｔ  Ｖｉｓｉｏｎ  Ｓｙｓｔｅｍｓ（Ｒｅｄｍｏｎｄ，ＷＡ）製のＩＳ−ＳＡ）を使用して、４５°の垂直高度の入射光源を用いて、図１８に示す双方向透過率分布関数（ＢＴＤＦ）プロットを作成した。
【０２２１】
実施例１：ガラス上の微細構造化非対称埋め込み拡散体を有する日光方向転換微細構造
日光方向転換微細構造化テンプレート／剥離コーティングされたフィルム
この実施例で使用した日光方向転換微細構造化テンプレート／剥離コーティングされたフィルムは、比較例１で使用されたものと同じように製造した。
【０２２２】
埋め込み微細構造化非対称拡散テンプレート／剥離コーティングされたフィルム
この実施例では、シート拡散フィルムＤ１から拡散テンプレートを製造した。後でテンプレートから材料を取り外すことができるように、低圧プラズマチャンバー内で表面処理した。チャンバーから空気を除去した後、サンプルを、２００ｓｃｃｍの酸素流及び５００ＷのＲＦ電力を使用して３０秒間清浄にした。この後、２００ｓｃｃｍのペルフルオロヘキサン（Ｃ６Ｆ１４）流及び１０００ＷのＲＦ電力を使用して９０秒間、剥離コーティング工程を行った。最後に、サンプルの入ったチャンバーを、５００ｓｃｃｍの酸素で２４０秒間パージした。これにより埋め込み微細構造化非対称拡散テンプレート／剥離コーティングされたフィルムが形成された。
【０２２３】
バックフィルコーティングされた日光方向転換微細構造化テンプレート／埋め込み微細構造化非対称拡散境界面を有する剥離フィルム
この実施例におけるバックフィルコーティング及び乾燥は、上記比較例１で使用されたものと同じように行った。次に、卓上サイズの２ロールラミネーターを使用して、前述の埋め込み微細構造化非対称拡散テンプレート／剥離コーティングされたフィルムを、コーティングの露出している表面に積層した。積層前に、拡散テンプレートを、拡散角が最も広くなる軸が日光方向転換微細構造化テンプレートのプリズムと平行となるような向きにした。その後、連続ベルト硬化ステーション及び１００％電力のＦｕｓｉｏｎ  Ｈ−ｂｕｌｂを使用して、フィルムを硬化させた。５０ｆｔ／ｍｉｎ（１５ｍ／ｍｉｎ）で２回通過させた。
【０２２４】
接着剤コーティング
接着剤コーティング及び顕微鏡スライドガラスへの積層は、比較例１に記載したものと同じように行った。透過モードのイメージングスフェア（Ｒａｄｉａｎｔ  Ｖｉｓｉｏｎ  Ｓｙｓｔｅｍｓ（Ｒｅｄｍｏｎｄ，ＷＡ）製のＩＳ−ＳＡ）を使用して、４５°の垂直高度の入射光源を用いて、図１９に示す双方向透過率分布関数（ＢＴＤＦ）プロットを作成した。
【０２２５】
実施例２：ガラス上の微細構造化非対称埋め込み拡散体を有する日光方向転換微細構造
日光方向転換微細構造化テンプレート／剥離コーティングされたフィルム
この実施例で使用した日光方向転換微細構造化テンプレート／剥離コーティングされたフィルムは、比較例１で使用されたものと同じように製造した。
【０２２６】
埋め込み微細構造化非対称拡散テンプレート／剥離コーティングされたフィルム
この実施例では、拡散フィルムＤ２のシートから拡散テンプレートを製造した。後でテンプレートから材料を取り外すことができるように、低圧プラズマチャンバー内で表面処理した。チャンバーから空気を除去した後、サンプルを、２００ｓｃｃｍの酸素流及び５００ＷのＲＦ電力を使用して３０秒間清浄にした。この後、２００ｓｃｃｍのペルフルオロヘキサン（Ｃ６Ｆ１４）流及び１０００ＷのＲＦ電力を使用して９０秒間、剥離コーティング工程を行った。最後に、サンプルの入ったチャンバーを、５００ｓｃｃｍの酸素で２４０秒間パージした。これにより埋め込み微細構造化非対称拡散テンプレート／剥離コーティングされたフィルムが形成された。
【０２２７】
バックフィルコーティングされた日光方向転換微細構造化テンプレート／埋め込み微細構造化非対称拡散境界面を有する剥離フィルム
【０２２８】
この実施例におけるバックフィルコーティング及び乾燥は、上記比較例１で使用されたものと同じように行った。次に、卓上サイズの２ロールラミネーターを使用して、前述の埋め込み微細構造化非対称拡散テンプレート／剥離コーティングされたフィルムを、コーティングの露出している表面に積層した。積層前に、拡散テンプレートを、拡散角が最も広くなる軸が日光方向転換微細構造化テンプレートのプリズムと平行となるような向きにした。その後、連続ベルト硬化ステーション及び１００％電力のＦｕｓｉｏｎ  Ｈ−ｂｕｌｂを使用して、フィルムを硬化させた。５０ｆｔ／ｍｉｎ（１５ｍ／ｍｉｎ）で２回通過させた。
【０２２９】
接着剤コーティング
接着剤コーティング及び顕微鏡スライドガラスへの積層は、比較例１に記載したものと同じように行った。透過モードのイメージングスフェア（Ｒａｄｉａｎｔ  Ｖｉｓｉｏｎ  Ｓｙｓｔｅｍｓ（Ｒｅｄｍｏｎｄ，ＷＡ）製のＩＳ−ＳＡ）を使用して、４５°の垂直高度の入射光源を用いて、図２０に示す双方向透過率分布関数（ＢＴＤＦ）プロットを作成した。
【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
2018521357.tif 000012
【図１Ｃ】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図２Ｃ】
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【図２Ｄ】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８Ａ】
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【図８Ｂ】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【国際調査報告】
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