(57)【要約】本発明は、偏光板一体型のウィンドウ基板及びその製造方法に関する。より詳細には、ベース基板と、該ベース基板の一面の非表示部に位置する非表示部パターンと、それと同一面の表示部に位置する液晶偏光層とを含むことにより、偏光機能を示すために用いる、偏光子とその両面に貼り付ける保護フィルムとの合計３枚のフィルムが備えられる偏光板を必要としないので、薄膜軽量化された表示装置を実現できるとともに、カラー非表示部パターンを実現できる偏光板一体型のウィンドウ基板及びその製造方法に関する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベース基板と、該ベース基板の一面の非表示部に位置する非表示部パターンと、それと同一面の表示部に位置する液晶偏光層とを含む、偏光板一体型のウィンドウ基板。
【請求項２】
前記非表示部パターンは、ベース基板に直接接する、請求項１に記載の偏光板一体型のウィンドウ基板。
【請求項３】
前記非表示部パターンは、前記表示部と前記非表示部とを区画する第１のパターンと、前記第１のパターンが位置する前記非表示部を覆う遮光性の第２のパターンとを含む、請求項１に記載の偏光板一体型のウィンドウ基板。
【請求項４】
前記非表示部パターンは、前記液晶偏光層以上の厚さを有する、請求項１に記載の偏光板一体型のウィンドウ基板。
【請求項５】
前記液晶偏光層上に位置する位相差層をさらに含む、請求項１に記載の偏光板一体型のウィンドウ基板。
【請求項６】
前記位相差層は、１／４波長板である、請求項５に記載の偏光板一体型のウィンドウ基板。
【請求項７】
前記位相差層は、１／４波長板および１／２波長板の複層である、請求項５に記載の偏光板一体型のウィンドウ基板。
【請求項８】
前記位相差層上に位置する屈折率調整層をさらに含む、請求項５に記載の偏光板一体型のウィンドウ基板。
【請求項９】
前記液晶偏光層上に位置する水系オーバーコート層と、前記オーバーコート層上に位置し、前記表示部および前記非表示部を平坦化するレベリング層とを含む、請求項１に記載の偏光板一体型のウィンドウ基板。
【請求項１０】
前記オーバーコート層は、前記非表示部パターン及び前記液晶偏光層の上に位置する、請求項９に記載の偏光板一体型のウィンドウ基板。
【請求項１１】
前記レベリング層上に位置する位相差層をさらに含む、請求項９に記載の偏光板一体型のウィンドウ基板。
【請求項１２】
前記非表示部パターンは、前記非表示部の少なくとも一部に位置し、前記非表示部の残りの領域に前記レベリング層がさらに位置する、請求項１１に記載の偏光板一体型のウィンドウ基板。
【請求項１３】
前記位相差フィルム上における前記非表示部の前記レベリング層の対応領域に色パターンをさらに含む、請求項１２に記載の偏光板一体型のウィンドウ基板。
【請求項１４】
前記色パターン上に遮光パターンをさらに含む、請求項１３に記載の偏光板一体型のウィンドウ基板。
【請求項１５】
請求項１〜１４のいずれか一項に記載の偏光板一体型のウィンドウ基板と、前記ベース基板の前記一面に貼り付けられたタッチパネルとを含む光学積層体。
【請求項１６】
請求項１５に記載の光学積層体を含む画像表示装置。
【請求項１７】
ベース基板の一面に表示部と非表示部とを区画する非表示部パターンを形成する段階と、
前記非表示部パターンによって区画された前記表示部に液晶偏光層を形成する段階とを含む、偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法。
【請求項１８】
ベース基板の一面の表示部に液晶偏光層を形成する段階と、
前記一面の非表示部に非表示部パターンを形成する段階とを含む、偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法。
【請求項１９】
キャリアフィルムの一面に液晶偏光層を形成する段階と、
前記液晶偏光層を前記キャリアフィルムから剥離してベース基板の一面の表示部に貼り付ける段階と、
前記ベース基板の前記一面の非表示部に非表示部パターンを形成する段階とを含む、偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法。
【請求項２０】
表示部に対応する開口部を有する離型フィルムが一面に貼り付けられているベース基板の前記表示部に液晶偏光層を形成する段階と、
前記離型フィルムを剥離する段階と、
前記一面の非表示部に非表示部パターンを形成する段階とを含む、偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法。
【請求項２１】
前記非表示部パターンは、前記液晶偏光層以上の厚さで形成する、請求項１７に記載の偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法。
【請求項２２】
前記離型フィルムは、前記液晶偏光層以上の厚さを有する、請求項２０に記載の偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法。
【請求項２３】
前記非表示部パターンを形成する段階は、前記表示部と前記非表示部とを区画する第１のパターンを形成する段階と、前記第１のパターンが位置する前記非表示部を覆う遮光性の第２のパターンを形成する段階とを含む、請求項１７〜２０のいずれか一項に記載の偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法。
【請求項２４】
前記液晶偏光層を形成する段階は、配向膜をコートして配向処理する段階と、前記配向処理した配向膜の上に液晶層をコートする段階と、前記液晶層を硬化する段階とを含む、請求項１７〜２０のいずれか一項に記載の偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法。
【請求項２５】
前記液晶偏光層を形成する段階は、配向膜をコートして配向処理する段階と、前記配向処理した配向膜の上に液晶層をコートする段階と、前記液晶層を硬化する段階とを含み、
前記配向膜のコート後および前記液晶層のコート前に前記非表示部を覆う離型フィルムを貼り付ける段階をさらに含む、請求項１７又は１８に記載の偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法。
【請求項２６】
前記液晶偏光層上に位相差層を形成する段階をさらに含む、請求項１７〜２０のいずれか一項に記載の偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法。
【請求項２７】
前記位相差層は、１／４波長板である、請求項２６に記載の偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法。
【請求項２８】
前記位相差層は、１／４波長板および１／２波長板の複層である、請求項２６に記載の偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法。
【請求項２９】
前記位相差層上に屈折率調整層を形成する段階をさらに含む、請求項２６に記載の偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法。
【請求項３０】
前記液晶偏光層上に水系オーバーコート層を形成する段階と、前記オーバーコート層上にレベリング層を形成し、前記表示部と前記非表示部を平坦化する段階とを含む、請求項１７に記載の偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法。
【請求項３１】
前記オーバーコート層は、前記液晶偏光層および前記非表示部パターンの上にオーバーコート層組成物を塗布して形成する、請求項３０に記載の偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法。
【請求項３２】
前記レベリング層の上に位相差層を形成する段階をさらに含む、請求項３０に記載の偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法。
【請求項３３】
前記非表示部パターンを前記非表示部の少なくとも一部に形成し、前記非表示部の残りの領域に前記レベリング層をさらに形成する、請求項３２に記載の偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法。
【請求項３４】
前記位相差フィルム上における前記非表示部の前記レベリング層の対応領域に色パターンを形成する段階をさらに含む、請求項３３に記載の偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法。
【請求項３５】
前記色パターン上に遮光パターンを形成する段階をさらに含む、請求項３４に記載の偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法。
【請求項３６】
前記ベース基板は、複数の単位セルを備える原基板であり、各段階は、単位セルごとに行われる、請求項１７〜２０のいずれか一項に記載の偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法。
【請求項３７】
前記ベース基板を前記単位セルごとに切断する段階をさらに含む、請求項３６に記載の偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光板一体型のウィンドウ基板及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
情報化社会の発達により、情報を表示できる表示装置の開発が盛んに行われている。表示装置には、液晶表示装置（liquid crystal display device）、有機発光表示装置（organic electro−luminescence display device）、プラズマ表示装置（plasma display panel）、および電界放出表示装置（field emission display device）が含まれる。
【０００３】
このうち、有機発光表示装置は、蛍光性の有機化合物を電気的に励起して発光する自発光型のディスプレイである。この有機発光表示装置は、低電圧で駆動が可能で、薄型であるという利点を有している。
【０００４】
この有機発光表示装置は、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）で発生する光を用いて画像を表示するが、外部からの光が入ると、入った光は、偏光板及び位相フィルムに順次入射し、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）を構成する電極部によって反射される。有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）を構成する電極部によって反射された光により、ユーザが前記有機発光表示装置を見るときにグレア現象などの問題が発生することになる。
【０００５】
また、電極部によって反射された光を偏光フィルムを用いて遮断することにより、ユーザがグレア現象を感じないようにする方法が提案されている。
【０００６】
最近では、ガラス基板の代わりに高分子フィルムを用いて、従来のパネルよりもさらに薄型・軽量であり、曲げることができるフレキシブルディスプレイの研究が盛んに進められている。このため、従来、ガラス（Glass）基板上にタッチセンサーパターンなどを形成したが、フレキシブル特性を実現できない限界のため、フィルム材質に代替されている。フレキシブルディスプレイで最も問題となるのは、ディスプレイパネル全体の厚さであり、厚さが増加するほど、パネルが曲がるときに受ける衝撃が大きくなり、破損の可能性が高くなる。したがって、ディスプレイパネルを構成する各要素の厚さを低減することが重要な目標である。
【０００７】
有機発光表示装置では、反射光の遮断のために偏光板を用いる。しかしながら、この偏光板は、偏光子とその両面に貼り付けられる保護フィルムとの合計３枚のフィルムを備えているため、ディスプレイパネルの厚さが全体的に厚くなる問題がある。
【０００８】
韓国公開特許第２０１２−００３８１３３号は、有機発光ダイオード表示装置及びその駆動方法を開示している。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、表示装置の厚さを顕著に低減できる偏光板一体型のウィンドウ基板を提供することを目的とする。
【００１０】
また、本発明は、偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
１．ベース基板と、該ベース基板の一面の非表示部に位置する非表示部パターンと、それと同一面の表示部に位置する液晶偏光層とを含む偏光板一体型のウィンドウ基板。
【００１２】
２．前記項目１において、前記非表示部パターンは、ベース基板に直接接する偏光板一体型のウィンドウ基板。
【００１３】
３．前記項目１において、前記非表示部パターンは、表示部と非表示部とを区画する第１のパターンと、前記第１のパターンが位置する非表示部を覆う遮光性の第２のパターンとを含む偏光板一体型のウィンドウ基板。
【００１４】
４．前記項目１において、前記非表示部パターンは、液晶偏光層以上の厚さを有する偏光板一体型のウィンドウ基板。
【００１５】
５．前記項目１において、前記液晶偏光層上に位置する位相差層をさらに含む偏光板一体型のウィンドウ基板。
【００１６】
６．前記項目５において、前記位相差層は、１／４波長板である偏光板一体型のウィンドウ基板。
【００１７】
７．前記項目５において、前記位相差層は、１／４波長板および１／２波長板の複層である偏光板一体型のウィンドウ基板。
【００１８】
８．前記項目５において、前記位相差層上に位置する屈折率調整層をさらに含む偏光板一体型のウィンドウ基板。
【００１９】
９．前記項目１において、前記液晶偏光層上に位置する水系オーバーコート層と、
該オーバーコート層上に位置し、前記表示部および非表示部を平坦化するレベリング層とを含む偏光板一体型のウィンドウ基板。
【００２０】
１０．前記項目９において、前記オーバーコート層は、非表示部パターン及び液晶偏光層の上に位置する偏光板一体型のウィンドウ基板。
【００２１】
１１．前記項目９において、前記レベリング層上に位置する位相差層をさらに含む偏光板一体型のウィンドウ基板。
【００２２】
１２．前記項目１１において、前記非表示部パターンは、非表示部の少なくとも一部に位置し、非表示部の残りの領域にレベリング層がさらに位置する偏光板一体型のウィンドウ基板。
【００２３】
１３．前記項目１２において、前記位相差層上における非表示部のレベリング層の対応領域に色パターンをさらに含む偏光板一体型のウィンドウ基板。
【００２４】
１４．前記項目１３において、前記色パターン上に遮光パターンをさらに含む偏光板一体型のウィンドウ基板。
【００２５】
１５．前記項目１〜１４のいずれか一項に記載の偏光板一体型のウィンドウ基板と、前記ベース基板の前記一面に貼り付けられたタッチパネルとを含む光学積層体。
【００２６】
１６．前記項目１５に記載の光学積層体を含む画像表示装置。
【００２７】
１７．ベース基板の一面に表示部と非表示部とを区画する非表示部パターンを形成する段階と、
前記非表示部パターンによって区画された表示部に液晶偏光層を形成する段階とを含む偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法。
【００２８】
１８．ベース基板の一面の表示部に液晶偏光層を形成する段階と、
前記一面の非表示部に非表示部パターンを形成する段階とを含む偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法。
【００２９】
１９．キャリアフィルムの一面に液晶偏光層を形成する段階と、
前記液晶偏光層をキャリアフィルムから剥離してベース基板の一面の表示部に貼り付ける段階と、
前記ベース基板の一面の非表示部に非表示部パターンを形成する段階とを含む偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法。
【００３０】
２０．表示部に対応する開口部を有する離型フィルムが一面に貼り付けられているベース基板の前記表示部に液晶偏光層を形成する段階と、
前記離型フィルムを剥離する段階と、
前記一面の非表示部に非表示部パターンを形成する段階とを含む偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法。
【００３１】
２１．前記項目１７において、前記非表示部パターンは、液晶偏光層以上の厚さで形成する偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法。
【００３２】
２２．前記項目２０において、前記離型フィルムは、液晶偏光層以上の厚さを有する偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法。
【００３３】
２３．前記項目１７〜２０のいずれか一項において、前記非表示部パターンを形成する段階は、表示部と非表示部とを区画する第１のパターンを形成する段階と、前記第１のパターンが位置する非表示部を覆う遮光性の第２のパターンを形成する段階とを含む偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法。
【００３４】
２４．前記項目１７〜２０のいずれか一項において、前記液晶偏光層を形成する段階は、配向膜をコートして配向処理する段階と、前記配向処理した配向膜の上に液晶層をコートする段階と、前記液晶層を硬化する段階とを含む偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法。
【００３５】
２５．前記項目１７又は１８において、前記液晶偏光層を形成する段階は、配向膜をコートして配向処理する段階と、前記配向処理した配向膜の上に液晶層をコートする段階と、前記液晶層を硬化する段階とを含み、前記配向膜のコート後および液晶層のコート前に非表示部を覆う離型フィルムを貼り付ける段階をさらに含む偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法。
【００３６】
２６．前記項目１７〜２０のいずれか一項において、前記液晶偏光層上に位相差層を形成する段階をさらに含む偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法。
【００３７】
２７．前記項目２６において、前記位相差層は、１／４波長板である偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法。
【００３８】
２８．前記項目２６において、前記位相差層は、１／４波長板および１／２波長板の複層である偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法。
【００３９】
２９．前記項目２６において、前記位相差層上に屈折率調整層を形成する段階をさらに含む偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法。
【００４０】
３０．前記項目１７において、前記液晶偏光層上に水系オーバーコート層を形成する段階と、前記オーバーコート層上にレベリング層を形成し、表示部と非表示部を平坦化する段階とを含む偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法。
【００４１】
３１．前記項目３０において、前記オーバーコート層は、液晶偏光層および非表示部パターンの上にオーバーコート層組成物を塗布して形成する偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法。
【００４２】
３２．前記項目３０において、前記レベリング層上に位相差層を形成する段階をさらに含む偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法。
【００４３】
３３．前記項目３２において、前記非表示部パターンを非表示部の少なくとも一部に形成し、非表示部の残りの領域にレベリング層をさらに形成する偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法。
【００４４】
３４．前記項目３３において、前記位相差層上における非表示部のレベリング層の対応領域に色パターンを形成する段階をさらに含む偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法。
【００４５】
３５．前記項目３４において、前記色パターン上に遮光パターンを形成する段階をさらに含む偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法。
【００４６】
３６．前記項目１７〜２０のいずれか一項において、前記ベース基板は、複数の単位セルを備えた原基板であり、各段階は、単位セルごとに行われる偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法。
【００４７】
３７．前記項目３６において、前記ベース基板を単位セルごとに切断する段階をさらに含む偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法。
【発明の効果】
【００４８】
本発明の偏光板一体型のウィンドウ基板は、液晶偏光層を備え、偏光機能を示すために用いる、偏光子とその両面に貼り付けられる保護フィルムとの合計３枚のフィルムを備える偏光板を必要としないため、厚さが著しく薄くなっている。これにより、薄膜軽量化した表示装置を実現することができる。
【００４９】
本発明の偏光板一体型のウィンドウ基板は、カラー非表示部パターンを実現することにより、ユーザが非表示部パターンのカラーを視認できるようにする。
【００５０】
本発明の偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法によると、液晶偏光層材料の無駄遣いを減らすとともにカラー非表示部パターンを実現できるウィンドウ基板を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】図１は、本発明の一実施形態による偏光板一体型のウィンドウ基板の概略的な断面図である。
【図２】図２は、本発明の一実施形態による偏光板一体型のウィンドウ基板の概略的な断面図である。
【図３】図３は、本発明の一実施形態による偏光板一体型のウィンドウ基板の概略的な断面図である。
【図４】図４は、本発明の一実施形態による偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法の概略的な工程図である。
【図５】図５は、本発明の一実施形態による偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法の概略的な工程図である。
【図６】図６は、本発明の一実施形態による偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法の概略的な工程図である。
【図７】図７は、本発明の一実施形態による偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法の概略的な工程図である。
【図８】図８は、本発明の一実施形態に基づいて、表示部に対応する開口部を有する離型フィルムが一面に貼り付けられているベース基板の平面図である。
【図９】図９は、本発明の一実施形態による偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法の概略的な工程図である。
【図１０】図１０は、本発明の一実施形態による偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法の概略的な工程図である。
【図１１】図１１は、本発明の一実施形態による偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法の概略的な工程図である。
【図１２】図１２は、本発明の一実施形態による偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法の概略的な工程図である。
【図１３】図１３は、本発明の一実施形態による偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法の概略的な工程図である。
【図１４】図１４は、本発明の一実施形態による偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法の概略的な工程図である。
【図１５】図１５は、本発明の一実施形態による偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法の概略的な工程図である。
【図１６】図１６は、本発明の一実施形態による偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法の概略的な工程図である。
【図１７】図１７は、本発明の一実施形態による偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法の概略的な工程図である。
【図１８】図１８は、本発明の一実施形態による偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法の概略的な工程図である。
【図１９】図１９は、本発明の一実施形態による偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法の概略的な工程図である。
【図２０】図２０は、本発明の一実施形態による偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法の概略的な工程図である。
【図２１】図２１は、本発明の一実施形態による偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法の概略的な工程図である。
【図２２】図２２は、本発明の一実施形態による偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法の概略的な工程図である。
【図２３】図２３は、本発明の一実施形態による偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法の概略的な工程図である。
【図２４】図２４は、本発明の一実施形態による偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法の概略的な工程図である。
【図２５】図２５は、本発明の一実施形態による偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法の概略的な工程図である。
【図２６】図２６は、本発明の一実施形態による偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法の概略的な工程図である。
【図２７】図２７は、本発明の一実施形態による偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法の概略的な工程図である。
【図２８】図２８は、本発明の一実施形態による偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法の概略的な工程図である。
【図２９】図２９は、本発明の一実施形態による偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法の概略的な工程図である。
【図３０】図３０は、本発明の一実施形態による偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法の概略的な工程図である。
【図３１】図３１は、本発明の一実施形態による偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法の概略的な工程図である。
【図３２】図３２は、本発明の一実施形態による偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法の概略的な工程図である。
【図３３】図３３は、本発明の一実施形態による偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法の概略的な工程図である。
【図３４】図３４は、本発明の一実施形態による偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法の概略的な工程図である。
【図３５】図３５は、本発明の一実施形態による偏光板一体型のウィンドウ基板の概略的な断面図である。
【図３６】図３６は、本発明の一実施形態による偏光板一体型のウィンドウ基板の概略的な断面図である。
【図３７】図３７は、本発明の一実施形態による偏光板一体型のウィンドウ基板の概略的な断面図である。
【図３８】図３８は、本発明の一実施形態による偏光板一体型のウィンドウ基板の概略的な断面図である。
【図３９】図３９は、本発明の一実施形態による偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法の概略的な工程図である。
【図４０】図４０は、本発明の一実施形態による偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法の概略的な工程図である
【図４１】図４１は、本発明の一実施形態による偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法において、ベース基板が、単位セル以上の面積を有する基板である場合を示すものである。
【図４２】図４２は、本発明の一実施形態による偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法において、前記ベース基板が、複数の単位セルを備える原基板であり、各段階が、単位セルごとに行われる場合を概略的に示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００５２】
本発明は、ベース基板と、該ベース基板の一面の非表示部に位置する非表示部パターンと、それと同一面の表示部に位置する液晶偏光層とを含むことにより、偏光機能を示すために用いる、偏光子とその両面に貼り付けられる保護フィルムとの合計３枚のフィルムを備える偏光板を必要としないことから、薄膜軽量化された表示装置を実現できるとともに、カラー非表示部パターンを実現できる偏光板一体型のウィンドウ基板に関する。
【００５３】
以下、本発明の理解を助けるために好適な実施例を提示するが、これらの実施例は本発明を例示するものに過ぎず、添付の特許請求の範囲を制限するものではない。これらの実施例に対し、本発明の範疇および技術思想の範囲内で種々の変更および修正を加えることが可能であることは当業者にとって明らかであり、これらの変形および修正が添付の特許請求の範囲に属することも当然のことである。
【００５４】
本発明の偏光板一体型のウィンドウ基板は、ベース基板１００と、該ベース基板１００の一面の非表示部に位置する非表示部パターン２００と、それと同一面の表示部に位置する液晶偏光層３００とを含む。
【００５５】
ベース基板１００は、液晶表示装置、タッチスクリーンパネルなどに適用され、これらを外力から十分に保護できるように耐久性が大きく、ユーザがディスプレイをよく見ることができるようにする物質であれば特に限定されず、当該分野で用いられるベース基板１００を特に制限することなく用いることができる。例えば、ガラス、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ、polyethersulphone）、ポリアクリレート（ＰＡＲ、polyacrylate）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ、polyetherimide）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ、polyethyelenen napthalate）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ、polyethyelene terepthalate）、ポリフェニレンスルフィド（polyphenylene sulfide：ＰＰＳ）、ポリアリレート（polyallylate）、ポリイミド（polyimide）、ポリカーボネート（ＰＣ、polycarbonate）、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）、セルロースアセテートプロピオネート（cellulose acetate propionate、ＣＡＰ）などを用いることができる。
【００５６】
ベース基板１００の厚さは、特に限定されないが、例えば１０〜２００μｍであってもよい。厚さが１０μｍ未満であると、ウィンドウ基板としての十分な硬度、強度などを実現することが困難な場合があり、２００μｍを超えると、全体の厚さが増加して薄膜軽量化を実現することが困難になる問題がある。
【００５７】
ベース基板１００は、画像表示装置等に適用されたときに画像が表示される表示部と、電子機器の筐体の一部を構成する非表示部パターン２００によって隠されて画像が表示されない非表示部とを含む。例えば、非表示部でも画像を出力することができるが、非表示部に表示された画像は、非表示部パターン２００によって隠されるため、ユーザが見ることができない。
【００５８】
非表示部パターン２００は、前記ベース基板１００の一面の非表示部に位置する。
【００５９】
非表示部パターン２００は、表示部と非表示部との境界を形成し、かつ遮光性のパターンであり、下部配線などがユーザに視認されないようにする。
【００６０】
薄膜化のために偏光板の代わりに液晶偏光層３００を使用する通常の偏光板一体型のウィンドウ基板は、一面全体にコートされた液晶偏光層３００と、該液晶偏光層３００上の非表示部に形成される非表示部パターン２００とを含む。このため、画像表示装置などに適用されたとき、表示パネルから非表示部パターン２００に入射する光が液晶偏光層３００を経てユーザに視認されるので、非表示部パターン２００のカラーが視認できない問題がある。
【００６１】
これに対して、本発明に係る非表示部パターン２００は、ベース基板１００に直接接して、表示パネルから非表示部パターン２００に入射する光が液晶偏光層３００を経由せずにユーザに視認されるため、非表示部パターン２００を様々なカラーで形成し、ユーザが様々なカラーの非表示部パターン２００を視認することができる。
【００６２】
本発明に係る非表示部パターン２００は、単層または複層であってもよい。
【００６３】
単層の非表示部パターン２００は、実現しようとするカラーを有する遮光性のパターンである。
【００６４】
複層の非表示部パターン２００は、実現しようとするカラーを有する遮光性パターンが複層に積層されたものであってもよい。
【００６５】
また、複層の非表示部パターン２００は、表示部と非表示部との境界を形成する第１のパターン２１０と、該第１のパターン２１０が位置する非表示部を覆う遮光性の第２のパターン２２０とを含むことができる。
【００６６】
第１のパターン２１０は、表示部と非表示部との境界を形成するものであり、表示部と非表示部の枠のみに位置していてもよく、非表示部全体に位置していてもよい。
【００６７】
第１のパターン２１０は、透明または不透明であってもよい。第１のパターン２１０が透明であっても、第２のパターン２２０が遮光性であるため、第２のパターン２２０により、ユーザに下部配線が視認されることを防ぐことができる。
【００６８】
第２のパターン２２０は、第１のパターン２１０が位置する非表示部を覆う遮光性のパターンである。
【００６９】
第１のパターン２１０及び第２のパターン２２０は、互いに独立して単層または複層のパターンであってもよい。
【００７０】
第１のパターン２１０又は第２のパターン２２０が複層のパターンである場合は、各層は、互いに独立して透明または不透明であってもよい。但し、第２のパターン２２０の少なくとも一つの層は不透明である。
【００７１】
非表示部パターン２００の厚さは、特に限定されないが、例えば１〜１００μｍであってもよい。非表示部パターン２００は、液晶偏光層３００以上の厚さを有することが、製造工程上の観点から好ましい。
【００７２】
非表示部パターン２００には、アイコン、ＩＲ、ロゴなどのパターンが陰刻されていてもよい。
【００７３】
液晶偏光層３００は、非表示部パターン２００と同一面の表示部に位置する。
【００７４】
通常の偏光板は、偏光子と、その両面に貼り付けられている保護フィルムとからなっているが、液晶偏光層３００は、偏光子の役割を果たすコート層であり、これを用いることにより厚さを顕著に減らすことができる利点を有する。
【００７５】
液晶偏光層３００は、液晶層３２０および配向膜３１０を含むものであり、液晶層３２０を配向処理した配向膜３１０によって整列して形成したものであってもよい。
【００７６】
液晶偏光層３００は、表示部に位置するものであり、前述したように、表示パネルから非表示部パターン２００に入射する光が液晶偏光層３００を経由せずにユーザに視認されるので、ユーザが様々なカラーの非表示部パターン２００を視認できるようにする。
【００７７】
液晶偏光層３００の厚さは、特に限定されないが、例えば１μｍ〜３０μｍであってもよい。厚さが１μｍ未満であると、液晶偏光層３００のベース基板１００への密着力が不十分な場合があり、３０μｍを超えると、偏光板一体型のウィンドウ基板全体の厚さが増加して、画像表示装置の薄膜化を実現することが困難な問題がある。
【００７８】
本発明の偏光板一体型のウィンドウ基板は、前記液晶偏光層３００上に位置する位相差層４００をさらに含んでいてもよい。
【００７９】
位相差層４００は、コート層またはフィルムであってもよい。
【００８０】
位相差層４００は、単層または複層であってもよい。単層の場合は１／４波長板であってもよく、複層の場合は１／４波長板および１／２波長板の複層であってもよいが、これらに限定されない。１／４波長板および１／２波長板の複層である場合は、位相差の補正により、画像表示装置に適用時に優れた色感、画質が得られる。
【００８１】
位相差層４００の厚さは、特に限定されないが、例えば１μｍ〜１００μｍであってもよい。厚さが１μｍ未満であると、位相特性が低下する恐れがあり、１００μｍを超えると、偏光板一体型のウィンドウ基板全体の厚さが増加して、画像表示装置の薄膜化を実現することが困難な問題がある。
【００８２】
また、本発明の偏光板一体型のウィンドウ基板は、位相差層４００上に位置する屈折率調整層５００をさらに含んでいてもよい。
【００８３】
屈折率調整層５００は、屈折率を調整し、画像表示装置に適用した時に色感などを改善する層である。
【００８４】
屈折率調整層５００は、コート層またはフィルムであってもよい。例えば、延伸フィルム方式または液晶コート方式のＣ−ＰＬＡＴＥを用いることができる。
【００８５】
屈折率調整層５００の厚さは、特に限定されないが、例えば１μｍ〜３０μｍであってもよい。厚さが１μｍ未満であると、位相特性が低下する恐れがあり、３０μｍを超えると、偏光板一体型のウィンドウ基板全体の厚さが増加して、画像表示装置の薄膜化を実現することが困難な問題がある。
【００８６】
本発明の他の一実施形態によると、図３５に示すように、本発明の偏光板一体型のウィンドウ基板は、水系オーバーコート層８００及びレベリング層９００をさらに含んでいてもよい。
【００８７】
水系オーバーコート層８００は、液晶偏光層３００上に位置して液晶偏光層３００を保護する役割を果たすものである。
【００８８】
有機溶媒を含むオーバーコート組成を用いると、液晶偏光層３００が破損することがあるため、本発明では水系オーバーコート組成を用いる。
【００８９】
水系オーバーコート層形成用組成物は、例えば、当該分野で公知の水性有機バインダー樹脂及び水を含むものであってもよく、追加的に無機粒子などの添加剤をさらに含むものであってもよい。
【００９０】
水系オーバーコート層８００の厚さは、特に限定されないが、例えば０．３μｍ〜１０μｍであってもよい。厚さが０．３μｍ未満であると、十分な保護効果の実現が困難になり、異物などのコート欠陥が発生することがあり、１０μｍを超えると、偏光板一体型のウィンドウ基板全体の厚さが増加して、画像表示装置の薄膜化を実現することが困難な問題があり、また、非乾燥状態での厚さが非常に高くてコートの信頼性に問題が発生することがある。
【００９１】
また、図３６に示すように、水系オーバーコート層８００は、非表示部パターン２００上にも位置することができる。
【００９２】
レベリング層９００は、オーバーコート層上に位置し、前記表示部および非表示部を平坦化する。
【００９３】
通常、偏光板一体型のウィンドウ基板は、液晶偏光層３００上に位相差層４００を含み、位相差層４００上の非表示部に形成された非表示部パターン２００を含む。
【００９４】
これに対して、本発明の偏光板一体型のウィンドウ基板は、前述したように、非表示部パターン２００がベース基板１００に直接接しており、表示部に液晶偏光層３００が位置している。このため、液晶偏光層３００と非表示部パターン２００との間の段差のために、液晶偏光層３００上に位相差層４００を形成することが困難になり得る。そこで、本発明では、レベリング層９００をさらに含むことで表示部および非表示部を平坦化することにより、前記の問題を解決することができる。
【００９５】
レベリング層９００は、当該分野で公知の有機系バインダー樹脂、有機溶媒などを含むレベリング層９００形成用組成物で形成したものであってもよい。
【００９６】
図３５に示すように、レベリング層９００は、水系オーバーコート層８００上に位置し、水系オーバーコート層８００と非表示部パターン２００との間の段差をなくして、表示部および非表示部を平坦化する。
【００９７】
また、オーバーコート層が、液晶偏光層３００および非表示部パターン２００の上に位置する場合には、図２に示すように、レベリング層９００により表示部および非表示部を平坦化することができる。
【００９８】
本発明の偏光板一体型のウィンドウ基板は、図３７に示すように、前記レベリング層９００上に位置する位相差層４００をさらに含んでいてもよい。
【００９９】
前述したように、レベリング層９００が表示部および非表示部を平坦化することにより、位相差層４００の一部の領域が段差によって不十分に貼り付けられるなどの問題を解決できる。
【０１００】
位相差層４００は、単層または複層であってもよい。
【０１０１】
単層の場合は１／４波長板であってもよく、複層の場合は１／４波長板および１／２波長板の複層であってもよいが、これらに限定されない。１／４波長板および１／２波長板の複層である場合は、位相差の補正により、画像表示装置に適用した時に優れた色感、画質が得られる。
【０１０２】
位相差層４００の厚さは、特に限定されないが、例えば１μｍ〜３０μｍであってもよい。厚さが１μｍ未満であると、十分な位相差を実現することが困難なことがあり、３０μｍを超えると、偏光板一体型のウィンドウ基板全体の厚さが増加して、画像表示装置の薄膜化を実現することが困難な問題がある。
【０１０３】
本発明の偏光板一体型のウィンドウ基板の他の一実施形態では、図３８に示すように、前記非表示部パターン２００は、非表示部の少なくとも一部に位置し、非表示部の残りの領域にレベリング層９００がさらに位置していてもよい。
【０１０４】
非表示部パターン２００が、表示部と非表示部とを区画できるものであれば、非表示部パターン２００が形成される領域の面積は限定されず、その幅を自由に調節できる。
【０１０５】
そして、非表示部における非表示部パターン２００が位置していない残りの領域には、前記レベリング層９００がさらに位置していてもよい。
【０１０６】
また、非表示部パターン２００が非表示部の少なくとも一部に位置する場合には、非表示部の残りの領域に水系オーバーコート層８００が位置し、水系オーバーコート層８００上にレベリング層９００が位置することもできる。
【０１０７】
本発明の偏光板一体型のウィンドウ基板は、図３８に示すように、前記位相差層４００上で非表示部のレベリング層９００の対応領域に色パターン１０００をさらに含んでいてもよい。つまり、色パターン１０００も非表示部に位置するものであり、色パターン１０００を含むことにより非表示部のカラーをより多様化することができる。
【０１０８】
また、本発明の偏光板一体型のウィンドウ基板は、図３８に示すように、前記色パターン１０００上に遮光パターン１１００をさらに含んでいてもよい。
【０１０９】
遮光パターン１１００は、表示装置からの光が色パターン１０００を透過してユーザに非表示部の下部配線などが視認されることを防止する役割を果たすものである。
【０１１０】
色パターン１０００及び遮光パターン１１００の厚さは、特に限定されないが、例えば、互いに独立して１μｍ〜３０μｍであってもよい。厚さが１μｍ未満であると、十分な色または遮光効果を実現することが困難なことがあり、３０μｍを超えると、偏光板一体型のウィンドウ基板全体の厚さが増加して、画像表示装置の薄膜化を実現することが困難な問題がある。
【０１１１】
また、本発明は、前記偏光板一体型のウィンドウ基板を含む光学積層体を提供する。
【０１１２】
本発明の光学積層体は、前記偏光板一体型のウィンドウ基板、及びそれに貼り付けられるタッチセンサーを含む。
【０１１３】
タッチセンサーは、ウィンドウ基板における非表示部パターン２００および液晶偏光層３００が存在する側に貼り付けることができる。
【０１１４】
タッチセンサーは、当該分野で公知の水系、光硬化性の接着剤または粘着剤を用いて貼り付けることができる。
【０１１５】
タッチセンサーは、基材フィルム、検知電極層、絶縁層、パッシベーション層などの当該分野で公知の構成を含むものを制限なく用いることができる。
【０１１６】
また、本発明は、前記光学積層体を含む画像表示装置を提供する。
【０１１７】
本発明の前記光学積層体は、通常の液晶表示装置のみならず、電界発光表示装置、プラズマ表示装置、電界放出表示装置などの各種の画像表示装置に適用できる。
【０１１８】
また、本発明は、前記偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法を提供する。
【０１１９】
本発明の偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法の一実施形態によると、まず、図４（ｂ）に示すように、ベース基板１００の一面に表示部と非表示部とを区画する非表示部パターン２００を形成する。
【０１２０】
ベース基板１００は、液晶表示装置、タッチスクリーンパネルなどに適用され、これらを外力から十分に保護できるように耐久性が大きく、ユーザがディスプレイをよく見ることができるようにする物質であれば特に限定されず、当該分野で用いられるベース基板１００を特に制限することなく用いることができる。例えば、ガラス、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ、polyethersulphone）、ポリアクリレート（ＰＡＲ、polyacrylate）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ、polyetherimide）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ、polyethyelenen napthalate）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ、polyethyelene terepthalate）、ポリフェニレンスルフィド（polyphenylene sulfide：ＰＰＳ）、ポリアリレート（polyallylate）、ポリイミド（polyimide）、ポリカーボネート（ＰＣ、polycarbonate）、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）、セルロースアセテートプロピオネート（cellulose acetate propionate、ＣＡＰ）などを用いることができる。
【０１２１】
ベース基板１００の厚さは、特に限定されないが、例えば１０〜２００μｍであってもよい。厚さが１０μｍ未満であると、ウィンドウ基板としての十分な硬度、強度などを実現することが困難な場合があり、２００μｍを超えると、全体の厚さが増加して薄膜軽量化を実現することが困難になる問題がある。
【０１２２】
ベース基板１００は、画像表示装置等に適用されたときに画像が表示される表示部と、電子機器の筐体の一部を構成する非表示部パターン２００によって隠されて画像が表示されない非表示部とを含む。例えば、非表示部でも画像を出力することができるが、非表示部に表示された画像は、非表示部パターン２００によって隠されるため、ユーザが見ることができない。
【０１２３】
非表示部パターン２００の形成方法は、特に限定されず、陽刻法でパターンを形成できるものであれば、いずれの方法でも利用可能である。例えば、物理的蒸着法、化学的蒸着法、プラズマ蒸着法、プラズマ重合法、熱蒸着法、熱酸化法、陽極酸化法、クラスターイオンビーム蒸着法、スリットコート法、ナイフコート法、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェットコート法、ディスペンサー印刷法、ノズルコート法、キャピラリーコート法等の方法が挙げられる。
【０１２４】
非表示部パターン２００を形成する段階は、表示部と非表示部とを区画する第１のパターン２１０を形成する段階と、前記第１のパターン２１０が位置する非表示部を覆う遮光性の第２のパターン２２０を形成する段階とを含むことができる。
【０１２５】
第１のパターン２１０は、表示部と非表示部との境界を形成するものであり、表示部と非表示部の枠のみに位置していてもよく、非表示部全体に位置していてもよい。
【０１２６】
第１のパターン２１０は、透明または不透明であってもよい。第２のパターン２２０が遮光性であるため、透明であっても下部配線が視認されることを防ぐことができる。
【０１２７】
第２のパターン２２０は、第１のパターン２１０が位置する非表示部を覆う遮光性のパターンである。
【０１２８】
第１のパターン２１０及び第２のパターン２２０は、互いに独立して単層または複層のパターンであってもよい。
【０１２９】
第１のパターン２１０又は第２のパターン２２０が複層のパターンである場合は、各層は、互いに独立して透明または不透明であってもよい。但し、第２のパターン２２０の少なくとも一つの層は不透明である。
【０１３０】
非表示部パターン２００の厚さは、特に限定されないが、例えば１〜１００μｍであってもよい。非表示部パターン２００は、液晶偏光層３００以上の厚さを有することが、コートによる液晶偏光層３００の形成時にコート層が非表示部に越さないようにする点で好ましい。
【０１３１】
その後、図４（ｃ）に示すように、前記非表示部パターン２００によって区画された表示部に液晶偏光層３００を形成する。
【０１３２】
液晶偏光層３００を形成する段階は、配向膜３１０をコートして配向処理する段階と、前記配向処理した配向膜３１０の上に液晶層３２０をコートする段階と、前記液晶層３２０を硬化する段階とを含むことができる。
【０１３３】
配向膜３１０及び液晶層３２０のコート方法は、特に限定されないが、例えば、スリットコート法、ナイフコート法、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェットコート法、ディスペンサー印刷法、ノズルコート法、キャピラリーコート法等の方法が挙げられる。
【０１３４】
配向膜３１０の配向処理は、例えば、ラビングロールにより配向膜３１０をラビングして行うことができるが、これらに限定されず、当該分野で公知の方法で行うことができる。
【０１３５】
コートされた液晶層３２０は、ＵＶまたは熱などを用いて硬化することができる。
【０１３６】
液晶偏光層３００の厚さは、特に限定されないが、例えば１μｍ〜３０μｍであってもよい。厚さが１μｍ未満であると、液晶偏光層３００のベース基板１００への密着力が不十分な場合があり、３０μｍを超えると、偏光板一体型のウィンドウ基板全体の厚さが増加して、画像表示装置の薄膜化を実現することが困難な問題がある。
【０１３７】
非表示部パターン２００によって既に表示部と非表示部とが区画されているので、コートによって液晶偏光層３００を形成するときに材料が非表示部に越さず、材料の損失を防止できるとともに液晶偏光層３００を表示部のみに容易に形成できる。
【０１３８】
必要に応じて、本発明の偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法は、前記液晶偏光層３００の形成前に、非表示部を覆う離型フィルム７００を貼り付ける段階をさらに含んでいてもよい。
【０１３９】
その場合は、離型フィルム７００が非表示部を覆って、液晶偏光層３００が非表示部に越すことをより効率的に防ぐことができる。
【０１４０】
離型フィルム７００は、表示部に液晶偏光層３００を形成できるように、表示部に開口部を有するようにカットされたものであってもよく、離型フィルム７００の貼り付け後にカッティングによって開口部を形成してもよい。
【０１４１】
より具体的には、離型フィルム７００は、液晶偏光層３００の配向膜３１０の形成前に貼り付けてもよく、配向膜３１０の形成後、偏光層３２０の形成前に貼り付けてもよい。
【０１４２】
必要に応じて、本発明の偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法は、前記液晶偏光層３００上に位相差層４００を形成する段階をさらに含んでいてもよい。
【０１４３】
位相差層４００は、液晶偏光層３００上に位相差層をコートするか、又は位相差フィルムを貼り付けることにより形成することができる。
【０１４４】
位相差層４００のコート方法は、特に限定されないが、例えば、スリットコート法、ナイフコート法、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェットコート法、ディスペンサー印刷法、ノズルコート法、キャピラリーコート法等の方法が挙げられる。
【０１４５】
位相差層４００は、単層または複層であってもよい。単層の場合は１／４波長板であってもよく、複層の場合は１／４波長板および１／２波長板の複層であってもよいが、これらに限定されない。１／４波長板および１／２波長板の複層である場合は、位相差の補正により、画像表示装置に適用した時に優れた色感、画質が得られる。
【０１４６】
位相差層４００の厚さは、特に限定されないが、例えば１μｍ〜１００μｍであってもよい。厚さが１μｍ未満であると、位相特性が低下する恐れがあり、１００μｍを超えると、偏光板一体型のウィンドウ基板全体の厚さが増加して、画像表示装置の薄膜化を実現することが困難な問題がある。
【０１４７】
また、本発明の偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法は、前記位相差層４００上に屈折率調整層５００を形成する段階をさらに含んでいてもよい。
【０１４８】
屈折率調整層５００は、位相差層４００上に屈折率調整層５００をコートするか、又は屈折率調整フィルムを貼り付けて形成することができる。
【０１４９】
屈折率調整層５００のコート方法は、特に限定されないが、例えば、スリットコート法、ナイフコート法、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェットコート法、ディスペンサー印刷法、ノズルコート法、キャピラリーコート法等の方法が挙げられる。
【０１５０】
屈折率調整層５００は、屈折率を調整し、画像表示装置に適用時に色感などを改善する層である。
【０１５１】
屈折率調整層５００は、コート層またはフィルムであってもよい。例えば、延伸フィルム方式または液晶コート方式のＣ−ＰＬＡＴＥを用いることができる。
【０１５２】
屈折率調整層５００の厚さは、特に限定されないが、例えば１μｍ〜３０μｍであってもよい。厚さが１μｍ未満であると、位相特性が低下する恐れがあり、３０μｍを超えると、偏光板一体型のウィンドウ基板全体の厚さが増加して、画像表示装置の薄膜化を実現することが困難な問題がある。
【０１５３】
本発明の他の一実施形態によると、本発明の偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法は、ベース基板の一面に表示部と非表示部とを区画する非表示部パターンを形成する段階と、前記非表示部パターンによって区画された表示部に液晶偏光層を形成する段階と、に加えて、前記液晶偏光層上に水系オーバーコート層を形成する段階と、前記オーバーコート層上にレベリング層を形成し、表示部及び非表示部を平坦化する段階とをさらに含むことができる。
【０１５４】
以下、追加の段階について説明する。
【０１５５】
まず、図３９（ｃ）に示すように、前記液晶偏光層３００上に水系オーバーコート層８００を形成する。
【０１５６】
水系オーバーコート層８００の形成方法は、特に限定されないが、例えば、スリットコート法、ナイフコート法、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェットコート法、ディスペンサー印刷法、ノズルコート法、キャピラリーコート法等の方法が挙げられる。
【０１５７】
図４０（ｃ）に示すように、水系オーバーコート層８００は、液晶偏光層３００のみならず、非表示部パターン２００の上にも形成することができる。
【０１５８】
水系オーバーコート層８００の厚さは、特に限定されないが、例えば１μｍ〜３０μｍであってもよい。
【０１５９】
その後、図３９（ｄ）に示すように、前記オーバーコート層上にレベリング層９００を形成し、表示部と非表示部を平坦化する。
【０１６０】
従来は、通常の方法によって、ウィンドウ基板の一面全体に偏光板を貼り付けるか、または液晶偏光層３００を形成した後、位相差層４００を形成し、非表示部パターン２００を形成する場合にのみ、位相差層４００の形成時に何の問題も生じない。
【０１６１】
しかし、本発明の方法により非表示部に非表示部パターン２００を、表示部に液晶偏光層３００を形成した後、液晶偏光層３００上に位相差層４００を形成しようとすると、表示部と非表示部との間に段差が発生し、位相差層４００のコートまたは貼り付けの信頼性が低下することがある。また、前記段差は、オーバーコート層の形成により、さらに大きくなり得る。
【０１６２】
そこで、本発明の偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法では、オーバーコート層上にレベリング層９００を形成し、表示部と非表示部を平坦化することで前記の問題を解決することにより、位相差層４００のコートまたは貼り付けの信頼性が低下する問題なしにカラー非表示部パターン２００を実現することができる。
【０１６３】
レベリング層９００は、当該分野で公知の有機系バインダー樹脂、有機溶媒などを含むレベリング層９００形成用組成物で形成されたものであってもよい。
【０１６４】
レベリング層９００の形成方法は、特に限定されないが、例えば、スリットコート法、ナイフコート法、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェットコート法、ディスペンサー印刷法、ノズルコート法、キャピラリーコート法等の方法が挙げられる。
【０１６５】
図３９（ｄ）に示すように、レベリング層９００は、水系オーバーコート層８００上に位置し、水系オーバーコート層８００と非表示部パターン２００との間の段差をなくして、表示部及び非表示部を平坦化する。
【０１６６】
また、オーバーコート層が、液晶偏光層３００及び非表示部パターン２００の上に位置する場合は、図４０（ｄ）に示すように、レベリング層９００が表示部及び非表示部を平坦化できる。
【０１６７】
レベリング層９００の厚さは、特に限定されないが、例えば１μｍ〜３０μｍであってもよい。
【０１６８】
また、本発明の偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法は、図４０（ｅ）に示すように、前記レベリング層９００上に位相差層４００を形成する段階をさらに含むことができる。
【０１６９】
位相差層４００は、コート層またはフィルムであってもよい。
【０１７０】
位相差層４００がフィルムである場合は、当該分野で公知の水系、光硬化性の粘着剤または接着剤で取り付けることができる。
【０１７１】
位相差層４００は、単層または複層であってもよい。
【０１７２】
単層の場合は１／４波長板であってもよく、複層の場合は１／４波長板および１／２波長板の複層であってもよいが、これらに限定されない。１／４波長板および１／２波長板の複層である場合は、位相差の補正により、画像表示装置に適用した時に優れた色感、画質が得られる。
【０１７３】
位相差層４００の厚さは、特に限定されないが、例えば１μｍ〜３０μｍであってもよい。
【０１７４】
本発明の偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法の他の一実施形態によると、図４０（ｂ）に示すように、前記非表示部パターン２００を非表示部の少なくとも一部に形成し、図４０（ｄ）に示すように、非表示部の残りの領域にレベリング層９００をさらに形成することができる。
【０１７５】
非表示部パターン２００が、表示部と非表示部とを区画できるものであれば、非表示部パターン２００が形成される領域の面積は限定されず、その幅を自由に調節できる。そして、レベリング層９００を非表示部における前記非表示部パターン２００が位置していない領域にもさらに形成するが、これは、前述した液晶偏光層３００上のレベリング層９００の形成時に一緒に形成することができる。
【０１７６】
その場合に、本発明の偏光板一体型のウィンドウ基板は、図４０（ｆ）に示すように、前記位相差層４００上における非表示部のレベリング層９００の対応領域に色パターン１０００を形成する段階をさらに含むことができる。
【０１７７】
また、本発明の偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法は、図４０（ｆ）に示すように、前記色パターン１０００上に遮光パターン１１００を形成する段階をさらに含むことができる。
【０１７８】
色パターン１０００及び遮光パターン１１００の形成方法は、特に限定されないが、例えば、スリットコート法、ナイフコート法、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェットコート法、ディスペンサー印刷法、ノズルコート法、キャピラリーコート法などの方法が挙げられる。
【０１７９】
色パターン１０００及び遮光パターン１１００の厚さは、特に限定されないが、例えば、互いに独立して１μｍ〜３０μｍであってもよい。
【０１８０】
また、本発明の偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法では、図５〜７に示すように、前記ベース基板１００は、複数の単位セルを備える原基板であり、前記各段階は、単位セルごとに行うことができる。
【０１８１】
単位セルは、ベース基板１００における個々の製品に適用される領域を意味する。
【０１８２】
本発明の偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法は、個々の製品のサイズのベース基板１００に対して行ってもよく、複数の単位セルを備える原基板に対して各単位セルごとに行ってもよいが、後者の方がより優れた工程歩留まりが得られる。
【０１８３】
その場合には、各単位セルごとに前記の段階を行い、前記ベース基板１００を単位セルごとに切断することで、複数の偏光板一体型のウィンドウ基板を製造できる。
【０１８４】
図９〜２０は、前記ベース基板１００の一面に表示部と非表示部とを区画する非表示部パターン２００を形成する段階と、前記非表示部パターン２００によって区画された表示部に液晶偏光層３００を形成する段階と、前記液晶偏光層３００上に位相差層４００を形成する段階と、前記位相差層４００上に屈折率調整層５００を形成する段階とを含む偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法の様々な実施形態による工程図である。
【０１８５】
図９〜２０に示すように、ベース基板１００の一面に非表示部パターン２００を形成し、表示部と非表示部とを区画した後、前記表示部に液晶偏光層３００を形成する。
【０１８６】
非表示部パターン２００を、表示部と非表示部とを区画する第１のパターンを形成する段階と、前記第１のパターンが位置する非表示部を覆う遮光性の第２のパターンを形成する段階とを含めて形成する場合は、第１の段階の後にすぐに第２の段階を行ってもよく、第１のパターンのみを形成した後、液晶偏光層３００、位相差層４００または屈折率調整層５００まで形成した後に第２の段階を行ってもよい。
【０１８７】
図９〜２０では、液晶偏光層３００の形成前に、非表示部を覆う離型フィルム７００を貼り付ける場合をさらに含む場合を示しているが、これに限定されず、離型フィルム７００なしに液晶偏光層３００を形成することも可能である。図９〜１４には、離型フィルム７００の貼り付け後にカッティングによって開口部を形成する場合が示されており、図１５〜２０には、表示部が露出するように開口部を有する離型フィルム７００を貼り付ける場合が示されている。
【０１８８】
離型フィルム７００が貼り付けられた場合、液晶偏光層３００は、図９〜１１、１５〜１７に示すようにベース基板１００の一面全体に形成してもよく、図１２〜１４、１８〜２０に示すように表示部のみに形成してもよい。
【０１８９】
その後、液晶偏光層３００上に位相差層４００を形成し、位相差層４００上に屈折率調整層５００を形成する。
【０１９０】
離型フィルム７００の剥離時点は特に限定されないが、例えば、液晶偏光層３００の形成後、位相差層４００の形成後、または屈折率調整層５００の形成後に剥離することができる。
【０１９１】
また、図２１には、前記段階を含む偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法のまた他の実施形態が示されている。
【０１９２】
図２１は、非表示部パターン２００の形成後、液晶偏光層３００の配向膜３１０の形成時までを示すものであり、その後は図９〜２０の離型フィルム７００の貼り付け工程から行うことができる。ただし、配向膜３１０は既に形成されているため、図９〜２０の液晶偏光層形成工程で液晶層３２０のみをさらに形成する。このように、液晶偏光層３００の形成時の配向膜３１０の形成工程の間に液晶層３２０の形成工程も離型フィルム７００の貼り付けを追加で行うことができる。
【０１９３】
また、本発明は、また他の一実施形態による前記偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法を提供する。
【０１９４】
まず、図５（ａ）及び（ｂ）に示すように、ベース基板１００の一面の表示部に液晶偏光層３００を形成する。
【０１９５】
図５には、複数の単位セルを備える原基板上で各単位セルごとに工程を行う場合が示されているが、これに限定されず、個々の製品のサイズである１つの単位セルのサイズのベース基板１００に対しても工程を行うことができる。
【０１９６】
ベース基板１００は、液晶表示装置、タッチスクリーンパネルなどに適用され、これらを外力から十分に保護できるように耐久性が大きく、ユーザがディスプレイをよく見ることができるようにする物質であれば特に限定されず、当該分野で用いられるベース基板１００を特に制限することなく用いることができる。例えば、ガラス、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ、polyethersulphone）、ポリアクリレート（ＰＡＲ、polyacrylate）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ、polyetherimide）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ、polyethyelenen napthalate）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ、polyethyelene terepthalate）、ポリフェニレンスルフィド（polyphenylene sulfide：ＰＰＳ）、ポリアリレート（polyallylate）、ポリイミド（polyimide）、ポリカーボネート（ＰＣ、polycarbonate）、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）、セルロースアセテートプロピオネート（cellulose acetate propionate、ＣＡＰ）などを用いることができる。
【０１９７】
ベース基板１００の厚さは、特に限定されないが、例えば１０〜２００μｍであってもよい。厚さが１０μｍ未満であると、ウィンドウ基板としての十分な硬度、強度などを実現することが困難な場合があり、２００μｍを超えると、全体の厚さが増加して薄膜軽量化を実現することが困難になる問題がある。
【０１９８】
ベース基板１００は、画像表示装置等に適用されたときに画像が表示される表示部と、電子機器の筐体の一部を構成する非表示部パターン２００によって隠されて画像が表示されない非表示部とを含む。例えば、非表示部でも画像を出力することができるが、非表示部に表示された画像は、非表示部パターン２００によって隠されるため、ユーザが見ることができない。
【０１９９】
液晶偏光層３００を形成する段階は、ベース基板１００の一面の表示部に配向膜３１０をコートして配向処理する段階と、前記配向処理した配向膜３１０の上に液晶層３２０をコートする段階と、前記液晶層３２０を硬化する段階とを含むことができる。
【０２００】
配向膜３１０及び液晶層３２０のコート方法は、特に限定されないが、例えば、スリットコート法、ナイフコート法、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェットコート法、ディスペンサー印刷法、ノズルコート法、キャピラリーコート法等の方法が挙げられる。
【０２０１】
配向膜３１０の配向処理は、例えば、ラビングロールにより配向膜３１０をラビングして行うことができるが、これらに限定されず、当該分野で公知の方法により行うことができる。
【０２０２】
コートされた液晶層３２０は、ＵＶまたは熱などを用いて硬化することができる。
【０２０３】
液晶偏光層３００の厚さは、特に限定されず、例えば１μｍ〜３０μｍであってもよい。厚さが１μｍ未満であると、液晶偏光層３００のベース基板１００への密着力が不十分な場合があり、３０μｍを超えると、偏光板一体型のウィンドウ基板全体の厚さが増加して、画像表示装置の薄膜化を実現することが困難な問題がある。
【０２０４】
必要に応じて、本発明の偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法は、前記液晶層３１０の形成前に、非表示部を覆う離型フィルム７００を貼り付ける段階をさらに含むことができる。そうすると、離型フィルム７００が非表示部を覆って、液晶層３１０が非表示部に越すことをより効率的に防ぐことができる。
【０２０５】
離型フィルム７００は、表示部に液晶層３１０を形成できるように、表示部に開口部を有するようにカットしたものであってもよく、離型フィルム７００の貼り付け後にカッティングによって開口部を形成してもよい。
【０２０６】
必要に応じて、本発明の偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法は、液晶偏光層３００上に位相差層４００を形成する段階をさらに含んでもよく、追加的に、位相差層４００上に屈折率調整層５００を形成する段階をさらに含んでもよい。
【０２０７】
位相差層４００は、液晶偏光層３００上に位相差層をコートするか、または位相差フィルムを貼り付けることにより形成することができる。
【０２０８】
位相差層４００のコート方法は、特に限定されないが、例えば、スリットコート法、ナイフコート法、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェットコート法、ディスペンサー印刷法、ノズルコート法、キャピラリーコート法等の方法が挙げられる。
【０２０９】
位相差層４００は、単層または複層であってもよい。単層の場合は１／４波長板であってもよく、複層の場合は１／４波長板および１／２波長板の複層であってもよいが、これらに限定されない。１／４波長板および１／２波長板の複層である場合は、位相差の補正により、画像表示装置に適用した時に優れた色感、画質が得られる。
【０２１０】
位相差層４００の厚さは、特に限定されないが、例えば１μｍ〜１００μｍであってもよい。厚さが１μｍ未満であると、位相特性が低下する恐れがあり、１００μｍを超えると、偏光板一体型のウィンドウ基板全体の厚さが増加して、画像表示装置の薄膜化を実現することが困難な問題がある。
【０２１１】
屈折率調整層５００は、位相差層４００上に屈折率調整層５００をコートするか、または屈折率調整フィルムを貼り付けて形成することができる。
【０２１２】
屈折率調整層５００のコート方法は、特に限定されないが、例えば、スリットコート法、ナイフコート法、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェットコート法、ディスペンサー印刷法、ノズルコート法、キャピラリーコート法等の方法が挙げられる。
【０２１３】
屈折率調整層５００は、屈折率を調整し、画像表示装置に適用した時に色感などを改善する層である。
【０２１４】
屈折率調整層５００は、コート層またはフィルムであってもよい。例えば、延伸フィルム方式または液晶コート方式のＣ−ＰＬＡＴＥを用いることができる。
【０２１５】
屈折率調整層５００の厚さは、特に限定されないが、例えば１μｍ〜３０μｍであってもよい。厚さが１μｍ未満であると、位相特性が低下する恐れがあり、３０μｍを超えると、偏光板一体型のウィンドウ基板全体の厚さが増加して、画像表示装置の薄膜化を実現することが困難な問題がある。
【０２１６】
液晶偏光層３００は、図５に示すように、非表示部パターン２００の形成前に形成してもよく、非表示部パターン２００の形成後に形成してもよい。
【０２１７】
また、図５に示す工程によると、液晶偏光層３００の形成後に非表示部パターン２００を形成した後、さらに位相差層４００および屈折率調整層５００の形成工程を行うことができるが、これに限定されず、液晶偏光層３００、位相差層４００および屈折率調整層５００の形成後に非表示部パターン２００を形成してもよい。
【０２１８】
その後、図５（ｃ）に示すように、前記一面の非表示部に非表示部パターン２００を形成する。
【０２１９】
非表示部パターン２００は、前述した方法により単層または複層に形成することができ、前述した範囲の厚さを有することができる。
【０２２０】
図５（ｃ）には、液晶偏光層３００の形成後に非表示部パターン２００を形成する場合が示されているが、これに限定されず、配向膜３１０の形成後、液晶層３２０の形成前に形成することもできる。
【０２２１】
さらに、図５（ｄ）に示すように、複数の単位セルを備える原基板上で各単位セルごとに工程が行われる場合には、ベース基板１００を各単位セルごとに切断することができる。
【０２２２】
これにより、単位セルの数に対応する数の偏光板一体型のウィンドウ基板を得ることができる。
【０２２３】
図２２は、ベース基板１００の一面の表示部に液晶偏光層３００を形成する段階と、前記液晶偏光層３００上に位相差層４００を形成する段階と、前記位相差層４００上に屈折率調整層５００を形成する段階と、前記一面の非表示部に非表示部パターン２００を形成する段階とを含む偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法の一実施形態による工程図である。
【０２２４】
図２２は、ベース基板１００の一面に液晶偏光層３００の配向膜３１０まで形成した場合を示すものであり、その後に図９〜２０の離型フィルム７００の貼り付け工程から行うことができる。ただし、配向膜３１０は既に形成されているため、図９〜２０の液晶偏光層形成工程により液晶層３２０のみをさらに形成する。このように、液晶偏光層３００の形成時の配向膜３１０の形成工程の間に液晶層３２０の形成工程も離型フィルム７００の貼り付けを追加で行うことができる。
【０２２５】
また、本発明は、また他の一実施形態による前記偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法を提供する。
【０２２６】
まず、図６（ａ）及び（ｂ）に示すように、キャリアフィルム６００の一面に液晶偏光層３００を形成する。
【０２２７】
キャリアフィルム６００は、液晶偏光層３００を形成するための層であり、後述する工程により剥離されるため、偏光板一体型のウィンドウ基板の構成には含まれない。
【０２２８】
液晶偏光層３００を形成する段階は、配向膜３１０をコートして配向処理する段階と、前記配向処理した配向膜３１０の上に液晶層３２０をコートする段階と、前記液晶層３２０を硬化する段階とを含むことができる。
【０２２９】
配向膜３１０及び液晶層３２０のコート方法は、特に限定されないが、例えば、スリットコート法、ナイフコート法、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェットコート法、ディスペンサー印刷法、ノズルコート法、キャピラリーコート法等の方法が挙げられる。
【０２３０】
配向膜３１０の配向処理は、例えば、ラビングロールにより配向膜３１０をラビングして行うことができるが、これらに限定されず、当該分野で公知の方法により行うことができる。
【０２３１】
コートされた液晶層３２０は、ＵＶまたは熱などを用いて硬化することができる。
【０２３２】
液晶偏光層３００の厚さは、特に限定されないが、例えば１μｍ〜３０μｍであってもよい。厚さが１μｍ未満であると、液晶偏光層３００のベース基板１００への密着力が不十分な場合があり、３０μｍを超えると、偏光板一体型のウィンドウ基板全体の厚さが増加して、画像表示装置の薄膜化を実現することが困難な問題がある。
【０２３３】
その後、図６（ｃ）及び（ｄ）に示すように、前記液晶偏光層３００をキャリアフィルム６００から剥離してベース基板１００の一面の表示部に貼り付ける。
【０２３４】
ベース基板１００は、液晶表示装置、タッチスクリーンパネルなどに適用され、これらを外力から十分に保護できるように耐久性が大きく、ユーザがディスプレイをよく見ることができるようにする物質であれば特に限定されず、当該分野で用いられるベース基板１００を特に制限することなく用いることができる。例えば、ガラス、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ、polyethersulphone）、ポリアクリレート（ＰＡＲ、polyacrylate）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ、polyetherimide）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ、polyethyelenen napthalate）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ、polyethyelene terepthalate）、ポリフェニレンスルフィド（polyphenylene sulfide：ＰＰＳ）、ポリアリレート（polyallylate）、ポリイミド（polyimide）、ポリカーボネート（ＰＣ、polycarbonate）、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）、セルロースアセテートプロピオネート（cellulose acetate propionate、ＣＡＰ）などを用いることができる。
【０２３５】
ベース基板１００の厚さは、特に限定されないが、例えば１０〜２００μｍであってもよい。厚さが１０μｍ未満であると、ウィンドウ基板としての十分な硬度、強度などを実現することが困難な場合があり、２００μｍを超えると、全体の厚さが増加して薄膜軽量化を実現することが困難になる問題がある。
【０２３６】
ベース基板１００は、画像表示装置等に適用されたときに画像が表示される表示部と、電子機器の筐体の一部を構成する非表示部パターン２００によって隠されて画像が表示されない非表示部とを含む。例えば、非表示部でも画像を出力することができるが、非表示部に表示された画像は、非表示部パターン２００によって隠されるため、ユーザが見ることができない。
【０２３７】
図６には、複数の単位セルを備える原基板上で各単位セルごとに工程を行う場合が示されており、液晶偏光層３００を、個々の単位セルの表示部のサイズに切断して、ベース基板１００に貼り付けることが示されている。しかし、これに限定されず、個々の製品のサイズである１つの単位セルのサイズのベース基板１００に対しても工程を行うことができる。
【０２３８】
液晶偏光層３００の貼り付けは、当該分野で公知の水系または光硬化性の接着剤、粘着剤を用いて行うことができる。
【０２３９】
必要に応じて、本発明の偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法は、液晶偏光層３００上に位相差層４００を形成する段階をさらに含んでもよく、追加的に、位相差層４００上に屈折率調整層５００を形成する段階をさらに含んでもよい。
【０２４０】
位相差層４００は、液晶偏光層３００上に位相差層をコートするか、または位相差フィルムを貼り付けることにより形成することができる。
【０２４１】
位相差層４００のコート方法は、特に限定されないが、例えば、スリットコート法、ナイフコート法、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェットコート法、ディスペンサー印刷法、ノズルコート法、キャピラリーコート法等の方法が挙げられる。
【０２４２】
位相差層４００は、単層または複層であってもよい。単層の場合は１／４波長板であってもよく、複層の場合は１／４波長板および１／２波長板の複層であってもよいが、これらに限定されない。１／４波長板および１／２波長板の複層である場合は、位相差の補正により、画像表示装置に適用した時に優れた色感、画質が得られる。
【０２４３】
位相差層４００の厚さは、特に限定されないが、例えば１μｍ〜１００μｍであってもよい。厚さが１μｍ未満であると、位相特性が低下する恐れがあり、１００μｍを超えると、偏光板一体型のウィンドウ基板全体の厚さが増加して、画像表示装置の薄膜化を実現することが困難な問題がある。
【０２４４】
屈折率調整層５００は、位相差層４００上に屈折率調整層５００をコートするか、または屈折率調整フィルムを貼り付けて形成することができる。
【０２４５】
屈折率調整層５００のコート方法は、特に限定されないが、例えば、スリットコート法、ナイフコート法、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェットコート法、ディスペンサー印刷法、ノズルコート法、キャピラリーコート法等の方法が挙げられる。
【０２４６】
屈折率調整層５００は、屈折率を調整し、画像表示装置に適用した時に色感などを改善する層である。
【０２４７】
屈折率調整層５００は、コート層またはフィルムであってもよい。例えば、延伸フィルム方式または液晶コート方式のＣ−ＰＬＡＴＥを用いることができる。
【０２４８】
屈折率調整層５００の厚さは、特に限定されないが、例えば１μｍ〜３０μｍであってもよい。厚さが１μｍ未満であると、位相特性が低下する恐れがあり、３０μｍを超えると、偏光板一体型のウィンドウ基板全体の厚さが増加して、画像表示装置の薄膜化を実現することが困難な問題がある。
【０２４９】
位相差層４００及び屈折率調整層５００は、図６に示すように、非表示部パターン２００の形成前に形成してもよく、非表示部パターン２００の形成後に形成してもよい。
【０２５０】
その後、図６（ｅ）に示すように、前記ベース基板１００の一面の非表示部に非表示部パターン２００を形成する。
【０２５１】
非表示部パターン２００は、前述した方法により単層または複層に形成することができ、前述した範囲の厚さを有することができる。
【０２５２】
さらに、図６（ｆ）に示すように、複数の単位セルを備える原基板上で各単位セルごとに工程を行う場合は、ベース基板１００を各単位セルごとに切断することができる。
【０２５３】
これにより、単位セルの数に対応する数の偏光板一体型のウィンドウ基板を得ることができる。
【０２５４】
また、本発明は、また他の一実施形態による前記偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法を提供する。
【０２５５】
まず、図７（ａ）及び図８に示すように、表示部に対応する開口部を有する離型フィルム７００が一面に貼り付けられているベース基板１００において、前記表示部に液晶偏光層を形成する。
【０２５６】
ベース基板１００は、液晶表示装置、タッチスクリーンパネルなどに適用され、これらを外力から十分に保護できるように耐久性が大きく、ユーザがディスプレイをよく見ることができるようにする物質であれば特に限定されず、当該分野で用いられるベース基板１００を特に制限することなく用いることができる。例えば、ガラス、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ、polyethersulphone）、ポリアクリレート（ＰＡＲ、polyacrylate）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ、polyetherimide）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ、polyethyelenen napthalate）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ、polyethyelene terepthalate）、ポリフェニレンスルフィド（polyphenylene sulfide：ＰＰＳ）、ポリアリレート（polyallylate）、ポリイミド（polyimide）、ポリカーボネート（ＰＣ、polycarbonate）、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）、セルロースアセテートプロピオネート（cellulose acetate propionate、ＣＡＰ）などを用いることができる。
【０２５７】
ベース基板１００の厚さは、特に限定されないが、例えば１０〜２００μｍであってもよい。厚さが１０μｍ未満であると、ウィンドウ基板としての十分な硬度、強度などを実現することが困難な場合があり、２００μｍを超えると、全体の厚さが増加して薄膜軽量化を実現することが困難になる問題がある。
【０２５８】
ベース基板１００は、画像表示装置等に適用されたときに画像が表示される表示部と、電子機器の筐体の一部を構成する非表示部パターン２００によって隠されて画像が表示されない非表示部とを含む。例えば、非表示部でも画像を出力することができるが、非表示部に表示された画像は、非表示部パターン２００によって隠されるため、ユーザが見ることができない。
【０２５９】
図７及び８には、複数の単位セルを備える原基板上で各単位セルごとに工程を行った場合が示されており、離型フィルム７００が、個々の単位セルの表示部に対応する複数の開口部を有することが示されている。しかし、これに限定されず、個々の製品のサイズである１つの単位セルのサイズのベース基板１００に対しても工程を行うことができる。
【０２６０】
離型フィルム７００は、ベース基板１００の表示部に対応する開口部を有し、これをベース基板１００に貼り付けると、表示部のみが前記開口部によって露出する。
【０２６１】
離型フィルム７００は、表示部と非表示部とを区画し、コートによって液晶偏光層３００を形成する場合に材料が非表示部に越さず、材料の損失を防止できるとともに液晶偏光層３００を表示部のみに容易に形成できる。
【０２６２】
離型フィルム７００の厚さは、特に限定されないが、例えば１〜１００μｍであってもよい。
【０２６３】
離型フィルム７００は、液晶偏光層３００以上の厚さを有することが製造工程上の観点から好ましく、本発明のウィンドウ基板の位相差層４００をさらに含んでいるか、また、屈折率調整層５００をさらに含んでいる場合には、液晶偏光層３００と前記層の合計以上の厚さを有することが好ましい。
【０２６４】
液晶偏光層３００を形成する段階は、配向膜３１０をコートして配向処理する段階と、前記配向処理した配向膜３１０の上に液晶層３２０をコートする段階と、前記液晶層３２０を硬化する段階とを含むことができる。
【０２６５】
配向膜３１０及び液晶層３２０のコート方法は、特に限定されないが、例えば、スリットコート法、ナイフコート法、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェットコート法、ディスペンサー印刷法、ノズルコート法、キャピラリーコート法等の方法が挙げられる。
【０２６６】
配向膜３１０の配向処理は、例えば、ラビングロールにより配向膜３１０をラビングして行うことができるが、これらに限定されず、当該分野で公知の方法により行うことができる。
【０２６７】
コートされた液晶層３２０は、ＵＶまたは熱などを用いて硬化することができる。
【０２６８】
液晶偏光層３００の厚さは、特に限定されないが、例えば１μｍ〜３０μｍであってもよい。厚さが１μｍ未満であると、液晶偏光層３００のベース基板１００への密着力が不十分な場合があり、３０μｍを超えると、偏光板一体型のウィンドウ基板全体の厚さが増加して、画像表示装置の薄膜化を実現することが困難な問題がある。
【０２６９】
本発明は、前記ベース基板１００の一面に離型フィルム７００を貼り付ける段階をさらに含むことができる。
【０２７０】
離型フィルム７００の貼り付け後に離型フィルム７００をカットしてベース基板１００の表示部に対応する開口部を有するようにしてもよく、事前にカットして開口部を有する離型フィルム７００を取り付けてもよい。
【０２７１】
必要に応じて、本発明の偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法は、液晶偏光層３００上に位相差層４００を形成する段階をさらに含んでもよく、追加的に、位相差層４００上に屈折率調整層５００を形成する段階をさらに含んでもよい。
【０２７２】
位相差層４００は、液晶偏光層３００上に位相差層４００をコートするか、または位相差フィルムを貼り付けることにより形成することができる。
【０２７３】
位相差層４００のコート方法は、特に限定されないが、例えば、スリットコート法、ナイフコート法、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェットコート法、ディスペンサー印刷法、ノズルコート法、キャピラリーコート法等の方法が挙げられる。
【０２７４】
位相差層４００は、単層または複層であってもよい。単層の場合は１／４波長板であってもよく、複層の場合は１／４波長板および１／２波長板の複層であってもよいが、これらに限定されない。１／４波長板および１／２波長板の複層である場合は、位相差の補正により、画像表示装置に適用した時に優れた色感、画質が得られる。
【０２７５】
位相差層４００の厚さは、特に限定されないが、例えば１μｍ〜１００μｍであってもよい。厚さが１μｍ未満であると、位相特性が低下する恐れがあり、１００μｍを超えると、偏光板一体型のウィンドウ基板全体の厚さが増加して、画像表示装置の薄膜化を実現することが困難な問題がある。
【０２７６】
屈折率調整層５００は、位相差層４００上に屈折率調整層５００をコートするか、または屈折率調整フィルムを貼り付けて形成することができる。
【０２７７】
屈折率調整層５００のコート方法は、特に限定されないが、例えば、スリットコート法、ナイフコート法、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェットコート法、ディスペンサー印刷法、ノズルコート法、キャピラリーコート法等の方法が挙げられる。
【０２７８】
屈折率調整層５００は、屈折率を調整し、画像表示装置に適用した時に色感などを改善する層である。
【０２７９】
屈折率調整層５００は、コート層またはフィルムであってもよい。例えば、延伸フィルム方式または液晶コート方式のＣ−ＰＬＡＴＥを用いることができる。
【０２８０】
屈折率調整層５００の厚さは、特に限定されないが、例えば１μｍ〜３０μｍであってもよい。厚さが１μｍ未満であると、位相特性が低下する恐れがあり、３０μｍを超えると、偏光板一体型のウィンドウ基板全体の厚さが増加して、画像表示装置の薄膜化を実現することが困難な問題がある。
【０２８１】
その後、前記離型フィルム７００を剥離する。
【０２８２】
離型フィルム７００を剥離すると、表示部に液晶偏光層３００が形成されており、非表示部は露出した状態となる。
【０２８３】
その後、前記一面の非表示部に非表示部パターン２００を形成する。
【０２８４】
非表示部パターン２００は、前述した方法により単層または複層に形成することができ、前述した範囲の厚さを有することができる。
【０２８５】
さらに、図７（ｆ）に示すように、複数の単位セルを備える原基板上で各単位セルごとに工程を行う場合は、ベース基板１００を各単位セルごとに切断することができる。また、これは図４１及び４２にも示されている。
【０２８６】
これにより、単位セルの数に対応する数の偏光板一体型のウィンドウ基板を得ることができる。
【０２８７】
図２３〜３４は、表示部に対応する開口部を有する離型フィルムが一面に貼り付けられているベース基板の前記表示部に液晶偏光層を形成する段階と、前記液晶偏光層上に位相差層を形成する段階と、前記位相差層上に屈折率調整層を形成する段階と、前記離型フィルムを剥離する段階と、前記一面の非表示部に非表示部パターンを形成する段階とを含む偏光板一体型のウィンドウ基板の製造方法の様々な実施形態による工程図である。
【０２８８】
図２３〜２８には、離型フィルム７００の付着後にカッティングによって開口部を形成した場合が示されており、図２９〜３４には、表示部が露出するように開口部を有する離型フィルム７００を付着する場合が示されている。
【０２８９】
液晶偏光層３００は、図２３〜２５、図２９〜３１に示すようにベース基板１００の一面全体に形成してもよく、図２６〜２８、図３２〜３４に示すように表示部のみに形成してもよい。
【０２９０】
離型フィルム７００の剥離時点は特に限定されないが、例えば、液晶偏光層３００の形成後、位相差層４００の形成後、または屈折率調整層５００の形成後に剥離することができる。
【符号の説明】
【０２９１】
１００：ベース基板
２００：非表示部パターン
２１０：第１のパターン
２２０：第２のパターン
３００：液晶偏光層
３１０：配向膜
３２０：液晶層
４００：位相差層
５００：屈折率調整層
６００：キャリアフィルム
７００：離型フィルム
８００：水系オーバーコート層
９００：レベリング層
１０００：色パターン
１１００：遮光パターン
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６】
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【図３７】
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【図３８】
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【図３９】
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【図４０】
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【図４１】
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【図４２】
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【国際調査報告】
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