(57)【要約】  感光性樹脂組成物及びそれから調製される有機絶縁膜が本明細書に開示される。コポリマーの重量平均分子量を最適化し、感光性樹脂組成物中に特定の溶媒を使用することにより、それから得られる被覆膜は、高平面性特性及び高解像度のパターンを有することができる。したがって、感光性樹脂組成物は、同時に白ピクセルとして機能する有機絶縁膜の材料として使用され得る。【選択図】図１
2018531409.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（１）３，０００〜７，０００の重量平均分子量を有するコポリマー、
（２）重合可能な不飽和化合物、
（３）光重合開始剤、及び
（４）大気圧で１８０℃以上の沸点を有する高沸点溶媒を含む溶媒、を含む、感光性樹脂組成物。
【請求項２】
前記高沸点溶媒は、γ−ブチロラクトン、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールジアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、及びジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテートからなる群から選択される少なくとも１つである、請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項３】
前記高沸点溶媒は、前記溶媒の総量を基準として５〜６０重量％の量で含まれる、請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項４】
前記高沸点溶媒は、前記溶媒の総量を基準として１５〜４０重量％の量で含まれる、請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項５】
前記コポリマー（１）は、（１−１）エチレン性不飽和カルボン酸、エチレン性不飽和カルボン酸無水物、またはそれらの混合物に由来する構造単位、及び（１−２）芳香族環を含有するエチレン性不飽和化合物に由来する構造単位を含む、請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載される感光性樹脂組成物を使用することによって製造される、有機絶縁膜。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光性樹脂組成物と、それから調製される有機絶縁膜とに関し、特に、高平面性及び高解像度のパターンを有する膜を形成するためのネガ型感光性樹脂組成物と、それを使用して調製される有機絶縁膜とに関し、該膜は、同時に液晶表示装置内の白ピクセルとして機能することができる。
【背景技術】
【０００２】
薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）型液晶表示装置等の表示部には、ＴＦＴ回路を保護及び絶縁するために有機絶縁膜が使用される。最近、表示部の高解像度要件を満たすために、ピクセルのサイズが次第に小さくなる傾向にあり、それが望ましくない口径比の低下を引き起こす場合がある。この問題を解決するために、青、緑、及び赤のピクセルに加えて、白ピクセルが表示部に導入される。しかしながら、そのような場合、白ピクセルを導入するための追加プロセスが必要となる。
【０００３】
そのため、有機絶縁膜を使用することによる白ピクセルを導入する方法が、多くの注目を集めている。すなわち、基板の一部の上に着色膜を形成した後、着色膜が形成される領域及び着色膜が形成されない領域の両方を有する基板全体に、透明な有機絶縁膜のための組成物が被覆され、次いで硬化される。着色膜が形成されない領域において、硬化膜は白ピクセル及び有機絶縁膜の両方として機能し得る。しかしながら、この方法では、着色膜を有する領域と着色膜を有しない領域との高低差に起因して、有機絶縁膜の表面が不均一に形成され、それによって液晶表示装置の欠陥が増加する。
【０００４】
白ピクセルと保護膜の両方の機能を有する膜を調製するために使用され得る種々の組成物の中でも、韓国特許第１０−１３３６３０５号は、結合剤樹脂としてエポキシ基を含有する不飽和化合物とエチレン性不飽和化合物とのコポリマーを含む組成物を開示している。しかしながら、この特許の組成物である熱硬化性樹脂組成物を使用することによって調製される膜は、パターンの形成が困難であることに起因して高解像度パターンを有することができない。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、高平面性及び高解像度の両方を満たすパターンを生成することができる感光性樹脂組成物、及びそれから製造される有機絶縁膜を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一態様によれば、（１）３，０００〜７，０００の重量平均分子量を有するコポリマー、（２）重合可能な不飽和化合物、（３）光重合開始剤、及び（４）大気圧で１８０℃以上の沸点を有する高沸点溶媒を含む溶媒を含む、感光性樹脂組成物が提供される。
【０００７】
さらに、感光性樹脂組成物を使用して形成される有機絶縁膜が提供される。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の感光性樹脂組成物は、高平面性及び高解像度のパターンを有する膜を生成することができ、有機絶縁膜等の材料として使用されてもよく、液晶表示装置における有機絶縁膜及び白ピクセルの両方の機能を果たすのに適している。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】感光性樹脂組成物を使用して製造される有機絶縁膜の平面性を測定する方法を示す（１０：有機絶縁膜、２０：下部硬化膜、及び３０：基板）。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明は、（１）３，０００〜７，０００の重量平均分子量を有するコポリマー、（２）重合可能な不飽和化合物、（３）光重合開始剤、及び（４）大気圧で１８０℃以上の沸点を有する高沸点溶媒を含む溶媒を含む、感光性樹脂組成物を提供する。
【００１１】
これ以降、感光性樹脂組成物について詳細に説明する。
【００１２】
本明細書において、「（メタ）アクリル」は、「アクリル」及び／または「メタクリル」を意味し、「（メタ）アクリレート」は、「アクリレート」及び／または「メタクリレート」を意味する。
【００１３】
（１）コポリマー（アルカリ溶解性樹脂）
本発明の感光性樹脂組成物は、コポリマーを含んでもよく、それはランダムコポリマーであってもよい。
【００１４】
コポリマーは、（１−１）エチレン性不飽和カルボン酸、エチレン性不飽和カルボン酸無水物、またはそれらの混合物に由来する構造単位、及び（１−２）芳香族環を含有するエチレン性不飽和化合物に由来する構造単位を含んでもよく、（１−３）構造単位（１−１）及び（１−２）とは異なるエチレン性不飽和化合物に由来する構造単位を選択的に含んでもよい。コポリマーは、現像ステップの間に所望の現像性を達成するためのアルカリ溶解性樹脂に対応し得、被覆後に膜を形成するための基礎支持体、及び最終パターンの構造の両方として機能し得る。
【００１５】
（１−１）エチレン性不飽和カルボン酸、エチレン性不飽和カルボン酸無水物、またはそれらの混合物に由来する構造単位
本発明において、構造単位（１−１）は、エチレン性不飽和カルボン酸、エチレン性不飽和カルボン酸無水物、またはそれらの混合物に由来する。エチレン性不飽和カルボン酸、エチレン性不飽和カルボン酸無水物、またはそれらの混合物は、分子中に少なくとも１つのカルボキシル基を有する重合可能な不飽和モノマーである。その例として、不飽和モノカルボン酸、例えば、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、α−クロロアクリル酸、及び桂皮酸；不飽和ジカルボン酸及びその無水物、例えば、マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、イタコン酸無水物、シトラコン酸、無水シトラコン酸、及びメサコン酸；三価以上の不飽和ポリカルボン酸及びその無水物；ならびに二価以上のポリカルボン酸のモノ［（メタ）アクリロイルオキシアルキル］エステル、例えば、コハク酸モノ［２−（メタ）アクリロイルオキシエチル］、及びフタル酸モノ［２−（メタ）アクリロイルオキシエチル］が挙げられるが、それらに限定されない。現像性の観点から、これらの中では（メタ）アクリル酸が好ましい。
【００１６】
エチレン性不飽和カルボン酸、エチレン性不飽和カルボン酸無水物、またはそれらの混合物に由来する構造単位（１−１）の量は、良好な現像性を維持するために、コポリマーを構成している構造単位の総モル数を基準として５〜９８モル％、好ましくは１５〜５０モル％であってもよい。
【００１７】
芳香族環を含有するエチレン性不飽和化合物に由来する（１−２）構造単位
本発明において、構造単位（１−２）は、芳香族環を含有するエチレン性不飽和化合物に由来し、芳香族環を含有するエチレン性不飽和化合物の例は、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｐ−ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｐ−ノニルフェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、トリブロモフェニル（メタ）アクリレート；スチレン；アルキル置換基を含有するスチレン、例えば、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、トリエチルスチレン、プロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、へプチルスチレン、及びオクチルスチレン；ハロゲンを有するスチレン、例えば、フルオロスチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン、及びヨードスチレン；アルコキシ置換基を有するスチレン、例えば、メトキシスチレン、エトキシスチレン、及びプロポキシスチレン；４−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン、アセチルスチレン；ビニルトルエン、ジビニルベンゼン、ビニルフェノール、ｏ−ビニルベンジルメチルエーテル、ｍ−ビニルベンジルメチルエーテル、ｐ−ビニルベンジルメチルエーテル、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、及びｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテルからなる群から選択される少なくとも１つであってもよく、好ましくは、重合特性を考慮するとスチレン化合物であってもよい。
【００１８】
芳香族環を含有するエチレン性不飽和化合物に由来する構造単位（１−２）の量は、耐化学性を考慮すると、コポリマーを構成している構造単位の総モル数を基準として２〜９５モル％、好ましくは１０〜６０モル％であってもよい。
【００１９】
本発明のコポリマーは、構造単位（１−１）及び（１−２）とは異なるエチレン性不飽和化合物に由来する構造単位（１−３）を追加的に含んでもよい。
【００２０】
構造単位（１−１）及び（１−２）とは異なるエチレン性不飽和化合物に由来する（１−３）構造単位
本発明において、構造単位（１−３）は、構造単位（１−１）及び（１−２）とは異なるエチレン性不飽和化合物に由来し、構造単位（１−１）及び（１−２）とは異なるエチレン性不飽和化合物は、不飽和カルボン酸エステル、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−クロロプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、メチル−α−ヒドロキシメチルアクリレート、エチル−α−ヒドロキシメチルアクリレート、プロピル−α−ヒドロキシメチルアクリレート、ブチル−α−ヒドロキシメチルアクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール）メチルエーテル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロイソプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、へプタデカフルオロデシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチル（メタ）アクリレート、及びジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート；グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシブチル（メタ）アクリレート、４，５−エポキシペンチル（メタ）アクリレート、５，６−エポキシヘキシル（メタ）アクリレート、６，７−エポキシへプチル（メタ）アクリレート、２，３−エポキシシクロペンチル（メタ）アクリレート、及び３，４−エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート等のエポキシ基を含有するエチレン性不飽和化合物；Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾール、及びＮ−ビニルモルホリン等のＮ−ビニル基を含有する第三級アミン；不飽和エーテル、例えば、ビニルメチルエーテル及びビニルエチルエーテル；エポキシ基を含有する不飽和エーテル、例えば、アリルグリシジルエーテル及び２−メチルアリルグリシジルエーテル；ならびに不飽和イミド、例えば、マレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−（４−クロロフェニル）マレイミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）マレイミド、及びＮ−シクロヘキシルマレイミドからなる群から選択される少なくとも１つであってもよい。特に、構造単位（１−３）は、共重合特性の改善及び絶縁膜の強度を考慮すると、エポキシ基を含有するエチレン性不飽和化合物であってもよく、好ましくは、グリシジル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレートグリシ���ルエーテル、または３，４−エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレートであってもよい。より好ましくは、耐化学性及び保持率を考慮すると、３，４−エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレートが使用されてもよい。
【００２１】
構造単位（１−１）及び（１−２）とは異なるエチレン性不飽和化合物に由来する（１−３）構造単位の量は、コポリマーを構成している構造単位の総モル数を基準として０〜７５モル％、好ましくは１０〜６５モル％であってもよい。この量の範囲内で、組成物の保存安定性が維持され得、また保持率が改善され得る。
【００２２】
コポリマー（１）は、（メタ）アクリル酸／スチレンコポリマー、（メタ）アクリル酸／ベンジル（メタ）アクリレートコポリマー、（メタ）アクリル酸／スチレン／メチル（メタ）アクリレートコポリマー、（メタ）アクリル酸／スチレン／メチル（メタ）アクリレート／グリシジルメタクリレートコポリマー、（メタ）アクリル酸／スチレン／メチル（メタ）アクリレート／３，４−エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレートコポリマー、（メタ）アクリル酸／スチレン／メチル（メタ）アクリレート／４−ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテルコポリマー、（メタ）アクリル酸／スチレン／メチル（メタ）アクリレート／グリシジルメタクリレート／３，４−エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレートコポリマー、（メタ）アクリル酸／スチレン／メチル（メタ）アクリレート／４−ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル／３，４−エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレートコポリマー、（メタ）アクリル酸／スチレン／メチル（メタ）アクリレート／グリシジルメタクリレート／Ｎ−フェニルマレイミドコポリマー、（メタ）アクリル酸／スチレン／メチル（メタ）アクリレート／グリシジルメタクリレート／Ｎ−シクロヘキシルマレイミドコポリマー、（メタ）アクリル酸／スチレン／ｎ−ブチル（メタ）アクリレート／グリシジルメタクリレート／Ｎ−フェニルマレイミドコポリマー、またはそれらの混合物を含んでもよい。１つ以上のコポリマーが、感光性樹脂組成物に含まれてもよい。
【００２３】
コポリマー（１）は、分子量調節剤、ラジカル重合開始剤、溶媒、ならびに構造単位（１−１）、（１−２）、及び（１−３）を提供するそれぞれの化合物を投入し、窒素を導入し、混合物をゆっくり撹拌しながら重合に供することによって調製され得る。コポリマー（１）は、ランダムコポリマーとして調製されてもよい。
【００２４】
分子量調節剤は、ブチルメルカプタン及びオクチルメルカプタン等のメルカプタン化合物、またはα−メチルスチレン二量体であってもよいが、それらに限定されない。
【００２５】
ラジカル重合開始剤は、アゾ化合物、例えば、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、及び２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、過酸化ベンゾイル、過酸化ラウリル、ｔ−ブチルペルオキシピバラート、及び１，１−ビス（ｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサンからなる群から選択される少なくとも１つであってもよいが、それらに限定されない。
【００２６】
また、溶媒は、コポリマーの製造において一般的に使用される任意の従来の溶媒であってもよく、例えば、メチル３−メトキシプロピオネートまたはプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）を含んでもよい。
【００２７】
コポリマー（１）は、溶媒を除く感光性樹脂組成物の総重量を基準として０．５〜７５重量％、好ましくは５〜６５重量％の量で使用され得る。この範囲内で、組成物は、耐化学性等の改善された特性とともに、現像後の良好なプロファイルを有するパターン化された膜を生成する。そのようにして調製されたコポリマー（１）の重量平均分子量（Ｍｗ）は、ポリスチレンを基準としてゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ、溶出剤としてテトラヒドロフランを使用）によって決定した場合、３，０００〜７，０００、４，０００〜６，０００の範囲内であり得る。この範囲内で、組成物は、平面性における望ましい改善及び現像後の良好なパターンプロファイルを有する。
【００２８】
（２）重合可能な不飽和化合物
本発明の感光性樹脂組成物は、重合可能な不飽和化合物を含んでもよい。
【００２９】
重合可能な不飽和化合物は、重合開始剤によって重合される任意の化合物であってもよく、少なくとも１つのエチレン性不飽和基を有するアクリル酸またはメタクリル酸の単官能性または多官能性エステル化合物であってもよい。耐化学性を考慮すると、少なくとも２つの官能基を有する多官能性が好ましいかもしれない。
【００３０】
重合可能な不飽和化合物は、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールトリ（メタ）アクリレートとコハク酸とのモノエステル、ペンタエリトリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールペンタ（メタ）アクリレートとコハク酸とのモノエステル、カプロラクトン修飾ジペンタエリトリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネート（ペンタエリトリトールトリアクリレートとヘキサメチレンジイソシアネートとの反応物）、トリペンタエリトリトールへプタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリトリトールオクタ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡエポキシアクリレート、及びエチレングリコールモノメチルエーテルアクリレートからなる群から選択されてもよいが、それらに限定されない。
【００３１】
上記例以外に、重合可能な不飽和化合物は、直鎖アルキレン基、脂環構造、及び少なくとも２つのイソシアネート基を有する化合物と、分子中の少なくとも１つのヒドロキシル基、３、４、または５個のアクリロイルオキシ基、及び／またはメタアクリロイルオキシ基を有する化合物との反応から得られる多官能性ウレタンアクリレート化合物であってもよいが、それらに限定されない。
【００３２】
市販の重合可能な不飽和化合物の例として、（ｉ）単官能性（メタ）アクリレート、例えば、Ａｒｏｎｉｘ  Ｍ−１０１、Ｍ−１１１、及びＭ−１１４（Ｔｏａｇｏｓｅｉ  Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）、ＫＡＹＡＲＡＤ  Ｔ４−１１０Ｓ及びＴ４−１２０Ｓ（Ｎｉｐｐｏｎ  Ｋａｙａｋｕ  Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）、ならびにＶ−１５８及びＶ−２３１１（Ｏｓａｋａ  Ｙｕｋｉ  Ｋａｇａｋｕ  Ｋｏｇｙｏ  Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）；（ｉｉ）二官能性（メタ）アクリレート、例えば、Ａｒｏｎｉｘ  Ｍ−２１０、Ｍ−２４０、及びＭ−６２００（Ｔｏａｇｏｓｅｉ  Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＨＤＤＡ，ＨＸ−２２０及びＲ−６０４（Ｎｉｐｐｏｎ  Ｋａｙａｋｕ  Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）、ならびにＶ−２６０、Ｖ−３１２、及びＶ−３３５  ＨＰ（Ｏｓａｋａ  Ｙｕｋｉ  Ｋａｇａｋｕ  Ｋｏｇｙｏ  Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）；及び（ｉｉｉ）三官能性以上の（メタ）アクリレート、例えば、Ａｒｏｎｉｘ  Ｍ−３０９、Ｍ−４００、Ｍ−４０３、Ｍ−４０５、Ｍ−４５０、Ｍ−７１００、Ｍ−８０３０、Ｍ−８０６０、及びＴＯ−１３８２（Ｔｏａｇｏｓｅｉ  Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＴＭＰＴＡ、ＤＰＨＡ、ＤＰＨＡ−４０Ｈ、ＤＰＣＡ−２０、ＤＰＣＡ−３０、ＤＰＣＡ−６０、及びＤＰＣＡ−１２０（Ｎｉｐｐｏｎ  Ｋａｙａｋｕ  Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）、ならびにＶ−２９５、Ｖ−３００、Ｖ−３６０、Ｖ−ＧＰＴ、Ｖ−３ＰＡ、Ｖ−４００、及びＶ−８０２（Ｏｓａｋａ  Ｙｕｋｉ  Ｋａｇａｋｕ  Ｋｏｇｙｏ  Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）を挙げることができる。
【００３３】
重合可能な不飽和化合物（２）は、単独で、またはそれらの２つ以上の組み合わせで使用されてもよい。
【００３４】
重合可能な不飽和化合物（２）の量は、溶媒を除く１００重量部のコポリマー（１）を基準として５〜２００重量部、好ましくは１０〜１５０重量部であってもよい。この範囲内で、樹脂組成物は、良好なコンタクトホールプロファイルを有するパターン化された膜を容易に形成する。
【００３５】
（３）光重合開始剤
本発明の光重合開始剤は、可視光線、紫外線、及び深紫外線照射等の光に暴露されると硬化性モノマーの重合を開始する化合物であってもよい。光重合開始剤は、ラジカル開始剤であってもよく、特に限定されないが、アセトフェノン化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンゾイン化合物、ベンゾイル化合物、キサントン化合物、トリアジン化合物、ハロメチルオキサジオール化合物、及びロフィン二量体化合物からなる群から選択される少なくとも１つであってもよい。
【００３６】
光重合開始剤の特定の例として、限定されないが、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、過酸化ベンゾイル、過酸化ラウリル、ｔ−ブチルペルオキシピバラート、１，１−ビス（ｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、２−ベンジル−２−（ジメチルアミノ）−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］−１−ブタノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、ベンゾフェノン、ベンゾインプロピルエーテル、ジエチルチオキサントン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−ｐ−メトキシフェニル−ｓ−トリアジン、２−トリクロロメチル−５−スチリル−１，３，４−オキソジアゾール、９−フェニルアクリジン、３−メチル−５−アミノ−（（ｓ−トリアジン−２−イル）アミノ）−３−フェニルクマリン、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾリル二量体、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−オクタン−１，２−ジオン−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）、ｏ−ベンゾイル−４’−（ベンズメルカプト）ベンゾイル−ヘキシル−ケトキシム、２，４，６−トリメチルフェニルカルボニル−ジフェニルホスホニルオキシド、ヘキサフルオロホスホロ−トリアルキルフェニルスルホニウム塩、２−メルカプトベンズイミダゾール、２，２’−ベンゾチアゾリルジスルフィド、及びそれらの混合物を挙げることができる。
【００３７】
代替として、光重合開始剤は、少なくとも１種類のオキシム化合物を含んでもよい。オキシム化合物は、特定の制限なくオキシム構造を有する任意のラジカル開始剤を含んでもよく、例えば、オキシムエステル化合物を含んでもよい。
【００３８】
高感度のために好ましいのは、ＫＲ２００４−０００７７００、ＫＲ２００５−００８４１４９、ＫＲ２００８−００８３６５０、ＫＲ２００８−００８０２０８、ＫＲ２００７−００４４０６２、ＫＲ２００７−００９１１１０、ＫＲ２００７−００４４７５３、ＫＲ２００９−０００９９９１、ＫＲ２００９−００９３９３３、ＫＲ２０１０−００９７６５８、ＫＲ２０１１−００５９５２５、ＫＲ２０１１−００９１７４２、ＫＲ２０１１−００２６４６７、ＫＲ２０１１−００１５６８３、ＷＯ２０１０／１０２５０２、及びＷＯ２０１０／１３３０７７に開示される１つ以上のオキシム化合物である。市販の光重合開始剤の特定の例として、ＯＸＥ−０１（ＢＡＳＦ）、ＯＸＥ−０２（ＢＡＳＦ）、ＯＸＥ−０３（ＢＡＳＦ）、Ｎ−１９１９（ＡＤＥＫＡ）、ＮＣＩ−９３０（ＡＤＥＫＡ）、ＮＣＩ−８３１（ＡＤＥＫＡ）等が挙げられる。
【００３９】
光重合開始剤（３）は、１００重量部のコポリマー（１）（固形分換算）を基準として１〜２０重量部、好ましくは３〜１７重量部の量で含まれてもよい。この範囲内で、良好なパターン現像性及び被覆性を有する高感度のパターンを得ることができる。
【００４０】
（４）溶媒
本発明の溶媒（４）は、大気圧下で１８０℃以上の沸点を有する高沸点溶媒を含んでもよい。
【００４１】
高沸点溶媒は、大気圧下で１８０℃以上、好ましくは１８０〜２５０℃、より好ましくは１９０〜２１０℃の沸点を有し得る。高沸点溶媒の量は、溶媒（４）の総重量を基準として好ましくは５〜６０重量％、より好ましくは１０〜５０重量％、より好ましくは１５〜４０重量％である。この範囲内で、平面性の高い被覆膜を得ることができる。
【００４２】
高沸点溶媒の例として、γ−ブチロラクトン、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールジアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアリニド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、１−オクタノール、１−ノナノール、ベンジルアセテート、エチルベンゾエート、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、及び酢酸フェニルメチルセロソルブからなる群から選択される少なくとも１つを挙げることができる。現像性を考慮すると、好ましくは、高沸点溶媒は、γ−ブチロラクトン、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールジアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、及びジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテートからなる群から選択される少なくとも１つであってもよい。
【００４３】
本発明の溶媒（４）は、１８０℃未満の沸点を有する低沸点溶媒（４−１）を追加的に含んでもよい。低沸点溶媒（４−１）は、感光性樹脂組成物中の上記構成成分と適合性であるが、該構成成分と反応せず、大気圧下で１８０℃未満の沸点、好ましくは１００℃以上かつ１８０℃未満の沸点を有する任意の既知の溶媒を含んでもよく、感光性樹脂組成物中に都合よく使用され得る。
【００４４】
低沸点溶媒の例は、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコール−ｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、メチルエチルケトン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸ｎ−ペンチル、酢酸イソペンチル、プロピオン酸ｎ−ブチル、酪酸エチル、酪酸ｎ−プロピル、酪酸イソプロピル、酪酸ｎ−ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸ｎ−プロピル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、３−メトキシブタノール、及びシクロペンタノンからなる群から選択される少なくとも１つであってもよい。好ましくは、他の構成成分との適合性を考慮して、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが使用されてもよい。
【００４５】
本発明の感光性樹脂組成物中の溶媒（４）の量は、特に限定されない。良好な被覆性及び感光性樹脂組成物の安定性のために、溶媒は、組成物の固形分が組成物の総重量を基準として５〜７０重量％、好ましくは１０〜５５重量％の範囲になるような量で含有されてもよい。この場合、固形分とは、樹脂組成物中の溶媒を除く構成成分の量を意味する。
【００４６】
（５）界面活性剤
本発明の感光性樹脂組成物は、その被覆性を高め、欠陥の形成を防止するために、場合によっては界面活性剤をさらに含んでもよい。
【００４７】
界面活性剤は、限定されないが、好ましいのは、フッ素系界面活性剤、シリコン系界面活性剤、非イオン性界面活性剤等である。
【００４８】
界面活性剤の例として、フッ素系及びシリコン系界面活性剤、例えば、ＢＭ−１０００及びＢＭ−１１００（ＢＭ  ＣＨＥＭＩＥ  Ｃｏ．、Ｌｔｄ．製）、Ｍｅｇａｐａｃｋ  ６−１４２  Ｄ、６−１７２、６−１７３、６−１８３、Ｆ−４７０、Ｆ−４７１、Ｆ−４７５、Ｆ−４８２、及びＦ−４８９（Ｄａｉ  Ｎｉｐｐｏｎ  Ｉｎｋ  Ｋａｇａｋｕ  Ｋｏｇｙｏ  Ｃｏ．、Ｌｔｄ．製）、Ｆｌｏｒａｄ  Ｆ４−１３５、Ｆ４−１７０  Ｃ、ＦＣ−４３０、及びＦＣ−４３１（Ｓｕｍｉｔｏｍｏ  ３Ｍ  Ｌｔｄ．製）、Ｓｕｆｒｏｎ  Ｓ−１１２、Ｓ−１１３、Ｓ−１３１、Ｓ−１４１、Ｓ−１４５、Ｓ−３８２、Ｓ４−１０１、Ｓ４−１０２、Ｓ４−１０３、Ｓ４−１０４、Ｓ４−１０５、及びＳ４−１０６（Ａｓａｈｉ  Ｇｌａｓｓ  Ｃｏ．、Ｌｔｄ．製）、Ｅｆｔｏｐ  ＥＦ３０１、ＥＦ３０３、及びＥＦ３５２（Ｓｈｉｎａｋｉｄａ  Ｋａｓｅｉ  Ｃｏ．、Ｌｔｄ．製）、ＳＨ−２８  ＰＡ、ＳＨ−１９０、ＳＨ−１９３、ＳＺ−６０３２、ＳＦ−８４２８、ＤＣ−５７、及びＤＣ−１９０（Ｔｏｒａｙ  Ｓｉｌｉｃｏｎ  Ｃｏ．、Ｌｔｄ．製）、ＤＣ３ＰＡ、ＤＣ７ＰＡ、ＳＨ１１ＰＡ、ＳＨ２１ＰＡ、ＳＨ８４００、ＦＺ−２１００、ＦＺ−２１１０、ＦＺ−２１２２、ＦＺ−２２２２、及びＦＺ−２２３３（Ｄｏｗ  Ｃｏｒｎｉｎｇ  Ｔｏｒａｙ  Ｓｉｌｉｃｏｎ  Ｃｏ．、Ｌｔｄ．製）、ＴＳＦ−４４４０、ＴＳＦ−４３００、ＴＳＦ−４４４５、ＴＳＦ−４４４６、ＴＳＦ−４４６０、及びＴＳＦ−４４５２（ＧＥ  Ｔｏｓｈｉｂａ  Ｓｉｌｉｃｏｎ  Ｃｏ．、Ｌｔｄ．製）、ならびにＢＹＫ−３３３（ＢＹＫ  Ｃｏ．、Ｌｔｄ．製）；非イオン性界面活性剤、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル（ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等を含む）、ポリオキシエチレンアリールエーテル（ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等を含む）、及びポリオキシエチレンジアルキルエーテル（ポリオキシエチレンジラウリン酸、ポリオキシエチレンジステアリン酸等を含む）；ならびにオルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（Ｓｈｉｎ−Ｅｔｓｕ  Ｋａｇａｋｕ  Ｃｏ．、Ｌｔｄ．製）、（メタ）アクリレート系コポリマーＰｏｌｙｆｌｏｗ  Ｎｏ．  ５７及び９５（Ｋｙｏｅｉ  Ｙｕｊｉ  Ｋａｇａｋｕ  Ｃｏ．、Ｌｔｄ．）等を挙げることができる。
【００４９】
これらの界面活性剤は、単独で、またはそれらの２つ以上の組み合わせで使用されてもよい。
【００５０】
界面活性剤（５）は、溶媒を除く固形分が１００重量部のコポリマー（１）を基準として０．００１〜５重量部、好ましくは０．０５〜３重量部の範囲になるような量で含有されてもよい。この量の範囲内で、組成物は容易に被覆され得る。
【００５１】
（６）接着補助剤
本発明の感光性樹脂組成物は、基板に対するコーティングの接着性を改善するために接着補助剤を追加的に含んでもよい。
【００５２】
接着補助剤は、特定の種類に限定されないが、例えば、カルボキシル基、（メタ）アクリロイル基、イソシアネート基、アミノ基、メルカプト基、ビニル基、及びエポキシ基からなる群から選択される少なくとも１つの反応性基を含有するシラン結合剤を含んでもよい。
【００５３】
好ましい接着補助剤は、トリメトキシシリル安息香酸、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン、γ−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニルアミノプロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、またはそれらの混合物等を挙げることができ、より好ましくは、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニルアミノプロピルトリメトキシシラン等を含んでもよく、これによって保持率を増加させ、基板に対するコーティングの良好な接着性を有することができる。さらに、イソシアネート基を含有するγ−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン（例えば、ＫＢＥ−９００７、Ｓｈｉｎ−Ｅｔｓｕ  Ｃｏ．、Ｌｔｄ．製）が、耐化学性を改善するために使用されてもよい。
【００５４】
接着補助剤（６）は、溶媒を除く固形分が１００重量部のコポリマー（１）を基準として０．００１〜５重量部、好ましくは０．０５〜３重量部の範囲になるような量で含有されてもよい。この量の範囲内で、基板に対するコーティングの接着性がさらに改善され得る。
【００５５】
上記構成成分の他に、本発明の感光性樹脂組成物は、組成物の物理的特性が有害影響を受けない限り、抗酸化剤、安定剤、及びラジカル捕捉剤等の他の添加剤をさらに含んでもよい。
【００５６】
本発明の感光性樹脂組成物は、ネガ型感光性樹脂組成物として使用されてもよい。特に、感光性樹脂組成物は、基板上に被覆され、絶縁膜を生成するように硬化され得る。
【００５７】
絶縁膜は、当該技術分野で周知の従来の方法によって製造されてもよい。例えば、感光性樹脂組成物は、スピンコーティング法によってシリコン基板上に被覆されてもよく、溶媒を除去するために、例えば、６０〜１３０℃の温度で６０〜１３０秒間予備焼成に供されてもよく、所望のパターンを有するフォトマスクを使用して露光されてもよく、また被覆膜のパターンを形成するために、現像剤、例えば、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）溶液を使用して現像に供されてもよい。露光は、１０〜１００ｍＪ／ｃｍ２の露光強度で２００〜４５０ｎｍの範囲の波長で行われてもよい。次いで、そのようにしてパターン化された被覆膜を、１５０〜３００℃の温度で１０分〜５時間予備焼成に供して所望の絶縁膜を製造する。
【００５８】
本発明の感光性樹脂組成物は、被覆膜の形成中に高平面性及び高解像度を有するパターンを生成することができる。したがって、該組成物は、ＬＣＤに使用される有機絶縁膜の材料として好適であり、好ましくは、同時に白ピクセルとして機能する有機絶縁膜を調製するために使用される。さらに、該組成物は、種々の分野において電気部品またはデバイスの材料としても有用である。
【実施例】
【００５９】
これ以降、以下の実施例を参照して本発明を詳細に説明する。実施例は、その範囲を限定することなく本発明をさらに説明することを意図している。
【００６０】
以下の実施例において、重量平均分子量は、ポリスチレン標準を使用してゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって決定される。
【００６１】
調製例１：コポリマー（１−１）の調製
自動温度制御装置を装備した撹拌機に、乾燥管を含む凝縮器を備えた三つ口フラスコを置いた。次いで、１００重量部のモノマー混合物を基準として、２重量部のオクチルメルカプタン、３重量部の２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、及び１００重量部のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをフラスコに加え、それに窒素を交換した。この場合、モノマー混合物は、２０．５モル％のメタクリル酸（ＭＡＡ）、９モル％のグリシジルメタクリレート（ＧＭＡ）、４３モル％のスチレン（Ｓｔｙ）、及び２７．５モル％のメチルメタクリレート（ＭＭＡ）からなっていた。次いで、ゆっくり撹拌しながら反応混合物の温度を６０℃まで上昇させて重合のために５時間維持し、５，４００の重量平均分子量を有するコポリマー溶液（コポリマー）を得た。
【００６２】
調製例２：コポリマー（１−２）の調製
２１モル％のメタクリル酸（ＭＡＡ）、１５モル％のグリシジルメタクリレート（ＧＭＡ）、４３モル％のスチレン（Ｓｔｙ）、及び２１モル％のメチルメタクリレート（ＭＭＡ）からなるモノマー混合物を使用したことを除いて、調製例１に記載されるのと同じ方法に従って重合反応により３，８００の重量平均分子量を有するコポリマー溶液を得た。
【００６３】
調製例３：コポリマー（１−３）の調製
２４モル％のメタクリル酸（ＭＡＡ）、５６モル％のスチレン（Ｓｔｙ）、及び２０モル％のメタルメタクリレート（ＭＭＡ）からなるモノマー混合物を使用したことを除いて、調製例１に記載されるのと同じ方法に従って重合反応により９，０００の重量平均分子量を有するコポリマー溶液を得た。
【００６４】
【表１】
2018531409.tif 000003
【００６５】
以下の実施例及び比較例の感光性樹脂組成物は、調製例で調製された化合物を使用して調製した。
【００６６】
以下の化合物を、他の構成成分として使用した。
【００６７】
光重合開始剤（２−１）：ＮＣＩ−９３０（ＡＤＥＫＡ  Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）
光重合開始剤（２−２）：ＯＸＥ−０２（ＢＡＳＦ  Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）
重合可能な不飽和化合物（３−１）：ジペンタエリトリトールヘキサ（メタ）アクリレート（ＤＰＨＡ）
溶媒（４−１）：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（Ｃｈｅｍｔｒｏｎｉｃｓ  Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）（沸点：約１４６℃）
溶媒（４−２）：γ−ブチロラクトン（ＢＡＳＦ  Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）（沸点：約２０４℃）
溶媒（４−３）：ジエチレングリコールモノメチルエーテル（ＴＣＩ  Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）（沸点：約１９４℃）
溶媒（４−４）：ジエチレングリコールモノブチルエーテル（Ｄａｅｊｕｎｇ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ＆Ｍｅｔａｌｓ  Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）（沸点：約２３０℃）
溶媒（４−５）：プロピレングリコールジアセテート（Ｄａｅｊｕｎｇ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ＆Ｍｅｔａｌｓ  Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）（沸点：約１８６℃）
溶媒（４−６）：ジエチレングリコールモノエチルエーテル（Ｄａｅｊｕｎｇ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ＆Ｍｅｔａｌｓ  Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）（沸点：約２０２℃）
溶媒（４−７）：ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート（Ｄａｅｊｕｎｇ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ＆Ｍｅｔａｌｓ  Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）（沸点：約２１４℃）
溶媒（４−８）：ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート（Ｄａｅｊｕｎｇ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ＆Ｍｅｔａｌｓ  Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）（沸点：約２４１℃）
溶媒（４−９）：ジプロピレングリコールジメチルエーテル（Ｈａｎｎｏｎｇ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ製）（沸点：約１７８℃）
界面活性剤（５−１）：ＦＺ−２１２２（Ｄｏｗ  Ｃｏｒｎｉｎｇ  Ｔｏｒａｙ  Ｓｉｌｉｃｏｎ  Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）
接着補助剤（６−１）：γ−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン（Ｓｈｉｎ−Ｅｔｓｕ  Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）
【００６８】
実施例１：感光性樹脂組成物の調製
調製例１で得られた１００重量部のコポリマー（１−１）の固形分を基準として、５．７重量部の光重合開始剤（２−１）、３．５重量部の光重合開始剤（２−２）、５４重量部の重合可能な不飽和化合物（３−１）、０．２重量部の界面活性剤（５−１）、及び０．８重量部の接着補助剤（６−１）を混合し、８０：２０の重量比の溶媒（４−１）及び溶媒（４−２）を混合物の全固形分が２３重量％となるような量でそれに加えた。振盪機を用いて混合物を２時間混合し、液相の感光性樹脂組成物を調製した。
【００６９】
実施例２〜８及び比較例１〜３：感光性樹脂組成物の調製
コポリマーの種類を下の表２に示すように変更し、溶媒の種類及び量を下の表３に示すように変更したことを除いて、実施例１に記載されるのと同じ手順に従って感光性樹脂組成物を調製した。
【００７０】
【表２】
2018531409.tif 000004
【００７１】
【表３】
2018531409.tif 000005
【００７２】
参考実施例
固形分換算で、１００重量部のコポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／メチルメタクリレート、４０／３０／３０モル％、Ｍｗ２０，０００）、６５重量部の重合可能な不飽和化合物（３−１）、４重量部の光重合開始剤（２−１）、１．２重量部の光重合開始剤（２−２）、０．３重量部の界面活性剤（５−１）、及び０．５重量部の接着補助剤（６−１）を混合し、３０重量部の青色顔料分散剤（３０％の固形分を含有）及び溶媒（４−１）を混合物の全固形分が２５％になるような量でそれに加えた。振盪機を用いて混合物を２時間混合し、感光性樹脂組成物を調製した。
【００７３】
実施例及び比較例で調製された感光性樹脂組成物に関して、以下の項目を評価した。
【００７４】
実験例１：平面性の評価
ステップ（１）下部硬化膜の製造
参考実施例において得られた感光性樹脂組成物をガラス基板上に被覆し、１００℃の温度を有するホットプレート上で１００秒間予備焼成し、４．３μｍの厚さの予備焼成膜を形成した。予備焼成膜上に、長さ１５０μｍ及び幅４５０μｍを有する正方形が長さ５００μｍの間隔で配置された正方形パターンを有するマスクを、基板からの距離が２００μｍになるように塗布した。次いで、３６５ｎｍの波長を基準として１００ｍＪ／ｃｍ２の露光強度で、２００ｎｍ〜４５０ｎｍの波長域でアライナー（モデル：ＭＡ６）から放出される光に膜を暴露した。スプレーノズルを介して１２０秒間２３℃で、現像剤として０．０４重量％のＫＯＨ水溶液を用いて膜を現像した。その後、そのようにして現像された膜を２３０℃の対流式オーブンで３０分間加熱して厚さ３μｍの下部硬化膜を生成した。
【００７５】
ステップ（２）有機絶縁膜の製造
実施例及び比較例で得られたそれぞれの感光性樹脂組成物を、スピンコーティングにより下部硬化膜上に被覆した。被覆された基板を１０５℃の温度を有するホットプレート上で９０秒間予備焼成し、約５μｍの厚さの予備焼成膜を形成した。以前に予備焼成膜を形成するために使用したのと同じアライナーを用いて、ある特定の期間、３６５ｎｍの波長を基準として２２ｍＪ／ｃｍ２の露光強度で予備焼成膜を露光した。その後、そのようにして得られた膜を２３０℃の対流式オーブンで３０分間加熱して硬化膜（有機絶縁膜）を生成した。
【００７６】
ステップ（３）平面性（高低差）の測定
図１を参照すると、ステップ（１）によって基板（３０）上に下部硬化膜（２０）が形成され、ステップ（２）によって下部硬化膜（２０）上に有機絶縁膜（１０）が形成された。さらに、下部硬化膜（２０）に形成される線で隔てられたパターンに起因して、下部硬化膜（２０）が形成された領域及び下部硬化膜（２０）が形成されなかった領域が、基板（３０）の表面上に同時に存在していた。この場合、下部硬化膜（２０）が形成されなかった基板（３０）の表面から有機絶縁膜（１０）の表面まで測定される高さ（Ｔ２）は、下部硬化膜（２０）が形成された基板（３０）の表面から有機絶縁膜（１０）の表面まで測定される高さ（Ｔ１）よりも低い可能性がある。したがって、有機絶縁膜の表面は、平面ではない場合がある。
【００７７】
高さ（Ｔ１及びＴ２）は、三次元表面測定装置（ＳＮＵ  Ｐｒｅｃｉｓｉｏｎ製ＳＩＳ−２０００）を使用して測定し、有機絶縁膜の平面性は、以下の数式１に従って算出した。高低差の値が小さいほど、平面性は良好である。
【００７８】
［数１］
高低差（Å）＝Ｔ１−Ｔ２
【００７９】
実験例２：解像度の評価
実施例及び比較例で調製されたそれぞれの組成物を、スピンコーティングによりガラス基板上に被覆し、被覆された基板を１０５℃の温度を有するホットプレート上で９０秒間予備焼成し、約４μｍの厚さの予備焼成膜を形成した。サイズ２０μｍの正方形パターンを有するマスクを、基板からの距離が１０μｍになるように配置した後、２００ｎｍ〜４５０ｎｍの波長を有する光を放出するアライナー（モデル名：ＭＡ６）を用いて、３６５ｎｍの波長を基準として２２ｍＪ／ｃｍ２の露光強度で特定の期間、予備焼成膜を露光した。次いでスチームノズルを介して１２０秒間２３℃で、２．３８重量％の水酸化テトラメチルアンモニウム現像剤水溶液を使用して膜を現像した。そのようにして現像された膜を、次いで、２３０℃の対流式オーブンで３０分間加熱して硬化膜を得た。
【００８０】
サイズ１５μｍの正方形パターンを有するマスクを使用して硬化膜に形成されるホールパターンの限界寸法（ＣＤ、線幅μｍ）は、三次元表面測定装置（ＳＩＳ−２０００、ＳＮＵ  Ｐｒｅｃｉｓｉｏｎ製）を使用して測定し、解像度（％）は、以下の数式２に従って算出した。解像度の値（％）が小さいほど、解像度は良好である。
【００８１】
［数２］
解像度（％）＝［（１５μｍ−ホールパターンのＣＤ（μｍ））／１５μｍ］×１００
【００８２】
上記実験例において結果として得られた値を、下の表４に示される項目に従って評価し、それを下の表５にまとめる。
【００８３】
【表４】
2018531409.tif 000006
【００８４】
【表５】
2018531409.tif 000007
【００８５】
表５に示すように、実施例による組成物は、良好な平面性及び解像度を示した。対照的に、比較例による組成物は、特性の観点から少なくとも１つの満足のできない結果を示した。
【図１】
2018531409.tif 000008
【国際調査報告】
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