(57)【要約】暗視野撮像能力を有するマルチビーム走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）検査システムが開示されている。ＳＥＭ検査システムは、電子源と、少なくとも１つの光学機器と、を含んでもよい。少なくとも１つの光学機器は、電子源によって供給された電子を利用して複数の主要ビームレットを生成し、そして、ターゲットに向かって複数の主要ビームレットを送るように構成されてもよい。装置は、また、複数の主要ビームレットに応じてターゲットによって放出された複数の画像ビームレットを受け取って、ターゲットの少なくとも１つの暗視野画像を生成するように構成された検出器の配列を含んでもよい。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
装置であって、
電子源と、
前記電子源によって供給された電子を利用して複数の主要ビームレットを生成するように構成された少なくとも１つの光学機器であって、前記少なくとも１つの光学機器は、ターゲットに向かって前記複数の主要ビームレットを送るように更に構成されている、少なくとも１つの光学機器と、
前記複数の主要ビームレットに応じて前記ターゲットによって放出された複数の画像ビームレットを受け取るように構成された検出器の配列であって、前記検出器の配列は、前記ターゲットの少なくとも１つの暗視野画像を生成するように更に構成されている、検出器の配列と、を備える装置。
【請求項２】
前記検出器の配列は、前記複数の画像ビームレットを受け取るように指定されたマルチチャネル検出器の配列を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記複数の画像ビームレットのそれぞれの画像ビームレットは、指定されたマルチチャネル検出器によって受け取られる、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記マルチチャネル検出器は、中央チャネルと、前記中央チャネルの周りの複数の外側チャネルと、を備える、請求項２に記載の装置。
【請求項５】
前記マルチチャネル検出器は、前記ターゲットの明視野画像及び前記ターゲットの暗視野画像の描画を容易にするように構成されている、請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記外側チャネルは、極及び方位角情報を収集して、前記ターゲットの３次元形態の描画を容易にするか、又は、前記ターゲットまでの鉛直方向距離の測定を容易にするように構成されている、請求項４に記載の装置。
【請求項７】
前記検出器の配列は、高密度検出器配列である、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
前記複数の画像ビームレットのそれぞれの画像ビームレットは、前記高密度検出器配列内部の検出器のセットによって受け取られる、請求項７に記載の装置。
【請求項９】
前記検出器のセットのうちの少なくとも１つのサブセットは、中央区画を形成するようにグループ化されており、前記検出器のセットのうちの少なくとも２つのサブセットは、少なくとも２つの外側区画を形成するようにグループ化されている、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記中央区画及び前記外側区画は、前記ターゲットの明視野画像及び前記ターゲットの暗視野画像の描画を容易にするように構成されている、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
前記外側区画は、極及び方位角情報を収集して、前記ターゲットの３次元形態の描画を容易にするか、又は前記ターゲットに鉛直方向距離の測定を容易にするように更に構成されている、請求項９に記載の装置。
【請求項１２】
装置であって、
電子源と、
前記電子源によって供給された電子を利用して複数の主要ビームレットを生成するように構成された少なくとも１つの光学機器であって、前記少なくとも１つの光学機器は、ターゲットに向かって前記複数の主要ビームレットを送るように更に構成されている、少なくとも１つの光学機器と、
前記複数の主要ビームレットに応じて前記ターゲットによって放出された複数の画像ビームレットを受け取るように構成されたマルチチャネル検出器の配列であって、前記マルチチャネル検出器の配列は、前記ターゲットの少なくとも１つの暗視野画像を生成するように更に構成されている、マルチチャネル検出器の配列と、を備える装置。
【請求項１３】
前記複数の画像ビームレットのそれぞれの画像ビームレットは、指定されたマルチチャネル検出器によって受け取られる、請求項１２に記載の装置。
【請求項１４】
前記マルチチャネル検出器は、中央チャネルと、前記中央チャネルの周りの複数の外側チャネルと、を備える、請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】
前記マルチチャネル検出器は、前記ターゲットの明視野画像及び前記ターゲットの暗視野画像の描画を容易にするように構成されている、請求項１４に記載の装置。
【請求項１６】
前記マルチチャネル検出器は、マルチチャネル検出器上の画像ビーム分布を定量化して、１つ又は複数の適用可能な補正を決定するように構成されている、請求項１４に記載の装置。
【請求項１７】
前記外側チャネルは、極及び方位角情報を収集して、前記ターゲットの３次元形態の描画を容易にするか、又は、前記ターゲットまでの鉛直方向距離の測定を容易にするように更に構成されている、請求項１４に記載の装置。
【請求項１８】
前記マルチチャネル検出器の配列の前に設置されたレンズ配列を更に備え、前記レンズ配列は、前記マルチチャネル検出器の配列によって受取り可能な前記複数の画像ビームレットの制御を容易にするように構成されている、請求項１２に記載の装置。
【請求項１９】
装置であって、
電子源と、
前記電子源によって供給された電子を利用して複数の主要ビームレットを生成するように構成された少なくとも１つの光学機器であって、前記少なくとも１つの光学機器は、ターゲットに向かって前記複数の主要ビームレットを送るように更に構成されている、少なくとも１つの光学機器と、
前記複数の主要ビームレットに応じて前記ターゲットによって放出された複数の画像ビームレットを受け取るように構成された高密度検出器配列であって、前記高密度検出器配列は、前記ターゲットの少なくとも１つの暗視野画像を生成するように更に構成されている、高密度検出器配列と、を備える装置。
【請求項２０】
前記複数の画像ビームレットのそれぞれの画像ビームレットは、前記高密度検出器配列内部の検出器のセットによって受け取られる、請求項１９に記載の装置。
【請求項２１】
前記検出器のセットのうちの少なくとも１つのサブセットは、グループ化されて中央区画を形成し、前記検出器のセットのうちの少なくとも２つのサブセットは、グループ化されて少なくとも２つの外側区画を形成する、請求項２０に記載の装置。
【請求項２２】
前記中央区画及び前記外側区画は、前記ターゲットの明視野画像及び前記ターゲットの暗視野画像の描画を容易にするように構成されている、請求項２１に記載の装置。
【請求項２３】
前記外側区画は、極及び方位角情報を収集して、前記ターゲットの３次元形態の描画を容易にするか、又は、前記ターゲットまでの鉛直方向距離の測定を容易にするように更に構成されている、請求項２１に記載の装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、概して、検査システムの分野に関し、より具体的には、電子ビーム検査システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
本出願は、２０１５年９月２１日に出願された米国仮特許出願第６２／２２１，５９３号の米国特許法第１１９条（ｅ）の下での利益を主張する。前記米国仮特許出願第６２／２２１，５９３号は、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。
【０００３】
本出願は、同時係属中及び同時出願の米国特許出願第（未定）に関連し、そして、この出願は、ケーエルエー・テンカー株式会社事件整理番号Ｐ４７７０を有し、名称が「Ｂａｃｋｓｃａｔｔｅｒｅｄ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎｓ（ＢＳＥ）  Ｉｍａｇｉｎｇ  Ｕｓｉｎｇ  Ｍｕｌｔｉ−Ｂｅａｍ  Ｔｏｏｌｓ」であり、発明者がマーク  マッコードらであり、その全体が参照により本発明に組み込まれる。
【０００４】
シリコンウェハ等の薄い磨き板は、現代技術の非常に重要な部品である。ウェハは、例えば、集積回路及び別の機器の製作に使用される半導体の薄切片を指す場合がある。ウェハは、欠陥検査を受け、そして、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）検査が、ウェハに対する最も高感度形式の欠陥検査の１つと考えられる。
【０００５】
走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）は、一種の電子顕微鏡であって、集束電子ビームを用いて走査することによってターゲット（例えば、ウェハ）の画像を生成する。電子は、ターゲット内の原子と相互作用して、ターゲットの表面形態及び組成に関する情報を含む様々な信号を生成する。ＳＥＭの処理能力は、集束電子ビームの数を増加させる（マルチビームＳＥＭとして知られているＳＥＭを提供する）ことによって増大され得ることが知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】米国特許出願公開第２０１５／００３４８２２号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、また、現在利用可能なマルチビームＳＥＭは、マルチビーム暗視野撮像をサポートしないことも知られている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本開示は、装置を対象とする。装置は、電子源と、少なくとも１つの光学機器と、を含んでもよい。少なくとも１つの光学機器は、電子源によって供給された電子を利用して複数の主要ビームレットを生成し、そして、複数の主要ビームレットをターゲットに向かって送るように構成されてもよい。装置は、また、検出器の配列を含んでもよく、この配列は、複数の主要ビームレットに応じてターゲットによって放出された複数の画像ビームレットを受け取り、そして、ターゲットの少なくとも１つの暗視野画像を生成するように構成されている。
【０００９】
本開示の更なる実施形態は、装置を対象にする。装置は、電子源と、少なくとも１つの光学機器と、を含んでもよい。少なくとも１つの光学機器は、電子源によって供給された電子を利用して複数の主要ビームレットを生成し、そして、複数の主要ビームレットをターゲットに向かって送るように構成されてもよい。装置は、また、マルチチャネル検出器の配列を含んでもよく、この配列は、複数の主要ビームレットに応じてターゲットによって放出された複数の画像ビームレットを受け取って、ターゲットの少なくとも１つの暗視野画像を生成するように構成されている。
【００１０】
本開示の更なる実施形態は、装置を対象にする。装置は、電子源と、少なくとも１つの光学機器と、を含んでもよい。少なくとも１つの光学機器は、電子源によって供給された電子を利用して複数の主要ビームレットを生成し、そして、複数の主要ビームレットをターゲットに向かって送るように構成されてもよい。装置は、また、複数の主要ビームレットに応じてターゲットによって放出された複数の画像ビームレットを受け取り、そして、ターゲットの少なくとも１つの暗視野画像を生成するように構成された高密度検出器配列を含んでもよい。
【００１１】
前述の概略説明及び以下の詳細説明は、単に例示的で説明的であり、そして、本開示に必ずしも限定されるわけではないことを理解されたい。添付図面は、明細書に組み込まれて、その一部分を構成するものであって、本開示の主題を示す。説明と図面は、一緒に本開示の原理を説明するのに役立つ。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
本開示についての多くの利点は、以下の添付図面を参照することによって当業者にはよりよく理解されるであろう。
【図１】簡略化されたマルチビームＳＥＭ検査システムを示す説明図である。
【図２】本開示に従って構成されたマルチチャネル検出器を示す説明図である。
【図３】本開示の実施形態に従って構成されたマルチチャネル検出器を利用する検出器配列を示す説明図である。
【図４】本開示に従って構成された別のマルチチャネル検出器を示す説明図である。
【図５】本開示に従って構成された別のマルチチャネル検出器を示す説明図である。
【図６】本開示の実施形態に従って構成された検出器配列を示す説明図である。
【図７】別の簡略化されたマルチビームＳＥＭ検査システムを示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
ここで、参照が開示される主題に対して詳細になされ、主題は、添付図面に示されている。
【００１４】
本開示に従う実施形態は、暗視野撮像能力を有するマルチビーム走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）検査システムを対象にする。暗視野撮像は、典型的に、描画される画像からの非散乱ビーム（暗視野画像と称される）を含み、この非散乱ビームは、明視野画像に見えない場合がある特徴を識別するのを助け得る（例えば、滑らかすぎて投影できない隆起特徴は、明視野画像に現れ得ない場合があるが、特徴の側面から反射する光は、暗視野画像に見える）。そのため、マルチビームＳＥＭ検査システムに暗視野撮像能力を提供することは、非常に有効であり、そして、例えばウェハ等のターゲット試料の検査を含む使用に好適であると考えられる。
【００１５】
概して図１を参照すると、簡略化されたマルチビームＳＥＭ検査システム１００を示す説明図が表されている。マルチビームＳＥＭ検査システム１００は、１つ又は複数の光学機器１０４に向かって電子を送るように構成された電子源１０２を含んでもよい。光学機器１０４は、電子源１０２によって供給された電子を利用して、複数の主要ビームレット１０８を生成するように構成されてもよい。光学機器１０４は、例えば、複数の開口１０６を画定するマルチビーム開口配列を含んでもよい。複数の開口１０６によって生成された複数の主要ビームレット１０８は、ターゲット（例えば、ウェハ）１１０に向かって送られてターゲット１１０内の原子を励起してもよく、次に、１つ又は複数の光学機器１１４を使用して、加速及び／又はフィルタ処理され得る（後方散乱及び２次電子ビームレットを含む）複数の画像ビームレット１１２を放出してもよい。
【００１６】
いくつかの実施形態では、主要ビームレット１０８が、それぞれのビームレットラスタパターンの周囲が隣接するビームレットラスタパターンとわずかに重複するようなラスタパターンで偏向光学素子によって走査されることにより、全てのビームレット画像の集合体である全体画像が生成されてもよい。主要ビームレット１０８と画像ビームレット１１２の両方に共通する光学素子（例えば、スプリッタ１４０）が、光学機器１０４とターゲット１１０との間に提供されることにより、主要ビームレット１０８と画像ビームレットとを分離するのを助けてもよい。主要ビームレット１０８と画像ビームレット１１２との両方に共通する対物レンズ（例えば、組合せ静電及び磁気対物レンズ）１４２は、また、ターゲット１１０の近くに提供されてもよい。
【００１７】
いくつかの実施形態では、画像ビームレット１１２は、画像経路偏向板１４６を使用する主要ラスタ偏向光学素子１４４から補正を受けることにより、主要走査偏向光学素子１４４によって付与された任意の残存横方向速度成分をキャンセルする必要がある場合がある。画像ビームレット１１２は、最終的に検出器配列１１６に到着してもよい。検出器配列１１６は、画像ビームレット１１２を受け取るように（例えば、一対一対応の態様で）指定された複数の検出器１１８を含んでもよい。複数の検出器１１８は、検出器１１８において受け取られた画像ビームレット１１２に少なくとも部分的に基づいて、ターゲット１１０の画像を描くのに利用されてもよい。いくつかの実施形態では、複数の検出器１１８によって描かれたターゲット１１０の画像は、暗視野画像を含んでもよい。
【００１８】
より詳細には、暗視野画像を描くことができる複数の検出器１１８は、多重検出器チャネルをそれぞれの画像ビームレット１１２に提供するように構成されてもよい。図２は、本発明に従って構成されたマルチチャネル検出器１１８を示す説明図であり、そして、図３は、かかるマルチチャネル検出器１１８を利用する検出器配列１１６を示す説明図である。
【００１９】
図２に示すように、５つの異なる検出器チャネル１２０及び１２２が、所定のマルチチャネル検出器１１８内に画定されている。マルチチャネル検出器１１８内に画定されたチャネルのうちの１つが、中央にあり、そのため、中央チャネル１２０と呼ばれることがある。中央チャネル１２０の位置は、マルチチャネル検出器１１８が受け取るように指定されている特定の画像ビームレット１１２に対応してもよい。中央チャネル１２０において受け取られる電子ビームレットは、２次電子ビームレットを含んでもよく、この２次電子ビームレットは、従来のマルチビームＳＥＭ検査システムで利用されるのと同様の態様でターゲット１１０の明視野画像を描くのを助けるために利用されてもよい。
【００２０】
マルチチャネル検出器１１８は、また、中央チャネル１２０の周りにある複数の検出器チャネル１２２を含む。これらの検出器チャネル１２２は、外側チャネル１２２と称されてもよく、そして、マルチチャネル検出器１１８において受け取られることが期待される画像ビームレット１１２を網羅するに十分な大きさである結合検出領域を（中央チャネル１２０と共に）形成してもよい。マルチチャネル検出器１１８が、例えば、円形の検出器である場合、マルチチャネル検出器１１８の直径は、少なくとも画像ビームレット１１２の直径であってもよい。しかし、円形の検出器は、単に例示目的で表されていることを理解されたい。マルチチャネル検出器１１８は、本開示の趣旨及び範囲から逸脱することなく、様々な別の形状及びサイズを形成するように構成されてもよいと考えられる。
【００２１】
マルチチャネル検出器１１８の外側チャネル１２２は、図２に表す態様で画定されることにより、暗視野画像を描くのに使用され得る陰影情報を検出するのを助ける。５つの外側チャネル１２２が図２に表されているけれども、かかる描写は、単なる例示であって、限定を意味しないことが意図されている。暗視野撮像は、所定のマルチチャネル検出器内に画定された２つの外側チャネルだけで可能であり得ると考えられる。５つを上回る外側チャネル１２２が（例えば、図４及び５に表すように）所定のマルチチャネル検出器内に画定されることにより、本開示の趣旨及び範囲から逸脱することなく、より完全な極及び方位角情報を収集するのを助けることも、また考えられる。
【００２２】
外側チャネル１２２が暗視野画像を描くのを助けるために利用され得るけれども、それらは、また、本開示の趣旨及び範囲から逸脱することなく、明視野画像を描くのを助けるために利用されてもよい。例えば、明視野画像は、中央及び外側チャネルを含む全てのチャネルを合計することによって形成されてもよい。暗視野画像は、また、反対側の四分円を減ずることによって強化されてもよい。様々なチャネルが混合されてもよいと考えられる。例えば、画像は、反対側の外側チャネルを減ずることと、中央チャネルの小さい割合を加えることによって形成されてもよい。
【００２３】
また、このようにして提供された様々なチャネルが利用されることにより、検出器配列１１６内のそれぞれの区画化検出器での画像ビーム分布を（例えば、外側チャネルの合計に対する中央チャネルの比率を取ることによって）定量化し、そして、その計量値が検出器配列１１６内の全ての検出器全体にわたって変化する態様を分析して、表面帯電に関する情報（例えば、マルチ画像ビーム配列の周囲ビームは、ウェハ帯電に起因して最高の側方視野を経験し、その結果、より多くの画像ビーム非対称を示すことがある）を取得してもよいと考えられる。この情報は、コントラスト及び輝度補正を適用するのに利用されてもよいと考えられる。この情報は、また、必要に応じて、主要又は画像ビーム光学素子に補正を適用するために（例えば、フィードバック制御ループ内で）利用されてもよい。
【００２４】
上記の内側及び外側経絡は、個々の検出器１１８内部全体に画定される必要があるわけではないと更に考えられる。図６は、検出器配列１１６の代替実施形態を示す説明図であって、この実施形態は、前記したのと同一の暗視野撮像能力を提供するのに利用されてもよい。より具体的には、図６に表すように、検出器配列１１６は、多数の検出器１２８を有する高密度検出器配列として実装されてもよい。それぞれの個々の検出器１２８のサイズは、領域１３０の数分の一であってもよく、その領域では、網羅することを期待される個々の画像ビームレット１１２が、検出器配列１１６がそれぞれの個々の領域１３０内部に検出器１２８のセットを設置するのを有効に可能にする。それぞれの個々の領域１３０内部に設置された検出器１２８のセットは、次いで、上記のものと同様の態様で、複数のチャネルに論理的に分割／グループ化されてもよい。例えば、検出器１２８のサブセットは、論理的にグループ化されて、前記した中央チャネル１２０と同じ態様で機能する中央区画１２０’を形成してもよい。同様に、検出器１２８の１つ又は複数のサブセットは、論理的にグループ化されて、前記した外側チャネル１２２と同じ態様で機能する外側区画１２２’を形成してもよい。
【００２５】
図６に表す論理区画は、単なる例示であって、限定を意味しないことを理解されたい。別の区画は、本開示の趣旨及び範囲から逸脱することなく形成され得ると考えられる。しかし、検出器配列１１６の特定の実装に関係なく、本発明に従って構成された検出器配列１１６は、マルチビームＳＥＭ検査システム１００にターゲット１１０の大きい隣接した暗視野画像を形成するための暗視野画像の配列を描く能力を提供してもよく、その能力は、検査、精査、及び計量目的で使用されてもよいと考えられる。暗視野画像は、また、そうでなければ検出するのが困難である欠陥を検出する目的で使用されてもよいことが知られている。本開示に従って構成された検出器配列１１６を利用して収集された極及び方位角情報は、また、ターゲット１１０の３次元（３Ｄ）トポロジーを描くのを助けるため、及び／又はターゲット１１０までの鉛直方向距離を確定するために利用されてもよい。本発明に従って構成された検出器配列は、上記で特に言及されていない別の利益を提供してもよいと考えられる。
【００２６】
本開示に従って構成された検出器配列（及び、一般にマルチビームＳＥＭ検査システム）は、関連する米国特許及び米国特許出願に記載された様々なタイプの検査／検出システム／装置の一部分として、又はこれらと共に利用されてもよく、それらの特許等としては、「Ｍｕｌｔｉ−ｓｐｏｔ  Ｃｏｌｌｅｃｔｉｏｎ  Ｏｐｔｉｃｓ」という名称の米国特許出願第１４／１１５，３２６号、「Ｈｉｇｈ  Ｔｈｒｏｕｇｈｐｕｔ  Ｍｕｌｔｉ  Ｂｅａｍ  Ｄｅｔｅｃｔｉｏｎ  Ｓｙｓｔｅｍ  ａｎｄ  Ｍｅｔｈｏｄ」という名称の米国特許第７，５０４，６２２号、「Ａｐｐａｒａｔｕｓ  ａｎｄ  Ｍｅｔｈｏｄ  ｆｏｒ  Ｅ−Ｂｅａｍ  Ｄａｒｋ  Ｆｉｅｌｄ  Ｉｍａｇｉｎｇ」という名称の米国特許第７，１４１，７９１号、「Ｍｅｔｈｏｄ  ａｎｄ  Ａｐｐａｒａｔｕｓ  ｆｏｒ  Ｉｎｓｐｅｃｔｉｎｇ  ａ  Ｓｕｂｓｔｒａｔｅ」という名称の米国特許第７，１７１，０３８号、「Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ  Ｓｅｇｍｅｎｔｅｄ  Ｓｃｉｎｔｉｌｌａｔｉｏｎ  Ｄｅｔｅｃｔｏｒ」という名称の米国特許第７，５６０，７０３号、「Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｂｅａｍ  Ａｐｐａｒａｔｕｓ  ｔｏ  Ｃｏｌｌｅｃｔ  Ｓｉｄｅ−Ｖｉｅｗ  ａｎｄ／ｏｒ  Ｐｌａｎｅ−Ｖｉｅｗ  Ｉｍａｇｅ  ｗｉｔｈ  Ｉｎ−Ｌｅｎｓ  Ｓｅｃｔｉｏｎａｌ  Ｄｅｔｅｃｔｏｒ」という名称の米国特許第７，７０５，３０１号、「Ａｐｐａｒａｔｕｓ  ａｎｄ  Ｍｅｔｈｏｄ  ｆｏｒ  Ｏｂｔａｉｎｉｎｇ  Ｔｏｐｏｇｒａｐｈｉｃａｌ  Ｄａｒｋ−Ｆｉｅｌｄ  Ｉｍａｇｅｓ  ｉｎ  ａ  Ｓｃａｎｎｉｎｇ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ」という名称の米国特許第７，７１４，２８７号、「Ｂｒｉｇｈｔ−Ｆｉｅｌｄ／Ｄａｒｋ−Ｆｉｅｌｄ  Ｄｅｔｅｃｔｏｒ  ｗｉｔｈ  Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｅｎｅｒｇｙ  Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｅｒ」という名称の米国特許第７，７５５，０４３号、「Ａｐｐａｒａｔｕｓ  ａｎｄ  Ｍｅｔｈｏｄ  ｆｏｒ  Ｅ−Ｂｅａｍ  Ｄａｒｋ  Ｉｍａｇｉｎｇ  ｗｉｔｈ  Ｐｅｒｓｐｅｃｔｉｖｅ  Ｃｏｎｔｒｏｌ」という名称の米国特許第７，８３８，８３３号、及び、「Ｍｏｖａｂｌｅ  Ｄｅｔｅｃｔｏｒ  ｆｏｒ  Ｃｈａｒｇｅｄ  Ｐａｒｔｉｃｌｅ  Ｂｅａｍ  Ｉｎｓｐｅｃｔｉｏｎ  ｏｒ  Ｒｅｖｉｅｗ」という名称の米国特許第８，６２４，１８６号が限定的でなく挙げられ、これらはその全体が参照により本明細書に組み込まれる。
【００２７】
本発明に従って構成された検出器配列は、レンズ配列と連携して利用されてもよいことが更に考えられる。図７に表すように、例えば、レンズ配列１５０は、検出器配列１１６の前に設置されることにより、検出器配列１１６内のそれぞれのマルチチャネル検出器上の画像ビーム分布を制御するのを助けてもよい。レンズ配列１５０は、それぞれの画像ビームレット１１２内の電子が画像ビームレット１１２の互いに対する発散又は収束の速度に影響を及ぼすことなく操作されるのを可能にする。例えば、レンズ配列１５０は、レンズの焦能力を増加させることによってビームレットピッチに影響を及ぼすことなく、それぞれの検出器の中央チャネルにより多くの２次電子を向けるように構成されてもよい。このように、検出器配列１１６と連携したレンズ配列１５０は、エネルギーフィルタとして機能することにより、下側エネルギ派生物が、中央検出器に優先して集束され、外側チャネル内の下側エネルギ派生物の数を有効に最小化してもよい。かかる特徴は、暗視野画像内の帯電アーティファクトがウェハ表面帯電によって最も大きく影響を受ける最低のエネルギ派生物であるので、それを（外側チャネルだけを使用して）最小化するのに役立つことがあるのを理解されたい。また、レンズ配列１５０は、本開示の精神及び範囲から逸脱することなく、全体的に制御されてもよい（レンズ配列１５０内の全てのレンズに適用可能な制御）か、及び／又は、別々に制御されてもよい（レンズ配列１５０内のそれぞれのレンズに適用可能な制御）ことを理解されたい。
【００２８】
上記の例は検査の対象としてウェハに言及しているけれども、本開示に従って構成された検査システムは、ウェハを検査することに限定されないことを理解されたい。本発明に従って構成された検査システムは、本開示の精神及び範囲から逸脱することなく、別の種類の対象に同様に適用可能である。本開示で使用される用語ウェハは、集積回路及び別の機器、並びに磁気ディスク基板、ゲージブロック等の別の薄い磨き板の製作に使用される半導体の薄切片を含んでもよい。
【００２９】
本開示のシステム及び装置、並びにその付随する利点のうちの多くは、前述の説明によって理解されるであろうと思われ、そして、様々な変更が、開示された主題から逸脱することなく、又は、それの具体的な利点の全てを犠牲にすることなく、構成要素の形式、構成、及び配列においてなされてもよいことが明らかであろう。説明された形式は、単に例示のためのものである。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【国際調査報告】
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2018530872.tif 000011