(57)【要約】  本発明は、フレキシブル基板（１１）に、第１バッファ層（１２）、スイッチアレイ層（１３）、表示単位層（１４）、及び薄膜封止層（１５）を順次形成するステップを備え、前記フレキシブル有機発光ディスプレイが前記フレキシブル基板（１１）側に沿って折り曲げられる時に、第１曲げ変形力が発生し、前記第１バッファ層（１２）は、前記第１曲げ変形力を吸収し、前記第１バッファ層（１２）の材料は、有機絶縁材料であるフレキシブル有機発光ディスプレイ及びその製造方法を提供する。
2018506836.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フレキシブル有機発光ディスプレイの製造方法であって、
フレキシブル基板に第１バッファ層を形成するステップと、
前記第１バッファ層にスイッチアレイ層を形成し、前記スイッチアレイ層は、少なくとも２つのスイッチ素子を含むステップと、
前記スイッチアレイ層に表示単位層を形成し、前記表示単位層は、少なくとも２つの画素単位を含み、前記画素単位は、第１電極層、第２電極層、及び前記第１電極層と前記第２電極層との間に位置する有機発光層を含み、前記スイッチ素子は、前記第１電極層に接続され、前記スイッチ素子と前記画素単位の位置が互いに対応し、隣接する２つの前記画素単位の間に、画素定義層がさらに設けられており、前記画素定義層の材料は、有機絶縁材料であるステップと、
前記表示単位層に第２バッファ層を形成するステップと、
前記第２バッファ層に薄膜封止層を形成するステップと、
を備え、
前記フレキシブル有機発光ディスプレイが前記フレキシブル基板側に沿って折り曲げられる時に、第１曲げ変形力が発生し、前記第１バッファ層は、前記第１曲げ変形力を吸収し、前記第１バッファ層の材料は、有機絶縁材料であり、前記フレキシブル有機発光ディスプレイが前記薄膜封止層に沿って内向きに折り曲げられる時に、第２曲げ変形力が発生し、前記第２バッファ層は、前記第２曲げ変形力を吸収し、前記第２バッファ層の材料は、有機絶縁材料であるフレキシブル有機発光ディスプレイの製造方法。
【請求項２】
前記有機絶縁材料は、感光剤と樹脂とからなる請求項１に記載のフレキシブル有機発光ディスプレイの製造方法。
【請求項３】
前記第１バッファ層の厚さは、２−１０ｎｍである請求項１に記載のフレキシブル有機発光ディスプレイの製造方法。
【請求項４】
前記第２バッファ層の厚さは、２−１０ｎｍである請求項１に記載のフレキシブル有機発光ディスプレイの製造方法。
【請求項５】
フレキシブル有機発光ディスプレイの製造方法であって、
フレキシブル基板に第１バッファ層を形成するステップと、
前記第１バッファ層にスイッチアレイ層を形成し、前記スイッチアレイ層は、少なくとも２つのスイッチ素子を含むステップと、
前記スイッチアレイ層に表示単位層を形成し、前記表示単位層は、少なくとも２つの画素単位を含み、前記画素単位は、第１電極層、第２電極層、及び前記第１電極層と前記第２電極層との間に位置する有機発光層を含み、前記スイッチ素子は、前記第１電極層に接続され、前記スイッチ素子と前記画素単位の位置が互いに対応するステップと、
前記表示単位層に薄膜封止層を形成するステップと、
を備え、
前記フレキシブル有機発光ディスプレイが前記フレキシブル基板側に沿って折り曲げられる時に、第１曲げ変形力が発生し、前記第１バッファ層は、前記第１曲げ変形力を吸収し、前記第１バッファ層の材料は、有機絶縁材料であるフレキシブル有機発光ディスプレイの製造方法。
【請求項６】
前記スイッチアレイ層に表示単位層を形成ステップの後に、
前記表示単位層に第２バッファ層を形成するステップと、
前記第２バッファ層に前記薄膜封止層を形成するステップと、
をさらに備え、
前記フレキシブル有機発光ディスプレイが前記薄膜封止層に沿って内向きに折り曲げられる時に、第２曲げ変形力が発生し、前記第２バッファ層は、前記第２曲げ変形力を吸収し、前記第２バッファ層の材料は、有機絶縁材料である請求項５に記載のフレキシブル有機発光ディスプレイの製造方法。
【請求項７】
隣接する２つの前記画素単位の間に、画素定義層がさらに設けられており、前記画素定義層の材料は、有機絶縁材料である請求項５に記載のフレキシブル有機発光ディスプレイの製造方法。
【請求項８】
前記有機絶縁材料は、感光剤と樹脂とからなる請求項５に記載のフレキシブル有機発光ディスプレイの製造方法。
【請求項９】
前記第１バッファ層の厚さは、２−１０ｎｍである請求項５に記載のフレキシブル有機発光ディスプレイの製造方法。
【請求項１０】
前記第２バッファ層の厚さは、２−１０ｎｍである請求項５に記載のフレキシブル有機発光ディスプレイの製造方法。
【請求項１１】
フレキシブル基板と、
前記フレキシブル基板に設けられている第１バッファ層と、
前記第１バッファ層に設けられ、かつ少なくとも２つのスイッチ素子を含むスイッチアレイ層と、
前記スイッチアレイ層に設けられている表示単位層と、
前記表示単位層に設けられている薄膜封止層と、
を備え、
前記表示単位層は、少なくとも２つの画素単位を含み、前記画素単位は、第１電極層、第２電極層、及び前記第１電極層と前記第２電極層との間に位置する有機発光層を含み、前記スイッチ素子は、前記第１電極層に接続され、前記スイッチ素子と前記画素単位の位置が互いに対応しており、
フレキシブル有機発光ディスプレイが前記フレキシブル基板側に沿って折り曲げられる時に、第１曲げ変形力が発生し、前記第１バッファ層は、前記第１曲げ変形力を吸収し、前記第１バッファ層の材料は、有機絶縁材料であるフレキシブル有機発光ディスプレイ。
【請求項１２】
前記表示単位層と前記薄膜封止層との間に、第２バッファ層がさらに設けられており、
前記フレキシブル有機発光ディスプレイが前記薄膜封止層側に沿って折り曲げられる時に、第２曲げ変形力が発生し、前記第２バッファ層は、前記第２曲げ変形力を吸収し、前記第２バッファ層の材料は、有機絶縁材料である請求項１１に記載のフレキシブル有機発光ディスプレイ。
【請求項１３】
隣接する２つの前記画素単位の間に、画素定義層がさらに設けられており、前記画素定義層の材料は、有機絶縁材料である請求項１１に記載のフレキシブル有機発光ディスプレイ。
【請求項１４】
前記有機絶縁材料は、感光剤と樹脂とからなる請求項１１に記載のフレキシブル有機発光ディスプレイ。
【請求項１５】
前記第１バッファ層の厚さは、２−１０ｎｍである請求項１１に記載のフレキシブル有機発光ディスプレイ。
【請求項１６】
前記第２バッファ層の厚さは、２−１０ｎｍである請求項１１に記載のフレキシブル有機発光ディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ディスプレイの技術分野に関し、特に、フレキシブル有機発光ディスプレイ及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
薄膜トランジスタ技術の発展に伴い、フレキシブル表示技術はますます注目されてきており、様々なフレキシブル表示技術も相次いで発展してきている。現在、一般的に使用される技術において、スリットコーターにより、フレキシブル基体の材料、例えばＰＩ（ポリイミド）をガラス基板に塗布し加熱してフレキシブル基体を形成し、該基体の上で薄膜トランジスタの製造を行い、その後、ＰＩ膜を剥離することにより、フレキシブルディスプレイを形成している。フレキシブル有機発光ディスプレイは、軽型で、耐衝撃性に優れ、折り曲げ可能で、携帯しやすい等の利点を有するため、広く使用されている。しかし、フレキシブル有機発光ディスプレイは、複数層の金属電極を含むため、頻繁に折り曲げられると、ディスプレイにおける金属電極が断裂し又は損傷され、ディスプレイの電気的接続性及び安定性に影響を与え、表示効果が低下する。
そのため、フレキシブル有機発光ディスプレイ及びその製造方法を提供することにより、従来技術における問題を解決する必要がある。
【発明の概要】
【０００３】
本発明は、フレキシブル有機発光ディスプレイ及びその製造方法を提供することにより、従来技術において、フレキシブル有機発光ディスプレイが折り曲げられる時に、金属電極が破壊されやすく、表示効果が低下する技術問題を解決することを目的とする。
【０００４】
上記の技術問題を解決するために、本発明は、フレキシブル有機発光ディスプレイの製造方法であって、
フレキシブル基板に第１バッファ層を形成するステップと、
前記第１バッファ層にスイッチアレイ層を形成し、前記スイッチアレイ層は、少なくとも２つのスイッチ素子を含むステップと、
前記スイッチアレイ層に表示単位層を形成し、前記表示単位層は、少なくとも２つの画素単位を含み、前記画素単位は、第１電極層、第２電極層、及び前記第１電極層と前記第２電極層との間に位置する有機発光層を含み、前記スイッチ素子は、前記第１電極層に接続され、前記スイッチ素子と前記画素単位の位置が互いに対応し、隣接する２つの前記画素単位の間に、画素定義層がさらに設けられており、前記画素定義層の材料は、有機絶縁材料であるステップと、
前記表示単位層に第２バッファ層を形成するステップと、
前記第２バッファ層に前記薄膜封止層を形成するステップと、
を備え、
前記フレキシブル有機発光ディスプレイが前記フレキシブル基板側に沿って折り曲げられる時に、第１曲げ変形力が発生し、前記第１バッファ層は、前記第１曲げ変形力を吸収し、前記第１バッファ層の材料は、有機絶縁材料であり、前記フレキシブル有機発光ディスプレイが前記薄膜封止層に沿って内向きに折り曲げられる時に、第２曲げ変形力が発生し、前記第２バッファ層は、前記第２曲げ変形力を吸収し、前記第２バッファ層の材料は、有機絶縁材料であるフレキシブル有機発光ディスプレイの製造方法を提供する。
【０００５】
本発明のフレキシブル有機発光ディスプレイの製造方法において、前記有機絶縁材料は、感光剤と樹脂とからなる。
【０００６】
本発明のフレキシブル有機発光ディスプレイの製造方法において、前記第１バッファ層の厚さは２−１０ｎｍである。
【０００７】
本発明のフレキシブル有機発光ディスプレイの製造方法において、前記第２バッファ層の厚さは２−１０ｎｍである。
【０００８】
本発明は、フレキシブル有機発光ディスプレイの製造方法であって、
フレキシブル基板に第１バッファ層を形成するステップと、
前記第１バッファ層にスイッチアレイ層を形成し、前記スイッチアレイ層は、少なくとも２つのスイッチ素子を含むステップと、
前記スイッチアレイ層に表示単位層を形成し、前記表示単位層は、少なくとも２つの画素単位を含み、前記画素単位は、第１電極層、第２電極層、及び前記第１電極層と前記第２電極層との間に位置する有機発光層を含み、前記スイッチ素子は、前記第１電極層に接続され、前記スイッチ素子と前記画素単位の位置が互いに対応するステップと、
前記表示単位層に薄膜封止層を形成するステップと、
前記フレキシブル有機発光ディスプレイが前記フレキシブル基板側に沿って折り曲げられる時に、第１曲げ変形力が発生し、前記第１バッファ層は、前記第１曲げ変形力を吸収し、前記第１バッファ層の材料は有機絶縁材料であるフレキシブル有機発光ディスプレイの製造方法を提供する。
【０００９】
本発明のフレキシブル有機発光ディスプレイの製造方法において、前記スイッチアレイ層に表示単位層を形成ステップの後に、
前記表示単位層に第２バッファ層を形成するステップと、
前記第２バッファ層に前記薄膜封止層を形成するステップと、
をさらに備え、
前記フレキシブル有機発光ディスプレイが前記薄膜封止層に沿って内向きに折り曲げられる時に、第２曲げ変形力が発生し、前記第２バッファ層は、前記第２曲げ変形力を吸収し、前記第２バッファ層の材料は有機絶縁材料である。
【００１０】
本発明のフレキシブル有機発光ディスプレイの製造方法において、隣接する２つの前記画素単位の間に、画素定義層がさらに設けられており、前記画素定義層の材料は有機絶縁材料である。
本発明のフレキシブル有機発光ディスプレイの製造方法において、前記有機絶縁材料は、感光剤と樹脂とからなる。
【００１１】
本発明のフレキシブル有機発光ディスプレイの製造方法において、前記第１バッファ層の厚さは２−１０ｎｍである。
【００１２】
本発明のフレキシブル有機発光ディスプレイの製造方法において、前記第２バッファ層の厚さは２−１０ｎｍである。
【００１３】
本発明は、
フレキシブル基板と、
前記フレキシブル基板に設けられている第１バッファ層と、
前記第１バッファ層に設けられ、かつ少なくとも２つのスイッチ素子を含むスイッチアレイ層と、
前記スイッチアレイ層に設けられている表示単位層と、
前記表示単位層に設けられている薄膜封止層と、
を備え、
前記表示単位層は、少なくとも２つの画素単位を含み、前記画素単位は、第１電極層、第２電極層、及び前記第１電極層と前記第２電極層との間に位置する有機発光層を含み、前記スイッチ素子は、前記第１電極層に接続され、前記スイッチ素子と前記画素単位の位置が互いに対応しており、
前記フレキシブル有機発光ディスプレイが前記フレキシブル基板側に沿って折り曲げられる時に、第１曲げ変形力が発生し、前記第１バッファ層は、前記第１曲げ変形力を吸収し、前記第１バッファ層の材料は、有機絶縁材料であるフレキシブル有機発光ディスプレイをさらに提供する。
【００１４】
本発明のフレキシブル有機発光ディスプレイにおいて、前記表示単位層と前記薄膜封止層との間に第２バッファ層がさらに設けられており、  
前記フレキシブル有機発光ディスプレイが前記薄膜封止層側に沿って折り曲げられる時に、第２曲げ変形力が発生し、前記第２バッファ層は、前記第２曲げ変形力を吸収し、前記第２バッファ層の材料は有機絶縁材料である。
【００１５】
本発明のフレキシブル有機発光ディスプレイにおいて、隣接する２つの前記画素単位の間に画素定義層がさらに設けられており、前記画素定義層の材料は有機絶縁材料である。
【００１６】
本発明のフレキシブル有機発光ディスプレイにおいて、前記有機絶縁材料は感光剤と樹脂とからなる。
【００１７】
本発明のフレキシブル有機発光ディスプレイにおいて、前記第１バッファ層の厚さは２−１０ｎｍである。
【００１８】
本発明のフレキシブル有機発光ディスプレイにおいて、前記第２バッファ層の厚さは２−１０ｎｍである。
【発明の効果】
【００１９】
本発明のフレキシブル有機発光ディスプレイ及びその製造方法は、従来のフレキシブル有機発光ディスプレイのフレキシブル基板に有機絶縁バッファ層を設置することにより、折り曲げる時に金属電極が損傷されることを回避し、フレキシブル有機発光ディスプレイの安定性を向上させる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の第１実施例に係るフレキシブル有機発光ディスプレイの構造模式図である。
【図２】本発明の第２実施例に係るフレキシブル有機発光ディスプレイの構造模式図である。
【図３】本発明に係るフレキシブル有機発光ディスプレイにおけるスイッチ素子の拡大構造模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下の各実施例は、図面を参照して説明され、本発明の実施可能な特定な実施例を例示するものである。本発明でいう方向用語、例えば「上」、「下」、「前」、「後」、「左」、「右」、「内」、「外」、「側面」等は、図面における方向に過ぎない。よって、用いられる方向用語は、本発明を説明及び理解するためのもので、本発明を制限しない。図面において、構造が類似する単位を同一の符号で表示する。
【００２２】
図１は本発明の第１実施例に係るフレキシブル有機発光ディスプレイの構造模式図である。
本発明のフレキシブル有機発光ディスプレイは、図１に示すように、フレキシブル基板１１、前記フレキシブル基板１１に設けられている第１バッファ層１２、前記第１バッファ層１２に設けられているスイッチアレイ層１３、前記スイッチアレイ層１３に設けられている表示単位層１４、及び前記表示単位層１４に設けられている薄膜封止層１５を備え、
前記フレキシブル基板１１の全体は、平坦で硬質な基底（例えば、ガラス基板）にフレキシブル基体の材料を塗布してなり、前記フレキシブル基体の材料として、ポリイミドであってもよく、塗布方法として、スリットコーターであることができる。前記フレキシブル基体の材料が乾燥された厚さは１０−１００μｍである。その後、フレキシブル基板に電子素子が形成される。
【００２３】
前記スイッチアレイ層１３は、少なくとも２つのスイッチ素子２５を含み、前記スイッチアレイ層１３は、第３バッファ層２１、ゲート絶縁層２２、層間絶縁層２３、パッシベーション層２４をさらに含んでもよい。前記スイッチ素子は、例えば、薄膜トランジスタである。図３に示すように、薄膜トランジスタは、ソース２６、ドレン２７、ゲート２８、及び前記ソースとドレンとの間に位置する活性層２９（チャンネルを形成するためのもの）を含む。
【００２４】
前記表示単位層１４は、少なくとも２つの画素単位１７１を含み、前記画素単位１７１は、第１電極層１６、第２電極層１８、前記第１電極層１６と前記第２電極層１８との間に位置する有機発光層１７を含み、隣接する２つの前記画素単位の間に画素定義層１９が更に設けられてもよく、前記画素定義層の材料は有機絶縁材料である。前記第１電極層の極性は陽極性で、前記第２電極層の極性は陰極性である。前記第１電極層と第２電極層に電圧を印加すると、有機発光層が発光し、前記画素定義層は色が異なる有機発光層を隔離し、色が異なる有機発光層同士のクロストークを避ける。
【００２５】
前記スイッチ素子２５は、前記第１電極層１６に接続され、前記スイッチ素子２５と前記画素単位１７１との位置が互いに対応し、各画素単位に対応して１つのスイッチ素子が設けられている。
【００２６】
前記フレキシブル有機発光ディスプレイが前記フレキシブル基板側に沿って折り曲げる（下向きに折り曲げられる）時に、第１曲げ変形力が発生し、前記第１バッファ層は、前記第１曲げ変形力を吸収し、前記第１バッファ層の材料は有機絶縁材料である。
【００２７】
前記フレキシブル有機発光ディスプレイの製造方法は、以下のステップＳ２０１〜Ｓ２０４を備える。
ステップＳ２０１において、フレキシブル基板に第１バッファ層を形成する。
前記フレキシブル有機発光ディスプレイが前記フレキシブル基板側に沿って（下向きに）折り曲げられる時に、第１曲げ変形力が発生し、前記第１バッファ層は前記第１曲げ変形力を吸収し、前記第１バッファ層の材料は有機絶縁材料である。
ステップＳ２０２において、前記第１バッファ層にスイッチアレイ層を形成し、前記スイッチアレイ層は、少なくとも２つのスイッチ素子を含む。
ステップＳ２０３において、前記スイッチアレイ層に表示単位層を形成し、前記表示単位層は、少なくとも２つの画素単位を含み、前記画素単位は、第１電極層、第２電極層、及び前記第１電極層と前記第２電極層との間に位置する有機発光層を含み、前記スイッチ素子と前記画素単位の位置が互いに対応し、前記スイッチ素子は、対応する画素単位のオン・オフを制御する。
ステップＳ２０４において、前記表示単位層に薄膜封止層を形成する。
前記薄膜封止層は、フレキシブル有機発光ディスプレイへの水気の進入を防ぐ。
【００２８】
本発明のフレキシブル有機発光ディスプレイ及びその製造方法は、従来のフレキシブル有機発光ディスプレイのフレキシブル基板とスイッチアレイ層との間に有機絶縁バッファ層を追加することにより、フレキシブル有機発光ディスプレイが折り曲げられる時に、有機絶縁バッファ層により発生した曲げ変形力が良好に緩衝及び軽減され、曲げ変形力による破壊が大幅に低減されるため、下向きに折り曲げられる時に、大きな曲げ変形力が金属電極を損壊することを回避し、フレキシブル有機発光ディスプレイの安定性を向上させる。
【００２９】
図２は、本発明の第２実施例に係るフレキシブル有機発光ディスプレイの構造模式図である。
本実施例は、以下の点で第１実施例と相違する。
前記表示単位層１４と前記薄膜封止層１５との間に第２バッファ層２０がさらに設けられており、  
前記フレキシブル有機発光ディスプレイが前記薄膜封止層２０側に沿って折り曲げられる時に（上向きに折り曲げられる）、第２曲げ変形力が発生し、前記第２バッファ層は前記第２曲げ変形力を吸収し、前記第２バッファ層の材料は有機絶縁材料である。
【００３０】
隣接する２つの前記画素単位１７１の間に画素定義層１９がさらに設けられており、前記画素定義層１９の材料は、有機絶縁材料であることが好ましい。前記画素定義層の厚さは２．５−４μｍである。厚さが薄すぎると、隣接する２つの画素単位同士のクロストーク現象を効果的に回避できない一方、厚さが厚すぎると、ディスプレイの光透過効果に影響を与える。
【００３１】
前記有機絶縁材料は感光剤と樹脂とからなることが好ましい。それにより、形成する有機絶縁材料はより優れた耐熱性を有し、製造過程において損壊されにくい。
【００３２】
前記第１バッファ層又は前記第２バッファ層の厚さは２−１０ｎｍであることが好ましい。厚さが薄すぎると、曲げ変形力を良好に吸収する作用を発揮できない一方、厚さが厚すぎると、表示効果に影響を与える。
【００３３】
前記第１電極は、例えば、画素電極であり、その材料が酸化インジウムスズ薄膜であり、厚さが、例えば、５０−１００ｎｍである。前記第２電極の材料は金属材料であり、銀が好ましい。
【００３４】
前記薄膜封止層は、複数層の酸化シリコン膜と窒化ケイ素絶縁膜で交互に構成され、前記薄膜封止層がフレキシブル有機発光ディスプレイへの水気の進入を防ぐ。
【００３５】
前記フレキシブル有機発光ディスプレイの製造方法は、以下の点で第１実施例の方法と相違する。
前記スイッチアレイ層に表示単位層を形成するステップ（Ｓ２０３）の後に、前記薄膜封止層を直接形成しない。具体的には、
Ｓ２０５において、前記表示単位層に第２バッファ層を形成する。
前記フレキシブル有機発光ディスプレイが前記薄膜封止層に沿って内向きに折り曲げられる時に、第２曲げ変形力が発生し、前記第２バッファ層は前記第２曲げ変形力を吸収し、前記第２バッファ層の材料は有機絶縁材料である。
【００３６】
Ｓ２０６において、前記第２バッファ層に前記薄膜封止層を形成する。
ステップＳ２０５の後に前記薄膜封止層を形成する。
【００３７】
Ｓ２０７において、隣接する２つの前記画素単位の間に、画素定義層がさらに設けられており、前記画素定義層の材料は有機絶縁材料であることが好ましく、前記有機絶縁材料は感光剤と樹脂とからなる。
【００３８】
前記第１バッファ層又は前記第２バッファ層の厚さは、２−１０ｎｍであることが好ましい。厚さが薄すぎると、曲げ変形力を良好に吸収する作用を発揮できない一方、厚さが厚すぎると、表示効果に影響を与える。
【００３９】
本発明のフレキシブル有機発光ディスプレイ及びその製造方法は、従来のフレキシブル有機発光ディスプレイのフレキシブル基板とスイッチアレイ層との間に有機絶縁バッファ層を追加し、さらに、表示単位層と薄膜封止層との間にも有機絶縁バッファ層を追加することにより、フレキシブル有機発光ディスプレイが折り曲げられる時に、有機絶縁バッファ層により発生した曲げ変形力が良好に緩衝及び軽減され、曲げ変形力による破壊が大幅に低減されるため、下向きに折り曲げられる時に、大きな曲げ変形力が金属電極を損壊することを回避し、フレキシブル有機発光ディスプレイの安定性を向上させる。
【００４０】
上記より、本発明は好ましい実施例により開示されたが、上記の好ましい実施例は本発明を限定するものでなく、本発明の趣旨及び範囲を脱出しない限り、当業者であれば、様々な変更及び修飾を加えることができるため、本発明の保護範囲は、特許請求の範囲に基づくものである。
【図１】
2018506836.tif 000003
【図２】
2018506836.tif 000004
【図３】
2018506836.tif 000005
【国際調査報告】
2018506836.tif 000006
2018506836.tif 000007
2018506836.tif 000008
2018506836.tif 000009