(57)【要約】  システム（１００）は、制御システム（１３８）およびフィールドデバイス（２００）を含む。制御システムは、フィールドデバイスとデータをやり取りするように構成されている。フィールドデバイスは、プロセス流体の流れプロファイル用の第１の特性曲線の測定精度における偏差が、プロセス流体のインライン状態をモニタしている間に検出されているか否かを判定する（５２０）。フィールドデバイスは、偏差が適用公差よりも大きいか否かを判定する（５２５）。フィールドデバイスは、偏差が適用公差よりも大きい場合、流れプロファイルの測定において検出されたその時の流れ状態に従って、新しい特性曲線用にインライン再計算も行う（５４０）。フィールドデバイスは、新しい特性曲線を使用して、プロセス流体の流量を計算する（５６０）。
2018529091.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１つまたは複数のフィールドデバイス（２００）とデータをやり取りするように構成された制御システム（１３８）と、
フィールドデバイス（２００）であって、
プロセス流体の流れプロファイル用の第１の特性曲線の測定精度における偏差が、前記プロセス流体のインライン状態をモニタしている間に検出されているか否かを判定し（５２０）、
前記偏差が、適用公差よりも大きいか否かを判定し（５２５）、
前記偏差が前記適用公差よりも大きい場合、前記流れプロファイルの測定において検出されたその時の流れ状態に従って、新しい特性曲線用にインライン再計算を行い（５４０）、かつ
前記新しい特性曲線を使用して、前記プロセス流体の流量を計算する（５６０）ように構成された、フィールドデバイス（２００）と、を備えるシステム（１００）。
【請求項２】
前記フィールドデバイスが、前記測定精度のレベルが著しく影響を受けていることを示す警告メッセージを表示する（５３５）ようにさらに構成されている、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記フィールドデバイスが、前記第１の特性曲線を前記新しい特性曲線と取り替える（５４０）ようにさらに構成されている、請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
前記フィールドデバイスが、前記第１の特性曲線が前記新しい特性曲線に取って代わられるとき、前記特性曲線が更新されることを示すメッセージを表示する（５４５）ようにさらに構成されている、請求項３に記載のシステム。
【請求項５】
前記フィールドデバイスが、前記プロセス流体が前記フィールドデバイスを通って流れるのに従って、前記プロセス流体の前記インライン状態をリアルタイムでモニタするように構成されている、請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
前記フィールドデバイスが、境界線検出基準を設定するようにさらに構成されており、前記境界線検出基準が、モニタされた測定値ごとの公差を含む（５１０）、請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
前記偏差が、非対称流（４００）、渦流（４０５）、または任意の他の乱流によってもたらされる、請求項１に記載のシステム。
【請求項８】
プロセス流体の流れプロファイル用の第１の特性曲線の測定精度における偏差が、前記プロセス流体のインライン状態をモニタしている間に検出されているか否かを判定し（５２０）、
前記偏差が適用公差よりも大きいか否かを判定し（５２５）、
前記偏差が前記適用公差よりも大きい場合、前記流れプロファイルの測定において検出されたその時の流れ状態に従って、新しい特性曲線用にインライン再計算を行い（５４０）、かつ
前記新しい特性曲線を使用して、前記プロセス流体の流量を計算する（５６０）ように構成された、フィールドデバイス（２００）。
【請求項９】
前記フィールドデバイスが、前記測定精度のレベルが著しく影響を受けていることを示す警告メッセージを表示する（５３５）ようにさらに構成されている、請求項８に記載のフィールドデバイス。
【請求項１０】
プロセス流体の流れプロファイル用の第１の特性曲線の測定精度における偏差が、前記プロセス流体のインライン状態をモニタしている間に検出されているか否かを判定するステップ（５２０）と、
前記偏差が適用公差よりも大きいか否かを判定するステップ（５２５）と、
前記偏差が前記適用公差よりも大きい場合、前記流れプロファイルの測定において検出されたその時の流れ状態に従って、新しい特性曲線用にインライン再計算を行うステップ（５４０）と、
前記新しい特性曲線を使用して、前記プロセス流体の流量を計算するステップ（５６０）と、を含む方法。
【請求項１１】
前記測定精度のレベルが著しく影響を受けていることを示す警告メッセージを表示するステップ（５３５）をさらに含む、請求項１０に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
他の出願の相互参照
[0001]本出願は、参照により本明細書に組み込まれている、「Ｒｅａｌ−Ｔｉｍｅ  Ｃｏｎｄｉｔｉｏｎ  Ｂａｓｅｄ  Ｍｏｎｉｔｏｒｉｎｇ  （ＣＢＭ）  Ｂａｓｅｄ  Ｕｌｔｒａｓｏｎｉｃ  Ｍｅｔｅｒ  （ＵＳＭ）  Ａｃｃｕｒａｃｙ  Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ  Ｄｅｔｅｃｔｉｏｎ  Ｎｏｔｉｆｉｃａｔｉｏｎ（リアルタイム状態基準モニタリング（ＣＢＭ）ベースの超音波計測器（ＵＳＭ）精度性能検出および通知）」と題された、本出願の譲渡人に譲渡された同時申請の米国特許出願第１４／８６０４８７号（整理番号Ｈ００５０１６２−０１１２）と同じ発明の対象を共有する。
【０００２】
[0002]本開示は、概して、状態基準モニタリングを対象とする。より具体的には、本開示は、様々な流れ状態下で高精度を維持するためのインラインＵＳＭ  ＣＢＭベースの適応を対象とする。
【背景技術】
【０００３】
[0003]最大ガス流速が、管内で約４０ｍ／ｓである間、天然ガスにおける音速は、通常、３００ｍ／ｓ〜４５０ｍ／ｓである。国際法定計量機関（ＯＩＭＬ：Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ  Ｏｒｇａｎｉｚａｔｉｏｎ  ｏｆ  Ｌｅｇａｌ  Ｍｅｔｒｏｌｏｇｙ）クラス０．５では、最大許容誤差は、スプールの内径が変化しないという条件では、約２０分の平均化時間で０．０７ｍ／ｓである。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
[0003]本開示は、様々な流れ状態下で高精度を維持するためのインラインＵＳＭ  ＣＢＭベースの適応のための装置および方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
[0004]第１の実施形態において、システムが提供される。システムは、制御システムおよびフィールドデバイスを含む。制御システムは、１つまたは複数のフィールドデバイスとデータをやり取りするように構成されている。フィールドデバイスは、プロセス流体の流れプロファイル（ｆｌｏｗ  ｐｒｏｆｉｌｅ）用の第１の特性曲線の測定精度における偏差が、プロセス流体のインライン状態をモニタしている間に検出されているか否かを判定する。フィールドデバイスは、偏差が、適用公差（ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ  ｔｏｌｅｒａｎｃｅ）よりも大きいか否かを判定する。フィールドデバイスは、偏差が適用公差よりも大きい場合、流れプロファイルの測定において検出されたその時の流れ状態に従って、新しい特性曲線用にインライン再計算も行う。フィールドデバイスは、新しい特性曲線を使用して、プロセス流体の流量を計算する。
【０００６】
[0005]第２の実施形態において、フィールドデバイスが提供される。フィールドデバイスは、プロセス流体の流れプロファイル用の第１の特性曲線の測定精度における偏差が、プロセス流体のインライン状態をモニタしている間に検出されているか否かを判定する。フィールドデバイスは、偏差が、適用公差よりも大きいか否かを判定する。フィールドデバイスは、偏差が適用公差よりも大きい場合、流れプロファイルの測定において検出されたその時の流れ状態に従って、新しい特性曲線用にインライン再計算も行う。フィールドデバイスは、新しい特性曲線を使用して、プロセス流体の流量を計算する。
【０００７】
[0006]第３の実施形態において、方法が提供される。方法は、プロセス流体の流れプロファイル用の第１の特性曲線の測定精度における偏差が、プロセス流体のインライン状態をモニタしている間に検出されているか否かを判定することを含む。方法は、偏差が適用公差よりも大きいか否かを判定することも含む。方法は、偏差が適用公差よりも大きい場合、流れプロファイルの測定において検出されたその時の流れ状態に従って、新しい特性曲線用にインライン再計算を行うことをさらに含む。方法は、新しい特性曲線を使用して、プロセス流体の流量を計算することも含む。
【０００８】
[0007]他の技術的特徴は、以下の図、発明を実施するための形態、および請求項から、当業者にはすぐに明らかになるであろう。
[0008]本開示およびそれの特徴のより完全な理解のために、ここで、以下の添付図面と合わせて、以下の発明を実施するための形態に対して参照がなされる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】[0009]本開示による、フィールドデバイスを有する産業用制御および自動化システム例を示す図である。
【図２】[0010]本開示による、フィールドデバイスからの制度性能検出の様々な通知を示す図である。
【図３】[0011]本開示による、流体の流れプロファイルに影響を及ぼす曲がりのある管の様々な例を示す図である。
【図４】[0012]図４Ａは、本開示による、乱れた可能性のあるプロファイルの例を示す図である。図４Ｂは、本開示による、乱れた可能性のあるプロファイルの例を示す図である。
【図５】[0013]本開示による、ＣＢＭベースの精度性能検出のための方法を示す図である。
【図６】フィールドデバイス用のＣＢＭ表示例を示す図である。
【図６Ａ】[0014]フィールドデバイス用のＣＢＭ表示例を示す図である（図６Ａおよび６Ｂは、まとめて図６とされる）。
【図６Ｂ】フィールドデバイス用のＣＢＭ表示例を示す図である（図６Ａおよび６Ｂは、まとめて図６とされる）。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
[0015]本特許文献における本発明の原理を説明するのに使用される、以下に考察される図１〜６Ｂ、および様々な例は、単に例示としてのものであり、本発明の範囲を限定するとして何ら解釈されるべきではない。当業者であれば、本発明の原理が、任意の適切な方法で、任意のタイプの適切に配置されたデバイスまたはシステムにおいて実施され得ることを理解するであろう。
【００１１】
[0016]状態基準モニタリング（ＣＢＭ：Ｃｏｎｄｉｔｉｏｎ−Ｂａｓｅｄ  Ｍｏｎｉｔｏｒｉｎｇ）は、超音波流量計においてしばしば使用される。現在、ＣＢＭは、オフライン分析および必要な保全計画のための診断情報およびデータを提供するための機器およびプロセス状態モニタリング用に使用されている。リアルタイム現場状態に対する計量機器のインライン適応性が、保全「不要」であるか、またはより長い期間の保全周期を有するのに必要とされる。
【００１２】
[0017]新しく提案された超音波計測器（ＵＳＭ：ＵｌｔｒａＳｏｎｉｃ  Ｍｅｔｅｒ）ＣＢＭ方法論では、モニタリングおよび診断に対する項目には、構成要素の経年劣化または摩耗、汚染などのハードウェア関連の特徴が含まれる。新しく提案されたＵＳＭ  ＣＢＭ方法論の場合のモニタリングおよび診断に対する他の項目には、温度、圧力、流体組成、流速プロファイル、および同様のもののような流れ測定状態の変化に関連した、ソフトウェア関連の改善／チューニング／最適化が含まれる。最終的には、指定された測定断面にわたる体積流量に、これらの状態の変動の影響が及ぼされる。
【００１３】
[0018]流量計算のためのいくつかの現在の計算スキームにおいて、特性補正曲線が較正中に計算されると、それは、次のＵＳＭオフライン保全または較正が行われるまで、現場で使用され続ける。較正中に測定された計器データにおける特性曲線の依存は、流れプロファイルなどの実際の測定状態が、オフライン較正から得られたものから外れているとき、誤った較差を起こしやすくする。結果として、曲線補正は、上限境界線または下限境界線を超える精度の移行またはより大きな偏差につながり、様々な粒子流状態への適応困難につながる可能性がある。例えば、外乱状態（例えば、面外二重曲がり（ＤＢＯＰ：Ｄｏｕｂｌｅ  Ｂｅｎｄｓ  Ｏｕｔ  ｏｆ  Ｐｌａｎｅ）の場合）下では、流れプロファイルは、異なる上流管長さに応じてずれている可能性があり、それにより、ＵＳＭ測定精度が、５Ｄ、１０Ｄ、２０Ｄなど、スプール長さの挿入に応じて変わってくる可能性がある。実際には、診断パラメータの状態表示度数が提供される可能性があるが、ＵＳＭのリアルタイム精度性能は、必ずしも明確ではない。本開示は、「境界線の外」が検出される場合、オフライン較正なしに公差範囲内に精度を維持することに取り組む。
【００１４】
[0019]流れ状態変化による精度性能に関係した上述の問題に対処するために、インライン検出に加えて、本開示の実施形態は、リアルタイム適応および最適化の方法を提供する。当該方法は、機器測定精度が、長期間にわたり、また様々な実際条件下で制限なく、最適に維持されるように、ＵＳＭ計算モデルをチューニングするための適応アルゴリズムスキームから成る。開示された実施形態は、多項式係数など、非線形誤差補正曲線のリアルタイム再計算を行うための入力として、ＣＢＭ情報を使用するので、測定プロファイルごとに、ＵＳＭによって検知されたリアルタイム流れ状態プロファイルを事実通りに反映することのできるそれ自体の最適誤差補正を有することになる。
【００１５】
[0020]図１は、本開示による、産業用プロセス制御および自動化システム１００の例を示す。図１に示されているように、システム１００は、少なくとも１つの製品または他の材料の生産または処理を容易にする様々な構成要素を含む。例えば、システム１００は、ここでは、１つまたは複数のプラント１０１ａ〜１０１ｎ内で構成要素にわたる制御を容易にするのに使用される。各プラント１０１ａ〜１０１ｎは、少なくとも１つの製品または材料を生産するための１つまたは複数の製造施設など、１つまたは複数の処理施設（または、それの１つまたは複数の部分）に相当する。一般に、各プラント１０１ａ〜１０１ｎは、１つまたは複数のプロセスを実施し得、個々にまたはまとめて、プロセスシステムと呼ばれることがある。プロセスシステムは、一般に、何らかの方法で１つまたは複数の製品または他の材料を処理するように構成された任意のシステムまたはそれの一部に相当する。
【００１６】
[0021]図１では、システム１００は、プロセス制御のパデューモデル（Ｐｕｒｄｕｅ  ｍｏｄｅｌ）を使用して実装されている。パデューモデルでは、「レベル０」は、１つまたは複数のセンサ１０２ａおよび１つまたは複数の作動装置１０２ｂを含み得る。センサ１０２ａおよび作動装置１０２ｂは、多種多様の機能のうちのいずれかを果たし得る、プロセスシステム内の構成要素に相当する。例えば、センサ１０２ａは、温度、圧力、または流量など、プロセスシステムにおける多種多様な特性を測定することができる。また、作動装置１０２ｂは、プロセスシステムにおける多種多様な特性を変えることができる。センサ１０２ａおよび作動装置１０２ｂは、任意の適切なプロセスシステム内の任意の他のまたは追加の構成要素に相当する可能性がある。センサ１０２ａのそれぞれは、プロセスシステムにおける１つまたは複数の特性を測定するための任意の適切な構造を含む。作動装置１０２ｂのそれぞれは、プロセスシステムにおける１つまたは複数の状態に作用する、または影響を及ぼすための任意の適切な構造を含む。
【００１７】
[0022]少なくとも１つのネットワーク１０４が、センサ１０２ａおよび作動装置１０２ｂに結合されている。ネットワーク１０４は、センサ１０２ａおよび作動装置１０２ｂとの相互作用を容易にする。例えば、ネットワーク１０４は、センサ１０２ａからの測定データを転送し、制御信号を作動装置１０２ｂに提供することができる。ネットワーク１０４は、任意の適切なネットワークまたはネットワークの組み合わせに相当する可能性がある。特定の例として、ネットワーク１０４は、イーサネット（登録商標）ネットワーク、超音波パルスネットワーク（ＨＡＲＴ、ＦＯＵＮＤＡＴＩＯＮ  ＦＩＥＬＤＢＵＳ、ＭＯＤＢＵＳなど）、空気制御信号ネットワーク、無線ネットワーク、または任意の他のもしくは追加のタイプのネットワークに相当する可能性がある。
【００１８】
[0023]パデューモデルでは、「レベル１」は、ネットワーク１０４に結合されている１つまたは複数の制御装置１０６を含み得る。とりわけ、各制御装置１０６は、１つまたは複数のセンサ１０２ａからの測定値を使用して、１つまたは複数の作動装置１０２ｂの動作を制御し得る。例えば、制御装置１０６は、１つまたは複数のセンサ１０２ａから測定データを受信し、その測定データを使用して、１つまたは複数の作動装置１０２ｂ用の制御信号を生成し得る。複数の制御装置１０６は、１つの制御装置１０６が一次制御装置として動作する一方、もう一方の制御装置１０６がバックアップ制御装置（一次制御装置と同期し、一次制御装置での故障の場合、一次制御装置の役割を引き継ぐことができる）として動作する場合など、冗長構成でも動作することができる。各制御装置１０６は、１つまたは複数のセンサ１０２ａと相互作用し、１つまたは複数の作動装置１０２ｂを制御するための任意の適切な構造を含む。各制御装置１０６は、例えば、ロバスト多変数予測制御テクノロジー（ＲＭＰＣＴ：Ｒｏｂｕｓｔ  Ｍｕｌｔｉｖａｒｉａｂｌｅ  Ｐｒｅｄｉｃｔｉｖｅ  Ｃｏｎｔｒｏｌ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ）制御装置、あるいは、モデル予測制御（ＭＰＣ：Ｍｏｄｅｌ  Ｐｒｅｄｉｃｔｉｖｅ  Ｃｏｎｔｒｏｌ）または他の先進的予測制御（ＡＰＣ：Ａｄｖａｎｃｅｄ  Ｐｒｅｄｉｃｔｉｖｅ  Ｃｏｎｔｒｏｌ）を実装する他のタイプの制御装置など、多変数制御装置に相当する可能性がある。特定の例として、各制御装置１０６は、リアルタイムオペレーティングシステムを動かすコンピューティングデバイスに相当する可能性がある。
【００１９】
[0024]２つのネットワーク１０８が、制御装置１０６に結合されている。ネットワーク１０８は、コントローラ１０６とデータをやり取りすることなどによって、制御装置１０６との相互作用を容易にする。ネットワーク１０８は、任意の適切なネットワークまたはネットワークの組み合わせに相当する可能性がある。特定の例として、ネットワーク１０８は、ＨＯＮＥＹＷＥＬＬ  ＩＮＴＥＲＮＡＴＩＯＮＡＬ  ＩＮＣ．からのＦＡＵＬＴ  ＴＯＬＥＲＡＮＴ  ＥＴＨＥＲＮＥＴ（登録商標）（ＦＴＥ）ネットワークなど、イーサネット（登録商標）ネットワーク対または冗長イーサネット（登録商標）ネットワーク対に相当する可能性がある。
【００２０】
[0025]少なくとも１つのスイッチ／ファイアウォール１１０が、ネットワーク１０８を２つのネットワーク１１２に結合する。スイッチ／ファイアウォール１１０は、１つのネットワークからのトラフィックをもう一方のネットワークに転送し得る。スイッチ／ファイアウォール１１０は、１つのネットワーク上のトラフィックがもう一方のネットワークに達するのを阻止することもある。スイッチ／ファイアウォール１１０は、ＨＯＮＥＹＷＥＬＬ  ＣＯＮＴＲＯＬ  ＦＩＲＥＷＡＬＬ（ＣＦ９）デバイスなど、ネットワーク間に通信をもたらすための任意の適切な構造を含む。ネットワーク１１２は、イーサネット（登録商標）ネットワーク対またはＦＴＥネットワークなど、任意の適切なネットワークに相当する可能性がある。
【００２１】
[0026]パデューモデルでは、「レベル２」は、ネットワーク１１２に結合された１つまたは複数の機械レベル制御装置１１４を含み得る。機械レベル制御装置１１４は、特定の産業用機器（ボイラまたは他の機械など）に関連している可能性のある制御装置１０６、センサ１０２ａ、および作動装置１０２ｂの動作および制御をサポートするための様々な機能を果たす。例えば、機械レベル制御装置１１４は、センサ１０２ａからの測定データ、または作動装置１０２ｂ用の制御信号など、制御装置１０６によって集められた、または生成された情報のログを取ることができる。機械レベル制御装置１１４は、制御装置１０６の動作を制御し、それにより、作動装置１０２ｂの動作を制御するアプリケーションを実行することもできる。それに加え、機械レベル制御装置１１４は、制御装置１０６へのセキュアなアクセスを提供することができる。機械レベル制御装置１１４のそれぞれは、機械または他の個々の機器に関係した動作へのアクセス、または動作の制御を提供するための任意の適切な構造を含む。機械レベル制御装置１１４のそれぞれは、例えば、ＭＩＣＲＯＳＯＦＴ  ＷＩＮＤＯＷＳ（登録商標）オペレーティングシステムを動かすサーバコンピューティングデバイスに相当する可能性がある。示されていないが、プロセスシステム（各機器が、１つまたは複数の制御装置１０６、センサ１０２ａ、および作動装置１０２ｂに関連している）内の様々な機器を制御するのに、様々な機械レベル制御装置１１４が使用される可能性がある。
【００２２】
[0027]１つまたは複数のオペレータステーション１１６がネットワーク１１２に結合されている。オペレータステーション１１６は、機械レベル制御装置１１４へのユーザアクセスを提供し、次に制御装置１０６（ならびに、場合によってはセンサ１０２ａおよび作動装置１０２ｂ）へのユーザアクセスを提供することのできる、コンピューティングデバイスまたは通信デバイスに相当する。特定の例として、オペレータステーション１１６は、ユーザが、制御装置１０６および／または機械レベル制御装置１１４によって集められた情報を使用して、センサ１０２ａおよび作動装置１０２ｂの動作履歴を見直すことを可能にすることができる。オペレータステーション１１６は、ユーザが、センサ１０２ａ、作動装置１０２ｂ、制御装置１０６、または機械レベル制御装置１１４の動作を調整することを可能にすることもできる。それに加え、オペレータステーション１１６は、制御装置１０６または機械レベル制御装置１１４によって生成された警告、警報、または他のメッセージもしくは表示を受信し、表示することができる。オペレータステーション１１６のそれぞれは、システム１００内の１つまたは複数の構成要素のユーザアクセスおよび制御をサポートするための任意の適切な構造を含む。オペレータステーション１１６のそれぞれは、例えば、ＭＩＣＲＯＳＯＦＴ  ＷＩＮＤＯＷＳ（登録商標）オペレーティングシステムを動かすコンピューティングデバイスに相当する可能性がある。
【００２３】
[0028]少なくとも１つのルーター／ファイアウォール１１８が、ネットワーク１１２を２つのネットワーク１２０に結合する。ルーター／ファイアウォール１１８は、セキュアなルーターまたはルーター／ファイアウォールの組み合わせなど、ネットワーク間に通信をもたらすための任意の適切な構造を含む。ネットワーク１２０は、イーサネット（登録商標）ネットワーク対またはＦＴＥネットワークなど、任意の適切なネットワークに相当する可能性がある。
【００２４】
[0029]パデューモデルでは、「レベル３」は、ネットワーク１２０に結合された１つまたは複数のユニットレベル制御装置１２２を含み得る。各ユニットレベル制御装置１２２は、通常、プロセスの少なくとも一部を実施するために一緒に動作する様々な機械の集合体に相当する、プロセスシステム内のユニットに関連している。ユニットレベル制御装置１２２は、下位レベルの構成要素の動作および制御をサポートするための様々な機能を果たす。例えば、ユニットレベル制御装置１２２は、下位レベルの構成要素によって集められた、または生成された情報のログを取り、下部レベルの構成要素を制御するアプリケーションを実行し、また下部レベルの構成要素へのセキュアなアクセスを提供することができる。ユニットレベル制御装置１２２のそれぞれは、プロセスユニット内の１つまたは複数の機械もしくは他の機器に関係した動作へのアクセス、または動作の制御を提供するための任意の適切な構造を含む。ユニットレベル制御装置１２２のそれぞれは、例えば、ＭＩＣＲＯＳＯＦＴ  ＷＩＮＤＯＷＳ（登録商標）オペレーティングシステムを動かすサーバコンピューティングデバイスに相当する可能性がある。示されていないが、プロセスシステム（各ユニットが、１つまたは複数の機械レベル制御装置１１４、制御装置１０６、センサ１０２ａ、および作動装置１０２ｂに関連している）内の様々なユニットを制御するのに、様々なユニットレベル制御装置１２２が使用され得る。
【００２５】
[0030]ユニットレベル制御装置１２２へのアクセスは、１つまたは複数のオペレータステーション１２４によって提供され得る。オペレータステーション１２４のそれぞれは、システム１００内の１つまたは複数の構成要素のユーザアクセスおよび制御をサポートするための任意の適切な構造を含む。オペレータステーション１２４のそれぞれは、ＭＩＣＲＯＳＯＦＴ  ＷＩＮＤＯＷＳ（登録商標）オペレーティングシステムを動かすコンピューティングデバイスに相当する可能性がある。
【００２６】
[0031]少なくとも１つのルーター／ファイアウォール１２６が、ネットワーク１２０を２つのネットワーク１２８に結合する。ルーター／ファイアウォール１２６は、セキュアなルーターまたはルーター／ファイアウォールの組み合わせなど、ネットワーク間に通信をもたらすための任意の適切な構造を含む。ネットワーク１２８は、イーサネット（登録商標）ネットワーク対またはＦＴＥネットワークなど、任意の適切なネットワークに相当する可能性がある。
【００２７】
[0032]パデューモデルでは、「レベル４」は、ネットワーク１２８に結合された１つまたは複数のプラントレベル制御装置１３０を含み得る。各プラントレベル制御装置１３０は、通常、同じ、同様の、または異なるプロセスを実施する、１つまたは複数のプロセスユニットを含み得る、プラント１０１ａ〜１０１ｎのうちの１つに関連している。プラントレベル制御装置１３０は、下位レベルの構成要素の動作および制御をサポートするための様々な機能を果たす。特定の例として、プラントレベル制御装置１３０は、１つまたは複数の製造実行システム（ＭＥＳ：Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ  Ｅｘｅｃｕｔｉｏｎ  Ｓｙｓｔｅｍ）アプリケーション、スケジューリングアプリケーション、あるいは、他のまたは追加のプラントもしくはプロセス制御アプリケーションを実行することができる。プラントレベル制御装置１３０のそれぞれは、プロセスプラント内の１つまたは複数のプロセスユニットに関係した動作へのアクセス、または動作の制御を提供するための任意の適切な構造を含む。プラントレベル制御装置１３０のそれぞれは、例えば、ＭＩＣＲＯＳＯＦＴ  ＷＩＮＤＯＷＳ（登録商標）オペレーティングシステムを動かすサーバコンピューティングデバイスに相当する可能性がある。
【００２８】
[0033]プラントレベル制御装置１３０へのアクセスは、１つまたは複数のオペレータステーション１３２によって提供され得る。オペレータステーション１３２のそれぞれは、システム１００内の１つまたは複数の構成要素のユーザアクセスおよび制御をサポートするための任意の適切な構造を含む。オペレータステーション１３２のそれぞれは、ＭＩＣＲＯＳＯＦＴ  ＷＩＮＤＯＷＳ（登録商標）オペレーティングシステムを動かすコンピューティングデバイスに相当する可能性がある。
【００２９】
[0034]少なくとも１つのルーター／ファイアウォール１３４が、ネットワーク１２８を１つまたは複数のネットワーク１３６に結合する。ルーター／ファイアウォール１３４は、セキュアなルーターまたはルーター／ファイアウォールの組み合わせなど、ネットワーク間に通信をもたらすための任意の適切な構造を含む。ネットワーク１３６は、企業規模のイーサネット（登録商標）ネットワークもしくは他のネットワーク、またはより大きなネットワーク（イーサネット（登録商標）など）のすべてもしくは一部など、任意の適切なネットワークに相当する可能性がある。
【００３０】
[0035]パデューモデルでは、「レベル５」は、ネットワーク１３６に結合された１つまたは複数の企業レベル制御装置１３８を含み得る。各企業レベル制御装置１３８は、通常、複数のプラント１０１ａ〜１０１ｎ用の計画動作を行うことができ、また、プラント１０１ａ〜１０１ｎの様々な側面を制御することができる。企業レベル制御装置１３８は、プラント１０１ａ〜１０１ｎ内の構成要素の動作および制御をサポートするための様々な機能を果たすこともできる。特定の例として、企業レベル制御装置１３８は、１つまたは複数の注文処理アプリケーション、企業資源計画（ＥＲＰ：Ｅｎｔｅｒｐｒｉｓｅ  Ｒｅｓｏｕｒｃｅ  Ｐｌａｎｎｉｎｇ）アプリケーション、先進的計画・スケジューリング（ＡＰＳ：Ａｄｖａｎｃｅｄ  Ｐｌａｎｎｉｎｇ  ａｎｄ  Ｓｃｈｅｄｕｌｉｎｇ）アプリケーション、または任意の他のもしくは追加の企業制御アプリケーションを実行することができる。企業レベル制御装置１３８のそれぞれは、１つまたは複数のプラントの制御に関係した動作へのアクセス、または動作の制御を提供するための任意の適切な構造を含む。企業レベル制御装置１３８のそれぞれは、例えば、ＭＩＣＲＯＳＯＦＴ  ＷＩＮＤＯＷＳ（登録商標）オペレーティングシステムを動かすサーバコンピューティングデバイスに相当する可能性がある。この文献では、「ｅｎｔｅｒｐｒｉｓｅ（企業）」という用語は、管理される１つまたは複数のプラントもしくは他の処理施設を有する組織を指す。１つのプラント１０１ａが管理されることになる場合、企業レベル制御装置１３８の機能性が、プラントレベル制御装置１３０に組み込まれる可能性があることに留意されたい。
【００３１】
[0036]企業レベル制御装置１３８へのアクセスは、１つまたは複数のオペレータステーション１４０によって提供され得る。オペレータステーション１４０のそれぞれは、システム１００内の１つまたは複数の構成要素のユーザアクセスおよび制御をサポートするための任意の適切な構造を含む。オペレータステーション１４０のそれぞれは、例えば、ＭＩＣＲＯＳＯＦＴ  ＷＩＮＤＯＷＳ（登録商標）オペレーティングシステムを動かすコンピューティングデバイスに相当する可能性がある。
【００３２】
[0037]パデューモデルの様々なレベルは、１つまたは複数のデータベースなどの他の構成要素を含むことができる。各レベルに関連したデータベースは、システム１００のそのレベル、あるいは１つまたは複数の他のレベルに関連した任意の適切な情報を格納することができる。例えば、ヒストリアン１４１がネットワーク１３６に結合され得る。ヒストリアン１４１は、システム１００についての様々な情報を格納する構成要素に相当する可能性がある。ヒストリアン１４１は、例えば、生産スケジューリングおよび最適化中に使用される情報を格納することができる。ヒストリアン１４１は、情報を格納し、情報の検索を容易にするための任意の適切な構造に相当する。ネットワーク１３６に結合された１つの集中型構成要素として示されているが、ヒストリアン１４１は、システム１００内の他の場所に位置する可能性があり、または複数のヒストリアンが、システム１００内の様々な場所に分散されている可能性がある。
【００３３】
[0038]特定の実施形態において、図１の様々な制御装置およびオペレータステーションは、コンピューティングデバイスに相当し得る。例えば、制御装置のそれぞれは、１つまたは複数の処理デバイス１４２と、処理デバイス１４２によって使用される、生成される、または集められる命令およびデータを格納するための１つまたは複数のメモリ１４４とを含むことができる。制御装置のそれぞれは、１つまたは複数のイーサネット（登録商標）インターフェースまたは無線送受信装置など、少なくとも１つのネットワークインターフェース１４６も含むことができる。また、オペレータステーションのそれぞれは、１つまたは複数の処理デバイス１４８と、処理デバイス１４８によって使用される、生成される、または集められる命令およびデータを格納するための１つまたは複数のメモリ１５０とを含むことができる。オペレータステーションのそれぞれは、１つまたは複数のイーサネット（登録商標）インターフェースまたは無線送受信装置など、少なくとも１つのネットワークインターフェース１５２も含むことができる。
【００３４】
[0039]図１は、産業用プロセス制御および自動化システム１００の一例を示しているが、図１に様々な変更がなされてもよい。例えば、制御システムは、任意の個数のセンサ、作動装置、制御装置、サーバ、オペレータステーション、およびネットワークを含むことができる。また、図１のシステム１００の組立および配置は、単に例示のためのものである。特定の必要性に従って、任意の他の適切な構成において、構成要素が、加えられる、省かれる、組み合わされる、または置かれる可能性がある。さらに、システム１００の特定の構成要素によって行われるとして、特定の機能が説明された。このことは、単に例示のためのものである。一般に、プロセス制御システムは、高度に構成可能であり、特定の必要性に従い、任意の適切な方法で構成され得る。
【００３５】
[0040]図２は、本開示による、フィールドデバイス２００からの、精度性能検出の様々な通知とともに、特性曲線の変化の通知を示す。説明を簡単にするため、フィールドデバイス２００は、図１のシステム１００において使用されるとして説明される。例えば、フィールドデバイス２００は、図１において説明された、センサ１０２ａ、作動装置１０２ｂ、制御装置１０６、別の構成要素、または構成要素の組み合わせに相当し得る（または、それらによって表され得る）。しかしながら、フィールドデバイス２００は、任意の他の適切なシステムにおいて使用される可能性がある。
【００３６】
[0041]フィールドデバイス２００は、パイプラインを通って流れる流体を測定するための、パイプラインに取り付けられているデバイスまたはシステムに相当する。フィールドデバイス２００内の相対方向および位置は、流体の流れの方向に関して説明され、この場合、「上流」は、流体の流れがフィールドデバイス２００に入る場所を示し、「下流」は、流体の流れがフィールドデバイス２００を出る場所を示す。示された実施形態は、１つの方向における流体の流れを示しているが、フィールドデバイス２００は、両方向における流体の流れを測定することができる。フィールドデバイス２００は、ディスプレイ２１０を備える制御インターフェース２０５を含む。フィールドデバイス２００は、両方ともディスプレイ２１０を備える、フローコンピュータ２２０またはコンピュータ２２５に接続されている。フローコンピュータ２２０およびコンピュータ２２５は、有線（例えば、ＭＯＤＢＵＳ）または無線接続２３０を通して、フィールドデバイス２００に、または互いに接続され得る。
【００３７】
[0042]制御インターフェース２０５は、フィールドデバイス２００によってモニタされる様々な機能またはプロセスを表示するようにディスプレイ２１０を変更するための１つまたは複数の制御を含む。ディスプレイ２１０は、フィールドデバイス２００の精度測定のレベルをユーザに知らせるメッセージ２１５を含むことができる。
【００３８】
[0043]特定の実施形態において、メッセージ２１５は、例えば、フィールドデバイス２００の正確な測定状態に対して「うまく制御された測定精度」、不正確な測定状態に対して「測定精度が影響を受けている、または変えられている可能性がある」、あるいは、「特性曲線が変化している」を明示する。第２のメッセージは、さらなる調査および検証の実施を示唆し、許容範囲の限度に近いあまり正確ではない測定状態での許容公差範囲内か、または許容範囲外で、精度がかなり下がっている可能性のあることを暗示する。後者は、測定精度への影響を修正するための特性曲線の再計算をもたらすことになる。ディスプレイ２１０も、様々な色、例えば、優れた精度状態に対して緑、許容精度状態に対して黄色、許容できない精度状態に対して赤、また特性曲線の変化に対して青を使用して、測定状態の精度レベルを示すことができる。ディスプレイ２１０はまた、点滅状態を使用して、例えば、優れた精度状態に対して点滅なし、許容精度状態に対してゆっくりした点滅、許容できない精度状態に対して素早い点滅、また特性曲線の変化に対して２回の素早い点滅で、精度状態を示すことができる。
【００３９】
[0044]特定の実施形態において、フィールドデバイス２００は、ＣＢＭベースの精度モニタリングの際の測定原則として、送信と受信との対（Ｔｘ／Ｒｘ）の間に、直通路または反射路の通過時間を組み込むことができる。フィールドデバイス２００は、いくつかのＵＳＭトランスデューサを使用して、流れプロファイルにわたる様々な流速を計算することができる。特定の実施形態において、フィールドデバイス２００は、流量を判定するために、４つ、５つ、６つ、または８つの通路などのいくつかの通路にわたって流速を判定する。このようなデバイス用の測定精度は、窒素を用いた乾式較正精度では、０．５％などの誤差割合を下回ることができ、またはＱｔ〜Ｑｍａｘの全測定範囲にわたるＨＰ−流較正では、０．１％などの誤差割合を下回ることができる。フィールドデバイス２００は、１５．２４ｃｍ（６インチ）などのフィールドデバイス２００の計器サイズに左右される最大流速に対して、０．２５〜４０ｍ／ｓなどの最大測定範囲を含む。
【００４０】
[0045]フィールドデバイス２００は、通路利得データ（ＰＧＤ：Ｐａｔｈ  Ｇａｉｎ  Ｄａｔａ）、トランスデューサ通路性能レベル（ＴＰＰＬ：Ｔｒａｎｓｄｕｃｅｒ  Ｐａｔｈ  Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ  Ｌｅｖｅｌ）、波形、流路流速（ＦＰＶ：Ｆｌｏｗ  Ｐａｓｓ  Ｖｅｌｏｃｉｔｙ）、流速プロファイル要因（ＦＶＰＦ：Ｆｌｏｗ  Ｖｅｌｏｃｉｔｙ  Ｐｒｏｆｉｌｅ  Ｆａｃｔｏｒ）、通路音速（ＰＳｏＳ：Ｐａｔｈ  Ｓｐｅｅｄ  ｏｆ  Ｓｏｕｎｄ）、音速プロファイル要因（ＳＶＰＦ：Ｓｏｕｎｄ  Ｖｅｌｏｃｉｔｙ  Ｐｒｏｆｉｌｅ  Ｆａｃｔｏｒ）、信号対雑音比（ＳＮＲ：Ｓｉｇｎａｌ  ｔｏ  Ｎｏｉｓｅ  Ｒａｔｉｏ）、直交流、渦角度などを含む、様々な診断動作を行うことができる。フィールドデバイス２００は、非対称、乱流、平均ガス流速、平均測定音速、流量履歴、計算音速、流れ角などの様々な連続する診断パラメータもモニタする。フィールドデバイス２００に関連したパラメータまたは特性には、起動モニタにおいて、ＵＳＭ電圧、計量構成チェックサム、ハードウェア同一証明（ＨＷ  ＩＤ：ＨａｒｄＷａｒｅ  ＩＤｅｎｔｉｆｉｃａｔｉｏｎ）、ファームウェア／ソフトウェア同一証明（ＦＷ／ＳＷ  ＩＤ：ＦｉｒｍＷａｒｅ／ＳｏｆｔＷａｒｅ  ＩＤｅｎｔｉｆｉｃａｔｉｏｎ）、およびユーザ構成チェックサムを含むことができる。
【００４１】
[0046]フィールドデバイス２００は、基線からのいくつかの診断パラメータの偏差の検出など、予測警報を組み入れることができる。フィールドデバイス２００は、異常プロファイル警報、液体検出警報、および音速偏差警報などの実施可能な警報も組み入れることができる。フィールドデバイス２００は、新しいラッチされたアラームの表示、重大度アラーム表示、および考えられるアラーム原因の表示度数などのアラームを含むことができる。
【００４２】
[0047]フィールドデバイス２００は、管理移動（ＣＴ：Ｃｕｓｔｏｄｙ  Ｔｒａｎｓｆｅｒ）アプリケーションカバレッジを含むことができる。フィールドデバイス２００は、雑音および汚染を受けにくいことを含むことができ、以下に限定されるものではないが、米国ガス協会（ＡＧＡ：Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｇａｓ  Ａｓｓｏｃｉａｔｉｏｎ）９、ＩＳＯ１７０８９、国際法定計量機関（ＯＩＭＬ）１３７−２０１２、ＡＧＡ１０、型式承認欧州計量器指令（ＭＩＤ：Ｍｅａｓｕｒｉｎｇ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ  Ｄｉｒｅｃｔｉｖｅ）、ドイツ国立理工学研究所（ＰＴＢ：Ｐｈｙｓｉｋａｌｉｓｃｈ−Ｔｅｃｈｎｉｓｃｈｅ  Ｂｕｎｄｅｓａｎｓｔａｌｔ）、およびカナダ産業省計量局を含む、様々な標準に準拠することができる。フィールドデバイス２００は、自己補正および不確かさの最小化によって保全期間を延ばすために、リアルタイム検証能力、インライン診断、保全およびスケジュールにおける予測、フィードバックループ補償における診断データの出力も含むことができる。
【００４３】
[0048]図２は、フィールドデバイス２００の例の詳細を示しているが、図２に様々な変更がなされてもよい。例えば、図２に示されている構成要素の個数およびタイプは、単に例示のためのものである。また、図２に示されているフィールドデバイス２００の機能分割は、単に例示のためのものである。図２における様々な構成要素は、省かれる、組み合わされる、またはさらに再分割される可能性があり、また特定の必要性に従って、追加の構成要素が加えられる可能性がある。
【００４４】
[0049]図３は、本開示による、流体の流れプロファイルに影響を及ぼす可能性のある曲がりのある管３０５の様々な例を示す。図４Ａおよび４Ｂは、本開示による、乱れた可能性のあるプロファイルの例を示す。
【００４５】
[0050]図３に示されている様々な管３０５は、流れプロファイルに影響を与える曲がり３１０を含む。様々な曲がり３１０または曲がり３１０の程度は、流れプロフィルに影響を与え、直交流もしくは非対称流プロファイル４００（図４Ａに示されている）、または渦プロファイル４０５（図４Ｂに示されている）などの乱れた流れプロファイルをもたらす。いくつかの配管曲がり３１０が示されているが、いずれの曲がりまたは曲がりの程度も乱れたプロファイルをもたらす可能性がある。直交流または非対称流プロファイル４００、および渦プロファイル４０５は、様々な配管曲がり３１０に対する考えられる流れプロファイルの非限定的な例である。
【００４６】
[0051]図３は、様々な管３０５についての詳細を示しているが、図３に様々な変更がなされてもよい。例えば、図３に示されている構成要素の個数およびタイプは、単に例示のためのものである。図３における様々な構成要素は、省かれる、組み合わされる、またはさらに再分割される可能性があり、また特定の必要性に従って、追加の構成要素が加えられる可能性がある。
【００４７】
[0052]図５は、本開示による、ＣＢＭベースの精度性能検出および自己適応のための方法５００を示す。説明を簡単にするために、方法５００は、図２に示されているフィールドデバイス２００、図３の管３０５、ならびに図４Ａおよび４Ｂの乱れた流れプロファイル４００〜４０５に関して説明されている。しかしながら、方法５００は、任意の適切なフィールドデバイスによって、また任意の適切なシステムにおいて使用される可能性がある。
【００４８】
[0053]ブロック５０５において、フィールドデバイス２００は、フィールドデバイス２００を通る流体の流れに対して、基線較正および特性曲線の決定を行う。ブロック５１０において、フィールドデバイス２００は、流れ状態パラメータおよび評価基準を設定する。ブロック５１５において、フィールドデバイス２００は、インライン状態基準モニタリングを行う。ブロック５２０において、フィールドデバイス２００は、プロセス流体の流れプロファイル用の第１の特性曲線の測定精度における偏差がプロセス流体のインライン状態をモニタしている間に検出されているか否かを判定する。これ以降のプロセス流体は、ガスまたは液体とすることができる。
【００４９】
[0054]精度における偏差が検出されている場合、ブロック５２５において、フィールドデバイス２００は、測定精度における偏差が適用公差よりも大きいか否かを判定する。適用公差は、設定値、またはその範囲の割合に基づくものとすることができる。特定の実施形態において、適用公差は、最大許容誤差が、約２０分の平均化時間で０．０７ｍ／ｓである、国際法定計量機関（ＯＩＭＬ）クラス０．５などの業界標準によって決定される。
【００５０】
[0055]ブロック５３０において、検出されている精度における偏差が適用公差範囲内であると、フィールドデバイス２００は、偏差が許容可能であることを示すメッセージ２１５を表示する。特定の実施形態において、メッセージは、「許容公差範囲内の測定精度」を明示する。
【００５１】
[0056]ブロック５３５において、検出されている精度における偏差が適用公差範囲内ではないとき、フィールドデバイス２００は、測定精度が、フィールドデバイス測定および計算の結果に影響を及ぼす可能性があり、その調査および検証が必要とされることも明示する警告メッセージ２１５を表示する。
【００５２】
[0057]ブロック５４０において、フィールドデバイス２００は、偏差が適用公差よりも大きい場合、流れプロファイルの測定において検出されたその時の流れ状態に従って、新しい特性曲線用にインライン再計算を行う。新しい特性曲線は、その時の流れ状態下で許容できない偏差をもたらした古くなった特性曲線に取って代わる。ブロック５４５において、フィールドデバイス２００は、新しい特性曲線が古い特性曲線に取って代わるときに特性曲線が更新されることを示すメッセージを表示する。特定の実施形態において、フィールドデバイス２００は、メッセージ「通知：現在の流れ状態に従って新しい補正曲線係数が更新される」を表示する。
【００５３】
[0058]ブロック５５０において、精度における偏差が検出されていないとき、フィールドデバイス２００は、フィールドデバイスのセンサの測定精度がうまく制御されていることを明示するメッセージを表示する。ブロック５５５において、フィールドデバイス２００は、センサの測定において、最新の有効な特性曲線補正を使用する。ブロック５６０において、新しい特性曲線が古い特性曲線に取って代わるときに特性曲線が更新されることを示すメッセージをフィールドデバイス２００が表示した後、フィールドデバイス２００は、フィールドデバイス２００を通過する流体用の新しい特性曲線を使用して、流量を計算する。
【００５４】
[0059]図５は、流体におけるより小さな寸法を測定するための方法５００の一例を示しているが、図５に様々な変更がなされてもよい。例えば、一連のステップとして示されているが、図５に示されている様々なステップは、重複する、並行して起こる、または複数回起こる可能性がある。さらに、いつくかのステップは、組み合わされる、または取り除かれる可能性があり、また追加のステップが加えられる可能性がある。
【００５５】
[0060]図６Ａおよび６Ｂ（まとめて図６とされる）は、本開示による、フィールドデバイス用のＣＢＭ表示６００の例を示す。説明を簡単にするために、表示６００の例は、図２のフィールドデバイス２００において使用されるとして説明されている。しかしながら、表示６００の例は、フローコンピュータ２２０またはコンピュータ２２５などの任意の他の適切なシステムまたはデバイスにおいて使用される可能性がある。
【００５６】
[0061]表示６００の例には、以下に限定されるものではないが、状態表示６０５、ＵＳＭ概観６１０、通路流速グラフ６１５、軸方向流速グラフ６２０、乱流グラフ６２５、音速（ＳｏＳ）偏差グラフ６３０、直交流速グラフ６３５、渦グラフ６４０、プロファイル表示度数グラフ６４５、通路およびトランスデューサ表６５０、第１の比較グラフ６５５、ならびに第２の比較グラフ６６０が含まれる。
【００５７】
[0062]状態表示６０５は、表示６００に含まれる他のグラフおよび表用の制御選択肢を含む。特定の実施形態において、状態表示６０５は、音速、自動利得制御（ＡＧＣ：Ａｕｔｏｍａｔｉｃ  Ｇａｉｎ  Ｃｏｎｔｒｏｌ）、ＳＮＲ、プロファイル、渦、および構成用の選択肢を含む。表示６００への様々なグラフおよび表の組み入れに対して、各選択肢が選択され得る。
【００５８】
[0063]ＵＳＭ  ＣＢＭ概観６１０は、表示６００に含まれる他のグラフおよび表用の追加の制御選択肢を含む。ＵＳＭ概観６１０における制御選択肢には、様々な流路および電子機器が含まれる。表示６００への様々なグラフおよび表の組み入れに対して、各流路および電子機器が選択され得る。
【００５９】
[0064]通路流速グラフ６１５は、選択された流路ごとに判定された流速を表示する。軸方向流速グラフ６２０は、平面ごとに判定された軸方向流速を表示する。乱流グラフ６２５は、選択された流路ごとに判定された乱流を表示する。ＳｏＳ偏差グラフ６３０は、選択された流れ平面ごとに判定されたＳｏＳ偏差を表示する。直交流速グラフ６３５は、選択された流れ平面ごとに判定された流れ平面上の流路間の直交流における差を表示する。渦グラフ６４０は、選択された流れ平面ごとに判定された平面上の流路から検出された渦を表示する。グラフ６１５〜６４０のそれぞれは、状態表示６０５において選択された制御選択肢に基づいた結果を含む。平面は、フィールドデバイスにおいて同じレベルにある流路によって決定される。流路または平面間の簡単な比較と、各流路または平面の個々の特性の特定のために、結果が、グラフ形式および数値形式の両方で表示される。測定単位は、最大読み取り値または公差レベルなどの要因に基づき、ユーザによって定められるか、またはフィールドデバイスによって自動的に決められる。乱流グラフ６２５に示されているように、流路および平面におけるレベルまたは偏差の強さを表すのに、様々な色または他の指標が使用される。グラフ６１５〜６４０は、高精度、モニタ精度、および不正確を含む、様々な精度レベルを含む。
【００６０】
[0065]プロファイル表示度数グラフ６４５は、対称およびプロファイル要因の例を示す。通路およびトランスデューサ表６５０は、各センサおよび各流路からの読み取り値からの数値データを含む。第１の比較グラフ６５５および第２の比較グラフ６６０は、ある期間にわたる選択された属性のグラフを表示する。属性には、グラフ６１５〜６４０で見つけられた属性のいずれかと、フィールドデバイス２００内部のプロセス流体の総流量も含まれる場合がある。
【００６１】
[0066]図６は、表示６００の例についての詳細を示しているが、図６に様々な変更がなされてもよい。例えば、図６に示されている構成要素の個数およびタイプは、単の例示のためのものである。また、表示６００の例の機能分割は、単に例示のためのものである。図６における様々な構成要素は、省かれる、組み合わされる、またはさらに再分割される可能性があり、また特性の必要性に従って、追加の構成要素が加えられる可能性がある。
【００６２】
[0067]いくつかの実施形態において、本特許文献に説明されている様々な機能は、コンピュータ可読プログラムコードから形成されており、コンピュータ可読媒体において具現化されているコンピュータプログラムによって実施またはサポートされる。「ｃｏｍｐｕｔｅｒ  ｒｅａｄａｂｌｅ  ｐｒｏｇｒａｍ  ｃｏｄｅ（コンピュータ可読プログラムコード）」という句は、ソースコード、オブジェクトコード、および実行可能コードを含む、任意のタイプのコンピュータコードを含む。「ｃｏｍｐｕｔｅｒ  ｒｅａｄａｂｌｅ  ｍｅｄｉｕｍ（コンピュータ可読媒体）」という句は、読み取り専用メモリ（ＲＯＭ：Ｒｅａｄ  Ｏｎｌｙ  Ｍｅｍｏｒｙ）、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ：Ｒａｎｄｏｍ  Ａｃｃｅｓｓ  Ｍｅｍｏｒｙ）、ハードディスクドライブ、コンパクトディスク（ＣＤ：Ｃｏｍｐａｃｔ  Ｄｉｓｃ）、デジタルビデオディスク（ＤＶＤ：Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｖｉｄｅｏ  Ｄｉｓｃ）、または任意の他のタイプのメモリなど、コンピュータによってアクセスされ得る任意のタイプの媒体を含む。「非一時的」コンピュータ可読媒体は、一時的な電気信号または他の信号を転送する、有線の、無線の、光の、または他の通信リンクを除外する。非一時的コンピュータ可読媒体には、データが永続的に格納され得る媒体、また、書き換え可能光ディスクまたは消去可能メモリデバイスなど、データが格納され、後で上書きされ得る媒体が含まれる。
【００６３】
[0068]本特許文献全体を通して使用されている特定の語および句の定義を明記することは有益であり得る。「ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ（アプリケーション）」および「ｐｒｏｇｒａｍ（プログラム）」という用語は、適切なコンピュータコード（ソースコード、オブジェクトコード、または実行可能コードを含む）において実施されるように適合された、１つまたは複数のコンピュータプログラム、ソフトウェア構成要素、命令セット、手順、機能、オブジェクト、クラス、インスタンス、関連データ、またはそれらの一部を指す。「ｉｎｃｌｕｄｅ（含む）」および「ｃｏｍｐｒｉｓｅ（備える）」という用語とともにそれらの派生語は、制限のない包含を意味する。「ｏｒ（または）」という用語は、包括的であり、および／または、を意味する。「ａｓｓｏｃｉａｔｅｄ  ｗｉｔｈ（関連した）」という句とともにそれの派生語は、含む、〜内に含まれる、〜と相互接続する、入っている、〜内に入っている、〜にまたは〜と接続する、〜にまたは〜と結合する、〜と通信可能である、〜と連携する、交互配置する、並置する、〜に近接する、〜にまたは〜と結び付けられる、有する、〜の特性を有する、〜に対するまたは〜との関係を有する、あるいは同様のものを意味し得る。項目リストで使用される際の「ａｔ  ｌｅａｓｔ  ｏｎｅ  ｏｆ（のうちの少なくとも１つ）」という句は、列挙された項目のうちの１つまたは複数の様々な組み合わせが使用され得る、また、リスト内のただ１つの項目が必要とされ得る、ということを意味する。例えば、「Ａ、Ｂ、およびＣのうちの少なくとも１つ」は、Ａ、Ｂ、Ｃ、ＡとＢ、ＡとＣ、ＢとＣ、ならびにＡとＢとＣの組み合わせのうちのいずれかを含む。
【００６４】
[0069]本出願における発明を実施するための形態は、任意の特定の要素、ステップ、または機能が、請求項の範囲に含まれる必要のある必須要素または決定的要素であることを暗示するとして読まれるべきではない。特許対象の範囲は、認められた請求項によってのみ定められる。さらに、請求項のいずれも、「〜のための手段」または「〜のためのステップ」というまさにその語が、後に機能を特定する分詞句を伴って、特定の請求項において明示的に使用されない限り、添付の請求項または請求項要素のいずれかに関して３５Ｕ．Ｓ．Ｃ．§１１２（ｆ）を行使することが意図されるものではない。ある請求項内での「機構」、「モジュール」、「デバイス」、「ユニット」、「構成要素」、「要素」、「部材」、「装置」、「機械」、「システム」、「プロセッサ」、または「制御装置」など（しかし、それらに限定されるものではない）の用語の使用は、請求項自体の特徴によってさらに修正または高められるような、当業者に知られている構造を指すことが理解され、意図され、３５Ｕ．Ｓ．Ｃ．§１１２（ｆ）を行使することが意図されているものではない。
【００６５】
[0070]本開示は、特定の実施形態および一般に関連する方法を説明したが、これらの実施形態および方法の改変および並べ替えが、当業者であれば明らかであろう。したがって、実施形態例の上の説明は、本開示を定義または制約するものではない。以下の請求項によって定義されているような、本開示の趣旨および範囲から逸脱することなく、他の変更、置換、および改変も考えられる。
【図１】
2018529091.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図５】
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【図６】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【手続補正書】
【提出日】平成30年4月18日(2018.4.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１つまたは複数のフィールドデバイス（２００）とデータをやり取りするように構成された制御システム（１３８）と、
フィールドデバイス（２００）であって、
プロセス流体の流れプロファイル用の第１の特性曲線の測定精度における偏差が、前記プロセス流体のインライン状態をモニタしている間に検出されているか否かを判定し（５２０）、
前記偏差が、適用公差よりも大きいか否かを判定し（５２５）、
前記偏差が前記適用公差よりも大きい場合、前記流れプロファイルの測定において検出されたその時の流れ状態に従って、新しい特性曲線用にインライン再計算を行い（５４０）、かつ
前記新しい特性曲線を使用して、前記プロセス流体の流量を計算する（５６０）ように構成された、フィールドデバイス（２００）と、を備えるシステム（１００）。
【請求項２】
前記フィールドデバイスが、前記測定精度のレベルが著しく影響を受けていることを示す警告メッセージを表示する（５３５）ようにさらに構成されている、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記フィールドデバイスが、前記第１の特性曲線を前記新しい特性曲線と取り替える（５４０）ようにさらに構成されている、請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
前記フィールドデバイスが、前記第１の特性曲線が前記新しい特性曲線に取って代わられるとき、前記特性曲線が更新されることを示すメッセージを表示する（５４５）ようにさらに構成されている、請求項３に記載のシステム。
【請求項５】
プロセス流体の流れプロファイル用の第１の特性曲線の測定精度における偏差が、前記プロセス流体のインライン状態をモニタしている間に検出されているか否かを判定し（５２０）、
前記偏差が適用公差よりも大きいか否かを判定し（５２５）、
前記偏差が前記適用公差よりも大きい場合、前記流れプロファイルの測定において検出されたその時の流れ状態に従って、新しい特性曲線用にインライン再計算を行い（５４０）、かつ
前記新しい特性曲線を使用して、前記プロセス流体の流量を計算する（５６０）ように構成された、フィールドデバイス（２００）。
【請求項６】
前記フィールドデバイスが、前記測定精度のレベルが著しく影響を受けていることを示す警告メッセージを表示する（５３５）ようにさらに構成されている、請求項５に記載のフィールドデバイス。
【請求項７】
プロセス流体の流れプロファイル用の第１の特性曲線の測定精度における偏差が、前記プロセス流体のインライン状態をモニタしている間に検出されているか否かを判定するステップ（５２０）と、
前記偏差が適用公差よりも大きいか否かを判定するステップ（５２５）と、
前記偏差が前記適用公差よりも大きい場合、前記流れプロファイルの測定において検出されたその時の流れ状態に従って、新しい特性曲線用にインライン再計算を行うステップ（５４０）と、
前記新しい特性曲線を使用して、前記プロセス流体の流量を計算するステップ（５６０）と、を含む方法。
【請求項８】
前記測定精度のレベルが著しく影響を受けていることを示す警告メッセージを表示するステップ（５３５）をさらに含む、請求項７に記載の方法。
【国際調査報告】
2018529091.tif 000012
2018529091.tif 000013