(57)【要約】  本発明は、少なくとも１つの体積ホログラフィック光学素子を含む光学鋳造体を鋳造プロセスによって製造する方法に関し、この方法は、以下の工程を含む：平坦、球状、非球状または自由形状の第１の表面を有する第１のモールド部分（１０）と、平坦、球状、非球状または自由形状の第２の表面を有する第２のモールド部分（２０）とを含む鋳造モールド（３０）を提供する工程であって、鋳造モールド（３０）を形成するために、この第１のモールド部分（１０）が第２のモールド部分（２０）に接続可能である工程；少なくとも１つのホログラフィック光学素子（９１）を提供する工程；この少なくとも１つのホログラフィック光学素子（９１）を第１のモールド部分（１０）および／または第２のモールド部分（２０）に対して配置および位置合わせする工程；この鋳造モールド（３０）を形成するために、第１のモールド部分と第２のモールド部分を合わせる工程；１つ以上の鋳造工程に鋳造材料を導入する工程であって、鋳造材料が２５℃で１００，０００ｍＰａｓの最大粘度を有する工程；鋳造材料を硬化させる工程；少なくとも１つのホログラフィック光学素子（９１）を含む硬化した鋳造材料を、この鋳造モールド（３０）から取り出す工程であって、鋳造材料が、少なくとも１つのホログラフィック光学素子（９１）の周りに少なくとも部分的に延びる工程。【選択図】図２
2018506067.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの体積ホログラフィック光学素子を含む光学鋳造物を少なくとも１つの鋳造操作によって製造する方法であって、
平坦、球状、非球状または自由形状の第１の表面を有する第１のモールドセクションと、平坦、球状、非球状または自由形状の第２の表面を有する第２のモールドセクションとを含む鋳造モールドを提供する工程であって、前記鋳造モールドを形成するために前記第１のモールドセクションが前記第２のモールドセクションに接続可能である工程と、
少なくとも１つのホログラフィック光学素子を提供する工程と、
前記少なくとも１つのホログラフィック光学素子を前記第１のモールドセクションおよび／または前記第２のモールドセクションに対して配置および位置合わせする工程と、
前記第１および第２のモールドセクションを合わせて前記鋳造モールドを形成する工程と、
１つ以上の鋳造工程で鋳造材料を導入する工程であって、前記鋳造材料が２５℃で１００，０００ｍＰａｓの最大粘度を有する工程と、
前記鋳造材料を硬化させる工程と、
前記少なくとも１つのホログラフィック光学素子を含む前記硬化した鋳造材料を前記鋳造モールドから取り出す工程であって、前記少なくとも１つのホログラフィック光学素子が前記鋳造材料によって少なくとも部分的に取り囲まれる工程と
を含む方法。
【請求項２】
前記第１および／または第２のモールドセクションが、一方のモールドセクションを他方のモールドセクションに接続するための少なくとも１つのスリーブを含むことを特徴とする、
請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記少なくとも１つのホログラフィック光学素子が、前記少なくとも１つのスリーブに対して排他的にまたは追加的に配置され、位置合わせされることを特徴とする、
請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記少なくとも１つのホログラフィック光学素子が、前記第１のモールドセクションの前記第１の表面に対しておよび／または前記第２のモールドセクションの前記第２の表面に対して配置され、位置合わせされることを特徴とする、
請求項１から３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
前記少なくとも１つのホログラフィック光学素子は、前記第１のモールドセクションの前記第１の表面に対しておよび／または前記第２のモールドセクションの前記第２の表面に対して、固定剤として機能する材料液滴によって配置され、位置合わせされ、前記材料液滴の屈折率は、前記鋳造材料の屈折率と０．０１以下、好ましくは０．００２で異なることを特徴とする、
請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記少なくとも１つのホログラフィック光学素子が、少なくとも１つのフィルムセクション上に配置され、位置合わせされ、前記少なくとも１つのフィルムセクションが、前記第１のモールドセクションの前記第１の表面上および／または前記第２のモールドセクションの前記第２の表面上に配設され、少なくともこれらのセクションを覆うことを特徴とする、
請求項１から５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
前記少なくとも１つのホログラフィック光学素子は少なくともセクション中でフィルムセクションに接続され、前記フィルムセクションは追加的に、さらなる光学機能、特に偏光子機能、ＵＶ吸収、デザイン機能、ラベリング機能、着色機能、フォトクロミック機能、機械的支持機能、または上述の機能の組み合わせを提供することを特徴とする、
請求項１から６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
前記第１および／または第２のモールドセクションは、鋳造材料で少なくとも部分的に充填され、前記鋳造材料が少なくとも部分的に硬化され、次いで少なくとも１つのホログラフィック光学素子が少なくとも部分的に硬化された前記鋳造材料の形成された表面に配置され、位置合わせされて、次いで前記第１および第２のモールドセクションを合わせて前記鋳造モールドを形成し、次いで前記鋳造モールドに前記鋳造材料を完全に充填し、その後前記鋳造材料全体を硬化させる、
請求項１から７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
前記少なくとも１つのホログラフィック素子が平坦であり、０°〜９０°、好ましくは０°〜６０°の前記鋳造物の光軸に対する角度で、その表面法線と位置合わせして配置されることを特徴とする、
請求項１から８のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】
前記少なくとも１つのホログラフィック光学素子が光学層構造に組み込まれており、前記層構造は、前記光が、前記層構造内にインプットでき、前記層構造の層の範囲に沿って伝播でき、前記取り囲む光学鋳造物中の前記少なくとも１つのホログラフィック光学素子を介して放出でき、ひいては前記光学鋳造物を離れることができるように構成されていることを特徴とする、
請求項１から９のいずれかに記載の方法。
【請求項１１】
前記少なくとも１つのホログラフィック光学素子が、フォトポリマー材料によって形成され、前記フォトポリマー材料が、バインダ、少なくとも１つの書込モノマーおよび少なくとも１つの光開始剤系を含み、前記バインダが、好ましくは架橋されたバインダを含み、前記フォトポリマー材料が、より好ましくはさらに、構造（ＩＩ）のコントラスト剤を含むことを特徴とする、請求項１から１０のいずれかに記載の方法。
【化１】
2018506067.tif 000006
（  式中、ｎ≧１かつｎ≦８、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３はそれぞれ独立に水素、線状、分岐状、環状または複素環式の非置換あるいはヘテロ原子で置換されていてもよい有機ラジカルであり、ここでＲ１、Ｒ２、Ｒ３ラジカルの少なくとも１つが少なくとも１つのフッ素原子で置換される）
【請求項１２】
導入時の前記鋳造材料が、２５℃で５０００ｍＰａｓ未満、好ましくは５００ｍＰａｓ未満、より好ましくは１００ｍＰａｓ未満の粘度を有することを特徴とする、
請求項１から１１のいずれかに記載の方法。
【請求項１３】
前記鋳造材料が、少なくとも１つの官能基を有する１つ以上のモノマーおよび／またはオリゴマーを含み、前記少なくとも１つの官能基がアクリロイル、メタクリロイル、ビニル、アリル、イソシアネート、イソチオシアネート、アルコール、酸、オキシラン、チイラン、チオールおよびアミンから選択されることを特徴とする、
請求項１から１２のいずれかに記載の方法。
【請求項１４】
請求項１から１３のいずれかに記載の方法によって製造された、少なくとも１つのホログラフィック光学素子を含む光学鋳造物。
【請求項１５】
請求項１４に記載の光学鋳造物を含む、眼鏡、例えば矯正眼鏡、二焦点眼鏡、三焦点眼鏡および遠近両用眼鏡、ディスプレイスクリーン作業および運転のための矯正眼鏡、サングラス、偏光機能を有する眼鏡、保護眼鏡、機能性眼鏡、拡張現実のために設置された電子ディスプレイを有する眼鏡またはデータ眼鏡、自動車フロントヘッドランプまたは後退灯、顕微鏡、投光照明、懐中電灯、カメラおよびスマートフォン用の写真レンズ、（電子）プロジェクタの投影光学系、発光ダイオードおよびレーザの二次光学系、ＬＥＤランプ、照明および電子イメージセンサ用の修正光学系。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、少なくとも１つの鋳造操作によって少なくとも１つの体積ホログラフィック光学素子を含む光学鋳造物を製造する方法に関する。本発明はさらに、光学鋳造物、ならびにこのような光学鋳造物を含む眼鏡、光学機器およびデバイスに関する。
【背景技術】
【０００２】
回折光学系では、表面にエンボス加工された回折構造と、対応する構造内に存在する回折構造とが区別される。後者が異なる屈折率の周期的に変化する層を含む場合、これらは位相ホログラムと呼ばれる。この種の構造は、光波面の非常に優れた変更を可能にし、回折エンボス面とは対照的に様々な利点を有する。例えば、回折効率が非常に高くなり得、高いブラッグ選択性により、望ましくないより高次の効果的な抑制を可能にする。さらに、これらの光学系は、ブラッグ条件（例えば異なる角度で）が満たされない場合に透明な外観を可能にする。したがって、光コンバイナを製造することが可能である。
【０００３】
回折光学系は、屈折光学系と同様に、最小限に抑えなければならない色収差を有する。短波長の光は、屈折光学系の場合には長波長の光よりも強く屈折するので、回折光学系の場合とは正反対であるが、例えば、回折および屈折成分からなるハイブリッド光学系によって、コンパクトな色収差補正を達成することができる。さらに、このようなハイブリッド光学系を使用する際に、１つの光学構造において独立して達成されるべき異なる光学機能が必要とされる場合に利点がある。屈折光学系だけでこれを実現したいと望む者は、システムの光学開口部の一部を対応して一方または他方の光学機能に割り当てることが強制される。ハイブリッド光学系では、光学機能が互いに独立して実現できるので、ここではより大きな自由度がある。
【０００４】
位相ホログラムは、（体積）ホログラフィック光学素子（略してｖＨＯＥ）とも呼ばれる。光学機能は、周期的に変化する層の幾何学形状を介して形成される。これは、干渉露光法を介して達成される。ホログラムの可能な光学機能は、レンズ、ミラー、偏向ミラー、フィルタ、ディフューザレンズ、指向性拡散素子、指向性ホログラフィックディフューザ、回折素子、ライトガイド、導波路、インプット／抽出素子、投影レンズおよび／またはマスクのような光素子の光学機能に対応する。さらに、そのような複数の光学機能は、例えば、光の入射に応じて光が異なる方向に偏向されるように、このようなホログラムに組み合わされ得る。干渉露光法により位相ホログラムを記録材料に露光することができる。この目的のための標準的な材料は、フォトポリマー、ハロゲン化銀フィルムおよび二クロム酸塩ゼラチンフィルムである。
【０００５】
高品質の屈折光学構成要素は、ガラスやプラスチックなどの透明材料で製造されている。前者は通常重い；後者は軽量であり、鋳造法および射出成形法によって製造することができる。
【０００６】
特開２００８１７０８５２Ａ号公報（ソニー）は、熱可塑性体を用いた射出成形法によるｖＨＯＥを含むプラスチック体の製造を教示している。しかしながら、これはセキュリティーホログラムであり、構造の光学的品質は光学的用途には不十分である。
【０００７】
米国特許第７８２６１１３Ｂ２号明細書（コニカミノルタ）は、ラミネーション法の使用、およびｖＨＯＥの屈折構造への接着のための接着層の使用を教示している。この種の方法は、必要とされる光学的品質を確保するために、少なくとも２つの屈折成分の連続的な取り付けを必要とし、これは困難である。さらに、接着剤のような中間層の使用は、光学的品質に非常に容易に悪影響を及ぼし得る界面をもたらす。さらに、いくつかの個々の構成要素の提供およびそれに続く組み立ては費用がかかる。
【０００８】
眼鏡のため、結像光学系の光学構造のためだけでなく、ｖＨＯＥが使用されるべき高効率の光および画像投影のための光学素子としての使用に関して、十分に高品質の対応する光学素子が必要とされる。
【０００９】
さらに、ハイブリッド機能を有するこのような光学物品の屈折構成要素の光学機能と回折構成要素（ｖＨＯＥ）とが互いに光学的に位置合わせされることが非常に重要である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００８１７０８５２Ａ号公報
【特許文献２】米国特許第７８２６１１３Ｂ２号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
したがって、本発明の目的は、体積ホログラフィック光学素子を透明で高品質の鋳造物に正確に配置する方法を提供することである。本発明のさらなる目的は、光学鋳造物が高い光学品質を特徴とする少なくとも１つのホログラフィック光学素子を有する光学鋳造物を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
この目的は、少なくとも１つのホログラフィック光学素子を含む光学鋳造物を少なくとも１つの鋳造操作によって製造する方法によって達成され、この方法は、以下の工程を含む：
平坦、球状、非球状または自由形状の第１の表面を有する第１のモールドセクションと、平坦、球状、非球状または自由形状の第２の表面を有する第２のモールドセクションとを含む鋳造モールドを提供する工程であって、鋳造モールドを形成するために第１のモールドセクションは第２のモールドセクションに接続可能である工程、
少なくとも１つのホログラフィック光学素子を提供する工程、
少なくとも１つのホログラフィック光学素子を第１のモールドセクションおよび／または第２のモールドセクションに対して配置および位置合わせする工程、
第１および第２のモールドセクションを合わせて鋳造モールドを形成する工程、
１つ以上の工程で鋳造材料を導入する工程であって、この鋳造材料が２５℃で１００，０００ｍＰａｓの最大粘度を有する工程、
鋳造材料を硬化する工程、
少なくとも１つのホログラフィック素子を含む硬化した鋳造材料を鋳造モールドから取り出す工程であって、この少なくとも１つのホログラフィック光学素子が鋳造材料によって少なくとも部分的に取り囲まれる工程
を含む。
【００１３】
本発明による方法は、比較的簡単な方法で高い光学品質の光学鋳造物を製造することができる。
【００１４】
この方法の開始時に、平坦、球状、非球状または自由形状の第１の表面を有する第１のモールドセクションと、平坦、球状、非球状または自由形状の第２の表面を有する第２のモールドセクションとを含む鋳造モールドが提供される。鋳造モールドを形成するために、第１のモールドセクションを第２のモールドセクションに接続することができる。さらに、少なくとも１つのホログラフィック光学素子が提供され、これは、生成されるべき光学鋳造物に一体化される。
【００１５】
モールドセクションおよび少なくとも１つのホログラフィック光学素子の提供後の光学鋳造物の製造のための個々のプロセス工程の順序は厳密に規定されていない。例えば、少なくとも１つのホログラフィック光学素子は、最初に、第１のモールドセクションに対しておよび／または第２のモールドセクションに対して配置および位置合わせされ、続いて、第１および第２のモールドセクションが結合されて鋳造モールドが形成され、次いで、鋳造材料を鋳造モールドに導入して硬化させる。
【００１６】
本発明によれば、同様に、最初にモールドセクションを合わせて鋳造モールドを形成し、次に少なくとも１つのホログラフィック光学素子を鋳造モールド内で第１のモールドセクションおよび／または第２のモールドセクションに対して配置して、位置合わせすることも可能である。この目的のために、少なくとも１つのホログラフィック光学素子を、例えば適切な、特にスロット形状のオリフィスを用いて、鋳造モールドに導入することができる。
【００１７】
本発明による方法のさらなる変形例は、第１の鋳造工程において第１のモールドセクションおよび／または第２のモールドセクションに鋳造材料の一部を最初に導入し、鋳造材料を少なくとも部分的に硬化させ、次いで、形成する表面上に少なくとも１つのホログラフィック光学素子を配置し、位置合わせする工程を含む。これに続いて、鋳造モールドを形成するために第１および第２のモールドセクションを合わせ、さらなる工程において、残りの鋳造材料を導入し、その後完全に硬化させる。
【００１８】
本発明によれば、鋳造モールドの構成要素は、第１の表面を有する第１のモールドセクションと、第２の表面を有する第２のモールドセクションとを含む。モールドセクションは、例えば、ガラス、ここでは、通常酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ナトリウムおよび酸化カルシウムおよびそれらの混合物を主成分として製造されるガラスから製造され得る。さらなる成分は、鉄、ジルコニウム、チタン、鉛、バリウム、銅、銀、カリウムおよびマグネシウムの酸化物であってもよい。少量の臭化物、塩化物およびフッ化物も同様に使用可能である。ホウケイ酸塩および石英ガラスが好ましい。
【００１９】
応力亀裂が生じないように、使用前に焼戻しされたガラスを使用することが有利である。さらに好ましい実施形態では、鋳造材料の熱膨張係数と同様の熱膨張係数を有するガラスが使用される。例えばガラスセラミック材料のような、低い膨張係数を有するガラスを使用することも可能である。
【００２０】
特に（部分的に）自動化された方法の場合、モールドセクションはまた、より高い堅牢性を有するため、金属から製造されてもよい。
【００２１】
製造されるべき光学鋳造物の所望の形状に応じて、様々な形状を使用してもよい。例えば、平坦な表面、あるいは球状または非球状、およびさらに自由形状の表面を使用することが可能である。それぞれの場合において、凸面または凹面を使用することが可能である。表面はまた、柱状または円筒状の幾何学形状を有していてもよい。これらの幾何学形状の組み合わせも同様に可能である。半径は変動してもよく、これらは通常、眼鏡の用途のためのジオプトリ単位の屈折力に関して報告される。この場合、凸面と凹面との巧みな組み合わせを使用して、その屈折形態により、近視、遠視または乱視などの屈折異常を矯正するのに好適であるような審美的形状の光学物品を生じさせることが可能である。他の異なる表面形状も同様に使用することができる。例えば、頭の形状に対して厳密におよび／または審美的な方法で位置合わせされた眼鏡用レンズに適した形状を考慮することも有利である。産業用光学系の光学素子に望まれることは、比較的コンパクトな構造の幾何学形状であり、同様に表面の適切な造形によって実現することができる。
【００２２】
表面は、工業的に慣用の方法によって仕上げられ、高精度の光学的形態を生じさせる。慣用の方法は、機械加工、研削および研磨方法、および反射防止および／または耐引掻層の適用である。故に表面は一般的に高度に研磨されている。
【００２３】
鋳造キャビティまたは内部鋳造容積を有する鋳造モールドを得るために、２つのモールドセクションを接続することができる。この目的のために、第１および／または第２のモールドセクションは、一方のモールドセクションを他方のモールドセクションに接続するためのスリーブをさらに含んでいてもよい。典型的には、スリーブは、迅速な組み立てを可能にするために、プラスチックから製造される。この目的のために、ポリ塩化ビニル、ポリオレフィン、例えばポリプロピレン、ポリエチレン、またはさらにポリシクロオレフィンを使用することが可能である。同様に、ゴム、例えばブチルゴムまたはＥＰＤＭを、特に加硫された形態で使用することも可能である。熱可塑性および架橋されたエラストマー性ポリウレタン、シリコーンおよびエポキシ樹脂を使用することも可能である。
【００２４】
その形状に関して、スリーブは、２つのモールドセクションが互いにしっかりとシールされ得るようなものである。特定のクリップやフォールドは、フラッシュを閉じる配置に特に適している。
【００２５】
本発明によれば、少なくとも１つのホログラフィック光学素子は、第１のモールドセクションおよび／または第２のモールドセクションに対して配置され、位置合わせされる。具体的には、ここで少なくとも１つのホログラフィック光学素子が、第１のモールドセクションの第１の表面に対して、または第２のモールドセクションの第２の表面に対して、またはスリーブに対して配置され、位置合わせされることが可能である。スリーブに対する少なくとも１つのホログラフィック光学素子の配置および位置合わせの場合、少なくとも１つのホログラフィック光学素子は、スリーブをそれぞれのモールドセクションに一体化する前または後に配置および位置合わせすることができる。同様に、第１のモールドセクションの第１の表面および第２のモールドセクションの第２の表面に対して配置および位置合わせが行われることも可能である。さらに、配置および位置合わせは、１つのモールドセクションの表面に対して、同時に同じモールドセクションのスリーブに対して、あるいは第１のモールドセクションの第１の表面に対して、第２のモールドセクションの第２の表面に対して、ならびに第１および／または第２のモールドセクションのスリーブに対して行われることができる。
【００２６】
配置は、スリーブを有するモールドセクションに対して様々な方法で行うことができる。例えば、閉じた鋳造モールドに関して、ホログラフィック光学素子をスリーブ内のオリフィスを通して挿入することが可能であり、オリフィスの幾何学形状自体によって配置および位置合わせが行われる。この場合、オリフィスの位置は配置に重要である；幾何学形状が位置合わせを規定する。ホログラフィック光学素子を正確に配置できるように、スリーブが最小の厚さを有することが有利であり得る。例えば、スリーブの厚さを０．５ｍｍより大きく、有利には３ｍｍより大きく、特に有利には１０ｍｍより大きくすることが有利である。
【００２７】
オリフィスはスリーブ内にあってもよく、あるいは第１のモールドセクションとの界面にあってもよい。モールドセクションに対してホログラフィック光学素子をスリーブを用いて固定することも可能である。
【００２８】
さらに、モールドセクションの１つの表面に対して配置が行われることも可能である。有利には、配置および位置合わせは、予め第１のモールドセクションの第１の表面または第２のモールドセクションの第２の表面に積層、適用、またはドローダウンされたフィルムによって行うことができる。フィルムはまた、（空気）圧力によって、フィルムを表面に接着させる工具によっても適用することができる。フィルムは、熱成形法によって表面上に配置することもできる。熱成形法では、フィルムは、オーブン（例えば、対流式オーブン）または放射線源（ＩＲ、ＵＶ、ＶＩＳ）によって加熱され、わずかに変形可能にされる。加熱により、フィルムは特に容易かつ迅速に軟化され、次いで（空気）圧力で表面に適用される。さらに、高圧成形法が使用可能であり、これにより、フィルムは、その軟化温度よりわずかに低い温度まで加熱した後、特に高圧の適用によって表面上に配置される。フィルムの適用のために第１の表面の凸面を使用することが特に有利である。
【００２９】
フィルムは、第１または第２の表面を完全にまたは部分的に覆ってもよい。さらに、フィルムは、ホログラフィック光学素子と同じ大きさであってもよく、あるいはより大きくても小さくてもよい。フィルムが対応するモールドセクションの表面を完全に覆う場合、より詳細にはこの表面が凸形状である場合に特に有利である。フィルムが対応するモールドセクションの表面を完全に覆う場合も特に有利である。
【００３０】
本発明のさらに有利な構成で使用されるフィルムは、本質的に同じ鋳造材料からなる。これは、フィルムと鋳造材料との間の目に見える界面が消えるという利点を有する。「本質的に同じ鋳造材料の」とは、鋳造材料と同じ化学成分を含む材料を意味する。硬化された鋳造材料は高い弾性率を示し、この理由から、依然として表面への形成を可能にするために、フィルム中の鋳造材料の硬化を完了まで行わないことが有利であり得る。ワンパック材料の場合、これは、例えば、３０％〜９５％、特に有利には５０％〜９０％の転化レベルに制御された転化によって可能である。（本発明の文脈における転化レベルは、常に、分光学的方法によって決定可能な反応性化学基の転化レベルの百分率を意味する。転化レベルを決定する適切な方法は、例えば、赤外線、ラマンおよび核共鳴分光法である。）ワンパックシステムを熱硬化させるためには、例えば、触媒の量、フィルムの硬化時間または開始剤の量を減らすことが可能である。放射線硬化ワンパックシステムの場合、光開始剤の量または光量を低減することができる。熱硬化ワンパックシステムは、例えば、過酸化物（例えば、ジアルキル過酸化物またはヒドロキシアルキル過酸化物または化学的に関連する過酸化物）またはジアゾ化合物（例えばジアザイソブチロニトリル「ＡＩＢＮ」）のような熱分解性フリーラジカル形成剤の助けを借りて重合されるフリーラジカル重合性モノマーを含有してもよい。放射線硬化システムの場合、ＵＶ開始剤（例えば、α−ヒドロキシケトン）およびＵＶ光で重合されるフリーラジカル重合性モノマーを同様に使用することが可能である。好適なフリーラジカル重合性モノマーは、アクリロイル官能性モノマーである。チオール−エン反応によって重合するモノマーを使用することも可能である。脂肪族チオールがここで使用され、これらはアクリレート、ビニルシランまたは他のマイケル受容体と反応する。２パック鋳造システムでは、ａ）触媒の量およびｂ）開始剤の量およびｃ）硬化時間を減少させることだけでなく、さらに、ｄ）混合比をわずかに変更するか、またはこれらの基準のうちの２つ以上を同時に実施することも可能である。そうすることで、架橋密度を低下させるだけで、フィルムの形成が可能になる。ポリまたはジイソシアネートおよびアルコール／チオール（すなわち、ポリウレタン系またはチオポリウレタン系と呼ばれるもの）をベースとする２パックシステムの場合、イソシアネートは過剰に使用することができる。その後、周囲の水と反応して尿素が得られる。イソシアネートが不足している場合にも同様に作用することができ、この場合、イソシアネートが鋳造材料からフィルム中に移動し、後架橋が可能になる。
【００３１】
ホログラフィック光学素子はまた、固定剤として機能する材料液滴と共にモールドセクションの表面上に配置することもでき、材料液滴の屈折率は、鋳造材料の屈折率とは０．０１以下、好ましくは０．００２だけ異なる。この場合も、材料小滴が本質的に鋳造材料自体と同じ材料からなる場合に特に有利である。これは、特に３０％〜９０％、有利には５０％〜９０％の転化レベルのみを有する材料が使用される場合に可能である。ホログラフィック光学素子の配置および位置合わせのためのフィルムの場合には、類似の考慮がここに当てはまる。化学的に使用可能なシステムも、配置材料としてのフィルムの場合と同じである（上記参照）。
【００３２】
配置は、光学物品にさらなる機能を導入するフィルムを使用することによっても実施することができる。例えば、偏光フィルム、カラーフィルム、デザインフィルム、ＵＶ保護フィルム、フォトクロミックフィルムを導入することが可能である。これらの場合、ホログラフィック光学素子をこのフィルム上に積層または接着し、次いで第１のモールドセクションおよび／または第２のモールドセクションに対して配置および位置合わせさせることが可能である。
【００３３】
配置は、鋳造モールドの一部を最初に鋳造材料で充填することにより、２段階または多段階の方法で同様に行うことができ、鋳造材料は部分的に硬化または完全に硬化される。続いて、ホログラフィック光学素子が、得られた表面上に配置される。次の工程では、鋳造モールドの残りの自由容積が再び満たされ、鋳造材料が硬化される。結果として得られる表面が、光学物品の光軸に対して本質的に直角である場合、ホログラフィック光学素子が同様に直角になることが有利である。部分充填が凹面上で行われる場合には特に有利である。
【００３４】
上記の構成の変形例では、第１および／または第２のモールドセクションは、まず鋳造材料で少なくとも部分的に充填されてもよく、次に鋳造材料が少なくとも部分的に硬化されてもよく、次いで少なくとも１つのホログラフィック光学素子が少なくとも部分的に硬化された鋳造材料の形成された表面に配置され、位置合わせされて、次いで第１および第２のモールドセクションを合わせて鋳造モールドを形成し、次いで鋳造モールドに鋳造材料を完全に充填し、その後鋳造材料全体を硬化させる。
【００３５】
それらの固有の光学機能の結果として、配置および位置合わせされたホログラフィック光学素子は、製造された光学鋳造物の光学機能と光学的関係を有する。
【００３６】
好ましい実施形態では、光学鋳造物は、眼鏡用レンズの場合には使用者の眼に位置合わせされる光軸を有する。したがって、ホログラフィック光学素子、好ましくは平面ホログラフィック光学素子の位置合わせは、光学鋳造物の光軸に対する角度として報告することができる。平面ホログラフィック光学素子の平面の法線ベクトルと鋳造物の光軸との間の角度は、０°〜９０°、好ましくは０°〜６０°であってもよい。
【００３７】
ホログラフィック光学素子は、露光時に、記録材料の（好ましくは平面）表面に対する参照ビームおよび物体ビームの入射角によって規定される２つの固有の光学的優先位置合わせを常に有する。これら２つの光学的優先方向は、平面光学素子の平面に対する法線ベクトルから自由に選択することができる。特に好ましい実施形態では、これらの２つの優先方向のうちの１つ（すなわち、物体ビームまたは参照ビームのいずれか）が光学鋳造物の光学軸に同一直線上に位置合わせされる。
【００３８】
ホログラフィック光学素子自体は、ホログラフィック記録層（および隣接する熱可塑性基材を含んでもよい）とからなる。使用可能な熱可塑性基材は、ポリエチレンテレフタレートおよび他のポリエステル、ポリカーボネート、非晶質ポリアミド、セルローストリアセテート、ポリメチルメタクリレート、ポリウレタン、ポリシクロオレフィン（ＣＯＣ）、ポリスチレンおよびポリエチレンまたはポリプロピレンからなる。
【００３９】
また、熱可塑性基材ではなく、熱硬化性基材を使用することも可能である。その場合、特定の選択肢は、使用される鋳造材料と本質的に同じ材料を使用することである。
【００４０】
適切なホログラフィック記録材料は、ハロゲン化銀エマルションおよび重クロム酸ゼラチンである。より詳細には、フォトポリマーも好適である。バインダ、書込モノマーおよび光開始剤系を含むフォトポリマーが好ましい。
【００４１】
使用されるバインダは、非晶質熱可塑性樹脂、例えばポリアクリレート、ポリメチルメタクリレートまたはメチルメタクリレート、メタクリル酸または他のアルキルアクリレートおよびアルキルメタクリレートのコポリマー、ならびにアクリル酸、例えばポリブチルアクリレート、ならびにポリ酢酸ビニルおよびポリビニルブチレート、これらの部分加水分解誘導体、例えばポリビニルアルコール。ならびにエチレンおよび／またはさらなる（メタ）アクリレートとのコポリマー、ゼラチン、セルロースエステルおよびセルロースエーテル、例えばメチルセルロース、セルロースアセトブチラート、シリコーン、例えばポリジメチルシリコーン、ポリウレタン、ポリブタジエンおよびポリイソプレン、およびさらに酸化ポリエチレン、エポキシ樹脂、特に脂肪族エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリカーボネート、および米国特許第４９９４３４７Ａ号明細書に引用されている系であってもよい。
【００４２】
バインダは、特に架橋状態であってもよく、三次元架橋状態であることがより好ましい。
【００４３】
バインダは、より好ましくは、ポリウレタンを含むか、またはポリウレタンからなり、最も好ましくは、三次元架橋ポリウレタンを含むかまたはそれからなる。
【００４４】
このような架橋ポリウレタンバインダは、例えば、少なくとも１つのポリイソシアネート成分ａ）と少なくとも１つのイソシアネート反応性成分ｂ）との反応によって得ることができる。
【００４５】
ポリイソシアネート成分ａ）は、少なくとも２つのＮＣＯ基を有する少なくとも１つの有機化合物を含む。これらの有機化合物は、特に、モノマー性ジイソシアネートおよびトリイソシアネート、ポリイソシアネートおよび／またはＮＣＯ官能性プレポリマーであり得る。ポリイソシアネート成分ａ）はまた、モノマー性ジイソシアネートおよびトリイソシアネートの混合物、ポリイソシアネートおよび／またはＮＣＯ官能性プレポリマーの混合物を含むかまたはそれらからなってもよい。
【００４６】
使用されるモノマー性ジイソシアネートおよびトリイソシアネートは、当業者にそれ自体よく知られている化合物のいずれか、またはそれらの混合物であり得る。これらの化合物は、芳香族、芳香脂肪族、脂肪族または脂環式構造を有していてもよい。モノマー性ジイソシアネートおよびトリイソシアネートはまた、少量のモノイソシアネート、すなわち１つのＮＣＯ基を有する有機化合物を含んでもよい。
【００４７】
適切なポリイソシアネートは、ウレタン、尿素、カルボジイミド、アシルウレア、アミド、イソシアヌレート、アロファネート、ビウレット、オキサジアジントリオン、ウレトジオンおよび／またはイミノオキサジアジンジオン構造を有する化合物であり、上記ジ−またはトリイソシアネートから得ることができる。
【００４８】
より好ましくは、ポリイソシアネートはオリゴマー化された脂肪族および／または脂環式のジイソシアネートまたはトリイソシアネートであり、特に上記の脂肪族および／または脂環式のジイソシアネートまたはトリイソシアネートを使用することができる。
【００４９】
イソシアヌレート、ウレトジオンおよび／またはイミノオキサジアジンジオン構造を有するポリイソシアネート、およびＨＤＩに基づくビウレットまたはそれらの混合物が特に好ましい。
【００５０】
使用されるイソシアネート反応性化合物ｂ１）は、アルコール、アミノまたはメルカプト化合物、好ましくはアルコールであり得る。これらは特にポリオールであってもよい。最も好ましくは、使用されるイソシアネート反応性化合物ｂ１）は、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリ（メタ）アクリレートポリオールおよび／またはポリウレタンポリオールであり得る。
【００５１】
適切なポリエステルポリオールは、例えば脂肪族、脂環式または芳香族のジ−またはポリカルボン酸またはその無水物と≧２のＯＨ官能価を有する多価アルコールとの反応により、既知の方法で得ることができる線状ポリエステルジオールまたは分岐ポリエステルポリオールである。適切なジカルボン酸またはポリカルボン酸の例は、コハク酸、アジピン酸、スベリン酸、セバシン酸、デカンジカルボン酸、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、テトラヒドロフタル酸またはトリメリット酸のような多価カルボン酸、および無水フタル酸、無水トリメリット酸または無水コハク酸のような酸無水物、またはそれらの任意の所望の混合物である。ポリエステルポリオールはまた、ヒマシ油などの天然原料をベースにしてもよい。同様に、ポリエステルポリオールは、ラクトンのホモ−またはコポリマーをベースとすることも可能であり、これは、好ましくは、ブチロラクトン、ε−カプロラクトンおよび／またはメチル−ε−カプロラクトンのようなラクトンまたはラクトン混合物の、ヒドロキシ官能性化合物、例えば≧２のＯＨ官能価を有する多価アルコール、例えば下記のタイプの化合物への付加によって得ることができる。
【００５２】
好適なジオールまたは混合物は、ポリエステルセグメントに関して、それ自体が言及された≧２のＯＨ官能価を有する多価アルコール、好ましくはブタン−１，４−ジオール、ヘキサン−１，６−ジオールおよび／または３−メチルペンタンジオールを含む。ポリエステルポリオールをポリカーボネートポリオールに転化することも可能である。
【００５３】
ポリオール成分ｂ１）の構成成分としてさらに適しているのはまた、多官能性イソシアネート反応性化合物として、低分子量（すなわち分子量≦５００ｇ／ｍｏｌ）、短鎖（すなわち２〜２０個の炭素原子を含有する）、脂肪族、芳香脂肪族または脂環式ジ、トリまたは多官能性アルコールである。
【００５４】
ポリオール成分が、第一級ＯＨ官能基を有する二官能性ポリエーテル、ポリエステル、またはポリエーテル−ポリエステルブロックコポリエステルまたはポリエーテル−ポリエステルブロックコポリマーである場合、特に好ましい。
【００５５】
イソシアネート反応性化合物ｂ１）が≧２００および≦１００００ｇ／ｍｏｌ、さらに好ましくは≧５００および≦８０００ｇ／ｍｏｌ、最も好ましくは≧８００および≦５０００ｇ／ｍｏｌの数平均モル質量を有する場合も好ましい。ポリオールのＯＨ官能価は、好ましくは１．５〜６．０、より好ましくは１．８〜４．０である。
【００５６】
イソシアネート反応性成分は、特に、少なくとも１．５個、好ましくは２〜３個のイソシアネート反応性基の数平均を有する化合物を含んでいてもよい。
【００５７】
書込モノマーは、光開始重合が可能な化合物であってもよい。これらは、カチオンおよびアニオン重合可能な化合物およびさらにフリーラジカル重合可能な化合物である。フリーラジカル重合性化合物が特に好ましい。好適なクラスの化合物の例は、不飽和化合物、例えば（メタ）アクリレート、α、β−不飽和カルボン酸誘導体、例えばマレエート、フマレート、マレイミド、アクリルアミドおよびさらにビニルエーテル、プロペニルエーテル、アリルエーテルおよびジシクロペンタジエニルユニットを含有する化合物であり、およびさらにオレフィン性不飽和化合物、例えばスチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエンおよび／またはオレフィンを含むまたはこれらからなる。さらに、チオエン反応性化合物、例えば、チオールおよび活性化二重結合をフリーラジカル重合させることもできる。
【００５８】
ウレタン（メタ）アクリレートも特に好ましい書込モノマーとして使用できる。
【００５９】
書込モノマーは、１つ以上のウレタン（メタ）アクリレートを含むかまたはそれらからなることが非常に特に好ましい。
【００６０】
本明細書におけるウレタン（メタ）アクリレートは、少なくとも１つのアクリル酸エステルまたはメタクリル酸基ならびに少なくとも１つのウレタン結合を有する化合物である。この種の化合物は、例えば、ヒドロキシ官能性（メタ）アクリレートをイソシアネート官能性化合物と反応させることによって得ることができる。
【００６１】
この目的に使用できるイソシアネート官能性化合物の例は、モノイソシアネート、およびａ）に記載のモノマー性ジイソシアネート、トリイソシアネートおよび／またはポリイソシアネートである。好適なモノイソシアネートの例は、フェニルイソシアネート、異性体メチルチオフェニルイソシアネートである。ジ−、トリ−またはポリイソシアネートは上記で記述されており、さらにウレタン、尿素、カルボジイミド、アシルウレア、イソシアヌレート、アロファネート、ビウレット、オキサジアジントリオン、ウレトジオン、イミノオキサジアジンジオン構造およびそれらの混合物を有するトリフェニルメタン４，４’，４’’−トリイソシアネートおよびトリス（ｐ−イソシアナトフェニル）チオホスフェートまたはその誘導体も上記で言及されている。芳香族ジ、トリまたはポリイソシアネートが好ましい。
【００６２】
ウレタンアクリレートの調製に有用なヒドロキシ官能性アクリレートまたはメタクリレートとしては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ポリエチレンオキシドモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレンオキシドモノ（メタ）アクリレート、ポリアルキレンオキシドモノ（メタ）アクリレート、ポリ（ε−カプロラクトン）モノ（メタ）アクリレート、例えばＴｏｎｅ（登録商標）Ｍ１００（Ｄｏｗ，Ｓｃｈｗａｌｂａｃｈ，ＤＥ）、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシ−２，２−ジメチルプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、多価アルコール、例えばトリメチロールプロパン、グリセロール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、エトキシル化、プロポキシル化またはアルコキシル化トリメチロールプロパン、グリセロール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトールまたはそれらの工業混合物のヒドロキシ官能性モノ−、ジ−またはテトラアクリレートが挙げられる。２−ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレートおよびポリ（ε−カプロラクトン）モノ（メタ）アクリレートが好ましい。
【００６３】
トリス（ｐ−イソシアナトフェニル）チオホスフェートおよび／またはｍ−メチルチオフェニルイソシアネートと、アルコール官能性アクリレート、例えばヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレートおよび／またはヒドロキシブチル（メタ）アクリレートとの反応から得ることができるウレタン（メタ）アクリレートが特に好ましい。
【００６４】
また、１分子当たり２つ以上のフリーラジカル重合性基を有する書込モノマー（多官能性書込モノマー）として化合物を用いることも好ましい。これらは、単独で、または１分子当たりフリーラジカル重合可能な基を１つだけ有する書込モノマーと組み合わせて使用することができる。
【００６５】
したがって、好ましくは、書込モノマーは、少なくとも１つの単官能性および／または１つの多官能性（メタ）アクリレート書込モノマーを含んでいてもよくまたはそれらからなってもよい。より好ましくは、書込モノマーは、少なくとも１つの単官能性および／または１つの多官能性のウレタン（メタ）アクリレートを含むかまたはそれらからなってもよい。書込モノマーは、少なくとも１つの単官能性ウレタン（メタ）アクリレートおよび少なくとも１つの多官能性ウレタン（メタ）アクリレートを含むかまたはそれらからなることが非常に特に好ましい。
【００６６】
適切な（メタ）アクリレート書込モノマーは、特に一般式（Ｉ）の化合物である：
【化１】
2018506067.tif 000003
【００６７】
式中、ｔ≧１およびｔ≦４であり、Ｒ１０１が線状、分岐状、環状または複素環式の非置換あるいはヘテロ原子で置換されていてもよい有機部分であり、および／またはＲ１０２は、水素、線状、分枝状、環状または複素環式の非置換あるいはヘテロ原子で置換されていてもよい有機部分である。より好ましくは、Ｒ１０２は水素またはメチルであり、および／またはＲ１０１は非置換あるいはヘテロ原子で置換されていてもよい線状、分枝状、環状または複素環式有機部分である。
【００６８】
光開始剤系は、少なくとも１つの光開始剤を含む。
【００６９】
この場合の光開始剤は、化学線により活性化可能な化合物であり、これは書込モノマーの重合を引き起こすことができる。光開始剤の場合、単分子（タイプＩ）開始剤と二分子（タイプＩＩ）開始剤とを区別することができる。加えて、それらはフリーラジカル、アニオン性、カチオン性または混合タイプの重合のための光開始剤としてのそれらの化学的性質によって区別される。
【００７０】
本発明の文脈において、タイプＩＩ光開始剤の使用が好ましい。したがって、好ましい一実施形態では、光開始剤系は、可視スペクトルを吸収する増感剤および共開始剤からなり、共開始剤は、好ましくは、ボレート共開始剤であってもよい。
【００７１】
この種の光開始剤は、原則として欧州特許出願公開第０２２３５８７Ａ号明細書に記載されており、好ましくは１つ以上の染料と（１または複数の）アルキルアリールボレートアンモニウムとの混合物からなる。
【００７２】
光開始剤系が、その吸収スペクトルが少なくとも部分的に４００〜８００ｎｍのスペクトル範囲をカバーする染料の組み合わせを含み、少なくとも１つの共開始剤が染料に適合している場合が最も好ましい。
【００７３】
さらに好ましい実施形態では、フォトポリマー層はフルオロウレタンを含み、ここでこれらは好ましくは式（ＩＩ）に適合する化合物であってもよい
【化２】
2018506067.tif 000004
【００７４】
式中、ｎ≧１およびｎ≦８であり、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３がそれぞれ独立して水素または線状、分枝状、環状または複素環式の非置換あるいはヘテロ原子で置換されていてもよい有機部分であり、ここでＲ１、Ｒ２およびＲ３の少なくとも１つは、少なくとも１つのフッ素原子で置換されており、より好ましくはＲ１は少なくとも１つのフッ素原子を有する有機部分である。
【００７５】
ホログラフィック光学素子は、平面、球状または円筒形状を有していてもよい。非球状の形状を使用することも可能である。自由形状の形状を使用することも可能である。
【００７６】
これらの形態は様々な方法で提供されてもよい。例えば、ホログラフィック記録材料は、コーティング操作、例えばディップコーティング、スプレーコーティング、スピンコーティングによって造形基材に適用されてもよい。これらの方法に関して有利なことは、ホログラフィック露光がこれらの幾何学形状を用いて直接行われ得ることである。
【００７７】
平面基材の場合、コーティングバー、スロットコーティング適用方法を使用して基材をフィルム加工することができる。次の工程では、次いでホログラフィック露光を行い、次に造形方法を使用して造形フィルム体を得ることが可能である。
【００７８】
ホログラフィック光学素子としての造形フィルム体は、特に、本発明による方法を用いて製造された光学鋳造物の非常にコンパクトな形態が得られるべきである場合は重要である。平面ホログラフィック光学素子の製造はロールツーロール操作で効率的に実施できるので、平面ホログラフィック光学素子を使用することが好ましい。この場合、ホログラフィック光学素子はまた光学鋳造物の全領域の一部のみを満たしてもよく、こうしてホログラフィック記録材料のフィルムを、適切な場合には光軸に対して直角での投影領域の観点から選択し、モールドセクションの第１の表面または第２の表面とちょうど同じ大きさにすることが望ましい。平面ホログラフィック光学素子は、ホログラフィック記録材料の部分領域のみを満たす；この場合残りの領域を造形することができる。
【００７９】
ホログラフィック光学素子を、形状、例えば球形、非球形で使用することも可能である。モールドセクションの第１および第２の表面の同じ形状を使用することが特に好ましい。ホログラフィック素子は、造形前にホログラフィック記録材料に露光されてもよい。この場合、露光の後の形状を考慮することが重要である。特定の光学機能（例えば、光ノッチフィルタの場合、すなわち軸上反射ホログラム）の場合、造形を介して制御された方法で光学機能を調整するために造形が望ましい場合もある。選択された一軸造形の場合、そのような方法は特別な選択肢である。
【００８０】
この目的のための典型的な造形方法は、ホログラフィック記録材料の基材の選択に慣例のものである。フィルムは、深絞り法、例えば熱成形または高圧成形法（ＨＰＦ）で造形することができる。
【００８１】
ホログラフィック光学素子はまた、オリフィスまたは開口部またはスロットを含んでいてもよく、これはホログラフィック記録方法のフィルムが光学物品の全領域を満たす場合に特に有利である。この場合、オリフィスは、とりわけ、材料の流れを可能にするために、または完全充填の場合のガス補填のために、鋳造材料による鋳造モールドの内部容積の均一な充填に役立つ。これらのオリフィスは、後の処理工程（例えば、対応する領域が除去される切断または研削操作によって）で再び除去され得るので、ホログラフィック光学素子の外縁にあることが好ましい。
【００８２】
さらに、ホログラフィック光学素子は光学層構造に一体化でき、この層構造は、光が層構造にインプットされることができ、層構造の層の範囲に沿って伝播することができ、少なくとも１つのホログラフィック光学素子を介して周囲の光学鋳造物から発光できるように構成される。好ましくは、光学層構造は、光が全反射によって光学ホログラフィック素子の横方向に伝搬できるように構成することができる。この目的のために、少なくとも１つのホログラフィック光学素子を含む層構造の外層の屈折率は、ホログラフィック光学素子を含むフォトポリマー層の屈折率および任意の別個のライトガイド層の屈折率より低くなければならない。したがって、ホログラフィック光学素子の縁部を通して光または画像情報を導入でき、ホログラフィック光学素子を介して制御された方法でそれを抽出することが特に可能である。
【００８３】
有利には、ホログラフィック光学素子が存在するライトガイドを使用することも可能である。この種の構造はまた、全反射を可能にするために、低屈折率の外層を有する。ホログラフィック光学素子が平面形態を有することが有利であり得る。くさび形の幾何学形状も可能である。他の狭小な幾何学形状を使用してもよい。特に有利な実施形態では、ホログラフィック光学素子は、鋳造モールドの内部容積から突き出る光インプット構成要素を含むと同時に、抽出機能構成要素は鋳造モールド内に存在するか、または鋳造物内の後の段階で存在する。２つのホログラフィック光学素子はライトガイドを介して光学的に接触すると同時に、ホログラフィック光学素子のインプット構成要素を介して導入され、ホログラフィック光学素子の抽出構成要素を介して放出される光のライトガイドにおいて内部全反射を可能にするために、隣接する層は特に低屈折率である。特に好ましい変形例では、ホログラフィック光学素子のインプットおよび抽出構成要素は、同一のホログラフィック記録材料に存在する２つの別々に露光された体積ホログラムである。
【００８４】
ホログラフィック光学素子は、反射、透過、インライン、オフアクシス、全開口トランスファ、白色光透過、デニシューク、オフアクシス反射またはエッジリットホログラム、あるいはホログラフィックステレオグラム、好ましくは反射、透過またはエッジリットホログラムであってもよい。
【００８５】
ホログラムの可能な光学機能は、レンズ、ミラー、偏向ミラー、フィルタ、ディフューザレンズ、指向性拡散素子、指向性ホログラフィックディフューザ、回折素子、ライトガイド、導波路、インプット／抽出素子、投影レンズおよび／またはマスクのような光素子の光学機能に対応する。さらに、そのような複数の光学機能は、例えば、光の入射に応じて光が異なる方向に偏向されるように、このようなホログラムに組み合わされ得る。例えば、このような構造では、オートステレオスコピックまたはホログラフィック電子ディスプレイを構築することが可能である。さらに、自動車のヘッドアップディスプレイまたはヘッドマウントディスプレイを実現することが可能である。このように、本発明による方法によって製造された光学鋳造物を、矯正眼鏡またはサングラスおよび他の視覚補助具および眼鏡に使用することも同様に可能である。
【００８６】
これらのホログラフィック光学素子は、しばしば、ホログラムがどのように露光されたか、およびホログラムの寸法に応じて、特定の周波数選択性を有する。これは、ＬＥＤやレーザ光などの単色光源を使用する場合に特に重要である。例えば、周波数選択的に光を偏向させると同時にフルカラーヘッドアップディスプレイを可能にするために、補色（ＲＧＢ）ごとに１つのホログラムが必要とされる。したがって、２つ以上のホログラムがフォトポリマー層に互いに内部で露光されなければならない特定のディスプレイ設定が存在する。
【００８７】
さらに、例えば個人肖像、機密文書の生体認証表示のホログラフィック像またはホログラフィック表示、あるいは、一般的に広告用の画像または画像構造、セキュリティーラベル、ブランド保護、ブランディング、ラベル、デザイン要素、装飾、イラスト、コレクション用カード、画像など、ならびにデジタルデータを表すことができる画像などのホログラフィック像またはホログラフィック表示を生成でき、あるいはホログラフィック光学素子において上記の組み合わせを光学鋳造物に一体化できる。ホログラフィック画像は、３次元画像の印象を有することができるが、それらが照明される光源からの角度およびこの光源（移動する光源を含む）に従って、画像シーケンス、ショートフィルムまたは多数の異なる対象物を表し得る。これらの様々な設計オプションのために、本発明の方法によって製造された光学鋳造物は、上述の用途のための実行可能な解決策を示す。このようなホログラムを、種々広範な異なる露光方法（シフト、空間または角度多重化）を使用してデジタルデータの記憶に使用することも可能である。
【００８８】
本発明による方法によって製造された光学鋳造物はまた、液晶、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）、ＬＥＤディスプレイパネル、回折光選択に基づく微小電気機械システム（ＭＥＭＳ）、エレクトロウェッティングディスプレイ（Ｅ−インク）およびプラズマディスプレイスクリーンに基づく光学ディスプレイのために使用できる。この種の光学ディスプレイは、オートステレオスコピックおよび／またはホログラフィックディスプレイ、透過および反射投影スクリーン、プライバシーフィルタおよび双方向マルチユーザスクリーンのための切り替え可能な制限発光特性を有するディスプレイ、仮想ディスプレイ、ヘッドアップディスプレイ、ヘッドマウントディスプレイ、照明シンボル、警告灯、信号灯、投光照明、および表示パネルであってもよい。
【００８９】
鋳造材料は、１パックあるいはマルチパック、例えば２パックの鋳造システムを含む。
【００９０】
本発明によれば、鋳造キャビティ、すなわち鋳造モールドの内部容積への導入時の鋳造材料は、２５℃で１０００００ｍＰａｓ未満の粘度を有する。有利には、粘度は５０００ｍＰａｓ未満、好ましくは５００ｍＰａｓ未満、より好ましくは１００ｍＰａｓ未満である。
【００９１】
鋳造材料は、少なくとも１つの官能基を有する１つ以上のモノマーおよび／またはオリゴマーを含む。これらの官能基は：アクリロイル、メタクリロイル、ビニル、アリル、イソシアネート、イソチオシアネート、アルコール、酸、オキシラン、チイラン、チオールおよびアミンの１つであってもよく、イソシアネートおよびアリル官能基が特に好ましく、イソシアネート官能基が非常に特に好ましい。
【００９２】
ここでの鋳造システムは、例えば、ジエチレングリコールビス（アリルカーボネート）（ＣＲ３９、アリルジグリコールカーボネートＡＤＣ）に基づくものであってもよい；またＦ．Ｓｔｒａｉｎ，ｉｎ「Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ  ｏｆ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ  ａｎｄ  Ｄｅｓｉｇｎ」，１ｓｔ  Ｅｄ．，Ｄｅｋｋｅｒ  Ｉｎｃ．ＮＥＷ  Ｙｏｒｋ，Ｖｏｌ．１１，ｐ．４３２ｆｆを参照し、これらは過酸化物によって熱硬化性である。さらに、エタクリレート、メタクリレートおよびアクリレート、スチレン、酢酸ビニル、アクリロニトリルおよび他のフリーラジカル重合性モノマーをＡＤＣの有無にかかわらず混合および重合することも可能である。
【００９３】
ポリウレタン系も好適であり、イソシアネート官能性部分およびイソシアネートと反応する成分からなる。
【００９４】
適切なイソシアネートは脂肪族イソシアネート、例えばヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）、３−イソシアナトメチル−３，５，５−トリメチルシクロヘキシルイソシアネート（ＩＰＤＩ）、４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネート）（Ｈ１２ＭＤＩ）、メチルシクロヘキサン−２，４−ジイソシアネート、メチルシクロヘキサン−２，６−ジイソシアネート、１，３−または１，４−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン（Ｈ６ＸＤＩ）、およびビス（イソシアナトメチル）ノルボルナン（ＮＢＤＩ）、ならびにアラルキルイソシアネート、例えばキシリレン１，３−または１，４−ジイソシアネート（ＸＤＩ）およびさらにテトラメチルキシリレンジイソシアネート（ＴＭＸＤＩ）に基づくものである。同時に、モノマー性ジイソシアネートおよびそのオリゴマーを使用することも可能である。異なるジイソシアネートおよび異なるオリゴマーの相互または互いの混合物も可能である。混合オリゴマー、すなわち２つ以上の異なるジイソシアネートからなるオリゴマーも使用可能である。オリゴマーは、ウレタン、尿素、カルボジイミド、アシルウレア、アミド、イソシアヌレート、アロファネート、ビウレット、オキサジアジントリオン、ウレトジオンおよび／またはイミノオキサジアジンジオン構造の形成を伴う２つ以上のジイソシアネートから調製できる対応する生成物を意味すると理解される。同様に、例えばＭｗ＝５０００未満、好ましくはＭｗ＝２０００未満の分子量を有するポリエーテル、ポリエステル、ポリカーボネートに基づく低分子量のジ−、トリ−またはポリオールを反応させることによってイソシアネート官能性プレポリマーと呼ばれるものを製造することも可能であり、上記ジイソシアネートをイソシアネート過剰量で用いる。ジイソシアネートと反応する成分は、ポリオール、例えばポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリアクリレートポリオール、エポキシポリオール、天然脂肪酸系ポリオール、シリコーンポリオール、フッ素化ポリオールおよびポリオレフィンポリオールである。これらも一緒にまたは単独で使用されてもよい。
【００９５】
ポリエーテルポリオールは、一般にスタータとしての低分子量アルコールまたは水／水酸化物イオンによる触媒プロセスによって調製されるポリプロピレンポリオール、ポリエチレンオキシドポリオール、Ｃ−４エーテルポリオール（ポリＴＨＦポリオール）であってもよい。
【００９６】
イソシアネートと反応する成分として、（ジ）アミン、例えばＪｅｆｆａｍｉｎｅｓ（Ｈｕｎｔｓｍａｎ  Ｉｎｔ，ＬＬＣ，Ｓａｌｔ  Ｌａｋｅ  Ｃｉｔｙ，ＵＴ，ＵＳＡ）、Ｄｅｓｍｏｐｈｅｎ  ＮＨ（Ｂａｙｅｒ  ＭａｔｅｒｉａｌＳｃｉｅｎｃｅ  ＡＧ，Ｌｅｖｅｒｋｕｓｅｎ，Ｇｅｒｍａｎｙ）を使用することもできるだけでなく、芳香族アミン、例えば２，４−および２，６−ジアミノ−３，５−ジエチルトルエン（Ａｌｂｅｍａｒｌｅ  Ｃｏｒｐ，Ｂａｔｏｎ  Ｒｏｕｇｅ，ＬＡ，ＵＳＡからのＥｔｈａｃｕｒｅ  １００）またはジメチルチオトルエンジアミン（Ａｌｂｅｍａｒｌｅ  Ｃｏｒｐ，Ｂａｔｏｎ  Ｒｏｕｇｅ，ＬＡ，ＵＳＡからのＥｔｈａｃｕｒｅ  ３００）、およびモノ−およびポリ−メチル−、−エチル−、および／または−イソプロピル−置換メチレンジフェニルアミン（Ｌｏｎｚａ  Ｌｔｄ．，Ｂａｓｌｅ，ＳｗｉｔｚｅｒｌａｎｄからのＬｏｎｚａｃｕｒｅ）を使用することもできる。
【００９７】
市販のポリウレタン鋳造材料は、例えばＢＡＹＴＥＣ（登録商標）ＯＣＳ  ０８０Ｄ（Ｂａｙｅｒ  ＭａｔｅｒｉａｌＳｃｉｅｎｃｅ  ＬＬＣ，Ｐｉｔｔｓｂｕｒｇｈ，ＰＡ，ＵＳＡ）、Ｔｒｉｖｅｘ（ＰＰＧ，Ｐｉｔｔｓｂｕｒｇ，ＰＡ，ＵＳＡ）である。
【００９８】
イソシアネートと反応する成分がポリチオールであるチオポリウレタン系も同様に適している。
【００９９】
４つまでのポリチオールによって錯体形成されたケイ素、スズおよびジルコニウム化合物を使用することも可能である（米国特許出願公開第２００８／２７１９８号明細書）。
【０１００】
鋳造システムは、任意に１つ以上の触媒を含有してもよい。イソシアネート付加反応を促進する触媒は、特にここでは関係している可能性がある。適切な触媒は、スズ、亜鉛、ジルコニウム、ビスマスおよびチタンならびにアミンをベースとする触媒である。これらの例は、オクタン酸スズ、オクタン酸亜鉛、ブチルスズトリスオクトエート、ジブチルスズジラウレート、ジメチルビス［（１−オキソネオデシル）オキシ］スタンナン、ジメチルスズジカルボキシレート、ジルコニウムビス（エチルヘキサノエート）、ジルコニウムアセチルアセトネートまたは第３級アミン、例えば１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、ジアザビシクロノナン、ジアザビシクロウンデカン、１，１，３，３−テトラメチルグアニジン、１，３，４，６，７，８−ヘキサヒドロ−１−メチル−２Ｈ−ピリミド（１，２−ａ）ピリミジンである。使用される触媒はまた無機スズ含有触媒であってもよい。この種の触媒は、酸素、硫黄および窒素の群からのヘテロ原子を含有していてもよい、飽和または不飽和、線状または分枝状、脂肪族または脂環式または置換されていてもよい芳香族または芳香脂肪族ラジカルから錯体を形成する環式スズ化合物であってもよい、例えば４，１２−ジブチル−２，６，１０，１４−テトラメチル−１，７，９，１５−テトラオキサ−４，１２−ジアザ−８−スタンナスピロール［７．７］ペンタデカン、４，１２−ジブチル−１，７，９，１５−テトラオキサ−４，１２−ジアザ−８−スタンナスピロール［７．７］ペンタデカン、４，１２−ジメチル−１，７，９，１５−テトラオキサ−４，１２−ジアザ−８−スタンナスピロール［７．７］ペンタデカン、２，４，６，１０，１２，１４−ヘキサメチル−１，７，９，１５−テトラオキサ−４，１２−ジアザ−８−スタンナスピロール［７．７］ペンタデカン、および２，２−ジクロロ−６−メチル−１，３，６，２−ジオキシアザスタンノカン（ｄｉｏｘａｚａｓｔａｎｎｏｃａｎｅ）。脂肪酸のビスマスおよび亜鉛塩、例えばステアレート、ネオデカノエートおよびバーサテート、テトラアルキルチタネート、例えばテトラエチルチタネートまたはテトラブチルチタネートを使用することも可能である。
【０１０１】
さらに、離型剤、可塑剤、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、チキソトロピー剤、増粘剤、帯電防止剤、反応抑制剤、乾燥剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、安定剤などの添加剤を添加することもできる。
【０１０２】
鋳造システムは、室温でいくつかの成分から混合してもよい。これは１．５〜０．７、好ましくは１．３〜０．９のＮＣＯ：ＯＨ当量比を用いて行われる。次いで、混合物を鋳造モールドに導入し、その中で１５０℃まで、好ましくは１３０℃まで０．５〜４８時間、好ましくは１〜２４時間加熱する。加熱は有利には段階的に行うことができる；例えば、４０〜１００℃への第１の加熱およびこの温度での熱処理は、最適な充填を達成するのに適している。その後、良好なスルー硬化を得るために、後の段階で最高温度まで加熱する。２を超える温度保持時間または徐々に連続した（例えば線形の）加熱を使用することも可能である。硬化に続いて、典型的には室温で徐々に冷却する。最も高い硬化温度より低い温度で熱処理工程を選択することも可能である。モールドが冷却された場合、鋳造モールドから成形物を除去することができる。
【０１０３】
鋳造モールドは手動で充填してもよく、あるいは自動化方法、例えば反応性射出成形（ＲＩＭ）、反応性トランスファ成形（ＲＴＦ）によって充填してもよい。後者については、他の材料、好ましくは金属（例えば、ステンレス鋼だけでなく、鉄、ニッケル、銅、アルミニウム、クロム、銀、金、またはそれらの合金）から鋳造モールドを製造することも可能である。２つのモールドセクションのうちの少なくとも１つがスリーブを有する場合、これは同様に金属から製造することができる。
【０１０４】
混合は、攪拌ツール、スタティックミキサー、高速移動容器などを用いて行うことができる。鋳造システムを脱気することも有利である。この目的のために、減圧を適用することができ、および／または表面積を、泡の形成を回避する、落下膜によって増加させることができる。
【０１０５】
本発明のさらなる態様は、請求項１から１３のいずれかに記載の方法によって製造された、少なくとも１つのホログラフィック光学素子を含む光学鋳造物に関する。
【０１０６】
光学鋳造物は、回折光学透明部品、屈折および回折ハイブリッド光学部品およびレンズに使用することができる。故に、光学素子、例えば非球状レンズ、一体化レンズシステムおよびモジュール、回折光学系およびフレネルレンズ、オフアクシス放物面鏡、円柱レンズ、屈折率分布レンズ（ＧＲＩＳＭ）、内部全反射レンズ（ＴＩＲ）、プリズム、反射光学系、ミラーおよびキュービック光学系、レンズアレイおよびモスアイ光学系、光学コンバイナ、自由形状光学系、コリメートレンズ、格子構造は、光学性能に関して改善でき、よりコンパクトな形態で構築され、またはさらなる光学機能によって拡張され得る。ホログラフィック素子を有し、本発明の方法によって製造された光学鋳造物の光学機能は、２つの独立して利用可能な光学機能（すなわち、鋳造モールドによって決定される屈折機能およびホログラフィック光学素子によって決定される回折機能）を含んでいてもよい。同様に、２つの機能が互いに相乗的に接続されていることも可能である。例えば、回折系を用いて屈折系の結像誤差を補償することが可能である。これらは、単色誤差（球面収差、非点収差、コマ収差、像面湾曲および歪曲）、色収差（横方向および軸方向の色誤差、ガウス誤差）、エッジ光の減衰およびビネッティングであってもよい。
【０１０７】
さらに、光学鋳造物は、すなわち２つのモールドセクションの第１および第２の表面の設計に従って平坦である光学鋳造物の特定の光学機能のために使用できる（屈折光学機能を有さない可能性としての使用を含む）。したがって、ビームシェイパ、例えばトップハットシェイプビームシェイパ、安定トップビームシェイパ、ホモジナイザ／ディフューザ、楕円ディフューザ、ボルテックスレンズ、マルチスポット素子、ビームサンプラー素子、マルチフォーカス素子、回折限界集束素子、収色性補正器、平面レンズ、乱視矯正器、いくつかの波長の色補正器を実現することが可能である。
【０１０８】
本発明のさらなる態様は、請求項１４に記載の光学鋳造物を含む、眼鏡、例えば矯正眼鏡、遠近両用眼鏡、三焦点眼鏡および遠近両用眼鏡（ｖａｒｉｉｆｏｃａｌ  ｇｌａｓｓｅｓ）、ディスプレイスクリーン作業および運転のための矯正眼鏡、サングラス、偏光機能を有する眼鏡、保護眼鏡、機能性眼鏡、拡張現実のために設置された電子ディスプレイを有する眼鏡またはデータ眼鏡、自動車フロントヘッドランプまたは後退灯、顕微鏡、投光照明、懐中電灯、カメラおよびスマートフォン用の写真レンズ、（電子）プロジェクタの投影光学系、発光ダイオードおよびレーザの二次光学系、ＬＥＤランプ、照明および電子イメージセンサ用の修正光学系に関する。
【０１０９】
本発明は、図面を参照して以下に詳細に説明される。図は以下を示す：
【図面の簡単な説明】
【０１１０】
【図１】異なるように構成されたモールドセクションを有する３つの異なる鋳造モールドを示し、モールドセクションの一方はスリーブを備える図である。
【図２】第１の構成のホログラフィック光学素子を有する光学鋳造物を製造する方法を示す図である。
【図３】第２の構成のホログラフィック光学素子を有する光学鋳造物を製造する方法を示す図である。
【図４】第３の構成のホログラフィック光学素子を有する光学鋳造物を製造する方法を示す図である。
【図５】対応して造形されたモールドセクションによって形成された凹面および凸面、ならびに平面構造を有するホログラフィック光学素子を有する鋳造モールドおよびそれから得ることができる光学鋳造物を示す図である。
【図６】凹面および凸面を有し、平面構造を有するホログラフィック光学素子およびこれに接続されたさらなるフィルムセクションを有する鋳造モールドならびにそれから得ることができる光学鋳造物を示す図である。
【図７】凹面および凸面を有し、オフセット構造を有するキャリア上に平面ホログラフィック光学素子を有する鋳造モールド、ならびにそれから得ることができる光学物品を示す図である。
【図８】凹面および凸面を有し、球形のホログラフィック光学素子を有する鋳造モールドおよびそれから得ることができる光学鋳造物を示す図である。
【図９】凹面および凸面を有し、球形のホログラフィック光学素子を有する鋳造モールド、ならびにそれから得ることができる近視の矯正のための光学物品を示す図である。
【図１０】凹面および凸面を有し、球形のホログラフィック光学素子を有する鋳造モールド、ならびにそれから得ることができる遠視の矯正のための光学鋳造物を示す図である。
【図１１】凹面および凸面を有し、くさび形構造を有するホログラフィック光学素子を有する鋳造モールド、ならびにそれから得ることができる光学鋳造物と示す図である。
【図１２】凹面および凸面を有し、ライトガイド上に配置されたホログラフィック光学素子を含む層構造を有する鋳造モールド、ならびにそれから得ることができる光学鋳造物を示す図である。
【図１３】鋳造物に部分的に突出する層構造を有し、ライトガイド上に配置された２つのホログラフィック光学素子を含む光学鋳造物を示す図である。
【図１４】凹面および凸面を有し、鋳造物の光軸に対してある角度で位置合わせされたホログラフィック光学素子を有する鋳造モールド、ならびにそれから得ることができる光学鋳造物、さらにこの光学鋳造物の機能図を示す図である。
【図１５】第４の構成のホログラフィック光学素子を有する光学鋳造物を製造する方法を示す図である。
【図１６】第５の構成のホログラフィック光学素子を有する光学鋳造物を製造する方法を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【０１１１】
図１ａは、第１のモールドセクション１０および第２のモールドセクション２０から形成された鋳造モールド３０を示す。この鋳造モールドは、鋳造キャビティ４０を取り囲んでいる。第１のモールドセクション１０は、鋳造キャビティ４０に面した、本例では凹状の第１の表面１０．１と、例えばＰＶＣまたはゴムなどのプラスチックから製造されたスリーブ１０．２とを含む。同様に、第２のモールドセクション２０は、鋳造キャビティ４０に面した凸面を含み、ここでは第２の表面２０．１と呼ばれる。スリーブ１０．２によって、第１のモールドセクション１０を第２のモールドセクション２０にしっかりと接続することができる。２つのモールドセクション１０、２０は、適切な金属材料から、あるいはガラスから製造されてもよい。
【０１１２】
鋳造材料の導入のために、スリーブ１０．２は充填オリフィス５を有する。さらに、図１ａは、鋳造モールド３０の正面図を示す。したがって、鋳造モールド３０は、この観察方向において球状である。例えば楕円形、長方形、正方形または任意の他の多角形、または自由形状のような他の幾何学形状を実施することもできることは理解される。
【０１１３】
図１ａの鋳造モールド３０とは対照的に、図１ｂに示す鋳造モールド３１の第２のモールドセクション２１は、同様に、凹状の第２の表面２１．１を有する。図１ｃは、第２のモールドセクション２２の第２の表面２２．１が平面形状を有する鋳造モールド３２を示す。
【０１１４】
図２は、第１の実施形態における鋳造操作によるホログラフィック光学素子を含む光学鋳造物の製造方法を示す。工程ａ）によればモールドセクションが提供され、本例では、図１ａの凸状の第２の表面２０．１を有する第２のモールドセクション２０が提供される。続いて、工程ｂ）において、第２のモールドセクション２０に接着剤小滴２０．２を与える。工程ｃ）において、ホログラフィック光学素子９０が接着剤小滴２０．２上に配置され、位置合わせされる。工程ｄ）において、表面１０．１、接着剤小滴２０．２およびホログラフィック光学素子９０を有する第２のモールドセクション１０を、図１ａの第１のモールドセクション１０のスリーブ１０．２に接続して、鋳造キャビティ４０を有する鋳造モールド３０を形成する。工程ｅ）において、鋳造材料７は、計量システム１３によって充填オリフィス５を介して導入される。使用される鋳造材料は、１パックあるいはマルチパック、例えば２パックの鋳造システムであってもよく、鋳造キャビティ４０への導入時のこの鋳造材料は、２５℃で１０００００ｍＰａｓ未満の粘度を有する。
【０１１５】
工程ｆ）では、鋳造材料が硬化され、次に鋳造モールド３０が解体される。これにより、工程ｇ）に示す光学鋳造物５０が得られる。この鋳造物は、第１の凸面５０．１と第２の凹面５０．２とを有し、その内部容積にホログラフィック光学素子９０を含む。
【０１１６】
図３は、少なくとも１つの鋳造操作によって少なくとも１つのホログラフィック光学素子を含む光学鋳造物を製造する方法のさらなる実施形態を説明する。工程ａ）において、鋳造モールド３０が提供され、これは、第１の表面１０．１と、鋳造材料用の充填オリフィス５を備えたスリーブ１０．２を含む第１のモールドセクション１０および第２の表面２０．１を有する第２のモールドセクション２０を含む。鋳造モールド３０内には、表面１０．１とスリーブ１０．２との間に配置され、位置合わせされたフィルムセクション１４の一部であるホログラフィック光学素子９１が配置される。このフィルムセクション１４は、その４つのコーナーセクションがスリーブ１０．２（これは本例では再び球形である）と第１の表面１０．１との間に固定されるように長方形として構成されている。フィルムセクション１４は、例えば、部分的に露光されたホログラフィック記録フィルムのセクションであってよく、ホログラフィック光学素子９１がその中央に配置される。フィルムセクション１４はさらに、フィルムセクション１４を化学的および／または機械的影響から保護するさらなるフィルムおよび／または保護ラッカー層（図示せず）を有していてもよい。工程ｂ）において、鋳造モールド３０は、計量システム１３によって鋳造材料７で完全に充填され、鋳造材料は、工程ａ）の断面図から明らかなように、鋳造モールド３０の完全な充填のために長方形のフィルムセクション１４の側面の周りを流れることが可能である。鋳造材料は、工程ｃ）で硬化され、工程ｄ）で脱型され、光学鋳造物５１が得られる。
【０１１７】
図４は、鋳造操作によって少なくとも１つのホログラフィック光学素子を含む光学鋳造物を製造する方法のさらなる実施形態を説明する。図３に関連して説明した方法変形例の場合と同様に、ホログラフィック光学素子９２も同様に、第１のモールドセクション１０の表面１０．１とスリーブ１０．２との間に固定され、したがって、鋳造モールド３０内に配置され、位置合わせされる。明らかなように、ホログラフィック光学素子９２を有する鋳造モールドが同様に提供され、このホログラフィック光学素子は、ここでは平面であり、第１のモールドセクション１０の第１の表面１０．１およびスリーブ１０．２と同心であるように構成されて（工程ａ））、こうしてそれが、スリーブ１０．２と第１の表面１０．１との間の円周セクションで固定され、第１の表面１０．１を完全に覆う。したがって、ホログラフィック光学素子９２に提供された２つのオリフィス９２．１は、ホログラフィック光学素子９２と第１の表面１０．１との間の容積部分にも同様に鋳造材料７を流すことができ（工程ｂ））、したがって、鋳造モールド３０の完全な充填が可能である。工程ｂ）では、次いで計量システム１３を使用して、鋳造材料７を充填オリフィス５を通して鋳造モールド３０の内部容積に導入し、ホログラフィック光学素子９２のオリフィス９２．１は、上述のように鋳造モールド３０の完全な充填を可能にする。工程ｃ）では、鋳造材料７の硬化が行われ、工程ｄ）において、鋳造モールドが除去され、光学鋳造物５２が得られる。
【０１１８】
以下の図５〜図１４は、ホログラフィック光学素子がその中に配置され、位置合わせされたさらなる鋳造モールドと、それから得ることができる光学鋳造物を示す。
【０１１９】
図５は、第１のモールドセクション１０のスリーブ１０．２内に調製された溝１７によるホログラフィック光学素子９３の配置および位置合わせを示す。溝１７は、図４の構成によるホログラフィック光学素子が使用される場合には、スリーブ１０．２の内周面全体に沿って連続的に延びる溝の形態をとることができ、あるいは、領域の一部のみのホログラフィック光学素子が使用される場合（例えば、図３の工程ａ、正面図参照）、スリーブ４の部分領域のみを含んでいてもよい。この実施形態は、研削法による次の再加工が光学鋳造物５３の平坦な外側の両方に意図されている場合、ひいてはホログラフィック光学素子９３からの外側の距離がより大きくなる必要がある場合に特に適している。
【０１２０】
図６は、図５と同様に、スリーブ２０．１内に調製された溝１７内のホログラフィック光学素子９４の配置および位置合わせを示す。ホログラフィック光学素子９４は、さらなる保護フィルムおよび機能性フィルムを含む多層構造である。例えば、これらの保護フィルムおよび機能性フィルムは、偏光子フィルム、カラーフィルム、デザインフィルム、ＵＶ保護フィルム、フォトクロミックフィルム、あるいはそれらの組み合わせであってもよい。
【０１２１】
図７は、平面ホログラフィック光学素子９５を有する鋳造物５５および鋳造モールド３０を示し、この素子は、例えば、熱成形または高圧成形法（ＨＰＦ）によって予め形成され、上記形成の結果としてオフセット構造を有するフィルムセクション９５．１に適用される。フィルムセクション９５．１は、スリーブ１０．２と第１の表面１０．１との間に順番に配置され、位置合わせされる。
【０１２２】
図８は、同様に球形に湾曲して予備形成されたフィルムセクション９６．１に平坦に適用された、または熱成形またはＨＰＦ法によって形成された球状に湾曲したホログラフィック光学素子９６を有する鋳造物５６および鋳造モールド３０を示す。フィルムセクション９６．１自体は、スリーブ１０．２と第１の表面１０．１との間に順番に配置され、位置合わせされる。
【０１２３】
図９ａは、鋳造モールド３３の第２のモールドセクション２３の第２の表面２３．１がここでより高度に凸状であり、こうして鋳造操作（図９ｂ）によって得ることができる鋳造物５７がその屈折光学容量の観点から近視の矯正に好適となる点で図８ａと異なる。
【０１２４】
対照的に、図１０ａの鋳造モールド３４のモールドセクション１４の第１の表面１４．１は、鋳造操作によって得ることができる光学鋳造物５８が、その屈折光学的能力に関して遠視の矯正に好適となる凹状を有する。
【０１２５】
図１１ａは、くさび形のホログラフィック光学素子９７がスリーブ１５．２の溝１７５内に配置され、位置合わせされた鋳造モールド３５を示す。ホログラフィック光学素子９７はまた、くさび形基材と平面ホログラフィック光学素子とを含む多層構造であってもよい。図１１ｂは、対応する鋳造物５９を示す。
【０１２６】
図１２ａは、ホログラフィック光学素子９８が第１のモールドセクション１６のスリーブ１６．２の溝１７６内に配置され、位置合わせされた鋳造モールド３６を示す。ホログラフィック光学素子９８は、ホログラフィック光学層素子９８．１、ライトガイド９８．２、および低屈折率の２つの層９８．３を含む多層構造を含む。後者は、ホログラフィック光学素子９８．１およびライトガイド９８．２における全反射によるライトガイドを可能にする。この実施形態は、画像を投影し、目的のためにライトガイドを使用するヘッドアップディスプレイに特に適している。この目的のためには、図１２ｂ（矢印Ｌ）に示すように、ライトガイドの縁部に光の良好なインプットが必要とされる。研削プロセスによって、例えば、ライトガイドの縁部の必要な光学品質を達成することが可能である。ホログラフィック光学層素子９８は、次に、光を抽出する働きをする（矢印Ｌ＊）。図１２ｂは、光Ｌ、Ｌ＊のインプットおよび抽出方向と共に、対応する鋳造物６０を示す。
【０１２７】
図１３は、図１２ｂのように、ホログラフィック光学層素子９９．１によって光Ｌ．１＊を抽出するためにライトガイド９９．２が利用される、鋳造物６１のさらに好ましい実施形態を示す。ここでは、光Ｌ．１をライトガイド９９．２にインプットするために、別のホログラフィック光学層素子９９．４も使用される。光Ｌ．１は、低屈折率の層９９．３を本質的に通過できるように、ホログラフィック光インプット素子９９．４に投影される。光Ｌ．１は、その領域に関して、ホログラフィック光インプット素子９９．４上に、重力方向から＋／−４０°までの差を有して直角に投影されることが好ましい。＋２０°〜−２０°の入射方向が好ましい。光インプットＬ．１は、ライトガイド９９．２およびホログラフィック記録材料中を伝播し、ホログラフィック光学素子９９．１（矢印Ｌ．１＊）で抽出されるまで、全反射で低屈折率の２つの層９９．３にて反射される。抽出角は、光学素子９９．１の回折光学機能によって決定され、好ましくは法線に対して＋／−４０°である。図１３においては、この光は、矢印Ｌ．１＊として示され、垂線に対応する、その点で０°の抽出角を有する。
【０１２８】
図１４ａおよび図１４ｂは、ホログラフィック光学素子１００（ここでは同様に平面形状である）が、屈折光学物品６２の光軸１０７に対して角度１０６で配置された鋳造モールド３０および対応する光学鋳造物６２のさらなる実施形態を示す。ホログラフィック光学素子１００は、第１のモールドセクション１０の第１の表面１０．１と、一方の側ではスリーブ１０．２およびスリーブ１０．２の溝１７との間に配置され、位置合わせされる。光軸１０７とホログラフィック光学素子１００の平面との間の角度は、ホログラフィック光学素子１００の形状によって追加的に決定される。
【０１２９】
図１４ｃは、ホログラフィック光学素子１００を備えた光学鋳造物６２の基本的な機能を示す。ここで、光Ｌ．２は光学鋳造物中に放射され、ホログラフィック光学素子１００内のホログラフィック構造によって回折され、光学鋳造物６２から光ビームＬ．２＊として再び抽出される。
【０１３０】
図１５は、鋳造モールド３０および鋳造操作によって少なくとも１つの体積ホログラフィック光学素子を含む光学鋳造物６３を製造する方法のさらなる実施形態を説明する。方法のこの構成では、平面ホログラフィック光学素子１０１は、モールドセクション２０の表面２０．１上の造形可能なフィルム２０．３上に配置され、位置合わせされる。工程ａ）では、工程ｂ）において造形可能なフィルム２０．３が適用される表面２０．１が示されている。これは、例えばラミネートすることによって行うことができる。フィルム２０．３を予め（例えばフレームによって）取り付け、モールドセクション２０の表面２０．１をそれに向かって移動させることも可能である。フィルム２０．３は伸長し、表面２０．１にきれいに付着する。その後、フィルム２０．３の突出した縁部が切断される。工程ｃ）において、ホログラフィック光学素子１０１は、フィルム２０．３上に配置され、位置合わせされる。これは、フィルム２０．３が良好な成形性および低い粘着性を有する場合に特に簡単な方法で達成される。工程ｄ）において、表面１０．１およびスリーブ１０．２を有するさらなるモールドセクション１０から構成される鋳造モールド３０は、鋳造キャビティ４０を生じさせるように、組み立てられる。工程ｅ）では、計量システム１３によって、次いで鋳造材料７がオリフィス５を介して鋳造キャビティ４０に移される。硬化工程ｆ）に続いて、工程ｇ）の脱型が行われる。
【０１３１】
図１６は、鋳造モールド３０および鋳造操作によって少なくとも１つの体積ホログラフィック光学素子１０２を含む光学鋳造物６４を製造する方法のさらなる実施形態を説明する。この方法変形例では、ホログラフィック光学素子１０２は、２工程の鋳造および硬化プロセスを経て生じ、位置合わせされた表面７０上に配置される。工程ａ）において、第１のモールドセクション１０は、スリーブ１０．２と第１の表面１０．１とから組み立てられ、第１の表面１０．１が底になるように設定される。工程ｂ）において、鋳造システム７は、平面の表面７０が生じるまで計量システム１３によって第１の表面１０．１上に導入される。工程ｃ）において、鋳造材料７が硬化される。ここでは、表面７０がまだ部分的に粘着性のままであるように、硬化を部分的にのみ行うことが可能である。スルー硬化も可能である。部分硬化が好ましい。工程ｄ）において、ホログラフィック光学素子１０２は、表面７０上に配置され、位置合わせされる。工程ｅ）では、次いで鋳造モールド３を第２のモールドセクション２０を取り付けることによって完全に組み立て、さらに鋳造材料７を計量システム１３によってスリーブ１０．２のオリフィス５を通して鋳造キャビティ４０が鋳造材料７で完全に充填されるまで鋳造キャビティ４０に導入する。続いて、工程ｆ）において、鋳造システム７は完全に硬化される。工程ｇ）において、それによって製造されたホログラフィック光学素子１０２を有する光学鋳造物６４が脱型される。
【０１３２】
測定方法：
粘度の決定：
粘度はＰｈｙｓｉｃａ  ＭＣＲ  ５１（Ａｎｔｏｎ  Ｐａａｒ製）粘度計で決定した。この目的のために、試料を平衡化し、ボールを懸濁させた（低粘度η＜１００００ｍＰａｓ：２５℃、ボール直径２５ｍｍ（ＣＰ−２５）、高粘度η＞１００００ｍＰａｓ：５０℃、ボール直径６０ｍｍ（ＣＰ−６０））。約０．５〜１ｇの生成物をプレート上に置き、ボールを生成物で完全に濡れるように落下させた。過剰の生成物を拭き取った。剪断速度（より低い粘度で約５００  １／ｓおよびより高い粘度で約１００  １／ｓ）を機器によって自動的に設定した。それぞれの場合に２０回測定し、平均値を求めた。
【０１３３】
屈折率の決定：
高粘性および固体生成物の場合、透過および反射スペクトルからの屈折率ｎを試料の波長の関数として得ることにより、波長５８９ｎｍで屈折率を決定した。この目的のために、厚さ約１００〜３００ｎｍの試料のフィルムを酢酸エチル中の５重量％溶液から石英ガラススライド上に吐出した。この層アセンブリの透過および反射スペクトルを、ＳＴＥＡＧ  ＥＴＡ−ＯｐｔｉｋのＣＤ測定システムＥＴＡ−ＲＴ分光計で測定し、次いで、測定した透過スペクトルおよび反射スペクトルに層厚およびｎのスペクトルプロファイルを適合させた。これは分光器の内部ソフトウェアで行われ、さらにブランク測定で予め決定された石英ガラス基材のｎ個のデータが必要であった。
【０１３４】
液体生成物については、アッベ屈折計を使用して５８９ｎｍでの屈折率を測定した。これは、３滴の生成物を洗浄した測定プリズム上に適用し、照明プリズムを折りたたみ、次いで２分以内に２０℃に平衡させることによって行った。続いて、観察フィールドにおいて、明／暗境界を、屈折計の十字線上に正確に配置した。設定値に変化がなくなれば、機器上で屈折率を小数第４位まで読み取った。二重決定を行った。０．０００２スケールまでの差異が許容された。
【０１３５】
ヘイズの測定
ヘイズはＡＳＴＭ  Ｄ  １００３で測定した。ヘイズは、放射された光ビームから平均２．５°を超えてずれた透過光の割合である。ヘイズを測定するために、ホログラフィック試験片を測定前に外側で清掃し、ガラス表面上の指紋および汚れによる結果の歪みを回避した。次に、分析のために試験片をＢｙｋ−ＧａｒｄｎｅｒＨａｚｅ−Ｇａｒｄ−Ｐｌｕｓ機器に挿入した。「透過配置におけるツインビーム干渉によるホログラフィック媒体のホログラフィック特性ＤＥおよびΔｎの測定」のセクションで以下で説明するように、Ｋｏｇｅｌｎｉｋによる理論上のブラッグ曲線のシミュレーションにおいて試験片の層厚を測定した。
【０１３６】
イソシアネート含有量
報告されたＮＣＯ値（イソシアネート含有量）をＤＩＮ  ＥＮ  ＩＳＯ  １１９０９により定量化した。
【０１３７】
反応混合物中のＮＣＯ基の完全な転化、すなわちその不在をＩＲ分光法によって検出した。したがって、ＮＣＯバンド（２２６１ｃｍ−１）が反応混合物のＩＲスペクトルに見えない場合、完全な転化が仮定された。
【０１３８】
固形分含有量
未塗装のブリキ缶の蓋、およびペーパークリップを用いて風袋重量を確認した。次に、分析すべき試料約１ｇを秤量し、次に、適切に曲げたペーパークリップと共にブリキ缶の蓋の中に均一に分布させた。ペーパークリップは測定のために試料中に残した。出発重量を決定し、次いで、組立品を１２５℃の実験室オーブン中で１時間加熱し、次いで最終重量を定量した。固形分含有量を、以下の式：最終重量［ｇ］×１００／出発重量［ｇ］＝固形分重量％によって定量化した。
【０１３９】
化学物質および基材：
ポリオール１の調製：
１リットルのフラスコに、最初に、オクタン酸スズ０．１８ｇ、ε−カプロラクトン３７４．８ｇおよび二官能性ポリテトラヒドロフランポリエーテルポリオール（当量５００ｇ／モルＯＨ）３７４．８ｇを入れ、これらを１２０℃に加熱し、この温度で固形分（不揮発成分の割合）が９９．５重量％以上になるまで加熱した。続いて、混合物を冷却し、生成物をワックス状固体として得た。
【０１４０】
ウレタンアクリレート１（書込モノマー）：ホスホロチオイルトリス（オキシベンゼン−４，１−ジイルカルバモイルオキシエタン−２，１−ジイル）トリアクリレートの調製
５００ｍｌの丸底フラスコに、最初に、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．１ｇ、ジブチルスズジラウレート０．０５ｇ、および酢酸エチル中のトリス（ｐ−イソシアナトフェニル）チオホスフェートの２７％溶液２１３．０７ｇ（Ｄｅｓｍｏｄｕｒ（登録商標）ＲＦＥ、Ｂａｙｅｒ  ＭａｔｅｒｉａｌＳｃｉｅｎｃｅ  ＡＧ，Ｌｅｖｅｒｋｕｓｅｎ，Ｇｅｒｍａｎｙ製）を入れ、これらを６０℃に加熱した。続いて、２−ヒドロキシエチルアクリレート４２．３７ｇを滴下し、イソシアネート含有量が０．１％未満に低下するまで依然として６０℃に維持した。これに続いて冷却し、酢酸エチルを真空中で完全に除去した。生成物は、部分的に結晶性の固体として得られた。
【０１４１】
ウレタンアクリレート２（書込モノマー）：２−（｛［３−（メチルスルファニル）フェニル］カルバモイル｝オキシ）エチルプロパ−２−エノエートの調製
１００ｍｌの丸底フラスコに、最初に、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．０２ｇ、Ｄｅｓｍｏｒａｐｉｄ  Ｚ  ０．０１ｇ、３−（メチルチオ）フェニルイソシアネート［２８４７９−１−８］１１．７ｇを加え、混合物を６０℃に加熱した。続いて、２−ヒドロキシエチルアクリレート８．２ｇを滴下し、イソシアネート含有量が０．１％未満に低下するまで混合物を依然として６０℃に保った。これに続いて冷却した。生成物を無色液体として得た。
【０１４２】
添加剤１ビス（２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７−ドデカフルオロヘプチル）（２，２，４−トリメチルヘキサン−１，６−ジイル）ビスカルバメートの調製
５０ｍｌの丸底フラスコに、最初に、Ｄｅｓｍｏｒａｐｉｄ  Ｚ  ０．０２ｇおよび２，４，４−トリメチルヘキサン１，６−ジイソシアネート（ＴＭＤＩ）３．６ｇに入れ、混合物を６０℃に加熱した。続いて、１１．９ｇの２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７−ドデカフルオロヘプタン−１−オールを滴下し、イソシアネート含有量が０．１％未満に低下するまで、混合物を６０℃で依然として維持した。これに続いて冷却した。生成物を無色油状物として得た。
【０１４３】
ボレート（光開始剤）：
ボレートは、欧州特許出願公開第１３１８９１３８．４号明細書の実施例１に記載されているように調製した。ベンジルジメチルヘキサデシルアンモニウムボレートの５１．９％溶液が得られた。
【０１４４】
染料１：染料の調製は、国際公開第２０１２０６２６５５号の実施例９に記載されている。
【０１４５】
染料２：染料の調製は、国際公開第２０１２０６２６５５号の実施例１５に記載されている。
【０１４６】
染料３：染料の調製は、国際公開第２０１２０６２６５５号の実施例１４に記載されている。
【０１４７】
基材：
Ｔａｃｐｈａｎ  ９１５−ＧＬは、ＬＯＦＯ  ｈｉｇｈ  Ｔｅｃｈ  Ｆｉｌｍ  ＧＭＢＨ，ＤＥ−７９５７６  Ｗｅｉｌ  ａｍ  Ｒｈｅｉｎ（Ｇｅｒｍａｎｙ）製の厚さ５０μｍのトリアセテート箔である。
【０１４８】
Ｄｅｓｍｏｄｕｒ（登録商標）Ｎ  ３９００  Ｂａｙｅｒ  ＭａｔｅｒｉａｌＳｃｉｅｎｃｅ  ＡＧ，Ｌｅｖｅｒｋｕｓｅｎ，ＤＥからの製品、ヘキサンジイソシアネート系ポリイソシアネート、イミノオキサジアジンジオンの割合少なくとも３０％、ＮＣＯ含有量２３．５％。
【０１４９】
トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート［２８６７９−１６−５］−ＡＢＣＲ  ＧｍｂＨ＆Ｃｏ  ＫＧ，Ｋａｒｌｓｒｕｈｅ，Ｇｅｒｍａｎｙ
１Ｈ，１Ｈ−７Ｈ−パーフルオロヘプタン−１−オール［３３５−９９−９］−ＡＢＣＲ  ＧｍｂＨ＆Ｃｏ  ＫＧ，Ｋａｒｌｓｒｕｈｅ，Ｇｅｒｍａｎｙ
Ｄｅｓｍｏｒａｐｉｄ  Ｚ  ジブチルスズジラウレート［７７−５８−７］、Ｂａｙｅｒ  ＭａｔｅｒｉａｌＳｃｉｅｎｃｅ  ＡＧ，Ｌｅｖｅｒｋｕｓｅｎ，Ｇｅｒｍａｎｙからの製品。
【０１５０】
Ｆｏｍｒｅｚ  ＵＬ  ２８ウレタン化触媒、Ｍｏｍｅｎｔｉｖｅ  Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｗｉｌｔｏｎ，ＣＴ，ＵＳＡの市販品。
【０１５１】
ビス（２−エチルヘキシル）スルホコハク酸ナトリウム［４５２９７−２６−５］は、Ａｌｄｒｉｃｈ  Ｃｈｅｍｉｅ，Ｓｔｅｉｎｈｅｉｍから入手可能である。
【０１５２】
臭化４−クロロフェニルマグネシウム［８７３−７７−８］はＡｌｄｒｉｃｈ  Ｃｈｅｍｉｅ，ＳｔｅｉｎｈｅｉｍからのＴＨＦ／トルエン中の０．９Ｍ溶液として入手可能である。
【０１５３】
テトラブチルアンモニウムブロミド［１６４３−１９−２］は、ＡＢＣＲ  ＧｍｂＨ＆Ｃｏ  ＫＧ，Ｋａｒｌｓｒｕｈｅから入手可能である。
【０１５４】
ＢＹＫ（登録商標）３１０  ＢＹＫ−Ｃｈｅｍｉｅ  ＧｍｂＨ，Ｗｅｓｅｌからのシリコーン系表面添加剤、キシレン中２５％溶液
酢酸エチル［１４１−７８−６］溶媒
テストホログラムの製造および特徴付け
テストホログラムを以下のように調製した：フォトポリマーフィルムを暗所で所望のサイズに切断し、５０ｍｍ×７０ｍｍ（厚さ３ｍｍ）のガラス板上にゴムローラを用いて積層した。
【０１５５】
テストホログラムは、緑色（５３２ｎｍ）のレーザ放射線を用いてデニシューク反射ホログラムを生成する試験装置によって製造された。試験装置は、レーザ源と、光ビームガイドシステムと、ガラス試験片のホルダとからなる。ガラス試験片のホルダは、ビーム軸に対して１３°の角度で取り付けられる。
【０１５６】
レーザ源は、特定の光ビーム経路によって約５ｃｍに広げられ、ミラーと光学的に接触しているガラス試験片に向けて導かれた放射線を生成した。ホログラフィック対象物は約２ｃｍ×２ｃｍの大きさのミラーであり、ホログラムの再生にはミラーの波面の再生が含まれていた。すべての実施例を緑色の５３２ｎｍレーザ（Ｎｅｗｐｏｒｔ  Ｃｏｒｐ，Ｉｒｖｉｎｅ，ＣＡ，ＵＳＡ、カタログ番号ＥＸＬＳＲ−５３２−５０−ＣＤＲＨ）で露光した。シャッタを用いて、記録フィルムを規定の方法で２秒間露光した。
【０１５７】
続いて、試料を、基材側がランプに面したＵＶ光源のコンベヤベルト上に置き、２．５ｍ／分のベルト速度で２回露光した。使用したＵＶ源は、総出力密度が８０Ｗ／ｃｍ２である、Ｆｕｓｉｏｎ  ＵＶタイプ「Ｄ  Ｂｕｌｂ」Ｎｏ．５５８４３４  ＫＲ  ８５の鉄ドープＨｇランプであった。パラメータは、２×２．０Ｊ／ｃｍ２（ＩＬＴ  ４９０  Ｌｉｇｈｔ  Ｂｕｇで測定）の線量に対応する。
【０１５８】
体積ホログラムの高効率のために、この回折反射は、ＶＩＳスペクトロメータ（ＵＳＢ  ２０００，Ｏｃｅａｎ  Ｏｐｔｉｃｓ，Ｄｕｎｅｄｉｎ，ＦＬ，ＵＳＡ）を用いた可視光による透過において分析することができ、透過スペクトルにおいて、低減された透過ピークとして現れる。ホログラムの品質は、透過曲線の評価によって確認することができる：ピークの幅は、ナノメートル（ｎｍ）単位の「半値全幅」（ＦＷＨＭ）として決定され、ピークの深さ（Ｔｍｉｎ）が１００％−Ｔｍｉｎ（％単位）で報告されたが、透過率が最も低い領域は最も高い回折効率の波長（ｎｍ）を示す。
【０１５９】
［実施例］
［実施例１］
ホログラフィック記録フィルムから作製されたテストホログラムを、丸いプラスチックスリーブのオリフィス内に配置し、位置合わせさせた（図４ｇ参照）。まず、成形キャビティを形成するために、２つのガラスレンズ（直径８５ｍｍ、内径８８ｍｍ、Ｓｈａｍｉｒ  Ｉｎｓｉｇｈｔ，Ｉｎｃ．）をプラスチックスリーブ上にクリッピングすることによって鋳造モールドを取り付けた。
【０１６０】
鋳造システムは、混合物１：Ｄｅｓｍｏｄｕｒ  Ｉ（イソホロンジイソシアネート、Ｂａｙｅｒ  ＭａｔｅｒｉａｌＳｃｉｅｎｃｅ  ＡＧ，Ｌｅｖｅｒｋｕｓｅｎ，Ｇｅｒｍａｎｙ）８０ｇ、Ｄｅｓｍｏｄｕｒ  Ｎ  ３２００（ヘキサメチレンジイソシアネートのビウレット含有ポリイソシアネート、Ｂａｙｅｒ  ＭａｔｅｒｉａｌＳｃｉｅｎｃｅ  ＡＧ，Ｌｅｖｅｒｋｕｓｅｎ，Ｇｅｒｍａｎｙ）２０ｇ、およびＺｅｌｅｃ  ＵＮ離型剤（Ｓｔｅｐａｎ  Ｃｏｍｐａｎｙ，ＵＳＡ）３．７６ｇからなり、これを混合し、一晩放置した。混合物２をＤｅｓｍｏｐｈｅｎ  ４０１１Ｔ（Ｂａｙｅｒ  ＭａｔｅｒｉａｌＳｃｉｅｎｃｅ  ＡＧ，Ｌｅｖｅｒｋｕｓｅｎ，Ｇｅｒｍａｎｙ）７３．９ｇおよび触媒（４，１２−ジブチル−２，６，１０，１４−テトラメチル−１，７，９，１５−テトラオキサ−４，１２−ジアザ−８−スタンナスピロール［７．７］ペンタデカン）０．０４ｇから共に混合し、同様に一晩放置した。その後、混合物１をフラスコに移し、１０ｍｂａｒで１０分間排気した。次いで、混合物２をフラスコに加え、最終混合物３を再び攪拌し、脱気した。次いで、混合物３を５μｍフィルタで濾過し、シリンジに導入し、次いで鋳造モールドを完全に充填した。
【０１６１】
充填された鋳造モールドを、以下の温度プロファイルを有する乾燥キャビネット内で乾燥させた：２０℃で４時間；１３時間以内に１００℃まで線形加熱；１００℃の一定温度で２時間；１２０℃の一定温度で２時間。最後に、鋳造モールドを室温まで冷却し、完全に冷却した後、最初にスリーブ、次いで２つのガラス体を手動で取り除いた。
【０１６２】
［実施例２］
実施例２は、鋳造システムが触媒を全く含まないことを除いて、実施例１と全く同様に製造され、特徴付けられた。
【０１６３】
［実施例３］
実施例３は、鋳造システムが触媒２，４，６，１０，１２，１４−ヘキサメチル−１，７，９，１５−テトラオキサ−４，１２−ジアザ−８−スタンナスピロ［７．７］ペンタデカン０．０４ｇを含むことを除いて、実施例１と全く同様に製造され、特徴付けされた。
【０１６４】
［実施例４］
実施例４は、テストホログラムをガラスモールドの表面の凹面側の縁部に配置して結合したことを除いて、実施例１と全く同様に製造し、特徴付けした（図３も参照）。
【０１６５】
表１は、封入前後の埋め込まれたホログラムのスペクトル特性をそれぞれの場合に示す。
【表１】
2018506067.tif 000005
【図１】
2018506067.tif 000007
【図２】
2018506067.tif 000008
【図３】
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【図４】
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【図５】
2018506067.tif 000011
【図６】
2018506067.tif 000012
【図７】
2018506067.tif 000013
【図８】
2018506067.tif 000014
【図９】
2018506067.tif 000015
【図１０】
2018506067.tif 000016
【図１１】
2018506067.tif 000017
【図１２】
2018506067.tif 000018
【図１３】
2018506067.tif 000019
【図１４】
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【図１５】
2018506067.tif 000021
【図１６】
2018506067.tif 000022
【手続補正書】
【提出日】平成29年9月13日(2017.9.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの体積ホログラフィック光学素子を含む光学鋳造物を少なくとも１つの鋳造操作によって製造する方法であって、
平坦、球状、非球状または自由形状の第１の表面を有する第１のモールドセクションと、平坦、球状、非球状または自由形状の第２の表面を有する第２のモールドセクションとを含む鋳造モールドを提供する工程であって、前記鋳造モールドを形成するために前記第１のモールドセクションが前記第２のモールドセクションに接続可能である工程と、
少なくとも１つのホログラフィック光学素子を提供する工程と、
前記少なくとも１つのホログラフィック光学素子を前記第１のモールドセクションおよび／または前記第２のモールドセクションに対して配置および位置合わせする工程と、
前記第１および第２のモールドセクションを合わせて前記鋳造モールドを形成する工程と、
１つ以上の鋳造工程で鋳造材料を導入する工程であって、前記鋳造材料が２５℃で１００，０００ｍＰａｓの最大粘度を有する工程と、
前記鋳造材料を硬化させる工程と、
前記少なくとも１つのホログラフィック光学素子を含む前記硬化した鋳造材料を前記鋳造モールドから取り出す工程であって、前記少なくとも１つのホログラフィック光学素子が前記鋳造材料によって少なくとも部分的に取り囲まれる工程と
を含む方法。
【請求項２】
前記第１および／または第２のモールドセクションが、一方のモールドセクションを他方のモールドセクションに接続するための少なくとも１つのスリーブを含むことを特徴とする、
請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記少なくとも１つのホログラフィック光学素子が、前記少なくとも１つのスリーブに対して排他的にまたは追加的に配置され、位置合わせされることを特徴とする、
請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記少なくとも１つのホログラフィック光学素子が、前記第１のモールドセクションの前記第１の表面に対しておよび／または前記第２のモールドセクションの前記第２の表面に対して配置され、位置合わせされることを特徴とする、
請求項１から３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
前記少なくとも１つのホログラフィック光学素子は、前記第１のモールドセクションの前記第１の表面に対しておよび／または前記第２のモールドセクションの前記第２の表面に対して、固定剤として機能する材料液滴によって配置され、位置合わせされ、前記材料液滴の屈折率は、前記鋳造材料の屈折率と０．０１以下、好ましくは０．００２で異なることを特徴とする、
請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記少なくとも１つのホログラフィック光学素子は少なくともセクション中でフィルムセクションに接続され、前記フィルムセクションは追加的に、さらなる光学機能、特に偏光子機能、ＵＶ吸収、デザイン機能、ラベリング機能、着色機能、フォトクロミック機能、機械的支持機能、または上述の機能の組み合わせを提供することを特徴とする、
請求項１から５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
前記第１および／または第２のモールドセクションは、鋳造材料で少なくとも部分的に充填され、前記鋳造材料が少なくとも部分的に硬化され、次いで少なくとも１つのホログラフィック光学素子が少なくとも部分的に硬化された前記鋳造材料の形成された表面に配置され、位置合わせされて、次いで前記第１および第２のモールドセクションを合わせて前記鋳造モールドを形成し、次いで前記鋳造モールドに前記鋳造材料を完全に充填し、その後前記鋳造材料全体を硬化させる、
請求項１から６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
前記少なくとも１つのホログラフィック素子が平坦であり、０°〜９０°、好ましくは０°〜６０°の前記鋳造物の光軸に対する角度で、その表面法線と位置合わせして配置されることを特徴とする、
請求項１から７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
前記少なくとも１つのホログラフィック光学素子が光学層構造に組み込まれており、前記層構造は、前記光が、前記層構造内にインプットでき、前記層構造の層の範囲に沿って伝播でき、前記取り囲む光学鋳造物中の前記少なくとも１つのホログラフィック光学素子を介して放出でき、ひいては前記光学鋳造物を離れることができるように構成されていることを特徴とする、
請求項１から８のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】
前記少なくとも１つのホログラフィック光学素子が、フォトポリマー材料によって形成され、前記フォトポリマー材料が、バインダ、少なくとも１つの書込モノマーおよび少なくとも１つの光開始剤系を含み、前記バインダが、好ましくは架橋されたバインダを含み、前記フォトポリマー材料が、より好ましくはさらに、構造（ＩＩ）のコントラスト剤を含むことを特徴とする、請求項１から９のいずれかに記載の方法。
【化１】
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（  式中、ｎ≧１かつｎ≦８、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３はそれぞれ独立に水素、線状、分岐状、環状または複素環式の非置換あるいはヘテロ原子で置換されていてもよい有機ラジカルであり、ここでＲ１、Ｒ２、Ｒ３ラジカルの少なくとも１つが少なくとも１つのフッ素原子で置換される）
【国際調査報告】
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