(57)【要約】  本発明は、可撓性デバイス用のアセンブリ層である。アセンブリ層は、アルキル基中に１〜２４個の炭素原子を有するアルキル（メタ）アクリレートエステルと、フリーラジカル生成開始剤とを含む前駆体から誘導される。約−３０℃〜約９０℃の温度範囲内で、アセンブリ層は、周波数１Ｈｚで約２ＭＰａを超えない剪断貯蔵弾性率と、約５０ｋＰａ〜約５００ｋＰａの剪断応力を与えて５秒で測定される少なくとも約６×１０−６１／Ｐａの剪断クリープコンプライアンス（Ｊ）と、約５ｋＰａ〜約５００ｋＰａの範囲内の少なくとも１点の負荷剪断応力において負荷剪断応力を取り除いてから約１分以内での少なくとも約５０％の歪み回復とを有する。好ましい実施形態において、可撓性デバイスは、可撓性電子ディスプレイである。【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルキル基中に１〜２４個の炭素原子を有するアルキル（メタ）アクリレートエステルと、
フリーラジカル生成開始剤とを含む前駆体から誘導され、
約−３０℃〜約９０℃の温度範囲内で、周波数１Ｈｚで約２ＭＰａを超えない剪断貯蔵弾性率と、約５０ｋＰａ〜約５００ｋＰａの剪断応力を与えて５秒で測定される少なくとも約６×１０−６１／Ｐａの剪断クリープコンプライアンス（Ｊ）と、約５ｋＰａ〜約５００ｋＰａの範囲内の少なくとも１点の負荷剪断応力において前記負荷剪断応力を取り除いてから約１分以内での少なくとも約５０％の歪み回復とを有する、可撓性デバイス用のアセンブリ層。
【請求項２】
光学的に透明である、請求項１に記載のアセンブリ層。
【請求項３】
前記可撓性デバイスが、可撓性電子ディスプレイである、請求項１に記載のアセンブリ層。
【請求項４】
アルキル基中に１〜２４個の炭素原子を有するアルキル（メタ）アクリレートエステルを約６０〜約９５重量％含む、請求項１に記載のアセンブリ層。
【請求項５】
約１０℃以下のガラス転移温度を有する、請求項１に記載のアセンブリ層。
【請求項６】
極性共重合性モノマーを更に含む、請求項１に記載のアセンブリ層。
【請求項７】
粘着付与剤、分子量制御剤、可塑剤、安定剤、架橋剤、及びカップリング剤のうちの少なくとも１つを更に含む、請求項１に記載のアセンブリ層。
【請求項８】
第１の可撓性基材と、
第２の可撓性基材と、
前記第１の可撓性基材と前記第２の可撓性基材との間に配置され、前記第１の可撓性基材及び前記第２の可撓性基材と接触しているアセンブリ層とを含む積層体であって、前記アセンブリ層が、
アルキル基中に１〜２４個の炭素原子を有するアルキル（メタ）アクリレートエステルと、
フリーラジカル生成開始剤とを含む前駆体から誘導され、
約−３０℃〜約９０℃の温度範囲内で、前記アセンブリ層が、周波数１Ｈｚで約２ＭＰａを超えない剪断貯蔵弾性率と、約５０ｋＰａ〜約５００ｋＰａの剪断応力を与えて５秒で測定される少なくとも約６×１０−６１／Ｐａの剪断クリープコンプライアンス（Ｊ）と、約５ｋＰａ〜約５００ｋＰａの範囲内の少なくとも１点の負荷剪断応力において前記負荷剪断応力を取り除いてから約１分以内での少なくとも約５０％の歪み回復とを有する、積層体。
【請求項９】
前記アセンブリ層が光学的に透明である、請求項８に記載の積層体。
【請求項１０】
前記第１の基材及び前記第２の基材のうちの少なくとも１つが光学的に透明である、請求項８に記載の積層体。
【請求項１１】
前記アセンブリ層が、アルキル基中に１〜２４個の炭素原子を有するアルキル（メタ）アクリレートエステルを約６０〜約９５重量％含む、請求項８に記載の積層体。
【請求項１２】
前記アセンブリ層が、極性共重合性モノマーを更に含む、請求項８に記載の積層体。
【請求項１３】
前記アセンブリ層が、約１０℃以下のガラス転移温度を有する、請求項８に記載の積層体。
【請求項１４】
室温で２４時間にわたって約１５ｍｍ未満の曲率半径を強制するチャネル内に置かれたとき、破壊を示さない、請求項８に記載の積層体。
【請求項１５】
室温で２４時間経た後に前記チャネルから取り出された後、少なくとも約１３０度の夾角に戻る、請求項１４に記載の積層体。
【請求項１６】
曲率半径が約１５ｍｍ未満の約１０，０００サイクルの折り畳みの動的折り畳み試験を室温で受けたとき、破壊を示さない、請求項８に記載の積層体。
【請求項１７】
第１の基材及び第２の基材を接着する方法であって、前記第１及び第２の基材が両方とも可撓性であり、前記方法が、
前記第１の可撓性基材と前記第２の可撓性基材との間にアセンブリ層を配置して積層体を形成することであって、前記アセンブリ層が、
アルキル基中に１〜２４個の炭素原子を有するアルキル（メタ）アクリレートエステルと、
フリーラジカル生成開始剤とを含む前駆体から誘導され、
約−３０℃〜約９０℃の温度範囲内で、前記アセンブリ層が、周波数１Ｈｚで約２ＭＰａを超えない剪断貯蔵弾性率と、約５０ｋＰａ〜約５００ｋＰａの剪断応力を与えて５秒で測定される少なくとも約６×１０−６１／Ｐａの剪断クリープコンプライアンス（Ｊ）と、約５ｋＰａ〜約５００ｋＰａの範囲内の少なくとも１点の負荷剪断応力において前記負荷剪断応力を取り除いてから約１分以内での少なくとも約５０％の歪み回復とを有する、形成することと、
圧力及び熱のうちの少なくとも１つを加えて積層体を形成することとを含む、方法。
【請求項１８】
前記アセンブリ層が光学的に透明である、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記積層体が、室温で２４時間にわたって約１５ｍｍ未満の曲率半径を強制するチャネル内に置かれたとき、破壊を示さない、請求項１７に記載の方法。
【請求項２０】
前記積層体が、室温で２４時間経た後に前記チャネルから取り出された後、少なくとも約１３０度の夾角に戻る、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記積層体が、曲率半径が約１５ｍｍ未満の約１０，０００超のサイクルの折り畳みの動的折り畳み試験を室温で受けたとき、破壊を示さない、請求項１７に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一般的に可撓性アセンブリ層の分野に関する。特に、本発明は、アクリル系可撓性アセンブリ層に関する。
【背景技術】
【０００２】
最近の産業における感圧接着剤の一般的な用途は、コンピューター用モニター、テレビ、携帯電話及び小型ディスプレイ（車内用、機器用、装着品用、電子装置用等）等のさまざまなディスプレイの製造における用途である。亀裂又は損傷なしにディスプレイを自由に曲げることができる可撓性電子ディスプレイは、例えば可撓性プラスチック基材を使用して電子デバイスを作製する、急速に台頭しつつある技術分野である。この技術は、非平面物体への電子機能の統合、所望の設計への適合、及び使用中の可撓性を可能にし、多数の新規用途を生むことができる。
【０００３】
可撓性電子ディスプレイの出現により、電子ディスプレイアセンブリの外側カバーレンズ又はシート（ガラス、ＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭＡ、ポリイミド、ＰＥＮ、環状オレフィンコポリマー等をベースとする）と下層のディスプレイモジュールとの間のアセンブリ層又は隙間充填層として機能する接着剤、特に光学透明接着剤（ＯＣＡ）に対する要望が増している。ＯＣＡの存在は、明るさ及びコントラストを増加することによってディスプレイの性能を改善し、同時にアセンブリに構造支持も与える。可撓性アセンブリにおいて、ＯＣＡはまた、典型的なＯＣＡ機能に加えて、折り畳むことにより誘発される応力のほとんどを吸収してディスプレイパネルの壊れやすい部品の破損を防止し、折り畳みの応力下での損傷から電子部品を保護することもできるアセンブリ層として機能する。ＯＣＡ層は、例えば有機発光ディスプレイ（ＯＬＥＤ）のバリア層、駆動電極、又は薄膜トランジスタ等、ディスプレイの壊れやすい部品に又は少なくともその近くに中立曲げ軸を配置し、保持するためにも使用し得る。
【０００４】
ディスプレイの表示画面又は光起電性アセンブリの光活性領域の外側で使用する場合、可撓性アセンブリ層が光学的に透明である必要はない。実際、このような材料は、例えば、デバイスをシールするために十分な接着性を維持しながら基材の動きを可能にする、アセンブリの周辺部でのシーラントとしても有用であり得る。
【０００５】
典型的なＯＣＡは、性質上、粘弾性であり、さまざまな環境曝露条件及び高周波負荷下での耐久性をもたらすことが意図されている。そのような場合、ＯＣＡにおいて優れた感圧挙動が実現し減衰特性が導入されるよう、高レベルの接着性及びいくらかの粘弾性バランスが維持される。しかし、これらの特性は、折り畳み可能な又は耐久性のディスプレイを可能とするのに完全に十分ではない。
【０００６】
可撓性ディスプレイアセンブリに対する機械的要求が非常に異なるため、この新規の技術分野における適用のための新規な接着剤を開発する必要がある。光学的透明度、接着性、及び耐久性等の従来の性能属性の他に、これらのＯＣＡは、欠陥及び層間剥離を伴わない曲げ性及び回復性等の新たな難しい一連の必要条件を満たす必要がある。
【発明の概要】
【０００７】
一実施形態において、本発明は、可撓性デバイス用のアセンブリ層である。アセンブリ層は、アルキル基中に１〜２４個の炭素原子を有するアルキル（メタ）アクリレートエステルと、フリーラジカル生成開始剤とを含む前駆体から誘導される。約−３０℃〜約９０℃の温度範囲内で、アセンブリ層は、周波数１Ｈｚで約２ＭＰａを超えない剪断貯蔵弾性率と、約５０ｋＰａ〜約５００ｋＰａの剪断応力を与えて５秒で測定される少なくとも約６×１０−６１／Ｐａの剪断クリープコンプライアンス（Ｊ）と、約５ｋＰａ〜約５００ｋＰａの範囲内の少なくとも１点の負荷剪断応力において負荷剪断応力を取り除いてから約１分以内での少なくとも約５０％の歪み回復とを有する。
【０００８】
別の実施形態では、本発明は、第１の基材と、第２の基材と、第１の基材と第２の基材との間に配置され、第１の基材及び第２の基材と接触しているアセンブリ層とを含む積層体である。アセンブリ層は、アルキル基中に１〜２４個の炭素原子を有するアルキル（メタ）アクリレートエステルとフリーラジカル生成開始剤とを含む前駆体から誘導される。約−３０℃〜約９０℃の温度範囲内で、アセンブリ層は、周波数１Ｈｚで約２ＭＰａを超えない剪断貯蔵弾性率と、約５０ｋＰａ〜約５００ｋＰａの剪断応力を与えて５秒で測定される少なくとも約６×１０−６１／Ｐａの剪断クリープコンプライアンス（Ｊ）と、約５ｋＰａ〜約５００ｋＰａの範囲内の少なくとも１点の負荷剪断応力において負荷剪断応力を取り除いてから約１分以内での少なくとも約５０％の歪み回復とを有する。
【０００９】
更なる別の実施形態では、本発明は、第１の基材及び第２の基材を接着する方法であって、第１及び第２の基材が両方とも可撓性である、方法である。方法は、第１の基材と第２の基材との間にアセンブリ層を配置することと、圧力及び／又は熱を加えて積層体を形成することとを含む。アセンブリ層は、アルキル基中に１〜２４個の炭素原子を有するアルキル（メタ）アクリレートエステルと、フリーラジカル生成開始剤とを含む前駆体から誘導される。約−３０℃〜約９０℃の温度範囲内で、アセンブリ層は、周波数１Ｈｚで約２ＭＰａを超えない剪断貯蔵弾性率と、約５０ｋＰａ〜約５００ｋＰａの剪断応力を与えて５秒で測定される少なくとも約６×１０−６１／Ｐａの剪断クリープコンプライアンス（Ｊ）と、約５ｋＰａ〜約５００ｋＰａの範囲内の少なくとも１点の負荷剪断応力において負荷剪断応力を取り除いてから約１分以内での少なくとも約５０％の歪み回復とを有する。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明は、例えば電子ディスプレイ、可撓性光電池又はソーラーパネル、及びウェアラブル電子機器等の可撓性デバイスにおいて使用可能なアクリル系アセンブリ層である。本明細書で使用する場合、用語「アセンブリ層」は、以下の特性：（１）少なくとも２つの可撓性基材への接着性と、（２）繰り返される屈曲中、被着物に付着していて、耐久性試験に合格するのに十分な能力と、を持つ層を意味する。本明細書で使用する場合、「可撓性デバイス」は、２００ｍｍ、１００ｍｍ、５０ｍｍ、２０ｍｍ、１０ｍｍ、５ｍｍ、又は更には２ｍｍ未満の曲げ半径での繰り返される屈曲又は巻き取り動作に耐えることができるデバイスとして定義される。アクリル系アセンブリ層は、軟質であり、主に弾性で、プラスチックフィルム又はガラスのような他の可撓性基材に対して良好な接着性を有し、剪断負荷に対して高い耐性がある。更に、アクリル系アセンブリ層は、比較的低い弾性率、中程度の応力での高率コンプライアンス、低いガラス転移温度、折り畳み中の最低ピーク応力の発生、及び応力を加えて取り除いた後の良好な歪み回復を有し、その繰り返される折り畳み及び展開に耐える能力のために可撓性アセンブリにおける使用に適合させる。多層構造体の繰り返される屈曲又は回転の下、接着層への剪断負荷は非常に大きくなり、任意の形態の応力が、機械的欠陥（層間剥離、１つ以上の層の座屈、接着剤中のキャビテーション気泡等）だけでなく、光学的欠陥又はムラ（Mura）も生じさせ得る。主に粘弾性の特徴を持つ従来の接着剤とは異なり、本発明のアクリル系アセンブリ層は、使用条件下で主に弾性であるが、さまざまな耐久性必要条件に合格するのに十分な接着性も維持する。一実施形態では、アクリル系アセンブリ層は、光学的に透明であり、低ヘイズ、高い可視光透明性、抗白色化挙動（anti−whitening behavior）、及び環境耐久性を示す。
【００１１】
本発明のアクリル系アセンブリ層は、選択されたアクリルモノマー組成物から調製され、異なるレベルで架橋されてさまざまな弾性特性が与えられ、同時にほぼ全ての光学的透明性の必要条件を満たす。例えば、５ｍｍ以下の折り畳み半径の積層体内で使用されるアクリル系アセンブリ層は、積層体の層間剥離若しくは座屈又は接着剤の気泡を生じさせることなく得ることができる。一実施形態では、アクリル系アセンブリ層組成物は、アルキル基中に約１〜約２４個の炭素原子を有する少なくとも１つのアルキル（メタ）アクリレートエステル及びフリーラジカル生成開始剤を含む前駆体から誘導される。
【００１２】
好適なアルキルアクリレート（すなわち、アクリル酸アルキルエステルモノマー）の例としては、非三級アルキルアルコールの直鎖状又は分枝状の単官能性アクリレート又はメタクリレートであって、そのアルキル基が１〜２４個の炭素原子を有するものが挙げられるが、これらに限定されない。好適なモノマーの例には、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−ノニル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、ｎ−デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、フェニルメタ（アクリレート）、ベンジルメタ（アクリレート）、イソステアリルアクリレート、及び２−メチルブチル（メタ）アクリレート、並びにこれらの組み合わせが挙げられるが、これらに限定されない。他の好適なモノマーには、参照により本明細書に組み込まれる米国特許第８，１３７，８０７号に記載のもの等の分枝状長鎖アクリレートが挙げられる。追加の好適なアルキルモノマーには、参照により本明細書に組み込まれる米国特許出願公開第２０１３／０２６０１４９号に記載のもの等の二級アルキルアクリレートが挙げられる。一実施形態において、アクリル系アセンブリ層は、任意選択のビニルエステル又はスチレンモノマーと共に、アルキル（メタ）アクリレートモノマーのみ含む。そのような場合、組成物の弾性率及びガラス転移温度（Ｔｇ）は、低及び高Ｔｇを生じさせるモノマーの組み合わせを選択することによって調節することができる。別の実施形態では、アクリル系アセンブリ層は、約６０〜約９９重量部の、特に約６５〜約９５重量部の、より特定すると約７０〜約９５重量部の、アルキル基中に約１〜約２４個の炭素原子を有するアルキル（メタ）アクリレートエステルを含む。
【００１３】
いくつかの実施形態においては、前駆体組成物は、極性共重合性モノマーを含む。好適な極性共重合性モノマーの例としては、これらに限定されないが、アクリル酸（ＡＡ）、メタクリル酸、イタコン酸、フマル酸、メタクリルアミド、Ｎ−アルキル置換及びＮ，Ｎ−ジアルキル置換アクリルアミド又はメタクリルアミド（アルキル基は最高３個の炭素を有する）、並びにＮ−ビニルラクタムが挙げられる。好適なモノマーの例としては、これらに限定されないが、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−モルホリノ（メタ）アクリレート、Ｎ−ビニルピロリドン、及びＮ−ビニルカプロラクタムが挙げられる。他の好適な極性モノマーには、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−プロピル（メタ）アクリレート、及び４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等のヒドロキシル含有モノマー、並びに２−エトキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、及び２−メトキシエトキシエチル（メタ）アクリレート等のエーテル含有モノマー等を挙げることができる。一実施形態では、アクリル系アセンブリ層は、約１〜約４０重量部、特に約５〜約３５重量部、より特定すると約５〜約３０重量部の極性共重合性モノマーを含む。
【００１４】
アクリル系アセンブリ層のモノマー組成物はまた、ビニルエステル、特にＣ１〜Ｃ１０ビニルエステルも含み得る。市販されている好適なビニルエステルの例には、Ｎｅｗ  Ｓｍｙｒｎａ  Ｂｅａｃｈ，ＦＬにあるＭｏｍｅｎｔｉｖｅ  Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓから入手可能なＶｅＯＶＡ  ９又はＶｅＯＶＡ  １０が挙げられるが、これに限定されない。ビニルエステルは、典型的には、約１重量部〜約２０重量部、特に約１〜約１５重量部、より特定すると約１〜約１０重量部の量でモノマー混合物に添加される。スチレンモノマー等の他のモノマーも使用してよい。
【００１５】
フリーラジカル生成開始剤の例として、熱又は光開始剤が挙げられるが、これに限定されない。熱開始剤の例としては、過酸化ベンゾイル及びその誘導体等の過酸化物又はアゾ化合物が挙げられるが、これらに限定されない。市販のアゾ化合物の例としては、Ｗｉｌｍｉｎｇｔｏｎ，ＤＥにあるＥ．Ｉ．ｄｕ  Ｐｏｎｔ  ｄｅ  Ｎｅｍｏｕｒｓ  ａｎｄ  Ｃｏ．から入手可能なＶＡＺＯ  ６７が挙げられ、これは２，２’−アゾビス−（２−メチルブチロニトリル）である。広い範囲の温度にて熱重合を開始するのに使用することができるさまざまな過酸化物又はアゾ化合物が入手可能である。また、光開始剤を熱開始剤の代わりに使用してもよく、又は熱開始剤と組み合わせて使用してもよい。特に有用な光開始剤には、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ６５１及びＤａｒｏｃｕｒ  １１７３が挙げられ、両方ともＴａｒｒｙｔｏｗｎ，ＮＹにあるＢＡＳＦから入手可能である。開始剤は、典型的には、約０．０１重量部〜約２重量部、特に約０．０２〜約１重量部、より特定すると約０．０２〜約０．５重量部の量で前駆体混合物に添加される。
【００１６】
一実施形態では、モノマー混合物は、多官能性架橋剤を含む。例えば、前駆体混合物としては、溶媒をコーティングした接着剤を調製する乾燥工程中に活性化される熱架橋剤、及び重合工程中に共重合する架橋剤を挙げることができる。このような熱架橋剤としては、多官能性イソシアネート、多官能性アジリジン、及びエポキシ化合物を挙げることができるが、これらに限定されない。共重合可能な例示的な架橋剤としては、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート等の二官能性アクリレート又は当業者に既知のもの等の多官能アクリレートが挙げられる。有用なイソシアネート架橋剤として、例えば、ＤＥＳＭＯＤＵＲ  Ｎ３３００として、Ｃｏｌｏｇｎｅ，ＧｅｒｍａｎｙにあるＢａｙｅｒより入手可能な芳香族トリイソシアネートが挙げられる。紫外線、又は「ＵＶ」活性型架橋剤も、アセンブリ層の前駆体を架橋するのに使用することができる。そのようなＵＶ架橋剤は、ベンゾフェノン等の非共重合性光架橋剤、及び４−アクリルオキシベンゾフェノンのようなアクリル化又はメタクリル化ベンゾフェノン等の共重合性光架橋剤を含み得る。典型的には、架橋剤は、存在する場合、約０．０１重量部〜約５重量部、特に約０．０１〜約４重量部、より特定すると約０．０１〜約３重量部の量でモノマー混合物に添加される。イオン架橋、酸塩基架橋等の他の架橋方法、又は例えばポリメチルメタクリレートマクロマー若しくはポリスチレンマクロマー等の高Ｔｇマクロマーを共重合することによる物理架橋方法も使用してよい。マクロマーは、アセンブリ層組成物中の全モノマー成分の約１〜約２０重量部の量で使用してよい。
【００１７】
アクリル系アセンブリ層は、本質的に粘着性でよい。所望に応じて、粘着付与剤を、アクリル系アセンブリ層の形成前に前駆体混合物に加えることができる。有用な粘着付与剤としては、例えば、ロジンエステル樹脂、芳香族炭化水素樹脂、脂肪族炭化水素樹脂、テルペン、及びテルペンフェノール性樹脂が挙げられる。一般に、水素化ロジンエステル、テルペン、又は芳香族炭化水素樹脂から選択される淡色系粘着付与剤が好ましい。粘着付与剤は、含まれる場合、約１重量部〜約５０重量部、より特定すると約５〜約４５重量部、最も特定すると約１０〜約３０重量部の量で前駆体混合物に添加される。
【００１８】
一実施形態では、アクリル系アセンブリ層は、さもなくば接触センサ及びその積分回路又はコネクタを損傷しかねないインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）及び金属配線の腐食を防止するために、酸を実質的に含まなくてもよい。本明細書で使用するとき、「実質的に含まない」とは、約２重量部未満、特に約１重量部未満、より特定すると約０．５重量部未満を意味する。
【００１９】
例えば、分子量制御剤、カップリング剤、油、可塑剤、酸化防止剤、紫外線安定剤、紫外線吸収剤、顔料、硬化剤、重合体添加剤、ナノ粒子、及び他の添加剤を含めた他の材料を、特別の目的のためにモノマー混合物に添加してもよい。アクリル系アセンブリ層が、光学的に透明である必要があるケースでは、他の材料をモノマー混合物に添加してもよいが、但しそれらは、重合及びコーティング後、アセンブリ層の光学的透明性をあまり低減しない。本明細書で使用するとき、用語「光学的に透明」は、波長範囲４００〜７００ｎｍにおいて、約９０パーセントを超える光の透過率、約２パーセント未満のヘイズ及び約１パーセント未満の不透明度を有する材料を指す。光の透過率及びヘイズは両方とも、例えば、ＡＳＴＭ−Ｄ  １００３−９２を使用して決定することができる。典型的に、光学的に透明なアセンブリ層は、気泡が目視で認められない。
【００２０】
アクリル系アセンブリ層のモノマー成分は、前駆体混合物にブレンドしてよい。この前駆体混合物を、熱又は化学線に曝して（混合物中の開始剤を分解することで）、前重合させることができる。これを行った後で、架橋剤及び他の成分を添加してコーティング可能なシロップを形成することができ、これに後続して、１種以上の架橋剤、他の添加剤、及び追加の開始剤を添加してもよい。次いで配合シロップをライナーに又は直接基材にコーティングし、更に不活性雰囲気下で紫外線に曝露することによって完全に重合する。あるいは、架橋剤、任意選択の添加剤、及び開始剤をモノマーに添加してもよく、一工程で混合物の重合及び硬化を両方とも行ってもよい（例えば、液体ＯＣＡとして）。所望のコーティング方法及び粘度により、どの手順を用いるかを決定する。
【００２１】
別のプロセスでは、アセンブリ層のモノマー成分を溶媒とブレンドして混合物を形成することができる。混合物を、熱又は化学線に曝して（混合物中の開始剤を分解することで）、重合させることができる。架橋剤並びに粘着付与剤及び可塑剤等の追加の添加剤を溶媒和ポリマーに添加してよく、次いでこれをライナーにコーティングしてオーブンに通して溶媒を乾燥除去し、コーティングされた接着フィルムを得ることができる。無溶媒重合法、例えば、米国特許第４，６１９，９７９号及び同第４，８４３，１３４号（Ｋｏｔｎｏｕｒら）に記載される連続フリーラジカル重合法；米国特許第５，６３７，６４６号（Ｅｌｌｉｓ）に記載されるバッチ反応器を使用する本質的に断熱的な重合法；並びに、米国特許第５，８０４，６１０号（Ｈａｍｅｒら）に記載のパッケージ化プレ接着剤組成物の重合に関して記載される方法も、ポリマーを調製するために用い得る。
【００２２】
開示される組成物又は前駆体混合物は、ロールコーティング、スプレーコーティング、ナイフコーティング、及びダイコーティング等の任意のさまざまな当業者に既知の技術によりコーティングされてよい。あるいは、前駆体組成物を液体として送達し、２つの基材間の隙間を満たし、続いて熱又は紫外線に曝して２つの基材間の組成物を重合及び硬化させてもよい。
【００２３】
本発明はまた、アクリル系アセンブリ層を含む積層体も提供する。積層体は、２つの可撓性基材層又はその倍数間に挟まれた少なくとも１つのアセンブリ層の多層複合体として定義される。例えば、複合体は、基材／アセンブリ層／基材の３層複合体；基材／アセンブリ層／基材／アセンブリ層／基材の５層複合体等であり得る。このような多層スタック中の可撓性アセンブリ層それぞれの厚さ、機械特性、電気特性（誘電率等）、及び光学特性は、同じであってもよいが、最終的な可撓性デバイスアセンブリのデザイン及び性能特性によりよく適合するために異なっていてもよい。積層体は、以下の特性：それを使用する物品の有用な耐用年数にわたる光学透過率、それを使用する物品の層間の十分な結合強度を維持する能力、層間剥離耐性又は回避、及び有用な耐用年数にわたる気泡に対する耐性のうちの少なくとも１つを有する。気泡形成に対する耐性及び光学透過率の保持は、促進老化試験を用いて評価することができる。促進老化試験において、アクリル系アセンブリ層は、２つの基材間に配置される。次いで、得られる積層体を、ある一定時間、多くの場合は高湿と組み合わせて、高温に曝露する。高温及び高湿に曝露した後でも、アクリル系アセンブリ層を含む積層体は、光学的透明性を保持する。例えば、アクリル系アセンブリ層及び積層体は、約７２時間の間、７０℃及び相対湿度９０％で老化し、続けて室温に冷却された後でも、光学的に透明なままである。老化後、４００ナノメートル（ｎｍ）〜７００ｎｍの接着剤の平均透過率は約９０％超であり、ヘイズは約５％未満、特に約２％未満である。
【００２４】
使用時、アクリル系アセンブリ層は、凍結点をはるかに下回る温度（すなわち、−３０℃、−２０℃又は−１０℃）から約７０℃、８５℃又は更には９０℃までの広範な温度範囲にわたる何千回もの折り畳みサイクルからの疲労に耐える。更に、アクリル系アセンブリ層を導入したディスプレイは、数時間、折り畳まれた状態で、静的に位置することができるため、アクリル系アセンブリ層は、クリープが軽度からゼロであって、ディスプレイの顕著な変形（仮にあったとしても部分的しか回復できない）を防止する。このアクリル系アセンブリ層又はそのパネルの永久変形は、光学的歪み又はムラを招き得、これはディスプレイ産業において許容されない。したがって、アクリル系アセンブリ層は、ディスプレイデバイスを折り畳むことによって誘発される大きな曲げ応力に耐えることができ、更に、高温、高湿（ＨＴＨＨ）試験条件に耐える。最も重要なことには、アクリル系アセンブリ層は、広範な温度範囲（凍結点を十分に下回る温度を含む；そのため低いガラス転移温度が好ましい）にわたって非常に低い貯蔵弾性率及び高い伸び率を有し、架橋されて、静荷重下で僅かなクリープを有する又はクリープが無いエラストマーを生成する。
【００２５】
折り畳み又は展開事象の間、アクリル系アセンブリ層は、顕著な変形を経て、応力を生じることが予想される。これらの応力に耐性を示す力は、アクリル系アセンブリ層を含む折り畳みディスプレイの層の弾性率及び厚さによって部分的に決定される。折り畳みに対する低い耐性及び十分な性能、最小限の応力の発生及び屈曲事象に要する応力の良好な消散を確実にするために、アクリル系アセンブリ層は、貯蔵又は弾性率（多くの場合に剪断貯蔵弾性率（Ｇ’）として特徴付けられる）が十分に低い。この挙動が、このようなデバイスの予想される使用温度範囲にわたって一定を保つことを更に確実にするために、広範かつ関連の温度範囲にわたってＧ’の変化は最小限である。一実施形態では、関連温度範囲は、約−３０℃〜約９０℃である。一実施形態では、剪断弾性率は、全体の関連温度範囲にわたって、約２ＭＰａ未満、特に約１ＭＰａ未満、より特定すると約０．５ＭＰａ未満、最も特定すると約０．３ＭＰａ未満である。したがって、材料がガラス状態に移行する温度であるガラス転移温度（Ｔｇ）を、この関連動作範囲外及びそれを下回って配置することが好ましく、対応するＧ’の変化は、典型的に約１０７Ｐａ超の値である。一実施形態では、可撓性ディスプレイ中のアクリル系アセンブリ層のＴｇは、約１０℃未満、特に約−１０℃未満、より特定すると約−３０℃未満である。本明細書で使用するとき、用語「ガラス転移温度」又は「Ｔｇ」は、ポリマー材料が、ガラス状態（例えば、脆性、剛性、及び固さ）からゴム状態（例えば、可撓性及び弾性）に移行する温度を指す。Ｔｇは、例えば、動的機械分析（ＤＭＡ）のような技術を使用して、決定することができる。一実施形態では、可撓性ディスプレイ中のアクリル系アセンブリ層のＴｇは、約１０℃未満、特に約−１０℃未満、より特定すると約−３０℃未満である。
【００２６】
アセンブリ層は、典型的には、約３００マイクロメートル未満、特に約５０マイクロメートル未満、特に約２０マイクロメートル未満、より特定すると約１０マイクロメートル未満、最も特定すると約５マイクロメートル未満の乾燥厚さでコーティングされる。アセンブリ層の厚さは、可撓性ディスプレイデバイス中の配置に応じて最適化することができる。アセンブリ層の厚さの低減は、デバイスの全体の厚さを低減し、かつ複合構造の座屈、クリープ、又は層間剥離破壊を最小限に抑えるために好ましいことがある。
【００２７】
曲げ応力を吸収し、急激に変化する屈曲又は折り畳みの形状に適合するアクリル系アセンブリ層の能力は、当該負荷応力下で多量の歪み又は伸びに耐えるそのような材料の能力によって特徴付けられ得る。このコンプライアント挙動は、従来の引張伸び試験及び剪断クリープ試験を含めた多数の方法を通して調べることができる。一実施形態では、剪断クリープ試験において、アクリル系アセンブリ層は、約５ｋＰａ〜約５００ｋＰａ、特に約２０ｋＰａ〜約３００ｋＰａ、より特定すると約５０ｋＰａ〜約２００ｋＰａの負荷剪断応力下で、少なくとも約６×１０−６１／Ｐａ、特に少なくとも約２０×１０−６１／Ｐａ、約５０×１０−６１／Ｐａ、より特定すると少なくとも約９０×１０−６１／Ｐａの剪断クリープコンプライアンス（Ｊ）を示す。試験は、通常、室温で実施するが、可撓性デバイスの使用に関連した任意の温度でも実施することが可能である。
【００２８】
アクリル系アセンブリ層はまた、繰り返された折り畳み又は屈曲事象の後、比較的低いクリープを示して、ディスプレイの多層複合体における持続的な変形を回避する。材料のクリープは、所与の時間をかけて一定の剪断応力を材料に加える簡易クリープ実験を通して測定することができる。応力が取り除かれると、誘発された歪みの回復が観察される。一実施形態では、室温で（約５ｋＰａ〜約５００ｋＰａの範囲内の少なくとも１点の負荷剪断応力において）負荷応力を取り除いてから１分以内の剪断歪み回復は、剪断応力の印加で観察されるピーク歪みの少なくとも約５０％、特に少なくとも約６０％、約７０％及び約８０％、より特定すると少なくとも約９０％である。試験は、通常、室温で実施するが、可撓性デバイスの使用に関連した任意の温度でも実施することが可能である。
【００２９】
更に、折り畳み又は屈曲事象の間に発生する応力を最小限に抑え、応力を消散するアクリル系アセンブリ層の能力は、中間層の破壊を回避するアクリル系アセンブリ層の能力及び可撓性ディスプレイアセンブリのより壊れやすい部品を保護するその能力に極めて重要である。応力の発生及び消散は、材料に適切な剪断歪み量を強制的に与えてこれを保持する従来の応力緩和試験を用いて測定することができる。次いで、材料をこの標的歪みで保持しながら、剪断応力量を経時観察する。一実施形態では、約５００％の剪断歪み、特に約６００％、約７００％、及び約８００％、より特定すると約９００％の歪みの後、約５分後に観察される残留応力量（測定される剪断応力をピーク剪断応力で除算したもの）は、ピーク応力の約５０％未満、特に約４０％未満、約３０％未満、及び約２０％未満、より特定すると約１０％未満である。試験は、通常、室温で実施するが、可撓性デバイスの使用に関連した任意の温度でも実施することが可能である。
【００３０】
アセンブリ層として、アクリル系アセンブリ層は、ディスプレイアセンブリ内の隣接層に十分にしっかり接着して、繰り返される屈曲及び折り畳み動作を含むデバイスの使用中の層間剥離を防止しなければならない。複合体の厳密な層はデバイスに特有であるが、ＰＥＴ等の標準基材への接着性を用いて、従来の１８０度剥離試験モードにおいてアセンブリ層の一般的な接着性能を評価してよい。接着剤は、十分に高い結合力も必要とし得、これは、例えば、２つのＰＥＴ基材間にアセンブリ層材料を有する積層体を従来のＴ剥離モードにおくことで測定することができる。
【００３１】
アクリル系アセンブリ層を２つの基材間に置いて積層体を形成し、この積層体を折り畳むか又は曲げて、当該曲率半径で保持したとき、積層体は、全ての使用温度間（−３０℃〜９０℃）で、可撓性ディスプレイデバイスにおける材料破壊を表すと考えられる座屈又は層間剥離をもたらさない。一実施形態では、アクリル系アセンブリ層を含有する多層積層体は、約２４時間にわたって、約２００ｍｍ未満、約１００ｍｍ未満、約５０ｍｍ未満、特に約２０ｍｍ未満、約１０ｍｍ未満、及び約５ｍｍ未満、より特定すると約２ｍｍ未満の曲率半径を強いるチャネル内に置かれたとき、破壊を示さない。更に、チャネルから取り出され、屈曲配置から最初の平らな配置に戻ることが許されたとき、本発明のアクリル系アセンブリ層を含む積層体は、持続的な変形を示さず、逆に平ら又はほぼ平らな配置に即座に戻る。一実施形態では、２４時間保持され、次いで曲率半径が特に約５０ｍｍ未満、特に約２０ｍｍ未満、約１０ｍｍ未満、及び約５ｍｍ未満、より特定すると約３ｍｍ未満の積層体を保持するチャネルから取り出されたとき、複合体は、ほぼ平らな配置に戻り、チャネルから積層体を取り出してから１時間以内の、積層体、積層体曲げ点及び戻り面の間の最終的な角度は、約５０度未満、より特定すると約４０度未満、約３０度未満、及び約２０度未満、より特定すると約１０度未満である。言い換えれば、チャネルから積層体を取り出してから１時間以内の、折り畳んだ積層体の平らな部分の間の夾角は、チャネル中の０度から少なくとも約１３０度、特に約１４０度超、約１５０度超、及び約１６０度超、より特定すると約１７０度超の角度である。このリターンは、好ましくは、耐久性試験条件に曝した後を含めた通常の使用条件下で得られる。
【００３２】
上記の静的折り畳み試験挙動に加えて、アクリル系アセンブリ層と結合された第１及び第２の基材を含む積層体は、動的折り畳みシミュレーション試験中、座屈又は層間剥離等の破壊を示さない。一実施形態では、積層体は、約１００００サイクル超、特に約２００００サイクル超、約４００００サイクル超、約６００００サイクル超、及び約８００００サイクル超、より特定すると約１０００００サイクル超の折り畳み（曲率半径：約５０ｍｍ未満、特に約２０ｍｍ未満、約１０ｍｍ未満、及び約５ｍｍ未満、より特定すると約３ｍｍ未満）の自由曲げモード（すなわち、マンドレルは使用しない）の動的折り畳み試験で、全ての使用温度（−３０℃〜９０℃）間で破壊事象を示さない。
【００３３】
可撓性積層体を形成するために、第１の基材と第２の基材との間に本発明のアセンブリ層を配置することによって、第１の基材を第２の基材に接着する。追加の層を含めて、多層スタックを作製してもよい。次いで、圧力及び／又は熱を加えて可撓性積層体を形成する。
【実施例】
【００３４】
本発明は、例示のみを意図する以下の実施例で、より具体的に説明されるが、これは、本発明の範囲内の数多くの修正形態及び変形形態が当業者には明らかとなるためである。特に注記しない限り、以下の実施例で報告される全ての部、百分率及び比は、重量を基準とする。
【表１】
2018526470.tif 000002
【００３５】
試験方法１光学特性
ＨｕｎｔｅｒＬａｂ（Ｒｅｓｔｏｎ，ＶＡ）製のＵｌｔｒａｓｃａｎＰｒｏ分光光度計を透過モードで使用してヘイズ測定を行った。アセンブリ層を剥離キャリアライナー（ＲＦ０２Ｎ及びＲＦ５２Ｎ，ＳＫＣ  Ｈａａｓ，Ｋｏｒｅａ）間にコーティングし、およそ幅５ｃｍ×長さ１０ｃｍに切って、その厚さを測定した。キャリアライナーのうちの１つを除去し、サンプルを、１ｍｍ厚の透明なガラス片に貼り合わせた。次いで、他方のライナーを除去し、２ミル厚の光学的に透明なポリエチレンテレフタレート層（ＰＥＴ，ＳＫＣ  Ｈａａｓ（Ｋｏｒｅａ）製のＳｋｙｒｏｌ  ＳＨ−８１）をアセンブリ層に貼り合わせた。サンプルをＵｌｔｒａｓｃａｎＰｒｏ分光光度計に入れ、ＰＥＴ／ＯＣＡ／ガラスアセンブリを通して透過率及び色を測定した。追加のサンプルを準備し、６５℃及び相対湿度９０％に設定したチャンバ中で８００時間、老化させた。サンプルを湿度チャンバから取り出して冷却させた後、再度、ヘイズ測定を実施した。典型的には、光学用途に適したサンプルのヘイズ値は、約５％未満、特に約２％未満であり、ｂ＊明度は約５未満である。
【００３６】
試験方法２動的機械分析
動的機械分析を用いて、温度の関数としての弾性率を調べ、材料のガラス転移温度（Ｔｇ）を決定した。直径８ｍｍ×厚さ約１ｍｍのアセンブリ層のディスクを、ＤＨＲ平行板レオメーター（ＴＡ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ，Ｎｅｗ  Ｃａｓｔｌｅ，ＤＥ）のプローブ間に置いた。３℃／分で−４５℃から５０℃に昇温することによって温度走査を実施した。この昇温の間、サンプルを、周波数１Ｈｚ及び約０．４％の歪みで振動させた。剪断貯蔵弾性率（Ｇ’）を、選択された主要な温度で記録した。材料のＴｇも、タンデルタ対温度プロフィールのピークとして決定した。典型的な使用温度の範囲にわたるアセンブリ材料の十分なコンプライアンスを確実にするために、上記の試験を用いて測定したとき、約−２０℃〜約４０℃の全体の温度範囲にわたって、約２ＭＰａ未満の剪断貯蔵弾性率を有することが好ましい。
【００３７】
試験方法３クリープ試験
直径８ｍｍ×厚さ０．２５ｍｍのディスクをＤＨＲ平行板レオメーターに入れ、９５ｋＰａの剪断応力を５秒間加え、この５秒で負荷応力を除去し、サンプルを固定具（fixture）中で６０秒間回復させることによって、アセンブリ層サンプルをクリープ試験に付した。５秒でのピーク剪断歪み及び６０秒後の歪み回復量を記録した。応力の印加後の任意の時間での剪断クリープコンプライアンス（Ｊ）は、その時間での剪断歪みを負荷応力で除算した比として定義される。アセンブリ層中の十分なコンプライアンスを確実にするために、上記の試験で荷重を加えた後のピーク剪断歪みが約２００％超であることが好ましい。更に、可撓性アセンブリにおける材料のクリープを最小限に抑えるために、負荷応力が除去されてから６０秒後に、材料が約５０％超の歪みを回復することが好ましい。回復可能な歪みのパーセントは、（（Ｓ１−Ｓ２）／Ｓ１）×１００として定義され、式中、Ｓ１は、応力を加えてから５秒後のピークで記録された剪断歪みであり、Ｓ２は、負荷応力が除去されてから６０秒後に測定された剪断歪みである。
【００３８】
試験方法４応力緩和試験
直径８ｍｍ×厚さ０．２５ｍｍのディスクをＤＨＲ平行板レオメーターに入れ、９００％の剪断歪みを加えることによって、アセンブリ層のサンプルを応力緩和試験に付した。この変形の結果のピーク応力及び５分間にわたる応力減衰を記録した。次式：（１−（Ｓｆ−Ｓｐ））×１００％（式中、Ｓｐ及びＳｆは、ピーク及び最終点（５分）で記録された剪断応力である）によって応力緩和を計算した。
【００３９】
試験方法５Ｔ剥離試験
約０．０５ｍｍ厚のアセンブリ層を、厚さ０．０７５ｍｍの下塗りされたポリエステルの２層間に積層した。この積層体から幅１インチ×長さ６インチの細片を試験用に切った。各細片の端部をＩｎｓｔｒｏｎ（Ｉｎｓｔｒｏｎ，Ｎｏｒｗｏｏｄ，ＭＡ）の引張グリップに設置した。次いで剥離接着性の力（グラム）を測定しながら、構造体を５０ｍｍ／分の速度で剥がした。剥離試験は各実施例について３回実施し、得られた剥離力を平均した。
【００４０】
試験方法６静的折り畳み試験
アセンブリ層の２ミル厚の部分を１．７ミルのポリイミド（ＰＩ）シート間に積層して、３層の構造体を作製し、次いで５インチの長さに切った。更に、ＰＩ／ＡＳ／ＰＩ／ＡＳ／ＰＩで構成される５層の構造体も、２ミルのアセンブリ層及び１．７ミルのＰＩを用いて同様に調製した。積層構造体も、４ミル及び６ミル厚のアセンブリ層をＰＩ層間に使用して同様に調製した。次いで、サンプルを曲率半径３ｍｍ辺りで曲げ、その位置で２４時間保持した。２４時間後、接着剤の座屈又は層間剥離がなければ、サンプルは静的保持試験（static hold test）に合格とした。更に、２４時間後、サンプルを解放し、回復させ、面に対して９０度及び４５度（すなわち、それぞれ９０度及び１３５度の夾角）に達成するために要した時間を記録し、３分の終わりには最終角度Θになった。一部の場合では、サンプルは、３分の試験時間内で、面に対して４５度又は更には９０度まで回復できなかった。これらのサンプルの場合、最終角度は、その時間帯で達した最低値で記録された。静的折り畳み試験はまた、２４時間の間、−２０℃の温度でサンプルを保持して繰り返した。
【００４１】
試験方法７動的折り畳み試験
ライナーを２ミル厚のアセンブリ層から取り外し、１．７ミルのポリイミドのシート２枚の間に材料を積層して、３層の構造体を作製した。次いで、この積層体を長さ５”×幅１”に切った。ＰＩ／ＡＳ／ＰＩ／ＡＳ／ＰＩで構成される５層の構造体も、２ミルのアセンブリ層及び１．７ミルのＰＩを用いて同様に調製した。サンプルを、１８０度（すなわち、サンプルは曲げられていない）から０度（すなわち、サンプルが折り畳まれている）まで回転する２つの折り畳みテーブルを有する動的折り畳みデバイスにマウントし、約６サイクル／分の試験速度で１０００００サイクルにかけた。５ｍｍの曲げ半径は、閉じた状態（０度）にある２つの剛性板の間の隙間によって決定した。曲率を誘導するためにマンドレルは使用しなかった（すなわち、自由曲げ様式を用いた）。折り畳みは、室温で行った。
【００４２】
試験方法８分子量分布の決定
生成ポリマーの分子量分布は、従来のゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いて特性評価した。Ｗａｔｅｒｓ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｍｉｌｆｏｒｄ，ＭＡ，ＵＳＡ）から入手したＧＰＣ装置は、高圧液体クロマトグラフィーポンプ（モデル１５１５ＨＰＬＣ）、オートサンプラー（モデル７１７）、ＵＶ検出機（モデル２４８７）、及び屈折率検出機（モデル２４１０）を備えていた。クロマトグラフは、２つの５マイクロメートルのＰＬｇｅｌ  ＭＩＸＥＤ−Ｄカラム（Ｖａｒｉａｎ  Ｉｎｃ．（Ｐａｌｏ  Ａｌｔｏ，ＣＡ，ＵＳＡ）から入手可能）を備えていた。
【００４３】
ポリマー又は乾燥ポリマー材料を０．５％（重量／体積）の濃度でテトラヒドロフランに溶解し、ＶＷＲ  Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ（Ｗｅｓｔ  Ｃｈｅｓｔｅｒ，ＰＡ，ＵＳＡ）から入手可能である０．２マイクロメートルのポリテトラフルオロエチレンフィルターを通して濾過することにより、ポリマー溶液のサンプルを調製した。得られたサンプルをＧＰＣに注入し、３５℃で維持されたカラムに通して毎分１ミリリットルの速度で溶出させた。このシステムを、線形最小二乗法適合分析を用いてポリスチレン標準で較正して、検量線を確立した。重量平均分子量（Ｍｗ）及び多分散指数（重量平均分子量を数平均分子量で除算したもの）をこの標準検量線に対して各サンプルについて計算した。
【００４４】
実施例１〜６：溶媒ベースのアセンブリ層サンプルの調製
アセンブリ層フィルムを、下記の表２に記載した組成に従って調製した。実施例１において、４０ｇの２ＥＨＡ、１０ｇのＨＢＡ、０．０５ｇのＶＡＺＯ  ６７、０．０２５ｇのＴＤＤＭ、及び５０ｇの酢酸エチルをガラス瓶に添加した。内容物を混合し、窒素で２分間パージした後、密封し、Ｌａｕｎｄｒｏｍｅｔｅｒ（ＳＤＬ  Ａｔｌａｓ，Ｒｏｃｋ  Ｈｉｌｌ，ＳＣ）に入れ、２４時間、６０℃で水浴を回転した。２４時間後、ＧＰＣを用いてサンプルを分析し、ポリマーが４６５ｋＤａのＭｗ及び５．７５の多分散指数を有していたことを決定した。次いで、０．０３７ｇのＮ３３００架橋剤をこの溶液に添加し、２時間混合した後、溶液を、５０マイクロメートル厚のＲＦ０２Ｎシリコーン処理ポリエステル剥離ライナー（ＳＫＣ  Ｈａａｓ，Ｋｏｒｅａ）に、ナイフ塗布器を使用してコーティングし、５ミルの隙間を設けた。コーティングされたサンプルを７０℃のオーブンに２４時間入れておいた後、上部キャリア層のＴ５０シリコーン処理ポリエステル剥離ライナー（Ｓｏｌｕｔｉａ，ＵＳＡ）をアセンブリ層に積層した。この手順は、表２に列挙した配合物を使用して、実施例２〜６及び比較例ＣＥ１及びＣＥ２について繰り返した。
【表２】
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【００４５】
実施例７〜２０：無溶媒ベースのアセンブリ層サンプルの調製
アセンブリ層フィルムはまた、実施例７で詳述する以下の手順を用いて、表３に列挙する配合に従って調製した。透明なガラス瓶中、８０ｇの２−ＥＨＡ、２０ｇのＨＢＡ及び０．０２ｇのＤ１１７３光開始剤を混合した。サンプルを窒素で５分間パージし、コーティング可能な粘性（約２０００ｃＰｓ）を実現するまで３６０ｎｍのＬＥＤ光からの低強度（０．３ｍＷ／ｃｍ２）ＵＶに曝した。ＬＥＤ光を遮断し、空気でパージすることによって重合を止めた。次いで、追加の０．１８ｇのＤ１１７３光開始剤及び０．０１ｇのＨＤＤＡ架橋剤を、表３に示す配合物に添加し、一晩混合した。次いで粘性ポリマー溶液を、ナイフ塗布器を使用して、シリコーン処理ポリエステル剥離ライナーＲＦ０２Ｎ及びＴ５０間にコーティングし、別段の指定がない限り２ミル厚のＯＣＡコーティングを得るように隙間を設定した。次いで、この構造体を、全量１５００ｍＪ／ｃｍ２のＵＶ−Ａのバックライトランプで照射した。比較例をＣＥ３として列挙する。
【表３】
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【００４６】
実施例１〜１９並びに比較例ＣＥ１、ＣＥ２及びＣＥ３を、上記の試験方法２〜４に記載のＴｇ、弾性率、剪断クリープ、及び応力緩和特性について試験した。データを以下の表４に記録する。
【表４】
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【００４７】
実施例８〜２０及び比較例ＣＥ３を、試験方法１、５及び６による光学特性、引張伸び、及びＴ剥離接着性について試験し、結果を表５に記載した。Ｔ剥離破壊モードは、接着性（Ａｄ）、凝集性（Ｃｏ）、又は移動（Ｔｒ、軽い凝集破壊／ゴースティング）として記録する。
【表５】
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【００４８】
全てのサンプルを、試験方法６によって指示される静的屈曲条件下で試験し、一部のサンプルを、試験方法７に記載の動的屈曲性能について試験した。結果を以下の表６に列挙する。
【表６】
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【表７】
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【００４９】
本発明について、好ましい実施形態を参照して説明してきたが、当業者であれば、本発明の趣旨及び範囲から逸脱することなく形態及び細部において変更がなされてもよいことを認めることになろう。
【国際調査報告】
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