(57)【要約】  互いに対して異なる特性を有するように形成される対向する第１の表面及び第２の表面と、強化された表面処理能力を有する多目的擦り布を提供するように第１の表面及び第２の表面のうちの少なくとも一方の上に形成されるテクスチャ層と、を有する擦り布。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の表面と、前記第１の表面の反対側の第２の表面と、を有する基材を含み、
前記第１の表面が、第１のロフト度を有し、前記第２の表面が、第２のロフト度を有し、
前記第１のロフト度が、前記第２のロフト度よりも大きく、
前記第１の表面及び第２の表面のうちの少なくとも一方が、その上に形成されるテクスチャ層を含む、擦り布。
【請求項２】
前記第１の表面が、第１の高さ及び第１の密度を有し、前記第２の表面が、第２の高さ及び第２の密度を有し、前記第１の高さが、前記第２の高さよりも大きく、前記第２の密度が、前記第１の密度よりも大きい、請求項１に記載の擦り布。
【請求項３】
前記基材が、単一材料層から本質的になる、請求項１に記載の擦り布。
【請求項４】
前記第１の表面及び第２の表面の各々が、テクスチャ層を含む、請求項１に記載の擦り布。
【請求項５】
前記第２の表面が、圧密化表面を含む、請求項１に記載の擦り布。
【請求項６】
前記圧密化表面が、前記第２の表面への熱及び圧力の適用によって形成される、請求項５に記載の擦り布。
【請求項７】
前記基材が、織布地、不織布地、及び編み布地からなる群から選択される布地を含む、請求項１に記載の擦り布。
【請求項８】
前記基材が、ループを有する編み目によって形成される編み布地を含み、前記ループは、前記ループが前記第１の表面にて前記布地の平面から突出し、かつ前記ループが前記第２の表面にて前記布地の平面上に実質的に位置するように構成される、請求項１に記載の擦り布。
【請求項９】
前記テクスチャ層が、あるパターンを画定する、請求項１に記載の擦り布。
【請求項１０】
前記パターンが、複数の別個のセグメントを含む、請求項９に記載の擦り布。
【請求項１１】
前記別個のセグメントが、一連の繋がっていない線、点、又は画像のうちの少なくとも１つを含む、請求項１０に記載の擦り布。
【請求項１２】
前記テクスチャ層が、多数のセラミック微粒子を含む、請求項１に記載の擦り布。
【請求項１３】
前記テクスチャ層が、複数のランダムに分布したテクスチャリングを含む、請求項１に記載の擦り布。
【請求項１４】
前記テクスチャ層が、電子ビーム処理されたテクスチャ層又はＵＶ処理されたテクスチャ層のうちの一方を含む、請求項１に記載の擦り布。
【請求項１５】
更に、前記テクスチャ層及び基材のうちの少なくとも一方が、清掃用の化学溶液を含む、請求項１に記載の擦り布。
【請求項１６】
前記テクスチャ層が、前記基材の硬度以上の硬度を有する、請求項１に記載の擦り布。
【請求項１７】
対向する表面である第１の表面及び第２の表面を有する基材を含み、
前記第１の表面及び第２の表面のうちの少なくとも一方の吸収性が他方よりも高く、
前記第１の表面及び第２の表面のうちの少なくとも一方が、その上に形成されるテクスチャ層を含む、擦り布。
【請求項１８】
テクスチャ表面を有する擦り布を製造する方法であって、
第１の表面と、前記第１の表面の反対側の第２の表面と、を有する擦り布を提供する工程と、
前記表面のうちの少なくとも一方が、反対側の表面よりも高い吸収性、密度、ロフト度、又は高さのうちの少なくとも１つを含むように、前記布の少なくとも一方の表面を処理する工程と、
前記処理工程中、前記第１の表面に影響を受けさせないままにする工程と、
前記第１の表面及び第２の表面のうちの少なくとも一方の上にテクスチャ層を形成する工程と、を含む、方法。
【請求項１９】
前記テクスチャ層が、石鹸溶液を含む、請求項１８に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【発明の詳細な説明】
【０００１】
［背景技術］
本開示は、テクスチャ表面（単数又は複数）を有する擦り物品に関する。より具体的には、本開示は、互いに対して異なる特性を有するように形成される対向する第１の表面及び第２の表面と、強化された表面処理能力を有する多目的擦り布を提供するように第１の表面及び第２の表面のうちの少なくとも一方の上に形成されるテクスチャ層と、を有する擦り布に関する。異なって形成される表面は、比較的吸収性の高い擦り布の１つの面、及び／又は比較的高く、毛羽立っており、よりロフト性が高く、密度の低い擦り布の１つの面を、一時的又は永久的に提供することができる。
【０００２】
パッド、ワイプ、及び布の形態にある多様な清掃物品が開発されており、家庭用及び業務用に市販されている。消費者は、擦ることを必要とし、その結果、種々の程度の拭き取り（wiping）、研磨（abrading）、及び／又は擦り取り（scouring）を含み得る清掃又は表面処理作業のために本物品を使用することを所望している場合が多い。例えば、元来軟質の物品を使用して、乾燥した食品を調理台から除去することは、不可能ではないにしても困難であり得る。しかし逆に、消費者は、物品が過剰に剛性でないことを強く好む。故に、一部の場合には、消費者は、使い易さのために物品がドレープ性であることを所望する。更に、消費者は、再利用可能であり、比較的軟質であるか又は傷がつきやすい表面に対して過剰に研磨性でない擦り布を所望する場合が多い。加えて、消費者は、研磨型擦り動作と非研磨性拭き取り動作との両方を必要とする清掃作業に直面することが多い。最後に、消費者は、清掃／殺菌／消毒用化学物質（単数又は複数）を事前に充填した清掃物品を有用かつ簡便であると見出す場合が多い。
【０００３】
擦り物品は、上で特定した要望及び懸念を解消するように開発されてきた。例えば、Ｊｏｈｎｓｏｎらの米国特許第７，８２９，４７８号は、不織布地基材及びテクスチャ層を含む擦りワイプ物品を記載している。テクスチャ層は、不織布地基材の少なくとも一方の表面上に印刷される、架橋されていない研磨性の樹脂系材料である。Ｊｏｈｎｓｏｎらは、テクスチャ層組成物が、基材上に印刷され、次に、融着させられて組成物を基材に結合させることを教示している。Ｊｏｈｎｓｏｎらは、樹脂構成要素が、融着工程の一部として架橋しないことと、融着が、十分な硬度値を達成するために長い硬化期間を必要とする他の擦りワイプ物品形成技法に比べて、明白な利点を示すことを更に記載している。Ｊｏｈｎｓｏｎらの擦りワイプ物品は、「乾燥」した状態で使用することができ、あるいは化学溶液を充填することができる。
【０００４】
Ｔｈｉｏｌｉｅｒｅらの米国特許出願公開第２００６／０２８６８８４号は、液体吸収性ウェブ材料と、ウェブの表面上に配設された硬化した粒子状結合剤材料を含む研磨領域と、を含む拭き取り物品を記載する。ウェブ材料としては、織布地、編み布地、及び不織布地材料を挙げることができる。不織布地材料としては、乾式、湿式、及びスパンボンド式材料を挙げることができる。好適な結合剤材料が開示され、これらは、加熱、冷却、又は紫外線光によって硬化可能なものである。
【０００５】
Ｓｍｉｔｈらの米国特許出願公開第２００７／０２１２９６５号は、１つは連続可撓性基材、もう１つは可撓性基材に固着される不連続研磨層である、少なくとも２つの別個の構成要素を組み合わせる可撓性擦り材料を記載している。研磨層は、連続可撓性基材とは異なる材料から形成される一式の板である。板材料は、エポキシなど、後に凝固する印刷可能な材料である。Ｓｍｉｔｈらは、研磨板が、研磨粒子を内部に埋め込んだ又は埋め込んでいない紫外線又は熱硬化性ポリマー材料などの凝固した材料から形成し得ることを教示している。Ｓｍｉｔｈらは、従来のスクリーン印刷、ＵＶエッチング、及びローラ印刷などの、板を基材上に印刷するための技法を更に記載している。板の適用の前に、接着剤を布地に噴霧する。Ｓｍｉｔｈらは、異なる研磨レベルを持つ２つの表面を有する実施形態を教示しており、この実施形態では、研磨レベルは、共に組み立てられるか又は別の基材に積層されて擦りパッドを形成する２つの個々の基材上に提供される。代替的に、単一の印刷された布地を中間層に縫い付けて、複合体（多層基材）擦り布を形成することができる。
【０００６】
他の清掃ワイプの構成は、ベース基材の表面内又は表面にて、軽度に研磨性の粒子を含む又は組み込む。例えば、Ｗｏｎｇらの米国特許第５，２１３，５８８号は、不規則な形状のポリマー粒子を含有する混合物を上に印刷された紙タオル様のベース基材からなる研磨性ワイプを記載している。
【０００７】
Ｋｉｒｓｃｈらの米国特許第４，１４２，３３４号は、印刷プロセスによって適用されるオープンパターンで各表面の少なくとも一部分の上に固形結合剤のコーティングを有する、擦り取り及び清掃布を記載している。Ｋｉｒｓｃｈらは、パターンが不織布地中に押下されて平らな表面を作り出すことができるように、その表面上に印刷されたパターンを有する圧密化された不織布地を教示している。しかしながら、Ｋｉｒｓｃｈらは、記載のパターンを印刷する前に、対向する異なって形成される布地の表面についても、圧密化された面又は表面を１つのみ有する布地についても記載していない。
【０００８】
種々の材料及び材料組成物を使用して、テクスチャ表面を有する擦り物品を形成し得る。しかしながら、比較的吸収性の高い面を形成するように処理された１つの表面と、少なくとも一方の表面上に形成されるテクスチャ層とを有する単一層基材で形成される清掃又は擦り布は、現在入手不可能である。同様に、毛羽立ち、ロフト性であり、密度の低い、又は比較的高い（即ち、基材の繊維が基材の中立面から離れて突出する）表面と、反対側の比較的平坦で、よりロフト性が低く、より密度が高く、より低い表面とを有し、これらの表面のうちの少なくとも一方の上にテクスチャ層が提供された単一層基材で形成される擦り布も、現在入手不可能である。かかる多目的布は、有利にも、単に処理される表面に適用する布の面を裏返すことによって、単一の擦り物品を用いて、非研磨性の拭き取り及び／又は液体吸収と、擦り取り／研磨動作との両方の達成を可能にし得る。
【０００９】
上記のように、擦り布の特性及び製造における改善は、有益かつ望ましくあり得る。従って、異なる対向する表面（例えば、一方の表面／面が、反対側の、より吸収性が低く、平坦で、よりロフト性が低く、より密度の高い、かつ／又はより滑らかな表面（少なくとも一時的に）よりも、より吸収性が高く、より毛羽立ち、よりロフト性が高く、密度が低く、かつ／又はより高く突出している繊維である）と、これらの表面のうちの少なくとも一方の上のテクスチャ層と、を有する単一層基材の利益及び利点を含む多目的擦り布の必要性が存在する。同様に再利用可能なかかる擦り布の必要性も存在する。
【００１０】
［概要］
本開示の態様は擦り布に関する。本開示の擦り布は、対向する異なる表面（例えば、異なる相対的なロフト、高さ、毛羽立ち、吸収特性など）、及びこれらの表面のうちの少なくとも一方の上に形成されるテクスチャ層を含む、多様な形態をとり得る。いくつかの実施形態では、擦り布は、第１の表面と、第１の表面の反対側の第２の表面とを有する基材を含み、第１の表面は、第１のロフト度を有し、第２の表面は、第２のロフト度を有し、かつ、第１のロフト度は、第２のロフト度よりも大きい。他の実施形態では、擦り布は、対向する表面である第１の表面及び第２の表面を有する基材を有する基材を含み、第１の表面及び第２の表面のうちの少なくとも一方の吸収性が他方よりも高い。種々の開示される基材の第１の表面及び第２の表面のうちの少なくとも一方は、その上に形成されるテクスチャ層を含む。テクスチャ層の形成は、種々の技法によって達成され得、テクスチャ層組成物は、種々の材料で形成され得る。いくつかの実施形態では、布の第１の表面は、第２の表面の第２の高さよりも大きい第１の高さを有することができ、第２の表面は、第１の表面の密度よりも大きい密度を有することができる。
【００１１】
いくつかの実施形態によれば、擦り布は、第１のロフト性のある又は毛羽立った表面と、反対側の第２のよりロフト性のない又は平坦な表面とを有し、一方で、代替的な実施形態によれば、擦り布の対向する表面の相対的なロフト、密度、及び高さは等しく、擦り布を形成する基材は、反対側の面又は表面と比べて異なる吸収特性を有する面又は表面を形成するように、一方の面において処理される。記載の擦り布は、多目的及び／又は再利用可能な擦り布を形成してもよい。本開示に従う擦り布は、織布地、編み布地、及び不織布地、又はこれらの組み合わせを含む、種々の布地から作製される単一層基材を含む。
【００１２】
いくつかの実施形態では、テクスチャ層は、より平坦な表面が永久的に平坦になったままであるときに、比較的平坦な表面上に形成されてもよい。代替的に、より平坦な表面は、一時的にのみより平坦であるように形成されることにより、テクスチャ層が、表面が平坦な構成である間にその上により容易に形成され得るようにしてもよい。更なる代替手段としては、テクスチャ層は、より平坦な表面が、比較的平坦でよりロフト性でない構成に永久的に留まっているときに、比較的ロフト性の（毛羽立った）表面上に形成されてもよい。また更なる代替手段としては、テクスチャ層は、よりロフト性である表面上と、反対側の相対的な平坦な表面上との両方に形成され、それでも多目的清掃動作を提供する清掃物品をもたらし得る（テクスチャリングされていない表面部分における相対的な差異を所与として）。また更なる実施形態では、テクスチャ層は、反対側の面よりも吸収性の高い一方の面を有する基材の表面上に形成されてもよい。
【００１３】
本開示に従う方法は、テクスチャ層が上に形成された擦り布の形成を含み、これは、基材の一方の面を処理して、基材の反対側の面の表面特徴とは異なる表面特徴を有する処理された表面を形成することを含む。基材の反対側の面は、未処理であってもよく、又は処理された面の処理による影響を受けないままであってもよい。反対側の面は、第１のロフト性である表面を形成し得、処理された面は、第２の平坦にされた又はよりロフト性でない表面を形成し得る。いくつかの実施形態では、処理された面は、より吸収性の高い表面を形成し、反対側の面は、より吸収性の低い表面を形成する。処理は、カレンダリング、熱圧縮、火炎処理化、溶融、切削、繊維高の除去、プラズマ処理、噴霧、火炎処理、又は放電を含む、種々の加工方法によって獲得され得る。テクスチャ層は、基材の少なくとも一方の表面上に形成されて、擦り布を形成する。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本開示の一実施形態に従う擦り布の斜視図である。
【図２】図１の擦り布のテクスチャ表面の拡大平面図である。
【図３】図１に示される線３−３に沿った、図１の布の一部分の拡大断面図である。
【図４】本開示の実施形態に従う擦り布の拡大断面図である。
【図５Ａ】基材の第１の面上の繊維を例解する、擦り布の第１の表面の平面図である。
【図５Ｂ】本開示の実施形態に従う基材の第２の面上の繊維を例解する、図５Ａの擦り布の反対側の表面の平面図である。
【図６Ａ】本開示の実施形態に従う、基材の第１の表面及び第２の表面を示すように角を折り返した例示的な基材の一部分の写真である。
【図６Ｂ】本開示の実施形態に従う、図６Ａの基材から形成された擦り布の一方の面の写真である。
【図７Ａ】本開示に従う、例示的な擦り布のテクスチャ表面の一部分の写真である。
【図７Ｂ】図７Ａの擦り布のテクスチャ表面の反対側の表面との両方を示すように布の角を折り返した、図７Ａの擦り布の一部分の写真である。
【図８】表面に適用される図３の布部分の図である。
【図９Ａ】本開示に従う擦り布の代替的実施形態の上面図である。
【図９Ｂ】本開示に従う擦り布の代替的実施形態の上面図である。
【図１０】本開示の実施形態に従う製造方法の間の基材の簡略な図示である。
【図１１】本開示の実施形態に従う擦り布の製造方法の簡略な図示である。
【図１２】本開示の実施形態に従う擦り布の拡大縦断側面図である。
【図１３】本開示の実施形態に従う擦り布の一部分の縦断側面図である。
【００１５】
［詳細な説明］
図１は、本開示に従う擦り布１０の実施形態を例解する。擦り布１０は、消費者用清掃又は擦り布１０として記載されてもよい。本明細書全体で使用される場合、「消費者用」という用語は、布１０の、いずれの家庭用、化粧用、業務用、病院用、又は食品業界用などの用途をも指す。ある特定の実施形態は、例えば、フロアパッド又はハンドパッドとして使用され得る。更に本明細書全体で使用される場合、「擦り」という用語は、表面処理を説明するために使用され、種々のレベル又は研磨の程度及び／又は擦り取り動作（例えば、強力、耐擦過性など）を含む、清掃、研磨、及び／又は擦り取りを含んでもよい。布１０は、基材１２及びテクスチャ層１４（図１において概して言及される）を含む。基材１２及びテクスチャ層１４は、以下で更に記載されるように、種々の異なる材料を含むことができる。いずれにせよ、擦り布は、異なる表面又は面（例えば、１６、１８）を有する対向する面と、基材１２の少なくとも一方の表面の上に形成され、恐らく基材１２の少なくとも一方の表面を少なくとも部分的に貫通するテクスチャ層１４とを含んで、多目的清掃物品を提供することを特徴とする。
【００１６】
図１及び３を参照すると、基材１２は、擦り布１０の第１及び第２の対向した表面を形成する、第１及び第２の対向する表面（面としても記載される）１６、１８を画定する。換言すると、擦り布１０は、単一の（積層されていない）基材／布地１２（本明細書で使用される場合、基材及び布地という用語は相互に置き換え可能である）から形成されるため、布地１２の表面１６、１８は、同様に、擦り布１０の表面１６、１８を形成する。テクスチャ層１４は、基材１２の表面１６、１８のうちの一方又は両方の上に形成されて、擦り布１０を形成する。例えば、テクスチャ層１４は、図１の実施形態において、表面１８上に形成される。いくつかの実施形態では、擦り布１０は、基材１２中に充填される又は基材１２によって吸収される、化学物質（例えば固体又は溶液、図示せず）を更に含む。代替的に、化学物質は、（例えば、乾燥、噴霧などによって）布表面上に形成されてもよく、あるいはテクスチャ層組成物１４の一部として提供されてもよい。適用可能な化学物質については、同様に、以下で詳述する。テクスチャ層１４は、中性、陽イオン性、又は陰イオン性であるものを含む、多種多様な化学物質に対応するように構成され得る。更に、擦り布１０は、化学製剤なしでも同等に有用である。
【００１７】
基材１２及びテクスチャ層１４の組成物及びその加工が以下で提供される。一般論として、擦り布１０は、一方の面（例えば、１６）上にロフト性で毛羽立った表面を有し、反対側の面／表面（例えば、１８）上に相対的によりロフト性でない、平坦、又は滑らかな表面を有するように形成される多目的擦り布として記載されてもよい。擦り布１０のよりロフト性の面又は表面１６は、擦り布１０のよりロフト性でない又は平坦な面／表面１８の平均繊維高よりも高い平均繊維高を有する（以下に考察されるように、高さは図５の中立面Ｍに準拠する）。加えて、基材１２の一方の面（例えば、１６）は、その面が異なるロフト性、毛羽立ち、密度などを有するか否かに関わらず、相対的に吸収性の高い又は低い面を提供するように処理されてもよい。記載した異なる特徴（即ち、平坦対毛羽立ち）を有する対向する面１６、１８を持つ基材１２を形成するために、基材１２は、種々の方法で製造され得る。基材１０の一方の面（例えば、１８）は、一時的にのみ処理（例えば、圧密化）されるように構成されることにより、テクスチャ層１４が、より容易に又は簡単にその上に形成され得るようにしてもよい。この場合、テクスチャ層１４が、処理された表面１８上に配置又は形成された後、上にテクスチャ組成物を有しない処理された表面部分の繊維（例えば、２８、図７Ａ、１２）は、使用後又は最初の洗浄サイクルの実施後など、処理されていない（例えば、毛羽立った、ロフト性の）状態に戻すことができてもよい。代替的に、表面１８は、永久的に処理される（例えば、反対側の表面１６と比べて、平坦化される、よりロフト性でない、又はより低い高さを有する）ように構成されてもよく、この場合、表面１８の繊維は、布１０の寿命（使用）を通して、平坦化され、よりロフト性でなく、高さがより低い状態に留まり得る。更に代替的に、基材１２は、最初に布地へと形成されるとき、布地自体の形成時に相対的に毛羽立って平坦な対向する表面１６、１８を提供するような方法で、製造されてもよい。この場合、平坦な表面（例えば、１８）は、同様に、布の寿命（使用）を通して、比較的平坦化された又は滑らかな（よりロフト性でない）状態のままであり得る。
【００１８】
布１０の（又は基材１２の）表面を説明するために使用される場合、「平坦」という用語は、表面特徴を定義することが意図され、表面特徴としては、概して均一である、均一である、完全に平坦である、実質的に平坦である、滑らかである、圧密化されている、より密度が高い、よりロフト性が低い（即ち、ロフト度がより低い）、より毛羽立っていない、より短い、高さがより低い、及び／又は概して同じ平面に位置する表面の繊維を有する、という特徴が挙げられ、ここで、「より高い（more）」及び「より低い（less）」という用語は、反対側の面／表面に対するものである。加えて、布１０（又は基材１２）の反対側の表面を説明するために本明細書で使用される場合、「毛羽立ち」又は「毛羽立った」という用語は、表面特徴を定義するように意図され、表面特徴としては、開放性である、ロフト性が高い（即ち、ロフト度がより高い）、より密度が低い、圧密化されていない、凝縮されていない、より高い、又は高さがより大きい、という特徴が挙げられ、ここで、「より高い（more）」及び「より低い（less）」という用語は、反対側の面／表面に対するものである。「平坦」又は「毛羽立ち」という用語を単独で、又は「滑らかな」、「よりロフト性でない」、「開放性、ロフト性」などといった他の用語と共に使用するとき、種々の特長を示すために「及び／又は」という用語が使用されるか否かに関わらず、特徴のうちのいずれか１つ又は全てが、表面特徴を定義するために使用され得ることが、理解される。
【００１９】
本開示の実施形態に従う擦り布を説明するために使用される場合、「吸収性（absorbent）」、「吸収力（absorptive）」、及び「吸収（absorbing）」という用語は、少なくともある程度は材料（例えば、液体）を可逆的に吸収する能力を有すると定義される。言い換えると、吸収性材料は、中に液体が浸透することができ、その液体を閉じ込め不可逆的に保持するのではなく、材料が、蒸発（乾燥）か物理的な力（例えば、手による圧力／絞り）のいずれかによって液体を放出し得るものと定義され得る。故に、基材のより吸収性の高い面又は表面は、基材の反対側の面よりも容易に又は大幅に液体を吸収することができ、吸収された液体は、例えば、手（例えば、絞り）によって又は乾燥によって、基材から少なくとも部分的に除去されることができる。
【００２０】
更に、一般論として、擦り布１０は、基材１２の少なくとも一方の面又は表面上に形成されるテクスチャ層１４によって付与される「擦り性（scrubbiness）」又は研磨属性を提供すると説明されてもよい。逆に、擦り布１０は、研磨性表面／面の反対側の面上に拭き取り又は非研磨属性を提供する。「擦り性」という用語は、以下で更に十分に説明されるように、表面に固着した比較的小さい望ましくない物体を、布がその物体の上を前後に動かされるときに研磨又は除去する能力を指す。基材は、基材自体と少なくとも同じ硬さであるか又は基材よりも硬くてもよい硬化された擦り材料（即ち、テクスチャ層）を基材の表面上に形成することによってのみでなく、擦り材料の別個のセクション間の左右の間隙と併せて、そのように形成された材料が、基材表面若しくは繊維から又はそれを超えて延在する程度によっても、擦り性特徴を付与されることができる。
【００２１】
図１の実施形態では、擦り布１０は、一方の面上にロフト性の毛羽立った表面（例えば、１６）を有し、反対側の面上に比較的よりロフト性でない、平坦な、又は滑らかな表面（例えば、１８）を有することを特徴とし、ここで、擦り布１０のよりロフト性の面又は表面１６は、よりロフト性でない表面１８の平均繊維高よりも高い平均繊維高を有する繊維５０を含む。「ロフト（loft）」又は「ロフト性（loftiness）」という用語は、本明細書で使用される場合、問題の表面／領域／容積を形成する繊維５０の間隔又は「開放性（openness）」を指す。例えば、単位面積当たりの繊維がより少ない第１の表面／領域／容積は、同じデニールの繊維から成る第２の表面／領域／容積と比べて、より高いロフト度を有すると考えられる。代替的に、ロフト又はロフト性は、かさ密度の観点から定義され得る。「かさ密度」は、単位容積当たりの所与の布地の重量である。布地厚は多数の方法で測定することができる。１つの正確な方法は光走査技法を用いる。
【００２２】
図３は、図１の布１０の一部分の断面図を示す（ここで、図３の配向は、布１０が図１の配向に対して反対方向を向いている、即ち、テクスチャ表面１８が、図１の配向では上向き、図３では下向きであるような向きである）。擦り布１０の対向する表面１６、１８は、それぞれ、繊維５０ａ、５０ｂを含む。繊維５０ａ、５０ｂは、同じ基材材料又はベース繊維５０で形成され、異なる参照番号は、種々の表面１６、１８での繊維５０の特徴の差異を示すように意図されていることが理解される。基準点として、本明細書で使用される場合、「高さ」という用語は、基材１２の平面配向と概して平行である（例えば、第１の表面及び第２の表面１６、１８が、概して平坦な平面に位置するとき、例えば、布１０が二次的な概して平坦な表面又は物体（例えば、テーブルＴ、図７Ｂ）の上に置かれるときに、第１の表面及び第２の表面１６、１８と平行である）中立面Ｍに対してそれを越える（又は繊維５０ａについては図３及び８の配向に対して「上」である）、繊維５０ａ、５０ｂ、従って表面１６、１８の伸長を指す。例え平坦な二次的な物体の上に置かれるときであっても、第１の表面１６は「平坦」ではなく、なぜならそれは、この用語が第２の表面１８を説明するために本明細書で使用されるからであることが理解される。代替的に、第１の表面１６の高さは、図４に描出されるように、第２の表面１８から／に対して測定することができる。以下で更に詳述するように、（中立面Ｍに対してではなく）第２の表面１８に対しての繊維５０ａの測定は、布地が平坦な第２の表面１８を有するように最初に形成される場合に特に有用であり得、これは、繊維５０が、第２の表面１８と反対の外向きの（即ち、図４の配向に関して上向きの）方向に突出するように編まれるか又は織られるためである。
【００２３】
第１の表面及び第２の表面１６、１８と関連付けられるロフト性特徴をよりよく例解するために、図５Ａ及び５Ｂを参照する。図５Ａは、織り布１０の第１の表面１６の平面図であり、擦り布１０の第１の面上の繊維５０ａ（概して言及される）、及び第１の表面１６上に形成されるテクスチャ層１４の一部分を例解する。図５Ｂは、図５Ａの擦り布の反対側の表面の平面図であり、布１０の第２の面上の繊維５０ｂ（概して言及される）を例解する。特に、基材１２は、均一な材料構築を有し（即ち、基材１２は、単一の均一な材料／組成物からなり、単一の積層されていない層であり）、異なる第１の表面及び第２の表面１６、１８を生成するように加工される。具体的には、基材１２は、第１の表面１６が第１のロフト度及び第１の高さｈ１を有し、一方で、第２の表面１８が第２のロフト度及び第２の高さｈ２を有するように、（少なくとも一時的に）形成される（図３）。擦り布１０は単一層基材１２のみで形成されるため、基材の第１の表面及び第２の表面の各々のロフト性及び高さは、擦り物品１０の表面（１６、１８）の各々のロフト性及び高さを形成することが理解される。表面１６、１８は、互いに視覚的に区別可能であってもよく、このことは、これらが、以下に記載され、図６Ａに描出されるように、裸眼で容易に識別可能であることを意味する。
【００２４】
上記の慣例を参照すると、第１のロフト度（即ち、第１の表面１６と関連付けられるロフト度）は、第２のロフト度（即ち、第２の表面１８と関連付けられるロフト度）よりも大きい。同様に、第１の高さｈ１（即ち、第１の表面１６と関連付けられる高さ）は、第２の高さｈ２（即ち、第２の表面１８と関連付けられる高さ）よりも大きい。図５Ａを特に参照すると、ロフト度は、繊維５０ａの「開放性」によってよりよく例解される。繊維５０ａは、繊維５０ｂと比較してより明瞭に離間される。故に、第１の表面１６は、第２の表面１８の単位容積当たりの繊維５０の数と比較した場合、より少ない単位容積当たりの繊維５０を有すると説明することができる。下記のように、一実施形態では、このロフト度又は単位容積当たりの繊維の差異は、基材１２を第２の表面１８にて処理することによって獲得することができ、あるいは、第２の表面１８にてより密度の高い（よりロフト性が低く、毛羽立った）構造を有するように基材１２を形成すること（例えば、編むこと、織ること）によって、布地形成プロセス中に達成されてもよい。
【００２５】
いずれにせよ、一実施形態では、第１の表面１６のかさ密度は、第２の表面１８のかさ密度よりも少なくとも１００％小さく、より好ましくは少なくとも２００％小さく、及び更により好ましくは少なくとも３００％小さい。かさ密度はロフト性と逆の関係を有するため、より低いかさ密度を有することで、（第１の表面１６の）第１のロフト度は、（第２の表面１８の）第２のロフト度よりも大きくなる。
【００２６】
図５Ａから更に明らかなように、基材１２を含む繊維５０（繊維５０ａ及び５０ｂを包含する）は、一実施形態では、基材１２内にランダムに又は半ランダムに分散される。故に、表面１６での擦り布１０は、明確な「縁部」を有しなくてもよい。代わりに、図５Ａに描出されるように、繊維５０ａのうちの種々のものは、（図５Ａにおいて破線で示される）布１０の仮定の縁部を越えて「延在」又は突出する。しかしながら、繊維５０が、図５Ｂに描出されるように、圧密化状態にあるか、又は平坦なより低い表面を提供するように形成されるときは、繊維５０ｂはより明確な縁部を提供し得る。いずれにせよ、特定の表面の「高さ」は、表面１６、１８にて位置付けられる／延在する繊維５０ａ、５０ｂの大部分によって定義される公称高さとして、より正確に説明することができる。例えば、繊維５０ａが組み合わさって、第１の表面１６の高さを定義し、繊維５０ｂが組み合わさって、第２の表面１８の高さを定義する。
【００２７】
いずれにせよ、また一実施形態では、第１の表面１６の高さは、第２の表面１８の高さの少なくとも１２０％、より好ましくは少なくとも１５０％、及び更により好ましくは少なくとも２００％である。別の言い方をすると、中立面に対して、第１の表面１６は、第２の表面１８が延在するよりも高く又は遠く中立面Ｍを越えて延在する。
【００２８】
代替的に、基材１０の対向する面１６、１８のロフト度及び高さは、実質的に等しい。しかしながら、一方の面（例えば、１６）は、反対側の面（例えば、１８）よりも大きい（又は小さい）吸収度を有する面を形成するように処理されてもよい。図１３は、対向する面又は表面１６、１８と、表面１８上に形成されるテクスチャ層１４とを有する擦り布１０の実施形態を例解する。表面１６、１８の相対的なロフト度及び高さは、実質的に同じか又は等しい。しかしながら、面１６は、化学的、物理的、又は他の方法などによって処理されて、繊維５０ｂの吸収性、ひいては面１８よりも比較的高い吸収性質（即ち、より高い吸収性）を有する、繊維５０ａ、ひいては面１６を提供する。いくつかの化学及び物理処理としては、例えば、プラズマ処理、火炎処理、放電、及び／又は布１０を形成するために使用される基材１２の一方の面上に化学組成物を噴霧若しくは配置することが挙げられる。処理により、基材１２の反対側の面の繊維（例えば、５０ｂ）よりも比較的高い（又は低い）吸収性を有する繊維（例えば、５０ａ）が作成されることが重要である。更に、基材１２が、ロフト性が比較的より高く、密度がより低く、より高い１つの繊維面（例えば、１６）を有するように上記のように形成される場合であっても、基材の一方の面は、基材１２の表面１６、１８の更なる相対的吸収レベルを提供するように、化学的又は物理的に上記のように処理されてもよい。
【００２９】
基材組成物
基材１２は、種々の材料から、種々の形態で形成される。種々の織布、編み布、及び不織布材料を含むがこれらに限定されない、消費者用擦り布としての使用に好適な任意の基材材料又は材料の組み合わせを使用することができる。基材１２の材料及び形態は、所与の擦り作業に特に好適である、及び／又はその上にテクスチャ組成物を配置若しくは形成するのに特に好適である、伸展性、弾性、耐久性、柔軟性などの、種々の範囲の所望の特性を提供するように選択することができる。擦り布における使用に好適な材料の耐久性は、「使い捨て」（その材料から形成される布が使用後すぐに廃棄されることを意図されていることを意味する）、「半使い捨て」（その材料から形成される物品が、限られた回数、洗浄及び再利用され得ることを意味する）、又は「再利用可能」（その材料から形成される物品が洗浄及び再利用されることを意図されていることを意味する）として分類される場合が多い。基材１２に有用な材料は、幅広い耐久性特性（即ち、使い捨て、半使い捨て、又は再利用可能）を有するように選択されてもよいが、再利用可能な特性を有するように特に選択されてもよい。
【００３０】
また上で示したように、材料は、その柔軟性に基づいて選択されてもよい。比較的より柔軟性がありしなやかな擦り物品（例えば、ドレープ性）が好まれる適用においては、より柔軟性のある基材１２を提供することで、使用者が、特定の擦り作業に最も適当な様式で、擦り物品１０を容易に折り畳み、絞り、又は操作することが可能となる。基材１２の所望のしなやかさは、その乾燥坪量を基準として最もよく説明される。１つの非限定的な例として、ある実施形態においては、本開示の不織布地基材１２は、約３００ｇ／ｍ２未満であるが、好ましくは約３０ｇ／ｍ２を上回る乾燥坪量を有する。他の実施形態では、不織布地基材１２は、約２００ｇ／ｍ２未満の乾燥坪量を有する。代替的に、不織布地基材１２のしなやかさは、ドレープ性の観点で表すことができる。「ドレープ性」は、不規則又は非平坦な表面に一致する固有能力として定義される。ドレープ性又は「ドレープ」は、「Ｈａｎｄｌｅ−Ｏ−Ｍｅｔｅｒ  Ｓｔｉｆｆｎｅｓｓ  ｏｆ  Ｎｏｎｗｏｖｅｎ  Ｆａｂｒｉｃｓ」ＩＳＴ  ９０．３（９５）に対するＩＮＤＡ基準を使用して測定される。これを考慮すると、不織布地基材１２は、約２５０未満のドレープ性値を有することが好ましい。
【００３１】
本開示の布地を形成するのに使用されるいくつかの例示的な基材１２がこれより説明されるが、上述の通り、多種多様な材料が基材１２に使用され得る。本開示で有用な例示的な布地としては、８２％のポリ（エチレンテレフタレート）と、０．４５〜０．７５ｍｍの範囲にある厚さ及び１６０グラム毎平方メートルの単位重量を有する１８％のポリアミド６繊維とから調製される編み布地が挙げられる。
【００３２】
同様に不織布地が使用されてもよく、必須のしなやかさに加えて、伸展性、弾性などの、所望の特性を提供するように選択される、種々の材料から種々のやり方で形成され得る。最も大まかに言うと、一般的な不織布地は、所望のやり方で互いに絡み合った（及び任意選択で結合された）別個の繊維（例えば、５０、図１）からなる。繊維は、合成であるか製造されることが好ましいが、木材パルプ繊維などの天然材料を含んでもよい。本明細書で使用するとき、用語「繊維」には、無限長の繊維（例えばフィラメント）及び不連続な長さの繊維（例えばステープルファイバー）が含まれる。不織布地基材１２に関連して使用される繊維は多成分繊維であってもよい。「多成分繊維」という用語は、繊維の横断面において、少なくとも２つの別個の長手方向に同じ拡がりを持つ構造化されたポリマードメインを有する繊維を指し、ドメインが分散、ランダム、又は構造化されていない傾向にある配合物と対照的である。別個のドメインは、故に、異なるポリマークラス（例えば、ナイロン及びポリプロピレン）からのポリマーで形成されてもよく、あるいは同じポリマークラス（例えば、ナイロン）であるが、その特性又は特徴が異なるポリマーで形成されてもよい。「多成分繊維」という用語は、故に、同心及び偏心鞘型繊維構造、対称及び非対称サイドバイサイド型繊維構造、海島型繊維構造、パイウェッジ（pie wedge）型繊維構造、及びこれらの構成の中空繊維を含むことが意図されるが、これらに限定されない。基材１２に有用な多種多様な異なる型の繊維の可用性に加えて、繊維を互いに結合させるための技法も広範囲にわたる。大まかに言うと、本開示と関連して使用され得る不織布地基材１２を作製するための好適な加工としては、スパンボンド、ブローンマイクロファイバー（ＢＭＦ）、熱結合、湿式、エアレイド、樹脂結合、スパンレース、超音波結合などが挙げられるが、これらに限定されない。
【００３３】
いくつかの実施形態では、基材１２は、既知のスパンレース加工技法に従ってサイズ決定される繊維を利用してスパンレースされる。この製造技法では、不織布地基材１２の１つの構築は、０．５〜０．６Ｐａ（５０〜６０ｇ／ｍ２）での、１．５デニールのポリエステルと１．５デニールのレーヨンとの５０／５０重量％のブレンドである。基材１２は、当該技術分野で既知であるように、まずカーディングされ、次に高圧水ジェットによって絡められる。スパンレース技法は、熱的樹脂結合成分の必要性を除去することで、得られる不織布地基材が事実上いずれの型の化学溶液（即ち、陰イオン性、陽イオン性、又は中性）による充填も受け入れるようにする。例示的な不織布地としては、熱的にポイント接着されたスパンボンドポリ（エチレンテレフタレート）不織布地が挙げられる。
【００３４】
他の編み布地、織布地、及び不織布地が同様に企図され、これらの例は、限定的であるとは意図されない。正確な構築に関わらず、しかしながら、基材１２は、極めて柔軟性及びドレープ性であり、かつ擦り目的で物品１０を使用する使用者による使用及び取扱いを助け、擦り布１０の意図される使用を考慮して選択される。更なる実施形態は、例えば接着促進剤層又は結合層（tie layer）などの、基材１２の表面１６、１８上にある１つ又は２つ以上の追加の層を含むことができる。
【００３５】
基材形成
上記のように、基材１２は、対向する面１６、１８上に異なるロフト度、高さ、及び相対的な「平坦性」／「毛羽立ち」を有するように形成されてもよい。加えて、上記のように、これらの特長を含むように基材１２を形成することは、種々の方法で達成され得る。概して、基材１２は、第１の過程で又は布地１２の製造の際に形成されることにより、対向する面１６、１８が、布地１２の製造直後にいかなる更なる加工もなく、様々な（異なる）特長を含むようにすることができる。代替的に、また以下に詳述するように、基材１２は、まず布地へと形成されてもよく、次いで布地の一方の面（例えば、１８、図１０）が処理されて、よりロフト性が低いか、より平坦であるか、又はより高さの低い表面を提供することができ、一方で、反対側の面（例えば、１６）は、同じ処理に付されず、それにより、よりロフト性が高く、より開放性であり、より高い反対側の未処理の表面がもたらされる。
【００３６】
相対的な平坦な／毛羽立った表面１６、１８を提供するために基材１２が最初に形成される実施形態では、種々の方法を使用して布地形成を獲得し得る。例えば、布地の一方の面が、相対的に平坦な表面１８を有する布地のより低い平面を形成し、一方で、布地１２の反対側の面１６が、平坦な表面１８とは反対側の外向きの方向に突出している繊維（例えば、５０）を含むことで、比較的毛羽立ったロフト性である表面１６を形成するように、編み目又は織りが構成される様式で、布地／基材１２が編まれるかあるいは織られてもよい。
【００３７】
図６Ａ〜６Ｂは、これらの方法に従って形成された例示的な基材１２及び擦り布１０の写真である。判断の基準として、図６Ａの例示的な実施形態では、基材１２は布地１２を形成し、この布地１２は、例解される図において、折れ目Ｆにてそれ自体の上に（例えば、半分に）折り畳まれ、それ自体の上に折り返されて表面１８を露出した折り畳まれた布地の角部Ｃを有する。図６Ａの布地１２は、以下に記す実施例、試料１に従って最初に形成された。布地の一方の面１８は、相対的に平坦な表面を有する布地のより低い平面を形成し、一方で、布地１２の反対側の面１６は、表面１８とは反対側の外向きの方向に突出している繊維（例えば、５０）を含むことで、相対的に毛羽立ったロフト性である表面１６を形成する。これらの実施形態（布地１２が相対的な異なる対向する表面１６、１８を提供するように最初に形成される実施形態）に従って形成される布地／基材１２は、有利にも、平坦な表面１８上のテクスチャ層１４の配置又は形成を容易にし得、これは、相対的に平坦又は滑らかである表面を提供することにより、明確に画定されたはっきりとしたテクスチャパターンがその上に配置されることが可能となるためである。いずれにせよ、また下記のように、テクスチャ層は、代替的に、上記の様式で形成される基材１２のロフト性の毛羽立った表面（例えば、１６）上に形成されてもよい。図６Ｂは、テクスチャ層１４が表面上に形成されることにより擦り布１０の表面１８を形成した後の、図６Ａの基材１２の平坦でよりロフト性の低い表面１８の写真である。
【００３８】
他の実施形態では、基材１２の一方の面は、よりロフト性が低く、平坦で、より密度の低い表面又は少なくともその部分１６を、一時的又は永久的に創出するように処理されてもよい。表面の処理には種々の加工方法が含まれ、これらとしては、カレンダリング、熱圧縮、火炎処理、超音波処理、溶融、切削、及び繊維高の除去が挙げられるが、これらに限定されない。これらの加工方法は、同様に種々の形態をとることができ、種々の方法で達成され得る。これらの方法のうちのいくつかは、永久的か一時的か１つのみの、より平坦な／より高密度の／圧密化された表面（若しくは少なくとも表面の一部分）を創出することができるのに対して、これらの方法のうちのいくつかは、加工パラメータに応じて、永久的でも一時的でも両方の、より平坦な／より高密度の／圧密化された表面（若しくは表面の一部分）を創出することができる。上記のように、一時的に平坦化された（圧縮された、圧密化されたなど）表面とは、第１の元の（未圧縮の、ロフト性のなど）状態に戻ることができる少なくとも一部分を有する表面である。逆に、永久的に平坦化された表面とは、布１０の使用及び／又は洗浄などにかかわらず、布１０の寿命を通して平坦化された状態のままである表面である。
【００３９】
図１０は、対向する面又は表面１６、１８ａを持つ基材１２を例解し、ここで、表面１８ａは、未処理の第１の又は元の状態にある表面１８を描出する。表面１６及び１８ａは、均一なロフト性、高さ、及び相対的な「毛羽立ち」の表面である。布地１２の一方の面（表面１８と概して言及される）は、布地処理装置６０によって、上で考察した任意の様式での処理に付される。装置６０は、例えば、加熱したニップローラ、カッター、プレス、加熱したプレスなどを含むことができる。いずれにせよ、表面１８を処理に付すことにより、平坦化された、圧密化された、又はさもなければ処理された第２の表面１８ｂを形成する、（概して言及される）第２の又は処理された状態１８ｂが創出される。処理された表面１８ｂの形成に続いて、テクスチャ層（図１０に図示せず）が下記のように表面１６、１８ｂのいずれかの上に形成されて、擦り布１０（図１）を形成し得る。
【００４０】
いくつかの実施形態では、基材１２の一方の面１８は、一時的にのみ平坦化され（圧密化され、圧縮され、など）、テクスチャ層１４は、その一時的に平坦化された表面上に形成される。テクスチャ層１４を有する一時的に平坦化された表面は、上にテクスチャ組成物が配置されていない表面部分を含み、これらの部分は、平坦化されていない状態に回帰することができる。図１１及び１２に例解されるように、また図１０を参照して、基材１２は、一時的に圧密化された表面１８ｂを含む。表面１８ｂは、処理装置６０（図１０）などによって、事前に平坦化されている。一時的に平坦化された表面１８ｂが基材１２上に形成された後で、テクスチャ層１４が、テクスチャ形成具５８によって表面１８ｂ上に配置される。図１２は、布１０が使用され、洗浄され、加熱され、ブラシ、ナイフ、若しくは棒などで処理され、又はさもなければ部分２８が未処理状態に戻ることが可能とされた後の、図１１のテクスチャリングされた擦り布１０を例解する。図１２に描出されるように、上にテクスチャ組成物１４が配置又は形成されていない表面１８の部分２８は、圧密化されていない第１の元の状態１８ａ（図１０）に近く又は完全に戻る又は回復することができる。この構築を前提とすると、有利にも、テクスチャ層１４は、基材１２のより均一かつよりロフト性の低い処理された表面１８ｂ上に形成され得、形成された擦り布１０の使用又は洗浄の後に、テクスチャリングされた組成物１４を上に有しない表面１８ｂの部分２８は、ロフト性である、圧縮されていない、又は毛羽立った状態１８ａを、少なくとも部分的に回復することができる。表面１８の回復した又は戻った表面部分２８のロフト度及び高さは、表面１６のロフト性及び高さの程度と等しくてもよい。
【００４１】
図７Ａ〜７Ｂは、本開示に従って、また以下に記す実施例、試料２に提供するように形成された、例示的な擦り布１０の写真である。下記のように、図７Ａは、マイクロファイバー不織布１２から形成された基材１２の一方の面の写真である。
【００４２】
テクスチャ層
テクスチャ層１４は、複数の別個の部分（例えば、図１〜２に示され、２０ａ、２０ｂにて概して言及される、種々の点様部分）を画定する。別個の部分２０ａ、２０ｂは、ランダムにテクスチャリングされた表面を形成してもよく、あるいは基材又は布表面１６、１８上にパターンを形成してもよい（テクスチャリングされた層１４は図１〜２において表面１８上に示される）。更に、別個の部分（例えば、２０ａ、２０ｂ）は、様々な相対的なサイズからなってもよく、あるいはサイズが実質的に均一であってもよい。例えば、また図２Ａにおいてより明確に例解されるように、点２０ａは点２０ｂよりも比較的大きい。更に、別個の部分（例えば、２０ａ、２０ｂ）は、実質的に均一な距離で表面１６、１８から外向きに伸長又は突出してもよく、あるいは異なる距離で表面１６、１８から外向きに延在又は突出してもよい（即ち、別個の部分２０ａ、２０ｂは、表面１６、１８に対して類似の又は異なる高さを有することができる）。いくつかの実施形態では、別個の部分（例えば、２０ａ、２０ｂ）は、表面１６、１８から外向きに、約１０〜約５００ミクロンの範囲であるいずれの距離にも伸長し得る。他の実施形態では、別個の部分（例えば、２０ａ、２０ｂ）は、表面１６、１８から外向きに、約１０〜約２０ミクロンの範囲であるいずれの距離にも伸長し得る。また更なる実施形態では、別個の部分（例えば、２０ａ、２０ｂ）は、表面１６、１８から外向きに、５００ミクロン以下の範囲に伸長し得る。いずれにせよ、種々のテクスチャリング及び／又はパターンが、基材１２上に提供されることができる。本開示で有用なパターンの代替的な例示的実施形態は、図５Ａ、７Ａ〜７Ｂ、及び９Ａ〜９Ｂに示される。
【００４３】
パターン設計及び／又は表面１８からの部分（例えば、２０ａ、２０ｂ）の伸長距離に関わらず、擦りを適用する間、使用者は、表面１６、１８の一方又は他方が擦られる表面を向いているように、擦り布１０を位置付け得る。図８は、上に形成されたテクスチャ層１４を有する表面（例えば、１８）が擦られる表面３０を向いている位置にある擦り布１０を例解する。図８では、擦り布１０は、表面３０を清掃又はさもなければ処理するように位置付けられる。理解されるであろう通り、清掃される表面３０は、特定用途向けであり、比較的硬質（例えば、卓上又は調理用フライパン）又は比較的軟質（例えば、ヒトの皮膚、ポリマー製ベーキング器など）であり得る。いずれにせよ、図８の例示的な実施形態では、擦られる表面３０は、望ましくなくそれに固着した塊３２を有し得る。ここでも、塊３２は、特定の擦り用途に特有であることになるが、例えば、泥、乾燥した食品、乾燥した血液などの塊が挙げられる。擦り布１０、及び特にテクスチャリングされた層１４を上に有する表面は、使用者がテクスチャ層１４（又はその部分若しくはセクション）を塊３２にわたって前後に繰り返し押しつける際に、塊３２の擦りによる除去を促進する。テクスチャ層１４の各セクション（例えば、部分２０ａ、２０ｂ）は、擦り運動中に塊３２を研磨又は完全に除去するのに十分に硬質である必要がある。加えて、テクスチャ層１４は、基材表面１８から相当な距離に伸長して、最外表面４０だけでなく面４２にも沿った、表面の塊３２との密な相互接触を確実にする必要がある。部分２０ａ、２０ｂは、均一で尖った角部又は縁部を（表面４０と面４２との交点にて）有するように描出されるが、同様に又は代わりに、丸みを帯びた縁部又は角部を有してもよく、あるいは断面において非均一であってもよい。テクスチャ層の伸長が所望の擦り性を獲得することが、重要である。特に、ブローン繊維「擦り」又はテクスチャ層を組み込む多くの清掃用ワイプは、基材表面に対する最低限の厚さ又は伸長しか提供せず、望ましいものを下回る擦り性特徴を生む可能性が高い。更に、本開示のテクスチャ層１４によって提供される別個の部分（例えば、部分２０ａ、２０ｂ）が、互いに十分に離間されて、清掃作業中に、塊３２と特定のテクスチャ層部分２０ａ、２０ｂの側壁４２との間の密な接触を確実にすることが好ましい。また更に、テクスチャ層１４が耐研磨性を有することにより、布１０が表面３０を擦るために使用される最中及びその後に、テクスチャ層１４を形成する組成物が基材１２上で実質的に無傷のままであるようにすることが望ましい。本開示のテクスチャ層１４は、上で端的に言及したように、層が設けられる基材１２の硬度と少なくとも等しいか又はそれよりも高い相対的硬度を有するように構成されてもよい。言い換えると、テクスチャ層部分（例えば、２０ａ、２０ｂ）又は全テクスチャ層１４の局所硬度は、布１０全体の硬度、若しくは「全体的な硬度（global hardness）」と等しいか又はそれよりも高い。布１０は、故に、基材１２が、より硬質でより柔軟性でない研磨／テクスチャ層１４との関連で、より軟質であるか又はより柔軟性であるため、全体的な柔軟性を有すると定義されてもよい。基材上に形成された後のテクスチャ組成物１４の硬度、及び基材の硬度（比較目的）は、多数の方法で達成することができる。例えば、材料の硬度は、ＡＳＴＭ  Ｅ１８−１４ａ：Ｓｔａｎｄａｒｄ  Ｔｅｓｔ  Ｍｅｔｈｏｄｓ  ｆｏｒ  Ｒｏｃｋｗｅｌｌ  Ｈａｒｄｎｅｓｓ  ｏｆ  Ｍｅｔａｌｌｉｃ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓに記載されるように、ロックウェル押し込み硬度を決定することによって、ＡＳＴＭ  Ｅ３８４−１０：Ｓｔａｎｄａｒｄ  Ｔｅｓｔ  Ｍｅｔｈｏｄ  ｆｏｒ  Ｋｎｏｏｐ  ａｎｄ  Ｖｉｃｋｅｒｓ  Ｈａｒｄｎｅｓｓ  ｏｆ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓに記載されるように、ヌープ及びビッカース硬度を決定することによって、ＡＳＴＭ  Ｄ２２４０−０５：Ｓｔａｎｄａｒｄ  Ｔｅｓｔ  Ｍｅｔｈｏｄ  ｆｏｒ  Ｒｕｂｂｅｒ  Ｐｒｏｐｅｒｔｙ−Ｄｕｒｏｍｅｔｅｒ  Ｈａｒｄｎｅｓｓに記載されるように、ジュロメータ硬度を決定することによって、又はＡＳＴＭ  Ｅ１０−１４：Ｓｔａｎｄａｒｄ  Ｔｅｓｔ  Ｍｅｔｈｏｄ  ｆｏｒ  Ｂｒｉｎｅｌｌ  Ｈａｒｄｎｅｓｓ  ｏｆ  Ｍｅｔａｌｌｉｃ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓに記載されるように、ブリネル硬度を決定することによって、規定され得る。上記の特徴を有する布は、布が、使用者が、擦られる種々の物体中、物体上、及び物体の周囲に接触することを可能にするのに十分に柔軟性であり、同時に、研磨層の硬度が所望の擦り性能を提供するという点において、擦り物品として独自に有用である。
【００４４】
代替的に、使用中、擦り布１０は、テクスチャリングされていない表面（例えば、１６、図１）が擦られる表面３０に隣接しているように、位置付けられてもよい。このようにして、使用者（図示せず）は、より軟質でより研磨性でない表面１６を利用して、表面３０により研磨性でない動作又は拭き取り動作を行うことができる。記載したように、テクスチャリングされた層１４は、基材の平坦化されたよりロフト性の低い表面上に又は毛羽立った、よりロフト性が高いか、より吸収性の高い表面上に形成されてもよい。テクスチャ層１４が、より毛羽立った、よりロフト性が高いか、又はより吸収性の高い表面（例えば、１６）上に形成され、一方で、表面１６の部分が、表面３０により刺激の少ない拭き取り動作を与え得る場合、テクスチャ層１４は、それでも、より研磨性の面１６及び非研磨性の面１８を提供することになる。この場合、平坦でよりロフト性の低い表面１８を利用して、拭き取り、吸収、又は非研磨性機能を行い得る。テクスチャ層１４が形成される表面に関わらず、表面１６、１８のうちの少なくとも一方の上にテクスチャ層を含めることによって、及び異なる対向する表面１６、１８を有するように布を形成することによって、多目的擦り布は、単一基材層（即ち、積層されていない、均一な）から形成され、処理される標的の物体に適用される表面１６、１８に応じて、多くの機能を行うことができる。
【００４５】
テクスチャ層組成物
上で考察したように、テクスチャ層１４は、基材１２に与えられる研磨性組成物である。テクスチャ層１４の正確な組成物は、所望の最終性能特徴に応じて異なり得る。このため、テクスチャ層組成物は、最初に調合され、次に基材１２上に配置又は形成される。本開示のテクスチャ層１４は、熱転写印刷によって布の表面に適用されるプリントの薄層とは区別される。プリントの薄層の熱転写印刷は、本明細書に記載の擦り又は擦り取り機能にとって理想的ではない印刷された層をもたらす。本開示に従うテクスチャ層１４の組成物は、選定の樹脂を含むことになり、鉱物（複数可）、充填剤（複数可）、着色剤（複数可）、増粘剤（複数可）、消泡剤（複数可）、界面活性剤（複数可）、石鹸、又は他の清掃／殺菌／消毒剤などの追加の構成成分を含んでもよい。テクスチャ層１４は、任意選択で、電子ビームによって処理可能／処理されてもよく、かつ、２０１５年２月２７日に出願され、その全体が参照により本明細書に組み込まれる、米国仮特許出願第６２／１２１，７６６号、題「Ｓｃｒｕｂｂｉｎｇ  Ａｒｔｉｃｌｅ  ａｎｄ  Ｍｅｔｈｏｄ  ｏｆ  Ｍａｋｉｎｇ  Ｓａｍｅ」に記載されているものなどの組成物を含んでもよい。代替的に、テクスチャ層１４は、ＵＶ処理可能／処理、又は架橋されてもよく、かつ、その全体が参照により本明細書に組み込まれる、米国仮特許出願第６２／１２１，７０５号、題「ＵＶ  Ｔｒｅａｔｅｄ  Ｓｃｒｕｂｂｉｎｇ  Ａｒｔｉｃｌｅｓ  ａｎｄ  Ｍｅｔｈｏｄｓ  ｏｆ  Ｍａｋｉｎｇ  Ｓａｍｅ」に記載されているものなどの組成物を含んでもよい。
【００４６】
種々の材料がテクスチャ層１４の形成に好適である。上記のように、テクスチャ層１４は、樹脂組成物を含み、かつ種々のポリマー及び／又はモノマーを含んでもよい。いくつかの許容可能な樹脂としては、ポリオレフィン、スチレン−ブタジエン樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、ニトリル樹脂、エチレン酢酸ビニル樹脂、ポリウレタン樹脂、スチレン−アクリル樹脂、ビニルアクリル樹脂、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される樹脂が挙げられる。本開示で有用な結合剤樹脂の他の非限定的な例としては、アミノ樹脂、アルキル化尿素ホルムアルデヒド樹脂、メラミン−ホルムアルデヒド樹脂、アクリル樹脂（アクリレート及びメタクリレートを含む）（例えば、ビニルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、アクリルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ビニルエーテル、油脂アクリレート、及びシリコーンアクリレート）、アルキド樹脂（例えば、ウレタンアルキド樹脂）、ポリエステル樹脂、反応性ウレタン樹脂、フェノール樹脂（例えば、レゾール樹脂及びノボラック樹脂）、フェノール／ラテックス樹脂、エポキシ樹脂などが挙げられる。これらの樹脂は、モノマー、オリゴマー、ポリマー、又はこれらの組み合わせとして提供することができる。モノマーとしては、エポキシモノマー、オレフィン、スチレン、ブタジエン、アクリルモノマー、フェノールモノマー、置換フェノールモノマー、ニトリルモノマー、エチレン酢酸ビニルモノマー、イソシアネート、アクリルモノマー、ビニルアクリルモノマー、及びこれらの組み合わせなどの、架橋された構造を形成することができる多官能性モノマーを挙げることができる。本開示で有用な結合剤樹脂の他の非限定的な例としては、アミノ酸、アルキル化尿素モノマー、メラミン、アクリルモノマー（アクリレート及びメタクリレートを含む）（例えば、ビニルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、アクリルアクリレート、エーテルアクリレート、ビニルエーテル、油脂アクリレート、及びシリコーンアクリレート）、アルキドモノマー（例えば、ウレタンアルキドモノマー）、及びエステルが挙げられる。
【００４７】
テクスチャ層１４組成物の他の望ましい特長は、テクスチャ層１４が、基材１２への十分な（例えば、最低レベルの）接着性を有することを可能にする分子量及び／又は粘度を有する組成物を含み、この基材１２には、テクスチャ層１４が、容易に基材表面１６から拭き取られないように又は基材表面１６に沿ってずれないように（即ち、テクスチャ層１４が、テクスチャ層１４が基材１６に転写された後、並びに更なる処理の前及び／又は後に、基材表面１６上に留まるように）適用されている。更に、テクスチャ層１４は、室温で性質（例えば、硬度、安定性など）をもたらす分子量を望ましく有することによって、基材（例えば、１２）への適用後、例えば、基材が、テクスチャ形成場所とは異なる場所でのライン外の更なる処理（例えば、電子ビーム処理）のために基材自体の上に巻かれる場合に、テクスチャ層１４がそれ自体に貼りつかない、又は接触時に容易に変形しないようにすることが望ましい。このため、テクスチャ層１４組成物に好適な材料はまた、所望の物流特性をもたらす材料分子量及び／又は粘度を有するように選択されてもよい。具体的には、材料は、テクスチャ層１４組成物が、休止若しくは待機期間、熱処理（蒸発）、又は任意選択の電子ビーム若しくはＵＶ処理などの追加の加工の前（しかし特に後）であっても、基材１２への組成物の転写又は印刷中にステンシルパターンの穴又は空所を満たすことになる様式で流動性であり、基材１２に十分に接着し、恐らくそれを貫通し、かつステンシルの基材１２からの除去の際に所望のパターン形状を保持することを可能にする、分子量又は粘度を有するように選択されてもよい。いずれにせよ、テクスチャ層１４組成物の濃度は、はっきりとしたパターンを提供するように選択され得る。より低い粘度の混合物は、はっきりとしたパターンを得るために多くの場合に望ましいように、ほぼ即座に基材上に融着し、目立たない液滴ではなく連続フィルムを形成する、混合物の印刷された（又はコーティングされた）液滴をもたらす傾向を有し得る。
【００４８】
加えて、参照により上文に組み込まれる仮特許出願第６２／１２１，７６６号に詳述されるように、開始剤、促進剤、又は遅延剤が、本開示のいくつかの実施形態に従い、任意選択で、テクスチャ層１４の配合物及び組成物の一部として提供され得る。
【００４９】
いくつかの実施形態では、テクスチャ層１４は、任意選択で、硬度増強のために粒子状添加剤を更に含む。このため、本開示の擦り物品１０は、異なる擦り要件を有する多種多様な可能性のある用途に有用である。いくつかの用途に対しては、擦り物品１０、及び特にテクスチャ層１４が、他のものよりも研磨性が高い又は低いことが望ましい。上記のテクスチャ層１４の樹脂成分は、独立して、他の入手可能な擦り物品よりも高い擦り性特長を物品１０に与えるが、この擦り性特徴は、粒子状成分の添加によって更に増強され得る。これを考慮すると、当該技術分野で既知である多種多様な鉱物又は充填材を用いることができる。有用な鉱物としては、Ａｌ２Ｏ３、「Ｍｉｎｅｘ」（Ｔｈｅ  Ｃａｒｙ  Ｃｏ．（Ａｄｄｉｓｏｎ，Ｉｌｌｉｎｏｉｓ）から入手可能）、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２などが挙げられる。例示的な充填剤としては、ＣａＣＯ３、滑石などが挙げられる。用いられる場合、粒子状成分添加材は、テクスチャ層１４の７０重量％未満、より好ましくは５０重量％未満、最も好ましくは３０重量％未満をなす。更に、粒子状成分は、無機、硬質、及び小型の粒子からなり得る。例えば、「Ｍｉｎｅｘ」鉱物粒子成分は、２ミクロンの平均粒径及び約５６０のヌープ硬度を有する。当然ながら、他の粒径及び硬度値も有用であり得る。非イオン性樹脂成分と併せた粒子成分の無機性は、得られるテクスチャ層１４が、いずれの型の化学溶液との使用も受け入れるようにする。
【００５０】
テクスチャ層１４は、拭き取り用物品１０に所望の美的魅力を提供するために、着色剤又は顔料添加剤を更に含むことができる。適当な顔料は当該技術分野で既知であり、例えば、Ｓｕｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏｒｐ．（Ａｍｅｌｉａ，Ｏｈｉｏ）から入手可能な商標名ＳＵＮＳＰＥＲＳＥとして販売される製品が挙げられる。当該技術分野で既知の他の着色剤が同等に許容可能であり、いくつかの実施形態では、テクスチャ層組成物の１０重量％未満をなす。
【００５１】
加えて、テクスチャ層組成物は、用いられる特定の印刷技法及び製造ライン速度に最も望ましい粘度を獲得するために、増粘剤（単数又は複数）を含むことができる。これに関して、適当な増粘剤が当該技術分野で既知であり、例えば、メチルセルロース、及びＲｈｅｏｘ，Ｉｎｃ．（Ｈｉｇｈｔｓｔｏｗｎ，Ｎｅｗ  Ｊｅｒｓｅｙ）から商標名「ＲＨＥＯＬＡＴＥ  ２５５」で入手可能な材料が挙げられる。別の許容可能な増粘剤は、ＬＹＯＰＲＩＮＴ  ＰＴ−ＸＮの商標表記で、Ｈｕｎｔｓｍａｎ  Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ  ＬＬＣ，Ｈｉｇｈ  Ｐｏｉｎｔ，ＮＣ，ＵＳＡから入手可能である。増粘剤は、選択された樹脂及び印刷技法によっては不要であってもよいが、用いる場合は、増粘剤は、テクスチャ層組成物の約４０重量％未満をなすことが好ましい。他の実施形態では、当技術分野で既知のようにエマルションの成分間のイオン反応を引き起こすことによって、同様に組成物の粘度の増加を作り出すことを助けるために、塩成分が組成物中に提供されてもよい。それにもかかわらず、いくつかの実施形態に従い、テクスチャ層１４の成分は非イオン性であってもよい。
【００５２】
上で示したように、組成物の消泡又は乳化を提供するために、消泡剤が組成物中に含まれてもよい。Ｕｌｌｍａｎｎ’ｓ  Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ  ｏｆ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ（セクション「Ｆｏａｍｓ  ａｎｄ  Ｆｏａｍ  Ｃｏｎｔｒｏｌ」）に記載されているように、いくつかの消泡材料は、担体油（例えば、非水溶性のパラフィン系及びナフテン系鉱油、植物油、トール油、ひまし油、大豆油、落花生油）、シリコーン油（例えば、ジメチルポリシロキサン）、疎水性シリカ、疎水性脂肪誘導体及びワックス（例えば、１官能性及び多官能性アルコール、脂肪酸アミド及びスルホンアミド、パラフィン系炭化水素ワックス、オゾケライト、並びにモンタンワックスの脂肪酸エステル、短鎖及び長鎖脂肪アルコールのリン酸モノ−、ジ−、及びトリ−エステル、短鎖及び長鎖天然又は合成脂肪アルコール、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸カルシウム、及びベヘン酸カルシウムを含む、長鎖脂肪酸の非水溶性石鹸、並びにペルフルオロ脂肪アルコール）、非水溶性ポリマー（例えば、低分子量の脂肪酸修飾アルキド樹脂、低分子量ノボラック、酢酸ビニルと長鎖マレイン酸及びフマル酸ジエステルとのコポリマー、メチルメタクリレート−ビニルピロリドンコポリマー、ポリ（プロピレングリコール）、グリセロール、トリメチロール、プロパン（１，１，１−トリス（ヒドロキシメチル）プロパン）、ペンタエリスリトール、トリエタノールアミン、ジペンタエリスリトール、ポリグリセロールへの高分子量プロピレンオキシド付加物、多価アルコールとのブチレンオキシド又は長鎖ａ−エポキシドの付加生成物）である。例示的な消泡剤は、Ｄｏｗ  Ｃｏｒｎｉｎｇ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｍｉｄｌａｎｄ，ＭＩ，ＵＳＡ）によって製造される、ＸＩＡＭＥＴＥＲ  ＡＦＥ−１５２０の商標表記で市販されているシリコーンエマルションである。
【００５３】
いくつかの実施形態では、テクスチャ層１４の組成物は、２０１５年２月２７日に出願され、その全体が参照により本明細書に組み込まれる、米国仮特許出願第６２／１２１，６４４号、タイトル「Ｃｏｎｓｕｍｅｒ  Ｓｃｒｕｂｂｉｎｇ  Ａｒｔｉｃｌｅ  ｗｉｔｈ  Ｃｅｒａｍｉｃ  Ｍｉｃｒｏｐａｒｔｉｃｌｅｓ  ａｎｄ  Ｍｅｔｈｏｄ  ｏｆ  Ｍａｋｉｎｇ  Ｓａｍｅ」に記載されているような、結合剤樹脂、セラミック微粒子、又は加工剤を含んでもよい。
【００５４】
最後に、また前述のように、本開示の擦り布１０は、「乾燥」した状態で使用することができ、あるいは殺菌、消毒、又は清掃用の化学物質（溶液又は固体）（例えば、石鹸）を充填することができる。「充填」という用語は、使用者に送達される前に基材１２によって吸収される化学溶液を指す。加えて又は代替的に、化学物質は、布の表面上に噴霧されてもよい。また更なる実施形態では、化学物質は、テクスチャ層組成物１４中に又はその一部として、提供されてもよい。故に、配置された（例えば、印刷された）テクスチャ層１４は、類似した又は異なる高さを有する印刷された石鹸擦り点（soap scrubbing dot）（例えば、２０ａ、２０ｂ、図３）を含み得る。これらの種々の構築により、使用中、化学溶液は、使用者が表面にわたって擦り物品１０を拭き取るときに、基材１２から放出される。故に、化学物質がテクスチャ層１４の一部として提供される実施形態では、擦り適用中に化学物質が消費されるにつれて、テクスチャ層（即ち、擦り部分２０ａ、２０ｂ）のサイズは徐々に減少し得る。好ましいテクスチャ層１４の非イオン性に起因して、事実上いかなる所望の化学物質（溶液又は固体）も使用することができ、これらの化学物質としては、水、石鹸、第４級アンモニウム塩溶液、Ｌａｕｒｉｃｉｄｉｎ（商標）系抗菌剤、アルコール系抗菌剤、柑橘系洗浄剤、溶剤系洗浄剤、クリーム艶出し剤、陰イオン性洗浄剤、アミンオキシドなどが挙げられる。つまり、用いられる場合、化学溶液は、陰イオン性、陽イオン性、又は中性であることができる。
【００５５】
テクスチャ層１４を基材１２上に形成する前に、基材の型に応じて、基材１２の表面（１６、１８）は下塗りされてもよい。下塗りは、平坦でよりロフト性の低い表面１８の形成に関して上述した布地処理以外に、機械的、化学的、物理的、及び物質的適用方法を伴い得る。代替的に、下塗りは、接着剤などの化学プライマの適用を含んでもよい。しかしながら、特に、多くの基材１２については、テクスチャ層１４組成物を基材１２上に転写する前にプライマは不要であり、適正な接着を獲得する。
【００５６】
テクスチャ層１４組成物は、各々参照により上文に組み込まれる米国仮特許出願第６２／１２１，６４４号及び同第６２／１２１，７６６号に記載されているように、印刷（例えば、スクリーン印刷、グラビア印刷、フレキソ印刷など）、コーティング（例えば、圧延、噴霧、静電気）、エッチング、レーザエッチング、射出成型、マイクロレプリケーション、及びエンボス加工など、種々の既知の技法を使用して基材１２上に形成することができる。
【実施例】
【００５７】
【表１】
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【００５８】
試料１及び２のためのテクスチャ層組成物の調製
表１からの全ての原料を、所望の量の別々のプラスチック製容器中に０．１グラム単位で秤量した。全ての原料を剛性プラスチック製容器中に置いて混合物を調製した。混合を開始する前に、プラスチック製の蓋を容器上に固定した。混合物を、ＳＰＥＥＤＭＩＸＥＲ  ＤＡＣ  ４００．１  ＶＡＣ−Ｐの商標表記でＦｌａｋｔｅｋ，Ｉｎｃ．，Ｌａｎｄｒｕｍ，ＳＣ，ＵＳＡから市販されている実験室用遠心ミキサにおいて、３０秒間混合した。３０秒後、ミキサを停止し、中に混合物を有するプラスチック製容器をミキサから取りはずした。容器を実験室のベンチ上に２４時間静置した。得られたテクスチャ層（印刷研磨性）混合物の組成を表２に示す。
【００５９】
【表２】
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【００６０】
【表３】
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【００６１】
基材材料の調製
試料２の基材を、ニップを持つ加熱した鋼製ロールで一方の面を圧密化することによって処理した。室温から開始して２０４℃超に上昇するように、鋼製ロールを加熱させた。ロール速度が熱滞留時間に影響することが観察され、このことは、布上に存在する圧密化の量に影響し得る。これらのロールのうちの一方を他方のロールよりも高い温度に加熱して、一方の面に圧密化を提供し、反対側の面は影響を受けないままにした。より低い温度のロールは必ずしも加熱される必要がないことが同様に観察された。試料２を完全に平坦に圧縮しないように、ロール間に間隙を設けた。一方の面を圧密化する前の基材の初期厚さは３．２ｍｍであった。圧密化後、同じ布のおよその厚さは２．０ｍｍであることを見出した。
【００６２】
試料１及び２の各々について、およその寸法が３０ｃｍ×２０ｃｍである矩形の布標本を、後に続くその上への調製した組成物（表２に記載）の印刷のために、その縁部に接着テープを適用することによって、平坦な実験室のベンチ上に固定した。
【００６３】
調製した基材上への調製した組成物の印刷
調製した試料の各々について、金属ステンシルを基材標本の上に置いた。試料１については、金属ステンシルは図１に示すテクスチャパターンを含み、試料２については、金属ステンシルは図９Ｂに示すテクスチャパターンを含んだ。木製アプリケータを活用して、およそ１００グラムの調製した印刷用組成物をステンシル上に置いた。次に、手による圧力を下向きに適用し、手持ちスキージを活用しながら、印刷用混合物を剪断運動でステンシルの印刷パターン上に適用した。各標本について、印刷用混合物が印刷パターンの穴を満たし、基材標本上に移動したことが観察された。次に、ステンシルを除去し、印刷された基材標本を実験室のベンチ上に１０分間静置した。１０分後、印刷された標本を、実験室の熱風循環（Ｄｅｓｐａｔｃｈ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ，Ｍｉｎｎｅａｐｏｌｉｓ，ＭＮ，ＵＳＡから市販されているＭｏｄｅｌ  ＶＲＣ２−３５−１Ｅ）中に３分間置いた。オーブンの温度を１４９℃に設定した。３分後、印刷された標本をオーブンから取り出し、実験室のベンチ上に２４時間静置した。
【００６４】
結果
試料１：
図６Ａ及び６Ｂは、調製した組成物を印刷する前（図６Ａ）、及び組成物を表面に印刷した後（図６Ｂ）の試料１の写真である。図６Ａに示すように、基材１２の第１の表面１６は、繊維５０を有する、比較的より毛羽立ち、ロフト性であり、より密度の低い表面からなり、反対側の表面１８は、比較的より平坦で、よりロフト性が低く、より密度の高い表面からなる。図６Ｂは、より平坦な表面１８へのその印刷後のテクスチャ表面１４を描出する。
【００６５】
試料２：
図７Ａ及び７Ｂは、調製した組成物１４を基材１２の表面に印刷した後の試料２の写真である。図７Ｂに見られるように、基材のおよそ３ｃｍ幅のセクションは空白のままにした（印刷しなかった）。平坦にされた表面１８を形成するために一方の面を処理することにより、フィルム様の表面へとプレス又は圧密化されない場合はその元の形態（未処理の表面１６の形態など）に近く回復するか又はそれに戻り得る部分２８を有する表面１８がもたらされ、得られた布１０は快適で肌触りがよいことが、図７Ａ〜７Ｂに示す例示的な基材１２の形成中に観察された。
【００６６】
本開示に従う擦り布は、種々の清掃又は擦り要件を単個の清掃物品において独自に満たし得る。このように、本開示に従う擦り布は、多目的擦り布とみなされ得る。
【００６７】
好ましい実施形態を参照しながら本開示を説明してきたが、当業者であれば、本開示の趣旨及び範囲から逸脱しない範囲で形態及び細部に変更を行い得ることが理解できるであろう。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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【図８】
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【図９Ａ】
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【図９Ｂ】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【国際調査報告】
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