(57)【要約】  本発明は、幅が広い基材に堆積されている被覆をアニーリングするためのレーザー装置に関し、上述の装置は、複数のレーザーモジュールから形成されており、これらのレーザーモジュールは、特別な制限なく並置されていてよく、ここで、レーザーモジュールが、基本レーザーラインを生成し、基本レーザーラインは、長さ方向で互いに結合して、単一レーザーラインを形成しており、各基本ラインが、長さ方向で、１又は２の隣接している基本レーザーラインと重なりを有しており；かつ、少なくとも２つの隣接している基本レーザーラインが、幅方向において、互いに対してオフセットを有しており、上述のオフセットが、少なくとも２つの隣接している基本レーザーラインの幅の合計の半分よりも小さく；上述の少なくとも２つの隣接している基本レーザーラインの重なりが、オフセットがない場合に、単一レーザーラインの単位長さあたりの出力のプロファイルが重なり区域において局所的な最大値を有しているようになっている。【選択図】図２Ｂ
2018529523.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
作業面において集束している長さ（Ｌ）及び幅（Ｗ）の基本レーザーラインをそれぞれ生成する、複数のレーザーモジュール；及び
基材を引き受けることが意図されている、搬送手段；
を有しており、
前記レーザーモジュールが、位置決めされ、それにより、生成される前記基本レーザーラインが、互いに対して実質的に平行となるようになっており、かつ単一レーザーラインへと結合されるようになっており、それぞれの基本レーザーラインが、長さ方向において、隣接している基本レーザーラインとの重なり（Ｒ）を有しており；かつ、
前記基材が前記単一レーザーラインに対して垂直に移動することを、前記搬送手段が、可能にしている；
レーザー装置であって、
少なくとも２つの隣接している基本レーザーライン（ＬＡ１、ＬＡ２）に関して、前記基本レーザーラインが、幅方向において、互いに対してオフセット（Ｄ）を有しており、前記オフセットが、前記２つの隣接している基本レーザーラインの幅の合計の半分よりも小さいこと；前記少なくとも２つの隣接している基本レーザーライン（ＬＡ１、ＬＡ２）の前記重なり（Ｒ）が、オフセットがない場合に、前記単一レーザーラインの単位長さあたりの出力のプロファイルが重なり区域において局所的な最大値を有するようになっていることを特徴とする、レーザー装置。
【請求項２】
前記単一レーザーラインの単位長さあたりの出力のプロファイルの前記局所的な最大値が、重なり区域の外側における、前記少なくとも２つの隣接している基本レーザーライン（ＬＡ１、ＬＡ２）それぞれの平均の単位長さあたりの出力に対して、２０％高い値、好ましくは１０％高い値を有していることを特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記オフセット（Ｄ）が選択され、それにより、前記重なりにおいて、前記単一レーザーラインの性能指数Ｆが、重なり区域の外側における前記少なくとも２つの隣接している基本レーザーライン（ＬＡ１、ＬＡ２）それぞれの平均の性能指数に対して、２０％未満、好ましくは１５％未満、より好ましくは１０％未満、さらにはより好ましくは５％未満、変化するようになっており；
レーザーラインの所与の点における性能指数Ｆが、以下で定義され、
【数１】
2018529523.tif 000006
ｗ及びＰが、それぞれ、この所与の点における前記レーザーラインの幅及び局所的な単位長さあたりの出力であること、
を特徴とする、請求項１又は２に記載の装置。
【請求項４】
前記オフセット（Ｄ）が、前記少なくとも２つの隣接している基本レーザーライン（ＬＡ１、ＬＡ２）それぞれの幅の１０％よりも大きいことを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載のレーザー装置。
【請求項５】
前記基本レーザーラインの単位長さあたりの出力のプロファイルが、中央プラトー（ｐ）及び２つの側部（ｆ）を有しており、前記中央プラトー（ｐ）が、実質的に一定の単位長さあたりの出力を有しており、かつ、それぞれの前記側部（ｆ）の単位長さあたりの出力が、勾配を有していることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の装置。
【請求項６】
２つの隣接している基本レーザーライン（ＬＡ１、ＬＡ２）の間の前記重なり（Ｒ）が、重なり区域における前記２つの隣接している基本レーザーライン（ＬＡ１、ＬＡ２）の前記側部（ｆ）のうちの、最短の長さと少なくとも等しいことを特徴とする、請求項５に記載の装置。
【請求項７】
レーザー装置を調節するための方法であって、このレーザー装置が：
作業面において集束している長さ（Ｌ）及び幅（Ｗ）の基本レーザーラインをそれぞれ生成する、複数のレーザーモジュール；及び
基材を引き受けることが意図されている、搬送手段；
を有しており、
前記レーザーモジュールが、位置決めされ、それにより、生成される前記基本レーザーラインが、互いに対して実質的に平行になっており、かつ、長さ方向において単一レーザーラインへと結合されるようになっており；
かつ、
前記基材が前記単一レーザーラインに垂直に移動することを、前記搬送手段が、可能にしており；
前記方法が：
−  ２つの隣接している基本レーザーライン（ＬＡ１、ＬＡ２）の単位長さあたりの出力のプロファイル及び幅を、個別に計測すること；
−  重なり−オフセット対（Ｒ，Ｄ）を決定して、それにより、重なり区域での前記単一レーザーラインの性能指数Ｆが、重なり区域の外側での前記２つの隣接している基本レーザーライン（ＬＡ１、ＬＡ２）それぞれの平均の性能指数に対して、２０％未満、好ましくは１５％未満、より好ましくは１０％未満、さらにより好ましくは５％未満、変化するようにすること；
レーザーラインの所与の点における性能指数Ｆは、以下で定義され、
【数２】
2018529523.tif 000007
ここで、ｗ及びＰは、それぞれ、この所与の点における前記レーザーラインの、幅及び局所的な単位長さあたりの出力である；並びに
−  上述の２つの隣接している基本レーザーライン（ＬＡ１、ＬＡ２）に対応する前記レーザーモジュールを位置決めして、それにより、前記２つの隣接している基本レーザーラインが、決定された重なり−オフセット対を有するようにすること；
を含んでいる、方法。
【請求項８】
基材に堆積されている被覆を加熱処理するための、請求項１〜６のいずれか一項に記載のレーザー装置の使用。
【請求項９】
以下を含む、基材に堆積されている被覆を加熱処理するための方法：
−  請求項７に記載のレーザー装置を提供すること；
−  請求項７に記載の調節方法を使用して前記レーザー装置を調節すること；
−  処理されることとなっている前記被覆で被覆されている前記基材を、搬送手段に提供して、それにより、前記被覆が、前記作業面にあるようにすること；
−  前記基材を、前記単一レーザーラインに対して垂直に移動させること；
−  加熱処理された前記被覆で被覆されている前記基材を、回収すること。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、幅が広い基材に堆積されている被覆をアニーリングするためのレーザー装置に関し、この装置は、特別な制限なく並置されうる複数のレーザーモジュールから形成されている。
【背景技術】
【０００２】
平坦な基材に堆積されている被覆のレーザーフラッシュ加熱を行うことが知られている。これを行うために、加熱されることとなる被覆を有している基材を、レーザーラインの下方で移動させ、又はさらには、レーザーラインを、被覆を保持している基材の上方で移動させる。
【０００３】
レーザーフラッシュ加熱では、薄い被覆を、高温にまで、およそ数百度の高温にまで加熱することが可能となる一方で、下にある基材が保護される。移動速度は、無論、好ましくはできるだけ速く、有利には少なくとも数メートル毎分である。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
幅が広い基材、例えば、フロート法を介して取得される「巨大な」大きさの（６ｍ×３．２１ｍ）平坦なガラス板を、高速で処理することができるためには、それ自体が非常に長くて（３ｍ超）、自由に使用できるレーザーラインを有していることが必要である。しかしながら、単一レーザーラインの取得を可能にする一体構造のレンズの製造は、そのような長さに関しては、想定することができない。したがって、モジュール式レーザー装置が計画され、この装置では、独立のレーザーモジュールによってそれぞれが生成される、比較的小さいサイズ（数十センチメートル）の基本レーザーラインを結合することが提案されている。
【０００５】
基本レーザーラインを結合させる第一のやり方は、それらを、別個の列に配置することからなり、別個の列は、例えば、互い違いであり、又は、「Ｖ形状」で配置されており、それにより、基本レーザーラインの間で重なり区域がないようになっており、そのようにして、基材の全幅を処理することが可能となっている。これによって、基材の幅における各点が、少なくとも一回、一つの基本レーザーラインの下を通過する。この解決策は、実施するのが比較的簡便であり、その理由は、特には、この解決策では、レーザーモジュールの大きさについて、制限がほとんど課されないからである。しかしながら、この解決策は、非均一性の発生源である。特には、基材の一定の点が、可能的には異なる出力で、２回の処理を受ける。なぜならば、それらの点は、２つの基本レーザーラインの下を相次いで通過するからである。このことは、一般に、処理された基材における欠陥をもたらす。
【０００６】
別の解決策は、基本レーザーラインを互いに正確に一直線に並べること、及び、長さ方向において部分的にそれらを重ね合わせ、一方で、基本レーザーラインの単位長さあたりの出力のプロファイルを選択して、それにより、それらが合わさって均一なライン（すなわち、ラインの全長にわたって一定の幅及び一定の単位長さあたりの出力のプロファイルを有しているライン）が形成されるようにすることからなる。一般に、基本レーザーラインの線形の単位長さあたりの出力のプロファイルを、シルクハット形状にするように準備がなされ、このシルクハット形状は、例えば米国特許第６７１７１０５号明細書でのように、出力が高くかつ一定である非常に広域な中央プラトー、及び、このプラトーの両側に、急勾配の下降側面を有している。このタイプのプロファイルを選択することによって、２つの隣接している基本レーザーラインの間での重なり区域を最小化することが可能となるが、基本レーザーラインを、非常に正確に配置することが必要である。国際公開第２０１５／０５９３８８号は、基本レーザーラインの高出力中央プラトーの範囲を低減することを提案する。これによれば、基本レーザーラインの出力プロファイルの２つの側面の傾斜が、比較的急ではなくなる。これによって、基本レーザーラインを結合することによって取得されるレーザーラインの強度プロファイルに、基本レーザーラインの配置の誤差が及ぼす影響を、軽減することが可能となる。しかしながら、実際には、正確に所望の出力プロファイを有している基本レーザーラインを得ることは非常に困難である。より特には、互いに対して十分な同一性、特には出力プロファイルの側面の傾斜において互いに対して十分な同一性を有している出力プロファイルを有する基本レーザーラインを得ることは困難である。実際には、出力プロファイルの側面の強度の勾配は、一つの基本レーザーラインと次の基本レーザーラインで変化する。基本レーザーライン間での出力プロファイルのこのような差異は、基本レーザーラインが、互いに完全に相補的ではないということを意味する。このことは、基本レーザーラインの間での重なり区域での、不必要に高いかつ／又は低い出力をもたらし、かつ、これら重なり区域の下を通過する基材の部分の処理における、基材の残りの部分に対する非均一性をもたらす。一定の被覆にとっては、処理のこの非均一性は、最終製品において可視的な欠陥を生み出すのに十分である。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、基本レーザーラインを結合する新規の方式を提供し、これによって、基本レーザーラインの重なり区域における、より良好な処理の均一性を保証することが可能となる。より正確には、本発明は、レーザー装置に関し、このレーザー装置は：
作業面において集束している長さＬ及び幅Ｗの基本レーザーラインをそれぞれ生成する、複数のレーザーモジュール；及び
基材を引き受けることが意図されている、搬送手段；
を有しており、このレーザー装置では、
上述のレーザーモジュールが、位置決めされ、それにより、生成される基本レーザーラインが互いに実質的に平行となっており、かつ、単一レーザーラインへと結合されるようになっており、それぞれの基本レーザーラインが、長さ方向において、隣接している基本レーザーラインとの重なりを有しており；かつ
基材が単一レーザーラインに対して垂直に移動することを、搬送手段が、可能にしており；
このレーザー装置は、
少なくとも２つの隣接している基本レーザーラインに関して、２つの隣接している基本レーザーラインが、幅方向において、互いに対してオフセットを有しており、上述のオフセットが、上述の２つの隣接している基本レーザーラインの幅の合計の半分よりも小さいこと；上述の２つの隣接している基本レーザーラインの重なりが、オフセットがない場合に、重なり区域において、単一レーザーラインの単位長さあたりの出力のプロファイルが局所的な最大値を有するようになっていること、を特徴としている。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】図１は、基本レーザーラインの例（Ａ）、及びその対応する出力プロファイル（Ｂ）を示している。
【図２】図２は、オフセットなし（Ａ）及びオフセットあり（Ｂ）での、２つの基本レーザーライン間の重なり区域の例を示している。
【図３】図３は、オフセットなし（Ａ）及びオフセットあり（Ｂ）での、２つの基本レーザーラインの重なり区域での性能指数のプロット例を示している。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
従来技術とは異なり、本発明では、理論的に同一な基本レーザーラインの出力プロファイルを互いに対応させるために、基本レーザーラインを互いに対して完璧に整列させることは追及されない。特には、我々は、隣接している基本レーザーラインをオフセットし、そのようにして、これら隣接している基本レーザーラインの間の重なり区域において、単一レーザーラインの幅における増加を局所的に作り出すことによって、処理の均一性が向上しうることを見出した。このアプローチは、当業者の偏見に反しており、当業者は、処理の均一性を向上させるために、基材のすべての点が、同一の処理を受けること、特には同一の期間にわたって処理されることを確かにすることを追求する。対照的に、一定の重なり区域においてラインの幅を広げることは、これらの区域の下を通過する基材の部分の処理の時間を増加させる。しかしながら、驚くべきことに、重なり区域において単一レーザーラインの幅を広げることは、処理の時間の増加にもかかわらず、処理の均一性を向上させることを可能とする。具体的には、完全には相補的ではない２つの隣接している基本レーザーラインの出力プロファイの重なりによって起こる不必要に高い出力の適用を、比較的長い期間にわたって広げることで、処理の均一性が向上すると考えられる。
【００１０】
より特には、重なり区域での単一レーザーラインの幅を増加させることによって、性能指数Ｆの変化、本願では、単位長さあたりの出力の、ラインの幅の平方根に対する割合として定義される性能指数Ｆの変化を、重なり区域において低減させることが可能となる。特には、我々は、単一レーザーラインを使用した加熱処理の均一性が、性能指数Ｆの均一性と相関しうることを明らかにした。レーザーラインのある点における性能指数Ｆは、以下の式で与えられ、ここで、ｗ及びＰは、それぞれ、この所与の点におけるレーザーラインの幅、及び、この所与の点における、レーザーラインの（累積的な、すなわちラインの全幅にわたる）局所的な単位長さあたりの出力である：
【００１１】
【数１】
2018529523.tif 000003
【００１２】
レーザーラインの「所与の点において」という表現は、本発明において、レーザーラインに沿った「所与の位置において」を意味するものと理解される。換言すると、レーザーラインの点は、レーザーラインの長さ方向軸ｘにおける（すなわち、作業面における、かつ、移動方向に垂直な）位置と同等であるとみなされる。
【００１３】
本発明の範囲で、レーザーラインの所与の点における「局所的な単位長さあたりの出力」Ｐという表現は、モジュールによって、この所与の点におけるレーザーラインの全幅に送られる出力を意味するものと理解される。レーザーラインの「所与の点における幅」ｗによって意味されるものは、この所与の点においてレーザーラインの横断方向ｙにおいて（すなわち、移動方向と平行に）計測される、レーザーラインの最大出力の少なくとも１／ｅ２倍に等しい出力を受ける区域の寸法である。長さ方向軸がｘと表現される場合には、この軸に沿った、ｗ（ｘ）と表される幅分布を定義することができる。
【００１４】
レーザー装置は、好ましくは、少なくとも３個のモジュール、特には少なくとも５個のモジュール、又はさらには少なくとも１０個のモジュールを有しており、レーザーモジュールそれぞれが、作業面に集束している基本レーザーラインを生成する。作業面は、加熱されることとなる被覆の平面に対応しており、すなわち、一般には、基材の上方又は下方表面に対応している。レーザーモジュールを組み立て、かつレーザー装置に設置して、それにより、レーザーラインを形成するレーザービームが、作業面の垂線に対してゼロでない角度で作業面を横切るようにする。この角度は、典型的には、２°よりも大きく、かつ、２０°よりも小さく、好ましくは、１０°よりも小さい。
【００１５】
図１Ａにおいて図示されているように、基本レーザーラインは、それぞれ、長さＬ及び幅Ｗを有している。レーザーラインの「長さ」Ｌによって意味されるものは、長さ方向ｘにおいて計測される、レーザーラインの最大出力の少なくとも１／ｅ２倍に等しい出力を受ける区域の寸法である。レーザーラインの「平均幅」Ｗは、レーザーラインのある点における幅ｗとは対照的に、単純にレーザーラインの「幅」とも呼ばれ、レーザーラインの各点における幅の算術平均として定義される。処理のすべての非均一性を回避するために、幅分布ｗ（ｘ）は、ラインの全長で、狭い。したがって、レーザーラインに沿った幅分布ｗ（ｘ）の変動は、レーザーラインの平均幅に対して、１０％以下変化し、好ましくは、５％以下、より好ましくは、３％以下変化する。基本レーザーラインは、一般に、実質的に同一な長さ及び幅を有している。基本レーザーラインは、典型的には、１０ｃｍ〜１００ｃｍ、好ましくは２０ｃｍ〜７５ｃｍ、より好ましくは３０ｃｍ〜６０ｃｍの長さ、及び、１０μｍ〜１００μｍ、好ましくは４０μｍ〜７５μｍの幅を有している。
【００１６】
独立に考慮されたときに、基本レーザーラインは、典型的には、図１Ｂにおいて概略的に図示されているような、中央プラトーｐ及び２つの側部ｆを有している単位長さあたりの出力のプロファイルを有している。本発明の範囲で、レーザーラインに適用される場合の「単位長さあたりの出力のプロファイル」という表現は、レーザーラインにおける位置の関数としての、局所的な単位長さあたりの出力Ｐの、レーザーラインの全長さにわたる分布を意味するものと理解される。長さ方向軸がｘと表されるので、したがって、単位長さあたりの出力のプロファイルは、Ｐ（ｘ）として定義される。中央プラトーは、実質的に一定な出力を有しており、かつ、側部は、それぞれ、出力勾配に対応している。中央プラトーは、一般に、基本レーザーラインの長さの、少なくとも５０％、好ましくは７０〜９８％、より好ましくは８０〜９６％を占めている。基本レーザーラインの幅は、実質的に、中央プラトーに沿って一定である。「実質的に一定」という表現は、対象としている量が、１０％以下、好ましくは５％以下、さらに好ましくは３％以下、変化することを意味するものと理解される。側部は、一般に、それぞれ、独立に、基本レーザーラインの長さの、２５％未満、好ましくは１〜１５％、より好ましくは２〜１０％を占めている。側部は、好ましくは、実質的に同一の長さを有している。
【００１７】
基本レーザーラインは、それらの長さの方向において、端と端を接して配置されており、それによって、連続的な単一レーザーラインを形成している。単一レーザーラインは、典型的には、１．２ｍよりも大きい、好ましくは２ｍよりも大きい、より好ましくは３ｍよりも大きい長さを有している。「連続的なレーザーライン」によって意味されることは、単一レーザーラインの一方の端から他方の端に走る経路が存在し、この経路においては、出力が、単一レーザーラインの最大出力の９０％未満になることがないということである。これを達成するために、２つの隣接している基本レーザーラインが、重なり区域において重なっている。「重なり区域」によって意味されるものは、２つの隣接している基本レーザーラインが重なり合っている区域（ゾーン）である。「重なり」Ｒという用語は、長さ方向軸ｘにおける投影において計測される、重なり区域の寸法を意味するものと理解される。オフセットは、基本レーザーラインが正確に整列している参照位置に対して、定義される。図２Ａにおいて図示されるように、２つの隣接している基本レーザーラインＬＡ１及びＬＡ２が正確に整列しているとみなされるのは、２つの隣接している基本レーザーライン間での重なり区域において、２つの基本レーザーラインの強度分布Ｃ１及びＣ２が、横断軸ｙでの投影において同一の座標を有している重心を有している場合である。したがって、２つの隣接している基本レーザーライン間での「オフセット」Ｄは、これら２つのラインの間での重なり区域に参加している２つの隣接している基本レーザーラインの端部の出力の重心の、横断軸ｙでの投影間の距離として定義される。強度分布重心は、対象としている区域におけるすべての点の座標の、強度分布の値によって重みづけされた平均を、座標として有している点として、定義される。実際には、図２Ｂで図示されているような２つの隣接している基本レーザーラインオフセットに関して、各基本ラインＬＡ１及びＬＡ２に対して、それぞれ、包囲ラインＥ１及びＥ２を定義することが可能である。Ｅ１及びＥ２は、レーザーラインの最大出力の少なくとも１／ｅ２倍に等しい出力を有している区域の輪郭によって定義される。その結果、包囲ラインは、２つの交差点Ｉ及びＩ’を有している。重なりＲは、長さ方向軸ｘでの点Ｉ及びＩ’の投影間での距離として定義されうる。オフセットＤは、隣接している基本レーザーラインの平均幅の合計の半分と、横断軸ｙへの点Ｉ及びＩ’の投影間での距離との間の差として定義されうる。
【００１８】
２つの隣接している基本レーザーラインの間の重なりは、一般に、重なり区域における上述の２つの隣接している基本レーザーラインの側部のうち最も短い方に、少なくとも等しい。したがって、重なりは、一般に、基本レーザーラインそれぞれの長さの、２５％未満に等しく、好ましくは１〜１５％、より好ましくは２〜１０％に等しい。一つの好ましい実施態様では、基本レーザーラインの側部が、すべて、実質的に同一の長さを有しており、かつ、重なりが、側部の長さと実質的に等しい。
【００１９】
本発明では、少なくとも２つの隣接している基本レーザーラインが、ゼロではないオフセットを有しており、このオフセットは、上述の隣接している基本レーザーラインそれぞれの幅の、好ましくは１０％よりも大きく、より好ましくは２５％よりも大きい。さらに、上述の少なくとも２つの隣接している基本レーザーラインは、オフセットがないときに、重なり区域において、単一レーザーラインの単位長さあたりの出力のプロファイルが局所的な最大値を有しているように、重なりを有している。換言すると、上述の少なくとも２つの隣接している基本レーザーラインは、その側部が正確には相補的ではない単位長さあたりの出力のプロファイルを有している。単一レーザーラインの単位長さあたりの出力のプロファイルにおける上述の局所的な最大値は、好ましくは、重なり区域の外側における隣接している基本レーザーラインそれぞれの平均の単位長さあたりの出力に対して、２０％、より好ましくは１０％、高い値を有している。上述の少なくとも２つの隣接している基本レーザーラインのオフセット及び重なりは、好ましくは、重なり区域における単一レーザーラインの性能指数Ｆが、重なり区域の外側における、上述の少なくとも２つの隣接している基本レーザーラインのそれぞれの平均の性能指数に対して、２０％未満、好ましくは１５％未満、より好ましくは１０％未満、さらにより好ましくは５％未満、変化するようになっている。単位長さあたりの出力のプロファイルの中央プラトーにおいて、実質的に一定の出力及び幅を有している基本レーザーラインの場合には、重なり区域の外側における平均の単位長さあたりの出力及び平均の性能指数は、単位長さあたりの出力のプロファイルの中央プラトーでの平均の単位長さあたりの出力及び平均の性能指数に等しいとみなされてよい。
【００２０】
搬送手段は、基材を引き受けること、及び、単一レーザーラインに垂直に基材を移動させることを可能にすることが意図されている。重要なことは、搬送手段が、基材及び単一レーザーラインを、互いに対して動かすことが可能であるということである；基材が静止したままであって、かつレーザーモジュールが基材の上方若しくは下方を移動するように、又はその逆であるように、装置を設計してよい。しかしながら、工業的な観点からは、特には、大きいサイズの基材の処理、例えば「巨大」基材の処理に関しては、レーザーモジュールが静止していて、かつ、処理されることとなる基材がモジュールの下方又は上方を移動することが好ましい。基材は、任意の機械的な搬送手段を使用して、例えば、併進運動を提供するベルト、ローラー又はトレイを用いて動かされてよい。搬送手段は、移動速度を制御すること及び調節することを可能にする。搬送手段は、好ましくは、剛性シャーシ及び複数のローラーを有している。ローラーの間隔幅は、有利には、５０〜３００ｍｍにわたる範囲を有している。ローラーは、有利には、金属リングを有しており、典型的には、鋼鉄製であり、プラスチックカバーで覆われている。ローラーは、好ましくは、低プレイのエンドベアリングに取り付けられており、典型的にはエンドベアリングごとに３個のローラーである。搬送の平面が完全に平坦であることを確実にするために、それぞれのローラーの位置は、有利には調節可能である。少なくとも１個のモーターによって駆動されるピニオン又はチェーン、好ましくはタンゲンシャルチェーンを使用して、好ましくはローラーを動かす。基材が可撓性の有機ポリマー製である場合には、連続するローラーの形態であるフィルム前進システムを使用して、動きを生じさせてよい。この場合には、ローラーの間の距離の適切な選択を介して、基材の厚み（したがってその可撓性）、及び起こり得るたわみの生成に関して加熱処理が有しうる全ての影響を考慮して、平坦性を確保することができる。
【００２１】
本発明は、また、レーザー装置を調節するための方法に関し、このレーザー装置は：
作業面に集束している長さＬ及び幅Ｗの基本レーザーラインをそれぞれが生成する、複数のレーザーモジュール；並びに
基材を引き受けることが意図されている、搬送手段；
を有しており、
上述のレーザーモジュールが、位置合わせされており、それにより、生成される基本レーザーラインが実質的に互いに対して平行となるようになっており、かつ、長さ方向において単一レーザーラインへと統合されるようになっており；
かつ
搬送手段が、基材が単一レーザーラインと垂直に移動することを可能にしており；
上述の方法が、下記を含んでいる：
−  ２つの隣接している基本レーザーラインの単位長さあたりの出力のプロファイル及び幅を、個別に計測すること；
−  重なり−オフセット対を決定して、それにより、重なり区域における単一レーザーラインの性能指数Ｆが、重なり区域の外側における上述の２つの隣接している基本レーザーラインそれぞれの平均の性能指数に対して、２０％未満、好ましくは１５％未満、より好ましくは１０％未満、変化するようにすること；並びに
−  上述の２個の隣接している基本レーザーラインに対応するレーザーモジュールを位置合わせして、それにより、上述の２つの隣接している基本レーザーラインが、決定された重なり−オフセット対を有するようにすること。
【００２２】
それぞれの基本レーザーラインの単位長さあたりの出力のプロファイルは、作業面において、別個に計測される。それらは、出力検出器をレーザーラインに沿って配置することによって計測してよく、例えば、熱量測定出力計、例えば特には、会社Ｃｏｈｅｒｅｎｔ  Ｉｎｃ．のＢｅａｍ  Ｆｉｎｄｅｒ  ｐｏｗｅｒ  ｍｅｔｅｒ、又は、ビデオカメラを使用するレーザービーム分析システム、例えば、会社Ｍｅｔｒｏｌｕｘ  ＧｍｂＨのシステムＦＭ１００を、レーザーラインに沿って配置することによって計測してよい。レーザービーム分析システムは、レーザーラインの幅を同時に計測することを可能にするという利点を有している。計測されるプロファイルから、シミュレーションによって、２つの基本レーザーラインの間での重なり及び所与のオフセットに関して、重なり区域での性能指数Ｆのプロファイルを決定することが可能となる。したがって、重なり−オフセット対（ペア）を、適切な一定サイズずつ精査することによって、上述の対を選んでよく、例えば、適切なソフトウェアパッケージを使用して選んでよく、そのようにして、性能指数Ｆが、上述の条件を満たすようにする。理想的には、性能指数における変化が最小であるような、重なり−オフセット対が選ばれるであろう。しかしながら、変化が最小量であることが絶対的に必要であるわけではなく、単純に性能指数の変化を低減して、そのようにして、この変化が、重なり区域の外側での上述の２つの隣接している基本レーザーラインそれぞれの平均の性能指数に対して２０％よりも小さくなるようにすることのみで、処理の均一性を、処理される被覆の大部分に関して、満足いくように向上させることが可能となる。
【００２３】
ｎが厳密に２よりも大きいときに、ｎ個の基本レーザーラインを生成するｎ個のレーザーモジュールをレーザー装置が有している、１つの好ましい実施態様では、基本レーザーラインと重なり−オフセット対との組み合わせのいずれが性能指数の変化を最小限にしやすいのかを、さらに決定することも可能である。特には、それぞれの基本レーザーラインは、特には側部において、厳密に同一の直線状出力プロファイルを有してはいないので、単一ラインのプロファイルは、基本レーザーラインが統合される順番にも依存する。例えば、３つの要素ラインＡ，Ｂ及びＣにおいて、種々の基本レーザーラインの並置の組み合わせＡＢＣ，ＡＣＢ，ＢＡＣ，ＢＣＡ，ＣＡＢ及びＣＢＡは、たとえ重なり−オフセット対の最適化の後であっても、必ずしも、同一の性能指数プロファイルを生じない。したがって、本発明に係る前記の調節方法は、好ましくは以下を含んでいる：
−  ｎ個の基本レーザーラインそれぞれの単位長さあたりの出力のプロファイルを、個別に計測すること；
−  ｎ個の基本レーザーラインの並置の組み合わせ、及び、隣接しているレーザーラインの各ペアに関して、重なり−オフセット対を決定して、それにより、重なり区域での単一レーザーラインの性能指数Ｆが、重なり区域の外側での上述の基本レーザーラインのそれぞれの平均の性能指数に対して、２０％未満、好ましくは１５％未満、より好ましくは１０％未満、変化するようにすること；並びに
−  基本レーザーラインに対応するレーザーモジュールを位置合わせして、それにより、上述の基本レーザーラインが、決定された並置の組み合わせとなるようにし、かつ、隣接している基本レーザーラインの各ペアが、決定された重なり及びオフセットを有しているようにすること。
【００２４】
基本レーザーラインの並置の複数の組み合わせは、隣接している基本レーザーラインの各ペアについての重なり−オフセット対の適切な選択と相まって、性能指数Ｆについての上述の条件が満たされることを可能とし、又はさらには、性能指数の変化を最小限にすることを可能にする、ということが理解されるであろう。
【００２５】
本発明のレーザー装置は、基材の表面に堆積されている被覆の加熱処理に適している。本発明の別の主題は、基材に堆積されている被覆を加熱処理するための、レーザー装置、例えば上記のレーザー装置の使用である。
【００２６】
本発明は、また、レーザー装置、例えば上記において定義されるようなレーザー装置を使用して、基材に堆積されている被覆を加熱処理するための方法にも関し、この方法は以下を含んでいる：
−  処理されることとなる被覆によって被覆されている基材を、搬送手段に提供して、それにより、被覆が、作業面にあるようにすること；
−  基材を、単一レーザーラインに垂直に移動させること；及び
−  加熱処理された被覆で被覆されている基材を回収すること。
【００２７】
あるいは、基材に堆積されている被覆を加熱処理するための方法は、以下を含んでいる：
−  レーザー装置、例えば上述の調節方法において規定されるようなレーザー装置を提供すること；
−  上述の調節方法を使用して、レーザー装置を調節すること；
−  処理されることとなる被覆で被覆されている基材を、搬送手段に提供して、そうすることで、被覆が、作業面にあるようにすること；
−  基材を、単一レーザーラインに垂直に移動させること；
−  加熱処理された被覆で被覆されている基材を回収すること。
【００２８】
基材は、有機基材であってよく、又は無機基材であってよい。基材は、好ましくは、ガラス、ガラス−セラミック、又はポリマー有機材料でできている。基材は、好ましくは、透明であり、着色されておらず（その場合には、クリアガラスか、若しくは超クリアガラスかという問題である）、又は着色されており、例えば、青色、灰色、緑色、若しくはブロンズ色である。ガラスは、好ましくは、ソーダ石灰シリカガラスであるが、ガラスは、ホウケイ酸又はアルミノホウケイ酸ガラスであってもよい。好ましい有機ポリマー材料は、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、又はさらには、フルオロポリマー、例えばエチレンテトラフルオロエチレン（ＥＴＦＥ）である。基材は、有利には、１ｍ以上、又はさらには２ｍ以上、さらには３ｍ以上の大きさの、少なくとも１つの寸法を有している。基材の厚みは、一般には、０．５ｍｍと１９ｍｍの間で変化し、好ましくは、０．７ｍｍと９ｍｍの間、特には２ｍｍと８ｍｍの間、又はさらには４ｍｍと６ｍｍの間で変化する。基材は、平坦であってよく若しくは湾曲していてよく、又はさらには可撓性であってよい。
【００２９】
被覆は、好ましくは、層を有しており、上述の層の結晶化の程度が増加する場合に、上述の層の少なくとも１つの特性が向上する。この層は、好ましくは、金属、酸化物、窒化物、又は混合酸化物であり、銀；チタン；モリブデン：ニオブ；チタン酸化物；インジウム及び亜鉛又はスズの混合酸化物；アルミニウム又はガリウムでドープされている亜鉛酸化物；チタン、アルミニウム、又はジルコニウムの窒化物；ニオブでドープされているチタン酸化物；スズ酸カドミウム及び／又はスズのスズ酸塩；並びに、フッ素及び／又はアンチモンでドープされているスズ酸化物、から選択される。本発明は、特には、銀に基づいている又はチタンに基づいている層を有している被覆に適合しており、後者は、加熱処理における非均一性の影響を比較的受けやすい。層の組成に言及するために用いられる場合の、表現「基づいている」は、上述の層が、８０重量％よりも多くの、好ましくは９０重量％よりも多くの、より好ましくは９５重量％よりも多くの、対象としている材料を含有していることを意味する。この層は、上述の材料から本質的に構成されていてよく、すなわち、９９重量%よりも多くの上述の材料を含有していてよい。
【００３０】
基材を、搬送手段に配置して、それにより、被覆が、作業面にあるようにする。換言すると、基材を位置決めして、それにより、基本レーザーラインが、処理されることとなっている被覆で集束しているようにする。レーザーラインに対する基材の移動速度は、無論、処理される被覆の性質、その厚みだけではなく、レーザーラインの出力にも依存している。指標として、移動速度は、有利には、少なくとも４ｍ／分、特には少なくとも５ｍ／分、さらには少なくとも６ｍ／分若しくは少なくとも７ｍ／分、又はさらには少なくとも８ｍ／分、さらには少なくとも９ｍ／分若しくは少なくとも１０ｍ／分である。一定の実施態様によれば、基材の動きの速度は、少なくとも１２ｍ／分若しくは少なくとも１５ｍ／分、特には少なくとも２０ｍ／分、さらには少なくとも２５ｍ／分若しくは少なくとも３０ｍ／分である。処理が可能な限り均一であることを確保するために、基材の動きの速度は、処理の間に、その名目的な値に対して、最大で１０ｒｅｌ％、特には最大で２ｒｅｌ％、さらには最大で１ｒｅｌ％、変化する。
【００３１】
本発明を、以下の非制限的な例示によって説明する。
【実施例】
【００３２】
レーザー装置には、２つのレーザーモジュールが備えられており、それぞれのレーザーモジュールは、４０ｃｍの長さ及び６５μｍの幅の基本レーザーラインを生成し、かつ、基本レーザーラインの単位長さあたりの出力のプロファイルは、中央プラトー及び２つの側部を有しており、このプラトーでは、単位長さあたりの出力が、２５０Ｗ／ｃｍである。
【００３３】
我々によってＰｌａｎｉｃｌｅａｒ（商標）の商標の下で販売されている８０ｃｍ×８０ｃｍのサイズのフロートソーダ石灰シリカガラスでできており、かつ、銀層を有しているＰＬＡＮＩＴＨＥＲＭ（商標）被覆で被覆されている基材の、２つのサンプルＳ１及びＳ２を、それらを２つの基本レーザーラインによって形成されている単一レーザーラインの下に３ｍ／ｓの移動速度で通過させることによって、熱処理に供した。
【００３４】
サンプルＳ１の処理のために、２つの基本レーザーラインを、２０ｍｍの重なり及びゼロのオフセットで結合させた。このようにして形成される単一レーザーラインは、一定の幅を有していた。２つの基本レーザーラインの重なり区域での、単一レーザーラインの性能指数
【００３５】
【数２】
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【００３６】
のプロファイルを、図３Ａに示す。読みやすさのために、性能指数を、重なり区域の外側での平均の性能指数によって標準化している。性能指数が、重なり区域の外側における平均の性能指数に対して、２０％よりも多く比較的高い最大値を有していることが見て取れるであろう。
【００３７】
サンプルＳ２の処理のために、２つの基本レーザーラインを、Ｓ１の処理と同様の重なり（２０ｍｍ）、及び６０μｍのオフセットで結合させた。したがって、単一レーザーラインは、重なり区域において、重なりの外側の区域に対して、比較的大きい幅（１００μｍ）を有していた。２つの基本レーザーラインの重なり区域での、単一レーザーラインの性能指数
【００３８】
【数３】
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【００３９】
のプロファイルを、図３Ｂに示す。性能指数が、重なり区域の外側における平均の性能指数に対して、１５％以下変化していることが見て取れるであろう。
【００４０】
処理後に、人工空の下で、裸眼によって、サンプルを観察した。サンプルＳ１は、基本レーザーラインの重なり区域の下の通過に対応している基材の区域において、裸眼で視認可能であった跡を有していた。対照的に、サンプルＳ２は、均一に見えた。したがって、２つの基本レーザーラインをオフセットすることによって、２つの基本レーザーラインの重なりにおける処理の非均一性によって引き起こされる欠陥を、十分に低減させることが可能となる。
【図１】
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【図２Ａ）】
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【図２Ｂ）】
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【図３】
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【国際調査報告】
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