(57)【要約】本明細書に開示したのは、透明物品、並びに透明物品を処理するための方法及びシステムである。透明物品、例えば、切断ガラスを処理するためのシステムは、少なくとも１つの初期レーザー、及び少なくとも１つの偏光ビームスプリッタを有することができ、偏光ビームスプリッタは、初期レーザービームを複数のレーザービームに分割するように構成され、複数のレーザービームは、透明物品の処理に有用である。透明物品を処理するための方法は、複数のレーザービームで、透明物品に少なくとも１つの傷を発生させるステップを備えている。
2018501110.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１のレーザービーム及び第２のレーザービームを、共通経路に沿って、共線的に合流させるステップであって、前記第１のレーザービームの第１の集束点と、前記第２のレーザービームの第２の集束点とが、前記共通経路に沿って互いにオフセットされた、ステップと、
前記共線的に合流させた第１及び第２のレーザービームを、透明物品の少なくとも一部にわたり、第１のパスで移動させるステップであって、前記第１の集束点に対応する、前記透明物品の表面から第１の深さ、及び前記第２の集束点に対応する、前記透明物品の前記表面から第２の深さにおいて、前記透明物品に第１の一連の傷が形成される、ステップと、
前記第１の集束点及び前記第２の集束点の少なくとも一方を調整するステップと、
前記共線的に合流させた第１及び第２のレーザービームを、前記透明物品の前記一部にわたり、第２のパスで移動させるステップであって、前記第１の集束点に対応する、前記透明物品の表面から第３の深さ、及び前記第２の集束点に対応する、前記透明物品の表面から第４の深さにおいて、前記透明物品に第２の一連の傷が形成される、ステップと、
を備え、
前記第１の一連の傷が、前記第２の一連の傷と交互配置されて成ることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記第１及び第２の一連の傷に沿って、前記透明物品を分離するステップを更に備えたことを特徴とする、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記第２のレーザービームを、前記第１のレーザービームと共線的に合流させる前に、少なくとも２つのレンズを通過させ、前記第１及び第２の集束点を調整するステップが、前記少なくとも２つのレンズ間の距離を調整するステップを含むことを特徴とする、請求項１又は２記載の方法。
【請求項４】
レーザーを用いて、第１の経路に沿って投射するように構成された、初期レーザービームを生成するステップと、
前記第１の経路に配置され、前記第１のレーザービームを前記第１の経路に誘導し、前記第２のレーザービームを、前記第１の経路と異なる第２の経路に誘導するように構成された、偏光ビームスプリッタを用いて、前記初期レーザービームを分割するステップと、
を更に備えたことを特徴とする、請求項１〜３いずれか１項記載の方法。
【請求項５】
前記初期レーザービームの偏光角度を調整するステップであって、該ステップに応じて、前記第１及び第２のレーザービームの、少なくとも一方のパワー出力が変更される、ステップを更に備えたことを特徴とする、請求項４記載の方法。
【請求項６】
前記初期レーザービームの前記偏光角度を調整する前記ステップの結果、前記第１及び第２のレーザービームの平均パワーが、より同等に近づくことを特徴とする、請求項５記載の方法。
【請求項７】
レーザーを用いて、第１の経路に沿って投射するように構成された、初期レーザービームを生成するステップと、
前記第１の経路に配置された偏光ビームスプリッタを用いて、前記初期レーザービームを分割するステップであって、前記第１のレーザービームが、前記第１の経路に誘導され、前記第２のレーザービームが、前記第１の経路と異なる第２の経路に誘導され、前記第１のレーザービームが、前記第１の経路に沿って第１の集束点を有し、前記第２のレーザービームが、前記第２の経路に沿って第２の集束点を有する、ステップと、
前記第１及び第２のレーザービームを共通の集束レンズに通すステップであって、前記第１及び第２のレーザービームが透明物品に集束される、ステップと、
前記透明物品にわたり、前記第１及び第２のレーザービームを移動させるステップであって、第１及び第２の一連の傷が前記透明物品に形成され、前記第１の一連の傷が、第１の横方向位置かつ前記透明物品の表面から第１の深さに形成され、前記第２の一連の傷が、前記第１の横方向位置からオフセットされた、第２の横方向位置かつ前記透明物品の前記表面から第２の深さに形成され、前記第１の横方向位置かつ前記第１の深さが、前記第１の集束点に対応し、前記第２の横方向位置かつ前記第２の深さが、前記第２の集束点に対応する、ステップと、
を備えたことを特徴とする方法。
【請求項８】
ミラーの角度を調整するステップであって、前記第１の横方向位置と前記第２の横方向位置との距離が調整される、ステップを更に備えたことを特徴とする、請求項７記載の方法。
【請求項９】
透明物品を処理するためのシステムであって、
初期レーザービームを生成するように構成されたレーザー発光装置と、
前記初期レーザービームを、第１の経路に沿って誘導される第１のレーザービームと、前記第１の経路と異なる第２の経路に沿って誘導される、第２のレーザービームとに分割するように構成された、第１の偏光ビームスプリッタであって、前記第１のレーザービームが前記第１の経路に沿って、第１の集束点を有し、前記第２のレーザービームが前記第２の経路に沿って、第２の集束点を有する、第１の偏光ビームスプリッタと、
前記第１及び第２のレーザービームを受光して、該第１及び第２のレーザービームを共通の集束レンズに通すように構成された、第２のビームスプリッタであって、前記共通の集束レンズが、前記第１のレーザービームで、第１の横方向位置かつ前記透明物品の表面から第１の深さにおいて、前記透明物品に第１の一連の傷を発生させ、前記第２のレーザービームで、前記第１の横方向位置からオフセットされた、第２の横方向位置かつ前記第１の深さからオフセットされた、前記透明物品の表面から第２の深さにおいて、前記透明物品に第２の一連の傷を発生させ、前記第１及び第２の一連の傷によって、前記透明物品が、前記第１及び第２の一連の傷に沿って、複数の部分に分割されるのが促進されるように配置可能である、第２の偏光ビームスプリッタと、
を備えたことを特徴とするシステム。
【請求項１０】
透明物品であって、
第１の外面と、
前記第１の外面に対向する第２の外面と、
前記第１の外面と前記第２の外面との間に延びる全厚さを含むエッジであって、該エッジが、分離前に、前記透明物品と一体成形された除去物品から、前記透明物品を分離するのに用いられるスクライブ線によって形成され、前記スクライブ線が、該スクライブ線間に、前記全厚さの少なくとも１０％の最小間隔を有する、エッジと、
を備えたことを特徴とする透明物品。
【発明の詳細な説明】
【関連技術の相互参照】
【０００１】
本出願は、参照により全内容が本明細書に組み込まれたものとする、２０１４年１１月１０日出願の米国特許出願第６２／０７７４５１号の優先権を主張するものである。
【技術分野】
【０００２】
本開示は、概して、ガラス等の透明材料を処理するための方法及びシステムに関するものである。
【背景技術】
【０００３】
ＬＣＤ及びＬＥＤディスプレイ、コンピュータモニター、現金自動預け払い機（ＡＴＭ）などの民生用及び商業電子機器等、多くの用途において強化ガラスが必要とされている。このような装置に用いられるシートガラス部品は、多くの場合、機械的切り込みツール又はレーザーを用いて、より大きな部品から切断される。これ等の粗い切削部分は、一般的、特定の寸法公差及び／又はエッジ形状等の特定の要件を満たすために、追加の研削及び研磨工程を経る。これ等の工程は時間がかり労働集約的であるだけでなく、特に強化ガラスにはあまり適していない。
【０００４】
化学焼戻し、熱焼戻し、及び積層を含む様々な方法を用いてガラスを強化することができる。例えば、イオン交換強化方法において、ガラス表層のイオンが、同じ価数又は酸化状態を有する浴溶液（塩浴等）において、より大きなイオンに置換、又は交換される。積層機械的ガラス強化は、異なる熱膨張係数（ＣＴＥ）を有する、複数のガラス層を接合又は積層する方法である。３層の積層体、即ち、２つのクラッド層に囲まれたコア層において、クラッドガラス層のＣＴＥと比較して、コアガラス層の比較的高いＣＴＥによって、熱接合後の冷却時に、コアガラス層が、クラッドガラス層よりも多く収縮又は縮小する。これによって、コアガラス層が張力状態になり、グラッドガラス層が圧縮状態になる。クラッドガラス層の圧縮応力によって、クラッドガラス層における破砕の形成及び破砕の伝播が抑制され、それによって、圧縮応力状態にないクラッドガラスと比較して、ガラス積層体が強化される。
【０００５】
レーザーを使用して、様々な種類の強化ガラス及び非強化ガラスを処理することができる。様々なレーザー処理方法及びシステムにおいて、多数のスクライブ線を形成して、望ましい滑らかで均一にガラス片を分割することができる。レーザーヘッドとガラス構造体との相対移動を繰り返すことによって、多数のスクライブ線を形成することができるが、製造工程に時間とコストがかかる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従って、確度及び／又は精度を向上させると共に、時間を節約し費用効果が高い、強化ガラス等の透明材料を切断するための方法及びシステムを提供することが有益であろう。製造コスト及び／又は処理時間を削減するためには、少なくとも部分的に、ガラス構造体を切断するための既存のシステムと併せて機能することができる、システム及び方法を提供することが更に有益であろう。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本開示は、様々な実施の形態において、透明材料を処理するためのシステムに関連し、本システムは（ｉ）初期レーザービームを生成するように構成された、レーザー発光装置、（ｉｉ）初期レーザービームを、第１の経路に沿って誘導される第１のレーザービームと、第１の経路と異なる第２の経路に沿って誘導される、第２のレーザービームとに分割するように構成された、第１の偏光ビームスプリッタであって、第１のレーザービームが、第１の経路に沿って第１の集束点を有し、第２のレーザービームが、第２の経路に沿って第２の集束点を有する、ビームスプリッタ、及び（ｉｉｉ）第１及び第２のレーザービームを受光して、共通の集束レンズを通して、第１及び第２のレーザービームを誘導するように構成された、第２の偏光ビームスプリッタを備え、第１のレーザービームが、透明材料の第１の横方向位置かつ透明材料の表面の第１の深さにおいて、透明材料に第１の一連の傷を発生させるように構成され、第２のレーザービームが、透明材料の第２の横方向位置かつ透明材料の表面の第２の深さにおいて、第２の一連の傷を発生させるように構成され、第１及び第２の一連の傷によって、透明材料が第１及び第２の一連の傷に沿って複数の部分に分割されるのが促進されるシステムである。様々な実施の形態において、システムは、第２の経路に沿って配置され、第２のレーザービームを受光するように構成された、第１のレンズセットであって、第１のレンズセット間の距離によって、第２の経路に沿った集束点の位置が確立されるレンズセット、及び／又は初期レーザービームを受光するように構成された、少なくとも２つの第２のレンズを有し、第１のレンズセット間の距離を調整することによって、第１及び第２のレーザービームの少なくとも一方の集束点を変えることができる。加えて、少なくとも1つの反射ミラーを、第２のレーザービームを反射するように構成して、ミラーの角度を調整することによって、第１及び第２のレーザービームの集束点にそれぞれ対応する、第１の横方向位置と第２の横方向位置との距離を変えることができる。
【０００８】
本開示は、様々な実施の形態において、透明材料を処理するための方法にも関連し、本方法は、（ｉ）第１のレーザービーム及び第２のレーザービームを、共通経路に沿って、共線的に合流させるステップであって、第１のレーザービームが第１の集束点を有し、第２のレーザービームが第２の集束点を有し、第1及び第２の集束点が、共通経路に沿って互いにオフセットされた、ステップと、（ｉｉ）最初に共線的に合流させた第１及び第２のレーザービームを、透明材料の一部にわたり移動させるステップであって、第１の集束点に対応する、透明材料の表面の第１の深さ、及び第２の集束点に対応する、透明材料の表面の第２の深さにおいて、透明材料に第１の一連の傷が形成される、ステップと、（ｉｉｉ）第１の集束点及び第２の集束点の少なくとも一方を調整するステップと、（ｉｖ）続いて、共線的に合流させた第１及び第２のレーザービームを、透明材料の一部にわたり移動させるステップであって、第１の集束点に対応する、透明材料の表面から第３の深さ、及び第２の集束点に対応する、透明材料の表面から第４の深さにおいて、透明材料に第２の一連の傷が形成される、ステップと、を備え、第１の一連の傷が、第２の一連の傷と交互配置されている、方法である。
【０００９】
本開示は、様々な実施の形態において、透明材料を処理するための方法にも関連し、本方法は、（ｉ）レーザーを用いて、第１の経路に沿って投射するように構成された、初期レーザービームを生成するステップと、（ｉｉ）第１の経路に配置された偏光ビームスプリッタを用いて、初期レーザービームを分割するステップであって、第１のレーザービームが、第１の経路に誘導され、第２のレーザービームが、第１の経路と異なる第２の経路に誘導され、第１のレーザービームが、第１の経路に沿って第１の集束点を有し、第２のレーザービームが、第２の経路に沿って第２の集束点を有する、ステップと、（ｉｉｉ）第１及び第２のレーザービームを共通の集束レンズに通すステップであって、第１及び第２のレーザービームが透明材料に集束する、ステップと、（ｉｖ）透明材料の表面にわたり、第１及び第２のレーザービームを移動させるステップであって、第１及び第２の一連の傷がそれぞれ透明材料に形成され、第１の一連の傷が第１の横方向位置かつ透明材料の表面の第１の深さに形成され、第２の一連の傷が、第１の横方向位置からオフセットされた第２の横方向位置かつ透明材料の表面の第２の深さに形成され、第１の横方向位置かつ第１の深さが、第１の集束点に対応し、第２の横方向位置かつ第２の深さが、第２の集束点に対応する、ステップと、を備えた方法である。
【００１０】
更に別の方法は、第１及び第２の一連の傷に沿って、透明材料を複数の部分に分割するステップを備えている。
【００１１】
更なる特徴及び効果は、これに続く詳細な説明に述べてあり、当業者はその記述から、一部は容易に明らかであり、これに続く詳細な説明、特許請求の範囲、及び添付図面を含め、本明細書に記載の方法を実施することによって認識できるであろう。
【００１２】
前述の概要説明及び以下の詳細な説明は、いずれも本開示の様々な実施の形態を示すものであって、特許請求の範囲の性質及び特徴を理解するための概要、及び枠組みの提供を意図したものであることを理解されたい。添付図面は、本開示について更なる理解が得られることを意図して添付したもので、本明細書に組み込まれ、その一部を構成するものである。図面は本開示の様々な実施の形態を示すもので、その説明と併せ、本開示の原理及び作用の説明に役立つものである。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
以下の詳細な説明は、同様の構造には同様の参照番号が付してある、以下の図面と併せて読むことによって、最も良く理解することができる。
【図１】本開示の実施の形態による、多焦点レーザービームの例示的な光学配置を示す概略平面図。
【図２】本開示の別の実施の形態による、多焦点レーザービームの例示的な光学配置を示す概略平面図。
【図３Ａ】本開示の実施の形態による、多数のスクライブ線を含む、例示的な透明物品の側立面画像を示す図。
【図３Ｂ】本開示の実施の形態による、図３Ａの多数のスクライブ線を含む、例示的な透明物品の概略斜視図。
【図４】本開示の実施の形態による、スタック配置されたスクライブ線対を含む、例示的な透明物品の側立面画像を示す図。
【図５】本開示の実施の形態による、交互配置されたスクライブ線対を含む、例示的な透明物品の側立面画像。
【図６】本開示の実施の形態による、可変スクライブ線間隔を含む、例示的な透明物品の側立面画像。
【図７】本開示の実施の形態による、レンズ間隔を関数とする縦スクライブ線間隔のグラフ表示を示す図。
【図８】本開示の実施の形態による、波長板の設定を関数とする第１及び第２のレーザービームの平均電力を比較したグラフ表示を示す図。
【図９Ａ】本開示の実施の形態による、図８のグラフに示す、第１の設定セットに対応する多数のスクライブ線を含む、例示的な透明物品の側立面画像。
【図９Ｂ】本開示の実施の形態による、図８のグラフに示す、第２の設定セットに対応する多数のスクライブ線を含む、例示的な透明物品の側立面画像。
【図１０】本開示の実施の形態による、波長板の設定を関数とする、第１及び第２の電力経路のスクライブ線のスポットサイズを比較したグラフ表示。
【図１１】本開示の別の実施の形態による、互いの軸を外れた多焦点レーザービームを形成するための例示的な光学配置を示す平面図。
【図１２Ａ】本開示の実施の形態による、例示的な透明物品にＵ字形エッジを形成するのに使用される可変スクライブ線の概略側断面図。
【図１２Ｂ】本開示の実施の形態による、可変スクライブ線に沿って分離され、Ｕ字形エッジが形成された、図１２の例示的な透明物品の概略側断面図。
【図１３Ａ】本開示の実施の形態に従って形成された、１つの透明物品のエッジ形状を示す概略側断面図。
【図１３Ｂ】本開示の実施の形態に従って形成された、別の透明物品のエッジ形状を示す概略側断面図。
【図１３Ｃ】本開示の実施の形態に従って形成された、更に別の透明物品のエッジ形状を示す概略側断面図。
【図１３Ｄ】本開示の実施の形態に従って形成された、更に異なる別の透明物品のエッジ形状を示す概略側断面図。
【図１４】本開示の実施の形態による、多数のスクライブ線を有する、例示的な透明物品の切り口の側立面図。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本明細書が開示するのは、透明物品を処理するための方法及びシステムである。本システムは、レーザー発光装置及び少なくとも２つの偏光ビームスプリッタを含む、光学配置を有することができる。レーザー発光装置は、初期レーザービームを生成することができる。２つの偏光ビームスプリッタのうちの第１の偏光ビームスプリッタは、初期レーザービームを、第１の経路に誘導される第１のレーザービームと、第１の経路と異なる第２の経路に誘導される第２のレーザービームとに分割するように構成することができる。第１のレーザービームは、第１の経路に沿って第１の集束点を有し、第２のレーザービームは、第２の経路に沿って第２の集束点を有している。２つの偏光ビームスプリッタのうちの第２の偏光ビームスプリッタは、第１及び第２のレーザービームを受光して、第１及び第２のレーザービームを、共通の集束レンズを通して誘導するように構成することができる。第１のレーザービームは、透明材料の表面の下方の第１の深さにおいて、透明材料に第１の一連の傷を発生させるように構成することができる。加えて、第２のレーザービームは、透明材料の表面の下方の第２の深さにおいて、第２の一連の傷を発生させるように構成することができる。このように、第１及び第２の一連の傷によって、第１及び第２の一連の傷に沿って、透明材料を複数の部分に分割するのを促進することができる。
【００１５】
本明細書において、「レーザー」という用語は、エネルギーレベル間における原子又は分子の自然振動を利用して、本明細書において、レーザービームと呼ぶ、一般にスペクトルの紫外、可視、又は赤外領域のコヒーレント電磁放射線ビームを生成するための装置を意味する。様々な実施の形態によれば、初期レーザービームは、複数のレーザービームに分割（即ち、分離）することができる。
【００１６】
本明細書において、「共直線的に合流」という用語は、複数のレーザービームが集結して、同じ直線を占有又は通過することを意味する。
【００１７】
本明細書において、「集束点」という用語及びその変形は、（光、熱、又は音としての）放射性が集束するか、又は発散若しくは発散するように見える点を指す。これには、例えば、別の点から発散又は別の点に向けて集束する光線に一致する、幾何学的境界又はその延長が交差して画像を生じさせる点、あるいはミラーによる反射後、又はレンズ若しくは光学配置による屈折後の光線がグループ化される点が含まれる。
【００１８】
本明細書において、「光学トレーン」という用語及びその変形は、内部を通してレーザービームが伝播することができる、一連の光学配置要素を意味することを意図している。
【００１９】
本明細書において、「透明物品」という用語は、レーザービームが通過することができる特定の品物又は物体を指す。特にガラス、セラミック、ガラスセラミック、結晶材料、ポリマー、及びこれ等の組み合わせを含み、これに限定されない、透明物品は脆弱であってよい。本明細書に記載の方法が有用であるガラスの実施の形態には、ガラスシート及びガラス構造体が含まれ、特に強化ガラス（例えば、化学強化及び／又は積層ガラス）が含まれるが、これに限定されるものではない。単に引用し易いという理由から、実施の形態はガラスに関して説明することができるが、別の透明材料についても同等に有用であることを理解されたい。
【００２０】
本明細書において、処理される透明材料の表面に対する、レーザービームに関して「移動させる」という用語は、レーザービーム若しくは透明材料、又は両方を、互いに対して移動させることを含むことを意図している。従って、「透明材料の表面にわたり、第１及び第２のレーザービームを移動させて、透明材料に第１及び第２の一連の傷を形成する」という表現は、レーザービームが移動するが、透明材料は静止したままの実施の形態、透明材料が移動するが、レーザーは静止したままの実施の形態、及び透明材料とレーザーの両方が移動する実施の形態を含んでいる。
【００２１】
本明細書において、「傷」という用語及びその変形は、透明物品の物理的構造又は形状における欠陥、又はそれに対する損傷を含むことを意味する。本明細書において、「一連の傷」は、透明物品の内部又は表面に順次位置する複数の傷を指す。継続又は連続する一連の傷は、線（即ち、細長いマーク）を形成することができ、線は直線及び／又は湾曲していてもよい。傷は物品の表面及び物品のバルク内（即ち、表面の下方）に形成することができる。
【００２２】
本明細書において、「スクライブ線」という用語及びその変形は、ガラスシート等の物品の表面に刻み目を入れるか、又は表面を切り取ることによって形成された線を指すことを意味する。様々な実施の形態によれば、スクライブ線は、透明物品のバルク内等、物品の上面の下方に形成することができる。記載された様々な実施の形態によれば、スクライブ線はレーザー加工によって形成される。様々な実施の形態によれば、スクライブ線は実質的に連続した線、又は一連の連続しない傷を含むことができる。
【００２３】
レーザー加工が、ガラス加工業界において広く採用さるようになり、機械加工に取って代わり、加工ガラスに特有の特性をもたらすようになった。レーザー加工は、伝統的な機械的スクライブ及び破断方法では、滑らかで均一な分離を行うことができない、強化ガラスに特に有用である。従来のガラスのレーザー加工では、レーザービームの１つの集束点を直接囲む小さな領域に、レーザーパワーが集中される。これによって、パワー密度が処理されるガラスのバルク損傷閾値より大きい場合、その小さな領域に傷が発生する。レーザービームの焦点及び透明物品が互いに対して移動するにつれ（透明材料に対してレーザーヘッドを移動させるか、又はその逆）、傷によって直線、又はその動きに対応するその他の形状を成すことができる、スクライブ線が形成される。
【００２４】
強化ガラス及び非強化ガラスの両方に対し、様々なレーザー分離技術を利用して、高いエッジ強度及び／又は良好なエッジ品質を達成することができる。これ等の方法は、レーザー誘起熱応力、化学結合破壊、２つの方法の組合せ（熱応力及び化学結合破壊）、又はアブレーションによってガラス材料を除去若しくは部分的に除去（即ち、アブレーション法）のいずれかを利用して、亀裂／傷を発生させ、亀裂を伝播させる（即ち、亀裂伝播法）。亀裂伝播法は、望ましいエッジ品質及び強度を保持して、比較的高い切削速度（例えば、＞３００ｍｍ／ｓ）を達成することができるが、丸角又は面取り等、望ましい形状をすべて実現するためには、有用でないこともあり得る。これに反し、アブレーション法は、非常に高い精度でガラスの小さな部分を除去することができるため、特定のエッジ形状を実現することができるが、比較的低速である（例えば、５０ｍｍ／ｓ未満の切削速度）。
【００２５】
様々な実施の形態によれば、例示的な方法及びシステムは、複数の焦点を有する単一のレーザービームを含んでいる。かかる実施の形態は、レーザーヘッドを１回通過させることによって、複数の傷又はスクライブ線を形成することができる。非限定的な実施の形態は、偏光ビームスプリッタ及び可変光学レンズを有する光学システムを含み、ビームを分割及び／又は操作することができる。このようにして、単一のレーザービームを操作して、複数の焦点を持たせることができる。複数の焦点の各々は、ガラスを複数の部分に分離するための様々なスクライブ線及び／又はパターン等の傷をガラスに形成して、所定の形状又は輪郭を有する切り口を残すことができる。
【００２６】
例えば、ピコ秒〜数十ナノ秒の範囲のパルス幅を有する、２００ｎｍ〜１６００ｎｍの波長範囲のパルスレーザーからのレーザービームを、複数のビームに分割することができ、各々のビームは、硬質積層ガラス、並びにＥａｇｌｅ ＸＧ（登録商標）、Ｇｏｒｉｌｌａ（登録商標）ガラス、及びＷｉｌｌｏｗ（登録商標）ガラス（すべて、コーニング、ニューヨーク、コーニング社のガラス製品の登録商標）を含み、これに限定されない、その他の種類のガラスに傷又はスクライブ線を形成することができる。
【００２７】
一般に、ガラスに傷又はスクライブ線を形成するのに必要なパワーは、多くのレーザーシステムにおいて、利用可能な全パワーと比較して、比較的低くてもよく、用途によっては、必要なパワーの５〜１０倍を超えることがある。従って、本明細書に記載の様々な実施の形態は、１つの高パワーレーザービームを、各々が最も硬い種類の一部のガラスに、スクライブ線を発生させるのに十分なエネルギーを有するように構成された、複数のより低いパワーのレーザービームに分割することによって、従来のレーザーの過剰なパワーを無駄にするのではなく、活用することができる。
【００２８】
代表的なレーザービームは、式（１）に従って表わすことができる、ガウス性の横方向強度プロファイルＩ（ｒ）を有する、所与の波長の放射線を放出することができる：
【００２９】
【数１】
2018501110.tif 000003
【００３０】
ここで、
Ｉ０：レーザービームのウエストにおけるビーム中心強度
ｅｘｐ：指数関数ｅｘ
ｒ：中心最大値からの半径
ω0：ガウシアンビームの最小（即ち、ウエストにおける）半径。
【００３１】
レンズセットを用いて、ガウシアンビームを集束点に関連付けられた小さな点に集束させることができる。集束点はレンズセットからの距離Ｄｆであり、これはビームの経路に沿った、ビームウェストに関連するスポットに対応している。ガラス片を小さなスポットに配置したとき、ビームからのエネルギーが、透明物品のバルク損傷閾値を超えると、傷が発生する。このようにして、集束点が透明物品の表面と一致した場合、傷を発生させるためには、表面損傷閾値を超える必要がある。あるいは、集束点が透明物品の表面より下方にある場合、傷を発生させるためには、透明物品の集束点と一致した領域のバルク損傷閾値を超える必要がある。傷の大きさは、スポットの大きさ、及び集束点におけるビームがどの程度バルク損傷閾値を超えているかによって決まる。レンズセットからの距離Ｄｆは式（２）に従って表わすことができる：
【００３２】
【数２】
2018501110.tif 000004
【００３３】
ここで、
ｆ：レンズの有効焦点距離
λ：波長
π：パイ、３．１４１５６。
２つのレンズから成る複合レンズの場合には、有効焦点距離はｆ＝ｆ１＊ｆ２／（ｆ１＋ｆ２−Ｈ１）、ここで、ｆ１及びｆ２は２つのレンズの各々の有効焦点距離、Ｈ１は２つのレンズ間の距離である。このように、レンズ間のレンズ間隔Ｈ１を変更することによって、複合レンズの有効焦点距離を変化させることができる。
【００３４】
しかし、ビーム発散半角は、式（３）に従って表わすことができる：
【００３５】
【数３】
2018501110.tif 000005
【００３６】
従って、式（２）は式（４）に従って、書き直すことができる：
【００３７】
【数４】
2018501110.tif 000006
【００３８】
このように、式（４）は、最小スポットサイズが生じる距離Ｄｆが、ビームの発散に依存することを示している。従って、ビームの発散を変更することによって、Ｄｆも変更することができる。
【００３９】
１つの例示的な実施の形態によれば、ガウシアンビームが光学トレーン内を伝播する際に、共同でガウシアンビームの発散を僅かに修正する、２つの相補レンズをビーム経路に配置することによって、ガウシアンビームの発散を変更することができる。レンズを互いに近づけたり遠ざけたりすると、発散が変化し、その結果、集束レンズの焦点距離に対し、最小スポットサイズが生じる距離Ｄｆを変化させることができる。
【００４０】
図１は本明細書に記載の様々な方法に関する、例示的な光学配置１００の非限定的な実施の形態を示す図であるが、配向、構成、サイズ、及び数が異なる光学トレーン、並びに異なる数の光学トレーンを含み、これに限定されない、別の様々な構成が想定されており、本開示の範囲内に含まれることが意図されている。光学配置１００は、初期レーザービーム１０を最初に分離し、後に再結合するために用いられる一連のレンズ、ビームスプリッタ、及びミラーを含む２つの別々の光学トレーンを有している。初期レーザービーム１０が、複数のビームに分離された後、前述の式１〜４に従って、複数のビームのうちの少なくとも１つの焦点を変更することができる。従って、複数のビームを再結合したとき、これ等のビームは、複数の焦点を有する単一のビームのように作用する。
【００４１】
初期レーザービーム１０は、一例として、２００ｎｍ〜１６００ｎｍの波長を有するレーザービームを出力することができる、紫外線レーザー等のレーザーによって生成される一般的な平行ビームであってよい。初期レーザービーム１０は、必要に応じて、光学トレーンに誘導される前に修正することができる。例えば、初期レーザービーム１０は、必要に応じて、調整可能なテレスコプ構成を提供することができる、第１の一般的なレンズセット１１０を通して誘導することができる。例えば、第１の一般的なレンズセット１１０は少なくとも２つのレンズを含み、初期ビームを伸張又は収縮させて、所望の直径を有する調整後レーザービーム１１を生成することができる。あるいは、第１の一般的なレンズセット１１０がない場合、調整後レーザービーム１１は、初期レーザービーム１０と同じになる。調整後レーザービーム１１は、必要に応じて、直線偏光を有するように構成することができるが、初期偏光角は混成及び／又は不定である。調整後レーザービーム１１は、第１の偏光ビームスプリッタ１２１に誘導することができる。第１の偏光ビームスプリッタ１２１は、調整後レーザービーム１１からの入射光を、直交偏光を有する２つの部分、即ち、第１のレーザービーム２１及び第２のレーザービーム２２に分割する。更に、第１の偏光ビームスプリッタ１２１の内角によって、調整後レーザービーム１１とは異なるが、互いに直交する（直角である）偏光角が、第１のレーザービーム２１及び第２のレーザービーム２２に与えられる。
【００４２】
例えば、調整後レーザービーム１１が、仮に４５°の直線偏光（両方向矢印を有する対角線として示される）を有しているとし、第１の偏光ビームスプリッタ１２１が、４５°の内部反射層を有しているとすれば、第１のレーザービーム２１は、（両方向矢印を有する垂直線で示す）９０°の直線偏光を有する一方、第２のレーザービーム２２は（ページの内外の方向を反映した小さな円で示す）０°の直線偏光を有することができる。第１のレーザービーム２１は、調整後レーザービーム１１の方向と同じ方向に継続することができる一方、第２のレーザービーム２２は、第１の経路に直交する第２の経路に沿って反射される。このように、様々な実施の形態によれば、第２のレーザービーム２２は、第１のレーザービーム２１とは別の光学トレーンを通して誘導することができる。
【００４３】
様々な実施の形態において、この別の光学トレーンは、第１のミラー１３１、第２のミラー１３２、及び第１のレンズセット１４１を含むことができる。この別の光学トレーンは、第１の偏光ビームスプリッタ１２１と第１のミラーとの間で計測される第１の距離Ａ１を有することができる。第２のレーザービーム２２は、第１のミラー１３１において、第１のレンズセット１４１に向けて反射させることができる。第１のレンズセット１４１は、例えば、互いに特異的に整合させ、特定の発散が生じるように、特定のレンズ間隔Ｈ１だけ互いに離間させて構成することができる。例えば、焦点距離−１００ｍｍの凹レンズを、焦点距離＋１００ｍｍの凸レンズから、レンズ間隔Ｈ１だけ離間させることができる。特定の発散を用いて、第１のレーザービーム２１と比較して、第２のレーザービーム２２に異なる集束点を与えることができる。第１のレンズセット１４１を通過した後、第２のレーザービーム２２が、第２のミラー１３２で反射することによって、第２のレーザービーム２２が、第１のレーザービーム２１に向けて戻るように誘導することができる。別の光学トレーンは、第１のミラー１３１と第２のミラー１３２との間で計測される、第２の距離Ｂ１を有することができる。レンズ間隔Ｈ１が変化しても、第１及び第２の距離Ａ１、Ｂ１は一定のままとすることができる。これに代えた、第１のレンズセット１４１を、第１の偏光ビームスプリッタ１２１と第１のミラー１３１との間、又は第２のミラー１３２と第２の偏光ビームスプリッタ１２２との間等、別の光学トレーンの別の場所に配置することができる。
【００４４】
第１のレーザービーム２１及び第２のレーザービーム２２を誘導して、第１及び第２のレーザービーム２１、２２の再結合に用いられる、第２の偏光ビームスプリッタ１２２において合流させることができる。このように、第１のレーザービーム２１は、方向を変えずに第２の偏光ビームスプリッタ１２２に通すことができる。第２のレーザービーム２２を第２の偏光ビームスプリッタ１２２の内部で反射させて、共通経路３０に沿って、第１のレーザービーム２１及び第２のレーザービーム２２を共線的に合流させることができる。第１のレーザービーム２１及び第２のレーザービーム２２が合流することによって、それぞれのレーザービームの偏光状態が修正される。共線的に合流させた第１のレーザービーム２１及び第２のレーザービーム２２は、第１及び第２のレーザービーム２１、２２をそれぞれ第１の集束点１５１及び第２の集束点１５２に集結させるのに用いられる集束レンズ１５０に通すことができる。
【００４５】
従って、共線的に合流させた第１及び第２のレーザービーム２１、２２は、共通経路３０に沿った単一のビームのように作用することができるが、例示的な実施形態による２つの焦点のように、複数の焦点を有しかつ互いにオフセットされている。第１の集束点１５１は、集束レンズ１５０から、第１の焦点距離Ｄｆ１を有することができ、第２の集束点１５２は、集束レンズ１５０から、第２の焦点距離Ｄｆ２を有することができる。第１及び第２の焦点距離Ｄｆ１、Ｄｆ２は、前述の式（２）及び式（４）に従って算出することができる。レンズ間隔Ｈ１の変更を含む、第１のレンズセット１４１の設定を変更することによって、第２の集束点１５２を変更する（即ち、第１の集束点１５１に近づけるか、又は遠ざける）ことができる。
【００４６】
以下の表１−１は、レンズ間隔Ｈ１を変更することによって、第２の焦点距離Ｄｆ２及び集束点に対応するスポット半径（即ち、ビームのウェストサイズ）がどのように変化させることができるかを示している（測定値の単位はすべてミリメートルであり、Ａ１＝４０ｍｍ、Ｂ１＝８０ｍｍである）。
【００４７】
【表１−１】
2018501110.tif 000007
【００４８】
以下の表１−２は、距離Ｄ０を変更することによって、第１の焦点処理Ｄｆ１は変化しないが、集束点に対応するスポット半径（即ち、ビームのウェストサイズ）が、実際にどのように変化するかを示している（測定値の単位はすべてミリメートル）。
【００４９】
【表１−２】
2018501110.tif 000008
【００５０】
これに対し、一次光学トレーン距離Ｄ０は、必要に応じて、固定あるいは一定であってもよい。一次光学トレーン距離Ｄ０は、第１の偏光ビームスプリッタ１２１と集束レンズ１５０との間で計測される距離であってよい。これに代えて、一次光学トレーン距離Ｄ０を修正、又は追加の構成要素を一次光学トレーンに付加することができる。例えば、第１の偏光ビームスプリッタ１２１と第２の偏光ビームスプリッタ１２２との間に、追加のレンズセット１４０を配置することができる。追加のレンズセット１４０のレンズ間隔Ｈ２を修正することによって、第１の集束点１５１に関連する第１の焦点距離Ｄｆ１を変更することができる。これに代えて又は追加して、光学トレーンの１つ以上の部品に１つ以上の波長板を含めて、それぞれの光学トレーンに誘導されるパワー量を選択的に変化させるか、又はすべての集束点１５１、１５２を概略的に変更することができる。例えば、調整後レーザービーム１１が、第１の偏光ビームスプリッタ１２１に入射する前に、波長板１１２を用いて、第１のレーザービーム２１と第２レーザービーム２２との間のパワー比を制御することができる。
【００５１】
様々な光学トレーンの構成要素に通すことによって、第１及び第２のレーザービーム２１、２２のパワーは、初期レーザービーム１０よりもかなり低下する可能性がある。従って、特定の実施の形態において、初期レーザービーム１０に十分な初期パワーレベルを与え、複数のレーザービームの各々、例えば、第１及び第２のレーザービーム２１、２２を共線的に合流させた後も、依然として処理するガラスのバルク損傷閾値を超える、十分なパワーを有するようにすることが望ましい。このように、単一のレーザービーム源を用いて、複数の焦点を有するレーザービームの共線セットを生成することができ、これを用いて、１回の通過で、ガラスに複数の傷を同時に発生させることができる。
【００５２】
図２は、本明細書に記載の様々な実施の形態による、別の例示的な光学配置２００を示す図である。光学配置２００は、ビームを複数回分離し、後に分離したビームをすべて再結合するのに用いる一連のレンズ、ビームスプリッタ、及びミラーを有する、４つの別々の光学トレーンを含んでいる。ビームが分離された後、前述の式１〜４に従って、ビームのうちの少なくとも３つの焦点を変更することができる。従って、複数のビームを再結合したとき、複数のビームは複数の焦点を有する単一ビームのように作用する。
【００５３】
様々な例示的な実施の形態において、光学配置２００の第１の部分は、図１に関して前述した、光学配置１００と同様であってよい。例えば、初期レーザービーム１０は、必要に応じて、第１の一般的なレンズセット１１０に通して誘導することができ、それによって所望の直径を有し、例えば、初期偏光角が混成及び／又は不定である、直線偏光を有するように構成することができる、調整後レーザービーム１１を生成することができる。第１の一般的なレンズセット１１０を用いない場合には、調整後レーザービーム１１は、初期レーザービーム１０と同じになる。調整後レーザービーム１１は、第１の偏光ビームスプリッタ１２１に誘導することができ、そこで調整後レーザービーム１１からの入射光が、直交偏光を有する２つの部分、即ち、第１のレーザービーム２１及び第２のレーザービーム２２に分割される。第１のレーザービーム２１は、調整後レーザービーム１１の方向と同じ方向に継続することができる一方、第２のレーザービーム２２は、第１の経路に直交する第２の経路に沿って反射される。このように、第２のレーザービーム２２は、第１のレーザービーム２１とは別の光学トレーンを通して誘導することができる。
【００５４】
様々な実施の形態において、光学配置２００は、例えば、調整後レーザービーム１１が、第１のレーザービーム２１と第２のレーザービーム２２とに分割された後、図１に関して前述した、光学配置１００と異なり得る。一例として、第１のレーザービーム２１を第３の偏光ビームスプリッタ１２３に誘導することができ、そこで第１のレーザービーム２１からの入射光が、第３のレーザービーム２３と第４のレーザービーム２４とに分割される。第３のレーザービーム２３は、第１のレーザービーム２１の方向と同じ方向に継続することができる一方、第４のレーザービーム２４は、第１の経路に直交する第３の経路に沿って反射させることができる。このように、第４のレーザービーム２４は、第３のレーザービーム２３とは別の光学トレーンを通して誘導することができる。
【００５５】
第２のレーザービーム２２は、依然として第１のミラー１３１を通して誘導することができるが、その後、第４の偏光ビームスプリッタ１２４を通して誘導され、そこで第２のレーザービーム２２からの入射光が、第５のレーザービーム２５と第６のレーザービーム２６とに分割される。第５のレーザービーム２５は、第２のレーザービーム２２の方向と同じ方向に継続することができる一方、第６のレーザービーム２６は、第２の経路に直交する第４の経路に沿って反射させることができる。このように、第６のレーザービーム２６は、第５のレーザービーム２５とは別の光学トレーンを通して誘導することができる。第５のレーザービーム２５を、第１のレンズセット１４１を通過させて、特定の発散を生じさせることができ、その結果、第５のレーザービーム２５は固有の集束点を有することになる。
【００５６】
（図２の向きにおいて）下側の２つの光学トレーンに関し、第４のレーザービーム２４は、第３のミラー１３３に誘導することができ、そこで第４のレーザービーム２４を反射させて、第２のレンズセット１４２に通すことができる。第２のレンズセット１４２を互いに特異的に整合させ、特定の発散が生じるように、特定の距離、互いに離間して構成される。特定の発散を用いて、第４のレーザービーム２４に固有の集束点を与えることができる。第２のレンズセット１４２を通過した後、第４のレーザービーム２４を、第４のミラー１３で反射させることによって、第４のレーザービーム２４を、第３のレーザービーム２３に向けて戻すように誘導することができる。第３のレーザービーム２３及び第４のレーザービーム２４を誘導して、第３及び第４のレーザービーム２３、２４の再結合に用いられる、第５のビームスプリッタ１２５において合流させることができる。このように、第３のレーザービーム２３は、方向を変えずに第５の偏光ビームスプリッタ１２５に通すことができる。第４のレーザービーム２４を第５の偏光ビームスプリッタ１２５の内部で反射させて、共通経路に沿って、第３のレーザービーム２３及び第４のレーザービーム２４を共線的に合流させることができる。第３のレーザービーム２３及び第４のレーザービーム２４が合流することによって、それぞれのレーザービームの偏光状態が修正される。
【００５７】
（図２の向きにおいて）上側の２つの光学トレーンに関し、第６のレーザービーム２６は、第５のミラー１３５に誘導することができ、そこで第６のレーザービーム２６を反射させて第３のレンズセット１４３に通すことができる。第３のレンズセット１４３を互いに特異的に整合させ、特定の発散が生じるように、特定の距離、互いに離間して構成される。特定の発散を用いて、第６のレーザービーム２６に固有の集束点を与えることができる。第３のレンズセット１４３を通過した後、第６のレーザービーム２６を、第６のミラー２６で反射せることによって、第６のレーザービーム２６を、第５のレーザービーム２５に向けて戻すように誘導することができる。第５のレーザービーム２５及び第６のレーザービーム２６を誘導して、第５及び第６のレーザービーム２５、２６の再結合に用いられる、第６のビームスプリッタ１２６において合流させることができる。このように、第５のレーザービーム２５は、方向を変えずに第６の偏光ビームスプリッタ１２６に通すことができる。第６のレーザービーム２６を第６の偏光ビームスプリッタ１２６の内部で反射させて、共通経路に沿って、第５のレーザービーム２５及び第６のレーザービーム２６を共線的に合流させることができる。第５のレーザービーム２５及び第６のレーザービーム２６が合流することによって、それぞれのレーザービームの偏光状態が修正される。
【００５８】
必要に応じて、第３の偏光ビームスプリッタ１２３と第５のビームスプリッタ１２５との間において、第３のレーザービーム２３を第４のレンズセット１４４に通して、第４のレーザービーム２４と再結合する前に、第３のレーザービーム２３の集束点を変更することができる。
【００５９】
第３及び第４のレーザービーム２３、２４、並びに第５及び第６のレーザービーム２５、２６を誘導して、第３、第４、第５、及び第６のレーザービーム２３、２４、２５、２６の再結合に用いられる、第２の偏光ビームスプリッタ１２２において合流させることができる。このように、第３及び第４のレーザービーム２３、２４は、方向を変えずに第２の偏光ビームスプリッタ１２２に通すことができる。第５及び第６のレーザービーム２５、２６を第２のミラーで反射させると共に、第２の偏光ビームスプリッタ１２２の内部で反射させて、共通経路に沿って、第３及び第４のレーザービーム２３、２４、並びに第５及び第６のレーザービーム２５、２６を共線的に合流させることができる。第３、第４、第５及び第６のレーザービーム２３、２４、２５、２６が合流することによって、それぞれのレーザービームの偏光状態が修正される。共線的に合流させた第３、第４、第５、及び第６のレーザービーム２３、２４、２５、２６は、ビームをそれぞれ第１の集束点１５１、第２の集束点１５２、第３の集束点１５３、及び第４の集束点１５４に集中させるのに用いられる集束レンズ１５０に通すことができる。
【００６０】
従って、共線的に合流させた第３、第４、第５、及び第６のレーザービーム２３、２４、２５、２６は、共通経路に沿って、単一ビームのように作用することができるが、互いにオフセットされた複数の焦点を有している。第１、第２、第３、及び第４の集束点１５１、１５２、１５３、１５４の各々は、それぞれ集束レンズ１５０から異なる距離、即ち、Ｄｆ１、Ｄｆ２、Ｄｆ３、Ｄｆ４に配置することができる。レンズ間隔Ｈ１（例えば、図１）の変更を含む、第１のレンズセット１４１の設定を変更することによって、第２の集束点１５２を変更する（即ち、第１の集束点１５１に近づけるか、又は遠ざける）ことができる。
【００６１】
レーザービームを２回分割してから、分離した部分を再結合する方法においては、共線的に合流させた第３、第４、第５、及び第６のレーザービーム２３、２４、２５、２６がすべて同じ偏光角を有するとは限らない。従って、必要に応じて、第１、第２、第３、及び第４の偏光回転子１６１、１６２、１６３、１６４を用いて、共線的に合流させた第３、第４、第５、及び第６のレーザービーム２３、２４、２５、２６のすべてが、確実に同じ偏光角を有するようにすることができる。
【００６２】
例えば、第１の偏光ビームスプリッタ１２１を出射した、第１のレーザービーム２１は、９０°の直線偏光を有することができるが、第１の偏光回転子１６１を通過した後は、４５°の直線偏光を有することができる。このように、第１のレーザービーム２１が、第３の偏光ビームスプリッタ１２３に入射するとき、直線偏光角は、調整後レーザービーム１１が、第１の偏光ビームスプリッタ１２１に入射するときと同じである。このように、各々のレーザービームを２回目に分割する前に、光学トレーンに偏光回転子を配置することによって、２回分割されたレーザービームが再結合した後、共線的に合流させた第３、第４、第５、及び第６レーザービーム２３、２４、２５、２６は 同じ偏光角を有することができる。従って、第１偏光回転子１６１を、第１の偏光ビームスプリッタ１２１と第３の偏光ビームスプリッタ１２３との間に配置し、第２の偏光回転子１６２を、第５の偏光ビームスプリッタ１２５と第２の偏光ビームスプリッタ１２２との間に配置し、第３の偏光回転子１６３を、第１の偏光ビームスプリッタ１２１と第４の偏光ビームスプリッタ１２４との間に配置し、第４の偏光回転子１６４を、第６の偏光ビームスプリッタ１２６と第２の偏光ビームスプリッタ１２２との間に配置することができる。このように、第３、第４、第５、及び第６のレーザービームが再結合したときの偏光状態は、ベクトル加算的組み合わせになる。
【００６３】
１つ以上の任意の波長板を用いて合成されたレーザービームの偏光を制御することができる。例えば、第２の偏光ビームスプリッタ１２２と集束レンズ１５０との間に１／４波長板（図示せず）を含めて、合成された第３、第４、第５、及び第６のレーザービーム２３、２４、２５、２６の各々が、円偏光を有するように変換することができる。円偏光は、合成された第３、第４、第５、及び第６のレーザービーム２３、２４、２５、２６からのパワーをより一貫して透明材料に伝達し、より確実に傷又は一連の傷を形成することができる。これに代えて又は加えて、１つ以上の波長板を光学トレーンの１つ以上の部分に含めて、それぞれの光学トレーンに誘導されるパワー量を選択的に変化させることができる。例えば、調整後レーザービーム１１が、第１の偏光ビームスプリッタ１２１に入射する前に、波長板１１２を用いて、第１のレーザービーム２１と第２のレーザービーム２２との間のパワー比を制御することができる。
【００６４】
追加の光学トレーン構成要素を含めることによって、光学配置２００によって生成された第３、第４、第５、及び第６のレーザービーム２３、２４、２５、２６は、パワーが著しく低下する可能性がある。従って、様々な実施の形態によれば、光学配置２００内における、初期レーザービーム１０の初期パワーレベルが十分であるように選択して、第３、第４、第５、及び第６レーザービームを共線的に合流させた後も、依然として処理するガラスのバルク損傷閾値を超えるのに十分なパワーを保証することができる。このように、単一のレーザービーム源を用いて、複数の焦点を有するレーザービームの共線セットを生成することができ、これを用いて、１回の通過で、ガラスに別々の傷を同時に発生させることができる。更に、光学配置２００に関連して開示した技術を用いて、関連する光学系の総レーザーパワー及びパワー損傷閾値によってのみ制限される、５つ以上の共線焦点を形成することができる。
【００６５】
図３Ａは、本開示の非限定的な実施の形態による、例示的な透明物品３００の側立面画像を示す図である。特に、図３Ａは、透明物品３００内に見える４つの異なる傷３３０、３３５、３４０、３４５を示しており、これ等は、それぞれ設定が異なる光学配置１００（図１）を用いて、３つの別々のパスＡ、Ｂ、Ｃによって形成されたものである。例示的な透明物品３００は、積層ガラスである。出力波長３５５ｎｍの紫外線レーザーを用いて、傷３３０、３３５、３４０、３４５を発生させた。特に、レーザーは、１２０ｋＨｚで動作し、複数のレーザービーム（即ち、図１の２１及び２２）の各々に対し、平均１．２ワットのパワーを生成するパルスレーザーであって、２つのレーザービームを再結合したときの全パワーは、約２．３ワットであった。全パワーは、光学トレーンの様々な構成要素を通過することによる損失を斟酌することができる。それぞれのレーザービームの焦点を約３５０μｍだけ離間させた。例示的な透明物品３００を真空チャックに取り付け、チャック自体を２つの線形ステージに取り付けた。傷３３０、３３５、３４０、３４５を生成するために、初期レーザービームを生成するレーザーヘッドに対し、例示的な透明物品３００を１００ｍｍ／秒の速度で、３つの異なるパスＡ、Ｂ、Ｃに平行移動した。
【００６６】
透明物品３００に第１及び第２の傷３３０、３３５を発生させる前において、第２の傷３３５が第１の傷３３０の真下に位置するため、第１の傷３３０の損傷が、第２の傷３３５を生成する焦点位置と干渉する懸念があった。このように、第１の傷３３０が、レーザービーム源と第２の傷３３５自体の位置との間に配置されているため、第１の傷３３０によって、第２の傷３３５を形成する第２の焦点位置における焦点がぼける可能性があると考えられた。しかし、図３Ａに示す結果は、第２の傷３３５に対する、第１の傷３３０の干渉が殆ど又は全く明示されていない。特に、第１の傷３３０の大きさは、同時に形成した第２の傷３３５とほぼ同じである。比較として、第３の傷３４５及び第４の傷３４０を、異なるパスＢ、Ｃにそれぞれ形成したが、同様に、略同じ大きさを有している。
【００６７】
図３Ｂは、図３Ａの例示的な透明物品３００を概略的に示す図である。図示のように、傷３３０、３３５、３４０、３４５の各々は、ｙ方向に連続して反復している。様々な実施の形態によれば、パスＡ、Ｂ、Ｃの各々において、レーザーを上面３０５に垂直に向けて、表面の下方に傷を発生させると共に、上面３０５にわたりｙ方向に移動させ、同じ深さにおいて、傷３３０、３３５、３４０、３４５の各々の一連の傷を発生させることができる。傷３３０、３３５、３４０、３４５の各々の一連の傷は、透明物品３００を切断するために使用される、上面３０５の下方（即ち、透明物品３００のバルク）のスクライブ線に対応している。
【００６８】
図３Ａ及び３Ｂにおいて、透明物品３００の左側の第１の傷ペアは、第１の傷３３０及び第２の傷３３５を含んでいる。第１及び第２の傷３３０、３３５は、共線的に合流させた第１及び第２のレーザービーム（例えば、２１、２２）を、透明物品３００の上面３０５に向けた状態で、例示的な光学配置１００（図１）を実施することによって、第１のパスＡの一部として形成されたものである。第１及び第２の傷３３０、３３５は同時に生成された一方、第３の傷３４５及び第４の傷３４０は、互いに別々に、かつ第１及び第２の傷３３０、３３５の何れとも別に形成されたものである。第１のレーザービーム（例えば、図１の２１）の第１の集束点（例えば、図１の１５１）が、上面３０５の下方の第１の深さｄ１に一致している。また、第２のレーザービーム（例えば、図１の２２）の第２の集束点（例えば、図１の１５２）が、上面３０５の下方の第２の深さｄ２に一致している。このように、第１の傷３３０は、第２の傷から、オフセット距離ｚだけオフセットされているが、第１及び第２の傷３３０、３３５は垂直方向に整列している。オフセット距離ｚは、光学配置の第１のレンズセット（例えば、１４１）の特定のレンズ間隔（例えば、Ｈ１）に対応している。
【００６９】
図３Ａ及び３Ｂにおいて、透明物品３００の右側の第３の傷及び第４の傷は、例示的な光学配置１００（図１）を実施したが、一度に２つの光学トレーンのうちの１つのみを使用した結果、別々に形成されたものである。例えば、第１のレーザービーム（例えば２１）を遮断して、第２のレーザービーム（例えば、２２）を、第２のパスＢの一部として、単独で透明物品３００の上面３０５に誘導して、第３の欠陥３４５を生成することができる。更に、第２のレーザービーム（例えば、２２）を遮断し、第１のレーザービーム（例えば、２１）を、第３のパスＣの一部として、単独で透明物品３００の上面３０５に誘導して、第４の傷３４０を生成することができる。
【００７０】
様々な実施の形態によれば、様々な方法でレーザービームを遮断することができる。例えば、第１の偏光ビームスプリッタ（例えば、図１の１４０）より前のレーザービームの経路にレンズセットを追加することができる。次に、その追加のレンズセットを用いて、初期レーザービームの偏光角を変更することによって、第１及び第２のレーザービームのうちの１つを制限又は遮断することができる。このように、第１の偏光ビームスプリッタ（例えば、１２１）に入射するレーザービーム（例えば、図１１の調整後レーザービーム１１）の偏光角を選択的に修正して、入射レーザービームのパワーのどの部分を、２つの光学トレーンの各々に向けるかについて制限することができる。更に別の例示的な実施の形態として、第１及び第２のレーザービームの経路に追加のミラーを選択的に用いて、選択されたレーザービームを光学トレーンの外部に向け直し、集束レンズ１５０に達しないようにすることができる。レーザービームを遮断するための公知の他の方法も、本開示の範囲に含まれることを意図している。
【００７１】
図４は、本開示の例示的かつ非限定的な実施の形態による、光学配置によって処理された、透明物品４００の側立面画像を示す図である。特に、図４は、透明物品４００の同じ垂直線上の２つの別々のパスＤ、Ｅの結果を示している。各々のパスＤ、Ｅは、透明物品４００を、ｙ方向に（ページの内外に）にわたり、レーザーヘッドを垂直に平行移動させることを含んでいる。いずれのパスＤ、Ｅも、複数の焦点を有する、共線的に合流する第１及び第２のレーザービームを生成するレーザーヘッドと共に、例示的な光学配置１００（図１）を用いたものである。しかし、それぞれのパスＤ、Ｅに用いられた、レーザーヘッド（例えば、集束レンズ１５０）と透明物品の上面４０５との間の間隔が異なっている。ｚ高さは、レーザーヘッドと透明物品の上面４０５との距離である。
【００７２】
第１のパスＤによって、（図４の向きにおいて）最も下に位置する２つの傷、即ち第１の傷４３０及び第２の傷４３５が発生した。第１及び第２の傷４３０、４３５は、共線的に合流させた第１及び第２のレーザビーム（例えば、２１、２２）を、透明物品４００の上面４０５に向けた状態で、例示的な光学配置１００（図１）を実施した結果、第１のパスＤの一部として、同時に形成されものである。第１のレーザービーム（例えば、図１の２１）の第１の集束点（例えば、図１の１５１）が、上面４０５の下方の深さｄ１に一致している。また、第２のレーザービーム（例えば、図１の２２）の第２の集束点（例えば、図１の１５２）が、上面４０５の下方の第２の深さｄ２に一致している。このように、第１の傷４３０は、第２の傷４３５から、オフセット距離ｚだけオフセットされているが、第１及び第２の傷４３０、４３５は垂直方向に整列している。オフセット距離ｚは、光学配置の第１のレンズセット（例えば、１４１）の特定のレンズ間隔（例えば、Ｈ１）に対応している。
【００７３】
第２のパスＥによって、（図４の向きにおいて）上側の２つの傷、即ち、第３の傷４４０及び第４の傷４４５が発生した。第３及び第４の傷４４０、４４５も、共線的に合流させた第１及び第２のレーザビーム（例えば、２１、２２）を用いて、例示的な光学配置１００（図１）を実施した結果、第２のパスＥの一部として、同時に形成されものである。第１のパスＤと比較して、第２のパスＥに対し、レーザーヘッドと上面４０５との距離を増加させた。従って、第２のパスＥにおいて、第１のレーザービームの第１の集束点は、上面４０５の下方の第３の深さｄ３に一致している。また、第２のパスＥにおいて、第２のレーザービームの第２の集束点は、上面４０５の下方の第４の深さｄ４に一致している。このように、第３の傷４４０は、第４の傷４４５から、第１及び第２の傷４３０、４３５と同じオフセット距離ｚだけオフセットされている。更に、第１及び第２の傷４３０、４３５と同様に、第３及び第４の傷４４０、４４５は垂直方向に整列している。光学配置の第１のレンズセットにおいて、同じ設定（即ち、間隔距離）を使用した結果、第１のパスＤと第２のパスＥとの間で、オフセット距離ｚは変わっていない。
【００７４】
結果として得られた複数の傷、即ち、第１、第２、第３、第４の傷４３０、４３５、４４０、４４５は、レーザーヘッドの複数回の通過で形成された、多数のスクライブ線を垂直に積み重ねることができることを示している。しかし、上側の傷ペア（第３及び第４の傷４４０、４４５）が、下側の傷ペア（第１及び第２の傷４３０、４３５）の後に生成されたため、第１のパスＤと第２のパスＥとの干渉は予想されない。このように、スクライブ線のペアを積み重ねることは、単一焦点のレーザービームの複数回の通過によって単一のスクライブ線を積み重ねることに類似している。
【００７５】
図５は、本開示の非限定的な実施の形態による、光学配置によって処理された、透明物品５００の側立面画像を示す図である。特に、図５は、透明物品５００の同じ垂直線上の２つの別々のパスＦ、Ｇの結果を示している。透明物品４００（図４）のパスＤ、Ｅと異なり、パスＦ、Ｇは傷ペアの配列を交互配置する。ここでも、各々のパスＦ、Ｇは、透明物品５００をｙ方向（ページの内外に）にわたり、レーザーヘッドを垂直に平行移動させることを含んでいる。いずれのパスＦ、Ｇも、複数の焦点を有する、共線的に合流する第１及び第２のレーザービームを生成するレーザーヘッドと共に、例示的な光学配置１００（図１）を使用したものである。更に、図４に関して上述した実施の形態と同様に、各々のパスＦ、Ｇに対して共通のｚ高さを用いた。
【００７６】
第１のパスＦによって、第１の傷５３０及び第２の傷５３５が発生した。第１及び第２の傷５３０、５３５は、共線的に合流させた第１及び第２のレーザビーム（例えば、２１、２２）を、透明物品５００の上面５０５に向けた状態で、例示的な光学配置１００（図１）を実施した結果、第１のパスＦの一部として、同時に形成されものである。第１のレーザービーム（例えば、図１の２１）の第１の集束点（例えば、図１の１５１）が上面５０５の下方の深さｄ１に一致している。また、第２のレーザービーム（例えば、図１の２２）の第２の集束点（例えば、図１の１５２）が、上面５０５の下方の第２の深さｄ２に一致している。このように、第１の傷５３０は、第２の傷５３５から、オフセット距離ｚだけオフセットされているが、第１及び第２の傷５３０、５３５は垂直方向に整列している。オフセット距離ｚは、光学配置の第１のレンズセット（例えば、１４１）の特定のレンズ間隔（例えば、Ｈ１）に対応している。
【００７７】
第２のパスＧによって、第３の傷５４０及び第４の傷５４５が発生した。第３及び第４の傷５４０、５４５も、共線的に合流させた第１及び第２のレーザビーム（例えば、２１、２２）を用いて、例示的な光学配置１００（図１）を実施した結果、第２のパスＧの一部として、同時に形成されものである。第１のパスＦと比較して、第２のパスＧに対し、レーザーヘッドと上面５０５との距離を増加させた。従って、第２のパスＧにおいて、第１のレーザービームの第１の集束点は、上面５０５の下方の第３の深さｄ３に一致している。また、第２のパスＧにおいて、第２のレーザービームの第２の集束点が、上面５０５の下方の第４の深さｄ４に一致している。このように、第３の傷５４０は、第４の傷５４５から、第１及び第２の傷５３０、５３５と同じオフセット距離ｚだけオフセットされている。加えて、第１及び第２の傷５３０、５３５と同様に、第３及び第４の傷５４０、５４５は垂直方向に整列している。光学配置の第１のレンズセットにおいて、同じ設定（即ち、間隔距離）を使用した結果、第１のパスＦと第２のパスＧとの間で、オフセット距離ｚは変わっていない。
【００７８】
少なくとも特定の例示的な実施の形態によれば、結果として得られた複数の傷、即ち、第１、第２、第３、第４の傷５３０、５３５、５４０、５４５は、レーザーヘッドの多数回の通過で形成された、複数のスクライブ線は、互いに干渉することなく、垂直に積み重ねるだけでなく、交互配置（即ち、交互シーケンス配列）することができることを示している。特に、第３の傷５４０は、第１及び第２の傷５３０、５３５が事前に存在しているか否か、及び第３の傷５４０の位置の真上に配置されているか否かを問わず、第２のパスＧに発生したものである。同様に、第４の傷５４５も、第１のパスＦに既に形成された第１の傷５３０と第２の傷５３５との間の第２のパスＧに発生したものである。この交互配置配列は、重複する傷の間の干渉が予想されるため、予期せぬ結果を生んでいる。スクライブ線を交互配置する能力によって、必要な通過回数を減らして多数のスクライブ線生を生成する効率を向上させることができる。ｚ高さを変更することに加え、第１のレンズセットのレンズ間隔（例えば、Ｈ１）を変更することによって、各々のパスのオフセット距離ｚも変更することができる。スクライブ線の交互配置配列は、異なる厚さのガラス加工品対象物の加工に有用である。加えて、交互配置配列は、処理される強化又は積層透明物品の応力プロファイルに対し、スクライブ線の正確な位置を微調整するために使用することができる。
【００７９】
図６は、本開示の非限定的な実施の形態による、例示的な光学配置によって処理された、透明物品６００の側立面画像を示す図である。特に、図６は、３つの異なるパスＨ、Ｉ、Ｊから実証されるように、間隔が可変である複数のスクライブ線を生成する能力を示している。
【００８０】
第１のパスＨによって、（図６の向きにおいて）左端２つの傷、即ち第１の傷６３０及び第２の傷６３５が発生した。第１及び第２の傷６３０、６３５は、共線的に合流させた第１及び第２のレーザビーム（例えば、２１、２２）を、透明物品６００の上面６０５に向けた状態で、例示的な光学配置１００（図１）を実施した結果、第１のパスＨの一部として、同時に形成されものである。第１のレーザービーム（例えば、図１の２１）の第１の集束点（例えば、図１の１５１）が上面６０５の下方の深さｄ１に一致している。また、第２のレーザービーム（例えば、図１の２２）の第２の集束点（例えば、図１の１５２）が、上面６０５の下方の第２の深さｄ２に一致している。このように、第１の傷６３０は、第２の傷６３５から、第１のオフセット距離ｚ１だけオフセットされているが、第１及び第２の傷６３０、６３５は垂直方向に整列している。第１のオフセット距離ｚ１は、光学配置の第１のレンズセット（例えば、１４１）の第１の間隔距離に対応している。
【００８１】
第２のパスＩによって、（図６の向きにおいて）中央の２つの傷、即ち、第３の傷６４０及び第４の傷６４５が発生した。第１のレーザービームは、第１のパスＨにおける、上面６０５の下方の第１の深さｄ１と同じ第１の深さｄ１に一致する、第１の集束点を維持している。これに対し、第２のレーザービームの第３の集束点は、上面６０５の下方の第３の深さｄ３に一致している。このように、第３の傷６４０は、第４の傷６４５から第２のオフセット距離ｚ２だけオフセットされているが、第３及び第４の傷６４０、６４５は垂直方向に整列している。第２のオフセット距離ｚ２は、光学配置の第１のレンズセットの第２の間隔距離に対応している。
【００８２】
第３のパスＪによって、（図６の向きにおいて）右端の２つ傷、即ち、第５の傷６５０及び第６の傷６５５が発生した。ここでも、第１のレーザービームは、第１及び第２のパスＨ、Ｉにおける、上面６０５の下方の第１の深さｄ１と同じ第１の深さｄ１に一致する、第１の集束点を維持している。これに対し、第２のレーザービームの第４の集束点は、上面６０５の下方の第４の深さｄ４に一致している。このように、第５の傷６５０は、第６の傷６５５から第３のオフセット距離ｚ３だけオフセットされているが、第５及び第６の傷６５０、６５５は垂直方向に整列している。第３のオフセット距離ｚ３は、光学配置の第１のレンズセットの第３の間隔距離に対応している。
【００８３】
図７は、様々な例示的な実施の形態による、レンズ間隔距離と比較した、相対的な垂直方向の間隔をグラフ表示した図である。ｙ軸（即ち縦軸）は、ミリメートル単位で測定したスクライブ線の間隔距離に対応している。ｘ軸（即ち横軸）は、これもミリメートル単位で測定したレンズ間隔（例えば、図１のＨ１）に対応している。このように、図７のグラフは、５つの異なるレンズ設定結果を示している。第１の設定（最左端）は、レンズ間に間隔を設けていないが、約０．４ｍｍのスクライブ線間隔を達成している。これに対し、最後の設定（最右端）は、レンズ間に２ｍｍの間隔を設けて、スクライブ線間に１．０ｍｍを超える間隔を達成している。
【００８４】
図８は、様々な実施の形態による、第１及び第２のレーザービームに関連する、各々の光学トレーン経路の平均パワー出力をグラフ表示した図である。第１及び第２のレーザービームのパワー出力は、必要に応じて、１つ以上の波長板（例えば、図１及び２関連して説明した１１２）を用いて変えることができる。追加の１／２波長板のセットによって、２つの光学トレーン間のパワーを選択的にバランスさせることができる。第１及び第２のレーザービームのパワーをバランスさせることによって、各々のスクライブ線が、確実に同じ有効損傷（即ち、同じ大きさの傷）を受けるようにすることができる。あるいは、相対パワー出力のバランスを意図的に崩して、１つのスクライブ線が、別のスクライブ線よりも多くの又は少ない有効損傷を受けるようにすることができる。
【００８５】
図８において、縦軸は、第１及び第２のレーザービーム２１、２２のそれぞれに供給された、ワット単位のパワーレベルＰｙを表わしている。横軸は、第１及び第２のレーザービーム２１、２２に対する、パワーの制限及び／又は遮断に用いられる、１つ以上の波長板（例えば、１１２）の回転角度の設定を表わしている。グラフにおいて、追加の１／２波長板のセットの回転角度は、２３０°〜２９０°の範囲である。これ等の角度は、本明細書に記載の様々な実施形態に従って選択された、特定の光学配置に固有のものであってよい。
【００８６】
グラフ上の例示的な第１のマークペア（最左端）は２４０°未満の回転角度に関連付けられ、約２．３Ｗのパワーレベルを有する第１のレーザービーム２１、及びほぼ０のパワーレベルを有する第２のレーザービーム２２を示している。グラフ上の第１のマークペアは、傷を発生させるガラス（例えば、図９の透明物品９００）上に共線的に合流させた、第１及び第２のレーザービーム２１、２２の第１のパスＫに関連付けることができる。
【００８７】
グラフ上の例示的な第２のマークペア（左から２番目）は、約２４２°の回転角度に関連付けられ、約２．３Ｗ未満のパワーレベルを有する第１のレーザービーム２１、及び約０．１Ｗのパワーレベルを有する第２のレーザービーム２２を示している。グラフ上の第２のマークペアは、傷を発生させる透明物品上に共線的に合流させた、第１及び第２のレーザービーム２１、２２の第２のパスＬに関連付けることができる。
【００８８】
同様に、グラフ上の例示的な第３のマークペア（左から３番目）は、約２５０°の回転角度に関連付けられ、約２．０Ｗのパワーレベルを有する第１のレーザービーム２１、及び約０．４Ｗのパワーレベルを有する第２のレーザービーム２２を示している。グラフ上の第３のマークペアは、傷を発生させる透明物品上に共線的に合流させた、第１及び第２のレーザービーム２１、２２の第３のパスＭに関連付けることができる。
【００８９】
２６０°と２７０°の回転角の間のどこかで、第１のレーザービーム２１と第２のレーザービーム２２との間のパワーバランスが変わる。例えば、グラグ上の例示的な最後（最右端）のマークペアは、約２９０°の回転角度に関連付けられ、約０のパワーレベルを有する第１のレーザービーム２１、及び約２．３Ｗのパワーレベルを有する第２のレーザービーム２２を示している。最後のマークペアは、透明物品上に共線的に合流させた、第１及び第２のレーザービーム２１、２２の第６のパスＰに関連付けることができる。
【００９０】
グラフ上の最後から２番目の例示的なマークペア（右から２番目）は、約２８３°の回転角度に関連付けられ、約０．１Ｗのパワーレベルを有する第１のレーザービーム２１、及び２．３Ｗ未満のパワーレベルを有する第２のレーザービーム２２を示している。グラフ上の最後から２番目のマークペアは、透明物品上に共線的に合流させた、第１及び第２のレーザービーム２１、２２の第５のパスＯに関連付けることができる。
【００９１】
同様に、グラフ上の最後から３番目のマークペア（右から３番目）は、約２７２°の回転角度に関連付けられ、約１．０Ｗのパワーレベルを有する第１のレーザービーム２１、及び約１．３Ｗのパワーレベルを有する第２のレーザービーム２２を示している。グラフ上の最後から３番目のマークペアは、透明物品上に共線的に合流させた、第１及び第２のレーザービーム２１、２２の第４のパスＮに関連付けることができる。
【００９２】
図９Ａ及び９Ｂは、本開示の非限定的な実施の形態による、例示的な光学配置によって処理された、サンプル積層透明物品９００の側立面画像である。図９Ａは、半波長板を用いて生成された、第１、第２、及び第３のパスＫ、Ｌ、Ｍに関連する５つの傷を示す図である。第１の傷９３０は、第１のレーザービーム（例えば、図１の２１）によって、第１のパスＫに形成されたものである。図示の損傷は、第１のレーザービームの高パワー設定を反映している。加えて、第２のレーザービーム（例えば、図１の２２）は、図８に関して説明したように、ほぼ０のパワーレベルで動作しているため、第２のレーザービームによる損傷は見られない。第２の傷９４０及び第３の傷９４５は、それぞれ第１及び第２のレーザービームによって、第２のパスＬに形成されたものである。第１のレーザービーム２１によって生成された第２の傷９４０は、サイズが僅かに小さくなり、今度は第２のレーザービームが、第３の傷９４５の生成に十分なパワーレベルを有していた。第３のパスＭは、第１のレーザービームによる第４の傷９５０、及び第２のレーザービームによる第５の傷９５５の発生を可能にした。
【００９３】
図９Ｂは、半波長板の設定を用いて、透明物品９００の別の場所に生成された、第４、第５、及び第６のパスＮ、Ｏ、Ｐに関連する追加の５つの傷を含んでいる。第６の傷９６０は、第１のレーザービーム（例えば、図１の２１）によって、第４のパスＮに形成されたものであり、一方第７の傷９６５も第４のパスＮに形成されたものであるが、第２のレーザービーム（例えば、図１の２２）によるものである。第４のパスＮから分かるように、より多くのパワーが、第２のレーザービームに向けられており、これが第６の傷９６０と比較して、より大きなサイズの第７の傷９６５に反映されている。第８の傷９７０及び第９の傷９７５は、それぞれ第１及び第２のレーザービームによって、第５のパスＯに形成されたものである。第１のレーザービーム２１によって生成された第８の傷９７０は、更にサイズが小さくなり、第９の傷９７０はサイズが更に大きくなっている。最後に、第６のパスＰは、第２のレーザービームによる第１０の傷９８５の生成を可能にしたが、第１のレーザービームは傷を発生させなかったことが分かる。第６のパスに示す損傷は、第２のレーザービームの高パワー設定を反映している。加えて、第１のレーザービームは、図８に関して説明したように、ほぼ０のパワーレベルで動作しているため、第１のレーザービームによる損傷は見られない。
【００９４】
図１０は、様々なパワーバランスの組み合わせについて、各々のスクライブ線に生じる損傷の程度の推定をグラフ表示した図である。縦軸は、第１及び第２のレーザービーム２１、２２のそれぞれに起因する、透明物品上の損傷の大きさを反映した、マイクロメートル単位（μｍ）のスポットサイズを表わしている。横軸は、１つ以上の波長板（例えば、１１２）の回転角度の設定を表わし、これ等の角度は、図８に関して説明した回転角度と同様である。１つ以上の波長板を２５０°未満に設定したとき、第２のレーザービーム２２は、目立った傷を発生させない（即ち、ゼロのスポットサイズ）ため、示されていない。しかし、２５０°未満の偏光角度において、第１のレーザービーム２１は、最高レベルの損傷を発生させる。
【００９５】
例えば、約２３５°の偏光角度の設定は、第１のレーザービーム２１が、約１５０μｍのサイズのスポットを発生させることに対応している。図１０は、第１のレーザービーム２１によって発生するスポットサイズは、波長板の偏光角度の増加に反比例して減少することを示している。これに対し、第２のレーザーブーム２２によって発生するスポットサイズは、波長板の偏光角度の増加と共に増加する。約２５０°の偏光角度の設定は、第２のレーザービーム２２が、直径約１５μｍの可視スポットを発生させることに対応している。約２６５°の偏光角度の設定において、第１及び第２のレーザービーム２１、２２によるスポットサイズが、ほぼ同じサイズ（４０μｍ）に集束する。加えて、２６５°を超えて偏光角度を設定すると、第２のレーザービーム２２によって、透明な物品により大きなサイズのスポットが発生し続ける。
【００９６】
意外なことに、図１０のグラフに示すように、第１及び第２のレーザービーム２１、２２に関連するスポットサイズの損傷は対称ではない。換言すれば、第１のレーザービーム２１は、回転角のスペクトルの全体にわたり、一貫して第２のレーザービーム２２よりも大きなスポットサイズを発生させる。加えて、第２のレーザービーム２２によって、グラフに明確に反映されていない、予測が困難な傷が発生した。
【００９７】
図１１は、異なる深さにあり（即ち、透明物品表面内部の位置）、互いの軸を外れるように構成された２つの焦点を含む、例示的な光学配置１１００の別の非限定的な実施の形態を示す図である。光学配置１１００は、ビームを複数回分離し、後に再結合するために使用される一連のレンズ、ビームスプリッタ、及びミラーを含む２つの別々の光学トレーンを有しているが、互いの軸を僅かに外れている。初期レーザービーム１０が、２つの部分に分割された後、前述の式１〜４に従って、２つの部分のうちの少なくとも一方の焦点を変更することができる。従って、初期レーザービームの第１及び第２の部分が、元に戻されると、これ等のビームは、異なる焦点を有することになる。加えて、少なくとも１つの部分の角度を修正することによって、その部分の焦点は、別の部分と軸が一致しない（即ち、軸を外れている）ことになる。
【００９８】
光学配置１１００は、必要に応じて、光学配置１００（図１）に関して、前述したのとすべて同じ要素を含むことができるが、互いの軸を外れた第１のレーザービーム４１及び第２のレーザービーム４２を生成するという点で異なり得る。第１のレーザービーム４１は依然として、集束レンズ１５０から第１の焦点距離Ｄｆ１に配置された第１の集束点１５１を有し、第２のレーザービーム４２は、依然として集束レンズ１５０から第２の焦点距離Ｄｆ２に配置された第２の集束点１５５を有している。しかし、第１の焦点距離Ｄｆ１が、第２の焦点距離Ｄｆ２と異なることに加え、第２の集束点は、第１のレーザービーム４１の軸から横方向にオフセットされている。このように、第１及び第２のレーザービーム４１、４２の異なる焦点は、互いの軸を外れ、透明物品等、処理される透明材料内部の異なる深さに一致するように構成することができる。
【００９９】
光学配置１１００は、第２のミラー１３２を４５°より僅かに大きい又は小さい角度αに再配置することによって、軸外れ構成を実現することができる。この第２のミラー１３２の角度変更よって、第２のレーザービーム４２が異なる角度（例えば、第１のレーザービーム４１に直交しない）で、第２の偏光ビームスプリッタ１２２に入射し、これによって第２のレーザービーム４２は、第１のレーザービーム４１と同様の方向であるが、僅かに軸から外れた方向に再誘導される。このように、第１のレーザービーム４１及び第２のレーザービーム４２が、第２の偏光ビームスプリッタ１２２において合流する一方、軸外れ構成によって、第２の偏光ビームスプリッタ１２２を出射した後、２つのビームは発散する。このように、第１及び第２のレーザービーム４１、４２は、他の例示的な実施の形態のように正確に共線的に合流するものではない。
【０１００】
更に別の例示的な実施の形態において、光学配置１１００は、第２のミラー１３２を４５°の角度に配置するが、第２のレーザービーム４２が、第１のレーザービーム４１と平行であるが、僅かにオフセットされるように、第２の偏光ビームスプリッタ１２２に対し僅かに位置をずらすことによって、軸外れ構成を達成することができる。これに代えて、第１のミラー１３１を僅かに回転させるか、又は偏光ビームスプリッタ１２１を傾けることによって、同じ望ましい軸外れ性能を達成することができる。
【０１０１】
あるいは、光学トレーンの１つ以上の部品に１つ以上の波長板を含めて、それぞれの光学トレーンに誘導されるパワー量を選択的に変化させるか、又は集束点１５１、１５２を概略的に変更することができる。例えば、調整後レーザービーム１１が、第１の偏光ビームスプリッタ１２１に入射する前に、波長板１１２を用いて、第１のレーザービーム４１と第２レーザービーム４２との間のパワー比を制御することができる。
【０１０２】
図１２Ａは、透明物品１２００を処理する、多焦点レーザービームの３つの軸外れペアの非限定的な実施の形態を示す図である。第１のレーザービームペアは、第１のレーザービーム５１及び第２のレーザービーム５２を含んでいる。第１及び第２のレーザービーム５１、５２は、互いに共線的に合流することができるが、オフセットされた焦点を有している。例えば、第１のレーザービーム５１は、第１の集束点１５１を有し、第２のレーザービーム５２は、第１の集束点１５１からオフセットされた第２の集束点１５２を有し、第１及び第２の集束点１５１、１５２は同じ軸に並んでいる。
【０１０３】
加えて、第２のレーザービームペアは、第３のレーザービーム５３及び第４のレーザービーム５４を含んでいる。第３及び第４のレーザービーム５３、５４は互いに共線的に合流させることができるが、オフセットされた焦点を有している。例えば、第３のレーザービーム５３は、第１の集束点２５１を有し、第４のレーザービーム５４は、第３の集束点２５１からオフセットされた第４の集束点２５２を有し、第３及び第４の集束点２５１、２５２は同じ軸に並んでいる。
【０１０４】
同様に、第３のレーザービームペアは、第５のレーザービーム５５及び第６のレーザービーム５６を含んでいる。第５及び第６のレーザービーム５５、５６は互いに共線的に合流させることができるが、オフセットされた焦点を有している。例えば、第５のレーザービーム５５は、第１の集束点３５１を有し、第６のレーザービーム５６は、第５の集束点３５１からオフセットされた第６の集束点３５２を有し、第５及び第６の集束点３５１、３５２は同じ軸に並んでいる。
【０１０５】
３つのレーザービームペア５１及び５２、５３及び５４、並びに５５及び５６を透明物品１２００に集束させることによって、集束点１５１、１５２、２５１、２５２、３５１、３５２に対応する位置に、傷を発生させることができる。少なくとも特定の実施の形態において、非線形切断のためのスクライブ線を生成する場合、より低いレベルのレーザーパワーを用いて、意図した切断経路から明らかに外れた亀裂又は亀裂の伝播を回避することが望ましい場合がある。
【０１０６】
３つのレーザービームペア５１及び５２、５３及び５４、並びに５５及び５６は、同時に生成する必要はない。３ペアの各々は、２つの部分に分割される単一の初期レーザービームで形成することができる。従って、第１及び第２のレーザービームは、第３のレーザービームが第１のレーザービームに対応し、第４のレーザービームが第２のレーザービームに対応するというように、複数のパスを有する同一のレーザービームであってよい。従って、横方向に互いにオフセットされて、透明物品１２００上を３回通過すると、６つの異なる集束点１５１、１５２、２５１、２５２、３５１、３５２を透明物品１２００に向けることができる。
【０１０７】
あるいは、３つのレーザービームペア５１及び５２、５３及び５４、並びに５５及び５６は、６つの部分に分割される単一の初期レーザービームによって形成することができる。これは、例えば、例示的な光学配置２００（図２）が、レーザービームを４つの部分に分割する方法と同様の方法であって、例示的な光学装置２００の構成に、２つの偏光ビームスプリッタを追加して、レーザービームを６つの部分に分割する方法によって達成することができる。加えて、３つのレーザービームペア５１及び５２、５３及び５４、並びに５５及び５６の個々のペアは、最終的に共通の偏光ビームスプリッタで交差又は合流させる必要のない、別々の光学トレーンを辿るように誘導することができる。別の例示的な実施の形態として、光学配置１１００の軸外れ構成を用いて、様々な横向位置及びそれぞれが異なる深さを有する、６つの異なる集束点１５１、１５２、２５１、２５２、３５１、３５２を達成することができる。
【０１０８】
図１２Ｂは、図１２Ａに示す透明物品１２００を、集束点（即ち、１５１、１５２、２５１、２５２、３５１、３５２）によって生成された傷を辿ってドット接続したスクライブ線に沿って分離することによって形成された、第１のガラス部分１２０１及び第２の透明物品部分１２０２を示す図である。ガラス部分１２０１、１２０２を分離することによって、単純な直線の切り口ではなく、Ｕ字形のエッジ１２１０が生成される。Ｕ字形のエッジ１２１０は、本明細書の様々な実施の形態によって形成することができる、非平面表面の一例である。
【０１０９】
図１３Ａ〜１３Ｄは、本明細書に記載の例示的な実施の形態による様々なガラス処理方法によって達成することができる、幾つかのエッジ形状を示す図である。例えば、図１３Ａは、実施形態の１つの特徴又はそれらの組み合わせを有する、光学配置を用いて達成することができる、斜め切断エッジ１３１１を含む透明物品１３０１を示す図である。斜め切断エッジ１３１１は、必要に応じて、斜め切断エッジ１３１１の角度に一致する僅かな角度で透明物品１３０１狙った、共線的に合流する、多焦点光学配置１００、２００（図１、２）を用いて達成することができる。あるいは、軸外れ多焦点光学配置１１００（図１１）を用いて、斜め切断エッジ１３１１を達成することができる。
【０１１０】
図１３Ｂは、切頭角部１３２２を有する直線切断エッジ１３２１を含む、透明物品１３０２を示す図である。図１３Ｃは丸みを帯びた（即ち、丸面）切断エッジ（１３３１を含む透明物品１３０３を示す図である。図１３Ｄは、丸い角部１３４２を有する直線エッジ１３４１を含む透明物品１３０４を示す図である。
【０１１１】
本明細書に開示のシステム及び方法は、様々な厚さを有する透明物品の成形に用いることができる。本明細書に開示の技術及び特定の光学配置を用いて、異なる様々な焦点を有するレーザービームを生成することができる。加えて、様々な実施の形態に従って、焦点間の間隔を変化及び／又は変更することができる。更に、初期レーザービームから分離された、複数のレーザービーム間のパワーバランスを選択的に修正して、透明物品に発生させる１つ以上の傷のサイズを変更することができる。様々な実施の形態は、単一の初期レーザービームから多数のレーザービームを生成し、多数のレーザービームは、互いに方向的に独立している。様々な実施の形態は、透明物品を分離するための切り込み線を形成する際に、パスの数を減らすことによって、透明物品の切断処理速度を向上させることができる。更に、様々な実施の形態を用いて、非線形であり及び／又は固有の特別な形状を含む切断ガラスのエッジ形状を実現することができる。
【０１１２】
図１４は、本開示の非限定的な実施の形態による、例示的な光学配置によって処理された、例示的な積層透明物品１４００の切り口の画像を示す図である。透明物品１４００は、上面１４０５（即ち、第１の外面）、底面１４１０（即ち、第２の外面）、及び上面１４０５と底面１４１０との間の全厚さＴに延びる切り口を有している。切り口は、切り口の平面と共通の平面に配置された、２つのスクライブ線１４３０、１４３５によって形成された平面である。２つのスクライブ線１４３０、１４３５は、光学配置１００（図１）を用いて、１回の通過で形成されたものである。２つのスクライブ線１４３０、１４３５は、複数の焦点を有する共線的に結合された、第１及び第２のレーザービームによる損傷を反映している。第１のレーザービームの第１の集束点によって、継続的かつ連続的な一連の傷から、上面１４０５から第１の距離ｄ１下方の水平な線として、第１のスクライブ線が形成された。第２のレーザービームの第２の集束点によって、継続的かつ連続的な一連の傷から、上面１４０５から第２の距離ｄ２下方の水平な線として、第２のスクライブ線が形成された。加えて、第１及び第２のスクライブ線１４３０、１４３５は、互いに距離ｚ１だけオフセットされている。第１及び第２のスクライブ線１４３０、１４３５を用いて、分離前に透明物品１４００と一体成形されていた、除去物品から透明物品１４００を分離することによって、透明物品１４００切り口が形成された。様々な実施の形態によれば、第１のスクライブ線と第２のスクライブ線との間の最小間隔は、全厚さＴの少なくとも１０％、例えば、透明物品１４００を分離するのに有効であった、図１４に示す全厚さＴの約２５％である。
【０１１３】
本明細書の様々な実施の形態に従って処理された透明物品のエッジ属性は、既存のガラス処理技術と異なっている。特に透明物品の内部に、透明物品の厚さの１０％以上の間隔を有する、少なくとも２つのスクライブ線を形成することができる。これにより、透明物品の効果的な分離を実現しながら、より少ないスクライブ線の形成が可能になる。このように、スクライブ線の重複、及び現行の技術と比較して、スクライブ線間の間隔の拡大を必要とせずに、透明物品を分離することができる。このように、ガラスの切り口になるものを含め、スクライブ線の全面積をエッジ面積の７０％未満とすることができ、エッジ面積の＜６０％であることが好ましく、エッジ面積の＜５０％であることがより好ましい。加えて、非平面エッジ（即ち、丸面又は面取りエッジ）に対し、既存のガラス処理技術と比較して、少ないスクライブ線を用いて切り口を実現することができる。本明細書の様々な実施の形態に従って形成されたスクライブ線は、分離される前の透明物品の内部に応力を誘導する。応力の蓄積は、隣接するスクライブ線にクラックを伝播させ、最終的に透明物品を分離するのに十分であり得る。従って、様々な実施形態に従って形成されたスクライブ線は、現代の技術より遥かに速く、かつより少ないスクライブ線で、所望のプロファイルを有する切り口を形成することができる。
【０１１４】
非限定的な例示的な透明物品には、１枚のガラスシート、１つのスタック内の複数のガラスシート、ガラス−ガラス積層構造体、及びガラス−ポリマー積層構造体が含まれるが、これに限定されるものではない。
【０１１５】
開示された様々な実施形態は、特定の実施形態に関連して説明した特定の特徴、要素、又はステップを含むことができることが理解されよう。これ等の特定の特徴、要素、又はステップのいずれか１つは、１つの特定の実施形態に関連して説明されているが、様々な図示されていない組み合わせ又は変形において、別の実施の形態と交換又は組み合わせることができることも理解されよう。例えば、図１１に関連して説明した、軸外れの２つの焦点を、図２に関連して説明した４焦点配置に組み込むことができ、１つ以上の焦点を他から軸外とすることができる。
【０１１６】
本明細書において、名詞は、別に明示しない限り、「少なくとも１つ」の対象を指し、「１つだけ」の対象に限定されるべきではないことを理解されたい。同様に、「複数」は「２つ以上」を表わすことを意図している。従って、「複数のレーザービーム」は２つ以上のレーザービーム等を含んでいる。
【０１１７】
本明細書において、範囲は「約」１つの特定の値から及び／又は「約」別の特定の値までのように表現することができる。かかる範囲が示された場合、その例は１つの特定の値から及び／又は別の特定の値を含む。同様に先行する「約」の使用によって、値が近似値として示された場合、特定の値が別の態様を形成することが理解されるであろう。範囲の各々の端点は、他方の端点との関連においても、他方の端点とは独立しても有意であることが理解されるであろう。
【０１１８】
本明細書において、「実質的な」、「実質的に」という用語及びその変形は、記述された特徴が、ある値又は記述に等しい又は略等しいことを示すことを意図している。例えば、「実質的に真っ直ぐな」エッジは、直線状又は略直線状のエッジを示すことを意図している。更に、前述のように、「実質的に同様」は、２つの値が等しい、又は略等しいことを示すことを意図している。
【０１１９】
別に明記しない限り、本明細書に記載の方法は、そのステップが特定の順序で実行されることが必要であると解釈されることを全く意図していない。従って、方法の請求項を含む方法が、実際にそのステップが従うべき順序を記述してない場合、順序に従うと具体的に明記されていない場合、又はそのステップが特定の順序に限定されると記載されていない場合には、特定の順序が推測されることを意図するものではない。
【０１２０】
特定の実施形態の様々な特徴、要素、又はステップは、移行句「ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ（備える、含む）」を用いて開示することができるが、移行句「ｃｏｎｓｉｓｔｉｎｇ（から成る）」又は「ｃｏｎｓｉｓｔｉｎｇ ｅｓｓｅｎｔｉａｌｌｙ ｏｆ（から実質的に成る」を用いて記述され得るものを含む、別の実施の形態が暗示されていると理解されたい。従って、例えば、Ａ＋Ｂ＋Ｃを含むシステム対する暗示された別の実施の形態には、システムがＡ＋Ｂ＋Ｃから成る実施の形態、及びシステムがＡ＋Ｂ＋Ｃから実質的に成る実施の形態が含まれる。
【０１２１】
本開示の精神及び範囲を逸脱せずに、本開示に対して様々な改良及び変形が可能であることは当業者には明らかであろう。本開示の精神及び本質を組み込んだ、本開示した実施の形態の改良、組み合わせ、部分組み合わせ、及び変形が当業者に想起されるため、本開示は添付の特許請求の範囲及びその均等物の範囲に含まれるすべてを含むと解釈されるべきである。
【０１２２】
以下、本発明の好ましい実施形態を項分け記載する。
【０１２３】
実施形態１
第１のレーザービーム及び第２のレーザービームを、共通経路に沿って、共線的に合流させるステップであって、前記第１のレーザービームの第１の集束点と、前記第２のレーザービームの第２の集束点とが、前記共通経路に沿って互いにオフセットされた、ステップと、
前記共線的に合流させた第１及び第２のレーザービームを、透明物品の少なくとも一部にわたり、第１のパスで移動させるステップであって、前記第１の集束点に対応する、前記透明物品の表面から第１の深さ、及び前記第２の集束点に対応する、前記透明物品の前記表面から第２の深さにおいて、前記透明物品に第１の一連の傷が形成される、ステップと、
前記第１の集束点及び前記第２の集束点の少なくとも一方を調整するステップと、
前記共線的に合流させた第１及び第２のレーザービームを、前記透明物品の前記一部にわたり、第２のパスで移動させるステップであって、前記第１の集束点に対応する、前記透明物品の表面から第３の深さ、及び前記第２の集束点に対応する、前記透明物品の表面から第４の深さにおいて、前記透明物品に第２の一連の傷が形成される、ステップと、
を備え、
前記第１の一連の傷が、前記第２の一連の傷と交互配置されている、方法。
【０１２４】
実施形態２
前記第１及び第２の一連の傷に沿って、前記透明物品を分離するステップを更に備えた、実施形態１記載の方法。
【０１２５】
実施形態３
前記第２のレーザービームを、前記第１のレーザービームと共線的に合流させる前に、少なくとも２つのレンズを通過させ、前記第１及び第２の集束点を調整するステップが、前記少なくとも２つのレンズ間の距離を調整するステップを含む、実施形態１又は２記載の方法。
【０１２６】
実施形態４
レーザーを用いて、第１の経路に沿って投射するように構成された、初期レーザービームを生成するステップと、
前記第１の経路に配置され、前記第１のレーザービームを前記第１の経路に誘導し、前記第２のレーザービームを、前記第１の経路と異なる第２の経路に誘導するように構成された、偏光ビームスプリッタを用いて、前記初期レーザービームを分割するステップと、
を更に備えた、実施形態１〜３いずれかに記載の方法。
【０１２７】
実施形態５
前記初期レーザービームの偏光角度を調整するステップであって、該ステップに応じて、前記第１及び第２のレーザービームの少なくとも一方のパワー出力が変更される、ステップを更に備えた、実施形態４記載の方法。
【０１２８】
実施形態６
前記初期レーザービームの前記偏光角度を調整する前記ステップの結果、前記第１及び第２のレーザービームの平均パワーがより同等に近づく、実施形態５記載の方法。
【０１２９】
実施形態７
前記第１の一連の傷のうちの少なくとも１つが、前記第２の一連の傷のうちの少なくとも１つよりも前記表面の近くに配置された、実施形態１〜６いずれかに記載の方法。
【０１３０】
実施形態８
前記第３の深さ及び第４の深さの少なくとも一方が、前記第１の深さよりも前記表面から離間している、実施形態１〜７いずれかに記載の方法。
【０１３１】
実施形態９
レーザーを用いて、第１の経路に沿って投射するように構成された、初期レーザービームを生成するステップと、
前記第１の経路に配置された偏光ビームスプリッタを用いて、前記初期レーザービームを分割するステップであって、前記第１のレーザービームが、前記第１の経路に誘導され、前記第２のレーザービームが、前記第１の経路と異なる第２の経路に誘導され、前記第１のレーザービームが、前記第１の経路に沿って第１の集束点を有し、前記第２のレーザービームが、前記第２の経路に沿って第２の集束点を有する、ステップと、
前記第１及び第２のレーザービームを共通の集束レンズに通すステップであって、前記第１及び第２のレーザービームが透明物品に集束される、ステップと、
前記透明物品にわたり、前記第１及び第２のレーザービームを移動させるステップであって、第１及び第２の一連の傷が前記透明物品に形成され、前記第１の一連の傷が、第１の横方向位置かつ前記透明物品の表面から第１の深さに形成され、前記第２の一連の傷が、前記第１の横方向位置からオフセットされた、第２の横方向位置かつ前記透明物品の前記表面から第２の深さに形成され、前記第１の横方向位置かつ前記第１の深さが、前記第１の集束点に対応し、前記第２の横方向位置かつ前記第２の深さが、前記第２の集束点に対応する、ステップと、
を備えた方法。
【０１３２】
実施形態１０
前記第１及び第２の一連の傷に沿って、前記透明物品を分離するステップを更に備えた、実施形態９記載の方法。
【０１３３】
実施形態１１
前記第１の経路及び第２の経路の一方が、前記初期レーザービームと共線である、実施形態９又は１０記載の方法。
【０１３４】
実施形態１２
少なくとも２つの第１のレンズ間の距離を調整するステップであって、前記第２の集束点の位置が、前記第２の経路に沿って調整される、ステップを更に備えた、実施形態９〜１１いずれかに記載の方法。
【０１３５】
実施形態１３
前記初期レーザービームの偏光角度を調整するステップであって、前記第１及び第２のレーザービームの少なくとも一方のパワー出力が調整される、ステップを更に備えた、実施形態９〜１２いずれかに記載の方法。
【０１３６】
実施形態１４
ミラーの角度を調整するステップであって、前記第１の横方向位置と前記第２の横方向位置との距離が調整される、ステップを更に備えた、実施形態９〜１３いずれかに記載の方法。
【０１３７】
実施形態１５
前記透明物品にわたり、前記第１及び第２のレーザービームを移動させるステップであって、第３及び第４の一連の傷が前記透明物品に形成され、前記第３の一連の傷が、第３の横方向位置かつ前記透明物品の表面から第３の深さに形成され、前記第４の一連の傷が、前記第３の横方向位置からオフセットされた第４の横方向位置かつ前記透明物品の前記表面から第４の深さに形成され、前記第３の横方向位置かつ前記第３の深さが、前記第１の集束点に対応し、前記第４の横方向位置かつ前記第４の深さが、前記第２の集束点に対応する、ステップを更に備えた、実施形態９〜１４いずれかに記載の方法。
【０１３８】
実施形態１６
透明物品を処理するためのシステムであって、
初期レーザービームを生成するように構成されたレーザー発光装置と、
前記初期レーザービームを、第１の経路に沿って誘導される第１のレーザービームと、前記第１の経路と異なる第２の経路に沿って誘導される、第２のレーザービームとに分割するように構成された、第１の偏光ビームスプリッタであって、前記第１のレーザービームが、前記第１の経路に沿って、第１の集束点を有し、前記第２のレーザービームが、前記第２の経路に沿って、第２の集束点を有する、ビームスプリッタと、
前記第１及び第２のレーザービームを受光して、該第１及び第２のレーザービームを共通の集束レンズに通すように構成された、第２のビームスプリッタであって、前記共通の集束レンズが、前記第１のレーザービームで、第１の横方向位置かつ前記透明物品の表面から第１の深さにおいて、前記透明物品に第１の一連の傷を発生させ、前記第２のレーザービームで、第２の横方向位置かつ前記透明物品の表面から第２の深さにおいて、前記透明物品に第２の一連の傷を発生させ、前記第１及び第２の一連の傷によって、前記透明物品が、前記第１及び第２の一連の傷に沿って、複数の部分に分割されるのが促進されるように配置可能である、第２の偏光ビームスプリッタと、
を備えたシステム。
【０１３９】
実施形態１７
前記第１の経路及び前記第２の経路の一方が、前記初期レーザービームと共線である、実施形態１６記載のシステム。
【０１４０】
実施形態１８
前記第２の経路に沿って配置され、前記第２のレーザービームを受光するように構成された、少なくとも２つの第１のレンズであって、該少なくとも２つのレンズ間の距離を調整することにより、前記第２の経路に沿って、前記第２の集束点の位置の調整が可能である、レンズを更に備えた、実施形態１６又は１７記載のシステム。
【０１４１】
実施形態１９
前記初期レーザービームを受光するように構成された、少なくとも２つの第２のレンズであって、該少なくとも２つのレンズ間の距離を調整することにより、前記第１及び第２のレーザービームの少なくとも一方のパワー出力の調整が可能である、レンズを更に備えた、実施形態１６〜１８いずれかに記載のシステム。
【０１４２】
実施形態２０
前記第２のレーザービームを反射するように構成された少なくとも１つのミラーであって、該ミラーの角度を調整することにより、前記第１の横方向位置と前記第２の横方向位置との距離が調整可能である、ミラーを更に備えた、実施形態１６〜１９いずれかに記載のシステム。
【０１４３】
実施形態２１
透明物品であって、
第１の外面と、
前記第１の外面に対向する第２の外面と、
前記第１の外面と前記第２の外面との間に延びる全厚さを含むエッジであって、該エッジが、分離前に、前記透明物品と一体成形された除去物品から、前記透明物品を分離するのに用いられるスクライブ線によって形成され、前記スクライブ線が、該スクライブ線間に、前記全厚さの少なくとも１０％の最小間隔を有する、エッジと、
を備えた透明物品。
【０１４４】
実施形態２２
前記エッジが平面であり、前記スクライブ線が、前記平面と共通平面上に配置された、実施形態２１記載の透明物品。
【０１４５】
実施形態２３
前記エッジが非平面であり、前記スクライブ線のうちの少なくとも２つが、互いの共通平面上に配置されていない、実施形態２１記載の透明物品。
【符号の説明】
【０１４６】
１０    初期レーザービーム
１１    調整後レーザービーム
２１    第１のレーザービーム
２２    第２のレーザービーム
３０    共通経路
１００  光学配置
１１０  第１の一般的なレンズセット
１１２  波長板
１２１  第１の偏光ビームスプリッタ
１２２  第２の偏光ビームスプリッタ
１３１  第１のミラー
１３２  第２のミラー
１４０  追加のレンズセット
１４１  第１のレンズセット
１５０  集束レンズ
１５１  第１の集束点
１５２  第２の集束点
３００  透明物品
３０５  上面
３３０  第1の傷
３３５  第２の傷
３４０  第４の傷
３４５  第３の傷
【図１】
2018501110.tif 000009
【図２】
2018501110.tif 000010
【図３Ａ】
2018501110.tif 000011
【図３Ｂ】
2018501110.tif 000012
【図４】
2018501110.tif 000013
【図５】
2018501110.tif 000014
【図６】
2018501110.tif 000015
【図７】
2018501110.tif 000016
【図８】
2018501110.tif 000017
【図９Ａ】
2018501110.tif 000018
【図９Ｂ】
2018501110.tif 000019
【図１０】
2018501110.tif 000020
【図１１】
2018501110.tif 000021
【図１２Ａ】
2018501110.tif 000022
【図１２Ｂ】
2018501110.tif 000023
【図１３Ａ】
2018501110.tif 000024
【図１３Ｂ】
2018501110.tif 000025
【図１３Ｃ】
2018501110.tif 000026
【図１３Ｄ】
2018501110.tif 000027
【図１４】
2018501110.tif 000028
【国際調査報告】
2018501110.tif 000029
2018501110.tif 000030
2018501110.tif 000031
2018501110.tif 000032