(57)【要約】長尺状の接続カテーテルを有し、接続カテーテルの前端には電極支持体が設けられ、接続カテーテルの後端には制御ハンドル（２０）が設けられる、密着調節ワイヤ（６，６Ａ，６Ｂ，６Ａ’，６Ｂ’）を有する波紋型高周波アブレーションカテーテルであって、電極支持体は、１つ又は複数の波紋からなる波紋型電極支持体であり、波紋には１つ又は複数の電極（２）が分布し、接続カテーテルにおける何れかの管腔内には、密着調節ワイヤ（６，６Ａ，６Ｂ，６Ａ’，６Ｂ’）の後段が摺動可能に設けられ、その後端（６０）が制御ハンドル（２０）に設けられた制御部品（２２）に接続されたり、制御ハンドル（２０）外の制御部品（２２）に接続されており、密着調節ワイヤ（６，６Ａ，６Ｂ，６Ａ’，６Ｂ’）の前段は、電極支持体外に突き抜け、波紋に設けられた１つ又は複数の孔（１１，１２，１３，１４）を経由し、或いは複数の波紋を迂回した後、その前端が電極支持体内に戻って固定されている密着調節ワイヤ（６，６Ａ，６Ｂ，６Ａ’，６Ｂ’）を有する波紋型高周波アブレーションカテーテル。密着調節ワイヤ（６，６Ａ，６Ｂ，６Ａ’，６Ｂ’）を後方へ引くことにより、電極支持体の波紋状の直径が大幅に変更されてもよい。
2018515226.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
長尺状の接続カテーテルを有し、
前記接続カテーテルの前端には電極支持体が設けられ、前記接続カテーテルの後端には制御ハンドルが設けられる、密着調節ワイヤを有する波紋型高周波アブレーションカテーテルであって、
前記電極支持体は、１つ又は複数の波紋からなる波紋型電極支持体であり、波紋には１つ又は複数の電極が分布し、
前記接続カテーテルにおける何れかの管腔内には、前記密着調節ワイヤの後段が摺動可能に設けられ、その後端が前記制御ハンドルに設けられた制御部品に接続されたり、外付けの制御部品に接続されており、
前記密着調節ワイヤの前段は、前記電極支持体外に突き抜けた後、前記波紋に設けられた１つ又は複数の孔を経由し、或いは複数の波紋を迂回した後、その前端が電極支持体内に戻って固定されていることを特徴とする密着調節ワイヤを有する波紋型高周波アブレーションカテーテル。
【請求項２】
前記密着調節ワイヤの前端は、電極支持体内に戻った後、前記電極支持体と前記接続カテーテル内における管腔を経由して接続カテーテルの後端に戻り、前記制御ハンドルに固定されたり、前記制御部品に固定されていることを特徴とする請求項１に記載の波紋型高周波アブレーションカテーテル。
【請求項３】
前記密着調節ワイヤの前端は、前記電極支持体の前端に固定されていることを特徴とする請求項１に記載の波紋型高周波アブレーションカテーテル。
【請求項４】
前記接続カテーテルと前記電極支持体とにおける何れかの管腔内に設けられた支持ワイヤをさらに含むことを特徴とする請求項２又は３に記載の波紋型高周波アブレーションカテーテル。
【請求項５】
前記電極支持体内に設けられた定型ワイヤをさらに含むことを特徴とする請求項４に記載の波紋型高周波アブレーションカテーテル。
【請求項６】
前記支持ワイヤの前端には、カメラ及び／又はフレキシブルガイドワイヤが設けられていることを特徴とする請求項４に記載の波紋型高周波アブレーションカテーテル。
【請求項７】
前記制御ハンドル上又は前記制御ハンドル外には、前記支持ワイヤの末端に固定されているための第２制御部品がさらに設けられていることを特徴とする請求項４に記載の波紋型高周波アブレーションカテーテル。
【請求項８】
前記接続カテーテルと前記電極支持体とにおける何れかの管腔内に固定されて設けられた支持ワイヤをさらに含み、前記支持ワイヤの前記電極支持体内にある部分は、波紋状に定型され、波紋定型部を構成していることを特徴とする請求項２又は３に記載の波紋型高周波アブレーションカテーテル。
【請求項９】
前記密着調節ワイヤの前端は、電極支持体内に戻った後、前記電極支持体の前端を突き抜け、前記電極支持体の前端に固定されたり、前記電極支持体の前端外に規制されていることを特徴とする請求項１に記載の波紋型高周波アブレーションカテーテル。
【請求項１０】
前記密着調節ワイヤの前端には、カメラ及び／又はフレキシブルガイドワイヤが設けられていることを特徴とする請求項９に記載の波紋型高周波アブレーションカテーテル。
【請求項１１】
前記電極支持体内に設けられている定型ワイヤをさらに含むことを特徴とする請求項１０に記載の波紋型高周波アブレーションカテーテル。
【請求項１２】
前記接続カテーテルと前記電極支持体とにおける何れかの管腔内に設けられている支持ワイヤをさらに含み、前記密着調節ワイヤの前端は支持ワイヤに固定され、
或いは、前記密着調節ワイヤは、前記支持ワイヤから外側へ分岐された細いワイヤであることを特徴とする請求項１に記載の波紋型高周波アブレーションカテーテル。
【請求項１３】
前記支持ワイヤの前記電極支持体内にある部分は、波紋状に定型され、波紋定型部を構成していることを特徴とする請求項１２に記載の波紋型高周波アブレーションカテーテル。
【請求項１４】
前記電極支持体における何れかの管腔内に設けられている定型ワイヤをさらに含み、前記密着調節ワイヤの前端は、前記定型ワイヤに固定され、
或いは、前記密着調節ワイヤは、前記定型ワイヤから外側へ分岐された細いワイヤであることを特徴とする請求項１に記載の波紋型高周波アブレーションカテーテル。
【請求項１５】
前記密着調節ワイヤは、２本又は２本以上の複数本のワイヤからなり、複数本のワイヤは、それぞれ前記電極支持体における１つ又は一部の波紋を調整するためのものであり、一部の波紋が２つ及び２つ以上の複数の波紋を含み、各ワイヤの前端がそれぞれ対応する波紋／波紋部の一端に固定され、他端が対応する波紋／波紋部を迂回した後、電極支持体内と接続カテーテル内とにおける管腔を経由した後、前記制御ハンドルに設けられた対応する制御部品又は外付けの制御部品に固定されていることを特徴とする請求項１に記載の波紋型高周波アブレーションカテーテル。
【請求項１６】
前記複数本のワイヤに対応する制御部品は、同一の制御部品であることを特徴とする請求項１５に記載の波紋型高周波アブレーションカテーテル。
【請求項１７】
前記複数本のワイヤによりそれぞれ制御された複数部分の波紋同士が重なっていることを特徴とする請求項１５に記載の波紋型高周波アブレーションカテーテル。
【請求項１８】
前記電極支持体は、アウタチューブを含み、前記アウタチューブの外周には電極が嵌設され、前記アウタチューブ内には１つ又は複数の管腔が設けられ、一部の管腔のそれぞれには、熱電対の素線と高周波ケーブルが１組設けられ、
各々の前記電極内には、高周波ケーブルと熱電対の素線が１組設けられ、前記高周波ケーブルは、前記電極に接続され、前記熱電対の素線は前記電極と絶縁で設けられていることを特徴とする請求項１に記載の波紋型高周波アブレーションカテーテル。
【請求項１９】
前記波紋の形状は、複数線分の直線によって構成された折線からなり、或いは、複数線分の曲線からなり、或いは、曲線と直線からなることを特徴とする請求項１に記載の波紋型高周波アブレーションカテーテル。
【請求項２０】
前記密着調節ワイヤは、前記電極支持体に対して偏心して設けられていることを特徴とする請求項１に記載の波紋型高周波アブレーションカテーテル。
【請求項２１】
前記電極は、前記波紋の山／谷に設けられていることを特徴とする請求項１に記載の波紋型高周波アブレーションカテーテル。
【請求項２２】
前記電極支持体を構成する複数の波紋は、形状及びサイズが異なっていることを特徴とする請求項１に記載の波紋型高周波アブレーションカテーテル。
【請求項２３】
前記電極支持体を構成する複数の波紋は、電極支持体の前端から後端に向かって順次逓増するサイズで設けられ、或いは、前記電極支持体を構成する複数の波紋は、電極支持体の前端から後端に向かって順次逓減するサイズで設けられていることを特徴とする請求項２２に記載の波紋型高周波アブレーションカテーテル。
【請求項２４】
長尺状の接続カテーテルを有し、
前記接続カテーテルの前端には電極支持体が設けられ、前記接続カテーテルの後端には制御ハンドルが設けられている、密着調節ワイヤを有する波紋型高周波アブレーションカテーテルであって、
前記電極支持体は、複数の波紋からなる波紋型電極支持体であり、波紋には１つ又は複数の電極が分布し、
前記密着調節ワイヤは、２本又は２本以上の複数本のワイヤからなり、複数本のワイヤは、それぞれ前記電極支持体における１つ又は一部の波紋を調整するためのものであり、一部の波紋が２つ及び２つ以上の複数の波紋を含み、各ワイヤの前端がそれぞれ対応する波紋／波紋部の一端に固定され、他端が対応する波紋／波紋部を迂回した後、電極支持体内と接続カテーテル内とにおける管腔を経由した後、前記制御ハンドルに設けられた対応する制御部品又は外付けの制御部品に固定されていることを特徴とする密着調節ワイヤを有する波紋型高周波アブレーションカテーテル。
【請求項２５】
請求項１から請求項２４の何れか一項に記載の高周波アブレーションカテーテルと、前記高周波アブレーションカテーテルに接続された高周波アブレーションホストとを含むことを特徴とする高周波アブレーション機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、密着調節ワイヤを有する波紋型高周波アブレーションカテーテルに関し、同時に上記高周波アブレーションカテーテルを含む高周波アブレーション機器に関し、医療介入器具の技術分野に属する。
【背景技術】
【０００２】
高周波アブレーションシステムでは、高周波アブレーションカテーテルは、人体の血管に介入して高周波エネルギーの放出を行う重要な素子である。そのうち、高周波電極が高周波アブレーションカテーテル前端の支持体に取り付けられている。支持体は、高周波電極を支持し、高周波の開始前に拡張して密着し、高周波が終了した後に収縮して後方に後退する。高周波アブレーション手術は、直接人体の血管に介入して行われたものであるので、支持体の伸縮寸法は、人体の血管の直径に適応すべきである。
【０００３】
人体における血管の直径は、アブレーション部位によって異なっている。同時に、異なる人体の血管の直径も人によって異なっている。例えば、腎動脈の直径は約２〜１２ｍｍで、大きく異なっている。従来技術では、高周波アブレーションカテーテルの電極端の伸縮寸法は一般的に一定であり、異なる人体の血管の直径寸法による要求に適応できず、異なる直径の人体の血管をカバーしにくい。よって、異なる患者に対して高周波アブレーション手術を行うときに、通常、仕様や型番が異なる高周波アブレーションカテーテルを交換してアブレーションを行う必要がある。それにしても、ある場合に、手術時に高周波電極が同時に密着できないという問題も発生し、手術の効果に影響をしている。
【０００４】
高周波アブレーションカテーテルの構造は、電極及び電極支持体の形状によって、例えばバルーン型、穿刺針型、螺旋型及びフラップ状構造等、複数種類に分けられている。従来の各種類の高周波アブレーションカテーテルのいずれであれば、異なる直径の血管に対する適応性には限界がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明が解決しようとする主な技術課題は、密着調節ワイヤを有する波紋型高周波アブレーションカテーテルを提供することにある。
【０００６】
本発明が解決する別の技術課題は、上記高周波アブレーションカテーテルを含む高周波アブレーション機器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記発明の目的を達成するために、本発明は以下の技術案を用いた。
【０００８】
長尺状の接続カテーテルを有し、
前記接続カテーテルの前端には電極支持体が設けられ、前記接続カテーテルの後端には制御ハンドルが設けられる、密着調節ワイヤを有する波紋型高周波アブレーションカテーテルであって、
前記電極支持体は、１つ又は複数の波紋からなる波紋型電極支持体であり、波紋には１つ又は複数の電極が分布し、
前記接続カテーテルにおける何れかの管腔内には、前記密着調節ワイヤの後段が摺動可能に設けられ、その後端が前記制御ハンドルに設けられた制御部品に接続されたり、外付けの制御部品に接続されており、
前記密着調節ワイヤの前段は、前記電極支持体外に突き抜けた後、前記波紋に設けられた１つ又は複数の孔を経由し、或いは複数の波紋を迂回した後、その前端が電極支持体内に戻って固定されている密着調節ワイヤを有する波紋型高周波アブレーションカテーテル。
【０００９】
好ましくは、前記密着調節ワイヤの前端は、電極支持体内に戻った後、前記電極支持体と前記接続カテーテル内における管腔を経由して接続カテーテルの後端に戻り、前記制御ハンドルに固定されたり、前記制御部品に固定されている。
【００１０】
或いは、好ましくは、前記密着調節ワイヤの前端は、電極支持体内に戻ってから、前記電極支持体の前端に固定されている。
【００１１】
或いは、好ましくは、前記密着調節ワイヤの前端は、前記電極支持体の前端を突き抜けてから、前記電極支持体の前端に固定されたり、前記電極支持体の前端外に規制されている。
【００１２】
或いは、好ましくは、前記接続カテーテルと前記電極支持体とにおける何れかの管腔内に設けられた支持ワイヤをさらに含み、前記密着調節ワイヤの前端は、支持ワイヤに固定され、或いは、前記密着調節ワイヤは、前記支持ワイヤから外側へ分岐された細いワイヤである。
【００１３】
好ましくは、前記支持ワイヤの前記電極支持体内にある部分は、波紋状に定型され、波紋定型部を構成している。
【００１４】
或いは、好ましくは、前記電極支持体における何れかの管腔内に設けられている定型ワイヤをさらに含み、前記密着調節ワイヤの前端は定型ワイヤに固定され、或いは、前記密着調節ワイヤは、前記定型ワイヤから外側へ分岐された細いワイヤである。
【００１５】
或いは、好ましくは、前記密着調節ワイヤは、２本又は２本以上の複数本のワイヤからなり、複数本のワイヤは、それぞれ前記電極支持体における１つ又は一部の波紋を調整するためのものであり、一部の波紋が２つ及び２つ以上の複数の波紋を含み、各ワイヤの前端がそれぞれ対応する波紋／波紋部の一端に固定され、他端が対応する波紋／波紋部を迂回した後、電極支持体内と接続カテーテル内とにおける管腔を経由した後、前記制御ハンドルに設けられた対応する制御部品又は外付けの制御部品に固定されている。
【００１６】
好ましくは、前記複数本のワイヤによりそれぞれ制御された複数部分の波紋同士が重なっている。
【００１７】
好ましくは、前記密着調節ワイヤは、前記電極支持体に対して偏心して設けられている。
【００１８】
好ましくは、前記電極は、前記波紋の山／谷に設けられている。
【００１９】
上記の高周波アブレーションカテーテルと、前記高周波アブレーションカテーテルに接続された高周波アブレーションホストとを含む高周波アブレーション機器。
【００２０】
本発明から提供される密着調節ワイヤを有する波紋型高周波アブレーションカテーテルは、構造が新しく、直径の異なる対象管腔に対して良く適応している。直径の異なる対象管腔では、密着調節ワイヤを引くことで、波紋に設けられた電極の密着状態を良好なものとすることができる。好ましくは、波紋型高周波アブレーションカテーテルにおいて異なる波紋の分布方位を設計することで、波紋に位置している複数の電極が密着時に対象管腔周りに略円周に分布している。なお、上記密着調節ワイヤも複数本のワイヤの構造を採用し、個別ワイヤを独立して制御することで、高周波アブレーションカテーテルにおいて異なる波紋部のそれぞれの制御を実現し、波紋型高周波アブレーションカテーテルの直径の調節の難易度を簡素化させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１Ａ】図１Ａは、第１実施例における波紋型高周波アブレーションカテーテルの斜視構造模式図である。
【図１Ｂ】図１Ｂは、第１実施例における波紋型高周波アブレーションカテーテルの側面模式図である。
【図２】図２は、図１Ａに示される波紋型高周波アブレーションカテーテル、電極支持体の横断面模式図である。
【図３】図３は、図２に示される電極支持体のＥ−Ｅ断面模式図である。
【図３Ａ】図３Ａは、図３におけるＦ部の拡大模式図である。
【図４】図４は、第１実施例における密着調節ワイヤの他の設置方式の模式図である。
【図５】図５は、第１実施例において図１Ａに示される波紋型高周波アブレーションカテーテルに対応する制御ハンドルの構造模式図である。
【図６Ａ】図６Ａは、第１実施例において波紋型高周波アブレーションカテーテルが直径の小さい対象管腔に入り込んだ場合の使用状態模式図である。
【図６Ｂ】図６Ｂは、図６Ａに対応する側面模式図である。
【図７Ａ】図７Ａは、第１実施例において波紋型高周波アブレーションカテーテルが直径の大きい対象管腔に入り込んだ場合の使用状態模式図である。
【図７Ｂ】図７Ｂは、図７Ａに対応する側面模式図である。
【図８Ａ】図８Ａは、第２実施例における波紋型高周波アブレーションカテーテルの正面模式図である。
【図８Ｂ】図８Ｂは、第２実施例における波紋型高周波アブレーションカテーテルの側面模式図である。
【図９Ａ】図９Ａは、第３実施例における波紋型高周波アブレーションカテーテルの斜視構造模式図である。
【図９Ｂ】図９Ｂは、第３実施例における波紋型高周波アブレーションカテーテルの側面模式図である。
【図１０Ａ】図１０Ａは、第４実施例における波紋型高周波アブレーションカテーテルの斜視構造模式図である。
【図１０Ｂ】図１０Ｂは、第４実施例における波紋型高周波アブレーションカテーテルの側面模式図である。
【図１１】図１１は、第５実施例における波紋型高周波アブレーションカテーテルの斜視構造模式図である。
【図１２】図１２は、図１１に示される波紋型高周波アブレーションカテーテルにおける密着調節ワイヤの構造例１である。
【図１３】図１３は、図１１に示される波紋型高周波アブレーションカテーテルにおける密着調節ワイヤの構造例２である。
【図１４】図１４は、図１１に示される波紋型高周波アブレーションカテーテルにおける密着調節ワイヤの構造例３である。
【図１５Ａ】図１５Ａは、第５実施例において波紋型高周波アブレーションカテーテルに対応する制御ハンドルの使用状態模式図１である。
【図１５Ｂ】図１５Ｂは、第５実施例において波紋型高周波アブレーションカテーテルに対応する制御ハンドルの使用状態模式図２である。
【図１６】図１６は、第６実施例における波紋型高周波アブレーションカテーテルの斜視構造模式図である。
【図１７】図１７は、第６実施例における第２の波紋型高周波アブレーションカテーテルの斜視構造模式図。
【図１８】図１８は、第７実施例における波紋型高周波アブレーションカテーテルの斜視構造模式図である。
【図１９】図１９は、図１８に示される波紋型高周波アブレーションカテーテルにおける密着調節ワイヤの構造例１である。
【図２０】図２０は、図１８に示される波紋型高周波アブレーションカテーテルにおける密着調節ワイヤの構造例２である。
【図２１】図２１は、図１８に示される波紋型高周波アブレーションカテーテルにおける密着調節ワイヤの構造例３である
【図２２】図２２は、第８実施例における波紋型高周波アブレーションカテーテルの斜視構造模式図である。
【図２３】図２３は、図２２に示される波紋型高周波アブレーションカテーテルにおける密着調節ワイヤの構造模式図である。
【図２４】図２４は、第９実施例における波紋型高周波アブレーションカテーテルの斜視構造模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、図面及び具体的な実施例に基づいて、本発明の技術内容をより詳細に説明する。
【００２３】
（第１実施例）
図１Ａ乃至図７Ｂから分かるように、本発明から提供される波紋型高周波アブレーションカテーテルは、長尺状の接続カテーテルを含み、接続カテーテルの前端には波紋型電極支持体が設けられ（図１Ａ参照）、接続カテーテルの後端には制御ハンドル２０が設けられている（図５参照）。実際の作製中、電極支持体は、接続カテーテルと一体に作製されてもよく、電極支持体は、接続カテーテルの前端が波紋状に定型される部分である。電極支持体も、独立して作製されてから、接続カテーテルと一体に接続されてもよい。
【００２４】
図１Ａ及び図１Ｂ に示されるように、波紋型電極支持体は、アウタチューブ１と、アウタチューブ１に設けられている１つ又は複数の電極２とを含む。アウタチューブ１は、１つ又は複数の波紋からなる波紋状に定型されている。波紋の形状は、複数線分の直線によって構成される折線であってもよく、例えば、三角波であってもよい。波紋の形状も複数線分の曲線からなってもよく、例えば正弦波、円弧波であってもよい。波紋の形状も曲線と直線とからなってもよく、例えば、R角を有する台形波である。また、波紋の形状も他の凸凹構造を有する形状であってもよい。なお、同一の電極支持体では、複数の波紋の形状およびサイズが同じであってもよく、異なってもよい。以下、具体的な実施例に基づいて、詳細に説明する。複数の波紋において、一部の波紋が異なる平面に位置してもよく、一部の波紋が同一の平面に位置してもよい。この実施例では、２つずつの波紋が一つの平面に位置しているため、複数の波紋がその側面投影面で図１Ｂに示される発散状を呈している。複数の電極２がそれぞれ各波紋に分布してもよい。その中、電極２が波紋の山又は谷に設けられていることが好ましい。電極２は、アウタチューブ１の外周に嵌設されているブロック状電極又はリング状電極であってもよい。電極２の外面は、アウタチューブ１の外面と揃って、或いはアウタチューブ１の外面よりもやや高くなってもよい。電極２の外面もアウタチューブ１の外面よりも低くなってもよい。
【００２５】
図１Ｂに示される側面模式図から分かるように、この実施例では、波紋型電極支持体における各波紋は、その側面投影面で互いに交差するように分布し、複数の電極２は、それぞれ各山に設けられている。各波紋が同じ角度で相互に交差している場合、複数の電極２が電極支持体の側投影面に円周方向に沿って均一に分布し、即ち、対象管腔の外周には略円周に分布してもよい。勿論、各波紋の相互の交差角度が一致していない場合に、複数の電極２が電極支持体の側投影面に円周方向に沿って不均一に分布してもよい。そして、電極支持体が長い場合、電極支持体の長尺方向において複数の波紋が一定の規則又はランダムに繰り返されてもよいため、複数の電極２を、電極支持体の側投影面に重なるものとしてもよい。
【００２６】
図２、図３及び図３Ａに示された内部断面図から分かるように、電極支持体のアウタチューブ１は、単体の管腔又は複数の管腔であってもよい。アウタチューブ１は、高分子材料又は金属材料を用いて作製し、例えばステンレス鋼又は記憶合金等の材料を用いて作製してもよい。アウタチューブ１は、直管材、棒材を用いて加工してなってもよく、Ａ部で波紋状に作製した特殊形状のものを使用してもよい。図２に示されるように、アウタチューブ１が複数の管腔を使用する場合、電極支持体のアウタチューブ１内おいて中心管腔に加え、複数の管腔が設けられてもよい。そのうち、一部の管腔のそれぞれには、高周波ケーブル３と熱電対の素線４が１組設けられている。各組の高周波ケーブル３及び熱電対の素線４の先端が個別電極２内に設けられている。そのうち、高周波ケーブル３の先端は、電極２と緊密に固定され、例えば溶接、導電ペースト接着等のプロセスで接続されるようになっている。２本の熱電対の素線４の先端は、溶接され、熱電対の素線の先端の絶縁層５によって覆われてから、高周波ケーブル３及び電極２と絶縁で設けられている。
【００２７】
図２に示されるように、アウタチューブ１における何れかの管腔には、定型ワイヤ８が設けられている。定型ワイヤ８は、電極支持体の波紋状を支持するように電極支持体の変形領域部に固定されている。勿論、電極支持体が直接波紋状に定型されているため、定型ワイヤ８が省略されてもよい。例えば、記憶合金又は高分子材料でアウタチューブを作製する場合、アウタチューブが直接定型されてもよく、定型ワイヤ８を設けることが省略される。
【００２８】
図３に示されるように、接続カテーテル及び電極支持体内の中心管腔には支持ワイヤ７が設けられている。支持ワイヤ７は、中心管腔には可動的に設けられてもよく、中心管腔に固定するように設けられてもよく、或いは、支持ワイヤ７も接続カテーテルと電極支持体とにおける他の管腔には可動的に設けられたり、固定するように設けられてもよい。支持ワイヤ７の先端には、対象管腔の内部を即時撮像するカメラ７５が設けられてもよい。同時に、支持ワイヤ７の前端には、フレキシブルガイドワイヤ９がさらに設けられてもよい。フレキシブルガイドワイヤ９は、ストレートヘッド型フレキシブルガイドワイヤであってもよく、図示したエルボ型フレキシブルガイドワイヤであってもよい。これにより、この高周波アブレーションカテーテルは、ガイドカテーテル／シースを省略し、直接血管に入ることが可能となる。手術の操作は簡素化された。
【００２９】
図２乃至図５から分かるように、アウタチューブ１及び接続カテーテル内には、密着調節ワイヤ６を収納するための管腔が設けられている。密着調節ワイヤ６の後段は、接続カテーテルにおける何れかの管腔に摺動可能に設けられ、かつその後端６０が制御ハンドル２０に設けられた制御部品２２と接続されている（図５参照）。密着調節ワイヤ６は、接続カテーテルの管腔内を前後に摺動可能である。密着調節ワイヤ６を収納する管腔は、中心管腔であってもよく、中心管腔周囲に分布している複数の偏心管腔のうちの一つであってもよい。図１Ａに示されるように、密着調節ワイヤ６の前段は、電極支持体の後端に近い孔１２を経由し、異なる波紋に設けられた複数の孔を経由し、最後にその前端が電極支持体の前端に近い孔１１から電極支持体内に戻って固定されている。密着調節ワイヤ６は、異なる波紋に設けられている孔を摺動可能である。
【００３０】
密着調節ワイヤ６の前端は、固定位置が異なってもよく、電極支持体の前端に固定されてもよく、支持ワイヤ７の前端に固定されてもよく、定型ワイヤ８に固定されてもよく、或いは、電極支持体２及び接続カテーテル内の対応管腔を経由して密着調節ワイヤ６の後端６０とともに制御部品２２に固定されたり、制御ハンドル２０のケースに固定されてもよい。
【００３１】
具体的に、図３に示される構造において、密着調節ワイヤ６の前端は、電極支持体の前端に近い孔１１から電極支持体２内に戻った後、電極支持体及び接続カテーテル内の管腔を経由して、密着調節ワイヤ６の後端とともに接続カテーテルの後端に戻り、制御ハンドル２０のケース又は制御部品２２に固定されている。つまり、密着調節ワイヤ６の前端及び後端は、図５に示される同一の制御部品２２に固定されてもよく、或いは、密着調節ワイヤ６の前端及び後端は、その一端が制御ハンドル２０のケースに固定され、他端が制御部品２２に固定されている。制御部品２２を引いて、それに従って密着調節ワイヤ６を後方に移動させることにより、電極支持体の直径は変更されてもよい。
【００３２】
勿論、密着調節ワイヤ６の前端は、電極支持体の前端に簡易に固定されたり、支持ワイヤ７の前端又は支持ワイヤ７の電極支持体内に位置している何れかの部位に固定されたり、定型ワイヤ８における何れかの部位に固定されてもよく、或いは、密着調節ワイヤ６の前端は電極支持体の管腔に固定されてもよく、その前端に対して固定させる機能があっていればよい。密着調節ワイヤ６を後方に引くときに、密着調節ワイヤ６の作用によって、電極支持体は収縮変形を発生し、その波紋の直径が大きくなり、複数の波紋の軸方向の間隔が収縮するようになっている。密着調節ワイヤ６の前端が支持ワイヤ７又は定型ワイヤ８に固定されたときに、密着調節ワイヤ６と支持ワイヤ７／定型ワイヤ８は、同一の材質で作製してもよい。この場合、密着調節ワイヤ６は、支持ワイヤ７／定型ワイヤ８から後方へ分岐された細いワイヤであると捉えられてもよい。
【００３３】
例えば、図４に示される構造では、密着調節ワイヤ６の前端は定型ワイヤ８の前端に固定されている。この場合、定型ワイヤ８と密着調節ワイヤ６は、同じ種類の細いワイヤで作製してもよい。密着調節ワイヤ６と定型ワイヤ８はそれぞれ、それら前端から後方へ分岐された２本の細いワイヤ分岐部であり、定型ワイヤ８に対応する分岐部が電極支持体における何れかの管腔に固定され、密着調節ワイヤ６８に対応する分岐部の後段が電極支持体及び／又はカテーテル本体の管腔を摺動可能である。密着調節ワイヤ６と定型ワイヤ８が異なる材質で作製する （例えば定型ワイヤ８が管材を、密着調節ワイヤ６が細いワイヤを使用する） ときに、密着調節ワイヤ６の前端／前段と、定型ワイヤ８とは、溶接、かしめ、接着等の方式で組み付けられてもよい。
【００３４】
また、図５から分かるように、上記構造では、制御ハンドル２０外には制御部品２３が設けられている。支持ワイヤ７の末端７０が接続カテーテルを突き抜けた後、制御ハンドル２０に入り込み、制御ハンドル２０を通過した後、外付けの制御部品２３に設けられている。勿論、密着調節ワイヤ６に接続された制御部品２２も、外付けのように制御ハンドル２０外に設けられてもよく、密着調節ワイヤ６の前端及び／又は後端が制御ハンドル２０を通過してから外付けの制御部品２２に接続されている。同様に、制御部品２３も制御ハンドル２００に設けられてもよく、支持ワイヤ７が制御ハンドル２０に挿入してからそれと接続されている。支持ワイヤ７が接続カテーテル及び電極支持体内に固定するように設けられているときに、支持ワイヤ７を制御するための制御部品２３を設けることが省略されてもよい。
【００３５】
図６Ａ乃至図７Ｂには、波紋型高周波アブレーションカテーテルが直径の異なる対象管腔に入り込んだ場合の使用状態模式図が示されている。仮に、図１Ａに示される波紋型電極支持体がΦＢの最初の直径を有し、波紋部の長さがＡであるものとする。密着調節ワイヤ６を解放することにより、密着調節ワイヤ６が緩んだ。この場合、シースを介することにより、カテーテル前端の波紋部は、長さが延長し、略直線状になり、対象管腔に入り込んでもよい。図６Ａに示されるように、波紋型電極支持体がシースから細い血管内に入り込んだ（仮に対象管腔の直径ΦＣが波紋状の最初直径ΦＢ未満である）ときに、電極支持体の波紋は、自動的にほぼ対象管腔の直径ΦＣまで拡張している（図６Ｂ参照）。複数の電極２は、電極支持体の自然拡張の作用によって、管壁に接触している。この場合、電極支持体の波紋部の長さが（Ａ-１）まで延長し、密着調節ワイヤ６をピンと張って電極２の密着状態を改良することができる。図７Ａに示されるように、波紋型電極支持体がシース内から太い血管内に入り込んだときに、仮に、対象管腔の直径が波紋状の最初直径ΦＢ以上であれば、電極支持体が自然に拡張した後、電極２が良好に密着することができない。この場合、密着調節ワイヤ６を後方に引くことで、電極支持体の波紋状の直径が対象管腔の直径ΦＤと等しくなり、又はそれよりやや大きくなるように増加してもよい（図７Ｂ参照）。複数の電極２は、密着調節ワイヤ６の作用によって、管壁と緊密に接触している。この場合、電極支持体の波紋部の長さが（Ａ-２）まで縮小し、電極支持体に分布している複数の電極同士の軸方向の間隔が小さくなる。高周波が終了した後に、密着調節ワイヤ６を緩めることにより、電極支持体が緩んだ。その後、シースを前方へ移動させたりカテーテルを後方へ移動させることで、電極支持体がシースに入り込むため、対象管腔で高周波アブレーションカテーテルを回転するように移動させたり、高周波アブレーションカテーテルを対象管腔から外部へ移動させることができる。
【００３６】
（第２実施例乃至第５実施例）
図８Ａ及び図８Ｂに示される第２実施例では、波紋型電極支持体は、複数の三角波からなっており、かつ複数の波紋が同一の平面に位置している。そのうち、複数の電極がそれぞれ個別三角波の山及び谷に位置している。複数の三角波の側投影面が重なっているため、複数の電極の側投影面も重なっている。アブレーションが一回完成された後、カテーテルを一定の角度に回転した後、対象管腔の同一の位置においてアブレーションを再び行うことができる。
【００３７】
図９Ａ及び図９Ｂに示される第３実施例では、波紋型電極支持体は、複数の円弧波からなっているが、複数の波紋の全てが異なる平面に位置している。複数の電極が、それぞれ個別の円弧波の山（又は、谷という）に位置しているため、複数の電極の側投影面が対象管腔の円周方向に分布するようになっている。この場合、アブレーションが一回完成された後，カテーテルを直接移動させて対象管腔の他の部位に対してアブレーションを行うことができる。対象管腔の同一の位置においてカテーテルを回転することが省略される。
【００３８】
第２実施例及び第３実施例では、密着調節ワイヤ６の前段は、電極支持体の後端に近い孔から通過した後、いずれも異なる波紋に設けられた孔を通過し、最後にその前端が電極支持体の前端に近い孔から電極支持体内に戻って固定されている。
【００３９】
第３実施例において複数の円弧波はそれぞれ異なる平面に位置し、複数の電極の側投影は対象管腔の円周方向に分布している。第２実施例に対して、高周波アブレーション手術は、第３実施例において電極支持体の対象管腔における設置方向に関する要求が低い。したがって、操作が簡易である。しかし、第２実施例の構造は、対象管腔に入り込んだ場合、第３実施例の構造よりも難易度が低い。
【００４０】
図１０Ａ及び図１０Ｂに示される第４実施例では、波紋型電極支持体の複数の波紋の全てが異なる平面に位置している。なお、複数の波紋は、略螺旋型のように分布している。複数の電極がそれぞれ個別の波紋の山（又は、谷という）に位置しているため、複数の電極は、対象管腔の円周方向に分布するようになっている。この実施例では、複数の波紋は、一周又は複数周の螺旋型のように分布してもよい。なお、密着調節ワイヤ６は、異なる波紋に設けられた孔を通過してもよい。
【００４１】
図１１に示される第５実施例では、波紋型電極支持体は複数の正弦波からなっている。第２実施例と同様に、第５実施例において複数の波紋は同一の平面に位置し、かつ複数の電極は、それぞれ各正弦波の山及び谷に位置している。しかし、第２実施例と異なり、密着調節ワイヤ６の前段は、複数の波紋を経由したことがなく、複数の波紋を迂回した後にその前端が固定されているものである。
【００４２】
上記５つの実施例をまとめて分かるように、波紋型電極支持体における複数の波紋の形状は、複数線分の直線からなる三角波であってもよく（図８Ａ参照）、或いは、複数線分の円弧からなる円弧波（図１０Ａ参照）、正弦波（図１１参照）であってもよく、或いは、直線と曲線とからなる台形波又は他の未図示の波紋における何れか１つであってもよい。複数の波紋は、同一の平面に分布してもよく、異なる平面に分布してもよく、ひいては、複数の波紋も、略螺旋型に取り巻いてもよいため、電極は、円周方向に分布するようになっている。複数の波紋が同一の平面に分布しているのに対して、複数の波紋が異なる平面に分布している場合、実際のアブレーション手術では、波紋型電極支持体は、対象管腔において任意の方向に密着することができる。上記図示した実施例では、同一の電極支持体で波紋状を構成する複数の波紋の形状が同じである。勿論、波紋状を構成する複数の波紋の形状及びサイズも異なってもよく、各波紋の形態、間隔、山の位置、谷の位置等がそれぞれ異なってもよい。サイズの異なる波紋で波紋型電極支持体を構成するときに、密着状態を調節する場合、一部領域の波紋のサイズを調節することで一部電極の密着状態を調節することができると同時に、他の領域の形態は調節しなくてもよい。このように異なる波紋からなる波紋型電極支持体の密着調節方式は、複数本のワイヤからなる密着調節ワイヤ６において異なるワイヤ分岐部を引くことによって実現されてもよい。詳細は、下記第９実施例から提供される複数本のワイヤからなる密着調節ワイヤ６の構成及び密着調節方式についての説明を参照してもよい。
【００４３】
また、この高周波アブレーションカテーテルでは、密着調節ワイヤ６の設置方式も多様であってもよい。密着調節ワイヤ６の前段は、第１実施例、第２実施例及び第３実施例に示されるように複数の波紋に設けられたアウタチューブの孔を経由したものであってもよく、第５実施例に示されるように、各波紋のアウタチューブを経由せず、各波紋を直接迂回した後に電極支持体内に入り込んで固定されるものであってもよい。密着調節ワイヤ６の前段全体が電極支持体外に露出しているという設置方式に対して、密着調節ワイヤ６が、異なる波紋アウタチューブに設けられた孔を経由したという構造は、電極支持体の形状の変更をより制御可能であり、密着効果がより良い。
【００４４】
（第５実施例）
以上、第５実施例における電極支持体の形態及び密着調節ワイヤ６の前段の設置方式だけについて、簡単で説明した。以下、図１１乃至図１５Ｂ及び第５実施例を例に、高周波アブレーションカテーテルにおける密着調節ワイヤ６の具体的な構造及び対応する制御ハンドル２０の構造について、詳細に説明する。
【００４５】
図１１に示されるような高周波アブレーションカテーテルでは、その内部の密着調節ワイヤ６は、第１実施例の構造に類似してもよい。密着調節ワイヤ６は、支持ワイヤ７及び定型ワイヤ８とは独立した個別ワイヤである。密着調節ワイヤ６も同時に支持ワイヤの機能を有してもよい。或いは、密着調節ワイヤ６を支持ワイヤ７の分岐部とするように、密着調節ワイヤ６の前端が、支持ワイヤ７に固定されてもよい。支持ワイヤ７と密着調節ワイヤ６は共に細いワイヤ又は細いチューブで作製されてもよい。
【００４６】
図１２及び図１３に示されるように、密着調節ワイヤ６が同時に支持ワイヤの機能を有する場合、密着調節ワイヤ６の後段は、接続カテーテルの何れかの管腔内を摺動可能に設けられ、かつその後端が制御ハンドル２０に接続されている。密着調節ワイヤ６の前段は、複数の波紋を迂回したり、異なる波紋に設けられた孔を経由した後、その前端が電極支持体の前端に近い孔１１から電極支持体内に戻った後、電極支持体の前端を突き抜けて電極支持体の前端に固定されたり、電極支持体の前端外に規制されている。密着調節ワイヤ６の前端には、カメラ及び／又はフレキシブルガイドワイヤ９が設けられてもよい。フレキシブルガイドワイヤ９の構造は、図１２に示されるストレートヘッド型フレキシブルガイドワイヤであってもよく、図１３に示されるエルボ型フレキシブルガイドワイヤであってもよい。エルボ型フレキシブルガイドワイヤは、複数の円弧、直線又は或曲線からなってもよく、１つ又は複数のエルボを有してもよい。密着調節ワイヤ６の前端にはフレキシブルガイドワイヤが設けられている場合、高周波アブレーションカテーテルは、シースによるガイドがない場合に血管内の所要位置に入ってもよい。
【００４７】
図１４に示されるように、密着調節ワイヤ６の前端が支持ワイヤ７に固定されている場合、密着調節ワイヤ６は、支持ワイヤ７から後方に向いた分岐部７６であると捉えられてもよい。この場合、接続カテーテル及び電極支持体内には、支持ワイヤ７の２つの分岐部を収納するための１つ又は２つの管腔がある。電極支持体内には定型ワイヤ８が独立して設けられていない場合、予め定型することにより、支持ワイヤ７の前段において電極支持体に対応する部分を波紋定型部７８と定型し、支持ワイヤ７において波紋定型部７８に対応する分岐部を管腔内に固定してもよく、その後端は、接続カテーテル内に直接固定されてもよく、制御ハンドル内に固定されてもよいため、電極支持体は、外力を受けない時に波紋状を保持するように確保されている。支持ワイヤ７において密着調節ワイヤに対応する分岐部７６は、管腔内を摺動可能に設けられてもよく、その末端が制御ハンドル２０に設けられた制御部品に固定されたり、外付けの制御部品に固定されてもよい。支持ワイヤ７が定型ワイヤ８の機能を兼用しない場合、支持ワイヤ７及び密着調節ワイヤ６は、共に同一の管腔に摺動可能に設けられたり、それぞれ２つの管腔に設けられてもよい。両者の後端は、接続カテーテルを突き抜けてから、それぞれ、制御ハンドル２０に設けられた対応制御部品又は外付けの対応制御部品に固定されてもよい。
【００４８】
密着調節ワイヤ６と支持ワイヤ７が併合し、或いは支持ワイヤ７が定型ワイヤ８の機能を兼用する場合、制御ハンドル２０には、密着調節ワイヤ６に接続された制御部品２２が１つだけ設けられてもよい。この場合、制御ハンドル２０の構造は、図１５Ａ及び図１５Ｂを参照してもよい。制御部品２２を図１５Ａに示される位置から後方に向けて図１５Ｂに示される位置に押すことで、電極支持体の直径を大きくするように密着調節ワイヤ６を後方へ引くことができる。
【００４９】
（第６実施例）
図１６及び図１７は第６実施例における高周波アブレーションカテーテルの２種の構造模式図である。
【００５０】
第１実施例乃至第５実施例では、複数の波紋が同一の平面又は異なる平面に分布しているか、密着調節ワイヤ６が波紋に設けられた孔を経由するかを問わず、密着調節ワイヤ６のそれぞれは電極支持体の中心位置の付近に設けられている。第６実施例では、上記５つの実施例のそれぞれが異なっている。この実施例では、密着調節ワイヤ６は、波紋型電極支持体に対して偏心して設けられている。その設置位置は、電極支持体のトップであってもよく、電極支持体の中心位置とトップ位置との間の任意の位置であってもよい。
【００５１】
図１６に示される構造では、密着調節ワイヤ６は、波紋型電極支持体に対して偏心して設けられ、かつ密着調節ワイヤ６の前段が電極支持体の後端に近い孔から突き抜けてから、波紋に設けられた孔を経由した後、電極支持体の前端に近い孔から電極支持体の前端に入り込んでから固定されている。
【００５２】
図１７に示される構造では、密着調節ワイヤ６は、波紋型電極支持体に対して偏心して設けられている。密着調節ワイヤ６の前段は、電極支持体の後端に近い孔から突き抜けた後、複数の波紋を経由した後、電極支持体の前端に近い孔から電極支持体の前端に入り込んでから固定されている。
【００５３】
密着調節ワイヤ６の前端が複数の波紋を迂回するように設けられている場合、密着調節ワイヤ６を引くことで、収縮後の波紋状の直径を極めて大幅に増大することができる。好適な場合に、電極支持体は、直径が電極支持体の波紋部の直径よりも大きい血管に適用してもよい。人体の血管の直径範囲が一定であるため、高周波アブレーションカテーテルにおいて電極支持体の波紋状の最初の直径が大幅に小さくなり、高周波アブレーションカテーテルが血管に入り込んで血管内を移動しやすくなる。
【００５４】
（第７実施例）
図１８に示される高周波アブレーションカテーテルでは、電極支持体は、２つの波紋を有し、かつ密着調節ワイヤ６は偏心して設けられている。そのうち、密着調節ワイヤ６は、１本のワイヤを採用してもよく、２本のワイヤを採用してもよい。
【００５５】
図１９に示される構造では、密着調節ワイヤ６は、１本のワイヤであり、その後段が接続カテーテル内の管腔から制御ハンドルに戻って、その後端が制御ハンドルに設けられた制御部品又は外付けの制御部品に固定され、その中央部が電極支持体の後端に近い孔１２から突き抜けた後、それぞれ ２つの波紋間の中央に設けられた山における孔１３及び孔１４に２か所で固定され、その後、その前端が電極支持体の前端に近い孔１１から電極支持体内に入り込み、電極支持体及び接続カテーテル内の管腔を経由して接続カテーテルの後端に戻って、その後端とともに同一の制御部品に固定されたり、後端とともに別々に各々の制御部品に設けられている。このような構造では、密着調節ワイヤ６の前段及び後段は、共に接続カテーテル内の管腔を経由し、かつその前端及び後端はそれぞれ、各々に対応する制御部品（対応制御部品と略称）に固定されている。２つの対応制御部品は、共に制御ハンドル２０に設けられたり、制御ハンドル２０外に設けられてもよく、或いは、２つの対応制御部品も、一方が制御ハンドル２０に設けられ、他方が制御ハンドル２０外に設けられてもよい。２つの対応制御部品のそれぞれで密着調節ワイヤ６の前段及び後段を制御することにより、２つの波紋の収縮度合が別々に調節されてもよい。そして、密着調節ワイヤ６の前端及び後端も共に同一の制御部品に固定されてもよい。
【００５６】
図２０及び図２１に示されるように、図１８に示される構造では、密着調節ワイヤ６も２つの波紋をそれぞれ調節する２本のワイヤ６Ａ、６Ｂからなってもよい。各ワイヤの前端は、それぞれ対応する波紋の一端に固定され、他端は波紋を迂回し、波紋の他端から電極支持体内に戻り、電極支持体内及び接続カテーテル内の管腔を経由して制御ハンドルに戻ってから、制御ハンドルに設けられた対応制御部品又は外付けの対応制御部品に固定されている。
【００５７】
図２０では、細いワイヤ６Ａの前端は、２つの波紋間に設けられた孔１３に固定され、後端は、電極支持体の前端に近い孔１１を経由して電極支持体内に戻り、電極支持体内及び接続カテーテル内の管腔を経由して制御ハンドルに戻ってから、対応制御部品に固定されている。細いワイヤ６Ｂの前端は、２つの波紋間に設けられた別の孔１４に固定され、後端は、電極支持体の後端に近い孔１２を経由して電極支持体内に戻って、電極支持体内及び接続カテーテル内の管腔を経由して制御ハンドルに戻ってから、対応制御部品に固定されている。図２１では、細いワイヤ６Ｂの設置が図２０の設置と同じである。細いワイヤ６Ａの前端は電極支持体の前端に近い孔１１に固定され、後端は、２つの波紋間に設けられた孔１３を経由して電極支持体内に戻り、電極支持体内及び接続カテーテル内の管腔を経由してから、対応制御部品に固定されている。細いワイヤ６Ａ、６Ｂにそれぞれ固定された２つの対応制御部品は共に制御ハンドル２０に設けられたり、制御ハンドル２０外に設けられてもよい。密着調節ワイヤ６Ａ、６Ｂは、それぞれ２つの波紋の収縮度合を制御するためのものである。２つの対応制御部品で密着調節ワイヤ６Ａ、６Ｂをそれぞれ制御することで、２つの波紋の収縮度合を別々に調節することができる。また、細いワイヤ６Ａと細いワイヤ６Ｂとの対応制御部品も同一の制御部品であってもよい。
【００５８】
（第８実施例）
図２２及び図２３に示される第８実施例では、密着調節ワイヤ６は、それぞれ１つの波紋及び一部の波紋（即ち、１つの波紋部）を調節するための２本のワイヤ６Ａ’、６Ｂ’である。各ワイヤの前端は、それぞれ対応する波紋／波紋部の一端に固定され、他端は対応する波紋／波紋部を迂回し、波紋／波紋部の他端から電極支持体内に戻り、電極支持体内及び接続カテーテル内の管腔を経由して制御ハンドルに戻ってから、対応制御部品に固定されている。図２３に示されるように、細いワイヤ６Ａ’、６Ｂ’の前端は共に電極支持体の前端に近い孔１１に固定され、２本の細いワイヤの後端６０は、それぞれ２つの波紋間に設けられた孔１３と電極支持体の後端に近い孔１２を経由して電極支持体内に戻り、最後に対応制御部品に固定されている。細いワイヤ６Ａ’は、電極支持体の前端に近い個別波紋の収縮度合を制御し、細いワイヤ６Ｂ’は、波紋部全体を制御する。図示しない実施例では、波紋部全体は、２つの波紋を含み、即ち、細いワイヤ６Ｂ’は、２つの波紋の収縮度合を制御する。細いワイヤ６Ｂ’に応じて調節される波紋部は、細いワイヤ６Ａ’に応じて調節される個別波紋を含む。当該実施例では、２本のワイヤの後端にそれぞれ接続する対応制御部品は、同一の制御部品であってもよい。
【００５９】
第７実施例及び第８実施例から分かるように、電極支持体が２つ以上の波紋を有するときに、密着調節ワイヤ６は、２本又は２本以上の複数本のワイヤからなってもよい。複数本のワイヤは、それぞれ電極支持体における１つ又は一部の波紋を調節する。一部の波紋には２つ及び２つ以上の複数の波紋が含まれている。各ワイヤの前端は、それぞれ対応する波紋／波紋部の一端に固定され、他端は波紋／波紋部を迂回し、波紋／波紋部の他端から電極支持体内に戻り、電極支持体内及び接続カテーテル内の管腔を経由して対応制御部品に固定されている。１本のワイヤが個別の波紋を調節するときに、その前端は、この波紋の一端に固定され、後端は、この波紋の他端に設けられた孔から電極支持体内に挿入している。１本のワイヤが、何れかの一部の波紋を調節するときに、その前端は、この一部の波紋の一端に固定され、後端は、この一部の波紋の他端の孔から電極支持体内に挿入している。上記複数本のワイヤによりそれぞれ制御される複数の一部の波紋同士が重なってもよい。図２０及び図２１に示される構造は、密着調節ワイヤがそれぞれ調節電極支持体における２つの波紋を調節する２本のワイヤを有する構造例である。図２２及び図２３に示される第８実施例の構造は、密着調節ワイヤ６がそれぞれ電極支持体における１つの波紋及び一部の波紋を調節する２本のワイヤを有する構造例である。
【００６０】
複数の制御部品を使用して電極支持体において異なる波紋部をそれぞれ制御するときに、この高周波アブレーションカテーテルが対象位置に入った後、必要に応じて、電極支持体の対応する波紋部を分段拡張してもよく、即ち、高周波が必要な波紋部の直径だけを変更し、電極支持体において異なる波紋部の直径を調節する場合の柔軟性を大きくし、高周波アブレーションカテーテル密着調節の難易度を低下することができる。
【００６１】
また、上記複数本のワイヤの後端は、同一の制御部品に固定されてもよい。同一の制御部品によって、上記複数本のワイヤが共に制御されている。
【００６２】
（第９実施例）
図２４に示されるように、本実施例から提供される高周波アブレーションカテーテルの電極支持体は、複数のサイズの異なる波紋からなっている。そのうち、波紋の全てのサイズが共に異なってもよく、一部の波紋が同一のサイズを採用し、その他の波紋が別のサイズを採用してもよい。また、複数の波紋は、電極支持体の前端から後端へ順次逓増するサイズで設けられてもよく、或いは電極支持体の前端から後端へ順次逓減するサイズで設けられてもよい。この場合、この高周波アブレーションカテーテルには複数本のワイヤからなる密着調節ワイヤ６が設けられ、異なるワイヤは、それぞれ電極支持体の異なる部分を制御し、異なるワイヤを引くことで、波紋部に対応する領域の波紋のサイズを変更し、電極支持体の部分的な密着を実現することができる。複数本のワイヤからなる密着調節ワイヤ６の具体的な設置方式は、第６実施例及び第７実施例を参照してもよい。ここで、再び重複しない。
【００６３】
複数の波紋が電極支持体の前端から後端にへ順次逓増するサイズで設けられているときに、この電極支持体を使用する高周波アブレーションカテーテルは、対象管腔の直径がますます小さくなる状況に適用している。例えば、この高周波アブレーションカテーテルを使用して直径の大きな血管から直径の小さい分岐された血管に入りこんでアブレーションを行ってもよい。この場合、小径の波紋部に対応する複数本のワイヤを制御することで、小径の波紋部を良好に密着させ、小径の波紋部で分岐された小さい血管に対してアブレーションを行うことができる。或いは、複数本のワイヤを制御することで、大径の波紋部と小径の波紋部を同時に密着させ、大きな血管と小さな血管に対してアブレーションを同時に行ったり、前後にアブレーションを行う。
【００６４】
複数の波紋が電極支持体の前端から後端へ順次逓減するサイズで設けられているときに、この電極支持体を使用した高周波アブレーションカテーテルは、対象管腔の直径がますます大きくなる状況に適用してもよい。例えば、「尿道システムによる腎盂領域の交感神経除去アブレーション術」に適用し、カテーテルは、尿道を経由して膀胱に入り込み、さらに輸卵管に入り込み、腎盂領域に到達し、この場合、密着調節ワイヤを調節することで、大径の波紋部と腎盂領域とを良好に密着させ、小径の波紋部と輸卵管とを良好に密着させ、輸卵管及び腎盂領域近傍の交感神経に対してアブレーションを同時に行うことができる。
【００６５】
上記をまとめ、波紋型高周波アブレーションカテーテルには密着調節ワイヤが設けられてもよい。密着調節ワイヤを後方へ引くことで、電極支持体の波紋状の直径を変更することができるため、この高周波アブレーションカテーテルが直径の異なる血管に適用するように電極の密着状態が改良される。なお、上記密着調節ワイヤも複数本のワイヤの構造を採用し、高周波アブレーションカテーテルにおいて異なる波紋部の各々の制御を実現し、直径の調節の難易度を簡素化することができる。
【００６６】
実際の臨床治療にあたって、本発明から提供される高周波アブレーションカテーテル及び高周波アブレーション機器は、異なる部位、複数種類の異なる直径の血管又は気管の神経アブレーションに適用し、例えば、腎動脈内の神経アブレーションによる難治性高血圧患者の治療に適用し、腹腔動脈内の神経アブレーションによる糖尿病患者の治療に適用し、さらに、気管／気管支の交感神経分岐のアブレーションによる哮喘患者の治療に適用し、十二指腸の交感神経分岐のアブレーションによる十二指腸の潰瘍患者の治療に適用し、また、腎盂、肺動脈などにおける他の血管又は気管内の神経アブレーションに用いられてもよい。説明すると、本発明から提供される高周波アブレーションカテーテルは、臨床治療にあたって上記列挙された適用に限られず、他の部位の神経アブレーションに用いられてもよい。
【００６７】
以上、本発明から提供される高周波アブレーションカテーテルについて説明した。本発明は、上記高周波アブレーションカテーテルを含む高周波アブレーション機器を同時に提供している。この高周波アブレーション機器は、上記高周波アブレーションカテーテルを含む他、上記高周波アブレーションカテーテルに接続した高周波アブレーションホストをさらに含む。そのうち、電極支持体における密着調節ワイヤは、接続カテーテルを経由した後に制御ハンドルに対応的に接続し、制御ハンドルで密着調節ワイヤを引くことで、電極支持体を異なる直径の対象管腔に良く密着するように電極支持体の形状を変更することができる。なお、電極支持体における高周波ケーブル、熱電対の素線はそれぞれ、接続カテーテルを通過して高周波アブレーションホストにおいて対応する回路に接続し、高周波アブレーションホストの複数の電極への高周波制御及び温度のモニタリングを実現した。制御ハンドルの設置及び高周波アブレーションホストの設置は、開示された本出願人の先行特許出願を参照してもよいので、ここでその具体的な構造について詳細に述べない。
【００６８】
以上、本発明から提供される密着調節ワイヤを有する波紋型高周波アブレーションカテーテル及びその機器を詳細に説明した。当業者にとって、本発明の実質的な精神を逸脱しないという前提でなされた如何なる自明な変更は、本発明の請求の範囲に属するものとする。
【図１Ａ】
2018515226.tif 000003
【図１Ｂ】
2018515226.tif 000004
【図２】
2018515226.tif 000005
【図３】
2018515226.tif 000006
【図３Ａ】
2018515226.tif 000007
【図４】
2018515226.tif 000008
【図５】
2018515226.tif 000009
【図６Ａ】
2018515226.tif 000010
【図６Ｂ】
2018515226.tif 000011
【図７Ａ】
2018515226.tif 000012
【図７Ｂ】
2018515226.tif 000013
【図８Ａ】
2018515226.tif 000014
【図８Ｂ】
2018515226.tif 000015
【図９Ａ】
2018515226.tif 000016
【図９Ｂ】
2018515226.tif 000017
【図１０Ａ】
2018515226.tif 000018
【図１０Ｂ】
2018515226.tif 000019
【図１１】
2018515226.tif 000020
【図１２】
2018515226.tif 000021
【図１３】
2018515226.tif 000022
【図１４】
2018515226.tif 000023
【図１５Ａ】
2018515226.tif 000024
【図１５Ｂ】
2018515226.tif 000025
【図１６】
2018515226.tif 000026
【図１７】
2018515226.tif 000027
【図１８】
2018515226.tif 000028
【図１９】
2018515226.tif 000029
【図２０】
2018515226.tif 000030
【図２１】
2018515226.tif 000031
【図２２】
2018515226.tif 000032
【図２３】
2018515226.tif 000033
【図２４】
2018515226.tif 000034
【国際調査報告】
2018515226.tif 000035
2018515226.tif 000036
2018515226.tif 000037
2018515226.tif 000038
2018515226.tif 000039
2018515226.tif 000040