【事件の表示】
　平成１１年特許願第３６１０６９号「露光パターン及び露光原版の検査方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１３年　６月２９日出願公開、特開２００１−１７４９７７〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、出願日が平成１１年１２月２０日である特願平１１−３６１０６９号であって、平成１５年２月２８日付で拒絶査定がなされ、これに対し平成１５年４月１０日付で拒絶査定に対する審判請求がなされ、平成１５年５月６日付で手続補正がなされた。その後、当審により、平成１７年１２月５日付で平成１５年５月６日付の手続補正が却下され、同日付で、拒絶の理由が通知された。
　
２．本願発明
　本願の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、平成１４年８月９日付手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりのものと認める。
「フォトマスクの製作時に２重露光された配線部分に太りまたは細りを生じてパターン検査時にＮＧと判定されないように、前記フォトマスクの太りまたは細りはそのままの状態で、２つのパターンの重なる領域の配線部分に対して、２重露光を行う前記配線部分に一定値の太らせ処理または細らせ処理を行ったものを検査用データに反映させて検査を行うことを特徴とするパターン検査方法。」
　
３．引用例
　当審における拒絶の理由に引用した特開昭５９−１３２１２９号公報（以下、引用例１という。）には、以下の点が記載されている。
ア．ホトマスクに形成されたパターンの実形状や実寸法を検出するパターン検出部と、前記パターンの設計データに基づいたパターン信号を発生する設計データ部と、前記パターン検出部と設計データ部のいずれか一方の信号を前記ホトマスクのパターンの寸法誤差に応じてシフトさせるシフト部と、シフトされた一方の信号とそのままの他方の信号とを比較して不一致を検出する比較部とを備えることを特徴とする欠陥検査装置。（特許請求の範囲の請求項１）
　
イ．一般にホトマスクの製作に際しては多数の工程を必要とするために、形成されるパターンには微小の加工誤差が存在することは避けられず、このため形成パターンの寸法には微小誤差が発生する。しかしながら、この程度の寸法誤差は実用上の問題はなく、良品として充分である。ところが、前述の従来装置では、その検出精度が極めて高いために形成パターンの前記寸法誤差を検出してしまい、これと設計データとの微小の不一致に基づいて形成パターンに欠陥が存在するとの検査結果を出力してしまう。このため、充分実用になるホトマスクをも欠陥製品としてしまい、ホトマスクの製造歩留を低下させる。・・・したがって本発明の目的はホトマスクのパターン欠陥を高精度にしかも寸法誤差とは区別してこれを検査することができ、これによりホトマスクの信頼性を高めると共に、製造歩留の向上を図ることができる欠陥検査装置を提供することにある。（公報第１頁右下欄下から３行〜第２頁末行）
　
ウ．第２図に示すように検出パターンＰ１とデータ上のパターンＰ２との全体的な寸法比較を行ない、これにより実際に形成されたホトマスクのパターンの加工誤差（ばらつき）を求めることができる。そして、この誤差値に基づいてシフト量設定器１４は設計データの各寸法をシフト（調整）し、誤差を相対的に零にしたデータパターンＰ３を比較部１５に出力する。この場合、シフト量はパターンの縦横方向に異なることがあり、またホトマスクの各部間においても異なることがある。したがって、比較部１５ではパターン検出部５からの実形状、実寸法のパターンＰ１と、シフト部１１を通してシフトされた設計データパターンＰ３とを比較することになる。このため、両者の間では加工誤差に基づくパターン不一致が生じることはなく、形状の相違に基づく不一致Ｘａ、Ｘｂのみが検出されて表示部１６に表示されることになる。（公報第２頁右下欄下から３行〜第３頁左上欄１６行）
　
　上記記載事項、第２図から、引用例１には、「ホトマスクの製作に際して、パターン欠陥検査時にパターンの寸法誤差を検出して充分実用になるホトマスクをも欠陥製品としてしまわないように、ホトマスクの寸法誤差はそのままの状態で、検出パターンＰ１とデータ上のパターンＰ２との全体的な寸法比較を行ない、データ上のパターンＰ２を寸法誤差値に基づいてシフトさせた設計データパターンＰ３を出力して、実形状、実寸法のパターンＰ１と、シフトされた設計データパターンＰ３とを比較することによって、加工誤差に基づくパターン不一致が生じることはなく、形状の相違に基づく不一致Ｘａ、Ｘｂのみが検出される検査を行うパターン欠陥検査方法。」（以下「引用発明」という。）が記載されている。
　
　同じく、特開平３−２１９５２号公報（以下、「引用例２」という。）には、以下の点が記載されている。
エ．第３図で、レジスト膜５に開けられた帯状の連続パターン４’の幅が、二重露光量域６の部分で狭くなっている。このようにパターン幅が狭まるのは、後に説明する第１図のようなマスクを用いてネガ型レジストに窓を開ける場合であって、ポジ型レジストに帯状の窓を開ける場合にはパターン幅が部分的に拡がることになる。（公報第２頁左下欄２〜９行）
　
　同じく、特開昭６２−３１８５４号公報（以下、「引用例３」という。）には、以下の点が記載されている。
オ．第５図に示すように、縮小投影露光時画素パターンの端を隣接する画素パターンの端に一部重ねた重なり部７をもって露光する必要がある。なお、フォトマスク５はポジパターンでゲートバスパターン２’及び表示電極パターン３が遮光される。このように、二重露光された重なり部７は露光過剰になり、基板６上ではゲートバスパターン２’で形成されるゲートバス１２’の対応部が細くなる。（公報第２頁右上欄１２〜末行）
　
　同じく、特開平８−４５８０９号公報（以下、「引用例４」という。）には、以下の点が記載されている。
カ．【００１６】
　次に、互いに隣接し合うパターンｐa1，ｐb1の終端を、それぞれｄ1 ＝0.15μｍだけ信号データ上で延長処理を行う。次いで、反対側にｄ2 ＝0.15μｍだけ離れた位置で各々のパターンを分断し、露光フィールド２ａ側にパターンｐa2（図６参照）、露光フィールド２ｂ側にパターンをｐb2（図７照）をそれぞれ作成する。さらに、パターンｐa1，ｐb1に対してレジスト感度に対応した規定の露光量Ｑ1 を、パターンｐa2，ｐb2に対しては露光量Ｑ2 ＝（Ｑ1 ／２）をそれぞれ割り当て、この後に露光装置の書式で出力露光データを作成する。
・・・
【００１８】
・・・二重露光された領域（２ｄ）における露光量は他の領域と同じ規定の露光量Ｑ1 となるので、オーバーラップ部におけるパターンの太りを無くすことができ、寸法精度の良いデバイスパターンを得ることができる。
　
４．対比
　そこで、本願発明と引用発明とを比較すると、引用発明の「ホトマスクの製作に際して」は本願発明の「フォトマスクの製作時に」に相当し、以下同様に「パターン欠陥検査時」は「パターン検査時」に、「欠陥製品としてしまわないように」は「ＮＧと判定されないように」に、「データ上のパターンＰ２」は「検査用データ」に、「パターン欠陥検査方法」は「パターン検査方法」に、それぞれ相当する。
　
　また、引用発明の「ホトマスクの寸法誤差」、及び本願発明の「２重露光された配線部分の太りまたは細り」、並びに「フォトマスクの太りまたは細り」は、いずれも「フォトマスクの許容変形」であるということができる。
　　
　また、引用発明の「データ上のパターンＰ２を寸法誤差値に基づいてシフトさせた設計データパターンＰ３を出力して、実形状、実寸法のパターンＰ１と、シフトされた設計データパターンＰ３とを比較することによって、加工誤差に基づくパターン不一致が生じることはなく、形状の相違に基づく不一致Ｘａ、Ｘｂのみが検出される検査を行う」、及び本願発明の「２つのパターンの重なる領域の配線部分に対して、２重露光を行う前記配線部分に一定値の太らせ処理または細らせ処理を行ったものを検査用データに反映させて検査を行う」は、いずれも「フォトマスクの許容変形量を検査用データに反映させて検査を行う」ことであるということができる。
　
　したがって、両者は、「フォトマスクの製作時にフォトマスクの許容変形を生じてパターン検査時にＮＧと判定されないように、前記フォトマスクの許容変形はそのままの状態で、フォトマスクの許容変形を検査用データに反映させて検査を行うことを特徴とするパターン検査方法。」である点で一致し、以下の各点で相違する。
　
相違点１
　フォトマスクの許容変形が、本願発明では、「２重露光された配線部分の太りまたは細り」、あるいは「フォトマスクの太りまたは細り」であるのに対し、引用発明では、「ホトマスクの寸法誤差」である点。
　
相違点２
　検査用データに反映させるフォトマスクの許容変形が、本願発明では、「２つのパターンの重なる領域の配線部分に対して、２重露光を行う前記配線部分に一定値の太らせ処理または細らせ処理を行ったもの」であるのに対し、引用発明では、「ホトマスクの寸法誤差」である点。
　
５．判断
相違点１、２について
　２重露光された配線部分に太りまたは細りが生じることは、引用例２〜４に記載されるように従来周知の技術事項である。
　そして、その太りまたは細りには、露光条件、レジストの種類等により、種々の程度のものがあり、それによる変形が許容される程度のものもあることは、当業者にとって自明である。
　
　相違点２の記載から明らかなように、フォトマスクの許容変形量を検査用データに反映させるという技術思想は、本願発明と引用発明とで一致しており、上述のように、フォトマスクの許容変形量として、「２重露光された配線部分の太りまたは細り」、あるいは「フォトマスクの太りまたは細り」があることは従来周知の技術事項であるので、引用発明において、相違点１、２に係る構成とすることは、当業者にとって容易である。
　
  なお、請求人は、平成１８年２月６日付意見書で、「寸法誤差」と「フォトマスクの太りまたは細り」のような偏差とは、異なる現象で、誤差から偏差は容易に想起できない、と主張するが、例えば、引用例１の第２図における、データ上のパターンＰ２から、寸法誤差値に基づいてシフトさせた設計データパターンＰ３への変化を見れば、データ上のパターンＰ２の拡大、または縮小の一方向への修正を読み取ることができ、検査用データに特定方向への偏差の反映を想起することは容易であり、該主張は受け入れられない。
　
　そして、本願発明の効果も、引用発明、及び従来周知の技術事項から予測される範囲内のもので格別のものとは言えない。
　
６．むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用例１に記載された発明、及び従来周知の技術事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。