【事件の表示】
　平成　９年特許願第　７７７３６号「基板処理装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１０年１０月１３日出願公開、特開平１０−２７５７９０〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯と本件発明
　本願は、平成９年３月２８日の出願であって、その請求項１及び２に係る発明は、同１６年３月３１日付手続補正書により補正された明細書の特許請求の範囲の請求項１及び２に記載された事項により特定されるとおりのものと認められるところ、請求項１に係る発明は、次のとおりのものである。
「基板に対して薬液による薬液処理と純水による洗浄処理とを順次行う基板処理装置であって、
　(a) 前記基板を前記純水中に浸漬して前記洗浄処理を行う水洗槽と、
　(b) 前記水洗槽に温水を供給する温水供給手段と、
　(c) 前記水洗槽から前記温水を排水する温水排水手段と、
　(d) 前記水洗槽に冷水を供給する冷水供給手段と、
　(e) 前記水洗槽から前記冷水を排水する冷水排水手段と、
　(f) 前記洗浄処理中に、前記温水供給手段による温水供給と前記温水排水手段による温水排水とが反復するように前記温水供給手段および前記温水排水手段を制御するとともに、前記温水供給と前記温水排水との反復の後、前記冷水供給手段による冷水供給と前記冷水排水手段による冷水排水とが反復するように前記冷水供給手段および前記冷水排水手段を制御する給排水制御手段と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。」（以下、「本件発明」という。）
　
２．引用刊行物記載の発明
　これに対し、原査定の拒絶の理由に引用された、本願出願前に日本国内において頒布された次の刊行物には以下の記載がなされていると認められる。
　
　刊行物：　特開平８−３３８７５号公報
　
ａ．（第１欄第４３行〜第２欄第１９行）
「このため、薬品処理後のウエハー洗浄は半導体製造工程上、不可欠である。以下に、従来のウエハー洗浄装置について、図４及び図５を参照しながら説明する。図４は、従来のウエハー洗浄装置の概略断面図である。従来のウエハー洗浄装置は水洗槽１の底部に排水口２を有し、上部には純水を噴射するノズル３を設けたシャワー配管４から構成されている。ウエハーを洗浄する際は、複数枚のウエハー５が垂直かつ等間隔に並べて収納されたラック６を純水の入った水洗槽に投入する。この場合の洗浄において、薬品処理後のウエハー表面のフォトレジストあるいは酸化膜等の膜厚を均一にし、ゴミ等の付着を少なくするためには、ウエハー５の表面を乾燥させないで、急速に薬品と純水の置換を行う必要がある。そこで、従来、排水口２を開いて水洗槽１内の水を急速に排水しながらウエハー表面が乾燥するのを防止するため純水シャワーをノズル３からウエハー５表面に噴射する。そして排水が完了すると、純水シャワーを噴射しながら排水口２を閉じて洗浄水を水洗槽１に溜め始め、所定量に達したら再び排水口２を開いて洗浄水を抜く。洗浄水内の薬品が純水に置き換わるまで、この工程が数回繰り返され、この間、純水シャワーは連続してウエハー５表面に噴射される。図５は、ウエハー洗浄装置の概略上面図である。純水は、純水給水弁９を開くと左右のそれぞれのシャワー配管４に流れ込み、ウエハー洗浄に適した個所に開けられたノズル３ａを通してウエハー５表面の上から噴射される。」
　
　上記摘記事項ａの内容を本件発明の記載に沿って整理すると、刊行物には、
「ウエハーに対して薬品による薬品処理と純水による洗浄処理とを順次行うウエハー洗浄装置であって、
　複数枚の前記ウエハーが垂直かつ等間隔に並べて収納されたラックを前記純水中に水没して前記洗浄処理を行う水洗槽と、
　前記水洗槽に純水を供給する純水給水弁と、
　前記水洗槽から洗浄水を排水する排水口と、
　前記洗浄処理中に、前記純水給水弁による純水供給と前記排水口による洗浄水排水とが反復するように前記純水給水弁および前記排水口を開閉する手段と、
を備えるウエハー洗浄装置。」（以下、「刊行物記載の発明」という。）
が記載されていると認められる。
　
３．対比
　本件発明と刊行物記載の発明とを対比すると、後者の「ウエハー」及び「薬品」が、前者の「基板」及び「薬液」にそれぞれ相当することは明白であるから、後者の「ウエハー洗浄装置」は、その機能上、前者の「基板処理装置」に相当するというべきである。後者において、「複数枚の前記ウエハーが垂直かつ等間隔に並べて収納されたラックを前記純水中に水没」することは、前者において「前記基板を前記純水中に浸漬」することと、基板が純水に浸漬されるという点で違いがない。また、後者において、排水口から排水される「洗浄水」は、洗浄に使用した後の純水からなることが明らかであって、実質的に前者において排水される「純水」と同じであるから、後者の「純水給水弁」及び「排水口」は、純水を供給及び排水する手段である限りにおいて、前者の「供給手段」及び「排水手段」にそれぞれ相当するということができる。そして、刊行物に明記はされていないが、刊行物記載の発明においても、純水給水弁と排出口の開閉を制御する給排水制御手段が設けられていることは、常識である。
　一方、本件発明においては、「純水」とは温水と冷水の両方を含む（本願明細書段落【０００８】第８〜９行参照。）総称として用いられている。
　そうすると、本件発明と刊行物記載の発明とは、次の各点において一致及び相違すると認められる。
＜一致点＞
「基板に対して薬液による薬液処理と純水による洗浄処理とを順次行う基板処理装置であって、
　前記基板を前記純水中に浸漬して前記洗浄処理を行う水洗槽と、
　前記水洗槽に純水を供給する純水供給手段と、
　前記水洗槽から前記純水を排水する純水排水手段と、
　前記洗浄処理中に、前記純水供給手段による純水供給と前記純水排水手段による純水排水とが反復するように前記純水供給手段および前記純水排水手段を制御する給排水制御手段と、
を備える基板処理装置。」である点。
＜相違点１＞
　洗浄処理中に、前者では、温水供給と温水排水とが反復するように温水供給手段および温水排水手段を制御するとともに、前記温水供給と前記温水排水との反復の後、冷水供給と冷水排水とが反復するように前記冷水供給手段および前記冷水排水手段を制御するのに対し、後者では、単に純水供給手段による純水供給と純水排水手段による純水排水とが反復するように前記純水供給手段および前記純水排水手段を制御する点。
＜相違点２＞
　前者では、純水供給手段として温水供給手段と冷水供給手段とを備えるとともに、純水排水手段として温水排水手段と冷水排水手段とを備えるのに対し、後者では、温水供給手段と冷水供給手段との区別がなく、温水排水手段と冷水排水手段との区別もない点。
　
４．当審の判断　
　以下、上記相違点について検討する。
4.1　＜相違点１＞につき
　純水の供給と排水とからなる各洗浄工程において、常温の水よりも、昇温された水を使用して洗浄した方が洗浄効果が高い場合が多いことは、広く一般に知られた知識である。（本願明細書段落【０００３】、特開平５−１２９２６５号公報等参照。）このため、刊行物記載の発明において、少なくとも一部の洗浄工程で、洗浄水である純水に昇温された純水、すなわち温水、を使用し、温水供給と温水排水とを行うように、純水供給手段と純水排水手段を制御することは、当業者が容易に想到し得るものである。
　本件発明において、温水の供給と排水による洗浄工程を反復した後、冷水の供給と排水による洗浄工程を反復することについて、格別の技術的な意義を認めることはできず、温水供給と温水排水とが反復するように純水供給手段および純水排水手段を制御するとともに、前記温水供給と前記温水排水との反復の後、冷水供給と冷水排水とが反復するように純水供給手段および純水排水手段を制御することは、当業者が適宜設計し得る事項というべきである。
4.2　＜相違点２＞につき
　上記4.1にて述べたように、温水による洗浄工程と冷水による洗浄工程とを組み合わせて行うことは、当業者にとって容易であるところ、温水の供給と冷水の供給に、それぞれ温水供給手段と冷水供給手段とを備える点、及び温水の排出と冷水の排出に、それぞれ温水排水手段と冷水排水手段とを備える点は、温水と冷水を個別に循環させることによる熱効率向上といった、普通に想到し得る効果を考慮することにより、温水による洗浄工程と冷水による洗浄工程との両方を行うようにしたことに伴って、当業者が容易になし得る当然の設計の変更に過ぎないというべきである。
4.3　まとめ
　本件発明には、刊行物記載の発明及び一般知識に基づいて普通に予測される範囲を超える格別の作用効果を認めることはできない。
　よって、本件発明は、刊行物記載の発明及び一般知識に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
５．むすび　
　以上のとおり、本願の請求項１に係る発明は、刊行物記載の発明及び一般知識に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、請求項２に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶されるべきである。
　よって、結論のとおり審決する。