【事件の表示】
　平成　９年特許願第２５４１９３号「プラスチックカラーフィルターの製造方法および該製造方法により製造したカラーフィルター」拒絶査定不服審判事件〔平成１１年　３月２６日出願公開、特開平１１−　８４３６７〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成９年９月３日に出願された特許出願であって、平成１４年７月２９日付で拒絶理由が通知され、平成１４年１０月２日に手続補正がなされたところ、平成１５年４月１６日付で拒絶査定がなされ、これに対し、同年５月２２日に拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに同年６月２３日に手続補正がなされ、当審において、平成１７年１０月２４日付で同手続補正を却下するとともに特許法第１７条の２第１項第２号の場合の拒絶理由を通知したところ、平成１７年１２月２２日に手続補正がなされたものである。
　　　
２．平成１７年１２月２２日付の手続補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　平成１７年１２月２２日付の手続補正を却下する。
［理由］
（１）特許法第１７条の２第４項違反について
　平成１７年１２月２２日付の手続補正（以下、「本件補正」という。）において、本件補正前の請求項１（平成１４年１０月２日付手続補正）である、
　　ア．「【請求項１】　複数の電極を有するプラスチックフィルム基板の電極上に電極取り出し穴を設けた絶縁膜を形成し、この電極取り出し穴を介して任意の電極を選択的に外部回路と電気的に接続した後、選択された電極上に電気化学的手法により導電性カラーフィルター層を形成するカラーフィルターの製造方法において、前記複数の電極を有するプラスチックフィルム基板にフォトレジストを塗布する工程と、前記フォトレジストをプリベークする工程と、前記プリベークしたフォトレジストに前記電極取り出し穴のパターンを露光する工程と、前記露光したフォトレジストを現像する工程を有し、前記露光工程開始時点における前記プラスチックフィルム基板の、前記フォトレジスト塗布工程前の前記プラスチックフィルム基板に対する伸縮変動巾が、電極取り出し穴を形成する電極巾から電極取り出し穴の巾を引いた値がプラスチックフィルム基板の伸縮変動巾より小さい範囲となるように、
プリベーク終了時間から露光開始までの時間を管理すること
は、以下のように補正された。
　　
　　イ．「【請求項１】　複数の電極を有するプラスチックフィルム基板の電極上に電極取り出し穴を設けた絶縁膜を形成し、この電極取り出し穴を介して任意の電極を選択的に外部回路と電気的に接続した後、選択された電極上に電気化学的手法により導電性カラーフィルター層を形成するカラーフィルターの製造方法において、前記複数の電極を有するプラスチックフィルム基板にフォトレジストを塗布する工程と、前記フォトレジストをプリベークする工程と、前記プリベークしたフォトレジストに前記電極取り出し穴のパターンを露光する工程と、前記露光したフォトレジストを現像する工程を有し、前記複数の電極を形成する以前の透明導電性フィルムに対する前記露光工程開始時点における前記プラスチックフィルム基板の伸縮変動巾が、電極取り出し穴を形成する電極巾から電極取り出し穴の巾を引いた値より小さい範囲となるように
制御すること
　
　本件補正前の請求項１と本件補正に係る請求項１とを対比すると、前者の「
プリベーク終了時間から露光開始までの時間を管理すること
制御すること
　すなわち、前者では、「プラスチックフィルム基板の伸縮変動巾が、電極取り出し穴を形成する電極巾から電極取り出し穴の巾を引いた値より小さい範囲となるよう」にするための具体的な手段が「
プリベーク終了時間から露光開始までの時間を管理すること
制御すること
　そして、このような補正は、「プリベーク終了時間から露光開始までの時間を管理すること」であったものを、時間に関する記載を削除し、より上位の技術概念である「制御すること」に変更するものであるといえる。
　しかしながら、このような構成を上位概念化する補正は、特許請求の範囲の減縮にも、誤記の訂正にも、明りょうでない記載の釈明にも該当しないことは明らかであるから、上記補正は特許法第１７条の２第４項の規定に違反するものである。
　　
（２）むすび
　以上のとおり、本件補正は、特許法第１７条の２第４項の規定に違反するものであるから、特許法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　よって結論のとおり決定する。　
　　
３．本件出願について
（１）平成１７年１２月２２日付の手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の明細書および図面は、平成１４年１０月２日付手続補正書により補正されたとおりのものである。
　　
（２）平成１７年１０月２４日付の拒絶理由
　一方、当審における拒絶の理由は次のとおりである。
　「理由１：
　平成１４年１０月２日付けでした手続補正は、下記の点で願書に最初に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内においてしたものでないから、特許法第１７条の２第３項に規定する要件を満たしていない。 
　なお、平成１５年６月２３日付手続補正は、願書に最初に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内においてしたものでないとして却下した。
　　　　　　　　　　 　　　　　記 
　（ｉ）本願は、平成９年９月４日に出願した特許出願であって、そのうち平成１４年１０月２日の手続補正は、原審における平成１４年７月２９日付拒絶理由通知に対してなされたものであって、その請求項１および明細書の段落【０００６】を摘記すると以下のとおりである。 
 　 
　『【請求項１】　複数の電極を有するプラスチックフィルム基板の電極上に電極取り出し穴を設けた絶縁膜を形成し、この電極取り出し穴を介して任意の電極を選択的に外部回路と電気的に接続した後、選択された電極上に電気化学的手法により導電性カラーフィルター層を形成するカラーフィルターの製造方法において、前記複数の電極を有するプラスチックフィルム基板にフォトレジストを塗布する工程と、前記フォトレジストをプリベークする工程と、前記プリベークしたフォトレジストに前記電極取り出し穴のパターンを露光する工程と、前記露光したフォトレジストを現像する工程を有し、前記露光工程開始時点における前記プラスチックフィルム基板の、前記フォトレジスト塗布工程前の前記プラスチックフィルム基板に対する伸縮変動巾が、電極取り出し穴を形成する電極巾から電極取り出し穴の巾を引いた値がプラスチックフィルム基板の伸縮変動巾より小さい範囲となるように、プリベーク終了時間から露光開始までの時間を管理することを特徴とするプラスチックカラーフィルターの製造方法。』 
 　 
　『【０００６】　【課題を解決するための手段】 
　本発明は、複数の電極を有するプラスチックフィルム基板の電極上に電極取り出し穴を設けた絶縁膜を形成し、この電極取り出し穴を介して任意の電極を選択的に外部回路と電気的に接続した後、選択された電極上に電気化学的手法により導電性カラーフィルター層を形成するカラーフィルターの製造方法において、前記複数の電極を有するプラスチックフィルム基板にフォトレジストを塗布する工程と、前記フォトレジストをプリベークする工程と、前記プリベークしたフォトレジストに前記電極取り出し穴のパターンを露光する工程と、前記露光したフォトレジストを現像する工程を有し、前記露光工程開始時点における前記プラスチックフィルム基板の、前記フォトレジスト塗布工程前の前記プラスチックフィルム基板に対する伸縮変動巾が、電極取り出し穴を形成する電極巾から電極取り出し穴の巾を引いた値がプラスチックフィルム基板の伸縮変動巾より小さい範囲となるように、プリベーク終了時間から露光開始までの時間を管理することを特徴とするプラスチックカラーフィルターの製造方法を提供することにより、前記課題を解決することができた。 
　すなわち本発明は、電極取り出し穴を形成する領域の電極巾を広げることによってアライメントの許容範囲が広がり、位置ずれを起こしにくくなること、逆に言えば、電極取り出し穴を形成する領域の電極巾を広げることによって基板伸縮変動巾の大きいフィルムにおいても、位置ずれのないコンタクトホールの形成を可能にすることができた。』 
 　　 
　（ｉｉ）そこで、上記請求項１および段落【０００６】に記載された 
　　ａ．『前記露光工程開始時点における前記プラスチックフィルム基板の、前記フォトレジスト塗布工程前の前記プラスチックフィルム基板に対する伸縮変動巾が、電極取り出し穴を形成する電極巾から電極取り出し穴の巾を引いた値がプラスチックフィルム基板の伸縮変動巾より小さい範囲となるように』
との事項が、願書に最初に添付した明細書及び図面に記載されていたか否か、以下に検討する。 
 　　 
　上記ａによれば、伸縮変動巾の一方の基準となるプラスチックフィルム基板の寸法は、フォトレジスト塗布工程前のプラスチックフィルム基板の寸法であると認められるが、願書に最初に添付した明細書及び図面（以下、「当初明細書」という。）には、上記事項に関する明示の記載が見当たらない。
 　　 
　すなわち、上記事項に関して当初明細書には、
　　ｂ．『【００１１】実施例１ 
　１５０ｍｍ×１５０ｍｍの大きさで厚さが０．１５ｍｍの透明導電性フィルムＦＳＴ−５３４０（住友ベークライト社製）上の透明導電膜を１１０μｍピッチ、巾９０μｍ、９６０本のストライプ状に通常のフォトリソ法で加工した。続いてポジ型のフォトレジスト約２μｍを基板全面に塗布したのち、フォトマスクで露光、現像して巾２０μｍ、長さ１００μｍのコンタクトホールを有する絶縁層を図３のように形成した。この場合、９０μｍ巾の電極に対して巾２０μｍのコンタトホールをアライメントするので、アライメントマージンは７０μｍとなり、基板の寸法変化が±０．０２％の範囲であれば、電極上にコンタクトホールを形成する事が可能である。本実施例ではフォトレジストのプリベーク終了時間から露光までの時間を管理することによって基板の基板寸法を±０．０２％を範囲に制御した。』
と記載されているのみであり、伸縮変動巾の一方の基準となるプラスチックフィルム基板の寸法が、フォトレジスト塗布工程前のプラスチックフィルム基板の寸法である旨の明示の記載も、これを示唆する記載も見当たらない。
 　　 
　上記ｂによれば、基板の寸法変化が上記アライメントマージン７０μｍをコンタクトホールの左右に振り分けた寸法±３５μｍより小さければコンタトホールが電極巾内に形成可能であり、それゆえ、基板の寸法変化の許容範囲である±０．０２％に上記寸法±３５μｍが大凡相当するものと解することができる。 
　そこで、上記ｂに開示されている「１５０ｍｍ×１５０ｍｍの大きさで厚さが０．１５ｍｍの透明導電性フィルム』を一方の基準寸法と仮定すると、上記寸法±３５μｍは同寸法１５０ｍｍの±０．０２３３・・％に当り、小数点２桁に丸めると±０．０２％となり、また、同寸法１５０ｍｍの±０．０２％は±３０μｍに相当し、上記コンタトホールが電極巾内に形成可能な要件を十分満足するから、結局、上記基板寸法変化の許容範囲±０．０２％は、透明導電膜をパターニングする前の上記透明導電性フィルムの寸法である１５０ｍｍを基準として算出したものということができる。 
　したがって、上記ｂからは、一方の基準となるプラスチックフィルム基板の寸法として透明導電膜をパターニングして複数の電極を形成する以前の上記透明導電性フィルムの寸法を導出できるのがせいぜいであって、上記ａのように（透明導電膜をパターニングして複数の電極を形成した後の）フォトレジスト塗布工程前のプラスチックフィルム基板の寸法を導出することはできない。
 　 
　そして、ほかに上記ａなる構成が自明であるとの合理的理由も、当初明細書の記載から見出すことができない。 
 　　 
　それゆえ、上記ａの技術事項を含む補正は、願書に最初に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内においてしたものとはいえないから、特許法第１７条の２第３項の規定に違反するものである。 
 　　 
　　理由２：
　この出願は、特許請求の範囲の記載が下記の点で、特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしていない。 
　よって、請求項１に係る発明は、明確でない。 
 　　　　　　　　　　　　　　　記 
　請求項１に記載された『プリベーク終了時間から露光開始までの時間を管理すること』なる構成の技術的意義が、明細書の関連記載（段落００１１）を参酌しても不明であり、結果的に請求項１に係る発明を不明確にしている（時間を管理するとは、いかなる作用効果を基板に与えることになるのか、単に温度が平衡になる時間であるのか、あるいは熱履歴による歪みを緩和できるというような明細書に記載のない事項なのか、何ら説明されていない）。」
　
（３）判断
　上記拒絶理由に対して応答した平成１７年１２月２２日の手続補正は、上記２．で述べたように特許法第１７条の２第４項の規定に違反するとして却下された。
　そうすると、本願の明細書および図面は、平成１４年１０月２日付手続補正書により補正されたとおりのものであるから、本願は依然として上記３．（２）の拒絶理由を有するものである。
　　
（４）むすび
　以上のとおり、本願は、特許法第１７条の２第３項の規定に違反するのみならず同法第３６条第６項第２号に規定する要件をも満たしていないから、特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。