(57)【要約】  ハウジング（１０）と、中央通路（１８）及び磁気回路間隙（２２）を備える磁気コア（６）と、磁気回路間隙内に配置された磁界検出器（８）と、測定される電流を通すための一次導体（１４）、及び磁界検出器を外部回路に接続するための磁界検出器導体（１６）を備えるリードフレーム導体配列（４）とを含む電流トランスデューサ。一次導体は、磁気コアの中央通路を通って延びた中央部分（１５）と、中央部分の両端から延びた水平延長アーム（１３）と、外部導体に接続するための接続端（１７）とを備える。磁界検出器導体は複数の導体を備え、各導体は、一次導体の中央部分と実質的に位置を合わせられた検知セル接続パッド（２１）と、外部回路に接続するための接続端（１９）とを備え、ハウジングは、リードフレーム導体配列の一部分取り囲むとともに磁界センサ受容空洞（３６）を形成するベース（２０）と、検知セルに電気的に接続するために検知セル接続パッドを露出させる本質的に平面状の実装面を提供する、磁界センサ受容空洞の底面とを備え、検知セルは、実装面に結合され、磁界検出器導体の導体に重なるとともに一次導体中央部分からオフセットされる。ハウジングベースは、一次導体の中央部分を取り囲み、磁気コアと一次導体の間の誘電絶縁層を提供する一次導体オーバーモールド部分（３０）を更に備える。
2018535409.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ハウジング（１０）と、中央通路（１８）及び磁気回路間隙（２２）を備える磁気コア（６）と、前記磁気回路間隙内に配置された磁界検出器（８）と、測定される電流を通すための一次導体（１４）、及び前記磁界検出器を外部回路に接続するための磁界検出器導体（１６）を備える金属板リードフレーム導体配列（４）とを含む電流トランスデューサであって、前記一次導体は、前記磁気コアの前記中央通路を通って延びた中央部分（１５）と、前記中央部分の両端から延びた水平延長アーム（１３）と、外部導体に接続するための接続端（１７）とを備え、前記磁界検出器導体は複数の導体を備え、各導体は、前記一次導体の前記中央部分と実質的に位置を合わせられた検知セル接続パッド（２１）と、前記外部回路に接続するための接続端（１９）とを備え、前記ハウジングは、前記リードフレーム導体配列の一部分を取り囲むとともに磁界センサ受容空洞（３６）を形成するベース（２０）を備え、前記磁界センサ受容空洞の底面は、前記検知セルに電気的に接続するために前記検知セル接続パッドを露出させる本質的に平面状の実装面を提供し、前記検知セルは、前記実装面に結合され、前記磁界検出器導体のうちの１つ以上に重なるとともに前記一次導体中央部分からオフセットされ、前記ハウジングベースは、前記一次導体の前記中央部分を取り囲み、前記磁気コアと前記一次導体との間の誘電絶縁層を提供する一次導体オーバーモールド部分（３０）を更に備え、前記ハウジングは、前記ベース上に実装されるとともに前記磁気コア及び前記磁界センサ受容空洞を覆うカバー（３４）を更に備える、電流トランスデューサ。
【請求項２】
前記ベースは、前記検知セルが内部に配置される前記磁界センサ受容空洞を取り囲むとともに形成する外壁部分（３８）を備え、前記検知セル（２６）及び接続パッドを覆う絶縁埋込材料（２８）を更に備える、請求項１に記載の電流トランスデューサ。
【請求項３】
前記導体配列の前記接続端は、前記一次導体部分及び前記検知セル接続パッドが配置された主平面から外れるように屈曲し、外部回路基板上の導電接点に接続するように構成されている、請求項１から２のいずれか一項に記載の電流トランスデューサ。
【請求項４】
前記一次導体及び／又は前記磁界検出器導体の前記接続端は、前記ハウジングに向かって内側に屈曲した終端部分を有する、請求項３に記載の電流トランスデューサ。
【請求項５】
前記ハウジングベースは、前記一次導体の前記水平延長アームのうち前記ハウジングベースの側壁を越えて突出した部分を取り囲むオーバーモールド延長部（３９）を備える、請求項４に記載の電流トランスデューサ。
【請求項６】
前記ハウジングは、前記磁気コアの両側面に位置するとともに、前記一次導体と磁気コアと磁界検出器導体（１６）との間に波状の電気的沿面経路を形成する相互係合要素を前記ベース及び前記カバー上に提供するコアガイドリブ（３２、３３）を備える、請求項１から５のいずれか一項に記載の電流トランスデューサ。
【請求項７】
前記ベースは、前記カバー（３４）上に内壁部分（３３ａ）及び外壁部分（３３ｂ）を有する相補的なコアガイドリブ（３３）の対に挿入するコアガイドリブ（３２）を前記磁気コアの両側に備える、請求項６に記載の電流トランスデューサ。
【請求項８】
前記ハウジングカバーには、前記カバーが、前記磁気コアの上並びに前記磁界センサ受容空洞及び前記ハウジングベースの反対側の上に留まるような概ねＵ字形の形状を成すように、端壁部分（４４ｃ）により相互接続された上側及び下側カバー壁部分（４４ａ、４４ｂ）が設けられている、請求項１から７のいずれか一項に記載の電流トランスデューサ。
【請求項９】
前記検知セルは、フリップチップ接続構造又はボンディングワイヤによって、前記リードフレーム導体配列の前記検知セル接続パッドに接続されている、請求項１から８のいずれか一項に記載の電流トランスデューサ。
【請求項１０】
前記磁界検出器は、磁界検知セル、例えばホール効果セルを搭載した半導体基板の形をとる、請求項９に記載の電流トランスデューサ。
【請求項１１】
前記磁気コアは、終端ブランチ（６ａ）及び前記終端ブランチから自由端（２４）まで延びた水平ブランチ（６ｂ、６ｃ）により形成された概ねＵ字形の形状を有し、前記磁気回路間隙（２２）は、前記自由端（２４）に近接して前記水平ブランチ（６ｂ、６ｃ）の間に形成されている、請求項１から１０のいずれか一項に記載の電流トランスデューサ。
【請求項１２】
前記水平ブランチのうちの少なくとも一方の前記自由端は、外側に面取り部（２５）を備える、請求項１１に記載の電流トランスデューサ。
【請求項１３】
前記電流トランスデューサは開ループ電流トランスデューサである、請求項１から１２のいずれか一項に記載の電流トランスデューサ。
【発明の詳細な説明】
【開示の内容】
【０００１】
本発明は、磁気コアと、磁気コアの空隙内にある磁界検出器とを備え、磁気コアの中央通路を通って延びた一次導体を流れる電流を測定するための電流トランスデューサに関する。
【０００２】
電流検知用途の電流トランスデューサモジュールは、典型的に、測定される電流が通る一次導体が通過する中央開口を取り囲む、高透磁率の磁気材料で作られた磁気コアを備える。磁気コアは、典型的に、概ね矩形又は円形の形状を有することができ、磁気コアには、ＡＳＩＣの形をとるホール効果センサなどの磁界検出器が内部に配置される空隙を設けることができる。一次導体を流れる電流により発生した磁束は、磁気コアにより集中し、空隙を通過する。空隙内の磁界は、一次電流を表す。
【０００３】
電流センサは、電気デバイス及びシステムを監視又は制御するための多種多様な用途で使用され、多くの用途では、そのような構成要素の製造コストとともに電気回路において構成要素を実施及び使用するコストを低下させる上で重要な利点がある。
【０００４】
ある種の電流トランスデューサは、コスト及び／又はサイズを理由に磁気コアなしで提供されるが、これによって、概して、一次導体を取り囲む磁気コアが設けられたトランスデューサと比べて、信頼性及び／又は感度及び／又は精度及び／又は動作レンジが低下する。
【０００５】
構成要素が内部に実装されるデバイスの小型化及び／又は軽量化のために、コンパクトな構成要素を提供する上で重要な利点があることも多い。電流トランスデューサが回路基板に実装されるとともに、特にコンパクトな構造を要求する所定の接続実装面積又は表面積の制限を考慮する必要がある、多くの用途がある。このことは、一次導体の電圧の大きさによっては、一次導体と磁界検出器回路の電気導体との間に要求される電気的沿面距離を実現する際に困難を招くことがある。
【０００６】
本発明の目的は、精度が高く、信頼性が高く、またコンパクトであり、製造が経済的である、一体化した一次導体及び磁界検出器を備える電流トランスデューサを提供することである。
【０００７】
ある種の用途では、回路基板に実装するための、精度が高く、信頼性が高く、また回路基板上に占める表面積が小さく、製造が経済的である、一体化した一次導体及び磁界検出器を備える電流トランスデューサを提供することが本発明の目的である。
【０００８】
一次導体と磁界検出器の導体との間に高い電気的沿面抵抗値を有する電流トランスデューサを提供することが有利である。
【０００９】
大きな動作レンジを有する電流トランスデューサを提供することが有利である。
【００１０】
ロバストであり、安定した電流トランスデューサを提供することが有利である。
【００１１】
軽量の電流トランスデューサを提供することが有利である。
【００１２】
実施が容易であり、使用するのに経済的である電流トランスデューサを提供することが有利である。
【００１３】
本発明の目的は、請求項１に記載の電流トランスデューサを提供することにより実現された。
【００１４】
本明細書には、ハウジングと、中央通路及び磁気回路間隙を備える磁気コアと、磁気回路間隙内に配置された磁界検出器と、測定される電流を通すための一次導体、及び磁界検出器を外部回路に接続するための磁界検出器導体を備えるリードフレーム導体配列とを含む電流トランスデューサが開示される。一次導体は、磁気コアの中央通路を通って延びた中央部分と、中央部分の両端から延びた水平延長アームと、外部導体に接続するための接続端とを備える。磁界検出器導体は複数の導体を備え、各導体は、一次導体の中央部分と実質的に位置を合わせられた検知セル接続パッドと、外部回路に接続するための接続端とを備え、ハウジングは、リードフレーム導体配列の一部分を取り囲むとともに磁界センサ受容空洞を形成するベースを備え、磁界センサ受容空洞の底面は、検知セルに電気的に接続するために前記検知セル接続パッドを露出させる本質的に平面状の実装面を提供し、検知セルは、実装面に結合され、磁界検出器導体のうちの１つ以上に重なるとともに一次導体中央部分からオフセットされる。ハウジングベースは、一次導体の中央部分を取り囲み、磁気コアと一次導体との間の誘電絶縁層を提供する一次導体オーバーモールド部分を更に備える。ハウジングは、ベース上に実装されるとともに磁気コア及び磁界センサ受容空洞を覆うカバーを更に備える。
【００１５】
有利な実施形態では、リードフレーム導体配列は金属板である。
【００１６】
有利な実施形態では、ベースは、検知セルが内部に配置される磁界センサ受容空洞を取り囲むとともに形成する外壁部分を備え、検知セル及び接続パッドを覆う絶縁埋込材料を更に備える。
【００１７】
有利な実施形態では、導体配列の接続端は、一次導体部分及び検知セル接続パッドが配置された主平面から外れるように屈曲し、外部回路基板上の導電接点に接続するように構成される。
【００１８】
有利な実施形態では、一次導体及び／又は磁界検出器導体の接続端は、ハウジングに向かって内側に屈曲した終端部分を有する。
【００１９】
有利な実施形態では、ハウジングベースは、一次導体の水平延長アームのうちハウジングベースの側壁を越えて突出した部分を取り囲むオーバーモールド延長部を備える。
【００２０】
有利な実施形態では、ハウジングは、磁気コアの両側面に位置するとともに、一次導体と磁気コアとハウジングの外側との間に波状の電気的沿面経路を形成する相互係合要素をベース及びカバー上に提供するコアガイドリブを備える。
【００２１】
有利な実施形態では、ベースは、カバーの内壁部分及び外壁部分を有する相補的なコアガイドリブの対に挿入するコアガイドリブを磁気コアの両側に備える。
【００２２】
有利な実施形態では、ハウジングカバーには、カバーが、磁気コアの上並びに磁界センサ受容空洞及びハウジングベースの反対側の上に留まるような概ねＵ字形の形状を成すように、端壁部分により相互接続された上側及び下側カバー壁部分が設けられる。
【００２３】
有利な実施形態では、検知セルは、フリップチップ接続構造又はボンディングワイヤによって、リードフレーム導体配列の検知セル接続パッドに接続される。
【００２４】
有利な実施形態では、磁界検出器は、磁界検知セル、例えばホール効果セルを搭載した半導体基板の形をとる。
【００２５】
有利な実施形態では、磁気コアは、終端ブランチ及び終端ブランチから自由端まで延びた水平ブランチにより形成された概ねＵ字形の形状を有し、磁気回路間隙は、自由端に近接して水平ブランチの間に形成される。
【００２６】
有利な実施形態では、水平ブランチのうちの少なくとも一方の自由端は、外側に面取り部を備える。
【００２７】
有利な実施形態では、電流トランスデューサは開ループ電流トランスデューサである。
【００２８】
特許請求の範囲、詳細な説明、及び添付図面から、本発明の更なる目的及び有利な特徴が明らかとなるであろう。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１ａ】回路基板に実装された、本発明の第１の実施形態による電流トランスデューサの斜視図である。
【図１ｂ】図１ａの電流トランスデューサの斜視下面図である。
【図１ｃ】図１ａの電流トランスデューサの分解斜視図である。
【図１ｄ】回路基板上にある、図１ａの電流トランスデューサの断面斜視図である。
【図１ｅ】図１ａの電流トランスデューサの部分断面斜視下面図である。
【図１ｆ】図１ａの電流トランスデューサのリードフレーム平面を通る断面図である。
【図２】図１ａの電流トランスデューサのベース部分の斜視図である。
【図３ａ】図１ａの電流トランスデューサのカバー部分の斜視図である。
【図３ｂ】図１ａの電流トランスデューサのカバー部分の斜視図である。
【図４ａ】回路基板に実装された、本発明の第２の実施形態による電流トランスデューサの斜視図である。
【図４ｂ】図４ａの電流トランスデューサの分解斜視図である。
【図４ｃ】図４ａの電流トランスデューサのリードフレーム平面を通る断面図である。
【図５】図４ａの電流トランスデューサのベース部分の斜視図である。
【図６】図４ａの電流トランスデューサのカバー部分の斜視図である。
【図７ａ】導体の屈曲作業の前に回路基板に実装される、本発明の第２の実施形態による電流トランスデューサの斜視図である。
【図７ｂ】図７ａの電流トランスデューサの分解斜視図である。
【図８ａ】本発明の実施形態による電流トランスデューサの磁気コアの異なる変形形態の斜視図である。
【図８ｂ】本発明の実施形態による電流トランスデューサの磁気コアの異なる変形形態の斜視図である。
【図８ｃ】本発明の実施形態による電流トランスデューサの磁気コアの異なる変形形態の斜視図である。
【図８ｄ】本発明の実施形態による電流トランスデューサの磁気コアの異なる変形形態の斜視図である。
【図８ｅ】本発明の実施形態による電流トランスデューサの磁気コアの異なる変形形態の斜視図である。
【図８ｆ】本発明の実施形態による電流トランスデューサの磁気コアの異なる変形形態の斜視図である。
【００３０】
図を参照すると、本発明の各種実施形態による電流トランスデューサを示しており、電流トランスデューサは、ハウジング１０と、中央通路１８及び磁気回路間隙２２を備える磁気コア６と、磁気回路間隙２２内に配置された磁界検出器８と、リードフレームにより作られた導体配列４とを備える。リードフレーム導体配列４は、測定される電流を通すための一次導体１４と、磁界検出器８に接続するための導体１６とを備える。本発明の電流トランスデューサは、開ループ電流測定に特に適している。
【００３１】
一次導体１４は、中央部分１５と、中央部分１５の両端から延びた水平延長アーム１３と、延長アームの自由端にあり、測定される電流が流れる外部導体に接続するための接続端１７とを備える。外部導体は、特に、接続端１７に接続するための導電接点４２が設けられた回路基板１２に接続することができる。導電接点は、例えば、接続端１７を表面実装接続するための導電接触パッド４２の形をとることができる。一次導体１４の中央部分１５は、磁気コアの中央通路１８を通って延びる。
【００３２】
磁気コアは、終端ブランチ６ａ及び終端ブランチから自由端２４まで延びた水平ブランチ６ｂ、６ｃにより形成された概ねＵ字形の形状を有し、磁気回路間隙２２は、自由端２４に近接して水平ブランチ６ｂと６ｃの間に形成される。
【００３３】
磁気コア６は、磁気回路間隙２２内に配置された磁界検出器８のための磁束集中器の役割を果たす。一次導体を流れる電流により発生した磁束は、磁気回路間隙２２を通って集中する。磁気コアは、高透磁率の材料で作られ、そのような磁気材料の例は、ＦｅＮｉ、ＭｎＺｎ、ＦｅＳｉ、ナノ結晶質材料、及び非晶質材料である。本発明の実施形態による磁気コアは、例えば、磁束集中器を伴わずに一次導体に近接して磁界検出器が配置される、磁気コアが設けられない電流トランスデューサと比べて、信号レベルを高め、外部磁界に対する良好な耐性をもたらす。
【００３４】
有利な実施形態では、水平ブランチの自由端２４には、水平ブランチの外側に面取り部２５が設けられ、面取り部は、フリンジ磁界を弱めることによって、磁界検出器により流れる磁束を増加させる。
【００３５】
リードフレーム導体配列４は、単一片の金属板をプレス加工して形成され、それによって、一次導体の中央部分１５と磁界検出器導体１６の主要部分とは、実質的に位置を合わせられ、同じ主平面に延び、導体配列を形成するための金属板厚さに相当する実質的に同一の厚さを備える。一次導体１４の接続端１７と磁界検出器導体１６の接続端１９とは、外部回路に接続するための端子、特に、外部回路基板１２の接触パッド４２に接続するための端子を提供するために、主平面から外れるように屈曲することができる。
【００３６】
磁界検出器導体１６は複数の導体を備え、各導体は、外部回路に接続するための接続端１９と、磁界検出器８に接続するための、リードフレーム主平面にある検知セル接続パッド２１とを備える。磁界検出器導体は、例えば、一方が供給電圧Ｖｃであり、他方が接地ＧＮＤである、少なくとも１対の供給端子１６ｂ、１６ｃと、少なくとも１つのシグナルアウト端子Ｖｏｕｔ１６ｄとを備える。磁界検出器導体は、基準端子Ｖｒｅｆ１６ｅと、接地端子１６ａと、任意選択的な、例えば過電流検出信号ＯＣＤ用などの補助シグナルアウト端子１６ｆとを更に備えることができる。
【００３７】
接続パッド２１は、検知セル２６に接続するのに最適な様々な形状、表面積及び位置で設けることができる。例示の実施形態では、接続パッド２１は、ボンドワイヤ接続２７により磁界検出器に接続される。磁界検出器８は、検知セル２６と、例えばボンドワイヤ２７の形をとる接続手段２７とを備える。しかし、検知セル２６とリードフレーム導体配列４の接続パッド２１との間に、それ自体が当該分野で知られている他の相互接続手段を設けることができる。例えば、相互接続手段は、いわゆる「フリップチップ」接続構造を半導体基板と金属接触パッドとの間に備えることができ、それによって、はんだビードが、検知セル２６の接続エリアとリードフレーム導体配列４の接続パッド２１とを相互接続する。
【００３８】
検知セル２６は、好適な実施形態では、それ自体が電流トランスデューサの分野でよく知られている、半導体基板（例えばシリコン基板）に形成されたホールセンサの形をとることができる。しかし、例えば、フラックスゲート式の磁界検出器又は巨大磁気抵抗式の磁界センサなどの他の検知セル技術を本発明において採用することもできる。実質的に平面状の半導体基板に形成されたホールセンサは、それらの低コスト性、コンパクト性、及びロバスト性の観点から有利である。
【００３９】
磁界検出器導体１６及び一次導体中央部分１５は、有利には、同じ平面（主平面）にあり、又は本質的に同じ平面にあり、ハウジング１０のベース２０によりひとまとめにされる。ハウジング１０のベース２０は、磁界検出器導体の接触パッド部分を露出させながらリードフレーム導体配列４の一部分の上にオーバーモールドされる。ベース及びリードフレーム導体配列は、本質的に平面状の実装面を提供し、磁界検出器導体１６の接続パッド２１は、実装面に検知セルを配置し、例えば接着結合により固定するために、ベース２０の磁界センサ受容空洞３６からアクセス可能である。
【００４０】
ベース２０は、リードフレーム導体配列４の主平面に対して検知セル２６及びボンドワイヤを内部に配置され得る磁界センサ受容空洞３６を取り囲むとともに形成する外壁部分３８を備える。受容空洞３６は、検知セル２６、接続手段２７及び接続パッド２１の周りに絶縁をもたらす絶縁埋込材料２８を保持することもできる。埋込材料は、ボンドワイヤの接続又は検知セルと接続パッド２１の間の他の接続手段の接続の後に、受容空洞に埋め込むことができる。
【００４１】
ハウジングのベース２０は、有利には、一次導体１４の中央部分１５の周りにオーバーモールドされた一次導体オーバーモールド部分３０を備える。オーバーモールド部分３０は、磁気コアと一次導体との間に誘電絶縁層を提供するとともに、磁気コアの中央通路と一次導体との間の位置決めガイドを提供し、また磁気回路間隙２２内での検知セル２６の適正な位置決めを確実にする。
【００４２】
本発明のオーバーモールドされたハウジングベース２０を有する磁気コア６及びリードフレーム導体配列４は、一次導体が磁界検出器導体１６から良好に分離し、絶縁することを可能にしながらも、特にコンパクトな構造を提供する。一次導体の中央部分１５には、縮小されていない大きな断面を備えることができると同時に、一次導体中央部分は、コンパクトな実装面積（即ち、外部回路基板上に配置されるときに電流トランスデューサが占める表面積）内に磁界検出器の検知セルからの良好な絶縁分離距離を有することができる。
【００４３】
ハウジング１０は、磁気コア６の両側面に位置するコアガイドリブ３２、３３を更に備えることができる。コアガイドリブは、磁気コアをハウジング内で水平方向に配置するように機能することができ、有利には、一次導体１４と磁気コア６とハウジング１０の外側との間に長い沿面距離を形成するために、ベース２０及びカバー３４に相互係合要素を有することできる。例示の実施形態では、ベース２０は、カバー３４の内壁部分３３ａ及び外壁部分３３ｂを有する相補的なコアガイドリブ３３の対に挿入するコアガイドリブ３２を磁気コア６の両側に備える。
【００４４】
相互係合リブは、ハウジングの内側と外側との間で、カバー及びベースの境界面により規定された経路の長さで延びる。このことは、ハウジングの内側と外側との間に長い電気的沿面距離をもたらす。
【００４５】
図１ａ〜図１ｆに例示した実施形態では、カバー３４には、カバーが、磁気コア６の上並びに磁界センサ受容空洞３６及びベース２０の反対側の上に留まるような概ねＵ字形の形状を成すように、端壁部分４４ｃにより相互接続された上側及び下側カバー壁部分４４ａ、４４ｂが設けられる。
【００４６】
有利な実施形態では、一次導体１４の接続端１７は、ハウジング１０に向けて内側に屈曲する。このことは、外側に屈曲した接続端と比べて、回路基板１２上の所与の接触パッド実装面積に対して、ハウジングから突出する水平延長アーム１３の長さを大きくすることを可能にする。一次導体の延長アームは、ハウジングの外側に沿って一次導体と磁界検出器導体１６との間の電気的沿面距離を大きくするオーバーモールド延長部３９をハウジングに設けることを可能にする。磁界検出器導体１６はまた、図４ａ〜図５の実施形態に示したように、内側に屈曲した接続端１９を備えることができる。
【００４７】
別の実施形態では、カバー３４は、上側壁部分４４ａ、下側壁部分４４ｂ、端壁部分４４ｃ、及び向かい合った側壁部分４４ｄ、４４ｅを有する囲い板として設けることができ、その内部には、ハウジングのベース２０が本質的に完全に挿入される。図７ａ及び図７ｂは、ハウジングベース２０へのカバー３４の組み付けを例示しており、導体の接続端１７、１９は、ハウジングベース上にカバーを閉じた後に屈曲される。ハウジングカバー及びベースには、カバーとベースが組み付け中に確実にロックされるように、例えば、ハウジング又はベース上のラッチ突起４０ａ及びラッチ肩部４０ｂの形をそれぞれとる、相補的なラッチ要素４０を設けることができる。
【００４８】
図８を参照すると、磁気コアの変形形態を例示しており、磁気コアの水平ブランチ６ｂ、６ｃの自由端２４に面取り部２５を伴う又は伴わない様々な形状を示している。
【符号の説明】
【００４９】
電流トランスデューサ２
リードフレーム導体配列４
一次導体１４
水平延長アーム１３
中央部分１５
（回路基板）接続端１７
磁界検出器導体１６
接地端子１６ａ
供給端子（Ｖｃ、ＧＮＤ）１６ｂ、１６ｃ
シグナルアウト端子（Ｖｏｕｔ）１６ｄ
基準端子（Ｖｒｅｆ）１６ｅ
補助信号、例えば過電流検出信号（ＯＣＤ）１６ｆ
（回路基板）接続端１９
検知セル接続パッド２１
磁気コア６
中央通路１８
磁気回路間隙２２
終端ブランチ６ａ
水平ブランチ６ｂ、６ｃ
自由端２４
磁界検出器８
検知セル２６
接続（ボンドワイヤ）２７
埋込２８
ハウジング１０
ベース２０
一次導体オーバーモールド部分３０
コアガイドリブ３２
磁界センサ受容空洞３６
外側リム部分３８
オーバーモールド延長部３９
カバー３４
ラッチ要素（突起）４０
コアガイドリブ３３、内側３３ａ、外側３３ｂ
カバー壁部分４４ａ、４４ｂ、４４ｃ、４４ｄ、４４ｅ
外部回路基板１２
接触パッド４２
【００５０】
〔実施の態様〕
（１）  ハウジング（１０）と、中央通路（１８）及び磁気回路間隙（２２）を備える磁気コア（６）と、前記磁気回路間隙内に配置された磁界検出器（８）と、測定される電流を通すための一次導体（１４）、及び前記磁界検出器を外部回路に接続するための磁界検出器導体（１６）を備える金属板リードフレーム導体配列（４）とを含む電流トランスデューサであって、前記一次導体は、前記磁気コアの前記中央通路を通って延びた中央部分（１５）と、前記中央部分の両端から延びた水平延長アーム（１３）と、外部導体に接続するための接続端（１７）とを備え、前記磁界検出器導体は複数の導体を備え、各導体は、前記一次導体の前記中央部分と実質的に位置を合わせられた検知セル接続パッド（２１）と、前記外部回路に接続するための接続端（１９）とを備え、前記ハウジングは、前記リードフレーム導体配列の一部分を取り囲むとともに磁界センサ受容空洞（３６）を形成するベース（２０）を備え、前記磁界センサ受容空洞の底面は、前記検知セルに電気的に接続するために前記検知セル接続パッドを露出させる本質的に平面状の実装面を提供し、前記検知セルは、前記実装面に結合され、前記磁界検出器導体のうちの１つ以上に重なるとともに前記一次導体中央部分からオフセットされ、前記ハウジングベースは、前記一次導体の前記中央部分を取り囲み、前記磁気コアと前記一次導体との間の誘電絶縁層を提供する一次導体オーバーモールド部分（３０）を更に備え、前記ハウジングは、前記ベース上に実装されるとともに前記磁気コア及び前記磁界センサ受容空洞を覆うカバー（３４）を更に備える、電流トランスデューサ。
（２）  前記ベースは、前記検知セルが内部に配置される前記磁界センサ受容空洞を取り囲むとともに形成する外壁部分（３８）を備え、前記検知セル（２６）及び接続パッドを覆う絶縁埋込材料（２８）を更に備える、実施態様１に記載の電流トランスデューサ。
（３）  前記導体配列の前記接続端は、前記一次導体部分及び前記検知セル接続パッドが配置された主平面から外れるように屈曲し、外部回路基板上の導電接点に接続するように構成されている、実施態様１から２のいずれかに記載の電流トランスデューサ。
（４）  前記一次導体及び／又は前記磁界検出器導体の前記接続端は、前記ハウジングに向かって内側に屈曲した終端部分を有する、実施態様３に記載の電流トランスデューサ。
（５）  前記ハウジングベースは、前記一次導体の前記水平延長アームのうち前記ハウジングベースの側壁を越えて突出した部分を取り囲むオーバーモールド延長部（３９）を備える、実施態様４に記載の電流トランスデューサ。
【００５１】
（６）  前記ハウジングは、前記磁気コアの両側面に位置するとともに、前記一次導体と磁気コアと磁界検出器導体（１６）との間に波状の電気的沿面経路を形成する相互係合要素を前記ベース及び前記カバー上に提供するコアガイドリブ（３２、３３）を備える、実施態様１から５のいずれかに記載の電流トランスデューサ。
（７）  前記ベースは、前記カバー（３４）上に内壁部分（３３ａ）及び外壁部分（３３ｂ）を有する相補的なコアガイドリブ（３３）の対に挿入するコアガイドリブ（３２）を前記磁気コアの両側に備える、実施態様６に記載の電流トランスデューサ。
（８）  前記ハウジングカバーには、前記カバーが、前記磁気コアの上並びに前記磁界センサ受容空洞及び前記ハウジングベースの反対側の上に留まるような概ねＵ字形の形状を成すように、端壁部分（４４ｃ）により相互接続された上側及び下側カバー壁部分（４４ａ、４４ｂ）が設けられている、実施態様１から７のいずれかに記載の電流トランスデューサ。
（９）  前記検知セルは、フリップチップ接続構造又はボンディングワイヤによって、前記リードフレーム導体配列の前記検知セル接続パッドに接続されている、実施態様１から８のいずれかに記載の電流トランスデューサ。
（１０）  前記磁界検出器は、磁界検知セル、例えばホール効果セルを搭載した半導体基板の形をとる、実施態様９に記載の電流トランスデューサ。
【００５２】
（１１）  前記磁気コアは、終端ブランチ（６ａ）及び前記終端ブランチから自由端（２４）まで延びた水平ブランチ（６ｂ、６ｃ）により形成された概ねＵ字形の形状を有し、前記磁気回路間隙（２２）は、前記自由端（２４）に近接して前記水平ブランチ（６ｂ、６ｃ）の間に形成されている、実施態様１から１０のいずれかに記載の電流トランスデューサ。
（１２）  前記水平ブランチのうちの少なくとも一方の前記自由端は、外側に面取り部（２５）を備える、実施態様１１に記載の電流トランスデューサ。
（１３）  前記電流トランスデューサは開ループ電流トランスデューサである、実施態様１から１２のいずれかに記載の電流トランスデューサ。
【図１ａ】
2018535409.tif 000003
【図１ｂ】
2018535409.tif 000004
【図１ｃ】
2018535409.tif 000005
【図１ｄ】
2018535409.tif 000006
【図１ｅ】
2018535409.tif 000007
【図１ｆ】
2018535409.tif 000008
【図２】
2018535409.tif 000009
【図３ａ】
2018535409.tif 000010
【図３ｂ】
2018535409.tif 000011
【図４ａ】
2018535409.tif 000012
【図４ｂ】
2018535409.tif 000013
【図４ｃ】
2018535409.tif 000014
【図５】
2018535409.tif 000015
【図６】
2018535409.tif 000016
【図７ａ】
2018535409.tif 000017
【図７ｂ】
2018535409.tif 000018
【図８ａ】
2018535409.tif 000019
【図８ｂ】
2018535409.tif 000020
【図８ｃ】
2018535409.tif 000021
【図８ｄ】
2018535409.tif 000022
【図８ｅ】
2018535409.tif 000023
【図８ｆ】
2018535409.tif 000024
【手続補正書】
【提出日】平成30年6月22日(2018.6.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ハウジング（１０）と、中央通路（１８）及び磁気回路間隙（２２）を備える磁気コア（６）と、前記磁気回路間隙内に配置された検知セルを備える磁界検出器（８）と、測定される電流を通すための一次導体（１４）、及び前記磁界検出器を外部回路に接続するための磁界検出器導体（１６）を備える金属板リードフレーム導体配列（４）とを含む電流トランスデューサであって、前記一次導体は、前記磁気コアの前記中央通路を通って延びた中央部分（１５）と、前記中央部分の両端から延びた水平延長アーム（１３）と、外部導体に接続するための接続端（１７）とを備え、前記磁界検出器導体は複数の導体を備え、各導体は、前記一次導体の前記中央部分と実質的に位置を合わせられた検知セル接続パッド（２１）と、前記外部回路に接続するための接続端（１９）とを備え、前記ハウジングは、前記リードフレーム導体配列の一部分を取り囲むとともに磁界センサ受容空洞（３６）を形成するベース（２０）を備え、前記磁界センサ受容空洞の底面は、前記検知セルに電気的に接続するために前記検知セル接続パッドを露出させる本質的に平面状の実装面を提供し、前記検知セルは、前記実装面に結合され、前記磁界検出器導体のうちの１つ以上に重なるとともに前記一次導体中央部分からオフセットされ、前記ハウジングベースは、前記一次導体の前記中央部分を取り囲み、前記磁気コアと前記一次導体との間の誘電絶縁層を提供する一次導体オーバーモールド部分（３０）を更に備え、前記ハウジングは、前記ベース上に実装されるとともに前記磁気コア及び前記磁界センサ受容空洞を覆うカバー（３４）を更に備える、電流トランスデューサ。
【請求項２】
前記ベースは、前記検知セルが内部に配置される前記磁界センサ受容空洞を取り囲むとともに形成する外壁部分（３８）を備え、前記検知セル（２６）及び接続パッドを覆う絶縁埋込材料（２８）を更に備える、請求項１に記載の電流トランスデューサ。
【請求項３】
前記導体配列の前記接続端は、前記一次導体部分及び前記検知セル接続パッドが配置された主平面から外れるように屈曲し、外部回路基板上の導電接点に接続するように構成されている、請求項１又は２に記載の電流トランスデューサ。
【請求項４】
前記一次導体及び／又は前記磁界検出器導体の前記接続端は、前記ハウジングに向かって内側に屈曲した終端部分を有する、請求項３に記載の電流トランスデューサ。
【請求項５】
前記ハウジングベースは、前記一次導体の前記水平延長アームのうち前記ハウジングベースの側壁を越えて突出した部分を取り囲むオーバーモールド延長部（３９）を備える、請求項４に記載の電流トランスデューサ。
【請求項６】
前記ハウジングは、前記磁気コアの両側面に位置するとともに、前記一次導体と磁気コアと磁界検出器導体（１６）との間に波状の電気的沿面経路を形成する相互係合要素を前記ベース及び前記カバー上に提供するコアガイドリブ（３２、３３）を備える、請求項１から５のいずれか一項に記載の電流トランスデューサ。
【請求項７】
前記ベースは、前記カバー（３４）上に内壁部分（３３ａ）及び外壁部分（３３ｂ）を有する相補的なコアガイドリブ（３３）の対に挿入するコアガイドリブ（３２）を前記磁気コアの両側に備える、請求項６に記載の電流トランスデューサ。
【請求項８】
前記ハウジングカバーには、前記カバーが、前記磁気コアの上並びに前記磁界センサ受容空洞及び前記ハウジングベースの反対側の上に留まるような概ねＵ字形の形状を成すように、端壁部分（４４ｃ）により相互接続された上側及び下側カバー壁部分（４４ａ、４４ｂ）が設けられている、請求項１から７のいずれか一項に記載の電流トランスデューサ。
【請求項９】
前記検知セルは、フリップチップ接続構造又はボンディングワイヤによって、前記リードフレーム導体配列の前記検知セル接続パッドに接続されている、請求項１から８のいずれか一項に記載の電流トランスデューサ。
【請求項１０】
前記磁界検出器は、磁界検知セル、例えばホール効果セルを搭載した半導体基板の形をとる、請求項９に記載の電流トランスデューサ。
【請求項１１】
前記磁気コアは、終端ブランチ（６ａ）及び前記終端ブランチから自由端（２４）まで延びた水平ブランチ（６ｂ、６ｃ）により形成された概ねＵ字形の形状を有し、前記磁気回路間隙（２２）は、前記自由端（２４）に近接して前記水平ブランチ（６ｂ、６ｃ）の間に形成されている、請求項１から１０のいずれか一項に記載の電流トランスデューサ。
【請求項１２】
前記水平ブランチのうちの少なくとも一方の前記自由端は、外側に面取り部（２５）を備える、請求項１１に記載の電流トランスデューサ。
【請求項１３】
前記電流トランスデューサは開ループ電流トランスデューサである、請求項１から１２のいずれか一項に記載の電流トランスデューサ。
【国際調査報告】
2018535409.tif 000025
2018535409.tif 000026
2018535409.tif 000027