【事件の表示】
　平成１１年特許願第３７１９０４号「電子源基板の製造装置、電子源基板、該基板を用いた画像表示装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１３年　７月　６日出願公開、特開２００１−１８５０２２〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続きの経緯
  本願は、平成１１年１２月２７日の出願であって、平成１５年８月８日付け（発送日；同年８月１９日）で拒絶査定がなされ、これに対して、同年９月１８日に拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに、同年１０月２０日付けで手続補正がなされたものである。
　
２．平成１５年１０月２０日付けの手続補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　平成１５年１０月２０日付けの手続補正を却下する。
［理由］
（１）補正の内容
　本件補正は、補正前の特許請求の範囲
「【請求項１】　所定の電圧を印加することにより電子を放出する導電性薄膜を有する電子放出素子群が基板に形成されてなる電子源基板の製造装置において、前記基板を保持する基板保持手段と、前記基板に相対する位置に配され、該基板に対して前記導電性薄膜の材料を含有した溶液を噴射する噴射ヘッドと、該噴射ヘッドに液滴付与情報を入力する情報入力手段とを有し、前記基板における前記導電性薄膜の形成面と前記噴射ヘッドの溶液噴射口面とが一定の距離を保持し、その変動幅を５ｍｍ以下とするとともに、前記基板と前記噴射ヘッドとが前記導電性薄膜の形成面に対して平行に相対移動を行うように構成され、前記噴射ヘッドは、２００ｍｍ×２００ｍｍ〜４０００ｍｍ×４０００ｍｍの大きさの基板に前記電子放出素子群を形成する範囲内で、前記基板と相対移動を行うとともに、前記情報入力手段により入力された前記液滴付与情報に基づいて前記基板に設けられた素子電極間に前記溶液を噴射することにより前記導電性薄膜を形成することを特徴とする電子源基板の製造装置。
【請求項２】　所定の電圧を印加することにより電子を放出する導電性薄膜を有する電子放出素子群が基板に形成されてなる電子源基板の製造装置において、前記基板の保持位置決め手段もしくは保持位置調整機構を有する基板保持手段と、前記基板に相対する位置に配され、該基板に対して前記導電性薄膜の材料を含有した溶液を噴射する噴射ヘッドと、該噴射ヘッドに液滴付与情報を入力する情報入力手段とを有し、前記基板における前記導電性薄膜の形成面と前記噴射ヘッドの溶液噴射口面とが一定の距離を保持し、その変動幅を５ｍｍ以下とするとともに、前記基板と前記噴射ヘッドとが前記導電性薄膜の形成面に対して平行にかつ互いに直交する２方向に相対移動を行うように構成され、前記噴射ヘッドは、２００ｍｍ×２００ｍｍ〜４０００ｍｍ×４０００ｍｍの大きさの基板に前記電子放出素子群を形成する範囲内で、前記基板と相対移動を行うとともに、前記情報入力手段により入力された前記液滴付与情報に基づいて前記基板に設けられた素子電極間に前記溶液を噴射することにより前記導電性薄膜を形成することを特徴とする電子源基板の製造装置。
【請求項３】　前記基板は矩形であるとともに、前記相対移動の方向は、前記矩形基板の直交する２辺に平行方向であることを特徴とする請求項２に記載の電子源基板の製造装置。
【請求項４】　前記基板保持手段の前記保持位置調整機構は、前記基板の角度調整機構を含むことを特徴とする請求項３に記載の電子源基板の製造装置。
【請求項５】　前記噴射ヘッドによる前記溶液の噴射は、前記基板と前記噴射ヘッドとの相対移動を止めることなく、該相対移動の進行中に行うとともに、前記噴射ヘッドからの前記溶液の噴射速度は、前記基板と前記噴射ヘッドとの相対移動速度より速いことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１に記載の電子源基板の製造装置。
【請求項６】　基板上の素子電極間に導電性薄膜の材料を含有する溶液の液滴を噴射して形成した導電性薄膜を有する電子放出素子が電子放出素子群として形成されてなる電子源基板であって、該電子源基板は、前記電子放出素子群がマトリックスとなるように配列され、該マトリックスの互いに直交する２方向のそれぞれが、前記電子源基板の直交する２辺のそれぞれに平行であることを特徴とする電子源基板。
【請求項７】　基板上の素子電極間に導電性薄膜の材料を含有する溶液の液滴を噴射して形成した導電性薄膜を有する電子放出素子が電子放出素子群として形成されてなる電子源基板であって、該電子源基板は、前記電子放出素子群がマトリックスとなるように配列され、該マトリックスの互いに直交する２方向のそれぞれに平行な帯状パターンを有することを特徴とする電子源基板。
【請求項８】　請求項６または７に記載の電子源基板と、該電子源基板に対向配置可能な蛍光体とを有し、前記電子源基板により放出された電子を前記蛍光体に衝突させることにより該蛍光体を発光せしめて表示を行うことを特徴とする画像表示装置。
【請求項９】　前記蛍光体は、複数種類の蛍光膜をマトリックスに配列したカラー蛍光膜により構成され、該蛍光膜におけるマトリックスの互いに直交する２方向のそれぞれと、前記電子源基板の電子放出素子群が配列したマトリックスの直交する２方向のそれぞれが、互いに平行であることを特徴とする請求項８に記載の画像表示装置。」
　を、
「【請求項１】　所定の電圧を印加することにより電子を放出する導電性薄膜を有する電子放出素子群が基板に形成されてなる電子源基板の製造装置において、前記基板の保持位置決め手段もしくは保持位置調整機構を有する基板保持手段と、前記基板に相対する位置に配され、該基板に対して前記導電性薄膜の材料を含有した溶液を噴射する噴射ヘッドと、該噴射ヘッドに液滴付与情報を入力する情報入力手段とを有し、前記基板における前記導電性薄膜の形成面と前記噴射ヘッドの溶液噴射口面とが一定の距離を保持し、前記基板と前記噴射ヘッドとが前記導電性薄膜の形成面に対して平行にかつ互いに直交する２方向に相対移動を行うように構成され、前記噴射ヘッドは、情報入力手段により入力された前記液滴付与情報に基づいて前記基板に設けられた素子電極間に前記溶液を噴射することにより前記導電性薄膜を形成する噴射ヘッドであって、該噴射ヘッドによる前記溶液の噴射動作は、前記基板と前記噴射ヘッドとの相対移動を噴射を行う毎に止めることなく、相対移動の進行中に行う噴射する動作であり、前記溶液によって形成される薄膜の素子形状が、前記溶液の像が流れないように、前記噴射速度が、前記基板と前記噴射ヘッドとの相対移動速度より速くなる噴射滴形成のエネルギーに設定し、前記噴射ヘッドを駆動することを特徴とする電子源基板の製造装置。
【請求項２】　前記基板保持手段の前記保持位置調整機構は、前記基板の角度調整機構を含むことを特徴とする請求項１に記載の電子源基板の製造装置。
【請求項３】　前記基板は矩形であるとともに、前記相対移動の方向は、前記矩形基板の直交する２辺に平行方向であることを特徴とする請求項１または２に記載の電子源基板の製造装置。
【請求項４】　基板上の素子電極間に導電性薄膜の材料を含有する溶液の液滴を噴射して形成した導電性薄膜を有する電子放出素子が電子放出素子群として形成されてなる電子源基板であって、該電子源基板は、前記電子放出素子群がマトリックスとなるように配列され、該マトリックスの互いに直交する２方向のそれぞれが、前記電子源基板の直交する２辺のそれぞれに平行であることを特徴とする電子源基板。
【請求項５】　基板上の素子電極間に導電性薄膜の材料を含有する溶液の液滴を噴射して形成した導電性薄膜を有する電子放出素子が電子放出素子群として形成されてなる電子源基板であって、該電子源基板は、前記電子放出素子群がマトリックスとなるように配列され、該マトリックスの互いに直交する２方向のそれぞれに平行な帯状パターンを有することを特徴とする電子源基板。
【請求項６】　請求項４または５に記載の電子源基板と、該電子源基板に対向配置可能な蛍光体とを有し、前記電子源基板により放出された電子を前記蛍光体に衝突させることにより該蛍光体を発光せしめて表示を行うことを特徴とする画像表示装置。
【請求項７】　前記蛍光体は、複数種類の蛍光膜をマトリックスに配列したカラー蛍光膜により構成され、該蛍光膜におけるマトリックスの互いに直交する２方向のそれぞれと、前記電子源基板の電子放出素子群が配列したマトリックスの直交する２方向のそれぞれが、互いに平行であることを特徴とする請求項６に記載の画像表示装置。」
　と補正する内容を含むものである。
　
（２）補正の目的の適否
　上記補正は、補正前の請求項１及び２を削除するとともに、補正前の請求項５に係る発明中、請求項２を引用する発明（以下、「前者」という。）を、補正後の請求項１（以下、「後者」という。）とし、補正前の請求項３及び４を補正後の請求項１を引用する発明（補正後の請求項３及び２）として、残りの請求項については、補正前の請求項の番号を繰り上げて新たな請求項としたものと一応推認される。
　しかしながら、前者と後者とを対比すると、後者は、前者の発明特定事項中、「前記基板における前記導電性薄膜の形成面と前記噴射ヘッドの溶液噴射口面とが一定の距離を保持し、その変動幅を５ｍｍ以下とする」及び「前記基板と前記噴射ヘッドとが前記導電性薄膜の形成面に対して平行にかつ互いに直交する２方向に相対移動を行うように構成され、前記噴射ヘッドは、２００ｍｍ×２００ｍｍ〜４０００ｍｍ×４０００ｍｍの大きさの基板に前記電子放出素子群を形成する範囲内で、前記基板と相対移動を行う」を、それぞれ、「前記基板における前記導電性薄膜の形成面と前記噴射ヘッドの溶液噴射口面とが一定の距離を保持し、」及び「前記基板と前記噴射ヘッドとが前記導電性薄膜の形成面に対して平行にかつ互いに直交する２方向に相対移動を行うように構成され、」と変更するものであって、後者は、前者から、基板における導電性薄膜の形成面と溶液噴射口面との距離の変動幅及び基板の大きさの限定を省き、その範囲を拡張するものである。
　したがって、この補正は、特許請求の範囲の減縮、誤記の訂正、及び、明りょうでない記載の釈明のいずれを目的としたものにも該当しないものである。
　
（３）むすび
　以上のとおりであるから、上記手続補正は、特許法等の一部を改正する法律（平成１５年法律第４７号）附則第２条第７項の規定によりなお従前の例によるものとされた同法［第１条の規定］による改正前の特許法第１７条の２第４項の規定に該当しないものであり、特許法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
３．本願発明について
　平成１５年１０月２０日付けの手続補正は、上記のとおり却下されたので、本願の請求項１乃至９に係る発明は、平成１５年７月１８日付け手続補正書により補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項に記載された事項によって特定される、上記の「２．（１）」の補正前の特許請求範囲に記載されたとおりのものである。
　
４．引用刊行物
４−１．刊行物１
　原査定の拒絶の理由に引用された本願出願前に頒布された刊行物である特開平９−６９３３４号公報（以下、「刊行物１」という。）には、図面とともに、次の事項が記載されている。
１ａ．「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子放出素子とその素子を用いた電子源基板、電子源、表示パネルおよび画像形成装置、ならびにそれらの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、電子放出素子として熱電子源と冷陰極電子源の２種類が知られている。冷陰極電子源には電界放出型（以下、ＦＥ型と称する）、金属／絶縁層／金属型（以下、ＭＩＭ型と称する）や、表面伝導型電子放出素子等がある。」
　
１ｂ．「【０００９】上述の表面伝導型電子放出素子は、構造が単純で製造も容易であることから、大面積で多数の素子を配列形成できる利点がある。そこで、その特徴を生かせるような色々な応用が研究されている。例としては、荷電ビーム源、画像表示装置等の表示装置が挙げられる。
【００１０】本出願人は、表面伝導型電子放出素子に着目しており、特開平２−５６８２２号公報において、新規な電子放出素子の製造方法を提案した。図３８に当該公報に開示された素子を示す。同図において、１は基板、２および３は素子電極、４は導電性薄膜、５は電子放出部である。この電子放出素子の製造方法は、例えば基板１に一般的な真空蒸着技術、フォトリソグラフィ技術により素子電極２および３を形成する。次いで、導電性薄膜４は、分散塗布法などによって導電性材料を基板上に塗布した後、パターニングにより形成する。その後、素子電極２および３に電圧を印加し通電処理を施すことによって、電子放出部５を形成する。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従来例による製造方法では、半導体プロセスを主とする方法で製造するものであるために、現行の技術では大面積にわたって多数の電子放出素子を形成することは困難であり、しかも特殊で高価な製造装置を必要とする。さらに、パターニングに伴う複数の工程が必要とされることから、これらの工程の簡略化が望まれているところである。すなわち、現在のところ、基板上に大面積にわたって多数の電子放出素子を形成する場合、生産コストが高くなってしまうというのが実状である。
【００１２】本発明は上述したような技術的課題に鑑みてなされたものである。本発明の目的は、低コストで基板上に多数の電子放出素子を形成し得る電子放出素子の製造方法を提供することにある。
【００１３】本発明の別の目的は、その電子放出素子を用いた電子源基板、電子源、表示パネル、画像形成装置を提供することにある。」
　
１ｃ．「【００４４】図１は本発明の電子放出素子の製造方法の１例を示す模式図、図２および図３は本発明の製造方法によって作製される表面伝導型電子放出素子の１例を示す図である。
【００４５】図１、２および３において、１は基板、２および３は素子電極、４は導電性薄膜、５は電子放出部、７は液滴付与装置、２４は液滴である。
【００４６】本例においてはまず、基板１上に素子電極２および３をＬ1の距離を隔てて形成する（図１（ａ））。次いで、金属元素を含有する溶液よりなる液滴２４を液滴付与装置（インクジェット記録装置）７より吐出させ（図１（ｂ））、導電性薄膜４を素子電極２、３に接するように形成する（図１（ｃ））。次に、例えば後述するフォーミング処理により、導電性薄膜中に亀裂を生ぜしめ、電子放出部５を形成する。
【００４７】このような液滴付与法を用いることにより、含有溶液の微小な液滴を所望の位置のみに選択的に形成することができるため、素子部を構成する材料を無駄にすることがない。また高価な装置を必要とする真空プロセス、多数の工程を含むフォトリソグラフィーによるパターニングが不要であり、生産コストを大幅に下げることができるのである。
【００４８】液滴付与装置７の具体例を挙げるならば、任意の液滴を形成できる装置であればどのような装置を用いても構わないが、特に、十数ｎｇから数十ｎｇ程度の範囲で制御が可能でかつ１０ｎｇ程度から数十ｎｇの微小量の液滴が容易に形成できるインクジェット方式の装置がよい。
【００４９】インクジェット方式の装置としては、圧電素子等を用いたインクジェット噴射装置、熱エネルギーによって液体内に気泡を形成させてその液体を液滴として吐出させる方式（以下、バブルジェット方式と称する）によるインクジェット噴射装置などが挙げられる。」
　
１ｄ．「【００７４】図１４、図１６および図１７は、本例で使用可能な電子放出素子の製造装置の各種実施態様を示す概略構成図であり、図１５は本例の電子放出素子の製造方法の１実施態様の工程を示すフローチャートである。
【００７５】図１４、図１６および図１７において、７はインクジェット噴射装置（液滴付与装置）、８は発光手段、９は受光手段、１０はステージ、１１はコントローラ、１２は制御手段を示す。なお、ここで言う発光手段および受光手段においては、発生・受容する対象は光に限定されるものではなく、信号として認識できるものであればどのようなものを用いてもよく、例としては発光ダイオード、赤外線レーザーなどがある。また、受光手段は、発光手段に合わせて信号を受けることができるものであればよい。さらに、これらの発光手段および受光手段は、絶縁性基体を透過または反射する信号を発生または受信する構成のものであればよい。
・・・
【００８０】図１５に示したように、本例の製造方法では、電極間隔を利用して発光手段と受光手段により電極間を通過する光または反射する光を検出することで液的付与位置を検出し、電極間に液滴を付与できる位置にインクジェット噴射装置のヘッドを移動させる（位置合わせ工程）。次に、インクジェット噴射装置によって液滴を電極間に付与し（液滴付与工程）、位置合わせ工程と同様に電極間を通過または反射する信号によって、例えば液滴が電極間に付与されているか否か（上述の液滴自体の有無に関する情報）を検出する（液滴検出工程）。そして、液滴検出工程で所望の位置の所望の領域に液滴が付与されていれば次の電極間の位置合わせ工程へと進み、液滴が付与されていなければ再度液滴を付与する。
【００８１】また、インクジェット噴射装置とステージの移動・搬送においては、ステージのみ、もしくはインクジェット噴射装置のみ、もしくはその両方など、どのような組み合せで、Ｘ、Ｙ、θの移動・搬送を行ってもよい。
【００８２】また、液滴付与工程中、インクジェット噴射装置またはステージは、移動、搬送または停止のどちらの状態であっても構わないが、移動、搬送の状態で液滴を付与する場合、液滴の着弾位置がずれない程度の移動・搬送が好ましい。
・・・
【００８５】吐出条件の制御方法としては、液滴情報の検出信号差分成分を補正信号として、検出値が最適値に保持されるように駆動パルス高、パルス幅、パルスタイミング、パルス数等のパラメータのうちの少なくとも１つを実時間で帰還制御する方法や、検出値の最適値からのずれの量に応じて予め決められたアルゴリズムに従ってパラメータのうちの少なくとも１つを補正する方法等がある。
【００８６】また、これらの図においては、情報検出の対象となる液滴が素子電極間のギャップに形成される場合について示されているが、本発明の方法および装置においては、情報検出のためのダミー液滴を素子電極間以外の箇所に予備吐出し、その検出結果に基づいて吐出条件を適正なものに設定してから素子電極間への液滴吐出を行うという形態であってもよい。」
　
１ｅ．「【０１１６】次に、以上のようにして作製した単純マトリクス配線の電子源を用いた画像形成装置について、図７、図８および図９を用いて説明する。図７は画像形成装置の基本構成を示す図であり、図８は蛍光膜、図９はＮＴＳＣ方式のテレビ信号に応じて表示をするための駆動回路のブロック図であり、その駆動回路を含む画像形成装置を表す。
【０１１７】図７において、９１は電子放出素子を基板上に作製した電子源基板、１０８１は電子源基板９１を固定したリアプレート、１０８６はガラス基板１０８３の内面に蛍光膜１０８４とメタルバック１０８５等が形成されたフェースプレート、１０８２は支持枠であり、これらの部材によって外囲器１０８８が構成される。
【０１１８】９４は電子放出素子であり、９２および９３は表面伝導型電子放出素子の一対の素子電極と接続されたＸ方向配線およびＹ方向配線である。
【０１１９】外囲器１０８８は、上述のごとくフェースプレート１０８６、支持枠１０８２、リアプレート１０８１で構成されているが、リアプレート１０８１は主に電子源基板９１の強度を補強する目的で設けられるため、電子源基板９１自体で十分な強度を持つ場合は、別体のリアプレート１０８１は不要であり、電子源基板９１に直接支持枠１０８２を接合し、フェースプレート１０８６、支持枠１０８２および電子源基板９１にて外囲器１０８８を構成してもよい。
【０１２０】図８中、１０９２は蛍光体である。蛍光体１０９２はモノクロームの場合は蛍光体のみからなるが、カラーの蛍光膜の場合は蛍光体の配列によりブラックストライプあるいはブラックマトリクスなどと呼ばれる黒色導電材１０９１と蛍光体１０９２とで構成される。ブラックストライプ（ブラックマトリクス）が設けられる目的は、カラー表示の場合、必要となる三原色蛍光体の各蛍光体１０９２間の塗り分け部を黒くすることで混色等を目立たなくすることと、蛍光膜１０８４における外光反射によるコントラストの低下を抑制することである。ブラックストライプの材料としては、通常良く使用される黒鉛を主成分とする材料だけでなく、導電性があり、光の透過および反射が少ない材料であれば使用可能である。
・・・
【０１２４】前述の封着を行う際、カラーの場合は各色蛍光体と電子放出素子とを対向させなくてはならず、十分な位置合わせを行う必要がある。」
　
１ｆ．「【０１５９】（実施例１）以下に記載のフォトリソグラフィーで、図１２に示したような素子電極がマトリクス状に形成された（Ｘ配線７２とＹ配線７３）基板を用い、電子放出部形成領域１２０１に電子放出部を形成して複数の表面伝導型電子放出素子が配列された電子源基板を作製した。なお、Ｘ配線とＹ配線は、交差部において、不図示の絶縁部材により電気的に絶縁されている。図１はその表面伝導型電子放出素子の製造手順を示す図である。さらに図２は、本実施例によって作製した表面伝導型電子放出素子の平面図および断面図である。
【０１６０】フォトリソグラフィーによる基板上への素子電極形成を以下の手順で行った。
【０１６１】（１）絶縁性基板１として、石英基板を用い、これを有機溶剤によって十分に洗浄した後、その基板１上に一般的な真空成膜技術、フォトリソグラフィー技術により、Ｎｉからなる電極２および３を形成した（図１（ａ））。この時、素子電極の間隔Ｌ1は２μｍ、電極の幅Ｗ1は６００μｍ、その厚さは１０００Åとした。
【０１６２】（２）次に、有機パラジウム含有溶液（奥野製薬（株）製、ｃｃｐ−４２３０）を、液滴付与装置７として圧電素子を用いたインクジェット噴射装置を用いて、薄膜４の幅Ｗ2が３００μｍになるように、電極２・３間に体積６０μｍ3の液滴２４を１つ（１ドット）付与した（図１（ｂ））。なお、本実施例における絶縁性基板１と電極２・３との凹部の容積は１２０μｍ3である。
【０１６３】（３）次に、３００℃で１０分間の加熱処理を行って、酸化パラジウム（ＰｄＯ）微粒子からなる微粒子膜を形成し、薄膜４とした（図１（ｃ））。なお、ここで述べる微粒子膜とは、前述のように、複数の微粒子が集合した膜であり、その微細構造として、微粒子が個々に分散配置した状態のみならず、微粒子が互いに隣接あるいは重なり合った状態（島状も含む）の膜を指す。
【０１６４】（４）次に、電極２、３の間に電圧を印加し、薄膜４を通電処理（通電フォーミング処理）することにより、電子放出部５を形成した（図１（ｄ））。」
　
１ｇ．「【０２０４】図２３は、インクジェット法による薄膜形成における吐出制御システムの概略ブロック図である。１は各ユニットセルにおける基板、２および３は相対向する素子電極である。１５０１はインクジェット噴射装置の吐出ノズル、１５０２は液滴の情報検出光学系である。１５０３は吐出ノズル、インクタンク、供給系によって構成されるインクジェットカートリッジと検出光学系を搭載する変位制御機構であり、マトリクス配線電極基板上のユニットセル間の搬送を行う粗動機構と、ユニットセル内の水平位置微調整および基板と吐出ノズル間距離の調整を行う微動機構によって構成される。本実施例では、インクジェット噴射装置として圧電素子によるピエゾジェット方式の装置を用い、検出光学系としては前述の垂直反射型のものを用いた。
・・・
【０２０７】変位制御機構を予め設定された座標情報に従って駆動し、吐出ノズル先端をユニット内の素子電極ギャップ中心上５ｍｍの位置にセットする。予め決められた駆動条件に従って吐出を開始すると同時に、検出光学系によって素子電極間ギャップ中央における液滴情報の検出が開始される。
・・・
【０２０９】フォトダイオード出力は、光学情報検出回路１５０４において増幅され基準信号比回路１５０５に送られる。基準信号比回路１５０５では基準値との差分信号が形成される。・・・基準信号比較回路１５０５から出力された差分出力は吐出条件補正回路１５０６に送られる。吐出条件補正回路１５０６では差分出力がプラス極性の場合ＨＩレベル信号が、マイナス極性の場合ＬＯＷレベル信号が出力され、吐出条件制御回路１５０７に送られる。吐出条件制御回路１５０７では、吐出信号補正回路１５０６からのレベル信号がＨＩの間、固定条件の吐出を一定間隔で継続して行い、レベル信号ＬＯＷになった時点で吐出を終了する。」
　
１ｈ．「【０２３０】さらに、素子数を増やした大面積基板（例えば、図１２）を用いて、１０×１０基板と同様に図２３の吐出制御システム、ピエゾジェット式のインクジェット噴射装置、垂直反射型の検出光学系等により、各セルにわたって液滴を塗布した。これを３５０℃、３０分の条件で焼成し、ＰｄＯの微粒子薄膜を全セルに形成できた。素子電極間の抵抗を測定したところ、異常な吐出回数を示したセルにおいても、３ｋΩ程度の正常な抵抗値を示した。次に、素子電極間に順次電圧を印加し、薄膜を通電処理（フォーミング処理）することにより、各セルの素子電極ギャップ中央部に電子放出部を形成した。」
　
１ｉ．図面の図７から、電子源基板９１の形状は、矩形であり、また、図７と図１２から、基板９１上に設けられたＸ配線、Ｙ配線は、矩形の直交する２辺にそれぞれ平行であることが読み取れる。また、図１４及び図１７から、絶縁性基体１（基板）がステージ１０に戴置され、ステージ１０は、コントローラ１１によりＸ・Ｙ・θ制御がなされていることが読み取れる。
　
４−２．刊行物２
　原査定の拒絶の理由に引用された本願出願前に頒布された刊行物である特開平９−２１３２１２号公報（以下、「刊行物２」という。）には、図面とともに、次の事項が記載されている。
２ａ．「【０００８】そこで本発明は、特に大面積の表面伝導型電子放出素子を有する電子源基板の製造において、素子部の導電性薄膜をインクジェット液滴付与装置を用い、真空成膜法とフォトリソグラフィ・エッチング法によらずに、安定的に歩留まり良く形成することができるようにし、またそれによって電子源基板を有する画像形成装置を低価格で製造できるようにすることを目的とする。」
　
２ｂ．「【００４０】画像形成装置に用いる電子源基板の電子放出素子の配列については種々のものが採用できる。
【００４１】まず、並列に配置した多数の電子放出素子の個々を両端で接続し、電子放出素子の行を多数個配置し（行方向と呼ぶ）、この配線と直交する方向（列方向と呼ぶ）で電子放出素子の情報に配置した制御電極（グリッドとも呼ぶ）により、電子放出素子からの電子を制御駆動する梯子状配置のものがある。これとは別に、電子放出素子をＸ方向およびＹ方向に行列状に複数個配置し、同じ行に配置された複数の電子放出素子の電極の一方を、Ｘ方向の配線に共通に接続し、同じ列に配置された複数の電子放出素子の電極の他方を、Ｙ方向の配線に共通に接続するものが挙げられる。このようなものは、所謂、単純マトリクス配置である。まず単純マトリクス配置について以下に詳述する。」
　
２ｃ．「【００７８】［実施例１］図１は、本発明の特徴を最もよく表す図であり、本発明の一実施例に係る電子源基板における表面伝導型電子放出素子の微粒子膜を形成する際に用いるインクジェット式液滴付与装置であって、基板表面の画像情報および位置情報を取り込む手段と識別する手段とが設けられた装置の構成を示した図である。図２は、図１の装置の吐出ヘッドユニットを拡大して示した概略構成図である。
【００７９】以下この装置の構成を説明する。
【００８０】まず図１において、１５はＸＹ方向走査機構であり、その上に電子源基板７１が載置してある。電子源基板上の表面伝導型電子放出素子は図７のものと同じ構成であり、単素子としては図７に示したのと同様、基板１、素子電極２，３、導電性薄膜（微粒子膜）４よりなっている。この電子源基板７１の上方に液滴を付与する吐出ヘッドユニット６が位置している。本実施例では、吐出ヘッドユニット６は固定で、電子源基板７１がＸＹ方向走査機構１５により任意の位置に移動することで吐出ヘッドユニット６と電子源基板７１との相対移動が実現される。次に、図２により吐出ヘッドユニット６の構成を説明する。７は電子源基板７１上の画像情報を取り込む検出光学系であり、液滴９を吐出させるインクジェットヘッド８に近接し、検出光学系７の光軸１１および焦点位置と、インクジェットヘッド８による液滴９の着弾位置１０とが一致するよう配置されている。この場合、検出光学系７とインクジェットヘッド８との位置関係はヘッドアライメント微動機構１２とヘッドアライメント制御機構１３により精密に調整できるようになっている。また、検出光学系７には、ＣＣＤカメラとレンズとを用いている。」
　
４−３．刊行物３
　原査定の拒絶の理由に引用された本願出願前に頒布された刊行物である特開平１１−２５８５２号公報（以下、「刊行物３」という。）には、図面とともに、次の事項が記載されている。
３ａ．「【００１０】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開平８−１７１８５０号公報等に記載の従来のインクジェット方式では、図１４のような単一ノズルの液滴付与装置６で液滴７を付与するものであるため、各素子に複数回液滴を付与する場合には、スループットを上げるのには限界がある。本願においては、電子放出部を形成する為の材料の付与において、新規な方法を採用した電子源の製造方法を提供する。」
　
３ｂ．「【００８３】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳しく説明する。
実施例１
図２は、電子源基板の素子間隔と同じ間隔に３個並んだノズルを有する液滴付与装置６を用いて、各素子に３回ずつ液滴を付与する場合の電子源基板の製造方法を示した概念図である。この電子源基板の作製例について述べる。
【００８４】まず、絶縁基板としてガラス基板１を用いた。これを有機溶剤等により充分洗浄後、１２０℃の乾燥炉で乾燥させた。この基板上にフォトリソグラフィプロセスを用いてＰｔ膜（膜厚５００Å）を、電極幅２００μｍ、電極ギャップ間隔２０μｍの一対の素子電極２，３を列方向５００μｍ間隔、行方向７００μｍ間隔で５００行１５００列計７５００００個形成し、さらに電極を図２では不図示の配線でおのおの接続した。この配線としては図３に示すようなマトリクス配置を採用した。」
　
５．対比・判断
５−１．請求１に係る発明
　刊行物１には、上記「４−１．」の「１ａ．」乃至「１ｉ．」の記載から、以下の発明（以下、「刊行物１記載の発明Ａ」という。）が記載されているものと認められる。
「多数の表面伝導型電子放出素子の導電性薄膜が基板に形成された電子源基板の製造装置であって、矩形の基板を戴置しＸ・Ｙ・θ制御がなされるステージと、基板に対して液滴を吐出する吐出ノズルを有するインクジェット噴射装置と、液滴の吐出条件を設定・制御する吐出条件制御回路とを有し、基板と吐出ノズル間距離が所定の値となるように調整を行い、インクジェット噴射装置とステージの移動搬送において、ステージのみ、もしくはインクジェット噴射装置のみ、もしくはその両方など、の組み合せで、Ｘ、Ｙの移動・搬送を行うとともに、移動、搬送の状態で液滴を付与するようにした電子源基板の製造装置。」
　請求１に係る発明（前者）と上記刊行物１記載の発明Ａ（後者）とを対比する。
　後者の、「多数の表面伝導型電子放出素子の導電性薄膜が基板に形成された電子源基板の製造装置」、「ステージ」、「基板に対して液滴を吐出する吐出ノズルを有するインクジェット噴射装置」、「液滴の吐出条件を設定・制御する吐出条件制御回路」は、それぞれ、前者の、「所定の電圧を印加することにより電子を放出する導電性薄膜を有する電子放出素子群が基板に形成されてなる電子源基板の製造装置」、「基板保持手段」、「基板に相対する位置に配され、該基板に対して前記導電性薄膜の材料を含有した溶液を噴射する噴射ヘッド」、「噴射ヘッドに液滴付与情報を入力する情報入力手段」に相当する。
　また、後者の「基板と吐出ノズル間距離が所定の値となるように調整を行い、インクジェット噴射装置とステージの移動搬送において、ステージのみ、もしくはインクジェット噴射装置のみ、もしくはその両方など、の組み合せで、Ｘ、Ｙの移動・搬送を行うとともに、移動、搬送の状態で液滴を付与するようにした」ことと、前者の「基板における前記導電性薄膜の形成面と前記噴射ヘッドの溶液噴射口面とが一定の距離を保持し、その変動幅を５ｍｍ以下とするとともに、前記基板と前記噴射ヘッドとが前記導電性薄膜の形成面に対して平行に相対移動を行うように構成され、前記噴射ヘッドは、２００ｍｍ×２００ｍｍ〜４０００ｍｍ×４０００ｍｍの大きさの基板に前記電子放出素子群を形成する範囲内で、前記基板と相対移動を行うとともに、前記情報入力手段により入力された前記液滴付与情報に基づいて前記基板に設けられた素子電極間に前記溶液を噴射することにより前記導電性薄膜を形成する」こととは、上記相当関係も勘案すれば、ともに、「基板における前記導電性薄膜の形成面と前記噴射ヘッドの溶液噴射口面とが一定の距離を保持し、前記基板と前記噴射ヘッドとが前記導電性薄膜の形成面に対して平行に相対移動を行うように構成され、前記噴射ヘッドは、前記基板と相対移動を行うとともに、前記情報入力手段により入力された前記液滴付与情報に基づいて前記基板に設けられた素子電極間に前記溶液を噴射することにより前記導電性薄膜を形成すること」で共通している。
　したがって、両者は、
「所定の電圧を印加することにより電子を放出する導電性薄膜を有する電子放出素子群が基板に形成されてなる電子源基板の製造装置において、前記基板を保持する基板保持手段と、前記基板に相対する位置に配され、該基板に対して前記導電性薄膜の材料を含有した溶液を噴射する噴射ヘッドと、該噴射ヘッドに液滴付与情報を入力する情報入力手段とを有し、前記基板における前記導電性薄膜の形成面と前記噴射ヘッドの溶液噴射口面とが一定の距離を保持し、前記基板と前記噴射ヘッドとが前記導電性薄膜の形成面に対して平行に相対移動を行うように構成され、前記噴射ヘッドは、前記基板と相対移動を行うとともに、前記情報入力手段により入力された前記液滴付与情報に基づいて前記基板に設けられた素子電極間に前記溶液を噴射することにより前記導電性薄膜を形成することを特徴とする電子源基板の製造装置。」
　の点の構成で一致し、以下の点で相違する。
［相違点１］
　前者が、導電性薄膜の形成面と噴射ヘッドの溶液噴射口面との距離の変動幅を５ｍｍ以下とするとともに、噴射ヘッドは、２００ｍｍ×２００ｍｍ〜４０００ｍｍ×４０００ｍｍの大きさの基板に前記電子放出素子群を形成する範囲内で、前記基板と相対移動を行うのに対し、後者には、この点の記載がない点。
　
　上記相違点１について検討する。
　刊行物１には、「【０２０７】変位制御機構を予め設定された座標情報に従って駆動し、吐出ノズル先端をユニット内の素子電極ギャップ中心上５ｍｍの位置にセットする。」との記載（「４−１．」の「１ｇ．」の記載参照。）があり、この記載事項及び図面の図２３によれば、吐出ノズル先端と基板との距離を５ｍｍとするものと解されるから、その吐出ノズル先端と基板との距離の変動幅が５ｍｍ以内のものとなっていることは明らかであり、前者のように変動幅の範囲を５ｍｍ以下とする点に格別のものは認められない。
　また、刊行物１には、「【０２３０】さらに、素子数を増やした大面積基板（例えば、図１２）を用いて、１０×１０基板と同様に図２３の吐出制御システム、ピエゾジェット式のインクジェット噴射装置、垂直反射型の検出光学系等により、各セルにわたって液滴を塗布した。」との記載（「４−１．」の「１ｈ．」の記載参照。）があり、この記載から、後者も大面積基板に適用可能なものであることは明らかである。そして、刊行物１には大面積基板の大きさの範囲について、特段記載はないものの、刊行物３には、このようなインクジェット方式で素子が形成される電子源基板の大きさに関し、「【００８４】まず、絶縁基板としてガラス基板１を用いた。・・・電極幅２００μｍ、電極ギャップ間隔２０μｍの一対の素子電極２，３を列方向５００μｍ間隔、行方向７００μｍ間隔で５００行１５００列計７５００００個形成し、」との記載（「４−３．」の「３ｂ．」の記載参照。）があり、この記載によれば、電子源基板は、少なくとも約１６５０ｍｍ×６５０ｍｍの大きさを持ったものと解されるから、前者のように基板の大きさの範囲を２００ｍｍ×２００ｍｍ〜４０００ｍｍ×４０００ｍｍとする点にも、格別のものは認められない。
　以上のことから、刊行物１記載の発明Ａに刊行物３に記載された事項を適用して請求項１に係る発明のように構成することは、当業者が格別の推考力を要することなくなし得る程度のことと認められる。
　そして、請求項１に係る発明による効果も、刊行物１及び３の記載から当業者が予測しうる範囲内のものにすぎない。
  したがって、請求項１に係る発明は、刊行物１記載の発明Ａ及び刊行物３に記載された事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
５−２．請求項２乃至４に係る発明
　請求項２に係る発明は、請求項１に係る発明の「基板保持手段」について、「基板の保持位置決め手段もしくは保持位置調整機構を有する」との限定を付加したものであるが、刊行物１記載の発明Ａの「ステージ」も「基板を戴置しＸ・Ｙ・θ制御がなされる」ものであるから、上記限定に相当する構成を有するものと認められる。
　また、刊行物１記載の発明Ａにおいて、基板は矩形であり、相対移動の方向はＸ方向及びＹ方向、即ち、基板の直交する２辺に平行な方向であると解されるから、請求項３に係る構成を刊行物１記載の発明Ａが有しているものと認められる。
　更に、請求項４に係る保持位置調整機構が基板の角度調整機構を含む点も、刊行物１記載の発明Ａの基板を戴置するステージはθ制御がなされるものであることから、刊行物１記載の発明Ａが有しているものと認められる。
　したがって、請求項２乃至４に係る発明と刊行物１記載の発明Ａとを対比すると、両者は、上記「５−１．」記載の［相違点１］で相違するものと認められるから、上記「５−１．」と同様の理由により、請求項２乃至４に係る発明は、刊行物１記載された発明Ａ及び刊行物３に記載された事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
５−３．請求項５に係る発明
　請求項５に係る発明（前者）と、刊行物１記載の発明Ａ（後者）とを対比すると、前者の請求項５の記載中、「噴射ヘッドによる前記溶液の噴射は、前記基板と前記噴射ヘッドとの相対移動を止めることなく、該相対移動の進行中に行う」点の構成は、刊行物１記載の発明Ａも有しているから、両者は、上記「５−１．」記載の［相違点１］に加え、以下の［相違点２］で相違するものと認められる。
［相違点２］
　前者が、前記噴射ヘッドからの前記溶液の噴射速度は、前記基板と前記噴射ヘッドとの相対移動速度より速いとされているのに対し、後者は、この点の記載がない点。
　上記相違点２について検討する。
　この点に関連し、本願の明細書には、「【００４９】このように本発明では、吐出ヘッドユニット１１は基板１４に対して一定の距離を保ちながらＸ，Ｙ方向の相対移動を行いつつ、導電性薄膜の材料を含有する溶液の噴射を行い、表面伝導型電子放出素子群を形成する。その際、各素子を形成するための溶液の噴射を行う毎に相対移動を止めて噴射を行うと高精度な素子群を形成することが可能である。しかし生産性が著しく低下するので前述のように、その相対移動を止めることなく、順次溶液の噴射を行うようにしている。その場合、その相対移動速度（例えば図３のキャリッジのＸ方向移動速度）は、単に生産性向上だけで決定されるべきではなく、高精度な素子群を形成するという観点からも検討されなければならない。
【００５０】本発明ではこの点に関して鋭意検討した結果、このような導電性薄膜の材料を含有する溶液の噴射を行う場合、その噴射速度を前記相対移動速度より速くすることが必要であることに気がついた。このように吐出ヘッドユニット１１を基板１４に対して一定の距離を保ちながらＸ，Ｙ方向の相対移動を行いつつ、導電性薄膜の材料を含有する溶液の噴射を行い、表面伝導型電子放出素子群を形成する場合には、溶液の液滴は前記相対速度と噴射速度の合成ベクトルの速度で基板１４上に付着、形成される。そしてその位置精度については、基板１４と吐出ヘッドユニット１１の溶液噴射口面の距離と、前記合成ベクトルの速度を考慮し、噴射のタイミングを適宜選ぶことにより、その狙いの位置に液滴を付着させることができる。
【００５１】しかしながら、たとえ狙いの位置に付着させることができたとしても、もし、前記相対速度が速すぎる場合には、その相対速度に引きずられて付着液滴が基板１４上で流れ、良好な形状で電子放出素子群を形成できなくなる。本発明はこの点について検討したものである。以下に検討結果の１例を示す。この例は、図３のような装置を用い、キャリッジ１２のＸ方向移動速度、ならびに吐出ヘッドユニット１１の噴射速度を変えて、基板１４上で良好な液滴付着を行うことができるかどうか調べたものである。」等、記載されている。
　この記載からみて、基板と前記噴射ヘッドとの相対移動速度が速すぎる場合には、その相対速度に引きずられて付着液滴が基板上で流れ、良好な形状で電子放出素子群を形成できなくなるという課題があり、この課題を解決するために、溶液の噴射速度を上記相対移動速度より速くしたものと認められる。
　しかしながら、付着溶液が基板上で流れると形状に不都合が生ずることは明らかであり、そのような溶液の基板上での流れが、相対移動速度が速すぎる場合に生じるであろうことも当業者が予測可能なことと認められる。
　そこで、相対移動速度が速すぎて良好な形状が形成できなくなる点に関して、溶液の噴射速度と基板と相対移動速度との関係に着目し、噴射速度を相対移動速度より速くした点の容易想到性について検討する。
　検討に当たり、付着液滴が基板上に流れるケースとして、１つの液滴について、例えば、次のようなケースを考える。
（１）液滴の先端が基板に付着して引っ張られ、液滴の後端が付着するまでの基板の移動により、付着した液滴の径が大きくなり、付着液滴の形状が不良となるようなケース。
（２）液滴が基板に到達した後、相対速度に起因して液滴が全体として基板上を移動することにより位置ズレが生じるようなケース。
　以上の２ケースについて、ヘッドからの噴射が鉛直方向（Ｚ軸下向き方向）で、相対移動速度の向きがＸ軸方向とし、重力加速度及び空気の粘性抵抗の影響を無視できるものとして検討する。その際、噴射ヘッドからの溶液の噴射速度の大きさをｖ、基板と前記噴射ヘッドとの相対移動速度の大きさをｕ、溶液の質量をｍ、相対速度と噴射速度の合成ベクトルの方向の液滴の先端から後端までの長さをｄとする。
（１）のケースについて
　溶液が基板に到達する直前の速度は（ｕ，ｖ）であるから、溶液の先端が基板に到達してから後端が基板に到達するまでに要する時間は、ｄ／（ｕ２＋ｖ２）１／２で表される。これより、基板上の液滴の先端と後端との距離ｂは、ｂ＝ｕ×ｄ／（ｕ２＋ｖ２）１／２＝ｄ／｛１＋（ｖ／ｕ）２｝１／２と書け、ｂは、ｖ／ｕの単調減少関数となる。
　したがって、付着液滴の径を減少させるために、ｕとｖの関係に着目すること、及びｖ／ｕを大きく取ればよいことは、明らかであり、ｕ≦ｖとすることは容易に想到し得ることと認められる。
（２）のケースについて
　溶液が基板に到達する直前の速度は（ｕ，ｖ）であるから、到達直前の溶液の運動量は（ｍｕ，ｍｖ）となる。基板への到達直後、この運動量に起因する撃力が短時間（Δｔ）発生することになるが、Ｘ方向、Ｚ方向の撃力の平均値を、それぞれ、Ｆｘ、Ｆｚとすれば、
ｍｕ＝ＦｘΔｔ，ｍｖ＝ＦｚΔｔが成り立つ。
　ここで、液滴の基板上の流れを防止する、即ち、溶液が基板上を移動しないようにするためには、Ｘ方向の撃力Ｆｘが、基板の表面と溶液との間に生ずる最大静止摩擦力を超えないことが必要であるが、この場合、Ｆｚが面から受ける垂直抗力と等しいものと考えられるから、最大静止摩擦力は、最大静止摩擦係数をμ（≦１）とすると、μＦｚと表され、Ｆｘ≦μＦｚ≦Ｆｚの関係が得られる。そして、この関係より、ｕ≦ｖが帰結されることとなる。
　なお、ヘッドからの噴射方向を鉛直方向からやや傾け、また、重力加速度の影響を考慮に入れたケース（但し、基板とヘッドとの間隙が小さく、噴射速度及び相対移動速度が大きいときは重力加速度の影響は無視できる。）についても、同様の結果が得られるものである。
　以上のような検討により、上記相違点は、当業者であれば容易に想到しうる程度のことと認められ、格別のものとは認められない。
　そうすると、相違点１については、「５−１．」で検討したとおりであるから、請求項５に係る発明は、刊行物１記載された発明Ａ及び刊行物３に記載された事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
５−４．請求項６及び７に係る発明
　刊行物１には、上記「４−１．」の「１ａ．」乃至「１ｉ．」の記載から、以下の発明（以下、「刊行物１記載の発明Ｂ」という。）が記載されているものと認められる。
「金属元素を含有する溶液よりなる液滴を液滴付与装置より吐出させ、導電性薄膜を素子電極に接するように形成した後、フォーミング処理により該導電薄膜中に電子放出部を形成した電子源基板であって、該基板は、矩形であり、また、基板上に設けられた素子電極がマトリクス状に形成され、行方向、及び列方向が、矩形の基板の直交する２辺にそれぞれ平行である電子源基板。」
　請求項６に係る発明（前者）と上記刊行物１記載の発明Ｂ（後者）とを対比する。
  後者の電子放出部を形成した導電薄膜が、前者の電子放出素子に相当し、また、後者の導電薄膜は、基板上に多数形成されるものであるから、後者の「金属元素を含有する溶液よりなる液滴を液滴付与装置より吐出させ、導電性薄膜を素子電極に接するように形成した後、フォーミング処理により該導電薄膜中に電子放出部を形成した電子源基板」は、前者の「基板上の素子電極間に導電性薄膜の材料を含有する溶液の液滴を噴射して形成した導電性薄膜を有する電子放出素子が電子放出素子群として形成されてなる電子源基板」に相当する。
　また、後者の、基板上に形成された導電薄膜は、基板上に設けられ、行方向、及び列方向が、矩形の基板の直交する２辺にそれぞれ平行であるマトリクス状に形成された素子電極に接続されるのものであり、また、個々の導電薄膜の素子電極に対する接続位置も、個々の素子毎にみれば、ほぼ同様の接続位置になるものと解されるから、基板上の導電薄膜は、ほぼマトリクス状に配列されたものであり、ほぼマトリクス形状の互いに直交する２方向のそれぞれが、前記電子源基板の直交する２辺のそれぞれに平行であることも、素子電極の上記配列からみて明らかである。
　したがって、前者と後者とは、次の相違点３でのみ相違するものと認められる。
［相違点３］
　前者が、電子放出素子群がマトリックスとなるように配列されているのに対し、後者の導電薄膜については、その明記がされていない点。
　上記相違点３についてみると、刊行物２に、インクジェット方式で作成された電子放出素子をＸ方向およびＹ方向に行列状に複数個配置する点の記載（「４−２．」の「２ｂ．」の記載参照。）があるから、このような記載を勘案すれば、上記相違点３に格別のものは認められない。
　そして、請求項６に係る発明による効果も、刊行物１及び２の記載から当業者が予測しうる範囲内のものにすぎない。
　したがって、請求項６に係る発明は、刊行物１記載の発明Ｂ及び刊行物２に記載された事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　次に、請求項７に係る発明についてみると、「マトリックスの互いに直交する２方向のそれぞれに平行な帯状パターン」が、刊行物１記載の発明Ｂの、「基板上に設けられ、マトリクス状に形成され、行方向、及び列方向が、矩形の基板の直交する２辺にそれぞれ平行である素子電極」に相当する。
　したがって、請求項７に係る発明と刊行物１記載の発明Ｂとは、上記相違点３でのみ相違するものであり、請求項７に係る発明は、請求項６に係る発明と同様の理由により、刊行物１記載の発明Ｂ及び刊行物２記載に記載された事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
５−５．請求項８及び９に係る発明
　刊行物１には、上記「４−１．」の「１ａ．」乃至「１ｉ．」の記載から、以下の発明（以下、「刊行物１記載の発明Ｃ」という。）が記載されているものと認められる。
「刊行物１記載の発明Ｂの電子源基板と該基板と対向しカラーの各色蛍光体と電子放出素子の位置合わせが十分なされている蛍光膜とを有する画像形成装置。」
　請求項８に係る発明（前者）と上記刊行物１記載の発明Ｂ（後者）とを対比する。
　後者の、「電子源基板」、「蛍光体」、「画像形成装置」は、それぞれ、前者の、「電子源基板」、「蛍光体」、「画像表示装置」の相当する。
　そして、請求項８に係る発明の「電子源基板」については、請求項６及び７を引用するものであり、両者の相違点は、電子源基板についての請求項６及び７に係る発明と上記刊行物１記載の発明Ｂとの相違点である［相違点３］に帰着されることとなるが、相違点３については、上記「５−４．」で検討したところである。
　したがって、したがって、請求項８に係る発明は、刊行物１記載の発明Ｂ及びＣ並びに刊行物２に記載された事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
　次に、請求項９に係る発明（前者）と上記刊行物１記載の発明Ｃ（後者）とを対比すると、上記相違点３に加え、以下の相違点４で相違するものと認められる。
［相違点４］
　前者が、「蛍光体は、複数種類の蛍光膜をマトリックスに配列したカラー蛍光膜により構成され、該蛍光膜におけるマトリックスの互いに直交する２方向のそれぞれと、前記電子源基板の電子放出素子群が配列したマトリックスの直交する２方向のそれぞれが、互いに平行である」のに対し、後者は、「カラーの各色蛍光体と電子放出素子の位置合わせが十分なされている蛍光膜とを有する」ものである点。
　上記相違点４についてみると、後者において、電子放出素子をマトリクス状に配置する点に格別の困難性が認められないことは、相違点３の検討において指摘したところであり、後者のカラー蛍光体が電子放出素子と十分に位置合わせされている以上、後者のカラー蛍光体を同様のマトリックス配置とすることに格別の困難性は認められない。。
　したがって、請求項９に係る発明は、請求項８に係る発明と同様の理由により、刊行物１記載の発明Ｂ及びＣ並びに刊行物２に記載された事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
６．むすび
　以上のとおりであるから、本願の請求項１乃至９に係る発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。