(57)【要約】  塗布ガラス基板。塗布ガラス基板は、０．１〜０．７ｍｍの厚さを有し、第１の側面が、正の光弾性定数を有する第１の光学層で塗布され、第２の側面が、負の光弾性定数を有する第２の光学層で塗布された、ガラス板を備える。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
塗布ガラス基板であって、０．１〜０．７ｍｍの厚さを有し、第１の側面が、正の光弾性定数を有する第１の光学層で塗布され、第２の側面が、負の光弾性定数を有する第２の光学層で塗布された、ガラス板を備える、塗布ガラス基板。
【請求項２】
前記第１の光学層及び前記第２の光学層の各々が、１〜１００ミクロンの厚さを有する、請求項１に記載の塗布ガラス基板。
【請求項３】
前記第１の光学層が、ポリ（ベンジルメタクリレート）、ポリ（ビニルナフタレン）、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリスチレン、スチレンコポリマー、スチレンアクリロニトリル、スチレン無水マレイン酸、マレイミド−スチレンコポリマー、環状オレフィンコポリマー、環状オレフィンポリマー、及びセルロース系ポリマーからなる群から選択される、請求項２に記載の塗布ガラス基板。
【請求項４】
前記第２の光学層が、完全に水素化されたビニル芳香族ポリマー及びコポリマー、環状ブロックコポリマー、ポリメチルメタクリレート、ポリ（α―メチルスチレン）、ポリ（トリフルオロエチルメタクリレート）、及びポリ（トリクロロエチルメタクリレート）からなる群から選択される、請求項３に記載の塗布ガラス基板。
【請求項５】
前記ガラス板の前記厚さが、０．２〜０．５ｍｍである、請求項４に記載の塗布ガラス基板。
【請求項６】
前記第１の光学層の前記光弾性定数が、５〜２５０×１０−１２Ｐａ−１である、請求項５に記載の塗布ガラス基板。
【請求項７】
前記第２の光学層の前記光弾性定数が、−５〜−２５０×１０−１２Ｐａ−１である、請求項６に記載の塗布ガラス基板。
【請求項８】
請求項１に記載の少なくとも１つの塗布ガラス基板を備える液晶セル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラスが薄型表示装置用基板として使用され、内部または外部応力を受ける場合に光漏れの低減を示す、ガラス板に関する。
【背景技術】
【０００２】
ガラスは任意に等方性であるが、応力が加えられると、この対称性が崩れ、ガラスは通常、複屈折性になる。等方性の応力下であっても複屈折性がゼロである、いくつかの珍しいガラス組成物が知られており、これらは、高い含有量の鉛、タリウム、または酸化ビスマスを含んでいる。かかるガラスは、ゼロ応力の光材料として知られており、光学研究器具及びリアプロジェクションテレビなどの製品における主要な構成部分となっている。しかしながら、安全に対する懸念や環境問題が、レンズ、光フィルム、コンパクトディスク、及び液晶表示装置などの多くの光学用途における、こうしたゼロ応力の光学ガラスの使用を阻んでいる。これらの用途では、ガラス、例えば液晶表示器の一部が、表示器に取り付けられた取付構造に起因した、または内部表示構造に起因した応力を受ける場合がある。こうしたガラス基板内の応力に起因した複屈折性が、画像の適切な表示に対する問題を生じさせる場合がある。米国特許番号第８，６５９，７２８号は、ＬＣセルの上及び底の両方のガラス基板に、ＬＣガラスの負の応力に起因した位相差に対する負の光弾性定数を有する層を塗布した、ＬＣセルを開示している。しかしながら、本文献は、位相差を低減させる個々のガラス板の処理を教示していない。
【発明の概要】
【０００３】
本発明は、塗布ガラス基板を提供する。塗布ガラス基板は、０．１〜０．７ｍｍの厚さを有し、第１の側面が、正の光弾性定数を有する第１の光学層で塗布され、第２の側面が、負の光弾性定数を有する第２の光学層で塗布された、ガラス板を備える。
【０００４】
本発明は、本発明の少なくとも１つの塗布ガラス基板を備えるＬＣセルをさらに提供する。
【発明を実施するための形態】
【０００５】
別段の定めがない限り、割合は重量パーセント（ｗｔ％）であり、温度は℃である。別段の定めがない限り、作業は室温（２０FF5E２５℃）で行われた。
【０００６】
光弾性効果に起因した複屈折性を、材料（Ｃｐ）の光弾性定数及び材料（σ）に適用された応力の量によって決定する。光弾性定数を、適用された応力が材料の小さな度合いの弾性変形のみを誘発する条件下で、応力に起因した複屈折性の割合と、ガラス状の材料に適用された応力の大きさとを計算することによって決定する。材料の光弾性の複屈折性は、その材料に内在する複屈折性（Δｎ０）とは異なる。内在する複屈折性とは、材料が、例えば材料を一方向に一軸延伸させることによって、完全に一方向に配向されたことを示す、複屈折性の量のことをいう。正の内在する複屈折性の材料は、それぞれ他の２つの方向、ｙ及びｚの屈折率ｎｙ及びｎｚより大きい、材料が完全に配向されたｘ方向（ｎｘ）の屈折率を有し、ｘ、ｙ、ｚは互いに対して直交する３つの異なる方向を表している。反対に、負の内在する複屈折性の材料は、他の２つの方向、ｙ及びｚの屈折率より小さい、材料が完全に配向された、ｘ方向の屈折率を有する。正の内在する複屈折性型の材料は、常に正の光弾性型である傾向があり、負の複屈折性型の材料では、それらは負の光弾性型または正の光弾性型のいずれかであり得る。
【０００７】
光弾性定数は、各材料に内在する特性であり、正または負の値を有し得る。したがって、材料は２つの群、正の光弾性定数を有する群と、負の光弾性定数を有する他の群とに分けられる。正の光弾性定数を有する材料は、材料がｘ方向に沿った小さな度合いの一軸引張応力を被るとき、正の複屈折性（すなわち、ｎｘ＞ｎｙ）を示す傾向がある。反対に、負の光弾性定数を有する材料は、材料がｘ方向に沿った小さな度合いの一軸引張応力を被るとき、負の複屈折性（すなわち、ｎｘ＜ｎｙ）を示すだろう。
【０００８】
本発明者らは、それぞれ、正及び負の光弾性定数を有する一対の光学層を用いて、応力に起因した複屈折性を、塗布ガラス基板内で最も有用に最小化し得ることを発見した。塗布された基板をＬＣセルに使用すると、それは表示画像性能の改善を提供する。塗布ガラス基板が受け得る、２つの異なる応力モードがある。光学層をガラス基板の上に塗布し、かつ塗布された基板が凸形（外側に塗布層を含む）への曲げ変形を受けているとき、塗布層は引張変形を受け、ガラス層は圧縮変形を受けるだろう。反対に、光学層をガラス基板の底に塗布し、かつ塗布された基板が同じ凸形（内側に塗布層を有するだろう）に曲げられたとき、塗布層は圧縮変形を受け、ガラス基板は引張変形を受けるだろう。
【０００９】
位相差は、材料の板の複屈折性の測定単位である。それは、Δｎの製品及び板の厚さとして定義され、Δｎがｎｘとｎｙとの間の差である。ガラスは正の光弾性定数を有するため、塗布された基板の全体の位相差（基板及び塗布に対する位相差の和）は、張力下にあるガラス基板に塗布された光学層が負の光弾性定数を有する場合、増加し得る。一方、張力下にあるかかる層が正の光弾性定数を有する場合、塗布された基板の全体の位相差は減少し得る。同様に、圧縮下にあるガラス基板に塗布された光学層が負の光弾性定数を有する場合、塗布された基板の全体の位相差は減少し得、塗布された基板の全体の位相差は、圧縮下にあるかかる層が正の光弾性定数を有する場合、増加し得る。これら全ての事例で、ガラスは塗布層のそれと反対の変形モードを受ける傾向がある。
【００１０】
本発明の好ましい実施形態では、ＬＣセルは、２つのガラス基板を含有し、各ガラス基板に、それぞれ、正の光弾性定数及び負の光弾性定数を有する光学層を塗布する。
【００１１】
本発明の好ましい実施形態では、正の光弾性定数及び負の光弾性定数の絶対値は、互いに類似しているか、もしくは実質的に同一である。好ましくは、絶対値間の差が、２５０×１０−１２Ｐａ−１以下、好ましくは１５０×１０−１２Ｐａ−１以下、好ましくは１００×１０−１２Ｐａ−１以下である。好ましくは、正の光弾性定数が、５×１０−１２Ｐａ−１以上、好ましくは１０×１０−１２Ｐａ−１、好ましくは２５×１０−１２Ｐａ−１である。好ましくは、負の光弾性定数が、−５×１０−１２Ｐａ−１以下、好ましくは−１０×１０−１２Ｐａ−１、好ましくは−２５×１０−１２Ｐａ−１である。光弾性定数の絶対値が５×１０−１２Ｐａ−１未満である場合、塗布層が民生用電子装置にとって望ましくないほど非常に厚い場合でない限り、基板の応力に起因した複屈折性を補償する効果は限られるだろう。
【００１２】
好ましくは、現在のＬＣＤ製造に使用されるガラス基板は、アルカリ土類酸化物によってさらに改変され得る、アルミナシリケート（Ａｌ２Ｏ３−ＳｉＯ２）、ホウケイ酸塩（Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２）またはアルミノホウケイ酸（Ａｌ２Ｏ３−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２）型である。これらのガラスは全て、正の光弾性反応を示し、およそ２〜４×１０−１２Ｐａ−１の光弾性定数を有する。これらのガラス基板ならびに正の光弾性特性を有する任意の他の型のガラス基板への本発明の塗布層の適用は有用であろう。ゼロの光弾性定数を有するガラスの開発について、鋭意な研究努力が行われていることも注目される。しかしながら、鉛、ヒ素、及び水銀などの大量の毒性化合物をガラスに組み込まない限り、ＬＣＤの製造に使用されるガラス板はゼロに近い光弾性反応を示さない。好ましくは、本発明に使用されるガラス基板は、鉛、タリウム、及びビスマスが実質的に含有されず、すなわちこれらの金属の各々が、１，０００ｐｐｍ未満、好ましくは８００ｐｐｍ未満、好ましくは６００ｐｐｍ未満、好ましくは４００ｐｐｍ未満、好ましくは２００ｐｐｍ未満、好ましくは１００ｐｐｍ未満、好ましくは５０ｐｐｍ未満の量で存在する。
【００１３】
好ましくは、ガラス基板に塗布された光学層の形成に使用され得る、正の光弾性定数
を有する材料が、ポリメチルメタクリレート以外のアクリレートポリマー（例えば、ポリ（ベンジルメタクリレート））及びコポリマー、フッ素及び塩素などのハロゲン原子を含むアクリレートポリマー、ポリ（ビニルナフタレン、ポリカーボネート、ポリスチレン、スチレンコポリマー、スチレンアクリロニトリルコポリマー、スチレン無水マレイン酸共重合体、マレイミド−スチレンコポリマー、ポリエステル、環状オレフィンコポリマー、環状オレフィンポリマー、及びセルロース系ポリマーからなる群から選択される。大きい正の光弾性定数を有する好ましい材料が、ポリカーボネート、ポリエステル、及びアクリレートポリマーを含む。好ましくは、正の光弾性定数を有する層の形成に使用されたアクリレートポリマーは、メチルメタクリレートの６０ｗｔ％重合単位以下、好ましくは５０ｗｔ％以下、好ましくは４０ｗｔ％以下、好ましくは３０ｗｔ％以下、好ましくは２０ｗｔ％以下、好ましくは１０ｗｔ％以下、好ましくは５ｗｔ％以下を有する。好ましくは、ガラス基板に塗布された光学層の形成に使用され得る、負の光弾性定数を有する材料が、ポリメチルメタクリレート、完全に水素化されたビニル芳香族ポリマー及び共重合体（例えば、完全に水素化されたスチレン−イソプレンブロックコポリマーを含む環状ブロックコポリマー）、ポリ（α−メチルスチレン）、ポリ（トリフルオロエチルメタクリレート）及びポリ（トリクロロエチルメタクリレート）からなる群から選択される。負の光弾性定数を有する好ましい材料が、環状ブロックコポリマー及びポリメチルメタクリレートを含む。好ましくは、環状ブロックコポリマーが、水素化前の少なくとも５０，０００ｇ／モルのポリスチレン換算重量平均分子量、好ましくは少なくとも６０ｗｔ％、好ましくは少なくとも７０ｗｔ％、好ましくは少なくとも７５ｗｔ％重合単位のスチレンを有するものを含む、完全に水素化されたスチレン−イソプレンブロックコポリマーである。当業者に一般に知られているように、ガラス基板への塗布に好適なポリマーは、機械的靭性を有し、かつ脆弱でない程度の十分な分子量を有している必要がある。典型的な非晶質ポリマーでは、ポリスチレン換算重量平均分子量は、その絡み分子量の少なくとも８〜１０倍である必要がある。加えて、それらは、可視光波長範囲（３８０〜７８０ｎｍ）での優れた光透過性を示す必要がある。
【００１４】
光学層の厚さの好ましい範囲が、１００μｍ未満、より好ましくは５０μｍ未満、よりいっそう好ましくは２５μｍ未満である。好ましくは、光学層の厚さは、１μｍを超え、好ましくは５μｍを超え、好ましくは１０μｍを超える。かかる光学塗布層の厚さが１００μｍを超えると、消費者がより薄い電子装置を好む場合に望ましくない。光学層の厚さが１μｍ未満であると、ガラスへの光学補償効果が少なく、事実上存在しない。
【００１５】
本発明による光学層を、当該技術分野で周知の任意の好適な塗布プロセスを使用することによって、ガラス基板に塗布し得る。例えば、光学層を、浸漬塗布、スピン塗布、スリットスピン塗布、またはスロットダイ塗布によってガラスに塗布し得る。塗布領域、塗布の厚さ、及び均一性に対するその比較的容易な制御を有するスロットダイ塗布プロセスが、より好ましい。
【００１６】
ガラス板の厚さの好ましい範囲が、０．１ｍｍ〜０．７ｍｍ、好ましくは０．２ｍｍ〜０．５ｍｍである。ガラス基板の厚さが０．７ｍｍを超えると、光学塗布の効果が十分でない場合があり、これが装置の厚さを増大することにもなるだろう。ガラス基板が０．１ｍｍ未満であると、装置の製造に対するその物理的剛性が問題になる。
【実施例】
【００１７】
３つの異なる光学ポリマー、ポリ（ベンジルメタクリレート）（ＰＢＭＡ）、環状ブロックコポリマー（ＣＢＣ−１）、無水マレイン酸変性環状ブロックコポリマー（ＣＢＣ−２）を使用した。ＰＢＭＡが正の光弾性定数を有し、かつＣＢＣ材料の両方が負の光弾性定数を有する。１００ｋｇ／モルのＭｗを有するＰＢＭＡを、Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｐｒｏｄｕｃｔｓ社（ニューヨーク州オンタリオ）から購入した。Ｔｈｅ  Ｄｏｗ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏｍｐａｎｙ社によって開発された光学的に明澄な材料である、ＣＢＣ−１は、完全に水素化されたスチレン−イソプレンブロックコポリマーである。それは、およそ６５ｋｇ／モルのＭｗ及び水素化前の９０ｗｔ％のスチレンを有する。ＣＢＣ−２も、およそ１ｗｔ％の無水マレイン酸のグラフトを含む、水素化前の８０ｗｔ％のスチレンを有する、完全に水素化されたスチレン−イソプレンブロックコポリマーである。Ｃｏｒｎｉｎｇ  Ｇｌａｓｓ社（ニューヨーク州コーニング）によって製造された０．５ｍｍの厚さの薄いガラス基板を、Ｃｏｒｅｓｉｘ  Ｐｒｅｃｉｓｉｏｎ  Ｇｌａｓｓ社（バージニア州ウィリアムズバーグ）から購入した。光学ポリマー及び薄いガラスの光弾性定数を、適用された応力（σ）の関数として測定された複屈折性値（Δｎ）を線形適合させることによって得た。線形適合された曲線の勾配が、光弾性定数値、Ｃｐである。ＰＢＭＡ、ＣＢＣ−１及びＣＢＣ−２材料に対して１インチ×３インチの大きさ及びおよそ１００〜３００μｍの厚さの自立膜試料についての応力に起因した複屈折性の測定を行った。薄いガラスの試験試料を、ガラススクライバーを使用して２インチ×５インチ（５．１×１２．７ｃｍ）の大きさに切断した。ＰＢＭＡ、ＣＢＣ及び薄いガラスのＣｐ値を決定し、それぞれ、３３×１０−１２Ｐａ−１、−１２×１０−１２Ｐａ−１、−８．５×１０−１２Ｐａ−１、及び３．３×１０−１２Ｐａ−１になった。
【００１８】
参考例１  曲げ変形下の素ガラス基板
０．５ｍｍの厚さ及び２インチ×５インチの大きさを有するガラス基板（ＥＡＧＬＥ  Ｇｌａｓｓ社、Ｃｏｒｎｉｎｇ  Ｇｌａｓｓ社（ニューヨーク州コーニング））を、その位相差を測定することによって試験した。任意の機械的変形のないガラスの位相差を、Ｈｉｎｄｓ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ社（オレゴン州ヒルズバロ）によって作製された複屈折性測定システム、Ｅｘｉｃｏｒ  １５０ＡＴＳによって測定した。その後の位相差の測定をガラス上で行い、５０ｃｍの半径の曲げ固定具に対してガラスの２つの長い縁を加圧することによってそれを曲げた。曲げによるガラスの位相差を測定し、位相差の最大値が３ｎｍであることを発見した。機械的変形を被らない素ガラスが、０．１ｎｍ未満である測定領域全体に渡って測定された位相差を有する略完全に等方性であることを発見した。しかしながら、ガラスを曲げ固定具によって変形すると、位相差の実質的な増加が観察された。最大位相差がガラスの中央領域近くに生じ、これはガラス基板の応力に起因した複屈折性効果に対する明確な証明である。
【００１９】
実施例２  曲げ変形下の塗布ガラスの位相差
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）内のポリ（ベンジルメタクリレート）の４０ｗｔ％溶液及びシクロヘキサン内のＣＢＣ−１の２０ｗｔ％溶液を、ガラス基板を塗布するために調製した。実施例１で使用された２片の薄いガラスに、それぞれ、ポリ（ベンジルメタクリレート）及び環状ブロックコポリマーのＰＢＭＡ溶液及びＣＢＣ溶液を塗布し、続いて乾燥させた。各塗布の厚さを測定すると、それぞれ、７５μｍ及び９２μｍであった。
【００２０】
塗布ガラスが、ガラスを固定具の曲げ形状に合うように曲げ固定具に対してガラスの非塗布側面を加圧することによって、曲げ変形を被った。塗布層は、この曲げ構成での引張変形を受ける。塗布ガラスが変形下にある間、ＰＢＭＡの塗布ガラスに対して１．３ｎｍ及びＣＢＣ−１の塗布ガラスに対して４．８ｎｍの最大値として上に記載されたように、塗布ガラスの位相差を測定した。
【００２１】
参考例１で測定された素ガラスの位相差値と比較した場合、正の光弾性定数を有するＰＢＭＡを塗布したガラスの位相差は、実質的に減少し、負の光弾性定数を有する環状ブロックコポリマーを塗布したガラスの位相差は、実質的に増加した。
【００２２】
実施例３  ２つの異なる応力モード下で正の光弾性定数を有する光学層を塗布したガラスの位相差の変化
実施例１で使用されたものと同一の薄いガラス基板に、実施例２と同じ手段で正の光弾性定数を有するポリ（ベンジルメタクリレート）を塗布した。それを乾燥させた後の塗布の厚さを測定すると、約９５μｍであった。塗布ガラスを、２つの異なる方法で曲げ固定具に対してそれを加圧することによって変形させた。第１の事例では、ガラス基板の非塗布側面が曲げ固定具に直接接触したため、塗布層は引張変形下にあり、ガラス基板は主に圧縮変形下にあった。第２の事例では、ガラス基板の塗布側面が曲げ固定具に直接接触し、それが塗布層の圧縮変形を生じさせた。塗布ガラスの中央領域内の位相差を、これらの２つの変形モード下で測定し、素ガラスのそれと比較した。結果を表３に要約する。
【００２３】
実施例４  ２つの異なる応力モード下で負の光弾性定数を有する光学層を塗布したガラスの位相差の変化
実施例１で使用されたものと同一のＥＡＧＬＥ  Ｇｌａｓｓ社の薄いガラス基板に、実施例２と同じ手段で環状ブロックコポリマーを塗布した。それを乾燥させた後の塗布の厚さを測定すると、約９２μｍであった。塗布ガラスを、２つの異なる方法で曲げ固定具に対してそれを加圧することによって変形させた。第１の事例では、ガラス基板の非塗布側面が曲げ固定具に直接接触したため、塗布層は引張変形下にあった。第２の事例では、ガラス基板の塗布側面が曲げ固定具に直接接触し、それが塗布層の圧縮変形を生じさせた。塗布ガラスの中央領域内の位相差を、これらの２つの変形モード下で測定し、素ガラスのそれと比較した。結果をまた、表３に要約する。
【００２４】
【表３】
2018500595.tif 000002
【００２５】
表３のデータは、ガラス基板が異なる型の変形（すなわち、引張対圧縮）を受けるとき、本発明の表２で議論されたようなガラスの応力に起因した複屈折性の補償に有用であるために、塗布層の光学素子を適切に適合させなければならないことを示している。
【００２６】
実施例５  曲げ変形下の両面に塗布したガラスの位相差
実施例１で使用されたものと同一の薄いガラス基板に、光学材料を両面で塗布した。
ＰＧＭＥＡ溶剤内のＰＢＭＡの４０ｗｔ％溶液及びシクロヘキサン溶剤内のＣＢＣ−２の２０ｗｔ％溶液を使用した。標的の塗布の厚さは、上面及び底面の両方に対して１００μｍであった。これらの塗布ガラスを、曲げ固定具に対して底面を加圧することによって変形させた。その後の位相差の測定を行い、塗布ガラスは曲げ変形下にあった。塗布材料、変形モード及び測定結果についての詳細を、下の表４に要約する。
【００２７】
【表４】
2018500595.tif 000003
【００２８】
表４の結果は、上の塗布層による効果が底の塗布層による効果の影響を弱め得るため、ガラスの両面への塗布が一側面塗布ほど有用でない場合があることを示している。上の塗布層及び底の塗布層の光弾性特性が、実施例５Ｃに示されるように適切に適合されない場合、位相差の総量は、素ガラスのそれより実質的に悪化する場合がある。さらに、上面及び底面の両方に負の光弾性材料を塗布したガラス（実施例５Ａ）を測定すると、上及び底の塗布層がそれぞれ引張変形及び圧縮変形を受けた状態で、実施例５Ｂに示されるような上面に正の光弾性材料及び底面に負の光弾性材料を塗布したガラスより高い位相差を有した。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月19日(2017.6.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
実施例２  曲げ変形下の塗布ガラスの位相差
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）内のポリ（ベンジルメタクリレート）の４０ｗｔ％溶液及びシクロヘキサン内のＣＢＣ−１の２０ｗｔ％溶液を、ガラス基板を塗布するために調製した。参考例１で使用された２片の薄いガラスに、それぞれ、ポリ（ベンジルメタクリレート）及び環状ブロックコポリマーのＰＢＭＡ溶液及びＣＢＣ溶液を塗布し、続いて乾燥させた。各塗布の厚さを測定すると、それぞれ、７５μｍ及び９２μｍであった。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
実施例３  ２つの異なる応力モード下で正の光弾性定数を有する光学層を塗布したガラスの位相差の変化
参考例１で使用されたものと同一の薄いガラス基板に、実施例２と同じ手段で正の光弾性定数を有するポリ（ベンジルメタクリレート）を塗布した。それを乾燥させた後の塗布の厚さを測定すると、約９５μｍであった。塗布ガラスを、２つの異なる方法で曲げ固定具に対してそれを加圧することによって変形させた。第１の事例では、ガラス基板の非塗布側面が曲げ固定具に直接接触したため、塗布層は引張変形下にあり、ガラス基板は主に圧縮変形下にあった。第２の事例では、ガラス基板の塗布側面が曲げ固定具に直接接触し、それが塗布層の圧縮変形を生じさせた。塗布ガラスの中央領域内の位相差を、これらの２つの変形モード下で測定し、素ガラスのそれと比較した。結果を表に要約する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
実施例４  ２つの異なる応力モード下で負の光弾性定数を有する光学層を塗布したガラスの位相差の変化
参考例１で使用されたものと同一のＥＡＧＬＥ  Ｇｌａｓｓ社の薄いガラス基板に、実施例２と同じ手段で環状ブロックコポリマーを塗布した。それを乾燥させた後の塗布の厚さを測定すると、約９２μｍであった。塗布ガラスを、２つの異なる方法で曲げ固定具に対してそれを加圧することによって変形させた。第１の事例では、ガラス基板の非塗布側面が曲げ固定具に直接接触したため、塗布層は引張変形下にあった。第２の事例では、ガラス基板の塗布側面が曲げ固定具に直接接触し、それが塗布層の圧縮変形を生じさせた。塗布ガラスの中央領域内の位相差を、これらの２つの変形モード下で測定し、素ガラスのそれと比較した。結果をまた、表に要約する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
［表］
2018500595.tif 000004
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
表のデータは、ガラス基板が異なる型の変形（すなわち、引張対圧縮）を受けるとき、ガラスの応力に起因した複屈折性の補償に有用であるために、塗布層の光学素子を適切に適合させなければならないことを示している。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
実施例５  曲げ変形下の両面に塗布したガラスの位相差
参考例１で使用されたものと同一の薄いガラス基板に、光学材料を両面で塗布した。ＰＧＭＥＡ溶剤内のＰＢＭＡの４０ｗｔ％溶液及びシクロヘキサン溶剤内のＣＢＣ−２の２０ｗｔ％溶液を使用した。標的の塗布の厚さは、上面及び底面の両方に対して１００μｍであった。これらの塗布ガラスを、曲げ固定具に対して底面を加圧することによって変形させた。その後の位相差の測定を行い、塗布ガラスは曲げ変形下にあった。塗布材料、変形モード及び測定結果についての詳細を、下の表４に要約する。
【国際調査報告】
2018500595.tif 000005
2018500595.tif 000006
2018500595.tif 000007