【事件の表示】
　平成１１年特許願第３６５００４号「露光方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１３年　７月　６日出願公開、特開２００１−１８３８４４〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成１１年１２月２２日の出願である特願平１１−３６５００４号であって、平成１６年１月１９日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、同年２月２６日付けで審判請求がなされるとともに同年３月１７日付けで手続補正がなされたものである。
　
２．平成１６年３月１７日付け手続補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　平成１６年３月１７日付け手続補正を却下する。
　
［理由］
（１）補正後の請求項１に記載された発明
　平成１６年３月１７日付け手続補正（以下、「本件補正」という。）により、特許請求の範囲の請求項１は次のとおりに補正された。
「第１方向に長辺を有するパターンが形成されたマスクを保持した第１方向に長辺を有するマスクステージと、矩形の基板を保持した第１方向に長辺を有する矩形の基板ホルダーとを第１方向に移動させて前記マスクのパターンを前記基板に露光する露光方法において、
　前記基板ホルダーの短辺より長い長辺を有する基板を、該基板の長辺方向が前記基板ホルダーの短辺方向にほぼ一致するようにして前記基板ホルダー上に配設するステップと、
　前記マスクステージと前記基板ホルダーとを前記第１方向に移動させて前記基板の第１領域に前記マスクのパターンを露光するステップと、
　前記基板ホルダーを前記第１方向とほぼ直交する第２方向に移動させるステップと、
　前記マスクステージと前記基板ホルダーとを前記第１方向に移動させて、前記第２方向に前記第１領域と隣接する前記基板の第２領域に前記マスクのパターンを露光するステップとを含むことを特徴とする露光方法。」
　上記補正は、補正前の請求項１に記載した発明を特定するために必要な事項である、「パターン」、「マスクステージ」、及び「矩形の基板ホルダー」について、それぞれ「第１方向に長辺を有する」との限定を付加するものであって、特許法第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　そこで、本件補正後の請求項１に記載された発明（以下、「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（特許法１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）について検討する。
　
（２）刊行物に記載された発明
　原査定の拒絶の理由に引用された特開平１０−６４７８２号公報（以下、「刊行物１」という。）には、次のア）〜ケ）の記載がある。
ア）「【請求項１】マスクのパターンを所定の照明領域で照明する照明光学系と、前記マスクのパターンを透過した光束を実質的に等倍かつ正立実像結像で感光基板上に投影する投影光学系と、前記照明領域に対して第１の方向に前記マスクと前記感光基板とを同期させて走査する走査手段と、少なくとも前記感光基板を前記第１の方向とほぼ直交する第２の方向に、少なくとも前記照明領域の前記第２の方向の長さに相当する距離だけ移動させる移動手段とを備えることを特徴とする走査型露光装置。」
イ）「【０００１】【発明の属する技術分野】本発明は走査型露光装置に関し、特に液晶ディスプレイパネル用のガラス基板等の大型感光基板へパターン露光するのに適した走査型露光装置に関するものである。」
ウ）「【００４８】次に、図７、図８を用いて、本発明による走査型露光装置の他の例を説明する。図７は走査型露光装置の概略的な構成を示す図、図８は走査機構の一例を示す説明図である。図７において図１と同じ機能部分には図１と同じ符号を付して詳細な説明を省略する。図７に示した走査型露光装置は、感光基板１４側にのみＹ方向駆動装置１６Ｙが設けられ、マスク側１０にはＹ方向駆動装置１８Ｙが設けられていない点で、図１に示した走査型露光装置と相違する。この走査型露光装置は、感光基板１４の寸法に比べ小型で安価なマスク１０を用いて、マスク１０に描画されたパターンを感光基板１４に複数回転写することができるようにしたものである。
【００４９】図８は、コの字型の走査フレームによってマスク１０と感光基板１４を同期走査する走査型露光装置を示す。コの字型走査フレーム３０はベース３１上に載置され、Ｘ方向駆動装置３２によってＸ方向に走査される。走査フレーム３０の上部にはマスクステージ２０が設けられ、マスクステージ２０上にマスク１０が保持されている。マスクステージ２０は、駆動装置４３，４４，４５を駆動することによってＸ方向、Ｙ方向及び回転方向の位置を調整できるようになっている。
走査フレーム３０の下部には基板ステージ１５が設けられ、基板ステージ１５上に基板１４が保持されている。基板ステージ１５は、Ｙ方向駆動装置１６Ｙによって走査フレーム３０上をＹ方向に移動可能になっている。」
エ）「【００５３】・・・次に、ステップ２２に進み、図示しない基板ローダにより基板ステージ１５に感光基板１４をローディングし、アライメント系２０ａ，２０ｂによって基板マーク２４を検出することによって、ロードした感光基板１４を露光装置に対して位置決めする。」
オ）「【００５６】その後、ステップ２６に進み、マスク１０及び感光基板１４を＋Ｘ方向に同期走査（復路走査）することにより、１回目の走査露光が行われる。この１回目の走査露光によって、感光基板１４上の領域１４ａに対するパターン露光が行われる。
【００５７】１回目の走査露光が終了すると、ステップ２７に進み、Ｙ方向駆動装置１６Ｙを駆動することにより、感光基板１４をＹ方向にステップ移動する。ステップ移動の距離はＬｙである。続いて、ステップ２８において、Ｘ方向駆動装置３２によって走査フレーム３０を−Ｘ方向へ移動してマスク１０及び感光基板１４を投影光学系１２に対して往路走査し、この往路走査中に走査露光することで感光基板１４上の領域１４ｂへのパターン露光を行う。この例の場合、感光基板１４上の領域１４ａに露光されるパターンと領域１４ｂに露光されるパターンは同じパターンである。」
カ）「【００６１】その後、ステップ３１に進み、マスク１０及び感光基板１４を＋Ｘ方向に同期走査（復路走査）することにより、１回目の走査露光が行われる。この１回目の走査露光によって、感光基板１４上の領域１４ａに対するパターン露光が行われる。
【００６２】１回目の走査露光が終了すると、ステップ３２に進み、Ｙ方向駆動装置１６Ｙを駆動することにより、感光基板１４をＹ方向にステップ移動する。ステップ移動の距離はＬｙである。続いて、ステップ３３，３４においてステップ２９，３０と同様の操作を反復し、アライメントマークの検出と、その検出結果に基づくアライメント操作とを行った後、ステップ３５において走査露光を行う。第２モードの場合には、往路走査時にアライメント検出を行うため、走査露光は常に復路走査時すなわち走査フレーム３０を＋Ｘ方向へ移動する際にのみ行われる。
【００６３】これまで説明してきた走査型露光装置は、走査方向（Ｘ方向）と直交するＹ方向にのみマスク１０，５０や感光基板１４をステップ移動する機構を設けたものであった。しかし、Ｙ方向のみならずＸ方向にもステップ移動する機能を備えることによって、図９に示すように、感光基板１４のＹ方向だけでなくＸ方向に対しても並んだ複数の領域１４ｃ〜１４ｆにパターン露光を行うことができ、さらに大型の感光基板１４にパターン転写することが可能となる。」
キ）図７及び図８には、マスクステージ２０が、Ｘ方向に長辺を有する形状であることが記載されている。
ク）図７及び図８には、基板ステージ１５はＹ方向に長辺を有する矩形であり、また感光基板１４は基板ステージ１５の短辺より長い長辺を有する矩形であって、該基板ステージ１５上に感光基板１４が、感光基板１４の長辺方向がＹ方向（基板ステージ１５の長辺方向）とほぼ一致するようにして、配設されることが記載されている。
ケ）図７及び図８には、感光基板１４上で、領域１４ａと領域１４ｂとが、Ｙ方向に隣り合う位置関係であることが記載されている
　
　上記記載事項によると、刊行物１には、
「パターンが形成されたマスク１０を保持した第１の方向（Ｘ方向）に長辺を有するマスクステージ２０と、矩形の感光基板１４を保持した第２の方向（Ｙ方向）に長辺を有する矩形の基板ステージ１５とを第１の方向（Ｘ方向）に移動させて前記マスク１０のパターンを前記感光基板１４に露光する露光方法において、
　前記基板ステージ１５の短辺より長い長辺を有する感光基板１４を、該感光基板１４の長辺方向が基板ステージ１５の長辺方向すなわち第２の方向（Ｙ方向）とほぼ一致するようにして前記基板ステージ１５上に配設するステップと、
　前記マスクステージ２０と前記基板ステージ１５とを前記第１の方向（Ｘ方向）に移動させて前記感光基板１４の領域１４ａに前記マスク１０のパターンを露光するステップと、
　前記基板ステージ１５を前記第１の方向（Ｘ方向）とほぼ直交する第２の方向（Ｙ方向）に移動させるステップと、
　前記マスクステージ２０と前記基板ステージ１５とを前記第１の方向（Ｘ方向）に移動させて、前記第２の方向（Ｙ方向）に前記領域１４ａと隣り合う前記感光基板１４の領域１４ｂに前記マスク１０のパターンを露光するステップとを含む露光方法。」
の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されている。
　
　さらに刊行物１には、次のコ）の記載がある。
コ）図７には、パターン領域１０ａが、Ｘ方向に長辺を有する形状であることが記載されている。
　
（３）対比
　本願補正発明と上記引用発明とを比較する。
　引用発明の「第１の方向（Ｘ方向）」、「感光基板１４」、「領域１４ａ」、「第２の方向（Ｙ方向）」、及び「領域１４ｂ」は、本願補正発明の「第１方向」、「基板」、「第１領域」、「第２方向」、及び「第２領域」に相当する。
　また、引用発明の「隣り合う」と、本願補正発明の「隣接する」とは、「隣り合う」という上位概念で一致する。
　さらに、引用発明の「基板ステージ１５」と、本願補正発明の「基板ホルダー」とは、「基板が配設される部材」という上位概念で一致する。
　したがって、両者は、
「パターンが形成されたマスクを保持した第１方向に長辺を有するマスクステージと、矩形の基板を保持した、長辺を有する矩形の『基板が配設される部材』とを、第１方向に移動させて前記マスクのパターンを前記基板に露光する露光方法において、
　前記『基板が配設される部材』の短辺より長い長辺を有する基板を、前記『基板が配設される部材』上に配設するステップと、
　前記マスクステージと前記『基板が配設される部材』とを前記第１方向に移動させて前記基板の第１領域に前記マスクのパターンを露光するステップと、
　前記『基板が配設される部材』を前記第１方向とほぼ直交する第２方向に移動させるステップと、
　前記マスクステージと前記『基板が配設される部材』とを前記第１方向に移動させて、前記第２方向に前記第１領域と隣り合う前記基板の第２領域に前記マスクのパターンを露光するステップとを含むことを特徴とする露光方法。」（「基板が配設される部材」については、「基板」それ自体との記述上の区別をわかりやすくするため、当審で『』を附した。）
である点で一致し、次の点で相違する。
　
［相違点１］
　本願補正発明においては、パターンが「第１方向に長辺を有する」のに対し、引用発明では、このような限定がなされていない点。
　
［相違点２］
　『基板が配設される部材』として、本願補正発明においては基板ホルダーを限定されているのに対し、引用発明では基板ホルダーに関する限定が無く基板ステージについて限定されており、
　また、『基板が配設される部材』が長辺を有するのが、本願補正発明においては第１方向（Ｘ方向）であるのに対し、引用発明においては第２方向（Ｙ方向）であり、
　基板を『基板が配設される部材』上に配設する際の、基板の方向と『基板が配設される部材』の方向との関係が、本願補正発明においては基板ホルダーの「短辺方向」にほぼ一致するように配設されるのに対して、引用発明では、「長辺方向」にほぼ一致するようにして配設される点。
　
［相違点３］
　本願補正発明においては、第１領域と第２領域とは第２方向に隣接しているのに対し、引用発明では、隣り合ってはいるが、「隣接」との限定はなされていない点。
　
（４）判断
　上記相違点について検討する。
［相違点１について］
　上記「（２）コ）」に摘記したように、刊行物１には、パターン領域１０ａがＸ方向に長辺を有する形状であることが記載されているところ、パターン自体も「第１方向に長辺を有する」ことは、当業者にとり容易に推察できることである。
　したがって、相違点１に係る本願補正発明の発明特定事項は、刊行物１に記載の発明に基づいて当業者が容易に想到し得るものである
　
［相違点２について］
　第一に、『基板が配設される部材』として、本願補正発明においては基板ホルダーを限定しているのに対し、引用発明では基板ホルダーに関する限定が無く基板ステージについて限定している点について検討すると、刊行物１に基板ホルダーについての記載がなくとも、刊行物の図７に示される矩形の基板ステージ１５と矩形の基板１４との間に、矩形の基板ホルダを介するようにすることは、周知技術（特開平９−２２９３３号公報（図２）及び特開平１１−２３３４２８号公報（図１）参照）より、当業者が容易に想到できることである。
　第二に、また、『基板が配設される部材』が長辺を有するのが、本願補正発明においては第１方向（Ｘ方向）であるのに対し、引用発明においては第２方向（Ｙ方向）であり、
　基板を『基板が配設される部材』上に配設する際の、基板の方向と『基板が配設される部材』の方向との関係が、本願補正発明においては基板ホルダーの「短辺方向」にほぼ一致するように配設されるのに対して、引用発明では、「長辺方向」にほぼ一致するようにして配設される点については、まず、基板の配設方向を、第１方向（Ｘ方向）及び第２方向（Ｙ方向）との関係でみれば、本願補正発明も引用発明もともに、基板の長辺方向が第２方向（Ｙ方向）に配設され、この点格別相違がない。つまり、本願補正発明が引用発明と相違するのは、要するに、本願補正発明が、第１方向に長辺を有する基板ホルダーを使用しているのに（基板の長辺方向が一部基板ホルダーよりはみ出すことになろうとも）基板を上記方向で配設していることにある。
　このことについて検討すると、まず、基板ホルダーについて、第１方向が長辺のものを使用することは、状況に応じて当業者が適宜成し得る設計事項に過ぎず（第１方向が長辺の基板ホルダー自体は、原査定の備考に引用された特開平１１−２１２２６６号公報（図３）に記載されているように周知である。）、格別のことではない。
　そして、基板ホルダー上に、基板の長短辺をどの方向に配設するかは、当業者が必要に応じて適宜選択できる設計事項に過ぎず、その効果も格別のものではない。また、本願補正発明で、基板ホルダーの短辺より基板の長辺が長く、基板の長辺方向が一部基板ホルダーよりはみ出す形で配設されることになる点も、要するに、単に寸法が足りず結果的にはみ出ることになるに過ぎず、本願明細書の発明の詳細な説明を参照しても、はみ出すことそれ自体を目的とするもの、言い換えればはみだすことそれ自体に何らかの効果を期待するというものではない。
　
　ここで、請求人は、平成１６年３月１７日付け補正書（審判請求理由）の「【本願発明が特許されるべき理由】」において、
「以上のような構成において本願発明の露光方法を適用すれば、図５に示すように、走査露光の回数を低減することができ、スループットが向上するという効果が得られます。ここで、走査露光の回数の低減によりスループットを向上するとは、具体例では、従来技術では図９に示すように４回の走査露光を必要としていたものが、本願発明の方法によれば図５に示すように３回の走査露光で済むこととなり、処理速度が向上されることとなります（第００３５段落参照）。また、本願発明では、基板の長辺を基板ホルダーの短辺に平行にして配設するので、基板ホルダーを含む露光装置を大型化する必要もありません（第００３７段落[発明の効果]参照）。・・・
　・・・引用文献１〜３においては、走査露光の回数を低減してスループットを向上するという課題意識（第０００７段落参照）が記載も示唆もされていません。一方、本願発明は、そのような課題意識の下、マスクステージ、マスク上のデバイスパターン、基板ホルダー及び基板それぞれの配設方向、並びに走査露光の方向を上記のように組み合わせることにより、走査露光の回数を低減してスループットを向上するという優れた効果を奏することができたものです。」
　と主張している。しかし、上記主張の「図５に示すように、走査露光の回数を低減することができ、スループットが向上するという効果」は、本願明細書及び図面の記載をみても、パターン、基板、露光装置の一回の走査露光範囲等の各寸法が、図５にかかる実施例に示されるような、特定の数値関係であってこそ、「従来技術では図９に示すように４回の走査露光を必要としていたものが、本願発明の方法によれば図５に示すように３回の走査露光で済むこととなり、処理速度が向上されること」となったものであり、強いて言うならば、恣意的に設定した条件下で発生する問題点を解決する方法を提示するものでしかない。上記主張にある「マスクステージ、マスク上のデバイスパターン、基板ホルダー及び基板それぞれの配設方向、並びに走査露光の方向を上記のように組み合わせ」たことでは、各寸法が上記特定の数値関係で無い場合は、「走査露光の回数を低減してスループットを向上するという優れた効果」を奏しないのみならず、各寸法の数値関係によっては、逆に走査露光の回数を増やしスループットを悪化させるものであることは、当業者には明らかである。しかるに、本願補正発明は、上記のような各寸法の数値関係について限定しているものではない。
　このように、本願補正発明は、上記主張のいう「走査露光の回数を低減することができ、スループットが向上するという効果」を奏するための発明特定事項を有しておらず、上記主張は採用できない。
　
　したがって、相違点２に係る本願補正発明の発明特定事項は、刊行物１に記載の発明及び周知技術より容易に想到でき、かつ格別の相違ではない。
　
［相違点３について］
　「隣接」と限定するかどうかは、格別な相違ではない。この点、本願の【発明の実施の形態】を示す、図面を参照しても、その図１及び図２に図示されている、露光領域１４ａ、１４ｂ、１４ｃ、１４ｄのＹ方向（第２方向）の位置関係は、刊行物１の図７に記載された露光領域１４ａ、１４ｂのＹ方向の位置関係と格別相違するところがなく、また明細書でさらに具体的に「画素領域周辺の回路パターンも含めた寸法が２７９.７ｍｍ×３４７．２ｍｍである１７インチＳＸＧＡのパタ−ンを基板１４に６面取りして露光する露光方法」（【００２４】段落より）の例を参照しても、【００３３】段落に「ステップ移動の距離は、１７インチＳＸＧＡの液晶ディスプレイパネルの短辺の長さ（図示した例の場合、２７９．７ｍｍ）とほぼ同じ長さである（ステップ２６）。」との記載、すなわち『ほぼ』同じ長さとの記載までしかなされておらず、すなわち、明細書及び図面を参照しても、「隣接」という限定に、例えば幾何学的厳密さで接するものというような、格別の意味付けがない。
　したがって、相違点３に係る本願補正発明の発明特定事項は、格別の相違ではない。
　
　したがって、相違点１乃至３に係る本願補正発明の発明特定事項は、刊行物１に記載の発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に想到し得るものか、あるいは格別の相違ではない。また、それによる作用効果も、当業者が予測できる範囲のものである。
　
　したがって、本願補正発明は、刊行物１に記載の発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明することができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができない。
　
（５）むすび
　以上のとおり、本件補正は、特許法第１７条の２第５項で準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するものであり、特許法第１５９条第１項で読み替えて準用する特許法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
３．本願発明について
（１）本願発明
　平成１６年３月１７日付け手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明は、出願時の明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりのものと認める。（以下、「本願発明」という。）
「パターンが形成されたマスクを保持したマスクステージと矩形の基板を保持した矩形の基板ホルダーとを第１方向に移動させて前記マスクのパターンを前記基板に露光する露光方法において、
　前記基板ホルダーの短辺より長い長辺を有する基板を、該基板の長辺方向が前記基板ホルダーの短辺方向にほぼ一致するようにして前記基板ホルダー上に配設するステップと、
　前記マスクステージと前記基板ホルダーとを前記第１方向に移動させて前記基板の第１領域に前記マスクのパターンを露光するステップと、
　前記基板ホルダーを前記第１方向とほぼ直交する第２方向に移動させるステップと、
　前記マスクステージと前記基板ホルダーとを前記第１方向に移動させて、前記第２方向に前記第１領域と隣接する前記基板の第２領域に前記マスクのパターンを露光するステップとを含むことを特徴とする露光方法。」
　
（２）刊行物に記載された発明
　原査定で引用された刊行物、及びその記載事項は上記「２．（２）」で述べたとおりである。
　
（３）対比・判断
　本願発明は、上記「２．」で検討した本願補正発明から、「パターン」、「マスクステージ」、及び「矩形の基板ホルダー」それぞれについての限定事項である、「第１方向に長辺を有する」との構成を省いたものである。
　
　そうすると、本願発明の構成要件をすべて含み、さらにほかの構成要件を付加したものに相当する本願補正発明が、前記「２．（４）」に記載したとおり、刊行物１に記載の発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様の理由により、刊行物１に記載の発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである　
　
（４）むすび
　以上のとおり、本願発明は、刊行物１に記載の発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
　よって、結論のとおり審決する。