【事件の表示】
　平成　５年特許願第２２５２０１号「研磨システム、その運転方法及び砥液供給方法」拒絶査定不服審判事件〔平成　７年　２月２８日出願公開、特開平　７−　５２０４５〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯及び本件発明
　本件出願は、平成５年８月１７日の出願であって、その請求項１乃至１５に係る発明は、平成１７年１月２７日付けの手続補正書により補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１乃至１５に記載されたとおりのものと認められるところ、請求項１に係る発明（以下、「本件発明」という。）は、次のとおりのものである。
「【請求項１】　ターンテーブルと、トップリングを具備し、該ターンテーブルとトップリングの間にポリッシング対象物を介在させて該ポリッシング対象物の表面を研磨するポリッシング装置と、該ポリッシング装置のターンテーブルに研磨用の砥液を供給する砥液供給装置を具備する研磨システムの運転方法であって、
　前記砥液供給装置は、前記砥液を循環させる砥液流路と、該砥液流路内に設けた砥液循環タンクと、該砥液循環タンク内に砥液供給を必要とする砥液低レベルを検出する低レベル検出器と、オーバフローに近い緊急の砥液高レベルを検出する高高レベル検出器を具備し、
　前記低レベル検出器で砥液低レベルを検出した際には前記砥液循環タンクに所定の使用濃度に調合された砥液を供給して該砥液循環タンク内に該低レベル以上の該調合された砥液を確保し、前記ポリッシング装置の運転時には前記砥液流路から砥液を常に前記ターンテーブルに供給し、前記ポリッシング装置の停止時には砥液を前記砥液流路に循環させることを特徴とする研磨システムの運転方法。」
　
２．引用刊行物
　これに対して、原査定の拒絶理由に引用された、本件出願前に日本国内において頒布された刊行物である、特開昭５６−２１７７１号公報（以下、「刊行物１」という。）、及び特開昭５１−５６０８９号公報（以下、「刊行物２」という。）には、図面とともに以下の技術的事項が記載されている。
　
（１）刊行物１
（１−イ）第１頁右下欄第６〜１８行
「この発明は、脆い材料（半導体、あるいはガラス、セラミックス等）を研摩材を用いて加工するために使用する処理装置に関し、具体的には研摩剤含有懸濁液を調製し、研摩及び仕上げ旋盤（機）の工具の作動域にこの懸濁液を供給する研摩材含有懸濁液の調製供給機に係るものである。
　この発明は半導体切片の研摩に用いることができる。
　非結合研摩材による研摩作業中に面の均一加工を保証する基本的な条件は、研摩円盤の作動域に供給する懸濁液中の固（研摩材粒子）液相比、及び溶液のｐＨ（活動度）、加工域の懸濁液消費量のそれぞれを一定に保つことである。」
　
（１−ロ）第３頁左上欄第１４行〜右上欄第７行
「図示した機械は、原料成分から懸濁液を調製する調製ユニット１を備え、このユニットは排出口２を介して分配ユニット３と連通している。分配ユニット３は、研摩あるいは仕上げ機６からなる工具の作動区域に上記懸濁液を供給する導出パイプである枝パイプ５を備えたパイプ４により形成されている。研摩機６は懸濁排液を集めるための貯溜槽７と連通し、貯溜槽７は排出口８を介して上記懸濁排液の浄化ユニット９と通じている。懸濁排液の浄化ユニット９は、今度は上記調製ユニット１の注入口１０と連通している。調製ユニット１は、懸濁液調製用貯溜槽１１と、調製済み懸濁液の貯溜槽１２を備えている。槽１１と１２はパイプ１３を介して連通している。」
　
（１−ハ）第３頁左下欄第４〜１５行
「槽１１の底部には、槽からパイプ１３への懸濁液流を制御（制止）するための締切弁２４を設けてある。槽１１内の懸濁液量は表示装置２６に電気的に接続した液面ピックアップ２５により測定される。
　槽１２は、出来上がった懸濁液の貯溜を目的とし、電気モータ２８の軸に取付けた機械的な攪拌機２７を備えている。槽１２の底部には、この槽の排出口２を制御するための締切弁２９が設けてある。槽１２内の懸濁液量は液面ピックアップ３０により測定され、このピックアップも表示装置２６に電気的に接続されている。分配ユニット３は可変横断面のパイプ４と枝パイプ５を備えている。」
　
（１−ニ）第４頁左上欄第１１〜１５行
「貯溜槽１２と分配ユニット３は、パイプ３７と３８を介して互いに連通しており、閉回路を形成している。パイプ３７内に送りポンプ３９を設けてある。懸濁排液を集めるために枝パイプ４０を介して研摩機６を槽７に接続してある。」
　
（１−ホ）第４頁左下欄第７〜２０行
「浄化した懸濁液は槽１２に流れ込み、ここで蓄えられる、槽１２が特定液面に保たれたとき（表示装置２６にピックアップ３０の信号を表示するとき）、送りポンプ３９により弁２９を開放して懸濁液を分配ユニット３へ送る。
　槽１２には電気モータ２８により作動する機械的攪拌機２７を備えてあり、この攪拌機２７により懸濁液を均質状態に保つ。
　槽１２から分配ユニット３にポンプ３９により運ばれた懸濁液はパイプ４に入り、このパイプから枝パイプ５を通って研摩機６へ送られる。研摩機６に送られる懸濁液量は弁３６により制御される。過剰の懸濁液はパイプ４からパイプ３８を通って槽１２に戻される。」
　
（１−ヘ）図１、２の記載によれば、貯溜槽１２内に、高位置及び低位置の二つの液面ピックアップ３０を具備することが看取できる。
　
　刊行物１には、研摩材含有懸濁液の調製供給機械に関して記載されているが、研摩機と調製供給機械を具備する研摩システムの運転方法も併せて記載されていることは明らかである。
　したがって、刊行物１には、次の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されていると認められる。
［引用発明］
　研摩機６と、該研摩機６に研摩材含有懸濁液を供給する調製供給機械を具備する研摩システムの運転方法であって、
　前記調製供給機械は、貯溜槽１２と、分配ユニット３と、前記懸濁液を分配ユニット３へ送るパイプ３７と、過剰の懸濁液を貯溜槽１２に戻すパイプ３８とが閉回路を形成しており、
　貯溜槽１２内に、高位置及び低位置の二つの液面ピックアップ３０を具備し、
　前記貯溜槽１２内に調製済みの懸濁液を供給して該槽１２が特定液面に保たれ、表示装置２６に前記ピックアップ３０の信号を表示するとき、該貯溜槽１２から前記パイプ３７及び分配ユニット３を介して研摩機に懸濁液を供給する、研摩システムの運転方法。
　
（２）刊行物２
（２−イ）第１頁右下欄第７〜１８行
「本発明は砥粒濃度が一定である定量のラップ溶材を間歇的に自動供給する装置に関するものである。
　ラッピング加工において、ラップ溶材を供給する従来の装置は、供給加工面から高い位置に攪拌タンクを置き、しぼり調整コックを通し、鋼管をもって所要個所へ連続導出するものや、電磁弁を通し間歇的に導出するものがある。前者は微量調整が容易でなく、しばしば必要以上の溶材消耗を生じ易く、後者は停止期間が長い場合に、管内静止溶材中に砥粒の沈殿が生じて、混合比不均衡の溶材が供給され、加工品質に影響することがある。」
　
（２−ロ）第１頁右下欄第６〜１８行
「第２図は本発明の一実施例の流体回路を示し、１はラップ溶材の砥粒濃度を一定とする攪拌タンク、２はポンプ装置、３はラップ溶材供給用合成樹脂製チューブ、４，５は加圧力によりチューブが圧縮され流体回路を閉とするレバー部で、この部分はシリコンゴム等の弾性体よりなっている。６はラップ溶材の供給口である。４は常時圧縮された状態で、チューブの流路は閉となっており、５の部分は圧縮されておらず流路は開となっている。ラップ溶材はチューブ３の中をポンプ２により循環しており、砥粒の沈殿は生じない。ラップ溶材供給時には５の部分が圧縮され閉となると同時に４の圧縮部が開放され流路は開となり、ラップ溶材は供給口６より排出され、ラップ盤に供給される。一定時間後４の部分が閉となると同時に５が開となり元に復し、溶材はチューブ３の中を循環し始める。このタイムチャートはタイマーを含む制御部（図示していない）で制御されており、混合比一定の定量のラップ溶材が間歇的に繰り返し供給される。」
　
（２−ハ）第１頁右下欄第６〜１８行
「第３図の状態ではレバー４’はコイルばね９により引き上げられ、ヒンヂ７を中心に回転力が与えられ、供給口６のチューブは圧縮され閉となっている。またレバー５’は接触点１０を介してレバー４’により押し上げられているので、加圧片１２はチューブを開とし、ラップの溶材はチューブ３中を矢印方向に循環している。つづいてこれを動作するには、タイマーを含む制御部（図示していない）からの信号により、砥粒を供給する必要時間だけ電磁石１１を動作させ、レバー５’をヒンヂ８を中心に時計方向に回転させて引き下げ、チューブを加圧片１２により圧縮して閉とするとともに、レバー４’を接触点１０を介して押し下げ、ヒンヂ７を中心に回転させ、今まで圧縮されていた供給口６を開とし、チューブ中を循環していたラップ溶材をチューブ出側から排出する。」
　
（２−ニ）第１頁右下欄第６〜１８行
「以上説明したように、本発明のラップ溶材自動供給装置は循環中のラップ溶材が直ちに供給されるので、砥粒の沈殿が起らず、混合比の一定、定量のラップ溶材を自動的に供給することができる。」
　
　上記記載事項及び図面の記載からみて、刊行物２には、次の発明が記載されていると認められる。
「ラップ溶材を循環させるポンプ２及びチューブ３からなる流路と、該流路内に設けられラップ溶材の砥粒濃度を一定とする攪拌タンク１と、ラップ溶材をラップ盤に供給するための供給口６とを備え、レバー部４，５を操作することにより、砥粒を供給する必要時間だけ前記供給口６からラップ盤にラップ溶材を供給すること。」
　
３．対比
　本件発明と引用発明とを対比すると、引用発明における「研摩機」は本件発明における「ポリッシング装置」に相当し、以下同様に、「調製供給機械」は「砥液供給装置」に、「研摩材含有懸濁液」は「研磨用の砥液」に、「研摩システム」は「研磨システム」に、それぞれ相当する。
　引用発明において、調製供給機械は、貯溜槽１２と、分配ユニット３と、前記懸濁液を分配ユニット３へ送るパイプ３７と、過剰の懸濁液を貯溜槽１２に戻すパイプ３８とが閉回路を形成しているから、パイプ３７、分配ユニット３及びパイプ３８は、砥液を循環させる砥液流路ということができ、貯溜槽１２は、前記砥液流路内に設けた砥液循環タンクということができる。
　また、引用発明における「液面ピックアップ３０」は、砥液のレベルを検出するレベル検出器という限りで、本件発明における「低レベル検出器」及び「高高レベル検出器」と共通している。
　そして、引用発明において、「貯溜槽１２内に調製済みの懸濁液を供給して該槽１２が特定液面に保たれ」ることは、砥液循環タンクに所定の使用濃度に調合された砥液を供給して該砥液循環タンク内に該調合された砥液を確保することということができる。
　したがって、両者の一致点と相違点は次のとおりと認められる。
［一致点］
　ポリッシング装置と、該ポリッシング装置に研磨用の砥液を供給する砥液供給装置を具備する研磨システムの運転方法であって、
　前記砥液供給装置は、前記砥液を循環させる砥液流路と、該砥液流路内に設けた砥液循環タンクと、該砥液循環タンク内の砥液のレベルを検出するレベル検出器を具備し、
　前記砥液循環タンクに所定の使用濃度に調合された砥液を供給して該砥液循環タンク内に該調合された砥液を確保し、前記砥液流路から砥液を前記ポリッシング装置に供給する、研磨システムの運転方法。
［相違点１］ 
　ポリッシング装置が、本件発明では、ターンテーブルと、トップリングを具備し、該ターンテーブルとトップリングの間にポリッシング対象物を介在させて該ポリッシング対象物の表面を研磨するものであり、砥液供給装置が該ポリッシング装置のターンテーブルに研磨用の砥液を供給するのに対し、引用発明では、研摩機がターンテーブルとトップリングを具備することについて特定されていない点。
［相違点２］
　本件発明では、砥液循環タンク内に砥液供給を必要とする砥液低レベルを検出する低レベル検出器と、オーバフローに近い緊急の砥液高レベルを検出する高高レベル検出器を具備し、前記低レベル検出器で砥液低レベルを検出した際には前記砥液循環タンクに所定の使用濃度に調合された砥液を供給して該砥液循環タンク内に該低レベル以上の該調合された砥液を確保するのに対し、引用発明では、液面ピックアップを具備しているが、該液面ピックアップの検出に基づいて調合された砥液を確保するものであるか否か明らかでない点。
［相違点３］
　本件発明では、ポリッシング装置の運転時には前記砥液流路から砥液を常に前記ターンテーブルに供給し、前記ポリッシング装置の停止時には砥液を前記砥液流路に循環させるのに対し、引用発明では、そのように特定されていない点。
　
４．相違点についての検討
（１）相違点１について
　ターンテーブルと、トップリングを具備し、該ターンテーブルとトップリングの間にポリッシング対象物を介在させて該ポリッシング対象物の表面を研磨するポリッシング装置、及び、研磨用の砥液を該ターンテーブルに供給することは、特に例示するまでもなく従来周知の技術であるから、引用発明における研摩機を上記周知のポリッシング装置とすることに格別の困難性は見当たらない。
　
（２）相違点２について
　レベル検出器を用いて、タンク内の液体が所定レベルより低下したことを検出して液体の補給を行い、所定量まで増大したことを検出して補給を停止することによりタンク内の液体量を確保することは、例えば、実公平３−４０５３７号公報第３頁左欄第１１〜２６行等に記載されているように従来周知の技術である。
　そして、引用発明も貯溜槽内に高位置及び低位置の二つの液面ピックアップを具備していることから、引用発明に上記周知の技術を適用して、低位置の液面ピックアップ（レベル検出器）により懸濁液供給を必要とするレベルを検出した際に貯溜槽内に調製済みの懸濁液を供給して貯溜槽内に該低位置以上の該懸濁液を確保するよう構成することには格別困難性は見出せない。
　また、タンクに緊急用のレベル検出器を設けることは当業者が必要に応じて適宜採用し得る設計的事項であるとともに、基準液面位置とは別に液量オーバーの上限位置にセンサーを設けることが例えば特開平４−１８８８３０号公報の第１図及び第２頁右上欄第３行〜右下欄第１行等に記載されているように、オーバフローに近いレベルの検出器を設けることも従来周知の技術手段にすぎないものである。
　したがって、引用発明に周知の技術手段を適用して上記相違点２に係る本件発明の構成とすることは当業者が容易になし得たことである。
　
（３）相違点３について
　刊行物２には、上記２（２）に示したとおりの技術的事項が記載されている。
　刊行物２に記載された発明における「ラップ溶材」は、砥粒濃度が一定にされたものであることから砥液ということができるものであり、また、「ラップ溶材を循環させるポンプ２及びチューブ３からなる流路」は、「砥液流路」ということができる。
　したがって、刊行物２には、「砥液を循環させる砥液流路と、該砥液流路内に設けた砥液循環タンクとを具備し、砥粒を供給する必要時間だけ砥液流路から砥液をラップ盤に供給し、それ以外は砥液を前記砥液流路に循環させること」が記載されているとすることができる。
　刊行物２に記載された発明はラップ盤にラップ溶材を供給するものであるが、砥粒濃度が一定の砥液を砥液流路から供給する技術として引用発明と共通するものである。そして、刊行物２に記載された発明において、前記砥粒を供給する必要時間として、砥液を供給すべき装置の運転時に常に砥液を供給するか、必要な時間だけ供給するかは当業者が適宜選択できる事項にすぎないものである。
　してみると、引用発明に刊行物２に記載された発明を適用して上記相違点３に係る本件発明の構成とすることは当業者が容易になし得たことである。
　
（４）本件発明の作用効果について
　本件発明の奏する作用効果についてみても、引用発明、刊行物２に記載された発明及び周知の技術手段から当業者が十分予測しうる範囲内のものであって、格別顕著なものとはいえない。
　
　したがって、本件発明は、引用発明、刊行物２に記載された発明及び周知の技術手段に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
　ところで、請求人は平成１７年１月２７日付け手続補正書（方式）において、概略、「引用文献１（当審注：刊行物２）に記載の発明は、砥粒濃度が一定である定量の砥液（ラップ溶材）を間歇的に自動供給するものであり、本願第１発明のようにポリッシング装置の運転時に砥液を常にターンテーブルに供給するのとは根本的に異なる。」と主張しており、また、「引用文献３（当審注：刊行物１）に記載の発明は、砥液（懸濁液）は常に砥液流路を循環させる構成であり、砥液循環タンク（槽１２）が特定液面に保たれたとき（表示装置２６にピックアップ３０の信号を表示するとき）、砥液（懸濁液）が分配ユニット３へ送られ、研磨機に供給できるようになっている、即ち砥液循環タンク（槽１２）が特定液面に保たれたとき該のみ砥液を研磨機に供給できるのである。これに対して本願第１発明は、ポリッシング装置で所定濃度の砥液を必要な時、即ちポリッシング装置の運転時に常に所定濃度の砥液を供給でき、またポリッシング装置で必要な量の砥液を継続して供給できるための砥液供給装置を備える。本願第１発明は、ポリッシング装置のいかなる運転条件にも対応できるように構成されたポリッシング装置の運転方法という点で、引用文献３に記載の発明とはその目的及び構成が異なる。即ち第１発明の構成要件（Ａ）「低レベル検出器で砥液低レベルを検出した際には循環タンクに所定の使用濃度に調合された砥液を供給して循環タンク内に低レベル以上の調合された砥液を確保」するの点、更に構成要件（Ｂ）「ポリッシング装置の運転時には砥液流路から砥液を常にターンテーブルに供給し、ポリッシング装置の停止時には砥液を砥液流路に循環させ」るの点は、引用文献３に記載の発明には無い。」と主張している。
　上記の点について、刊行物２には、砥粒濃度が一定である定量のラップ溶材を間歇的に自動供給すると記載されている。しかしながら、上記「間歇的」は従来装置における「連続導出」に対応して記載されたものと認められ（上記摘記事項（２−イ）参照）、前記ラップ溶材は砥粒を供給する必要時間だけ電磁石を動作させて供給すると記載されており（同（２−ハ）参照）、上述のとおり、前記砥粒を供給する必要時間として、砥液を供給すべき装置の運転時に常に砥液を供給するか、必要な時間だけ供給するかは当業者が適宜選択できる事項にすぎないものである。
　また、レベル検出器を用いて、タンク内の液体が所定レベルより低下したことを検出して液体の補給を行い、所定量まで増大したことを検出して補給を停止することによりタンク内の液体量を確保することは従来周知の技術であることも上述のとおりであり、引用発明における高位置及び低位置の二つの液面ピックアップ（レベル検出器）により所定レベルより低下したことを検出した際に懸濁液の補給を行って懸濁液を確保することは当業者が容易になし得た事項というべきである。
　よって、請求人の上記主張は採用することができない。
　
５．むすび
　以上のとおり、本件出願の請求項１に係る発明は、引用発明、刊行物２に記載された発明及び周知の技術手段に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものである。
　したがって、その余の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本件出願は拒絶されるべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。