【事件の表示】
　平成　７年特許願第　１１０５７号「基板処理装置」拒絶査定不服審判事件〔平成　８年　８月　９日出願公開、特開平　８−２０３９７６〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯 
　 
　本件出願は、平成７年１月２６日の特許出願であって、同１５年２月６日付で拒絶の理由が通知され、同１５年４月１４日に意見書とともに手続補正書が提出されたが、同１５年１２月１９日付で拒絶をすべき旨の査定がされ、同１６年１月２３日に本件審判の請求がされ、さらに同１６年２月１９日に明細書を補正対象とする手続補正（以下「本件補正」という。）がされたものである。 
　 
第２　本件補正についての補正却下の決定 
　 
［補正却下の決定の結論］ 
　本件補正を却下する。 
　 
［理由］ 
１．補正の内容の概要 
　 
　本件補正は、特許請求の範囲について補正をすると共にそれに関連して発明の詳細な説明の一部について補正するものであって、特許請求の範囲の請求項１について補正前後の記載を補正箇所に下線を付して示すと以下のとおりである。 
　 
１−１　補正前の請求項１ 
【請求項１】
　基板を収容して処理する第１および第２の処理室と、
　該第１の処理室と第２の処理室との間に設けられた搬送機構部と、
　該搬送機構部に設けられ前記第１の処理室と第２の処理室との間で基板を搬送する搬送手段と、
　前記第１の処理室および第２の処理室の上部に設けられ前記搬送機構部への下降気流の集中を阻止する整流手段と
を有することを特徴とする基板処理装置。
　 
１−２　補正後の請求項１ 
【請求項１】
　基板を収容して処理する第１
の処理室
基板に対して熱処理を行
　該第１の処理室と第２の処理室との間に設けられた搬送機構部と、
　該搬送機構部に設けられ前記第１の処理室と第２の処理室との間で基板を搬送する搬送手段と、
　前記第１の処理室および第２の処理室の上部に設けられ前記搬送機構部への下降気流の集中を阻止する整流手段と
を有することを特徴とする基板処理装置。
　
２．補正の適否　　　 
　上記請求項１についての補正は、第２の処理室について、基板に対して熱処理を行うとの限定事項を付加するものであり、特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
 　 
　そこで、本件補正後の特許請求の範囲の請求項１に記載された発明（以下、「本件補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか否かについて、以下検討する。
　
２−１　本件補正発明 
　本件補正発明は、本件補正により補正がされた明細書（以下、「本件補正明細書」という。）及び図面の記載からみて、上記１−２に示す補正後の請求項１に記載されたとおりの「基板処理装置」であると認められる。
　
２−２　刊行物に記載の発明及び周知の発明 
（１）これに対して、原査定の拒絶の理由に引用された本件出願前に日本国内において頒布された刊行物である、特開平２−２０４２０３号公報（以下、「刊行物」という。）には以下の事項が記載されている。
　
（１−イ）第１頁右下欄第８〜１７行
「‥‥‥このカセット収納棚は、多数のウェーハを収容するカセット（図示せず）が収納される一方向に出入り口２をもつ収納室７を複数個を横方向に並べて多段に設けられている。
　通常、この出入口２からごみが侵入し、カセット内のウェーハの表面にごみが付着しないように、カセット収納棚の上壁である壁面１に垂直に当るように清浄な空気を空気の流れ方向５で流している。」
（１−ロ）第２頁左上欄第２０行〜左下欄第５行
「‥‥‥このカセット収納棚は、第１図及び第２図に示すように、空気の流れ方向５に対して垂直面であるカセット収納棚の壁面１に垂直に立られるとともにその一面がウェーハ４が収納されたカセット４の出入口２の面と同一の面になる衝立板６が設けられている。また、この衝立板６の先端とその一端を接続し、他端を壁面の一端と接続する傾斜板８がある。
　このような衝立板６及び傾斜板８を設けることにより、空気の流れ方向は出入口２側とこの出入口２と反対側とに２分される。この出入り口２側の空気の流れ方向は、常に、一定方向に吹き下すので、ごみを吹き上げることはない。
　また、第３図に示すように、例えば、第１図及び第２図に示した傾斜板８がなく衝立板６だけでも、その機能は十分果すことが出来る。
〔発明の効果〕
　以上説明したように本発明は、カセットの出入口と同一面上にある面をもつ衝立板をカセット収納棚の空気の流れ方向に対して垂直な壁面に衝立板すなわち整流板を設けることによって、空気の流れを２分し、カセットの出入り口側の空気の流れを一定の層流としたので、ごみを吹き上げることなく、ごみがウェーハの表面に付着することなく常に清浄な表面を維持するカセット収納棚が得られるという効果がある。」
　
　上記摘記事項（１−イ）、（１−ロ）、及び第１〜３図の記載からみて、刊行物には次の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されていると認められる。     
「カセット収納棚の上壁である壁面１に垂直に当るように空気の流れ方向５で流している清浄な空気において、カセットの出入り口側の空気の流れを一定の層流とし、ごみを吹き上げること及びごみがウェーハの表面に付着することを防ぐために、空気の流れ方向５に対して垂直面であるカセット収納棚の壁面１に垂直に立られるとともにその一面がウェーハ４が収納されたカセット４の出入口２の面と同一の面になる衝立板６を設け、さらにこの衝立板６の先端とその一端を接続し、他端を壁面の一端と接続する傾斜板８を選択的に設けることができるカセット収納棚。」 
　
（２）周知の発明
　基板処理装置として、
「基板を収容して処理する第１の処理室および基板に対して熱処理を行う第２の処理室と、
　第１の処理室と第２の処理室との間に設けられた搬送機構部と、
　搬送機構部に設けられ前記第１の処理室と第２の処理室との間で基板を搬送する搬送手段とを有する基板処理装置」
は、従来周知（例えば、原査定の拒絶の理由に引用した特開平５−１７８４１６号公報、特開平４−８５８１２号公報のほか、特開平４−１９９７３１号公報、特開平５−７４６９９号公報参照）である。（以下、上記周知の基板処理装置を「周知の発明」という。）
　
２−３　対比
　してみれば、本件補正発明と周知の発明とは、 
　「基板を収容して処理する第１の処理室および基板に対して熱処理を行う第２の処理室と、
　第１の処理室と第２の処理室との間に設けられた搬送機構部と、
　搬送機構部に設けられ第１の処理室と第２の処理室との間で基板を搬送する搬送手段と
を有する基板処理装置。」 
　の点で一致し、以下の点で相違する。 
　
 [相違点] 前者は、第１の処理室および第２の処理室の上部に設けられ搬送機構部への下降気流の集中を阻止する整流手段を備えているのに対して、後者は、そのように特定されていない点。
　
２−４　判断 
　上記相違点について検討する。
　本件補正発明と引用発明とを対比すると、引用発明における「ウェーハ」は、本件補正発明の「基板」に相当している。
　また、本件補正発明の整流手段は「搬送機構部への下降気流の集中を阻止する」ものであるが、整流手段を設ける技術的意義は、壁体によって構成された処理室の上面にダウンフローの気流の一部がぶつかり、ぶつかったダウンフローが処理室１０ｂ，１２ｂの脇から下方へ流れ、搬送路８部分において両側の処理室１０ｂ，１２ｂの方からダウンフローが集まって流れ込み、その流量、流速が増加することにより、処理室１０ｂ，１２ｂの壁体１０ａ，１２ａに形成した搬送口１０ｃ，１２ｃから処理室１０ｂ，１２ｂ内に流れ込んで処理部の温度を変動させたり、搬送中の基板の温度や基板の表面に形成された塗布膜の乾燥状態を変動させたり、あるいは塵埃を巻き上げる等の不都合を生じさせ、基板の処理品質の劣化の原因となっていたので、これを防止することにあるところ（本件補正明細書段落【０００５】参照）、引用発明の衝立板６及び傾斜板８を設ける技術的意義は、カセット収納棚の上壁に設けられるものではあるが、下降気流である空気の流れがカセット収納棚の上壁に当たることによりその流れ方向が変わることに起因して、カセットの出入り口からごみが侵入し、カセット収納棚のウェーハへのごみの付着を防止することである（上記摘記事項（１−ロ）参照）。そうすると、本件補正発明の整流手段と引用発明の衝立板６及び傾斜板８とは、側方に被搬送物の搬送口を備えた壁体によって構成された室がダウンフローすなわち下降気流雰囲気中に置かれる場合に、下降気流が搬送口から侵入して室内で塵埃を巻き上げ、基板に悪影響を及ぼすことを防止するための部材である点で同等のものということができる。
　そして、周知の発明である「基板を収容して処理する第１の処理室および基板に対して熱処理を行う第２の処理室と、第１の処理室と第２の処理室との間に設けられた搬送機構部と、搬送機構部に設けられ前記第１の処理室と第２の処理室との間で基板を搬送する搬送手段とを有する基板処理装置。」において、壁体によって構成された処理室に基板を搬出入する搬送口を設けること、搬送機構部に上面となる壁体を設けないこと、基板処理装置がクリーンルームの下降気流雰囲気中に置かれることは、当該技術分野において通常行われていることであることから、周知の発明において、搬送口を備えた壁体によって構成された室としての第１の処理室及び第２の処理室の上部に引用発明の衝立板６のみ、又は衝立板６と傾斜板８を設け、もって搬送口から第１の処理室及び第２の処理室のいずれの処理室内にも下降気流が入らないようにすること、換言すれば搬送機構部への下降気流の集中を阻止することは、当業者が容易になし得ることである。
　
　本件補正発明が奏する作用効果は、周知の発明及び引用発明から当業者であれば予測できる範囲内のものであって、格別顕著なものとはいえない。
　
　以上のとおり、本件補正発明は、周知の発明及び引用発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
　なお、請求人は、平成１６年２月１９日付け手続補正書及び平成１８年２月３日付け回答書において、「このため、特に、熱処理を行う第２の処理室において、高精度の温度管理を維持することができ、基板処理品質の劣化を抑えることができます。」と主張しているが、熱処理を行う処理室内の雰囲気を乱すような気体の流れが生じれば、それに起因して基板や処理装置の温度が変化し、基板処理品質が劣化することは、当該分野において周知の課題であり（例えば、上記特開平４−１９９７３１号公報の第２頁左上欄第１９行〜右上欄第１９行の「〔発明が解決しようとする課題〕ところで、半導体製造装置は清浄のためにクリーンルーム内に設置され、運転されることが多い。そしてクリーンルームにおいては塵埃を床へ落とす為にダウンフローと呼ばれる空気流を採用している場合が多い。そのため、ロボット５が加熱処理部３ｂの前を通過する際には第８Ａ図に示す様にダウンフローの一部を遮り、半導体基板９の出し入れの為の開口部３１ｂを通してこのダウンフローの一部の風を加熱処理部３ｂへと送り込んでしまう。この送り込まれたダウンフローの風は加熱処理部３ｂの内部を移動し、ホットプレート２ｂに達する。この為、ホットプレート３２ｂはダウンフローの風によって冷却されることになり、結局加熱処理部３ｂの加熱温度は低下することになる。従って、加熱処理部３ｂにて処理を行う場合には、ロボット５が加熱処理部３ｂの前を通過する前と後で加熱温度に差異が生じる。つまり加熱処理部３ｂの温度安定性か悪くなり、同一の処理工程で処理された半導体基板間において、熱履歴がばらつく等の問題点があった。」参照）、格別なものではない。してみれば、熱処理を行う処理室の上部に引用発明の衝立板６のみ、又は衝立板６と傾斜板８を設けることにより、下降気流が搬送口から処理室内に侵入せず、基板の処理品質を劣化させないという作用効果を奏することは明らかである。
　よって、請求人の上記主張は採用することができない。
　
３．むすび
　以上のとおり、本件補正は、特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合しないものであり、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
第３　本件発明について
１．本件発明
　平成１６年２月１９日付の手続補正は、上記のとおり却下されたので、本件出願の請求項１に係る発明（以下、「本件発明」という。）は、同１５年４月１４日付手続補正書により補正された明細書（以下、「本件明細書」という。）及び願書に最初に添付した図面の記載からみて、上記第１の１−１に示す特許請求の範囲の請求項１に記載されたとおりのものであると認められる。　
　
２．刊行物記載の発明及び周知の発明
　これに対して、本件出願前に国内で頒布された刊行物記載の発明及び周知の発明は、上記第２の２−２に示したとおりである。
　
３．対比及び判断
　本件発明は、上記第２の２．で検討した本件補正発明から、第２の処理室について、基板に対して熱処理を行うとの限定事項を削除したものである。
　そうすると、本件発明の構成要件の全てを含みさらに他の構成要件を付加したものに相当する本件補正発明が、上記第２の２−３及び２−４で示したとおり、周知の発明及び引用発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本件発明も同様の理由により当業者が容易に発明をすることができたものである。
  　
４．むすび
　以上のとおり、本件発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。