【事件の表示】
　平成　８年特許願第５３６３２４号「測定システム用基準フレームを有する位置決め装置」拒絶査定不服審判事件〔平成　８年１２月　５日国際公開、ＷＯ９６／３８７６５、平成１１年１０月１２日国内公表、特表平１１−５１１９０５〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯 
　本願は、１９９６年４月２９日を国際出願日とする出願であって、平成１５年１２月１７日付けで拒絶査定がなされ、これに対して平成１６年３月２３日に拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに、平成１６年４月２２日付けで手続補正がなされたものである。 
　 
２．平成１６年４月２２日付けの手続補正についての補正却下の決定 
［補正却下の決定の結論］ 
　平成１６年４月２２日付けの手続補正を却下する。 
　 
［理由］
　平成１６年４月２２日付けの手続補正により、拒絶査定の対象となった平成１５年５月２６日付け手続補正書の特許請求の範囲の請求項１乃至１２は、特許請求の範囲の請求項１乃至１５に補正された。
　この補正は、請求項２、３、１５を新たに追加するものであるから、請求項の削除、特許請求の範囲の減縮、誤記の訂正、明りょうでない記載の釈明のいずれであるとも認められない。
　したがって、この補正は、特許法第１７条の２第４項の規定に違反しているから、特許法第１５９条第１項で読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。 
　 
３．本願発明について 
（１）本願発明 
　平成１６年４月２２日付けの手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、平成１５年５月２６日付け手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりのものと認める。 
「物品テーブルと、該物品テーブル上に設置すべき物品を処理するサブシステムと、該サブシステムに対し相対的に前記物品テーブルおよび／もしくはマスクテーブルを移動させ前記サブシステムに対して位置決めする駆動ユニットと、前記サブシステムに対する相対的な前記物品テーブルおよび／もしくは前記マスクテーブルの位置を測定する測定システムとを具える位置決め装置であって、前記駆動ユニットがこの位置決め装置の機械フレームに固定された静止部を具え、前記測定システムが静止部と、この静止部に協働するため前記マスクテーブルに固定された移動部とを備え、および／もしくは前記測定システムは、前記測定システムの前記静止部と協働するため前記物品テーブルに固定された移動部とを具える位置決め装置において、前記位置決め装置の機械フレームから動的に絶縁された基準フレームを前記位置決め装置に設け、前記測定システムの前記静止部をこの基準フレームに固定したことを特徴とするリソグラフィ装置用位置決め装置。」 
　
（２）先願明細書の記載事項 
　原査定の拒絶の理由に引用された、本願の出願の日前の他の出願であって、その出願後に出願公開された特願平８−２５１２４号（特開平９−２１９３５３号公報参照）の願書に最初に添付した明細書及び図面（以下、「先願明細書」という。）には、以下の事項が記載されている。 
ア．「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、各種測定器及び半導体リソグラフィ工程で用いる投影露光装置等に好適な、高精度で物体の移動及び位置決めをするステージ装置、ならびにこれを用いた露光装置やデバイス生産方法に関するものである。」 
イ．「【００１１】
【発明の実施の形態】
＜露光装置の実施例＞ステージ装置を有する露光装置の実施の形態例を説明する。図１は本発明の平面図、図２は図１のＡ−Ｂ断面図である。図３は図１の部分的な平面図である。
【００１２】これら図面において、１は上面に案内面を有する定盤である。２は定盤１の案内面に直交する方向に案内面を有する固定ガイドであり定盤１に固設している。３は定盤１の案内面に直交する方向に案内面ｇ１，ｇ２を有する可動ガイド（第１の移動体）であり、定盤１及び固定ガイド２の案内面に静圧軸受パッド４ａ，４ｂを設けて非接触で支持案内している。３２は被露光基板（半導体ウエハ）を真空吸着等の手段により固定するチャック、５はチャック３２を保持する移動ステージ（第２の移動体）である。また定盤１の案内面に対向して静圧軸受パッド４ｃと可動ガイド３との案内面ｇ１，ｇ２に対向して静圧軸受パッド４ｄを設けて非接触で支持案内している。静圧軸受パッド４ｃ，４ｄには磁石吸引及び真空吸着等の手段により予圧を与えている。９ａ，９ｂはレーザ測長器用の反射ミラ−であり、移動ステージ５に固設している。８ａ，８ｂは移動ステージ５の位置を検出するレ−ザ測長器の干渉計であり、取り付け台１０，取り付け基盤３１を介して定盤１と実質一体となるように固定している。移動ステージ５の測定手段である干渉計８ａ，８ｂを定盤１を基準に設けることで、定盤１が変位しても移動ステージ５の動きを正確に測定することができるようにしている。
【００１３】また、図２に示すように、移動ステージ５の上方にマスクのパターンを基板に露光転写するための投影光学系を含む露光手段２０を設けている。そして、露光手段２０は定盤１を基準にして設けることで、ステージの駆動に伴う反力で両者の間の相対的な変位が起きないようにし、投影光学系と被露光基板との位置関係を高精度に保つようにしている。
【００１４】１１は振動伝達を遮断するための除振機構を備えたマウント部材１３を介して定盤１を支持する基台である。６は可動ガイド３を非接触でＹ方向に駆動する２本のリニアモータであり、可動子６ａを取り付け板９を介して可動ガイド３の両端に結合し、固定子６ｂを基台１２を介して基台１１に固定している。７は移動ステージ５を非接触でＸ方向に駆動するためのリニアモータであり、可動子７ａを移動ステージ５に結合し、固定子７ｂを４枚の板ばね１４を介して可動ガイド３に結合している。１８は定盤１の案内面に略直交する方向に案内面を有し磁性体材料から成る固定ガイドであり、基台１２を介して基台１１に固設している。すなわち固定ガイド１８は定盤１とは独立して基台１１を基準にして設けている。」 
ウ．「【００１８】図７は本実施例の装置の駆動制御系を表すブロック図である。図中、１００は移動ステージ５の駆動の補償を行うコントローラ、１０１はリニアモータコイルに電流を供給するリニアモータドライバである。リニアモータドライバ１０１に各々のコイルを接続して、供給する電流量に応じて移動ステージ５をｘ及びＹ方向に駆動する。電流量は前記レーザ測長器の出力信号をコントローラ１００にフィードバックすることにより移動ステージ５の目標位置偏差に応じた値となる。
【００１９】上記構成において、前記コントローラ１００に所定の指令信号を入力することで移動ステージ５を駆動する。この時、移動ステージ５のＹ方向駆動の加減速に伴う慣性力は、Ｙ方向の反力としてリニアモータの固定子６ｂを介して基台１２に伝わるが、この力は基台１１で受けるため定盤１には反力は伝わらない。また、移動ステージ５のＸ方向駆動の加減速に伴う慣性力は、Ｘ方向の反力としてリニアモータの固定子７ｂに伝わり、ヒンジ１７，静圧軸受パッド１６，固定ガイド１８を介して基台１２に伝わるが、この力は基台１１で受けるため定盤１に反力は伝わらない。反力は基台１１と基台１２の固有振動を励起するが、マウント部材１３によって定盤１への振動伝達を遮断する。したがってＸＹいずれの方向に移動においても、マウント部材１３で支持した機構系の固有振動を励起することなく、移動ステージ５やレーザ干渉計８ａ及び８ｂに外乱振動が伝わることがない。」
 
　これらの記載と図１乃至９の記載と移動ステージ５上に被露光基板を設置することは当業者にとって自明であることにより、先願明細書には、「移動ステージ５と、該移動ステージ上に設置すべき被露光基板にマスクのパターンを露光転写する露光手段２０と、該露光手段２０に対し相対的に前記移動ステージ５を移動させ前記露光手段２０に対して位置決めするリニアモータ６、７と、前記露光手段２０に対する相対的な前記移動テーブル５の位置を測定するレーザ測長器の干渉計８ａ、８ｂ、レーザ測長器用の反射ミラー９ａ、９ｂとを具える位置決め装置であって、前記リニアモータ６がこの位置決め装置の基台１２に固定され、前記レーザ測長器の干渉計８ａ、８ｂと前記移動ステージに固定されたレーザ測長器用の反射ミラー９ａ、９ｂとを具える位置決め装置において、前記位置決め装置の基台１２から振動伝達が遮断された定盤１を前記位置決め装置に設け、前記レーザ測長器の干渉計８ａ、８ｂをこの定盤１に固定したことを特徴とするリソグラフィ工程で用いる位置決め装置。」の発明（以下、「先願発明」という。）が記載されている。 
　 
（３）対比 
　そこで、本願発明と先願発明とを対比すると、先願発明の「移動ステージ５」は本願発明の「物品テーブル」に、以下同様に「被露光基板」は「物品」に、「被露光基板にマスクのパターンを露光転写する」は「物品を処理する」に、「露光手段２０」は「サブシステム」に、「リニアモータ６、７」は「駆動ユニット」に、「レーザ測長器の干渉計８ａ、８ｂ、レーザ測長器用の反射ミラー９ａ、９ｂ」は「測定システム」に、「基台１２」は「機械フレーム」に、「振動伝達が遮断された」は「動的に絶縁された」に、「定盤１」は「基準フレーム」に、「リソグラフィ工程で用いる位置決め装置」は「リソグラフィ装置用位置決め装置」に、それぞれ相当する。
　ここで、先願発明のリニアモータ６は基台１２に固定されたものであるから、機械フレームに固定された駆動ユニットの静止部と言える。
　また、先願発明のレーザ測長器の干渉計８ａ、８ｂは定盤１に固定されているから、基準フレームに固定された測定システムの静止部と言え、先願発明のレーザ測長器用の反射ミラー９ａ、９ｂは移動ステージ５に固定されているから、物品テーブルに固定された測定システムの移動部と言える。さらに、レーザ測長器用の反射ミラー９ａ、９ｂがレーザ測長器の干渉計８ａ、８ｂと協働することは明らかである。
　したがって、本願発明と先願発明とは、
「物品テーブルと、該物品テーブル上に設置すべき物品を処理するサブシステムと、該サブシステムに対し相対的に前記物品テーブルを移動させ前記サブシステムに対して位置決めする駆動ユニットと、前記サブシステムに対する相対的な前記物品テーブルの位置を測定する測定システムとを具える位置決め装置であって、前記駆動ユニットがこの位置決め装置の機械フレームに固定された静止部を具え、前記測定システムが静止部と、前記測定システムの静止部と協働するため前記物品テーブルに固定された移動部とを具える位置決め装置において、前記位置決め装置の機械フレームから動的に絶縁された基準フレームを前記位置決め装置に設け、前記測定システムの前記静止部をこの基準フレームに固定したことを特徴とする位置決め装置。」 
である点で一致し、以下の点で一応相違している。 
［相違点１］駆動ユニットに関して、本願発明が、サブシステムに対し相対的に物品テーブルおよび／もしくはマスクテーブルを移動させ前記サブシステムに対して位置決めするのに対して、先願発明は、サブシステムに対し相対的に物品テーブルを移動させ前記サブシステムに対して位置決めする点。
［相違点２］測定システムに関して、本願発明が、サブシステムに対する相対的な物品テーブルおよび／もしくはマスクテーブルの位置を測定するのに対して、先願発明は、サブシステムに対する相対的な物品テーブルの位置を測定する点。
［相違点３］測定システムに関して、本願発明が、静止部と、この静止部に協働するためマスクテーブルに固定された移動部とを備え、および／もしくは前記測定システムは、前記測定システムの前記静止部と協働するため物品テーブルに固定された移動部とを具えるのに対して、先願発明は、静止部と、測定システムの前記静止部と協働するため物品テーブルに固定された移動部とを具える点。
　 
（４）判断 
　相違点について検討する。
　相違点１乃至３においては、「物品テーブル」と「マスクテーブル」とが択一的に記載されている。
　そこで、相違点１に係る本願発明において「マスクテーブル」に関する構成を取り除くと、相違点１に係る本願発明は、駆動ユニットに関して、サブシステムに対し相対的に物品テーブルを移動させ前記サブシステムに対して位置決めするものとなり、先願発明との実質的な差異は認められない。
　同様に、相違点２に係る本願発明において「マスクテーブル」に関する構成を取り除くと、相違点２に係る本願発明は、測定システムに関して、サブシステムに対する相対的な物品テーブルの位置を測定するものとなり、先願発明との実質的な差異は認められない。
　同様に、相違点３に係る本願発明において「マスクテーブル」に関する構成を取り除くと、相違点３に係る本願発明は、測定システムに関して、静止部と、測定システムの前記静止部と協働するため物品テーブルに固定された移動部とを具えるものとなり、先願発明との実質的な差異は認められない。
　したがって、本願発明は、先願発明と同一であるから、特許法第２９条の２の規定により特許を受けることができない。 
　 
（５）むすび 
　以上のとおり、本願発明は、先願明細書に記載された発明と同一であり、しかも、本願発明の発明者が上記先願明細書に記載された発明の発明者と同一であるとも、また、本願の出願時に、その出願人が上記他の出願の出願人と同一であるとも認められないので、本願発明は、特許法第２９条の２の規定により特許を受けることができない。 
　よって、結論のとおり審決する。