【事件の表示】
　平成　８年特許願第　　１６０８号「透過孔マスク、その形成方法、及び電子ビーム露光方法」拒絶査定不服審判事件〔平成　９年　７月２２日出願公開、特開平　９−１８９９９２〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続きの経緯
　本願は、平成８年１月９日の出願であって、平成１６年９月３０日付で拒絶査定がなされ、これに対し、平成１６年１１月４日に拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに、同年１２月３日付で手続補正がなされたものである。
　
２．平成１６年１２月３日付の手続補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　平成１６年１２月３日付の手続補正を却下する。
［理由］
（１）　補正後の本願発明
　本件補正により、特許請求の範囲の請求項１は、平成１６年２月２０日付の手続補正による「各々が少なくとも一つの透過孔を含む複数のブロックを含み、該複数のブロックの一つを選択して電子ビームを照射して、該少なくとも一つの透過孔を透過した電子ビームによって試料上にパターンの露光を行うための透過孔マスクであって、
　電子ビームを透過しない板と、
　その各々がその面積より小さな面積の微細透過孔を有し、該板上で該パターンを構成する複数の微細矩形領域を含むと共に、該複数の微細矩形領域は、前記パターンをｘ方向及びｙ方向に延在する辺を有する一つ或いはそれ以上の矩形部分に分割したときに、該矩形部分をｘ方向及びｙ方向に一つ或いはそれ以上に分割した領域であり、該複数の微細透過孔の総面積が所定値を越えないことを特徴とする透過孔マスク。」を、「各々が少なくとも一つの透過孔を含む複数のブロックを含み、該複数のブロックの一つを選択して電子ビームを照射して、該少なくとも一つの透過孔を透過した電子ビームによって試料上にパターンの露光を行うための透過孔マスクであって、
　電子ビームを透過しない板と、
　パターン部とを含み、
　該パターン部は前記パターン部の形をｘ方向及びｙ方向に延在する辺を有する一つ或いはそれ以上の矩形部分に分割したときに、該矩形部分の各々がｘ方向及びｙ方向に一つ或いはそれ以上の微細矩形領域に分割され、該微細矩形領域は、その各々がその面積より小さな面積の微細透過孔を有するとともに、その集まり全体の形が該板上で該パターン部の形を構成し、該パターン部の面積に対する該微細透過孔の総面積の比率が所定値を越えないことを特徴とする透過孔マスク。」と補正された。
　上記補正は、請求項１に記載した発明の「各々がその面積より小さな面積の微細透過孔を有し、該板上で該パターンを構成する複数の微細矩形領域を含むと共に、該複数の微細矩形領域は、前記パターンをｘ方向及びｙ方向に延在する辺を有する一つ或いはそれ以上の矩形部分に分割したときに、該矩形部分をｘ方向及びｙ方向に一つ或いはそれ以上に分割した領域であり、該複数の微細透過孔の総面積が所定値を越えないこと」を、「パターン部とを含み、
　該パターン部は前記パターン部の形をｘ方向及びｙ方向に延在する辺を有する一つ或いはそれ以上の矩形部分に分割したときに、該矩形部分の各々がｘ方向及びｙ方向に一つ或いはそれ以上の微細矩形領域に分割され、該微細矩形領域は、その各々がその面積より小さな面積の微細透過孔を有するとともに、その集まり全体の形が該板上で該パターン部の形を構成し、該パターン部の面積に対する該微細透過孔の総面積の比率が所定値を越えないこと」と限定するものであって、特許法第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　そこで、本件補正後の前記請求項１に記載された発明（以下、「本願補正発明」という。）が、特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）について以下に検討する。
　
（２）引用例
　引用例１；特開平７−３１２３４１号公報
（２）．１　引用例１の記載内容
　記載１
　引用例１の【００１６】段落には、
「【００１６】
【課題を解決するための手段】上記した課題は、図５に例示するように、１ショットによりパターンを形成する電子ビーム露光マスクにおいて、荷電粒子を遮蔽する電子ビーム遮蔽パターン２１と、前記荷電粒子遮蔽パターン２１の周縁に沿って梁２４，２５，２７を挟んで一列に配置された複数の開孔部２２，２３，２６とを有することを特徴とする電子ビーム露光マスクにより解決する。」
と記載されている。
　
　記載２
　引用例１の【００２２】段落には、
「【００２２】上記した課題は、図７、図１８に例示するように、マトリクス状に複数形成した孔７７を有する露光マスクを使用してポジ型レジストのパターン非形成領域を露光することにより、現像の際に該パターン非形成領域にある該ポジ型レジストを除去する量の荷電粒子を該パターン非形成領域に付与することを特徴とする電子ビーム露光方法によって解決する。」
と記載されている。
　
　記載３
　引用例１の【００２６】段落には、
「【００２６】…露光マスクを形成する場合に、レジストに形成しようとするパターンを複数の矩形状の領域に区分して、…孔を露光マスクに形成するようにしている。このため、露光マスクの孔の大きさや配置が比較的容易に決定される。」
と記載されている。
　
　記載４
　引用例１の【００８１】、【００８２】段落には、
「【００８１】…
（第３実施例）
　ポジレジストにレジストパターンを形成する場合に、レジスシストを残さないい領域では、電子ビームを照射して荷電粒子により塗り潰す必要がある。しかし、大きな径の電子ビームでその領域を塗りつぶす場合にはクーロンインターラクションによってパターンが形成される領域に電荷粒子が広がることがあるので、これを防止することが必要になる。
【００８２】そこで、荷電粒子を塗り潰す領域に、第１実施例のような梁を形成して複数に区分することが考えられる…」
と記載されている。
　
　記載５
　引用例１の【００８４】段落には、
「【００８４】図１８中符号７４は、第１実施例で説明したような梁（荷電粒子遮蔽領域）７５により区画された開口部７７に囲まれた島状パターンであり、マトリクス状に複数配置されている。複数の島状パターン７４は梁７５によって互いに繋げられている。島状パターン７４の集合領域の回りには、矩形状の小さな孔７７がマトリクス状に配置され、その孔７７を仕切る梁（荷電粒子遮蔽領域）７８は解像しない程度の幅を有している。」
と記載されている。
　
　記載６
　引用例１の【００９０】段落には、
「【００９０】なお、上記した説明では図１８に示すように島状パターン７４とマトリクス状の孔７７を１つの露光マスクに形成しているが、それらを別々の露光マスクとしてもよい。…」
と記載されている。
　
　記載７
　引用例１の【００４０】段落には、
「【００４０】…電子ビーム遮蔽パターン１１を囲む第一及び第二の開孔部１２，１３の幅はマスク上で１１μｍであり、…」
　
　引用例１に記載された第１８図は、以下のとおりである。
　
　　　
 
（２）．２　引用例１に記載された発明
　上記引用例１の記載１を参照すると、引用例１には、「１ショットによりパターンを形成する電子ビーム露光マスクにおいて、荷電粒子を遮蔽する電子ビーム遮蔽パターンと、前記荷電粒子遮蔽パターンの周縁に沿って梁を挟んで一列に配置された複数の開孔部とを有する電子ビーム露光マスク」の発明が記載され、また、上記引用例１の記載２を参照すると、上記発明の電子ビーム露光マスクは、露光マスクを使用してレジストのパターンを露光するものである。
　さらに、上記引用例１の記載４〜６及び第１８図を参照すると、上記発明の電子ビーム露光マスクは、開孔部を有し、当該開孔部（上記記載４、５では、開孔部は孔７７と記載されている。）の集まり全体の形がパターン部を形成し、開孔部以外は、電子ビーム遮蔽部であることが明らかである。
　
　そうすると、上記引用例１には、
「少なくとも一つの開孔部を含み、電子ビームを照射して、該少なくとも一つの開孔部を透過した電子ビームによってレジスト上にパターンの露光を行うための複数の開孔部とを有する電子ビーム露光マスクであって、
　電子ビームを透過しない遮蔽部と、
　パターン部とを含み、
　該パターン部は開孔部を有するとともに、その集まり全体の形が該電子ビームを透過しない遮蔽部板上で該パターン部の形を構成した複数の開孔部とを有する電子ビーム露光マスク。」
の発明が記載されている。
　
（３）対比
　そこで、本願補正発明と引用例１に記載された発明とを比較する。
　引用例１記載の「開孔部」、「開孔部とを有する電子ビーム露光マスク」及び「電子ビームを透過しない遮蔽部」は、それぞれ本願補正発明の「透過孔」、「透過孔マスク」及び「電子ビームを透過しない板」に相当する。
　また、電子ビーム露光の技術分野において、レジストはウエハの上に塗布され、レジストとウエハを合わせて「試料」と呼称されるが、露光の対象はレジストであるので、引用例１における「レジスト」は、本願補正発明の「試料」に実質的に相当する。
　また、本願明細書によれば、微細透過孔の一辺の長さは、少なくとの２０μｍ（【００６４】段落）であるから、引用例１の記載７を参照すると、上記微細透過孔の一辺の長さは、引用例１の記載の発明の開孔部の一辺の長さと同程度であるから、引用例１の記載の発明の開孔部は、本願補正発明の微細透過孔に実質的に相当する。
　
　そうすると両者は、
「少なくとも一つの透過孔を含み、電子ビームを照射して、該少なくとも一つの透過孔を透過した電子ビームによって試料上にパターンの露光を行うための透過孔マスクであって、
　電子ビームを透過しない板と、
　パターン部とを含み、
　該パターン部は微細透過孔を有するとともに、その集まり全体の形が該板上で該パターン部の形を構成した透過孔マスク。」
において一致し、以下の点で相違する。
　
　相違点１
　本願補正発明が、「各々が少なくとも一つの透過孔を含む複数のブロックを含み、該複数のブロックの一つを選択して電子ビームを照射して、該少なくとも一つの透過孔を透過した電子ビームによって試料上にパターンの露光を行うための透過孔マスク」であるのに対し、引用例１に記載された発明は、少なくとも一つの透過孔に電子ビームを照射して、該少なくとも一つの透過孔を透過した電子ビームによって試料上にパターンの露光を行うための透過孔マスクであるものの、透過孔を含むブロックの記載がないこと、及び複数のブロックを含み、該複数のブロックの一つを選択して電子ビームを照射することの記載がない点で相違する。
　
　相違点２
　本願補正発明は、「パターン部は前記パターン部の形をｘ方向及びｙ方向に延在する辺を有する一つ或いはそれ以上の矩形部分に分割したときに、該矩形部分の各々がｘ方向及びｙ方向に一つ或いはそれ以上の微細矩形領域に分割され、該微細矩形領域は、その各々がその面積より小さな面積の微細透過孔を有する」のに対し、引用例１に記載された発明は、当該記載がない点で相違する。
　
　相違点３
　本願補正発明が、「パターン部の面積に対する微細透過孔の総面積の比率が所定値を越えない」のに対し、引用例１に記載された発明は、その旨の記載がない点で相違する。
　
（４）判断
　相違点１について検討する。
　本願明細書において、ブロックの明確な定義がないが、本願明細書の【０００３】段落を参照すると、ブロックとは１ショットの電子ビームで露光されるマスク上の範囲であると解されるところ、引用例１記載の発明においても、１ショットによりパターンを形成するものであるから、引用例１に記載された発明においても透過孔を含むブロックを、実質的に有している。
　また、複数のブロックの一つを選択して電子ビームを照射することは、当該技術分野において周知手段（例えば、特開平２−７１５０９号公報、特開平４−５８５１８号公報及び特開平４−５６２１０号公報等参照）にすぎないから、相違点１に係る構成については、当業者が容易に想到できた程度のことである。
　
　相違点２について検討する。
　当該技術分野において、パターンの図形が主としてｘ方向及びｙ方向に伸びた矩形を組み合わせた図形からなることは、周知事項（例えば、引用例１に記載された第１８図及び第２６図等参照）であって、また、引用例１の上記記載３を参照すると、パターンを複数の矩形状の領域に区分して、孔を露光マスクに形成することが記載されていることを考慮すると、上記パターンの図形をｘ方向及びｙ方向に延在する辺を有する一つ或いはそれ以上の矩形部分に分割し、当該矩形部分を微細矩形領域に分割して、当該微細矩形領域に微細透過孔を設けることは当業者が容易に想到できた程度のことにすぎず、また、微細透過孔の面積を微細矩形領域の面積より小さくすることは微細矩形領域を設けた意味（引用例１の記載４参照）からすると、当然のことにすぎない。
　したがって、相違点２に係る構成については、当業者が容易に想到できたことである。
　
　相違点３について検討する。
　引用例１に記載された発明の微細透過孔を設ける理由は、パターン部を大きな開口とすると、クーロンインタラクションによる弊害があるためであり、引用例１に記載された発明は必然的に、「パターン部の面積に対する微細透過孔の総面積の比率が所定値を越えない」ことは当業者が容易に想到できたことである。
　
　そして、本願補正発明の作用効果も、引用例１記載の発明及び周知手段・周知事項から当業者が予測できる範囲のものである。
　
　したがって、本願補正発明は、引用例１記載の発明及び周知手段・周知事項に基づいて当業者が容易に想到しえたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
（５）むすび
　以上のとおり、本件補正は、特許法第１７条の２第５項で準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するものであり、特許法第１５９条第１項で準用する特許法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。
　
３．本願発明について
　平成１６年１２月３日付の手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明（以下、同項記載の発明を「本願発明」という。）は、本願出願当初の明細書の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される、以下のとおりのものである。
「各々が少なくとも一つの透過孔を含む複数のブロックを含み、該複数のブロックの一つを選択して電子ビームを照射して、該少なくとも一つの透過孔を透過した電子ビームによって試料上にパターンの露光を行うための透過孔マスクであって、
　電子ビームを透過しない板と、
　その各々がその面積より小さな面積の微細透過孔を有し、該板上で該パターンを構成する複数の微細矩形領域を含むと共に、該複数の微細矩形領域は、前記パターンをｘ方向及びｙ方向に延在する辺を有する一つ或いはそれ以上の矩形部分に分割したときに、該矩形部分をｘ方向及びｙ方向に一つ或いはそれ以上に分割した領域であり、該複数の微細透過孔の総面積が所定値を越えないことを特徴とする透過孔マスク。」
（１）引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された引用例１及びその記載事項は、前記「２．（２）」に記載したとおりである。
　
（２）対比・判断      
　本願発明は、前記２．で検討した本願補正発明から、限定事項である「微細矩形領域は、その各々がその面積より小さな面積の微細透過孔を有する」及び「パターン部の面積に対する該微細透過孔の総面積の比率が所定値を越えない」との構成を省くものである。
　そうすると、本願発明の構成要件を全て含み、さらに他の構成要件を付加したものに相当する本願補正発明が、前記「２．（４）」に記載したとおり、引用例１記載の発明及び周知手段・周知事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様の理由により、引用例１記載の発明及び周知手段・周知事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
（３）むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用例１記載の発明及び周知手段・周知事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
よって、結論のとおり審決する。