【事件の表示】
　平成　８年特許願第３１２６５０号「大サイズ基板用露光装置および露光方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１０年　５月２９日出願公開、特開平１０−１４２８０４〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯 
　本願は、出願日が平成８年１１月１１日である特願平８−３１２６５０号であって、平成１６年４月１５日付けで拒絶査定がなされ、これに対して平成１６年５月２５日に拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに、平成１６年６月１６日付けで手続補正がなされたものである。 
　 
２．平成１６年６月１６日付けの手続補正についての補正却下の決定 
［補正却下の決定の結論］ 
　平成１６年６月１６日付けの手続補正を却下する。 
　 
［理由］独立特許要件違反 
（１）補正後の本願発明 
　平成１６年６月１６日付けの手続補正（以下、「本件補正」という。）により、特許請求の範囲の請求項１は、
「基板を、感光材面を垂直方向にして保持して、感光材面に沿い互いに直交する２軸Ｘ、Ｙと感光材面に垂直なＺ軸方向、及び感光材面に沿うθ方向（回転方向）に微動制御でき、且つ、少なくともＸ、Ｙ方向の１方向に所定の距離だけステップ移動できるステージと、マスク面を基板側に向け、原版を垂直方向にして保持する原版保持部と、原版の裏面から基板側へ露光光を照射するための光源部とを有し、原版の絵柄を等倍にて、露光する位置をずらして複数回、基板の感光材面に露光転写するための露光装置で、
且つ、液晶表示装置用のカラーフィルターを形成した表示パネル、プラズマディスプレイ用表示パネル等に用いられる大サイズガラス基板を平行光にて露光するための露光装置
前記ギャップ制御機構は、基板と原版との間隔を５０〜３００μｍの範囲のギャップに制御できるもので、
と補正された。
 
　この補正は、「露光装置」を「液晶表示装置用のカラーフィルターを形成した表示パネル、プラズマディスプレイ用表示パネル等に用いられる大サイズガラス基板を平行光にて露光するための露光装置」と限定するとともに、「ギャップ制御機構」について「ギャップ制御機構は、基板と原版との間隔を５０〜３００μｍの範囲のギャップに制御できるもの」と限定したものである。
　したがって、この補正は、特許法第１７条の２第４項第２号の限定的減縮に該当する。 
　そこで、本件補正後の前記請求項１に記載された発明（以下、「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）について以下に検討する。 
　 
（２）引用例 
　拒絶の理由に引用された特開平４−１８８６０９号公報（以下、「引用例１」という。）には、以下の事項が記載されている。 
ア．「【特許請求の範囲】
　Ｘ線や光を利用してマスクに描かれた描画パターンを露光すべき基板上に露光転写する露光装置において、前記基板の位置決めテーブルに搭載されて前記基板を着脱自在に保持するチャックを、前記テーブルとは別体で、かつ前記テーブルに対して移動自在に構成したことを特徴とする露光装置。」（第１頁左下欄第４行〜第１１行） 
イ．「（産業上の利用分野）
　本発明は、例えば超ＬＳＩや液晶デイスプレ等を製造する際に使用して最適な露光装置に関する。」 （第１頁左下欄第１４行〜第１６行） 
ウ．「ここに、露光中における前記半導体ウェハ７の表面とマスク９との間のギャップｇは、１０〜５０μｍ程度と極めて微小にする必要があった。」（第２頁左上欄第１１行〜第１３行）
エ．「第１図は、本実施例に用いられるＳＯＲを光源とした縦型のＸ線露光装置の基本的な構成を示すもので、マスク９に描かれた回路パターンを半導体ウェハ７に焼き付けるステップ・アンド・リピート方式のＸ線露光装置を示す。
　この実施例において、露光エリヤは、例えば２５ｍｍ角であり、半導体ウェハ７は、一般に６インチ（１５０ｍｍΦ）以上であるので、露光毎に半導体ウェハ７をＸ及びＹ方向に２５ｍｍづつ以上移動させて半導体ウェハ７の全面にマスク９による回路パターン（マスクパターン）の焼き付けを行う。
　このために、ウェハステージ架台１には、Ｘ方向及びＹ方向に移動可能なＸステージ２及びＹステージ３、マスク９と半導体ウェハ７との隙間ｇを決められた値にするための微動Ｚステージ４及びθ方向に回転可能なθステージ５とからなるウェハテーブル６が備えられている。
　更に、前記ウェハテーブル６には、真空吸着等により半導体ウェハ７を着脱自在に保持するウェハチャック８が、ウェハテーブル６とは別体で、マスク９の方向にウェハテーブル６と相対的に移動自在に備えられている。
　なお、第１図は、ウェハチャック８がマスク９に近接する方向に移動し、マスク９と半導体装置ハフの表面とのギャップｇが、例えば３０μｍ程度の微小間隔に設定された状態を示している。前記マスク９は、マスク架台１１に固定されたマスクチャック１０に真空吸着等によって固定されている。
　また、図示されていないか、マスクチャック１０には、微小な位置決めを行うために、Ｘ、Ｙ、Ｚ及びθ方向に微動させるための微動機構が備えられている。
　前記マスク架台１１の内部には、マスク９と半導体ウェハ７との位置合わせ（アライメント）を行うためのアライメント光学系１２が設けられ、マスク９と半導体ウェハ７に設けられた位置合わせ用のマークの位置をレーザ光１３により測定し、マスク９と半導体ウェハ７との位置ずれ或いは間隙を検出し、ウェハテーブル６のＸステージ２、Ｙステージ３及びθステージ５によって位置合わせを行うとともに、Ｚステージ４によりギャップｇを設定し、ボート１４を通るＸ線によって露光が行われるようなされている。」（第２頁左下欄第１６行〜第３頁左上欄第２０行）
オ．「第４図及び第５図は上記ウェハチャック８の移動機構の詳細を示すもので、第４図はウェハチャック８が引っ込んだ状態、即ち半導体ウェハ７の着脱時の状態を、第５図はウェハチャック８が突出した状態、即ち半導体ウェハ７をマスク９に近接させて露光を行う際の状態を夫々示す。
　ウェハチャック８の表面には、２点鎖線で示す半導体ウェハ７を吸着保持するための真空溝２３が形成されているとともに、この真空溝２３には、真空排気用バイブ２４が接続されている。更に、軸受２５により、円板状部材２６に対してθ方向に回転可能なθステージ５のウェハチャック８側には、ウェハチャック８の裏面８ａを吸着保持するための、真空溝２７が形成されているとともに、この真空１２７に真空排気用バイブ２８が接続され、半導体ウェハ７の着脱時にθステージ５につエバチャック８を固着して、両者５，８が一体となって移動するようなされている。」（第３頁右下欄第５行〜第４頁左上欄第２行）
カ．「なお、上記実施例では、半導体ウェハ７を鉛直面内でウェハチャック８に着脱するようにしたものを示しているが、水平面内で着脱するようにしたものにも適用できることは勿論である。」（第４頁左下欄第１４行〜第１７行）
キ．第１図及び第２図には、基板を保持するウエハステージ１とマスクを保持するマスク架台１１が記載されている。
ク．第１及び第２図には、Ｙ軸、Ｚ軸、及びθ方向が記載されている。
ケ．第３図には、Ｘ軸、Ｚ軸、及びθ方向が記載されている。
　 
　ここで、基板が感光材面を有すること、及びマスクがマスク面を有していてマスク面が基板側に向けられていることは明らかである。また、引用例１の前記記載事項エ．の「縦型のＸ線露光装置」との記載と引用例１の前記記載事項カ．及びキ．により、基板が垂直方向に保持されていること、及びマスクが垂直方向に保持されていることも明らかである。してみると、基板の感光材面を垂直方向にして保持していること、及び、マスク面を基板側に向け、このマスクを垂直方向にして保持していることは、当業者にとって自明のことである。
　また、引用例１の前記記載事項キ．乃至ケ．により、２軸Ｘ、Ｙは感光材面に沿い互いに直交し、Ｚ軸は感光材面に垂直な方向であることは、当業者に自明のことである。
　したがって、これらの記載事項により、引用例１には、「基板を、感光材面を垂直方向にして保持して、感光材面に沿い互いに直交する２軸Ｘ、Ｙと感光材面に垂直なＺ軸方向、及び感光材面に沿うθ方向（回転方向）に微動させることができ、且つ、Ｘ、Ｙ方向にステップ移動できるステージと、マスク面を基板側に向け、マスクを垂直方向にして保持するマスクチャックと、マスクの裏面から基板側へ露光光を照射するための光源とを有し、マスクパターンを、ステップ・アンド・リピート方式により、基板の感光材面に露光転写するための露光装置で、且つ、液晶ディスプレイ等の基板を露光するための露光装置であって、ステージに保持された基板と、マスクとの位置合せを行うアライメント光学系とを備え、前記ステージには、真空吸着により基板を固定するチャックが設けられているもので、基板とマスクと近接させ、間隔を設定したギャップにして露光を行う近接露光にて、基板をステップ移動させ、マスクを介して基板への露光を行い、マスクのパターンを転写露光するものであることを特徴とする基板用露光装置。」の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されている。
　 
（３）対比 
　そこで、本願補正発明と引用発明とを対比すると、引用発明の「微動させることができ」は本願補正発明の「微動制御でき」に、以下同様に「Ｘ、Ｙ方向にステップ移動できるステージ」は「少なくともＸ、Ｙ方向の１方向に所定の距離だけステップ移動できるステージ」に、「マスク」は「原版」に、「マスクチャック」は「原版保持部」に、「光源」は「光源部」に、「マスクパターン」は「原版の絵柄」に、「液晶ディスプレイ等の基板」は「液晶表示装置用のカラーフィルターを形成した表示パネル、プラズマディスプレイ用表示パネル等に用いられる基板」に、「アライメント光学系」は「アライメント機構」に、「チャック」は「基板保持部」に、「間隔を設定したギャップにして」は「間隔を所定のギャップに保ちながら」に、それぞれ相当する。
　ここで、引用発明は、近接露光にて露光を行うものであるから、引用発明が、原版の絵柄を等倍にて基板の感光材面に露光転写するもの、及び基板を平行光にて露光を行うものであることは、当業者にとって自明のことである。
　また、引用発明は、ステップ・アンド・リピート方式により、基板の感光材面に露光転写するものであって、引用例１の前記記載事項エ．に「この実施例において、露光エリヤは、例えば２５ｍｍ角であり、半導体ウェハ７は、一般に６インチ（１５０ｍｍΦ）以上であるので、露光毎に半導体ウェハ７をＸ及びＹ方向に２５ｍｍづつ以上移動させて半導体ウェハ７の全面にマスク９による回路パターン（マスクパターン）の焼き付けを行う。」と記載されているので、引用発明は、露光する位置をずらして複数回、基板の感光材面に露光転写し、基板を所定のピッチでステップ移動させ、複数の位置にて原版を介して基板への露光を行うものである。
　さらに、引用発明のアライメント光学系が、基板とマスクとの位置合せを自動で行うことは、当業者にとって自明のことである。
　したがって、本願補正発明と引用発明とは、 
「基板を、感光材面を垂直方向にして保持して、感光材面に沿い互いに直交する２軸Ｘ、Ｙと感光材面に垂直なＺ軸方向、及び感光材面に沿うθ方向（回転方向）に微動制御でき、且つ、少なくともＸ、Ｙ方向の１方向に所定の距離だけステップ移動できるステージと、マスク面を基板側に向け、原版を垂直方向にして保持する原版保持部と、原版の裏面から基板側へ露光光を照射するための光源部とを有し、原版の絵柄を等倍にて、露光する位置をずらして複数回、基板の感光材面に露光転写するための露光装置で、且つ、液晶表示装置用のカラーフィルターを形成した表示パネル、プラズマディスプレイ用表示パネル等に用いられる基板を平行光にて露光するための露光装置であって、ステージに保持された基板と、原版との位置合せを自動で行う自動アライメント機構と、前記ステージには、真空吸着により基板を固定する基板保持部が、固定して設けられているもので、基板と原版と近接させ、間隔を所定のギャップに保ちながら露光を行う近接露光にて、基板を所定のピッチでステップ移動させ、複数の位置にて原版を介して基板への露光を行い、原版の絵柄を転写露光するものであることを特徴とする基板用露光装置。」
である点で一致し、以下の点で相違している。 
［相違点１］基板に関して、本願補正発明が、大サイズガラス基板であるのに対して、引用発明はこのような限定がない点。
［相違点２］本願補正発明が、原版の絵柄領域を遮蔽することにより露光領域を制御する露光領域制御機構を設けたのに対して、引用発明にはこのような限定がない点。 
［相違点３］本願補正発明が、ステージには、基板保持部に対し垂直方向に上下動可能であって真空吸着により基板を固定する基板シフト部が、固定して設けられているのに対して、引用発明には、このような限定がない点。
［相違点４］本願補正発明が、基板と原版とのギャップを制御するギャップ制御機構とを備え、前記ギャップ制御機構は、基板と原版との間隔を５０〜３００μｍの範囲のギャップに制御できるものであるのに対して、引用発明にはこのような限定がない点。 
［相違点５］露光装置に関して、本願補正発明が、大サイズ基板用露光装置であるのに対して、引用発明は基板用露光装置であるとの記載にとどまる点。 
　
（４）判断 
　上記各相違点について検討する。
 
［相違点１］及び［相違点５］について
　引用発明は液晶ディスプレイ等の基板用露光装置であって、液晶ディスプレイの基板としてガラス基板を用いることは周知の事項である。
　また、基板のサイズをどの程度とするかは、当業者にとって設計的事項にすぎない。
　してみると、相違点１及び相違点５に係る構成とすることは、当業者が容易に想到し得た事項である。
　
［相違点２］について
　原版の絵柄領域を遮蔽することにより露光領域を制御する露光領域制御機構を設けることは、特開昭６１−５１８２７号公報、特開昭６２−２７０９５９号公報に記載されているように露光装置においては周知の事項である。　してみると、相違点２に係る構成とすることは、当業者が容易に想到し得た事項である。
　
［相違点３］について
　ステージに基板保持部に対し垂直方向に上下動可能であって真空吸着により基板を固定する基板シフト部を固定して設けることは、特開平２−１５６６２２号公報、特開平５−１９０４１４号公報、特開平７−１４２５５９号公報、特開平８−１８１０５４号公報に記載されているように周知の事項である。
　ここで、基板シフト部を縦型でない露光装置のステージに固定して設けた場合、基板シフト部が移動する方向は、本願発明の基板シフト部が移動する方向とは異なるものである。しかしながら、引用発明の基板保持部は基板を保持し、基板は感光材面を垂直方向にして保持されたものであるから、引用発明の基板保持部はステージに垂直方向に固定して設けられたものである。そうすると、上記周知の事項である基板シフト部を引用発明のステージに固定して設けた場合、基板シフト部が移動する方向は、本願発明の基板シフト部が移動する方向と差異はない。
　そして、引用例１の前記記載事項エ．の「更に、前記ウェハテーブル６には、真空吸着等により半導体ウェハ７を着脱自在に保持するウェハチャック８が、ウェハテーブル６とは別体で、マスク９の方向にウェハテーブル６と相対的に移動自在に備えられている。」との記載により、引用発明の基板保持部も、ステージに対し垂直方向に上下動可能であって真空吸着により基板を固定するという機能を有している。
　してみると、相違点３に係る構成とすることは、当業者が容易に想到し得た事項である。
　
［相違点４］について
　引用発明のステージはＺ方向に微動制御できるものであるから、引用発明は、基板と原版とのギャップを制御するギャップ制御する機能を有している。
　また、引用例１の前記記載事項ウ．に「露光中における前記半導体ウェハ７の表面とマスク９との間のギャップｇは、１０〜５０μｍ程度と極めて微小にする必要があった」と記載されていて、しかも、特開平７−２０１６９９号公報の【０００３】に「マスクと感光基板とを１０〜３００μｍ程度のギャップ間隔で近接させる」、特開平７−２６０４２４号公報の【請求項４】に「前記マスクと前記感光基板との間隔が１００［μｍ］以上、３００［μｍ］以下である」とそれぞれ記載されているように、基板と原版とのギャップを数十〜数百μｍ程度とすることは周知の事項である。そして、基板と原版との間隔を５０〜３００μｍの範囲とすることによる臨界的意義も格別のものとは認められない。
　してみると、相違点４に係る構成とすることは、当業者が容易に想到し得た事項である。
　
　そして、本願補正発明の作用効果も、引用発明及び周知の事項に基づいて当業者が予測できる範囲のものである。 
　 
　したがって、本願補正発明は、引用例１に記載された発明及び周知の事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができない。 
　 
（５）むすび 
　以上のとおり、本件補正は、特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので、特許法第１５９条第１項で読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。  
３．本願発明について 
（１）本願発明 
　平成１６年６月１６日付けの手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、平成１５年１２月１１日付け手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりのものと認める。 
「基板を、感光材面を垂直方向にして保持して、感光材面に沿い互いに直交する２軸Ｘ、Ｙと感光材面に垂直なＺ軸方向、及び感光材面に沿うθ方向（回転方向）に微動制御でき、且つ、少なくともＸ、Ｙ方向の１方向に所定の距離だけステップ移動できるステージと、マスク面を基板側に向け、原版を垂直方向にして保持する原版保持部と、原版の裏面から基板側へ露光光を照射するための光源部とを有し、原版の絵柄を等倍にて、露光する位置をずらして複数回、基板の感光材面に露光転写するための露光装置であって、ステージに保持された基板と、原版との位置合せを自動で行う自動アライメント機構と、原版の絵柄領域を遮蔽することにより露光領域を制御する露光領域制御機構と、該基板と原版とのギヤップを制御するギヤップ制御機構とを備え、前記ステージには、真空吸着により基板を固定する基板保持部と、該基板保持部に対し垂直方向に上下動可能であって真空吸着により基板を固定する基板シフト部とが、固定して設けられているもので、基板と原版と近接させ、間隔を所定のギヤップに保ちながら露光を行う近接露光にて、基板を所定のピッチでステップ移動させ、複数の位置にて原版を介して基板への露光を行い、原版の絵柄を転写露光するものであることを特徴とする大サイズ基板用露光装置。」 
　 
（２）引用例 
　原査定の拒絶の理由に引用された引用例１の記載事項は、前記「２．（２）」に記載したとおりである。 
　 
（３）対比・判断 
　本願発明は、本願補正発明から、前記「２．（１）」で述べた構成の限定を省いたものである。 
　
　そうすると、本願発明の構成要件をすべて含み、さらにその構成を限定したものに相当する本願補正発明が、前記「２．（４）」に記載したとおり、引用例１に記載の発明及び周知の事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様の理由により、引用例１に記載された発明及び周知の事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。 
　 
（４）むすび 
　以上のとおり、本願発明は、引用例１に記載された発明及び周知の事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。 
　よって、結論のとおり審決する。