(57)【要約】  方法は、Ａ）第１の金属材料を有し、かつ、第１の金属層（１）は、互いに反対方向を向く第１の主面および第２の主面（１０、１１）を備える、第１の金属層（１）を提供するサブステップと、Ｂ）主面（１０、１１）のうちの少なくとも１つの上に、第２の金属材料を有する第２の金属層（２）を設けるサブステップと、Ｃ）第２の金属層（２）の一部分を誘電体セラミック層（３）に変換するサブステップであって、第２の金属材料はセラミック層（３）の部品を形成し、セラミック層（３）は、第１の金属層（１）とは反対方向を向き、第２の金属層（２）の上にある表面（３０）を形成する、サブステップと、を有する、キャリア要素（１００）を製造するステップと、キャリア要素（１００）上に少なくとも１つの電子半導体チップ（２１）を配置するステップとを有する。【選択図】図２Ｂ
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
キャリア要素（１００）を有する電子部品を製造する方法であって、
Ａ）第１の金属材料を有し、かつ、互いに反対方向を向く第１の主面および第２の主面（１０、１１）を備える第１の金属層を準備するサブステップと、
Ｂ）前記主面（１０、１１）のうちの少なくとも１つの上に、第２の金属材料を有する第２の金属層（２）を設けるサブステップと、
Ｃ）前記第２の金属層（２）の一部分を誘電体セラミック層（３）に変換するサブステップであって、前記第２の金属材料は、前記セラミック層（３）の一部分を形成し、前記セラミック層（３）は、前記第２の金属層（２）の上で、前記第１の金属層（１）とは反対方向を向く表面（３０）を形成する、サブステップと、
を含み、キャリア要素（１００）を製造するステップと、
前記キャリア要素（１００）上に少なくとも１つの電子半導体チップ（２１）を配置するステップと、
を含む、方法。
【請求項２】
前記第１の金属材料が、銅、ニッケル、チタン、鋼、ステンレス鋼およびそれらによる合金から選択される１つ、または複数の材料を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第２の金属材料は、アルミニウム、特に、９９．９９％以上の純度を有するアルミニウムを含む、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記第２の金属層（２）が、電気めっき法によって前記第１の金属層（１）上に設けられる、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記電気めっき法が、酸素および水を除外して行われる、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記セラミック層（３）が電解酸化によって生成される、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記第２の金属層（２）が、前記第１の金属層の直上に設けられる、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記第２の金属層（２）および前記セラミック層（３）が、前記第１の金属層（１）の主面（１０、１１）のうちの少なくとも１つの上で、広い領域にわたってコヒーレントに設けられる、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
パターン形成された第３の金属層（６）が前記セラミック層（３）上に設けられ、前記セラミック層（３）の直上にシード層（４）が設けられ、前記シード層（４）上に、前記第３の金属層（６）が電気めっき法によって設けられる、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記パターン形成された第３の金属層（６）は、少なくとも部分的に、パターン形成接触面（６０、６１、６２、６３）および／または配線を形成する、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記第１の金属層（１）には、少なくとも１つの開口部（７）が設けられ、前記第２の金属層（２）および前記セラミック層（３）は、前記開口部（７）の壁面上に設けられる、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
第３の金属層（６）が前記開口部（７）の前記壁面上で前記セラミック層（３）上に設けられて、前記第１の金属層（１）ならびに前記第１の金属層（１）の前記少なくとも１つの主面（１０、１１）上の前記第２の金属層（２）および前記セラミック層（３）を通過する電気フィードスルー（７０）が形成される、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
方法ステップＢおよびＣは、前記２つの主面（１０、１１）の各々の上で実施される、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
キャリア要素（１００）と、前記キャリア要素（１００）上の少なくとも１つの電子半導体チップ（２１）とを備える電子部品であって、前記キャリア要素（１００）は、
第１の金属材料を有し、互いに反対方向を向く第１の主面および第２の主面（１０、１１）を有する第１の金属層（１）と、
前記主面（１０、１１）のうちの少なくとも１つの上の、第２の金属材料を有する第２の金属層（２）と、
前記第２の金属層（２）上の誘電体セラミック層（３）であって、前記第２の金属材料は、前記セラミック層（３）の一部分を形成し、前記セラミック層（３）は、前記第２の金属層（２）の上で、前記第１の金属層（１）とは反対方向を向く表面（３０）を形成する、誘電体セラミック層（３）と、
を備える、電子部品。
【請求項１５】
前記第１の金属材料が、銅、ニッケル、チタン、鋼、ステンレス鋼および、それらによる合金から選択される１つまたは複数の材料を含み、前記第２の金属材料が、アルミニウム、特に、９９．９９％以上の純度を有するアルミニウムを含む、請求項１４に記載の電子部品。
【請求項１６】
前記第２の金属層（２）が前記第１の金属層（１）の直上に配置されており、前記セラミック層（３）が前記第２の金属層（２）の直上に配置されている、請求項１４または１５に記載の電子部品。
【請求項１７】
前記セラミック層（３）上に、パターン形成された第３の金属層（６）が配置されており、前記パターン形成された第３の金属層（６）は、少なくとも部分的に、パターン形成接触面（６０、６１、６２、６３）および／または配線を形成する、請求項１４〜１６のいずれか一項に記載の電子部品。
【請求項１８】
前記第１の金属層（１）は、少なくとも１つの開口部（７）を備え、
前記第２の金属層（２）および前記セラミック層（３）は、前記開口部（７）の壁面上に設けられ、
第３の金属層（６）が前記開口部（７）の前記壁面上で前記セラミック層（３）上に配置されて、前記第１の金属層（１）ならびに前記第１の金属層（１）の前記少なくとも１つの主面（１０、１１）上の前記第２の金属層（２）および前記セラミック層（３）を通過する電気フィードスルー（７０）が形成される、請求項１４〜１７のいずれか一項に記載の電子部品。
【請求項１９】
前記キャリア要素は、前記第１の金属層（１）の主面（１０、１１）の各々の上に、第２の金属層（２）、および、この上のセラミック層（３）を備える、請求項１４〜１８のいずれか一項に記載の電子部品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
キャリア要素を製造する方法、キャリア要素、キャリア要素を有する電子部品を製造する方法およびキャリア要素を有する電子部品が提供される。
【背景技術】
【０００２】
電子用途には、コストが低いと同時に、絶縁特性、特に高い電気絶縁強度、および高い機械的強度とともに高い熱伝導性を有する基板が必要とされることが多い。このタイプの基板は、例えば、いわゆるＣＯＢ組立て（ＣＯＢ：チップ・オン・ボード）中に、または表面実装型ＳＭＤ部品（ＳＭＤ：表面実装部品）とともに、半導体チップを取り付けるために使用される。例えば、この目的のために、例えば酸化アルミニウム、窒化アルミニウムまたは窒化ケイ素から構成されるセラミック基板を使用することが知られている。さらに、例えば、無機充填剤が片面または両面に適用されている有機誘電体材料を有する銅またはアルミニウム基板から構成されているメタル・コア基板（ＭＣＢ）のようなプリント回路基板が知られている。さらに、「銅張り基板」（ＤＣＢ）という惹句で、銅−セラミック−銅積層体もまた知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】米国特許出願公開第２０１４／０２９３５５４号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特定の実施形態の目的は、特に電子部品のためのキャリア要素を製造する方法、このタイプのキャリア要素、キャリア要素を有する電子部品を製造する方法およびキャリア要素を有する電子部品を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
これらの目的は、独立請求項による方法および構成によって達成される。方法および構成の有利な実施形態および発展形態は、従属請求項において特徴付けられ、また、以下の説明および図面から理解することもできる。
【０００６】
少なくとも１つの実施形態によれば、キャリア要素を製造するための方法において、第１の金属層が提供される。第１の金属層は、特に、互いに反対方向を向く第１の主面および第２の主面を備える。特に、第１の金属層の表面が最も大きく延在している領域が、主面と称される。特に、第１の金属層は、側面によって互いに接続されている、互いに対向する２つの主面を有する金属フィルムまたは金属シートとして提供することができ、側面は、主面よりも小さい表面積を有することができる。第１の金属層は、パターン形成されていない形態で、例えば、コヒーレントなシート状またはフィルム状構造として提供することができる。代替として、第１の金属層をパターン形成された形態で、すなわち、例えば、凹部、開口部、孔、刻み目および／または隆起部を有するように提供することも可能である。例えば、パターン形成されたリード・フレームの形態で、パターン形成された第１の金属層を提供することができる。第１の金属層は、特に、自立式とすることができる。これは、第１の金属層が、適切な組成、厚さおよび構造によって、下記に説明する方法ステップのために十分な安定性を有し、完成したキャリア要素において、キャリア要素にその基本的な安定性および強度を提供する要素とすることができることを意味する。
【０００７】
さらなる実施形態によれば、第２の金属層が、主面のうちの少なくとも１つの上に設けられる。これは、第２の金属層が、第１の主面上に設けられるか、または、第２の金属層が、第２の主面上に設けられるか、または、第２の金属層が、第１の主面および第２の主面の各々の上に設けられることを意味する。特に、第２の金属層は、第１の金属層のそれぞれの主面上に広い領域にわたってコヒーレントに設けられ、それによって、第２の金属層は好ましくは、当該第２の金属層が設けられる主面の面積全体を被覆する。第２の金属層が２つの主面の各々の上に設けられる場合、これら２つの第２の金属層はそれゆえ、好ましくは各々がそれぞれの主面を、広い領域にわたってコヒーレントに被覆する。その上、主面を互いに接続する第１の金属層の側面も、第２の金属層によって被覆されることも可能である。第１の金属層が、例えば、開口部、孔または凹部の形態でのパターニングを有する場合、特にまた、第２の金属層がこれらの構造の側壁上に設けられることも可能である。
【０００８】
さらなる実施形態によれば、第１の金属層は第１の金属材料を有し、第２の金属層は第２の金属材料を有する。第１の金属層の第１の金属材料は、特に、第２の金属層の第２の金属材料と異なり得る。第１の金属材料は、特に、高い熱伝導性および／または高い機械的強度を有する材料によって形成され、それによって、第１の金属層は、特に、上述したように自立式である。第１の金属材料は、特に、以下の材料、すなわち、銅、ニッケル、チタン、鋼、ステンレス鋼およびそれらによる合金のうちの１つまたは複数によって形成することができる。第２の金属材料は、特に、電気めっきによって第１の金属材料上に設けることができる材料によって形成することができる。特に、第２の金属材料は、アルミニウム、特に、９９．９９％以上の純度を有するアルミニウムを含むか、または、当該アルミニウムから構成することができる。
【０００９】
さらなる実施形態によれば、第２の金属層が、電気めっき法によって第１の金属層上に設けられる。第２の金属材料を設けるために、特に、可能な最高純度のアルミニウムを第２の金属層として設けるために、酸素および水を排除して電気めっき法が行われることが特に有利である。
【００１０】
さらなる実施形態によれば、第２の金属層が、第１の金属層上に直に設けられる。これは言い換えれば、第２の金属層が第１の金属層の一方または両方の主面上に設けられた後、さらなる処理のための積層体が設けられることを意味し、積層体は、第１の金属層およびその直上にある第２の金属層から、または、直に接している２つの第２の金属層の間の第１の金属層から提供される。特に、中間層なしに、したがって、第１の金属層の一方または両方の主面上に直に、第２の金属材料としてのアルミニウムを上述した第１の金属材料のうちの１つの上に設けることが可能である。これは、層の設置を容易にすることができる。
【００１１】
さらなる実施形態によれば、第２の金属層の一部分が、誘電体セラミック層に変換される。特に、変換は、第２の金属層の、第１の金属層とは反対方向を向く表面によって形成される、第２の金属層の外面から開始することができる。言い換えれば、第２の金属層の一部分を変換するためのプロセスは、第１の金属層と、第１の金属層の一方または両方の主面上の１つまたは２つの第２の金属層から構成されている積層体の一方の外面からまたは両方の外面から開始される。特に、第２の金属材料は、変換後のセラミック層の一部分を形成することができる。セラミック層は、第１の金属層とは反対方向を向く第２の金属層の上の表面を形成することができる。これは、言い換えれば、第２の金属層の一部分が変換された後、第２の金属層の変換されていない部分が、第１の金属層と誘電体セラミック層との間に配置されることを意味する。第２の金属層が第１の金属層の一方の主面上にのみ設けられる場合、３層積層複合体が第２の金属層の一部分の変換によって生成され、これは、第１の金属層、この上の第２の金属層の変換されていない部分、および、これらの上の誘電体セラミック層によって形成される。第２の金属層が第１の金属層の両方の主面上に設けられる場合、５層積層複合体が第２の金属層の各々の一部分の変換によって生成され、これは、誘電体セラミック層、その上に配置される第２の金属層の変換されていない部分、その上にある第１の金属層、再びこの上の第２の金属層の変換されていない部分、および、これらの上のさらなる誘電体セラミック層によって形成される。
【００１２】
さらなる実施形態によれば、セラミック層は、広い領域にわたってコヒーレントに生成され、それによって、誘電体セラミック層は、第２の金属層の変換されていない部分を、広い領域にわたってコヒーレントに被覆する。したがって、特に、第２の金属層およびセラミック層は両方とも、第１の金属層の主面のうちの少なくとも１つの上に広い領域にわたってコヒーレントに設けられ、または、生成され得る。これはまた、残りの第２の金属層が、第１の金属層および誘電体セラミック層によって全体的に包囲されることを意味し得る。
【００１３】
さらなる実施形態によれば、誘電体セラミック層は、第２の金属材料の酸化物によって形成される材料を含む。第２の金属材料がアルミニウムを含むか、またはアルミニウムから成る場合、誘電体セラミック層は、特に、酸化アルミニウムを含むか、または、酸化アルミニウムによって形成され得る。
【００１４】
さらなる実施形態によれば、誘電体セラミック層は、電解酸化によって生成される。特に、セラミック層は、陽極酸化、プラズマ電解酸化またはスプレーコーティングによって設けられないことが可能である。これは、これらの方法が通常、多かれ少なかれ多孔質層または亀裂のある層を生成し、したがって、アルミニウムの場合は、多かれ少なかれ多孔質のまたは亀裂のある酸化アルミニウム層を生成するためである。他方、電解酸化によって、不浸透性の、可能な限り亀裂のないセラミック層を生成することができ、それゆえ、第２の金属材料がアルミニウムである場合には、電気的用途に特に適したセラミック酸化アルミニウム層を生成することができる。これは、特に、セラミック層が、例えば５Ｗ／ｍＫ以上の高い熱伝導率、および、特に３０Ｖ／μｍ以上の高い誘電強度を有することを意味し得る。電解酸化法に関して、ここではアルミニウムが第２の金属材料として特に有利であり得、一方で、例えば銅または鋼のような他の材料は、電子用途に使用され得る酸化物には変換され得ない。
【００１５】
誘電体セラミック層を生成するために、１つの第２の金属層が設けられている、または、２つの第２の金属層が設けられている第１の金属層を、電解質水溶液中に配置することができる。セラミック層はこの場合、第２の金属材料の、電解質溶液との酸素含有反応生成物として形成される。例えば、例として９以上のｐＨ値を有するアルカリ性水溶液を、電解質溶液として使用することができる。その上、電解質溶液が、１ｍＳ／ｃｍを超える導電率を有することが有利である。電解質溶液は、例えば、例として水酸化カリウムまたは水酸化ナトリウムのようなアルカリ金属水酸化物を含んでもよい。電解酸化法を使用することによって、特に、ナノ結晶構造、すなわち、２００ｎｍ未満、好ましくは１００ｎｍ未満の平均直径を有する結晶状粒子を有するセラミック構造を有するセラミック層を形成することができる。そのような小さい粒径の結果として、誘電体セラミック層の材料は、高い均質性および安定性を有することができる。電解酸化によってセラミック層を生成するための方法は、例えば、参照により関連開示内容全体が本明細書に組み込まれる、特許文献１に記載されている。電気めっき法は、第２の金属材料が高純度で適用されることを可能にし、これによって、第２の金属層の一部分を変換するための方法において、高品質セラミック材料、特に高品質のナノセラミックをもたらすことができるため、電解酸化法は、前述した第２の金属層を設けるための電気めっき法に関連して、特に有利である。
【００１６】
例えば、本明細書において説明されている方法によって誘電体セラミック層を設けられている単層自立式アルミニウム基板と比較して、第２の金属層に加えて支持要素として第１の金属層をも備える、本明細書において説明されているキャリア要素は、第２の金属層の第２の金属材料よりも高い熱伝導率を有する材料を、第１の金属層の第１の金属材料として使用することができるという利点を有する。さらに、第２の金属材料よりも安定している、すなわち、例えば、より高い弾性率を有する材料を、第１の金属材料として使用することができる。結果として、さらなる部品を装着するときに、および／または、例えば配線を生成するためのさらなる電気めっき法の間に、キャリア要素のより容易な処理を達成することが可能である。その上、例えばエッチングによって、第２の金属材料と比較してより容易にパターニングすることができる第１の金属材料を、第１の金属層に使用することができる。この結果として、パターニング中により精細な構造を達成することができ、それゆえ、最終的にもたらされる部品に、より小さい寸法を与えることができる。この結果としてまた、面積における利得に起因して、コストを節約することもできる。さらに、例えばチップおよび／またはプリント回路基板のような周囲の材料に応じて機械的応力をより低くすることができる、第２の金属材料と比較して熱膨張率がより低い材料を、第１の金属層の材料として選択することが可能である。
【００１７】
さらなる実施形態によれば、キャリア要素は、第１の金属材料を有する第１の金属層を備える。第１の金属層は、特に、互いに反対方向を向く第１の主面および第２の主面を備える。さらに、キャリア要素は、主面のうちの少なくとも１つの上に、第２の金属材料を有する第２の金属層を備える。さらに、キャリア要素は第２の金属層上に誘電体セラミック層を備え、第２の金属層の第２の金属材料は、セラミック層の一部分を形成し、セラミック層は、第２の金属層の上で、第１の金属層反対方向を向く表面を形成する。
【００１８】
さらなる実施形態によれば、電子部品は、そのようなキャリア要素と、その上にある少なくとも１つの電子半導体チップとを備える。
【００１９】
さらなる実施形態によれば、電子部品を製造するための方法において、キャリア要素が製造され、キャリア要素上に、少なくとも１つの電子半導体チップが配置される。
【００２０】
上記および下記に言及されている実施形態および特徴は、キャリア要素を製造する方法、キャリア要素、ならびに、キャリア要素を有する電子部品を製造する方法およびキャリア要素を有する電子部品にも同様に適用される。
【００２１】
さらなる実施形態によれば、パターン形成された第３の金属層が、セラミック層上に設けられる。パターン形成された第３の金属層は、少なくとも部分的に、例えばパターン形成接触面および／または配線を形成することができる。特に、パターン形成された第３の金属層は、例えば１つまたは複数の電子半導体チップまたは他の電子的もしくは電気的部品などの、キャリア要素上に配置される、さらなる部品を取り付けおよび／または電気接続するために設けることができる。
【００２２】
さらなる実施形態によれば、パターン形成された第３の金属層が、電気めっき法によって設けられる。この目的のために、シード層を広い領域にわたってセラミック層の直上に設けることができ、その後、その上に、第３の金属層が電気めっき法によって設けられる。第３の金属層のパターニングは、例えば、フォトリソグラフィ法によって達成することができる。この目的のために、例えば、第３の金属層を設けるために電気めっき法を実行する前に、フォトレジストを、パターン形成してシード層上に設けることができる。その後、電気めっき法の間に、第３の金属層の領域が、フォトレジストが存在しない領域内にのみ設けられる。その後、フォトレジストは除去することができる。代替として、最初に第３の金属層が広い領域にわたってシード層上に設けられる。次に、フォトレジストを、パターン形成されていない第３の金属層上に、パターン形成して適用することができる。エッチング法によって、第３の金属層を、やはりフォトレジストが存在しない領域内で除去することができる。次に、フォトレジストを除去することができる。
【００２３】
シード層上に第３の金属層が配置されていない領域において、その後、再びシード層を除去することができ、それによって、パターン形成された第３の金属層が存在しない領域において、セラミック層が、キャリア要素の外面を形成することができ、パターン形成された第３の金属層のパターン形成領域が、互いに電気的に絶縁される。第３の金属層は、特に高い伝導性を有することができ、容易にパターニングすることができる、例えば銅などの第３の金属材料を含むことができる。
【００２４】
さらなる実施形態によれば、第１の金属層には、少なくとも１つの開口部が設けられる。開口部は、特に主面のうちの１つから、第１の金属層へと延在することができる。この場合、特に、開口部が、第１の主面から第１の金属層を通じて第２の主面へと延在することも可能である。開口部は壁面を有する。上述した方法ステップの間、第２の金属層およびセラミック層は、開口部の壁面上に設けることができる。
【００２５】
さらなる実施形態によれば、上述した方法ステップに従って、第３の金属層が開口部の壁面上でセラミック層上に設けられて、第１の金属層ならびに第１の金属層の少なくとも１つの主面上の第２の金属層およびセラミック層を通過する電気フィードスルーが形成される。
【００２６】
本明細書において説明されているキャリア要素は、少なくとも１つの電子半導体チップがキャリア要素上に取り付けられている電子部品に特に使用することができる。電子半導体チップは、特に、パターン形成された第３の金属層上に取り付けることができ、かつ／または、パターン形成された第３の金属層によって電気的に接触することができる。特に、本明細書において説明されているキャリア要素は、それゆえ、表面実装のために、もしくは、ＳＭＤ部品のための基板として、または、例えば、いわゆるライトカーネル、ＩＧＢＴモジュール、スルーホール実装のための部品または同様の部品の製造における非ＳＭＤ部品のための基板として設けることができる。
【００２７】
上述した実施形態の特に有利な態様を、下記に示す。
態様１：例えば、電子部品において使用するためのキャリア要素を製造するための方法は、
Ａ）第１の金属材料を有する第１の金属層を準備するステップであって、第１の金属層は、互いに反対方向を向く第１の主面および第２の主面を備える、ステップと、
Ｂ）主面のうちの少なくとも１つの上に、第２の金属材料を有する第２の金属層を設けるステップと、
Ｃ）第２の金属層の一部分を誘電体セラミック層に変換するステップであって、第２の金属材料は、セラミック層の一部分を形成し、セラミック層は、第２の金属層の上で、第１の金属層とは反対方向を向く表面を形成する、ステップと、
を有する。
【００２８】
態様２：態様１による方法において、第１の金属材料が、銅、ニッケル、チタン、鋼、ステンレス鋼およびそれらによる合金から選択される１つまたは複数の材料を含む。
【００２９】
態様３：態様１または態様２による方法において、第２の金属材料は、アルミニウム、特に、９９．９９％以上の純度を有するアルミニウムを含む。
【００３０】
態様４：態様１、２または３による方法において、第２の金属層が、電気めっき法によって第１の金属層上に設けられる。
【００３１】
態様５：態様４による方法において、電気めっき法が、酸素および水を除外して行われる。
【００３２】
態様６：態様１、２、３、４または５による方法において、セラミック層が電解酸化によって生成される。
【００３３】
態様７：態様１、２、３、４、５または６による方法において、第２の金属層が第１の金属層の直上に設けられる。
【００３４】
態様８：態様１、２、３、４、５、６または７による方法において、第２の金属層およびセラミック層が、第１の金属層の主面のうちの少なくとも１つの上で、広い領域にわたってコヒーレントに設けられる。
【００３５】
態様９：態様１、２、３、４、５、６、７または８による方法において、パターン形成された第３の金属層がセラミック層上に設けられ、セラミック層の直上にシード層が設けられ、シード層上に、第３の金属層が電気めっき法によって設けられる。
【００３６】
態様１０：態様９による方法において、パターン形成された第３の金属層は、少なくとも部分的に、パターン形成接触面および／または配線を形成する。
【００３７】
態様１１：態様１、２、３、４、５、６、７、８、９または１０による方法において、第１の金属層には、少なくとも１つの開口部が設けられ、第２の金属層およびセラミック層は、開口部の壁面上に設けられる。
【００３８】
態様１２：態様１１による方法において、第３の金属層が開口部の壁面上でセラミック層上に設けられて、第１の金属層ならびに第１の金属層の少なくとも１つの主面上の第２の金属層およびセラミック層を通過する電気フィードスルーが形成される。
【００３９】
態様１３：態様１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１または１２による方法において、方法ステップＢおよびＣが２つの主面の各々に対して実施される。
【００４０】
態様１４：キャリア要素は、例えば、電子部品において使用するためのキャリア要素であって、
第１の金属材料を有し、互いに反対方向を向く第１の主面および第２の主面を有する第１の金属層と、
主面のうちの少なくとも１つの上の、第２の金属材料を有する第２の金属層と、
第２の金属層上の誘電体セラミック層であり、第２の金属材料が、セラミック層の一部分を形成し、セラミック層は、第２の金属層の上で、第１の金属層とは反対方向を向く表面を形成する、誘電体セラミック層と
を備える。
【００４１】
態様１５：態様１４によるキャリア要素において、第１の金属材料が、銅、ニッケル、チタン、鋼、ステンレス鋼およびそれらによる合金から選択される１つまたは複数の材料を含み、第２の金属材料が、アルミニウム、特に、９９．９９％以上の純度を有するアルミニウムを含む。
【００４２】
態様１６：態様１４または１５によるキャリア要素において、第２の金属層が第１の金属層の直上に配置されており、セラミック層が第２の金属層の直上に配置されている。
【００４３】
態様１７：態様１４、１５または１６によるキャリア要素において、セラミック層上に、パターン形成された第３の金属層が配置されており、パターン形成された第３の金属層は、少なくとも部分的に、パターン形成接触面および／または配線を形成する。
【００４４】
態様１８：態様１４、１５、１６または１７によるキャリア要素において、第１の金属層は、少なくとも１つの開口部を有し、
第２の金属層およびセラミック層は、開口部の壁面上に設けられ、
第３の金属層が開口部の壁面上でセラミック層上に配置されて、第１の金属層ならびに第１の金属層の少なくとも１つの主面上の第２の金属層およびセラミック層を通過する電気フィードスルーが形成される。
【００４５】
態様１９：態様１４、１５、１６、１７または１８によるキャリア要素は、第１の金属層の主面の各々の上に、第２の金属層、および、この上のセラミック層を備える。
【００４６】
さらなる利点、有利な実施形態および発展形態を、添付の図面に関連して下記に説明される例示的な実施形態から理解することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１Ａ】例示的な一実施形態によるキャリア要素を製造する方法の方法ステップの概略図である。
【図１Ｂ】例示的な一実施形態によるキャリア要素を製造する方法の方法ステップの概略図である。
【図１Ｃ】例示的な一実施形態によるキャリア要素を製造する方法の方法ステップの概略図である。
【図２Ａ】さらなる例示的な実施形態によるキャリア要素を製造する方法ステップの概略図である。
【図２Ｂ】さらなる例示的な実施形態によるキャリア要素を製造する方法ステップの概略図である。
【図３Ａ】さらなる例示的な実施形態によるキャリア要素の概略図である。
【図３Ｂ】さらなる例示的な実施形態によるキャリア要素の概略図である。
【図４Ａ】さらなる例示的な実施形態によるキャリア要素を有する電子部品の概略図である。
【図４Ｂ】さらなる例示的な実施形態によるキャリア要素を有する電子部品の概略図である。
【図４Ｃ】さらなる例示的な実施形態によるキャリア要素を有する電子部品の概略図である。
【図５Ａ】さらなる例示的な実施形態によるキャリア要素を有する電子部品の概略図である。
【図５Ｂ】さらなる例示的な実施形態によるキャリア要素を有する電子部品の概略図である。
【図５Ｃ】さらなる例示的な実施形態によるキャリア要素を有する電子部品の概略図である。
【図６Ａ】さらなる例示的な実施形態によるキャリア要素を有する電子部品の概略図である。
【図６Ｂ】さらなる例示的な実施形態によるキャリア要素を有する電子部品の概略図である。
【図６Ｃ】さらなる例示的な実施形態によるキャリア要素を有する電子部品の概略図である。
【図７Ａ】さらなる例示的な実施形態によるキャリア要素を有する電子部品の概略図である。
【図７Ｂ】さらなる例示的な実施形態によるキャリア要素を有する電子部品の概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００４８】
例示的な実施形態および図面において、同一もしくは同様の要素、または、同じ効果を有する要素には、同じ参照符号が与えられている場合がある。図示されている要素およびそれらの互いに対するサイズ比は、原寸に比例するものとして考えられるべきではなく、むしろ、それらをより良好に示し、かつ／または、それらを理解しやすくするためのものとして考えられるべきであり、例えば層、部分、部品および領域のような個々の要素のサイズは、誇張されている場合がある。
【００４９】
図１Ａ〜図１Ｃにおいて、特に電子部品に使用することができるキャリア要素１００を製造する方法の方法ステップの例示的な実施形態が示されている。この目的のために、図１Ａに示すような、第１の方法ステップにおいて、第１の金属材料を有する第１の金属層１が与えられる。第１の金属層１は、特に、金属フィルムまたは金属シートの形態であり、例えば、第１の金属材料として、銅を含むか、または、銅から構成することができる。代替として、第１の金属層はまた、別の金属材料、特に、概要部分において上述した材料のうちの１つまたは複数を含んでもよい。第１の金属層１は、第１の主面１０および第２の主面１１を有し、主面１０、１１は、互いに反対方向を向く。第１の金属層１は、自立式であり、パターン形成されていない金属フィルムもしくは金属シートとして、または、パターン形成された金属フィルムもしくは金属シートとして提供することができる。例えば、第１の金属層は、パターン形成されたリード・フレームによって形成することができる。第１の金属層１は、例えば、いわゆるＱＦＮリード・フレーム、型打ちリード・フレーム、圧縮レーザ・ヒート・シンクなどの形態であってもよい。
【００５０】
さらなる方法ステップにおいて、図１Ｂに示すように、第１の金属層１の主面１０、１１のうちの少なくとも一方の上に、第２の金属材料を有する第２の金属層２が設けられる。図示されている例示的な実施形態においては、主面１０、１１の各々の上に、第２の金属材料を有する第２の金属層が設けられる。第２の金属材料は、特に、アルミニウムを含むか、または、アルミニウムから構成することができる。
【００５１】
第２の金属層は、電気めっき法によって主面１０、１１の各々の上に設けられる。特に９９．９９％以上の、第２の金属材料の可能な限り最高の純度を達成するために、酸素および水を除外して電気めっき法が実施される。結果として、第１の金属層１および第１の金属層の主面１０、１１上の第２の金属層２から構成される、図１Ｂに示す多層積層体が生成される。
【００５２】
電気めっき法は、第１の金属層１上で直に実施することができ、それによって、第１の金属層１の主面１０、１１上で第２の金属層２と第１の金属層１との間にさらなる層は存在せず、第２の金属層２は第１の金属層１の直上に配置される。第２の金属層２は、第１の金属層１上に、特に、広い領域にわたってコヒーレントに設けられ、したがって、可能な限り主面１０、１１全体を被覆する。自立式アルミニウムフィルムのみによって形成される単層基板と比較して、銅を有する、または、銅から構成されている、第１の金属層および第１の金属層１の一方または両方の主面１０、１１上の１つまたは２つの第２の金属層２から構成されている積層体の形成には、特に、以下の利点がある。
【００５３】
銅はアルミニウムおよびアルミニウム合金よりも熱伝導性が大幅に高く、そのため、図１Ｂに示す積層体、および、それゆえ、完成したキャリア要素１００も、単層アルミニウムフィルムよりも熱伝導性が高い。
【００５４】
銅はまた、アルミニウムよりも大幅に安定しており、特に、高い弾性率を有し、その結果として、組立ておよびその後の電気めっき法の間の処理がより容易になり得る。
【００５５】
例えば、リード・フレームを生成するための、特にエッチング法において、銅のパターニングはアルミニウムよりも容易である。銅と比較すると、アルミニウムは困難にかつ粗くしかエッチングすることができず、特に、エッチ・ファクタはアルミニウムではより高い。
【００５６】
第１の金属層１としての銅リード・フレームの構造がより精細であることに起因して、より小さい部品を製造することができ、この結果として、例えば、面積における利得によってコストを節約することができる。
【００５７】
銅は、アルミニウムの２３ｐｐｍ／Ｋと比較して１８ｐｐｍ／Ｋというより低い熱膨張率を有し、そのため、周囲の材料に応じて、結果として機械的応力をより低くすることができる。
【００５８】
上述した特徴および利点はまた、変更すべきところは変更して、他の第１の金属材料にも適用することができる。
【００５９】
さらなる方法ステップにおいて、図１Ｃに示すように、第２の金属層２の各々の一部分が、誘電体セラミック層３に変換される。第２の金属層２の変換は、電気化学的方法によって、特に、概要部分において上述したような、電解酸化によって行われる。結果として、第２の金属層の第２の金属材料の金属酸化物への変換が、第１の金属層１とは反対方向を向く第２の金属層２の表面から達成される。それゆえ、図示されている例示的な実施形態において、第２の金属層２の第２の金属材料を形成するアルミニウムが、酸化アルミニウムに変換される。したがって、第２の金属材料が、セラミック層３の一部分を形成する。特に、本明細書において説明されている変換方法によって生成される誘電体セラミック層３のセラミック材料は、概要部分において上述したようなナノ結晶セラミック材料として形成される。上述した電解酸化の結果として、特に、可能な限り不浸透性で亀裂のないセラミック層３を、第２の金属層２の各々の表面上に形成することができ、上記セラミック層３は、高い熱伝導率とともに、高い誘電強度を有する。
【００６０】
特に、第２の金属層２の一部分の変換は、各場合において広い領域にわたって実行され、それによって、誘電体セラミック層３は、広い領域にわたってコヒーレントに残りの第２の金属層２を被覆する。したがって、セラミック層３は各々、第１の金属層１とは反対方向を向く第２の金属層２の上の表面３０を形成する。第２の金属層２の各々の一部分を誘電体セラミック層３に変換するための方法の実行において、少なくとも薄い第２の金属層２が変換後に残ることが有利である。これは、この結果として、残りの第２の金属層２によって、誘電体セラミック層３の第１の金属層１に対する良好な接着を達成することができるためである。さらに、第１の金属層１の第１の金属材料の不明確な変換が、第２の金属層２の第２の金属材料の全部を消耗してしまう危険性を回避することが可能である。
【００６１】
それゆえ、このように生成されるキャリア要素１００は、図示されている例示的な実施形態において、２つのセラミック層３の間に２つの第２の金属層２が配置されており、さらにこれらの間に第１の金属層１があり、上記層が各々、互いの直上に設けられる、５層構造を有する。
【００６２】
図示されている方法に対して代替として、第２の金属層２が主面１０、１１のうちの一方のみの上に設けられ、これが部分的に誘電体セラミック層３に変換されることも可能であり、それによって、このように生成されるキャリア要素はこのとき、３層構造を有し、第１の金属層１、この直上にある第２の金属層２、および、この直上にある誘電体セラミック層３によって形成される。
【００６３】
図２Ａおよび図２Ｂに関連して、特に電子部品に使用するためのキャリア要素１００を製造するための方法の文脈においてさらなる方法ステップの例示的な一実施形態が説明され、これは、図１Ａ〜図１Ｃに関連して示されている方法ステップに従い得る。特に、後述する方法ステップにおいて、例えばパターン形成された接触面および／または配線を形成することができる第３の金属層６が、セラミック層３の各々の上に設けられる。
【００６４】
図２Ａに示すように、シード層４が、セラミック層３の各々の表面３０上に、広い領域にわたってパターン形成されないように設けられる。この上に、生成されることになるパターン形成された第３の金属層６のネガである構造を表すフォトレジスト５が、パターン形成されないように適用される。電気めっき法によって、第３の金属層６が、シード層４上にフォトレジストを通じてパターン形成して成長される。例えば、第３の金属層は、銅を含むか、または、銅から構成することができる。
【００６５】
次に、図２Ｂに示すように、フォトレジスト５が除去される。パターン形成された第３の金属層６が存在しない領域においては、シード層４も除去され、そのため、セラミック層３の表面３０は、第３の金属層６が存在しない領域においてこのように生成されるキャリア要素１００の表面を形成し、第３の金属層６のパターン形成された領域が、互いに電気的に絶縁される。
【００６６】
パターン形成された第３の金属層６を設けるための電気めっき法を実行する前にパターン形成フォトレジスト５を適用することに対して代替として、第３の金属層６をシード層４上に、パターン形成されないように広い領域にわたって設け、この後、フォトレジストをパターン形成して適用することも可能である。フォトレジストはこの場合においては、生成されることになるパターン形成された第３の金属層６のポジである構造を表す。第３の金属層６がフォトレジストによって被覆されていない領域において、第３の金属層６およびシード層４を除去することができ、それによって、その後フォトレジストが除去された後、ここでも図２Ｂに示すキャリア要素１００を取得可能である。
【００６７】
図３Ａにおいて、キャリア要素１００のさらなる例示的な実施形態が示されており、これは、特に電子部品に使用することができ、上述した例示的な実施形態と比較して、図１Ａ〜図１Ｃに関連して上述したような第１の金属層１の１つのみの主面１０上の第２の金属層２およびセラミック層３からなる片面構成のみを有する。したがって、パターン形成された第３の金属層６は、第１の金属層１の１つの主面１０のみの上で、セラミック層３上に設けられる。パターン形成された第３の金属層６によって形成される片面金属化のみによるこのタイプの実施形態は、例えば、第１の金属層１の第２の主面１１によって形成されるキャリア要素１００の底部において熱が広い領域にわたって放散されるべきである場合に有利である。
【００６８】
図３Ｂにおいて、キャリア要素１００のさらなる例示的な実施形態が示されており、これは、特に電子部品に使用することができ、先行する例示的な実施形態と比較して、開口部７を有する。開口部７は、第１の金属層１を準備している間にすでに生成されており、それによって、上述した後続の方法ステップにおいて、図３Ｂに見られるように、第２の金属層２および誘電体セラミック層３も、開口部７の壁面上に生成される。第１の主面１０から第１の金属層１を通じて第２の主面１１まで延在する開口部７は、例えば、穿孔、型打ち、エッチングによって、または、レーザを用いて作成されてもよい。
【００６９】
第３の金属層６も同様に、開口部７の壁面上に付加的に設けられ、それによって、第１の金属層１を通過し、第１の金属層１の主面１０、１１上の第２の金属層２およびセラミック層３を通過し、したがって、キャリア要素１００の上部および底部を互いに電気的に接続する電気フィードスルー７０を形成することができる。
【００７０】
以下の例示的な実施形態において、先行する例示的な実施形態に関連して説明した方法に従って製造される、キャリア要素１００を備える電子部品２００が説明される。下記に示す部品２００のような電子部品を製造するために、上述した方法ステップおよび特徴に加えて、電子半導体チップがキャリア要素１００上に配置される。後述する電子部品２００は、純粋に例として、光電子部品、特に発光電子部品の形態である。しかしながら、代替として、本明細書において説明されているキャリア要素１００を使用して、特に、非光電子的機能をも有する他の電子部品を製造することもできる。
【００７１】
図４Ａ〜図４Ｃにおいて、電子部品２００の様々な図が示されており、これは、キャリア要素１００と、キャリア要素１００上の少なくとも１つの電子半導体チップ２１とを備える。特に、図４Ａ〜図４Ｃの例示的な実施形態の電子部品２００は、電気絶縁ヒート・シンクとしてキャリア要素１００を備える、いわゆるマルチチップＳＭＤ部品の形態である。図４Ａおよび図４Ｂにおいて、部品２００の上部および底部の上面図が示されており、ポッティング２４は図４Ａには示されていない。図４Ｃにおいて、部品２００の断面図が示されている。
【００７２】
電子部品２００は、各々が発光半導体チップ、特に発光ダイオードの形態である複数の電子半導体チップ２１を備える。これらの各々の上に、異なる波長によって照明するために、動作中に発光半導体チップ２１によって生成される光の少なくとも一部分を変換することができる、波長変換層２２が設けられる。代替として、半導体チップ２１のうちの１つ、複数またはすべての上に波長変換層２２が設けられないことも可能であってもよい。半導体チップ２１は各々、上述したパターン形成金属層６の一部分によって形成されるパターン形成接触面６０上に配置され、これに電気的に接続されている。ボンディング・ワイヤ２３によって、半導体チップ２１はともに直列に接続される。
【００７３】
上述したような貫通接続７０を介して、電子部品２００の上部にある接触面６０は、さらなるパターン形成金属層３によって形成される電子部品２００の底部にある接触面６１に接続される。そのため、接触面６１によって、電子部品２００の電気的接触を行うことができる。したがって、電子部品２００の底部にある接触面６１は、電子部品２００を接続するためのアノードおよびカソードを形成する。さらに、電子部品２００の底部には、接触面６１の残りの部分から電気的に絶縁されており、電子部品２００の外部ヒート・シンクへの熱的接続のために設けられる、さらなる接触面６２が形成される。
【００７４】
さらに、電子部品２００の上部には、ポッティング２４が適用され、その中に、半導体チップ２１、少なくとも部分的に波長変換層２２およびボンディング・ワイヤが配置される。ポッティング２４は、例えばフォイルアシスト成形（ＦＡＭ）法によって生成することができる。さらに、例えば半導体チップ１の回りに、ポッティング２４で充填されるダムが形成されることも可能である。ポッティング２４は、透明、反射性または吸光性であってもよく、このコンテキストにおいて適切である充填剤を含むことができ、プラスチック材料を含むか、またはそれから構成することができる。
【００７５】
図５Ａ〜図５Ｃに関連して電子部品２００のさらなる例示的な実施形態が示されており、これは、先行する例示的な実施形態と比較すると、パターン形成された第３の金属層６の一部分によって形成される、半導体チップ２１を包囲する接触面６３を備え、その上に、シェードとして、したがって、いわゆるシャッタ・フレームとして機能するフレーム２５が取り付けられる。フレーム２５は、例えば金属またはプラスチックから構成することができ、接触面６３に接着またははんだ付けすることができる。フレーム２５によって包囲される領域は、例えば、二酸化チタンなどの散乱性粒子または反射性粒子を含む、例えばプラスチック材料などのポッティング２４で充填することができる。図５Ｃに示す完成した部品２００と比較して、図５Ａは、フレーム２５が取り付けられておらず、ポッティング２４のない上面図を示しており、一方で、図５Ｂは、フレーム２５がすでに取り付けられているが、まだポッティング２４はない上面図を示している。
【００７６】
図６Ａ〜図６Ｃに関連して電子部品２００のさらなる例示的な実施形態が示されており、これは、先行する例示的な実施形態の電子部品のように、この目的のために適切に提供される接触面６０上でキャリア要素１００上の半導体チップ２１を包囲して設けられるフレーム２５を備える。図６Ａおよび図６Ｂは各々上面図を示しており、一方はフレーム２５が取り付けられておらず、一方はフレーム２５が取り付けられている。フレーム２５内で、半導体チップ２１の上に、例えばフレネルレンズの形態のレンズ２６が配置されている。代替として、別の光学素子も、半導体チップ２１の上に設けられてもよい。フレーム２５は、電子部品２００の取り扱いを容易にし、同時に光が横方向に放射されるのを防止しながら、レンズ２６に対する機械的保護を担うことができる。図６Ａ〜図６Ｃの例示的な実施形態の電子部品２００は、例えば、フラッシュ・ライト部品として使用することができる。
【００７７】
図７Ａおよび図７Ｂに関連して、キャリア要素１００を備える電子部品２００のさらなる例示的な実施形態が示されており、これは、図３Ａに関連して上述したように、第１の主面１０上にのみ第２の金属層２および誘電体セラミック層３を備え、それによって、キャリア要素１００の金属層１の露出した第２の主面１１の上で、広い領域にわたって電子部品２００の熱的接続が可能である。結果として、ヒート・シンク上での直接の実装が可能であり、この目的のために、図示されている例示的な実施形態において例示されているように、例えば、取り付けおよび／またはより容易な位置決めのために孔８をキャリア要素１００内に設けることもできる。図７Ａに示す上面図では、ここでもポッティング２４は示されていない。
【００７８】
例示的な実施形態を用いた説明は本発明をその実施形態に限定しない。むしろ、本発明は、たとえ特徴または組合せ自体が特許請求項または例示的な実施形態に明示的に述べられていない場合であっても、特に、特許請求の範囲内の特徴の任意の組合せを含む、任意の新規の特徴および任意の特徴の組合せを含む。
【００７９】
本特許出願は、独国特許出願公開第１０  ２０１５  １０８  ４２０．１号の優先権を主張し、当該特許文献の開示内容は、参照により本明細書に組み込まれる。
【符号の説明】
【００８０】
１  第１の金属層
２  第２の金属層
３  誘電体セラミック層
４  シード層
５  フォトレジスト
６  第３の金属層
７  開口部
８  孔
１０、１１  主面
２１  半導体チップ
２２  波長変換層
２３  ボンディング・ワイヤ
２４  ポッティング
２５  フレーム
２６  レンズ
３０  表面
７０  貫通接続
６０、６１、６２、６３  接触面
１００  キャリア要素
２００  電子部品
【図１Ａ】
2018517296.tif 000003
【図１Ｂ】
2018517296.tif 000004
【図１Ｃ】
2018517296.tif 000005
【図２Ａ】
2018517296.tif 000006
【図２Ｂ】
2018517296.tif 000007
【図３Ａ】
2018517296.tif 000008
【図３Ｂ】
2018517296.tif 000009
【図４Ａ】
2018517296.tif 000010
【図４Ｂ】
2018517296.tif 000011
【図４Ｃ】
2018517296.tif 000012
【図５Ａ】
2018517296.tif 000013
【図５Ｂ】
2018517296.tif 000014
【図５Ｃ】
2018517296.tif 000015
【図６Ａ】
2018517296.tif 000016
【図６Ｂ】
2018517296.tif 000017
【図６Ｃ】
2018517296.tif 000018
【図７Ａ】
2018517296.tif 000019
【図７Ｂ】
2018517296.tif 000020
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月14日(2017.12.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
キャリア要素（１００）を有する電子部品を製造する方法であって、
Ａ）第１の金属材料を有し、かつ、互いに反対方向を向く第１の主面および第２の主面（１０、１１）を備える第１の金属層を準備するサブステップと、
Ｂ）前記主面（１０、１１）のうちの少なくとも１つの上に、第２の金属材料を有する第２の金属層（２）を設けるサブステップと、
Ｃ）前記第２の金属層（２）の一部分を誘電体セラミック層（３）に変換するサブステップであって、前記第２の金属材料は、前記セラミック層（３）の一部分を形成し、前記セラミック層（３）は、前記第２の金属層（２）の上で、前記第１の金属層（１）とは反対方向を向く表面（３０）を形成する、サブステップと、
を含み、キャリア要素（１００）を製造するステップと、
前記キャリア要素（１００）上に少なくとも１つの電子半導体チップ（２１）を配置するステップと、
を含む、方法。
【請求項２】
前記第１の金属材料が、銅、ニッケル、チタン、鋼、ステンレス鋼およびそれらによる合金から選択される１つ、または複数の材料を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第２の金属材料は、アルミニウム、特に、９９．９９％以上の純度を有するアルミニウムを含む、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記第２の金属層（２）が、電気めっき法によって前記第１の金属層（１）上に設けられる、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記電気めっき法が、酸素および水を除外して行われる、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記セラミック層（３）が電解酸化によって生成される、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記第２の金属層（２）が、前記第１の金属層の直上に設けられる、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記第２の金属層（２）および前記セラミック層（３）が、前記第１の金属層（１）の主面（１０、１１）のうちの少なくとも１つの上で、広い領域にわたってコヒーレントに設けられる、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
パターン形成された第３の金属層（６）が前記セラミック層（３）上に設けられ、前記セラミック層（３）の直上にシード層（４）が設けられ、前記シード層（４）上に、前記第３の金属層（６）が電気めっき法によって設けられる、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記パターン形成された第３の金属層（６）は、少なくとも部分的に、パターン形成接触面（６０、６１、６２、６３）および／または配線を形成する、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記第１の金属層（１）には、少なくとも１つの開口部（７）が設けられ、前記第２の金属層（２）および前記セラミック層（３）は、前記開口部（７）の壁面上に設けられる、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
第３の金属層（６）が前記開口部（７）の前記壁面上で前記セラミック層（３）上に設けられて、前記第１の金属層（１）ならびに前記第１の金属層（１）の前記少なくとも１つの主面（１０、１１）上の前記第２の金属層（２）および前記セラミック層（３）を通過する電気フィードスルー（７０）が形成される、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
方法ステップＢおよびＣは、前記２つの主面（１０、１１）の各々の上で実施される、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
キャリア要素（１００）と、前記キャリア要素（１００）上の少なくとも１つの電子半導体チップ（２１）とを備える電子部品であって、前記キャリア要素（１００）は、
第１の金属材料を有し、互いに反対方向を向く第１の主面および第２の主面（１０、１１）を有する第１の金属層（１）と、
前記主面（１０、１１）のうちの少なくとも１つの上の、第２の金属材料を有する第２の金属層（２）と、
前記第２の金属層（２）上の誘電体セラミック層（３）であって、前記第２の金属材料は、前記セラミック層（３）の一部分を形成し、前記セラミック層（３）は、前記第２の金属層（２）の上で、前記第１の金属層（１）とは反対方向を向く表面（３０）を形成する、誘電体セラミック層（３）と、
を備える、電子部品。
【請求項１５】
前記第１の金属材料が、銅、ニッケル、チタン、鋼、ステンレス鋼および、それらによる合金から選択される１つまたは複数の材料を含み、前記第２の金属材料が、アルミニウム、特に、９９．９９％以上の純度を有するアルミニウムを含む、請求項１４に記載の電子部品。
【請求項１６】
前記第２の金属層（２）が前記第１の金属層（１）の直上に配置されており、前記セラミック層（３）が前記第２の金属層（２）の直上に配置されている、請求項１４または１５に記載の電子部品。
【請求項１７】
前記セラミック層（３）上に、パターン形成された第３の金属層（６）が配置されており、前記パターン形成された第３の金属層（６）は、少なくとも部分的に、パターン形成接触面（６０、６１、６２、６３）および／または配線を形成する、請求項１４〜１６のいずれか一項に記載の電子部品。
【請求項１８】
前記第１の金属層（１）は、少なくとも１つの開口部（７）を備え、
前記第２の金属層（２）および前記セラミック層（３）は、前記開口部（７）の壁面上に設けられ、
第３の金属層（６）が前記開口部（７）の前記壁面上で前記セラミック層（３）上に配置されて、前記第１の金属層（１）ならびに前記第１の金属層（１）の前記少なくとも１つの主面（１０、１１）上の前記第２の金属層（２）および前記セラミック層（３）を通過する電気フィードスルー（７０）が形成される、請求項１４〜１７のいずれか一項に記載の電子部品。
【請求項１９】
前記キャリア要素は、前記第１の金属層（１）の主面（１０、１１）の各々の上に、第２の金属層（２）、および、この上のセラミック層（３）を備える、請求項１４〜１８のいずれか一項に記載の電子部品。
【請求項２０】
パターン形成された第３の金属層（６）は、前記セラミック層（３）上に設けられ、少なくとも部分的に、パターン形成接触面（６０、６１、６２、６３）および／または配線を形成し、
前記電子半導体チップ（２１）は、前記パターン形成接触面（６０、６１、６２、６３）および／または前記配線を介して電気的に接続されている、
請求項１に記載の方法。
【国際調査報告】
2018517296.tif 000021
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