【事件の表示】
　平成１１年特許願第　　４３４８号「電子材料用洗浄水の調製装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１２年　７月２８日出願公開、特開２０００−２０８４７１〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯・本願発明
　本願は、平成１１年１月１１日の出願であって、その請求項１ないし２に係る発明は、平成１５年６月３０日付け手続補正書により補正された明細書の特許請求の範囲の請求項１ないし２に記載された事項により特定されるとおりのものと認められるところ、その請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は次のとおりである。
「　【請求項１】
　導電率に影響しない気体を溶解した超純水に酸又はアルカリを添加して電子材料用洗浄水を調製する装置において、酸又はアルカリ添加後の超純水の電気伝導率を測定する電気伝導率計、電気伝導率計の測定値に基づいて酸又はアルカリの添加量を制御する添加量制御装置及び超純水に添加する酸又はアルカリの添加量を調節する薬液供給装置を有することを特徴とする電子材料用洗浄水の調製装置。」
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
２．刊行物記載の発明（事項）
　これに対して、当審における平成１７年１１月２５日付けで通知した拒絶の理由に引用した本願の出願前に日本国内において頒布された刊行物である特開平１０−１２８２５３号公報（以下、「刊行物１」という。）、特開平１０−３２６７６９号公報（以下、「刊行物２」という。）及び特開平５−１２９２６５号公報（以下、「刊行物３」という。）には、以下の事項が記載されている。
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
（１）刊行物１
（１−ａ）段落【０００１】
「【発明の属する技術分野】本発明は半導体基板、ガラス基板、電子部品、或いはこれらの製造装置部品等の如き電子部品部材類の洗浄方法及び洗浄装置に関する。」
（１−ｂ）段落【００１５】
「【課題を解決するための手段】本発明は、・・・超純水製造装置と、超純水中に水素ガスを溶解させるためのガス溶解手段と、ｐＨを７未満に調製するためのｐＨ調製手段と、超純水に水素ガスを溶解してなり、負の酸化還元電位を有する酸性洗浄液で、電子部品部材類を洗浄する洗浄部とからなることを特徴とする電子部品部材類の洗浄装置、・・・」
（１−ｃ）段落【００２６】〜【００３０】
「ガス溶解槽２では、超純水供給管１２からガス溶解槽２に供給される超純水に、ガス透過膜１１を介して前記超純水電解装置８から供給される水素ガスが溶解され、水素ガスを溶解した超純水は、供給管１３からｐＨ調整装置３に送られる。・・・
　ガス溶解槽２において超純水に水素ガスを溶解せしめた後、ｐＨ調整装置３においてｐＨを７未満に調整するが、好ましくはｐＨを７未満、３以上、より好ましくは４〜６の範囲に調整する。
　ｐＨを調整するためには、水素ガスを溶解させた超純水に酸又は酸性ガスを溶解せしめる方法が採用される。酸としては例えば塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、フッ酸等が用いられ、酸性ガスとしては例えば二酸化炭素ガスが用いられるが、二酸化炭素ガスを溶解させてｐＨ調整する方法が、共存イオンによる影響が少ないため好ましい。ｐＨ調整のために酸を用いる場合、ｐＨ調整装置３は図３に示すように、例えば酸貯留槽２３と、ポンプ２４とから構成することができ、ガス溶解槽２から洗浄槽４に液を供給する配管の途中で、酸を添加混合するようにする方法が採用される。尚、図３において２５は酸の供給量を調整するための制御弁である。
　・・・中略・・・
　ｐＨ調整装置３にてｐＨを調整した酸性洗浄液は、洗浄槽４に送られるが、上記したように洗浄液は、ｐＨが７未満であり、且つ水素ガスを溶存して負の酸化還元電位を有していることが必要である。このため、洗浄槽４に洗浄液を供給する洗浄液供給管２２の途中に、酸化還元電位計１８、溶存水素濃度計１９、水素イオン濃度計２０を設け、洗浄液中の酸化還元電位、溶存水素濃度及びｐＨを常時監視し、ガス溶解槽２において超純水に溶解させる水素ガス量及びｐＨ調整装置３において添加する酸や酸性ガスの量を制御できるように構成することが好ましい。」
（１−ｄ）図１，３の記載
　ｐＨ調整装置３が、酸貯留槽２３、ポンプ２４及び酸の供給量を調整するための制御弁２５から構成されていることが看取される。
　上記記載事項及び図３の記載からみて、刊行物１には、
「水素ガスを溶解させた超純水に酸を添加して電子部品部材類用洗浄液を調製する装置において、酸を添加後の超純水のｐＨを測定する水素イオン濃度計２０、及び水素イオン濃度計２０の測定値に基づいて超純水に添加する酸の添加量を調節するｐＨ調整装置３を有し、水素イオン濃度計２０の測定値に基づいて超純水に添加する酸の添加量を制御する電子部品部材類用洗浄液の調製装置。」という発明（以下、「刊行物１記載の発明」という。）が記載されていると認められる。
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
（２）刊行物２
（２−ａ）段落【０００１】
「【発明の属する技術分野】この発明は半導体ウェーハ処理溶液の管理方法および半導体ウェーハ処理溶液の制御装置、詳しくはシリコンウェーハ等の洗浄・エッチングに使用する複数のイオン解離性溶液成分系からなる処理溶液の組成を自動制御することができる管理方法および制御装置に関する。」
（２−ｂ）段落【０００５】
「・・・導電率監視による薬液成分制御システムが有効であることを知見した。すなわち、導電率は、初期組成成分ばかりでなく、反応生成物や、希釈率によっても、大きく変動する。したがって、単一組成ではその単一成分を補給することにより、導電率は一定であるが、複数成分からなる薬液では、その組成が異なったり、希釈率が異なっていても、その導電率が一定である場合が生じる。そこで、初期使用薬液と同一の組成成分溶液の補給と排出とを行うシステムにより、その導電率の変動要因を一義的にコントロールすることができる・・・」
（２−ｃ）段落【００１２】
「【作用】・・・イオン解離性溶液成分を含む半導体ウェーハ処理溶液について、その導電率（電気伝導率）を一定範囲に制御する。この結果、半導体ウェーハ処理溶液の各組成濃度を略一定に保持することができる。よって、半導体ウェーハの安定処理を継続することができる。」
（２−ｄ）段落【００１５】，【００１６】
「図１に示すように、液槽１１には、半導体ウェーハの処理溶液（例えばエッチング液）が注入され、・・・そして、この液槽１１に対しては、ＫＯＨ、Ｈ２Ｏ２の混合溶液が所定濃度・所定温度状態で供給されている。この混合溶液は、また、供給系１５から液槽１１内に供給可能に構成されている。さらに、この液槽１１内の処理溶液の導電率を測定する測定器１６、液温計１４がそれぞれ配設されており、これらの測定器１６、液温計１４からの各データは、ｐＨ等の他のデータとともに、コントローラ１７に供給されている。
・・・
　コントローラ１７は、図３に示すように、例えばＣＰＵ、ＲＯＭ、ＲＡＭ、Ｉ／Ｏなどで構成され、所定の処理プログラムに基づいて導電率を一定範囲に保つべく、ＫＯＨ／Ｈ２Ｏ２供給系１５を制御している。・・・」
　上記記載事項（２−ｂ）において、
　「複数成分からなる薬液では、その組成が異なったり、希釈率が異なっていても、その導電率が一定である場合が生じるが、単一成分からなる薬液では、単一組成であるからその単一成分を補給することにより、導電率を一定に制御することができる」ということができる。
　したがって、上記記載事項及び図１の記載からみて、刊行物２には、
「半導体ウェーハ処理溶液の導電率を測定する導電率測定器１６の測定値に基づいて、単一成分の薬液の添加量を制御する制御装置」という事項（以下、「刊行物２記載の事項」という。）が記載されていると認められる。
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
（３）刊行物３
（３−ａ）段落【０００１】
「【産業上の利用分野】本発明は半導体装置や液晶表示装置等の製造プロセスにおける基板洗浄方法に関する。」
（３−ｂ）段落【０００７】，【０００８】
「【作用】本発明では温純水による洗浄時間を温純水の比抵抗（または水素イオン濃度）が元の高抵抗値（中性）に回復する以前までとし，その後に常温純水で洗浄している。
　Si表面は水溶液中で通常 -OH基を持ち, 表面電荷は水溶液中の水素イオン濃度(PH)に依存し，PH＝２付近で０となる。従って，純水のPHを低く抑えることにより，純水中で帯電した金属不純物の吸着を低減できる。これにより，温純水中の金属不純物量が基板に吸着することを抑制している。」
（３−ｃ）段落【００１４】，【００１５】
「【実施例】図２は本発明の実施例１の説明図である。図において，１は酸液槽，２は純水洗浄を行うリンス槽，３は純水供給ラインの制御系，４は温純水供給ライン（例えば，  ℃），５は常温純水供給ライン，６は比抵抗を測定する導電率計，７は温度計である。
　酸液槽１に続くリンス槽２に温純水を供給し，比抵抗および温度を計測する。それらの値は制御系３に送られて，温純水および常温純水の流量を制御する。」
（３−ｄ）段落【００１８】
「・・・以上の実施例においては純水の比抵抗でモニタリングしているが, これと正の相関があるPHで直接モニタリングしてもよい。」
　上記記載事項及び図２の記載からみて、刊行物３には、
「基板洗浄において、純水の水素イオン濃度を、これと正の相関がある比抵抗を導電率計６で測定し、その測定値に基づいて純水の供給を制御すること」という事項（以下、「刊行物３記載の事項」という。）が記載されていると認められる。
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
３．対比
　本願発明と、刊行物１記載の発明とを対比すると、後者の「水素ガス」は前者の「導電率に影響しない気体」に相当し、以下同様に、後者の「電子部品部材類」は前者の「電子材料」に、後者の「洗浄液」は前者の「洗浄水」に、それぞれ相当することは明らかである。また、後者の「添加量を調節するｐＨ調製装置３」は、酸貯留槽２３、ポンプ２４及び酸の供給量を調整するための制御弁２５から構成されている（前記記載事項（１−ｄ））から、添加量を調節する薬液供給装置ということができる。
　さらに、本願発明において、「電気伝導率を測定する電気伝導率計」を用いる技術的意味は、酸又はアルカリの濃度を簡単かつ正確に測定するためと認められる（本願明細書段落【０００３】，【０００４】参照。）。
　したがって、後者の「ｐＨを測定する水素イオン濃度計２０」と前者の「電気伝導率を測定する電気伝導率計」とは、酸の濃度を測定する濃度測定手段」である限りにおいて共通している。
　してみると、両者の一致点及び相違点は、以下のとおりである。
［一致点］
「導電率に影響しない気体を溶解した超純水に酸を添加して電子材料用洗浄水を調製する装置において、酸添加後の超純水の酸の濃度を測定する濃度測定手段、及び超純水に添加する酸の添加量を調節する薬液供給装置を有し、濃度測定手段の測定値に基づいて酸の添加量を制御する電子材料用洗浄水の調製装置。」
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
［相違点１］
　前者では、濃度測定手段が電気伝導率を測定する電気伝導率計であるのに対して、後者では、濃度測定手段が水素イオン濃度計である点。
［相違点２］
　前者では、測定値に基づいて酸の添加量を制御する添加量制御装置を有しているのに対して、後者では、そのような添加量制御装置を有していることについて不明である点。
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
４．判断
　そこで、前記相違点１ないし２について検討すると、
［相違点１について］
　刊行物２には、半導体ウェーハ処理溶液の導電率を測定する電気伝導率計（導電率測定器１６）の測定値に基づいて、単一成分の薬液の添加量を制御する制御装置が記載されている（前記刊行物２記載の事項）。　
　また、刊行物３にも、基板洗浄処理において、純水の水素イオン濃度と正の相関がある電気伝導率（比抵抗）を電気伝導率計（導電率計６）で測定し、その測定値に基づいて洗浄処理液の供給を制御することが記載されているように、電子材料用洗浄・エッチング等の処理溶液を管理する技術分野において、処理溶液の薬液濃度や水素イオン濃度に相当する物理量を電気伝導率計で測定することは、従来、周知の事項である。
　そして、刊行物１記載の発明と刊行物２又は３記載の事項とは、電子材料用洗浄・エッチング等の処理溶液を管理する点で技術分野が共通しており、刊行物１記載の発明に刊行物２又は３記載の事項の適用を阻害する特段の事由も見出せない。
　そうすると、刊行物１記載の発明における酸の濃度を測定する濃度測定手段として、刊行物２又は３記載の周知の電気伝導率計を適用することにより、相違点１に係る本願発明の特定事項とすることは、当業者であれば容易に想到し得たことである。
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
［相違点２について］
　測定値に基づいて制御対象量を制御する制御装置を設けることは例示するまでもなく周知慣用技術である。
　そうすると、刊行物１記載の発明に上記周知慣用技術を適用することにより相違点２に係る本願発明の特定事項とすることに困難性があるとはいえない。
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　そして、本願発明の奏する効果も、刊行物１記載の発明、刊行物２記載の事項、前記周知技術及び前記周知慣用技術から予測できる程度のものであって格別なものでもない。
　したがって、本願発明は、刊行物１記載の発明、刊行物２記載の事項、前記周知技術及び前記周知慣用技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　なお、請求人は平成１８年２月１日付け意見書において、刊行物２及び刊行物３記載の事項は、ガス溶解洗浄水の調製ではなく、導電率測定の技術的意味も本願発明と全く相違しており、刊行物１記載の発明に刊行物２及び刊行物３記載の事項を結びつける動機付けが乏しいものである。また、本願発明は、刊行物１記載の発明、刊行物２記載の事項及び刊行物３記載の事項から当業者といえども予測できない格別の効果を奏し、しかも、このような格別の効果は、本願発明で特定する導電率に影響しない気体を溶解した超純水に限って得られる効果である旨主張している。
　しかしながら、前記４．で検討したように、刊行物１記載の発明と刊行物２又は３記載の事項とは、電子材料用洗浄・エッチング等の処理溶液を管理する点で技術分野が共通しており、刊行物１記載の発明に刊行物２又は３記載の事項の適用を阻害する特段の事由も見出せない。また、本願発明の奏する効果も、刊行物１記載の発明における濃度測定手段として、前記周知の電気伝導率計を採用したことにより当然生じる効果にすぎない。
　したがって、請求人の主張は採用することができない。
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
５．むすび 
　以上のとおり、本願発明は、刊行物１記載の発明、刊行物２記載の事項、周知技術及び周知慣用技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、請求項２に係る発明について検討するまでもなく本件出願は拒絶するべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。