(57)【要約】積層造形装置において走査電子ビームを較正するためのＸ線基準参照物であり、較正を、参照物上に電子ビームを走査することによって生成されたＸ線信号を測定することによって行う参照物であって、参照物は、実質的に平行で、互いに離隔して取着される下板及び上板であって、上板は、複数の穴を含み、所定の中空パターンが穴内部に設けられる、上板及び下板を含む基準参照物。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｘ線基準参照物であって、電子ビームを前記参照物上に走査することによって生成されたＸ線信号を測定することによって積層造形装置において走査電子ビームを較正し、前記参照物は、実質的に平行であり、かつ互いに離隔して取着される下板及び上板を備え、前記上板は、複数の穴を含み、前記穴の内部に所定の中空パターンが設けられる、基準参照物。
【請求項２】
前記中空パターンは、クロスバーパターンである、請求項１に記載の基準参照物。
【請求項３】
前記中空パターンは、全ての穴に対して同じである、請求項１に記載の基準参照物。
【請求項４】
第１板１０、２５における前記穴２０間の距離及び前記穴２０の大きさ、並びに前記上板１９と前記下板１６との間隔、並びに前記基準参照物１００に対する前記Ｘ線センサ３６０の位置は、前記電子ビームの少なくとも一部が前記中空パターンの中空部分を通過する際に、前記下板１６、４９から発するＸ線が、前記下板から、前記穴２０のいずれか１つを通り検出器３６０に直接行かないように、配設される、請求項１に記載の基準参照物。
【請求項５】
前記上板及び前記下板は、同じ材料で作製される、請求項１に記載の基準参照物。
【請求項６】
前記上板は、第１板及び第２板を含み、前記第１板は、前記穴を含み、前記第２板は、前記所定の中空パターンを含み、前記第２板は、前記下板に対向する、請求項１に記載の基準参照物。
【請求項７】
前記第２板が前記第１板と第３板との間に配設されるように配設される第３板を更に含む、請求項６に記載の基準参照物。
【請求項８】
前記中空パターンは、前記第１板、第３板及び／又は前記下板より高い原子番号を有する材料で作製される、請求項６に記載の基準参照物。
【請求項９】
前記中空パターンは、銅、モリブデン、タングステン、又はそれらの任意の合金で作製される、請求項６に記載の基準参照物。
【請求項１０】
前記第１板、第３板及び／又は前記下板は、アルミニウム製である、請求項６に記載の基準参照物。
【請求項１１】
前記第１板及び／又は第３板における少なくとも１つの穴は、傾斜壁を有する、請求項６に記載の基準参照板。
【請求項１２】
前記穴は、前記基準参照物１００上の前記穴の位置に応じて、異なる角度の前記傾斜壁を有してもよい、請求項１１に記載の基準参照板。
【請求項１３】
前記傾斜壁の角度は、前記穴が前記基準参照物の中心から離隔して配設されるほど、前記基準参照物の表面に対する法線に対して大きくしてもよい、請求項１１に記載の基準参照板。
【請求項１４】
所定パターンに基づいて層毎に粉末を融解するための電子ビームを有する積層造形装置における、請求項１に記載の基準参照板の使用であって、前記基準参照板は、前記電子ビームのサイズ、形及び位置を較正するために、挿入され、その後、前記積層造形装置において三次元物品を造形し始める前に、除去される、基準参照板の使用。
【請求項１５】
Ｘ線基準参照物を用いて、積層造形装置において走査電子ビームを較正する方法であって、前記方法は、
三次元物体を造形し始める前に、
前記積層造形装置の構築プラットホーム上に前記Ｘ線基準参照物を置くステップであって、前記参照物は、実質的に平行で、互いに離隔して取着される下板及び上板を含み、前記上板は、複数の穴を含み、所定の中空パターンが前記穴内部に設けられる、ステップと、
前記参照物上で電子ビームを掃引するステップと、
前記電子ビームが前記参照物上で掃引される際に、前記参照物によって生成されるＸ線信号を収集するステップと、
前記生成されたＸ線信号を測定し、該測定に基づいて、前記電子ビームの少なくとも形、位置、及び走査速度を判定するステップと、
前記判定された形、位置、及び走査速度を、記憶された較正パラメータと比較することによって、前記電子ビームを較正するステップと、
三次元物品のモデルに基づいて、材料の第１層を、前記積層造形装置のワークテーブル上に塗布することによって、前記三次元物体の造形を開始するステップと、
を含む方法。
【請求項１６】
少なくとも前記三次元物体の造形を開始する前に実行される前記ステップは、１つ又は複数のコンピュータプロセッサを介して、コンピュータ実装される、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
Ｘ線基準参照物を用いて、積層造形装置において走査電子ビームを較正する方法を実装するために、コンピュータで実行される場合に構成及び配設されるプログラム要素であって、前記方法は、
三次元物体を造形し始める前に、
前記積層造形装置の構築プラットホーム上に、前記Ｘ線基準参照物を置くステップであって、前記参照物は、実質的に平行で、互いに離隔して取着される下板及び上板を含み、前記上板は、複数の穴を含み、所定の中空パターンが前記穴内部に設けられる、ステップと、
前記参照物上で電子ビームを掃引するステップと、
前記電子ビームが前記参照物上で掃引される際に、前記参照物によって生成されるＸ線信号を収集するステップと、
前記生成されたＸ線信号を測定し、該測定に基づいて、前記電子ビームの少なくとも形、位置、及び走査速度を判定するステップと、
前記判定された形、位置、及び走査速度を、記憶された較正パラメータと比較することによって、前記電子ビームを較正するステップと、
三次元物品のモデルに基づいて、材料の第１層を、前記積層造形装置のワークテーブル上に塗布することによって、前記三次元物体の造形を開始するステップと、
を含む、プログラム要素。
【請求項１８】
請求項１７に記載の前記プログラム要素を記憶した、非一時的なコンピュータ可読ストレージ媒体。
【請求項１９】
コンピュータ可読プログラムコード部分が組込まれた、少なくとも１つの非一時的なコンピュータ可読ストレージ媒体を含むコンピュータプログラム製品であって、前記コンピュータ可読プログラムコード部分は、
三次元物体を造形し始める前に、
積層造形装置の構築プラットホーム上に、前記Ｘ線基準参照物を置き、前記参照物は、実質的に平行で、互いに離隔して取着される下板及び上板を含み、前記上板は、複数の穴を含み、所定の中空パターンが前記穴内部に設けられ、
前記参照物上で電子ビームを掃引し、
前記電子ビームが前記参照物上で掃引される際に、前記参照物によって生成されるＸ線信号を収集し、
前記生成されたＸ線信号を測定し、該測定に基づいて、前記電子ビームの少なくとも形、位置、及び走査速度を判定し、
前記判定された形、位置、及び走査速度を、記憶された較正パラメータと比較することによって、前記電子ビームを較正する、
ように構成される少なくとも１つの実行可能な部分と、
三次元物品のモデルに基づいて、材料の第１層を、前記積層造形装置のワークテーブル上に塗布することによって、前記三次元物体の造形を開始するように構成される少なくとも１つの実行可能な部分と、
を含む、コンピュータプログラム製品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の様々な実施形態は、Ｘ線基準参照物に関する。
【背景技術】
【０００２】
自由形状製造法又は積層造形法は、ワークテーブルに塗布された粉末層の選択部分を順次溶融して三次元物品を形成する方法である。この技術による方法及び装置は、米国特許第８１８７５２１号（特許文献１）で開示されている。
【０００３】
かかる装置は、三次元物品がその上に形成されるワークテーブル、粉末床を形成するためにワークテーブル上に粉末の薄層を敷設するように配設される粉末ディスペンサ、粉末の溶融が行われる粉末にエネルギビームスポットを照射するエネルギビーム源、粉末床の一部を溶融して、三次元物品の断面を形成するために、粉末床上でエネルギビームスポットを制御する諸要素、及び三次元物品の連続的な断面に関する情報が記憶される制御用コンピュータ、を含んでもよい。三次元物品は、粉末ディスペンサによって順次敷設される粉末層の連続的に形成される断面を連続溶融させて、形成される。
【０００４】
特定の場所で粉末材料を融解するために、エネルギビームスポットの位置及び形について、とりわけ確認する必要がある。ビームの形がワークテーブルの異なる位置で特定の公差範囲に収まるかを知ることが必要である。当該技術分野では、電子ビームスポットが適切な形及び適切な位置を有することを容易に確認する必要がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】米国特許第８１８７５２１号明細書
【発明の概要】
【０００６】
こうした背景があり、本発明の目的は、正確で使い易い、積層造形装置における電子ビームに対する較正手段を見つけることである。
【０００７】
上記の目的は、本明細書に含まれるクレームに記載の特徴によって達成される。
【０００８】
本発明の様々な実施形態の第１態様では、Ｘ線基準参照物であって、電子ビームを前記参照物上に走査することによって生成されたＸ線信号を測定することによって積層造形装置において走査電子ビームを較正し、前記参照物は、実質的に平行であり、かつ互いに離隔して取着される下板及び上板を備え、前記上板は、複数の穴を含み、前記穴の内部に所定の中空パターンが設けられる、基準参照物が提供される。
【０００９】
この基準参照物の非限定的で例示的な利点は、比較的簡単に且つ安価に製造でき、それと同時に、積層造形装置において三次元物品を造形し始める前に、電子ビームの正確な較正を提供する点である。
【００１０】
様々な例示実施形態では、中空パターンは、クロスバーパターンである。この実施形態の非限定的で例示的な利点は、比較的基本的なパターンにより、電子ビームの迅速で信頼できる特徴付けを提供する点である。
【００１１】
様々な例示実施形態では、中空パターンは、全ての穴に対して同じである。この実施形態の非限定的で例示的な利点は、パターンが製造し易い点である。別の様々な実施形態では、中空パターンは、穴により異なる。例えば、クロスバーパターンは、基準参照物の中心に配設された穴に対しては、穴内で対称的に配設され、基準参照物の中心からより離れた穴に対して、より非対称的に配設されることもあり得る。
【００１２】
様々な例示実施形態では、第１板１０、２５における穴２０間の距離及び穴２０の大きさ、及び上板１９と下板１６との間隔、及び基準参照物１００に対するＸ線センサ３６０の位置は、電子ビームの少なくとも一部が中空パターンの中空部分を通過する際に、下板１６、４９から発するＸ線が、下板から、穴２０のいずれか１つを通り検出器３６０に直接行かないように、配設される。この実施形態の非限定的で例示的な利点は、ほとんど又は全く雑音信号がない高精度な点である。
【００１３】
様々な例示実施形態では、上板及び下板は、同じ材料で作製されている。この実施形態の非限定的で例示的な利点は、製造が簡単で安価な点である。
【００１４】
様々な例示実施形態では、上板は、第１板及び第２板を含み、第１板は、穴を含み、第２板は、所定の中空パターンを含み、第２板は、下板に対向する。この実施形態の非限定的で例示的な利点は、所定の中空パターンを含む第２板の厚さが比較的薄くてもよいため、位置、大きさ及び形に関する較正の精度が向上する点である。
【００１５】
様々な例示実施形態では、基準参照物は、第２板が第１板と第３板との間に配設されるように配設される第３板を含む。この実施形態の非限定的で例示的な利点は、第１板だけでなく、第３板も冷却を提供する、即ち、所定パターン上で電子ビームを走査する最中に比較的温かくなる可能性がある第２板の両面から冷却を提供する点である。
【００１６】
様々な例示実施形態では、中空パターンは、第１板、第３板及び／又は下板より高い原子番号を有する材料で作製される。この実施形態の非限定的で例示的な利点は、より高い原子番号の材料が、低い原子番号の材料より熱に耐えられると同時に、より多くのＸ線信号を生成することができる点である。これは、より薄い第２板は、基準参照物の使用中に変形する危険性が無いように、製造されてもよいことを意味する。第２板は、例えば、銅、モリブデン、タングステン、又はそれらの任意の合金で作製されてもよいが、第１板、第３板及び／又は下板は、アルミニウム製である。
【００１７】
様々な例示実施形態では、第１板及び／又は第３板における少なくとも１つの穴は、傾斜壁を有してもよい。この実施形態の非限定的で例示的な利点は、比較的大きい基準参照物が、参照物の周囲に近い程、精度が悪くなるという危険性無く、使用されることができる点である。
【００１８】
様々な例示実施形態では、穴は、基準参照物１００上の穴の位置に応じて、異なる角度の傾斜壁を有してもよい。
【００１９】
傾斜壁は、第１板と第３板の両方に配設されてもよい。基準参照物の中心から離隔する穴ほど、基準参照物の中心に近い穴と比較して、基準参照板の法線に対する角度を大きくしてもよい。電子ビームの偏向が大きくなるほど、所定パターンではなく第１板及び／又は第２板と衝突しないように、基準参照物の法線に対する角度を大きくする必要があるかも知れない、即ち、穴の壁を傾斜しなければ、多少の所定パターンが、偏向の角度に応じて、電子ビームから隠されてしまう。
【００２０】
別の非限定的で代表的な実施形態では、パターンは、連続パターン又は不連続パターンである。この実施形態の非限定的で例示的な利点は、任意の種類の連続又は不連続パターンが、偏向速度を確認するのに使用されてもよい点である。
【００２１】
以上、本発明について全般的に記載した。次に、添付図を参照するが、添付図は、必ずしも正確な縮尺で描かれてはいない。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】基準参照物の第１例示実施形態に係る略側面図を表している。
【図２】基準参照物の第１例示実施形態に係る上からの概略図を表している。
【図３】本発明の基準参照物が実装されることができる装置について表している。
【図４Ａ】基準参照物の図２のＡ−Ａに沿った略断面図について表している。
【図４Ｂ】基準参照物の別の断面図について表している。
【図５】本発明の様々な実施形態による例示的なシステムのブロック図である。
【図６Ａ】本発明の様々な実施形態によるサーバの略ブロック図である。
【図６Ｂ】本発明の様々な実施形態による例示的なモバイル装置の略ブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
次に、本発明の様々な実施形態に関して、添付図を参照して、以下でより詳述されるが、添付図には、本発明の実施形態の全てではないが、幾つかが、示されている。実際、本発明の実施形態は、多様な形で具現化でき、本明細書に記載された実施形態に限定されるとは解釈されるべきではない。むしろ、これらの実施形態は、本開示が、適切な法的必要条件を満たすように提供される。特に定義しない限り、本明細書で使用される全ての技術及び科学用語は、本発明が関係する当業者によって、一般に知られ、理解されるのと同じ意味を有する。用語「又は（ｏｒ）」は、本明細書では、別段の指示がない限り、択一的且つ接続的な意味で使用される。同じ番号は、全体に亘り、同じ要素を参照する。
【００２４】
更に、本発明の理解を容易にするために、多数の用語が以下で定義される。本明細書で定義される用語は、本発明に関連する領域の当業者によって一般に理解される意味を有する。「或る（ａ、ａｎ）」、及び「前記（ｔｈｅ）」等の用語は、単数のエンティティのみを指すことを意図するものではなく、その具体例が説明のために使用されることができる一般的なクラスを含むことを意図する。本明細書の専門用語は、本発明の特定の実施形態について記載するのに使用されるが、クレームで概説される場合を除いて、それらの使用は、本発明の範囲を定めるものではない。
【００２５】
本明細書で使用される用語「三次元構造体（ｔｈｒｅｅ−ｄｉｍｅｎｓｉｏｎａｌ  ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ）」等は、特定の目的に使用されるよう意図された、目標とする又は実際に製造された三次元構成体（例えば、構造材料又は材料群の）を一般的に指す。かかる構造体等は、例えば、三次元ＣＡＤシステムの助けを借りて設計されてもよい。
【００２６】
本明細書において様々な実施形態で使用される用語「電子ビーム（ｅｌｅｃｔｒｏｎ  ｂｅａｍ）」は、任意の荷電粒子ビームを指す。荷電粒子ビーム源は、電子銃、線形加速器等を含むことができる。
【００２７】
図３は、本発明のＸ線基準参照物が実装されてもよい自由形状製造又は積層造形装置３００に関する例示実施形態を表している。少なくともこの実施形態における装置３００は、電子銃３０２と、２つの粉末ホッパ３０６、３０７と、開始板３１６と、構築タンク３１２と、粉末分配器３１０と、構築プラットホーム３１４と、Ｘ線センサ３６０と、真空チャンバ３２０と、を含む。
【００２８】
真空チャンバ３２０は、真空システムを用いて、又は真空システムを介して真空環境を維持でき、真空システムは、ターボ分子ポンプ、スクロールポンプ、イオンポンプ、及び当業者には周知であり、そのためこの文脈では更なる説明が不要な、１個又は複数の弁を含んでもよい。真空システムは、制御ユニット３５０によって制御されてもよい。
【００２９】
電子銃３０２は、電子ビーム３８０を生成しており、電子ビームは、開始板３１６上に提供された粉末材料３１８を融解又は融合するのに使用されてもよい。電子銃３０２は、真空チャンバ３２０内に設けられてもよい。制御ユニット３５０は、電子銃３０２から発射された電子ビーム３８０を制御及び管理するのに使用されてもよい。少なくとも１個の集束コイル（図示せず）、少なくとも１個の偏向コイル（図示せず）、及び電子ビームの電源（図示せず）は、制御ユニット３５０に電気的に接続されてもよい。本発明の例示実施形態では、電子銃は、合焦可能な電子ビームを、約６０ｋＶの加速電圧と０〜１０ｋＷの範囲のビーム出力で生成する。真空チャンバ内の圧力は、エネルギビームで粉末層毎に溶融することによって三次元物品を構築する場合、１×１０−３〜１×１０−６ｍＢａｒの範囲にしてもよい。
【００３０】
粉末ホッパ３０６、３０７は、構築タンク３１２内の開始板３１６上に提供される粉末材料を含む。粉末材料は、例えば、チタニウム、チタン合金、アルミニウム、アルミ合金、ステンレス鋼、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｗ合金等の純金属又は金属合金としてもよい。
【００３１】
粉末分配器３１０は、開始板３１６上に粉末材料の薄層を敷設するように配設される。作業サイクル中、構築プラットホーム３１４は、粉末材料の各層を加えた後に、光線銃と関連して継続的に降下される。この移動を可能にするために、構築プラットホーム３１４は、本発明の一実施形態では、垂直方向、即ち矢印Ｐで示された方向に、移動可能に配設される。これは、構築プラットホーム３１４が、必要な厚さの第１粉末材料層が開始板３１６上に敷設された初期位置で始動することを意味する。その後、構築プラットホームは、三次元物品の新たな断面を形成するための新たな粉末材料層を敷設するのに関連して降下される。構築プラットホーム３１４を降下する手段は、例えば、ギヤ、調節ネジ等を備えたサーボエンジンによるものであってもよい。
【００３２】
三次元物品のモデルは、ＣＡＤ（Ｃｏｍｐｕｔｅｒ  Ａｉｄｅｄ  Ｄｅｓｉｇｎ：コンピュータ支援設計）ツールで生成されてもよい。
【００３３】
第１層が完成した後、即ち、三次元物品の第１層を作製するための粉末材料の溶融後、第２粉末層が、開始板３１６上に提供される。第２粉末層は、前の層と同じ方法によって分配される。しかしながら、同じ積層造形機で、ワークテーブル上に粉末を分配するための代わりの方法があるかも知れない。例えば、第１層は、第１粉末分配器を用いて又は第１粉末分配器を介して、提供されてもよく、第２層は、別の粉末分配器によって提供されてもよい。粉末分配器の設計は、制御ユニットからの命令に従い自動的に変更される。単一レーキシステムの形をした粉末分配器、即ち、１つのレーキが、左粉末ホッパ３０６と右粉末ホッパ３０７の両方から落下した粉末を捕集する場合、そのレーキ自体について、設計を変更できる。
【００３４】
ワークテーブル３１６上に第２粉末層を分配した後に、電子ビーム３８０が、構築プラットホーム上に指向され、それにより第２粉末層を選択位置で溶融させて、三次元物品の第２断面を形成する。第２層の溶融部分は、第１層の溶融部分に結合されてもよい。最上層の粉末だけを融解するのではなく、最上層直下の層の厚みの少なくとも一部も再融解することで、第１及び第２層の溶融部分がともに融解されてもよい。
【００３５】
図１は、本発明によるＸ線基準参照物１００の第１例示実施形態に係る略側面図を表している。この例示実施形態では、Ｘ線基準参照物１００は、下板１６及び上板１９を含み、下板１６と上板１９は、其々互いに実質的に平行になるように、互いに離隔して取着される。図１では、上板と下板は、複数の間隔体１８を介して互いに取着され、間隔体は、ねじ、リベット又は同様の締結要素を介して上下板に締結されてもよい。下板１６は、実質的に平坦である。上板１９は、所定数の穴２０を含むが、これについては、図２を参照されたい。穴２０の内側には、所定の中空パターン２２が配設される。
【００３６】
第１例示実施形態では、穴２０及びパターン２２は、同一の上板１９から製造される。パターン２２を有する穴２０は、エッチングによって製造されてもよい。
【００３７】
第２例示実施形態では、上板は、第１板１０及び第２板１２を含み、第１板１０は、所定数の穴２０を含み、第２板１２は、パターン２２を含む。穴２０は、水切断又は穿孔されてもよい。第２板１２は、所定のパターンを有するネットとする、又は所定のパターンを、第１板の穴２０と位置合せされた選択位置にだけ有する中実板としてもよい。所定のパターンは、第２板１２であり、エッチングによって作製されてもよい。第２板１２は、下板１６に対向する。第２板１２は、第１板１０と比べて薄くしてもよい。様々な例示実施形態では、第２板の厚さは、０．０５〜０．２０ｍｍである。様々な例示実施形態では、第１及び／又は第３板の厚さは、ｌ〜３ｃｍとしてもよい。様々な例示実施形態では、穴２０の直径は、０．５〜２ｃｍである。
【００３８】
所定のパターン２２におけるバーは、ナイフエッジ式ビームプロファイリング法（ｋｎｉｆｅ  ｅｄｇｅ  ｂｅａｍ  ｐｒｏｆｉｌｉｎｇ  ｍｅｔｈｏｄ）の精度を向上するための鋭いエッジを有してもよく、プロファイリング法は、電子ビームの位置、サイズ及び形を判定するのに使用されてもよい。
【００３９】
様々な例示実施形態では、上板と下板との間隔は、５〜１０ｃｍとしてもよい。
【００４０】
第１板と比べて、第２板は、異なる材料で作製されてもよい。第２板１２は、第１板１０より大きな原子番号を有する材料で作製されてもよい。第２板は、Ｃｕ又はＷ製としてもよいのに対して、第１板１０は、Ａｌ製としてもよい。パターン２２は、所定の角度でバーを互いに交差させたネットとしてもよい。バーの横方向厚みは、一例示実施形態では、穴２０の直径の３分の１としてもよい。別の例示実施形態では、バーの横方向厚みは、直径の５分の１以下としてもよい。
【００４１】
第３実施形態では、上板１９は、第１板１０、第２板１２、及び第３板１４を含む。第２板１２、４６は、第１板１０と第３板１４の間に配設される。第３板は、第１板４８及び第２板４６より実質的に厚くしてもよく、これについては図４Ａを参照されたい。一例示実施形態では、第３板４４は、第１板４８より５倍厚い。第３板４４、１４は、第１板１０、４８における穴４０と整列する穴４５を含む。第３板４４における穴４５は、図４Ａの参照番号４１で示された円錐形を有する、即ち、第２板１２、４６に対向する直径より、下板１６、４９に対向する直径が大きい。円錐形は、Ｘ線信号の信号／雑音比を向上するのに使用される。直円筒を使用した場合、Ｘ線は、直円筒の壁から発することがある。穴の内壁を傾斜させることによって、Ｘ線信号は、大いに抑制される可能性がある。第１板４８上で検出されるＸ線信号が、所定のパターン４２、又は第１板４８、１０だけから発散するように、出来る限り信号／雑音比を向上させるために、第３板４４の厚さ及び第３板４４と下板４９、１６との間隔は、調節されてもよい。
【００４２】
第２及び第３実施形態では、第２板は、第２板の周囲、即ち第１板１０、４８及び第３板１４、４４と比べて、比較的重い材料で作製されてもよい。
【００４３】
第１板１０、２５における穴２０間の距離、及び上板１９と下板１６との間隔、及び基準参照物１００に対するＸ線センサ３６０の位置は、下板１６、４９から発散するＸ線が検出器３６０の視界に入らなくなる、即ちＸ線が、下板から穴２０を通り検出器３６０へ直接行かないように、決定される。
【００４４】
パターン２２は、交差パターンとしてもよい。交差パターンは、該パターンの中心を、穴２０の中心にしてもよい。或いは、交差の中心は、穴２０の中心と位置合わせされない。
【００４５】
様々な例示実施形態では、穴２０によって異なるパターンを有してもよい。例えば、第１穴は、第１交差パターンを有し、第２穴２０は、第２交差パターンを有してもよい。これら交差パターンの違いは、クロスバー間の角度としてもよい。
【００４６】
図４Ｂは、基準参照物の別の断面について表している。この実施形態では、第１板４８は、図４Ａで示された実施形態より厚い。第１板４８が厚いため、第１板の穴４０は、傾斜壁４３を有する必要がある。傾斜壁を使用する理由は、電子ビームが、所定パターン４２の全領域に衝突可能にすべきだからである。傾斜壁でなければ、パターン２２の一部の領域は、電子ビームから外れてしまう。
【００４７】
第１板及び第３板は、同一としてもよい。
【００４８】
傾斜壁４１、４３の角度は、穴が基準参照物の中心から離隔するほど、基準参照物の表面に対する法線に対して大きくしてもよい。これは、様々な例示実施形態では、穴が、基準参照物１００上の穴の位置に応じて、異なる傾斜壁角度を有してもよいことを意味している。
【００４９】
電子ビーム源３０２は、電子ビーム３８０を生成するのに使用され、電子ビーム３８０は、制御ユニット３５０によって制御される少なくとも１個の偏向コイル（図示せず）で、又は偏向コイルを介して、ワークテーブル３１４上で、偏向されてもよい。偏向コイルの磁場を変化させて、電子ビーム３８０は、所定の最大領域内にある任意の所望位置に移動されてもよい。焦点コイル（図示せず）は、電子ビームの目標領域上でのスポットサイズを変えるのに、使用されてもよい。非点収差レンズ（図示せず）は、電子ビームの目標領域上でのスポット形を変えるのに使用されてもよい。
【００５０】
Ｘ線基準参照物１００は、積層造形装置において電子ビームを較正するのに使用されてもよい。Ｘ線基準参照物は、機械で任意の部品を造形し始める前に、構築プラットホーム３１４に配設されてもよい。電子ビームは、Ｘ線基準参照物上で掃引され、Ｘ線検出器は、電子ビームが掃引される際に、基準参照物１００から生成されたＸ線信号を収集するのに使用される。穴２０は、基準参照物１００の正確に規定された位置に配設される。電子ビームが基準参照物上で掃引されている最中に、Ｘ線信号を分析することによって、電子ビームの形、速度及び絶対位置を判定してもよい。電子ビームのスポットサイズは、通常、所定パターンの中空部分より小さい。電子ビームが特定の穴上に掃引されると、該穴の縁部と所定パターンの縁部を、別個の信号として判定できる。穴及び所定パターンの寸法が、予め高精度で分かるため、特定の掃引パターンから、電子ビームの形、位置及び走査速度を判定できる。較正パラメータは、三次元物体を造形する際に使用するルックアップテーブルに記憶されてもよい。
【００５１】
使用されてもよいビームキャラクタリゼーション法は、「ナイフエッジ式ビームプロファイリング法（ｋｎｉｆｅ  ｅｄｇｅ  ｂｅａｍ  ｐｒｏｆｉｌｉｎｇ  ｍｅｔｈｏｄ）」である。電子ビームが縁部材料（所定パターンの縁部）に当ると、Ｘ線光子が、生成され、検出器３６１によって検出される。ビームが所定パターンの縁部上で掃引される際のＸ線検出器３６１からの信号は、オシロスコープによって記録されてもよい。検出された信号の形は、その後、ビーム径、ビーム形及びビーム位置に変換されてもよい。個々の穴の位置は、ＳＥＭ画像から判定されてもよい。その後、ビームは、所定穴２０上で左から右に掃引されてもよい。第１ラインが露光されると、新たな走査が、垂直方向に所定のシフトをして開始する。所定のシフトは、０．２ｍｍとしてもよい。この手順は、所定パターン２２全体に及ぶまで、繰り返される。Ｘ線検出器からの信号は、オシロスコープによって、第１走査ラインから最終走査ラインまで連続的に記録される。
【００５２】
ビームサイズ及び位置の較正露光手順は、配熱及び放熱によって決まる。一度に単一の較正箇所を露光すると、所定パターン２２で過剰な熱が発生し、その結果、材料は、ほぼ確実に劣化してしまう。しかしながら、幾つかの較正箇所（複数の穴）が、単一のループで露光されれば、所定パターン２２で発生された熱は、放散せざるをえないであろう。検出されたオシロスコープ信号から、十分なサンプルが得られれば、電子ビームのサイズ、形及び位置を判定可能である。走査信号は、基本的に、対応するガウシアンビームプロファイルの導関数である。ナイフエッジ法は、ｅｒｆ（ｒ，ａ）；但しｒは、１／ｅ２半径及び「ａ」は、側面位置、をフィッテイングすることによって、走査データに対する誤差関数を最適化する。
【００５３】
Ｘ線基準参照物上の特定の位置で検出された電子ビームが、変形していると判定された場合、非点収差レンズによる調整により、ビーム形の歪みを修正してもよい。Ｘ線検出は、所望の形が得られるまで、調整中に、位置に関して継続してもよい。異なる方向でパターンを横断して電子ビームを掃引することによって、Ｘ線基準参照物上のありとあらゆる位置に関して高精度で電子ビームスポットの形を判定してもよい。
【００５４】
Ｘ線基準参照物１００上の特定の位置で検出された電子ビームが、サイズ外と判定された場合、焦点レンズによる調整によって、ビームサイズの歪みを修正してもよい。Ｘ線検出は、所望のサイズが得られるまで、調整中、位置に関して継続してもよい。異なる方向でパターンを横断して電子ビームを掃引することによって、Ｘ線基準参照物上のありとあらゆる位置に関して高精度で電子ビームスポットのサイズを判定してもよい。
【００５５】
Ｘ線基準参照物の使用は、機械を新たに製造する前、又は所定数製造した後に、行ってもよい。Ｘ線基準参照物は、積層造形機で、重要な部品が更新又は交換される、例えば電子フィラメントが交換されると直ぐに、使用されてもよい。
【００５６】
本発明の別の態様では、コンピュータで実行されると、材料層の一部を順次接合して、少なくとも１つの三次元物品を形成する方法を実装するように、構成及び配設されるプログラム要素が、提供される。プログラム要素は、本明細書で提供されたクレームの組で概説されるステップを実行するように、特に構成されてもよい。
【００５７】
プログラム要素は、１つ又は複数の非一時的なコンピュータ可読ストレージ媒体にインストールされてもよい。非一時的なコンピュータ可読ストレージ媒体及び／又はプログラム要素は、本明細書の他の箇所に記載されるように、制御ユニットと関連付けられてもよい。非一時的なコンピュータ可読ストレージ媒体及びプログラム要素は、その中に組込まれた非一時的なコンピュータ可読プログラムコード部分を含んでもよく、１つ又は複数の非一時的なコンピュータプログラム製品に更に収容されてもよい。様々な実施形態によると、本明細書の他の箇所に記載される方法は、例えば、１つ又は複数のプロセッサ及び／又はメモリ記憶領域と共に、コンピュータ実装されてもよい。
【００５８】
前述したように、本発明の様々な実施形態は、非一時的なコンピュータプログラム製品としての実装を含む、様々な方法で実装されてもよい。コンピュータプログラム製品は、アプリケーション、プログラム、プログラムモジュール、スクリプト、ソースコード、プログラムコード、オブジェクトコード、バイトコード、コンパイル済みコード、解釈済みコード、機械コード、実行可能命令、及び／又は同様のもの（本明細書では、実行可能命令、実行用命令、プログラムコードとも呼ばれ、及び／又は本明細書では類似の用語が同じ意味で使用される）を記憶する非一時的なコンピュータ可読ストレージ媒体を含んでもよい。かかる非一時的なコンピュータ可読ストレージ媒体は、全てのコンピュータ可読媒体（揮発性及び不揮発性媒体を含む）を含む。
【００５９】
一実施形態では、不揮発性のコンピュータ可読ストレージ媒体は、フロッピーディスク、フレキシブルディスク、ハードディスク、ソリッドステートストレージ（ＳＳＳ：ｓｏｌｉｄ−ｓｔａｔｅ  ｓｔｏｒａｇｅ）（例えば、ソリッドステートドライブ（ＳＳＤ：ｓｏｌｉｄ  ｓｔａｔｅ  ｄｒｉｖｅ）、ソリッドステートカード（ＳＳＣ：ｓｏｌｉｄ  ｓｔａｔｅ  ｃａｒｄ）、ソリッドステートモジュール（ＳＳＭ：ｓｏｌｉｄ  ｓｔａｔｅ  ｍｏｄｕｌｅ））、エンタープライズフラッシュドライブ、磁気テープ、又は他の非一時的な磁気媒体、及び／又は同様のものを含んでもよい。また、不揮発性のコンピュータ可読ストレージ媒体は、パンチカード、紙テープ、光学マークシート（又は、穴の若しくは他の光学的に認識可能な印のパターンを有する任意の他の物理的媒体）、コンパクトディスク読取り専用メモリ（ＣＤ−ＲＯＭ：ｃｏｍｐａｃｔ  ｄｉｓｃ  ｒｅａｄ  ｏｎｌｙ  ｍｅｍｏｒｙ）、コンパクトディスク再書込み可能コンパクトディスク（ＣＤ−ＲＷ：ｃｏｍｐａｃｔ  ｄｉｓｃ  ｃｏｍｐａｃｔ  ｄｉｓｃ−ｒｅｗｒｉｔａｂｌｅ）、デジタル多目的ディスク（ＤＶＤ：ｄｉｇｉｔａｌ  ｖｅｒｓａｔｉｌｅ  ｄｉｓｃ）、ブルーレイディスク（ＢＤ：Ｂｌｕ−ｒａｙ（登録商標）  ｄｉｓｃ）、任意の他の非一時的な光学媒体、及び／又は同様のものも含んでもよい。また、かかる不揮発性のコンピュータ可読ストレージ媒体は、読取り専用メモリ（ＲＯＭ：ｒｅａｄ−ｏｎｌｙ  ｍｅｍｏｒｙ）、プログラム可能読取り専用メモリ（ＰＲＯＭ：ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ  ｒｅａｄ−ｏｎｌｙ  ｍｅｍｏｒｙ）、消去可能プログラム可能読取り専用メモリ（ＥＰＲＯＭ：ｅｒａｓａｂｌｅ  ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ  ｒｅａｄ−ｏｎｌｙ  ｍｅｍｏｒｙ）、電気的消去可能なプログラム可能読取り専用メモリ（ＥＥＰＲＯＭ：ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  ｅｒａｓａｂｌｅ  ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ  ｒｅａｄ−ｏｎｌｙ  ｍｅｍｏｒｙ）、フラッシュメモリ（例えば、シリアル、ＮＡＮＤ、ＮＯＲ等）、マルチメディアメモリカード（ＭＭＣ：ｍｕｌｔｉｍｅｄｉａ  ｍｅｍｏｒｙ  ｃａｒｄ）、セキュアデジタル（ＳＤ：ｓｅｃｕｒｅ  ｄｉｇｉｔａｌ）メモリカード、スマートメディアカード、コンパクトフラッシュ（登録商標）（ＣＦ：ＣｏｍｐａｃｔＦｌａｓｈ）カード、メモリスティック、及び／又は同様のものも含んでもよい。更に、不揮発性のコンピュータ可読ストレージ媒体は、導電性ブリッジングランダムアクセスメモリ（ＣＢＲＡＭ：ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ−ｂｒｉｄｇｉｎｇ  ｒａｎｄｏｍ  ａｃｃｅｓｓ  ｍｅｍｏｒｙ）、相変化ランダムアクセスメモリ（ＰＲＡＭ：ｐｈａｓｅ−ｃｈａｎｇｅ  ｒａｎｄｏｍ  ａｃｃｅｓｓ  ｍｅｍｏｒｙ）、強誘電体ランダムアクセスメモリ（ＦｅＲＡＭ：ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  ｒａｎｄｏｍ−ａｃｃｅｓｓ  ｍｅｍｏｒｙ）、不揮発性ランダムアクセスメモリ（ＮＶＲＡＭ：ｎｏｎ−ｖｏｌａｔｉｌｅ  ｒａｎｄｏｍ−ａｃｃｅｓｓ  ｍｅｍｏｒｙ）、磁気抵抗ランダムアクセスメモリ（ＭＲＡＭ：ｍａｇｎｅｔｏｒｅｓｉｓｔｉｖｅ  ｒａｎｄｏｍ−ａｃｃｅｓｓ  ｍｅｍｏｒｙ）、抵抗ランダムアクセスメモリ（ＲＲＡＭ（登録商標）：ｒｅｓｉｓｔｉｖｅ  ｒａｎｄｏｍ−ａｃｃｅｓｓ  ｍｅｍｏｒｙ）、シリコン−酸化物−窒化物−酸化物−シリコンメモリ（ＳＯＮＯＳ：Ｓｉｌｉｃｏｎ−Ｏｘｉｄｅ−Ｎｉｔｒｉｄｅ−Ｏｘｉｄｅ−Ｓｉｌｉｃｏｎ  ｍｅｍｏｒｙ）、浮遊ジャンクションゲートランダムアクセスメモリ（ＦＪＧ  ＲＡＭ：ｆｌｏａｔｉｎｇ  ｊｕｎｃｔｉｏｎ  ｇａｔｅ  ｒａｎｄｏｍ  ａｃｃｅｓｓ  ｍｅｍｏｒｙ）、Ｍｉｌｌｉｐｅｄｅメモリ、レーストラックメモリ、及び／又は同様のものも含んでもよい。
【００６０】
一実施形態では、揮発性のコンピュータ可読ストレージ媒体は、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ：ｒａｎｄｏｍ  ａｃｃｅｓｓ  ｍｅｍｏｒｙ）、ダイナミックランダムアクセスメモリ（ＤＲＡＭ：ｄｙｎａｍｉｃ  ｒａｎｄｏｍ  ａｃｃｅｓｓ  ｍｅｍｏｒｙ）、スタティックランダムアクセスメモリ（ＳＲＡＭ：ｓｔａｔｉｃ  ｒａｎｄｏｍ  ａｃｃｅｓｓ  ｍｅｍｏｒｙ）、高速ページモードダイナミックランダムアクセスメモリ（ＦＰＭ  ＤＲＡＭ：ｆａｓｔ  ｐａｇｅ  ｍｏｄｅ  ｄｙｎａｍｉｃ  ｒａｎｄｏｍ  ａｃｃｅｓｓ  ｍｅｍｏｒｙ）、拡張データ出力ダイナミックランダムアクセスメモリ（ＥＤＯ  ＤＲＡＭ：ｅｘｔｅｎｄｅｄ  ｄａｔａ−ｏｕｔ  ｄｙｎａｍｉｃ  ｒａｎｄｏｍ  ａｃｃｅｓｓ  ｍｅｍｏｒｙ）、同期型ダイナミックランダムアクセスメモリ（ＳＤＲＡＭ：ｓｙｎｃｈｒｏｎｏｕｓ  ｄｙｎａｍｉｃ  ｒａｎｄｏｍ  ａｃｃｅｓｓ  ｍｅｍｏｒｙ）、ダブルデータレート同期型ダイナミックランダムアクセスメモリ（ＤＤＲ  ＳＤＲＡＭ：ｄｏｕｂｌｅ  ｄａｔａ  ｒａｔｅ  ｓｙｎｃｈｒｏｎｏｕｓ  ｄｙｎａｍｉｃ  ｒａｎｄｏｍ  ａｃｃｅｓｓ  ｍｅｍｏｒｙ）、ダブルデータレートタイプ２同期型ダイナミックランダムアクセスメモリ（ＤＤＲ２  ＳＤＲＡＭ：ｄｏｕｂｌｅ  ｄａｔａ  ｒａｔｅ  ｔｙｐｅ  ｔｗｏ  ｓｙｎｃｈｒｏｎｏｕｓ  ｄｙｎａｍｉｃ  ｒａｎｄｏｍ  ａｃｃｅｓｓ  ｍｅｍｏｒｙ）、ダブルデータレートタイプ３同期型ダイナミックランダムアクセスメモリ（ＤＤＲ３  ＳＤＲＡＭ：ｄｏｕｂｌｅ  ｄａｔａ  ｒａｔｅ  ｔｙｐｅ  ｔｈｒｅｅ  ｓｙｎｃｈｒｏｎｏｕｓ  ｄｙｎａｍｉｃ  ｒａｎｄｏｍ  ａｃｃｅｓｓ  ｍｅｍｏｒｙ）、ラムバスダイナミックランダムアクセスメモリ（ＲＤＲＡＭ：Ｒａｍｂｕｓ  ｄｙｎａｍｉｃ  ｒａｎｄｏｍ  ａｃｃｅｓｓ  ｍｅｍｏｒｙ）、ツイントランジスタＲＡＭ（ＴＴＲＡＭ：Ｔｗｉｎ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ  ＲＡＭ）、サイリスタＲＡＭ（Ｔ−ＲＡＭ：Ｔｈｙｒｉｓｔｏｒ  ＲＡＭ）、ゼロキャパシタ（Ｚ−ＲＡＭ：Ｚｅｒｏ−ｃａｐａｃｉｔｏｒ  ＲＡＭ）、ラムバスインラインメモリモジュール（ＲＩＭＭ：Ｒａｍｂｕｓ  ｉｎ−ｌｉｎｅ  ｍｅｍｏｒｙ  ｍｏｄｕｌｅ）、デュアルインラインメモリモジュール（ＤＩＭＭ：ｄｕａｌ  ｉｎ−ｌｉｎｅ  ｍｅｍｏｒｙ  ｍｏｄｕｌｅ）、シングルインラインメモリモジュール（ＳＩＭＭ：ｓｉｎｇｌｅ  ｉｎ−ｌｉｎｅ  ｍｅｍｏｒｙ  ｍｏｄｕｌｅ）、ビデオランダムアクセスメモリ  ＶＲＡＭ、キャッシュメモリ（様々なレベルを含む）、フラッシュメモリ、レジスタメモリ、及び／又は同様のものを含んでもよい。実施形態がコンピュータ可読ストレージ媒体を使用すると記載されている場合、他の種類のコンピュータ可読ストレージ媒体は、上述されたコンピュータ可読ストレージ媒体と置換えられてもよい、又は上記コンピュータ可読ストレージ媒体に加えて使用されてもよいことが理解されよう。
【００６１】
当然ながら、本発明の様々な実施形態は、本明細書の他の箇所で記載されたように、方法、装置、システム、コンピューティング装置、コンピューティングエンティティ、及び／又は同様のものとして、実装されてもよい。このように、本発明の実施形態は、特定のステップ又は動作を実行するために、コンピュータ可読ストレージ媒体に記憶された命令を実行する装置、システム、コンピューティング装置、コンピューティングエンティティ、及び／又は同様のものの形を取ってもよい。しかしながら、本発明の実施形態は、特定のステップ又は動作を実行する完全なハードウェアの実施形態の形も取ってもよい。
【００６２】
様々な実施形態について、装置、方法、システム及びコンピュータプログラム製品に関するブロック図及びフローチャート図を参照して、以下で記載される。ブロック図及びフローチャート図其々の任意の各ブロックは、例えば、コンピューティングシステム内のプロセッサで実行する論理ステップ又は動作として、部分的にコンピュータプログラム命令によって実装されてもよいと理解されるべきである。これらのコンピュータプログラム命令は、専用コンピュータ又は他のプログラム可能なデータ処理装置等のコンピュータにロードされて、コンピュータ又は他のプログラム可能なデータ処理装置で実行する命令が、フローチャートの１つのブロック又は複数のブロックで指定された機能を実装するような、特別に構成された機械を齎すようにしてもよい。
【００６３】
また、これらのコンピュータプログラム命令は、コンピュータ又は他のプログラム可能なデータ処理装置に指示できるコンピュータ可読メモリに記憶されて、コンピュータ可読メモリに記憶された命令が、フローチャートの１つの又は複数のブロックで指定された機能性を実装するためのコンピュータ可読命令を含む製品を齎すような、特定の方法で機能するようにしてもよい。また、コンピュータプログラム命令は、コンピュータ又は他のプログラム可能なデータ処理装置にロードされて、一連の動作ステップをコンピュータ又は他のプログラム可能なデータ処理装置で実行させて、コンピュータ又は他のプログラム可能な装置で実行する命令が、フローチャートの１つの又は複数のブロックで指定された機能を実装するための動作を提供するような、コンピュータ実装プロセスを齎すようにしてもよい。
【００６４】
従って、ブロック図及びフローチャート図のブロックは、指定された機能を実行するための様々な組合せ、指定された機能を実行するための動作の組合せ、及び指定された機能を実行するためのプログラム命令をサポートする。また、ブロック図及びフローチャート図の各ブロック、並びにブロック図及びフローチャート図のブロックの組合せは、指定された機能若しくは動作を実行する専用ハードウェアベースのコンピュータシステム、又は専用ハードウェアとコンピュータ命令の組合せによって実装され得るとも理解されるべきである。
【００６５】
図５は、本発明の様々な実施形態と共に使用できる例示的なシステム１０２０のブロック図である。少なくとも図示された実施形態では、システム１０２０は、１台又は複数の中央コンピューティング装置１１１０、１台又は複数の分散コンピューティング装置１１２０、及び１台又は複数の分散ハンドヘルド又はモバイル装置１３００を含んでもよく、これら全ては、１つ又は複数のネットワーク１１３０を介して、中央サーバ１２００（又は制御ユニット）と通信するよう構成される。図５では、様々なシステムエンティティを、別個のスタンドアロンエンティティとして示しているが、様々な実施形態は、この特定のアーキテクチャに限定されない。
【００６６】
本発明の様々な実施形態によると、１つ又は複数のネットワーク１１３０は、多数の第２世代（２Ｇ）、２．５Ｇ、第３世代（３Ｇ）、及び／又は第４世代（４Ｇ）移動通信プロトコル等のいずれか１つ又は複数に従って通信をサポート可能にしてもよい。特に、１つ又は複数のネットワーク１１３０は、２Ｇワイヤレス通信プロトコルＩＳ−１３６（ＴＤＭＡ）、ＧＳＭ（登録商標）、及びＩＳ−９５（ＣＤＭＡ）に従って通信をサポート可能にしてもよい。また、例えば、１つ又は複数のネットワーク１１３０は、２．５Ｇワイヤレス通信プロトコルＧＰＲＳ、拡張データＧＳＭ環境（ＥＤＧＥ：Ｅｎｈａｎｃｅｄ  Ｄａｔａ  ＧＳＭ  Ｅｎｖｉｒｏｎｍｅｎｔ）等に従って通信をサポート可能にしてもよい。更に、例えば、１つ又は複数のネットワーク１１３０は、広帯域符号分割多重アクセス（ＷＣＤＭＡ：Ｗｉｄｅｂａｎｄ  Ｃｏｄｅ  Ｄｉｖｉｓｉｏｎ  Ｍｕｌｔｉｐｌｅ  Ａｃｃｅｓｓ）無線アクセス技術を採用するユニバーサルモバイル電話システム（ＵＭＴＳ：Ｕｎｉｖｅｒｓａｌ  Ｍｏｂｉｌｅ  Ｔｅｌｅｐｈｏｎｅ  Ｓｙｓｔｅｍ）等の３Ｇワイヤレス通信プロトコルに従って通信をサポート可能にしてもよい。ＴＡＣＳだけでなく、一部の狭帯域ＡＭＰＳ（ＮＡＭＰＳ）ネットワーク（複数可）も、本発明の実施形態から利益を受ける可能性があり、デュアルモード以上の移動局（例えば、デジタル／アナログ又はＴＤＭＡ／ＣＤＭＡ／アナログ電話）も利益を受けるはずである。更に別の例として、システム１０２０の構成要素其々は、例えば、無線周波数（ＲＦ：ｒａｄｉｏ  ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ）、ブルートゥース（登録商標）、赤外線（ＩｒＤＡ）、又は有線若しくはワイヤレスのパーソナルエリアネットワーク（「ＰＡＮ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ  Ａｒｅａ  Ｎｅｔｗｏｒｋ）」）、ローカルエリアネットワーク（「ＬＡＮ（Ｌｏｃａｌ  Ａｒｅａ  Ｎｅｔｗｏｒｋ）」）、メトロポリタンエリアネットワーク「ＭＡＮ（Ｍｅｔｒｏｐｏｌｉｔａｎ  Ａｒｅａ  Ｎｅｔｗｏｒｋ）」）、広域ネットワーク（「ＷＡＮ（Ｗｉｄｅ  Ａｒｅａ  Ｎｅｔｗｏｒｋ）」）等を含む、多数の異なる有線又はワイヤレスネットワーク技術の任意のもの等の技術に基づき、相互に通信するよう構成されてもよい。
【００６７】
装置（複数可）１１１０〜１３００が、同じネットワーク１１３０上で相互に通信するとして図５に示されているが、これらの装置は、別個の複数のネットワーク上で同様に通信してもよい。
【００６８】
一実施形態によると、サーバ１２００からデータを受信するのに加えて、分散された装置１１１０、１１２０、及び／又は１３００は、独自にデータを収集し、送信するように更に構成されてもよい。様々な実施形態では、装置１１１０、１１２０、及び／又は１３００は、キーパッド、タッチパッド、バーコードスキャナ、無線周波数識別（ＲＦＩＤ：ｒａｄｉｏ  ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ  ｉｄｅｎｔｉｆｉｃａｔｉｏｎ）リーダ、インタフェースカード（例えば、モデム等）又は受信機等の、１つ又は複数の入力ユニット又は装置を介してデータを受信可能にしてもよい。装置１１１０、１１２０、及び／又は１３００は、更に、１つ又は複数の揮発性又は不揮発性メモリモジュールにデータを記憶可能にしてもよく、データを１つ又は複数の出力ユニット又は装置を介して、例えば、装置を操作するユーザに表示することによって、或いはデータを、例えば、１つ又は複数のネットワーク１１３０上で送信することによって、出力可能にしてもよい。
【００６９】
様々な実施形態では、サーバ１２００は、本明細書に特に詳細に図示され、記述されたものを含む、本発明の様々な実施形態に従って１つ又は複数の機能を実行するための様々なシステムを含む。しかしながら、サーバ１２００は、１つ又は複数の同様な機能を、本発明の精神及び範囲を逸脱せずに実行するための様々な代替装置を含む可能性があると、理解されるべきである。例えば、サーバ１２００の少なくとも一部は、特定の実施形態
では、特定の用途に望ましいように、分散された装置（複数可）１１１０、１１２０、及び／又はハンドヘルド若しくはモバイル装置（複数可）１３００に設置されてもよい。以下で更に詳述されるように、少なくとも一実施形態では、ハンドヘルド又はモバイル装置（複数可）１３００は、１つ又は複数のモバイルアプリケーション１３３０を含んでもよく、モバイルアプリケーション１３３０は、サーバ１２００と通信するためのユーザインタフェースを提供するように構成されてもよく、これら全てについては、同じく、以下でより詳細に記載される。
【００７０】
図６Ａは、様々な実施形態によるサーバ１２００の概略図である。サーバ１２００は、システムインタフェース又はバス１２３５を介してサーバ内で、他の要素と通信するプロセッサ１２３０を含む。また、サーバ１２００には、データを受信し、表示するためのディスプレイ／入力装置１２５０も含まれる。ディスプレイ／入力装置１２５０は、例えば、モニタと組合せて使用されるキーボード又はポインティング装置としてもよい。サーバ１２００は、メモリ１２２０を更に含み、メモリは、典型的には、読取り専用メモリ（ＲＯＭ：ｒｅａｄ  ｏｎｌｙ  ｍｅｍｏｒｙ）１２２６及びランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ：ｒａｎｄｏｍ  ａｃｃｅｓｓ  ｍｅｍｏｒｙ）１２２２の両方を含む。サーバのＲＯＭ１２２６は、サーバ１２００内で要素間で情報を伝達するのに役立つ基本ルーチンを含む基本入力／出力システム１２２４（ＢＩＯＳ：ｂａｓｉｃ  ｉｎｐｕｔ／ｏｕｔｐｕｔ  ｓｙｓｔｅｍ）を記憶するのに使用される。様々なＲＯＭ及びＲＡＭ構成については、本明細書で前述されている。
【００７１】
更に、サーバ１２００は、様々なコンピュータ可読媒体、例えばハードディスク、リムーバブル型磁気ディスク、又はＣＤ−ＲＯＭディスク等に関する情報を記憶するための、少なくとも１つのストレージ装置又はプログラムストレージ２１０、例えばハードディスクドライブ、フロッピーディスクドライブ、ＣＤ−ＲＯＭドライブ、又は光ディスクドライブ等を含む。当業者に理解されるように、これらストレージ装置１２１０は其々、適切なインタフェースによってシステムバス１２３５に接続される。ストレージ装置１２１０及びそれらに関連付けられるコンピュータ可読媒体は、パーソナルコンピュータに不揮発性ストレージを提供する。当業者に理解されるように、上記のコンピュータ可読媒体は、当該技術分野で知られる任意の他の種類のコンピュータ可読媒体と置換え可能である。かかる媒体は、例えば、磁気カセット、フラッシュメモリカード、デジタルビデオディスク、及びベルヌーイカートリッジを含む。
【００７２】
図示されていないが、一実施形態によると、サーバ１２００のストレージ装置１２１０及び／又はメモリは、サーバ１２００によってアクセスが可能な過去及び／又は現在の配信データ及び配信状況を記憶することができるデータストレージ装置の機能を更に提供してもよい。この関連で、ストレージ装置１２１０は、１つ又は複数のデータベースを含んでもよい。用語「データベース」は、例えば関係型データベース、階層型データベース、又はネットワークデータベース等を介して、コンピュータシステムに記憶された記録又はデータの構造化された集合を指すが、そういうものとして限定的に解釈されるべきでない。
【００７３】
例えば、プロセッサ１２３０によって実行可能な１つ又は複数のコンピュータ可読なプログラムコード部分を含む多数のプログラムモジュール（例えば、例示的なモジュール１４００〜１７００）は、様々なストレージ装置１２１０によって、ＲＡＭ１２２２内に記憶されてもよい。また、かかるプログラムモジュールは、オペレーティングシステム１２８０を含んでもよい。これら及び他の実施形態では、様々なモジュール１４００、１５００、１６００、１７００は、プロセッサ１２３０及びオペレーティングシステム１２８０を用いてサーバ１２００の動作に関する特定の側面を制御する。更に他の実施形態では、１つ又は複数の追加の及び／又は代わりのモジュールも、本発明の範囲及び性質から逸脱することなく、提供されてもよいと理解されるべきである。
【００７４】
様々な実施形態では、プログラムモジュール１４００、１５００、１６００、１７００は、サーバ１２００によって実行され、１つ又は複数のグラフィカルユーザインタフェース、レポート、命令、及び／又は通知／警告を生成するように構成されるが、それら全ては、システム１０２０の様々なユーザがアクセス可能であり及び／又はシステム１０２０の様々なユーザに送信可能である。特定の実施形態では、ユーザインタフェース、レポート、命令、及び／又は通知／警告は、１つ又は複数のネットワーク１１３０を介してアクセス可能にしてもよく、ネットワーク１１３０は、前述したように、インターネット又は他の実現可能な通信ネットワークを含んでもよい。
【００７５】
また、様々な実施形態では、モジュール１４００、１５００、１６００、１７００の１つ又は複数は、装置１１１０、１１２０、及び／又は１３００の１つ又は複数に代えて及び／又は加えて（例えば、重複して）、ローカルに記憶されてもよく、装置１１１０、１１２０、及び／又は１３００の１つ又は複数のプロセッサによって実行されてもよいと理解されるべきである。様々な実施形態によると、モジュール１４００、１５００、１６００、１７００は、１つ又は複数のデータベースにデータを送信する、データベースからデータを受信する、及びデータベースに含まれるデータを利用してもよく、データベースは、１つ又は複数の別個のリンクされた及び／又はネットワーク化されたデータベースから成ってもよい。
【００７６】
また、サーバ１２００内には、１つ又は複数のネットワーク１１３０の他の要素とインタフェース接続し、通信するネットワークインタフェース１２６０もある。サーバ１２００の構成要素の１つ又は複数は、他のサーバ構成要素から地理的に離れて設置されてもよいことが、当業者には理解されよう。更に、サーバ１２００の構成要素の１つ又は複数は、組合せられてもよく、及び／又は本明細書に記載された機能を実行する追加構成要素も、サーバに含まれてもよい。
【００７７】
上記では、単一のプロセッサ１２３０について記載したが、当業者が認識するように、サーバ１２００は、本明細書に記載された機能性を実行するために、相互に関連して動作する複数のプロセッサを含んでもよい。また、メモリ１２２０に加えて、プロセッサ１２３０も、データ、コンテンツ等を表示、送信及び／又は受信するための少なくとも１つのインタフェース又は他の手段に接続することもできる。これに関連して、インタフェース（複数可）は、以下で更に詳細に記載するように、データ、コンテンツ等を送信及び／又は受信するための少なくとも１つの通信インタフェース又は他の手段だけでなく、ディスプレイ及び／又はユーザ入力インタフェースを含むことができる少なくとも１つのユーザインタフェースも、含むことができる。同様に、ユーザ入力インタフェースは、エンティティがユーザからデータを受信可能にする、キーパッド、タッチディスプレイ、ジョイスティック又は他の入力装置等の、多数の装置のいずれかを含むことができる。
【００７８】
更にまた、「サーバ」１２００について言及したが、当業者が認めるように、本発明の実施形態は、従来の定義のサーバアーキテクチャに限定されない。更にまた、本発明の実施形態のシステムは、単一のサーバ、又は類似のネットワークエンティティ若しくはメインフレームコンピュータシステムに限定されない。本明細書に記載された機能性を提供するために相互に関連して動作する１つ又は複数のネットワークエンティティを含む他の類似のアーキテクチャもまた、本発明の実施形態の精神及び範囲から逸脱することなく、使用されてもよい。例えば、サーバ１２００と関連して本明細書に記載された機能性を提供するために、連携し合う２台以上のパーソナルコンピュータ（ＰＣ：ｐｅｒｓｏｎａｌ  ｃｏｍｐｕｔｅｒ）、類似の電子装置、又はハンドヘルドポータブル装置のメッシュネットワークもまた、本発明の実施形態の精神及び範囲から逸脱することなく、使用されてもよい。
【００７９】
様々な実施形態によると、工程の多くの個別ステップは、本明細書に記載されたコンピュータシステム及び／又はサーバを利用して実行されても、或いはされなくてもよく、コンピュータ実装の程度は、１つ又は複数の特定用途にとって望ましい及び／又は有益となり得るように、変化してもよい。
【００８０】
図６Ｂは、本発明の様々な実施形態と共に使用できるモバイル装置１３００に関する説明のための図式的表現を提供する。モバイル装置１３００は、様々な関係者によって動作できる。図６Ｂで示されるように、モバイル装置１３００は、アンテナ１３１２、送信機１３０４（例えば、無線）、受信機１３０６（例えば、無線）、並びに送信機１３０４及び受信機１３０６に信号を提供したり、送信機１３０４及び受信機１３０６から信号を受信したりする処理要素１３０８を含んでもよい。
【００８１】
送信機１３０４及び受信機１３０６に提供される信号、並びに送信機１３０４及び受信機１３０６から受信される信号は、サーバ１２００、分散された装置１１１０、１１２０、及び／又は同様のもの等、様々なエンティティと通信するのに適用可能なワイヤレスシステムのエアインタフェース規格に従う信号データを含んでもよい。これに関連して、モバイル装置１３００は、１つ又は複数のエアインタフェース規格、通信プロトコル、変調方式、及びアクセス方式で動作可能にしてもよい。特に、モバイル装置１３００は、多数のワイヤレス通信規格及びプロトコルの任意のものに従って動作してもよい。特定の実施形態では、モバイル装置１３００は、ＧＰＲＳ、ＵＭＴＳ、ＣＤＭＡ２０００、ｌｘＲＴＴ、ＷＣＤＭＡ（登録商標）、ＴＤ−ＳＣＤＭＡ、ＬＴＥ、Ｅ−ＵＴＲＡＮ、ＥＶＤＯ、ＨＳＰＡ、ＨＳＤＰＡ、Ｗｉ−Ｆｉ、ＷｉＭＡＸ、ＵＷＢ、ＩＲプロトコル、ブルートゥースプロトコル、ＵＳＢプロトコル、及び／又は任意の他のワイヤレスプロトコル等複数のワイヤレス通信規格及びプロトコルに従って動作してもよい。
【００８２】
これらの通信規格及びプロトコルを介して、モバイル装置１３００は、様々な実施形態によると、非構造付加サービスデータ（ＵＳＳＤ：Ｕｎｓｔｒｕｃｔｕｒｅｄ  Ｓｕｐｐｌｅｍｅｎｔａｒｙ  Ｓｅｒｖｉｃｅ  ｄａｔａ）、ショートメッセージサービス（ＳＭＳ：Ｓｈｏｒｔ  Ｍｅｓｓａｇｅ  Ｓｅｒｖｉｃｅ）、マルチメディアメッセージングサービス（ＭＭＳ：Ｍｕｌｔｉｍｅｄｉａ  Ｍｅｓｓａｇｉｎｇ  Ｓｅｒｖｉｃｅ）、デュアルトーン多周波数シグナリング（ＤＴＭＦ：Ｄｕａｌ−Ｔｏｎｅ  Ｍｕｌｔｉ−Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ  Ｓｉｇｎａｌｉｎｇ）、及び／又は、加入者識別モジュールダイヤラ（ＳＩＭ  ｄｉａｌｅｒ：Ｓｕｂｓｃｒｉｂｅｒ  Ｉｄｅｎｔｉｔｙ  Ｍｏｄｕｌｅ  Ｄｉａｌｅｒ）等のコンセプトを用いて、様々な他のエンティティと通信してもよい。また、モバイル装置１３００は、例えば、該装置のファームウェア、ソフトウェア（例えば、実行可能な命令、アプリケーション、プログラムモジュールを含む）、及びオペレーティングシステムに対する変更、アドオン、及びアップデートをダウンロードすることもできる。
【００８３】
一実施形態によると、モバイル装置１３００は、位置判定装置及び機能性を含んでもよい。例えば、モバイル装置１３００は、例えば、緯度、経度、高度、ジオコード、進路、及び／又は速度データを獲得するように適合されたＧＰＳモジュールを含んでもよい。一実施形態では、ＧＰＳモジュールは、エフェメリスデータとして知られることもあるデータを、視界に入る衛星の数及びそれら衛星の相対的な位置を識別することによって、獲得する。
【００８４】
また、モバイル装置１３００は、ユーザインタフェース（ユーザインタフェースは、処理要素１３０８に結合されるディスプレイ１３１６を含むことができる）、及び／又はユーザ入力インタフェース（処理要素３０８と結合される）も含んでもよい。ユーザ入力インタフェースは、キーパッド１３１８（ハード又はソフト）、タッチディスプレイ、音声若しくはモーションインタフェース、又は他の入力装置等、モバイル装置１３００がデータを受信可能にする多数の装置の任意のものを含むことができる。キーパッド１３１８を含む実施形態では、キーパッドは、従来の数字（０〜９）及び関連キー（＃、＊）、並びにモバイル装置１３００を動作するのに使用される他のキーを含む（又は表示させる）ことができ、アルファベットキーの完全なセット、又は英数字キーの完全なセットを提供するようにアクティブ化させることができるキーのセットを含んでもよい。入力を提供することに加えて、ユーザ入力インタフェースは、例えば、スクリーンセーバ及び／又はスリープモード等、特定の機能をアクティブ化又は非アクティブ化するのに使用できる。
【００８５】
また、モバイル装置１３００は、揮発性ストレージ若しくはメモリ１３２２及び／又は不揮発性ストレージ若しくはメモリ１３２４を含むこともでき、ストレージ若しくはメモリは、内蔵できる、及び／又は取外可能としてもよい。例えば、不揮発性メモリは、ＲＯＭ、ＰＲＯＭ、ＥＰＲＯＭ、ＥＥＰＲＯＭ、フラッシュメモリ、ＭＭＣ、ＳＤメモリカード、メモリスティック、ＣＢＲＡＭ、ＰＲＡＭ、ＦｅＲＡＭ、ＲＲＡＭ、ＳＯＮＯＳ、レーストラックメモリ、及び／又は同様のものとしてもよい。揮発性メモリは、ＲＡＭ、ＤＲＡＭ、ＳＲＡＭ、ＦＰＭ  ＤＲＡＭ、ＥＤＯ  ＤＲＡＭ、ＳＤＲＡＭ、ＤＤＲ  ＳＤＲＡＭ、ＤＤＲ２  ＳＤＲＡＭ、ＤＤＲ３  ＳＤＲＡＭ、ＲＤＲＡＭ、ＲＩＭＭ、ＤＩＭＭ、ＳＩＭＭ、ＶＲＡＭ、キャッシュメモリ、レジスタメモリ、及び／又は同様のものとしてもよい。揮発性及び不揮発性ストレージ又はメモリは、モバイル装置１３００の機能を実装するために、データベース、データベースインスタンス、データベースマッピングシステム、データ、アプリケーション、プログラム、プログラムモジュール、スクリプト、ソースコード、オブジェクトコード、バイトコード、コンパイル済みコード、解釈済みコード、機械コード、実行可能命令、及び／又は同様のものを記憶できる。
【００８６】
また、モバイル装置１３００は、カメラ１３２６及びモバイルアプリケーション１３３０の１つ又は複数を含んでもよい。カメラ１３２６は、様々な実施形態によると、追加の及び／又は代わりのデータ収集機能として構成されてもよく、その場合、カメラを介してモバイル装置１３００によって、１つ又は複数の項目が、読取り、記憶、及び／又は送信されてもよい。モバイルアプリケーション１３３０は、モバイル装置１３００を用いて様々なタスクを実行することができる機能を更に提供してもよい。様々な構成が、モバイル装置１３００及びシステム１０２０全体の１人又は複数のユーザにとって望ましいように、提供されてもよい。
【００８７】
上記システム及び方法の多くの変更例が可能であり、上記実施形態からの逸脱は可能であるが、クレームの範囲内でのみ可能であることが理解されよう。本明細書に記載された本発明の多くの変形例及び他の実施形態は、前述の記載及び関連する図面で表された教示の利益を有する、これら発明に関する当業者には思い浮かぶであろう。かかる変形例は、例えば、Ｘ線基準参照物で異なる材料を使用することを伴ってもよい。従って、本発明は、開示された特定の実施形態に限定されない、及び変形例及び他の実施形態は、付記されたクレームの範囲内に含まれるよう意図されるものと、理解される。特定の用語が本明細書で採用されているが、そうした用語は、一般的且つ記述的意味でのみ使用されており、限定目的で使用されていない。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図５】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【手続補正書】
【提出日】平成29年10月5日(2017.10.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｘ線基準参照物であって、電子ビームを前記参照物上に走査することによって生成されたＸ線信号を測定することによって積層造形装置において走査電子ビームを較正し、前記参照物は、実質的に平行であり、かつ互いに離隔して取着される下板及び上板を備え、前記上板は、複数の穴を含み、前記穴の内部に所定の中空パターンが設けられ、前記上板は、第１板及び第２板を含み、前記第１板は、前記穴を含み、前記第２板は、前記所定の中空パターンを含み、前記第２板は、前記下板に対向し、前記中空パターンは、前記第１板及び／又は前記下板より高い原子番号を有する材料で作製される、基準参照物。
【請求項２】
前記中空パターンは、クロスバーパターンである、請求項１に記載の基準参照物。
【請求項３】
前記中空パターンは、全ての穴に対して同じである、請求項１に記載の基準参照物。
【請求項４】
前記上板及び前記下板は、同じ材料で作製される、請求項１に記載の基準参照物。
【請求項５】
前記第２板が前記第１板と第３板との間に配設されるように配設される第３板を更に含む、請求項１に記載の基準参照物。
【請求項６】
前記中空パターンは、銅、モリブデン、タングステン、又はそれらの任意の合金で作製される、請求項１に記載の基準参照物。
【請求項７】
前記第１板、第３板及び／又は前記下板は、アルミニウム製である、請求項１又は５に記載の基準参照物。
【請求項８】
前記第１板及び／又は第３板における少なくとも１つの穴は、傾斜壁を有する、請求項１又は５に記載の基準参照板。
【請求項９】
前記穴は、前記基準参照物１００上の前記穴の位置に応じて、異なる角度の前記傾斜壁を有してもよい、請求項８に記載の基準参照板。
【請求項１０】
前記傾斜壁の角度は、前記穴が前記基準参照物の中心から離隔して配設されるほど、前記基準参照物の表面に対する法線に対して大きくしてもよい、請求項８に記載の基準参照板。
【請求項１１】
所定パターンに基づいて層毎に粉末を融解するための電子ビームを有する積層造形装置における、請求項１に記載の基準参照板の使用であって、前記基準参照板は、前記電子ビームのサイズ、形及び位置を較正するために、挿入され、その後、前記積層造形装置において三次元物品を造形し始める前に、除去される、基準参照板の使用。
【請求項１２】
請求項１に規定されるＸ線基準参照物を用いて、積層造形装置において走査電子ビームを較正する方法であって、前記方法は、
三次元物体を造形し始める前に、
前記積層造形装置の構築プラットホーム上に前記Ｘ線基準参照物を置くステップであって、前記参照物は、実質的に平行で、互いに離隔して取着される下板及び上板を含み、前記上板は、複数の穴を含み、所定の中空パターンが前記穴内部に設けられる、ステップと、
前記参照物上で電子ビームを掃引するステップと、
前記電子ビームが前記参照物上で掃引される際に、前記参照物によって生成されるＸ線信号を収集するステップと、
前記生成されたＸ線信号を測定し、該測定に基づいて、前記電子ビームの少なくとも形、位置、及び走査速度を判定するステップと、
前記判定された形、位置、及び走査速度を、記憶された較正パラメータと比較することによって、前記電子ビームを較正するステップと、
三次元物品のモデルに基づいて、材料の第１層を、前記積層造形装置のワークテーブル上に塗布することによって、前記三次元物体の造形を開始するステップと、
を含む方法。
【請求項１３】
少なくとも前記三次元物体の造形を開始する前に実行される前記ステップは、１つ又は複数のコンピュータプロセッサを介して、コンピュータ実装される、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
Ｘ線基準参照物を用いて、積層造形装置において走査電子ビームを較正する請求項１２に記載の方法を実装するために、コンピュータで実行される場合に構成及び配設されるプログラム要素であって、前記方法は、
三次元物体を造形し始める前に、
前記積層造形装置の構築プラットホーム上に、前記Ｘ線基準参照物を置くステップであって、前記参照物は、実質的に平行で、互いに離隔して取着される下板及び上板を含み、前記上板は、複数の穴を含み、所定の中空パターンが前記穴内部に設けられる、ステップと、
前記参照物上で電子ビームを掃引するステップと、
前記電子ビームが前記参照物上で掃引される際に、前記参照物によって生成されるＸ線信号を収集するステップと、
前記生成されたＸ線信号を測定し、該測定に基づいて、前記電子ビームの少なくとも形、位置、及び走査速度を判定するステップと、
前記判定された形、位置、及び走査速度を、記憶された較正パラメータと比較することによって、前記電子ビームを較正するステップと、
三次元物品のモデルに基づいて、材料の第１層を、前記積層造形装置のワークテーブル上に塗布することによって、前記三次元物体の造形を開始するステップと、
を含む、プログラム要素。
【請求項１５】
請求項１４に記載の前記プログラム要素を記憶した、非一時的なコンピュータ可読ストレージ媒体。
【請求項１６】
コンピュータ可読プログラムコード部分が組込まれた、少なくとも１つの非一時的なコンピュータ可読ストレージ媒体を含むコンピュータプログラム製品であって、前記コンピュータ可読プログラムコード部分は、
請求項１４に規定されるプログラム要素を実行するように構成され、三次元物体を造形し始める前に、
積層造形装置の構築プラットホーム上に、前記Ｘ線基準参照物を置き、前記参照物は、実質的に平行で、互いに離隔して取着される下板及び上板を含み、前記上板は、複数の穴を含み、所定の中空パターンが前記穴内部に設けられ、
前記参照物上で電子ビームを掃引し、
前記電子ビームが前記参照物上で掃引される際に、前記参照物によって生成されるＸ線信号を収集し、
前記生成されたＸ線信号を測定し、該測定に基づいて、前記電子ビームの少なくとも形、位置、及び走査速度を判定し、
前記判定された形、位置、及び走査速度を、記憶された較正パラメータと比較することによって、前記電子ビームを較正する、
ように構成される少なくとも１つの実行可能な部分と、
三次元物品のモデルに基づいて、材料の第１層を、前記積層造形装置のワークテーブル上に塗布することによって、前記三次元物体の造形を開始するように構成される少なくとも１つの実行可能な部分と、
を含む、コンピュータプログラム製品。
【国際調査報告】
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