(57)【要約】  試料内の不純物が、ホログラフィックビデオ顕微鏡法を用いて検出される。試料は、顕微鏡を通って流れ、ホログラフィック画像が発生される。ホログラフィック画像は、試料内の大きい不純物に関連付けられた領域を識別するために解析される。ホログラフィック画像への試料の粒子の寄与が決定され、不純物が特徴付けられる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料内の不純物を特徴付ける方法であって、
前記試料をホログラフィック顕微鏡の観察容積を通して流す段階と、
１回目の前記観察容積内の前記試料のホログラフィックビデオ顕微鏡法に基づいて第１のホログラフィック画像を発生させる段階と、
対象粒子に対応する１又は２以上の対象領域に関して前記第１のホログラフィック画像を解析する段階と、
前記試料との光の相互作用によって生成された拡散波の寄与に関して前記対象領域を正規化する段階と、
前記正規化された対象領域を光散乱理論に当て嵌める段階と、
対象粒子の１又は２以上の特質を特徴付ける段階と、
を含む方法。
【請求項２】
前記試料はスラリである、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記スラリは、２００ｎｍ又はそれ未満のサイズの粒子を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記対象粒子は、約２００ナノメートルから約２０マイクロメートルのサイズを有する、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
ピーク流れが、毎秒約１００マイクロメートルである、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
深さＤの試料セルを選択する段階を更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記対象粒子を特徴付ける段階は、半径及び屈折率を決定する段階を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
スラリ内の対象粒子を特徴付ける方法であって、
前記スラリをホログラフィック顕微鏡の観察容積を通して流す段階と、
１回目の前記観察容積内の前記試料のホログラフィックビデオ顕微鏡法に基づいて第１のホログラフィック画像を発生させる段階と、
前記第１のホログラフィック画像を解析する段階と、
前記ホログラフィック画像にＬｏｒｅｎｚ  Ｍｉｅ解析を適用する段階と、
前記対象粒子を特徴付ける段階と、
を含む方法。
【請求項９】
前記試料との光の相互作用によって生成された拡散波の寄与を定量化する段階を更に含む、請求項８に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【背景技術】
【０００１】
酸化物ナノ粒子のスラリ(slurries)は、マイクロ電子デバイスのフォトニクスと化学機械研磨（ＣＭＰ）とに対する研磨剤及びラッピング剤として広範囲にわたる用途を有する。ＣＭＰスラリ内の凝集物又は他の過大汚染物質の存在は、たとえ十億分の１の濃度であったとしても面品質に対するそれらの悪影響に起因して非常に望ましくない。凝集を防いで汚染物質を排除する努力は、ナノ粒子の大海の中で比較的少数の大粒子を検出して特徴付けるための技術の欠如によって阻まれている。例えば、直接撮像技術、レーザ掩蔽技術、及び光散乱技術は、スラリの濁度によって、かつナノ粒子とより大きい汚染物質の間のコントラストの欠如によって除外される。従来の粒子計数器は、最大濃度ではスラリ粒子によって目詰まりし、かつ汚染される。希薄化によってこれらの問題を是正することは、その後に解析しなければならないと考えられる流体の非常に大きい体積により、同じく希釈化過程が、関連があると考えられる凝集化過程に影響する可能性があることによりその両方で非実用的である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００２】
【特許文献１】ＰＣＴ／ＵＳ２０１５／０１５６６６
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００３】
一実施形態は、試料内の不純物を特徴付ける方法に関する。本方法は、試料をホログラフィック顕微鏡の観察容積を通して流す段階と、ホログラフィックビデオ顕微鏡法に基づいて１回目に観察容積内の試料の第１のホログラフィック画像を発生させる段階と、対象粒子(particle of interest)に対応する１又は２以上の対象領域(region of interest)に関して第１のホログラフィック画像を解析する段階と、試料との光の相互作用によって生じた拡散波の寄与に関して対象領域を正規化する段階と、正規化された対象領域を光散乱理論に当て嵌める段階と、当該対象粒子の１又は２以上の特質を特徴付ける段階とを含む。
【０００４】
別の実施形態は、スラリ内の対象粒子を特徴付ける方法に関する。本方法は、スラリをホログラフィック顕微鏡の観察容積を通して流す段階と、ホログラフィックビデオ顕微鏡法に基づいて１回目に観察容積内の試料の第１のホログラフィック画像を発生させる段階と、第１のホログラフィック画像を解析する段階と、ホログラフィック画像にＬｏｒｅｎｚ  Ｍｉｅ解析を適用する段階と、当該対象粒子を特徴付ける段階とを含む。
【０００５】
以上の概要は、単に例示的であり、決して限定的であるように意図していない。上述の例示的態様、実施形態、及び特徴に加えて、更に別の態様、実施形態、及び特徴が、以下の図面及び詳細説明を参照することによって明らかになるであろう。
【図面の簡単な説明】
【０００６】
本発明の開示の以上の及び他の特徴は、添付図面と共に以下の説明及び添付の特許請求の範囲からより完全に明らかになるであろう。これらの図面が本発明の開示による単にいくつかの実施形態を示し、従ってその範囲を限定するように考えないものとすることを理解して、本発明の開示を添付図面の使用を通して追加の具体性及び詳細と共に以下に説明する。
【０００７】
【図１】ＣＭＰスラリ内の過大粒子を特徴付けるのに使用されるインラインホログラフィックビデオ顕微鏡の写真を示す図である。
【図２】（ａ）は、マイクロメートルスケール球体による光散乱に起因して３つの明確な特徴部をその画像が表示する十億分の１の濃度で不純物粒子を含有するＣＭＰスラリの実験的に記録されたホログラムの図であり、（ｂ）は、単一球体に起因する特徴部の周りの対象領域の図であり、（ｃ）は、ホログラフィック粒子特徴付けの理論の予想への当て嵌めを示す図であり、（ｄ）は、ナノメートルスケールスラリ粒子に起因する背景のみを示す残差画像を示す図である。
【図３】網掛け領域がより暗い曲線によって示された推定半径方向強度プロファイル内の統計的不確実性を示し、より明るい曲線が当て嵌め結果である図２（ｂ）のデータへの当て嵌めの半径方向プロファイルを示す図である。
【図４Ａ】水中に分散されたコロイドシリカ球体に関するサイズ及び屈折率の接合分布を示す図である。
【図４Ｂ】シリカナノ粒子のスラリ内に分散された球体の同じ試料に関する同等結果を示す図である。
【図５】破線曲線が３０分の音波破砕後の同じ試料に関する結果を示す冷凍スラリの解凍試料内の汚染物質粒子のホログラフィック測定されたサイズ分布を示す図である。
【図６】ある一定の実施と共に使用するためのコンピュータシステムを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下の詳細説明では、本明細書の一部を形成する添付図面を参照する。図面内では、文脈が別途指定しない限り、類似の記号が類似の構成要素を典型的に識別する。詳細説明、図面、及び特許請求の範囲に説明する例示的実施形態は、限定的であることを意味しない。本明細書に提示する主題の精神又は範囲から逸脱することなく他の実施形態を利用することができ、他の変更を加えることができる。本明細書で一般的に説明して図に例示する本発明の開示の態様は、広範な異なる構成で配置され、置換され、組み合わされ、かつ設計することができ、これらの全ては、明示的に想定されており、かつ本発明の開示の一部を構成することは直ちに理解されるであろう。
【０００９】
本明細書に説明するのは、インラインホログラフィックビデオ顕微鏡法のシステム及び方法である。インラインホログラフィックビデオ顕微鏡法のシステム及び方法の実施形態は、最大濃度の市販スラリ内の大きい含有物を識別し、その個数、サイズ、及び組成に関する正確な情報をもたらすことによって必要性に対処する。一実施形態では、スラリは、３０．９％の体積分率で水中に分散した７０ｎｍの固有寸法を有する二酸化珪素ナノ粒子から構成される。そのようなスラリは混濁しており、従って、ホログラフィック粒子特徴付けの従来技術の実施において考慮された光学透明媒質とは定性的に異なる。対象の含有物は、スラリ粒子よりも実質的に大きく、流体媒質のものとは異なる屈折率を有する。一実施形態では、含有物粒子は、１マイクロメートルの固有寸法を有する過大不純物粒子から構成される。別の実施形態では、含有物粒子は、互いに剛的に取り付けられた複数のスラリ粒子から形成された凝集物から構成される。スラリは、撮像される試料容積内のいずれかの対象粒子のものに加えて散乱信号をもたらすホログラフィックビデオ顕微鏡法の適用に関しては「散乱流体」である。
【００１０】
ある一定の実施形態では、スラリ（特にスラリの浮遊粒子）と比較した不純物のような対象粒子の相対サイズと屈折率の両方が当該対象粒子を検出する機能に寄与すると更に考えられている。対象粒子によるスラリ粒子よりも大きい散乱は、スラリ粒子と比較して小さいサイズの当該対象粒子の検出を可能にすることになる。同様に、背景スラリ粒子が対象粒子よりも多く散乱する場合に、当該対象粒子は、検出のためにスラリ粒子と比較して大きいことが必要になる。
【００１１】
図１は、平行ビームで試料を照明するホログラフィック測定システムの一実施形態を示している。図示の実施形態は、５３２ｎｍの真空波長で作動するファイバ結合ダイオードレーザを使用する。コロイド粒子によって散乱された光は、顕微鏡対物レンズの焦点面内でビームのうちの残りと干渉し、対物レンズは、拡大された干渉パターンを従来のビデオカメラに図示の実施形態では４７ｎｍ／ピクセルの有効倍率で伝達する。スラリは、顕微鏡の台上に装着された標準微小流体チャネル内でレーザビームを通って流れる。
【００１２】
流量は、指定試料容積を指定測定継続時間内に解析することができるほど十分に高いが、ビデオカメラの露光時間中に運動がホログラムをかなりぼかすほどには速くないように選択される。最大使用可能流量は、露光時間に反比例する。最小使用可能露光時間は、照明レーザの強度により及びカメラの感度及びノイズ特性によって決定される。レーザ強度と露光時間の組合せは、記録ホログラムのＳＮ比が、ホログラフィック特徴付け解析から信頼性の高い結果を達成するのに十分高いことを保証するように選択される。これは、次に、試料に対する最大使用可能流量と指定試料容積を特徴付けるのに必要とされる時間とを決定する。一実施形態では、毎秒１００マイクロメートルのピーク流速は、１０分測定期間内に十億分の１の濃度でＣＭＰスラリ内に分散された１０００個の過大不純物粒子の特質を検出して特徴付けるのに十分である。一連のホログラフィック試料画像が、デジタルビデオ内のフレームとして取り込まれる。図示の実施形態では、各１２８０ピクセル×１０２４ピクセルビデオフレームは、６０μｍ×４８μｍ×２０μｍ観察容積内の粒子のホログラムである。同等のシステムにおいて得られたホログラムは、個々のコロイド球体のサイズ及び屈折率の正確な測定値を取得するために光散乱のＬｏｒｅｎｚ−Ｍｉｅ理論の予測を用いて解釈された。典型的なＣＭＰスラリ内のナノ粒子の高い濃度は、記録されたホログラムへのランダム背景に寄与するが、実施形態は、驚くべきことに、Ｌｏｒｅｎｚ−Ｍｉｅ解析が個々のマイクロメートルスケール汚染物質粒子の特質の正確かつ精密な測定値を依然としてもたらすことを見出している。
【００１３】
対象粒子（多くの場合に汚染物質）は、典型的に、スラリを構成する粒子よりも大きい。この技術によって特徴付けることができる最大のそのような汚染物質粒子は、ホログラフィック記録計器の構成に依存する。一実施形態では、サイズのアクセス可能な範囲は、２００ナノメートルから２０マイクロメートルに及ぶ。更に、これは粒子解像測定技術であるので、ホログラフィック特徴付けは、希少粒子を検出して計数することができる。
【００１４】
この技術を明らかにしてその有効性を検証するために、７０ｎｍの公称直径を有するシリカナノ粒子から構成される十分に特徴付けされた市販ＣＭＰスラリ（Ｄｏｗ  Ｕｌｔｒａｓｏｌ  ２ＥＸ）が、コロイドシリカ球体（Ｂａｎｇｓ  Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ、カタログ番号ＳＳ０４Ｎ、ロット番号５３０３）によって播種された。１．５マイクロメートル直径シリカ球体は、図２（ａ）のホログラムに対して明確に視認可能な標的特徴部に寄与している。これらの特徴部は、回転対称性の中心を強調し、次いで解析に向けて周囲領域を選択する画像解析フィルタを用いて検出された。一実施形態は、引用によって本明細書に組み込まれているＰＣＴ／ＵＳ２０１５／０１５６６６に記載されている解析技術を利用する。特に、対象特徴部を検出するために向き−位置合わせ変換が使用された。スラリの存在を実質的に無視しながら標準技術を用いて実際の当て嵌めを実行することが可能である。驚くべきことに、このようにして得られた値は、粒子の独立に検証された特質にかなり近いものである。
【００１５】
しかし、別の実施形態では、解析は、スラリを考慮し、かつそれに対処する。下記の式（２ｂ）及び（４ｂ）は、これを達成するための新しい手法であり、正確であることが実験的に確認された粒子特性に関する値をもたらす。図２（ｂ）は、このようにして検出された典型的な特徴部を示している。
【００１６】
ホログラフィック粒子特徴付けのための理想的なホログラムは、コヒーレント平行ビームと照明された粒子によってこのビームから散乱した光との重ね合わせからもたらされる。粒子がナノ粒子スラリ内に埋め込まれている時に、照明と散乱波の両方が多粒子光散乱によって減衰し、得られる拡散波は、記録ホログラムに対して時間依存スペックルに寄与する。このランダム散乱寄与は、ランダム散乱が役割を演じると思われるものを含むホログラフィック粒子特徴付けの従来の適用では考慮されてこなかった。これらの追加の効果は、コヒーレント干渉パターンが全体的な強度分布に測定可能に寄与するという前提の下に対処することができる。
【００１７】
入射場は、ｚ＾に沿って伝播し、ｘ＾に沿って直線偏光された単色平面波として最初にモデル化される。
2018536145.tif 000003
【００１８】
ここで、ｕ0（ｒ）は、横振幅プロファイルであり、ｋ＝２πｎm／λは、屈折率ｎmの媒質を通って伝播する真空波長λを有する光の波数である。スラリによる散乱は、スラリ粒子の濃度と光散乱特性とに依存する有効侵入深さκ−１に伴ってこのビームを減衰させる。チャネル厚Ｄが減衰深さよりも遥かに大きい場合に、記録ホログラムは、散漫散乱によって支配されることになり、粒子の特質に関する情報は、保持されないことになる。この公式化では、撮像平面は、ｚ＝０に位置付けられ、光は、ｚ＝Ｄに位置付けられたチャネルの上部でスラリに入る。
【００１９】
入射光を減衰させる同じ散乱過程は、拡散光場Ｅd（ｒ，ｔ）も生成し、その一部は、撮像平面に向けて伝播する。拡散場は、動的光散乱及び拡散波分光内にスペックルパターンを生じさせる。それは、入射波からより多くの光がランダム場内に散乱されることにより、かつランダム場自体が散乱することにより、その両方でスラリ内に深度と共に発達する。それは、粒子がそれ自体をスラリ内で再配置させるので時間と共に発達する。一実施形態では、スラリ自体に関する情報を取得するために、信号の時間依存部分が解析される。これは、スラリ粒子の粒子サイズ分布及び濃度に関する情報を含むことができると考えられる。上述のように、時間依存情報は、大粒子ホログラムを解析するのに使用される拡散背景強度を較正するのに使用することができる。拡散ビーム内の偏光及び位相ランダム化は、非散乱ビームとの干渉を抑制する傾向を有する。粒子の不在下では、従って、焦点面内の強度は、近似的に次式で与えられる。
2018536145.tif 000004
【００２０】
スペックルパターンがガウス統計値を有すると更に仮定すると、式（２）は、流動するスラリのビデオシーケンスＩ0（ｒ，ｔ）から非散乱振幅ｕ0（ｒ）ｅｘｐ（−κＤ）と拡散場の時間平均振幅ｕd＝（｜Ｅd（ｒ，ｔ）｜）tとに関する独立した推定値を取得するのに使用することができる。
【００２１】
減衰した照明と散漫散乱場の両方は、撮像平面の上方の高さｚpで球体上に入射する。上述の場合のように、照明からコヒーレントに散乱した光は、拡散場から散乱した光よりも大きく記録ホログラムに寄与すると仮定する。この条件は、望ましい流れ特性及び測定継続時間を維持することに矛盾しない最大程度までチャネル深さＤを適切に低減することによって保証することができる。従って、撮像平面内の点ｒでの散乱場は、次式によって近似的に与えられる。
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【００２２】
ここで、ｆs（ｋｒ）は、ｘ＾偏光平面波が半径ａp及び屈折率ｎpの球体によってどのように散乱されるかを説明するＬｏｒｅｎｚ−Ｍｉｅ散乱関数である。式（３）は、粒子に到達する前の照明の減衰と散乱波のそれが焦点面まで伝播する時の更に別の減衰とを説明している。簡略化のために、本出願人は、この後者効果を散乱角への光路長の依存性を無視する単一指数係数としてモデル化する。
【００２３】
図２（ｃ）のホログラムは、撮像平面内の場の強度から得られる。
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【００２４】
この結果は、その時間平均が消失するはずであるコヒーレント波と拡散波の間の干渉を説明する項を省いている。このモデルでは、スラリの全体的な効果は、ターゲット粒子のホログラムのコントラストを低減すること、及びガウス加算的ノイズに寄与することであり、その両方は、ホログラムの有効ＳＮ比を低減するが、他にその対称性に影響を及ぼすことはない。
【００２５】
測定ホログラムへの拡散波の寄与は、粒子のホログラムを含有しないビデオシーケンスの解析を通して定量化することができる。式（４ｂ）の第１項は、ホログラムから取り出すことができる情報の品質がチャネル厚Ｄによって制御されることを示唆している。実際に、Ｄがスラリの減衰長よりも遥かに大きい場合に、散乱粒子のホログラムは、散漫散乱によって完全に不明になることになり、球体の存在を検出するのにさえ他の方法を必要とするであろう。試料セルは、望ましいチャネル厚に基づいて選択することができることを認めなければならない。
【００２６】
図２（ｄ）の画像は、図２（ｃ）のデータへの式（４）の非線形最小二乗当て嵌めからもたらされる。図２（ｄ）には、測定ホログラムと当て嵌めホログラムの間の差をプロットしている。この当て嵌めから得られた粒子の半径ａp＝０．７４９±０．００６μｍは、製造業者の仕様と一致し、屈折率ｎp＝１．４３９±０．００２は、理想的撮像条件下でシリカ球体の同じ試料に関して得られた値と一致する。当て嵌めの品質は、網掛け領域で示すスラリ粒子に起因するランダム寄与の範囲内で実験データに追従する図３にプロットした半径方向プロファイルから判断することができる。
【００２７】
図４Ａは、同じ単分散試料からのシリカ球体の半径及び屈折率の８７５個の単粒子測定値の集まりを示している。プロット内の各データ点は、単一球体の測定特質を反映し、（ａp，ｎp）平面内の測定値の相対確率ρ（ａp，ｎp）で配色したものである。平均半径ａp＝０．７９±０．０１μｍは、製造業者の仕様と一致する。平均屈折率ｎp＝１．４５±０．０１は、この撮像波長でのバルクシリカに関する値１．４８５よりも若干小さく、他の箇所で解説した２％の孔隙率を有する球体と一致する。このプロットに関するデータは、１０分内に取得されたものである。
【００２８】
図４Ｂは、シリカスラリ内に分散されたシリカ球体の同じバッチに関する同等結果を示している。半径、屈折率、及び孔隙率に関する値は、理想的な撮像条件下で得られたものと一致する。この結果は、ホログラフィック粒子特徴付けが、最大濃度のナノ粒子スラリ内に分散されたマイクロメートルスケールのコロイド粒子の特質に関して正確かつ精密な結果をもたらすことができることを明らかにしている。
【００２９】
この技術をシリカスラリの保存溶液に適用することは、３０分後に検出可能特徴部をもたらさなかった。この時間内に２×１０9個超のシリカナノ粒子が観察を通過したと考えられ、これは、スラリ内に検出可能な汚染物質が十億分の１のレベルで不在であることを明らかにしている。過大不純物粒子の検出可能濃度に対する下限は、流量及び測定継続時間によって設定される。より高い流量でのより長い測定は、より低い濃度の不純物粒子の検出を可能にする。追加の解析に向けて、凝集が、それを冷凍し、次いで解析のためにスラリ試料を解凍することによって意図的に誘導された。不安定になったスラリは、この時点で、本明細書に説明するシステム及び方法がナノ粒子凝集物といて検出した多数のマイクロメートルスケールの物体を特徴とする。これらの凝集物は、かなりの百分率の粒子が５μｍよりも大きい寸法を有する非常に広いサイズ分布から引き出されたものである。
【００３０】
しかし、凝集物又は汚染物質のタイプが更に問題になる可能性があると考えなければならない。例えば、一過性の凝集物は、研磨中に遭遇する強いせん断力の下で類似のサイズの固体汚染物質が有すると考えられる悪影響を持たない場合がある。観察された凝集物の性質を調査するために、解凍したスラリに３０分の音波破砕を施した。図５の破線曲線は、得られたホログラフィック測定サイズ分布を示している。音波破砕は、最も大きい凝集物を破壊したように見えるが、１μｍまでの範囲に及ぶ半径を有する小さめの凝集物は損なわれないままに残っている。これらの凝集物は、目視検査の下では明らかではないほど十分に小さく、明るい場の画像には出現しない。これらの凝集物は音波破砕に残存するほど十分にロバストであるので、研磨での使用に対してスラリを不適正なものにすることになる可能性が高い。個々の粒子の機械的特性への追加の洞察は、これらの粒子のホログラフィック測定屈折率から推測することができる。多孔質粒子は、粒子の孔隙率に依存する量だけバルク値よりも低い屈折率を有する傾向を有する。低屈折率流体媒質中の高屈折率粒子は、その孔隙率が増大する時に低い屈折率を示す傾向を有する。孔隙率に関する推定は、次に、検出粒子が意図する用途に対して有害である可能性が高いか否かを評価するのに使用することができる。分散気泡のような無害粒子も、損傷を与える固体粒子からそれらの粒子の屈折率に基づいて同様に区別することができる。
【００３１】
これらの結果は、ＣＭＰスラリ内の個々の汚染物質粒子の特質を検出及び測定するのに希釈化を必要とすることなくホログラフィック特徴付けを使用することができることを明らかにしている。粒子解像測定は、分布に関する推測的モデルを援用することなく汚染物質サイズの分布に関する推定値をもたらす。
【００３２】
例えば、図６に示すように、コンピュータアクセス可能媒体１２０（例えば、本明細書に説明するように、ハードディスク、フロッピーディスク、メモリスティック、ＣＤ−ＲＯＭ、ＲＡＭ、ＲＯＭなど、又はこれらの集合のようなストレージデバイス）を設けることができる（例えば、処理装置１１０と通信して）。コンピュータアクセス可能媒体１２０は、非一時的コンピュータアクセス可能媒体とすることができる。コンピュータアクセス可能媒体１２０は、そこに実行可能命令１３０を収容することができる。これに加えて又はこれに代えて、例えば、本明細書に説明するようなある一定の例示的な手順、処理、及び方法を実行するように処理装置を構成するための命令を処理装置１０に供給することができるストレージ装置１４０をコンピュータアクセス可能媒体１２０とは別個に設けることができる。命令は、複数の命令セットを含むことができる。例えば、一部の実施では、命令は、複数のシーケンスブロック内で無線周波エネルギを容積に印加するための命令を含むことができ、シーケンスブロックの各々は、少なくとも第１のステージを含む。命令は、シーケンスブロックの各々の開始時点での磁化が安定するまで第１のステージを連続して繰り返すための命令と、複数のシーケンスブロックに対応する複数の撮像セグメントを単一連続撮像セグメントに連結するための命令と、少なくとも１つの緩和パラメータを単一連続撮像セグメント内に符号化するための命令とを更に含むことができる。
【００３３】
システム１００はまた、ディスプレイ又は出力デバイス、入力デバイス、例えば、キーボード、マウス、タッチ画面、又は他の入力デバイスを含むことができ、論理ネットワークを通じて追加のシステムに接続することができる。本明細書に説明する実施形態のうちの多くは、プロセッサを有する１又は２以上のリモートコンピュータへの論理接続を用いてネットワーク接続環境内に実施することができる。論理接続は、本明細書に限定ではなく例として提示するローカルエリアネットワーク（ＬＡＮ）及びワイドエリアネットワーク（ＷＡＮ）を含むことができる。そのようなネットワーク接続環境は、オフィス規模又は企業規模のコンピュータネットワーク、イントラネット、及びインターネットにおいて一般的であり、かつ様々な異なる通信プロトコルを使用することができる。当業者は、そのようなネットワークコンピュータ環境が、パーソナルコンピュータ、手持ち式デバイス、マルチプロセッサシステム、マイクロプロセッサベース消費者電子機器又はプログラマブル消費者電子機器、ネットワークＰＣ、ミニコンピュータ、及びメインフレームコンピュータなどを含む多くのタイプのコンピュータシステム構成を一般的に包含することができることを認めることができる。本発明の実施形態は、通信ネットワークを通してリンクされた（有線リンク、無線リンク、又は有線リンク又は無線リンクの組合せによってのいずれかで）ローカル及びリモート処理デバイスによってタスクが実施される分散コンピュータ環境内に実施することができる。分散コンピュータ環境では、プログラムモジュールは、ローカル及びリモートメモリストレージデバイスの両方に位置付けることができる。
【００３４】
様々な実施形態は、一実施形態ではネットワーク接続環境内のコンピュータによって実行されるプログラムコードのようなコンピュータ実行可能命令を含むプログラム製品によって実施することができる方法段階の一般的状況で説明される。一般的に、プログラムモジュールは、特定のタスクを実施するか又は特定の抽象データタイプを実施するルーチン、プログラム、オブジェクト、コンポーネント、データ構造などを含む。コンピュータ実行可能命令、関連のデータ構造、及びプログラムモジュールは、本明細書に説明する方法の段階を実行するためのプログラムコードの例を表している。そのような実行可能命令又は関連のデータ構造の特定のシーケンスは、そのような段階に説明する機能を実施するための対応する行為の例を表している。
【００３５】
本発明のソフトウエア実施及びウェブ実施は、様々なデータベース検索段階、相関段階、比較段階、及び判断段階を達成するために規則ベースの論理部及び他の論理部を使用する標準プログラミング技術を用いて達成することができると考えられる。本明細書及び特許請求の範囲に使用する時の「構成要素」及び「モジュール」という言葉は、ソフトウエアコードの１又は２以上の行、及び／又はハードウエア実施、及び／又は手動入力を受け入れるための機器を使用する実施を包含するように意図していることも注意しなければならない。
【００３６】
本明細書での実質的にあらゆる複数及び／又は単数の用語の使用に関して、当業者は、文脈及び／又は用途に適切である場合に複数から単数に及び／又は単数から複数に変換することができる。様々な単数／複数の置換は、明瞭化の目的で本明細書に明示的に示される場合がある。
【００３７】
例示的実施形態の以上の説明は、例示及び説明の目的で提示したものである。それは、開示する詳細な形態に関して包括的又は限定的であるように意図しておらず、修正及び変形は、上述の教示に照らして可能であり、又は開示した実施形態の実施から得ることができる。従って、上述の実施形態は、本発明の範囲を限定するように取ってはならない。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図５】
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【図６】
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【国際調査報告】
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