【事件の表示】
　平成９年特許願第１１９６８６号「磁気ディスク基板の研磨装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１０年１１月２４日出願公開、特開平１０−３０９６５６〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本件出願は、平成９年５月９日の特許出願であって、同１５年５月６日付けで拒絶の理由が通知され、その指定期間内の同１５年６月２３日に意見書が提出されたが、同１５年７月１１日付けで拒絶をすべき旨の査定がされ、同１５年８月２０日に本件審判の請求がされ、その後、同１５年９月１１日に明細書について手続補正書が提出されたものである。
　
第２　平成１５年９月１１日付の補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　平成１５年９月１１日付の補正を却下する。
　
［理由］
１　補正の内容
　本件補正は、特許請求の範囲の請求項１について補正をするものであって、補正前後の記載を補正箇所に下線を付して示すと以下のとおりである。
（１）補正前
「磁気ディスク基板を研磨する研磨部と、研磨された磁気ディスク基板を洗浄する洗浄部とが備えられた磁気ディスク基板の研磨装置において、
　浸漬槽が備えられ、洗浄前の研磨済みの磁気ディスク基板が該浸漬槽内の所定の液に浸漬されるものとなされていることを特徴とする磁気ディスク基板の研磨装置。」
（２）補正後
「磁気ディスク基板を研磨する研磨部と、研磨された磁気ディスク基板を洗浄する洗浄部とが備えられた磁気ディスク基板の研磨装置において、
  浸漬槽が備えられ、洗浄前の研磨済みの磁気ディスク基板が該浸漬槽内の
水あるいはｐＨ２〜１３の洗剤液
　
２　補正の適否
　本件補正は、浸漬槽内の液について、単に「所定の液」とあったものを「水あるいはｐＨ２〜１３の洗剤液」と限定するものであり、特許請求の範囲の減縮を目的とすることが明らかであるので、さらに、補正後の特許請求の範囲の請求項１に係る発明（以下、「補正発明」という。）が特許出願の際に独立して特許を受けることができるものであるか否かについて検討する。
　
（１）補正発明
　補正発明は、本件補正により補正された明細書及び願書に最初に添付した図面の記載からみて、上記１（２）に示す特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定されるとおりの「磁気ディスク基板の研磨装置」であると認める。
　
（２）引用例
　これに対して、原査定の拒絶の理由に引用され本件出願前に日本国内において頒布された刊行物である特開昭６３−７２５８号公報 （以下、「引用例」という。）には以下の事項が記載されている。
ア　第１頁左欄第１８行〜同頁右欄第１行
「本発明は、たとえば磁気デイスクの両面を研磨したり、あるいは研磨後の両面に僅かなすじを形成（微粗面処理）したりするのに採用される円板体の両面処理方法に関するものである。」
イ　第２頁左上欄第７〜１０行
「本発明の目的とするところは、複数枚の同時処理を、複数工程に亘つて人手作業を伴うことなく流れ作業的に行なえる円板体の両面処理方法を提供する点にある。」
ウ　第２頁右上欄第１１〜１７行
「第１図〜第３図において（１）は内部に処理室（２）を形成するケース状の本体で、所定の箇所には透視式の開閉扉（３）が設けられる。処理室（２）内の一端には、未処理の円板体、すなわち円板体の一例である磁気デイスク（４）を、その面を前後方向で相対向させて並列支持し、かつ横方向に３列（複数列）配列支持する未処理物支持部（５）が設けられる。」
エ　第２頁右上欄第２０行〜同頁左下欄第４行
「この未処理物支持部（５）から他端側に順次、第１両面処理装置（８）と、第１洗浄装置（９）と、第２両面処理装置（１０）と、第２洗浄装置（１１）とが配設される。そして他端に、前記未処理物支持部（５）と同様の処理物支持部（１２）が設けられる。」
オ　第２頁左下欄第９〜１６行
「前記処理室（２）内の上部には、両端方向に往復移動自在な第１移載装置（１５）と第２移載装置（１６）とが配設され、ここで第１移載装置（１５）は未処理物支持部（５）から第１洗浄装置（９）までを受け持ち、また第２移載装置（１６）は第１洗浄装置（９）から処理物支持部（１２）までを受け持つ。そして両移載装置（１５）（１６）は、それぞれ３個（複数個）の保持装置（１７Ａ）（１７Ｂ）（１７Ｃ）を有する。」
カ　第２頁左下欄第１７行〜同頁右下欄最下行
「上記実施例において、未処理物支持部（５）の支持台（６）上の磁気デイスク（４）は、第１移載装置（１５）の各保持装置（１７Ａ）（１７Ｂ）（１７Ｃ）によつて各列から１個づつ取出され、保持される。そして第１移載装置（１５）は他端側に移動し、第１両面処理装置（８）に対向して停止したのち、保持装置（１７Ａ）（１７Ｂ）（１７Ｃ）で保持してなる３枚の磁気デイスク（４）を第１両面処理装置（８）に渡す。この第１両面処理装置（８）で所期の両面処理が同時に行なわれた３枚の磁気デイスク（４）は、待機していた第１移載装置（１５）の保持装置（１７Ａ）（１７Ｂ）（１７Ｃ）によつて再び取出され、そして他端側への移動により第１洗浄装置（９）に対向して停止される。次いで第１移載装置（１５）の磁気デイスク（４）は第１洗浄装置（９）に渡され、ここで処理後の洗浄を受ける。第１洗浄装置（９）に磁気デイスク（４）を渡した第１移載装置（１５）は未処理物支持部（５）側へ復帰移動し、また第１洗浄装置（９）には第２移載装置（１６）が対向して停止する。第１洗浄装置（９）にて洗浄された磁気デイスク（４）は第２移載装置（１６）に受取られ、そして第２両面処理装置（１０）に渡される。ここで両面処理された磁気デイスク（４）は、第２移載装置（１６）により第２洗浄装置（１１）に渡されて洗浄を受け、これにより処理済みとなつた磁気デイスク（４Ａ）は処理物支持部（１２）の支持台（１３）上に渡される。」
キ　第５頁左上欄第１７，１８行
「・・・研磨（処理）・・・」
　
　これらの記載事項を補正発明に照らして整理すると、引用例には以下の発明が記載されていると認める。
「磁気デイスク（４）の両面を研磨する両面処理装置（８）（１０）と、研磨された磁気デイスク（４）を洗浄する洗浄装置（９）（１１）とが備えられた磁気デイスクの処理装置。」（以下、「引用発明」という。）
　
（３）対比
　補正発明と引用発明とを対比すると以下のとおりである。
　引用発明の「磁気デイスク（４）」、「両面処理装置（８）（１０）」及び「洗浄装置（９）（１１）」は、それぞれ補正発明の「磁気ディスク基板」、「研磨部」及び「洗浄部」に相当することが明らかである。そして、引用発明は、「処理装置」として把握したが、補正発明と同様「研磨装置」としても把握できるものである。
　したがって、補正発明と引用発明とは、以下の点で一致しているということができる。
「磁気ディスク基板を研磨する研磨部と、研磨された磁気ディスク基板を洗浄する洗浄部とが備えられた磁気ディスク基板の研磨装置」である点。
　そして、補正発明と引用例記載の発明とは、以下の点で相違している。
　補正発明では、浸漬槽が備えられ、洗浄前の研磨済みの磁気ディスク基板が該浸漬槽内の水あるいはｐＨ２〜１３の洗剤液に浸漬されるものとなされているのに対して、引用例記載の発明では、そのようになっていない点。
　
（４）相違点についての検討
　汚れのひどい被洗浄物を洗浄する場合、本格的な洗浄を行う前に被洗浄物を水あるいは洗浄液に浸すことにより予備的な洗浄を行うことは、例えば、食器洗い、衣類の洗濯、ウエハ洗浄などにおいて幅広くごく普通に採用されている常套の技術手段である（必要であれば、特開平５−４７７２９号公報の段落【００２１】、特開平９−６９５５０号公報の段落【００４０】〜【００４１】等を参照）。
　そうしてみると、この常套の技術手段を引用例記載の発明に適用して、浸漬槽を備え、洗浄前の研磨済みの磁気ディスク基板を浸漬槽内の洗剤液に浸漬するようにすること、また、その際に洗浄液を水あるいはｐH２〜１３の洗浄液とすることは、当業者が格別の創意を要することなく容易に想到し得る事項であるということができる。
　また、補正発明によってもたらされる効果も、引用例記載の発明及び上記常套の技術手段から当業者であれば予測できる程度のものであって格別のものではない。
　したがって、補正発明は、引用例記載の発明及び常套の技術手段に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
３　むすび
　以上のとおり、本件補正は、平成１５年法律第４７号による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第４項の規定に違反するので、その余の補正の要件について検討するまでもなく、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
第３　本件発明について
１　本件発明
　平成１５年９月１１日付の補正は、上記のとおり却下されたので、本件出願の請求項に係る発明は、願書に最初に添付した明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１及び請求項２に記載された事項により特定されるとおりのものであると認められるところ、請求項１に係る発明（以下、「本件発明」という。）は、上記第２の１（１）に示す特許請求の範囲の請求項１に記載されたとおりの「磁気ディスク基板の研磨装置」である。
　
２　引用例
　これに対して、原査定の拒絶の理由に引用された引用例及びその記載内容は、上記第２の２（２）に示したとおりである。
　
３　対比・検討
　本件発明は、上記第２の２で検討した補正発明から、浸漬槽内の液について「水あるいはｐＨ２〜１３の洗剤液」という限定を削除し、単に「所定の液」とするものである。
　そうすると、本件発明を構成する事項の全てを含み、さらに他の限定を付加する補正発明が上記第２の２（４）末尾で示したとおり、引用発明及び常套の技術手段に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本件発明も同様の理由により当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
４　むすび
　したがって、本件発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、本件出願の請求項２に係る発明について検討するまでもなく、結論のとおり審決する。