【事件の表示】
　平成７年特許願第５３６７２号「プラズマ状態検出方法及びその装置、プラズマ制御方法及びその装置並びにエッチング終点検出方法及びその装置」拒絶査定不服審判事件〔平成８年９月３日出願公開、特開平８−２２７８７５〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
［１］手続の経緯 
　本願は、平成７年２月１７日の出願であって、平成１５年８月１１日付で拒絶理由通知がなされ、同年１０月２０日付で意見書及び手続補正書が提出され、平成１５年８月１１日付拒絶理由通知書に記載した理由によって、平成１６年１月１３日付で拒絶査定がなされ、これに対し、同年２月１２日に拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに、同日付で手続補正書が提出されたものである。 
 　　 
［２］平成１６年２月１２日付手続補正についての補正却下の決定 
 　　 
＜補正却下の決定の結論＞ 
　平成１６年２月１２日付手続補正を却下する。 
 　　 
＜理由＞ 
［２−１］補正の内容 
　平成１６年２月１２日付手続補正は、特許請求の範囲を、
「【請求項１】高周波電源からの高周波電圧を一対の電極に印加することで前記電極間に生成されるプラズマ放電の状態を検出するにあたり、前記プラズマは、前記電極間が大気圧又はその近傍の圧力下に設定されて生成され、プラズマ発生時に生ずる前記高周波電源の基本周波数に対する高調波のうち、プラズマ放電の安定時にはノイズレベルと同程度となる特定高調波のスペクトルを監視し、前記特定高調波スペクトルが基準値以上となった時に、プラズマ放電異常であると判定することを特徴とするプラズマ状態検出方法。
【請求項２】高周波電源からの高周波電圧を一対の電極に印加することで前記電極間に生成されるプラズマ放電の状態を検出するにあたり、前記プラズマは、前記電極間が大気圧又はその近傍の圧力下に設定されて生成され、前記高周波電源の基本周波数及びその高調波以外の特定周波数のスペクトルであって、プラズマ放電の安定時にはノイズレベルと同程度となる前記特定周波数スペクトルを監視し、前記特定周波数スペクトルが基準値以上となった時に、プラズマ放電異常であると判定することを特徴とするプラズマ状態検出方法。
【請求項３】高周波電源からの高周波電圧を一対の電極に印加することで前記電極間に生成されるプラズマ放電の状態を検出する装置において、前記プラズマは、前記電極間が大気圧又はその近傍の圧力下に設定されて生成され、プラズマ発生時に生ずる前記高周波電源の基本周波数に対する高調波のうち、プラズマ放電の安定時にはノイズレベルと同程度となる特定高調波のスペクトルを検出するスペクトル検出手段と、検出された前記特定高調波スペクトルと基準値とを比較する比較手段と、前記比較手段にて、検出された前記特定高調波スペクトルが前記基準値以上となった時に、プラズマ放電異常であると判定する判定手段と、を有することを特徴とするプラズマ状態検出装置。
【請求項４】高周波電源からの高周波電圧を一対の電極に印加することで前記電極間に生成されるプラズマ放電の状態を検出する装置において、前記プラズマは、前記電極間が大気圧又はその近傍の圧力下に設定されて生成され、前記高周波電源の基本周波数及びその高調波以外の特定周波数のスペクトルであって、プラズマ放電の安定時にはノイズレベルと同程度となる前記特定周波数スペクトルを検出するスペクトル検出手段と、検出された前記特定周波数スペクトルと基準値とを比較する比較手段と、前記比較手段にて、検出された前記特定周波数スペクトルが前記基準値以上となった時に、プラズマ放電異常であると判定する判定手段と、を有することを特徴とするプラズマ状態検出装置。
【請求項５】高周波電源からの高周波電圧を一対の電極に印加することで前記電極間に生成されるプラズマ放電の状態を制御するにあたり、前記プラズマは、前記電極間が大気圧又はその近傍の圧力下に設定されて生成され、プラズマ放電状態を変化させるパラメータ群の少なくとも一つのパラメータと、該パラメータを変化させた際のプラズマ発生時に測定された、前記高周波電源の基本周波数に対する高調波のうち、プラズマ放電の安定時にはノイズレベルと同程度となる特定高調波のスペクトルと、の相関情報を予め記憶しておき、プラズマ発生時の前記特定高調波スペクトルを検出し、検出された前記特定高調波スペクトル及び前記相関情報に基づいて、少なくとも一つの前記パラメータを可変制御することを特徴とするプラズマ制御方法。
【請求項６】高周波電源からの高周波電圧を一対の電極に印加し、かつ、前記電極間にガスを供給することで前記電極間に生成されるプラズマ放電の状態を制御するにあたり、前記プラズマは、前記電極間が大気圧又はその近傍の圧力下に設定されて生成され、前記電極間に供給されるガスの濃度と、前記ガス濃度を変化させた際のプラズマ発生時に測定された、前記高周波電源の基本周波数に対する高調波のうち、プラズマ放電の安定時にはノイズレベルと同程度となる特定高調波のスペクトルと、の相関情報を予め記憶しておき、プラズマ発生時の前記特定高調波スペクトルを検出し、検出された前記特定高調波スペクトル及び前記相関情報に基づいて、前記電極間に供給される前記ガスの濃度を可変制御することを特徴とするプラズマ制御方法。
【請求項７】高周波電源からの高周波電圧を一対の電極に印加することで前記電極間に生成されるプラズマ放電の状態を制御するにあたり、前記プラズマは、前記電極間が大気圧又はその近傍の圧力下に設定されて生成され、前記高周波電源から供給される高周波電力と、該高周波電力を変化させた際に測定された、前記高周波電源の基本周波数に対する高調波のうち、プラズマ放電の安定時にはノイズレベルと同程度となる特定高調波のスペクトルと、の相関情報を予め記憶しておき、プラズマ発生時の前記特定高調波スペクトルを検出し、検出された前記特定高調波スペクトル及び前記相関情報に基づいて、前記高周波電源から供給される高周波電力を可変制御することを特徴とするプラズマ制御方法。
【請求項８】高周波電源からの高周波電圧を一対の電極に印加することで前記電極間に生成されるプラズマ放電の状態を制御するにあたり、前記プラズマは、前記電極間が大気圧又はその近傍の圧力下に設定されて生成され、前記電極間の距離と、該電極間距離を変化させた際に測定された、前記高周波電源の基本周波数に対する高調波のうち、プラズマ放電の安定時にはノイズレベルと同程度となる特定高調波のスペクトルと、の相関情報を予め記憶しておき、プラズマ発生時の前記特定高調波スペクトルを検出し、検出された前記特定高調波スペクトル及び前記相関情報に基づいて、前記電極間の距離を可変制御することを特徴とするプラズマ制御方法。
【請求項９】高周波電源からの高周波電圧を一対の電極に印加することで前記電極間に生成されるプラズマ放電の状態を制御する装置において、前記プラズマは、前記電極間が大気圧又はその近傍の圧力下に設定されて生成され、プラズマ放電状態を変化させるパラメータ群の少なくとも一つのパラメータと、該パラメータを変化させた際のプラズマ発生時に測定された、前記高周波電源の基本周波数に対する高調波のうち、プラズマ放電の安定時にはノイズレベルと同程度となる特定高調波のスペクトルと、の相関情報を予め記憶する記憶手段と、プラズマ発生時の前記特定高調波スペクトルを検出するスペクトル検出手段と、検出された前記特定高調波スペクトル及び前記相関情報に基づいて、少なくとも一つの前記パラメータを可変制御する制御手段と、を有することを特徴とするプラズマ制御装置。
【請求項１０】高周波電源からの高周波電圧を一対の電極に印加することで前記電極間に生成されるプラズマ放電の状態を制御するにあたり、前記電極間に供給される酸素濃度と、前記酸素濃度を変化させた際のプラズマ発生時に測定された前記高周波電源の基本周波数に対する高調波のうち、プラズマ放電の安定時にはノイズレベルと同程度となる、酸素濃度に対応して変化する第１の特定高調波のスペクトルと、前記電極間に供給されるＨｅ濃度と、前記Ｈｅ濃度を変化させた際のプラズマ発生時に測定された前記高周波電源の基本周波数に対する高調波のうち、プラズマ放電の安定時にはノイズレベルと同程度となる、Ｈｅ濃度に対応して変化する第２の特定高調波のスペクトルと、の相関情報を予め記憶しておき、プラズマ発生時の前記第1の特定高調波スペクトルを検出すると同時に、前記第２の特定高調波スペクトルを検出し、検出された前記第１の特定高調波スペクトル、第２の特定高調波スペクトル、前記相関情報及び前記酸素と前記Ｈｅとの濃度比率に基づいて、前記酸素及び前記Ｈｅのいずれか一方又は双方の濃度を可変制御することを特徴とするプラズマ制御方法。
【請求項１１】高周波電源からの高周波電圧を一対の電極に印加することで前記電極間に生成されるプラズマ放電の状態を制御するにあたり、前記プラズマは、前記電極間が大気圧又はその近傍の圧力下に設定されて生成され、前記電極間に供給される酸素濃度と、前記酸素濃度を変化させた際のプラズマ発生時に測定された前記高周波電源の基本周波数に対する高調波のうち、プラズマ放電の安定時にはノイズレベルと同程度となる、酸素濃度に対応して変化する特定高調波のスペクトルと、の相関情報を予め記憶しておき、プラズマ発生時の前記特定高調波スペクトルを検出し、検出された前記特定高調波スペクトル及び前記相関情報に基づいて、前記酸素濃度を可変制御することを特徴とするプラズマ制御方法。
【請求項１２】高周波電源からの高周波電圧を一対の電極に印加することで前記電極間に生成されるプラズマ放電の状態を制御するにあたり、前記プラズマは、前記電極間が大気圧又はその近傍の圧力下に設定されて生成され、前記電極間に供給される酸素濃度と、前記酸素濃度を変化させた際のプラズマ発生時に測定された前記高周波電源の基本周波数に対する高調波のうち、プラズマ放電の安定時にはノイズレベルと同程度となる、酸素濃度に対応して変化する第１の特定高調波のスペクトルと、前記電極間に供給されるＨｅ濃度と、前記Ｈｅ濃度を変化させた際のプラズマ発生時に測定された前記高周波電源の基本周波数に対する高調波のうち、プラズマ放電の安定時にはノイズレベルと同程度となる、Ｈｅ濃度に対応して変化する第２の特定高調波のスペクトルと、の相関情報を予め記憶しておき、プラズマ発生時の前記第1の特定高調波スペクトルを検出すると同時に、前記第２の特定高調波スペクトルを検出し、検出された前記第１の特定高調波スペクトル、第２の特定高調波スペクトル、前記相関情報及び前記酸素と前記Ｈｅとの濃度比率に基づいて、前記酸素及び前記Ｈｅのいずれか一方又は双方の濃度を可変制御することを特徴とするプラズマ制御方法。
【請求項１３】高周波電源からの高周波電圧を一対の電極に印加することで前記電極間に生成されるプラズマ放電の状態を検出する装置であって、前記一対の電極は、上部電極と下部電極とを含み、前記プラズマ放電の状態を検出する検出部は、下部電極上に形成された導電性材料であって、被処理体の周囲をリング状に形成されていることを特徴とするプラズマ状態検出装置。」とする補正を含むものである。
 　　 
［２−２］補正の目的 
　上記手続補正は、平成６年法改正前の特許法第１７条の２第１項第５号に掲げる場合において特許請求の範囲についてする補正であるから、同条第３項各号に掲げる事項を目的とするものか否かについて以下検討する。
　まず、平成６年法改正前の特許法第１７条の２第３項第２号に掲げる特許請求の範囲の減縮という目的に該当するか否かについてみるに、補正後の請求項１３についての補正は、審判請求人が審判請求書の「３．本願発明が特許されるべき理由」の「（１）本願発明の説明及び補正の根拠」の欄で述べているように、補正前の請求項２４に記載されていた「高周波電源からの高周波電圧を一対の電極に印加することで前記電極間に生成されるプラズマ放電の状態を検出するにあたり、前記一対の電極は、上部電極と下部電極とを含み、前記プラズマ放電の状態を検出する検出部は、下部電極上に形成された導電性材料であって、非処理体の周囲をリング状に形成されていることを特徴とするプラズマ状態検出方法」という方法の発明を、「高周波電源からの高周波電圧を一対の電極に印加することで前記電極間に生成されるプラズマ放電の状態を検出する装置であって、前記一対の電極は、上部電極と下部電極とを含み、前記プラズマ放電の状態を検出する検出部は、下部電極上に形成された導電性材料であって、被処理体の周囲をリング状に形成されていることを特徴とするプラズマ状態検出装置」という装置の発明に補正しようとするものである。
　しかしながら、補正前において方法の発明であったものを装置の発明に変更する補正は、補正前の請求項に記載した方法の発明の構成に欠くことができない事項を限定するものとはいえない。
　なお、補正後の請求項１３に記載した装置の発明を、補正前の請求項５〜８、１８、１９のいずれかに記載した装置の発明の構成に欠くことができない事項の範囲内において、その構成に欠くことができない事項を限定するものとみることもできない。
　したがって、当該補正は、平成６年法改正前の特許法第１７条の２第３項第２号に掲げる特許請求の範囲の減縮には該当しない。
　次に、その他の目的要件についてみるに、補正前において方法の発明であったものを装置の発明に変更する上記の補正は、平成６年法改正前の特許法第１７条の２第３項第１号の請求項の削除、同項第３号の誤記の訂正に該当しないことは明らかであり、また、同項第４号に掲げる、拒絶理由通知に係る拒絶の理由に示す事項についてする明りょうでない記載の釈明を目的とするものにも該当しない。
　　　
［２−３］むすび 
　以上のとおり、本件補正は、平成６年法改正前の特許法第１７条の２第３項の規定に違反しているので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。 
　　
［３］本願発明 
　平成１６年２月１２日付手続補正は上記のとおり却下されたので、本願請求項１〜２４に係る発明は、平成１５年１０月２０日付手続補正書によって補正された特許請求の範囲の請求項１〜２４に記載されたとおりのものと認められるところ、その請求項２に係る発明（以下、「本願発明２」という。）は以下のとおりである。
「【請求項２】高周波電源からの高周波電圧を一対の電極に印加することで前記電極間に生成されるプラズマ放電の状態を検出するにあたり、前記高周波電源の基本周波数及びその高調波以外の特定周波数のスペクトルであって、プラズマ放電の安定時にはノイズレベルと同程度となる前記特定周波数スペクトルを監視し、前記特定周波数スペクトルが基準値以上となった時に、プラズマ放電異常であると判定することを特徴とするプラズマ状態検出方法。」
　　　 
［４］引用刊行物の記載事項 
  これに対して、原査定の拒絶の理由に引用された、本願出願前の平成５年８月１３日に頒布された刊行物である特開平５−２０６０６７号公報（以下、「引用刊行物」という。）には、以下の事項が記載されている。
　　
引用刊行物：特開平５−２０６０６７号公報 
（１ａ）「【請求項１】・・・高周波電極の電位波形の周波数分布を測定し、高周波電源の周波数よりも高い周波数においてピーク強度を持ちそのときの周波数値が不規則に変動する周波数成分を有する前記電位波形が測定されたときに、処理ガス圧力、高周波電力などのプラズマ制御パラメータを制御することにより、プラズマを安定化させる・・・プラズマ処理装置におけるプラズマ制御方法。」（【特許請求の範囲】）、
（１ｂ）従来の技術として、図５が示されるとともに、
「【０００４】真空容器１内には、所定の間隔を隔てて電極として高周波電極5aと陽極電極5bとが配されている。高周波電極5a上には試料基板Ｗが載置されるようになっている。６は13.56 ＭＨｚの高周波（Radio Frequency ）電力を電極5a，5b間に供給するための高周波電源、７は高周波出力制御ユニット、８はインピーダンス整合用のマッチング回路、９はバイアス用の結合コンデンサである。
【０００５】高周波電源６は、図に示すように、その一端側が高周波出力制御ユニット７、マッチング回路８及び結合コンデンサ９を順に直列に介して高周波電極5aに接続され、他端側が陽極電極5bに接続されている。」（段落【０００４】、【０００５】）、
（１ｃ）実施例として、図１、図３、図４が示されるとともに、
「【００１２】・・・図１はこの発明による方法が適用されるプラズマ処理装置の一例を示す構成説明図である。なお、図１においては、図５に示すものと実質的に同一部分には同一符号を付して説明を省略し、異なる点についてのみ説明する。
【００１３】図１において、21はスペクトラムアナライザ装置である。このスペクトラムアナライザ装置21は、図に示すように、高周波電極5aの電位波形（信号）の周波数分布を測定し、後述するプラズマ消滅直前状態を示す高周波電極5aの電位波形が測定されたときに、プラズマ消滅直前状態を示す検知信号をガス流量コントローラ４に与えるものである。」（段落【００１２】、【００１３】）、
「【００１６】次に、プラズマが安定した状態で発生している場合においては、図３に示すように、・・・高周波電極5aの電位波形は、負にバイアスされた状態で高周波電源６の周波数ｆＲでもって規則的に変化する。この場合、スペクトラムアナライザ装置21では、高周波電源６の周波数ｆＲが測定されることになる。・・・
【００１７】そして、イオンエネルギーを高めるために低ガス圧力状態（高真空状態）でエッチングを行う場合には、本質的にプラズマの状態が不安定になり易く、プラズマの局部的な消滅、生成が起こり、プラズマのインピーダンスが不規則に変動する状態になる。そのため、図４に示すように、プラズマ消滅直前状態になると、スペクトラムアナライザ装置21によって、高周波電源６の周波数ｆＲよりも高い周波数においてピーク強度を持ちそのときの周波数値が不規則に変動（例えば、100 ＭＨｚ〜１ＧＨｚ程度）する周波数成分を有する、高周波電極5aの電位波形が測定される。・・・     
【００１８】スペクトラムアナライザ装置21は、このプラズマ消滅直前状態を示す高周波電極の電位波形が測定されたときに、そのことを示す検知信号をガス流量コントローラ４に与える。ガス流量コントローラ４は、このプラズマ消滅直前状態を示す検知信号を受けて、ガス流量調整バルブ３の開度をわずかに大きくする。これにより、真空容器１内の処理ガス圧力をわずかに高めることにより不安定な状態にあったプラズマが安定化され、従来よりも低ガス圧力状態において、プラズマを消滅させることなく安定な状態に維持してエッチングを行うことができる。
【００１９】・・・なお、処理ガス圧力を調整することに代えて、高周波電力をわずかに高めてプラズマを制御するようにしてもよい。
【００２０】・・・なお、上記実施例ではスペクトラムアナライザ装置を用いたが、これに代えて、より安価なバンドパスフィルタを用いて高周波電極の電位波形の特定の周波数成分を検出し、これに基づいてプラズマ制御パラメータを制御するようにしてもよい。」（段落【００１６】〜【００２０】）が記載されている。
　　
［５］対比・判断 
［５−１］本願発明２について
　引用刊行物には、段落【００１７】、【００１８】、【００２０】に、「図４に示すように、プラズマ消滅直前状態になると、スペクトラムアナライザ装置21によって、高周波電源６の周波数ｆＲよりも高い周波数においてピーク強度を持ちそのときの周波数値が不規則に変動（例えば、100 ＭＨｚ〜１ＧＨｚ程度）する周波数成分を有する、高周波電極5aの電位波形が測定される。・・・このプラズマ消滅直前状態を示す高周波電極の電位波形が測定されたときに、そのことを示す検知信号をガス流量コントローラ４に与える。・・・なお、上記実施例ではスペクトラムアナライザ装置を用いたが、これに代えて、より安価なバンドパスフィルタを用いて高周波電極の電位波形の特定の周波数成分を検出し、これに基づいてプラズマ制御パラメータを制御するようにしてもよい。」と記載されており、そして、図３（ｂ）に、プラズマが安定した状態での高周波電極の電位波形には、高周波電源の周波数ｆＲの周波数成分と、併用するマイクロ波電源の周波数ｆＭの周波数成分しか存在しないことが示される一方、図４（ｂ）に、プラズマ消滅直前状態での高周波電極の電位波形には、高周波電源の周波数ｆＲの周波数成分と、併用するマイクロ波電源の周波数ｆＭの他、高周波電源の周波数ｆＲよりも高い広範囲の周波数成分が存在することが示されているので、プラズマが安定している状態では測定できず、プラズマ消滅直前状態になると測定される高周波電極の電位波形の、高周波電源の周波数ｆＲ（又は、周波数ｆＲと、併用するマイクロ波電源の周波数ｆＭ）以外の特定の周波数成分をバンドパスフィルタを用いて検出し、該特定の周波数成分が検出されたときに、プラズマ消滅直前状態を示す検知信号をガス流量コントローラに出すことが開示されているといえる。
　上記の事項及び摘記（１ａ）〜（１ｃ）を総合すると、引用刊行物には、「所定の間隔を隔てて配した高周波電極と陽極電極に高周波電源からの電力を供給してプラズマを発生させ、該プラズマの状態を、高周波電極の電位波形の、プラズマが安定している状態では測定できず、プラズマ消滅直前状態になると測定される、高周波電源の周波数ｆＲ（又は、周波数ｆＲと、併用するマイクロ波電源の周波数ｆＭ）以外の特定の周波数成分をバンドパスフィルタを用いて検出し、該特定の周波数成分が検出されたときに、プラズマ消滅直前状態を示す検知信号を出して処理ガス圧力を高める、又は高周波電力を高めるプラズマ制御方法」の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されているものと認められる。
　そこで、本願発明２と引用発明とを対比すると、
引用発明における「所定の間隔を隔てて配した高周波電極と陽極電極に高周波電源からの電力を供給し」、「プラズマ」、「高周波電極の電位波形の、・・・高周波電源の周波数ｆＲ（又は、周波数ｆＲと、併用するマイクロ波電源の周波数ｆＭ）以外の特定の周波数成分」、「特定の周波数成分をバンドパスフィルタを用いて検出し、」、「該特定の周波数成分が検出されたときに、」は、それぞれ本願発明２における「高周波電源からの高周波電圧を一対の電極に印加する」、「プラズマ放電」、「高周波電源の基本周波数・・・以外の特定周波数のスペクトル」、「特定周波数のスペクトルを監視し、」、「特定周波数のスペクトルが基準値以上となった時に、」に相当する。
　また、引用発明における「高周波電極の電位波形の、プラズマが安定している状態では測定できず、プラズマ消滅直前状態になると測定される、高周波電源の周波数ｆＲ（又は、周波数ｆＲと、併用するマイクロ波電源の周波数ｆＭ）以外の特定の周波数成分」の「プラズマが安定している状態では測定できず」とは、本願発明２における「プラズマ放電の安定時にはノイズレベルと同程度となる」ことに他ならない。一方、本願明細書の段落【００４５】には、「プラズマ放電の安定時には低レベルに維持されるものである。そして、これらの周波数のスペクトルは、プラズマ異常時には安定時と比較して高いレベルに変化する。」とあり、プラズマ放電の安定時に低レベルに維持される周波数のスペクトルが高いレベルに変化する状態がプラズマ異常時であると認められるので、引用発明における上記「プラズマが安定している状態では測定できず、プラズマ消滅直前状態になると測定される・・・」の「プラズマ消滅直前状態」とは、本願発明２における「プラズマ放電異常」に該当する。
　また、引用発明における「該特定の周波数成分が検出されたときに、プラズマ消滅直前状態を示す検知信号を出して処理ガス圧力を高める、又は高周波電力を高めるプラズマ制御方法」において、「該特定の周波数成分が検出されたときに、プラズマ消滅直前状態を示す検知信号を出して」とは、プラズマ放電異常を示す特定周波数成分の検出によって該プラズマ状態をプラズマ放電異常と判定し、プラズマ放電異常を示す検知信号を出していることに他ならず、また、該検出に基づき、プラズマの制御が行われるのであるから、該「プラズマ制御方法」は、「処理ガス圧力を高める、又は高周波電力を高める」ことを除けば、「プラズマ状態検出方法」であるといえる。
　してみると、両発明は、「高周波電源からの高周波電圧を一対の電極に印加することで前記電極間に生成されるプラズマ放電の状態を検出するにあたり、前記高周波電源の基本周波数以外の特定周波数のスペクトルであって、プラズマ放電の安定時にはノイズレベルと同程度となる前記特定周波数スペクトルを監視し、前記特定周波数スペクトルが基準値以上となった時に、プラズマ放電異常であると判定するプラズマ状態検出方法。」の点で一致し、次の点で相違する。
（イ）本願発明２では、監視する特定周波数スペクトルが、高周波電源の高調波以外の特定周波数のスペクトルであるのに対し、引用発明では、そのように記載されていない点。
　　
　次いで、上記相違点（イ）について以下検討するに、上記摘記（１ｃ）の「図４に示すように、プラズマ消滅直前状態になると、スペクトラムアナライザ装置21によって、高周波電源６の周波数ｆＲよりも高い周波数においてピーク強度を持ちそのときの周波数値が不規則に変動（例えば、100 ＭＨｚ〜１ＧＨｚ程度）する周波数成分を有する、高周波電極5aの電位波形が測定される。」（段落【００１７】）との記載及び図４により、引用刊行物には、プラズマ放電の安定時には測定されない高周波電源の周波数ｆＲより高い周波数成分が、プラズマ放電異常時に、広範な周波数帯域に亘って不規則に変動して測定されること、及び、該周波数帯域の周波数成分の測定によりプラズマ放電異常が検知できることが開示されており、引用発明では、該周波数帯域のうちから選択される特定の周波数成分をバンドパスフィルタにより検出してプラズマ放電異常を検知しているのであるから、該特定の周波数成分、即ち監視すべき特定周波数スペクトルとして、異常プラズマ放電を検知するのに特徴のある周波数を上記周波数帯域から適宜に選択し、該特定周波数スペクトルを高周波電源の高調波以外のものとすることは、当業者が容易に想到し得たものと認められる。
　そして、上記相違点（イ）に係る本願発明２の特定事項によってもたらされる、プラズマ放電異常を正確に検出し安定化できるという効果も、引用刊行物に記載された発明から当業者が普通に予測し得る程度のものであって、格別なものとはいえない。 
　したがって、本願発明２は、引用刊行物に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　　
　なお、引用発明における監視すべき特定周波数スペクトルを高周波電源の基本周波数の高調波のスペクトルとすることは、本願の請求項１が該当し、高調波を選択したとしても、同様の理由により、特許を受けることができない。
　　
［６］むすび 
　以上のとおり、本願発明２は、引用刊行物に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができた発明であるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。 
　また、上記のとおり本願発明２が特許を受けることができないため、本願の請求項１、３〜２４に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。 
　よって、結論のとおり審決する。