【事件の表示】
　平成１０年特許願第　６９０７７号「液晶表示装置の製法およびその製造装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１１年　９月２８日出願公開、特開平１１−２６４９６２〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成１０年３月１８日に特許出願したものであって、平成１６年１月７日付で拒絶査定がなされ、これに対し、平成１６年２月１０日付で拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに平成１６年３月４日付で特許法第１７条の２第１項第３号の規定による手続補正がなされたものである。
　
２．本願発明
　上記平成１６年３月４日付補正は、補正前の特許請求の範囲に記載された請求項１〜２１のうち、請求項７，８，９，１１，２０，２１を、それぞれ新たな請求項１，２，３，５，６，７ととすると共に、補正前の請求項１０を引用する請求項１６を独立形式に書き改めて新たな請求項４とし、補正前のその他の請求項は削除するものであるから、請求項の削除または明りょうでない記載の釈明を目的とするものである。
　したがって、本願の請求項に係る発明は、平成１６年３月４日付手続補正書によって補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１〜７に記載された事項にあると認められるところ、請求項１に係る発明は、次のものである。
「【請求項１】ＵＶ処理工程とウェット処理工程のあいだの長さ０．２〜０．３ｍの区間において、エアブローノズルにより基板に空気を吹き付けることにより当該基板の冷却を行ない、
　基板検知センサにより前記ＵＶ処理ユニットとウェット処理ユニットとのあいだにおける基板の有無を検知し、および当該基板検知センサによって基板が有ることを検知したときに、制御部および開閉弁が前記エアブローノズルへの空気を供給し、冷却を行なうように制御する液晶表示装置の製法。」（以下、「本願発明」という。）
　
３．刊行物の記載事項
　原査定の拒絶理由に引用した特開平８−３１６１８５号公報（以下、「刊行物１」という。）には、液晶駆動回路等の製造に使用される紫外線処理装置に関して下記の記載が認められる。
「【０００２】
【従来の技術】一般に、半導体集積回路や液晶駆動回路の製造において、露光及び現像後のレジストは、マスクとして用いたエッチング工程の後、除去する方法が行われている。このレジストを除去する方法としてアッシング処理が行われる。このアッシング処理の一つとして紫外線とオゾンを用いたアッシング方式がある。
・・・
【０００６】この強力な酸化力を持つ励起酸素原子やオゾンの熱分解によって発生した基底状態の酸素原子は、紫外線照射によって生成した有機化合物のフリーラジカルや励起状態の分子と反応してＣＯ２、やＨ２Ｏのような揮発性物質を生成する。このようにして、有機化合物の分解、除去が行われる。
【０００７】この作用を利用して大型基板を連続処理を行う場合、ローラーやベルトで基板を搬送し、あらかじめ被処理物を昇温した後、処理室で紫外線とオゾンで処理を行ったり、ホットプレートを処理室内に設置し昇温とアッシングとを同時に行ったりする方法がある。
・・・
【００１５】図１は本発明の一実施例である紫外線処理装置の模試図であり、加熱部１、搬送部２、ランプハウス３、処理室４、冷却部５を備えている。
・・・
【００１７】ランプハウス３には、紫外線ランプ９、オゾン散布ノズル１０が設置される。
・・・
【００１９】ランプハウス３の下には処理室４がある。処理室４は、オゾンが外部に流出するのを防止するため、排気孔１６より処理室４の雰囲気をオゾン分解フィルター１４を通してブロワ１７によって排気し、処理室４内部を外部に対して負圧に保たれる。
・・・
【００２３】被処理物８は、オゾンと紫外線による処理が終了した後、冷却部５においてドライエアーの吹き付け等によって冷却される。」
　
　上記によれば、刊行物１には、
「紫外線による処理が終了した後、大型基板等の被処理物をドライエアーの吹き付けによって冷却する液晶駆動回路の基板連続処理方法」の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されている。
　
４．対比
　本願発明と引用発明とを対比する。
ａ）引用発明の「紫外線による処理」は、本願発明の「ＵＶ処理工程」に相当し、「液晶駆動回路」は、「液晶表示装置」に当然に含まれている。
ｂ）ドライエアーを均一に吹き付けるためにエアブローノズルを用いることはきわめて一般的なことであるから、引用発明の「大型基板等の被処理物をドライエアーの吹き付けによって冷却する」点は、本願発明の「基板にエアブローノズルにより空気を吹き付けることにより当該基板の冷却を行なう」点と実質的に差異がない。
　よって、両者は、
「ＵＶ処理工程と、エアブローノズルにより基板に空気を吹き付けることにより当該基板の冷却を行なう、液晶表示装置の製法」である点で一致し、下記の点で相違する。
　
相違点１：
　本願発明は、「ウェット処理工程」を有し、「ＵＶ処理工程とウェット処理工程のあいだの長さ０．２〜０．３ｍの区間において」基板の冷却を行なう、すなわち、ＵＶ処理工程の後、基板の冷却を行ない、その後、ウェット処理工程を行うのに対して、引用発明は、紫外線による処理が終了した後、冷却するものの、その後の工程を有するかは不明である点。
相違点２：
　本願発明は、「基板検知センサにより前記ＵＶ処理ユニットとウェット処理ユニットとのあいだにおける基板の有無を検知し、および当該基板検知センサによって基板が有ることを検知したときに、制御部および開閉弁が前記エアブローノズルへの空気を供給し、冷却を行なうように制御する」のに対して、引用発明は、ドライエアーの吹き付けによって冷却するものの、具体的な制御方法を有するかは不明である点。
　
５．判断
　そこで、上記相違点に付き検討する。
相違点１について：
　液晶表示装置用の基板を洗浄する方法において、基板表面の汚染物を効率よく除去するために、紫外線照射処理後にウエット洗浄処理を行うことは、本願明細書の【０００２】にも記載されているように従来周知（例えば、特開平５−２２４１６７号公報の実施例２の説明と【図２】及び特開平１０−５０６４６号公報の請求項１と【図３】を参照。）である。
　また、本願発明において、冷却を行う区間の長さを０．２〜０．３ｍと規定したのは、従来、冷却を行わない場合には、ＵＶ処理工程とウェット処理工程のあいだの長さが０．５〜１．０ｍ必要とされていたのが、冷却を行うことによりその区間を短縮できたことに起因している。（本願明細書の【０００５】及び【００２７】を参照。）
　そうしてみると、引用発明の液晶駆動回路の基板連続処理方法においても、紫外線による処理が終了した後、ドライエアーの吹き付けによって冷却を行っているのであるから、連続的に次の工程を行おうとすれば、次の工程に要求される温度に応じて冷却に必要な距離を確保することは当然のことであって、その長さをどの程度とするかは冷却条件等に応じて適宜設定すべき事項にすぎない。
　してみると、引用発明において、汚染物を効率よく除去するために、紫外線による処理、冷却の後に、さらにウエット洗浄処理を付加することは当業者が容易に想到し得たものであり、また、冷却を行う区間の長さを０．２〜０．３ｍと規定することは任意に設計し得る事項にすぎない。
　
相違点２について：
　基板等に洗浄、乾燥等の必要な処理を順次施す方法において、各作業位置の直前にセンサを配置し、各作業位置への到達が検出されると作業を開始するように制御することは従来周知の事項（必要であれば、原査定の拒絶理由に引用した刊行物：特開平５−１７７１７４号公報（特に「【０００２】従来技術」の項）を参照。）であるから、引用発明において、相違点２の技術的事項とすることは任意に設計し得る事項にすぎない。
　
　また、本願発明によってもたらされる効果は、引用発明及び周知技術から予測し得る程度のものであり、格別とはいえない。
　
６．むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。