【手続補正書】
【提出日】平成22年1月28日(2010.1.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学的に可変なデバイスをマスタリングする方法であって、
ビーム(106)を有する装置(102)を含むマスタリングシステム(100)を提供する工程であって、該装置はレーザービームレコーダ及び電子ビーム(e-ビーム)レコーダの１つを含む工程と、
用意された基板(206)をマスタリングシステム(100)に導入する工程と、
用意された基板(206)を回転させる工程と、
用意された基板(206)の一部をビーム(106)に露光し、用意された基板(206)上に露光を生成する工程と、
露光され用意された基板(206)を処理して、マスタ(202)及びスタンパの１つを生成し、光学的に可変なデバイスを複製する工程を有する、光学的に可変なデバイスをマスタリングする方法に於いて、
装置(102)は１本のビーム(106)を有し、露光工程は基板の回転時に基板(206)の一部を１本のビームに露光する工程と、
１本のビーム(106)の位置を制御して、複数の略平行又は重なった露光を付与する工程を含む、光学的に可変なデバイスをマスタリングする方法。
【請求項２】
更に、用意された基板(206)は感光性の層、熱活性層、フォトレジスト被覆、相変化材、ポリマー層の少なくとも１つを含み、
露光された用意された基板(206)を現像する工程を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
感光性の層、熱活性層、フォトレジスト被覆、相変化材、ポリマー層の少なくとも１つの間の厚みを変える工程を有する、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
更に、ビーム(106)は焦点、周波数、変調輝度、及び形状を有し、
ビーム(106)の焦点、周波数、変調輝度、及び形状の少なくとも１つを変え、それによって、所定の方法で、ビームを変調し、用意された基板(206)の一部を選択的に露光する、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
更に、用意された基板(206)は略円形であり、露光は半径方向及び接線方向を有し、半径方向及び接線方向の両方にビームを変調する工程を有する、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
更に、複数の光学的に可変な要素を含む螺旋状(216)且つ同心のリングの少なくとも１つに露光を形成する工程と、
光学的に可変な要素と光学的に可変な要素の半径方向及び接線方向の重なり間の少なくとも１つの隙間を制御して、所望の光学的効果を生成するする工程を含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
更に、露光され用意された基板(206)に導電性の層を付加する工程と、
露光され用意された基板(206)を電気鋳造して、光学的に可変なデバイスの複製用のスタンパを生成する工程を有する、、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
スタンパを用いて、射出成形、鋳造及びエンボス加工から構成されるグループから選択される工程によって、物品を複製する工程を有する、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
更に、多数の層を有する光学ディスク(200)である物品を含み、少なくとも１つの層は、少なくとも１つの光学的に可変なデバイスを含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
更に、少なくとも１つの光学的画像(226)を構成する工程と、
少なくとも１つの光学的画像をレーザビームレコーダ及び電子ビームレコーダの１つによって記録可能なフォーマットに変換し、光学的に可変なデバイスを提供する、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
更に、プロセッサ(110)を配備する工程と、
プロセッサ(110)にプログラムして、光学的に可変なデバイスをマスタリングする方法から選択されるステップを自動化する工程と、
プロセッサ(110)を用いて、そのビーム(106)を含むマスタリングシステムを制御して、用意された基板(206)を露光して、所望の光学的効果(216)を生成する、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
更に、ビデオデータ、音楽データ、コンピュータデータからなるグループから選択されるデータをデジタル化して、デジタルデータを形成する工程と、
レーザビームレコーダ及び電子ビームレコーダの１つを用いて、光学的に可変なデバイスに関するデジタルデータを組み合わせる工程を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
光学的に可変なデバイス及び光学的に可変なデバイスを複製するスタンパの少なくとも１つを提供する光学的に可変なデバイスのマスタリングシステムであって、
用意された基板(206)上に露光を生成するように構成されたビーム(106)を有し、レーザビームレコーダ及び電子ビーム(e-ビーム)レコーダの１つを含む装置(102)と、
ビーム(106)及び用意された基板(206)の少なくとも１つを所定の方法で制御するように構成されて、用意された基板(206)の選択された部分上に露光を生成する少なくとも１つの制御装置(110)とを具え、
用意された基板(206)は、感光性の層、熱活性層、フォトレジスト被覆、相変化材、ポリマー層の少なくとも１つを有して、
露光され用意された基板(206)は、多数の物品(102)上に光学的に可変なデバイスを複製するマスタ及びスタンパの少なくとも１つを生成するように処理されたシステムに於いて、
システムは、１本のビーム(106)を有し、少なくとも１つの制御装置(100)は基板の回転時に基板の選択された部分を露光することにより、基板(206)の選択された部分上に、複数の略平行又は重なった露光を形成するように構成された、マスタリングシステム。
【請求項１４】
少なくとも１つの制御装置は更に、少なくとも１つの変調装置(108)、焦点装置(105)、回転装置(105')、変換(translation)装置、及び可変開口システムを含む、請求項１３に記載のマスタリングシステム。
【請求項１５】
少なくとも１つの制御装置は、プロセッサ(100)を含み、該プロセッサはビーム(106)の焦点、周波数、変調強度、ビーム形状、及びビーム偏向から成るグループから選択されるビームの少なくとも１つのパラメータを制御するようにプログラム可能であり、ビーム(106)の少なくとも１つのパラメータの少なくとも１つは、用意された基板(206)について制御される、請求項１４に記載のマスタリングシステム。
【請求項１６】
プロセッサは、少なくとも１つの光学的画像(226)を設計する少なくとも１つのコンピュータ(112)及びソフトウエアプログラムを含み、プロセッサ(100)は、少なくとも１つの光学的画像(226)をレーザビームレコーダ及び電子ビームレコーダの１つによって記録可能なフォーマットに変換するように構成されて、光学的に可変なデバイスを供給する、請求項１５に記載のマスタリングシステム。
【請求項１７】
少なくとも１つの光学的画像(226)は、少なくとも１つの回折画像及び非回折画像を含み、少なくとも１つの回折画像及び非回折画像は、少なくとも１つのビットマッププログラム及びベクトルプログラムを用いて設計されて、レーザビームレコーダ及び電子ビームレコーダの１つに供給され、
少なくとも１つの回折画像及び非回折画像は、複数の画素を含み、画素は少なくとも１つのトーンとカラーを複数含み、少なくとも１つのトーンとカラーは、少なくとも１つの回折画像及び非回折画像の異なる回折角度及び空間周波数を表して、光学的に可変なデバイスに所望の光学的効果を付与する、請求項１６に記載のマスタリングシステム。
【請求項１８】
光学的効果は、カラー変化、強度変化、回折格子、立体画像、２次元画像、３次元画像、立体画像、映画、光学的効果の結合、１つの光学的効果から他の光学的効果への変化、光学的黒、ブレーズ格子、アズテック格子、非回折光学効果及びデバイス、シンボル、文字、テキスト、及びメッセージの少なくとも１つを含む、請求項１７に記載のマスタリングシステム。
【請求項１９】
多数の物品(200)の各々は少なくとも１つの層を含み、少なくとも１つの層は、ビデオデータ、音楽データ、コンピュータデータからなるグループから選択されるデジタルデータを含み、光学的に可変なデバイスは(a)デジタルデータとして同じ層に、及び(b)デジタルデータとは異なる少なくとも１つの層の少なくとも１つに複製される、請求項１３に記載のマスタリングシステム。
【請求項２０】
デジタルデータは、光学的に可変なデバイスと結合してインターレースされる、請求項１９に記載のマスタリングシステム。
【請求項２１】
安全対策を具えた物品(200)であって、
少なくとも１つの層；
少なくとも１つの層の少なくとも１つの上に配備された少なくとも１つの光学的に可変なデバイス(220)を具え；
少なくとも１つの光学的に可変なデバイス(220)は、所定の相対的観察点から物品を見た際に、所望の光学的効果を有する物品に於いて、
少なくとも１つの光学的に可変なデバイス(220)は、請求項１乃至１２の何れかの方法にて生成され、又は請求項１３乃至２０の何れかのシステムを用いて生成される、光学的に可変なデバイスのマスタ及びスタンパの１つの複製である物品。
【請求項２２】
光学的に可変なデバイスの要素は、可変な深さ、可変な接線方向の空間、可変な半径方向の空間、可変な形状、可変な幅及び可変な長さの少なくとも１つを有する、請求項２１に記載の物品。
【請求項２３】
(a) スティッカー、(b) ウエハー、(c) テープ及び(d) 光学ディスクの１つを具える、請求項２１に記載の物品。