【手続補正書】
【提出日】平成22年1月19日(2010.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
極めて変わりやすい炭素含有量の原料を、実質的に一貫した特徴を有するガスに変換する、施設の動作を制御するように構成されるシステムであって、
ａ）それぞれの検知要素が前記施設の１つ以上の操作特徴を検知するように構成される、複数の検知要素と、
ｂ）それぞれの応答要素が前記施設の１つ以上の操作特徴に影響を及ぼすように構成される、複数の応答要素と、
ｃ）前記複数の検知要素および複数の応答要素に動作可能に関連付けられた１つ以上の計算プラットフォームと、を含み、前記１つ以上の計算プラットフォームは、前記複数の検知要素から入力信号を受け取るように構成され、多重入力信号は、前記施設の特徴を維持または調整するための、前記応答要素の１つ以上の制御のための、１つ以上の制御パラメータの生成のために、多重相互制御ループとともに協力的に利用され、
これにより、前記ガスの１つ以上の特徴を実質的に維持しながら、前記極めて変わりやすい炭素含有量の原料の、実質的に一貫した特徴を有する前記ガスへの変換を制御し、
前記制御システムは、フィードフォワードおよび／またはフィードバック制御スキームを実行するように選択的に構成され、前記制御システムは、１つ以上の比例（Ｐ）、積分（Ｉ）または微分（Ｄ）コントローラを選択的に含み、適応、予測、および／またはファジー論理制御を選択的に利用する、制御システム。
【請求項２】
前記制御システムに動作可能に関連付けられ、前記施設の多重操作特徴を検知するように構成される第１の検出モジュールを含み、前記第１の検出モジュールからの出力の少なくとも一部は前記多重操作特徴を示し、前記第１の検出モジュールからの前記出力の少なくとも一部は、１つ以上の応答要素を制御するための１つ以上の制御パラメータの生成のために、協力的に使用される、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記制御システムに動作可能に関連付けられ、ガスの炭素含有量を検知するように構成されるコンバータ固形物レベル検出モジュールを含み、前記コンバータ固形物レベル検出モジュールからの出力の少なくとも一部は、コンバータ固形物をガス化装置内に移送するように構成された１つ以上の横方向移送ユニットの動きの制御のための１つ以上の制御パラメータの生成のために協力的に使用される、請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
前記制御システムに動作可能に関連付けられ、ガスの炭素含有量を検知するように構成されるガス炭素含有量検出モジュールを含み、前記ガス炭素含有量検出モジュールからの出力の少なくとも一部は、炭素質原料（ＣＦ）送給量および高炭素原料（ＨＣＦ）送給量の制御のための１つ以上の制御パラメータの生成のために協力的に利用される、請求項１に記載のシステム。
【請求項５】
前記制御システムに動作可能に関連付けられ、ガスの炭素含有量を検知するように構成されるガス炭素含有量検出モジュールを含み、前記ガス炭素含有量検出モジュールからの出力の少なくとも一部は、炭素質原料（ＣＦ）送給量、高炭素原料（ＨＣＦ）送給量、コンバータ固形物をガス化装置および総空気流量内に移送するように構成された１つ以上の横方向移送ユニットの動きの１つ以上の制御のための１つ以上の制御パラメータの生成のために協力的に利用される、請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
前記制御システムに動作可能に関連付けられ、ガスの炭素含有量を検知するように構成されるガス炭素含有量検出モジュールを含み、前記ガス炭素含有量検出モジュールからの出力の少なくとも一部は、炭素質原料（ＣＦ）送給量、高炭素原料（ＨＣＦ）送給量および蒸気付加速度の制御のための１つ以上の制御パラメータの生成のために協力的に利用される、請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
前記制御システムに動作可能に関連付けられ、ガスの燃料価を検知するように構成されるガス燃料価検出モジュールを含み、ガス燃料価検出モジュールからの出力の少なくとも一部は、炭素質原料（ＣＦ）送給量および高炭素原料（ＨＣＦ）送給量の制御のための１つ以上の制御パラメータの生成のために協力的に利用される、請求項１に記載のシステム。
【請求項８】
前記制御システムに動作可能に関連付けられ、ガスの燃料価を検知するように構成されるガス燃料価検出モジュールを含み、ガス燃料価検出モジュールからの出力の少なくとも一部は、炭素質原料（ＣＦ）送給量、高炭素原料（ＨＣＦ）送給量、コンバータ固形物をガス化装置および総空気流量に移送するように構成された１つ以上の横方向移送ユニットの動きの１つ以上の制御のための１つ以上の制御パラメータの生成のために協力的に利用される、請求項１に記載のシステム。
【請求項９】
前記制御システムに動作可能に関連付けられ、前記ガス流量を検知するように構成されるガス流量検出モジュールを含み、前記ガス流量検出モジュールからの出力の少なくとも一部は、炭素質原料（ＣＦ）送給量、高炭素原料（ＨＣＦ）送給量、コンバータ固形物をガス化装置、蒸気付加速度および総空気流量内に移送するように構成された１つ以上の横方向移送ユニットの動きの１つ以上の制御のための１つ以上の制御パラメータの生成のために協力的に利用される請求項１に記載のシステム。
【請求項１０】
前記制御システムに動作可能に関連付けられ、前記ガスのＨ2含有量を検知するように構成されるガスＨ2定量モジュールを含み、前記ガスＨ2定量モジュールからの出力の少なくとも一部は、炭素質原料（ＣＦ）送給量、高炭素原料（ＨＣＦ）送給量、コンバータ固形物をガス化装置および蒸気付加速度内に移送するように構成された１つ以上の横方向移送ユニットの動きの制御のための１つ以上の制御パラメータの生成のために協力的に利用される、請求項１に記載のシステム。
【請求項１１】
前記制御システムに動作可能に関連付けられ、ガスのＣＯ含有量を検知するように構成されるガスＣＯ定量モジュールを含み、前記ガスＣＯ定量モジュールからの出力の少なくとも一部は、炭素質原料（ＣＦ）送給量、高炭素原料（ＨＣＦ）送給量、コンバータ固形物をガス化装置および蒸気付加速度内に移送するように構成された１つ以上の横方向移送ユニットの動きの制御のための１つ以上の制御パラメータの生成のために協力的に利用される、請求項１に記載のシステム。
【請求項１２】
前記制御システムに動作可能に関連付けられ、１つ以上の前記施設のプロセス内の１つ以上の地点における温度を検知するように構成される１つ以上のプロセス温度検出モジュールを含み、前記プロセス温度検出モジュールは、空気流分布およびプラズマ熱の制御のための１つ以上の制御パラメータを提供するように動作する、請求項１に記載のシステム。
【請求項１３】
ガスの透明度を検知するように構成され、前記制御システムに動作可能に関連付けられたガス透明度検出モジュールを含み、前記ガス透明度検出モジュールからの出力の少なくとも一部は、炭素質原料（ＣＦ）送給量、高炭素原料（ＨＣＦ）送給量、コンバータ固形物をガス化装置および蒸気付加速度内に移送するように構成された１つ以上の横方向移送ユニットの動きの制御のための１つ以上の制御パラメータの生成のために協力的に使用される、請求項１に記載のシステム。
【請求項１４】
前記制御システムに動作可能に関連付けられたガス圧力を検知するように構成されるガス圧検出モジュールを含み、前記ガス圧力検出モジュールからの出力の少なくとも一部は、炭素質原料（ＣＦ）送給量、高炭素原料（ＨＣＦ）送給量、ガス化装置および蒸気付加速度内にコンバータ固形物を移送するように構成された１つ以上の横方向移送ユニットの動きの制御のための１つ以上の制御パラメータの生成のために協力的に使用される、請求項１に記載のシステム。
【請求項１５】
集中制御システムとしてさらに構成される、請求項１に記載のシステム。
【請求項１６】
それぞれの領域的制御システムは、前記施設の領域の動作を制御するように構成され、それぞれの領域的制御システムは、前記複数の検知要素の１つ以上に動作可能に接続され、前記領域内に充填される前記複数の応答要素の１つ以上に動作可能に接続される、２つ以上の領域的制御システムを含み、分散制御システムとしてさらに構成される、請求項１に記載のシステム。
【請求項１７】
前記２つ以上の領域的制御システムは、通信可能に接続され、それによりその間の情報転送を可能とする、請求項１６に記載のシステム。
【請求項１８】
前記２つ以上の領域的制御システムに通信可能に接続される大域的制御システムをさらに含み、前記大域的制御システムは２つ以上の領域的制御システムの間の動作上の相互作用を制御および管理するように構成され、これにより、前記２つ以上の領域的制御システムによって行われた操作特徴の調整間の干渉を低減する手段を提供する、請求項１６に記載のシステム。
【請求項１９】
前記システムは、
ａ）前記施設内の１つ以上のプロセスの最近の動作条件であって、前記複数の検知要素の１つ以上から受け取った１つ以上の入力信号に少なくとも部分的に基づく、前記最近の動作条件を定量し、
ｂ）目標動作条件を取得するか、もしくはこれに向けて調整するために、前記施設内の１つ以上のプロセスを調整するための少なくとも１つの応答要素の１つ以上の制御パラメータであって、前記最近の動作条件および前記目標動作条件の比較に少なくとも部分的に基づく、前記１つ以上の制御パラメータを定量し、
ｃ）その制御のための、前記少なくとも１つの応答要素に対する、前記１つ以上の制御パラメータに少なくとも部分的に基づく、前記１つ以上の制御信号を提供する、
ように動作する、請求項１に記載のシステム。
【請求項２０】
前記システムは、
ａ）前記施設内の１つ以上のプロセスの目標動作条件を定量し、
ｂ）前記目標動作条件を取得するために、前記１つ以上のプロセスを調整する少なくとも１つの応答要素の１つ以上の制御パラメータであって、フィードフォワード様式で定量される、前記１つ以上の制御パラメータを定量し、
ｃ）その制御のための、前記少なくとも１つの応答要素に対する前記１つ以上の制御パラメータに少なくとも部分的に基づき、前記１つ以上の制御信号を提供するように動作する、請求項１に記載のシステム。
【請求項２１】
１つ以上の比例（Ｐ）、積分（Ｉ）または微分（Ｄ）コントローラを含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項２２】
適応、予測および／またはファジー論理制御を利用するように構成される、請求項１に記載のシステム。
【請求項２３】
前記複数の検知要素の１つ以上は、ガスのガス圧および／またはガスのガス組成を検知するように構成され、前記複数の応答要素の１つ以上は、前記ガス圧力および前記ガス組成に応答して添加剤入力レートおよび原料入力レートを調整するように構成される、請求項１に記載のシステム。
【請求項２４】
前記複数の検知要素の１つ以上は、ガスのガス組成を検知するように構成され、添加剤入力レートは前記ガス組成の関数として調整される、請求項１に記載のシステム。
【請求項２５】
前記ガス組成はガスの発熱量を定量するために使用され、前記添加剤入力レートは、前記発熱量の関数として調整される空気添加剤入力レートを含む、請求項２４に記載のシステム。
【請求項２６】
前記空気添加剤入力レートは前記発熱量の一次関数として調整される、請求項２５に記載のシステム。
【請求項２７】
前記複数の検知要素の１つ以上は、ガスのＣＯ含有量およびガスのＨ2含有量を検知するように構成され、添加剤入力レートは前記ＣＯ含有量および／または前記Ｈ2含有量の関数として調整される、請求項１に記載のシステム。
【請求項２８】
前記添加剤入力レートは、前記ＣＯ含有量および／または前記Ｈ2含有量の一次関数として調整される空気添加剤入力レートおよび蒸気添加剤入力レートを含む、請求項２７に記載のシステム。
【請求項２９】
極めて変わりやすい炭素含有量の前記原料は原料発熱量範囲によって定義され、前記発熱量範囲は約３０００ＫＪ／Ｋｇ〜約３３０００ＫＪ／Ｋｇである、請求項１に記載のシステム。
【請求項３０】
極めて変わりやすい炭素含有量の原料から生オフガスおよび／または合成ガスを生成するステップと、前記生オフガスおよび／または合成ガスからプラズマ改質ガスを含む、ガス改質システム投入ガス（ＧＲＳ投入ガス）を変換するためのプロセスを含むプロセスを実施するように構成される制御システムであって、
ａ）前記施設内のプロセス、プロセス装置、プロセス入力および／またはプロセス出力の１つ以上の特徴を検知するように構成される複数の検知要素と、
ｂ）前記施設内の１つ以上のプロセスの１つ以上の特徴に影響を及ぼすように構成される、複数の応答要素と、
ｃ）前記複数の検知要素および複数の応答要素に動作可能に関連付けられた、１つ以上の計算プラットフォームであって、前記複数の検知要素から入力信号を受け取るように構成され、多重入力信号は、前記施設内のプロセス特徴の維持または調整のために、少なくとも前記複数の応答要素のうちの１つの制御のための１つ以上の制御パラメータの生成のために多重相互制御ループとともに協力的に利用される、前記１つ以上の計算プラットフォームと、を含み、
前記制御システムは、フィードフォワードおよび／またはフィードバック制御スキームを実行するように選択的に構成され、前記制御システムは、１つ以上の比例（Ｐ）、積分（Ｉ）または微分（Ｄ）コントローラを選択的に含み、適応、予測、および／またはファジー論理制御を選択的に利用する、施設の制御システム。
【請求項３１】
前記制御システムは、
ａ）前記施設内の１つ以上のプロセスの最近の動作条件であって、前記複数の検知要素から受け取った１つ以上の入力信号に少なくとも部分的に基づく前記最近の動作条件を定量し、
ｂ）目標動作条件を取得するか、もしくはこれに向けて調整するために、前記１つ以上のプロセスを調整する、少なくとも１つの応答要素の制御のための１つ以上の制御パラメータであって、前記最近の動作条件および前記目標動作条件に少なくとも部分的に基づく、前記１つ以上の制御パラメータを定量し、
ｃ）その制御のための、前記少なくとも１つの応答要素に対する、前記１つ以上の制御パラメータに少なくとも部分的に基づく、前記１つ以上の制御信号を提供する、ように動作する、請求項３０に記載の制御システム。
【請求項３２】
前記制御システムは、
ａ）前記施設内の１つ以上のプロセスの目標動作条件を定量し、
ｂ）前記目標動作条件を取得するために、前記１つ以上のプロセスを調整する、少なくとも１つの応答要素の制御のための１つ以上の制御パラメータを定量し、
ｃ）その制御のための、前記少なくとも１つの応答要素に対する、前記１つ以上の制御パラメータに少なくとも部分的に基づく、前記１つ以上の制御信号を提供する、ように動作する、請求項３０に記載の制御システム。
【請求項３３】
前記制御システムは、
ａ）検知された特徴であって、前記入力信号の１つ以上を示す、前記検知された特徴を特徴値によって表し、
ｂ）特徴値であって、
ｉ）１つ以上の目標値またはその範囲であって、前記目標値は値または派生値であり、
ｉｉ）前記制御パラメータは、１つ以上の応答要素の動作の条件を設定する、
１つ以上の前記特徴値の比較に部分的に基づいて１つ以上の制御パラメータを計算し、
ｃ）前記施設内の１つ以上のプロセスのプロセス特徴を維持または調整するための前記１つ以上の制御パラメータへの少なくとも１つの応答要素を反映する、制御信号を提供する、
ように動作する、請求項３０に記載の制御システム。
【請求項３４】
１つの特徴値ともう１つの特徴値の間において式［Ｘ］＝［ａ］［Ｙ］によって定義されるほぼ直線関係を少なくとも部分的に使用して、１つ以上の制御パラメータを生成するように構成され、［ａ］は施設設計および前記施設の１つ以上の所望の出力特徴によって異なる実験定数であり、１つ以上のもう１つの特徴値は一定に保たれる、請求項３３に記載の制御システム。
【請求項３５】
前記制御システムは［Ｘ］tv＝ａ［Ｙ］tvにしたがって式を計算することによって目標値を定量するように構成され、温度および圧力が一定に保たれ、
［Ｘ］tvまたは［Ｙ］tvのどちらかが既知の目標値を表し、
前記制御システムは、［Ｘ］cv＝ａ［Ｙ］cvにしたがって式を計算することによって特徴値を定量するようにさらに構成され、温度および圧力が一定に保たれ、
［Ｘ］cvまたは［Ｙ］cvのどちらかが既知の特徴値を表し、
［ａ］は実験定数であり、施設設計および前記施設の１つ以上の所望の出力特徴によって異なり、
前記制御システムは、１つ以上の目標値と、対応する１つ以上の特徴値の比較に部分的に基づいて１つ以上の制御パラメータを生成するように構成される、
請求項３３に記載の制御システム。
【請求項３６】
１つ以上の特徴値はガス組成を示し、１つ以上の制御パラメータはガス化プロセスに対する添加剤入力レートを示し、前記添加剤入力レートは、少なくとも部分的に、前記ガス組成の関数として調整される、請求項３３に記載の制御システム。
【請求項３７】
１つ以上の特徴値はガス組成を示し、前記１つ以上の特徴値は、少なくとも部分的に、ガスの発熱量を定義するために使用され、１つ以上の制御パラメータは、空気添加剤入力レートを示し、前記空気添加剤入力レートは、少なくとも部分的に、前記発熱量の関数として調整される、請求項３３に記載の制御システム。
【請求項３８】
前記ガスの発熱量の一次関数として、空気添加剤入力レートを調整するように構成される、請求項３７に記載の前記制御システム。
【請求項３９】
１つ以上の特徴値はガス組成を示し、前記ガス組成は検知したガスのＣＯ含有量および検知した前記ガスのＨ2含有量を含み、１つ以上の制御パラメータはガス化プロセスに対する添加剤入力レートを示し、前記添加剤入力レートは、少なくとも部分的に、前記検知されたガスのＣＯ含有量および前記検知された前記ガスのＨ2含有量の関数として調整される、請求項３３に記載の制御システム。
【請求項４０】
プロセス添加剤としてガス化装置に送られる前記空気量を制御するパラメータを含む１つ以上の制御パラメータを、前記産生ガスの前記発熱量（ＨＶ）の関数として計算するように構成され、前記パラメータは、前記産生ガスの前記ＨＶと前記ガス化装置に送られる前記空気量との間において定義される、［ＨＶ］＝［ａ］［Ａｉｒ］にしたがう直線関係に基づいて計算され、［ａ］は実験定数であり、施設設計および前記施設の１つ以上の所望の出力特徴によって異なり、１つ以上の他の特徴値は一定に保たれる請求項３３に記載の制御システム。
【請求項４１】
プロセス添加剤としてガス化装置に送られる前記空気量を制御するパラメータを含む１つ以上の制御パラメータを、前記産生ガスの前記低発熱量（ＬＨＶ）の関数として計算するように構成され、前記パラメータは、前記産生ガスの前記ＬＨＶおよび前記ガス化装置に送られる前記空気量との間において定義される、［ＬＨＶ］＝［ａ］［Ａｉｒ］にしたがう直線関係に基づいて計算され、［ａ］は実験定数であり、施設設計および前記施設の１つ以上の所望の出力特徴によって異なり、少なくとも温度および圧力は一定に保たれる、請求項３３に記載の制御システム。
【請求項４２】
プロセス添加剤としてガス化装置に送られる前記空気量を制御するパラメータを含む１つ以上の制御パラメータを、前記産生ガスの前記高発熱量（ＨＨＶ）の関数として計算するように構成され、前記パラメータは、前記産生ガスの前記ＨＨＶおよび前記ガス化装置に送られる前記空気量との間において定義される直線関係に基づいて計算され、少なくとも温度および圧力は定数として設定される、請求項３３に記載の制御システム。
【請求項４３】
前記制御システムに動作可能に関連付けられた、コンバータ固形物レベル検出モジュールであって、前記コンバータ固形物レベル検出モジュールからの出力の少なくとも一部は、１つ以上の横方向移送ユニット、炭素質原料（ＣＦ）送給量および高炭素原料（ＨＣＦ）送給量の動きの制御のための１つ以上の制御パラメータの生成のために、協力的に使用される、コンバータ固形物レベル検出モジュールを含む、請求項３３に記載の制御システム。
【請求項４４】
前記１つ以上の横方向移送ユニットおよび／またはＣＦ送給量の動きの速度、および／またはおよびＨＣＦ送給量および／またはガス化装置内の固体の高さを制御するパラメータを含む制御パラメータを計算するように構成される制御システムであって、前記パラメータは、前記１つ以上の横方向移送ユニットの動きの前記速度、前記ＣＦ送給量、前記ＨＣＦ送給量および前記ガス化装置内の固体の前記高さの間において定義される直線関係に基づいて計算される、請求項４３に記載の制御システム。
【請求項４５】
前記制御システムに動作可能に関連付けられ、前記産生ガス炭素含有量を検知するように構成される、産生ガス炭素含有量検出モジュールを含む制御システムであって、前記産生ガス炭素含有量検出モジュールからの出力の少なくとも一部は、炭素質原料（ＣＦ）送給量および高炭素原料（ＨＣＦ）送給量の制御のための１つ以上の制御パラメータの生成のために協力的に利用される、請求項３３に記載の制御システム。
【請求項４６】
炭素質原料（ＣＦ）：高炭素原料（ＨＣＦ）比率コントローラに動作可能に取り付けられた産生ガス炭素含有量検出モジュールを含む制御システムであって、それぞれが前記制御システムに動作可能に関連付けられ、ガス化装置内へのＣＦ送給量およびＨＣＦ送給量を制御するＣＦ／ＨＣＦスプリッタを協力的に制御するように構成される、請求項３３に記載の制御システム。
【請求項４７】
前記制御システムに動作可能に関連付けられ、産生ガス燃料価を検知するように構成される、産生ガス燃料価検出モジュールを含む制御システムであって、前記産生ガス燃料価検出モジュールからの出力の少なくとも一部は、炭素質原料（ＣＦ）送給量および高炭素原料（ＨＣＦ）送給量の制御のための１つ以上の制御パラメータの生成のために協力的に利用される、請求項３３に記載の制御システム。
【請求項４８】
前記制御システムに動作可能に関連付けられ、産生ガス燃料値を検知するように構成される産生ガス燃料価定量モジュールを含む制御システムであって、前記産生ガス燃料価定量モジュールは、前記ＣＦ／ＨＣＦスプリッタに向かう総炭素質原料（ＣＦ）および高炭素原料（ＨＣＦ）の送給量を制御するように構成される、燃料：空気比率コントローラの１つ以上の制御パラメータを提供するように動作し、前記燃料：空気比率コントローラは、１つ以上の横方向移送ユニットの動きの制御のための、移送ユニットコントローラの１つ以上の制御パラメータを提供するようにさらに構成される、請求項３３に記載の制御システム。
【請求項４９】
前記制御システムに動作可能に関連付けられ、産生ガスＨ2含有量および産生ガスＣＯ含有量を検知するように構成される、産生ガスＨ2定量モジュールおよび産生ガスＣＯ定量モジュールを含む制御システムであって、前記産生ガスＨ2定量モジュールおよび前記産生ガスＣＯ定量モジュールからの出力の少なくとも一部は、炭素質原料（ＣＦ）送給量および高炭素原料（ＨＣＦ）送給量の制御のための１つ以上の制御パラメータの生成のために協力的に利用される、請求項３３に記載の制御システム。
【請求項５０】
前記制御システムに動作可能に関連付けられ、産生ガス流量を検知するように構成される産生ガス流量検出モジュールを含む制御システムであって、前記産生ガス流量検出モジュールは、総炭素質原料（ＣＦ）および高炭素原料（ＨＣＦ）の送給量、１つ以上の横方向移送ユニットの動きおよび総空気流量の制御のための１つ以上の制御パラメータを提供するように動作する、請求項３３に記載の制御システム。
【請求項５１】
前記制御システムに動作可能に関連付けられ、１つ以上のプロセス内の１つ以上の地点における温度を検知するように構成される１つ以上のプロセス温度検出モジュールを含む制御システムであって、前記プロセス温度検出モジュールは、空気流分布およびプラズマ熱の制御のための１つ以上の制御パラメータを提供するように動作する、請求項３３に記載の制御システム。
【請求項５２】
少なくとも部分的にガス化装置内への空気のおよび蒸気の投入を制御するための１つ以上の制御パラメータを生成するように構成される制御システムであって、前記１つ以上の制御パラメータは、少なくとも部分的に、
【数１】
2009536260.tif 000001
による関係を使用して定量され、
ａ、ｂ、ｃおよびｄは、施設設計および前記施設の１つ以上の所望の出力特徴によって異なる実験定数であって、Ｈ2およびＣＯは産生ガス特徴値である、請求項３３に記載の制御システム。
【請求項５３】
【数２】
2009536260.tif 000002
による式を計算することによって目標値を定量するように構成される、制御システムであって、
温度および圧力は一定に保たれ、
［Ｈ2］tvは、前記産生ガスＨ2含有量の目標値を示し、
［ＣＯ］tvは、産生ガスＣＯ含有量の目標値を示し、
［Ａｉｒ］tvは、プロセス添加剤としてガス化装置内に添加される空気量の目標値を示し、
［Ｓｔｅａｍ］tvは、プロセス添加剤として前記ガス化装置内に添加される蒸気の目標値を示し、
［Ｈ2］tv、［ＣＯ］tv、［Ａｉｒ］tvおよび［Ｓｔｅａｍ］tvのうちの２つは、既知の目標値を表し、
前記制御システムは、
【数３】
2009536260.tif 000003
による式を計算することによって特徴値を定量するようにさらに構成され、
温度および圧力は一定に保たれ、
［Ｈ2］cvは、前記産生ガスＨ2含有量の特徴値を示し、
［ＣＯ］cvは、産生ガスＣＯ含有量の特徴値を示し、
［Ａｉｒ］cvは、プロセス添加剤として前記ガス化装置内に添加される空気の特徴値を示し、
［Ｓｔｅａｍ］cvは、プロセス添加剤として前記ガス化装置内に添加される蒸気の特徴値を示し、
［Ｈ2］cv、［ＣＯ］cv、［Ａｉｒ］cvおよび［Ｓｔｅａｍ］cvのうちの２つは、既知の特徴値を表し、
ａ、ｂ、ｃおよびｄは、施設設計および前記施設の１つ以上の所望の出力特徴によって異なる実験定数であって、前記制御システムは、対応する１つ以上の特徴値と１つ以上の目標値との比較に部分的に基づく、１つ以上の制御パラメータを生成するように構成される、請求項３３に記載の制御システム。
【請求項５４】
前記複数の検知要素の１つ以上によって検知される前記１つ以上の特徴に、リアルタイム応答を提供するために、リアルタイムで実現される、請求項３０に記載の制御システム。
【請求項５５】
前記施設の実質的に連続的な制御を提供する、請求項３０に記載の制御システム。
【請求項５６】
前記複数の検知要素の１つ以上によって検知された前記１つ以上の特徴は、前記ガスの流速、前記ガスの圧力、およびガスの組成の１つ以上を含み、前記プロセス制御パラメータは、添加剤入力レート、原料入力レート、空気対燃料投入比率、ＭＳＷ対ＨＣＦ投入比率および蒸気対燃料投入比率の１つ以上を含む、請求項３０に記載の制御システム。
【請求項５７】
極めて変わりやすい炭素含有量の原料を、実質的に一貫した特徴を有するガスへの変換を制御する方法であって、
前記原料をガスに変換する施設であって、１つ以上の原料投入部、１つ以上の添加物投入部、および１つ以上のプラズマ熱源および１つ以上の出力部を含む前記施設を提供するステップと、
複数の動作上の特徴であって、それぞれの操作特徴は、前記施設に関連するプロセス、プロセスデバイス、プロセス入力および／またはプロセス出力を示す、複数の動作上の特徴を検知するステップと、
多重操作特徴を示す情報に基づく１つ以上の制御パラメータを生成するステップであって、前記生成するステップは、前記情報を多重相互制御ループとともに協力的に使用することによって可能となり、前記１つ以上の制御パラメータは、前記変換の１つ以上の目標条件の取得、これに向かう調整、または維持をもたらす、ステップと、
少なくとも部分的に、前記１つ以上の制御パラメータに基づいて、前記施設内の１つ以上のプロセスを制御するステップと、これにより、ガスの１つ以上の特徴の安定性を実質的に維持しながら、前記極めて変わりやすい炭素含有量の原料の、実質的に一貫した特徴を有する前記ガスへの変換を制御する、ステップと、を含む、方法。
【請求項５８】
極めて変わりやすい炭素含有量の原料の、実質的に一貫した特徴を有するガスへの変換を制御するための記述および取扱説明書をそこに記録したコンピュータ可読媒体であって、コンピュータによる実行のための前記記述および取扱説明書は、
前記原料をガスに変換する施設であって、１つ以上の原料投入部、１つ以上の添加物投入部、および１つ以上のプラズマ熱源および１つ以上の出力部を含む前記施設を提供するステップと、
複数の動作上の特徴であって、それぞれの操作特徴は、前記施設に関連するプロセス、プロセスデバイス、プロセス入力および／またはプロセス出力を示す、複数の動作上の特徴を検知するステップと、
多重操作特徴を示す情報に基づく１つ以上の制御パラメータを生成するステップであって、前記生成するステップは、前記情報を多重相互制御ループとともに協力的に使用することによって可能となり、前記１つ以上の制御パラメータは、前記変換の１つ以上の目標条件の取得、これに向かう調整、または維持をもたらす、ステップと、
少なくとも部分的に、前記１つ以上の制御パラメータに基づいて、前記施設内の１つ以上のプロセスを制御し、これにより、ガスの１つ以上の特徴の安定性を実質的に維持しながら、前記極めて変わりやすい炭素含有量の原料の、実質的に一貫した特徴を有する前記ガスへの変換を制御するステップと、を含む方法を行うための、コンピュータ可読媒体。