【誤訳訂正書】
【提出日】平成22年3月11日(2010.3.11)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  被処理物（３３，４３）によってエネルギ源の特定の電磁放射線（３４，４４）を吸収して、エネルギ量を受容し、かつ少なくとも１つの別の被処理物（４３，３３）によって別のエネルギ源の少なくとも１つの別の特定の電磁放射線（４４，３４）を吸収して、少なくとも１つの別のエネルギ量を受容することによって、複数の被処理物（３３，４３）を特定のガス雰囲気（５０）内で熱処理する装置において、
被処理物の少なくとも１つが、エネルギ源の特定の電磁放射線の少なくとも一部を所定に吸収する少なくとも１つの層を備えた多層体であり、
前記装置は、
ガス雰囲気を生ぜしめる少なくとも１つの装置（１１）と、
電磁放射線（３４）を生ぜしめる少なくとも１つのエネルギ源（３２）を備えた熱処理ユニット（３）と、
別の電磁放射線（４４）を生ぜしめる少なくとも１つの別のエネルギ源を備えた少なくとも１つの別の熱処理ユニット（４）とを有し、
熱処理ユニット（３）と別の熱処理ユニット（４）とは次のように互いに積層されて積層熱処理ユニット（２）を形成する、つまり、積層熱処理ユニット（２）の所定の積層方向（２２）において、熱処理ユニット（３）に属するエネルギ源（３２）と別の熱処理ユニット（４）に属する別のエネルギ源（４２）との間に被処理物（３３）が、かつ該被処理物（３３）と別の被処理物（４３）との間に別のエネルギ源（４２）が配置されていて、被処理物（３３）は、エネルギ源（３２）と別のエネルギ源（４２）の電磁放射線（３４，４４）を吸収し得るように、互いに積層されて積層熱処理ユニット（２）を形成しており、
前記各エネルギ源は複数の棒形の加熱手段（６１）から成り、個々の棒形の加熱手段（６１）はそれぞれ包囲体（６０）内に配置されており、この包囲体は前記各エネルギ源の電磁放射線に対して少なくとも部分的に透明であり、前記各エネルギ源（３２，４２）の少なくとも１つが、放射線照射野を備えた特定の電磁放射線（３４，４４）を放出し、少なくとも１つの熱処理ユニット（３）が少なくとも１つの透明体を有しており、この透明体は、電磁放射線（３４，４４）の一部分を吸収しかつ透過させるものであって、熱処理ユニット（３）に隣接する別の熱処理ユニット（４）に属する別のエネルギ源（４２）の電磁放射線の放射線照射野内で当該別のエネルギ源（４２）と熱処理ユニット（３）の被処理物（３３）との間に配置されており、前記透明体（８）は、被処理物（３３）が熱処理時に前記透明体（８）上に接触するように、前記各エネルギ源（３２，４２）に対して間隔を保って配置されている、
ことを特徴とする、複数の被処理物を熱処理する装置。
【請求項２】  熱処理ユニット（３）の少なくとも１つが、付加的なエネルギ量を生ぜしめるため、及び付加的なエネルギ量を熱処理ユニットの被処理物によって受容させるために、少なくとも１つの付加的なエネルギ源（７）を有している、請求項１記載の装置。
【請求項３】  熱処理ユニットの少なくとも１つが、電磁放射線の少なくとも１つの放射線照射野を形成する少なくとも１つの反射体（５）を有しており、該反射体（５）によって、エネルギ源の電磁放射線が被処理物に向けられる、請求項１又は２記載の装置。
【請求項４】  反射体（５）が、電磁放射線の少なくとも１つに対して部分透過性である、請求項３記載の装置。
【請求項５】  熱処理ユニットの少なくとも１つが、被処理物の冷却のための少なくとも１つの手段（６２）を有している、請求項１から４までのいずれか１項記載の装置。
【請求項６】  エネルギ源の包囲体（６０）が冷却のための手段（６２）を有している、請求項１記載の装置。
【請求項７】  エネルギ源の包囲体（６０）が反射体（５２）を有している、請求項１から６までのいずれか１項記載の装置。
【請求項８】  熱処理ユニットの少なくとも１つが、熱処理ユニットの被処理物を保持するために、容器壁を備えた熱処理容器（１０）を有している、請求項１から７までのいずれか１項記載の装置。
【請求項９】  積層熱処理ユニット（２）が、積層体壁（２１）を有している、請求項１から８までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１０】  積層熱処理ユニット（２）が、室壁を備えた熱処理室（３１）内に配置されている、請求項１から９までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１１】  積層体壁及び又は熱処理室が熱処理されるようになっている、請求項９又は１０記載の装置。
【請求項１２】  熱処理室（３１）が気密のドア（３１１）を備えており、このドアにおいて、熱処理室（３１）の内部に積層体壁（２１）のドア（２０１）が配置されており、このドアは熱処理室（３１）のドア（３１１）とは無関係に開閉することができる、請求項１０又は１１記載の装置。
【請求項１３】  請求項８記載の容器壁を備えた熱処理容器（１０）と、請求項９記載の積層体壁（２１）と、請求項１０記載の室壁を備えた熱処理室（３１）とを備えており、容器壁、積層体壁及び室壁が、ガス雰囲気（５０）を生ぜしめる装置（１１）を有している、請求項８から１２までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１４】  装置（１１）が、熱処理容器、積層熱処理ユニット及び又は熱処理室をガスで排気及び又は充てんするための、少なくとも１つのガスのためのガス開口（３５，３６，４５，４６）を含む、請求項１３記載の装置。
【請求項１５】  前記ガス開口によって、被処理物及び別の被処理物の各熱処理容器（１０）を互いに接続させることができる、請求項１４記載の装置。
【請求項１６】  請求項８記載の熱処理容器（１０）と、請求項９記載の積層体壁（２１）と、請求項１０記載の熱処理室（３１）と、請求項３記載の反射体（５）とを有しており、エネルギ源、熱処理容器、積層体壁、熱処理室、透明体及び包囲体の反射体が、ガス（１２）に対して不活性である材料を有している、請求項１から１５までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１７】  被処理物及び別の被処理物を、請求項１から１６までのいずれか１項記載の装置を使用して、熱処理する方法において、太陽電池及び又はソーラモジュールの光電池のカルコパイライト吸収層を製作するために、
次の方法ステップ、すなわち、
ａ）被処理物を備えた熱処理ユニット及び別の被処理物を備えた別の熱処理ユニットを積層に配置し、この場合、被処理物のうちの１つを透明体上に接触させ、
ｂ）被処理物及び別の被処理物を熱処理する、方法ステップで行うことを特徴とする、複数の被処理物を熱処理する方法。
【請求項１８】  被処理物及び又は別の被処理物を少なくとも１つのプロセスガスと接触させる、請求項１７記載の方法。
【請求項１９】  前記方法ステップａ）、ｂ）に加えて、次の方法ステップ、すなわち、
ｃ）積層熱処理ユニットを積層体壁（２１）の内側の中空室（３０１）内に配置し、
ｄ）積層体壁（２１）を熱処理室（３１）内で、熱処理室（３１）に対して間隔（３０３）をおいて配置して、積層体壁と熱処理室との間に中間室（３０２）が生じるようにし、
ｅ）洗浄ガスのガス圧力を中間室内に生ぜしめる、方法ステップを行う、請求項１７又は１８記載の方法。
【請求項２０】  中間室（３０２）内で、熱処理室と積層体壁との間に、洗浄ガスのガス圧力を生ぜしめ、このガス圧力が積層体壁の中空室のガス圧力よりも大きいようにする、請求項１９記載の方法。
【請求項２１】  開口によって、中間室（３０２）と中空室（３０１）との間の接続を生ぜしめて、中空室と中間室との間の圧力勾配を調整できるようにする、請求項２０記載の方法。
【請求項２２】  被処理物及び又は別の被処理物として、１つの層及び少なくとも１つの別の層を備えた多層体を使用する、請求項１７から２１までのいずれか１項記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００７】
この課題を解決するために、特定のガス雰囲気中で複数の被処理物を熱処理する装置が提供されており、この装置は、被処理物によってエネルギ源の特定の電磁放射線を吸収して、エネルギ量を受容し、かつ少なくとも１つの別の被処理物によって別のエネルギ源の少なくとも１つの別の特定の電磁放射線を吸収して、少なくとも１つの別のエネルギ量を受容することによって、複数の被処理物を特定のガス雰囲気内で熱処理する装置において、被処理物の少なくとも１つが、エネルギ源の特定の電磁放射線の少なくとも一部を所定に吸収する少なくとも１つの層を備えた多層体であり、前記装置は、ガス雰囲気を生ぜしめる少なくとも１つの装置と、電磁放射線を生ぜしめる少なくとも１つのエネルギ源を備えた熱処理ユニットと、別の電磁放射線を生ぜしめる少なくとも１つの別のエネルギ源を備えた少なくとも１つの別の熱処理ユニットとを有し、熱処理ユニットと別の熱処理ユニットとは次のように互いに積層されて積層熱処理ユニットを形成する、つまり、積層熱処理ユニットの所定の積層方向において、熱処理ユニットに属するエネルギ源と別の熱処理ユニットに属する別のエネルギ源との間に被処理物が、かつ該被処理物と別の被処理物との間に別のエネルギ源が配置されていて、被処理物は、エネルギ源と別のエネルギ源の電磁放射線を吸収し得るように、互いに積層されて積層熱処理ユニットを形成しており、前記各エネルギ源は複数の棒形の加熱手段から成り、個々の棒形の加熱手段はそれぞれ包囲体内に配置されており、この包囲体は前記各エネルギ源の電磁放射線に対して少なくとも部分的に透明であり、前記各エネルギ源の少なくとも１つが、放射線照射野を備えた特定の電磁放射線を放出し、少なくとも１つの熱処理ユニットが少なくとも１つの透明体を有しており、この透明体は、電磁放射線の一部分を吸収しかつ透過させるものであって、熱処理ユニットに隣接する別の熱処理ユニットに属する別のエネルギ源の電磁放射線の放射線照射野内で当該別のエネルギ源と熱処理ユニットの被処理物との間に配置されており、前記透明体は、被処理物が熱処理時に前記透明体上に接触するように、前記各エネルギ源に対して間隔を保って配置されている。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００９】
特定の構成では、熱処理ユニットの少なくとも１つは、付加的なエネルギ量を受容するため及び付加的なエネルギ量を熱処理ユニットの被処理物によって受容させるための少なくとも１つの付加的なエネルギ源を有している。付加的なエネルギ源により、被処理物の前面及び背面からの種々異なる赤外線吸収を考慮することができ、ひいては熱処理中に被処理物の熱処理均一性を改善することができる。更に、付加的なエネルギ源によって、加熱率を高めることができる。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２３】
別の構成では、積層熱処理ユニットが積層体壁を有している。容器は例えば熱処理ユニットのための保持に、かつ又は熱放射のための反射体として、かつ又は積層熱処理ユニットを包囲する絶縁体として、役立つ。特定の構成では、積層体壁は熱処理可能である。これによって、被処理物の熱処理率は付加的に影響させることができる。積層体壁は例えばその都度１つの熱処理ユニット、１つのエネルギ源、１つの被処理物及び又は１つの被処理物の支持面のための押し込み平面若しくは押し込みレールを備えたフレームである。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２４】
積層体壁は有利には中空室を有しており、この中空室は排気可能で、かつプロセスガスを充填可能である。この中空室内で、熱処理ユニットが積層熱処理ユニットを形成するように配置されている。積層体壁の壁体が熱処理容器の容器壁を有していることも、考えられる。これによって、例えば積層体壁は大体において熱処理容器の容器壁により形成されている。熱処理容器は互いに上下に重ねられて積層体壁を形成する。この場合熱処理容器は、穴及び切り欠きによって、熱処理容器の共通の中空室が存在しているように、形成されていることができる。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２５】
排気可能なかつプロセスガスを充填可能な積層体壁によって、共通なプロセスガス雰囲気を、すべての、熱処理容器内に配置されている被処理物のために作ることができる。この構成は、多量のプロセスガスが可及的にわずかなガス流で必要な場合に、有利である。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２６】
別の構成では、積層熱処理ユニットが、室壁を備えた熱処理室内に配置されている。熱処理室は別の構成では排気可能でかつプロセスガスを充填可能である。例えば熱処理室は閉鎖可能なドアを有しており、このドアによって熱処理室内にある熱処理容器がプロセスガスを充填可能である。ドアによって積層体壁が熱処理室内に挿入可能であることも、考えられる。同様に熱処理ユニットは直接に熱処理室内で適合するレールにおいて押し込むことができる。熱処理室は熱処理ユニットを保持する。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２７】
特に熱処理室は真空密なドアを備えており、このドアにおいて熱処理室の内部内に積層体壁のドアが配置されており、このドアは熱処理室のドアとは無関係に開閉することができる。これによって、積層体壁若しくは熱処理室内のガス雰囲気を簡単に制御することができ、その場合熱処理室を開く必要はない。
【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２８】
特に熱処理室及び又は積層体壁は熱処理可能である。このことは特に、熱処理の際に積層体壁及び又は熱処理室の表面に被処理物の抽出物及び又は生産物が凝縮する場合に、有利である。更に、熱処理室の内部のガス圧力を制御することができる。その都度の電磁放射線の仕事密度を増大させるために、積層体壁及び又は熱処理室は反射体若しくは反射被覆を有していることができる。
【誤訳訂正１０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２９】
本発明の特定の構成では、積層体壁及び室壁が、ガス雰囲気を製作する装置を有している。この装置は特に、熱処理容器、積層体壁及び又は熱処理室を排気及び又はガスで充填するためのガス開口を含む。ガスは特にプロセスガス及び又は洗浄ガスである。プロセスガスとしては、すべての、考えることのできる、腐食性及び非腐食性のガスが使用される。このための例は酸素あるいは分子ハロゲンのような酸化性のガス及び水素、硫化水素、ドーピングガスあるいは類似のもののような還元性のガスである。例えば、熱処理中に第１の熱処理ステップにおいて第１のプロセスガスが必要とされ、これに対し別の熱処理ステップにおいては別のプロセスガスが必要とされることが、考えられる。また、１つの熱処理ステップにおいてプロセスガスを後充填しなければならないことも、考えられる。洗浄ガスとしては、例えば窒素あるいはその他の不活性ガスが使用される。洗浄ガスは熱処理容器、積層体壁及び又は熱処理室の浄化に役立つ。更に、浄化及び又はプロセス化若しくは熱処理のために真空を作用させることができる。
【誤訳訂正１１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３０】
別の構成では、ガス開口によって被処理物及び別の被処理物の各熱処理容器を互いに接続させることができる。例えば熱処理容器のガス出口は別の熱処理容器のガス入口を接続されている。これによって、両方の熱処理容器内には共通のガス雰囲気が生じる。例えば両方の被処理物と同じガス流と接触させることができる。しかしまた、各熱処理容器のために固有のガス入口及びガス出口を準備することも可能である。
【誤訳訂正１２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３１】
熱処理容器、積層体壁及び又は熱処理室を排気及び充填する可能性は、有毒のかつ又は腐食性のプロセスガスを使用する場合に有利である。特に安全性の理由から、このようなガスを使用する場合にその都度のプロセスガス雰囲気のコントロール及び容器の浄化が重要である。
【誤訳訂正１３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３４】
特定の構成では、伝達体及び又は反射体のエネルギ源、熱処理容器、積層体壁、熱処理室はガスに対して不活性の材料を有している。特に材料は、ガラス、石英ガラス、石英体、セラミック、ガラスセラミック及び又は金属の群から選ばれる。これらの材料は多数の被処理物に対して不活性であり、換言すれば反応が緩慢である。さらに石英ガラスあるいはガラスセラミックのような若干の材料は低い温度膨張係数を有している。このことは、種々の材料から構成されている装置の場合に特に重要である。許容し得る公差内で、構造部分の寸法を変化させることができる。このことは、装置が熱処理中に機械的な応力によって破損しないこと、換言すればそのままであることを保証する。更にこれによってガス雰囲気のコントロールが容易に可能である。装置の構成部分あるいは構成部分の間の可能なギャップは、その構成部分の低い熱膨張係数によって熱処理中にほとんど変化しない。付加的な利点は、機械加工可能な材料（例えば機械加工可能なセラミック、ガラスセラミックあるいは機械加工可能な石英体）を使用することによって生ずる。
【誤訳訂正１４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００７１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００７１】
熱処理容器は更に熱処理の際の多層体の搬送手段であることができる。熱処理容器は、熱処理中に例えば、ガラスより成る層（支持層若しくは基板）の損傷が回避できないところ、このような基板の破損の場合に、破損された材料を容易に熱処理ユニット若しくは熱処理装置から取り除くことができるという利点を有している。このことは、熱処理のプロセス安定化に寄与する。
【誤訳訂正１５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００９２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００９２】
特定の構成では、次の方法ステップが設けられている：ｃ）積層熱処理ユニットを積層体壁の中空室内に配置する方法ステップ、ｄ）積層体壁を熱処理室内で、熱処理室に対して間隔をおいて配置して、積層体壁と熱処理室との間に中間室が生じるようにする方法ステップ、及びｅ）洗浄ガスのガス圧力を中間室内に生ぜしめる方法ステップ。これらの方法ステップは熱処理の前に行われる。洗浄ガスを備えた中間室はクッションとして機能し、これにより中空室内にあるプロセスガスは、熱処理室に達しないか、あるいは単に薄められて達する。熱処理室の汚損若しくは腐食は抑制することができる。熱処理室の材料の選択は、ほとんどプロセスガスと無関係である。中間室は一度洗浄ガスで充填しておくことができる。中間室を通して連続的な洗浄ガス流を導き、この洗浄ガス流が場合により積層体壁から出るプロセスガスを中間室から取り除くようにすることも、考えられる。出るプロセスガスを取り除くことは、積層体壁の中空室から中間室に圧力落差を生ぜしめることによっても、行うことができる。
【誤訳訂正１６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００９３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００９３】
特定の構成では、熱処理室と積層体壁との間の中間室内に洗浄ガスのガス圧力を生ぜしめて、これが積層体壁のガス圧力よりも大きいようにする。有利にはこのために、積層体壁内にガス出口開口を取り付け、これが例えば集合管導管を介して中間室及び熱処理室を通って外方に導かれ、そこで例えばガス廃棄ユニット内に導かれるようにする。これにより、積層体壁の中空室内には、ほぼ、ガス廃棄ユニット内に存在している圧力（例えば大気圧）が支配している。この配置の作用はギャップ向流洗浄と呼ぶことができ、これは積層体壁を貫通するギャップ、例えばエネルギ源の包囲体、あるいは積層体壁の構造部分の継ぎ目ギャップにおいて、不活性ガス流を拡散するプロセスガス流に対して向流させ、プロセスガスの熱処理室壁への凝縮あるいは熱処理室壁の腐食を阻止する。熱処理室壁の腐食は、それはそうと、熱処理室壁の適当な被覆によって達成することもできる。
【誤訳訂正１７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００９４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００９４】
ギャップ向流洗浄は次の原理に従って行われる：
積層体壁内に、プロセスガスを充填された熱処理容器が配置されている。プロセスガスが積層体壁の中空室内に達することを防ぐことはできない。小さなギャップ又は開口によって、積層体壁の中空室と、積層体壁と熱処理室との間の中間室とは接続している。ガス圧力を選択することによって、中間室から積層体壁の中空室への圧力勾配が形成される。このことは、例えば中空室の洗浄ガスを救出することによって、及び又は洗浄ガスを中間室内に導入し、これによって中空室の圧力に対して圧力を形成し、この圧力が前述のように熱処理装置の周囲と接触しているようにすることによって、行われる。これによって、中間室から中空室への洗浄ガス流が生じる。プロセスガスは熱処理室の室壁には達しない。熱処理中、この場合特に熱処理室の温度、中空室のガス圧力及び又は中間室のガス圧力が調整される。
【誤訳訂正１８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００９８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００９８】
特定の構成では、銅、インジウム、ガリウム及び又はセレンを有している層を備えた多層体が使用される。特にガラス及び又は金属より成る支持層を備えた多層体が使用される。支持層自体は、被覆（例えばガラス板上の金属層）を有していることができる。プロセスガスとしては、H２S、F２Se、H２、He及びＮ２の群から選ばれたガスが使用される。この方法は、特に太陽電池及び又はソーラモジュールの光電池のカルコパイライト（chalcopyite;黄銅鉱）吸収層の製作に役立つ。ソーラモジュールにおいては、多数の直列に接続された個々の太陽電池が存在している。ガラスは有利にはソーダ石灰ガラスである。相応する層は支持層として機能する。支持層上には、モリブデン層が電極として、かつモリブデン層上には機能層、すなわち銅・インジウム・ガリウム・スルフォ・セレニド（CIHSSe）半導体層が取り付けられる。ガラス体及び半導体層より成る層体の厚さは典型的には２〜４mmであり、モリブデン層が約0.5μｍ及び半導体層が約3μmである。多層体の厚さのこの範囲は専ら使用されるものではない。制限する因子は可及的に平らな、これにより前述の装置若しくは前述の方法で多層体に加工することのできる、大きな基板を製作する能力である。
【誤訳訂正１９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１１６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１１６】
図４は積層熱処理ユニット２を示し、その積層熱処理ユニット壁は部分的に積層体壁２１により形成されている。付加的な壁は反射プレートの形の反射体５によって与えられている。この積層熱処理ユニット２は、別の実施形では、排気可能な熱処理室３１内で、間隔３０３をもって配置されている（図５）。
【誤訳訂正２０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１１７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１１７】
所定の実施形は図８〜１０に示されている。積層熱処理ユニット２の熱処理ユニット３及び４のそれぞれは、図２Ｄに示されているように、構成されており、その際熱処理ユニット３及び４のいずれも付加的なエネルギ源７を有していない。エネルギ源３２及び４２は棒形のハロゲンランプ６１のアレイ６４である。積層熱処理ユニット２の上方及び下方の閉鎖部を、それぞれ１つのプレート形の反射体５が、積層熱処理ユニット２の方向に配置された、エネルギ源としてのハロゲンランプ６１のアレイ６４をもって、形成している。ガラスセラミックプレートの形の透明体８，９は積層体壁２１の溝内に押し込まれている。
【誤訳訂正２１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１１８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１１８】
その都度１つの熱処理容器１０が２つの透明体８及び９及び積層体壁２１から形成されている。熱処理容器１０は開口１１を、熱処理容器３および４内に特定のガス雰囲気を製作するために、有している。
【誤訳訂正２２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１１９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１１９】
図１２は図８の一部を、ギャップ向流洗浄を明らかにするために、示している。矢印によって圧力勾配若しくはそれから生ずるガス流１３が示されている。熱処理中に熱処理容器１０の容器内室１０２内に、特定のガス圧力１０３を備えたプロセスガス１２のガス雰囲気５０が支配している。熱処理容器１０のギャップ１０４を通してプロセスガス１２が積層体壁２１の中空室３０１内に出ることができる。熱処理室３１内の内部の室壁がプロセスガス１２によって汚損されるのを防止するために、中空室３０１が周囲１４と接続されており、この周囲においては、熱処理室３１の容器内室１０２内のガス圧力よりも小さいガス圧力１４１が支配している。同時に、熱処理室３１の室壁と積層体壁２１との間の中間室３０２内にガス圧力３０４が支配し、これが、熱処理容器１０の容器内室１０２に支配しているガス圧力１０３とほぼ相応しているように、される。このガス圧力は幾分か大きく、これによりプロセスガス１２は、積層体壁２１のギャップ２０２を通って、中間室３０２内には達しない。周囲１４内で圧力１０３及び３０４と比較して小さいガス圧力１４１が支配していることによって、場合により積層体壁２１の中空室３０１内に出るプロセスガス１２は、支配している圧力勾配に基づいて、周囲１４の方向に搬送される。有毒のプロセスガスあるいは蒸気の場合には、これらは、湿式洗浄器あるいは冷却トラップのような中間に接続された廃棄ユニットによって、廃棄される。周囲１４内では、この場合、例えば単に心配のない支持体ガスが出されるに過ぎない。積層体壁２１は熱処理室３１内で使用される。積層体壁２１はドア２０１を有しており、これは熱処理室３１のドア３１１と無関係に開くことができる。このドアは同時に熱処理容器の容器を形成する。
【誤訳訂正２３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１２０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１２０】
熱処理の方法の次の経過が例えば示される：
−  積層体壁に被処理物（１１１）が充填される。
【誤訳訂正２４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１２２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１２２】
−  積層体壁を開いて、熱処理容器に不活性ガスを何回も吸出し、かつ充填する。
【誤訳訂正２５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１２３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１２３】
―  積層体壁を閉じ、ひいては熱処理容器を閉鎖する。
【誤訳訂正２６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１３０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１３０】
−  積層体壁の開放及び不活性ガスの何回ものポンプ出し及び充填。
【誤訳訂正２７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１３２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１３２】
１つの実施形では、熱処理の際に、被処理物のアッパヒート及びアンダヒートが別個に制御される。このことはしかし、それらの間に被処理物があるエネルギ源を別個に制御可能である場合にのみ、可能である。次の代替的な解決策が、積層体壁内に被処理物のためのそれぞれ１つのエネルギ源が設けられており、かつ熱処理中にアップヒートとアンダヒートとの不動に調整された比が許容可能である場合に、ある：
−  熱処理容器１０の底及びカバーが種々の赤外線を透過させる材料から成っている。カバーは赤外線を部分吸収するガラスセラミックから成っている。底は黒鉛を有している。別の実施形では、カバーは石英ガラスから、底はセラミックから、成っている。
【誤訳訂正２８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】図面の簡単な説明
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】
少なくとも１つの被処理物を熱処理する装置を側方から見た横断面図を示す。
【図２Ａ】
熱処理ユニットの可能な構成を示す。
【図２Ｂ】
熱処理ユニットの可能な構成を示す。
【図２Ｃ】
熱処理ユニットの可能な構成を示す。
【図２Ｄ】
熱処理ユニットの可能な構成を示す。
【図２Ｅ】
熱処理ユニットの可能な構成を示す。
【図２Ｆ】
熱処理ユニットの可能な構成を示す。
【図３】
２つの熱処理ユニットの被処理物が貫通開口を介して互いに接続されている積層体壁の一部を示す。
【図４】
閉じた、排気可能なかつガスを充てん可能な積層体壁を示す。
【図５】
排気可能な熱処理室内に配置されている積層体壁を示す。
【図６Ａ】
包囲体内に配置されているエネルギ源を示す。
【図６Ｂ】
包囲体内に配置されているエネルギ源を示す。
【図６Ｃ】
包囲体内に配置されているエネルギ源を示す。
【図７Ａ】
反射体の実施形を示す。
【図７Ｂ】
反射体の実施形を示す。
【図７Ｃ】
反射体の実施形を示す。
【図８】
熱処理する特定の装置の横断面図を示す。
【図９】
熱処理する特定の装置の縦断面図を示す。
【図１０】
熱処理する特定の装置の縦断面図の一部を示す。
【図１１】
複数の被処理物を熱処理する方法を示す。
【図１２】
ガス向流洗浄の原理を明らかにした、複数の被処理物をプロセス化する実施形の横断面図を示す。
【符号の説明】
１  熱処理装置、  ２  積層熱処理ユニット、  ３  熱処理ユニット、  ４  熱処理ユニット、  ５  反射体、  ７  付加的なエネルギ源、  ８  透明体、  ９  透明体、  １０  熱処理容器、  １１  閉鎖可能な開口、  １２  プロセスガス、  １３  ガス流、  １４  周囲、  ２１  積層体壁、  ２２  積層方向、  ３１  熱処理室、  ３２  エネルギ源、  ３３  被処理物、  ３４  放射線、  ３５  ガス入口、  ３６  ガス出口、  ４２  エネルギ源、  ４３  被処理物、  ４４  放射線、  ４５  ガス入口、  ４６  ガス出口、  ５０  ガス雰囲気、  ５２  反射体、  ５３  反射体、  ６０  包囲体、  ６１  ハロゲンランプ、  ６２  冷却剤、  ６４  アレイ、  ６５  冷却液体、  ６６  外とう部、  ６７  供給部、排出部、  ７１  付加的な電磁放射線、  ８１  熱導体、  １０１  容器壁、  １０２  容器内室、  １０３  ガス圧力、  １０４  ギャップ、  １１１  被処理物、  １１２  熱処理、  １４１  ガス圧力、  ２０１  ドア、  ２０２  ギャップ、  ３０１  中空室、  ３０２  中間室、  ３０３  間隔、  ３０４  ガス圧力、  ３１１  ドア、  ３４１  放射線、  ３４２  放射線、  ５０１  酸化アルミニウム被覆、  ５０２  支持体