【事件の表示】
　平成１０年特許願第３６０９５４号「チャンバー内のケミカル汚染度モニタ方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１２年　６月３０日出願公開、特開２０００−１８０３３２〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
Ｉ．手続の経緯
　本願は、平成１０年１２月１８日の出願であって、平成１５年４月４日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、同年５月１５日に拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに、同年５月１９日付けで手続補正がなされたものである。
　
II．平成１５年５月１９日付けの手続補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　平成１５年５月１９日付けの手続補正を却下する。
［理由］
１．補正の内容
　本件補正は、補正前の特許請求の範囲（平成１５年１月２４日付けで補正）の請求項１の記載：「水晶振動子に電極を設けて汚染センサを形成し、その汚染センサをクリーンルーム等のチャンバー内に配置し、その汚染センサの電極にケミカル物質を付着させるようになし、その水晶振動子の共振周波数の変化から付着したケミカル物質の重量を求め、電極に付着したケミカル物質の重量の経時変化より、チャンバー内のケミカル汚染度をリアルタイムでモニタすることを特徴とするチャンバー内のケミカル汚染度モニタ方法。」を、「水晶振動子に電極を設けて汚染センサを形成し、その汚染センサをクリーンルーム等のチャンバー内に
多数
と共にケミカル汚染物質の濃度分布を求める
　請求項１における前記補正は、汚染センサのチャンバー内の配置について、「多数配置」と特定し、それによりケミカル物質の濃度分布を求めることも含まれるチャンバー内のケミカル汚染度モニタ方法であることを特定する補正であるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　
２．補正後の本願発明
　本件補正後の特許請求の範囲に記載されている事項により特定される発明は、次のとおりのものである。（以下、補正後の請求項１に係る発明を「本願補正発明」という。）
「【請求項１】　水晶振動子に電極を設けて汚染センサを形成し、その汚染センサをクリーンルーム等のチャンバー内に多数配置し、その汚染センサの電極にケミカル物質を付着させるようになし、その水晶振動子の共振周波数の変化から付着したケミカル物質の重量を求め、電極に付着したケミカル物質の重量の経時変化より、チャンバー内のケミカル汚染度をリアルタイムでモニタすると共にケミカル汚染物質の濃度分布を求めることを特徴とするチャンバー内のケミカル汚染度モニタ方法。」
　
　そこで、本願補正発明が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（平成１５年改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第４項の規定に適合するか）について以下に検討する。
　
３．引用刊行物の記載事項
（１）刊行物１（本田重夫、中島啓之、山口巌、谷嶋幹子、及川宏幸，半導体製造工場におけるクリーンルーム雰囲気の有機ガス分析，第１５回空気清浄とコンタミネーションコントロール研究大会予稿集，社団法人日本空気清浄協会，１９９７年　４月，ｐ．２１−２４）
　原査定の拒絶の理由に引用された刊行物１には、半導体製造工場のクリーンルーム雰囲気における不純物の有機ガス濃度の経時変化を、ガスクロマトグラフ−質量分析計およびTHC計で分析した結果が記載されている。
　
（２）刊行物２（JOURNAL OF ENVIRONMENTAL SCIENCES，１９９３年１１月，Vol．３６、No．６，ｐ．１５−１８）
　原査定の拒絶の理由に引用された刊行物２は、N．Berroらの「加湿プラント添加物に起因する半導体ウエハ上の大気由来汚染」と題する論文であって、次の事項が記載されている。
（２ａ）要約（１５頁左欄２〜２２行）
「クラス１００の半導体製造設備において極寒気候の期間中に製造されたウエハ上に、大気由来の汚染が観察された。汚染は、水およびメタノールに可溶な、１〜２μｍ厚の微小滴として現れた。分析すると、加湿プラントにおける添加剤（モルホリンと亜硫酸ナトリウム）間の反応が、揮発性生成物を形成していたことが示唆された。この化合物の形成および輸送のメカニズムが、提案された。汚染物質が金表面に対して親和性であるため、モニタリングの単純な方法が有用であることが証明された。通常真空堆積中の厚さモニタリング用に使用されている、金−被覆されたAT−カット水晶モニターが、汚染された空気流中に配置され、１０℃に保たれた。共振周波数の変化率が、空気中の汚染物質濃度の客観的な定量測定値を与えた。表面上および水溶液試料中の化合物の存在テストもまた、考案された。暖かく湿った窒素が、そのような試料から選択的に汚染物を、微小滴が存在するかしないかが観察され得る清浄で冷却された金鏡へと、運搬することができる。標準的なクリーンルーム製造工程に起因する、そのような汚染は、製造収率に実質的な効果をもたらし得る。」
（２ｂ）水晶モニター（１６頁右欄下から４行〜１８頁左欄２２行）　
「添加物をプラント流からパージすることは、非常に困難であることが証明された。まず、モルホリンは使用中止されたが、亜硫酸塩と沈殿防止添加剤はある程度ボイラー保護のために供給し続けられた。流体配送システムは、超純水で徹底的に洗浄された。しかしながら、流れが再開されたとき、証明用ウエハ上に汚染は再び現れた。今回は、定量的モニタリングが、水晶モニタを使用して行われた。それらは、薄膜真空堆積システムにおいて使用されている標準的な堆積速度モニタであった。各側が金電極で被覆された、ＡＴ−カット水晶から作られたディスクは、ＲＦ振動信号を与えると、固有振動数、通常５〜６ＭＨｚで共振させることが出来る。そのような水晶が、１０℃で運転されているペルチェ冷却器上に置かれ、２４時間実験室空気流に曝された。これらのモニタが最初にセットアップされたとき、暴露された水晶の共鳴周波数は８Ｈｚ／ｈｒ下方にドリフトした。一方、シールされた収納容器中に保存されている対照水晶は変化しなかった。周波数の低下は、水晶上に堆積された（deposited）物質重量の測定値である。８Ｈｚ／ｈｒという変化率は、１００ｎｇ／ｃｍ２／ｈｒに対応する。これは、モルホリン単独としての値で、約１．５ｇ／ｃｍ３濃度の液体として均一厚の１単分子層／ｈｒと等価である。勿論、この液体は微小滴の形で観察された。この時に撮影された写真と汚染の開始時に撮影された写真を比較すると、初期の変化率は約１桁高い、あるいは約６分で１単分子層であることが示された。」
（２ｃ）結論（１８頁右欄「結論」の項の１行目〜９行目）
「加湿プラントボイラー添加剤が清浄空気へと大気輸送される証拠が得られた。通常非揮発性である添加剤でさえ、他の添加剤との反応で揮発性に変化し得ることがある。約０．１ｐｐｂ未満の大気由来の汚染のモニタ用の定量的水晶マイクロ天秤法が、成功裏に開発された。この方法は、金に対して親和性を有する汚染物質に対して好ましく、水晶上に適当な膜を堆積することによって、他の表面を曝すことが出来た。」
　
４．本願補正発明と刊行物２記載の発明との対比
　刊行物２には、上記記載の如く、水晶振動子（ＡＴ−カット水晶モニター）に金電極を設けて汚染センサを形成し、クリーンルーム内に配置し、該金電極にクリーンルーム内の空気中のケミカル物質を堆積させるようになし、その水晶振動子の共振周波数の変化から堆積したケミカル物質の重量を求め、電極に堆積したケミカル物質の重量の経時変化より、チャンバー内のケミカル汚染度をリアルタイムでモニタすることが記載されている。　
　そこで、本願補正発明と刊行物２記載の発明とを対比すると、両者は、
（一致点）
「水晶振動子に電極を設けて汚染センサを形成し、その汚染センサをクリーンルーム等のチャンバー内に配置し、その汚染センサの電極にケミカル物質を存在させるようになし、その水晶振動子の共振周波数の変化から存在するケミカル物質の重量を求め、電極に存在するケミカル物質の重量の経時変化より、チャンバー内のケミカル汚染度をリアルタイムでモニタするチャンバー内のケミカル汚染度モニタ方法。」
である点で一致するが、次の点で相違する。
（相違点１）
　水晶振動子の電極におけるケミカル物質の存在が、本願補正発明では、汚染センサの電極へのケミカル物質の「付着」によるものであって、汚染センサの水晶振動子の共振周波数の変化から付着したケミカル物質の重量を求め、電極に付着したケミカル物質の重量の経時変化より、チャンバー内のケミカル汚染度をリアルタイムでモニタするのに対し、刊行物２の方法では、汚染センサの電極へのケミカル物質の「堆積」によるものであって、汚染センサの水晶振動子の共振周波数の変化から堆積したケミカル物質の重量を求め、電極に堆積したケミカル物質の重量の経時変化より、チャンバー内のケミカル汚染度をリアルタイムでモニタするものである点。
（相違点２）
　チャンバー内に配置される汚染センサが、本願補正発明では、「多数配置」され、「ケミカル汚染物質の濃度分布を求めること」ができるチャンバー内のケミカル汚染度モニタ方法であるのに対し、刊行物２には、汚染センサを「多数配置」し、「ケミカル汚染物質の濃度分布を求めること」ができるチャンバー内のケミカル汚染度モニタ方法については記載されていない点。
　
５．相違点についての検討
　これらの相違点について検討する。
　相違点１について、
　刊行物２には、汚染物質が金表面に対して親和性であることも記載されている（上記記載（２ａ）参照）。ケミカル物質に対して親和性のある物質からなる部材に、該ケミカル物質が付着することはよく知られている現象にすぎないから、電極材料として「金」が使用されている汚染センサの電極に汚染物質であるケミカル物質を付着させて存在させるようにして、汚染センサの水晶振動子の共振周波数の変化から存在するケミカル物質の重量を求めるようにすることは、当業者が容易になし得る事項にすぎない。
　相違点２について、
　ケミカル物質による汚染を検出することのできる汚染センサを測定区域の様々な箇所に多数配置し、ケミカル汚染物質の濃度分布を求めることは、大気汚染や水質汚染など環境汚染モニタリングにおいて普通に見られるように、汚染度モニタ方法における常套手段にすぎない（水晶振動子マイクロ天秤法を用いたクリーンルーム等のチャンバー内の汚染物質の濃度分布を求めることについても、必要ならば、特開平７−３１１１３４号公報参照）から、刊行物２に記載の汚染センサをチャンバー内に多数配置して、単にチャンバー内のケミカル汚染度をリアルタイムでモニタするだけでなく、チャンバー内の汚染物質の濃度分布を求めるように設計する程度のことは、必要に応じて当業者が適宜なし得る設計変更である。
　そして、本願補正発明の作用効果も、刊行物２に記載された発明に基づいて、当業者が予測できる範囲のものである。
　したがって、本願補正発明は、本願出願前に頒布された上記刊行物２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
６．むすび
　以上のとおり、本件補正は、平成１５年改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第４項の規定に違反するものであり、特許法第１５９条第１項で準用する同法第５３条第１項の規定により、却下すべきものである。
　
III．本願発明について
１．本願発明
　平成１５年５月１９日付けの手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明は、平成１５年１月２４日付けの手続補正書により補正された明細書の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定されるものであるところ、その請求項１は、次のとおりである。（以下、「本願発明」という。）
「【請求項１】　水晶振動子に電極を設けて汚染センサを形成し、その汚染センサをクリーンルーム等のチャンバー内に配置し、その汚染センサの電極にケミカル物質を付着させるようになし、その水晶振動子の共振周波数の変化から付着したケミカル物質の重量を求め、電極に付着したケミカル物質の重量の経時変化より、チャンバー内のケミカル汚染度をリアルタイムでモニタすることを特徴とするチャンバー内のケミカル汚染度モニタ方法。」
　
２．引用刊行物の記載事項
　原査定の拒絶の理由に引用された刊行物１、２に記載された事項は、上記II．３．に記載したとおりである。
　
３．本願発明と刊行物２記載の発明との対比・検討
　本願発明は、上記II．で検討した本願補正発明から、汚染センサのチャンバー内の配置の限定事項である「多数配置」との構成、及び「ケミカル汚染物質の濃度分布を求める」との構成を省いたものである。
　そうすると、本願発明の構成要件を全て含み、さらに他の構成要件を付加したものに相当する本願補正発明が、上記II．５．に記載したとおり、刊行物２に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様の理由により、刊行物２に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
４．むすび
　以上のとおり、本願発明は、本願出願前に頒布された上記刊行物２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。