【手続補正書】
【提出日】平成22年2月15日(2010.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマ処理チャンバであって、
基板を受け取るように構成された基板支持部と、
前記基板支持部上方に位置し、処理ガスを供給するための主処理ガス供給装置と、
前記基板支持部の外縁部に近接して設けられ前記基板支持部に結合された環状リングの内部に備えられ、前記基板の縁部である基板縁部における処理均一性を高めるために前記基板縁部において処理調整ガスを供給する複数の調整ガス注入チャネルと
を備え、
前記複数の調整ガス注入チャネルは、それぞれの垂直軸線から０度ないし６０度の角度で前記基板の中央部の方向に向けられており、
前記調整ガス注入チャネルが接続された、前記基板支持部を取り囲む縁部調整ガスプレナムは、複数の調整ガス供給チャネルを介して中央調整ガスプレナムに接続され、前記中央調整ガスプレナムは、前記基板の下方と前記基板支持部の内部と前記基板支持部の中央部付近とに配置され、前記複数の調整ガス供給チャネルは前記中央調整ガスプレナムの外周に沿って均等に分布するスポーク状に配置された
プラズマ処理チャンバ。
【請求項２】
前記複数の調整ガス注入チャネルは、円筒形であり、当該調整ガス注入チャネルの直径は、０．３ｍｍないし５ｍｍである請求項１記載のプラズマ処理チャンバ。
【請求項３】
前記複数の調整ガス注入チャネルが、前記基板支持部により支持された基板の縁部表面上方の領域へと、運ばれるべき処理調整ガスを方向付けるように構成される請求項１記載のプラズマ処理チャンバ。
【請求項４】
少なくとも１２本の調整ガス供給チャネルが存在する請求項１記載のプラズマ処理チャンバ。
【請求項５】
少なくとも６本の調整ガス供給チャネルが存在する請求項１記載のプラズマ処理チャンバ。
【請求項６】
前記処理調整ガスは、少なくとも一種類の処理ガスを含む請求項１記載のプラズマ処理チャンバ。
【請求項７】
前記複数の調整ガス注入チャネルは、前記基板の縁部下方の露出領域へと、運ばれるべき不活性ガスを方向付ける請求項１記載のプラズマ処理チャンバ。
【請求項８】
プラズマ処理システム用の調整ガス組立体であって、
基板支持部の外縁部に近接して設けられ前記プラズマ処理システム内で基板を支持する基板支持部に結合された環状リングの内部に備えられた複数の調整ガス注入チャネルと、
前記複数の調整ガス注入チャネルが接続された、前記基板支持部を取り囲む縁部調整ガスプレナムと、
前記基板支持部の中央部の内部及び付近、及び前記基板の下方に配置された中央調整ガスプレナムと、
前記中央調整ガスプレナムの外周に沿って均等かつスポーク状に配置された調整ガス供給チャネルと
を備え、
前記縁部調整ガスプレナムは前記複数の調整ガス供給チャネルを介して前記中央調整ガスプレナムに接続され、
前記複数の調整ガス注入チャネルは、主処理ガス供給装置により供給された処理ガスに加えて処理調整ガスを供給し、前記処理調整ガスを、前記基板の縁部における処理均一性を高めるために前記基板支持部の縁部に近接して供給し、前記複数の調整ガス注入チャネルのそれぞれは、前記複数のガス注入チャネルのそれぞれの垂直軸線から略０度ないし略６０度の角度で前記基板の中央部の方向に向けられた
調整ガス組立体。
【請求項９】
前記複数の調整ガス注入チャネルは、円筒形であり、前記複数の調整ガス注入チャネルの直径は、略０．３ｍｍないし略５ｍｍである請求項８記載の調整ガス組立体。
【請求項１０】
少なくとも１２本の調整ガス供給チャネルが存在する請求項８記載の調整ガス組立体。
【請求項１１】
少なくとも６本の調整ガス供給チャネルが存在する請求項８記載の調整ガス組立体。
【請求項１２】
前記複数の調整ガス注入チャネルは、運搬対象の処理調整ガスを、前記基板支持部により支持された基板の縁部表面上方の領域へ方向付けるように構成される請求項８記載の調整ガス組立体。
【請求項１３】
前記複数の調整ガス注入チャネルは、前記基板支持部により支持された基板の縁部下方の露出領域へと、運ばれるべき不活性ガスを方向付けるように構成される請求項８記載の調整ガス組立体。
【請求項１４】
前複数の調整ガス注入穴は、前記基板の前記縁部と前記基板の前記縁部の真下とに位置する露出領域へと、運ばれるべき前記調整ガスを方向付けるように構成される請求項９記載の調整ガス組立体。
【請求項１５】
プラズマ処理チャンバにおいて基板の縁部でのプラズマの均一性を高める方法であって、
基板支持部上方に配置された、処理ガスを供給するための主処理ガス供給装置を含むガス分配板から処理ガスを供給するステップと、
前記処理ガスを供給するのと同時期に、前記プラズマ処理チャンバの底部領域から、前記処理ガスの少なくとも一種類の成分を含有する調整ガスを導入するステップであり、前記調整ガスは前記基板支持部内に配置された中央ガスプレナムにより供給され、前記基板支持部は環状リングの内部に備えられる複数の調整ガス注入チャネルを含み、前記複数の調整ガス注入チャネルは前記基板縁部における処理均一性を高めるために処理調整ガスを前記基板縁部において供給し、前記複数の調整ガス注入チャネルのそれぞれは、前記複数のガス注入チャネルのそれぞれの垂直軸線から０度ないし６０度の角度で前記基板の中央部の方向に向けられており、前記環状リングは前記基板支持部の外縁部に近接すると共に前記基板支持部に結合され、前記複数の調整ガス注入チャネルは前記基板支持部を取り囲む縁部調整ガスプレナムに接続され、前記縁部調整ガスプレナムは複数の調整ガス供給チャネルを介して中央調整ガスプレナムに接続され、前記中央調整ガスプレナムは、前記基板の下方と前記基板支持部の内部と前記基板支持部の中央部付近とに配置され、前記複数の調整ガス供給チャネルは、前記中央調整ガスプレナムの外周に沿って均等に分布するスポーク状に配置され、これらを介して調整ガスを導入するステップと、
前記処理チャンバ内の少なくとも一つの電極に電力を供給することでプラズマを発生させるステップと
を備える方法。
【請求項１６】
前記処理ガスは、前記基板の前記縁部における前記プラズマ濃度を増加させる請求項１５記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
一実施形態では、プラズマ処理チャンバを提供する。プラズマ処理チャンバは、基板を受領するように構成された基板支持部を含む。プラズマ処理チャンバは、更に、内部に複数の調整ガス注入チャネルを備えた環状リングを含む。環状リングは、基板支持部の外縁部に近接すると共に、環状リングは、基板支持部に結合される。複数の調整ガス注入チャネルは、基板支持部を取り囲む縁部ガスプレナムに接続される。縁部ガスプレナムは、複数の調整ガス供給チャネルを介して、基板支持部の中央部の内部及び付近に配置された中央ガスプレナムに接続される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
別の実施形態では、プラズマ処理システム用の調整ガス組立体を提供する。調整ガス組立体は、内部に複数の調整ガス注入チャネルを備えた環状リングを含む。環状リングは、基板支持部の外縁部に近接すると共に、環状リングは、プラズマ処理システム内の基板支持部に結合される。複数の調整ガス注入チャネルは、基板支持部の縁部付近に調整ガスを供給する。調整ガス組立体は、更に、縁部調整ガスプレナムを含み、複数の調整ガス注入チャネルは、基板支持部を取り囲む縁部ガスプレナムに接続される。加えて、調整ガス組立体は、複数の調整ガス供給チャネルを介して、基板支持部の中央部の内部及び付近に配置された中央調整ガスプレナムに接続される。