【事件の表示】
　平成　５年特許願第３００３４２号「荷電粒子ビーム用電磁石装置」拒絶査定不服審判事件〔平成　７年　６月１６日出願公開、特開平　７−１５３４０６〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続きの経緯／本願発明
  本願は、平成５年１１月３０日の出願であって、その請求項１乃至３に係る発明は、平成１３年１１月５日付け及び平成１５年３月１７日付け手続補正書によって補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１乃至３に記載されたとおりのものと認められるところ、請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は次のとおりのものである。
「【請求項１】荷電粒子ビームのビーム通路を真空に保つための真空容器と、
　上記真空容器内のビーム通路を挟んで対向配置された磁極を有し、該ビーム通路に磁場を形成するための電磁石とを備え、
　上記電磁石の磁極が上記真空容器の内部に設けられてなる荷電粒子ビーム用電磁石装置において、
　上記真空容器の内部には、上記電磁石の磁極がビーム通路に露出しないように該磁極を覆い、かつ、上記電磁石の磁極に挟まれるように設けられた、非磁性材料からなるシールド部材を有し、
　該シールド部材の厚さは上記真空容器に比べて薄いことを特徴とする荷電粒子ビーム用電磁石装置。」
　
２．引用刊行物
２−１．刊行物１
　原査定の拒絶の理由に引用された本願出願前に頒布された刊行物である実願昭６１−１５７６３０号（実開昭６３−６１７５３号）のマイクロフィルム（以下、「刊行物１」という。）には、図面とともに、次の事項が記載されている。
１ａ．「イオンビームを通す真空容器と、両端部がこの真空容器の周壁を貫通して両端面が前記真空容器内で相互に対面するヨークと、このヨークに巻装したコイルと、前記真空容器内に設けられて一端面が前記ヨークの両端面にそれぞれ対面するとともに他端面が前記イオンビームの通過経路を挟んで相互対面する一対のボールピースと、前記真空容器の周壁を貫通して設けられ前記一対のボールピースの位置、角度等を変えるボールピース駆動機構とを備えたビーム質量分析器。」（明細書１ページ「実用新案登録請求の範囲」）
１ｂ．「第５図は従来のビーム質量分析器の一例の構成を示している。このビーム質量分析器は、励磁用コイル２１を巻装したＣ形のヨーク２２の一対のボールピース２３、２４間の空間にイオンビームを通す真空容器２５を配置し、真空容器２５内の空間にビーム通過方向と直交する磁場を作り、この磁場によってイオンビームを曲げることによりイオンの質量分析を行っている。・・・この従来のビーム質量分析器を用いて大口径イオンビーム・・・の質量分析を行うには、真空容器２５をビーム口径に合わせて大きくしなければならず、さらに真空容器２５の壁の厚さも大きくしなければならない。このため、ボールピース２３、２４間にかなり大きな空間が必要となり、空間中に配置された真空容器２５内に所望の強さの磁場を作るにはヨーク２２をかなり大きなものにし、かつ電磁石電流をかなり大きく流す必要がある。・・・この考案の目的は小型のヨークでかつ少ない電磁石電流で所望の磁場を真空容器内に作って大口径イオンビームの質量分析を行うことができ、また磁場を調整することができるビーム質量分析器を提供することである。（明細書２ページ４行〜３ページ１６行）
１ｃ．「この考案の構成によれば、ヨークをその両端部が真空容器を貫通した状態に配置し、一対のボールピースを真空容器内においてヨークの両端面に一端面がそれぞれ対向するとともに他端面がイオンビームの通過経路を挟んで相互に対面するように配置したため、真空容器の周壁が磁場外に位置し、真空容器の周壁の厚さ分ボールピースの間隔を狭めることができ、所望の強さの磁場を作るのに、ヨークを小型化できるとともに電磁石電流も少なくできる。」（明細書４ページ１０行〜１９行）
１ｄ．図面の第２図に、真空容器、ヨーク、コイル、ボールピースの位置等の概略が示されている。
　
２−２．刊行物２
　原査定の拒絶の理由に引用された本願出願前に頒布された刊行物である特公昭２６−２６１４号公報（以下、「刊行物２」という。）には、図面とともに、次の事項が記載されている。
２ａ．「磁極片の内面圓筒部は常時電子線の照射に暴露せられるので其の附近の材質に變化を起して不均齊となり、レンズの性能を次第に低下し・・・之を防止することが出來ればレンズの生命を伸長し裨益する所が大である。・・・第１圖に於てＤは非磁性物質・・・一見漏斗状を呈するもので磁極片の中心孔に精密に嵌合し・・・漏斗状の筒體は兩磁極片の内面圓筒壁を完全に蔽ふ許りでなく圖中矢を以て示せる電子線の照射し來る方向に對して圓筒壁・・・をもカバーし其れ等の表面を電子線の照射に對して保護するので磁極片の材質の劣化を著しく防止することが出來る。」（１ページ右欄８行〜２ページ左欄１行）
　
３．対比・判断
　刊行物１には、上記「２−１．」の１ａ．乃至１ｄ．の記載から、以下の発明（以下、「刊行物１記載の発明」という。）が記載されているものと認められる。
「イオンビームを通す真空容器と、両端部がこの真空容器の周壁を貫通して両端面が前記真空容器内で相互に対面するヨークと、このヨークに巻装したコイルと、前記真空容器内に設けられて一端面が前記ヨークの両端面にそれぞれ対面するとともに他端面が前記イオンビームの通過経路を挟んで相互対面する一対のボールピースを備えたビーム質量分析器」
　本願発明（前者）と刊行物１記載の発明（後者）とを対比する。
　後者の「イオンビーム」、「真空容器」は、それぞれ、前者の「荷電粒子ビーム」、「真空容器」に相当する。後者の「ヨーク、ヨークに巻装したコイル及び一対のボールピース」は、所望の磁場を真空容器内に作るための電磁石を構成するものであるから、前者の、ビーム通路に磁場を形成するための「電磁石」に相当し、後者の「一対のボールピース」は、真空容器内でイオンビームの通過経路を挟んで相互対面するように配置されているから、前者の、真空容器内のビーム通路を挟んで対向配置された「磁極」に相当するものである。また、後者の「ビーム質量分析器」は、真空容器、ヨーク、コイル、真空容器内でイオンビームの通過経路を挟んで相互対面するように配置された一対のボールピースを備えており、所望の磁場を真空容器内に作るものであるから、上記相当関係も勘案すれば、前者の、真空容器と電磁石とを備えた「荷電粒子ビーム用電磁石装置」に相当するものである。
　以上より、両者は、「荷電粒子ビームのビーム通路を真空に保つための真空容器と、上記真空容器内のビーム通路を挟んで対向配置された磁極を有し、該ビーム通路に磁場を形成するための電磁石とを備え、上記電磁石の磁極が上記真空容器の内部に設けられてなる荷電粒子ビーム用電磁石装置。」の点の構成で一致し、次の点で相違する。
［相違点］
　前者が、真空容器の内部には、電磁石の磁極がビーム通路に露出しないように該磁極を覆い、かつ、上記電磁石の磁極に挟まれるように設けられた、非磁性材料からなるシールド部材を有し、該シールド部材の厚さは上記真空容器に比べて薄いのに対し、後者にはこのような構成が示されていない点。
　
　そこで、上記相違点について検討する。
　シールド部材を設けた目的等に関して、本願明細書には次のような記載がある。
「【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記真空容器５２は、大気圧と内圧との圧力差に耐え得るだけの強度が要求されるため、それ相当の壁厚を有する。上記従来の構成では、この真空容器５２が磁極５６・５６間（磁路内）に存在するため、磁極５６・５６間のギャップが大きくなり、電磁石５５の大型化を招来するという不都合がある。
【０００６】そこで、磁極間のギャップを縮めてビーム通路に効率良く目的の磁場を形成するために、従来、図４に示すように、鉄心６３の両端部を真空容器６２の壁面を貫通させて容器内に入れ、鉄心６３と真空容器６２との間をＯリング等によって真空シールし、電磁石６５の磁極６６・６６を真空中に設置したものがある。
【０００７】上記の電磁石装置では、磁極６６・６６がビーム通路の一部を形成しているので、磁極６６・６６間のギャップを最小にすることができ、電磁石６５の小型化が可能となる。
【０００８】しかしながら、上記の電磁石装置では、磁極６６・６６が荷電粒子ビーム５１等によるスパッタリングを受けて変形し、長期間の使用に耐えることができないといった問題がある。
・・・
【００１１】上述のように磁極６６・６６がスパッタリングによって変形すると、磁極６６・６６間のギャップが変わるので、それに伴ってビーム通路に形成される磁場も変化し、コイル６４に必要な大きさのコイル電流を流しても、目的の磁場が得られないといった不都合が生じる。この結果、ビーム偏向度、走査速度、収束率、または発散率が変化し、制御性の良いイオン注入や表面改質等の処理を行うことができなくなる。
・・・
【００１３】さらに、磁性材料でできている磁極６６・６６からのスパッタ粒子が、ビーム照射対象物にまで到達し、ビーム照射対象物の表面を汚染することもあり、これは半導体デバイスの重大な欠陥原因となる。
【００１４】本発明は、上記に鑑みなされたものであり、その目的は、磁極間のギャップを極力小さくすることによって電磁石の小型化が図れ、且つ、磁極の変形に起因するビーム偏向度、走査速度、収束率、または発散率等の変化を防止することができ、且つ、ビーム照射対象物の汚染を低減することができる荷電粒子ビーム用電磁石装置を提供することにある。」
　上記記載によれば、シールド部材を設けた意義に関し、（１）スパッタリングによる磁極の変形に起因する性能の劣化の防止、（２）磁極からのスパッタ粒子によるビーム照射対象物の表面汚染の防止、の２点が示されているものと認められる。
　そこで、上記（１）、（２）の意義を含め、本願発明の、電磁石の磁極がビーム通路に露出しないように該磁極を覆い、かつ、磁極に挟まれるように設けられた、非磁性材料からなるシールド部材の設置について検討する。
　上記刊行物２には、電子線の照射に暴露される磁極片の材質変化に起因するレンズの性能の低下を防止するために非磁性物質で磁極片をカバーすることが示されており、スパッタリングによる磁極の変形に起因する性能の劣化を防止するために、非磁性材料からなるシールド部材を磁極をカバーするように設けることが示されているものとみとめらるから、上記（１）の点は、上記刊行物２に示されているものと認められる。上記（２）の点は、上記刊行物２には明示されていないものの、スパッタ粒子によるビーム照射対象物の表面汚染の防止のためにイオン注入装置のイオン径路の金属表面をシリコン膜や炭素板で被覆することは、従来周知（特開平４−２９６０１６号公報、特開平５−２３４５６４号公報等参照。）であるところからみて、磁極にシールド部材を設けることによってスパッタ粒子によるビーム照射対象物の表面汚染の防止し得ることは明らかである。したがって、本願発明のように磁極がビーム通路に露出しないように磁極を覆い、かつ、磁極に挟まれるようにシールド部材を設ける点は、磁極のスパッタリングを防止するために磁極をカバーすることが刊行物２に示され、また、シールドによるスパッタ粒子によるビーム照射対象物の表面汚染の防止も周知の事項であって、本願発明のシールド部材の形状に格別の特徴も特に認められないことも勘案すれば、刊行物２記載の技術事項及び上記周知事項に基づいて当業者が容易に推考し得る程度のことと認められる。
　次に、シールド部材の厚さを真空容器に比べて薄くする点について検討する。上記した本願明細書の段落「０００５」乃至「０００７」の記載からみて、本願発明のように電磁石の磁極を真空容器の内部に設けた点の意義は、真空容器が磁極間（磁路内）に存在すると磁極間のギャップが大きくなり、電磁石５５の大型化を招来するという不都合があるため、それを防止するために、磁極間のギャップを縮めてビーム通路に効率良く目的の磁場を形成するようにさせた点にあるものと認められる。したがって、仮に、磁極間に設けるシールド部材を真空容器に比べ厚くすれば、真空容器を磁極間に存在させた場合よりも磁極間のギャップを大きく取らなければならないことになって、上記本来の目的とは相反することとなり、また、大気圧に耐えるように設計された真空容器に比べてシールド部材の厚みを大きくとることは、当分野の技術常識からみても不自然であるから、シールド部材の厚さを真空容器に比べて薄くする点は、設計上当然の事項を記載したにすぎないものと認められる。
　したがって、刊行物１記載の発明に、上記刊行物２に示される技術事項及び上記周知事項を適用して電磁石の磁極を覆う非磁性材料からなるシールド部材を設け、本願発明のように構成することは、当業者が格別の推考力を要することなくなし得る程度のことと認められる。
　そして、本願発明による効果も、刊行物１及び刊行物２の記載並びに周知事項から当業者が予測し得る範囲のものである。
　以上より、本願発明は、刊行物１及び刊行物２に記載された発明並びに周知事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものと認められ、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
４．むすび
　以上のとおり、請求項１に係る発明（本願発明）は、刊行物１及び刊行物２に記載された発明並びに周知事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものと認められ、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　そして、請求項１に係る発明が特許を受けることができないものであるから、その余の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。