【事件の表示】
　特許第３４４２０８２号「透明導電膜、低反射透明導電膜および表示装置、並びに透明導電膜の製造方法」の請求項１ないし１４に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３４４２０８２号の請求項１に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続きの経緯
　本件特許第３４４２０８２号の手続きの経緯は次のとおりである。
（優先権主張　　　　　　平成　８年　６月１１日、日本国）
（優先権主張　　　　　　平成　９年　３月　６日、日本国）
　国際特許出願　　　　　平成　９年　６月　２日
　設定登録　　　　　　　平成１５年　６月２０日　　
　公報発行　　　　　　　平成１５年　９月　２日
　特許異議申立　　　　　平成１５年１２月２４日
　（異議申立人：触媒化成工業株式会社）
　取消理由通知　　　　　平成１７年　１月３１日付け
　訂正請求　　　　　　　平成１７年　４月１１日
（訂正請求取下　　　　　平成１７年１２月　５日）
　異議意見書　　　　　　平成１７年　４月１１日
　審尋（対異議申立人）　平成１７年　６月　３日付け
　回答書（異議申立人）　平成１７年　８月１２日
　取消理由通知　　　　　平成１７年１１月２９日付け
　訂正請求　　　　　　　平成１７年１２月　５日
　
２．訂正の適否
２−１．訂正の内容
　本件訂正請求の内容は、本件特許明細書を訂正請求書に添付された訂正明細書のとおり、すなわち次の訂正事項ａ，ｂのとおりに訂正するものである。
　
訂正事項ａ：
　本特許の請求の範囲に係る記載、
「１．　銀、金、銅、白金、パラジウム、ルテニウム、ロジウム、イリジウム、オスミウム、レニウムおよびニッケルからなる群から選ばれた少なくとも２種の金属微粒子を合計で１０重量％以上含有し、かつ、これらの金属微粒子の平均粒径は１００ｎｍ以下である透明導電層を有することを特徴とする透明導電膜。
２．　前記の透明導電層中の少なくとも２種の金属微粒子の内の１種が銀であることを特徴とする請求の範囲第１項記載の透明導電膜。
３．　前記の透明導電層中の少なくとも２種の金属微粒子の内の１種がパラジウムであることを特徴とする請求の範囲第１項記載の透明導電膜。
４．　前記の透明導電層がパラジウムと銀とを含み、かつパラジウム：銀の比率が、３０〜９９重量％：７０〜１重量％であることを特徴とする請求の範囲第１項記載の透明導電膜。
５．　前記の透明導電層中の金属の一部が、融合して連続した金属薄膜を形成してなることを特徴とする請求の範囲第１項記載の透明導電膜。
６．　前記の透明導電層中の金属の一部が、合金を形成してなることを特徴とする請求の範囲第１項記載の透明導電膜。
７．　前記の透明導電層が、銀、金、銅、白金、パラジウム、ルテニウム、ロジウム、イリジウム、オスミウム、レニウムおよびニッケルからなる群から選ばれた少なくとも２種の金属微粒子を含有し、かつ、これらの金属微粒子の平均粒径が１００ｎｍ以下である透明導電層用塗料を基材に塗布した後、１５０〜２５０℃の範囲内の温度で焼付けて形成されたものであることを特徴とする請求の範囲第１項記載の透明導電膜。
８．　前記の透明導電層用塗料が、アルコールを４５重量％以上含有するものであることを特徴とする請求の範囲第１項記載の透明導電膜。
９．　請求の範囲第１項〜第８項の何れかに記載の透明導電膜の上層、または下層、または上層および下層に、前記透明導電層の屈折率とは異なる屈折率を有する透明薄膜が少なくとも１層設けられたことを特徴とする低反射透明導電膜。
１０．　前記の透明薄膜が、ＳｉＯ２を含有するものであることを特徴とする請求の範囲第９項記載の低反射透明導電膜。
１１．　前記の低反射透明導電膜の最外層に透明凹凸層が形成されたことを特徴とする請求の範囲第９項記載の低反射透明導電膜。
１２．　前記の低反射透明導電膜を構成する少なくとも何れか１層に着色材が含有されたことを特徴とする請求の範囲第９項記載の低反射透明導電膜。
１３．　請求の範囲第９項〜第１２項の何れかに記載された低反射透明導電膜が表示面に形成されたことを特徴とする表示装置。
１４．　透明導電層を有する透明導電膜の製造方法であって、
　銀、金、銅、白金、パラジウム、ルテニウム、ロジウム、イリジウム、オスミウム、レニウムおよびニッケルからなる群から選ばれた少なくとも２種の金属微粒子を含有し、かつ、これらの金属微粒子の平均粒径が１００ｎｍ以下である透明導電層用塗料を、基材に塗布し、その後、１５０〜２５０℃の範囲内の温度で焼付け、透明導電膜とすることを特徴とする透明導電膜の製造方法。」
を、
「１．　表示装置の表示面に形成され透明導電層と透明薄膜とが順次積層されてなる透明導電膜の製造方法であって、
　パラジウム微粒子が５０〜９０重量％、残部が銀微粒子からなり、かつ、平均粒径が２０μｍ以下である金属微粒子を含有する透明導電層用塗料を前記表示面に塗布し、その後、１５０〜２５０℃の範囲内の温度で焼付け、パラジウム−銀合金が形成された透明導電層とすることを特徴とする透明導電膜の製造方法。」
と訂正する。
　
訂正事項ｂ：
　明細書第１頁第２行の「透明導電膜、低反射透明導電膜および表示装置、並びに透明導電膜の製造方法」とあるのを「透明導電膜の製造方法」に訂正する。
　明細書第１頁第４行の「この本発明は、」とあるのを「本発明は、」に訂正する。
　明細書第１頁第６行〜第８行の「された透明導電膜、〜に関する。」とあるのを「された透明導電膜の製造方法に関する。」に訂正する。
　明細書第３頁第１５行〜第１７行の「透明導電膜、〜ことにある。」とあるのを「透明導電膜の製造方法を提供することにある。」に訂正する。
　明細書第３頁第１９行〜第２０行の「少なくとも〜透明導電層」とあるのを「パラジウム−銀合金が形成された透明導電層」に訂正する。
　明細書第３頁第２４行〜第４頁第２６行の「従って本発明は、〜図面の簡単な説明」とあるのを「従って、本発明は、表示装置の表示面に形成され透明導電層と透明薄膜とが順次積層されてなる透明導電膜の製造方法であって、パラジウム微粒子が５０〜９０重量％、残部が銀微粒子からなり、かつ、平均粒径が２０μｍ以下である金属微粒子を含有する透明導電層用塗料を前記表示面に塗布し、その後、１５０〜２５０℃の範囲内の温度で焼付け、パラジウム−銀合金が形成された透明導電層とすることを特徴とする透明導電膜の製造方法を提供する。
図面の簡単な説明」に訂正する。
　明細書第５頁第７行〜第８行の「Ｐｄ：Ａｇの比率で、〜の範囲内とされる。」とあるのを「パラジウムが５０〜９０重量％、残部が銀とされている。」に訂正する。
　明細書第５頁第１５行〜第１６行の「しかも金属の一部がパラジウムであることから、」とあるのを「しかも金属の５０〜９０重量％がパラジウムであることから、」に訂正する。
　明細書第５頁第１８行の「金属の一部として銀を含んでいるので、」とあるのを「パラジウム以外の金属が銀であるので、」に訂正する。
　明細書第６頁第２８行〜第２９行の「少なくとも〜透明導電層」とあるのを「パラジウム−銀合金が形成された透明導電層」に訂正する。
　明細書第７頁第１行〜第４行の「前記において、〜あるが、」とあるのを「ここで、パラジウムと銀は、」に訂正する。
　明細書第７頁第７行の「られるものを選択することが好ましい。」とあるのを「られるので好ましい。」に訂正する。
　明細書第７頁第８行〜第９行の「少なくとも２種の金属〜この理由は、」とあるのを「銀を用いた理由は、」に訂正する。
　明細書第７頁第１２行〜第１３行の「銀と組み合わせる金属〜この理由は、」とあるのを「銀と組み合わせる金属としてパラジウムを用いた理由は、」に訂正する。
　明細書第７頁第２１行〜第２２行の「パラジウムと銀とを併用する場合、〜ことが好ましい。」とあるのを「パラジウムと銀との配合比率は、パラジウムを５０〜９０重量％、残部を銀とする。」に訂正する。
　明細書第７頁第２４行〜第２８行の「透明導電層の金属〜補正される。」を削除する。
　明細書第８頁第３行〜第７行の「透明導電層中の金属〜あってもよい。」とあるのを「透明導電層中のパラジウムと銀は、少なくとも一部が融合することによって合金化している。」に訂正する。
　明細書第８頁第８行〜第１０行の「前記の透明導電層〜で焼付ける」とあるのを「前記の透明導電層は、パラジウム微粒子が５０〜９０重量％、残部が銀微粒子からなり、かつ、平均粒径が２０μｍ以下である金属微粒子を含有する透明導電層用塗料を表示装置の表示面に塗布し、その後、１５０〜２５０℃の範囲内の温度で焼付ける」に訂正する。
　明細書第８頁第１３行の「特に金属微粒子」とあるのを「金属微粒子」に訂正する。
　明細書第８頁第１８行の「少なくとも２種の金属微粒子を含有する」とあるのを「パラジウム微粒子が５０〜９０重量％、残部が銀微粒子からなり、かつ、平均粒径が２０μｍ以下である金属微粒子を含有する」に訂正する。
　明細書第９頁第１行の「少なくとも２種の金属微粒子」とあるのを「パラジウム微粒子と銀微粒子」に訂正する。
　明細書第１０頁第８行〜第９行の「少なくとも２種の金属微粒子」とあるのを「パラジウム微粒子と銀微粒子」に訂正する。
　明細書第１０頁第１２行〜第１４行の「平均粒径が〜、例えば」とあるのを「平均粒径が２０ｎｍ以下であるパラジウム微粒子及び銀微粒子をそれぞれ単独で含む」に訂正する。
　明細書第１０頁第１６行の「少なくとも２種の金属微粒子」とあるのを「パラジウム微粒子と銀微粒子」に訂正する。
　明細書第１０頁第１７行の「例えば表示面などの基材上に、」とあるのを「表示面に、」に訂正する。
　明細書第１０頁第２０行〜第２１行の「例えばそれぞれ〜単独で含み、」とあるのを「平均粒径が２０ｎｍ以下であるパラジウム微粒子及び銀微粒子をそれぞれ単独で含み、」に訂正する。
　明細書第１０頁第２２行〜第２３行の「などを含む〜例えば銀ゾル」とあるのを「などを含む銀ゾル」に訂正する。
　明細書第１０頁第２４行の「基材上」とあるのを「表示面」に訂正する。
　明細書第１０頁第２７行の「表示面などの基材」とあるのを「表示面」に訂正する。
　明細書第１０頁第２８行の「本発明の透明導電膜」とあるのを「透明導電膜」に訂正する。
　明細書第１１頁第５行〜第６行の「基材の表面」とあるのを「表示面」に訂正する。
　明細書第１１頁第１９行の「少なくとも２種の金属微粒子」とあるのを「パラジウム微粒子と銀微粒子」に訂正する。
　明細書第１１頁第２０行の「合金」とあるのを「パラジウム−銀合金」に、「これは例えば」とあるのを「これは、」に、それぞれ訂正する。
　明細書第１１頁第２４行の「本発明の透明導電膜」とあるのを「透明導電膜」に訂正する。
　明細書第１２頁第２５行の「本発明の透明導電膜」とあるのを「この透明導電膜」に訂正する。
　明細書第１２頁第２８行の「本発明の低反射透明導電膜」とあるのを「低反射透明導電膜」に訂正する。
　明細書第１３頁第７行の「本発明の低反射透明導電膜」とあるのを「この低反射透明導電膜」に訂正する。
　明細書第１４頁第１０行の「本発明の低反射透明導電膜」とあるのを「この低反射透明導電膜」に訂正する。
　明細書第１５頁第１４行の「本発明の低反射透明導電膜」とあるのを「この低反射透明導電膜」に訂正する。
　明細書第１５頁第１８行の「例えば金属の１種として銀を用いた場合、銀は」とあるのを「銀は」に訂正する。
　明細書第１５頁第２３行の「本発明の低反射透明導電膜」とあるのを「この低反射透明導電膜」に訂正する。
　明細書第１６頁第７行の「しかし本発明の低反射透明導電膜」とあるのを「この低反射透明導電膜」に訂正する。
　明細書第１６頁第１９行の「本発明の低反射透明導電膜」とあるのを「この低反射透明導電膜」に訂正する。
　明細書第１６頁第２２行の「本発明の表示装置」とあるのを「上記の表示装置」に訂正する。
　明細書第１６頁第２９行の「本発明の表示装置」とあるのを「表示装置」に訂正する。
　明細書第１７頁第９行の「実施例および比較例」とあるのを「実施例、参考例および比較例」に訂正する。
　明細書第１８頁第１行の「（実施例１）」とあるのを「（参考例１）」に訂正する。
　明細書第１８頁第８行の「実施例１」とあるのを「参考例１」に訂正する。
　明細書第１８頁第１４行の「実施例１」とあるのを「参考例１」に訂正する。
　明細書第１８頁第１６行の「（実施例２）」とあるのを「（実施例１）」に訂正する。
　明細書第１８頁第２２行の「実施例１」とあるのを「参考例１」に、「実施例２」とあるのを「実施例１」に、それぞれ訂正する。
　明細書第１８頁第２５行の「実施例１」とあるのを「参考例１」に訂正する。
　明細書第１８頁第２６行の「実施例２」とあるのを「実施例１」に訂正する。
　明細書第１８頁第２７行の「（実施例３）」とあるのを「（実施例２）」に訂正する。
　明細書第１９頁第５行の「実施例１」とあるのを「参考例１」に、「実施例３」とあるのを「実施例２」に、それぞれ訂正する。
　明細書第１９頁第８行の「実施例１」とあるのを「参考例１」に訂正する。
　明細書第１９頁第９行の「実施例３」とあるのを「実施例２」に訂正する。
　明細書第１９頁第１０行の「（実施例４）」とあるのを「（実施例３）」に訂正する。
　明細書第１９頁第１６行の「実施例１」とあるのを「参考例１」に、「実施例４」とあるのを「実施例３」に、それぞれ訂正する。
　明細書第１９頁第１９行の「実施例１」とあるのを「参考例１」に訂正する。
　明細書第１９頁第２０行の「実施例４」とあるのを「実施例３」に訂正する。
　明細書第１９頁第２１行の「（実施例５）」とあるのを「（参考例２）」に訂正する。
　明細書第１９頁第２８行の「実施例１」とあるのを「参考例１」に、「実施例５」とあるのを「参考例２」にそれぞれ訂正する。
　明細書第２０頁第２行の「実施例１」とあるのを「参考例１」に訂正する。
　明細書第２０頁第３行の「実施例５」とあるのを「参考例２」に訂正する。
　明細書第２０頁第９行の「実施例１」とあるのを「参考例１」に訂正する。
　明細書第２０頁第１２行の「実施例１」とあるのを「参考例１」に訂正する。
　明細書第２０頁第２８行の「上記実施例１〜実施例５、」とあるのを「上記実施例１〜実施例３、参考例１、参考例２、」に訂正する。
　明細書第２１頁の表１の「実施例１」とあるのを「参考例１」に、「実施例２」とあるのを「実施例１」に、「実施例３」とあるのを「実施例２」に、「実施例４」とあるのを「実施例３」に、「実施例５」とあるのを「参考例２」に、それぞれ訂正する。
　明細書第２２頁第３行の「実施例１〜実施例５」とあるのを「実施例１〜実施例３、参考例１、参考例２」に訂正する。
　明細書第２３頁の表２の「実施例１」とあるのを「参考例１」に、「実施例２」とあるのを「実施例１」に、「実施例３」とあるのを「実施例２」に、「実施例４」とあるのを「実施例３」に、「実施例５」とあるのを「参考例２」に、それぞれ訂正する。
　明細書第２３頁の表３の「実施例１」とあるのを「参考例１」に、「実施例２」とあるのを「実施例１」に、「実施例３」とあるのを「実施例２」に、「実施例４」とあるのを「実施例３」に、「実施例５」とあるのを「参考例２」に、それぞれ訂正する。
　明細書第２４頁第１行の「少なくとも２種の金属」とあるのを「パラジウムと銀」に訂正する。
　明細書第２４頁第２行〜第３行の「実施例１〜実施例５」とあるのを「実施例１〜実施例３」に訂正する。
　明細書第２４頁第８行の「実施例１〜美施例５」とあるのを「実施例１〜実施例３」に訂正する。
　明細書第２４頁第９行〜第１１行の「かつそれぞれＰｄ〜からなる合金」とあるのを「かつそれそれＰｄ：Ａｇ＝７：３、Ｐｄ：Ａｇ＝９：１、およびＰｄ：Ａｇ＝５：５の比率からなる合金」に訂正する。
　明細書第２４頁第１２行の「これらの２種または３種の金属」とあるのを「パラジウム及び銀」に訂正する。
　明細書第２４頁第２３行〜第２４行の「以上説明したように〜ものであるので、」とあるのを「以上説明したように本発明の透明導電膜の製造方法は、パラジウム微粒子が５０〜９０重量％、残部が銀微粒子からなり、かつ、平均粒径が２０μｍ以下である金属微粒子を含有する透明導電層用塗料を前記表示面に塗布し、その後、１５０〜２５０℃の範囲内の温度で焼付け、パラジウム−銀合金が形成された透明導電層とするので、」に訂正する。
　明細書第２４頁第２８行の「本発明の低反射透明導電膜」とあるのを「特に、低反射透明導電膜」に訂正する。
　明細書第２５頁第６行の「本発明の表示装置」とあるのを「また、表示装置」に訂正する。
　明細書第２５頁第１２行の「従って本発明の透明導電膜および低反射透明導電膜」とあるのを「従って、上記の透明導電膜および低反射透明導電膜」に訂正する。
　明細書第２５頁第１８行の「また本発明の表示装置」とあるのを「また、上記の表示装置」に訂正する。
　
２−２．訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　
（ア）上記訂正事項ａは、訂正前の請求項１４を新請求項１とし、本件特許明細書第３頁６欄第４４〜４９行の「本発明を実施するための最良の形態の一例を添付の図１によって説明する。図１において、この低反射透明導電膜１０は、表示装置の表示面３の前面に形成されていて、表示面３の側から順次、透明導電層１と、この透明導電層１の屈折率とは異なる屈折率を有する透明薄膜２とが積層されてなっている。」という記載及び図１に基づき、「透明導電層を有する透明導電膜」を「表示装置の表示面に形成され透明導電層と透明薄膜とが順次積層されてなる透明導電膜」と限定し、本件特許明細書の訂正前の実施例２〜４の記載（パラジウムが５０〜９０重量％、残部が銀からなる水性ゾルが用いられている。）及び特許明細書第４頁第７欄第２１〜２５行の「この透明導電層１は、平均粒径が何れも好ましくは２０ｎｍ以下のパラジウム微粒子と銀微粒子とを含有し、・・・１５０〜２５０℃の温度で焼付けることにより形成される。」という記載に基づき、「銀、金、銅、白金、パラジウム、ルテニウム、ロジウム、イリジウム、オスミウム、レニウムおよびニッケルからなる群から選ばれた少なくとも２種の金属微粒子を含有し、かつ、これらの金属微粒子の平均粒径が１００μｍ以下である透明導電層用塗料」を「パラジウム微粒子が５０〜９０重量％、残部が銀微粒子からなり、かつ、平均粒径が２０μｍ以下である金属微粒子を含有する透明導電層用塗料」と限定し、「基材」を「前記表示面」と限定し、「透明導電層とする」を「パラジウム−銀合金が形成された透明導電層とする」と限定するものである。
　したがって、上記訂正は、特許法第１２０条の４第２項のただし書き第１号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
　また、上記訂正は、願書に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内の訂正であり、特許請求の範囲を実質的に拡張し、又は変更するものではないから、特許法第１２０条の４第３項で準用する第１２６条第２項及び第３項の規定に適合するものである。
　
（イ）上記訂正事項ｂは、請求の範囲の記載と明細書の記載との整合性を取るためのものであり、特許法第１２０条の４第２項ただし書き第３号に規定する「明りょうでない記載の釈明」に該当するものである。
　また、上記訂正は、願書に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内の訂正であり、特許請求の範囲を実質的に拡張し、又は変更するものではないから、特許法第１２０条の４第３項で準用する第１２６条第２項及び第３項の規定に適合するものである。
　　
２−３．まとめ
　したがって、上記訂正事項ａ及びｂは、特許法第１２０条の４第２項及び同条第３項において準用する特許法第１２６条第２項及び第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
３．本件訂正発明について
　上記２．のとおり訂正を認容することができるから、訂正後の本件請求項１に係る発明（以下、「本件訂正発明」という。）は、訂正明細書の請求項１に記載された事項により特定される次のとおりのものである。
「１．　表示装置の表示面に形成され透明導電層と透明薄膜とが順次積層されてなる透明導電膜の製造方法であって、
　パラジウム微粒子が５０〜９０重量％、残部が銀微粒子からなり、かつ、平均粒径が２０μｍ以下である金属微粒子を含有する透明導電層用塗料を前記表示面に塗布し、その後、１５０〜２５０℃の範囲内の温度で焼付け、パラジウム−銀合金が形成された透明導電層とすることを特徴とする透明導電膜の製造方法。」
　
４．特許異議申立てについて
４−１．特許異議申立ての理由及び取消理由の概要
　特許異議申立人は、証拠方法として、甲第１号証〜甲第１０号証を提出して、訂正前の本件請求項１〜１４に係る発明に対し、次のとおり主張している。
　
（Ａ）訂正前の本件請求項１〜１４に係る発明は、甲第１号証〜甲第６号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、訂正前の本件請求項１〜１４に係る発明についての特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反して特許されたものであり、取り消されるべきである。
（Ｂ）訂正前の本件請求項１〜１４に係る発明は、甲第７〜１０号証（先願明細書）に記載された発明と同一であるから、訂正前の本件請求項１〜１４に係る発明についての特許は、特許法第２９条の２の規定に違反してなされたものであり、取り消されるべきである。
（Ｃ）訂正前の本件請求項１及び５に係る発明についての特許は、明細書及び図面の記載が特許法第３６条第４条及び第６項第２号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものであり、取り消されるべきである。
　
　当審が平成１７年１月３１日付けで通知した取消理由は、特許異議申立ての理由と同趣旨である。
　
４−２．証拠とその主な記載内容
　特許異議申立人が提出した上記甲第１号証〜甲第１０号証には、それぞれ次の事項が記載されている。
　
（１）甲第１号証：特開平８−７７８３２号公報　
（１ａ）「【請求項１】平均粒径２〜２００ｎｍの金属微粒子からなる透明導電性微粒子層が基材上に形成され、前記微粒子層上に該微粒子層よりも屈折率の低い透明被膜が形成されていることを特徴とする透明導電性被膜付基材。」（【特許請求の範囲】）
（１ｂ）「【発明の技術分野】本発明は、透明導電性被膜付基材および該基材を前面板として備えた表示装置に関し、さらに詳しくは反射防止性能に優れ、しかも電磁遮蔽効果に優れた透明導電性被膜付基材、その製造方法およびこのような透明導電性被膜付基材で構成された前面板を備えた表示装置に関する。」（段落【０００１】）
（１ｃ）「【発明の目的】本発明は、・・・反射防止性能に優れ、しかも１０２〜１０４　Ω／□の表面抵抗を有し、電磁遮蔽効果に優れる透明導電性被膜付基材、その製造方法、およびこのような透明導電性被膜付基材で構成された前面板を備えた表示装置を提供することを目的としている。」（段落【００１２】）
（１ｄ）「本発明に係る透明導電性被膜付基材では、平均粒径２〜２００ｎｍ、好ましくは５〜１００ｎｍの金属微粒子からなる透明導電性微粒子層が、ガラス、プラスチック、金属、セラミックなどからなる平板、立体物、フィルムなどの基材上に形成されている。
　本発明で用いられる金属微粒子としては、平均粒径が上記範囲内にあれば特に制限はなく、例えば・・・Ａｇ、・・・Ｐｄ・・・などの金属微粒子が挙げられる。」（段落【００１７】、【００１８】）
（１ｅ）「・・・本発明に係る透明導電性被膜付基材は、上記のような透明導電性微粒子層と透明被膜とを備え、基材上に透明導電性微粒子層が形成され、この透明導電性微粒子層上に透明被膜が形成されており、電磁遮蔽をする上で必要な１０２〜１０４Ω／□の表面抵抗を有し、かつ可視光領域および近赤外領域で充分な反射防止性能を有するように調整することが可能である。」（段落【００３１】）
　
（２）甲第２号証：米国特許第４８７７６４７号明細書　
（下記摘示（２ａ）〜（２ｅ）の日本語訳については、甲第２号証に係る米国出願の対応日本出願；「特開昭６２−２５５１３４号公報」を参照）
（２ａ）「発明の分野
　本発明は金ゾル類のようなコロイド状金属分散体から形成した皮膜に関し、更に詳細には連続導電性層である沈着させた金属皮膜に関する。」（第２頁第２欄第１７〜２２行）
（２ｂ）「本発明に使用する安定なコロイド状金属分散体は遷移金属類、重金属類及び貴金属類を含む大多数の金属から調製することができる。・・・（中略）・・・好適な金属は貴金属すなわち銀、金及び白金を包含する。本発明の目的に特に有用であると思料される他の金属は・・・パラジウム・・・である。２種または３種以上の金属を同時に使用することができる。」（第３頁第３欄第３３〜５６行）
（２ｃ）「通常、コロイド状粒子の寸法は１〜３０ｎｍの範囲内である。観察される代表的な寸法は３〜１０ｎｍの範囲内にあり、時として２０ｎｍまでである。」（第４頁第６欄第１５〜１８行）
（２ｄ）「本発明のコロイド状分散体からこの方法で形成された金属フィルムの一般的な特性はフィルムが導電性であることにある。導電性は２００〜３００ｎｎ程度の薄いフィルムでも観察することができる。得られたフィルムは反射する金属質の外観をもつ。」（第４頁第６欄第４０〜４５行）
（２ｅ）「溶媒を除去するための室温での揮発は上述の特徴をもつ金属フィルムを中間形成することになる。しかし、若干の残存する溶媒は金属皮膜と結合して残存しているであろう。これは溶媒和部位よりなるものと思料される。この残存する溶媒は皮膜を例えば１００℃またはそれ以上、５００℃までの温度に加熱することにより除去することができる。揮発可能な溶媒の除去が完了すると、金属皮膜の連続性及び導電性は通常かなり改善できる。」（第４頁第６欄第４６〜５６行）
　
（３）甲第３号証：ＮａｎｏＳｔｒｕｃｔｕｒｅｄ　Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｖｏｌ．７，Ｎｏ．６，ｐｐ．６１１−６１８，１９９６　
（３ａ）ナノスケールのＡｇ−Ｐｄ合金粉末粒子の合成において、Ａｇ−
Ｐｄ重量比（Ａｇ／Ｐｄ）が７０／３０であることが開示されている。
　
（４）甲第４号証：粉体および粉末冶金，第３９巻第３号，１９９２年３月，２３１〜２３４頁
（４ａ）「粒子は、初期からｎｅｃｋ成長を起こしており、１５０−２１０℃で粒径の小さい程低温で融合して大きな球状となる。」（第２３３頁左欄下から５行〜３行）
（４ｂ）「同様に、Ａｇ（３０ｎｍ）およびＰｄ（２０ｎｍ）の単結晶超微粒子を用いてＡｇ−Ｐｄ厚膜の焼成実験を実施した。その結果、Ａｇ厚膜の場合と同様に超微粒子を用いることにより、良好な導電性膜（３０ｍｌ／□：ｔ１０μｍ）を形成することができた。」（第２３４頁左欄第１〜５行）
　
（５）甲第５号証：粉体粉末冶金協会講演概要集，平成元年度秋季大会，平成元年１１月７日，８４〜８５頁　
（５ａ）「球形Ａｇ／Ｐｄ合金微粒子による導電膜の製造とその性質」（タイトル）
（５ｂ）「本研究の目的は、・・・球形のＡｇ／Ｐｄ合金微粒子の導電ペースト材料としての特性を調べることである。」（第８４頁）
（５ｃ）「Ａｇ／Ｐｄ合金膜を・・・（合金粒子系）および・・・（混合粒子系）から作製し、合金粒子系と混合粒子系との比較を行った。
・・・（中略）・・・合金粒子系では粒子間の焼結が均一に進行しているのに対して、混合粒子系では４００−５００℃で粒子の成長が非常に不均一に起こっている。」（第８４頁）
　
（６）甲第６号証：特開平６−２４３８０３号公報（同）　
（６ａ）「【請求項１】フェース・プレートの外表面に形成された高屈折率導電層と、この高屈折率導電層の外表面に形成された平滑な低屈折率透明層と、さらにこの平滑な低屈折率透明層の外表面に形成された凹凸のある低屈折率透明層とよりなる３層コート層を備えた陰極線管。」（【特許請求の範囲】）
（６ｂ）「【作用】本発明の陰極線管およびその製造方法では、フェース・プレートの外表面に高屈折率導電層、平滑な低屈折率透明層および凹凸のある低屈折透明層で形成されている３層コート層を設けたので、反射像の輪郭をはっきりとさせることなく、外光反射を低減することができる。」（段落【００２６】）
　
（７）甲第７号証：特願平８−１４７５１４号の願書に最初に添付した明細書又は図面（特開平１０−１７７７号）
（７ａ）「【請求項１】Ａｇ、Ｒｕ、Ｒｅ、Ｉｒ、Ｏｓ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｓｎ、Ｃｒ、ＡｕおよびＩｎからなる群から選ばれる１種以上の金属微粒子が分散したゾルを含み、かつ導電膜形成成分の１０重量部以上が該金属微粒子となるように調製された導電膜形成用塗布液。
【請求項２】金属微粒子が、平均粒径１００ｎｍ以下である請求項１の導電膜形成用塗布液。」（【特許請求の範囲】）
（７ｂ）「【発明の属する技術分野】本発明はブラウン管パネルなどのガラス基体表面に導電膜を形成するための導電膜形成用塗布液、該塗布液からなる導電膜および低反射導電膜を有する物品に関する。」（段落【０００１】）
　
（８）甲第８号証：特願平７−２９５９８１号の願書に最初に添付した明細書又は図面（特開平９−１１５４３８号）
（８ａ）「【請求項１】Ａｇ、Ｒｕ、Ｒｅ、Ｉｒ、Ｏｓ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｓｎ、Ｃｒ、ＡｕおよびＩｎからなる群から選ばれる少なくとも１種の金属微粒子のゾルを含む塗布液を基体上に塗布して加熱することを特徴とする導電膜の形成方法。
【請求項２】金属微粒子の平均粒径が、１０００Å以下である請求項１記載の導電膜の形成方法。」（【特許請求の範囲】）
（８ｂ）「【発明の属する技術分野】本発明は、ブラウン管パネルなどの基体表面に導電膜または低反射性導電膜を形成する方法、および該方法により形成された導電膜または低反射性導電膜に関する。」（段落【０００１】）
　
（９）甲第９号証：特願平８−１０００８０号の願書に最初に添付した明細書又は図面（特開平９−２８６９３６号）
（９ａ）「【請求項１】　導電性微粒子として金属微粒子を極性溶媒に分散させた透明導電膜形成用塗布液であって、該金属微粒子が、銀（Ａｇ）を含み、更にパラジウム（Ｐｄ）、銅（Ｃｕ）、及び、金（Ａｕ）からなる群から選択された１種もしくは２種以上を含み、かつ、粒径が５０ｎｍ以下であることを特徴とする上記透明導電膜形成用塗布液。」（【特許請求の範囲】）
（９ｂ）「【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、ＣＲＴ画面の表面反射を抑制する機能をもち、可視光を散乱せずに透過率を低減する機能をもち、かつ、従来よりも優れた導電性を有することにより人体に影響を及ぼす可能性のある低周波電界の遮蔽に適切な膜を、塗布法を用いて簡便かつ低コストに作製するための透明導電膜形成用塗布液、これを用いた透明導電膜及びその形成方法を提供することにある。」（段落【００１１】）
（９ｃ）「【発明の実施の形態】本発明に用いる導電性微粒子は、銀（Ａｇ）を主成分とし、パラジウム（Ｐｄ）、銅（Ｃｕ）、及び、金（Ａｕ）からなる群から選択された１種もしくは２種以上を含むものである。この導電性微粒子は、銀微粒子の表面にその他の金属が膜状に被覆していてもよく、またその他の金属が微粒子の状態で銀微粒子を覆っていてもよく、さらに、銀に他の金属が添加された銀系合金微粒子であってもよく、また、上記いずれかの混合でもよい。」（段落【００１９】）
（９ｄ）「（実施例１）平均粒径４５ｎｍの住友金属鉱山（株）製Ａｇ−Ｐｄ超微粉（７重量％Ｐｄ含有：化学分析値（以下同じ））１５部、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）２０部、および分散剤としてシラン系カップリング剤（東芝シリコーン（株）製ＴＳＬ８８０２）５部の割合で混合・撹拌し、直径５ｍｍのジルコニアボールを用いたボールミルを１００時間かけた後、エタノールを加えて再度強力に撹拌混合し、Ａｇ−Ｐｄ微粒子が２重量％含有された分散塗布液を作製した。
　この塗布液を１５０ｒｐｍで回転する２００×２００×３ｍｍのソーダライム板ガラス上にビーカーから滴下し、その後大気中において焼成温度１８０℃で３０分焼成してＡｇ−Ｐｄの分散した単層膜を作製した。このようにして形成された膜の特性として、表面抵抗値４．４×１０３Ω／□、ヘイズ２．３％、透過率６５％が得られた。」（段落【００４０】、【００４１】）
　
（１０）甲第１０号証：特願平９−１５１０６３号の願書に最初に添付した明細書又は図面（特開平１０−１８８６８１号）
　甲第１０号証の特許出願は、特願平８−２５５０４４号及び特願平８−２８２６７１号を基礎として優先権を主張するものであり、特願平８−２５５０４４号（以下、「優先権基礎出願」という）の明細書には、以下の事項が記載され、その後、特開平１０−１８８６８１号公報にて公開されている。
（１０ａ）「【請求項５】平均粒径が２〜２００ｎｍである合金微粒子を水および／または有機溶媒中に分散してなる透明導電性微粒子層形成用塗布液を、基材上に塗布・乾燥して透明導電性微粒子層を形成し、次いで前記微粒子層上に該微粒子層よりも屈折率の低い透明被膜を形成することを特徴とする透明導電性被膜付基材の製造方法。」（優先権基礎出願の明細書【特許請求の範囲】）
（１０ｂ）「【発明の目的】
　本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、反射防止性能に優れ、しかも１０２〜１０４ Ω／□の表面抵抗を有し、電磁遮蔽効果に優れる透明導電性被膜付基材、その製造方法、およびこのような透明導電性被膜付基材で構成された前面板を備えた表示装置を提供することを目的としている。」（優先権基礎出願の明細書段落【００１２】）
（１０ｃ）優先権基礎出願の明細書の表１には、分散液Ｐ−２は、微粒子の種類がＡｇ−Ｐｄであってその重量比が７０：３０であり、それぞれ平均粒径が５（ｎｍ）であることが示されている。
　
４−３．当審の判断
　
＜本件訂正発明の特許要件の判断基準時について＞
　本件訂正発明は、特願平８−１４９５０５号及び特願平９−５２０５３号を基礎出願とした優先権の主張を伴うものであるが、その発明特定事項である「パラジウム微粒子が５０〜９０重量％、残部が銀微粒子からなり、かつ、平均粒径が２０μｍ以下である金属微粒子を含有する透明導電層用塗料を前記表示面に塗布し、その後、１５０〜２５０℃の範囲内の温度で焼付け、パラジウム−銀合金が形成された透明導電層とすること」は、いずれの基礎出願の出願当初の明細書又は図面に記載されていないから、本件訂正発明の特許要件の判断基準時は、本件特許の出願日である平成９年６月２日とする。　
　
（１）上記（Ａ）の申立理由（特許法第２９条２項違反）について
　本件訂正発明は、透明導電膜の製造方法に関し、「透明性、調色性、導電性が高く、帯電防止効果・電磁波遮蔽効果に優れ、耐塩水性、耐酸性、耐酸化性、耐紫外線性などの耐久性も改善する」という課題を解決するために、「パラジウム微粒子が５０〜９０重量％、残部が銀微粒子からなり、かつ、平均粒径が２０μｍ以下である金属微粒子を含有する透明導電層用塗料」を用いることによって、透過率差が小さくなり透過画像の色調が調整され（訂正後の実施例１〜３及び参考例１，比較例１）、「焼付け温度が１５０〜２５０℃と低くても、粒子が互いに融合して少なくとも部分的に合金薄膜が形成され」（訂正明細書第４頁第２６〜２８行）、「一部が融合して連続した合金薄膜を形成しているので導電性が高く、従って帯電防止効果・電磁波遮蔽効果が優れている」（訂正明細書第４頁第１５〜１７行）という点に技術的な意味があると認められるところ、甲第１号証〜甲第６号証には、帯電防止効果・電磁波遮蔽効果を有しつつ、透過率差を小さくして透過画像の色調を調整する課題やその解決手段である「透明導電層塗料の金属微粒子の材料・混合割合の特定等」について示唆する記載はない。
　すなわち、甲第１号証には、透明導電性被膜付基板の製造方法において、金属微粒子としてＡｇ，Ｐｄ等が選択できることが記載されているが、本件訂正発明のようにＡｇ微粒子とＰｄ微粒子を特定の割合に混合するものでもないし、また、透明導電率差を小さくするという課題やその解決手段を何ら示唆するものでもない。甲第２号証には、コロイド状金属分散体から形成した皮膜に関し、金属微粒子としてＰｄ，Ａｇ等から選択した２種以上の金属を同時に使用することできる旨の記載があるが、得られたフィルムは反射する金属質の外観をもつ（２ｄ）ものであるから、この証拠も、上記課題や解決手段を何ら示唆するものではない。甲第３号証は、ナノスケールのＡｇ−Ｐｄ合金粉末粒子の合成において、Ａｇ−Ｐｄ重量比（Ａｇ／Ｐｄ）が７０／３０であることが開示されているだけの証拠であり、甲第４号証は、Ａｇ及びＰｄの超微粒子を用いてＡｇ−Ｐｄ厚膜を焼成し、良好な導電性膜を形成することについて言及しているだけの証拠であり、甲第５号証は、球形のＡｇ／Ｐｄ合金微粒子の導電ペースト材料としての特性を調べることについて言及しているだけの証拠であり、また甲第６号証は、フェース・プレートの外表面に高屈折率導電層、平滑な低屈折率透明層および凹凸のある低屈折透明層の３層コート層を設け、外光反射を低減することについて言及しているだけの証拠であるから、甲第３号証〜甲第６号証には、本件訂正発明の上記課題や解決手段、すなわち帯電防止効果・電磁波遮蔽効果を有しつつ、透過率差を小さくして透過画像の色調を調整することについて示唆されているとはいえない。また、甲第８号証は、本件訂正発明の特許出願日より前に公開されているが、可視光を散乱せずに透過率を低減する機能をもち、かつ、導電性を有することにより低周波電界の遮蔽に適切な透明導電膜を形成する方法について、Ａｇ，Ｐｄ等から選択される、平均粒径が１０００Å以下の金属微粒子のゾルを用いることを言及しているだけのものであり、この証拠も、上記課題や解決手段を何ら示唆するものではない。そして、本件訂正発明の特定事項である「パラジウム微粒子が５０〜９０重量％、残部が銀微粒子からなり、かつ、平均粒径が２０μｍ以下である金属微粒子を含有する透明導電層用塗料」を用いることが周知事項であるとする証拠も見当たらない。
　してみると、本件訂正発明は、甲第１号証〜甲第６号証及び甲第８号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたとはいえない。
　
（２）上記（Ｂ）の申立理由（特許法第２９条の２違反）について
　甲第７号証は、甲第８号証と同様に、可視光を散乱せずに透過率を低減する機能をもち、かつ、導電性を有することにより低周波電界の遮蔽に適切な透明導電膜を形成する方法について、Ａｇ，Ｐｄ等から選択される、平均粒径が１０００Å以下の金属微粒子のゾルを用いることを言及しているだけの証拠であり、本件訂正発明のように、帯電防止効果・電磁波遮蔽効果を有しつつ、透過率差を小さくして透過画像の色調を調整する課題やその解決手段である「透明導電層塗料の金属微粒子の材料・混合割合の特定等」についての記載はない。
　甲第９号証も、可視光を散乱せずに透過率を低減する機能をもち、かつ、導電性を有することにより低周波電界の遮蔽に適切な透明導電膜を形成する方法について、平均粒径４５ｎｍのＡｇ−Ｐｄ超微粉（７重量％Ｐｄ含有）分散塗布液を作製し、塗布、焼付を行うことについて言及しているだけの証拠であり、本件訂正発明の上記課題や解決手段を何ら記載したものではない。
　甲第１０号証は、反射防止性能に優れ、しかも１０２〜１０４ Ω／□の表面抵抗を有し、電磁遮蔽効果に優れる透明導電性被膜付基材の製造方法に関し、透明導電性微粒子層形成用塗布液は、平均粒径が５（ｎｍ）であるＡｇ−Ｐｄ合金微粒子を含むことが偶々記載されているが、この場合のＡｇ−Ｐｄ微粒子は合金微粒子であって重量比は７０：３０であるから、本件訂正発明の透明導電層用塗料の構成要件を満足するものはない。
　したがって、本件訂正発明は、甲第７号証、甲第９号証、甲第１０号証にそれぞれ記載された発明と同一であるとはいえない。
　　
（３）上記（Ｃ）の申立理由（特許法第３６条第４項及び第３６条第６号第２号違反）について
　上記（Ｃ）の申立理由は、請求項１と５に関するものであるが、これら請求項は、上記訂正により削除されたから、上記（Ｃ）の申立理由は、上記訂正によって解消されたといえる。
　したがって、特許異議申立人の上記（Ｃ）の主張も、採用することができない。
　
５．むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立ての理由及び証拠方法によっては訂正後の請求項１に係る特許を取り消すことはできない。
　また、他に訂正後の請求項１に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１８年１月５日（２００６．１．５）
【訂正の要旨】
審決（決定）の【理由】欄参照。
（５４）【発明の名称】
透明導電膜の製造方法
【発明の詳細な説明】
技術分野
　
本発明は、
された透明導電膜の製造方法に関する。
背景技術
　一般にガラスやプラスチックなど誘電率の高い透明材料は、静電気を帯び易く、また電磁波を透過し易い。特にＴＶブラウン管やコンピュータのディスプレイなどとして多用されている陰極線管やプラズマディスプレイなどは、表示面に発生する静電気により埃が付着して視認性が低下する他、電磁波を幅射して周囲に影響を及ぼす可能性がある。このため、従来からＴＶブラウン管やコンピュータディスプレイなどに用いられる陰極線管やプラズマディスプレイなどの表示面には、帯電防止および／または電磁波遮蔽のために、透明導電膜が貼着されている。
　従来の透明導電膜は、酸化インジウムなどの透明な導電性酸化物をスパッタ法や蒸着法などにより表示面上に形成し、これを表示装置の表示面に貼着するか、または、アンチモンドープ酸化錫とシリカゾル系バインダーとの分散液を表示面の前面に塗布するなどの方法によって形成されている。また、前記の透明導電層の上層および／または下層に、この透明導電層とは屈折率が異なる透明性反射防止層を少なくとも１層積層し、複数の薄膜面で反射することによって生じる干渉効果を利用して反射を防止する機能を付加した透明導電膜も用いられている。
　表示装置の表示面に、帯電を防止するばかりでなく電磁波を遮蔽するような高い導電性を有する透明導電膜を形成する従来の方法としては、表示面を蒸着釜に入れ、酸化インジウム化合物や酸化錫化合物をこれに蒸着して形成する方法（ＰＶＤ法）や、インジウムや錫の有機化合物または塩溶液などを熱分解して表示面上に透明導電膜を形成する方法（ＣＶＤ法）などが知られている。
　上記の各種方法で形成した透明導電膜は、帯電防止膜としてのみ用いる場合には膜厚が薄くてもよいので十分に透明であるが、電磁波の遮蔽層や電極膜などとして用いる場合には高い導電性が要求されるので膜厚をある程度厚くせざるを得ず、このため透明性が低下して画面が暗くなるとともに、特定の光波長に吸収を生じて導電膜が着色し、透過画像の色相が不自然に変化するという問題があった。また、前記のＰＶＤ法やＣＶＤ法を用いる場合は、膜を形成するのに真空や高温を必要とするため、大面積の基板に透明導電膜を形成する際には設備投資が高額となり、効率も悪く、製造費が嵩むという問題があった。
　設備投資を抑制し、効率よく大型の基板に透明導電膜を形成するために、塗布による方法が提案された。例えば有機インジウム化合物を含む塗料が特開昭５２−１４９７号公報に、インジウム塩や錫塩を水または有機溶剤に溶解した塗料が特開昭６３−６４０１２号公報、特開昭５５−５１７３７号公報、特開昭５８−８２４０７号公報、特開昭５７−３６７１４号公報、および特開昭６０−２２０５０７号公報に記載されている。しかし、これらの塗料を用いて透明導電膜を形成するには、基板に塗布した後３５０℃以上の高温での熱処理が必要となるので、使用できる基板の材質に制限があり、また製造工程上にも制約が多い。
　酸化錫または酸化インジウムなど、透明導電性酸化物の微粒子やコロイドをポリマー溶液やバインダー樹脂に分散させた塗料も、特公昭３５−６６１６号公報、特開昭５７−８５８６６号公報、特開昭５８−９１７７７号公報、および特開昭６２−２７８７０５号公報に記載されている。この塗料を用いれば、比較的低温度で透明導電膜を形成することができるとされる。
　しかし、前記のいずれの透明導電膜も、実用的な透明度を得ようとすれば塗膜の膜厚を薄くする必要があり、薄くすれば導電性が低下するので、帯電防止のみを目的とした用途には使用できても、電磁波遮蔽の目的には不十分となり、膜厚を厚くすると透明性が低下して画面が暗くなるので、用途が限られることになる。
　電磁波遮蔽効果と反射防止効果に優れた透明導電膜として、平均粒径２〜２００ｎｍの金属微粒子からなる透明導電層と、これより屈折率が低い透明被膜とからなるものが特開平８−７７８３２号公報に記載されている。この透明導電膜は、電磁波遮蔽効果は期待できるものの、金属の光透過スペクトルに依存して透過光の特定波長に吸収を生じ、導電膜が着色し、透過画像の色相が不自然に変化するという問題が解決できず、また反射防止効果も期待できなかった。
　前記の他に、単に導電膜を形成する目的であれば、感光性樹脂中に還元金属コロイド粒子を分散させた塗料を塗布する方法が特開平４−２３４８４号公報に、また導電性ペーストを用いて誘電体グリーンシート上にスクリーン印刷法により印刷する方法が特開平４−１９６００９号公報に記載されているが、これらはいずれも不透明であって、透明導電膜を得ることはできない。
　本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、従ってその目的は、安価に製造できて透明性、調色性、導電性が高く、帯電防止効果・電磁波遮蔽効果に優れ、透過画像の色調が調整され、更に耐塩水性、耐酸性、耐酸化性、耐紫外線性などの耐久性にも優れた
透明導電膜の製造方法を提供することにある。
発明の開示
　本発明者らは、前記の課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、
パラジウム−銀合金が形成された透明導電層
　
従って、本発明は、表示装置の表示面に形成され透明導電層と透明薄膜とが順次積層されてなる透明導電膜の製造方法であって、パラジウム微粒子が５０〜９０重量％、残部が銀微粒子からなり、かつ、平均粒径が２０μｍ以下である金属微粒子を含有する透明導電層用塗料を前記表示面に塗布し、その後、１５０〜２５０℃の範囲内の温度で焼付け、パラジウム−銀合金が形成された透明導電層とすることを特徴とする透明導電膜の製造方法を提供する。
図面の簡単な説明
　図１は、本発明にかかわる好ましい低反射透明導電膜および表示装置を示す断面図であり、図２は、本発明の好ましい実施例におけるＸ線回折図である。
発明を実施するための最良の形態
　本発明を実施するための最良の形態の一例を添付の図１によって説明する。図１において、この低反射透明導電膜１０は、表示装置の表示面３の前面に形成されていて、表示面３の側から順次、透明導電層１と、この透明導電層１の屈折率とは異なる屈折率を有する透明薄膜２とが積層されてなっている。
　この透明導電層１は、パラジウムと銀とを合計で１０重量％以上含有してなっている。このパラジウムと銀との混合割合は、
パラジウムが５０〜９０重量％、残部が銀とされている。
　この透明導電層１は、パラジウムと銀とが微粒子として存在している場合には各微粒子が互いに接触し、または少なくともこれらの一部が融合して連続した合金薄膜を形成しているので導電性が高く、従って帯電防止効果・電磁波遮蔽効果が優れているばかりでなく、透明性が高く、
しかも金属の５０〜９０重量％がパラジウムであることから、
パラジウム以外の金属が銀であるので、
　この透明導電層１は、平均粒径が何れも好ましくは２０ｎｍ以下のパラジウム微粒子と銀微粒子とを含有し、かつ好ましくはアルコールを４５重量％以上含有する塗料を表示面３の上にスピンコーターを用いて塗布し、好ましくは１５０〜２５０℃の温度で焼付けることにより形成される。この塗料は、含有される金属微粒子の平均粒径が何れも２０ｎｍ以下とされているので、焼付け温度が１５０〜２５０℃と低くても、粒子が互いに融合して少なくとも部分的に合金薄膜が形成されることが本発明者らによって見いだされた。またこの塗料中のアルコールは、金属微粒子を含む塗料の粘度と界面張力を低下して均一な厚みの塗膜を形成すると共に、金属微粒子の二次粒子化を防止する上で特に有効であることがわかった。
　図１に示した本発明の好ましい低反射透明導電膜１０は、前記の透明導電層１の上層に、この透明導電層１の屈折率とは異なる屈折率を有する透明薄膜２が１層設けられている。この透明薄膜２は、例えば屈折率が比較的低いＳｉＯ２などから形成されたものであって、透明導電層１の上層にこの透明薄膜２が設けられたことによって、低反射透明導電膜１０は外光の反射が有効に防止され、前記の透明性、帯電防止性、電磁波遮蔽性、耐久性に加えて、反射防止性も付与されることになる。
　本発明の更に好ましい低反射透明導電膜においては、その最外層に透明凹凸層が形成されている。この透明凹凸層は、好ましくは低屈折率透明膜からなり、表面に凹凸のプロファイルが形成されたものであって、低反射透明導電膜の表面反射光を散乱させ、表示面に防眩性を与える効果がある。
　本発明の更に好ましい低反射透明導電膜においては、透明導電層１または透明薄膜２の少なくとも何れか１層に着色材が含有されていてもよい。この着色材は、透明導電層に含有されている金属の種類に由来して可視光の波長帯域である４００ｎｍ〜８００ｎｍの範囲内の特定波長帯域に吸収があり、透過画像が不自然な色に見える場合にこの色相を調整する目的、および／または透過画像のコントラストを改善する目的で添加されるものであり、これによって視認性がいっそう改善された低反射透明導電膜を得ることができる。
　本発明の好ましい表示装置は、図１に示すように、表示面３の前面に前記の低反射透明導電膜１０が形成されてなるものであり、これによって本発明の表示装置は、帯電が防止されて埃などの付着が防止され、電磁波が効果的に遮蔽されて各種の電磁波障害が防止され、しかも画面の透明性が高いので透過画像が明るく、外光反射が効果的に防止されて視認性が高く透過画像が鮮明であり、色相が調整されて透過画像が自然な色に見える。しかも、過酷な環境条件下に長期間にわたって特性の劣化が防止される。
　次に、本発明の各構成要素について詳しく説明する。
　本発明の透明導電膜は、基本的に、
パラジウム−銀合金が形成された透明導電層
　
ここで、パラジウムと銀は、
られるので好ましい。
　前記の透明導電層において、
銀を用いた理由は、
　
銀と組み合わせる金属としてパラジウムを用いた理由は、
　銀は耐塩水性、耐酸性などの点で耐久性が比較的低い金属であるが、これをパラジウムと組み合わせて用いると、透明導電層の成膜時の１５０℃〜２５０℃の比較的低い焼付け温度においてもパラジウムと銀とが融合してＰｄ−Ａｇ合金を形成するために耐塩水性、耐酸性などの耐久性に優れた透明導電膜が得られる。
　
パラジウムと銀との配合比率は、パラジウムを５０〜９０重量％、残部を銀とする。
　透明導電層中の金属の含有量を１０重量％以上とする理由は、含有量が１０重量％未満では導電性が低下し、実質的な電磁波遮蔽効果を得ることが困難になるからである。
　
透明導電層中のパラジウムと銀は、少なくとも一部が融合することによって合金化している。
　
前記の透明導電層は、パラジウム微粒子が５０〜９０重量％、残部が銀微粒子からなり、かつ、平均粒径が２０μｍ以下である金属微粒子を含有する透明導電層用塗料を表示装置の表示面に塗布し、その後、１５０〜２５０℃の範囲内の温度で焼付ける
金属微粒子
　一方、透明導電層用塗料中の金属微粒子の平均粒径が１００ｎｍを越えると、塗膜の光吸収が大となり、実用的な透明度を有する透明導電膜を得ることが困難になる。
　前記の透明導電層用塗料は、
パラジウム微粒子が５０〜９０重量％、残部が銀微粒子からなり、かつ、平均粒径が２０μｍ以下である金属微粒子を含有する
　前記の透明導電層用塗料に用いることができるアルコールの種類は特に限定されるものではないが、低級アルコール、高級アルコール、グリコール類などが使用できる。特に塗料の粘度と界面張力を低下させる観点から炭素数１〜４の低級アルコール、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール、またはこれらの２種以上の混合物を用いることが好ましい。
　前記の透明導電層用塗料は、
パラジウム微粒子及び銀微粒子
　前記の透明導電層用塗料はまた、透明導電膜の膜強度を向上させるためにバインダー成分を含んでいてもよい。用いることができるバインダー成分の例としては、例えばポリエステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、ブチラール樹脂、紫外線硬化樹脂などの有機系合成樹脂、ケイ素、チタン、ジルコニウムなどの金属アルコキシドの加水分解物、またはシリコーンモノマー、シリコーンオリゴマーなどの有機・無機系バインダー成分を挙げることができる。
　特に式、
　　Ｍ（ＯＲ）ｍＲｎ
（式中、ＭはＳｉ、ＴｉまたはＺｒであり、ＲはＣ１〜Ｃ４のアルキル基であり、ｍは１〜４の整数であり、ｎは０〜３の整数であり、かつｍ＋ｎは４である）で表される化合物、またはその部分加水分解物の１種またはそれ以上の混合物をバインダーとして用いることが好ましい。
　バインダー成分は、過剰に配合すると透明導電膜の導電性が低下するので、通常は１０重量％以下の範囲内で配合することが好ましい。
　前記バインダー成分と金属微粒子との親和性を高めるために、金属微粒子の表面は、シリコーンカップリング剤、チタネートカップリング剤などのカップリング剤や、カルボン酸塩、ポリカルボン酸塩、リン酸エステル塩、スルホン酸塩、ポリスルホン酸塩などの親油化表面処理剤で処理されていてもよい。
　更に前記の透明導電層用塗料は、必要なら金属微粒子の塗料中での分散安定性を保つために各種界面活性剤が添加され、および／またはｐＨが調整されていてもよい。この目的に使用できる界面活性剤の例としては、例えばポリカルボン酸塩系、スルホン塩系、リン酸エステル系などのアニオン界面活性剤、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリエチレングリコール、セルローズなどの高分子系界面活性剤、またはアミン塩系などのカチオン界面活性剤を挙げることができる。またｐＨの調整は無機酸、無機アルカリ、有機アルカリなどを添加して行うことができる。更に、前記の分散安定剤の他にガラスやプラスチックなどの表示面基材に対する濡れ性や密着性を調整するためにシリコーン系界面活性剤やフッ素系界面活性剤を添加することもできる。
　透明導電層用塗料の製造方法は特に限定されるものではない。例えば
パラジウム微粒子と銀微粒子
　透明導電層は、例えば次の方法により形成することができる。その一つは、
平均粒径が２０ｎｍ以下であるパラジウム微粒子及び銀微粒子をそれぞれ単独で含む
パラジウム微粒子と銀微粒子
表示面に、
　透明導電層を形成する他の一つの方法は、
平均粒径が２０ｎｍ以下であるパラジウム微粒子及び銀微粒子をそれぞれ単独で含み、
などを含む銀ゾル
表示面
　前記の透明導電層用塗料を
表示面に
透明導電膜
　塗布後に塗膜を乾燥し、１５０℃〜２５０℃で焼付けることによって
表示面
　透明導電層用塗料は前記のようにきわめて微細な粒径の金属微粒子を含んでいるので、塗膜を形成したとき、驚くべきことに通常の粗粒子では融合し得ない１５０℃〜２５０℃の低い焼成温度においても少なくとも一部が融合して連続した金属薄膜が形成されることがわかった。このことは顕微鏡による観察で明らかになる。また、例えば、２０ｎｍ以下の平均粒径を有するパラジウム微粒子および銀微粒子を含む塗膜を１７５℃の焼付け温度で焼成したとき、薄膜の表面電気抵抗が１００〜１０００Ω／□という低い値となり、粒界抵抗の減少を示していることからも知ることができる。この現象は特に比較的融点が低い銀粒子が存在する場合に顕著であるので、銀粒子の添加量が数重量％程度であっても、例えばパラジウム微粒子を単独で用いた場合に比較して薄膜の表面電気抵抗が大きく改善されることがわかった。
　また、
パラジウム微粒子と銀微粒子
パラジウム−銀合金
これは、
透明導電膜
　透明導電層の膜厚は５ｎｍ〜２００ｎｍの範囲内とすることが好ましい。特に、膜厚を５ｎｍ〜５０ｎｍの範囲内とすることで、必要かつ十分な帯電防止性能および電磁波遮蔽性能を確保しながら良好な透明性が得られるようになる。膜厚が５ｎｍ未満では十分な電磁波遮蔽性能が得難くなるばかりでなく、均一な膜形成が困難となり、一方、膜厚が２００ｎｍを越えると、導電性は問題ないが透明性が低下し、透過画像の視認性が低下することになる。
　透明導電膜における少なくとも２種の金属の合計の含有量に関しては、前記の膜厚を考慮して、求める電磁波遮蔽効果を満足するように設計される。
　一般に、電磁波遮蔽効果は、下記の式１によって表される。
　　式１：Ｓ（ｄＢ）＝５０＋１０ｌｏｇ（１／ρｆ）＋１．７ｔ√（ｆ／ρ）
（式中、Ｓ（ｄＢ）は電磁波遮蔽効果、ρ（Ω・ｃｍ）は導電膜の体積固有抵抗、ｆ（ＭＨｚ）は電磁波周波数、ｔ（ｃｍ）は導電膜の膜厚を表す。）
　ここで膜厚ｔは、前記のようにきわめて薄くされるので、式１において膜厚ｔの項を無視すれば電磁波遮蔽効果Ｓは近似的に下記の式２で表すことができる。
　　式２：Ｓ（ｄＢ）＝５０＋１０ｌｏｇ（１／ρｆ）
　すなわち、透明導電膜の体積固有抵抗値（ρ）は、可能な限り小さくするほうが広範な周波数の電磁波に対してより大きい遮蔽効果を現す。一般に、電磁波遮蔽効果は、Ｓ＞３０ｄＢであれば有効、Ｓ＞６０ｄＢであれば優良とみなされる。規制対象となる電磁波の周波数は一般に１０ｋＨｚ〜１０００ＭＨｚの範囲とされるので、２００ｎｍ以下の膜厚で良好な電磁波遮蔽効果を得るには、透明導電層の体積固有抵抗値（ρ）を１０３Ω・ｃｍ以下とすることが望ましい。
　この条件を充たすためには、透明導電層が金属を合計で１０重量％以上含有することが好ましい。金属含有量が１０重量％未満では導電性が低下し、実質的な電磁波遮蔽効果を得ることが困難になるからである。
　前記の透明導電層は、含有されているパラジウム以外の金属に由来して着色している場合、紫外線照射、赤外線照射、マイクロウエーブ照射、エックス線照射、ガンマ線照射などのエネルギー照射により、透明導電膜中の金属に特有の光吸収を抑制し、色相を調整することもできる。
　
この透明導電膜
　次に、
低反射透明導電膜
　この低反射透明導電膜は、前記の透明導電膜の上層および／または下層に、前記透明導電層の屈折率とは異なる屈折率を有する透明薄膜が１層以上形成されている。この透明薄膜は、膜の界面における外光反射を干渉効果によって除去または軽減し、透明導電膜に反射防止効果を付与するために用いられるものである。この透明薄膜は、必ずしも１層に限定されるものではなく、多層に形成されていてもよい。
　一般に、多層薄膜における界面反射防止能は、薄膜の屈折率と膜厚、および積層薄膜の層数により決定されるため、
この低反射透明導電膜
　透明薄膜は、単に多層薄膜における界面反射を防止するのみならず、表示装置の表示面に用いたとき表面を外力から保護する効果も期待される。そこで、実用上十分な強度を有しかつ屈折率が透明導電膜より低い透明薄膜を透明導電膜の上層に設けることが好ましい。これによって、陰極線管、プラズマディスプレイなどの表示装置に用いることができる実用的な低反射透明導電膜が得られる。
　前記の透明薄膜を形成する素材としては、例えばポリエステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂などの熱可塑性、熱硬化性、または光・電子線硬化性樹脂；ケイ素、アルミニウム、チタン、ジルコニウムなどの金属アルコキシドの加水分解物；シリコーンモノマーまたはシリコーンオリゴマーなどを挙げることができ、これらは単独で、または混合して用いることができる。
　特に好ましい透明薄膜は、膜の表面硬度が高く、屈折率が比較的低いＳｉＯ２の薄膜である。このＳｉＯ２薄膜を形成し得る素材の例としては、例えば、下式
　　Ｓｉ（ＯＲ）ｍＲｎ
（式中、ＲはＣ１〜Ｃ４のアルキル基であり、ｍは１〜４の整数であり、ｎは０〜３の整数であり、かつｍ＋ｎは４である）
で表される化合物、またはその部分加水分解物の１種またはそれ以上の混合物を挙げることができる。この化合物の例として、特にテトラエトキシシランＳｉ（ＯＣ２Ｈ５）４）は、薄膜形成性、透明性、膜強度および反射防止性能の観点から好適に用いられる。
　前記の透明薄膜は、透明導電膜と異なる屈折率に設定できるのであれば、各種樹脂、金属酸化物、複合酸化物、または窒化物など、または焼付けによってこれらを生成することができる前駆体などを含んでいてもよい。
　透明薄膜の形成は、透明導電膜の形成に用いた方法と同様に、前記の成分を含む塗布液（透明薄膜塗料）を均一に塗布して成膜する方法によって行うことができる。塗布は、スピンコーティング、ロールコーティング、ナイフコーティング、バーコーティング、スプレーコーティング、メニスカスコーティング、ディップコーティング、グラビア印刷法などによることができるが、特にスピンコーティングが好ましい。塗布後は塗膜を乾燥し、好ましくは焼き付けまたは光・電子線照射することによって強固な膜が形成される。
　
この低反射透明導電膜
　透明凹凸層の凹凸面の形状は、目的に応じて、外光の映り込みが少なく、かつ透過画像が鮮明に見えるように適宜に選択することができる。代表的な形状としては、例えば面上に多数の半球状または角錘状突起または凹陥が規則的または不規則的に分布した形状、多数の畝状の凹凸が簾状または波形に配列された形状、平面に規則的または不規則的な溝が多数形成された形状などを挙げることができる。
　前記のいずれの形状であっても、グロス値の低下を２０％〜４０％の範囲内とするためには、凹凸の高低差（凸部の山頂と凹部の谷底の高低差）は、平均で０．０１μｍ〜１μｍの範囲内とすることが好ましい。この高低差が０．０１μｍ未満の場合は、実質的に平坦面と同等となって十分な防眩効果を得ることができない。また、高低差が１μｍを越えると、ヘーズが増大し、透過画像の解像度を低下させることになる。
　透明薄膜の上面に透明凹凸層を形成するには、例えば透明薄膜上に、粘度を適当に調整した透明性塗料をスプレーしてディスクリート層（微粒層）を形成し、焼き付ける方法を用いることができる。また、例えば透明性微粒子、例えばＳｉＯ２微粒子と媒体とを含む透明性塗料を透明薄膜上に均一な厚みに塗布し、溶剤を揮発させて透明性微粒子による凹凸を形成してもよい。更に、型押し技術またはエッチング技術によって、平坦な透明薄膜の表面に凹凸を形成することもできる。
　透明凹凸層の屈折率を透明導電層と異なる屈折率に設定すれば、この透明凹凸層は、外光反射の散乱ばかりでなく、層間反射の防止にも有効となる。また、この透明凹凸層も透明薄膜と同様にハードコート性とすることが膜強度および反射防止性の点から好ましい。これらの観点から、透明凹凸層は、透明薄膜を形成したものと同様の塗料、例えばテトラエトキシシラン塗料を用いて形成することが膜強度および反射防止性の点から好ましい。
　
この低反射透明導電膜
銀は
　
この低反射透明導電膜
　好適に用いることができる着色材の例としては、例えば、フタロシアニンブルー、シアニンブルー、インダンスロンブルー、ジオキサジンバイオレット、アニリンブラック、アルカリブルー、酸化チタン、酸化クロム、鉄黒、コバルトブルー、セルリアンブルー、クロム酸亜鉛、群青、マンガンバイオレット、コバルトバイオレット、紺青、カーボンブラックなどの有機および無機顔料、ならびにアゾ染料、アントラキノン染料、インジゴイド染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、キノリン染料、ニトロ染料、ニトロソ染料、ベンゾキノン染料、ナフトキノン染料、ナフタルイミド染料、ペリノン染料などの青色、紫色、または黒色系の染料を挙げることができる。
　
この低反射透明導電膜
　また、上記の通常の着色材の他に、例えば３原色以外の可視光を選択的に吸収するフィルター効果を有するもの（例えば、特開平１−３２０７４２号公報、特開平３−１１５３２号公報、特開平３−２５４０４８号公報など参照）、可視光の透過率を全般にわたって低下させることにより高コントラスト効果を得るもの（例えば、特開平６−８０９０３号公報など参照）、積層体の光干渉による反射防止膜における最小反射率と略一致する着色材を用いて反射防止効果を得るもの（例えば、特開平５−２０３８０４号公報など参照）、または特定波長の可視光を吸収して目に優しい自然な画像を得るもの（例えば、特開平７−１５１９０３号公報など参照）など、従来から透明導電膜または陰極線管の表示面に用いられまたは提案されている着色材も使用可能である。
　
この低反射透明導電膜
　
上記の表示装置
　特に透明導電膜がパラジウムを含む
表示装置
実施例
　以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明は如何なる観点からもこれらの実施例によって限定されるものではない。
　
実施例、参考例および比較例
（パラジウム水性ゾル）
　０．１５ミリモル／ｌの塩化パラジウムを含む水溶液と、０．０２４ミリモル／ｌの水素化ホウ素ナトリウムを含む水溶液とを混合し、得られたコロイド状分散液を濃縮し、０．１８９モル／ｌのパラジウム微粒子（平均粒径１０ｎｍ）を含む水性ゾルを得た。
（白金水性ゾル）
　０．２５ミリモル／ｌの塩化白金酸水和物を含む水溶液と、０．１５ミリモル／ｌの水素化ホウ素ナトリウムを含む水溶液とを混合し、得られたコロイド状分散液を濃縮し、０．１０３モル／ｌの白金微粒子（平均粒径１０ｎｍ）を含む水性ゾルを得た。
（銀水性ゾル）
　クエン酸ナトリウム二水和物（１４ｇ）、硫酸第一鉄（７．５ｇ）を溶解させた水溶液（６０ｇ）を５℃に保持した状態で、これに硝酸銀（２．５ｇ）を溶解した水溶液（２５ｇ）を加え、赤褐色の銀ゾルを得た。この銀ゾルを遠心分離により水洗して不純物を除去した後、純水を加えて０．１８５モル／ｌの銀微粒子（平均粒径１０ｎｍ）を含む水性ゾルを得た。
（透明薄膜塗料）
　テトラエトキシシラン（０．８ｇ）と０．１Ｎ塩酸（０．８ｇ）とエチルアルコール（９８．４ｇ）とを混合し、均一な水溶液とした。
（参考例１）
透明導電膜塗料の調製：
　パラジウム水性ゾル　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１５ｇ
　銀水性ゾル　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３５ｇ
　イソプロピルアルコール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１０ｇ
　エチルアルコール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４０ｇ
　上記の成分を混合し、得られた混合液を超音波分散機（ＢＲＡＮＳＯＮ　ＵＬＴＲＡＳＯＮＩＣＳ社製「ソニファイヤー４５０」）で分散し、
参考例１
成膜：
　上記の透明導電膜塗料をブラウン管の表示面にスピンコーターを用いて塗布し、乾燥後、この塗布面に前記の透明薄膜塗料を、同様にスピンコーターを用いて塗布し、このブラウン管を乾燥機に入れ、１５０℃で１時間焼付け処理して低反射透明導電膜を形成することにより、反射防止、高導電膜を有する
参考例１
（実施例１）
透明導電膜塗料の調製：
　パラジウム水性ゾル　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３５ｇ
　銀水性ゾル　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１５ｇ
　イソプロピルアルコール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１０ｇ
　エチルアルコール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４０ｇ
　上記の成分を混合し、
参考例１
実施例１
成膜：
　上記の透明導電膜塗料を用い、
参考例１
実施例１
（実施例２）
透明導電膜塗料の調製：
　パラジウム水性ゾル　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４５ｇ
　銀水性ゾル　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５ｇ
　イソプロピルアルコール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１０ｇ
　エチルアルコール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４０ｇ
　上記の成分を混合し、
参考例１
実施例２
成膜：
　上記の透明導電膜塗料を用い、
参考例１
実施例２
（実施例３）
透明導電膜塗料の調製：
　パラジウム水性ゾル　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２５ｇ
　銀水性ゾル　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２５ｇ
　イソプロピルアルコール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１０ｇ
　エチルアルコール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４０ｇ
　上記の成分を混合し、
参考例１
実施例３
成膜：
　上記の透明導電膜塗料を用い、
参考例１
実施例３
（参考例２）
透明導電膜塗料の調製：
　パラジウム水性ゾル　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１２．５ｇ
　白金水性ゾル　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１２．５ｇ
　銀水性ゾル　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２５ｇ
　イソプロピルアルコール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１０ｇ
　エチルアルコール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４０ｇ
　上記の成分を混合し、
参考例１
参考例２
成膜：
　上記の透明導電膜塗料を用い、
参考例１
参考例２
（比較例１）
透明導電膜塗料の調製：
　銀水性ゾル　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５０ｇ
　イソプロピルアルコール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１０ｇ
　エチルアルコール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４０ｇ
　上記の成分を混合し、
参考例１
成膜：
　上記の透明導電膜塗料を用い、
参考例１
（比較例２）
透明導電膜塗料の調製：
　アンチモンドープ酸化スズ微粉末（住友大阪セメント社製、平均粒径０．０１μｍ）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１．５ｇ
　純水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　７８．５ｇ
　ブチルセロソルブ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１０．０ｇ
　ＩＰＡ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１０．０ｇ
　上記の成分を混合し、超音波分散機（ＢＲＡＮＳＯＮ　ＵＬＴＲＡＳＯＮＩＣＳ社製「ソニファイヤー４０５」）で分散し、比較例２の透明導電膜塗料を調製した。
成膜：
　上記の透明導電膜塗料を、ブラウン管の表示面にスピンコーターを用いて塗布し、乾燥後、前記の透明薄膜塗料を、同様にスピンコーターを用いて塗布し、乾燥機により１５０℃で１時間焼付けて低反射透明導電膜を形成することによって反射防止・高導電膜を有する比較例２の陰極線管を作成した。
　
上記実施例１〜実施例３、参考例１、参考例２、
（評価測定）
　陰極線管上に形成された低反射透明導電膜の性能を下記の装置または方法で測定した。
　透過率：東京電色社製「Ａｕｔｏｍａｔｉｃ　Ｈａｚｅ　Ｍｅｔｅｒ　Ｈ　ＩＩＩ　ＤＰ」
　ヘーズ：東京電色社製「Ａｕｔｏｍａｔｉｃ　Ｈａｚｅ　ｍｅｔｅｒ　Ｈ　ＩＩＩ　ＤＰ」
　表面抵抗：三菱化学社製「ロレスタＡＰ」（４端子法）
　透過率差：日立製作所社製「Ｕ−３５００」型自記分光光度計を用い、可視光領域での最大透過率と最小透過率との差を求めた。
（可視光領域における最大−最小透過率差が小さいほど透過率がよりフラットになり、透過画像の色相が鮮明となる。特に１０％以下では、透過画像の色彩が黒色に近づき、より高度な鮮明さを持つようになる。）
　反射率：ＥＧ＆Ｇ　ＧＡＭＭＡＳＣＩＥＮＴＩＦＩＣ社製「ＭＯＤＥＬ　Ｃ−１１」
　電磁波遮蔽性：０．５ＭＨｚ基準で式１により計算
　耐塩水性：塩水浸漬３日後の０．５ＭＨｚ電磁波遮蔽性
　面間距離：Ｘ線回折装置により導電材料の面間距離の測定を行った。
　Ｘ線測定値は、
実施例１〜実施例３、参考例１、参考例２
　測定結果を表２および表３に示す。
　表２および表３の結果から、
パラジウムと銀
実施例１〜実施例３
　Ｘ線測定よる面間距離の測定結果から、
実施例１〜実施例３
かつそれそれＰｄ：Ａｇ＝７：３、Ｐｄ：Ａｇ＝９：１、およびＰｄ：Ａｇ＝５：５の比率からなる合金
パラジウムおよび銀
　これに対して従来公知の低反射透明導電膜を有する比較例１の陰極線管は、単一の金属（Ａｇ）微粒子からなる透明導電層を有するので可視光透過スペクトルにおける透過率差が大であり、色相が偏って透過画像色が不自然に見え、また反射率が高くヘーズも認められるので視認性が劣っている。更に耐塩水性が著しく低いので耐久性が劣る。一方、比較例２の陰極線管は、透明導電層がアンチモンドープ酸化スズからなるものであり、反射率が高くヘーズも認められるため視認性が劣る。また表面抵抗が高く電磁波遮蔽性が劣るので、本発明の陰極線管に比べて本質的に低反射電磁波遮蔽性表示装置としての価値が低い。
産業上の利用可能性
　
以上説明したように本発明の透明導電膜の製造方法は、パラジウム微粒子が５０〜９０重量％、残部が銀微粒子からなり、かつ、平均粒径が２０μｍ以下である金属微粒子を含有する透明導電層用塗料を前記表示面に塗布し、その後、１５０〜２５０℃の範囲内の温度で焼付け、パラジウム−銀合金が形成された透明導電層とするので、
　
特に、低反射透明導電膜
　
また、表示装置
　
従って、上記の透明導電膜および低反射透明導電膜
　
また、上記の表示装置
（５７）【特許請求の範囲】
　１．
表示装置の表示面に形成され透明導電層と透明薄膜とが順次積層されてなる
　
パラジウム微粒子が５０〜９０重量％、残部が銀微粒子からなり、かつ、平均粒径が２０μｍ以下である金属微粒子を含有する
前記表示面
パラジウム−銀合金が形成された