【手続補正書】
【提出日】平成22年9月3日(2010.9.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５６】
ＯＬＥＰの転写フィルムの厚さは、約５０ｎｍであった。ＯＬＥＰの印刷パターンの解像度は、５ミクロン以下で、ライン間の分離は２ミクロンであった。
なお、本発明は、特許請求の範囲を含め、以下の発明を包含する。
１．機能材料のパターンを基板上に形成する方法であって、
ａ）隆起表面を備えたレリーフ構造を有し、弾性率が少なくとも１０メガパスカルであるエラストマースタンプを準備し、
ｂ）機能材料と液体とを含む組成物を前記レリーフ構造に適用し、
ｃ）少なくとも前記隆起表面に前記機能材料のフィルムが十分に形成されるように、前記レリーフ構造上の前記組成物から前記液体を除去し、
ｄ）前記機能材料を前記隆起表面から基板に転写する
ことを含む方法。
２．前記基板上の前記機能材料の厚さが１０〜１００００オングストロームである１に記載の方法。
３．転写する工程が、前記スタンプの前記隆起表面を、約５ポンド／ｃｍ2未満の圧力で前記基板と接触させることを含む１に記載の方法。
４．前記機能材料が、導体材料、半導体材料、誘電体材料、小分子材料、バイオ系材料およびこれらの組み合わせからなる群から選択される１に記載の方法。
５．前記機能材料が、電気的活性材料、光活性材料および生物学的活性材料からなる群から選択される１に記載の方法。
６．前記機能材料が、絶縁材料、平坦化材料、バリア材料および閉じ込め材料からなる群から選択される１に記載の方法。
７．前記機能材料が１種以上のフッ素化化合物を含み、前記方法が、前記基板上の前記フッ素化化合物の前記パターンを化学線に露光する工程ｅ）をさらに含む１に記載の方法。
８．前記機能材料が、有機染料、半導体分子、蛍光発色団、りん光発色団、薬理活性化合物、生物学的活性化合物、触媒活性を有する化合物およびこれらの組み合わせからなる群から選択される１に記載の方法。
９．前記機能材料が、フォトルミネッセンス材料、エレクトロルミネッセンス材料およびこれらの組み合わせからなる群から選択される１に記載の方法。
１０．前記機能材料が、デオキシリボ核酸（ＤＮＡ）、蛋白質、ポリ（オリゴ）ペプチドおよびポリ（オリゴ）サッカリドからなる群から選択される１に記載の方法。
１１．前記機能材料が、導体材料、半導体材料および誘電体材料からなる群から選択されるナノ粒子を含む１に記載の方法。
１２．前記ナノ粒子の直径が約３〜１００ｎｍである１１に記載の方法。
１３．前記機能材料がナノ粒子の形態にあり、前記液体の除去により不連続フィルムが形成される１に記載の方法。
１４．前記機能材料が導体材料のナノ粒子を含み、前記方法が、前記基板上の前記ナノ粒子を焼結して、導体材料の連続フィルムを形成する工程ｅ）をさらに含む１に記載の方法。
１５．焼結が、前記ナノ粒子を約２２０℃までの温度に加熱することを含む１４に記載の方法。
１６．前記機能材料が、銀、金、銅、パラジウム、酸化インジウム錫およびこれらの組み合わせからなる群から選択される導体材料である１に記載の方法。
１７．前記機能材料が、シリコン、ゲルマニウム、ヒ化ガリウム、酸化亜鉛、セレン化亜鉛およびこれらの組み合わせからなる群から選択される半導体材料である１に記載の方法。
１８．前記機能材料が量子ドットである１に記載の方法。
１９．前記機能材料が、カーボンナノチューブ、導体カーボンナノチューブ、半導体カーボンナノチューブおよびこれらの組み合わせからなる群から選択される１に記載の方法。
２０．前記除去工程ｃ）が前記組成物を加熱することを含む１に記載の方法。
２１．前記除去工程ｃ）が、前記組成物上にガスストリームを吹きつけることによる１に記載の方法。
２２．前記除去工程ｃ）が蒸発による１に記載の方法。
２３．前記エラストマースタンプが、シリコーンポリマー、エポキシポリマー、共役ジオレフィンハイドロカーボンのポリマー、Ａ−Ｂ−Ａ型ブロックコポリマーのエラストマーブロックコポリマー（Ａは非エラストマーブロックを表し、Ｂはエラストマーブロックを表す）、アクリレートポリマー、フルオロポリマー、重合可能なフッ素化化合物およびこれらの組み合わせからなる群から選択される組成物の層を含む１に記載の方法。
２４．前記エラストマースタンプを、感光性組成物の層から形成することをさらに含む１に記載の方法。
２５．前記エラストマースタンプを、化学線に露光することにより重合可能なフッ素化化合物を含む組成物の層から形成することをさらに含む１に記載の方法。
２６．前記フッ素化化合物が、パーフルオロポリエーテル化合物である２５に記載の方法。
２７．前記エラストマースタンプが、可撓性フィルムの支持体をさらに含む１に記載の方法。
２８．前記エラストマースタンプの弾性率が、１０メガパスカルを超える１に記載の方法。
２９．前記基板が、プラスチック、ポリマーフィルム、金属、シリコン、ガラス、ファブリック、紙およびこれらの組み合わせからなる群から選択される１に記載の方法。
３０．前記パターンが前記基板上の層に転写され、前記基板上の前記層が、プライマー層、電荷注入層、電荷輸送層および半導体層からなる群から選択される１に記載の方法。
３１．前記液体が、有機化合物および水性化合物からなる群から選択される１種以上の化合物を含む１に記載の方法。
３２．前記液体が、１種以上のキャリア化合物を含む１に記載の方法。
３３．前記液体が、前記機能材料用の１種以上の溶剤を含む１に記載の方法。
３４．前記液体が、前記機能材料用の２種以上の溶剤を含み、前記液体を前記組成物から除去することにより、前記機能材料が凝集される１に記載の方法。
３５．前記液体が、前記機能材料用の２種以上の溶剤を含み、前記液体を前記組成物から除去することにより、前記機能材料が適合される１に記載の方法。
３６．転写の前に、前記フィルムを、気化状態の化合物に露出することをさらに含む１に記載の方法。
３７．前記パターンが、前記基板のセルまたはチャネル用のバリア壁を形成する１に記載の方法。
３８．前記セルまたはチャネルに、発光材料、ソース材料、ドレイン材料およびカラーフィルタ用の着色材料からなる群から選択される第２の材料の溶液を供給することをさらに含む３７に記載の方法。
３９．１に記載の方法により作製された要素。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
機能材料のパターンを基板上に形成する方法であって、
ａ）化学線に露光することにより重合可能なフッ素化化合物を含む組成物の層から、隆起表面を備えたレリーフ構造を有し、弾性率が少なくとも１０メガパスカルであるエラストマースタンプを準備し
ｂ）機能材料と液体とを含む組成物を前記レリーフ構造に適用し、
ｃ）少なくとも前記隆起表面に前記機能材料のフィルムが十分に形成されるように、前記レリーフ構造上の前記組成物から前記液体を除去し、
ｄ）前記機能材料を前記隆起表面から転写して基板上にパターンを形成する
ことを含む方法。
【請求項２】
前記機能材料が導体材料のナノ粒子を含み、前記方法が、前記基板上の前記ナノ粒子を焼結して、導体材料の連続フィルムを形成する工程ｅ）をさらに含む請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記フッ素化化合物が、パーフルオロポリエーテル化合物である請求項１に記載の方法。
【請求項４】
請求項１に記載の方法により作製された要素。