(57)【要約】  レーザシステムにおいてパルスを制御するための方法及び装置は、複数チャンバのそれぞれの発火における遅延を制御するために、フィールドプログラマブルゲートアレイ及びプログラマブル遅延回路の組み合わせの使用を含む、マルチチャンバレーザシステムにおけるトリガパルスの相対的タイミングを制御することを含む。【選択図】  図５
2022502690.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザシステムであって、
複数のクロックサイクル間に第１の論理レベルから第２の論理レベルに遷移する第１のデジタル信号、及び前記第１のデジタル信号の逆の論理である第２のデジタル信号を生成するように構成される、フィールドプログラマブルゲートアレイと、
前記第１のデジタル信号を受信するように配置され、遅延した第１のデジタル信号を生成するために前記第１のデジタル信号の伝搬を第１の遅延だけ遅延させるように構成される、第１のプログラマブル遅延回路と、
前記第２のデジタル信号を受信するように配置され、遅延した第２のデジタル信号を生成するために前記第２のデジタル信号の伝搬を前記第１の遅延よりも大きい第２の遅延だけ遅延させるように構成される、第２のプログラマブル遅延回路と、
前記遅延した第１のデジタル信号及び前記遅延した第２のデジタル信号を受信するように配置され、前記第１のデジタル信号及び前記遅延した第２のデジタル信号の両方が前記第２の論理レベルにあるとき、及びそのときにのみ、パルスを生成するように構成される、第１の論理回路と、
を備える、レーザシステム。
【請求項２】
レーザシステムであって、
第１の持続期間を有する第１のパルス及び第２の持続期間を有する第２のパルスを供給するように構成され、前記第１のパルスの開始及び前記第２のパルスの開始は遅延間隔だけ時間的に分離される、モジュールを備える、レーザシステムであって、前記モジュールは、
複数のクロックサイクル間に時点ｔ１において第１の論理レベルから第２の論理レベルに遷移する第１のデジタル信号、前記第１のデジタル信号の逆の論理である第２のデジタル信号、複数のクロックサイクル間にｔ１より後の時点ｔ２において前記第１の論理レベルから前記第２の論理レベルに遷移する第３のデジタル信号、及び、前記第３のデジタル信号の逆の論理である第４のデジタル信号を、生成するように構成される、フィールドプログラマブルゲートアレイと、
前記第１のデジタル信号を受信するように配置され、遅延した第１のデジタル信号を生成するために前記第１のデジタル信号の伝搬を第１の遅延だけ遅延させるように構成される、第１のプログラマブル遅延回路と、
前記第２のデジタル信号を受信するように配置され、遅延した第２のデジタル信号を生成するために前記第２のデジタル信号の伝搬を前記第１の遅延よりも大きい第２の遅延だけ遅延させるように構成される、第２のプログラマブル遅延回路と、
前記遅延した第１のデジタル信号及び前記遅延した第２のデジタル信号を受信するように配置され、前記第１のデジタル信号及び前記遅延した第２のデジタル信号の両方が前記第２の論理レベルにあるとき、及びそのときにのみ、前記第１のパルスを生成するように構成される、第１の論理回路と、
前記第３のデジタル信号を受信するように配置され、遅延した第３のデジタル信号を生成するために前記第３のデジタル信号の伝搬を第３の遅延だけ遅延させるように構成される、第３のプログラマブル遅延回路と、
前記第４のデジタル信号を受信するように配置され、遅延した第４のデジタル信号を生成するために前記第４のデジタル信号の伝搬を前記第３の遅延よりも大きい第４の遅延だけ遅延させるように構成される、第４のプログラマブル遅延回路と、
前記遅延した第３のデジタル信号及び前記遅延した第４のデジタル信号を受信するように配置され、前記遅延した第３のデジタル信号及び前記遅延した第４のデジタル信号の両方が前記第２の論理レベルにあるとき、及びそのときにのみ、前記第１のパルスの停止後に前記第２のパルスを生成するように構成される、第２の論理回路と、
を備える、
レーザシステム。
【請求項３】
前記レーザシステムは、深紫外線放射を生成するためのシステムであり、更に、
前記第１のパルスを受信するように配置され、前記第１のパルスに応答して前記レーザの第１のチャンバを発火させるための、第１のトリガ回路、及び、
前記第２のパルスを受信するように配置され、前記第２のパルスに応答して前記レーザの第２のチャンバを発火させるための、第２のトリガ回路、
を備える、請求項２に記載のレーザシステム。
【請求項４】
前記レーザシステムは、極端紫外線放射を生成するためのシステムであり、更に、
前記第１のパルスを受信するように配置され、前記第１のパルスに応答して第１のレーザパルスを発火させるための、第１のトリガ回路、及び、
前記第２のパルスを受信するように配置され、前記第２のパルスに応答して第２のレーザパルスを発火させるための、第２のトリガ回路、
を備える、請求項２に記載のレーザシステム。
【請求項５】
前記第１のパルスに基づいて第１のレーザチャンバ通電パルスを受信するように配置された、第１のレーザチャンバ、及び、
前記第２のパルスに基づいて第２のレーザチャンバ通電パルスを受信するように配置された、第２のレーザチャンバ、
を更に備える、請求項２に記載のレーザシステム。
【請求項６】
レーザシステムのためのトリガパルスを生成する方法であって、
複数のクロックサイクル間に第１の論理レベルから第２の論理レベルへ遷移する第１のデジタル信号と、前記第１のデジタル信号の逆の論理である第２のデジタル信号とを生成すること、
遅延した第１のデジタル信号を生成するために前記第１のデジタル信号の伝搬を第１の遅延だけ遅延させること、
遅延した第２のデジタル信号を生成するために前記第２のデジタル信号の伝搬を前記第１の遅延よりも大きい第２の遅延だけ遅延させること、及び、
前記第１のデジタル信号及び前記遅延した第２のデジタル信号の両方が前記第２の論理レベルにあるとき、及びそのときにのみ、パルスを生成すること、
を含む、レーザシステムのためのトリガパルスを生成する方法。
【請求項７】
レーザシステムのためのトリガパルスを生成する方法であって、
複数のクロックサイクル間に時点ｔ１において第１の論理レベルから第２の論理レベルへ遷移する第１のデジタル信号と、前記第１のデジタル信号の逆の論理である第２のデジタル信号とを生成すること、
遅延した第１のデジタル信号を生成するために前記第１のデジタル信号の伝搬を第１の遅延だけ遅延させること、
遅延した第２のデジタル信号を生成するために前記第２のデジタル信号の伝搬を前記第１の遅延よりも大きい第２の遅延だけ遅延させること、
前記第１のデジタル信号及び前記遅延した第２のデジタル信号の両方が前記第２の論理レベルにあるとき、及びそのときにのみ、第１のパルスを生成すること、
複数のクロックサイクル間にｔ１より後の時点ｔ２において前記第１の論理レベルから前記第２の論理レベルに遷移する第３のデジタル信号、及び、前記第３のデジタル信号の逆の論理である第４のデジタル信号を生成すること、
遅延した第３のデジタル信号を生成するために前記第３のデジタル信号の伝搬を第３の遅延だけ遅延させること、
遅延した第４のデジタル信号を生成するために前記第４のデジタル信号の伝搬を前記第３の遅延よりも大きい第４の遅延だけ遅延させること、及び、
前記遅延した第３のデジタル信号及び前記遅延した第４のデジタル信号の両方が前記第２の論理レベルにあるとき、及びそのときにのみ、前記第１のパルスの停止後に第２のパルスを生成すること、
を含む、レーザシステムのためのトリガパルスを生成する方法。
【請求項８】
前記第１のパルスをトリガとしてマルチチャンバレーザの第１のチャンバのパワー整流子に供給すること、及び、
前記第２のパルスをトリガとしてマルチチャンバレーザの第２のチャンバのパワー整流子に供給すること、
を更に含む、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記第１、第２、第３、及び第４のデジタル信号を生成するステップは、フィールドプログラマブルゲートアレイによって実施される、請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
ターゲット材料において第１のパルスを発火させるために、前記第１のパルスをトリガとして供給するステップと、
前記ターゲット材料において第２のパルスを発火させるために、前記第２のパルスをトリガとして供給するステップと、
を更に含む、請求項７に記載の方法。
【請求項１１】
前記第１のパルスはプレパルスであり、前記第２のパルスはメインパルスである、請求項７に記載の方法。
【請求項１２】
前記第１のデジタル信号を遅延させるステップは、第１のプログラマブル遅延回路によって実行される、請求項７に記載の方法。
【請求項１３】
前記第２のデジタル信号を遅延させるステップは、第２のプログラマブル遅延回路によって実行される、請求項７に記載の方法。
【請求項１４】
前記第３のデジタル信号を遅延させるステップは、第３のプログラマブル遅延回路によって実行される、請求項７に記載の方法。
【請求項１５】
前記第４のデジタル信号を遅延させるステップは、第４のプログラマブル遅延回路によって実行される、請求項７に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願の相互参照
[0001]  本願は、２０１８年１０月２日出願の米国出願第６２／７４０，１９１号及び２０１８年９月２６日出願の米国出願第６２／７３６，７３８号の優先権を主張し、各々の出願の内容は、それら全体が参照により本明細書に組み込まれる。
【０００２】
[0002]  本開示する主題は、集積回路フォトリソグラフィ製造プロセスに使用されるようなレーザ生成光源の制御に関する。
【背景技術】
【０００３】
[0003]  半導体フォトリソグラフィに有用な周波数（深紫外線（ＤＵＶ）波長）でレーザ放射を生成するための１つのシステムは、主発振器パワー増幅器（ＭＯＰＡ）デュアルガス放電チャンバ構成の使用を含む。レーザドーズ安定性のためには、ＭＯＰＡのパワー増幅器（ＰＡ）部分におけるパルス（発射）に対して、ＭＯＰＡの主発振器（ＭＯ）部分におけるパルス（発射）の相対的タイミングを管理することが必要である。パワー発振器（「ＰＯ」）などの他の増幅器構成を伴うレーザシステムを提供する、同様の主発振器シードも使用可能である。しかしながら簡潔にするために、明示的に示されている場合を除き、ＭＯＰＡという用語、又はＭＯ及びＰＡという別々の用語は、任意のこうしたマルチチャンバレーザシステム、例えば２チャンバレーザシステムを意味すると解釈されるものとし、このシステムは、例えば発振器シードパルス生成部分を含み、この部分は、例えばビームパラメータ品質を最適化し、その後、増幅器部分によるシードパルスの増幅が続き、その例を上記で示した、増幅機能を提供してこの増幅プロセスのために調整されるどのような多様性のシードパルスも受け取り、主発振器セクションにおいて最適化された特定のビーム品質パラメータはほぼ元のままである。
【０００４】
[0004]  極端紫外線（「ＥＵＶ」）光、例えば、およそ５０ｎｍ以下の波長を有し（軟Ｘ線と呼ばれることもある）、約１３．５ｎｍの波長における光を含む、電磁放射が、シリコンウェーハなどの基板上に極端に小さなフィーチャを生成するためのフォトリソグラフィプロセスにおいて使用される。ここで、また本明細書の他の場所でも、「光」という用語は、たとえこの用語を使用して説明する放射がスペクトルの可視部分内にない可能性があるものと理解される場合であっても、使用される。ＥＵＶ光を生成するための方法は、ターゲット材料を液体状態からプラズマ状態に変換することを含む。ターゲット材料は、好ましくは、ＥＵＶレンジ内に１つ以上の輝線を伴う、少なくとも１つの元素、例えばキセノン、リチウム、又はスズを含む。１つのこうした方法において、しばしばレーザ生成プラズマ（「ＬＰＰ」）と呼ばれる必須プラズマは、必要な線発光元素を有するターゲット材料を照射するためにレーザビームを使用することによって、生成可能である。ドーズ安定性のためには、ＥＵＶシステムにおけるパルスの相対的タイミングを管理することも必要である。
【０００５】
[0005]  こうしたシステムにおける相対的パルスタイミングを管理するための既存の装置又は方法に対して、代案を提供することが望ましい。
【発明の概要】
【０００６】
[0006]  下記に、本発明を基本的に理解するために１つ以上の実施形態の簡略化された概要を示す。本概要は、すべての企図される実施形態の広範な概要ではなく、すべての実施形態の主要又は重要な要素を識別すること、あるいは任意又はすべての実施形態の範囲を詳述することを意図していない。その唯一の目的は、１つ以上の実施形態のいくつかの概念を、下記に示すより詳細な説明の前置きとして簡略化された形で提示することである。
【０００７】
[0007]  一実施形態の一態様に従って本明細書で開示されるのは、複数のクロックサイクル間に第１の論理レベルから第２の論理レベルに遷移する第１のデジタル信号、及び第１のデジタル信号の逆の論理である第２のデジタル信号を生成するように構成される、フィールドプログラマブルゲートアレイと、第１のデジタル信号を受信するように配置され、遅延した第１のデジタル信号を生成するために第１のデジタル信号の伝搬を第１の遅延だけ遅延させるように構成される、第１のプログラマブル遅延回路と、第２のデジタル信号を受信するように配置され、遅延した第２のデジタル信号を生成するために第２のデジタル信号の伝搬を第１の遅延よりも大きい第２の遅延だけ遅延させるように構成される、第２のプログラマブル遅延回路と、遅延した第１のデジタル信号及び遅延した第２のデジタル信号を受信するように配置され、第１のデジタル信号及び遅延した第２のデジタル信号の両方が第２の論理レベルにあるとき、及びそのときにのみ、パルスを生成するように構成される、第１の論理回路と、を備える、レーザシステムである。
【０００８】
[0008]  また、一実施形態の一態様に従って本明細書で開示されるのは、第１の持続期間を有する第１のパルス及び第２の持続期間を有する第２のパルスを供給するように構成され、第１のパルスの開始及び第２のパルスの開始は遅延間隔だけ時間的に分離される、モジュールを備える、レーザシステムであって、モジュールは、複数のクロックサイクル間に時点ｔ１において第１の論理レベルから第２の論理レベルに遷移する第１のデジタル信号、第１のデジタル信号の逆の論理である第２のデジタル信号、複数のクロックサイクル間にｔ１より後の時点ｔ２において第１の論理レベルから第２の論理レベルに遷移する第３のデジタル信号、及び、第３のデジタル信号の逆の論理である第４のデジタル信号を、生成するように構成される、フィールドプログラマブルゲートアレイと、第１のデジタル信号を受信するように配置され、遅延した第１のデジタル信号を生成するために第１のデジタル信号の伝搬を第１の遅延だけ遅延させるように構成される、第１のプログラマブル遅延回路と、第２のデジタル信号を受信するように配置され、遅延した第２のデジタル信号を生成するために第２のデジタル信号の伝搬を第１の遅延よりも大きい第２の遅延だけ遅延させるように構成される、第２のプログラマブル遅延回路と、遅延した第１のデジタル信号及び遅延した第２のデジタル信号を受信するように配置され、第１のデジタル信号及び遅延した第２のデジタル信号の両方が第２の論理レベルにあるとき、及びそのときにのみ、第１のパルスを生成するように構成される、第１の論理回路と、第３のデジタル信号を受信するように配置され、遅延した第３のデジタル信号を生成するために第３のデジタル信号の伝搬を第３の遅延だけ遅延させるように構成される、第３のプログラマブル遅延回路と、第４のデジタル信号を受信するように配置され、遅延した第４のデジタル信号を生成するために第４のデジタル信号の伝搬を第３の遅延よりも大きい第４の遅延だけ遅延させるように構成される、第４のプログラマブル遅延回路と、遅延した第３のデジタル信号及び遅延した第４のデジタル信号を受信するように配置され、遅延した第３のデジタル信号及び遅延した第４のデジタル信号の両方が第２の論理レベルにあるとき、及びそのときにのみ、第１のパルスの停止後に第２のパルスを生成するように構成される、第２の論理回路と、を備える、レーザシステムである。
【０００９】
[0009]  レーザシステムは、深紫外線放射を生成するためのシステムであってよく、更に、第１のパルスを受信するように配置され、第１のパルスに応答してレーザの第１のチャンバを発火させるための、第１のトリガ回路、及び、第２のパルスを受信するように配置され、第２のパルスに応答してレーザの第２のチャンバを発火させるための、第２のトリガ回路を備える。
【００１０】
[0010]  レーザシステムは、極端紫外線放射を生成するためのシステムであってよく、更に、第１のパルスを受信するように配置され、第１のパルスに応答して第１のレーザパルスを発火させるための、第１のトリガ回路、及び、第２のパルスを受信するように配置され、第２のパルスに応答して第２のレーザパルスを発火させるための、第２のトリガ回路を備える。
【００１１】
[0011]  レーザシステムは、第１のパルスに基づいて第１のレーザチャンバ通電パルスを受信するように配置された第１のレーザチャンバ、及び、第２のパルスに基づいて第２のレーザチャンバ通電パルスを受信するように配置された第２のレーザチャンバを備えることができる。
【００１２】
[0012]  また、一実施形態の一態様に従って本明細書で開示されるのは、レーザシステムのためのトリガパルスを生成する方法であって、方法は、複数のクロックサイクル間に第１の論理レベルから第２の論理レベルへ遷移する第１のデジタル信号と、第１のデジタル信号の逆の論理である第２のデジタル信号とを生成すること、遅延した第１のデジタル信号を生成するために第１のデジタル信号の伝搬を第１の遅延だけ遅延させること、遅延した第２のデジタル信号を生成するために第２のデジタル信号の伝搬を第１の遅延よりも大きい第２の遅延だけ遅延させること、及び、第１のデジタル信号及び遅延した第２のデジタル信号の両方が第２の論理レベルにあるとき、及びそのときにのみ、パルスを生成することを、含む。
【００１３】
[0013]  また、一実施形態の一態様に従って本明細書で開示されるのは、レーザシステムのためのトリガパルスを生成する方法であって、方法は、複数のクロックサイクル間に時点ｔ１において第１の論理レベルから第２の論理レベルへ遷移する第１のデジタル信号と、第１のデジタル信号の逆の論理である第２のデジタル信号とを生成すること、遅延した第１のデジタル信号を生成するために第１のデジタル信号の伝搬を第１の遅延だけ遅延させること、遅延した第２のデジタル信号を生成するために第２のデジタル信号の伝搬を第１の遅延よりも大きい第２の遅延だけ遅延させること、並びに、第１のデジタル信号及び遅延した第２のデジタル信号の両方が第２の論理レベルにあるとき、及びそのときにのみ、第１のパルスを生成すること、複数のクロックサイクル間にｔ１より後の時点ｔ２において第１の論理レベルから第２の論理レベルに遷移する第３のデジタル信号、及び、第３のデジタル信号の逆の論理である第４のデジタル信号を生成すること、遅延した第３のデジタル信号を生成するために第３のデジタル信号の伝搬を第３の遅延だけ遅延させること、遅延した第４のデジタル信号を生成するために第４のデジタル信号の伝搬を第３の遅延よりも大きい第４の遅延だけ遅延させること、並びに、遅延した第３のデジタル信号及び遅延した第４のデジタル信号の両方が第２の論理レベルにあるとき、及びそのときにのみ、第１のパルスの停止後に第２のパルスを生成することを、含む。
【００１４】
[0014]  方法は更に、第１のパルスをトリガとしてマルチチャンバレーザの第１のチャンバのパワー整流子に供給するステップと、第２のパルスをトリガとしてマルチチャンバレーザの第２のチャンバのパワー整流子に供給するステップとを含む。
【００１５】
[0015]  第１、第２、第３、及び第４のデジタル信号を生成するステップは、フィールドプログラマブルゲートアレイによって実行することができる。
【００１６】
[0016]  方法は更に、ターゲット材料において第１のパルスを発火させるために、第１のパルスをトリガとして供給するステップと、ターゲット材料において第２のパルスを発火させるために、第２のパルスをトリガとして供給するステップとを含む。第１のパルスはプレパルスとすることができ、第２のパルスはメインパルスとすることができる。
【００１７】
[0017]  第１のデジタル信号を遅延させるステップは、第１のプログラマブル遅延回路によって実行することができる。
【００１８】
[0018]  第２のデジタル信号を遅延させるステップは、第２のプログラマブル遅延回路によって実行することができる。
【００１９】
[0019]  第３のデジタル信号を遅延させるステップは、第３のプログラマブル遅延回路によって実行することができる。
【００２０】
[0020]  第４のデジタル信号を遅延させるステップは、第４のプログラマブル遅延回路によって実行することができる。
【００２１】
[0021]  本発明の更なる特徴及び利点、並びに本発明の様々な実施形態の構造及び動作を、添付の図面を参照しながら下記で詳細に説明する。本発明は、本明細書で説明する特定の実施形態に限定されるものではないことに留意されたい。こうした実施形態は、本明細書において単なる例示の目的で提示される。当業者であれば、本明細書に含まれる教示に基づいて追加の実施形態が明らかとなろう。
【００２２】
[0022]  本明細書に組み込まれ本明細書の一部を形成する添付の図面は、説明と共に本発明を例示し、更に、本発明の原理を説明する働き、並びに、当業者が本発明を作成及び使用することができるようにする働きをする。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】[0023]開示する主題の一態様に従った、フォトリソグラフィシステムの広範な概念全体を示す一定の縮尺でない概略図である。
【図２】[0024]開示する主題の一態様に従った、深紫外線放射を生成するための照明システムの広範な概念全体を示す一定の縮尺でない概略図である。
【図３】[0025]開示する主題の一態様に従った、極端紫外線放射を生成するための照明システムの広範な概念全体を示す一定の縮尺でない概略図である。
【図４】[0026]遅延したパルスを生成するための回路要素を示す、機能ブロック図である。
【図５】[0027]一実施形態の一態様に従った、遅延したパルスを生成するための回路要素を示す、機能ブロック図である。
【図６】[0028]一実施形態の一態様に従った、図４の回路要素の動作モードの一例についての信号レベル及びタイミングを示す、タイミング図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
[0029]  本発明の特徴及び利点は、同じ参照文字が全体を通じて対応する要素を識別する図面に関連して、下記に示す詳細な説明からより明らかになろう。図面において、同じ参照番号は概して、同一の要素、機能的に同様の要素、及び／又は構造的に同様の要素を示す。
【００２５】
[0030]  次に、全体を通じて同じ要素を指すために同じ参照番号が使用される図面を参照しながら、様々な実施形態を説明する。下記の説明において、１つ以上の実施形態の完全な理解を進めるために、説明の目的で多数の特定の細部が示される。しかしながら、いくつか又はすべてのインスタンスにおいて、下記で説明するいずれの実施形態も、下記で説明する特定の設計細部を採用することなく実施可能であることが明白であり得る。他のインスタンスでは、１つ以上の実施形態の説明を容易にするために周知の構造及びデバイスがブロック図の形で示される。下記に、実施形態を基本的に理解するために、１つ以上の実施形態の簡略化された概要を提示する。本概要は、すべての企図される実施形態の広範な概要ではなく、すべての実施形態の主要又は重要な要素を識別すること、あるいは任意又はすべての実施形態の範囲を詳述することを意図していない。
【００２６】
[0031]  説明する実施形態、及び、本明細書における「一実施形態」、「実施形態」、「例示の実施形態」などの言い回しは、説明する実施形態が特定の特徴、構造、又は特性を含む可能性はあるが、あらゆる実施形態が必ずしも特定の特徴、構造、又は特性を含むとは限らないことを示す。更に、こうした語句は必ずしも同じ実施形態に言及しているとは限らない。更に、特定の特徴、構造、又は特性を一実施形態に関連して説明するとき、明示的に説明するか否かにかかわらず、こうした特徴、構造、又は特性を他の実施形態に関連して実施することは当業者の知識の範囲内であることを理解されよう。
【００２７】
[0032]  本発明の実施形態は、ハードウェア、ファームウェア、ソフトウェア、又はそれらの任意の組み合わせにおいて実装可能である。本発明の実施形態は、機械可読媒体上に記憶され、１つ以上のプロセッサによって読み取り及び実行可能な、命令としても実装可能である。機械可読媒体は、機械（例えば、コンピューティングデバイス）によって読み取り可能な形で情報を記憶又は伝送するための、任意の機構を含むことができる。例えば、機械可読媒体は、読み取り専用メモリ（ＲＯＭ）、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）、磁気ディスク記憶媒体、光記憶媒体、フラッシュメモリデバイス、電気、光、音響、又は他の形の伝搬信号（例えば、搬送波、赤外線信号、デジタル信号など）、及びその他を含むことができる。更に、ファームウェア、ソフトウェア、ルーチン、命令は、本明細書では特定のアクションを実行するものとして記述される場合がある。しかしながら、こうした記述は単に便宜的なものであり、こうしたアクションは実際には、コンピューティングデバイス、プロセッサ、コントローラ、又は、ファームウェア、ソフトウェア、ルーチン、命令などを実行する他のデバイスによって生じることを理解されたい。
【００２８】
[0033]  こうした実施形態をより詳細に説明する前に、本発明の実施形態が実装可能な例示の環境を提示することが有益である。下記の例はＤＵＶシステムに関するものであるが、当業者であれば、本明細書で開示する主題は、例えばＥＵＶ放射を生成するためのシステムなどの他のレーザシステムにも適用可能であることを理解されよう。
【００２９】
[0034]  図１を参照すると、フォトリソグラフィシステム１００は照明システム１０５を含む。下記でより完全に説明するように、照明システム１０５は、パルス光ビーム１１０を生成し、これを、ウェーハ１２０上にマイクロ電子フィーチャをパターン付与する、フォトリソグラフィ露光装置又はスキャナ１１５に誘導する、光源を含む。ウェーハ１２０は、ウェーハ１２０を保持するように構築されたウェーハテーブル１２５上に置かれ、特定のパラメータに従ってウェーハ１２０を正確に位置決めするように構成されたポジショナに接続される。
【００３０】
[0035]  図１の例では、フォトリソグラフィシステム１００は、深紫外線（ＤＵＶ）レンジ内の波長を有する、例えば２４８ナノメートル（ｎｍ）又は１９３ｎｍの波長を伴う、光ビーム１１０を使用する。ウェーハ１２０上にパターン付与されるマイクロ電子フィーチャのサイズは光ビーム１１０の波長に依存し、波長が低いほど、結果としてより小さい最小フィーチャサイズとなる。光ビーム１１０の波長が２４８ｎｍ又は１９３ｎｍのとき、マイクロ電子フィーチャの最小サイズは、例えば５０ｎｍ以下とすることができる。光ビーム１１０の帯域幅は、光ビーム１１０の光エネルギーが異なる波長を介してどのように分散されるかについての情報を含む、その光学スペクトル（又は発光スペクトル）の実際の瞬時帯域幅とすることができる。スキャナ１１５は、例えば１つ以上のコンデンサレンズ、マスク、及び対物系配置を有する、光学配置を含む。マスクは、光ビーム１１０の光軸に沿うか、又は光軸に垂直な平面内などの、１つ以上の方向に沿って移動可能である。対物系配置は投影レンズを含み、ウェーハ１２０上のマスクからフォトレジストへのイメージ転写を可能にする。照明システム１０５は、マスクに衝突する光ビーム１１０について角度レンジを調整する。照明システム１０５は、マスク全体にわたる光ビーム１１０の強度分布も均等化する（均一にする）。
【００３１】
[0036]  スキャナ１１５は、他のフィーチャの中でもとりわけ、リソグラフィコントローラ１３０、空気調節デバイス、及び、様々な電気コンポーネント用の電源を含むことができる。リソグラフィコントローラ１３０は、層がウェーハ１２０上にどのようにプリントされるかを制御する。リソグラフィコントローラ１３０は、プロセスレシピなどの情報を記憶するメモリを含む。プロセスプログラム又はレシピは、ウェーハ１２０上の露光の長さ、使用されるマスク、並びに露光に影響を与える他の要因を決定する。リソグラフィの間、光ビーム１１０の複数のパルスは、照明ドーズを構成するためにウェーハ１２０の同じエリアを照明する。
【００３２】
[0037]  フォトリソグラフィシステム１００は、好ましくは制御システム１３５も含む。一般に、制御システム１３５は、デジタル電子回路要素、コンピュータハードウェア、ファームウェア、及びソフトウェアのうちの１つ以上を含む。制御システム１３５は、読み取り専用メモリ及び／又はランダムアクセスメモリとすることができる、メモリも含む。コンピュータプログラム命令及びデータを有形に具体化するのに適した記憶デバイスは、例として、ＥＰＲＯＭ、ＥＥＰＲＯＭ、及びフラッシュメモリデバイスなどの半導体メモリと、内部ハードディスク及び取り外し可能ディスクなどの磁気ディスクと、光磁気ディスクと、ＣＤ−ＲＯＭディスクとを含む、すべての形の不揮発性メモリを含む。
【００３３】
[0038]  制御システム１３５は、１つ以上の入力デバイス（キーボード、タッチスクリーン、マイクロフォン、マウス、ハンドヘルド入力デバイスなど）及び１つ以上の出力デバイス（スピーカ又はモニタなど）も含むことができる。制御システム１３５は、１つ以上のプログラマブルプロセッサ、及び、１つ以上のプログラマブルプロセッサによる実行のために機械可読記憶デバイス内に有形に具体化される、１つ以上のコンピュータプログラム製品も含む。１つ以上のプログラマブルプロセッサは、各々、入力データ上で動作し適切な出力を生成することによって所望の機能を実行するために、命令のプログラムを実行することができる。一般に、プロセッサは、メモリから命令及びデータを受信する。前述のいずれも、特別に設計されたＡＳＩＣ（特定用途向け集積回路）によって補足されるか、又はこれに組み込まれることが可能である。制御システム１３５は、集中型とするか、又は、フォトリソグラフィシステム１００全体にわたって部分的又は全体的に分散することができる。
【００３４】
[0039]  図２を参照すると、例示の照明システム１０５は、光ビーム１１０としてパルスレーザビームを生成するパルスマルチチャンバレーザ源である。図２は、一般に、本発明の広義の原理の説明を容易にするために、コンポーネント及び光路の１つの特定の組み合わせ厳密に示し、当業者であれば、有利には、本発明の原理が他のコンポーネント及び構成を有するレーザに適用可能であることが明らかとなろう。
【００３５】
[0040]  図２は、例示的に及びブロック図において、開示する主題の特定の態様の一実施形態に従ったガス放電レーザシステムを示す。ガス放電レーザシステムは、例えば、ソリッドステート又はガス放電シードレーザシステム１４０、パワー増幅器（「ＰＡ」）ステージ、例えばパワーリング増幅器（「ＰＲＡ」）ステージ１４５、リレー光学系１５０、及びレーザシステム出力サブシステム１６０を含むことができる。シードシステム１４０は、例えば主発振器（「ＭＯ」）チャンバ１６５を含むことができ、ＭＯチャンバ１６５では例えば、電極（図示せず）間の放電が、レージングガス内でレージングガス放電を生じさせ、当分野で既知のように、ライン狭隘化モジュール（「ＬＮＭ」）１７０内で、相対的に非常に狭い帯域幅及び選択された中心波長までライン狭隘化することができる、相対的に広帯域な放射を生成するために、例えばＡｒ、Ｋｒ、又はＸｅを含む高エネルギー分子の反転分布を作成することができる。
【００３６】
[0041]  シードレーザシステム１４０は、主発振器出力カプラ（「ＭＯ  ＯＣ」）１７５も含むことができ、ＭＯ  ＯＣ１７５は、シードレーザ１４０がシードレーザ出力パルスを形成するために、すなわち、主発振器（「ＭＯ」）を形成するために振動する、発振器キャビティを、ＬＮＭ１７０内の反射格子（図示せず）と共に形成する、部分反射ミラーを備えることができる。システムは、ライン中心分析モジュール（「ＬＡＭ」）１８０も含むことができる。ＬＡＭ１８０は、精密な波長測定のためのエタロンスペクトロメータ、及びより粗な分解能格子スペクトロメータを含むことができる。ＭＯ波面エンジニアリングボックス（「ＷＥＢ」）１８５は、ＭＯシードレーザシステム１４０の出力を、増幅ステージ１４５に向けて方向転換する働きをすることができ、また、例えばマルチプリズムビームエキスパンダ（図示せず）を用いた、例えばビームエキスパンド、及び、例えば光遅延路（図示せず）の形のコヒーレンス破壊を含むことができる。
【００３７】
[0042]  増幅ステージ１４５は、ＰＲＡ  ＷＥＢ２１０に組み込むことが可能であり、ビームリザーバ２２０によってチャンバ２００内の利得媒体を介して戻るように方向転換することが可能な、例えば、シードビーム入射及び出力結合光学系（図示せず）によって形成される、発振器でもあり得る、例えばレージングチャンバ２００を含むことができる。ＰＲＡ  ＷＥＢ２１０は、（例えば、ＡｒＦシステムの場合、およそ１９３ｎｍにおける）公称動作波長及び１つ以上のプリズムのための、部分反射入力／出力カプラ（図示せず）及び最大反射ミラーを組み込むことができる。
【００３８】
[0043]  増幅ステージ１４５の出力における帯域幅分析モジュール（「ＢＡＭ」）２３０は、増幅ステージからパルスの出力レーザ光ビームを受け取り、例えば出力帯域幅及びパルスエネルギーを測定するために、メトロロジのための光ビームの一部を取ることができる。次いでパルスのレーザ出力光ビームは、パルスエネルギーメータの位置でもあり得る、光パルスストレッチャ（「ＯＰｕＳ」）２４０及び出力組み合わせオートシャッタメトロロジモジュール（「ＣＡＳＭＭ」）２５０を通過する。ＯＰｕＳ２４０の目的の１つは、例えば、単一の出力レーザパルスをパルス列に変換することであってよい。元の単一の出力パルスから作成される二次パルスは、互いに関して遅延する場合がある。元のレーザパルスエネルギーを二次パルスの列に分散することによって、レーザの事実上のパルス長さを拡張し、同時にピークパルス強度を低減させることができる。したがってＯＰｕＳ２４０は、ＢＡＭ２３０を介してＰＲＡ  ＷＥＢ２１０からレーザビームを受け取り、ＯＰｕＳ２４０の出力をＣＡＳＭＭ２５０に誘導することができる。
【００３９】
[0044]  ＭＯ及びＰＡ遅延コマンドを使用して、それぞれのトリガをそれぞれのパルスパワーシステム３１５に発行するために、基準トリガ、例えばトリガＴの後、顧客インターフェースからどれだけの長さであるかをＴＥＭ３１０に示すことができる。ＭＯ及びＰＡ又はＰＲＡの各々について、１パルスパワーシステムが存在し得る。
【００４０】
[0045]  ＥＵＶ光源において、レーザプリパルスを介して飛行金属液滴からターゲット分散を準備すること、及びその後、第２のレーザパルスを用いてターゲット分散をプラズマ状態まで加熱することによって、ＥＵＶを生成することができる。プリパルスレーザは液滴に当たってターゲット材料の分散を修正し、メインパルスレーザはターゲットに当たってこれをＥＵＶ放出プラズマまで加熱する。いくつかのシステムでは、プリパルス及びメイン加熱パルスは同じレーザシステムによって提供され、また他のシステムでは２つの別々のレーザが存在する。いくつかの場合には、形成されるターゲットからのメインパルスの反射は、形成されるターゲット又はターゲット位置の診断として使用される。光源の効率的及びデブリ最小化動作のために、飛行液滴を数マイクロメートル内の「標的とすること」が重要である。
【００４１】
[0046]  図３は、プリパルス及びメインパルスの両方を使用するＥＵＶシステム２６０の一定の縮尺でない概略図である。ＥＵＶシステム２６０は、他のフィーチャの中でもとりわけ、プリパルス２６７及び後続メインパルス２６８を生成することが可能な、放射源２６５を含む。プリパルス２６７及びメインパルス２６８は、照射サイト２９５においてある量のターゲット材料２９０に当たる、コレクタミラー２８７を含むチャンバ２８５内へと伝搬する。図示された例では、ターゲット材料２９０は、元は、この例では液滴ジェネレータであるターゲット材料ディスペンサ２９２によって解放される、液滴のストリームの形である。ターゲット材料２９０は、メインパルスによってこの形でイオン化することができる。代替として、ターゲット材料２９０は、例えばターゲット材料２９０の幾何分散を変更することが可能な、プリパルスを用いたイオン化のために事前調整することができる。したがって、ターゲット材料２９０が所望の形（ディスク、クラウドなど）であることを保証するためにターゲット材料２９０にプリパルス２６７を正確に当てること、及び、ＥＵＶ放射の効率的な生成を促進するためにターゲットにメインパルスを正確に当てることの、両方が必要であり得る。これはすべて、制御回路の制御の下で行われる。
【００４２】
[0047]  過去には、プリパルス又はメインパルスをターゲット材料に正確に当てるために、動作パルスからの反射光の使用又は液滴を照明するための第２のレーザ又は光源の使用を含む、いくつかのシステムが使用されてきた。例えば、２００８年５月１３日発行の「LPP EUV Plasma Source Material Target Delivery System」という名称の米国特許第７，３７２，０５６号は、その全体が本明細書に組み込まれ、液滴検出放射源、及び、ターゲット材料の液滴から反射する液滴検出放射を検出する液滴放射検出器の使用を開示する。
【００４３】
[0048]  図４は、パルスの発火の相対的タイミングを制御するために使用可能な回路要素、例えば、ＤＵＶシステム内のＭＯチャンバ１６５及びＰＲＡチャンバ２００、又はＥＵＶシステム内のプリパルス及びメインパルスの、機能ブロック図である。図４には、エネルギー及びタイミングコントローラ３０５からタイミング及びエネルギーモジュール（ＴＥＭ）３１０へＭＯ及びＰＡ遅延コマンドを送信することが可能な、発火制御回路（ＦＣＣ）３００が示されている。ＴＥＭ３１０は、パルスパワーシステム３１５内のソリッドステートスイッチング要素（図示せず）を介して充電キャパシタ（図示せず）の放電を開始するために、ＭＯ及びＰＡ整流子トリガを、パルスパワーシステム３１５に送信することができる。それぞれのトリガは、それぞれのＭＯ及びＰＡの各々における電極間のレージングガス媒体を介して電極のそれぞれのペアに提供される電気エネルギーに起因して、最終ガス放電を作成する。ＥＵＶシステムにおいて、例えば、プリパルス及びメインパルスの発火の相対的タイミングを制御するために、ＴＥＭなどのモジュールを使用することができる。
【００４４】
[0049]  ＴＥＭ３１０の主機能は、高精度遅延パルスを作成することである。ＴＥＭ３１０などのＴＥＭは、ＤＵＶ及びＥＵＶの両方のシステムで使用可能である。本明細書で開示される原理は、ＤＵＶ及びＥＵＶの両方のシステムの両方に有用である。ＤＵＶシステムにおいて、ＴＥＭは、１つは主発振器（ＭＯ）のため、及び１つはパワー増幅器（ＰＡ）のための、２つのパルスを作成する。これら２つのパルスについての既存の仕様は、下記のとおりである。
１−ＭＯ及びＰＡについてのパルス持続期間＝５００ｎｓ
２−基準トリガからＭＯ整流子トリガまでの最大遅延＝２７ｕｓ
３−基準トリガからＰＡ整流子トリガまでの最大遅延＝２７ｕｓ
４−ＭＯ及びＰＡトリガの両方についての遅延分解能＜２５０ｐｓ
５−ＭＯ及びＰＡトリガの両方についての遅延ジッタ＜２５０ｐｓ
【００４５】
[0050]  一実施形態の一態様によれば、フィールドプログラマブルゲートアレイ（ＦＰＧＡ）を含む回路要素はプログラマブル遅延チップ（ＰＤＣ）との組み合わせで、必要な高精度遅延を作成するために使用される。互いに離れて使用されるこれらのデバイスは、制限を有する。例えばＦＰＧＡは、一般に、サブナノ秒論理を作成することはできない。ＰＤＣは、それらの第１のタップまで固定伝搬遅延を有し、遅延範囲も非常に小さい。しかしながら、これら２つの技術を組み合わせることによって、これらの制限を克服することができる。
【００４６】
[0051]  図５は、ＦＰＧＡ４００を、ＰＤＣ４１０、４１５、４２０、及び４２５と組み合わせる回路の例を示す。より詳細には、ＦＰＧＡ４００は、パルスデータコマンド及び入力トリガＡを受け取る。結果として、ＦＰＧＡ４００内の回路要素４４０は、発振器４４５の制御の下で４つの信号ｂ１、ｂ２、ｂ３、及びｂ４を生成する。第１の信号ｂ１は、第１の信号ｂ１の伝搬を遅延させるプログラマブル遅延回路４１０に印加される。第２の信号ｂ２は、インバータ４５０によって反転され、第２の信号ｂ２の伝搬を、第１の遅延の大きさよりも大きい大きさを有する第２の遅延だけ遅延させる、プログラマブル遅延回路４１５に供給される。プログラマブル遅延回路４１０及びプログラマブル遅延回路４１５の出力は、例えばＡＮＤゲートであってよい論理回路４３０に印加される。結果として生じる信号Ｐ１は、例えばマルチチャンバレーザの１つのチャンバについてのトリガとして使用される。
【００４７】
[0052]  第３の信号ｂ３は、第３の信号ｂ３の伝搬を遅延させるプログラマブル遅延回路４２０に印加される。第４の信号ｂ４はインバータ４５０によって反転され、第４の信号ｂ４の伝搬を、プログラマブル遅延回路４２０によって第３の信号に課せられる遅延の大きさよりも大きい大きさを有する遅延だけ遅延させる、プログラマブル遅延回路４２５に供給される。プログラマブル遅延回路４２０及びプログラマブル遅延回路４２５の出力は、例えばＡＮＤゲートであってよい論理回路４３５に印加される。結果として生じる信号Ｐ２は、例えばマルチチャンバレーザの第２のチャンバについてのトリガとして使用される。
【００４８】
[0053]  プログラマブル遅延回路４１０、４１５、４２０、及び４２５は、例えばＦＰＧＡ４００の一部であってよい、プログラミングモジュール４６０によってプログラミングされる。
【００４９】
[0054]  ＦＰＧＡ４００として使用するのに適したＦＰＧＡの一例は、Ｘｉｌｉｎｘ  Ｋｉｎｔｅｘ７  ＦＰＧＡ（スピードグレード−３）である。このＦＰＧＡは、最大８００ＭＨｚ（１．２５ｎｓ）クロック周波数に制限される。ＰＤＣ４１０、４１５、４２０、及び４２５として使用するのに適したＰＤＣの一例は、１０ｐｓ増分での２．５ｎｓ〜１３ｎｓの間の総使用可能遅延を伴う、ＯＮ半導体プログラマブル遅延チップＭＣ１００ＥＰ１９６ＢＭＮＧである。
【００５０】
[0055]  図５の配置において、ＦＰＧＡ４００は、（マイクロ秒及びミリ秒遅延も可能にする）粗遅延を作成するために使用される。ＰＤＣ４１０、４１５、４２０、及び４２５は、微細（１０ｐｓ増分）遅延を作成するために使用される。上記の例では、ＦＰＧＡ４００内部の位相ロックループ（ＰＬＬ）が、４００ＭＨｚクロック（２．５ｎｓ周期）を作成するために使用され、この２．５ｎｓ周期は、ＰＤＣ４１０、４１５、４２０、及び４２５の第１のタップへの遅延に一致し、したがって連続遅延範囲を有することを可能にする。この場合、下記によって計算される粗遅延分解能は２．５ｎｓであり、微細遅延分解能は１０ｐｓである。
【００５１】
[0056]  
【数１】
2022502690.tif 000003
【００５２】
[0057]  
【数２】
2022502690.tif 000004
【００５３】
[0058]  図６は、１ｎｓ空間を置いた２つの１ｎｓ幅パルスの作成を示す。図面を明瞭にするために１ナノ秒が図５の基礎として使用されるが、当業者であれば、ピコ秒分解能タイミングを生成するために、図４に示される回路において同じ相対的タイミングを使用することが可能なことが明らかとなろう。図５に示されるように、「１ｎｓ  ｐｅｒｉｏｄ」と標示された上端信号はクロック信号である。図内で下方に進んだ次の信号は「ｂ１」と標示され、前述の第１の信号である。図を見ればわかるように、信号ｂ１は第１の論理レベルから、クロックの立上りエッジで第２の論理レベルへと進み、次いで、いくつかのクロックサイクルの後、第２の論理レベルから第１の論理レベルへと遷移する。
【００５４】
[0059]  次の下の信号は「〜ｂ２」と標示され、信号ｂ１の論理反転である。次の下の信号は「ｂ１＿Ｄｅｌａｙｅｄ＿２ｎｓ」と標示され、信号ｂ１が２クロックサイクル遅延するものである。次の下の信号は「〜ｂ２＿Ｄｅｌａｙｅｄ＿３ｎｓ」と標示され、信号〜ｂ２が３クロックサイクル遅延するものである。次の下の信号は「Ｐｕｌｓｅ  １＿１ｎｓ」と標示され、「ｂ１＿Ｄｅｌａｙｅｄ＿２ｎｓ」及び「〜ｂ２＿Ｄｅｌａｙｅｄ＿３ｎｓ」のＡＮＤ演算の結果である。この結果として、１クロックサイクル持続するパルスが生じる。
【００５５】
[0060]  図内で下方に進んだ次の信号はｂ３と標示され、前述の第３の信号である。図を見ればわかるように、信号ｂ３は第１の論理レベルから、クロックの立上りエッジで第２の論理レベルへと進み、次いで、いくつかのクロックサイクルの後、第２の論理レベルから第１の論理レベルへと遷移する。
【００５６】
[0061]  次の下の信号は「〜ｂ４」と標示され、信号ｂ４の論理反転である。次の下の信号は「ｂ３＿Ｄｅｌａｙｅｄ＿２ｎｓ」と標示され、信号ｂ３が２クロックサイクル遅延するものである。次の下の信号は「〜ｂ４＿Ｄｅｌａｙｅｄ＿３ｎｓ」と標示され、信号〜ｂ４が３クロックサイクル遅延するものである。次の下の信号は「Ｐｕｌｓｅ  ２＿１ｎｓ」と標示され、「ｂ３＿Ｄｅｌａｙｅｄ＿２ｎｓ」及び「〜ｂ４＿Ｄｅｌａｙｅｄ＿３ｎｓ」のＡＮＤ演算の結果である。この結果として、第１のパルスから１クロックサイクル遅延する、１クロックサイクル持続するパルスが生じる。信号ｂ１及び信号ｂ３における繊維の相対的タイミングは、Ｐｕｌｓｅ  １とＰｕｌｓｅ  ２との間の遅延量を決定する。
【００５７】
[0062]  デジタルシステムにおけるジッタは、発振器電子回路における不安定性によって生じる。このため、約５０〜１００ｐｓの範囲のジッタを被る可能性のあるＦＰＧＡを使用するとき、ＦＰＧＡ内部のいずれのＰＰＬ／ＤＣＭ／ＭＭＣＭの使用も避けるべきである。設計の要求に応じて、発振器は正しい周波数安定性を用いて選択することができる。こうした発振器の一例が、１．８ｐｓ）の最大ジッタを伴う、Ａｂｒａｃｏｎ  ＬＬＣ  ＡＳＧＴＸ−Ｄ―４００．０００ＭＨＺ−１である。アナログ技術及びデジタル技術の両方が、熱雑音及びパワー及び接地を介する外部干渉によって生じるジッタを被る。
【００５８】
[0063]  上記の説明は、複数の実施形態の例を含む。もちろん、前述の実施形態を説明するために、構成要素又は方法論の考え得るあらゆる組み合わせを説明することは不可能であるが、当業者であれば、様々な実施形態の多くの更なる組み合わせ及び置換が可能であることが理解できよう。したがって説明する実施形態は、添付の特許請求の範囲の趣旨及び範囲内にあるすべてのこうした変更、改変、及び変形を包含することが意図される。更に、「含む（include）」という用語が詳細な説明又は特許請求の範囲のいずれにおいても使用される限りでは、こうした用語は、「備える（comprising）」という用語が請求項において遷移語として使用されるときに解釈されるのと同様に、包括的であるものと意図される。更に、説明する態様及び／又は実施形態の要素は単数形で説明又は請求される場合があるが、明示的に単数に限定されていない限り、複数が企図される。加えて、任意の態様及び／又は実施形態のすべて又は一部は、特に示されていない限り、任意の他の態様及び／又は実施形態のすべて又は一部と共に利用可能である。
【００５９】
[0064]  本発明の他の態様は、下記の番号付けされた条項に示される。
１．レーザシステムであって、
複数のクロックサイクル間に第１の論理レベルから第２の論理レベルに遷移する第１のデジタル信号、及び第１のデジタル信号の逆の論理である第２のデジタル信号を生成するように構成される、フィールドプログラマブルゲートアレイと、
第１のデジタル信号を受信するように配置され、遅延した第１のデジタル信号を生成するために第１のデジタル信号の伝搬を第１の遅延だけ遅延させるように構成される、第１のプログラマブル遅延回路と、
第２のデジタル信号を受信するように配置され、遅延した第２のデジタル信号を生成するために第２のデジタル信号の伝搬を第１の遅延よりも大きい第２の遅延だけ遅延させるように構成される、第２のプログラマブル遅延回路と、
遅延した第１のデジタル信号及び遅延した第２のデジタル信号を受信するように配置され、第１のデジタル信号及び遅延した第２のデジタル信号の両方が第２の論理レベルにあるとき、及びそのときにのみ、パルスを生成するように構成される、第１の論理回路と、
を備える、レーザシステム。
２．レーザシステムであって、
第１の持続期間を有する第１のパルス及び第２の持続期間を有する第２のパルスを供給するように構成され、第１のパルスの開始及び第２のパルスの開始は遅延間隔だけ時間的に分離される、モジュールを備える、レーザシステムであって、モジュールは、
複数のクロックサイクル間に時点ｔ１において第１の論理レベルから第２の論理レベルに遷移する第１のデジタル信号、第１のデジタル信号の逆の論理である第２のデジタル信号、複数のクロックサイクル間にｔ１より後の時点ｔ２において第１の論理レベルから第２の論理レベルに遷移する第３のデジタル信号、及び、第３のデジタル信号の逆の論理である第４のデジタル信号を、生成するように構成される、フィールドプログラマブルゲートアレイと、
第１のデジタル信号を受信するように配置され、遅延した第１のデジタル信号を生成するために第１のデジタル信号の伝搬を第１の遅延だけ遅延させるように構成される、第１のプログラマブル遅延回路と、
第２のデジタル信号を受信するように配置され、遅延した第２のデジタル信号を生成するために第２のデジタル信号の伝搬を第１の遅延よりも大きい第２の遅延だけ遅延させるように構成される、第２のプログラマブル遅延回路と、
遅延した第１のデジタル信号及び遅延した第２のデジタル信号を受信するように配置され、第１のデジタル信号及び遅延した第２のデジタル信号の両方が第２の論理レベルにあるとき、及びそのときにのみ、第１のパルスを生成するように構成される、第１の論理回路と、
第３のデジタル信号を受信するように配置され、遅延した第３のデジタル信号を生成するために第３のデジタル信号の伝搬を第３の遅延だけ遅延させるように構成される、第３のプログラマブル遅延回路と、
第４のデジタル信号を受信するように配置され、遅延した第４のデジタル信号を生成するために第４のデジタル信号の伝搬を第３の遅延よりも大きい第４の遅延だけ遅延させるように構成される、第４のプログラマブル遅延回路と、
遅延した第３のデジタル信号及び遅延した第４のデジタル信号を受信するように配置され、遅延した第３のデジタル信号及び遅延した第４のデジタル信号の両方が第２の論理レベルにあるとき、及びそのときにのみ、第１のパルスの停止後に第２のパルスを生成するように構成される、第２の論理回路と、
を備える、
レーザシステム。
３．レーザシステムは、深紫外線放射を生成するためのシステムであり、更に、
第１のパルスを受信するように配置され、第１のパルスに応答してレーザの第１のチャンバを発火させるための、第１のトリガ回路、及び、
第２のパルスを受信するように配置され、第２のパルスに応答してレーザの第２のチャンバを発火させるための、第２のトリガ回路、
を備える、条項２に記載のレーザシステム。
４．レーザシステムは、極端紫外線放射を生成するためのシステムであり、更に、
第１のパルスを受信するように配置され、第１のパルスに応答して第１のレーザパルスを発火させるための、第１のトリガ回路、及び、
第２のパルスを受信するように配置され、第２のパルスに応答して第２のレーザパルスを発火させるための、第２のトリガ回路、
を備える、条項２に記載のレーザシステム。
５．第１のパルスに基づいて第１のレーザチャンバ通電パルスを受信するように配置された、第１のレーザチャンバ、及び、
第２のパルスに基づいて第２のレーザチャンバ通電パルスを受信するように配置された、第２のレーザチャンバ、
を更に備える、条項２に記載のレーザシステム。
６．レーザシステムのためのトリガパルスを生成する方法であって、
複数のクロックサイクル間に第１の論理レベルから第２の論理レベルへ遷移する第１のデジタル信号と、第１のデジタル信号の逆の論理である第２のデジタル信号とを生成すること、
遅延した第１のデジタル信号を生成するために第１のデジタル信号の伝搬を第１の遅延だけ遅延させること、
遅延した第２のデジタル信号を生成するために第２のデジタル信号の伝搬を第１の遅延よりも大きい第２の遅延だけ遅延させること、及び、
第１のデジタル信号及び遅延した第２のデジタル信号の両方が第２の論理レベルにあるとき、及びそのときにのみ、パルスを生成すること、
を含む、レーザシステムのためのトリガパルスを生成する方法。
７．レーザシステムのためのトリガパルスを生成する方法であって、
複数のクロックサイクル間に時点ｔ１において第１の論理レベルから第２の論理レベルへ遷移する第１のデジタル信号と、第１のデジタル信号の逆の論理である第２のデジタル信号とを生成すること、
遅延した第１のデジタル信号を生成するために第１のデジタル信号の伝搬を第１の遅延だけ遅延させること、
遅延した第２のデジタル信号を生成するために第２のデジタル信号の伝搬を第１の遅延よりも大きい第２の遅延だけ遅延させること、
第１のデジタル信号及び遅延した第２のデジタル信号の両方が第２の論理レベルにあるとき、及びそのときにのみ、第１のパルスを生成すること、
複数のクロックサイクル間にｔ１より後の時点ｔ２において第１の論理レベルから第２の論理レベルに遷移する第３のデジタル信号、及び、第３のデジタル信号の逆の論理である第４のデジタル信号を生成すること、
遅延した第３のデジタル信号を生成するために第３のデジタル信号の伝搬を第３の遅延だけ遅延させること、
遅延した第４のデジタル信号を生成するために第４のデジタル信号の伝搬を第３の遅延よりも大きい第４の遅延だけ遅延させること、及び、
遅延した第３のデジタル信号及び遅延した第４のデジタル信号の両方が第２の論理レベルにあるとき、及びそのときにのみ、第１のパルスの停止後に第２のパルスを生成すること、
を含む、レーザシステムのためのトリガパルスを生成する方法。
８．第１のパルスをトリガとしてマルチチャンバレーザの第１のチャンバのパワー整流子に供給すること、及び、
第２のパルスをトリガとしてマルチチャンバレーザの第２のチャンバのパワー整流子に供給すること、
を更に含む、条項７に記載の方法。
９．第１、第２、第３、及び第４のデジタル信号を生成するステップは、フィールドプログラマブルゲートアレイによって実施される、条項７に記載の方法。
１０．ターゲット材料において第１のパルスを発火させるために、第１のパルスをトリガとして供給するステップと、
ターゲット材料において第２のパルスを発火させるために、第２のパルスをトリガとして供給するステップと、
を更に含む、条項７に記載の方法。
１１．第１のパルスはプレパルスであり、第２のパルスはメインパルスである、条項７に記載の方法。
１２．第１のデジタル信号を遅延させるステップは、第１のプログラマブル遅延回路によって実行される、条項７に記載の方法。
１３．第２のデジタル信号を遅延させるステップは、第２のプログラマブル遅延回路によって実行される、条項７に記載の方法。
１４．第３のデジタル信号を遅延させるステップは、第３のプログラマブル遅延回路によって実行される、条項７に記載の方法。
１５．第４のデジタル信号を遅延させるステップは、第４のプログラマブル遅延回路によって実行される、条項７に記載の方法。
【図１】
2022502690.tif 000005
【図２】
2022502690.tif 000006
【図３】
2022502690.tif 000007
【図４】
2022502690.tif 000008
【図５】
2022502690.tif 000009
【図６】
2022502690.tif 000010
【国際調査報告】
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