Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成22年10月21日(2010.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
例４：ブリオスタチン(20 UG/KG) 及び微細TBIの治療
微細外傷性脳障害 (TBI) をマウスにおいて、30 gマスを用いた震盪性のイベントにより作製した。外傷後1時間、マウスに腹腔内注射により1 kgあたり20μgのブリオスタチンを与えた。注射を、合計5回の治療の間、1週間あたり2回繰り返した。微細TBI後ブリオスタチンにより治療されたマウスのモリス水迷路における逃避潜伏期を、微細TBIの動物、TBIまたはブリオスタチンを受けていないコントロール動物、及びブリオスタチンのみ受けた動物と比較した。結果を図2に示す。各治療群又はコントロール群の記憶保持を図3に表で示す。
以下に、本願出願の当初の特許請求の範囲に記載された発明を付記する。
（１）  頭部外傷を治療する方法であって、頭部外傷に罹患した患者を特定する工程と、プロテインキナーゼC（PKC）アクチベータ、4-メチルカテコール酢酸（MCBA）、または他のメチルカテコールの誘導体および薬学的に許容される担体を含む、頭部外傷の少なくとも一症状を治療するのに効果的な量の医薬組成物を前記患者に投与する工程とを含む方法。
（２）  （１）に記載の方法であって、当該PKCアクチベータがFGF-18、大環状ラクトン、ベンゾラクタム、ピロリジノン、またはその組み合わせである方法。
（３）  （２）に記載の方法であって、当該大環状ラクトンがブリオスタチンまたはネリスタチンである方法。
（４）  （３）に記載の方法であって、当該ブリオスタチンがブリオスタチン-1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16、17または18である方法。
（５）  （４）に記載の方法であって、当該ブリオスタチンはブリオスタチン-1である方法。
（６）  （３）に記載の方法であって、当該ネリスタチンはネリスタチン-１である方法。
（７）  （１）に記載の方法であって、当該医薬組成物は4-メチルカテコール酢酸を含む方法。
（８）  （１）に記載の方法であって、前記投与は前記頭部外傷から1日以内に開始される方法。
（９）  （１）に記載の方法であって、前記投与は前記頭部外傷から2日以内に開始される方法。
（１０）  （１）に記載の方法であって、前記投与は前記頭部外傷から3日以内に開始される方法。
（１１）  （１）に記載の方法であって、前記投与は前記頭部外傷から1日から2日の間に開始される方法。
（１２）  （１）に記載の方法であって、前記投与は前記頭部外傷から1日から3日の間に開始される方法。
（１３）  （１）に記載の方法であって、当該治療は1週間の期間継続する方法。
（１４）  （１）に記載の方法であって、当該治療は2週間の期間継続する方法。
（１５）  （１）に記載の方法であって、当該治療は3週間の期間継続する方法。
（１６）  （１）に記載の方法であって、当該治療は4週間の期間継続する方法。
（１７）  （１）に記載の方法であって、当該治療は6週間の期間継続する方法。
（１８）  （１）に記載の方法であって、前記治療は頭部外傷誘導性の脳障害を逆転させる方法。
（１９）  （１）に記載の方法であって、前記治療は頭部外傷誘導性の記憶障害を逆転させる方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年10月21日(2010.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
記憶保持試験において、擬似手術のラットは標的クアドラント選択を示した。このような良好な記憶保持は虚血性ラットにおいては観察されず、これは障害された空間記憶を示す。ブリオスタチン-１治療は、虚血後の記憶保持を擬似手術のラットのレベルまで効果的に復元した。ブリオスタチン-１のみでは、標的クアドラント選択に擬似手術コントロールラットと比較した有意な効果は与えなかった。クアドラント率（標的クアドラントの水泳距離を非標的クアドラントにおける平均水泳距離によって割ることにより計算された；F3,31 = 6.181, p<0.005）には群間で有意差があった。詳細な分析は、虚血ラットと擬似手術コントロールラット間(F1,15 = 9.451, p<0.01)、虚血ラットとブリオスタチン-１治療の虚血ラット間(F1,15 = 10.328, p<0.01)には有意差があるが、ブリオスタチン-１治療の虚血ラットと擬似手術コントロール間(F1,15 = 0.0131, p>0.05)および擬似手術コントロールラットとブリオスタチンのみのラット間 (F1,15 = 0.161, p>0.05) には有意差がないことを明らかにした。これらの結果は、脳虚血／低酸素症により空間学習および記憶の障害が生じたことを示すものであり、これは虚血性イベントの約7週間後に試験されたものである。適切な介入がない時間枠中、当該障害は持続し、回復不可能であったが、たとえ虚血イベントの24時間後という広い治療時間帯に治療が開始された時でも、長時間のブリオスタチン-１治療により復元した。
以下に、本願出願の当初の特許請求の範囲に記載された発明を付記する。
（１）  卒中を治療する方法であって、虚血性イベントに罹患した患者を特定する工程と、プロテインキナーゼC（PKC）アクチベータ、4-メチルカテコール酢酸（MCBA）、または他のメ
チルカテコールの誘導体および薬学的に許容される担体を含む、卒中の少なくとも一症状
を治療するのに効果的な量の医薬組成物を前記患者に投与する工程とを含む方法。
（２）  （１）に記載の方法であって、当該PKCアクチベータがFGF-18、大環状ラクトン、ベンゾラクタム、ピロリジノン、またはその組み合わせである方法。
（３）  （２）に記載の方法であって、当該大環状ラクトンがブリオスタチンまたはネリスタ
チンである方法。
（４）  （３）に記載の方法であって、当該ブリオスタチンがブリオスタチン-1、2、3、4、5
、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16、17または18である方法。
（５）  （４）に記載の方法であって、当該ブリオスタチンはブリオスタチン-1である方法。
（６）  （３）に記載の方法であって、当該ネリスタチンはネリスタチン-１である方法。
（７）  （１）に記載の方法であって、当該医薬組成物は4-メチルカテコール酢酸を含む方法。
（８）  （１）に記載の方法であって、前記投与は前記卒中から1日以内に開始される方法。
（９）  （１）に記載の方法であって、前記投与は前記卒中から2日以内に開始される方法。
（１０）  （１）に記載の方法であって、前記投与は前記卒中から3日以内に開始される方法。
（１１）  （１）に記載の方法であって、前記投与は前記卒中から1日から2日の間に開始される方法。
（１２）  （１）に記載の方法であって、前記投与は前記卒中から1日から3日の間に開始される方法。
（１３）  （１）に記載の方法であって、当該治療は1週間の期間継続する方法。
（１４）  （１）に記載の方法であって、当該治療は2週間の期間継続する方法。
（１５）  （１）に記載の方法であって、当該治療は3週間の期間継続する方法。
（１６）  （１）に記載の方法であって、当該治療は4週間の期間継続する方法。
（１７）  （１）に記載の方法であって、当該治療は6週間の期間継続する方法。
（１８）  （１）に記載の方法であって、前記治療は卒中誘導性の脳障害を逆転させる方法。
（１９）  （１）に記載の方法であって、前記治療は卒中誘導性の記憶障害を逆転させる方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年7月7日(2010.7.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アミン反復単位を含み、該反復単位が少なくとも2つのアミン基、及び-CH2CH2-基を介して結合された少なくとも2つの非環式窒素原子を含む、重合体又は生理的に許容し得るこれらの塩：ただし、該反復単位は、-NHCH2CH2NH-、-NHCH2CH2NHCH2CH2NH-、-NHCH2CH2(N-)CH2CH2NH-又は-NHCH2CH2(N-)CH2CH2NH2ではないことを条件とする。
【請求項２】
前記アミン反復単位が以下の構造式によって表される、請求項1記載の重合体：
【化１】
2009536246.tif 000001
（式中、Xによって表される基の2つ以上は、それぞれ前記重合体の別の原子への共有結合であり、かつXによって表される残りの基は、独立して、H、又は任意に置換されたアルキル基若しくは任意に置換されたアリール基であるか、又は隣接する窒素原子に結合したX及びこれらの介在原子と共に任意に置換された複素環基を形成し；それぞれのnは、独立して整数2〜10であり、ただし、少なくとも１つのnが2であることを条件とする。）。
【請求項３】
前記アミン反復単位が以下の構造式によって表される、請求項1記載の重合体：
【化２】
2009536246.tif 000002
（式中、Xによって表される基の2つ以上は、それぞれ前記重合体の別の原子への共有結合であり、かつXによって表される残りの基は、独立して、H、又は任意に置換されたアルキル基若しくは任意に置換されたアリール基であるか、又は隣接する窒素原子に結合したX及びこれらの介在原子と共に任意に置換された複素環基を形成し；それぞれのnは、独立して、整数2〜10である。）。
【請求項４】
前記アミン反復単位が以下の構造式によって表される、請求項1記載の重合体：
【化３】
2009536246.tif 000003
（式中、Xによって表される基の2つ以上は、それぞれ前記重合体の別の原子への共有結合であり、かつXによって表される残りの基は、R1であり；R1は、独立して、H、又は任意に置換されたアルキル基若しくは任意に置換されたアリール基であるか、又は隣接する窒素原子に結合したR1及びこれらの介在原子と共に任意に置換された複素環基を形成し；それぞれのnは、独立して、整数2〜10である。）。
【請求項５】
前記アミン反復単位が以下の構造式によって表される、請求項1記載の重合体：
【化４】
2009536246.tif 000004
式中、それぞれのR1は、独立して、H、又は任意に置換されたアルキル基若しくは任意に置換されたアリール基であるか、又は隣接する炭素若しくは窒素原子及びこれらの介在原子に結合したR1と共に任意に置換された脂環式基、芳香族基又は複素環基を形成し；
Xによって表される基の2つ以上は、それぞれ前記重合体の別の原子に共有結合されており、かつ前記Xによって表される残りの基は、R1であり；
それぞれのtは、独立して0、1、2又は3であり；並びに、
それぞれのnは、独立して0又は整数1〜10である、請求項1記載の重合体。
【請求項６】
前記アミン反復単位が以下の構造式によって表される、請求項5記載の重合体：
【化５】
2009536246.tif 000005
。
【請求項７】
前記重合体が多官能性架橋基によって架橋され；
該多官能性架橋基が、2つ以上の求電子性基を含む多官能性架橋剤の残基であり；
該多官能性架橋剤が、エピクロロヒドリン、1,2-ジブロモエタン、1-ブロモ-2-クロロエタン、1,3-ジブロモプロパン、塩酸ビス(2-クロロエチル)アミン、塩酸メクロレタミン及び塩酸トリス(2-クロレチル)アミンからなる群から選択され；かつ
前記アミン反復単位が、重合されたトリス(2-アミノエチル)アミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ペンタエチレンヘキサミン、N-boc-エチレンジアミン、トリス[(メチルアミノ)エチル]アミン及びN,N,N',N'-テトラキス(3-アミノプロピル)1,2-ジアミノエタンからなる群から選択される、請求項1記載の重合体。
【請求項８】
それぞれのnが2である、請求項2〜6のいずれか1項記載の重合体。
【請求項９】
請求項8記載の重合体又はその生理的に許容し得る塩と医薬として許容し得る担体又は希釈剤とを含む、医薬組成物。
【請求項１０】
前記アミン反復単位から前記重合体の残部への結合の平均数が、約2.05〜約6の範囲である、請求項1記載の重合体。
【請求項１１】
対象から1つ以上の標的陰イオンを除去するための医薬組成物であって、請求項1記載の重合体又はその生理的に許容し得る塩の有効量を含む、前記医薬組成物。
【請求項１２】
前記標的陰イオンがホスフェートである、請求項11記載の医薬組成物。
【請求項１３】
前記対象が高リン酸塩血症を有する、請求項12記載の医薬組成物。
【請求項１４】
前記対象がヒトである、請求項11記載の医薬組成物。
【請求項１５】
リン酸結合剤、胆汁酸捕捉剤、β-ヒドロキシ-β-メチルグルタリル補酵素Aレダクターゼ阻害剤、コレステロール吸収阻害剤、リン酸輸送阻害剤、又はアルカリホスファターゼ阻害剤をさらに含む、請求項11記載の医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月21日(2010.4.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）の化合物又はその塩。
【化１】
2009536241.tif 000001
［式中、Ａは、式Ｘのβ-ナフチル基であり、
【化２】
2009536241.tif 000002
（式中、*は、式（１）の中でアゾ基が結合する点であり、
ｐおよびｑは、それぞれ独立に、０、１又は２であり、ｐ＋ｑの合計は０ではない。）
Ｂは、任意的に置換されてよいフェニレン又はナフチレンであり、
ｎは、０又は１であり、且つ、
Ｄは、任意的に置換されてよいピラゾリル基である。］
【請求項２】
Ｄが少なくとも一つのカルボキシ、スルホ又はホスフェート基を有するピラゾリル基である、請求項１記載の化合物又は塩。
【請求項３】
Ａがスルホ以外の基によって置換されていない、請求項１又は２に記載の化合物又は塩。
【請求項４】
ｐ＋ｑの合計が１、２あるいは３であることを条件に、ｐおよびｑがそれぞれ独立に０、１あるいは２である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の化合物又は塩。
【請求項５】
Ｂが任意的に置換されてよいフェニレン基である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の化合物又は塩。
【請求項６】
Ａが、スルホ以外の任意の基で置換されておらず、
Ｂが、スルホ、任意的に置換されてよいＣ1-6アルキル、任意的に置換されてよいＣ1-6アルコキシおよび任意的に置換されてよいアミノから選択される１又は２の置換基を有するフェニレン又はナフチレンであり、
ｎが、０又は１であり、
Ｄが、式（３ａ）、（３ｂ）又は（３ｃ）
【化３】
2009536241.tif 000003
[式中、Ｒ2が、Ｈ、メチル、カルボンアミド又はカルボキシであり、
Ｒ3およびＲ4が、それぞれ独立に、スルホおよびカルボキシより選択される１又は２の置換基を有するフェニル又はナフチルであり、且つ、
Ｒ5が、Ｃ1-4アルキルカルボキシエステルである。]
の基である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の化合物又は塩。
【請求項７】
Ａが、式Ｘ’
【化４】
2009536241.tif 000004
［式中、*が式（１）の中でアゾ基が結合する点であり、
ｐおよびｑは、それぞれ独立に０、１又は２であり、ｐ＋ｑの合計が１、２又は３である。]の基であり、
Ｂが、スルホ、メチル、メトキシ、エトキシおよび２-ヒドロキシエトキシから選択される１又は２の置換基を有するフェニレン又はナフチレンであり；
ｎが、０又は１であり、且つ、
Ｄが、式（３ａ）、（３ｂ）又は（３ｃ）
【化５】
2009536241.tif 000005
[式中、Ｒ2は、Ｈ、メチル、カルボンアミド又はカルボキシであり、
Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立に、スルホおよびカルボキシから選択される１あるいは２の置換基を有するフェニル又はナフチルであり、且つ
Ｒ5は、Ｃ1-4アルキルカルボキシエステルである。]
の基である、請求項６に記載の化合物又は塩。
【請求項８】
ｐ＋ｑの合計が２である、請求項１〜７のいずれか一項に記載の化合物又は塩。
【請求項９】
ｐ＝１およびｑ＝１である、請求項８記載の化合物又は塩。
【請求項１０】
式１Ｃ
【化６】
2009536241.tif 000006
で表わされる、請求項８記載の化合物又は塩。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか一項に記載の塩。
【請求項１２】
請求項１〜１０のいずれか一項に記載の化合物若しくは塩、及び／又は式（２）の化合物若しくはその塩、並びに
【化７】
2009536241.tif 000007
液体媒体
を含む、インク組成物
【請求項１３】
追加の着色料をさらに含む、請求項１２記載のインク組成物。
【請求項１４】
インクジェットプリンターによって請求項１２又は１３に記載の組成物を基板上に適用することを含む、該基板上に像を印刷する方法。
【請求項１５】
請求項１２又は請求項１３に記載の組成物を用いて、又は請求項１４に記載の方法によって印刷された、紙、オーバーヘッドプロジェクタースライド又は布地素材。
【請求項１６】
１室以上のチャンバー及び該チャンバーの少なくとも１室に存在する請求項１２又は１３に記載の組成物を含む、任意的に補充可能なインクジェットプリンターカートリッジ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９４】
好ましくは、基板は、紙、プラスチック、布地、金属又はガラス、より好ましくは、コート紙又はコートされたプラスチックなどの処理された基板、特にコートされた紙である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９７】
本発明の更なる態様に従って、上で定義したような本発明の方法によって像を印刷した基板が提供される。好ましくは、基板には、紙、オーバーヘッドプロジェクタースライド又は布地が含まれる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９８】
基板が布地素材である場合、像を印刷する方法は、好ましくは：
ｉ）  インクジェットプリンターを用いて布地素材にインク組成物を塗布すること；及びii）  得られた印刷された布地素材を５０〜２５０℃の温度に加熱すること：
を含む。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９９】
好ましい布地素材は、天然、合成および半-合成素材である。好ましい天然の布地素材の例としては、羊毛、絹、髪およびセルロース素材、特に綿、ジュート、麻、亜麻およびリンネルが含まれる。好ましい合成および半合成素材の例としては、ポリアミド、ポリエステル、ポリアクリロニトリルおよびポリウレタンが含まれる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１００
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１００】
好ましくは、布地素材を、濃厚化剤ならびに任意的に水溶性塩基および屈水剤(hydrotropic agent)を含む前処理用組成物水溶液で処理し、乾燥した後、上記ｉ）の工程を行った。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月6日(2010.5.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ｉ）少なくとも１種の二酸化チタンホワイト顔料と、
（ｉｉ）重合性ビヒクルと、
（ｉｉｉ）着色剤、光増感剤、光相乗剤、光開始剤および界面活性剤からなる群から選択される少なくとも１つの追加の原料と
を含むインクジェット記録用の放射線硬化性インク組成物であって、
（ｉｖ）前記二酸化チタン顔料の少なくとも１種がアルミナ処理され、そして本質的に
ａ．少なくとも第１酸性ポリエステル分散剤、および
ｂ．少なくとも第２アクリル構造化共重合体分散剤
からなる顔料分散剤の混合物によって安定化されていることを特徴とする組成物。
【請求項２】
前記酸性ポリエステル分散剤とアクリル構造化共重合体分散剤との比が重量で１：１０〜１０：１であることを特徴とする請求項１に記載の放射線硬化性インク組成物。
【請求項３】
前記構造化共重合体分散剤がＡＢ、ＢＡＢおよびＡＢＣブロックポリマーから選ばれる構造化ブロック共重合体分散剤であることを特徴とする請求項１に記載の放射線硬化性インク組成物。
【請求項４】
前記構造化共重合体分散剤がグラフト共重合体であることを特徴とする請求項１に記載の放射線硬化性インク組成物。
【請求項５】
使用されるモノマーの少なくとも１つがＵＶ反応性成分を含有することができることを特徴とする請求項３に記載のグラフト共重合体。
【請求項６】
実質的に溶剤を含まないことを特徴とする請求項１に記載の放射線硬化性インク組成物。
【請求項７】
導電剤が全く添加されず、０．０７５マイクロジーメンス未満の導電率を有することを特徴とする請求項１に記載の放射線硬化性インク組成物。
【請求項８】
請求項１に記載の放射線硬化性インク組成物と複数の着色された顔料化インクとを含むことを特徴とするインクセット。
【請求項９】
（ａ）デジタルデータ信号に応答するインクジェットプリンターを提供する工程と、
（ｂ）印刷されるべき基材を前記プリンターに装填する工程と、
（ｃ）請求項８に記載の放射線硬化性のインクジェットインクセットを前記プリンターに装填する工程と、
（ｄ）前記デジタルデータ信号に応答して、前記インクジェットインクまたはインクジェットインクセットを用いて前記基材上へ印刷し、それによって印刷物品を形成する工程と
を含むことを特徴とする基材上へのインクジェット印刷方法。
【請求項１０】
前記印刷物品上に印刷された前記インクを硬化させるのに好適な放射線に前記印刷物品を暴露させる工程をさらに含むことを特徴とする請求項９に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０２】
（印刷方法および後処理）
本発明のインクは、その多くが商業的に入手可能である、任意の好適なプリンターで塗布することができる。市販のＵＶプリンターの例には、次のベンダーから入手可能なものが挙げられる：本願特許出願人（「クロマプリント２２ＵＶ（ＣｒｏｍａＰｒｉｎｔ  ２２ＵＶ）」）、ブテック（Ｖｕｔｅｋ）（「プレス・ブ（Ｐｒｅｓｓ  Ｖｕ）」シリーズのプリンター）、ダースト（Ｄｕｒｓｔ）（「ロー（Ｒｈｏ）」シリーズのプリンター）、ヌル（Ｎｕｒ）（「テンポ（Ｔｅｍｐｏ）」）、レゲット・アンド・プラット（Ｌｅｇｇｅｔｔ  ＆  Ｐｌａｔｔ）（「バーツ（Ｖｉｒｔｕ）」シリーズのプリンター）、ならびにセリコル／インカ・デジタル（Ｓｅｒｉｃｏｌ／Ｉｎｃａ  Ｄｉｇｉｔａｌ）（「コロンビア（Ｃｏｌｕｍｂｉａ）」、「イーグル（Ｅａｇｌｅ）」および「スパイダー（Ｓｐｙｄｅｒ）」シリーズのプリンター）。これらのプリンターは、印刷されたインクを硬化させるのに好適なＵＶ光源を含むか、または利用可能にする。
以下に、本発明の好ましい態様を示す。
［１］  （ｖ）少なくとも１つの二酸化チタンホワイト顔料と、
（ｖｉ）重合性ビヒクルと、
（ｖｉｉ）着色剤、光増感剤、光相乗剤、光開始剤および界面活性剤からなる群から選択される少なくとも１つの追加の原料と
を含むインクジェット記録用の放射線硬化性インク組成物であって、
（ｖｉｉｉ）前記二酸化チタン顔料の少なくとも１つがアルミナ処理され、そして本質的に
ａ．少なくとも第１酸性ポリエステル分散剤、および
ｂ．少なくとも第２アクリル構造化共重合体分散剤
からなる顔料分散剤の混合物によって安定化されていることを特徴とする組成物。
［２］  前記酸性ポリエステル分散剤とアクリル構造化共重合体分散剤との比が重量で１：１０〜１０：１であることを特徴とする［１］に記載の放射線硬化性インク組成物。
［３］  前記構造化共重合体分散剤がＡＢ、ＢＡＢおよびＡＢＣブロックポリマーから選ばれる構造化ブロック共重合体分散剤であることを特徴とする［１］に記載の放射線硬化性インク組成物。
［４］  前記構造化共重合体分散剤がグラフト共重合体であることを特徴とする［１］に記載の放射線硬化性インク組成物。
［５］  使用されるモノマーの少なくとも１つがＵＶ反応性成分を含有することができることを特徴とする［３］に記載のグラフト共重合体。
［６］  実質的に溶剤を含まないことを特徴とする［１］に記載の放射線硬化性インク組成物。
［７］  導電剤が全く添加されず、０．０７５マイクロジーメンス未満の導電率を有することを特徴とする［１］に記載の放射線硬化性インク組成物。
［８］  ［１］に記載の放射線硬化性インク組成物と複数の着色された顔料化インクとを含むことを特徴とするインクセット。
［９］  （ａ）デジタルデータ信号に応答するインクジェットプリンターを提供する工程と、
（ｂ）印刷されるべき基材を前記プリンターに装填する工程と、
（ｃ）［８］に記載の放射線硬化性の白色インクジェットインクセットを前記プリンターに装填する工程と、
（ｄ）前記デジタルデータ信号に応答して、前記インクジェットインクまたはインクジェットインクセットを用いて前記基材上へ印刷し、それによって印刷物品を形成する工程と
を含むことを特徴とする基材上へのインクジェット印刷方法。
［１０］  前記基材がポリカーボネート、ポリ塩化ビニル板、感圧接着剤で裏打ちされたビニール、ポリスチレン、フォームボードおよび合板からなる群から選択されることを特徴とする［９］に記載の方法。
［１１］  前記印刷物品上に印刷された前記インクを硬化させるのに好適な放射線に前記印刷物品を暴露させる工程をさらに含むことを特徴とする［９］または［１０］に記載の方法。
［１２］  前記放射線が紫外光であることを特徴とする［１１］に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月16日(2010.4.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
鋼製の本体（１２、２２）と、該本体の外側を直接取り囲むセラミック繊維複合材料の第１の層（１４、２４）と、該第１の層の上に配置された繊維強化プラスチック及び／又は繊維強化セラミックスの少なくとも１つの第２の層（１６、２６）とを具備した流体負荷可能な又は流体が負荷された、圧力管又は圧力容器の形態をなす耐圧体（１０、２０）。
【請求項２】
該セラミック複合材料の繊維が酸化アルミニウム、ムライト、炭化ケイ素、酸化ジルコニウム及び／又は炭素繊維であることを特徴とする請求項１に記載の耐圧体。
【請求項３】
該セラミック繊維複合材料がSiC／SiC、C／C、C／SiC、Al2O3／Al2O3、C／シロキサン、SiC／シロキサン及び／又はムライト／ムライトからなることを特徴とする請求項１又は２に記載の耐圧体。
【請求項４】
前記第１の層（１４）が１mm≦D1≦２０mmの厚さD1を有することを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１つに記載の耐圧体。
【請求項５】
少なくとも１つ又は複数の前記第２の層（１６、２６）が全体として０mm＜D2≦５０mmの厚さD2を有することを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１つに記載の耐圧体。
【請求項６】
前記第１の層（１４、２４）の繊維（２８、３０）が半径方向に周回して及び／又は交差して該本体（１２、２２）の上に配列されていることを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１つに記載の耐圧体。
【請求項７】
少なくとも１つの前記第２の層（１６、２６）の繊維が該本体（１２、２２）に対して半径方向に周回して及び／又は交差して、前記第１の層の上に配置されていることを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１つに記載の耐圧体。
【請求項８】
該本体（１２、２２）がマルテンサイト鋼からなることを特徴とする請求項１ないし７のいずれか１つに記載の耐圧体。
【請求項９】
該本体（１２、２２）が高合金ニッケルベース合金からなることを特徴とする請求項１ないし８のいずれか１つに記載の耐圧体。
【請求項１０】
該本体（１２、２２）が１mm≦D≦５０mmの肉厚Dを有することを特徴とする請求項１ないし９のいずれか１つに記載の耐圧体。
【請求項１１】
マルテンサイト鋼、オーステナイト銅、又は高ニッケルベース合金よりなる鋼製の本体と、T≧５００℃の温度Tでクリープを全く又は極めて僅かしか示さない繊維からなり、又は、該繊維を含んで、本体を取り囲む少なくとも１つの層とからなる流体負荷可能な又は流体が負荷された圧力管又は圧力容器の形態をなす耐圧体。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月26日(2010.4.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アミン及びアルカノールアミンの少なくとも１つで中和されたＣ１２−２０脂肪酸を含む水性金属加工液（ＭＷＦ）を使用する工程を含む、アルミニウム又はアルミニウム合金の加工対象物を機械加工する方法。
【請求項２】
ＭＷＦのアミンが、アンモニア、メチル‐、ジメチル‐及びトリメチルアミン、エチル‐、ジエチル‐及びトリエチルアミン、ｎ‐プロピル‐、ジ‐ｎ‐プロピル‐及びトリ‐ｎ‐プロピルアミン、イソプロピルアミン、ｎ‐ブチル‐、イソブチル‐、ｓｅｃ‐ブチル‐及びｔｅｒｔ‐ブチルアミン、シクロヘキシルアミン、ジシクロヘキシルアミン、ベンジルアミン、αフェニルエチルアミン、β‐フェニルエチルアミン、エチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、水酸化テトラ（メチル）アンモニウム、ヘキサメチレンジアミン、アニリン、メチルアニリン、ｏ‐、ｍ‐及びｐ‐トルイジン、ｏ‐、ｍ‐及びｐ‐アニシジン、ｏ‐、ｍ‐及びｐ‐クロロアニリン並びにベンジジンの少なくとも１つである、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
ＭＷＦのアルカノールアミンが、モノ‐、ジ‐及びトリエタノールアミン、モノ‐、ジ‐及びトリ‐イソプロパノールアミン、ジグリコールアミン、ｎ‐ブチルエタノールアミン、２‐アミノ‐２‐メチル‐１‐プロパノール、並びに２‐アミノ‐２‐エチル‐１，３‐プロパンジオールの少なくとも１つである、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
中和された脂肪酸が、ＭＷＦの０．３〜１質量％を占める、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
水性ＭＷＦが、７〜１０のｐＨを有する、請求項１に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】アルミニウム又はアルミニウム合金の加工対象物を機械加工する方法
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月7日(2010.5.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも２つの成分ＡおよびＢからなる顔料混合物であって、
成分Ａが、
（Ａ）モル比が１：０．５〜１：２．０のＴｉＯ2とＦｅ2Ｏ3の混合物、ならびに場合により、層（Ａ）を基準として＜２０重量％の量の１以上の金属酸化物からなる高屈折率コーティングと、
（Ｂ）ｎ＜１．８の屈折率を有する無色コーティングと、
（Ｃ）ｎ＞１．８の屈折率を有する無色コーティングと、
（Ｄ）ｎ＞１．８の屈折率を有する吸収性コーティングと、場合により、
（Ｅ）外側保護層と
を含む層配列を有する多層コートのフレーク状基材に基づく効果顔料を含み、
成分Ｂが、無機顔料、有機顔料、染料、着色性天然果実、および／または植物抽出物の群から選択される着色剤、および／またはフレーク状、針状、球状、もしくは不規則形状の粒子からなる増量剤を含む
ことを特徴とする顔料混合物。
【請求項２】
成分Ａの効果顔料が、以下の層構造、
基材＋Ｆｅ2Ｏ3／ＴｉＯ2＋ＳｉＯ2＋ＴｉＯ2＋Ｆｅ2Ｏ3／ＴｉＯ2、
基材＋Ｆｅ2Ｏ3／ＴｉＯ2＋ＳｉＯ2＋ＴｉＯ2＋Ｆｅ2Ｏ3、または
基材＋Ｆｅ2Ｏ3／ＴｉＯ2＋ＳｉＯ2＋ＴｉＯ2＋ＳｉＯ2＋Ｆｅ2Ｏ3／ＴｉＯ2
を有することを特徴とする、請求項１に記載の顔料混合物。
【請求項３】
成分Ａのフレーク状基材がＴｉＯ2またはＳｉＯ2の層で被覆されることを特徴とする、請求項１または２に記載の顔料混合物。
【請求項４】
成分Ａの効果顔料が、以下の層構造、
基材＋ＴｉＯ2＋Ｆｅ2Ｏ3／ＴｉＯ2＋ＳｉＯ2＋ＴｉＯ2＋Ｆｅ2Ｏ3／ＴｉＯ2、または
基材＋ＴｉＯ2＋Ｆｅ2Ｏ3／ＴｉＯ2＋ＳｉＯ2＋ＴｉＯ2＋Ｆｅ2Ｏ3
を有することを特徴とする、請求項１から３のいずれか一項に記載の顔料混合物。
【請求項５】
成分Ａの効果顔料の層（Ａ）のＴｉＯ2対Ｆｅ2Ｏ3のモル比が１：１であることを特徴とする、請求項１から４のいずれか一項に記載の顔料混合物。
【請求項６】
成分Ａの効果顔料の層（Ｄ）のＴｉＯ2対Ｆｅ2Ｏ3のモル比が１：１であることを特徴とする、請求項１から５のいずれか一項に記載の顔料混合物。
【請求項７】
成分Ａの効果顔料の層（Ａ）が、疑似板チタン石、または疑似板チタン石とＴｉＯ2もしくは疑似板チタン石とＦｅ2Ｏ3の混合物の層であることを特徴とする、請求項１から６のいずれか一項に記載の顔料混合物。
【請求項８】
成分Ａの効果顔料の層（Ｄ）が、疑似板チタン石、または疑似板チタン石とＴｉＯ2もしくは疑似板チタン石とＦｅ2Ｏ3の混合物の層であることを特徴とする、請求項１から７のいずれか一項に記載の顔料混合物。
【請求項９】
成分Ａの効果顔料の層（Ａ）および（Ｄ）がそれぞれ、疑似板チタン石、または疑似板チタン石とＴｉＯ2もしくは疑似板チタン石とＦｅ2Ｏ3の混合物の層であることを特徴とする、請求項１から８のいずれか一項に記載の顔料混合物。
【請求項１０】
成分Ｂの着色剤が、成分Ａとは異なる真珠光沢顔料、多層顔料、および／または干渉顔料、あるいはそれらの混合物であることを特徴とする、請求項１から９のいずれか一項に記載の顔料混合物。
【請求項１１】
成分Ａおよび成分Ｂが混合比９９：１〜５０：５０で混合されることを特徴とする、請求項１から１０のいずれか一項に記載の顔料混合物。
【請求項１２】
成分Ａおよび成分Ｂが混合比９９：１〜１：９９で混合され、成分Ｂが増量剤であることを特徴とする、請求項１から１０のいずれか一項に記載の顔料混合物。
【請求項１３】
層配列（ＩＬ）、（Ａ）〜（Ｄ）、または（ＩＬ）（Ａ）〜（Ｅ）
（ＩＬ）ＴｉＯ2の高屈折率コーティング、
（Ａ）モル比が１：０．５〜１：２．０のＴｉＯ2とＦｅ2Ｏ3の混合物、ならびに場合により、層（Ａ）を基準として＜２０重量％の量の１以上の金属酸化物からなる高屈折率コーティング、
（Ｂ）ｎ＜１．８の屈折率を有する無色コーティング、
（Ｃ）ｎ＞１．８の屈折率を有する無色コーティング、
（Ｄ）ｎ＞１．８の屈折率を有する吸収性コーティング、および場合により、
（Ｅ）外側保護層
を有することを特徴とする、多層コートのフレーク状基材に基づく効果顔料。
【請求項１４】
以下の層構造、
基材＋ＴｉＯ2＋Ｆｅ2Ｏ3／ＴｉＯ2＋ＳｉＯ2＋ＴｉＯ2＋Ｆｅ2Ｏ3／ＴｉＯ2、または
基材＋ＴｉＯ2＋Ｆｅ2Ｏ3／ＴｉＯ2＋ＳｉＯ2＋ＴｉＯ2＋Ｆｅ2Ｏ3
を有することを特徴とする、請求項１３に記載の効果顔料。
【請求項１５】
Ｆｅ2Ｏ3とＴｉＯ2の混合物が、疑似板チタン石、または疑似板チタン石とＴｉＯ2もしくは疑似板チタン石とＦｅ2Ｏ3の混合物であることを特徴とする、請求項１３または１４に記載の効果顔料。
【請求項１６】
塗料、コーティング、印刷用インク、プラスチック、化粧品配合物、ならびに食品および医薬製品における、請求項１３から１５のいずれか一項に記載の効果顔料の使用。
【請求項１７】
化粧品配合物ならびに食品および医薬製品における、請求項１から１２のいずれか一項に記載の顔料混合物の使用。
【請求項１８】
顔料混合物が芳香物質および／または甘味料と組み合わせて使用されることを特徴とする、食品および医薬製品における、請求項１から１２のいずれか一項に記載の顔料混合物の使用。
【請求項１９】
請求項１から１２のいずれか一項に記載の顔料混合物を含む配合物。
【請求項２０】
請求項１から１２のいずれか一項に記載の顔料混合物を、配合物全体を基準として０．０１〜９９重量％の量で含む配合物。
【請求項２１】
水、ポリオール、極性または非極性の油、脂肪、ワックス、膜形成剤、ポリマー、コポリマー、界面活性剤、遊離基捕捉剤、酸化防止剤、安定化剤、香気増強剤、シリコーン油、乳化剤、溶媒、保存料、増粘剤、レオロジー添加剤、香料、紫外線吸収剤、表面活性補助剤、および／または化粧品活性化合物をさらに含むことを特徴とする、請求項１から１２のいずれか一項に記載の顔料混合物を含む、請求項１９または２０に記載の配合物。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月21日(2010.4.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
壁に、好ましくは建物の任意種類の部屋壁又は天井若しくは床に取付け可能な電気デバイスに接触する壁紙であって、前記壁紙が、複数本の導電性ストライプを有し、前記電気デバイスが、前記導電性ストライプに接触するために接触ピンを備える、壁紙において、
前記電気デバイスは、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）を備え、前記導電性ストライプは、或る特定のストライプピッチを備え、前記接触ピンは、或る特定のピンピッチを備え、互いに異なる前記導電性ストライプは、前記ＯＬＥＤを互いに異なる位置に配置することにより上述の或る特定のピッチに基づく導電性ストライプの接触に起因して生じる接触ピンの接触電圧に整合するために互いに異なる電圧を有する、
ことを特徴とする壁紙。
【請求項２】
前記導電性ストライプは、前記導電性ストライプの電気的絶縁するように前記壁と前記壁紙との間にサンドイッチされている、
請求項１記載の壁紙。
【請求項３】
前記導電性ストライプは、或る特定のステップから選択された電圧レベルを有する、
請求項１又は２記載の壁紙。
【請求項４】
前記導電性ストライプの前記電圧レベルは、１Ｖ〜１２Ｖ、好ましくは２Ｖ〜６Ｖ、最も好ましくは３Ｖの電圧ステップを有する、
請求項３記載の壁紙。
【請求項５】
前記壁紙の前記導電性ストライプの材料は、銅材料、アルミニウム、銀、金、又は鋼材料を含む金属導電性材料の群から選択されている、
請求項１ないし４のいずれか１項に記載の壁紙。
【請求項６】
前記導電性ストライプは、前記壁と前記壁紙との間にサンドイッチされ、前記壁への前記導電性ストライプの接合及び（又は）前記導電性ストライプへの前記壁紙の接合は、接着によって行われる、
請求項１ないし５のいずれか１項に記載の壁紙。
【請求項７】
壁に取付け可能な有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）として具体化された電気デバイスであって、壁紙が、前記壁上に配置され、前記壁紙が、互いに平行な配置状態で設けられ、或る特定のストライプピッチを備えた複数本の導電性ストライプを有し、前記ＯＬＥＤが、前記導電性ストライプに接触する少なくとも２本の接触ピンを有し、前記ＯＬＥＤの前記ピンは、或る特定のピンピッチを備え、互いに異なる前記導電性ストライプは、前記ＯＬＥＤを互いに異なる位置に配置することにより前記或る特定のピッチに基づく導電性ストライプの接触に起因して生じる接触ピンの接触電圧に整合するために互いに異なる電圧を有する、
ことを特徴とする電気デバイス。
【請求項８】
前記ＯＬＥＤは、前記ＯＬＥＤが利用されている建物の対応の部屋のマーカ及び（又は）イルミネータとして使用できる、
請求項７記載の電気デバイス。
【請求項９】
前記接触ピンは、前記電気デバイスの一方の面上に配置され、前記接触ピンを備えた前記面は、前記壁及び（又は）前記壁紙に衝合する、
請求項７又は８記載の電気デバイス。
【請求項１０】
前記電気デバイスは、前記壁及び（又は）前記壁紙にくっつき可能であるようにするために両面接着フォームを有する、
請求項７ないし９のいずれか１項に記載の電気デバイス。
【請求項１１】
前記接触ピンは、前記電気デバイスを前記壁に取り付けることによって前記導電性ストライプを穿通するために尖った針状のピンとして構成されている、
請求項７ないし１０のいずれか１項に記載の電気デバイス。
【請求項１２】
前記接触ピンは、前記導電性ストライプの表面に押し付けられるようにするためにばね押しされている、
請求項７ないし１１のいずれか１項に記載の電気デバイス。
【請求項１３】
壁紙及び有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）として具体化された電気デバイスを有する電気接触システムであって、前記壁紙は、導電性ストライプを有し、前記ＯＬＥＤは、少なくとも２本の接触ピンを有し、前記接触ピンは、前記導電性ストライプ中の電流によって前記ＯＬＥＤに電力を供給するために前記導電性ストライプに接触するよう配置されている、
ことを特徴とする電気接触システム。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月8日(2010.4.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも電力出力段を含む単一の増幅経路を有する高周波増幅手段と、
前記高周波増幅手段の少なくとも前記電力出力段に給電するためのＤＣ電圧の可変値を与える電力供給手段と、
第１制御入力として前記高周波増幅手段の入力電力の信号および第２制御入力として前記高周波増幅手段の温度信号を受信し、前記第１および第２制御入力に応答して、前記ＤＣ電圧の値を決定するために前記電力供給手段に電圧制御信号を与える制御手段と、
を備え、
前記制御手段は、前記高周波増幅手段の増幅の線形性、増幅の効率性、および、温度散逸のうち少なくとも１つを調整するために、前記入力電力および温度の値を変動させるために前記高周波増幅手段の利得圧縮を制御するように前記電力出力段への前記ＤＣ電圧の値を変動させるように構成される、アンテナ素子に給電する増幅システム。
【請求項２】
前記増幅の線形性は、所望の範囲にわたって、一定に、または、予め定められた限界の範囲内に維持される請求項１に記載の増幅システム。
【請求項３】
前記高周波増幅手段はドライバ段を含み、
前記電力供給手段は、前記ドライバ段に前記ＤＣ電圧の可変値を与えるように構成される請求項１または２に記載の増幅システム。
【請求項４】
前記制御手段は、前記ＤＣ電圧の値を決定するために前記電力供給手段に遠隔命令信号を与えるように構成される請求項１から３のいずれか１項に記載の増幅システム。
【請求項５】
前記高周波増幅手段は、増幅の利得、増幅の利得勾配、および、伝送位相のうち少なくとも１つを変動させる手段を有する前置増幅手段を含み、
前記制御手段は、増幅の利得、増幅の利得勾配、および、伝送位相のうち少なくとも１つの制御のための少なくとも１つの制御出力信号を与える請求項１から４のいずれか１項に記載の増幅システム。
【請求項６】
前記制御手段は、前記入力電力の信号および前記温度信号の値を変動させるための前記電圧制御信号の値を定義する制御ワードの集合を保持する記憶手段を含む請求項１から４のいずれか１項に記載の増幅システム。
【請求項７】
前記制御手段は、入力電力の信号および温度信号の前記制御入力を受信し、それに応答して、前記制御ワードのうち１つにアクセスするために前記記憶手段にアドレス指定し、前記１つの制御ワードによって決定される値を用いて前記電圧制御信号を与える回路手段を含む請求項６に記載の増幅システム。
【請求項８】
前記高周波増幅手段は、増幅の利得、増幅の利得勾配、および、伝送位相のうち少なくとも１つを変動させる手段を有する前置増幅手段を含み、
前記制御手段は、増幅の利得、増幅の利得勾配、および、伝送位相のうち少なくとも１つの制御のための少なくとも１つの制御出力信号を与える請求項６または７に記載の増幅システム。
【請求項９】
前記制御ワードの集合は、前記入力電力の信号および／または前記温度信号の値を変動させるための前記１つの制御出力信号の値を定義する請求項８に記載の増幅システム。
【請求項１０】
前記電力出力段は少なくとも１つの電力トランジスタを含む請求項１から９のいずれか１項に記載の増幅システム。
【請求項１１】
前記１つの電力トランジスタはＦＥＴである請求項１０に記載の増幅システム。
【請求項１２】
半導体電力増幅器を備え、１つまたは複数の回路基板上に搭載された前記高周波増幅手段および前記制御手段を含み、
前記電力供給手段は電子電力調整器を備える請求項１から１１のいずれか１項に記載の増幅システム。
【請求項１３】
前記アンテナは複数素子のアンテナの単一素子である請求項１から１２のいずれか１項に記載の増幅システム。
【請求項１４】
少なくとも電力出力段を含む単一の増幅経路を有する高周波増幅手段と、
前記高周波増幅手段の少なくとも前記電力出力段に給電するためのＤＣ電圧を与える電力供給手段と、
を備える、アンテナ素子に給電する増幅システムを制御する方法であって、
前記高周波増幅手段への入力電力および前記高周波増幅手段の温度を監視するステップと、
前記入力電力および温度に応答して前記ＤＣ電圧の値を変動させ、それによって、前記高周波増幅手段の増幅の線形性、増幅の効率性、および、温度散逸のうち少なくとも１つを調整するために、前記入力電力および温度の値を変動させるために前記高周波増幅手段の利得圧縮を制御するステップと、
を有する方法。
【請求項１５】
少なくとも電力出力段を含む単一の増幅経路を有する高周波増幅手段と、
前記高周波増幅手段の少なくとも前記電力出力段に給電するためのＤＣ電圧の可変値を与える電力供給手段と、
第１制御入力として前記高周波増幅手段から入力電力の信号および第２制御入力として前記高周波増幅手段の温度信号を受信し、前記第１および第２制御入力に応答して、前記ＤＣ電圧の値を決定するために前記電力供給手段に電圧制御信号を与える制御手段と、
を備え、
前記制御手段は、前記入力電力の信号および前記温度信号の値を変動させるための前記電圧制御信号の出力値を定義し、それによって前記ＤＣ電圧の値を変動させて前記高周波増幅手段の予め定められたパラメータを制御する制御ワードの集合を保持する記憶手段を含む、アンテナ素子に給電する増幅システム。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月6日(2010.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の装置を有するネットワーク中にファイアウォールサービスを構成する方法であって、該方法が、
前記ネットワーク中の第１の装置のためのファイアウォール性能を決定するステップであって、前記第１の装置の前記ファイアウォール性能に対応する発行された情報をモニタするステップを含む、ステップと、
前記ネットワーク中の第２の装置のためのファイアウォールサービス要件を決定するステップであって、前記第２の装置から発行されたファイアウォールサービスを要求するリクエストをモニタするステップを含む、ステップと、
前記第２の装置の前記ファイアウォールサービス要件および前記第１の装置の前記ファイアウォール性能に従って、前記第１の装置自体および前記第２の装置のために、ファイアウォールサービスを提供するように、前記第１の装置を構成するステップと、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記第１の装置の背後に前記第２の装置を論理的に配置するために、ルータを構成するステップをさらに含むことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ファイアウォールサービス要件を決定するステップは、前記第２の装置から発行された情報が得られないときには、前記第２の装置のためにデフォルトのファイアウォールサービスを選択するステップを含むことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
管理の設定によって、前記ファイアウォールサービスが、前記第２の装置から発行されたファイアウォールサービスを要求するリクエストより限定的であることが要求されることを特徴とする、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
下流側の装置が、最低限のファイアウォール性能を満たすファイアウォール性能を有するとき、上流側の装置が、それのファイアウォールサービスへのオープンアクセスを設定することを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
設定可能なファイアウォールの保護のために適合された複数の装置を有するネットワークであって、
上流側および下流側を有し、前記ネットワーク上の装置を用いてデータトラフィックを導くためのルータと、
前記ルータの前記下流側に結合され、少なくとも１つのファイアウォール性能を提供する能力を有し、かつ、前記少なくとも１つのファイアウォール性能を提供する能力を公開するように適合された第１の装置と、
前記ルータの前記下流側に結合され、ファイアウォールサービスを求めるリクエストを発行するように適合された第２の装置とを含み、
前記第１の装置の前記少なくとも１つのファイアウォール性能が前記ファイアウォールサービスの前記リクエストの要件を満たすとき、前記第１の装置は、前記第２の装置からの前記リクエストに応答して、前記少なくとも１つのファイアウォール性能を提供することを特徴とするネットワーク。
【請求項７】
前記要件が前記リクエストにおいて黙示的であり、かつ、前記第１の装置が前記第２の装置にネットワーク接続を割り当てることを特徴とする、請求項６に記載のネットワーク。
【請求項８】
前記ルータは、信号を受け取り、前記第２の装置にアドレス指定された着信したトラフィックを前記第１の装置に導いて、前記ファイアウォールサービスの前記リクエストを満たすことを特徴とする、請求項６に記載のネットワーク。
【請求項９】
前記第２の装置は、前記第１の装置から発行された前記少なくとも１つのファイアウォール性能を提供する前記能力を受け取り、前記ファイアウォールサービスの前記リクエストを前記第１の装置に導くことを特徴とする、請求項６に記載のネットワーク。
【請求項１０】
設定可能なファイアウォールの保護のために適合された前記複数の装置のそれぞれが、前記第１の装置および前記ルータのいずれかに組み込まれ、かつ、ファイアウォール性能およびファイアウォールサービス要件をモニタするためのコントローラをさらに含むことを特徴とする、請求項６に記載のネットワーク。
【請求項１１】
前記コントローラが前記複数の装置のそれぞれにファイアウォールサービス要件を発行するための通信機能を有すること、および、前記発行されたファイアウォールサービス要件が前記第２の装置からのファイアウォールサービスを要求する前記リクエストより限定的であるとき、前記第１の装置が、前記第２の装置からのファイアウォールサービスの前記リクエストより限定的である、前記少なくとも１つのファイアウォール性能を提供することを特徴とする、請求項１０に記載のネットワーク。
【請求項１２】
前記コントローラは、ファイアウォールサービスを求めるリクエストを発行しない第３の装置に、デフォルトのファイアウォールサービスを割り当てることを特徴とする、請求項１０に記載のネットワーク。
【請求項１３】
他の電子装置にファイアウォールサービスを提供し、かつ、少なくとも１つのファイアウォールを提供する能力を発行するように構成され適合されたコンピュータであって、
上流側のネットワークを有し、双方向のデータトラフィックをサポートするネットワーク接続と、
前記ネットワーク接続に結合され、前記他の電子装置から発行されたファイアウォールサービスを求めるリクエストをモニタするように動作可能であり、前記リクエストに応答し、前記コンピュータの下流側に前記他の電子装置を論理的に配置するように前記ネットワーク接続を構成し、かつ、前記他の電子装置に提供するためにファイアウォールサービスのレベルを決定するマネージャと、
前記マネージャおよび前記ネットワーク接続に結合されたファイアウォールサービスのプロバイダとを含み、
前記ファイアウォールサービスのプロバイダは、コンピュータ自体のためにファイアウォールサービスをサポートし、かつ、前記他の電子装置にアドレス指定されたデータトラフィックのために、前記マネージャが決定した前記レベルに従ってファイアウォールサービスを提供することを特徴とする、コンピュータ。
【請求項１４】
第２のネットワーク接続をさらに含み、
前記ネットワーク接続上の、前記他の電子装置にアドレス指定されたデータトラフィックは、前記ファイアウォールサービスのレベルによってフィルタリングされ、前記第２のネットワーク接続を介して送られることを特徴とする、請求項１３に記載のコンピュータ。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月23日(2010.4.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外縁と、中央部と、前記外縁に沿って配置され、前記中央部へ向かって延在し、各々がスロット端を有する複数のスロットとをもつX線管用の陽極板であって、前記スロット端での引張り応力又は圧縮応力を減じるよう機能する、一つ以上の前記スロット端の周縁の少なくとも一部にわたって配置されたスロット端部材料を更に含む、陽極板。
【請求項２】
前記スロット端部材料が、一つ以上の前記スロット端の前記周縁の少なくとも1/2にわたって配置されている、請求項1に記載の陽極板。
【請求項３】
前記スロット端部材料が、一つ以上の前記スロット端の実質的に全周縁にわたって配置されている、請求項1に記載の陽極板。
【請求項４】
前記スロット端部材料が前記陽極板の内側リング内に形成され、一つ以上の前記スロットの前記スロット端が当該スロット端部材料の内側リングと交わっている、請求項1ないし3の何れか一項に記載の陽極板。
【請求項５】
前記スロット端部材料が、Ti、V、Ta、Nb、Re及びこれらの合金から構成される延性のある耐熱合金のグループから選択される、請求項1ないし4の何れか一項に記載の陽極板。
【請求項６】
前記スロット端部材料がNiベースの超合金を有する、請求項1ないし4の何れか一項に記載の陽極板。
【請求項７】
陰極と、
請求項1に記載の陽極とを有する、CTシステム用のX線管。
【請求項８】
前記スロット端部材料が、一つ以上の前記スロット端の周縁の少なくとも1/2にわたって配置されている、請求項7に記載のX線管。
【請求項９】
前記スロット端部材料が、一つ以上の前記スロット端の実質的に全周縁にわたって配置されている、請求項7に記載のX線管。
【請求項１０】
前記スロット端部材料が前記陽極板の内側リング内に形成され、一つ以上の前記スロットの前記スロット端が、当該スロット端部材料の内側リングと交わる、請求項7ないし９の何れか一項に記載のX線管。
【請求項１１】
外縁と中央部とをもち、前記外縁に沿って配置され、前記中央部へ向かって延在し、各々がスロット端を有する複数のスロットを含む陽極板を形成するステップを含む、X線管用の陽極板を製造するための方法であって、前記スロット端での引張り応力又は圧縮応力を減じるよう機能するスロット端部材料を、一つ以上の前記スロット端の周縁の少なくとも一部にわたって充填するステップを更に含む、陽極板を製造するための方法。
【請求項１２】
前記スロット端部材料を充填するステップが、一つ以上の前記スロット端の周縁の少なくとも1/2にわたって当該スロット端部材料を充填することを含む、請求項11に記載の方法。
【請求項１３】
前記スロット端部材料を充填するステップが、一つ以上の前記スロット端の実質的に全周縁にわたって当該スロット端部材料を充填することを含む、請求項11に記載の方法。
【請求項１４】
前記スロット端部材料を充填するステップが、一つ以上の前記スロットの前記スロット端が当該スロット端部材料の内側リングと交わるよう、当該スロット端部材料の内側リングを前記陽極板上に形成することを含む、請求項11ないし13の一項に記載の方法。
【請求項１５】
前記スロット端部材料を充填するステップが、
−  前記スロット端が予定された場所に、前記陽極板内に第1の穴を供するステップと、
−  前記第1の穴内に前記スロット端部材料を充填するステップと、
−  前記スロット端部材料内に、スロット端を形成する第2の穴を供するステップと、
−  前記陽極板の前記スロット端から前記外縁へとスロットを延伸するステップとを有する、請求項11ないし13の何れか一項に記載の方法。