【手続補正書】
【提出日】平成22年10月13日(2010.10.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の円偏光を提供するように構成された円偏光子と；
前記円偏光子の後に配置された２軸結晶と；
前記２軸結晶の後に配置された円検光子であって、前記第１の円偏光によって提供される偏光特性とは逆の偏光特性を有する第２の円偏光を提供するように構成された円検光子と；を具える光学装置であって、
幾何学的な軸が、前記円偏光子、前記２軸結晶および前記円検光子を通って横切るとともに、前記２軸結晶の光学軸が前記幾何学的な軸に沿って存在することを特徴とする光学装置。
【請求項２】
投影すべき対象物からの光を受け取るように構成された映写レンズと；
前記映写レンズからの光を受け取るように構成された結像レンズと；
前記結像レンズにより結像された光を受け取るように構成された光学検波器と；
前記結像レンズと前記光学検波器との間に設けられた、請求項１に記載の光学装置と；
を具えることを特徴とする光学システム。
【請求項３】
２軸結晶と；
少なくとも一の偏光子と、前記２軸結晶の後に配置された偏光ビームスプリッタと；を具える光学装置であって、
幾何学的な軸が、前記２軸結晶と、前記少なくとも一の偏光子、および前記ビームスプリッタを通って横切るとともに、前記２軸結晶の光学軸が前記幾何学的な軸に沿って存在することを特徴とする光学装置。
【請求項４】
少なくとも一の第１偏光子と、第１偏光ビームスプリッタと；
前記少なくとも一の第１偏光子と前記偏光ビームスプリッタとの後に配置された第１の１／４波長板と；
前記第１の１／４波長板の後に配置された２軸結晶と；
前記２軸結晶の後に配置された第２の１／４波長板と；
前記第２の１／４波長板の後に配置され、ビームスプリッタ及びビームコンバイナとして作用するように構成した少なくとも一の第２偏光子と、第２偏光ビームスプリッタと；を具える装置であって、
幾何学的な軸が、前記第１の１／４波長板、前記２軸結晶、及び前記第２の１／４波長板を通って横切るとともに、前記２軸結晶の光学軸が前記幾何学的な軸に沿って存在することを特徴とする装置。
【請求項５】
請求項４に記載の装置が更に、前記第２の１／４波長板の後に、少なくとも一の波長板と回転子エレメントを具えることを特徴とする装置。
【請求項６】
投影すべき対象物からの光を受け取るように構成された映写レンズと；
前記映写レンズからの光を受け取るように構成された結像レンズと；
前記結像レンズにより結像された光を受け取るように構成され、それぞれがビームスプリッタの各チャンネル用である２つの光学検波器と；
前記結像レンズと前記光学検波器との間に設けられた、請求項４に記載の光学装置と；
を具えることを特徴とする光学システム。
【請求項７】
第１の偏光を提供するように構成された第１の偏光エレメントと；
前記第１の偏光エレメントの後に配置された２軸結晶と；
前記２軸結晶の後に配置され、第２の偏光を提供するように構成された第２の偏光エレメントと；を具える光学装置であって、
幾何学的な軸が、前記第１の偏光エレメント、前記２軸結晶および前記第２の偏光エレメントを通って横切るとともに、前記２軸結晶の光学軸が前記幾何学的な軸に沿って存在することを特徴とする光学装置。
【請求項８】
受け取った光を偏光特性が異なる二つの光学チャンネルに分割するように構成されたビームスプリッタと；
２軸結晶と；
画素化された光検出器と；を具える光学装置であって、
幾何学的な軸が前記２軸結晶と前記ビームスプリッタを通って横切ると共に、前記２軸結晶の光学軸が前記幾何学的な軸に沿って存在することを特徴とする光学装置。
【請求項９】
請求項８に記載の光学装置が更に、少なくとも二つの異なる偏光状態で制御可能な波長板を具えることを特徴とする光学装置。
【請求項１０】
請求項１乃至４のいずれか１項に記載の光学システムにおいて、前記２軸結晶が、ＫＴＰ、ＫＴＡ、ＬＢＯ、ＭＤＴ、ＹＣＯＢ、ＬｉＩｎＳ２、ＬｉＩｎＳｅ２、有機ＰＯＭ、または有機ＮＰＰのいずれか一つであることを特徴とする光学システム。
【請求項１１】
未知の対象物の少なくとも一の特徴を画像化する方法において：
入力光に第１の円偏光を提供するように構成した円偏光子を提供する工程と；
前記円偏光子の後に２軸結晶を提供する工程と；
前記円偏光子と前記２軸結晶を通って未知の対象物から未偏光の、部分的にコヒーレントな光を入力する工程と；
前記２軸結晶の後に円検光子を提供し、当該円検光子が前記第１の偏光によって提供される偏光特性とは逆の偏光特性を有する第２の円偏光を提供するように構成されてた円検光子を提供する工程と；
を具え、
幾何学的な軸が前記２軸結晶および前記円検光子を通って横切り、
前記２軸結晶の光学軸が前記幾何学的軸に沿って存在し、
初期配光が検出器上に光学システムによって結像され、
前記２軸結晶が２軸結晶の平均インデックスとほぼ同じインデックスを有する等方性の材料によって置き換えられた場合、前記２軸結晶内へ入力する前に画像が前記検出器に位置し、
前記検出器を有する前記円検光子の後の平面における光の強度分布を検知し、
前記平面が前記幾何学的軸とほぼ直交しており、
前記少なくとも一の検知した強度分布から未知の対象物の特徴を画像化する工程と；
前記未知の対象物の画像化した特徴を出力する工程と；
を具えることを特徴とする方法。
【請求項１２】
方位角方向に偏光した、又は放射方向に偏光した光学アプリケーション用照明源を作る方法において：
第１の偏光ビームスプリッタを提供する工程と；
前記第１のビームスプリッタの後に第１の１／４波長板を提供する工程と；
前記第１の１／４波長板の後に２軸結晶を提供する工程と；
前記２軸結晶の後に第２の１／４波長板を提供する工程と；
前記第２の１／４波長板の後に第２の偏光ビームスプリッタを提供する工程と；を具え、
幾何学的な軸が前記第１の１／４波長板、前記２軸結晶、及び前記第２の１／４波長板を通って横切っており；
前記２軸結晶の光学軸が前記幾何学的軸に沿って存在しており、
前記第１の偏光ビームスプリッタを通る点からの光を導く工程と；
前記第１の偏光ビームスプリッタで、前記光を２本の平行ビームに分割する工程と；
前記２本の平行ビームが、前記第１の１／４波長板、前記２軸結晶、前記第２の１／４波長板、及び前記第２の偏光ビームスプリッタを横切っており、
前記２本の分割した平行ビームからの渦波を前記第２のビームスプリッタで第１の方向に伝播する一本のビームに結合する工程と；
必要に応じて、波長板あるいは回転子エレメントを付加して、方位角方向の偏光を放射方向の偏光に、あるいはその逆に変換する工程と；
前記２本に分割された平行ビームからの基本波を、前記結合した渦波が伝播する第１の方向と直交する第２の方向に伝播する別のビームに結合する工程と；
前記結合された渦波から来る光を前記光学アプリケーションの方位角方向に又は放射方向に偏光した照明抗原として使用する工程であって、前記光学アプリケーションがリソグラフィ照明、切断用高出力レーザ、ドリル、機械加工、及び光学ストレージアプリケーションから選択される工程と；
を具えることを特徴とする方法。
【請求項１３】
未知の対象物の少なくとも一の特徴を画像化する方法において：
２軸結晶を提供する工程と；
前記２軸結晶を通って未知の対象物から非偏光又は円偏光された光を入力する工程と；
前記２軸結晶の後に直線偏光ビームスプリッタを提供する工程と；を具え、
幾何学的な軸が前記２軸結晶を通って横切り、前記偏光ビームスプリッタの後で２本の共役軸に分割され、
前記２軸結晶の光学軸が前記幾何学的軸に沿って存在し、
前記２軸結晶が２軸結晶の平均インデックスとほぼ同じインデックスを有する等方性の材料によって置き換えられた場合、前記２軸結晶内への入力の前に画像が検出器に位置し、
前記検出器上で前記偏光ビームスプリッタによって作られる２本の幾何学的な軸に直交する平面において前記偏光ビームスプリッタから出射する両光学チャンネル内の光の強度分布を検出する工程と；
前記未知の対象物の特徴を前記検出した強度分布の数学的な組み合わせから画像化する工程と；
前記未知の対象物を画像化した少なくとも一の特徴を出力する工程と；
を具えることを特徴とする方法。
【請求項１４】
未知の対象物の少なくとも一の特徴を画像化する方法において：
２軸結晶を提供する工程と；
前記２軸結晶を通って未知の対象物からの非偏光または円偏光された光を入力する工程と；
前記２軸結晶の後に直線偏光子と制御可能な回転子を提供する工程と；
幾何学的な軸が前記２軸結晶、前記偏光子、及び前記制御可能な回転子を通って横切っており、
前記２軸結晶の光学軸が前記幾何学的な軸に沿って存在しており、
初期配光が検出器の上に光学システムによって結像され、
前記２軸結晶が２軸結晶の平均インデックスとほぼ同じインデックスを有する等方性の材料によって置き換えられた場合、前記２軸結晶内へ入力する前に前記画像が検出器に位置し、
前記幾何学的な軸に直交する面において前記制御可能な回転子を作動させることによって、２又はそれ以上の偏光状態にある光の強度分布を検出する工程と；
前記検出した強度分布の数学的な組み合わせから前記未知の対象物の特徴を画像化する工程と；
前記未知の対象物の少なくとも一の画像化した特徴を出力する工程と；
を具えることを特徴とする方法。
【請求項１５】
請求項１４に記載の方法が、更に、前記入力光を反転した円偏光によって連続的にあるいは空間的に２つの入力チャンネルに分割する工程を具えることを特徴とする方法。
【請求項１６】
角度測定方法において：
第１の円偏光を与えるように構成された円偏光子を提供する工程と；
前記円偏光子の後に２軸結晶を提供する工程と；
前記２軸結晶の後に、前記第１の偏光とは逆の偏光特性を有する第２の円偏光を提供するように構成された円検光子を提供する工程と；を具え、
幾何学的な軸が前記円偏光子、前記２軸結晶、及び前記円検光子を通って横切っており、
前記２軸結晶の光軸が前記幾何学的な軸に沿って存在し、
前記円偏光子、前記２軸結晶、及び前記円検光子を通る点、あるいは一連の点からの光を導く工程と；
前記点、または一連の点の配光の中央軸が前記幾何学的な軸に対して部分的にミスアラインメントしており、
前記円検光子の後のある面における前記光の強度分布を検出し、当該面が前記幾何学的な軸に直交している、工程と；
前記光学軸のミスアラインメントに起因するリング構造からのずれを前記点についてあるいは前記一連の点の各点について個別に計算する工程と；
前記点についてあるいは前記一連の点の各点について個別に測定した角度ミスアラインメントを出力する工程と；
を具えることを特徴とする方法。
【請求項１７】
請求項１６に記載の方法が更に：
対象物に対して光の点を、当該対象物と当該光の点の軸との間に所定の角度関係を持って、固定する工程と；
前記光の点を固定した点において前記対象物の傾きとヨーを評価する工程と；
前記配光のセントロイドを計算することによって、前記ポイントの横の位置を評価する工程と；
を具えることを特徴とする方法。
【請求項１８】
光学システムにおいて：
光学ディスク上のスポットに光を当てて、当該スポットから反射した光を導くように構成された画像化モジュールと；
１／４波長板と；
前記スポットから反射した光を受信して前記１／４波長板へ導くように構成された第１の偏光ビームスプリッタと；
前記１／４波長板の後に配置した２軸結晶と；
前記２軸結晶の後に配置され、二チャンネルの直線直交偏光を提供するように構成した第２偏光ビームスプリッタと；
前記第２の偏光ビームスプリッタの後に配置して、両チャネルで受信した光を検出する２つの光検出器と；を具え、
幾何学的な軸が前記第１の偏光ビームスプリッタ、前記１／４波長版、前記２軸結晶、及び前記第２のビームスプリッタを通って横切り、
前記２軸結晶の光学軸が、前記幾何学的な軸に沿って存在しており、前記光検出器が、同時に使用される２つの別々の検出器モジュールを具える；
ことを特徴とするシステム。