Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月16日(2009.11.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像形成性層を有して成る基板を含む画像形成性要素であって、前記要素が、輻射線吸収化合物、並びにポリマー主鎖及びペンダントリン酸基、ペンダントアダマンチル基、又はその両方を含む耐溶剤性ポリマーをさらに含むが、但し前記アダマンチル基が尿素連結基又はウレタン連結基を介して前記ポリマー主鎖に結合されている画像形成性要素。
【請求項２】
前記耐溶剤性ポリマーが、下記構造(I)によって表される請求項1に記載の要素：
【化１】
2009517720.tif 000001
（上記式中、ＡとＢとは一緒に前記ポリマー主鎖を表し、ここでＡはペンダントリン酸基、ペンダントアダマンチル基、又はその両方を含む反復単位をさらに含み、Ｂは異なる反復単位をさらに表し、ｘは５〜１００重量％を表し、そしてｙは０〜９５重量％を表すが、但しＡがペンダントアダマンチル基を含む場合には、これらの基は、尿素連結基又はウレタン連結基を介して前記ポリマー主鎖に結合されている）。
【請求項３】
Ｂが、スチレンモノマー、（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリル酸又はそのエステル、（メタ）アクリロニトリル、ビニルアセテート、無水マレイン酸、Ｎ置換型マレイミド、又はこれらの混合物から誘導される反復単位を表す請求項２に記載の要素。
【請求項４】
Ａがペンダントリン酸基を含む反復単位を表すときには、ｘは５〜２０重量％であり、そしてＡがペンダントアダマンチル基を含む反復単位を表すときには、ｘは５〜４０重量％である請求項２または３に記載の要素。
【請求項５】
ポジ型の平版印刷版前駆体である請求項１〜４のいずれか一項に記載の要素。
【請求項６】
前記画像形成性層が、前記耐溶剤性ポリマー、ＩＲ吸収化合物である前記輻射線吸収化合物、ラジカル重合性化合物、及びラジカル生成組成物を含んで成るネガ型画像形成性要素である請求項１〜４のいずれか一項に記載の要素。
【請求項７】
前記耐溶剤性ポリマーが、下記構造Ａ１〜Ａ５によって表される下記化合物のうちの１種又は２種以上から誘導される反復単位を有する請求項１〜６のいずれか一項に記載の要素、
【化２】
2009517720.tif 000002
（上記式中、Ｘは、オキシ、チオ、又は−ＮＨ−であり、Ｘ’は−ＮＨ−又はオキシであり、Ｘ’’はオキシ又は−ＮＨ−であり、そしてｎは１〜６である）。
【化３】
2009517720.tif 000003
【請求項８】
前記画像形成性層が、前記基板上に配置された唯一の画像形成性層であり、且つ前記輻射線吸収化合物と前記耐溶剤性ポリマーとを含む請求項１〜７のいずれか一項に記載の要素。
【請求項９】
前記耐溶剤性ポリマーが、下記構造（ＩＩ）によって表される請求項８に記載の要素。
【化４】
2009517720.tif 000004
（上記式中、Ｒは水素、低級アルキル基、又はハロ基を表し、
Ｌは直接結合又は連結基を表し、
Ｒ’はペンダントリン酸基、ペンダントアダマンチル基、又は両タイプの基を表すが、但しＲ’がペンダントアダマンチル基を表すときには、Ｌは尿素連結基又はウレタン連結基を含み、
Ｂは異なる反復単位を表し、
Ｒ’がペンダントリン酸基を表すときには、ｘは５〜２０重量％を表し且つｙは８０〜９５重量％を表し、
Ｒ’がペンダントアダマンチル基を表すときには、ｘは５〜４０重量％を表し且つｙは６０〜９５重量％を表す。）。
【請求項１０】
ポジ型であり、そして前記基板上に順番に：
前記輻射線吸収化合物、及びペンダントリン酸基、ペンダントアダマンチル基、又はその両方を含む前記耐溶剤性ポリマーを含む内層、並びに
画像形成用輻射線に暴露前には、アルカリ性現像剤を使用して除去することができないインク受容性外層
を含む請求項１〜５および７〜９のいずれか一項に記載の要素。
【請求項１１】
Ａ）  請求項１〜１０のいずれか一項に記載の画像形成性要素を熱画像形成し、これにより、画像形成された領域と非画像形成領域とを有する画像形成された要素を形成し、そして
Ｂ）  前記画像形成された領域だけ、又は前記非画像形成領域だけを除去するために、前記画像形成された層をアルカリ性現像剤と接触させ、そして
Ｃ）  任意選択的に、前記画像形成され、現像された要素をベーキングする
ことを含む画像形成方法。
【請求項１２】
請求項１１の方法によって得られる画像形成された要素。
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月13日(2009.11.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
危険検知器をテストするテスト装置であって、
検知器に与えるための刺激を２種類以上生成するように構成された電動生成手段と、そして、
前記生成手段が生成する刺激の各々の生成を制御するように構成された制御手段と、を有し、
取り外し可能なカートリッジを少なくとも１つ更に有し、当該カートリッジ内部には、前記刺激の生成に用いられる材料が格納されていること、
を特徴とするテスト装置。
【請求項２】
電動生成手段は、３種類以上の刺激を生成するように構成されていること、
を特徴とする請求項１に記載のテスト装置。
【請求項３】
危険検知器を収容するように構成された開口部を更に有すること、
を特徴とする請求項１または２に記載のテスト装置。
【請求項４】
前記生成手段からテスト対象の検知器まで刺激を移動させるように構成された送り手段を更に有すること、
を特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載のテスト装置。
【請求項５】
前記送り手段は、検知器の側方から刺激を検知器に導入するように構成されていること、
を特徴とする請求項４に記載のテスト装置。
【請求項６】
前記生成手段が一酸化炭素生成器を有すること、
を特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載のテスト装置。
【請求項７】
前記生成手段には人工煙生成器が含まれること、
を特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載のテスト装置。
【請求項８】
蠕動ポンプを更に有し、当該蠕動ポンプは、人工煙となる材料を前記カートリッジから前記人工煙生成器へと送り込むこと、
を特徴とする請求項７に記載のテスト装置。
【請求項９】
前記蠕動ポンプは、管の部分と、回転可能な形に設置されたポンプ部材とを有し、管の部分は前記カートリッジ側に設けられ、ポンプ部材はテスト装置本体側に設けられていること、
を特徴とする請求項８に記載のテスト装置。
【請求項１０】
前記一酸化炭素は、前記カートリッジの中に格納された炭素ベースの材料から生成されること、
を特徴とする請求項６に記載のテスト装置。
【請求項１１】
前記取り外し可能なカートリッジはメモリ手段を備えており、前記制御手段は前記メモリ手段に対してデータの読み出しおよび／または書き込みを行うこと、
を特徴とする請求項１乃至１０のいずれかに記載のテスト装置。
【請求項１２】
前記メモリ手段は更に、テスト装置の動作を制御するための制御用パラメータを保存するように構成されていること、
を特徴とする請求項１１に記載のテスト装置。
【請求項１３】
テストを受ける検知器に対してデータの読出しおよび／または書込みを行うように構成されたデータ転送手段を更に有すること、
を特徴とする請求項１乃至１２のいずれかに記載のテスト装置。
【請求項１４】
前記データ転送手段は、検知器のテスト条件に関するテスト情報を受信し、前記制御手段は当該テスト情報を刺激の生成の制御に用いること、
を特徴とする請求項１３に記載のテスト装置。
【請求項１５】
前記データ転送手段はアンテナを有し、当該アンテナは、前記検知器の上または近くに配置された狭域ＲＦＩＤ装置と通信するように構成されていること、
を特徴とする請求項１４に記載のテスト装置。
【請求項１６】
前記生成手段には熱生成器が含まれ、当該熱生成器は電気発熱体とファンとを有していること、
を特徴とする請求項１乃至１５のいずれかに記載のテスト装置。
【請求項１７】
前記テスト装置をポールに接続するように構成された接続手段を更に有すること、
を特徴とする請求項１乃至１６のいずれかに記載のテスト装置。
【請求項１８】
前記ポールはバッテリを有し、当該バッテリは前記接続手段を介してテスト装置に電力を供給すること、
を特徴とする請求項１７に記載のテスト装置。
【請求項１９】
前記制御手段は更にユーザインタフェースを有し、前記ユーザインタフェースは、遠隔制御手段である無線装置を有すること、
を特徴とする請求項１乃至１８のいずれかに記載のテスト装置。
【請求項２０】
前記刺激を前記開口部に向けて流すように構成されたファンを少なくとも１つ有すること、
を特徴とする請求項３に記載のテスト装置。
【請求項２１】
前記開口部の周縁に沿って配置されたダイアフラムを更に有すること、
を特徴とする請求項３に記載のテスト装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月11日(2009.11.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録媒体に欠陥管理情報を記録する方法であって、
前記方法は、
欠陥リスト情報を前記記録媒体に記録するステップであって、前記欠陥リスト情報は、タイプ情報、第１の位置情報および第２の位置情報を含み、該タイプ情報は欠陥リスト情報のタイプを示し、該第１の位置情報は欠陥領域の位置を示し、該第２の位置情報は交替領域の位置を示す、ステップを備え、
前記第１の位置情報および前記第２の位置情報のフォーマットは、前記欠陥リスト情報のタイプにしたがって決定されることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記タイプ情報は、ｕｎｕｓａｂｌｅタイプ、ＳＰＲ（Spare）タイプおよびＮＲＤ（Non Re-allocatable Defect）タイプの少なくとも一つを示すことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記タイプ情報がｕｎｕｓａｂｌｅタイプを示すとき、前記第１の位置情報の値はゼロ（０）に設定されることを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記タイプ情報がＳＰＲタイプを示すとき、前記第１の位置情報の値はゼロ（０）に設定されることを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項５】
前記タイプ情報がＮＲＤタイプを示すとき、前記第２の位置情報の値はゼロ（０）に設定されることを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項６】
リードイン領域、データ領域およびリードアウト領域を含む記録媒体であって、
前記記録媒体は、
スペアエリアおよびユーザデータ領域を含む前記データ領域と、
前記リードイン領域に含まれる欠陥管理領域であって、前記データ領域内の欠陥を管理するための欠陥リスト情報を格納する欠陥管理領域と
を備え、
前記欠陥リスト情報は、タイプ情報、第１の位置情報および第２の位置情報を含み、該タイプ情報は欠陥リスト情報のタイプを示し、該第１の位置情報はユーザデータ領域内の欠陥領域の位置を示し、該第２の位置情報は前記スペアエリア内の交替領域の位置を示し、前記第１の位置情報および前記第２の位置情報のフォーマットは、前記欠陥リスト情報のタイプにしたがって決定されることを特徴とする記録媒体。
【請求項７】
前記タイプ情報は、ｕｎｕｓａｂｌｅタイプ、ＳＰＲ（Spare）タイプおよびＮＲＤ（Non Re-allocatable Defect）タイプの少なくとも一つを示すことを特徴とする請求項６に記載の記録媒体。
【請求項８】
前記タイプ情報がｕｎｕｓａｂｌｅタイプを示すとき、前記第１の位置情報の値はゼロ（０）に設定されることを特徴とする請求項７に記載の記録媒体。
【請求項９】
前記タイプ情報がＳＰＲタイプを示すとき、前記第１の位置情報の値はゼロ（０）に設定されることを特徴とする請求項７に記載の記録媒体。
【請求項１０】
前記タイプ情報がＮＲＤタイプを示すとき、前記第２の位置情報の値はゼロ（０）に設定されることを特徴とする請求項７に記載の記録媒体。
【請求項１１】
記録媒体に欠陥管理情報を記録する装置であって、
前記装置は、
前記記録媒体にデータを記録するように構成されているピックアップと、
前記ピックアップを制御して前記記録媒体に欠陥リスト情報を記録するように構成されているコントローラであって、前記欠陥リスト情報は、タイプ情報、第１の位置情報および第２の位置情報を含み、該タイプ情報は欠陥リスト情報のタイプを示し、該第１の位置情報は欠陥領域の位置を示し、該第２の位置情報は交替領域の位置を示す、コントローラと
を備え、
前記第１の位置情報および前記第２の位置情報のフォーマットは、前記欠陥リスト情報のタイプにしたがって決定されることを特徴とする装置。
【請求項１２】
前記タイプ情報は、ｕｎｕｓａｂｌｅタイプ、ＳＰＲ（Spare）タイプおよびＮＲＤ（Non Re-allocatable Defect）タイプの少なくとも一つを示すことを特徴とする請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
前記タイプ情報がｕｎｕｓａｂｌｅタイプを示すとき、前記第１の位置情報の値はゼロ（０）に設定されることを特徴とする請求項１２に記載の装置。
【請求項１４】
前記タイプ情報がＳＰＲタイプを示すとき、前記第１の位置情報の値はゼロ（０）に設定されることを特徴とする請求項１２に記載の装置。
【請求項１５】
前記タイプ情報がＮＲＤタイプを示すとき、前記第２の位置情報の値はゼロ（０）に設定されることを特徴とする請求項１２に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月18日(2009.11.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｏリング無し薄型取付部品アセンブリであって、
Ｏリング無し薄型取付部品であって、第１の端と第２の端とを有し、該Ｏリング無し薄型取付部品の該第１の端は縁を有し、該縁は変形可能であり、該Ｏリング無し薄型取付部品は一体構造の材料でできている、Ｏリング無し薄型取付部品と、
多岐管から機械加工された受入穴の内部の陥凹領域の中に該Ｏリング無し薄型取付部品を押下し、かつ、該第１の端の該縁を変形させて、該Ｏリング無し薄型取付部品と該多岐管との間の密封を完成させる薄型固定ナットであって、該Ｏリング無し薄型取付部品の該第１の端は、該受入穴の内部の該陥凹領域と嵌合するように構成されている、薄型固定ナットと
を備え、
該多岐管は、第１の材料でできており、該Ｏリング無し薄型取付部品は、第２の材料でできており、該第２の材料は、該第１の材料よりも高い圧縮性を有し、該薄型固定ナットは、第１の端と第２の端と雄ネジ部とを有し、該薄型固定ナットの該雄ネジ部は、該受入穴の雌ネジ部と嵌合するように構成されている、Ｏリング無し薄型取付部品アセンブリ。
【請求項２】
前記Ｏリング無し薄型取付部品の前記第１の端は、嵌合密封面を有し、前記受入穴の受入密封面と嵌合するように構成されている、請求項１に記載のＯリング無し薄型取付部品アセンブリ。
【請求項３】
前記Ｏリング無し薄型取付部品は、貫通穴をさらに含み、前記嵌合密封面は、前記縁の第１の直径および該貫通穴の第２の直径によって画定され、該嵌合密封面は、該縁から該貫通穴へ傾斜している、請求項２に記載のＯリング無し薄型取付部品アセンブリ。
【請求項４】
前記嵌合密封面は、前記貫通穴と接合する複数の点を有し、該複数の点は、前記縁の一部が前記多岐管に接する前に、該多岐管に接することができるように構成されている、請求項３に記載のＯリング無し薄型取付部品アセンブリ。
【請求項５】
前記Ｏリング無し薄型取付部品の前記第２の端は、管状接続を受け入れるように、またはそれに嵌入するように構成されている、請求項１に記載のＯリング無し薄型取付部品アセンブリ。
【請求項６】
前記管状接続は、流体接続またはフィルタ接続である、請求項５に記載のＯリング無し薄型取付部品アセンブリ。
【請求項７】
前記Ｏリング無し薄型取付部品は、第１の突起および第２の突起を有する、請求項１に記載のＯリング無し薄型取付部品アセンブリ。
【請求項８】
前記第１の突起および前記第２の突起の直径間の差は、前記薄型固定ナットが、該第２の突起の上方を摺動し、該第１の突起によって停止させられることを可能にする、請求項７に記載のＯリング無し薄型取付部品アセンブリ。
【請求項９】
前記薄型固定ナットの前記第１の端は、１つ以上の穴がある平面を有する、請求項１に記載のＯリング無し薄型取付部品アセンブリ。
【請求項１０】
前記薄型固定ナットの第２の端は、２つの異なる内径と該第２の端の内部の停止部とを有し、該停止部は、前記Ｏリング無し薄型取付部品の突起を捕らえるように該２つの異なる内径によって画定される、請求項１に記載のＯリング無し薄型取付部品アセンブリ。
【請求項１１】
貫通穴と、
第１の端と
を備えるＯリング無し薄型取付部品であって、
該第１の端は、
第１の内径を有する縁であって、該縁は変形可能であり、該貫通穴は第２の内径を有する、縁と、
該縁の該第１の内径および該貫通穴の該第２の内径によって画定される嵌合密封面であって、該嵌合密封面は該縁から該貫通穴へ傾斜している、嵌合密封面と、
該嵌合密封面を支持し、第１の外径を有する第１の突起と
を有し、
第２の端を支持し、第２の外径を有する第２の突起であって、該第２の突起は、薄型固定ナットの第１の端を受け入れるように構成されており、該第１の突起は、該薄型固定ナットの該第１の端の内部の停止部によって停止されるように構成されている、第２の突起
を有する、Ｏリング無し薄型取付部品。
【請求項１２】
前記縁は、前記薄型固定ナットよりも高い圧縮性を有する、請求項１１に記載のＯリング無し薄型取付部品。
【請求項１３】
前記第１の端は、前記Ｏリング無し薄型取付部品よりも低い圧縮性を有する多岐管から機械加工された受入穴の底部と嵌合するように構成されている、請求項１１に記載のＯリング無し薄型取付部品。
【請求項１４】
前記嵌合密封面は、前記受入穴の内部の受入密封面と嵌合するように構成されており、前記Ｏリング無し薄型取付部品の該嵌合密封面を押下することは、該受入穴の内部の前記受入密封面と嵌合を引き起こし、前記第１の端の前記縁が変形され、該受入穴の底部における隙間が充填され、該Ｏリング無し薄型取付部品と前記多岐管との間の密封が完成される、請求項１３に記載のＯリング無し薄型取付部品。
【請求項１５】
前記嵌合密封面は、前記貫通穴と接合する複数の点を有し、該複数の点は、前記縁の一部が前記多岐管に接する前に、該多岐管に接することができるように構成されている、請求項１４に記載のＯリング無し薄型取付部品。
【請求項１６】
前記第２の端は、管状接続を受け入れるように、またはそれに嵌合するように構成されている、請求項１３に記載のＯリング無し薄型取付部品。
【請求項１７】
前記管状接続は、流体接続またはフィルタ接続である、請求項１６に記載のＯリング無し薄型取付部品。
【請求項１８】
前記Ｏリング無し薄型取付部品は、一体構造の材料でできている、請求項１３に記載のＯリング無し薄型取付部品。
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月17日(2009.11.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポンプ装置のチャンバ内に流体を導入することと、
該チャンバ内の圧力が所望の圧力を上回るか否かを判断することと、
該チャンバ内の圧力が所望の圧力を上回るときに、該ポンプ装置のポンプ手段を移動させることにより、該チャンバの容積を増加させて、圧力増加を補償することと、
該チャンバから流体を分注することと
を含み、
該判断および移動は、該流体の分注が開始されるまで、該所望の圧力を実質的に維持するように繰り返される、方法。
【請求項２】
前記所望の圧力は、分注圧力またはその一部である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記チャンバ内の圧力が前記所望の圧力を上回るか否かを判断することは、圧力センサから該チャンバ内の圧力を受信し、該圧力が該所望の圧力の許容値内であるか否かを判断することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記流体を分注することは、前記ポンプ手段の最初の位置に基づいて分注位置を判断することと、該分注が開始されるときの該ポンプ手段の位置から該分注位置へ該ポンプ手段を移動させることとをさらに含む、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記流体を分注することは、前記ポンプ手段の最初の位置に基づく分注距離を計算することと、該ポンプ手段が前記所望の圧力を維持するために移動する距離に基づく補正距離を計算することと、該分注距離に該補正距離を加えた距離だけ該ポンプ手段を移動させることとを含む、請求項３に記載の方法。
【請求項６】
前記流体を分注することは、前記ポンプ手段の最初の位置に基づく分注距離を計算し、該分注距離だけ該ポンプ手段を移動させることを含む、請求項３に記載の方法。
【請求項７】
前記ポンプ手段が移動している間は、前記圧力が前記所望の圧力を上回るか否かの判断は行われない、請求項３に記載の方法。
【請求項８】
前記ポンプ手段が移動している間に、前記圧力センサを使用不能にすることをさらに含む、請求項３に記載の方法。
【請求項９】
前記圧力が前記所望の圧力の許容値内であるか否かを判断する前に、前記ポンプ手段が既に移動を停止していることを検出することをさらに含む、請求項３に記載の方法。
【請求項１０】
コンピュータ読み取り可能媒体を含むコンピュータプログラム製品であって、該コンピュータ読み取り可能媒体は、
ポンプ装置のチャンバ内へ流体を導入することと、
該チャンバ内の圧力が所望の圧力を上回るか否かを判断することであって、該所望の圧力は分注圧力またはその一部である、ことと、
該チャンバ内の圧力が所望の圧力を上回るときに、該ポンプ装置のポンプ手段を移動さ
せることにより、該チャンバの容積を増加させて、圧力増加を補償することと、
該チャンバから流体を分注することと
に変換可能な命令を格納しており、
該判断および移動は、該流体の分注が開始されるまで、該所望の圧力を実質的に維持するように繰り返される、コンピュータプログラム製品。
【請求項１１】
供給チャンバと、分注のための流体を受けるように動作可能な分注チャンバと、該分注チャンバ内のポンプ手段と、該分注チャンバ内の圧力を感知するように動作可能な圧力センサとを含む、ポンプ装置と、
該圧力を受信し、該チャンバ内の圧力が所望の圧力を上回るか否かを判断し、該分注チャンバ内の該所望の圧力を実質的に維持するように該ポンプ手段の移動を調整し、流体の分注が開始されるまで、この受信、判断、調整を繰り返すように構成された制御装置と
を含み、
該制御装置は、該ポンプ手段の移動を調整することにより、該分注チャンバから流体を分注するようにさらに動作可能である、システム。
【請求項１２】
前記分注チャンバ内の圧力が前記所望の圧力を上回るか否かを判断することは、圧力センサから該チャンバ内の圧力を受信し、該圧力が該所望の圧力の許容値内であるか否かを判断することを含む、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１３】
前記流体を分注することは、前記ポンプ手段の最初の位置に基づいて分注位置を判断することと、該分注が開始されるときの該ポンプ手段の位置から該分注位置に該ポンプ手段が移動するように、該ポンプ手段の移動を調整することとをさらに含む、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１４】
前記流体を分注することは、前記ポンプ手段の最初の位置に基づく分注距離と、該ポンプ手段が前記基準圧力を維持するために移動する距離に基づく補正距離とを計算することと、該分注距離に該補正距離を加えた距離だけ該ポンプ手段を移動させるように、該ポンプ手段の移動を調整することとを含む、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１５】
前記流体を分注するステップは、前記ポンプ手段の最初の位置に基づく分注距離を計算し、前記分注距離だけ該ポンプ手段が動くように、該ポンプ手段の運動を調整することを含む、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１６】
前記ポンプ手段が移動している間は、前記圧力が前記所望の圧力を上回るか否かの判断は行われない、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１７】
前記制御装置は、前記ポンプ手段が移動している間は、前記圧力センサを使用不能にするように動作可能である、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１８】
前記制御装置は、前記圧力が前記所望の圧力の許容値内であるか否かを判断する前に、前記ポンプ手段が既に動作を停止していることを検出するように動作可能である、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１９】
前記圧力は、約３０ｋＨｚ、約１０ｋＨｚまたは約１ｋＨｚのサンプリングレートで受信される、請求項１２に記載のシステム。
【請求項２０】
前記ポンプ手段は、モータインクリメント分だけ動くように調整される、請求項１２に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月12日(2009.11.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
キャリアプレート（１２）と、少なくとも１つの摩擦パッド（１４）とが設けられ、
前記摩擦パッド（１４）が、キャリアプレート（１２）に面する第１の側面と、少なくとも１つの摩擦材料ブロック（１４ｄ）に取付けられた第２の側面とを備え、
前記受け板（１４ａ）を前記キャリアプレート（１２）に取付けるための少なくとも１つの締め具（１８）が設けられ、
前記締め具（１８）が、前記キャリアプレート（１２）に取付けられ、前記受け板（１４ａ）に設けられる孔を通るように突出し、かつ前記受け板（１４ａ）を、前記キャリアプレートに向かう方向に移動可能とするだけでなく前記キャリアプレート（１２）に相対して保持するように前記受け板（１４ａ）の第２の側面に頭部を有しており、
前記キャリアプレート（１２）および前記受け板（１４ａ）の間で作用するバネ手段（１６；２２）が設けられ、
前記摩擦パッド（１４）に取付けられた前記バネ手段（１６；２２）および前記締め具が、前記キャリアプレート（１２）に相対して前記受け板を制限された揺動運動および／または直線運動させることを可能とするように構成され、
前記制限された相対的な運動が、前記バネ手段（１６；２２）の作用に対向して生じるように構成されている、ディスクブレーキ用のパッドアセンブリにおいて、
前記キャリアプレート（１２）または前記受け板（１４ａ）の一方に取付けられ、かつ前記キャリアプレート（１２）または前記受け板（１４ａ）の他方と係合するように突出することによって、前記キャリアプレートと前記受け板との間で力の伝達を可能にする複数の力伝達部材（２０）が設けられ、
前記複数の力伝達部材（２０）が、前記受け板（１４ａ）の幾何学的中心より前記受け板の周縁部の近傍に配置され、かつ前記複数の力伝達部材のうち少なくとも２つを前記受け板（１４ａ）の幾何学的中心周りで略等角度に向けて配置されている、ディスクブレーキ用のパッドアセンブリ。
【請求項２】
前記力伝達部材（２０）が、前記摩擦パッド（１４）または前記キャリアプレート（１２）に形成された凹部（１４ｃ，１４ｆ）内で突出するように構成されている、請求項１に記載のパッドアセンブリ。
【請求項３】
前記力伝達部材（２０）各々が前記キャリアプレート（１４）に取付けられたピンの形態となっている、請求項１に記載のパッドアセンブリ。
【請求項４】
前記凹部（１４ｃ，１４ｆ）に受け入れられるように突出する前記ピン（２０）が、前記摩擦材料ブロック（１４ｄ）を取付けた前記受け板（１４ａ）に形成されている、請求項３に記載のパッドアセンブリ。
【請求項５】
前記バネ手段が前記締め具（１８）を取り囲む１つまたは複数の円錐バネワッシャー（１６）を備えている、請求項１〜４のいずれか一項に記載のパッドアセンブリ。
【請求項６】
前記バネ手段が前記力伝達部材（２０）を取り囲む１つまたは複数の円錐バネワッシャー（２２）を備えている、請求項１〜４のいずれか一項に記載のパッドアセンブリ。
【請求項７】
複数の受け板に取付けられた複数のパッド（１４）が設けられ、前記複数の受け板の各々が共通のキャリアプレート（１２）に取付けられ、前記パッド各々に関連する前記バネ手段（１６；２２）が前記キャリアプレート（１２）の前記パッド（１４）各々の位置に適するようなバネ特性を有している、請求項５または６に記載のパッドアセンブリ。
【請求項８】
複数の前記力伝達部材（２０）が、前記摩擦パッド各々と関連付けられ、前記力伝達部材が前記摩擦パッド（１４）に取付けた前記締め具に対して対称に配置されている、請求項１〜７のいずれか一項に記載のパッドアセンブリ。
【請求項９】
前記摩擦パッド（１４）各々の前記摩擦材料ブロック（１４ｄ）が、前記キャリアプレート（１２）の面と平行な面で見たときに略三角形となっている、請求項１〜８のいずれか一項に記載のパッドアセンブリ。
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月24日(2009.11.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
結合パートナーのファージへの結合を検出する方法であって、
（ａ）バイオセンサー上に、粗製ファージの標本、濃縮されていないファージの標本、同種でないファージの標本、濃縮されたファージの標本、またはそれらの組み合わせを固定化する工程；
（ｂ）バイオセンサーを結合パートナーに接触させる工程；
（ｃ）バイオセンサー上に固定化されたファージへの結合パートナーの結合を検出する工程
を含む該方法。
【請求項２】
結合パートナーが、小分子、糖、ポリマー、ペプチド、可溶性タンパク質、細胞受容体、細胞受容体の抗原模倣物、細胞、哺乳類細胞、または哺乳類細胞表面タンパク質である、請求項１記載の方法。
【請求項３】
粗製ファージの標本、濃縮されていないファージの標本、同種でないファージの標本、濃縮されたファージの標本、またはそれらの組み合わせおよび結合パートナーが検出可能なラベルを含まない、請求項１記載の方法。
【請求項４】
粗製ファージの標本、濃縮されていないファージの標本、同種でないファージの標本、濃縮されたファージの標本、またはそれらの組み合わせがファージディスプレイライブラリである、請求項１記載の方法。
【請求項５】
粗製ファージの標本、濃縮されていないファージの標本、同種でないファージの標本、濃縮されたファージの標本、またはそれらの組み合わせが受動的にバイオセンサーに固定化される、請求項１記載の方法。
【請求項６】
粗製ファージの標本、濃縮されていないファージの標本、同種でないファージの標本、濃縮されたファージの標本、またはそれらの組み合わせが、ファージコートタンパク質に特異的な抗体またはファージコートタンパク質に特異的な抗体フラグメントによりバイオセンサーに固定化される、請求項１記載の方法。
【請求項７】
抗体または抗体フラグメントが、バイオセンサーに結合しているタンパク質への結合によりバイオセンサーに固定化される、請求項６記載の方法。
【請求項８】
抗体または抗体フラグメントがタグを含む、請求項６記載の方法。
【請求項９】
抗体または抗体フラグメントが、タグに特異的な抗体によりバイオセンサーに固定化される、請求項８記載の方法。
【請求項１０】
バイオセンサーが比色分析共鳴反射バイオセンサーまたはエバネッセント光に基づくバイオセンサーである、請求項１記載の方法。
【請求項１１】
ファージの標本が、バイオセンサー表面上の一以上の点、バイオセンサー表面上のウェル、またはバイオセンサー表面上のウェル中の一以上の点において固定化される、請求項１記載の方法。
【請求項１２】
抗体の集合における抗体のエピトープクラスを判定する方法であって、
（ａ）ディスプレイファージ、抗体、または抗体フラグメントをバイオセンサーに固定化する工程；
（ｂ）結合パートナーがディスプレイファージ、抗体、または抗体フラグメントに結合するのに適した条件下で、バイオセンサーを、バイオセンサーに固定化されたディスプレイファージ、抗体、または抗体フラグメントに特異的に結合する結合パートナーに接触させる工程；
（ｃ）抗体の集合をバイオセンサーと接触させる工程；
を含み、抗体の集合が結合パートナーに結合することにより生成される検出可能なシグナルが、抗体の集合中には、固定化されたディスプレイファージ、抗体、または抗体フラグメント中とは異なるエピトープクラスが存在することを示す該方法。
【請求項１３】
抗体の集合がファージクローンを含む、請求項１２記載の方法。
【請求項１４】
抗体の集合が、抗体フラグメント、全長抗体、全長抗体をディスプレイするファージ、抗体フラグメントをディスプレイするファージを含む、請求項１２記載の方法。
【請求項１５】
抗体の集合がハイブリドーマ由来の抗体を含む、請求項１２記載の方法。
【請求項１６】
抗体の集合がファージディスプレイスクリーニング由来の抗体を含む、請求項１２記載の方法。
【請求項１７】
ディスプレイファージが、粗製ファージの標本、濃縮されていないファージの標本、濃縮されたファージの標本、または同種でないファージの標本である、請求項１２記載の方法。
【請求項１８】
結合パートナーが、小分子、糖、ポリマー、ペプチド、可溶性タンパク質、細胞受容体、細胞受容体の抗原模倣物、哺乳類細胞、または哺乳類細胞表面タンパク質である、請求項１２記載の方法。
【請求項１９】
哺乳類細胞表面タンパク質が、膜結合タンパク質、一回膜貫通型タンパク質、複数回膜貫通型タンパク質、またはタンパク質チャネルである、請求項１８記載の方法。
【請求項２０】
バイオセンサーが、比色分析共鳴反射バイオセンサーまたはエバネッセント光に基づくバイオセンサーである、請求項１２記載の方法。
【請求項２１】
抗体の集合、結合パートナー、および固定化されたディスプレイファージ、固定化された抗体、または固定化された抗体フラグメントが検出可能なラベルを含まない、請求項１２記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月26日(2009.11.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに長手方向に離間配置され、縮小位置と拡大位置との間で移動するように適応された複数の段と、
該縮小位置にある該複数の段の各々の円周の少なくとも一部の周囲に配置された複数のセンサであって、該拡大位置にある該複数の段の各々のセンサ間に少なくとも１つの間隔を有しており、該複数の段の１つ目の該少なくとも１つの間隔がその上にセンサが配置された該複数の段の２つ目の一部と並ぶように配列される該複数のセンサとからなる、
パルス渦電流パイプライン検査装置。
【請求項２】
該複数の段の各々が複数のセンサ領域からなる、請求項１に記載のパルス渦電流パイプライン検査装置。
【請求項３】
該複数のセンサの一部が該複数のセンサ領域の各々の上に直線配列で配置される、請求項２に記載のパルス渦電流パイプライン検査装置。
【請求項４】
パルサがパルス渦電流入力を駆動コイルに送るように信号を供給して、該複数のセンサの少なくとも一部を励起する制御モジュールを有する、請求項１に記載のパルス渦電流パイプライン検査装置。
【請求項５】
該駆動コイルが該複数のセンサの少なくとも一部に隣接して位置決めされる、請求項４に記載のパルス渦電流パイプライン検査装置。
【請求項６】
該複数のセンサからのデータを受信し、該データのフィルタ処理と振幅制限を行うように適応された前処理回路を有する、請求項１に記載のパルス渦電流パイプライン検査装置。
【請求項７】
該複数のセンサによって得られたデータを受信し、該受信データに対応する波形に近似する多項式の少なくとも１つの係数を計算するように適応された多項式適合モジュールを有する、請求項１に記載のパルス渦電流パイプライン検査装置。
【請求項８】
該少なくとも１つの係数を記憶するように適応されるデータ収集システムを有する、請求項７に記載のパルス渦電流パイプライン検査装置。
【請求項９】
互いに長手方向に離間配置され、縮小位置と拡大位置との間で移動するように適応された複数の段と、
該縮小位置にある該複数の段の各々の円周の少なくとも一部の周囲に配置された複数のセンサであって、該拡大位置にある該複数の段の各々のセンサ間に少なくとも１つの間隔を有しており、該複数の段の１つ目の該少なくとも１つの間隔がその上にセンサが配置された該複数の段の２つ目の一部と並ぶように配列される該複数のセンサと、
該複数のセンサからパイプラインの状態に対応するデータを受信するように適応されるデータ収集モジュールと、
該データ収集モジュールに電力を供給するように適応される電源とからなる、
パイプライン検査ゲージ（ＰＩＧ）。
【請求項１０】
該パイプライン内の該ＰＩＧの位置を決定するように適応された位置決め要素を有する、請求項９に記載のＰＩＧ。
【請求項１１】
パイプラインを評価する方法であって、
該パイプライン中でパルス渦電流測定装置を駆動する段階を有しており、該パルス渦電流測定装置は複数の段からなっており、該複数の段の各々は、複数のセンサが間に間隔を有さない該複数の段の各々の円周の少なくとも一部の周囲に配置される縮小位置と、該複数の段の各々の上に配置されたセンサ間に少なくとも１つの間隔が存在する拡大位置との間で移動するように適応されており、該複数のセンサは、該拡大位置にある該複数の段の１つ目の周囲に配置されたセンサ間の該間隔が、該複数の段の少なくとも２つ目の周囲の該複数のセンサの少なくとも一部の位置と一致し、そこから長手方向に離間配置されるように配列されており、
さらに該パルス渦電流測定装置を該縮小位置に配置して該パイプラインの狭窄部分を探査する段階を有する方法。
【請求項１２】
パルサがパルス渦電流入力を駆動コイルに送るように信号を供給して、該複数のセンサの少なくとも一部を励起する段階を有する、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
該複数のセンサからのデータを受信する段階と、
該受信データにフィルタ処理作業を行う段階と、
該受信データに振幅制限作業を行う段階とを有する、請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
該複数のセンサから受信したデータの多項式適合作業を行う段階と、
該受信データに対応する波形に近似する多項式の少なくとも１つの係数を計算する段階とを有する、請求項１１に記載の方法。
【請求項１５】
データ収集モジュールに該少なくとも１つの係数を記憶する段階を有する、請求項１４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月18日(2009.11.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
空気流を冷却する装置であって、
・  冷却する該空気流に対する流入開口と冷却された空気流に対する流出開口とを有する、少なくとも１つの冷却流路と、
・  伝達壁によって該冷却流路から分離され、且つ前記冷却流路の前記流出開口に対して接続される流入開口、及び流出開口を有する、少なくとも１つの気化流路と、
・  該気化流路に向かって方向付けられる前記伝達壁の側部を湿潤させる手段と、
・  前記冷却流路において前記空気流を除湿する手段と、
を有し、
該
除湿手段は、より低い臨界溶解温度を有するポリマ（ＬＣＳＴポリマ）を有する、
ことを特徴とする冷却装置。
【請求項２】
前記冷却流に向かって方向付けられる前記伝達壁の前記側部は、ＬＣＳＴポリマを有して少なくとも部分的に覆われるか、あるいは、ＬＣＳＴポリマから製造される、
ことを特徴とする請求項１記載の冷却装置。
【請求項３】
前記ＬＣＳＴポリマは、ポリオキサゾリン、ポリ（ジメチルアミノエチルメタクリラート）（ｐ（ＤＭＡＥＭａ））、及びポリ（Ｎ−イソプロピルアクリルアミド）（ｐＮｉＰＡＡｍ）を有する群から選択される、
ことを特徴とする請求項２記載の冷却装置。
【請求項４】
前記除湿手段を再生する手段によって特徴付けられる、
請求項３記載の冷却装置。
【請求項５】
前記再生手段は、前記臨界溶解温度を上回って前記ＬＣＳＴポリマを周期的に加熱するよう適合される、
ことを特徴とする請求項４記載の冷却装置。
【請求項６】
前記再生手段は、再生中に前記ＬＣＳＴポリマによって放棄される水分を前記冷却流路から収集及び放出するよう適合される、
ことを特徴とする請求項４又は５記載の冷却装置。
【請求項７】
前記再生手段は、収集される水分を前記湿潤手段まで案内するよう適合される、
ことを特徴とする請求項６記載の冷却装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月26日(2009.11.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
サンプルとトリチル基と常磁性金属イオンとを含んでなる組成物。
【請求項２】
動的核分極に使用するための請求項１記載の組成物。
【請求項３】
前記サンプルが内在性化合物、好ましくはヒト及びヒト以外の動物の体内での代謝プロセスで所定の役割を果たす内在性化合物である、請求項１又は請求項２記載の組成物。
【請求項４】
前記トリチル基が安定な酸素系、硫黄系又は炭素系トリチル基である、請求項１乃至請求項３のいずれか１項記載の組成物。
【請求項５】
前記トリチル基が次の式（１）の基である、請求項１乃至請求項４のいずれか１項記載の組成物。
【化１】
2009517688.tif 000001
式中、
Ｍは水素又は一価陽イオンを表し、
Ｒ１は同一又は異なるもので、直鎖もしくは枝分れＣ1〜Ｃ6アルキル基又は−（ＣＨ2）n−Ｘ−Ｒ２基（式中、ｎは１、２又は３であり、ＸはＯ又はＳであり、Ｒ２は直鎖又は枝分れＣ1〜Ｃ4アルキル基である。）である。
【請求項６】
前記常磁性金属イオンが、原子番号５８〜７０のランタニド金属又は原子番号２１〜２９、４２又は４４の遷移金属の常磁性金属イオンである、請求項１乃至請求項５のいずれか１項記載の組成物。
【請求項７】
前記常磁性金属イオンが、Ｃｒ3+、Ｍｎ2+、Ｆｅ3+、Ｆｅ2+、Ｃｏ2+、Ｎｉ2+、Ｃｕ2+、Ｎｄ3+、Ｓｍ3+、Ｇｄ3+、Ｔｂ3+、Ｄｙ3+、Ｈｏ3+、Ｅｒ3+又はＹｂ3+、好ましくはＣｒ3+、Ｍｎ2+、Ｆｅ3+、Ｆｅ2+、Ｇｄ3+又はＴｂ3+、さらに好ましくはＣｒ3+、Ｍｎ2+、Ｆｅ3+又はＧｄ3+である、請求項１乃至請求項６のいずれか１項記載の組成物。
【請求項８】
前記常磁性金属イオンがキレート又は塩の形態である、請求項１乃至請求項７のいずれか１項記載の組成物。
【請求項９】
前記常磁性金属イオンがキレートの形態であり、キレート剤が、適宜Ｎ、Ｏ、Ｓ及びＰからなる群のヘテロ原子を含んでいてもよい環状又は非環状キレート剤である、請求項１乃至請求項８のいずれか１項記載の組成物。
【請求項１０】
前記常磁性金属イオンがキレートの形態であり、キレート剤がＤＯＴＡ、ＤＯ３Ａ及びそれらの誘導体からなる群から選択される、請求項１乃至請求項９のいずれか１項記載の組成物。
【請求項１１】
前記常磁性金属イオンがサンプル又はサンプル溶液に可溶である、請求項１乃至請求項１０のいずれか１項記載の組成物。
【請求項１２】
過分極サンプルとトリチル基と常磁性金属イオンとを含んでなる組成物であって、当該組成物が動的核分極で得られたものである組成物。
【請求項１３】
サンプルの動的核分極に用いられる分極剤であって、トリチル基と常磁性金属イオンとを含んでなる分極剤。
【請求項１４】
固体過分極サンプルの製造方法であって、サンプルとトリチル基と常磁性金属イオンとを含む組成物を調製し、該組成物で動的核分極を実施することを含んでなる方法。
【請求項１５】
液体過分極サンプルの製造方法であって、サンプル又はその前駆体とトリチル基と常磁性金属イオンとを含んでなる組成物を調製し、該組成物で動的核分極を実施し、該組成物を好ましくは溶解によってを液化し、適宜、液体組成物からトリチル基及び／又は常磁性金属イオンを除去することを含んでなる方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月25日(2009.11.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
３００ｎｍ以下に吸収を有する物質の溶液中での濃度を測定する方法であって、当該方法が、
ｉ）溶液中に存在する１種以上の化合物から上記物質をクロマトグラフィーによって分離する段階、
ｉｉ）光源からバンドパスフィルターを通して波長３００ｎｍ以下の紫外光を送る段階、
ｉｉｉ）バンドパスフィルターから出た紫外光をビームスプリッターに通す段階、
ｉｖ）光の第１の部分をビームスプリッターで分岐して、第１の部分の電磁波を対照検出器で定量して対照値を得る段階、
ｖ）ビームスプリッターを通過する光の第２の部分を既知の光路長の溶液に照射する段階、
ｖｉ）溶液を通過した電磁波を試料検出器で定量して試料値を得る段階、及び
ｖｉｉ）試料値と対照値から吸光度（Ａ）を計算する段階
を含んでなり、上記光源が３００ｎｍ以下の波長の光を放射する発光ダイオードであることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記溶液が細胞抽出液、細胞溶解液及び細胞培養液又はこれらの混合物からなる群から選択される、請求項１記載の方法。
【請求項３】
既知の内容積のセル内の溶液に照射し、該セルが３００ｎｍ以下の波長の光に透明である、請求項１又は請求項２記載の方法。
【請求項４】
前記対照検出器及び試料検出器がＵＶ感受性光電子増倍管又はＵＶ感受性光ダイオードである、請求項１乃至請求項３のいずれか１項記載の方法。
【請求項５】
前記物質がタンパク質又はペプチドである、請求項１乃至請求項４のいずれか１項記載の方法。
【請求項６】
前記物質が核酸である、請求項１乃至請求項４のいずれか１項記載の方法。
【請求項７】
前記クロマトグラフィーが、吸着クロマトグラフィー、アフィニティークロマトグラフィー、高性能液体クロマトグラフィー、イオン交換クロマトグラフィー、排除クロマトグラフィー、ゲル濾過クロマトグラフィー、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー、疎水性クロマトグラフィー、イオン性相互作用クロマトグラフィー、逆相クロマトグラフィー、リガンド媒介クロマトグラフィー及びモレキュラーシーブクロマトグラフィーからなる群から選択される、請求項１乃至請求項６のいずれか１項記載の方法。
【請求項８】
３００ｎｍ以下に吸収を有する物質の溶液中での濃度を測定するための装置であって、当該装置が、
ｉ）クロマトグラフィー分離手段、
ｉｉ）溶液を収容するための既知の光路長のセルであって、３００ｎｍ以下の波長の光に透明なセル、
ｉｉｉ）光源、
ｉｖ）バンドパスフィルター、
ｖ）光を第１の部分及び第２の部分に分割するためのビームスプリッター、
ｖｉ）ビームスプリッターで分岐された電磁波を検出するための対照検出器、及び
ｖｉｉ）溶液を通過した電磁波を検出するための試料検出器
を備えており、上記光源が３００ｎｍ以下の波長の光を放射する発光ダイオードであることを特徴とする装置。
【請求項９】
前記セルが既知の内容積のものである、請求項８記載の装置。
【請求項１０】
前記対照検出器及び試料検出器がＵＶ感受性光ダイオード又はＵＶ感受性光電子増倍管である、請求項８又は請求項９記載の装置。
【請求項１１】
さらにコリメータレンズを備える、請求項８乃至請求項１０のいずれか１項記載の装置。
【請求項１２】
さらに、集光レンズを含む、請求項８乃至請求項１１のいずれか１項記載の装置。
【請求項１３】
前記クロマトグラフィー分離手段がクロマトグラフィーカラム又はメンブレンである、請求項８乃至請求項１２のいずれか１項記載の装置。
【請求項１４】
前記クロマトグラフィーカラム又はメンブレンが、吸着クロマトグラフィー、アフィニティークロマトグラフィー、高性能液体クロマトグラフィー、イオン交換クロマトグラフィー、排除クロマトグラフィー、ゲル濾過クロマトグラフィー、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー、疎水性クロマトグラフィー、イオン性相互作用クロマトグラフィー、逆相クロマトグラフィー、リガンド媒介クロマトグラフィー及びモレキュラーシーブクロマトグラフィーからなる群から選択されるクロマトグラフィーに基づいて１種以上の化合物から物質を分離する、請求項１３記載の装置。
【請求項１５】
タンパク質、ペプチド及び核酸からなる群から選択される物質の濃度を測定するための請求項８乃至請求項１４のいずれか１項記載の装置の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月24日(2009.11.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
図３は、感光性刷版ブランクを作製する製造プロセスの代表的な先行技術を示す。光硬化性樹脂組成物が、押出ダイ４０を通って押出され、２つの軟質支持体間でカレンダー処理される。そして、刷版ブランクが冷却され（例えば、華氏約１７０度に）、厚みプロファイラ（ｐｒｏｆｉｌｅｒ）４２を通って処理される。その後、刷版ブランクが強制空冷装置５０で処理され、コンベヤで搬送される。そして、刷版ブランクが所望の大きさに切られ、処理をするプリントショップの顧客に提供されて所望のレリーフ像印刷要素を作製する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
上記のように感光性樹脂要素が調整された後で、要素が冷却される。好適な実施形態において、冷却工程は、周囲温度にさらすことも含む。更なる冷却工程を行ってもよく、当該技術分野で周知のように光硬化層が強制空冷装置５０で処理される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2009517254.tif 000001
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2009517254.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月27日(2009.11.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの歯科用インプラントの向きおよび位置を得る方法であって、
ａ．前記少なくとも１つの歯科用インプラントに対応する少なくとも１つの固定された印象アバットメントを含む印象を得るステップ、
および／または
前記少なくとも１つの歯科用インプラントに対応する少なくとも１つの固定された印象アバットメントを含む印象を得るステップであって、前記少なくとも１つの歯科用インプラントに取り付けられる物は、スキャンインプラント／アナログである、ステップと、
ｂ．前記印象アバットメントおよび／またはスキャンインプラント／アナログの形状の所定の情報を得るステップと、
ｃ．前記少なくとも１つの印象アバットメントおよび／またはスキャンインプラント／アナログを含む、前記印象の少なくとも一部をスキャンすることによってスキャンデータを得るステップと、
ｄ．前記所定の情報と前記スキャンデータとに基づき、前記歯科用インプラントの向きおよび位置を決定するステップと
を含む、方法。
【請求項２】
前記スキャンデータに基づき三次元模型を得るステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記向きおよび位置は、口内スキャン、ＣＴ、ＭＲ、またはＸ線スキャン、あるいはこれらの組み合わせのうちの１つ以上によって得られたスキャンにさらに基づく、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記所定の情報は、ＣＡＤ模型である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記スキャンアバットメントは、ポジ模型を得る工程で用いられる印象アバットメントである、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記スキャンアバットメントは、前記ポジ模型を得る工程で用いられる印象アバットメントではない、請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
上顎および／または下顎の少なくとも一部の歯の模型を製作する方法であって、
ａ．印象のスキャン、口内スキャン、ＣＴ、ＭＲ、またはＸ線スキャン、ポジ模型のスキャン、あるいはこれらの組み合わせのいずれかによって、前記上顎および／または下顎の前記少なくとも一部の三次元模型を得るステップであって、前記三次元模型は、請求項１〜６のいずれか１項を適用することによって得られる、ステップと、
ｂ．前記得られた三次元模型から歯の模型を製作するステップと
を含む、方法。
【請求項８】
前記歯の模型は、フライス盤、三次元プリンタ、あるいはこれらの組み合わせなど、ラピッドプロトタイピング装置によって製作される、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記歯の模型は、少なくとも部分的に、プラスチック、ポリマー、蝋、石膏、またはセラミックで製作される、請求項７または８に記載の方法。
【請求項１０】
製作の前に前記三次元模型の前記表面をＣＡＤベースなどのベースに取り付けるステップをさらに含む、請求項７〜９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
製作の前に前記三次元模型から中実模型を得るステップをさらに含む、請求項７〜１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
製作の前に前記得られた模型に対して位置決めする手段をさらに含む、請求項７〜１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
上顎骨および下顎骨の両模型が製作される、請求項７〜１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
歯冠の少なくとも一部が前記同じ三次元模型に基づき製作される、請求項７〜１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
少なくとも１つのインプラントアナログを前記歯の模型に含めるステップをさらに含む、請求項７〜１５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１６】
前記インプラントアナログの位置および向きは、請求項１〜６のいずれか１項に記載の前記歯科用インプラントの位置および向きを得る方法のいずれかによって求められる、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
請求項１〜１６のいずれか１項に記載の方法のステップを実行するためのプログラムコードを含む、少なくとも１つの歯科用インプラントの向きおよび位置を得るためのコンピュータプログラムが格納されたコンピュータ可読媒体を含むコンピュータプログラム製品。
【請求項１８】
少なくとも１つの歯科用インプラントの向きおよび位置を得るためのシステムであって、前記システムは、１つ以上のコンピュータ命令が格納されたコンピュータ可読メモリを含み、前記命令は、請求項１〜１７のいずれか１項に記載の方法のステップを実行するための命令を含む、システム。
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月27日(2009.11.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
本体（２，１２，２０）と、前記本体（２，１２）の開口部のためのクロージャ（３，１３）とを有する容器（１，１１，１８，２７）であって、本体（２，１２）は加熱可能な内容物（５，１９）を含み、マイクロ波加熱可能要素（６）と熱交換接触して設けられ、加熱可能要素（６，１４，２２，２８）は、外囲容器（７，１５，２４）に収容されたマイクロ波加熱可能材料（８，１７，２３）を含み、外囲容器は半透水性を有することを特徴とする、容器。
【請求項２】
外囲容器（７）は本体（２）に付着される、請求項１に記載の容器（１）。
【請求項３】
外囲容器（２４）は本体に取外し可能に接続される、請求項１に記載の容器（１８）。
【請求項４】
外囲容器（２２）はパッド（２５）の形態を有する、請求項３に記載の容器（１８）。
【請求項５】
加熱可能要素（１４）は、本体（１２）の高さの一部にわたって延在する、請求項１〜４のいずれか１項に記載の容器（１１）。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載のマイクロ波加熱可能要素。