【事件の表示】
　特願２００２−２１６９４９「優れた端面絶縁性を有する鉄心と鉄心端面の絶縁被膜処理方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１５年７月９日出願公開、特開２００３−１９３２６３〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
Ｉ．手続の経緯 
　本願は、平成１４年７月２５日（優先日：平成１３年１０月５日）の出願であって、平成１５年５月１９日付けで拒絶理由が通知され、平成１５年７月２８日付けで手続補正書が提出され、平成１５年１０月６日付けで拒絶理由が通知され、平成１５年１２月１５日付けで手続補正書が提出され、平成１６年３月２５日付けで拒絶査定がなされ、これに対して平成１６年４月３０日に審判請求がなされるとともに、平成１６年５月２８日付けで手続補正書が提出され、平成１６年６月２２日付けで前置報告がなされ、平成１８年４月２８日付けで審尋がなされ、これに対して平成１８年７月１０日付けで回答書が提出されたものである。
　　
II．平成１６年５月２８日付け手続補正書による補正の却下の決定
(II-1)結論
　平成１６年５月２８日付け手続補正書による補正を却下する
(II-2)理由
（ａ）補正の内容
　本補正は、明細書の特許請求の範囲の請求項１において、「ｎ＝１のものをこれらの合計量の２０〜８０％」として、請求項１を以下のとおりに補正する点を含む補正である。（以下、補正後の請求項１に記載された事項により特定される発明を「補正発明１」という。）
「【請求項１】鉄心端面に平均膜厚２〜２０μｍの、(Ｒ１)ｎＳｉ(Ｘ１)４−ｎ〔但し、ｎ＝０〜３の整数、Ｒ１はアルキル基またはフェニル基でｎ＝２，３の時は複数のＲ１が異なっていても良く、Ｘ１はＣｌまたはＯ(Ｒ２)で表されるアルコキシ基でＲ２はアルキル基であり、ｎ＝０，１，２の時は複数のＲ２が異なっても良い〕で表される物質の１種または２種以上の加水分解反応と脱水縮合反応によって生成する化合物である純シリコンポリマー、(Ｒ３)ｎＳｉ(Ｘ2)４−ｎ〔但し、ｎ＝０〜３の整数、Ｒ3はアルキル基またはフェニル基以外の有機官能基で、ｎ＝２，３の時は複数のＲ３が異なっていても良く、Ｘ２はＣｌまたはＯ(Ｒ４)で表されるアルコキシ基でＲ４はアルキル基であり、ｎ＝０，１，２の時は複数のＲ４が異なっても良い〕で表される物質の１種または２種以上の加水分解反応と脱水縮合反応によって生成する化合物である変性シリコンポリマー、(Ｒ１)ｎＳｉ(Ｘ１)４−ｎ〔但し、ｎ＝０〜３の整数、Ｒ１はアルキル基またはフェニル基でｎ＝２，３の時は複数のＲ１が異なっていても良く、Ｘ１はＣｌまたはＯ(Ｒ２)で表されるアルコキシ基でＲ２はアルキル基であり、ｎ＝０，１，２の時は複数のＲ２が異なっても良い〕で表される化合物の１種または２種以上と(Ｒ３)ｎＳｉ(Ｘ２)４−ｎ〔但し、ｎ＝０〜３の整数、Ｒ３はアルキル基またはフェニル基以外の有機官能基で、ｎ＝２，３の時は複数のＲ３が異なっていても良く、Ｘ２はＣｌまたはＯ(Ｒ４)で表されるアルコキシ基でＲ４はアルキル基であり、ｎ＝０，１，２の時は複数のＲ４が異なっても良い〕で表される物質の１種または２種以上の加水分解反応と脱水縮合反応によって生成する化合物であることを特徴とする混合シリコンポリマー、の１種または２種以上で、かつ、ｎ＝１のものをこれらの合計量の２０〜８０％からなる乾燥膜であるシリコン化合物をＳｉＯ２換算で３０質量部以上からなる絶縁被膜が処理され、該絶縁被膜が空気中において４００℃×１時間以上の耐熱性を有することを特徴とする優れた端面絶縁性を有する鉄心。」
　　
（ｂ）判断
(b-1)補正の目的
　本補正は、補正前の請求項１に記載されたシリコン化合物の組成につき限定する補正であって、特許法第１７条の２第４項第２号に掲げる特許請求の範囲の限定的減縮を目的にするものといえる。
　以下、独立特許要件について検討する。
　　
(b-2)引用例及びその記載事実
（１）引用例１：特開平１０−２５６０７０号公報（平成１０年９月２５日公開）
(1-1)「【請求項１】金属または合金から成る磁性金属板の表面に、Ｍ(ＯＲ)n〔Ｍ：金属、Ｒ：アルキル基、ｎ：自然数〕で表される金属アルコキシドの溶液を用いゾル−ゲル法により形成された絶縁皮膜を設けたことを特徴とする絶縁被覆磁性金属板。」（請求項１）
(1-2)「本発明は、絶縁被覆磁性金属板およびその製造方法に関する。」（段落【0001】）
(1-3)「磁性金属板を積層した電磁アクチュエータ用コア、変圧器用コア等の電磁コアは、渦電流損を軽減するために、磁性金属板を薄板化すると共に磁性金属板の表面を絶縁処理した後に積層してコアを形成している。」（段落【0002】）
(1-4)「金属アルコキシドの溶液を用いゾル−ゲル法を行うことにより、下地金属に接合し且つ耐熱性に優れた絶縁皮膜が形成される」（段落【0007】）
(1-5)「磁性金属板としては、従来から電磁コア材料として用いられている電磁軟鉄板、パーメンジュール板、パーマロイ板、アモルファス薄帯のような軟磁性金属板が典型的である。」（段落【0012】）
(1-6)「本発明の絶縁皮膜は、打ち抜き等の塑性加工後に被覆してもよい」（段落【0013】）
(1-7)「本発明の絶縁皮膜は、金属アルコキシドの溶液のゾル−ゲル反応により形成する。この金属アルコキシドは一般式Ｍ(ＯＲ)n〔Ｍ：金属、Ｒ：アルキル基、ｎ：自然数〕で表され、Ｍ、Ｒ、ｎは特に限定する必要はなく、ゾル−ゲル法により安定な絶縁皮膜が形成されるものであればよい。安定な絶縁皮膜とは、打ち抜き等による塑性加工およびその後の磁気焼鈍によって実質的に破壊されず所期の絶縁特性を維持できるものを言う。金属Ｍは、安定した酸化物を形成する元素が一般に望ましく、例えばＳｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｌ等であってよい。金属アルコキシドは、１種を単独に用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。」（段落【0015】）
(1-8)「〔実施例１〕第１発明により、電磁軟鉄板、パーメンジュール板、パーマロイ板、アモルファス薄帯等の磁性金属板上に、金属アルコキシド溶液としてＴＥＯＳ（テトラエトキシシリコン）およびＭＴＥＯＳ（メチルトリエトキシシラン）のエタノール溶液を用い、ゾル−ゲル法により絶縁皮膜を形成した。
〔１〕ゾル−ゲル溶液の作成　図１(1) に示した手順で、ゾル−ゲル溶液を作成した。
　すなわち、表１に示した配合組成で、金属アルコキシドとしてのＴＥＯＳに別の金属アルコキシドとしてのＭＴＥＯＳと溶媒としてのエタノールとを順次添加し、約３０分間攪拌して金属アルコキシド溶液を調製した。別に、加水分解の反応体としての水に加水分解の触媒としての０．１Ｎ塩酸を表１に示す配合組成で調合した溶液を準備し、これを上記の金属アルコキシド溶液に攪拌しながら徐々に添加してゾル−ゲル溶液とした。」（段落【0018】〜【0019】）
(1-9)「皮膜厚さは薄すぎると十分な絶縁性が得らない。逆に、厚すぎると皮膜の剥離による絶縁不良が起き易くなる上、金属板の占積率が低下しコアの磁束密度が低下する。通常０．１μｍ〜２０μｍ程度が適当である。」（段落【0021】）
(1-10)「ゾル−ゲル溶液から引き上げた後に、自然乾燥（例えば２分程度）を経て強制乾燥を行う処理ラインが望ましい。乾燥を余り急激に行うと皮膜の密着性が得られず剥離してしまう。強制乾燥は、１５０〜２５０℃程度で２０分〜２時間程度行えば十分である。」（段落【0022】）
(1-11)「強制乾燥後に、非酸化性雰囲気で５００℃以上、３０分以上の熱処理を行うと、皮膜自体の機械的強度および下地金属との接合強度が顕著に向上し、皮膜の剥離防止に極めて有効である。」（段落【0022】）
(1-12)「コアが小型で作製個数が少ない場合には、上記のような連続塗布・乾燥処理よりもバッチ式塗布・乾燥処理により皮膜形成する方が適している。この場合は、まず磁性金属板を打ち抜き等によりコア形状に応じた必要な形状に加工した後、図４のように個々の打ち抜き材をゾル−ゲル溶液に浸漬し、引き上げる。この浸漬に際して注意すべきことは、打ち抜き材の保持方法である。すなわち、鰐口クリップ等で掴むと、掴んだクリップ周辺の溶液が引き上げ時に垂れて局部的に皮膜が厚くなり、その部分が剥離し易くなる。この防止策として、例えば図５に示したように打ち抜き材を磁石で吸着すると、液垂れが生じ難い。」（段落【0025】）
(1-13)「以下の実施例において、実施例１で最終的にゾル−ゲル溶液として作成した表１の組成を基本液組成と呼ぶ。」（段落【0026】）
(1-14)「表１」には、基本液組成が、ＴＥＯＳ（テトラエトキシシリコン）を８〜１２ｇ、ＭＴＥＯＳ（メチルトリエトキシシラン）を０．５〜２ｇ、エタノール５〜２０ｇ、水１０〜２５ｇ、及び０．１Ｎ塩酸５〜２０ｍＬであることが記載されている。（第５頁）
　なお、表１原文の「ＴＯＥＳ」、「ＭＴＯＥＳ」はそれぞれ「ＴＥＯＳ」、「ＭＴＥＯＳ」の誤記と認められるので、上記のとおり認定した。
(1-15)「第５発明により、本発明のゾル−ゲル溶液を磁性金属板に塗布して絶縁被覆磁性金属板を作製する例を説明する。
　先ず磁性金属板を所望形状に打ち抜き、この打ち抜き材を積層あるいはインボリュート化によりコア状に形成し、これをゾル−ゲル溶液に浸漬した状態で真空含浸を行う。」（段落【0041】〜【0042】）
　　
（２）引用例２：特開昭６２−５７４７０号公報（昭和６２年３月１３日公開）
(2-1)「(a)一般式ＲＳｉ(ＯＲ')３（但し、Ｒは炭化水素基、Ｒ'はアルキル基である）で表わされるケイ素化合物１０〜４０重量部、
(b)アルコール１０〜８０重量部、
(c)水１０〜８０重量部、
(d)酢酸、硝酸、塩酸、蟻酸、プロピオン酸、マレイン酸のうちの一種を０．０１〜３重量部、
(e)粒子径が５ミクロン以下の二酸化ケイ素・・、酸化チタン・・、酸化アルミニウム・・、酸化クロム・・、酸化ジルコニウム・・、シリマイト・・、合成ムライト・・、ケイ酸ジルコニア・・、窒化ケイ素・・のうちの一種または二種以上の混合物５〜６０重量部、
からなることを特徴とする耐熱・耐久性に優れた防食・電気絶縁膜を作るコーティング用組成物。」（特許請求の範囲）
(2-2)「本発明は、鉄・・・その他の金属・・・の表面上に、耐熱性に優れた防食膜、電気絶縁膜を形成することができるコーティング用組成物に関する。」（第１頁右下欄第９〜１３行）
(2-3)「本発明の第１の目的は・・・市販の放電式ピンホールテスターによる１０００ボルトの放電テストに合格できる膜厚１００μｍ以下のピンホールレス膜を形成するコーティング用組成物を提供することにある。」（第２頁右上欄第８〜１５行）
(2-4)「上記(a)のケイ素化合物を示す一般式ＲＳｉ(ＯＲ')３のＲは炭化水素基で、メチル、エチル、ブチルなどのアルキル基、あるいはビニルアリルなどの不飽和炭化水素基であり、Ｒ'はメチル、エチル、ブチルなどのアルキル基である。これらのうち、最適なのはメチルトリメトキシシランである。」（第３頁左上欄第１３〜１９行）
(2-5)「このケイ素化合物は・・・水の存在下において加水分解を起こしてゾルからゲルになり、常温で、あるいは加熱することによって硬化するものである。」（第３頁左上欄第１９行〜右上欄第２行）
(2-6)「コーティング用組成物は基材の表面に刷毛、スプレー、ディッピング等の塗装方法によって一回塗りで厚さ７〜５０μｍ・・・の膜を形成することができ」（第４頁右上欄第５〜９行）
(2-7)「実施例(2)」において、第３表に示すメチルトリメトキシシランを含有する組成物Ｄ、Ｅ、Ｆを作り、塗膜形成後、５００℃で２４０時間保持する耐熱性試験の結果、「全て異常なし」（第４表）とする試験結果が得られ、また、電気絶縁性試験の結果、１５〜２４ｋｖ/ｍｍの範囲（第４表）の絶縁破壊を示したことが記載されている。（第６頁右上欄第１行〜第７頁左上欄第１行）
　　
(b-3)対比・判断
　引用例１には、金属または合金から成る磁性金属板の表面に、Ｍ(ＯＲ)n〔Ｍ：金属、Ｒ：アルキル基、ｎ：自然数〕で表される金属アルコキシドの溶液を用いゾル−ゲル法により形成された絶縁皮膜を設けた絶縁被覆磁性金属板（摘記1-1）に係る発明が記載されている。
　同引用例１には、金属アルコキシドの例として、ＴＥＯＳ（テトラエトキシシリコン）およびＭＴＥＯＳ（メチルトリエトキシシラン）（摘記1-8）が挙げられており、その場合、ゾル−ゲル法により形成された生成物は、シリコンポリマーであるシリコン化合物であるといえ、また、金属アルコキシドの溶液を用いゾル−ゲル法によって形成されるとの引用例１の記載（摘記1-1）は、加水分解反応と脱水縮合反応によって化合物が生成することを意味するといえる。
　同引用例１には、磁性金属板を積層した電磁アクチュエータ用コア、変圧器用コア等の電磁コアを絶縁処理すること（摘記1-3）、及び、上記磁性金属板としては、電磁軟鉄板のような軟磁性金属板が典型的であること（摘記1-5）が記載され、よって引用例１には、絶縁皮膜処理した鉄心が記載されているといえる。
　同引用例１には、皮膜厚さは、通常０．１μｍ〜２０μｍ程度が適当であること（摘記1-9）が記載されており、そして、上記の皮膜厚さは、特定部分の厚さとする特段の記載がないこと等からみて、平均膜厚を意味すると解することができる。
　同引用例１には、ゾル−ゲル溶液から引き上げた後に、自然乾燥を経て強制乾燥を行うこと（摘記1-10）が記載され、よって引用例１には、乾燥膜を形成することが記載されているといえる。
　同引用例１には、絶縁被覆をした磁性金属板が、絶縁性に加えて耐熱性を有すること（摘記1-1〜1-4、1-7〜1-9、1-15）が記載されている。
　　
　以上のことからすると、引用例１には、
「鉄心に平均膜厚０．１〜２０μｍの、Ｍ(ＯＲ)n〔Ｍ：金属、Ｒ：アルキル基、ｎ：自然数〕で表される物質の１種または２種以上の加水分解反応と脱水縮合反応によって生成する化合物であるシリコンポリマー、の１種または２種以上からなる乾燥膜であるシリコン化合物で絶縁被膜が処理され、該絶縁被膜が耐熱性を有することを特徴とする優れた絶縁性を有する鉄心。」
が記載されているといえる。（以下、これを「引用発明」という。）
　　
　そこで、補正発明１と引用発明とを対比すると、引用例１には、金属アルコキシドの具体例として、テトラエトキシシリコン、およびメチルトリエトキシシラン（摘記1-8）が挙げられ、そして、これら化合物は、本願明細書において、純シリコンポリマーを得るためのゾル原料として説明されている化合物（段落【0073】参照）と一致する。そして、この内、メチルトリエトキシシランは、補正発明１の一般式でｎ＝１の化合物に相当し、テトラエトキシシランは、同一般式でｎ＝０の化合物に相当する。
　また、補正発明１では、純シリコンポリマー、変成シリコンポリマー、及び混合シリコンポリマーは、その１種または２種以上を選択するという選択的な特定事項である。
　　
　以上のことからすると、補正発明１は、引用発明と、
「鉄心に、(Ｒ１)ｎＳｉ(Ｘ１)４−ｎ〔但し、ｎ＝０〜３の整数、Ｒ１はアルキル基またはフェニル基でｎ＝２，３の時は複数のＲ１が異なっていても良く、Ｘ１はＣｌまたはＯ(Ｒ２)で表されるアルコキシ基でＲ２はアルキル基であり、ｎ＝０，１，２の時は複数のＲ２が異なっても良い〕で表される物質の１種または２種以上の加水分解反応と脱水縮合反応によって生成する化合物である純シリコンポリマー、(Ｒ３)ｎＳｉ(Ｘ2)４−ｎ〔但し、ｎ＝０〜３の整数、Ｒ3はアルキル基またはフェニル基以外の有機官能基で、ｎ＝２，３の時は複数のＲ３が異なっていても良く、Ｘ２はＣｌまたはＯ(Ｒ４)で表されるアルコキシ基でＲ４はアルキル基であり、ｎ＝０，１，２の時は複数のＲ４が異なっても良い〕で表される物質の１種または２種以上の加水分解反応と脱水縮合反応によって生成する化合物である変性シリコンポリマー、(Ｒ１)ｎＳｉ(Ｘ１)４−ｎ〔但し、ｎ＝０〜３の整数、Ｒ１はアルキル基またはフェニル基でｎ＝２，３の時は複数のＲ１が異なっていても良く、Ｘ１はＣｌまたはＯ(Ｒ２)で表されるアルコキシ基でＲ２はアルキル基であり、ｎ＝０，１，２の時は複数のＲ２が異なっても良い〕で表される化合物の１種または２種以上と(Ｒ３)ｎＳｉ(Ｘ２)４−ｎ〔但し、ｎ＝０〜３の整数、Ｒ３はアルキル基またはフェニル基以外の有機官能基で、ｎ＝２，３の時は複数のＲ３が異なっていても良く、Ｘ２はＣｌまたはＯ(Ｒ４)で表されるアルコキシ基でＲ４はアルキル基であり、ｎ＝０，１，２の時は複数のＲ４が異なっても良い〕で表される物質の１種または２種以上の加水分解反応と脱水縮合反応によって生成する化合物であることを特徴とする混合シリコンポリマー、の１種または２種以上で、乾燥膜であるシリコン化合物を含む絶縁被膜が処理され、該絶縁被膜が耐熱性を有することを特徴とする優れた絶縁性を有する鉄心。」
の点で一致し、そして、
　　
（イ）補正発明１では、絶縁被膜の形成部位について、鉄心「端面」としているのに対して、引用発明では端面への形成について特定していない点、
（ロ）補正発明１では、絶縁被膜の平均膜厚を「２〜２０μｍ」としているのに対して、引用発明では「０．１〜２０μｍ」としている点、
（ハ）補正発明１では、化合物の一般式のｎについて、「ｎ＝１のものをこれらの合計量の２０〜８０％からなる」と含有量を特定しているのに対して、引用発明では当該含有量の特定がなされていない点、
（ニ）補正発明１では、絶縁被膜のシリコン化合物量について、「ＳｉＯ２換算で３０質量部以上」と特定しているのに対して、引用発明では当該特定がなされていない点、
（ホ）補正発明１では、絶縁被膜の耐熱性について、「空気中において４００℃×１時間以上の耐熱性」と特定しているのに対して、引用発明では当該特定がなされていない点、及び、
（ヘ）補正発明１では、絶縁性について「端面絶縁性」と特定しているのに対して、引用発明では当該特定がなされていない点、
の各点で、補正発明１は、引用発明と相違している。
　　
　そこで、これら相違点について、以下検討する。
相違点（イ）について
　引用例１には、絶縁皮膜は、打ち抜き等の塑性加工後に被覆してもよいこと（摘記1-6）が記載され、具体的には、磁性金属板を打ち抜き等によりコア形状に応じた必要な形状に加工した後、個々の打ち抜き材をゾル−ゲル溶液に浸漬し、引き上げること（摘記1-12）が記載されている。そしてこの処理により、端面も絶縁被膜が被覆されることは明らかである。また、引用例１の上記被覆方法は、本願明細書中の「塗布にあたっては・・・浸漬法の方が塗布設備が簡単で、液の使用効率を考えると有利である。」（段落【0097】）、及び、「鉄心・・を打ち抜き、かしめで製作した。この鉄心を、表１に示す組成の溶液を用いて端面に付着する被膜剤の乾燥後の塗膜厚みを変更して浸漬処理し」（段落【0128】）との記載とも共通している。
　してみれば、引用発明は、鉄心端面への絶縁被膜形成を含むものといえ、したがって、相違点（イ）は、引用発明との実質的な相違点を構成するものとはいえず、また、引用例１の記載に基いて当業者が容易に想到できたことである。
　　
相違点（ロ）について
　補正発明１の平均膜厚（２〜２０μｍ）は、引用発明の平均膜厚（０．１〜２０μｍ）に包含され、重複している。また、補正発明１のとおりに特定したことにより、格別の効果が奏したと認めることもできない。
　したがって、上記相違点（ロ）は、引用発明との実質的な相違点を構成するとはいえず、また、引用例１の記載に基いて当業者が容易に想到できたことである。
　　
相違点（ハ）について
（その１）
　引用例１には、基本液組成が、テトラエトキシシリコンを８〜１２ｇ、メチルトリエトキシシランを０．５〜２ｇ含有すること（摘記1-14）が記載されており、したがって、メチルトリエトキシシランの含有量は、メチルトリエトキシシランとテトラエトキシシリコンの合計量の４〜２０％である。一方、メチルトリエトキシシランは、補正発明１の一般式でｎ＝１の化合物に相当し、テトラエトキシシランは、同一般式でｎ＝０の化合物に相当する。
　してみれば、引用例１には、引用発明において、ｎ＝１のものをこれらシリコンの合計量の４〜２０％とすることが示されているといえ、そして、これは、補正発明１におけるｎ＝１の量比（合計量の「２０〜８０％」）と、「２０％」の点で一致している。
　また、引用例１の「基本液組成」とは、基本的な組成を意味するところからすると、ｎ＝１の化合物を上記「２０％」よりも多少多くし、これにより補正発明１の「２０〜８０％」と重複する量比とすることに格別の困難性があるとはいえず、かつ、当該特定の量比範囲とすることにより、当業者が予期し得ない格別の効果が奏されたと認めることはできない。
　したがって、相違点（ハ）は、引用発明との実質的な相違点を構成するとはいえず、また、引用例１の記載に基いて当業者が容易に想到できたことである。
　なお、請求人は、引用例１に記載された発明を、実施例に限定した主張をしているが（回答書第１９〜２０頁）、引用発明が、それら実施例のみに限定されるとすることはできない。
　　
（その２）
　引用例２には、一般式ＲＳｉ(ＯＲ')３で表わされるケイ素化合物を含有したコーティング用組成物（摘記2-1）が記載され、そのケイ素化合物の具体例として、メチルトリメトキシシラン（摘記2-7）が挙げられているところ、これらケイ素化合物は、補正発明１のｎ＝１の化合物に相当する。そして、同引用例２には、当該ｎ＝１のケイ素化合物から形成された膜が、耐熱性及び電気絶縁性に優れていること（摘記2-1、2-3、2-7）が記載されている。
　してみれば、引用例１に記載された金属アルコキシドにつき、ｎ＝１の化合物の量比を、耐熱性及び電気絶縁性の向上のため増加させることは当業者が容易に想到し得ることであり、そして、これにより、相違点（ハ）のとおり、合計量の「２０〜８０％」の範囲に含まれる量とすることに格別の困難性があるとすることはできず、かつ、そうしたことにより、当業者が予期し得ない格別の効果が奏されたと認めることはできない。
　したがって、相違点（ハ）は、引用例１及び２の記載に基いて当業者が容易に想到できたことである。
　　
相違点（ニ）について
　引用例１には、基本液組成が、ＴＥＯＳ（テトラエトキシシリコン）を８〜１２ｇ、ＭＴＥＯＳ（メチルトリエトキシシラン）を０．５〜２ｇ、エタノール５〜２０ｇ、水１０〜２５ｇ、及び０．１Ｎ塩酸５〜２０ｍＬであること（摘記1-14）が記載され、そして、この内、テトラエトキシシリコン及びメチルトリエトキシシランは膜形成成分といえるが、エタノールは溶媒、水は加水分解の反応体、そして、０．１Ｎ塩酸は加水分解触媒（摘記1-8）である。そして、当該液組成には、充填剤等、形成された絶縁被覆に残存する夾雑物は含有されていない。したがって、これにより形成された絶縁被覆は、その大部分が金属アルコキシドの加水分解生成物からなるものといえ、よって、そのシリコン化合物量は「３０質量部以上」（ＳｉＯ２換算）であるといえる。
　したがって、相違点（ニ）は、引用発明との実質的な相違点を構成するとはいえず、また、引用例１の記載に基いて当業者が容易に想到できたことである。
　　
相違点（ホ）について
（その１）
　引用例１には、形成された絶縁皮膜が優れた耐熱性を有すること（摘記1-4）が記載されており、また、強制乾燥後に、非酸化性雰囲気で５００℃以上、３０分以上の熱処理を行うこと（摘記1-11）が記載されている。してみれば、引用発明の絶縁被膜は、少なくとも、当該熱処理条件である、５００℃以上の温度で３０分以上の時間の耐熱性を有しているものといえる。
　この耐熱性についてさらに検討すると、補正発明１の絶縁皮膜と引用発明の絶縁被膜の膜厚、膜を構成する成分、および組成は、上記「相違点（ロ）について」〜「相違点（ニ）について」に記載したとおり、互いに重複している。
　してみれば、補正発明１絶縁被膜の耐熱性は、引用発明のものと同等のものといえ、両者には実質的な相違があるとすることはできない。
　したがって、相違点（ホ）は、引用発明との実質的な相違点を構成するとはいえず、また、引用例１の記載に基いて当業者が容易に想到できたことである。
　　
（その２）
　引用例２には、補正発明１のｎ＝１の化合物に相当する、一般式ＲＳｉ(ＯＲ')３で表わされるケイ素化合物を含有したコーティング用組成物（摘記2-1）が記載され、そのケイ素化合物の具体例として、メチルトリメトキシシラン（摘記2-7）が挙げられている。そして、同引用例２には、当該ｎ＝１のケイ素化合物から形成された膜が、耐熱性及び電気絶縁性に優れていること（摘記2-1、2-3、2-7）が記載されており、具体的には、放電式ピンホールテスターによる１０００ボルトの放電テストに合格できる膜であること（摘記2-3）、また、実施例においては、５００℃で２４０時間保持する耐熱性試験では「全て異常なし」とする試験結果が得られ、電気絶縁性試験では１５〜２４ｋｖ/ｍｍの範囲の絶縁破壊を示したこと（摘記2-7）が記載されている。
　してみれば、「相違点（ハ）について」で検討したとおり、ｎ＝１の化合物の量比を、上記「２０〜８０％」の範囲に含まれる量とした場合において、「空気中において４００℃×１時間以上」と、絶縁皮膜の耐熱性を特定することに、格別の困難性があるとすることはできない。
　したがって、相違点（ホ）のとおり特定することは、引用例１及び２の記載に基いて当業者が容易に想到できたことである。
　　
相違点（ヘ）について
　上記「相違点（イ）について」で検討したとおり、引用発明は、鉄心端面への絶縁被膜形成を含むものであり、よって、「端面絶縁性」を有するといえる。
　したがって、相違点（ヘ）は、引用発明との実質的な相違点を構成するとはいえず、また、引用例１の記載に基いて当業者が容易に想到できたことである。
　　
　以上のとおりであるから、補正発明１は、引用例１に記載された発明であり、また、引用例１、２に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができた発明である。
　　
(b-4)補正についての結論
　以上のとおりであるから、補正発明１は、特許法第２９条第１項及び第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができるものではなく、したがって、本補正は、特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下する。
　　
III．本願発明
　平成１６年５月２８日付けの手続補正書による補正は、上記II欄に記載したとおり却下されたので、本願の各請求項に係る発明は、上記補正前の、平成１５年１２月１５日付け手続補正書により補正された明細書の特許請求の範囲の請求項１〜１６に記載された事項により特定されるとおりのものと認められるところ、請求項１については次のとおりである。（以下「本願発明１」という。）
「【請求項１】鉄心端面に平均膜厚２〜２０μｍの、(Ｒ１)ｎＳｉ(Ｘ１)４−ｎ〔但し、ｎ＝０〜３の整数、Ｒ１はアルキル基またはフェニル基でｎ＝２，３の時は複数のＲ１が異なっていても良く、Ｘ１はＣｌまたはＯ(Ｒ２)で表されるアルコキシ基でＲ２はアルキル基であり、ｎ＝０，１，２の時は複数のＲ２が異なっても良い〕で表される物質の１種または２種以上の加水分解反応と脱水縮合反応によって生成する化合物である純シリコンポリマー、(Ｒ３)ｎＳｉ(Ｘ2)４−ｎ〔但し、ｎ＝０〜３の整数、Ｒ3はアルキル基またはフェニル基以外の有機官能基で、ｎ＝２，３の時は複数のＲ３が異なっていても良く、Ｘ２はＣｌまたはＯ(Ｒ４)で表されるアルコキシ基でＲ４はアルキル基であり、ｎ＝０，１，２の時は複数のＲ４が異なっても良い〕で表される物質の１種または２種以上の加水分解反応と脱水縮合反応によって生成する化合物である変性シリコンポリマー、(Ｒ１)ｎＳｉ(Ｘ１)４−ｎ〔但し、ｎ＝０〜３の整数、Ｒ１はアルキル基またはフェニル基でｎ＝２，３の時は複数のＲ１が異なっていても良く、Ｘ１はＣｌまたはＯ(Ｒ２)で表されるアルコキシ基でＲ２はアルキル基であり、ｎ＝０，１，２の時は複数のＲ２が異なっても良い〕で表される化合物の１種または２種以上と(Ｒ３)ｎＳｉ(Ｘ２)４−ｎ〔但し、ｎ＝０〜３の整数、Ｒ３はアルキル基またはフェニル基以外の有機官能基で、ｎ＝２，３の時は複数のＲ３が異なっていても良く、Ｘ２はＣｌまたはＯ(Ｒ４)で表されるアルコキシ基でＲ４はアルキル基であり、ｎ＝０，１，２の時は複数のＲ４が異なっても良い〕で表される物質の１種または２種以上の加水分解反応と脱水縮合反応によって生成する化合物であることを特徴とする混合シリコンポリマー、の１種または２種以上からなる乾燥膜であるシリコン化合物をＳｉＯ２換算で３０質量部以上からなる絶縁被膜が処理され、該絶縁被膜が空気中において４００℃×１時間以上の耐熱性を有することを特徴とする優れた端面絶縁性を有する鉄心。」
　　
IV．原査定で引用された刊行物
（１）引用例１：特開平１０−２５６０７０号公報（平成１０年９月２５日公開：原査定の引用文献３）
（２）引用例２：特開昭６２−５７４７０号公報（昭和６２年３月１３日公開：原査定の引用文献５）
　　
Ｖ．引用例及びその記載事実
　原査定で引用された刊行物である上記引用例１及び２は、上記「(b-2)引用例及びその記載事実」欄の引用例１及び２に対応し、その記載事実は同欄に摘記したとおりである。
　　
VI．対比・判断
本願発明１について
　補正発明１は、「ｎ＝１のものをこれらの合計量の２０〜８０％」として、本願発明１を減縮した発明であるところ、本願発明１は、この減縮された点に係る特定がない点で、補正発明１に比較して更に広い範囲を包含する発明である。
　したがって、本願発明１は、上記II欄で補正発明１について記載したと同様、引用例１に記載された発明であり、また、引用例１、２に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができた発明であるので、特許法第２９条第１項及び第２項の規定により特許を受けることができない。
　　
VII．むすび
　以上のとおりであるから、本願の請求項１に係る発明は、特許法第２９条第１項及び第２項の規定により特許を受けることができないものであり、したがって、他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。