【手続補正書】
【提出日】平成22年4月30日(2010.4.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマリアクタのチャンバ内でワークピースを処理する方法であって、前記チャンバが、前記ワークピースと向かい合っている前記チャンバの上壁における半径方向内側のプラズマ源出力印加器及び半径方向外側のプラズマ源出力印加器を有し、前記内側プラズマ源出力印加器及び前記外側プラズマ源出力印加器と前記ワークピースとが共通の対称軸線を共有しており、
前記プラズマ源出力印加器にプラズマ源ＲＦ電力を供給し、プラズマプロセスパラメータによって特徴付けられるプラズマプロセスを前記ワークピースに対して行うことができるように前記リアクタチャンバ内にプロセスガスを導入するステップであって、前記プラズマプロセスパラメータが、前記ワークピースの表面における空間分布を有する、前記ステップと、
少なくとも前記外側プラズマ源ＲＦ出力印加器を、前記プラズマプロセスパラメータの前記空間分布が前記共通の対称軸線に対して少なくともほぼ最小の非対称性を有するポジションまで、半径方向傾斜軸線を中心に回転させるステップと、
前記内側プラズマ源出力印加器を、前記空間分布が前記ワークピースの表面における少なくともほぼ最小の不均一性を有する位置まで、前記外側プラズマ源出力印加器に対して前記対称軸線に沿って並進させるステップとを含んでいる方法。
【請求項２】
回転させる前記ステップ及び並進させる前記ステップが、供給する前記ステップより前に実行され、回転及び並進の最適な量が所定の量である請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記プラズマプロセスパラメータがエッチング速度である請求項１記載の方法。
【請求項４】
プラズマリアクタのチャンバ内でワークピースを処理する方法であって、前記チャンバが、前記ワークピースと向かい合っている前記チャンバの上壁における半径方向内側のプラズマ源出力印加器及び半径方向外側のプラズマ源出力印加器を有し、前記内側プラズマ源出力印加器及び前記外側プラズマ源出力印加器と前記ワークピースとが共通の対称軸線を共有しており、
プラズマプロセスパラメータによって特徴付けられるプラズマプロセスを前記ワークピースに対して行うことができるように、前記プラズマ源出力印加器にプラズマ源ＲＦ電力を供給し、前記リアクタチャンバ内にプロセスガスを導入するステップであって、前記プラズマプロセスパラメータが、前記ワークピースの表面における空間分布を有する、前記ステップと、
少なくとも前記外側プラズマ源ＲＦ出力印加器を、前記プラズマプロセスパラメータの前記空間分布が前記共通の対称軸線に対して少なくともほぼ最小の非対称性を有するポジションまで、半径方向傾斜軸線を中心に回転させるステップと、
前記ワークピースの上に存在しているプラズマプロセス領域に前記内側プラズマ源出力印加器及び前記外側プラズマ源出力印加器によって結合される出力レベルの比、を調整するステップとを含んでいる方法。
【請求項５】
出力レベルの比を調整する前記ステップが、
前記内側プラズマ源出力印加器を、前記空間分布が前記ワークピースの表面における少なくともほぼ最小の不均一性を有する位置まで、前記外側プラズマ源出力印加器に対して前記対称軸線に沿って並進させるステップを含んでいる請求項４記載の方法。
【請求項６】
出力レベルの比を調整する前記ステップが、
前記内側プラズマ源出力印加器及び前記外側プラズマ源出力印加器に供給されるＲＦ電力レベルの比を調整するステップを含んでいる請求項４記載の方法。
【請求項７】
前記回転させるステップ及び前記調整するステップが、供給する前記ステップより前に実行され、回転及び並進の最適な量が所定の量である請求項４記載の方法。
【請求項８】
前記プラズマプロセスパラメータがエッチング速度である請求項４記載の方法。
【請求項９】
プラズマリアクタのチャンバ内でワークピースを処理する方法であって、前記チャンバが、前記ワークピースと向かい合っている前記チャンバの上壁におけるプラズマ源出力印加器を有し、前記プラズマ源出力印加器と前記ワークピースとが共通の対称軸線を共有しており、
プラズマプロセスパラメータによって特徴付けられるプラズマプロセスを前記ワークピースに対して行うことができるように、前記プラズマ源出力印加器にプラズマ源ＲＦ電力を供給し、前記リアクタチャンバ内にプロセスガスを導入するステップであって、前記プラズマプロセスパラメータが、前記ワークピースの表面における空間分布を有する、前記ステップと、
前記プラズマ源出力印加器の少なくとも半径方向外側部分をそれぞれの半径方向傾斜軸線を中心に回転させることによって、前記軸線に対する前記空間分布の対称性を増大させるステップと、
以下のステップ、すなわち、
（ａ）前記プラズマ源出力印加器の半径方向内側部分を、前記外側プラズマ源出力印加器に対して前記対称軸線に沿って並進させるステップと、
（ｂ）前記プラズマ源出力印加器の半径方向内側部分及び半径方向外側部分に供給されるＲＦ電力レベルの比を調整するステップと、
（ｃ）前記チャンバの半径方向内側領域及び半径方向外側領域へのプロセスガスの流量の比を調整するステップと、
のうちの少なくとも１つのステップによって、前記空間分布を前記軸線に対して対称的に変化させることにより、前記空間分布の不均一性を低減させるステップとを含んでいる方法。
【請求項１０】
プラズマリアクタのチャンバ内でワークピースを処理する方法であって、前記チャンバが、前記ワークピースと向かい合っている前記チャンバの上壁における半径方向内側のプラズマ源出力印加器及び半径方向外側のプラズマ源出力印加器を有し、前記内側プラズマ源出力印加器及び前記外側プラズマ源出力印加器と前記ワークピースとが共通の対称軸線を共有しており、
プラズマプロセスパラメータによって特徴付けられるプラズマプロセスを前記ワークピースに対して行うことができるように、前記プラズマ源出力印加器にプラズマ源ＲＦ電力を供給し、前記リアクタチャンバ内にプロセスガスを導入するステップであって、前記プラズマプロセスパラメータが、前記ワークピースの表面における空間分布を有する、前記ステップと、
（ａ）前記ワークピースと、（ｂ）前記外側プラズマ源出力印加器、のうちの少なくとも一方を、前記プラズマプロセスパラメータの前記空間分布が前記共通の対称軸線に対して少なくともほぼ最小の非対称性を有するポジションまで、半径方向傾斜軸線を中心に回転させるステップと、
前記内側プラズマ源出力印加器を、前記空間分布が前記ワークピースの表面における少なくともほぼ最小の不均一性を有する位置まで、前記外側プラズマ源出力印加器に対して前記対称軸線に沿って並進させるステップとを含んでいる方法。
【請求項１１】
回転させる前記ステップ及び並進させる前記ステップが、供給する前記ステップより前に実行され、回転及び並進の最適な量が所定の量である請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
回転させる前記ステップが、
前記ワークピース及び前記外側プラズマ源出力印加器の両方をそれぞれの傾斜軸線を中心に回転させるステップを含んでいる請求項１０記載の方法。
【請求項１３】
前記プラズマプロセスパラメータがエッチング速度である請求項１０記載の方法。
【請求項１４】
プラズマリアクタのチャンバ内でワークピースを処理する方法であって、前記チャンバが、前記ワークピースと向かい合っている前記チャンバの上壁における半径方向内側のプラズマ源出力印加器及び半径方向外側のプラズマ源出力印加器を有し、前記内側プラズマ源出力印加器及び前記外側プラズマ源出力印加器と前記ワークピースとが共通の対称軸線を共有しており、
プラズマプロセスパラメータによって特徴付けられるプラズマプロセスを前記ワークピースに対して行うことができるように、前記プラズマ源出力印加器にプラズマ源ＲＦ電力を供給し、前記リアクタチャンバ内にプロセスガスを導入するステップであって、前記プラズマプロセスパラメータが、前記ワークピースの表面における空間分布を有する、前記ステップと、
（ａ）前記外側プラズマ源ＲＦ出力印加器と、（ｂ）前記ワークピース、のうちの少なくとも一方を、前記プラズマプロセスパラメータの前記空間分布が前記共通の対称軸線に対して少なくともほぼ最小の非対称性を有するポジションまで、半径方向傾斜軸線を中心に回転させるステップと、
前記ワークピースの上に存在しているプラズマプロセス領域に前記内側プラズマ源出力印加器及び前記外側プラズマ源出力印加器によって結合される出力レベルの比、を調整するステップとを含んでいる方法。
【請求項１５】
出力レベルの比を調整する前記ステップが、
前記内側プラズマ源出力印加器を、前記空間分布が前記ワークピースの表面における少なくともほぼ最小の不均一性を有する位置まで、前記外側プラズマ源出力印加器に対して前記対称軸線に沿って並進させるステップを含んでいる請求項１４記載の方法。
【請求項１６】
出力レベルの比を調整する前記ステップが、
前記内側プラズマ源出力印加器及び前記外側プラズマ源出力印加器に供給されるＲＦ電力レベルの比を調整するステップを含んでいる請求項１４記載の方法。
【請求項１７】
前記回転させる前記ステップが、
前記ワークピース及び前記外側プラズマ源出力印加器の両方をそれぞれの傾斜軸線を中心に回転させるステップを含んでいる請求項１４記載の方法。
【請求項１８】
前記回転させるステップ及び前記調整するステップが、供給する前記ステップより前に実行され、回転及び並進の最適な量が所定の量である請求項１４記載の方法。
【請求項１９】
前記プラズマプロセスパラメータがエッチング速度である請求項１４記載の方法。
【請求項２０】
プラズマリアクタのチャンバ内でワークピースを処理する方法であって、前記チャンバが、前記ワークピースと向かい合っている前記チャンバの上壁における半径方向内側のプラズマ源出力印加器及び半径方向外側のプラズマ源出力印加器を有し、前記内側プラズマ源出力印加器及び前記外側プラズマ源出力印加器と前記ワークピースとが共通の対称軸線を共有しており、
プラズマプロセスパラメータによって特徴付けられるプラズマプロセスを前記ワークピースに対して行うことができるように、前記プラズマ源出力印加器にプラズマ源ＲＦ電力を供給し、前記リアクタチャンバ内にプロセスガスを導入するステップであって、前記プラズマプロセスパラメータが、前記ワークピースの表面における空間分布を有する、前記ステップと、
前記外側プラズマ源ＲＦ出力印加器及び前記ワークピースを、互いの相対的な向きとして、前記プラズマプロセスパラメータの前記空間分布が前記共通の対称軸線に対して少なくともほぼ最小の非対称性を有する相対的な向きまで、それぞれの半径方向傾斜軸線を中心に回転させるステップと、
前記ワークピースの上に存在しているプラズマプロセス領域に前記内側プラズマ源出力印加器及び前記外側プラズマ源出力印加器によって結合される出力レベルの比を調整するステップとを含んでいる方法。
【請求項２１】
被加工物を処理するプラズマリアクタであって、
上壁を含んでおり、且つ前記上壁にほぼ垂直である対称縦軸線を有するエンクロージャと、前記チャンバの内側であり且つ前記上壁とほぼ向かい合っている被加工物支持台と、前記チャンバに結合されているプロセスガス注入装置と、前記チャンバに結合されている真空ポンプと、を備えている、プロセスチャンバと、
前記上壁の上に存在しているプラズマ源出力印加器であって、半径方向内側の印加器部分及び半径方向外側の印加器部分と、前記内側印加器部分及び外側印加器部分に結合されているＲＦ電力装置と、を備えている、前記プラズマ源出力印加器と、
少なくとも前記外側印加器部分を支持している傾斜装置であって、少なくとも前記外側印加器部分を前記対称軸線に垂直な半径方向軸線を中心に傾けることができ、且つ、少なくとも前記外側印加器部分を前記対称軸線を中心に回転させることができる、前記傾斜装置と、
前記内側部分及び前記外側部分の位置を互いに対して前記対称縦軸線に沿って変更する上昇装置を含んでいるプラズマリアクタ。
【請求項２２】
前記傾斜装置が、
前記上壁の上に存在しているリングであって、傾斜面に沿って互いに分かれている一対のリングに分割されており、上側リング及び下側リングを備えている、前記リングと、
前記上側リング及び前記下側リングのうちの少なくとも一方を回転させるように結合されているリング回転アクチュエータとを備えている請求項２１記載のリアクタ。
【請求項２３】
前記リング回転アクチュエータが、
前記上側リングを前記対称軸線を中心に回転させる第１のリング回転アクチュエータと、前記下側リングを、前記上側リングの前記回転とは独立して前記対称軸線を中心に回転させる第２のリング回転アクチュエータとを備えている請求項２２記載のリアクタ。
【請求項２４】
前記上昇装置は前記内側印加器部分を前記対称縦軸線に沿って上昇及び下降させるリフトアクチュエータを含み、
前記リアクタは、（ａ）前記リフトアクチュエータと、（ｂ）前記第１のリング回転アクチュエータ及び前記第２のリング回転アクチュエータと、（ｃ）前記ＲＦ電力装置と、を制御する制御プロセッサとを更に備えている請求項２３記載のリアクタ。
【請求項２５】
前記ＲＦ電力装置が、前記内側印加器部分及び前記外側印加器部分のそれぞれに結合されている独立して制御可能なＲＦ電力出力、を備えており、
前記内側印加器部分及び前記外側印加器部分に供給されるＲＦ電力の相対的な量を変更するように、制御プロセッサをプログラムすることができる請求項２４記載のリアクタ。
【請求項２６】
前記プラズマ源出力印加器が、前記内側印加器部分と前記外側印加器部分との間の中間印加器部分、を更に備えており、
前記ＲＦ電力装置が、前記中間出力印加器部分に結合されている更なる独立したＲＦ電力出力、を更に備えている請求項２１記載のリアクタ。
【請求項２７】
前記中間印加器部分が、前記外側印加器部分と一緒に傾けることができるように前記上側回転リングに連結されている請求項２６記載のリアクタ。
【請求項２８】
前記傾斜装置が、前記内側印加器部分及び前記外側印加器部分の両方を支持しており、これにより、前記内側印加器部分及び前記外側印加器部分の両方を前記傾斜装置によって一緒に傾けることができる請求項２１記載のリアクタ。
【請求項２９】
前記被加工物支持台を支持している第２の傾斜装置であって、前記被加工物支持台を半径方向傾斜軸線を中心に回転させることができ、且つ、前記被加工物支持台を前記縦軸線を中心に回転させることができる、前記第２の傾斜装置を更に備えている請求項２１記載のリアクタ。