【事件の表示】
　上記当事者間の特許第２７３９７２２号発明「ピストンリング」の特許無効審判事件について、次のとおり審決する。
【結　論】
　訂正を認める。
　本件審判の請求は、成り立たない。
　審判費用は、請求人の負担とする。
【理　由】
Ｉ．手続の経緯
　本件特許第２７３９７２２号は、特許法第４２条の２に基づく優先権主張を伴って平成５年４月７日（優先権主張番号：特願平４−３５８５４９号、優先日：平成４年１２月２８日）に特許出願されたものであって、平成１０年１月２３日にその設定登録がなされ、その後、当審において、以下の手続を経たものである。
　審判請求書　　　　　　　　　　　　　　　平成１７年　２月１８日
　訂正請求書　　　　　　　　　　　　　　　平成１７年　６月　６日
　審判事件答弁書　　　　　　　　　　　　　平成１７年　６月　６日
　口頭審理陳述要領書（請求人）　　　　　　平成１７年　７月２６日
　口頭審理陳述要領書（被請求人）　　　　　平成１７年　７月２６日
　口頭審理（特許庁第２審判廷）　　　　　　平成１７年　７月２６日
　上申書（請求人）　　　　　　　　　　　　平成１７年　８月３１日
　上申書２（請求人）　　　　　　　　　　　平成１７年　９月２０日
　上申書（被請求人）　　　　　　　　　　　平成１７年　９月２９日
　
II．訂正請求について
II−１．訂正事項
　平成１７年６月６日付け訂正請求は、本件明細書の記載を、その訂正請求書に添付した訂正明細書に記載されるとおりに訂正することを求めるものであって、次の〈イ〉〜〈ハ〉からなるものである。
　以下、訂正前の明細書を「特許明細書」といい、訂正請求書に添付された明細書を「訂正明細書」という。
〈イ〉特許明細書の請求項１における、
「少なくとも外周摺動面に、皮膜の・・・の皮膜を形成してなるピストンリング。」を、
「少なくとも外周摺動面に、陰極アークプラズマ式イオンプレーティングによる皮膜の・・・の皮膜を形成してなるピストンリング。」に訂正する。
〈ロ〉特許明細書の請求項１における、
「・・・皮膜を形成してなるピストンリング。」を、
「・・・皮膜を形成してなる内燃機関用ピストンリング。」に訂正する。
〈ハ〉特許明細書の請求項２における、
「・・・を有するピストンリング。」を、
「・・・を有する内燃機関用ピストンリング。」に訂正する。
　
II−２．訂正の適否の判断
II−２−１．訂正の目的の適否
　上記〈イ〉の訂正は、ピストンリングの皮膜につき、それを得る手段を、「陰極アークプラズマ式イオンプレーティングによる」と限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　上記〈ロ〉及び〈ハ〉の訂正は、ピストンリングにつき、その用途を、「内燃機関用」と限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　よって、上記〈イ〉〜〈ハ〉の訂正の目的は、特許法第１３４条の２第１項のただし書き第１号に規定に適合する。
II−２−２．新規事項追加の有無
　上記〈イ〉の訂正により付加する事項は、特許明細書の「実施例１　・・・ＰＶＤ処理は、陰極アークプラズマ式イオンプレーティング装置を用いた。・・・」（段落００１３）、「実施例２，３，比較例１実施例１と同方法で、・・・被覆した。・・・」（段落００１５）、「実施例４，５，比較例２，３　実施例１と同様の方法で、・・・被覆した。・・・」（段落００１７）、「実施例６，７，比較例４　実施例１と同様の方法で、・・・被覆した。・・・」（段落００２０）、「実施例８　・・・ＰＶＤ処理は、陰極アークプラズマ式イオンプレーティング装置を用いた。・・・」（段落００２３）、「実施例９，１０，比較例５　実施例８と同様の方法で、・・・被覆した。・・・」（段落００２４）、「実施例１１，１２，比較例６，７，８　実施例８と同様の方法で、・・・被覆した。・・・」（段落００２７）及び「実施例１３，１４，比較例９　実施例８と同様の方法で、・・・被覆した。・・・」（段落００３０）の記載から自明なこととして導き出されるものである。
　上記〈ロ〉及び〈ハ〉の訂正で付加する事項は、特許明細書の「本発明は、・・・内燃機関用ピストンリングに関するものである。」（段落０００１）の記載から自明なこととして導き出されるものである。
　よって、上記〈イ〉〜〈ハ〉の訂正は願書に添付した明細書の記載の範囲内でなされるものであって、新規事項の追加には当たらない。
II−２−３拡張・変更の存否
　上記〈イ〉〜〈ハ〉の訂正は、発明の目的の範囲内で特許請求の範囲を減縮するだけのものであるから、いずれの訂正も、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものではない。
II−２−４．訂正の結論
　以上のとおり、上記訂正請求は特許法第１３４条の２第１項ただし書き、同条第５項で準用する特許法第１２６条第３項及び４項の規定に適合するので、当該訂正請求を認める。
　
III．本件発明
　上記訂正請求は上記II．で記載したとおり容認されたものであって、訂正後の本件請求項１及び２に係る発明（以下、必要に応じて、それぞれ、「本件発明１」及び「本件発明２」という）は、訂正明細書の特許請求の範囲に記載された次のとおりのものである。
【請求項１】少なくとも外周摺動面に、陰極アークプラズマ式イオンプレーティングによる皮膜の空孔率が１．５〜２０％である窒化クロムよりなり厚さが１〜８０μｍの皮膜を形成してなる内燃機関用ピストンリング。
【請求項２】請求項１に記載のピストンリングにおいて、前記皮膜の破断
面が母材表面から皮膜の表面に向かって柱状の形態を有する内燃機関用ピストンリング。
　
IV．請求人の求めた審決及び主張
　審判請求人は、特許第２７３９７２２号の特許を無効とする、審判費用は被請求人の負担とする、との審決を求め、証拠方法として下記の書証をもって以下に示す無効理由により本件特許は無効にされるべきであると主張する。
（証拠方法）
甲第１号証：特開平１−１５９４４９号公報
甲第２号証：社団法人金属表面技術協会編、「金属表面技術便覧（改訂新版）」、日刊工業新聞社、昭和５４年１２月２０日、第５６４〜５６９頁
甲第３号証：特開平４−３６６０１９号公報
甲第４号証：特公昭５７−３８２０号公報
甲第５号証：実公昭５７−６７５３号公報
参考資料１：平成１７年８月２９日、日本ピストンリング株式会社　材料技術部　材料技術部長　小野田元伸作成による、「検証実験報告書」
参考資料２：特開昭５７−５７８６８号公報
参考資料３：K.Komvopoulos　et　al.「The　Significance　of　Oxide　Layers　in　Boundary　Lubrication」、Journal　of　Tribology、OCTOBER,1986、Vol.108,pp502-513（訳文添付）
　なお、上記参考資料１〜３は、審判請求書の提出後に提示されたものであり、また、周知技術を示す資料とも認められないので、上記のとおり参考資料として表示する。
（無効理由）　
（１）無効理由１
　本件請求項１及び２に係る発明（訂正後においては本件発明１及び２）は、本件出願前に頒布された刊行物である甲第１〜５号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものである。したがって、その特許は特許法第１２３条第１項第２号に該当し、無効とすべきものである。
　
Ｖ．被請求人の求めた審決及び反論
　被請求人は、本件審判請求は成り立たない、審判費用は請求人の負担とするとの審決を求め、証拠方法として下記の書証をもって本件発明の特許は上記無効理由によっては無効とすることができないと主張する。
（証拠方法）
乙第１号証：平成１７年６月３日、株式会社リケン　技術管理部　知的財産権部長　内山哲夫作成による「検証実験報告書」
乙第２号証：２００５年５月３１日、財団法人材料科学技術振興財団　分析評価部、「分析結果報告書」
乙第３号証：社団法人金属表面技術協会編、「金属表面技術便覧（改訂新版）」、日刊工業新聞社、昭和54年12月20日、第562及び563頁
乙第４号証：内燃機関、１９８９年６月、第28巻第6号、第40頁
乙第５号証：小野田元伸著、「ピストンリングへの最新表面処理技術」、月刊トライボロジー、2004年5月10日、第18巻第5号、第22〜25頁
乙第６号証：ピストンリング編集委員会編、「ピストンリング」、日刊工業新聞社、昭和45年7月10日、第152頁
乙第７号証：平成17年９月２５日、株式会社リケン　技術管理部知的財産室　滝口勝美作成による「欠け状剥離について」
参考資料１：吉岡正行著、「イオンプレーティングによるＴｉ系セラミックス皮膜−「硬さ」と「強さ」をあわせもつＴｉ−Ｎ−Ｏ皮膜−」、表面,Vol.40,No.11、2002、第21〜29頁
参考資料２：小野田元伸著、「イオンプレーティング法による厚膜化の現状とピストンリングへの応用」、表面技術,Vol.53,No.9、2002、第19〜21行
参考資料３：代表的当業者（審判請求人）による特許文献の一覧表
　
VI．証拠方法の記載について
VI−Ａ．甲第１号証（特開平１−１５９４４９号公報）には、第１〜５図が掲載されると共に、以下の事項が記載されている。
（Ａ−１）「反応ガスを含む雰囲気中で蒸発物質を蒸発させて、被処理物表面に反応ガスと蒸発物質との反応生成物でなる被覆層を形成する反応性イオンプレーティング法により、反応ガスとして窒素ガスを、又蒸発物質としてクロムを採用して、ピストンリングの少なくとも外周摺動面に厚さ１０〜５０μｍのＣｒ２Ｎ型の窒化クロムでなる第１被覆相と更にＣｒＮ型の窒化クロムでなる第２被覆相からなる複合窒化層が形成されていることを特徴とするピストンリング。」（第１頁左下欄第５〜１４行、特許請求の範囲）
（Ａ−２）「（従来技術と問題点）
　近年、内燃機関の高性能化に伴い各機能部品に対し、益々過酷な条件が課せられると共に内燃機関の寿命の延長が強く要求されている。ピストンリングも従来にもまして高回転、高温、高面圧等の厳しい環境に曝され、その耐久性の向上が要求されており、ピストンリングの耐久性を改善する手段として摺動面に硬質クロムめっき処理や窒化処理等の耐摩耗性処理が施されている。
　〈中　略〉
　しかしながら、従来ピストンリングに採用されている窒化処理は、・・・変形が生じやすいと共に、製造コストが上昇するという難がある。更に、・・・耐久時間が短いという難点がある。又、・・・耐焼き付き性が充分とはいえず焼き付きが発生しやすいという問題点がある。
（問題点を解決するための手段）
　本発明は、上記の従来の窒化処理の問題点に着目してなされたものであり、過酷な使用条件下においても充分な耐摩耗性と耐焼き付き性を有する、耐久性の良好な複合窒化層を有するピストンリングを提供することを目的とする。」（第１頁右下欄第５行〜第２頁左上欄第１５行）
（Ａ−３）「ここで、反応性イオンプレーティング法とは、反応ガス雰囲気中で蒸発物質を蒸発させ、気相状態においてイオン化し、負バイアスにされた基板面に前記反応ガスと蒸発物質イオンとの反応生成物でなる被覆層を形成させる公知の表面処理方法であって、低温において緻密な被覆層が形成される特徴を有するものである。」（第２頁右上欄第７〜１３行）
（Ａ−４）「（実施例）
　　〈中　略〉
　第３図に使用した反応性イオンプレーティング装置の概要を示す。本装置においては蒸発エネルギー源としてＨＣＤ型電子銃を用いたが、高周波放電を利用するイオン化機構を有する装置においては通常の電子銃を採用することもできる。
　容器３内に収容されたピストンリング保持具４は図示しない回転装置により回転する。保持具４に保持されたピストンリング母材１はその上方に位置するヒータ５により約４００℃に加熱、保温されている。ピストンリング母材１の下方には水冷銅るつぼ６が配設され、るつぼ６内には蒸発物質となるクロム７が収容されている。容器３の側壁には雰囲気ガスを導入するガス導入管９とＨＣＤ銃１０が設けられ、ＨＣＤ銃１０からのプラズマビームを蒸発物質７に収束する収束コイル８が設けられている。尚、容器３は図示しない真空ポンプに連結され減圧可能となっている。
　以上の装置を用いて、合金鋼ＳＵＳ４４０Ｃからなる外径８０ｍｍ×幅１．５ｍｍ×厚さ３．５ｍｍのトップリングを複数本まとめた母材１を約４００℃に昇温させ、ガス導入管９からアルゴンガスを導入して容器３内に圧力を１×１０−１ｔｏｒｒとし、ピストンリング母材１を陰極として１０分間のスパッタクリーニングを行なった後、るつぼ６内に収容されたクロム７をプラズマビームにより蒸発させ、ガス導入管９より蒸発ガスを容器３内に導入し、容器３内を３×１０−３ｔｏｒｒにして４０分間コーティングを行なって、Ｃｒ２Ｎ型の窒化クロムとＣｒＮ型の窒化クロムからなる窒化層を形成した。
　ここで、プラズマビーム出力を約５００Ａとし、ピストンリング母材１には−３０Ｖのバイアス電圧を印加しておいた。」（第２頁右下欄第２行〜第３頁左上欄第１７行）
（Ａ−５）「第２図より明らかなように、本発明のピストンリングの摩耗量は４μｍと比較品のクロムめっきリングの５０μｍに対して大幅に低減しており、又、従来の窒化処理リングの１８μｍに対しても１／４と少なく、且つ相手材のシリンダの摩耗量も２μｍと比較品のクロムめっきと略同程度、従来の窒化処理リングの４μｍと半分と耐摩耗性に著しく優れていることが確認された。」（第３頁左下欄第１８行〜右下欄第６行）
（Ａ−６）「試験結果、本発明品は１５０ｋｇ／ｃｍ２で焼き付きが発生したが、比較品の従来のクロムめっき品の耐焼き付き面圧１１０ｋｇ／ｃｍ２以上であり、窒化処理品の１３０ｋｇ／ｃｍ２に対しても焼き付き性が優れていることが確認された。」（第４頁右上欄第１８行〜左下欄第２行）
　
VI−Ｂ．甲第２号証（「金属表面技術便覧（改訂新版）」）には、イオンプレーティングと題し、以下の事項が記載されている。
（Ｂ−１）「次に，スロットルバルブを調節して，イオンプレーティング室の圧力を１〜２０ｍＴｏｒｒにする。」（第５６４頁第１及び２行）
（Ｂ−２）「（３）蒸発材料とサブスレート材料
　文献に真空蒸着しうる金属元素とその蒸発源が要領よくまとめられている。イオンプレーティングは蒸発源に関する限り真空蒸着とまったく同じである。通常イオンプレーティングされるのは，Ａｇ，Ａｌ，Ａｕ，Ｂｅ，Ｃｄ，Ｃｒ，Ｍｏ，・・・である。Ｃｕ−Ｎｉ，Ｎｉ−Ｃｒ，・・・などの合金が２蒸発源法や混合パウダーのフラッシュ蒸発によって試みられている。Ａｌ２Ｏ３，Ｃｒ２Ｏ３，・・・は酸素ガスを混合したアルゴン中で適当なサブスレート温度で生成する。ＴｉＮ，ＮｂＮ，ＶＮ，ＦｅＮ，ＣｒＮ，ＡｌＮ，ＴａＮはＮ２またはＮＨ３ガス中で，ＴｉＣ，ＺｒＣ，ＶＣ，ＴａＣはＣ２Ｈ２とアルゴンの混合ガス中で，適当なサブスレート温度および放電の条件下で，イオンプレーティングできるだろう。」（第５６６頁第４〜１４行）
（Ｂ−３）「（４）イオンプレーティング膜の表面と断面
（ｉ）温度の効果
　図９・２９は，いくつかの金属や酸化物を，堆積速度の高い値で，高真空中で加熱したサブスレート表面に，蒸着した厚膜の表面と断面の構造である。物質の融点を尺度として，その２５％のところ（Ｔ１＝０．２５Ｔｍ（Ｋ））にひとつの構造上の境界があり，５０％のところ（Ｔ２＝０．５Ｔｍ（Ｋ））に他の境界がある。この二つの境界で区別された，ゾーン１，ゾーン２，ゾーン３は，次のように異なっている。
　ゾーン１はガサガサな密度の低い膜である。ゾーン２はバルクの密度の９０％以上のち密な膜になってくる。断面の柱状組織が特徴的である。温度が上がるにつれて，柱のサイズが太くなってくる。ゾーン３への移行は，温度に対してゆるやかであるが，ゾーン３では柱状組織は主要ではなくなり，塊状の組織になってくる。表面もそれにつれて，おのおの結晶面が明確な形をとってくる。
（ii）ガス圧力の効果
　ガス圧力が高くなっていくと，図９・３０のように蒸着膜の構造が変化していくことを，難波が報告している。高真空蒸着では，均一な膜が得られる温度でも，ガスの圧力が高くなってくると，柱状化が起こること，および表面が荒れてくるのがわかる。」（第５６６頁下から第８行〜第５６７頁第１２行）
（Ｂ−４）「（iii）膜の評価とイオンプレーティングの条件
　Carmichael,ChambersおよびWanは膜の出来ぐあいを評価するのに“Figure　of　Merit　of　Morphology”（以下ＦＯＭと略する）を導入した。ＦＯＭが１００というのは，平滑で高密度の面である。ＦＯＭが０というのは，粗面である。イオンプレーティングのＦＯＭは，圧力Ｐ，イオン衝撃電力Ｗ，堆積速度Ｒ，サブスレート温度Ｔの関数であるが，サブスレート温度Ｔを一定にして，他のパラメータをかえると，図９・３１のような一般的な傾向がある。」（第５６７頁第１３〜２２行）
　
VI−Ｃ．甲第３号証（特開平４−３６６０１９号公報）には以下の事項が記載されている。
（Ｃ−１）「【請求項１】基板（２）と、その基板（２）に形成されて相手部材（ｘ）との摺動面（３ａ）を持つ合金製表面層（３）とを備えた摺動部材において、前記表面層（３）は、前記基板（２）より相互に近接して延出する複数の柱状晶（４）を有し、相隣る両柱状晶（４）間に、摺動面（３ａ）に開口してオイル溜となる空洞部（７）が形成されていることを特徴とする摺動部材。」（特許請求の範囲）
（Ｃ−２）「【産業上の利用分野】
　本発明は摺動部材、特に、基板と、その基板に形成されて相手部材との摺動面を持つ合金製表面層とを備えた摺動部材に関する。」（段落０００１）
（Ｃ−３）「【発明が解決しようとする課題】
　この種すべり軸受は、エンジンにおけるクランクシャフトのジャーナル部、コンロッドの大端部等に適用されているが、エンジンが高速、且つ高出力化の傾向にある現在の状況下では、従来のすべり軸受の表面層は、潤滑能が低いため耐焼付き性が乏しく、また摩耗し易い、という問題がある。
　本発明は前記に鑑み、表面層の構造を特定することにより、表面層の耐焼付き性を向上させると共にその摩耗を抑制することができるようにした前記摺動部材を提供することを目的とする。」（段落０００３及び０００４）
（Ｃ−４）「表面層３は、電気メッキ法により形成されるもので、・・・、それぞれ設定される。」（段落００１１）
（Ｃ−５）「図４〜図６に明示するように、表面層３は、ライニング層２２より相互に近接して延出するＰｂ合金の柱状晶４の集合体であり、各柱状晶４は柱状本体５と、その柱状本体５の先端に連なる四角錐体状先端部６とよりなり、相隣る両柱状晶４間には、摺動面３ａに開口してオイル溜となる空洞部７が形成されている。摺動面３ａにおいて、空洞部７の開口が占める面積率は０．２％以上、１０％以下が適当である。」（段落００１３）
（Ｃ−６）「表２および図８から明らかなように、本発明においては、摺動面３ａにオイル溜となる多数の空洞部７が開口しているので、表面層３が優れた潤滑能を発揮し、これにより表面層３の耐焼付き性を向上させることができる。また前記潤滑能および（ｈ００）面における配向指数Ｏｅが１００％であることによる表面層３の硬度向上効果によって、表面層３の摩耗を大幅に抑制することができる。」（段落００２７）
（Ｃ−７）「たゞし、摺動面３ａにおいて、空洞部７の開口が占める面積率が、０．２％未満では表面層３の潤滑能が低く、一方、１０％を超えると表面層３の強度が低下する。」（段落００２８）
（Ｃ−８）「前記実施例では、表面層を電気メッキ法により形成したが、その他の表面層形成方法としては、ＰＶＤ、イオンプレーティング、ＣＶＤ、スパッタリング等の気相を介する形成方法を挙げることができる。また摺動面における角錐体状先端部等の形成に当っては、化学エッチング、電気エッチング、気相エッチング（ボンバード処理）等のエッチング法、転写、切削等の機械加工等を適用することが可能である。」（段落００３６）
　
VI−Ｄ．甲第４号証（特公昭５７−３８２０号公報）には以下の事項が記載されている。
（Ｄ−１）「１　ピストンリングの摺動面に溶射により形成される合金耐摩耗層がその分析値で重量比にてＭｏ．３０〜７０％、Ｃｒ．２０〜５０％、Ｃ．０．３〜４．０％、その他酸素より構成され、空孔率２〜８％、高度５５（スーパーフイシヤル３０−Ｎ）以上を有する如くなしたことを特徴とするピストンリング。」（第１頁左欄第１６〜２２行、特許請求の範囲）
（Ｄ−２）「本発明は硬度の耐摩耗性が要求される内燃機関用ピストンリングに関するものである。」（第１頁左欄第２４及び２５行）
（Ｄ−３）「ところで摩耗特性を類別する時、アブレージヨン（高硬度異物による研削摩耗）とスカツフという現象はエンジンの性能に大きな影響を与えるものであり、従つて耐アブレージヨン性と耐スカツフ性との両者が相俟つてはじめて優れた耐摩耗性を発揮するものとなる。
　従来、耐摩耗対策の一つとして、摺動面に溶射によりモリブデンを施したピストンリング（以下単にモリブデン溶射リングと称する）は公知である。
　しかしながらモリブデン溶射リングは耐アブレージヨン性に難点がなり、またモリブデンは高価な為一般的ではないのが現状である。
　かかる見地からして、上記のモリブデン溶射リングは耐アブレージヨン性と耐スカツフ性を同時に兼ね備えているとは到底言い難く、しかして耐摩耗性は未だ不充分である。
　本発明は、上記に鑑み成されたもので、耐摩耗性耐スカツフ性と耐アブレージヨン性とを同時に兼ね備えた内燃機関用ピストンリングを提供するものである。」（第１頁左欄第３０行〜右欄第１２行）
（Ｄ−４）「空孔率は２％以下では保油性が低下しそのため耐スカツフ性能を阻害し、一方８％以上となると粒子間結合及び母材との結合力が阻害され溶射層の剥離を生ずる。」（第２頁左欄第１７〜２０行）
　
VI−Ｅ．甲第５号証（甲第５号証：実公昭５７−６７５３号公報）には以下の事項が記載されている。
（Ｅ−１）「（１）３本又は３本以上のリングより構成されるピストン装置に於いて、少なくとも、第一圧縮リングを鋼製リングとし、第二圧縮リングを焼結金属製リングとしたことを特徴とするピストン装置。
（２）前記焼結製第２圧縮リングに於いて摺動面の多孔率を５．０〜２０．０％にしたことを特徴とする実用新案登録請求の範囲第（１）項記載のピストン装置。
（３）前記鋼製薄巾第１圧縮リングに於いて、摺動面にクロムメツキを施したことを特徴とする実用新案登録請求の範囲第（１）項記載のピストン装置。
（４）前記燒結金属製第二圧縮リングに於いて、摺動面の多孔率を０．５％〜１５％にしたことを特徴とする実用新案登録請求の範囲第（３）項記載のピストン装置」（第１頁左欄第１５〜３１行、実用新案登録請求の範囲第１〜４項）
（Ｅ−２）「本考案は、内燃機関のピストンリング装置に関するものである。」（第１頁右欄第４及び５行）
（Ｅ−３）「最近に於いて、圧縮リングを鋼製にて構成するようになつてきた。
　鋼製リングは、強度が高くリングの薄巾化が可能になり摩耗損失を少なくする利点がある。従つてピストン装置全体の軽量化が計れるものであるが、圧縮リング全てを鋼製にて構成したピストン装置はなじみ性が悪く又耐摩耗性に劣る。
　従つて、初期なじみにくさの点から初期に於けるスカツフイングの影響により、潤滑油の消費量が過大となる傾向がある。
　本考案は、上記ピストン装置全体の改良を計つたもので、初期におけるなじみ性及び、耐摩耗を向上し且潤滑油の消費量を減少するピストン装置を提供するものである。」（第１頁右欄第６〜１９行）
（Ｅ−４）「鋼製第一圧縮リングと焼結金属製第二圧縮リングによる本考案ピストン装置に於いては、燒結金属製第二圧縮リングの多孔度が５％以下では、上記の如く鋼製第一圧縮リングの初期なじみ性及び耐摩耗性の向上が計れず、又、多孔度が２０％以上では過度の含油によりピストン装置全体の潤滑油消費量の増大をきたし、潤滑油消費量減少の効果が得られない。」（第２頁左欄第１３〜２０行）
（Ｅ−５）「この場合、多孔度が０．５％以下では硬質クロムメッキ鋼製第一圧縮リングの初期におけるなじみ性の向上及び更なる耐摩耗性の向上が計れず又、多孔度が１５％以上では過度の含油によりピストン装置全体の潤滑油消費量の更なる減少効果が得られない。」（第２頁右欄第１６〜２１行）　
　
VII．当審の判断（無効理由）
VII−１．本件発明１
　甲第１号証には、その前記（Ａ−１）によれば、「反応性イオンプレーティング法により、ピストンリングの少なくとも外周摺動面に厚さ１０〜５０μｍのＣｒ２Ｎ型の窒化クロムでなる第１被覆相と更にＣｒＮ型の窒化クロムでなる第２被覆相からなる複合窒化層が形成されているピストンリング」に関する事項が示され、かつ、そのピストンリングは、その前記（Ａ−２）によれば、少なくとも、内燃機関におけるピストンリングの問題点を解決するために発明されたものであるから、内燃機関としての用途を本来的に含むものであるということができる。
　そうすると、甲第１号証には、「ピストンリングの少なくとも外周摺動面に、反応性イオンプレーティング法による、Ｃｒ２Ｎ型の窒化クロムでなる第１被覆相と更にＣｒＮ型の窒化クロムでなる第２被覆相からなる厚さが１０〜５０μｍの複合窒化層を形成してなる内燃機関用ピストンリング」に関する発明（以下、必要に応じて、「甲第１号証発明」という）が記載されているということができる。
　そこで、本件発明１と甲第１号証発明とを対比する。
　本件発明１における窒化クロムよりなる皮膜については、その構成からみて明らかなようにその化学構造、相構造ないしは層構造につき特段限定されるものではないので、甲第１号証発明の「Ｃｒ２Ｎ型の窒化クロムでなる第１被覆相と更にＣｒＮ型の窒化クロムでなる第２被覆相からなる複合窒化層」は、本件発明１の「窒化クロムよりなる被膜」に含まれるものである。
　また、甲第１号証発明の複合窒化層の厚み１０〜５０μｍは、本件発明１の皮膜の厚みの数値範囲に含まれる。
　よって、両者は、
「少なくとも外周摺動面に、イオンプレーティングによる窒化クロムよりなり厚さが１〜８０μｍの皮膜を形成してなる内燃機関用ピストンリング」である点で一致し、以下の点で相違する。
【相違点１】当該イオンプレーティングが、本件発明１では、「陰極アークプラズマ式」であるとの構成を具備するのに対して、甲第１号証発明ではそのことが具体的に示されず当該構成を具備しない点
【相違点２】当該ピストンリングにつき、本件発明１では、「皮膜の空孔率が１．５〜２０％である」との構成を具備するのに対して、甲第１号証発明ではそのことが具体的に示されず当該構成を具備しない点
　以下、上記相違点につき検討する。
【相違点１について】
　甲第１号証発明では、イオンプレーティング法に関しては、その前記（Ａ−４）によれば、蒸発物質の蒸発エネルギー源としてＨＣＤ型電子銃を用いた例が示されるものの、イオンプレーティング法につき説明するその前記（Ａ−３）によれば、その蒸発エネルギー源がＨＣＤ型電子銃に限定されるものではなく、したがって、当該イオンプレーティング法の蒸発エネルギー源としては公知ないしは周知の方法を用いることを妨げないものである。
　そして、イオンプレーティング法の分野において、蒸発物質の蒸発エネルギー源として、陰極アークプラズマを用いることは本件出願前に周知の事項（必要ならば、山田保之著、「ＰＶＤによる金型の表面処理」、表面技術、Vol.41,No6,1990、第609〜614頁における第610頁左欄第８行〜第611頁左欄第16行、特開平2−280310号公報の第2頁右下欄第15行〜第3頁右上欄第2行、等を参照）となっている。
　してみれば、甲第１号証発明のイオンプレーティング法において、その蒸発物質の蒸発エネルギー源として、周知の当該陰極アークプラズマを用いて、陰極アークプラズマ式とするだけのことは当業者が容易に想到できるものである。
【相違点２について】
　訂正明細書の記載によれば、「しかし、近年、エンジンの高出力化や高性能化に伴い、ピストンリングに要求される条件はますます苛酷なものとなり、最近の高出力エンジン用ピストンリングには、従来の表面処理では対応できない場合が生じ始めており、更に優れた耐摩耗性を有するピストンリングのための表面処理技術の開発が望まれている。例えば、窒化チタンや窒化クロム皮膜は耐摩耗特性が優れているものの最近のエンジンでは、これらセラミックスコーティング皮膜でも摺動特性が充分満足されない状況が生じている。即ち、ピストンリングの外周皮膜表面にピッチング疲労が原因と考えられる欠け状の剥離が生じる問題がある。そこで、現状の表面処理よりも耐剥離性に優れたセラミックスコーティング皮膜を被覆したピストンリングが望まれている。」（段落０００４）と記載され、このように、ピストンリングに設けた窒化クロム皮膜ではその外周皮膜表面にピッチング疲労が原因と考えられる欠け状の剥離が生じるという問題があったところ、同じく訂正明細書の段落０００７の空孔率の数値に関する記載と、００１６、００２５、００２８及び００３１における実施例と比較例との比較試験結果の記載を併せみれば、本件発明１では、ピストンリングにおいて、その窒化クロムよりなる皮膜につき、「空孔率が１．５〜２０％である」との構成を採択することにより、その余の構成と相俟って、窒化クロムよりなる皮膜が耐摩耗性及び密着性が優れるだけでなく、空孔率が当該数値範囲よりも低いものに比べ欠け状剥離の抑制についても優れるというピストンリングを提供したものであって、これにより、はじめて上記の問題を解決することができたものである。
　このように、本件発明１の空孔率が１．５〜２０％である窒化クロムよりなる皮膜は、少なくとも、その空孔率が１．５％未満のものに比べて皮膜の欠け状剥離の抑制に優れるというものである。
　これに対して、甲第１号証発明では、その前記（Ａ−３）で示されるように、緻密な被膜層、すなわち、緻密な皮膜を形成することを意図するものであるということはできても、その複合窒化層において空孔を形成することについては何等の示唆もないものである。
　したがって、甲第１号証発明において上記相違点２に関する構成を採択することが当業者の容易になし得るものであるということはできない。
　
　次に、相違点２に関する構成につき、甲第２〜５号証の記載を順次みる。
　甲第２号証においては、その前記（Ｂ−３）及び（Ｂ−４）によれば、いくつかの金属や酸化物をサブストレート（基材）に蒸着した厚膜では、サブストレートの温度条件によっては、密度の低い膜、柱状組織でバルク密度が９０％以上の緻密な膜、及び、塊状の組織の膜が形成され、また、蒸着膜は、蒸着時のガス圧が高くなると、均一な膜の得られる温度でも柱状化が起こり膜の表面が荒れてくること等が示される。
　しかし、甲第２号証に記載される膜の組織が変遷する等の現象は、いくつかの金属や酸化物をイオンプレーティングするときに生ずるということができるとしても、金属や酸化物とその物性が異なる窒化クロムについてまで、同様な現象が生ずるとまで推定することはできず、したがって、ここでの記載から、イオンプレーティングにより形成された窒化クロム膜のバルク密度が９０％以上である、すなわち、空孔率が１．５〜１０％程度である場合が存在するとまで断定できないことはもとより、窒化クロム膜に何らかの空孔が存在するとさえ断定することができないものである。
　そうすると、甲第２号証の記載からは、イオンプレーティング法により形成された甲第１号証発明の複合窒化層につき、その空孔率を調整又は制御しようとする契機ないしは動機付けが何も教示されず、また、その空孔率を調整又は制御する技術的手段も何も教示されない。
　甲第３号証においては、その前記（Ｃ−１）、（Ｃ−４）及び（Ｃ−５）によれば、「電気メッキ法により基板に摺動面を有する合金製表面層を設けた摺動部材であって、その摺動面における空洞部の開口が占める面積率が０．２〜１０％である摺動部材」に関する発明が記載されており、そして、ここでの合金製表面層（本件発明１の皮膜に対応）の摺動面に設けられる開口が占める面積率（本件発明１の空孔率に対応）０．２〜１０％については、「摺動面３ａにおいて、空洞部７の開口が占める面積率が、０．２％未満では表面層３の潤滑能が低く、一方、１０％を超えると表面層３の強度が低下する」〔前記（Ｃ−７）〕等と記載され、摺動部材の合金製表面層における開口が占める面積率につき、その下限値が合金製表面層の低くない潤滑性を得るとの観点から設定され、他方、その上限値が合金製表面層の強度が低下しないとの観点から設定されることが示されるだけであり、そこでの発明では、その合金製表面層の剥離を抑制する観点から空孔率を設定することにつき示唆するものは何もなく、したがって、甲第１号証発明に甲第３号証に記載の発明を併せてみても、甲第１号証発明のピストンリングの複合窒化層につき、その欠け状剥離を抑制する観点から１．５〜２０％程度の空孔率を設定して、その空孔率が１．５％未満のものに比べて複合窒化層の欠け状剥離の抑制に優れたものとすることが当業者といえども容易に導き出せないものである。
　甲第４号証においては、その前記（Ｄ−１）によれば、「ピストンリングの摺動面に溶射により形成される合金耐摩耗層につき、その空孔率を２〜８％とするピストンリング」に関する発明が記載され、そして、ここでの合金耐摩耗層（本件発明１の皮膜に対応）の空孔率２〜８％については、「空孔率は２％以下では保油性が低下しそのため耐スカツフ性能を阻害し、一方８％以上となると粒子間結合及び母材との結合力が阻害され溶射層の剥離を生ずる」〔前記（Ｄ−４）〕と記載され、ピストンリングの合金耐摩耗層（溶射層）における空孔率につき、その下限値が合金製耐摩耗層の低下しない保油性を得て、耐スカッフ性能を阻害しないようにするとの観点から設定され、他方、その上限値については合金製耐摩耗層の剥離を抑制する観点から設定されることが示されるものの、甲第１号証発明に甲第４号証に記載の発明を併せてみても、甲第１号証発明のピストンリングの複合窒化層につき、その欠け状剥離を抑制する観点から１．５〜２０％程度の空孔率を設定して、その空孔率が１．５％未満のものに比べて複合窒化層の欠け状剥離の抑制に優れたものとすることが当業者といえども容易に想到できるものではない。
　すなわち、甲第４号証に記載の発明では、上記したとおり、「空孔率は・・・、一方８％以上となると粒子間結合及び母材との結合力が阻害され溶射層の剥離を生ずる」と、合金耐摩耗層の空孔が皮膜の粒子間の結合力を阻害して合金耐摩耗層の剥離を発生させることが示され、そして、このことと、合金耐摩耗層に空孔がより多く存在すれば、それだけ合金耐摩耗層の組織中の空隙が多くなり、その結果、当該合金耐摩耗層中の粒子間結合力及び母材（ピストンリング）との結合力がそれだけ低減し溶射層が剥離し易くなることが自明なこととして導き出されることからみると、甲第４号証に記載の発明からは、皮膜の空孔率をゼロ％に近接する数値とすれば、それだけ、皮膜の剥離現象を抑制できることが、実質上、教示されるといえる。してみれば、その甲第４号証に記載の発明の上記教示に基づいて、甲第１号証発明において複合窒化層の欠け状剥離を抑制しようとしても、空孔率が１．５％未満のものに比べて欠け状剥離の抑制により優れるという１．５〜２０％程度の空孔率の複合窒化層を得ることなどできないものである。
　甲第５号証においては、その前記（Ｅ−１）によれば、「鋼製第一圧縮リング及び焼結金属製第二圧縮リングを含む３本以上のリングより構成されるピストン装置において、その焼結金属製第二圧縮リングの摺動面の多孔率を、５．０〜２０．０％又は０．５％〜１５％にしたピストン装置」に関する発明が記載され、そして、その焼結金属製第二圧縮リングの摺動面の多孔率については、「燒結金属製第二圧縮リングの多孔度が５％以下では、上記の如く鋼製第一圧縮リングの初期なじみ性及び耐摩耗性の向上が計れず、又、多孔度が２０％以上では過度の含油によりピストン装置全体の潤滑油消費量の増大をきたし、潤滑油消費量減少の効果が得られない」〔前記（Ｅ−４）〕等と記載されるだけであり、甲第５号証に記載の発明では、その焼結金属製第二圧縮リングの摺動面の剥離を抑制する観点から空孔率を設定することにつき示唆するものは何もなく、したがって、甲第１号証発明に甲第５号証に記載の発明を併せてみても、甲第１号証発明のピストンリングの複合窒化層につき、その欠け状剥離を抑制する観点から１．５〜２０％程度の空孔率を設定して、その空孔率が１．５％未満のものに比べて複合窒化層の欠け状剥離の抑制に優れたものとすることが当業者の容易に想到できるものではない。
　このように、甲第３〜５号証に記載の発明をみても、そこから、甲第１号証発明における複合窒化層について、その欠け状剥離を抑制する観点から１．５〜２０％程度の空孔率を設定して、その空孔率が１．５％未満のものに比べて皮膜の欠け状剥離の抑制に優れたものとすることが教示されない。
　そればかりでなく、甲第３〜５号証に記載の発明においては、それらの金属からなる層又は面は、メッキ、溶射又は焼結により形成されることが示されるだけであって、そこには、イオンプレーティング法により形成された甲第１号証発明の複合窒化層について、その空孔率を調整又は制御するところの技術的手段が何も示されない。
　以上のとおり、甲第２〜５号証に記載の発明においては、そもそも、甲第１号証発明の複合窒化層につき、その空孔率を１．５〜２０％とするところの技術的手段が示されず、また、甲第１号証発明のピストンリングの複合窒化層につき、その欠け状剥離を抑制する観点から１．５〜２０％程度の空孔率を設定して、その空孔率が１．５％未満のものに比べて皮膜の欠け状剥離の抑制に優れたものとすることが当業者の容易に想到できるものではない。
　してみれば、甲第１号証発明において、甲第２号証に記載の発明に加え、更には、甲第３〜５号証に記載の発明を併せてみても、その複合窒化層の空孔率を１．５〜２０％として本件発明１の構成のようにすることが当業者の容易に想到できるものではない。
　したがって、本件発明１は、甲第１〜５号証に記載の発明に基づいて当業者が容易に発明できたものであるということはできない。
　
VII−２．本件発明２
　本件発明２は、本件発明１に対して、更に、「前記皮膜の破断面が母材表面から皮膜の表面に向かって柱状の形態を有する」との構成を付加するものである。
　本件発明１が甲第１〜５号証に記載の発明に基づいて当業者が容易に発明できたものであるということはできず、このことは、前記VII−１．で説示したとおりである。
　加えて、上記構成、すなわち、窒化クロムよりなる皮膜につき、「前記皮膜の破断面が母材表面から皮膜の表面に向かって柱状の形態を有する」とのことは、甲第１〜５号証に記載の発明の何れにも示されないし、その示唆もない。そして、訂正明細書の記載（特に、段落０００５、０００８、００１８、及び、００２１の記載を参照）によれば、本件発明２は、上記「前記皮膜の破断面が母材表面から皮膜の表面に向かって柱状の形態を有する」との構成を採択することにより、その余の構成と相俟って、欠け状剥離が発生し難く同時に耐摩耗性及び密着性にも優れた皮膜を被覆したピストンリングを提供するという訂正明細書に記載の顕著な効果を奏したものである。そうすると、甲第１号証発明において、当該柱状の形態を有するとの構成を付加することは当業者が容易に想到できるものではない。
　したがって、本件発明２は、甲第１〜５号証に記載の発明に基づいて当業者が容易に発明できたものであるということはできない。
　
VII−３．請求人のその他の主張について
（１）請求人は、その審判請求書において、「甲第１号証の窒化クロム皮膜形成時の具体的手段（３ｍｔｏｒｒの真空度）から当業者であれば、甲第２号証のイオンプレーティング法の一般的知識と組合わせれば、空孔率１．５〜２０％の範囲内の窒化クロム皮膜ができることは容易に想起できることであり、進歩性が認められない。」（第８頁第１４〜１７行）と主張するので、以下に検討する。
　まず、甲第１号証の記載内容について検討する。
　甲第１号証発明の実施例及び甲第１号証のその他の記載をみても、そこでは空孔に関し具体的に記載されるものは何もない。
　この点につき、甲第１号証の実施例において、その複合窒化層は３×１０−３ｔｏｒｒ（換算すれば、０．３９Ｐａ）の圧力にて形成されるものであり、一方、訂正明細書には、「・・・ピストンリングのＣｒＮ皮膜は、・・・剥離を防止するために、ＣｒＮ皮膜の空孔率をあげ、空孔率を１．５％以上にする必要があり、一方・・・。このため皮膜の空孔率は２０％以下とする必要がある。この空孔のある皮膜は、イオンプレーティング時の真空度を０．１３〜１３．３Ｐａにすることによって作成でき、・・・。」（段落０００７）と、空孔率１．５〜２０％のＣｒＮ皮膜の空孔率はイオンプレーティング時の真空度を０．１３〜１３．３Ｐａにすることによって作成できることが示されることから、甲第１号証に記載の実施例においては、本件発明１の空孔率を形成するところの具体的手段が示されていると主張する。しかし、窒化クロムのイオンプレーテイングにつき、被請求人の提出した本件出願後に頒布された刊行物である参考資料２によれば、「Ｃｒ−Ｎ系ＰＶＤ皮膜の諸物性は，プロセスパラメーターである窒素ガス分圧，クロム蒸発源のアーク電流，基板（ピストンリング）のバイアス電圧，成膜温度，その他により影響を受ける。・・・。バイアス電圧は膜の微細構造に大きな影響を与える。ＰＶＤ膜（イオンプレーティング膜）は一般に低バイアス電圧側では柱状結晶が発達し，バイアス電圧の増加とともによりち密な組織になる。その他の重要なプロセスパラメーターとしては，析出速度と基板の温度がある。また膜の硬度は析出相の結晶配向性や微細構造によって大きく影響される。」（第５８４左欄第１６〜２８行）と記載され、このように、窒化クロムイオンプレーティング膜の物性は、窒素ガス分圧、バイアス電圧、析出速度、基板の温度等に大きく影響されることが示されており、その膜の物性が上記の圧力ないしは真空度に影響を受けるものであるとしても、それ以上に他のプロセスパラメータによっても大きく影響を受けるという事実が示されるものである。そうであれば、甲第１号証の実施例において、複合窒化層を形成する多数のプロセスパラメータの内の、圧力（ガス分圧）のプロセスパラメータが０．３９Ｐａであって、偶々、訂正明細書に記載される数値範囲を満足する示されているとしても、そのことから、直ちに、本件発明１の空孔率を形成する具体的手段が示されているということはできない。そのうえ、甲第１号証の実施例の複合窒化層につき実験した結果を報告する乙第１及び２号証の記載によれば、当該実施例の複合窒化層では空孔が観察されないというものである。
　したがって、甲第１号証の実施例において窒化クロム皮膜形成時に真空度３ｍｔｏｒｒを選択しているとしても、そのことを、窒化クロム皮膜の空孔の有無又は空孔率の程度を推定するための根拠とするには無理がある。
　なお、上記甲第１号証に記載の発明に関し、請求人は、平成１７年８月２９日作成の参考資料１を提示して、実験により、圧力０．３Ｐａと３Ｐａ、試料温度２９０℃、ＨＣＤ出力電流１５０Ａ及びバイアス電圧−２０Ｖ等の条件下にＨＣＤ方式イオンプレーテイング法によってり銅版上に窒化クロム皮膜を形成し、かつ、その窒化クロムの空孔率を測定したところ、当該空孔率％が０．６及び０．７（以上、０．３Ｐａ）であり、また、４．８及び１３．４（以上、３Ｐａ）であったことを報告する。しかし、この窒化クロム皮膜の形成条件は、その圧力、試料温度、ＨＣＤ出力電流及びバイアス電圧の各条件において甲第１号証発明の実施例のものと一致しないものであり、しかも、それら条件の不一致が空孔率につき影響を及ぼさないとまではいえないものであるから当該参考資料１の実験は甲第１号証発明の実施例とはかかわりなく実施したという他はないものである。したがって、参考資料１で報告される空孔率の数値を基に、甲第１号証発明の実施例の複合窒化層において同程度の空孔率が存在するということができないことはもとより、空孔がそこに存在するとさえ断定することもできない。そうすると、参考資料１の記載内容を考慮したとしても、甲第１号証発明のピストンリングにつき、その皮膜に空孔を設け、その空孔率を１．５〜２０％とすることは当業者が容易に想到することはできないものである。
　次に、甲第２号証に記載される膜の組織（柱状）が変遷する現象については、前記したように、いくつかの金属や酸化物をイオンプレーティングするときに生起するものであるということができるとしても、金属や酸化物とその物性が異なる窒化クロムについてまで、同様な、現象が生ずるとまで推定（ないしは予測）することはできないものであり、また、当審判事件において提出された出願前公知の他の証拠をあわせてみてもそのように推定することはできず、したがって、甲第２号証に記載の発明からは、甲第１号証発明の複合窒化層のような窒化クロム皮膜に空孔が存在するかどうか、更には空孔が存在するとすればその含有率がどの程度のものであるかということについて推定することなどできるものではない。
　そうであれば、甲第１号証発明に甲第２号証の記載を組み合わせてみても、イオンプレーティングによる窒化クロムの皮膜について、その空孔率を調製又は制御して、１．５〜２０％程度となすことは、当業者といえども容易に想到することができない。
（２）請求人は、その口頭審理陳述要領書において、「一般に、ピストンリングの皮膜には、耐摩耗性、耐焼付性、保油性、耐剥離性が要求され、本件特許では、ピッチング疲労が原因の欠け状剥離を問題として空孔率と膜厚の数値限定を行っている。しかしながら、剥離性のみを対象としたピストンリングはあり得ず、他の性質をも考慮して製造されるのが一般的である。」（第３頁末行〜第４頁第４行）と主張し、実質上、本件発明１の進歩性を否定するので以下に検討する。
　ピストンリングの代表的皮膜であるクロムメッキ膜に関し記載される乙第６号証には、「ｖ）保油性　クロムめっきの保油性はあまりよくない．この性質をいっそう改善するために，特に多孔質にしたポーラスクロムめっきがある．しかしライナのめっきにはこのようなポーラスクロムめっきが施されるが，リングについては耐摩耗性が若干劣るためあまり用いられない．」（第１５２頁第７〜１０行）と記載され、このように、ピストンリングの皮膜については、その保油性が良好であることが、必要不可欠の物性ではないものである。
　そのうえ、甲第１号証発明においては、その前記（Ａ−５）及び（Ａ−６）によれば、従来例の皮膜に比べ、そのピストンリングの複合窒化層の耐摩耗性、及び、耐焼付き性に優れるものであり、また、耐焼付き性及び耐摩耗性が優れるので保油性が、特段、問題となるものではないことから、その保油性につき配慮する必要はないものである。
　そうであれば、窒化クロムよりなる複合窒化層を有する甲第１号証発明に基づき発明をなす場合にあっては、耐摩耗性、耐焼付性、及び、保油性については、特段、配慮する必要がなく検討を進めることができるものである。　請求人は、それにも拘わらず、耐剥離性と直接関係のない保油性等を満たすことを動機付けとして甲第１号証発明の複合窒化層に所定の空孔率を設けようと試みようとするものであるから、その主張には無理があり、採用することができない。
（３）請求人は、その口頭審理陳述要領書において、「甲第３及び５号は保油性の観点から空孔率を定めることが開示され、特に甲第４号証はこれに加えて剥離性の観点から空孔率を定めることが開示され、特に甲第４号証はこれに加えて剥離性の観点から空孔率が定められることが開示されている。したがって、甲第１号証の反応性法（ＨＣＤ法）の記載に基づいて陰極法の実施の際に剥離性の観点から空孔率を定めることは当業者にとって何等困難性はなく、しかもその時の空孔率は一般的ピストンリングの皮膜に対して要求される空孔率であり、技術的意義は異なっても甲第３〜５号証のピストンリングの空孔率が本件特許の空孔率に含まれるので進歩性を有していないこととなる。」（第５頁第１２〜１９行）と主張するので、以下に検討する。
　甲第３〜５号証に記載の発明においては、合金製表面層、合金耐摩耗層又は焼結金属製第二圧縮リングの摺動面（以下、必要に応じて、「各表面層」という）は、メッキ、溶射又は焼結により形成される金属からなるものであり、一方、甲第１号証発明における複合窒化層（窒化クロム）は非金属からなるものである。そして、甲第３〜５号証に記載の発明において各表面層の空孔率が、実質上、０．２〜１０％、２〜８％、５．０〜２０．０％又は０．５％〜１５％値とすることが示されているとしても、その空孔率値を材質の大きく異なる甲第１号発明における複合窒化層に適用することが当業者といえども直ちに想到し得るものではない。
　すなわち、金属は、一般的に、展性、延性に富み、塑性変形が容易なことから、外力に対して脆性破壊し難い材料であるところ、窒化クロムは金属結合を有さず、硬質であり、その金属と比べれば相対的に脆性破壊し易い材料である。そして、甲第４号証に記載の発明では、上記したとおり、「空孔率は・・・、一方８％以上となると粒子間結合及び母材との結合力が阻害され溶射層の剥離を生ずる」とされ、金属からなる合金耐摩耗層に空孔を導入すると脆性破壊の剥離が生じ易くなることが実質上示されるのであるから、脆性破壊し易いところの甲第１号証発明における複合窒化層に対して、積極的に空孔を導入し、当該複合窒化層の空孔率を１．５〜２０％程度にすることは当業者であれば、容易に想到できないものである。
　
VIII．まとめ
　以上のとおり、訂正後の本件請求項１及び２に係る発明についての特許は、請求人の主張する理由によっては、無効とすることができない。
　また、審判に関する費用については、特許法第１６９条第２項の規定で準用する民事訴訟法第６１条の規定により、請求人の負担すべきものとする。
　よって、結論のとおり審決する。