【事件の表示】
　平成　６年特許願第２９０８７２号「反射鏡およびその製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成　８年　６月　７日出願公開、特開平　８−１４６２０８〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯 
　本願は、平成６年１１月２５日の出願であって、平成１５年１１月４日付けで拒絶査定がなされ、これに対して平成１５年１２月１０日に審判請求がなされるとともに、平成１６年１月９日付けで手続補正がなされたものである。
　
２．平成１６年１月９日付け手続補正についての補正却下の決定
[補正却下の決定の結論]
　平成１６年１月９日付け手続補正を却下する。
[理由］独立特許要件違反
（１）補正の内容
　平成１６年１月９日付け手続補正（以下、「本件補正」という。）により、特許請求の範囲の請求項１は、
「基材と反射膜との間に酸素基を含む中間層を介し、銀または銀合金から成る反射膜を成膜して成る反射鏡であり、基材表面に気相処理により活性な酸素基を含むことで化学的な親和力または結合力に富んだ中間層を形成して、この状態にある中間層上に銀又は銀合金を励起させて反射膜を成膜して成るものであって、前記中間層は厚みが５〜６原子以下の酸素基の層であることを特徴とする反射鏡。」（以下、「本願補正発明」という。）
と補正された。
　そして、本件補正前の請求項１は、以下のとおりである。
「基材と反射膜との間に酸素基を含む中間層を介し、銀または銀合金から成る反射膜を成膜して成る反射鏡であり、基材表面に気相処理により活性な酸素基を含むことで化学的な親和力または結合力に富んだ中間層を形成して、この状態にある中間層上に銀または銀合金を励起させて反射膜を成膜して成ることを特徴とする反射鏡。」
　
（２）補正の目的
上記本件補正により、補正前の請求項１の「中間層」について、「厚みが５〜６原子以下の酸素基の層であること」と限定されているので、請求項１に係る補正は、特許請求の範囲の限縮を目的とするものに該当することは明らかである。
　よって、本件補正のうち請求項１に係る補正は、特許法第１７条の２第４項第２号に規定する特許請求の範囲の限縮を目的とするものに該当する。
　そこで、本件補正後の請求項１に係る発明（以下、「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（特許法第１７条の２第５項において準用する特許法第１２６条第４項の規定に適合するか）について検討する。
　
（３）引用刊行物に記載された発明
　本願の出願前に頒布され、原査定の拒絶の理由に引用された特開平２−１０９００３号公報（以下、「引用刊行物」という。）には、「反射鏡」の発明に関して、以下の事項が記載されている。
＜記載事項１＞
「［発明の目的］
  本発明は上記のような従来の問題点を解決して光線反射層の基体への膜付けが強固であって、耐環境性に優れ、かつその製造が容易で、生産性が高い反射鏡を提供することを目的とするものである。」（第２ページ右上欄第３〜８行）
＜記載事項２＞
「［発明の構成］
  そして、このような目的は基体上に金属酸化物または金属窒化物からなる中間層を設け、その上に光反射層を積層し、更に必要に応じて、この光反射層の上に保護層を積層して成る本発明の反射鏡によって達成することができる。」（第２ページ右上欄第９〜１４行）
＜記載事項３＞
「本発明の反射鏡において、中間層として用いられる金属酸化物としては、たとえば、酸化クロム、酸化チタン、酸化タングステン、酸化錫、酸化インジューム、酸化アルミニウムのようなクロム、チタン、タングステン、錫、インジュームおよびアルミニウム等の金属の酸化物が挙げられるが、好ましいものとして、クロムの酸化物または錫の酸化物を例示することができる。
また、金属酸化物と同様に中間膜として用いられる金属窒化物としては、たとえば窒化クロム、窒化チタン、窒化タングステンクのようなクロム、チタンおよびタングステン等の金属の窒化物が挙げられるが、好ましいものとして、クロムの窒化物を例示することができる。」（第２ページ左下欄第８行〜右下欄第１行）
＜記載事項４＞
「本発明においてはこの中間膜の厚みを従来よりも大きくしても特に弊害が認められないので、その許容領域を従来よりも広くすることができる。
この中間膜の厚さの範囲は通常５０Å〜２０００Åであり、好ましくは１００Å〜１００００Åである。」（第２ページ右下欄第２〜６行）
＜記載事項５＞
「 本発明の反射鏡において、前記中間層の上に積層する光反射層としては、例えばアルミニウム、金、銀、銅のような金属または窒化チタンのような金属化合物が用いられる。この光反射層の膜厚は、通常500Å〜3000Åであり、好ましくは700〜2000Åである。」（第２ページ右下欄第７〜１２行）
＜記載事項６＞
「　　　　　第４表（本発明の反射鏡）
　中間層　　　　　　　　　　最適膜厚　　　（Å）
　窒化チタン　　　　　　　４０〜２０００
　窒化タングステン　　　　５０〜１６００
　酸化クロム　　　　　　　３０〜１５００
　酸化チタン　　　　　　　２０〜１８００
　酸化タングステン　　　　５０〜１６００
　酸化錫　　　　　　　　　３０〜２０００
　酸化インジュウム　　　　５０〜２０００
　酸化アルミニウム　　　　２０〜１０００
（原文では、罫線が引かれているが、表記上省略した。）」
＜記載事項７＞
「［実施例］
  次に、実施例により本発明を具体的に説明するが、これにより本発明が限定されるものではないことはいうまでもない。
  なお、以下の各実施例においては、中間層、光反射層および保護層等の製膜に高周波イオンプレーティング法を適用させたが、本発明においてはこの製膜法だけに限定されず、他の製膜法、例えばスパッタリング法を適用させることもできる。
実施例１
  ポリカーボネート樹脂の成型部材を基体とし、この基体の上に、中間層として窒化クロム層を高周波イオンプレーティング法により、クロム蒸発源を電子銃で加熱蒸発させて製膜した。製膜条件は以下の通りであった。
　高周波放電電力・・・・・・・・・１Ｋｗ（反射波１００Ｗ）
　　　　　　　　　　　　　　　　　１３．５６ＭＨｚ
　基体温度・・・・・・・・・・・・ヒーター加熱なし　　　　　　　　　　　　　　　　　
　窒素ガス圧・・・・・・・・・・・３×１０―４Ｔｏｒｒ
　膜厚・・・・・・・・・・・・・・１００Å〜１０００Å
（「高周波放電電力」から「１００Å〜１０００Å」までを、原文では[ ]で括ってくるが、表記上省略した。）
　次いで、この窒化クロム中間層の上に光反射層（Ａｌ層）と保護層（ＳｉＯ２層）を以下に示す条件で順次形成させて本発明の反射鏡を作成した。
　光反射層（Ａｌ層）の作成条件
　蒸発源・・・・・・・・・・・・・Ａｌを電子銃により加熱蒸発させた。
　真空度・・・・・・・・・・・・・１〜５×１０―６Ｔｏｒｒ
　膜厚・・・・・・・・・・・・・・１０００Å〜２０００Å
（「蒸発源」から「１０００Å〜２０００Å」までを、原文では[ ]で括ってくるが、表記上省略した。）
　保護膜の形成（ＳｉＯ２層）の作成条件
　蒸発源・・・・・・・・・・・・・ＳｉＯ２を電子銃により加熱蒸発させ　　　　　　　　　　　　　　　　　た。
　酸素ガス圧・・・・・・・・・・・２×１０―４Ｔｏｒｒ
　膜圧・・・・・・・・・・・・・・２５００Å
（「蒸発源」から「２５００Å」までを、原文では[ ]で括ってくるが、表記上省略した）」（第４ページ右上欄第１９行〜同右下欄第１１行）
＜記載事項８＞
「実施例２
　　ポリメチルメタクリレート樹脂の成型部材を基体とし、この基体の上に、中間層として酸化錫層を高周波イオンプレーティング法により、錫蒸発源を電子銃で加熱蒸発させて製膜した。製膜条件は以下の通りであった。
　高周波放電電力・・・・・・・・・１Ｋｗ（反射波１００Ｗ）
　基体温度・・・・・・・・・・・・ヒーター加熱なし
　　　　　　　　　　　　　　　　　１３．５６ＭＨｚ
　酸素ガス圧・・・・・・・・・・・８×１０―４Ｔｏｒｒ
　膜厚・・・・・・・・・・・・・・５０Å〜１０００Å
（高周波放電電力から５０Å〜１０００Åまでを、原文では[ ]で括ってくるが、表記上省略した。）
　次に、この酸化錫中間層の上に光反射層（Ａｌ層）および保護層（ＳｉＯ２層）を実施例１の場合と全く同じ条件で順次形成させて、本発明の反射鏡を作成した。」（第５ページ左上欄第２〜１６行）
　
　したがって、上記記載事項１ないし８に基づけば、引用刊行物には、
「基体と光反射層との間に酸化錫層から成る中間層を介し、Ａｌから成る光反射層を形成して成る反射鏡であり、基体の上に高周波イオンプレーティング法により酸化錫からなる中間層を製膜して、この中間層の上に高周波イオンプレーティング法によりＡｌを電子銃で加熱蒸発させて光反射層を製膜して成るものであって、前記中間層は厚みが３０Å〜２０００Åの酸化錫の層であることを特徴とする反射鏡」の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されている。
　
（４）対比
　本願補正発明と引用発明とを比較する。
　引用発明の「基体」、「光反射層」、「酸化錫層から成る中間層」、「基体の上に」、「製膜し」、及び「製膜して」は、本願補正発明の「基材」、「反射膜」、「酸素基を含む中間層」、「基材表面に」、「形成して」、及び「成膜して」にそれぞれ相当する。
　また、引用発明における、中間膜を製膜する「高周波イオンプレーティング法」は、本願補正発明の「気相処理」に相当する。
　さらに、引用発明において、高周波イオンプレーティング法によりＡｌを電子銃で加熱蒸発させる際、Ａｌは高周波によって励起されることは明らかであるから、引用発明の「高周波イオンプレーティング法によりＡｌを電子銃で加熱蒸発させ」と本願補正発明の「銀又は銀合金を励起させて」とは、金属を励起させという上位概念で一致する。
　そして、引用発明の「Ａｌから成る光反射層」と本願補正発明の「銀または銀合金から成る反射膜」とは、金属から成る反射膜という上位概念で一致する。
　　
　したがって、両者は、
「基材と反射膜との間に酸素基を含む中間層を介し、金属から成る反射膜を成膜して成る反射鏡であり、基材表面に気相処理により中間層を形成して、中間層上に金属を励起させて反射膜を成膜して成ることを特徴とする反射鏡。」の点で一致し、以下の点で相違する。
[相違点１]
　反射膜を構成する金属であり、反射膜を成膜するために励起させる金属が、本願補正発明は、銀または銀合金であるのに対して、引用発明は、Ａｌである点。
[相違点２]
　気相処理により形成されるとともに、反射膜が成膜される中間層が、本願補正発明は、活性な酸素基を含むことで化学的な親和力または結合力に富んでいるのに対して、引用発明は、酸化錫の層であるが、このような限定がされていない点。
[相違点３]
　中間層が、本願補正発明は、厚みが５〜６原子以下の酸素基の層であるのに対して、引用発明は、厚みが３０Å〜２０００Åの酸化錫の層である点。
　
（５）当審の判断
　上記相違点について検討する。
イ．相違点１
　引用刊行物には、光反射層（反射膜）として、実施例２で用いられたアルミニウムの他に銀を用いることが記載されているので（記載事項５）、反射膜を成膜するために、本願補正発明のように銀または銀合金を用いることは引用刊行物の記載に基づいて当業者が容易になし得たことである。
　
ロ．相違点２
　引用発明においても、錫蒸発源を電子銃で加熱蒸発させ、酸素ガス圧（８×１０―４Ｔｏｒｒ）の下、高周波イオンプレーティング法により、基体の上に、中間層として酸化錫層を製膜するのであるから、成膜された中間層は活性な酸素基を有するものである（なお、この点については、請求人は本件の審判請求書に係る平成１６年１月９日付け手続補正書（方式）の第３ページ下から第４〜３行において、了解している）。
　そして、引用刊行物には、光反射層の基体への膜付けが強固であって、耐環境性に優れ、かつその製造が容易で、生産性が高い反射鏡を提供するために、基体の上に中間層を介して光反射層を設ける旨が記載されているので（記載事項１，２）、引用発明の中間層の酸化錫が活性な酸素基を有することで、中間層は化学的な親和力または結合力に富んでいるといえる。
　したがって、相違点２は実質的な相違点ではない。
　
ハ．相違点３　　
　まず、本願補正発明の「中間層は厚みが５〜６原子以下の酸素基の層である」という発明特定事項について検討する。
上記発明特定事項は、「中間層は酸素基の層である」点及び「中間層の厚みが５〜６原子以下」である点を規定したものであることは明らかである。
　　
ハ．−１　本願補正発明の「中間層は酸素基の層である」点についての検討
　酸素基について、本願明細書の段落【００５１】には、
「【００５１】
　また、酸素基２ａとは、化学的な親和力または結合力に富み、化学的に活性な結合基を有する酸素基２ａまたは酸素イオンであって、たとえば、ダングリングボンドを有する酸素基２ａなどである。このような酸素基２ａは、互いに結合した状態、基材１と、または銀もしくは銀合金膜から成る反射膜３と化学的に結合した状態、または基材１中に打ち込まれた状態で存在し、これらの状態が混じり合った混在層として中間層２を形成しているものである。」と記載されている。
　この記載において、酸素基を酸素基自身で定義しており、意味不明となっているが、当審から請求人に対する質問に対する平成１７年１０月１３
日付けのファックシミリによる回答において説明されているように、段落【００５１】の冒頭の「酸素基２ａ」以外の「酸素基２ａ」は、それぞれ酸素原子の誤記であり、また、「基材１」は基材１の原子の誤記であり、さらに「反射膜３」も反射膜の原子の誤記である。そして、上記の誤記を上記のように正しく読み替えてみると、段落【００５１】の記載の趣旨が理解できる。
　そして、上記理解のもと、本願補正発明の「中間層は酸素基の層である」の意味は、酸素基は、酸素原子が互いに結合した状態、基材１の原子と酸素原子が結合した状態、銀もしくは銀合金膜から成る反射膜３の原子と化学的に結合した状態、または基材１中に酸素原子が打ち込まれた状態で存在し、さらにこれらの状態が混合したものも含むものであり、中間層は、このような酸素基の層であると思われる。
　
ハ．−２　本願補正発明の「中間層の厚みが５〜６原子以下の酸素基の層である」点についての検討
　　
（ａ）本願補正発明の「中間層の厚みが５〜６原子以下の酸素基の層である」という構成
　本願補正発明の中間層及び引用発明の中間層は、ともに基材と反射膜との密着力を高めるために基材と反射膜との間に設けられる酸素基の層であるが、中間層の厚みについては、基材及び反射膜の材料、並びに中間層が施される基材の表面状態を勘案し、基材と反射膜との求められる接着力に応じて、当業者が適宜実験をおこなうことにより決定し得る事項の１つであるといえる。
　なお、中間層の厚みについて、本願補正発明の「５〜６原子」と、引用発明の「３０Å」とは、表現ぶりが相違するものの、同程度のオーダーの中間層の厚みを意味するといえる。
　
（中間層は上記ハ．１に記載した原子を有する酸素基の層であるので、「中間層の厚みが５〜６原子以下」における「原子」は、酸素原子はもとより、中間層を構成する原子が対象であるといえる。
　ちなみに、引用発明の中間層を構成する酸化錫の「錫」原子の大きさを「ｖａｎ−ｄｅｒ　Ｗａａｌｓ　半径　」をもとに計算してみると、２．１７Å×２＝４．３４Åとなるので、引用発明の酸化錫の中間層の厚さの３０Åは、６．９原子分に相当する。
　また、引用刊行物には、中間層として２０Å膜厚の酸化チタンを用いることも記載されており（記載事項６）、係る場合、チタン原子の大きさは「ｖａｎ−ｄｅｒ　Ｗａａｌｓ　半径　」から１．９６Å×２＝３．９２Åとなるので、酸化チタンの中間層の２０Å膜厚は、５．１原子分に相当する。
（上記錫原子及びチタン原子の「ｖａｎ−ｄｅｒ　Ｗａａｌｓ　半径　」の値として「化学便覧　基礎編、改訂４版」（社団法人　日本化学会　編、丸善株式会社　、平成５年９月３０日　発行）に記載された値を用いた。））
　　
（ｂ）本願補正発明の「中間層の厚みが５〜６原子以下の酸素基の層」とした効果
　本願明細書において、清浄化された平滑なアルミニウム板からなる基材に、酸素基の層の中間層を有する反射鏡の実施例１〜６と酸素基の層の中間層を有しない比較例が記載され、その密着力は実施例１〜６の方が、比較例より好ましい数値であることは記載されている（段落【０１１４の表２】。
　しかしながら、本願明細書には、「基材１としては、金属、有機または無機の材料で成る様々な形状のものであって」（段落【０００８】）と記載されてる点を踏まえると、基材の材料が限定されておらず、またその表面状態も特定されていない本願補正発明において、中間層の厚みが５〜６原子以下酸素基の層に限定したことで、本願補正発明と同様な厚みのオーダである酸素基の層からなる中間層を有する引用発明に比して格別顕著な作用効果を奏するとはいえない。
　
（ｃ）本願補正発明の「中間層の厚みが５〜６原子以下の酸素基の層」とした点における、厚みが５〜６原子以下とした臨界的な意義
　本願明細書には、段落【００１２】等に「酸素基の層の厚みは、できるだけ薄い方が好ましく、５〜６原子以下とすることが特に好ましい。」と記載され、段落【００２９】等に「また、数原子の厚みの酸素基２ａの層によって、反射膜３と基材１とが強く接着している。」されているが、酸素基の層の厚みが５〜６原子以下の場合、反射膜３と基材１とが強く接着する点について、理論的な説明、または酸素基２ａの層の厚みを変えた比較データが提示されていないので、本願補正発明において、「中間層の厚みが５〜６原子以下の酸素基の層」にした点に、数値限定の臨界的な意義があるとはいえない。
　
　してみると、中間層の酸素基の層の厚みを５〜６原子以下とする点は、基材及び反射膜の材料、並びに中間層が施される基材の表面状態を勘案し、基材と反射膜との求められる接着力に応じて、当業者が適宜実験をおこなうことにより、容易に決定し得る事項であるといえる。
　したがって、相違点３に係る発明特定事項は、引用刊行物の記載に基づいて当業者が容易になし得たものといえる。
　
　また、本願補正発明の効果は、引用刊行物の記載から当業者が予測し得る範囲内のものである。
　
　よって、本願補正発明は、引用刊行物に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明することができたものである。　
　
　したがって、本願補正発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
（３）むすび
　以上のとおり、本件補正は、特許法第１７条の２第４項において準用する特許法第１２６条第３項の規定に違反するので、特許法第１５９条第１項で読み替えて準用する特許法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。
　
３．本願発明について
　平成１６年１月９日付け手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明は、平成１５年８月７日付けの手続補正書により補正された明細書及び図面の記載からみて、特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりのものと認める。（以下、「本願発明」という。）
「基材と反射膜との間に酸素基を含む中間層を介し、銀または銀合金から成る反射膜を成膜して成る反射鏡であり、基材表面に気相処理により活性な酸素基を含むことで化学的な親和力または結合力に富んだ中間層を形成して、この状態にある中間層上に銀または銀合金を励起させて反射膜を成膜して成ることを特徴とする反射鏡。」
　
４．引用刊行物に記載された発明
　原査定の拒絶の理由に引用された引用刊行物及びその記載事項は、前記「２．（３）」に記載されたとおりである。
　
５．対比・判断
　本願発明は、前記「２．（１）」で認定した本願補正発明から「厚みが５〜６原子以下の酸素基の層であること」との発明特定事項の限定を省いたものである。
　そうすると、本願補正発明の発明特定事項の全てを含み、さらに上記限定を付加したものに相当する本願補正発明が、前記「２．（５）」に記載したとおり、引用刊行物に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明することができたものであるから、本願発明も、同様な理由により、引用刊行物に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明することができたものである。
　
６．むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用刊行物に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明することができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
　よって、結論のとおり審決する。