【手続補正書】
【提出日】平成22年5月7日(2010.5.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
投影パターンを有するマスクを収容するためのマスク装置と、
光学素子群を有する投影装置と、
基板を収容するための基板装置と、
液浸ゾーンとを備える光学結像装置であって、
前記光学素子群が、前記基板に投影パターンを投影するように構成されており、
前記光学素子群が、少なくとも一時的に前記液浸ゾーンに隣接して配置された液浸素子を有する複数の光学素子を備え、
作動中に、前記液浸ゾーンは、少なくとも一時的に液浸媒体を充填されているか、前記浸漬素子を形成する最終光学素子と前記基板との間に配置されているか、またはその双方であり、
前記液浸媒体によって前記液浸素子の温度分布ＴＥに誘発された変動を減じるように構成された熱減衰装置が設けられており、
該熱減衰装置が、前記液浸素子を該液浸素子の環境の少なくとも一部から少なくとも部分的に熱分離する少なくとも１つの熱分離装置を備え、
前記液浸素子が、前記投影パターンを前記基板に投影する間に光学的に使用される第１領域と光学的に使用されない第２領域とを備え、
熱分離装置として第１遮蔽部が設けられており、該第１遮蔽部が、前記第２領域の第１区画の少なくとも一部を前記液浸媒体に対して熱遮蔽し、前記第１区画が、前記液浸媒体に隣接して配置された第２領域の区画全体であり、かつ／または
熱分離装置として第２遮蔽部が設けられており、該第２遮蔽部が、前記第２領域の第２区画の少なくとも一部を前記投影装置の隣接区画に対して熱遮蔽し、前記第２区画が、前記投影装置の前記隣接区画に隣接して配置された前記第２領域の区画全体であることを特徴とする光学結像装置。
【請求項２】
請求項１に記載の光学結像装置において、
前記液浸素子が保持装置によって保持され、
熱分離装置として第３遮蔽部が設けられており、該第３遮蔽部が、前記保持装置の少なくとも一部を該保持装置の環境に対して熱遮蔽する光学結像装置。
【請求項３】
請求項２に記載の光学結像装置において、
前記第３遮蔽部が、前記投影装置の隣接区画に隣接して配置された前記保持装置の領域の少なくとも一部を前記投影装置の前記隣接区画に対して熱遮蔽する光学結像装置。
【請求項４】
請求項１から３までのいずれか１項に記載の光学結像装置において、
前記熱分離装置が、
少なくとも１つの受動的な断熱装置を備え、該少なくとも１つの受動的な断熱装置が有機材料を備え、かつ／または
少なくとも１つの遮蔽素子と、該遮蔽素子に接続された少なくとも１つの温度調節装置とを有する少なくとも１つの能動的な遮蔽部を備え、前記温度調節装置が、前記遮蔽素子の少なくとも１つの表面の選択可能な温度部分布が実質的に保持されるように構成されている光学結像装置。
【請求項５】
請求項４に記載の光学結像装置において、
前記熱分離装置が、少なくとも１つの能動的な遮蔽部を備え、
前記温度調節装置が、前記少なくとも１つの遮蔽素子の領域に伝熱媒体の流れを生じさせるように構成されている光学結像装置。
【請求項６】
請求項１から５までのいずれか１項に記載の光学結像装置において、
前記熱分離装置が、少なくとも１つの疎水性の表面を、前記液浸素子に背向側に備えている光学結像装置。
【請求項７】
請求項１から６までのいずれか１項に記載の光学結像装置において、
前記液浸素子に対して目標温度分布ＴＳＥが与えられており、
前記熱減衰装置が、前記目標温度分布ＴＳＥからの所定の最大偏差ΔＴＥを保持するように構成されている光学結像装置。
【請求項８】
請求項７に記載の光学結像装置において、
前記最大偏差ΔＴＥが、１０ｍＫ未満、好ましくは１ｍＫ未満である光学結像装置。
【請求項９】
請求項１から８までのいずれか１項に記載の光学結像装置において、
前記液浸素子が実測温度分布ＴＥを有し、前記液浸素子に対して目標温度分布ＴＳＥが与えられており、
前記熱減衰装置が、少なくとも１つの確立装置と、前記確立装置に少なくとも一時的に接続された制御装置と、該制御装置に少なくとも一時的に接続された作用装置とを備え、
前記確立装置が、前記実測温度分布ＴＥに作用するか、または該実測温度分布ＴＥを示す少なくとも１つのパラメータＰを確立し、
前記制御装置が、前記確立されたパラメータＰおよび前記目標温度分布ＴＳＥに関連して少なくとも１つの制御値Ｃを確立し、
前記作用装置が、前記少なくとも１つの確立された制御値Ｃに関連して、前記実測温度分布ＴＥに影響する制御パラメータＣＰを、前記目標温度分布ＴＳＥからの前記実測温度分布ＴＥの偏差に反作用するよう作用させる、光学結像装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の光学結像装置において、
前記パラメータＰが、前記液浸媒体の少なくとも１つの局所温度または前記液浸素子の少なくとも１つの局所温度である光学結像装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載の光学結像装置において、
前記確立装置が、
少なくとも１つの局所温度を測定するための少なくとも１つの温度センサを備え、かつ／または
少なくとも１つの局所温度を評価するための少なくとも１つの評価装置を備える光学結像装置。
【請求項１２】
請求項９から１１までのいずれか１項に記載の光学結像装置において、
前記制御パラメータＣＰが、
前記液浸媒体の温度、
前記液浸媒体の流量、
前記液浸媒体に接触するガス雰囲気の温度、
前記液浸媒体に接触するガス雰囲気の湿度、
前記液浸媒体に接触するガス雰囲気の流量、または
前記液浸素子に作動接続している少なくとも１つの温度調節素子の温度
である光学結像装置。
【請求項１３】
請求項９から１２までのいずれか１項に記載の光学結像装置において、
前記制御装置が、前記液浸素子および／または前記液浸ゾーン内の前記液浸媒体の温度挙動モデルを用いて前記制御値Ｃを確立するように構成されている光学結像装置。
【請求項１４】
請求項１３に記載の光学結像装置において、
前記制御装置が、前記温度挙動モデルを示すモデルデータまたは前記温度挙動モデルを示すモデルデータを計算するためのパラメータを記憶するメモリを備え、
前記制御装置が、前記モデルデータを用いて前記制御値Ｃを確立する光学結像装置。
【請求項１５】
請求項９から１４までのいずれか１項に記載の光学結像装置において、
前記熱減衰装置が、前記作用装置として、前記液浸ゾーンに供給された前記液浸媒体の温度を調節するための少なくとも１つの第１温度調節装置を備える光学結像装置。
【請求項１６】
請求項１５に記載の光学結像装置において、
前記制御装置が、前記液浸媒体内で予想される前記温度分布ＴＩの変化ΔＴＩＥに関連して、前記第１温度調節装置に対する制御値Ｃを確立し、これにより、前記第１温度調節装置が、前記液浸ゾーンに供給された前記液浸媒体の前記温度を供給温度ＴＩＦとなるように調節し、
前記液浸媒体内で予想される前記温度分布ＴＩの前記変化ΔＴＩＥにより、所定の温度分布ＴＳＩが前記液浸媒体内で予想されるように、前記供給温度ＴＩＦが選択される光学結像装置。
【請求項１７】
請求項１５または１６に記載の光学結像装置において、
前記第１温度調節装置が、前記液浸ゾーンへの前記液浸媒体の入口領域に配置されている光学結像装置。
【請求項１８】
請求項９から１７までのいずれか１項に記載の光学結像装置において、
前記熱減衰装置が、前記作用装置として、隣接ガス雰囲気との接触領域で蒸発により誘発される前記液浸媒体の冷却に作用する調節装置を備え、
前記調節装置が、前記液浸媒体に接触する前記ガス雰囲気の少なくとも１つの状態パラメータを調節し、
前記少なくとも１つの状態パラメータが、前記ガス雰囲気の温度ＴＡ、前記ガス雰囲気の湿度ＨＡまたは前記ガス雰囲気の流量ＶＡである光学結像装置。
【請求項１９】
請求項１８に記載の光学結像装置において、
前記制御装置が、前記接触領域で蒸発により誘発される前記液浸媒体の所定の冷却が予想されるように、前記接触領域内の前記液浸媒体の状態に関連して前記調節装置に対する制御値Ｃを確立する光学結像装置。
【請求項２０】
請求項１８または１９に記載の光学結像装置において、
前記接触領域が、実質的に前記液浸媒体の自由平面全体にわたって延在している光学結像装置。
【請求項２１】
請求項９から２０までのいずれか１項に記載の光学結像装置において、
前記熱減衰装置が、前記作用装置として、前記液浸素子の温度を調節するために、前記液浸素子と作動接続している少なくとも１つの第２温度調節装置を備えている光学結像装置。
【請求項２２】
請求項２１に記載の光学結像装置において、
前記制御装置が、前記確立装置によって確立される前記液浸ゾーンの前記液浸媒体内の温度分布ＴＩに関連して前記第２温度調節装置に対する前記制御値Ｃを確立し、これにより、前記第２温度調節装置が、前記液浸媒体内で確立された前記温度分布ＴＩに基づく、前記目標温度分布ＴＳＥからの前記実測温度分布ＴＥの偏差に反作用するように、前記液浸素子の温度を調節する光学結像装置。
【請求項２３】
請求項２１または２２に記載の光学結像装置において、
前記第２温度調節装置が、前記液浸素子の周縁部領域に配置されている光学結像装置。
【請求項２４】
請求項２１から２３までのいずれか１項に記載の光学結像装置において、
前記第２温度調節装置が、
少なくとも１つのペルティエ素子を備え、かつ／または
前記液浸素子に配置された少なくとも１つの抵抗加熱装置を備え、該抵抗加熱装置が、前記液浸素子内に埋設されているか、または前記液浸媒体に対して保護層によって被覆され、かつ／または
前記液浸素子に加熱照射線を供給するための少なくとも１つの照射加熱装置を備えている光学結像装置。
【請求項２５】
請求項９から２４までのいずれか１項に記載の光学結像装置において、
前記液浸素子の少なくとも１つの結像エラーが低減され、かつ／または
前記光学素子群の少なくとも１つの結像エラーが低減されるように、前記目標温度分布ＴＳＥが選択される光学結像装置。
【請求項２６】
請求項１から２５までのいずれか１項に記載の光学結像装置において、
前記液浸素子が、石英ガラスの屈折率よりも大きい屈折率を有し、かつ／または石英ガラスの屈折率よりも温度依存性が大きい屈折率を有する材料からなっている光学結像装置。
【請求項２７】
請求項１から２６までのいずれか１項に記載の光学結像装置において、
前記液浸素子が、スピネルまたはＬｕＡＧから作製されている光学結像装置。
【請求項２８】
請求項１から２７までのいずれか１項に記載の光学結像装置において、
前記液浸素子が、作動中に少なくとも一時的に前記基板に隣接して配置される、前記光学素子群の最終光学素子である光学結像装置。
【請求項２９】
請求項１から２８までのいずれか１項に記載の光学結像装置において、
開口数が少なくとも１．３である光学結像装置。
【請求項３０】
光学素子群の光学素子によって基板に投影パターンを投影し、
前記光学素子群の液浸素子を、液浸ゾーンの領域で少なくとも部分的に液浸媒体内に液浸し、前記液浸媒体を前記基板に隣接して配置する光学結像法において、
前記液浸媒体により前記液浸素子の温度分布ＴＥに誘発された変動を熱減衰装置によって減衰し、
該熱減衰装置によって、前記液浸素子を、該液浸素子の環境の少なくとも一部から少なくとも部分的に熱分離し、
前記液浸素子が、前記基板に前記投影パターンを投影する間に光学的に使用される第１領域と光学的に使用されない第２領域とを備え、
前記第２領域の第１区画の少なくとも一部を前記液浸媒体に対して遮蔽し、前記第１区画を、前記液浸媒体に隣接して配置された前記第２領域の区画全体とし、かつ／または
前記第２領域の第２区画の少なくとも一部を前記投影装置の隣接区画に対して遮蔽し、前記第２区画を、前記投影装置の前記隣接区画に隣接して配置された前記第２領域の区画全体とすることを特徴とする光学結像法。
【請求項３１】
請求項３０に記載の光学結像法において、
保持装置によって前記液浸素子を保持し、前記保持装置の少なくとも一部を、該保持装置の環境に対して遮蔽する光学結像法。
【請求項３２】
請求項３１に記載の光学結像法において、
前記投影装置の隣接区画に隣接して配置された前記保持装置の領域の少なくとも一部を、前記投影装置の前記隣接区画に対して遮蔽する光学結像法。
【請求項３３】
請求項３０から３２までのいずれか１項に記載の光学結像法において、
少なくとも１つの受動的な断熱装置によって前記熱分離を行い、前記少なくとも１つの受動的な断熱装置が有機材料を備え、かつ／または
少なくとも１つの遮蔽素子と該遮蔽素子に接続された少なくとも１つの温度調節装置とを有する少なくとも１つの能動的な遮蔽部によって前記熱分離を行い、前記遮蔽素子の少なくとも１つの表面で選択可能な温度分布が維持されるように前記温度調節装置を配置する光学結像法。
【請求項３４】
請求項３３に記載の光学結像法において、
少なくとも１つの能動的な遮蔽部により前記熱分離を行い、
前記温度調節装置によって、前記少なくとも１つの遮蔽素子の領域で伝熱媒体の流れを生じさせる光学結像法。
【請求項３５】
請求項３０から３４までのいずれか１項に記載の光学結像法において、
前記液浸素子に対して目標温度分布ＴＳＥを与え、
前記熱減衰装置により、前記目標温度分布ＴＳＥからの所定の最大偏差ΔＴＥを保持する光学結像法。
【請求項３６】
請求項３５に記載の光学結像法において、
前記最大偏差ΔＴＥを、１０ｍＫ未満、好ましくは１ｍＫ未満にする光学結像法。
【請求項３７】
請求項３０から３６までのいずれか１項に記載の光学結像法において、
前記最終液浸素子が実測温度分布ＴＥを有し、前記液浸素子に対して目標温度分布ＴＳＥを与え、
前記熱減衰装置によって、
前記実測温度分布ＴＥに作用するか、または前記実測温度分布ＴＥを示す少なくとも１つのパラメータＰを確立し、
前記確立されたパラメータＰおよび前記目標温度分布ＴＳＥに関連して、少なくとも１つの制御値Ｃを確立し、
前記少なくとも１つの確立された制御値Ｃに関連して、前記実測温度分布ＴＥに作用する制御パラメータＣＰを、前記目標温度分布ＴＳＥからの前記実測温度分布ＴＥの偏差に反作用するように作用させる光学結像法。
【請求項３８】
請求項３７に記載の光学結像法において、
前記パラメータＰを、前記液浸媒体の少なくとも１つの局所温度または前記浸漬素子の少なくとも１つの局所温度とする光学結像法。
【請求項３９】
請求項３８に記載の光学結像法において、
前記少なくとも１つの局所温度を測定し、かつ／または
前記少なくとも１つの局所温度を評価する光学結像法。
【請求項４０】
請求項３７から３９までのいずれか１項に記載の光学結像法において、
前記制御パラメータＣＰを、
前記液浸媒体の温度、
前記液浸媒体の流量、
前記液浸媒体に接触するガス雰囲気の温度、
前記液浸媒体に接触するガス雰囲気の湿度、
前記液浸媒体に接触するガス雰囲気の流量、または
前記液浸素子と作動接続している少なくとも１つの温度調節素子の温度とする光学結像法。
【請求項４１】
請求項３７から４０までのいずれか１項に記載の光学結像法において、
前記液浸ゾーン内における前記液浸素子および／または前記液浸媒体の温度挙動モデルを用いて前記制御値Ｃを確立する光学結像法。
【請求項４２】
請求項４１に記載の光学結像法において、
前記制御値Ｃを確立するためにモデルデータを使用し、
前記モデルデータを、前記温度挙動モデルまたは前記温度挙動モデルを計算するためのパラメータとする光学結像法。
【請求項４３】
請求項３７から４２までのいずれか１項に記載の光学結像法において、
前記液浸ゾーンに供給される前記液浸媒体の温度を調節する光学結像法。
【請求項４４】
請求項４３に記載の光学結像法において、
前記液浸媒体内で予想される前記温度分布ＴＩの変化ΔＴＩＥに関連して前記制御値Ｃを確立し、これにより、前記液浸ゾーンに供給される前記液浸媒体の前記温度を、供給温度ＴＩＦとなるように調節し、
前記液浸媒体内で予想される前記温度分布ＴＩの前記変化ΔＴＩＥに基づき、所定の温度分布ＴＳＩが前記液浸媒体内で予想されるように、前記供給温度ＴＩＦを選択する光学結像法。
【請求項４５】
請求項４３または４４に記載の光学結像法において、
前記液浸ゾーンへの前記液浸媒体の入口領域で前記液浸媒体の前記温度を調節する光学結像法。
【請求項４６】
請求項３７から４５までのいずれか１項に記載の光学結像法において、
前記熱減衰装置を、隣接ガス雰囲気との接触領域で蒸発により誘発される前記液浸媒体の冷却に作用させ、
前記液浸媒体に接触する前記ガス雰囲気の少なくとも１つの状態パラメータを調節し、
前記少なくとも１つの状態パラメータを、前記ガス雰囲気の温度ＴＡ、前記ガス雰囲気の湿度ＨＡまたは前記ガス雰囲気の流量ＶＡとする光学結像法。
【請求項４７】
請求項４６に記載の光学結像法において、
前記接触領域内の前記液浸媒体の状態に関連して前記制御値Ｃを確立し、これにより、前記液浸媒体の蒸発により誘発される所定の冷却が前記接触領域で予想されるようにする光学結像法。
【請求項４８】
請求項４６または４７に記載の光学結像法において、
前記液浸媒体の自由面全体にわたって前記接触領域を延在させる光学結像法。
【請求項４９】
請求項３７から４８までのいずれか１項に記載の光学結像法において、
前記温度減衰装置によって、前記液浸素子の温度を直接に調節する光学結像法。
【請求項５０】
請求項４９に記載の光学結像法において、
前記液浸ゾーンの前記液浸媒体内の温度分布ＴＩに関連して前記制御値Ｃを確立し、これにより、前記液浸媒体内で確立された前記温度分布ＴＩに基づく前記目標温度分布ＴＳＥからの前記実測温度分布ＴＥの偏差に反作用するように前記液浸素子の温度を調節する光学結像法。
【請求項５１】
請求項４９または５０に記載の光学結像法において、
前記液浸素子の温度を液浸素子の周縁部領域で調節する光学結像法。
【請求項５２】
請求項４９から５１までのいずれか１項に記載の光学結像法において、
少なくとも１つのペルティエ素子によって前記液浸素子の温度を調節し、かつ／または
前記液浸素子に配置された少なくとも１つの抵抗加熱装置によって前記液浸素子の温度を調節し、該抵抗加熱装置が、前記液浸素子内に埋設されているか、または前記液浸媒体に対して保護層によって被覆され、かつ／または
前記液浸素子に加熱照射線を供給するための少なくとも１つの照射加熱装置によって前記液浸素子の温度を調節する光学結像法。
【請求項５３】
請求項３７から５２までのいずれか１項に記載の光学結像法において、
前記液浸素子の少なくとも１つの光学結像エラーが低減されるように前記目標温度分布ＴＳＥを選択する光学結像法。
【請求項５４】
請求項３７から５３までのいずれか１項に記載の光学結像法において、
前記光学素子群の少なくとも１つの結像エラーが低減されるように前記目標温度分布ＴＳＥを選択する光学結像法。
【請求項５５】
請求項３０から５４までのいずれか１項に記載の光学結像法において、
石英ガラスの屈折率よりも大きい屈折率を有する材料により前記液浸素子を作製する光学結像法。
【請求項５６】
請求項３０から５５までのいずれか１項に記載の光学結像法において、
石英ガラスの屈折率よりも温度依存性が大きい屈折率を有する材料により前記液浸素子を作製する光学結像法。
【請求項５７】
請求項３０から５６までのいずれか１項に記載の光学結像法において、
スピネルまたはＬｕＡＧから前記液浸素子を作製する光学結像法。
【請求項５８】
請求項３０から５７までのいずれか１項に記載の光学結像法において、
開口数を少なくとも１．３にする光学結像法。
【請求項５９】
投影パターンを有するマスクを収容するためのマスク装置と、
光学素子群を有する投影装置と、基板を収容するための基板装置とを備え、
前記光学素子群が、投影パターンを前記基板に投影するように構成されており、
前記光学素子群が、少なくとも１つの熱制御された光学素子を備える複数の光学素子を備える光学結像装置において、
熱減衰装置に、前記熱制御された光学素子が対応配置されており、熱減衰装置は、前記熱制御された光学素子の温度分布ＴＥの変動を減衰するように構成されており、
前記熱減衰装置が、該熱制御された光学素子のための温度挙動モデルを用いて前記熱制御された光学素子の温度変動を減じることを特徴とする光学結像装置。
【請求項６０】
光学素子群の光学素子によって投影パターンを基板に投影し、
前記光学素子が熱制御された光学素子を有している光学結像法において、
前記熱制御された光学素子の温度分布ＴＥの変動を熱減衰装置によって減衰し、
前記熱制御された光学素子のための温度挙動モデルを用いて、前記熱制御された光学素子の温度変動を減衰することを特徴とする光学結像法。
【請求項６１】
投影パターンを備えるマスクを収容するためのマスク装置と、
光学素子群を備える投影装置と、
基板を収容するための基板装置と、
液浸ゾーンとを有する光学結像装置であって、
前記光学素子群が、投影パターンを前記基板に投影するように構成されており、
前記光学素子群が、作動中に少なくとも一時的に基板に隣接して配置された最終光学素子を備える複数の光学素子を有し、
前記液浸ゾーンが、動作中に、前記最終光学素子と前記基板との間に配置され、少なくとも一時的に液浸媒体を充填され、
前記液浸媒体により前記最終光学素子の温度分布ＴＥに誘発された変動を減じるように構成された熱減衰装置が設けられていることを特徴とする光学結像装置。