(57)【要約】  製品基板を処理するためのプロセスツールであって、プロセスツールは、Ｘ−Ｙ面内でロングストローク運動を実施するように構成された可動ステージ（６０）、検査するべきコンポーネント（１２）、ツールの固定部分に取り付けられ、Ｘ−Ｙ面に対して実質的に平行な光軸を有する、結像デバイス（１０３）、及び、可動ステージを所定の位置に移動することによって、コンポーネントの一部を結像デバイスによって結像することができるように、可動ステージ上に取り付けられ、Ｘ−Ｙ面に対して所定の傾斜角で配向される、ミラー（１０１ａ〜１０１ｃ）、を備える。【選択図】  図５
2022501634.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
製品基板を処理するためのプロセスツールであって、
Ｘ−Ｙ面内でロングストローク運動を実施するように構成された可動ステージ、
検査するべきコンポーネント、
前記ツールの固定部分に取り付けられ、前記Ｘ−Ｙ面に対して実質的に平行な光軸を有する、結像デバイス、及び、
前記可動ステージを所定の位置に移動することによって、前記コンポーネントの一部を前記結像デバイスによって結像することができるように、前記可動ステージ上に取り付けられ、前記Ｘ−Ｙ面に対して所定の傾斜角で配向される、ミラー、
を備える、製品基板を処理するためのプロセスツール。
【請求項２】
前記可動ステージは製品基板を支持するように構成され、前記ミラーは前記可動ステージ上に保持される検査基板の上面に設けられる、請求項１に記載のプロセスツール。
【請求項３】
前記ミラーは前記可動ステージの上面に設けられる、請求項１に記載のプロセスツール。
【請求項４】
前記ミラーは前記可動ステージの側面に設けられる、請求項１に記載のプロセスツール。
【請求項５】
前記ミラーはＸ−Ｙ面内で細長い、請求項１、２、３、又は４に記載のプロセスツール。
【請求項６】
前記所定の傾斜角は実質的に４５°である、請求項１、２、３、又は４に記載のプロセスツール。
【請求項７】
前記結像デバイスは、制御可能焦点及び／又は制御可能ズームを有し、前記可動ステージの運動と同期して前記結像デバイスの前記焦点及び／又はズームを制御するように構成された制御回路を更に備える、請求項１、２、３、又は４に記載のプロセスツール。
【請求項８】
前記結像デバイスを前記Ｘ方向及び前記Ｙ方向のうちの少なくとも１つに平行に移転するように、及び／又は、前記結像デバイスを少なくとも１本の軸の周辺で回転させるように構成された、作動ステージによって、前記結像デバイスは前記固定部分に取り付けられる、請求項１、２、３、又は４に記載のプロセスツール。
【請求項９】
前記可動ステージが前記所定の位置にあるとき、前記ミラーを介して前記コンポーネントを照明するように構成された照明デバイスを更に備える、請求項１、２、３、又は４に記載のプロセスツール。
【請求項１０】
前記可動ステージは基板を支持するように構成され、前記可動ステージによって支持される基板上にイメージを投影するための投影システムを更に備える、請求項１、２、３、又は４に記載のプロセスツール。
【請求項１１】
前記コンポーネントは、流体ハンドリングシステムであり、特に、前記投影システムと前記基板との間の空間に液体を閉じ込めるように構成された、液体閉じ込め構造である、請求項１０に記載のプロセスツール。
【請求項１２】
製品基板を処理するためのプロセスツールのコンポーネントを検査する方法であって、
ミラーが取り付けられた可動ステージを、前記プロセスツールの前記コンポーネントに対して所定の位置に位置決めすること、及び、
前記ミラーを介して前記コンポーネントを結像するために、前記プロセスツールの固定部分に取り付けられた結像デバイスを使用すること、
を含む、検査する方法。
【請求項１３】
装置はリソグラフィ装置である、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記コンポーネントは流体ハンドリングシステム、特に液体閉じ込め構造である、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
基板処理装置に適合する寸法を有する本体と、前記本体の主表面上に取り付けられたミラーとを備える、検査基板であって、前記ミラーは前記主表面に対して所定の傾斜角で配向される、検査基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願の相互参照
[0001]  本願は、２０１８年９月２４日出願の欧州出願第１８１９６１９１．３号の優先権を主張し、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。
【０００２】
[0002]  本発明は、リソグラフィ装置、メトロロジ装置、又はプロセス装置などのプロセスツール、及び、例えばプロセスツール内で使用するための検査方法に関する。
【背景技術】
【０００３】
[0003]  リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板に、通常は基板のターゲット部分に適用する機械である。リソグラフィ装置は、例えば、集積回路（ＩＣ）の製造に使用可能である。このような場合、代替的にマスク又はレチクルとも呼ばれるパターニングデバイスを使用して、ＩＣの個々の層上に形成すべき回路パターンを生成することができる。このパターンを、基板（例えばシリコンウェーハ）上のターゲット部分（例えば１つ又はいくつかのダイの一部を含む）に転写することができる。パターンの転写は通常、基板に設けた放射感応性材料（レジスト）の層への結像により行われる。一般的に、１枚の基板は、順次パターンが付与される隣接したターゲット部分のネットワークを含んでいる。
【０００４】
[0004]  より小さなフィーチャの分解能を向上させることができるように、液浸技法がリソグラフィシステムに導入された。液浸リソグラフィ装置において、相対的に高い屈折率を有する液体の液体層が、（パターン付与されたビームが基板に向けて投影される際に介する）装置の投影システムと基板との間の空間内に挿入される。液体は、投影システムの最終レンズ素子の下のウェーハの少なくとも一部を覆う。したがって、露光を受ける基板の少なくとも一部が液体内に液浸される。露光放射は気体よりも液体の中の方が短い波長を有することになるため、液浸液の効果は、より小さなフィーチャの結像を可能にすることである。（液体の効果は、システムの有効開口数（ＮＡ）の増加、更にまた焦点深度の増加とみなすこともできる。）
【０００５】
[0005]  商用の液浸リソグラフィでは、液体は水である。典型的に水は、半導体製造工場で一般に使用される超純水（ＵＰＷ）などの高純度の蒸留水である。液浸システムにおいて、ＵＰＷはしばしば浄化され、液浸液として液浸空間に供給される前に追加の処理ステップを施すことができる。水に加えて、高屈折率を伴う他の液体、フッ化炭化水素などの炭化水素、及び／又は水溶液を、液浸液として使用することができる。更に、液体に加えて他の流体も、液浸リソグラフィ内で使用するものと考えられている。
【０００６】
[0006]  本明細書の説明では、使用中、液浸液が最終レンズ素子と最終素子に対向する表面との間の空間に閉じ込められる、局所液浸に言及している。対向表面は、基板の表面、又は、基板表面と同一平面上にある支持ステージ（又は基板テーブル）の表面である。（下記において基板Ｗの表面とは、別段に明示されていない限り、追加又は代替として基板テーブルの表面を示すこと、及びその逆を示すことに留意されたい。）投影システムとステージとの間に存在する流体ハンドリング構造は、液浸を液浸空間に閉じ込めるために使用される。液体によって満たされる空間平面は、基板の上面よりも小さく、基板及び基板ステージが下で移動する間、空間は投影システムに対して実質的に定常状態に維持される。
【０００７】
[0007]  流体ハンドリング構造は、液体を液浸空間に供給し、空間から液体を除去し、それによって液浸空間に液体を閉じ込める構造である。この構造は、流体供給システムの一部であるフィーチャを含む。ＰＣＴ特許出願公開第ＷＯ９９／４９５０４号に開示される配置は、液体を空間に供給するか又は空間から回収し、また投影システムの下のステージの相対的運動に依存して動作する、パイプを備える、初期の流体ハンドリング構造である。より新しい設計では、流体ハンドリング構造は、空間を部分的に画定するように、投影システムの最終素子と基板テーブル６０又は基板Ｗとの間の空間の境界の少なくとも一部に沿って延在する。
【０００８】
[0008]  リソグラフィ装置は複合装置であり、その重要部分のほとんどは、クリーンルームについての規格よりも高い汚染仕様の、極めて制御された環境の下で動作すべきである。装置を保守又は検査用とするべきである場合、装置をサービスに戻す前に、汚染除去及び起動などの時間のかかるプロセスを行うことが必要な可能性がある。装置のいかなるダウンタイムも、装置の生産性を低下させ所有コストを増加させるため、可能な限り最小限にすることが望ましい。
【０００９】
[0009]  あたかも製品基板であるかのようにリソグラフィ装置によるハンドリングが可能なカメラなどの検査センサを、ダミー基板内に置くこと（例えば、米国出願第２００７２１９７３６号、国際出願第１８００７１１９号、及び国際出願第１８００７１１８号を参照のこと）が提案されている。検査センサを、テーブル、例えば基板テーブル、測定テーブル、又は較正テーブル内に置くこと（国際出願第２００６／０１３８０６号及び米国出願第２００９１０３０６４号を参照のこと）も提案されている。これらの手法にはどちらも欠点がある。
【００１０】
[0010]  検査基板は厚みの制限があり、広い視野及び／又は結像距離を有するカメラを提供することを困難にしている。基板テーブルなどの可動テーブルにカメラを追加することで、装置の重要部分の質量及び複雑さが増加する。更に、像をカメラから外界に提供するためには、恐らく基板テーブルへの追加の配線が必要となり、望ましくない。
【発明の概要】
【００１１】
[0011]  例えば、装置の重要部分を最小限のダウンタイムで検査可能にするように改善された手段を提供することが望ましい。
【００１２】
[0012]  一態様によれば、製品基板を処理するためのプロセスツールが提供され、プロセスツールは、
Ｘ−Ｙ面内でロングストローク運動を実施するように構成された可動ステージ、
検査するべきコンポーネント、
ツールの固定部分に取り付けられ、Ｘ−Ｙ面に対して実質的に平行な光軸を有する、結像デバイス、及び、
可動ステージを所定の位置に移動することによって、コンポーネントの一部を結像デバイスによって結像することができるように、可動ステージ上に取り付けられ、Ｘ−Ｙ面に対して所定の傾斜角で配向される、ミラー、
を備える。
【００１３】
[0013]  一態様によれば、製品基板を処理するためのプロセスツールのコンポーネントを検査する方法が提供され、方法は、
ミラーが取り付けられた可動ステージを、汚染しやすいプロセスツールのコンポーネントに対して所定の位置に位置決めすること、及び、
ミラーを介してコンポーネントを結像するために、プロセスツールの固定部分に取り付けられた結像デバイスを使用すること、
を含む。
【００１４】
[0014]  一態様によれば、基板処理装置に適合する寸法を有する本体と、本体の主表面上に取り付けられたミラーとを備える、検査基板が提供され、ミラーは主表面に対して所定の傾斜角で配向される。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
[0015]  対応する参照符号が対応する部分を示す添付の概略図を参照しながら以下に本発明の実施形態について説明するが、これは単に例示としてのものに過ぎない。
【００１６】
【図１】[0016]リソグラフィ装置を概略的に示す図である。
【図２】[0017]リソグラフィ投影装置内で使用するための液浸液閉じ込め構造を概略的に示す図である。
【図３】[0018]一実施形態に従った更なる液浸液供給システムを概略的に示す、側断面図である。
【図４】[0019]リソグラフィ投影装置内で使用するための液浸液閉じ込め構造の一部の、下側を示す図である。
【図５】[0020]本発明の一実施形態に従った、リソグラフィ装置内の検査システムを示す図である。
【図６】[0021]本発明の一実施形態における検査システムの動作原理を示す図である。
【図７】[0022]検査するべきコンポーネントをスキャンするプロセスを示す、概略平面図である。
【図８】[0023]本発明の別の実施形態の検査システムを示す、概略平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
[0024]  図１は、本発明の一実施形態が使用可能なリソグラフィ装置を概略的に示す。装置は、放射ビームＢ（例えば、ＵＶ放射又は任意の他の適切な放射）を調節するように構成された照明システム（イルミネータ）ＩＬと、パターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡを支持するように構築され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第１の位置決めデバイスＰＭに接続された、マスク支持構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴと、を含む。装置は、基板（例えば、レジストコートウェーハ）Ｗを保持するように構築され、特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第２の位置決めデバイスＰＷに接続された、基板テーブル（例えば、ウェーハテーブル）６０又は「基板サポート」も含む。装置は更に、パターニングデバイスＭＡによって放射ビームＢに付与されたパターンを、基板Ｗのターゲット部分Ｃ（例えば、１つ以上のダイを含む）に投影するように構成された、投影システム（例えば、屈折投影レンズシステム）ＰＳを含む。
【００１８】
[0025]  照明システムは、放射を誘導し、整形し、又は制御するための、屈折型、反射型、磁気型、電磁型、静電型、又はその他のタイプの光学コンポーネント、あるいはそれらの任意の組み合わせなどの様々なタイプの光学コンポーネントを含むことができる。
【００１９】
[0026]  マスク支持構造は、パターニングデバイスを支持、すなわち、その重量を支えている。マスク支持構造は、パターニングデバイスの方向、リソグラフィ装置の設計等の条件、例えばパターニングデバイスが真空環境で保持されているか否かに応じた方法で、パターニングデバイスを保持する。マスク支持構造は、パターニングデバイスを保持するために、機械式、真空式、静電式等のクランプ技術を使用することができる。マスク支持構造は、例えばフレーム又はテーブルでよく、必要に応じて固定式又は可動式でよい。マスク支持構造は、パターニングデバイスが例えば投影システムなどに対して確実に所望の位置に来るようにできる。本明細書において「レチクル」又は「マスク」という用語を使用した場合、その用語は、より一般的な用語である「パターニングデバイス」と同義と見なすことができる。
【００２０】
[0027]  本明細書において使用する「パターニングデバイス」という用語は、基板のターゲット部分にパターンを生成するように、放射ビームの断面にパターンを付与するために使用し得る任意のデバイスを指すものとして広義に解釈されるべきである。ここで、放射ビームに付与されるパターンは、例えばパターンが位相シフトフィーチャ又はいわゆるアシストフィーチャを含む場合、基板のターゲット部分における所望のパターンに正確には対応しないことがある点に留意されたい。一般的に、放射ビームに付与されるパターンは、集積回路などのターゲット部分に生成されるデバイスの特定の機能層に相当する。
【００２１】
[0028]  パターニングデバイスは透過性又は反射性でよい。パターニングデバイスの例には、マスク、プログラマブルミラーアレイ、及びプログラマブルＬＣＤパネルがある。マスクはリソグラフィにおいて周知のものであり、これには、バイナリマスク、レベンソン型（alternating）位相シフトマスク、ハーフトーン型（attenuated）位相シフトマスクのようなマスクタイプ、更には様々なハイブリッドマスクタイプも含まれる。プログラマブルミラーアレイの一例として、小型ミラーのマトリクス配列を使用し、ミラーは各々、入射する放射ビームを異なる方向に反射するように個々に傾斜することができる。傾斜したミラーは、ミラーマトリクスによって反射する放射ビームにパターンを付与する。
【００２２】
[0029]  本明細書において使用する「投影システム」という用語は、例えば使用する露光放射、又は液浸液の使用や真空の使用などの他の要因に合わせて適宜、例えば屈折光学システム、反射光学システム、反射屈折光学システム、磁気光学システム、電磁気光学システム及び静電光学システム、又はその任意の組み合わせを含む任意のタイプの投影システムを網羅するものとして広義に解釈されるべきである。本明細書において「投影レンズ」という用語を使用した場合、これは更に一般的な「投影システム」という用語と同義と見なすことができる。
【００２３】
[0030]  本明細書で示すように、本装置は透過タイプである（例えば透過マスクを使用する）。あるいは、装置は反射タイプでもよい（例えば上記で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイを使用する、又は反射マスクを使用する）。
【００２４】
[0031]  リソグラフィ装置は２つ（デュアルステージ）又はそれ以上の基板テーブル又は「基板サポート」（及び／又は２つ以上のマスクテーブル又は「マスクサポート」）を有するタイプでよい。このような「マルチステージ」機械においては、追加のテーブル又はサポートを並行して使用するか、又は１つ以上の他のテーブル又はサポートを露光に使用している間に１つ以上のテーブル又はサポートで予備工程を実行することができる。
【００２５】
[0032]  リソグラフィ装置は、投影システムと基板との間の空間を充填するように、基板の少なくとも一部を水などの比較的高い屈折率を有する液体で覆えるタイプでもよい。液浸液は、例えばマスクと投影システムの間など、リソグラフィ装置の他の空間に適用することもできる。液浸技術は、投影システムの開口数を増加させるために当技術分野で使用することができる。本明細書で使用する「液浸」という用語は、基板などの構造を液体に沈めなければならないという意味ではなく、露光中に投影システムと基板の間に液体が存在するというほどの意味である。
【００２６】
[0033]  図１を参照すると、イルミネータＩＬは放射源ＳＯから放射ビームを受ける。放射源とリソグラフィ装置とは、例えば放射源がエキシマレーザである場合に、別々の構成要素であってもよい。このような場合、放射源はリソグラフィ装置の一部を形成すると見なされず、放射ビームは、例えば適切な誘導ミラー及び／又はビームエクスパンダなどを備えるビームデリバリシステムＢＤの助けにより、放射源ＳＯからイルミネータＩＬへと渡される。他の事例では、例えば放射源が水銀ランプの場合は、放射源がリソグラフィ装置の一体部分であってもよい。放射源ＳＯ及びイルミネータＩＬは、必要に応じてビームデリバリシステムＢＤとともに放射システムと呼ぶことができる。
【００２７】
[0034]  イルミネータＩＬは、放射ビームの角度強度分布を調整するように構成されたアジャスタＡＤを備えていてもよい。通常、イルミネータの瞳面における強度分布の外側及び／又は内側半径範囲（一般にそれぞれ、σ-outer及びσ-innerと呼ばれる）を調節することができる。また、イルミネータＩＬは、インテグレータＩＮ及びコンデンサＣＯなどの他の種々のコンポーネントを備えていてもよい。イルミネータを用いて放射ビームを調節し、その断面にわたって所望の均一性と強度分布とが得られるようにしてもよい。
【００２８】
[0035]  放射ビームＢは、マスク支持構造（例えば、マスクテーブルＭＴ）上に保持されるパターニングデバイス（例えば、マスクＭＡ）上に入射し、パターニングデバイスによってパターン付与される。マスクＭＡを横断した放射ビームＢは投影システムＰＳを通過し、投影システムＰＳは基板Ｗのターゲット部分Ｃ上にビームを合焦させる。第２の位置決めデバイスＰＷ及び位置センサＩＦ（例えば、干渉デバイス、リニアエンコーダ、又は静電容量センサ）の助けにより、基板テーブル６０は、例えば、放射ビームＢの経路内で様々なターゲット部分Ｃを位置決めするように、正確に移動することができる。同様に、第１の位置決めデバイスＰＭ及び別の位置センサ（図１には明示的に示されていない）を使用して、例えばマスクライブラリからの機械的な取り出し後又はスキャン中に、放射ビームＢの経路に対してマスクＭＡを正確に位置決めすることができる。一般に、マスクテーブルＭＴの移動は、第１の位置決めデバイスＰＭの部分を形成する、ロングストロークモジュール（粗動位置決め）及びショートストロークモジュール（微動位置決め）の助けにより実現されてよい。同様に、基板テーブル６０又は「基板サポート」の移動は、第２のポジショナＰＷの一部を形成する、ロングストロークモジュール及びショートストロークモジュールを使用して実現されてよい。一実施形態において、基板テーブルは、Ｘ−Ｙ面内のみで（例えば、Ｘ、Ｙ、及びＲｚ方向に）ロングストローク運動を実施してよく、また、他の自由度でショートストローク運動のみを実施してもよい。ロングストロークモジュールは、基板の直径に匹敵するか又は基板の直径よりも大きい、移動範囲を有することができる。ステッパの場合（スキャナとは対照的に）、マスクテーブルＭＴは、ショートストロークアクチュエータのみに接続するか、又は固定してもよい。マスクＭＡ及び基板Ｗは、マスクアライメントマークＭ１、Ｍ２及び基板アライメントマークＰ１、Ｐ２を使用して位置合わせしてもよい。図に示されるように、基板アライメントマークは専用のターゲット部分を占有するが、ターゲット部分の間の空間内に位置してもよい（スクライブラインアライメントマークと呼ばれる）。同様に、２つ以上のダイがマスクＭＡ上に設けられる状況では、マスクアライメントマークはダイ間に位置してもよい。
【００２９】
[0036]  コントローラ５００はリソグラフィ装置の動作全体を制御し、特に、下記で更に説明する動作プロセスを実施する。コントローラ５００は、中央処理ユニット、揮発性及び不揮発性の記憶手段、キーボード及びスクリーンなどの１つ以上の入力及び出力デバイス、１つ以上のネットワーク接続、並びに、リソグラフィ装置の様々な部分への１つ以上のインターフェースを備える、適切にプログラミングされた汎用コンピュータとして具体化することができる。制御コンピュータとリソグラフィ装置との間に１対１の関係は必要ないことを理解されよう。１台のコンピュータが複数のリソグラフィ装置を制御することができる。複数のネットワーク化されたコンピュータを使用して、１つのリソグラフィ装置を制御することができる。コントローラ５００は、リソグラフィ装置が一部を形成するリソセル又はクラスタにおいて、１つ以上の関連付けられたプロセスデバイス及び基板ハンドリングデバイスを制御するように構成されてもよい。コントローラ５００は、リソセル又はクラスタの監視制御システム及び／又は製造工場の全体制御システムの下位となるように構成することもできる。
【００３０】
[0037]  投影システムＰＳの最終レンズ素子と基板との間に液体を提供するための構成は、３つの一般カテゴリに分類することができる。これらは、浴式構成、いわゆる局所液浸システム、及びオールウェット（all-wet）液浸システムである。本発明は特に、局所液浸システムに関する。
【００３１】
[0038]  局所液浸システム向けに提案されている構成において、液体閉じ込め構造１２は、投影システムＰＳの最終レンズ素子と、投影システムに対向するステージ又はテーブルの対向表面との間の、液浸空間の境界の少なくとも一部に沿って延在する。テーブルの対向表面は、テーブルが使用中に移動され、稀に定常であるため、このように呼ばれる。一般にテーブルの対向表面は、基板Ｗの表面、基板を取り囲む基板テーブル６０の表面、又はその両方である。こうした構成が図２に示されている。図２に示され下記で説明する構成は、上記で説明し図１に示されたリソグラフィ装置に適用してもよい。
【００３２】
[0039]  図２は、液体閉じ込め構造１２を概略的に示す。液体閉じ込め構造１２は、投影システムＰＳの最終レンズ素子１００と基板テーブル６０又は基板Ｗとの間の、液浸空間１０の境界の少なくとも一部に沿って延在する。一実施形態において、液体閉じ込め構造１２と、基板Ｗ／基板テーブル６０の表面との間に、シールが形成される。シールは、ガスシール（こうしたガスシールを伴うシステムは、欧州特許出願公開第ＥＰ−Ａ−１，４２０，２９８号に開示されている）又は液体シールなどの、非接触シールであってよい。
【００３３】
[0040]  液体閉じ込め構造１２は、液浸液を液浸区間１０に供給し、閉じ込めるように構成される。液体は、液体インレット１３によって液浸空間１０内に運ばれる。液体は、液体アウトレット１３によって除去されてもよい。
【００３４】
[0041]  液体は、使用中、液体閉じ込め構造１２の底部とテーブルの対向表面（すなわち、基板Ｗの表面及び／又は基板テーブル６０の表面）との間に形成される、ガスシール１６によって、液浸空間１０内に封じ込めることができる。ガスシール１６内のガスは、インレット１５を介して圧力下で、液体閉じ込め構造１２と基板Ｗ及び／又は基板テーブル６０との間のギャップに提供される。ガスは、アウトレット１４に関連付けられたチャネルを介して抽出される。ガスインレット１５にかかる過度の圧力、アウトレット１４の真空レベル、及びギャップのジオメトリは、液体を閉じ込める内側に向かう高速ガス流が存在するように配置される。液体閉じ込め構造１２と基板Ｗ及び／又は基板テーブル６０との間の液体にかかるガスの力が、液体を液浸空間１０内に封じ込める。こうしたシステムは、米国特許出願公開第ＵＳ２００４−０２０７８２４号に開示されている。他の液体閉じ込めシステム１２が本発明と共に使用可能である。
【００３５】
[0042]  図２及び図３は、閉じ込め構造１２のバリエーションに存在してよい異なるフィーチャを示す。設計は、異なるように記載されない限り、図２と同じフィーチャのうちのいくつかを共有してもよい。本明細書で説明するフィーチャは、図に示されるように、又は必要に応じて、個別に又は組み合わせて選択してもよい。
【００３６】
[0043]  図２は、最終レンズ素子の底部表面の周辺に閉じ込め構造１２を示す。最終レンズ素子１００は逆円錐台形を有する。円錐台形は、平坦な底部表面及び円錐表面を有する。円錐台形は平坦表面から突き出し、底部平坦表面を有する。底部平坦表面は、最終レンズ素子の底部表面の光学的能動部分であり、投影ビームはここを通過することができる。閉じ込め構造は、円錐台形の少なくとも一部を取り囲む。閉じ込め構造は、円錐台形の円錐表面と向き合う内部表面を有する。内部表面及び円錐表面は相補形状を有する。閉じ込め構造の頂部表面は実質的に平坦である。閉じ込め構造は、最終レンズ素子の円錐台形の周囲に適応することができる。液体閉じ込め構造の底部表面は、実質的に平坦であり、使用中、底部表面はテーブル及び／又はウェーハの対向表面と平行とすることができる。底部表面と対向表面との間の距離は、３０から５００マイクロメートルの範囲内、望ましくは８０から２００マイクロメートルの範囲内であってよい。
【００３７】
[0044]  閉じ込め構造は、最終レンズ素子よりもウェーハ及びウェーハテーブルの対向表面の近くに延在する。したがって、空間は、閉じ込め構造の内部表面、円錐台部分の平坦表面、及び対向表面の間に画定される。使用中、空間は液体で満たされる。液体は、レンズと閉じ込め構造との間の相補表面間のバッファ空間の少なくとも一部を満たし、一実施形態では、相補内部表面と円錐表面との間の空間の少なくとも一部を満たす。
【００３８】
[0045]  液体は、液体閉じ込め構造の表面内に形成される開口を介して空間に供給される。液体は、液体閉じ込め構造の内部表面内の供給開口２０を介して供給してもよい。代替又は追加として、液体は、閉じ込め構造１２の下面内に形成される下部供給開口２３から供給される。下部供給開口は投影ビームの経路を取り囲んでよく、一連の開口でアレイ状に形成してもよい。液体は、投影システムの下の空間を介する流れが層流であるように、空間１０を満たすために供給される。加えて、液体閉じ込め構造の下の開口２３からの液体の供給は、空間内への気泡の進入も防止する。この液体の供給は、液体シールとしての役割を果たす。
【００３９】
[0046]  液体は、内部表面に形成される回収開口２１から回収することができる。回収開口を介した液体の回収は、負圧の印加、空間を介する液体流の速度の結果としての開口２１を介する回収、又は、その両方の結果としての回収であってよい。回収開口２１は、平面図で見ると、供給開口２０の反対側に位置してよい。追加又は代替として、液体は液体閉じ込め構造１２の頂部表面上に位置するオーバフロー開口２４を介して回収してもよい。
【００４０】
[0047]  追加又は代替として、液体は、底部回収開口２５、３２を介して液体閉じ込め構造の下から回収してもよい。底部回収開口は、液体閉じ込め構造に対して液体メニスカスを保持（又は固定）する働きをすることができる。メニスカスは、液体閉じ込め構造と対向表面との間に形成され、液体空間とガス状の外部環境との間の境界として働く。底部回収開口２５は、単相流内の液体を回収することができる多孔質プレート２５であってよい。底部回収開口は、液体が回収されるときに介する一連の固定開口３２であってよい。固定開口は、二相流内の液体を回収することができる。
【００４１】
[0048]  任意選択として、液体閉じ込め構造の内部表面に関して半径方向外側にガスナイフ開口２６がある。ガスは、空間内の液浸液の閉じ込めを手助けするために、上昇速さでガスナイフ開口を介して供給されてよい。供給されるガスは加湿されてよく、二酸化炭素を含んでもよい。供給されるガスは、本質的に、二酸化炭素及び水蒸気で構成されてよい。ガスナイフ開口の半径方向外側に、ガスナイフを介して供給されるガスを回収するためのガス回収開口２８がある。
【００４２】
[0049]  図２に共通する図３に示されるフィーチャは、同じ参照番号を共有する。閉じ込め構造１２は、円錐台形の円錐表面を補完する内部表面を有する。閉じ込め構造の下面は、円錐台形の底部平坦表面よりも対向表面に近い。
【００４３】
[0050]  液体は、閉じ込め構造の内部表面に形成される供給開口を介して空間に供給される。供給開口３４は、内部表面の底部に向かって、おそらくは円錐台形の底部表面の下に配置される。供給開口は、投影ビームの経路周辺に間隔を置いて、内部表面に配置される。
【００４４】
[0051]  液体は、液体閉じ込め構造１２の下面内の回収開口２５を介して、空間１０から回収される。閉じ込め構造の下で対向表面が移動すると、メニスカスは、対向表面の運動と同じ方向に回収開口２５の表面全体にわたって移動する。回収開口は、多孔質部材で形成することができる。液体は単相で回収されてよい。一実施形態において、液体は二相流内で回収される。二相流は、液体閉じ込め構造１２内部のチャンバ３５内に受け取られ、液体とガスに分離される。液体及びガスはチャンバ３５から別々のチャネル３６、３８を介して回収される。
【００４５】
[0052]  閉じ込め構造の下面の内部周縁３９は、プレート４０を形成するために内部表面から離れて空間内に延在する。内部周縁は、投影ビームの形状及びサイズに一致するようにサイズを決定することができる、小さなアパーチャを形成する。プレートは、液体を両側に分離する働きをすることができる。供給された液体は、アパーチャに向かって内側に流れ、内部アパーチャを介した後、プレートの下を周囲の回収開口２５に向けて半径方向外側に流れる。
【００４６】
[0053]  一実施形態において、閉じ込め構造には、内側部１２ａ及び外側部１２ｂの２つの部分があってよい。便宜上、この構成は図３の右側に示されている。２つの部分は、対向表面に平行な平面内で、互いに対して相対的に移動することができる。内側部は供給開口３４を有し、オーバフロー回収２４を有してよい。外側部１２ｂはプレート４０及び回収開口２５を有してよい。内側部は２つの部分の間を流れる液体を回収するために、中間回収４２を有してよい。
【００４７】
[0054]  様々なタイプの汚染が、リソグラフィ装置内の流体ハンドリングシステムの性能に悪影響を与える可能性がある。リソグラフィ装置の環境は非常に低い汚染レベルに保たれ、液浸液、例えば水は非常に純粋であるが、流体ハンドリングシステムの粒子汚染の可能性を完全に消滅させることはできない。流体ハンドリングシステム内の重要な場所にたとえ小さくても汚染物質が存在すれば、その有効性を低下させる可能性がある。
【００４８】
[0055]  例えば、液体閉じ込め構造１２の下部表面上に繊維が存在し、例えば付着していると、欠陥を増加させ、生産性の低下に寄与する可能性がある。水抽出オリフィスの近隣に、あるいはこれを覆って繊維が存在すると、露光中に、製品基板への更なる水損失につながる可能性がある。また、液浸液を閉じ込めるためのガスシールの一部を形成するガスアウトレットの部分的又は完全な閉塞は、製品基板への水損失につながる可能性がある。製品基板への水損失は、露光パターンに欠陥を生じさせる可能性がある。欠陥は、蒸発液滴の結果としてレジスト上にウォータマークが生じることを介して形成される可能性がある。異なる機構では、閉じ込められた液浸液と基板上に残る液滴との衝突で、気泡が発生する場合がある。気泡は液浸空間内を移動し、投影ビームの経路を妨げる可能性がある。
【００４９】
[0056]  汚染が液体閉じ込めシステムの有効性を低下させていることを検出するのは、しばしば困難である。閉じ込め構造１２の汚染の最初の兆候は、露光パターン内の欠陥数の増加に起因した歩留まりの減少であることが多く、欠陥数の増加は即時に現れない可能性がある。液体閉じ込め構造の汚染検査のためにリソグラフィ装置を開くには時間がかかる。検査の手順は汚染のリスクを伴うため、絶対的に必要でない限り、こうした検査を実施することは望ましくない。
【００５０】
[0057]  本発明は、液体閉じ込め構造などのプロセスツールを開くことなくプロセスツールのコンポーネントを検査し、それによってダウンタイムを低減させ、更なる汚染のリスクを最小限にすることを可能にするために、リソグラフィ装置などのプロセスツール内に提供可能な検査システムを提案する。
【００５１】
[0058]  図５は、本発明を具体化するプロセスツールの一例として、リソグラフィ装置の一部を示す。リソグラフィ装置は、Ｘ−Ｙ面内でロングストローク運動を実施するように構成された可動ステージ６０を備え、一実施形態では、これは、露光のために基板を保持及び位置決めするために使用される基板ステージである。基板の直径に等しいか又は直径より大きい範囲（例えば、３００ｍｍ）のロングストローク運動に加えて、基板ステージ６０は、他の自由度並びに回転運動において、例えば１０ｍｍ未満の運動範囲を伴う、ショートストローク運動が可能であってよい。
【００５２】
[0059]  検査するべきコンポーネントの一例は、液体閉じ込め構造１２である。これは前述のように、下部表面内に可動ステージ６０に対向する様々な開口を有し、汚染物質によって塞がれるか又は部分的に塞がれる可能性がある。検査するべきコンポーネントは、装置の動作中に汚染される恐れのある任意の他のコンポーネント、例えば、エンコーダベースの位置感知システムの格子プレートとすることができる。
【００５３】
[0060]  検査システムは、リソグラフィ装置の固定部分に取り付けられ、可動ステージのロングストローク運動が行われるＸ−Ｙ面に対して実質的に平行な光軸を有する、結像デバイス１０３を含む。結像デバイスは可動ステージに取り付けられないため、可動ステージへの結像デバイスの電力及びデータ接続は必要なく、可動ステージの質量を大幅に増加させる必要もない。ミラー１０１が可動ステージに取り付けられ、Ｘ−Ｙ面に対して所定の傾斜角で配向されるため、可動ステージが所定の位置にあるとき、図６に示すように、ミラー１０１を介して結像デバイスによってコンポーネントの一部を結像させることができる。一実施形態において、所定の傾斜角θは３０°から６０°の範囲内であり、望ましくは実質的に４５°である。結像デバイス及びミラーは、基板ステージ６０を矢印Ａによって示される方向に適切な位置まで移動することによって、検査するべきコンポーネントの様々な部分を、ミラーを介して結像デバイスによって見ることができるように、配置される。
【００５４】
[0061]  結像デバイスは、可視波長、赤外線、及び／又は紫外線で動作する市販のカメラとすることができる。白黒カメラ又はカラーカメラが使用可能である。偏光フィルタを使用して、検査するべきコンポーネントの研磨面と汚染との間の対比を強調することができる。ビデオカメラを使用して、検査するべきコンポーネントがビデオカメラの視野を介してスキャンされる際に、撮影することができる。双眼カメラが使用可能である。便宜上、照明デバイス、例えばＬＥＤを、結像デバイスに近接して、ミラーに近接して、又はプロセスツール内の他の場所に、設けることができる。
【００５５】
[0062]  結像デバイスによってキャプチャされたイメージを使用した汚染の検出は、技術者による目視検査、汚れのないコンポーネントの基準イメージとの比較、及び、例えば機械学習を用いる自動イメージ認識などの、様々な方法によって実行可能である。結像デバイスによってキャプチャされたイメージの自動分析は、制御システム５００又は別のコンピューティングデバイス６００によって実施可能である。自動分析デバイスは、プロセスツール内又はその外部にあるコンピューティングデバイスによって実行可能である。
【００５６】
[0063]  ほとんどの場合、結像デバイスは、検査するべきコンポーネントの最大でも数メートル以内に配置可能であるため、たとえ、２０μｍのような小さい汚染物質を検出できるようにする場合でも、過度に長い焦点距離の結像レンズは必要ない。
【００５７】
[0064]  結像デバイスには、制御可能焦点及び／又は制御可能ズーム、並びに、可動ステージの運動と同期して結像デバイス内の焦点及び／又はズームを制御するように構成された制御回路が提供可能である。
【００５８】
[0065]  図５では、ミラー１０１の可能な場所の例として、３つのミラーが示されており、本発明の一実施形態は、示された場所のうちのいくつか又はすべてにおいて、１つのみのミラー又は複数のミラーを有することがある。
【００５９】
[0066]  ミラー１０１ａは、可動ステージ上に保持可能な検査基板１０５の上面に取り付けられる。検査基板は、例えば、製品基板に実質的に等しい直径及び厚みを有することによって、リソグラフィ装置に適合可能である。したがって検査基板は、リソグラフィ装置をクリーンルーム環境に対して開く必要なしに、製品基板と同じ機構を使用してリソグラフィ装置に装填することができる。検査基板に取り付けられたミラーを使用することによって、必要なときにのみミラーをプロセスツールに装填することができる。
【００６０】
[0067]  ミラー１０１ｂは、可動ステージ６０の上面に設けられる。ミラー１０１ｂは、可動ステージ上に取り付けられた基準モジュール又はセンサモジュールの一部として設けることができる。基板の上面に設けられたミラーは、検査するべきコンポーネントの近くに位置決めし、結像デバイスとコンポーネントとの間の光路長を低減させることができる。
【００６１】
[0068]  ミラー１０１ｃは、可動ステージ６０の側面上に設けられる。可動ステージの側面上のミラーは、可動ステージと液体閉じ込め構造１２との間の距離によって制約されないため、可動ステージの上面上のミラーよりも大きくすることが可能であり、したがって結像デバイスのより大きな視野を達成することができる。干渉計ベースの変位測定システムを有するリソグラフィ装置は、Ｚ方向の変位測定を可能にするために、可動ステージの側面に取り付けられるか又は形成される、Ｘ−Ｙ面に対して４５°のミラーを有してもよい。こうしたミラーは、本発明のミラーとしても使用可能である。
【００６２】
[0069]  任意選択として、透明部材１０２をミラーの上の可動ステージに取り付けることが可能であり、透明部材は、可動ステージ６０の上面と実質的に同一平面の上面を有する。透明部材は、液体閉じ込めシステムを動作中に、すなわち液浸空間内に液浸液がある状態で、検査できるようにする。
【００６３】
[0070]  望ましくは、図７に示されるように、ミラーはより大きな視野１０７を提供するためにＸ−Ｙ面で細長い。結像デバイス１０３の視野１０７よりも大きなコンポーネントを検査するために、ミラー１０１を担持する可動ステージ（基板ステージ）６０を、結像デバイス１０３の光軸に平行な矢印Ａに示される方向に移転する（translate）ことができる。
【００６４】
[0071]  検査可能なコンポーネントの領域を更に増加させるために、本発明の一実施形態では、結像デバイスをＸ方向及びＹ方向のうちの少なくとも１つに平行に移転するように、及び／又は、結像デバイスを少なくとも１本の（例えば、Ｚ軸に平行な）軸の周辺で回転させるように構成された、作動ステージによって、結像デバイスはプロセスツール内に取り付けられる。こうした構成が図７に示され、図内では、可動ステージ６０も同じ方向に移動する間に、矢印Ｂによって示される方向に移動可能な作動ステージに、カメラが取り付けられる。これによって、視野１０７よりも大きなコンポーネントの領域１０６を結像させることができる。
【００６５】
[0072]  図８には、例えばダイヤ型液体閉じ込めシステムの一方の側が細長いコンポーネント１０６（又は、コンポーネントの細長い部分）を、便宜上結像させるための構成が示される。この構成において、視野１０７の長手寸法は、コンポーネント１０６の短手寸法（幅）、或いは、検査するべきコンポーネント１０６のその部分に、等しいか又は短手寸法よりも長く作られる。ミラー１０１は、コンポーネント１０６の長手寸法（長さ）と垂直に配向され、結像デバイス１０３の光軸は、コンポーネント１０６の長手寸法と平行である。こうした構成では、コンポーネントの（一部の）すべては、コンポーネント６０の長手寸法の方向に可動ステージ６０を移動させることによって結像可能であり、結像デバイスは固定することができる。
【００６６】
[0073]  検査可能なコンポーネントの領域又は数を増加させるための別の手法は、複数の結像デバイス及び／又は複数のミラーを設けることである。結像されるべきコンポーネントを効率的に結像するために、ミラー及び結像デバイスを如何にして最良に配置するかは、それらのコンポーネントの構成に依存する。例えば、検査するべきコンポーネントの一例として、液体閉じ込め構造が２組の平行側面を有する場合、適切な間隔を置いて配置された２つのカメラミラーシステムによって、側面の各組を同時に検査することができる。
【００６７】
[0074]  検査可能なコンポーネントの領域又は数を増加させるための別の手法は、結像デバイスをパニングすること及びミラーを移転することによって、異なる場所を検査できるように、結像デバイスをパニングマウント上に取り付けることである。これにより、ミラーが結像デバイスの光軸に対して（Ｘ−Ｙ面において）もはや垂直でないため、結像デバイスによってキャプチャされるイメージが結果として歪曲される可能性がある。しかしながら、こうした歪曲は、結像処理によって、及び／又は、可能であれば可動ステージを回転させることによって、低減又は消去することができる。また、現在のイメージと基準イメージとの比較によってコンポーネントの汚染が検出された場合、イメージの歪曲は汚染の検出を妨げないことができる。
【００６８】
[0075]  パニングマウント上に取り付けられた結像デバイスを使用してキャプチャされるイメージの歪曲は、Ｘ−Ｙ面内の異なる配向の複数のミラーを使用することによって低減させることも可能である。複数のミラーを可動ステージに直接取り付けるか、又は可動ステージ上に保持される検査基板に取り付けてもよい。
【００６９】
[0076]  本発明の一実施形態において、ミラーは実質的に平坦であり、結像デバイスの光軸を単に折り曲げるように動作する。平坦でない光学面を伴う、例えば屈折力を有する、ミラーを使用することも可能である。ミラーは、検査するべきコンポーネントのイメージを拡大するような正の屈折力、又は、視野を増加させるような負の屈折力を有してもよい。ミラーは、アナモルフィックであってよく、すなわち、異なる方向に異なる屈折力を有してよい。
【００７０】
[0077]  複数のステージを有するリソグラフィ装置では、ミラーをすべてのステージ、いくつかのステージ、又は１つのステージのみに取り付けることが可能である。２つの等価な基板ステージを有するリソグラフィ装置では、ミラーはいずれのステージにも取り付けることができる。露光に使用される１つ以上の基板ステージ、及び、測定又は較正に使用される別の測定又は較正ステージを有するリソグラフィ装置では、露光に及ぼされることが考えられるいかなる影響をも最小限にするように、測定又は較正ステージ上のミラーを位置決めすることが有利であり得る。
【００７１】
[0078]  液体閉じ込めシステムのためのクロージング部材（基板又は基板テーブルが存在しないとき、液浸液を封じ込めるのを助けるために使用されるディスクなどの部材）を有するリソグラフィ装置では、ミラーをクロージング部材上に、あるいは、クロージング部材を位置決めするために使用されるステージ又は他の作動システム上に、設けてもよい。
【００７２】
[0079]  以上、本発明を、リソグラフィ装置のコンポーネント（例えば、機能サブシステム）を検査するための検査基板の使用に関して説明してきたが、検査基板は、メトロロジ装置などの別の装置のコンポーネントを検査するために使用することも可能である。本発明は、任意のプロセスツール、すなわち、基板上の半導体デバイスの製造に使用される任意の装置で使用することができる。トラックのプロセスデバイスで使用される本発明の一実施形態において、検査システムのコンポーネントは、内部に広く行き渡る状態、例えば高温、及びコーティングなどの材料の印加から、保護されることが望ましい。
【００７３】
[0080]  本文ではＩＣの製造におけるリソグラフィ装置の使用に特に言及しているが、本明細書で説明するリソグラフィ装置には他の用途もあることを理解されたい。例えば、これは、集積光学システム、磁気ドメインメモリ用ガイダンス及び検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッドなどの製造である。こうした代替的な用途に照らして、本明細書で「ウェーハ」又は「ダイ」という用語を使用している場合、それぞれ「基板」又は「ターゲット部分」という、より一般的な用語と同義と見なしてよいことが当業者には認識される。本明細書に述べている基板は、露光前又は露光後に、例えばトラック（通常はレジストの層を基板に塗布し、露光したレジストを現像するツール）、メトロロジツール及び／又はインスペクションツールで処理することができる。適宜、本明細書の開示は、以上及びその他の基板プロセスツールに適用することができる。更に基板は、例えば多層ＩＣを生成するために、複数回処理することができ、したがって本明細書で使用する基板という用語は、既に複数の処理済み層を含む基板も指すことができる。
【００７４】
[0081]  光リソグラフィの分野での本発明の実施形態の使用に特に言及してきたが、本発明は文脈によってはその他の分野、例えばインプリントリソグラフィでも使用することができ、光リソグラフィに限定されないことを理解されたい。インプリントリソグラフィでは、パターニングデバイス内のトポグラフィが基板上に作成されたパターンを画定する。パターニングデバイスのトポグラフィは基板に供給されたレジスト層内に刻印され、電磁放射、熱、圧力又はそれらの組み合わせを適用することでレジストは硬化する。パターニングデバイスはレジストから取り除かれ、レジストが硬化すると、内部にパターンが残される。
【００７５】
[0082]  本明細書で使用する「放射」及び「ビーム」という用語は、イオンビーム又は電子ビームなどの粒子ビームのみならず、紫外線（ＵＶ）放射（例えば、４３６ｎｍ、４０５ｎｍ、３６５ｎｍ、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ、１５７ｎｍもしくは１２６ｎｍ、又はこれら辺りの波長を有する）及び極端紫外線（ＥＵＶ）放射（例えば、５ｎｍ〜２０ｎｍの範囲の波長を有する）を含むあらゆるタイプの電磁放射を網羅する。
【００７６】
[0083]  「レンズ」という用語は、状況が許せば、屈折、反射、磁気、電磁気及び静電光学コンポーネントを含む様々なタイプの光学コンポーネントのいずれか一つ、又はその組み合わせを指すことができる。
【００７７】
[0084]  以上、本発明の特定の実施形態を説明したが、説明とは異なる方法でも本発明を実践できることが理解される。
【００７８】
[0085]  １つ以上のコンピュータプログラムがリソグラフィ装置の少なくとも１つのコンポーネント内にある１つ以上のコンピュータプロセッサによって読み出される時に、本明細書に記載するあらゆるコントローラは各々、又は組み合わせて動作可能になる。コントローラは各々、又は組み合わせて、信号を受信、処理、送信するのに適した任意の構成を有する。１つ以上のプロセッサは、コントローラの少なくとも１つと通信するように構成されている。例えば、各コントローラは、上記方法のための機械読み取り式命令を含むコンピュータプログラムを実行する１つ以上のプロセッサを含むことができる。コントローラは、そのようなコンピュータプログラムを記憶するデータ記憶媒体及び／又はそのような媒体を収容するハードウェアを含むことができる。したがって、コントローラは、１つ以上のコンピュータプログラムの機械読み取り式命令に従って動作することができる。
【００７９】
[0086]  本発明の１つ以上の実施形態は、任意の液浸リソグラフィ装置に、特に液浸液が浴形態で提供されるか、基板の局所的な表面領域のみに提供されるか、基板及び／又は基板テーブル上に閉じ込められないかにかかわらず、上述したタイプに適用することができるが、それに限定されない。閉じ込められない構成では、液浸液は基板及び／又は基板テーブルの表面上に流れることができ、したがって実質的に基板テーブル及び／又は基板の覆われていない表面全体が濡れる。このように閉じ込められていない液浸システムでは、液体供給システムが液浸液を閉じ込めることができない、又はある割合の液浸液閉じ込めを提供することができるが、実質的に液浸液の閉じ込めを完成しない。
【００８０】
[0087]  本明細書で企図されるような液体供給システムは、広義に解釈されるべきである。実施形態によっては、これは、投影システムと基板及び／又は基板テーブルとの間の空間に液浸液を提供する、機構又は構造の組み合わせであってよい。１つ以上の構造、１つ以上の液体開口を含む１つ以上の流体開口、１つ以上のガス開口、又は、二相流のための１つ以上の開口の、組み合わせを含んでもよい。開口は、各々、液浸空間内へのインレット（又は、流体ハンドリング構造からのアウトレット）、あるいは、液浸空間の外へのアウトレット（又は、流体ハンドリング構造内へのインレット）であってよい。一実施形態において、空間の表面は基板及び／又は基板テーブルの一部であってよいか、あるいは、空間の表面は基板及び／又は基板テーブルの表面を完全に覆ってよいか、あるいは、空間は基板及び／又は基板テーブルを包囲してよい。液体供給システムは、任意選択として、液浸液の位置、量、品質、形状、流量、又は任意の他の特徴を制御するための、１つ以上の要素を更に含んでよい。
【００８１】
[0088]  上記の説明は例示的であり、限定的ではない。それ故、下記に示す特許請求の範囲から逸脱することなく、記載されたような本発明を変更できることが当業者には明白である。
【図１】
2022501634.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2022501634.tif 000009
【図８】
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【国際調査報告】
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