【事件の表示】
　平成１１年特許願第　５４８０７号「投影露光装置及び投影露光方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１２年　９月１４日出願公開、特開２０００−２５２１９９〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続きの経緯
　本願は、平成１１年３月２日の出願であって、平成１６年９月２９日付で拒絶査定がなされ、これに対し、平成１６年１１月１日に拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに、同年１２月１日付で手続補正がなされたものである。
　
２．平成１６年１２月１日付の手続補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　平成１６年１２月１日付の手続補正（以下、「本件補正」という。）を却下する。
［理由］
（１）　補正後の本願発明
　本件補正により、特許請求の範囲の請求項１は、平成１５年８月８日付の手続補正による「光源からの光を照明光学系を介してマスクに照射し、該マスク上のパターンを投影光学系を介して基板上へ投影する投影露光装置であって、
　該投影光学系のコヒーレント因子σが高い高σの照明系を用いて露光を行う第１の露光手段と、
　前記コヒーレント因子σが低い低σの照明系を用いて露光を行う第２の露光手段とを備え、
　前記第１の露光手段は、前記第２の露光手段のコヒーレント因子σよりも大きなコヒーレント因子σを有し、前記第１の露光手段による前記パターンの端部の光強度が前記第２の露光手段による前記パターンの端部の光強度よりも小さくなっており、
　該第１の露光手段と該第２の露光手段により多重露光を行う投影露光装置。」を、「光源からの光を照明光学系を介してマスクに照射し、該マスク上における開口部が周期的に繰り返し形成されたパターンを投影光学系を介して基板上へ投影する投影露光装置であって、
　該投影光学系の瞳の大きさに対する光源像の大きさで定義されるコヒーレント因子σが高い高σの照明系を用いて露光を行う第１の露光手段と、
　前記コヒーレント因子σが低い低σの照明系を用いて露光を行う第２の露光手段とを備え、
　前記第１の露光手段は、前記第２の露光手段のコヒーレント因子σよりも大きなコヒーレント因子σを有し、前記第２の露光手段が光軸に対する同心円内の領域から光を照射する通常照明であり、前記第１の露光手段が、前記第２の露光手段の外側の輪帯状の領域から光を照射する変形照明であって、前記第１の露光手段による前記パターンの端部の光強度が前記第２の露光手段による前記パターンの端部の光強度よりも小さくなっており、
　該第１の露光手段と該第２の露光手段により多重露光を行う投影露光装置。」と補正された。
　上記補正は、請求項１に記載した発明の「マスク上のパターン」を、「マスク上における開口部が周期的に繰り返し形成されたパターン」と限定し、「投影光学系のコヒーレント因子σ」を、「投影光学系の瞳の大きさに対する光源像の大きさで定義されるコヒーレント因子σ」と限定し、第１及び第２の露光手段が、「第２の露光手段が光軸に対する同心円内の領域から光を照射する通常照明であり、前記第１の露光手段が、前記第２の露光手段の外側の輪帯状の領域から光を照射する変形照明であって、」と限定するものであり、特許法第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　そこで、本件補正後の前記請求項１に記載された発明（以下、「本願補正発明」という。）が、特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）について以下に検討する。
　
（２）引用例
　引用例１；特開平９−５５３５０号公報
（２）．１　引用例１の記載内容
　記載１
　特許請求の範囲の請求項１には、
「【請求項１】光源からの露光用光をマスクに通し、そのマスクに形成されたパターンを基板に転写する露光方法において、
　１回の露光時間内に、露光用光を第１フィルターに通してマスクに照射する工程と、前記第１フィルターと異なる光透過率分布の第２フィルターに露光用光を通してマスクに照射する工程とを少なくとも有する露光方法。」
と記載されている。
　
　記載２
　【０００１】段落には、
「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、たとえば半導体基板の表面に微細パターンを形成するための露光方法と露光装置に関する。」
と記載されている。
　
　記載３
【００１３】ないし【００１６】段落には、
「【００１３】…この露光装置は、レーザ装置と、ステッパー装置とから成る。…エキシマレーザ３０から発射された露光用光は、前記種々の光学系を通して、ハエの目レンズ３７へ入射し、ハエの目レンズ３７が二次光源（有効光源）となる。その露光用光は、マスクパターンが形成されたレチクル３９を通し、ウェーハ４１面上に至り、レチクル３９のパターンがウェーハ面上に転写される。…
【００１４】…
　本実施例では、有効光源としてのハエの目レンズ３７からレチクル３９へ至る露光用光の二次源光強度分布を改良するために、ハエの目レンズ３７の光入射側または光出射側に、図３に示すスライド移動式のフィルター切り替え装置５０を配置する。このフィルター切り替え装置５０は、第１フィルター部５２と第２フィルター部５４とが形成してあるフィルター本体５１を有する。第１フィルター部５２と第２フィルター部５４とは、相互に光透過率分布が相違している。第１フィルター部５２を通過した後の光の強度分布は、図３（Ｂ）のカーブ５２ａのようになり、第２フィルター部５４を通過した後の光の強度分布は、図３（Ｂ）のカーブ５４ａのようになる。すなわち、第１フィルター部５２では、中央部の透過率が高く、第２フィルター部５４では、その逆に、中央部の透過率が低い。
【００１５】
　本実施例では、この２つのフィルター部５２，５４が形成してあるフィルター本体５１を切り替え装置によりスライド移動させ、…露光を行う。
【００１６】
　このように、１回の露光時間内で、露光用光が透過するフィルター部を切り換えることで、…図３（Ｂ）に示す光強度分布カーブ５２ａと、光強度分布カーブ５４ａとを足し合わせた図３（Ｃ）に示す光強度分布が得られる。この光強度分布は、たとえば図４に示すように、中心部の透過率が数十％で、その周囲の透過率が０％で、さらにその周囲の透過率が１００％である単一のフィルター５６を用いて露光を行った場合と等価である。」
と記載されている。
　
　記載４
　【００１８】段落には、
「【００１８】図３（Ｃ）に示すように、周辺部の光を強調しつつ、中央部での光を、ある程度残しておくことで、ガウス分布による通常露光や、変形照明などに比べてよりフラットな形状に近い光強度分布を持ち、特定パターンに弱点を持たず、良好なパターンの解像を実現することが期待される。」
と記載されている。
　
　引用例１に記載された図３，４は次のとおりである。
　　
（２）．２　引用例１に記載された発明
　上記引用例１の記載１及び２を参照すると、引用例１には、「光源からの露光用光をマスクに通し、そのマスクに形成されたパターンを基板に転写する露光装置において、
　１回の露光時間内に、露光用光を第１フィルターに通してマスクに照射する工程と、前記第１フィルターと異なる光透過率分布の第２フィルターに露光用光を通してマスクに照射する工程とを少なくとも有する露光装置。」の発明が実質的に記載されている。
　第１フィルター部５２は、図３及び図４を参照すると、光軸に対する同心円内の領域から光を照射する通常照明であることが明らかであり、また、第２フィルターである第２フィルター部５４は、第１フィルター部５２の中央部の外側の輪帯状の領域から光を照射する変形照明であることが明らかである。 
　また、投影光学系の瞳の大きさに対する光源像の大きさで定義されるコヒーレント因子σについて引用例１には明示的に記載されていないが、上記引用例１の記載３、図３及び図４を参照すると、第１フィルターである第１フィルター部５２は、中央部の透過率が高く、第２フィルターである第２フィルター部５４は、中央部の透過率が低くかつ、第１フィルター部５２の中央部の外側に相当する部分の第２フィルター部５４の透過率が高いものである。
　そうすると、第１フィルター部５２及び第２フィルター部５４による光源像の大小関係は、本願補正発明の実施例として示された第９図及び第１７図のものと同じであるから、引用例１に記載された発明のコヒーレント因子σについては、第１フィルター部５２によるコヒーレント因子σが小さく（低く）、第２フィルター部５４によるコヒーレント因子σが大きい（高い）ものである。
　また、コヒーレント因子σが「投影光学系の瞳の大きさに対する光源像の大きさで定義される」ことは技術常識（例えば、特開昭６１−９１６６２号公報（第３頁右上欄第６行〜左下欄第行及び第７図）及び特開平５−１９８４７４号公報（【００４】、【００２３】段落及び第２図）等参照）である。
　さらに、上記引用例１の記載３における「種々光学系」には「照明光学系」が含まれることが明らかであり、また、「ステッパー装置」には、「投影光学系」が含まれることが明らかである。
　
　そうすると、上記引用例１には、
「光源からの光を照明光学系を介してマスクに照射し、パターンを投影光学系を介して基板上へ投影する投影露光装置であって、
　該投影光学系の瞳の大きさに対する光源像の大きさで定義されるコヒーレント因子σが高い高σの照明系を用いて露光を行う第２フィルター部５４と、
　前記コヒーレント因子σが低い低σの照明系を用いて露光を行う第１フィルター部５２とを備え、
　前記第２フィルター部５４は、前記第１フィルター部５２のコヒーレント因子σよりも大きなコヒーレント因子σを有し、前記第１フィルター部５２が光軸に対する同心円内の領域から光を照射する通常照明であり、前記第２フィルター部５４が、前記第１フィルター部５２の外側の輪帯状の領域から光を照射する変形照明であって、該第２フィルター部５４と該第１フィルター部５２により多重露光を行う投影露光装置。」
の発明が記載されている。
　
（３）対比
　そこで、本願補正発明と引用例１に記載された発明とを比較する。
　引用例１記載の「第２フィルター部」及び「第１フィルター部」は、それぞれ本願補正発明の「第１の露光手段」及び「第２の露光手段」に相当する。
　
　そうすると両者は、
「光源からの光を照明光学系を介してマスクに照射し、パターンを投影光学系を介して基板上へ投影する投影露光装置であって、
　該投影光学系の瞳の大きさに対する光源像の大きさで定義されるコヒーレント因子σが高い高σの照明系を用いて露光を行う第１の露光手段と、
　前記コヒーレント因子σが低い低σの照明系を用いて露光を行う第２の露光手段とを備え、
　前記第１の露光手段は、前記第２の露光手段のコヒーレント因子σよりも大きなコヒーレント因子σを有し、前記第２の露光手段が光軸に対する同心円内の領域から光を照射する通常照明であり、前記第１の露光手段が、前記第２の露光手段の外側の輪帯状の領域から光を照射する変形照明であって、
　該第１の露光手段と該第２の露光手段により多重露光を行う投影露光装置。」
において一致し、以下の点で相違する。
　
　相違点１
　本願補正発明が、「マスク上における開口部が周期的に繰り返し形成されたパターン」であるのに対し、引用例１に記載された発明は、当該記載がない点で相違する。
　
　相違点２
　本願補正発明は、「第１の露光手段による前記パターンの端部の光強度が前記第２の露光手段による前記パターンの端部の光強度よりも小さくなって」いるのに対し、引用例１に記載された発明は、当該記載がない点で相違する。
　
（４）判断
　相違点１について検討する。
　開口部が周期的に繰り返し形成されたパターンは、半導体基板の表面に微細パターンを形成する際に通常用いられるパターンにすぎず、引用例１に記載された発明においても当然用いられるものである。また、上記引用例１の記載４に、「特定パターンに弱点を持たず、良好なパターンの解像を実現することが期待される。」との記載があることから、「開口部が周期的に繰り返し形成されたパターン」に対する効果も予測できたものにすぎない。
　そうすると、相違点１に係る構成については、当業者が容易に想到できた程度のことである。
　
　相違点２について検討する。
　本願補正発明と引用例１に記載された発明において、両者の露光手段に差がないから、「第１の露光手段による前記パターンの端部の光強度が前記第２の露光手段による前記パターンの端部の光強度よりも小さくなって」いる構成については、引用例１に記載された発明においても同様の構成を有しており、相違点２に係る構成については、実質的なものではない。
　
　そして、本願補正発明の作用効果も、引用例１に記載された発明及び技術常識から当業者が予測できる範囲のものである。
　
　したがって、本願補正発明は、引用例１記載の発明及び周知事項に基づいて当業者が容易に想到しえたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
（５）むすび
　以上のとおり、本件補正は、特許法第１７条の２第５項で準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するものであり、特許法第１５９条第１項で準用する特許法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。
　
３．本願発明について
　平成１６年１２月１日付の手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明（以下、同項記載の発明を「本願発明」という。）は、平成１５年８月８日付で補正された特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される、以下のとおりのものである。
「光源からの光を照明光学系を介してマスクに照射し、該マスク上のパターンを投影光学系を介して基板上へ投影する投影露光装置であって、
　該投影光学系のコヒーレント因子σが高い高σの照明系を用いて露光を行う第１の露光手段と、
　前記コヒーレント因子σが低い低σの照明系を用いて露光を行う第２の露光手段とを備え、
　前記第１の露光手段は、前記第２の露光手段のコヒーレント因子σよりも大きなコヒーレント因子σを有し、前記第１の露光手段による前記パターンの端部の光強度が前記第２の露光手段による前記パターンの端部の光強度よりも小さくなっており、
　該第１の露光手段と該第２の露光手段により多重露光を行う投影露光装置。」
（１）引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された引用例１及びその記載事項は、前記「２．（２）」に記載したとおりである。
　
（２）対比・判断      
　本願発明は、前記２．で検討した本願補正発明の、「マスク上における開口部が周期的に繰り返し形成されたパターン」から、「マスク上における開口部が周期的に繰り返し形成された」との限定を省き、また、「投影光学系の瞳の大きさに対する光源像の大きさで定義されるコヒーレント因子σ」から、「投影光学系の瞳の大きさに対する光源像の大きさで定義される」との限定を省き、さらに、第１及び第２の露光手段が、「第２の露光手段が光軸に対する同心円内の領域から光を照射する通常照明であり、前記第１の露光手段が、前記第２の露光手段の外側の輪帯状の領域から光を照射する変形照明であって、」との限定を省くものである。
　そうすると、本願発明の構成要件を全て含み、さらに他の構成要件を付加したものに相当する本願補正発明が、前記「２．（４）」に記載したとおり、引用例１記載の発明及び技術常識に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様の理由により、引用例１に記載された発明及び技術常識に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
　なお、平成１８年６月１９日付回答書において、高σの値を０．８以上、低σの値を０．０８〜０．３３と補正する意志がある旨記載されているが、当該数値に臨界的意義を認めることができないので、当該補正によっても特許性は認められない。
　
（３）むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用例１に記載された発明及び技術常識に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
よって、結論のとおり審決する。