Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月22日(2010.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１面と第２面を有する半導体ウエハにウエハ貫通相互接続を提供する方法であって、
該ウエハの該第２面に１以上の微小ビアをエッチングすること；
該第２面上に、該１以上の微小ビアの表面を覆うエッチング停止層を設けること；
該１以上の微小ビアをエッチングしたエリアで、該エッチング停止層の一部が、寸法が該１以上の微小ビアのそれぞれの対応する寸法よりも大きいキャビティ内に露出するような深さまで該ウエハの第１面に該キャビティをエッチングすること；
該ウエハの片面上に金属被膜を堆積すること；
続いて、該１以上の微小ビアをエッチングした箇所に対応するエリアから、該エッチング停止層の領域を除去すること；
及び
該ウエハの他面に金属被膜を堆積して、該第１面上に堆積した該金属被膜を該第２面上に堆積した該金属被膜と接触させて該１以上の微小ビアがエッチングされた箇所に対応するエリアに該ウエハ貫通相互接続を形成すること、
を含む、ウエハ貫通相互接続提供方法。
【請求項２】
該半導体ウエハがシリコンを含み、該エッチング停止層が二酸化ケイ素または窒化ケイ素の内の少なくとも一つを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
該半導体ウエハがシリコンを含み、エッチング停止層を設けることが二酸化ケイ素層を熱的に成長することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
該キャビティの深さ及び該１以上の微小ビアの平均深さの合計が該ウエハの総厚みを超えるような深さまで、該キャビティをエッチングすることを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
該ウエハの片面上に金属被膜を堆積する前に、該半導体ウエハの表面上に絶縁層を提供することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
該方法が、該エッチング停止層の一部が該キャビティ内に露出して残るように、該第１面に該キャビティをエッチングした後に該ウエハの該第１と第２面上に、厚みが該エッチング停止層の厚みよりも大きい酸化物層を選択的に成長させることを含むとともに、
該エッチング停止層の領域を除去することが、該エッチング停止層及び該酸化物層の両方をエッチングするエッチング液を使用することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
該酸化物層が該エッチング停止層の少なくとも３倍の厚みである、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
第１面と第２面を有する半導体ウエハにウエハ貫通相互接続を提供する方法であって、
該ウエハの該第１面にキャビティをエッチングすること；
該ウエハの該第１面上に、該キャビティの表面を覆うエッチング停止層を設けること；
該ウエハの該第２面に、該エッチング停止層に到達するような深さまで１以上の微小ビアをエッチングし、該キャビティの寸法が、該１以上の微小ビアのそれぞれの対応する寸法よりも大きいこと；
該ウエハの片面上に金属被膜を堆積すること；
続いて、該１以上の微小ビアをエッチングした箇所に対応するエリアから、該エッチング停止層の領域を除去すること；
及び
該ウエハの他面に金属被膜を堆積して、該第１面上に堆積した該金属被膜を該第２面上に堆積した該金属被膜と接触させて該１以上の微小ビアをエッチングした箇所に対応するエリアに該ウエハ貫通相互接続を形成すること、
を含むウエハ貫通相互接続提供方法。
【請求項９】
該半導体ウエハがシリコンを含み、該エッチング停止層が二酸化ケイ素または窒化ケイ素の内の少なくとも一つを含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
該半導体ウエハがシリコンを含み、エッチング停止層を設けることが二酸化ケイ素層を熱的に成長することを含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
該ウエハの片面上に金属被膜を堆積する前に、該半導体ウエハの表面上に絶縁層を提供することを含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１２】
該方法が、該エッチング停止層の一部が該キャビティ内に露出して残るように、該第２面に該微小ビアをエッチングした後に該ウエハの該第１と第２面上に、厚みが該エッチング停止層の厚みよりも大きい酸化物層を選択的に設けることを含むとともに、
該エッチング停止層の領域を除去することが、該エッチング停止層及び該酸化物層の両方をエッチングするエッチング液を使用することを含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１３】
該酸化物層を熱的に成長することを含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
該酸化物層が該エッチング停止層の少なくとも３倍の厚みである、請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
第１面と第２面を有する半導体ウエハにコンデンサ型構造を提供する方法であって、
該ウエハの該第２面に１以上の微小ビアをエッチングすること；
該第２面上に、該１以上の微小ビアの表面を覆うエッチング停止層を設けること；
該１以上の微小ビアをエッチングしたエリアで、該エッチング停止層の一部がキャビティ内に露出するような深さまで該ウエハの該第１面に該キャビティをエッチングすること；
及び
該ウエハの両面上に金属被膜を堆積して、該金属被膜層間に挟まれた該エッチング停止層の一部を含むコンデンサ型構造を形成すること、
を含む、コンデンサ型構造提供方法。
【請求項１６】
第１面と第２面を有する半導体ウエハにコンデンサ型構造を提供する方法であって、
該ウエハの該第１面にキャビティをエッチングすること；
該ウエハの該第１面上に該キャビティの表面を覆うエッチング停止層を設けること；
該ウエハの該第２面に該エッチング停止層に到達するような深さまで１以上の微小ビアをエッチングすること；
及び
該ウエハの両面上に金属被膜を堆積し、該金属被膜層間に挟まれた該エッチング停止層の一部を含むコンデンサ型構造を形成すること、
を含む、コンデンサ型構造提供方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月27日(2010.5.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
認証システムとともにバイオメトリック証明書を確認する方法であって、
バイオメトリックサンプルデータ、ユーザ識別（ＩＤ）並びにユーザに関連付けられた個人識別番号（ＰＩＮ）及びパスワードのうち少なくとも１つを含むデータパッケージを受け取るステップであって、前記サンプルデータは該サンプルデータの起源を確認するデジタル署名を有する、受け取るステップと、
バイオメトリック照合サーバにおいて、前記ユーザＩＤが許可されたユーザに関連付けられること、前記ユーザＰＩＮ又はパスワードが有効であること、前記サンプルデータは前記許可されたユーザのデータのテンプレートと一致すること、及び前記デジタル署名は有効であることを確認するステップと、
仮証明書及び少なくとも１つの暗号鍵を生成するステップと、
前記データパッケージとともに前記仮証明書及び前記少なくとも１つの暗号鍵をクライアントコンピュータに送信するステップと
を含み、前記仮証明書及び前記少なくとも１つの暗号鍵は、前記仮証明書を確認し、前記ユーザを認証し、及び、認証が成功した場合に安全な資源へのその後のアクセスを獲得することを前記ユーザに許可する安全な認証システムにアクセスすることを可能にする方法。
【請求項２】
前記バイオメトリックサンプルデータ、タイムスタンプ及び前記デジタル署名をバイオメトリックサンプリング装置から受け取るステップをさらに含む請求項１記載の方法。 
【請求項３】
データパッケージを受け取る前記ステップは、安全なリンクを介して前記データパッケージを受け取るステップを含む請求項１記載の方法。 
【請求項４】
前記データパッケージはクライアントが生成した公開鍵をさらに含み、前記方法は、前記クライアントコンピュータに前記仮証明書を送信する前に、前記クライアントが生成した公開鍵を認証するステップをさらに含む請求項３記載の方法。 
【請求項５】
仮証明書及び少なくとも１つの暗号鍵を生成する前記ステップは、前記認証システムと互換性をもつ仮証明書及び公開／秘密鍵ペアを前記バイオメトリック照合サーバにおいて生成するステップを含む請求項１記載の方法。 
【請求項６】
前記公開／秘密鍵ペアは前記バイオメトリック照合サーバに安全に提供される請求項５記載の方法。 
【請求項７】
前記認証システムはケルベロス認証システムである請求項５記載の方法。
【請求項８】
安全な認証システムにアクセスすることは、サービスサーバの資源に後にアクセスするために仮の証明書及び公開／秘密鍵ペアを使用してケルベロス・システムにアクセスするステップを含み、前記仮証明書のフォーマットはＸ．５０９、ＸｒＭＬ、ＩＳＯ  ＲＥＬ又はＳＡＭＬのうちの１つを含む請求項１記載の方法。 
【請求項９】
ケルベロス・タイプの認証システムとともにバイオメトリック証明書を確認する方法を実行するコンピュータ実行可能命令を有するコンピュータ可読媒体であって、前記方法は、
バイオメトリックサンプルデータ、ユーザ識別（ＩＤ）並びにユーザに関連付けられた個人識別番号（ＰＩＮ）及びパスワードのうち少なくとも１つを含むデータパッケージを受け取るステップであって、前記サンプルデータは該サンプルデータの起源を確認するデジタル署名を有する、受け取るステップと、
前記ユーザーＩＤ及びＰＩＮが許可されたユーザに関係付けられること、前記サンプルデータが前記許可されたユーザのデータのテンプレートと一致すること、及び前記デジタル署名が有効であることを確認するステップと、
仮証明書及び公開／秘密鍵ペアを生成するステップと、
前記データパッケージとともに前記仮証明書及び前記鍵ペアを送信するステップと
を含み、前記仮証明書及び前記少なくとも１つの暗号鍵は、前記仮証明書を確認し、前記ユーザを認証し、及び、認証が成功した場合に安全な資源へのその後のアクセスを獲得することを前記ユーザに許可する安全な認証システムにアクセスすることを可能にするコンピュータ可読媒体。
【請求項１０】
前記方法は、前記バイオメトリックサンプルデータ、タイムスタンプ及びワンタイムパスワードのうち少なくとも１つ並びに前記デジタル署名をバイオメトリックサンプリング装置から受け取るステップをさらに含む請求項９記載のコンピュータ可読媒体。
【請求項１１】
前記方法は、サービスサーバの資源に後にアクセスするために、仮証明書及び公開／秘密鍵ペアを使用してケルベロス・タイプの認証システムにアクセスするステップをさらに含み、前記仮証明書のフォーマットはＸ．５０９、ＸｒＭＬ、ＩＳＯ  ＲＥＬ又はＳＡＭＬのうちの１つを含む請求項９記載のコンピュータ可読媒体。
【請求項１２】
バイオメトリックデータを確認するコンピュータ・システムであって、
ユーザのバイオメトリック・テンプレートを格納するメモリ・コンポーネントと、
前記メモリ・コンポーネントと通信するように動作し、プログラムコードを実行するプロセッサと
を含み、前記プログラムコードの実行は、前記システムに、
バイオメトリックサンプルデータ及びユーザ識別を含むデータパッケージをクライアントコンピュータから受け取り、
前記ユーザ識別が許可されたユーザに関連付けられ、前記サンプルデータが前記許可されたユーザのデータのテンプレートと一致するという、前記データパッケージ内の情報を確認し、
仮証明書を確認し、前記ユーザを認証し、認証が成功した場合に安全な資源へのその後のアクセスを獲得することを前記ユーザに許可する認証システムにアクセスするために、前記データパッケージを前記仮証明書とともに前記クライアントコンピュータに返す
よう指示するコンピュータ・システム。
【請求項１３】
ユーザのバイオメトリックデータをサンプリングし、サンプリングされたバイオメトリックデータを、前記サンプルデータの起源を確認するデジタル署名とともに前記クライアントコンピュータに提供するバイオメトリックサンプリング装置をさらに含み、前記データパッケージは前記デジタル署名をさらに含む請求項１２記載のシステム。
【請求項１４】
前記プログラムコードの実行は、前記システムに、前記デジタル署名を有効にするようさらに指示する請求項１３記載のシステム。
【請求項１５】
前記バイオメトリックサンプリング装置は、前記デジタル署名とともに前記サンプリングされたバイオメトリックデータに付随する時間タグをさらに供給する請求項１３記載のシステム。
【請求項１６】
前記データパッケージは、ユーザに関連付けられる個人識別番号又はパスワードのうち少なくとも１つをさらに含み、前記プログラムコードの実行は、前記システムに、前記個人識別番号又は前記パスワードのうち少なくとも１つを有効にするようさらに指示する請求項１２記載のシステム。
【請求項１７】
前記仮証明書は前記認証システムとの１つの認証セッションに対して有効である請求項１２記載のシステム。 
【請求項１８】
前記認証システムはケルベロス認証システムである請求項１２記載のシステム。 
【請求項１９】
前記認証システムにアクセスするための少なくとも１つの鍵は公開／秘密鍵ペアを含む請求項１２記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月17日(2010.9.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体デバイスを形成する方法であって、
基板を第1処理チャンバに導入する工程と、
所望の厚さを有する高ｋ誘電体層を前記第1処理チャンバ内の前記基板の表面に形成する工程と、
前記基板を周囲空気に曝すことなく、第２処理チャンバに移す工程と、
前記基板を、フッ素ソースガスを含む低エネルギープラズマに曝して、フッ素化された高ｋ誘電体層を前記基板の上に、前記第２処理チャンバ内の高ｋ誘電体層をエッチングすることなく形成する工程と、
前記基板を周囲空気に曝すことなく、第３処理チャンバに移す工程と、
ゲート電極を前記第３処理チャンバ内のフッ素化された高ｋ誘電体層の上に形成する工程と、
を含む、方法。
【請求項２】
フッ素ソースガスは、Ｆ２，ＮＦ３，ＨＦ、及びこれらのガスの組み合わせから成るグループから選択される、請求項１記載の方法。
【請求項３】
フッ素ソースガスは、炭素を含まないガスを含む、請求項１記載の方法。
【請求項４】
基板を、フッ素ソースガスを含む低エネルギープラズマに曝す工程は、１００℃未満の基板温度で行なわれる、請求項１記載の方法。
【請求項５】
低エネルギープラズマは誘導パルスプラズマソースを使用して形成される、請求項１記載の方法。
【請求項６】
低エネルギープラズマは、連続波誘導及び容量結合の混合プラズマソースを使用して形成される、請求項１記載の方法。
【請求項７】
前記ゲート電極は、チタン、窒化チタン、タンタル、窒化タンタル、タングステン、及び窒化タングステンから成るグループから選択される金属ゲート電極である、請求項１記載の方法。
【請求項８】
基板を、フッ素ソースガスを含む低エネルギープラズマに曝す工程は、所望の厚さを有する高ｋ誘電体層を基板の表面に形成する工程の後に行なわれる、請求項１記載の方法。
【請求項９】
フッ素化された高ｋ誘電体層に含まれるフッ素の濃度は、１Ｅ１４原子／ｃｍ２〜４Ｅ１５原子／ｃｍ２である、請求項１記載の方法。
【請求項１０】
前記高ｋ誘電体層は、酸化ハフニウム、酸化ジルコニウム、珪酸ハフニウム、アルミン酸ハフニウム、酸化ランタンハフニウム、酸化ランタン、及び酸化アルミニウムから成るグループから選択される少なくとも一つの材料を含む、請求項１記載の方法。
【請求項１１】
高ｋゲート積層構造を形成する方法であって、
高ｋ誘電体層を基板の上に形成する工程と、
前記高ｋ誘電体層をアニールする工程と、
前記基板を、低イオンエネルギーフッ素含有プラズマに曝して、フッ素化された高ｋ誘電体層を形成して、高ｋゲート積層構造中の酸素空孔及び他の結合欠陥をパシベートする工程と、
前記フッ素化された高ｋ誘電体層をアニールする工程と、
ゲート電極を前記フッ素化された高いｋ誘電体層の上に形成する工程と、
を含む、方法。
【請求項１２】
基板を、低イオンエネルギーフッ素含有プラズマに曝す工程では、約５０ワット〜約１０００ワットのＲＦ電力を供給することを含む、請求項１１記載の方法。
【請求項１３】
基板を、低イオンエネルギーフッ素含有プラズマに曝す工程は、誘導パルスプラズマ、連続波容量結合プラズマソース、及び連続波誘導及び容量結合の混合プラズマソースから成るグループから選択されるパルス無線周波数プラズマプロセスを行なうことを含む、請求項１１記載の方法。
【請求項１４】
基板を、フッ素ソースガスを含む低エネルギープラズマに曝す工程は、１００℃未満の基板温度で行なわれる、請求項１１記載の方法。
【請求項１５】
アルゴン、ヘリウム、窒素、酸素、及びそれらの組み合わせからなるグループから選択されるガスをフッ素ソースガスと同時に流す工程をさらに含む、請求項２記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月15日(2010.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内径に沿って段差を持った環状下部と、
内径に沿って凹部を持った環状剛性上部であって、該環状剛性部が該凹部内に突起部を含み、ここで、該段差が、該凹部に適合する大きさであり、該突起部が、該段差と接触している、前記環状剛性上部と、
該段差と該凹部の間の結合層と、
を備える、保持リング。
【請求項２】
該結合層が、エポキシ材料を含む、請求項１に記載の保持リング。
【請求項３】
該エポキシ材料が、ポリアミドを含む、請求項２に記載の保持リング。
【請求項４】
該結合層が、約４ミル〜２０ミルである、請求項１に記載の保持リング。
【請求項５】
該段差部が環状である、請求項１に記載の保持リング。
【請求項６】
該下部が、該上部に隣接するその表面に対向する摩耗する面を持ち、
該凹部が、該上部の上面に垂直な壁によって画成され、
該段差部が、該凹部を画成する該壁に平行である垂直壁を持ち、
該結合層が、該垂直壁と接触している、請求項１に記載の保持リング。
【請求項７】
該摩耗する面に対向する該下部のすべての表面が、該結合層か又は該環状剛性部と接触している、請求項６に記載の保持リング。
【請求項８】
該突起部が、円筒状の接線エッジ接触面積で該段差と接触している、請求項７に記載の保持リング。
【請求項９】
該突起部が環状突起部である、請求項１に記載の保持リング。
【請求項１０】
該凹部が、該上部の該内径に隣接した水平なへり（lip）によって更に画成され、該突起部が、該水平なへりに隣接している、請求項１に記載の保持リング。
【請求項１１】
該凹部が、該上部の該内径に隣接した水平なへりによって更に画成され、該突起部が、該水平なへりに隣接していない、請求項１に記載の保持リング。
【請求項１２】
該下部が、該上部に隣接する主水平面を持ち、該段差が、該主水平面の上に該下部の高さの少なくとも約５０％で伸びている、請求項１に記載の保持リング。
【請求項１３】
該下部の放射状断面に沿って測定される該段差の最も広い部分が、該段差の水平面より摩耗する面に近い、請求項１に記載の保持リング。
【請求項１４】
化学機械的研磨システムであって、
プラテンと、
該プラテンによって支持された研磨物と、
該研磨物上の基板に荷重を加えるように構成されたキャリヤヘッドと、
該キャリヤヘッドに取り付けられた保持リングであって、該保持リングが、
内径に沿って段差を持った環状下部と、
内径に沿って凹部を持った環状剛性上部であって、該環状剛性部が、該凹部内に突起部を含み、ここで、該段差が、該凹部に適合する大きさであり、該突起部が、該段差と接触している、前記環状剛性上部と、
該段差と該凹部の間の結合層と、を備える、前記保持リングと、
を備える、前記システム。
【請求項１５】
内径に沿って段差とその最上面に突起部を持った環状下部であって、該環状下部の高さが、約０.１５〜０.２インチであり、該段差の高さが、該下部の該最上面の上に約０.１２〜０.１７インチであり、該突起部の高さが約４ミル〜１２ミルである、前記環状下部と、
内径に沿って凹部を持った環状剛性上部であって、該段差が該凹部に適合する大きさである、前記環状剛性上部と、
該段差と該凹部の間の結合層と、
を備える保持リング。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月27日(2010.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ａｌ２Ｏ３、ＣａＯ、ＣｏＯ、Ｃｒ２Ｏ３、ＣｕＯ、Ｆｅ２Ｏ３、ＨｆＯ２、ＭｇＯ、ＭｎＯ、Ｎｂ２Ｏ５、ＮｉＯ、ＲＥＯ、Ｓｃ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、Ｖ２Ｏ５、Ｙ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＺｒＯ２、及びこれらの複合金属酸化物からなる群から選択される第１の金属酸化物と、Ａｌ２Ｏ３、Ｂｉ２Ｏ３、ＣａＯ、ＣｏＯ、Ｃｒ２Ｏ３、ＣｕＯ、Ｆｅ２Ｏ３、Ｇａ２Ｏ３、ＨｆＯ２、ＭｇＯ、ＭｎＯ、Ｎｂ２Ｏ５、ＮｉＯ、ＲＥＯ、Ｓｃ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、Ｖ２Ｏ５、Ｙ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＺｒＯ２、及びこれらの複合金属酸化物からなる群から選択される第２の金属酸化物とを含むガラスセラミックを含む第１の層であって、前記第１の金属酸化物と前記第２の金属酸化物がそれぞれ異なっており、前記ガラスセラミックが少なくとも１３ＧＰａの硬度を備えており、前記ガラスセラミックが、それぞれに対して垂直になっているｘ、ｙ、及びｚ寸法を有しており、前記寸法ｘ及びｙがそれぞれ少なくとも１０ミリメートルであり、前記ガラスセラミックが、その総重量を基準にして２０重量％以下のＳｉＯ２と、２０重量％以下のＢ２Ｏ３と、４０重量％以下のＰ２Ｏ５とを含む、第１の層と、
力散逸物質を含む第２の層と、
前記第１の層の少なくとも一部を前記第２の層に貼り付ける接着物質と、を含む複合材。
【請求項２】
前記第１の金属酸化物が、Ａｌ２Ｏ３、ＲＥＯ、ＴｉＯ２、Ｙ２Ｏ３、ＺｒＯ２、及びこれらの複合金属酸化物からなる群から選択される、請求項１に記載の複合材。
【請求項３】
前記ガラスセラミックが、少なくとも１５ＧＰａの硬度を有する、請求項１に記載の複合材。
【請求項４】
第１の金属酸化物と第２の金属酸化物とを含む複数のガラス体で、前記第１の金属酸化物と前記第２の金属酸化物がそれぞれ異なっており、前記ガラス体がＴｇとＴｘを有しており、このＴｇとＴｘとの差が少なくとも５℃であり、前記ガラス体が、その総重量を基準にして２０重量％以下のＳｉＯ２と、２０重量％以下のＢ２Ｏ３と、４０重量％以下のＰ２Ｏ５とを含む、ガラス体を用意する工程と、
前記ガラス体をＴｇ超まで加熱し、前記複数のガラス体の少なくとも一部を合体させてバルクガラス体をもたらす工程と、
前記バルクガラス体を熱処理してガラスセラミックを形成させる工程と、
力散逸物質を用意する工程と、
前記ガラスセラミックと前記力散逸物質の少なくとも一方に接着物質を適用する工程と、
前記ガラスセラミックと前記力散逸物質を積層する工程と、を含む、透明複合材を作製する方法。
【請求項５】
前記第１の金属酸化物と前記第２の金属酸化物が、Ａｌ２Ｏ３、Ｂｉ２Ｏ３、ＣａＯ、ＣｏＯ、Ｃｒ２Ｏ３、ＣｕＯ、Ｆｅ２Ｏ３、Ｇａ２Ｏ３、ＨｆＯ２、ＭｇＯ、ＭｎＯ、Ｎｂ２Ｏ５、ＮｉＯ、ＲＥＯ、Ｓｃ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、Ｖ２Ｏ５、Ｙ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＺｒＯ２、及びこれらの複合金属酸化物からなる群から選択される、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記力散逸物質が、（ａ）ポリカーボネート、ポリアクリル、セルロースアセテートブチレート、ナイロン、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリウレタン、及びそれらの組み合わせからなる群、又は（ｂ）ポリウレタン、ポリアミド繊維、キャストアクリル、ポリカーボネート、マグネシウム、アルミニウム、鉄、及びそれらの組み合わせからなる群から選択される物質を含む、請求項１又は４に記載の発明。
【請求項７】
Ａｌ２Ｏ３、ＣａＯ、ＣｏＯ、Ｃｒ２Ｏ３、ＣｕＯ、Ｆｅ２Ｏ３、ＨｆＯ２、ＭｇＯ、ＭｎＯ、Ｎｂ２Ｏ５、ＮｉＯ、ＲＥＯ、Ｓｃ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、Ｖ２Ｏ５、Ｙ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＺｒＯ２、及びこれらの複合金属酸化物からなる群から選択される第１の金属酸化物と、Ａｌ２Ｏ３、Ｂｉ２Ｏ３、ＣａＯ、ＣｏＯ、Ｃｒ２Ｏ３、ＣｕＯ、Ｆｅ２Ｏ３、Ｇａ２Ｏ３、ＨｆＯ２、ＭｇＯ、ＭｎＯ、Ｎｂ２Ｏ５、ＮｉＯ、ＲＥＯ、Ｓｃ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、Ｖ２Ｏ５、Ｙ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＺｒＯ２、及びこれらの複合金属酸化物からなる群から選択される第２の金属酸化物とを含むガラスセラミックで、前記第１の金属酸化物と前記第２の金属酸化物がそれぞれ異なっており、前記ガラスセラミックが少なくとも１３ＧＰａの硬度を備えており、前記ガラスセラミックが、それぞれに対して垂直になっているｘ、ｙ、及びｚ寸法を有しており、寸法ｘ及びｙがそれぞれ少なくとも１０ミリメートルである、ガラスセラミックを用意する工程と、
力散逸物質を用意する工程と、
前記ガラスセラミックと前記力散逸物質の少なくとも一方に接着物質を塗布する工程と、
前記ガラスセラミックと前記力散逸物質を積層する工程と、を含む、透明複合物質を作製する方法。
【請求項８】
前記ガラスセラミックが、Ｂ２Ｏ３、ＧｅＯ２、Ｐ２Ｏ５、ＳｉＯ２、ＴｅＯ２、及びそれらの組み合わせを、前記ガラスセラミックの総重量を基準にして合わせて２０重量％以下を含む、請求項１、４及び７のいずれか１項に記載の発明。
【請求項９】
前記接着物質が、ポリウレタン接着剤、ポリブチルビニル、熱硬化性樹脂、紫外線硬化樹脂、アクリル接着剤、及びそれらの組み合わせからなる群から選択される物質を含む、請求項１、４及び７のいずれか１項に記載の発明。
【請求項１０】
前記力散逸物質が、ポリカーボネート、ポリアクリル、セルロースアセテートブチレート、ナイロン、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリウレタン、及びそれらの組み合わせからなる群から選択される物質を含む、請求項１、４及び７のいずれか１項に記載の発明。
【請求項１１】
前記ガラスセラミックが、結晶性金属酸化物、金属炭化物、金属窒化物、金属ホウ化物、及びダイヤモンドからなる群から選択される非ガラス物質を含む、請求項１，４及び７のいずれか１項に記載の発明。
【手続補正書】
【提出日】平成22年10月1日(2010.10.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
図１および図２に戻ると、プレス機２２は、プレスゾーンの両側でクランプ力の方向に平行に延在する第１のレール５８および第２のレール６０を含んで示されている。レール５８、６０は、金型３０のバッチがより効率的にプレス機２２を移動できるように積み降ろしゾーンを設けるために、プレス台２４から側方に延在してもよい。レール５８、６０は、金型３０を直接支持してもよく、またはより好ましくは、搬送体６２を支持し、それが次にそれぞれの金型半体３２、３４を支持してもよい。搬送体６２は、単一の金型半体３２または３４を自在に支持しつつ、第１のレール５８および第２のレール６０に直接接続してそれらに沿って摺動するよう設計されている。言い換えれば、搬送体６２を変えたり動かしたりすることなく、金型半体３２または３４は、前方または後方を向く配向で搬送体６２に配置され得る。言い換えれば、片寄ったゲート４６は、第１のレール５８に近接して、または第２のレール６０に近接して位置付け可能である。この自在で可逆的な結合は、各金型半体３２、３４のテーパ付き側縁４２を、自在の位置合わせ界面で形成することによって達成される。図示された例示的な実施例では、その位置合わせ界面は、金型半体３２、３４上のテーパ付き側縁４２を活用してもよい。図示の通り、これらの側縁４２は、各搬送体６２の相補形の溝６４に嵌まり合うための丸縁を有して形成されてもよい。もちろん、他の位置合わせ界面設計が、等しい効果を有して、図に示された丸縁および溝６４の構成に取って代わってもよい。さらに、代替的な一実施例では、単一の搬送体６２が１つ以上の金型アセンブリ３０全体、すなわち複数の金型半体３２、３４を支持してもよいことが考えられる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１２】
前記圧縮するステップは、プレスラムに接続された少なくとも１つの可動楔およびプレス台に接続された少なくとも１つの静止楔を共に作用させるステップをさらに含む、請求項１１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月27日(2010.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
構造化剥離ライナーを形成する方法であって、前記方法が、
押出可能材料を提供する工程と、
前記押出可能材料を、輪郭を有するダイを通して押し出すことで、ベース及び前記ベース上の少なくとも１つのレールを形成する工程と、を含み、前記レールが前記ベース上に１００マイクロメートル未満の高さを有する、構造化剥離ライナーを形成する方法。
【請求項２】
第１及び第２押出可能材料を提供する工程と、前記第１及び第２押出可能材料を前記ダイを通して押し出し、第１層及び第２層を作り出す工程と、を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記押出可能材料が、シリコーン又はフルオロカーボン剥離材料を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
ラミネート構造物を形成する方法であって、前記方法が、
前記レールが構造化表面を形成する、請求項１に記載の構造化剥離ライナーを提供する工程と、
前記構造化表面上に接着剤を接触させて、前記構造化表面上に接着剤層を形成する工程と、を含む、ラミネート構造物を形成する方法。
【請求項５】
構造化剥離ライナーを形成する方法であって、前記方法が、
押出可能材料を提供する工程と、
既存の基材を提供する工程と、
前記押出可能材料を、輪郭を有するダイを通して押し出し、それによって前記既存の基材上にベース及び少なくとも１つのレールを形成する工程と、を含み、レールそれぞれが前記ベース上に１００マイクロメートル未満の高さを有する、構造化剥離ライナーを形成する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月21日(2010.9.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
航空機におけるドア開口を開閉するドアであって、
航空機構造に対して第1取付け点にて枢動可能に係合された第1ドア部材と、
前記第1ドア部材に対して枢動可能に係合された第2ドア部材と、
前記第2ドア部材に対して枢動可能に係合された第3ドア部材と、
前記第1および第3ドア部材に対して枢動可能に係合された第1連結部材と、
前記第2ドア部材および前記航空機構造に対して第2取付け点にて枢動可能に係合された第2連結部材とを備え、
前記各ドア部材および前記各連結部材は、閉じ位置にあるときに単一のドアを形成すべく配置され、且つ、前記各ドア部材および前記各連結部材は、前記第1取付け点を中心とした回転の形態での前記第1ドア部材の開き動作が、前記第2および第3ドア部材の夫々の開き位置に向かう該第2および第3ドア部材の実質的に同時的な動作に帰着する如く相互接続される、ドア。
【請求項２】
前記ドア部材の各々は、外側面と、反対側の内側面とを備え、
前記外側面は、当該ドアの前記閉じ位置において、前記航空機の表板と実質的に形状適合すべく配置され、且つ、
前記各ドア部材の前記開き位置への動作は、前記第2ドア部材の外側面に向かう前記第1ドア部材の外側面の相対的枢動、および、前記第3ドア部材の内側面に向かう前記第2ドア部材の内側面の相対的枢動に帰着する、請求項１に記載のドア。
【請求項３】
前記第2ドア部材は、前記第1ドア部材の縁部の近傍の開孔に形状適合すべく、且つ、当該ドアが前記閉じ位置にあるときに実質的に前記開孔内に着座すべく形成される、請求項１または請求項２に記載のドア。
【請求項４】
前記第1連結部材は、ブリッジ部材を介して前記第1ドア部材に対して枢動可能に係合され、前記ブリッジ部材は、前記開き動作の間において前記第1連結部材が前記開孔内を移動しうる様に前記開孔に張りわたる、請求項３に記載のドア。
【請求項５】
前記第2ドア部材は、前記開き動作の間において該第2ドア部材が前記開孔から完全に外方移動しうるべく、前記第1ドア部材に対して枢動可能に係合される、請求項３または請求項４に記載のドア。
【請求項６】
前記各連結部材および前記各ドア部材は、実質的に平行である一群の軸心の回りに枢動可能に係合される、請求項１から請求項５のいずれか一つの請求項に記載のドア。
【請求項７】
前記各ドア部材および前記第1連結部材は、前記第1取付け点にて結合された４バーリンク機構であって、前記第2連結部材により作動されるという４バーリンク機構を構成する、請求項１から請求項６のいずれか一つの請求項に記載のドア。
【請求項８】
前記各連結部材の機能は、複数の斯かる連結部材により提供される、請求項１から請求項７のいずれか一つの請求項に記載のドア。
【請求項９】
前記各ドア部材は、一つ以上のヒンジ機構を介して枢動可能に係合される、請求項１から請求項８のいずれか一つの請求項に記載のドア。
【請求項１０】
前記第1取付け点は、当該ドアがその開き位置にあるときに前記第1ドア部材の少なくとも一部分が前記航空機の本体内に位置する如く配置される、請求項１から請求項９のいずれか一つの請求項に記載のドア。
【請求項１１】
前記開き動作の間において、前記第2および第3ドア部材の枢動動作の割合は前記第1ドア部材の枢動動作の割合の２倍である、請求項１から請求項１０のいずれか一つの請求項に記載のドア。
【請求項１２】
前記第1取付け点からの前記第2取付け点の径方向オフセットは、前記第2および第3ドア部材の動作の振幅を決定する、請求項１から請求項１１のいずれか一つの請求項に記載のドア。
【請求項１３】
前記第1取付け点を中心として描かれた円弧上における前記第2取付け点の円周方向位置は、前記第1および第2ドア部材の相対的動作を決定する、請求項１からの請求項１２のいずれか一つの請求項に記載のドア。
【請求項１４】
前記第2連結部材の機能的軸心は、当該ドアが閉じられたときには前記第1および第2取付け点を包含する平面に対して実質的に直交し、且つ、当該ドアが開かれたときには、前記平面に対して実質的に平行である、請求項１から請求項１３のいずれか一つの請求項に記載のドア。
【請求項１５】
航空機におけるドア開口を開閉するドアであって、
該ドアは、枢動可能に結合された第1、第2および第3ドア部材であって、該各ドア部材が航空機表板において実質的に直線的な配置で位置決めされるという閉じ位置から、前記第2および第3ドア部材が実質的に前記第1ドア部材の最低縁部の上方に位置されて相対的に折畳まれた配置で位置決めされるという開き位置まで移動すべく配置された第1、第2および第3ドア部材を備える、ドア。
【手続補正書】
【提出日】平成22年8月12日(2010.8.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ろ過器の状態のインジケータを具える原流体をろ過する流体ろ過器（１００；２００）において、
前記原流体と接触する少なくとも１の浸食性部材（１５０；２７８）と；
監視者が前記浸食性部材の外観を測定し、これによって前記ろ過器の状態を測定できるようにする視覚的な指標装置（１３２，１３３；２７０，２７２）とを具えるインジケータ（１３０；２６０）と；を具え、
前記浸食性部材（１５０；２７８）は、前記流体によって又は前記流体内の成分との相互作用によって浸食されてその物理的形態を変え、これによって浸食の程度が前記ろ過器の状態を表すことを特徴とするろ過器。
【請求項２】
請求項１に記載のろ過器において、前記視覚的な指標装置が、初期状態から最終状態まで転位可能であり、前記最終状態まで転位するように付勢されているインジケータ部材を具え、前記少なくとも１の浸食性部材が前記インジケータ部材の付勢された転位を妨げており、これによって少なくとも一の浸食性部材の浸食が前記インジケータ部材の前記初期状態から前記最終状態への転位を生じさせ、当該転位が前記ろ過器の状態を示すことを特徴とするろ過器。
【請求項３】
原流体をろ過する流体ろ過器と組み合わせて使用するインジケータ装置（１３０）において、当該装置が：
前記原流体と接触する少なくとも１の浸食性部材（１５０；２７８）と；
監視者が前記浸食性部材の外観を測定し、これによって前記ろ過器の状態を測定できるようにする視覚的な指標装置（１３２，１３３；２７０，２７２）とを具え、
前記少なくとも１の浸食性部材（１５０；２７８）が、前記流体によって又は前記流体内の成分との相互作用によって浸食されてその物理的形態を変え、これによって浸食の程度が前記ろ過器の状態を表すことを特徴とするインジケータ装置。
【請求項４】
請求項３に記載のインジケータ装置において、前記視覚的な指標装置が、初期状態から最終状態まで転位可能であり、前記最終状態まで転位するように付勢されているインジケータ部材を具え、前記少なくとも１の浸食性部材が前記インジケータ部材の付勢された転位を妨げており、これによって少なくとも一の浸食性部材の浸食が前記インジケータ部材の前記初期状態から前記最終状態への転位を生じさせ、当該転位が前記ろ過器の状態を示すことを特徴とするインジケータ装置。
【請求項５】
原流体をろ過する流体ろ過システムにおいて：
（ｉ）原流体をろ過する流体ろ過器（１００；２００）；と
（ｉｉ）前記原流体と接触する少なくとも１の浸食性部材（１５０；２７８）と、監視者が前記浸食性部材（１５０；２７８）の外観を測定し、これによって前記ろ過器の状態を測定できるようにする視覚的な指標装置（１３２，１３３；２７０，２７２）とを具えるインジケータ（１３０；２６０）と；を具え、
前記少なくとも１の浸食性部材（１５０；２７８）は、前記原流体によって又は前記流体内の成分との相互作用によって浸食されてその物理的形態を変え、これによって浸食の程度が前記ろ過器の状態を表すことを特徴とする流体ろ過システム。
【請求項６】
請求項５に記載の流体ろ過システムにおいて、前記視覚的な指標装置が、初期状態から最終状態まで転位可能であり、前記最終状態まで転位するように付勢されているインジケータ部材を具え、前記少なくとも１の浸食性部材が前記インジケータ部材の付勢された転位を妨げており、これによって少なくとも一の浸食性部材の浸食が前記インジケータ部材の前記初期状態から前記最終状態への転位を生じさせ、当該転位が前記ろ過器の状態を示すことを特徴とする流体ろ過システム。
【請求項７】
流体ろ過器の状態を監視する方法において：
前記原流体と接触する少なくとも１の浸食性部材と、監視者が前記少なくとも１の浸食性部材の外観を測定し、これによって前記ろ過器の状態を測定することを可能にする視覚的な指標装置とを具える前記ろ過器の状態のインジケータであって、前記少なくとも１の部材が、前記流体又は前記流体内の成分との相互作用によって浸食されてその物理的形態を変えるインジケータを提供するステップと；
前記ろ過器の状態のインジケータである浸食の程度を判定するステップと；
を具えることを特徴とする方法。
【請求項８】
請求項７に記載の方法において、
前記視覚的な指標装置が、初期状態から最終状態まで転位可能であり、前記最終状態まで転位するように付勢されているインジケータ部材を具え；前記少なくとも１の浸食性部材が前記インジケータ部材の付勢された転位を妨げており、これによって少なくとも一の浸食性部材の浸食が前記インジケータ部材の前記初期状態から前記最終状態への転位を生じさせるものであり、
前記インジケータ部材の状態、前記ろ過器の状態の指標を提供する前記インジケータ部材の転位を監視するステップを具えることを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月21日(2010.9.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体パターンデータに従って受像体上に液体パターンを堆積する連続液滴放出システム用の液滴偏向装置であって、
当該液滴偏向装置は：
公称飛行面に対して実質的に平行でかつ該面内に属する公称飛行路を有する複数の液滴流に分裂する複数の連続液体流を放出する複数の液滴ノズル；
負圧発生源と接続する排気端部及び前記公称飛行面に隣接する開口部を有する衝突端部を有するエアフロープレナム；
を有し、
大気は、前記公称飛行面に対して垂直な方向に液滴を偏向する目的で前記開口部に引き込まれ、
前記開口部は、前記ノズル軸に平行に配向する上流内端と下流内端を有する上流壁端部と下流壁端部、及び前記公称飛行路に対して平行に配向する第1側壁内端と第2側壁内端を有する第1側壁端部と第2側壁端部によって境界が画定され、
前記空気偏向方向における前記公称飛行面からの前記上流壁端部と下流壁端部の間隔は、前記空気偏向方向における前記公称飛行面からの前記第1側壁端部と第2側壁端部の間隔よりも離れている、
液滴偏向装置。
【請求項２】
液体パターンデータに従って受像体上に液体パターンを堆積する連続液滴放出システム用の液滴偏向装置であって、
当該液滴偏向装置は：
公称飛行面に対して実質的に平行でかつ該面内に属する公称飛行路を有する複数の液滴流に分裂する複数の連続液体流を放出する複数の液滴ノズル；
液体パターンデータに従って、連続液体流が少なくとも大きな体積又は小さな体積の複数を有する液滴に分裂するように備えられた液滴同期装置；
負圧発生源と接続する排気端部、並びに、上流壁、下流壁、第1側壁と第2側壁、及び上流壁端部、下流壁端部と、第1側壁と第2側壁の端部によって取り囲まれる1次開口部を有する衝突端部を有するエアフロープレナム；
前記複数の液滴流が通過するように位置設定及びサイズ設定がなされた、前記上流壁を貫通する上流スロット開口部；
少なくとも大きな液滴堆積を有する液滴が通過するように位置設定及びサイズ設定がなされた、前記下流壁を貫通する下流スロット開口部；
を有し、
前記負圧源は、前記1次開口部、前記上流スロット、及び前記下流スロットを介して、大気を前記エアフロープレナムへ引き込み、
該引き込みにより少なくとも小さな液滴体積を有する液滴は、前記公称飛行面に対して垂直な空気偏向方向へ偏向される、
液滴偏向装置。
【請求項３】
液体パターンデータに基づいて媒体上に液体パターンを生成する方法であって：
公称飛行面に対して実質的に平行でかつ該面内に属していて前記媒体に衝突する公称飛行路を有する複数の液滴流に分割される複数の連続液体流を放出する複数の液滴ノズルを供する工程；
液体パターンデータに従って、少なくとも小さな液滴体積又は大きな液滴体積を有する連続液滴流への前記複数の連続液体流の分裂の同期をとる工程；
負圧源と接続する排気端部と1次開口部を有する衝突端部、前記複数の液滴流が通過するように位置設定及びサイズ設定がなされた、前記上流壁を貫通する上流スロット開口部、及び、少なくとも大きな液滴堆積を有する液滴が通過するように位置設定及びサイズ設定がなされた、前記下流壁を貫通する下流スロット開口部を有するエアフロープレナムを供する工程；
前記1次開口部、前記上流スロット、及び前記下流スロットを介して前記エアフロープレナムへ大気を引き込む前記排気端部に負圧源を供することで、前記公称飛行面に対して垂直な空気偏向方向に小さな液滴体積を有する液滴を偏向する工程；
を有する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月15日(2010.9.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体；
該支持体上に配列された複数の行導体；
該支持体上に配列された複数の列導体；
該支持体上に行及び列を成して配列された複数のエジェクタ、ここで、該複数のエジェクタのそれぞれは、該支持体上に配列された抵抗素子及び該複数のエジェクタのそれぞれに専用の、該支持体を通る供給通路を含む；及び
各抵抗素子と組合わさる半導体デバイス、ここで、該半導体デバイスは、該半導体デバイスと組合わさる該抵抗素子を作動させるために、該複数の行導体のうちの１つ又は該複数の列導体のうちの１つからの信号に対して応答する、
を含んで成るプリントヘッド。
【請求項２】
支持体を用意すること；
該支持体上に配列された複数の行導体を用意すること；
該支持体上に配列された複数の列導体を用意すること；
該支持体上に行及び列を成して配列された複数のエジェクタを用意すること、
該複数のエジェクタのそれぞれは、該支持体上に配列された抵抗素子及び該複数のエジェクタのそれぞれに専用の、該支持体を通る供給通路を含む；
各抵抗素子と組合わさる半導体デバイスを用意すること、
該半導体デバイスは、該複数の行導体のうちの１つ又は該複数の列導体のうちの１つからのゲート信号、及び該複数の行導体のうちの他の導体又は該複数の列導体のうちの１つの導体からの電力に対して応答するようになっており、該半導体デバイスは該支持体に電気的に接続されている；
ａ． 作動状態又は非作動状態に相当する電圧を各列導体に提供すること；及び
ｂ． 可能化ゲート信号を該行導体のうちの１つに提供すること
によりエジェクタ行を作動させること；そして
別のエジェクタ行のために工程ａ及びｂを繰り返すことにより、別のエジェクタ行を作動させること
を含んで成るプリントヘッド・エジェクタを作動させる方法。
【請求項３】
各エジェクタ行のために工程ａ及びｂを連続して繰り返すことをさらに含む請求項２に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月16日(2010.9.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
自動化された印刷作業フローを提供する方法であって：
印刷意図を指定する印刷注文スキーマおよび印刷処理ステップの制御パラメータを指定する制御スキーマを作成する段階と；
作業フローを自動的に制御するための、静的なコンテキストに基づく絵的な計画を作成する段階と；
前記印刷注文スキーマに部分的には基づく印刷注文を受領するのに応答して、前記絵的な計画を自動的に実行する段階とを有し、前記実行する段階が：
提出された印刷注文に部分的には基づいて実行コンテキストを導出する段階と；
前記実行コンテキストに基づいて少なくとも一つの制御パラメータ値を動的に生成する段階とを有する、
方法。
【請求項２】
前記印刷注文スキーマが単純化された印刷意図を指定するための単純化された印刷注文スキーマである、請求項１記載の方法。
【請求項３】
印刷注文スキーマが制作物型に関連付けられる、請求項２記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月24日(2010.9.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ハブ及び複数の羽根を有する船舶用安全プロペラであって、各羽根は、前記ハブに隣接する基端から、該ハブから離間した先端へ延出する前縁及び後縁を有しており、さらに、安全部材は、各羽根の前縁の長さの少なくとも５０パーセントに亘って設けられており、
前記安全部材は前記羽根の前縁よりも大きい厚み及び高さの少なくとも一方を有していることと、
前記安全部材の少なくとも一部は、前記羽根のスラスト面、即ち駆動面から、前記プロペラの回転方向前方に延出すると共に、該安全部材の中心軸が前記羽根の前縁と平行であること、及び前記羽根の前縁と一直線に整列させられることのいずれかの状態であることと、前記中心軸が、前記羽根の基端から先端の方向へ前縁を次第に導くように配置されることとのいずれかの状態であることと、
前記安全部材は、前記羽根の隣接部まで平滑に輪郭が形成されることとを特徴とするプロペラ。
【請求項２】
（前記ハブの後端から見たときに）右方向に回転するプロペラに対して、前記羽根のスラスト面、即ち駆動面上の安全部材は、該プロペラの後端へ向けられるように見えることを特徴とする請求項１に記載のプロペラ。
【請求項３】
前記安全部材は、前記羽根の前縁の全長の５０パーセントよりも長く延出すると共に、該安全部材が設けられていない前縁の残りの部分よりも先に該安全部材が障害物に突き当たるような高さを有することを特徴とする請求項１又は２に記載のプロペラ。
【請求項４】
前記安全部材は、前記前縁上に一定の高さを有すること、及び前記羽根の先端へ向けて相対的に高さが増加することのいずれかの状態であること特徴とする請求項３に記載のプロペラ。
【請求項５】
前記安全部材は、前記羽根に取り付けられること、及び該羽根と一体形成されることのいずれかの状態であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載のプロペラ。
【請求項６】
少なくとも１個の耐キャビテーション溝が、各羽根に設けられることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載のプロペラ。
【請求項７】
各キャビテーション溝は、平面視において、円形、正方形、矩形及び変形矩形形状のいずれかであることを特徴とする請求項６に記載のプロペラ。
【請求項８】
前記耐キャビテーション溝の側壁は、前記羽根を貫通して、前記プロペラの回転軸と平行に延出することを特徴とする請求項７に記載のプロペラ。
【請求項９】
各耐キャビテーション溝の側壁は、前記ハブの回転軸と平行に位置することを特徴とする請求項７に記載のプロペラ。
【請求項１０】
前記耐キャビテーション溝は、前記ハブにおいて測定されると、前記羽根の前縁と後縁との間の距離の少なくとも５０パーセントの間隔があけられることを特徴とする請求項７に記載のプロペラ。
【請求項１１】
前記耐キャビテーション溝は、前記ハブから前記羽根の先端までの距離の２０パーセントから７０パーセントの間隔があけられることを特徴とする請求項７に記載のプロペラ。
【請求項１２】
正方形、矩形及び変形矩形形状のいずれかをなす前記耐キャビテーション溝に対して、該耐キャビテーション溝の対向側壁は、前記ハブから半径方向に延びる該溝の中心軸と平行に延出することを特徴とする請求項７に記載のプロペラ。
【手続補正書】
【提出日】平成22年8月30日(2010.8.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
移動式ウォータースクリーンシステムにおいて：
垂直方向に移動するウォータースクリーンであって、外側スクリーン面と、当該外側スクリーン面から外側に向かって延在し、第１及び第２の羽根サイドエッジ間でウォータースクリーンの幅に渡って横方向に延在する羽根の列を具え、前記ウォータースクリーンの下端部で下流経路と上流経路間で方向を転換する移動式ウォータースクリーンと；
前記ウォータースクリーンを制限する第１の側部とその反対側の第２の側部を具えるウォータースクリーン・サポート構造と；
前記ウォータースクリーンの下端部を受ける、前記サポート構造の第１の側部から第２の側部に延在する桶型を形成する裾プレートと；
前記ウォータースクリーンの下端部でサポート構造の第１の側部に配置された第１のサイドシールであって、前記裾プレート桶で受ける第１のプレートを具え、通過する第１の羽根サイドエッジとの接触によって、前記サポート構造の第１の側部に対して弾性的に押圧可能な摩耗面を有するサイドシールと；
前記ウォータースクリーンの下端部でサポート構造の第２の側部に配置された第２のサイドシールであって、前記裾プレート桶で受ける第２のプレートを具え、通過する第２の羽根サイドエッジとの接触によって、前記サポート構造の第２の側部に対して弾性的に押圧可能な摩耗面を有するサイドシールと；
を具えることを特徴とする移動式ウォータースクリーンシステム。
【請求項２】
請求項１に記載の移動式ウォータースクリーンシステムが更に：
前記第１のプレートと前記第１の側部との間に設置された第１の充填材と；
前記第２のプレートと前記第２の側部との間に設置された第２の充填材と；
を具えることを特徴とする移動式ウォータースクリーンシステム。
【請求項３】
請求項２に記載の移動式ウォータースクリーンシステムにおいて、
前記第１の充填材と第２の充填材は、弾性のある押圧可能な材料でできていることを特徴とする移動式ウォータースクリーンシステム。
【請求項４】
請求項２に記載の移動式ウォータースクリーンシステムにおいて、
前記第１の充填材と第２の充填材が発泡性材料でできていることを特徴とする移動式ウォータースクリーンシステム。
【請求項５】
請求項１に記載の移動式ウォータースクリーンにおいて、
前記第１のプレートと第２のプレートがナイロン製であることを特徴とする移動式ウォータースクリーンシステム。
【請求項６】
請求項１に記載の移動式ウォータースクリーンシステムにおいて、
前記第１のプレートおよび第２のプレートがそれぞれ、ベースと、当該ベースから延在してＵ字型プロファイルを規定する一対のアームとを具え、前記ベースが第１の平面を規定しており、前記一対のアームが当該第１の平面に対して傾斜した第２の平面を規定していることを特徴とする移動式ウォータースクリーンシステム。
【請求項７】
請求項６に記載の移動式ウォータースクリーンシステムにおいて、
前記第１のプレートは、前記ベースの反対側の前記一対のアームの遠位端で、前記サポート構造の第１の側部に連結されており、前記第２のプレートは、前記ベースの反対側の前記一対のアームの遠位端で、前記サポート構造の第２の側部に連結されていることを特徴とする移動式ウォータースクリーンシステム。
【請求項８】
請求項１に記載の移動式ウォータースクリーンシステムにおいて、
前記第１及び第２のプレートはそれぞれ、ベースと、一対のヒンジジョイントで前記ベースに連結されている一対のアームとで形成されたＵ字型プロファイルを具え、前記ベースが前記一対のアームと鈍角をなしていることを特徴とする移動式ウォータースクリーンシステム。
【請求項９】
請求項１に記載の移動式ウォータースクリーンシステムにおいて、
前記第１及び第２のプレートがそれぞれ、ベースと、当該ベースから延在してウォータースクリーンの下端部を収容するための前記アーム間の段差でＵ字型プロファイルを規定する一対のアームを具えることを特徴とする移動式ウォータースクリーンシステム。
【請求項１０】
請求項１に記載の移動式ウォータースクリーンシステムが更に、
前記羽根の前記第１のサイドエッジと第２のサイドエッジとの間の側方位置で、前記羽根の列に垂直方向に整列したギャップと；
前記ウォータースクリーンの下流の前記整列したギャップ内に配置して、前記ウォータースクリーンを支える垂直ビームと；
前記裾シール桶に設置され、前記ウォータースクリーンが前記裾プレート桶を通って移動する際に、前記整列しているギャップでしっかり受けられている隆起したアーチ形ストリップを形成する内部シールと；
を具えることを特徴とする移動式ウォータースクリーンシステム。
【請求項１１】
請求項１０に記載のウォータースクリーンシステムにおいて、
前記垂直ビームが、下端部で前記内部シールに取付けられていることを特徴とする移動式ウォータースクリーンシステム。
【請求項１２】
ウォータースクリーン用裾シールであって、当該裾シールが、弾性材料でできたプレートを具え、ベースと、Ｕ字型プロファイルを規定する前記ベースから延在する一対のアームを有しており、前記ベースが第１の平面を規定しており、前記一対のアームが当該第１の平面に対して傾斜した第２の平面を規定していることを特徴とするウォータースクリーン用裾シール。
【請求項１３】
請求項１２に記載のウォータースクリーン用裾シールが更に、
前記一対のアームそれぞれと前記ベースとの交差部分において形成されたリビングヒンジを具えることを特徴とするウォータースクリーン用裾シール。
【請求項１４】
請求項１２に記載のウォータースクリーン用裾シールにおいて、前記プレートがナイロン製であることを特徴とするウォータースクリーン用裾シール。
【請求項１５】
請求項１２に記載のウォータースクリーン用裾シールにおいて、前記ベースが前記一対のアームと鈍角をなすことを特徴とするウォータースクリーン用裾シール。