【事件の表示】
　特願２０１４−５０９２２４「ネガ型感光性シロキサン組成物」拒絶査定不服審判事件〔平成２５年１０月１０日国際公開、ＷＯ２０１３／１５１１６６、請求項の数（１０）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
１　手続の経緯
　本願は、２０１３年（平成２５年）４月５日（優先権主張平成２４年４月６日）を国際出願日とする出願であって、平成２９年１月１８日付けで拒絶理由が通知され、同年４月２０日に意見書の提出とともに手続補正がなされ、同年６月２７日付けで拒絶理由が通知され、同年８月３日に意見書が提出され、同年１０月１３日付けで拒絶査定（以下、当該拒絶査定を「原査定」といい、原査定における拒絶の理由を「原査定拒絶理由」という。）がされ、これに対し、同年１２月２１日に拒絶査定不服審判の請求と同時に手続補正がなされたものである。
　その後、平成３０年１０月２５日付けで拒絶理由（以下、「当審拒絶理由」という。）が通知され、同年１２月２５日に意見書の提出とともに手続補正（以下、「本件補正」という。）がなされた。
２　原査定拒絶理由の概要
　原査定拒絶理由の概要は、本願は、発明の詳細な説明の記載が、特許法第３６条第４項第１号に規定する要件を満たしていない、というものである。
３　当審拒絶理由の概要
　当審拒絶理由の概要は、以下のとおりである。
理由１（明確性）
　本願は、特許請求の範囲の請求項８の記載が、特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしていない。
理由２（進歩性）
　本願の請求項１〜１０に係る発明は、その優先権主張の日前に日本国内又は外国において、頒布された下記の刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明に基づいて、その優先権主張の日前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
＜引用文献等一覧＞ 
引用文献１：特開２０１１−９５４３２号公報
引用文献２：特開２０１０−２６６８０３号公報
引用文献３：特開２００４−１０９４０９号公報
引用文献４：特開２０００−２５８９０４号公報
引用文献５：特開２００７−１９３３１８号公報
引用文献６：国際公開第２０１２／０２６４００号
４　本件発明
　本願の請求項１〜１０に係る発明（以下、それぞれ、「本件発明１」〜「本件発明１０」という。）は、本件補正により補正された特許請求の範囲の請求項１〜１０に記載された事項により特定される、以下のとおりの発明である。
「　　【請求項１】
　（Ｉａ）プリベーク後の膜が、５重量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液に可溶であり、その溶解速度が３，０００Å／秒以下である第一のポリシロキサンと（Ｉｂ）プリベーク後の膜の、２．３８重量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液に対する溶解速度が１５０Å／秒以上あるポリシロキサンと
を含むポリシロキサン混合物、
　前記ポリシロキサン混合物１００重量部に対して、３．０〜１５．０重量部の、ウレイド結合を有するケイ素含有化合物、
　重合開始剤、
　溶剤、および
　現像液溶解促進剤、スカム除去剤、密着増強剤、重合禁止剤、消泡剤、界面活性剤、増感剤、および安定剤からなる群から選択される添加剤
からなり、
　ポリシロキサン混合物に含まれるポリシロキサン（Ｉａ）／ポリシロキサン（Ｉｂ）の重量比が１／９９〜８０／２０であり、
　前記密着増強剤が、イミダゾール類またはシランカップリング剤である
ことを特徴とする、ネガ型感光性シロキサン組成物。
　　【請求項２】
　（Ｉａ）プリベーク後の膜が、５重量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液に可溶であり、その溶解速度が３，０００Å／秒以下である第一のポリシロキサンと（Ｉｂ）プリベーク後の膜の、２．３８重量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液に対する溶解速度が１５０Å／秒以上あるポリシロキサンと
を含むポリシロキサン混合物、
　前記ポリシロキサン混合物１００重量部に対して、３．０〜１５．０重量部の、ウレイド結合を有するケイ素含有化合物、
　重合開始剤、および
　溶剤
からなり、
　ポリシロキサン混合物に含まれるポリシロキサン（Ｉａ）／ポリシロキサン（Ｉｂ）の重量比が１／９９〜８０／２０である
ことを特徴とする、ネガ型感光性シロキサン組成物。
　　【請求項３】
　前記ポリシロキサン混合物の重量平均分子量が５，０００以下である、請求項１または２に記載のネガ型感光性シロキサン組成物。
　　【請求項４】
　前記ケイ素含有化合物が、下記一般式（ｉｉａ）または（ｉｉｂ）で表されるものである、請求項１〜３のいずれか一項に記載のネガ型感光性シロキサン組成物。
　　【化１】
　（式中、Ｒ’はケイ素含有炭化水素基である。）
　　【請求項５】
　前記ケイ素含有化合物が、ケイ素含有イソシアヌレート化合物である、請求項４に記載のネガ型感光性シロキサン組成物。
　　【請求項６】
　ポリシロキサン混合物１００重量部に対して０．００１〜１０重量部の重合開始剤を含んでなる、請求項１〜５のいずれか１項に記載のネガ型感光性シロキサン組成物。
　　【請求項７】
　請求項１〜６のいずれか１項に記載のネガ型感光性シロキサン組成物を基板に塗布して塗膜を形成させ、塗膜を露光し、現像することを含んでなる、硬化膜の製造方法。
　　【請求項８】
　露光後かつ現像前に、加熱工程を含まない、請求項７に記載の硬化膜の製造方法。
　　【請求項９】
　請求項１〜６のいずれか１項に記載のネガ型感光性シロキサン組成物から形成されたことを特徴とする硬化膜。
　　【請求項１０】
　請求項９に記載の硬化膜を具備してなることを特徴とする素子。」
５　引用文献及び引用発明
（１）引用文献１の記載事項
　当審拒絶理由に引用され、本願優先権主張の日前の平成２３年５月１２日に頒布された刊行物である引用文献１（特開２０１１−９５４３２号公報）には、以下の記載事項がある。なお、下線部は、合議体が発明の認定等に用いた箇所を示す。
ア　「【特許請求の範囲】
【請求項１】
　［Ａ］シロキサンポリマー、
　［Ｂ］下記式（１）で示される繰り返し単位を有するポリマー、及び
　［Ｃ］感放射線性酸発生剤又は感放射線性塩基発生剤
を含有する感放射線性組成物。
【化１】
（式（１）中、Ｒ１は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ２〜Ｒ６は、それぞれ独立に水素原子、ヒドロキシ基又は炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｂは単結合、−ＣＯＯ−＊又は−ＣＯＮＨ−＊であり、ｍは０〜３の整数である。但し、Ｒ２〜Ｒ６の少なくとも１つはヒドロキシ基であり、−ＣＯＯ−＊又は−ＣＯＮＨ−＊における各々の＊の結合手は（ＣＨ２）ｍの炭素と結合する。）
　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【請求項６】
　表示素子の保護膜又は層間絶縁膜を形成するために用いられる請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の感放射線性組成物。
【請求項７】
　（１）請求項６に記載の感放射線性組成物の塗膜を基板上に形成する工程、
　（２）工程（１）で形成した塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、
　（３）工程（２）で放射線を照射された塗膜を現像する工程、及び
　（４）工程（３）で現像された塗膜を加熱する工程
を含む表示素子用保護膜又は層間絶縁膜の形成方法。
【請求項８】
　請求項６に記載の感放射線性組成物から形成された表示素子の保護膜又は層間絶縁膜。」
イ　「【技術分野】
【０００１】
　本発明は、液晶表示素子（ＬＣＤ）、有機ＥＬ表示素子（ＯＬＥＤ）等の表示素子の保護膜及び層間絶縁膜を形成するための材料として好適な感放射線性組成物、その組成物から形成された保護膜及び層間絶縁膜、並びに、その保護膜及び層間絶縁膜の形成方法に関する。
　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
　本発明は以上のような事情に基づいてなされたものであり、その目的は、透明性、耐熱性（耐熱透明性）、表面硬度、及び耐擦傷性が優れると共に、高温、高湿の厳しい条件下においてもＩＴＯ透明導電膜やモリブデン等の金属配線に対する密着性、並びに耐クラック性が高い保護膜及び層間絶縁膜を形成するために好適に用いられ、かつ十分な解像性を有するポリシロキサン系ネガ型感放射線性組成物、その組成物から形成された保護膜及び層間絶縁膜、並びにその保護膜及び層間絶縁膜の形成方法を提供することである。
　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【発明の効果】
【００１８】
　以上説明したように、
本発明の感放射線性組成物は、上記［Ａ］、［Ｂ］及び［Ｃ］成分を含んでいることによって、透明性、耐熱透明性、表面硬度及び耐擦傷性という一般的な要求特性をバランス良く満たし、さらに、高温、高湿の厳しい条件下においてもＩＴＯ透明導電膜やモリブデン等の金属配線に対する優れた密着性及び耐クラック性を発揮する保護膜及び層間絶縁膜を形成可能である。
ウ　「【発明を実施するための形態】
【００１９】
　
本発明の感放射線性組成物は、［Ａ］シロキサンポリマー、［Ｂ］上記式（１）で示される繰り返し単位を有するポリマー、［Ｃ］感放射線性酸発生剤又は感放射線性塩基発生剤、及び、必要に応じてその他の任意成分（［Ｄ］脱水剤等）を含有する。
【００２０】
［Ａ］成分：シロキサンポリマー
　［Ａ］成分のシロキサンポリマーは、シロキサン結合を有する化合物のポリマーである限りは特に限定されるものではない。この［Ａ］成分は、当該成分を含む感放射線性組成物に放射線を照射することにより、後述する［Ｃ］感放射線性酸発生剤又は感放射線性塩基から発生した酸（酸性活性種）又は塩基（塩基活性種）を触媒として縮合し（場合によっては任意成分の［Ｅ］成分の特定構造を有するシラン化合物と共に縮合し）、硬化物を形成する。
　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【００３３】
［Ｂ］成分：特定構造の繰り返し単位を有するポリマー
　
［Ｂ］成分は、上記式（１）で示される繰り返し単位を有するポリマーである。当該感放射性組成物は、このような特定構造の繰り返し単位を有するポリマーを用いることによって、
ＩＴＯ透明導電膜やモリブデン等の金属配線に対して非常に高い密着性
を発揮する表示素子用保護膜及び層間絶縁膜を形成することが可能となる。
　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【００５４】
［Ｃ］成分：感放射線性酸発生剤、感放射線性塩基発生剤
　［Ｃ］成分の感放射線性酸発生剤又は感放射線性塩基発生剤は、放射線を照射することによって、［Ａ］成分のシロキサンポリマー（好ましくは上記式（２）で表される加水分解性シラン化合物の加水分解縮合物）の縮合・硬化反応、あるいは［Ａ］成分と後述する［Ｅ］成分の特定構造を有するシラン化合物との縮合・硬化反応を促進するための触媒として作用する酸性活性物質又は塩基性活性物質を放出することができる化合物と定義される。なお、［Ｃ］成分を分解し、酸性活性物質のカチオン又は塩基性活性物質のアニオンを発生するために照射する放射線としては、可視光、紫外線、赤外線、Ｘ線、α線、β線、γ線等を挙げることができる。これらの放射線の中でも、一定のエネルギーレベルを有し、大きな硬化速度を達成可能であり、しかも照射装置が比較的安価かつ小型であることから、紫外線を使用することが好ましい。
【００５５】
　また、［Ｃ］成分の感放射線性酸発生剤又は感放射線性塩基発生剤と共に、後述するラジカル重合開始剤を併用することも好ましい。ラジカル重合開始剤から生じる中性の活性物質であるラジカルは、加水分解性シラン化合物の縮合反応を促進することはないが、［Ａ］成分がラジカル重合性の官能基を有する場合に、かかる官能基の重合を促進することができる。
　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【００６２】
その他の任意成分
　 本発明の感放射線性組成物は、上記の［Ａ］〜［Ｃ］成分に加えて、所期の効果を損なわない範囲で、必要に応じて、［Ｄ］脱水剤、［Ｅ］特定構造を有するシラン化合物、［Ｆ］酸拡散制御剤、［Ｇ］ラジカル重合開始剤、［Ｈ］界面活性剤等の他の任意成分を含有することができる。
　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【００６８】
　［Ｅ］成分は、下記式（１０）又は（１２）で示されるシラン化合物である。この［Ｅ］成分は、当該成分を含む感放射線性組成物に放射線を照射することにより、上記［Ｃ］感放射線性酸発生剤又は感放射線性塩基から発生した酸（酸性活性種）又は塩基（塩基活性種）を触媒として、［Ａ］成分のシロキサンポリマー（好ましくは上記式（１１）で表される加水分解性シラン化合物の加水分解縮合物）と共に縮合し、硬化物を形成する。当該感放射線性組成物において、上記［Ｂ］成分に加えて、［Ｅ］成分としてこのような特定構造を有するシラン化合物を含有させることによって、形成される保護膜及び層間絶縁膜のＩＴＯ透明導電膜やモリブデン等の金属配線に対する密着性及び耐クラック性を、より一層向上させることができる。
【００６９】
　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【化１２】
（式（１０）中、Ｒ９及びＲ１１はそれぞれ独立に炭素数が１〜４のアルキル基であり、Ｒ１０は炭素数１〜６のアルキレン基、フェニレン基、又は式（１１）で示される基である。式（１１）中、ａは１〜４の整数である。式（１２）中、Ｒ１２、Ｒ１３及びＲ１４はそれぞれ独立に炭素数が１〜４のアルキル基であり、ｂは１〜６の整数である。）
　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【００７１】
　式（１２）のＲ１２、Ｒ１３及びＲ１４の好ましい具体例としては、［Ａ］成分との反応性の観点から、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基が挙げられる。これらのアルキル基の中でも、メチル基がより好ましい。また、式（１２）中のｂは、［Ａ］成分との反応性や相溶性の観点から、１〜３の整数であることが好ましい。
【００７２】
　当該感放射線性組成物において、［Ｅ］成分は、１種単独で用いても、２種以上組み合わせて用いてもよい。式（１０）及び（１２）のシラン化合物のうち、式（１２）で示されるイソシアヌル環を有するシラン化合物がより好ましい。このように一分子中に３個のトリアルコキシシリル基が結合したイソシアヌル環を有するシラン化合物を用いることによって、高い放射線感度を示す感放射線性組成物が得られると共に、その組成物から形成される保護膜及び層間絶縁膜の架橋度を向上させることができる。さらに、このようなイソシアヌル環含有シラン化合物を含む感放射線性組成物からは、高温、高湿の厳しい条件下においてもＩＴＯ透明導電膜やモリブデン等の金属配線に対する密着性及び耐クラック性が格段に優れた保護膜及び層間絶縁膜を形成することが可能となる。
【００７３】
　式（１０）及び（１２）で示されるシラン化合物の具体例としては、ビス（トリエトキシシリル）エタン、ビス（トリメトキシシリル）メタン、ビス（トリエトキシシリル）メタン、ビス−１，２−（トリメトキシシリル）エタン、ビス−１，２−（トリエトキシシリル）エタン、ビス−１，６−（トリメトキシシリル）ヘキサン、ビス−１，６−（トリエトキシシリル）ヘキサン、ビス−１，４−（トリメトキシシリル）ベンゼン、ビス−１，４−（トリエトキシシリル）ベンゼン、１，４−ビス（トリメトキシシリルメチル）ベンゼン、１，４−ビス（トリメトキシシリルエチル）ベンゼン、１，４−ビス（トリエトキシシリルメチル）ベンゼン、１，４−ビス（トリエトキシシリルエチル）ベンゼン、トリス−（３−トリメトキシシリルメチル）イソシアヌレート、トリス−（３−トリエトキシシリルメチル）イソシアヌレート、トリス−（３−トリメトキシシリルエチル）イソシアヌレート、トリス−（３−トリエトキシシリルエチル）イソシアヌレート、トリス−（３−トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレート、トリス−（３−トリエトキシシリルプロピル）イソシアヌレート等が挙げられる。これらのうち、放射線感度、得られる保護膜及び層間絶縁膜のＩＴＯ透明導電膜やモリブデン等の金属配線に対する密着性及び耐クラック性の向上の観点から、１，４−ビス（トリメトキシシリルメチル）ベンゼン、ビス（トリエトキシシリル）エタン、トリス−（３−トリメトキシシリルエチル）イソシアヌレート、トリス−（３−トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレート、トリス−（３−トリエトキシシリルプロピル）イソシアヌレートが特に好ましい。
【００７４】
　［Ｅ］成分の特定構造を有するシラン化合物を使用する場合の量は、［Ａ］成分１００質量部に対して、好ましくは５質量部〜７０質量部、更に好ましくは１０質量部〜５０質量部である。［Ｅ］成分の使用量を５質量部〜７０質量部とすることによって、放射線感度、及び得られる保護膜及び層間絶縁膜のＩＴＯ透明導電膜やモリブデン等の金属配線に対する密着性及び耐クラック性がバランス良く優れた感放射線性組成物を得ることができる。
【００７５】
　［Ｆ］成分の酸拡散制御剤は、感放射線性組成物の［Ｃ］成分として感放射線性酸発生剤を用いる場合に、放射線を照射することにより生じた酸性活性物質の組成物塗膜中における拡散を制御し、非露光領域での硬化反応を抑制する作用を有する。［Ｃ］成分の感放射線性酸発生剤と共に、このような酸拡散制御剤を用いることにより、感放射線性組成物の解像性（層間絶縁膜のコンタクトホールを含めた所望のパターンを精度良く形成可能な感放射線特性）をより向上させることができる。
　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【００８１】
　当該感放射線性組成物において、［Ｃ］成分の感放射線性酸発生剤又は感放射線性塩基発生剤と併用して、［Ｇ］ラジカル重合開始剤（ラジカル発生剤）を配合してもよい。ラジカル重合開始剤は、放射線を受けることにより分解してラジカルを生じ、このラジカルによってラジカル重合性官能基の重合反応を開始させる機能を有する化合物である。例えば、［Ａ］成分が式（２）において（メタ）アクリロイル基を含む化合物である場合、［Ｇ］ラジカル重合開始剤を用いることによって、［Ａ］成分同士の重合反応を促進し、硬化膜全体としての架橋度を向上させることができる。
　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【００８４】
　［Ｈ］成分の界面活性剤は、感放射線性組成物の塗布性の改善、塗布ムラの低減、放射線照射部の現像性を改良するために添加することができる。好ましい界面活性剤の例としては、ノニオン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤及びシリコーン系界面活性剤が挙げられる。
　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【００９０】
感放射線性組成物
　本発明の感放射線性組成物は、上記の［Ａ］成分のシロキサンポリマー、［Ｂ］成分の特定構造の繰り返し単位を有するポリマー、及び［Ｃ］成分の感放射線性酸発生剤又は感放射線性塩基発生剤、並びに任意成分（［Ｄ］成分の脱水剤等）を混合することによって調製される。通常、感放射線性組成物は、好ましくは適当な溶剤に溶解又は分散させた状態に調製され、使用される。例えば溶剤中で、［Ａ］、［Ｂ］及び［Ｃ］成分、並びに任意成分を所定の割合で混合することにより、感放射線性組成物を調製することができる。」
エ　「【実施例】
【０１０７】
　以下に合成例、実施例を示して、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【０１０９】
シロキサンポリマー合成例
　［合成例１］
　
撹拌機付の容器内に、プロピレングリコールモノメチルエーテル２５質量部を仕込み、続いて、メチルトリメトキシシラン３０質量部、フェニルトリメトキシシラン２３質量部、及びテトラ−ｉ−プロポキシアルミニウム０．１質量部を仕込み、溶液温度が６０℃になるまで加熱した。溶液温度が６０℃に到達後、イオン交換水１８質量部を仕込み、７５℃になるまで加熱し、３時間保持した。次いで脱水剤としてオルト蟻酸メチル２８質量部を加え、１時間攪拌した。さらに溶液温度を４０℃にし、温度を保ちながらエバポレーションすることで、水及び加水分解縮合で発生したメタノールを除去した。以上により、加水分解縮合物（Ａ−１）を得た。加水分解縮合物（Ａ−１）の固形分濃度は４０．５質量％であり、得られた加水分解縮合物の数平均分子量（Ｍｎ）は１，５００であり、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は２.２であった。
　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【０１１５】
　［合成例７］
　
冷却管及び攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）８質量部と２，４−ジフェニル−４−メチル−１−ペンテン６質量部とジエチレングリコールメチルエチルエーテル２２０質量部とを仕込んだ。引き続きメタクリル酸グリシジル１０質量部、スチレン２０質量部、トリシクロ［５．２．１．０
２,６
］デカン−８−イルメタクリレート２５質量部、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン１質量部及びｐ−ヒドロキシメタクリルアニリド（上記式（５）で表される化合物）４０質量部を仕込み、
共重合体（Ｂ−４）を含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度は、３２．７質量％であった。得られた重合体の数平均分子量は、３，４００であった。また、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．８であった。
　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【０１３４】
感放射線性組成物の調製、並びに保護膜及び層間絶縁膜の形成
　［実施例１］
　
［Ａ］成分としての合成例１で得られた加水分解縮合物（Ａ−１）を含む溶液（加水分解縮合物（Ａ−１）１００質量部（固形分）に相当する量）に、［Ｂ］成分として上記式（８）で表される化合物を含有する単量体から形成された共重合体（Ｂ−１）を含む溶液（（Ｂ−１）５質量部（固形分）に相当する量）、［Ｃ］成分として（Ｃ−３）２−ニトロベンジルシクロヘキシルカルバメート３質量部、［Ｆ］成分として２，４，６−トリ（２−ピリジル）−１，３，５−トリアジン０．０５質量部、［Ｈ］成分としてシリコーン系界面活性剤（（株）東レ・ダウコーニング製の「ＳＨ  ８４００  ＦＬＵＩＤ」）０．１質量部を加え、固形分濃度が２０質量％になるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルを添加し、感放射線性組成物を調製した。
【０１３５】
　この感放射線性組成物を、スピンナーを用いてＳｉＯ２ディップガラス基板に塗布した後、ホットプレート上で９０℃、２分間プレベークして塗膜を形成した（後述のＩＴＯ密着性評価においてはＩＴＯ付基板、Ｍｏ密着性評価においてはＭｏ付基板を用いた）。次いで、得られた塗膜に５０００Ｊ／ｍ２の露光量で紫外線を露光した。続いて、２．３８質量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液により、２５℃で８０秒現像した後、純水で１分間洗浄し、さらに２３０℃のオーブン中で６０分間加熱することにより、膜厚２．０μｍの保護膜を形成した。また、加熱後の膜厚が３．０μｍに成るように塗膜形成時のスピンナーの回転数を調節し、２０μｍ、３０μｍ、４０μｍ、５０μｍのサイズのコンタクトホールパターンを有するフォトマスクを介して、露光ギャップ（基板とフォトマスクとの間隔）を１５０μｍで露光した以外は、上記の保護膜形成と同様にして、層間絶縁膜を形成した。
【０１３６】
　［実施例２〜５７及び比較例１〜７］
　
各成分の種類及び量を表１に記載の通りとした他は、実施例１と同様にして感放射線性組成物の調製
を行った。
　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【０１４５】
　なお、表１において、［Ｃ］感放射線性酸発生剤又は感放射線性塩基発生剤、［Ｅ］特定構造を有するシラン化合物、［Ｆ］酸拡散制御剤、及び［Ｈ］界面活性剤の略称は、それぞれ以下のものを表す。
　Ｃ−１：トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート
　
Ｃ−２：１−（４，７−ジブトキシ−１−ナフタレニル）テトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホナート
　Ｃ−３：２−ニトロベンジルシクロヘキシルカルバメート
　Ｅ−１：１，４−ビス（トリメトキシシリルメチル）ベンゼン
　Ｅ−２：ビス（トリエトキシシリル）エタン
　
Ｅ−３：トリス−（３−トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレート
　Ｆ−１：２，４，６−トリ（２−ピリジル）−１，３，５−トリアジン
　Ｈ−１：シリコーン系界面活性剤（（株）東レ・ダウコーニング製の「ＳＨ  ８４００  ＦＬＵＩＤ」）
【０１４６】
【表１】
」
（２）引用文献１に記載された発明
　記載事項エの表１及び段落【０１３６】に基づけば、実施例１０は、［Ａ］成分：シロキサンポリマーとして、成分Ａ−１を１００質量部、共重合体成分として成分Ｂ−４を５質量部、［Ｃ］成分：感放射線性酸発生剤又は感放射線性塩基発生剤として成分Ｃ−２を３質量部、［Ｅ］成分：シラン化合物として、成分Ｅ−３を３０質量部、［Ｆ］成分：酸拡散抑制剤として、成分Ｆ−１を０．０５質量部、［Ｈ］成分：界面活性剤として、成分Ｈ−１を０．１質量部とした他は、実施例１と同様にして調製された感放射線性組成物である。そして、記載事項ウの段落【００３３】における「［Ｂ］成分は、上記式（１）で示される繰り返し単位を有するポリマーである。当該感放射性組成物は、このような特定構造の繰り返し単位を有するポリマーを用いることによって、・・・ＩＴＯ透明導電膜やモリブデン等の金属配線に対して非常に高い密着性・・・を発揮する表示素子用保護膜及び層間絶縁膜を形成することが可能となる。」という記載に基づけば、［Ｂ］成分である成分Ｂ−４は、高い密着性を発揮する成分であるといえる。したがって、引用文献１の記載事項エに基づけば、引用文献１には、実施例１０として、次の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されていると認められる。
「撹拌機付の容器内に、プロピレングリコールモノメチルエーテル２５質量部を仕込み、続いて、メチルトリメトキシシラン３０質量部、フェニルトリメトキシシラン２３質量部、及びテトラ−ｉ−プロポキシアルミニウム０．１質量部を仕込み、溶液温度が６０℃になるまで加熱し、溶液温度が６０℃に到達後、イオン交換水１８質量部を仕込み、７５℃になるまで加熱し、３時間保持し、次いで脱水剤としてオルト蟻酸メチル２８質量部を加え、１時間攪拌し、さらに溶液温度を４０℃にし、温度を保ちながらエバポレーションすることで、水及び加水分解縮合で発生したメタノールを除去して、固形分濃度が４０．５質量％であり、数平均分子量（Ｍｎ）が１，５００であり、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が２.２である、加水分解縮合物（Ａ−１）を得て、
　冷却管及び攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）８質量部と２，４−ジフェニル−４−メチル−１−ペンテン６質量部とジエチレングリコールメチルエチルエーテル２２０質量部とを仕込み、引き続きメタクリル酸グリシジル１０質量部、スチレン２０質量部、トリシクロ［５．２．１．０２,６］デカン−８−イルメタクリレート２５質量部、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン１質量部及びｐ−ヒドロキシメタクリルアニリド４０質量部を仕込み、数平均分子量が、３，４００であり、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．８である共重合体（Ｂ−４）を含む重合体溶液を得て、
　［Ａ］成分：シロキサンポリマーとして加水分解縮合物（Ａ−１）を含む溶液（加水分解縮合物（Ａ−１）１００質量部（固形分）に相当する量）に、［Ｂ］成分：高い密着性を発揮する共重合体成分として共重合体（Ｂ−４）を含む溶液（（Ｂ−４）５質量部（固形分）に相当する量）、［Ｃ］成分：感放射線性酸発生剤又は感放射線性塩基発生剤として（Ｃ−２）１−（４，７−ジブトキシ−１−ナフタレニル）テトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホナート３質量部、［Ｅ］成分：シラン化合物として、トリス−（３−トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレートを３０質量部、［Ｆ］成分：酸拡散抑制剤として２，４，６−トリ（２−ピリジル）−１，３，５−トリアジン０．０５質量部、［Ｈ］成分：界面活性剤としてシリコーン系界面活性剤（（株）東レ・ダウコーニング製の「ＳＨ  ８４００  ＦＬＵＩＤ」）０．１質量部を加え、固形分濃度が２０質量％になるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルを添加し、調製した、感放射線性組成物。」
６　対比・判断
（１）本件発明１
ア　対比
　本件発明１と引用発明とを対比する。
（ア）引用発明の「加水分解縮合物（Ａ−１）」は、「メチルトリメトキシシラン」及び「フェニルトリメトキシシラン」を単量体成分として含む「シロキサンポリマー」である。そうすると、引用発明の「加水分解縮合物（Ａ−１）」と本件発明１の「ポリシロキサン混合物」とは、「ポリシロキサン」である点で共通する。
（イ）引用発明に「［Ｅ］成分：シラン化合物」として含まれる「トリス−（３−トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレート」は、その化学構造からみて、本件発明１の「ウレイド結合を有するケイ素含有化合物」に相当する。
（ウ）引用発明に「［Ｃ］成分：感放射線性酸発生剤又は感放射線性塩基発生剤」として含まれる「１−（４，７−ジブトキシ−１−ナフタレニル）テトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホナート」は、技術的にみて、本件発明１の「重合開始剤」に相当する。
（エ）引用発明の「プロピレングリコールモノメチルエーテル」は、技術的にみて、本件発明１の「溶剤」に相当する。
（オ）引用発明に「［Ｈ］成分：界面活性剤」として含まれる「シリコーン系界面活性剤（（株）東レ・ダウコーニング製の「ＳＨ  ８４００  ＦＬＵＩＤ」）」は、本件発明１の「界面活性剤」に相当する。
　また、引用発明に「［Ｂ］成分：高い密着性を発揮する共重合体成分」として含まれる「共重合体（Ｂ−４）」は、本件発明１の「密着増強剤」に相当する。
　そうすると、引用発明と本件発明１とは、「現像液溶解促進剤、スカム除去剤、密着増強剤、重合禁止剤、消泡剤、界面活性剤、増感剤、および安定剤からなる群から選択される添加剤」を含む点で共通する。
（カ）引用発明の「感放射線性組成物」は、その組成からみて、本件発明１の「ネガ型感光性シロキサン組成物」に相当する。
（キ）以上より、本件発明１と引用発明とは、
「ポリシロキサン、
　ウレイド結合を有するケイ素含有化合物、
　重合開始剤、
　溶剤、および
　現像液溶解促進剤、スカム除去剤、密着増強剤、重合禁止剤、消泡剤、界面活性剤、増感剤、および安定剤からなる群から選択される添加剤
を含んでなる、ネガ型感光性シロキサン組成物。」である点で一致し、以下の点で相違する。
［相違点１］ポリシロキサンが、本件発明１は、「（Ｉａ）プリベーク後の膜が、５重量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液に可溶であり、その溶解速度が３，０００Å／秒以下である第一のポリシロキサンと（Ｉｂ）プリベーク後の膜の、２．３８重量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液に対する溶解速度が１５０Å／秒以上あるポリシロキサンとを含む」ポリシロキサン「混合物」であって、「ポリシロキサン混合物に含まれるポリシロキサン（Ｉａ）／ポリシロキサン（Ｉｂ）の重量比が１／９９〜８０／２０」であるのに対し、引用発明は、そのような混合物ではない点。
［相違点２］ポリシロキサン１００重量部に対するウレイド結合を有するケイ素含有化合物の含有量が、本件発明１は「３．０〜１５．０重量部」であるのに対し、引用発明は「３０質量部」である点。
［相違点３］本件発明１は、ポリシロキサン、ウレイド結合を有するケイ素含有化合物、重合開始剤、溶剤、並びに、現像液溶解促進剤、スカム除去剤、密着増強剤、重合禁止剤、消泡剤、界面活性剤、増感剤、および安定剤からなる群から選択される添加剤「からなり」、「前記密着増強剤が、イミダゾール類またはシランカップリング剤である」のに対し、引用発明は、［Ａ］成分、［Ｂ］成分、［Ｃ］成分、［Ｅ］成分、及び［Ｈ］成分の他に［Ｆ］成分：酸拡散抑制剤として「２，４，６−トリ（２−ピリジル）−１，３，５−トリアジン」を含んでなり、［Ｂ］成分が、「冷却管及び攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）８質量部と２，４−ジフェニル−４−メチル−１−ペンテン６質量部とジエチレングリコールメチルエチルエーテル２２０質量部とを仕込み、引き続きメタクリル酸グリシジル１０質量部、スチレン２０質量部、トリシクロ［５．２．１．０２,６］デカン−８−イルメタクリレート２５質量部、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン１質量部及びｐ−ヒドロキシメタクリルアニリド４０質量部を仕込」んで得た「共重合体」である点。
イ　判断
　事案に鑑みて［相違点３］について検討する。
　引用発明における［Ｂ］成分の共重合体（Ｂ−４）は、その単量体成分からみて、イミダゾール類及びシランカップリング剤の何れにも該当しないことは明らかである。そして、引用文献１の記載事項アの【請求項１】や記載事項ウの「本発明の感放射線性組成物は、［Ａ］シロキサンポリマー、［Ｂ］上記式（１）で示される繰り返し単位を有するポリマー、［Ｃ］感放射線性酸発生剤又は感放射線性塩基発生剤、及び、必要に応じてその他の任意成分（［Ｄ］脱水剤等）を含有する。」との記載、記載事項イの「本発明の感放射線性組成物は、上記［Ａ］、［Ｂ］及び［Ｃ］成分を含んでいることによって、透明性、耐熱透明性、表面硬度及び耐擦傷性という一般的な要求特性をバランス良く満たし、さらに、高温、高湿の厳しい条件下においてもＩＴＯ透明導電膜やモリブデン等の金属配線に対する優れた密着性及び耐クラック性を発揮する保護膜及び層間絶縁膜を形成可能である。」との記載に基づけば、［Ｂ］成分は、引用発明が課題を解決する上で欠くことができない必須の構成であるといえる。そうすると、当業者であっても、引用発明から、少なくとも［Ｂ］成分を除き、本件発明１の上記［相違点３］に係る構成とすることが容易になし得たということはできない。
ウ　むすび
　以上のとおりであるから、［相違点１］及び［相違点２］について検討するまでもなく、本件発明１は、当業者であっても、引用発明に基づいて容易に発明をすることができたということはできない。
（２）本件発明２
ア　対比
　本件発明２と引用発明とを対比する。
（ア）引用発明の「加水分解縮合物（Ａ−１）」は、「メチルトリメトキシシラン」及び「フェニルトリメトキシシラン」を単量体成分として含む「シロキサンポリマー」である。そうすると、引用発明の「加水分解縮合物（Ａ−１）」と本件発明２の「ポリシロキサン混合物」とは、「ポリシロキサン」である点で共通する。
（イ）引用発明に「［Ｅ］成分：シラン化合物」として含まれる「トリス−（３−トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレート」は、その化学構造からみて、本件発明２の「ウレイド結合を有するケイ素含有化合物」に相当する。
（ウ）引用発明に「［Ｃ］成分：感放射線性酸発生剤又は感放射線性塩基発生剤」として含まれる「１−（４，７−ジブトキシ−１−ナフタレニル）テトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホナート」は、技術的にみて、本件発明２の「重合開始剤」に相当する。
（エ）引用発明の「プロピレングリコールモノメチルエーテル」は、技術的にみて、本件発明２の「溶剤」に相当する。
（オ）引用発明の「感放射線性組成物」は、その組成からみて、本件発明２の「ネガ型感光性シロキサン組成物」に相当する。
（カ）以上より、本件発明２と引用発明とは、
「ポリシロキサン、
　ウレイド結合を有するケイ素含有化合物、
　重合開始剤、および
　溶剤
を含んでなる、ネガ型感光性シロキサン組成物。」である点で一致し、以下の点で相違する。
［相違点４］ポリシロキサンが、本件発明２は、「（Ｉａ）プリベーク後の膜が、５重量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液に可溶であり、その溶解速度が３，０００Å／秒以下である第一のポリシロキサンと（Ｉｂ）プリベーク後の膜の、２．３８重量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液に対する溶解速度が１５０Å／秒以上あるポリシロキサンとを含む」ポリシロキサン「混合物」であって、「ポリシロキサン混合物に含まれるポリシロキサン（Ｉａ）／ポリシロキサン（Ｉｂ）の重量比が１／９９〜８０／２０」であるのに対し、引用発明は、そのような混合物ではない点。
［相違点５］ポリシロキサン１００重量部に対するウレイド結合を有するケイ素含有化合物の含有量が、本件発明２は「３．０〜１５．０重量部」であるのに対し、引用発明は「３０質量部」である点。
［相違点６］引用発明２は、ポリシロキサン、ウレイド結合を有するケイ素含有化合物、重合開始剤、および溶剤「からなり」とされているのに対し、引用発明は、［Ａ］成分、［Ｃ］成分、［Ｅ］成分、及び［Ｈ］成分の他に［Ｂ］成分及び［Ｆ］成分を含んでなる点。
イ　判断
　事案に鑑みて［相違点６］について検討すると、［Ｂ］成分は、前記（１）イにおいて検討したとおり、引用発明が課題を解決する上で欠くことができない必須の構成であるといえる。そうすると、当業者であっても、引用発明から、少なくとも［Ｂ］成分を除き、本件発明２の上記［相違点６］に係る構成とすることが容易になし得たということはできない。
ウ　むすび
　以上のとおりであるから、［相違点４］及び［相違点５］について検討するまでもなく、本件発明２は、当業者であっても、引用発明に基づいて容易に発明をすることができたということはできない。
（３）本件発明３〜１０
　本件発明３〜１０は、いずれも、本件発明１の、ポリシロキサン、ウレイド結合を有するケイ素含有化合物、重合開始剤、溶剤、並びに、現像液溶解促進剤、スカム除去剤、密着増強剤、重合禁止剤、消泡剤、界面活性剤、増感剤、および安定剤からなる群から選択される添加剤「からなり」、「前記密着増強剤が、イミダゾール類またはシランカップリング剤である」とする構成、又は、本件発明２の、ポリシロキサン、ウレイド結合を有するケイ素含有化合物、重合開始剤、および溶剤「からなり」とする構成を具備している。そうすると、本件発明３〜１０も、本件発明１又は本件発明２と同じ理由により、当業者であっても、引用発明に基づいて容易に発明をすることができたということはできない。
７　原査定拒絶理由についての判断
　本願の発明の詳細な説明の記載は、当業者が、本件発明１〜１０を実施することができる程度に明確かつ十分に記載されていると認められる。
　よって、本願の発明の詳細な説明の記載は、特許法第３６条第４項第１号に規定する要件を満たしている。
８　当審拒絶理由についての判断
（１）理由１（明確性）
　本願の請求項８の記載は、本件補正によって明確なものとなった。したがって、本願は、特許請求の範囲の記載が、特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしている。
（２）理由２（進歩性）
　前記６に記載したとおりであるから、本件発明１〜１０は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないということはできない。
９　むすび
　以上のとおり、原査定拒絶理由によっては、本願を拒絶することはできない。
　また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり審決する。