【誤訳訂正書】
【提出日】平成22年1月22日(2010.1.22)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光装置及び第１及び第２ステージを含むリソグラフィツールを使用する方法であって、前記第１及び第２ステージは、前記露光装置に近接する露光位置と前記露光位置から離れた別の位置との間で移動可能であり、
前記第１ステージが前記露光位置にある間に、第１ステージ上の第１ウェハを前記露光装置からの照射光で露光すること、
露光中に、前記第１ウェハの基準位置に対する前記第１ウェハの位置を干渉法を用いてモニターすることであって、前記露光位置にある前記第１ステージに関する前記干渉計システムのシステム誤差を示す第１の所定のデータに基づいて測定干渉位相を補償することを備える前記モニターすること、
前記露光位置において、前記第１ステージを前記第２ステージと入れ替えること、
前記第２ステージが前記露光位置にある間に、前記第２ステージ上の第２ウェハを前記露光装置からの照射光で露光すること、
露光中に、前記第２ウェハの基準位置に対する前記第２ウェハの位置を干渉法を用いてモニターすることであって、前記露光位置にある前記第２ステージに関する前記干渉計システムのシステム誤差を示す第２の所定のデータに基づいて測定干渉位相を補償することを備える前記モニターすることを備え、
前記干渉計システムは、動作状態において２つのビームを異なる経路に沿って方向付け、次にこれらのビームを合成して出力ビームを生成する干渉計を備え、前記出力ビームは、前記２つのビームの間の光路長差に関する情報を含み、
前記システム誤差は、前記干渉計の不完全性から生じる誤差を含み、これらの誤差によって、前記出力ビームから生成される測定可能な干渉位相が等式Φ＝ｐｋｎＬで表わされる関係からずれ、この等式ではｐは整数であり、ｋは前記出力ビームの波数であり、そしてｎＬは前記光路長差に対応する、方法。
【請求項２】
前記第１の所定のデータは、前記第２の所定のデータとは異なる、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記ずれは、前記光路長差に関して周期性を示さない形で変化する非周期誤差項を含む、請求項１記載の方法。
【請求項４】
前記ずれは、前記光路長差に関して周期的に変化する周期誤差項を含む、請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記システム誤差は、測定対象物の不完全性から生じる誤差を更に含む、請求項１記載の方法。
【請求項６】
前記測定対象物の不完全性は、前記測定対象物の反射面の状態の変化を含む、請求項５記載の方法。
【請求項７】
前記第１及び第２ウェハを露光している間に、照射光がマスクを通るように方向付けられて前記ウェハの表面に照射パターンが形成される、請求項１記載の方法。
【請求項８】
前記照射は、ＵＶ照射である、請求項７記載の方法。
【請求項９】
前記干渉法を用いてモニターすることは、前記露光位置にある前記第１または第２ステージの一つ以上の自由度をモニターすることを備える、請求項１記載の方法。
【請求項１０】
前記一つ以上の自由度は、一つ以上の直交軸に沿った前記ステージの変位を含む、請求項９記載の方法。
【請求項１１】
前記一つ以上の自由度は、一つ以上の直交軸を中心とする前記ステージの回転を含む、請求項９記載の方法。
【請求項１２】
前記第１または第２ステージが前記他の位置にある間に、前記第１または第２ステージの位置を干渉法を用いてモニターすることを更に備える、請求項１記載の方法。
【請求項１３】
前記他の位置にある前記第１または第２ステージをモニターすることは、前記他の位置にある前記第１または第２ステージをモニターすることに関連する測定干渉位相を、それぞれ前記他の位置にある前記第１または第２ステージに関する前記干渉計システムのシステム誤差も示す前記第１または第２の所定のデータに基づいて補償することを備える、請求項１２記載の方法。
【請求項１４】
前記他の位置にある前記第１及び第２ステージに関する前記干渉計システムのシステム誤差を示す前記第１及び第２の所定のデータは異なる、請求項１３記載の方法。
【請求項１５】
前記他の位置にある前記第１または第２ステージからウェハを取り外すことを更に備える、請求項１２記載の方法。
【請求項１６】
前記他の位置にある前記第１または第２ステージにウェハを載置することを更に備える、請求項１２記載の方法。
【請求項１７】
前記他の位置はアライメントセンサに近接し、前記方法は、前記第１または第２ステージに対すると共に前記アライメントセンサに対して前記ウェハを位置合わせすることを更に備える、請求項１６記載の方法。
【請求項１８】
露光装置及び第１及び第２ステージを含むリソグラフィツールを使用する方法であって、前記第１及び第２ステージは、前記露光装置に近接する露光位置と前記露光位置から離れた別の位置との間で移動可能であり、
前記第１ステージが前記露光位置にある間に、第１ステージ上の第１ウェハを前記露光装置からの照射光で露光すること、
露光中に、前記第１ウェハの基準位置に対する前記第１ウェハの位置を干渉法を用いてモニターすることであって、前記露光位置にある前記第１ステージに関する前記干渉計システムのシステム誤差を示す第１の所定のデータに基づいて測定干渉位相を補償することを備える前記モニターすること、
前記露光位置において、前記第１ステージを前記第２ステージと入れ替えること、
前記第２ステージが前記露光位置にある間に、前記第２ステージ上の第２ウェハを前記露光装置からの照射光で露光することを備え、
前記干渉計システムは、動作状態において２つのビームを異なる経路に沿って方向付け、次にこれらのビームを合成して出力ビームを生成する干渉計を備え、前記出力ビームは、前記２つのビームの間の光路長差に関する情報を含み、
前記システム誤差は、前記干渉計の不完全性から生じる誤差を含み、これらの誤差によって、前記出力ビームから生成される測定可能な干渉位相が等式Φ＝ｐｋｎＬで表わされる関係からずれ、この等式ではｐは整数であり、ｋは前記出力ビームの波数であり、そしてｎＬは前記光路長差に対応する、方法。
【請求項１９】
露光システムと、
各々がウェハを支持し、かつ位置決めする第１及び第２ステージであって、前記第１及び第２ステージは、第１位置と第２位置との間で移動可能であり、前記第１位置は、前記露光システムに近接する、第１及び第２ステージと、
前記第１及び第２位置にある前記第１及び第２ステージの位置をモニターするように構成された一つ以上の干渉計を含む干渉計システムと、
前記第１位置にある前記第１ステージに関するシステム誤差を示す第１の所定のデータと、前記第１位置にある前記第２ステージに関するシステム誤差を示す第２の所定のデータとを供給する電子記憶媒体と、を備え、
前記一つ以上の干渉計の各々は、動作状態において２つのビームを異なる経路に沿って方向付け、次にこれらのビームを合成して出力ビームを生成し、前記出力ビームは、前記２つのビームの間の光路長差に関する情報を含み、
前記システム誤差は、前記一つ以上の干渉計のうちの一つの干渉計の不完全性から生じる誤差を含み、前記不完全性によって、前記出力ビームから生成される測定可能な干渉位相が等式Φ＝ｐｋｎＬで表わされる関係からずれ、この等式ではｐは整数であり、ｋは前記出力ビームの波数であり、そしてｎＬは前記光路長差に対応する、ツインステージリソグラフィツール。
【請求項２０】
前記第１の所定のデータは、前記第２位置にある前記第１ステージに関するシステム誤差も示し、前記第２の所定のデータは、前記第２位置にある前記第２ステージに関するシステム誤差も示す、請求項１９記載のツインステージリソグラフィツール。
【請求項２１】
前記電子記憶媒体との接続を行なうように構成された電子制御装置を更に備え、この電子制御装置は、動作状態において、前記干渉計の出力を、前記電子記憶媒体の前記第１及び第２の所定のデータに基づいて補正する、請求項１９記載のツインステージリソグラフィツール。
【請求項２２】
前記ずれは、前記光路長差に関して周期的な形で変化する周期誤差項を含む、請求項１９記載のツインステージリソグラフィツール。
【請求項２３】
前記ずれは、前記光路長差に関して周期性を示さない形で変化する非周期誤差項を含む、請求項１９記載のツインステージリソグラフィツール。
【請求項２４】
前記第１の所定のデータは、前記干渉計の一つ以上の各々についてのΦ＝ｐｋｎＬの関係からの前記測定位相のずれに関する情報を、前記第１位置にある前記第１ステージに関する前記干渉計と測定対象物との間の距離の関数として、または前記干渉計に対する前記測定対象物の姿勢の関数として含む、請求項１９記載のツインステージリソグラフィツール。
【請求項２５】
前記第１の所定のデータは、前記干渉計の一つ以上の各々についてのΦ＝ｐｋｎＬの関係からの前記測定位相のずれに関する情報を、前記第２位置にある前記第１ステージに関する前記干渉計と測定対象物との間の距離の関数として、または前記干渉計に対する前記測定対象物の姿勢の関数として更に含む、請求項１９記載のツインステージリソグラフィツール。
【請求項２６】
前記第２の所定のデータは、前記干渉計の一つ以上の各々についてのΦ＝ｐｋｎＬの関係からの前記測定位相のずれに関する情報を、前記第１位置にある前記第２ステージに関する前記干渉計と測定対象物との間の距離の関数として、または前記干渉計に対する前記測定対象物の姿勢の関数として含む、請求項１９記載のツインステージリソグラフィツール。
【請求項２７】
前記第２の所定のデータは、前記干渉計の一つ以上の各々についてのΦ＝ｐｋｎＬの関係からの前記測定位相のずれに関する情報を、前記第２位置にある前記第２ステージに関する前記干渉計と測定対象物との間の距離の関数として、または前記干渉計に対する前記測定対象物の姿勢の関数として更に含む、請求項１９記載のツインステージリソグラフィツール。
【請求項２８】
前記第２位置に近接するアライメントセンサを更に備え、前記アライメントシステムは、動作状態において、前記第２位置にある前記ステージの上、または前記第２位置にある前記ステージ上のウェハの上のアライメントマークの位置を特定する、請求項１９記載のツインステージリソグラフィツール。
【請求項２９】
前記干渉計システムは、前記第１ステージ上に搭載された一つ以上の測定対象物及び前記第２ステージ上に搭載された一つ以上の測定対象物を備える、請求項１９記載のツインステージリソグラフィツール。
【請求項３０】
前記第１ステージ上に搭載される前記測定対象物の内の少なくとも一つの測定対象物は、前記第１ステージが前記第１位置にあるときに前記干渉計の内の第１干渉計からビームを受け、そして前記第１ステージが前記第２位置にあるときに異なる干渉計からビームを受けるように構成されている、請求項２９記載のツインステージリソグラフィツール。
【請求項３１】
干渉計、及び第１及び第２測定対象物を備える干渉計システムを設けること、
前記干渉計に対する前記第１及び第２測定対象物の自由度を交互にモニターすることであって、前記干渉計は、前記モニターの間、２つのビームを異なる経路に沿って方向付け、次にこれらのビームを合成して出力ビームを生成し、前記出力ビームは、前記２つのビームの間の光路長差に関する情報を含み、前記ビームの内の一方のビームは、モニターされる前記測定対象物に衝突し、前記干渉計システムの不完全性によって、前記出力ビームから生成される測定可能な干渉位相が等式Φ＝ｐｋｎＬで表わされる関係からずれ、この等式ではｐは整数であり、ｋは前記出力ビームの波数であり、ｎＬは前記光路長差に対応する、前記モニターすること、
前記第１測定対象物をモニターしながら、前記干渉計システムの不完全性から生じる前記干渉計システムのシステム誤差を示す第１の所定のデータに基づいて測定干渉位相を補償すること、
前記第２測定対象物をモニターしながら、前記干渉計システムの不完全性から生じる前記干渉計システムのシステム誤差を示す第２の所定のデータに基づいて前記測定干渉位相を補償すること
を備える、方法。
【請求項３２】
前記第１及び第２の所定のデータは異なる、請求項３１記載の方法。
【請求項３３】
前記ずれは、前記光路長差に関して周期性を示さない形で変化する非周期誤差項を含む、請求項３１記載の方法。
【請求項３４】
前記ずれは、前記光路長差に関して周期的に変化する周期誤差項を含む、請求項３１記載の方法。
【請求項３５】
前記システム誤差は、前記測定対象物の反射面の状態の変化から生じる誤差を更に含む、請求項３１記載の方法。
【請求項３６】
請求項１記載の方法を含む集積回路の製造方法。
【請求項３７】
請求項１９記載のツインステージリソグラフィツールの使用を含む集積回路の製造方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１６】
本発明の種々の態様に関して以下に記載する。
概括すると、第１の態様では、本発明は、露光装置及び第１及び第２ステージを含むリソグラフィツールを使用する方法を特徴とし、この場合、第１及び第２ステージは、露光装置に近接する露光位置と露光位置から離れた別の位置との間で移動可能である。この方法では、（１）第１ステージが露光位置にある間に、第１ステージ上の第１ウェハを露光装置からの照射光で露光すること、（２）露光中に、第１ウェハの基準位置に対する第１ウェハの位置を干渉法を用いてモニターすることであって、露光位置にある第１ステージに関する干渉計システムのシステム誤差を示す第１の所定の表示に基づいて測定干渉位相を補償することを含む前記モニターすること、（３）露光位置において第１ステージを第２ステージと入れ替えること、（４）第２ステージが露光位置にある間に、第２ステージ上の第２ウェハを露光装置からの照射光で露光すること（５）露光中に、第２ウェハの基準位置に対する第２ウェハの位置を干渉法を用いてモニターすることであって、露光位置にある第２ステージに関する干渉計システムのシステム誤差を示す第２の所定の表示に基づいて測定干渉位相を補償することを含む前記モニターすることを含む。 
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２１】
概括すると、別の態様において、本発明は、露光装置及び第１及び第２ステージを含むリソグラフィツールを使用する方法を特徴とし、この場合、第１及び第２ステージは露光装置に近接する露光位置と露光位置から離れた別の位置との間で移動可能である。この方法は、（１）が露光位置にある間に、第１ステージ上の第１ウェハを第１ステージ露光装置からの照射光で露光すること、（２）露光中に、第１ウェハの基準位置に対する第１ウェハの位置を干渉法を用いてモニターすることであって、露光位置にある第１ステージに関する干渉計システムのシステム誤差を示す第１の所定の表示に基づいて測定干渉位相を補償することを含む前記モニターすること、（３）露光位置において第１ステージを第２ステージと入れ替えること、（４）第２ステージが露光位置にある間に、第２ステージ上の第２ウェハを露光装置からの照射光で露光することを含む。