(57)【要約】  本発明は、第１の電極（２）、ポリマーネットワークによって安定化された液晶を有する電気活性層（３）、第２の電極（２’）を含む、液晶によって変化させることができる散乱を有する電気的に制御可能な装置（１００）を提供する。この材料は、Ｔ１と呼ばれる温度から始まり、Ｐと呼ばれるメソ相を示す。Ｔ１以上の温度Ｔ’では、スタックは、可視領域で少なくとも３つの可変散乱状態を示すことができる。これらは安定していて可逆的である。本発明はまた、この装置の製造に関する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶によって変化させることができる散乱を有する電気的に制御可能な装置（１００、２００、３００、４００、５００、６００、７００）であって、下記の順の層のスタックを含み：
−接合表面と呼ばれる第１の主面及び反対表面Ｓｂと呼ばれる主面を有する、第１の電極（２）、特に誘電体基板上の第１の電極（２）、
−前記接合表面の側の面と呼ばれる主面及び反対側面Ａ２と呼ばれる主面を有し、以下を含む材料から形成されている、誘電体電気活性層（３）：
−液晶
−ポリマーネットワークを形成するポリマー、ここで、前記液晶は、前記ポリマーネットワークによって安定されている、
−前記面Ａ２の側の第２の接合表面と呼ばれる主面及び反対表面Ｓｃと呼ばれる面を有する第２の電極（２’）、特に誘電体支持体上の第２の電極（２’）、
前記電気活性層が、前記第１の電極の側及び／又は前記第２の電極の側の透明性によって、可視的であり、
ここで、
前記材料が、Ｔ１と呼ばれる温度から開始する、Ｐと呼ばれるメソ相を示し、前記メソ相では、前記材料が、二次元のトポグラフィー欠陥を含むドメインの集合体、特にサブセンチメートルドメインの集合体を含むこと、
Ｔ１以上の温度Ｔ’で、前記スタックが、可視領域の少なくとも１つの波長に対して少なくとも３つの散乱の状態を示すことができ、
第１の前記状態が、最も散乱しており、
第２の前記状態が、散乱であり、かつ前記第１の状態よりも散乱が少なく、かつ
第３の前記状態が、透明、又は散乱であり、かつ前記第２の状態よりも散乱が少なく、
３つの前記状態が切り替え可能であり、
３つの前記状態のうちの少なくとも２つが、前記第１の電極と前記第２の電極との間に電界を印加することによって得られること、
を特徴とする、液晶によって変化させることができる散乱を有する電気的に制御可能な装置。
【請求項２】
前記第１の状態が、前記印加電界が非存在下で達成可能であり、前記第２及び第３の状態が、前記印加電界の存在下で達成可能であり、前記第２の状態が、電圧Ｖ１に対して得られており、前記第３の状態が、Ｖ１よりも大きい電圧Ｖ２に対して得られることを特徴とする、請求項１に記載の液晶によって変化させることができる散乱を有する電気的に制御可能な装置。
【請求項３】
前記電界下で及びＴ’において、前記スタックが、５〜１２０Ｖの全部又は一部の電圧で変化する拡散透過率及び／又はヘイズを示すことを特徴とする、請求項１又は２に記載の液晶によって変化させることができる散乱を有する電気的に制御可能な装置。
【請求項４】
前記スタックが、５５０ｎｍ、更には４００〜６００ｎｍにおいて、特に少なくとも５％の全透過率ＴＴを示し、最大全透過率と最小全透過率との差ＴＴｍａｘ−ＴＴｍｉｎが４００〜６００ｎｍにおいて最大で５％であること、及び
前記電界下における全透過率ＴＴ’、特に５〜１２０Ｖの電圧での前記電界下における全透過率ＴＴ’が、５５０ｎｍ、更には４００〜６００ｎｍにおいてＴＴ’−ＴＴ（絶対値で）が２％未満であるようなものであり、また、電界下での最大全透過率ＴＴ’ｍａｘと最小全透過率ＴＴ’ｍｉｎとの差が、４００〜６００ｎｍにおいて最大で５％であるようなものであること
を特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の液晶によって変化させることができる散乱を有する電気的に制御可能な装置。
【請求項５】
前記メソ相Ｐが、スメクティック相ではなく、特にネマティック相であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の液晶によって変化させることができる散乱を有する電気的に制御可能な装置。
【請求項６】
前記メソ相Ｐが、前記材料のメソ相Ｐ’よりも低いポテンシャル的秩序を示し；Ｐ’が特にネマティック相ではなく；前記液晶が、特に平均して互いに平行であり、つまり少なくとも長距離の自発的な配向秩序を有することを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載の液晶によって変化させることができる散乱を有する電気的に制御可能な装置。
【請求項７】
前記材料が、特にＴ１未満の温度で、他のメソ相Ｐ’を示し；前記メソ相Ｐが、前記メソ相Ｐ’よりも前記結晶相からより離れており；特に、前記メソ相Ｐが、ネマティック相であり、任意選択でねじれネマティック相であることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一項に記載の液晶によって変化させることができる散乱を有する電気的に制御可能な装置。
【請求項８】
前記メソ相Ｐの前記ドメインが、他のメソ相Ｐ’から残っているドメインであり、かつ、特に、前記相Ｐが、前記メソ相Ｐ’よりも前記結晶相からより離れており、好ましくはネマティック相であり、任意選択でねじれネマティック相であることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一項に記載の液晶によって変化させることができる散乱を有する電気的に制御可能な装置。
【請求項９】
前記メソ相Ｐの前記ドメインが、他のメソ相Ｐ’から残っているドメインであり；前記相Ｐ’が、ネマティック相ではなく；特に、前記相Ｐ’が、スメクティック相であり、かつ前記メソ相Ｐ’の前記欠陥が、スメクティック相欠陥であることを特徴とする、請求項１〜８のいずれか一項に記載の液晶によって変化させることができる散乱を有する電気的に制御可能な装置。
【請求項１０】
前記メソ相Ｐの前記ドメインが、他のメソ相Ｐ’から残っているドメインであり、かつ特に前記相Ｐがネマティック相であることを特徴とする、請求項１〜９のいずれか一項に記載の液晶によって変化させることができる散乱を有する電気的に制御可能な装置。
【請求項１１】
前記Ｔ’において、前記電界なしで、及び／又は前記電界下で、ＰＬＭと呼ばれる偏光光学顕微鏡法によって前記ドメインを特徴付けたときに、それぞれの前記ドメインが、前記ＰＬＭ画像上において、見かけの表面ＳＤと呼ばれる表面によって画定され；特に、特に見かけの表面ＳＤの数によって決定されるドメインの密度が、少なくとも１００ドメイン／ｍｍ２、又は少なくとも１０００ドメイン／ｍｍ２であることを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の液晶によって変化させることができる散乱を有する電気的に制御可能な装置。
【請求項１２】
前記メソ相Ｐが、液晶の層の構造、特に前記ポリマーネットワークによって与えられる構造を実質的に示し、特に、前記ドメインが、液晶の湾曲した層のゾーン、及び任意選択で液晶の平坦な層のゾーンを示すことを特徴とする、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の液晶によって変化させることができる散乱を有する電気的に制御可能な装置。
【請求項１３】
前記ドメインが、前記スメクティック相の焦点円錐ドメイン、特に、トーリック、非トーリック、放物線、半円筒形、又は扇形の焦点円錐ドメインに相当することを特徴とする、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の液晶によって変化させることができる散乱を有する電気的に制御可能な装置。
【請求項１４】
前記欠陥が、円、楕円、正方形若しくは長方形等の規則的又は不規則的な閉じた輪郭、又は線形、楕円、放物線若しくは双極幾何から選択された線欠陥であり、特に、前記層が、第１の類型の欠陥及び第２の類型の欠陥を含むことを特徴とする、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の液晶によって変化させることができる散乱を有する電気的に制御可能な装置。
【請求項１５】
以下を含むことを特徴とする、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の、液晶によって変化させることができる散乱を有する電気的に制御可能な装置：
−前記面Ａ１と接触している、前記液晶用の第１の表面アンカー層、ここで、この第１の表面アンカー層は、前記印加電界の非存在下で、第１の、好ましくは平面の、配向にしたがって、この第１のアンカー層と接触している前記液晶の少なくとも一部を固定することができ、この第１のアンカー層が、好ましくは透明であり、任意選択で着色されており、特に、最大でマイクロメートル、更にはサブマイクロメートルの厚さＥ１を有している、
−前記面Ａ２と接触している、第２の表面アンカー層、ここで、この第２の表面アンカー層は、前記印加電界の非存在下で、特に前記第１の配向と同様の又は異なる第２の配向にしたがって、この第２のアンカー層と接触している前記液晶の一部を、特に垂直の又は縮退した平面に、配向させることができ、第２のアンカー層が、好ましくは透明であり、任意選択で着色されており、最大でマイクロメートル、更にはサブマイクロメートルの厚さＥ’１を有する。
【請求項１６】
前記第１のアンカー層が、一方向又は縮退平面の固定であり、かつ前記第２のアンカー層が、垂直又は縮退平面の固定であり、又は前記第１のアンカー層が、誘電体層、特にポリマー層であり、かつ／又は前記第２のアンカー層が、誘電体層、特にポリマー層、又は空気／ガス充填された空洞であることを特徴とする、請求項１〜１５のいずれか一項に記載の液晶によって変化させることができる散乱を有する電気的に制御可能な装置。
【請求項１７】
前記誘電体基板（１）が、透明であり、Ｓｂ側にあり、かつ前記第１の電極を担持しており、ここで、前記誘電体基板（１）が、透明であり、かつ任意のハードコートを備える透明ポリマーシート透又は明ガラスシートから選択されていること、かつ／又は
前記誘電体支持体（１’）が、透明であり、Ｓ’ｂ側にあり、かつ前記第２の電極を担持しており、ここで、前記誘電体支持体（１’）が、透明であり、かつ任意のハードコートを備える透明ポリマーシート透又は明ガラスシートから選択されていること、
を特徴とする、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の液晶によって変化させることができる散乱を有する電気的に制御可能な装置。
【請求項１８】
前記誘電体基板（１）が、透明であり、Ｓｂ側にあり、かつ前記第１の電極を担持しており、ここで、前記誘電体基板（１）が、透明であり、かつ第１のガラスシートを含み、前記第１のガラスシートが、Ｓｂ側にあり、熱可塑性積層中間層を介して他のガラスシートに積層されていること、かつ／又は
前記誘電体支持体（１’）が、透明であり、Ｓ’ｂ側にあり、かつ前記第２の電極を担持しており、ここで、前記誘電体支持体（１’）が、透明であり、ガラスシートを含み、前記ガラスシートが、熱可塑性積層中間層を介して他のガラスシートに積層されており、前記他のガラスシートが、前記第１のガラスシートの表面の全部又は一部を占めており、任意選択で、着色されており、特に青、緑、灰色又は青銅色に着色されており、かつ湾曲及び／又は強化されていること、
を特徴とする、請求項１〜１７のいずれか一項に記載の液晶によって変化させることができる散乱を有する電気的に制御可能な装置。
【請求項１９】
以下を含む積層グレージングを含むことを特徴とする、請求項１〜１８のいずれか一項に記載の液晶によって変化させることができる散乱を有する電気的に制御可能な装置：
−任意選択で着色されている、第１の追加ガラスシート（８）、
−熱可塑性積層中間層、特にＥＶＡ又はＰＶＢ、
−第２の追加ガラスシート（８’）又はプラスチックシート、
ここで、前記第１及び第２の追加ガラスシートの、Ｆ２及びＦ３と呼ばれる主内面が、互いに対面しており、前記スタックが、前記面Ｆ２及びＦ３の間にあり、好ましくは前記積層中間層にあり、特に、ポリマーである前記基板、更には前記第１のシートの全部又は一部の前記表面を占めているポリマーである前記支持体を有する。
【請求項２０】
グレージング、特に積層及び／又は湾曲グレージングを含み、前記スタックが、ストリップ、特に前記グレージングの主面の一部にわたって周辺ストリップを形成していることを特徴とする、請求項１〜１９のいずれか一項に記載の液晶によって変化させることができる散乱を有する電気的に制御可能な装置。
【請求項２１】
積層されており、かつ特に湾曲されているグレージングを含み、かつ、前記スタックが、それぞれの「外部」及び「内部」グレージングである前記第１及び第２のグレージングの間にあり、前記積層グレージングの上部にわたって周辺ストリップを形成しており、前記スタックの前記「外部」端面が、前記外部グレージングの第１の不透明周辺層によって外側からマスクされており、かつ／又は前記スタックの「内部」端面が、前記内部グレージングの第２の不透明周辺層によって内側からマスクされていることを特徴とする、請求項１〜２０のいずれか一項に記載の液晶によって変化させることができる散乱を有する電気的に制御可能な装置。
【請求項２２】
前記グレージングが、積層及び／又は湾曲されており、自動車若しくは鉄道若しくは船舶用乗り物のグレージングから選択されていること、あるいは
前記グレージングが、グレージングドア、ショップの窓若しくはディスプレイケース、仕切り、街道若しくは家庭用家具のガラス部分であり、かつ／又は二重若しくは三重グレージングの一部を形成しており、あるいは
前記グレージングが、投影又は背面投影スクリーンとして、かつ／又は、特に積層グレージングで、電気的に制御可能なエレクトロルミネセンス装置、特にＬＥＤ、ＯＬＥＤ、ＴＦＥＬ等の他の電気的に制御可能な装置と組み合わせて使用されること
を特徴とする、請求項１〜２１のいずれか一項に記載の液晶によって変化させることができる散乱を有する電気的に制御可能な装置。
【請求項２３】
以下の工程を含む、液晶によって変化させることができる散乱を有する電気的に制御可能な装置、特に請求項１〜２２のいずれか一項に記載の液晶によって変化させることができる散乱を有する電気的に制御可能な装置の製造方法：
−特に誘電体基板上において、第１の電極を提供すること、
−特に誘電体支持体上において、第２の電極を提供すること、
−以下を含む混合物を提供すること：
−少なくとも１つのポリマー前駆体、
−メソ相Ｐを示す少なくとも第１の液晶、及び任意選択で少なくとも第２の液晶を含む液晶、
ここで、前記混合物は、メソ相Ｐ及びメソ相Ｐ’を示し、ＴＡが、前記混合物の前記メソ相Ｐと前記メソ相Ｐ’との間の遷移温度であり、
−必要に応じて、重合開始剤、好ましくは光開始剤、
−前記第１及び第２の電極の間において、前記混合物から出発して、ポリマーネットワークによって安定化された前記液晶を含む材料の電気活性層を形成することを含んで、層のスタックを形成すること、
ここで、前記形成が、以下を含む：
−ＴＡよりも低い温度Ｔｉで、メソ相Ｐ’において、好ましくは光重合によって、好ましくは紫外線又はＵＶ放射下で、１又は複数の前記前駆体を重合させて、前記ポリマーネットワークを結果として得ること。
【請求項２４】
前記第１の液晶が、前記メソ相Ｐ及び前記メソ相Ｐ’を示し、前記第１の液晶が、前記メソ相Ｐと前記メソ相Ｐ’との間の遷移の温度Ｔｐを有し、ＴＡが、好ましくはＴｐ以下であり、前記重合が、Ｔｐ又はＴＡ未満の温度Ｔｉで行われることを特徴とする、請求項２３に記載の、液晶によって変化させることができる散乱を有する電気的に制御可能な装置の製造方法。
【請求項２５】
前記メソ相Ｐが、前記メソ相Ｐ’よりも前記結晶相から離れており；特に、前記メソ相Ｐが、任意選択でネマティック相、特にねじれネマティック相であることを特徴とする、請求項２３又は２４に記載の、液晶によって変化させることができる散乱を有する電気的に制御可能な装置の製造方法。
【請求項２６】
メソ相Ｐ’、好ましくはネマティックではなく、スメクティック相でさえもないメソ相Ｐ’において、実質的にメソ相Ｐに残っている二次元のトポグラフィー欠陥を伴うドメイン、特にサブセンチメートルドメインの形成を含むことを特徴とする、請求項２３〜２５のいずれか一項に記載の、液晶によって変化させることができる散乱を有する電気的に制御可能な装置の製造方法。
【請求項２７】
メソ相Ｐ’、好ましくはネマティック相ではなく、スメクティック相でさえもないメソ相Ｐ’において、ドメインの前記形成を、特に以下のいずれかの工程によって行うことを特徴とする、請求項２３〜２６のいずれか一項に記載の、液晶によって変化させることができる散乱を有する電気的に制御可能な装置の製造方法：
−前記混合物を、前記液晶を表面に固定するための第１及び第２の層と接触させること、
−応力を印加すること、
−電解、特に、最大で１００Ｈｚ、又は最大で１０Ｈｚの低周波交流電界を印加すること、ここで、前記混合物は荷電粒子を含む。
【請求項２８】
前記電気活性層の前記形成が、前記混合物を、前記液晶を表面に固定するための第１及び第２の層と接触させることを含み、特に：
−層の液体経路による堆積、又は、前記第１の電極に結合されたサブミリメートルフィルム等の要素の提供
−層の液体経路による堆積、又は、前記第２の電極に結合されたサブミリメートルフィルム等の要素の提供、又は前記第２の電極と前記混合物との間での、空気充填された空洞等の、ガス充填された空洞の生成、
を含むことを特徴とする、請求項２３〜２７のいずれか一項に記載の、液晶によって変化させることができる散乱を有する電気的に制御可能な装置の製造方法。
【請求項２９】
前記第１の液晶が、スメクティック相であり、特にスメクティックＡ相であるメソ相Ｐ’、及びネマティックメソ相Ｐを有し、かつ、前記第２の液晶が、メソ相、特にネマティックメソ相を有し、かつスメクティックメソ相がないことを特徴とする、請求項２３〜２８のいずれか一項に記載の、液晶によって変化させることができる散乱を有する電気的に制御可能な装置の製造方法。
【請求項３０】
１つ以上のシートを含むポリマー積層中間層、特に熱可塑性中間層、例えばＰＶＢ又はＥＶＡを用いて、特に、最大で１４０℃、更には最大で１２０℃の温度における積層で、２つのガラスシート、特に、湾曲ガラスシートの間に、前記スタックを積層する工程を含むことを特徴とする、請求項２３〜２９のいずれか一項に記載の、液晶によって変化させることができる散乱を有する電気的に制御可能な装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電界の印加によって２つの電極の間に液晶の層を有する液晶で変化させることができる散乱を有する電気的に制御可能な装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
グレージングは、適切な電力供給の影響下で、その特定の特性、特に特定的には、ある特定の波長の電磁線放射線、特に可視光領域及び／若しくは赤外領域の電磁線放射線の、伝導、吸収、及び反射、又はあるいは光散乱を改変できることが知られる。
【０００３】
液晶を含有する電気制御可能なグレージングは、建設及び自動車の両部門のどこでも、グレージングを通じて所与の瞬間に視界を妨げる必要がある場合に使用できる。
【０００４】
液晶システムは、用語「ＰＤＬＣ（Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｄｉｓｐｅｒｓｅｄ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）」（ポリマー分散型液晶）で、ポリマーマトリックス中に分散した液晶の液滴の形として知られ、又は「ＰＳＬＣ（Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｔａｂｉｌｉｚｅｄ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）」（ポリマー安定型液晶）で、均一に分散した液晶として知られている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の１つの目的は、特に適切に調整することができて、改善された電気工学特性を有するＰＳＬＣタイプの液晶を有する電気的に制御可能な装置の開発することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
この目的のため、本発明はまず、下記の順で層のスタック（空気充填された空洞を含みうる）を含む、液晶によって変化させることができる散乱を有する電気的に制御可能な装置（平坦又は湾曲した装置、特に可撓性の装置）を提供する：
【０００７】
−第１の、好ましくは透明である、電極、この第１の電極は、特に自己支持型（任意選択で可撓性のフィルム）であり、又は好ましくは誘電体基板上にあり、この誘電体基板は、好ましくは透明（及び任意選択で可撓性）であり、特に、最大で１ｃｍ、５ｍｍ、３ｍｍの厚さを有し、あるいは、サブセンチメートルであり、又は特にプラスチックフィルム又は薄い若しくは極薄（ＵＴＧ）のガラスであり、サブミリメートルの厚さを有し、更には最大で２００ｎｍの厚さを有するフィルムであり、第１の電極は、（第１の基板上において）第１の導電層（単層又は複数層、特に（複数の）堆積層）、特に最大で２００ｎｍの無機層（実際には、からなり）を含み、第１の電極は、第１の接合表面と呼ばれる第１の主面及び反対表面Ｓｂと呼ばれる表面を有し、特に、第１の電極が、第１の接合表面のエッジに沿って電流を伝達する第１の手段（ストリップ（バスバー）、特に金属、銅と銀で作られている金属等）を含む
【０００８】
−誘電体電気活性層、この誘電体電気活性層は、接合表面側における面Ａ１と呼ばれる主面及び反対側面Ａ２と呼ばれる主面を有し、電気活性層は、サブミリメートル（ｓｕｂｍｉｌｌｉｍｅｔｒｉｃ）であり、更には最大で１００μｍかつ少なくとも５０ｎｍ、特に５０ｎｍ〜５０μｍ、更には１００ｎｍ〜２０μｍ、更に好ましくは少なくとも１μｍ又は５μｍの厚さＥ０を有し、電気活性層は、特に（好ましくは）サーモトロピック及び／又はリオトロピックから形成されており、以下を含む（実際には以下からなり）：
【０００９】
−液晶（特にサーモトロピック及び／又はリオトロピック）、この液晶は、材料において好ましくは重量について主成分であり（好ましくは、前記液晶の重量の少なくとも５０％、７０％、８０％、８５％であり）、特に、液晶は、メソゲン（例えば、ポリマー鎖を有さない）、又は少なくともポリマーの主鎖又は側鎖に組み込まれたメソゲン基（「ＬＣＰ」類）を含み、特に、液晶は、サイズがサブミリメートルであり、更には最大で１００ｎｍ（かつＥ０未満、例えば長さＬを有し、Ｅ０／Ｌ＞１０又は１００）であり、特に複数の液晶（純粋の、非ＬＣＰの場合）（２以上）の混合物であり、好ましくは、その（好ましくは重量について主成分の）液晶の１つは、結晶相（ネマティック相、例えば、又は非スメクティック相、特に非スメクティックＡ相）に近い（又は隣接しさえする）他のメソ相Ｐ’を示す、
【００１０】
−（三次元）ポリマーネットワークを形成するポリマー、液晶は、ポリマーネットワーク（すなわち、ＰＳＬＣ類）によって（物理的に）安定化され、好ましくはポリマー（又はポリマー及びポリマー前駆体）の重量の最大で２０％、１５％、１０％、５％を有する、
【００１１】
−任意選択で（前記）ポリマー又は非架橋ポリマーの前駆体、
【００１２】
−好ましくはスペーサー、特にＥ０以下の高さを有し、周辺部（誘電体であり、透明又は不透明であり、任意選択で、例えばＭｙｌａｒ等で形成されたフレームによってマスクされている）にあり、かつ／又は電気活性層（誘電体であり、透明であり、特にプラスチック、ガラス、シリカ、好ましくはサブセンチメートル、特にビーズである）に分散されている、
【００１３】
−任意選択で添加剤、例えば粒子、好ましくは非荷電粒子（アニオン、及びカチオンを有さない）であり、好ましくはＥ０以下の高さ（更にはＥ０以下の最大寸法）を有する添加剤、
【００１４】
−第２の、好ましくは透明である、電極、この第２の電極は、特に自己支持型（任意選択で可撓性のフィルム）であり、又は好ましくは誘電体基板上にあり、この誘電体基板は、好ましくは透明（及び任意選択で可撓性）であり、特に、最大で１ｃｍ、５ｍｍ、３ｍｍの厚さを有し、あるいは、サブセンチメートルであり、特にプラスチックフィルムであり、又は薄い若しくは極薄（ＵＴＧ）のガラスから形成されており、サブミリメートルの厚さを有し、更には最大で２００ｎｍの厚さを有するフィルムであり、特に、第２の電極は、（基板上において）第２の導電層（単層又は複数層、特に（複数の）堆積層）、特に最大で２００ｎｍの無機層（実際には、からなり）を含み、第２の電極は、面Ａ２側における第２の接合表面と呼ばれる主面及び反対表面を有し、特に、第２の電極が、第２の接合表面のエッジに沿って、かつ更には好ましくは電流を伝達する第１の手段の反対側に、電流を伝達する第２の手段（ストリップ、特に金属、バスバー）を含む。
【００１５】
透明状態において、電気活性層は、第１の電極の側及び／又は第１の電極の側、好ましくはその両側にいて、透明性によって可視的である。好ましくは、電気活性層は、誘電体シール、特にポリマーシールによって周辺で（結晶に基づく材料と接触するか、又は周辺スペーサーによって分離される、第１及び第２の接合表面のエッジに沿って）シールされる。
【００１６】
更に、この材料は、Ｔ１と呼ばれる温度（かつ、等方性相転移温度でありうるＴｆと呼ばれる温度よりも低く）から開始し、好ましくは最大で１２０°Ｃ、９０°Ｃ、５０°Ｃ、４０°Ｃ、かつ更に好ましくは少なくとも１０℃、２０℃、かつ更に好ましくは少なくとも５℃、１０℃の温度範囲のＴ１から開始し、Ｐと呼ばれるメソ相を示す。特に、この材料は、（ポリマーネットワークによって安定化された液晶を含む）ドメインの集合体を（体積で、一般的に厚さで）含み、更には、材料は本質的には前記ドメイン又は体積の要素に分割され、ドメインは、好ましくは第１及び第２の電極の間に少なくとも厚さＥ０の一部に亘って延在し、かつドメインは、二次元のトポグラフィー欠陥、特に線欠陥、特に少なくとも２つの形態の線欠陥（例えば、１つの楕円（円を含む）、その他の直線又は曲線、双曲線等）を含む。
【００１７】
Ｔ１以上の温度Ｔ’で、材料は、メソ相Ｐであり、スタック（又は（スタックによる）装置）は、可視領域の少なくとも１つの波長（例えば、３８０と７８０ｎｍ又は８００ｎｍとの間の値、特に５５０ｎｍ、更には３８０から７８０ｎｍ又は８００ｎｍまでの値）に対して、実際には近赤外領域（例えば、８００ｎｍと２．５μｍとの間の値、更には８００ｎｍから２．５μｍまでの値）の少なくとも１つの波長に対しても、少なくとも３つの（安定な）切り替え可能な散乱状態（互いに切り替え可能であるため、３つの状態の１つは、３つの状態の別の状態に可逆的に切り替え可能である）を示すことができる。
【００１８】
第１の状態は、最も散乱しており、特に非ゼロのヘイズＨ０又は非ゼロの拡散浸透ＤＴ０によって定義される。
【００１９】
第２の状態は、第１の状態よりも散乱が少なく、好ましくはＨ０よりも低いヘイズＨ１（又はＤＴ０よりも低い拡散浸透ＤＴ１）及び非ゼロによって定義される。
【００２０】
第３の状態は、透明でありかつ第２の状態よりも散乱が低く、特にＨ１よりも低いヘイズＨ２（又はＤＴ１よりもひっくい拡散浸透ＤＴ２）によって定義される。
【００２１】
３つの状態のうちの少なくとも２つは、第１及び第２の電極の間に電界（交互又は直接、好ましくは面Ａ２に垂直）を印加することによって得られる。
【００２２】
切り替えは、可逆的である。３つの状態は、可逆的であり、更には安定的である。
【００２３】
これまでに、ネマティック状態のＰＳＬＣの層では、２つの安定かつ可逆的な状態のみを得ることができた：
−１つの散乱（オフ状態で）
−及びもう１つは、液晶の復元力に打ち勝つために必要なしきい値から開始して、印加された電界に平行な液晶の配列による透明状態（オン状態）である。
【００２４】
更には、従来製造された装置には、スメクティックメソ相に電界が印加された場合、可逆的な切り替えはなかった。
【００２５】
本発明によれば、ポリマーネットワーク及び二次元欠陥を有するドメインの形成は、特に液晶を配合させることができ、また最も散乱状態と最も透明状態との間の多数の中間位置において安定化することができ、また突然の方向における変化（「ライトスイッチ」型の）を引き起こすこともできる。
【００２６】
用途に応じて、透明状態といくつかの散乱状態との間、又は２以上の散乱状態の間にも本発明を使用することができる。
【００２７】
微視的な説明として、Ｔ１から開始し、メソ相Ｐの存在下で、液晶の少なくとも一部は移動可能であり、３つの位置にしたがって配向することができ、３つの安定状態を生成し、１つの状態から他の状態への移行が、可逆的である。より広義的には、液晶の少なくとも一部は移動可能であり、多数の位置にしたがって配向することができ、多数の安定状態を生成し、１つの状態から他の状態への移行が、可逆的である。
【００２８】
本明細書において、Ｐ又はＰ’は、定義上、結晶相又は等方性相と異なるメソ相である。Ｐ又はＰ’に適用される場合、用語相（ｐｈａｓｅ）は、より具体的にはメソ相（ｍｅｓｏｐｈａｓｅ）を意味する。
【００２９】
電界（面Ａ１に垂直）が０〜１２０Ｖの電圧範囲及び５０Ｈｚ〜１ｋＨｚの周波数範囲で交流又は直流のいずれであっても、結果は同様である。
【００３０】
配向の変化は、好ましくは、面Ａ１（スタックが湾曲している場合、例えば、可撓性であり、湾曲した基板の間、特にガラスの基板の間にある場合、平均平面内において）に垂直な電界の印加によってもたらされる。
【００３１】
好ましくは、１つの状態から別の状態への緩和時間は、最大で１秒以下である。
【００３２】
特に、０Ｖから任意の非ゼロ値に、特に２２０Ｖ又は１２０Ｖまで、更には最大で１００Ｖ又は８０Ｖに移行することによって、散乱状態から透明状態（可視領域の全部又は一部において）に移行することができる。
【００３３】
散乱のレベルは管理することができ、特に、装置と通信する（電源を制御する）センサー（温度、光度、等）によって、収集されたデータの関数として調整することができる。
【００３４】
ヘイズの変化を備える切り替え可能なミラー（第１若しくは第２の反射層、又はミラー層若しくは追加ミラーの追加）を設計することも可能である。
【００３５】
装置の１つ又は複数の要素（電極、アンカー層、基板又は支持体、積層中間層、カウンターペイン（ｃｏｕｎｔｅｒｐａｎｅ）、等）をカスタム着色することが可能である。
【００３６】
本発明は、好ましくは、２Ｄであるトポグラフィー欠陥の存在に最初に依存する。
【００３７】
有利には、第１の状態（最も散乱する）は、前記（面Ａ１に垂直に印加される）印加電界が非存在下で達成可能であり、第２及び第３の状態は、前記印加電界の存在下で達成可能であり、第２の状態は、電圧Ｖ１に対して得られており、第３の状態は、特に、Ｖ２とＶ１との間の少なくとも５Ｖ、１０Ｖ、２０Ｖの差を有する、Ｖ１よりも大きい電圧Ｖ２に対して得られている。
【００３８】
例えば、Ｖ１は、５Ｖ〜３０Ｖであり、Ｖ２は、３０〜１２０Ｖである。
【００３９】
より広義には、電場／電圧Ｖの振幅が変化するとすぐに、ヘイズを生成することができ、各ヘイズは、例えば、全透過率ＴＴに対する拡散透過率ＤＴの比率として定義される、それは好ましくは％で表される。
【００４０】
したがって、スタック（更には装置）は、ヘイズ（及び／又は拡散透過率）を示し、ここで、ヘイズ（及び／又は拡散透過率）は、５Ｖと１２０Ｖ又は２２０Ｖとの間の範囲（例えば、１０Ｖ〜５０Ｖ）の全部又は一部で、かつ０．１Ｖ又は１Ｖから開始する電圧に伴い、少なくとも５５０ｎｍ又は５００ｎｍ〜６００ｎｍ等の基準長さで、又は更には、好ましくは可視領域４００〜８００ｎｍにおける波長範囲にわたって、（特に、最大で１２μｍの電気活性層の厚さＥ０について）下記で変化する：
【００４１】
−直流モードにおいて、１０ＶのＶ１及び４０ＶのＶ２に対して、５５０ｎｍ等の基準波長で又は更には４００〜８００ｎｍの波長範囲にわたって、最大で９９％更には９４％のＨ２／Ｈ１（及び／又はＤＴ２／ＤＴ１）、
【００４２】
−直流モードにおいて、２０ＶのＶ１及び７０ＶのＶ２に対して、５５０ｎｍ等の基準波長で又は更には４００〜８００ｎｍの波長範囲にわたって、最大で９８％（及び更には最大で９０％又は８０％又は６７％）のＨ２／Ｈ１（及び／又はＤＴ２／ＤＴ１）、
【００４３】
−直流モードにおいて、２０ＶのＶ１及び１００ＶのＶ２に対して、５５０ｎｍ等の基準波長で又は更には５００〜７００ｎｍ若しくは更には４００〜８００ｎｍの波長範囲にわたって、最大で９７％（及び更には最大で７０％又は４７％）のＨ２／Ｈ１（及び／又はＤＴ２／ＤＴ１）、
【００４４】
１０ＶのＶ１に対して、５５０ｎｍ等の基準波長で又は更には５００〜７００ｎｍ若しくは更には４００〜８００ｎｍの波長範囲にわたって、最大で９９％（及び更には最大で９８％）のＨ１／Ｈ０（及び／又はＤＴ２／ＤＴ１）、
【００４５】
２０ＶのＶ１に対して、５５０ｎｍ等の基準波長で又は更には５００〜７００ｎｍ若しくは更には４００〜８００ｎｍの波長範囲にわたって、最大で９８％（及び更には９７％）のＨ１／Ｈ０（及び／又はＤＴ２／ＤＴ１）。
【００４６】
特に、非ＴＦＣＤドメイン（非ＴＦＣＤタイプのドメイン）の場合において：
【００４７】
−直流モードにおいて、１０ＶのＶ１及び４０ＶのＶ２に対して、５５０ｎｍ等の基準波長で又は更には５００〜７００ｎｍ若しくは更には４００〜８００ｎｍの波長範囲にわたって、最大で９９％（及び更には最大で７５％又は６９％）のＨ２／Ｈ１（及び／又はＤＴ２／ＤＴ１）、
【００４８】
−直流モードにおいて、２０ＶのＶ１及び７０ＶのＶ２に対して、５５０ｎｍ等の基準波長で又は更には５００〜７００ｎｍ若しくは更には４００〜８００ｎｍの波長範囲にわたって、最大で９８％（及び更には最大で６０％又は５９％）のＨ２／Ｈ１（及び／又はＤＴ２／ＤＴ１）、
【００４９】
−直流モードにおいて、２０ＶのＶ１及び１００ＶのＶ２に対して、５５０ｎｍ等の基準波長で又は更には５００〜７００ｎｍ若しくは更には４００〜８００ｎｍの波長範囲にわたって、最大で９７％（及び更には最大で５５％又は４６％）のＨ２／Ｈ１（及び／又はＤＴ２／ＤＴ１）、
【００５０】
１０ＶのＶ１に対して、５５０ｎｍ等の基準波長で又は更には５００〜７００ｎｍ若しくは更には４００〜８００ｎｍの波長範囲にわたって、最大で９９％（及び更には最大で９２％）のＨ１／Ｈ０（及び／又はＤＴ１／ＤＴ０）、
【００５１】
２０ＶのＶ１に対して、最大で９８％（及び更には最大で９０％又は８０％）のＨ１／Ｈ０（及び／又はＤＴ１／ＤＴ０）。
【００５２】
ヘイズＨ０、Ｈ１又はＨ２（及び他の任意のヘイズ値）は、好ましくは、（温度Ｔ’での）全透過率ＴＴに対する拡散透過率ＤＴの比として定義される。
【００５３】
Ｔ’において、ヘイズは、本発明による装置を、直径１５０ｍｍの積分球の半径１０ｍｍの円形の入口窓（内部にスペクトラロン（Ｓｐｅｃｔｒａｌｏｎ）として知られる材料でコーティングされた）に対して配置することによって、測定することができ、ここで、スペクトラロンは、Ｌａｂｓｐｈｅｒｅによって製造されたＰＴＦＥタイプのフルオロポリマーである。例えば、Ｔ’＝Ｔ１＋少なくとも５℃が選択される。
【００５４】
積分球は、スペクトラロンで作られた出口窓を含み、入口窓の正反対にあり、円形で半径が１０ｍｍである。
【００５５】
全透過率は、その一部として、積分球の出口窓で測定される。
【００５６】
拡散透過率は、その一部として、積分球の出口窓を取り除くことによって測定される。
【００５７】
各波長は、強度Ｉ０で前記積分球の前にある装置（装置に垂直なビーム）に送られる。
【００５８】
Ｔ’において、電界が印加される（例えば、１０Ｖの段階で変化できる電圧で）ときに、全透過率又は拡散透過率を測定することができる。
【００５９】
次に、その透過率を推定するために、受信した信号（Ｉ＿ＴＴ又はＩ＿ＤＴ）をＩ０と比較する。
【００６０】
（ＤＴの）ヘイズの値は、サイズ又は二次元欠陥のタイプ、それらの密度、電気活性材料の厚さ、液晶の選択、ポリマーのネットワーク（架橋度、重合条件）の、関数として変化することができる。
【００６１】
赤外線領域においても同様に測定可能である。
【００６２】
全透過率ＴＴは、その一部については、（印加される電界に関係なく）かなり一定であり、特に、第１及び第２の電極が透明である場合、それらが任意選択で基板及び支持体（及びアンカー層）である場合も、特に無着色の基板及び支持体である場合も、可視領域で少なくとも７０％である。
【００６３】
スタック（及び更には装置）は特に、（上記で定義されたように測定した）全透過率ＴＴを以下のように示す：
【００６４】
−５５０ｎｍ、及び更には５００から６００ｎｍ又は７８０ｎｍまでにおいて、少なくとも５％、１０％又は少なくとも７０％及び更には少なくとも７５％であり、
【００６５】
−及び／又は５００〜６００ｎｍ更には５００〜７８０ｎｍにおいて、最大全透過率ＴＴｍａｘと最小全透過率ＴＴｍｉｎとの差は、最大で５％であり、
【００６６】
そして、前記電界下（電圧Ｖが何でもよく、特に５Ｖ〜１２０Ｖの間のＶ）での全透過率ＴＴ’は、５５０ｎｍ更には５００から６００ｎｍ又は７８０ｎｍまでにおいて、ＴＴ’−ＴＴが２％未満であり、更には、電界下における最大全透過率ＴＴ’ｍａｘと最小全透過率ＴＴ’ｍｉｎ（電界下において）との差は、５００から６００ｎｍ又は７８０ｎｍまでにおいて、特に、１０Ｖ〜５０Ｖ及び更には５Ｖ〜１２０Ｖの電圧範囲で、最大で５％である。
【００６７】
同様に、スタック（及び更には装置）は特に、（電界なしで）（上記で定義されたように測定した）全透過率ＴＴを以下のように示す：
【００６８】
−５５０ｎｍにおいて、及び／又は８００ｎｍから１２００ｎｍ又は１５００ｎｍまでの近赤外領域でさえにおいて、少なくとも５％、１０％又は少なくとも７０％及び更には少なくとも７５％であり、
【００６９】
−及び／又は８００ｎｍから１２００ｎｍ又は１５００ｎｍまでにおいて、最大全透過率ＴＴｍａｘと最小全透過率ＴＴｍｉｎとの差は、最大で５％であり、
【００７０】
そして、前記電界下（電圧Ｖが何でもよく）での全透過率ＴＴ’は、９００ｎｍ更には８００から１５００ｎｍまでにおいて、ＴＴ’−ＴＴが２％未満であり、更には、電界下における最大全透過率ＴＴ’ｍａｘと最小全透過率ＴＴ’ｍｉｎ（電界下において）との差は、８００ｎｍから１２００ｎｍ又は１５００ｎｍまでにおいて、最大で５％である。
【００７１】
Ｔ’において、材料は、いくつかの相Ｐ、特にネマティック相（例えば、非ねじれネマティック相又はねじれネマティック相）を示すことができ、それぞれが、相Ｐ’（好ましくはスメクティック相、特にＡ）の欠陥を有する。
【００７２】
材料は、Ｔ’未満の温度で、ただ１つのメソ相Ｐ’、特にスメクティック相、特にＡを示すことが好ましい場合がある。
【００７３】
相Ｐ，例えばネマティック相又は非スメクティック相、特に非スメクティックＡ相は、（メソ相Ｐ’の）二次元欠陥を本質的に生成しない可能性がある。
【００７４】
これらの欠陥はまた、スメクティック相等、結晶のメソ相Ｐ’に近いメソ相Ｐ’で生成され、ポリマーネットワークによって動かなくなり、相Ｐで（多かれ少なかれ完全に）保存される。
【００７５】
例えば、メソ相Ｐの前記ドメインは、他のメソ相Ｐ’からの残っているドメインであり、特に相Ｐはネマティック相であり、相Ｐ’はスメクティック相であり、かつメソ相Ｐ’の前記欠陥は、スメクティック相欠陥である。
【００７６】
特に、ポリマーネットワークは、相Ｐ’（例えばスメクティック相）に液晶の組織及び配向を保存し（それらのインプリントであり）、したがって、欠陥のあるドメイン（例えばネマティック相）を形成するために、液晶を相Ｐ（例えばネマティック相）に順番に配向させることが言える。
【００７７】
その結果、電気活性層は、好ましくは、少なくとも２つのメソ相Ｐ及びＰ’を依然として有しうる。示差走査熱量測定又はＰＬＭによってＰからＰ’への転移を決定することができる。
【００７８】
分子の順序は、メソ相ごとに異なる。メソ相は、分子の自己組織化のタイプと程度が異なる。集合的な方向性のある行動は、メソゲンの性質及び構造に依存する。
【００７９】
材料は、特に他のメソ相Ｐ’を示すことができる；メソ相Ｐは、メソ相Ｐ’（任意選択で隣接しており、よって第１のメソ相である）よりも結晶相から離れている；特にメソ相Ｐはネマティック相である。
【００８０】
メソ相Ｐは、好ましくは、材料のメソ相Ｐ’よりも低いポテンシャル的秩序を示す；液晶は、特に平均して互いに平行であり、つまり少なくとも長距離の自発的な配向秩序を有する。
【００８１】
メソ相Ｐは、実質的に液晶の湾曲した層のゾーン及び任意選択で液晶の平坦な層のゾーンを有する液晶の層（に対応する）である、特にポリマーネットワークによって課せられる構造を示す（採用する）ことができる。
【００８２】
メソ相Ｐは、結晶の相から最も遠い場合があり、特に結晶により近いメソ相よりも自由度が低く、より低い固体秩序を有してよい。
【００８３】
メソ相Ｐは、等方性液体のメソ相Ｐに最も近い可能性がある。
【００８４】
更に、好ましくは、材料は、Ｔ１以下の温度Ｔ’１までのメソ相Ｐ’を含み、メソ相Ｐ’からメソ相Ｐへの変化は、可逆的、直接的又は間接的である。
【００８５】
二次元欠陥は、アンカー層の使用によって、又は低周波電界の印加によって、相Ｐ’に加えられる応力によって形成することができる。
【００８６】
欠陥を生成する１つの方法は、相Ｐ’での製造時に厚さＥ０を変化させることである。
【００８７】
前記メソ相Ｐにおいて、ドメインは、サブメートル（特に１０ｃｍ未満）、更にはサブセンチメートル及び更にはサブミリメートル、特に１〜２００μｍのミクロン、実際にはサブミクロンであり、更には好ましくは少なくとも５０ｎｍの広いサイズ分布を有することができる。
【００８８】
メソ相Ｐは、特にＰＬＭと呼ばれる偏光光学顕微鏡法によって特徴付けられることが可能である。
【００８９】
有利には、Ｔ’において、前記電界なしで、及び／又は前記電界下で、ドメインは、ＰＬＭと呼ばれる偏光光学顕微鏡法（例えば、少なくとも×２０の倍率で）によって特徴付けられており、各ドメインは、見かけの表面ＳＤと呼ばれる表面によって定義されており、この見かけの表面ＳＤは、サブセンチメートル（特に１０ｃｍ未満）、更にはサブセンチメートル及び更にはサブミリメートル、特に１〜２００μｍのミクロン、実際にはサブミクロンであり、更には好ましくは少なくとも５０ｎｍと同等の直径を有することができる。
【００９０】
見かけの表面ＳＤは、ドメインのベースを形成する閉線欠陥の垂直投影を含むか、又はそれに対応することができる。
【００９１】
この見かけの表面ＳＤは、以下であることができる：
−不規則的である、楕円、円、長方形又は正方形に近い
−規則的である、円、円、長方形、正方形等。
【００９２】
ドメインの密度は、少なくとも１００ドメイン／ｍｍ２又は少なくとも１０００ドメイン／ｍｍ２であり、特に見かけの表面ＳＤの数によって決定されうる。
【００９３】
例えば、画像上で、事前定義された寸法の長方形が定義され、見かけの表面ＳＤの数がカウントされる。
【００９４】
ドメインの配置は、規則的（周期的又は疑似周期的）、つまりドメインの繰り返しで行うことができる。
【００９５】
ドメインの配置及び／又はドメイン内の配置はランダムである可能性があり、本質的にその製造方法に依存する。
【００９６】
見かけの表面ＳＤにはいくつかのサイズ、例えば少なくとも２つ又は３つのサイズがありうる。
【００９７】
ドメインは、少なくとも２％、１０％、５０％、７０％の占有度を有することができ、特に、見かけの表面ＳＤの占有度による偏光光学顕微鏡（前記ＰＬＭ）における画像処理によって測定される。
【００９８】
直流電界下で、例えば２５Ｖで、表面ＳＤのドメインは、特に定義されうる。
【００９９】
ＰＬＭ画像では、線の欠陥があるドメインは、多葉（ｍｕｌｔｉｌｏｂａｌ）の形（光度のコントラストを伴い）を有しうる。
【０１００】
ＰＬＭ画像では、非ＴＦＣＤタイプの欠陥があるドメインは、四つ葉のクローバーに類似した４つのローブを有しうる。
【０１０１】
ＰＬＭ画像では、非ＴＦＣＤタイプの欠陥のあるドメインは、２つのローブを有することができ、テクスチャはジャージーニットのメッシュに類似する。
【０１０２】
見かけの表面ＳＤの等価直径又は幅は、特にサブミリメートルであり、特に１〜２００μｍでありうる。
【０１０３】
ＰＬＭ画像では、見かけの表面ＳＤの各ドメインは、幅Ｌｎの閉じた黒い（少なくとも暗い）線で区切ることができ、ここで、幅Ｌｎは、特に最大で５μｍ、及び／又は更には最大でＬＤ／１０又はＬＤ／２０である。
【０１０４】
更に、電気活性層は、前記電界下で流れに伴う荷電粒子（イオン、カチオン）を欠くことができる。
【０１０５】
液晶の層は、特にディスコティック液晶を有する柱状に組織化できることが知られている。柱状構造の中で、「球形」又はモザイクテクスチャ及びそれらの組み合わせが知られている。
【０１０６】
メソ相Ｐにおいて、電気活性層は、液晶の柱状に構造化することができる。
【０１０７】
従来技術の従来のネマティックメソ相とは対照的に、スメクティックメソ相の液晶の層は、層に組織化する（特にカラミティック又はディスコティック液晶を伴う）ことができることが知られている。これらの層の厚さはナノメートルのオーダーである。
【０１０８】
しかしながら、体積に制限されるため、これらの層はすべての点で平坦であるとは限らず、その結果、（液晶の分子と比較して）非常に大規模に大きく傾斜する可能性がある。これらの層は、例えば、ナノメートルのオーダーの厚さＥｃを有する。
【０１０９】
層状構造の中で、スメクティック相に焦点ドメインを有するテクスチャが知られている。
【０１１０】
類推により、メソ相Ｐにおいて、電気活性層は、ナノメートルのオーダーの厚さＥｃ（例えば、最大で１００ｎｍ）を有する液晶の層に構造化することができ、これまでに公表されていないが、それはスメクティック相ではない相でありうる。
【０１１１】
ドメインは、スメクティック（Ａ）相の焦点円錐ドメイン（ＦＣＤｓと呼ばれる）、特にトーリック焦点円錐ドメイン（ＴＦＣＤｓ）、非トーリック（非ＴＦＣＤ、放物線、半円筒形（特に油性ストリーク））焦点円錐ドメイン又は扇形の焦点円錐ドメイン（扇形ＦＣＤｓ）に（類型によって）匹敵できる。
【０１１２】
例えば、電界なしで、ＴＦＣＤ類型のドメインは、以下を含み：
−中央ゾーンにおいて、液晶が垂直に配向し、互いに平行で、かつ電極に平行する平坦な層、
−及び、制限ゾーンにおいて、傾斜している（厚さＥｃを保持）。
【０１１３】
欠陥は、これらの高い曲率のゾーンを生成する。
【０１１４】
液晶は、散乱オフ状態では、平坦な層のゾーンにおいて、層（及び電極）に対して垂直の配向を有し、湾曲した層のゾーンにおいて、層に接するようにする（厚さＥｃの変化なしで）傾向がある。
【０１１５】
二次元欠陥は、例えば、規則的又は不規則的な円、規則的又は不規則的な楕円、正方形若しくは長方形等の規則的又は不規則的な閉じた輪郭、及び／又は線形、楕円、放物線若しくは双極幾何から選択された線欠陥であり、特に層は、第１の類型の閉じた欠陥及び第２の類型の欠陥を含む。
【０１１６】
焦点円錐ドメインの例として、「スメクティック液晶フィルムにおけるフラストレーションのある焦点円錐欠陥ドメインの周期的格子」と題された刊行物、Ｂ．  Ｚａｐｐｏｎｅ  ｅｔ  ａｌ．，  Ｓｏｆｔ  Ｍａｔｔｅｒ，  ２０１２，  ８，  ｐｐ  ４３１８−４３２６、及びこの文献から引用された刊行物に記載されているものについて言及することができる。
【０１１７】
好ましくは、印加された電界がない場合に、製造中の表面相互作用による液晶の固定に役立つアンカー層が使用される。
【０１１８】
アンカー層がある表面では、結晶は特定の電界（電圧）レベルまで表面に付着したままにできる。
【０１１９】
したがって、欠陥を含むドメインを形成するために、層のスタックは、以下を更に含みうる：
【０１２０】
−前記面Ａ１と接触する液晶用の第１の表面アンカー層、これは、印加電界の非存在下で、第１の、好ましくは平面の、配向にしたがって、この第１のアンカー層と接触している液晶の少なくとも一部（ドメインにおいて）を固定することができ、第１のアンカー層は、好ましくは透明（任意選択で着色）であり、特に、最大でマイクロメートル、更にはサブマイクロメートルの厚さＥ１を有し、
【０１２１】
−面Ａ２と接触する第２の表面アンカー層、特に垂直の又は縮退した平面、特に第１の配向と同様又は異なる第２の配向にしたがって、印加電界の非存在下で、この第２のアンカー層と接触している液晶の一部を配向することができ、第２のアンカー層は、好ましくは透明（任意選択で着色）であり、最大でマイクロメートル、更にはサブマイクロメートルの厚さＥ’１を有する。
特に拮抗的であるアンカー層は、上記の電気光学特性に寄与する２Ｄトポグラフィー欠陥を生成するのに役立つ。その中には、２つ以上（３つ以上）のアンカー層が存在する場合もある；そして、アンカー層によって間隔を空けて配置された液晶のいくつかの層がある。
【０１２２】
また、１つの同じ表面に、いくつかの異なるアンカーゾーンが存在する場合もありうる。これらの欠陥は、材料の構造の機械的変形によって生成され、２つのアンカー層によって加えられる応力によって得られ、液晶を特定の異なる方向でこれらの層と接触させる。
【０１２３】
層の１つは、最終的に、第２の電極と面Ａ１との間の、好ましくは虹色を回避するために不変の厚さの、空気で充填された空洞（通常の固定機能）でありうる。空気で充填された空洞は、特に高さ（及び更に大きなサイズ）の周辺スペーサー及び／又は電気活性層から出現するスペーサー（透明、特にプラスチック、ガラス、特にビーズ）によって得ることができる。
【０１２４】
第１のアンカー層は、平面固定であってよく、かつ第２のアンカー層は、垂直固定であってよく、又は第１のアンカー層は、縮退平面の固定であってよく、かつ第２のアンカー層は、縮退平面の固定であってもよい。
【０１２５】
平面固定は、以下であることができる：
−優先方向なし（縮退と呼ばれる）
−又は一方向であり、液晶のダイレクタｎの天頂及び方位角方向を固定し、例えば、テクスチャリング、例えばナノ又はマイクログルーブを含む平面アンカー層の研磨による固定
−又は、更には、テクスチャリング、平面アンカー層の研磨によって交差する（９０°等で）いくつかの方向に沿って。
【０１２６】
研磨は、ベルベットの布を使用できる。
【０１２７】
特に親水性である第１のアンカー層は、例えば、以下のものである：
−誘電体（特にアモルファス、ポリマーの及び／又は無機の、ガラス）、表面Ｓｂの機能化を有し、特にポリイミド上のポリビニルアルコール（ＰＶＡ）に基づく層、例えば平面固定用
−又は二硫化モリブデンや硫化モリブデン（ＩＶ）等の半導体、
−電気的に導電性であり、特に第１の電極の厚さの一部である。
【０１２８】
一方向の平面固定の場合、ポリテトラフルオロエチレンＰＴＦＥやテフロン等のフルオロポリマーのフィルムを使用できる（ポリマーのチェーンは、堆積中にテフロンロッドの移動方向に沿って整列する）。
【０１２９】
第２のアンカー層は、例えば、以下のものである：
−誘電体（特にアモルファス、ポリマーの及び／又は無機の、ガラス）、表面Ｓ’ｂの機能化（垂直固定のためのシラン化）を有し、特にポリイミドのポリビニルアルコール（ＰＶＯＨ）の層、例えば平面固定用
−又は半導体、
−又は電気的に導電性であり、特に第２の電極の厚さの一部である。
【０１３０】
−ガス充填された空洞、空気充填された空洞（垂直固定が必要である場合）。
【０１３１】
アンカー層の１つは、任意のテクスチャリング又は研磨を備えたアモルファスポリマー（ポリ（メチルメタクリレート）ＰＭＭＡ、ポリカーボネート、ポリスチレン）であってよく、かつ他のアンカー層は、結晶性ポリマー（ＰＥＴ、ナイロン、ポリ（ブチレンテレフタレート）ＰＢＴ、ＰＶＡ）で形成された。
【０１３２】
垂直の固定では、最も一般的に使用される層は、オクチルトリクロロシラン（ＯＴＳ）及びＮ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−オクタデシル−３−アミノプロピルトリメトキシシリルクロリド（ＤＭＯＡＰ）に基づいている。
【０１３３】
ドデシル硫酸ナトリウム（ＳＤＳ）又はアルカンチオールの混合物に基づく層も、垂直の固定を生成できる。
【０１３４】
１つの又は第１及び第２のアンカー層は、例えば、液体経路によって、それぞれ第１及び第２の電極上に堆積される（自立又は堆積）。
【０１３５】
第１のアンカー層は、フィルム、好ましくは、例えば、最大２００μｍ又は５０μｍの薄い（可撓性等の）フィルムであってよく、特に以下であってよい：
【０１３６】
−第１の電極（それ自体が、例えば外面又は複数のグレージングの内部空間に、あるいはその他の、特に可撓性でポリマー性の機能性フィルム（ハードコート、機能性コーティング、例えば太陽光制御、低放射率又は（オプト）電子装置用のフィード等と接触する自由表面を有する）、又は、後で詳細に説明するＥＶＡ又はＰＶＢ等の積層中間層（接着接触）を担持し、
【０１３７】
−又は光学接着剤によって第１の電極に接着されており（それ自体が、例えば特に可撓性及び／又はポリマー性の機能性フィルム（ハードコート、反対側に機能性コーティング、例えば太陽光制御、低放射率又は（オプト）電子装置用のフィード等）等の機能性フィルム等の支持体上にあり）、及びそれ自体が任意選択で（後で詳細に説明する）ＥＶＡ又はＰＶＢ等の積層中間層に接着されており（接着接触）、
【０１３８】
第２のアンカー層は、フィルム、好ましくは、例えば、最大２００μｍ又は５０μｍの薄い（可撓性等の）フィルムであってよく、特に以下である：
【０１３９】
−第２の電極（それ自体が、例えば外面又は複数のグレージングの内部空間に、あるいはその他の、特に可撓性及び／又はポリマー性の機能性フィルム（ハードコート、機能性コーティング、例えば太陽光制御、低放射率又は（オプト）電子装置用のフィード等と接触する自由表面を有する）、及びそれ自体が任意選択で（後で詳細に説明する）ＥＶＡ又はＰＶＢ等の積層中間層に接着されており（接着接触）、
【０１４０】
−又は光学接着剤によって第２の電極に接着されており（それ自体が、例えば特に可撓性及び／又はポリマー性の機能性フィルム（ハードコート、反対側に機能性コーティング、例えば太陽光制御、低放射率又は（オプト）電子装置用のフィード）等の機能性フィルム等の支持体上にあり）、及びそれ自体が任意選択で（後で詳細に説明する）ＥＶＡ又はＰＶＢ等の積層中間層に接着されており（接着接触）、
【０１４１】
サーモトロピックメソ相は、それらの秩序の程度に従って、そしてメソゲンの形態及び化学構造に従って分類される。
【０１４２】
好ましい実施形態では、相Ｐはネマティック相であり、これは任意選択でねじられてコレステリックとして知られており、相Ｐ’はスメクティック相である。
【０１４３】
ネマティックメソ相Ｐは、（二方向に配向秩序を有する）二軸性ネマティック相、又はネマティック「ひねり曲げ」相であるとしても知られている。
【０１４４】
スメクティック相中で知られているのは：
−スメクティックＡ相  ＳｍＡ（好ましい）、
−スメクティックＢ相  ＳｍＢ、
−スメクティックＣ相  ＳｍＣ、
−スメクティックＩ相  ＳｍＩ、及び
−スメクティック相  Ｆ、
−ＳｍＣのように、表記が非対称の中心を持つねじれ又はキラルスメクティック相
−及びスメクティックタイプの相：Ｅ、Ｇ、Ｈ、Ｊ、Ｋ。
【０１４５】
スメクティック相（ねじれ又は非ねじれ）とネマティック相の間の遷移は、温度を徐々に上げることによって直接的なものにすることができる。
【０１４６】
厳密に言えば、相Ｊ、Ｇ、Ｅ、Ｋ、及びＨはスメクティックタイプ（「ソフト」結晶）相である。
【０１４７】
参照マニュアルとして、Ｇｏｏｄｂｙ、Ｈａｎｄｂｏｏｋ  ｏｆ  Ｖｉｓｕａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ、２０１２を言及することができる。
【０１４８】
スメクティック相の大部分は、ネマティック相に向かって直接通過することはない。更に、化合物によっては、スメクティックＣ相は、徐々に温度を上げることにより、スメクティックＡ相、次にネマティック相に向かって移動中、又はスメクティックＡ相を通過せずに直接ネマティック相に向かって通過することができる。
【０１４９】
Ａ相（スメクティック相）とネマティック相との間に、１つ又は複数の中間スメクティック相が存在する場合がある。例えば、一部の化合物はこの配列を持つことができる：Ｇ、Ｊ、ＳｍＩ、ＳｍＣ、ＳｍＡ、Ｎ。
【０１５０】
円盤状体は、「ディスコティックネマティック」相又は「ディスコティックコレステリック」相を形成できるが、積み重ねて、垂直、斜め等の様々な形状の柱状相を形成することもできる（ｃｏｌＨ、ＣｏｌＲ、ＣｏｌＯＢ１）。柱状体は、１つの同じ柱の２つの分子間の距離が多かれ少なかれ大きく変動し、長距離秩序がないという意味で流動的である。更に、２つの隣接する柱に属する分子間に位置相関は存在しない。スメクティック相の非常に豊富な多型により、可能なテクスチャのタイプが減少する。
【０１５１】
液晶は様々な形をとることができる：
−カラミティック：円筒形の細長い形状（異方性形状）；長さＬ１及び幅Ｗ１、並びにＬ１／Ｗ１が定義される、
−及び／又はディスコティック：芳香族ボディ／複数のボディ（いくつかの隣接する芳香環）Ｄ、柱状スタック又は層状構造（スメクティック相）を有するディスク、
−湾曲したバナナ型のコア、例えばメソ相Ｂ７。
【０１５２】
液晶は、アルキル又はアルコキシ末端を含む異方性構造を有する分子でありうる。（ＣＨ２）ｘ。
【０１５３】
好ましくは、液晶は、剛直な部分、芳香族コア（サーモトロピック液晶の場合）、及び１つ又は複数の可撓性部分、一般に脂肪族鎖を有する。中央部分は一般的にメソ相の形成のために硬いである。両端は可撓性である。
【０１５４】
リオトロピック液晶の場合、剛体部分はイオンに置き換えられる；これは、例えば、１つ又は複数のアルキル鎖がグラフトされているリン脂質の場合である。それらは、ラグビーボール又はディスクの形の異方性ミセルである可能性がある。
【０１５５】
硬い部分と可撓性部分がそれぞれ極性と非極性の場合、この幾何学的異方性に化学的異方性を追加できる；その場合、分子は両親媒性又は両親媒性であると言われる。
【０１５６】
化学構造は次のようである：
【化１】
2022502700.tif 000003
ここで、
Ａ：配向基（シアノ、ニトロ、メチル、ハロゲン等）
Ｂ：架橋基（多くの場合線形）（アルケン、エステル等）
Ｃ：ＣｎＦ２ｎ＋１ペルフルオロ又はＣｎＨ２ｎ＋１ポリエーテルアルカン（Ａ＝Ｃの場合もある）
【０１５７】
特許ＧＢ０８２３０１３に記載されている液晶についても参照することができる。
【０１５８】
メタロトロピック液晶は、それ自体が分子構造に１つ又は複数の金属原子を有する液晶である。この分子は「鉱床生成」（ｍｅｔａｌｌｏｇｅｎｉｃ）と呼ばれる。
スメクティックＡ相及びネマティックメソ相を有する液晶が好ましい。
液晶の類として、以下について言及することができる：
−シアノビフェニル、例えば、４−オクチル−４’−シアノビフェニルである８ＣＢは、単独で、又は４−シアノ−４’−ペンチルビフェニル（５ＣＢ）との混合物として
−シリコンを含むメソゲン、シロキサン、オルガノシロキサンを有するメソゲン
−安息香酸塩。
特許ＷＯ２０１０／０７０６０６に記載されている液晶を使用することができる。
【０１５９】
「Ｗｈａｔ  ｍａｋｅｓ  ａ  ｌｉｑｕｉｄ  ｃｒｙｓｔａｌ？  Ｔｈｅ  ｅｆｆｅｃｔ  ｏｆ  ｆｒｅｅ  ｖｏｌｕｍｅ  ｏｎ  ｓｏｆｔ  ｍａｔｔｅｒ」と題された出版物Ｇｏｏｄｂｙ  ｅｔ  ａｌ。、Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌｓ、２０１５年６月に記載されているＬＣ（単独で又は他のものとの混合物として）を使用することもできる。
−セキシフェニル（図１）、
−キンクエフェニル、２’，３’’’’−ジメチルセキシフェニル、ウンデシルオキシ及びドデシルオキシシアノビフェニル（図１）
−表３のもの、特に最初の３つ
−表５のもの
−ＴＢＮ（ねじれ湾曲ネマティック相）。
【０１６０】
相ＰとＰ’の間の遷移のために温度Ｔ１を下げるために液晶の混合物を調製することができ、例えば、スメクティックＡ相とネマティック相との間で、例えばＴ１を下げるためのスメクティック相を持たない８ＣＢと５ＣＢの混合物。
【０１６１】
ポリマーは、例えば、以下のポリマー前駆体から得られる：
−ジアクリレート、ジメタクリレート
−文献ＧＢ０２１７９０７に記載されている重合性ジシクロヘキシルベンゼン
−文献ＤＥ１０２５７７１１に記載されている重合性単環式化合物
−文献ＧＢ０３０８  ９８７に記載されている、桂皮酸基、アセチレン基を含む重合性化合物
−文献ＧＢ０３０８９８４に記載されている重合可能なトラン
−文献ＧＢ０３０８９９０に記載されている重合性複素環式アセチレン。
【０１６２】
積層グレージングを製造するために、例えば少なくとも１００℃、１２０℃、１４０℃の温度安定性を有するポリマーを選択することができる。液晶と層のスタックについても同様である。
【０１６３】
当然のことながら、液晶は、実質的に、第１の電極（及び／又は基板）の表面全体にわたって、又は（少なくとも）１つの制限されたゾーン上に広がることができる；液晶は、任意選択でいくつかのゾーンにまたがることができる。
【０１６４】
電気活性層は、（任意の形状、特に幾何学的な）完全な層であり得るか、又は識別マーク（記号、絵文字等）を形成することができる。
【０１６５】
電気活性層は、例えばエポキシ製、アクリレート製、例えばシアノアクリレート製のポリマーシーリング用の接着剤シールを取り囲み、接触させることさえできる。
【０１６６】
更に、好ましくは透明なプラスチック材料で作ることができるスペーサーが使用される。スペーサーは、電気活性層の厚さを（おおよそ）決定する。例えば、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）で作られたスペーサーが好ましい。
【０１６７】
スペーサーは、好ましくは、層の光学屈折率に（実質的に）等しい光学屈折率を有する材料でできている。スペーサーは、例えば、ビーズの形態である。
【０１６８】
第１の電極（及び／又は第２の電極の支持体）の誘電体基板は、可撓性又は可撓性のないプラスチック材料で作ることができ、例えば、最大で３００μｍ又は１５０μｍ又は少なくとも１ｍｍの厚さを有する。特にポリエステル、特にポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）又はポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリプロピレン（ポリエチレン、ポリプロピレン）、ポリウレタン（ＰＵ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリアミド、ポリイミド又はポリビニルクロリド（ＰＶＣ）、実際には、エチレン−テトラフルオロエチレン（ＥＴＦＥ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリクロロトリフルオロエチレン（ＰＣＴＦＥ）、エチレン−クロロトリフルオロエチレン（ＥＣＴＦＥ）、フッ素化エチレン−プロピレンコポリマー（ＦＥＰ）等のフルオロポリマーに基づく。
【０１６９】
吸収は、好ましくは、０．５％未満又は最大で０．２％であり、ヘイズは、１．５％未満、更には最大で１％である。
【０１７０】
ＰＥＴは、その透明性、表面品質、機械的強度、及びすべてのサイズでの入手可能性、あるいはＰＣ又はＰＭＭＡのために好適である。選択は、特に必要な可撓性に依存する。
【０１７１】
第１の電極の誘電体基板（及び／又は第２の電極の支持体）は、電気活性層よりもサイズを大きくすることができる。
【０１７２】
特に、前記基板（及び／又は前記支持体）は、その主面の全部又は一部（例えば、少なくとも５０％又は８０％）を覆う導電層でコーティングすることができ、その１つの領域が第１の電極（第２の電極）、特にこの層の別の領域から（１つ又は複数の絶縁線、レーザーエッチング等によって）電気的に絶縁されている。この導電層は、太陽制御層として機能する低放射率にすることができる。
【０１７３】
例えば、導電層でコーティングされた透明なＰＥＴフィルム、例えば、イーストマンからのＸＩＲで示される透明なＰＥＴフィルム、例えば、ＳＲＦ３Ｍ（登録商標）タイプのＰＥＴ−ＰＭＭＡで作られた共押出フィルム（太陽光反射フィルムのためのＳＲＦ）だけではなく、他の多くのフィルム（例えば、ＰＣ、ＰＥ、ＰＥＮ、ＰＭＭＡ、ＰＶＣ製）等もある。
【０１７４】
スタックの自由な外面の１つは、全面として、又は周辺フレームを形成する、被覆接着剤層（アクリル等）を備えた一時的な保護プラスチックフィルム（ライナー）を含むことができる。装置が切り替え可能なミラーである（そして、支持体に予定されている電極が反射性である）場合、この接着剤層を使用して、グレージングやプラスチックフィルム等の透明な、又は不透明な（壁）あらゆるタイプの平坦な又は湾曲した支持体にスタックを固定することができる。
【０１７５】
電極には、以下の類の少なくとも１つの導電性ポリマーを使用することができる：
−ポリチオフェンの類、例えば、ＰＥＤＯＴポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ、すなわち、ポリスチレンスルホン酸と混合されたポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）、及び出願ＵＳ２００４２５３４３９に記載されている他の任意の誘導体、
−又は、ポリ（アセチレン）、ポリ（ピロール）、ポリ（アニリン）、ポリ（フルオレン）、ポリ（３−アルキルチオフェン）、ポリテトラチアフルバレン、ポリナフタレン、ポリ（ｐ−フェニレンスルフィド）及びポリ（パラ−フェニレンビニレン）。
【０１７６】
ポリチオフェンについては、例えば、ＨＣ  ＳｔｒａｃｋがＢａｙｔｒｏｎ（登録商標）の名前で、又はＡｇｆａがＯｒｇａｃｏｎ（登録商標）の名前で、又はＯｒｇａｃｏｎＥＬ−Ｐ３０４０（登録商標）の名前で販売している製品を選択することができる。
【０１７７】
層のスタックをシートに結合するために、ＰＳＡを使用することができる。
【０１７８】
ＰＳＡは、一般に、適切な追加の接着剤又は「粘着性」剤（例えば、エステル樹脂）と結合されたエラストマーに基づく。
【０１７９】
エラストマーは以下に基づくことができる：
１／アクリレート、これは、追加の粘着剤を必要としないほど十分に粘着性を有することができる、
２／ニトリル、
３／シリコーン、特殊な粘着剤が必要であり、例えば四塩化ケイ素（「Ｑ」）と反応した単官能性トリメチルシラン（「Ｍ」）からなる「ＭＱ」タイプのケイ酸塩樹脂等。シリコーンに基づくＰＳＡは、例えば、キシレン又はキシレンとトルエンとの混合物に分散されたポリジメチルシロキサンガム及び樹脂であり、
４／スチレンをベースにしたブロック共重合体、例えば、スチレン−ブタジエン−スチレン（ＳＢＳ）、スチレン−エチレン／ブチレン−スチレン（ＳＥＢＳ）、スチレン−エチレン／プロピレン（ＳＥＰ）又はスチレン−イソプレン−スチレン（ＳＩＳ）ブロック共重合体、
５／ビニルエーテル。
【０１８０】
有利には、感圧接着剤は、アクリレートに基づくＰＳＡ及びシリコーンに基づくＰＳＡから選択される。
【０１８１】
これらの接着剤は、両面接着剤ロールの形で販売されている。
【０１８２】
シリコーンをベースにしたＰＳＡとして、ＤｏｗＣｏｒｎｉｎｇ（登録商標）接着剤について言及することができ、例えば、２０１３接着剤、７６５７接着剤、Ｑ２−７７３５接着剤、Ｑ２−７４０６接着剤、Ｑ２−７５６６接着剤、７３５５接着剤、７３５８接着剤、２８０Ａ接着剤、２８２接着剤、７６５１接着剤、７６５２接着剤、７３５６接着剤等がある。
【０１８３】
好ましい実装では、スタックは以下の（厳密又は非厳密）積層を含むことができる（括弧内の要素は任意選択的である）：
スタックＮｏ．１：（ハードコート又はライナー）／ＰＥＴ基板／第１の電極（ＩＴＯ等）／（第１のアンカー層）／電気活性層／（第２のアンカー層）／第２の電極（ＩＴＯ等等）／ＰＥＴ支持体／（ハードコート）
スタックＮｏ．２：ガラス（例えば、着色及び／又は曲げ）／第１の積層中間層シート（ＰＶＢ又はＥＶＡ）又は光学接着剤／ＰＥＴ基板／第１の電極（ＩＴＯ等）／（第１のアンカー層）／電気活性層／（第２のアンカー層）／第２の電極（ＩＴＯ等）／ＰＥＴ支持体／（ハードコート）／第２の積層中間層シート（第１のようなＰＶＢ又はＥＶＡ）又は光学接着剤／ガラス（例えば、着色及び／又は曲げ）。
【０１８４】
各フィルムは、好ましくは、可撓性、平坦又は湾曲しており、例えば、グレージング又は他の支持体の曲率又は複数の曲率に調整することができる。  各基板、支持体は、可撓性、平坦、又は湾曲することができ、例えば、追加のグレージング又は他の支持体の曲率又は曲率に調整することができる。
【０１８５】
各層（及び／又は各基板）の主面は、長方形、正方形、又は他の任意の形状（円形、楕円形、多角形等）にすることができる。各バリア層及び／又は基板は、例えば、０．０２ｍ２を超え、実際には０．５ｍ２又は１ｍ２でさえの表面積を有するように、サイズを大きくすることができる。
【０１８６】
各層−堆積物又はフィルム−（及び／又は各基板）は、透明であることができ、好ましくは７０％以上、好ましくは８０％以上、実際には９０％以上の光透過率ＴＬを示すことができる。
【０１８７】
各層−堆積物又はフィルム−は、例えば、青、緑、灰色、又は青銅で着色することができる。その場合、光透過率ＴＬは、最大で５５％、特に２０％〜５０％になる可能性がある。
【０１８８】
しかしながら、特にガラス製の各基板は、例えば、青、緑、灰色、又は青銅で着色することができる。
【０１８９】
第１及び／又は第２の電極は、パターン化された層（穴及び／又は不連続線を有する）ではなく、完全な層でありうる。
【０１９０】
誘電体基板（又は支持体）に関しては、好ましくは透明である第１の電極（第２電極）は、無機であってもよい；特に、無機導電層は、１つ又は複数の透明導電性酸化物又は最大２０ｎｍの金属層に基づいており、好ましくは、金属又はシリコンの酸化物及び／又は窒化物の薄層のスタック内にある。
【０１９１】
第１の電極及び／又は第２の電極は、ＴＣＯ層として知られる透明な導電性酸化物層でありうる。
【０１９２】
ＴＣＯ層は、好ましくは、１５０Ω／□以下、好ましくは１２０Ω／□以下の（「固有の」）シート抵抗を有するのに適した厚さを有する。
【０１９３】
ＴＣＯ層は、例えば、好ましくは金属（銀、銅等に基づく）である、好ましくは（金属）ストリップの形態で／エッジに沿った電流供給手段を介して電気的に供給される。
【０１９４】
ＴＣＯ層を担持するバリアフィルム又は基板（支持体）は、例えば、出願ＷＯ２０１１／１６１３９１（図１又は他の図）又はＥＰ１６５３２７５のように作られた電気接続を促進するために、電気活性層を超えて突出することができる。
【０１９５】
透明な導電性酸化物の層は、好ましくは、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）の層である。薄層を含む他の層が可能である：
−インジウム酸化亜鉛（「ＩＺＯ」と呼ばれる）に基づく、インジウムガリウム酸化亜鉛（ＩＧＺＯ）に基づく、
−ドープされた酸化亜鉛に基づく、好ましくはガリウム又はアルミニウム（ＡＺＯ、ＧＺＯ）でドープされ、ニオブでドープされた酸化チタンに基づく、スズ酸カドミウム又はスズ酸亜鉛に基づく、
−フッ素ドープ酸化スズ（ＳｎＯ２：Ｆ）に基づく、アンチモンドープ酸化スズに基づく。
【０１９６】
アルミニウムドープ酸化亜鉛の場合、ドーピングレベル（すなわち、総重量に対する酸化アルミニウムの重量）は、好ましくは３％未満である。ガリウムの場合、ドーピングレベルはより高くなる可能性があり、通常は５〜６％の範囲内である。
【０１９７】
ＩＴＯの場合、Ｓｎの原子百分率は、好ましくは５〜７０％、特に１０〜６０％の範囲内である。
【０１９８】
フッ素ドープ酸化スズに基づく層の場合、フッ素の原子百分率は、好ましくは最大で５％、一般に１〜２％である。
【０１９９】
特にＩＴＯが好ましく、更にはＩＺＯ、ＡＺＯ、ＧＺＯ、ＩＧＺＯも好ましい。カソードスパッタリングプロセス、特にマグネトロンカソードスパッタリングプロセスによって容易に堆積されるこれらの層は、ＣＶＤよりも粗さが小さいという特徴がある。
【０２００】
一般的に使用される電極は、混合インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）でできている。電極間の距離以上の大きさの不純物を伝導することによって発生する短絡から保護するために、文献ＷＯ２０１４／０７２５９６に記載されているように、各ＩＴＯ層は、Ｓｉ３Ｎ４やＳｉＯ２等の酸化物又は窒化物の１つ又は複数の誘電体層、例えば、５０〜１５０ｎｍの累積厚さでコーティングすることができる。
【０２０１】
一方、フッ素ドープ酸化スズの利点の１つは、化学蒸着（ＣＶＤ）による堆積が容易であり、フロートフラットガラスの生産ラインに実装できることである。一実施形態では、スタックの層は、フロートガラス法によるガラスシートの製造のために、ライン上に直接化学蒸着することによって得られる。堆積は、熱いガラスのリボン上に、ノズルを通して前駆体を噴霧することによって実行される。異なる層の堆積は、ラインの異なるポイントで実行できる：フロートチャンバー内、フロートチャンバーとレールの間、又はレール内。前駆体は、一般に、有機金属分子又はハロゲン化物タイプの分子である。
【０２０２】
例として、フッ素ドープ酸化スズについて、四塩化スズ、三塩化モノブチルスズ（ＭＢＴＣ）、トリフルオロ酢酸又はフッ化水素酸について言及することができる。酸化ケイ素は、シラン、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）、又はヘキサメチルジシロキサン（ＨＤＭＳＯ）を使用して、場合によってはリン酸トリエチル等の促進剤を使用して得ることができる。
【０２０３】
基板とＴＣＯ層の間に中和層のスタックを配置することも可能である。そのような層（少なくとも２つの層）は、グレージングの反射の外観、特に反射の色に影響を与えることを可能にする。導電性支持体が液晶の層でコーティングされると（そして別の同一の導電性支持体が追加されたとしても）、色は、好ましくは中性、わずかに青みがかった、又は緑色であり、比色座標ａ＊、ｂ＊が０に近い、ａ＊、ｂ＊が負又はａ＊が負、ｂ＊がわずかに正であることを特徴とし、紫、ピンク、赤の色（ａ＊がより正である）であることが好ましい。
【０２０４】
好ましい実施形態では、スタックは、この順で、主面上に、ＴＣＯ層の下に、以下を含む：
−窒化ケイ素（ＳｉＮｘ、好ましくはＳｉ３Ｎ４）に基づく第１の下層、任意選択で好ましくはアルミニウムでドープされ、厚さｔｙが５〜５０ｎｍ、又はより好ましくは更に１０ｎｍ〜３５ｎｍであり、好ましくは（直接）主面と接触し、好ましくは本質的に、任意選択で好ましくはアルミニウムでドープされた窒化ケイ素から構成される；
−酸化ケイ素（ＳｉＯｘ、好ましくはＳｉＯ２）に基づく第２の下層、厚さｔｚが１０〜５０ｎｍ、更には２０ｎｍ〜５０ｎｍであり、好ましくは本質的に酸化ケイ素で構成され、下層が、ドープされていないか、又は任意選択で好ましくはアルミニウムでドープされ、好ましくはＴＣＯ層と接触している。
【０２０５】
より広義には、下層（特に単一）は、酸窒化ケイ素（ＳｉＯＮ）に基づく層である可能性がある。
【０２０６】
第１の電極を形成する薄層のスタックのいくつかの例を以下に示す：
−ＳｉＮｘ／ＳｉＯｘ／ＴＣＯ（好ましくはＩＴＯ）／ＳｉＮｘ／（ＳｎＺｎＯ）／ＳｉＯｘ
−ＳｉＮｘ／ＳｉＯｘ／ＴＣＯ（好ましくはＩＴＯ）／ＳｉＮｘ／ＳｎＺｎＯ／ＳｉＯｘ
−ＳｉＮｘ／（ＳｎＺｎＯ）／ＳｉＯｘ／ＴＣＯ（好ましくはＩＴＯ）／ＳｉＮｘ／（ＳｎＺｎＯ）／ＳｉＯｘ
−ＳｉＯｘＮｙ／ＴＣＯ（好ましくはＩＴＯ）／ＳｉＯｘＮｙ／（ＳｎＺｎＯ）／ＳｉＯｘ。
【０２０７】
薄層を堆積するための任意のタイプのプロセスによって、異なる層を基板上に堆積させることができる。それは、例えば、プロセス、（液体又は固体）熱分解、化学蒸着（ＣＶＤ）、特にプラズマ化学気相成長（ＰＥＣＶＤ）、任意選択で大気圧下（ＡＰＰＥＣＶＤ）、蒸発、実際にはゾルーゲルタイプも関連する可能性がある。
【０２０８】
本発明による装置は、以下を含む積層グレージングを含むことができる：
−第１の追加ガラスシート、特に０．７ｍｍ〜４ｍｍの厚さを有する、
−熱可塑性積層中間層、
−第２の追加ガラスシート、特に０．７ｍｍ〜４ｍｍ又は０．７ｍｍ未満の厚さを有し、又はその他のプラスチックシート、例えばポリカーボネート又はＰＭＭＡ（特にＰＵ製の積層中間層を備えている）、
第１及び第２の追加のガラスシートのＦ２及びＦ３と呼ばれる主内面が、互いに対面しており、スタックが、面Ｆ２及びＦ３の間にあり、好ましくは前記積層中間層にある。
【０２０９】
好ましくは、熱可塑性積層中間層は、スタックのエッジを取り囲む。
【０２１０】
スタックの端面は、積層中間層（又は第１のシート）の最も外側の端面に対して後退させることができる。
【０２１１】
好ましくは、任意選択の第１及び／又は第２の基板は、好ましくは、最大で０．７ｍｍ、更には最大で０．３又は０．２ｍｍの厚さを有する。ガラス基板又は基板に、薄い（１ｍｍ未満）のガラスとも極薄ガラス（ＵＴＧ）を選択することが可能である。
【０２１２】
追加のガラスシートの１つは着色でき、もう１つはクリア又はエクストラクリアであってよい。熱可塑性積層中間層は、クリア、エクストラクリア、又は着色することができる。
【０２１３】
本発明による装置は、グレージング、特に積層及び／又は湾曲グレージングを含むことができ、スタックは、グレージングの主面の一部の上にストリップ、特に周辺ストリップを形成する。
【０２１４】
上述した晶によって変化させることができる散乱を有する装置は、乗り物又は建築物で使用することができる。特に以下のように使用できる：
【０２１５】
−建物、地上、鉄道、航海、又は航空機内（２つのコンパートメント間、タクシー、バス、電車等）の内部パーティション（２つの部屋の間又はスペース内）、特にシャワーやお風呂のガラス張りの壁として、
−グレージングドア（前面又は背面）、窓（シングル、ダブル、トリプルガラス）、天井、タイリング（床、天井）、トイレのドア、街路又は家庭用家具のガラス部分、
−自動車（自動車、トラック、バス等）のグレージング、したがって、地上、鉄道、又は航海用車両（ボート）：ウィンドシールド、サイドウィンドウ、ルーフ等、
−プロジェクション又はバックプロジェクションスクリーン、
−ショーウィンドウ又は陳列ケース、特にカウンター。
【０２１６】
当然、ガラスの全部又は一部（欄間タイプの仕切りや窓等）を形成することができる。
【０２１７】
本発明による装置は、積層及び特に湾曲グレージングを含み、層のスタックは、第１及び第２のグレージングの間にあり、それぞれ「外部」及び「内部」グレージングであり、グレージングの上部に周辺ストリップを形成し、スタックの「外部」端面は、外部グレージング（好ましくは面Ｆ２上）の第１の不透明周辺層、特にエナメルによって外側からマスクされており、及び／又はスタックの「内部」端面は、内部グレージング（面Ｆ４上、例えば、実際には面Ｆ３上）の第２の不透明周辺層、特にエナメルによって内側からマスクされている。
【０２１８】
積層グレージングに組み込むために、以下を使用することができる：
−３つのシート（単層又は多層ＰＶＢ、ＥＶＡ、ＰＵ等）、特に、それぞれ２つのグレージングの１つと接触している２つの完全なシート、及びスタックを収納するためのストアを有する中央シート、
−２つのシート（単層又は多層ＰＶＢ、ＥＶＡ、ＰＵ等）、特にスタックがかなり薄い場合は、２つのシートをスタックのいずれかの側で流れによって結合する。
【０２１９】
基板及び／又は支持体又は他の場合、又は追加のガラスシート又は積層及び／又は複数のグレージングのグレージングについて、透明又は超透明のガラスを選択することが可能である。透明なガラスは通常、０．０５から０．２％のオーダーの酸化鉄の含有量を含むが、超透明なガラスは一般に約０．００５から０．０３％の酸化鉄を含む。
【０２２０】
しかしながら、追加のガラスシート又は積層及び／又は複数のグレージングのグレージングは、例えば、青、緑、灰色、又は青銅で着色することができる。
【０２２１】
着色された追加ガラスシート又は積層及び／又は複数のグレージングの着色されたグレージングは、好ましくは、１０％以上の光透過ＴＬを示すことができる−例えば、基板の外面の側（電極のある面の反対側）の環境が高度に照明されている状況では、好ましくは４０％以上である。
【０２２２】
ガラスは、好ましくはソーダ石灰シリカタイプであるが、ホウケイ酸塩又はアルミノホウケイ酸塩タイプのガラスであってもよい。ガラスの厚さは、一般に、０．５〜１９ｍｍ、好ましくは０．７〜９ｍｍ、特に２〜８ｍｍ、実際には４〜６ｍｍに及ぶ範囲内にある。
【０２２３】
ガラスは、好ましくはフロートガラスタイプであり、すなわち、溶融ガラスを溶融スズ浴（「フロート」浴）に注ぐことからなるプロセスによって得られることができる。この場合、スタックは、基板の「錫」面と「雰囲気」面の両方に堆積することができる。「雰囲気」及び「スズ」面という用語は、それぞれ、フロート浴内に広がる雰囲気と接触しており、溶融スズと接触している基板の面を意味すると理解される。スズ面には、ガラスの構造に拡散した少量のスズが含まれている。
【０２２４】
熱可塑性積層中間層は、剛性又は可撓性のある要素との結合を提供する。このポリマー積層中間層は、特に、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）、エチレン−ビニルアセテート（ＥＶＡ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリビニルクロリド（ＰＶＣ）、熱可塑性ウレタン、ポリウレタンＰＵ、イオノマー、ポリオレフィン、熱可塑性シリコーン、又は多成分又は一成分樹脂製の熱的に（エポキシ、ＰＵ）又は紫外線放射（エポキシ、アクリル樹脂）で架橋できるものに基づく接着剤に基づく層でであってよい。
【０２２５】
ＰＶＢ中間層はくさび形にすることができるため、ヘッドアップディスプレイ（ＨＵＤ）の場合、特にウィンドシールド用の場合、二重画像を回避するために、積層グレージングの上部から下部に向かって断面がくさび形に減少する。
【０２２６】
ＰＶＢ中間層は、任意選択で防音（ａｃｏｕｓｔｉｃ）及び／又は着色される。
【０２２７】
防音ＰＶＢ中間層は、振動音響減衰特性を備えた粘弾性プラスチックで作られた少なくとも１つの「中央」層を含むことができ、特にポリビニルブチラール（ＰＶＢ）及び可塑剤に基づいており、更に標準のＰＶＢで作られた２つの外層を含み、中央層は２つの外層の間にある。
【０２２８】
任意選択で、一方又は両方の外層は、積層グレージングの上から下に向かってくさび形に減少する断面を有し、この層は、積層グレージングの上から下に向かって不変の断面を有する振動音響減衰特性を備えた粘弾性プラスチックでできている層である。防音シートの例として、特許ＥＰ０８４４０７５について言及することができる。
【０２２９】
積層グレージングの第１及び／又は第２のグレージングは、（審美的結果又は所望の光学効果に応じて）透明なガラス（４ｍｍの厚さに対して９０％以上の光透過率ＴＬを有する）であってよく、例えば、標準的なソーダライム組成のガラス、サンゴバンガラスのＰｌａｎｉｌｕｘ（登録商標）、又は非常に透明なガラス（厚さ４ｍｍで９１．５％以上のＴＬ）であってよく、例えば、Ｆｅ（ＩＩＩ）又はＦｅ２Ｏ３が０．０５％未満のソーダライムシリカガラス、サンゴバンガラスのＤｉａｍａｎｔ（登録商標）ガラス、ＰｉｌｋｉｎｇｔｏｎのＯｐｔｉｗｈｉｔｅ（登録商標）ガラス、又はＳｃｈｏｔｔのＢ２７０（登録商標）ガラス、又は文献ＷＯ０４／０２５３３４に記載されている別の組成物のガラスであってもよい。サンゴバンガラスからのＰｌａｎｉｃｌｅａｒ（登録商標）ガラスを選択することも可能である。
【０２３０】
第１及び／又は第２のグレージングのガラスは、サンゴバンガラスからのＴＳＡガラスのように、中性（着色なし）又は（わずかに）着色され、特に灰色又は緑色でありうる。第１及び／又は第２のグレージングのガラスは、硬化又は焼きなましタイプ又は焼戻し（特により良い機械的強度を得るために）の化学的又は熱処理を受けているか、又は半焼戻しされている可能性がある。
【０２３１】
光透過率ＴＬは、光源Ｄ６５を使用して標準ＩＳＯ  ９０５０：２００３に従って測定でき、直接透過及び拡散透過の両方を考慮している、全透過率（特に、可視領域全体に統合され、人間の目の感度曲線によって重み付けされた）であり、測定は、例えば、積分球を備えた分光光度計を使用して実行され、所定の厚さでの測定値は、その後、必要に応じて、標準ＩＳＯ  ９０５０：２００３に従って４ｍｍの参照厚さに変換される。
【０２３２】
本発明による湾曲積層グレージング、特にウィンドシールド又はサイドウィンドウは、透明なガラス領域に、好ましくは少なくとも７０％、更には少なくとも７５％、更には少なくとも８０％であるＴＬを有することができる。
【０２３３】
本発明による湾曲積層グレージング、特にサンルーフは、最大で１０％、更には１〜６％の光透過率ＴＬを有することができる。
【０２３４】
自動車のルーフについて、以下の基準の少なくとも又は全てが好適である：
−最大で１０％、更には４〜６％のエネルギー伝達ＴＥ、
−最大で１０％のエネルギー反射ＲＥ（好ましくはＦ１側に面する）、更には４〜５％、
−及び太陽エネルギーの総透過率はＴＳＴ＜３０％、更には＜２６％、更には２０〜２３％
【０２３５】
以下の表Ａは、出願会社が販売したガラスの例である。ＳＧＳＴｈｅｒｍｏｃｏｎｔｒｏｌ（登録商標）吸収／ヴィーナスガラスは、ガラス本体のエネルギー負荷を吸収することにより、熱的快適性を向上させる。これらのガラスは、「ビジョン」（光透過率＞７０％）と「プライバシー」（光透過率＜７０％）の２つのカテゴリに分類される。
【０２３６】
【表１】
2022502700.tif 000004
【０２３７】
「ビジョン」ガラスは、車両内のすべてのタイプのグレージング（緑／青／灰色）に適しており、エネルギー伝達（ＴＥ）を低減する。この目的で最も人気のある色は緑色である。それは、車両の色の調和に影響を与えないニュートラルな外観のために選択されていた。
【０２３８】
「プライバシー」ガラスは、熱的快適性とプライバシーのためにバルク着色されたグレージングである。濃い緑色又は濃い灰色に染められたグレージングである。プライバシーを確保するために、このグレージングは７０％未満、通常は約５５％以下の光透過率を示す。このタイプのガラスは、その暗い色合いのために、ＵＶ透過率も低くなる（ＵＶ光線は皮膚の炎症を引き起こす可能性がある）。
【０２３９】
ほとんどの国では、ヴィーナス／プライバシーガラスがリアサイドウィンドウ（Ｂピラーの後）、リアウィンドウ、ルーフに適している。
【０２４０】
ＳＧＳ  Ｔｈｅｒｍｏｃｏｎｔｒｏｌ（登録商標）ヴィーナスは、色が濃い灰色又は濃い緑色の光沢のあるグレージングで構成されている。それらは、改善された太陽光保護を備えた「ビジョン」タイプ（ＳＧＳ  Ｔｈｅｒｍｏｃｏｎｔｒｏｌ（登録商標）タイプ）のガラスの全ての熱的利点を有している：
−（他の全てのガラスソリューションに関して）より低いエネルギー伝達値、
−その暗い色はまた、皮膚の炎症や車室内の変色の原因となる紫外線を遮断する、
−乗り物の乗客により大きなプライバシーを提供する（外側からガラス越しに見ることは困難である）。
【０２４１】
好ましくは、湾曲積層グレージングは、自動車又はトラック等の道路車両のウィンドシールドを形成する。
【０２４２】
第１及び第２のグレージング（特にウィンドシールド）の湾曲は、例えば、文献ＷＯ２０１０１３６７０２に記載されているように、１つ又は複数の方向に向けることができる。
【０２４３】
主面Ｆ１（特にウィンドシールド又はルーフ）の面積は、１．５ｍ２より大きく、例えば、３ｍ２未満でありうる。
【０２４４】
車室内の暖房を制限したり、エアコンの使用を制限したりするために、少なくとも１つのガラス（好ましくは外部ガラス）に着色し、積層グレージングはまた、好ましくは面Ｆ４又は面Ｆ２又はＦ３上で、太陽放射を反射又は吸収する層を含むことができ、特に、透明な導電性酸化物層、「ＴＣＯ層」（面Ｆ４上）、又は少なくとも１つのＴＣＯ層を含む薄層のスタック、又は少なくとも１つの銀層を含む薄層のスタック（Ｆ２又はＦ３上）を含むことができ、各銀層は誘電体層の間に配置される。
【０２４５】
面Ｆ２及び／又はＦ３上に（銀含有）層及び面Ｆ４上にＴＣＯ層を同時に有することが可能である。
【０２４６】
ＴＣＯ層（透明な導電性酸化物の層）は、記載されているように、第１又は第２の電極のために、又は面Ｆ４上に使用することができる。混合インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）の層又はフッ素ドープ酸化スズ（ＳｎＯ２：Ｆ）の層であることが好ましい。他の層も可能であり、その中で、混合インジウム亜鉛酸化物（「ＩＺＯ」と呼ばれる）に基づく、ガリウムドープ又はアルミニウムドープ酸化亜鉛に基づく、ニオブドープ酸化チタンに基づく、スズ酸カドミウム又はスズ酸亜鉛に基づく、又はアンチモンドープ酸化スズに基づく薄層。アルミニウムドープ酸化亜鉛の場合、ドーピングレベル（すなわち、総重量に対する酸化アルミニウムの重量）は、好ましくは３％未満である。ガリウムの場合、ドーピングレベルはより高くなる可能性があり、通常は５〜６％の範囲内である。
【０２４７】
ＩＴＯの場合、Ｓｎの原子百分率は、好ましくは５〜７０％、特に１０〜６０％の範囲内である。フッ素ドープ酸化スズに基づく層の場合、フッ素の原子百分率は、好ましくは最大で５％、一般に１〜２％である。ＩＴＯで作られた層の場合、厚さは一般に少なくとも４０ｎｍ、実際には少なくとも５０ｎｍ、更には少なくとも７０ｎｍ、多くの場合最大で１５０ｎｍ又は最大で２００ｎｍになる。フッ素ドープ酸化スズで作られた層の場合、厚さは一般に少なくとも１２０ｎｍ、実際には少なくとも２００ｎｍ、多くの場合最大で５００ｎｍになる。
【０２４８】
例えば、低放射率層は、以下の積層を含む：高屈折率下層／低屈折率下層／ＴＣＯ層／任意選択の誘電体上層。
【０２４９】
低放射率層（焼戻し中に保護された）の好ましい例を選択することができ、高屈折率下層（＜４０ｎｍ）／低屈折率下層（＜３０ｎｍ）／ＩＴＯ層／高屈折率上層（５〜１５ｎｍ）／低屈折率バリアオーバー層（＜９０ｎｍ）／最終層（＜１０ｎｍ）。
【０２５０】
特許ＵＳ２０１５／０１４６２８６に記載されているものの、特に実施例１〜３において、面Ｆ４上での低放射率層について言及することができる。
【０２５１】
特に、積層グレージングの面Ｆｅは、透明機能層、特に低放射率層でコーティングされており、好ましくは、（第１の発光表面を管理するための）タッチボタンを形成するゾーン（電気、したがって電極が供給される）を含むＴＣＯ層を含む。
【０２５２】
電極との電気的接続を提供することができる。例えば、第１の電極に沿って第１の周辺導電性（金属等）ストリップを使用し、第２の電極に沿って第２の周辺導電性ストリップを使用することができる。例えば、第１の導電性ストリップは、第１の横方向又は長手方向のエッジに沿っており、第２の導電性ストリップは、第２の反対側（横方向又は縦方向）及び／又は隣接するエッジに沿っている。
【０２５３】
導電性バンド、特に、例えば銅製で、例えば最大幅が２ｃｍの金属導電性バンドは、例えば、電力の供給のために、電極の周辺に固定されている（電極ごとに１つのバンド、バンドは反対側のエッジにあることが好ましい）。
【０２５４】
これらの導電性ストリップに電気ケーブルを固定（溶接、接着）することが可能である。
【０２５５】
本発明による装置は、エレクトロルミネセンスシステム（特定の無機ＬＥＤダイオード、有機ダイオード又はＯＬＥＤ、ＴＦＥＬ（薄層を有する）の集合体）を備えた装置等の他の電気的に制御可能な装置と組み合わせて使用することができる。
【０２５６】
両者は、積層グレージング（積層中間層）内で対面又は隣接することができる。
【０２５７】
本発明による装置は、特に積層グレージングにおいて、電気的に制御可能なエレクトロルミネセント装置、特にＬＥＤ、ＯＬＥＤ、ＴＦＥＬ等の別の電気的に制御可能な装置と組み合わせて使用することができる。
【０２５８】
製造例では、液晶はモノマー及び少量の光開始剤（溶媒として作用する液晶）と混合され、重合は熱的又は光化学的に（より迅速に、分子スケールでポリマーネットワークに有利に働く）実行される。
【０２５９】
したがって、本発明は、液晶によって変化させることができる散乱を有する電気的に制御可能な装置の製造方法、特に上記説明した装置の製造方法を対象とする：
−特に誘電体基板上において、第１の電極を提供すること
−特に誘電体支持体上において、第２の電極を提供すること
−以下を含む混合物を提供すること：
−少なくとも１つのポリマー前駆体
−メソ相Ｐを示す少なくとも第１の液晶、及び任意選択で少なくとも第２の液晶を含む液晶
混合物が、メソ相Ｐ及びメソ相Ｐ’を示し、ＴＡが、混合物のメソ相Ｐとメソ相Ｐ’との間の遷移温度であり、
−必要に応じて、重合開始剤、好ましくは光開始剤
−第１及び第２の電極の間に、混合物から出発して、ポリマーネットワークによって安定化された液晶を含む材料から形成された電気活性層の形成を含む層のスタックを形成すること、前記形成が、以下を含み：
−ＴＡよりも低い温度Ｔｉで、メソ相Ｐ’において、好ましくは光重合によって、好ましくは紫外線又はＵＶ放射下で、前記前駆体又は複数の前駆体を重合し、前記ポリマーネットワークを結果として得ること。
【０２６０】
第１の液晶は、メソ相Ｐ及びメソ相Ｐ’を示し、第１の液晶は、メソ相Ｐとメソ相Ｐ’との間の遷移の温度Ｔｐを有し、ＴＡは、好ましくはＴｐ以下であり、重合は、Ｔｐ又はＴＡ未満の温度Ｔｉで行われる。
【０２６１】
メソ相Ｐは、（相Ｐ’において、好ましくは、又は相Ｐにおいて）混合物へのキラル剤の添加によってねじれたネマティックメソ相でありうる。したがって、キラル剤がなければ、最初の液晶のメソ相Ｐは、ねじれのないネマティック相である可能性がある。
【０２６２】
本発明は、液晶によって変化させることができる散乱を有する電気的に制御可能な装置の製造方法、特に上記説明した装置の製造方法を対象とする：
−第１の電極の提供、特に、第１の任意選択で縮退した平面配向による液晶用の第１の表面アンカー層、特に誘電体基板上の第１の電極を含むか、又はそれでコーティングされる第１の電極
−第２の電極の提供、特に、第２の配向、特に縮退した又は垂直の平面配向による液晶用の表面アンカー層を含むか、又はそれでコーティングされる第２の電極、特に誘電体支持体上の第２の電極
−以下を含む混合物の提供：
−少なくとも１つのポリマー前駆体（モノマー等）
−メソ相Ｐ及びメソ相Ｐ’を示す第１の液晶を少なくとも含み、かつ任意選択で、第２の液晶を少なくとも含む液晶、第１の液晶は、メソ相Ｐとメソ相Ｐ’との間の遷移の温度Ｔｐを有し、ＴＡは、混合物のメソ相Ｐ及びメソ相Ｐ’の間の遷移温度であり、特にＴｐ以下である
−必要に応じて、重合開始剤、好ましくは光開始剤
−層のスタックの形成は、第１及び第２の電極の間に、特に第１及び第２のアンカー層を含み、この形成は、中間層Ｐから中間層Ｐ’への温度Ｔ１（特にＴｐ未満、実際にはＴｐに等しい）でポリマーネットワークによって安定化された前記液晶を含む材料からなる電気活性層の、前記混合物から出発することを含み、前記形成は、以下を含む：
Ｔｐ又はＴＡよりも低い温度Ｔｉで（よってメソ相Ｐ’において）、前記前駆体を重合して、好ましくは光重合によって、ＵＶ放射下で、前記ポリマーネットワークを結果として得ること。
【０２６３】
好ましくは、工程は、ネマティック相ではなく、スメクティック相でさえもないメソ相Ｐ’において、ドメイン、特にメソ相Ｐに（実質的に）残っている二次元のトポグラフィー欠陥を伴うサブセンチメートルドメインの形成を含む。
【０２６４】
欠陥の形成は、以下の工程の（少なくとも又は選択による）１つによって実行される：
−前記混合物を、液晶を表面に固定するための第１及び第２の層と接触させることによること
−（基板と支持体との間に）応力の印加によること
−最大で１００Ｈｚ、又は最大で１０Ｈｚの電界、特に低周波交流電界の印加によること、前記混合物が荷電粒子を含むこと。
【０２６５】
特に、電気活性層の前記形成は、好ましくは、前記混合物を、液晶を表面に固定するための第１及び第２の層と接触させることを含み、特に：
−（誘電体又は半導体）層の液体経路による堆積、又は、第１の電極に結合された（接着結合された）サブミリメートルフィルム等の（誘電体又は半導体）要素の提供（又は、ガス充填された空洞、例えば空気充填された空洞の生成（垂直固定のための））
−（誘電体又は半導体）層の液体経路による堆積、又は、第２の電極に結合された（接着結合された）サブミリメートルフィルム等の要素の提供、又は第２の電極と混合物との間に、空気充填された空洞等の、ガス充填された空洞（垂直固定のため）の生成。
【０２６６】
（平坦かつ一方向の固定を形成するために）第１及び／又は第２のアンカー層の表面研磨を（予め）提供することができる。
【０２６７】
相Ｐの温度Ｔ’＞Ｔの温度で、電気活性層はそして、二次元トポグラフィー欠陥を持つドメインを示す（かつ可変の散乱の多状態を示す）。
【０２６８】
混合は、特に、サーモトロピック液晶を有する粉末前駆体（モノマー）から開始して攪拌しながら実施することができる。
【０２６９】
電気活性層は、「滴下充填」操作を使用して、又は前記混合物の毛細管現象によって生成することができる。
【０２７０】
好ましくは、露出された表面で受け取られる電力、したがって架橋の程度、重合の程度を可能な限り制御するために、ＵＶランプの強度は制御される。
【０２７１】
更に、第１の液晶は、スメクティック相であるメソ相Ｐ’及びネマティックメソ相Ｐを有し、第２の液晶は、メソ相、特に特にネマティックメソ相を有し、かつスメクティックメソ相がないことを提供することができる。
【０２７２】
モノマー等のポリマー前駆体は、好ましくは、液晶材料と混和性である（必ずしも全ての比率である必要はない）。
【０２７３】
上限は、液晶とモノマーとの混合物に依存する（溶解度の限界は、更に、特定の混合物について、温度とこの混合物の液晶相の性質に依存する）。
【０２７４】
プロセスは、前記スタックの積層の工程を含むことができ、特に以下を含むことができる：
−基板（可撓性、ポリマー性、ＰＥＴ、ＵＴＧ等）／第１の電極／（第１のアンカー層）／電気活性層／（第２のアンカー層）／第２の電極／支持体（可撓性、ポリマー、ＰＥＴ、ＵＴＧ等）
−又は更には第１の電極／第１の基板形成アンカー層／電気活性層／第２の支持体形成アンカー層／第２の電極
これは２つのガラスシート、特に湾曲ガラスシートの間に、ポリマー積層メソ相、特に熱可塑性中間層、例えばＰＶＢ又はＰＶＡ、を用いて、積層中間層は、１つ以上のシートを含み、特に、最大で１４０℃、更には最大で１２０℃、１１０℃の温度における積層を用いる。
【０２７５】
したがって、積層を提供することができる。２つのガラスシート（例えば０．７ｍｍ〜５ｍｍの厚さを有するもの）の間に、前記スタック（プラスチック又はガラス、例えば、可撓性、支持体及び基板）を有する積層グレージングを形成するために、以下を用いることができる：
−３つのシート（単層又は多層ＰＶＢ、ＥＶＡ、ＰＵ等）、特に、それぞれ２つのグレージングの１つと接触している２つの完全なシート、及びスタックを収納するためのストアを有する中央シート、
−２つのシート（単層又は多層ＰＶＢ、ＥＶＡ、ＰＵ等）、特にスタックがかなり薄い場合は、２つのシートをスタックのいずれかの側で流れによって結合する。
【０２７６】
ＰＶＢは乗り物の世界で好適である。
【０２７７】
ガラスシートの１つに着色することができる。
【０２７８】
従来、積層は、真空下に置くこと（任意の吸引手段による）、加熱、及び任意選択の加圧を含む。ストーブ又はオートクレーブが用いられる。したがって、積層は、デガッシング、エッジのシーリングを含むことができ、及び適切な温度と圧力の使用に関与する；通常、オートクレーブ処理中、ＰＶＢ等のシートは、比較的高温になり（ＰＶＢの場合は１００°Ｃを超え、多くの場合９０°Ｃから１４０°Ｃの間）、軟化して流動する。複数のシート、特にＰＶＢシートを使用する場合、注目に値する効果が生ずる；様々なＰＶＢシートの境界面は消失するであろう；ＰＶＢは、ある意味で、オートクレーブ処理の最後に、直って、単一の均質で連続的なフィルムを形成するであろう。
【０２７９】
積層グレージングを組み立てるための通常の条件下で、加熱を組み合わせて、異なる構成要素（加熱前に粗く不規則な積層中間層の表面）の間に存在する空気を排出する目的に、積層構造の内部を負圧（真空）下に置いて、任意選択で、集合体の接着結合と持続的な凝集を促進するために、積層構造の外側に圧力をかける。
【図面の簡単な説明】
【０２８０】
本発明の他の詳細及び特徴は、以下の添付の図面に関して与えられ、以下の詳細な説明から明らかになるであろう：
【図１】図１は、本発明の第１の実施形態において液晶によって変化させることができる散乱を有する装置１００の概略断面図を示す図である。
【図２ａ】図２ａは、電界なし又は電界下の図１のタイプの液晶によって変化することができる散乱を有する装置の電気活性層の概略的かつ詳細な断面図を示す図である。
【図２ｂ】図２ｂは、電界下で、いくつかの液晶の配向を示す図である。
【図２ｃ】図２ｃは、電界なし又は電界下の図１のタイプの液晶によって変化することができる散乱を有する装置の電気活性層の概略的かつ詳細な断面図を示す図である。
【図３ａ】図３ａは、２０ｃｍにおける背景１１０（筆記線付きの紙）を備えたライトブース内に、照明Ｄ６５下で、電界がない場合の、図１の電気的に制御可能な装置の画像（白黒）を示す図である。
【図４ａ】図４ａは、２０ｃｍにおける背景１１０（筆記線付きの紙）を備えたライトブース内に、照明Ｄ６５下で、２５Ｖの電気活性層に垂直な電界下での、図１の電気的に制御可能な装置の画像（白黒）を示す図である。
【図５ａ】図５ａは、２０ｃｍにおける背景１１０（筆記線付きの紙）を備えたライトブース内に、照明Ｄ６５下で、５０Ｖの電気活性層に垂直な電界下での、図１の電気的に制御可能な装置の画像（白黒）を示す図である。
【図６ａ】図６ａは、２０ｃｍにおける背景１１０（筆記線付きの紙）を備えたライトブース内に、照明Ｄ６５下で、７０Ｖの電気活性層に垂直な電界下での、図１の電気的に制御可能な装置の画像（白黒）を示す図である。
【図７ａ】図７ａは、２０ｃｍにおける背景１１０（筆記線付きの紙）を備えたライトブース内に、照明Ｄ６５下で、電圧が０Ｖに戻った場合の、図１の電気的に制御可能な装置の画像（白黒）を示す図である。
【図３ｂ】図３ｂは、偏光光学顕微鏡（ＰＬＭ）によって倍率２０（５０μｍの白い線の目盛り付き）で得られた画像（白黒）であり、電界がない場合の、図１の電気的に制御可能な装置の電気活性層の線欠陥を有するドメインを示す画像を示す図である。
【図４ｂ】図４ｂは、偏光光学顕微鏡（ＰＬＭ）によって倍率２０（５０μｍの白い線の目盛り付き）で得られた画像（白黒）であり、２５Ｖの電気活性層に垂直な電界下での、図１の電気的に制御可能な装置の電気活性層の線欠陥を有するドメインを示す画像を示す図である。
【図５ｂ】図５ｂは、偏光光学顕微鏡（ＰＬＭ）によって倍率２０（５０μｍの白い線の目盛り付き）で得られた画像（白黒）であり、５０Ｖの電気活性層に垂直な電界下での、図１の電気的に制御可能な装置の電気活性層の線欠陥を有するドメインを示す画像を示す図である。
【図６ｂ】図６ｂは、偏光光学顕微鏡（ＰＬＭ）によって倍率２０（５０μｍの白い線の目盛り付き）で得られた画像（白黒）であり、７０Ｖの電気活性層に垂直な電界下での、図１の電気的に制御可能な装置の電気活性層の線欠陥を有するドメインを示す画像を示す図である。
【図７ｂ】図７ｂは、偏光光学顕微鏡（ＰＬＭ）によって倍率２０（５０μｍの白い線の目盛り付き）で得られた画像（白黒）であり、電圧が０Ｖに戻った場合の、図１の電気的に制御可能な装置の電気活性層の線欠陥を有するドメインを示す画像を示す図である。
【図８】図８は、図１の装置に対して、電界なし又は電界下で、１０Ｖのステップあたり１０Ｖ〜１１０Ｖの電圧で、４００〜８００ｎｍの波長の関数としての全透過率ＴＴに対応する曲線の集合Ａ及び、電界なし又は電界下で、１０Ｖのステップあたり１０Ｖ〜１１０Ｖの電圧で、４００〜８００ｎｍの波長の関数としての拡散透過率ＤＴに対応する曲線Ｂの集合を示す図である。
【図９】図９は、図１の装置に対して、ほぼ電界がない場合、又は電気活性層に垂直な電界下で、１０Ｖのステップあたり１０Ｖ〜１２０Ｖの電圧で、４００〜２５００ｎｍの波長の関数としての全透過率に対応する曲線の集合Ａ、及び図１の装置に対して、ほぼ電界がない場合、又は電気活性層に垂直な電界下で、１０Ｖのステップあたり１０Ｖ〜１２０Ｖの電圧で、４００〜２５００ｎｍの波長の関数としての拡散透過率に対応する曲線の集合Ｂを示す図である。
【図１０】図１０は、図１の装置に対して、ヘイズＨ（％で表される）に対応する曲線の集合を示しており、これは、全透過率ＴＴに対する拡散透過率ＤＴの比率であり、ほぼ電界がない場合、又は１０Ｖのステップあたり１０Ｖ〜１２０Ｖの電圧の電気活性層に垂直な電界下で、４００〜２５００ｎｍの波長の関数として表されおり、及びほぼ電界がない場合、又は１０Ｖのステップあたり１０Ｖ〜１２０Ｖの電圧の電気活性層に垂直な電界下で、４００〜２５００ｎｍの波長の関数としての拡散透過率に対応する曲線Ｂの集合を示す図である。
【図１１】図１１は、本発明の第２の実施形態において液晶によって変化させることができる散乱を有する装置２００の概略断面図を示す図である。
【図１２ａ】図１２ａは、２０ｃｍにおける背景１１０（筆記線付きの紙）を備えたライトブース内に、照明Ｄ６５下で、電界がない場合の、図１１の電気的に制御可能な装置の画像（白黒）を示す図である。
【図１３ａ】図１３ａは、２０ｃｍにおける背景１１０（筆記線付きの紙）を備えたライトブース内に、照明Ｄ６５下で、２０Ｖの電気活性層に垂直な電界下での、図１１の電気的に制御可能な装置の画像（白黒）を示す図である。
【図１４ａ】図１４ａは、２０ｃｍにおける背景１１０（筆記線付きの紙）を備えたライトブース内に、照明Ｄ６５下で、４０Ｖの電気活性層に垂直な電界下での、図１１の電気的に制御可能な装置の画像（白黒）を示す図である。
【図１５ａ】図１５ａは、２０ｃｍにおける背景１１０（筆記線付きの紙）を備えたライトブース内に、照明Ｄ６５下で、７０Ｖの電気活性層に垂直な電界下での、図１１の電気的に制御可能な装置の画像（白黒）を示す図である。
【図１６ａ】図１６ａは、２０ｃｍにおける背景１１０（筆記線付きの紙）を備えたライトブース内に、照明Ｄ６５下で、１２０Ｖの電気活性層に垂直な電界下での、図１１の電気的に制御可能な装置の画像（白黒）を示す図である。
【図１７ａ】図１７ａは、２０ｃｍにおける背景１１０（筆記線付きの紙）を備えたライトブース内に、照明Ｄ６５下で、電圧が０Ｖに戻った場合の、図１１の電気的に制御可能な装置の画像（白黒）を示す図である。
【図１２ｂ】図１２ｂは、偏光光学顕微鏡（ＰＬＭ）によって倍率２０（５０μｍの白い線の目盛り付き）で得られた画像（白黒）であり、電界がない場合の、図１１の電気的に制御可能な装置の電気活性層の線欠陥を有するドメインを示す画像を示す図である。
【図１３ｂ】図１３ｂは、偏光光学顕微鏡（ＰＬＭ）によって倍率２０（５０μｍの白い線の目盛り付き）で得られた画像（白黒）であり、２０Ｖの電気活性層に垂直な電界下での、図１１の電気的に制御可能な装置の電気活性層の線欠陥を有するドメインを示す画像を示す図である。
【図１４ｂ】図１４ｂは、偏光光学顕微鏡（ＰＬＭ）によって倍率２０（５０μｍの白い線の目盛り付き）で得られた画像（白黒）であり、４０Ｖの電気活性層に垂直な電界下での、図１１の電気的に制御可能な装置の電気活性層の線欠陥を有するドメインを示す画像を示す図である。
【図１５ｂ】図１５ｂは、偏光光学顕微鏡（ＰＬＭ）によって倍率２０（５０μｍの白い線の目盛り付き）で得られた画像（白黒）であり、７０Ｖの電気活性層に垂直な電界下での、図１１の電気的に制御可能な装置の電気活性層の線欠陥を有するドメインを示す画像を示す図である。
【図１６ｂ】図１６ｂは、偏光光学顕微鏡（ＰＬＭ）によって倍率２０（５０μｍの白い線の目盛り付き）で得られた画像（白黒）であり、１２０Ｖの電気活性層に垂直な電界下での、図１１の電気的に制御可能な装置の電気活性層の線欠陥を有するドメインを示す画像を示す図である。
【図１７ｂ】図１７ｂは、偏光光学顕微鏡（ＰＬＭ）によって倍率２０（５０μｍの白い線の目盛り付き）で得られた画像（白黒）であり、電圧が０Ｖに戻った場合の、図１１の電気的に制御可能な装置の電気活性層の線欠陥を有するドメインを示す画像を示す図である。
【図１８】図１８は、図１１の装置に対して、電界なし又は電界下で、１０Ｖのステップあたり１０Ｖ〜１２０Ｖの電圧で、４００〜８００ｎｍの波長の関数としての全透過率に対応する曲線の集合Ａ１及び、電界なし又は電界下で、１０Ｖのステップあたり１０Ｖ〜１２０Ｖの電圧で、４００〜２５００ｎｍの波長の関数としての拡散透過率に対応する曲線Ｂ１の集合を示す図である。
【図１９】図１９は、図１１の装置に対して、ヘイズＨ（％で表される）に対応する曲線の集合を示しており、これは、全透過率ＴＴに対する拡散透過率ＤＴの比率であり、ほぼ電界がない場合、又は１０Ｖのステップあたり１０Ｖ〜１２０Ｖの電圧の電気活性層に垂直な電界下で、４００〜２５００ｎｍの波長の関数として表されおり、及びほぼ電界がない場合、又は１０Ｖのステップあたり１０Ｖ〜１２０Ｖの電圧の電気活性層に垂直な電界下で、４００〜２５００ｎｍの波長の関数としての拡散透過率に対応する曲線Ｂの集合を示す図である。
【図２０】図２０は、本発明の第３の実施形態において液晶によって変化させることができる散乱を有する装置３００の概略断面図を示す図である。
【図２１】図２１は、偏光光学顕微鏡（ＰＬＭ）によって倍率２０（５０μｍの白い線の目盛り付き）で得られた画像（白黒）であり、電界がない場合の、図２０の電気的に制御可能な装置の電気活性層の線欠陥を有するドメインを示す画像を示す図である。
【図２２】図２２は、本発明の第４の実施形態において液晶によって変化させることができる散乱を有する装置４００の概略断面図を示す図である。
【図２３】図２３は、本発明の第５の実施形態において液晶によって変化させることができる散乱を有する装置５００の概略断面図を示す図である。
【図２４ａ】図２４ａは、本発明の第６の実施形態において液晶によって変化させることができる散乱を有する装置６００の正面図を示す図である。
【図２４ｂ】図２４ｂは、本発明の第６の実施形態において液晶によって変化させることができる散乱を有する装置６００の断面図を示す図である。
【図２５】図２５は、本発明の第７の実施形態において液晶によって変化させることができる散乱を有する装置７００の概略断面図を示す図である。
【０２８１】
図中の要素は一定の縮尺で示されていない。
【発明を実施するための形態】
【０２８２】
実施例１
図１に示されている例示的な実施形態Ｎｏ．１は、本発明による液晶によって変化させることができる散乱を有する装置１００を示し、以下の順での層のスタックを含む：
−透明誘電体基板１、ここで、この透明誘電体基板１は、端面１０並びに主面１１及び１１を有し、接合表面と呼ばれる第１の主面及び反対表面Ｓｂと呼ばれる表面並びに端面１０を有する第１の透明電極２を含み、この例では、１．１ｍｍのガラス−又は別の形式では、ＰＥＴ等のプラスチック−であり、シート抵抗が１０オーム／スクェア、より広くは５〜３００オーム／スクェアのＩＴＯ層を有し、そして色での中立のために、この電極又は各電極は、ＩＴＯ層の下に少なくとも２つの薄い誘電体下層、及び更には１つ又は２つの（誘電体）オーバー層を含むこともできる、
−第１の電極２上の透明な（この場合は縮退した）平面の第１のアンカー層４、
−第１のアンカー層４と接触して、接合表面側の面と呼ばれると呼ばれる主面と反対側面Ａ２と呼ばれる主面とを有する誘電体電気活性層３、この例では、６μｍの厚さを有し、以下を含む材料からできている：
−液晶、
−ポリマーネットワークを形成するポリマー、ここで、液晶は、このポリマーネットワークによって安定化されている、
ここで、この材料は、Ｔ１と呼ばれる温度から始まり、Ｐと呼ばれるメソ相を示し、この材料は、ドメインの集合体を含み、この例では、ドメインは、サブミリメートルであり、線欠陥等の二次元トポグラフィー欠陥を含む、
−材料中に分散されているスペーサー、この例ではガラスビーズである、
−ポリマーシール５によって周辺がシールされている層、例えばエポキシ製、アクリレート製、この例ではシアノアクリレート製のポリマーシールである、
−透明な第２のアンカー層４’、この例では、垂直のアンカー層である、
−第２の電極２’、ここで、この第２の透明電極２’は、面Ａ２の側において、第２の接合表面と呼ばれる主面及び反対表面Ｓｃ呼ばれる表面を有し、特に、この第２の電極は、特にシート抵抗が１０オーム／スクェア、より広くは５〜３００オーム／スクェアのＩＴＯ層である第２の電極であり、そして色での中立のために、この電極又は各電極は、ＩＴＯ層の下に少なくとも２つの薄い誘電体下層、及び更には１つ又は２つのオーバー層を含むこともできる、
−第２の電極２’の透明誘電体支持体１’、端面１０’並びに主面１１’及び１２’を有し、この例では、１．１ｍｍのガラス−又は、代替の形式では、ＰＥＴ等のプラスチックである。
【０２８３】
供給源１１０を介して電力を供給するために、導電性バンド（図示せず）、特に、例えば銅製の金属導電性バンドが、例えば接着結合によって、周辺エッジに沿って、及び周辺エッジ上に固定され、電極２、２’と接触している（電極ごとに１つのバンド、バンドは反対側のエッジにあることが好ましい）。これらのバンドはその後、電源に接続される。
【０２８４】
電極２、２’の端面２０、２０’及び電気活性層のエッジは、好ましくは、ガラス１、１’のエッジ１０、１０’よりも後退することが好ましい。
【０２８５】
ガラス１，１'は長方形であるが、任意の形状、例えば円形又は正方形、及び任意のサイズ、例えば少なくとも１ｍの長さ及び少なくとも１０ｃｍの幅（ストリップ等）。厚さは、例えば、０．７ｍｍ〜４ｍｍでありうる。それらは、アセンブリの機械的強度を向上させるため、及び／又は処理又は取り扱いを容易にするために、好ましくは１００μｍを超え、最大で３００μｍの厚さを有することができるが、より大きな柔軟性が望まれる場合、例えば、５０μｍまでの厚さを有してよい。
【０２８６】
「オフ」状態、すなわち電圧を印加する前の状態では、液晶を有するこのグレージング１００は散乱している、すなわち、それは光学的に透過するが透明ではない。２つの電極間に電圧が印加されるとすぐに、層３は、電圧に依存する可変レベルの散乱を伴い、より散乱の少ない状態に変化する。
【０２８７】
前記電界の下で、スタックは、電圧、この例では５Ｖから１２０Ｖの間の電圧に伴い変化する拡散透過及びヘイズを示す。
【０２８８】
ＩＴＯを単独で、又は多層で選択する代わりに、一方又は両方の電極に銀含有スタックを選択できる。電極の１つとして、ＴＬが低い層、又は反射層を選択することもできる。
【０２８９】
第１及び第２の担持基板１，１’の１つ又は外面は、既知の１つ又は複数の機能層（反射防止等）を含むことができる。
【０２９０】
第１及び第２の担持基板１、１’の１つ、及び関連する電極でさえ、スタックの残りの部分よりもサイズを大きくすることができる。例えば、ＩＴＯ（又は他の）等の導電層２又は２’は、太陽制御層として機能することができる。そして、電極として機能するＩＴＯ領域を、例えば、ＩＴＯストリップを形成するために、レーザーエッチングによって分離することができる。
【０２９１】
ガラス１、１’の一方及び／又は他方は、その外面に層がある又はない場合に、ポリマーシートで置き換えることができ、例えば最大で５００μｍ又は２００μｍのＰＥＴで置き換えることができ、又はその外面に層がある又はない場合に、プラスチックシートで置き換えることもでき、例えばより厚い（１〜１０ｍｍ等）、ポリカーボネート又はその他のＰＭＭＡで置き換えることができる。
【０２９２】
実施例１の製造工程を以下により正確に説明する。
【０２９３】
第１のアンカー層４は、約３００ｎｍのポリ（ビニルアルコール）（ＰＶＯＨ；シグマ−アルドリッチ；分子量Ｍｗ〜２７ｋＤａ）の層であり、表面での液晶の（縮退した）平面固定をもたらす（電界なしで）、
【０２９４】
ＰＶＯＨ層は、脱イオン水中のＰＶＯＨの溶液（９．１重量％）でスピンコーティングすることにより、第１のＩＴＯ層２上に堆積される。堆積の前に、ＩＴＯはエタノールで洗浄され、窒素下で乾燥される。
【０２９５】
第２のアンカー層４’は、クチルトリクロロシラン（ＯＴＳ）の層であり、表面（電界なし）での液晶の垂直の（ホメオトロピック）固定をもたらす。これは、ガラスを第２のＩＴＯ２’と共にｎ−ヘプタン中のＯＴＳの溶液に３０分間浸漬し、脱イオン水ですすぎ、窒素下で乾燥させることによって得られる。
【０２９６】
電気活性層３を製造するために、２つのタイプの液晶５ＣＢ及び８ＣＢ、モノマー及び光開始剤との混合物が形成される。
【０２９７】
混合物は、以下を含む：
−９８重量％の、１：４の比率の液晶５ＣＢ及び８ＣＢ
−２重量％の、モノマーのビスフェノールＡジメタクリレートと光開始剤の２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノンによって形成される組み合わせ。
【０２９８】
混合物は、１７．５°Ｃ未満でスメクティックＡメソ相を示し、１７．５°Ｃ＝３８°Ｃでネマティックメソ相（及び上記の等方性相）を示す。
【０２９９】
この混合物の層は、アンカー層４と４’との間に形成される。
【０３００】
続いて、組み合わせは、５°Ｃ（又は少なくとも１７．５°Ｃ、したがってスメクティックＡ相）での重合のためにＵＶ放射（λ＝３６５ｎｍ）下で照射される。
【０３０１】
次に、電気活性層３は、ネマティック相において、スメクティックＡ相の焦点円錐ドメイン、特にこの場合、トーリック焦点円錐ドメイン又はＴＦＣＤに匹敵するドメインを含む。
【０３０２】
図２ａ及び２ｃは、電界なし又は電界下の図１のタイプの液晶によって変化することができる散乱を有する装置の電気活性層の概略的かつ詳細な断面図を示し、図２ｂは単に、電界下でいくつかの液晶の配向を示す。
【０３０３】
ネマティック相の層３は、ＴＦＣＤタイプのスメクティック相欠陥を示す。
【０３０４】
図２ａは、ＴＦＣＤタイプの単一の焦点円錐ドメインを表していると考えられる。
【０３０５】
図２ａ及び２ｃは、ポリマーネットワーク（図示せず）によって課された液晶３１、３１ａ、３１ｂ、３１０の層３３としての構造を示している。
【０３０６】
層は、中央ゾーン３４内の（この場合は縮退した）平面アンカー層の方向に湾曲しており、層は平坦であり、多かれ少なかれ広範でありうるか又は存在しない可能性もある２つの側方ゾーン３５、３５’にわたって互いに平行である。
【０３０７】
ドメインは、円形タイプ（多かれ少なかれ不規則）の閉じた輪郭を有する表面等のガラス１の平面内の線欠陥、及び線形形状３６を有する別の線欠陥を示す。
【０３０８】
平面アンカー層（下部）の側面では、いくつかの液晶（短いロッド）３１ａは、平面のすべての方向に沿ってこの層に平行である。
【０３０９】
垂直のアンカー層（上部）の側面では、いくつかの液晶３１ｂがこの層に垂直である。
【０３１０】
電界なしで、平面アンカー層４との接触ゾーンの外側、例えば層３の厚さの中央で、液晶３１０は、層４及び４’に垂直な配向を有する。
【０３１１】
例えば、液晶は、湾曲したゾーンに電場がない状態で、軸Ｚ（垂直場Ｅ内）に対して斜めの角度に沿って第１の配向を有し、次に、例えば２５Ｖの電界が印加される（図２ｂを参照）とき、（場の）軸Ｚに近づくようになる。
【０３１２】
図２ｃは、１２０Ｖ、実際に更には１５０Ｖから始まり、（事実上）すべての液晶が垂直に整列している場合を示す。
【０３１３】
図３ａ〜７ａは、電界がない場合（図３ａ）、並びに電気活性層に垂直な電界が、２５Ｖ（図４ａ）の場合、５０Ｖの場合（図５ａ）、７０Ｖの場合（図６ａ）、及び０Ｖに戻った場合（図７ａ）についての、背景１１０（筆記線付きの紙）を備えたライトブース内、照明Ｄ６５下、２０ｃｍでの、図１の電気的に制御可能な装置の画像（白黒）を示す。温度は２１°Ｃであるため、スメクティックＡ相欠陥のあるネマティック相になる。
【０３１４】
図３ｂ〜７ｂは、電界がない場合（図３ｂ）、並びに電気活性層に垂直な電界が、２５Ｖ（図４ａ）の場合、５０Ｖの（図５ｂ）の場合、７０Ｖの場合（図６ｂ）、及び０Ｖに戻った場合（図７ｂ）の、偏光光学顕微鏡（ＰＬＭ）によって倍率２０（５０μｍの白い線の目盛り付き）で得られた画像（白黒）であり、図１の電気的に制御可能な装置の電気活性層の線欠陥を有するドメインを示す画像を示す。温度は２１℃である。
【０３１５】
ドメインは、ＰＬＭと呼ばれる偏光光学顕微鏡法によって、前記ＰＬＭの画像上で特徴付けられ、各ドメインは、見かけの表面ＳＤと呼ばれる表面によって定義される。
【０３１６】
ドメインは多分散表面ＳＤである（低電圧電界、例えば２５Ｖで輪郭がより見やすくなる）。
【０３１７】
１１０４個の欠陥は、長さが３２４μｍ、幅が１６７μｍ、つまり１９２２ドメイン．ｍｍ２の長方形でカウントされる。
【０３１８】
図７ａ及び７ｂは、最も透明な状態から最も散乱した状態（電界なし）への可逆性を証明している。
【０３１９】
電圧が増加すればするほど、書き込みは背景１１０とよりよく区別される。
【０３２０】
図８は以下を示す：
−図１の装置に対して、電界なし又は電界下で、１０Ｖのステップあたり１０Ｖ〜１１０Ｖの電圧で、４００〜８００ｎｍの波長の関数としての全透過率ＴＴに対応する曲線の集合Ａ
−電界なし又は電界下で、１０Ｖのステップあたり１０Ｖ〜１１０Ｖの電圧で、４００〜８００ｎｍの波長の関数としての拡散透過率ＤＴに対応する曲線Ｂの集合
【０３２１】
この例では、スタックは、４５０〜８００ｎｍで少なくとも７０％（更には４５０〜６００ｎｍで７５％）の全透過率ＴＴを示し、最大全透過率と最小全透過率との差ＴＴｍａｘ−ＴＴｍｉｎが４００〜６００ｎｍにおいて最大で５％である。
【０３２２】
全透過率ＴＴは、電界下で（及び任意の電圧レベルに対して）ほぼ一定に保たれる。
【０３２３】
４００〜２５００ｎｍの波長範囲での全透過率ＴＴは、（実質的に）スイッチング電圧に依存しない。
【０３２４】
特にＩＴＯ層による吸収を低減することが可能である。
【０３２５】
一方、拡散透過率ＤＴ（曲線Ｂ）は、波長ごとに電圧が増加するにつれて変化し、徐々に減少することがよく観察されている。したがって、拡散浸透は、電圧によって調整可能であることは、非常に定量的に示されている。例えば、ＤＴは、１２０Ｖから０Ｖに移行するにつれて、６００ｎｍで約１０％から５５％に移行する。
【０３２６】
図９は、図８と同じ曲線を示しているが、最大２５００ｎｍである。
【０３２７】
全透過率ＴＴは、８００ｎｍ〜１５００ｎｍの電界（すべての電圧レベル）でもほぼ一定に保たれる。
【０３２８】
４００〜２５００ｎｍの波長範囲での全透過率ＴＴは、（実質的に）スイッチング電圧に依存しない。
一方、拡散透過率ＤＴ（曲線Ｂ）は、波長ごとに電圧が増加するにつれて変化し、徐々に減少することも観察されている。
【０３２９】
図１０は、図１の装置に対して、ヘイズＨ（％で表される）に対応する曲線の集合を示しており、これは、全透過率ＴＴに対する拡散透過率ＤＴの比率であり、ほぼ電界がない場合、又は１０Ｖのステップあたり１０Ｖ〜１２０Ｖの電圧の電気活性層に垂直な電界下で、４００〜２５００ｎｍの波長の関数として表されおり、及びほぼ電界がない場合、又は１０Ｖのステップあたり１０Ｖ〜１２０Ｖの電圧の電気活性層に垂直な電界下で、４００〜２５００ｎｍの波長の関数としての拡散透過率に対応する曲線Ｂの集合を示す。
【０３３０】
実施例２
図１１は、本発明の第２の実施形態において液晶によって変化させることができる散乱を有する装置２００の概略断面図を示し、平面第１のアンカー層ＰＶＯＨ４は、方向的の平面固定ためにベルベットで研磨されるという点で第１の実施形態１００と異なる。
【０３３１】
線欠陥は、非ＴＦＣＤ又は正方形ＴＦＣＤと呼ばれる。
【０３３２】
図１２ａ〜１７ａは、電界がない場合（図１２ａ）の場合、並びに電気活性層に垂直な電界が、２０Ｖの場合（図１３ａ）、４０Ｖの場合（図１４ａ）、７０Ｖの場合（図１５ａ）、１２０Ｖの場合（図１６ａ）、及び電圧が０Ｖに戻った場合（図１７ａ）の、背景１１０（筆記線付きの紙）を備えたライトブース内、照明Ｄ６５下、２０ｃｍでの、図１１の電気的に制御可能な装置の画像を白黒で示す。
【０３３３】
図１２ｂ〜１７ｂは、電界がない場合（図１２ｂ）、並びに電気活性層に垂直な電界が、２０Ｖの場合（図１３ｂ）、４０Ｖの場合（図１４ｂ）、７０Ｖの場合（図１５ｂ）、１２０Ｖの場合（図１６ｂ）、及び電圧が０Ｖに戻った場合（図１７ｂ）の、偏光光学顕微鏡（ＰＬＭ）によって倍率２０（５０μｍの白い線の目盛り付き）で得られた画像（白黒）であり、図１１の電気的に制御可能な装置の電気活性層の線欠陥を有するドメインを示す画像を示す。
【０３３４】
ドメインは、実施例１に比べてより規則的に配置されており、多分散性がより低い。
【０３３５】
散乱、拡散透過、及び全透過に対する、印加電界による影響の分析は、実施例１の分析と類似する。
【０３３６】
２４００ドメイン／ｍｍ２がカウントされる。
【０３３７】
図１８は、以下を示す：
−図１１の装置に対して、電界なし又は電界下で、１０Ｖのステップあたり１０Ｖ〜１２０Ｖの電圧で、４００〜８００ｎｍの波長の関数としての全透過率に対応する曲線の集合Ａ１
−図１１の装置に対して、電界なし又は電界下で、１０Ｖのステップあたり１０Ｖ〜１２０Ｖの電圧で、４００〜２５００ｎｍの波長の関数としての拡散透過率に対応する曲線Ｂ１の集合
【０３３８】
図１９は、以下を示す：
−図１１の装置に対して、ヘイズＨ（％で表される）に対応する曲線の集合を示しており、これは、全透過率ＴＴに対する拡散透過率ＤＴの比率であり、ほぼ電界がない場合、又は１０Ｖのステップあたり１０Ｖ〜１２０Ｖの電圧の電気活性層に垂直な電界下で、４００〜２５００ｎｍの波長の関数として表されおり
−図１１の装置に対して、ほぼ電界がない場合、又は１０Ｖのステップあたり１０Ｖ〜１２０Ｖの電圧の電気活性層に垂直な電界下で、４００〜２５００ｎｍの波長の関数としての拡散透過率に対応する曲線Ｂの集合
【０３３９】
散乱、拡散透過、及び全透過に対する、印加電界による影響の分析は、実施例１の分析と類似する。
【０３４０】
実施例３
図２０は、本発明の第３の実施形態において液晶によって変化させることができる散乱を有する装置３００の概略断面図を示し、第２のアンカー層は、（縮退した）平面アンカー層４’になり、この例では、平面第１のアンカー層ＰＶＯＨと同一であるという点で第１の実施形態１００と異なる。
【０３４１】
図２１は、偏光光学顕微鏡（ＰＬＭ）によって倍率２０（５０μｍの白い線の目盛り付き）で得られた画像（白黒）であり、電界がない場合の、図２０の電気的に制御可能な装置の電気活性層の線欠陥を有するドメインを示す画像を示す。
【０３４２】
線欠陥は、扇形のＦＣＤタイプである。
【０３４３】
組立例
図２２は、本発明の第４の実施形態において液晶によって変化させることができる散乱を有する装置４００の概略断面図を示し、以下の点で第１の実施形態１００と異なる：
−ガラス１及び１’は、ＰＥＴ１、１’に置き換えられている
−スタックは、光学接着剤６０によって、例えばガラス７又は硬質プラスチック等の要素７に接着結合されている。
【０３４４】
例えば、パーティションが関係する（垂直位置）。
【０３４５】
アセンブリは、複数のグレージング（二重又は三重グレージング）の一部を形成できる。
【０３４６】
二重グレージングに対して、スタックは、面１（外面）、面２、面３；面４（内面）であってよい。
【０３４７】
装置４００のスタックは、可撓性であり、追加された要素７の曲率に適合しうる。
【０３４８】
三重グレージングに対して、スタックは、面１（外面）、面２、面３；面４、面５、面６（内面）であってよい。
【０３４９】
要素７は、スタックと同じサイズ又はそれ以上のサイズでありうる。
【０３５０】
スタックは、以下でありうる：
−シャワーの壁の好ましくは外面上、
−乗り物、特に自動車のルーフ、サイドウィンドウ、ウィンドシールド、及びリアウィンドウの湾曲グレージングの好ましくは内面（面「Ｆ４」）上。
【０３５１】
特に、装置４００は、投影スクリーンとして機能することができる。
【０３５２】
図２３は、本発明の第５の実施形態において液晶によって変化させることができる散乱を有する装置５００の概略断面図を示し、これは、積層グレージングにおける第１の装置１００（ガラス１、１’、任意選択で、例えばＰＥＴフィルムで置換される）を含み、すなわち、例えばＰＶＢ又はＥＶＡであり、サブセンチメートル又は最大で２ｍｍの積層中間層７において、例えば、同一又は類似の寸法の長方形（又はより広く、四辺形、多角形）の一般的な形状の間、例えば、最大で５ｍｍ又は３ｍｍの厚さを修し、中間層側に内部主面８１、８１’を有しかつ外部主面８２、８２’を有する第１及び第８のグレージング８、８’の間における第１の装置１００を含む。
【０３５３】
製造時には、次の３つの中間層シートを使用することができる：グレージング８、８’の内面８１、８１’に対する２つの完全なシート７１、７２、及び図１のスタックを収納するための開口部を有する中央シート。積層後、シート間の境界面（点線で示す）は必ずしも識別する必要がない。開口部が片側に完全に表れるよりも閉じている方が好ましい。したがって、スタックのエッジ全体が積層中間層７で囲まれている。当然のことながら、電力供給のために、接続は装置５００から出て、グレージングのエッジの１つ又は複数の側面から突き出ることができる。
【０３５４】
あるいは、２つの中間層シート７１、７２を使用することが可能であり、スタックが十分に薄く、例えば、最大で０．２ｍｍの厚さである場合、中央のくり抜かれたシートは必要ではない。
【０３５５】
第１のグレージング８又は８’は、着色（灰色、緑色、青銅色等）されてもよく、他のグレージング８’又は８は、クリア又はエクストラクリアであってよい。第１の中間シートは、着色（灰色、緑色、青銅色等）されてもよく、その他は、クリア又はエクストラクリアであってよい。
【０３５６】
第１のグレージング８又は８’の１つは、プラスチックシート、例えばポリカーボネート又はＰＭＭＡ（特にＰＵ製の積層中間層）に置換されてよい。
【０３５７】
積層中間層のエッジ７０は、グレージング８、８’のエッジから（例えば最大で５ｍｍによって）後退させることができる。
【０３５８】
装置５００は、ガラス８の主面の全体を実質的に覆い、この例でも中央に配置されている。装置２００のいずれかの側におけるＰＶＢ７ａ、７ｂの幅と同じである。
【０３５９】
グレージング８、８’は平坦又は湾曲であり、装置５００は、グレージングの曲率又は複数の曲率に適合することが可能である。
【０３６０】
装置５００は、パーティション又はその他の乗り物のルーフであってよい。例えば、自動車のルーフとして：
−グレージング８は、３ｍｍの着色されたグレージングで、湾曲外部グレージングである
−グレージング８’は、３ｍｍ又はより透明なグレージングで、湾曲内部グレージングである
−積層中間層８は、ＰＶＢでできており、防音であることができ、特に２層又は３層（シート７１又は７２）であってよい。
【０３６１】
図２４ａ及び２４ｂは、それぞれ、本発明の第６の実施形態において液晶によって変化させることができる散乱を有する装置６００の正面図及び断面図を示す。
【０３６２】
装置６００は、装置６００とは以下の点において異なり、それは、図１のスタック１００は、表面部分、特に周辺ストリップを、例えば自動車のウィンドシールドの上部長手方向縁部Ｈ（装置１００で湾曲積層グレージング）に沿って、実質的にウィンドシールドの全長にわたって覆うことである。
【０３６３】
このストリップ１００は、ＴＬ及びヘイズの欠如の基準が中央ゾーンＺＢよりも緩い辺縁帯にある。
【０３６４】
図２４ｂ（断面図）に示されるように、装置２００と下部長手方向エッジＢとの間の中央中間層７３の幅７ａは、装置６００と上部長手方向エッジＨとの間の中央中間層７３の幅７ｂよりも大きい。
【０３６５】
別の形態で、又は同時に、それは、ウィンドシールドの下部長手方向縁部Ｂに沿って、全長又は長さの一部にわたって存在することができる。
【０３６６】
図２４ａ（正面図、乗り物の内部側）に示されるように、ウィンドシールドは、例えばエナメル（黒又はその他）で作られており、内部グレージング８’の自由面（Ｆ４）８２’の横方向及び長手方向のエッジの上に９１’から９４’である、第１の不透明フレームを含むことができ、及び例えば、エナメル（黒又はその他）でできており、外部グレージング８の自由面（Ｆ１）８２の横方向及び縦方向のエッジ上に９１から９４である、第２の不透明フレームを含むことができる。
【０３６７】
装置６００の端面は、下側の長手方向のエッジの側にあり、横方向のエッジの側にもあり、エナメルフレームの層９２、９２’、９３、９３’、９４、９４’の間に（反対に）ありうる。例えば、電流を伝達するための接続及び他のストリップは、これらの層９２、９２’、９３、９３’、９４、９４’によってマスクすることができる。
【０３６８】
図２５は、本発明の第７の実施形態において液晶によって変化させることができる散乱を有する装置７００の概略断面図を示し、以下の点で実施形態６００と異なる。すなわち、それは自動車ルーフに関連しており、例えば、外部ガラス８が着色されており、及び／又はＰＶＢ７１が着色されており、装置１００は、実質的にガラス８、８’の主面全体を覆っていることである。
【図１】
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【図２ａ】
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【図２ｂ】
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【図２ｃ】
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【図３ａ】
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【図３ｂ】
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【図４ａ】
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【図４ｂ】
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【図５ａ】
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【図５ｂ】
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【図６ａ】
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【図６ｂ】
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【図７ａ】
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【図７ｂ】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２ａ】
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【図１２ｂ】
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【図１３ａ】
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【図１３ｂ】
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【図１４ａ】
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【図１４ｂ】
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【図１５ａ】
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【図１５ｂ】
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【図１６ａ】
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【図１６ｂ】
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【図１７ａ】
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【図１７ｂ】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４ａ】
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【図２４ｂ】
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【図２５】
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【国際調査報告】
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