【手続補正書】
【提出日】平成22年1月18日(2010.1.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
サンプルの少なくとも１つの部分に関係する情報を生成するシステムにおいて、
ｉ）前記少なくとも１つの部分からの少なくとも１つの電磁放射の受信と、前記少なくとも１つの部分に対する少なくとも１つの電磁放射の伝送との、少なくとも１つを実行し、
ｉｉ）少なくとも１つの第１伝送波面を生成するために、前記少なくとも１つの部分から受信された又は前記少なくとも１つの部分に対して伝送されたいずれかの前記少なくとも１つの電磁放射の少なくとも１つの第１波面を提供し、
ｉｉｉ）前記第１伝送波面を生成した後に、前記第１伝送波面とは異なり且つ少なくとも部分的に前記第１伝送波面と同じ経路に沿って進行する少なくとも１つの第２変更波面を生成するために、前記少なくとも１つの部分から受信された又は前記少なくとも１つの部分に対して伝送されたいずれかの前記少なくとも１つの電磁放射の少なくとも１つの第２波面の少なくとも１つの特性を変更するように構成された、前記サンプルと所定の距離を置いて配置され且つ前記サンプルとは異なる、少なくとも１つの第１の構造と、
前記第１伝送波面及び前記第２変更波面に基づいて前記情報を生成するべく構成された少なくとも１つの第２の構造と、
を有するシステム。
【請求項２】
前記少なくとも１つの第１の構造は、前記少なくとも１つの第２波面の前記少なくとも１つの特性の前記変更の前に、前記少なくとも１つの第１波面の少なくとも１つの特性を変更することにより、第１変更波面を生成する、請求項１記載のシステム。
【請求項３】
前記少なくとも１つの第２の構造は、前記第１及び第２変更波面に基づいて前記情報を生成する、請求項２記載のシステム。
【請求項４】
前記少なくとも１つの第２の構造は、前記第１及び第２変更波面に基づいて更なる情報を生成し、前記更なる情報は、前記少なくとも１つの電磁放射を受信する前記少なくとも１つの部分の焦点容積よりも小さい前記少なくとも１つの部分の特定の容積と関連している、請求項２記載のシステム。
【請求項５】
前記少なくとも１つの第１の構造は、マイクロ変形可能ミラー、変形可能反射性メンブレイン、変形可能透過性メンブレイン、電気光学空間光変調構造、又は、回転、並進又は反射要素、のうちの少なくとも１つを有する、請求項１記載のシステム。
【請求項６】
前記少なくとも１つの第２の構造は、前記情報を平均化することにより、スペックル雑音が前記情報内のスペックル雑音よりも小さい合成データを生成するべく構成されている、請求項１記載のシステム。
【請求項７】
前記少なくとも１つの第１の構造は、カテーテル構造内に存在している、請求項１記載のシステム。
【請求項８】
前記少なくとも１つの第２の構造は、サンプルアームから少なくとも前記第１及び第２波面を、そして、基準アームから更なる電磁放射を受信する干渉計構造を有する、請求項１記載のシステム。
【請求項９】
前記第１及び第２波面は、前記サンプルの前記少なくとも１つの部分内の略同一の焦点容積と関連している、請求項１記載のシステム。
【請求項１０】
前記少なくとも１つの第２の構造は、共焦点顕微鏡構造を有する、請求項１記載のシステム。
【請求項１１】
前記少なくとも１つの電磁放射の前記少なくとも１つの第２波面の前記少なくとも１つの特性は、前記少なくとも１つの第２波面の位相であり、この場合に、前記少なくとも１つの第１の構造は、最大で約２πだけ前記位相を変更する、請求項１記載のシステム。
【請求項１２】
前記少なくとも１つの第１の構造は、前記サンプルの前記少なくとも１つの部分又は前記第１の構造又は前記第２の構造の少なくとも１つの内部の光ビーム経路の少なくともいずれかと関連する既定の波面歪みを補償するべく更に構成されている、請求項１記載のシステム。
【請求項１３】
前記少なくとも１つの第１の構造は、少なくとも１本の光ファイバ又はピンホールを具備した構造の少なくともいずれかである少なくとも１つの第３の構造を更に有しており、この場合に、前記少なくとも１つの第３の構造は、前記サンプルの前記少なくとも１つの部分から受信した前記少なくとも１つの電磁放射の少なくとも１つの部分を選択するべく構成されている、請求項１記載のシステム。
【請求項１４】
前記情報は、前記少なくとも１つの部分の反射率、その内部における動き、又は偏光特性のうちの、少なくとも１つと関連している、請求項１記載のシステム。
【請求項１５】
前記少なくとも１つの電磁放射を使用して前記少なくとも１つの部分をスキャンすることにより、前記少なくとも１つの部分の二次元画像又は三次元画像の少なくともいずれかと関連する更なる情報を生成するべく構成された、更なる構造を更に有する、請求項１記載のシステム。
【請求項１６】
前記サンプルは、解剖学的な構造を含む請求項１記載のシステム。
【請求項１７】
サンプルの少なくとも１つの部分と関連する情報を生成する方法において、
ａ）前記少なくとも１つの部分から少なくとも１つの電子放射を受信するか、又は前記少なくとも１つの部分に対して少なくとも１つの電磁放射を伝送する段階と、
ｂ）特定の構造によって、前記少なくとも１つの部分から受信された又は前記少なくとも１つの部分に対して伝送された、少なくともいずれかの前記少なくとも１つの電磁放射の少なくとも１つの第１波面を提供することにより、少なくとも１つの第１伝送波面を生成する段階と、
ｃ）前記第１伝送波面を生成した後に、前記サンプルとは異なり且つ前記サンプルから所定の距離を置いて配置された前記特定の構造によって、前記少なくとも１つの部分から受信された又は前記少なくとも１つの部分に対して伝送された、少なくともいずれかの前記少なくとも１つの電子放射の少なくとも１つの第２波面の少なくとも１つの特性を変更することにより、前記第１伝送波面とは異なり且つ少なくとも部分的に前記第１伝送波面と同じ経路に沿って進行する少なくとも１つの第２変更波面を生成する段階と、
ｄ）前記第１伝送波面及び前記第２変更波面に基づいて前記情報を生成する段階と、
を有する方法。
【請求項１８】
ｅ）前記少なくとも１つの第２波面の前記少なくとも１つの特性の前記変更の前に、前記少なくとも１つの第１波面の少なくとも１つの特性を変更することにより、第１変更波面を生成する段階であって、この場合に、前記情報は、前記第１及び第２変更波面に基づいて生成される、段階を更に有する、請求項１７記載の方法。
【請求項１９】
ｆ）前記情報を平均化することにより、スペックル雑音が前記情報内のスペックル雑音よりも小さい合成データを生成する段階を更に有する、請求項１７記載の方法。
【請求項２０】
ｇ）前記サンプルの前記少なくとも１つの部分又は段階（ａ）〜（ｄ）のうちの少なくとも１つを実行するべく構成された少なくとも１つの構造内の光ビーム経路の少なくともいずれかと関連する既定の波面歪みを補償する段階、
を更に有する、請求項１７記載の方法。
【請求項２１】
ｈ）前記第１及び第２変更波面に基づいて更なる情報を生成する段階であって、前記更なる情報は、前記少なくとも１つの電磁放射を受信する前記少なくとも１つの部分の焦点容積よりも小さい前記少なくとも１つの部分の特定の容積と関連している、段階、
を更に有する、請求項１７記載の方法。
【請求項２２】
前記少なくとも１つの第１の構造は、前記少なくとも１つの第２変更波面を積極的に生成するように構成されている、請求項１記載のシステム。
【請求項２３】
前記少なくとも１つの第２変更波面を積極的に生成する段階を更に有する、請求項１７記載の方法。