【事件の表示】
　特願２０１４−１４１６６７「画像表示装置」拒絶査定不服審判事件〔平成２８年　２月　１日出願公開、特開２０１６−　１８４５０、請求項の数（５）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は，平成２６年７月９日の出願であって，その手続の経緯は以下のとおりである。
　平成３０年　２月　１日付け　　　拒絶理由通知書
　平成３０年　３月１９日　　　　　意見書，手続補正書の提出
　平成３０年　３月２７日付け　　　拒絶査定
　平成３０年　６月２８日　　　　　審判請求書，手続補正書の提出
　平成３０年１１月２９日　　　　　上申書の提出
　令和　元年　５月３０日付け　　　拒絶理由通知書（最後）
　令和　元年　７月２２日　　　　　手続補正書の提出
第２　本願発明
　本願請求項１ないし５に係る発明（以下，それぞれ「本願発明１」ないし「本願発明５」という。）は，令和元年７月２２日付けの手続補正で補正された特許請求の範囲の請求項１ないし５に記載された事項により特定される発明であり，本願発明１は以下のとおりの発明である。
「【請求項１】
　透明基材に電極を作製した電極フィルムと、
　前記電極フィルムに積層された回折格子と、
　を備えた電極フィルムの積層体を画像表示パネルのパネル面に配置した画像表示装置であって、
　前記電極は、第１方向及び前記第１方向に直交する第２方向にそれぞれ延長する細線形状であって、かつこの延長方向と直交する方向にそれぞれ細線形状の部位が繰り返し形成されており、
　前記電極の繰り返しのピッチは、５０〜１００μｍであり、
　前記回折格子のピッチは、前記電極の繰り返しのピッチより大きく、かつ、前記画像表示パネルの画素ピッチの１／１０倍以上、１倍以下であり、
　２度以上の角度により前記電極の繰り返し方向と前記回折格子の繰り返し方向とが交差する
　画像表示装置。」
　なお，本願発明２ないし５は，本願発明１を減縮した発明である。
第３　引用文献，引用発明等
１　引用文献１について
　原査定の拒絶の理由に引用された引用文献１（国際公開第２０１２／１４８５７１号）には，図面とともに次の事項が記載されている。
「BACKGROUND 
[0001] Displays are used in a wide variety of applications. 
Displays that are touch sensitive in operation also are becoming increasingly more common.
Further, the ease of viewability of information on a touch screen is often impaired by fingerprints from the user touching the screen. Even display screens that are not touch sensitive nevertheless may become marred by fingerprints of a user. Moreover, displays (both touch sensitive and non-touch sensitive) suffer from glare and fingerprint problems.
SUMMARY 
[0002] 
Various embodiments are disclosed herein to reduce the first surface (i.e., the surface of the display structure facing the user) specular reflection and diffuse reflection on a display screen from ambient light, while also achieving sufficient surface energy to avoid visible fingerprints and being easily cleaned.
(3) a combination of using diffracting optical micro-structures and anti-reflection coating together with a surface treatment that manages the surface energy
[0003] For example, a display structure comprises a transparent substrate, an anti- reflection (AR) coating covering at least a portion of a surface of the substrate, and a self- assembled monolayer (SAM) provided on the AR coating. 
[0004] Other embodiments are directed to method of fabrication a display structure. Such methods comprise depositing an AR coating on a transparent substrate; and providing a SAM on the AR coating. 
[0005] Yet other embodiments are directed to a display structure that comprises a transparent substrate, a plurality of transparent microstructures provided on the substrate, and an AR coating over the microstructures. 
[0006] Further still, 
some embodiments are directed to a display structure that comprises a transparent substrate and a plurality of transparent microstructures provided on the substrate all of which are oriented in a common direction on the substrate.
（当審訳：技術分野
［０００１］　ディスプレイは多様な用途において用いられる。
動作時にタッチ感知性を示すディスプレイも、ますます一般的となりつつある。
さらに、タッチスクリーン上における情報視認性は、ユーザがスクリーンをタッチすることによる指紋により妨害され得る。非タッチ感知性のディスプレイスクリーンでさえも、依然として、ユーザの指紋により損なわれ得る。さらに、ディスプレイ（タッチ感知性および非タッチ感知性の両方）において、グレアおよび指紋は問題となり得る。
発明の概要
［０００２］　
可視指紋を回避し清掃を容易なものとするために十分な表面エネルギを達成する一方で、環境光からのディスプレイスクリーン上における第１表面（すなわち、ユーザに対面するディスプレイ構造の表面）の鏡面反射および拡散反射を低減させるための様々な実施形態が本明細書において開示される。
（３）表面エネルギを管理する表面処理とともに、回折光学的微細構造と反射防止コーティングとの組み合わせを使用すること
［０００３］　例えば、ディスプレイ構造は、透明基板と、基板の表面の少なくとも１部分を被覆する反射防止（ＡＲ）コーティングと、ＡＲコーティング上に提供された自己組織化単分子層（ＳＡＭ）と、を備える。
［０００４］　他の実施形態はディスプレイ構造の製造方法を対象とする。係る方法は、ＡＲコーティングを透明基板上に堆積することと、ＳＡＭをＡＲコーティング上に提供することと、を含む。
［０００５］　さらに他の実施形態は、透明基板と、透明基板上に提供された複数の透明微細構造と、微細構造上のＡＲコーティングと、を備えるディスプレイ構造を対象とする。
［０００６］　さらに、
いくつかの実施形態は、透明基板と、透明基板上に提供された複数の透明微細構造と、を備え、透明微細構造の全部は透明基板上で同一方向に指向される、ディスプレイ構造を対象とする。
「Overview 
[0019] 
Various embodiments are disclosed herein to reduce the first surface (i.e., the surface of the display structure facing the user) specular reflection and diffuse reflection on a display screen from ambient light, while also achieving sufficient surface energy to avoid visible fingerprints and being easily cleaned.
(3) a combination of using diffracting optical micro-structures and anti-reflection coating together with a surface treatment that manages the surface energy
[0020] 
The display structure described herein having any of the aforementioned features is part of, or attached to, a display screen.
The display screen may or may not be touch sensitive
（当審訳：概要
［００１９］　
可視指紋を回避し清掃を容易なものとするために十分な表面エネルギを達成する一方で環境光からのディスプレイスクリーン上における第１表面（すなわち、ユーザに対面するディスプレイ構造の表面）の鏡面反射および拡散反射を低減させるための様々な実施形態が本明細書において開示される。
（３）表面エネルギを管理する表面処理とともに、回折光学的微細構造と反射防止コーティングとの組み合わせを使用することと、
［００２０］　
前述の特徴のいずれかを有する本明細書に記載されるディスプレイ構造は、ディスプレイスクリーンの１部分であるかまたはディスプレイスクリーンに取り付けられる。
ディスプレイスクリーンはタッチ感知性であってもよく、または非タッチ感知性であってもよい。
「Micro-structured surfaces 
[0049] In accordance with some embodiments, the substrate comprises multiple microstructures. Figure 7 shows one illustrative embodiment of a fingerprint resistant display structure 200 having elongated microstructures 202 with a generally square cross-sectional geometry (although the cross-sectional shape can be other than square).  The microstructures 202 are provided on or are formed on a substrate 305 (e.g., a film) and extend along a majority of the length (in the direction identified by 301 ) of the substrate 305. Each microstructure 202 is defined by a pair of opposing, generally vertical side edges 309 and a top surface 307. Also, 
a channel 311 (or valley or recessed area) is provided or formed between adjacent microstructures 202.
[0050] The microstructures have almost vertical side walls to minimize image distortion. A general rule is that as the side wall area of the microstructures increases or the tilt angle of the sidewall changes from vertical, diffuse reflection increases and specular reflection decreases because the tilted side surface area tends to bend the light away from its specular reflection path. In addition, fewer defects in the microstructures result in higher specular reflection and smaller diffuse reflection because the defects are light scattering centers. 
[0051] In order to have sufficient fingerprint resistance, the optical micro-structures 202 can have various geometries but the dimensions preferably are within a certain range. For example, the aspect ratio of the microstructures' height (h) to their width (w) is in the range of 0.2:1 -4:1 , and preferably 0.5:1 -2:1 . Microstructures with a low profile are beneficial in enhancing the shear strength of microstructures made of relatively low mechanical strength materials such as polymeric materials (e.g., acrylates, urethanes, PET, etc.). If needed, microstructures may be covered by a conformal hard coating to provide enhanced scratch resistance (e.g., 3H, 5H, etc.). The height (h) of each microstructure 202 is in the range of 3-10 urn, and preferably 4-6 urn. Further, the width (w) is typically 2-25 urn, and preferably 3-10 urn. The pitch (d) between each micro- structure is typically 5-60 urn, and preferably 5-20 urn. Optical microstructures whose dimensions are within the aforementioned ranges may provide excellent fingerprint  resistance because skin oil and water quickly dissipate into the channels 31 1 and become invisible. 
[0052] 
Because the display structure preferably is placed on the top surface of a display (e.g., a touch sensitive display), the display structure also should be transparent without introducing excessive optical artifacts such as Moire, haze, color separation, etc. Each microstructure element has a flat upper surface 307 and flat side walls 309 that are vertical, or approximately vertical, to the display surface so as not distort the image. The display structure 200 preferably is placed in direct contact with the display top surface to eliminate an air gap which otherwise would cause double images and a parallax effect. 
[0053] 
The microstructures 202 preferably have an elongated geometry that is defined as a microstructure having a length (I) dimension greater than its width (w) dimension. The microstructures 202 may comprise broken elongated structures placed end-to-end but typically the length (I) to width (w) ratio is at least 10:1 . The resulting array of the microstructures 202 will have an axis along the length of the structures and have a fixed pitch in order to generate sufficient optical diffraction along the direction perpendicular to the axis. 
[0054] In some embodiments, the microstructures 202 are all oriented in the same direction (e.g., as shown in Figure 7) and have a fixed pitch. Other embodiments include a small amount of randomness for both the pitch and orientation. For example, the orientation and pitch may vary by less than 10% across the array of microstructures to help reduce any undesired Moire effect while still preserving sufficient diffraction effect. Details of the microstructure shape and pattern can be varied according the reflectance requirement, display layout, and environment of the intended application. 
[0055] Figure 8 shows a coordinate system used to define the incident light and the orientation of the substrate/film 102. Under this system, azimuthal angle (Φ) represents the orientation with respect to x axis within x-y plane while tilt angle (e) is the angle between an incident light beam and film normal, that is, the z axis. Without losing generality, one can always assume that light is incident from a direction defined by 0° azimuthal angle and a tilt angle e. The elongated diffracting micro-structures of the film can be oriented at a certain azimuthal angle Φ.  
[0056] Figures 9A-9C show how incident light is diffracted into different directions based on different orientations of the elongated microstructures 202. Diffraction effect takes place when the reflected light off the top surface 307 of the microstructures and reflected light off the microstructure valleys 31 1 interfere with each other. As a result, a specular reflected beam is diffracted into multiple orders along the direction perpendicular to the channels. Diffraction is stronger when the incident light beam encounters periodic microstructures. Therefore, for a certain incident beam, i.e. incident beam from Φ=180° azimuthal angle, diffraction is stronger for 90° orientated microstructures than 135° microstructures, and 0° being the weakest. If specular reflection and diffuse reflection are more of a concern along 0° rather than 90° azimuthal angle direction from which viewing direction mostly lies, Φ can be chosen at approximately 45°.」
（当審訳：微細構造化表面
［００４９］　いくつかの実施形態によれば、基板は複数の「微細構造」を含む。
図７は、断面形状が略正方形である長尺微細構造２０２を有する指紋耐性ディスプレイ構造２００の１つの代表的な実施形態を示す（なお、断面形状は正方形以外であってもよい）。
チャネル３１１（すなわち谷部または凹陥部エリア）が隣接する微細構造２０２同士の間に提供または形成される。指紋流体がチャネル３１１に移行し、それにより指紋が阻害および「隠蔽」されることとなる。
［００５０］　微細構造は画像歪曲を最小化するために略垂直側壁部を有する。全般的傾向は、微細構造の側壁エリアが増加するかまたは側壁の傾斜角が垂直から変化するにつれて、傾斜された側壁エリアは鏡面反射経路から離間するよう光を曲げる傾向があるため、拡散反射が増加し鏡面反射が減少することである。加えて、微細構造における欠陥が少ないほど、係る欠陥が散乱中心となるため、鏡面反射はより大きくなり、拡散反射はより小さくなる。
［００５１］
　十分な指紋耐性を有するために、光学的微細構造２０２は様々な幾何学形状を有し得るが、その寸法は好適には特定範囲内にある。例えば、微細構造の高さ（ｈ）と幅（ｗ）とのアスペクト比は0.2:1〜4:1の範囲内に、好適には0.5:1〜2:1の範囲内にある低いプロファイルを有する微細構造は、ポリマー材料（例えばアクリレート、ウレタン、ＰＥＴ、その他）等の機械的強度が比較的小さい材料から作られた微細構造の剪断強さを高めることにおいて有益である。必要に応じて、微細構造は、強化されたスクラッチ耐性（たば３Ｈ、５Ｈ、その他）を提供するために、コンフォーマルハードコーティングにより被覆され得る。各微細構造２０２の高さ（ｈ）は3〜10umの範囲内、好適には4〜6umの範囲内にある。さらに、幅（Ｗ）は通常2〜25umの範囲内、好適には3〜10umの範囲内にある。
各微細構造間のピッチ（ｄ）は
好適には5〜20umの範囲内にある。寸法が上記範囲内にある光学的微細構造は、皮膚の油分および水分が速やかにチャネル３１１内に散逸して不可視となるため、優れた指紋耐性を有し得る。
［００５２］　
ディスプレイ構造は好適にはディスプレイ（例えばタッチ感知性ディスプレイ）の頂表面上に配置されるため、ディスプレイ構造も、モアレ、霞み、色分離、その他等の過度の光学的アーチファクトが導入されないよう透明であるべきである。各微細構造要素は平坦上方表面３０７と、画像が歪曲されないようディスプレイ表面に対して垂直または実質的に垂直な平坦側壁部３０９と、を有する。ディスプレイ構造２００は、好適には、二重画像および視差効果を生じさせることになるであろう空隙を排除するために、ディスプレイの頂表面に直接的に接触して配置される。
［００５３］　
微細構造２０２は、好適には、その幅（ｗ）寸法によりも大きい長さ（ｌ）を有する微細構造として画成される「長尺」幾何学的形状を有する。微細構造２０２は、破断された長尺構造を備え得る。なお、この長尺構造は端と端とを接した状態で配置されしかも長さ（ｌ）と幅（ｗ）との比が少なくとも10:1である。微細構造２０２の結果的に生成されるアレイは、微細構造２０２の長さに沿った軸を有し、その軸に対する直交方向に沿って十分な光学回折が生成されるよう固定ピッチを有するであろう。
［００５４］　いくつかの実施形態において、微細構造２０２の全部は同一方向に指向され（例えば図７に示すように）、固定ピッチを有する。他の実施形態は、ピッチおよび方位に対して少量の不規則性を含む。例えば、方位およびピッチは、十分な回折効果を保持しながら望ましくないモアレ効果を低減することを支援するために、微細構造のアレイにわたり10％未満の変動を有し得る。微細構造の形状およびパターンの詳細は、反射要件、ディスプレイのレイアウト、および意図された用途の環境に応じて変動し得る。
［００５５］　図８は入射光と基板／膜１０２の方位とを定めるために用いられる座標系を示す。この座標系において、方位角（Φ）はｘ−ｙ平面内におけるｘ軸に対する方位を表し、その一方、傾斜角（e）は入射光ビームと膜の法線すなわちｚ軸との間の角度を表す。一般性を失うことなく、光は０度の方位角と傾斜角eとにより定められる方向から入射すると常に考えられる。膜の長尺回折微細構造は特定の方位角Φに指向され得る。
［００５６］　図９Ａ〜図９Ｃは、入射光が、長尺微細構造２０２の異なる方位に基づいて、異なる方向に回折される様子を示す。回折効果は、微細構造の頂表面３０７からの反射光と微細構造谷部３１１からの反射光とが相互に干渉しあうとき発生する。結果として、鏡面反射ビームはチャネルに対して直交する方向に沿って複数次に回折される。回折は、入射光ビームが周期的な微細構造に遭遇するとき、より強力となる。したがって、特定の入射ビームすなわちΦ＝１８０度方位角からの入射ビームに対して、回折は、１３５度方位角よりも９０度方位の微細構造に対してより強力となり、０度において最も弱くなる。鏡面反射および拡散反射が、９０度よりもむしろ０度方位角方向に沿ってより懸念される場合、Φは略４５度が選択され得る。）
　上記記載から，引用文献１には，以下の発明（以下，「引用発明」という。）が記載されている。
「タッチ感知性ディスプレイであって，
　タッチ感知性ディスプレイの頂表面上にディスプレイ構造が配置され，
　ディスプレイ構造は，モアレ，霞み，色分離，その他等の過度の光学的アーチファクトが導入されないよう透明であって，複数の微細構造２０２を有し，
　微細構造２０２同士の間にチャネル３１１（すなわち谷部または凹陥部エリア）が形成され，指紋流体がチャネル３１１に移行し，それにより指紋が阻害および「隠蔽」され，
　各微細構造２０２は平坦上方表面３０７と、画像が歪曲されないようディスプレイ表面に対して垂直または実質的に垂直な平坦側壁部３０９とを有し，破断された長尺構造を備え，
　複数の微細構造２０２により生成されるアレイは、微細構造２０２の長さに沿った軸を有し、その軸に対する直交方向に沿って十分な光学回折が生成されるよう固定ピッチを有し，
　固定ピッチは，優れた指紋耐性を得るために，皮膚の油分および水分が速やかにチャネル３１１内に散逸して不可視となる5〜20umの範囲内である，
　タッチ感知性ディスプレイ。」
２　引用文献２について
　原査定の拒絶の理由に引用された引用文献２（特開平１１−２８３７５１号公報）には，図面とともに次の事項が記載されている。
「【特許請求の範囲】
【請求項１】　陽極と陰極間に発光層を含む一層以上の有機層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子において、回折格子又はゾーンプレートを構成要素とすることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項２】　上記陽極および陰極が同一画素を形成し、これら両電極のうち、少なくとも一方の電極が可視光を反射する電極であり、この反射電極に回折格子又はゾーンプレートが形成されている請求項１記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項３】　上記素子構造が基板、回折格子又はゾーンプレート、反射電極、有機層、透明電極の順に積層した構造を持つことを特徴とする請求項２記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。」
「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、
発光効率に優れた有機エレクトロルミネッセンス素子に関する。
「【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、有機エレクトロルミネッセンス素子の光の取り出し効率を改善し、高効率の有機エレクトロルミネッセンス素子を提供することにある。
「【０００７】
【課題を解決するための手段】この発明は、前記課題を解決するために、陽極と陰極間に発光層を含む一層又は複数層の有機薄膜層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子において、その素子の構成要素として回折格子あるいはゾーンプレートを含むことを特徴とする。またこの回折格子あるいはゾーンプレートは反射型、透過型の何れでも良く、透過型に於いては遮光部分を設けることによる振幅格子の他に、屈折率の異なる層の膜厚を変調する位相格子を利用するで取出し効率を更に向上することができる。更に回折格子に於いては二次元周期の格子を用いることで、通常のストライプ状の回折格子に比べ、ストライプに平行な方向の光取出しも改善できる。
【０００８】すなわち、本発明は次のようである。
【０００９】１．陽極と陰極間に発光層を含む一層以上の有機層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子において、回折格子又はゾーンプレートを構成要素とすることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
【００１０】２．上記陽極および陰極が同一画素を形成し、これら両電極のうち、少なくとも一方の電極が可視光を反射する電極であり、この反射電極に回折格子又はゾーンプレートが形成されている上記１に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【００１１】３．上記素子構造が基板、回折格子又はゾーンプレート、反射電極、有機層、透明電極の順に積層した構造を持つことを特徴とする上記２に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【００１２】４．上記陽極および陰極が同一画素を形成し、これら陽極又は陰極のうち、少なくとも一方の電極が可視光を反射する電極であり、透明電極側に回折格子又はゾーンプレートが形成されていることを特徴とする上記１に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【００１３】５．上記素子が透明基板、回折格子又はゾーンプレート、透明電極、有機層、反射電極の順に積層された構造を持つことを特徴とする上記４に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【００１４】６．上記回折格子又はゾーンプレートが遮光部分を持たないことを特徴とする上記４又は５に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【００１５】７．前記回折格子が二次元周期を持つことを特徴とする上記１ないし６に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【００１６】
【発明の実施の形態】まず本発明の原理を説明する。有機エレクトロルミネッセンス素子においては、その発光層を含む有機層の屈折率がガラス等の基板材料屈折率に比べ高いため基板界面上で全反射を起こし発光した全ての光を取り出すことはできない。また、基板反対面方向より光を取り出す場合では、大気の屈折率との差によりやはり素子界面で全反射を起こすことになる。この全反射を抑制する目的で基板界面あるいは反射面に回折格子を形成し、光取出し面に対する光の入射角を変化させることにより光の取出し効率を向上させることが本発明の原理である。
【００１７】図３に示すように回折格子に入射角αで入射した光は出射角βと格子間隔ｄ、光の波長λ、屈折率ｎ、回折次数ｋとの間に式１の関係があるこが知られている。
【００１８】
【数１】
したがって格子間隔ｄを適当に調整することにより全反射臨界角以上の入射角の光を臨界角以下に変化させることができる。例えば、屈折率1.７の有機材料を前提にした場合、全反射臨界角は３６．０度となる。図４に
格子間隔が２μｍ
【００１９】
透過型の回折格子を利用する場合は図２に示すように、基板１に回折格子５を形成した後、陽極２、有機層３、陰極４の順に積層し素子を形成できる。
【００２０】
透過型の回折格子を用いた場合には、回折格子へ入射する光は透過光と反射光に分かれるが、反射光の出射角が小さくなり陰極による反射により再び小さい入射角で入射されるため、反射型と同様に最終的には素子外部に取り出すことができる。
【００２１】
回折格子の寸法としては、目的とするエレクトロルミネッセンス素子の光の波長域に対し取出し効率の向上する範囲にある。エレクトロルミネッセンス素子の波長域は可視光域、すなわち波長３５０ｎｍ〜８００ｎｍにおいて、格子間隔は目的とする波長の光学長、すなわち波長を屈折率で除した値に対し、図５で示すように大きすぎる場合は角度を低角にする効果が小さく、鏡面での反射が多数回おこり損失が大きくなり、また小さすぎる場合は高角度の入射が高角度の反射となり光を前方に取り出せる割合が低下し、何れも光の取出し効率を低下させるため、０.１倍から１０倍の範囲が望ましい。
【００２２】
通常の回折格子の場合はストライプに平行な方向に対しては回折効果が起らないためこの方向の光取出しを向上させることができない。この点を改良するために二次元の回折格子が使用可能である。あるいは溝のパターンを同心円上に描いた回折格子もまた使用可能である。
【図２】
３　引用文献３について
　原査定の拒絶の理由に引用された引用文献３（特開２００１−０５１２５６号公報）には，図面とともに次の事項が記載されている。
「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置に係り、特に表示面側から入射する光を変調して当該表示面側に出射する反射型の液晶表示パネルに照明光源およびタッチパネルを積層した液晶表示装置に関する。」
「【００２１】
【発明が解決しようとする課題】本発明一つの目的は、液晶表示パネルの上に設けた情報入力装置（タッチパネル）や照明装置（フロントライト）の表面の反射光を抑えることにある。
【００２２】本発明のもう一つの目的は、反射型液晶表示装置の表示コントラストを向上することにある。」
「【００７７】実施例５
図６は本発明の要素技術及び先に説明した実施例１から４に用いた、タッチパネルの構造を示した、分解斜視図である。
【００７８】図６において図１と同一符号は同一機能部分に対応する。
【００７９】４０Ｃは、透明軟質シート４０Ａの下側の面に形成された、第２の透明電極（Ｘ電極）である。４０Ｄは、透明硬質基板４０Ｂの上側の面に形成された、第１の透明電極（Ｙ電極）である。平面的には、Ｘ電極４０Ｃ及びＹ電極４０Ｄは、それぞれ異なる方向に複数設けられ、ＸＹマトリックスを形成している。
【００８０】複数のＸ電極４０Ｃは帯状の電気抵抗膜ＲＸに接続されている。同様に、複数のＹ電極４０Ｄは帯状の電気抵抗膜ＲＹに接続されている。
【００８１】透明軟質シート４０Ａと透明硬質基板４０Ｂとは、絶縁性のスペーサ４０Ｅを介して、重ね合わされる。透明軟質シート４０Ａと透明硬質基板４０Ｂは、図１に示すように、両面粘着テープや接着材等の固定部材により固定される。
【００８２】本実施例では、
透明軟質シート４０ＡのＸ電極４０Ｃは、一定の間隔λ５で配列されるので、回折格子と見なされ、後で説明する、液晶電極１Ｅ又は１Ｆの間で干渉縞を生じることがある。しかし、Ｘ電極４０Ｃの間隔λ５を液晶電極１Ｅ又は１Ｆの間隔λと同じにすることにより干渉縞を防ぐことができる。
【００８３】同様に、
透明硬質基板４０ＢのＹ電極４０Ｄも、一定の間隔λ４で配列されるので、回折格子と見なされ、液晶電極１Ｅ又は１Ｆの間で干渉縞を生じることがある。しかし、Ｙ電極４０Ｄの間隔λ４を液晶電極１Ｅ又は１Ｆの間隔λと同じにすることにより干渉縞を防ぐことができる。
【００８４】本実施例はまた、透明硬質基板４０Ｂの一つの辺に蛍光ランプ３Ａを設けることで、入力装置（タッチパネル）を照明装置（フロントライト）にも用いることが出来る。８は光源３Ａの光を液晶表示パネル１に反射する為の凹凸で、本実施例では、凹凸８は透明硬質基板４０ＢのＹ電極４０Ｄと平行な方向に延在した三角柱（プリズム）形状をしている。従って本実施例では、凹凸８をＹ電極４０Ｄと平行に配置したことに伴い、光源３Ａも透明硬質基板４０ＢのＹ電極４０Ｄと平行な辺に設けている。本実施例では凹凸８を透明硬質基板４０ＢのＹ電極４０Ｄと平行な方向に延在して配置しているので、Ｙ電極４０Ｄが凹凸８の段差を乗り越えることがなく、Ｙ電極４０Ｄが断線することがない。
【００８５】４０Ｌ、４０Ｍは透明軟質シート４０Ａの電気抵抗膜ＲＸに接続されている端子であり、４０Ｊ、４０Ｋは透明硬質基板４０Ｂの電気抵抗膜ＲＹに接続されている端子である。４０Ｑは電気抵抗膜ＲＸの一方の端部と端子４０Ｍを電気的に接続するための配線、４０Ｒは電気抵抗膜ＲＸの他方の端部と端子４０Ｌを電気的に接続するための配線である。透明軟質シート４０Ａに設けられた配線４０Ｑ、４０Ｒはそれぞれ、透明硬質基板４０Ｂに設けられた端子４０Ｍ、４０Ｌと銀ペースト等の導電部材を介して接続される。４０Ｎは電気抵抗膜ＲＹの一方の端部と端子４０Ｊを電気的に接続するための配線、４０Ｐは電気抵抗膜ＲＹの他方の端部と端子４０Ｋを電気的に接続するための配線である。
【００８６】Ｘ電極端子４０Ｌ、４０Ｍ及びＹ電極端子４０Ｊ、４０Ｋはそれぞれ、図示しないフレキシブルコネクタの端子に接続され、図１１に示す、ホストコンピュータ５０に接続される。
【００８７】本実施例のように入力装置と照明装置が一体となっている場合には、入力装置の端子４０Ｔは、照明装置の光源３Ａが設けられた辺と異なる辺に設けると良い。図６に示す実施例では、Ｘ電極端子４０Ｌ、４０ＭとＹ電極端子４０Ｊ、４０Ｋは、入力装置の光源３Ａが設けられた辺とは異なる辺に設けられているので、フレキシブルコネクタに邪魔されることなく、光源３Ａを設けることができる。
【００８８】本実施例では、透明軟質シート４０Ａ上の１点をペン等により押すことにより、対応するＸ電極４０Ｃ及びＹ電極４０Ｄが電気的に接続するので、ホストコンピュータ５０は、透明軟質シート４０Ａの、押された点の位置座標を認識することができる。
【００８９】図７（ａ）、（ｂ）は本実施例のタッチパネルの等価回路図である。
【００９０】図７（ａ）は本実施例のＸ座標を検出する原理を示した図である。電気抵抗膜ＲＸの端子４０Ｌ、４０Ｍはそれぞれ、ホストコンピュータ５０に有る定電圧源から＋Ｖ、−Ｖの電圧が印加される。一方Ｙ電極端子４０Ｋには、ホストコンピュータ５０に接続される、入力インピーダンスがほぼ無限大の、デジタル電圧計ＤＶが接続される。Ｘ電極４０Ｃ及びＹ電極４０Ｄが電気的に接続すると、Ｘ電極４０Ｃが電気抵抗膜ＲＸに接続した点の分圧電圧がデジタル電圧計ＤＶにより検出されるので、デジタル電圧計ＤＶのデータからＸ電極４０Ｃ及びＹ電極４０Ｄが接触した点のＸ座標をホストコンピュータ５０は認識することが出来る。
【００９１】Ｙ座標を検出する場合は、図７（ｂ）に示すように、定電圧源の＋Ｖ、−Ｖの電圧を印加する端子を電気抵抗膜ＲＹの端子４０Ｊ、４０Ｋに変更し、デジタル電圧計ＤＶを接続する端子をＸ電極端子４０Ｌに変更すれば良い。Ｘ電極４０Ｃ及びＹ電極４０Ｄが電気的に接続すると、Ｙ電極４０Ｄが電気抵抗膜ＲＹに接続した点の分圧電圧がデジタル電圧計ＤＶにより検出されるので、デジタル電圧計ＤＶのデータからＸ電極４０Ｃ及びＹ電極４０Ｄが接触した点のＹ座標をホストコンピュータ５０は認識することが出来る。
【００９２】本実施例では、電気抵抗膜ＲＸ及びＲＹをＩＴＯ等の透明導電膜で形成することにより、Ｘ電極４０ＣやＹ電極４０Ｄと電気抵抗膜ＲＸ及びＲＹを同時形成することができる。」
４　引用文献４について
　原査定の拒絶の理由に引用された引用文献４（特開２０１２−０２１８０２号公報）には，図面とともに次の事項が記載されている。
「【０００１】
　
本発明は回折格子に関し、より詳細には、例えば光学式の変位測定装置等に用いる回折格子に関する。
【背景技術】
【０００２】
　従来、産業機器の分野において、反射型の回折格子スケール（目盛板）を備える光学式の変位測定装置が用いられている。反射型の回折格子スケールを備える変位検出装置では、まず、装置内に設けられた光源から光を移動する回折格子スケールに照射する。そして、その際に回折格子スケールで発生する回折光を検出して回折格子スケールの変位を測定する。」
「【０１１８】
＜４．第４の実施形態＞
　第４の実施形態では、上述した第３の実施形態とは異なる構成の２次元の回折格子スケールについて説明する。
【０１１９】
［回折格子スケールの構成］
　図１７に、本実施形態に係る２次元の回折格子スケールの概略斜視図を示す。なお、図１７では、回折格子スケール９０の第１凸部９２及び第２凸部９４の配置構成をより明確にするため、これらの凸部上に形成される各種積層膜の図示、並びに、各凸部の側面に形成される微細な凹凸の図示は省略する。
【０１２０】
　
回折格子スケール９０は、基材９１及び該基材９１上に形成された複数の第１凸部９２からなる下部格子部材９０ａと、中間層９３及び該中間層９３上に形成された複数の第２凸部９４からなる上部格子部材９０ｂとを備える。
【０１２１】
　なお、図１７には示さないが、回折格子スケール９０は、接着層を備え、該接着層を介して下部格子部材９０ａと上部格子部材９０ｂとが接着される。なお、中間層９３を接着層と兼用してもよい。さらに、図１７には示さないが、第１凸部９２上には第１反射膜が形成され、第２凸部９４上には第２反射膜及びカバー層がこの順で形成される。
【０１２２】
　図１８（ａ）及び（ｂ）に、それぞれ下部格子部材９０ａ及び上部格子部材９０ｂの概略構成を示す。なお、図１８（ａ）は、第１凸部９２の延在方向に直交する方向における下部格子部材９０ａの概略断面図であり、図１８（ｂ）は、第２凸部９４の延在方向に直交する方向における上部格子部材９０ｂの概略断面図である。
【０１２３】
　下部格子部材９０ａは、図１８（ａ）に示すように、基材９１と、該基材９１上に形成された複数の第１凸部９２と、該複数の第１凸部９２上に形成された第１反射膜９５とを備える。
【０１２４】
　基材９１は、第１の実施形態と同様に、例えば、ガラス、シリコン、セラミック等の材料で形成される。
【０１２５】
　第１凸部９２は、図１７に示すように、回折格子スケール９０の短手方向ＡＲ２に沿って直線状に延在して形成される。また、第１凸部９２の上面９２ａは、図１８（ａ）に示すように、略平坦であり、側面９２ｂは、略円弧状で且つ凹状の形状を有する面である。さらに、側面９２ｂには、微細な凹凸が形成される。
【０１２６】
　なお、第１凸部９２は、第１の実施形態と同様に、例えば、半導体素子、ディスプレイパネル等の製造時に用いられる感光レジストや感光乳剤により形成されるが、本発明はこれに限定されず、任意の材料で形成することができる。例えば、第１凸部９２を、上記変形例１−２と同様に、Ｃｒ、Ａｌ、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等からなる金属膜で形成してもよい。また、例えば、第１凸部９２を、上記変形例１−３と同様に、基材９１の表面を直接エッチングすることにより形成してもよい。
【０１２７】
　第１反射膜９５は、例えば、Ａｕ、Ａｌ等からなる金属膜で形成される。そして、第１反射膜９５は、第１凸部９２の上面９２ａ及び側面９２ｂ、並びに、隣り合う第１凸部９２間に露出した基材９１の表面部を覆うように形成される。
【０１２８】
　なお、本実施形態では、照射光の波長をλとし、第１反射膜９５上に積層される各種層（上部格子部材９０ｂを含む）の全体の屈折率をη′とした場合、下部格子部材９０ａの第１反射膜９５の凹部の深さ（または第１凸部９２の高さ）は、略λ／４／η′となるように調整される。
【０１２９】
　一方、上部格子部材９０ｂは、図１８（ｂ）に示すように、中間層９３と、該中間層９３上に形成された複数の第２凸部９４と、該第２凸部９４上に形成された第２反射膜９６とを備える。なお、図１８（ｂ）には示さないが、上部格子部材９０ｂは、第２反射膜９６上にカバー層が形成される。ただし、本発明はこれに限定されず、上部格子部材９０ｂをカバー層を設けない構成にしてもよい。
【０１３０】
　中間層９３は、入射光の一部を透過して下部格子部材９０ａに導く必要があるので、例えばガラス等の光透過性を有する材料により形成される。
【０１３１】
　第２凸部９４は、図１７に示すように、回折格子スケール９０の長手方向ＡＲ１に沿って直線状に延在して形成される。すなわち、本実施形態の回折格子スケール９０では、下部格子部材９０ａの第１凸部９２の延在方向と、上部格子部材９０ｂの第２凸部９４の延在方向とが互いに直交するように、各凸部を形成する。
【０１３２】
　また、第２凸部９４の上面９４ａは略平坦面であり、側面９４ｂは、略円弧状で且つ凹状の形状を有する面である。さらに、側面９４ｂには、微細な凹凸が形成される。
【０１３３】
　なお、第２凸部９４は、第１の実施形態と同様に、例えば、半導体素子、ディスプレイパネル等の製造時に用いられる感光レジストや感光乳剤により形成されるが、本発明はこれに限定されず、任意の材料で形成することができる。例えば、第２凸部９４を、上記変形例１−２と同様に、Ｃｒ、Ａｌ、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等からなる金属膜で形成してもよい。また、例えば、第２凸部９４を、上記変形例１−３と同様に、中間層９３の表面を直接エッチングすることにより形成してもよい。
【０１３４】
　第２反射膜９６は、例えば、Ａｕ、Ａｌ等からなる金属膜で構成される。ただし、本実施形態では、入射光の一部を上部格子部材９０ｂで透過して下部格子部材９０ａに導く必要があるので、第２反射膜９６は第２凸部９４の上面９４ａ上にのみ形成し、凹部には形成しない。
【０１３５】
　上述のように、本実施形態では、上部格子部材９０ｂの凹部では光を反射させない。それゆえ、本実施形態では、第２凸部９４の高さを、略λ／４／η（λ：照射光の波長、η：カバー層の屈折率）となるように調整する必要はなく、任意に設定することができる。
【０１３６】
　また、第２反射膜９６上に形成するカバー層（不図示）は、上記第１の実施形態の回折格子スケール１０（図３）におけるカバー層４と同じ構成とする。」
５　引用文献５について
　原査定の拒絶の理由に引用された引用文献５（国際公開第２０１０／０１３６７９号）には，図面とともに次の事項が記載されている。
「技術分野
[0001]　
本発明は、面状体及びタッチスイッチに関する。
背景技術
[0002]　近年、コンピューターや電子機器において、押しボタンを用いずにディスプレイの表示を利用した操作の開発が盛んである。その操作のために、ディスプレイの前面にタッチスイッチを配置して、タッチ位置を検出する。タッチスイッチの種類としては、抵抗膜式、表面弾性波式、赤外線方式などがあり、指のタッチや近接による静電容量の変化で位置を検出する静電容量式もある。例えば、特許文献１には、図１９及び図２０に示すようなマトリクス状の電極（Ｘ方向、Ｙ方向の２層構造）の静電容量式タッチスイッチが記載されている。
[0003]　このような静電容量式タッチスイッチの構造を模式的に表した概略構成平面図である図２１及びその断面図である図２２を用いて説明すると、従来の静電容量式タッチスイッチ４００は、基板４０１の一方面に帯状にパターニングされたＩＴＯなどからなる透明の第１電極４０２が形成された第１面状体４０３と、基板４０４の一方面に帯状にパターニングされたＩＴＯなどからなる透明の第２電極４０５が形成された第２面状体４０６とを備えており、第１面状体４０３と第２面状体４０６とは、それぞれの第１電極及び第２電極とが互いに対向するようにして、粘着層４０７を介して貼着されている。
[0004]　面状体の任意の位置に指などで触れると、電極４０２及び４０５は接触位置において人体の静電容量に基づく電圧等の変化を検出することによって、接触位置の座標が演算される。」
「発明を実施するための形態
[0024]　（第１実施形態）
　本発明の第１実施形態に係るタッチスイッチについて図面を用いて説明する。
タッチスイッチは、ディスプレイの前面に取り付けられる静電容量式のタッチスイッチである。ディスプレイには、縦横に格子状となったブラックマトリクスが形成されている。
[0025]　図１に示すタッチスイッチ１０は、基板１２、基板１２の一面に形成された第１電極１４と、基板１２の他面に形成された第２電極１６とを備える。説明において、基板１２の一面が上方、基板１２の他面が下方になり、基板１２の他面がディスプレイ１８に取り付けられる側の面とする。
[0026]　基板１２は誘電体基板である。基板１２の材料は、ガラス、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンナフタレートなどの透明材料が挙げられる。ガラスであれば厚みは約０．１〜２ｍｍであり、プラスチックフィルムであれば厚みは約１０〜２０００μｍである。
[0027]　図２に示すように、第１電極１４と第２電極１６は、それぞれ一定間隔で並べられる。第１電極１４と第２電極１６は互いに直交する方向を向いており、図３に示すように第１電極１４と第２電極１６とで格子状になる。
[0028]　
第１電極１４と第２電極１６は、それぞれ複数の導体線を有し、導体線によって網目が形成されている。導体線は、長線２０ａ，２０ｂとその長線２０ａ，２０ｂと交差する複数の短線２２ａ，２２ｂである。長線２０ａ，２０ｂと短線２２ａ，２２ｂはそれぞれ、ディスプレイ１８のブラックマトリクスに対して斜め方向を向いている。これは、導体線とブラックマトリクスが同方向を向いていると、モアレが発生しやすいためである。
[0029]　長線２０ａ，２０ｂは一定の長さごとに蛇行し、蛇行した箇所の各角度は同じである。この蛇行時の角度は、ディスプレイ１８の縦軸または横軸に対してモアレが発生しない角度（バイアス角）である。第１電極１４の長線２０ａと第２電極１６の短線２２ｂが同じ方向を向いており、第１電極１４の短線２２ａと第２電極１６の長線２０ｂが同じ方向を向いている。
長線２０ａ，２０ｂと短線２２ａ，２２ｂの線幅は、例えば約１０〜３０μｍである。長線２０ａ，２０ｂのピッチは、約２００〜４００μｍである。
第４　対比・判断
１　本願発明１について
（１）対比
ア　引用発明の「タッチ感知性ディスプレイ」は，本願発明１の「画像表示装置」に相当する。
イ　引用発明の「微細構造２０２」は，「平坦上方表面３０７と、画像が歪曲されないようディスプレイ表面に対して垂直または実質的に垂直な平坦側壁部３０９とを有し，破断された長尺構造を備え」ているから，「複数の微細構造２０２により生成されるアレイ」は，格子を形成していると認められる。
　また，「複数の微細構造２０２により生成されるアレイは、微細構造２０２の長さに沿った軸を有し、その軸に対する直交方向に沿って十分な光学回折が生成されるよう固定ピッチを有」しているから，この「複数の微細構造２０２により生成されるアレイ」は，回折格子を形成しているといえる。
　そうすると，引用発明の「タッチ感知性ディスプレイ」と，本願発明１の「画像表示装置」は，回折格子を配置している点で共通する。
ウ　また，引用発明は，「タッチ感知性ディスプレイの頂表面上に」配置された「ディスプレイ構造」は，「複数の微細構造２０２により生成されるアレイ」を有しているから，「複数の微細構造２０２により生成されるアレイ」は，「タッチ感知性ディスプレイ」のディスプレイの上に配置していることとなり，本願発明１の「回折格子」が，「画像表示パネルのパネル面に配置した」と同様の構成を有していると認められる。
エ　そうすると，本願発明１と引用発明とは，以下の点で一致し，又相違する。
［一致点］
「画像表示パネルのパネル面に配置した回折格子を有する，
　画像表示装置。」
［相違点１］
　本願発明１の「画像表示装置」は，「透明基材に電極を作製した電極フィルムと、前記電極フィルムに積層された回折格子と、を備えた電極フィルムの積層体を画像表示パネルのパネル面に配置した画像表示装置であって、前記電極は、第１方向及び前記第１方向に直交する第２方向にそれぞれ延長する細線形状であって、かつこの延長方向と直交する方向にそれぞれ細線形状の部位が繰り返し形成されて」いるのに対して，引用発明は「タッチ感知性ディスプレイの頂表面上」に「回折格子」を配置しているものの，その他の対応する構成は明記されていない点。
［相違点２］
　本願発明１は「前記電極の繰り返しのピッチは、５０〜１００μｍであり，前記回折格子のピッチは、前記電極の繰り返しのピッチより大きく、かつ、前記画像表示パネルの画素ピッチの１／１０倍以上、１倍以下」であるのに対して，引用発明は，電極の繰り返しのピッチの値や，回折格子のピッチと，電極の繰り返しのピッチの関係や画像表示パネルの画素ピッチの関係が明示されていない点。
［相違点３］
　本願発明１は「２度以上の角度により前記電極の繰り返し方向と前記回折格子の繰り返し方向とが交差する」のに対して，引用発明は電極と回折格子とが交差することについて記載されていない点。
（２）相違点についての判断
ア　［相違点１］及び［相違点２］について
　引用文献２ないし５には，［相違点１］に係る電極フィルムの電極について，電極の繰り返しのピッチを５０〜１００μｍとし，且つ，回折格子のピッチを，電極の繰り返しのピッチより大きくするとともに，画像表示パネルの画素ピッチの１／１０倍以上、１倍以下（［相違点２］）とすることは，記載されておらず，又［相違点２］に係る構成は，本願出願日前において周知の構成であったともいえない。
　さらに，引用発明は，優れた指紋耐性を得るために，皮膚の油分および水分が速やかにチャネル３１１内に散逸して不可視とすることを目的として，本願発明１の「回折格子」に対応する構成である「複数の微細構造２０２により生成されるアレイ」の「固定ピッチ」を「5〜20umの範囲内」としている。このことは，引用発明が，［相違点２］に係る，「回折格子のピッチ」を，「電極の繰り返しのピッチ」である「５０〜１００μｍ」より大きい値とすることと異なる範囲であるから，引用発明に［相違点２］に係る構成を採用する際の阻害要因となる。
　そして，本願発明１は［相違点２］に係る構成によって，「効率良く電極９Ｘを視認できないようにすることができる。」（本願明細書段落【００３３】）という格別の効果を有するものである。
イ　したがって，他の相違点について判断するまでもなく，本願発明１は，当業者であっても引用発明，引用文献２ないし５に記載された技術的事項に基づいて当業者が容易に発明できたものとはいえない。
２　本願発明２ないし５について
　本願発明２ないし５は，本願発明１の［相違点１］ないし［相違点３］に係る構成と同一の構成を備えるものであるから，本願発明１と同じ理由により，当業者であっても，引用発明及び引用文献２ないし５に記載された技術的事項に基づいて容易に発明できたものであるとはいえない。
第５　原査定の概要及び原査定についての判断
　原査定は，請求項１ないし３及び６に係る発明について，上記引用文献１に記載された発明と同一であるから，特許法第２９条第１項第３号の規定により特許を受けることができず，また，請求項１ないし６に係る発明について，上記引用文献１ないし５に基づいて，当業者が容易に発明することができたものであるから，同条第２項の規定により特許を受けることができないというものである。
　しかしながら，令和元年７月２２日付け手続補正により補正された請求項１ないし５は，それぞれ，本願発明１の［相違点１］ないし［相違点３］に係る構成と同様の構成を有するものとなっており，上記のとおり，本願発明１ないし５は，上記引用文献１に記載された発明ではなく，又上記引用文献１に記載された発明及び上記引用文献２ないし５に記載された技術的事項に基づいて，当業者が容易に発明できたものではない。
　したがって，原査定を維持することはできない。
第６　当審拒絶理由について
　当審では，請求項２ないし５の記載が明確でないから，本願は，特許法第３６条第６項第２号の規定する要件を満たしていないとの拒絶の理由を通知しているが，令和元年７月２２日付け手続補正により，請求項２が補正された結果，この拒絶の理由は解消した。
第７　むすび
　以上のとおり，本願発明１ないし５は，引用発明でなく，又当業者が引用発明及び引用文献２ないし５に記載された技術的事項に基づいて容易に発明をすることができたものではない。
　したがって，原査定の拒絶の理由によっては，本願を拒絶することはできない。
　また，他に本願を拒絶するべき理由を発見しない。
　よって，結論のとおり審決する。