【誤訳訂正書】
【提出日】平成22年2月5日(2010.2.5)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液浸リソグラフィ用の流体制御システムであって、
光学部材であって前記光学部材と該光学部材に対向して配置された表面との間にギャップが画成されている前記光学部材と、
前記ギャップ内に特定される露光領域に流体を供給するための流体供給デバイスと、
前記流体に力を作用させ、それによって前記流体が前記露光領域外部の特定の周辺領域に入ることを妨げる流体制御デバイスとを備え、
前記流体制御デバイスは、加圧ガス源と、前記露光領域に前記加圧ガスを送出するためのノズルとを含み、
前記ノズルは前記表面に対して斜めに向けられており、
前記露光領域の前記流体は、前記加圧ガスによって前記周辺領域に入ることが妨げられる流体制御システム。
【請求項２】
前記加圧ガスは水を吸収し、それにより湿度を減少させる請求項１に記載の流体制御システム。
【請求項３】
前記流体制御デバイスはさらに供給されたガスを取り除くための排気マニホールドを含む請求項１又は２に記載の流体制御システム。
【請求項４】
前記加圧ガスが空気である請求項１〜３のいずれか一項に記載の流体制御システム。
【請求項５】
前記加圧ガスが窒素である請求項１〜３のいずれか一項に記載の流体制御システム。
【請求項６】
前記加圧ガス源に接続された前記ノズルは、前記表面を有する物体の走査方向によって規定される一側に前記露光領域に隣接して置かれている請求項１〜５のいずれか一項に記載の流体制御システム。
【請求項７】
前記加圧ガス源に接続された前記ノズルは、前記表面を有する物体のステッピング軸によって規定される一側に前記露光領域に隣接して置かれている請求項１〜５のいずれか一項に記載の流体制御システム。
【請求項８】
レチクルを保持するために配置されたレチクルステージと、
表面を有するワークピースを保持するために配置されたワーキングステージと、
光学素子を含んだ光学システムであって前記光学素子は前記ワークピースの前記表面に対向し、前記光学素子と前記ワークピースの前記表面との間にギャップが画成された光学システムと、
液浸リソグラフィプロセスの間に、前記光学素子及び前記ワークピースの間の、前記光学素子及び前記ワークピースと接触している特定の露光領域へ流体を提供するための流体供給デバイスと、
前記流体に力を作用させて、それによって前記流体が前記露光領域の外部の特定の周辺領域に入ることを妨げる流体制御デバイスとを備え、
前記力は流体力学的力であって、前記流体制御デバイスは、加圧ガス源と、前記露光領域に前記加圧ガスを送出するためのノズルとを含み、
前記ノズルは、前記ワークピースの前記表面に対して斜めに向けられており、
前記露光領域の前記流体は、前記加圧ガスの前記流体力学的力よって前記周辺領域に入ることが妨げられる液浸リソグラフィ装置。
【請求項９】
前記流体制御デバイスはさらに供給されたガスを取り除くための排気マニホールドを含む請求項８に記載の液浸リソグラフィ装置。
【請求項１０】
前記加圧ガスが空気である請求項８又は９に記載の液浸リソグラフィ装置。
【請求項１１】
前記加圧ガスが窒素である請求項８又は９に記載の液浸リソグラフィ装置。
【請求項１２】
前記加圧ガス源に接続された前記ノズルは、前記ワークピースの走査方向によって規定される一側に前記露光領域に隣接して置かれている請求項８〜１１のいずれか一項に記載の液浸リソグラフィ装置。
【請求項１３】
前記加圧ガス源に接続された前記ノズルは、前記ワークピースのステッピング軸によって規定された一側に前記露光領域に隣接して置かれている請求項８〜１１のいずれか一項に記載の液浸リソグラフィ装置。
【請求項１４】
リソグラフィプロセスを用いて物体を作製する方法であって、前記リソグラフィプロセスは請求項８〜１３のいずれか一項に記載の液浸リソグラフィ装置を利用する方法。
【請求項１５】
リソグラフィプロセスを用いてウェハをパターンニングするための方法であって、前記リソグラフィプロセスは請求項８〜１３のいずれか一項に記載の液浸リソグラフィ装置を用いる方法。
【請求項１６】
液浸リソグラフィ用の流体制御方法であって、
光学部材と該光学部材に対向して配置された表面との間に画成されたギャップ内に特定される露光領域に流体を供給することと、
加圧ガス源に接続され、前記表面に対して斜めに向けられたノズルを通じて前記露光領域に加圧ガスを送出することとを含み、
前記加圧ガスにより、前記流体に力が作用し、前記流体が前記露光領域外部の特定の周辺領域に入ることが妨げられる流体制御方法。
【請求項１７】
さらに供給されたガスを排気マニホールドより取り除くことを含む請求項１６に記載の流体制御方法。
【請求項１８】
前記加圧ガスが空気である請求項１６又は１７に記載の流体制御方法。
【請求項１９】
前記加圧ガスが窒素である請求項１６又は１７に記載の流体制御方法。
【請求項２０】
前記加圧ガス源に接続された前記ノズルは、前記表面を有する物体の走査方向によって規定される一側に前記露光領域に隣接して置かれている請求項１６〜１９のいずれか一項に記載の流体制御方法。
【請求項２１】
前記加圧ガス源に接続された前記ノズルは、前記表面を有する物体のステッピング軸によって規定される一側に前記露光領域に隣接して置かれている請求項１６〜１９のいずれか一項に記載の流体制御方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００４】
液浸リソグラフィ装置用の、そのような流体制御システムに関する問題は、終端光学部材とワークピースとの間のギャップ（間隙）に満たされる流体物質をいかにして制御するか、あるいは、終端光学部材とワークピースとの間のギャップに満たされる流体物質をいかにして閉じ込めるかということである。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００６】
上記において、流体に加えられるべき力は、作用されることができる種類の力として記載されている。このことは、力自体が制御可能な類であり、閉鎖壁のような静止物体からの反力を除外するものとする。液浸流体に力を作用する多数の例が考察されている。一つの例は、加圧ガス源からのガス流を、そのガス流の流体力学的な力が設定されて、流体を露光領域内部及び露光領域近傍に包含するように、即ち、流体の漏出を望まない周辺領域に流体が入ることを妨げるように作用させることである。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１８】
液体７は、タンク、圧力ポンプ及び温度レギュレーター（個別には図示されていない）を備えうる液体供給ユニット５から、温度管理された条件の下で、ワークピースＷの上部の空間に供給され、液体回収ユニット６によって回収される。液体７の温度は調整されて、露光装置１００自体が置かれるチャンバ内の温度とほぼ同じ温度になる。符号２１は供給ノズルを示しており、供給ノズルを通じて液体７が供給ユニット５から供給される。符号２３は回収ノズルを示しており、回収ノズルを通じて液体７が回収装置６へと回収される。しかしながら、図１を参照して上で記述した構造は、本発明の流体制御システムが適用可能である液浸リソグラフィ装置の範囲を限定するものではないということを思い起こされたい。換言すれば、言うまでもなく本発明の流体制御システムは多くの異なる種類の液浸リソグラフィ装置に組み込み可能である。特に、光投影ユニットＰＬの周囲にある供給ノズル２１及び回収ノズル２３の数及び配置は、液浸液体７のスムーズな流れ及び迅速な回収を確立するために様々な方法で設計されうる。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１９】
図４及び図５は本発明の一実施形態に基づく流体制御システムであって、全体的に図１に示されているような構造をした液浸リソグラフィ装置に組み込まれた流体制御システムを表しており、流体制御システムは液体７を制御するために高圧ガスを用いることによって特徴付けられている。図４及び５において、符号４０は、照明光学ユニット１からの光ＩＬを入射させる液浸領域を含むエリア（本願では以後、露光領域と呼ぶ）を示している。このエリアは、露光プロセスの間、液体７が存在し続けるべき領域である。この目的のため、加圧ガス源（不図示）に接続されたガスアウトレット２５は、液体７が閉じ込められている露光領域４０を含むエリアの両側に設けられている。図５において、符号４５は「周辺領域」とも呼ばれうる領域を示しており、周辺領域では液体７が入らないように制御されている。換言すれば、ワークピースはスキャンされる際に、液体７は終端光学素子４に関連して強制的に動かされうるが、ガスアウトレット２５からの加圧ガスは液体７を十分に閉じ込め続けるように作用しているので、液体７は露光領域４０から指定した周辺領域４５に達するほどには遠ざかって移動しないであろう。従って、本発明の観点から、本願で周辺領域４５として特定された領域は、液体７が露光領域４０から離れて移動することを許容されている最大距離を規定するものとみなしうる。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２０】
ガスアウトレット２５の物理的な配置には厳しい要請はない。加圧ガスは、図４に示すように露光領域４０の両側で供給ノズル２１及び回収ノズル２３の外側に形成されうる個々のノズル又は溝から吹き出されてもよい。このとき、加圧ガスを一次元的に細長いインレット溝を通じて均一に噴射して、より均一な圧力波面を形成して、均一な流体力学的な力を液体７に適用することができるように個々のノズル又は溝から吹き出されてもよい。一実施形態において、ガスアウトレットはステッピング軸の方向（不図示）に設けられていてもよい。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２１】
別の実施形態において、露光領域４０がガスアウトレットに取り囲まれるように、ガスアウトレットはスキャンニング（走査）方向及びステッピング方向に設けられていてもよい。この場合にはガス圧は、スキャンニング方向に設けられたガスアウトレットとステッピング方向に設けられたガスアウトレットとの間で異なりうる。例えば、ワークピースＷ（ＸＹ−ステージ１０）がスキャンニング方向に移動している間は、スキャンニング方向に設けられたアウトレットのガス圧をより高くし、ワークピースＷ（ＸＹ−ステージ１０）がステッピング方向に移動している間は、ステッピング方向に設けられたアウトレットのガス圧をより高くしてもよい。また、別の実施形態において、ガスアウトレットは露光領域４０を円形に取り囲むように設けられてもよい。この場合には、ガス圧はガスアウトレットの位置に基づいて異なっていてもよく、且つ／又は、ガス圧はワークピースＷ（ＸＹ−ステージ１０）の（移動速度及び移動方向のような）動きに従って変化させてもよい。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２７】
一般に、液浸流体の閉じ込めは、スキャンニング方向においてより困難である。というのは、ウェハステージの移動がこの方向により大きいからである。エアサプライ及び排気マニホールドを、あるいはエアサプライ又は排気マニホールドの一方のみをステッピング方向にも追加することができる。本発明は、米国特許第６，２６２，７９６号及び６，３４１，００７号に開示されているツインステージ型リソグラフィシステムにも適用することができる。
【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２８】
図７は本発明の第２の実施形態を示しており、静磁力を利用して、露光領域４０内及びその隣接部に液体７を閉じ込めること及び液体７が上記周辺領域に到達することを妨げることによって、液体７を制御することを特徴としている。水は典型的には液浸リソグラフィにおいて液浸流体として用いられ、水は反磁性体であるので、磁気的に反応しうる液体として知られている。従って、好適な磁場を液体７が閉じ込められている領域にわたって与えることによって、磁力をそのような流体材料に印加することができる。図７は、磁場発生器としても作用する複数の電磁コイル４７が露光領域４０の周りに配置され、磁場を発生させて液体７の流れを制御している例を示している。開示の利便性のために、これらのコイル４７を流れる電流のための回路は省略されている。