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【手続補正書】
【提出日】平成22年6月17日(2010.6.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の金属被加工物と１つまたは複数の第２の金属被加工物との間に金属結合を形成する方法であって、
（ａ）前記第１の金属被加工物と前記１つまたは複数の第２の金属被加工物とを、前記第１の被加工物の第１の部分が前記１つまたは複数の第２の被加工物の第２の部分と一般的に重なり合う関係にあるように、互いに近くに配置するステップと、
（ｂ）前記第１の部分と前記第２の部分との間に適切な材料を提供するステップであって、前記材料が粒子または箔の形式である、前記ステップと、
（ｃ）前記第１の金属被加工物と前記１つまたは複数の第２の金属被加工物とが互いに接合または溶接されてこれらの間に金属結合が形成されるように、前記第１の部分を備えている前記第１の被加工物の少なくとも第１の一部分を、前記第２の部分を備えている前記１つまたは複数の第２の被加工物の第２の一部分に、適切な高圧接合プロセスおよび高速接合プロセスのいずれか一方によって押し付けるステップと、
を含んでいる、方法。
【請求項２】
適切な高圧接合プロセスおよび高速接合プロセスの前記いずれか一方が、間に前記材料を有する前記第１の部分と前記第２の部分との間に接触前縁（contact front）が生じるように、前記第１の部分と前記第２の部分とを、金属結合を形成する相互接触状態にするステップを含んでおり、前記接触前縁は、金属結合した少なくとも１つの部分と、結合していない少なくとも１つの部分との間の位置を定義しており、金属結合した前記少なくとも１つの部分においては、前記第１の部分および前記第２の部分の向かい合う一部分が前記プロセスによってすでに接合されており、結合していない前記少なくとも１つの部分においては、前記第１の部分および前記第２の部分の向かい合う一部分が前記プロセスによってやがて接合され、前記接触前縁は、前記第１の部分と前記第２の部分の間で急速に伝搬する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第１の部分と前記第２の部分とは、前記接触前縁において所定の鋭角にて接触している、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記接触前縁は、前記結合していない部分における、前記第１の部分と前記第２の部分の向かい合う一部分の間にプラズマが発生するのに十分な速度で、伝搬する、請求項２に記載の方法。
【請求項５】
前記プロセスは、磁気パルス成形（ＰＭＦ）プロセスである、請求項２に記載の方法。
【請求項６】
前記プロセスは、爆発圧接プロセス、摩擦圧接プロセス、超音波溶接プロセス、拡散接合プロセス、冷間圧接プロセス、ガス圧接プロセス、鍛接プロセス、のうちのいずれか１つである、請求項２に記載の方法。
【請求項７】
ステップ（ｂ）において、前記粒子は、前記第１の部分と前記第２の部分のうちの少なくとも一方に塗布され、オプションでステップ（ｂ）はステップ（ａ）の前に実行される、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記粒子は、前記第１の部分の第１の表面と前記第２の部分の第２の表面のうちの少なくとも一方に塗布され、前記第１の表面と前記第２の表面のうちの少なくとも一方に、前記金属粉末を備えているエマルションによって前記粒子を吹き付けるかまたはコーティングすることによって、前記粒子が第１の表面と前記第２の表面のうちの少なくとも一方に塗布され、オプションで前記エマルションが、適切な気体または液体に浮遊している粒子をさらに備えている、
請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記粒子は、前記第１の部分の第１の表面と前記第２の部分の第２の表面のうちの少なくとも一方に塗布され、前記第１の表面と前記第２の表面のうちの少なくとも一方と、前記粒子との間に静電引力を発生させることによって、前記粒子が前記第１の表面と前記第２の表面のうちの少なくとも一方に塗布される、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記粒子が金属粒子であり、かつ磁化されており、前記第１の部分と前記第２の部分のうちの少なくとも一方が磁化可能であり、前記金属粉末の近傍において、前記少なくとも一方の部分に適切な電流を流して前記少なくとも一方の部分を磁化し、これに起因して、前記粒子が、前記第１の部分と前記第２の部分のうちの少なくとも一方に磁気的に引きつけられる、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記第１の部分と前記第２の部分のうちの少なくとも一方が、少なくともステップ（ｃ）の前に前記粒子を保持しているように構成されている表面形状、を備えており、前記表面形状が、凹部、くぼみ、溝、その他のうちのいずれか１つを含んでいる、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記粒子のうちの少なくとも一部が、前記第１の部分と前記第２の部分のうちの少なくとも一方の金属と共通する金属から作製されており、前記粒子のうちの少なくとも一部が、前記第１の部分および前記第２の部分を構成している１つまたは複数の金属とは異なる１つまたは複数の金属を備えている、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記粒子が、約１＊１０−６メートル〜約２００＊１０−６メートルの範囲内の有効径または特徴的寸法を有し、オプションで前記粒子が、約５＊１０−６メートル〜約５０＊１０−６メートルの範囲内の有効径または特徴的寸法を有し、オプションで前記粒子が、約１０−９メートルのオーダーの有効径または特徴的寸法を有し、前記箔が、約１＊１０−６ｍ〜約２００＊１０−６ｍの間の厚さの金属箔を備えており、オプションで前記箔が、約５＊１０−６ｍ〜約５０＊１０−６ｍの間の厚さの金属箔を備えている、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
前記粒子が、少なくとも１つの金属または合金またはセラミックを備えており、前記金属または合金はアルミニウム、鉄または鋼、銅、マグネシウム、ビスマス、リチウム、ニッケル、亜鉛、マグネシウム、銀、金、チタン、スズから選択され、前記セラミックは酸化マグネシウムおよび酸化アルミニウムから選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
請求項１に記載の方法に従って１つまたは複数の第２の金属被加工物に溶接されている第１の金属被加工物を備えている製造品。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月21日(2010.6.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
柔軟な使い捨てカップにおいて、
帯電性粒子を含んだ材料を貯留するための空間を画成する側壁、開いた出口端および閉じた底部を具備し、
前記使い捨てカップは前記底部において自立し、かつ、該使い捨てカップから流体が吸引されると側壁が潰れるようになっており、
前記使い捨てカップは帯電防止導電性ナノファイバーを含んだ材料から形成されており、該使い捨てカップは透明であり、前記帯電性粒子が該使い捨てカップに付着せず、前記帯電性粒子を有した材料を供給する間、該使い捨てカップ内で前記帯電性粒子の均一性が維持されるようにした使い捨てカップ。
【請求項２】
流体供給装置において、
内部を画成する、側壁、開いた出口端および閉じた底部を有した使い捨てカップと、
側壁と、開口した上端と、下端とを有した再使用可能なカップホルダであって、前記下端には開口が形成され、前記上端に結合面が形成され、使い捨てカップを受容するようにしたカップホルダと、
内部と外部とを有し、前記使い捨てカップに装着するようにした使い捨て蓋であって、該使い捨て蓋は一体に連結された継手部を有し、該継手部には開口部が貫通形成されて成る使い捨て蓋と、
内部と外部とを有し、前記再使用可能なカップホルダに装着するようにした再使用可能な外蓋であって、該再使用可能な外蓋は、前記内部に一体的に連結された継手部を有し、該継手部には開口部が貫通、形成されており、前記使い捨て蓋の継手部が該再使用可能な外蓋の継手部内に嵌合するようになっており、更に、該再使用可能な外蓋の縁部に相補形の結合面が設けられており、該再使用可能な外蓋の相補形の結合面は、前記再使用可能なカップホルダの結合面に係合して、前記再使用可能なカップホルダと前記再使用可能な外蓋とを共にシールするようになっている再使用可能な外蓋とを具備し、
前記再使用可能なカップホルダ、前記使い捨て蓋および前記再使用可能な外蓋の少なくとも１つが、帯電防止材料から形成されており、帯電防止材料が静電気を散逸させ、前記使い捨てカップ内の帯電性粒子が前記使い捨てカップに付着せず、該流体供給装置から前記帯電性粒子を有した材料を供給する間、前記使い捨てカップ内で前記帯電性粒子を有した材料の均一性が維持されるようにした流体供給装置。
【請求項３】
供給の間、コーティング材混合物の均一性を保持する方法において、
再使用可能なカップホルダと、開口部を有した外蓋とを準備し、該再使用可能なカップホルダは前記外蓋に嵌合するようになっており、
使い捨てカップを準備し、前記使い捨てカップは前記再使用可能なカップホルダに装着され、前記使い捨てカップは、内部を画成する、側壁、開いた出口端および閉じた底部を具備し、前記使い捨てカップは帯電防止導電性ナノファイバを含んだ重合体材料から成り、
帯電性粒子を含んだコーティング材混合物を前記使い捨てカップに満たし、
前記使い捨てカップを再使用可能なカップホルダ内に配置し、
前記外蓋を前記再使用可能なカップホルダに取付、前記使い捨てカップを前記再使用可能なカップホルダと前記外蓋内に密封し、
前記蓋の開口を噴霧ガンに連結し、
前記コーティング材混合物を供給し、
前記コーティング材混合物を供給する間、使い捨てライナーが潰れるようにし、
コーティング材混合物に含まれる帯電性粒子が前記使い捨てカップに付着せず、以て、該コーティング材混合物が供給される間、該コーティング材混合物の均一性が維持されるようにしたコーティング材混合物の均一性を保持するようにした方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月7日(2010.1.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
起立部分、陥凹部分又はこれらの組み合わせを含むマイクロパターン化表面を有する基材上に高疎水性又は超疎水性表面を提供するために十分な量の、結合剤及び疎水性マイクロ粒子、疎水性ナノ粒子、又はこれらの混合物を含む液体組成物を付着する工程と、
前記液体組成物を乾燥又は別の方法で硬化する工程と、を含み、
前記乾燥した又は硬化した組成物が、前記マイクロパターン化表面の突出形状により遮断された不連続コーティングを形成する、高疎水性又は超疎水性表面の形成方法。
【請求項２】
起立部分、陥凹部分又はこれらの組み合わせを含むマイクロパターン化表面を有する基材と；少なくとも起立部分間又は陥凹部分内の一部に位置し、結合剤及び疎水性マイクロ粒子、疎水性ナノ粒子、又はこれらの混合物を含む前記基材上のコーティング組成物とを高疎水性又は超疎水性表面を提供するために十分な量で含む物品。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月21日(2010.6.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一つの減少区画室及び少なくとも一つの濃縮区画室を有する電気脱イオン装置であって、
少なくとも一つの濃縮区画室が、アニオン交換媒体からなる第一の濃縮層及びアニオン交換媒体とカチオン交換媒体との混合物を含有してなる第二の濃縮層を備え、
前記第二の濃縮層が第一の濃縮層の下流に配置されている
電気脱イオン装置。
【請求項２】
少なくとも一つの減少区画室が、アニオン交換媒体からなる第一の減少層及びアニオン交換媒体とカチオン交換媒体との混合物を含有してなる第二の減少層を備え、
前記第二の減少層が第一の減少層の下流に配置されている
請求項１に記載の電気脱イオン装置。
【請求項３】
互いに隣接した区画にある、アニオン交換媒体からなる層及びアニオン交換媒体とカチオン交換媒体との混合物を含有してなる層が、完全には一列に並べられていない
請求項２に記載の電気脱イオン装置。
【請求項４】
減少区画室及び濃縮区画室を有する電気脱イオン装置中で水を処理する方法であって、
処理すべき水を前記電気脱イオン装置の前記減少区画室中に導入すること；及び
前記電気脱イオン装置の前記減少区画室から前記濃縮区画室の中への、望ましくない化学種の輸送を促進させる（ここで、前記濃縮区画室は、アニオン交換媒体からなる第一の層及び第一の層の下流に配置された第二の媒体の層を備え、前記第二の層はアニオン交換媒体とカチオン交換媒体との混合物を含有してなるものである。）；
ことを含んでなる、
水を処理する方法。
【請求項５】
処理すべき水を、電気脱イオン装置の、少なくとも１層のイオン交換媒体を有する、減少区画室の中に導入すること；及び
イオン交換媒体の第一の層から前記減少区画室に導入された水からのアニオン性化学種の少なくとも一部の、第一の濃縮区画室の中への輸送を促進して、第一の中間的品質を有する水を製造する（ここで、前記第一の濃縮区画室は、アニオン選択性膜及びカチオン選択性膜によって少なくとも部分的に画定されており、前記第一の濃縮区画室は、アニオン交換媒体を含有してなる第二のゾーンによって前記アニオン選択性膜から実質的に分離されているカチオン交換媒体を含有してなる第一のゾーンを、少なくとも部分的に含むものである。）ことを、
含んでなる、
水を処理する方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
本発明は、これらに限定される訳ではないが、米国特許第４，６３２，７４５号明細書、第６，６４９，０３７号明細書、第６，８２４，６６２号明細書及び第７，０８３，７３３号明細書に開示されているような、充填区画室電気脱イオン（ＣＥＤＩ）装置のような電気駆動式の分離装置を提供する。特に、本発明の一以上の側面を実施する実施態様は、ある場合には、スケールの生成能が低いか、又はスケールを生成しにくいことで特徴付けられる。本発明の各種の側面を、電気脱イオン装置を含む実施態様を通じて提示するが、本発明のそのような各種の側面は、他の電気駆動又は誘導の分離装置で実施して、少なくとも１種の望ましくない化学種を有する流体の処理を促進することができる。本発明の特に適切な側面は、水流や水体（ｗａｔｅｒ  ｂｏｄｙ）から、少なくとも１種の溶解化学種を処理又は除去するために使用される電気脱イオン装置に関する。従って、本発明の各種の側面は、有利なことには、スケールを形成する可能性が高い水を処理するために構成され又は運転される電気脱イオン装置を提供することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
硬度物質及びシリカのような、供給水中で限定された溶解性を有する化学種のスケール形成を防止するためには、電気脱イオン装置は、９０〜９５％の最大回収率に制限するのがよい。供給水がこれらの化学種を極めて低い量しか含んでいない場合には、装置をより高い回収率で運転することが当然可能である。本発明のいくつかの側面では、濃縮区画室を通るマルチパスを有する電気脱イオン装置が含まれていて、それによって回収率を稼いでいる。多重パスの構成とすることによって、再循環ポンプやループなしでも所定の速度が容易に維持できる。しかしながら、本発明では、供給水のイオン濃度が低く、高純度水の廃棄若しくは排出及び／又はメークアップシステムの運転時間の増加を避けるために回収率を極めて高くすることが望ましいような場合には、再循環ループを有する適用法で使用するのが好ましい。本発明の電気脱イオン装置のいくつかの実施態様においては、流体の流速は、区画室の内部におけるデッドボリューム、チャンネリング、及び局所的な過熱の可能性の発生を抑制するのに、十分である。例えば、区画室における所望の流体流速は、濃縮区画室においては、１平方フィート当たり、少なくとも約２ガロン／分（１平方メートル当たり１６２．８リットル／分）とすることができる。他の流体流速は、これらに限定される訳ではないが、沈殿化合物の成分の濃度、流体の温度、流体のｐＨを始めとする、他の因子によって決められてもよい。速度が低くなると、チャンネリングを引き起こす可能性がある。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９１】
本明細書で使用するとき、「複数（ｐｌｕｒａｌｉｔｙ）」という用語は、二つ以上の項目又は成分を指している。「含有してなる、備えてなる（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」、「含む、始めとする（ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ）」、「有する（ｃａｒｒｙｉｎｇ）」、「有する（ｈａｖｉｎｇ）」、「含む（ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ）」、「含む、関する（ｉｎｖｏｌｖｉｎｇ）」いう用語は、明細書、特許請求項等のいずこであっても、オープンエンド用語である、即ち「〜を含むが、それらに限定される訳ではない」ということを意味している。従って、そのような用語を使用していれば、その後に列記されている項目と、その等価物と、更には追加の項目も包含されているということを意味している。「〜からなる（ｃｏｎｓｉｓｔｉｎｇ  ｏｆ）、及び、〜から実質的になる（ｃｏｎｓｉｓｔｉｎｇ  ｅｓｓｅｎｔｉａｌｌｙ  ｏｆ）」という移行句のみは、特許請求項に関しては、それぞれクローズド又はセミクローズドな移行句である。特許請求項において請求要素を修飾する、序数詞、例えば「第一の（ｆｉｒｓｔ）」、「第二の（ｓｅｃｏｎｄ）」、「第三の（ｔｈｉｒｄ）」等の用語は、それ自体で、いかなる一つの請求項要素も、他のものに対して優先し、先行し、又は順序があるとか、一つの方法の動作が実施される暫定的な順序があるとかということを意味している訳ではなく、複数の請求要素を区別する目的で、ある名前を有する一つの請求要素を、（序数詞がなかったならば）同じ名前を持つ他の要素から区別するための標識として単に使用されているに過ぎない。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月11日(2010.6.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フィルタボウルと、
フィルタボウル内に収容されるフィルタ膜と、
少なくとも１つの入口コネクタおよび少なくとも１つの出口コネクタを備えるヘッド区画と、
フィルタ膜によって取り囲まれるフィルタコアとを備え、フィルタコアの外側表面とフィルタボウルの内側表面がフィルタ膜ときつい嵌合を形成し、フィルタコアが少なくとも１つの横断孔を備え、少なくとも１つの横断孔の各横断孔がフィルタコアを直径で横切って延びかつその端部の両方でフィルタ膜と流体連通するために開口しており、少なくとも１つの横断孔の各横断孔が等価流体流れ直径を有し、フィルタコアの外側表面が、前記少なくとも１つの横断孔を介す以外はフィルタコアの内部コア容積とのフィルタ膜の流体連通を許さず、
フィルタ装置が複数の液体経路と流体連通しており、複数の液体経路のうちの少なくとも１つの経路が、複数の液体経路のうちで最小の等価流体流れ直径を有し、かつ
少なくとも１つの横断孔の等価流体流れ直径の合計が、複数の液体経路のうちの最小の等価流体流れ直径にほぼ等しい、液体濾過用のフィルタ装置。
【請求項２】
フィルタ膜の底部キャップをさらに備え、底部キャップがフィルタ膜を支持し、フィルタコア、底部キャップ、およびフィルタボウルが単一の構造体に形成される、請求項１に記載のフィルタ装置。
【請求項３】
フィルタボウルが、フィルタボウルの内側内にかつフィルタボウルの内側に沿った、かつヘッド区画から反対側のフィルタ装置の端部にあるフィルタボウルの内側表面と流体連通する流体流路を備え、この流体流路が、ヘッド区画内に開口するフィルタ装置の頂部キャップからヘッド区画から反対側のフィルタ装置の端部にあるフィルタボウルの内側表面までフィルタボウルの内側に沿ってある距離延び、かつその距離に沿って流体を案内する、請求項１に記載のフィルタ装置。
【請求項４】
流体流路が変動する横断面面積を有する、請求項３に記載のフィルタ装置。
【請求項５】
流体流路の横断面面積が、ヘッド区画から反対側のフィルタ装置の端部にあるフィルタボウルの内側表面の最も近くで最小に達する、請求項４に記載のフィルタ装置。
【請求項６】
フィルタコアの外側表面が溝なしである、請求項１に記載のフィルタ装置。
【請求項７】
フィルタボウルと、
フィルタボウル内に収容されるフィルタ膜と、
少なくとも１つの入口コネクタおよび少なくとも１つの出口コネクタを備えるヘッド区画と、
フィルタ膜によって取り囲まれるフィルタコアとを備え、フィルタコアの外側表面とフィルタボウルの内側表面がフィルタ膜ときつい嵌合を形成し、フィルタコアが少なくとも１つの横断孔を備え、少なくとも１つの横断孔の各横断孔がフィルタコアの直径を横切って延びかつその端部の両方でフィルタ膜と流体連通するために開口しており、フィルタコアの外側表面が、前記少なくとも１つの横断孔を介す以外はフィルタコアの内部コア容積とのフィルタ膜の流体連通を許さず、
少なくとも１つの横断孔のうちの一横断孔が、ヘッド区画に最も近いフィルタコアの表面の所に、または表面に近接して配置され、かつ少なくとも１つの出口コネクタと流体連通する、液体濾過用のフィルタ装置。
【請求項８】
少なくとも１つの横断孔の各横断孔が等価流体流れ直径を有し、
フィルタ装置が複数の液体経路と流体連通し、複数の液体経路のうちの少なくとも１つの経路が複数の液体経路のうちの最小の等価流体流れ直径を有し、
少なくとも１つの横断孔の等価流体流れ直径の合計が複数の液体経路のうちの最小の等価流体流れ直径にほぼ等しい、請求項７に記載のフィルタ装置。
【請求項９】
フィルタコアが出口コネクタと流体連通する内部流体経路を備え、かつ内部流体経路がフィルタ装置と流体連通する複数の液体経路のうちの最小の等価流体流れ直径にほぼ等しい等価流体流れ直径を有する、請求項７に記載のフィルタ装置。
【請求項１０】
内部流体経路が変動する横断面直径のものである、請求項９に記載のフィルタ装置。
【請求項１１】
フィルタ膜を頂部キャップに接合できる高められた温度までフィルタ装置の頂部キャップを加熱するステップと、
フィルタ装置の内部流れ通路内に固定装置を挿入するステップと、
高められた温度でフィルタ膜を頂部キャップに接合するステップと、
頂部キャップが高められた温度より下に冷却した後、固定装置を取り外すステップとを含む、フィルタ装置を製造する方法であって、
製造されたときフィルタ装置が、
フィルタボウルと、
フィルタボウル内に収容されるフィルタ膜と、
少なくとも１つの入口コネクタおよび少なくとも１つの出口コネクタを備えるヘッド区画と、
フィルタ膜によって取り囲まれるフィルタコアとを備え、フィルタコアの外側表面とフィルタボウルの内側表面がフィルタ膜に接触し、フィルタコアが少なくとも１つの横断孔を備え、少なくとも１つの横断孔の各横断孔がフィルタコアを直径で横切って延びかつその端部の両方でフィルタ膜と流体連通するために開口しており、
少なくとも１つの横断孔のうちの一横断孔が、ヘッド区画に最も近いフィルタコアの表面の所に、または表面に近接して配置され、かつ少なくとも１つの出口コネクタと流体連通する、フィルタ装置を製造する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月10日(2010.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フッ素化触媒の高圧活性化方法であって、
触媒前駆体化合物を、熱と不活性ガス流の組み合わせに暴露することで乾燥させ、乾燥触媒前駆体化合物を形成するステップ；
並びに、
単一の触媒活性化ステップにおいて、約１００ｐｓｉｇよりも高い圧力で、約１００℃よりも高い温度で、定常状態となるのに十分な時間、前記乾燥触媒前駆体化合物を活性化剤に暴露するステップ、
を含む方法。
【請求項２】
前記触媒前駆体化合物が、金属の酸化物、ハロゲン化物、硝酸塩、及び、硫酸塩からなる群から選択され、金属がアルミニウム、コバルト、マンガン、鉄、亜鉛、クロム、及び、それらの混合物から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記触媒前駆体が担持されている、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記触媒前駆体が担持されていない、請求項２に記載の方法。
【請求項５】
前記触媒前駆体が、亜鉛、ニッケル、コバルト、マンガン、マグネシウム、及びそれらの混合物からなる群から選択される活性促進剤をさらに含む、請求項２に記載の方法。
【請求項６】
前記乾燥を大気圧〜４００ｐｓｉｇで行う、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記乾燥を室温〜約４００℃で行う、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記活性化ステップを約２００〜約４００ｐｓｉｇで行う、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記活性化剤がフッ化水素である、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記活性化剤がさらに不活性キャリアガスを含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記不活性キャリアガスが、窒素、ヘリウム、アルゴン、及び、それらの混合物からなる群から選択される、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
キャリアガスに対する活性化剤の割合が約１〜２０モル％である、請求項１１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月11日(2010.6.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像を形成又は印刷するよう意図された、支持体及び少なくとも１つの親水性バインダーベースの層を含む材料であって、前記親水性バインダーベースの層のうち少なくとも１つにおいて、熱感受性ポリマー又はコポリマー上に存在する錯形成剤を用いた錯体形成により前記親水性バインダーがゲル化され、前記熱感受性ポリマー又はコポリマーが、前記錯形成剤を保護するために、前記熱感受性ポリマー又はコポリマーの下部臨界溶解温度ＬＣＳＴよりも高い温度で疎水性であり、さらに、前記錯形成剤を利用可能にするために前記ＬＣＳＴよりも低い温度で水溶性であり、前記熱感受性（コ）ポリマーのＬＣＳＴは前記親水性バインダーのゲル化温度よりも高くあることを特徴とする、材料。
【請求項２】
前記錯形成剤が熱感受性コポリマー上にグラフトされ、該熱感受性コポリマーが、モノマーとして一般式がＣＨ２＝ＣＲＣ＝ＯＮＲ１Ｒ２というＮ−アルキルアクリルアミドを本質的に含有し、式中、ＲはＨ若しくはＣＨ３でありえ、Ｒ１、Ｒ２は同じ若しくは異なり、アルキル基（直鎖若しくは分岐鎖）又はアリル基（置換若しくは未置換）に相当することができ、前記熱感受性コポリマーが、該コポリマー上に前記錯形成剤をグラフトするために前記錯形成剤と反応することができるグラフト単位を含んだモノマーで共重合されることを特徴とする、請求項１に記載の材料。
【請求項３】
画像を形成又は印刷するように意図され、支持体及び少なくとも１つの親水性バインダーベースの層を含んだ材料の製造方法であって：
（i）                   
前記親水性バインダーの錯形成剤を含んだ熱感受性ポリマー又はコポリマーを調製するステップであって、前記熱感受性ポリマー又はコポリマーが、前記錯形成剤を保護するために、前記熱感受性ポリマー又はコポリマーの下部臨界溶解温度ＬＣＳＴよりも高い温度で疎水性であり、さらに、前記錯形成剤を利用可能にするために、前記ＬＣＳＴよりも低い温度で水溶性である、ステップ、
（ii）                 
前記ＬＣＳＴよりも高い温度で、前記熱感受性（コ）ポリマーを前記親水性バインダーと混合するステップ、
（iii）               
前記ＬＣＳＴよりも高い温度で、少なくとも１つの、前記ステップ（ｉｉ）により得られた混合物の層で前記支持体を被覆するステップ、並びに、
（iv）               
前記ステップ（ｉｉｉ）において得られた前記層を前記ＬＣＳＴよりも低い温度に曝露させて、錯形成により前記親水性バインダーをゲル化するために前記錯形成剤を利用可能にするステップ
を含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月31日(2010.5.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
テープ形態で２つの層の軸外れ複合プレプレグ材料を製造する装置において、
第１のロールスタンド上の裏紙のロールと、
裏紙を広げ、少なくとも２つのマンドレルスタンド上に支持されている円筒形のマンドレルの周囲に裏紙を巻き付けるように構成されている少なくとも１つの紙ガイドと、
マンドレルとは独立して支持され相互に反対方向でマンドレル周囲で同軸的に回転するように設計されている少なくとも２つの適用ホイールと、
マンドレル周囲に巻き付けられたプレプレグ管を成形するためにプレプレグ材料を裏紙に圧縮し加圧する圧縮コンポーネントと、
プレプレグ管を切断するための切断コンポーネントと、
裏紙と複合プレプレグから成形されるテープ形態である実質上平坦な２つの層の軸外れ複合プレプレグ出力材料を形成するために切断プレプレグ管を開いて平坦に載置するためのオープナーコンポーネントとを具備し、
各ホイール内には紙剥離ロールと、プレプレグ材料を有する少なくとも１つの複合プレプレグ供給ロールが取付けられ、紙剥離ロールとプレプレグ供給ロールはマンドレルの中心線から法線ベクトルに関して軸外れであるそれぞれの軸上に存在し、さらに各ホイールはプレプレグ供給ロールからテープ層をマンドレルの周囲に螺旋の配向で裏紙上に同時に載置するように設計され、
テープは第２のロールスタンド上に取付けられた出力ロールを成形するため周囲に巻き付けられる装置。
【請求項２】
円筒形のマンドレルの周囲に裏紙が長さ方向に巻き付けられている、請求項１記載の装置。
【請求項３】
さらにプレプレグを軟化するように加熱するためにプレプレグ供給ロールの近くにヒーターコンポーネントを具備している請求項１または２に記載の装置。
【請求項４】
さらに、出力ロールの周囲に巻かれる前に、複合プレプレグテープを圧縮し加圧する第２の圧縮コンポーネントを具備している請求項１ないし３のいずれか１項に記載の装置。
【請求項５】
テープ形態で２つの層の軸外れ複合プレプレグ材料を製造する方法において、
第１のロールスタンド上に取付けられた裏紙のロールを広げ、少なくとも２つのマンドレルスタンド上に支持された円筒形のマンドレルの周囲に裏紙を巻き付け、
相互に反対方向でマンドレルの周囲で少なくとも２つの適用ホイールを同軸的に回転させ、各ホイール内には紙剥離ロールと、プレプレグ材料を有する少なくとも１つの複合プレプレグ供給ロールが取付けられ、紙剥離ロールとプレプレグ供給ロールはマンドレルの中心線から法線ベクトルに関して軸外れであるそれぞれの軸上に存在し、さらに各ホイールはプレプレグ供給ロールからテープ層をマンドレル周囲に螺旋の配向で裏紙上に同時に載置し、
マンドレル周囲に巻き付けられるプレプレグ管を成形するために圧縮コンポーネントによってプレプレグ材料を裏紙に圧縮し加圧し、
切断コンポーネントによりプレプレグ管を切断し、
裏紙と複合プレプレグから成形されたテープ形態である実質上平坦な２つの層の軸外れ複合プレプレグ材料を形成するためにオープナーコンポーネントにより切断プレプレグ管を開いて平坦に載置し、
第２のロールスタンド上に取付けられる出力ロールを形成するため周囲に複合プレプレグテープを巻き付けるステップを含んでいる方法。
【請求項６】
円筒形のマンドレルの周囲に裏紙を巻き付ける際、長さ方向に巻き付ける、請求項５記載の方法。
【請求項７】
さらに前記圧縮ステップの前に、プレプレグを軟化するように第１のヒーターコンポーネントにより加熱するステップを含んでいる請求項５または６に記載の方法。
【請求項８】
さらに、前記切断ステップの前に、プレプレグを軟化するように第２のヒーターコンポーネントにより加熱するステップを含んでいる請求項５ないし７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
さらに、前記複合プレプレグテープの巻き付けステップの前に、複合プレプレグを圧縮し加圧するステップを含んでいる請求項５ないし８のいずれか１項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月25日(2010.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記アノード基板及び／又はアノード機能層が、フィルムキャスティング又はホットプレスもしくはコールドプレスで製造される、請求項１に記載のアノードの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
前記第１の相と前記第２の相の比率が８０：２０体積％〜５０：５０体積％、特に７０：３０体積％〜６０：４０体積％に調整される、請求項１又は２のいずれかに記載のアノードの製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
前記セラミック構造体の前記焼結するステップ後に初めて、触媒を該セラミック構造体に浸透させる、請求項１から３のいずれかに記載のアノードの製造方法。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
例えば、置換された二酸化セリウムは、燃料ガス雰囲気中で、即ち、酸素分圧１０−１５＞ｐ（Ｏ２）＞１０−２２のとき、完全に安定ではない。結晶格子中のＣｅ＋４イオンは、部分的にＣｅ＋３イオンに還元され、それによって２つの特性変化が起こる。一つは、還元反応によって自由電子が生成し、従って電子伝導率がより高くなることであり、もう一つは、セリウムイオンの還元は、明らかな体積膨張を伴うことである。非特許文献１から既知であるように、Ｃｅ＋４イオンのイオン半径は９．７ｐｍ、Ｃｅ＋３イオンのイオン半径は１１．４３ｐｍ［１］である。Ｃｅ０．８Ｇｄ０．２Ｏ１．９のような材料は、Ａｒ／４％Ｈ２／３％Ｈ２Ｏからなる雰囲気中、８００℃で０．１７％膨張するため、アノード基板として一般に適していない。このような長さの拡張又は体積膨張の傾向は、ＬａＣｒＯ３、ＬａＭｎＯ３又はＬａＦｅＯ３のようなペロブスカイトでも観察することができ、この場合も（Ｃｒ，Ｍｎ，Ｆｅ）４＋から（Ｃｒ，Ｍｎ，Ｆｅ）３＋への還元反応が存在する。
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月14日(2010.1.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
請求項1ないし８のいずれか1つに記載の一次側部品（１）用の接続モジュール。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１０】
請求項1ないし８のいずれか1つに記載の一次側部品（１）を有するリニアモータ。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月26日(2010.5.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スパーク点火式内燃機関用のスパークプラグであって、前記スパークプラグは、
上方の端子端部、下方のノーズ端部、および前記端子端部とノーズ端部との間で長手方向に延びる中央通路を有する細長いセラミック絶縁体を備え、
前記絶縁体は、前記端子端部に近接する略円形の大肩部と、前記ノーズ端部に近接する略円形の小肩部とを呈する外面を含み、前記大肩部は前記小肩部の直径よりも大きい直径を有しており、前記絶縁体はさらに、前記大肩部および小肩部の異なる直径間に面取りされた移行部を含み、前記スパークプラグはさらに、
前記絶縁体の少なくとも一部を包囲する導電性のシェルを備え、前記シェルは少なくとも１つの接地電極を含んでおり、前記スパークプラグはさらに、
前記中央通路に部分的に配置され、露出した上部ポストから前記中央通路内に埋込まれた底端まで長手方向に延びる導電性の端子スタッドと、
前記中央通路に部分的に配置され、前記中央通路内に収容されたヘッドと前記接地電極に近接する露出したスパーキングチップとの間で長手方向に延びる導電性の中心電極とを備え、前記ヘッドは前記中央通路内で前記端子スタッドの前記底端から長手方向に間隔を置かれており、前記スパークプラグはさらに、
前記中央通路に配置され、前記端子スタッドの前記底端を前記中心電極の前記ヘッドと電気的に接続してそれらの間に電気を通しつつ、前記中央通路を密封して前記スパークプラグからの無線周波数ノイズ放射を抑制する抑制器シールパックを備え、前記抑制器シールパックは、前記端子スタッドの前記底端にある第１の断面積と、前記中心電極の前記ヘッドにある第２の断面積とを有しており、前記第１の断面積は前記第２の断面積よりも大きく、
前記抑制器シールパックは、大きい方の前記第１の断面積から小さい方の前記第２の断面積へと漸進的に移行するための減少テーパを含み、前記減少テーパは、その最高限度が前記端子スタッドの前記底端によって限られ、その最低限度が前記面取りされた移行部によって限られた領域内に長手方向に配置されている、スパークプラグ。
【請求項２】
前記シェルは、前記絶縁体を前記大肩部と前記小肩部との間で圧縮された状態で配置するために、前記絶縁体の前記大肩部および小肩部とそれぞれ押圧接触する上方圧縮フランジおよび下方圧縮フランジを含む、請求項１に記載のスパークプラグ。
【請求項３】
前記減少テーパは、垂直な基準線に対して６０°以上傾斜した略円錐形の側壁を有する、請求項１に記載のスパークプラグ。
【請求項４】
前記減少テーパは、前記大肩部と前記面取りされた移行部との間に長手方向に配置されている、請求項３に記載のスパークプラグ。
【請求項５】
前記抑制器シールパックは、前記端子スタッドの前記底端および前記中心電極の前記ヘッドとそれぞれ接触する上方導電性ガラス端部および下方導電性ガラス端部を含む、請求項１に記載のスパークプラグ。
【請求項６】
前記抑制器シールパックは、前記面取りされた移行部と前記小肩部との間に長手方向に配置される基底を有する、請求項１に記載のスパークプラグ。
【請求項７】
前記中央通路は、前記中心電極の前記ヘッドを載置するための内部棚部を含む、請求項１に記載のスパークプラグ。
【請求項８】
前記棚部は、前記小肩部と前記面取りされた移行部との間に長手方向に配置されている、請求項７に記載のスパークプラグ。
【請求項９】
前記中心電極の前記ヘッドは、０．０４０″〜０．０７０″の範囲の長手方向ヘッド厚さを規定する略円筒形の外壁を有する、請求項１に記載のスパークプラグ。
【請求項１０】
前記中心電極は、その前記ヘッドと前記スパーキングチップとの間に延びる一体型の単一構造を備える、請求項１に記載のスパークプラグ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
導電性の中心電極６０は、中央通路２８に部分的に配置されており、下方のガラスシール層５８に収容されたヘッド６２と、接地電極３２に近接する露出したスパーキングチップ６４との間で長手方向に延びている。このため、中心電極６０のヘッド６２は、中央通路２８内で、端子スタッド４６の底端５０から長手方向に間隔を置かれている。抑制器シールパック５４は、端子スタッド４６と中心電極６０とを電気的に相互接続しつつ、同時に、中央通路２８を燃焼ガス漏れから密封し、また、スパークプラグ１０からの無線周波数ノイズ放射を抑制する。図示されているように、中心電極６０は好ましくは、ガラスシール５８に埋込まれたそのヘッド６２と、接地電極に対向するそのスパーキングチップとの間で途切れずに連続的に延びる一体型の単一構造である。スパーキングチップ６４には、サービス寿命を高めることが公知の貴金属の端部が装着されてもされなくてもよい。この発明の一利点は、類似する先行技術の設計で要求されるように中心電極６０全体を均質な貴金属で作る必要がない、ということである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
ヘッド隙間ＨＣは、ヘッド６２の円筒形の外壁と中央通路２８の包囲部分との間の半径方向隙間空間として定義され得る。典型的には、ヘッド隙間ＨＣは、図２Ｄに示すような高温プレス動作中の下方ガラスシール層５８の良好な流れおよび充填を促進するよう寸法決めされるであろう。好ましい実施例では、ヘッド隙間ＨＣは少なくとも０．００５インチである。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月10日(2010.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
次のものを含む、ガスケットを有する７−層ＭＥＡ集合体：
−  次の式：
（Ａ−Ｂ）×１００／Ｂ
により決定される、ｘ方向で８％より低い寸法変動を有するイオノマー膜（３）のフィルム：
（ここで、
−  Ｂは、真空下に１時間１０５℃で乾燥し、３０mbarより低い残留圧力下で乾燥した後の、ｘ方向における膜の長さであり；
−  Ａは、蒸留水中、１００℃で３０分間処理した後の、ｘ方向の膜の長さである）；
−  一方の表面上に電気触媒層を有する多孔質材料の、２つのＧＤＬシート（１）および（２）：
[ここで、
−  膜（３）の表面と同じ面積を有する第１のシート（１）；
−  ｘ方向で測定したとき、膜のフィルム（３）の長さと同じ長さおよびより狭い幅を有し、ｘ方向に平行な膜（３）の２つのストリップが覆われていない第２のシート（２）；−  電気触媒層が２つの膜表面のそれぞれに接触するように配置された２つのシート（１）および（２）]；
−  ２つのＧＤＬの周辺部に沿って少なくとも１mm（５）、（６）に浸透するように、フレームの形状に従い、集合体の周辺部に沿って配置され、ｘ方向に平行な膜（３）の２つの覆われていないストリップを覆うガスケット（４）。
【請求項２】
ＧＤＬシート（１）および（２）が、次の層：
−  疎水性を有し、好ましくは炭素粉末およびＰＴＦＥの混合物で形成されているガス・マイクロ拡散層；
−  疎水性を有し、好ましくはＰＴＦＥで処理された炭素繊維またはカーボン・ティシュで形成されているガス・マクロ拡散層
で形成されている、請求項１に記載の集合体。
【請求項３】
第２のＧＤＬ（２）シートを有する側の、膜の各ストリップの幅が、０．５mm〜１０mm、好ましくは１mm〜５mmである、請求項１または２に記載の集合体。
【請求項４】
膜および電気触媒層が、３８０g／eq〜１６００g／eqの当量を有し、−ＳＯ3Ｈ酸または塩化された形態のスルホン酸基および／または−ＣＯＯＨ酸基を有する（パー）フッ素化イオノマーを用いることにより得られ、該イオノマーが、
（Ａ）少なくとも１つのエチレン不飽和を含む１つ以上のフッ素化モノマーから誘導されるモノマー単位；
（Ｂ）イオノマーが上記範囲の当量を有するような量で、−ＳＯ2Ｆスルホニル基を含むフッ素化モノマー単位、および／または加水分解により−ＣＯＯＨ酸基に変換される前駆体基を含むモノマー（Ｂ'）
を含む、請求項１〜３のいずれか一つに記載の集合体。
【請求項５】
膜および電気触媒層が、次の：
−  ＴＦＥから誘導されるモノマー単位；
−  ＣＦ2＝ＣＦ−Ｏ−ＣＦ2ＣＦ2ＳＯ2Ｆから誘導されるモノマー単位
を含むイオノマーから得られるパーフッ素化イオノマーを含む、請求項４に記載の集合体。
【請求項６】
ガスケットが、シリコン、フルオロシリコン、フルオロエラストマー、ＥＰＤＭ、熱可塑性エラストマーから選択されるポリマーで形成された、請求項１〜５のいずれか一つに記載の集合体。
【請求項７】
膜とガスケットとの間の接触が、次のゾーン：
−  膜（３）の周辺部に沿って、膜の厚さと同じ厚さ；
−  第２のＧＤＬ（２）シートが適用され、ＧＤＬ（２）により覆われていない膜のストリップに対応する集合体の表面上
で行われる、請求項１〜６のいずれか一つに記載の集合体。
【請求項８】
次の工程を含む、請求項１〜７のいずれか一つに記載のガスケットを有する７−層ＭＥＡ集合体の製造方法：
１）次のものを組み立てることによる７−層ＭＥＡ集合体ロールの取得：
−  ｘ方向に対応する組立方向で、８％より低い寸法変動を有する膜（３）のフィルムと、
−  １つの表面上に電気触媒層をそれぞれ有する２つのＧＤＬシート（１）および（２）：
（ここで、
−  第１のシートＧＤＬ（１）は、膜（３）のフィルムと同じ長さおよび幅を有し；
−  第２のシートＧＤＬ（２）は、膜（３）のフィルムより幅は狭いが、ｘ方向で同じ長さを有する）；
｛ここで、２つのシートＧＤＬ（１）および（２）は、電気触媒層が膜の２つの各表面とそれぞれ接触するように配置され、
−  第１のシートＧＤＬ（１）は、膜（３）の一方の表面と同面積であり；
−  第２のシ−トＧＤＬ（２）は、組立方向すなわちｘ軸に平行なＧＤＬの縁が、膜（３）の２つのストリップを覆わないように残して、膜（３）の縁に対して内側となるように、膜（３）の他方の表面上に配置される｝；
２）１）で得られるロールが、要求されるフォーマットで組立方向に垂直に切断される；３）２）で得られるフォーマットに１つのガスケットを適用する。
【請求項９】
膜（３）のフィルムが、膜のＸ方向に一致する方向へのイオノマーの射出、およびそれに続く加水分解により得られる、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
工程１）での組立が、２つのロール間でのカレンダリングもしくはホットラミネーションにより、またはフィルム（３）上でのフィルム（１）および（２）の熱成形により行われる、請求項８または９に記載の方法。
【請求項１１】
工程１）が２段階で行われ、第１段階でＧＤＬ（１）が膜（３）に適用され、第２段階でＧＤＬ（２）が、フリーな膜表面上に適用される、請求項８〜１０のいずれか一つに記載の方法。
【請求項１２】
工程３）でのガスケットの適用が射出成形により行われる、請求項８〜１１のいずれか一つに記載の方法。
【請求項１３】
電気触媒層が膜のフィルム（３）のそれぞれの側に適用され、シートＧＤＬ（１）および（２）が電気触媒層なしで逐次的に適用される、請求項８〜１２のいずれか一つに記載の方法。
【請求項１４】
請求項１〜７のいずれかに記載の集合体を含む電気化学デバイス、特に燃料電池。
【請求項１５】
電気化学デバイス、特に燃料電池における、請求項１〜７のいずれか一つに記載の集合体の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月8日(2010.6.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ｉ）触媒粒子と、（ｉｉ）−ＳＯ２Ｆ形の少なくとも１種の（ペル）フルオロスルホニルフルオリドポリマーからなるポリマー粒子と、（ｉｉｉ）水性懸濁媒体と、を含む触媒−ポリマー液状分散体（ＬＤ）。
【請求項２】
前記（ペル）フルオロスルホニルフルオリドポリマーが、（Ａ）−ＳＯ２Ｆ基を含まない少なくとも１種のエチレン性不飽和（ペル）フルオロモノマーと、（Ｂ）少なくとも１個の−ＳＯ２Ｆ基を含む少なくとも１種の（ペル）フルオロビニルエーテルと、から誘導される反復モノマー単位を含む、請求項１に記載の触媒−ポリマー液状分散体（ＬＤ）。
【請求項３】
（Ｂ）が、式Ｆ２Ｃ＝ＣＦ−Ｏ−ＣＦ２−ＣＦ２−ＳＯ２Ｆを有するスルホニルフルオリドペルフルオロビニルエーテルである、請求項２に記載の触媒−ポリマー液状分散体（ＬＤ）。
【請求項４】
前記ポリマー粒子が少なくとも約１０ｎｍのサイズを有し、且つ、約３００ｎｍ以下のサイズを有する水性ラテックスの粒子である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の触媒−ポリマー液状分散体（ＬＤ）。
【請求項５】
前記水性懸濁媒体が前記ラテックスの液状懸濁媒体を含む、請求項４に記載の触媒−ポリマー液状分散体（ＬＤ）。
【請求項６】
前記ラテックスの液状懸濁媒体を実質的に含まない、請求項４に記載の触媒−ポリマー液状分散体（ＬＤ）。
【請求項７】
少なくとも１種の粘度調整剤をさらに含む、請求項１〜６のいずれか一項に記載の触媒−ポリマー液状分散体（ＬＤ）。
【請求項８】
いかなる有機溶媒をも実質的に含まない、請求項１〜７のいずれか一項に記載の触媒−ポリマー液状分散体（ＬＤ）。
【請求項９】
前記（ｉ）触媒粒子と前記（ｉｉ）ポリマー粒子と前記（ｉｉｉ）水性懸濁媒体との合計重量が、前記液状分散体（ＬＤ）の全重量を基準にして、少なくとも９６重量％である、請求項１〜８のいずれか一項に記載の触媒−ポリマー液状分散体（ＬＤ）。
【請求項１０】
ラテックスの液状懸濁媒体を含む触媒−ポリマー液状分散体（ＬＤ）が得られるようにポリマー粒子の水性ラテックスを触媒粒子の水性懸濁液と混合する工程（ａ）と、前記触媒−ポリマー液状分散体（ＬＤ）の固体成分が単離されるように液体を除去する工程（ｂ）と、場合により前記固体を純水で洗浄する工程（ｃ）と、場合により前記固体を乾燥させかつ場合により平滑粉末が得られるようにそれを粉砕する工程（ｄ）と、前記固体を純水中に分散させる工程（ｅ）と、を含む、請求項６に記載の触媒−ポリマー液状分散体（ＬＤ）を得る方法（Ｍ−ＬＤ）。
【請求項１１】
触媒被覆膜前駆体（ＣＣＭＰ）を得る方法（Ｍ−ＣＣＭＰ）であって、請求項１〜９のいずれか一項に記載の触媒−ポリマー液状分散体（ＬＤ）または請求項１０に記載の方法（Ｍ−ＬＤ）に従って調製された触媒−ポリマー液状分散体（ＬＤ）を膜の表面上に適用する工程（ｊ）であって、前記膜は、−ＳＯ２Ｆ形の少なくとも１種の（ペル）フルオロスルホニルフルオリドポリマーからなるフィルムである工程（ｊ）と；前記膜の表面上に固着するコーティング固体層を含む多層構造体が形成されるように液体を除去する工程（ｊｊ）であって、前記コーティング固体層は、触媒粒子とポリマー粒子とを含み、前記ポリマー粒子は、−ＳＯ２Ｆ形の少なくとも１種の（ペル）フルオロスルホニルフルオリドポリマーからなる工程（ｊｊ）と；場合により前記多層構造体をホットプレスする工程（ｊｊｊ）と；を含む方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の方法（Ｍ−ＣＣＭＰ）により取得可能な触媒被覆膜前駆体（ＣＣＭＰ）。
【請求項１３】
触媒被覆膜（ＣＣＭ）を得る方法（Ｍ−ＣＣＭ）であって、請求項１〜９のいずれか一項に記載の触媒−ポリマー液状分散体（ＬＤ）または請求項１０に記載の方法（Ｍ−ＬＤ）に従って調製された触媒−ポリマー液状分散体（ＬＤ）を膜の表面上に適用する工程（ｊ’）であって、前記膜は、−ＳＯ２Ｆ形、−ＳＯ３Ｈ形、および／または−ＳＯ３Ｍ（Ｍ＝金属）形の少なくとも１種の（ペル）フルオロスルホニルフルオリドポリマーからなるフィルムである工程（ｊ’）と；前記膜の表面上に固着するコーティング固体層を含む多層構造体が形成されるように液体を除去する工程（ｊｊ’）であって、前記コーティング固体層は、触媒粒子とポリマー粒子とを含み、前記ポリマー粒子は、−ＳＯ２Ｆ形の少なくとも１種の（ペル）フルオロスルホニルフルオリドポリマーからなる工程（ｊｊ’）と；場合により前記多層構造体をホットプレスする工程（ｊｊｊ’）と；前記多層構造体中に存在するスルホニル−ＳＯ２Ｆ基をスルホネート−ＳＯ３Ｍ（Ｍ＝金属）基またはスルホン酸−ＳＯ３Ｈ基に変換する工程（ｊｖ’）と；を含む方法（Ｍ−ＣＣＭ）。
【請求項１４】
触媒イオノマーインク（ＣＩＩ）を得る方法（Ｍ−ＣＩＩ）であって、固体成分が単離されるように、請求項１〜９のいずれか一項に記載の触媒−ポリマー液状分散体（ＬＤ）または請求項１０に記載の方法（Ｍ−ＬＤ）に従って調製された触媒−ポリマー液状分散体（ＬＤ）からいかなる液体をも除去する工程（ａ’）であって、前記固体成分は触媒粒子とポリマー粒子とを含む工程（ａ’）と；場合により、前記固体を純水で洗浄し、平滑粉末の形態で前記固体が得られるようにそれを乾燥させて粉砕する工程（ｂ’）と；前記ポリマー粒子のスルホニル−ＳＯ２Ｆ基がスルホネート−ＳＯ３Ｍ（Ｍ＝金属）基に変換されるように前記固体を水性強塩基で処理する工程（ｃ’）と；前記固体を単離するために水性相を除去しかつ前記固体を純水で洗浄する工程（ｄ’）と；スルホネート−ＳＯ３Ｍ（Ｍ＝金属）基がスルホン酸−ＳＯ３Ｈ基に変換されるように前記固体を水性強酸で処理する工程（ｅ’）と；前記固体を単離するために水性相を除去しかつ前記固体を純水で洗浄する工程（ｆ’）と；場合により、平滑粉末が得られるように前記固体を乾燥させて粉砕する工程（ｇ’）と；スラリーが得られるように水性アルコール性液相中に前記固体を分散させる工程（ｈ’）と；を含む方法（Ｍ−ＣＩＩ）。
【請求項１５】
触媒被覆膜（ＣＣＭ−ＣＩＩ）を得る方法（Ｍ−ＣＣＭ−ＣＩＩ）であって、請求項１４に記載の方法（Ｍ−ＣＩＩ）に従って調製された触媒イオノマーインク（ＣＩＩ）を膜の表面上に適用する工程（ｊ’’）であって、前記膜は、−ＳＯ３Ｈ形の少なくとも１種の（ペル）フルオロスルホニルフルオリドポリマーからなるフィルムである工程（ｊ’’）と；前記膜の表面上に固着するコーティング固体層を含む多層構造体が形成されるように液体を除去する工程（ｊｊ’’）であって、前記コーティング固体層は、触媒粒子とポリマー粒子とを含み、前記ポリマー粒子は、−ＳＯ３Ｈ形の少なくとも１種の（ペル）フルオロスルホニルフルオリドポリマーからなる工程（ｊｊ’’）と；場合により前記多層構造体をホットプレスする工程（ｊｊｊ’’）と；を含む方法（Ｍ−ＣＣＭ−ＣＩＩ）。