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　特願２０１６−５００２９４「ターゲット材料の供給および回収のための方法ならびに装置」拒絶査定不服審判事件〔平成２６年１０月　２日国際公開、ＷＯ２０１４／１５８４６４、平成２８年　４月２５日国内公表、特表２０１６−５１２３８１、請求項の数（１）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
第１　手続の概要
　本願は、２０１４年２月１８日（パリ条約による優先権主張外国庁受理２０１３年３月１４日、米国、２０１４年１月９日、米国）を国際出願日とする出願であって、平成２７年９月１５日に手続補正がなされ、平成２９年９月２１日付けで拒絶理由が通知され、同年１１月３０日に意見書が提出されるとともに、手続補正（以下、「補正」という。）がなされたが、平成３０年４月２３日付けで拒絶査定（以下、「原査定」という。）がなされた。
　本件は、これに対して、平成３０年８月２７日に拒絶査定に対する審判請求がなされたものである。
 第２　原査定の概要
　原査定の概要は次のとおりである。
　本願請求項１に係る発明は、以下の引用文献１に記載された発明に基づいて、その発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者（以下、「当業者」という。）が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
引用文献等一覧
１．特表２００８−５３２２２８号公報
第３　本願発明
　本願請求項１に係る発明（以下、「本願発明１」という。）は、補正された特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される発明であり、本願発明１は以下のとおりの発明である。
「【請求項１】
　ＥＵＶ光源の照射領域にターゲット材料を送出するターゲット材料送出システムを備えるＥＵＶ光源ターゲット材料取扱システムであって、
　前記ターゲット材料送出システムは、ターゲット材料リザーバと、前記ターゲット材料リザーバと流体連通する第１部分を有する導管と、前記導管の第２部分と流体連通するノズルと、前記ノズルおよび前記第２部分を、前記ノズルおよび前記第２部分内の前記ターゲット材料の溶融温度よりも低くない第１温度に維持することが可能なヒータと、を備え、
　前記導管は、前記第１部分の温度が前記第１温度を実質的に下回る周囲温度である時、前記第２部分を前記第１温度に維持し得るように温度差を維持することができ、
　前記導管は、前記第１部分と前記第２部分との間にセクションを含み、前記セクションは断熱材から作成されている、ＥＵＶ光源ターゲット材料取扱システム。」
第４　引用文献、引用発明等
　原査定の拒絶の理由に引用された上記引用文献１には、次の事項が記載されている。（下線は、当審が付したものである。）
（１）「【０００９】
　ここで図１を参照すると、ＥＵＶ光源、例えば、本発明の態様によるレーザ生成プラズマＥＵＶ光源２０の広義の全体的概念の概略図が示されている。光源２０は、パルスレーザシステム２２、例えば高出力高パルス繰り返し率で動作する１つ又はそれ以上のガス放電エキシマレーザ又はフッ素分子レーザを含むことができ、例えば、米国特許第６，６２５，１９１号、米国特許第６，５４９，５５１号、米国特許第６，５６７，４５０号に示すような１つ又はそれ以上のＭＯＰＡ構成レーザシステムとすることができる。また、光源２０は、例えば、液体液滴、固体微粒子、又は液体液滴内に含まれる固体微粒子の形態でターゲットを供給するターゲット供給システム２４を含むことができる。
ターゲットは、ターゲット供給システム２４によって、例えばチャンバ２６内部に入り、プラズマ形成部位又は火球の形態として知られる照射部位２８に供給することができ、
ターゲット供給システム２４の実施形態を以下で更に詳細に説明する。
（２）「【００１６】
　本発明の実施形態の態様に従って、出願人らは、例えば材料貯蔵能力を増大させる目的で液滴発生器作動時間を向上させることを提案する。出願人らは、液体錫又は液体リチウムなど、プラズマ原料のターゲット液滴物質の液体金属の溶融貯蔵量を低減するオンデマンド溶融システムを提案する。容積貯蔵要件に加えて、ターゲット液滴形成における利用に向けて貯蔵される大容積の液体金属は、材料を維持するためのシステムとオペレータの相互作用の必要性、ドロス及びスラグの堆積並びにターゲット材料処理及び供給システムにおいて比較的小さな開口部を詰まらせる可能性をも含めて、その容積を液体として維持するための加熱に関する問題、及び当業者には理解されるであろう他の関連する問題を引き起こす。
【００１７】
　一例として、出願人らの譲受人であるＣｙｍｅｒによって試験された試作の錫液滴発生器は、２４，０００／秒の液滴形成速度で約３時間から４時間の有限作動時間を有することが判った。試作発生器の再充填には、冷却、分解、再組付け、再加熱にかなりの量の時間が必要であることが判った。発生器チャンバ容積の増大は、これらの運転効率に関する問題を解決するように働くことができるが、これを行う能力は、例えば上記の他の問題に加えて生じる静水頭によって制限される。静水頭によって滴下が誘起されて、液滴発生器による液滴形成の迅速な遮断を妨げる可能性がある。
【００１８】
　本発明の実施形態の態様に従って、出願人らは、図１と図３（当審註：図２の誤記と認められる。）とに部分概略的か部分横断面にて示すような
バルク材リザーバ１１２を含むターゲット材料処理システム１１０を提案し、これによりオペレータが最短の停止時間と努力でターゲット液滴発生器９２内のリザーバ１１４を再充填することが可能になる。
【００１９】
　
液滴発生器９２リザーバチャンバ１１４は、例えば弁１２０を介して、第２のバルクリザーバチャンバ１１２に結合することができる。
ヒータ１２４でチャンバ１１２、１１４間のパイプ１２２を加熱することによって弁１２０を開いて、
【００２０】
　本発明の実施形態の態様に従って、出願人らは、オペレータの相互作用を最小限に抑える、例えば所要の再充填の頻度を最小限に抑えると同時に、大きすぎるリザーバチャンバ１１２の問題を回避することができるバルクリザーバシステム１１８を提案する。本発明の実施形態の態様に従って、出願人らは、長期間、例えば最大６ヵ月又はそれ以上の間利用して、例えばリチウムを供給し、より頻繁にバルクリザーバ１１２を再充填するという作業からユーザーを解放することができるバルクリザーバシステム１１８を提案する。バルクリザーバ１１２は、例えば、半導体マイクロリソグラフィ製造設備よりも更に制御された環境で例えば製造業者がリチウムを充填し、この設備に移送して、使用中のバルクリザーバシステム１１８と置き換えることによって、例えば汚染物質がないことを意図した環境での汚染を引き起こすユーザー設備内の周囲材料と反応するような、加熱及び液体形態でリチウムなどの反応性の高いターゲット原料物質の処理に係わる問題が低減される。或いは、プラズマ原料ターゲット物質が涸渇した時には、液滴発生器システム１１０全体をバルクリザーバシステム１１８及び液滴発生器９２と共に新たなユニットと交換することができる。
【００２１】
　本発明の実施形態の態様に従って、出願人らは、例えば、ターゲットプラズマ源材料の固体部片１４０の底部のみを加熱し、これにより溶融物１４２の少量を生成することを含むことができる、「溶融オンデマンド」バルクリザーバ１１２供給システムを提案する。レベルセンサー１３２は、液滴発生器９２内の溶融物容積１４４が最少レベルに到達した時点を検出することができる。この時点で、チャンバ弁１２０を開き、溶融金属１４２をバルクリザーバチャンバ１１２から液滴発生器チャンバ１１４に移送することができる。
【００２２】
　ターゲット供給制御システム９０は、レベルセンサー１３０、１３２から入力を受け取り、例えば
所与の量の液体材料１４２がバルクリザーバ１１２内に存在することをレベルセンサー１３２が示すまで所与の量の固体材料１４０を溶融するようにヒータ（例えば、底部ヒータ１５０）を制御し、
リザーバ１１２とリザーバ１１４との間の流体連通を開始するようにヒータ１２４を制御することができ、
液滴発生器リザーバ１１４の周りのヒータ１６０は、コントローラ９０によって連続的にオンにしておくか、
プラズマ源材料１４４の温度を液滴発生器リザーバ１１４内で溶融状態に保つある選択範囲内に維持することができる。
補充時には、ヒータ１５０をオンにし、
弁１２０を開いてこの溶融材料１４２の全てを本質的にリザーバ１１４内に排出し、次いで、ヒータ１５０を再びオフにして、リザーバ１１４の次の必要とされる補充を待機することができる。
【００２３】
　次に、溶融材料１４４は、圧力を加えて強制的に毛細管１６４に送ることができ、これは、毛細管１６４を含むノズル１６６の出力オリフィス１６８にて液滴９４を形成するようにコントローラ９０が制御する圧電アクチュエータ１６２によって作動させることができる。
【００２４】
　或いは、本発明の実施形態の態様によれば、図３に一例として示すように、例えば、開口部１８２を有するワイヤメッシュによって形成された多孔ヒータ１８０を使用して、溶融材料の上に固体材料１４０を溶融させることができる。これは、コントローラ９０の制御下で様々な方法で利用することができ、例えば、底部ヒータ１５０を連続的にオンにし又はサイクル的に動作させ、液滴発生器リザーバチャンバ１１４に移送される必要が生じるまで、溶融材料１４２をバルクリザーバチャンバ１１２内に保持することができ、その後、弁１２０を閉じて、ヒータ１８０を使用してバルクリザーバ１１２内の溶融材料１４２の供給量を補充することができる。また、溶融材料１４２は、コントローラ９０によって制御される補充時毎にバルクリザーバ１１２から本質的に完全に排出することができ、その後、次の補充が必要となったときに、ヒータ１８０を起動させて十分な溶融材料１４２を生成することができ、該溶融材料は、底部ヒータ１５０によって溶融維持が助けられ（或いは底部ヒータ１５０は排除してもよい）、チャンバ弁１２０を介して溶融材料１４２をチャンバ１１４に排出することができる。
【００２５】
　本発明の実施形態の態様に従って、出願人らは、液滴発生器９２リザーバ１１４内の例えば液体材料１４４表面上のスラグ蓄積／スラスト形成に対する解決策を提案し、例えば、バルクプラズマ源材料リザーバシステム１１４からの再充填を利用する運転をより延長できるようにする。出願人らは、図４に部分的に概略的且つ断面で示すように、例えばスラグ／クラスト蓄積を最小にしてリザーバ１１４内の液体材料１４４の補充を可能にし、更にスラグ／クラスト形成の影響を限定するよう提案する。さもなければ、クラストはフィルタ及び場合によってはノズルを詰まらせる可能性がある。図４を参照すると、例えば新たに追加される材料がスラグ／クラスト上に載ることができるように上からリザーバを充填するのではなく、容器チャンバ１１４を管２００を介して中央から充填することができる実施形態が示されている。この構成には幾つかの利点があり、例えば、供給物は底部から補充されるので、上部にスラグ／クラストが形成されても、図４に示すノズル１６６又は図５の実施形態に示すフィルタ２１０領域に到達することは困難となる。更に、クラストが形成されても、新しい材料内に埋れず、古い材料と新しい材料との間の障壁として
作用することになる。また、追加される材料は大気に晒されることがないので、取り込まれる汚染が低減される。
【００２６】
　本発明の実施形態の態様に従って、出願人らは、オンライン及び原位置での再充填及びスラグ低減に対する多重容器システムの利点を利用することを提案する。これは、例えば、液体金属噴射システムの作動時間を延長すると共に、噴射材料の純度を高め、噴射に使用されるターゲット液滴発生器の液体金属リザーバ１１４内でのスラグ蓄積を低減することができる。図５には、２つ以上の液体金属容器１４２及び１４４を備えた液体金属処理システム１１０が示されている。図５は、下部容器２１２が噴射に使用され、上部容器２１４から補充される２つの容器構成を部分的に概略的且つ断面で示している。例えば弁（機械式又は凝固）（図示せず、ただし、例えばフィルタ組立体２１０に組み込むことができる）を２つの容器２１２、２１４の間で利用することによるこの多重容器構成の利点の１つは、上部容器２１４は、図２及び図３のバルクリザーバ容器のように下部容器２１２を稼動中に再充填、通気、その他を行って、液滴形成噴射の動作を本質的に中断せずに行うことができる点である。また、第２の／下部容器２１２に液体のフィルタ処理金属を充填することにより、汚染量が低減され、より長く且つ安定した運転が可能となる。単一の容器システムでは、容積の制限によって時間期間を延長して運転することが通常はできない。容積は、例えば自己噴射が起こる前の最大許容静水頭を含む、上述の実施上の検討事項によって制限されることになる。特定の液体金属冷却原子炉においては、実験的な核融合反応炉内の壁保護として、及び高エネルギー粒子加速器内のターゲットとして複雑な液体金属処理システムが見られる。しかしながら、出願人らは、プラズマ源材料ターゲット供給において本明細書で提案するような多重容器構成に類似した利用を認識していない。」
（３）「【図１】
【図２】
【図３】
　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 」
（４）引用文献１の上記記載から、下記のような技術事項を読み取ることができる。
ア　引用文献１では、同じ技術事項を複数の異なる用語で記載しているところ、以下、次のように用語を統一して使用することとする。
・「ターゲット供給機構９２」、「ターゲット液滴発生器９２」、「液滴発生器９２」、「液滴発生器」などを、「液滴発生器９２」に統一する。
・「バルク材リザーバチャンバ１１２」、「第２のバルクリザーバチャンバ１１２」、「バルクリザーバチャンバ１１２」、「バルクリザーバ１１２」などを、「バルクリザーバチャンバ１１２」に統一する。
・「リザーバ１１４」、「液滴発生器９２リザーバチャンバ１１４」、「ターゲット液滴発生器チャンバ１１４」、「バルクチャンバ１１４」、「液滴発生器リザーバチャンバ１１４」、「液滴発生器リザーバ１１４」などを、「液滴発生器リザーバチャンバ１１４」に統一する。
・「プラズマ源材料１４４」、「溶融材料１４４」などを、「溶融材料１４４」に統一する。
イ　「ターゲット」に関する用語について、引用文献１の記載では、「照射部位２８」に供給されるものが「ターゲット」であり、この「ターゲット」の材料が「ターゲット材料」であるが、そのうち、「バルクリザーバチャンバ１１２」内の溶融していないものが「個体材料１４０」、溶融したものが「溶融材料１４２」であって、「液滴発生器リザーバチャンバ１１４」内の溶融したものが「溶融材料１４４」であると整理される。
ウ　【０００９】及び【図１】の記載から、「ターゲット供給システム２４」は、「ターゲット」を「レーザ生成プラズマＥＵＶ光源２０」の「チャンバ２６」内部の「プラズマ形成部位として知られる照射部位２８」に供給すると認められる。
　また、【００１８】の「バルク材リザーバ１１２を含むターゲット材料処理システム１１０を提案し、これによりオペレータが最短の停止時間と努力でターゲット液滴発生器９２内のリザーバ１１４を再充填することが可能になる。」という記載、【図２】及び【図３】の記載から、「ターゲット材料処理システム１１０」は、「液滴発生器９２」及び「バルクリザーバチャンバ１１２」を含むと認められる。
　そして、「ターゲット材料処理システム１１０」は、「ターゲット供給システム２４の実施形態」（【０００９】）であると認められるから、「ターゲット材料処理システム１１０」は、「ターゲット」を「レーザ生成プラズマＥＵＶ光源２０」の「チャンバ２６」内部の「プラズマ形成部位として知られる照射部位２８」に供給すると認められる。
エ　【００２２】の記載から、「ターゲット材料処理システム１１０」は、
　「液滴発生器リザーバチャンバ１１４」への「溶融材料１４２」の補充時には、所与の量の「溶融材料１４２」が「バルクリザーバチャンバ１１２」内に存在することを「レベルセンサー１３２」が示すまで所与の量の「固体材料１４０」を溶融するように「底部ヒータ１５０」をオンにし、その後、「バルクリザーバチャンバ１１２」と「液滴発生器リザーバチャンバ１１４」との間の流体連通を開始するように「ヒータ１２４」を制御して「パイプ１２２」を加熱し、「弁１２０」を開いてこの「溶融材料１４２」の全てを本質的に「液滴発生器リザーバチャンバ１１４」内に排出し、次いで、「底部ヒータ１５０」を再びオフにして、「リザーバ１１４」の次の必要とされる補充を待機することができ、
　「液滴発生器リザーバチャンバ１１４」の周りの「ヒータ１６０」を連続的にオンにして、「溶融材料１４４」の温度を「液滴発生器リザーバチャンバ１１４」内で溶融状態に保つある選択範囲内に維持することができると認められる。
オ　【００２３】、【図２】及び【図３】の記載から、「液滴発生器９２」は、「液滴発生器リザーバチャンバ１１４」及び「ノズル１６６」を含み、また、「ノズル１６６」は「毛細管１６４」、「出力オリフィス１６８」及び「圧電アクチュエータ１６２」を含むと認められる。
　そして、「ノズル１６６」を構成する「毛細管１６４」は「液滴発生器リザーバチャンバ１１４」に通じていて、「溶融材料１４４」が「液滴発生器リザーバチャンバ１１４」から圧力を加えて強制的に送られ、「圧電アクチュエータ１６２」によって「液滴９４」を形成するものと認められる。
カ　上記エ及びオでの認定のとおり、「液滴発生器リザーバチャンバ１１４」で溶融された「溶融材料１４４」は、「毛細管１６４」に圧力を加えて強制的に送られ、「圧電アクチュエータ１６２」によって「液滴９４」を形成するものであるから、「毛細管１６４」及び「出力オリフィス１６８」を含む「ノズル１６６」も「溶融材料１４２」が溶融状態を保つための温度に保たれなければならないことは、当業者には自明の事項である。
　そして、【図２】及び【図３】の「ヒータ，制御された閉ループ」の矢印がノズル部分周辺を指していること、【図４】の「「ヒータ，制御された閉ループ」の矢印がチャンバ部分とノズル部分の両方を指していること、【図２】〜【図４】にはノズル周りにもヒータが設けられたことが図示されていることが読み取れることも併せて考慮すると、「液滴発生器リザーバチャンバ１１４の周りのヒータ１６０」は、「液滴発生器リザーバチャンバ１１４」のみならず、「毛細管１６４」及び「出力オリフィス１６８」を含む「ノズル１６６」をも加熱するものであると認められる。
　すると、上記引用文献１には、以下の発明（以下「引用発明」という。）が記載されている。
「バルクリザーバチャンバ１１２及び液滴発生器９２を有し、ターゲットをレーザ生成プラズマＥＵＶ光源２０のチャンバ２６内部のプラズマ形成部位として知られる照射部位２８に供給するターゲット材料処理システム１１０であって、
　液滴発生器９２は、液滴発生器リザーバチャンバ１１４及びノズル１６６を含み、
　液滴発生器リザーバチャンバ１１４は、弁１２０及びパイプ１２２を介して、バルクリザーバチャンバ１１２に結合され、
　ノズル１６６は、毛細管１６４、出力オリフィス１６８及び圧電アクチュエータ１６２を含み、毛細管１６４は液滴発生器リザーバチャンバ１１４に通じていて、溶融材料１４４を液滴発生器リザーバチャンバ１１４から圧力を加えて強制的に毛細管１６４に送り、圧電アクチュエータ１６２によって液滴９４を形成することができ、
　液滴発生器リザーバチャンバ１１４への溶融材料１４２の補充時には、所与の量の溶融材料１４２がバルクリザーバチャンバ１１２内に存在することをレベルセンサー１３２が示すまで所与の量の固体材料１４０を溶融するように底部ヒータ１５０をオンにし、その後、バルクリザーバチャンバ１１２と液滴発生器リザーバチャンバ１１４との間の流体連通を開始するようにヒータ１２４を制御してパイプ１２２を加熱し、弁１２０を開いてこの溶融材料１４２の全てを本質的に液滴発生器リザーバチャンバ１１４内に排出し、次いで、底部ヒータ１５０を再びオフにして、液滴発生器リザーバチャンバ１１４の次の必要とされる補充を待機することができ、
　液滴発生器リザーバチャンバ１１４の周りのヒータ１６０を連続的にオンにして、溶融材料１４４の温度を液滴発生器リザーバチャンバ１１４及びノズル１６６内で溶融状態に保つある選択範囲内に維持することができる、
　ターゲット材料処理システム１１０。」
第５　対比・判断
１　対比
（１）引用発明の「ターゲット」、「液滴発生器９２」、「レーザ生成プラズマＥＵＶ光源２０のチャンバ２６内部のプラズマ形成部位として知られる照射部位２８」及び「ターゲット材料処理システム１１０」は、それぞれ、本願発明１の「ターゲット材料」、「ターゲット材料送出システム」、「ＥＵＶ光源の照射領域」及び「ＥＵＶ光源ターゲット材料取扱システム」に相当する。
　すると、引用発明の
「バルクリザーバチャンバ１１２及び液滴発生器９２を有し、ターゲットをレーザ生成プラズマＥＵＶ光源２０のチャンバ２６内部のプラズマ形成部位として知られる照射部位２８に供給するターゲット材料処理システム１１０」は、
　本願発明１の 
「ＥＵＶ光源の照射領域にターゲット材料を送出するターゲット材料送出システムを備えるＥＵＶ光源ターゲット材料取扱システム」
に相当する。
（２）引用発明の「出力オリフィス１６８」及び「液滴発生器リザーバチャンバ１１４」が、それぞれ、本願発明１の「ノズル」及び「ターゲット材料リザーバ」に相当する。
　そして、引用発明の「毛細管１６４」は、「出力オリフィス１６８」と「液滴発生器リザーバチャンバ１１４」とをつなぐ管であるから、本願発明１の「ターゲット材料リザーバ」と「ノズル」に「流体連通する」「導管」に相当するものであり、さらに、「毛細管１６４」の「液滴発生器リザーバチャンバ１１４」側部分、「出力オリフィス１６８」側部分は、それぞれ、本願発明１の「導管」の「前記ターゲットリザーバと流体連通する第１部分」及び「ノズル」と「流体連通する」「第２部分」に相当するものといえる。
　すると、引用発明の「液滴発生器９２は、液滴発生器リザーバチャンバ１１４及びノズル１６６を有し、」
「ノズル１６６は、毛細管１６４、出力オリフィス１６８及び圧電アクチュエータ１６２を含み、毛細管１６４は液滴発生器リザーバチャンバ１１４に通じていて、溶融材料１４２を液滴発生器リザーバチャンバ１１４から圧力を加えて強制的に毛細管１６４に送り、圧電アクチュエータ１６２によって液滴９４を形成することができ」ることは、
　本願発明１の
「前記ターゲット材料送出システムは、ターゲット材料リザーバと、前記ターゲット材料リザーバと流体連通する第１部分を有する導管と、前記導管の第２部分と流体連通するノズルと、前記ノズルおよび前記第２部分を、」「備え」ることに相当する。
（３）上記（２）で認定したとおり、引用発明の「出力オリフィス１６８」及び「毛細管１６４」の「出力オリフィス１６８」側部分が、それぞれ、本願発明１の「ノズル」及び「第２部分」に相当し、また、引用発明の「溶融材料１４４の温度を液滴発生器リザーバチャンバ１１４及びノズル１６６内で溶融状態に保つある選択範囲」は、本願発明１の「前記ターゲット材料の溶融温度よりも低くない第１温度」に相当する。
　すると、引用発明の「液滴発生器リザーバチャンバ１１４の周りのヒータ１６０を連続的にオンにして、溶融材料１４４の温度を液滴発生器リザーバチャンバ１１４及びノズル１６６内で溶融状態に保つある選択範囲内に維持することができる」ことは、
　本願発明１の「前記ノズルおよび前記第２部分を、前記ノズルおよび前記第２部分内の前記ターゲット材料の溶融温度よりも低くない第１温度に維持することが可能なヒータと、を備え」ることに相当する。
（４）原査定での対比について
　原査定では、
「本願発明と、引用文献１に記載された発明とを対比すると、引用文献１に記載された発明における「パイプ１２２」及び「液滴発生器チャンバ１１４」からなる部分は、本願発明における「導管」に相当する。そして、引用文献１に記載された発明における「バルクリザーバチャンバ１１２」、「パイプ１２２におけるバルクリザーバチャンバ１１２との接続部分」、「液滴発生器チャンバ１１４」、「ノズル１６６」、「ＥＵＶ光源ターゲット材料処理システム１１０」は、それぞれ、本願発明における「ターゲット材料リザーバ」、「導管における第１部分」、「導管における第２部分」、「ノズル」、「ＥＵＶ光源の照射領域にターゲット材料を送出するターゲット材料送出システムを備えるＥＵＶ光源ターゲット材料取扱システム」に相当する。」
と認定しているが、引用発明と本願発明１との対比は上述のとおりであり、さらに、引用発明の「バルクリザーバチャンバ１１２」、「弁１２０」及び「パイプ１２２」は、本願の「外部リザーバ１１０」（補正により削除された請求項３の「ターゲット材料を保有する貯蔵庫」）、「弁１１４」（補正により削除された請求項４の「選択的に隔離する弁」）及び「パイプ１１２」（補正により削除された請求項３の「移送するための径路」）などに相当するというべきである。
（一致点）
　本願発明１と引用発明を対比すると、両者は、
「ＥＵＶ光源の照射領域にターゲット材料を送出するターゲット材料送出システムを備えるＥＵＶ光源ターゲット材料取扱システムであって、
　前記ターゲット材料送出システムは、ターゲット材料リザーバと、前記ターゲット材料リザーバと流体連通する第１部分を有する導管と、前記導管の第２部分と流体連通するノズルと、前記ノズルおよび前記第２部分を、前記ノズルおよび前記第２部分内の前記ターゲット材料の溶融温度よりも低くない第１温度に維持することが可能なヒータと、を備える、ＥＵＶ光源ターゲット材料取扱システム。」
で一致し、次の点で相違する。
（相違点）
　本願発明１では、「前記導管は、前記第１部分の温度が前記第１温度を実質的に下回る周囲温度である時、前記第２部分を前記第１温度に維持し得るように温度差を維持することができ、前記導管は、前記第１部分と前記第２部分との間にセクションを含み、前記セクションは断熱材から作成されている」のに対して、引用発明は、そのような技術事項を有さない点。
２　相違点についての判断
　上記相違点について検討する。
　引用発明は、
「液滴発生器リザーバチャンバ１１４への溶融材料１４２の補充時には、所与の量の溶融材料１４２がバルクリザーバチャンバ１１２内に存在することをレベルセンサー１３２が示すまで所与の量の固体材料１４０を溶融するように底部ヒータ１５０をオンにし、その後、バルクリザーバチャンバ１１２と液滴発生器リザーバチャンバ１１４との間の流体連通を開始するようにヒータ１２４を制御してパイプ１２２を加熱し、弁１２０を開いてこの溶融材料１４２の全てを本質的に液滴発生器リザーバチャンバ１１４内に排出し、次いで、底部ヒータ１５０を再びオフにして、リザーバ１１４の次の必要とされる補充を待機することができ、
　液滴発生器リザーバチャンバ１１４の周りのヒータ１６０を連続的にオンにして、溶融材料１４４の温度を液滴発生器リザーバチャンバ１１４及びノズル１６６内で溶融状態に保つある選択範囲内に維持することができる」
ものである、すなわち、「固体材料１４０を溶融するように底部ヒータ１５０をオンにし」た「液滴発生器リザーバチャンバ１１４への溶融材料１４２の補充時に」も、「底部ヒータ１５０を再びオフにして、リザーバ１１４の次の必要とされる補充を待機する」ときにも、「液滴発生器リザーバチャンバ１１４の周りのヒータ１６０を連続的にオンにして、溶融材料１４４の温度を液滴発生器リザーバチャンバ１１４及びノズル１６６内で溶融状態に保つある選択範囲内に維持することができる」ものであって、「液滴発生器リザーバチャンバ１１４及びノズル１６６」はともに「溶融状態に保つある選択範囲内に維持」されているものである。
　そして、ＥＵＶ光源を停止するなどの際、「ターゲット材料処理システム１１０」を停止するときは、「液滴発生器リザーバチャンバ１１４及びノズル１６６」をともに溶融状態を保つ温度より低くするものと解される。
　すると、「毛細管１６４」の「液滴発生器リザーバチャンバ１１４」側部分（本願発明１の「導管」の「前記ターゲットリザーバと流体連通する第１部分」に相当）、「出力オリフィス１６８」側部分（「ノズル」と「流体連通する」「第２部分」に相当）には温度差が生じないものといえる。
　したがって、引用発明においては、本願発明１のように、
「前記導管は、前記第１部分の温度が前記第１温度を実質的に下回る周囲温度である時、前記第２部分を前記第１温度に維持し得るように温度差を維持することができ」る必要も、
「前記導管は、前記第１部分と前記第２部分との間にセクションを含み、前記セクションは断熱材から作成されている」必要もないことは明らかである。
　よって、引用発明において、上記相違点に係る本願発明１の発明特定事項を採用することは、当業者が容易に想到し得るものであるとはいえないから、本願発明１は、当業者であっても、引用発明に基づいて容易に発明をすることができたものとはいえない。
３　本願発明１の効果について
　本願発明１では、上記相違点に係る発明特定事項により、「ターゲット材料リザーバ」（「リザーバ９４」）に「ターゲット材料」を供給するための「貯蔵庫」（「外部リザーバ１１０」など）を有さない場合において、「ターゲット材料リザーバ」に溶融していない「ターゲット材料」を直接供給するために「ターゲット材料リザーバ」を冷却する際にも、「前記ノズル及び前記第２部分」を「ターゲット材料」の「溶融温度よりも低くない第１温度に維持する」ことにより、「ノズル」内に「汚染物質粒子」の形成を引き起こさないという当業者が予測し得ない効果を奏し得ると認められる。
第６　むすび
　以上のとおり、本願発明１は、当業者が引用発明に基づいて容易に発明をすることができたものではない。したがって、原査定の理由によっては、本願を拒絶することはできない。
　また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり審決する。