Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月25日(2009.5.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
血管内プローブからのデータを収集した時点における前記血管内プローブの投影プローブ位置に対応するｘ線投影画像内の位置を推定するシステムであって：
−  前記ｘ線投影画像内で、前記血管内プローブの収集軌道に沿って所定の間隔で配置された複数のマーカの複数の投影位置を識別するマーカ検出器；及び
−  前記データを収集した時点における前記血管内プローブの位置に相当する、前記収集軌道上の前記投影プローブ位置を得るために、前記データを収集した時点における前記血管内プローブと前記複数のマーカのうちの少なくとも１つとの間の、前記収集軌道に沿った距離に応じて、前記投影位置を補間する補間器；
を有するシステム。
【請求項２】
前記ｘ線投影画像が有する患者に対する収集方向と同一の収集方向を有する血管造影投影画像内で、前記投影プローブ位置を指し示すための標識部、を更に有する請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記補間器は、血管造影投影画像内で視認可能な投影された血管に沿って前記マーカの投影位置を補間するように構成されており、前記血管造影投影画像及び前記ｘ線投影画像は同一の、患者に対する収集方向を有する、請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
前記血管内プローブと前記複数のマーカのうちの少なくとも１つとの間の、前記収集軌道に沿った前記距離を、基準プローブ位置と、該基準プローブ位置と前記データを収集した時点における前記プローブの位置との間の前記プローブによって辿られた前記収集軌道に沿った距離と、に応じて決定する手段、を更に有する請求項１に記載のシステム。
【請求項５】
前記基準プローブ位置はプローブ開始位置であり、前記収集軌道はプローブプルバック軌道であり、前記プローブによって辿られた前記収集軌道に沿った前記距離は、前記プローブ開始位置から、前記データを収集した時点における前記プローブの位置までの、前記プローブプルバック軌道の長さである、請求項４に記載のシステム。
【請求項６】
−  前記プローブ開始位置から、前記データを収集した時点における前記プローブの位置までの、前記プローブプルバック軌道の前記長さを、プルバック速度とプルバック時間とに応じて決定する手段、
を更に有する請求項５に記載のシステム。
【請求項７】
前記血管内プローブは血管内超音波プローブである、請求項１に記載のシステム。
【請求項８】
−  前記ｘ線画像内で前記プローブを識別するプローブ検出器、
を更に有し、
前記補間器は、前記ｘ線画像内での前記プローブの位置、及び、前記ｘ線画像内での前記プローブの位置と前記データを収集した時点における前記プローブの位置との間の、前記プローブによって辿られた距離、にも応じて動作する、
請求項１に記載のシステム。
【請求項９】
−  閲覧するデータをユーザが選択することを可能にするユーザ入力手段；及び
−  選択されたデータと、指し示された前記投影プローブ位置を含む前記血管造影投影画像とを表示するディスプレイ；
を更に有する請求項２に記載のシステム。
【請求項１０】
前記標識部はまた、前記データを収集した時点における前記プローブの位置における前記収集軌道の向きに応じて、前記ｘ線画像内で、前記データを収集した時点における前記プローブの向きを指し示すように構成されている、請求項２に記載のシステム。
【請求項１１】
血管内プローブからのデータを収集した時点における前記血管内プローブの投影プローブ位置に対応するｘ線投影画像内の位置を推定するｘ線撮像装置であって：
−  前記ｘ線投影画像を取得するためのｘ線発生器及びｘ線検出器；
−  前記血管内プローブにより収集された前記データを受信する入力部；
−  前記ｘ線投影画像内で、前記血管内プローブの収集軌道に沿って所定の間隔で配置された複数のマーカの複数の投影位置を識別するマーカ検出器；及び
−  前記データを収集した時点における前記血管内プローブの位置に相当する、前記収集軌道上の前記投影プローブ位置を得るために、前記データを収集した時点における前記血管内プローブと前記複数のマーカのうちの少なくとも１つとの間の、前記収集軌道に沿った距離に応じて、前記投影位置を補間する補間器；
を有するシステム。
【請求項１２】
血管内プローブからのデータを収集した時点における前記血管内プローブの位置に相当する投影プローブ位置に関して、該投影プローブ位置に対応するｘ線投影画像内の位置を推定する方法であって：
−  前記ｘ線投影画像内で、前記血管内プローブの収集軌道に沿って所定の間隔で配置された複数のマーカの複数の投影位置を識別する段階；及び
−  前記データを収集した時点における前記血管内プローブの位置に相当する、前記収集軌道上の前記投影プローブ位置を得るために、前記データを収集した時点における前記血管内プローブと前記複数のマーカのうちの少なくとも１つとの間の、前記収集軌道に沿った距離に応じて、前記投影位置を補間する段階；
を有する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月27日(2010.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
タンクと、
便器と、
サイホンと、
吸気管とは分かれており、前記タンクの底部を通り入水口に延びるオーバーフロー管と、
複数の洗浄孔を有するリムと、
前記タンク、前記洗浄孔、及び前記便器を流体連通させる前記入水口と、
前記タンク内に配置されるファンボックスと、
前記オーバーフロー管とは分かれており、前記ファンボックスから前記タンクの前記底部を通り前記入水口に延びる前記吸気管であって、前記ファンボックスと前記入水口とを流体連通させながら前記タンクから前記入水口に水が流体連通されることを防止するようにシールされている、前記吸気管と、
前記ファンボックス内に配置されるファンであって、前記ファンの動作が、前記便器から前記入水口へ空気を引き込むと共に、前記吸気管を通して前記ファンボックスへ空気を引き込む、ファンとを備える、トイレ。
【請求項２】
前記便器からの空気は、前記洗浄孔を通して前記入水口へ引き込まれる、請求項１に記載のトイレ。
【請求項３】
第１の端及び第２の端を有する出口管をさらに備え、
前記出口管は、前記第１の端が前記ファンボックスに接続され、
前記ファンの動作が、前記出口管の前記第２の端を通して前記ファンボックス内の空気を放出する、請求項１に記載のトイレ。
【請求項４】
前記出口管の前記第２の端は、前記サイホンに接続される、請求項３に記載のトイレ。
【請求項５】
少なくとも第１の位置及び第２の位置を有する洗浄ハンドルと、
前記洗浄ハンドルに接続される洗浄アームであって、前記洗浄ハンドルの移動が前記洗浄アームの対応する移動を引き起こす、洗浄アームと、
前記洗浄ハンドルが前記第１の位置へ移動すると前記ファンを作動させるスイッチとをさらに備える、請求項１に記載のトイレ。
【請求項６】
前記スイッチは、前記洗浄ハンドルが前記第１の位置へ移動すると前記洗浄アームに接触するスイッチプレートをさらに備え、前記洗浄アームと前記スイッチとの接触が、電気回路を完成させて前記ファンを作動させる、請求項５に記載のトイレ。
【請求項７】
前記第２の位置への前記洗浄ハンドルの移動が、前記洗浄アームに前記スイッチとの接触を解消させて前記ファンを停止させる、請求項６に記載のトイレ。
【請求項８】
タンクと、
便器と、
サイホンと、
吸気管とは分かれており、前記タンクの底部を通り入水口に延びるオーバーフロー管と、
複数の洗浄孔を有するリムと、
前記タンク、前記洗浄孔、及び前記便器を流体連通させる前記入水口と、
空気区画とファン区画とを有するファンボックスと、
前記オーバーフロー管とは分かれており、前記空気区画から前記タンクの前記底部を通り前記入水口に延びる前記吸気管であって、前記空気区画と前記入水口とを流体連通させながら前記タンクから前記入水口に水が流体連通されることを防止するようにシールされている、前記吸気管と、
前記空気区画と流体連通する前記ファン区画と、
前記ファン区画内に配置されるファンであって、前記ファンの動作が、前記便器から前記ファン区画へ空気を引き込む、ファンと、
第１の端及び第２の端を有する出口管とを備え、
前記出口管は、前記第１の端が前記ファン区画に接続され、
前記ファンの動作が、前記出口管の前記第２の端を通して前記ファンボックス内の空気を放出し、
前記出口管の前記第２の端は、前記サイホンに接続される、トイレ。
【請求項９】
前記便器からの空気は、前記洗浄孔を通して前記入水口へ引き込まれる、請求項８に記載のトイレ。
【請求項１０】
前記ファン区画と前記空気区画との間にヒンジ配置され、前記ファン区画内の空気が前記空気区画へ移動するのを防止するドアをさらに備える、請求項８に記載のトイレ。
【請求項１１】
少なくとも第１の位置及び第２の位置を有する洗浄ハンドルと、
前記洗浄ハンドルに接続される洗浄アームであって、前記洗浄ハンドルの移動が前記洗浄アームの対応する移動を引き起こす、洗浄アームと、
前記洗浄ハンドルが前記第１の位置へ移動すると前記ファンを作動させるスイッチとをさらに備える、請求項８に記載のトイレ。
【請求項１２】
前記スイッチは、前記洗浄ハンドルが前記第１の位置へ移動すると前記洗浄アームに接触するスイッチプレートをさらに備え、前記洗浄アームと前記スイッチとの接触が、電気回路を完成させて前記ファンを作動させる、請求項１１に記載のトイレ。
【請求項１３】
前記第２の位置への前記洗浄ハンドルの移動が、前記洗浄アームに前記スイッチとの接触を解消させて前記ファンを停止させる、請求項１１に記載のトイレ。
【請求項１４】
タンクと、
便器と、
少なくとも第１の位置及び第２の位置を有する洗浄ハンドルと、
前記洗浄ハンドルに接続される洗浄アームであって、前記洗浄ハンドルの移動が前記洗浄アームの対応する移動を引き起こす、洗浄アームと、
サイホンと、
吸気管とは分かれており、前記タンクの底部を通り入水口に延びるオーバーフロー管と、
複数の洗浄孔を有するリムと、
前記タンク、前記洗浄孔、及び前記便器を流体連通させる前記入水口と、
前記タンク内に配置されるファンボックスと、
前記オーバーフロー管とは分かれており、前記ファンボックスから前記タンクの前記底部を通り前記入水口に延びる前記吸気管であって、前記ファンボックスと前記入水口とを流体連通させながら前記タンクから前記入水口に水が流体連通されることを防止するようにシールされている、前記吸気管と、
前記ファンボックス内に配置されるファンであって、前記ファンの動作が、前記便器から前記入水口へ空気を引き込むと共に、前記吸気管を通して前記ファンボックスへ空気を引き込む、ファンと、
前記洗浄ハンドルが前記第１の位置へ移動すると前記ファンを作動させるスイッチとを備える、トイレ。
【請求項１５】
前記スイッチは、前記洗浄ハンドルが前記第１の位置へ移動すると前記洗浄アームに接触するスイッチプレートをさらに備え、前記洗浄アームと前記スイッチとの接触が、電気回路を完成させて前記ファンを作動させる、請求項１４に記載のトイレ。
【請求項１６】
前記第２の位置への前記洗浄ハンドルの移動が、前記洗浄アームに前記スイッチとの接触を解消させて前記ファンを停止させる、請求項１４に記載のトイレ。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月10日(2010.6.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ニッケル含有ラテライト鉱石から金属有価物を回収する方法であって：
浸出液溶液を生成させるために、前記鉱石を硝酸で浸出する工程；
前記浸出液溶液を加熱する工程；
金属含有溶液を生成させるために、前記浸出液から固体残渣を分離する工程；および
前記金属含有溶液から金属有価物を回収する工程
を含む方法。
【請求項２】
前記溶液の熱加水分解によって、または、前記溶液のｐＨのシフトによって、前記溶液から鉄を沈殿させる工程をさらに含むことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記浸出溶液のｐＨのシフトが、前記溶液にアルカリ材料を加えることによって行われることを特徴とする、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記浸出の工程が、30〜240分の間にわたって行われることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記浸出の工程が、100〜200分の間にわたって行われることを特徴とする、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記浸出の工程における前記硝酸が、重量濃度10〜90％の硝酸溶液であることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記浸出の工程における前記硝酸が、重量濃度30〜67％の硝酸溶液であることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記浸出の工程が、70〜130℃の温度にて行われることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記加熱の工程が、液体／固体残渣を生成させるために、前記浸出溶液の温度を約125〜200℃の範囲まで上昇させる工程を含むことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記加熱の工程が、液体／固体残渣を生成させるために、前記浸出溶液の温度を約165℃まで上昇させる工程を含むことを特徴とする、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記金属含有溶液中の金属有価物の濃度を高めるために、前記金属含有溶液の全部または一部を、前記浸出の工程に少なくとも１回戻す工程をさらに含むことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
Ni(OH)2/NiO、Co(OH)2/CoO、硝酸マグネシウムを生成させるために、前記金属含有溶液から、熱加水分解、ｐＨシフト、硫化物沈殿、または溶媒抽出によって、ニッケルまたはコバルトを回収する工程；および
MgOおよび気体状窒素酸化物を生成させるために、前記溶液の温度を450℃以上に上昇させることによって、前記硝酸マグネシウムを熱分解する工程
をさらに含むことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記MgOから硝酸を分離する工程、および前記硝酸を前記浸出の工程へリサイクルする工程をさらに含むことを特徴とする、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
ニッケル含有ラテライト鉱石から、金属有価物を回収する方法であって：
所望の金属有価物を抽出するために、前記鉱石を硝酸で浸出する工程；
金属含有溶液を生成させるために、前記浸出液から固体残渣を分離する工程；
前記溶液から、熱加水分解、溶媒抽出、またはｐＨシフトによって、鉄を沈殿させる工程；
前記溶液から、ｐＨシフト、加水分解、硫化物沈殿、または溶媒抽出によって、ニッケルまたはコバルトを回収する工程；および
MgOおよび気体状窒素酸化物を生成させるために、前記溶液の温度を450℃以上に上昇させることによって、前記硝酸マグネシウムを熱分解する工程
を含む方法。
【請求項１５】
前記ｐＨのシフトが、前記溶液に、MgO、Mg(OH)2、MgCO3などのアルカリ土類を加えることによって行われることを特徴とする、請求項１４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月28日(2010.9.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  患者における、身体的うつ病、単極性うつ病、精神的原因による機能的疾病、非定型うつ病、情緒異常、双極性情動障害、季節的うつ病および持続性気分障害を含むうつ病またはうつ様症状の処置のための医薬組成物であって、ファモチジンまたはその医薬的に許容され得る塩を重量比で０．１−９９．９、および１種またはそれ以上の通常の医薬用の賦形剤および／または希釈剤を重量比で０．１−９９．９含むことを特徴とする医薬組成物。
【請求項２】  上記患者が酸関連疾患の患者である、請求項１記載の医薬組成物。
【請求項３】  身体的うつ病、単極性うつ病、精神的原因による機能的疾病、非定型うつ病、情緒異常、双極性情動障害、季節的うつ病および持続性気分障害を含むうつ病またはうつ様症状の処置のための医薬組成物の製造方法であって、ファモチジンまたはその医薬的に許容され得る塩を重量比で０．１−９９．９、および１種またはそれ以上の通常の医薬用添加物を重量比で０．１−９９．９を混合し、従来技術で公知の方法によって医薬組成物に加工することを特徴とする方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成22年4月8日(2010.4.8)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３３】
本発明は、一般式(I)を有する新規N-(4-ピペリジニル)ベンズアミドおよびそれらの薬学的に許容される塩に関する。
2003535128.tif 000001
式中、
R1はH、C1〜4アルキル、OH、OC1〜4アルキル、-COOH、-COOC1〜4アルキル、-O(C=O)OC1〜4アルキル、-O(C=O)C1〜4アルキル、または-C1〜4アルキルNR7R8であり、ただしR7およびR8は独立にHまたはC1〜4アルキルであり；
R2はH、C1〜4アルキル、-OC1〜4アルキル、-COOH、または-(C=O)OC1〜4アルキルであり；
XはOまたはNであり；
R1およびXはシスまたはトランス配置であり；
R3はHまたはC1〜3アルキル(Xが酸素原子の場合、R3は存在しない)であり；
R4、R5、およびR6はそれぞれ独立に、水素、C1〜4アルキル、-OC1〜4アルキル、ハロゲン原子、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、モノおよびジ(低級アルキル)アミノ、アミノカルボニル、アリールカルボニルアミノ、アルキルカルボニルアミノ、低級アルキルカルボニル、低級アルキルカルボニルオキシ、アミノスルホニル、低級アルキルスルフィニル、低級アルキルスルホニル、低級アルキルチオならびにメルカプトからなる群より選択され；かつ
Lは式-CnH2n-X-CmH2m-(CR9R10)p-(C=O)O-Yを有し、ただし
nは1から4の整数（1と4を含む）であり；
Xは-CH(OH)-、-NH-、-S-、-O-、または直接結合であり；
mは0から4の整数（0と4を含む）であり；
pは0または1であり；
R9およびR10は独立にH、C1〜4アルキルであるか、またはR9R10は連結され、共に5もしくは6員環シクロアルキル環を形成し；かつ
YはHか、O；N；Sからなる群より選択される1つまたは複数(2から8)のヘテロ原子による置換が任意にされるC1〜14アルキルまたはシクロアルキルか、1つまたは複数(2から8)のハロゲン原子、C1〜4アルキル、C1〜4アルコキシ、ヒドロキシ、シアノ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、トリフルオロメチル、-COOH、もしくは-COOC1〜4アルキルによる置換が任意にされるアリールまたはヘテロアリールである(Yが水素の場合、化合物はテトラブチルまたはテトラエチルアンモニウムおよびトリゴネリニウムなどの4級アンモニウム錯体であってもよい)。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月26日(2010.5.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  有糸分裂および減数分裂における高次クロマチン依存性の染色体安定性を改変する化合物の同定方法であって、
ヒストンH3 K9メチルトランスフェラーゼの基質を、メチルドナーの存在下に、Suv39h様ヒストンH3 K9メチルトランスフェラーゼ活性を有するメチルトランスフェラーゼと一緒に試験化合物の存在または不存在下でインキュベートし、前記試験化合物がメチルトランスフェラーゼ活性を調節しているかどうかを測定することを特徴とする前記方法。
【請求項２】  Suv39h様活性を有するメチルトランスフェラーゼがマウスSuv39h1またはヒトSUV39H1である請求の範囲第１項記載の方法。
【請求項３】  Suv39h様活性を有するメチルトランスフェラーゼがマウスSuv39h2またはヒトSUV39H2である請求の範囲第１項記載の方法。
【請求項４】  基質が、ヒストンH3またはリシン9におけるメチル化部位を含有するそのN-末端フラグメントである、請求の範囲第1項〜第３項のいずれか1項記載の方法。
【請求項５】  ヒストンH3 N-末端フラグメントが配列番号7に記載されたアミノ酸配列を有する請求の範囲第４項記載の方法。
【請求項６】  メチルドナーがメチオニンまたはS-アデノシル-L-メチオニンである請求の範囲第1項〜第５項のいずれか1項記載の方法。
【請求項７】  メチルドナーのメチル基が検出可能なラベルを担持する請求の範囲第1項〜第６項のいずれか1項記載の方法。
【請求項８】  メチルドナーが発色性ラベルを担持し、メチルトランスフェラーゼ活性を、メチル基の基質への移行時の色の変化を測定することによって測定する請求の範囲第７項記載の方法。
【請求項９】  メチルドナーが放射活性ラベルを担持し、メチルトランスフェラーゼ活性を、メチル基移行時に基質へ移行した放射活性を測定することによって測定する請求の範囲第７項記載の方法。
【請求項１０】  メチルトランスフェラーゼ活性を、基質のメチル化部位に特異的な抗体の結合を定量することによって測定する請求の範囲第1項〜第６項のいずれか1項記載の方法。
【請求項１１】  基質が検出可能なラベルを担持する請求の範囲第１０項記載の方法。
【請求項１２】  ヒストンH3中のメチル化リシン9を特異的に認識する抗体。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年11月25日(2009.11.25)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００２】
（発明の開示）
本発明の一つ目の側面によって、
高温ゾーンにおいて、少なくとも１個の陰極と、少なくとも１個の陽極の間で電気アークを発生させる工程、
上記高温ゾーンにおいて、電気アーク及びプラズマガスにより、尾炎を有する熱プラズマを発生させる工程、
少なくとも１種のフッ化炭素化合物を、上記フッ化炭素化合物より少ない数の炭素原子を有する少なくとも１種のフッ化炭素前駆体又は反応性化学種に解離させるとともに、上記フッ化炭素化合物を含有するフッ化炭素フィードストックから熱プラズマの尾炎により反応性熱混合物を生成させる工程、及び
上記反応性熱混合物を冷却して、上記フッ化炭素前駆体又は反応性化学種からフッ化炭素生成物を生成する工程、
を含む、フッ化炭素フィードストックを処理する方法が提供される。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  高温ゾーンにおいて、少なくとも１個の陰極と、少なくとも１個の陽極の間で電気アークを発生させる工程、
上記高温ゾーンにおいて、電気アーク及びプラズマガスにより、尾炎を有する熱プラズマを発生させる工程、
上記高温ゾーンに、５個以上の炭素原子を有する少なくとも１種のフッ化炭素化合物を含有し、液体状又は気体状であるフッ化炭素フィードストックを導入し、上記熱プラズマの尾炎により上記フッ化炭素化合物から反応性熱混合物を生成させ、上記反応性熱混合物において上記フッ化炭素化合物を５個未満の炭素原子を有する少なくとも１種のフッ化炭素前駆体又は反応性化学種に解離させる工程、及び
上記反応性熱混合物を冷却して、上記フッ化炭素前駆体又は反応性化学種から５個未満の炭素原子を有する少なくとも１種のフッ化炭素化合物を含有するフッ化炭素生成物を生成する工程、
を含む、フッ化炭素フィードストックを処理する方法。
【請求項２】  上記プラズマガスが、単に熱源として、上記プラズマを維持するために働き、上記フッ化炭素前駆体又は反応性化学種とは反応しない不活性ガスである、請求項１記載の方法。
【請求項３】  上記プラズマガスが反応性ガスであって、
それが、上記熱プラズマ中、したがって、上記反応性熱混合物中において、フッ素含有化学種と炭素含有化学種に解離し、
それらが、上記反応性熱混合物の冷却の際、上記フッ化炭素前駆体又は反応性化学種と反応して上記フッ化炭素生成物を生成する、請求項１記載の方法。
【請求項４】  上記フィードストックが、１種の化合物が主成分として最大比率を占めるように生成物中に存在する、２種以上のフッ化炭素を含む直接使用可能なフッ化炭素生成物ではない、請求項１から３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】  上記フッ化炭素フィードストックが液体状であり、上記熱プラズマの尾炎に導入され、上記プラズマガスが上記高温ゾーンに別にフィードされる、請求項１から４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】  上記フィードストックを、上記熱プラズマの尾炎中に、熱プラズマの尾炎の広がり方向に対して向流になるように軸方向にフィードすることにより、上記フィードストックが上記熱プラズマの尾炎に導入される、請求項５記載の方法。
【請求項７】  上記フッ化炭素フィードストックが気体状であり、上記プラズマガスとともに上記高温ゾーンにフィードされる、請求項１から４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】  上記陰極及び陽極が電力により駆動されるプラズマトーチ又はプラズマトロンの電極であり、
上記プラズマ尾炎が上記トーチ又はプラズマトロンの出口において形成される、
請求項５から７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】  熱プラズマの発生、上記フッ化炭素の解離、及び上記反応性熱混合物の冷却がプラズマ反応器内で行われ、その反応器にはプラズマトーチ又はプラズマトロンが装着されており、その反応器は反応室を有しており、
上記プラズマトーチ又はプラズマトロンは上記反応室の上端に位置しており、下方に向けて燃焼するため、そのプラズマ尾炎は反応室内を下方に広がり、
上記プラズマトーチ又はプラズマトロンは、単一の水冷熱陰極及び最大３個までの水冷陽極の一式を備え、かくして、アークが上記陰極と陽極との間を通る、
請求項８記載の方法。
【請求項１０】  上記高温ゾーンが、上記反応器中の反応室の伸張部又は区域内部において、上記プラズマトーチ又はプラズマトロンのアークの内部と周囲、及び直近の領域によって、及び／又は上記プラズマトーチ又はプラズマトロンの直下の領域によって規定されている、請求項９記載の方法。
【請求項１１】  上記熱プラズマの尾炎の広がり、上記フッ化炭素化合物の解離、及び反応性熱混合物の冷却が反応室で起こり、
上記熱プラズマの尾炎の広がり及びフッ化炭素化合物の解離が上記反応室の第１ゾーンで行われ、
上記反応性熱混合物の冷却が上記反応室の第２ゾーンで行われ、
プラズマが上記反応室の第１ゾーンで発生し、広がることが出来るよう、プラズマトロンが上記反応室の第１ゾーンに隣接する反応器に装備されている、
請求項１０記載の方法。
【請求項１２】  上記高温ゾーン中への上記プラズマガスのフィードが、上記プラズマトーチ又はプラズマトロン中で上記熱プラズマが渦を形成するように上記プラズマガスを上記陽極と陰極との間に噴射することにより行われる、請求項１１記載の方法。
【請求項１３】  上記反応室の第１ゾーン全域にわたって渦を維持するために、連続した陽極間に追加のプラズマガスを導入する、請求項１２記載の方法。
【請求項１４】  反応室の第２ゾーンの冷却が、自己洗浄性クエンチプローブにより行われる、請求項１１から１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】  上記自己洗浄性クエンチプローブが、
中央流路を提供し、その流路を通過する熱ガス又は反応性熱混合物を冷却するために適合した、上記反応器に装備された外側円筒状部品、
上記外側部品から流路内へ内向きに突き出している、円周上に間隔をあけて配置された複数の細長い歯またはスクレーパ、
上記外側円筒状部品の内側に間隔をあけて配置された内側円筒状部品であって、その内側部品もまたこれらの部品間の円周にそった間隙を通過する熱ガス又は反応性熱混合物を冷却するために適合しているもの、
上記内側部品から流路内へ外向きに突き出している、円周上に間隔をあけて配置された複数の細長い歯またはスクレーパであって、それら内側部品上の歯又はスクレーパが上記外側部品上の歯又はスクレーパに対して互い違いになるように配置されているもの、及び
一方の円筒状部品を他方の円筒状部品に対し振動するように駆動する駆動手段、
を含む、請求項１４記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月14日(2010.6.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】    フラットパネルディスプレイ装置内の支持構造を保持するための多層マトリックス構造であって、
前記フラットパネルディスプレイ装置のフェースプレートに配置された第１の構造と、
前記第１の構造を覆い、そして、前記フラットパネルディスプレイ装置内の所望の位置で第１の方向に前記支持構造を保持するための接触部を含む複数の突起構造と
を備える多層マトリックス構造。
【請求項２】    前記複数の突起構造が、複数の実質的に平行に離隔された隆起部であり、前記第１の構造が、前記フェースプレートの内部表面に配置され、前記第１の構造が多層構造であり、前記多層マトリックス構造が前記支持構造を摩擦で保持し、前記接触部が前記支持構造を摩擦で保持する、請求項１に記載の構造。
【請求項３】    前記多層構造が、前記多層構造の表面に沿って前記第１の方向で、前記複数の実質的に平行に離隔された隆起部の間に、前記多層構造の表面内で形成された開口部中に配置された複数の蛍光体ウェルを有する、請求項２に記載の多層マトリックス構造。
【請求項４】    前記多層マトリックス構造が前記支持構造を摩擦で保持し、
前記第１の構造が多層構造であり、
前記突起構造の各々が開口部を有し、前記接触部が、前記フラットパネルディスプレイ装置内の前記フェースプレート上で前記支持構造を摩擦で保持する、請求項１に記載の構造。
【請求項５】    前記複数の突起構造が、その中に形成された前記開口部内に配置された蛍光体を有する、請求項４に記載の多層マトリックス構造。
【請求項６】    前記第１の構造が多層薄膜構造を備える、請求項１、２または４に記載の多層マトリックス構造。
【請求項７】    前記多層薄膜構造が２層薄膜構造で構成される、請求項６に記載の多層マトリックス構造。
【請求項８】    前記多層薄膜構造が３層薄膜構造で構成される、請求項６に記載の多層マトリックス構造。
【請求項９】    前記２層薄膜構造が、ブラッククロム薄膜層およびクロム薄膜層で構成される、請求項７に記載の多層マトリックス構造。
【請求項１０】    前記第１の構造が、前記第１の構造と前記フラットパネルディスプレイ装置の前記フェースプレートとを電気的に接続するように構成された導電性ベースを備える、請求項１、２または４に記載の多層マトリックス構造。
【請求項１１】    前記多層薄膜構造が、導電性ベースの上に配置された金属被覆層で構成される、請求項６または７に記載の多層マトリックス構造。
【請求項１２】    前記３層薄膜構造が、導電性ベースと金属被覆層との間に配置された応力緩和層で構成され、前記応力緩和層が前記導電性ベースおよび前記金属被覆層に対して応力緩和をもたらすように構成される、請求項８に記載の多層マトリックス構造。
【請求項１３】    前記２層薄膜構造のうちの一層が、導電性ベースで構成され、前記導電性ベースがブラッククロムの層で形成される、請求項７に記載の多層マトリックス構造。
【請求項１４】    前記応力緩和層が窒化クロムの層で構成される、請求項１２に記載の多層マトリックス構造。
【請求項１５】    前記金属被覆層がクロムの層で構成される、請求項１２に記載の多層マトリックス構造。
【請求項１６】    前記多層構造が誘電体層と金属層で構成される、請求項２または４に記載の多層マトリックス構造。
【請求項１７】    前記多層構造が１つまたは複数の金属で構成される、請求項２または４に記載の多層マトリックス構造。
【請求項１８】    前記マトリックス構造が前記支持構造を摩擦で支持し、
前記第１の構造が薄い構造であり、
前記突起構造の各々が、開口部を有する離隔された構造突起であり、そして、
前記接触部が、前記フラットパネルディスプレイ装置内の前記フェースプレート上で前記支持構造を摩擦で保持する、請求項１に記載の構造。
【請求項１９】    前記第１の構造が、前記フェースプレートに配置された第１の層であり、そして、前記複数の突起構造が、開口部を有する離隔された突起構造であり、前記接触部が、前記フラットパネルディスプレイ装置内の前記フェースプレート上の所望の位置で前記支持構造を保持するためのものである、請求項１に記載の構造。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月16日(2010.6.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】    電界放出型ディスプレイ装置の保護フェースプレート構造であって、
蛍光体含有ウェルと、バリア層と、ナトリウムを含有するフェースプレートと、を備え、
前記バリア層が、前記蛍光体含有ウェルと前記フェースプレートの間に配置され、前記フェースプレートを覆い、透明な材料からなるバリア層であって、前記蛍光体含有ウェルに向かって導かれた電子による電子衝撃に起因した前記フェースプレートの劣化を防ぐバリア層を含む保護フェースプレート構造。
【請求項２】    前記バリア層が、二酸化ケイ素、Ａｌ２Ｏ３、ＣｒＯｘ、ＺｎＯ、Ｓｉ３Ｎ４、ＳｉＯ２、ＴａＯ５、酸化スズ、ＩＴＯ、ＺｒＯ２、Ｙ２Ｏ３、ＴｉＯ２およびＭｇＯ、並びに、これらの組合せから成るグループから選択された、請求項１に記載の保護フェースプレート構造。
【請求項３】    前記バリア層が選択的光吸収成分を含むことを特徴とする請求項１に記載の構造。
【請求項４】    前記選択的光吸収成分が染料および顔料から成るグループから選択された材料からなることを特徴とする請求項３に記載の構造。
【請求項５】    前記フェースプレートの各々のサブピクセルが、異なる選択的光吸収成分を含むことを特徴とする請求項３に記載の構造。
【請求項６】    フェースプレートと、前記フェースプレートに接合されたバックプレートと、ポリイミドから構成され、前記フェースプレートと前記バックプレートとの間に位置するマトリックス構造体と、を含む電界放射ディスプレイ装置であって、
前記マトリックス構造体は、隣接するサブピクセル領域を分離するように前記フェースプレートに設けられており、
前記サブピクセル領域に、蛍光物質と該蛍光物質の上に位置するアルミニウム層とが設けられており、
前記マトリックス構造体は、前記マトリックス構造体からの、熱によるガス放出及び電子の照射による不純物の脱離を防止するように前記マトリックス構造体を密閉する、シリコン酸化物またはインジウム錫酸化物からなる非多孔質で透明な不純物防止構造体と、前記マトリックス構造体の上で該不純物防止構造体を覆う、原子番号が１８未満の元素からなる導電性被膜と、から構成された導電性密閉層によって覆われており、
前記導電性密閉層は、前記蛍光物質の上に位置する前記アルミニウム層よりも電気伝導性または熱伝導性が高いことを特徴とする電界放射ディスプレイ装置。
【請求項７】    前記不純物防止構造体は、前記サブピクセル領域に延在して配置されており、
前記サブピクセル領域に設けられている、前記蛍光物質と前記蛍光物質の上に位置する前記アルミニウム層とが、前記不純物防止構造体の前記サブピクセル領域に位置する部分の上に設けられていることを特徴とする請求項１に記載の電界放射ディスプレイ装置。
【請求項８】    前記バリア層が選択的光吸収成分を含むことを特徴とする請求項６または７に記載の電界放射ディスプレイ装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月28日(2009.12.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  基板とテンプレート間に配置した活性化光硬化液を用いて、前記基板と前記基板から離れた前記テンプレートを整列させる方法であって、前記基板は基板アライメント・マークを有し、前記テンプレートはテンプレート・アライメント・マークを有し、前記方法は、
前記基板アライメント・マークと前記テンプレート・アライメント・マークの間に位置する領域に向かって、前記活性化光硬化液が移動することで前記活性化光硬化液を塗布するステップと、
前記領域に前記活性化光硬化液が到達する前に、前記基板に対する前記テンプレートのオーバレイの位置を変化させるステップと、
から成ることを特徴とする方法。
【請求項２】  前記オーバレイの位置を変化させるステップは、前記活性化光硬化液が前記領域に近づいた後、前記基板に対する前記テンプレートの前記オーバレイの位置を変化させるステップをさらに含むことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】  前記オーバレイの位置を変化させるステップは、
第１光波長を前記テンプレートを介して適用するステップであって、前記第１光波長によって前記基板アラインメント・マークに焦点が合わせられ、アナライザに対して前記テンプレート・アライメント・マークに焦点が外れる、ステップと、
前記テンプレートを介して第２の光波長を適用するステップであって、前記第２光波長によって前記テンプレート・アライメント・マークに焦点が合わせられ、アナライザに対して前記基板アラインメント・マークに焦点が外れる、ステップと、
から成ること特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項４】  前記活性化光硬化液上に活性化光をあてて、前記活性化光硬化液から硬化材料を形成するステップとをさらに含むことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項５】  前記オーバレイの位置を変化させるステップは、前記テンプレート・アライメント・マークを前記基板アラインメント・マークに重ね合わせることによって、所望のモアレ・パターンを形成して、前記基板と前記テンプレート間の整列を決定するステップをさらに含むことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項６】  前記活性化光硬化液は、間隔をおいた複数の液滴として前記基板上にさらに配置されることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項７】  前記方法は、前記活性化光に対し実質的に透明な前記テンプレートを用いて、前記活性化光硬化液上に前記活性化光をあてるステップをさらに含むことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項８】  シリコン、ヒ化ガリウム、水晶、溶融シリカ、サファイヤ、有機重合体、シロキサンポリマー、ホウケイ酸ガラス、フルオロカーボン重合体、およびこれらの混合体を含有する材料群から前記テンプレートを形成するステップをさらに含むことを特徴とする。
【請求項９】  ２５℃で測定された、２０センチポアズより小さい粘性を持つ前記活性化光硬化液を提供するステップをさらに含むことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項１０】  ２５℃で測定された、５センチポアズより小さい粘性を持つ前記活性化光硬化液を提供することを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項１１】  前記活性化光硬化液の一部分を前記テンプレートと接触させるため、前記テンプレートと前記基板の距離を縮めるステップであって、前記テンプレートを用いて前記活性化硬化液内に前記テンプレートの形状に適合するパターンを形成することを特徴とする請求項１記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】基板とこの基板から離れたテンプレートを整列させる方法
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月21日(2010.1.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
薬剤を調剤するための吸入器（１０）であって、当該吸入器が、
圧縮された気体を含む気体コンテナ（５）と、
前記圧縮された気体を用いて前記薬剤（１２Ｆ)をエーロゾル化する手段と、
直接的又は間接的に前記コンテナ内の前記気体の容積及び／又は圧力の変化を検出することができる感知手段（６）と、
導管を介した外部大気からユーザへの新鮮な空気の通過を制御するためのバルブ（９）を具える制御手段（８）と、
を具え、当該制御手段が前記感知手段によって検出された１の信号又は複数の信号に応じて前記薬剤のエーロゾル化とユーザの前記外部大気からの新鮮な空気の吸入との間の時間間隔を制御するように構成され、前記吸入器は使用中に、前記圧縮された気体を用いて前記薬剤をエーロゾル化し、前記ユーザの外部大気からの新鮮な空気の吸入を利用して、前記制御手段によって制御された前記時間間隔後に前記バルブを開放することによって、前記エーロゾル化した薬剤を前記ユーザに送達できることを特徴とする吸入器。
【請求項２】
請求項１に記載の吸入器において、前記気体コンテナ（５）の容積がそこに含まれる前記気体の圧力の変化に応じて変わるように構成されることを特徴とする吸入器。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の吸入器において、前記気体コンテナ（５）がそこにスライド可能に取り付けられるピストン（４８）を具え、当該ピストンが、前記コンテナ内の気体の圧力が第１の数値である場合、前記コンテナの容量は第１の数値となる第１の「休止位置」と、前記コンテナ内の気体の圧力がより高い第２の数値である場合、前記コンテナの容量はより高い第２の数値となる第２の「使用中の位置」との間を移動できることを特徴とする吸入器。
【請求項４】
請求項３に記載の吸入器において、前記気体コンテナが（５）が前記第１の位置方向に前記ピストン（４９）を駆り立てることができる付勢手段（５７）を具えることを特徴とする吸入器。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれか１項に記載の吸入器において、前記気体コンテナ（５）中の前記圧縮された気体が、
風洞を制御するのに用いられるバルブ（４）と、
当該バルブを開放するための手段と、
を具える手段によって放出できることを特徴とする吸入器。
【請求項６】
請求項５に記載の吸入器において、前記バルブを開放するための手段がトリガ（３）であり、手動で及び／又は前記ユーザの吸引力で作動させることができることを特徴とする吸入器。
【請求項７】
請求項１に記載の吸入器において、前記薬剤をエーロゾル化するための手段が、
前記薬剤粉末を効果的に飛沫同伴し、分散するように前記気体及び／又は空気のらせん状の流れを生成するために用いられるらせん状の気体導管（１２Ｆ）と、
前記薬剤があるシリンダ状の空洞と、
を含む群から選択され、前記気体及び／又は空気が最適な角度で風洞（１２Ｅ）を介して導入され、前記気体及び／又は空気のサイクロン流を生成し、これによって、前記薬剤を飛沫同伴し分散するように垂直方向の前記空洞（１２Ｇ）を出ることを特徴とする吸入器。
【請求項８】
請求項１に記載の吸入器において、前記感知手段が前記気体コンテナの容積、圧力、又はその双方の変化を検出し、
前記気体コンテナ（５）の容積及び／又は圧力の変化を直接的に検出し、反応するピストン（４９）と、
前記気体コンテナ（５）の圧力の変化を検出できる圧力計（５３）と、
を含む群から選択できるセンサ（６）を具えることを特徴とする吸入器。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれか１項に記載の吸入器において、前記制御手段が前記薬剤のエーロゾル化と前記ユーザの吸入との間の時間間隔を制御することができ、前記ユーザの吸入は、エーロゾル化が特定の期間で生じた後にのみ、前記ユーザの口腔を通過することを特徴とする吸入器。
【請求項１０】
請求項１ないし９のいずれか１項に記載の吸入器において、前記制御手段が導管を介して前記ユーザに対する空気の流れを制御するためのバルブを具えることを特徴とする吸入器。
【請求項１１】
請求項１に記載の吸入器において、前記制御手段がタイマを具えることを特徴とする吸入器。
【請求項１２】
請求項１１に記載の吸入器において、前記タイマ（８）が、
前記気体コンテナ（５）と、
前記１のセンサ（６）又は複数のセンサと、
前記バルブ（９）と、
取り付けられたロッドを有するピストンを伴うシリンダと、取り付けられたロッドを有する振動板を伴うシリンダと、バルブを開放するためにトリガとして作用する他の手段とからなる群から選択できるトリガ（７）と、
の組合せ作用である内在タイマであり、これによって、前記１のセンサ又は複数のセンサが前記気体コンテナ中の変化を検出し、前記吸入器が動作中である場合、前記風洞を通過する新鮮な空気を前記ユーザが吸引するのを可能にするために、時間間隔後に前記バルブを開放するように前記トリガを作動させることを特徴とする吸入器。
【請求項１３】
請求項１ないし１２のいずれか１項に記載の吸入器が、前記気体コンテナの充填時に１回分の薬剤を、前記エーロゾル化手段（１２Ｆ）に自動的に供給するために、前記気体コンテナ（５）と接続するよう構成できる薬剤供給装置（２）を具えることを特徴とする吸入器。
【請求項１４】
請求項１３に記載の吸入器において、前記薬剤供給装置が粉末リサーバからの単位量の薬剤粉末を測定するのに用いられるデバイス（２０）を具えることを特徴とする吸入器。
【請求項１５】
請求項１ないし１４のいずれか１項に記載の吸入器において、当該吸入器がドライパウダー吸入器であることを特徴とする吸入器。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月5日(2010.2.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
キトサン及びキトサン誘導体から選択される注射可能な生体吸収性のポリサッカリドの注射可能なゲルと、前記ゲル中に懸濁状態で吸収性のキチン及び/またはキトサン粒子とを含む、組成物。
【請求項２】
前記ポリサッカリドが、30から95 %、好ましくは70から90 %、よりこのましくは75から85 %、よりいっそう好ましくは80から85 %、最も好ましくは約85 %の脱アセチル化の度合を有する、キトサン及びそれの誘導体から選択される、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記注射可能な生体吸収性のポリサッカリドが、スクシノキトサングルタメートである、請求項１または２に記載の組成物。
【請求項４】
0.1から20 ％w/w、好ましくは1から10 %w/w、より好ましくは1から5% w/wのキトサンまたはそれの誘導体を、注射可能な生体吸収性のポリサッカリドとして含む、請求項１から３のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項５】
前記ポリサッカリドが、植物を起源とするキトサンまたはキトサン誘導体である、請求項１から４のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項６】
前記ポリサッカリドが、動物を起源とするキトサンまたはキトサン誘導体である、請求項１から５のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項７】
前記注射可能な生体吸収性のポリサッカリド及び/または前記粒子のキトサンもしくはキチンがGMPグレードのキトサンから由来する、請求項１から６のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項８】
前記組成物中の吸収性の粒子の量が、組成物の総重量のうち0.1から10 %の間、好ましくは1から5%の間で、より好ましくは1から2 %の間の重量である、請求項１から７のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項９】
前記吸収性の粒子が、本質的にキチンからなる、請求項１から８のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１０】
前記吸収性の粒子がミクロスフェアである、請求項１から９のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１１】
前記吸収性の粒子が3から150 μm、好ましくは5から40 μmの平均直径を有する、請求項１から１０のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１２】
前記組成物が、本質的にいずれの付加的な製剤変性剤も含まない、請求項１から１１のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１３】
前記吸収性の粒子が、1から6ヶ月の生体吸収時間を有する、請求項１から１２のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１４】
前記組成物の濃度が、前記粒子の濃度と同等である、請求項１から１３のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１５】
70から90 %の脱アセチル化の度合を有するキトサンを溶解し、その後グルタミン酸及び無水コハク酸を連続添加し、中和し、グルタミン酸添加の前もしくは後、または最終工程に行われるキチン及び/またはキトサンを含む粒子の攪拌しながらの添加、そして任意の滅菌の工程を含む、請求項１から１４のいずれか１項に記載の組成物の製造方法。
【請求項１６】
請求項１から１４のいずれか１項に記載の組成物を含む、医療器具。
【請求項１７】
前記組成物が無菌の注射器中ですぐに使用できる、請求項１６に記載の医療器具。
【請求項１８】
請求項１から１４のいずれか１項に記載の組成物が、ヒトまたは動物のいずれかの顔または身体の空洞を埋めるために、皮下または皮内経路を介して注射される、審美的治療方法。
【請求項１９】
埋めようとする空洞が、しわ、小じわ、肌の陥没、ざそうの傷あとまたは他の傷から起こった皮膚領域の空洞である、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
複数の連続注射が行われる、請求項１８または１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記空洞が脂肪萎縮症の結果である、請求項１８から２０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２２】
前記治療が歯肉の陥没を埋めるためである、請求項１８から２０のいずれか１項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月13日(2010.1.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
実施例８：出発物質が、３０グラムの硝酸鉄（Ｆｅ（ＮＯ３）２・９Ｈ２Ｏ）、３．８０グラム（Ｚｎ（ＮＯ３）２・６Ｈ２Ｏ）、４．０２グラムの硝酸ニッケル（Ｎｉ（ＮＯ３）２・６Ｈ２Ｏ）、０．３６グラムの硝酸リチウム（ＬｉＮＯ３）であり、２２グラムの重炭酸アンモニウムを使用したことを除けば、実施例１を繰り返した。前駆体材料を乾燥させ、空気中４５０℃で１時間加熱すると、８ｎｍの結晶リチウム亜鉛ニッケル鉄酸化物（Ｌｉ０．１５Ｚｎ０．３Ｎｉ０．４Ｆｅ２．１５Ｏ４）が得られた。
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月20日(2010.1.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
機械ハウジング（７）内に、前後に移動可能な衝撃ピストン（２）を有し、衝撃ピストン（２）の動作が前後に移動可能なバルブ本体（５）を介して制御可能であり、衝撃ピストンの軸方向位置を表示する信号に依存して、ピストン（２）の駆動表面の配置されるチャンバーを圧力源と低圧力とに交互に接続するよう構成され、上記信号を伝送する制御チャネル手段（１０、１２；１０’、１２’）が、ピストン（２）の制御端部（１１、１３）と共動する、ピストン（２）を受ける円筒空間内に開いた開口手段をもち、上記信号が伝達されるピストンの軸方向位置を調節できるようにする調節手段が設けられている衝撃装置において、
上記調節手段が、ピストンと接触し、開口手段をもつ制御チャネル手段の部分（１０、１２、１０’、１２’）を備える、少なくとも一つの軸方向に変位可能な制御手段（９、９’、９’’）を備えていることを特徴とする衝撃装置。
【請求項２】
上記制御手段が、ピストン表面に対応する接触面をもつ少なくとも一つの構成要素を備え、該構成要素が断面において、ピストンの周囲の非常に小さな部分であることを特徴とする請求項１に記載の衝撃装置。
【請求項３】
変位可能な制御手段が、ドリル軸に対して前進位置でピストンと共動する第一の制御チャネル手段を備えていることを特徴とする請求項１〜２の何れか一項に記載の衝撃装置。
【請求項４】
変位可能な制御手段が、ドリル軸に対して後退位置でピストンと共動する第二の制御チャネル手段を備えていることを特徴とする請求項１〜３の何れか一項に記載の衝撃装置。
【請求項５】
第一の変位可能な制御手段が、ドリル軸に向かって前進位置でピストンと共動する第一の制御チャネル手段を備え、第二の変位可能な制御手段が、ドリル軸に対して後退位置でピストンと共動する第二の制御チャネル手段を備えていることを特徴とする請求項１〜３の何れか一項に記載の衝撃装置。
【請求項６】
一つ或いは複数の上記制御手段が、掘削過程を表すパラメーターへのレスポンスとして変位可能であることを特徴とする請求項１〜５の何れか一項に記載の衝撃装置。
【請求項７】
上記パラメーターが、掘削速度、減衰チャンバーの圧力、検知された衝撃波振幅のグループのうちの何れかであることを特徴とする請求項６に記載の衝撃装置。
【請求項８】
請求項１〜７の何れか一項に記載の衝撃装置を備える削岩機。
【請求項９】
機械ハウジング（７）内に前後に移動可能な衝撃ピストン（２）を備え、衝撃ピストン（２）の動作が前後に移動可能なバルブ本体（５）を介して制御可能であり、衝撃ピストンの軸方向位置を表示する信号に依存して、チャンバーに圧力源と低圧力とを交互に接続するよう構成され、チャンバーにはピストン（２）の駆動表面が配置され、上記信号を伝達する制御チャネル手段（１０、１２；１０’１２’）が、ピストン（２）の制御端部（１１、１３）と共動するピストン（２）を受ける円筒空間内に開いた開口手段をもち、上記信号の伝達されるピストンの軸方向位置を調節する衝撃装置を制御する方法において、
ピストンと接触し、開口手段をもつ制御チャネル手段の部分（１０、１２、１０’、１２’）を備える制御手段（９、９’、９’’）が、軸方向に変位されることを特徴とする方法。
【請求項１０】
第一の変位可能な制御手段が、ドリル軸に対して前進位置でピストンと共動する第一の制御チャネル手段を備え、第二の変位可能な制御手段が、ドリル軸からその後退位置でピストンと共動する第二の制御チャネル手段を備えていることを特徴とする請求項９に記載の方法。