【誤訳訂正書】
【提出日】平成22年8月18日(2010.8.18)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の表面材料を含む物体表面上の複数点の相対位置を測定するための表面プロファイリング方法であって、
前記相対位置に関する干渉計データを収集する段階と、
前記収集した干渉計データと、前記表面材料の各々に対する反射による位相変化（ＰＣＯＲ）の分散を示す少なくとも１つの値とに基づいて、前記相対位置を計算する段階と、が含まれることを特徴とする方法。
【請求項２】
物体表面上における複数の各点の共通基準表面に対する絶対位置を測定するための表面プロファイリング方法であって、
前記絶対位置に関する干渉計データを収集する段階と、
前記収集した干渉計データと、前記物体表面の反射による位相変化（ＰＣＯＲ）の分散及び前記干渉計データを収集するために用いる干渉計システムの反射による位相変化（ＰＣＯＲ）の分散を示す少なくとも１つの値とに基づいて、前記絶対位置を計算する段階と、が含まれることを特徴とする方法。
【請求項３】
物体表面上における複数の各点の共通基準表面に対する絶対位置を測定するための表面プロファイリング方法であって、
前記絶対位置に関する干渉計データを収集する段階と、
前記収集した干渉計データと、前記物体表面の反射による位相変化（ＰＣＯＲ）γｐａｒｔ及び前記干渉計データを収集するために用いる干渉計システムの反射による位相変化（ＰＣＯＲ）γｓｙｓを示す少なくとも１つの値とに基づいて、前記絶対位置を計算する段階と、が含まれることを特徴とする方法。
【請求項４】
表面プロファイリング方法であって、
測定物体の表面プロファイルに関する干渉計データを収集する段階と、
前記収集した干渉計データと、前記測定物体の前記プロファイル測定表面の反射による位相変化（ＰＣＯＲ）の分散を示す少なくとも１つの値とに基づいて、前記表面プロファイルを計算する段階と、が含まれることを特徴とする方法。
【請求項５】
請求項４に記載の方法であって、
前記表面プロファイルの前記計算は、前記収集した干渉計データ及び前記測定物体の前記プロファイル測定表面の異なった領域の反射による位相変化（ＰＣＯＲ）の分散を示す複数の値に基づくことを特徴とする方法。
【請求項６】
請求項４に記載の方法であって、
前記表面プロファイルの前記計算は、前記収集した干渉計データ並びに前記測定物体の前記プロファイル測定表面の異なった領域の反射による位相変化（ＰＣＯＲ）及び前記干渉計データを収集するために用いる干渉計システムの反射による位相変化（ＰＣＯＲ）の分散を示す少なくとも１つの値に基づくことを特徴とする方法。
【請求項７】
請求項４に記載の方法であって、
干渉計データの前記収集には、前記測定物体の前記表面プロファイルに関する走査干渉計データを収集する段階が含まれることを特徴とする方法。
【請求項８】
請求項４に記載の方法であって、
前記収集した干渉計データは、前記プロファイル測定表面上の複数の各点に対する波数ベクトルｋにおける少なくとも１つの位相値φ（ｋ）を含み、前記表面プロファイルの前記計算は、
【数１】
2003534540.tif 000001
の関係に基づき、ここで、ｈは表面高さ、ζは基準オフセット位置、ｎは屈折率、γｐａｒｔは波数ベクトルｋにおける前記プロファイル測定表面の反射による位相変化（ＰＣＯＲ）、γｓｙｓは前記波長ベクトルｋにおける前記干渉計データを収集するために用いる干渉計システムの反射による位相変化（ＰＣＯＲ）、τｐａｒｔは基準波数ベクトルｋ０に対する前記プロファイル測定表面の反射による位相変化（ＰＣＯＲ）の線形分散、τｓｙｓは波数ベクトルｋ０に対する前記干渉計システムの反射による位相変化（ＰＣＯＲ）の線形分散であることを特徴とする方法。
【請求項９】
請求項４に記載の方法であって、
前記収集した干渉計データは、前記プロファイル測定表面上の複数の各点に対する複数の波数ベクトル値ｋに対応する複数の位相値φ（ｋ）を含み、前記表面プロファイルの前記計算は、
【数２】
2003534540.tif 000002
の関係に基づき、ここで、ｈは表面高さ、ζは基準オフセット位置、ｎは屈折率、τｐａｒｔは、基準波数ベクトルｋ０に対する前記プロファイル測定表面の反射による位相変化（ＰＣＯＲ）の線形分散、τｓｙｓは、基準波数ベクトルｋ０に対する前記干渉計データを収集するために用いられる干渉計システムの反射による位相変化（ＰＣＯＲ）の線形分散であることを特徴とする方法。
【請求項１０】
請求項４に記載の方法であって、
前記干渉計データは、前記プロファイル測定表面上の複数の各点に対する走査基準ミラーの複数の位置ζに対応する複数の位相値φ（ζ）を含む走査干渉計データであり、又、前記表面プロファイルの前記計算には、波数ベクトル領域の各点に対する前記複数の位相値を変換する段階と、波数ベクトルに対して各点の前記変換された位相値の微分係数を計算する段階と、各点の微分係数と前記測定物体の前記プロファイル測定表面の反射による位相変化（ＰＣＯＲ）の分散を示す前記少なくとも１つの値とから表面プロファイルを計算する段階と、が含まれることを特徴とする方法。
【請求項１１】
請求項１０に記載の方法であって、
前記少なくとも１つの値は、前記測定物体の前記プロファイル測定表面の反射による位相変化（ＰＣＯＲ）の前記分散及び前記干渉計データを収集するために用いる走査干渉計システムの反射による位相変化（ＰＣＯＲ）の前記分散を示し、又、前記計算された表面プロファイルは、前記プロファイル測定表面上の前記複数の各点に対して、共通基準表面に対する絶対位置を含むことを特徴とする方法。
【請求項１２】
請求項４に記載の方法であって、
前記干渉計データには、コヒーレンスプロファイリングデータ及び位相プロファイリングデータが含まれ、前記表面プロファイルの前記計算には、前記コヒーレンスプロファイリングデータと反射による位相変化（ＰＣＯＲ）の前記分散を示す前記少なくとも１つの値とを用いて前記表面プロファイルの初期推定値を求める段階と、前記初期推定値を用いて前記位相プロファイリングデータの干渉縞の曖昧さを解決する段階と、が含まれることを特徴とする方法。
【請求項１３】
請求項４に記載の方法であって、
前記少なくとも１つの値は、τｐａｒｔ＋τｓｙｓであり、ここで、τｐａｒｔは、基準波数ベクトルｋ０に対する前記プロファイル測定表面の反射による位相変化（ＰＣＯＲ）の線形分散であり、τｓｙｓは、前記基準波数ベクトルｋ０に対する前記干渉計データを収集するために用いる干渉計システムの反射による位相変化（ＰＣＯＲ）の線形分散であることを特徴とする方法。
【請求項１４】
請求項４に記載の方法であって、
前記少なくとも１つの値は、τｐａｒｔ及びτｓｙｓを含み、ここで、τｐａｒｔは基準波数ベクトルｋ０に対する前記プロファイル測定表面の反射による位相変化（ＰＣＯＲ）の線形分散であり、τｓｙｓは、前記基準波数ベクトルｋ０に対する前記干渉計データを収集するために用いる干渉計システムの反射による位相変化（ＰＣＯＲ）の線形分散であることを特徴とする方法。
【請求項１５】
請求項１４に記載の方法であって、
前記少なくとも１つの値は、更に、γｐａｒｔ及びγｓｙｓを含み、ここで、γｐａｒｔは、個々の波数ベクトルｋにおける前記プロファイル測定表面の反射による位相変化（ＰＣＯＲ）であり、γｓｙｓは、前記波数ベクトルｋにおける前記干渉計システムの反射による位相変化（ＰＣＯＲ）であることを特徴とする方法。
【請求項１６】
請求項４に記載の方法であって、
前記少なくとも１つの値には、前記プロファイル測定表面の反射による位相変化（ＰＣＯＲ）の前記分散を示す第１の値と、特定の波数ベクトルｋに対する前記プロファイル測定表面の反射による位相変化（ＰＣＯＲ）を示す第２の値と、が含まれることを特徴とする方法。
【請求項１７】
請求項４に記載の方法であって、
前記計算された表面プロファイルは、前記プロファイル測定表面上における複数の各点の共通基準表面に対する絶対位置を含むことを特徴とする方法。
【請求項１８】
請求項４に記載の方法であって、
前記収集された干渉計データは、基準ミラー走査位置ζの関数として、コヒーレンス・プロファイリング強度データを含み、前記表面プロファイルの前記計算は、
【数３】
2003534540.tif 000003
の関係に基づき、ここで、ｈは表面高さであり、ζｍａｘは前記強度データが最大である前記基準走査位置であり、ｎは屈折率であり、τｐａｒｔは基準波数ベクトルｋ０に対するプロファイル測定表面の反射による位相変化（ＰＣＯＲ）の線形分散であり、τｓｙｓは、前記基準波数ベクトルｋ０に対する前記干渉計データを収集するために用いる干渉計システムの反射による位相変化（ＰＣＯＲ）の線形分散であることを特徴とする方法。
【請求項１９】
動作中、測定物体の表面プロファイルに関する干渉計データを提供する干渉計システムと、
前記干渉計システムに接続された電子処理装置と、を備え、
前記電子処理装置は、動作中、前記干渉計データと、前記測定物体のプロファイル測定表面の反射による位相変化（ＰＣＯＲ）の分散を示す少なくとも１つのパラメータとに基づき、前記表面プロファイルを計算することを特徴とする表面プロファイリングシステム。
【請求項２０】
請求項１９に記載の表面プロファイリングシステムであって、
前記少なくとも１つのパラメータは、前記測定物体の前記プロファイル測定表面の反射による位相変化（ＰＣＯＲ）の分散及び前記干渉計システムの反射による位相変化（ＰＣＯＲ）の分散を示し、前記電子処理装置によって計算された前記表面プロファイルには、前記プロファイル測定表面上における複数の各点の共通基準表面に対する絶対位置が含まれることを特徴とするシステム。
【請求項２１】
請求項１９に記載の表面プロファイリングシステムであって、
動作中、前記電子処理装置は、前記干渉計データと、前記プロファイル測定表面の異なった表面材料の反射による位相変化（ＰＣＯＲ）の分散を示すパラメータとに基づき、前記表面プロファイルを計算することを特徴とするシステム。
【請求項２２】
請求項１９に記載の表面プロファイリングシステムであって、前記干渉計システムには、
広帯域光源と、
動作中、基準経路に沿って前記光源から得られる第１波面と前記測定物体に接触する測定経路に沿って前記光源から得られる第２波面とを導く走査干渉計であって、前記第２波面が前記測定物体に接触した後、前記波面を合成して光学干渉パターンを生成する前記走査干渉計と、
前記光学干渉パターンに応じて前記干渉計データを生成する検出器と、
前記干渉計と前記検出器に接続され、動作中、前記走査干渉計に前記基準経路と測定経路との間の前記光路差を変更させる走査制御装置と、が含まれることを特徴とするシステム。
【請求項２３】
基準波数ベクトルｋ０に対する干渉計システムの反射による位相変化（ＰＣＯＲ）γｓｙｓ及び前記干渉計システムの反射による位相変化（ＰＣＯＲ）の線形分散τｓｙｓの内少なくとも１つを測定するために前記干渉計システムの較正を行なうための方法であって、
前記干渉計システムを用いて、試験表面に関する干渉計データを収集する段階と、
前記試験表面のプロファイルｈ、基準波数ベクトルｋ０に対する前記試験表面の反射による位相変化（ＰＣＯＲ）γｐａｒｔ、及び前記試験表面の反射による位相変化（ＰＣＯＲ）の線形分散τｐａｒｔからは独立した情報を提供する段階と、
前記干渉計データと前記独立した情報とに基づいて、前記干渉計システムの反射による位相変化（ＰＣＯＲ）γｓｙｓ、及び前記干渉計システムの反射による位相変化（ＰＣＯＲ）の前記線形分散τｓｙｓの内の少なくとも１つを計算する段階と、が含まれることを特徴とする方法。
【請求項２４】
請求項２３に記載の方法であって、
前記収集した干渉計データには、前記試験表面上の複数の各点に対する波数ベクトルｋにおける少なくとも１つの位相値φ（ｋ）を含み、前記表面プロファイルの前記計算は、
【数４】
2003534540.tif 000004
の関係に基づき、ここで、ζは基準オフセット位置であり、ｎは屈折率であることを特徴とする方法。
【請求項２５】
請求項２３に記載の方法であって、
前記γｓｙｓ及びτｓｙｓの内の少なくとも１つは、γｓｙｓであることを特徴とする方法。
【請求項２６】
請求項２３に記載の方法であって、
前記γｓｙｓ及びτｓｙｓの内の少なくとも１つは、τｓｙｓであることを特徴とする方法。
【請求項２７】
請求項２３に記載の方法であって、
前記γｓｙｓ及びτｓｙｓの内の少なくとも１つは、γｓｙｓ及びτｓｙｓであり、前記干渉計データは、実験的に観測された位相ギャップＧｅｘを提供し、又、τｓｙｓの前記計算は、
【数５】
2003534540.tif 000005
の関係に基づくことを特徴とする方法。
【請求項２８】
基準波数ベクトルｋ０に対する試験材料の反射による位相変化（ＰＣＯＲ）γｐａｒｔ及び前記試験材料の反射による位相変化（ＰＣＯＲ）の線形分散τｐａｒｔの内の少なくとも１つを測定するための方法であって、
干渉計システムを用いて試験表面に関する干渉計データを収集する段階と、
基準波数ベクトルｋ０に対する前記干渉計システムの反射による位相変化（ＰＣＯＲ）γｓｙｓ及び前記干渉計システムの反射による位相変化（ＰＣＯＲ）の前記線形分散τｓｙｓからは独立した情報を提供する段階と、
前記干渉計データと前記独立した情報とに基づいて、前記試験材料の反射による位相変化（ＰＣＯＲ）γｐａｒｔ及び前記試験材料の反射による位相変化（ＰＣＯＲ）の前記線形分散τｐａｒｔの内の少なくとも１つを計算する段階と、が含まれることを特徴とする方法。
【請求項２９】
請求項２８に記載の方法であって、
前記γｐａｒｔ及びτｐａｒｔの内の少なくとも１つは、τｐａｒｔであり、前記干渉計データは、実験的に観測された位相ギャップＧｅｘを提供し、又、τｐａｒｔの前記計算は、
【数６】
2003534540.tif 000006
の関係に基づくことを特徴とする方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００５】
一般的に、１つの側面において、本発明は、複数の表面材料を含む物体表面上の複数点の相対位置を測定するための表面プロファイリング方法を特徴とする。この方法には、相対位置に関する干渉計データを収集する段階と、収集した干渉計データと、表面材料の各々に対する反射による位相変化（ＰＣＯＲ）の分散を示す少なくとも１つの値とに基づいて、相対位置を計算する段階とが含まれる。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００６】
一般的に、他の側面において、本発明は、複数の表面材料を含む物体表面上の複数点の相対位置を測定するための表面プロファイリング方法を特徴とする。この方法には、相対位置に関する干渉計データを収集する段階と、収集した干渉計データと、表面材料の各々に対する反射による位相変化（ＰＣＯＲ）γｐａｒｔを示す少なくとも１つの値とに基づいて、相対位置を計算する段階とが含まれる。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００７】
一般的に、他の側面において、本発明は、物体表面上における複数の各点の共通基準表面に対する絶対位置を測定するための表面プロファイリング方法を特徴とする。この方法には、次の段階が含まれる。すなわち、絶対位置に関する干渉計データを収集する段階と、収集した干渉計データと、物体表面の反射による位相変化（ＰＣＯＲ）の分散及び干渉計データを収集するために用いる干渉計システムの反射による位相変化（ＰＣＯＲ）の分散を示す少なくとも１つの値とに基づいて、絶対位置を計算する段階と、が含まれる。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００８】
一般的に、他の側面において、本発明は、物体表面上における複数の各点の共通基準表面に対する絶対位置を測定するための表面プロファイリング方法を特徴とする。この方法には、次の段階が含まれる。すなわち、絶対位置に関する干渉計データを収集する段階と、収集した干渉計データと、物体表面の反射による位相変化（ＰＣＯＲ）γｐａｒｔ及び干渉計データを収集するために用いる干渉計システムの反射による位相変化（ＰＣＯＲ）γｓｙｓを示す少なくとも１つの値とに基づいて、絶対位置を計算する段階と、が含まれる。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００９】
一般的に、他の側面において、本発明は、測定物体の表面プロファイルに関する干渉計データを収集する段階と、収集した干渉計データと、測定物体のプロファイル測定表面の反射による位相変化（ＰＣＯＲ）の分散を示す少なくとも１つの値とに基づいて、表面プロファイルを計算する段階と、が含まれる表面プロファイリング方法を特徴とする。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１７】
このような実施形態において、この少なくとも１つの値は、測定物体のプロファイル測定表面の反射による位相変化（ＰＣＯＲ）の分散及び干渉計データを収集するために用いる走査干渉計システムの反射による位相変化（ＰＣＯＲ）の分散を示すことが可能であり、又、計算された表面プロファイルは、プロファイル測定表面上の複数の各点に対して、共通基準表面に対する絶対位置を与える。干渉計データには、コヒーレンスプロファイリングデータ及び位相プロファイリングデータが含まれ、表面プロファイルの計算には、コヒーレンスプロファイリングデータと反射による位相変化（ＰＣＯＲ）の分散を示す少なくとも１つの値とを用いて表面プロファイルの初期推定値を求める段階と、位相プロファイリングデータの干渉縞の曖昧さを解決するために初期推定値を用いる段階と、が含まれる。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２８】
一般的に、他の側面において、本発明は、基準波数ベクトルｋ０に対する干渉計システムの反射による位相変化（ＰＣＯＲ）γｓｙｓ、及び干渉計システムの反射による位相変化（ＰＣＯＲ）の線形分散τｓｙｓの内少なくとも１つを測定するために干渉計システムを較正するための方法を特徴とする。この較正方法には、干渉計システムを用いて試験表面に関する干渉計データを収集する段階と、試験表面のプロファイルｈ、基準波数ベクトルｋ０に対する試験表面の反射による位相変化（ＰＣＯＲ）γｐａｒｔ、及び試験表面の反射による位相変化（ＰＣＯＲ）の線形分散τｐａｒｔからは独立した情報を提供する段階と、干渉計データと、独立した情報とに基づいて、干渉計システムの反射による位相変化（ＰＣＯＲ）γｓｙｓ、及び干渉計システムの反射による位相変化（ＰＣＯＲ）の線形分散τｓｙｓの内少なくとも一つを計算する段階と、が含まれる。
【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３１】
一般的に、他の側面において、本発明は、基準波数ベクトルｋ０に対する試験材料の反射による位相変化（ＰＣＯＲ）γｐａｒｔ及び試験材料の反射による位相変化（ＰＣＯＲ）の線形分散τｐａｒｔの内の少なくとも１つを測定するための方法を特徴とする。この方法には、干渉計システムを用いて試験表面に関する干渉計データを収集する段階と、基準波数ベクトルｋ０に対する干渉計システムの反射による位相変化（ＰＣＯＲ）γｓｙｓ及び干渉計システムの反射による位相変化（ＰＣＯＲ）の線形分散τｓｙｓからは独立した情報を提供する段階と、干渉計データと、独立した情報とに基づいて、試験材料の反射による位相変化（ＰＣＯＲ）γｐａｒｔ及び試験材料の反射による位相変化（ＰＣＯＲ）の線形分散τｐａｒｔの内の少なくとも一つを計算する段階と、が含まれる。幾つかの実施形態において、γｐａｒｔ及びτｐａｒｔの内の少なくとも１つはτｐａｒｔであり、干渉計データは、実験的に観測された位相ギャップＧｅｘを提供し、又、τｐａｒｔの計算は、τｐａｒｔ＝〔（γｐａｒｔ＋γｓｙｓ−Ｇｅｘ）／ｋ０〕−τｓｙｓの関係に基づく。
本発明の他の側面、利点、及び特徴は以下の通りである。
【誤訳訂正１０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５５】
部分的に特徴付け用模型自体の位置及び方位の関数であるシステムパラメータγｓｙｓ、τｓｙｓの先端部、傾き及びピストンの全てを維持する必要はない。従って、共通の先端部、傾き及びピストンの項を領域依存データγｓｙｓ、τｓｙｓから減算することが可能であるが、これらの項間の関係を維持するように領域依存データγｓｙｓ、τｓｙｓの双方に対して、全く同じ方法で実行される限り可能である。このことは、γｓｙｓから先端部／傾きを最初に取り除き、そして式（９）を用いてτｓｙｓを再計算することにより実行される。システムパラメータの先端部、傾き及びピストンを調整することは、光プロファイラ基準面Ｈの先端部、傾き及びピストンを調整することに等しい。