【手続補正書】
【提出日】平成22年6月16日(2010.6.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
平面を有する平面要素と，前記平面に平行に延びる第１の軸に沿って配置される球状体の第１の対であって前記平面に対してほぼ中心に配置される球状体の前記第１の対を含むピボット位置要素とを含む，選択的に位置決め可能な平面要素アセンブリ，
前記第１の軸に対して垂直に延びる第２の軸に沿って配置される球状体の第２の対であって，球状体の前記第１の対にピボット可能に係合する球状体の前記第２の対により形成されるピボット支持要素，
前記平面に磁力を働かせて前記平面要素を前記ピボット支持要素のまわりにおいてピボットさせるように配置される少なくとも２個の電磁石変位装置，
前記平面要素の位置を検知する少なくとも１個のセンサ，および
少なくとも１個の前記センサの少なくとも１つの出力に応答して少なくとも２個の前記電磁石変位装置の動作を制御するように働くフィードバック回路，
を備える平面ティルティング装置。
【請求項２】
球状体の前記第１の対は相互に接触する構成である，請求項１に記載の平面ティルティング装置。
【請求項３】
球状体の前記第２の対は相互に接触する構成である，請求項１に記載の平面ティルティング装置。
【請求項４】
球状体の前記第１の対および球状体の前記第２の対のうちの少なくとも一方は炭化タングステンにより形成される，請求項１に記載の平面ティルティング装置。
【請求項５】
前記平面要素が前記ピボット支持要素とピボット可能に係合した状態に保持するように働く保持磁石をさらに備える，請求項１に記載の平面ティルティング装置。
【請求項６】
前記保持磁石は環状磁石を備える，請求項５に記載の平面ティルティング装置。
【請求項７】
少なくとも２個の前記電磁石変位装置は，前記ピボット位置部分に関して対称に分布する複数の電磁石を備える，請求項１に記載の平面ティルティング装置。
【請求項８】
少なくとも１個の前記センサは容量型センサを備える，請求項１に記載の平面ティルティング装置。
【請求項９】
前記フィードバック回路は，単一の軸のまわりにおいて前記平面要素がティルトするのを制御し，それによって前記平面要素の二次元位置に影響を及ぼす，請求項１に記載の平面ティルティング装置。
【請求項１０】
前記フィードバック回路は，２つの軸のまわりにおける前記平面要素のティルトを制御し，それによって前記平面要素の三次元位置に影響を及ぼす，請求項１に記載の平面ティルティング装置。
【請求項１１】
前記平面要素はミラー要素用のベースを備える，請求項１に記載の平面ティルティング装置。
【請求項１２】
前記フィードバック回路は，第１の位置決め軸のまわりにおける前記平面要素の位置決めを制御する働きをする第１の制御回路と，前記第１の位置決め軸に対して垂直に延びる第２の位置決め軸のまわりにおける前記平面要素の位置決めを制御する働きをする第２の制御回路とを備える，請求項１に記載の平面ティルティング装置。
【請求項１３】
前記平面要素が少なくとも部分的に強磁性材料により形成される，請求項１に記載の平面ティルティング装置。
【請求項１４】
少なくとも１個の前記センサが前記平面素子の下に配置される，請求項１に記載の平面ティルティング装置。
【請求項１５】
前記フィードバック回路は，少なくとも２個の前記電磁石変位装置の前記動作によって，前記平面要素を位置決めするように働く，請求項１に記載の平面ティルティング装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
前記ピボット位置部分は，平面要素の裏側（下側）に取付けられる球状体（球体）の第２の対（第２の対の球状体）を含み，この球状体の第２の対は，球状体の前記第１の対とピボット可能に係合する（pivotably engaging）とともに，前記第１の軸および前記方向に対してほぼ（実質的に）垂直に延びる第２の軸に沿って配置される。球状体の第２の対は，相互に接触する構成とされるか，または非接触の構成とされる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
能動的変位装置１２８および１３０は電磁石を備え，受動的変位装置１３２および１３４は，それぞれ変位装置１２８および１３０の反対側に配置される。受動的変位装置１３２および１３４のそれぞれは，引張コイルばね（tension coil spring）１３６を含み，これは固定構造（anchoring structure）によりベース１１０に固定される第１の端部と取付ディスク１３７により板１２０の下側に固定される第２の端部とを有する。受動的変位装置１３２および１３４は，電磁石１２８および１３０により平板１２０に加えられる力とは反対方向の力を与える。第１の軸１３８は変位装置１３０と１３４との間を延びており，第１の軸１３８とは平行ではなく，好適には垂直である第２の軸１３９は変位装置１２８と１３２と間において延びていることがわかる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
環状磁石２１７は，中心シャフト２１２上に取付けられる。磁石２１７は，好適には少なくとも部分的に強磁性材料により形成される平板２２０などの位置決め対象物に対して吸引磁力を働かせる作用をする。平板２２０の下側にはピボット位置アセンブリ（pivot location assembly）２２１が取付けられており，それは図示される実施例では，好適には炭化タングステンにより形成される１対の球体（球状体）２２２を備え，これらは第２の軸２２３に沿って配置されている。球体２２２は，相互に接触する構造にて配置されるが，このことは必須ではない。第２の軸２２３は，第１の軸２１６に対して垂直であり，板２２０の平面に平行である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
支持シャフト２１２から径方向外方に離隔して，作動すると平板２２０を吸引する好適には電磁石である複数の変位装置が配置される。図示されている実施例では，４個のこのような変位装置２２８，２３０，２３２および２３４が設けられ，これらは互いに等間隔に配置されている。これに代えて，用途に応じてより多数の，または少数の，そして他の構成が用いられうることがわかる。第１の軸２３６は，変位装置２３０と２３４の間を延びており，前記第１の軸２３６と平行ではなく，かつ好適には垂直である第２の軸２３８は，変位装置２２８と２３２の間において延びていることがわかる。軸２３６および２３８は，必ずしも軸２１６および２２３と関係がなくてもよいことがわかる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
図２Ａ〜２Ｃを参照して既に示し，かつ説明したものと同様に，変位装置２２８，２３０，２３２および２３４の上面は，板２２０が水平姿勢にある場合には，板２２０の垂直下方に離隔している。変位装置２２８，２３０，２３２および２３４の動作は，図９において参照符号３７および３８により示されるとともに以下に図９を参照してより詳細に説明される制御回路と同様の制御回路によって制御される。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
能動的変位装置３２８および３３０は電磁石を備え，受動的変位装置３３２および３３４は，それぞれ変位装置３２８および３３０の反対側に配置される。受動的変位装置３３２および３３４は，好適には引張コイルばね３３６を含み，それは固定構造によりベース３１０に固定される第１の端部と取付ディスク３３７により平板３２０の下側に固定される第２の端部とを有する。受動的変位装置３３２および３３４は，電磁石３２８および３３０により平板３２０に加えられる力とは反対方向の力を与える。第１の軸３３８は変位装置３３０と３３４の間を延び，第１の軸３３８に対して平行でなく，かつ好適には垂直である第２の軸３３９は変位装置３２８と３３２の間において延びていることがわかる。軸３３８および３３９は，必ずしも軸３１６および３２３と関係がなくてもよいことがわかる。