【事件の表示】
　特願２０１７−５１６５２９「真空チャック」拒絶査定不服審判事件〔平成２９年　５月２６日国際公開、ＷＯ２０１７／０８６３３３〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、２０１６年１１月１６日（優先権主張２０１５年１１月１９日、日本国）を国際出願日とする出願であって、平成２９年３月２４日に特許協力条約第１９条補正の写し（１９条補正のＷＩＰＯ受領日　平成２９年２月１７日）が提出され、同年８月３１日付けで拒絶理由通知が通知され、同年１１月１日に意見書及び手続補正書が提出されたところ、同年１２月１１日付けで拒絶査定がなされた。
　それに対して、平成３０年３月１９日に拒絶査定不服審判が請求されると同時に手続補正書が提出された。
第２　平成３０年３月１９日にされた手続補正についての補正の却下の決定
［補正の却下の決定の結論］
　平成３０年３月１９日にされた手続補正（以下「本件補正」という。）を却下する。
［理由］
１　本件補正について
（１）本件補正後の特許請求の範囲の記載
　本件補正により、特許請求の範囲の請求項１の記載は、次のとおり補正された。（下線部は、補正箇所である。）
「【請求項１】
　連通経路が形成されている基体を備え、前記連通経路を通じて前記基体の表面と基板との間に負圧領域が形成されることにより前記基体の表面側に前記基板を吸着保持するように構成されている真空チャックであって、
　前記基体の表面に前記連通経路を囲う環状に窪んでいる環状凹部が形成され、
　前記環状凹部に環状の弾性素材からなるシール部材が配置され、
　前記シール部材の一部が前記基体の吸着平面を基準とした突出量が１．０〜９．０ｍｍの範囲内であるように当該吸着平面より突出し、かつ、弾性的に変形可能に構成され
、
　前記基板として反りまたはうねりが存在する基板を吸着保持するための真空チャックである
　
（２）本件補正前の特許請求の範囲
　本件補正前の、平成２９年３月２４日に提出された特許協力条約第１９条補正の写しに記載された請求の範囲の請求項１の記載は次のとおりである。
「【請求項１】
　連通経路が形成されている基体を備え、前記連通経路を通じて前記基体の表面と基板とシール部材との間に負圧領域が形成されることにより前記基体の表面側に前記基板を吸着保持するように構成されている真空チャックであって、
　前記基体の表面に前記連通経路を囲う環状に窪んでいる環状凹部が形成され、
　前記環状凹部に環状の弾性素材からなる前記シール部材が配置され、
　前記シール部材の一部が前記基体の吸着平面を基準とした突出量が１．０〜９．０ｍｍの範囲内であるように当該吸着平面より突出し、かつ、弾性的に変形可能に構成されていることを特徴とする真空チャック。」
２　補正の適否
　本件補正は、本件補正前の請求項１に記載された発明を特定するために必要な事項である「真空チャック」の内容について、上記のとおり限定を付加するものであって、補正前の請求項１に記載された発明と補正後の請求項１に記載される発明の産業上の利用分野及び解決しようとする課題が同一であるから、特許法第１７条の２第５項２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　そこで、本件補正後の請求項１に記載される発明（以下「本件補正発明」という。）が同条第６項において準用する同法第１２６条第７項の規定に適合するか（特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか）について、以下、検討する。
（１）本件補正発明
　本件補正発明は、上記１（１）に記載したとおりのものである。
　
（２）引用文献の記載事項
ア　引用文献１
（ア）原査定の拒絶の理由で引用された本願の優先日前に、頒布された又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった引用文献である、特表２００５−５２８７９４号公報（以下「引用文献１」という。）には、図面とともに、次の記載がある（下線は、当審で付した。）。
「【技術分野】
【０００１】
　本発明は、一般的に、半導体処理技術に関し、より詳細には、多用途ウェハキャリアに関する。」
「【０００５】
　
成長プロセス又は除去プロセス中、ウェハは、通常、キャリアヘッドによって保持される
「【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
　本発明の目的は、改良されたウェハキャリアを提供することである。
…（略）…」
「【００１７】
　以下でより充分に説明されるように、
ウェハキャリア１０６は、真空吸引を用いてウェハ１０８の裏面１１３からウェハ１０８を保持する
【００２１】
　図３Ａ及び図３Ｂの各々は、本発明の実施形態のウェハキャリア１０６の切断側面図をさらに詳細に示す。以下で明らかにされるように、図３Ａと図３Ｂとで示される実施形態間の違いは、用いられるシール部材１５４のタイプである。ウェハキャリア１０６は、下端部１４２及び上端部１４４を備えるキャリアボディ１４０を有する。
キャリア１０６の下端部１４２は、キャリアベース１４６、即ちチャックを有し、キャリアベース１４６にウェハ１０８が保持される
キャリアベース１４６の底面１４８
底面１４８の第１及び第２の外表面部分１５０，１５２は、
本発明のシール部材１５４によって設定されている
【００２２】
　シール部材１５４は、底面１４８において、第１及び第２の外表面１５０，１５２間に形成されている円形グルーブ１５６内に位置され、ベース１４６の内側領域を規定しており、シール部材１５４は、ウェハ１０８の裏側に接触しているときには、ウェハ１０８の裏側の内側領域を設定する。流体ライン１５８は、以下でさらに説明されるように、流体供給源を、底面１４８の第１の外表面部分１５０の複数の出口ポート１５９に接続する。出口ポート１５９は、第１の外表面１５０の周囲で径方向に配置されており、このため、出口ポートは、シール部材１５４の周囲に同心的に形成されている。流体ライン１５８の下端部１６０は、第１の外表面部分１５０に直接接続され得るが、キャリアベース１４６とキャリアリング１４７との間を通り得る。これら実施形態では、流体ライン１５８は、ガス、好ましくは非酸化ガスを、ウェハ１０８の裏面１１３の周縁裏側エッジ１６２に噴出させるのに用いられる。非酸化ガスは、好ましくは、窒素ガスであり得る。孔は、どんな数でもあり得、様々な径を有し得るが、最も好ましいと判明している０．５乃至１ｍｍの範囲の直径であることが好ましい。好ましい実施形態では、２００ｍｍと３００ｍｍとの間のウェハサイズについて、１６乃至６４個の孔が、ウェハキャリアのエッジを取り巻いて配置されている。もちろん、このような孔の数は、変化され得、また、孔に代わって、連続的なスリット若しくは複数のスリット、又は、別の形状の開口が、代わりに用いられ得る。ガス流速は、変化され得、流速は、好ましくは、毎分１０リットルと毎分６０リットルとの間の流速である。以下で充分に説明されるように、ポート１５９から放出されるガスは、周縁裏側エッジ１６２を連続的に吹き流れ、電解液のような液体がウェハ１０８の裏側に到達して望ましくない汚染を生じさせるのを防止するのを補助する別のシールを提供する。
【００２３】
　
ウェハ１０８は、真空吸引の適用によってキャリアベース１４６によって保持される
複数の真空ライン１６４は、キャリアベース１４６の第２の外表面１５２に接続される
支持パッド１６６即ちバックパッドが
真空吸引の適用下、ウェハをほぼ水平な状態に保持するが、必ずしも必須のものではない
【００２４】
　ウェハキャリア１０６の機械的部材のような他の部材は、従来通り構成され得、当業者に周知であろう。キャリアヘッド１０６は、所定の形態のジンバル機構及びこれと協働する機械的部材を提供され得る。このような従来の部材は、さらに説明する必要はないであろう。」
「【００２７】
　本発明の原理に従い、
シール部材１５４
　図３Ａ及び図４Ａに示される
シール部材１５４Ａは
Ｏ−リング
【００２８】
　図３Ｂ及び図４Ｂに示される
ガスケット１５４Ｂは、Ｏ−リング１５４Ａの代わり
ガスケット１５４Ｂは、球根状（ｂｕｌｂ　ｓｈａｐｅ）断面の円形ボディ３００を有する。ボディ３００は、第１の部分３０２即ち取り付け部分、及び、第２の部分３０４即ちシール部分を有する。シール部分３０４は、好ましくは、真空が適用されたときにより多くのシール面を提供するように外側に向かって傾斜され得
【００２９】
　図６Ａは、圧縮力が適用されておらず、即ち、ウェハが保持されていない状態でのガスケット１５４Ｂを断面で示す。図６Ａを参照し、
ガスケット１５４Ｂは、取り付け部分３０２を円形グルーブ１５６に挿入することによりウェハキャリアに配置されている。ガスケット１５４Ｂのシール部分３０４は、ウェハ１０８の裏面１１３に通常対面する傾斜面であるシール面３０６を規定する。シール部分３０４は、
支持パッド１６６の頂部よりも高い圧縮距離を有する。圧縮距離は、０．１ｍｍ乃至０．３ｍｍの範囲内
であり得る
【００３０】
　図６Ｂは、ウェハ１０８の裏面１１３をシールするときのガスケット１５４Ｂを示す。図６Ｂに示されるように、
真空吸引がウェハ１０８の裏面１１３に適用されているときには、ウェハ１０８は、シール面３０６に押圧され、シール部分３０４を潰してシール機能を達成させる
【００３１】
　本実施形態では、
ガスケット１５４Ｂは、
弾性材料によって形成され得る
　図３Ｂは、以下のとおりである。
　図４Ｂは、以下のとおりである。
　図６Ａは、以下のとおりである。
　図６Ｂは、以下のとおりである。
（イ）上記記載から、引用文献１には、次の技術的事項が記載されているものと認められる。
ａ　図３Ｂ及び図４Ｂに示されるガスケット１５４Ｂは、段落【００２１】等に記載のシール部材１５４の一実施形態である（【００２７】、【００２８】等）。
ｂ　図３Ｂ、図５、及び図６Ａから、円形グルーブ１５６（審決注：グルーブ（ｇｒｏｏｖｅ）とは溝のこと。）は、キャリアベース１４６の第２の外表面部分１５２に形成され、真空ライン１６４を囲う環状に窪んでいる環状の凹部であることが見てとれる。
（ウ）上記（ア）、（イ）から、引用文献１には、次の発明（以下「引用発明」という。）が記載されていると認められる。
「真空吸引を用いてウェハ１０８の裏面１１３からウェハ１０８を保持するウェハキャリア１０６であって、
　ウェハキャリア１０６の下端部１４２は、キャリアベース１４６、即ちチャックを有し、キャリアベース１４６にウェハ１０８が保持され、
　キャリアベース１４６の底面１４８の第１及び第２の外表面部分１５０，１５２は、シール部材１５４によって設定されており、
　ウェハ１０８が、真空吸引の適用によってキャリアベース１４６によって保持されるように、複数の真空ライン１６４が、キャリアベース１４６の第２の外表面１５２に接続され、
　シール部材１５４であるガスケット１５４Ｂは、球根状（ｂｕｌｂ　ｓｈａｐｅ）断面の円形ボディ３００を有し、ボディ３００は、第１の部分３０２即ち取り付け部分、及び、第２の部分３０４即ちシール部分を有し、シール部分３０４は、好ましくは、真空が適用されたときにより多くのシール面を提供するように外側に向かって傾斜され、
　キャリアベース１４６の第２の外表面部分１５２に、真空ライン１６４を囲う環状に窪んでいる円形グルーブ１５６が形成され、
　ガスケット１５４Ｂは、取り付け部分３０２を円形グルーブ１５６に挿入することによりウェハキャリアに配置され、ガスケット１５４Ｂのシール部分３０４は、ウェハ１０８の裏面１１３に通常対面する傾斜面であるシール面３０６を規定し、シール部分３０４は、支持パッド１６６の頂部よりも高い、０．１ｍｍ乃至０．３ｍｍの範囲内の圧縮距離を有し、
　真空吸引がウェハ１０８の裏面１１３に適用されているときには、ウェハ１０８は、シール面３０６に押圧され、シール部分３０４を潰してシール機能を達成させ、
　ガスケット１５４Ｂは、弾性材料によって形成されるウェハキャリア１０６。」
　
（３）引用発明との対比
ア　本件補正発明と引用発明とを対比する。
（ア）引用発明の「ウェハキャリア１０６」、「ウェハ１０８」、「キャリアベース１４６」、「真空ライン１６４」、「シール部材１５４」、「円形グルーブ１５６」は、それぞれ本件補正発明の「真空チャック」、「基板」、「基体」、「連通経路」、「シール部材」、「環状凹部」に相当する。
（イ）引用発明は、「ウェハキャリア１０６の下端部１４２は、キャリアベース１４６、即ちチャックを有し、キャリアベース１４６にウェハ１０８が保持され、キャリアベース１４６の底面１４８の第１及び第２の外表面部分１５０，１５２は、シール部材１５４によって設定されており、ウェハ１０８が、真空吸引の適用によってキャリアベース１４６によって保持されるように、複数の真空ライン１６４が、キャリアベース１４６の第２の外表面１５２に接続され」るものであるところ、「キャリアベース１４６の（底面１４８の）第２の外表面１５２」は、本件補正発明の「基体の表面」に相当するから、本件補正発明と引用発明とは、「連通経路が形成されている基体を備え、前記連通経路を通じて前記基体の表面と基板との間に負圧領域が形成されることにより前記基体の表面側に前記基板を吸着保持するように構成されている真空チャック」である点で一致する。
（ウ）引用発明は、「キャリアベース１４６の第２の外表面部分１５２に、真空ライン１６４を囲う環状に窪んでいる円形グルーブ１５６が形成され」ているから、本件補正発明と引用発明とは、「前記基体の表面に前記連通経路を囲う環状に窪んでいる環状凹部が形成され」ている点で一致する。
（エ）引用発明は、「シール部材１５４であるガスケット１５４Ｂは、球根状（ｂｕｌｂ　ｓｈａｐｅ）断面の円形ボディ３００を有し、ボディ３００は、第１の部分３０２即ち取り付け部分」を有し、「ガスケット１５４Ｂは、取り付け部分３０２を円形グルーブ１５６に挿入することによりウェハキャリアに配置され」、「ガスケット１５４Ｂは、弾性材料によって形成される」から、本件補正発明と引用発明とは、「前記環状凹部に環状の弾性素材からなるシール部材が配置され」ている点で一致する。
（オ）引用発明は、「ガスケット１５４Ｂのシール部分３０４は、ウェハ１０８の裏面１１３に通常対面する傾斜面であるシール面３０６を規定し、シール部分３０４は、支持パッド１６６の頂部よりも高い、０．１ｍｍ乃至０．３ｍｍの範囲内の圧縮距離を有し、　真空吸引がウェハ１０８の裏面１１３に適用されているときには、ウェハ１０８は、シール面３０６に押圧され、シール部分３０４を潰してシール機能を達成させ、ガスケット１５４Ｂは、弾性材料によって形成される」から、ガスケット１５４Ｂのシール部分３０４はキャリアベース１４６の吸着表面より突出し、かつ、弾性的に変形可能に構成されたものであるといえる。
　したがって、本件補正発明と引用発明とは、「前記シール部材の一部が前記基体の吸着平面より突出し、かつ、弾性的に変形可能に構成され」たものである点で共通する。
（カ）上記（２）ア（ア）に摘記の引用文献１の段落【０００５】には、従来技術のキャリアヘッドが保持するウェハは、成長プロセス又は除去プロセス中のウェハである旨が記載されているところ、成長プロセス又は除去プロセス中のウェハには、「反り又はうねりが存在」し得ることは技術常識であるから、本件補正発明と引用発明とは、「前記基板として反りまたはうねりが存在する基板を吸着保持するための真空チャックである」点で一致する。
イ　以上のことから、本件補正発明と引用発明との一致点及び相違点は、次のとおりである。
【一致点】
「連通経路が形成されている基体を備え、前記連通経路を通じて前記基体の表面と基板との間に負圧領域が形成されることにより前記基体の表面側に前記基板を吸着保持するように構成されている真空チャックであって、
　前記基体の表面に前記連通経路を囲う環状に窪んでいる環状凹部が形成され、
　前記環状凹部に環状の弾性素材からなるシール部材が配置され、
　前記シール部材の一部が前記基体の吸着平面吸着平面より突出し、かつ、弾性的に変形可能に構成され、
　前記基板として反りまたはうねりが存在する基板を吸着保持するための真空チャックである真空チャック。」
　
【相違点１】
　シール部材の一部の「突出量」について、本件補正発明は、「前記基体の吸着平面を基準とした突出量が１．０〜９．０ｍｍの範囲内であるように当該吸着平面より突出し」ているのに対し、引用発明は、「ガスケット１５４Ｂのシール部分３０４は、ウェハ１０８の裏面１１３に通常対面する傾斜面であるシール面３０６を規定し、シール部分３０４は、支持パッド１６６の頂部よりも高い、０．１ｍｍ乃至０．３ｍｍの範囲内の圧縮距離を有」するものである点。
　
（４）判断
　以下、相違点１について検討する。
ア　引用発明において、保持するウェハとして、薄化したウェハや、大型の基板、ＳｉＣやＧａＮ等の反りが強い基板を載置対象とすることは普通のことであり、また、反りを有する被加工物を適切に保持する真空チャックにおいて、吸着平面を基準とした突出量は、保持するウェハの大きさや、反りやうねりの程度、シール部材のシール部分の断面形状及び材質、真空吸引が適用されたときに必要な吸引力等の様々な要因に合わせて決定すべき設計的事項である。
　そして、引用発明において、「キャリアベース１４６の底面１４８の第１及び第２の外表面部分１５０，１５２は、シール部材１５４によって設定されており」、「シール部分３０４は、好ましくは、真空が適用されたときにより多くのシール面を提供するように」されており、「真空吸引がウェハ１０８の裏面１１３に適用されているときには、ウェハ１０８は、シール面３０６に押圧され、シール部分３０４を潰してシール機能を達成させ」るものであるから、その突出量を十分に大きいものとすることは、当業者が容易に想到し得たことである。
イ　次に、本件補正発明における「前記基体の吸着平面を基準とした突出量」の数値範囲について検討する。
　本願の明細書の段落【００２１】には、「第２要素２２は、第１要素２１に対して間隙２０を有し、その基端部において第１要素２１に接続されている。例えば、断面視において、
第２要素２２の長さＬが２．０〜２０［ｍｍ］の範囲に含まれ、第２要素２２の厚さＴが０．１〜２．０［ｍｍ］の範囲に含まれ、かつ、吸着平面を基準とした第２要素２２の突出高さＨが１．０〜９．０［ｍｍ］の範囲に含まれるようにシール部材２が構成されていてもよい
　しかしながら、本願の明細書及び図面を精査しても、本件補正発明において、「前記基体の吸着平面を基準とした突出量」を、「１．０〜９．０ｍｍの範囲内」であるようにしたことにより格別な効果が生じているとは認められないから、「１．０〜９．０ｍｍの範囲内」という突出量の数値範囲に臨界的な意義を認めることはできない。
ウ　したがって、引用発明において、シール部材の突出量を、本件補正発明のように、「前記基体の吸着平面を基準とした突出量が１．０〜９．０ｍｍの範囲内であるように当該吸着平面より突出し」たものとすることは、当業者であれば容易になし得たことである。
　なお、チャックテーブルにおいて、反りを有する被加工物を適切に保持するため、環状シール部の上面の高さをウェーハの反りに合わせて、吸着面の高さよりも高くすることは、下記の周知例１に記載されているように周知であるから、引用発明において、反りまたはうねりが存在する基板を吸着保持する際に、シール部材の突出量をウェハの反りに合わせて決めることは、当業者が容易に設計できることである。
・周知例１：特開２０１４−７２５１０号公報
「【技術分野】
【０００１】
　本発明は、
ウェーハなどの被加工物を保持するチャックテーブル
「【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
　ところで、上述のようなレーザー加工装置で加工される被加工物は、ある程度の反りを有していることがある。例えば、貼り合わせられた複数の基板をレーザー光線の照射で分離するリフトオフ加工において、被加工物は、基板の貼り合わせに起因する反りを有している。反りを有する被加工物を外周側が高くなるようにチャックテーブル上に載置すると、被加工物の外周部分は吸着部の表面から浮き上がり、被加工物と吸着部との密着性は低くなる。この場合、チャックテーブルは十分な吸引力を発揮できず、被加工物を適切に保持できない。
【０００５】
　本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、
反りを有する被加工物を適切に保持可能なチャックテーブル
「【００２０】
　ところで、従来のチャックテーブルにおいて、中央部分より外周部分が高くなるように反らされたウェーハＷを吸着部上に載置すると、ウェーハＷの中央部分は吸着面と接触するが、ウェーハＷの外周部分は吸着面から浮き上がってしまう。この場合、ウェーハＷと吸着部との密着性は低くなるので、チャックテーブルは十分な吸引力（吸着力）を発揮できず、ウェーハＷを適切に保持することができない。
【００２１】
　そこで、本実施の形態のチャックテーブル１５では、
吸着部１５３の周囲に、吸着部１５３を囲む環状シール部１５４を設ける
環状シール部１５４の上面１５４ａの高さは、ウェーハＷの反りに合わせて、吸着面１５３ａの高さよりも高くなるように設定されている
【００２２】
　これにより、中央部分より外周部分が高くなるように反らされたウェーハＷを吸着部１５３上に載置すると、ウェーハＷの中央部分は吸着面１５３ａと接触し、ウェーハＷの外周部分は環状シール部１５４の上面１５４ａと接触する。環状シール部１５４にウェーハＷの外周部分が接触されることで、ウェーハＷを吸引保持するための気密性を確保することができる。
【００２３】
　環状シール部１５４は、弾性部材であるフッ素ゴムスポンジで形成されている。…（略）…
【００３５】
　また、環状シール部は、交換可能に構成されていても良い。例えば、高さの異なる複数の環状シール部をあらかじめ用意しておき、ウェーハの反りなどに応じて交換することができる。また、高さの異なる環状シール部を有する複数のチャックテーブルをそれぞれ用意しておき、ウェーハの反りなどに応じて適したチャックテーブルを選択するようにしても良い。このように、
環状シール部の高さをウェーハの反りに応じて変更する
【００３６】
　また、上記実施の形態において、環状シール部は、断面形状において角部を有しているが（図３参照）、環状シール部は、角部が面取りで除去されていても良い。この場合、ウェーハに加わる局所的な応力を更に緩和し、ウェーハの破損を防止できる。」
　よって、本件補正発明は、引用発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
３　本件補正についてのむすび
　よって、本件補正は、特許法第１７条の２第６項において準用する同法第１２６条第７項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項の規定において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　よって、上記補正の却下の決定の結論のとおり決定する。
　
第３　本願発明について
１　本願発明
　平成３０年３月１９日にされた手続補正は、上記のとおり却下されたので、本願の請求項に係る発明は、平成２９年３月２４日に提出された特許協力条約第１９条補正の写しに記載された請求の範囲の請求項１ないし５に記載された事項により特定されるものであるところ、その請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、その請求項１に記載された事項により特定される、前記第２［理由］１（２）に記載のとおりのものである。
２　原査定の拒絶の理由
　原査定の拒絶の理由は、この出願の請求項１−５に係る発明は、本願の優先日前に日本国内又は外国において、頒布された又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった下記の引用文献１に記載された発明に基いて、その優先日前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない、というものである。
引用文献１：特表２００５−５２８７９４号公報
３　引用文献
　原査定の拒絶の理由で引用された引用文献１及びその記載事項は、前記第２の［理由］２（２）アに記載したとおりである。
　
４　対比・判断
　本願発明は、前記第２の［理由］２で検討した本件補正発明から、「前記基板として反りまたはうねりが存在する基板を吸着保持するための真空チャックである」との限定事項を削除したものである。
　そうすると、本願発明の発明特定事項を全て含み、さらに他の事項を付加したものに相当する本件補正発明が、前記第２の［理由］２（３）、（４）に記載したとおり、引用発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、引用発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
第４　むすび
　以上のとおり、本願発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないから、他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶されるべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。