【手続補正書】
【提出日】平成22年2月24日(2010.2.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）架橋シリコーンポリマーネットワーク及び、
（ｂ）膨張量のアルキルトリシロキサンを含み、
前記架橋シリコーンポリマーネットワークは前記アルキルトリシロキサンによって膨張して第１シリコーン組成物を形成し、前記第１シリコーン組成物は前記架橋シリコーンポリマーネットワーク及びアルキルトリシロキサン以外の直鎖状シリコーン液を含む第２シリコーン組成物に存在する固形含量よりも低い固形含量を有し、それにより、第２シリコーン組成物と第１シリコーン組成物とが同等の粘度を有する第１シリコーン組成物。
【請求項２】
前記架橋シリコーンポリマーネットワーク（ａ）が、少なくとも１つのシリルヒドリドを含むシリコーン及び１〜６０の炭素原子数の１つ以上のオキシラン部分を含む少なくとも１つの１価の炭化水素基の自己反応の少なくとも１つによって形成される請求項１記載の第１シリコーン組成物。
【請求項３】
前記架橋シリコーンポリマーは、ポリエーテル架橋を含む三次元有機官能性ポリ有機シロキサンである請求項１記載の第１シリコーン組成物。
【請求項４】
ポリエーテル架橋を含む前記三次元有機官能性ポリ有機シロキサンは、エポキシ官能性有機シロキサンの重合の結果形成される請求項３記載の第１シリコーン組成物。
【請求項５】
前記架橋シリコーンポリマーネットワークは、
ＭａＭＨｂＭｖｉｃＭＥｄＤｅＤＨｆＤｖｉｇＤＥｈＴｉＴＨｊＴｖｉｋＴＥＬＱｍ （Ｘ）
（式中、Ｍ＝Ｒ１Ｒ２Ｒ３ＳｉＯ１／２、
ＭＨ＝Ｒ４Ｒ５ＨＳｉＯ１／２、
Ｍｖｉ＝Ｒ６Ｒ７Ｒ８ＳｉＯ１／２、
ＭＥ＝Ｒ９Ｒ１０ＲＥＳｉＯ１／２、
Ｄ＝Ｒ１１Ｒ１２ＳｉＯ２／２、
ＤＨ＝Ｒ１３ＨＳｉＯ２／２、
ＤＶｉ＝Ｒ１４Ｒ１５ＳｉＯ２／２、
ＤＥ＝Ｒ１６ＲＥＳｉＯ２／２、
Ｔ＝Ｒ１７ＳｉＯ３／２、
ＴＨ＝ＨＳｉＯ３／２、
Ｔｖｉ＝Ｒ１８ＳｉＯ３／２、
ＴＥ＝ＲＥＳｉＯ３／２及び
Ｑ＝ＳｉＯ４／２であり、
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ１１、Ｒ１２及びＲ１７は独立に１〜６０の炭素原子数の１価の炭化水素基であり、Ｒ４、Ｒ５及びＲ１３は独立に１〜６０の炭素原子数の１価の炭化水素基又は水素であり、Ｒ６は２〜１０の炭素原子数の一価の不飽和炭化水素基であり、Ｒ７及びＲ８は独立に１〜６０の炭素原子数の１価の炭化水素基であり、Ｒ１４は２〜１０の炭素原子数の一価の不飽和炭化水素基であり、Ｒ１５は１〜６０の炭素原子数の１価の炭化水素基であり、Ｒ１８は２〜１０の炭素原子数の一価の不飽和炭化水素基であり、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１６は独立に１〜６０の炭素原子数の１価の炭化水素基又はＲＥであり、各ＲＥは独立に１〜６０の炭素原子数の１つ以上のオキシラン部分を含む１価の炭化水素基であり、化学量論を示す下付文字ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ、ｉ、ｊ、ｋ、Ｌ及びｍは、０又は正の数であり、但しａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＞１、ｄ＋ｈ＋Ｌ≧１及びｂ＋ｆ＋ｊ≧１である）であるシリコーン（Ｘ）の反応生成物によって形成されるポリエーテルシロキサン共重合体ネットワークである請求項１記載の第１シリコーン組成物。
【請求項６】
第１シリコーン組成物が所定の架橋構造及び所定の架橋密度を有し、第１シリコーン組成物の前記低い固形含量が、第１シリコーン組成物と同等の架橋構造を有して同等の架橋密度を有する第２シリコーン組成物の固形含量より少なくとも１０％低く、第１シリコーン組成物が１００，０００センチストークス超の粘性を有する請求項１記載の第１シリコーン組成物。
【請求項７】
第１シリコーン組成物が所定の架橋構造及び所定の架橋密度を有し、第１シリコーン組成物の前記低い固形含量が、第１シリコーン組成物と同等の架橋構造を有して同等の架橋密度を有する第２シリコーン組成物の固形含量より少なくとも２５％低く、第１シリコーン組成物が１５０，０００センチストークス超の粘性を有する請求項１記載の第１シリコーン組成物。
【請求項８】
第１シリコーン組成物が所定の架橋構造及び所定の架橋密度を有し、第１シリコーン組成物の前記低い固形含量が、第１シリコーン組成物と同等の架橋構造を有して同等の架橋密度を有する第２シリコーン組成物の固形含量より少なくとも４０％低く、第１シリコーン組成物が２００，０００センチストーク超の粘性を有する請求項１記載の第１シリコーン組成物。
【請求項９】
シリコーン（Ｘ）は、
（Ｉ）以下の式：
ＭＨｎＤｏＤＨｐＭＨ２−ｎ
（式中、ＭＨ＝Ｒ１９Ｒ２０ＨＳｉＯ１／２、
Ｄ＝Ｒ２１Ｒ２２ＳｉＯ２／２及び
ＤＨ＝Ｒ２３ＨＳｉＯ２／２であり、
式中、Ｒ１９、Ｒ２０及びＲ２３は独立に１〜６０の炭素原子数の１価の炭化水素基又は水素であり、Ｒ２１及びＲ２２は独立に１〜６０の炭素原子数の１価の炭化水素基であり、化学量論を示す下付文字ｎ、ｏ及びｐは０又は正の数であり、但しｏは１０超の数であり、ｐは０〜２０の数であり、ｎは０〜２の数であり、但しｎ＋ｐは１〜２０である）を含む組成物並びに
（ＩＩ）アルケニルシクロアルキレンオキシド、の反応生成物を含んでいてもよい請求項５記載の第１シリコーン組成物。
【請求項１０】
少なくとも１つのアルキルトリシロキサン（ｂ）材料が、式（Ａ）を有するポリ有機シロキサンのアルキル化から得られる請求項１記載の第１シリコーン組成物
ＭＤＨＭ          （Ａ）
（式中、Ｍ＝ＲＡＲＢＲＣＳｉＯ１／２及び
ＤＨ＝ＲＤＨＳｉＯ２／２であり、
式中、ＲＡ、ＲＢ、及びＲＣは独立に１〜６０の炭素原子数の１価の炭化水素基であり、ＲＤは１〜６０の炭素原子数の１価の炭化水素基又は水素である）。
【請求項１１】
少なくとも１つのアルキルトリシロキサン（ｂ）が以下の式を有する請求項１記載の第１シリコーン組成物
Ｍ’Ｄ＊ｒＭ
（式中、Ｍ又はＭ’＝Ｒ２４Ｒ２５Ｒ２６ＳｉＯ１／２及び
Ｄ＊＝Ｒ２７Ｒ２８ＳｉＯ２／２であり、
式中、各Ｒ２４、各Ｒ２５、及び各Ｒ２６は独立に１〜６０の炭素原子数の１価の炭化水素基であり、それによってＭ及びＭ’が異なってもよく、Ｒ２７及びＲ２８は独立に２〜６０の炭素原子数の１価の炭化水素基であり、化学量論を示す下付文字ｒは正の数であり、但しＤ＊のケイ素原子が水素、メチル及びポリエーテル基以外であるペンダント基を有し、ｒは１に等しい）。
【請求項１２】
少なくとも１つのアルキルトリシロキサンが、エチルトリシロキサン、オクチルトリシロキサン、ヘキシルトリシロキサン、及びそれらの組み合わせからなる群から選択される直鎖状アルキルトリシロキサンである請求項１記載の第１シリコーン組成物。
【請求項１３】
少なくとも１つのアルキルトリシロキサンが、１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチル−３−エチルトリシロキサン、１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチル−３−オクチルトリシロキサン、１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチル−３−ヘキシルトリシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、３−ペンチル−１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、１−ヘキシル−１，１，３，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、１，１，１，３，３，５，５−ヘプタメチル−５−オクチルトリシロキサン、１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチル−３−オクチルトリシロキサン、１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチル−３−ヘキシルトリシロキサン、１，１，３，３，５，５−ヘキサメチル−１，５−ジプロピルトリシロキサン、３−（１−エチルブチル）−１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチル−３−（１−メチルペンチル）トリシロキサン、１，５−ジエチル−１，１，３，３，５，５−ヘキサメチルトリシロキサン、１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチル−３−（１−メチルプロピル）トリシロキサン、３−（１，１−ジメチルエチル）−１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、１，１，１，５，５，５−ヘキサメチル−３，３−ビス（１−メチルエチル）トリシロキサン、１，１，１，３，３，５，５−ヘキサメチル−１，５−ビス（１−メチルプロピル）トリシロキサン、１，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−１，１，３，３，５，５−ヘキサメチルトリシロキサン、３−（３，３−ジメチルブチル）−１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチル−３−（３−メチルブチル）トリシロキサン、１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチル−３−（３−メチルペンチル）トリシロキサン、１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチル−３−（２−メチルプロピル）トリシロキサン、１−ブチル−１，１，３，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチル−３−プロピルトリシロキサン、３−イソヘキシル−１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、１，３，５−トリエチル−１，１，３，５，５−ペンタメチルトリシロキサン、３−ブチル−１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、３−ｔｅｒｔ−ペンチル−１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、１，１，１，５，５，５−ヘキサメチル−３，３−ジプロピルトリシロキサン、３，３−ジエチル−１，１，１，５，５，５−ヘキサメチルトリシロキサン、１，５−ジブチル−１，１，３，３，５，５−ヘキサメチルトリシロキサン、１，１，１，５，５，５−ヘキサエチル−３，３−ジメチルトリシロキサン、３，３−ジブチル−１，１，１，５，５，５−ヘキサメチルトリシロキサン、３−エチル−１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、３−ヘプチル−１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、１−エチル−１，１，３，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、１，１，１，５，５，５−ヘキサメチル−３，３−ジエチルトリシロキサン、１，１，３，３，５，５−ヘキサメチル−１，５−ジエチルトリシロキサン、１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチル−３−ブチルトリシロキサン及びそれらの組み合わせからなる群から選択される直鎖状アルキルトリシロキサンである請求項１記載の第１シリコーン組成物。
【請求項１４】
請求項１、４、７、８又は１１に記載の第１シリコーン組成物から実質的に構成されるシリコーンゲル。
【請求項１５】
脱臭剤、発汗抑制剤、発汗抑制剤／デオドラント、シェービング剤、スキンローション、モイスチャライザー、トナー、入浴剤、クレンジング剤、ヘアケア用品、マニキュア、保護クリーム、カラーコズメ、芳香輸送剤、皮膚への塗布用医薬中の局所輸送用の薬物輸送システム及びそれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項１４記載のシリコーンゲルを含むパーソナルケア調製物。
【請求項１６】
緩和剤、モイスチャライザー、湿潤剤、色素、被覆雲母、着色剤、香料、殺虫剤、防腐剤、酸化防止剤、抗菌剤、抗真菌剤、発汗抑制剤、洗顔料、ホルモン、酵素、医薬化合物、ビタミン、塩、電解質、アルコール、多価アルコール、紫外線吸収剤、植物エキス、界面活性剤、シリコーンオイル、有機油、ワックス、被膜形成剤、増粘剤、粒状充填剤、粘土及びそれらの組み合わせからなる群から選択されるパーソナルケア成分を更に含む請求項１５記載のパーソナルケア調製物。
【請求項１７】
架橋シリコーンポリマーネットワークであるシリコーンポリマーネットワーク及びアルキルトリシロキサンの組み合わせを含み、前記架橋シリコーンポリマーネットワークが前記アルキルトリシロキサンによって膨張して第１シリコーン組成物を形成し、前記第１シリコーン組成物が前記架橋シリコーンポリマーネットワーク及びアルキルトリシロキサン以外の直鎖状シリコーン液を含む第２シリコーン組成物に存在する固形含量よりも低い固形含量を有し、それにより第２シリコーン組成物及び第１シリコーン組成物が同等の粘度を有する、膨張した架橋シリコーンポリマーネットワーク組成物。
【請求項１８】
前記架橋シリコーンポリマーネットワークは、少なくとも１つのシリルヒドリドを含むシリコーン及び１〜６０の炭素原子数の１つ以上のオキシラン部分を有する少なくとも１つの１価の炭化水素基の自己反応の少なくとも１つによって形成される請求項１７記載の膨張した架橋シリコーンポリマーネットワーク組成物。
【請求項１９】
前記架橋シリコーンポリマーネットワークがポリエーテル架橋を含む三次元有機官能性ポリ有機シロキサンである請求項１７記載の膨張した架橋シリコーンポリマーネットワーク組成物。
【請求項２０】
前記ポリエーテル架橋を含む三次元有機官能性ポリ有機シロキサンがエポキシ官能性有機シロキサンの重合によって形成される請求項１９記載の膨張した架橋シリコーンポリマーネットワーク組成物。
【請求項２１】
前記架橋シリコーンポリマーネットワークが、
ＭａＭＨｂＭｖｉｃＭＥｄＤｅＤＨｆＤｖｉｇＤＥｈＴｉＴＨｊＴｖｉｋＴＥＬＱｍ
（式中、Ｍ＝Ｒ１Ｒ２Ｒ３ＳｉＯ１／２、
ＭＨ＝Ｒ４Ｒ５ＨＳｉＯ１／２、
Ｍｖｉ＝Ｒ６Ｒ７Ｒ８ＳｉＯ１／２、
ＭＥ＝Ｒ９Ｒ１０ＲＥＳｉＯ１／２、
Ｄ＝Ｒ１１Ｒ１２ＳｉＯ２／２、
ＤＨ＝Ｒ１３ＨＳｉＯ２／２、
ＤＶｉ＝Ｒ１４Ｒ１５ＳｉＯ２／２、
ＤＥ＝Ｒ１６ＲＥＳｉＯ２／２、
Ｔ＝Ｒ１７ＳｉＯ３／２、
ＴＨ＝ＨＳｉＯ３／２、
Ｔｖｉ＝Ｒ１８ＳｉＯ３／２、
ＴＥ＝ＲＥＳｉＯ３／２及び
Ｑ＝ＳｉＯ４／２であり、
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ１１、Ｒ１２及びＲ１７は独立に１〜６０の炭素原子数の１価の炭化水素基であり、Ｒ４、Ｒ５及びＲ１３は独立に１〜６０の炭素原子数の１価の炭化水素基又は水素であり、Ｒ６は２〜１０の炭素原子数の一価の不飽和炭化水素基であり、Ｒ７及びＲ８は独立に１〜６０の炭素原子数の１価の炭化水素基であり、Ｒ１４は２〜１０の炭素原子数の一価の不飽和炭化水素基であり、Ｒ１５は１〜６０の炭素原子数の１価の炭化水素基であり、Ｒ１８は２〜１０の炭素原子数の一価の不飽和炭化水素基であり、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１６は独立に１〜６０の炭素原子数の１価の炭化水素基又はＲＥであり、各ＲＥは独立に１〜６０の炭素原子数のオキシラン部分を１つ以上含む１価の炭化水素基であり、化学量論を示す下付文字ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ、ｉ、ｊ、ｋ、Ｌ、及びｍは、０又は正の数であり、但しａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＞１、ｄ＋ｈ＋Ｌ≧１及びｂ＋ｆ＋ｊ≧１である）
の反応生成物（ａ）によって形成されるポリエーテルシロキサン共重合体ネットワークである請求項１７記載の膨張した架橋シリコーンポリマーネットワーク組成物。
【請求項２２】
（ａ）架橋シリコーンポリマーネットワーク及び
（ｂ）膨張量のアルキルトリシロキサン
を混合することを含み、前記架橋シリコーンポリマーネットワークが前記アルキルトリシロキサンによって膨張して第１シリコーン組成物を形成し、前記第１シリコーン組成物が前記架橋シリコーンポリマーネットワーク及びアルキルトリシロキサン以外の直鎖状シリコーン液を含む第２シリコーン組成物に存在する固形含量より低い固形含量を有し、それにより第２シリコーン組成物及び第１シリコーン組成物は同等の粘度を有する、第１シリコーン組成物の調製方法。
【請求項２３】
前記架橋シリコーンポリマーネットワーク（ａ）が少なくとも１つのシリルヒドリドを含むシリコーン及び１〜６０の炭素原子数の１つ以上のオキシラン部分を有する少なくとも１つの１価の炭化水素基の自己反応の少なくとも１つによって形成される請求項２２記載の方法。
【請求項２４】
前記架橋シリコーンポリマーがポリエーテル架橋を含む三次元有機官能性ポリ有機シロキサンである請求項２２記載の方法。
【請求項２５】
ポリエーテル架橋を含む前記三次元有機官能性ポリ有機シロキサンが、エポキシ官能性有機シロキサンの重合によって形成される請求項２４記載の方法。
【請求項２６】
前記架橋シリコーンポリマーネットワークが、
ＭａＭＨｂＭｖｉｃＭＥｄＤｅＤＨｆＤｖｉｇＤＥｈＴｉＴＨｊＴｖｉｋＴＥＬＱｍ
（式中、Ｍ＝Ｒ１Ｒ２Ｒ３ＳｉＯ１／２、
ＭＨ＝Ｒ４Ｒ５ＨＳｉＯ１／２、
Ｍｖｉ＝Ｒ６Ｒ７Ｒ８ＳｉＯ１／２、
ＭＥ＝Ｒ９Ｒ１０ＲＥＳｉＯ１／２、
Ｄ＝Ｒ１１Ｒ１２ＳｉＯ２／２、
ＤＨ＝Ｒ１３ＨＳｉＯ２／２、
ＤＶｉ＝Ｒ１４Ｒ１５ＳｉＯ２／２、
ＤＥ＝Ｒ１６ＲＥＳｉＯ２／２、
Ｔ＝Ｒ１７ＳｉＯ３／２、
ＴＨ＝ＨＳｉＯ３／２、
Ｔｖｉ＝Ｒ１８ＳｉＯ３／２、
ＴＥ＝ＲＥＳｉＯ３／２及び
Ｑ＝ＳｉＯ４／２であり、
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ１１、Ｒ１２及びＲ１７は独立に１〜６０の炭素原子数の１価の炭化水素基であり、Ｒ４、Ｒ５及びＲ１３は独立に１〜６０の炭素原子数の１価の炭化水素基又は水素であり、Ｒ６は２〜１０の炭素原子数の一価の不飽和炭化水素基であり、Ｒ７及びＲ８は独立に１〜６０の炭素原子数の１価の炭化水素基であり、Ｒ１４は２〜１０の炭素原子数の一価の不飽和炭化水素基であり、Ｒ１５は１〜６０の炭素原子数の１価の炭化水素基であり、Ｒ１８は２〜１０の炭素原子数の一価の不飽和炭化水素基であり、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１６は独立に１〜６０の炭素原子数の１価の炭化水素基又はＲＥであり、各ＲＥは独立に１〜６０の炭素原子数の１つ以上のオキシラン部分を含む１価の炭化水素基であり、化学量論を示す下付文字ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ、ｉ、ｊ、ｋ、Ｌ、及びｍは０又は正の数であり、但しａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＞１、ｄ＋ｈ＋Ｌ≧１及びｂ＋ｆ＋ｊ≧１である）の反応生成物から形成されるポリエーテルシロキサン共重合体ネットワークである請求項２２記載の方法。
【請求項２７】
第１シリコーン組成物が所定の架橋構造及び所定の架橋密度を有し、第１シリコーン組成物の前記低い固形含量が、第１シリコーン組成物と同等の架橋構造及び同等の架橋密度を有する第２シリコーン組成物の固形含量よりも少なくとも１０％低く、第１シリコーン組成物が１００，０００センチストークス超の粘性を有する請求項２２記載の方法。
【請求項２８】
第１シリコーン組成物が所定の架橋構造及び所定の架橋密度を有し、第１シリコーン組成物の前記低い固形含量が、第１シリコーン組成物と同等の架橋構造及び同等の架橋密度を有する第２シリコーン組成物の固形含量よりも少なくとも２５％低く、第１シリコーン組成物が１５０，０００センチストークス超の粘性を有する請求項２２記載の方法。
【請求項２９】
第１シリコーン組成物が所定の架橋構造及び所定の架橋密度を有し、第１シリコーン組成物の前記低い固形含量が、第１シリコーン組成物と同等の架橋構造及び同等の架橋密度を有する第２シリコーン組成物の固形含量よりも少なくとも４０％低く、第１シリコーン組成物が２００，０００センチストークス超の粘性を有する請求項２２記載の方法。
【請求項３０】
少なくとも１つのアルキルトリシロキサン（ｂ）が以下の式を有する請求項２２記載の方法
Ｍ’Ｄ＊ｒＭ
（式中、Ｍ又はＭ’＝Ｒ２４Ｒ２５Ｒ２６ＳｉＯ１／２及び
Ｄ＊＝Ｒ２７Ｒ２８ＳｉＯ２／２
式中、各Ｒ２４、各Ｒ２５及び各Ｒ２６は独立に１〜６０の炭素原子数の１価の炭化水素基であり、それによってＭ及びＭ’が異なってもよく、Ｒ２７及びＲ２８は独立に２〜６０の炭素原子数の１価の炭化水素基であり、化学量論を示す下付文字ｒは正の数であり、但しＤ＊のケイ素原子は水素、メチル及びポリエーテル基以外のペンダント基を有し、ｒは１に等しい）。
【請求項３１】
更に、架橋シリコーンポリマーネットワーク（ａ）が、少なくとも１つの第１液成分の存在下で調製され、その後膨張し、前記架橋シリコーンポリマーネットワーク（ａ）を膨張することは、少なくとも１つの第１液成分の存在下で調製された前記架橋シリコーンポリマーネットワーク（ａ）を少なくとも１つの第２液成分で希釈することを含み、但し、少なくとも１つの第１液成分及び／又は少なくとも１つの第２液成分がアルキルトリシロキサン（ｂ）である請求項２２記載の方法。
【請求項３２】
請求項２２、３０又は３１に記載の方法で調製される、第１シリコーン組成物から実質的に構成されるシリコーンゲル。
【請求項３３】
脱臭剤、発汗抑制剤、発汗抑制剤／デオドラント、シェービング剤、スキンローション、モイスチャライザー、トナー、入浴剤、クレンジング剤、ヘアケア用品、マニキュア、保護クリーム、カラーコズメ、芳香輸送剤、皮膚への塗布用医薬中の局所輸送用の薬物輸送システム及びそれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項２２又は３１に記載の方法で調製される第１シリコーン組成物を含むパーソナルケア調製物。
【請求項３４】
緩和剤、モイスチャライザー、湿潤剤、色素、被覆雲母、着色剤、香料、殺虫剤、防腐剤、酸化防止剤、抗菌剤、抗真菌剤、発汗抑制剤、洗顔料、ホルモン、酵素、医薬化合物、ビタミン、塩、電解質、アルコール、多価アルコール、紫外線吸収剤、植物エキス、界面活性剤、シリコーンオイル、有機油、ワックス、被膜形成剤、増粘剤、粒状充填剤、粘土及びそれらの組み合わせからなる群から選択されるパーソナルケア成分を更に含む請求項３３記載のパーソナルケア調製物。
【請求項３５】
架橋シリコーンポリマーネットワークであるシリコーンポリマーネットワーク及びアルキルトリシロキサンを混合することを含み、前記架橋シリコーンポリマーネットワークが前記アルキルトリシロキサンによって膨張して第１シリコーン組成物を形成し、前記第１シリコーン組成物が前記架橋シリコーンポリマーネットワーク及びアルキルトリシロキサン以外の直鎖状シリコーン液を含む第２シリコーン組成物に存在する固形含量より低い固形含量を有し、それにより第２シリコーン組成物及び第１シリコーン組成物が同等の粘度を有する、膨張した架橋シリコーンポリマーネットワーク組成物を調製する方法。
【請求項３６】
前記架橋シリコーンポリマーネットワークが、少なくとも１つのシリルヒドリドを含むシリコーン及び１〜６０の炭素原子数の１つ以上のオキシラン部分を含む少なくとも１つの１価の炭化水素基の自己反応の少なくとも１つによって形成される請求項３５記載の方法。
【請求項３７】
前記架橋シリコーンポリマーネットワークは、ポリエーテル架橋を含む三次元有機官能性ポリ有機シロキサンである請求項３５記載の方法。
【請求項３８】
前記ポリエーテル架橋を含む三次元有機官能性ポリ有機シロキサンがエポキシ官能性有機シロキサンの重合の結果形成される請求項３７記載の方法。
【請求項３９】
前記架橋シリコーンポリマーネットワークが、
ＭａＭＨｂＭｖｉｃＭＥｄＤｅＤＨｆＤｖｉｇＤＥｈＴｉＴＨｊＴｖｉｋＴＥＬＱｍ
（式中、Ｍ＝Ｒ１Ｒ２Ｒ３ＳｉＯ１／２、
ＭＨ＝Ｒ４Ｒ５ＨＳｉＯ１／２、
Ｍｖｉ＝Ｒ６Ｒ７Ｒ８ＳｉＯ１／２、
ＭＥ＝Ｒ９Ｒ１０ＲＥＳｉＯ１／２、
Ｄ＝Ｒ１１Ｒ１２ＳｉＯ２／２、
ＤＨ＝Ｒ１３ＨＳｉＯ２／２、
ＤＶｉ＝Ｒ１４Ｒ１５ＳｉＯ２／２、
ＤＥ＝Ｒ１６ＲＥＳｉＯ２／２、
Ｔ＝Ｒ１７ＳｉＯ３／２、
ＴＨ＝ＨＳｉＯ３／２、
Ｔｖｉ＝Ｒ１８ＳｉＯ３／２、
ＴＥ＝ＲＥＳｉＯ３／２及び
Ｑ＝ＳｉＯ４／２であり、
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ１１、Ｒ１２及びＲ１７は独立に１〜６０の炭素原子数の１価の炭化水素基であり、Ｒ４、Ｒ５及びＲ１３は独立に１〜６０の炭素原子数の１価の炭化水素基又は水素であり、Ｒ６は２〜１０の炭素原子数の一価の不飽和炭化水素基であり、Ｒ７及びＲ８は独立に１〜６０の炭素原子数の１価の炭化水素基であり、Ｒ１４は２〜１０の炭素原子数の一価の不飽和炭化水素基であり、Ｒ１５は１〜６０の炭素原子数の１価の炭化水素基であり、Ｒ１８は２〜１０の炭素原子数の一価の不飽和炭化水素基であり、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１６は独立に１〜６０の炭素原子数の１価の炭化水素基又はＲＥであり、各ＲＥは独立に１〜６０の炭素原子数のオキシラン部分を１つ以上含む１価の炭化水素基であり、化学量論を示す下付文字ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ、ｉ、ｊ、ｋ、Ｌ、及びｍは、０又は正の数であり、但しａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＞１、ｄ＋ｈ＋Ｌ≧１及びｂ＋ｆ＋ｊ≧１である）の反応生成物（ａ）によって形成されるポリエーテルシロキサン共重合体ネットワークである請求項３５記載の方法。