Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成22年7月20日(2010.7.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｓｉ含有材料の表面上に金属シリサイドを形成する方法であって、
Ｓｉ含有材料の上に金属含有シリコン合金層を含む構造体を準備するステップと、
前記構造体に、前記Ｓｉ含有材料中への前記金属の一方向拡散を増強してアモルファス金属含有シリサイドを形成する第１の温度で実施される第１の熱サイクルと、前記アモルファス金属含有シリサイドを、前記金属含有シリコン合金層に比べて実質的にエッチング不可能な結晶化金属リッチ・シリサイドに転化する第２の温度で実施される第２の熱サイクルとを含む第１のアニール処理を施すステップと、
あらゆる未反応金属含有シリコン合金層を前記構造体から除去するステップと、
前記構造体に、前記結晶化金属リッチ・シリサイドを最低抵抗相にある金属シリサイド相に転化する第３の温度で第２のアニール処理を施すステップと
を含む方法。 
【請求項２】
前記金属含有シリコン合金層は、合金層の堆積によって、又は、初めに耐熱金属を堆積して金属層を形成し、次に前記耐熱金属層をシリコンでドープすることよって形成される、請求項１に記載の方法。 
【請求項３】
前記第１アニールの前に、前記金属含有シリコン合金層の上に随意のバリヤ層を形成するステップをさらに含み、前記随意のバリヤ層は、前記未反応金属含有シリコン合金層を除去する前記ステップにおいて除去される、請求項１に記載の方法。 
【請求項４】
前記金属含有シリコン合金層は、Ｃ、Ａｌ、Ｇｅ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｌａ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ及びそれらの混合物から構成される群から選択される少なくとも１つの添加物をさらに含む、請求項１に記載の方法。 
【請求項５】
前記金属含有シリコン合金層は、約３０原子％より少ないＳｉを含む、請求項１に記載の方法。 
【請求項６】
前記金属含有シリコン合金は、Ｎｉ、Ｃｏ又はそれらの合金を含む、請求項１に記載の方法。 
【請求項７】
前記第１温度は、前記第２温度より低い、請求項１に記載の方法。 
【請求項８】
前記第１温度は、約３５０℃より低い、請求項７に記載の方法。 
【請求項９】
前記第１熱サイクルは、約３０秒から約１２０秒までの時間実施される、請求項１に記載の方法。 
【請求項１０】
前記第２温度は、約４５０℃より低く、なお前記第１温度より高いことを特徴とする請求項７に記載の方法。 
【請求項１１】
前記第２温度は、約３５０℃から約４００℃までである、請求項１に記載の方法。 
【請求項１２】
前記第２熱サイクルは、約１０秒から約３０秒までの時間実施される、請求項１に記載の方法。 
【請求項１３】
前記除去するステップは、化学エッチャントを用いる湿式エッチング工程を含む、請求項１に記載の方法。 
【請求項１４】
前記第３温度は、約７００℃から約９００℃までであり、前記第２アニールは、約３００秒又はそれ以下の時間実施される、請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月1日(2010.3.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
前立腺癌を有する雄性対象におけるアンドロゲン枯渇療法誘発の体熱感を治療するための組成物を製造するための、トレミフェン又はその異性体、薬学的に許容される塩、医薬品、水和物、Ｎ酸化物或いはそれらの任意の組み合わせの使用。
【請求項２】
請求項１に記載の使用であって、
前記トレミフェンは、クエン酸トレミフェンであることを特徴とする使用。
【請求項３】
請求項１に記載の使用であって、
前記組成物は、薬学的に許容される担体を含むことを特徴とする使用。
【請求項４】
請求項１に記載の使用であって、
前記組成物は、
静脈内、動脈内若しくは筋肉内注射のために液状に、
皮下埋め込みのために小粒状に、
経口投与のために液状又は固形状に、又は
局所塗布のために作成されることを特徴とする使用。
【請求項５】
請求項４に記載の使用であって、
前記組成物は、小粒、錠剤、カプセル、溶液、懸濁液、乳液、エリキシル剤、ゲル、クリーム、坐薬、又は非経口製剤であることを特徴とする使用。
【請求項６】
請求項１に記載の使用であって、
前記対象は、ヒトであることを特徴とする使用。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれかに記載の使用であって、
前記トレミフェンの用量は、２０ｍｇ／日であることを特徴とする使用。
【請求項８】
請求項１乃至６のいずれかに記載の使用であって、
前記トレミフェンの用量は、４０ｍｇ／日であることを特徴とする使用。
【請求項９】
請求項１乃至６のいずれかに記載の使用であって、
前記トレミフェンの用量は、６０ｍｇ／日であることを特徴とする使用。
【請求項１０】
請求項１乃至６のいずれかに記載の使用であって、
前記トレミフェンの用量は、８０ｍｇ／日であることを特徴とする使用。
【請求項１１】
前立腺癌を有する雄性対象におけるアンドロゲン枯渇療法誘発の体熱感を抑制若しくは抑止する又はその発生を低減させるための組成物を製造するための、トレミフェン又はその異性体、薬学的に許容される塩、医薬品、水和物、Ｎ酸化物或いはそれらの任意の組み合わせの使用。
【請求項１２】
請求項１１に記載の使用であって、
前記トレミフェンは、クエン酸トレミフェンであることを特徴とする使用。
【請求項１３】
請求項１１に記載の使用であって、
前記組成物は、薬学的に許容される担体を含むことを特徴とする使用。
【請求項１４】
請求項１１に記載の使用であって、
前記組成物は、
静脈内、動脈内若しくは筋肉内注射のために液状に、
皮下埋め込みのために小粒状に、
経口投与のために液状又は固形状に、又は
局所塗布のために作成されることを特徴とする使用。
【請求項１５】
請求項１４に記載の使用であって、
前記組成物は、小粒、錠剤、カプセル、溶液、懸濁液、乳液、エリキシル剤、ゲル、クリーム、坐薬、又は非経口製剤であることを特徴とする使用。
【請求項１６】
請求項１１に記載の使用であって、
前記対象は、ヒトであることを特徴とする使用。
【請求項１７】
請求項１１乃至１６のいずれかに記載の使用であって、
前記トレミフェンの用量は、２０ｍｇ／日であることを特徴とする使用。
【請求項１８】
請求項１１乃至１６のいずれかに記載の使用であって、
前記トレミフェンの用量は、４０ｍｇ／日であることを特徴とする使用。
【請求項１９】
請求項１１乃至１６のいずれかに記載の使用であって、
前記トレミフェンの用量は、６０ｍｇ／日であることを特徴とする使用。
【請求項２０】
請求項１１乃至１６のいずれかに記載の使用であって、
前記トレミフェンの用量は、８０ｍｇ／日であることを特徴とする使用。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成22年3月18日(2010.3.18)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ゲートアセンブリによって閉じられる脚格納室内に関節式に接続して装着された航空機用の着陸脚の操作システムであって、該システムは、
‐前記着陸脚の操作を始動させるための脚格納室の全体制御指令ユニット、
‐ゲート制御指令系統（１６）、
‐着陸脚制御指令系統（１５）
を備えるシステムであり、
前記航空機が、正常動作、非常動作及び整備段階中であるとき、全体制御指令ユニット、ゲート制御指令系統及び着陸脚制御指令系統は一つの電気エネルギー源によって制御指令され、ゲート制御指令系統及び着陸脚制御指令系統は各々電気接続によってのみ全体制御指令ユニットに接続され、全体制御指令ユニットによって送信された所定のシーケンスに従った制御指令命令を受信するように構成されていることを特徴とする、着陸脚の操作システム。
【請求項２】
前記ゲート制御指令系統（１６）が、電気的に制御指令されるゲートロック装置（１７）を少なくとも一つ、ゲート作動具を少なくとも一つ、及び電気的に制御指令される作動具制御指令具（１８）を一つ備えることを特徴とする、請求項１に記載の着陸脚の操作システム。
【請求項３】
前記着陸脚制御指令系統（１５）が、電気的に制御指令される着陸脚保持装置（１３）を少なくとも一つと、脚作動具を少なくとも一つと、電気的に制御指令される作動具制御指令具（１４）を一つ備えることを特徴とする、請求項１または請求項２に記載の着陸脚の操作システム。
【請求項４】
前記電気エネルギー源が、正常動作中、航空機の全体の供給電力であることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一つに記載の着陸脚の操作システム。
【請求項５】
前記電気エネルギー源が、非常動作中、航空機の全体の供給電力、または、プロペラを備える航空機の電源であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一つに記載の着陸脚の操作システム。
【請求項６】
前記電気エネルギー源が、整備段階中では、地上の補助電源であることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一つに記載の着陸脚の操作システム。
【請求項７】
前記ゲート制御指令系統が、ゲートロック装置に結合された電気アクチュエータを少なくとも一つ、及びゲート作動具の制御指令具に結合された電気アクチュエータを一つ備えることを特徴とする、請求項２〜６のいずれか一つに記載の着陸脚の操作システム。
【請求項８】
前記着陸脚制御指令系統が、着陸脚保持装置に結合された電気アクチュエータを少なくとも一つ、及び脚作動具の制御指令具に結合された電気アクチュエータを一つ備えることを特徴とする、請求項３〜７のいずれか一つに記載の着陸脚の操作システム。
【請求項９】
前記ゲート制御指令系統が、整備段階中にプリンシパルゲートが開くことを制御指令する、航空機の外部に配置された電気制御指令具（１０）を備えることを特徴とする、請求項２〜８のいずれか一つに記載の着陸脚の操作システム。
【請求項１０】
前記全体制御指令ユニットとゲート制御指令系統及び着陸脚制御指令系統間の電気接続が有線接続であることを特徴とする、請求項１〜９のいずれか一つに記載の着陸脚の操作システム。
【請求項１１】
前記全体制御指令ユニットが、ゲートロック装置及び着陸脚保持装置の作動、及び作動具におけるシーケンス化を確保することを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか一つに記載の着陸脚の操作システム。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか一つに記載の着陸脚の操作システムを備えることを特徴とする、引込み式の着陸脚を備える航空機。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３１】
より正確には、本発明は、ゲートアセンブリによって閉じられる脚格納室にヒンジ結合式に装着された航空機の着陸脚の操作システムであって、該システムは、
‐前記着陸脚の操作を始動させるための脚格納室全体の制御指令ユニット、
‐ゲート制御指令系統、
‐着陸脚制御指令系統
を備えるシステムであり、
航空機が正常動作、非常動作及び整備段階中であるとき、全体制御指令ユニット、ゲート制御指令系統及び着陸脚制御指令系統が一つの電気エネルギー源によって制御指令されることを特徴とする、着陸脚操作システムに関するものである。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成22年3月18日(2010.3.18)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項８】
ａ）骨に固定するための本体、ならびに前記本体から延びる捕捉構造を有する細長いシャンクであって、前記捕捉構造がロッド係合端部および第１の螺旋状に巻かれた案内および進み構造を有する、細長いシャンクと、
ｂ）キャビティを画成する内面を備えるベースを有する頭部であって、前記内面が前記第１の案内および進み構造と回転するように噛み合うように寸法と形状を決められた第２の螺旋状に巻かれた案内および進み構造を有し、前記ベースのキャビティが前記第２の案内および進み構造に隣接して配置された開口を通って前記ベースの外部と連通し、前記第１の案内および進み構造が前記第２の案内および進み構造から係脱するまで、前記第１の案内および進み構造が前記第２の案内および進み構造と操作可能に噛合い且つ回転するときに前記捕捉構造が前記キャビティ内に配置されて捕捉され、前記捕捉構造が、前記捕捉構造が前記キャビティ内に配置されており且つ前記シャンク本体が前記頭部に対して旋回可能である第１の配向と、前記捕捉構造が前記第２の案内および進み構造と螺合せずに摩擦係合する第２の配向とを有し、前記ロッド係合端部がロッドと摩擦係合し、前記シャンク本体が前記頭部に対して固定された位置になるように構成されている頭部と、
を備えることを特徴とする、多軸骨ねじアセンブリ。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年12月28日(2009.12.28)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３０】
図４に示されているように、対象物検出は画像フィールドに入ってくる対象物の始まりを検出することにより行われる。これはフィールドへの対象物の立ち入りを決定し、それを確認するために、入力されるライン画像フレームをソート／比較処理することによりなされる。最初に、プロセッサは、説明のために８つの画像ラインの組をロードして８×１０００ピクセルのサンプル（サンプルストリップ）を形成し、該サンプルを８×８ピクセルのブロックに分割する。したがって、各片（サンプルストリップ）は８×８ピクセルの１２５個の光−サンプリングブロックから成る。マイクロプロセッサは次に、同様な８つの画像ラインを分割し、２つの１２５個の光の値のブロックの組を持ち、連続的な画像の光の値の局在的な変化の量を測定するため、各ブロックのピクセル値を直前の対応するブロックのピクセル値と比較する。この比較は、例えば各ブロックのピクセルの値の合計の差を取ってもよい。連続的に検出された光の値の強度（または輝度）の全変化を表す差が、全てのブロックで、閾値Ｔ1（例えば合計された全ピクセルの強度の１０％）より小さい場合、プロセッサは単に次の８つのラインを取り込み、それをブロックに分割し、再び、同様な比較を実行し、閾値レベルより大きい光の値の変化が検出されるまでこの方法を続ける。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成22年1月27日(2010.1.27)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  ６０℃より高く１２０℃までの温度で成分(i)、(ii)及び(iii)をブレンドする工程を含む油性添加剤濃縮物を調製する方法であって、(i)が、８乃至４０nmの流体力学的半径を有する１種以上の非ホウ素化無灰分散剤又は１５〜４０nmの流体力学的半径を有する１種以上のホウ素化無灰分散剤であり、(ii)が１種以上の油溶性過塩基性金属清浄剤であり、かつ(iii)が６００未満の数平均分子量で、１種以上のヒドロキシルまたはアミノ基を含む１種以上の界面活性剤であり、前記界面活性剤は、最初、１種以上の非ホウ素化無灰分散剤、１種以上のホウ素化無灰分散剤又は１種以上の油溶性過塩基性金属清浄剤のいずれかと混合され、前記分散剤の前記清浄剤に対する質量比が１：１乃至８：１であり、前記界面活性剤の量が前記分散剤の総質量に対して０．１乃至２０質量％であり、かつ活性成分に基づく(i)及び(ii)の合計が前記濃縮物の総質量に対して３０乃至６０質量％である方法。
【請求項２】  前記濃縮物を、続いて１種以上の更なる潤滑油添加剤と混合する請求項１記載の方法。
【請求項３】  前記界面活性剤を、前記清浄剤と混合する前に前記分散剤と混合する請求項１又は２記載の方法。
【請求項４】  前記分散剤の流体力学的半径が１０乃至４０nmである請求項１〜３のいずれか１項記載の方法。
【請求項５】  前記分散剤の流体力学的半径が１５乃至４０nmである請求項１〜３のいずれか１項記載の方法。
【請求項６】  前記金属清浄剤の直径が４乃至４０nmである請求項１〜５のいずれか１項記載の方法。
【請求項７】  前記過塩基性清浄剤が、アルカリまたはアルカリ土類金属のスルホネート、フェナート、硫化フェナート、チオホスホネート、サリチレート、及びナフテネートである請求項１〜６のいずれか１項記載の方法。
【請求項８】  前記界面活性剤が、アルコール及びその部分的エステル、及び脂肪族アミンからなる群から選択される請求項１〜７のいずれか１項記載の方法。
【請求項９】  前記界面活性剤が１００乃至４００の当量のヒドロキシル基を含む化合物である請求項１〜８のいずれか１項記載の方法。
【請求項１０】  前記界面活性剤が２００乃至６００の当量のアミノ基を含む化合物である１〜８のいずれか１項請求項記載の方法。
【請求項１１】  前記界面活性剤が、グリセロールモノオレエート、ノニルフェノール、ノニルフェノールスルフィド、ドデシルフェノール、エトキシ化牛脂アミン、エトキシ化牛脂エーテルアミン、トリデカノール、イソデカノール及びそれらの混合物からなる群から選択される請求項１〜７のいずれか１項記載の方法。
【請求項１２】  前記無灰分散剤がポリイソブチレンから誘導される請求項１〜１１のいずれか１項記載の方法。
【請求項１３】  ６０℃より高く１２０℃までの温度で成分(i)、(ii)及び(iii)をブレンドする工程を含む潤滑油組成物の製造に使用するのに適する油性添加剤濃縮物を調製する方法であって、(i)が、数平均分子量が７０００乃至２０，０００または重量平均分子量が１７，０００乃至５０，０００のポリ（イソブチレン）分散剤、及び数平均分子量が３０００乃至２０，０００または重量平均分子量が６，０００乃至５０，０００のポリ（α-オレフィン）分散剤からなる群から選択された分散剤から誘導される１種以上のホウ素化または非ホウ素化ポリアミン誘導ポリマー無灰分散剤であり、(ii)が１種以上の油溶性過塩基性金属清浄剤であり、かつ(iii)が６００未満の数平均分子量で、１種以上のヒドロキシルまたはアミノ基を含む１種以上の界面活性剤であり、前記界面活性剤は、最初、１種以上のホウ素化又は非ホウ素化ポリアミン誘導ポリマー無灰分散剤又は１種以上の油溶性過塩基性金属清浄剤のいずれかと混合され、前記分散剤の前記清浄剤に対する質量比が１：１乃至８：１であり、前記界面活性剤の量が前記分散剤の総質量に対して０．１乃至２０質量％であり、かつ(i)及び(ii)の合計が前記濃縮物の総質量に対して３０乃至６０質量％である方法。
【請求項１４】  前記ポリ（α-オレフィン）分散剤が、５０００乃至１０，０００の数平均分子量または１０，０００乃至３０，０００の重量平均分子量を有する請求項１３記載の方法。
【請求項１５】  前記ポリ（α-オレフィン）分散剤がエチレン／ブテンα-オレフィンポリマーから誘導され、前記分散剤が、４０００乃至１５，０００の数平均分子量または８，０００乃至４０，０００の重量平均分子量を有する請求項１３記載の方法。
【請求項１６】  前記界面活性剤を、前記清浄剤と混合する前に前記分散剤と混合する請求項１３〜１５のいずれか１項記載の方法。
【請求項１７】  前記分散剤がホウ素化されており、流体力学的半径が１５乃至４０nmである請求項１６記載の方法。
【請求項１８】  前記金属清浄剤の直径が４乃至４０nmである請求項１３〜１７のいずれか１項記載の方法。
【請求項１９】  前記界面活性剤が１００乃至４００の当量のヒドロキシル基を含む化合物である請求項１３〜１８のいずれか１項記載の方法。
【請求項２０】  前記界面活性剤が２００乃至６００の当量のアミノ基を含む化合物である請求項１３〜１８のいずれか１項記載の方法。
【請求項２１】  前記界面活性剤が、グリセロールモノオレエート、ノニルフェノール、ノニルフェノールスルフィド、ドデシルフェノール、エトキシ化牛脂アミン、エトキシ化牛脂エーテルアミン、トリデカノール、イソデカノール及びそれらの混合物からなる群から選択される請求項１３〜１８のいずれか１項記載の方法。
【請求項２２】  前記過剰塩基性清浄剤が、アルカリまたはアルカリ土類金属のスルホネート、フェナート、硫化フェナート、チオホスホネート、サリチレート、及びナフテネートである請求項１３〜２１のいずれか１項記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００６】
（発明の要約）
本発明は、成分(i)、(ii)及び(iii)の混合物を含む油性添加剤濃縮物であって、(i)が、約８乃至４０nmの流体力学的半径を有する１種以上のホウ素化又は非ホウ素化無灰分散剤(borated or unborated ashless dispersant:硼酸塩化または非硼酸塩化無灰分散剤)であり、(ii)が１種以上の油溶性過塩基性金属清浄剤であり、かつ(iii)が６００未満の数平均分子量で、１種以上のヒドロキシルまたはアミノ基を含む１種以上の界面活性剤であり、前記分散剤の前記清浄剤に対する質量比が約１：１乃至８：１であり、前記界面活性剤の量が前記分散剤の総質量に対して約０．１乃至２０質量％であり、かつ(i)及び(ii)の合計が前記濃縮物の総質量に対して約３０乃至６０質量％である添加剤濃縮物に関する。本発明においては、特に指定がなければ、無灰分散剤、過塩基性清浄剤及びその他の濃縮物添加剤の量は活性成分に基づく。
本発明はまた前述の添加剤濃縮物の調製法にも関する。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成22年10月27日(2010.10.27)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項２９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項２９】
工程（ａ）におけるリガンド原子の連結原子団への原子の分割は、各原子及びその近隣体の結合連続性と化学的同一性の関数である数学的処理を含む請求項１７の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項４２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項４２】
疎水性囲いに対する前記ボーナスの大きさは、少なくとも
シングレットの水素結合、相関付けられた水素結合の対、及び、トリプレットの水素結合の存在を決定する工程；及び
水素結合のシングレット、対、およびトリプレットに異なる毎結合値を割り当てる工程；
により評価される請求項３０の方法。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１２】
本発明の第１の側面を用いて実験的に試験すべき化合物を選択してもよい。
本発明の第１の側面の好ましい実施形態は、ａ）疎水性囲いを表す項を計算すること；ｂ）静電的リワードを表す項を計算すること；ｃ）疎水性領域における水素（Ｈ）結合に関するＶＲＩを増強する項を計算すること；ｄ）Ｈ結合対を表す項を計算すること；ｅ）π−カチオン及びπスタッキングを表す項を計算すること；ｆ）標準的親油性対を表す項を計算すること；及び、ｇ）項の合計から評点を計算すること；のうちの１つ以上を何れかの順序（ただし工程（ｇ）は最後に実施する）で含むことができる。疎水性囲いの存在は、少なくとも、ａ）リガンドの疎水性原子の特定のカットオフ距離内にある親油性レセプタ原子を位置決定すること；ｂ）疎水性リガンド原子の周囲の親油性レセプタ原子の空間的及び角度的分布を決定すること；ｃ）疎水性リガンド原子の周囲の親油性レセプタ原子の空間的及び角度的分布に基づいてボーナスを授与すること；を実施することにより決定してもよい。疎水性囲いの存在及び大きさは、少なくとも、ａ）共有結合により連結された原子の原子団にリガンドの親油性原子を分割すること；及びｂ）各原子団に疎水性囲いの評点を割り当てること、原子団の大きさが予め特定された閾値未満であれば囲い評点をゼロに設定すること（例えば原子団における各リガンド原子に対して疎水性囲い評点を決定すること、及び、原子団の評点を得るために各リガンド原子に対して値を加算することによる）；ｃ）連結された原子団の疎水性囲い評点の合計として疎水性囲いに関して授与すべき総ボーナスを計算すること；を実施することにより決定してもよい。適切な連結原子団におけるリガンド原子に関する疎水性囲い評点の値は、少なくとも、ａ）リガンド原子とレセプタの親油性原子との間の距離を計算すること；ｂ）原子の囲いの程度を判断するために数学式を使用すること、ここでその式は親油性レセプタ原子の角度的分布及びリガンド原子からのその距離を考慮するものであること；を実施することにより決定してもよい。リガンド原子の特定のカットオフ距離内にあるレセプタ原子のより大きい角度的分布は、該式を使用した場合のより高い囲い評点をもたらし、適切に短い距離において親油性レセプタ原子により囲われているリガンド原子が該式を用いた場合にノンゼロ値の囲い評点をもたらすことになる。更に又、原子団内の各リガンド原子の疎水性囲い評点は、ａ）リガンド原子に最も近い親油性レセプタ原子であるアンカー原子を指定すること；ｂ）リガンド原子とアンカー原子との間に参照ベクトルを構築すること；ｃ）リガンド原子と特定の距離カットオフ内の残存する親油性レセプタ原子との間にベクトルを構築すること；ｄ）ｃ）で定義されたベクトルの各々と参照ベクトルとの間に形成された角度を計算すること；ｅ）距離の減少に従って、また、角度の増加に従って、寄与が増加する関数を用いながら、リガンド原子へのレセプタ原子の距離により、ｄ）において定義された角度により、囲い評点へのｃ）においてベクトルを形成する親油性レセプタ原子の寄与を決定すること；を含む方法により決定される。各親油性レセプタ原子に関する囲いへの寄与は角度の評点と距離の評点との積である。角度が所定の角度より小さい場合に角度の評点はゼロに設定さ��、これは必須ではないが最小角度がリガンド原子とアンカー原子との間の距離が増加するほど増加する関数として変化してもよい。リガンド原子は、極性原子に連結された炭素原子は除き、極性原子連結により中断されない連結炭素原子のセットを含む親油性原子団に帰属させる。原子団は最少数の原子（例えば少なくとも３原子）を含むことができる。条件は、ノンゼロの囲い評点を受ける親油性レセプタ原子が、ある定数（例えば約３Å±０．１Å）とリガンド及びレセプタのファンデルワールス半径の合計との合計である距離内になければならない。リガンド原子の連結原子団への原子の分割は、各原子及びその近隣体の結合連結性（bonding connectivity）の、また、化学的同一性の関数である数学的処理を含んでよい。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１５】
疎水性囲いに対するボーナスの大きさを評価するための工程は、シングレットの水素結合、相関付けられた水素結合の対、及び、トリプレットの水素結合の存在を決定する工程；及び水素結合のシングレット、対、およびトリプレットに異なる毎結合値を割り当てる工程である。リガンド中性原子の原子団とレセプタとの間の水素結合に関する値は、以下の工程、すなわち、レセプタの溶媒和の程度を判断すること；及び、レセプタの溶媒和の程度に応じて中性−中性水素結合リワードを授与すること；を含む方法により割り当ててもよい。ある原子を共有している水素結合の２つの対がボーナスを授与するための基準を満足してよく、第２の対に対するボーナスは例えば約−２ｋｃａｌ／モルに特定的に設定してもよい。水素結合の対に割り当てられるボーナス（以降「基本リワード」と呼ぶ）は、以下の公式、すなわち、
・  θｍ＜θ＜θ０であれば、Ｓ（θ）＝（θ−θｍ）／（θ０−θｍ）、
式中、θ０は最大角度であり、θｍはパラメーター化において許容される最小角度であり、θ≧θ０であれば、Ｓ（θ）＝１．０であり、θ＜θｍであれば、Ｓ（θ）＝０．０であるという角度関数を用いて基本リワードをスケールダウンすること；
・  対の各結合に角度スケールファクターＳ１、Ｓ２を割り当てること；及び、
・  対の各結合Ｓ１＊Ｓ２に関する角度スケールファクターの積（Ｅｈｂ＿ｓｐｅｃ）を式Ｅｈｂ＿ｓｐｅｃ＝Ｓ１＊Ｓ２＊Ｅｂａｓｅに従って基本リワード（Ｅｂａｓｅ）に適用すること；
に従って低減される。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３５】
本明細書に記載した方法はアルゴリズムのサンプルとスコア関数が共に最適化される場合において、単一で明解なアプローチを可能にする。
本明細書に記載した方法は上記利点の全てを提供する。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月22日(2010.2.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
情報記録媒体において、
複数の記録層を備え、各記録層は、ユーザデータを記録するためのユーザデータ領域を備え、前記媒体に記録／再生を行う記録／再生装置が前記媒体の記録層を移動するために利用する少なくとも一つ以上のミドル領域が設けられ、
前記ミドル領域は、前記情報記録媒体の最終化時に拡張されることを特徴とする情報記録媒体。
【請求項２】
前記ミドル領域以後には、特定の目的として使用するための専用領域が配列され、前記情報記録媒体の最終化時に、前記ミドル領域は、前記専用領域の少なくとも一部分まで拡張されることを特徴とする請求項１に記載の情報記録媒体。
【請求項３】
前記専用領域は、前記媒体へのデータ記録／再生のための特性をテストするためのテスト領域を備えることを特徴とする請求項２に記載の情報記録媒体。
【請求項４】
前記ミドル領域には、リードアウト属性のデータが記録されることを特徴とする請求項１に記載の情報記録媒体。
【請求項５】
前記ミドル領域は、前記媒体にユーザがデータが記録されるユーザデータ領域の次に可変的に配置され、ユーザデータが記録されていない領域は、未記録領域として残っており、
前記情報記録媒体の最終化時に、前記ミドル領域は、前記未記録領域の少なくとも一部分まで拡張されることを特徴とする請求項１に記載の情報記録媒体。
【請求項６】
前記ミドル領域は、前記媒体にユーザがデータの記録されるユーザデータ領域の次に可変的に配置される第１ミドル領域と、前記媒体の外部に固定的に配置される第２ミドル領域とを備え、
前記情報記録媒体の最終化時に、前記第１ミドル領域は、前記ユーザデータが記録されていない未記録領域の少なくとも一部分まで拡張されることを特徴とする請求項１に記載の情報記録媒体。
【請求項７】
前記ミドル領域は、前記媒体にユーザがデータの記録されるユーザデータ領域の次に可変的に配置され、前記ミドル領域以後には、特定の目的として使用するための専用領域が配列され、
前記情報記録媒体の最終化時に、前記ミドル領域は、前記専用領域の少なくとも一部分まで拡張されることを特徴とする請求項１に記載の情報記録媒体。
【請求項８】
情報記録媒体に／からデータを記録／再生する記録／再生装置において、
前記媒体に／からデータを書込み／読み取りをする書込み／読み取り部と、
前記媒体に／からデータを書込み／読み取りをするように、前記書込み／読み取り部を制御し、前記媒体の最終化時に、前記書込み／読み取り部が前記媒体の少なくとも二つの層を往来する時に利用するために、前記媒体に少なくとも一つ以上設けられるミドル領域を拡張する制御部とを備えることを特徴とする記録／再生装置。
【請求項９】
前記制御部は、前記ミドル領域にリードアウト属性のデータを記録するように前記書込み／読み取り部をさらに制御することを特徴とする請求項８に記載の記録／再生装置。
【請求項１０】
前記制御部は、
前記情報記録媒体の最終化時に、前記ミドル領域を前記ミドル領域以後に特定の目的として使用するために配列された専用領域の少なくとも一部分まで拡張することを特徴とする請求項８に記載の記録／再生装置。
【請求項１１】
前記制御部は、前記専用領域を前記媒体へのデータ記録／再生のための特性をテストするためのテスト領域として使用することを特徴とする請求項１０に記載の記録／再生装置。
【請求項１２】
前記制御部は、
前記媒体のユーザデータ領域のうち、ユーザデータの記録された位置の次に前記ミドル領域を可変的に配置し、前記ユーザデータ領域の残りの領域は、未記録状態に残し、
前記情報記録媒体の最終化時に、前記ミドル領域を前記未記録領域の少なくとも一部分まで拡張することを特徴とする請求項８に記載の記録／再生装置。
【請求項１３】
前記制御部は、
前記媒体の外周領域に固定的に配置された第２ミドル領域以外に、前記媒体のユーザデータ領域のうち、ユーザデータの記録された位置の次に第１ミドル領域を可変的に配置し、前記ユーザデータ領域の残りの領域は、未記録状態に残し、
前記情報記録媒体の最終化時に、前記第１ミドル領域を前記未記録領域の少なくとも一部分まで拡張することを特徴とする請求項８に記載の記録／再生装置。
【請求項１４】
前記制御部は、
前記媒体のユーザデータ領域のうち、ユーザデータの記録された位置の次に前記ミドル領域を可変的に配置し、前記ミドル領域以後には、特定の目的として使用するための専用領域を配置し、
前記情報記録媒体の最終化時に、前記ミドル領域を前記専用領域の少なくとも一部分まで拡張することを特徴とする請求項８に記載の記録／再生装置。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成22年3月16日(2010.3.16)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１１】
本発明はまた、基材を化学的機械的に磨く方法を与え、この方法は、(i)貴金属を含む基材と、以下を含む化学的機械的な磨き系との接触：(a)貴金属を酸化する酸化剤、(b)サルフェート、ボレート、ナイトレート、およびホスフェートからなる群から選択されたアニオン、(c)研磨剤、磨きパッド、およびそれらの組み合わせからなる群から選択された磨き構成部分、および(d)液体の担体、ならびに(ii)基材を磨くための少なくとも貴金属一部分の研磨、を含む。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１３】
本発明はさらに、ルテニウムを含む基材の化学的機械的な磨き方法を与え、この方法は、以下を含む(i)ルテニウムを含む基材と、以下を含む化学的機械的な磨き系との接触：(a)＋４の酸化状態より上にルテニウムを酸化する酸化剤、(b)ポリマー型金属イオン封鎖剤、金属キレート剤、有機チオール、四酸化ルテニウムを還元する化合物、ラクトンおよびα-ヒドロキシカルボニル化合物からなる群から選択された磨き追加物、(c)研磨剤、磨きパッド、およびそれらの組み合わせからなる群から選択された磨き構成部分、および(d)液体の担体、ならびに(ii)基材を磨くための少なくとも基材の一部分の研磨。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３６】
該方法が、磨き組成物の液体担体中に懸濁された研磨剤である磨き構成部分を含む時、研磨剤、研磨剤の量および研磨剤の粒子サイズおよびコロイドの安定性等の研磨剤の他の特徴は、磨き組成物のために、ここに記載されたとおりである。好ましい態様では、研磨剤は、液体の担体中で懸濁されており、磨きパッドとともに使用される。別の好ましい態様では、本発明の方法は、磨きパッドに付着する研磨剤の使用を含む。研磨剤を磨きパッド付けるための多数の方法は周知技術である。また別の態様では、本発明の方法の磨き構成部分は、研磨剤フリーの磨きパッドを含む。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３８】
本発明は、さらにルテニウムを含む基材のための、以下を含む磨き組成物を与える(a) ＋４の酸化状態より上にルテニウムを酸化する酸化剤、(b)ポリマー型金属イオン封鎖剤、金属キレート剤、有機チオール、四酸化ルテニウムを還元する化合物、ラクトンおよびα-ヒドロキシカルボニル化合物からなる群から選択された磨き追加物、および(c)液体の担体。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５２】
本発明は、さらにここに記載されたルテニウムを含む基材のための磨き組成物を用いて、ルテニウムを含む基材を磨くための方法を与える。特に、本発明は、ルテニウムを含む基材磨きの方法を与え、該方法は、以下のステップを含む：(i)ルテニウムを含む基材と、以下を含む化学的機械的な磨き系との接触(a)＋４の酸化状態より上にルテニウムを酸化する酸化剤、(b)ポリマー型金属イオン封鎖剤、金属キレート剤、有機チオール、四酸化ルテニウムを還元する化合物、ラクトンからおよびα-ヒドロキシカルボニル化合物なる群から選択された磨き追加物、(c)研磨剤、磨きパッド、およびそれらの組み合わせからなる群から選択された磨き構成部分、および(d)液体の担体、ならびに(ii)基材を磨くための少なくとも基材の一部分の研磨。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５４】
方法が、磨き組成物の液体の担体中に懸濁された研磨剤である磨き構成部分を含む時、研磨剤、研磨剤の量、および研磨剤の粒子サイズおよびコロイドの安定性等の研磨剤の他の特徴は、ルテニウムを含む基材のための磨き組成物のためにここに記載されたとおりである。好ましい態様では、研磨剤は、液体の担体に懸濁されて磨きパッドとともに使用される。別の態様では、本発明の方法は、磨きパッドに付着する研磨剤の使用を含む。磨きパッドに研磨剤を付着する多数の方法が周知技術である。別の態様では、本発明の方法の磨き構成部分は、研磨剤フリー磨きパッドを含む。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５６】
基材は、個々に記載した磨き組成物、および／又はあらゆる適切な技術によって、ここに記載された本発明の方法に従って、平面化または磨かれることが出来る。本発明の磨き方法は、化学的機械的な磨き(ＣＭＰ)器具を併せた使用に特に適する。器具は、通常、使用の際は動作しており、軌道、直線、または回転運動の結果である速度を有するプラテン、および動作中はプラテンと接触しプラテンとともに動く磨きパッド、および磨きパッドの表面に接触し相対して動くことによって磨かれる基材を保持する搬送機を含む。基材の磨きは、本発明の磨きパッドおよび磨き組成物と接触して設置されている基材、基材磨きのために少なくともの基材の一部分を磨耗するために、基材に相対して動く磨きパッドによって起こる。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６４】
基材は、適切な磨きパッド(例えば、磨き表面）を用いて、磨き組成物で平坦化され、または磨かれることが可能である。適切な磨きパッドは、例えば、織物および非織物磨きパッドを含む。さらに、適切な磨きパッドは、様々な密度、硬度、厚さ、圧縮性、圧縮下での回復能、および圧縮弾性率のあらゆる適切なポリマーを含むことが出来る。適切なポリマーは、例えば、ポリビニルクロライド、ポリビニルフルオライド、ナイロン、フルオロカーボン、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアクリレート、ポリエーテル、ポリエチレン、ポリアミド、ポリウレタン、ポリスチレン、ポリプロピレン、それらの共生成物、およびそれらの混合物を含む。
【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００８１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００８１】
表３に示されたデータから明らかなように、両比較磨き組成物のルテニウム除去速度は、ブロメートナトリウムまたはポタジウムハイドロジェンペルオキシモノサルフェートサルフェートを含む磨き組成物に比較すると、非常に遅い。さらにＫ２ＳＯ４が磨き組成物中に５重量％で存在したときは、ルテニウム除去速度を加速しなかった。このように、本実施例の結果は、本発明の磨き組成物中で使用された貴金属を酸化する酸化剤以外の酸化剤を含む組成物中のサルフェートによって、ルテニウム除去速度における増強が無いことを示す。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成22年8月6日(2010.8.6)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６７】
回転数情報は点火アウトプット部により直接使用される。すなわち点火アウトプット部は上記の式に従い、他の計算ユニットから通知された閉鎖時間と点火角の目標値から閉鎖開始角を求める。閉鎖開始角は、イベント計算の位置に対するエネルギー調整の開始の角度間隔として得られる。この閉鎖開始角は、この閉鎖開始角に相応する角度パルスのパルス数に変換される。角度パルスを介して測定することのできない残余角度は点火アウトプット部の出力ユニットのバッファメモリに書き込まれる。このパルス数は点火アウトプット部の回路ユニットに通知され、この回路ユニットは前記パルス数を角度測定装置の歯パルスカウンタと比較する。歯パルスカウンタがこのパルス数と等しければ、点火アウトプット部の計算ユニットが新たに作動される。しかし今回は、内部回路ユニットにより作動され、回転角度測定装置により作動されるのではない。新たな計算の際に、内部バッファにファイルされた残余角度が、角度発生器の先行する歯周期に対する時間に関連付けられる。この値は回転角度測定装置で問い合わされる。残余角度と先行する歯周期とから、閉鎖開始角の実際の角度位置までの時間間隔が得られる。そのために機関の所定の角度／時間運動形態が格納される。前記時間間隔はさらに内部比較回路に送出される。この回路は今回は、スイッチを介して角度測定装置の自励型タイマと接続される。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  内燃機関の点火方法において、
ａ）角度発生ホイールがクランクシャフトの運動に同期して、角度パルスを形成し、
ｂ）点火出力ユニットが、内燃機関サイクルの各セグメントにおいて、点火コイルに充電を開始するための閉鎖開始角（ＷＬＢ）を計算し、
前記閉鎖開始角（ＷＬＢ）を、角度パルスのパルス数と、該角度パルスを介して測定することのできない残余角度の和として求め、
ｃ）角度パルスが前記のパルス数に達したかどうかを比較ユニットにより検出し、
前記残余角度に相当する時間が、角度発生ホイールの先行する歯周期に対する時間に関連して、目下の回転数を考慮して求められ、
前記残余角度に相当する時間が経過した後、点火コイルの充電時間（ｔＬ）を開始する、
ことを特徴とする方法。
【請求項２】  点火出力ユニットは、閉鎖開始角（ＷＬＢ）の他に、充電時間（ｔＬ）および点火角（ｗＺ）を計算する、請求項１記載の方法。
【請求項３】  点火出力ユニットは第２のモードにおいて、点火角（ｗＺ）を計算し、ここで点火出力ユニットの第１の手段によって、前記点火角（ｗＺ）は角度パルスのパルス数と残余角度の和として計算され、
角度パルスが前記のパルス数に到達することが比較ユニットにより検出され、
これに続いて残余角度に相当する時間を目下の回転数を考慮して検出し、
これに続いて前記残余角度に相当する時間が経過した後、点火コイルの充電時間（ｔＬ）を終了する、請求項２記載の方法。
【請求項４】  点火出力ユニットは第１のモードにおいて、前記充電時間（ｔＬ）を計算し、
比較ユニットによって、前記充電時間（ｔＬ）の終了後に点火コイルの充電を終了する、請求項２記載の方法。
【請求項５】  点火出力ユニットは、回転数または内燃機関の始動後の時間に依存して、第１と第２のモードとを切り替える、請求項３または４記載の方法。
【請求項６】  比較ユニットにより点火コイルの充電時間の開始時に形成される信号を第１の線路を介して出力ユニットに供給し、
比較ユニットにより点火コイルの充電時間の終了時に形成される信号を第２の線路を介して点火出力ユニットに供給し、
第１の線路と第２の線路とはそれぞれ、比較ユニットと点火出力ユニットとを接続する、請求項３または４記載の方法。
【請求項７】  前記閉鎖開始角（ＷＬＢ）の計算を、噴射が行われたときに初めて開始する、請求項１記載の方法。
【請求項８】  内燃機関の点火装置において、
ｄ）角度発生ホイールを有し、該角度発生ホイールはクランクシャフトの運動に同期して角度パルスを形成し、
ｅ）点火出力ユニットを有し、該点火出力ユニットは内燃機関サイクルの各セグメントにおいて、点火コイルに充電を開始するための閉鎖開始角（ＷＬＢ）を計算し、
点火出力ユニットの第１の手段が設けられており、該第１の手段は、前記閉鎖開始角（ＷＬＢ）を角度パルスのパルス数と、該角度パルスを介して測定することのできない残余角度の和に変換し、
ｆ）比較ユニットを有し、該比較ユニットにより角度パルスが前記パルス数に達することが検出され、これに続いて、
ｇ）点火出力ユニットの計算ユニットが作動され、
該計算ユニットは残余角度に相当する時間を、前記角度発生ホイールの先行する歯周期に対する時間に関連して、目下の回転数を考慮して求め、
これに続いて、前記比較ユニットにより前記残余角度に相当する時間の終了を検出すると、点火コイルの充電時間を開始する、
ことを特徴とする点火装置。
【請求項９】  前記点火出力ユニットは前記閉鎖開始角の他に、充電時間（ｔＬ）と点火角（ｗＺ）を計算する、請求項８記載の装置。
【請求項１０】  前記点火出力ユニットにより第２のモードにおいて、前記点火角（ｗＺ）を計算し、
点火出力ユニットの第１の手段により、前記点火角（ｗＺ）を角度パルスのパルス数と残余角度の和として検出し、
比較ユニットにより角度パルスが前記パルス数に到達することを検出し、
これに続いて、点火出力ユニットの計算ユニットが作動され、
該計算ユニットは、残余角度に相当する時間を瞬時回転数の考慮の下で検出し、
これに続いて比較ユニットにより、残余角度に相当する時間の終了を検出し、点火コイルの充電時間（ｔＬ）を終了する、請求項９記載の装置。
【請求項１１】  点火出力ユニットにより第１のモードにおいて、前記充電時間（ｔＬ）を計算し、
比較ユニットにより充電時間（ｔＬ）の経過後、点火コイルの充電を終了する、請求項１０記載の装置。
【請求項１２】  点火出力ユニットは、回転数または内燃機関の始動後の時間に依存して、第１と第２のモードとを切り替える、請求項１０または１１記載の装置。
【請求項１３】  第１の線路と第２の線路がそれぞれ比較ユニットと点火出力ユニットとを接続し、
比較ユニットにより点火コイルの充電時間の開始時に形成された信号が第１の線路を介して出力ユニットに供給され、
比較ユニットにより点火コイルの充電時間の終了時に形成された信号が第２の線路を介して点火出力ユニットに供給される、請求項１０または１１記載の装置。
【請求項１４】  前記閉鎖開始角（ＷＬＢ）の計算は、噴射が行われて初めて開始される、請求項８記載の装置。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成22年4月16日(2010.4.16)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  1.0 デニール以下の細い繊維を含む少なくとも１本の糸と、
前記細い繊維の糸と係合する抗菌繊維を含む少なくとも１本の糸とを備え、前記抗菌繊維は合成繊維と一緒に紡がれた、55デニール乃至約150デニールのアセテート繊維であり、前記抗菌繊維が布帛全体に抗菌性を付与し、前記細い繊維は微生物を表面から除去できることを特徴とする清掃用布帛。
【請求項２】  前記清掃用布帛が織られたものであることを特徴とする請求項１に記載の清掃用布帛。
【請求項３】  前記清掃用布帛が編まれたものであることを特徴とする請求項２に記載の清掃用布帛。
【請求項４】  前記合成繊維がポリエステルであり、前記ポリエステルと前記抗菌繊維の組み合わせが250デニール乃至450デニールであるようにしたことを特徴とする請求項１に記載の清掃用布帛。
【請求項５】  前記細い繊維が0.5デニール以下であることを特徴とする請求項１に記載の清掃用布帛。
【請求項６】  前記細い繊維が0.3デニール以下であることを特徴とする請求項１に記載の清掃用布帛。
【請求項７】  前記細い繊維が直径4ミクロン未満であることを特徴とする請求項１に記載の清掃用布帛。
【請求項８】  前記細い繊維がポリアミドを含み、前記清掃用布帛に陽イオン電荷を付与することを特徴とする請求項１に記載の清掃用布帛。
【請求項９】  0.3 デニール以下の細い繊維を含む少なくとも１本の糸と、
前記細い繊維を含む糸と係合する抗菌繊維を含む少なくとも１本の糸を備え、
前記抗菌繊維は合成繊維と一緒に紡がれた、55デニール乃至約150デニールのアセテート繊維であり、
前記細い繊維は微生物を表面から除去することができ、前記抗菌繊維は布帛全体に抗菌性を付与することを特徴とする清掃用布帛。
【請求項１０】  前記清掃用布帛が織られたものであることを特徴とする請求項９に記載の清掃用布帛。
【請求項１１】  前記清掃用布帛が編まれたものであることを特徴とする請求項９に記載の清掃用布帛。
【請求項１２】  前記細い繊維が直径4ミクロン未満であることを特徴とする請求項９に記載の清掃用布帛。
【請求項１３】  前記細い繊維がポリアミドを含み、布帛全体に陽イオン電荷を付与することを特徴とする請求項９に記載の清掃用布帛。
【請求項１４】  前記抗菌繊維がさらに抗菌剤トリクロサンを含むことを特徴とする請求項９に記載の清掃用布帛。
【請求項１５】  前記合成繊維がポリエステルであり、前記ポリエステルと前記抗菌繊維の組み合わせが250デニール乃至450デニールであるようにした、請求項９に記載の清掃用布帛。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１２】
したがって、アセテート抗菌繊維の強度を高めるために、この好ましい実施の形態ではこの繊維がレーヨン、ナイロン、又は好ましくはポリエステル、などの合成繊維と共に紡がれる。通常、アセテート抗菌繊維は約55デニール乃至約150デニールという重量で提供され、ポリエステルと抗菌繊維の組み合わせは約250デニール乃至約450デニールという範囲であることが好ましい。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成22年2月22日(2010.2.22)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】 場合によっては高吸収性ヒドロゲル材料を含む繊維材料からなる、液体を収容する吸収層を備えた授乳パッドにおいて、吸収層が付加的に０．２〜１ｇのキトサン及び１〜５ｇの綿を含み、吸収層内におけるキトサンの質量％の割合が５〜２５％である授乳パッド。
【請求項２】 吸収層が１．５〜２．５ｇの綿と、０．５〜１．５ｇの高吸収性ポリマー材料を含んでいることを特徴とする請求項１記載の授乳パッド。
【請求項３】 使用時に体と反対側に位置する外側層が疎水性フリース材の形あるいはフィルムの形またはフリースとフィルムの積層体の形をしていることを特徴とする請求項１又は２に記載の授乳パッド。
【請求項４】 使用時に体寄りに位置する液体を通す層が、ビスコースまたはビスコース／ポリエステルからなっていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一つに記載の授乳パッド。
【請求項５】 授乳パッドが完全に生物学的に分解可能な材料だけによって形成されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一つに記載の授乳パッド。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１０】
キトサンは体寄りの層内に、すなわち体に直接接触させて配置してもよい。キトサンを固有の吸収層内に配置すると有利であることが判った。この吸収層は好ましくはセルロースをベースとして製造された１〜５ｇ、特に２〜４ｇの綿によって形成される。吸収層は高吸収性のポリマー材料を含んでいてもよい。このような場合、吸収層は好ましくは１．５〜２．５ｇの綿と０．５〜１．５ｇの高吸収性ポリマー材料によって形成される。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成22年6月1日(2010.6.1)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３３】
一般に、本発明で有用である溶融加工可能なフルオロポリマー樹脂は、この範囲外の粘度でも使用可能であるが、０．５〜５０×１０3Ｐａ・ｓの範囲の溶融粘度（ＭＶ）を有する。より通常的には、ＭＶは１〜４０×１０3Ｐａ・ｓの範囲にある。このようなフルオロポリマーには、３〜８個の炭素原子を有するペルフルオロオレフィンおよび線状または枝分かれしたアルキル基が１〜５個の炭素原子を含むペルフルオロ（アルキルビニルエーテル）（ＰＡＶＥ）から選択される１種あるいは複数の共重合可能なモノマーとＴＦＥとのコポリマーが含まれる。ここでコモノマーは、融点をＰＴＦＥの融点より実質的に下げる(例えば３１５℃を超えない融点にする)のに十分なだけ用いられる。好ましいパーフルオロポリマーには、少なくとも１種のヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）およびＰＡＶＥとＴＦＥとのコポリマーが含まれる。好ましいコモノマーには、アルキル基が１〜３個の炭素原子、特に２〜３個の炭素原子を含むＰＡＶＥ、すなわちペルフルオロ（エチルビニルエーテル）（ＰＥＶＥ）およびペルフルオロ（プロピルビニルエーテル）（ＰＰＶＥ）が含まれる。使用可能な別のフルオロポリマーには、必要に応じて１種あるいは複数のペルフルオロブチルエチレン（ＰＦＢＥ）などの変性コモノマーを少量含む、エチレンとＴＦＥのコポリマー（ＥＴＦＥ）が含まれる。使用可能な他の水素含有フルオロポリマーには、エチレンとＣＴＦＥのコポリマー（ＥＣＴＦＥ）、フッ化ビニリデンホモポリマーおよびコポリマーが含まれる。