【手続補正書】
【提出日】平成21年12月17日(2009.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（ＶＩＩ）の化合物
【化１】
2009521463.tif 000001
［式中、Ａ１は、水素、ハロゲン、低級アルキル、または低級アルコキシであり；
Ａ２は、水素、ハロゲン、低級アルキル、または低級アルコキシであり；
Ａ３は、ＢＯＣまたはＣｂｚまたはＰｈＣＯであり；
Ｒ１は、低級アルキルまたはフェニル基であり；
Ａ４は、水素原子、またはベンジル、Ｃｂｚ、およびアセチル基からなる群から選択されるヒドロキシル保護基であり、
Ａ５は、
（ｉ）点線が酸素原子との第２の結合を表す場合には存在せず、よって
【化２】
2009521463.tif 000002
がオキソ基であり、または
（ｉｉ）水素原子であり、または
（ｉｉｉ）Ｃｂｚ基であり、または
（ｉｖ）Ａ６と結合してＯＣＨ（ＣＨ＝ＣＨ２）Ｏ基を形成する］。
【請求項２】
式（ＶＩＩ）の請求項１に記載の化合物
（但し、Ａ４はアセチルであり、ＯＡ４はα配置であり、
Ａ５はＡ６と結合しており、ＯＡ５はα配置である）。
【請求項３】
ＯＡ４がβ配置を有し、Ａ４が、水素、Ｃｂｚ、またはアセチルであり、
【化３】
2009521463.tif 000003
がオキソ基であり、Ａ６が、水素またはＣｂｚである、請求項１６に記載の化合物。
【請求項４】
パクリタキセル、ドセタキセル、またはＴＰＩ２８７の調製方法であって、請求項１に記載の式ＶＩＩの対応する化合物の水素化を含む前記方法。
【請求項５】
式ＶＩＩＩの化合物の調製方法であって、
【化４】
2009521463.tif 000004
式（ＩＸ）の化合物の、
【化５】
2009521463.tif 000005
式（Ｘ）の化合物
【化６】
2009521463.tif 000006
との反応を含む前記方法
［式中、Ｒ１およびＲ２は、独立に、Ｈまたは置換もしくは非置換のアルキル、アルケニル、アリール、アラルキル、またはアシルであり；
Ｒ３は、ＨまたはＰ１であり、ここでＰ１はアミノ保護基であり；
Ｘは、ハロゲンまたはＯＲ４であり、Ｒ４は、Ｈ、置換または非置換のアルキル、アルケニル、アリール、アラルキル、アシル、アシルオキシカルボニル、またはアリールオキシカルボニルであり；
Ｘ２は、置換または非置換のアルキル、アルケニル、アリール、アラルキル、またはアシルであり；
Ｙ７は、Ｒ７、Ｐ３、またはＺ７であり；
Ｙ９は、Ｈ、ＯＨ、ケトン、ＯＲ９、Ｐ４、またはＺ９であり；
Ｙ１０は、Ｒ１０、Ｐ５、またはＺ１０であり；
Ｒ７は、Ｈ、置換または非置換のアルキル、アルケニル、アリール、アラルキル、またはアシルであり；
Ｚ７はＰ３であり、Ｙ９がＰ４である場合にはＹ９と一緒になって環状構造を形成し；
Ｚ９はＲ９であり、Ｙ７がＰ３である場合にはＹ７と一緒になって環状構造を形成し；または
Ｚ１０はＰ５であり、Ｙ９がＰ４である場合にはＹ９と一緒になって環状構造を形成し；
Ｙ１０がＰ４である場合には、Ｐ５はＹ９と一緒になって環状構造を形成し；
Ｒ９は、置換または非置換のアルキル、アルケニル、アリール、アラルキル、またはアシルであり；
Ｒ１０は、Ｈ、置換または非置換のアルキル、アルケニル、アリール、アラルキル、またはアシルであり；
Ｐ３はヒドロキシル保護基であり；
Ｐ４はヒドロキシル保護基であり；
Ｐ５はヒドロキシル保護基である］。
【請求項６】
Ｘがフッ素または塩素であり、好ましくはフッ素である、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
ＸがＯＣＯＲ２であり、Ｒ２が請求項１に定義した通りである、請求項５に記載の方法。
【請求項８】
ＸがＯＣＯＣ（ＣＨ３）３基である、請求項５に記載の方法。
【請求項９】
式（Ｘ）の化合物が、式（ＸＩＩ）の化合物である、請求項５〜８のいずれか一項に記載の方法。
【化７】
2009521463.tif 000007
【請求項１０】
式（Ｘ）の化合物が、式（ＸＩＩＩ）の化合物である、請求項５〜８のいずれか一項に記載の方法
【化８】
2009521463.tif 000008
［式中、Ｙ１１は、水素またはヒドロキシル保護基であり、Ｙ１２は、水素、アセチル、またはヒドロキシル保護基である］。
【請求項１１】
Ｙ１１が、水素化によって除去可能な保護基、好ましくはＣｂｚ基であり、Ｙ１２が、アセチル基またはヒドロキシル保護基または水素化によって除去可能な保護基、好ましくはＣｂｚ基であり、あるいはＹ１１およびＹ１２が、独立に、非加水分解法で開裂できる保護基である、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
請求項５に記載の通りの式ＶＩＩＩの化合物。
【請求項１３】
式（ＸＩＶ）の請求項３３に記載の化合物
【化９】
2009521463.tif 000009
［式中、Ｘ２は、フェニルまたはＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）２であり、
Ｒ５は、（ＣＨ３）３ＣＣＯまたはＰｈまたはＰｈＣＨ２Ｏであり、
Ｒ１およびＲ２は、独立に、水素、低級アルキル、低級アルコキシで置換された低級アルキル、フェニル、または低級アルキル、低級アルコキシ、フッ素、もしくは塩素から選択される１つ、２つ、または３つの基で置換されたフェニルであり、Ｙ１１およびＹ１２は、請求項１０または１１に定義した通りである］。
【請求項１４】
式（ＸＶ）の化合物
【化１０】
2009521463.tif 000010
［式中、Ｘ２は、フェニルまたはＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）２であり、
Ｒ５は、（ＣＨ３）３ＣＣＯまたはＰｈまたはＰｈＣＨ２Ｏであり、
Ｒ１およびＲ２は、独立に、水素、低級アルキル、低級アルコキシで置換された低級アルキル、フェニル、または低級アルキル、低級アルコキシ、フッ素、もしくは塩素から選択される１つ、２つ、または３つの基で置換されたフェニルである］。
【請求項１５】
タキサン誘導体の製造における中間体としての、請求項５、１３、または１４に記載の通りの式ＶＩＩＩ、ＸＩＶ、またはＸＶの化合物の使用。
【請求項１６】
式（ＸＶＩ）の化合物の調製方法であって
【化１１】
2009521463.tif 000011
［式中、Ｘ２、Ｒ３、Ｙ１０、Ｙ９、およびＹ７は、請求項５に定義した通りである］、
式（ＶＩＩＩ）の化合物の保護基を脱保護することを含む前記方法。
【請求項１７】
式（ＶＩＩ）の化合物が、請求項１３または１４のいずれかに定義した式（ＸＩＶ）または（ＸＶ）の化合物である、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
ＴＰＩ２８７の化合物の調製方法であって、以下の図１に示すように、
ａ）化合物２ａを得るためのケトアルコール１の選択的酸化；
ｂ）化合物３を得るための７，１３−ジ−ヒドロキシ化合物２ａの保護；
ｃ）ジ−オール４を提供するための化合物３の選択的還元；
ｄ）エステル５を形成するためにジ−オール４を誘導体化すること；、
ｅ）テトラ−オール６を形成するための保護エーテルの脱保護；
ｆ）アセタール化合物７を形成するためのテトラ−オール６のアセタール化；
ｇ）化合物９ａを得るための化合物７の化合物８ａとのカップリング；および
ｈ）化合物１０（ＴＰＩ２８７）を形成するための化合物９ａの脱保護
を含む前記方法。
【化１２】
2009521463.tif 000012
【請求項１９】
ＴＰＩ２８７の調製方法であって、以下の図２および３に示すように、
ａ）化合物２を得るためのケト−アルコール１の選択的酸化；
ｂ）化合物３を得るための７，１３−ジ−ヒドロキシ化合物２を保護；
ｃ）ジ−オール４を提供するための選択的還元；
ｄ）エステル５を形成するためにジ−オール４を誘導体化すること；
ｅ）テトラ−オール６を形成するためのシリルエーテルの脱保護；
ｆ）化合物７を形成するためのテトラ−オール６のアセタール化；
ｇ）化合物９ａを得るための化合物７の化合物８ａとのカップリング；および
ｈ）ＴＰＩ２８７である化合物１０を形成するための化合物９ａの脱保護；
を含む前記方法。
【化１３】
2009521463.tif 000013
【化１４】
2009521463.tif 000014
【請求項２０】
図５に示す通りの化合物９ｂの調製方法。
【化１５】
2009521463.tif 000015