【事件の表示】
　平成１０年特許願第３６０６０７号「液晶表示装置およびその製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１２年　６月３０日出願公開、特開２０００−１８０８９４〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続きの経緯
　本願は、平成１０年１２月１８日の出願であって、平成１５年８月６日付で拒絶査定がなされ、これに対し、同年９月１０日に拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに、同年１０月９日に手続補正がなされたものである。
　　
２．平成１５年１０月９日付の手続補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　平成１５年１０月９日付の手続補正（以下、「本件補正」という。）を却下する。
［理由］
（１）補正の内容 
 　本件補正により、特許請求の範囲の請求項１は、
「【請求項１】　透明の絶縁性基板上に金属膜で形成された複数本の走査線と、走査線の上または下に絶縁膜で電気的に分離され走査線と交差して形成される複数本のデータ線と、上記走査線とデータ線の各交点に半導体層で形成されるスイッチング素子と、スイッチング素子と電気的に接続される透明導電性膜で形成された画素電極からなるＴＦＴアレイ基板と、対向する基板との間に液晶を挟持してなる液晶表示装置において、ＴＦＴアレイ基板上のパターニング方法として分割露光方式を用い、液晶表示装置の表示領域内の隣接する露光領域の一部が互いに重なり合い、重なった露光領域内でのショット配置は、特定のショットの領域に近い部分ほど当該ショットが多数分布するように配置され、
前記重なった露光領域の幅が４ｍｍより大きく形成され、
前記分割露光の工程が、走査線形成工程、半導体形成工程、データ線形成工程、画素電極形成工程のうちの３工程以上に適用され、重なり領域内でのショット配置が適用工程各々で独立した配置とされることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。」と補正された。
　
　上記補正は、その請求項１の発明を特定するために必要な事項である、分割露光方式の適用される工程について、「走査線形成工程、半導体形成工程、データ線形成工程、画素電極形成工程のうちの
複数工程
３工程以上
　
　そこで、本件補正後の前記請求項１に記載された発明（以下、「本件補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（特許法第１７条の２第４項において準用する同法第１２６条第４項の規定に適合するか）について以下に検討する。 
 
（２）引用例の記載事項 
　
（ア）原査定の拒絶の理由で引用された特開平６−３２４４７４号公報（以下、「引用例１」という。）には、図面とともに、
　
ａ．「【請求項１】複数の単位パターンをほぼ規則的に配置したパターン領域を有するフオトマスクにおいて、前記複数の単位パターンは、前記パターン領域の周辺部の少なくとも一部分で離散的に、且つ前記パターン領域の中心から前記周辺部に向かうに従つて数が減少するように配置されていることを特徴とするフオトマスク。
【請求項２】前記フオトマスクは前記周辺部に対応する第２の周辺部を有する第２のパターン領域を有し、前記周辺部と前記第２の周辺部に存在する前記単位パターンの位置は、前記周辺部と前記第２の周辺部とを重ねた場合に前記周辺部に存在する前記単位パターンと前記第２の周辺部に存在する前記単位パターンとが重複しないように配置されていることを特徴とする請求項１に記載のフオトマスク。
【請求項３】複数の単位パターンを有する第１及び第２のパターン領域を、該第１及び第２のパターン領域の周辺部どうしが感光基板上で互いに連続するように露光することによつて該感光基板上に大面積のパターンを形成する露光方法において、前記第１及び第２のパターン領域のうち連続させるべき前記周辺部における前記単位パターンが離散的、且つ重複しない位置に配置されたフオトマスクを用い、前記周辺部どうしを前記感光基板上で重複させて感光することを特徴とする露光方法。」、
　
ｂ．「【００１４】【発明が解決しようとする課題】ところが従来方式においては以下に述べるような不都合が発生していた。まず第１に・・・。
【００１５】第２に複数台の投影露光装置を用いて液晶デバイスを露光する際に、主にレンズのデイストーシヨンに起因して重ね合わせの誤差が露光領域の接続部でステツプ的に変化することである。これは液晶デイスプレイの場合に、より深刻な問題となる。特にアクテイブマトリツクス型の液晶デバイスの場合には、薄膜トランジスタの動作特性に影響を与えるため露光領域の接続部におけるコントラストに違いが生じる。コントラストの違いはわずかであつても人間の視覚特性から知覚され易いため、コントラストに差が生じると表示品質が低下することになる。
【００１６】本発明は以上の点を考慮してなされたもので、画面合成による露光領域の接続部を境にしたコントラストの違いが従来に比して一段と知覚されないように露光できるフオトマスク及び露光方法を提案しようとするものである。」 、
　
ｃ．「【００１７】【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するため本発明においては、複数の単位パターンをほぼ規則的に配置したパターン領域を有するフオトマスクにおいて、複数の単位パターンは、パターン領域の周辺部の少なくとも一部分で離散的に、且つパターン領域の中心から周辺部に向かうに従つて数が減少するように配置されているようにする。
【００１８】複数の単位パターンを有する第１及び第２のパターン領域を、該第１及び第２のパターン領域の周辺部どうしが感光基板１２上で互いに連続するように露光することによつて該感光基板１２上に大面積のパターンを形成する露光方法において、第１及び第２のパターン領域のうち連続されるべき周辺部４３における単位パターンが離散的、且つ重複しない位置に配置されたフオトマスクを用い、周辺部４３どうしを感光基板１２上で重複させて感光する。
【００１９】【作用】第１及び第２のパターン領域のうち連続されるべき周辺部４３における単位パターンが離散的、且つ重複しない位置に配置されたフオトマスクを用い、周辺部４３どうしを感光基板上で重複させて感光することにより、第１及び第２のパターン領域をそれぞれ露光する際における露光量の大きさに差がある場合にも、連続されるべき周辺部４３に形成される各単位パターンの露光量の違いが知覚され難いようにすることができる。」、
　
ｄ．「【００２０】【実施例】以下図面について本発明の一実施例を詳述する。
【００２１】ここではマトリクス状に配置された画素電極を薄膜トランジスタによつてスイツチング駆動することにより画像を表示する液晶デイスプレイの製造に用いられるパターン像を基板１２上にステツプアンドリピート方式の投影露光装置１０を用いて露光する場合について説明する。この実施例の場合、パターン像は左右２つのパターン像に分けて露光され、２回のシヨツトの終了後に１つのパターン像が形成されるようになされている。
【００２２】このとき基板１２上に第１回目のシヨツトによつて露光される露光領域４１と第２回目のシヨツトによつて露光される露光領域４２は、図１（Ａ）に示すように、接続部４３に当たる部分においてそれぞれ重複するようになされている。この画面の接続部４３を拡大すると図１（Ｂ）のようになる。ここで黒塗り及び白抜きによつて示される正方形のパターンはそれぞれ液晶デイスプレイの各画素を表している。
【００２３】このうち黒塗りの画素は第１回目のシヨツトによつて露光される画素を表し、白抜きの画素は２回目のシヨツトによつて露光される画素を表す。この実施例の場合、露光領域４１、４２を接続する方向の９個の画素の領域が接続部４３に当たる。
【００２４】この接続部４３に位置する複数の画素のそれぞれは、第１回目のシヨツト又は第２回目のシヨツトのいずれか一方のシヨツトによつて１度だけ露光されるようになされており、２重露光されないようになされている。ここで各シヨツトに用いられるレチクルパターン（図示せず）は、接続部４３の部分に配置される画素のうち他方のシヨツトによつてのみ露光される画素部分が露光されないようにクロム等によつてマスクされている。
【００２５】接続部４３に位置する画素のうち各シヨツトによつて露光される画素の数はシヨツトの中心から周辺に向かうほど少なくなるようになされ、かつ規則性が生じないように離散的に配置されている。例えば図１（Ｂ）の場合、接続部４３に位置する画素のうち第１回目のシヨツトによつて露光される画素の一部分に注目すると、第１回目のシヨツトによつて露光される画素の図のたて方向の数は領域の周辺方向に向かつて順に（すなわち左側から右方向へ順に）９個、８個……３個、２個、１個と減少するように、かつ不規則な位置が選択されて露光される。
【００２６】他方、接続部４３のうち第２回目のシヨツトによつて露光される画素は第１回目のシヨツトによつては選択されなかつた画素に当たり、このとき露光される画素の数は同様に領域の周辺方向に向かつて順に（すなわち右側から左方向へ順に）９個、８個……３個、２個、１個と減少するように選択されて露光されている。このように接続部４３に位置する画素は第１回目のシヨツトによつて露光される画素と第２回目のシヨツトによつて露光される画素が互いに徐々に混ざり合うように露光される。
【００２７】従つて第１回目のシヨツトによつて形成された薄膜トランジスタと第２回目のシヨツトによつて形成された薄膜トランジスタに電気的な差が生じて各画素の動作特性に差が生じたり、２つの画素における輝度に若干のコントラスト差が生じたとしてもその輝度の違いはまざりあつているため知覚されにくくなつている。
【００２８】しかも第１回目又は第２回目のシヨツトによつて露光される領域のうち周辺部から領域中央に近い領域ほど同じシヨツトによつて露光される画素が多くなるように配置されているため、２つのシヨツトによるコントラストの違いは人間の目には徐々に変化しているかのように感じられる。特に人間の目はこのように徐々にコントラストの差が変化するようなパターンの認識性が劣つているため、実施例のように露光された液晶デイスプレイの接続部は知覚され難く、画面全体が均一に感じられて表示品質が向上している。
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【００３０】以上の構成によれば、複数の画素パターンがマトリクス状に配置されて形成されるパターン像を左右２つの露光領域４１及び４２に分割し、各露光領域４１及び４３を２回のシヨツトに分けて画面合成する場合において、２つの露光領域の接続部４３を重複露光し、かつこの領域に位置する画素を二度以上重ねて露光されないように離散的に選択して露光することにより２つの露光領域によつて形成された画素が互いに少しづつ混ざり合うように形成することができる。
【００３１】これにより各シヨツトによつて露光された画素間にコントラストの差がある場合にも、２つの露光領域の境界部分が線状に知覚されるおそれを有効に回避し得る。この結果、画面全体の輝度が均一に知覚され、液晶デイスプレイによる表示品質を一段と向上させることができる。」、
　
ｅ．「【００３３】また上述の実施例においては、第１回目のシヨツトと第２回目のシヨツトにおいて重ねて露光される露光領域の巾を９画素分とする場合について述べたが、本発明はこれに限らず、重ね露光される露光領域の巾は各シヨツトごとのコントラスト差が大きいほど広く、またその反対にコントラスト差が小さいほど狭くとれば良く、デバイスの設計及びプロセスに応じて設定すれば良い。」、
　
ｆ．「【００３４】さらに上述の実施例においては、重複露光される領域に配置される画素のうち第１回目のシヨツト又は第２回目のシヨツトによつて同時に露光される画素の数を９個、８個、７個……２個、１個と線形に減少させる場合について述べたが、本発明はこれに限らず、他方のシヨツトによつて露光される領域中央に近づくほど露光される画素の数が減少するようにすれば良い。」、
　
ｇ．「【００３７】さらに上述の実施例においては、液晶デイスプレイを構成する各画素を駆動する電解効果トランジスタを露光する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、他のゲートや配線パターンを露光する場合にも広く適用し得る。例えばブラツクマトリクスを形成する場合にも適用し得る。」、
　
ｈ．「【００４１】【発明の効果】上述のように本発明によれば、画面合成を行う際に接続部となる境界部分を互いに重複するように露光し、かつこの部分に規則的に配列された単位パターンが２度以上重ねて露光されないように離散的に選択して露光することにより、接続部分に形成された単位パターンの露光量に差があつても合成される２つの領域の境界部分を知覚され難くできる。」、と記載され、
　
ｉ．【図１】には、液晶デイスプレイの製造に用いられる基板上の電解効果トランジスタを露光する方法として、２つのレチクルパターンを用いて１つの液晶デバイスを露光する方法を用い、液晶デイスプレイの表示領域内の隣接する露光領域の一部が互いに重複し、重複した露光領域である接続部内でのショット配置は、特定のショットの領域に近い部分ほど当該ショットが多数分布するように配置されてなる液晶デイスプレイの製造方法、が図示されている。
　
　 以上によれば、引用例１には、「液晶デイスプレイにおいて、液晶デイスプレイの製造に用いられる基板上の電解効果トランジスタを露光する方法として、２つのレチクルパターンを用いて１つの液晶デバイスを露光する方法を用い、液晶デイスプレイの表示領域内の隣接する露光領域の一部が互いに重複し、重複した露光領域である接続部内でのショット配置は、特定のショットの領域に近い部分ほど当該ショットが多数分布するように配置されてなる液晶デイスプレイの製造方法」（以下、「引用例発明」という。）が記載されていると認められる。
　
（３）対比・判断 
　本件補正発明と引用例発明とを対比すると、
　引用例発明の「液晶デイスプレイ」、「基板」及び「露光する方法」は、本件補正発明の「液晶表示装置」、「ＴＦＴアレイ基板」及び「パターニング方法」にそれぞれ相当する。
　また、引用例発明の露光方法は、「２つのレチクルパターンを用いて１つの液晶デバイスを露光する方法」であり、所謂「分割露光方式」による露光方法と認められる。
　さらに、引用例発明の「重複した露光領域である接続部」は、２つのレチクルパターンのうち、一方のレチクルパターンを用いたショットで露光される画素と、他方のレチクルパターンを用いたショットで露光される画素が、互いに混ざり合うように露光される領域（摘記事項ｄ）であるから、本件補正発明の「重なった露光領域」（本件明細書【００２３】）に相当する。
　
　ところで、引用例発明に係る「液晶デイスプレイ」は、「画素電極を薄膜トランジスタによつてスイツチング駆動することにより画像を表示する液晶デイスプレイ」（摘記事項ｄ）であるが、このような液晶デイスプレイは、通常「透明の絶縁性基板上に金属膜で形成された複数本の走査線と、走査線の上または下に絶縁膜で電気的に分離され走査線と交差して形成される複数本のデータ線と、上記走査線とデータ線の各交点に半導体層で形成されるスイッチング素子と、スイッチング素子と電気的に接続される透明導電性膜で形成された画素電極からなるＴＦＴアレイ基板と、対向する基板との間に液晶を挟持してなるもの」が一般的である（例えば、特開平６−９５１５３号公報の【従来技術】の欄、特開平６−９５１５４号公報の【従来技術】の欄、国際公開第９５／１６２７６号パンフレットの［背景技術］の欄参照）。
　
　したがって、両者は、「透明の絶縁性基板上に金属膜で形成された複数本の走査線と、走査線の上または下に絶縁膜で電気的に分離され走査線と交差して形成される複数本のデータ線と、上記走査線とデータ線の各交点に半導体層で形成されるスイッチング素子と、スイッチング素子と電気的に接続される透明導電性膜で形成された画素電極からなるＴＦＴアレイ基板と、対向する基板との間に液晶を挟持してなる液晶表示装置において、ＴＦＴアレイ基板上のパターニング方法として分割露光方式を用い、液晶表示装置の表示領域内の隣接する露光領域の一部が互いに重なり合い、重なった露光領域内でのショット配置は、特定のショットの領域に近い部分ほど当該ショットが多数分布するように配置されてなる液晶表示装置の製造方法」の点で一致し、以下の点で相違している。
　
［相違点１］
　本件補正発明は、分割露光の際の「重なった露光領域の幅」が、「４ｍｍより大きく形成される」と規定しているのに対し、引用例発明は、特に規定していない点。
　
［相違点２］
　本件補正発明は、ＴＦＴアレイ基板製造における分割露光の工程が、「走査線形成工程、半導体形成工程、データ線形成工程、画素電極形成工程のうちの３工程以上に適用され」、重なった露光領域内でのショット配置は、「適用工程各々で独立した配置とされる」と規定しているのに対し、引用例発明は、「電解効果トランジスタを露光する場合」に適用されるものであるが、「走査線形成工程、半導体形成工程、データ線形成工程、画素電極形成工程のうちの３工程以上に適用すること、また、その際のショットの配置法」について特に規定していない点。
　
　上記相違点について検討する。
　
［相違点１について］
　引用例１では、分割露光の際の「重ね露光される露光領域の幅」について、「各ショットごとのコントラスト差が大きいほど広く、またその反対にコントラスト差が小さいほど狭くとれば良く、デバイスの設計及びプロセスに応じて設定すれば良い。」（摘記事項ｅ）と記載している。また、本件明細書の記載に照らし、当該下限値（４ｍｍ）には、格別臨界的意味は認められないから、「重なった露光領域の幅」を、各ショットのコントラスト差に応じて調整し、「４ｍｍより大きく形成すること」は当業者が適宜設計し得る程度ものと認められる。　
　　
［相違点２について］
　引用例１によれば、「実施例においては、液晶デイスプレイを構成する各画素を駆動する電解効果トランジスタを露光する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、他のゲートや配線パターンを露光する場合にも広く適用し得る。」（摘記事項ｇ）と記載されているから、引用例発明の分割露光方法をＴＦＴアレイ基板に係る周知の工程である「走査線形成工程、半導体形成工程、データ線形成工程、画素電極形成工程」のうちの３工程以上に適用することは、当業者が容易に想到し得るものと認められ、その際、重なった露光領域内でのショット配置を、工程各々で「独立した配置」とする点は、当業者の適宜選択し得るところである。
　
　そして、本件補正発明の効果は、引用例１（摘記事項ｈ）及び周知技術から当業者が予測し得る範囲のものである。
　
　したがって、本件補正発明は、引用例１に記載された発明及び周知技術に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。 
　
（４）むすび 
 　以上のとおり、本件補正は、平成１５年改正前の特許法第１７条の２第４項で準用する同法第１２６条第４項の規定に違反するから、特許法第１５９条第１項で読み替えて準用する特許法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。 
 　 
３．本件発明について 
　平成１５年１０月９日付の手続補正は、上記のとおり却下されたので、本件の請求項に係る発明は、平成１４年６月２７日付の手続補正書により補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１〜３に記載された事項により特定されるとおりのものであると認められるところ、その請求項１に係る発明（以下、「本件発明」という）は、以下のとおりである。 
「【請求項１】　透明の絶縁性基板上に金属膜で形成された複数本の走査線と、走査線の上または下に絶縁膜で電気的に分離され走査線と交差して形成される複数本のデータ線と、上記走査線とデータ線の各交点に半導体層で形成されるスイッチング素子と、スイッチング素子と電気的に接続される透明導電性膜で形成された画素電極からなるＴＦＴアレイ基板と、対向する基板との間に液晶を挟持してなる液晶表示装置において、ＴＦＴアレイ基板上のパターニング方法として分割露光方式を用い、液晶表示装置の表示領域内の隣接する露光領域の一部が互いに重なり合い、重なった露光領域内でのショット配置は、特定のショットの領域に近い部分ほど当該ショットが多数分布するように配置され、
前記重なった露光領域の幅が４ｍｍより大きく形成され、
前記分割露光の工程が、走査線形成工程、半導体形成工程、データ線形成工程、画素電極形成工程のうちの複数工程に適用され、重なり領域内でのショット配置が適用工程各々で独立した配置とされることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。」
　 
（１）引用例記載の発明
　原査定の理由に引用された引用例１及びその記載事項は、前記「２．（２）」に記載したとおりである。
　
（２）対比・判断 
　本件発明は、前記「２．」で検討した本件補正発明の「分割露光方式の適用される工程」について、「走査線形成工程、半導体形成工程、データ線形成工程、画素電極形成工程のうちの
３工程以上
複数工程
　
　そうすると、本件発明の構成要件を全て含み、その構成要件のうちの一部をさらに具体化し限定したものに相当する本件補正発明が、前記「２．（３）」に記載したとおり、引用例１に記載された発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本件発明も、同様の理由により、引用例１に記載された発明及び周知技術に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものである。 
 　 
（３）むすび 
 　したがって、本件発明は、引用例１に記載された発明及び周知技術に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
 　よって、結論のとおり審決する。