【手続補正書】
【提出日】平成22年8月19日(2010.8.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
反応室；
前記反応室に接続された１つ以上のフローチャネル；
前記反応室の頂部に接続された１つ以上のベントであって、前記反応室からの無制限の溶媒蒸発を許容するように構成されているベント;及び
前記反応室内外への流通制御を実行するための１つ以上の一体型バルブとを備えてなる、
放射標識化化合物の放射合成のためのマイクロ流体チップ。
【請求項２】
前記反応室が、圧力で嵌合されるチップの反応器部及び蓋部の内部に位置する、請求項１に記載のチップ。
【請求項３】
前記蓋部の少なくとも一部分が透明である、請求項２に記載のチップ。
【請求項４】
交換可能なコンポーネントを備え、コンピュータ数値制御（ＣＮＣ）技術を用いて機械加工される、請求項１に記載のチップ。
【請求項５】
前記反応器が１：１のアスペクト比を有する円筒形状を有するものである、請求項１に記載のチップ。
【請求項６】
六角形状を有する請求項１に記載のチップ。
【請求項７】
前記反応室を加熱するためのヒータを更に備えてなり、前記ヒータが前記チップの底面にある開口を通して前記チップに連結されている請求項１に記載のチップ。
【請求項８】
ヒータが前記開口部の側壁から空隙によって分離されている請求項７に記載のチップ。
【請求項９】
前記ヒータが２５０ミクロンの部分によって前記反応室から分離されている請求項７に記載のチップ。
【請求項１０】
前記部分がドープされたＤＣＰＤ材料を含有してなる請求項９に記載のチップ。
【請求項１１】
前記反応室が円筒形状及び６０μＬの容量を有するものである請求項１に記載のチップ。
【請求項１２】
１つ以上のシリンジが少なくとも１つの流体又は気体を前記チップへ配送するために使用される請求項１に記載のチップ。
【請求項１３】
流体及び気体の配送及び除去のネットワークと連絡するように更に改変されており、前記ネットワークが、プレフィルド個別バイアル及びプレパッケージカートリッジの少なくとも１つとともに作動するように、改変されており、且つ、前記カートリッジがチップとともに単回使用するために十分な、予め計量された量の試薬を含有している請求項１に記載のチップ。
【請求項１４】
反応室からの無制限の溶媒蒸発を許容するように構成されているマイクロ流体チップ；
前記チップと流体連絡していて、少なくとも１つの試薬を含有する試薬源；
流体配送及び除去ネットワーク；
前記ネットワークの作動を制御するように改変された制御装置;及び
前記デバイスの１つ以上の放射線に不可欠のコンポーネントを遮蔽するための局所放射線遮蔽とを備えてなる、
放射標識化化合物の自動放射合成のための携帯型デバイス。
【請求項１５】
前記反応室を監視するためのカメラを更に備え、更に温度監視が反応をリアルタイムで解析するための機械視覚システムで駆動されるフィードバックループを備えてなる請求項１４に記載のデバイス。
【請求項１６】
前記制御装置がプログラム可能な論理制御装置及びユーザインターフェースを備えてなる請求項１４に記載のデバイス。
【請求項１７】
前記ユーザインターフェースが、前記デバイスの手動操作及び自動操作のうちの少なくとも１つを実行するように、構成されている請求項１６に記載のデバイス。
【請求項１８】
放射線に曝露されることなしに、ユーザが試薬にアクセスできることを可能にする放射線遮蔽を更に備えてなる請求項１４に記載のデバイス。
【請求項１９】
ユーザが放射線に曝露されることなしに、前記デバイスへ又は前記デバイスから放射性材料を移送するための補完的携帯型「差込」びんを更に備えてなる請求項１４に記載のデバイス。
【請求項２０】
反応室；
前記反応室に接続された１つ以上のフローチャネル；
前記反応室の頂部に接続された１つ以上のベントであって、前記反応室からの無制限の溶媒蒸発を許容するように構成されているベント;及び
前記反応室内外への流通制御を実行するための１つ以上の一体型バルブとを備えてなり；
前記一体型バルブが、前記反応室の外側での試薬のプライミングを可能にする一以上のプランジャアセンブリを収容するように、構成されており；
前記バルブが試薬のプライミングを許容するダンベル型プランジャである；
放射標識化化合物の放射合成のためのマイクロ流体チップ。
【請求項２１】
バルブプランジャがテフロンチップを備えてなる請求項２０に記載のマイクロ流体チップ。
【請求項２２】
前記バルブが密封をもたらし大きなチャネル断面積を可能にするＯ−リングを有するベントバルブである請求項２０に記載のマイクロ流体チップ。
【請求項２３】
前記バルブが３００ｐｓｉを超える高圧で反応を実行するように構成されている請求項２０に記載のマイクロ流体チップ。
【請求項２４】
１つ以上の試薬をマイクロ流体チップ内に導入し；、
ここで、チップは、
反応室と、
前記反応室へ接続された１つ以上のフローチャネルと、
前記反応室へ接続された１つ以上のベントであって、前記反応室からの無制限の溶媒蒸発を許容するように構成されているベントと、
前記反応室内外への流通制御を実施するための１つ以上の一体型バルブとを
備えてなり、
前記試薬を処理して放射標識化化合物を生成させ；そして
前記放射標識化化合物を収集することを含んでなる、
放射標識化化合物を放射合成するための方法。
【請求項２５】
前記放射標識化化合物の放射合成がマイクロ流体チップを用いてバッチモードで遂行される請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
試薬の導入が試薬の自己計量からなる請求項２４に記載の方法。
【請求項２７】
放射標識化化合物の放射合成の工程段階が更に試薬の混合及び加熱並びに溶媒の交換を含む請求項２４に記載の方法。
【請求項２８】
試薬の加熱が、前記ベントを閉鎖し前記反応室をヒータで加熱することによる前記反応室の内容物の過熱を含んでなる請求項２６に記載の方法。
【請求項２９】
前記ヒータを適用するに先立って前記反応室を加圧することを含んでなる請求項２８に記載の方法。
【請求項３０】
試薬の加熱及び沸騰が、試薬の混合を促進する請求項２７に記載の方法。
【請求項３１】
溶媒の効果的な蒸発を更に含んでなり、後続の乾燥段階なしに生成物残渣を生じる請求項２４に記載の方法。
【請求項３２】
溶媒が、真空を適用することなしに、その沸点以下で蒸発させられる請求項２４に記載の方法。
【請求項３３】
マイクロリットル規模のイオン交換床容量を有するマイクロ流体オフチップを必要とするＦ−１８の濃縮方法であって、前記マイクロ流体チップが請求項１に記載のチップである方法。
【請求項３４】
フッ化物（Ｆ−１８）溶液の捕捉及び放出が反対方向で起きる請求項３３に記載の方法。
【請求項３５】
フッ化物放出が小画分に分割されている請求項３３又は３４に記載の方法。
【請求項３６】
フッ化物が２ｍＬの希薄Ｈ218Ｏから捕捉され僅か５μＬのＫ2ＣＯ3溶液に移送される請求項３５に記載の方法。
【請求項３７】
捕捉及び放出システムを組み込んで微視的環境から巨視的環境への［Ｆ−１８］フッ化物イオンの効率的な輸送を、９９％を超える効率で、行なう請求項３３に記載の方法。
【請求項３８】
請求項１に記載のチップを備えてなる一体化デバイスを使用することを含んでなり、前記デバイスがイオン交換カラムと一体化されている、請求項３７に記載の方法。
【請求項３９】
ターゲット水から開始し注射可能な放射性医薬品を産生する放射合成の全段階を自動的に遂行する、請求項３８に記載の方法。