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【手続補正書】
【提出日】平成22年8月2日(2010.8.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気モータ（３）を有する電動ツール（１）にて用いられる制御装置としての電気スイッチ（４）であり、
前記電動ツール（１）は、バッテリ充電式及び電源網式の少なくとも一方の電動ツールとしての、ボール盤、グラインダ、のこぎり、かんな、角度付グラインダのいずれかであり、
当該制御装置は、少なくとも１つの発熱素子としての、パワートランジスタ、ＭＯＳＦＥＴ、トライアックのいずれかを保持するためのハウジング（５）を備え、
前記少なくとも１つの発熱素子は、電気回路装置としての、前記発熱素子を介して前記電気モータ（３）まで流れる電気的負荷電流を適切に開ループ制御及び閉ループ制御の少なくとも一方をすることによる、前記電気モータ（３）の開ループ制御及び閉ループ制御の少なくとも一方を行うために使用される電気回路装置、に配置される、制御装置であって、
熱伝導手段（８）は、一方で前記ハウジング（５）としての、前記電気スイッチ（４）のハウジング（５）、及び、前記発熱素子としての、前記ハウジング（５）に配置されたパワー半導体、の少なくとも一方に接続され、他方で、冷却領域（９）としての、当該制御装置に割り当てられた冷却領域（９）、に接続される
ことを特徴とする制御装置。
【請求項２】
前記熱伝導手段（８）がヒートパイプ（１１）を備え、
前記ヒートパイプ（１１）は、一端に蒸発領域（１２）を備えると共に他端に凝縮領域（１３）を備え、一端が蒸発プレートによって閉じられると共に他端が凝縮プレートによって閉じられ、
前記ヒートパイプ（１１）は、さらに、前記蒸発領域（１２）と前記凝縮領域（１３）との間で相変化により熱を運搬する流体を含む
ことを特徴とする請求項１に記載の制御装置。
【請求項３】
前記ヒートパイプ（１１）は、前記パワー半導体に機械的及び熱的の少なくとも一方により連結され、
前記ヒートパイプ（１１）の一端は、ハウジングアタッチメント（１４）の形態で、前記パワー半導体の領域において前記ハウジング（５）に、ねじ（１５）を用いて、取り付けられ、
前記ハウジングアタッチメント（１４）は、さらに蒸発プレート（１２）を取り囲み、蒸発プレート（１２）を取り囲むことにより前記パワー半導体と熱的に接触する
ことを特徴とする請求項２に記載の制御装置。
【請求項４】
前記ヒートパイプ（１１）は、可撓性の管及び予め成形された管の少なくとも一方にて構成され、
前記ヒートパイプ（１１）の外形は、前記ハウジング（５）と前記冷却領域（９）との間の物理的な空間に適切に適合し、前記電動ツール（１）のハウジングガイドに対応する
ことを特徴とする請求項２〜３の何れかに記載の制御装置。
【請求項５】
前記冷却領域（９）は前記電動ツール（１）内部及び前記電動ツール（１）上の少なくとも一方に、前記電気モータ（３）のためのモータ冷却空気流れの領域、に配置される
ことを特徴とする請求項１〜４の何れかに記載の制御装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年8月16日(2010.8.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ステータと、概ね円筒形状のロータ（１０）とを具備し、前記ロータ（１０）が表面部分とコア部分（１２）とを有し、該ロータ（１０）には前記表面部分に配置されたかご（１６）が設けられており、該かご（１６）は、かご溝（１６）内に配置された導電性バー部材と、前記バー部材を相互連結するリング部材（１８）とによって形成され、
前記ロータ（１０）は少なくとも一対の永久磁石（２２）を具備しており、前記永久磁石（２２）が前記ロータ（１０）のコア部分（１２）に長手方向に形成された固定溝（２０）内に配置されて成る同期機において、
前記固定溝（２０）は、係合領域（ＲE）と、第１の端部分（２５）と、第２の端部分（２６）とを有して実質的に矩形の断面を有し、かつ、前記ロータ（１０）に沿って延設されており、
前記永久磁石は前記係合領域（ＲE）内で前記ロータ（１０）に固定され、
前記固定溝（２０）は、前記ロータ（１０）の表面部分に対して割線となるように配置され、
前記固定溝（２０）は、前記第１の端部分（２５）から溝底（１５′）の端部に隣接した領域に第１の延長端部（１０１）を有しており、前記第１の延長端部（１０１）が、前記ロータ（１０）および前記固定溝（２０）に沿って延設された前記ロータ（１０）の開口部により形成されており、
前記磁石固定溝（２０）は、前記第１の端部分（２５）および前記第２の端部分（２６）に隣接する変位限定部（２００、２０１）を有しており、該変位限定部は、磁石の厚さ（２３）方向に前記固定溝（２０）内に突出するコア部分（１２）の部分によって形成され、該変位限定部（２００、２０１）はスタンピング工程の間に形成され、
前記磁石固定溝（２０）は、前記第１の端部分（２５）の近傍にリラクタンス増加部（５０）を形成する第１の第１の延長端部（１０１）を有し、前記リラクタンス増加部（５０）は、ロータの前記溝底（１５′）を実質的に包囲し、かつ、前記底溝（１５′）の半径の全体或いは一部と重なるように形成されており、
前記かご溝（１６）は、前記磁石固定溝（２０）の第１の端部分の近傍に配置され、該かご溝には前記コア部分（１２）の開口部によって形成された表面ブリッジ（７０）が設けられており、前記開口部はロータ（１０）の前記表面部分（１４）と前記かご溝（１６）の他方の端部との間に設けられていることを特徴とする同期機。
【請求項２】
前記ロータ（１０）が、央極領域（ＣP）および端極領域（ＥP）を有した複数の極を有しており、前記固定溝（２０）が前記端極領域（ＣP）と前記央極領域（ＣP）との間に延在し、かつ、複数の対をなすように配置され、かつ、各対の溝が、端極領域（ＥP）から央極領域（ＣP）へ延設されるように対称配置され、
リラクタンス増加部（６０、８０）を形成可能なように、央極領域（ＣP）に隣接させて、前記固定溝（２０）の第２の端部分（２６）に第２の延長端部（１０２）が形成されていることを特徴とする請求項１に記載の同期機。
【請求項３】
前記第２の延長端部（１０２）が、リラクタンス増加部（６０、８０）を形成するように形成され、かつ、前記端部分（２６）から対をなす他方の固定溝（２０）の第２の端部分（２６）へ向けて延在していることを特徴とする請求項２に記載の同期機。
【請求項４】
前記第１の延長端部（１０１）が前記固定溝（２０）の先端方向に延設され、溝底（１５′）に平行な端部を有している請求項１または３に記載の同期機。
【請求項５】
前記第１の端部分（１０１）が、隣接するロータ（１２）の溝底（１５′）の全部または少なくとも一部と重なるように形成されていることを特徴とする請求項４に記載の同期機。
【請求項６】
前記リラクタンス増加部は、ロータ（１０）の形状的中心から半径方向、直軸方向に延設され、磁石固定溝（２０）の幅（２３）に関してリラクタンス増加部（６０）よりも実質的に大きい半径方向の大きさ（２４）によって、ロータ（１０）のコア部分（１２）にリブが形成されることを特徴とする請求項３に記載の同期機。
【請求項７】
前記リラクタンス増加部（６０）は側縁部が平行に形成されていることを特徴とする請求項６に記載の同期機。
【請求項８】
前記央極部（ＣP）に隣接する前記端部分（１０１、１０２）の一方が、他方の対に向けて延設されており、固定溝の端部分が互いに隣合せに配置されることを特徴とする請求項７に記載の同期機。
【請求項９】
前記延長端部は、互いに隣合せに接近させて配置されている請求項８に記載の同期機。
【請求項１０】
前記固定溝（２０）は、１つの端極領域（ＥP）と、他の次順の端極領域（ＥP）との間に延在し、磁石固定溝（２０）の端部分には、溝底（１５′）を包囲するリラクタンス増加部を形成する第３の延長端部（１０３）が設けられていることを特徴とする請求項１に記載の同期機。
【請求項１１】
前記第３の延長端部（１０３）は、側縁部（６０′）が平行に形成されていることを特徴とする請求項１０に記載の同期機。
【請求項１２】
請求項１〜１１に記載の同期機を製造する方法において、
記第１と第２と第３の延長端部（１０１、１０２、１０３）および該端部の近傍にリラクタンス増加部（５０、６０、８０）を形成するためのスタンピング工程を具備し、
前記リラクタンス増加部（５０）を形成する段階によって、ロータの前記溝底（１５′）を実質的に包囲し、かつ、前記底溝（１５′）の半径の全体或いは一部と重なるように湾曲面を形成するようにしたことを特徴とする方法。
【請求項１３】
前記ロータ（１０）の表面部分（１４）と磁石固定溝（２０）に隣接するかご溝の外側の端部との間の開口部によって表面ブリッジ（７０）を形成するスタンピング工程を更に具備することを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月1日(2009.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
開口マスクであって、
可撓性フィルムからなる細長いウェブと、前記フィルムに形成された少なくとも１つの蒸着マスクパターンと、を含み、
前記蒸着マスクパターンが１つ以上の電子回路要素の少なくとも一部を画定する前記フィルムを通って伸びる蒸着開口を画定し、蒸着開口が枠によって境界をつけられ、前記枠が前記マスクの標準的な厚さを超える厚さを有する前記マスクの一部である、開口マスク。
【請求項２】
開口マスクを作製する方法であって、
前記開口マスクは、
可撓性フィルムからなる細長いウェブと、
前記フィルムに形成された蒸着マスクパターンと、を含み、
前記蒸着マスクパターンが、１つ以上の電子回路要素の少なくとも一部を画定する前記フィルムを通って伸びる蒸着開口を画定し、
前記方法は、
複数個の下寄りの部分を含む支持体表面を用意する工程と、
炎を支持するバーナを用意する工程であり、前記炎は前記バーナの反対側に炎先端を含む工程と、
可撓性フィルムからなる細長いウェブの少なくとも一部を前記支持体表面に対して接触させる工程と、
バーナーからの炎により前記フィルムを加熱して、前記複数個の下寄りの部分を覆う区域において前記フィルムに開口を作る工程と、を含む方法。
【請求項３】
電子回路要素を作製する方法であり、
複数個の下寄りの部分を含む支持体表面を用意する工程と、
炎を支持するバーナを用意する工程であり、前記炎は前記バーナの反対側に炎先端を含む工程と、
可撓性フィルムからなる細長いウェブの少なくとも一部を前記支持体表面に対して接触させる工程と、
バーナーからの炎により前記フィルムを加熱して、前記複数個の下寄りの部分を覆う区域において前記フィルムに開口を作る工程と、それらにより開口マスクを作製する工程と、
フィルムからなる第一ウェブを提供する工程と、
前記開口マスクとフィルムからなる第一ウェブとを互いに近接して位置決めする工程と、
前記開口マスク内の前記開口を通してフィルムからなる前記第一ウェブに蒸着物質を蒸着し、１つ以上の電子回路要素の少なくとも一部を作る工程と、を含む方法。
【請求項４】
基材上に物質のパターンを連続的に蒸着する装置であって、
前記基材を送出する基材送出ローラと、
前記基材を受け取る第一基材受取ローラと、を含み、
前記基材は、前記基材送出ローラから前記基材受取ローラまで伸びて、前記基材送出ローラから前記基材受取ローラまで連続的に通過するようになり、
さらに、
第一パターンを画定する開口を備える第一マスクであって、
可撓性フィルムからなる細長いウェブと、前記フィルムに形成された少なくとも１つの蒸着マスクパターンと、を含み、
前記蒸着マスクパターンが、１つ以上の電子回路要素の少なくとも一部を画定する前記フィルムを通って伸びる蒸着開口を画定し、
蒸着開口が枠によって境界をつけられ、前記枠は前記マスクの標準的な厚さより大きな厚さを有する前記マスクの一部である、第一マスクと、
前記第一マスクを送出する第一マスク送出ローラと、
前記第一マスクを受け取る第一マスク受取ローラと、を含み、
前記マスクは前記マスク送出ローラから前記マスク受取ローラまで伸びて、前記第一マスクは第一マスク送出ローラから第一マスク受取ローラまで連続的に通過するようになり、
さらに、
第一ドラムを含み、
前記基材及び第一ポリマーマスクは、前記基材及びマスク送出ローラからの送出と、前記基材及びマスク受取ローラ上への受け取りとの間において、前記第一ドラムの周囲の一部分の上に接触するようになり、前記第一ドラムは連続的に回転し、
さらに、
前記第一ドラムの周囲の前記一部分の上にある前記第一マスクの部分に向かって、第一蒸着物質を連続的に導くように位置決めされた第一蒸着源を含み、少なくとも前記第一蒸着物質の一部は前記第一マスクの前記開口を通り抜けて、前記第一物質の前記第一パターンを前記基材上に連続的に蒸着する、装置。
【請求項５】
連続的に物質を蒸着する方法であって、
基材を連続的に基材受取ローラ上に受け取ると同時に、前記基材を基材送出ローラから連続的に送出する工程であり、前記基材は前記基材送出ローラと前記基材受取ローラとの間にあるときに第一ドラムの周囲の一部分の上を通る工程と、
連続的に前記基材を送出及び受け取りする一方、第一マスクを連続的に第一マスク受取ローラに受け取ると同時に、連続的に第一マスクを第一マスク送出ローラから送出する工程であり、前記第一マスクは前記第一マスク送出ローラと前記第一マスク受取ローラとの間にあるときに前記第一ドラムの周囲の一部分の上を通り、前記第一マスクは可撓性フィルムからなる細長いウェブと、前記フィルムに形成された少なくとも１つの蒸着マスクパターンとを含み、前記蒸着マスクパターンは、１つ以上の電子回路要素の少なくとも一部分を画定する前記フィルムを通って伸びる蒸着開口を画定し、蒸着開口は枠によって境界をつけられ、前記枠は前記マスクの標準的な厚さを超える厚さを有するマスクの一部分である工程と、
前記基材及び前記第一マスクを連続的に送出し及び受け取ると同時に、第一蒸着物質を第一蒸着源から前記第一ドラムの前記周囲の前記一部分の上に在る前記第一マスクの一部分に向けて導き、第一物質の第一パターンが前記基材上に蒸着される工程と、を含む、連続的に物質を蒸着する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月9日(2009.12.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
再帰反射面（１６）及び反対側の後面（１７）を有する半透明の再帰反射材料であって、該再帰反射材料は、透明領域及び不透明領域の規則的又は不規則な二次元のパターンを有し、前記再帰反射材料は、透明な微小球（２０）の層及び透明な微小球の前記層の後ろに機能的に置かれた反射層を含み、前記反射層は、隣接する金属の金属領域（１１）及び実質的に金属を有さないオープン領域（１２）の規則的又は不規則な二次元のパターンを含み、前記反射層のオープン領域（１２）は、前記再帰反射材料の透明領域に対応し、前記反射層の金属領域（１１）は、前記再帰反射材料の不透明領域に対応し、前記透明な微小球（２０）が前記透明及び不透明領域内に存在し、並びに前記透明領域が、前記再帰反射面（１６）上の前記再帰反射材料の表面全体の少なくとも５％を構成する半透明の再帰反射材料。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７２】
【表１】
2009521720.tif 000001
本出願では、以下の態様が提供される。
１．  再帰反射面（１６）及び反対側の後面（１７）を有する半透明の再帰反射材料であって、該再帰反射材料は、透明領域及び不透明領域の規則的又は不規則な二次元のパターンを有し、前記再帰反射材料は、透明な微小球（２０）の層及び透明な微小球の前記層の後ろに機能的に置かれた反射層を含み、前記反射層は、隣接する金属の金属領域（１１）及び実質的に金属を有さないオープン領域（１２）の規則的又は不規則な二次元のパターンを含み、前記反射層のオープン領域（１２）は、前記再帰反射材料の透明領域に対応し、前記反射層の金属領域（１１）は、前記再帰反射材料の不透明領域に対応し、前記透明な微小球（２０）が前記透明及び不透明領域内に存在し、並びに前記透明領域が、前記再帰反射面（１６）上の前記再帰反射材料の表面全体の少なくとも５％を構成する半透明の再帰反射材料。
２．  透明な領域が前記再帰反射面上の再帰反射材料の表面全体の１５〜７０％である、態様１に記載の半透明の再帰反射材料。
３．  オープン領域及び／又は金属の領域の少なくとも一部が類似の大きさと形を有する、態様１または２に記載の半透明の再帰反射材料。
４．  透明な微小球がガラスの球体である、態様１〜３のいずれか一項に記載の半透明の再帰反射材料。
５．  透明な微小球の前記層及び前記反射層の間に位置する、又は前記再帰反射層の上に提供された誘電体反射鏡を更に含む、半透明の再帰反射材料。
６．  ナンバープレートのナンバーを定める表示（２１０）を表示するディスプレイ面及び反対側の背面を有するナンバープレートであって、前記ナンバープレートは、背面から光が当たるように適応され、態様１〜５のいずれか一項に記載されているように、前記ナンバープレートは半透明の再帰反射材料（３２０）を含み、半透明の再帰反射材料（３２０）は前記ナンバープレートのディスプレイ面を再帰反射するような方法で配置される、ナンバープレート。
７．  透明な高分子支持体を更に含む、態様６に記載のナンバープレート。
８．  前記半透明の再帰反射材料が透明な接着剤層を介して前記透明な高分子支持体へ接着され、並びに透明な高分子支持体がナンバープレートの背面にある、態様７に記載のナンバープレート。
９．  前記表示が隆起構造を含み、そして、不透明又はナンバープレートの背景領域と比較して減少した透明度を有する、態様６〜８のいずれか一項に記載のナンバープレート。
１０．  前記表示が前記ナンバープレートのナンバーを表示する面の表面上に露出している、又は前記ナンバープレートのナンバーを表示する面上に埋められた、印刷された表示を含む、態様６〜８のいずれか一項に記載のナンバープレート。
１１．  前記ナンバープレートをナンバープレートの背面から光源によって照らすことができるように前記光源上に配列された、態様６〜８のいずれか一項に記載の、光源（１０１、１０２）及びナンバープレート（３００）を含むナンバープレート組立体。
１２．  前記組立体が、前記ナンバープレートを取り付けることができる前面を有する光導体、その反対側の後面、及び１つ以上の側面を更に含み、前記光導体を照らすための１つ以上の光源が、少なくとも１つの前記側面の少なくとも一部に沿って配列される、態様１１に記載のナンバープレート組立体。
１３．  前記光源が１つ以上のＬＥＤ装置を含む、態様１２に記載のナンバープレート組立体。
１４．  態様１１〜１３のいずれか一項に記載のナンバープレート組立体を含む自動車またはトレーラー。
１５．  態様６〜１０のいずれか一項に記載のナンバープレートの製造方法であって、前記方法は、（ｉ）態様１〜５のいずれか一項に記載の半透明の再帰反射材料を提供すること、（ｉｉ）前記半透明の再帰反射材料を所要の寸法に切ること、及びナンバープレートのナンバーを規定する表示を加えること、を含む方法。
１６．  半透明の再帰反射材料を透明な高分子支持体へラミネート加工し、そのように得られたラミネートを前記表示へ加えるためのエンボス加工工程を更に含む、態様１５に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月10日(2009.12.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有臭部分と凝縮温度以下で凝縮する凝縮部分とを含む気体汚染物質を現像中に発生させる画像メディアを熱現像するためのオーブンと、
前記オーブンに選択的に連結される構造を持つハウジングを有して、
前記気体汚染物質の前記凝縮部分の実質上すべてを凝縮および収集してフィルタリング気流を形成するように、前記凝縮温度を上回る第１温度で該気体汚染物質を含む少なくとも第１気流を前記オーブンから受け取る構造を持つとともに、該凝縮温度を下回る所望のフィルタリング温度まで該第１気流を冷却する構造を持つ熱交換器と、
前記フィルタリング気流を受け取り、残留している凝縮汚染物質の実質上すべてを収集し、排気流を形成するように前記気体汚染物質の前記有臭部分の実質上すべてを吸収する構造を持つフィルタモジュールと、
を前記ハウジングに含む汚染物質除去カートリッジと、
を含む熱プロセッサ。
【請求項２】
少なくとも一つの排気出口を有するオーブンと、
給気ファンと、
排気ファンと、
冷却ベントを有し、前記オーブンと給気ファンと排気ファンとが配置される容器と、
ハウジングを有するとともに、
少なくとも一つの排気入口と冷却空気入口と冷却空気出口とを前記ハウジングに有する熱交換器と、
前記熱交換器に連結されるとともに、前記ハウジングに排気口を有するフィルタモジュールであって、前記少なくとも一つの排気入口と前記冷却空気入口と前記冷却空気出口と該排気ベントとがそれぞれ前記少なくとも一つの排気出口と前記給気ファンと前記冷却空気口と前記排気ファンとに整合および連結されるように前記オーブンおよび容器に選択的に連結される構造を該ハウジングが持つ、フィルタモジュールと、
を実質上含む汚染物質除去カートリッジと、
を含む熱プロセッサ。
【請求項３】
処理中に気体汚染物質を発生させる画像メディアを熱現像するためのオーブンを含む熱プロセッサを作動させる方法であって、
前記オーブンに選択的に連結されるとともに、熱交換器とフィルタモジュールとを含む汚染物質除去カートリッジを設けることと、
前記オーブンから前記熱交換器へ汚染気流を送り、該加熱気流が気体汚染物質を含むことと、
前記熱交換器内で前記気体汚染物質の凝縮部分の実質上すべてが凝縮し収集されてフィルタリング気流を形成するように、該熱交換器内の前記汚染気流を冷却することと、
前記フィルタリング気流を前記フィルタモジュールに供給することと、
気体汚染物質を実質上含まない排気流を形成するように、前記フィルタリング気流からの該気体汚染物質の有臭部分の実質上すべてを前記フィルタモジュール内で吸収することと、
ユーザ選択時期に前記汚染物質除去カートリッジを交換することと、
を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月20日(2009.11.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光軸を持つ発光ダイオード（ＬＥＤ）と、
参照点に対して放射状に配置された複数個のプリズム構造物を含む構造化表面とを備え、前記構造化表面が前記ＬＥＤに対して、前記参照点が前記発光軸と略一直線になるように配置される
光学組立品。
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月12日(2009.11.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プロジェクションシステムであって、第一のイメージング構成要素と、前記第一のイメージング構成要素が、
第一のイメージャーと、
第一の光ビームを前記第一のイメージャーから第一の部分および第二の部分へ少なくとも部分的に分離するように構成された第一の反射型偏光子であって、前記第一の部分および前記第二の部分が実質的に直交する偏光状態を有する、第一の反射型偏光子とを含み、
第二のイメージング構成要素と、前記第二のイメージング構成要素が、第二のイメージャーと、
第二の光ビームを前記第二のイメージャーから第三の部分および第四の部分へ少なくとも部分的に分離するように構成された第二の反射型偏光子であって、前記第三の部分および前記第四の部分が実質的に直交する偏光状態を有し、前記第一の部分および前記第三の部分が前記第二および第四の部分によって画定される平面の上または下の同一方向へ誘導される、第二の反射型偏光子とを含み、
前記第二の部分および前記第四の部分とを結合するように構成されたカラーコンバイナーとを含み、前記カラーコンバイナーに入る前に前記第二の部分および前記第四の部分が実質的に直交する偏光状態を有する、プロジェクションシステム。
【請求項２】
前記第一の部分が、前記第一の反射型偏光子から反射されかつ前記第三の部分が前記第二の反射型偏光子から反射される、請求項１に記載のプロジェクションシステム。
【請求項３】
前記第一の部分および前記第三の部分が実質的に直交する偏光状態を有する、請求項２に記載のプロジェクションシステム。
【請求項４】
前記第一の反射型偏光子が、入力プリズムと出力プリズムとの間に配設される反射型偏光、多層ポリマーフィルムを有する偏光ビームスプリッターを含む、請求項１に記載のプロジェクションシステム。
【請求項５】
前記入力プリズムおよび出力プリズムが、それぞれ第一の屈折率を有し、かつ前記第一の反射型偏光子がそれぞれ第二の屈折率を有する外層を有し、前記第一の屈折率が、前記第二の屈折率と実質的に同一である、請求項４に記載のプロジェクションシステム。
【請求項６】
前記入力プリズムが、全内部反射面を提供するように構成される、請求項４に記載のプロジェクションシステム。
【請求項７】
偏光ビームスプリッターであって、入口面および入射面を有する入力プリズムと、
前記入力プリズムの前記入射面に対して逆に配設される反射型整合ｚ屈折率偏光子（ＭＺＩＰ）フィルムとを含み、前記反射型ＭＺＩＰフィルムは光ビームが約３．０より小さいｆ／＃で調整されている状態で少なくとも約５：１の消光比でｓ偏光光を透過し、かつｐ偏光光を反射するように方向付けられる、偏光ビームスプリッター。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月18日(2009.12.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
円環面コンタクトレンズのセットにおいて、前記セット内のそれぞれのレンズが後面、前面、バラスト及びバラスト軸を有し、それぞれのレンズについて前記後面及び前記前面の内の少なくとも一方が円環面光学領域を有し、前記セット内のそれぞれのレンズは共通の球面補正を有するが、円柱補正は相異なり、
前記セット内のそれぞれのレンズが、辺縁領域及び該辺縁領域と前記円環面光学領域との間に配された中間領域を有し、
前記レンズの内の少なくとも２つのレンズの上の前記バラスト軸からの共通の角度偏差（θ）における前記中間領域の幅が相異なり、
前記少なくとも２つのレンズの前記円環面光学領域が対応するレンズの前面に配置される、または前記少なくとも２つのレンズの前記円環面光学領域が対応するレンズの後面に配置される、
ことを特徴とするレンズセット。
【請求項２】
前記円環面光学領域の周が円形であることを特徴とする請求項１に記載のレンズセット。
【請求項３】
前記円環面光学領域の周が長円形であることを特徴とする請求項１に記載のレンズセット。
【請求項４】
前記レンズのそれぞれについての前記中間領域の前記幅が前記バラスト軸からの角度偏差の関数として変化することを特徴とする請求項１に記載のレンズセット。
【請求項５】
前記レンズ上の共通の位置における厚さが、前記バラスト軸からの角度偏差及びラジアル距離Rにより定まり、前記セット内の全てのレンズについて実質的に同じであることを特徴とする請求項１に記載のレンズセット。
【請求項６】
前記共通の位置が前記レンズの内の少なくともいくつかのレンズの前記中間領域に配されることを特徴とする請求項５に記載のレンズセット。
【請求項７】
前記セット内の前記レンズの全てが互いに同じ最小光学領域直径を有することを特徴とする請求項１に記載のレンズセット。
【請求項８】
前記セット内の前記レンズの円柱屈折能が少なくとも−０.７５ジオプトリから少なくとも−２.７５ジオプトリの範囲にあることを特徴とする請求項１に記載のレンズセット。
【請求項９】
前記共通の位置における前記厚さが互いに０.２ｍｍより大きくは異ならないことを特徴とする請求項５に記載のレンズセット。
【請求項１０】
前記共通の位置における前記厚さが互いに０.１５ｍｍより大きくは異ならないことを特徴とする請求項５に記載のレンズセット。
【請求項１１】
前記共通の位置における前記厚さが互いに０.０５ｍｍより大きくは異ならないことを特徴とする請求項５に記載のレンズセット。
【請求項１２】
前記共通の位置が前記レンズの内の少なくともいくつかのレンズの前記中間領域に配されることを特徴とする請求項９に記載のレンズセット。
【請求項１３】
前記共通の位置が前記レンズの前記前面の光学領域の頂部に配されることを特徴とする請求項９に記載のレンズセット。
【請求項１４】
前記バラスト軸から共通の角度偏差（θ）における前記中間領域の前記幅が円柱屈折能の増大にともなって単調に増大することを特徴とする請求項１に記載のレンズセット。
【請求項１５】
金型のセットにおいて、
複数の第１の金型であって、前記複数の第１の金型のそれぞれが複数のレンズの内の１つの第１の表面を形成するための形状につくられ、前記表面が選ばれた幅の中間領域を有し、前記第１の表面は全て前面であるかまたは前記第１の表面の全てが後面であり、前記表面が全て円環面である、複数の第１の金型、及び
少なくとも１つの第２の金型であって、前記少なくとも１つの第２の金型のそれぞれが前記複数のレンズの内の少なくとも１つのレンズの第２の表面を形成するための形状につくられ、前記複数の第１の金型及び前記少なくとも１つの第２の金型が、前記少なくとも１つの第２の金型の前記複数の第１の金型の内の１つとの組合せが、レンズのセットであって、前記セット内のレンズは前記セット内の他のレンズと共通の球面補正を有するが円柱屈折能、バラスト及びバラスト軸は異なり、前記レンズの内の少なくとも２つのレンズの上の前記バラスト軸からの共通の角度偏差（θ）における前記中間領域の幅が互いに異なる、レンズのセットを作成することができるように、構成される、少なくとも１つの第２の金型、
を含むことを特徴とする金型セット。
【請求項１６】
前記レンズセットのそれぞれのレンズの前記円柱屈折能が少なくとも−０.７５ジオプトリから少なくとも−２.７５ジオプトリの範囲にあることを特徴とする請求項１５に記載の金型セット。
【請求項１７】
第２の共通位置において測定される前記レンズセットのそれぞれのレンズの厚さが、前記バラスト軸からの角度偏差およびラジアル位置（R）により定められ、互いに０.２ｍｍより大きくは異ならないことを特徴とする請求項１５に記載の金型セット。
【請求項１８】
前記第２の共通位置が前記レンズの前記前面の光学領域の頂部に配されることを特徴とする請求項１７に記載の金型セット。
【請求項１９】
前記複数の第１の金型が少なくとも３つの金型を含むことを特徴とする請求項１５に記載の金型セット。
【請求項２０】
前記複数の第１の金型が少なくとも４つの金型を含むことを特徴とする請求項１５に記載の金型セット。
【請求項２１】
前記複数の第１の金型が少なくとも５つの金型を含むことを特徴とする請求項１５に記載の金型セット。
【請求項２２】
前記複数の第１の金型が少なくとも６つの金型を含むことを特徴とする請求項１５に記載の金型セット。
【請求項２３】
前記バラスト軸からの共通の角度偏差における前記中間領域の前記幅が円柱屈折能の増大にともなって単調に増大することを特徴とする請求項１５に記載の金型セット。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月3日(2009.12.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
モニタデバイスをサービスサーバーに接続するための方法であって、
制御サーバーに関するアドレスを前記モニタデバイスのメモリから検索するステップと、
前記モニタデバイスで生じた接続事象に応答し、制御サーバーに関連するアドレスに前記モニタデバイスからの接続メッセージを送るステップと、
前記モニタデバイスと前記制御サーバーとの間の接続を設定するステップと、
前記モニタデバイスをユニークに識別する識別子を前記モニタデバイスのメモリから検索するステップと、
前記識別子を前記モニタデバイスから前記制御サーバーに送るステップと、
前記制御サーバーにおいて、前記モニタデバイスをユニークに識別する前記識別子を前記モニタデバイスと前記制御サーバーとの間の通信から抽出するステップと、
前記制御サーバーにおいて、前記抽出した識別子とサービスサーバーとを照合することにより、前記モニタデバイスをユニークに識別する前記抽出した識別子に関連するサービスサーバーを識別し、前記照合は識別子のデータベースおよび関連するサーバーにアクセスすることにより、前記モニタデバイスの識別子とサーバーとを照合することにより行うステップと、
前記制御サーバーから前記モニタデバイスに前記識別されたサービスサーバーに関連するアドレスを送るステップと、
前記識別されたサービスサーバーに関連するアドレスの受信に応答し、前記モニタデバイスから前記識別されたサービスサーバーへ、接続メッセージを送るステップと、
前記モニタデバイスと前記識別されたサービスサーバーとの間にサービス接続を設定するステップとを備える方法。
【請求項２】
制御サーバーに関連するアドレスを前記モニタデバイスのメモリから初期選択することは、制御サーバーに関連するあらかじめコンフィギュアされたアドレスをリターンし、前記モニタデバイスから前記あらかじめコンフィギュアされたアドレスへ接続メッセージを初期送信することは、前記モニタデバイスにおけるイニシエイション事象（ｉｎｉｔｉａｔｉｏｎ  ｅｖｅｎｔ）に応答して行われる、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記モニタデバイスがネットワーク接続を検出することに応答し、前記モニタデバイスから制御サーバーに関するあらかじめコンフィギュアされたアドレスに接続メッセージを送る動作を実行する、請求項２記載の方法。
【請求項４】
前記モニタデバイスをユニークに識別する前記識別子はシリアル番号である、請求項１〜３のいずれか１つに記載の方法。
【請求項５】
前記識別されたサービスサーバーに関するアドレスを送る前記動作は、リコンフィギュレーションメッセージ内の前記識別されたサービスサーバーに関するアドレスを前記モニタデバイスに送ることを含み、本方法は、前記識別されたサービスサーバーに関するアドレスに対し、イニシエイション事象に応答して使用されるアドレスを前記モニタデバイス内に設定することを更に含む、請求項１〜４のいずれか１つに記載の方法。
【請求項６】
設定されたサービス接続を通してモニタ情報を前記モニタデバイスから前記サービスサーバーに送るステップを更に含む、請求項１〜５のいずれか１つに記載の方法。
【請求項７】
モニタ情報を送る前記ステップは、設定されたサービス接続を通して前記モニタデバイスから前記サービスサーバーにビデオデータを送ることを含む、請求項６記載の方法。
【請求項８】
前記モニタデバイスと制御サーバーとの接続のイニシエイションのための専用のボタンのマニュアル作動に応答し、前記モニタデバイスから制御サーバーに関するあらかじめコンフィギュアされたアドレスに接続メッセージを送る動作を実行する、請求項２記載の方法。
【請求項９】
前記サーバーをネットワークに接続するインターフェースと、  
モニタデバイスから受信したメッセージから識別子を抽出するようになっている識別抽出器であって、前記識別コードは前記モニタデバイスをユニークに識別する識別子である、識別抽出器と、
前記抽出した識別子とサービスサーバーとを照合し、一致したサービスサーバーに対するアドレスを検索するようになっている照合手段であって、識別子のデータベースおよび関連するサービスサーバーにアクセスすることにより、前記モニタデバイスの前記識別子とサービスサーバーとを照合するようになっている照合手段と、
前記検索したアドレスを含むメッセージを発生するようになっているメッセージ発生器とを備えた、モニタシステムのための制御サーバー。
【請求項１０】
前記モニタデバイスをユニークに識別する前記識別子はシリアル番号である、請求項９記載の制御サーバー。
【請求項１１】
制御サーバーに関連するアドレスを含むメモリと、
イニシエイション事象に応答し、前記ネットワークを通して前記アドレスに接続メッセージを送るようになっているイニシエイション手段と、
前記ネットワークを介して受信されたメッセージの受信に応答し、受信された該メッセージ内のアドレスに新しい接続メッセージを送るようになっている手段と、
メモリ内に記憶され、前記モニタデバイスをユニークに識別する識別子とを備えたモニタデバイスであって、
前記接続メッセージを送る先のアドレスに、この識別子を送るようになっているモニタデバイス。
【請求項１２】
前記モニタデバイスの前記メモリは、可能性のある制御サーバーを表示するアドレスの優先リストを含む、請求項１１記載のモニタデバイス。
【請求項１３】
前記モニタデバイスをユニークに識別する前記識別子はシリアル番号である、請求項１１〜１２のいずれか１つに記載のモニタデバイス。
【請求項１４】
前記イニシエイション手段はネットワーク接続検出器である、請求項１１〜１３のいずれか１つに記載のモニタデバイス。
【請求項１５】
前記イニシエイション手段は前記モニタデバイスの接続のイニシエイションのための専用のボタンである、請求項１１〜１３のいずれか１つに記載のモニタデバイス。
【請求項１６】
モニタデバイスと、制御サーバーと、複数のサービスサーバーと、前記サーバーと前記モニタデバイスとを接続するネットワークとを備えたモニタシステムであって、
前記モニタデバイスは請求項１１〜１５のいずれか１つに記載の前記モニタデバイスの機能を含み、
前記制御サーバーは請求項９〜１０のいずれか１つに記載の前記制御サーバーの機能を含み、
また各サービスサーバーは、
モニタデバイスからのモニタデータを受信し、処理するための手段を備える、
モニタシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月15日(2009.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式、ＳｉｘＳｎｑＭｙＣｚを有するリチウムイオン電池用電極組成物であって、式中、ｑ、ｘ、ｙ、およびｚは原子パーセント値を表し、且つ
（ａ）（ｑ＋ｘ）＞２ｙ＋ｚであり、
（ｂ）ｘは０より大であり、
（ｃ）ｑ及びｚの各々は独立して、０より大であるか又は０に等しく、並びに
（ｄ）Ｍは、マンガン、モリブデン、ニオブ、タングステン、タンタル、鉄、銅、チタン、バナジウム、クロム、ニッケル、コバルト、ジルコニウム、イットリウム、又はそれらの組み合わせから選択される１種以上の金属であり、
該組成物中、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｍ、及びＣ元素は、
（ｉ）シリコンを含む非晶質相と、
（ｉｉ）金属シリサイドを含むナノ結晶相と、
（ｉｉｉ）ｚ＞０場合でシリコンカーバイドを含む相と、
（ｉｖ）ｑ＞０の場合でＳｎを含む非晶質相と、を含む多相のミクロ組織形態で配置される、電極組成物。
【請求項２】
アノードと、
カソードと、
電解質と、
を含むリチウムイオン電池であって、該アノードは式、ＳｉｘＳｎｑＭｙＣｚを有する組成物を含み、式中、ｑ、ｘ、ｙ、及びｚは原子パーセント値を表し、且つ、
（ａ）（ｑ＋ｘ）＞２ｙ＋ｚであり、
（ｂ）ｑは０より大であるか又は０に等しく、
（ｃ）ｚは０より大であるか又は０に等しく、及び
（ｄ）Ｍは、マンガン、モリブデン、ニオブ、タングステン、タンタル、鉄、銅、チタン、バナジウム、クロム、ニッケル、コバルト、ジルコニウム、イットリウム、又はそれらの組み合わせから選択される１種以上の金属であり、
該組成物中、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｍ及びＣ元素は、
（ｉ）シリコンを含む非晶質相と、
（ｉｉ）金属シリサイドを含むナノ結晶相と、
（ｉｉｉ）ｚ＞０の場合でシリコンカーバイドを含む相と、
（ｉｖ）ｑ＞０の場合でＳｎを含む非晶質相と、を含む多相のミクロ組織形態で配置される、組成物のアノードを含むリチウムイオン電池。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月11日(2009.12.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無機充填剤が組み込まれた化学安定化フッ素化イオノマーを含んでなる組成物であって、無機充填剤が金属酸化物、金属水酸化物、金属ホスフェートまたはそれらの混合物であり、イオノマーが、１,０００,０００個の炭素原子当たり２００個未満の不安定基をイオノマーが含有するまでイオノマーをフッ素化剤に供することによりフッ素化されている組成物。
【請求項２】
１,０００,０００個の炭素原子当たり７０個未満の不安定基を含有する請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
請求項１に記載の組成物を含んでなる膜。
【請求項４】
相互接続孔を有する多孔質支持体と、化学安定化フッ素化イオノマーと無機充填剤とを含んでなる膜であって、
無機充填剤が金属酸化物、金属水酸化物、金属ホスフェートまたはそれらの混合物の群からのものであり、
イオノマーが、１,０００,０００個の炭素原子当たり２００個未満の不安定基をイオノマーが含有するまでイオノマーをフッ素化剤に供することにより化学的に安定化されており、
無機充填剤がイオノマー全体を通して分配され、イオノマーおよび無機充填剤が多孔質支持体の孔全体を通して分配されている膜。
【請求項５】
請求項１に記載の組成物を含んでなる電気化学電池において用いるための電極。
【請求項６】
請求項１に記載のイオノマーを含んでなる電気化学電池。
【請求項７】
請求項３に記載の膜を含んでなる電気化学電池。
【請求項８】
請求項４に記載の膜を含んでなる電気化学電池。
【請求項９】
燃料電池である請求項６に記載の電気化学電池。
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月2日(2010.9.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
タッチセンシティブディスプレイと、
メモリと、
１又はそれ以上のプロセッサと、
前記メモリに記憶されると共に、前記１又はそれ以上のプロセッサにより実行されるように構成された１又はそれ以上のプログラムと、
を含み、前記プログラムは、
アンロック画像に対応する第１の所定の位置において、前記タッチセンシティブディスプレイとの接触を感知するための命令と、
前記タッチセンシティブディスプレイとの持続的な接触を維持しながら前記感知された接触の動きに従って前記タッチセンシティブディスプレイ上の前記アンロック画像を動かすための命令と、
前記アンロック画像が前記タッチスクリーン上の前記第１の所定の位置から前記タッチセンシティブディスプレイ上の所定のアンロック領域へ移動する場合に、前記携帯用電子機器をアンロックするための命令と、
を含むことを特徴とする携帯用電子機器。
【請求項２】
前記動かすことは、任意の所望の経路に沿った動きを含む、
ことを特徴とする請求項１に記載の機器。
【請求項３】
前記動かすことは、前記第１の所定の位置から前記所定のアンロック領域への所定の表示経路に沿った動きを含む、
ことを特徴とする請求項１に記載の機器。
【請求項４】
前記携帯用電子機器は、前記ハンドヘルド電子機器である、
ことを特徴とする請求項１に記載の機器。
【請求項５】
前記機器をアンロックするのに必要な前記アンロック画像の動きの方向を通知する視覚的な合図を表示するための命令をさらに含む、
ことを特徴とする請求項１に記載の機器。
【請求項６】
前記視覚的な合図はテキストを含む、
ことを特徴とする請求項５に記載の機器。
【請求項７】
前記視覚的な合図は動きの方向を示す矢印を含む、
ことを特徴とする請求項５に記載の機器。
【請求項８】
１又はそれ以上のプログラムを記憶するコンピュータ可読記憶媒体であって、前記プログラムが、タッチセンシティブディスプレイを備えた携帯用電子機器によって実行されるときに、該携帯用電子機器に、
アンロック画像に対応する第１の所定の位置において、前記タッチセンシティブディスプレイとの接触を感知し、
前記タッチセンシティブディスプレイとの持続的な接触を維持しながら前記接触の動き
に従って前記タッチセンシティブディスプレイ上の前記アンロック画像を動かし、
前記タッチセンシティブディスプレイ上の前記アンロック画像が動く結果として前記アンロック画像が前記センシティブディスプレイ上の前記第１の所定の位置から所定のアンロック領域へ移動する場合に、前記携帯用電子機器をアンロックする、
という動作を行わせる命令を含むことを特徴とするコンピュータ可読記憶媒体。
【請求項９】
前記動かすことは、任意の所望の経路に沿った動きを含む、
ことを特徴とする請求項８に記載のコンピュータ可読記憶媒体。
【請求項１０】
前記動かすことは、前記第１の所定の位置から前記所定のアンロック領域への所定の表示経路に沿った動きを含む、
ことを特徴とする請求項８に記載のコンピュータ可読記憶媒体。
【請求項１１】
前記携帯用電子機器は、前記ハンドヘルド電子機器である、
ことを特徴とする請求項８に記載のコンピュータ可読記憶媒体。
【請求項１２】
前記機器をアンロックするのに必要な前記アンロック画像の動きの方向を通知する視覚的な合図を前記装置に表示させる命令をさらに含む、
ことを特徴とする請求項８に記載のコンピュータ可読記憶媒体。
【請求項１３】
前記視覚的な合図はテキストを含む、
ことを特徴とする請求項１２に記載のコンピュータ可読記憶媒体。
【請求項１４】
前記視覚的な合図は動きの方向を示す矢印を含む、
ことを特徴とする請求項１２に記載のコンピュータ可読記憶媒体。
【請求項１５】
タッチセンシティブディスプレイを含む携帯用電子機器をアンロックする方法であって、
アンロック画像に対応する第１の所定の位置において、前記タッチセンシティブディスプレイとの接触を感知するステップと、
前記タッチセンシティブディスプレイとの持続的な接触を維持しながら前記接触の動きに従って前記タッチセンシティブディスプレイ上の前記アンロック画像を動かすステップと、
前記タッチセンシティブディスプレイ上の前記アンロック画像が動く結果として前記アンロック画像が前記センシティブディスプレイ上の前記第１の所定の位置から所定のアンロック領域へ移動する場合に、前記携帯用電子機器をアンロックするステップと、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１６】
前記動かすことは、任意の所望の経路に沿った動きを含む、
ことを特徴とする請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記動かすことは、前記第１の所定の位置から前記所定のアンロック領域への所定の表示経路に沿った動きを含む、
ことを特徴とする請求項１５に記載の方法。
【請求項１８】
前記携帯用電子機器は、前記ハンドヘルド電子機器である、
ことを特徴とする請求項１５に記載の方法。
【請求項１９】
前記機器をアンロックするのに必要な前記アンロック画像の動きの方向を通知する視覚的な合図を表示するステップをさらに含む、
ことを特徴とする請求項１５に記載の方法。
【請求項２０】
前記視覚的な合図はテキストを含む、
ことを特徴とする請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記視覚的な合図は動きの方向を示す矢印を含む、
ことを特徴とする請求項１９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月27日(2009.11.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
セラミック基板と、この基板の上に配置された回路と、を備えたサブマウントにおいて、
前記回路は、少なくとも１つの非貴金属によってドープされた少なくとも１つの貴金属を含む導電性多孔質材料を含み、
前記導電性多孔質材料の少なくとも一部の表面は、前記非貴金属の酸化物を含み、
前記セラミック基板は、前記非貴金属の前記酸化物を介し、前記導電性多孔質材料に接合されていることを特徴とするサブマウント。
【請求項２】
前記表面が前記非貴金属の酸化物を含むようになっている前記導電性多孔質材料の前記部分は、前記非貴金属の量が多くなっている、請求項１記載のサブマウント。
【請求項３】
前記多孔質組成物の多孔率は、２５〜７５％の範囲内にある、請求項１または２記載のサブマウント。
【請求項４】
前記貴金属は、銀、金、パラジウム、白金、レニウムおよびそれらの組み合わせからなる群から選択されたものである、請求項１乃至３のいずれか１項に記載のサブマウント。
【請求項５】
前記非貴金属は、鉛、バナジウム、テルル、ビスマス、ヒ素、アンチモン、錫、クロームおよびこれらの組み合わせから選択されたものである、請求項１乃至４のいずれか１項に記載のサブマウント。
【請求項６】
前記少なくとも１つの貴金属は銀であり、前記少なくとも１つの非貴金属は鉛およびバナジウムである、請求項１乃至５のいずれか１項に記載のサブマウント。
【請求項７】
前記セラミック基板は、窒化アルミニウムおよび炭化ケイ素から成る群から選択された材料を含む、請求項１乃至６のいずれか１項に記載のサブマウント。
【請求項８】
前記導電性多孔質材料の熱膨張率は、前記セラミック基板の熱膨張率に一致する、請求項１乃至７のいずれか１項に記載のサブマウント。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか１項に記載のサブマウントと、このサブマウントに配置されると共に前記回路に電気的に接続された少なくとも１つの発光ダイオードとを備えた、発光デバイス。
【請求項１０】
セラミック基板を準備するステップと、
少なくとも１つの非貴金属によりドープされると共に、液体媒体内に分散された少なくとも１つの貴金属の粒子を含む組成物の回路パターンを、前記セラミック基板に配置するステップと、
前記液体媒体の少なくとも一部が蒸発し且つ前記非貴金属の少なくとも一部が酸化される温度で、前記組成物を加熱するステップとを備えた、サブマウントを製造するための方法。
【請求項１１】
前記貴金属は、銀、金、パラジウム、白金、レニウムおよびそれらの組み合わせからなる群から選択されたものである、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記非貴金属は、鉛、バナジウム、テルル、ビスマス、ヒ素、アンチモン、錫、クロームおよびこれらの組み合わせから選択されたものである、請求項１０または１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記少なくとも１つの貴金属は銀であり、前記少なくとも１つの非貴金属は鉛およびバナジウムである、請求項１０乃至１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
前記セラミック基板は、窒化アルミニウムおよび炭化ケイ素から成る群から選択された材料を含む、請求項１０乃至１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
約２５０℃〜約５００℃までの範囲の温度で前記加熱するステップを実行する、請求項１０乃至１４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１６】
３〜２５分の間、前記加熱するステップを実行する、請求項１０乃至１５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１７】
プリントにより、前記セラミック基板に前記組成物を配置する、請求項１０乃至１６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１８】
請求項１０乃至１７のいずれか１項に記載の方法を含む、発光デバイスを製造する方法において、
前記基板に少なくとも１つの発光ダイオードを配置するステップと、
前記少なくとも１つの発光ダイオードを前記回路に電気的に接続するステップとを更に備えた、発光デバイスを製造するための方法。
【請求項１９】
少なくとも１つの発光ダイオードを前記回路に接続すると共に前記回路に接合するように、前記加熱の間、少なくとも１つの発光ダイオードを前記セラミック基板に配置する、請求項１８記載の発光デバイスを製造するための方法。
【請求項２０】
サブマウントを製造するために、少なくとも１つの非貴金属でドープされた少なくとも１つの貴金属の粒子を含む組成物を使用する方法であって、前記粒子が液体媒体内に分散されている、組成物の使用法。
【請求項２１】
請求項１０乃至１７のいずれか１項に記載の方法によって得ることができるサブマウント。
【請求項２２】
請求項１８または１９に記載の方法によって得ることができる発光デバイス。