Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月15日(2010.3.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性抑制コアを含む印刷配線基板を構築する方法において、前記導電性抑制コアは前記印刷配線基板の機能層であり、且つ、前記印刷配線基板は単一のラミネーションサイクルを使用した少なくとも１つの追加の機能層を含み、前記方法は、
導電性抑制コアにクリアランスホールのパターンを穿孔する段階と、
前記抑制コアのそれぞれの面上の誘電性材料のＢステージ（半硬化）層と、前記少なくとも１つの機能層を形成するべく配置された追加の材料層と、を含む積層体内に前記導電性抑制コアを配置する段階であって、前記導電性抑制コアと誘電性材料のＢステージ（半硬化）層と及び追加の材料層とは、前記積層体のラミネーションが、完成後の印刷配線基板の前記機能層を形成するように配置されている、段階と、
硬化の前に、前記誘電体のＢステージ（半硬化）層内の樹脂をリフローさせて前記導電性抑制コアの前記クリアランスホールのパターンを充填するために、前記積層体に対するラミネーションサイクルを実行する段階と、
前記ラミネートされた積層体を介して鍍金スルーホールを穿孔し、且つ、前記導電性抑制コアと少なくとも１個の追加の機能層の１個との間に少なくとも１個の電気接続を形成するために前記スルーホールを鍍金する段階と、
を有する方法。
【請求項２】
前記導電性抑制コアとの電気的な接触状態を意図されてはいない鍍金スルーホールの場所に関する情報を印刷配線基板の設計から抽出する段階と、
前記導電性抑制コアとの電気的な接触状態を意図されてはいない前記鍍金スルーホールの場所に関する前記情報を使用して前記クリアランスホールのパターンを判定する段階と、
を更に有する、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記導電性抑制コアは、２つの主表面を具備しており、１つの主表面からもう１つのものに電気を直接的に伝達可能である、請求項１記載の方法。
【請求項４】
前記導電性抑制コアは、１ＭＨｚにおいて６を上回る誘電率を具備している、請求項３記載の方法。
【請求項５】
前記導電性抑制コアは、樹脂を含浸させた繊維質材料を使用して構築されている、請求項３記載の方法。
【請求項６】
前記繊維質材料は、炭素繊維である、請求項５記載の方法。
【請求項７】
前記炭素繊維は、金属被覆されている、請求項６記載の方法。
【請求項８】
前記導電性抑制コアは、厚い金属層から構築されている、請求項３記載の方法。
【請求項９】
ラミネーションの前に、前記導電性抑制コアの前記クリアランスホールのパターン内に樹脂をスクリーニングする段階を更に有する、請求項８記載の方法。
【請求項１０】
複数の導電性抑制コアを積層する段階と、
導電性抑制コアの前記積層体に前記クリアランスホールのパターンを穿孔する段階と、
前記導電性抑制コアにラミネーション位置決め孔を生成する段階と、
を更に有する、請求項１記載の方法。
【請求項１１】
ラミネーションの前に、前記導電性抑制コアを印刷及びエッチングして破片を除去する段階を更に有する、請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
前記誘電体のＢステージ（半硬化）層は、プリプレグであり、
前記積層体は、導電性材料の層を含んでいる、請求項１記載の方法。
【請求項１３】
前記誘電体のＢステージ（半硬化）層は、少なくとも７０容積％の樹脂含有量を含む、請求項１記載の方法。
【請求項１４】
前記導電性抑制コアの領域は、ベース基板材料を使用して構築されており、前記導電性抑制コアの少なくとも１つの領域は、インサート基板材料を使用して構築されている、請求項１記載の方法。
【請求項１５】
ベース基板材料を選択する段階と、
前記ベース基板材料の一部分を除去する段階と、
インサート基板材料を選択する段階と、
前記ベース基板材料の前記除去された部分内に収容可能である前記インサート基板材料片を切断する段階と、
前記ベース基板材料及び前記インサート基板材料片を前記積層体の一部として配置する段階と、
を更に有する、請求項１４記載の方法。
【請求項１６】
クリアランスホールのパターンを穿孔する段階は、
印刷配線基板の設計からクリアランスチャネルの場所及び必要な幅を判定する段階と、
選択されたドリルビット及び穿孔ピッチを使用して前記チャネルを穿孔する際に生成される可能性が高いノッチ間の距離を判定する段階と、
鍍金されたスルーホールに最も近い前記ノッチ間の距離が予め決定されたクリアランス半径よりも小さくないように、前記ドリルビット及び穿孔ピッチを選択する段階と、
を更に有する、請求項１記載の方法。
【請求項１７】
前記印刷配線基板の設計を使用することにより、前記クリアランスチャネルに最も近接した前記導電性抑制コアとの電気的な接続を生成する鍍金スルーホールを識別する段階と、
前記クリアランスチャネル及び前記識別された鍍金スルーホールの間の距離を判定する段階と、
結果的に得られるチャネルが前記識別された鍍金スルーホールの場所にオーバーラップしないように、前記ドリルビット及び穿孔ピッチを選択する段階と、
を更に有する、請求項１６記載の方法。
【請求項１８】
前記ノッチの高さを判定する段階と、
前記ノッチの高さが３ミル（７６．２ミクロン）未満になるように、ドリルビット及び穿孔ピッチを選択する段階と、
を更に有する、請求項１６記載の方法。
【請求項１９】
前記ノッチの高さが１ミル（２５．４ミクロン）未満になるように、ドリルビット及び穿孔ピッチを選択する段階を更に有する、請求項１８記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月18日(2010.2.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
集積回路のための蝕刻方法であって、
対象層の上に、第一のハードマスク層を設けるステップであって、該第一のハードマスク層は第一の厚さを有する、ステップと、
前記第一のハードマスク層の上に、第二のハードマスク層を設けるステップであって、該第二のハードマスク層は第二の厚さを有し、前記第一の厚さは前記第二の厚さよりも実質的に厚い、ステップと、
前記第二のハードマスク層の上に、フォトレジスト層を設けるステップと、
前記フォトレジスト層にパターンを形成するステップと、
前記パターンを、前記第二のハードマスク層へと転写するステップと、
前記第二のハードマスク層をトリムするステップであって、前記第二のハードマスク層をトリムする全ての期間中、前記フォトレジスト層の少なくとも一部分が前記第二のハードマスク層の上面を保護するようにし、また、前記第二のハードマスク層が約１０Åｒｍｓと約１００Åｒｍｓの間の平均エッジ粗さを有するよう、前記第二のハードマスク層は、前記第二のハードマスク層のそれぞれの側で、約１Å〜１０Å／秒の速度でトリムされる、ステップと、
を含む、方法。
【請求項２】
前記第一のハードマスク層が、非晶質炭素層又は有機下地層を含む、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記第二のハードマスク層が、無機層を含む、請求項１記載の方法。
【請求項４】
前記無機層が、誘電体反射防止膜（ＤＡＲＣ）、酸窒化珪素、酸化珪素、及び窒化珪素からなるグループの中から選択された材料を含む、請求項３記載の方法。
【請求項５】
前記第二のハードマスク層が、珪素含有有機層を含む、請求項１記載の方法。
【請求項６】
前記第二のハードマスク層の厚さが、約５０Åから約１０００Åの範囲である、請求項１記載の方法。
【請求項７】
前記パターンを前記第二のハードマスク層へと転写するステップが、異方性蝕刻工程を用いるステップを含む、請求項１記載の方法。
【請求項８】
前記第二のハードマスク層をトリムするステップが、前記第二のハードマスク層を等方性蝕刻するステップを含む、請求項１記載の方法。
【請求項９】
前記第二のハードマスク層をトリムするステップが、前記第二のハードマスク層をプラズマで蝕刻するステップを含む、請求項１記載の方法。
【請求項１０】
前記第二のハードマスク層をトリムするステップが、湿式蝕刻工程を使うステップを含む、請求項１記載の方法。
【請求項１１】
前記湿式蝕刻工程を使うステップが、緩衝酸化物蝕刻工程を使うステップを含む、請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
前記第二のハードマスク層をトリムすることで得られるパターンを、高密度プラズマ蝕刻工程を用いて前記第一のハードマスク層へと転写するステップをさらに含む、請求項１記載の方法。
【請求項１３】
底部反射防止膜（ＢＡＲＣ）層を前記第二のハードマスク層の上に設けるステップをさらに含む、請求項１記載の方法。
【請求項１４】
集積回路用のマスキング構造体であって、
対象層の上に形成された第一のハードマスク層と、
前記第一のハードマスク層の上に形成され、且つ前記第一のハードマスク層を蔽うように構築されたマスキング部位を具えたパターンを有する、第二のハードマスク層と、
前記第二のハードマスク層の上に形成され、且つ前記第二のハードマスク層の前記マスキング部位に対応したマスキング部位を具えたパターンを有する、レジスト層と、
を含み、  
前記第二のハードマスク層の前記マスキング部位の露出した側面の各々の平均粗さが、５０Åｒｍｓ未満であることを特徴とする、マスキング構造体。
【請求項１５】
前記第二のハードマスク層の前記マスキング部位の露出した側面の各々の平均粗さが、約１０Åｒｍｓから約５０Åｒｍｓの範囲である、請求項１４記載のマスキング構造体。
【請求項１６】
前記第二のハードマスク層の前記マスキング部位の巾が、前記レジスト層の前記対応するマスキング部位の巾と実質的に等しい、請求項１４記載のマスキング構造体。
【請求項１７】
前記第二のハードマスク層の前記マスキング部位の巾が、前記レジスト層の前記対応するマスキング部位の巾よりも狭い、請求項１４記載のマスキング構造体。
【請求項１８】
集積回路装置を製造する方法であって、
第一の厚さを有する第一のハードマスクを基板の上に設けるステップと、
第二の厚さを有する第二のハードマスクを前記第一のハードマスクの上に設けるステップであって、前記第一の厚さが前記第２の厚さよりも実質的に厚い、ステップと、
パターンを有するレジストを前記第二のハードマスクの上に設けるステップと、
前記レジストの前記パターンを用いて前記第二のハードマスクを異方性蝕刻するステップと、
前記第二のハードマスクを等方性蝕刻するステップであって、前記第二のハードマスクを等方性蝕刻する全ての期間中、前記レジストの少なくとも一部分が前記第二のハードマスクの上面を保護するようにし、また、前記第二のハードマスク層が約１０Åｒｍｓと約１００Åｒｍｓの間の平均エッジ粗さを有するよう、前記第二のハードマスクは、前記第二のハードマスク層のそれぞれの側で、約１Å〜１０Å／秒の蝕刻速度で蝕刻される、ステップと、
を含む、方法。
【請求項１９】
前記レジスト層は、フォトレジスト及びインプリントリソグラフィレジストからなるグループの中から選択された材料を含む、請求項１８記載の方法。
【請求項２０】
集積回路装置用の限界寸法制御のためのトリム方法であって、
第一のハードマスクを基板の上に設けることにより、トリム工程の期間中に前記基板を保護するステップであって、前記第一のハードマスクは第一の厚さを有し、前記第一のハードマスクは、パターンを有する第二のハードマスクの下にあり、該第二のハードマスクは第二の厚さを有し、前記第一の厚さは前記第二の厚さよりも実質的に厚い、ステップと、
前記第二のハードマスクの上面にレジストを設けることにより、トリム工程の全期間中、前記第二のハードマスクの上面を保護するステップと、
を含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月5日(2010.2.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電源、光源および電子パワースイッチを含む主電力回路と、
前記電子パワースイッチに電気的に接続され、制御信号に応じて前記電子パワースイッチを通して流れる電流を調節するのに適した電力制御回路と、
前記電力制御回路に接続された出力を含むマイクロプロセッサとを有する携帯用照明装置であって、
前記パワースイッチは、所定の時間の間に調節される電圧に応じて、前記主電力回路を流れる電流を調整するのに適し、
前記マイクロプロセッサは、前記電力制御回路に前記制御信号を提供し、
前記制御信号は、当該携帯用照明装置に視認可能な点滅機能を提供するのに十分な継続時間の周期を有し、
前記視認可能な点滅機能は、前記光源を通して実行される携帯用照明装置。
【請求項２】
視認可能な点滅機能の継続時間は、約１．３８秒である請求項１に記載の携帯用照明装置。
【請求項３】
前記デューティサイクルは、１．４％から１７．２％間のである請求項１に記載の携帯用照明装置。
【請求項４】
視認可能な点滅機能は、約１秒超、且つ、５秒未満である請求項１に記載の携帯用照明装置。
【請求項５】
前記電力制御回路は、該携帯用照明装置が点灯されたとき、前記主電力回路が定常状態に達する前に、前記主電力回路を流れるピーク電流を制限するために前記電子パワースイッチを調節する請求項１に記載の携帯用照明装置。
【請求項６】
前記電力制御回路は、前記制御信号を修正して、時間と共に指数的に増加する電圧を生成する請求項１に記載の携帯用照明装置。
【請求項７】
視認可能な点滅機能のオン部分は、３０ミリ秒と２５０ミリ秒との間である請求項１に記載の携帯用照明装置。
【請求項８】
前記電源と前記マイクロプロセッサとの間の電路を開閉する機械式スイッチをさらに含み、前記マイクロプロセッサは、前記機械式スイッチから受け取った作動信号に応じて前記電力制御回路に前記制御信号を提供する請求項１に記載の携帯用照明装置。
【請求項９】
電源、光源および電子パワースイッチを含む主電力回路と、
マイクロプロセッサと、
前記電子パワースイッチおよび前記マイクロプロセッサに電気的に接続され、前記マイクロプロセッサからの制御信号に応じて、所定の時間の間に変化する電圧を、前記電子パワースイッチに印加するのに適した電力制御回路とを有する懐中電灯であって、
前記パワースイッチは、前記主電力回路を流れる電流を調整し、
前記制御信号は、約１秒より大きい時間を有し、
前記電力制御回路は、前記マイクロプロセッサからの前記制御信号に応じて、前記電子パワースイッチを流れる電流を調整して、当該懐中電灯に視認可能な点滅機能を提供し、
前記視認可能な点滅機能は、前記光源を通して実行される懐中電灯。
【請求項１０】
前記光源は、１７．２％未満のデューティサイクルを有する請求項９に記載の懐中電灯。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月3日(2010.3.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）用の集積回路（ＩＣ）であって、
前記ＩＣに組み込まれ、前記ＨＤＤに関する処理を行う第一のプロセッサと、
前記ＩＣに組み込まれ、前記第一のプロセッサと接続されるハードディスクコントロールモジュール（ＨＤＣモジュール）と、
前記ＩＣに組み込まれ、前記ＨＤＣモジュールと接続される第二のプロセッサと、
前記ＩＣに組み込まれた有線ネットワークインタフェースモジュールと、を含み、
前記有線ネットワークインタフェースモジュールは、
前記第二のプロセッサと接続されるメディアアクセスコントロールモジュール（ＭＡＣモジュール）と、
前記ＭＡＣモジュールと出力と接続され、前記出力と接続される第一、第二、第三、および第四の送受信機を含む物理層モジュール（ＰＨＹ）と、を含み、
前記第二のプロセッサは、前記有線ネットワークインタフェースモジュールが受信したパケットを処理する、
ＩＣ。
【請求項２】
前記第一、第二、第三、および第四の送受信機それぞれと前記出力と接続される第一、第二、第三、および第四のハイブリッドをさらに含む、請求項１に記載のＩＣ。
【請求項３】
前記有線ネットワークインタフェースモジュールは、１秒につき少なくとも１ギガビットの速度でデータを送受信する、請求項１または２に記載のＩＣ。
【請求項４】
前記有線ネットワークインタフェースモジュールは、１秒につき少なくとも１０ギガビットの速度でデータを送受信する、請求項１から３のいずれかに記載のＩＣ。
【請求項５】
前記有線ネットワークインタフェースモジュールは、Ｉ．Ｅ．Ｅ．Ｅ．セクション８０２．３ａｂに準拠する、請求項１から４のいずれかに記載のＩＣ。
【請求項６】
前記第一のプロセッサおよび前記ＨＤＣモジュールの少なくともいずれかは、ハイパーテキスト転送プロトコル（ＨＴＴＰ）、ピアツーピア共有プロトコル、およびインターネットプロトコルに基づくＳｍａｌｌ  Ｃｏｍｐｕｔｅｒ  Ｓｙｓｔｅｍ  Ｉｎｔｅｒｆａｃｅ  Ｍｏｄｕｌｅ  Ｓｔａｎｄａｒｄ（ｉＳＣＳＩ）の少なくともいずれかを利用して前記パケットを処理する、請求項１から５のいずれかに記載のＩＣ。
【請求項７】
前記ＩＣに組み込まれ、前記ＨＤＣモジュールと接続されるスピンドル／ボイスコイルモータモジュールをさらに含む、請求項１から６のいずれかに記載のＩＣ。
【請求項８】
前記第二のプロセッサは、ハイパーテキスト転送プロトコル（ＨＴＴＰ）、ピアツーピア共有プロトコル、およびインターネットプロトコルに基づくＳｍａｌｌ  Ｃｏｍｐｕｔｅｒ  Ｓｙｓｔｅｍ  Ｉｎｔｅｒｆａｃｅ  Ｍｏｄｕｌｅ  Ｓｔａｎｄａｒｄ（ｉＳＣＳＩ）の少なくともいずれかを利用して前記パケットを処理する、請求項１から７のいずれかに記載のＩＣ。
【請求項９】
前記ＩＣに組み込まれ、前記ＨＤＣモジュールと接続される読み書きチャネルモジュールをさらに含む、請求項１から８のいずれかに記載のＩＣ。
【請求項１０】
請求項１から９のいずれかに記載のＩＣをプリント回路基板（ＰＣＢ）上に含むＰＣＢ。
【請求項１１】
前記ＩＣと接続されるＲＪ‐４５コネクタを前記ＰＣＢ上にさらに含む、請求項１０に記載のＰＣＢ。
【請求項１２】
請求項１０または１１に記載のＰＣＢを含むシステムであって、ハードディスクドライブアセンブリ（ＨＤＡ）をさらに含み、
前記ＨＤＡは、
前記ＩＣの読み書きチャネルモジュールと接続されるプリアンプモジュールと、
前記ＩＣのスピンドル／ボイスコイルモータモジュールと接続されるスピンドルモータと、
前記ＩＣのスピンドル／ボイスコイルモータモジュールと接続される読み書きアームと、
前記読み書きアーム上に配置され、前記プリアンプモジュールと接続される読み書き部材と、を含むシステム。
【請求項１３】
ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）用の集積回路（ＩＣ）であって、
前記ＩＣに組み込まれ、前記ＨＤＤに関する処理を行う第一のプロセッサと、
前記ＩＣに組み込まれ、前記第一のプロセッサと接続されるハードディスクコントロールモジュール（ＨＤＣモジュール）と、
前記ＩＣに組み込まれ、前記ＨＤＣモジュールと接続される第二のプロセッサと、
前記ＩＣに組み込まれた無線ネットワークインタフェースモジュールと、を含み、
前記無線ネットワークインタフェースモジュールは、
前記第二のプロセッサと接続されるメディアアクセスコントロールモジュール（ＭＡＣモジュール）と、
前記ＭＡＣモジュールと接続され、１秒につき少なくとも１ギガビットの速度で動作できる無線周波数（ＲＦ）送受信機を含む物理層モジュール（ＰＨＹ）と、を含み、
前記第二のプロセッサは、前記無線ネットワークインタフェースモジュールが受信したパケットを処理する、
ＩＣ。
【請求項１４】
前記第一のプロセッサおよび前記ＨＤＣモジュールの少なくともいずれかは、ハイパーテキスト転送プロトコル（ＨＴＴＰ）、ピアツーピア共有プロトコル、およびインターネットプロトコルに基づくＳｍａｌｌ  Ｃｏｍｐｕｔｅｒ  Ｓｙｓｔｅｍ  Ｉｎｔｅｒｆａｃｅ  Ｍｏｄｕｌｅ  Ｓｔａｎｄａｒｄ（ｉＳＣＳＩ）の少なくともいずれかを利用して前記パケットを処理する、請求項１３に記載のＩＣ。
【請求項１５】
前記ＩＣに組み込まれ、前記ＨＤＣモジュールと接続されるスピンドル／ボイスコイルモータモジュールをさらに含む、請求項１３または１４に記載のＩＣ。
【請求項１６】
前記第二のプロセッサは、ハイパーテキスト転送プロトコル（ＨＴＴＰ）、ピアツーピア共有プロトコル、およびインターネットプロトコルに基づくＳｍａｌｌ  Ｃｏｍｐｕｔｅｒ  Ｓｙｓｔｅｍ  Ｉｎｔｅｒｆａｃｅ  Ｍｏｄｕｌｅ  Ｓｔａｎｄａｒｄ（ｉＳＣＳＩ）の少なくともいずれかを利用して前記パケットを処理する、請求項１３から１５のいずれかに記載のＩＣ。
【請求項１７】
前記ＩＣに組み込まれ、前記ＨＤＣモジュールと接続される読み書きチャネルモジュールをさらに含む、請求項１３から１６のいずれかに記載のＩＣ。
【請求項１８】
請求項１３から１７のいずれかに記載のＩＣをプリント回路基板（ＰＣＢ）上に含むＰＣＢ。
【請求項１９】
請求項１８に記載のＰＣＢを含むシステムであって、ハードディスクドライブアセンブリ（ＨＤＡ）をさらに含み、
前記ＨＤＡは、
前記ＩＣの読み書きチャネルモジュールと接続されるプリアンプモジュールと、
前記ＩＣのスピンドル／ボイスコイルモータモジュールと接続されるスピンドルモータと、
前記ＩＣのスピンドル／ボイスコイルモータモジュールと接続される読み書きアームと、
前記読み書きアーム上に配置され、前記プリアンプモジュールと接続される読み書き部材と、を含むシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月17日(2010.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
クライアントデバイス上に提供されたローカルデータベースにアクセスするステップであって、前記ローカルデータベースは複数のエンティティのエンティティ階層と複数のメディア記述子とからなるものであって、前記複数のエンティティの各々は１又は複数のメディア記述子に関連することを特徴とするステップと、
マシンの少なくとも１つのプロセッサを使用して複数のメディアオブジェクトを処理し、各メディアオブジェクトに関連する前記メディア記述子の１又は複数を識別するステップと、
前記メディアオブジェクトに関連する前記１又は複数のメディア記述子に対応する前記エンティティ階層におけるエンティティを識別するステップと、
前記複数のエンティティのうち少なくとも幾つかは１又は複数の他のエンティティに関連するメディア記述子に関連するよう、前記複数のエンティティへの承継を適用するステップと、
前記メディアオブジェクト間の関連と、前記１又は複数のメディア記述子に基づいた前記複数のエンティティと、前記複数のエンティティへ適用された承継とを保存し、後続的にユーザが前記エンティティ階層の少なくとも一部を探査し、前記メディアオブジェクトを選択することを可能にするステップと
を有する方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法であって、前記複数のエンティティへの承継を適用するステップは、
前記エンティティ階層におけるチャイルドエンティティが、直接関連するメディア記述子を有していないとき、前記複数のエンティティへのカスケーディングダウン承継を適用するステップであって、前記チャイルドエンティティは、ペアレントエンティティと関連するメディア記述子を承継することを特徴とするステップ、あるいは、
前記エンティティ階層におけるペアレントエンティティが、直接関連するメディア記述子を有していないとき、前記複数のエンティティへのカスケーディングアップ承継を適用するステップであって、前記ペアレントエンティティは、前記チャイルドエンティティと関連するメディア記述子を承継することを特徴とするステップ
のうちの少なくとも１つを含む方法。
【請求項３】
請求項１に記載の方法であって、前記エンティティは、メディアチャネル、メディアストリーム、ステーション、プログラム、スロット、プレイリスト、ウェブページ、レコーディングアーティスト、作曲家、作品、楽章、パフォーマンス、レコーディング、レコーディングミックストラック、トラックセグメント、トラック、リリース、エディション、アルバム、アルバムシリーズ、グラフィックイメージ、写真、映像セグメント、映像、映像静止画、ＴＶエピソード、ＴＶシリーズ、フィルム、ポッドキャスト、イベント、場所、あるいは開催地、のうちの少なくとも１つを含む方法。
【請求項４】
請求項１に記載の方法であって、
前記メディア記述子は、ジャンルＩＤコード、オリジンＩＤコード、レコーディング年代ＩＤコード、作品年代ＩＤコード、アーティストタイプＩＤコード、テンポＩＤコード、ムードＩＤコード、状況ＩＤコード、ワークタイプＩＤコード、トピックＩＤコード、個人履歴コンテンツＩＤコード、コミュニティ履歴コンテンツＩＤコード、音色ＩＤコードからなるグループから選択された識別子（ＩＤ）コードを含み、
少なくとも１つのプロセッサを使用して前記複数のオブジェクトを処理するステップは、識別子に対するディジタルフィンガープリントを取得し、前記識別子を使用して１又は複数のメディア記述子を識別するステップ
を含む方法。
【請求項５】
マシンの少なくとも１つのプロセッサを使用して少なくとも１つの記述子システムから記述子階層を生成するステップであって、前記少なくとも１つの記述子システムはマスタ記述子コードリストを含み、前記マスタ記述子コードリストはメディアオブジェクトに関連する複数のマスタ記述子コードを含むことを特徴とするステップと、
記述子関係テーブルを生成するステップであって、前記記述子関係テーブルは、重みに従って、前記マスタ記述子コードリストにおける他のマスタ記述子コードとともに前記マスタ記述子コードの少なくともいくつかに関連することを特徴とするステップと、
メディアオブジェクトに対する情報アーキテクチャとしてクライアントにおいて前記記述子階層及び前記記述子関係テーブルを配置するステップと
を含む方法。
【請求項６】
前記少なくとも１つの記述子システムから記述子階層を生成する請求項５に記載の方法であって、
前記少なくとも１つの記述子システムにおける複数の利用可能なカテゴリリストから複数のカテゴリリストを選択するステップと、
前記記述子階層における前記選択されたカテゴリリストを取り込むステップと、
カテゴリリスト順序付けデータを生成するステップであって、前記カテゴリリスト順序付けデータによって前記選択されたカテゴリリストの少なくとも１つの代替の順序付けが可能となることを特徴とするステップと
を含む方法。
【請求項７】
前記少なくとも１つの記述子システムから記述子階層を生成する請求項５に記載の方法であって、
サードパーティマッピングテーブルを生成するステップであって、前記サードパーティマッピングテーブルは、サードパーティによって使用される複数の記述子項目を前記複数のマスタ記述子コードに関連付けることを特徴とするステップ、あるいは
少なくとも１つの記述子システムから複数の記述子階層を生成するステップ
の少なくとも１つを含む方法。
【請求項８】
請求項５に記載の方法であって、
前記少なくとも１つの記述子システムは、オリジナル記述子システム、代替言語記述子システム、局所化言語記述子システムのうちの少なくとも１つを含み、
前記クライアントはメディアプレーヤーデバイスである
ことを特徴とする方法。
【請求項９】
命令コードを格納するメモリと、
前記命令コードを実行するための少なくとも１つのプロセッサであって、
クライアントデバイス上に提供されたローカルデータベースにアクセスするステップであって、前記ローカルデータベースは複数のエンティティのエンティティ階層と複数のメディア記述子とからなるものであって、前記複数のエンティティの各々は１又は複数のメディア記述子に関連することを特徴とするステップと、
複数のメディアオブジェクトを処理し、各メディアオブジェクトに関連する前記メディア記述子の１又は複数を識別するステップと、
前記メディアオブジェクトに関連する前記１又は複数のメディア記述子に対応する前記エンティティ階層におけるエンティティを識別するステップと、
前記複数のエンティティのうち少なくとも幾つかは１又は複数の他のエンティティに関連するメディア記述子に関連するよう、前記複数のエンティティへの承継を適用するステップと、
前記メディアオブジェクト間の関連と、前記１又は複数のメディア記述子に基づいた前記複数のエンティティと、前記複数のエンティティへ適用された承継とを保存し、後続的にユーザが前記エンティティ階層の少なくとも一部を探査し、前記メディアオブジェクトを選択することを可能にするステップと、
からなるオペレーションを実施するプロセッサと
を備えることを特徴とする装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年8月26日(2010.8.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
受取基板（４０、６０、７２、９１）上に少なくとも１つの層を備える最終基板を製作する方法であって、
−支持基板（３２、５２、６２、８２）から中間構造（３２’、５２’、６２’、８２’）を形成するステップであって、前記中間構造は、上面、前記上面から前記支持基板への制御された種注入によって得られた非晶質層（３３、５３、６６、８６）、前記種注入のために、前記非晶質層の直下にエンドオブレンジタイプの点欠陥を含む第１の結晶質層（３５、５５、６８、８７）、および、前記中間構造の下部内にある第２の結晶質層（３６、５６、７０、８９）を有するステップと、
−前記中間構造の前記上面に、前記受取基板を接合するステップと、
−前記中間構造の前記第１および第２の結晶質層を除去して、前記非晶質層を前記中間構造の上層とし、前記非晶質層が前記エンドオブレンジタイプの点欠陥を含まないようにするステップと
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記非晶質層（３３、５３、６６、８６）は、前記中間構造（３２’、５２’、６２’、８２’）の表面に形成されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記非晶質層（３３、５３、６６、８６）は、前記中間構造（３２’、５２’、６２’、８２’）上に形成されることを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記非晶質層（３３、５３、６６、８６）は、エピタキシャル成長された結晶質層（５３、６４）を堆積させ、続いて前記層（５３、８４）を全体的または部分的に非晶質化することによって形成されることを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記非晶質層（３３、５３、６６、８６）は、前記中間構造（３２’、５２’、６２’、８２’）内に、前記中間構造（３２’、５２’、６２’、８２’）の上層、いわゆる表面非晶質層（５３、８６）となるように形成されることを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項６】
前記非晶質層（３３、５３、６６、８６）は、前記中間構造（３２’、５２’、６２’、８２’）内に、前記中間構造（３２’、５２’、６２’、８２’）の上部内にある第３の結晶質層（３４、６７）の直下にある埋込み層、いわゆる埋込み非晶質層（３３、５３、６６、８６）となるように形成されることを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項７】
前記非晶質層（３３、５３、６６、８６）は、前記支持基板（３２、５２、６２、８２）に種を注入することによって得られることを特徴とする請求項５または６に記載の方法。
【請求項８】
前記受取基板（４０、６０、７２、９１）を接合する前記ステップの前に、前記非晶質層（３３、５３、６６、８６）を、前記中間構造（３２’、５２’、６２’、８２’）の上面を通じて種を注入することによってドープするステップを含むことを特徴とする請求項１または２に記載の方法。
【請求項９】
前記非晶質層（３３、５３、６６、８６）を形成する前記ステップ、および点欠陥が生じた前記中間構造（３２’、５２’、６２’、８２’）の前記層（３５、５５、６８、８７）を除去する前記ステップの後で、受取基板（４０、６０、７２、９１）を接合する前記ステップの前に、前記非晶質層（３３、５３、６６、８６）を、種を注入することによってドープするステップを含むことを特徴とする請求項１または２に記載の方法。
【請求項１０】
前記非晶質層（３３、５３、６６、８６）に注入されるドーパントは、前記非晶質層（３３、５３、６６、８６）を再結晶化させる熱処理を施すことによって活性化されることを特徴とする請求項２乃至７のいずれかに記載の方法。
【請求項１１】
前記熱処理は、５５０から６５０℃で１から２時間実施されることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
点欠陥が生じた前記中間構造（３２’、５２’、６２’、８２’）の前記層（３５、５５、６８、８７）を除去する前記ステップは、前記中間構造（３２’、５２’、６２’、８２’）内に弱化ゾーン（３９、５７、６１、８１）を形成し、次いで応力を印加することによって得られることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれかに記載の方法。
【請求項１３】
前記非晶質層（３３、５３、６６、８６）の形成中に点欠陥が生じた、前記中間構造（３２’、５２’、６２’、８２’）の前記層（３５、５５、６８、８７）を除去する前記ステップは、
−前記中間構造（３２’、５２’、６２’、８２’）内に埋込み弱化ゾーン（３９、５９）を形成するように、イオンまたはガス種を前記中間構造（３２’、５２’、６２’、８２’）の上層を通じて注入するステップと、
−前記弱化ゾーン（３９、５９）内に割れを生じさせて、前記中間構造（３２’、５２’、６２’、８２’）の上層を切り離すステップと
に従って実施されることを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記種注入のパラメータは、前記弱化ゾーン（３９、５９）が、前記点欠陥を含む前記層（３５、５５）に配置されるように選択されることを特徴とする請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記種注入のパラメータは、前記弱化ゾーン（５９）が、前記点欠陥を含む前記層（５５）の上方に配置されるように選択されることを特徴とする請求項１３に記載の方法。
【請求項１６】
前記種注入のパラメータは、前記弱化ゾーン（３９）が、点欠陥を含む前記層（３５）の下に配置されるように選択されることを特徴とする請求項１３に記載の方法。
【請求項１７】
非晶質材料の１つの薄層を備える基板であって、受取基板（４０）、中央結晶質層（３４）、および非晶質層（３３）を備え、前記受取基板（４０）、前記結晶質層（３４）、および前記非晶質層（３３）は、エンドオブレンジタイプの点欠陥を有さないことを特徴とする基板。
【請求項１８】
少なくとも１つの受取基板（４０、６０、７２、９１）、およびエンドオブレンジタイプの点欠陥がない上部ドープ結晶質層（４１、５７、７３、８６）を備える基板であって、前記ドープ結晶質層（４１、５７、７３、８６）が、１ｅ２０ａｔ／ｃｍ3以上のドープ濃度を有することを特徴とする基板。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月24日(2009.12.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（Ｉ）の化合物を含むことを特徴とする、ｐ型またはｎ型導電性半導体材料：
【化１】
2009529799.tif 000001
式中：
いずれの場合も独立して
ｎは、ＰｂとＴｅとは異なる化学元素の数であり、
１ｐｐｍ≦ｘ１．．．ｘｎ≦０．０５であり、
−０．０５≦ｚ≦０．０５であり、
および
ｎ≧２の場合、
Ａ１．．．Ａｎは、相互に異なり、
Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ，Ｓ、Ｓｅ、Ｂｒ、Ｉ、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｏｓ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｈｇ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕからなる元素群から選ばれ、
またはｎ＝１の場合、
Ａ１が、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｇ、Ｈｆ、Ｃｕ、Ｇｒ、Ｎｂ、Ｔａから選ばれる。
【請求項２】
Ａ１．．．Ａｎが、相互に異なり、Ａｌ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｓｅ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕからなる元素群から選ばれる請求項１に記載の半導体材料。
【請求項３】
Ａ１．．．Ａｎが、相互に異なり、Ｉｎ、Ｇｅ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｕ、Ａｇからなる元素群から選ばれる請求項１または２に記載の半導体材料。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の半導体材料の製造方法であって、前記化合物が、特定の構成元素またはその合金の混合物を反応性粉砕または共溶融して製造されることを特徴とする方法。
【請求項５】
次の加工工程を含むことを特徴とする請求項４に記載の方法：
（１）特定の構成元素またはその合金の混合物を共溶融する工程、
（２）加工工程（１）で得られた材料を粉砕する工程、
（３）加工工程（２）で得られた材料を圧縮して成形物とする工程、および
（４）加工工程（３）で得られた成形物を焼結する工程。
【請求項６】
請求項４および５のいずれか一項に記載の方法により得られることを特徴とする半導体材料。
【請求項７】
請求項１〜３または６のいずれか一項に記載の半導体材料を含むことを特徴とする熱電発電器またはペルチェ装置。
【請求項８】
少なくとも一種の請求項７記載の熱電発電器またはペルチェ装置を含むことを特徴とする熱ポンプ、冷蔵庫、（洗濯物）乾燥機、熱源利用の発電器。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月4日(2009.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録媒体のユーザーデータ領域に割り当てられた記録範囲をクローズする方法であって、
前記記録媒体の記録媒体情報から記録媒体のタイプを確認するステップと、
前記記録媒体のタイプが、記録領域が未記録領域より高い反射率を有することを示す場合、前記記録範囲内の前記未記録領域を記録領域に変更するステップと
を有することを特徴とする方法。
【請求項２】
前記記録範囲が未記録領域を含まないことを示すインジケータを前記記録媒体の管理領域に記録するステップをさらに有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記記録媒体のタイプは、前記記録媒体情報内で定義されたプッシュプル（ｐｕｓｈ−ｐｕｌｌ）極性によって確認されることを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記記録媒体の前記プッシュプル極性はネガティブであり“１”に設定されていることを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記記録媒体のタイプは、前記記録媒体情報内で定義された記録マーク極性によって確認され、前記記録マーク極性は“１”に設定されていることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記記録媒体のタイプが、前記記録領域が前記未記録領域より低い反射率を有することを示す場合、前記記録範囲内の前記未記録領域を記録領域に選択的に変更することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項７】
記録媒体のユーザーデータ領域に割り当てられた記録範囲をクローズする装置であって、
前記記録媒体にデータを記録、又は前記記録媒体からデータを再生するように構成されたピックアップ部と、
前記記録媒体から記録媒体情報を再生し、記録媒体情報から記録媒体のタイプを確認し、前記記録媒体のタイプが、前記記録範囲内の記録領域が未記録領域より高い反射率を有することを示す場合、前記ピックアップ部を制御して前記未記録領域を記録領域に変更するように構成された制御部と
を備えることを特徴とする装置。
【請求項８】
前記制御部は、前記記録媒体の管理領域に、前記記録範囲は前記未記録領域を含まないことを示すインジケータを記録するように前記ピックアップ部を制御することを特徴とする請求項７に記載の装置。
【請求項９】
前記制御部は、前記記録媒体情報内で定義されたプッシュプル極性によって前記記録媒体のタイプを確認するように構成されていることを特徴とする請求項７又は８に記載の装置。
【請求項１０】
前記制御部は、前記記録媒体のプッシュプル極性が“１”に設定されているとき、前記記録領域が前記未記録領域より高い反射率を持つ記録媒体のタイプとして前記記録媒体を識別するように構成されていることを特徴とする請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
前記制御部は、前記記録媒体情報内で定義された記録マーク極性が“１”に設定されているとき、前記記録領域が前記未記録領域より高い反射率を持つ記録媒体のタイプとして前記記録媒体を識別するように構成されていることを特徴とする請求項７に記載の装置。
【請求項１２】
前記制御部は、前記記録領域が前記未記録領域より低い反射率を有することを前記記録媒体のタイプが示す場合、前記記録範囲内の前記未記録領域を記録領域に選択的に変更するように前記ピックアップ部を制御するように構成されていることを特徴とする請求項７に記載の装置。
【請求項１３】
前記記録媒体の記録領域が前記記録媒体の未記録領域より高い反射率を有するか否かを示す記録媒体タイプ情報を含む記録媒体情報と、
前記記録媒体の記録領域が前記記録媒体の未記録領域より高い反射率を有することを前記記録媒体タイプ情報が示す場合、前記記録範囲がクローズされたときに全ての未記録領域が記録領域に変更される記録範囲と
を備えることを特徴とする記録媒体。
【請求項１４】
前記記録範囲が未記録領域を含まないことを示すインジケータを格納する管理領域を備えることを特徴とする請求項１３に記載の記録媒体。
【請求項１５】
前記記録媒体タイプ情報は、前記記録媒体情報内で定義されたプッシュプル極性であることを特徴とする請求項１３又は１４に記載の記録媒体。
【請求項１６】
前記記録媒体の記録領域が前記記録媒体の前記未記録領域より高い反射率を有することを前記記録媒体タイプ情報が示す場合、前記記録媒体の前記プッシュプル極性は“１”に設定されることを特徴とする請求項１５に記載の記録媒体。
【請求項１７】
前記記録媒体タイプ情報は記録媒体情報に定義された記録マーク極性であり、
前記記録媒体の記録領域が前記記録媒体の前記未記録領域より高い反射率を有することを前記記録媒体タイプ情報が示す場合、前記記録マーク極性は“１”に設定されることを特徴とする請求項１３に記載の記録媒体。
【請求項１８】
前記記録領域が前記未記録領域より低い反射率を有することを前記記録媒体タイプ情報が示す場合、前記記録範囲は、前記記録範囲がクローズした後に未記録領域を含むことを特徴とする請求項１３に記載の記録媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月18日(2010.2.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
データベース内の事象の発生を検出するための、コンピュータによって実現される方法であって、
データベースの少なくとも一部のコピーを、事象の発生より前の点に復元するステップと、
前記データベースに対する変更を記述するやり直しログ記録を、前記データベースに対する前記変更をもたらすことが可能なデータベース操作を反映する命令文に翻訳するステップと、
前記命令文の実行に基づいて前記事象を検出するためのメカニズムを発生させるステップと、
前記メカニズムに、前記命令文を実行することによって前記事象を検出させるステップとを含む、方法。
【請求項２】
前記メカニズムはデータベーストリガを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記命令文はＳＱＬに準拠している、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
時間クエリ内に指定される時間にわたってデータベースオブジェクトにどの変更が加えられたかを確定することによって、前記時間クエリに応答するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記事象は時間クエリの開始事象である、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記命令文の実行に基づいて前記時間クエリの終了事象を検出するための第２のメカニズムを発生させるステップをさらに含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記時間クエリに基づいたベースクエリにアクセスするステップと、
前記開始事象を検出した後に、
前記第２のメカニズムに、前記命令文を実行することによって前記終了事象を検出させ、
前記第２のメカニズムが前記終了事象を検出するのに応答して、前記時間クエリに対する応答を計算するために前記ベースクエリを発行するステップとをさらに含み、前記ベースクエリの結果は、前記時間クエリに対する前記応答を与える、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記開始事象を検出した後に、
前記時間クエリに基づいてビューを活性化させ、
前記命令文のセットを実行し、前記命令文のセットは、前記開始事象の後に発生した前記データベースに対する前記変更をもたらすことが可能なデータベース操作を反映し、さらに、
前記命令文のセットが実行されると前記ビュー内のデータに対する変更を分析して、前記時間クエリに対する応答を確定し、
前記第２のメカニズムが前記終了事象を検出するのに応答して、前記時間クエリに対する前記応答を与えるステップをさらに含む、請求項６に記載の方法。
【請求項９】
データベース内の事象の発生を検出する、コンピュータによって実現される方法であって、
データベースの少なくとも一部のコピーを、時間クエリの開始事象の発生より前の点に復元するステップと、
前記データベースに対する変更を記述するやり直しログ記録を、前記データベースに対する前記変更をもたらすことが可能なデータベース操作を反映する命令文に翻訳するステップと、
前記命令文の実行に基づいて前記開始事象を検出するための第１のデータベーストリガを発生させるステップと、
前記第１のデータベーストリガに、前記命令文を実行することによって前記開始事象を検出させるステップとを含む、方法。
【請求項１０】
前記時間クエリに応答するためのメカニズムを発生させるステップをさらに含み、
前記メカニズムは、前記開始事象で始まる時間範囲にわたってデータベースオブジェクトに加えられた変更を確定する、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記時間クエリに応答するための前記メカニズムは、ビューを含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記ビューは、具体化されたビューである、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記ビュー内の現在のデータを前記ビュー内の以前のデータと比較して、前記データベースオブジェクトに加えられた変更を確定するステップをさらに含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
前記第１のデータベーストリガは、前記時間クエリに応答するための前記メカニズムを活性化する、請求項１０に記載の方法。
【請求項１５】
前記命令文の実行に基づいて前記時間クエリの終了事象を検出するための第２のデータベーストリガを発生させるステップをさらに含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１６】
前記時間クエリに基づいたベースクエリにアクセスするステップと、
前記第１のデータベーストリガが前記開始事象を検出した後に、
前記第２のデータベーストリガに、前記命令文を実行することによって前記終了事象を検出させ、
前記第２のデータベーストリガが前記終了事象を検出するのに応答して、前記時間クエリに対する応答を確定するために前記ベースクエリを発行するステップとをさらに含み、前記ベースクエリの結果は、前記時間クエリに対する前記応答を与える、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記時間クエリに対する応答を確定するために前記ベースクエリを発行するための条件として、前記開始事象と前記終了事象との間に前記データベースオブジェクトに対する更新または削除がないことを確定するステップをさらに含む、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記時間クエリに対する応答を確定するために前記ベースクエリを発行するための条件として、前記ベースクエリが単調であることを確定するステップをさらに含む、請求項１６に記載の方法。
【請求項１９】
前記開始事象を検出した後に、
前記時間クエリに基づいてビューを活性化させ、
前記命令文のセットを実行し、前記命令文のセットは、前記開始事象の後に発生した前記データベースに対する前記変更をもたらすことが可能なデータベース操作を反映し、さらに、
前記命令文のセットが実行されると前記ビュー内のデータに対する変更を分析して、
前記時間クエリに対する応答を確定し、
第２のデータベーストリガが終了事象を検出するのに応答して、前記時間クエリに対する前記応答を与えるステップをさらに含む、請求項１６に記載の方法。
【請求項２０】
１つ以上のプロセッサによって実行されると請求項１から１９のいずれか１つに記載の方法の実行をもたらす命令を搬送する、機械読取可能媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月1日(2009.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ビデオストリームデータを階層形式によってグラフィカル利用者インターフェースにおいて処理するシステムであって、
前記階層形式は：
ビデオストリームの連続する部分を表現する少なくとも一つのセグメント縮小画像；
各セグメント内のシーンを表現する少なくとも一つのシーン縮小画像；
シーン内のフレームを表現する少なくとも一つのフレーム縮小画像；及び
少なくとも一つのセグメント縮小画像、少なくとも一つのシーン縮小画像及び少なくとも一つのフレーム縮小画像を表示する対話型利用者インターフェース；
を有し；
各セグメントは少なくとも一つのシーンを有し、
各シーンは少なくとも一つのフレームを有し、
少なくとも一つのセグメントは、使用中のセグメントとして指定され、表示されるシーンは該使用中のセグメントの部分であり、
一つのシーンが使用中のシーンとして指定され、表示されるフレームは該使用中のシーンの部分である；
ことを特徴とするシステム。
【請求項２】
前記使用中のセグメントを選択するために、前記少なくとも一つのセグメント縮小画像は選択可能であり、
セグメント縮小画像の選択により、利用者に使用中のセグメントの少なくとも一つのシーンを閲覧することを可能にする、
ことを特徴とする請求項１のシステム。
【請求項３】
前記使用中のセグメントを示す視覚要素、
を更に有する請求項２のシステム。
【請求項４】
前記使用中のシーンを選択し、利用者に該使用中のシーンの少なくとも一つのフレームを閲覧することを可能にするために、前記少なくとも一つのシーン縮小画像は利用者が選択可能である、
ことを特徴とする請求項１のシステム。
【請求項５】
前記使用中のシーンを示す視覚要素、
を更に有する請求項４のシステム。
【請求項６】
少なくとも一つの度数分布図、
を更に有し、
各度数分布図は各表示されるフレーム縮小画像と関連し、
各度数分布図は該関連するフレームの少なくとも一つの特性を示す、
ことを特徴とする請求項１のシステム。
【請求項７】
利用者に前記ビデオストリームの少なくとも一つのシーンを符号化させる少なくとも一つのボタン、
を更に有する請求項１のシステム。
【請求項８】
前記縮小画像は前記の符号化されたビデオストリームを表示し、
前記システムは前記ビデオストリームの少なくとも一つのシーンを再符号化する少なくとも一つのボタンを更に有する、
ことを特徴とする請求項７のシステム。
【請求項９】
シーンの印を表現する視覚要素を更に含み、
該シーンの印は、シーンに含まれる前記フレームを決定するために、利用者が選択可能である、
ことを特徴とする請求項１のシステム。
【請求項１０】
少なくとも一つのシーンをそれぞれ有する少なくとも一つの分類、
を更に有し、
前記分類に含まれる前記シーンは利用者が選択可能である、
ことを特徴とする請求項１のシステム。
【請求項１１】
前記少なくとも一つの分類は前記利用者の選択で符号化され、
選択された分類に含まれるシーンは個別に符号化される、
ことを特徴とする請求項１０のシステム。
【請求項１２】
時間線、
を更に有し、
前記使用中のセグメントは前記時間線を用いて選択され、
前記使用中のシーンは前記時間線を用いて選択可能である、
ことを特徴とする請求項１のシステム。
【請求項１３】
ビデオストリームデータを階層形式によってグラフィカル利用者インターフェースにおいて処理するシステムであって、
前記階層形式は：
関連する情報帯を有し、使用中にするために利用者が選択可能な、ビデオストリームからの複数のシーンを表現する少なくとも一つのクラス縮小画像；
各シーンは少なくとも一つのフレーム及び関連する情報帯を備え且つ使用中にするために利用者が選択可能であり、使用中のクラスに含まれクラス内のシーンを表現する少なくとも一つのシーン縮小画像；
各フレーム縮小画像はシーン内のフレームを表現し且つ関連する情報帯及び関連するフレーム情報の印を備え、使用中のシーンに含まれる少なくとも一つのフレーム縮小画像；
利用者に前記ビデオストリームの少なくとも一部分を符号化させる少なくとも一つの符号化ボタン；及び
少なくとも一つのクラス縮小画像、少なくとも一つのシーン縮小画像、少なくとも一つのフレーム縮小画像及び少なくとも一つの符号化ボタンを表示する対話型利用者インターフェース；
を有し、
セグメントが使用中のセグメントとして指定され、表示されるシーンは該使用中のセグメントに含まれ、
一つのシーンが使用中のシーンとして指定され、表示されるフレームは該使用中のシーンに含まれる；
ことを特徴とするシステム。
【請求項１４】
前記情報帯は前記関連する縮小画像のフレーム番号及びフレーム時間を表示する、
ことを特徴とする請求項１３のシステム。
【請求項１５】
クラスに関連する各情報帯は、該関連するクラスに関するクラス情報を表示する、
ことを特徴とする請求項１３のシステム。
【請求項１６】
ビデオストリームデータを階層形式によってグラフィカル利用者インターフェースにおいて処理する方法であって：
少なくとも一つのフレームをそれぞれ有するシーンを表現する少なくとも一つのシーン縮小画像を表示する工程；
シーン内のフレームをそれぞれ表現する少なくとも一つのフレーム縮小画像を表示する工程；
少なくとも一つのシーンをそれぞれ有する少なくとも一つの分類を表示する工程；
対話型利用者インターフェース、少なくとも一つのシーン縮小画像及び少なくとも一つのフレーム縮小画像を表示し、一つのシーンは使用中のシーンとして指定され、表示されるフレームは該使用中のシーンの部分である、工程；及び
前記利用者に少なくとも一つのシーンを符号化することを可能にする少なくとも一つのボタンを表示する工程；
を有する方法。
【請求項１７】
連続するデジタル画像のセグメントを表現する少なくとも一つのセグメント縮小画像を表示する工程；
を更に有し、
前記セグメントは少なくとも一つのシーンを有し、
表示される各シーンはセグメントの部分である、
ことを特徴とする請求項１６の方法。
【請求項１８】
ビデオストリームデータを取り込む工程；
各セグメントの先頭と末尾とを自動的に決定する工程；及び
各シーンの先頭と末尾とを自動的に決定する工程；
を更に有する請求項１７の方法。
【請求項１９】
ビデオストリームデータの少なくとも一部分の長さを表現する時間線を表示する工程；及び
前記時間線の時間を選択することにより、利用者に、表示される少なくとも一つのシーン縮小画像及び表示される少なくとも一つのフレーム縮小画像を決定可能にする工程；
を更に有する請求項１６の方法。
【請求項２０】
前記利用者に少なくとも一つの分類中の全てのシーンを符号化することを可能にする少なくとも一つのボタンを表示する工程；
を更に有する請求項１６の方法。
【請求項２１】
各シーンの先頭と末尾を手動で編集する工程；
を更に有する請求項１６の方法。