【手続補正書】
【提出日】平成22年3月8日(2010.3.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ある基板の第１部分を保持すると同時に前記基板の第２部分を湾曲させるためのチャック・システムであって、
第１および第２の対向するサイドを有するチャック本体と、
第１と第２の流体チャンバと流体連通している圧力制御システムと、
を備え、
前記第１のサイドは縦列と横列に配置された前記流体チャンバのアレイを有し、前記流体チャンバのアレイは前記基板の第１部分に重なる前記第１の流体チャンバと、前記基板の第２部分と重なる前記第２の流体チャンバを有し、それぞれの流体チャンバは、間隔をおいて配置される第１と第２の支持区域を定めるための、間隔を置いて配置された第１と第２の凹溝を有し、前記第１の支持区域は前記第２の支持区域と前記第１と第２の凹溝を取り囲み、前記第２の支持区域は前記第２の凹溝を取り囲み、前記基板は前記第１と第２の支持区域に支えら、これらの構成により、前記第１の凹溝とそれに重なる前記基板の一部分が第１のチャンバを決定し、第２の凹溝とそれに重なる前記基板の一部分が第２のチャンバを決定し、それぞれの前記第１のチャンバと、それぞれの前記第２のチャンバは異なる流体ソースに流体連通して前記流体チャンバのアレイの流れを制御し、前記第１の流体チャンバの前記第１のチャンバは真空状態にあり、前記第１の流体チャンバの前記第２のチャンバおよび前記第２の流体チャンバの前記第１と第２のチャンバは異なる圧力下にあることを特徴とするシステム。
【請求項２】
前記流体チャンバの縦列にあるそれぞれの第１のチャンバは共通の流体ソースと流体連通していることを特徴とする請求項１記載のチャック・システム。
【請求項３】
前記流体チャンバの横列にあるそれぞれの第２のチャンバは共通の流体ソースと流体連通していることを特徴とする請求項１記載のチャック・システム。
【請求項４】
前記流体チャンバの縦列にあるそれぞれの第１のチャンバは第１の共通の流体ソースと流体連通し、前記流体チャンバの横列にあるそれぞれの第２のチャンバは前記第１の共通の流体ソースとは異なる第２の共通の流体ソースと流体連通していることを特徴とする請求項１記載のチャック・システム。
【請求項５】
複数の流体チャンバの前記アレイの流体チャンバは、前記複数の流体チャンバの他の流体チャンバとは区別して封止されることを特徴とする請求項１記載のチャック・システム。
【請求項６】
複数の通路を備え、前記第１のチャンバの各縦列と前記第２のチャンバの各横列は異なる通路に結合され、前記第１と第２のチャンバは前記異なる流体ソースに流体連通するように配置されることを特徴とするチャック・システム。
【請求項７】
ある基板の第１部分を保持すると同時に前記基板の第２部分を湾曲するためのチャック・システムであって、
第１および第２の対向するサイドを有するチャック本体と、
第１と第２の流体チャンバと流体連通している圧力制御システムと、
を備え、
前記第１のサイドは前記第１の流体チャンバと前記第２の流体チャンバを含む流体チャンバのアレイを有し、それぞれの流体チャンバは、間隔をおいて配置される第１と第２の支持区域を定めるための、間隔を置いて配置された第１と第２の凹溝を有し、前記第１の支持区域は前記第２の支持区域と前記第１と第２の凹溝を取り囲み、前記第２の支持区域は前記第２の凹溝を取り囲み、前記基板は前記第１および第２の支持区域に支えられ、これらの構成により、前記第１の凹溝とそれに重なる前記基板の一部分が第１のチャンバを決定し、第２の凹溝とそれに重なる前記基板の一部分が第２のチャンバを決定し、
前記圧力制御システムは、前記第１の流体チャンバと前記第２の流体チャンバの前記第１と第２のチャンバのそれぞれに流体連通することで、前記第１の流体チャンバの前記第１と第２のチャンバは正の圧力を有し、前記第２の流体チャンバの前記第１と第２のチャンバが負の圧力を有するように前記第１および第２のチャンバ内の圧力を制御し、前記第１の流体チャンバが前記流体チャンバと重なる前記基板の一部に対して負の力を掛けるように前記第１及び第２の凹溝の間の面積の比率が決定され、前記第１の流体チャンバの前記第１と第２のチャンバ内には正の圧力、および前記第２の流体チャンバの前記第１と第２のチャンバ内には負の圧力が与えられることを特徴とするチャック・システム。
【請求項８】
縦列と横列に配置された複数の流体チャンバをさらに含むことを特徴とする請求項７記載のチャック・システム。
【請求項９】
前記第１の流体チャンバの前記第１および第２チャンバのそれぞれを、前記圧力制御システムと流体連通させるための第１および第２通路をさらに含むことを特徴とする請求項７記載のチャック・システム。
【請求項１０】
前記圧力制御システムは流体の複数のソースを備え、前記第１チャンバの各縦列及び前記第２チャンバの各横列は流体の前記複数の流体ソースの中の異なるソースと流体連通することによって流体チャンバの前記アレイにおける流体の流れを制御することを特徴とする前記請求項８記載のチャック・システム。
【請求項１１】
前記流体チャンバの縦列のそれぞれの第１チャンバは、共通の流体ソースと流体連通することを特徴とする請求項１０記載のチャック・システム。
【請求項１２】
前記流体チャンバの横列のそれぞれの第２チャンバは、共通の流体ソースと流体連通することを特徴とする請求項１０記載のチャック・システム。
【請求項１３】
前記流体チャンバの縦列にある各第１チャンバは第１の共通の流体ソースと流体連通し、前記流体チャンバの横列にある各第２チャンバは前記第１の共通流体ソースと異なる第２の共通の流体ソースと流体連通することを特徴とする請求項１０記載のチャック・システム。
【請求項１４】
流体チャンバの前記アレイのある流体チャンバは、流体チャンバの前記アレイの他の流体チャンバと切り離されて封止されることを特徴とする請求項１０に記載のチャック・システム。
【請求項１５】
複数の通路をさらに有し、前記第１チャンバの各縦列および前記第２チャンバの各横列のは異なる通路に接続され、前記第１及び第２チャンバは前記異なる流体ソースと流体連通するように配置されることを特徴とする請求項１０に記載のチャック・システム。
【請求項１６】
ある基板の第１部分を保持すると同時に前記基板の第２部分を湾曲するためのチャック・システムであって、
第１および第２の対向するサイドを有するチャック本体と、
複数の流体ソースを有する圧力制御システムと、
を備え、
前記第１のサイドは横列および縦列に配置され、且つ第１の流体チャンバと第２の流体チャンバを含んだ流体チャンバのアレイを有し、前記第１及び第２の流体チャンバのそれぞれは、間隔をおいて配置される第１と第２の支持区域を定めるための、間隔を置いて配置された第１と第２の凹溝を有し、前記第１の支持区域は前記第２の支持区域と前記第１と第２の凹溝を取り囲み、前記第２の支持区域は前記第２の凹溝を取り囲み、前記基板は前記第１および第２の支持区域に支えられ、これらの構成により、前記第１の凹溝とそれに重なる前記基板の一部分が第１のチャンバを決定し、第２の凹溝とそれに重なる前記基板の一部分が第２のチャンバを決定し、
前記圧力制御システムは、前記複数の流体ソースとは異なる流体ソースと流体連通する前記第１の各縦列と前記第２チャンバの横列を備え、これらの構成により、前記第１の流体チャンバの前記第１および第２チャンバが正の圧力を有し、前記第２の流体チャンバの前記第１および第２チャンバが負の圧力を有するように前記第１および第２チャンバ内の圧力を制御し、前記第１の流体チャンバが前記流体チャンバと重なる前記基板の一部に対して負の力を掛けるように前記第１及び第２の凹溝の間の面積の比率が決定され、前記第１の流体チャンバの前記第１と第２のチャンバ内には正の圧力、および前記第２の流体チャンバの前記第１と第２のチャンバ内には負の圧力が与えられることを特徴とするチャック・システム。
【請求項１７】
前記流体チャンバの縦列にあるそれぞれの第１のチャンバは共通の流体ソースと流体連通していることを特徴とする請求項１６記載のチャック・システム。
【請求項１８】
前記流体チャンバの横列にあるそれぞれの第２のチャンバは共通の流体ソースと流体連通することを特徴とする請求項１６記載のチャック・システム。
【請求項１９】
前記流体チャンバの縦列にあるそれぞれの第１のチャンバは第１の共通流体ソースと流体連通し、前記流体チャンバの横列にあるそれぞれの第２のチャンバは前記第１の共通流体ソースとは異なる第２の共通流体ソースを流体連通することを特徴とする請求項１６記載のチャック・システム。
【請求項２０】
複数の通路をさらに有し、前記第１チャンバの各縦列および前記第２チャンバの各横列は異なる通路に接続され、前記第１及び第２チャンバは前記異なる流体ソースと流体連通するように配置されることを特徴とする請求項１０に記載のチャック・システム。