(57)【要約】  プロセス圧力を測定するための送信器（１１）は、圧力センサ（２７）と、入力温度信号を提供する温度センサ（２８）とを含む。第１の遠隔感圧ダイヤフラム（１８）は、充填流体温度の関数としての密度を有する充填流体で充填された第１のキャピラリ管（２２）によって送信器（１１）に連結される。入力回路（５４）は、少なくとも圧力センサに動作可能に接続され、少なくともプロセス圧力を近似的に表す中間圧力信号を提供する。補正回路（５８）は、温度センサ及び入力回路に結合される。補正回路（５８）は温度の関数として充填流体密度を補償することによって中間圧力信号を処理し、プロセス圧力をより正確に表す補償出力を提供する。補正回路（５８）はさらに、第１のダイヤフラム（１８）に圧力が印加されていない間に行われる圧力測定に基づいて、初期高さ（Ｈ）決定を行う。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
プロセス圧力を測定するための送信器であって、
圧力センサと、
入力温度信号を提供する温度センサと、
温度の関数としての密度を有する充填流体で充填された第１のキャピラリ管によって前記送信器に結合された第１の遠隔感圧ダイヤフラムと、
少なくとも前記圧力センサに動作可能に接続され、前記プロセス圧力を少なくとも近似的に表す中間圧力信号を提供する入力回路と、
前記温度センサおよび前記入力回路に動作可能に結合された補正回路を含み、
前記補正回路は、補償関数および温度に基づいて前記充填流体の前記密度を補償することによって前記中間圧力信号を処理し、前記プロセス圧力をより厳密に表す補償出力を提供し、前記補正回路は、前記第１の遠隔感圧ダイヤフラムに圧力が印加されていない間に行われた圧力測定に基づいて、初期高さ決定をさらに実行する
送信器。
【請求項２】
前記遠隔感圧ダイヤフラムは垂直位置に配置され、
前記補正回路は
垂直位置を表す少なくとも１つの設備固有の補正係数を記憶するのに適したメモリと、
前記メモリに動作可能に結合されたプロセッサを含み、
前記プロセッサは前記補正係数にアクセスし、前記補正係数を前記入力温度信号に適用して、前記補償出力を得る請求項１に記載の送信器。
【請求項３】
前記補償出力は、前記送信器からデジタル出力されるように適合されている請求項１に記載の送信器。
【請求項４】
前記補正回路は、前記送信器の選択的設置のために構成することができる請求項１に記載の送信器。
【請求項５】
前記送信器は送信器筐体を有し、前記補正回路の補償機能は、前記送信器筐体に対する前記第１の遠隔感圧ダイヤフラムの高さに依存する請求項１に記載の送信器。
【請求項６】
前記送信器が第２の遠隔ダイヤフラムに、第２のキャピラリ管を介して、前記圧力センサを第２の遠隔ダイヤフラムに流体的に結合するのに適しており、前記補正回路の補正機能は、前記第２の遠隔ダイヤフラムの上昇に対する前記第１の遠隔感圧ダイヤフラムの上昇に依存している請求項１に記載の送信器。
【請求項７】
前記第１および第２のキャピラリ管は不平衡であり、前記補償関数は、スケーリング係数を含む請求項１に記載の送信器。
【請求項８】
前記初期高さ決定は、前記送信器の製造中に前記圧力センサを使用して測定された圧力にさらに基づいている請求項１に記載の送信器。
【請求項９】
前記初期高さ決定は、局所操作インターフェースに応答して前記補正回路によって実行される請求項１に記載の送信器。
【請求項１０】
前記局所操作インターフェースは、プロセス制御ループを介して前記送信器に接続された装置を備える請求項９に記載の送信器。
【請求項１１】
前記局所操作インターフェースは、無線接続を使用して前記送信器と通信する請求項１０に記載の送信器。
【請求項１２】
前記送信器が、前記局所操作インターフェースを含む、請求項９に記載の送信器。
【請求項１３】
遠隔地と通信するための通信回路を含み、前記初期高さ決定が、前記通信回路を通して受信した通信に応答して前記補正回路によって実行される請求項１に記載の送信器。
【請求項１４】
前記送信器を識別する際に使用するためのＲＦＩＤタグを含み、それによって、前記初期高さ決定が、前記識別された送信器に通信される請求項１３に記載の送信器。
【請求項１５】
前記初期高さの決定は、測定された前記温度における前記充填流体の比重の関数である請求項１に記載の送信器。
【請求項１６】
圧力センサと、充填流体で充填された第１のキャピラリ管によって圧力センサに結合された第１の遠隔感圧ダイヤフラムとを有する圧力送信器内の圧力測定値を補正する方法であって、前記第１の遠隔感圧ダイヤフラムは前記圧力送信器に対して移動可能であり、前記圧力送信器は圧力センサからの圧力信号および温度信号を受信し、前記圧力信号および温度信号の関数として送信器出力を提供する特性評価システムをも有し、
前記方法は、
圧力の測定を行い、
測定された前記圧力に基づいて前記第１の遠隔感圧ダイヤフラムの垂直位置を確認し、
前記垂直位置の関数として特性評価システムをプログラムし、
前記関数を用いて前記温度信号および前記垂直位置に基づいて測定圧力弁を補正することを含む、
方法。
【請求項１７】
前記圧力送信器が第２の遠隔ダイヤフラムに第２のキャピラリ管を介して圧力センサを第２の遠隔ダイヤフラムに流体的に結合し、前記垂直位置が第２の遠隔ダイヤフラムの上昇に対する前記第１の遠隔感圧ダイヤフラムの上昇に依存することを確認するのに適合された請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記第１および第２のキャピラリ管は不均衡であり、前記関数は、スケーリング係数をさらに含む請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記垂直位置を確定することは、前記圧力送信器の製造中に前記圧力センサを使用して測定された圧力にさらに基づいている請求項１６に記載の方法。
【請求項２０】
前記垂直位置の確認は、局所操作インターフェースに応答して実行される、請求項１６に記載の方法。
【請求項２１】
前記垂直位置を確認することは、測定された温度における前記充填流体の比重の関数である請求項１６に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プロセス媒体の圧力を測定するための遠隔ダイヤフラムを有する圧力送信器に関する。より詳細には、本発明は、遠隔ダイヤフラムによって引き起こされる測定誤差を補償するべく補正された送信器出力を提供することに関する。
【０００２】
差圧、ゲージ圧力およびプロセス温度のようなプロセス変数を感知する送信器は既知である。送信器は、通常、プロセス制御産業設備において、測定されるプロセス媒体の近傍に取り付けられる。送信器は、感知されたプロセス変数を表す出力を提供する。次いで、この出力は、２線式電流ループを介して、または無線で遠隔制御室に伝達される。
【０００３】
多くの場合、送信器は、圧力センサと、圧力センサに流体結合された１つまたは２つのダイヤフラムとを含む送信器ハウジングを有する。測定されるべきプロセス媒体はダイヤフラムに接触するように送信器ハウジングに配管され、ダイヤフラムはプロセス媒体圧力を圧力センサに伝達する。他の場合には、送信器システムがキャピラリ管によって送信器ハウジングから分離された遠隔ダイヤフラムを含み、この管は典型的には可撓性であり、１メートルの何分の１の長さまたは数十メートルもの長さを有することができる。プロセス媒体は遠隔ダイヤフラムに接触し、この遠隔ダイヤフラムは送信器ハウジング内に配置された圧力センサに、キャピラリ管を充填する実質的に非圧縮性の流体を介して、送信器ハウジング内に配置された圧力センサに、作用圧力を伝える。
【０００４】
１つ以上の遠隔ダイヤフラムを利用するこれらの後者の送信器は、本発明の主題である。既存の遠隔ダイヤフラムは、周囲の温度変化によって引き起こされる潜在的な誤差を受けやすい。プロセス媒体圧力が一定の場合、遠隔ダイヤフラム、および接続されたキャピラリ管への熱の影響により、送信器の出力は外部周囲温度によって変化する可能性がある。結果として生じる誤差は、送信器に対する遠隔ダイヤフラムの垂直位置に依存する。（または、２つの遠隔ダイヤフラム間の垂直距離）遠隔ダイヤフラムと送信器間の垂直距離が選択された設置に固有であるため、熱効果の事前決定は困難である。
【０００５】
公知の遠隔ダイヤフラム送信器は送信器ハウジング内に配置された温度センサを有し、このような温度センサの出力は、比較的正確な送信器出力を提供するために送信器回路によって使用され、種々の送信器構成要素の熱応答に対して補正される。いくつかの送信器は１９９６年９月６日に発行された「ＰＲＥＳＳＵＲＥ  ＴＲＡＮＳＭＩＴＴＥＲ  ＷＩＴＨ  ＲＥＭＯＴＥ  ＳＥＡＬ  ＤＩＡＰＨＲＡＧＭ  ＡＮＤ  ＣＯＲＲＥＣＴＩＯＮ  ＣＩＲＣＵＩＴ  ＴＨＥＲＥＦＯＲ」という名称の国際出願第ＰＣＴ／ＵＳ９５／０２０３７号に示されているように、遠隔ダイヤフラム間に正味の垂直方向の分離が存在する、設置固有の遠隔ダイヤフラムシステムの温度変化を補正する。（１９９９年１月２２日に発行された「ＤＩＡＰＨＲＡＧＭ  ＳＥＡＬ  ＴＹＰＥ  ＤＩＦＦＥＲＥＮＴＩＡＬ  ＰＲＥＳＳＵＲＥ  ＭＥＡＳＵＲＩＮＧ  ＤＥＶＩＣＥ」という名称のＪＰＨ１１１４４８３Ａも参照されたい）。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、このようなシステムは試運転が困難であり、工業施設における適切な設置のために複雑なステップを必要とし得る。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
プロセス圧力を測定するための送信器は、入力温度信号を提供する圧力センサおよび温度センサを含む。第１の遠隔感圧ダイヤフラムは、充填流体温度の関数としての密度を有する充填流体で充填された第１のキャピラリ管によって送信器に結合される。入力回路は、少なくとも圧力センサに動作可能に接続され、少なくともプロセス圧力を近似的に表す中間圧力信号を提供する。補正回路が温度センサと入力回路に結合されている。補正回路は温度の関数として充填流体密度を補償することによって中間圧力信号を処理し、プロセス圧力をより正確に表す補償出力を提供する。補正回路はさらに、第１のダイヤフラムに圧力が印加されていない間に行われる圧力測定に基づいて、初期高さ決定を行う。
【０００８】
この概要および要約書は、以下の「発明を実施するための形成」でさらに説明される概念の選択を簡略化された形成で紹介するために提供される。概要および要約書は、特許請求される主題の重要な特徴または本質的な特徴を識別することを意図するものではなく、特許請求される主題の範囲を決定する際の補助として使用されることを意図するものでもない。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】プロセス媒体のゲージ圧または絶対圧が測定される設備における遠隔ダイヤフラムシステムを有する送信器の概略立面図である。
【図２】温度変動による圧力測定値の変化を示すグラフである。
【図３】温度の関数としての充填流体密度効果のグラフである。
【図４】圧力および温度対時間のグラフである。
【図５】本発明の第１の実施形態を示す図１の送信器のより詳細な概略図である。
【図６】図１の送信器の別の概略立面図であるが、プロセス媒体の差圧が測定される設備において修正された遠隔ダイヤフラムシステムを有する。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
遠隔シールキャピラリ管システムは、プロセスおよび周囲温度による流体膨張から発生する誤差をうまく補償することができる。この誤差の例については図２を参照されたい。密度は周囲温度のあらゆる変化に伴って変化し、屋外に取り付けると、昼夜（ミクロ）と季節（マクロ）の両方の範囲で変化する可能性がある。
【００１１】
図１は、送信器ハウジング１４に接続された遠隔ダイヤフラムシステム１２を有する典型的な送信器１１の一例を示す。送信器１１はプロセス媒体（プロセス流体）１６の圧力を測定する。遠隔ダイヤフラムシステム１２は、プロセス媒体１６に接触する薄くて柔軟なダイヤフラム１８を含む。システム１２はまた、ダイヤフラム１８と共にキャビティ２０を画定するバックプレート１９を含む。キャピラリ管２２はキャビティ２０を送信器ハウジング１４内に配置された圧力センサ２７に結合し、そのような結合は、送信器ハウジングダイヤフラム２５と、ダイヤフラム２５をセンサ２７と接続する密封流体システムとを介してなされる。密封された流体システム、並びにキャビティ２０及びキャピラリ管２２は、プロセス圧力をセンサ２７に伝達するのに適した流体（図示せず）で満たされている。流体は、シリコーン油、グリセリンおよび水、プロピレングリコールおよび水、または好ましくは実質的に非圧縮性である任意の他の適切な流体を含み得る。
【００１２】
プロセス媒体１６からプロセス圧力が加えられると、ダイヤフラム１８は典型的に変位され、したがって、遠隔ダイヤフラムシステム１２からプレート１９内の通路を通り、管２２を通って圧力センサ２７に測定圧力を伝達する。静電容量に基づく圧力セルであり得る、圧力センサ２７に適用される結果として生じる圧力は、そのような静電容量を変化させる。また、センサ２７は、ひずみゲージ技術のような他の公知の感知原理に基づいて動作することができる。送信器ハウジング１４内の回路は静電容量を、例えば、プロセス圧力を示す線対３０（２線プロセス制御ループ）を介して線形４〜２０ｍＡ送信器出力信号に電子的に変換する。
【００１３】
一実施形態では、プロセス接続部と圧力センサとの間の垂直距離が計算される遠隔シールダイヤフラムシステムが提供される。次いで、算出された距離を使用して、温度変動によって引き起こされる圧力測定値の誤差を補正することができる。送信器ハウジング１４は、送信器ハウジングで局所的に温度を測定する温度センサ２８を含む。
【００１４】
送信器ハウジング１４は温度変動を測定し補償する回路（図１には示されていない）を含み、ワイヤ対３０を介して出力を提供する。温度は、温度センサ２８を使用して測定される。出力はデジタルでもアナログでもよい。１つの構成では、送信器１１が２線式プロセス制御ループ３０を介して受け取った電力で電力供給を完了する。別の例示的な構成では、接続部３０が遠隔位置へのＲＦ接続部を表す。そのようなＲＦ接続部は、ＷｉｒｅｌｅｓｓＨＡＲＴ（登録商標）などの業界標準の通信技術、またはメッシュネットワークを実装する技術を含む他の技術に従うことができる。そのような構成では、送信器１１がバッテリまたは電力接続、太陽電池構成などを含む、何らかの局所電力源を含むことができる。
【００１５】
図１はまた、例えば、米国ミネソタ州ＳｈａｋｏｐｅｅのＥｍｅｒｓｏｎ  Ａｕｔｏｍａｔｉｏｎ  Ｓｏｌｕｔｉｏｎｓから入手可能な４７５フィールドコミュニケータなどの手持ち式コミュニケータを備えることができる局所操作インターフェース３１を示す。そのようなコミュニケータ３１はプロセス制御ループ３０に結合することができ、以下でより詳細に説明するように、設置中に送信器１１をプロビジョニングする際に使用することができる。さらに、いくつかの構成では、手持ち式コミュニケータ３１がＷｉｒｅｌｅｓｓＨＡＲＴ（登録商標）、他の無線通信技術、Ｂｌｕｅｔｏｏｔｈ（登録商標）などを含むＲＦ通信技術、ならびにＵＳＢ接続を含む局所有線技術を使用して、プロセス変数送信器と通信することができる。
【００１６】
ダイヤフラム２５とダイヤフラム１８との間の垂直距離Ｈは、ダイヤフラム２５、１８間の充填流体のＨと温度（Ｔ）の両方の関数である充填流体密度効果誤差を導入する。送信器１１によって測定される圧力は、次式で表すことができる。
Ｍｅａｓｕｒｅｄ  Ｐｒｅｓｓｕｒｅ＝ＰＰＲＯＣＥＳＳ＋ＰＥＲＲＯＲ            （式１）
ここで、
ＰＥＲＲＯＲ＝Ｐ（Ｔ，Ｈ）−Ｆｉｌｌ  ｆｌｕｉｄ  ｄｅｎｓｉｔｙ  ｅｆｆｅｃｔ  （式２）
であり、
ＰＰＲＯＣＥＳＳ＝Ｔｒｕｅ  Ｐｒｏｃｅｓｓ  Ｐｒｅｓｓｕｒｅ            （式３）
である。
【００１７】
本発明によれば、送信器出力は、少なくとも充填流体密度効果誤差について補正される。本発明は、１）プロセス接続間の垂直距離を計算すること、および２）垂直に取り付けられた遠隔シールキャピラリ管システムにおける周囲温度の変化中の充填流体密度の変化を補償するためにその値を使用することの両方を行う計算方法を含む。
【００１８】
周囲温度は日々および季節ごとに変動し、プロセス圧力の読み取り値およびその後のプロセスおよび装置に影響を及ぼす。このような誤差を図２のグラフに示す。この補償方法はこの影響による圧力誤差を計算し、初期のセンサー読値からそれを差し引く。これにより、季節的および日々の気温の変化に左右されない、より正確な測定値がユーザに提供される。
【００１９】
充填液密度演出誤差ＰＥｒｒｏｒ（Ｔ，Ｈ）を図３に示す。送信器を設置した後、所与の温度での最初の圧力誤差ＰＥｒｒｏｒを無効にし、それによって送信器１１を較正または再ゼロ化することによって高さＨを定義することが知られている。ただし、最後の較正時の温度に対する温度の変化は、充填液の密度を変更することによって、圧力測定にその後の変動を生成する。「ヘッド温度効果」とも呼ばれるこの「充填流体密度効果」は、距離Ｈ、充填流体の密度、充填流体の膨張係数、および温度の変化に依存する。
【００２０】
充填流体密度効果は、以下のように表すことができる。
ＰＥＲＲＯＲ＝（Ｈ）（ＳＧ）（Ｃ）ΔＴ                （式４）
ここで、Ｈは図１に示す間隔であり、ＳＧはキャピラリ管２２内の充填流体の比重であり、Ｃは充填流体の熱膨張率であり、ΔＴは送信器１１の最後の較正における充填流体の温度に対する充填流体の温度の差異を表す。
【００２１】
式４に示され、図３にグラフで示されるように、充填液濃度影響ＰＥｒｒｏｒは、気温の変化に比例する。図３のグラフの傾きは、次式で与えられる。
Ｓｌｏｐｅ＝（Ｈ）（ＳＧ）（Ｃ）                  （式５）
【００２２】
従って、ＴＯが送信器１１の最後の較正における充填流体の温度である場合、任意の所与の温度Ｔに対する充填流体密度の影響は以下である。
ＰＥＲＲＯＲ＝Ｓｌｏｐｅ（Ｔ−Ｔ０）                    （式６）
【００２３】
上述のように、遠隔シールキャピラリ管システムは、プロセスおよび周囲温度による流体膨張から生じる誤差を首尾よく補償することができる。しかしながら、それらは、システムが特定の設備のために設計され、構成されることを必要とする。この種の補償を実行する現在の技術では、差圧システムにおいて、圧力送信器の高圧側と低圧側の両方で、同じキャピラリ管構造、長さ、およびシールタイプ／サイズでシステムをバランスさせる必要があり得る。この技術により、単一遠隔マウントシール取付けでの密度誤差補償も可能になる。現在のテクノロジーは、圧力送信器内部の温度センサに依存することが多く、これは補償の精度を制限する。
【００２４】
システムを較正するために、送信器は初期圧力の読み取り値（つまり、垂直キャピラリ管内部の充填液により生成されるヘッド圧力）と周囲温度の読み取り値を収集して、プロセス接続間の垂直距離を計算する。この計算は、インストール時にゼロ調整機能の一部として自動的に実行することができる。自動特性評価プロセスでは、変換器１１が工業プロセスに設置された後、初期圧力読み取り値が得られる。この初期圧力の読み取り値は本質的に、キャピラリ管２２の内側の充填流体からのヘッド圧力である。この読み取り値は、図１に示すダイヤフラム１８に圧力を加えることなく得られる。さらに、温度センサ２８を使用して温度読み取り値が得られる。この場合、計算は例えば、インストール時のゼロ調整機能の一部として、自動的に実行することができる。例示的な計算は、以下の式７により与えられる。
【数１】
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式（７）において、Ｐｉｎｓｔａｌｌは設備で得られる圧力であり、Ｐｆａｃｔｏｒｙは製作中に得られる高さゼロでの圧力測定値であり、ＳＧは測定された温度での充填液の比重である。次いで、高さ値は垂直に取り付けられたキャピラリ管システム内の流体充填密度変化から発生する誤差を補償するために、外部の高速応答温度センサからのいくつかの反復において、リアルタイムの周囲温度読み取り値と関連して、動作中に使用することができる。
【００２５】
別の実施形態では、特徴付けプロセスを局所操作インターフェースによって開始することができる。例えば、図１は、２つのワイヤプロセス制御ループ３０に結合された手持ち式較正ユニット３１を示す。これは、図５に関連して後述する計算（補正）回路５８に較正コマンドを送るために使用することができる。局所操作インターフェースの別の例が、図５の要素６６として示されている。図５の構成では、局所操作インターフェース６６が例えば、送信器ハウジング１４のディスプレイ上のタッチセンシティブ・ボタン、又は外部で作動されるボタンを備えることができる。例えば、磁石を送信器１４の領域に近づけて内部スイッチを近づけ、それによって上述したように高さＨの決定を開始させることができる。別の構成例では、ＲＦＩＤタグを使用することができる。このような構成では、オペレータが送信器に含まれるＲＦＩＤ回路を使用して、特定の送信器のタグを検索することができる。このような構成では、図５に示す要素６６がＲＦＩＤ回路を備えることができる。ＲＦＩＤタグ情報を取得した後、オペレータはその情報を、例えば、制御室３２に含まれる制御機器にダウンロードすることができる。次いで、制御装置を使用して、特定の送信器にコマンドを送信し、次いで、特定の送信器がコミッショニングプロセスを開始することができる。
【００２６】
図４に示す実験データでは、下側の点線は周囲温度、下側の実線は元の圧力の読み値、上側の線は補償された圧力の読み値である。元圧の読み取り値は、周囲温度のトレンドに密接に追従することに注意する。
【００２７】
式８は、補償された圧力値Ｐ＿ｃｏｒｒｅｃｔｅｄがどのように計算されるかを詳述する。
【数２】
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【００２８】
式８において、Ｐ０  は元の圧力の読み取り値であり、ｈはユーザがゼロ調整機能を実行したときに自動的に計算される処理接続部（または処理接続部と送信器分離ダイヤフラム）間の垂直距離であり、ＳＧは遠隔シール充填流体の比重（製造中に固定される）であり、βは遠隔シール充填流体の熱膨張（製造施設で固定されるか、またはローカルオペレータインターフェースを使用して入力される）であり、Ｔは現在の周囲温度であり、ＴＬＺＡはユニットが工場で較正された温度、例えば、２５℃である。
【００２９】
一実施形態では、図５に示すように、送信器ハウジング１４がセンサモジュール５０と電子回路モジュール５２との間で機能的に分割される。センサモジュール５０は、プロセス変数の測定および補償に関連するタスクを実行する。電子モジュール５２は、必要な計算、データロギングおよび出力制御機能を実行する。静電容量センサ２７は静電容量信号を「圧力カウント」、すなわち「ｐｃｏｕｎｔｓ」と呼ばれる中間値に変換する静電容量−デジタル応用特定集積回路（ＡＳＩＣ）５４に供給される。温度センサ２８は温度信号が「ｔｃｏｕｎｔｓ」と呼ばれる中間値に変換されるＲｅｓｉｓｔａｎｃｅ−ｔｏ−Ｄｉｇｉｔａｌ  ＡＳＩＣ  ５６に送信器筐体内の温度を表す信号を供給する。Ｐｃｏｕｎｔｓおよびｔｃｏｕｎｔｓは計算回路５８が充填流体密度効果を補償し、プロセス圧力を表す補正された信号を提供する電子回路モジュール５２に提供される。回路２５は例えば、マイクロプロセッサを含むことができる。マイクロプロセッサ５８は、メモリ７０に記憶された命令に従って動作することができる。補正された信号は、典型的には回路６０でさらに処理され、回路６２および６４で、それぞれ、送信器ハウジング１４からの出力に適したデジタルおよびアナログ信号に変換される。センサ２８は図１に示すように送信器ハウジング１４内に配置することができ、又は管２２に沿って接続して、より正確な温度測定を行うことができる。
【００３０】
上述したように、充填流体密度からの熱効果は、各設置に特有であり得る遠隔ダイヤフラムシステム１２の垂直位置に依存する。本発明によれば、特性情報をメモリ７０に記憶することができる。
【００３１】
図６は、２つの遠隔ダイヤフラムシステム１２、１２Ｂに接続され、プロセス媒体１６の差圧を測定するのに適した送信器ハウジング１４を示す。キャピラリ管２２Ａ、２２Ｂは、それぞれの遠隔ダイヤフラムを送信器ハウジング１４のダイヤフラム２５に接続する。遠隔ダイヤフラム１２Ａおよび１２Ｂの両方の特性、およびキャピラリ管２２Ａ、２２Ｂ内の充填液の種類および体積、ならびに高さＨ１およびＨ２は、設備固有の係数の算出に考慮される。キャピラリ管１２Ａ、１２Ｂが実質的に同一であり、同じ種類の充填流体で充填されている場合、高さ差分Ｈ１−Ｈ２を使用して、正味の充填流体濃度影響を計算することができる。
【００３２】
この種の補償を実行する現在の技術では通常、システムは圧力送信器の高圧側と低圧側の両方で、同じキャピラリ管構造、長さ、およびシールの種類／サイズとバランスを保つ必要がある。対照的に、本発明では、スケーリング係数（拡大係数）を既知のシステム構成に基づいて計算することができ、スケーリング係数を用いて同じ基本計算を用いて不平衡システムを補償することを可能にする。一例として、密着シールと、異なる高さにキャピラリ管が取り付けられた遠隔マウントシールとから成る同調システムは密着シールのはるかに低い温度効果のために、減少した補償計算を必要し得る。補償効果は以前の方程式によって依然として自動的に計算され得るが、スケーリング係数を工場から適用して、モデル構成または試験によって決定される効果を低減することができる。ベータ、充填液特有の成長および熱伸張係数、高さｈ、圧力ＰＯ、ＰｆａｃｔｏｒｙおよびＰｉｎｓｔａｌｌ、温度ＴおよびＴＬＺＡなどの他の情報は回路５８によって使用されるために、メモリ７０に記憶することができる。メモリ７０および回路５８は、補正回路の一例を提供する。
【００３３】
本発明は好ましい実施形態に関して説明されているが、当業者であれば、様々な変更が本発明の精神および範囲から逸脱することなく形状および細部になされてもよいことは認識できる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【国際調査報告】
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