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【手続補正書】
【提出日】平成22年10月21日(2010.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
廃棄物を長期貯蔵用の入れ物の中に封入する装置であって、
廃棄物を収容する第１の貯蔵容器と、
封入媒体を収容する第２の貯蔵容器と、
廃棄物を受け入れるよう結合されると共に前記第２の貯蔵容器に結合されていて、使用にあたり、前記廃棄物と前記封入媒体の混合物を生じさせる静止ベーンインライン型ミキサとを有し、
前記インライン型ミキサは、前記入れ物を充填するよう構成され、前記インライン型ミキサは、前記入れ物の内部に配置されるか又は前記容器の内面に取り付けられた使い捨てコンポーネントを有する、装置。
【請求項２】
前記第１の容器から廃棄物を受け入れ、脱水状態の廃棄物を出力するよう結合された脱水ユニットを更に有し、
前記インライン型ミキサは、前記脱水ユニットに結合されると共に前記第２の貯蔵容器に結合されていて、前記第２の貯蔵容器から封入媒体を受け取り、前記脱水状態の廃棄物と前記封入媒体の混合物を生じさせるようになっている、請求項１記載の装置。
【請求項３】
前記脱水ユニットは、脱水容器と、前記脱水容器内に所与の真空度をもたらすポンプとを有する、請求項２記載の装置。
【請求項４】
前記脱水ユニットは、前記廃棄物を濃縮して前記脱水状態の廃棄物の出力が約４０％ｖ／ｖであるように作動可能である、請求項２〜３のうちいずれか一に記載の装置。
【請求項５】
前記入れ物は、本体と、別個の蓋部材とを有し、前記蓋部材は、前記入れ物の前記本体に固定的に取り付けられるようになっており、前記インライン型ミキサは、前記蓋部材内に又は前記蓋部材上に設けられ、前記蓋部材が前記入れ物の前記本体に固定的に取り付けられると、前記インライン型ミキサは、前記入れ物の中に収納されるようになっている、請求項１〜４のうちいずれか一に記載の装置。
【請求項６】
前記入れ物は、本体と一体のコンポーネント及びこれと一体に形成され又は固定的に取り付けられた蓋部材から成る、請求項５記載の装置。
【請求項７】
廃棄物を長期貯蔵のために封入するシステムであって、
請求項１〜６のうちいずれか一に記載の装置と、
入れ物とを有し、前記入れ物は、（ｉ）本体及び別個の蓋部材、又は（ｉｉ）本体及び一体に形成され又は固定的に取り付けられた蓋部材を有する一体形コンポーネントから成る、システム。
【請求項８】
前記入れ物は、固体有害廃棄物を収容する、請求項７記載のシステム。
【請求項９】
請求項１〜６のうちいずれか一に記載の装置又は請求項７又は８記載のシステムと関連して用いられる入れ物であって、
（ｉ）本体及び別個の蓋部材、又は（ｉｉ）本体及び一体に形成され又は固定的に取り付けられた蓋部材を有する一体形コンポーネントから成り、前記入れ物は、前記インライン型ミキサを収納し又は前記インライン型ミキサは、前記入れ物の内面に取り付けられ、例えば、前記蓋部材の内面に取り付けられている、入れ物。
【請求項１０】
廃棄物を長期貯蔵のための入れ物内に封入する方法であって、
（ａ）廃棄物を収容する第１の貯蔵容器を用意するステップと、
（ｂ）封入媒体を収容する第２の貯蔵容器を用意するステップと、
（ｃ）廃棄物を受け入れるよう結合されると共に前記第２の貯蔵容器に結合されたインライン型ミキサを用意するステップと、
（ｆ）前記廃棄物と前記封入媒体を前記インライン型ミキサで混合するステップと、
（ｇ）前記入れ物に前記インライン型ミキサから出力された混合物を充填するステップとを有し、前記ステップ（ｃ）は、入れ物を用意するステップを含み、前記インライン型ミキサは、前記入れ物内に収納され又は前記入れ物の内面に取り付けられた使い捨てコンポーネントを有する、方法。
【請求項１１】
（ｄ）前記第１の容器に結合された脱水ユニットを用意するステップと、
（ｅ）前記第１の容器から受け取った前記廃棄物を脱水し、脱水状態の廃棄物を出力するステップとを更に有し、
前記インライン型ミキサは、前記脱水ユニットに結合されると共に前記第２の貯蔵容器に連結され、前記ステップ（ｆ）は、前記脱水状態の廃棄物と前記封入媒体の混合物を生じさせるステップを含む、請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
前記脱水ユニットは、脱水容器を有し、前記ステップ（ｅ）は、ポンプを用いて前記脱水容器内に所与の真空度をもたらすステップを含む、請求項１１記載の方法。
【請求項１３】
前記ステップ（ｅ）は、前記廃棄物を濃縮して前記脱水状態の廃棄物の出力が、約４０％ｖ／ｖの状態であるようにするステップを含む、請求項１１又は１２記載の方法。
【請求項１４】
前記入れ物は、本体及び別個の蓋部材を有し、前記ステップ（ｃ）は、前記蓋部材を前記入れ物の前記本体に固定的に取り付けるステップを含み、前記インライン型ミキサは、前記蓋部材の内部又は前記蓋部材上に設けられ、前記蓋部材が前記入れ物の前記本体に固定的に取り付けられると、前記インライン型ミキサは、前記入れ物内に収納されるようになっている、請求項１０〜１３のうちいずれか一に記載の方法。
【請求項１５】
前記入れ物は、本体と一体のコンポーネント及びこれと一体に形成され又は固定的に取り付けられた蓋部材から成る、請求項１０〜１３のうちいずれか一に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年10月8日(2010.10.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マルチモード識別タグであって、
ａ）アンテナと、
ｂ）前記アンテナに結合される電子商品監視（ＥＡＳ）機能ブロックと、
ｃ）前記ＥＡＳ機能ブロックと並列に前記アンテナに結合される１個以上のＲＦＩＤ機能ブロックと、
ｄ）（i）第１の所定のスレッショルドを下回るエネルギーを有する電界において実質的にディセーブル状態になり、（ii）前記電界のエネルギーが、前記第１のスレッショルド以上である第２の所定のスレッショルドを上回るときに、実質的にイネーブル状態になるように構成されている整流器と、
を備え、
前記タグが、（i）前記電界が前記第１の所定のスレッショルドを下回るエネルギーを有するときに高Ｑ状態を有し、（ii）前記電界が前記第２の所定のスレッショルドを上回るエネルギーを有するときに当該電界において低Ｑ状態を有する、マルチモード識別タグ。
【請求項２】
前記整流器が前記ＥＡＳ機能ブロックと並列に前記アンテナに結合される、請求項１記載のマルチモード識別タグ。
【請求項３】
前記整流器は、前記ＥＡＳ機能ブロックと並列に前記アンテナに結合されており、前記タグが前記高Ｑ状態にあるとき、前記整流器は実質的に非動作的またはディセーブル状態であり、前記タグが前記低Ｑ状態にあるとき、前記整流器は動作的またはイネーブル状態である、請求項１記載のマルチモード識別タグ。
【請求項４】
前記タグが前記高Ｑ状態にあるとき、前記ＲＦＩＤ機能ブロックは実質的に非動作的であるか、ディセーブル状態であるか、または、電源から電気的に切断されており、前記タグが前記低Ｑ状態にあるとき、前記ＲＦＩＤ機能ブロックは実質的に動作的であるか、イネーブル状態であるか、または、前記電源に電気的に接続されている、請求項１記載のマルチモード識別タグ。
【請求項５】
前記電界が前記第１の所定のスレッショルドを上回る電力を有するとき、十分な個数の前記ＲＦＩＤ機能ブロックが、前記タグの前記Ｑを前記低Ｑ状態へ下げるように、イネーブル状態であるか、または、前記電源に電気的に接続されている、請求項１記載のマルチモード識別タグ。
【請求項６】
前記電界の前記電力が前記第２の所定のスレッショルドを下回るとき、十分な個数の前記ＲＦＩＤ機能ブロックが、前記タグの前記Ｑを前記高Ｑ状態に維持するように、ディセーブル状態であるか、または、前記電源から電気的に切断されている、請求項５記載のマルチモード識別タグ。
【請求項７】
前記整流器が前記タグの前記Ｑを低下させるため有効な負荷を有する共振回路を有する、請求項１記載のマルチモード識別タグ。
【請求項８】
前記整流器が、前記アンテナから特性周波数を有する信号を受信し、上側電源および下
側電源を前記ＲＦＩＤ機能ブロックに供給する、請求項１記載のマルチモード識別タグ。
【請求項９】
前記ＲＦＩＤ機能ブロックが、前記アンテナから信号を受信し、前記信号に応答してク
ロック信号を残りのＲＦＩＤ機能ブロックに供給するように構成されている復調器または
クロック抽出器を備える、請求項１記載のマルチモード識別タグ。
【請求項１０】
前記ＥＡＳ機能ブックがコンデンサを備える、請求項１記載のマルチモード識別タグ。
【請求項１１】
前記アンテナがコイルおよび同調素子を備える、請求項１記載のマルチモード識別タグ。
【請求項１２】
識別タグを読み取る方法であって、
ａ）電界を前記タグに印加するステップであって、前記タグは、第１の所定のスレッショルドを下回るエネルギーを有する電界において高Ｑ状態を有し、前記第１のスレッショルド以上の第２の所定のスレッショルドを上回るエネルギーを有する電界において低Ｑ状態を有し、前記タグは、（i）前記電界のエネルギーが前記第１の所定のスレッショルドを下回るときに、実質的にディセーブル状態になり、（ii）前記電界のエネルギーが前記第２の所定のスレッショルドを上回るときに、実質的にイネーブル状態になるように構成されている整流器を備える、ステップと、
ｂ）前記電界のエネルギーが前記第１のスレッショルドを下回り、前記タグが前記高Ｑ状態であるとき、前記タグを検出するステップと、
ｃ）前記電界のエネルギーが前記第２のスレッショルドを上回り、前記タグが前記低Ｑ状態であるとき、前記タグからの識別信号を検出するステップと、
を備える方法。
【請求項１３】
前記タグは、前記タグが前記高Ｑ状態にあるとき、実質的に非動作的であるか、ディセーブル状態であるか、または、電源から電気的に切断されている１個以上のＲＦＩＤ機能ブロックを備え、前記ＲＦＩＤ機能ブロックは、前記タグが前記低Ｑ状態にあるとき、実質的に動作的であるか、イネーブル状態であるか、または、前記電源に電気的に接続されている、請求項１２記載の方法。
【請求項１４】
前記電界のエネルギーが前記第２の所定のスレッショルドを上回るとき、十分な個数の前記ＲＦＩＤ機能ブロックは、前記タグの前記Ｑを前記低Ｑ状態へ下げるように、イネーブル状態であるか、または、前記電源に電気的に接続されている、請求項１３記載の方法。
【請求項１５】
前記電界のエネルギーが前記第１の所定のスレッショルドを下回るとき、十分な個数の前記ＲＦＩＤ機能ブロックが、前記タグの前記Ｑを前記高Ｑ状態に維持するように、ディセーブル状態であるか、または、前記電源から電気的に切断されている、請求項１４記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年10月5日(2010.10.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コンピュータ上で実行されるソフトウェアによって実装され、複数の別個の部分を備える集合の三次元コンピュータモデルにおいて部分の幾何学的形態に追従するための方法であって、
前記コンピュータが、前記三次元コンピュータモデルをコンピュータスクリーン上に表示するステップと、
前記コンピュータが、前記コンピュータのインターフェースを介して、前記集合の複数の部分から前記部分の選択を受信するステップと、
前記選択によって選択された選択部分が追従されるのにともない、前記選択部分の表示を可能にするために、前記コンピュータが、前記三次元コンピュータモデルを処理して、前記選択部分の表示を妨げる他の部分であって、前記集合において前記選択部分とは異なる他の部分を同時に且つ自動的に取り除きつつ、幾何学的形態に沿って前記選択部分に追従するステップと
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記三次元コンピュータモデルを前記コンピュータスクリーン上で再配置して、先に表示されておらず且つ前記部分が追従される方向に位置づけられた前記三次元コンピュータモデルのさらなる一部分を表示して、前記幾何学的形態が前記方向にさらに追従されるステップをさらに含む請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記部分の選択は、前記三次元コンピュータモデルから前記選択部分の表示を妨げるすべての障害物を初めに自動的に取り除くことを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記選択を受信するステップは、カーソルを使用して前記部分を選択するステップを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記選択を受信するステップは、ディレクトリツリー構造から前記部分を選択するステップを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記選択を受信するステップは、前記部分を含むレイヤを除いた前記三次元コンピュータモデルの全レイヤに対してフィルタをかけて除去するステップを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記選択部分に追従する前記ステップは、ユーザによって選択された所定の速度で前記部分に自動的に追従するステップを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記選択部分に追従する前記ステップは、カーソルを使用して、三次元画像を表示する前記コンピュータスクリーン上で前記選択部分に追従するステップを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記部分はパラメトリック曲線モデルによって表され、且つ前記パラメトリック曲線モデルを表示する表示点は、前記パラメトリック曲線モデルの接線に対して法線方向の表示面内において提供されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
新たな接線が前記パラメトリック曲線モデルの前記幾何学的形態の変化の各々に対して形成されることを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記選択部分の選択された表面に対して法線方向の平面が算出される、且つ前記選択部分が前記三次元コンピュータモデル内で表示される表示の点が、前記法線方向の平面において定義されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記選択部分に追従する前記ステップは、前記選択部分に向かうカーソルの移動を抑制しつつ、前記選択部分に沿ってカーソルを移動させるステップを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記選択部分に向う前記カーソルの前記移動を抑制する際には、前記カーソルの前記移動の成分が前記選択部分の境界線内である限り、前記カーソルを制御する入力デバイスの移動によって前記カーソルの移動が生じることを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記選択部分は副部分の集合から成ることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
前記副部分の集合は併合操作を介して定義されることを特徴とする請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記副部分の集合は前記副部分の共通の特性に基づいていることを特徴とする請求項１４に記載の方法。
【請求項１７】
前記選択部分は単一の個別の部分から成ることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１８】
前記三次元コンピュータモデルは容積測定モデルを含み、前記選択部分はカーソルを使用して追従され、前記カーソルの移動は、スカラ場、ベクトル場、及びテンソル場の内の１つの値を使用して前記選択部分に制約されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１９】
オーディオ出力が前記選択部分に追従する前記ステップと関連付けられて使用されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項２０】
カーソルは前記選択部分に追従する際に使用され、且つ前記オーディオ出力は、前記カーソルが前記選択部分に追従する限り作成される連続音を含むことを特徴とする請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記選択部分に制約されたカーソルは前記部分に追従するのに使用され、前記オーディオ出力は、前記部分が追従されないことに関する指示を作成するのに使用されることを特徴とする請求項１９に記載の方法。
【請求項２２】
前記オーディオ出力は前記選択部分が追従されないときに生成された告知音を含むことを特徴とする請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
前記オーディオ出力は、前記選択部分に追従する前記ステップ中に遭遇された不調和に応じて生成された告知音を含むことを特徴とする請求項２１に記載の方法。
【請求項２４】
一連の点が前記選択部分の前記幾何学的形態を表す際に使用されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項２５】
ユーザに提示された前記三次元コンピュータモデルの表示の点の方向は、前記表示の方向に延びる線と前記幾何学的形態の接線との間において定義された角度が一定に保たれるように変化されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項２６】
前記幾何学的形態は前記選択部分の表面であり、且つ前記表示の方向に延びる線と前記表面の接線との間の角度が一定に保たれることを特徴とする請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
前記選択部分において連続性に変化があるときは、前記三次元コンピュータモデルは、前記連続性の変化に先立って、新たな方向に直ちに移行することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項２８】
前記連続性の変化が生ずると、告知が発せられることを特徴とする請求項２７に記載の方法。
【請求項２９】
前記三次元コンピュータモデルが表示される表示域内で移動するカーソルは、前記選択部分に追従する際に使用される、且つ前記カーソルが前記表示域の境界の点まで移動すると、前記表示域が移動されて、前記カーソルは前記選択部分に継続して追従することができることを特徴とする請求項２７に記載の方法。
【請求項３０】
前記選択部分に関してなされた計算に基づく情報が表示されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３１】
前記部分の表示を妨げる障害物は、前記選択部分の前に位置付けられることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３２】
除去された障害物は、前記コンピュータスクリーン上のゴースト画像として残ることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月27日(2010.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部に光をガイドするよう構成された光ガイドと、
前記光ガイドの上に複数の非平行なラインに配置され、不均一に変化するパターンの光を複数の光変調器に方向付けるよう構成された複数の照明素子と、
を有することを特徴とする光学装置。
【請求項２】
前記照明素子の少なくともいくつかは、少なくとも１つの他の照明素子に隣接して配置され、前記照明素子の少なくともいくつかは、前記少なくとも１つの他の照明素子から不均一なオフセットで配置されることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
第１のラインの照明素子は第２のラインの照明素子に対してある角度で配置されることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項４】
内部に光をガイドするよう構成された光ガイドと、
前記光ガイドの上に複数のラインに配置され、光を複数の光変調器に方向付けるよう構成された複数の照明素子であって、第１のラインの照明素子が第２のラインの照明素子に対してある角度で配置される複数の照明素子と、
を有することを特徴とする光学装置。
【請求項５】
内部に光をガイドするよう構成された光ガイドと、
前記光ガイドの上に複数の非平行なラインに配置され、光を複数の光変調器に方向付けるよう構成された複数の照明素子であって、可視のモアレパターンを作り出すことなく前記光変調器を照明するよう適合させられた複数の照明素子と、
を有することを特徴とする光学装置。
【請求項６】
光をガイドするための手段と、
不均一に変化するパターンの光によって複数の光変調器を照明するための手段であって、複数の非平行なラインに配置された複数の照明素子を有する照明するための手段と、
を有することを特徴とする光学装置。
【請求項７】
前記照明手段は光を反射するための手段を有することを特徴とする請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記照明素子のそれぞれは、基板に対する角度を規定する表面を有し、前記表面のそれぞれは、光を前記光変調手段に方向付けるよう構成されることを特徴とする請求項６に記載の装置。
【請求項９】
光ガイドを形成する段階と、
前記光ガイドの上に、複数の非平行なラインに、不均一に変化するパターンの光を光変調器のアレイに方向付けるよう構成された複数の照明素子を形成する段階と、
を有することを特徴とする照明器を作る方法。
【請求項１０】
前記照明素子の少なくともいくつかは、少なくとも１つの他の照明素子に隣接して配置され、前記照明素子の少なくともいくつかは、前記少なくとも１つの他の照明素子から不均一なオフセットで配置されることを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
第１のラインの照明素子は第２のラインの照明素子に対してある角度で配置されることを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
光によって複数の非平行なラインに配置された複数の照明素子を照明する段階と、
不均一に変化するパターンの光を前記照明素子から複数の光変調器に方向付ける段階と、
を有することを特徴とする方法。
【請求項１３】
前記照明素子のそれぞれを照明する段階は、基板に対する角度を規定する少なくとも１つの表面を照明する段階を有し、前記表面のそれぞれは、光を前記光変調器に方向付けるよう構成されることを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記照明する段階は、不均一なパターンに配列される照明素子を照明する段階を有することを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
不均一に変化するパターンの光を変調する段階を、さらに有することを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月22日(2010.4.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
反射鏡（４）に挿入され、２つの互いに正反対に配置されたランプ軸部（８，１０）を持つランプ容器（６）を有する少なくとも１つのランプ（２）を備え、データプロジェクションまたはビデオプロジェクションのためのプロジェクタに用いられるランプモジュールにおいて、ランプ（２）から放出された放射を出口側のランプ軸部（１０）からそらすための光偏向レンズ（１２，２２）が設けられているランプモジュール。
【請求項２】
レンズ（１２，２２）が開口部（１６，２４）を有し、この開口部（１６，２４）がランプ（２）の出口側のランプ軸部（１０）によって少なくとも部分的に貫通されている請求項１記載のランプモジュール。
【請求項３】
レンズ（１２，２２）が集光レンズである請求項１又は２記載のランプモジュール。
【請求項４】
レンズ（１２，２２）が反射鏡側に凹面状の光入射面（１８）を有し、出口側に凸面状の光出射面（２０）を有する請求項１乃至３の１つに記載のランプモジュール。
【請求項５】
光入射面および光出射面（１８，２０）が円錐形、球形、非球形に形成されている請求項４記載のランプモジュール。
【請求項６】
レンズ（１２）は光出射面（２０）が出口側のランプ軸部（１０）の端部の後に配置されているように構成されている請求項４又は５記載のランプモジュール。
【請求項７】
反射鏡（４）が少なくとも部分的に楕円体である請求項１乃至６の１つに記載のランプモジュール。
【請求項８】
反射鏡（４）および／またはレンズ（１２，２２）が少なくとも２つの平らな部分（２８，３０）を備え、２つの平らな部分（２８，３０）がほぼ対をなして互いに正反対に配置されている請求項１乃至７の１つに記載のランプモジュール。
【請求項９】
反射鏡（４）が受口部（１４）を有し、受口部（１４）内にランプ（２）の背面側のランプ軸部（１０）が収納可能である請求項１乃至８の１つに記載のランプモジュール。
【請求項１０】
レンズ（１２，２２）が反射鏡（４）に固定されている請求項１乃至９の１つに記載のランプモジュール。
【請求項１１】
反射鏡（４）の焦点距離（ｆ1）が約６〜８ｍｍの範囲にある請求項１乃至１０の１つに記載のランプモジュール。
【請求項１２】
反射鏡（４）が約０．８０〜０．８５の範囲の数値的な離心率を有する請求項１乃至１１の１つに記載のランプモジュール。
【手続補正書】
【提出日】平成22年10月5日(2010.10.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板層と、前記基板層上のトラック内に設けられたマーク／スペース構造を有する読み取り専用データ層と、カバー層とを備える光学記憶媒体であって、１つのトラックは、突部として表されるポジティブマークを備え、隣接するトラックは、陥部として表されるネガティブマークを備えることを特徴とする光学記憶媒体。
【請求項２】
請求項１に記載の光学記憶媒体において、前記光学記憶媒体は、超解像近接場構造を有するマスク層を備えることを特徴とする光学記憶媒体。
【請求項３】
請求項２に記載の光学記憶媒体において、前記トラックは、スパイラルとして設けられ、全ての第２のトラックの前記マーク構造は、反転され、１つのスパイラルは、ポジティブマークのみを備え、隣接するスパイラルは、ネガティブマークのみを備えることを特徴とする光学記憶媒体。
【請求項４】
先行する請求項の１つに記載の光学記憶媒体において、２つの隣接するトラックのトラックピッチは、前記光学記憶媒体のデータの読み取りに使用可能な光学ピックアップの光学解像度限界未満であり、前記トラックピッチは、ブルーレイタイプピックアップとともに使用するために１４０−２５０ｎｍの範囲内であることを特徴とする光学記憶媒体。
【請求項５】
請求項１に記載の読み取り専用データ層を備える光学記憶媒体を製造するスタンパであって、前記スタンパは、前記データ層の生成のための、突部として表されるポジティブマーク及び陥部として表されるネガティブマークを有する表面を備えることを特徴とするスタンパ。
【請求項６】
請求項５に記載のスタンパにおいて、前記スタンパの前記表面は、スパイラルとして設けられたトラックを備え、１つのスパイラルは、ポジティブマークを備え、隣接するスパイラルは、ネガティブマークを備えることを特徴とするスタンパ。
【請求項７】
請求項５に記載のスタンパの製造のための原盤の製造方法であって、
突部として表されるポジティブマークを有する第１のデータ構造を生成するために、ネガティブフォトレジストに覆われたポジティブフォトレジストに覆われた基板を備える第１のプレートの前記ネガティブフォトレジストを露光するステップと、
非露光領域で、前記ネガティブフォトレジストを除去するために、前記ポジティブフォトレジストに作用しない第１の溶剤を塗布するステップと、
陥部として表されるネガティブマークを有する第２のデータ構造を生成するために、前記ポジティブフォトレジストを露光するステップと、
ポジティブマーク及びネガティブマークを有するデータ構造を有する第２のプレートを生成するために、前記ポジティブフォトレジストを露光領域で除去する目的で、残留する前記ネガティブフォトレジストの前記ポジティブマークに作用しない第２の溶剤を塗布するステップと
の一連のステップを備えることを特徴とする方法。
【請求項８】
請求項７に記載の方法において、前記ポジティブマーク及び前記ネガティブマークは、２つのスパイラルとして設けられ、前記第１のスパイラルは、ポジティブマーク及びスペースから成り、前記第２のスパイラルは、ネガティブマーク及びスペースから成り、前記第２のプレートは、光学ディスクのスタンパの前記製造のための原盤として使用されることを特徴とする方法。
【請求項９】
請求項５に記載のスタンパの前記製造のための原盤の製造方法であって、
突部として表されるネガティブマークを有する第１のスパイラルを生成するために、ネガティブフォトレジストに覆われた非感光性材料の層に覆われた基板を備える第１のプレートの前記ネガティブフォトレジストを露光するステップと、
第１のスパイラルを備える第２のプレートを生成するために、前記ネガティブフォトレジストを非露光領域で除去する目的で、前記非感光性材料に作用しない第３の溶剤を塗布するステップと、
前記第２のプレートをポジティブフォトレジストでコーティングするステップと、
陥部として表されるネガティブマークを備える第２のスパイラルを生成するためにマスタリングマシンで前記ポジティブフォトレジストを露光するステップと、
前記ポジティブフォトレジストを露光領域で除去するために第４の溶剤を塗布するステップと、
前記材料の前記ポジティブフォトレジストに覆われていない部分を除去するために第５の溶剤でエッチングプロセスを行うステップと、
ポジティブマーク及びネガティブマークを有するデータ構造を有する第３のプレートを生成するために、第６の溶剤を使用して前記ポジティブフォトレジストの残留する部分を除去し、前記第３のプレートを光学ディスクのスタンパの前記製造のための原盤として使用するステップと
の一連のステップを備えることを特徴とする方法。
【請求項１０】
請求項５に記載のスタンパの前記製造のための原盤を製造する方法であって、
突部として表されるポジティブマークを生成するために第１のネガティブフォトレジストで覆われた非金属基板を備える第１のプレートの前記第１のネガティブフォトレジストを露光して第２のプレートを得るステップと、
前記第１のネガティブフォトレジストを非露光領域で除去するために第７の溶剤を塗布して第３のプレートを得るステップと、
前記第３のプレート上に金属層を設けて第４のプレートを得るステップと、
前記第４のプレートから前記基板及び残留するネガティブフォトレジストを除去して金属基板を得るステップと、
前記金属基板を第２のネガティブフォトレジストで覆って第５のプレートを得るステップと、
マスタリングマシンで前記第５のプレートを露光して、突部として表されるポジティブマークを生成するステップと、
前記第２のネガティブフォトレジストを非露光領域で除去するために第８の溶剤を使用するステップと、
スタンパ製造のために、残留する金属基板を、突部として表されるポジティブマークを有するトラック及び陥部として表されるネガティブマークを有するトラックを備える金属原盤として使用するステップと
の一連のステップを備えることを特徴とする方法。
【請求項１１】
請求項１０に記載の方法において、前記残留する第１のネガティブフォトレジストと前記基板とが前記金属基板から除去される後且つ前記第２のネガティブフォトレジストが塗布される前に、前記金属基板を層でコーティングするステップであって、前記第２のネガティブフォトレジストの付着を向上し、前記金属基板と前記第２のネガティブフォトレジストとの間の化学反応を減少させるステップをさらに有することを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年8月20日(2010.8.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
イオン注入装置においてイオンビームを通して基板を走査するための基板スキャナにおいて、基板ホルダーは、
回転接合部に設けられた第１の駆動アームと、
回転接合部に設けられた第２の駆動アームと、
上記第１の駆動アームを固定の第１の回転軸の周りに回転させ且つ上記第２の駆動アームを固定の第２の回転軸の周りに回転させるように動作できる駆動手段と、
リンクと、
上記リンクに結合された基板ホルダーと、
を備え、
上記リンクは、上記第１の駆動アーム及び／又は上記第２の駆動アームが回転される時に、上記基板ホルダーが移動するように、上記第１の軸から離れた場所で上記第１の駆動アームに結合され且つ上記第２の軸から離れた場所で上記第２の駆動アームに結合されている、基板スキャナ。
【請求項２】
上記第１の駆動アーム及び上記第２の駆動アームは、上記第１の軸及び上記第２の軸が同軸となるように、支持体に結合される、請求項１に記載の基板スキャナ。
【請求項３】
上記リンクは、第３の軸の周りに回転するように一緒に回転可能に結合された第１の部材及び第２の部材を備え、上記第１の部材は、第４の軸の周りに回転するように上記第１の駆動アームに回転可能に結合され、上記第２の部材は、第５の軸の周りに回転するように上記第２の駆動アームに回転可能に結合され、
上記第１の軸、上記第２の軸、上記第３の軸、上記第４の軸及び上記第５の軸は、平行である、請求項１又は２に記載の基板スキャナ。
【請求項４】
上記基板ホルダーは、上記第１の軸、上記第２の軸、上記第３の軸、上記第４の軸及び上記第５の軸と平行に延びる第６の軸の周りに回転できるように、上記リンクに回転可能に結合され、上記基板ホルダーは、上記基板ホルダーを上記第６の軸の周りに回転させるように動作できる基板ホルダー駆動手段を備える、請求項３に記載の基板スキャナ。
【請求項５】
上記支持体は、上記第１の軸と実質的に直角の第７の軸の周りに回転できるように回転可能に取り付けられ、上記基板ホルダーの全方向に延びている、請求項３又は４に記載の基板スキャナ。
【請求項６】
上記第７の軸は、上記基板ホルダーの直ぐ前を通るように延びている、請求項５に記載の基板スキャナ。
【請求項７】
イオンビームを発生するように動作できるイオン源と、上記イオンビームをイオンビームパスに沿って案内するように動作できる光学部品と、上記イオンビームを通して基板を走査するように動作できる請求項１から７のいずれかに記載の基板スキャナと、を備えており、上記第１の軸は、上記基板スキャナでの上記イオンビームパスの方向と平行である、イオン注入装置。
【請求項８】
請求項７に記載のイオン注入装置を使用し、注入すべき基板を上記基板ホルダーが保持するようにして、基板に注入する方法において、
上記基板を上記イオンビームに隣接して配置するステップと、
上記第１の駆動アームを回転させて、それにより、上記基板が上記イオンビームを通して進まされ、上記イオンビームが上記基板に亘る走査線を辿るように、上記駆動手段を使用するステップと、
を含む方法。
【請求項９】
上記第１の軸及び上記第２の軸が平行であり、ある円のある弧に対応する上記基板に亘る走査線を上記イオンビームが辿るように上記駆動手段を使用して上記第１の駆動アーム及び上記第２の駆動アームを同じ方向に及び同じ速度で回転させるステップを含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
上記弧の走査線を辿った後、上記平行な第１の軸及び第２の軸と上記基板ホルダーとの間の距離を変えるように上記駆動手段を使用して上記第１の駆動アーム及び上記第２の駆動アームを反対方向かつ同一速度で回転させるステップと、
異なる半径の円のある弧に対応する別の走査線を上記イオンビームが辿るように上記駆動手段を使用して上記第１の駆動アーム及び上記第２の駆動アームを同じ方向に且つ同じ速度で回転させるステップと、
異なる半径の同心円の一連の弧に対応する一連の走査線が上記基板に亘って辿られるように上記駆動手段を使用して、弧状走査線を辿り、また、上記平行な第１の軸及び第２の軸と上記基板ホルダーとの間の距離を変える為に上記第１の駆動アーム及び上記第２の駆動アームを回転させるステップを繰り返すステップと、
を含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
上記平行な第１の軸及び第２の軸と上記基板ホルダーとの間の距離が均一に変えられ、上記弧の走査線が等しく分離されるように、上記第１の駆動アーム及び上記第２の駆動アームを繰り返し回転させるため上記駆動手段を使用するステップと、
上記第１の駆動アーム及び上記第２の駆動アームを共通の同じ速度で同じ方向に繰り返し回転させて上記基板の均一な注入量を得るため上記駆動手段を使用するステップと、
を含む請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
上記イオンビームが上記基板に亘って直線の走査線を辿るように、上記第１の駆動アーム及び上記第２の駆動アームを同時に反対方向に回転させるため上記駆動手段を使用するステップを含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１３】
上記第２の駆動アームを回転させ、それにより、上記基板を移動させて次の走査線に沿う注入のための準備をさせるように上記駆動手段を使用するステップと、
上記イオンビームが上記基板に亘って一連の走査線を辿るように、上記第１の駆動アーム及び上記第２の駆動アームを回転させるため上記駆動手段を繰り返して使用し、ラスターパターンを形成するステップと、
を含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
上記イオンビームに対する上記基板の配向を維持するように上記イオンビームを通して上記基板を移動させるため上記駆動手段を使用しながら、上記基板を回転させるステップを更に含む、請求項１２又は１３に記載の方法。
【請求項１５】
イオン注入装置の動作を制御するように構成されたコンピュータにおいて実行されるとき、上記イオン注入装置が請求項８から１４のいずれかに記載の方法に従って動作するようにさせるプログラム命令を含むコンピュータプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成22年10月15日(2010.10.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
サンプルをセンサストリップに対して導入し；
最大でも8秒間のインキュベーション期間の後、シグナルをサンプルに対して印加し；
測定可能な種のレドックス反応に応答して、過渡減衰（transient decay）を有するシグナルを生成し；そして
生成されたシグナルの過渡減衰から、分析対象物濃度を決定する；
ことを含む、サンプル中の分析対象物濃度を測定するための方法。
【請求項２】
測定可能な種が少なくとも1つのメディエータを含む、請求項1に記載の方法。
【請求項３】
インキュベーション期間が最大でも6秒間である、請求項1または2に記載の方法。
【請求項４】
インキュベーション期間が最大でも4.75秒間である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の方法。
【請求項５】
インキュベーション期間が0.5〜4秒間である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の方法。
【請求項６】
過渡減衰がシグナルをサンプルに印加してから0.5〜5秒間以内に得られる、請求項1〜5のいずれか1項に記載の方法。
【請求項７】
過渡減衰が漸減する、請求項1〜6のいずれか1項に記載の方法。
【請求項８】
サンプル容器中で測定可能な種の様々な濃度分布を生成することをさらに含む、請求項1〜7のいずれか1項に記載の方法。
【請求項９】
インキュベーション期間およびシグナルの印加が、最大でも6秒間で完了する、請求項1〜8のいずれか1項に記載の方法。
【請求項１０】
インキュベーション期間およびシグナルの印加が最大でも4秒間で完了する、請求項1〜9のいずれか1項に記載の方法。
【請求項１１】
過渡減衰が-0.52〜-1の減衰定数を有する、請求項1〜10のいずれか1項に記載の方法。
【請求項１２】
過渡減衰が最大でも-0.35の減衰定数を有する、請求項1〜11のいずれか1項に記載の方法。
【請求項１３】
分析対象物濃度を決定する際の生成シグナルが、シグナルをサンプルに対して印加してから2秒間以内に生成される電流値を含む、請求項1〜12のいずれか1項に記載の方法。
【請求項１４】
生成シグナルから分析対象物濃度を測定することが、シグナルを印加してから3秒間以内に完了する、請求項1〜13のいずれか1項に記載の方法。
【請求項１５】
漸減する電流減衰がシグナルをサンプルに印加してから約0.5〜約3秒間以内に得られる、請求項7に記載の方法。
【請求項１６】
分析対象物濃度が単一励起の漸減する生成シグナルから決定される、請求項7に記載の方法。
【請求項１７】
サンプルがセンサストリップベースおよび蓋の底部表面により規定される容器中に存在し、ここで
ベースは蓋の底部表面から50〜150μmであり、
容器中のサンプルの容量は最大でも3.5μLであり、そして
インキュベーション期間が最大でも6秒間である、
請求項1〜3のいずれか1項に記載の方法。
【請求項１８】
センサストリップベースから蓋の底部までの容器高が最大でも100μmであり、容器中のサンプルの容量が最大でも3μLであり、容器には最大でも2μmの平均初期厚を有する少なくとも1つの試薬層が含まれ、そしてインキュベーション期間が最大でも2秒間である、請求項17に記載の方法。
【請求項１９】
それぞれが0.1〜5秒間の期間を有する少なくとも3回の励起を含むシグナルを、サンプルに対して印加し；
測定可能な種のレドックス反応に応答して過渡減衰を有するシグナルを生成し；そして
生成シグナルの過渡減衰から分析対象物濃度を決定する；
ことを含む、サンプル中の分析対象物濃度を測定するための方法。
【請求項２０】
励起が、それぞれが0.1〜3秒間の期間を有する少なくとも2回の緩和により分離されている、請求項19に記載の方法。
【請求項２１】
印加されるシグナルに5秒間以内に印加される少なくとも2回の負荷サイクルが含まれる、請求項19または20に記載の方法。
【請求項２２】
印加されるシグナルの後、0.1〜10秒間のインキュベーション期間を行う、請求項19〜21のいずれか1項に記載の方法。
【請求項２３】
シグナルの印加が最大でも4秒間で完了する、請求項19〜22のいずれか1項に記載の方法。
【請求項２４】
過渡減衰が-0.52〜-1の減衰定数を有する、請求項19〜23のいずれか1項に記載の方法。
【請求項２５】
過渡減衰が最大でも-0.35の減衰定数を有する、請求項19〜24のいずれか1項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月27日(2010.5.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
デュアル・バンド・マイクロボロメータであって、
第１波長の光を吸収する放射吸収層と、
読取り回路（ＲＯＩＣ）と、
多層の熱絶縁脚構造であって、前記放射吸収層を前記ＲＯＩＣに電気的に結合する第１の層と、前記ＲＯＩＣに対し前記熱絶縁脚構造を熱的に沈める第２の層とを含む、前記熱絶縁脚構造と、
第２波長の光を検出する少なくとも１つの放射検出器であって、前記放射吸収層を通じて延伸する対応の開口を介して前記ＲＯＩＣに電気的に結合された前記少なくとも１つの放射検出器とを含み、
前記放射吸収層は、酸化バナジウムおよび酸化チタニウムのうちの少なくとも１つを含む、前記デュアル・バンド・マイクロボロメータ。
【請求項２】
前記少なくとも１つの放射検出器がＳｉＰＩＮフォトダイオード、ＩｎＧａＡｓフォトダイオード、およびＨｇＣｄＴｅフォトダイオードのうちの少なくとも１つを含む、請求項１記載のデュアル・バンド・マイクロボロメータ。
【請求項３】
前記第１波長の光が長波赤外線（ＬＷＩＲ）放射を含み、また前記第２波長の光が短波赤外線（ＳＷＩＲ）放射を含む、請求項１記載のデュアル・バンド・マイクロボロメータ。
【請求項４】
前記少なくとも１つの放射検出器がＬＷＩＲ放射に対して実質的に透過的である、請求項３記載のデュアル・バンド・マイクロボロメータ。
【請求項５】
前記ＲＯＩＣに結合され、前記ＲＯＩＣから出力された画像情報を処理するプロセッサと、
前記プロセッサに結合され、処理された前記画像情報を表示するディスプレイと、
を更に含む、請求項１記載のデュアル・バンド・マイクロボロメータ。
【請求項６】
前記第２波長の光を検出する複数の放射検出器を有し、該放射検出器の各々が前記放射吸収層を通じて延伸する対応の開口を介して前記ＲＯＩＣに結合され、前記対応の開口は、中心から中心までのピッチで互いに間を設けられ、
前記放射吸収層は、実質的に前記ピッチの２倍である中心から中心までの距離で互いに間を設けられた接点で前記ＲＯＩＣと結合された、請求項１記載のデュアル・バンド・マイクロボロメータ。
【請求項７】
前記第１の層はＮｉＣｒを含み、前記第２の層は窒化シリコンを含む、請求項１記載のデュアル・バンド・マイクロボロメータ。
【請求項８】
前記放射吸収層が、該放射吸収層と実質的に平行な複数の層を介して前記熱絶縁脚構造に結合された第２の脚構造であって、前記熱絶縁脚構造と前記第２の脚構造とが前記実質的に平行な複数の層を横切って互いに横方向に間を設けられた、前記第２の脚構造を更に含む、請求項７記載のデュアル・バンド・マイクロボロメータ。
【請求項９】
前記実質的に平行な複数の層は、複数の窒化シリコンの層の間に挟まれたＮｉＣｒの層を含む、請求項８記載のデュアル・バンド・マイクロボロメータ。
【請求項１０】
前記第１波長の光は、長波赤外線（ＬＷＩＲ）放射を含み、また前記第２波長の光が中波赤外線（ＭＷＩＲ）放射を含み、
前記放射吸収層は、前記放射検出器と前記ＲＯＩＣの間に配置されている、請求項１記載のデュアル・バンド・マイクロボロメータ。
【請求項１１】
前記放射吸収層が前記放射検出器から電気的に絶縁された、請求項１記載のデュアル・バンド・マイクロボロメータ。
【請求項１２】
画像情報を出力するデュアル・バンド・マイクロボロメータであって、
第１波長の光を吸収する放射吸収層であって、酸化バナジウムおよび酸化チタニウムのうちの少なくとも１つを含む、前記放射吸収層と、
読取り回路（ＲＯＩＣ）と、
多層の熱絶縁脚構造であって、前記放射吸収層を前記ＲＯＩＣに電気的に結合する第１の層と、前記ＲＯＩＣに対し前記熱絶縁脚構造を熱的に沈める第２の層とを含む、前記熱絶縁脚構造と、
第２波長の光を検出する少なくとも１つの放射検出器であって、前記放射吸収層を通じて延伸する対応の開口を介して前記ＲＯＩＣに電気的に結合された前記少なくとも１つの放射検出器と、
デュアル・バンド撮像装置に結合され、前記画像情報を処理する処理手段と、
前記処理手段に結合され、処理された前記画像情報を表示するディスプレイ手段と、
を含む、前記デュアル・バンド・マイクロボロメータ。
【請求項１３】
前記第２波長の光を検出する複数の放射検出器を有し、該放射検出器の各々が前記放射吸収層を通じて延伸する対応の開口を介して前記ＲＯＩＣに結合され、前記対応の開口は、中心から中心までのピッチで互いに間を設けられ、
前記放射吸収層は、実質的に前記ピッチの２倍である前記中心から中心までの距離で互いに間を設けられた接点で前記ＲＯＩＣと結合された、請求項１２記載のデュアル・バンド・マイクロボロメータ。
【請求項１４】
前記第１の層はＮｉＣｒを含み、前記第２の層は窒化シリコンを含む、請求項１２記載のデュアル・バンド・マイクロボロメータ。
【請求項１５】
前記放射吸収層が、該放射吸収層と実質的に平行な複数の層を介して前記熱絶縁脚構造に結合された第２の脚構造であって、前記熱絶縁脚構造と前記第２の脚構造とが前記実質的に平行な複数の層を横切って互いに横方向に間を設けられた、前記第２の脚構造を更に含む、請求項１４記載のデュアル・バンド・マイクロボロメータ。
【請求項１６】
前記実質的に平行な複数の層は、複数の窒化シリコンの層の間に挟まれたＮｉＣｒの層を含む、請求項１５記載のデュアル・バンド・マイクロボロメータ。
【請求項１７】
前記第１波長の光は、長波赤外線（ＬＷＩＲ）放射を含み、また前記第２波長の光が中波赤外線（ＭＷＩＲ）放射を含み、
前記放射吸収層は、前記放射検出器と前記ＲＯＩＣの間に配置されている、請求項１２記載のデュアル・バンド・マイクロボロメータ。
【請求項１８】
前記放射吸収層が前記放射検出器から電気的に絶縁された、請求項１２記載のデュアル・バンド・マイクロボロメータ。
【手続補正書】
【提出日】平成22年10月22日(2010.10.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ホログラフィック・ディスプレイであって、２Ｄ光源アレイにおける複数の光源と、２Ｄレンズ・アレイにおける複数のレンズと、空間光変調器（ＳＬＭ）と、ビームスプリッタとを備え、
１つのレンズにつきｍ個の光源が存在し、該光源は、ｍ対１でレンズと対応し、
ビームスプリッタは、ＳＬＭを離れた光線を２つの束に分割し、一方の束は、ｍ個の左目用の仮想観察者ウィンドウ（ＶＯＷＬ）を照射し、他方の束はｍ個の右目用の仮想観察者ウィンドウ（ＶＯＷＲ）を照射し、ｍは１より大きい値を有することを特徴とするホログラフィック・ディスプレイ。
【請求項２】
２Ｄエンコーディングは、水平方向及び垂直方向において同時にホログラフィック再構成を提供することを特徴とする請求項１に記載のホログラフィック・ディスプレイ。
【請求項３】
前記ビームスプリッタは、プリズム・アレイであるか、垂直プリズムの１Ｄアレイであるか、または、屈折性の、回折性の、或いは、ホログラフィックなプリズム・アレイとして、前記ＳＬＭ内に統合されるか、或いは、ＳＬＭ上に直接搭載されることを特徴とする請求項１または２に記載のホログラフィック・ディスプレイ。
【請求項４】
前記ビームスプリッタは、さらなるレンズアレイであるか、バリア・マスクであるか、または、回折光学エレメントであることを特徴とする請求項１または２に記載のホログラフィック・ディスプレイ。
【請求項５】
前記ビームスプリッタは、複数のプリズムエレメントを有する複数の制御可能なプリズムアレイを含み、
当該プリズムアレイは、エレクトロウェッティング・プリズムアレイの形式を特に有し、
前記プリズムエレメントは、複数の電極と２つの分離した液体及び該液体の間の接触面で満たされたキャビティとを備え、前記液体の間の接触面の傾斜は、前記複数の電極に電圧をかけることによって電気的に制御可能であることを特徴とする請求項１または２に記載のホログラフィック・ディスプレイ。
【請求項６】
前記ビームスプリッタは、前記ＳＬＭの前、または、後ろに配置されることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載のホログラフィック・ディスプレイ。
【請求項７】
各光源が関連するレンズにより観察者面で結像されるか、又は、追加の視野レンズを有する、ことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載のホログラフィック・ディスプレイ。
【請求項８】
前記光源アレイのピッチ及び前記レンズアレイのピッチは、所定の観察者について、全光源が前記観察者面で一致して結像する、即ち、当該面において２つの仮想観察者ウィンドウ（ＶＯＷ）を含むような大きさであることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載のホログラフィック・ディスプレイ。
【請求項９】
前記レンズアレイのピッチは、十分な空間コヒーレンスを提供するために、サブホログラムの典型的な大きさと一致することを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載のホログラフィック・ディスプレイ。
【請求項１０】
前記光源が小型光源或いは点光源であるか、又は、光源のトラッキングが実装されている、ことを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載のホログラフィック・ディスプレイ。
【請求項１１】
前記レンズアレイが屈折性、回折性、或いは、ホログラフィックな特性を有するか、又は、前記左目及び右目用のホログラムが列ごとにインタレースされている、ことを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載のホログラフィック・ディスプレイ。
【請求項１２】
前記ビームスプリッタのピッチは、前記ＳＬＭのピッチと同一か、または、その整数倍であるか、或いは、遠近短縮に適応するために、前記ビームスプリッタのピッチは、前記ＳＬＭのピッチと僅かに異なるか、または、その整数倍と僅かに異なることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか１項に記載のホログラフィック・ディスプレイ。
【請求項１３】
前記プリズム・アレイは、一つの強度包絡ｓｉｎｃ二乗関数の最大値をＶＯＷＬの位置に生成し、もう一つの強度包絡ｓｉｎｃ二乗関数の最大値をＶＯＷＲの位置に生成することを特徴とする請求項７に記載のホログラフィック・ディスプレイ。
【請求項１４】
仮想観察者ウィンドウ（ＶＯＷ）の高さは、ＳＬＭにおける回折と関連する垂直周期インターバルより小さいか、それと等しく、ＶＯＷの幅は、ビームスプリッタにおける回折と関連する水平周期インターバルより小さいか、それと等しいことを特徴とする請求項１３に記載のホログラフィック・ディスプレイ。
【請求項１５】
請求項１乃至１４のいずれか１項に記載のディスプレイ装置を利用する工程を含むホログラフィック再構成を生成するための方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年10月26日(2010.10.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示装置、プログラムにより制御されている演算処理装置、および記憶装置を含む電子装置上での実行方法であって：
ａ．前記表示装置を一連のコンテクスチュアルウインドーの配列に分割すること、ここで前記コンテクスチュアルウインドーは前記記憶装置上に記録された関連するデータを有する；
ｂ．前記のコンテクスチュアルウインドーの第一のコンテクスチュアルウインドー、および前記のコンテクスチュアルウインドーの第二のコンテクスチュアルウインドーを選択すること；
ｃ．前記の記憶装置から、第一のコンテクスチュアルウインドーに関連する第一のデータ、および第二のコンテクスチュアルウインドーに関連する第二のデータを検索すること；
ｄ．前記演算処理装置で、前記第一のデータと、前記第二のデータを処理し、インタラクショナルデータを生成すること；および
ｅ．前記のデータベース上に前記インタラクショナルデータを記録すること。
【手続補正書】
【提出日】平成22年10月8日(2010.10.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
前記の少なくとも一つの条件は、少なくとも次の位置の一つに関係することを特徴とする請求項８に記載の方法：(複数)ドアの位置、(複数)滑走装置の位置、地表の位置、横風による着陸時の地表に関係する位置、着陸装置を引き込む前の着陸時の地表に関係する位置。