【事件の表示】
　特願２０１３−　１３１８２「複数の位置測定装置を備えた装置」拒絶査定不服審判事件〔平成２５年　８月１９日出願公開、特開２０１３−１６０７６０、請求項の数（１）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成２５年１月２８日（パリ条約による優先権主張　２０１２年２月１日（以下「優先日」という。）、ドイツ連邦共和国）の出願であって、その手続の経緯は以下のとおりである。
　平成２８年　９月　１日付け：拒絶理由通知書
　平成２８年１１月　９日　　：意見書、手続補正書の提出
　平成２９年　４月１７日付け：拒絶理由(最後の拒絶理由）通知書
　平成２９年　７月　５日　　：意見書、手続補正書の提出
　平成２９年　８月２４日付け：平成２９年７月５日の手続補正についての補正の却下の決定、拒絶査定（以下「原査定」という。送達日：平成２９年８月３０日）
　平成２９年１２月１４日　　：審判請求書、手続補正書の提出
　平成３０年　８月１７日付け：拒絶理由通知書（以下「当審拒絶理由」という。発送日：同年同月２２日）
　平成３０年１０月　３日　　：意見書、手続補正書の提出
第２　原査定の概要
　原査定の概要は次のとおりである。
　本願の下記の請求項に係る発明は、本願の優先日前に日本国内又は外国において頒布された下記の刊行物に記載された発明に基いて、本願の優先日前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
・請求項　１−４
・引用文献等　１、２
・請求項　５−８
・引用文献等　１−３
・請求項　９−１１
・引用文献等　３、４
・請求項　１２
・引用文献等　１−５
・請求項　１３
・引用文献等　１、３、４
引用文献等一覧
１.特開２００５−３３８０７５号公報
２.国際公開第２００７／１４２３５１号
３.特開２０１１−１１７７３７号公報
４.特開２０１０−２３７２０２号公報
５.特開２００９−５５０３６号公報
第３　当審拒絶理由の概要
　当審拒絶理由の概要は次のとおりである。
　本願は、特許請求の範囲の記載が下記の点で、特許法第３６条第６項第１号に規定する要件を満たしていない。
　請求項１の「前記対象物（１）において必要な、様々な前記位置測定装置の全ての標準器（２３．２，２３．３）及び／又は測定反射器（２３．１）」という記載は、発明の詳細な説明に記載されていない選択肢を含んでいるから、請求項１に係る発明は、発明の詳細な説明に記載したものでない。 
第４　本願発明
　本願の請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、平成３０年１０月３日付けの手続補正（以下「本件補正」という。）で補正された特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される発明であり、本願発明は以下のとおりの発明である。
「【請求項１】
　−　２つの直交する第１及び第２のメイン移動軸（ｙ，ｘ）並びにこれに対して垂直な第３の軸（ｚ）に沿って可変に配置された対象物（１）と、
　−　６つ全ての空間的な自由度において前記対象物（１）の位置を検出するための複数の位置測定装置と
を備えて成り、複数の光学的な前記位置測定装置が唯一の走査方向から前記対象物（１）を走査するとともに、この走査方向が両メイン移動軸（ｙ，ｘ）のうちいずれかに一致し、前記６つの空間的な自由度が、前記第１及び第２のメイン移動軸（ｙ，ｘ）に沿った、並びにこれら第１及び第２のメイン移動軸に対して垂直な前記第３の軸（ｚ）に沿った３つの並進運動自由度と、前記第１及び第２のメイン移動軸（ｙ，ｘ）周りの、並びにこれら第１及び第２のメイン移動軸に対して垂直な前記第３の軸（ｚ）周りの３つの回転運動自由度とを含んでおり、
　前記対象物（１）において必要な、様々な前記位置測定装置の全ての標準器（２３．２，２３．３）及び測定反射器（２３．１）が前記対象物（１）の共通の側に配置されていることを特徴とする装置。」
第５　引用文献、引用発明等
１．引用文献３について
（１）原査定の拒絶の理由において、本願発明に対応する、原査定時点での請求項９に係る発明に対して、主たる引用文献として引用された引用文献３（特開２０１１−１１７７３７号公報）には、図面とともに次の事項が記載されている（下線は当審による。以下同様。）。
「【００１２】
　以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されない。以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部の位置関係について説明する。
水平面内の所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれと直交する方向（すなわち鉛直方向）をＺ軸方向とする
Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする
【００１３】
　［第１実施形態］
　図１は、第１実施形態に係る露光装置ＥＸの一例を示す概略構成図である。
　本実施形態の露光装置ＥＸは、マスクＭと基板Ｐとを所定の走査方向に同期移動しつつ、マスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する走査型露光装置（所謂スキャニングステッパ）である。本実施形態においては、基板Ｐの走査方向（同期移動方向）をＹ軸方向とし、マスクＭの走査方向（同期移動方向）もＹ軸方向とする。制御装置４は、基板Ｐを投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲに対してＹ軸方向に移動するとともに、その基板ＰのＹ軸方向への移動と同期して、照明系ＩＬの照明領域ＩＲに対してマスクＭをＹ軸方向に移動しつつ基板Ｐに露光光ＥＬを照射する。
【００１４】
　図１に示すように、
露光装置ＥＸは、
基板Ｐを保持して移動可能な基板ステージ２と、
露光装置ＥＸ全体の動作を制御する制御装置４とを備え
・・・（中略）・・・
【００２０】
　基板ステージ２は、基板Ｐを保持した状態で、投影領域ＰＲを含むベース部材８のガイド面８Ｇ上を移動可能である。基板ステージ２は、例えば米国特許第６４５２２９２号明細書に開示されているような平面モータを含む駆動システムの作動により移動する。平面モータは、基板ステージ２に配置された可動子と、ベース部材８に配置された固定子とを有する。本実施形態においては、
基板ステージ２は、
Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能である
【００２１】
　
基板ステージ２は、基板Ｐをリリース可能に保持する基板保持部９を有する
基板保持部９は、基板Ｐの表面が＋Ｚ方向を向くように基板Ｐを保持する
基板保持部９に保持された基板Ｐの表面、及び基板ステージ２の上面１０は、ＸＹ平面とほぼ平行である
【００２２】
　本実施形態において、マスクステージ１の位置情報は、例えば干渉計システム１２によって計測される。干渉計システム１２は、マスクステージ１に配置された計測ミラーを用いてマスクステージ１の位置を計測可能である。また、
基板ステージ２の位置情報は、エンコーダシステム２０や
干渉計システムなどの計測装置ＭＳＲによって計測され
基板ステージ２のＸ方向及びＹ方向の位置情報についてはエンコーダシステム２０を用いて計測し、Ｚ方向の位置情報については
干渉計システムを用いて計測する
【００２３】
　図２及び図３は、計測装置ＭＳＲに含まれるエンコーダシステム２０の構成を示す図である。図２は基板ステージ２近傍の構成を示す平面図であり、図３は側面図である。
　図２及び図３に示すように、エンコーダシステム２０は、
基板ステージ２のＸ方向
Ｙ方向の移動に対応して設けられたＸ方向用エンコーダシステム２０Ｘ
Ｙ方向用エンコーダシステム２０Ｙ
【００２４】
　
エンコーダシステム２０は、
光回折部２２
を有し
　光源２１としては、例えばレーザ光を射出するレーザ光源などを用いることができる。光源２１は、２つの光射出部２１Ａ及び２１Ｂを有している。２つの光射出部２１Ａ及び２１Ｂは、基板ステージ２の光回折部２２に対して異なる位置に向けてレーザ光を射出する。
【００２５】
　光射出部２１Ａ及び２１Ｂは、計測基準板２５に固定されている。当該計測基準板２５は、例えば投影光学系ＰＬなどを支持する不図示のコラム部材など、基板ステージ２に対して独立した位置に固定されている。なお、図２においては、計測基準板２５の図示が省略されている。
【００２６】
　光回折部２２は、
基板ステージ２に設けられている
光回折部２２は、２つの回折格子（第１回折格子２２Ａ及び第２回折格子２２Ｂ）
を有し
・・・（後略）・・・」
【図１】
【図２】
【図３】
　【００２２】の記載及び図１より、
露光装置ＥＸがエンコーダシステム２０及び
干渉計システムを備えている
　また、図２より、
Ｘ方向用エンコーダシステム２０Ｘは、基板ステージ２に対して、Ｙ軸の方向から光の射出及び検出を行い
Ｙ方向用エンコーダシステム２０Ｙは、基板ステージ２に対して、Ｘ軸の方向から光の射出及び検出を行う
Ｘ方向用エンコーダシステム２０Ｘの２つの回折格子（第１回折格子２２Ａ及び第２回折格子２２Ｂ）は、基板ステージ２のＹ軸側に設けられ、Ｙ方向用エンコーダシステム２０Ｙの２つの回折格子（第１回折格子２２Ａ及び第２回折格子２２Ｂ）は、基板ステージ２のＸ軸側に設けられ
「【００４８】
　また、上記第１実施形態の構成に加えて、例えば図６に示すような
基板ステージ２のＺ方向の移動を検出可能な干渉計システム１２Ｚ
干渉計システム１２Ｚは、
支持部材２２Ｃの面２２Ｄのうち、第１回折格子２２Ａ及び第２回折格子２２Ｂが形成されていない部分に光射出部２１Ｃのレーザ光を照射する
面２２Ｄで反射されたレーザ光
【図６】
　図６より、
干渉計システム１２Ｚは、基板ステージ２に対して、Ｙ軸の方向から光の射出及び検出を行う
干渉計システム１２ＺでＹ軸の方向から射出された光を反射する面２２Ｄは、基板ステージ２のＹ軸側に設けられる
（２）したがって、上記引用文献３には次の発明（以下「引用発明」という。）が記載されていると認められる。
「基板Ｐを保持して移動可能な基板ステージ２と、露光装置ＥＸ全体の動作を制御する制御装置４と、エンコーダシステム２０及び干渉計システムを備えた露光装置ＥＸ（【００１４】、【００２２】、図１より。以下同様。）において、
　水平面内の所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれと直交する方向（すなわち鉛直方向）をＺ軸方向とし、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とし（【００１２】）、
　基板ステージ２は、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能であり（【００２０】）、
　基板ステージ２は、基板Ｐをリリース可能に保持する基板保持部９を有し、基板保持部９は、基板Ｐの表面が＋Ｚ方向を向くように基板Ｐを保持し、基板保持部９に保持された基板Ｐの表面、及び基板ステージ２の上面１０は、ＸＹ平面とほぼ平行であり（【００２１】）、
　基板ステージ２の位置情報は、エンコーダシステム２０や干渉計システムなどの計測装置ＭＳＲによって計測され、基板ステージ２のＸ方向及びＹ方向の位置情報についてはエンコーダシステム２０を用いて計測し、Ｚ方向の位置情報については干渉計システムを用いて計測し（【００２２】）、
　基板ステージ２のＸ方向の移動に対応して設けられたＸ方向用エンコーダシステム２０Ｘは、基板ステージ２に対して、Ｙ軸の方向から光の射出及び検出を行い、基板ステージ２のＹ方向の移動に対応して設けられたＹ方向用エンコーダシステム２０Ｙは、基板ステージ２に対して、Ｘ軸の方向から光の射出及び検出を行い（【００２３】、図２）、
　エンコーダシステム２０は、基板ステージ２に設けられている光回折部２２を有し、光回折部２２は、２つの回折格子（第１回折格子２２Ａ及び第２回折格子２２Ｂ）を有し（【００２４】、【００２６】）、
　Ｘ方向用エンコーダシステム２０Ｘの２つの回折格子（第１回折格子２２Ａ及び第２回折格子２２Ｂ）は、基板ステージ２のＹ軸側に設けられ、Ｙ方向用エンコーダシステム２０Ｙの２つの回折格子（第１回折格子２２Ａ及び第２回折格子２２Ｂ）は、基板ステージ２のＸ軸側に設けられ（図２）、
　基板ステージ２のＺ方向の移動を検出可能な干渉計システム１２Ｚは、基板ステージ２に対して、Ｙ軸の方向から光の射出及び検出を行い（【００４８】、図６）、
　干渉計システム１２Ｚは、支持部材２２Ｃの面２２Ｄのうち、第１回折格子２２Ａ及び第２回折格子２２Ｂが形成されていない部分に光射出部２１Ｃのレーザ光を照射し、面２２Ｄでレーザ光が反射され（【００４８】）、
　干渉計システム１２ＺでＹ軸の方向から射出された光を反射する面２２Ｄは、基板ステージ２のＹ軸側に設けられる（図６）、
　露光装置ＥＸ（【００１４】）。」
２．引用文献４について
（１）原査定の拒絶の理由において、本願発明に対応する、原査定時点での請求項９に係る発明に対して、従たる引用文献として引用された引用文献４（特開２０１０−２３７２０２号公報）には、図面とともに次の事項が記載されている。
「【０１１７】
　＜ステージ装置ＳＧについて＞
　図１６は、
ステージ装置ＳＧ
ウエハステージ４（ウエハテーブル８）のＹ軸方向及びＸ軸方向にそれぞれ延在する反射体としての反射面１６ｘ、１６ｙが取り付けられ
、反射面１６ｘ、１６ｙの鏡面に対向してＸ軸用干渉装置１００ｘ及びＹ軸用干渉装置１００ｙが設けられている
【０１１８】
　図１６に示すように、
Ｘ軸用の干渉装置１００ｘ
干渉光学系
【０１１９】
　各干渉光学系１００ｘａ及び１００ｘｂ
は、Ｘ軸方向に平行な光軸を有する複数のビームを、ウエハテーブル８（ウエハステージ４）に配設された反射面１６ｘに照射する
反射面１６ｘからの反射ビームが
干渉光学系
を介して検出器２０
に送られ、反射面１６ｘのＸ軸方向の位置（距離）、ひいてはウエハテーブル（ウエハステージ４）の位置が検出され
【０１２０】
　具体的には、
干渉光学系
を介して反射面１６ｘに照射される複数のビーム
ウエハテーブル８のＹ軸周りの回転角（ロール）の計測に
が用いられる
【０１２１】
　
Ｙ軸用の干渉装置１００ｙ
は、Ｙ軸方向に平行な光軸を有する複数のビームを、ウエハテーブル８（ウエハステージ４）に配設された反射面１６ｙに照射する
反射面１６ｙからの反射ビームが
干渉光学系
を介して検出器２０
に送られ、反射面１６ｙのＹ軸方向の位置（距離）、ひいてはウエハテーブル（ウエハステージ４）の位置が検出され
【０１２２】
　具体的には、
干渉装置１００ｙを介して反射面１６ｙに照射される複数のビーム６４、６５、６６のうち、
ウエハテーブル８のＺ軸周りの回転角（ヨー）の計測にビーム６４とビーム６５とが用いられ、さらに、ウエハテーブル８のＸ軸周りの回転角（ピッチ）の計測にビーム６４とビーム６５とビーム６６とが用いられる
【図１６】
（２）したがって、上記引用文献４には次の技術的事項（以下「引用文献４に記載された技術的事項」という。）が記載されていると認められる。
「ウエハステージ４（ウエハテーブル８）のＹ軸方向及びＸ軸方向にそれぞれ延在する反射体としての反射面１６ｘ、１６ｙが取り付けられ、反射面１６ｘ、１６ｙの鏡面に対向してＸ軸用干渉装置１００ｘ及びＹ軸用干渉装置１００ｙが設けられており（【０１１７】）、
　Ｘ軸用の干渉装置１００ｘの干渉光学系は、Ｘ軸方向に平行な光軸を有する複数のビームを、ウエハテーブル８（ウエハステージ４）に配設された反射面１６ｘに照射し、反射面１６ｘからの反射ビームが干渉光学系を介して検出器２０に送られ、反射面１６ｘのＸ軸方向の位置（距離）、ひいてはウエハテーブル（ウエハステージ４）の位置が検出され（【０１１８】、【０１１９】）、干渉光学系を介して反射面１６ｘに照射される複数のビームが用いられてウエハテーブル８のＹ軸周りの回転角（ロール）の計測も行われ（【０１２０】）、
　Ｙ軸用の干渉装置１００ｙは、Ｙ軸方向に平行な光軸を有する複数のビームを、ウエハテーブル８（ウエハステージ４）に配設された反射面１６ｙに照射し、反射面１６ｙからの反射ビームが干渉光学系を介して検出器２０に送られ、反射面１６ｙのＹ軸方向の位置（距離）、ひいてはウエハテーブル（ウエハステージ４）の位置が検出され（【０１２１】）、
　干渉装置１００ｙを介して反射面１６ｙに照射される複数のビーム６４、６５、６６のうち、ウエハテーブル８のＺ軸周りの回転角（ヨー）の計測にビーム６４とビーム６５とが用いられ、さらに、ウエハテーブル８のＸ軸周りの回転角（ピッチ）の計測にビーム６４とビーム６５とビーム６６とが用いられる（【０１２２】）、
　ステージ装置ＳＧ（【０１１７】）。」
３．引用文献１について
　原査定の拒絶の理由に引用された引用文献１（特開２００５−３３８０７５号公報）には、図面とともに次の事項が記載されている。
「【０００６】
　本発明の一実施形態において、第１の軸に沿った変位を測定するシステムは、少なくとも第１の軸に対して垂直な第２の軸に沿って移動可能な装置と、第１の軸に対して０°よりも大きな角度（θ）で前記装置に取り付けられた測定ミラーと、ビームスプリッタを備えた干渉計とを含む。ビームスプリッタは入力ビームを測定ビームと基準ビームとに分割し、測定ビームを少なくとも２本の経路を通して測定ミラーに導き、２本の経路を通過した後で測定ビームを基準ビームに結合させ、出力ビームにする。干渉計の少なくとも外側において、測定ビームは、第１の軸に対して平行ではない経路を通る。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
　図２は、本発明の一実施形態による、
干渉計１０１を使用してＺ軸（たとえば、平版印刷の焦点軸）に沿ったウェハステージ１０２の変位を測定する干渉計システム１００
【０００８】
　測定経路において、偏光ビームスプリッタ１０６は、周波数成分ｆＡを４分の１波長板１０８を通して測定平面ミラー１１０上に透過する。測定平面ミラー１１０は、Ｚ軸に対して角度θの角度でウェハステージ１０２の側面に取り付けられる。測定平面ミラー１１０は、周波数成分ｆＡをビームステアリングミラー１１２に対して垂直に反射させる。一実施形態において、角度θは４５°未満である。従って、測定平面ミラー１１０は、周波数成分ｆＡをウェハステージ１０２から離れた所に反射させ、従来技術の方法の欠点を回避する。
【０００９】
　ビームステアリングミラー１１２は角度２θに傾けて配置され、公称ステージ姿勢（Ｚ軸を中心とするステージの回転がない状態）において、周波数成分ｆＡを入力経路に沿って偏光ビームスプリッタ１０６に返す。周波数成分ｆＡは再び４分の１波長板１０８を通過するため、戻りの偏光は９０°回転され、偏光ビームスプリッタ１０６は、新たにＳ偏光の周波数成分ｆＡをコーナーキューブ・レトロリフレクタ１１４に反射させる。
・・・（中略）・・・
【００１３】
　受信機１１６は混合偏光子と、光検出器（たとえば、フォトダイオード）と、増幅器と、ステージ１０２が平行移動する時に出力ビーム１１９の位相シフトを検出するための位相検出電子回路とを含む。そして、位相シフトはステージの平行移動に関連付けられる。測定ビームはＺ軸およびＸ軸により画定される平面内のみを伝搬するので、Ｙ軸に沿った変位がＺ変位の測定値に影響を与えることはない。測定ミラー１１０のＹ軸方向の非平面性は、Ｚ変位の測定値に影響を与える可能性があるが、この誤差原因は較正手段によって減少させることができる。」
４．引用文献２について
　原査定の拒絶の理由に引用された引用文献２（国際公開第２００７／１４２３５１号）には、図面とともに次の事項が記載されている。
「【００３４】
《第１の実施形態》
　以下、本発明の第１の実施形態を図１〜図３に基づいて説明する。
【００３５】
　図１には、第１の実施形態に係る露光装置１０の概略的な構成が示されている。露光装置１０は、ステッパ等の一括露光型の投影露光装置である。後述するように本実施形態では、投影光学系ＰＬが設けられており、以下においては、この投影光学系ＰＬの光軸ＡＸと平行な方向をＺ軸方向、これに直交する面内で図１おけるし面内左右方向をＹ軸方向、Ｚ軸及びＹ軸に直交する方向（図１における紙面直交方向）をＸ軸方向とし、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸回りの回転（傾斜）方向をそれぞれθｘ、θｙ、及びθｚ方向として説明を行う。
【００３６】
　露光装置１０は、照明ユニットＩＯＰ、レチクルＲを保持するレチクルホルダＲＨ、投影光学系ＰＬ、ウエハＷを保持して所定の平面（本実施形態では、互いに直交するＸ軸及びＹ軸を含むＸＹ平面）に沿って二次元移動するウエハステージＷＳＴを含むステージ装置５０、及びこれらの制御系等を含んでいる。
・・・（中略）・・・
【００４２】
　ステージ装置５０は、不図示のウエハホルダを介してウエハＷを保持するウエハステージＷＳＴ、及びウエハステージＷＳＴを駆動するウエハステージ駆動系１２４等を備えている。ウエハステージＷＳＴは、投影光学系ＰＬの図１における下方に配置され、その底面に設けられた気体静圧軸受、例えばエアベアリングによって、不図示のベースの上面の上方に非接触で支持されている。ウエハステージＷＳＴは、例えばリニアモータ及びボイスコイルモータなどを含むウエハステージ駆動系１２４によって、ＸＹ平面（移動面）内のＸ軸方向及びＹ軸方向に所定ストロークで駆動されるとともに、ＸＹ平面に直交するＺ軸方向及び回転方向（θｘ方向、θｙ方向及びθｚ方向）に微小駆動される。
・・・（中略）・・・
【００４４】
　ウエハステージＷＳＴの位置情報は、図１に示されるリニアエンコーダシステム２０によって、常時検出され、不図示の制御装置に送られる。
【００４５】
　これを更に詳述すると、リニアエンコーダシステム２０は、図２に示されるような、いわゆる３格子干渉エンコーダから成るＸエンコーダ２０Ｘ、及びＹＺエンコーダ２０ＹＺを含んでいる。
【００４６】
　
Ｘエンコーダ２０Ｘは、
ウエハステージＷＳＴの−Ｙ側の面に設けられた移動格子３０Ｘに対して、光を照射する光源２２
を含んでいる
【００４７】
　
光源２２は、
レーザ光を
−Ｙ方向から＋Ｙ方向に向けて射出する
・・・（中略）・・・
【００５３】
　この光量分布は、移動格子３０ＸのＸ軸方向の移動に伴って変化するので、この変化を検出器２８を用いて検出することにより、
ウエハステージＷＳＴのＸ軸方向に関する位置情報を計測することが可能である
・・・（中略）・・・
【００５７】
　
ＹＺエンコーダ２０ＹＺは、
ウエハステージＷＳＴの＋Ｘ側の面に設けられた移動格子３０ＹＺに対して、光を照射する光源４２
を含んでいる
・・・（中略）・・・
【００６４】
　ここで、ＹＺエンコーダ２０ＹＺにおいては、検出器４８上に二次元的な模様（市松模様）が現れる。この二次元的な模様は、ウエハステージＷＳＴのＹ軸方向位置及びＺ軸方向位置に応じて変化するので、この変化を、検出器４８の少なくとも一部を構成する４分割素子又はＣＣＤなどにより測定することによって、
ウエハステージＷＳＴのＹ軸方向及びＺ軸方向の位置を計測することができる
・・・（中略）・・・
【００６８】
　なお、上記実施形態では、ウエハステージＷＳＴのＸ軸方向、Ｙ軸方向及びＺ軸方向の位置をエンコーダを用いて計測することとしたが、これに限らず、
少なくとも一軸方向のみをエンコーダを用いて計測することとしても良い。この場合、その他の方向をレーザ干渉計等の別の計測装置を用いて計測することとすることができる。例えば、ウエハステージＷＳＴのＺ軸方向の位置を、ウエハ表面のＺ位置を検出する多点焦点位置検出系を用いて計測することとしても良い
【００６９】
　また、上記実施形態では、ウエハステージＷＳＴが６自由度方向に移動可能とされているので、
エンコーダ２０Ｘ及び２０ＹＺを複数設けることにより、６自由度方向の計測を行うこととしても良い
「 【００７０】
《第２の実施形態》
　次に、本発明の第２の実施形態について、図４（Ａ）、図４（Ｂ）に基づいて説明する。ここで、前述した第１の実施形態と同一若しくは同等の構成部分については、同一の符号を用いるとともにその説明を簡略にし、若しくは省略するものとする。
【００７１】
　図４（Ａ）には、第１の実施形態の図２に対応する斜視図が示されている。この図４（Ａ）に示されるように、本第２の実施形態では、
ウエハステージＷＳＴの−Ｙ側端部に、反射面１３４が設けられており、また、エンコーダ本体２０Ｙ’の構成が第１の実施形態のエンコーダ２０Ｘとは異なるものとされている
・・・（中略）・・・
【００７３】
　
このエンコーダ本体２０Ｙ’では、反射面１３４に対して、光源２２からの光がＹ軸方向に沿って照射され
・・・（中略）・・・
【００７５】
　この場合、ウエハステージＷＳＴのＹ軸方向の移動に伴って、第１の固定スケール１３５に対する光源２２からの光の入射位置が変化するため、検出器２８で検出される光量分布が変化する。したがって、この光量分布の変化を検出器２８にて検出することにより、
ウエハステージＷＳＴのＹ軸方向に関する位置情報を計測することが可能である
【００７６】
　なお、図４（Ａ）では、ウエハステージＷＳＴのＹ軸方向の位置計測を行うエンコーダ本体２０Ｙ’のみを図示したが、これに限らず、
ウエハステージＷＳＴの＋Ｘ側端部（又は−Ｘ側端部）に反射面１３４と同様の反射面を設けるとともに、Ｘ軸方向計測用の第１の固定スケールを設け、これらに対応してエンコーダ本体２０Ｙ’と同様のＸ軸方向計測用のエンコーダ本体を設けることにより、ウエハステージＷＳＴのＸ軸方向の位置計測を行うこととしても良い
また、Ｘ軸方向の位置計測に用いる計測装置としてエンコーダを採用するのに代えて、例えば干渉計等の他の計測装置を採用することとしても良い。また、Ｘ軸方向の位置計測を本実施形態のエンコーダ本体を用いて行い、Ｙ軸方向の位置計測をエンコーダ以外の計測装置で計測しても良い
・・・（中略）・・・
【００７８】
　なお、上記実施形態では、ウエハステージＷＳＴの反射面１３４を用いて、ウエハステージＷＳＴのＹ軸方向位置を計測するエンコーダ本体２０Ｙ’を一つのみ設けることとしたが、これに限らず、
Ｙ軸方向位置を計測するエンコーダ本体をＸ軸方向に所定距離隔てて２つ設けることとしても良い。この場合、
各エンコーダ本体の計測結果の差分をとることにより、ウエハステージＷＳＴのＺ軸回りの回転を計測することが可能である
「【００７９】
《第３の実施形態》
　次に、本発明の第３の実施形態について、図５（Ａ）、図５（Ｂ）に基づいて説明する。ここで、前述した第２の実施形態と同一若しくは同等の構成部分については、同一の符号を用いるとともにその説明を簡略にし、若しくは省略するものとする。
【００８０】
　図５（Ａ）に示されるように、本第３の実施形態では、ウエハステージＷＳＴの反射面１３４にＸ軸方向を周期方向とするパターン（例えば、回折格子）が形成され、ウエハステージＷＳＴの上方には、Ｘ軸方向を周期方向とするパターン（例えば、回折格子）が形成され、ＸＹ平面とほぼ平行にＹ軸方向を長手方向とする固定スケール１３５’が設けられ、更に
エンコーダ本体２０Ｘ’の構成が上記第１、第２の実施形態と異なっている
・・・（中略）・・・
【００８５】
　検出器２８では、干渉光の光量分布を検出することにより、
ウエハステージＷＳＴのＸ軸方向の位置情報を計測することが可能である
・・・（中略）・・・
【００８９】
　なお、上記第３の実施形態では、Ｘ軸方向の位置情報のみを計測することとしたが、これに限らず、図６（Ａ）に示されるような構成を採用することも可能である。すなわち、本例では、図６（Ａ）に示されるように、固定スケール１３５に代えて、
第１の固定スケール２３５を設け、エンコーダ本体２０ＸＹを採用することとする
・・・（中略）・・・
【００９１】
　一方、
エンコーダ本体２０ＸＹは、図５（Ａ）のエンコーダ本体２０Ｘ’と、第２の実施形態のエンコーダ本体２０Ｙ’（図４（Ａ）参照）とを組み合わせたような構成を有しており
【００９２】
　このようにして構成されたエンコーダ本体２０ＸＹでは、
Ｘ軸方向の位置に関しては、上記第３の実施形態のエンコーダ本体（図５（Ａ）のエンコーダ本体）２０Ｘ’による計測と同様にして計測することができる
Ｙ軸方向の位置に関しては、反射面１３４で発生する０次光を用いることとしている（図６（Ａ）ではＹ軸方向の計測に用いる光が一点鎖線にて示されている）ので、上記第２の実施形態のエンコーダ本体（図４（Ａ）のエンコーダ本体）２０Ｙ’と同様にして計測を行うことができる
【００９３】
　このような図６（Ａ）に示されるエンコーダを用いることにより、
ウエハステージＷＳＴのＸ軸方向の位置及びＹ軸方向の位置を計測することができ
・・・（中略）・・・
【００９８】
　この他、
図５（Ａ）、図６（Ａ）及び図６（Ｂ）でそれぞれ示される構成の３つのエンコーダのうち、任意の２つを組み合わせ、その一方をウエハステージＷＳＴのＸ側に、他方をＹ側に配置しても良い
「【００９９】
《第４の実施形態》
　次に、本発明の第４の実施形態について図７（Ａ）〜図８（Ｃ）に基づいて説明する。
【０１００】
　本第４の実施形態では、上述した図６（Ａ）のエンコーダ本体２０ＸＹ及び前述の第２の実施形態の第１の固定スケール１３５を用いて、
ウエハステージＷＳＴのＺ軸方向の位置情報をも計測するものである
【０１０１】
　本第４の実施形態では、
光源２２から角度の異なる２つのレーザ光Ｌ１，Ｌ２（図７（Ｂ）参照）を反射面１３４に照射し、これら２つのレーザ光Ｌ１，Ｌ２による計測結果を用いてＺ軸方向及びＹ軸方向の位置情報を計測する
・・・（中略）・・・
【０１１１】
　なお、
上記第４の実施形態で説明した角度の異なる２つのレーザ光Ｌ１，Ｌ２を用いるエンコーダを２つ、Ｙ軸方向に関して投影光学系の一側と他側にそれぞれ配置し、その２つのエンコーダで計測されるウエハステージＷＳＴのＺ軸方向の位置情報から、ウエハステージＷＳＴのチルト情報（θｘ方向の回転情報）を計測しても良い
上記第４の実施形態で説明した角度の異なる２つのレーザ光Ｌ１，Ｌ２を用いるエンコーダを２つ、Ｘ軸方向に関して投影光学系の一側と他側にそれぞれ配置し、その２つのエンコーダで計測されるウエハステージＷＳＴのＺ軸方向の位置情報から、ウエハステージＷＳＴのチルト情報（θｙ方向の回転情報）を計測しても良い
投影光学系の＋Ｘ側、−Ｘ側、＋Ｙ側及び−Ｙ側の少なくとも１つの方向に、上記第４の実施形態で説明した角度の異なる２つのレーザ光Ｌ１，Ｌ２を用いるエンコーダを２つ配置しても良い
「【０１１４】
　なお、
上記各実施形態及び変形例に係るエンコーダは、適宜組み合わせて用いることが可能である
例えば、図１０に示されるように、２つの図６（Ｂ）のエンコーダ本体２０ＸＹ’と、第４の実施形態で説明した２軸方向の計測が可能なエンコーダ（図７（Ａ）〜図８（Ｃ）参照）とを用いることにより、Ｘ，Ｙ，Ｚ、θｘ、θｙ、θｚ方向を同時に計測することが可能となる
５．引用文献５について
　原査定の拒絶の理由に引用された引用文献５（特開２００９−５５０３６号公報）には、図面とともに次の事項が記載されている。
「【００７８】
　干渉計システム１１８は、図２に示されるように、
ウエハステージＷＳＴの位置計測用のＹ干渉計１６、Ｘ干渉計１２６、１２７、１２８、及びＺ干渉計４３Ａ，４３Ｂ
Ｙ干渉計１６及びＸ干渉計１２６、１２７、１２８（図１では、Ｘ干渉計１２６〜１２８は不図示、図２参照）は、ウエハテーブルＷＴＢの反射面１７ａ，１７ｂにそれぞれ測長ビームを照射して、それぞれの反射光を受光することにより、各反射面の基準位置（例えば投影ユニットＰＵ側面に固定ミラーを配置し、そこを基準面とする）からの変位、すなわちウエハステージＷＳＴのＸＹ平面内の位置情報を計測し
・・・（中略）・・・
【００８２】
　
Ｚ干渉計４３Ａ、４３Ｂは、図１及び図２を総合するとわかるように、Ｙ干渉計１６のＸ軸方向の一側と他側にほぼ同一距離離れて、且つＹ干渉計１６より幾分低い位置にそれぞれ配置されている
・・・（中略）・・・
【００８７】
　
主制御装置２０は、Ｙ干渉計１６の測長ビームＢ４
1
，Ｂ４
2
に対応する測長軸の計測値の平均値に基づいて反射面１７a、すなわちウエハテーブルＷＴＢ（ウエハステージＷＳＴ）のＹ位置（より正しくは、Ｙ軸方向の変位ΔＹ）を算出する
主制御装置２０は、測長ビームＢ４
1
，Ｂ４
2
に対応する測長軸の計測値の差より、ウエハステージＷＳＴのＺ軸回りの回転方向（θｚ方向）の変位（ヨーイング量）Δθｚ
（Ｙ）
を算出する
主制御装置２０は、反射面１７ａ及び反射面４１ａのＹ位置（Ｙ軸方向の変位ΔＹ）に基づいて、ウエハステージＷＳＴのθｘ方向の変位（ピッチング量）Δθｘを算出する
【００８８】
　また、
Ｘ干渉計１２６は、図２及び図１３に示されるように、投影光学系ＰＬの光軸を通るＸ軸方向の直線（基準軸）ＬＨに関して同一距離離れた２軸の測長軸に沿って測長ビームＢ５
1
，Ｂ５
2
をウエハテーブルＷＴＢに照射する
主制御装置２０は、測長ビームＢ５
1
，Ｂ５
2
に対応する測長軸の計測値に基づいて、ウエハステージＷＳＴのＸ軸方向の位置（Ｘ位置、より正しくは、Ｘ軸方向の変位ΔＸ）を算出する
主制御装置２０は、測長ビームＢ５
1
，Ｂ５
2
に対応する測長軸の計測値の差より、ウエハステージＷＳＴのθｚ方向の変位（ヨーイング量）Δθｚ
（Ｘ）
を算出する
・・・（中略）・・・
【００９４】
　
上記の変位ΔＺｏ、ΔＹｏは、Ｚ干渉計４３Ａ、４３Ｂのそれぞれで求められる
移動鏡４１（すなわちウエハステージＷＳＴ）のθｚ方向への変位（ヨーイング量）Δθｚ、θｙ方向への変位（ローリング量）Δθｙは次式（５）、（６）で求められる
　　Δθｚ＝ｔａｎ−１｛（ΔＹｏＲ−ΔＹｏＬ）／Ｄ｝　…（５）
　　Δθｙ＝ｔａｎ−１｛（ΔＺｏＬ−ΔＺｏＲ）／Ｄ｝　…（６）
【００９５】
　従って、
主制御装置２０は、上記式（３）〜式（６）を用いることで、Ｚ干渉計４３Ａ、４３Ｂの計測結果に基づいて、ウエハステージＷＳＴの４自由度の変位ΔＺｏ、ΔＹｏ、Δθｚ、Δθｙを算出することができる
【００９６】
　このように、
主制御装置２０は、干渉計システム１１８の計測結果から、６自由度方向（Ｚ、Ｘ、Ｙ、θｚ、θｘ、θｙ方向）に関するウエハステージＷＳＴの変位を求めることができる
第６　対比・判断
１．対比
　本願発明と引用発明とを対比すると、次のことがいえる。
（１）引用発明の「基板ステージ２」は、本願発明の「対象物」に相当する。
　また、引用発明では、「水平面内の所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれと直交する方向（すなわち鉛直方向）をＺ軸方向とし、」「基板ステージ２は、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸」「に移動可能であ」るから、引用発明における、「水平面内の所定方向」である「Ｘ軸方向」、「水平面内においてＸ軸方向と直交する」「Ｙ軸方向」、「Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれと直交する」「Ｚ軸方向」「に移動可能であ」る「基板ステージ２」は、本願発明の「２つの直交する第１及び第２のメイン移動軸（ｙ，ｘ）並びにこれに対して垂直な第３の軸（ｚ）に沿って可変に配置された対象物」と、「２つの直交する第１及び第２の移動軸（ｙ，ｘ）並びにこれに対して垂直な第３の軸（ｚ）に沿って可変に配置された対象物」である点で共通する。
　ここで、引用発明の「Ｘ軸方向と直交する」「Ｙ軸」、「Ｘ軸」は、本願発明における、「２つの直交する」、「第１」「のメイン移動軸（ｙ）」、「第２のメイン移動軸（ｘ）」と、「２つの直交する」、「第１の移動軸（ｙ）」、「第２の移動軸（ｘ）」である点で共通し、引用発明の「Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれと直交する」「Ｚ軸」は、本願発明の「これに対して垂直な第３の軸（ｚ）」に相当する。
（２）本願発明では、「６つ」「の空間的な自由度」について、「前記６つの空間的な自由度が、前記第１及び第２のメイン移動軸（ｙ，ｘ）に沿った、並びにこれら第１及び第２のメイン移動軸に対して垂直な前記第３の軸（ｚ）に沿った３つの並進運動自由度と、前記第１及び第２のメイン移動軸（ｙ，ｘ）周りの、並びにこれら第１及び第２のメイン移動軸に対して垂直な前記第３の軸（ｚ）周りの３つの回転運動自由度とを含んでおり」と特定されているところ、引用発明における、「Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とし」た際の、「基板ステージ２」が「移動可能であ」る「Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向」は、上記（１）をふまえると、本願発明における、「前記第１及び第２のメイン移動軸（ｙ，ｘ）に沿った、並びにこれら第１及び第２のメイン移動軸に対して垂直な前記第３の軸（ｚ）に沿った３つの並進運動自由度と、前記第１及び第２のメイン移動軸（ｙ，ｘ）周りの、並びにこれら第１及び第２のメイン移動軸に対して垂直な前記第３の軸（ｚ）周りの３つの回転運動自由度とを含んで」いる「６つ」「の空間的な自由度」と、「前記第１及び第２の移動軸（ｙ，ｘ）に沿った、並びにこれら第１及び第２の移動軸に対して垂直な前記第３の軸（ｚ）に沿った３つの並進運動自由度と、前記第１及び第２の移動軸（ｙ，ｘ）周りの、並びにこれら第１及び第２の移動軸に対して垂直な前記第３の軸（ｚ）周りの３つの回転運動自由度とを含んで」いる「６つ」「の空間的な自由度」である点で共通する。
（３）引用発明における、「基板ステージ２のＸ方向の移動に対応して設けられ」て「基板ステージ２のＸ方向」「の位置情報について」「計測」する「Ｘ方向用エンコーダシステム２０Ｘ」、「基板ステージ２のＹ方向の移動に対応して設けられ」て「基板ステージ２の」「Ｙ方向の位置情報について」「計測」する「Ｙ方向用エンコーダシステム２０Ｙ」、「基板ステージ２のＺ方向の移動を検出可能」で「基板ステージ２の」「Ｚ方向の位置情報について」「計測」する「干渉計システム１２Ｚ」は、上記（１）、（２）をふまえると、本願発明の「６つ全ての空間的な自由度において前記対象物の位置を検出するための複数の位置測定装置」と、「空間的な自由度において前記対象物の位置を検出するための複数の位置測定装置」である点で共通する。
　また、引用発明における、「Ｘ方向用エンコーダシステム２０Ｘは、基板ステージ２に対して、Ｙ軸の方向から光の射出及び検出を行い、」「Ｙ方向用エンコーダシステム２０Ｙは、基板ステージ２に対して、Ｘ軸の方向から光の射出及び検出を行い、」「干渉計システム１２Ｚは、基板ステージ２に対して、Ｙ軸の方向から光の射出及び検出を行」うことは、本願発明における「複数の光学的な前記位置測定装置が唯一の走査方向から前記対象物を走査するとともに、この走査方向が両メイン移動軸（ｙ，ｘ）のうちいずれかに一致」することと、「複数の光学的な前記位置測定装置が前記対象物を走査」する点で共通する。
（４）引用発明における、「基板ステージ２のＹ軸側に設けられ」た「Ｘ方向用エンコーダシステム２０Ｘの２つの回折格子（第１回折格子２２Ａ及び第２回折格子２２Ｂ）」、及び、「基板ステージ２のＸ軸側に設けられ」た「Ｙ方向用エンコーダシステム２０Ｙの２つの回折格子（第１回折格子２２Ａ及び第２回折格子２２Ｂ）」は、上記（１）、（３）をふまえると、本願発明における、「前記対象物において必要な、」「前記位置測定装置の」「標準器」に相当する。
　また、引用発明における、「基板ステージ２のＹ軸側に設けられる」「干渉計システム１２ＺでＹ軸の方向から射出された光を反射する面２２Ｄ」は、上記（１）、（３）をふまえると、本願発明における、「前記対象物において必要な、」「前記位置測定装置の」「測定反射器」に相当する。
　そうすると、引用発明における、「Ｘ方向用エンコーダシステム２０Ｘの２つの回折格子（第１回折格子２２Ａ及び第２回折格子２２Ｂ）は、基板ステージ２のＹ軸側に設けられ、Ｙ方向用エンコーダシステム２０Ｙの２つの回折格子（第１回折格子２２Ａ及び第２回折格子２２Ｂ）は、基板ステージ２のＸ軸側に設けられ、」「干渉計システム１２ＺでＹ軸の方向から射出された光を反射する面２２Ｄは、基板ステージ２のＹ軸側に設けられる」ことは、本願発明における、「前記対象物において必要な、様々な前記位置測定装置の全ての標準器及び測定反射器が前記対象物の共通の側に配置されている」ことと、「前記対象物において必要な、様々な前記位置測定装置の全ての標準器及び測定反射器が前記対象物に配置されている」点で共通する。
（５）引用発明における、「基板Ｐを保持して移動可能な基板ステージ２と、」「エンコーダシステム２０及び干渉計システムを備えた露光装置ＥＸ」は、上記（１）、（３）をふまえると、本願発明における、「対象物と、」「複数の位置測定装置とを備えて成」る「装置」に相当する。
　したがって、本願発明と引用発明との間には、次の一致点、相違点があるといえる。
（一致点）
「−　２つの直交する第１及び第２の移動軸（ｙ，ｘ）並びにこれに対して垂直な第３の軸（ｚ）に沿って可変に配置された対象物と、
　−　空間的な自由度において前記対象物の位置を検出するための複数の位置測定装置と
を備えて成り、複数の光学的な前記位置測定装置が前記対象物を走査し、６つの空間的な自由度が、前記第１及び第２の移動軸（ｙ，ｘ）に沿った、並びにこれら第１及び第２の移動軸に対して垂直な前記第３の軸（ｚ）に沿った３つの並進運動自由度と、前記第１及び第２の移動軸（ｙ，ｘ）周りの、並びにこれら第１及び第２の移動軸に対して垂直な前記第３の軸（ｚ）周りの３つの回転運動自由度とを含んでおり、
　前記対象物において必要な、様々な前記位置測定装置の全ての標準器及び測定反射器が前記対象物に配置されている装置。」
（相違点）
（相違点１）
　第１及び第２の移動軸（ｙ，ｘ）について、本願発明では「第１及び第２のメイン移動軸（ｙ，ｘ）」と特定されているが、
　引用発明では、「Ｙ軸」及び「Ｘ軸」が、「メイン」の移動軸かどうかは不明な点。
（相違点２）
　本願発明では、複数の位置測定装置が「６つ全ての空間的な自由度において」前記対象物の位置を検出すると特定されているが、
　引用発明では、「Ｘ方向用エンコーダシステム２０Ｘ」が「基板ステージ２のＸ方向」「の位置情報について」「計測」し、「Ｙ方向用エンコーダシステム２０Ｙ」が「基板ステージ２の」「Ｙ方向の位置情報について」「計測」し、「干渉計システム１２Ｚ」が「基板ステージ２の」「Ｚ方向の位置情報について」「計測」するに留まっており、３つの並進運動自由度において基板ステージ２の位置を検出する、とはいえるものの、「６つ全ての空間的な自由度において」基板ステージ２の位置を検出してはいない点。
（相違点３）
　本願発明では、複数の光学的な前記位置測定装置が「唯一の走査方向から」前記対象物を走査するとともに、「この走査方向が両メイン移動軸（ｙ，ｘ）のうちいずれかに一致」すること、及び、前記対象物において必要な、様々な前記位置測定装置の全ての標準器及び測定反射器が前記対象物「の共通の側」に配置されていること、が特定されているが、
　引用発明では、「Ｘ方向用エンコーダシステム２０Ｘ」及び「干渉計システム１２Ｚ」は、「基板ステージ２に対して、Ｙ軸の方向から光の射出及び検出を行」っているものの、「Ｙ方向用エンコーダシステム２０Ｙは、基板ステージ２に対して、Ｘ軸の方向から光の射出及び検出を行」っているから、「Ｘ方向用エンコーダシステム２０Ｘ」、「Ｙ方向用エンコーダシステム２０Ｙ」及び「干渉計システム１２Ｚ」が、「唯一の走査方向から」基板ステージ２を走査しているわけではなく、
　また、「Ｘ方向用エンコーダシステム２０Ｘの２つの回折格子（第１回折格子２２Ａ及び第２回折格子２２Ｂ）」及び「干渉計システム１２ＺでＹ軸の方向から射出された光を反射する面２２Ｄ」は、「基板ステージ２のＹ軸側に設けられ」るものの、「Ｙ方向用エンコーダシステム２０Ｙの２つの回折格子（第１回折格子２２Ａ及び第２回折格子２２Ｂ）は、基板ステージ２のＸ軸側に設けられ」ているから、「Ｘ方向用エンコーダシステム２０Ｘの２つの回折格子（第１回折格子２２Ａ及び第２回折格子２２Ｂ）」、「Ｙ方向用エンコーダシステム２０Ｙの２つの回折格子（第１回折格子２２Ａ及び第２回折格子２２Ｂ）」及び「干渉計システム１２ＺでＹ軸の方向から射出された光を反射する面２２Ｄ」の全てが、基板ステージ２「の共通の側」に配置されているわけではない点。
２．相違点についての判断
　事案に鑑みて、上記相違点３について先に検討する。
　引用文献４に記載された技術的事項は、「Ｙ軸用の干渉装置１００ｙは、Ｙ軸方向に平行な光軸を有する複数のビームを、ウエハテーブル８（ウエハステージ４）に配設された反射面１６ｙに照射し、反射面１６ｙからの反射ビームが干渉光学系を介して検出器２０に送られ、反射面１６ｙのＹ軸方向の位置（距離）、ひいてはウエハテーブル（ウエハステージ４）の位置が検出され」るものではあるが、それと同時に、「Ｘ軸用の干渉装置１００ｘの干渉光学系は、Ｘ軸方向に平行な光軸を有する複数のビームを、ウエハテーブル８（ウエハステージ４）に配設された反射面１６ｘに照射し、反射面１６ｘからの反射ビームが干渉光学系を介して検出器２０に送られ、反射面１６ｘのＸ軸方向の位置（距離）、ひいてはウエハテーブル（ウエハステージ４）の位置が検出され」るものでもある。
　そして、「Ｘ方向用エンコーダシステム２０Ｘ」及び「Ｙ方向用エンコーダシステム２０Ｙ」により「基板ステージ２のＸ方向及びＹ方向の位置情報」を「計測」する引用発明において、「Ｘ方向用エンコーダシステム２０Ｘ」の構成はそのままに、「Ｙ方向用エンコーダシステム２０Ｙ」の構成のみを代替すべく、「Ｙ軸用の干渉装置１００ｙ」が「Ｙ軸方向の位置（距離）」を「検出」するとともに「Ｘ軸用の干渉装置１００ｘ」が「Ｘ軸方向の位置（距離）」を「検出」する引用文献４に記載された技術的事項から、「Ｙ軸用の干渉装置１００ｙ」が「Ｙ軸方向の位置（距離）」を「検出」する構成のみを切り出して適用することに、動機づけを見出すことはできない。
　また、引用文献２には、各種の実施形態や変形例が記載されてはいるが、相違点３に係る本願発明の、対象物において必要な全ての標準器及び測定反射器を対象物の共通の側に配置し、複数の光学的な位置測定装置が唯一の走査方向から対象物を走査する、という技術思想に関連する技術的事項については記載されていない。
　引用文献１、５も、相違点３に係る本願発明の上記技術思想に関連する技術的事項を記載するものではない。
　そして、本願発明は、相違点３に係る構成を有することにより、「提案された装置について決定的なことは、使用される全ての位置測定装置の光学的な走査が１つの走査装置によりなされる点である。このことは、図示した実施例において、第１のメイン移動軸ｙであり、この第１のメイン移動軸ｙに沿って、第２のメイン移動軸ｘに対して明らかに長い対象物１に対する移動ストロークが可能である。」（【００７９】）という格別な効果を有する。
　したがって、他の相違点について判断するまでもなく、本願発明は、当業者であっても引用発明、引用文献１、２、４、５に記載された技術的事項に基づいて容易に発明できたものであるとはいえない。
第７　原査定についての判断
　以上のとおりであって、本願発明は、当業者であっても、拒絶査定において引用された引用文献１−５に基づいて容易に発明できたものとはいえない。したがって、原査定の理由を維持することはできない。
第８　当審拒絶理由についての判断
　本件補正により、請求項１の記載において「前記対象物（１）において必要な、様々な前記位置測定装置の全ての標準器（２３．２，２３．３）及び測定反射器（２３．１）」と特定されたから、特許法第３６条第６項第１号に係る当審拒絶理由は解消した。
第９　むすび
　以上のとおり、原査定の理由、当審拒絶理由によっては、本願を拒絶することはできない。
　また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり審決する。