Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【誤訳訂正書】
【提出日】平成22年5月17日(2010.5.17)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５１】
その後、当該麦汁は、以前ハイネケン特許（ＷＯ９５／２６３９５）に記載された篩プレートジオメトリーストリップカラムにおいて処理される。当該ストリッパーの先端で１５ｋｇ／ｈの流速、大気条件で１．５ｂａｒの蒸気をカウンターの向流操作（counter current operation）において使用し、望ましくない香味化合物（主にDMS）を除く。当該ストリッパーの底に取り残された麦汁を問題にならない寸法の小さい緩衝器に投入し、不連続の排出型の遠心機に直接に投入する。この機械は７４００ｒｐｍの回転速度と１３０００ｍ２の理論的収容因子を有する。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６４】
その後、当該麦汁は、ハイネケンの特許（WO95／26395）に以前記載された篩プレートジオメトリーストリッピングカラムにおいて処理される。１５ｋｇ／ｈの流速、大気条件、当該ストリッパーの先端で１．５ｂａｒの蒸気が向流操作において使用され、望まれない香味化合物（主にＤＭＳ）を除去する。当該ストリッパーの底に残った麦汁を問題にならなり寸法の小さい緩衝器に入れ、断続的な排出型の遠心機に直接に入れる。この機械は７４００ｒｐｍの回転速度と１３０００ｍ２の理論的収容因子を有する。当該麦汁の分析は最終希釈限界は８２〜８３％であることを示した。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００７８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００７８】
バッチを選択する場合には、当該成熟タンクの作業容量は、２４時間に生成された発酵された麦汁の総容量に等しい。当該温度は、当該成熟タンクへのパイプにおける加熱交換および／または天然発酵過熱発生により１５℃まで上げられる。この温度は、アセトラクテート（代謝発酵生成物）のジアセチルへの変換に好ましい。この段階における酵母の存在のために、当該酵母は、ジアセチルを吸収し、それをアセトンまたはその後の代謝物に変換する。それと共にビールにおけるジアセチルの負の影響は除かれ、残りのジアセチル濃度は点英的に＜２０ｐｐｂであることが測定される。ジアセチル減少が許容できる濃度に到達した後に、ビールは、−１．５℃に冷却され、数日間貯蔵される。この期間の後、ボディフィード（bodyfeed）として８０〜１００ｇ／Ｌ珪藻土の珪藻土で濾過される。濾過に先駆けて、ビールは、７０００００ｍ２の理論的収容因子で運転されるディスク型分離機で遠心され、全ての懸濁している固体を９５〜９８％の高率で除く。典型的な濾過作業は、６０００〜８０００ｈLにおいて、流速４〜５．５ｈＬ／ｍ２で行われる。この濾過の後に、ビールはＰＶＰＰ通常の投入および必要なＰＶＰＰの濾過で安定化される。最後に、ビールは、何れかの適切な容器（瓶、ケグ、缶）に詰められる。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００７９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００７９】
連続成熟方法を用いる場合には、当該タンクの表面領域を超えて当該ビールを分配するスプレーボール（spray ball）を介して当該グリーンビールを５２０ｍ３容器の先端に連続して入れる。この例において、当該ビールはシェルおよびチューブ加熱交換で１３℃〜１５に加熱された。これは、主な発酵の間に形成されるα−アセトラクテートのジアセチルへの上述の変換を促進するだろう。当該酵母は、当該ビールを経て安定し、ジアセチルおよび他のビシナルジケトンのアセトンおよびその後の代謝物への上述の変換を確立されるだろう。当該ビールは、この例において１００時間の滞留時間を有しており、残りのジアセチル濃度は７．３±２．３ｐｐｂ（９５％ Ｃｌ，ｎ＝６）である。当該酵母は、成熟タンクの円錐の底で落ち着き、取り除かれ、休止ビールとして処理される。成熟したビールは、まさにこの落ち着いた酵母錐の上から取り除かれ、連続加熱変換器を介してバッチ冷却貯蔵タンクに−１．５℃の温度で移される。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月21日(2010.5.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アミノ酸残基1〜1255（SEQ ID NO：94）、SEQ ID NO：94と少なくとも80％同一である領域、アミノ酸残基12〜261（SEQ ID NO：95）、SEQ ID NO：95と少なくとも80％同一である領域、アミノ酸残基318〜510（SEQ ID NO：96）、SEQ ID NO：96と少なくとも80％同一である領域、アミノ酸残基15〜680（SEQ ID NO：97）、およびSEQ ID NO：97と少なくとも80％同一である領域からなる群より選択される、ヒト重症急性呼吸器症候群（SARS）コロナウイルス（SARS-CoV）スパイク（S）タンパク質の領域に特異的に結合し、かつ受容体へのSタンパク質結合を遮断する、中和ヒトモノクローナル抗体またはその抗原結合部分であって、3.125μg/mlまたはそれ未満の抗体濃度で組織培養感染用量の200倍のウイルスの少なくとも50％（200xTCID50）を中和する、中和ヒトモノクローナル抗体またはその抗原結合部分。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月30日(2010.4.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２００ＭＨｚよりも高い周波数で動作するアンテナシステムであって、アンテナと、伝送線と、受信段とを備え、該伝送線は、該アンテナを該受信段の入力に電気的に接続し、該アンテナは、
５よりも大きい比誘電率を有する中実絶縁材料から成るアンテナコアであって、該コアの材料は、コア外側表面によって画定される容積の大部分を占める、アンテナコアと、
前記コアの前記外側表面に配置されるか又は該外側表面と隣接する３次元アンテナ素子構造とを有し、
前記アンテナは、前記コアの近位端において前記伝送線によって給電され、前記受信段は、増幅器及び電磁放射スクリーンを備え、該増幅器は該スクリーン内に位置付けられ、前記伝送線は、前記アンテナの給電接続部において実質的に平衡の取れた状態を提供するように構成される電流チョークを備える、アンテナシステム。
【請求項２】
前記コアは、近位面及び遠位面を有し、前記アンテナ素子構造は、前記近位面に端部を有する複数の細長い導電性素子を備え、前記伝送線は、前記端部のうちの１つに電気的に接続される第１の導体と、前記端部のうちの別の端部に電気的に接続される第２の導体とを備え、前記第１の導体は前記スクリーン内で終端する、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記第１の導体は、前記スクリーン内で前記増幅器の入力に電気的に接続され、前記第２の導体は、前記増幅器と共有されている接地導体に電気的に接続される、請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
前記電流チョークはスリーブバランである、請求項１から３のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項５】
前記スリーブバランは、前記第２の導体に沿って少なくとも１つの導電性部材を備え、該導電性部材は、該第２の導体に接続されている一端と、開回路である反対端とを有し、動作周波数において電気長が約１／４波長である、請求項４に記載のシステム。
【請求項６】
前記電流チョークは、少なくとも１つのフェライト層を備える、請求項１から３のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項７】
前記伝送線は平面部材によって形成され、前記第１の導体は該平面部材内に埋め込まれ、前記第２の導体は該平面部材の外側表面上に形成される、請求項１から６のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項８】
前記チョークは、前記伝送線と関連付けされる共振素子を備え、該共振素子は、前記アンテナコアを形成する前記材料の比誘電率よりも小さい比誘電率を有する材料から成る誘電素子で誘電的に負荷されている、請求項１から７のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項９】
前記誘電素子の前記比誘電率は、前記アンテナコアの材料の前記比誘電率よりも少なくとも５倍小さい、請求項８に記載のシステム。
【請求項１０】
前記チョークは、少なくとも１つの平面を有する共振素子を備える、請求項１から９のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項１１】
前記アンテナは中心軸を有し、前記共振素子の前記平面は該軸に対して平行である、請求項１０に記載のシステム。
【請求項１２】
前記チョークは、ラミネート基板上に導電性フィルムの形態の平面共振素子を備える、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１３】
前記チョークは前記アンテナコアから離間しており、前記伝送線は、前記チョークを越えて延びて前記アンテナ素子構造と接続部を形成する第１の導電性素子及び第２の導電性素子を備える、請求項８から１２のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項１４】
前記第１の導電性素子及び前記第２の導電性素子は、比誘電率が前記コアの比誘電率よりも少なくとも５倍小さい周囲を有する領域においてチョークを越えて延びる、請求項１３に記載のシステム。
【請求項１５】
前記アンテナ素子構造は少なくとも１対の細長いアンテナ素子を備え、各対の該素子は対向する構成で配置され、該アンテナ素子は、相互接続された第１の端と、前記給電接続部を構成する第２の端とを有する、請求項１から１４のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項１６】
前記コアは筒形であり、前記アンテナ素子はそれぞれ、前記コアの前記外側表面上の軸方向に離間した位置間に延び、前記素子の各対のそれぞれの前記離間した位置は、実質的に直径方向に対向している、請求項１５に記載のシステム。
【請求項１７】
前記相互接続部は、前記コアの前記外側表面に、又は該外側表面と隣接して形成される実質的に円形の連結素子によって提供される、請求項１６に記載のシステム。
【請求項１８】
前記アンテナ素子構造は、開回路遠位端を有する少なくとも１対のアンテナ素子を備える、請求項１から７のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項１９】
前記アンテナ素子は、等しい長さを有すると共に螺旋状であり、それぞれ前記離間した位置間で前記コアの周りを半回転する、請求項１５から１８のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項２０】
前記アンテナは、２線巻ヘリカルアンテナを形成する１対のアンテナ素子を備える、請求項１から１９のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項２１】
前記アンテナは、４線巻ヘリカルアンテナを形成する２対のアンテナ素子を備える、請
求項１から１９のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項２２】
２００ＭＨｚよりも高い周波数で動作するアンテナシステムであって、アンテナと、増幅段と、該アンテナと該増幅段とを相互接続する伝送線との組み合わせを備え、前記アンテナは、アンテナコアの外側表面に配置されるか又は該外側表面と隣接する３次元アンテナ素子構造を備え、前記コアは、５よりも大きい比誘電率を有する中実の電気絶縁材料から作製され、該材料は、前記コア外側表面によって画定される容積の大部分を占め、前記増幅段は、導電性スクリーン内に増幅器回路を備え、前記伝送線は、前記アンテナ素子構造の給電接続部において実質的に平衡の取れた給電接続部を提供するように構成される電流チョークを有する、アンテナシステム。
【請求項２３】
前記伝送線は、一端が前記アンテナ素子構造に接続され、他端が前記増幅器の入力に接続される第１の導体であって、該増幅器の入力への接続部は前記スクリーン内にある、第１の導体と、前記アンテナ素子構造から接地までの導電経路を提供する第２の導体であって、該導電経路は、該第２の導体の一端における前記アンテナ素子構造から、前記増幅器の入力と隣接する接地接続部まで直接延びる、第２の導体とを備え、前記接地接続部は前記第２の導体の他端にあり、前記チョークは前記第２の導体の外側に位置する、請求項２２に記載のシステム。
【請求項２４】
前記伝送線の前記第２の導体は前記第１の導体の遮蔽体であり、前記チョークは、前記システムの動作周波数において実質的に１／４波長であるか又は１／４波長の奇数倍である電気長を有する第３の導体を備え、該第３の導体は、前記第２の導体との接続部から前記アンテナの近くの開回路端まで前記第２の導体に沿って延びる、請求項２３に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月15日(2010.4.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所望のレベルで標的遺伝子を発現する前駆細胞を産生するための方法であって、
（ａ）培養前駆細胞の不均一集団を提供すること；
（ｂ）同じｍＲＮＡからの（ｉ）標的遺伝子および（ｉｉ）細胞表面マーカー遺伝子の翻訳に適合する配列を介して（ｉｉ）細胞表面マーカー遺伝子に連結された（ｉ）標的遺伝子で該前駆細胞を安定に形質導入すること；
（ｃ）標的遺伝子の発現レベルを細胞表面マーカー遺伝子の発現レベルと相関させること；
（ｄ）該標的遺伝子を所望の閾値で発現する培養前駆細胞の参照クローンを選択すること；および
（ｅ）（ｉ）該参照クローンと同じかもしくは該参照クローンより低いレベルまたは（ｉｉ）該参照クローンと同じかもしくは該参照クローンより高いレベルの該標的遺伝子の発現を有する前駆細胞を、該細胞表面マーカーを介して単離すること、
を含む方法。
【請求項２】
工程（ｄ）においてそれぞれ下方閾値および上方閾値で前記遺伝子を発現する２つの参照クローンを選択し、そして２つの参照クローンの発現のレベルの間の該標的遺伝子の発現のレベルを有する前駆細胞を工程（ｅ）において単離する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
工程（ｄ）において異なるレベルで前記遺伝子を発現する２つ以上の参照クローンを選択し、該参照クローンを使用して、標的遺伝子発現の下方閾値および上方閾値を規定し、そして発現の下方閾値レベルと上方閾値レベルとの間の任意の所望のレベルの該標的遺伝子の発現のレベルを有する前駆細胞を工程（ｅ）において単離する、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
工程（ｄ）における前記細胞表面マーカーの発現レベルを、蛍光標示式細胞分取器（ＦＡＣＳ）を介して定量する、請求項１、２または３に記載の方法。
【請求項５】
工程（ｄ）における前記標的遺伝子の発現レベルを、ＥＬＩＳＡ、ＲＩＡ、ＥＩＡ、ウエスタンブロットおよび表面プラズモン共鳴から選択される方法を介して定量する、請求項１、２または３に記載の方法。
【請求項６】
前記標的遺伝子が、転写因子もしくは成長因子レセプターをコードする、決定された閾値レベルを上回って宿主微小環境において発現されるときに毒性効果を有する、または効力もしくは効力の増加のために最小発現レベルが所望される遺伝子である、請求項１、２または３に記載の方法。
【請求項７】
前記標的遺伝子が、血管内皮細胞増殖因子（ＶＥＧＦ）である、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記標的遺伝子が、構成的活性型ＨＩＦ−１α、ＰＤＧＦＲβまたはＰＤＧＦｂである、請求項６に記載の方法。
【請求項９】
前記細胞表面マーカー遺伝子が、本来の生物学的活性のないトランケートされた形態の、容易に定量可能な内在性細胞表面化合物である、請求項１、２または３に記載の方法。
【請求項１０】
前記細胞表面マーカー遺伝子が、ＣＤ８／ＣＤ８ａのトランケートされた型である、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
工程（ｂ）において同じｍＲＮＡからの翻訳に適合する配列がリボソーム内部進入部位（ＩＲＥＳ）である、請求項１、２または３に記載の方法。
【請求項１２】
培養前駆細胞の不均一集団が、初代筋芽細胞、骨髄由来間葉幹細胞、脂肪組織由来間葉幹細胞または心臓幹細胞から選択される、請求項１、２または３に記載の方法。
【請求項１３】
所望のレベルで宿主において標的遺伝子を発現する前駆細胞を産生するためのシステムであって、
（ａ）同じｍＲＮＡからの（ｉ）標的遺伝子および（ｉｉ）細胞表面マーカーの翻訳に適合する配列を介して（ｉｉ）細胞表面マーカーに連結された（ｉ）標的遺伝子を提供する宿主ゲノムに組み込む構築物；および
（ｂ）
（１）前駆細胞を該構築物で安定に形質導入すること；および
（２）該前駆細胞において該標的遺伝子の発現レベルを該細胞表面マーカーを介して評価することができるように標的遺伝子の発現レベルを細胞表面マーカーの発現レベルと相関させること、
のための説明書；
を含むシステム。
【請求項１４】
前記構築物がレトロウイルス構築物である、請求項１３に記載のシステム。
【請求項１５】
インビボ遺伝子治療のためのシステムであって、
同じｍＲＮＡからの（ｉ）標的遺伝子および（ｉｉ）細胞表面マーカーの翻訳に適合する配列を介して（ｉｉ）細胞表面マーカーに連結された（ｉ）標的遺伝子を提供する構築物で安定に形質導入された前駆細胞の均一集団を含み、該均一集団は、該前駆細胞を導入しようとする宿主微小環境において該標的遺伝子の発現レベルが所望されるとおりであるように、該細胞表面マーカーを介して選択されている、システム。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月10日(2010.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マイクロ波レンジの波である電磁波（１１）を直流電圧に変換する装置（１）であって、
前記マイクロ波の電磁波（１１）を入力電気信号に変換可能な少なくとも１つのアンテナ（３）と、
前記入力電気信号をフィルタし、フィルタ信号を生成可能な第１のフィルタ（４）と、
前記フィルタ信号を整流し、出力電圧を生成可能な全波整流器（５）と、
前記出力電圧をフィルタして前記直流電圧を生成可能な第２のフィルタ（６）と
を備え、
前記第１のフィルタ（４）および前記第２のフィルタ（６）が、前記整流器（５）を介したそれらの電流ソースと電圧ソースとの連結を満たすように配置されている装置（１）。
【請求項２】
前記整流器が直接整流器（５）であり、前記第１のフィルタ（４）が前記整流器から見て電圧発生器であり、前記第２のフィルタ（６）が前記整流器から見て電流発生器である、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記整流器（５）が直接整流器であり、前記第１のフィルタ（４）が前記整流器から見て電流発生器であり、前記第２のフィルタ（６）が前記整流器から見て電圧発生器である、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記整流器（５）がスイッチング・ダイオードのみで構成されている、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の装置。
【請求項５】
前記マイクロ波の電磁波（１１）を直流電圧に変換する請求項１乃至４のいずれか１項に記載の装置と、負荷（７）とを備える電気機器であって、
前記直流電圧によって前記負荷（７）に給電可能であり、前記第１のフィルタ（４）と前記整流器（５）と前記第２のフィルタ（６）と前記負荷（７）とにより、前記アンテナ（３）に接続された帰還アセンブリ（１２）が形成され、前記帰還アセンブリが帰還インピーダンス（Ｒｅｑ）を有し、前記アンテナ（３）がアンテナ・インピーダンス（Ｒ１）を有し、前記帰還インピーダンス（Ｒｅｑ）と前記アンテナ・インピーダンス（Ｒ１）とが等しくなるように前記帰還アセンブリ（１２）のサイズが設定された、電気機器。
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月21日(2010.1.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
鋼基板（例えば、鋼ストリップ又は鋼板）と、前記鋼基板の少なくとも一面へ付与される亜鉛系防食コーティングとから形成される、フラット鋼生成物であって、
前記亜鉛系防食コーティングが、（以下、重量％で表示）：
Ｍｇ： ０．２５〜２．５％
Ａｌ： ０．２〜３．０％
Ｆｅ： ≦４．０％
及び、場合により、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｃｄ、Ｔｉ、Ｂ、Ｓｉ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｓｎ及び希土類からなる群からの１つ以上の元素を全体で０．８％以下、残余亜鉛、並びに、不可避の不純物を含み、そして、
中間層（フラット鋼生成物の表面に直接隣接する表面層と鋼基板に隣接する境界層との間に広がっており、そして、防食コーティングの全体の厚さの少なくとも２０％に達する厚さを有している）において最大０．５重量％のＡｌ含有量を有している、前記フラット鋼生成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
中間層の厚さが、防食コーティングの全体の厚さの少なくとも２５％であることを特徴とする、請求項１又は２に記載のフラット鋼生成物。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１３】
鋼基板（例えば、鋼ストリップ又は鋼板）上に防食コーティングをつくる、フラット鋼生成物の製造方法であって、
前記鋼基板を焼鈍し、焼鈍温度から開始してストリップ入口温度４００〜６００℃まで冷却し、そして、前記ストリップ入口温度で、（以下、重量％で表示）Ａｌ０．１〜０．４％、Ｍｇ０．２５〜２．５％、Ｆｅ０．２％以下、残余亜鉛、及び不可避の不純物を含む溶融浴中に前記鋼基板を導入し、そして、浴温度４２０〜５００℃まで加熱する、
前記方法において、
ストリップ浸漬温度と浴温度との温度差が−２０℃〜＋１００℃の範囲で変化することによって、防食コーティングを鋼基板上に形成し、
前記防食コーティングが、（以下、重量％で表示）
Ｍｇ： ０．２５〜２．５％
Ａｌ： ０．２〜３．０％
Ｆｅ： ≦４．０％
及び、場合により、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｃｄ、Ｔｉ、Ｂ、Ｓｉ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｓｎ及び希土類からなる群からの１つ以上の元素を全体で０．８％以下、残余亜鉛、並びに、不可避の不純物を含み、そして
中間層（フラット鋼生成物の表面に直接隣接する表面層と鋼基板に隣接する境界層との間に広がっており、そして、防食コーティングの全体の厚さの少なくとも２０％に達する厚さを有している）において最大０．５重量％のＡｌ含有量を有している、
前記方法。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、鋼基板（例えば、鋼ストリップ又は鋼板）と、前記鋼基板の少なくとも一面に付与される亜鉛系防食コーティングとから形成されるフラット鋼生成物に関する。更に、本発明は、前記フラット鋼生成物の製造方法にも関する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
前記目的は、本発明によると、
鋼基板（例えば、鋼ストリップ又は鋼板）と、前記鋼基板の少なくとも一面へ付与される亜鉛系防食コーティングとから形成される、フラット鋼生成物であって、
前記亜鉛系防食コーティングが、（以下、重量％で表示）：
Ｍｇ： ０．２５〜２．５％
Ａｌ： ０．２〜３．０％
Ｆｅ： ≦４．０％
及び、場合により、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｃｄ、Ｔｉ、Ｂ、Ｓｉ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｓｎ及び希土類からなる群からの１つ以上の元素を全体で０．８％以下、残余亜鉛、並びに、不可避の不純物を含み、そして、
中間層（フラット鋼生成物の表面に直接隣接する表面層と鋼基板に隣接する境界層との間に広がっており、そして、防食コーティングの全体の厚さの少なくとも２０％に達する厚さを有している）において最大０．５重量％のＡｌ含有量を有している、前記フラット鋼生成物に関して達成される。
相当して、前記目的は、本発明によると、
鋼基板（例えば、鋼ストリップ又は鋼板）上に防食コーティングをつくる、フラット鋼生成物の製造方法であって、
前記鋼基板を焼鈍し、焼鈍温度から開始してストリップ入口温度４００〜６００℃まで冷却し、そして、前記ストリップ入口温度で、（以下、重量％で表示）Ａｌ０．１〜０．４％、Ｍｇ０．２５〜２．５％、Ｆｅ０．２％以下、残余亜鉛、及び不可避の不純物を含む溶融浴中に前記鋼基板を導入し、そして、浴温度４２０〜５００℃まで加熱する、
前記方法において、
ストリップ浸漬温度と浴温度との温度差が−２０℃〜＋１００℃の範囲で変化することによって、防食コーティングを基板上に形成し、
前記防食コーティングが、（以下、重量％で表示）
Ｍｇ： ０．２５〜２．５％
Ａｌ： ０．２〜３．０％
Ｆｅ： ≦４．０％
及び、場合により、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｃｄ、Ｔｉ、Ｂ、Ｓｉ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｓｎ及び希土類からなる群からの１つ以上の元素を全体で０．８％以下、残余亜鉛、並びに、不可避の不純物を含み、そして、
中間層（フラット鋼生成物の表面に直接隣接する表面層と鋼基板に隣接する境界層との間に広がっており、そして、防食コーティングの全体の厚さの少なくとも２０％に達する厚さを有している）において最大０．５重量％のＡｌ含有量を有している、
前記方法に関して達成される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
ストリップ浸漬及び／又は浴温度の適当な設定によって、本発明方法の実施で使用される溶融浴の比較的低いＡｌ含有量が、本発明により所望される層構造の性質にさえも直接影響を及ぼすことができることが分かった。本発明方法によって、鋼基板に隣接する境界層中で高いＡｌ及びＭｇ含有量が濃縮することが達成され、それに対して、中間層では特に低いＡｌ含有量が存在するということが達成される。浸漬時のストリップ温度と溶融浴の温度との温度差は、特に重量である。この温度差が−２０℃〜１００℃（好ましくは、−１０℃〜７０℃）の範囲で変化するので、本発明により最小限化されるＡｌの中間層における存在を目標とされた態様で確実に設定することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月18日(2010.5.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
鋼製のベース層と、前記ベース層へ付与される防食システムとを有するフラット鋼生成物であって、
前記防食システムは、厚さ３．５μｍ未満の金属コーティングと、前記金属コーティング上に付与されるプラズマポリマー層とを有しており、
ここで、前記金属コーティングが、前記ベース層上に付与される第１金属層と、前記第１金属層上に付与される第２金属層とから形成され、そして、前記第２金属層が、前記第１金属層と共に金属合金を形成している、前記フラット鋼生成物。
【請求項２】
プラズマポリマー層が、最大２５００μｍ厚であることを特徴とする、請求項１に記載のフラット鋼生成物。
【請求項３】
プラズマポリマー層が、１００〜１０００ｎｍ厚であることを特徴とする、請求項２に記載のフラット鋼生成物。
【請求項４】
プラズマポリマー層が、２００〜５００ｎｍ厚であることを特徴とする、請求項３に記載のフラット鋼生成物。
【請求項５】
第１金属層が、Ｚｎ、Ａｌ、Ｚｎ−Ｎｉ、Ｚｎ−Ｆｅ、又はＺｎ−Ａｌのコーティングであることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載のフラット鋼生成物。
【請求項６】
第２金属層が、亜鉛合金コーティングであることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載のフラット鋼生成物。
【請求項７】
第２金属層が、Ｍｇ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｎｉ、又はそれらの合金からなる群からの少なくとも１つの元素から形成されることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一項に記載のフラット鋼生成物。
【請求項８】
第２層の厚さが、１００〜２０００ｎｍに達することを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一項に記載のフラット鋼生成物。
【請求項９】
第２層の厚さが、２００〜１０００ｎｍに達することを特徴とする、請求項８に記載のフラット鋼生成物。
【請求項１０】
プラズマポリマー層が、オルガノシラン化合物、炭化水素化合物、有機金属化合物、又はそれらの混合物から形成されることを特徴とする、請求項１〜９のいずれか一項に記載のフラット鋼生成物。
【請求項１１】
防食システムでコーティングされるフラット鋼生成物の製造方法であって、
前記フラット鋼生成物のベース層を形成する鋼基板上に第１金属層を付与し、前記第１金属層上に第２金属層を付与し、そして、前記第１金属層と前記第２金属層とから形成される前記コーティング上にプラズマポリマー層を付与し、
ここで、前記第２金属層は、熱処理の結果として、前記第１金属層と共に合金となり、そして、前記第１金属層と前記第２金属層とから形成される金属コーティングの合計の厚さが３．５μｍ未満に達する、前記方法。
【請求項１２】
プラズマポリマー層が、最大２５００μｍ厚であることを特徴とする、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
プラズマポリマー層が、１００〜１０００ｎｍ厚であることを特徴とする、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
プラズマポリマー層が、２００〜５００ｎｍ厚であることを特徴とする、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
第１層が亜鉛層であり、前記亜鉛層を電解ガルバナイジング、どぶ漬けガルバナイジング、又は、真空蒸着によってベース層上へ付与することを特徴とする、請求項１１〜１４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６】
第１層が、Ａｌ、Ｚｎ−Ｎｉ、Ｚｎ−Ｆｅ、又はＺｎ−Ａｌの化合物から形成されることを特徴とする、請求項１１〜１５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１７】
第２金属層が、マグネシウム含有層であることを特徴とする、請求項１１〜１６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１８】
第２金属層が、Ａｌ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｎｉ又はそれらの合金から形成されることを特徴とする、請求項１１〜１７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１９】
第２金属層を、熱蒸着によって第１層上に蒸着させることを特徴とする、請求項１１〜１８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２０】
プラズマポリマー層を、中空陰極グロー放電によって蒸着させることを特徴とする、請求項１１〜１９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２１】
中空陰極グロー放電の蒸着速度が、１０〜１０００ｎｍ／秒であることを特徴とする、請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
中空陰極グロー放電の蒸着速度が、２０〜７５０ｎｍ／秒であることを特徴とする、請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
中空陰極グロー放電の蒸着速度が、５０〜５００ｎｍ／秒であることを特徴とする、請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
中空陰極グロー放電の蒸着速度が、５０〜３６０ｎｍ／秒であることを特徴とする、請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
熱処理の温度が、５００℃未満であることを特徴とする、請求項１１〜２４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２６】
プラズマポリマー層の付与前に熱処理を実施することを特徴とする、請求項１１〜２５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２７】
プラズマポリマー層の付与後に熱処理を実施することを特徴とする、請求項１１〜２６のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
耐食抵抗性を有し、そして、容易に溶接可能なフラット鋼生成物の製造方法に関して、前記目的は、防食システムでコーティングされるフラット鋼生成物の製造方法であって、
前記フラット鋼生成物のベース層を形成する鋼基板上に第１金属層を付与し、前記第１金属層上に第２金属層を付与し、そして、前記第１金属層と前記第２金属層とから形成される前記コーティング上にプラズマポリマー層を付与し、
ここで、前記第２金属層は、熱処理の結果として、前記第１金属層と共に合金となり、そして、前記第１金属層と前記第２金属層とから形成される金属コーティングの合計の厚さが３．５μｍ未満に達する、本発明による適当な態様における前記方法によって達成される。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月10日(2010.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
連続強化繊維を有する繊維材料から成る成形材料であって、該連続強化繊維の少なくともいくつかは、それらの長さに沿う少なくとも一つの地点で切断され、該切断は繊維材料の一つ又は複数の領域に選択的に設けられ、該領域は、成形時に成形材料が比較的複雑なもしくは入り組んだ形状もしくはプロフィルに適合することが必要となる領域として事前に設定され、前記切断が適合を助長する成形材料。
【請求項２】
各繊維は複数の区域から成り、該区域の少なくともいくつかはほぼ繊維の長さに沿って整列され、各区域は、長さが５〜１００ｍｍの比較的短い長さの繊維から成る請求項１の成形材料。
【請求項３】
各比較的短い長さの繊維は、１５〜７５ｍｍの範囲内の長さを有する請求項２の成形材料。
【請求項４】
前記成形材料における繊維の少なくともいくつかは単方向のもので、ほぼ一方向に延び、前記切断は、単方向繊維の方向に対し２０度〜１１０度の角度、特に４５度の角度で延びる請求項１〜３のいずれか一つの成形材料。
【請求項５】
前記切断の一つ又は複数は、前記繊維の５〜５０％を横切って延びる請求項１〜４のいずれか一つの成形材料。
【請求項６】
前記切断の一つ又は複数は、前記繊維の１５〜３０％を横切って延びる請求項５の成形材料。
【請求項７】
切断の一つ又は複数は単方向繊維のすべてを横切って延びる請求項４〜６のいずれか一つの成形材料。
【請求項８】
切断の繰り返しパターンが繊維材料を横切って与えられる請求項１〜７のいずれか一つの成形材料。
【請求項９】
前記繊維材料は、シート又は層の形態であり、かつ繊維体積分率が４０〜７０％のオーダーである単方向材料から成る請求項１〜８のいずれか一つの成形材料。
【請求項１０】
前記繊維層は、繊維体積分率がほぼ３０％〜６５％の織ったか、縫ったか、編んだか又は組んだ布から成る請求項９の成形材料。
【請求項１１】
前記成形材料は、繊維材料、特に該繊維材料における切断された繊維を前記整列状態に保つことを支援し、該繊維材料の完全性を維持するため、これらを支持する支持手段を含む請求項１〜１０のいずれか一つの成形材料。
【請求項１２】
前記支持手段は、繊維材料が支えられる支持材料の層から成る請求項１１の成形材料。
【請求項１３】
前記繊維材料は前記支持手段に解放可能に取り付けられる請求項１１又は１２の成形材料。
【請求項１４】
前記成形材料は、含浸を伴わずに繊維材料の少なくとも一つの表面に設けられる樹脂材料を含む請求項１〜１３のいずれか一つの成形材料。
【請求項１５】
前記成形材料は、前記繊維材料の一側面上に第２の繊維材料を含む請求項１〜１４のいずれか一つの成形材料。
【請求項１６】
前記成形材料は繊維材料から成る複数の層を含み、該層の少なくとも一つは、他の層に対して又は該他の層の少なくとも一つの層に対して、それぞれの層における特に単方向繊維の場合の繊維の方向が交差するように向けられる請求項１〜１５のいずれか一つの成形材料。
【請求項１７】
前記繊維は相互にほぼ垂直に交差する請求項１６の成形材料。
【請求項１８】
前記成形材料は、前記繊維材料から成る二つの隣り合う層を含み、該層は、一方の層における前記切断又は該切断の少なくともいくつかが、他の層における切断又は該切断の少なくともいくつかに対し互いに交差し、ほぼ垂直に延びる請求項１６又は１７の成形材料。
【請求項１９】
連続強化繊維から成る繊維材料を有する成形材料を製造する方法であって、前記連続強化繊維の長さに沿う少なくとも一つの地点において該連続強化繊維の少なくともいくつかを切断する工程を含み、該切断は繊維材料の一つ又は複数の領域に選択的に設けられ、該領域は、成形時に成形材料が比較的複雑なもしくは入り組んだ形状もしくはプロフィルに適合することが必要となる領域として事前に設定され、前記切断が適合を助長する方法。
【請求項２０】
前記繊維は５〜１００ｍｍの長さに切断される請求項１９の方法。
【請求項２１】
前記繊維は１５〜７５ｍｍの長さに切断される請求項１９又は２０の方法。
【請求項２２】
前記切断の一つ又は複数は、前記繊維の長さの方向を横切る横方向に、前記単方向繊維の方向に対し２０度〜１１０度の角度で成される請求項１９〜２１のいずれか一つの方法。
【請求項２３】
前記角度は約４５度である請求項２２の方法。
【請求項２４】
前記切断の一つ又は複数は、前記材料の繊維の５〜５０％を横切って延びるように成される請求項１９〜２３のいずれか一つの方法。
【請求項２５】
前記切断の一つ又は複数は、前記繊維の１５〜３０％を横切って延びるように成される請求項２４の方法。
【請求項２６】
前記切断の一つ又は複数は前記単方向繊維のすべてを横切って延びるように成される請求項２２〜２５のいずれか一つの方法。
【請求項２７】
前記繊維材料は、繊維体積分率が４５〜７０％のオーダーである単方向材料から成る繊維層又はシートの形態である請求項１９〜２６のいずれか一つの方法。
【請求項２８】
使用される前記繊維材料は、繊維体積分率がほぼ３０％〜６０％の織ったか、縫ったか、編んだか又は組んだ布から成る請求項２７の方法。
【請求項２９】
前記繊維材料、特に該繊維材料における切断された繊維を前記整列状態に保つことを支援し、該繊維材料の完全性を維持するため、これらを支持する支持手段が用いられる請求項１９〜２８のいずれか一つの方法。
【請求項３０】
使用される前記支持手段は、繊維材料が支えられる支持材料の層から成る請求項２９の方法。
【請求項３１】
樹脂材料の層が、含浸を一部伴うか又は含浸を伴わずに繊維材料の少なくとも一つの表面に設けられる請求項１９〜３０のいずれか一つの方法。
【請求項３２】
使用される前記樹脂材料は前記支持手段を含む請求項３１の方法。
【請求項３３】
前記成形材料は繊維材料から成る複数の層を用いて製造され、該層の少なくとも一つは、他の層に対して又は該他の層の少なくとも一つの層に対して、それぞれの層における特に単方向繊維の場合の繊維の方向が相互にほぼ交差するように向けられる請求項１９〜３２のいずれか一つの方法。
【請求項３４】
請求項１〜１８のいずれか一つに定義された成形材料を用いて形成される成形品。
【請求項３５】
請求項１〜１８のいずれか一つに定義された成形材料を用いて物品を成形する方法であって、前記成形材料の一つ又は複数の層を型又は器具に敷く工程と、該成形材料を成形する状況に該成形材料を置く工程とを含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月4日(2009.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
(i)少なくとも2つの変性剤を含むヘアリラクシング組成物をケラチン線維に適用するステップ、
(ii)加熱手段を用いて、ケラチン線維の温度を110℃と250℃との間の温度まで上昇させるステップ
を含む、ケラチン線維をリラックスさせるための方法。
【請求項２】
組成物のpHが、9未満、より優先的には7未満であることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
【請求項３】
ヘアリラクシング組成物が、総濃度で1Mと8Mとの間、好ましくは2Mと8Mとの間の前記変性剤を含むことを特徴とする、請求項1または2に記載の方法。
【請求項４】
加熱手段を用いて、温度を、120℃と220℃との間、より有利には140℃と220℃との間の温度に上昇させることを特徴とする、請求項1から3のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
変性剤のモル質量が40g/molと600g/molとの間であることを特徴とする、請求項1から4のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
組成物が湿ったケラチン線維に適用されることを特徴とする、請求項1から5のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
変性剤が、タンパク質変性剤から選択されることを特徴とする、請求項1から6のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
変性剤のうちの少なくとも1つが尿素であることを特徴とする、請求項1から7のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
変性剤が、塩酸アセタミジンおよびN-メチルモルホリンN-オキシドタイプのアミンオキシドから選択される、請求項1から7のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
少なくとも:
- 110℃と250℃との間の温度を与える1つの加熱手段、
- 請求項1から31のいずれか一項に定義の少なくとも2つの変性剤を含む1つのヘアリラクシング組成物
を含む、キット。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月4日(2009.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
(i)少なくとも1つのα-ヒドロキシ酸及び/またはケト酸誘導体を含む、9以下のpHを有するヘアリラクシング組成物をケラチン線維に適用するステップ、
(ii)加熱手段を用いて、ケラチン線維の温度を110℃と250℃との間の温度まで上昇させるステップ
を含む、ケラチン線維をリラックスさせるための方法。
【請求項２】
加熱手段を用いて、温度を、120℃と220℃との間、より有利には140℃と220℃との間の温度に上昇させることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
【請求項３】
組成物が湿ったケラチン線維に適用されることを特徴とする、請求項1または2に記載の方法。
【請求項４】
線維が部分的に予乾燥されていることを特徴とする、請求項1から3のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
α-ヒドロキシ酸及び/またはケト酸誘導体のモル濃度が、2Mと8Mとの間、有利には4Mと8Mとの間であることを特徴とする、請求項1から4のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
α-ヒドロキシ酸誘導体が、一般式(I):
【化１】
2009537620.tif 000001
[R1は、H、OH、NH2、CH2-COOHまたは直鎖状もしくは分枝状C1〜C4アルキル基を表し、
R2は、H、COOH、CHOH-COOH、CF3、CH=CH2、NHCONH2; OH、Cl、NH2、COOH、CF3およびSCH3から選択される基によって任意選択で置換された直鎖状、分枝状または環状C1〜C8アルキル基;1つのOHまたはOCH3基によって任意選択で置換されたフェニルまたはベンジル基;あるいは別法として、基
【化２】
2009537620.tif 000002
を表し、
R1およびR2はまた、一緒になって、それらを保持する炭素原子とともに、オキソ基(=O)またはシクロプロピル、シクロブチル、ヒドロキシシクロブチル、シクロペンチルまたはシクロヘキシル環、あるいは別法として基
【化３】
2009537620.tif 000003
を形成してよく、
R1=Hのとき、R2はまた、(CHOH)2CH2OHまたは(CHOH)3CH2OH基であってよく、
Rは、OHあるいは式中R3、R4=Hまたは1つもしくは2つのOH基によって任意選択で置換された直鎖状もしくは分枝状C1〜C4アルキルであるNR3R4を表す]
に相当するα-ヒドロキシ酸誘導体、およびこれらの立体異性体、有機または無機塩および溶媒和物であることを特徴とする、請求項1から5のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
式(I)の化合物が:
グリコール酸
シュウ酸
乳酸
1-ヒドロキシ-1-シクロプロパンカルボン酸
2-ヒドロキシ-3-ブテン酸
2-ヒドロキシイソ酪酸
2-ヒドロキシ-n-酪酸
イソセリン
グリセリン酸
2-ヒドロキシ-3-メチル酪酸
2-ヒドロキシ-2-メチル酪酸
2-ヒドロキシ吉草酸
4-アミノ-2-ヒドロキシ酪酸
1-ヒドロキシシクロヘキサンカルボン酸
ジヒドロキシフマル酸
シトラマル酸
酒石酸
クエン酸
2-ヒドロキシ-4-(メチルチオ)酪酸
マンデル酸
2-ヒドロキシ-3-メチル吉草酸
グリオキシル尿素
β-イミダゾール乳酸
2-トリフルオロメチル-2-ヒドロキシプロピオン酸
ヘキサヒドロマンデル酸
2-ヒドロキシオクタン酸
アラビン酸
3-フェニル乳酸
ヒドロキシフェニルグリシン
3-ヒドロキシマンデル酸
4-ヒドロキシマンデル酸
2-ヒドロキシノナン酸
L-アルギン酸
3-メトキシマンデル酸
4-メトキシマンデル酸
3-(4-ヒドロキシフェニル)乳酸
タルトロン酸
酒石酸
β-クロロ乳酸
1-シクロペンタノール-1-カルボン酸
1,2-ジヒドロキシシクロブタンカルボン酸
2-エチル-2-ヒドロキシ酪酸
α-ヒドロキシイソカプロン酸
α-ヒドロキシカプロン酸
2-ヒドロキシ-3,3-ジメチル酪酸
リンゴ酸
ヒドロキシタルトロン酸
グルコン酸
ラクタミド
N-メチルラクタミド
N-エチルラクタミド
N,N-ジメチルラクタミド
N-2-ヒドロキシエチルラクタミド
ならびにこれらの立体異性体、有機または無機塩および溶媒和物
から選択されることを特徴とする、請求項6に記載の方法。
【請求項８】
ケト酸誘導体が、一般式(II)：
【化４】
2009537620.tif 000004
[R5は、COOH;OH、COOHまたはBr基によって任意選択で置換された直鎖状または分枝状C1〜C6アルキル基;OHまたはCOOH基によって任意選択で置換されたフェニルまたはベンジル基;あるいはインドリル基または
【化５】
2009537620.tif 000005
を表す]
ならびにこれらの立体異性体、有機または無機塩および溶媒和物に対応する、請求項1から5のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
式(II)の化合物が:
ピルビン酸
2-ケト酪酸
β-ヒドロキシピルビン酸
3-メチル-2-オキソ酪酸
2-オキソ吉草酸
ケトマロン酸
3-メチル-2-オキソ吉草酸
トリメチルピルビン酸
オキサロ酢酸
2-ケトグルタル酸
ベンジルギ酸
2-オキソオクタン酸
2-オキソアジピン酸
フェニルピルビン酸
ブロモピルビン酸
2-ケトピメリン酸
4-ヒドロキシフェニルピルビン酸
3-インドールグリオキサル酸
イミダゾロピルビン酸HCl
2-ケト-L-グロン酸
2-カルボキシ-α-オキソベンゼン酢酸
3-インドールピルビン酸
2-ケトグルタル酸二水和物
ピルブアミド
N-メチルピルブアミド
N-エチルピルブアミド
N,N-ジメチルピルブアミド
N-2-ヒドロキシエチルピルブアミド
ならびにこれらの立体異性体、有機または無機塩および溶媒和物、
から選択されることを特徴とする、請求項8に記載の方法。
【請求項１０】
少なくとも:
- 110℃と250℃との間の温度を与える1つの加熱手段、
- 少なくとも1つのα-ヒドロキシ酸及び/またはケト酸誘導体を含む、9以下のpHを有する1つのヘアリラクシング組成物
を含む、キット。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月14日(2009.12.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プログラム細胞死が起こる神経変性状態、障害、または疾患の予防または治療用の医薬品または医薬組成物を製造するためのプロインスリンの活性を誘発する化合物の使用であって、化合物を持続的に投与して１−１５ｐＭの慢性プロインスリン血症水準を得ることを特徴とする、使用。
【請求項２】
前記神経変性疾患が網膜色素変性症であることを特徴とする、請求項１に記載の誘発化合物の使用。
【請求項３】
前記誘発化合物が、神経保護タンパク質またはペプチドを発現させ、且つ下記の群：
a)  ヒトプロインスリンをコードするヌクレオチド配列(配列番号１)によって構成されるヌクレオチド配列、
b)  a)の配列と同様のヌクレオチド配列、
c)  a)およびb)の配列のいずれか一方の断片、並びに
d)  a)、b)、および/またはc)に属するいずれか１個の配列を含んでなるヌクレオチド配列
に属する１または数個のヌクレオチド配列によって構成されるヌクレオチド配列であることを特徴とする、請求項１または２に記載の誘発化合物の使用。
【請求項４】
前記ヌクレオチド配列がヒトプロインスリンをコードする配列番号１によって構成されることを特徴とする、請求項３に記載のプロインスリンの活性を誘発する化合物の使用。
【請求項５】
前記d)のヌクレオチド配列がプロインスリンヌクレオチド配列(配列番号１)を含んでなる遺伝子構築物によって構成されることを特徴とする、請求項３に記載のプロインスリンの活性を誘発する化合物の使用。
【請求項６】
前記d)のヌクレオチド配列が、神経保護を誘発できるプロインスリンタンパク質をコードするヌクレオチド配列または遺伝子構築物を含んでなる発現ベクターによって構成されることを特徴とする、請求項３に記載のプロインスリンの活性を誘発する化合物の使用。
【請求項７】
前記発現ベクターが、配列番号１のヌクレオチド配列と、組織特異的プロモーターとを含むことを特徴とする、請求項６に記載のプロインスリンの活性を誘発する化合物の使用。
【請求項８】
前記組織特異的プロモーターが筋肉特異的プロモーターであることを特徴とする、請求項７に記載のプロインスリンの活性を誘発する化合物の使用。
【請求項９】
前記誘発化合物が、遺伝的に修飾され、且つプロインスリンヌクレオチド配列、構築物、または発現ベクターを含んでなり、プロインスリンタンパク質を細胞外媒質に好適に発現しまたは放出できるヒト真核細胞であることを特徴とする、請求項１または２に記載のプロインスリンの活性を誘発する化合物の使用。
【請求項１０】
前記真核細胞がヒトプロインスリンヌクレオチド配列(配列番号１)によって形質転換したヒト細胞であることを特徴とする、請求項９に記載のプロインスリンの活性を誘発する化合物の使用。
【請求項１１】
前記誘発化合物が神経保護活性を有し、下記の群：
a)  ヒトプロインスリンアミノ酸配列(配列番号２)によって構成されるアミノ酸配列、
b)  a)の配列と同様のアミノ酸配列、
c)  a)およびb)の配列のいずれか一つの断片、並びに
d)  a)、b)、および/またはc)に属するいずれか一つを含んでなるアミノ酸配列
に属する１または数個のアミノ酸配列を含んでなるタンパク質またはペプチドであることを特徴とする、請求項１または２に記載のプロインスリンの活性を誘発する化合物の使用。
【請求項１２】
前記誘発化合物がヒトプロインスリンタンパク質(配列番号２)であることを特徴とする、請求項１１に記載のプロインスリンの活性を誘発する化合物の使用。
【請求項１３】
治療上有効量のプロインスリンの活性を誘発する化合物を、前記誘発する化合物の全身または局所持続への投与の保持に適当な１種類以上の薬学上許容可能なアジュバントおよび/または担体と共に含んでなり、１−１５ｐＭの慢性プロインスリン血症水準を得ることを特徴とする、プログラム細胞死が起こる神経変性状態、障害、または疾患の予防または治療用の医薬品または医薬組成物。
【請求項１４】
前記プロインスリンの活性を誘発する化合物が、下記の群：
a)  ヒトプロインスリンをコードするヌクレオチド配列(配列番号１)によって構成されるヌクレオチド配列、
b)  a)の配列と同様のヌクレオチド配列、
c)  a)およびb)の配列のいずれか一つの断片、並びに
d)  a)、b)、および/またはc)に属するいずれか一つの配列を含んでなるヌクレオチド配列
に属する１または数個のヌクレオチド配列であることを特徴とする、請求項１３に記載の医薬組成物。
【請求項１５】
前記ヌクレオチド配列がヒトプロインスリンをコードする配列番号１によって構成されることを特徴とする、請求項１４に記載の医薬組成物。
【請求項１６】
前記d)のヌクレオチド配列がプロインスリンヌクレオチド配列(配列番号１)を含んでなる遺伝子構築物によって構成されることを特徴とする、請求項１５に記載の医薬組成物。
【請求項１７】
前記d)のヌクレオチド配列が、神経保護を誘発できるプロインスリンタンパク質をコードするヌクレオチド配列または遺伝子構築物を含んでなる発現ベクターであることを特徴とする、請求項１５に記載の医薬組成物。
【請求項１８】
前記発現ベクターが配列番号１のヌクレオチド配列と、組織特異的プロモーターとを含むことを特徴とする、請求項１７に記載の医薬組成物。
【請求項１９】
前記組織特異的プロモーターが筋肉特異的プロモーターであることを特徴とする、請求項１８に記載の医薬組成物。
【請求項２０】
前記プロインスリンの活性を誘発する化合物が、下記の群：
a)  ヒトプロインスリンアミノ酸配列(配列番号２)によって構成されるアミノ酸配列、
b)  a)の配列と同様のアミノ酸配列、
c)  a)およびb)の配列のいずれか一つの断片、並びに
d)  a)、b)、および/またはc)に属するいずれか一つの配列を含んでなるアミノ酸配列
に属するタンパク質またはペプチドであることを特徴とする、請求項１４に記載の医薬組成物。
【請求項２１】
前記アミノ酸配列がヒトプロインスリンによって構成されるもの(配列番号２)であることを特徴とする、請求項２０に記載の医薬組成物。
【請求項２２】
前記誘発化合物が、遺伝的に修飾され、且つプロインスリンヌクレオチド配列、構築物、または発現ベクターを含んでなり、プロインスリンタンパク質を細胞外媒質に好適に発現しまたは放出できるヒト真核細胞であることを特徴とする、請求項１３に記載の医薬組成物。
【請求項２３】
前記真核細胞がヒトプロインスリンヌクレオチド配列(配列番号１)によって形質転換されたヒト細胞であることを特徴とする、請求項２２に記載の医薬組成物。
【請求項２４】
前記神経変性疾患が下記の群、すなわちアルツハイマー病、パーキンソン病、多発性硬化症、レヴィー小体認知症、筋萎縮性側索硬化症、脊髄小脳性萎縮症、前頭側頭型認知症、ピック病、血管性認知症、ハンティングトン病、バッテン病、および脊髄損傷に属することを特徴とする、請求項１３〜２３のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項２５】
前記神経変性疾患が下記の群、すなわち網膜色素変性症、黄斑変性、および緑内障に属することを特徴とする、請求項２４に記載の医薬組成物。