【手続補正書】
【提出日】平成21年11月10日(2009.11.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、前記基材に適用された反射防止コーティングとを含む複合構造物であって、前記反射防止コーティングが、
Ａ）臭素原子、塩素原子、ヨウ素原子、非共役ジエン、およびそれらの２つ以上の混合物からなる群から選択された硬化部位を有するフルオロエラストマーと、
Ｂ）非フッ素化多オレフィン性架橋剤と
を含むことを特徴とする、複合構造物。
【請求項２】
前記非フッ素化多オレフィン性架橋剤が、一般式Ｒ（ＯＣ（Ｏ）ＣＲ’＝ＣＨ2）n
を有し、上式中、Ｒが直鎖または分岐状アルキル、または直鎖または分岐状アルキルエーテル、または芳香族、または芳香族エーテル、または複素環であり、Ｒ’がＨ、またはＣＨ3であり、ｎが２〜８の整数であることを特徴とする、請求項１に記載の複合構造物。
【請求項３】
前記非フッ素化多オレフィン性架橋剤が、一般式Ｒ（ＣＨ2ＣＲ’＝ＣＨ2）n
を有し、上式中、Ｒが直鎖または分岐状アルキル、または直鎖または分岐状アルキルエーテル、または芳香族、または芳香族エーテル、または芳香族エステル、または複素環であり、Ｒ’がＨ、またはＣＨ3であり、ｎが２〜６の整数であることを特徴とする、請求項１に記載の複合構造物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６７】
（実施例２７）
調合物Ａを調製するために、２２．４ｇのヴィトン（登録商標）ＧＦ−２００Ｓフルオロエラストマー（本願特許出願人）、２．１９ｇの過酸化ベンゾイル（アルドリッチ）および２．１９ｇのトリアリルイソシアヌレート（ディアク♯７、本願特許出願人）を４６４．６ｇの酢酸プロピル中に溶解し、次いで溶液を０．２μのテフロン（登録商標）ＰＴＦＥ膜フィルターを通して濾過した。防眩性トリアセチルセルロース（ＡＧ−ＴＡＣ）フィルムのストリップ（３．７ｃｍ×７．５ｃｍ）を清浄にして表面デブリを除去するために、フィルムの両面にイソ−プロピルアルコールを綿棒で塗布し、ジイオン水（ｄｉ−ｉｏｎｉｚｅｄ  ｗａｔｅｒ）で洗浄し、エアーガンでブロー乾燥させた。ＡＧ−ＴＡＣフィルムの清浄にされたストリップを、ＡＧ−ＴＡＣフィルムの防眩性表面を外側に向けてガラス顕微鏡スライド（５ｃｍ×７．５ｃｍ）の表面上に取り付け、フィルムの端縁をスライドに接着テープで固定した。取り付けられたＡＧ−ＴＡＣフィルムは方法２の手順によってＲＩＥプラズマの印加によって表面処理された。このように処理された、取り付けられたＡＧ−ＴＡＣフィルムを調合物Ａでコートするために、調合物Ａ中に約６０ｍｍの深さまで垂直に浸漬し、それを３０秒間静置して浸漬したままにし、次いでそれを１８ｍｍ／分の一定速度において垂直に引き出した。調合物Ａから引き出した後、コートされたＡＧ−ＴＡＣフィルムを１５分間、空気中の周囲温度において乾燥させた。乾燥され、取り付けられ、コートされたＡＧ−ＴＡＣフィルムを最初に、テフロン（登録商標）ＰＴＦＥの薄いフィルム（厚さ７５μｍ）で覆い、次いで３つの５ｃｍ×７．５ｃｍのガラス顕微鏡スライドおよび１００ｇの重りを上に載せて集成体１を作った。集成体１を窒素雰囲気下、周囲温度において５分間パージし、次に窒素雰囲気下で２０分間１２０℃において（ホットプレート上で）加熱した。周囲温度に冷却した後、コートされたＡＧ−ＴＡＣフィルムを集成体１から除去した。コートされたＡＧ−ＴＡＣフィルムは不透明であるかまたは均一に曇っており、調合物Ａから適用されたコーティングは平滑かつ均一であった。コートされたＡＧ−ＴＡＣフィルムは２．０６％の全反射率を有した。コートされたＡＧ−ＴＡＣフィルムを方法１の手順によって摩擦した。摩擦後、全反射率の変化の絶対値は０．０７％であった。
以下に、本発明の好ましい態様を示す。
［１］  基材と、前記基材に適用された反射防止コーティングとを含む複合構造物であって、前記反射防止コーティングが、
Ａ）臭素原子、塩素原子、ヨウ素原子、非共役ジエン、およびそれらの２つ以上の混合物からなる群から選択された硬化部位を有するフルオロエラストマーと、
Ｂ）非フッ素化多オレフィン性架橋剤と
を含むことを特徴とする、複合構造物。
［２］  前記非フッ素化多オレフィン性架橋剤が、一般式Ｒ（ＯＣ（Ｏ）ＣＲ’＝ＣＨ2）nを有し、上式中、Ｒが直鎖または分岐状アルキル、または直鎖または分岐状アルキルエーテル、または芳香族、または芳香族エーテル、または複素環であり、Ｒ’がＨ、またはＣＨ3であり、ｎが２〜８の整数であることを特徴とする、［１］に記載の複合構造物。
［３］  前記非フッ素化多オレフィン性架橋剤が、一般式Ｒ（ＣＨ2ＣＲ’＝ＣＨ2）n
を有し、上式中、Ｒが直鎖または分岐状アルキル、または直鎖または分岐状アルキルエーテル、または芳香族、または芳香族エーテル、または芳香族エステル、または複素環であり、Ｒ’がＨ、またはＣＨ3であり、ｎが２〜６の整数であることを特徴とする、［１］に記載の複合構造物。
［４］  前記フルオロエラストマーが、共重合した臭素化オレフィン、共重合した塩素化オレフィン、および共重合したヨウ化オレフィンからなる群から選択された少なくとも１つの硬化部位を有することを特徴とする、［１］に記載の複合構造物。
［５］  前記フルオロエラストマーが、共重合した臭素化不飽和エーテル、共重合した塩素化不飽和エーテル、および共重合したヨウ化不飽和エーテルからなる群から選択された少なくとも１つの硬化部位を有することを特徴とする、［１］に記載の複合構造物。
［６］  前記フルオロエラストマーが、共重合した非共役ジエンからなる群から選択された少なくとも１つの硬化部位を有することを特徴とする、［１］に記載の複合構造物。
［７］  少なくとも１つの硬化部位が、フルオロエラストマー鎖の末端位に存在するヨウ素原子、臭素原子およびそれらの混合物からなる群から選択されることを特徴とする、［１］に記載の複合構造物。
［８］  前記フルオロエラストマーが、フッ化ビニリデンの共重合単位を含むコポリマーであることを特徴とする、［１］に記載の複合構造物。
［９］  前記フルオロエラストマーが、テトラフルオロエチレンの共重合単位を含むコポリマーであることを特徴とする、［１］に記載の複合構造物。
［１０］  前記フルオロエラストマーが、ペルフルオロ（アルキルビニルエーテル）の共重合単位を含むコポリマーであることを特徴とする、［１］に記載の複合構造物。
［１１］  有機過酸化物をさらに含むことを特徴とする、［１］に記載の複合構造物。
［１２］  有機光開始剤をさらに含むことを特徴とする、［１］に記載の複合構造物。
［１３］  前記非フッ素化多オレフィン性架橋剤が、式
【化１】
2009520054.tif 000001
を有することを特徴とする、［２］に記載の複合構造物。
［１４］  前記非フッ素化多オレフィン性架橋剤が、式
【化２】
2009520054.tif 000002
を有することを特徴とする、［３］に記載の複合構造物。
［１５］  前記非フッ素化多オレフィン性架橋剤が、式
【化３】
2009520054.tif 000003
を有することを特徴とする、［３］に記載の複合構造物。
［１６］  前記非フッ素化多オレフィン性架橋剤が、式
【化４】
2009520054.tif 000004
を有することを特徴とする、［３］に記載の複合構造物。
［１７］  前記非フッ素化多オレフィン性架橋剤が、式
【化５】
2009520054.tif 000005
を有することを特徴とする、［２］に記載の複合構造物。
［１８］  前記非フッ素化多オレフィン性架橋剤が、式
【化６】
2009520054.tif 000006
を有することを特徴とする、［２］に記載の複合構造物。
［１９］  前記非フッ素化多オレフィン性架橋剤が、式
【化７】
2009520054.tif 000007
を有することを特徴とする、［２］に記載の複合構造物。
［２０］  前記非フッ素化多オレフィン性架橋剤が、式
【化８】
2009520054.tif 000008
を有することを特徴とする、［２］に記載の複合構造物。
［２１］  前記基材が透明な材料を含むことを特徴とする、［１］に記載の複合構造物。
［２２］  １．３％以下の正反射率を有することを特徴とする、［２１］に記載の複合構造物。
［２３］  前記基材が防眩性材料を含むことを特徴とする、［１］に記載の複合構造物。
［２４］  ２．５％以下の全反射率を有することを特徴とする、［２３］に記載の複合構造物。
［２５］  スチールウールによる摩擦後の反射率の変化が０．５％以下であることを特徴とする、［１］に記載の複合構造物。
［２６］  Ａ）臭素原子、塩素原子、ヨウ素原子、非共役ジエン、およびそれらの２つ以上の混合物からなる群から選択された硬化部位を有するフルオロエラストマーと、
Ｂ）非フッ素化多オレフィン性架橋剤と
を含む反射防止コーティングを基材に適用することによって、基材と前記基材上の反射防止コーティングとを含む複合構造物を製造することを特徴とする方法。
［２７］  前記反射防止コーティングが前記基材の表面に適用される前に、前記基材の表面が処理されることを特徴とする、［２６］に記載の方法。
［２８］  前記基材の表面が以下の方法：コロナ処理、接着促進剤の適用または反応性イオンエッチングの１つによって処理されることを特徴とする、［２６］に記載の方法。
［２９］  前記基材が透明であることを特徴とする、［２６］に記載の方法。
［３０］  前記基材が防眩性基材であることを特徴とする、［２６］に記載の方法。
［３１］  前記基材がグラビアまたはマイクログラビアコーティングによってコートされることを特徴とする、［２６］に記載の方法。
［３２］  前記フルオロエラストマーが有機溶剤に可溶性であることを特徴とする、［２６］に記載の方法。
［３３］  Ａ）基材に第１のガスで衝撃を与える工程と、
Ｂ）前記基材を第２のガスでエッチして前記基材上に微細構造表面を形成する工程と
を含むことを特徴とする、基材上に微細構造表面を形成する方法。
［３４］  前記微細構造表面に反射防止コーティングを適用する工程をさらに有することを特徴とする、［３３］に記載の方法。
［３５］  前記基材が本質的に非晶質材料からなることを特徴とする、［３３］に記載の方法。
［３６］  前記衝撃を与える工程および前記エッチする工程が同時に行なわれることを特徴とする、［３３］に記載の方法。
［３７］  前記微細構造表面がマスキング材料を用いずに形成されることを特徴とする、［３３］に記載の方法。
［３８］  前記第１のガスがイオン化不活性ガスであることを特徴とする、［３３］に記載の方法。
［３９］  前記イオン化不活性ガスがアルゴンであることを特徴とする、［３８］に記載の方法。
［４０］  前記第２のガスがイオン化反応性ガスであることを特徴とする、［３３］に記載の方法。
［４１］  前記イオン化反応性ガスが酸素であることを特徴とする、［４０］に記載の方法。
［４２］  前記表面が反応性イオンエッチングによってエッチされることを特徴とする、［４０］に記載の方法。