【事件の表示】
　特許第３３４３２４６号に関する訂正審判事件について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１．手続の経緯 
　本件訂正審判請求に係る特許第３３４３２４６号は、平成１２年３月３日（優先権主張１９９９年４月３０日、米国）に特許出願され、平成１４年８月２３日にその特許の設定登録がなされ、その後、平成１７年３月１６日付けで、特許第３３４３２４６号の請求項１ないし請求項９に係る発明についての特許を取り消す旨の異議の決定（異議２００３−７１２１７）がなされたところ、前記特許取消決定の取消しを求める訴えが平成１７年７月２２日に知的財産高等裁判所になされ、その訴え［平成１７年（行ケ）第１０５８３号］の提起があった日から起算して９０日の期間内である平成１７年１０月１７日に本件の訂正審判が請求され、平成１８年１月１２日付けで訂正拒絶理由通知がなされ、平成１８年３月１０日付けで意見書が提出されたものである。 
 　 
第２．訂正の内容 
　審判請求人が平成１７年１０月１７日付け審判請求書において求めている訂正の内容は、次のとおりのものである。 
　訂正事項ａ 
　特許明細書の特許請求の範囲の請求項１を、
「【請求項１】　それぞれICマスク・レイアウトのエアリアル・サブセットである領域に対して、領域毎にICマスクを逐次レイアウトするためのOPCを決定するステップと;幾何学的形状を特性化し、等価性決定の有効な実行を容易にするために、少なくとも1つのタグ識別子を用いて各領域の幾何学的形状を選択的にタグ付けするステップであって、前記少なくとも1つのタグ識別子は、垂直辺フラグメント、水平辺フラグメント、線端辺フラグメントに隣接している辺フラグメントおよび凹角辺フラグメントからなる群から選択される辺フラグメントを特徴付ける、ステップと;現在の領域を含みかつ囲むウィンドウ化領域における幾何学的形状の数、寸法および相対配置が既に補正済みのウインドウ化領域における幾何学的形状と同一であることを前記少なくとも1つのタグ識別子が示しているかどうか、もしくは、前記ウインドウ化領域が、既に補正済みのウィンドウ化領域における幾何学的形状と同一の数の幾何学的形状を有しており、かつ、既に補正済みのウィンドウ化領域に対して所定の許容範囲レベル内にある寸法および相対配置を有していることを前記少なくとも1つのタグ識別子が示しているかどうかを解析することによって、補正の適用に先立って、OPCの目的のために、現在の領域の幾何学的形状が既に補正済みの領域のいずれか1つの幾何学的形状と等価であるかどうかを決定するステップと;前記現在の領域が、OPCの目的において、前記既に補正済みの領域と等価であるとみなされる場合、前記既に補正済みの領域に対して決定されたOPCを、前記現在の領域に対して再使用するステップとから構成され;各領域に対する前記OPCは、モデル・ベース・シミュレーションを反復使用して決定されるものであり、かつ、前記モデル・ベース・シミュレーションの各々は、モデル・ベース・シミュレーションが実行されている領域から拡大距離内にある、隣接する領域の幾何学的形状を含むことを特徴とするICマスク・レイアウトにOPCを実行するための方法。」
と訂正する。
　なお、訂正請求書の請求の範囲請求項１に、「ダグ」と記載されている用語は、「タグ」の誤記であるから上記のとおり認定した。（以下、訂正請求書の請求の範囲請求項４及び７においても、「ダグ」と記載されている用語は、「タグ」の誤記であるから、請求項１と同様に認定する。）
　訂正事項ｂ
　特許明細書の特許請求の範囲の請求項２〜７を削除する。
　訂正事項ｃ
　特許明細書の特許請求の範囲の請求項８を請求項２に繰り上げる。
　訂正事項ｄ
　特許明細書の特許請求の範囲の請求項９を請求項３に繰り上げ、また、同項記載の「請求項８に記載」を「請求項２に記載」と訂正する。
　訂正事項ｅ 
　特許明細書の特許請求の範囲の請求項１０を、請求項４に繰り上げ、同項を、
「【請求項４】　コンピュータ・システムをプログラムするためのプログラム命令が記録された記録可能媒体を備え、それぞれICマスク・レイアウトのエアリアル・サブセットである領域に対して、領域毎にICマスクを逐次レイアウトするためのOPCを決定し;幾何学的形状を特性化し、等価性決定の有効な実行を容易にするために、少なくとも1つのタグ識別子を用いて各領域の幾何学的形状を選択的にタグ付けし、前記少なくとも1つのタグ識別子は、垂直辺フラグメント、水平辺フラグメント、線端辺フラグメントに隣接している辺フラグメントおよび凹角辺フラグメントからなる群から選択される辺フラグメントを特徴付け;現在の領域を含みかつ囲むウインドウ化領域における幾何学的形状の数、寸法および相対配置が既に補正済みのウインドウ化領域における幾何学的形状と同一であることを前記少なくとも1つのタグ識別子が示しているかどうか、もしくは、前記ウインドウ化領域が、既に補正済みのウインドウ化領域における幾何学的形状と同一の数の幾何学的形状を有しており、かつ、既に補正済みのウインドウ化領域に対して所定の許容範囲レベル内にある寸法および相対配置を有していることを前記少なくとも1つのタグ識別子が示しているかどうかを解析することによって、補正の適用に先立って、OPCの目的のために、現在の領域の幾何学的形状が既に補正済みの領域のいずれか1つの幾何学的形状と等価であるかどうかを決定し;前記現在の領域が、OPCの目的において、前記既に補正済みの領域と等価であるとみなされる場合、前記既に補正済みの領域に対して決定されたOPCを、前記現在の領域に対して再使用し;さらに、モデル・ベース・シミュレーションを反復使用して各領域に対する前記OPCを決定し;かつ、前記モデル・ベース・シミュレーションを実行する場合、前記モデル・ベース・シミュレーンョンが、前記モデル・ベース・シミュレーションが実行されている領域から拡大距離内にある、隣接する領域の幾何学的形状を包含することを特徴とするICマスク・レイアウトにOPCを実行する装置。」
と訂正する。
　訂正事項ｆ
　特許明細書の特許請求の範囲の請求項１１〜１６を削除する。
　訂正事項ｇ
　特許明細書の特許請求の範囲の請求項１７を請求項５に繰り上げ、また、同項記載の「請求項１０に記載」を「請求項４に記載」と訂正する。
　訂正事項ｈ
　特許明細書の特許請求の範囲の請求項１８を請求項６に繰り上げ、また、同項記載の「請求項１７に記載」を「請求項５に記載」と訂正する。
　訂正事項ｉ 
　特許明細書の特許請求の範囲の請求項１９を、請求項７に繰り上げ、同項を、
「【請求項７】　複数のプログラム命令が格納された記憶媒体と、
　それぞれICマスク・レイアウトのエアリアル・サブセットである領域に対して、領域毎にICマスクを逐次レイアウトするためのOPCを決定し、幾何学的形状を特性化し、等価性決定の有効な実行を容易にするために、少なくとも1つのタグ識別子を用いて各領域の幾何学的形状を選択的にタグ付けし、前記少なくとも1つのタグ識別子は、垂直辺フラグメント、水平辺フラグメント、線端辺フラグメントに隣接している辺フラグメントおよび凹角辺フラグメントからなる群から選択される辺フラグメントを特徴付け、現在の領域を含みかつ囲むウインドウ化領域における幾何学的形状の数、寸法および相対配置が既に補正済みのウインドウ化領域における幾何学的形状と同一であることを前記少なくとも1つのタグ識別子が示しているかどうか、もしくは、前記ウインドウ化領域が、既に補正済みのウインドウ化領域における幾何学的形状と同一の数の幾何学的形状を有しており、かつ、既に補正済みのウインドウ化領域に対して所定の許容範囲レベル内にある寸法および相対配置を有していることを前記少なくとも1つのタグ識別子が示しているかどうかを解析することによって、補正の適用に先立って、OPCの目的のために、現在の領域の幾何学的形状が既に補正済みの領域のいずれか1つの幾何学的形状と等価であるかどうかを決定し、前記現在の領域が、OPCの目的に対して、前記既に補正済みの領域と等価であるとみなされる場合、前記既に補正済みの領域に対して決定されたOPCを前記現在の領域に対して再使用し、また、モデル・ベース・シミュレーションを用いて、各領域に対するOPCを反復して決定し、かつ、各領域に対して、前記モデル・ベース・シミュレーションを実行する領域から拡大距離内にある、隣接する領域の幾何学的形状を含むモデル・ベース・シミュレーションを実行するためのプログラム命令を実行する、前記記憶媒体に結合されたプロセッサとを備えるコンピュータ・システム。」
と訂正する。
　訂正事項ｊ
　特許明細書の特許請求の範囲の請求項２０〜２５を削除する。
　訂正事項ｋ
　特許明細書の特許請求の範囲の請求項２６を請求項８に繰り上げ、また、同項記載の「請求項１９に記載」を「請求項７に記載」と訂正する。
　訂正事項ｌ
　特許明細書の特許請求の範囲の請求項２７を請求項９に繰り上げ、また、同項記載の「請求項２６に記載」を「請求項８に記載」と訂正する。
 　 
第３．訂正の適否についての判断 
１．訂正の目的の適否について 
　上記訂正事項ａの訂正は、特許明細書の請求項１に請求項２及び３の限定事項である「各領域が既に補正済みの領域のいずれか1つと等価であるかどうかを決定するステップ」及び「タグ識別子を用いて各領域の幾何学的形状を選択的にタグ付けするステップ」を付加し、かつ上記請求項２及び３の限定事項を、さらに、「幾何学的形状を特性化し、等価性決定の有効な実行を容易にするために、少なくとも1つのタグ識別子を用いて各領域の幾何学的形状を選択的にタグ付けするステップであって、前記少なくとも1つのタグ識別子は、垂直辺フラグメント、水平辺フラグメント、線端辺フラグメントに隣接している辺フラグメントおよび凹角辺フラグメントからなる群から選択される辺フラグメントを特徴付ける、ステップと;現在の領域を含みかつ囲むウィンドウ化領域における幾何学的形状の数、寸法および相対配置が既に補正済みのウインドウ化領域における幾何学的形状と同一であることを前記少なくとも1つのタグ識別子が示しているかどうか、もしくは、前記ウインドウ化領域が、既に補正済みのウィンドウ化領域における幾何学的形状と同一の数の幾何学的形状を有しており、かつ、既に補正済みのウィンドウ化領域に対して所定の許容範囲レベル内にある寸法および相対配置を有していることを前記少なくとも1つのタグ識別子が示しているかどうかを解析することによって、補正の適用に先立って、OPCの目的のために、現在の領域の幾何学的形状が既に補正済みの領域のいずれか1つの幾何学的形状と等価であるかどうかを決定するステップ」と限定し、「第１の領域」及び「第２の領域」を、それぞれ、「既に補正済みの領域」及び「現在の領域」とした点については、請求項１に係る発明の構成を明確にすることを目的とする訂正であるから、訂正事項ａの訂正は、特許法第１２６条第１項ただし書に掲げる第１号の特許請求の範囲の減縮及び第３号の明りょうでない記載の釈明を目的とする訂正に該当する。 
　上記訂正事項ｂの訂正は、請求項を削除するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とする訂正に該当する。
　上記訂正事項ｃ及びｄの訂正は、請求項の削除に伴い、請求項を繰り上げるものであるから、明りょうでない記載の釈明を目的とする訂正に該当する。
　上記訂正事項ｅの訂正は、特許明細書の請求項１０の「第２の領域が、OPCの目的において、第１の領域と等価であるとみなされる場合、前記第１の領域に対して決定されたOPCを、前記第２の領域に対して再使用し；さらに、モデル・ベース・シミュレーションを反復使用して各領域に対するOPCを決定」を、「幾何学的形状を特性化し、等価性決定の有効な実行を容易にするために、少なくとも1つのタグ識別子を用いて各領域の幾何学的形状を選択的にタグ付けし、前記少なくとも1つのタグ識別子は、垂直辺フラグメント、水平辺フラグメント、線端辺フラグメントに隣接している辺フラグメントおよび凹角辺フラグメントからなる群から選択される辺フラグメントを特徴付け;現在の領域を含みかつ囲むウインドウ化領域における幾何学的形状の数、寸法および相対配置が既に補正済みのウインドウ化領域における幾何学的形状と同一であることを前記少なくとも1つのタグ識別子が示しているかどうか、もしくは、前記ウインドウ化領域が、既に補正済みのウインドウ化領域における幾何学的形状と同一の数の幾何学的形状を有しており、かつ、既に補正済みのウインドウ化領域に対して所定の許容範囲レベル内にある寸法および相対配置を有していることを前記少なくとも1つのタグ識別子が示しているかどうかを解析することによって、補正の適用に先立って、OPCの目的のために、現在の領域の幾何学的形状が既に補正済みの領域のいずれか1つの幾何学的形状と等価であるかどうかを決定し;前記現在の領域が、OPCの目的において、前記既に補正済みの領域と等価であるとみなされる場合、前記既に補正済みの領域に対して決定されたOPCを、前記現在の領域に対して再使用し;さらに、モデル・ベース・シミュレーションを反復使用して各領域に対する前記OPCを決定」と限定し、「第１の領域」及び「第２の領域」を、それぞれ、「既に補正済みの領域」及び「現在の領域」とすることにより請求項４に係る発明の構成を明確にすることを目的とする訂正であるから、訂正事項ｅの訂正は、特許請求の範囲の減縮及び明りょうでない記載の釈明を目的とする訂正に該当する。
　上記訂正事項ｆの訂正は、請求項を削除するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とする訂正に該当する。
　上記訂正事項ｇ、ｈの訂正は、請求項の削除に伴い、請求項を繰り上げるものであるから、明りょうでない記載の釈明を目的とする訂正に該当する。
　上記訂正事項ｉの訂正は、特許明細書の請求項１９の「第２の領域が、OPCの目的において、第１の領域と等価であるとみなされる場合、前記第１の領域に対して決定されたOPCを、前記第２の領域に対して再使用し；さらに、モデル・ベース・シミュレーションを反復使用して各領域に対するOPCを決定」を、「幾何学的形状を特性化し、等価性決定の有効な実行を容易にするために、少なくとも1つのタグ識別子を用いて各領域の幾何学的形状を選択的にタグ付けし、前記少なくとも1つのタグ識別子は、垂直辺フラグメント、水平辺フラグメント、線端辺フラグメントに隣接している辺フラグメントおよび凹角辺フラグメントからなる群から選択される辺フラグメントを特徴付け、現在の領域を含みかつ囲むウインドウ化領域における幾何学的形状の数、寸法および相対配置が既に補正済みのウインドウ化領域における幾何学的形状と同一であることを前記少なくとも1つのタグ識別子が示しているかどうか、もしくは、前記ウインドウ化領域が、既に補正済みのウインドウ化領域における幾何学的形状と同一の数の幾何学的形状を有しており、かつ、既に補正済みのウインドウ化領域に対して所定の許容範囲レベル内にある寸法および相対配置を有していることを前記少なくとも1つのタグ識別子が示しているかどうかを解析することによって、補正の適用に先立って、OPCの目的のために、現在の領域の幾何学的形状が既に補正済みの領域のいずれか1つの幾何学的形状と等価であるかどうかを決定し、前記現在の領域が、OPCの目的に対して、前記既に補正済みの領域と等価であるとみなされる場合、前記既に補正済みの領域に対して決定されたOPCを前記現在の領域に対して再使用し、また、モデル・ベース・シミュレーションを用いて、各領域に対するOPCを反復して決定」と限定し、「第１の領域」及び「第２の領域」を、それぞれ、「既に補正済みの領域」及び「現在の領域」とすることにより請求項１に係る発明の構成を明確にすることを目的とする訂正であるから、訂正事項ｉの訂正は、特許請求の範囲の減縮及び明りょうでない記載の釈明を目的とする訂正に該当する。
　上記訂正事項ｊの訂正は、請求項を削除するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とする訂正に該当する。
　上記訂正事項ｋ及びｌの訂正は、請求項の削除に伴い、請求項を繰り上げるものであるから、明りょうでない記載の釈明を目的とする訂正に該当する。
 　 
  以上のとおりであるから、訂正事項ａないし訂正事項ｌの訂正は、特許法第１２６条第１項ただし書に掲げる訂正の目的に適合する。 
 　 
２．新規事項の有無及び実質上特許請求の範囲の拡張又は変更の存否について 
　上記訂正事項ａないし訂正事項ｌにおける特許請求の範囲及び明細書の訂正は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてした訂正であり、また、上記訂正事項ａないし訂正事項ｌにおける特許請求の範囲及び明細書の訂正は、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもないから、特許法第１２６条第３項及び第４項の規定に適合する。  
　
３．独立特許要件の有無について 
　訂正後の特許請求の範囲の請求項１ないし請求項９に記載された発明について、特許法第１２６条第５項に規定する、いわゆる独立特許要件の有無を検討する。 
 　 
（１）本件訂正発明 
　本件訂正審判請求書に添付した全文訂正明細書（以下、「訂正明細書」という。）の特許請求の範囲の請求項１ないし請求項９に係る発明（以下、これらを請求項順に「本件訂正発明１」ないし「本件訂正発明９」という。）は、次のとおりのものである。 
【請求項１】それぞれICマスク・レイアウトのエアリアル・サブセットである領域に対して、領域毎にICマスクを逐次レイアウトするためのOPCを決定するステップと;幾何学的形状を特性化し、等価性決定の有効な実行を容易にするために、少なくとも1つのタグ識別子を用いて各領域の幾何学的形状を選択的にタグ付けするステップであって、前記少なくとも1つのタグ識別子は、垂直辺フラグメント、水平辺フラグメント、線端辺フラグメントに隣接している辺フラグメントおよび凹角辺フラグメントからなる群から選択される辺フラグメントを特徴付ける、ステップと;現在の領域を含みかつ囲むウィンドウ化領域における幾何学的形状の数、寸法および相対配置が既に補正済みのウインドウ化領域における幾何学的形状と同一であることを前記少なくとも1つのタグ識別子が示しているかどうか、もしくは、前記ウインドウ化領域が、既に補正済みのウィンドウ化領域における幾何学的形状と同一の数の幾何学的形状を有しており、かつ、既に補正済みのウィンドウ化領域に対して所定の許容範囲レベル内にある寸法および相対配置を有していることを前記少なくとも1つのタグ識別子が示しているかどうかを解析することによって、補正の適用に先立って、OPCの目的のために、現在の領域の幾何学的形状が既に補正済みの領域のいずれか1つの幾何学的形状と等価であるかどうかを決定するステップと;前記現在の領域が、OPCの目的において、前記既に補正済みの領域と等価であるとみなされる場合、前記既に補正済みの領域に対して決定されたOPCを、前記現在の領域に対して再使用するステップとから構成され;各領域に対する前記OPCは、モデル・ベース・シミュレーションを反復使用して決定されるものであり、かつ、前記モデル・ベース・シミュレーションの各々は、モデル・ベース・シミュレーションが実行されている領域から拡大距離内にある、隣接する領域の幾何学的形状を含むことを特徴とするICマスク・レイアウトにOPCを実行するための方法。
【請求項２】　前記モデル・ベース・シミュレーションが、レジスト・モデル・ベース・シミュレーションおよび光学モデル・ベース・シミュレーションを含む、請求項1に記載の方法。
【請求項３】　前記レジスト・モデル・ベース・シミュレーションの各々が可変しきい値レジスト・モデルを使用する、請求項2に記載の方法。
【請求項４】　コンピュータ・システムをプログラムするためのプログラム命令が記録された記録可能媒体を備え、それぞれICマスク・レイアウトのエアリアル・サブセットである領域に対して、領域毎にICマスクを逐次レイアウトするためのOPCを決定し;幾何学的形状を特性化し、等価性決定の有効な実行を容易にするために、少なくとも1つのタグ識別子を用いて各領域の幾何学的形状を選択的にタグ付けし、前記少なくとも1つのタグ識別子は、垂直辺フラグメント、水平辺フラグメント、線端辺フラグメントに隣接している辺フラグメントおよび凹角辺フラグメントからなる群から選択される辺フラグメントを特徴付け;現在の領域を含みかつ囲むウインドウ化領域における幾何学的形状の数、寸法および相対配置が既に補正済みのウインドウ化領域における幾何学的形状と同一であることを前記少なくとも1つのタグ識別子が示しているかどうか、もしくは、前記ウインドウ化領域が、既に補正済みのウインドウ化領域における幾何学的形状と同一の数の幾何学的形状を有しており、かつ、既に補正済みのウインドウ化領域に対して所定の許容範囲レベル内にある寸法および相対配置を有していることを前記少なくとも1つのタグ識別子が示しているかどうかを解析することによって、補正の適用に先立って、OPCの目的のために、現在の領域の幾何学的形状が既に補正済みの領域のいずれか1つの幾何学的形状と等価であるかどうかを決定し;前記現在の領域が、OPCの目的において、前記既に補正済みの領域と等価であるとみなされる場合、前記既に補正済みの領域に対して決定されたOPCを、前記現在の領域に対して再使用し;さらに、モデル・ベース・シミュレーションを反復使用して各領域に対する前記OPCを決定し;かつ、前記モデル・ベース・シミュレーションを実行する場合、前記モデル・ベース・シミュレーンョンが、前記モデル・ベース・シミュレーションが実行されている領域から拡大距離内にある、隣接する領域の幾何学的形状を包含することを特徴とするICマスク・レイアウトにOPCを実行する装置。
【請求項５】　前記モデル・ベース・シミュレーションを実行する場合に、前記プログラム命令が、前記コンピュータ・システムによる、レジスト・モデル・ベース・シミュレーションおよび光学モデル・ベース・シミュレーションの包含を可能にする、請求項4に記載の装置。
【請求項６】　レジスト・モデル・ベース・シミュレーションを実行する場合に、前記プログラム命令が、前記コンピュータ・システムによる可変しきい値レジスト・モデルの使用を可能にする、請求項5に記載の装置。
【請求項７】　複数のプログラム命令が格納された記憶媒体と、
　それぞれICマスク・レイアウトのエアリアル・サブセットである領域に対して、領域毎にICマスクを逐次レイアウトするためのOPCを決定し、幾何学的形状を特性化し、等価性決定の有効な実行を容易にするために、少なくとも1つのタグ識別子を用いて各領域の幾何学的形状を選択的にタグ付けし、前記少なくとも1つのタグ識別子は、垂直辺フラグメント、水平辺フラグメント、線端辺フラグメントに隣接している辺フラグメントおよび凹角辺フラグメントからなる群から選択される辺フラグメントを特徴付け、現在の領域を含みかつ囲むウインドウ化領域における幾何学的形状の数、寸法および相対配置が既に補正済みのウインドウ化領域における幾何学的形状と同一であることを前記少なくとも1つのタグ識別子が示しているかどうか、もしくは、前記ウインドウ化領域が、既に補正済みのウインドウ化領域における幾何学的形状と同一の数の幾何学的形状を有しており、かつ、既に補正済みのウインドウ化領域に対して所定の許容範囲レベル内にある寸法および相対配置を有していることを前記少なくとも1つのタグ識別子が示しているかどうかを解析することによって、補正の適用に先立って、OPCの目的のために、現在の領域の幾何学的形状が既に補正済みの領域のいずれか1つの幾何学的形状と等価であるかどうかを決定し、前記現在の領域が、OPCの目的に対して、前記既に補正済みの領域と等価であるとみなされる場合、前記既に補正済みの領域に対して決定されたOPCを前記現在の領域に対して再使用し、また、モデル・ベース・シミュレーションを用いて、各領域に対するOPCを反復して決定し、かつ、各領域に対して、前記モデル・ベース・シミュレーションを実行する領域から拡大距離内にある、隣接する領域の幾何学的形状を含むモデル・ベース・シミュレーションを実行するためのプログラム命令を実行する、前記記憶媒体に結合されたプロセッサとを備えるコンピュータ・システム。
【請求項８】　前記プロセッサが、レジスト・モデル・ベース・シミュレーンョンおよび光学モデル・ベース・シミュレーションを実行するためのプログラム命令を実行する、請求項7に記載のコンピュータ・システム。
【請求項９】　前記プロセッサが、可変しきい値レジスト・モデルの使用して前記レジスト・モデル・ベース・シミュレーションを実行するためのプログラム命令を実行する、請求項8に記載のコンピュータ・システム。
　
（２）刊行物に記載の発明 
　刊行物１；特開平９−３１９０６７号公報　刊行物１の請求項６には、 
 「【請求項６】　LSIパターン形成工程におけるパターン忠実度を制御するための光近接効果補正方法において、 
 被補正パターンの外接矩形、または被補正パターンを光近接効果の及ぶ距離分リサイズしたレイアウトのいずれかをパターンマッチング領域と設定するステップと、 
 前記設定されたパターンマッチング領域のレイアウトを索引とし、パターンマッチング領域と、このパターンマッチング領域に含まれる被補正パターンの補正パターンとを記憶するための補正テーブルを参照するステップと、 
 前記パターンマッチング領域のレイアウトが前記補正テーブルに記憶されていない場合、前記パターンマッチング領域を光近接効果補正して被補正パターンの補正パターンを求めるステップと、 
 前記パターンマッチング領域のレイアウトと前記求められた補正パターンとを前記補正テーブルに追加登録するステップと、 
 前記パターンマッチング領域のレイアウトが前記補正テーブルに記憶されている場合、対応する補正パターンを読み出すステップと、 
 前記求められた補正パターン、または前記読み出されたパターンのいずれかに従って前記設計パターンを補正するステップとを具備することを特徴とする光近接効果補正方法。」 
 と記載されている。 
 　刊行物１の【０００３】及び【０００４】段落には、 
 「【０００３】 
 　光近接効果の原因としては、光学的要因（隣合ったパターン間の透過光の干渉）、レジストプロセス（ベーク温度・時間，現像時間他）、基板の反射や凹凸、エッチングの影響等があげられる。このように、光学的要因以外の要因も含まれてはいるが、光近接効果と称されている。パターンの微細化に伴い許容寸法誤差の絶対値が小さくなると、このような光近接効果の影響で許容寸法誤差を越えてしまう場合がある。光近接効果によってパターン忠実度が劣化する間題を防ぐ方法としては、マスクに予め劣化を見込んだ補正を加える方法が主流である。以降、このような処理を光近接効果補正(Optical　Proximity　Correction)と称する。 
 【０００４】 
　光近接効果補正の方法を報告した従来例は数多く存在するが、大きく分けて、予め求めておいた補正ルールに基づき補正を行ういわゆるルールベース手法と、露光プロセスに伴う現象をモデル化したシミュレータを用いるシミュレーションベース手法がある。これら２つの手法に関して代表的な従来例を以下に示す。」 
と記載されている。 
　刊行物１の【００４３】段落には、 
 「【００４３】　シミュレーションベース補正法に関して、IEEETrans.ElectronDevices,Vol.38,no.12,p2599−(1991)に記載された第８の従来例では、リソグラフィーモデルに光学像を用いている。具体的には、マスクパターンを入力図形として光学像シミュレーションを行い、所望パターンからの光学像のずれ量を計算し、ずれ量分マスクパターンのエッジをずれとは反対方向に移動（補正）する。上記の操作を繰り返し行うことにより、光学像を所望パターンに近づけていく。」 
 と記載されている。 
 　刊行物１の【００４６】及び【００４７】段落には、 
 「【００４６】分割補正処理に関し、図５２を参照して説明する。図５２において、Ｐ0は設計パターンを、Ｐ1は補正パターンを、Ａは被補正領域を、Ａ′は被補正領域周辺の分割領域を、ａは補正完了領域を、Ａｕは未補正領域を示している。設計パターンＰ0を分割して得た被補正領域の一つをＡとし、仮にこの領域Ａ内のみを光近接効果被計算領域かつ被補正領域としたとする。すると、隣接する分割領域Ａ′内に含まれるパターンからの光近接効果を全く無視してしまうため、このようにして得た補正処理後の分割領域ａを結合して補正完了マスクパターンを作成しても、不適切な補正が施される結果となってしまう。特に、この不適切な補正はＡの境界付近のパターンで顕著であることが予想される。 
 【００４７】このような不適切な補正を防ぐために、前記文献SPIEvol.2197のp348には、被補正領域の周囲にバッファ領域を付加する手法が提案されている。この手法の概略を図５３に示す。即ち、設計パターンＰ0から分割して切り出した被補正領域Ａの周囲に、被補正領域に光近接効果が及ぶ範囲をバッファ領域Ｂとして付加し、被補正領域にバッファ領域を加えた範囲を光近接効果被計算領域Ｃとする方法である。補正値を得るために要する計算は光近接効果被計算領域で行い、本計算結果に基づき得られた補正解のうち、被補正領域についての補正解を補正マスクパターンＰ1へ戻し、次の被補正領域の計算へと進む。図５３において、ＢはＡのバッファ領域であり、Ｃは近接効果被計算領域であり、ｃは補正完了近接効果被計算領域であり、ｂはｃのバッファ領域部分であり、ａは被補正領域の補正解である。」 
 と記載されている。 
 　刊行物１の【０１５３】段落には、「【０１５３】　補正テーブル（テーブル６）に載っていなかった場合（ステップＳ１０５，ＮＯ）、パターンマッチングゾーンが光近接効果補正される（ステップＳ１０６）。光近接効果補正の手段としてはシミュレーションベース補正が挙げられる。パターンマッチングゾーンが光近接効果補正された後、パターンマッチングゾーンと被補正図形の補正後図形とが対応づけて補正テーブル６に追加され（ステップＳ１０７）、以降の補正に用いられる。」 
 と記載されている。 
 　 
　以上の記載から刊行物１には、次の発明が記載されている。 
「LSIパターン形成工程におけるパターン忠実度を制御するための光近接効果補正方法において、
　被補正パターンの外接矩形、または被補正パターンを光近接効果の及ぶ距離分リサイズしたレイアウトのいずれかをパターンマッチング領域と設定するステップと、 
　前記設定されたパターンマッチング領域のレイアウトを索引とし、パターンマッチング領域と、このパターンマッチング領域に含まれる被補正パターンの補正パターンとを記憶するための補正テーブルを参照するステップと、 
　前記パターンマッチング領域のレイアウトが前記補正テーブルに記憶されていない場合、前記パターンマッチング領域を光近接効果補正して被補正パターンの補正パターンを求めるステップと、
　前記パターンマッチング領域のレイアウトと前記求められた補正パターンとを前記補正テーブルに追加登録するステップと、 
　前記パターンマッチング領域のレイアウトが前記補正テーブルに記憶されている場合、対応する補正パターンを読み出すステップと、 
　前記求められた補正パターン、または前記読み出されたパターンのいずれかに従って前記設計パターンを補正するステップとを具備することを特徴とする光近接効果補正方法。」 
　
（３）対比・判断
（ア）本件訂正発明１と刊行物１記載の発明との対比・判断 
　刊行物１に記載された「LSIパターン形成工程」、「パターンマッチング領域」及び「光近接効果補正」は、本件訂正発明１の「ICマスクレイアウト」、「エアリアル・サブセットである領域」及び「OPC」に相当する。 
　また、刊行物１に記載された発明の「設定されたパターンマッチング領域のレイアウトを索引とし、パターンマッチング領域と、このパターンマッチング領域に含まれる被補正パターンの補正パターンとを記憶するための補正テーブルを参照するステップ」は、本件訂正発明１の「補正の適用に先立って、OPCの目的のために、現在の領域の幾何学形状が既に補正済みの領域のいずれか１つと等価であるかどうかを決定するステップ」に実質的に相当する。 
　さらに、刊行物１に記載された発明の「パターンマッチング領域のレイアウトが前記補正テーブルに記憶されている場合、対応する補正パターンを読み出すステップと、前記求められた補正パターン、または前記読み出されたパターンのいずれかに従って前記設計パターンを補正するステップ」は、本件訂正発明１の「現在の領域が、OPCの目的において、前記既に補正済みの領域と等価であるとみなされる場合、前記既に補正済みの領域に対して決定されたOPCを、前記現在の領域に対して再使用するステップ」に相当する。 
　また、刊行物１に記載された発明の「被補正パターンを光近接効果の及ぶ距離分リサイズしたレイアウトをパターンマッチング領域と設定する」は、本件訂正発明１の「各領域に対する前記OPC」が、「実行されている領域から拡大距離内にある、隣接する領域の幾何学的形状を含」むことに実質的に相当する。 
　 
　そうすると、本件訂正発明１と刊行物１記載の発明は、「それぞれICマスク・レイアウトのエアリアル・サブセットである領域に対して、領域毎にICマスクを逐次レイアウトするためのOPCを決定するステップと;補正の適用に先立って、OPCの目的のために、現在の領域の幾何学的形状が既に補正済みの領域のいずれか1つの幾何学的形状と等価であるかどうかを決定するステップと;前記現在の領域が、OPCの目的において、前記既に補正済みの領域と等価であるとみなされる場合、前記既に補正済みの領域に対して決定されたOPCを、前記現在の領域に対して再使用するステップとから構成され;各領域に対する前記OPCは、前記領域から拡大距離内にある、隣接する領域の幾何学的形状を含むことを特徴とするICマスク・レイアウトにOPCを実行するための方法。」において一致し、次の各点で相違する。 
　
　相違点 
　本件訂正発明１が、「各領域に対する前記OPCは、モデル・ベース・シミュレーションを反復使用して決定される」ものであるのに対し、刊行物１記載の発明は、パターンマッチング領域のレイアウトが補正テーブルに記憶されていない場合、前記パターンマッチング領域を光近接効果補正して被補正パターンの補正パターンを求めるとし、OPCは、モデル・ベース・シミュレーションを反復使用する記載がない点で相違（以下、「相違点１」という。）する。 
　
　本件訂正発明１が、「幾何学的形状を特性化し、等価性決定の有効な実行を容易にするために、少なくとも1つのタグ識別子を用いて各領域の幾何学的形状を選択的にタグ付けするステップであって、前記少なくとも1つのタグ識別子は、垂直辺フラグメント、水平辺フラグメント、線端辺フラグメントに隣接している辺フラグメントおよび凹角辺フラグメントからなる群から選択される辺フラグメントを特徴付ける、ステップと;現在の領域を含みかつ囲むウィンドウ化領域における幾何学的形状の数、寸法および相対配置が既に補正済みのウインドウ化領域における幾何学的形状と同一であることを前記少なくとも1つのタグ識別子が示しているかどうか、を解析する」ものであるのに対し、刊行物１記載の発明は、現在の領域を含みかつ囲むウィンドウ化領域における幾何学的形状の数、寸法および相対配置が既に補正済みのウインドウ化領域における幾何学的形状と同一であることを解析するものの、「幾何学的形状を特性化し、等価性決定の有効な実行を容易にするために、少なくとも1つのタグ識別子を用いて各領域の幾何学的形状を選択的にタグ付けするステップであって、前記少なくとも1つのタグ識別子は、垂直辺フラグメント、水平辺フラグメント、線端辺フラグメントに隣接している辺フラグメントおよび凹角辺フラグメントからなる群から選択される辺フラグメントを特徴付ける、ステップと;幾何学的形状と同一であることを前記少なくとも1つのタグ識別子が示しているかどうか、を解析する」との記載がない点で相違（以下、「相違点２」という。）する。
 　
　相違点１について検討する。 
　刊行物１に記載された発明では、「補正テーブル（テーブル６）に載っていなかった場合（ステップＳ１０５，ＮＯ）、パターンマッチングゾーンが光近接効果補正される（ステップＳ１０６）。光近接効果補正の手段としてはシミュレーションベース補正が挙げられる。」（【０１５３】段落）と記載されているから、刊行物１記載の発明の、「パターンマッチング領域のレイアウトが補正テーブルに記憶されていない場合、前記パターンマッチング領域を光近接効果補正して被補正パターンの補正パターンを求める」際には、シミュレーションベース補正が用いられていると認められ、また、刊行物１には、シミュレーションベース補正について、「リソグラフィーモデルに光学像を用いている。具体的には、マスクパターンを入力図形として光学像シミュレーションを行い、所望パターンからの光学像のずれ量を計算し、ずれ量分マスクパターンのエッジをずれとは反対方向に移動（補正）する。上記の操作を繰り返し行う」（【００４３】段落）と記載されていること、及び刊行物１記載のシミュレーションベース補正は、その機能からして本件訂正発明１のモデル・ベース・シミュレーションに相当することを考慮すると、刊行物１の記載に基づいて「各領域に対するOPCは、モデル・ベース・シミュレーションを反復使用して決定される」ことは当業者が容易に想到できたものである。 
 　 
　相違点２について検討する。 
　当該技術分野において、マスクにおける特定の形状のパターン群に対して特定のインデックスを与え、当該特定のインデックスを用いてマスク内のパターン群の同一形状をなす領域を検出することは周知手段（例えば、特開平９−１２８４２１号公報及び特開平１０−１４９３７８号公報等参照）である。 
　マスク内の特定のパターン群に対して特定のインデックスを与えることは、特定のパターン群の領域に対し、少なくとも１つのタグ識別子を与えることに相当する。 
　また、当該技術分野におけるマスクは、通常、矩形の図形からなる集合であり、Ｘ軸方向またはＹ軸方向に当該矩形の辺が並んだものであることから、前記マスクにおける特定の形状のパターン群に対して特定のインデックスを与えることは、垂直辺フラグメント、水平辺フラグメントから選択されるなる辺フラグメントを特徴付ける少なくとも１つのタグ識別子を与えることに実質的に相当する。 
　また、マスクにおける特定の形状のパターン群に対して特定のインデックスを与え、当該特定のインデックスを用いてマスク内のパターン群の同一形状をなす領域を検出することは、実質的に、少なくとも１つのタグ識別子を用いて、マスクの領域の同一性を解析することに相当する。
　
　そうすると、相違点２は、周知手段を単に付加することにより、当業者が容易に想到できた事項にすぎない。 
　
　また、上記相違点に基づく効果も、当業者が予測し得た程度のものにすぎない。 
　
　してみると、本件訂正発明１は、刊行物１に記載された発明及び周知手段に基づいて当業者が容易に発明できたものである。
　
　なお、請求人は、平成１８年３月１０日付け意見書において、訂正拒絶理由における相違点２について、周知手段は『「特定のインデックス（すなわち、タグ識別子）を用いて２つの領域の形状が等価であるかどうかを決定すること」を教示も示唆もしていない』（意見書第５頁第１５行ないし第１７行）と主張する。
　しかし、訂正拒絶理由においては、「領域をインデックスを用いて認識すること」が周知であるとしているのであって、「特定のインデックス（すなわち、タグ識別子）を用いて２つの領域の形状が等価であるかどうかを決定することが周知であるとしているのではない。「２つの領域の形状が等価であるかどうかを決定すること」は、刊行物１に記載されていることである。
　そうすると、刊行物１に記載された「２つの領域の形状が等価であるかどうかを決定すること」において、領域の形状の識別手段として上記周知手段を用い、相違点２に係る本件訂正発明１の構成を得ることに何ら困難性はない。
　また、請求人は、上記意見書において、周知手段として引用した周知例は技術分野が刊行物１と同一でない旨主張（意見書第５頁第１８行ないし第８頁第２行）するが、いずれもICマスクの処理に関しており分野が相違するとはいえない。
　
　したがって、請求人の上記主張は採用できない。
 　 
（イ）本件訂正発明２と刊行物１記載の発明との対比・判断 
　本件訂正発明２に記載された付加事項の「モデル・ベース・シミュレーションが、レジスト・モデル・ベース・シミュレーションおよび光学モデル・ベース・シミュレーションを含む」点については、周知手段に過ぎず、本件訂正発明２の作用効果も、当業者が予測できる範囲のものであるから、本件訂正発明２は、刊行物１に記載された発明及び周知手段に基づいて当業者が容易に想到できたものである。 
　
（ウ）本件訂正発明３と刊行物１記載の発明との対比・判断 
　本件訂正発明３に記載された付加事項の「レジスト・モデル・ベース・シミュレーションの各々が可変しきい値レジスト・モデルを使用する」点については、周知手段に過ぎず、本件訂正発明３の作用効果も、当業者が予測できる範囲のものであるから、本件訂正発明３は、刊行物１に記載された発明及び周知手段に基づいて当業者が容易に想到できたものである。 
　
（エ）本件訂正発明４と刊行物１記載の発明との対比・判断 
　本件訂正発明４は、本件訂正発明１の方法の発明を装置の発明とし、かつ、「コンピュータ・システムをプログラムするためのプログラム命令が記録された記録可能媒体を備え」た構成とするものであるが、装置の発明とすることは、単にカテゴリーを変えたにすぎず、この点に特に技術的意義は認められない。
　また、コンピュータ・システムをプログラムするためのプログラム命令が記録された記録可能媒体を備えた点については、ICマスクレイアウトにおいて通常、コンピュータ・システムを用いるから、当業者が容易に想到できたことである。
　
　また、本件訂正発明４の効果も、当業者が予測し得た程度のものにすぎない。 
　
　してみると、本件訂正発明４は、刊行物１に記載された発明及び周知手段に基づいて当業者が容易に発明できたものである。
 　 
（オ）本件訂正発明５と刊行物１記載の発明との対比・判断 
　本件訂正発明５に記載された付加事項の「モデル・ベース・シミュレーションを実行する場合に、前記プログラム命令が、前記コンピュータ・システムによる、レジスト・モデル・ベース・シミュレーションおよび光学モデル・ベース・シミュレーションの包含を可能にする」点については、周知手段に過ぎず、本件訂正発明５の作用効果も、当業者が予測できる範囲のものであるから、本件訂正発明５は、刊行物１に記載された発明及び周知手段に基づいて当業者が容易に想到できたものである。 
　
（カ）本件訂正発明６と刊行物１記載の発明との対比・判断 
　　本件訂正発明６に記載された付加事項の「レジスト・モデル・ベース・シミュレーションを実行する場合に、前記プログラム命令が、前記コンピュータ・システムによる可変しきい値レジスト・モデルの使用を可能にする」点については、周知手段に過ぎず、本件訂正発明６の作用効果も、当業者が予測できる範囲のものであるから、本件訂正発明６は、本件訂正発明４と同様に刊行物１に記載された発明及び周知手段に基づいて当業者が容易に想到できたものである。 
　
（キ）本件訂正発明７と刊行物１記載の発明との対比・判断 
　本件訂正発明７は、本件訂正発明１の方法の発明をシステムの発明とし、かつ、「複数のプログラム命令が格納された記録可能媒体」を有する構成とするものであるが、システムの発明とすることは、単にカテゴリーを変えたにすぎず、この点に特に技術的意義は認められない。
　また、複数のプログラム命令が格納された記録可能媒体を有する点については、ICマスクレイアウトにおいて通常、コンピュータ・システムを用いるから、当業者が容易に想到できたことである。
　
　また、本件訂正発明７の効果も、当業者が予測し得た程度のものにすぎない。 
　
　してみると、本件訂正発明７は、刊行物１に記載された発明及び周知手段に基づいて当業者が容易に発明できたものである。
　
（ク）本件訂正発明８と刊行物１記載の発明との対比・判断
　本件訂正発明８に記載された付加事項の「プロセッサが、レジスト・モデル・ベース・シミュレーンョンおよび光学モデル・ベース・シミュレーションを実行するためのプログラム命令を実行する」点については、周知手段に過ぎず、本件訂正発明８の作用効果も、当業者が予測できる範囲のものであるから、本件訂正発明８は、本件訂正発明７と同様に刊行物１に記載された発明及び周知手段に基づいて当業者が容易に想到できたものである。 
　
（ケ）本件訂正発明９と刊行物１記載の発明との対比・判断 
　　本件訂正発明９に記載された付加事項の「プロセッサが、可変しきい値レジスト・モデルの使用して前記レジスト・モデル・ベース・シミュレーションを実行するためのプログラム命令を実行する」点については、周知手段に過ぎず、本件訂正発明９の作用効果も、当業者が予測できる範囲のものであるから、本件訂正発明９は、本件訂正発明７と同様に刊行物１に記載された発明及び周知手段に基づいて当業者が容易に想到できたものである。
　
（４）まとめ 
　したがって、本件訂正発明１ないし９に係る発明は、刊行物１及び周知手段に基づいて当業者が容易に発明できたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
 　 
 第４．むすび 
　以上のとおり、本件訂正審判請求においてした訂正は、平成１５年改正特許法第１２６条第１項ただし書第１号ないし第３号に掲げる事項を目的とし、かつ、同条第２項ないし第４項の規定に適合するものの、本件訂正審判請求書に添付した訂正明細書の請求項１ないし請求項９に記載された本件訂正発明１ないし本件訂正発明９は、特許出願の際独立して特許を受けることができないものであるから、本件訂正審判請求は、平成１５年改正特許法第１２６条第５項の規定に適合しないので、当該訂正を認めることができない。