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【手続補正書】
【提出日】平成22年3月15日(2010.3.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
汚染除去処方物において使用するための組成物であって、アルキレングリコールアルキルエーテルを約１０〜６０％、ジメチルアジペート、ジメチルグルタメート及びジメチルスクシネートを含む溶媒を約２０〜３５％、並びにアルコールエトキシレートを５〜３０％含み、該組成物が、第二の水を主成分とする溶媒と混合した際に、相安定性マイクロエマルションを与えることを特徴とする、前記組成物。
【請求項２】
前記組成物が、第二の水を主成分とする溶媒及び汚染除去試薬と混合した際に、相安定性マイクロエマルションを与える、請求項1記載の組成物。
【請求項３】
前記アルコールエトキシレートが、C9-C11アルコールエトキシレート6EOである、請求項１又は２記載の組成物。
【請求項４】
前記相安定性マイクロエマルションが、前記組成物の、5〜30％(v/v)なる範囲を占める、請求項1〜３の何れか1項に記載の組成物。
【請求項５】
前記相安定性マイクロエマルションが、前記第一溶媒の、約20％(v/v)を占める、請求項４記載の組成物。
【請求項６】
前記ジメチルアジペート、ジメチルグルタメート及びジメチルスクシネートの相対的割合が、夫々10〜25％(v/v)、55〜65％(v/v)及び15〜25％(v/v)なる範囲内にある、請求項１〜５のいずれか１項記載の組成物。
【請求項７】
約40〜60％なる範囲のアルキレングリコールアルキルエーテルを含む、請求項１〜６のいずれか１項記載の組成物。
【請求項８】
前記アルキレングリコールアルキルエーテルが、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル又はジエチレングリコールモノブチルエーテルである、請求項1〜７の何れか1項に記載の組成物。
【請求項９】
更に、増粘剤をも含む、請求項１〜８に記載の組成物。
【請求項１０】
前記増粘剤が、ザンタンガムである、請求項９記載の組成物。
【請求項１１】
前記汚染除去試薬を安定化するための、安定化剤を更に含む、請求項1〜１０の何れか1項に記載の組成物。
【請求項１２】
前記安定化剤が、ハイドロトロピー剤及び/又は石鹸を含む、請求項１１記載の組成物。
【請求項１３】
請求項1〜１２の何れか1項に記載の組成物、水を主成分とする溶媒及び汚染除去試薬を含み、もって前記汚染除去処方物が、相安定性マイクロエマルションとなることを特徴とする、汚染除去処方物。
【請求項１４】
請求項1〜１２の何れか1項に記載の前記組成物を、約20％(v/v)なる量で含む、請求項１３記載の汚染除去処方物。
【請求項１５】
前記汚染除去試薬が、ペルオキソ炭酸ナトリウム又はマグネシウムモノパーオキシフタレートである、請求項１３又は１４記載の汚染除去処方物。
【請求項１６】
請求項1〜１２の何れか1項に記載の組成物及び汚染除去試薬を含むことを特徴とする、汚染除去キット。
【請求項１７】
更に、水を主成分とする溶媒をも含む、請求項１６記載の汚染除去キット。
【請求項１８】
更に、相安定性マイクロエマルションを製造し及び/又は分取するための装置手段をも含む、請求項１６又は１７記載の汚染除去キット。
【請求項１９】
表面の汚染除去を行って、有毒な化学物質を除去する方法であって、該方法が、請求項１３〜１５の何れか1項に記載の汚染除去処方物を表面に適用する工程を含むことを特徴とする、前記方法。
【請求項２０】
第二の水を主成分とする溶媒と混合した際に相安定性のマイクロエマルションを与えるための、約１０〜６０％のアルキレングリコールアルキルエーテル、ジメチルアジペート、ジメチルグルタメート及びジメチルスクシネートを含む約２０〜３５％の溶媒、並びに約５〜３０％のアルコールエトキシレートの使用。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月22日(2010.2.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガス状炭化水素ストリーム中の遊離酸素を削減する方法であって、
（ｉ）炭化水素から水素を含有するガス混合物を形成するステップと；
（ｉｉ）前記ガス混合物を遊離酸素を含有するガス状炭化水素ストリームと混合するステップと；
（ｉｉｉ）得られた炭化水素ガス混合物を、ガス状炭化水素中に存在する遊離酸素の少なくとも一部を水蒸気に変換する担持８族遷移金属変換触媒上に通すステップと
を含み、
前記水素含有ガス混合物が、遊離酸素を含有する炭化水素の一部から形成される、方法。
【請求項２】
水素含有ガス混合物が、炭化水素／水蒸気混合物の酸素含有ガスによる部分酸化（所望により酸化触媒上）の後、部分酸化されたガス混合物を担持Ｎｉ又は貴金属水蒸気改質触媒上に直接通すステップを含む自己熱改質によって形成される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
水素含有ガス混合物が、炭化水素を酸素含有ガスで部分酸化することによって形成される、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
水素含有ガス混合物を水性ガスシフト触媒上で水性ガスシフト反応にかけ、該ガス混合物の水素含有量を増加させる、請求項２又は請求項３に記載の方法。
【請求項５】
遊離酸素を含有する炭化水素が、ストリッパーガスとして使用された天然ガスを含む天然ガスである、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
遊離酸素の変換が≦３００℃の温度で実施される、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
硫黄吸収剤及び所望により水銀吸収剤又はヒ素吸収剤が水素形成ステップの上流に提供され、水素含有ガスの形成に使用される炭化水素から毒が除去される、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
ガス状炭化水素ストリームの遊離酸素含有量を削減するための装置であって、遊離酸素を含有するガス状炭化水素の入口手段と生成物ガスの出口手段とを有する変換容器、前記容器内の前記入口手段及び出口手段の間に配置された担持８族遷移金属変換触媒、及び前記変換容器に動作的に接続された水素形成手段を含み、前記水素形成手段は、水素含有ガスをガス状炭化水素が前記水素含有ガスと混合されて前記触媒上を通過するように前記容器に提供し、前記水素形成手段が、遊離酸素含有ガス状炭化水素ストリームに、水素形成手段が遊離酸素含有ガス状炭化水素のサイドストリーム部分を供給されるように、動作的に接続される、前記装置。
【請求項９】
水素形成手段が、炭化水素入口手段、水蒸気入口手段、酸素含有ガス入口手段、生成物ガス出口手段を有し、そして前記入口手段及び出口手段の間に部分酸化手段と水蒸気改質触媒が配置された自己熱改質装置を含む、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
水素形成手段が、炭化水素及び酸素含有ガス入口手段、生成物ガス出口手段を有し、そして所望により前記入口手段及び出口手段の間に部分酸化触媒を有する部分燃焼容器を含む、請求項８に記載の装置。
【請求項１１】
水性ガスシフト触媒を有する水性ガスシフト容器が、自己熱改質装置又は部分燃焼容器と変換容器との間に、自己熱改質装置又は部分燃焼容器からのガス状生成物ストリームが遊離酸素含有ガス状炭化水素ストリームと混合される前に水素富化できるように、動作的に接続される、請求項９又は請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
熱交換器手段が水素形成手段からの水素含有ガスを冷却するために提供される、請求項８〜１１のいずれか一項に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月8日(2010.3.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
照明源と、少なくとも画像がある部分の対象物から戻って受け取った光の焦点を合わせるための受光レンズとを有する画像取込装置の組立方法であって、
前記照明源と前記対象物との間の距離を調整し、それによって照明要素を形成し、前記受光レンズと検出器との間の距離を別に調整し、それによって、カメラモジュールを形成し、該カメラモジュールと前記照明要素との相対的位置を固定することを特徴とする画像取込装置の組立方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月15日(2010.3.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面エネルギ準位を支持するように構成される境界領域を含む第１のフォトニック結晶構造を具え、前記第１のフォトニック結晶構造は前記境界領域と結合される第１の表面エネルギ準位入力と、前記境界領域と結合される第１の表面エネルギ準位出力と、第１のゲートとを含み、当該第１のゲートは１又はそれ以上の可変の電磁気特性を有する領域を含み、当該第１のゲートが前記第１の表面エネルギ準位入力と前記第１の表面エネルギ準位出力との間の表面エネルギ準位の伝播を動的に調整するように構成されていることを特徴とする機構。
【請求項２】
前記第１のフォトニック結晶構造に近接する第２の構造を更に含み、前記第２の構造が第２のフォトニック結晶構造を含むことを特徴とする請求項１に記載の機構。
【請求項３】
前記境界領域が第１のエネルギ範囲で表面エネルギ準位を支持するように構成され、前記第１のエネルギ範囲が光学周波数と少なくとも一部でオーバラップすることを特徴とする請求項１または２に記載の機構。
【請求項４】
前記第１のフォトニック結晶構造が第１の物質と第２の物質との交代層を含むことを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の機構。
【請求項５】
前記第１のフォトニック結晶構造が２又はそれ以上の物質の多重層を含み、各物質は誘電率を有し、前記層は隣接する層が異なる誘電率を有するように配置されることを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の機構。
【請求項６】
前記第１のフォトニック結晶構造が実質的に２次元のフォトニック結晶を含むことを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の機構。
【請求項７】
前記第１のフォトニック結晶構造が実質的に３次元のフォトニック結晶を含むことを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の機構。
【請求項８】
前記境界領域が第１の位置から第２の位置まで表面エネルギ準位を誘導するように構成されることを特徴とする請求項１乃至７の何れか１項に記載の機構。
【請求項９】
前記第１の表面エネルギ準位入力と結合できるエネルギ発生器を更に具えることを特徴とする請求項１乃至８の何れか１項に記載の機構。
【請求項１０】
前記エネルギ発生器が電磁エネルギを生成するように構成され、前記機構が前記電磁エネルギを表面エネルギ準位に変換するように構成される変換器を更に含むことを特徴とする請求項９に記載の機構。
【請求項１１】
前記第１の表面エネルギ準位入力と結合できる入力結合構造を更に具えることを特徴とする請求項１乃至１０の何れか１項に記載の機構。
【請求項１２】
前記第１の表面エネルギ準位出力と結合できる出力結合構造を更に具えることを特徴とする請求項１乃至１１の何れか１項に記載の機構。
【請求項１３】
前記表面エネルギ準位を電磁エネルギに変換するように構成される変換器を更に含むことを特徴とする請求項１乃至１２の何れか１項に記載の機構。
【請求項１４】
前記第１のゲートに結合されるエネルギーガイドを更に具えることを特徴とする請求項１乃至１３の何れか１項に記載の機構。
【請求項１５】
前記境界領域と結合される第２の表面エネルギ準位入力と、前記境界領域と結合される第２の表面エネルギ準位出力と、第２のゲートとを更に含むことを特徴とする請求項１乃至１４の何れか１項に記載の機構。
【請求項１６】
第１の表面エネルギ準位入力ポートと；
制御信号を受信するように構成される第２の入力ポートと；
出力ポートと；
を具え、
制御構造が前記第１の表面エネルギ準位入力ポートと前記出力ポートとの間に機能的に挿入され、前記制御構造が前記制御信号の関数として、表面エネルギ準位のエネルギを前記出力ポートに選択的に提供するように構成されることを特徴とする機構。
【請求項１７】
フォトニック結晶を更に含み、前記第１の表面エネルギ準位入力ポートがフォトニック結晶によって媒介されることを特徴とする請求項１６に記載の機構。
【請求項１８】
前記出力ポートがフォトニック結晶によって媒介されることを特徴とする請求項１７に記載の機構。
【請求項１９】
フォトニック結晶を更に含み、前記第２の入力ポートがフォトニック結晶によって媒介されることを特徴とする請求項１６に記載の機構。
【請求項２０】
第１の表面エネルギ準位と第１の信号を受け取るように構成される第１の表面エネルギ準位スイッチを具え、当該表面エネルギ準位スイッチが、前記第１の表面エネルギ準位及び前記第１の信号に応じた第２の表面エネルギ準位を出力するように構成されることを特徴とするシステム。
【請求項２１】
前記第１の表面エネルギ準位スイッチを制御するように構成されるプロセッサを更に含むことを特徴とする請求項２０に記載のシステム。
【請求項２２】
前記プロセッサが前記第１の表面エネルギ準位を制御するように構成されることを特徴とする請求項２１に記載のシステム。
【請求項２３】
前記プロセッサが前記第１の信号を制御するように構成されることを特徴とする請求項２１または２２に記載のシステム。
【請求項２４】
前記プロセッサが前記第２の表面エネルギ準位についての情報を受け取るように構成されることを特徴とする請求項２１乃至２３の何れか１項に記載のシステム。
【請求項２５】
第１のフォトニック結晶の第１の領域を横切って第１の表面エネルギ準位を伝播するステップと；
第１の信号を前記第１のフォトニック結晶の少なくとも一部分と結合するステップと；
前記第１の信号に応じて前記第１の表面エネルギ準位の伝播を調整するステップと；
を具えることを特徴とする方法。
【請求項２６】
前記第１の表面エネルギ準位の伝播を調整するステップが、前記第１の表面エネルギ準位の振幅を変更するステップを含むことを特徴とする請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
前記第１の表面エネルギ準位の伝播を調整するステップが、前記表面エネルギ準位のモード特性を変更するステップを含むことを特徴とする請求項２５または２６に記載の方法。  
【請求項２８】
前記第１の表面エネルギ準位の伝播を調整するステップが、前記第１の表面エネルギ準位の伝播を抑制するステップを含むことを特徴とする請求項２５乃至２７の何れか１項に記載の方法。
【請求項２９】
第１の入力信号に応じて、第１の位置から第２の位置までフォトニック表面エネルギ準位の伝播を動的に調整するステップを具えることを特徴とする方法。
【請求項３０】
前記第１の入力信号を生成するステップを更に具えることを特徴とする請求項２９に記載の方法。
【請求項３１】
前記フォトニック表面エネルギ準位を誘導するステップを更に具えることを特徴とする請求項２９または３０に記載の方法。
【請求項３２】
第２の入力信号に応じて、前記第２の位置から第３の位置までフォトニック表面エネルギ準位の伝播を動的に調整するステップを更に具えることを特徴とする請求項２９乃至３１の何れか１項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月19日(2010.2.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学記憶媒体の前露光および／または硬化の方法であって、前記前露光および／または硬化のために、光学記憶媒体がコヒーレント光ビームにより照射される方法において、
前記前露光および／または硬化は、前記コヒーレント光ビームが前記ビーム断面に渡り空間強度および／または位相分布を伝送する２以上の露光ステップにおいて実行され、異なる露光ステップの前記空間強度および／または位相分布は低い相関関係を有し、記録されたデータパターンの回折効率がデータをノイズと区別するにはあまりにも低くなるように、前記露光ステップのそれぞれの露光線量が最小線量より小さいことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記コヒーレント光ビームは、他の用途として、データ記録のために使用される光源により発せられることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
後続する露光ステップは、一定の露光強度で、しかし異なる露光時間で、または、一定の露光時間で、しかし異なる露光強度で実行されることを特徴とする請求項１乃至２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項４】
前記光学記憶媒体は、ホログラフィック記憶媒体であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか１項に記載の方法を実行するように適用されることを特徴とする光学記憶媒体に書き込むための装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月4日(2010.3.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
四個のプリンティングステーションが、黒色の、黄色の、マゼンタの、及びシアンのトナーと共に備え付けられるのに対してカラー電子写真のプリントの工程によって発生させられた文書に蛍光性の効果を備えたプリントを提供するための方法において、
第五のプリンティングステーションは、カラートナーの上部に印刷されるものである実質的に透き通った蛍光性のトナーと共に備え付けられる
ことを特徴とする、方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法において、
前記透き通った蛍光性のトナーは、赤色の蛍光性の光を放出することを特徴とする、方法。
【請求項３】
請求項２に記載の方法において、
前記透き通った蛍光性のトナーは、
【化１】
2009530673.tif 000001
：の構造を備えた染料を含むことを特徴とする、方法。
【請求項４】
請求項１から３までのいずれかに記載の方法において、
メタリックな顔料又はメタリックな効果の顔料は、前記透き通った蛍光性のトナーへ加えられることを特徴とする、方法。
【請求項５】
蛍光性の効果を示すカラー電子写真のプリントの工程の使用によって生産されたプリントアイテムであって、
実質的に透き通った蛍光性のトナーは、黒色の、黄色の、マゼンタの、及びシアンのトナーで生じさせられる印刷された像の上部に印刷されると共に前記透き通った蛍光性のトナーは、赤色の蛍光性の光を放出する
ことを具備する、プリントアイテムにおいて、
前記透き通った蛍光性のトナーは、
【化２】
2009530673.tif 000002
：の構造を備えた染料を含む
ことを特徴とする、プリントアイテム。
【請求項６】
請求項５に記載のプリントアイテムにおいて、
前記透き通った蛍光性のトナーは、それへ加えられたメタリックな顔料又はメタリックな効果の顔料を有することを特徴とする、プリントアイテム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
このトナーは、それが、安全確保の印刷の用途に具体的に好都合なものであるように、狭い、強い、及び選択的な吸収の挙動を有するという特有の利点を有する。
［付記］
付記（１）：
四個の印刷ステーションが、黒色の、黄色の、マゼンタの、及びシアンのトナーと共に備え付けられるのに対してカラー電子写真のプリントの工程によって発生させられた文書に蛍光性の効果を備えた印刷物を提供するための方法において、
第五の印刷ステーションは、カラートナーの上部に印刷されるものである実質的に透き通った蛍光性のトナーと共に備え付けられる
ことを特徴とする、方法。
付記（２）：
前記透き通った蛍光性のトナーは、ＵＶ−Ａの範囲における光を吸収することを特徴とする、付記（１）に記載の方法。
付記（３）：
前記トナーの平均的な粒子の大きさは、４μｍ−２０μｍであることを特徴とする、付記（２）に記載の方法。
付記（４）：
前記トナーの平均的な粒子の大きさは、４μｍ−８μｍであることを特徴とする、付記（３）に記載の方法。
付記（５）：
前記トナーの平均的な粒子の大きさは、５μｍ−７μｍであることを特徴とする、付記（４）に記載の方法。
付記（６）：
前記透き通った蛍光性のトナーは、青色の蛍光性の光を放出することを特徴とする、付記（１）乃至（５）のいずれかに記載の方法。
付記（７）：
前記透き通った蛍光性のトナーは、緑色の蛍光性の光を放出することを特徴とする、付記（１）乃至（５）のいずれかに記載の方法。
付記（８）：
前記透き通った蛍光性のトナーは、赤色の蛍光性の光を放出することを特徴とする、付記（１）乃至（５）のいずれかに記載の方法。
付記（９）：
前記透き通った蛍光性のトナーは、
【化１】
2009530673.tif 000003
：の構造を備えた染料を含むことを特徴とする、付記（８）に記載の方法。
付記（１０）：
金属を含んだ顔料又はメタリックな効果の顔料は、前記透き通った蛍光性のトナーへ加えられることを特徴とする、付記（１）乃至（９）のいずれかに記載の方法。
付記（１１）：
前記金属を含んだ顔料は、プレート形状にされたものであることを特徴とする、付記（１０）に記載の方法。
付記（１２）：
蛍光性の効果を示すカラー電子写真のプリントの工程の使用によって生産されたプリントアイテムにおいて、
実質的に透き通った蛍光性のトナーは、黒色の、黄色の、マゼンタの、及びシアンのトナーで生じさせられる印刷された像の上部に印刷されることを特徴とする、プリントアイテム。
付記（１３）：
前記透き通った蛍光性のトナーは、ＵＶ−Ａの範囲における光を吸収することを特徴とする、付記（１２）に記載のプリントアイテム。
付記（１４）：
前記透き通った蛍光性のトナーは、青色の蛍光性の光を放出することを特徴とする、付記（１２）又は（１３）に記載のプリントアイテム。
付記（１５）：
前記透き通った蛍光性のトナーは、緑色の蛍光性の光を放出することを特徴とする、付記（１２）又は（１３）に記載のプリントアイテム。
付記（１６）：
前記透き通った蛍光性のトナーは、赤色の蛍光性の光を放出することを特徴とする、付記（１２）又は（１３）に記載のプリントアイテム。
付記（１７）：
前記透き通った蛍光性のトナーは、
【化２】
2009530673.tif 000004
：の構造を備えた染料を含むことを特徴とする、付記（１６）に記載のプリントアイテム。
付記（１８）：
前記透き通った蛍光性のトナーは、それへ加えられた金属を含んだ顔料又はメタリックな効果の顔料を有することを特徴とする、付記（１２）乃至（１７）のいずれかに記載のプリントアイテム。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月19日(2010.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の工程を含む、癌が浸潤性となるか、転移するか、ホルモン非依存性となるか、耐ホルモン性となるか、再発するかの可能性を決定する方法：
（ａ）癌を有するリスクのある個体、または癌を有する個体由来の試験組織サンプルを接触させる工程、および
（ｂ）癌について陰性であることが既知の個体由来のコントロール組織サンプルと比較して、該試験組織サンプル中のＮ−カドヘリンタンパク質またはmRNAの有無または量を決定する工程であって、Ｎ−カドヘリンタンパク質またはmRNAの過剰発現が癌を示す、前記工程。
【請求項２】
前記癌が泌尿生殖器癌である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記癌が前立腺癌または膀胱癌である、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
Ｎ−カドヘリンの過剰発現がコントロールサンプルの少なくとも４倍である、請求項１〜３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
前記試験組織をＮ−カドヘリンタンパク質に特異的に結合する抗体と接触させ、それにより、前記Ｎ−カドヘリンタンパク質の過剰発現が決定される、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
Ｎ−カドヘリンｍＲＮＡを過剰発現し、前記試験組織サンプルを該Ｎ−カドヘリンｍＲＮＡ核酸とそれぞれ特異的にハイブリッド形成する第１のオリゴヌクレオチドおよび第２のオリゴヌクレオチドのプライマー組と接触してＮ−カドヘリンｍＲＮＡ核酸を増幅し、それにより、Ｎ−カドヘリンタンパク質の過剰発現も決定される、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記組織サンプルが、血清サンプルまたは血液サンプルである、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記癌が転移性である、請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月5日(2010.3.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
反応サイト表面（２）と対向する基板表面（３）とを有している試料基板（１）のための蛍光式読み取り装置（１０）であって、
励起光線を前記基板表面（３）に入射させるよう配置された、励起光源（５）と、
前記反応サイト表面から放射され、前記基板表面を通じて伝送される蛍光を検出するよう配置された、検出装置（６）と、を含んでおり、
前記基板表面（３）が、前記検出装置（６）による検出のための、前記基板表面を通じた伝送を、増加するために、前記放射蛍光の光路中に配置された、全内部反射抑制手段（１２、１５、１６）を、備えていることを特徴とする蛍光式読み取り装置。
【請求項２】
前記全内部反射抑制手段が、前記検出装置（６）による検出のための、前記基板（２）内に捕獲された放射蛍光を、放出するように配置されていることを特徴とする請求項１に記載の蛍光式読み取り装置。
【請求項３】
前記光源（５）が、入射角（７）で、励起光線を前記基板表面（３）に入射させるように配置されており、入射角（７）は、前記反応サイト表面の法線に対して、前記放射蛍光の最大放射角（８）と実質的に一致していることを特徴とする請求項１又は２に記載の蛍光式読み取り装置。
【請求項４】
前記基板表面（３）が、前記励起光線の光路中に配置された、入射角制御手段（１１）を、備えていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の蛍光式読み取り装置。
【請求項５】
前記入射角制御手段（１１）が、前記反応サイト表面の法線に対する拡大された入射角（７）で、励起光が前記基板内に入るように設計された、表面起伏構造の入口部分（９）を、含むことを特徴とする請求項４に記載の蛍光式読み取り装置。
【請求項６】
前記全内部反射抑制手段が、前記基板からの前記放射蛍光光線を回折又は屈折させるように設計された、表面起伏構造の出口部分（１２）を、含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の蛍光式読み取り装置。
【請求項７】
前記表面起伏構造の設計が、衝突する蛍光の変化する放射角（８）に相応して、前記出口部分（１２）の表面上で変化するように、設定されていることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の蛍光式読み取り装置。
【請求項８】
前記全内部反射抑制手段が、前記基板表面と光学的に濡れて接触するように配置された、集光体（１５）を、含むことを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の蛍光式読み取り装置。
【請求項９】
前記放射の励起及び測定が、異なる幾何学形状の平面で行われることを特徴する請求項１〜８のいずれか１項に記載の蛍光式読み取り装置。
【請求項１０】
光学アッセイ装置中での、請求項１〜９のいずれか１項に記載の蛍光式読み取り装置の使用。
【請求項１１】
反応サイト表面（２）と対向する基板表面（３）とを有する試料基板（１）であって、請求項１〜９のいずれか１項に記載の蛍光式読み取り装置に適していることを特徴とする試料基板。
【請求項１２】
前記反応サイト表面（２）が、蛍光体のライン及び／又はスポットを形成するように配置されていることを特徴とする請求項１１に記載の試料基板。
【請求項１３】
前記反応サイト表面（２）が、突起状の微細構造のパターンを備えていることを特徴とする請求項１１又は１２に記載の試料基板。
【請求項１４】
前記突起状の微細構造が、毛細管流を可能にするマイクロ・ポストを含むことを特徴とする請求項１３に記載の試料基板。
【請求項１５】
前記基板表面（３）が、放射される蛍光光線の全内部反射を抑制するように構成された、表面起伏構造の出口部分（１２）を、備えていることを特徴とする請求項１１〜１４のいずれか１項に記載の試料基板。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月5日(2010.2.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
乱用薬物またはその代謝物もしくは類似物である標的化合物を、それを含有する混合物から、前記標的化合物に選択的に結合する吸着材料と前記混合物を接触させることによって分離する方法であって、前記吸着材料が、塩、エステル、チオエステル、アミド、およびニトリルから選択される、以下の式Ａおよび／またはＢの１種または複数のフルオロカルボン酸、またはそれらの誘導体由来のユニットを含む、方法。
【化１】
2009530629.tif 000001
［式中、Ｒ1は、水素、場合により置換されたアルキルまたはシクロアルキル、場合により置換されたアリールまたはヘテロアリール、場合により置換されたアミン、−ＯＲ、または−ＳＲから選択され、式中、Ｒは、アルキル、シクロアルキル、アリール、またはヘテロアリールであって場合によっては置換されており、
Ｒ2は、場合により置換されたアルキルまたはシクロアルキル、場合により置換されたアリールまたはヘテロアリール、場合により置換されたアミン、ＯＲ、またはＳＲから選択され、式中、Ｒは、上記に規定された通りか、または二重もしくは三重の炭素−炭素結合を含有する基であり、
Ｒ3は、場合により置換されたアルキレンもしくはシクロアルキレン、酸素、または硫黄から選択される。］
【請求項２】
前記フルオロカルボン酸が、２−トリフルオロメチルアクリル酸である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記吸着材料が、式（Ａ）もしくは（Ｂ）のカルボン酸、それらの誘導体、またはこのようなカルボン酸もしくはそれらの誘導体のポリマーを、固体支持体上に接合することによって調製される、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記吸着材料が、標的化合物の存在下で、式（Ａ）もしくは（Ｂ）の１種または複数の酸、またはそれらの誘導体を重合することによって調製される分子インプリントポリマーである、請求項１乃至３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
前記標的化合物が、テトラヒドロカンナビノール、ヘロイン、モルヒネ、６−アセチルモルヒネ、モルヒネ−３−グルクロニド、コデイン、コカイン、ベンゾイルエクゴニン、エクゴニンメチルエステル、アンフェタミン、メタンフェタミン、リゼルギン酸ジエチルアミド、フェンサイクリジン、バルビツール酸系薬、ベンゾジアゼピン系薬、および三環系抗欝薬から選択される、請求項１乃至４のいずれかに記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月15日(2010.3.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つのシリコン含有モノマー又はマクロマー、ケト‐アルコール希釈剤成分及び反応性離型成分を含む重合性組成物の反応生成物を含む、ハイドロゲル眼科用装置。
【請求項２】
前記反応性離型成分が、アクリル酸、メタクリル酸、それらの誘導体、及びそれらの混合物からなる群から選択される試薬を含む、請求項１記載の眼科用装置。
【請求項３】
前記反応性離型成分が、装置を形成する為に使用される重合性組成物の５％〜５０％(w/w)の量で提供される、請求項１記載の眼科用装置。
【請求項４】
シリコンハイドロゲル装置の製造方法であって、: 
シリコンー含有モノマー又はマクロマー、ケト‐アルコール希釈剤成分及び反応性離型成分を含む重合性組成物を極性樹脂鋳型に供給する工程; 
重合性組成物を重合化し重合化シリコンハイドロゲル装置を形成する工程;及び
極性樹脂鋳型を分離し、重合化シリコンハイドロゲル装置を、離型成分が存在しない以外は実質的に同じ組成を含む実質的に同じ極性樹脂鋳型分離と比較して、より少ない労作で出す工程
を含む上記方法。
【請求項５】
前記反応性離型成分が、アクリル酸、メタクリル酸、それらの誘導体及びそれらの混合物からなる群から選択される試薬を含む、請求項４記載の方法。
【請求項６】
前記反応性離型成分が、２-ヒドロキシエチルメタクリレート、２-ヒドロキシブチルメタクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート、メタクリル酸、アクリルアミド、メタクリルアミド、ヒドロキシエチルアクリレート及びメチルメタクリレートからなる群から選択される、請求項５記載の方法。
【請求項７】
前記反応性離型成分が、前記重合性組成物の５％〜５０％(w/w)の量で存在する、請求項４記載の方法。
【請求項８】
前記重合性組成物が、さらに色素成分を含む請求項４記載の方法。
【請求項９】
前記ケト‐アルコール希釈剤成分がヒドロキシメチルペンタノン(HMP)を含む、請求項４記載の方法。
【請求項１０】
前記方法がさらに、
シリコンー含有モノマー又はマクロマー及びケト‐アルコール希釈剤成分を合わせてプレミックス組成物を形成する工程；
反応性離型成分をプレミックス組成物に加え、重合性組成物を形成する工程；及び
重合性組成物を極性樹脂鋳型に供給する工程
を含む請求項４記載の方法。
【請求項１１】
前記ケト‐アルコール希釈剤成分が前記重合性組成物の約５％〜５０％(w/w)の量で存在する、請求項４に記載の方法。
【請求項１２】
前記ケト‐アルコール希釈剤成分が、前記重合性組成物の１０％〜４０％(w/w)の量で存在する、請求項１１記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月15日(2010.3.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の可視周波数の成分を含む光信号に対して概して透明である基板と、
前記成分を透過させるための、前記基板を覆う光学多層のスタックであって、少なくとも約４０パーセントの電力が通り、約６００ナノメートル未満の前記所定の可視周波数について１ミクロン当たりのファラデー回転が少なくとも約２４度であるスタックと、
を備える装置。
【請求項２】
前記所定の可視周波数が約４７３ナノメートル±約１０ナノメートルである、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記所定の可視周波数が約５３２ナノメートル±約１０ナノメートルである、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記光学多層のスタックが、（ＭＬ）２（Ｍ）６（ＬＭ）２と表示される層順序を備え、Ｍが磁気光学材料で、Ｌが非磁気光学材料である、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記基板および前記Ｌ層が、実質的にＧｄ3Ｇａ5Ｏ12（ＧＧＧ）を含む、請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記Ｍ層が、ビスマス置換イットリウム鉄ガーネット（Ｂｉ：ＹＩＧ）を含む、請求項５に記載の装置。
【請求項７】
前記光学多層のスタックが、（Ｈ）１（Ｍ）１３（ＨＬ）１０（Ｍ）６（ＬＨ）２と表示される層順序を備え、Ｍが磁気光学材料で、Ｌが非磁気光学材料である、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
前記基板および前記Ｌ層が、Ｇｄ3Ｇａ5Ｏ12（ＧＧＧ）、ＳｉＯ2およびこれらの組合せから本質的になる群の少なくとも一つの要素から選択される、請求項７に記載の装置。
【請求項９】
前記Ｈ層が、ＺｎＯ、Ｔａ2Ｏ5およびこれらの組合せのうちの一つまたは複数から本質的になる群の少なくとも一つの要素から選択される、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記Ｍ層が、Ｂｉ3Ｆｅ5Ｏ12、Ｂｉ：ＹＩＧおよびこれらの組合せから本質的になる群の少なくとも一つの要素から選択される、請求項８に記載の装置。
【請求項１１】
前記Ｍ層が、Ｂｉ3Ｆｅ5Ｏ12、Ｂｉ：ＹＩＧおよびこれらの組合せから本質的になる群の少なくとも一つの要素から選択される、請求項９に記載の装置。
【請求項１２】
前記光学多層のスタックが、（ＬＭ）８（ＭＬ）１５（ＬＭ）１３（ＭＬ）６と表示される層順序を備え、Ｍが磁気光学常磁性材料で、Ｌが非磁気光学材料である、請求項１に記載の装置。
【請求項１３】
前記基板および前記Ｌ層が、実質的にＧｄ3Ｇａ5Ｏ12（ＧＧＧ）を含む、請求項１２に記載の装置。
【請求項１４】
前記Ｍ層が、実質的にＣｄＭｎＴｅを含む、請求項１２に記載の装置。
【請求項１５】
前記スタックの前記光学多層の各々が、前記光学多層の材料の屈折率の４倍で割った自由空間において前記所定の可視周波数の波長にほぼ等しい厚さを有する、請求項１に記載の装置。
【請求項１６】
前記光学多層の少なくとも一つが、第１の特性向上副層および第２の厚さ調整副層を含む少なくとも二つの副層を有する磁気光学材料層を含み、前記少なくとも一つの光学多層の全厚さが前記厚さにほぼ等しい、請求項１５に記載の装置。
【請求項１７】
前記第１の特性向上副層が、ＣｄＭｎＴｅ、コバルトまたはこれらの組合せから実質的になる群から選択される少なくとも一つの要素材料を含む、請求項１６に記載の装置。
【請求項１８】
前記第２の厚さ調製副層が、Ｂｉ：ＹＩＧ、ＳｉＯ2またはこれらの組合せから実質的になる群から選択される少なくとも一つの要素材料を含む、請求項１６に記載の装置。
【請求項１９】
前記第２の厚さ調製副層が、Ｂｉ：ＹＩＧ、ＳｉＯ2またはこれらの組合せから実質的になる群から選択される少なくとも一つの要素材料を含む、請求項１７に記載の装置。
【請求項２０】
ａ）多層形成用の基板の表面を準備することと、
ｂ）約６００ナノメートル未満の波長の透過率が少なくとも約２０パーセントで、固有回転が１ミクロン当たり少なくとも約２４度であるアセンブリがもたらされるように、前記基板の上に可視波長透過性の複数の層を形成することと、
を備える方法。
【請求項２１】
コンピュータシステムを用いて実行される場合にＭＰＣ薄膜スタック構造を形成するプログラム命令を有するコンピュータ可読媒体を備えるコンピュータプログラム製品であって、前記実行されるプログラム命令が、
ａ）多層形成用の基板の表面を準備することと、
ｂ）約６００ナノメートル未満の波長の透過率が少なくとも約２０パーセントで、固有回転が１ミクロン当たり少なくとも約２４度であるアセンブリがもたらされるように、前記基板の上に可視波長透過性の複数の層を形成することと、
を備える方法を実行するコンピュータプログラム製品。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月8日(2010.3.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明な可塑性ポリ塩化ビニルのフィルムと、
前記透明な可塑性ポリ塩化ビニルのフィルムの下方に位置する、再帰反射性のキューブコーナー要素のアレイと、
再帰反射性の前記キューブコーナー要素アレイの下方に位置する、難燃性かつ耐熱性の接着剤と、
前記難燃性かつ耐熱性の接着剤に接着された難燃性の織布と、
を備え、
前記難燃性かつ耐熱性の接着剤が、三酸化アンチモン、五酸化アンチモン、アンチモン酸ナトリウム、ホウ酸亜鉛、およびこれらの組合せからなる群から選ばれる少なくとも１つの難燃助剤を含有する再帰反射性構造体。
【請求項２】
請求項１において、前記透明な可塑性ポリ塩化ビニルのフィルムが、蛍光染料を含んでいる再帰反射構造体。
【請求項３】
請求項１において、再帰反射性の前記キューブコーナー要素アレイが、金属で被覆されている再帰反射構造体。
【請求項４】
請求項１において、前記難燃性かつ耐熱性の接着剤が、シリコン系接着剤およびアクリル系接着剤からなる群から選ばれる再帰反射構造体。
【請求項５】
請求項１において、前記難燃性かつ耐熱性の接着剤が、難燃性塩素化物からなる添加剤、難燃性臭化物からなる添加剤、およびこれらの組合せからなる群から選ばれる少なくとも１つの添加剤を含有する再帰反射性構造体。
【請求項６】
請求項１において、前記難燃性織布が、ガラス繊維織布、難燃性の綿織布、難燃性のモダクリル織布、ノメックス織布、ノメックス−ケブラー織布、ポリベンジミジゾール織布、ガラス繊維の芯体と綿および難燃性のモダクリル繊維からなる鞘体とを有するコアスパン複合糸を含む織布、およびこれらの組合せからなる群から選ばれる再帰反射構造体。
【請求項７】
請求項１において、前記織布から、製織時に使用されたいかなるサイズ剤も、実質的に除去されている再帰反射構造体。
【請求項８】
請求項１において、前記織布が、ガラス繊維の芯体と綿および難燃性のモダクリル繊維からなる鞘体とを有するコアスパン複合糸を含む再帰反射構造体。
【請求項９】
請求項１において、さらに、前記キューブコーナー要素アレイを介して前記透明な可塑性ポリ塩化ビニルのフィルムに封着された高分子フィルム層を備える再帰反射構造体。
【請求項１０】
請求項９において、前記難燃性かつ耐熱性の接着剤が、前記高分子フィルム層に接着されており、さらに、前記難燃性の織布にも接着されている再帰反射構造体。
【請求項１１】
透明な可塑性ポリ塩化ビニルのフィルムと、
前記透明な可塑性ポリ塩化ビニルのフィルムの下方に位置する再帰反射性のキューブコーナー要素のアレイと、
前記再帰反射性のキューブコーナー要素のアレイ上に堆積した金属化された反射層と、
前記金属化された反射層に接着された難燃性および耐熱性を有する架橋型のアクリル系接着剤と、
前記アクリル系接着剤に接着された難燃性の織布と、
を備え、
前記難燃性かつ耐熱性の接着剤が、三酸化アンチモン、五酸化アンチモン、アンチモン酸ナトリウム、ホウ酸亜鉛、およびこれらの組合せからなる群から選ばれる少なくとも１つの難燃助剤を含有する再帰反射性構造体。
【請求項１２】
請求項１１において、前記透明な可塑性ポリ塩化ビニルのフィルムが、蛍光染料を含んでいる再帰反射構造体。
【請求項１３】
請求項１１において、前記金属化された反射層が、アルミニウム層である再帰反射構造体。
【請求項１４】
請求項１１において、前記アクリル系接着剤が、難燃性塩素化物からなる添加剤、難燃性臭化物からなる添加剤、およびこれらの組合せからなる群から選ばれる少なくとも１つの添加剤を含んでいる再帰反射構造体。
【請求項１５】
請求項１１において、前記難燃性の織布が、ガラス繊維織布、難燃性の綿織布、難燃性のモダクリル織布、ノメックス織布、ノメックス−ケブラー織布、ポリベンジミジゾール織布、ガラス繊維の芯体と綿および難燃性のモダクリル繊維からなる鞘体とを有するコアスパン複合糸を含む織布、およびこれらの組合せからなる群から選ばれる再帰反射構造体。
【請求項１６】
請求項１１において、前記難燃性の織布が、ガラス繊維の芯体と綿および難燃性のモダクリル繊維からなる鞘体とを有するコアスパン複合糸を含む再帰反射構造体。
【請求項１７】
請求項１１において、前記織布から、製織時に使用されたいかなるサイズ剤も、実質的に除去されている再帰反射構造体。
【請求項１８】
請求項１から１７のいずれか一項において、前記透明な可塑性ポリ塩化ビニルフィルムの上方に位置する印刷インク層をさらに備える再帰反射構造体。
【請求項１９】
請求項１から１７のいずれか一項において、前記透明な可塑性ポリ塩化ビニルフィルムの下方に位置する印刷インク層をさらに備える再帰反射構造体。
【請求項２０】
請求項１から１７のいずれか一項において、前記再帰反射性キューブコーナー要素アレイの上方に位置する印刷インク層をさらに備える再帰反射構造体。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月12日(2010.3.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被験体の、将来神経疾患を発症する危険性プロフィールを特徴づけるのを補助するための方法であって、
該被験体から得られた体液または身体組織中のゲルゾリンのレベルを予め定められた値と比較すること、および
該予め定められた値と比較したゲルゾリンのレベルに基づき、該被験体の、神経疾患を発症する危険性プロフィールを特徴づけること
を含み、該予め定められたレベルまたはそれ以下のゲルゾリンのレベルは、該被験体が該神経疾患を発症する危険度が高いことの指標であり、該予め定められたレベルまたはそれ以上のゲルゾリンのレベルは、該被験体が該神経疾患を発症する危険度が高くないことの指標である方法。
【請求項２】
多発性硬化症を有しているまたは発症する危険度が高い被験体を治療するための組成物であって、該組成物は、有効量のゲルゾリンを含み、そのような治療を必要とする被験体に投与されるものであることを特徴とする組成物。
【請求項３】
多発性硬化症を有しているまたは発症する危険度が高い被験体を治療するための組成物であって、該組成物は、有効量のゲルゾリンを含み、該被験体におけるゲルゾリンのレベルを予め定められた値より上に上昇させるために、そのような治療を必要とする被験体に投与されるものであることを特徴とする組成物。
【請求項４】
多発性硬化症の危険度を低下させるために被験体を治療するための組成物であって、該組成物は、有効量のゲルゾリンおよび／または第２の薬剤を含み、該組成物は、正常以下レベルのゲルゾリンを有することが既知であることに基づいて選択された被験体に投与されて、多発性硬化症を発症する被験体の危険度を低下させるものであることを特徴とする、組成物。
【請求項５】
多発性硬化症の危険度を低下させるために被験体を治療するための組成物であって、該組成物は、有効量のゲルゾリンおよび／または第２の薬剤を含み、該組成物は、正常以下レベルのゲルゾリンを有することが既知であることに基づいて選択された被験体に投与されて、該被験体におけるゲルゾリンのレベルを予め定められた値より上に上昇させるものであることを特徴とする、組成物。
【請求項６】
正常以下レベルのゲルゾリンを有する被験体を治療するためのキットであって、該キットは、多発性硬化症を治療するまたは多発性硬化症の危険度を低下させるための第１の治療法および第２の薬剤を含み、該第２の薬剤は、該第１の治療法での治療後に該被験体においてゲルゾリンの予め定められたレベルに達しない場合に、該被験体を治療するために使用されるものであることを特徴とする、キット。
【請求項７】
被験体において多発性硬化症を治療するまたは多発性硬化症の危険度を低下させるための治療の効果を評価するのを補助するための方法であって、
（ｉ）多発性硬化症を治療するまたは多発性硬化症の危険度を低下させるための薬剤による治療を受けている被験体から得られた体液または身体組織におけるゲルゾリンのレベルを、見かけ上健常な対照集団におけるゲルゾリンのレベルに対応する予め定められた値と比較すること、および
（ｉｉ）該被験体由来の体液または身体組織中のゲルゾリンのレベルが該予め定められたレベルまたはそれ以上であるかどうかを判定し、該判定は、治療が有効であるかどうかの指標であること
を含む方法。
【請求項８】
被験体において治療の方向を決定するのを補助するための方法であって、
（ｉ）多発性硬化症を治療するまたは多発性硬化症の危険度を低下させるための治療を受けている被験体から得られた体液または身体組織中のゲルゾリンのレベルを、ゲルゾリンのレベルに対応する予め定
められた値と比較すること、および
（ｉｉ）該被験体から得られた体液または身体組織中のゲルゾリンのレベルが該予め定められたレベルまたはそれ以上であるかどうかを判定すること、および
（ｉｖ）そのような判定に基づいて治療の方向を決定すること
を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月10日(2010.3.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも第１電子ビームカラムと第１電子ビームカラムに隣り合う少なくとも第２電子ビームカラムとの間のクロストークを軽減するための方法であり、
第１トリガイベントを発生させ、
第１トリガイベント後の第１既定時間で、第１電子ビームパルスを第１電子ビームカラムから基板上に放射し、
第１トリガイベント後の第２既定時間で、第１読取枠で第１電子ビームパルスによって生じた第１信号を検出し、
第２トリガイベントを発生させ、
第２トリガイベント後の第３既定時間で、第２電子ビームパルスを第２電子ビームカラムから基板上に放射し、
第２トリガイベント後の第４既定時間で、第２読取枠で第２電子ビームパルスによって生じた第２信号を検出することを含み、
第１読取枠と第２読取枠は異なる時間を占める方法。
【請求項２】
第１既定時間が実質的に第３既定時間に等しく、第２既定時間が実質的に第４既定時間に等しい請求項１記載の方法。
【請求項３】
第１読取枠と第２読取枠が重ならない請求項１記載の方法。
【請求項４】
第１トリガイベントがマスター信号の立ち上がりであり、第２トリガイベントがマスター信号の立ち下がりである請求項１記載の方法。
【請求項５】
第１トリガイベントがマスター信号の立ち下りであり、第２トリガイベントがマスター信号の立ち上がりである請求項１記載の方法。
【請求項６】
少なくとも１つの偶数電子ビームカラムをその間に有する複数の奇数電子ビームカラム間でのクロストークを軽減するための方法であり、
立ち上がりと立ち下りを有するマスタークロック信号を送り、
立ち上がりと一致する複数の奇数電子ビームカラム又は少なくとも１つの偶数電子ビームカラムからの第１電子パルスを同期させ、
立下りと一致する複数の奇数電子ビームカラム又は少なくとも１つの偶数電子ビームカラムからの第２電子パルスを同期させることを含み、
第１パルスと第２パルスが遅れの分、離れている方法。
【請求項７】
同期工程が、立ち上がりの前、後、又は同時の既定時間で放射予定の第１パルスを同期させ、立ち下がりの前、後、又は同時の既定時間で放射予定の第２パルスを同期させることを含む請求項６記載の方法。
【請求項８】
第１パルス後に第１読取枠内で奇数電子ビームカラムからの第１信号を検出し、
第２パルス後に第２読取枠内で少なくとも１つの偶数電子ビームカラムからの第２信号を検出することを更に含む請求項６記載の方法。
【請求項９】
第１の電子パルスを奇数電子ビームカラムから放射し、第２の電子パルスを少なくとも１つの偶数電子ビームカラムから放射する請求項６記載の方法。
【請求項１０】
遅延時間が約４００ｎｓから約１０００ｎｓである請求項６記載の方法。
【請求項１１】
複数の電子ビームカラムを備え、
この複数の電子ビームカラムが、
１つ以上の奇数カラムと１つ以上の偶数カラムを含み、複数の電子ビームカラムのそれぞれはブランキングシステムと検出装置を含み、更に第１トリガイベントと第２トリガイベントを定義するマスタークロック信号を有する同期化装置を含み、各電子ビームカラムのブランキングシステムと検出装置はマスタークロック信号と通信し、１つ以上の奇数カラムのブランキングシステムは第１トリガイベントでトリガされ、１つ以上の偶数カラムのブランキングシステムは第２トリガイベントでトリガされる、又はその逆である電子ビーム検査システム。
【請求項１２】
複数の電子ビームカラムが、隣接して、実質的に直線上にある少なくとも６個の電子ビームカラムを含む請求項１１記載の検査システム。
【請求項１３】
１つ以上の奇数カラムのブランキングシステムが第１トリガイベント後の第１既定時間で切り替えを行い、１つ以上の偶数カラムのブランキングシステムが第２トリガイベント後の第２既定時間で切り替えを行う請求項１１記載の検査システム。
【請求項１４】
同期化装置は、同期化装置及び検出装置と通信している読取枠を更に含み、１つ以上の奇数カラム用の読取枠が第１トリガイベント後の第１期間に亘ってオンに切り替えられ、１つ以上の偶数カラム用の読取枠が第２トリガイベント後の第２期間に亘ってオンに切り替えられる請求項１１記載の検査システム。
【請求項１５】
第１期間及び第２期間が異なり、重ならない請求項１４記載の検査システム。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月26日(2010.2.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気絶縁層によって分離される第１および第２の電気伝導層を含む基材、前記絶縁層は熱伝導性粒子が充填されたポリマー材料を含み、前記熱伝導性粒子の少なくとも一部は前記第１および第２の電気伝導層の両方に同時に接触する、並びに
前記第１の伝導層上に配置される複数の光源
を含む照明アセンブリ。
【請求項２】
ヒートシンクおよび
前記ヒートシンクと前記第２の伝導層との間に配置される熱界面材料層を組み合わせた、請求項１に記載のアセンブリ。
【請求項３】
請求項１に記載のアセンブリを含む、ディスプレイ用バックライト。
【請求項４】
電気絶縁層によって分離される第１および第２の電気伝導層を含む基材であって、前記絶縁層が前記第１および第２の電気伝導層の両方に同時に接触する熱伝導性粒子を含む基材を供給すること、
前記第１の電気伝導層をパターニングすること、および
前記パターニングされた第１の電気伝導層上に複数の光源を設けることを含む照明アセンブリを製造する方法。