【事件の表示】
　特許第３３７６０２１号「ホログラム原版の作成方法および作成装置」の請求項１ないし５に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３３７６０２１号の請求項１ないし３に係る特許を維持する。
【理　由】
 理　由
１．手続の経緯
　本件特許第３３７６０２１号の請求項１乃至５に係る発明についての出願は、平成５年５月２７日に特許出願され、平成１４年１１月２９日にそれらの発明について特許の設定登録がなされ、その後、その特許について、凸版印刷株式会社より特許異議申立てがなされ、これを受けて平成１６年５月２７日付けで取消理由通知がなされ、さらに、平成１７年９月１日付けで再度取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１７年９月３０日に訂正請求書が提出されたものである。
　
２．訂正の適否
（１）訂正の内容
　１）訂正事項ａ
　発明の名称を「ホログラム原版の作成方法」と訂正する。
　２）訂正事項ｂ
　訂正前の特許請求の範囲の請求項１を削除する。　
　３）訂正事項ｃ
　　訂正前の特許請求の範囲の請求項２の記載の引用形式を訂正した上で、請求番号を１だけ繰り上げ、次のとおり新たな請求項１とする。
「【請求項１】ホログラムとして記録すべき絵柄パターンを、それぞれ絵柄の一部を構成する複数の閉領域の集合として作成する第１の段階と、
この絵柄パターンを構成する個々の閉領域について、回折現象を生じるのに適した微小な幅および微小な間隔、ならびに所定の角度を定義し、前記微小な幅をもった細長い四角形を、前記所定の角度および前記微小な間隔で前記閉領域内に配置することにより回折格子パターンを作成する第２の段階と、
前記回折格子パターンを構成する各四角形の内部の領域と外部の領域とを区別した二値パターンを荷電粒子ビーム描画装置により描かせるための描画データを作成する第３の段階と、
前記描画データを荷電粒子ビーム描画装置に与えて前記回折格子パターンを描画させる第４の段階と、 
　
を有し、　前記第１の段階で、多重ループで表現される絵柄パターンを作成し、第２の段階で、１つのループによって囲まれた領域あるいは隣接する２つのループ間の領域を個々の閉領域として回折格子パターンを作成する
　４）訂正事項ｄ
　訂正前の特許請求の範囲の請求項３の記載の引用形式を訂正した上で、請求番号を１だけ繰り上げ、次のとおり新たな請求項２とする。
「【請求項２】請求項１に記載の方法において、
　第４の段階で、ＸＹ二次元平面上で荷電粒子ビームを走査することのできる描画装置を用いた描画を行い、
　第２の段階で、２辺がいずれもＹ軸に対して平行である第１の平行四辺形か、または、２辺がいずれもＸ軸に対して平行である第２の平行四辺形か、のいずれかを、細長い四角形として用いることにより回折格子パターンを作成することを特徴とするホログラム原版の作成方法。」
　５）訂正事項ｅ
　　訂正前の特許請求の範囲の請求項４の引用形式を訂正した上で、請求番号を１だけ繰り上げ、次のとおり新たな請求項３とする。
「【請求項３】請求項２に記載の方法において、
所定の角度θ（０°＜θ＜９０°）を定め、長手方向の辺がＸ軸に対して−θ〜＋θの範囲内の角度で配置される四角形については第１の平行四辺形を、前記範囲外の角度で配置される四角形については第２の平行四辺形を、それぞれ用いることを特徴とするホログラム原版の作成方法。」
 　６）訂正事項ｆ
　訂正前の特許請求の範囲の請求項５を削除する。
　７）訂正事項ｇ
　訂正前の特許明細書の段落【０００１】の記載を、以下のとおり訂正する。
「【０００１】
【産業上の利用分野】
　本発明はホログラム原版の
作成方法
作成方法
　８）訂正事項ｈ
　訂正前の特許明細書の段落【０００６】の記載を、以下のとおり訂正する。　
「【０００６】
【課題を解決するための手段】(1)   本願第１の発明は、ホログラムとして記録すべき絵柄パターンを、それぞれ絵柄の一部を構成する複数の閉領域の集合として作成する第１の段階と、この絵柄パターンを構成する個々の閉領域について、回折現象を生じるのに適した微小な幅および微小な間隔、ならびに所定の角度を定義し、定義された微小な幅をもった細長い四角形を、定義された所定の角度および微小な間隔で閉領域内に配置することにより回折格子パターンを作成する第２の段階と、回折格子パターンを構成する各四角形の内部の領域と外部の領域とを区別した二値パターンを荷電粒子ビーム描画装置により描かせるための描画データを作成する第３の段階と、描画データを荷電粒子ビーム描画装置に与えて回折格子パターンを描画させる第４の段階と、
　
を行い、　第１の段階で、多重ループで表現される絵柄パターンを作成し、第２の段階で、１つのループによって囲まれた領域あるいは隣接する２つのループ間の領域を個々の閉領域として回折格子パターンを作成するようにしたものである
　９）訂正事項ｉ
　訂正前の明細書の段落【０００７】を削除する。
　１０）訂正事項ｊ
　訂正前の特許明細書の段落【０００９】の記載を、以下のとおり訂正する。
「【０００９】
（２）
第２
第１
　１１）訂正事項ｋ
「【００１０】
（３）
第３
第２
　１２）訂正事項ｌ
　訂正前の明細書の段落【００１１】を削除する。
　
（２）訂正の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　１）訂正事項ａについて　
　訂正事項ａは、訂正事項ｂ以下の訂正に伴い、発明の名称を訂正するもので、明りょうでない記載の釈明に相当する。
　２）訂正事項ｂについて
　訂正事項ｂは、特許請求の範囲の請求項１を削除するもので、特許請求の範囲の減縮に相当する。
　３）訂正事項ｃについて
　訂正事項ｃは、請求項１を削除するに伴い、請求項２の記載形式を訂正すると共に、請求項番号を繰り上げるもので、特許請求の範囲の減縮に相当する。
　４）訂正事項ｄについて
　訂正事項ｄは、請求項１を削除するに伴い、請求項３の記載形式を訂正すると共に、請求項番号を繰り上げるもので、明りょうでない記載の釈明に相当する。
　５）訂正事項ｅについて
　訂正事項ｅは、特許請求の範囲の減縮を目的として請求項１を削除するに伴い、請求項４の記載形式を訂正すると共に、請求項番号を繰り上げるもので、明りょうでない記載の釈明に相当する。
　６）訂正事項ｆ
　訂正事項ｆは、特許請求の範囲の請求項５を削除するもので、特許請求の範囲の減縮に相当する。
　　また、上記訂正事項ａ乃至ｆは、願書に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内の訂正であり、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものではない。
　７）訂正事項ｇ乃至ｌについて
　訂正事項ｇ乃至ｌは、上記訂正事項ａ乃至ｆの訂正に伴い、発明の詳細な説明の記載を整合させるためのものであり、明りょうでない記載の釈明に相当する。
　そして、上記訂正事項ｇ乃至ｌは、願書に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内の訂正であり、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものではない。
　
　（３）むすび
　したがって、上記訂正は、特許法第１２０条の４第２項及び第３項で準用する第１２６条第２項及び第３項に適合するので、当該訂正を認める。
　
３．特許異議申立についての判断
（１）本件発明１乃至３
　上記２．で示したように上記訂正は認められるから、本件特許の請求項１乃至３に係る発明（以下、「本件発明１」乃至「本件発明３」という。）は、上記訂正に係る訂正明細書の特許明細書の特許請求の範囲の請求項１乃至３に記載された次のとおりのものである。
「【請求項１】  ホログラムとして記録すべき絵柄パターンを、それぞれ絵柄の一部を構成する複数の閉領域の集合として作成する第１の段階と、
この絵柄パターンを構成する個々の閉領域について、回折現象を生じるのに適した微小な幅および微小な間隔、ならびに所定の角度を定義し、前記微小な幅をもった細長い四角形を、前記所定の角度および前記微小な間隔で前記閉領域内に配置することにより回折格子パターンを作成する第２の段階と、
前記回折格子パターンを構成する各四角形の内部の領域と外部の領域とを区別した二値パターンを荷電粒子ビーム描画装置により描かせるための描画データを作成する第３の段階と、
前記描画データを荷電粒子ビーム描画装置に与えて前記回折格子パターンを描画させる第４の段階と、 
　を有し、
　前記第１の段階で、多重ループで表現される絵柄パターンを作成し、第２の段階で、１つのループによって囲まれた領域あるいは隣接する２つのループ間の領域を個々の閉領域として回折格子パターンを作成することを特徴とするホログラム原版の作成方法。
【請求項２】  請求項１に記載の方法において、
　第４の段階で、ＸＹ二次元平面上で荷電粒子ビームを走査することのできる描画装置を用いた描画を行い、
　第２の段階で、２辺がいずれもＹ軸に対して平行である第１の平行四辺形か、または、２辺がいずれもＸ軸に対して平行である第２の平行四辺形か、のいずれかを、細長い四角形として用いることにより回折格子パターンを作成することを特徴とするホログラム原版の作成方法。
【請求項３】  請求項２に記載の方法において、
　所定の角度θ（０°＜θ＜９０°）を定め、長手方向の辺がＸ軸に対して−θ〜＋θの範囲内の角度で配置される四角形については第１の平行四辺形を、前記範囲外の角度で配置される四角形については第２の平行四辺形を、それぞれ用いることを特徴とするホログラム原版の作成方法。
　
（２）異議申立理由の概要
　異議申立人凸版印刷株式会社は、訂正前の請求項１乃至５の発明は、以下の刊行物１乃至５に記載された発明に基づいて容易に発明することができたものである旨主張する。
 刊行物１：「”Computer aided design of computer generated holograms for electron beam fabrication”ｐ１２６〜１３５、Reprinted with permission from Applied Optics, Vol.28(15), pp.3387-3396（August 15,1989）.(c)1989 
 Optical Society of America 」（異議申立人提示の甲第１号証） 
 刊行物２：特開平２−７２３２０号公報（異議申立人提示の甲第２号証） 
 刊行物３：特開平３−１６４７８９号公報（異議申立人提示の甲第３号証） 
 刊行物４：米国特許第４５６８１４１号明細書（異議申立人提示の甲第４号証） 
 刊行物５：特開平２−６１８７公報（異議申立人提示の甲第５号証） 
　
（３）当審の判断
　本件発明１と刊行物１乃至５に記載された発明とを比較する。
　本件発明１に係るホログラム原版の作成方法は、第１の段階で、多重ループで表現される絵柄パターンを作成し、第２の段階で、１つのループによって囲まれた領域あるいは隣接する２つのループ間の領域を個々の閉領域として回折格子パターンを作成することを特徴とするものである。
　これに対して、刊行物１には、電子線により計算機ホログラムを作成するe-beamリソグラフィ技術についての発明が記載され、刊行物２には、電子ビームにより回折格子パターンを作成することが記載され、刊行物３には、レーザービームにより回折格子パターンを作成することが記載され、刊行物４には、光学的回折タイプの認証要素について領域分割された回折格子パターンを作成することが記載され、さらに、刊行物５には、２種類の回折格子の組み合わせにより回折格子パターンについての発明が記載されている。
　しかしながら、刊行物１乃至５には、本件発明１が特徴とする上記構成について、開示されていないばかりか、それを示唆する記載もない。
　そして、本件発明は、その特徴とする構成により、明細書記載の作用効果を奏するものである。
　したがって、本件発明１が刊行物１乃至５に記載された発明に基づいて容易に発明することができたものとすることはできない。
　また、本件発明２及び３は、請求項１を引用するものであるが、上記のとおり、本件発明１が刊行物１乃至５に記載された発明に基づいて容易に発明することができたものとすることはできないから、それを引用する本件発明２及び３も、刊行物１乃至５に記載された発明に基づいて容易に発明することができたものとすることはできない。
　
４．まとめ
　以上のとおりであるから、特許異議申立の理由及び証拠によっては、本件発明１乃至３についての特許を取り消すことはできない。
　また、他にこれらの特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１７年１０月２５日（２００５．１０．２５）
【訂正の要旨】
審決（決定）の【理由】欄参照。
（５４）【発明の名称】
ホログラム原版の
作成方法
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】ホログラムとして記録すべき絵柄パターンを、それぞれ絵柄の一部を構成する複数の閉領域の集合として作成する第１の段階と、
　この絵柄パターンを構成する個々の閉領域について、回折現象を生じるのに適した微小な幅および微小な間隔、ならびに所定の角度を定義し、前記微小な幅をもった細長い四角形を、前記所定の角度および前記微小な間隔で前記閉領域内に配置することにより回折格子パターンを作成する第２の段階と、
　前記回折格子パターンを構成する各四角形の内部の領域と外部の領域とを区別した二値パターンを荷電粒子ビーム描画装置により描かせるための描画データを作成する第３の段階と、
　前記描画データを荷電粒子ビーム描画装置に与えて前記回折格子パターンを描画させる第４の段階と、
　
を有し、
　
前記第１の段階で、多重ループで表現される絵柄パターンを作成し、前記第２の段階で、１つのループによって囲まれた領域あるいは隣接する２つのループ間の領域を個々の閉領域として回折格子パターンを作成する
　
【請求項２】請求項１に記載の方法において、
　第４の段階で、ＸＹ二次元平面上で荷電粒子ビームを走査することのできる描画装置を用いた描画を行い、
　第２の段階で、２辺がいずれもＹ軸に対して平行である第１の平行四辺形か、または、２辺がいずれもＸ軸に対して平行である第２の平行四辺形か、のいずれかを、細長い四角形として用いることにより回折格子パターンを作成することを特徴とするホログラム原版の作成方法。
　
【請求項３】請求項２に記載の方法において、
　所定の角度θ（０°＜θ＜９０°）を定め、長手方向の辺がＸ軸に対して−θ〜＋θの範囲内の角度で配置される四角形については第１の平行四辺形を、前記範囲外の角度で配置される四角形については第２の平行四辺形を、それぞれ用いることを特徴とするホログラム原版の作成方法。
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【産業上の利用分野】
　本発明はホログラム原版の
作成方法
作成方法
　【０００２】
　【従来の技術】
　クレジットカード、預金通帳、金券などの偽造を防止するための手段として、ホログラムシールが利用されている。また、ビデオテープや高級腕時計などの商品についても、海賊版が出回るのを防止するために、ホログラムシールが利用されている。この他、装飾用、販売促進用といった目的にも、ホログラムシールが利用されている。このようなホログラムシールには、三次元立体像ではなく二次元の絵柄がモチーフとして用いられることが多い。
　【０００３】
　このようなホログラムシールの原版を作成するには、通常、レーザ光を用いて干渉縞を形成させる光学的なホログラム撮影方法が用いられている。すなわち、二次元の絵柄モチーフが描かれた原稿を用意し、２つに分岐させたレーザ光の一方をこの原稿に照射し、その反射光と分岐したもう一方のレーザ光とを干渉させてその干渉縞を感光材に記録するのである。こうしてホログラム原版が作成できたら、この原版を用いて、プレスの手法によりホログラムシールを量産することができる。
　【０００４】
　【発明が解決しようとする課題】
　しかしながら、上述した従来の光学的なホログラム撮影方法には、鮮明なホログラム像が得られないという問題がある。すなわち、光学的に形成された干渉縞は、振動に敏感であるため、振動を完全に排除した環境でのホログラム撮影を行う必要がある。ところが、かなりの精度の防振台を用いて撮影を行っても、振動を完全に排除することは困難であり、このため、干渉縞の記録像にいわゆる「ボケ」が生じ、コントラストのある明るいホログラム像が得られないのである。また、用いるレーザ光の発振波長にもゆらぎが生じるため、くも硝子状ノイズが避けられない。このように、光学的なホログラム撮影には再現性が悪いという問題があるため、同じ原版を何枚か作成することも困難になる。
　【０００５】
　そこで本発明は、鮮明なホログラム像が得られ、しかも再現性の良いホログラム原版の作成方法および作成装置を提供することを目的とする。
　【０００６】
　【課題を解決するための手段】
　（１）本願第１の発明は、
　ホログラムとして記録すべき絵柄パターンを、それぞれ絵柄の一部を構成する複数の閉領域の集合として作成する第１の段階と、
　この絵柄パターンを構成する個々の閉領域について、回折現象を生じるのに適した微小な幅および微小な間隔、ならびに所定の角度を定義し、定義された微小な幅をもった細長い四角形を、定義された所定の角度および微小な間隔で閉領域内に配置することにより回折格子パターンを作成する第２の段階と、
　回折格子パターンを構成する各四角形の内部の領域と外部の領域とを区別した二値パターンを荷電粒子ビーム描画装置により描かせるための描画データを作成する第３の段階と、
　描画データを荷電粒子ビーム描画装置に与えて回折格子パターンを描画させる第４の段階と、
　
を行い、
　第１の段階で、多重ループで表現される絵柄パターンを形成し、第２の段階で、１つのループによって囲まれた領域あるいは隣接する２つのループ間の領域を個々の閉領域として回折格子パターンを作成するようにしたものである。
　【０００７】
　【０００８】
　【０００９】
　
（２）
第２
第１
　第４の段階で、ＸＹ二次元平面上で荷電粒子ビームを走査することのできる描画装置を用いた描画を行い、
　第２の段階で、２辺がいずれもＹ軸に対して平行である第１の平行四辺形か、または、２辺がいずれもＸ軸に対して平行である第２の平行四辺形か、のいずれかを、細長い四角形として用いることにより回折格子パターンを作成するようにしたものである。
　【００１０】
　
（３）
第３
第２
　所定の角度θ（０°＜θ＜９０°）を定め、長手方向の辺がＸ軸に対して−θ〜＋θの範囲内の角度で配置される四角形については第１の平行四辺形を、上記範囲外の角度で配置される四角形については第２の平行四辺形を、それぞれ用いるようにしたものである。
　【００１１】
　【００１２】
　【作　用】
　本発明に係るホログラム原版の作成方法の特徴は、従来の光学的なホログラム撮影方法に代えて、荷電粒子ビームを用いた描画により原版上にホログラムパターンを記録する点にある。そのために、まず第１の段階において、閉領域から構成される二次元の絵柄パターンを用意する。そして、第２の段階において、閉領域内に多数の細長い四角形を配置する。この細長い四角形は、微小な幅をもち微小な間隔で配置されるため、回折格子パターンが形成されることになる。続く、第３の段階では、この四角形の内部と外部とを区別した二値パターンデータが作成される。たとえば、内部の領域を描画領域、外部の領域を非描画領域とした二値パターンデータが作成される。最後の第４の段階では、この二値パターンデータに基づいて、荷電粒子ビームによる描画が行われる。このように荷電粒子ビームによる描画を行えば、鮮明なホログラム像が得られ、また、同じ描画データを用いれば同じホログラム像が得られるため再現性も非常に良くなる。
　【００１３】
　なお、一般に「ホログラム」という文言は、干渉縞によって得られた像を指す言葉として用いられており、そのような意味からすれば、本願方法によって原版に作成される像は、「ホログラム」ではなく「回折格子パターン」と言うべきものである。しかしながら、この原版から量産された偽造防止用のシールは、一般に「ホログラムシール」と呼ばれているため、本願明細書においては、原版に作成された「回折格子パターン」についても「ホログラム」という言葉を用いることにする。
　【００１４】
　【実施例】
　以下、本発明を図示する実施例に基づいて説明する。図１は本発明に係るホログラム原版の作成装置の基本構成を示すブロック図である。この装置の基本構成要素は、絵柄パターン作成装置１、回折格子パターン作成装置２、描画データ作成装置３、荷電粒子ビーム描画装置４である。各ブロックの右に示されているパターン等は、各装置による作成物を示す概念図である。
　【００１５】
　絵柄パターン作成装置１は、ホログラムとして記録すべき絵柄パターンＰを作成する機能をもった装置であり、この実施例では、作画プログラムを搭載したパーソナルコンピュータによって構成している。この装置によって作成された絵柄パターンＰが、最終的なホログラム原版においてモチーフとして表現されることになる。図１に示す例では、この絵柄パターン作成装置１によって作成された絵柄パターンＰとして、単純な円の図形が示されているが、実際にはより複雑なモチーフを題材にとった絵柄パターンが作成される。このような絵柄パターンＰを作成する機能をもった作画システムは、種々のものが公知であるため、ここでは詳しい説明は省略する。なお、絵柄パターン作成装置１として、スキャナ装置を備えたものを用いれば、紙面上に描かれた絵柄パターンを取り込むことも可能である。いずれにしても、この絵柄パターン作成装置１によって、所望の絵柄パターンＰが図形データの形式で用意されることになる。
　【００１６】
　回折格子パターン作成装置２は、絵柄パターン作成装置１によって作成された絵柄パターンＰを構成する閉領域について、回折現象を生じるのに適した微小な幅および微小な間隔、ならびに所定の角度を定義すると、定義された微小な幅をもった細長い四角形を、定義された所定の角度および微小な間隔で閉領域内に配置することにより回折格子パターンを作成する機能を有する。このような機能をもった装置は、やはりパーソナルコンピュータによって実現できる。すなわち、絵柄パターン作成装置１が作成した絵柄パターンＰを図形データとして入力し、オペレータから入力された指示に基づいて、回折格子パターンを発生するための処理プログラムを用意しておけばよい。図１に示すような単純な円の絵柄パターンＰに基づいて作成された回折格子パターンは、たとえば、図に示す回折格子パターンＧのようなものになる。このパターンＧは、３つの細長い四角形ｇ１，ｇ２，ｇ３から構成されており、各四角形はいずれも幅ｄ１をもち、その長手方向が所定の基準方向に対して角度αをなすような向きに、間隔ｄ２で互いに平行に配置されている。オペレータは、四角形の幅ｄ１、間隔ｄ２、角度αを指示するとともに、絵柄パターンＰの内側部分を閉領域として指示する入力を行えばよい。回折格子パターン作成装置２は、指示された閉領域図形Ｐについて、指示された条件を満足する内接四角形ｇ１，ｇ２，ｇ３に対応する図形データを発生する。こうして、回折格子パターンＧが得られることになる。
　【００１７】
　なお、図１に示す四角形ｇ１，ｇ２，ｇ３は、説明の便宜上、縦横比が比較的小さな四角形となっているが、実際には、各四角形の幅ｄ１および配置間隔ｄ２は、回折現象を生じるのに適した微小な幅（たとえば、１μｍ程度）であるのに対し、各四角形の長手方向の寸法は、指示された閉領域を横切るのに必要な長さ（たとえば、数ｍｍ程度）であり、これらの四角形は縦横比が非常に大きな四角形である。
　【００１８】
　描画データ作成装置３は、回折格子パターン作成装置２によって作成された回折格子パターンＧを構成する各四角形の内部の領域と外部の領域とを区別した二値パターンを荷電粒子ビーム描画装置により描かせるための描画データを作成する機能を有する。図１に示す二値パターンＢは、回折格子パターンＧを構成する各四角形ｇ１，ｇ２，ｇ３の内部の領域を描画領域、外部の領域を非描画領域、とした二値パターンであり、描画データ作成装置３から出力されるデータは、このような二値パターンＢに対応する描画データである。この描画データは、荷電粒子ビーム描画装置４が要求するフォーマットで記述されることになる。要するに、描画データ作成装置３によって行われる処理は、回折格子パターンＧに対応する図形データを、荷電粒子ビーム描画装置４が取り扱える描画データに変換する処理である。たとえば、荷電粒子ビーム描画装置４として、フォトマスク作成用の一般的な電子ビーム描画装置を用いた場合は、この描画装置用として提供されているデータ変換装置（たとえば、日本電子株式会社製の電子ビーム描画装置を用いる場合には、「ＪＥＯＬ（登録商標）変換」を行うデータ変換装置）を、描画データ作成装置３として用いることができる。
　【００１９】
　荷電粒子ビーム描画装置４は、描画データ作成装置３によって作成された描画データに基づいてビーム走査を行い、二値パターンＢを原版上に描画する機能をもった装置である。具体的には、上述したように、フォトマスク作成用に市販されている電子ビーム描画装置を用いればよい。この装置により電子ビーム走査を行えば、二値パターンＢを原版上に描画することができ、ホログラム原版Ｈを得ることができる。
　【００２０】
　以上が、本発明に係るホログラム原版の作成方法の基本原理である。上述したように、図１のシステムにおいて、絵柄パターン作成装置１としては一般的なＣＡＤ装置を用いればよく、描画データ作成装置３および荷電粒子ビーム描画装置４としては、一般に市販されている描画装置およびこの描画装置用のデータ変換装置を用いればよいので、実際には、回折格子パターン作成装置２の機能を実行するためのプログラムを用意すれば、この方法を実施することができる。このように、本発明の方法では、二値パターンＢに対応する描画データを用意する段階まではコンピュータによるデータ処理によって行うことができ、この描画データを荷電粒子ビーム描画装置４に与えてホログラム原版Ｈの描画を行うため、再現性が非常に良くなる。すなわち、同じ描画データを用いれば、ほぼ同じホログラム原版を得ることが可能になる。また、ホログラム原版上の像は、光学的に形成された干渉縞像ではなく、荷電粒子ビームによる描画によって形成された像であるため、非常に鮮明になる。
　【００２１】
　続いて、本発明のより具体的な実施例を以下に開示しておく。前述したように、絵柄パターン作成装置１は、一般的な作画装置であり、このような作画装置によって作成される絵柄パターンＰには、大別して２つのタイプのデータ形式がある。第１のタイプは一般に「ドロー系」と呼ばれているデータ形式であり、輪郭線をベクトルデータで表現したものである。第２のタイプは一般に「ペイント系」と呼ばれているデータ形式であり、パターン全体をラスターデータで表現したものである。本発明では、いずれのデータ形式を用いることも可能であるが、実用上は、「ドロー系」のデータ形式の絵柄パターンを用いるのが好ましい。
　【００２２】
　そこでまず、絵柄パターン作成装置１として、「ドロー系」の作画装置を用いた場合を考える。たとえば、図２（ａ）に示すような絵柄パターンが作成されたものとしよう。この絵柄パターンは、輪郭線Ｃ１，Ｃ２から構成されるパターンであり、この輪郭線がベクトルデータによって表現されていることになる。回折格子パターン作成装置２は、このようなベクトルデータを取り込み、図２（ｂ）に示すような回折格子パターンを発生することになる。図２（ａ）に示すように、輪郭線Ｃ１，Ｃ２によって、この絵柄パターンは領域▲１▼，▲２▼，▲３▼の３つの閉領域に区分けされていることになるが、オペレータは、このうちのどの領域に回折格子パターンを発生させるのかを指示するとともに、発生させる回折格子パターンを構成する四角形の幅、配置間隔、配置角度を指示することになる。もっとも、四角形の幅および配置間隔を常に所定の設定値とするように定めておけば、オペレータは配置角度だけを指示すればよい。なお、回折格子パターンは前述したように、微小な幅をもった四角形で構成されているが、以後の説明では、便宜上、これを単に１本の線で示すことにする。また、実際の回折格子パターンでは、線の間隔も図示したものよりもはるかに狭く、密度の高いものとなる。
　【００２３】
　図２（ｂ）に示した例は、１つの閉領域に同じ向きで回折格子パターンを形成したものであるが、図３に示すように、いくつかの閉領域を定義し、各閉領域ごとに回折格子パターンの向きを変えるようにしてもよい。図３に示されているαの値は、図の水平方向を基準としたときの回折格子パターンの角度（微小幅をもつ四角形の長手方向の角度：以下、格子角度と呼ぶ）を示している。もちろん、四角形の幅や配置間隔を各閉領域ごとに変えることも可能である。四角形の幅や配置間隔は、ホログラムから観測される光の色を決定するパラメータとなり、格子角度は光が観測される向きを決定するパラメータとなる。
　【００２４】
　図４に示す絵柄パターンは、９つの閉領域について、それぞれ格子角度を変えた実施例である（一部の閉領域については、格子パターンの図示を省略してある）。絵柄パターン作成装置１によって、短冊型の９つの閉領域からなる絵柄パターンが作成されたら、回折格子パターン作成装置２において、図４のαの各値で示されるような格子角度の指定を行えばよい。この例では、一番左の閉領域の格子角度α＝−４０°、一番右の閉領域の格子角度α＝４０°に設定され、右の閉領域へゆくに従って、αが１０°ずつ増加する設定にしている。回折格子パターン作成装置２は、もともとコンピュータであるから、「α＝−４０°から始まり１０°ずつ増加してゆくように各閉領域の格子角度αを設定する」というような指示を与えるだけで所望の回折格子パターンを発生させることができる。このように、格子角度を少しずつ変えてゆく回折格子パターンを作成した場合、傾斜させると光が左右に流れるような効果をもったホログラムが作成できる。
　【００２５】
　図５に示す絵柄パターンは、同心円状の４つの閉領域について、それぞれ格子角度を変えた実施例である（やはり、一部の閉領域については、格子パターンの図示を省略してある）。格子角度αは、外側の閉領域においてα＝−３０°に設定され、以後、内側にゆくに従って、２０°ずつ増加していっている。このような多重ループで表現される絵柄パターンを用いるようにすると、単純なモチーフでも多彩な絵柄を構成することができる。図５に示す例では、モチーフとしては単なる円であるが、これを多重ループで表現し、１つのループによって囲まれた領域あるいは隣接する２つのループ間の領域を個々の閉領域として取り扱っているため、全体として多彩な絵柄が構成されている。このような多重ループを利用すれば、いわゆるハート型、星型などの単純な図形をモチーフとしたものであっても、比較的多彩な絵柄として表現できる。
　【００２６】
　次に、本発明とは直接的には関係しないが、参考までに、絵柄パターン作成装置１として、「ペイント系」の作画装置を用いた場合に適した方法についても簡単に触れておく。「ペイント系」の作画装置を用いて作成された絵柄パターンは、ラスターデータによって表現され、二値情報をもった複数の画素の集合になる。このような絵柄データに基づいて、回折格子パターン作成装置２において回折格子パターンを作成するには、各画素を個々の閉領域として取り扱い、各閉領域内に回折格子パターンを作成すればよい。たとえば、絵柄パターン作成装置１によって、図６に示すような絵柄パターンが作成されたものとする。この絵柄パターンは縦横に並んだ複数の画素から構成されるパターンであり、各画素は「白」または「黒」のいずれかの状態をもつ。回折格子パターン作成装置２は、このようなラスターデータを取り込み、たとえば「黒」の画素の中に回折格子パターンを発生させ、全体として図７に示すような回折格子パターンを発生することになる。もちろん、オペレータは、発生させる回折格子パターンを構成する四角形の幅、配置間隔、格子角度を指示することができる。このような回折格子パターンをもつホログラムでは、「黒」の画素からのみ回折光が得られるようになり、全体として絵柄パターンの認識が可能になる。
　【００２７】
　ここで留意すべき点は、上述の方法によれば、矩形の画素を用いることができるという点である。このような複数の画素からなる原稿についてのホログラム原版を、従来の方法で作成する場合、各画素を円形にするのが一般的である。これは、従来の方法では光学的に画素の記録を行うため、矩形の画素ではその四隅がボケてしまう傾向があるためである。すなわち、微細な画素に対して光学的な処理を行う場合、各画素を円形にするのが一般的な常識なのである。これに対し、上述の方法では、荷電粒子ビーム描画装置４によって各画素内に定義された回折格子パターンを描画するため、画素が矩形であっても四隅がボケることはなく、常に鮮明な画素を描画することが可能になる。円形の画素に比べて矩形の画素は、画素密度を高めることができるため、矩形の画素を採用することにより、明るいホログラム像が得られることになる。
　【００２８】
　さて、既に述べたように、図２〜図７において線の集合として示した回折格子パターンは、実際には、微小な幅をもった四角形である。図１における説明では、このような四角形ｇ１，ｇ２，ｇ３を生成する方法として、絵柄パターンＰの輪郭線に内接する内接四角形を求めればよいことを述べた。ところが、このような内接四角形は、任意の四角形になるため、荷電粒子ビーム描画装置４としてフォトマスク作成用の電子ビーム描画装置を用いた場合、描画に時間がかかってしまう。そこで、このような電子ビーム描画装置を用いる場合には、各四角形を任意の四角形ではなく平行四辺形（長方形も含む）にするとよい。具体的には、図８に示すように、ＸＹ二次元座標系を定義し、Ｘ軸を基準として格子角度α（長辺Ｌのなす角度）を定義した場合、−４５°≦α≦４５°の範囲内の格子角度αが設定されたときには、図８（ａ）に示すように、２つの短辺ＳがいずれもＹ軸に平行となる平行四辺形を用い、４５°＜α≦９０°および−９０°＜α＜−４５°の範囲内の格子角度αが設定されたときには、図８（ｂ）に示すように、２つの短辺ＳがいずれもＸ軸に平行となる平行四辺形を用いるようにすればよい。
　【００２９】
　ＸＹ二次元平面上におけるフォトマスクを作成する電子ビーム描画装置では、任意の四角形を描画する作業に比べて、対向する一組の辺がＸ軸またはＹ軸に平行な平行四辺形を描画する作業の方が、作業効率が良くなるのである。たとえば、図９（ａ）に示すように、上下の辺がＸ軸に平行な平行四辺形Ｚを描画する場合、電子ビームスポットＥを、この平行四辺形Ｚ内の領域で走査する処理を行うだけですむが、図９（ｂ）に示すような任意の四角形の場合、この四角形を平行四辺形Ｚ０（上下の辺がＸ軸に平行な平行四辺形）と、三角形Ｚ１，Ｚ２と、の３つの図形に分けて処理を行う必要が生じる。このように、描画段階での作業効率を考慮すれば、回折格子パターン作成装置２において作成する回折格子パターンは、図８（ａ），（ｂ）に示すような平行四辺形にしておくのが好ましい。なお、実際には、図８に示す平行四辺形において、短辺Ｓに比べて長辺Ｌは非常に長いので、内接四角形の代わりに平行四辺形を用いても、絵柄パターンの形状にはほとんど影響はない。なお、図８（ａ）に示す平行四辺形を用いるか、図８（ｂ）に示す平行四辺形を用いるか、の弁別基準として、ここでは、格子角度α＝±４５°を境界としているが、この境界角度θは必ずしも４５°にする必要はなく、任意に設定可能である。
　【００３０】
　以上、本発明を図示する実施例に基づいて説明したが、本発明はこの実施例に限定されるものではなく、この他にも種々の態様で実施可能である。たとえば、上述の実施例では、荷電粒子ビーム描画装置４として電子ビーム描画装置を用いているが、イオンビーム描画装置を用いてもかまわない。また、図６および図７に示す参考例では、矩形の画素をもった絵柄パターンを用いたが、従来のような円形の画素をもった絵柄パターンを用いてもかまわない（画素密度を向上できる点では、前述したように、矩形の画素の方がすぐれている）。
　【００３１】
　【発明の効果】
　以上のとおり本発明に係るホログラム原版の作成方法および作成装置によれば、従来の光学的なホログラム撮影方法に代えて、荷電粒子ビームを用いた描画により原版上にホログラムパターンを記録するようにしたため、鮮明で再現性の良いホログラム像を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　本発明に係るホログラム原版の作成装置の基本構成を示すブロック図である。
　【図２】
　ドロー型の作画装置で作成された絵柄パターンについて、回折格子パターンを形成した例を示す図である。
　【図３】
　図２に示す絵柄パターンを複数の閉領域に分割し、各閉領域ごとに異なる角度で回折格子パターンを形成した例を示す図である。
　【図４】
　短冊型の複数の閉領域に、格子角度を徐々に変えながら回折格子パターンを形成した例を示す図である。
　【図５】
　同心円状の複数の閉領域に、格子角度を徐々に変えながら回折格子パターンを形成した例を示す図である。
　【図６】
　ペイント型の作画装置で作成された複数の画素からなる絵柄パターンの一例を示す図である。
　【図７】
　図６に示す絵柄パターンについて、回折格子パターンを形成した例を示す図である。
　【図８】
　本発明に係る方法において回折格子パターンを構成する微小幅の四角形として、短辺ＳがＸ軸またはＹ軸に平行な平行四辺形を用いる例を示す図である。
　【図９】
　図８に示す平行四辺形を用いるメリットを説明する図である。
　【符号の説明】
　１…絵柄パターン作成装置
　２…回折格子パターン作成装置
　３…描画データ作成装置
　４…荷電粒子ビーム描画装置
　Ｂ…二値パターン
　Ｃ１，Ｃ２…輪郭線
　Ｅ…電子ビームスポット
　Ｇ…回折格子パターン
　ｇ１，ｇ２，ｇ３…内接四角形
　Ｈ…ホログラム原版
　Ｌ…平行四辺形の長辺
　Ｐ…絵柄パターン
　Ｓ…平行四辺形の短辺
　Ｚ，Ｚ０…平行四辺形
　Ｚ１，Ｚ２…三角形
　α…格子角度
　▲１▼〜▲３▼…閉領域