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　特願２０００−１６４５３５「メタライジング製品用ポリカーボネート成形材料」拒絶査定不服審判事件〔平成１３年　１月２３日出願公開、特開２００１−　１９７５８〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
I．手続の経緯・本願発明
　本願は、平成３年１２月６日の出願に係る特願平３−３４８５７７号の特許出願の一部を分割して新たな特許出願（特願２０００−１６４５３５号）としたものであって、その請求項１〜３に係る発明は、平成１８年６月２２日付け手続補正書により補正された明細書の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１〜３に記載された事項により特定されたとおりのもと認められ、請求項１には次のとおり記載されている。
「【請求項１】ポリカーボネートのハロゲン化脂肪族炭化水素溶液から非溶媒及び／又は貧溶媒を用いて得られるポリカーボネートであって、該ポリカーボネート中に残留するハロゲン化脂肪族炭化水素量が１ｐｐｍ以下であり、且つ非溶媒及び／又は貧溶媒量が１０ｐｐｍ以下であるポリカーボネート成形材料より形成されたディスク基板の表面にメタライジングされたディスク。」（以下、「本願発明」という。）
II．引用例に記載の事項
　当審の拒絶の理由において引用された、本願出願前に頒布された刊行物である、特開平１−１４９８２７号公報（以下、「引用例」という。）には、以下の事項が記載されている。
（ア）「１　水分０．５〜１０．０重量％、有機溶媒０．１〜５．０重量％を含み、かつ乾燥した場合の粒子中の８０メッシュ以下の粒子が５重量％以下、１０メッシュ以上の粒子が５重量％以下であるポリカーボネート樹脂の湿潤粉末をそのままベント付押出機に供給してガス抜きをしながら押出し、残存有機溶媒５０ｐｐｍ以下とすることを特徴とする低ダストポリカーボネート樹脂成形材料の製造法。」（特許請求の範囲第１項）
（イ）「一方、光学用材料としてのポリカーボネート樹脂は、ダストは極力少ないものがよく、また、溶媒の残存は、記録膜の密着強度劣化や腐食の原因となるものであるので通常５０ｐｐｍ以下にすることが必要である。」（第２頁左上欄７〜１１行）　
（ウ）「上記した本発明のポリカーボネート樹脂の湿潤粉末は、好適には精製されたポリカーボネート樹脂の良溶媒溶液にポリカーボネート樹脂の非或いは貧溶媒を沈澱が生じない程度添加してなる液を温水中に滴下し、適宜湿式粉砕をしながら溶媒を留去する所謂「温水滴下法」、又は通常の沈澱法で得た良溶媒及び非或いは貧溶媒を含む湿潤粉末を温水中で処理し、溶媒を留去しつつ適宜湿式粉砕をする「沈澱温水処理法」で製造されるものである。」（第３頁左上欄１２行〜同右上欄１行）
（エ）「溶媒としては、ジクロロメタン（＝塩化メチレン、メチレンクロライド）、１，１−ジクロロエタン、・・・等のハロゲン化炭化水素がポリカーボネート樹脂の重合反応等に使用する良溶媒として例示され、特に塩化メチレンが好適である。
　非或いは貧溶媒としては、ｎ−ヘプタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレンが例示され、特に、ｎ−ヘプタン、・・・が好適である。」（３頁右上欄１６行左下欄５行）　
（オ）「上記により得た均一溶液を通常、４５〜６０℃の比較的低温側に保った撹拌下の水中に滴下或いは噴霧してゲル化し、次いで８０〜１００℃の高温側に保って、溶媒を留去してポリカーボネート樹脂の多孔質の粉粒体の水スラリーとし、水を分離する。この水スラリーを製造する際に、ゲル化粒子を適宜、撹拌翌や湿式粉砕機によって粉砕しつつ行うことは、押出、押出機中での溶媒の留去をより容易に行うために好ましい方法である。」（３頁右下欄６〜１５行）
（カ）「本発明は、上記に説明した湿潤粉末をそのまま又はこの湿潤粉末に安定剤、離型剤、その他の添加剤を適宜配合してベント付の押出機に供給し樹脂温度２８０〜３４０℃、好ましくは３００〜３２０℃の範囲で、ベント部を減圧とし、好ましくは１０Ｔｏｒｒ以下に減圧してガス抜きをしながら押出しして、残存有機溶媒５０ｐｐｍ以下のペレットとする。
　本発明は、押出ペレット化と同時に有機溶媒を除去するものであるのでベント部からの溶媒の留去が良好であることが生産性の点から好ましいものであり、ベント部は減圧とする他に押出機の下式（１）で表されるべントの理論表面更新頻度Ｒｆが１５０以上であるものを実用的には使用するのが好ましい。」（４頁左上欄１８行〜右上欄１１行）
（キ）「実施例１及び比較例１
ポリカーボネート樹脂成形材料の製造．
　ビスフェノールＡより製造したポリカーボネート樹脂の塩化メチレン溶液を精製し、樹脂濃度２０％、粘度平均分子量１．５×１０４の溶液とし、これを濾過精度０．２μｍのカートリッジフィルターで精密濾過し精製されたポリカーボネート樹脂液とした。
　この樹脂液２００ｌに、同じく精密濾過したｎ−ヘプタン　４０ｌを撹拌下に加え均一に混合した後、この液を強撹拌下の温水中に１０分間で滴下しつつ湿式粉砕機で粉砕した。滴下中の容器内の液温度は４０℃、内圧は０．１ｋｇ／ｃｍ３Ｇ以下に維持した。
　滴下終了後、温度を９５℃以上に昇温し、残余の溶媒を約１５分間で蒸発留去し、得られたポリカーボネート樹脂の水スラリーを取り出し、濾過・水切りをした。得られたポリカーボネート樹脂の湿潤粉体を乾燥した場合の粒度分布は８０メツシュ以下が３．７％、１０メツシュ以上が４．０％であり、又、湿潤粉体中の水分、ｎ−へプタン、塩化メチレンの量は下記の第１表−１に記載のとおりであった。又、上記において、滴下終了後の残余の溶媒留去のための処理時間を３０分間とする他は同様にして湿潤粉末を得た。
　上記で得た湿潤粉末をそれぞれダストが混入しないようにした密閉系でベント付押出機へ供給し、押出しと共に溶媒を留去した。押出機は、二軸、スクリュー直径（Ｄ）　６５ｍｍ、全長Ｌ／Ｄ＝３０　、ベント部Ｌｖ　／Ｄ＝４であり、樹脂の最高温度３００℃、ベント圧力９Ｔｏｒｒとした例を第１表に示した。
光ディスクの製造および信頼性評価．　
　上記のペレットを使用し、射出成形して片面に螺旋状のグルーブをもつ厚み１．２ｍｍ、直径１３０ｍｍのデータファイル用光ディスク基板を得た。　
　この基板上にＴｅ−Ｆｅ−Ｃｏ系記録膜を３００〜５００Å蒸着し、記録膜上には光硬化型のアクリル系樹脂をコートし、紫外線で硬化させた。
　この光ディスクの円周方向に沿って３０μｍ以上の欠陥が全ディスク表面に何個存在するかを測定し、又、このディスクを８０℃，９０％ＲＨ，８５０ｈｒｓ放置して同様の測定をした結果を第１表に示した。」（４頁左下欄１８行〜５頁左上欄１８行）
（ク）「実施例３及び比較例２
　実施例１の試験Ｎｏ．１と同様にして得たポリカーボネート樹脂湿潤粉末を用い、押出機のスクリュー回転数及び吐出量を第３表のように変化させる他は同様にした結果を第３表に示した。
」（６頁左上欄４行〜末行）
（ケ）「以上、本発明の乾燥工程を省いたポリカーボネート樹脂成形材料は、ダストの増加も乾燥機を使用する場合には原料湿潤粉末のダスト数に対して得されたペレット中のダスト数が５〜１０倍以上増加しているにも関わらず殆どないものであり、かつ、残存有機溶媒が５０ｐｐｍ以下を十分に満足するものであることから、成形ディスク中の欠点数が少ない等の特性が改良され、光学用の材料として極めて好適に使用できるものである。」（６頁右下欄下から３行〜７頁左上欄６行）　
III．対比・判断
　引用例に記載された発明は、ポリカーボネート樹脂の良溶媒溶液である塩化メチレンのポリカーボネート樹脂溶液に非或いは貧溶媒であるｎ−ヘプタンを添加してなる液を温水中に滴下し、適宜湿式粉砕をしながら溶媒を留去することによりポリカーボネート樹脂の湿潤粉末を得るものである。そして、この湿潤粉末をベント付押出機に供給してガス抜きをしながら押出し、残存有機溶媒５０ｐｐｍ以下のポリカーボネートペレットを得るとともに、得られたポリカーボネートペレットを使用して射出成形によりデータファイル用光ディスク基板を製造し、さらに該基板上にＴｅ−Ｆｅ−Ｃｏ系記録膜を３００〜５００Åの厚さで蒸着するものである。
　そこで、本願発明と引用例に記載された発明とを対比すると、両者は、「ポリカーボネートのハロゲン化脂肪族炭化水素溶液から非溶媒及び／又は貧溶媒を用いて得られるポリカーボネートであって、ポリカーボネート成形材料より形成されたディスク基板の表面にメタライジングされたディスク」である点で一致し、次の点で相違している。
　相違点
　ポリカーボネート成形材料について、本願発明では、「ポリカーボネート中に残留するハロゲン化脂肪族炭化水素量が１ｐｐｍ以下であり、且つ非溶媒及び／又は貧溶媒量が１０ｐｐｍ以下である」としているのに対し、引用例に記載された発明においてはポリカーボネート成形材料は「残存有機溶媒５０ｐｐｍ以下」としている点
　そこで、上記相違点について検討する。　
　引用例には、溶媒の残存は、記録膜の密着強度劣化や腐食の原因となるものであるので通常５０ｐｐｍ以下にすることが必要であることが記載（摘示事項（イ））され、また、ベント付の押出機に供給し樹脂温度２８０〜３４０℃、好ましくは３００〜３２０℃の範囲で、ベント部を減圧とし、好ましくは１０Ｔｏｒｒ以下に減圧してガス抜きをしながら押出しして、残存有機溶媒５０ｐｐｍ以下のペレットとすること、押出ペレット化と同時に有機溶媒を除去するものであるのでベント部からの溶媒の留去が良好であることが生産性の点から好ましいものであることも記載（摘示事項（カ））されている。
　また、第３表には、実〈３〉（注：原文は丸の中に数字が記載）の欄において、押出機のスクリュー回転数及び突出量を変化させることにより、残存溶媒である塩化メチレンがＮＤ（検出限界（１０ｐｐｍ）以下を示す。）であり、ｎ−ヘプタンが２０ｐｐｍであるポリカーボネート樹脂材料が記載（摘示事項（ク））されている。
　そうすると、引用例の「溶媒の残存は、記録膜の密着強度劣化や腐食の原因となるものであるので通常５０ｐｐｍ以下にすることが必要である」との記載（摘示事項（イ））については、下限値については記載がされていないことから、溶媒の残存を可能な限り少なくすること、つまり、０に近い値までを示しているといえるから、「５０ｐｐｍ以下にすることが必要である」との記載は、残存溶媒が０ｐｐｍに近い値のポリカーボネート成形材料とすることまでも意図していることは容易に理解できることであり、この記載が残存溶媒が１０ｐｐｍ以下のものを除外していると解すべき理由はない。また、ベント部からの溶媒の留去が良好であることが生産性の点から好ましいことも記載されているのであるから、結局、残留溶媒の含有量の許容値としてどの程度の値を設定すべきかは、残留溶媒の低減技術と残留溶媒のディスクに及ぼす悪影響の度合い等を検討して当業者が適宜決定し得るものといえる。
　そして、本願発明によって得られる効果である明細書段落【００３０】に記載された「密着性、耐久性に優れる」との点は、残留溶媒を低減することによって得られる効果であって、引用例の記載からみて、格別予測困難であるということもできない。
　さらに、本願発明の明細書段落【００２９】に記載の【表１】には、「実施例３」として記載されている例においては、非溶媒の残留量が「４０ｐｐｍ」と大きな値であるにもかかわらず欠点数（個）はわずか「１」であって、「１０ｐｐｍ以下」の欠点数０の場合とほとんど異なるものではないし、しかも、「１０ｐｐｍ〜４０ｐｐｍ」の範囲については欠点数は何ら示されておらず、この範囲において欠点数０のものがほんとうに得られないのかどうか十分記載されていないから、非溶媒の残留量を「１０ｐｐｍ以下」と規定することに臨界的意義があるということはできない。また、ハロゲン化脂肪族炭化水素残留量が「１ｐｐｍ以下」についても、比較例４に塩化メチレン残留量が１００ｐｐｍの場合に欠点数は＞１００であるという１例のみが示されているだけで、塩化メチレン残留量が１ｐｐｍ〜１００ｐｐｍの範囲については欠点数については何ら示されていないのであるから、この比較例の１例をもって、直ちにハロゲン化脂肪族炭化水素の残留量を「１ｐｐｍ以下」と規定することに臨界的意義があるということはできない。
　そうすると、「ポリカーボネート中に残留するハロゲン化脂肪族炭化水素量が１ｐｐｍ以下であり、且つ非溶媒及び／又は貧溶媒量が１０ｐｐｍ以下である」と規定することに臨界的意義があるということはできない。
　したがって、当業者であれば引用例に記載された発明において、残留溶媒の含有量の許容値を、残留溶媒の低減技術と残留溶媒による悪影響の度合い等を考慮して、５０ｐｐｍ以下の範囲においてさらに調整し最適値を適宜決定し得るものといえるから、本願発明が「ポリカーボネート中に残留するハロゲン化脂肪族炭化水素量が１ｐｐｍ以下であり、且つ非溶媒及び／又は貧溶媒量が１０ｐｐｍ以下である」と設定したことが、格別創意工夫を要したものということはできない。
　なお、審判請求人は、平成１８年６月２２日付け意見書の８〜９頁において「上述したとおり、本願発明では、ディスクをヒートサイクルテストした際に生じる欠点を防止するという新規な課題に対して、ポリカーボネート中に残留するハロゲン化脂肪族炭化水素量が１ｐｐｍ以下であり、且つ非溶媒及び／又は貧溶媒量が１０ｐｐｍ下とすることにより、かかるヒートサイクルテストにおいて蒸着膜の膨れ、剥離等の欠点が全く起こらない（零になる）という新規な効果を有するものである。
　したがって、引用例に記載された発明から、ディスクをヒートサイクルテストした際に生じる蒸着膜の膨れ、剥離等の欠点を防止するために、ハロゲン化脂肪族炭化水素量が１ｐｐｍ以下とし、且つ非溶媒及び／又は貧溶媒量が１０ｐｐｍ以下とするという発想は想到し難いものと思料する。」と述べているが、引用例に記載された発明も、残存溶媒の影響によるディスクの欠点状態を効果の指標とするものであり、両者においてディスクの欠点の測定手法に相違があるとしても、測定手法自体に発明の本質があるというものではないのであるから、残存溶媒の影響によるディスクの欠点状態を効果の指標としている以上、両者の効果に本質的な差異が有るとはいえない。
　さらに、本願明細書段落【０００４】の【発明が解決しようとする課題】には、「本発明者は、非溶媒又は貧溶媒添加法で得られる低沸点ハロゲン系有機溶媒含量の低減されたポリカーボネートを用いて上記目的を達成せんとして鋭意検討した結果、非溶媒又は貧溶媒は沸点が比較的高いため樹脂中に残留し易いこと、及びこの残留した非溶媒又は貧溶媒がメタライズポリカーボネート製品の密着性、耐久性等の性能を低下させることを見出し、」と記載されているが、「非溶媒又は貧溶媒は沸点が比較的高いため樹脂中に残留し易いこと」の改善に努めたこと、つまり、沸点の比較的低い非溶媒又は貧溶媒の採用に留意したことについての記載は何ら具体的にされていない（なお、本願発明においても引用例に記載された発明においても、非溶媒又は貧溶媒としてはｎ−ヘプタンが採用されている。）。
　また、審判請求人は、平成１８年６月２２日付け意見書の３頁において、「本願発明において、ポリカーボネートペレットを製造する方法として、（１）〜（３）の方法が挙げられている（明細書段落番号［００１２］）。いずれも、「ポリカーボネートの有機溶媒溶液を高温の熱水中に投入して急激に溶媒を除去する方法」が必須要件である。また、ここでいう高温とは５０℃以上、好ましくは６０〜１００℃であることが記載されている。」と主張するが、引用例においても、「均一溶液を通常、４５〜６０℃の比較的低温側に保った撹拌下の水中に滴下或いは噴霧してゲル化し、次いで８０〜１００℃の高温側に保って、溶媒を留去してポリカーボネート樹脂の多孔質の粉粒体の水スラリーとし」と記載（（摘示事項（オ））され、５０℃以上の温水中に添加することが記載されており、しかも、「次いで８０〜１００℃の高温側に保って」と記載されているから、溶媒の留去において本願発明の方法と格別相違するということはできない。
　しかも、本願発明の実施例１において、
「【００２０】［実施例１］・・・重合を終了した。反応終了後、更に塩化メチレン４０．０部を加えて攪拌した後静置して塩化メチレン層と水層を分離した。分離した塩化メチレン溶液に、３５．５％の塩酸０．０７部及び水２０．０部を加え、攪拌後静置して塩化メチレン層を分離し、更に、分離した塩化メチレン溶液を充分に水洗した。
【００２１】
この溶液にｎ−ヘプタン５．０部を加え、ニーダーの内温を７５℃に維持しつつ投入攪拌してポリカーボネートパウダーを得た
５０℃以上の温水中に投入して処理すること
IV．むすび
　以上のとおりであるから、本願発明は、引用例に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。