Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月30日(2010.4.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上端を有する軽量複合支持構造と、
上側、前記軽量複合支持構造の上端に連結された下側、および後部を有する軽量複合シートベースと、
前記軽量複合シートベースの上側に位置するシートクッションと、
前記軽量複合シートベースの後部に連結されたシートバックフレームと、
前記シートバックフレームに連結されたシートバッククッションと、
を含む航空機シート組立体。
【請求項２】
前記軽量複合支持構造は、複数の脚部を含む、請求項１に記載の航空機シート組立体。
【請求項３】
前記複数の脚部のそれぞれは、
第１のサイドパネルと、
第２のサイドパネルと、
前記第１のサイドパネルと前記第２のサイドパネルとの間のコア材料と、
前記第１のサイドパネルと前記第２のサイドパネルとの間の少なくとも１つの剛体補強部材と、を含む、請求項２に記載の航空機シート組立体。
【請求項４】
前記第１のサイドパネルは、第１の炭素繊維シートを含み、前記第２のサイドパネルは、第２の炭素繊維シートを含み、前記コア材料は、ハニカム材料を含み、前記少なくとも１つの剛体補強部材は、軽量チューブを含む、請求項３に記載の航空機シート組立体。
【請求項５】
前記軽量複合支持構造は、前記航空機シート組立体のシート収容可能数によって調整される、請求項１に記載の航空機シート組立体。
【請求項６】
複数の軽量複合支持脚部と、
上側および下側を有し、前記下側は前記各軽量複合支持脚部に連結された一体形軽量複合シートベースと、
前記軽量複合シートベースの上側に位置する密閉空気式シートクッションと、を含む、請求項１に記載の航空機シート組立体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
詳細な説明および特許請求の範囲を、以下の図面と関連して参照することによって、本
発明についてより完全な理解を得ることができ、同じ参照番号は、図面にわたって同じ要
素を指す。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
上述の詳細な説明では少なくとも１つの例示的な実施形態を示してきたが、多くの変形例が存在することが理解されよう。また、本明細書に記載された例示的な実施形態は、形はどうあれ、本発明の範囲、適用性または構成を限定することを意図しないことも理解されたい。より正確に言えば、上述の詳細な説明は、説明された実施形態を実現するための都合のよいロードマップを当業者に提供する。当然のことながら、本発明の範囲を逸脱することなく、要素の機能および配置において様々な変更が可能であり、ここで、本発明の範囲は、本特許出願の出願時の公知かつ予測可能な均等物を含む特許請求の範囲によって規定される。
また、本発明は以下に記載する態様を含む。
（態様１）
上端を有する軽量複合支持構造と、
上側、前記軽量複合支持構造の上端に連結された下側、および後部を有する軽量複合シートベースと、
前記軽量複合シートベースの上側に位置するシートクッションと、
前記軽量複合シートベースの後部に連結されたシートバックフレームと、
前記シートバックフレームに連結されたシートバッククッションと、
を含む航空機シート組立体。
（態様２）
さらに、前記軽量複合シートベースと前記シートバックフレームとの間に連結された取り付け構造を含む、態様１に記載の航空機シート組立体。
（態様３）
前記取り付け構造は、前記軽量複合シートベースの後部に対して前記シートバックフレームが旋回することを可能にするように構成されている、態様２に記載の航空機シート組立体。
（態様４）
前記軽量複合支持構造は、複数の脚部を含む、態様１に記載の航空機シート組立体。
（態様５）
前記複数の脚部のそれぞれは、
第１のサイドパネルと、
第２のサイドパネルと、
前記第１のサイドパネルと前記第２のサイドパネルとの間のコア材料と、
前記第１のサイドパネルと前記第２のサイドパネルとの間の少なくとも１つの剛体補強部材と、を含む、態様４に記載の航空機シート組立体。
（態様６）
前記第１のサイドパネルは、第１の炭素繊維シートを含み、前記第２のサイドパネルは、第２の炭素繊維シートを含み、前記コア材料は、ハニカム材料を含み、前記少なくとも１つの剛体補強部材は、軽量チューブを含む、態様５に記載の航空機シート組立体。
（態様７）
前記軽量複合支持構造は、前記航空機シート組立体のシート収容可能数によって調整される、態様１に記載の航空機シート組立体。
（態様８）
前記軽量複合シートベースは、
上パネルと、
下パネルと、
前記上パネルと前記下パネルとの間のコア材料と、
を含む、態様１に記載の航空機シート組立体。
（態様９）
前記上パネルは、第１の炭素繊維シートを含み、前記下パネルは、第２の炭素繊維シートを含み、前記コア材料は、ハニカム材料を含む、態様８に記載の航空機シート組立体。
（態様１０）
複数の軽量複合支持脚部と、
上側および下側を有し、前記下側は前記各軽量複合支持脚部に連結された一体形軽量複合シートベースと、
前記軽量複合シートベースの上側に位置する密閉空気式シートクッションと、を含む、態様１に記載の航空機シート組立体。
（態様１１）
前記各軽量複合支持脚部は、
第１の炭素繊維サイドパネルと、
第２の炭素繊維サイドパネルと、
前記第１の炭素繊維サイドパネルと前記第２の炭素繊維サイドパネルとの間にはさまれるとともにそれらに連結されたハニカムコア材料と、
前記第１の炭素繊維サイドパネルと前記第２の炭素繊維サイドパネルとの間にはさまれた少なくとも１つの炭素繊維補強部材と、を含む、態様１０に記載の航空機シート組立体。
（態様１２）
前記一体形軽量複合シートベースは、
炭素繊維上パネルと、
炭素繊維下パネルと、
前記炭素繊維上パネルと前記炭素繊維下パネルとの間にはさまれるとともにそれらに連結されたハニカムコア材料と、を含む、態様１０に記載の航空機シート組立体。
（態様１３）
前記密閉空気式シートクッションは、
密閉ポリウレタン外側バッグと、
前記密閉ポリウレタン外側バッグに封入された発泡材料と、
前記密閉ポリウレタン外側バッグに封入されたガスと、を含み、
前記ガスおよび前記密閉ポリウレタン外側バッグは、外部空気圧力条件に反応して、航空機加圧条件に対して空気クッション性を増加する、態様１０に記載の航空機シート組立体。
（態様１４）
さらに、前記一体形軽量複合シートベースに連結された取り付け構造と、
前記取り付け構造に連結されたシートバックフレームと、
前記シートバックフレームに連結されたシートバッククッションと、
を含み、
前記取り付け構造は、前記シートバックフレームが前記一体形軽量複合シートベースに対して旋回することを可能にするように構成されている、態様１０に記載の航空機シート組立体。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月29日(2010.3.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
溶接機の分野から、２つの溶接されるべき部分が相互に接触する実際輪郭線により溶接線（継ぎ目）に対する位置を確定することは公知である。実際輪郭線に沿って、溶接バーナーに結合された測定センサが移動される。測定センサはまず実際輪郭を測定する。溶接バーナーが誤った位置に達すると、溶接バーナーは実際輪郭に対して相対的に、最適に調整されうる。その際、３つの自由度、すなわち２つの直線軸に沿った動きと回転が存在する。米国特許第４５８８８７２号明細書において、そこに述べられた解決手段が研削盤にも応用可能であると述べられているが、溶接機と異なる研削盤の特性がどのように考慮されるのかについては詳細には示されていない。
フライス盤の分野から、加工すべき工作物の目標表面輪郭に関する数値制御データを得て、これを機械軸に付設された駆動ユニットのための制御指令に変換することは公知である。これはフライス盤においてはそれゆえ簡単である。なぜならば、フライス盤が一般に互いに垂直な３つの直線軸を有することから目標表面輪郭の直交座標が制御指令に直接的に変換されるからである。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月15日(2010.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液状の充填物、特に燃焼可能な又は爆発性の充填物を貯蔵しかつ運搬するために使用される熱可塑性のプラスチックから成る多層のプラスチック容器であって、該容器が少なくとも３つの層から成りかつ持続的に静電気が帯電可能ではないかもしくは導電する層を有しており、前記容器の壁に統合された、導電性及び／又は永久的に耐静電性ＨＤＰＥプラスチック材料から成る層（１４）を有し、該層（１４）が残った残留壁を、それぞれ２．５ｍｍの層厚さの、少なくとも２つの絶縁するＨＤＰＥプラスチック層（１２，１６）に分割しており、液状の充填物と接触する最も内側の層（１２）がＨＤＰＥ−新材料（ｖｉｒｇｉｎ ｍａｔｅｒｉａｌ）から成り、第２の、最も内側の層（１２）によって覆われた統合されたＨＤＰＥ層（１４）が適当な添加物（例えば導電煤体）によって導電性に構成されており、この導電性の層（１４）が外へ向かって、少なくとも１つの別の導電性でないか絶縁するＨＤＰＥ層（１６）で覆われている形式のものにおいて、別の、導電性でないかもしくは絶縁するＨＤＰＥ層（１６）が導電性のプラスチック材料から成る幅の狭い垂直に−層ストライプの形式で−延びるプラスチックストライプ（２８）によって中断されており、該プラスチックストライプ（２８）が−半径方向で見て−別の、導電性ではないかもしくは絶縁するＨＤＰＥ層（１６）の厚さしか有しておらず、統合された、導電性のＨＤＰＥ層（１４）と形状接続的でかつ導電的に結合されていることを特徴とする、多層のプラスチック容器。
【請求項２】
４層の壁構造を有し、第４のプラスチック層（１８）がそれまでの３つの層（１２，１４，１６）を外から覆いかつ同様に導電性のＨＤＰＥプラスチック材料から成っている、請求項１記載のプラスチック容器。
【請求項３】
充填物と接触する最も内側の層（１２）が絶縁するプラスチック（ＨＤＰＥ新製品）から成り、かつ２．５ｍｍと等しいか／これよりも小さい（総壁厚さの約４５％まで）の厚さを有し、統合された導電性のプラスチック層（１４）が総壁厚さの５％と等しいか／これよりも小さい厚さを有し、別の導電性ではないかもしくは絶縁するＨＤＰＥ層（１６）が同様に２．５ｍｍと等しいか／それより小さい（総壁厚さの約４５％まで）の厚さを有し、同様に導電性の外側のプラスチック層（１８）が総壁厚さの５％と等しいか／それより小さい壁厚さを有している、請求項１又は２記載のプラスチック容器。
【請求項４】
導電性の外側のプラスチック層（１８）とその後ろにある導電性ではないかもしくは絶縁するＨＤＰＥ層（１６）とに、少なくとも１つの、幅の狭い、導電性のプラスチック材料から成る垂直に延びるプラスチックストライプ（２８）が挿入されており、該プラスチックストライプ（２８）が、半径方向で見て、前記両方の層（１６，１８）の厚さしか有しておらず、内側に位置する統合された、導電性のＨＤＰＥ層（１４）と形状接続的にかつ導電的に結合されている、請求項１，２又は３記載のプラスチック容器。
【請求項５】
最も内側の、充填物と接触する、絶縁プラスチック（ＨＤＰＥ新製品）から成る層（１２）に、少なくとも１つの、幅の狭い、垂直に延びる、導電性のプラスチック材料から成るプラスチックストライプ（２６）が挿入されており、該プラスチックストライプ（２６）が、半径方向で見て、前記層（１２）の厚さしか有しておらず、内側に位置する、統合された、導電性のＨＤＰＥ−層（１４）と形状接続的にかつ導電的に結合されている、請求項１，２，３又は４記載のプラスチック容器。
【請求項６】
内側にある統合された導電性のＨＤＰＥ層（１４）とこのＨＤＰＥ層（１４）を覆う導電性ではないかもしくは絶縁するＨＤＰＥ層（新材料及び／又はＲｅｇｒｉｎｄ材料から成る）との間に、ポリアミドＰＡ又はＥＶＯＨから成るいわゆるバリア層、場合によっては２つのＡｄｍｅｒ／付着剤層（２０，２２，２４）が配置されている、請求項１から５までのいずれか１項記載のプラスチック容器。
【請求項７】
内側にある、導電性のＨＤＰＥ層（１４）が、最も内側にある、充填物と接触する、絶縁プラスチック（ＨＤＰＥ新製品）から成る層（１２）に挿入された、導電性のプラスチック材料から成る接触ストリップ（２６）を介して容器内部の充填物と導電結合されておりかつ少なくとも１つの別の、内側に位置する統合された導電性のＨＤＰＥ層（１４）を外から覆う、導電性ではないプラスチック材料（導電煤無添加）から成る層（１６，２０，２２，２４）に挿入された、導電性のプラスチック材料から成る層（１６，２０，２２，２４）を介して外側の、導電性のプラスチック層（１６）と導電的に結合されている、請求項１から６までのいずれか１項記載のプラスチック容器。
【請求項８】
多層のプラスチック容器を製造する方法であって、少なくとも３つの押出機から３つの異なるプラスチック材料を周方向分配器内へ供給し、該周方向分配器内で少なくとも３層のホース形状の前成形品に変形し、その際、内側層を導電性ではないプラスチック材料（ＨＤＰＥ新製品から形成し、内側層により覆われた統合された層を導電性のプラスチック材料（例えば導電煤の添加を有するＨＤＰＥ））から形成し、別の外側の層を同様に導電性ではないプラスチック材料（ＨＤＰＥ）から形成し、導電性ではない内側層に幅の狭い、長手方向に延びる、導電性のプラスチック材料から成り、導電性ではないプラスチック材料から成る層と同じ層厚さしか有していないストリップを挿入し、前記ホース形状の前成形品を適当なブロー成形型内で圧縮空気でプラスチック中空体に膨らませることを特徴とする、多層のプラスチック容器を製造する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月7日(2010.5.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
崩壊性錠剤マトリックス中にレパグリニドとメトホルミンとを含む医薬用の錠剤を製造する方法であって、
（ａ）流動床造粒法を使用して、レパグリニドとメトホルミンの混合物を結合剤の溶液と共に造粒及び乾燥して顆粒を調製する工程、この工程において、レパグリニドが噴霧乾燥した顆粒の形態において、又は活性倍散の形態において使用される、
（ｂ）工程（ａ）で得られた顆粒を充填剤及び崩壊剤と共に混合する工程、
（ｃ）工程（ｂ）で得られた混合物を他の賦形剤及び／又は補助剤と共にブレンドする工程、及び
（ｄ）工程（ｃ）で得られた生成物を圧縮して医薬用の錠剤とする工程
を含む方法。
【請求項２】
工程（ａ）において、メトホルミンが以下の粒径分布を有するその塩酸塩の形態で使用される、請求項１に記載の方法
ｄ10：  ≦２０μｍ、好ましくは２〜１０μｍ
ｄ50：  ５〜１００μｍ、好ましくは１０〜５０μｍ
ｄ90：  ２０〜１５０μｍ、好ましくは４０〜１００μｍ。
【請求項３】
結合剤が乾式結合剤及び／又は湿式造粒結合剤から成る群から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
乾式結合剤がセルロース粉末及び微結晶セルロースから成る群から選択される、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
湿式造粒結合剤がコーンスターチ、ポリビニルピロリドン（ポビドン）、ビニルピロリドン−酢酸ビニルコポリマー（コポビドン）及びセルロース誘導体、例えばヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース及びヒドロキシプロピルメチルセルロースから成る群から選択される、請求項３に記載の方法。
【請求項６】
湿式造粒結合剤の総量が仕上がりの錠剤配合物に対して０〜１０質量％、好ましくは１〜５質量％となるように選択される、請求項３に記載の方法。
【請求項７】
結合剤が精製水又は極性有機溶媒に溶解される、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
極性有機溶媒がエタノール又はイソプロパノールである、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
工程（ａ）において顆粒の水分含量が乾燥後に０．１〜１．５％であるように制御される、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
工程（ｂ）における充填剤が無水ラクトース、噴霧乾燥したラクトース、マンニトール、エリスリトール、スクロース、ソルビトール、リン酸カルシウム、微結晶セルロース及びラクトース一水化物から成る群から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
充填剤の総量が仕上がりの錠剤配合物に対して０〜９５質量％、好ましくは２０〜９０質量％となるように選択される、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
工程（ｂ）における崩壊剤がデンプングリコール酸ナトリウム、ポラクリリンカリウム、クロスポビドン、クロスカルメロース、カルボキシメチルセルロースナトリウム及び乾燥コーンスターチから成る群から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
崩壊剤の総量が仕上がりの錠剤配合物に対して０〜５０質量％、好ましくは１〜１０質量％となるように選択される、請求項１２に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月9日(2010.2.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸素を用い、場合により触媒に基づくＨＣｌ酸化法の生成ガスから塩素を選択的に分離する方法であって、生成ガスは、塩素に加え、少なくとも過剰の酸素、化学的に不活性な成分、特に二酸化炭素と場合により希ガス、及び場合によりＨＣｌも含有し、蒸留と、塩素を含まない酸素流をＨＣｌ酸化法に再循環することによる塩素の選択的分離方法であり、
蒸留は、精留セクションとストリッピングセクションを形成する１又はそれ以上の蒸留塔を用いて操作され、分離すべき混合物は、蒸留塔の精留セクションとストリッピングセクションとの間に供給されること、
蒸留は、８〜３０バール（８０００〜３００００ＨＰａ）の圧力下、−１０℃〜−６０℃の塔頂温度で行われること、
蒸留塔内の液体塩素は、蒸留塔の塔底から取り出されること、及び
蒸留塔の塔頂において、二酸化炭素と酸素を含む混合物が形成され、混合物の一部は還流として蒸留塔に供給され、混合物の一部は取り出されてＨＣｌ酸化法に供給されること
を特徴とする方法。
【請求項２】
蒸留に供給される生成ガスは、乾燥されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
ＨＣｌ酸化法の塩化水素は、イソシアネート製造方法に由来し、精製された塩素は、イソシアネート製造方法に戻されることを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
蒸留中、蒸留塔の塔底は、液体塩素を含み、一連の酸素、二酸化炭素、窒素、場合により希ガス及び場合により塩化水素からの低沸点化合物を実質的に含まないことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
蒸留塔の塔頂で生成する混合物は、二酸化炭素、酸素及び塩化水素を実質的に含んで成り、この混合物は蒸留塔に還流として供給されることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
蒸留塔の塔頂で生成する混合物は、一連の酸素、二酸化炭素、窒素、場合により希ガス及び場合により塩化水素からの全ての低沸点化合物を含み、実質的に塩素を含まないことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
塔頂における凝縮温度を高めるため、蒸留塔の投入流に塩化水素ガスを追加して加えること、及び／又は蒸留塔の気体と一緒に塩化水素ガスを蒸留塔のオーバーヘッドコンデンサーに加えることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
上流のＨＣｌ酸化法の予め精製されたＨＣｌガスの最大で３０容量％を、そのＨＣｌ酸化の前に分岐して、ＨＣｌ酸化法からの生成混合物の蒸留に加えることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、酸素を用い、場合により触媒に基づく（又は触媒を利用する）ＨＣｌ酸化法の生成ガスから選択的に塩素を分離する方法であって、生成ガスは、塩素の他に、少なくとも過剰の酸素、化学的に不活性の成分、特に二酸化炭素及び希ガスと、場合によりＨＣｌも含有し、蒸留することと、塩素を含まない酸素流をＨＣｌ酸化法に再循環することによる塩素の選択的分離方法に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
上記に示した方法によって分離され、場合により精製された塩化水素を、その後酸素を用いるＨＣｌ酸化に供給することができる。
本発明の主な態様を以下に記載する。
１．酸素を用い、場合により触媒に基づくＨＣｌ酸化法の生成ガスから塩素を選択的に分離する方法であって、生成ガスは、塩素に加え、少なくとも過剰の酸素、化学的に不活性な成分、特に二酸化炭素と場合により希ガス、及び場合によりＨＣｌも含有し、蒸留と、塩素を含まない酸素流をＨＣｌ酸化法に再循環することによる塩素の選択的分離方法であり、
蒸留は、精留セクションとストリッピングセクションを形成する１又はそれ以上の蒸留塔を用いて操作され、分離すべき混合物は、蒸留塔の精留セクションとストリッピングセクションとの間に供給されること、
蒸留は、８〜３０バール（８０００〜３００００ＨＰａ）の圧力下、−１０℃〜−６０℃の塔頂温度で行われること、
蒸留塔内の液体塩素は、蒸留塔の塔底から取り出されること、及び
蒸留塔の塔頂において、二酸化炭素と酸素を含む混合物が形成され、混合物の一部は還流として蒸留塔に供給され、混合物の一部は取り出されてＨＣｌ酸化法に供給されること
を特徴とする方法。
２．蒸留に供給される生成ガスは、乾燥されることを特徴とする上記１に記載の方法。
３．ＨＣｌ酸化法は、ディーコン法であることを特徴とする上記１又は２に記載の方法。
４．ＨＣｌ酸化法の塩化水素は、イソシアネート製造方法に由来し、精製された塩素は、イソシアネート製造方法に戻されることを特徴とする上記１〜３のいずれかに記載の方法。
５．ＨＣｌ酸化法の塩化水素は、塩素化芳香族に関する有機化合物の塩素化方法に由来し、精製された塩素は、塩素化方法に戻されることを特徴とする上記１〜３のいずれかに記載の方法。
６．蒸留は、１０〜２５バール（１００００〜２５０００ＨＰａ）の圧力下、−２５℃〜−４５℃の塔頂温度で操作されることを特徴とする上記１〜５のいずれかに記載の方法。
７．蒸留中、蒸留塔の塔底は、液体塩素を含み、一連の酸素、二酸化炭素、窒素、場合により希ガス及び場合により塩化水素からの低沸点化合物を実質的に含まないことを特徴とする上記１〜６のいずれかに記載の方法。
８．蒸留塔の塔頂で生成する混合物は、二酸化炭素、酸素及び塩化水素を実質的に含んで成り、この混合物は蒸留塔に還流として供給されることを特徴とする上記１〜７のいずれかに記載の方法。
９．蒸留塔の塔頂で生成する混合物は、一連の酸素、二酸化炭素、窒素、場合により希ガス及び場合により塩化水素からの全ての低沸点化合物を含み、実質的に塩素を含まないことを特徴とする上記１〜８のいずれかに記載の方法。
１０．塔頂における凝縮温度を高めるため、蒸留塔の投入流に塩化水素ガスを追加して加えること、及び／又は蒸留塔の気体と一緒に塩化水素ガスを蒸留塔のオーバーヘッドコンデンサーに加えることを特徴とする上記１〜９のいずれかに記載の方法。
１１．上流のＨＣｌ酸化法の予め精製されたＨＣｌガスの最大で３０容量％を、そのＨＣｌ酸化の前に分岐して、ＨＣｌ酸化法からの生成混合物の蒸留に加えることを特徴とする上記１０に記載の方法。
１２．蒸留塔の塔頂後のコンデンサー出口領域における二酸化炭素含量は、特に蒸留の上流のＨＣｌ酸化の始動時の間も、２０〜７０容量％、特に好ましくは３０〜５０容量％の範囲であることを特徴とする上記１〜１１のいずれかに記載の方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成22年4月7日(2010.4.7)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項２４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項２４】
酸が、ＤＭＳＯ中で測定して１５またはそれ未満のｐＫA値を有するハロゲン化水素酸並びにフルオロホウ酸、フルオロケイ酸、フルオロリン酸、フルオロヒ酸、フルオロアンチモン酸、フルオロ硫酸、非金属もしくは金属の鉱酸及びオキソ酸；  ＨＣ（ＳＯ2ＣＦ3）3、ＨＮ（ＳＯ2ＣＦ3）2、ペンタフルオロフェノール、ＨＢＦ4、Ｈ2ＳｉＦ6、ＨＰＦ6、ＨＡｓＦ6、ＨＳｂＦ6、ＨＳＯ3Ｆ、ＨＦ、ＨＣｌ、ＨＢｒ、ＨＩ、並びにオキソ酸、すなわち硝酸、硫酸、塩素酸、臭素酸、リン酸、クロム酸、チタン酸、タングステン酸、バナジン酸及びモリブデン酸から選択されるオキソ酸から選択されることを特徴とする、請求項２３の方法。 
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５５】
この場合は、当量のペンタフルオロフェニルアニリンをＴＨＦ中に溶解し、−８０℃において二倍当量のＮａ［Ｎ（ＳｉＭｅ3）2］と反応させ、そしてこの反応混合物を、当量の求電子体（トリフルオロメチルスルホン酸無水物）と反応させる。この反応は、Ｒ1がＳＯ2ＣＦ3のアニオンＩのリチウム塩を与え、２〜５のｐＨ値でＨＣｌ水溶液で仕上げ処理をすると、このアニオンの対応するＮＨ酸が生ずる。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００７１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００７１】
以下のものが全てではないが、酸としては、例えば、ＨＣ（ＳＯ2ＣＦ3）3、ＨＮ（ＳＯ2ＣＦ3）2、ペンタフルオロフェノール、ＨＢＦ4、Ｈ2ＳｉＦ6、ＨＰＦ6、ＨＡｓＦ6、ＨＳｂＦ6、ＨＳＯ3Ｆ、ＨＦ、ＨＣｌ、ＨＢｒ、ＨＩ、並びに次のもの、すなわち硝酸、硫酸、塩素酸、臭素酸、リン酸、クロム酸、チタン酸及びタングステン酸、バナジウム酸、モリブデン酸から選択されるオキソ酸が挙げられる。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月13日(2010.5.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
触媒が少なくとも二酸化錫および少なくとも１種のハロゲン含有ルテニウム化合物を含んでなることを特徴とする、酸素を用いた塩化水素の触媒的気相酸化による塩素の製造方法。
【請求項２】
ハロゲン含有ルテニウム化合物が一般式：ＲｕＣｌｘＯｙ［式中、ｘは０．８〜１．５の数を意味し、ｙは０．７〜１．６の数を意味する。］で示される化合物であることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
ハロゲン含有ルテニウム化合物を適用した二酸化錫担体を、特に酸素含有雰囲気中、特に好ましくは空気中で、少なくとも２００℃、好ましくは少なくとも２２０℃、特に好ましくは少なくとも２５０℃〜５００℃の温度で焼成することによって、触媒を得ることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
特に焼成後、ハロゲン含有ルテニウム化合物からのルテニウムの割合が、触媒組成物全体に対して、０．５〜５重量％、好ましくは１．０〜３重量％、特に好ましくは１．５〜３重量％であることを特徴とする、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
塩化水素の気相酸化が、１８０℃〜５００℃、好ましくは２００℃〜４５０℃、特に好ましくは２２０℃〜３８０℃の温度で、塩化水素および酸素を含有する気体を流通させる工程を含むことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
気相酸化を、１〜２５ｂａｒ、好ましくは１．２〜２０ｂａｒ、特に好ましくは１．５〜１７ｂａｒ、とりわけ好ましくは２．０〜１５ｂａｒの圧力で実施することを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
酸素を用いた塩化水素の触媒的気相酸化における触媒のための触媒担体としての二酸化錫の使用。
【請求項８】
二酸化錫および少なくとも１種のハロゲン含有ルテニウム化合物を含有する触媒組成物。
【請求項９】
ハロゲン含有ルテニウム化合物が一般式：ＲｕＣｌｘＯｙ［式中、ｘは０．８〜１．５の数を意味し、ｙは０．７〜１．６の数を意味する。］で示される混合化合物であることを特徴とする、請求項８に記載の組成物。
【請求項１０】
酸素を用いた塩化水素の触媒的気相酸化における触媒としての、請求項８または９に記載の組成物の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月7日(2010.5.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ａｌ2Ｏ3、ＣａＯ、ＣｏＯ、Ｃｒ2Ｏ3、ＣｕＯ、Ｆｅ2Ｏ3、ＨｆＯ2、ＭｇＯ、ＭｎＯ、Ｎｂ2Ｏ5、ＮｉＯ、ＲＥＯ、Ｓｃ2Ｏ3、Ｔａ2Ｏ5、ＴｉＯ2、Ｖ2Ｏ5、Ｙ2Ｏ3、ＺｎＯ、ＺｒＯ2、及びこれらの複合金属酸化物からなる群から選択される第１金属酸化物、及びＡｌ2Ｏ3、Ｂｉ2Ｏ3、ＣａＯ、ＣｏＯ、Ｃｒ2Ｏ3、ＣｕＯ、Ｆｅ2Ｏ3、Ｇａ2Ｏ3、ＨｆＯ2、ＭｇＯ、ＭｎＯ、Ｎｂ2Ｏ5、ＮｉＯ、ＲＥＯ、Ｓｃ2Ｏ3、Ｔａ2Ｏ5、ＴｉＯ2、Ｖ2Ｏ5、Ｙ2Ｏ3、ＺｎＯ、ＺｒＯ2、及びこれらの複合金属酸化物からなる群から選択される第２金属酸化物を含むガラスセラミックであって、前記第１金属酸化物と第２金属酸化物とは互いに異なり、前記ガラスセラミックは理論最大値の少なくとも５０パーセントのインライン透過率、及び少なくとも１１ＧＰaの硬度を有する、ガラスセラミック。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月9日(2010.2.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸素を用いる、塩化水素の触媒気相酸化による塩素の製造方法であって、
断熱条件下、少なくとも二つの触媒床で、塩化水素と酸素を反応させることを少なくとも含む方法。
【請求項２】
反応は、直列に接続された少なくとも二つの触媒床で行われることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
触媒床の触媒の温度は、特に反応の間、１５０℃〜８００℃、好ましくは２００℃〜４５０℃であることを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
出てくるプロセスガス混合物が通る少なくとも一つの熱交換器、好ましくは単一の熱交換器は、各々の触媒床の下流に設けられることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
反応は、１〜３０バールの圧力で行われることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
各々の触媒床に入るガス混合物の入口温度は、１５０℃〜４００℃、好ましくは２００℃〜３７０℃、特に好ましくは２５０℃〜３５０℃であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
各々の触媒床への入口の上流での酸素と塩化水素とのモル比は、塩化水素１当量に対して、酸素０．２５〜１０当量、好ましくは酸素０．５〜５当量であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
触媒は、ルテニウム又はルテニウム化合物に基づくことを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
塩化水素含有ガスと酸素とを反応させる反応器システムであって、少なくとも塩化水素と酸素のための配管又は少なくとも塩化水素と酸素の混合物のための配管及び少なくとも二つの熱的に隔離され直列に接続された触媒床を含む反応器システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
本発明は、塩化水素と酸素を含有するガスを反応させるための反応器システム（又は設備）であって、少なくとも塩化水素と酸素用又は塩化水素と酸素の混合物用の配管と、熱的に隔離され直列接続された少なくとも２つの触媒床を備える反応器システムを提供する。
以下に、本発明の主な態様を記載する。
１．酸素を用いる、塩化水素の触媒気相酸化による塩素の製造方法であって、
断熱条件下、少なくとも二つの触媒床で、塩化水素と酸素を反応させることを少なくとも含む方法。
２．反応は、直列に接続された少なくとも二つの触媒床で行われることを特徴とする上記１に記載の方法。
３．触媒床の触媒の温度は、特に反応の間、１５０℃〜８００℃、好ましくは２００℃〜４５０℃であることを特徴とする上記１又は２に記載の方法。
４．少なくとも一つの触媒床から出てくるプロセスガス混合物は、その後触媒床の下流の少なくとも一つの熱交換器を通ることを特徴とする上記１〜３のいずれかに記載の方法。
５．出てくるプロセスガス混合物が通る少なくとも一つの熱交換器、好ましくは単一の熱交換器は、各々の触媒床の下流に設けられることを特徴とする上記４に記載の方法。
６．熱交換器で除去される反応熱は、スチームを作るために使用されることを特徴とする上記４又は５に記載の方法。
７．反応は、１〜３０バールの圧力で行われることを特徴とする上記１〜６のいずれかに記載の方法。
８．第１触媒床に入るガス混合物の入口温度は、１５０℃〜４００℃、好ましくは２００℃〜３７０℃であることを特徴とする上記１〜７のいずれかに記載の方法。
９．各々の触媒床に入るガス混合物の入口温度は、１５０℃〜４００℃、好ましくは２００℃〜３７０℃、特に好ましくは２５０℃〜３５０℃であることを特徴とする上記８に記載の方法。
１０．直列に接続された触媒床は、触媒床から触媒床へと高くなる又は低くなる平均温度で操作されることを特徴とする上記１〜９のいずれかに記載の方法。
１１．各々の触媒床への入口の上流での酸素と塩化水素とのモル比は、塩化水素１当量に対して、酸素０．２５〜１０当量、好ましくは酸素０．５〜５当量であることを特徴とする上記１〜１０のいずれかに記載の方法。
１２．反応は、２〜１２、好ましくは２〜８、特に好ましくは３〜８の直列に接続された触媒床で行われることを特徴とする上記１〜１１のいずれかに記載の方法。
１３．一又はそれ以上の個々の触媒床を、各々、独立して、二又はそれ以上の並列に接続された触媒床で置き換えてよいことを特徴とする上記１〜１２のいずれかに記載の方法。
１４．塩化水素と酸素を含有する入口ガス流は、第１触媒床にのみ供給されることを特徴とする上記１〜１３のいずれかに記載の方法。
１５．新しい塩化水素及び／又は酸素を、第一触媒床の下流に配置された一又はそれ以上の触媒床の上流のプロセスガス流に秤量して加えることを特徴とする上記１〜１４のいずれかに記載の方法。
１６．触媒は、銅、カリウム、ナトリウム、クロム、セリウム、金、ビスマス、ルテニウム、ロジウム、白金及び元素の周期表の第ＶＩＩＩ族から選択される元素を含む群から選択される少なくとも一種を含むことを特徴とする上記１〜１５のいずれかに記載の方法。
１７．触媒は、ルテニウム又はルテニウム化合物に基づくことを特徴とする上記１〜１６のいずれかに記載の方法。
１８．個々の触媒床の触媒活性は、異なり、特に、触媒床から触媒床へと増加することを特徴とする上記１〜１７のいずれかに記載の方法。
１９．触媒床の触媒は、不活性担体に塗工されることを特徴とする上記１〜８のいずれかに記載の方法。
２０．触媒担体は、酸化チタン、酸化錫、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化バナジウム、酸化クロム、酸化ケイ素、シリカ、カーボンナノチューブ又は上述の物質の混合物又は化合物から全て又は部分的に成ることを特徴とする上記１９に記載の方法。
２１．塩化水素含有ガスと酸素とを反応させる反応器システムであって、少なくとも塩化水素と酸素のための配管又は少なくとも塩化水素と酸素の混合物のための配管及び少なくとも二つの熱的に隔離され直列に接続された触媒床を含む反応器システム。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月10日(2010.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）酸素を用い、場合により触媒を用いて塩化水素の酸化処理を実施し、
ｂ）処理気体を一段階または多段階冷却し、
ｃ）処理気体から未反応塩化水素および反応生成水を分離し、
ｄ）生成気体を乾燥し、
ｅ）混合物から塩素を分離する
方法であって、塩化水素の酸化ａ）を、反応混合物と接触する構造部材がニッケルまたはニッケルの割合が少なくとも６０重量％であるニッケル含有合金で、特にHastelloy（登録商標）C型、Hastelloy（登録商標）B型、Inconel（登録商標）600、Inconel（登録商標）625の群から選択される材料で製造されている反応器で実施することを特徴とする方法。
【請求項２】
処理気体の冷却ｂ）を、反応器出口温度から出発して１４０〜２５０℃、好ましくは１６０〜２２０℃の温度で第一熱交換器で実施し、反応混合物と接触する第一熱交換器の構造部材が、ニッケルまたはニッケルの割合が少なくとも６０重量％であるニッケル含有合金で、特にHastelloy（登録商標）C型、Hastelloy（登録商標）B型、Inconel（登録商標）600、Inconel（登録商標）625の群から選択される材料で製造されていることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
処理気体の冷却ｂ）を、第一熱交換器の出口温度から出発して１００℃以上の温度で第二熱交換器で更に実施し、少なくとも反応混合物と接触する第二熱交換器の構造部材が、好ましくは管材料については、鋼／フルオロポリマー（特にＰＦＡ、ＰＶＤＦまたはＰＴＦＥ）、およびセラミック、特に炭化ケイ素または窒化ケイ素の群から選択される材料で、特に好ましくは各々の場合に管底部の管については被覆鋼で製造されていることを特徴とする、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
処理気体の冷却ｂ）を、液体状塩酸の凝縮のための第二熱交換器の出口温度から出発して特に５℃以上の温度で第三熱交換器で更に実施し、少なくとも反応混合物と接触する第三熱交換器の部材が、フルオロポリマー、特にＰＦＡ、ＰＶＤＦ、ＰＴＦＥまたはＥＴＦＥ、およびセラミック、特に炭化ケイ素または窒化ケイ素の群から選択される材料で、とりわけ各々の場合に管底部の管については被覆鋼で製造されていることを特徴とする、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
処理気体を、１００℃以下まで冷却工程ｂ）で冷却し、次いで分離ｃ）するために、水または３０重量％までの濃度を有する塩酸を用いて実施するＨＣｌ吸収工程に導入し、少なくとも反応混合物と接触するＨＣｌ吸収装置の構造部材が、ガラスライニング鋼、グラファイト、炭化ケイ素、窒化ケイ素、ガラス繊維強化プラスチック（ＧＦＲＰ）被覆鋼、またはフルオロポリマー被覆および／またはライニング鋼、特に場合によりＰＦＡまたはＰＴＦＥで被覆されていてよいＰＴＦＥライニング鋼の群から選択される材料で製造されていることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
第二熱交換器が管型熱交換器の形状であり、ジャケットがフルオロポリマー被覆鋼で製造されており、管束の管がセラミック材料、好ましくは窒化ケイ素または炭化ケイ素からなることを特徴とする、請求項３に記載の方法。
【請求項７】
冷却する処理気体を熱交換器のジャケットに供給し、冷却媒体が熱交換器の管を流通するように、第二熱交換器を操作することを特徴とする、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
ＨＣｌ酸化処理の塩化水素がイソシアネート製造方法に由来しており、精製された塩素をイソシアネート製造方法にフィードバックすることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
ＨＣｌの酸化処理ａ）を３〜３０ｂａｒの圧力で実施することを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月14日(2010.5.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＡＺＤ１１５２のマレエート共結晶であって、ＡＺＤ１１５２が、
【化１】
2009537498.tif 000001
であるマレエート共結晶。
【請求項２】
請求項１に記載のＡＺＤ１１５２のマレエート共結晶の結晶形。
【請求項３】
前記共結晶が、約２θ＝１２．９°および１５．２°および／または１０．２°に特異的ピークを含むＸ線粉末回折図形を有する、請求項２に記載のＡＺＤ１１５２のマレエート共結晶の結晶形。
【請求項４】
請求項１に記載のＡＺＤ１１５２のマレエート共結晶を製造する方法であって、ＡＺＤ１１５２遊離形の溶液とマレイン酸とを、メタノール、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）またはそれらの混合物などの適する溶媒中で混合する工程を含む方法。
【請求項５】
医薬組成物であって、請求項１に記載のＡＺＤ１１５２のマレエート共結晶を、薬学的に許容しうる希釈剤または担体と一緒に含む医薬組成物。
【請求項６】
療法で用いるための、請求項１に記載のＡＺＤ１１５２のマレエート共結晶。
【請求項７】
一つまたはそれを超えるオーロラキナーゼの阻害が有益である疾患の処置用の薬剤の製造における、請求項１に記載のＡＺＤ１１５２のマレエート共結晶の使用。
【請求項８】
癌などの高増殖性疾患の処置用の薬剤の製造における、請求項１に記載のＡＺＤ１１５２のマレエート共結晶の使用。
【請求項９】
ＡＺＤ１１５２のマレエート共結晶であって、ＡＺＤ１１５２が、
【化２】
2009537498.tif 000002
であるマレエート共結晶の有効量を、癌などの高増殖性疾患にかかっている動物に投与することを含む、癌などの高増殖性疾患の処置方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月7日(2010.5.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
間質-血管画分と該間質-血管画分の接着性細胞からなる亜集団とからなる群より選択される髄外白色脂肪組織から単離された細胞又は該接着性細胞亜集団の培養上清を含んでなる抗腫瘍医薬。
【請求項２】
前記接着性細胞亜集団が、以下：
−髄外白色脂肪組織から間質-血管画分を取得し；
−該間質-血管画分を精製し；
−該精製画分から、適切な液体培地での初代培養、培養支持体上での接着性細胞の選択、適切な培地でのコンフルエンス後の該細胞の回収、遠心分離及びペレットの回収によって、前記細胞亜集団を単離することを含んでなる方法により取得することができることを特徴とする、請求項１に記載の抗腫瘍医薬。
【請求項３】
前記細胞が医薬的に許容し得るキャリアと組み合わされることを特徴とする、請求項１又は２に記載の抗腫瘍医薬。
【請求項４】
前記細胞が異種遺伝子を含んでなり、該異種遺伝子の翻訳産物が治療上興味のあるタンパク質であることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項に記載の抗腫瘍医薬。
【請求項５】
前記治療上興味のあるタンパク質がプロドラッグを腫瘍細胞に対して毒性の活性化合物に代謝し得る酵素であることを特徴とする、請求項４に記載の抗腫瘍医薬。
【請求項６】
前記上清が前記細胞亜集団とガン細胞又はガン細胞系統の細胞との共培養物から得られることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項に記載の抗腫瘍医薬。
【請求項７】
前記ガンが固形ガン又は液性ガンであることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか１項に記載の抗腫瘍医薬。
【請求項８】
前記ガンが胃腸管の固形ガンであることを特徴とする、請求項７に記載の抗腫瘍医薬。
【請求項９】
前記固形ガンが膵臓ガン、胃ガン又は結腸直腸ガンであることを特徴とする、請求項８に記載の抗腫瘍医薬。
【請求項１０】
請求項１に規定される髄外白色脂肪組織細胞、前記細胞の培養上清又は前記細胞とガン細胞若しくは適切なガン細胞系統の細胞との共培養物の上清からなる群より選択される抗腫瘍剤を含んでなる抗ガン療法におけるアジュバント。
【請求項１１】
請求項１に規定される髄外白色脂肪組織細胞、前記細胞の培養上清又は前記細胞とガン細胞若しくは適切なガン細胞系統の細胞との共培養物の上清からなる群より選択される抗腫瘍剤の、他の抗腫瘍医薬についてのインビトロスクリーニングのための使用。
【請求項１２】
前記他の抗腫瘍医薬が前記細胞又は前記細胞の上清と相乗的に作用し得る他の抗腫瘍医薬であることを特徴とする、請求項１１に記載の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月21日(2010.4.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電材料により形成された基板層と、
ランプ動作中の前記基板の酸化を低減するための被覆と、を備えるランプ用箔接続体であって、
前記被覆は、
金又は白金を含む、前記基板上の第一の被覆層と
前記第一の被覆層により前記基板から離間された、前記第一の被覆層よりも高濃度の金又は白金を含む第二の被覆層と、
随意的に、前記第一及び第二の被覆層により前記基板から離間され、存在する場合には貴金属を含む第三の被覆層と、を含む、箔接続体。
【請求項２】
前記基板は、その主成分としてモリブデンを含む、請求項１に記載の箔接続体。
【請求項３】
前記第一の被覆層は、前記第二の被覆層より薄い、請求項１又は２に記載の箔接続体。
【請求項４】
前記第一の被覆層は、厚さ約１０ｎｍ未満であり、
前記第二の被覆層は、前記第一の層よりも少なくとも約５ｎｍ厚く、
前記第一及び第二の被覆層及び、存在する場合、第三の被覆層は、その粒状構造が異なる、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の箔接続体。
【請求項５】
前記第一及び第二の被覆層は、それぞれ、少なくとも５０重量％の金又は白金を含む、請求項１乃至４のいずれか１項に記載の箔接続体。
【請求項６】
前記被覆は、前記第三の被覆層を含み、前記第三の被覆層は、前記箔接続体の最外層である、請求項１乃至５のいずれか１項に記載の箔接続体。
【請求項７】
更に、アルミニウム、ケイ素、アルミニウムの酸化物、ケイ素の酸化物、及びその組み合わせにより構成された集合のうち少なくとも一つを含む層を備える、請求項１乃至６のいずれか１項に記載の箔接続体。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか１項に記載の箔接続体と電極とを備えるインタフェース。
【請求項９】
請求項１乃至の８いずれか１項に記載の箔接続体を備えるランプ。
【請求項１０】
ランプであって、
エンベロープと、
前記ランプの動作中に前記エンベロープ内で放電を発生させる少なくとも一個の内部電極と、
外部接続体と、
前記外部接続体を前記内部電極に電気的に接続する箔接続体と、を備え、
前記箔接続体は、
導電材料により形成された基板層と、
厚さ約１０ｎｍ未満の金又は白金を含む前記基板上の第一の被覆層と
前記第一の被覆層により前記基板から離間された、前記第一の被覆層よりも高濃度の金又は白金を含む第二の被覆層と、
随意的に、前記第一及び第二の被覆層により前記基板から離間された、貴金属を含む第三の被覆層と、を含む、ランプ。
【請求項１１】
前記第二の被覆層は、前記第一の層よりも粒子の大きい粒子構造を有している、請求項１乃至７のいずれか１項に記載の箔接続体。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月14日(2010.4.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対話型表示装置を含むタッチスクリーン装置を備えるコンピューティング・システムにおいて、前記タッチスクリーン装置のユーザから受け取った入力に応答して動作を実施するためのコンピュータ実施方法であって、
タッチスクリーン装置のユーザから、複数且つ同時のタッチスクリーン・コンタクトを含む入力を受け取るステップと、
前記入力を処理するステップであって、前記複数且つ同時のタッチスクリーン・コンタクトの属性を識別すること及び前記入力に応答して実施される動作を識別することを含むステップと、
前記入力が前記動作に対応するよう予め設定されるならば、前記入力に応答して、コンピューティング・システム上でアクセス可能性切り換え援助動作を実施するステップと、
を備える方法。
【請求項２】
対話型表示装置上のタッチ・ポインタ・ウィジェットが、前記アクセス可能性切り換え援助動作に応答して切り換えられる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記複数且つ同時のタッチスクリーン・コンタクトの属性が、前記タッチスクリーン装置に２本の指が接触することを示す、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記２本の指がユーザの手の人差し指と中指である、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記コンピューティング・システムが、アクセス可能性切り換え援助動作と、２本の指による前記タッチスクリーン装置との接触を示す複数且つ同時のタッチスクリーン・コンタクトの属性に対応する入力との間をマッピングするよう予め設定される、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記コンピューティング・システムがタブレットである、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
対話型表示装置を含むタッチスクリーン装置を備えるコンピューティング・システムにおいて、前記タッチスクリーン装置のユーザから受け取ったジェスチャに応答して動作を実施するためのコンピュータ実施方法であって、
タッチスクリーン装置のユーザから、所定のパターンに沿って変化する複数且つ同時のタッチスクリーン・コンタクトを含むジェスチャを受け取るステップと、
前記ジェスチャを処理するステップであって、前記複数且つ同時のタッチスクリーン・コンタクトの属性を識別すること及び前記ジェスチャに応答して実施される動作を識別することを含むステップと、
前記ジェスチャが前記動作に対応するよう予め設定されるならば、前記ジェスチャに応答して、コンピュータ・システム上でスクリーン回転動作を実施するステップと、
を備える方法。
【請求項８】
前記複数且つ同時のタッチスクリーン・コンタクトの属性が、前記タッチスクリーン装置に少なくとも１本の指と親指とが接触することを示す、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記複数且つ同時のタッチスクリーン・コンタクトの属性が、前記タッチスクリーン装置に４本の指と親指とが接触することを示す、請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
前記所定のパターンが、前記タッチスクリーン装置の面に沿う半円形の経路における前記複数且つ同時のタッチスクリーン・コンタクトの位置の変化である、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記所定のパターンが、前記タッチスクリーン装置の面に沿う半円形の経路における前記複数且つ同時のタッチスクリーン・コンタクトの位置の変化である、請求項７に記載の方法。
【請求項１２】
前記対話型表示装置上に表示された全部の可視オブジェクトが、前記スクリーン回転動作に応答して所定の角度だけ回転される、請求項７に記載の方法。
【請求項１３】
前記コンピューティング・システムがタブレットである、請求項７に記載の方法。
【請求項１４】
対話型表示装置を有するタッチスクリーン装置とコンピュータ読み取り可能媒体とを備えるコンピューティング・システムにおいて用いるためのコンピュータ読み取り可能媒体であって、
タッチスクリーン装置のユーザから、所定のパターンに沿って変化する複数且つ同時のタッチスクリーン・コンタクトを含むジェスチャを受け取るステップと、
前記ジェスチャを処理するステップであって、前記複数且つ同時のタッチスクリーン・コンタクトの属性を識別すること及び前記ジェスチャに応答して実施される動作を識別することを含むステップと、
前記ジェスチャが前記動作に対応するよう予め設定されるならば、前記ジェスチャに応答して、コンピュータ・システム上でスクリーン回転動作を実施するステップと、
を実施するためのコンピュータ実行可能命令を記憶するコンピュータ読み取り可能媒体。
【請求項１５】
前記複数且つ同時のタッチスクリーン・コンタクトの属性が、前記タッチスクリーン装置に少なくとも１本の指と親指とが接触することを示す、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記複数且つ同時のタッチスクリーン・コンタクトの属性が、前記タッチスクリーン装置に４本の指と親指とが接触することを示す、請求項１４に記載の方法。
【請求項１７】
前記所定のパターンが、前記タッチスクリーン装置の面に沿う半円形の経路における前記複数且つ同時のタッチスクリーン・コンタクトの位置の変化である、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記所定のパターンが、前記タッチスクリーン装置の面に沿う半円形の経路における前記複数且つ同時のタッチスクリーン・コンタクトの位置の変化である、請求項１４に記載の方法。
【請求項１９】
前記対話型表示装置上に表示された全部の可視オブジェクトが、前記スクリーン回転動作に応答して所定の角度だけ回転される、請求項１４に記載の方法。
【請求項２０】
前記コンピューティング・システムがタブレットである、請求項１４に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】
2009537051.tif 000001