【手続補正書】
【提出日】平成22年7月16日(2010.7.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属表面不動態化用の酸性製剤であって、ｐＨ≦５であり、リン酸基及び／又はホスホン酸基を含有する水溶性又は水分散性のコポリマーの少なくとも１種を、製剤の全成分の量に対して０．１〜５０質量％の量で含み、該コポリマーが以下の単量体単位：  
（Ａ）５〜８０質量％の少なくとも１種の、一般式Ｈ２Ｃ＝ＣＨＲ１−ＣＯＯＲ２のモノ（メタ）アクリル酸エステルであり、式中、Ｒ１がＨまたはメチルで、Ｒ２が以下の基：
（Ｒ２ａ）一般式−（Ｒ３−Ｏ−）ｎ−Ｒ４の基で、ｎが２〜４０の自然数であり、Ｒ３が独立してそれぞれ、２価の直鎖又は分岐鎖の炭素数が２〜４であるアルキル基であり、Ｒ４がＨまたは直鎖又は分岐鎖の炭素数が１〜６であるアルキル基であるもの、
（Ｒ２ｂ）一般式−Ｒ５−Ｘｍの基で、Ｒ５が（ｍ＋１）価の直鎖又は分岐鎖の炭素数が１〜１０のアルキル基であり、Ｘが−ＯＨ、−ＯＲ６、−ＮＨ２、−ＮＨＲ６、−ＮＲ２６、−Ｎ＋ＨＲ２Ｙ−または−Ｎ＋Ｒ３Ｙ−からなる群より選ばれる官能基であり、Ｒ６がメチルまたはエチルであり、Ｙが１価のアニオンであり、ｍが１〜６の自然数であり、Ｒ５中には炭素原子当たりの官能基Ｘの数が１以下であるもの、
（Ｒ２ｃ）単糖基またはオリゴ糖基、から選ばれる基であるもの；
（Ｂ）１０〜７５質量％の、リン酸基及び／又はホスホン酸基及び／又はその塩及び／又はエステルを含有する少なくとも１種のモノエチレン性不飽和モノマー；
（Ｃ）５〜７０質量％の、少なくとも１個のＣＯＯＨ基及び／又はその塩を含有する少なくとも１種のモノエチレン性不飽和モノマー；及び
（Ｄ）０〜３０質量％の、モノマー（Ａ）〜（Ｃ）とは異なる他のエチレン性不飽和モノマー（ここで、モノマー（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び必要に応じて（Ｄ）以外に他のモノマーは存在しない）；からなることを特徴とする製剤。
【請求項２】
Ｒ２が、−ＣＨ２−ＣＨ２−ＯＨ、−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−ＯＨ、−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−ＯＨ、−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ３、−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−ＯＨまたは−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−ＯＨからなる群より選ばれる少なくとも１種の基である請求項１に記載の製剤。
【請求項３】
モノマー（Ｂ）がビニルホスホン酸である請求項１又は２に記載の製剤。
【請求項４】
モノマー（Ｃ）が（メタ）アクリル酸である請求項１〜３のいずれか一項に記載の製剤。
【請求項５】
さらに少なくとも１種の分散したワックスを含む請求項１〜４のいずれか一項に記載の製剤。
【請求項６】
さらに、Ｚｎ２＋、Ｃａ２＋、Ｍｇ２＋、およびＡｌ３＋からなる群より選ばれる少なくとも１種の金属イオンを含む請求項１〜４のいずれか一項に記載の製剤。
【請求項７】
前記酸が、Ｈ３ＰＯ４、ＨＮＯ３またはメタンスルホン酸からなる群より選ばれる少なくとも１種の酸である請求項１〜４のいずれか一項に記載の製剤。
【請求項８】
Ｚｎ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｆｅ、Ｎｉまたはその合金を含む金属表面を酸性の水性製剤で処理する金属表面の不動態化方法であって、当該処理に請求項１〜７のいずれか一項に記載の製剤を用いることを特徴とする方法。
【請求項９】
前記金属表面が、電気亜鉛メッキまたは溶融亜鉛メッキのスチール製の金属帯の表面であり、前記処理を連続的なプロセスで実施する請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
クロムフリープロセスである請求項８又は９に記載の方法。
【請求項１１】
前記不動態化層の厚みが０．０１〜３μｍである請求項７〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
リン酸基及び／又はホスホン酸基を含有する水溶性又は水分散性のコポリマーであって、以下の単量体単位：
（Ａ）５〜８０質量％の少なくとも１種の、一般式Ｈ２Ｃ＝ＣＨＲ１−ＣＯＯＲ２のモノ（メタ）アクリル酸エステルであり、式中、Ｒ１がＨまたはメチルで、Ｒ２が次の基：
（Ｒ２ａ）一般式−（Ｒ３−Ｏ−）ｎ−Ｒ４の基で、ｎが２〜４０の自然数であり、Ｒ３が独立してそれぞれ、２価の直鎖又は分岐鎖の炭素数が２〜４であるアルキル基であり、Ｒ４がＨまたは直鎖又は分岐鎖の炭素数が１〜６であるアルキル基であるもの、
（Ｒ２ｂ）一般式−Ｒ５−Ｘｍの基で、Ｒ５が（ｍ＋１）価の直鎖又は分岐鎖の炭素数が１〜１０のアルキル基であり、Ｘが−ＯＨ、−ＯＲ６、−ＮＨ２、−ＮＨＲ６、−ＮＲ２６、−Ｎ＋ＨＲ２Ｙ−または−Ｎ＋Ｒ３Ｙ−からなる群より選ばれる官能基であり、Ｒ６がメチルまたはエチルであり、Ｙが１価のアニオンであり、ｍが１〜６の自然数であり、Ｒ５中には炭素原子当たりの官能基Ｘの数が１以下である、
（Ｒ２ｃ）単糖基またはオリゴ糖基、から選ばれる基である；
（Ｂ）１０〜７５質量％の、リン酸基及び／又はホスホン酸基及び／又はその塩及び／又はエステルを含有する少なくとも１種のモノエチレン性不飽和モノマー；
（Ｃ）５〜７０質量％の、少なくとも１個のＣＯＯＨ基及び／又はその塩を含有する少なくとも１種のモノエチレン性不飽和モノマー；及び
（Ｄ）０〜３０質量％の、モノマー（Ａ）〜（Ｃ）とは異なる他のエチレン性不飽和モノマー（ここで、モノマー（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び必要に応じて（Ｄ）以外に他のモノマーは存在しない）；からなることを特徴とするコポリマー。
【請求項１３】
Ｒ２が、−ＣＨ２−ＣＨ２−ＯＨ、−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−ＯＨ、−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−ＯＨ、−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ３、−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−ＯＨまたは−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−ＯＨからなる群より選ばれる少なくとも１種の基である請求項１２に記載のコポリマー。
【請求項１４】
モノマー（Ｂ）がビニルホスホン酸である請求項１２又は１３に記載のコポリマー。
【請求項１５】
モノマー（Ｃ）が（メタ）アクリル酸である請求項１２〜１４のいずれか一項に記載のコポリマー。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
本発明者らの検討の結果、金属表面不動態化用の酸性製剤であって、ｐＨ≦５であり、リン酸基及び／又はホスホン酸基を含有する水溶性または水分散性のコポリマーの少なくとも１種を、製剤の全成分の量に対して０．１〜５０質量％の量で含み、該コポリマーが以下の単量体単位： 
（Ａ）５〜８０質量％の少なくとも１種の、一般式Ｈ2Ｃ＝ＣＨＲ1−ＣＯＯＲ2のモノ（メタ）アクリル酸エステルであり、式中、Ｒ1がＨまたはメチルで、Ｒ2が以下の基： 
（Ｒ２ａ）一般式−（Ｒ３−Ｏ−）ｎ−Ｒ４の基で、ｎが２〜４０の自然数であり、Ｒ3が独立してそれぞれ２価の直鎖又は分岐鎖の炭素数が２〜４であるアルキル基であり、Ｒ４がＨまたは直鎖又は分岐鎖の炭素数が１〜６であるアルキル基であるもの、
（Ｒ２ｂ）一般式−Ｒ５−Ｘｍの基で、Ｒ５が（ｍ＋１）価の直鎖又は分岐鎖の炭素数が１〜１０のアルキル基であり、Ｘが−ＯＨ、−ＯＲ６、−ＮＨ２、−ＮＨＲ６、−ＮＲ２６、−Ｎ＋；ＨＲ２Ｙ−または−Ｎ＋Ｒ３Ｙ−からなる群より選ばれる官能基であり、Ｒ６がメチルまたはエチルであり、Ｙが１価のアニオンであり、ｍが１〜６の自然数であり、Ｒ５中には炭素原子当たりの官能基Ｘの数が１以下であるもの、
（Ｒ２ｃ）単糖基またはオリゴ糖基、から選ばれる基であるもの；
（Ｂ）１０〜７５質量％の、リン酸基及び／又はホスホン酸基及び／又はその塩及び／又はエステルを含有する、少なくとも１種のモノエチレン性不飽和モノマー；
（Ｃ）５〜７０質量％の少なくとも１種のＣＯＯＨ基及び／又はその塩を含有する少なくとも１種のモノエチレン性不飽和モノマー；及び
（Ｄ）０〜３０質量％の、モノマー（Ａ）〜（Ｃ）とは異なる他のエチレン性不飽和モノマー；（ここで、モノマー（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び必要に応じて（Ｄ）以外に他のモノマーは存在しない）からなることを特徴とする製剤が見出された。