【事件の表示】
　特願２０１５−５１０７１７「電子ビームを生成するための方法および装置」拒絶査定不服審判事件〔平成２５年１１月１４日国際公開、ＷＯ２０１３／１６７３９１、平成２７年　９月　３日国内公表、特表２０１５−５２５４２８〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　平成２５年　４月２５日　国際特許出願（パリ条約による優先権主張２０
　　　　　　　　　　　　　１２年５月９日、２０１３年３月１４日、何れ
　　　　　　　　　　　　　も米国）
　平成２９年　２月　９日　拒絶理由通知（同年２月１４日発送）
　平成２９年　４月２５日　意見書・手続補正書
　平成２９年　９月２２日　拒絶査定（同年１０月３日送達）
　平成３０年　１月１８日　本件審判請求・手続補正書
　
第２　平成３０年１月１８日付け手続補正についての補正却下の決定
　
［補正却下の決定の結論］
　平成３０年１月１８日付け手続補正（以下「本件補正」という。）を却下する。
　
［理由］
１　補正の概略
　本件補正は、補正前の特許請求の範囲の請求項１に、
　
「　プラズマ電子源装置であって、
　その中でプラズマが生成される陰極放電チャンバと、
　前記陰極放電チャンバ内に提供された出口穴であって、前記出口穴から、前記陰極放電チャンバと陽極との間に提供された加速場によって前記プラズマからの電子が抽出される、出口穴と、
　少なくとも一つのプラズマ閉じ込めデバイスと、
　前記プラズマからの電子抽出を可能にする第一の値と前記プラズマからの電子抽出を防止する第二の値との間で、前記少なくとも一つのプラズマ閉じ込めデバイスをスイッチングするためのスイッチング機構と、
　電子ビームを成形、走査および／または集束するためのビーム成形オプティクスであって、前記ビーム成形オプティクスが前記陽極の下流に配置される、ビーム成形オプティクスと、
を含む、装置。」　
　
とあるものを、
　
「　プラズマ電子源装置であって、
　その中でプラズマが生成される陰極放電チャンバと、
　前記陰極放電チャンバ内に提供された出口穴であって、前記出口穴から、前記陰極放電チャンバと陽極との間に提供された加速場によって前記プラズマからの電子が抽出される、出口穴と、
　少なくとも一つのプラズマ閉じ込めデバイスと、
　前記プラズマからの電子抽出を可能にする第一の値と前記プラズマからの電子抽出を防止する第二の値との間で、前記少なくとも一つのプラズマ閉じ込めデバイスをスイッチングするためのスイッチング機構と、
　電子ビームを成形、走査およ
び集
を含む、装置。」（当審注：下線は、請求人が補正箇所に付した下線である。以下「本願補正発明」という。）　
　
とする補正を含むものである。
　上記補正は、補正前に「電子ビームを成形、走査および／または集束する」と択一的に特定されているものを、「電子ビームを成形、走査およ
び集
　
２　引用する刊行物と引用発明
（１）原査定の拒絶の理由に引用された米国特許出願公開第２０１１／００８００９３号明細書（以下「引用例」という。）には、以下の記載がある。（注：訳は当審によるものである。）
ア　「What is claimed is:
1 . An apparatus for controlling a flow of electrons within a plasma, comprising:
 a cathode operatively connected to a plasma;
 a first anode configured to receive a flow of electrons from the plasma;
 a voltage source operatively connected to both the cathode and the first anode; and
 a second anode configured to receive a flow of electrons from the plasma, the second anode being operatively connected to the plasma and operatively connected to the voltage source via a switch between the second anode and the first anode;
 wherein when the switch is open when the voltage is applied, the electrons from the plasma discharge flow to the first anode; and
 wherein when the switch is closed when the voltage is applied, the electrons from the plasma discharge flow to the second anode. 」
（特許請求の範囲
１．
プラズマ内の電子の流れを制御するための装置であって、
　
プラズマに動作可能に接続されたカソードと
　
前記プラズマから電子の流れを受けるように構成された第１のアノードと、
　
前記カソードと前記第１のアノードの両方に動作可能に接続された電圧源と、
　
前記プラズマからの電子の流れを受け取るように構成された第２のアノードであって、前記第２のアノードは、前記プラズマから動作可能に接続され、そして前記第２のアノードと前記第１のアノードとの間のスイッチを介して前記電圧源に動作可能に接続され、
　
前記電圧が印加されたときに前記スイッチが開いていると、前記プラズマ放電からの電子が前記第１のアノードへ流れ、
　
電圧が印加されたときにスイッチが閉じられると、プラズマ放電からの電子が第２のアノードへ流れる。
イ　「[0041] As noted above, the present invention provides an apparatus and method for controlling the flow of electrons from a plasma source such as a hollow cathode plasma source to create a controlled, pulsed electron beam output. In accordance with the present invention, an additional anode, referred to herein as a #control anode,# is placed within a plasma source.
[0042] An exemplary configuration of such an apparatus in accordance with the present invention is illustrated in  FIG. 3 .
[0043] Thus, as shown in  FIG. 3 , an apparatus for controlling the electron flow within a plasma source can include a control anode  312  situated within a plasma  302  and connected to voltage source  303  by means of a switch  313  between the control anode  312  and acceleration anode  305 . In the exemplary configuration shown in  FIG. 3 , the plasma  302  fills the interior of the hollow cavity cathode  301  such as that described above with respect to  FIG. 1 , but one skilled in the art would recognize that other embodiments are possible, and such other embodiments are also within the scope of the present disclosure.
[0044] In accordance with the present invention, the electron flow within the plasma  302  can be controlled by electrically connecting or disconnecting the control anode  312  to the acceleration anode  305  via switch  313 . In an exemplary embodiment such as that illustrated in  FIG. 3 , control anode  312  can be a small wire loop located at the back side of the cathode opposite the exit orifice  304  which has an exposed surface area AC that is approximately the same as the effective surface area  306  of acceleration anode  305  such that the criterion for formation of an electron sheath at the control anode is satisfied, i.e.,
[0045] In the same manner as described above with respect to the plasma-filled hollow cathode shown in  FIG. 1 , when a neutral gas flows through the hollow cathode  301  and a negative DC voltage  303  is applied across the cathode and anode, a plasma  302  is produced within cathode  301 . When switch  313  is open, control anode  312  is electrically isolated and floats close to the plasma potential. This state is essentially identical to the case described above with respect to  FIG. 1  where the control anode is absent; i.e., the positive ions flow to the walls of the cathode  301  and the electrons flow out of exit orifice  304  to the acceleration anode  305  where they are then accelerated across acceleration gap  309  by applying a potential difference  307  between acceleration anode  305  and electrode  308  to form an electron beam.
[0046] However, when switch  313  is closed, control anode  312  is at the same potential as acceleration anode  305 . In such a case, the two anodes do not share the discharge current; instead, the discharge current is routed entirely through the electron sheath formed at control anode  312 . Since the discharge current is carried by electrons at the anode and ions at the cathode in a hollow cathode plasma discharge with the appropriate ratio of cathode surface area to effective anode surface area, control anode  312  is now collecting all of the electrons leaving the hollow cathode plasma  302 . Consequently, when switch  313  is closed, the flow of electrons from the plasma is diverted entirely to control anode  312 , with no electrons flowing out of exit orifice  304  to acceleration anode  305 . The absence of electron flow to acceleration anode  305  when the switch is closed means that the beam has been turned off. Thus, in accordance with the present invention, the flow of the electrons from the plasma source can be controlled to produce a pulsed electron beam simply by opening or closing the switch  313 .」
（[0041]　上述のように、本発明は、制御されたパルス電子ビーム出力を生成するために、ホローカソードプラズマ源などのプラズマ源からの電子の流れを制御するための装置および方法を提供する。本発明によれば、本明細書では「
制御アノード
プラズマ源内に配置され
[0042]　本発明によるこのような装置の例示的な構成が図３に示されている。
[0043]　このように、図３に示すように、プラズマ源内の電子流を制御する装置は、プラズマ３０２内に位置し、制御アノード３１２と加速アノード３０５との間のスイッチ３１３によって電圧源３０３に接続された制御アノード３１２を含むことができる。図３に示される例示的な構成において、図１に関して上述したように、プラズマ３０２は、ホロー空洞カソード３０１の内部を満たすが、しかし、当業者は、他の実施形態が可能であり、このような他の実施形態も本開示の範囲内にあることを認識するであろう。
[0044]　本発明によれば、プラズマ３０２内の電子の流れは、制御アノード３１２をスイッチ３１３を介して加速アノード３０５に電気的に接続または切断することによって制御することができる。図３に示されるような例示的な実施形態において、制御アノード３１２は、出口オリフィス３０４と反対側のカソードの裏側に位置する小さなワイヤループであってもよく、このアノードは、加速アノード３０５の有効表面領域３０６とほぼ同じ露出表面積ＡＣを有し、制御アノードにおける電子シースの形成が満足される、すなわち、
。
[0045]　図１に示すプラズマ充填型ホローカソードについて説明したのと同様にして、中性ガスが中空カソード３０１を通って流れ、負の直流電圧３０３がカソードとアノードとの間に印加されると、プラズマ３０２がカソード３０１内に生成される。
スイッチ３１３が開かれると、制御アノード３１２は電気的に絶縁され、プラズマ電位に近接して浮遊する。
陽イオンがカソード３０１の壁に流れ、電子が出口オリフィス３０４から加速アノード３０５に流入し、加速アノード３０５と電極３０８の間に電位差３０７を加えることによって加速ギャップ３０９を横切って加速される電子ビームを形成する
[0046]　しかしながら、
スイッチ３１３が閉じているとき、制御アノード３１２は加速アノード３０５と同じ電位にある
制御アノード３１２は、ホローカソードプラズマ３０２を離れるすべての電子を収集する
スイッチ３１３が閉じられると、プラズマからの電子の流れは、電子が出口オリフィス３０４から加速アノード３０５に流出することなく
スイッチ３１３を開閉するだけで、プラズマ源からの電子の流れを制御してパルス電子ビームを生成する
ウ　図３は、以下のとおりである。
（２）　引用発明の認定
ア　上記（１）アの記載によれば、
「プラズマ内の電子の流れを制御するための装置であって、
　プラズマに動作可能に接続されたカソードと、
　前記プラズマから電子の流れを受けるように構成された第１のアノードと、
　前記カソードと前記第１のアノードの両方に動作可能に接続された電圧源と、
　前記プラズマからの電子の流れを受け取るように構成された第２のアノードであって、前記第２のアノードは、前記プラズマから動作可能に接続され、そして前記第２のアノードと前記第１のアノードとの間のスイッチを介して前記電圧源に動作可能に接続され、
　前記電圧が印加されたときに前記スイッチが開いていると、前記プラズマ放電からの電子が前記第１のアノードに流れ、
　電圧が印加されたときにスイッチが閉じられると、プラズマ放電からの電子が第２のアノードに流れる、
　装置。」
が記載されている。
イ　上記（１）イの記載によれば、特許請求の範囲に記載された「第１のアノード」は実施形態に記載された「加速アノード」であり、特許請求の範囲に記載された「第２のアノード」は実施形態に記載された「制御アノード」である。
ウ　上記（１）イの記載を踏まえて図３を見ると、
（ア）制御アノード３１２はプラズマ源内に配置されること、
（イ）出口オリフィス３０４は、カソード３０１に設けられること、
（ウ）スイッチ３１３が開かれると、制御アノード３１２はプラズマ電位に近接し、陽イオンがカソード３０１の壁に流れ、電子が出口オリフィス３０４から加速アノード３０５に流入し、加速アノード３０５と電極３０８の間に電位差を加えることによって加速ギャップを横切って加速される電子ビームを形成すること、
（エ）スイッチ３１３が閉じられると、制御アノード３１２は加速アノード３０５と同じ電位にあり、制御アノード３１２は、ホローソードプラズマを離れるすべての電子を収集し、プラズマからの電子の流れは、電子が出口オリフィス３０４から加速アノード３０５に流出しないこと、
（オ）そして、スイッチ３１３を開閉するだけで、プラズマ源からの電子の流れを制御してパルス電子ビームを生成すること、
が理解できる。
エ　してみると、引用例には以下の発明が開示されている。
「プラズマ内の電子の流れを制御するための装置であって、
　プラズマに動作可能に接続されたカソードと、
　前記プラズマから電子の流れを受けるように構成された加速アノードと、
　前記カソードと前記加速アノードの両方に動作可能に接続された電圧源と、
　前記プラズマからの電子の流れを受け取るように構成された制御アノードであって、前記制御アノードは、プラズマ源内に配置され、前記プラズマから動作可能に接続され、そして前記制御アノードと前記加速アノードとの間のスイッチを介して前記電圧源に動作可能に接続され、
　スイッチが開かれると、制御アノードはプラズマ電位に近接し、陽イオンがカソードの壁に流れ、電子がカソードに設けられた出口オリフィスから加速アノードに流入し、加速アノードと電極の間に電位差を加えることによって加速ギャップを横切って加速される電子ビームを形成し、
　スイッチが閉じられると、制御アノードは加速アノードと同じ電位にあり、制御アノードは、ホローソードを離れるすべての電子を収集し、プラズマからの電子の流れは、電子が出口オリフィスから加速アノードに流出せず、
　スイッチを開閉するだけで、プラズマ源からの電子の流れを制御してパルス電子ビームを生成する、
　装置。」（以下「引用発明」という。）
３　対比
　本願補正発明と引用発明を対比する。
（１）引用発明の「プラズマ内の電子の流れを制御するための装置」は本願補正発明の「プラズマ電子源装置」に相当し、以下同様に、「プラズマに動作可能に接続されたカソード」は「プラズマが生成される陰極放電チャンバ」に、「加速アノード」は「陽極」に、「スイッチ」は「スイッチング機構」に、それぞれ相当する。
（２）引用発明の「カソードに設けられた出口オリフィス」は本願補正発明の「前記陰極放電チャンバ内に提供された出口穴」に、相当する。そして、一般に、加速アノードの電位はカソードの電位より高い電位に設定されるから、カソードと加速アノードとの間に電子が加速される電場が形成される。してみると、引用発明において「プラズマに動作可能に接続されたカソード」「に設けられた出口オリフィスから」「電子が」「加速アノードに流入」することは、本願補正発明において「前記出口穴から、前記陰極放電チャンバと陽極との間に提供された加速場によって前記プラズマからの電子が抽出される」ことに相当する。
（３）本願補正発明の「プラズマ閉じ込めデバイス」の技術的意味について検討する。本願の請求項１を引用する請求項１５に係る発明は、「前記プラズマ閉じ込めデバイスが少なくとも一つの電子ビーム制御板であり、…」と特定している。してみると、本願補正発明の「プラズマ閉じ込めデバイス」は、「電子ビーム制御板」であってよいものと解される。
　一方、引用発明の「制御アノード」は、「プラズマ源内に配置され」、「電圧源に動作可能に接続」する「スイッチ」「を開閉するだけで、プラズマ源からの電子の流れを制御してパルス電子ビームを生成」する。
　してみると、引用発明の「制御アノード」は、電子ビームを制御する部材であるから、引用発明の「制御アノード」は本願補正発明の「プラズマ閉じ込めデバイス」に相当する。
　そして、引用発明のスイッチが「開かれると、制御アノードはプラズマ電位に近接し」、「電子が出口オリフィスから加速アノードに流入」し、「スイッチが閉じられると、制御アノードは加速アノードと同じ電位にあり」、「プラズマからの電子の流れは、電子が出口オリフィスから加速アノードに流出」しないことは、本願補正発明の、「スイッチング機構」が「前記プラズマからの電子抽出を可能にする第一の値と前記プラズマからの電子抽出を防止する第二の値との間で、前記少なくとも一つのプラズマ閉じ込めデバイスをスイッチングする」ことに相当する。
（４）以上によれば、本願補正発明と引用発明は、
「プラズマ電子源装置であって、
　その中でプラズマが生成される陰極放電チャンバと、
　前記陰極放電チャンバ内に提供された出口穴であって、前記出口穴から、前記陰極放電チャンバと陽極との間に提供された加速場によって前記プラズマからの電子が抽出される、出口穴と、
　少なくとも一つのプラズマ閉じ込めデバイスと、
　前記プラズマからの電子抽出を可能にする第一の値と前記プラズマからの電子抽出を防止する第二の値との間で、前記少なくとも一つのプラズマ閉じ込めデバイスをスイッチングするためのスイッチング機構と、
を含む、装置。」
の点で一致し、以下の点で相違する。
相違点：本願補正発明は、「電子ビームを成形、走査および集束するためのビーム成形オプティクスであって、前記ビーム成形オプティクスが前記陽極の下流に配置される、ビーム成形オプティクス」を備えるのに対し、引用発明は、そのような特定を有していない点。
４　判断
　以下、上記相違点について検討する。　
　電子ビームを生成する装置は、処理装置、加工装置、溶接装置、加熱装置、露光装置など種々の用途に使用されるところ、用途に応じて電子ビームの断面形状を成形したり、集束、走査することは、周知の技術事項である（例えば、日本学術振興会第１３２委員会編　電子・イオンビームハンドブック（第２版）S63.1.30第２版第２刷発行　日刊工業新聞社　p383-p388　「１１・１　電子ビーム加工の特徴」の「１１・１・３　ビーム制御系」には、「ビーム制御系は、ビームのブランキング、軸合わせ、
集束、偏向
偏向によっても初期の状態のまま保持する
電子ビーム１０は
第１の集束レンズ２により集束され
アパーチャ５ａを通過する。これにより、電子ビーム１０には第１段階での成形が施される
第１の偏向器７により偏向された後、第２の集束レンズ３によって集束される
　してみると、パルス電子ビームを生成している引用発明の装置において、上記周知の技術事項を採用し、生成した電子ビームを成形したり、集束、走査する手段を付加し、上記相違点に係る本願補正発明の発明特定事項となすことは、当業者が容易に想到し得たことと認められる。
　そして、本願補正発明が奏する作用効果は、引用発明と上記周知の技術手段に基づいて当業者が容易に予測しうる程度のものであり、格別顕著なものとは認められない。
５　本件補正についてのむすび
　以上のとおり、本願補正発明は、引用発明と周知の技術事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により独立して特許を受けることができないものである。
　よって、本件補正は、特許法第１７条の２第６項において準用する同法第１２６条第７項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項の規定において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
第３　本願発明について
１　本願発明
　本件補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明は、平成２９年４月２５日付け手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される、以下のとおりのものである。
「　プラズマ電子源装置であって、
　その中でプラズマが生成される陰極放電チャンバと、
　前記陰極放電チャンバ内に提供された出口穴であって、前記出口穴から、前記陰極放電チャンバと陽極との間に提供された加速場によって前記プラズマからの電子が抽出される、出口穴と、
　少なくとも一つのプラズマ閉じ込めデバイスと、
　前記プラズマからの電子抽出を可能にする第一の値と前記プラズマからの電子抽出を防止する第二の値との間で、前記少なくとも一つのプラズマ閉じ込めデバイスをスイッチングするためのスイッチング機構と、
　電子ビームを成形、走査および／または集束するためのビーム成形オプティクスであって、前記ビーム成形オプティクスが前記陽極の下流に配置される、ビーム成形オプティクスと、
を含む、装置。」（以下「本願発明」という。）
　
２　引用する刊行物と引用発明
　原査定の拒絶の理由に引用された刊行物、その記載事項、及び引用発明は、前記「第２　２」に記載したとおりである。
　
３　対比・判断
　本願発明は、上記「第２」で検討した本願補正発明から、「ビーム成形オプティクス」に関し、「電子ビームを成形、走査およ
び集
　そうすると、本願発明を減縮する本願補正発明が、前記「第２　４」に記載したとおり引用発明と周知の技術事項に基いて当業者が容易に発明をするとができたものであるから、本願発明も同様の理由により、引用発明と周知の技術事項）に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである（周知の技術事項であることを示す文献は、上記「第２　４」で示した文献とともに、原査定で引用された、特開２００３−１４９３９９号公報（【０００１】、【００１９】−【００２８】、図１）、特開昭６３−２００４４２号公報（２頁左上４行〜同頁左下６行、第２図）、特公昭４９−０２８７１８号公報（２頁３欄２７行〜４欄１５行、第２図）が挙げられる。）。
　
４．むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用発明と周知の技術事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものである。
　よって、結論のとおり審決する。