【誤訳訂正書】
【提出日】平成22年8月18日(2010.8.18)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の内部の流路内にプラグを作製する方法であって、
前記方法は、
前記基板の第１流路に搬送流体を導入するステップと、
前記搬送流体に対して非混和性の少なくとも２つの異なるプラグ流体を同時に、前記第１流路と流体連通する第２流路に導入するステップであって、第１プラグ流体は、反応のための第１試薬を含み、第２プラグ流体は、反応のための第２試薬を含み、前記少なくとも２つの異なるプラグ流体の各々は、前記第２流路と流体連通する少なくとも２つの別個の入口から前記第２流路に導入され、前記プラグ流体は、前記第１流路に到達する前に、前記第２流路における平行な層内を流れ、前記プラグ流体のうちの少なくとも１つは、前記搬送流体との界面を形成する、ステップと、
前記第２流路の前記プラグ流体の前記平行な層を前記第１流路に導入するステップであって、導入すると、前記第１流路の断面と実質的に同じサイズの断面を有するプラグが、前記搬送流体内で前記第１流路に形成され、前記プラグは、前記第１試薬および前記第２試薬の反応が実質的に前記プラグ内で起こるように、前記プラグ流体の混合物を含む、ステップと
を含む、方法。
【請求項２】
前記搬送流体は、油を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記搬送流体は、フッ素化物を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記フッ素化物は、パーフルオロデカリンまたはパーフルオパーハイドロフェナントレンである、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記搬送流体は、少なくとも１つの界面活性剤を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記プラグ流体のうちの少なくとも１つは、試薬および溶媒を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記プラグ流体のうちの少なくとも１つは、溶媒および界面活性剤を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記第２流路の前記プラグ流体の前記平行な層を前記第１流路に導入することにより、前記第１流路の断面と実質的に同じサイズの断面を有する複数のプラグを形成するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記第１プラグ流体および前記第２プラグ流体の相対的な体積流量を調節することにより、前記複数のプラグ内の前記第１プラグ流体および前記第２プラグ流体の相対的な濃度を調節することをさらに含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記プラグは、前記界面の前記キャピラリー数が０．２以下のときに形成される、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記プラグ流体の反応は、前記プラグの内部に不溶性反応生成物を形成する、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記プラグ流体の反応は、前記プラグの内部に可溶性反応生成物を形成する、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記プラグ流体は、単一の第２流路を通って前記第１流路に導入される、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
前記プラグ流体は、２つ以上の入口を通って前記第１流路に導入される、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
前記プラグ内における前記プラグ流体の混合を加速するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１６】
前記混合は、流路の形状を修正することによって加速される、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記流路は、１つ以上の屈曲、および直線部またはそれらの組み合わせを含む、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記混合は、前記プラグ流体または前記搬送流体のうちの少なくとも一方の組成を変化することにより加速される、請求項１５に記載の方法。
【請求項１９】
前記混合は、前記プラグ流体または前記搬送流体のうちの少なくとも一方の粘度を変化することにより加速される、請求項１５に記載の方法。
【請求項２０】
前記混合は、前記流路の壁のパターンを変化することにより加速される、請求項１５に記載の方法。
【請求項２１】
前記混合は、前記第１流路または分岐流路の少なくとも一部分の親水特性を変化することにより加速される、請求項１５に記載の方法。
【請求項２２】
前記混合は、前記第１流路または分岐流路の少なくとも一部分の電荷を変化することにより加速される、請求項１５に記載の方法。
【請求項２３】
前記プラグを、前記プラグが形成される前記第１流路内の領域の下流にある第２プラグと融合するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項２４】
前記プラグが形成される前記第１流路内の領域の下流にある２つ以上の部分へと少なくとも１つのプラグを分裂させるステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項２５】
前記プラグの第１部分のみが開口を通して第３流路に流れるように、少なくとも１つのプラグを２つ以上の部分へと分裂させることをさらに含み、前記第３流路は、前記プラグが形成されているところの下流にある、請求項１に記載の方法。
【請求項２６】
前記第１流路の断面寸法は、前記第３流路の断面寸法と異なる、請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
前記第１流路の断面寸法は、前記第３流路の断面寸法とほぼ等しい、請求項２５に記載の方法。
【請求項２８】
前記第１流路内の圧力は、前記第３流路の圧力と異なる、請求項２５に記載の方法。
【請求項２９】
前記第１流路および前記第３流路の接合部に、または前記接合部の付近にくびれが存在する、請求項２５に記載の方法。
【請求項３０】
前記搬送流体から前記プラグを分離することをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３１】
前記プラグが形成される前記第１流路内の領域の下流の前記プラグの存在を検出することをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３２】
前記反応の生成物を検出することをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３３】
前記反応をモニタリングすることをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３４】
前記反応の反応速度をモニタリングすることをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３５】
前記モニタリングすることは、前記プラグの少なくとも１つの光学特性を測定することを含む、請求項３３に記載の方法。
【請求項３６】
前記搬送流体および前記プラグ流体の屈折率は、実質的に等しい、請求項１に記載の方法。
【請求項３７】
前記モニタリングは、前記基板の流路に沿った１つ以上の位置において行われる、請求項３３に記載の方法。
【請求項３８】
複数個の基板を並行して用いることをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３９】
前記流体の流れを一定期間停止することをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４０】
前記反応は、重合反応である、請求項１に記載の方法。
【請求項４１】
前記プラグの少なくとも一部に結晶が形成される、請求項８に記載の方法。
【請求項４２】
前記不溶性反応生成物は、ナノ粒子である、請求項１１に記載の方法。
【請求項４３】
前記結晶は、タンパク質、ＤＮＡ、ＲＮＡ、病原体、薬剤、薬剤同質異像または小型分子のうちの２つ以上のものの複合体を含む、請求項４１に記載の方法。
【請求項４４】
前記結晶は、タンパク質、ＤＮＡ、ＲＮＡ、病原体、薬剤、薬剤同質異像または小型分子のうちの２つ以上のものの複合体である、請求項４１に記載の方法。
【請求項４５】
前記第１プラグ流体は、タンパク質を含み、前記第２プラグ流体は、沈殿剤を含む、請求項４１に記載の方法。
【請求項４６】
前記第１プラグ流体と前記第２プラグ流体との間の界面を作製することをさらに含む、請求項４５に記載の方法。
【請求項４７】
前記界面は、前記第１流路の長さにわたって実質的に維持される、請求項４５に記載の方法。
【請求項４８】
前記プラグを蒸発することをさらに含む、請求項４１に記載の方法。
【請求項４９】
前記流体の流れを一定期間停止することをさらに含む、請求項４１に記載の方法。
【請求項５０】
前記反応により不安定中間体が生じる、請求項１に記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００２】
一般的にマイクロフルイディック・システムは、流体を流路経由でポンプによりくみ出す手段を必要とする。最も一般的な方法として、圧力駆動によるものと、電気浸透流(EOF)駆動によるものとの2種類が挙げられる。EOF駆動による流れの魅力は、複雑なネットワーク（網状組織）においてでさえも容易に制御できるというところにある。EOF駆動による流れは平坦なプラグ状の速度プロフィールを持つ。すなわち、流体速度は壁付近および流路中央において同じであることを示す。したがって、少量の複数検体が流路に連続注入される場合、これらのプラグは重複せずに(低度の分散で)輸送される。この場合、分散のほとんどはプラグ間の拡散から帰する。EOFの主な欠点は、流路壁の荷電表面部二重層の動きにより生じるため、荷電不純物による表面異物に大いに影響を受けやすいということである。DNAが一律に負の電荷をもち壁に吸着しないので、DNA分析・操作において、負の電荷をもつ面にある流路を使う場合には問題ないかもしれない。しかしながら、電荷を頻繁に伴い、荷電表面に吸着する傾向をもつタンパク質に関係する場合の用途において、これは大きな妨げとなりえる。さらに、大抵の場合、高電圧を伴うものは望まれず、なお、ポータブルアナライザーのような高電圧源を利用できない場合がある。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０３５２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０３５２】
結晶構造または回折特性を判断するために、結晶をX線ビームに露出する(スクリーニングモード)。例としてPDMS層。