【手続補正書】
【提出日】平成22年3月15日(2010.3.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式1の化合物：
[(O3/2)SiCH2CH2SX]a[Si(O4/2)]b[Si(O3/2V)]c
（式中、Xは
CH2A；
[CH2CH2NR1]pR2；
CHCOX1CH2COX2；
(CH2)eCOY[CO(CH2)eSCH2CH2Si(O3/2)]m[CO(CH2)eSH]n
から選択され、
かつAは、下記式
CHNR1R2COX3
（式中、R1及びR2は、水素、C1-6アルキル基、C1-6アシル基及びアルキル基の炭素数が１〜２２であるアルキルアリール基から独立に選択され；
X3はOR、NR1R2、アミノ酸及びタンパク質から選択され；
Rは水素、金属イオン、C1-6アルキル基から選択される）
のアミノ酸の残基又は前記式のアミノ酸の誘導体若しくは塩であり；
eは1又は2であり；
pは1〜100であり；
X1及びX2は、OR及びNR1R2から独立に選択され；
Yは、z個のヒドロキシル基を有するポリオール成分であり（ここで、z個以下のヒドロキシル基が脱プロトンされ、m及びnは、m+n+1がz以下であるように独立にz未満であり、かつ該ポリオールのm+n+1個のヒドロキシル基が脱プロトンされている）；
Vは、任意に置換されていてもよく、かつC1-6-アルキル基、C2-6-アルケニル基、アリール基、アルキル基の炭素数が１〜２２であるアルキルアリールスルフィド基、アミン及びポリアルキルアミンから選択される基であり；
該シリケート酸素原子の自由原子価は、1つ以上の下記基：
式1の他の基のケイ素原子、水素、線形若しくは分岐C1-6-アルキル基、末端基R33M1O1/2、架橋リンカーによって、
又は鎖R3qM1(OR4)gOk/2若しくはAl(OR4)3-hOh/2若しくはR3Al(OR4)2-rOr/2
（ここで、
M1はSiであり；
R3及びR4は、線形若しくは分岐C1-6アルキル基、アリール基及びアルキル基の炭素数が１〜２２であるアルキルアリール
基から独立に選択され；
g+k+q=4であるように、kは1〜3の整数であり、qは1〜2の整数であり、かつmは0〜2の整数であり；
hは1〜3の整数であり；かつ
rは1〜2の整数である）
によって飽和しており；
a、b及びcは、比a:bが0.00001〜100000であり、aとbが常に0より大きく、及びcが0より大きい場合、cのa+bに対する比が0.00001〜100000であるような整数である）。
【請求項２】
金属錯体M(L)j（式中、Mは、0〜4の範囲の酸化状態のランタニド、アクチニド、典型金属又は遷移金属由来であり、Lは、ハライド、ニトレート、アセテート、カルボキシレート、シアニド、スルフェート、カルボニル、イミン、アルコキシ、トリアリール又はトリアルキルホスフィン及びフェノキシから選択される1つ以上の任意に置換されていてもよいリガンドであり、jは0〜8の整数である）を含んでなり、かつ前記式1の化合物が前記金属錯体に結合している、請求項1に記載の化合物。
【請求項３】
プロトン化錯体又は金属錯体M(L)j（式中、Mは、0〜4の範囲の酸化状態のコバルト、マンガン、鉄、ニッケル、パラジウム、白金、ロジウム由来であり、Lは、ハライド、ニトレート、アセテート、カルボキシレート、シアニド、スルフェート、カルボニル、イミン、アルコキシ、トリアリール又はトリアルキルホスフィン及びフェノキシから選択される1つ以上の任意に置換されていてもよいリガンドであり、jは0〜4の整数である）を含んでなり、かつ前記式1の化合物が前記金属錯体に結合している、請求項1又は2に記載の化合物。
【請求項４】
R1及びR2は、水素、C1-6アルキル及びC1-6アシルから独立に選択され、かつX3はOR及びNR1R2から選択され、pは1〜50であり；かつYは、z個のヒドロキシル基を有するポリオールの残基であり、かつm+n+1がz以下である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の化合物。
【請求項５】
式１の化合物に結合した金属錯体M(L)j（式中、Mは、0〜4の範囲の酸化状態のコバルト、マンガン、ニッケル、パラジウム、白金、ロジウム由来であり、Lは、ハライド、ニトレート、アセテート、カルボキシレート、シアニド、スルフェート、カルボニル、イミン、アルコキシ、トリアリール又はトリアルキルホスフィン及びフェノキシから選択される1つ以上の任意に置換されていてもよいリガンドであり、jは0〜4の整数である）を含有する、請求項4に記載の化合物。
【請求項６】
Xが、分岐若しくは線形ポリアミン[CH2CH2NH]pH（式中、pは1〜10の整数である）である、請求項4に記載の化合物。
【請求項７】
式1中、シリケート酸素原子の自由原子価が、1つ以上の、式1の他の基のケイ素原子、水素、線形若しくは分岐C1-6-アルキル基によって、又は末端基R33SiO1/2によって、又は架橋リンカーによって、又はポリマー鎖R3qSiOk/2（式中、R3は線形若しくは分岐C1-4-アルキル基であり；k+q=4であるような、kが2〜3の整数であり、qが1〜2の整数である）によって飽和しており；かつa、b及びcは、i）比a:bが0.00001〜100,000であり、かつ式AaBbCc中、AとBが両方とも常に存在し、及びii)Cが存在する場合、cのa+bに対する比が0.00001〜100,000で変化し、かつ前記末端基及び/又は架橋リンカー及び/又はポリマー鎖のa+b+cに対する比が0〜999:1で変化する、請求項4〜6のいずれか1項に記載の化合物。
【請求項８】
a、b及びcが、i)比a:bが0.01〜100であり、かつ式AaBbCc中、AとBが両方とも常に存在し、及びii)Cが存在する場合、cのa+bに対する比が0.01〜100で変化し、かつ前記末端基及び/又は架橋リンカー及び/又はポリマー鎖のa+b+cに対する比が0〜99:1で変化するよう
な整数である、請求項1〜７のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項９】
供給原料の処理方法であって、請求項1〜8のいずれか1項に記載の化合物を供給原料と接触させて、
i)前記供給ストリームの成分の触媒変換による化学反応を生じさせて所望生成物を生成するか、
ii)前記供給ストリームの成分を該ストリームから除去するか、又は
iii)前記供給ストリーム中のイオン種をイオン交換法で除去する
工程を含んでなる方法。
【請求項１０】
液体基材から不要な有機若しくは無機化合物を除去するか、又は前記不要な有機若しくは無機化合物のレベルを下げるためのスカベンジャーとしての請求項1〜8のいずれか1項に記載の化合物の使用。
【請求項１１】
前記不要な化合物が、反応混合物、廃棄物ストリーム若しくは廃水から除去され、又は他の有機化合物に結合若しくは付着している、請求項10に記載の使用。
【請求項１２】
反応混合物、廃棄物ストリーム若しくは廃水から又は他の有機金属に結合若しくは付着している白金、パラジウム、ロジウム、ルテニウム、レニウム又はニッケル金属若しくはイオンを除去するため、又はそのレベルを下げるためのスカベンジャーとしての請求項10又は11に記載の化合物の使用。
【請求項１３】
酸化、還元、炭素-炭素二重結合形成反応、付加、アルキル化、重合、ヒドロホルミル化、アリール化、アシル化、異性化、カルボキシル化、カルボニル化、エステル化、トランス-エステル化及び転位反応用の不均一触媒としての請求項1〜8のいずれか1項に記載の化合物の使用。
【請求項１４】
カチオン又はアニオン交換体としての、酵素、ペプチド、タンパク質及び核酸などの生体分子の固定化のための、不均一触媒担体としての、又は気体、液体及び固体環境から有機、生体又は無機分子を分離又は精製するための請求項1〜8のいずれか1項に記載の化合物の使用。