【手続補正書】
【提出日】平成22年2月1日(2010.2.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対象物の画像を検知する方法であって、
（ａ）多色性エネルギー分布と４０ｋｅＶ以上のＸ線エネルギーを持つ固有輝線Ｋα１及びＫα２とを持つ、非シンクロトロンＸ線源からの第一の発散性Ｘ線ビームを生成する段階、
（ｂ）該第一のＸ線ビームを直接遮るように、モノクロメーター単結晶を、予め決めた位置に置き、予め決めたエネルギーレベルを持つ第二の発散性Ｘ線ビームを選択して生成する段階であって、該第二のＸ線ビームが４０ｋｅＶ以上のＸ線エネルギーを持つ固有輝線Ｋα１及びＫα２を含む狭いエネルギーバンドを含む段階、
（ｃ）該第二のＸ線ビームの行路上に対象物を置き、該対象物を該第二のＸ線ビームが透過して、該対象物から透過したＸ線ビームが放射される段階、
（ｄ）該透過したＸ線ビームを、アナライザー結晶上の入射角に向ける段階、及び
（ｅ）該アナライザー結晶から回折したビームにより、該対象物の画像を検知する段階
から成る方法。
【請求項２】
前記第一のＸ線ビームを生成することが、Ｘ線管を用いて第一のＸ線ビームを生成することである請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第一のＸ線ビームを生成することが、Ｘ線管の回転する陽極から第一のＸ線ビームを生成することである請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記第一のＸ線ビームを生成することが、Ｘ線管の固定された陽極から第一のＸ線ビームを生成することである請求項２に記載の方法。
【請求項５】
前記Ｘ線管が、タングステンターゲットを含む請求項２に記載の方法。
【請求項６】
前記Ｘ線管が、前記第一のＸ線ビームを生成するために、少なくとも３０ｋＷの出力を持つようにセットされた請求項２に記載の方法。
【請求項７】
前記第一のＸ線ビームを生成することが、５０ｋｅＶ〜７０ｋｅＶの範囲の固有Ｘ線エネルギーを有する第一のＸ線ビームを生成することである請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記第一のＸ線ビームを生成することが、Ｘ線点源から、異なる方向へ扇形に広がる複数のＸ線ビームを生成することである請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記モノクロメーター結晶を置くことが、該モノクロメーター結晶の表面を、前記第一のＸ線ビームの該モノクロメーター結晶の表面への入射行路に対して、約１度〜４０度の間の一定角度で位置させることである請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記モノクロメーター結晶の配向と格子面が、前記アナライザー結晶のものと一致する請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記モノクロメーター結晶が、対称結晶である請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記モノクロメーター結晶が、シリコン結晶である請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記シリコン結晶が、[３３３]反射を有する請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記アナライザー結晶が、ブラッグ型アナライザーである請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
前記対象物が、軟組織である請求項１に記載の方法。
【請求項１６】
前記軟組織が胸組織である請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記第二のＸ線ビームが、前記対象物に、０．５ｍｒａｄ以下の照射線量をそそぐ請求項１に記載の方法。
【請求項１８】
前記対象物の画像を検知することが、検知器で回折したビームを受けることである請求項１に記載の方法。
【請求項１９】
前記検知器が、前記対象物のデジタル化された画像を形成するように構成された請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記検知器が、Ｘ線写真フィルムである請求項１８に記載の方法。
【請求項２１】
前記検知器が、画像プレートである請求項１８に記載の方法。
【請求項２２】
前記対象物の画像を検知することが、前記アナライザー結晶のロッキングカーブのピーク又はその近傍で、該アナライザー結晶から回折したビームにより、該対象物の画像を検知することである請求項１に記載の方法。
【請求項２３】
更に、前記検知された画像から、前記対象物の、回折強調型イメージ、吸収画像、屈折画像、散乱画像及び質量密度のうちの少なくとも一つを得る請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
前記ロッキングカーブのピーク又はその近傍が、該ロッキングカーブのダーウィン幅の約半分以内にある請求項２２に記載の方法。
【請求項２５】
前記対象物の画像を検知することが、
（ａ）第一の角度位置に置かれたアナライザー結晶から放射された第一の回折ビームにより、該対象物の第一角度の画像を検知する段階、
（ｂ）第二の角度位置に置かれたアナライザー結晶から放射された第二の回折ビームにより、該対象物の第二角度の画像を検知する段階、
（ｃ）該第一角度と該第二角度の画像を結合して一つの屈折画像と見掛吸収画像を得る段階、及び
（ｄ）該屈折画像から質量密度画像を得る段階
から成る請求項１に記載の方法。
【請求項２６】
第一角度の画像を検知することが、前記アナライザー結晶の低ロッキングカーブ角度設定における該アナライザー結晶から第一角度の該対象物の画像を検知することであり、第二角度の画像を検知することが、前記アナライザー結晶の高ロッキングカーブ角度設定における該アナライザー結晶から第二角度の該対象物の画像を検知することである請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
前記第二のＸ線ビームが該対象物を透過する前に、該第二のＸ線ビームの一部をブロックして、該第二のＸ線ビームの予め決めた固有線がブロックされた請求項１に記載の方法。
【請求項２８】
前記第二のＸ線ビームをブロックすることが、前記モノクロメーター結晶と前記対象物との間に、コリメーターを配置して、該Ｘ線ビームの予め決めた固有線がブロックされることである請求項２７に記載の方法。
【請求項２９】
前記予め決めた固有発光線が、固有発光線Ｋα１である請求項２７に記載の方法。
【請求項３０】
前記第一のＸ線ビームをモノクロメーター結晶で遮る前に、該モノクロメーター結晶の角度受容窓の外の第一のＸ線ビームの一部をブロックすることから成る請求項１に記載の方法。
【請求項３１】
前記第一のＸ線ビームをブロックすることが、該第一のＸ線ビームの行路上にコリメーターを配置することである請求項３０に記載の方法。
【請求項３２】
前記モノクロメーター結晶が第一のモノクロメーター結晶であり、更に、前記第二のＸ線ビームを遮るように、第二のモノクロメーター結晶を置き、該第二のＸ線ビームをアナライザー結晶に向ける請求項１に記載の方法。
【請求項３３】
前記第二のモノクロメーター結晶を置くことが、該第二のモノクロメーター結晶を、前記第二のＸ線ビームが前記第一のＸ線ビームの行路に平行に向くように置く請求項３２に記載の方法。
【請求項３４】
前記第一と第二のモノクロメーター結晶がミスマッチである請求項３２に記載の方法。
【請求項３５】
前記第一と第二のモノクロメーター結晶が、前記第一のＸ線ビームの予め決めた部分を阻止することにより選択された請求項３２に記載の方法。
【請求項３６】
前記第一と第二のモノクロメーター結晶が、ゲルマニウムモノクロメーター結晶及びシリコンモノクロメーター結晶のうちの一つである請求項３２に記載の方法。
【請求項３７】
前記第一と第二のモノクロメーター結晶が、ゲルマニウム[３３３]モノクロメーター結晶及びシリコン[３３３]モノクロメーター結晶のうちの一つである請求項３２に記載の方法。
【請求項３８】
更に前記第二のＸ線ビームから前記対象物への照射線量を調整する段階を含む請求項１に記載の方法。
【請求項３９】
対象物の画像を検知するためのシステムであって、
（ａ）多色性エネルギー分布と４０ｋｅＶ以上のＸ線エネルギーを持つ固有輝線Ｋα１及びＫα２とを持つ第一の発散性Ｘ線ビームを生成するように構成された非シンクロトロンＸ線源、
（ｂ）対象物を透過するために、予め決めたエネルギーレベルを持つ第二の発散性Ｘ線ビームが選択され生成されるように、該第一のＸ線ビームを直接遮るように予め決めた位置に置かれたモノクロメーター単結晶であって、該第二のＸ線ビームが４０ｋｅＶ以上のＸ線エネルギーを持つ固有輝線Ｋα１及びＫα２を含む狭いエネルギーバンドを含むモノクロメーター単結晶、
（ｃ）透過したＸ線ビームを、アナライザー結晶の入射角で遮るように置かれたアナライザー結晶、及び
（ｄ）該アナライザー結晶から回折したビームにより、該対象物の画像を検知するように構成された画像検知器
から成るシステム。
【請求項４０】
前記Ｘ線源がＸ線管である請求項３９に記載のシステム。
【請求項４１】
前記Ｘ線管が回転する陽極を含む請求項４０に記載のシステム。
【請求項４２】
前記Ｘ線管が固定された陽極を含む請求項４０に記載のシステム。
【請求項４３】
前記Ｘ線管が、タングステンターゲットを含む請求項４０に記載のシステム。
【請求項４４】
前記Ｘ線管が、前記第一のＸ線ビームを生成するために、少なくとも３０ｋＷの出力を持つようにセットされた請求項４０に記載のシステム。
【請求項４５】
前記Ｘ線源が、１０ｋｅＶ〜７０ｋｅＶの範囲の固有Ｘ線エネルギーを有するＸ線ビームを生成するように構成された請求項３９に記載のシステム。
【請求項４６】
前記Ｘ線源が、Ｘ線点源から、異なる方向へ扇形に広がる複数のＸ線ビームを生成するように構成された請求項３９に記載のシステム。
【請求項４７】
前記モノクロメーター結晶の表面が、前記第一のＸ線ビームの該モノクロメーター結晶の表面への入射行路に対して、１度〜４０度の間の一定角度で位置する請求項３９に記載のシステム。
【請求項４８】
前記モノクロメーター結晶の配向と格子面が、前記アナライザー結晶のものと一致する請求項３９に記載のシステム。
【請求項４９】
前記モノクロメーター結晶が、対称結晶である請求項３９に記載のシステム。
【請求項５０】
前記モノクロメーター結晶が、シリコン結晶である請求項４９に記載のシステム。
【請求項５１】
前記シリコン結晶が、[３３３]反射のために配置された請求項５０に記載のシステム。
【請求項５２】
前記アナライザー結晶が、ブラッグ型アナライザーである請求項３９に記載のシステム。
【請求項５３】
前記対象物が、軟組織である請求項３９に記載のシステム。
【請求項５４】
前記軟組織が胸組織である請求項５３に記載のシステム。
【請求項５５】
前記第二のＸ線ビームが、前記対象物に、０．５ｍｒａｄ以下の照射線量をそそぐ請求項３９に記載のシステム。
【請求項５６】
前記検知器が、回折したビームを受けるように構成された請求項３９に記載のシステム。
【請求項５７】
前記検知器が、前記対象物のデジタル化された画像を形成するように構成された請求項３９に記載のシステム。
【請求項５８】
前記検知器が、Ｘ線写真フィルムである請求項３９に記載のシステム。
【請求項５９】
前記検知器が、画像プレートである請求項３９に記載のシステム。
【請求項６０】
前記検知器が、前記アナライザー結晶のロッキングカーブのピーク又はその近傍で、該アナライザー結晶から回折したビームにより、該対象物の画像を検知するように構成された請求項３９に記載のシステム。
【請求項６１】
更に、検知された画像から、前記対象物の、回折強調型イメージ、吸収画像、屈折画像、散乱画像及び質量密度のうちの少なくとも一つを得るように構成されたコンピュターを有する請求項６０に記載のシステム。
【請求項６２】
前記ロッキングカーブのピーク又はその近傍が、該ロッキングカーブのダーウィン幅の約半分以内にある請求項６０に記載のシステム。
【請求項６３】
前記検知器が、第一の角度位置に置かれたアナライザー結晶から放射された第一の回折ビームにより、前記対象物の第一角度の画像を検知するように構成され、第二の角度位置に置かれたアナライザー結晶から放射された第二の回折ビームにより、該対象物の第二角度の画像を検知するように構成され、前記システムが、該第一角度と該第二角度の画像を結合して一つの屈折画像と見掛吸収画像を得るように構成され、かつ該屈折画像から質量密度画像を得るように構成されたコンピューターを備えた請求項３９に記載のシステム。
【請求項６４】
前記検知器が、前記アナライザー結晶の低ロッキングカーブ角度設定における該アナライザー結晶から第一角度の該対象物の画像を検知するように構成され、前記アナライザー結晶の高ロッキングカーブ角度設定における該アナライザー結晶から第二角度の該対象物の画像を検知するように構成された請求項６３に記載のシステム。
【請求項６５】
前記第二のＸ線ビームが前記対象物を透過する前に、該第二のＸ線ビームの一部をブロックして、該第二のＸ線ビームの予め決めた固有線がブロックされるように置かれたコリメーターを有する請求項３９に記載のシステム。
【請求項６６】
前記予め決めた固有発光線が、固有発光線Ｋα１である請求項６５に記載のシステム。
【請求項６７】
前記第一のＸ線ビームがモノクロメーター結晶によって遮られる前に、該モノクロメーター結晶の角度受容窓の外の第一のＸ線ビームの一部をブロックするように置かれたコリメーターを有する請求項３９に記載のシステム。
【請求項６８】
前記モノクロメーター結晶が第一のモノクロメーター結晶であり、前記システムが、前記第二のＸ線ビームを遮り、該第二のＸ線ビームをアナライザー結晶に向けるように置かれた第二のモノクロメーター結晶を有する請求項３９に記載のシステム。
【請求項６９】
前記第二のモノクロメーター結晶が、前記第二のＸ線ビームが前記第一のＸ線ビームの行路に平行に向くように置かれた請求項６８に記載のシステム。
【請求項７０】
前記第一と第二のモノクロメーター結晶がミスマッチである請求項６８に記載のシステム。
【請求項７１】
前記第一と第二のモノクロメーター結晶が、前記第一のＸ線ビームの予め決めた部分を阻止することにより選択された請求項６８に記載のシステム。
【請求項７２】
前記第一と第二のモノクロメーター結晶が、ゲルマニウムモノクロメーター結晶及びシリコンモノクロメーター結晶のうちの一つである請求項６８に記載のシステム。
【請求項７３】
前記第一と第二のモノクロメーター結晶が、ゲルマニウム[３３３]モノクロメーター結晶及びシリコン[３３３]モノクロメーター結晶のうちの一つである請求項６８に記載のシステム。
【請求項７４】
対象物の画像を検知する方法であって、
（ａ）非シンクロトロンＸ線点源から、異なる方向へ扇形に広がる複数のＸ線ビームを生成することにより、多色性エネルギー分布と４０ｋｅＶ以上のＸ線エネルギーを持つ固有輝線Ｋα１及びＫα２とを持つ第一の発散性Ｘ線ビームを生成する段階、
（ｂ）該第一のＸ線ビームを遮るように、モノクロメーター結晶を、予め決めた位置に置き、予め決めたエネルギーレベルを持つ第二の発散性Ｘ線ビームを選択して生成する段階であって、該第二のＸ線ビームが４０ｋｅＶ以上のＸ線エネルギーを持つ固有輝線Ｋα１及びＫα２を含む狭いエネルギーバンドを含む段階、
（ｃ）該第二のＸ線ビームの行路上に対象物を置き、該対象物を該第二のＸ線ビームが透過して、該対象物から透過したＸ線ビームが放射される段階、
（ｄ）該透過したＸ線ビームを、アナライザー結晶上の入射角に向ける段階、及び
（ｅ）該アナライザー結晶から回折したビームにより、該対象物の画像を検知する段階
から成る方法。
【請求項７５】
前記第一のＸ線ビームを生成することが、Ｘ線管を用いて第一のＸ線ビームを生成することである請求項７４に記載の方法。
【請求項７６】
前記第一のＸ線ビームを生成することが、Ｘ線管の回転する陽極から第一のＸ線ビームを生成することである請求項７５に記載の方法。
【請求項７７】
前記第一のＸ線ビームを生成することが、Ｘ線管の固定された陽極から第一のＸ線ビームを生成することである請求項７５に記載の方法。
【請求項７８】
前記Ｘ線管が、タングステンターゲットを含む請求項７５に記載の方法。
【請求項７９】
前記Ｘ線管が、前記第一のＸ線ビームを生成するために、少なくとも３０ｋＷの出力を持つようにセットされた請求項７５に記載の方法。
【請求項８０】
前記第一のＸ線ビームを生成することが、５０ｋｅＶ〜７０ｋｅＶの範囲の固有Ｘ線エネルギーを有する第一のＸ線ビームを生成することである請求項７５に記載の方法。
【請求項８１】
対象物の画像を検知するためのシステムであって、
（ａ）Ｘ線管のＸ線点源から異なる方向へ扇形に広がる複数のＸ線ビームを生成することにより、多色性エネルギー分布と４０ｋｅＶ以上のＸ線エネルギーを持つ固有輝線Ｋα１及びＫα２とを持つ第一の発散性Ｘ線ビームを生成するように構成されたＸ線管、
（ｂ）対象物を透過するために、予め決めたエネルギーレベルを持つ第二の発散性Ｘ線ビームが選択され生成され、該第一のＸ線ビームを遮るように予め決めた位置に置かれたモノクロメーター結晶であって、該第二のＸ線ビームが４０ｋｅＶ以上のＸ線エネルギーを持つ固有輝線Ｋα１及びＫα２を含む狭いエネルギーバンドを含むモノクロメーター結晶、
（ｃ）透過したＸ線ビームを、アナライザー結晶の入射角で遮るように置かれたアナライザー結晶、及び
（ｄ）該アナライザー結晶から回折したビームにより、該対象物の画像を検知するように構成された画像検知器
から成るシステム。
【請求項８２】
前記Ｘ線管が回転する陽極を含む請求項８１に記載のシステム。
【請求項８３】
前記Ｘ線管が固定された陽極を含む請求項８１に記載のシステム。
【請求項８４】
前記Ｘ線管が、タングステンターゲットを含む請求項８１に記載のシステム。
【請求項８５】
前記Ｘ線管が、前記第一のＸ線ビームを生成するために、少なくとも３０ｋＷの出力を持つようにセットされた請求項８１に記載のシステム。
【請求項８６】
前記Ｘ線源が、５０ｋｅＶ〜７０ｋｅＶの範囲の固有Ｘ線エネルギーを有するＸ線ビームを生成するように構成された請求項１４５に記載のシステム。
【請求項８７】
対象物の画像を検知する方法であって、
（ａ）非シンクロトロンＸ線源から４０ｋｅＶ以上のＸ線エネルギーを持つ第一と第二の固有輝線Ｋα１及びＫα２を持つ第一の発散性Ｘ線ビームを生成する段階、
（ｂ）該第一のＸ線ビームを遮るように、モノクロメーター結晶を、予め決めた位置に置き、該第一と第二の固有輝線を持つ第二の発散性Ｘ線ビームを選択して生成する段階、
（ｃ）該第二のＸ線ビームの第一と第二の固有輝線のうちの一つを選択的にブロックし、該第二のＸ線ビームの第一と第二の固有輝線のうちのブロックされていないものを通過させる段階、
（ｄ）該第二のＸ線ビームの第一と第二の固有輝線のうちのブロックされていないものの行路上に対象物を置き、該対象物を該第二のＸ線ビームのブロックされていない固有線が透過して、該対象物から透過したＸ線ビームが放射される段階、
（ｅ）該透過したＸ線ビームを、アナライザー結晶上の入射角に向ける段階、及び
（ｆ）該アナライザー結晶から回折したビームにより、該対象物の画像を検知する段階
から成る方法。
【請求項８８】
前記第一のＸ線ビームを生成することが、Ｘ線管を用いて第一のＸ線ビームを生成することである請求項８７に記載の方法。
【請求項８９】
前記第一のＸ線ビームを生成することが、Ｘ線管の回転する陽極から第一のＸ線ビームを生成することである請求項８８に記載の方法。
【請求項９０】
前記第一のＸ線ビームを生成することが、Ｘ線管の固定された陽極から第一のＸ線ビームを生成することである請求項８８に記載の方法。
【請求項９１】
前記Ｘ線管が、タングステンターゲットを含む請求項８８に記載の方法。
【請求項９２】
前記Ｘ線管が、前記第一のＸ線ビームを生成するために、少なくとも３０ｋＷの出力を持つようにセットされた請求項８８に記載の方法。
【請求項９３】
前記第一のＸ線ビームを生成することが、５０ｋｅＶ〜７０ｋｅＶの範囲の固有Ｘ線エネルギーを有する第一のＸ線ビームを生成することである請求項８７に記載の方法。
【請求項９４】
対象物の画像を検知するためのシステムであって、
（ａ）４０ｋｅＶ以上のＸ線エネルギーを持つ第一と第二の固有輝線Ｋα１及びＫα２を持つ第一のＸ線ビームを生成するように構成された非シンクロトロンＸ線源、
（ｂ）該第一と第二の固有輝線を持つ第二の発散性Ｘ線ビームが選択され生成されるように、該第一のＸ線ビームを遮るように予め決めた位置に置かれたモノクロメーター結晶、
（ｃ）該第二のＸ線ビームの第一と第二の固有輝線のうちの一つを選択的にブロックするように調製可能なスリットを有し、該第二のＸ線ビームの第一と第二の固有輝線のうちのブロックされていないものを対象物を透過させるコリメーター、
（ｄ）透過したＸ線ビームを、アナライザー結晶の入射角で遮るように置かれたアナライザー結晶、及び
（ｅ）該アナライザー結晶から回折したビームにより、該対象物の画像を検知するように構成された画像検知器
から成るシステム。
【請求項９５】
前記Ｘ線源がＸ線管である請求項９４に記載のシステム。
【請求項９６】
前記Ｘ線管が回転する陽極を含む請求項９５に記載のシステム。
【請求項９７】
前記Ｘ線管が固定された陽極を含む請求項９５に記載のシステム。
【請求項９８】
前記Ｘ線管が、タングステンターゲットを含む請求項９５に記載のシステム。
【請求項９９】
前記Ｘ線管が、前記第一のＸ線ビームを生成するために、少なくとも３０ｋＷの出力を持つようにセットされた請求項９５に記載のシステム。
【請求項１００】
前記Ｘ線源が、５０ｋｅＶ〜７０ｋｅＶの範囲の固有Ｘ線エネルギーを有するＸ線ビームを生成するように構成された請求項９４に記載のシステム。
【請求項１０１】
対象物の画像を検知する方法であって、
（ａ）非シンクロトロンＸ線源から４０ｋｅＶ以上のＸ線エネルギーを持つ第一と第二の固有輝線Ｋα１及びＫα２を持つ第一の発散性Ｘ線ビームを生成する段階、
（ｂ）該第一のＸ線ビームを遮るように、モノクロメーター結晶を、予め決めた位置に置き、該第一と第二の固有輝線を持つ第二の発散性Ｘ線ビームを選択して生成する段階、
（ｃ）該第二のＸ線ビームの第一と第二の固有輝線の行路上に対象物を置いて、該対象物を該第二のＸ線ビームの第一と第二の固有輝線が透過して、該対象物から透過したＸ線ビームが放射される段階、
（ｄ）該透過したＸ線ビームを、アナライザー結晶上の入射角に向ける段階、及び
（ｅ）該アナライザー結晶から回折したビームにより、該対象物の画像を検知する段階
から成る方法。
【請求項１０２】
前記第一のＸ線ビームを生成することが、Ｘ線管を用いて第一のＸ線ビームを生成することである請求項１０１に記載の方法。
【請求項１０３】
前記第一のＸ線ビームを生成することが、Ｘ線管の回転する陽極から第一のＸ線ビームを生成することである請求項１６４に記載の方法。
【請求項１０４】
前記第一のＸ線ビームを生成することが、Ｘ線管の固定された陽極から第一のＸ線ビームを生成することである請求項１６４に記載の方法。
【請求項１０５】
前記Ｘ線管が、タングステンターゲット、バリウム六臭化物ターゲット、サマリウムターゲット及びモリブデンターゲットのうちの一つを含む請求項１６４に記載の方法。
【請求項１０６】
前記Ｘ線管が、前記第一のＸ線ビームを生成するために、少なくとも５０ｋＷの出力を持つようにセットされた請求項１６４に記載の方法。
【請求項１０７】
前記第一のＸ線ビームを生成することが、５０ｋｅＶ〜７０ｋｅＶの範囲の固有Ｘ線エネルギーを有するＸ線ビームを生成することである請求項１０１に記載の方法。
【請求項１０８】
対象物の画像を検知するためのシステムであって、
（ａ）４０ｋｅＶ以上のＸ線エネルギーを持つ第一と第二の固有輝線Ｋα１及びＫα２を持つ第一の発散性Ｘ線ビームを生成するように構成された非シンクロトロンＸ線源、
（ｂ）該第一と第二の固有輝線を持つ第二の発散性Ｘ線ビームが選択され生成されて対象物を透過させるように、該第一のＸ線ビームを遮るように予め決めた位置に置かれたモノクロメーター結晶、
（ｃ）透過したＸ線ビームを、アナライザー結晶の入射角で遮るように置かれたアナライザー結晶、及び
（ｄ）該アナライザー結晶から回折したビームにより、該対象物の画像を検知するように構成された画像検知器
から成るシステム。
【請求項１０９】
前記Ｘ線源がＸ線管である請求項１０８に記載のシステム。
【請求項１１０】
前記Ｘ線管が回転する陽極を含む請求項１０９に記載のシステム。
【請求項１１１】
前記Ｘ線管が固定された陽極を含む請求項１０９に記載のシステム。
【請求項１１２】
前記Ｘ線管が、タングステンターゲットを含む請求項１０９に記載のシステム。
【請求項１１３】
前記Ｘ線管が、前記第一のＸ線ビームを生成するために、少なくとも３０ｋＷの出力を持つようにセットされた請求項１０９に記載のシステム。
【請求項１１４】
前記Ｘ線源が、５０ｋｅＶ〜７０ｋｅＶの範囲の固有Ｘ線エネルギーを有するＸ線ビームを生成するように構成された請求項１０８に記載のシステム。
【請求項１１５】
前記モノクロメーター結晶が[１１１]の反射のために配置された請求項１に記載の方法。
【請求項１１６】
前記アナライザー結晶が[３３３]の反射のために配置された請求項１に記載の方法。
【請求項１１７】
前記アナライザー結晶が[１１１]の反射のために配置された請求項１に記載の方法。
【請求項１１８】
前記第一及び第二のモノクロメーター結晶のうちの少なくとも一つが[１１１]の反射のために配置された請求項３２に記載の方法。
【請求項１１９】
前記第一及び第二のモノクロメーター結晶のうちの少なくとも一つがシリコン結晶である請求項３２に記載の方法。
【請求項１２０】
前記モノクロメーター結晶が[１１１]の反射のために配置された請求項３９に記載のシステム。
【請求項１２１】
前記アナライザー結晶が[３３３]の反射のために配置された請求項３９に記載のシステム。
【請求項１２２】
前記アナライザー結晶が[１１１]の反射のために配置された請求項３９に記載のシステム。
【請求項１２３】
前記第一及び第二のモノクロメーター結晶のうちの少なくとも一つが[１１１]の反射のために配置された請求項６８に記載のシステム。
【請求項１２４】
前記第一及び第二のモノクロメーター結晶のうちの少なくとも一つがシリコン結晶である請求項６８に記載のシステム。
【請求項１２５】
前記対象物が、インファント、骨及び軟骨から成る群から選択される請求項１に記載の方法。
【請求項１２６】
前記対象物が、インファント、骨及び軟骨から成る群から選択される請求項３９に記載のシステム。
【請求項１２７】
前記対象物が、インファント、骨及び軟骨から成る群から選択される請求項７４に記載の方法。
【請求項１２８】
前記対象物が、インファント、骨及び軟骨から成る群から選択される請求項８１に記載のシステム。
【請求項１２９】
前記対象物が、インファント、骨及び軟骨から成る群から選択される請求項８７に記載の方法。
【請求項１３０】
前記対象物が、インファント、骨及び軟骨から成る群から選択される請求項９４に記載のシステム。
【請求項１３１】
前記対象物が、インファント、骨及び軟骨から成る群から選択される請求項１０１に記載の方法。
【請求項１３２】
前記対象物が、インファント、骨及び軟骨から成る群から選択される請求項１０８に記載のシステム。
【請求項１３３】
前記第二のＸ線ビームの行路上に対象物を置くことが、該対象物を第一の正確な行路を通して移動させることから成り、前記対象物の画像を検知することが、検出器を第二の正確な行路を通して移動させることにより、前記アナライザー結晶から回折したビームを該検出器で受信することから成り、該検出器が第二の正確な行路を移動する角速度が、該対象物が第一の正確な行路を移動する角速度と実質的に同じである、請求項１に記載の方法。
【請求項１３４】
画像化される対象物が置かれる走査台を含み、該走査台が、該対象物を第一の正確な行路を通して移動させるように、移動可能であり、前記画像検知器が、第二の正確な行路を通して移動することが可能であり、該検出器が第二の正確な行路を移動する角速度が、該対象物が第一の正確な行路を移動する角速度と実質的に同じである、請求項３９に記載のシステム。
【請求項１３５】
前記第二のＸ線ビームの行路上に対象物を置くことが、該対象物を第一の正確な行路を通して移動させることから成り、前記対象物の画像を検知することが、検出器を第二の正確な行路を通して移動させることにより、前記アナライザー結晶から回折したビームを該検出器で受信することから成り、該検出器が第二の正確な行路を移動する角速度が、該対象物が第一の正確な行路を移動する角速度と実質的に同じである、請求項７４に記載の方法。
【請求項１３６】
画像化される対象物が置かれる走査台を含み、該走査台が、該対象物を第一の正確な行路を通して移動させるように、移動可能であり、前記画像検知器が、第二の正確な行路を通して移動することが可能であり、該検出器が第二の正確な行路を移動する角速度が、該対象物が第一の正確な行路を移動する角速度と実質的に同じである、請求項８１に記載のシステム。
【請求項１３７】
前記第二のＸ線ビームの第一と第二の固有輝線のうちのブロックされていないものの行路に対象物を置くことが、該対象物を第一の正確な行路を通して移動させることから成り、前記対象物の画像を検知することが、検出器を第二の正確な行路を通して移動させることにより、前記アナライザー結晶から回折したビームを該検出器で受信することから成り、該検出器が第二の正確な行路を移動する角速度が、該対象物が第一の正確な行路を移動する角速度と実質的に同じである、請求項７４に記載の方法。
【請求項１３８】
画像化される対象物が置かれる走査台を含み、該走査台が、該対象物を第一の正確な行路を通して移動させるように、移動可能であり、前記画像検知器が、第二の正確な行路を通して移動することが可能であり、該検出器が第二の正確な行路を移動する角速度が、該対象物が第一の正確な行路を移動する角速度と実質的に同じである、請求項９４に記載のシステム。
【請求項１３９】
前記第二のＸ線ビームの第一と第二の固有輝線の行路上に対象物を置くことが、該対象物を第一の正確な行路を通して移動させることから成り、前記対象物の画像を検知することが、検出器を第二の正確な行路を通して移動させることにより、前記アナライザー結晶から回折したビームを該検出器で受信することから成り、該検出器が第二の正確な行路を移動する角速度が、該対象物が第一の正確な行路を移動する角速度と実質的に同じである、請求項１０１に記載の方法。
【請求項１４０】
画像化される対象物が置かれる走査台を含み、該走査台が、該対象物を第一の正確な行路を通して移動させるように、移動可能であり、前記画像検知器が、第二の正確な行路を通して移動することが可能であり、該検出器が第二の正確な行路を移動する角速度が、該対象物が第一の正確な行路を移動する角速度と実質的に同じである、請求項１０８に記載のシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７１】
システムの性能についての実験
Ｘ線管を備えたＤＥＩやＤＥＩシステムを組み立てる前に、Ｘ線源としてシンクロトロンを用いて試験目的の実験を行なった。まず、モリブデンとタングステンに基づくＸ線源を想定した１８ｋｅＶと５９ｋｅＶのＸ線を用いた画像化時間とフラックスの要求値を計算した。更に、システムの構成に、ピクセルサイズやピクセルあたりの光子数のようないくつかの仮定を設けた。これらの値は、必要に応じて概算することができるので、この例では、５ｃｍの組織(水)を、ピクセルあたり１０００の光子数で横切る、１００ミクロンのピクセルサイズを用いる。
ピクセルあたりの光子数を、この場合５ｃｍの水である対象物を通過する際の光子の減衰で除して、１００ミクロン平方ピクセルに必要な光子数を計算する。
【数１４】
2009536717.tif 000001
この結果、１８ｋｅＶのＸ線源について、１００ミクロン平方ピクセルについてそれぞれ約１．６×１０５の入射光子が必要である。５９ｋｅＶのＸ線の減衰は、１８ｋｅＶのＸ線における場合よりもはるかに小さく、その結果、１００ミクロン平方ピクセルについて、２．９×１０３の入射光子が必要である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１Ｅ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１Ｅ】
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【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
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