【誤訳訂正書】
【提出日】平成22年9月21日(2010.9.21)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
平面光導波路組立品の製造方法であって、
（ｉ）（Ａ）１分子につき平均少なくとも２つのシリコン結合アルケニル基を含有し且つＲ２３ＳｉＯ１／２単位とＳｉＯ４／２単位とからなるＭＱ樹脂およびＲ２３ＳｉＯ１／２単位とＲ１ＳｉＯ３／２単位とからなるＭＴ樹脂から選択される有機ポリシロキサン、
（Ｂ）該組成物を硬化させるに充分な濃度の、１分子につき平均少なくとも２つのシリコン結合水素原子を含有し且つトリメチルシロキシ末端化ポリ（ジメチルシロキサン／メチル水素シロキサン）およびＰｈＳｉＯ３／２単位とＨ（ＣＨ３）２ＳｉＯ１／２単位とからなる有機水素ポリシロキサン樹脂から選択される有機シリコン化合物、および
（Ｃ）触媒量の光活性化ヒドロシリル化触媒
を含むシリコーン組成物を、基板表面へ適用してシリコーンフィルムを形成させるステップ、
（ｉｉ）１５０〜８００ｎｍの波長を持つ照射へ該シリコーンフィルムの少なくとも１つの選択領域を露光させて、少なくとも１つの露光領域と少なくとも１つの非露光領域とを持つ部分露光フィルムを生産するステップ、
（ｉｉｉ）該露光領域が実質的に現像溶媒中不溶性となり、該非露光領域が該現像溶媒中可溶性となるように、所定の時間該部分露光フィルムを加熱するステップ、
（ｉｖ）該現像溶媒を用いて、この加熱されたフィルムの該非露光領域を除去して、パターンフィルムを形成させるステップ、ならびに
（ｖ）該パターンフィルムを充分な時間加熱して、５８９ｎｍの波長を持つ光に対して２３℃において１．３〜１．７の屈折率を持つ少なくとも１つのシリコーンコアを形成させるステップ
を含み、ここで該基板が、該シリコーンコアの屈折率未満の屈折率を持つ平面光導波路組立品の製造方法。
【請求項２】
前記有機ポリシロキサンが、本質的にＲ２３ＳｉＯ１／２単位とＲ１ＳｉＯ３／２単位とからなる有機ポリシロキサン樹脂であって、ここで、Ｒ２３ＳｉＯ１／２単位のＲ１ＳｉＯ３／２単位に対するモル比が０．０５〜１．０であり、各Ｒ１が、ヒドロカルビル、重水素置換ヒドロカルビル、およびハロゲン置換ヒドロカルビルから独立に選択され、全て脂肪族不飽和部分を含まず、Ｒ２がＲ１またはアルケニルである請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記光活性化ヒドロシリル化触媒が、白金（ＩＩ）β−ジケトネートである請求項１に記載の方法。
【請求項４】
（ｖｉ）前記基板および前記シリコーンコアを、硬化可能なポリマー組成物を用いて被覆して、ポリマーフィルムを形成させるステップ、
（ｖｉｉ）該ポリマーフィルムを硬化させて、被覆層を形成させるステップ
を更に含み、ここで、該被覆層が、該シリコーンコアの屈折率未満の屈折率を持つ請求項１に記載の方法。
【請求項５】
請求項１に記載の方法によって製造される平面光導波路組立品。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】発明の名称
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【発明の名称】平面光導波路組立品、およびその製造方法
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００２】
本発明は、平面光導波路組立品の製造方法に関し、特に、少なくとも１つのシリコーンコアを含有する平面光導波路組立品の製造方法に関する。本発明はまた、本方法により製造される平面光導波路組立品にも関する。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００３】
シリコーンコアを含有する平面光導波路を製造する方法は、当業界において既知である。例えば、Ｋａｎｅｋｏらに対して発行された米国特許第６，０８８，４９２号は、シロキサン含有ポリマーを使用する光導波路の生産方法を開示し、これは、シロキサン含有ポリマーフィルムを形成させるための溶液を熱重合させることを含み、該溶液は金属アルコキシドと共に基板上へと加えられ、金属を含有するシロキサン含有ポリマーフィルムから構成される光導波路を形成させる。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００４】
シリコーンコアを含有する平面光導波路を製造する方法は、Ｎａｋａｍｕｒａらに対して発行された欧州特許出願第ＥＰ１１１８８８４Ａ１号；Ｔｏｙｏｄａらに対して発行された日本特許出願第２００１−８０６４３Ａ号；Ｈａｙａｓｈｉｄａらに対して発行された日本特許出願第０９−１２４７９３Ａ号；およびＴｏｍａｒｕらに対して発行された日本特許出願第１０−１４８７２９Ａ号においても開示される。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００５】
上記引用文献は、ある範囲の熱特性および環境特性を持つ光導波路を製造する方法を開示するものの、より優れた熱安定性および湿気耐性を持つ平面光導波路組立品を生産する方法に対する継続的な必要性が存在する。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００６
【訂正方法】削除
【訂正の内容】
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００７
【訂正方法】削除
【訂正の内容】
【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００８】
本発明は、平面光導波路組立品の製造方法に関し、この方法は、
（ｉ）（Ａ）１分子につき平均少なくとも２つのシリコン結合アルケニル基を含有し且つＲ２３ＳｉＯ１／２単位とＳｉＯ４／２単位とからなるＭＱ樹脂およびＲ２３ＳｉＯ１／２単位とＲ１ＳｉＯ３／２単位とからなるＭＴ樹脂から選択される有機ポリシロキサン、
（Ｂ）該組成物を硬化させるに充分な濃度の、１分子につき平均少なくとも２つのシリコン結合水素原子を含有し且つトリメチルシロキシ末端化ポリ（ジメチルシロキサン／メチル水素シロキサン）およびＰｈＳｉＯ３／２単位とＨ（ＣＨ３）２ＳｉＯ１／２単位とからなる有機水素ポリシロキサン樹脂から選択される有機シリコン化合物；および
（Ｃ）触媒量の光活性化ヒドロシリル化触媒
を含むシリコーン組成物を、基板表面へ適用してシリコーンフィルムを形成させるステップ、
（ｉｉ）１５０〜８００ｎｍの波長を持つ照射へ該シリコーンフィルムの少なくとも１つの選択領域を露光させて、少なくとも１つの露光領域と少なくとも１つの非露光領域とを持つ部分露光フィルムを生産するステップ、
（ｉｉｉ）該露光領域が実質的に現像溶媒中不溶性となり、該非露光領域が該現像溶媒中可溶性となるように、所定の時間該部分露光フィルムを加熱するステップ、
（ｉｖ）該現像溶媒を用いて、この加熱されたフィルムの該非露光領域を除去して、パターンフィルムを形成させるステップ；ならびに
（ｖ）該パターンフィルムを充分な時間加熱して、５８９ｎｍの波長を持つ光に対して２３℃において１．３〜１．７の屈折率を持つ少なくとも１つのシリコーンコアを形成させるステップ
を含み、ここで該基板が、該シリコーンコアの屈折率未満の屈折率を持つ。
【誤訳訂正１０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００９】
本発明は尚更に、この方法により製造される光導波路組立品に関する。
【誤訳訂正１１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１０】
本発明の方法は、ハイ・スループット（ｈｉｇｈ ｔｈｒｏｕｇｈｐｕｔ、ＨＴ）製造方法へとスケールアップ可能である。重要なことに、本方法は単一基板上で、多数の導波路の同時製造を可能にする。加えて、本方法は、従来のウェーハ製造技術（例えば、コーティング、露光、現像、硬化）および設備を用いるものである。更に、本方法は、光パターン化可能なシリコーン組成物を使用し、これにより、余計なプロセスステップ、例えば、光パターン化可能でないポリマー組成物の使用に関係するフォトレジストの適用およびエッチングを省く。最後に、本発明のプロセスは高解像度を与え、このことは、該プロセスが、臨界寸法を良好に保持しつつ、該シリコーンフィルムへとフォトマスクから画像を写すことを意味する。
【誤訳訂正１２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１１】
本発明の平面光導波路組立品は、良好な環境耐性、および広範な温度に亘る良好な熱安定性を呈し、特に、湿気耐性を呈する。また、本導波路組立品は、低い複屈折率および低い透過率損失を呈する。
【誤訳訂正１３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１２】
本発明の光導波路組立品は、減衰器、スウィッチ、スプリッター、ルーター、フィルター、および回折格子のような光学集積回路部品製造に使用され得る。
【誤訳訂正１４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１４】
本明細書中で使用される場合、用語「平面光導波路組立品」は、矩形の横断面を持つ少なくとも１つのコアを含有する導波路組立品に関する。また、本明細書中で使用される場合、物質の「屈折率」は、５８９ｎｍの波長を持つ光に対して２３℃において、該物質中での光速に対する真空中での光速の比として定義される。
【誤訳訂正１５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１５】
平面光導波路組立品の製造の、本発明による第１の方法は：
（ｉ）基板表面へシリコーン組成物を適用して、シリコーンフィルムを形成させ、ここで該シリコーン組成物は：
（Ａ）１分子につき平均少なくとも２つのシリコン結合アルケニル基を含有する有機ポリシロキサン；
（Ｂ）該組成物を硬化させるに充分な濃度の、１分子につき平均少なくとも２つのシリコン結合水素原子を含有する有機シリコン化合物；および
（Ｃ）触媒量の光活性化ヒドロシリル化触媒
を含み；
（ｉｉ）１５０〜８００ｎｍの波長を持つ照射へ該シリコーンフィルムの少なくとも１つの選択領域を露光させて、少なくとも１つの露光領域と少なくとも１つの非露光領域とを持つ部分露光フィルムを生産し；
（ｉｉｉ）現像溶媒を用いて、該部分露光フィルムの該非露光領域を除去して、パターンフィルムを形成させ；ならびに
（ｉｖ）該パターンフィルムを充分な時間加熱して、５８９ｎｍの波長を持つ光に対して２３℃において１．３〜１．７の屈折率を持つ少なくとも１つのシリコーンコアを形成させる
ステップを含み、ここで該基板が、該シリコーンコアの屈折率未満の屈折率を持つ。
【誤訳訂正１６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４５】
前記基板は、前記シリコーンコアの屈折率未満の屈折率を持つ如何なる材料でもあり得る。該シリコーンコアおよび該基板の間での屈折率における相違の大きさは、該コアの厚さ、伝搬される光の波長、および波伝搬の所望のモード（節。例えば、単一モードまたは多数のモード）を包含する、幾つかの要因（因子）に依存する。該シリコーンコアおよび該基板の間での屈折率における相違は典型的に、０．０１〜０．５、または０．０５〜０．５、または０．１〜０．３である。例えば、５９０ｎｍの波長における伝搬の最初の４つのモードを支持できる４μｍの厚さおよび１．５の屈折率を持つシリコーンコアを含有する導波路は、該シリコーンコアおよび該基板の間において約０．１の、屈折率における相違を持つ。
【誤訳訂正１７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４７】
本シリコーン組成物は、スピン・コーティング、浸含、噴霧、ブラッシング、またはスクリーン印刷のような如何なる従来の方法を使用しても、該基板表面へと適用され得る。本シリコーン組成物は典型的に、５〜６０秒間、２００〜５，０００ｒｐｍのスピードにてスピン・コーティングされることにより適用される。このスピン・スピード、このスピン時間、および本シリコーン組成物の粘度は、ステップ（ｖ）において生産されるシリコーンコアが所望の厚さを持つように、調整され得る。
【誤訳訂正１８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５１】
該パターンフィルムはその後、充分な時間加熱され、５８９ｎｍの波長を持つ光に関して、２３℃において、１．３〜１．７、または１．４〜１．７、または１．４〜１．６の屈折率を持つシリコーンコアを少なくとも１つ形成する。該パターンフィルムは典型的に、充分な時間加熱されて、酸化または分解なしに、該シリコーン中最大架橋密度を達成する。該パターンフィルムは典型的に、１〜３００分５０〜３００℃の温度において、または１０〜１２０分７５〜２７５℃の温度において、または２０〜６０分２００〜２５０℃の温度において、加熱される。該パターンフィルムは、ホットプレートまたはオーブンのような従来設備を使用して、加熱され得る。該シリコーンコアは典型的に、１〜１００μｍ、または５〜５０μｍ、または８〜２０μｍの厚さ（高さ）を持つ。
【誤訳訂正１９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５２】
この第１の方法は更に、（ｖ）該基板および該シリコーンコアを、硬化可能なポリマー組成物を用いて被覆し、ポリマーフィルムを形成させること、および（ｖｉ）該ポリマーフィルムを硬化させて、被覆層を形成させることを含み得る。ここで、該被覆層は、該シリコーンコアの屈折率未満の屈折率を持つ。
【誤訳訂正２０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５３】
この硬化可能なポリマー組成物は、ステップ（ｖｉ）において硬化して、該シリコーンコアの屈折率未満の屈折率を持つ被覆層を形成させる如何なるポリマー組成物でもあり得る。該ポリマー組成物の硬化メカニズムは、限定されるものではない。該ポリマー組成物は、例えば、縮合または付加反応により、硬化され得る。硬化可能なポリマー組成物の例は、ヒドロシリル化により硬化可能なシリコーン組成物、縮合により硬化可能なシリコーン組成物、および過酸化物により硬化可能なシリコーン組成物のような硬化可能なシリコーン組成物；ポリエチレンおよびポリプロピレンのような硬化可能なポリオレフィン組成物；硬化可能なポリアミド組成物；硬化可能なエポキシ樹脂組成物；硬化可能なアミノ樹脂組成物；硬化可能なポリウレタン組成物；硬化可能なポリイミド組成物；硬化可能なポリエステル組成物；ならびに硬化可能なアクリル系樹脂組成物を包含するが、これらに限定されない。
【誤訳訂正２１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５４】
本方法の１実施形態では、この硬化可能なポリマー組成物は本発明のシリコーン組成物であり、ここで本シリコーン組成物は硬化して、該シリコーンコアの屈折率未満の屈折率を持つ被覆層を形成する。例えば、該シリコーンコアは、ビニル末端化ポリ（メチルフェニルシロキサン）を含むシリコーン組成物を使用して調製され得る一方、該被覆層は、ビニル末端化ポリジメチルシロキサンを含有するシリコーン組成物を使用して調製され得る。
【誤訳訂正２２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５５】
この硬化可能なポリマー組成物は、スピン・コーティング、浸含、噴霧、ブラッシング、またはスクリーン印刷のような如何なる従来の方法を使用しても、該シリコーンコアおよび該基板へと適用され得る。この硬化可能なポリマー組成物は典型的に、５〜６０秒間２００〜５０００ｒｐｍのスピードにおいて、スピン・コーティングにより適用される。このスピン・スピード、このスピン時間、およびこの硬化可能なポリマー組成物の粘度は、ステップ（ｖｉｉ）において生産される硬化被覆層が所望の厚さを持つように、調整され得る。
【誤訳訂正２３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５７】
該被覆層は、該シリコーンコアの屈折率未満の屈折率を持つ。該シリコーンコアおよび該被覆層の間での屈折率における相違の大きさは、該シリコーンコアおよび該基板の間での屈折率における相違に関して前記された通りである。また、該被覆層は典型的に、５〜２００μｍ、または１５〜５０μｍ、または２０〜３５μｍの厚さを持つ。
【誤訳訂正２４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５８】
本発明による平面光導波路組立品を製造する第２の方法は、
（ｉ）基板表面へシリコーン組成物を適用して、シリコーンフィルムを形成させ、ここで該シリコーン組成物が：
（Ａ）１分子につき平均少なくとも２つのシリコン結合アルケニル基を含有する有機ポリシロキサン；
（Ｂ）該組成物を硬化させるに充分な濃度の、１分子につき平均少なくとも２つのシリコン結合水素原子を含有する有機シリコン化合物；および
（Ｃ）触媒量の光活性化ヒドロシリル化触媒
を含み；
（ｉｉ）１５０〜８００ｎｍの波長を持つ照射へ該シリコーンフィルムの少なくとも１つの選択領域を露光させて、少なくとも１つの露光領域と少なくとも１つの非露光領域とを持つ部分露光フィルムを生産し；
（ｉｉｉ）該露光領域が実質的に現像溶媒中不溶性となり、該非露光領域が該現像溶媒中可溶性となるように、所定の時間該部分露光フィルムを加熱し；
（ｉｖ）該現像溶媒を用いて、この加熱されたフィルムの該非露光領域を除去して、パターンフィルムを形成させ；ならびに
（ｖ）該パターンフィルムを充分な時間加熱して、５８９ｎｍの波長を持つ光に対して２３℃において１．３〜１．７の屈折率を持つ少なくとも１つのシリコーンコアを形成させる
ステップを含み、ここで該基板が、該シリコーンコアの屈折率未満の屈折率を持つ。
【誤訳訂正２５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６２】
第２の方法は更に、（ｖｉ）硬化可能なポリマー組成物を用いて、該基板および該シリコーンコアを被覆し、ポリマーフィルムを形成させること、および（ｖｉｉ）該ポリマーフィルムを硬化させて、被覆層を形成させることを含み得、ここで、該被覆層は、該シリコーンコアの屈折率未満の屈折率を持つ。第２の方法のステップ（ｖｉ）および（ｖｉｉ）は、第１の方法のステップ（ｖ）および（ｖｉ）と同一である。
【誤訳訂正２６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６３】
本発明の第１または第２の方法により製造される平面光導波路組立品の１実施形態が、図１に示される。該光導波路組立品は、基板１０、該基板１０の一部分を被覆するシリコーンコア２０を含み、ここで、該シリコーンコア２０は、５８９ｎｍの波長を持つ光に対して２３℃において１．３０〜１．６５の屈折率を持ち、該基板１０は、該シリコーンコア２０の屈折率未満の屈折率を持つ。
【誤訳訂正２７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６４】
本発明の第１または第２の方法により製造される平面光導波路組立品のもう１つ別の実施形態が、図２に示される。該光導波路組立品は、基板１０、該基板１０の一部分を被覆するシリコーンコア２０を含み、ここで、該シリコーンコア２０は、５８９ｎｍの波長を持つ光に対して２３℃において１．３０〜１．６５の屈折率を持ち、被覆層３０が、該基板１０および該シリコーンコア２０を被覆する硬化したポリマー組成物を含み、ここで、該基板１０および該被覆層３０各々が、該シリコーンコア２０の屈折率未満の屈折率を持つ。
【誤訳訂正２８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６５】
本発明の方法は、ＨＴ製造プロセスに対してスケールアップ可能である。重要なことには、本方法は、単一の基板上で、多数の導波路の同時製造を可能にする。加えて、本方法は、従来のウェーハ製造技術（例えば、コーティング、露光、現像、硬化）及び設備を用いる。更に、本方法は、光パターン化可能なシリコーン組成物を使用し、これにより、余計なプロセスステップ、例えば、光パターン化可能でないポリマー組成物の使用に関係するフォトレジストの適用およびエッチングを省く。最後に、本発明のプロセスは高解像度を持ち、このことは、該プロセスが、臨界寸法を良好に保持しつつ、基板上の該シリコーンフィルムへとフォトマスクから画像を写すことを意味する。
【誤訳訂正２９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６６】
本発明の平面光導波路組立品は、良好な環境耐性、および広範な温度に亘る良好な熱安定性を呈し、特に、湿気耐性を呈する。また、本導波路組立品は、低い複屈折率および低い透過率損失を呈する。
【誤訳訂正３０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６７】
本発明の光導波路組立品は、減衰器、スウィッチ、スプリッター、ルーター、フィルター、および回折格子のような光学集積回路部品製造に使用され得る。
【誤訳訂正３１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００７０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００７０】
シリコンウェーハ上で硬化したシリコーンフィルムの厚さは、Ｔｅｎｃｏｒ Ｐ−１１表側面計（ＫＬＡ Ｔｅｎｃｏｒ、Ｍｉｌｐｉｔａｓ，ＣＡ）を使用して、決定された。フィルムの厚さは、該ウェーハのコーティングされた表面とコーティングされていない表面との間の段差において、測定された。厚さに関して報告された値（μ）は、同一のウェーハの異なる領域上で行われた３回の測定の平均を表す。
【誤訳訂正３２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００９４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００９４】
【図１】図１は、本発明の方法に従って製造される平面光導波路組立品の１実施形態の、横断面図を示す。
【図２】図２は、本発明の方法に従って製造される平面光導波路組立品のもう１つ別の第２の実施形態の、横断面図を示す。