【誤訳訂正書】
【提出日】平成22年8月16日(2010.8.16)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【書類名】  明細書
【発明の名称】  X線像のための平板記憶素子
【特許請求の範囲】
【請求項１】  Ｘ線光によって準安定性励起状態に据えられうる多くの記憶粒子（２０）であって、当該準安定性励起状態は活性化光で照射することによって不安定な励起状態へと転換可能であり、続いて当該不安定な励起状態は蛍光の放射によって分解される、記憶粒子（２０）を有し、且つ前記記憶粒子（２０）を一緒に保つことによって記憶層（１２）を形成するための透明な結合剤（２２）を有するＸ線像のための平板記憶素子であって、前記結合剤（２２）及び前記記憶粒子（２０）が実質的に同一の屈折率を有し、前記記憶粒子（２０）が、化学的に異なるが同一の結晶構造において結晶化している２つの塩によって形成される透明な塩の材料から成り、前記塩が混合結晶を形成することを特徴とする記憶素子。
【請求項２】  前記塩がそれらの陽イオン及び／又は陰イオンにおいて異なる、請求項１に記載の記憶素子。
【請求項３】  前記陽イオンがハロゲン化物イオンであることを特徴とする、請求項２に記載の記憶素子。
【請求項４】  前記結合剤（２２）が１．４〜約１．６の屈折率を有する透明なプラスチック材料であることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項に記載の記憶素子。
【請求項５】  前記記憶粒子（２０）の材料の屈折率及び／又は前記結合剤（２２）の屈折率が等方性であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載の記憶素子。
【請求項６】  前記記憶層（１２）の表面がコーティング層（１４）を帯びていることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項に記載の記憶素子。
【請求項７】  前記記憶層（１２）の裏側が活性化光を吸収する吸収層（１６）を帯びていることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか１項に記載の記憶素子。
【請求項８】  前記記憶層（１２）の裏側で、蛍光を反射する反射層（１６）が提供されることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか１項に記載の記憶素子。
【請求項９】  前記反射層（１６）が前記記憶層（１２）に結合している、請求項８に記載の記憶素子。
【請求項１０】  前記記憶層（１２）の背面が、Ｘ線光を吸収する材料の保護層（１８）を配置していることを特徴とする、請求項１〜９のいずれか１項に記載の記憶素子。
【請求項１１】  前記保護層（１８）が高い分類番号を有する金属から成る金属層である、請求項１０に記載の記憶素子。
【請求項１２】  前記金属層が鉛から成る金属層である、請求項１１に記載の記憶素子。
【請求項１３】  前記保護層（１８）が、前記記憶層（１２）に結合していることを特徴とする、請求項１０〜１２のいずれか１項に記載の記憶素子。
【請求項１４】  前記保護層（１８）が、接着層（１６）の使用によって前記記憶層（１２）に結合していることを特徴とする、請求項１３に記載の記憶素子。
【請求項１５】  前記保護層（１８）が同時に活性化光を吸収する吸収層（１６）の機能を有する、請求項１３又は１４に記載の記憶素子。
【請求項１６】  前記記憶層（１２）及び／又は前記コーティング層（１４）及び／又は前記吸収層（１６）及び／又は前記反射層（１６）及び／又は前記保護層（１８）が可屈曲性の層状構造を形成することを特徴とする、請求項１〜１５のいずれか１項に記載の記憶素子。
【請求項１７】  前記結合剤（２２）が液状で調製され、そして前記記憶粒子（２０）が液体結合剤（２２）中で分散され、そしてこの方法で得られた材料が薄いフィルム型の層を形成するために分散され、そして前記結合剤が続いて硬化されることを特徴とする、請求項１〜１６のいずれか１項に記載の記憶素子を製造する方法。
【請求項１８】  前記結合剤（２２）が、希釈されそして／あるいは加熱されて高度に液性の状態で調製されることを特徴とする、請求項１７に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は請求項１の前文に記載の、Ｘ線像のための平板記憶素子に関する。
【０００２】
この種類の記憶素子は、いわゆる記憶フィルムとして商業的に入手可能である。
【０００３】
前記の記憶フィルムによって、記憶粒子及び結合剤マトリックスによって形成した記憶層は光学的に不均質性であり、そして前記の不均質性の結果として、潜像の読み出しに使用される、活性化光の散乱、及び更には読み出した測定光の散乱が生じる。前記記憶素子の分解能は結果として不利に影響される。
【０００４】
上述した散乱効果が強いほど、前記の記憶粒子は小さくなる。しかし、小さい記憶粒子は前記記憶素子の高い分解能に関して逆に有利である。
【０００５】
故に本発明によって、光学的に均質な請求項１の前文に記載の記憶素子が、活性化光及び測定光の散乱が記憶層において起こらない様に製造されうる。
【０００６】
この目的は、請求項１に与えられる特徴を有する記憶素子によって、本発明に従い達成される。
【０００７】
本発明に従う記憶素子によって、一方の記憶素子の屈折率及び他方の結合剤の屈折率は、互いに調節される。活性化光及び測定光の散乱が起こる、光学的な内部の結合表面がその結果消失する。記憶層の全体が光学的に単一成分材料の様にふるまう。
【０００８】
向上した分解能が、この様に本発明に従う記憶素子によって得られる。
【０００９】
本発明の有利な展開はサブクレイム中に与えられている。
【００１０】
請求項２に記載の、一緒に結晶化している異なる塩が、前記記憶粒子のために一緒に使用されるならば、屈折率は非常に広い範囲内で単純に調節されうる。それは、結合剤の屈折率の幅広い範囲を覆い、あらかじめ決定した結合剤の屈折率に正確に達成するために、前記の２つの塩が提供される比率の相当する変動によって可能である。
【００１１】
好ましくは１．４〜１．６の屈折率は、請求項６に記載の結合剤のために選択される。大多数の異なる塩の組成物は、選択が前記の大多数のもの、換言すれば、含まれうる他のパラメーター、例えば形成される色中心の好ましい励起波長に影響する前記の塩の特定の単位胞のサイズ、から行なわれる様に、屈折率の前記範囲が実現されうることで結果として利用可能となる。
【００１２】
請求項１７に記載の本発明の発展も、例えば異方性材料にもってもたらされるであろう、わずかな残留性の光の散乱を阻止する。
【００１３】
請求項８に記載の本発明の発展は、例えば光の運動方向に向かって見られる記憶層の結合表面の表面上での反射によって得られるであろう、分解能の劣化を阻止する。
【００１４】
請求項９に記載の本発明の発展により、前記記憶層の裏側での活性化光の反射は排除される。Ｘ線像の読み出しの更に向上した空間的な分解能がそれによって得られる。
【００１５】
請求項１０に記載の記憶素子によって、蛍光の収量が向上するのは、裏の半分の空間に放射される光が表側に向かって反射されるためである。前記記憶フィルムの感度は、この方法において２の因数によって向上する。
【００１６】
請求項１１に記載の本発明の発展は、歯が顎の後側に保持した記憶素子を用いてＸ線照射される患者に対する放射線処理量を最小化する観点における利点を有するものである。
【００１７】
請求項１２に記載の本発明の発展は、前記記憶素子の単純な操作の観点における利点を有するものである。前記記憶素子全体が、この様に折りたたみの形成無しに曲げられることもある。
【００１８】
請求項１３に与えられる様な記憶素子は、曲面、例えば顎の湾曲に効果的に適合されうる。
【００１９】
請求項１４に与えた方法は、前記結合剤も記憶粒子の周りに微視的な観点から正確にポジティブに適合することを保証する。従って、順番に重ねて散乱中心を表すことがある、わずかな空気の混入又はくぼみも生じない。
【００２０】
本発明は、下文の図に関する態様から詳細に説明されるだろう。
【００２１】
図１は、歯のＸ線照射の間に、従来の歯のフィルムの代わりに使用されうる柔軟な記憶素子１０中の断面を示す。前記記憶素子は、組成が下文で更に大きく詳細に記載されるであろう中心の記憶層１２、表面のコーティング層１４、裏面の反射／吸収層１６及び後者のものの更に裏側に存在する鉛フィルムを有する。前記の反射／吸収層１６は、レーザー光を用いて逐一読み出す間に前記記憶素子から放出される様な蛍光を反射し、そして前記記憶素子が逐一読み出すために使用されるレーザーの励起光を吸収する。その結果、前記記憶素子１０の内部で生じる蛍光は、完全に前記記憶素子１０の表側に向かって放射される。
【００２２】
前記の反射層は相当する干渉層によって形成されうる。それはその一部のために更に他方の背面に一方が存在している２つの副次的な層から生成されることもあり、例えば、表面の副次的な層は蛍光の反射にとって重要であり、そして裏面の副次的な層はレーザーの励起光を吸収する。
【００２３】
金属、例えばアルミニウムが前記の反射する副次的な層に使用されうる。前記の層は、続いて単純に記憶層１２の裏側に蒸着されうる。この代わりに、例えばＢａＳＯ4 の粉末から成る、反射する副次的な層として拡散して反射する粉末の層を使用することも可能である。ＢａＳＯ4 は、本明細書で注目する波長の光にとって特に高度な反射因子を特徴とする。
【００２４】
様々な層が、一体の層状構造を形成するために結合しており、この中で記憶層１２とコーティング層１４又は吸収層１６との間の結合は、２つの終わりに言及した層のｉｎ−ｓｉｔｕ適用によって、例えば蒸発によって又は相当するインクの焼き付け及び溶媒などの蒸気化によって得られる。前記の鉛フィルム１８は、接着性の薄層によって前記吸収層１６の裏側に結合している。
【００２５】
前記記憶層１２は、図面において小さな球体として単純化されて示されているが、実際には精巧な塩の研磨によって得られる様な不規則な形状を有する、多数の記憶粒子２０を含んで成る。前記記憶粒子２０は、好ましくは次の表１に与えられる群から選択される透明な有機性結合剤である透明な結合剤によって一緒に保たれる：
【表１】
2002533737.tif 000001
【００２６】
可視光についての上文で言及したプラスチックの屈折率を図面の図４に示す。
【００２７】
図４において、無色明澄な結合剤は、追加として星で提示される。
【００２８】
前記記憶粒子２０は、準安定性の励起状態が衝突しているＸ線光との相互作用によって生じる材料から成る。前記の準安定状態は、典型的に少なくとも数分の寿命を有する。活性化光が前記の準安定状態の吸収帯に照射されるので、不安定な励起状態が得られ、続いて蛍光の発光によって基底状態に進む。
【００２９】
適当な準安定状態は、実際問題として、とりわけ格子欠陥、さもなければ不純原子によって形成される、結晶格子の欠陥に基づいている。従って、ハロゲン化アルキル結晶において、例えば陰イオンの欠陥は準安定的に電子を貯蔵し、このことはＸ線吸収の間加速されて、そしていわゆる色中心を形成しうる。空孔は前記金属のＶ中心において又は不純原子上で準安定状態を形成しうる。
【００３０】
前記記憶層１２における潜在的なＸ線像を生成する能力は、前記記憶粒子２０の色中心に帰因する。活性化光を見る又は後者によって引き起こされる蛍光を見る屈折率は、まず第１に前記記憶粒子２０又は前記結合剤２２の巨視的な屈折角の指数に依存する。
【００３１】
前記の２つの屈折率が互いに調節されるので、活性化光の使用により準安定化状態を空にすることによって生じる活性化光及び蛍光の散乱は阻止される。潜在的なＸ線光のための再現装置の一部を形成する、光検出器で検出される蛍光は、それ故に前記記憶素子の照射される、逐次読み出される表面と正確に相関しうる。
【００３２】
記憶素子２０及び結合剤２２の屈折率の調節は、アルカリハロゲン化物の場合において、記憶素子２０の基本的な材料の具体的な選択によって幅広い範囲で行われうる。以下の表２は純粋なアルカリハロゲン化物の屈折率の概要を与える：
【表２】
2002533737.tif 000002
【００３３】
前記のアルカリハロゲン化物は幅広い範囲（同一の結晶分類）に及んで全てが互いに混和性であるので、得られる混合した結晶の反射率は２つの異なる塩の混合によって、幅広い範囲で変化しうる。例えば、ＫＣｌとＲｂＢｒとの混合結晶が考慮され、そして前記混合結晶の組成がＫx Ｒｂ1-x Ｃｌy Ｂｒ1-y （ここで、ｘ及びｙはそれぞれ０〜１の範囲にある）として記述されるならば、ｘ及びｙが０〜１の間を変化することによって、１，４９０〜１，５５９の屈折率の調節範囲が得られる。
【００３４】
欠陥が前記の混合結晶において、例えば０．１mol ％Ｔｌ+ の添加によって形成されるならば、低濃度なので、ドーピングは０．１％以下の混合結晶の屈折率に対して極めて小さな効果を有する。
【００３５】
前記屈折率の調節を保証する第２の手段は結合剤の選択であり、この中で異なる屈折率は単量体の性質に従い異なる結合剤について得られる。いくつかの結合剤にとって、前記屈折率は、更に、鎖長及び架橋に影響を与えることで範囲内で変化しうる。このことは、図４において再現される様々なプラスチック材料の屈折率の表示から識別可能である。
【００３６】
典型的に、前記記憶粒子の直径は約１０μｍに達し、前記記憶層の厚さは１００μｍに達する。
【００３７】
更に図４から、ガラスも結合剤とみなされることが読みとられ、この中で屈折率は前記ガラスの組成によって、より大きな範囲に及んで調節されうる。
【００３８】
前記記憶素子の強さ及び過度に高くない温度での記憶素子の製造性の観点から、有機性の結合剤が好ましい。
【００３９】
前記のコーティング層は、常用の方法、例えば適当な屈折率を有し、かつ適当な厚さを有する材料の蒸発によって製造される。前記吸収層１６は、前記潜像の読み出しに使用されるレーザー光を吸収する材料から製造され、そしてインクの様に蒸着又は焼き付けされうる。
【００４０】
図２において、様々な記憶粒子２０は相の対象物として現われる。従ってコップ一杯の水に据えられているガラスビーズのものの様に顕微鏡的に同一の像がそこで得られる。
【００４１】
記憶粒子２０及び結合剤２２の屈折率が互いに調節されるので、前記の相の対象物が消失し、そしてそこでは前記記憶素子にいついての図３において再現される外観が得られる：後者のものは潜在性のＸ線像の読み出しに使用されるレーザー光にとって均質なガラス板の様にふるまう。
【００４２】
上文で既に言及した様に、記憶粒子は、実際には小さいレベルを有する研磨した材料の形状を有する。更に、微視的なくぼみのない、結合剤中での記憶粒子の包埋を得るために次の手順が前記記憶層１２の製造の間採用される：
【００４３】
結合剤２２を液状で調製する。前記記憶粒子２０は液体結合剤２２中で均質に分配される。この方法で得た材料は薄層に払い落とされ、そして前記結合剤は続いて、相当の厚さを有する記憶フィルムが得られる様に硬化される。
【００４４】
前記結合剤は、更に好ましくは、希釈されそして／あるいは加熱されて高度に液状で調製される。
【図面の簡単な説明】
【図１】
図１は、記憶素子の面に対して垂直に据えられる、歯のＸ線照射における使用のための可屈曲性記憶素子中の拡大断面を示す。
【図２】
図２は、記憶素子の記憶粒子及び結合剤の屈折率が異なる場合に得られる様な、記憶素子中の図を示す。
【図３】
図３は、記憶粒子及び結合剤の屈折率が等しい場合に得られる様な、図２と類似の図面を示す。
【図４（上部）】
図４（上部）は、選択される透明なプラスチック材料の屈折率のグラフ図を示す。
【図４（下部）】
図４（下部）は、選択される透明なプラスチック材料の屈折率のグラフ図を示す。