【手続補正書】
【提出日】平成22年2月4日(2010.2.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電磁エネルギーを画像化するための画像化システムであって、
該電磁エネルギーを受けて、そのように受けられる該電磁エネルギーに応じてサンプリングデータを発生させるための検出器であって、該検出器は、該サンプリングデータが、ｉ）閾値未満、すなわちそのように受けられる該電磁エネルギーの強さが該閾値点を下回る状態、およびｉｉ）閾値超、すなわち、該電磁エネルギーの強さが該閾値点を上回る状態、という２つの状態のうちの１つにあるような閾値点を特徴とする、検出器と、
該サンプリングデータの特徴を提供するための飽和光学素子と
を含み、
閾値未満の場合の該サンプリングデータの特徴が、閾値超の場合の該サンプリングデータの該特徴とは異なる、画像化システム。
【請求項２】
前記サンプリングデータが、サンプリング点像強度分布関数（「ＰＳＦ」）を含む、請求項１に記載の画像化システム。
【請求項３】
閾値超の場合、前記サンプリングＰＳＦが飽和されている、請求項２に記載の画像化システム。
【請求項４】
閾値超の場合、前記サンプリングＰＳＦが、円形の輪郭線および閉じている輪郭線のうちの１つを示す、請求項３に記載の画像化システム。
【請求項５】
前記画像化システムは、飽和される場合に、前記サンプリングＰＳＦが、視野内に配置されている高照度の物体と該視野の外に配置されている物体とについて異なる特徴を示す視野を特徴とする、請求項３に記載の画像化システム。
【請求項６】
前記画像化システムは、飽和される場合に、前記サンプリングＰＳＦが、視野内の異なる場所に配置されている高照度の物体について異なる特徴を示す視野を特徴とする、請求項３に記載の画像化システム。
【請求項７】
前記画像化システムが、中に存在する浮遊電磁エネルギーを含み、前記サンプリングＰＳＦに従って、該浮遊電磁エネルギーに関連する前記サンプリングデータの一部を修正するための信号プロセッサをさらに含む、請求項６に記載の画像化システム。
【請求項８】
前記サンプリングＰＳＦに従って、前記サンプリングデータを処理するための信号プロセッサをさらに含む、請求項２に記載の画像化システム。
【請求項９】
飽和光学素子が、前記電磁エネルギーを前記検出器の方へ指向するための画像化光学素子と、該電磁エネルギーの波面を修正するための位相修正光学素子とを含む、請求項１に記載の画像化システム。
【請求項１０】
前記位相修正光学素子が、前記画像化光学素子と一体に形成される、請求項９に記載の画像化システム。
【請求項１１】
前記飽和光学素子が、複数回の対称性を提供するセグメントの配置を含む、請求項１に記載の画像化システム。
【請求項１２】
前記セグメントの１つ１つが、前記飽和光学素子の中心からの動径ベクトルに対して垂直な直線に沿った一次関数により記述可能な表面サグを特徴する、請求項１１に記載の画像化システム。
【請求項１３】
前記一次関数が、
【数１】
2009542044.tif 000001
を含み、ここで、
【数２】
2009542044.tif 000002
である、請求項１２に記載の画像化システム。
【請求項１４】
前記一次関数が、
ｓａｇ（ｘ）＝−２ｘ＋２ｘ９
を含む、請求項１３に記載の画像化システム。
【請求項１５】
前記セグメントの各々が、異なる表面プロファイルを有する少なくとも内側領域および外側領域をさらに含む、請求項１１に記載の画像化システム。
【請求項１６】
前記複数のセグメントの外側領域が、均一であり一定である、請求項１５に記載の画像化システム。
【請求項１７】
前記複数のセグメントの外側領域が、平滑化関数により修正される、請求項１５に記載の画像化システム。
【請求項１８】
前記平滑化関数が、シグモイドを含む、請求項１７に記載の画像化システム。
【請求項１９】
前記シグモイドが、相補誤差関数（「ｅｒｆｃ」）を含む、請求項１８に記載の画像化システム。
【請求項２０】
前記配置が、寸法が均一なセグメントを含む、請求項１１に記載の画像化システム。
【請求項２１】
前記配置が、８回折りたたみの対称性を示す８つのセグメントを含む、請求項２０に記載の画像化システム。
【請求項２２】
前記データが閾値を上回る場合に、前記サンプリングＰＳＦが所定のパターンを示す、請求項２１に記載の画像化システム。
【請求項２３】
前記所定のパターンが、星状パターン、およびディジタル透かしのうちの１つを含む、請求項２２に記載の画像化システム。
【請求項２４】
前記ディジタル透かしが、前記画像化システムを軸外および視野外照明で照明することにより可視となる、請求項２３に記載の画像化システム。
【請求項２５】
前記配置のセグメントのうちの少なくとも１つは、前記配置内の他のセグメントと比較すると寸法が異なる、請求項１１に記載の画像化システム。
【請求項２６】
画像化システム内で使用するための位相修正光学素子であって、
複数の扇形を含む一定プロファイル経路フォームであって、該複数の扇形の各々は、動径ベクトルに対応する中心線に沿った一次数学的関数により記述可能な表面サグ（「ｓａｇ（ｘ）」）を含み、該動径ベクトルは、円形瞳関数の中心において原点ｘ＝０を有し、ｘ＝ｘｍａｘにおいて、翼弦線の中点を通過し、複数の直線のセグメントが該中心線に対して垂直であり、該中心線に沿ったｓａｇ（ｘ）に等しい値を有し、
該一次数学的関数が、
ｓａｇ（ｘ）＝−２ｘ＋２ｘ９であり、ここで、
【数３】
2009542044.tif 000003
である、位相修正光学素子。
【請求項２７】
前記複数の扇形の各々が、異なる表面プロファイルを有する少なくとも内側領域および外側領域をさらに含む、請求項２６に記載の位相修正光学素子。
【請求項２８】
前記複数の扇形の外側領域が、均一であり一定である、請求項２７に記載の位相修正光学素子。
【請求項２９】
前記一定プロファイル経路フォームの平滑化関数による修正をさらに含む、請求項２６に記載の位相修正光学素子。
【請求項３０】
前記平滑化関数が、シグモイドを含む、請求項２９に記載の位相修正光学素子。
【請求項３１】
前記シグモイドが、相補誤差関数（「ｅｒｆｃ」）を含む、請求項３０に記載の位相修正光学素子。
【請求項３２】
前記複数の扇形の寸法が同じである、請求項２６に記載の位相修正光学素子。
【請求項３３】
前記複数の扇形の少なくとも１つは、該複数の扇形の他のものと比較して寸法が異なる、請求項２６に記載の位相修正光学素子。
【請求項３４】
画像化システム内で使用するための瞳関数を設計するための方法であって、
瞳関数を選択することと、
該画像化システムおよび該瞳関数の特徴を考慮してサンプリングＰＳＦを計算することと、
選択される測定基準に従って該サンプリングＰＳＦを評価することと、
該サンプリングＰＳＦが該選択される測定基準内にない場合には、
１組のパラメータ修正を用いて該瞳関数を修正することと、
該サンプリングＰＳＦが該選択される測定基準内になるまで、該瞳関数を評価することと修正することとを反復することと
を含む、方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
一実施形態において、画像化システム内で使用するための瞳関数を設計する方法が開示される。この方法は、瞳関数を選択することと、画像化システムの特徴および瞳関数を考慮してサンプリングＰＳＦを計算することとを含む。この方法はさらに、選択される測定基準に応じてサンプリングＰＳＦを評価することと、サンプリングＰＳＦが、選択される測定基準内にならない場合、１組のパラメータ修正により瞳関数を修正することと、サンプリングＰＳＦが、選択される測定基準内になるまで、瞳関数の評価することと修正することとを反復することと、を含む。
例えば、本発明は以下の項目を提供する。
（項目１）
電磁エネルギーを画像化するための画像化システムであって、
該電磁エネルギーを受けて、そのように受けられる該電磁エネルギーに応じてサンプリングデータを発生させるための検出器であって、該検出器は、該サンプリングデータが、ｉ）閾値未満、すなわちそのように受けられる該電磁エネルギーの強さが該閾値点を下回る状態、およびｉｉ）閾値超、すなわち、該電磁エネルギーの強さが該閾値点を上回る状態、という２つの状態のうちの１つにあるような閾値点を特徴とする、検出器と、
該サンプリングデータの特徴を提供するための飽和光学素子と
を含み、
閾値未満の場合の該サンプリングデータの特徴が、閾値超の場合の該サンプリングデータの該特徴とは異なる、画像化システム。
（項目２）
上記サンプリングデータが、サンプリング点像強度分布関数（「ＰＳＦ」）を含む、項目１に記載の画像化システム。
（項目３）
閾値超の場合、上記サンプリングＰＳＦが飽和されている、項目２に記載の画像化システム。
（項目４）
閾値超の場合、上記サンプリングＰＳＦが、円形の輪郭線および閉じている輪郭線のうちの１つを示す、項目３に記載の画像化システム。
（項目５）
上記画像化システムは、飽和される場合に、上記サンプリングＰＳＦが、視野内に配置されている高照度の物体と該視野の外に配置されている物体とについて異なる特徴を示す視野を特徴とする、項目３に記載の画像化システム。
（項目６）
上記画像化システムは、飽和される場合に、上記サンプリングＰＳＦが、視野内の異なる場所に配置されている高照度の物体について異なる特徴を示す視野を特徴とする、項目３に記載の画像化システム。
（項目７）
上記画像化システムが、中に存在する浮遊電磁エネルギーを含み、上記サンプリングＰＳＦに従って、該浮遊電磁エネルギーに関連する上記サンプリングデータの一部を修正するための信号プロセッサをさらに含む、項目６に記載の画像化システム。
（項目８）
上記サンプリングＰＳＦに従って、上記サンプリングデータを処理するための信号プロセッサをさらに含む、項目２に記載の画像化システム。
（項目９）
飽和光学素子が、上記電磁エネルギーを上記検出器の方へ指向するための画像化光学素子と、該電磁エネルギーの波面を修正するための位相修正光学素子とを含む、項目１に記載の画像化システム。
（項目１０）
上記位相修正光学素子が、上記画像化光学素子と一体に形成される、項目９に記載の画像化システム。
（項目１１）
上記飽和光学素子が、複数回の対称性を提供するセグメントの配置を含む、項目１に記載の画像化システム。
（項目１２）
上記セグメントの１つ１つが、上記飽和光学素子の中心からの動径ベクトルに対して垂直な直線に沿った一次関数により記述可能な表面サグを特徴する、項目１１に記載の画像化システム。
（項目１３）
上記一次関数が、
【数１】
2009542044.tif 000004
を含み、ここで、
【数２】
2009542044.tif 000005
である、項目１２に記載の画像化システム。
（項目１４）
上記一次関数が、
ｓａｇ（ｘ）＝−２ｘ＋２ｘ９
を含む、項目１３に記載の画像化システム。
（項目１５）
上記セグメントの各々が、異なる表面プロファイルを有する少なくとも内側領域および外側領域をさらに含む、項目１１に記載の画像化システム。
（項目１６）
上記複数のセグメントの外側領域が、均一であり一定である、項目１５に記載の画像化システム。
（項目１７）
上記複数のセグメントの外側領域が、平滑化関数により修正される、項目１５に記載の画像化システム。
（項目１８）
上記平滑化関数が、シグモイドを含む、項目１７に記載の画像化システム。
（項目１９）
上記シグモイドが、相補誤差関数（「ｅｒｆｃ」）を含む、項目１８に記載の画像化システム。
（項目２０）
上記配置が、寸法が均一なセグメントを含む、項目１１に記載の画像化システム。
（項目２１）
上記配置が、８回折りたたみの対称性を示す８つのセグメントを含む、項目２０に記載の画像化システム。
（項目２２）
上記データが閾値を上回る場合に、上記サンプリングＰＳＦが所定のパターンを示す、項目２１に記載の画像化システム。
（項目２３）
上記所定のパターンが、星状パターン、およびディジタル透かしのうちの１つを含む、項目２２に記載の画像化システム。
（項目２４）
上記ディジタル透かしが、上記画像化システムを軸外および視野外照明で照明することにより可視となる、項目２３に記載の画像化システム。
（項目２５）
上記配置のセグメントのうちの少なくとも１つは、上記配置内の他のセグメントと比較すると寸法が異なる、項目１１に記載の画像化システム。
（項目２６）
画像化システム内で使用するための位相修正光学素子であって、
複数のセグメントを含む一定プロファイル経路表面であって、該複数のセグメントの各
々は、該位相修正光学素子の中心からの動径ベクトルに対して垂直な直線に沿った一次関数により記述可能な表面サグを含む、一定プロファイル経路表面を含む、位相修正光学素子。
（項目２７）
上記一次関数が、
【数３】
2009542044.tif 000006
を含み、ここで、
【数４】
2009542044.tif 000007
である、項目２６に記載の位相修正光学素子。
（項目２８）
上記一次関数が、
ｓａｇ（ｘ）＝−２ｘ＋２ｘ９
を含む、項目２７に記載の位相修正光学素子。
（項目２９）
上記複数の扇形の各々が、異なる表面プロファイルを有する少なくとも内側領域および外側領域をさらに含む、項目２７または２８に記載の位相修正光学素子。
（項目３０）
上記複数の扇形の外側領域が、均一であり一定である、項目２９に記載の位相修正光学素子。
（項目３１）
上記一定プロファイル経路表面の、平滑化関数による修正をさらに含む、項目２６に記載の位相修正光学素子。
（項目３２）
上記平滑化関数が、シグモイドを含む、項目３１に記載の位相修正光学素子。
（項目３３）
上記シグモイドが、相補誤差関数（「ｅｒｆｃ」）を含む、項目３２に記載の位相修正光学素子。
（項目３４）
上記複数のセグメントの寸法が同じである、項目２６に記載の位相修正光学素子。
（項目３５）
上記複数のセグメントの少なくとも１つは、該複数のセグメントの他のものと比較して寸法が異なる、項目２６に記載の位相修正光学素子。
（項目３６）
画像化システム内で使用するための瞳関数を設計するための方法であって、
瞳関数を選択することと、
該画像化システムおよび該瞳関数の特徴を考慮してサンプリングＰＳＦを計算することと、
選択される測定基準に従って該サンプリングＰＳＦを評価することと、
該サンプリングＰＳＦが該選択される測定基準内にない場合には、
１組のパラメータ修正を用いて該瞳関数を修正することと、
該サンプリングＰＳＦが該選択される測定基準内になるまで、該瞳関数を評価することと修正することとを反復することと
を含む、方法。