【手続補正書】
【提出日】平成22年7月13日(2010.7.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入射電磁測定波を提供し、
到来波の波面を再形成する様に構成されている２つの回折構造を提供し、
前記入射測定波を少なくとも一つの回折構造に放射することで、回折構造の少なくとも一つを較正して、該較正済の回折構造と少なくとも一つの被較正回折構造との相互作用の後に、所望形状からの実際形状の較正偏差を決定し、
前記２つの回折構造を前記入射測定波の光路に配置して、前記測定波の各光線が両方の前記回折構造を経て放射し、前記２つの回折構造により前記入射測定波を再形成して、前記光学表面の前記所望形状に適合した適合済測定波を形成し、
前記光学表面を、前記適合済測定波の前記光路に配置し、前記適合済測定波と前記光学表面とを相互作用させ、
前記適合済測定波と前記光学表面とを相互作用させた後に前記適合済測定波の前記波面を測定すること
を含むことを特徴とする、光学表面の実際形状の所望形状からの偏差を測定する方法。
【請求項２】
前記２つの回折構造が、それぞれ前記到来波の波面を再形成するように構成され、かつ、前記入射測定波の前記光路で順番に配置されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記回折構造が、それ自体の基板上にそれぞれ配置されることを特徴とする、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記２つの回折構造が共通の基板上に重ねられることを特徴とする、請求項１〜３に記載の方法。
【請求項５】
前記少なくとも一つの回折構造を較正するときに生成される前記測定波の前記所望波面が球面形状を有するように、前記回折構造が構成され、かつ、前記適合済測定波の前記波面が回転対称の非球面形状を有し、特に円錐断面、軸外非球面形状、および／または、自由形状表面であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記少なくとも一つの回折構造を較正するときに生成される前記測定波の前記所望波面が円錐断面形状を有するように、前記回折構造が構成され、かつ、前記適合済測定波の前記波面が円錐断面または自由形状表面形状とは異なる回転対称非球面形状を有することを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記少なくとも一つの回折構造を較正するときに生成される前記測定波の前記所望波面が回転対称非球面形状を有するように、前記回折構造が構成され、かつ、前記適合済測定波の前記波面が前記自由形状表面を有することを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記少なくとも一つの回折構造を較正するときに生成される前記測定波の前記所望波面が第一半径の球面形状を有するように、前記回折構造が構成され、かつ、前記適合済測定波の前記波面が第二半径の球面形状を有することを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記入射測定光を再形成して前記適合済測定波を形成する場合に、前記２つの回折構造のうちの第一回折構造が波面再形成の大部分を担い、かつ、該第一回折構造が較正されていることを特徴とする、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記回折構造のうちの一つの線密度が１ミリメートル当たり最大３０本である、請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記較正偏差を考慮して、前記適合済み測定波の測定済みの波面から、前記光学表面の前記所望形状からの前記実際形状の偏差を決定するステップを更に含む、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
適合済測定波を形成するための前記入射測定波の再形成は、
前記光学表面の前記所望形状に近似させた前記波面を有する近似測定波を形成するように、前記２つの回折構造のうちの第一回折構造により前記入射測定波を再形成するステップと、
前記適合済測定波を形成するように、前記適合済測定波の前記光路に配置された前記第二回折構造により、前記近似測定波の少なくとも一部を再形成するステップと、
を含む、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
前記第一回折構造が較正されている、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記近似測定波の伝播方向に対して、前記適合済測定波の伝播方向が傾斜している、請求項１２または１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記近似測定波が球面波面を有する、請求項１２〜１４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６】
前記近似測定波の波面が実質的に前記光学表面の最適球面形状を有する、請求項１２〜１５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１７】
前記近似測定波が非球面波面を有する、請求項１２〜１４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１８】
前記第二回折構造が基板上に配置されており、かつ、前記近似測定波が前記第二回折構造に供される基板厚を有する平面平行プレートを通過する際に、前記近似測定波の少なくとも一部が再形成されて較正波を形成するように、前記近似測定波の波面が構成されており、前記較正波の波面は、円錐断面形状、特に、球面形状の断面を有することを特徴とする、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記近似測定波が前記第二回折構造により再形成され、前記適合済測定波及び較正波を形成する、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記近似測定波の非球面波面が円錐断面形状を有する、請求項１７〜１９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２１】
前記近似測定波の非球面波面が回転対称である、請求項１７〜２０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２２】
前記２つの回折構造のうちの一つを較正する際に、前記測定波と前記被較正回折構造との相互作用の後に、前記測定波の実際の波面形状が絶対的に決定されることを特徴とする請求項１〜２１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２３】
前記被較正回折構造を較正する際に、前記測定波と前記被較正回折構造との相互作用の後に、円錐断面形状の較正物体、特に較正球面上で、前記測定波が反射し、干渉的に測定されることを特徴とする、請求項１〜２２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２４】
前記較正物体の形状が絶対的に決定される、請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
前記被較正回折構造を較正する際に、前記測定波と測定されるべき波形要素との相互作用の後に、前記測定波の非回転対称誤差が絶対的に決定される、請求項１〜２４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２６】
前記二つの回折構造は回折素子の一部を形成し、前記回折素子は、
キャリアと、該キャリア上に備えられた、少なくとも一つの領域に延在する複数の細長い回折素子を含む回折構造とを含み、
前記少なくとも一つの領域に少なくとも第一型の回折素子及び第二型の回折素子を備え、前記回折素子の長手方向に対して横方向からみると、第一型回折素子及び第二型回折素子が交互に配列して第一回折構造を形成し、
前記第一型の回折素子及び前記第二型の回折素子が相互に異なる光学特性を有し、
少なくとも一つの領域において、少なくとも第一型の細長いバンドおよび第二型の細長いバンドが平面に延在して第二回折構造を形成し、
少なくとも一つの領域において、前記第一型のバンド及び前記第二型のバンドが、バンドの長手方向に対して横方向からみると、交互に配置し、
前記第一のバンド及び前記第二型のバンドはバンド内の回折素子の配列パターンが異なる、
ことを特徴とする、請求項１または請求の範囲４〜２５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２７】
前記第一型バンド内の、第一型及び第二型のバンド回折素子は交互に配置され、前記第二型のバンドは、第一型及び第二型の回折素子を含まないことを特徴とする、請求項２６に記載の方法。
【請求項２８】
前記第一型バンド及び第一バンドに直接隣接する前記第二型バンドが、前記第一型及び第二型の回折素子の配列パターンが、実質的に等しい局所周波数を有するが、実質的に逆の位相を有して配置されることを特徴とする、請求項２６または２７に記載の方法。
【請求項２９】
交互に配置される前記第一型及び第二型の回折素子が位相格子を形成することを特徴とする、請求項２６〜２８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３０】
交互に配置される前記第一型及び第二型の回折素子が振幅格子を形成することを特徴とする、請求項２６〜２８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３１】
請求項１〜３０のいずれか一項に記載の方法を実施するために設定されている、光学表面の所望形状からの実際形状の偏差を決定するための装置を用いること、
前記オーバーグレーチングにより第一回折次数で回折する測定放射が、前記光学表面に実質的に垂直に当たるように、前記測定波に光学素子を配置すること、
少なくとも第一強度分布を波面測定装置の検出器で記録すること、
少なくとも一つの記録された第一の強度配布に応じて従属して光学表面を処理すること
を含む、光学表面を有する光学素子を製造する方法。
【請求項３２】
前記第一回折次数とは異なる、第二回折次数で前記オーバーグレーチングにおいて回折する測定放射が前記較正物体の表面に略直角に当たるように、較正物体を測定波中に配置することと、
前記検出器を用いて、少なくとも第二強度分布を記録すること
を更に含む、請求項３１に記載の方法。
【請求項３３】
前記光学表面の処理が、少なくとも一つの記録された前記第二強度分布に応じて更に実施されることを特徴とする、請求項３２に記載の方法。
【請求項３４】
前記較正物体の表面が球面表面で、前記光学素子の光学表面が非球面表面であること、および／または
前記較正物体の表面が球面表面で、前記光学素子の光学表面が自由形状表面であること、および／または
前記較正物体の表面が回転対称非球面表面で、前記光学素子の光学表面が非球面表面であること、および／または
前記較正物体の表面が回転対称非球面表面で、前記光学素子の光学表面が自由形状表面であること、および／または
前記較正物体の表面が自由形状表面で、前記光学素子の光学表面が自由形状表面である
ことを特徴とする、請求項３２または３３に記載の方法。
【請求項３５】
前記第二回折次数は、前記第一回折次数の逆の回折次数である、請求項３１〜３４のいずれか一項に記載の方法。