【誤訳訂正書】
【提出日】平成22年1月12日(2010.1.12)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（１）マスク（２３）のサイズに対応する長さの擬似ランダムシーケンスを作るためのシフトレジスタ（８０）を用いて不規則乱雑なスペックルパターンを得、
（２）光源（１８）からのレーザー光を上記スペックルパターンによって変調して写真フィルム（１２）を露光し、
（３）このレーザ光によって露光された写真フィルム（１２）を現像し、
（４）上記露光された写真フィルム（１２）をホトレジストに接して配置し、
（５）上記感光性媒体内に不規則乱雑な面構造として不規則乱雑なスペックルパターンを記録するため上記現像された写真フィルム（１２）を介して上記ホトレジストを非干渉光源（２６）からの非干渉光によって露光する工程より成ることを特徴とするマスター光学面拡散体の作成方法。
【請求項２】
（１）シフトレジスタ（８０）を用いてマスク（２３）のサイズに対応する、ランダムパターンの特徴を作り、
（２）マスク（２３）内にランダムパターンの特徴を記録してランダムパターンマスクを作り、
（３）このランダムパターンマスクによってホトレジストを被覆し、
（４）この被覆されたホトレジストを非干渉光源（２６）からの非干渉光によって露光し、
上記ランダムパターンの特徴をマスクから上記ホトレジストにランダム表面構造として移す工程を含むことを特徴とするマスター光学面拡散体の作成方法。
【請求項３】
（１）イメージセッター（１０）のプリントドラム上にフィルム（１２）を置き、
（２）シフトレジスタ（８０）を用いてマスク（２３）のサイズに対応する擬似ランダムシーケンスを作り、
（３）上記フィルム（１２）を干渉光ビーム源（１８）からの干渉光で露光して上記擬似ランダムシーケンスでマスク（２３）を作り、
（４）プリントドラムから露光したフィルムを取り出し、
（５）このフィルムを現像してネガチブを作り、
（６）このネガチブをホトレジスト（２４）に隣接して配置し、
（７）上記ホトレジスト（２４）を上記ネガチブを介して非干渉光源（２６）を移動させて露光し、
（８）上記露光されたホトレジスト（２４）を現像してホトレジスト（２４）内に擬似ランダム面構造として上記擬似ランダムシーケンスを記録する工程とより成ることを特徴とするマスター面拡散体の作成方法。
【請求項４】
上記ネガチブを高分解能縮小器内で縮小せしめる工程を更に含むことを特徴とする請求項３記載の方法。
【請求項５】
上記縮小されたネガチブをステッパーマスクとして用いることを特徴とする請求項３記載の方法。
【請求項６】
上記非干渉光源（２６）が拡散光源であることを特徴とする請求項３記載の方法。
【請求項７】
（１）シフトレジスタ（８０）を用い、拡散体（３０）のサイズに等しい面積を越えてそれ自体繰り返されることがないような、拡散体（３０）のサイズに対応する不規則乱雑な特徴を拡散体（３０）内に作り、
（２）フィルム（１２）を、空間フィルタ（２９）と、不規則乱雑な特徴を有する拡散体（３０）を通る干渉光ビーム源（１８）からの光により露光し、
（３）上記露光されたフィルムを現像し、
（４）現像されたフィルムを高分解能縮小器を用いて縮小せしめたフィルムを得、
（５）この縮小されたフィルムをホトレジスト（２４）上に配置し、
（６）上記ホトレジスト（２４）を上記現像されたフィルムを介して非干渉光源（２６）からの非干渉光により露光し、
（７）上記露光されたホトレジスト（２４）を現像し、ホトレジスト（２４）内に不規則乱雑な面構造として不規則乱雑な特徴を記録する工程とより成ることを特徴とするマスター面拡散体の作成方法。
【請求項８】
（１）ガラス（５０）をクローム（４９）の層で被覆し、
（２）上記クローム（４９）の層を感光性媒体で被覆し、
（３）シフトレジスタ（８０）を用いてマスク（２３）のサイズに対応する大きさの、マスク（２３）を作るために用いられる擬似ランダム振幅を作り、
（４）上記感光性媒体を上記コンピュータ作成マスク（２３）を通した干渉光ビーム源（１８）からの干渉光によって露光し、感光性媒体露光部分と非露光部分とを作り、
（５）上記感光性媒体の未露光部分をエッチングにより除去し、クローム層（４９）の一部を露出し、
（６）露出されたクローム層部分を、露出されていないクローム層部分に影響しない方法でエッチングし、
（７）残存した感光性媒体を露出されていないクローム層部分から除去してクローム（４９）のエッチングされた層を作る工程とより成ることを特徴とするメタルマスター面拡散体の作成方法。
【請求項９】
（１）シフトレジスタ（８０）を用いてマスク（２３）のサイズに対応する、擬似ランダムパターンマスク（２３）を作るために用いられる擬似ランダムパターンの特徴を作り、
（２）マスク（２３）内に擬似ランダムパターンの特徴を記録するためイメージセッター（１０）を用いて擬似ランダムパターンマスク（２３）を作り、
（３）上記パターンマスクによってホトレジストを被覆し、
（４）上記ホトレジストを上記パターンマスク（２３）を通る非干渉光（２６）によって露光して擬似ランダムパターンの特徴を上記ホトレジストに移し、
（５）上記擬似ランダムパターンの特徴を上記ホトレジスト内で作るため上記ホトレジストをエッチングする工程とより成ることを特徴とするマスター面拡散体の作成方法。
【請求項１０】
ホトレジストが、ドラム上に被覆されていることを特徴とする請求項９記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３３】
#define mask 0x80000057
static unsigned long ShiftRegister=1;
void seed#LFSR (unsigned long seed)
[
if (seed = = 0) /* avoid calamity */
seed = 1;
ShiftRegister = seed;
]
int modified#LFSR (void)
[
if (ShiftRegister & 0x00000001) [
ShiftRegister = (ShiftRegister ^ mask) > > 1)  |
0x8000000;
return 1;
] else [
ShiftRegister  > > = 1;
return 0;
]
]
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３４
【訂正方法】削除
【訂正の内容】
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３５
【訂正方法】削除
【訂正の内容】
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３６
【訂正方法】削除
【訂正の内容】
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３７
【訂正方法】削除
【訂正の内容】
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３８
【訂正方法】削除
【訂正の内容】
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３９
【訂正方法】削除
【訂正の内容】
【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４０
【訂正方法】削除
【訂正の内容】
【誤訳訂正１０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４１
【訂正方法】削除
【訂正の内容】