Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月20日(2010.4.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ACPAと該ACPAにより認識されるシトルリン化抗原との免疫複合体でインビトロで活性化されたマクロファージにより産生されるTNF-αの量を減少させることができ、以下のペプチド：
ａ)配列X1PAPPPISGGGYX2AX3(配列番号１)(ここで、X1、X2及びX3は各々シトルリル残基又はアルギニル残基を表し、残基X2又はX3の少なくとも一方はシトルリル残基である)により規定されるペプチド；
ｂ)配列GPX1VVEX2HQSACKDS(配列番号２)(ここで、X1及びX2は各々シトルリル残基又はアルギニル残基を表し、残基X1又はX2の少なくとも一方はシトルリル残基である)により規定されるペプチド；
ｃ)配列SGIGTLDGFX1HX2HPD(配列番号３)(ここで、X1及びX2は各々シトルリル残基又はアルギニル残基を表し、残基X1又はX2の少なくとも一方はシトルリル残基である)により規定されるペプチド；
ｄ)配列VDIDIKIX1SCX2GSCS(配列番号４)(ここで、X1及びX2は各々シトルリル残基又はアルギニル残基を表し、残基X1又はX2の少なくとも一方はシトルリル残基である)により規定されるペプチド；
ｅ)配列X1GHAKSX2PVX3GIHTS(配列番号５)(ここで、X1、X2及びX3は各々シトルリル残基又はアルギニル残基を表し、残基X1、X2又はX3の少なくとも１つはシトルリル残基である)により規定されるペプチド；
ｆ)上記ペプチドａ)〜ｅ)の１つの、少なくとも１つのシトルリル残基を含む少なくとも５つの連続アミノ酸を含んでなるペプチド
から選択されることを特徴とする、医薬としての使用のためのシトルリン化ペプチド。
【請求項２】
以下：
−配列番号１の配列(ここで、少なくともX3はシトルリル残基である)により規定されるペプチド、又は該配列の前記シトルリル残基を含有する少なくとも５つの連続アミノ酸のフラグメントを含んでなるペプチド；
−配列番号２の配列(ここで、少なくともX2はシトルリル残基である)により規定されるペプチド、又は該配列の前記シトルリル残基を含有する少なくとも５つの連続アミノ酸のフラグメントを含んでなるペプチド；
−配列番号３の配列(ここで、少なくともX2はシトルリル残基である)により規定されるペプチド、又は該配列の前記シトルリル残基を含有する少なくとも５つの連続アミノ酸のフラグメントを含んでなるペプチド；
−配列番号４の配列(ここで、少なくともX1はシトルリル残基である)により規定されるペプチド、又は該配列の前記シトルリル残基を含有する少なくとも５つの連続アミノ酸のフラグメントを含んでなるペプチド；
−配列番号５の配列(ここで、少なくともX3はシトルリル残基である)により規定されるペプチド、又は該配列の前記シトルリル残基を含有する少なくとも５つの連続アミノ酸のフラグメントを含んでなるペプチド
からなる群より選択されることを特徴とする、請求項１に記載の医薬としての使用のためのシトルリン化ペプチド。
【請求項３】
以下：
−配列番号１の配列(ここで、X1、X2及びX3はシトルリル残基である)により規定されるペプチド、又は該配列を含んでなる少なくとも16アミノ酸のペプチド；
−配列番号２の配列(ここで、X1及びX2はシトルリル残基である)により規定されるペプチド、又は該配列の前記シトルリル残基を含有する少なくとも５つの連続アミノ酸のフラグメントを含んでなるペプチド；
−配列番号３の配列(ここで、X1及びX2はシトルリル残基である)により規定されるペプチド、又は該配列の前記シトルリル残基を含有する少なくとも５つの連続アミノ酸のフラグメントを含んでなるペプチド；
−配列番号４の配列(ここで、X1及びX2はシトルリル残基である)により規定されるペプチド、又は該配列の前記シトルリル残基を含有する少なくとも５つの連続アミノ酸のフラグメントを含んでなるペプチド；
−配列番号５の配列(ここで、X1、X2及びX3はシトルリル残基である)により規定されるペプチド、又は該配列の前記シトルリル残基を含有する少なくとも10の連続アミノ酸のフラグメントを含んでなるペプチド
からなる群より選択されることを特徴とする、請求項２に記載の医薬としての使用のためのシトルリン化ペプチド。
【請求項４】
配列番号１の配列(ここで、X1、X2及びX3はシトルリル残基である)により規定されるペプチド及び配列番号２の配列(ここで、X1及びX2はシトルリル残基である)により規定されるペプチドから選択されることを特徴とする、請求項３に記載の医薬としての使用のためのシトルリン化ペプチド。
【請求項５】
末端カルボキシル(COOH)官能基がカルボキサミド(CONH2)官能基で置換されていることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載の医薬としての使用のためのシトルリン化ペプチド。
【請求項６】
炎症性疾患の治療における使用のためであることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項に記載の医薬としての使用のためのシトルリン化ペプチド。
【請求項７】
前記炎症性疾患が慢性関節リウマチであることを特徴とする、請求項６に記載の医薬としての使用のためのシトルリン化ペプチド。
【請求項８】
ａ)抗シトルリン化ペプチド自己抗体(ACPA)を該ACPAと反応性のシトルリン化ペプチド抗原と、該ACPAと該シトルリン化抗原との免疫複合体の形成を可能にする条件下で接触させ；
ｂ)ａ)で形成した前記免疫複合体をマクロファージと、該免疫複合体による該マクロファージの活性化を可能にする条件下で接触させ、該マクロファージにより産生される少なくとも１つの炎症促進性サイトカインの量を決定し；
ｃ)工程ａ)及び工程ｂ)を繰返し(ここで、該両工程の一方及び/又は他方の工程は試験分子の存在下で繰り返される)；
ｄ)産生される炎症促進性サイトカインの量を前記試験分子の非存在下と存在下とで比較すること
を含んでなることを特徴とする、分子の炎症調整特性をインビトロで評価する方法。
【請求項９】
−  前記試験分子の各々を用いて請求項８に記載の方法を実施し；
−  マクロファージにより産生される炎症促進性サイトカインの量を改変し得る分子を選択すること
を含んでなることを特徴とする、炎症調整分子を選択する方法。
【請求項１０】
抗炎症性分子を選択する方法であり、マクロファージにより産生される炎症促進性サイトカインの量を減少させ得る分子を選択することを含んでなることを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記シトルリン化ペプチド抗原が、シトルリン化フィブリノゲン、シトルリン化フィラグリン、シトルリン化ビメンチン及びそれらのシトルリン化フラグメント並びにそれらの混合物を含んでなる群より選択されることを特徴とする、請求項８〜１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
定量される前記炎症促進性サイトカインがTNF-αであることを特徴とする、請求項８〜１１のいずれか１項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月27日(2010.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸感受性プロトンポンプ阻害剤を含む固形製剤及び場合により薬学的に許容しうる賦形剤を含む安定な滅菌非経口製剤であって、該固形製剤はその最終容器中で電離放射線により滅菌されている、安定な滅菌非経口製剤。
【請求項２】
酸感受性プロトンポンプ阻害剤が水溶性である、請求項１に記載の製剤。
【請求項３】
電離放射線が、ガンマ線及び電子ビーム放射線の群より選択される、請求項１又は２に記載の製剤。
【請求項４】
容器が多重チャンバ容器であり、そして１つの区画が安定な固形製剤を含み、そして第二の区画が溶媒を含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載の製剤。
【請求項５】
容器がその構成内に組み込まれた粒子フィルターを有する、請求項１〜４のいずれか１項に記載の製剤。
【請求項６】
酸感受性プロトンポンプ阻害剤が、式Ｉ
【化１】
2009536195.tif 000001
［式中、Het1は、
【化２】
2009536195.tif 000002
であり、Het2は、
【化３】
2009536195.tif 000003
であり、ここで
ベンゾイミダゾール部分中のＮは、R6〜R9で置換された炭素原子のうちの１つが置換基のない窒素原子と場合により交換されていてもよいことを意味し;
R1、R2及びR3は同じか又は異なり、そして水素、アルキル、場合によりフッ素で置換されるアルコキシ、アルキルチオ、アルコキシアルコキシ、ジアルキルアミノ、ピペリジノ、モルホリノ、ハロゲン、フェニル及びフェニルアルコキシより選択され；
R4及びR5は同じか又は異なり、そして水素、アルキル及びアラルキルより選択され;
R'6は、水素、ハロゲン、トリフルオロメチル、アルキル及びアルコキシであり；
R6〜R9は同じか若しくは異なり、そして水素、アルキル、アルコキシ、ハロゲン、ハロ−アルコキシ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、オキサゾリル、ピロリル、トリフルオロアルキルより選択されるか、又は隣接した基R6〜R9が環構造を形成する］
の化合物又はその鏡像異性体より選択され、
そして上記定義において、アルキル基、アルコキシ基及びその部分は、分枝もしくは直鎖のC1-C9−鎖であっても、シクロアルキルアルキルのように環状アルキル基を含んでも
よい、請求項１〜５のいずれか１項に記載の製剤。
【請求項７】
式Ｉの化合物が、薬学的に許容しうる塩の形態又はその中性形態である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の製剤。
【請求項８】
一般式Ｉの化合物が、
【化４】
2009536195.tif 000004
のいずれかのナトリウム塩又はカリウム塩より選択される、請求項６に記載の製剤。
【請求項９】
容器が、ガンマ線又は電子ビーム放射線に対して耐性の容器である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の製剤。
【請求項１０】
酸感受性プロトンポンプ阻害剤及び場合により薬学的に許容しうる賦形剤を含む安定な固形製剤であって、該製剤は電離放射線により滅菌されている、製剤。
【請求項１１】
酸感受性プロトンポンプ阻害剤が水溶性である、請求項１０に記載の製剤。
【請求項１２】
電離放射線が、ガンマ線及び電子ビーム放射線の中から選択される、請求項１０又は１１に記載の製剤。
【請求項１３】
酸感受性プロトンポンプ阻害剤が、請求項６において定義される一般式Ｉを有する化合物より選択される、請求項１０〜１２のいずれか１項に記載の製剤。
【請求項１４】
式Ｉの化合物が、薬学的に許容しうる塩の形態又はその中性形態である、請求項１０〜１３のいずれか１項に記載の製剤。
【請求項１５】
式Ｉの化合物が、
【化５】
2009536195.tif 000005
のナトリウム塩又はカリウム塩より選択される、請求項１３に記載の製剤。
【請求項１６】
請求項１０〜１５のいずれか１項に記載の安定な固形製剤を溶媒と共に含む、非経口投与用の液剤。
【請求項１７】
酸感受性プロトンポンプ阻害剤を、薬学的に許容しうる賦形剤と場合により混合し、その後、適切な溶媒、例えば水又はエタノール中に場合により溶解し、そして噴霧乾燥して、最終的に製剤を電離放射線を用いて滅菌する、請求項１０〜１５のいずれか１項に記載の製剤の製造方法。
【請求項１８】
電離放射線が、ガンマ線及び電子ビーム放射線の群より選択される、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
請求項１〜９のいずれか１項に記載の製剤を含む製品の製造方法であって、以下の工程：
(ｉ) 酸感受性プロトンポンプ阻害剤及び場合により薬学的に許容しうる賦形剤を含む
製剤を容器に充填する工程；並びに
(ii) 該充填された容器を、電離放射線を使用して滅菌する工程
を含む、方法。
【請求項２０】
電離放射線が、ガンマ線及び電子ビーム放射線の群より選択される、請求項１９に記載
の方法。
【請求項２１】
電離放射線が、約４５ｋＧｙまでの吸収線量を有する、請求項１９又は２０に記載の方法。
【請求項２２】
電離放射線が、１０〜４０ｋＧｙの範囲の吸収線量を有する、請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
電離放射線が約２５ｋＧｙの吸収線量を有する、請求項２１に記載の方法。
【請求項２４】
医薬における使用のための、請求項１〜９のいずれかに記載の製剤、又は請求項１０〜１５のいずれか１項に記載の安定な固形組成物。
【請求項２５】
胃腸疾患の処置のための医薬の製造における、請求項１０〜１５のいずれか１項に記載の安定な固形製剤の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月12日(2010.5.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バルク圧電材料の層の第１の表面を転写基板に樹脂を用いて接合することと、
研磨表面を形成するために、該層の第１の表面と反対側にある該バルク圧電材料の露出された表面を研磨することと、
該研磨表面をＭＥＭＳ本体に接合することと
を含む、ＭＥＭＳを形成する方法。
【請求項２】
前記研磨表面をＭＥＭＳ本体に接合することは、該研磨表面を該ＭＥＭＳ本体に樹脂を用いて接着することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記研磨することは、化学機械研磨を行うことである、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記転写基板は、約１オングストローム〜１０オングストロームの表面粗度を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記研磨表面は、約５０オングストローム未満の表面粗度を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記研磨表面上に導電層を形成することをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記ＭＥＭＳ本体に前記研磨表面を接合することの前に、前記圧電材料を切断することをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
研磨することの前に、前記圧電材料の一部分を研削により除去することをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記転写基板を研削により除去することをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記転写基板を研磨により除去することをさらに含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記研磨表面と反対側にある前記圧電材料の表面を研磨することをさらに含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
前記研磨表面と反対側にある前記圧電材料の表面上に導電層を形成することをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記露出された表面を研磨することは、損傷を取り除くため、前記圧電材料を少なくとも約４ミクロン研磨により除去することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
前記露出された表面を研磨することは、損傷を取り除くため、前記圧電材料を約４ミクロン〜１０ミクロンだけ研磨により除去することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
平坦表面を形成するために圧電材料のブロックを研磨することと、
該平坦表面上に導電層を適用することと、
該転写基板に該導電層を接合し、該平坦表面と反対側にある表面を露出したままにすることと、
該転写基板に該導電層を接合することの後、該圧電材料のブロックを薄くすることと、
該平坦表面と反対側にある該表面を研磨することと、
該平坦表面と反対側にある該表面を研磨することの後、内部にチャンバが形成された本体に該圧電材料を接合することと、
該転写基板を除去することと
を含む、ＭＥＭＳを形成する方法。
【請求項１６】
前記圧電材料を切断することは、前記転写基板において切断することをさらに含む、請求項７に記載の方法。
【請求項１７】
バルク圧電材料の層の第１の表面を転写基板に接合することと、
該バルク圧電材料の層の厚さを２０ミクロン未満まで低減することと、
研磨表面を形成するために、該層の第１の表面と反対側にある該圧電材料の露出された表面を研磨することと、
該研磨表面をＭＥＭＳ本体に接合することと
を含む、ＭＥＭＳを形成する方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の１つ以上の実施形態の詳細は、以下の付随する図面および説明に記載される。本発明のその他の特徴、目的および利点は、説明、図面および特許請求の範囲より明らかとなる。
例えば、本発明は以下の項目を提供する。
（項目１）
圧電材料の層の第１の表面を移行基板に接合することと、
研磨表面を形成するために、該層の第１の表面と反対側にある該圧電材料の露出された表面を研磨することと、
該研磨表面をＭＥＭＳ本体に接合することと
を含む、ＭＥＭＳ形成のための方法。
（項目２）
圧電材料の層の第１の表面を移行基板に接合することは、上記第１の表面を該移行基板に樹脂を用いて接着することを含む、項目１に記載の方法。
（項目３）
上記研磨表面をＭＥＭＳ本体に接合することは、該研磨表面を該ＭＥＭＳ本体に樹脂を用いて接着することを含む、項目１に記載の方法。
（項目４）
上記研磨することは、化学機械研磨である、項目１に記載の方法。
（項目５）
上記移行基板は、約１〜１０オングストロームの表面粗度を有する、項目１に記載の方法。
（項目６）
上記研磨表面は、約１０〜２０オングストロームの表面粗度を有する、項目１に記載の方法。
（項目７）
上記研磨表面に導電層を形成することをさらに含む、項目１に記載の方法。
（項目８）
上記ＭＥＭＳ本体に上記研磨表面を接合することの前に、上記圧電材料を切断することをさらに含む、項目１に記載の方法。
（項目９）
研磨することの前に、上記圧電材料の一部分を研削により除去することをさらに含む、項目１に記載の方法。
（項目１０）
上記移行基板を研削により除去することをさらに含む、項目１に記載の方法。
（項目１１）
上記移行基板を研磨により除去することをさらに含む、項目１０に記載の方法。
（項目１２）
上記研磨表面と反対側にある上記圧電材料の表面を研磨することをさらに含む、項目１０に記載の方法。
（項目１３）
上記研磨表面と反対側にある上記圧電材料の表面に導電層を形成することをさらに含む、項目１に記載の方法。
（項目１４）
上記露出された表面を研磨することは、損傷を取り除くため、上記圧電材料を少なくとも約４ミクロン研磨により除去することを含む、項目１に記載の方法。
（項目１５）
上記露出された表面を研磨することは、損傷を取り除くため、上記圧電材料を約４〜１０ミクロンだけ研磨により除去することを含む、項目１に記載の方法。
（項目１６）
平坦表面を形成するために圧電材料のブロックを研磨することと、
該平坦表面に導電層を適用することと、
該移行基板に該導電層を接合し、該平坦表面と反対側にある表面を露出することと、
該移行基板に該導電層を接合することの後、該圧電材料のブロックを薄くすることと、
該平坦表面と反対側にある該表面を研磨することと、
該平坦表面と反対側にある該表面を研磨することの後、内部空間を有する本体に該圧電材料を接合することと、
該移行基板を除去することと
を含む、ＭＥＭＳ形成のための方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月13日(2010.4.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ｉ）二塩基酸とジオールと第１アミノ酸との反応生成物を含む第１ポリ（エステルアミド）ポリマー及び（ii）アミドジオールと二塩基酸との反応生成物を塩基性構成成分として含む第２ポリ（エステルアミド）ポリマーとから成る群より選択されるポリマーと、  治療薬と、
少なくとも一部が水混和性の溶媒と、
を含むことを特徴とする組成物。
【請求項２】
（ａ）（ｉ）二塩基酸とジオールと第１アミノ酸との反応生成物を含む第１ポリ（エステルアミド）ポリマー、及び（ii）アミドジオールと二塩基酸との反応生成物を含む第２ポリ（エステルアミド）ポリマーから成る群より選択されるポリマーと、
（ｂ）治療薬と、
（ｃ）少なくとも一部が水混和性の溶媒と
を含む組成物を生理学上の環境へデリバリするステップと、
前記ポリ（エステルアミド）ポリマーを含む膜を形成するために前記組成物を相分離させるステップと、
から成り、前記治療薬は前記膜内に含有されていることを特徴とする方法。
【請求項３】
シリンジと、
（ａ）（ｉ）二塩基酸とジオールと第１アミノ酸とを含む第１ポリ（エステルアミド）ポリマー、及び（ii）アミドジオールと二塩基酸とを含む第２ポリ（エステルアミド）ポリマーから成る群より選択されるポリマーと、（ｂ）治療薬と、（ｃ）溶媒とを含む組成物と、
から構成され、前記組成物は前記シリンジ内に収容されていることを特徴とするキット。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月19日(2010.4.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
交互に配置された多数の第一および第二フローチャネルが形成されており、第一フローチャネルが、１０ｍｍを超えない横方向寸法を有し、燃焼反応体の流路を形成し、反応体の燃焼に触媒作用する着脱可能な流体透過性触媒構造を収容し、かつ少なくとも１つの反応体用の少なくとも１つの入口を有する構成のコンパクトな触媒作用反応器において、各第一フローチャネルが各入口に隣接するインサートを有し、該インサートは燃焼反応に触媒作用をせず、前記入口に供給されるガスは燃焼可能であり、触媒作用をしないインサートは、すべく、入口に隣接する第一フローチャネルの部分を所定のパラメータより小さい多数の小さい流路に細分し、前記所定のパラメータは炎伝播を防止する最大ギャップサイズであることを特徴とする触媒作用反応器。
【請求項２】
前記触媒作用をしないインサートは、アルミナリッチ表面コーティングまたは触媒作用する酸化膜を形成しない材料からなることを特徴とする請求項１記載の反応器。
【請求項３】
前記触媒作用をしないインサートの温度を、第一フローチャネル内の燃焼触媒の温度より低い温度に維持する熱交換手段が配置されていることを特徴とする請求項１記載の反応器。
【請求項４】
前記第一フローチャネルの入口に供給されるガスは燃焼可能でありかつヘッダを通して多数の入口に供給され、前記触媒作用をしないインサートは入口に隣接するヘッダ内に配置されかつ入口に連通する多数の小さい流路を形成し、該流路は、前記所定のパラメータである炎伝播を防止する最大ギャップサイズより小さいことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項記載の反応器。
【請求項５】
前記入口に供給されるガスは燃焼ガス混合物のごく一部であり、反応器には他の反応体を第一フローチャネル内に直接供給する孔が形成され、触媒作用をしないインサートは、噴射された反応体を、入口を通って流入する反応体と完全に混合させる形状を有していることを特徴とする請求項１または２記載の反応器。
【請求項６】
第一フローチャネル内のガス混合物が第一フローチャネルの全長に亘って化学量論比より充分に小さくなるように、反応体は第一フローチャネルに沿う異なる位置の段内の第一フローチャネルに添加され、触媒構造により形成される流路は、炎伝播を防止すべく充分に小さいことを特徴とする請求項５記載の反応器。
【請求項７】
各第一フローチャネルは、完全混合をもたらす、触媒作用をしない第一インサートと、層流の促進および炎伝播の抑制の両方を行う小さいチャネルを形成する、触媒作用をしない第二インサートとの両方を収容し、触媒作用をしない第二インサートは、触媒作用をしない第一インサートと燃焼の触媒作用をする触媒構造との間に配置されることを特徴とする請求項５または６記載の反応器。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか１項記載の反応器が組み込まれていることを特徴とする、スチームメタン改質反応を行うプラント。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月25日(2009.12.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
錠剤としての、対象への経口経粘膜投与用の生体接着性薬物調合物であって、
約２．５μｇ〜１００μｇのサフェンタニル、生体接着性物質および医薬上受容可能な賦形剤を含み、ここで、該生体接着性物質は該対象の口腔粘膜への接着を供し、該生体接着性薬物調合物は、実質的に均質な組成物であり、そして該錠剤の完全な侵食は、投与後約５分間、約１０分間および約１５分間からなる群より選択される時間の後にのみ、目視実験によって明らかとなる生体接着性薬物調合物。
【請求項２】
対象への単一または反復経口経粘膜投与の結果、７０％を超える生物学的利用能がもたらされる請求項１記載の錠剤。
【請求項３】
前記生体接着性薬物調合物が、担体粒子の表面に接着された薬物のミクロ粒子の秩序立った混合物であり、ここで該担体粒子が該薬物のミクロ粒子よりも実質的に大きい、請求項１または２記載の錠剤。
【請求項４】
対象への単一経口経粘膜投与の結果、約３分〜３０分でＣｍａｘの５０％に到達する血漿レベルがもたらされる請求項１〜３のいずれか１項記載の錠剤。
【請求項５】
対象への単一経口経粘膜投与の結果、約０．５〜約２．０の治療時間比率がもたらされる請求項１〜４のいずれか１項記載の錠剤。
【請求項６】
前記調合物中の前記薬物の量のうちの少なくとも５５％が口腔粘膜を介して吸収される請求項１〜５のいずれか１項記載の錠剤。
【請求項７】
前記錠剤が、約２．５〜約１５μｇのサフェンタニルを含む請求項１〜６のいずれか１項記載の錠剤。
【請求項８】
対象への単一または反復経口経粘膜投与の結果、４０％未満の変動係数を伴う生物学的利用能がもたらされる請求項１〜７のいずれか１項記載の錠剤。
【請求項９】
対象への単一経口経粘膜投与の結果、約３分〜約３０分の開始時間（Ｔｏｎｓｅｔ）がもたらされる請求項１〜８のいずれか１項記載の錠剤。
【請求項１０】
対象への単一または反復経口経粘膜投与の結果、２０分〜２４０分の半減期がもたらされる請求項１〜９のいずれか１項記載の錠剤。
【請求項１１】
対象への単一または反復経口経粘膜投与の結果、１００分〜３００分の半減期がもたらされる請求項１〜９のいずれか１項記載の錠剤。
【請求項１２】
対象への経口投与の結果、１２．２％の平均生物学的利用能がもたらされる請求項１〜１１のいずれか１項記載の錠剤。
【請求項１３】
疼痛の処置のための、請求項１〜１２のいずれか１項記載の錠剤。
【請求項１４】
疼痛の処置のための医薬の製造における、請求項１〜１２のいずれか１項記載の錠剤の使用。
【請求項１５】
前記疼痛は、急性痛、突出痛または術後痛である、請求項１４に記載の使用。
【請求項１６】
前記疼痛は、急性痛、突出痛または術後痛である、請求項１３に記載の錠剤。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月30日(2010.4.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
女性における閉経後の性的欲求障害（生来型又は後天性）の治療用医薬品を調製するための、任意に遊離塩基、医薬的に許容される酸付加塩の形態の及び／又は任意に水和物及び／又は溶媒和物の形態のフリバンセリンの使用。
【請求項２】
前記閉経後の性的欲求障害が、生来型の閉経後の性的欲求低下障害、生来型の閉経後の性嫌悪障害、生来型の閉経後の性的欲求の喪失、生来型の閉経後の性的欲求の欠乏、生来型の閉経後の性的欲求の減退、生来型の閉経後の性的欲求の抑制、生来型の閉経後の性的衝動の喪失、生来型の閉経後の性的衝動障害、生来型の閉経後の性不感症からなる群から選択される、請求項１記載の使用。
【請求項３】
前記閉経後の性的欲求障害が、生来型の閉経後の性的欲求低下障害、生来型の閉経後の性嫌悪障害、生来型の閉経後の性的欲求の喪失、生来型の閉経後の性的欲求の欠乏、生来型の閉経後の性的欲求の減退、生来型の閉経後の性的欲求の抑制からなる群から選択される、請求項１又は２記載の使用。
【請求項４】
前記閉経後の性的欲求障害が、後天性の閉経後の性的欲求低下障害、後天性の閉経後の性嫌悪障害、後天性の閉経後の性的欲求の喪失、後天性の閉経後の性的欲求の欠乏、後天性の閉経後の性的欲求の減退、後天性の閉経後の性的欲求の抑制、後天性の閉経後の性的衝動の喪失、後天性の閉経後の性的衝動障害、後天性の閉経後の性不感症からなる群から選択される、請求項１記載の使用。
【請求項５】
前記閉経後の性的欲求障害が、後天性の閉経後の性的欲求低下障害、後天性の閉経後の性嫌悪障害、後天性の閉経後の性的欲求の喪失、後天性の閉経後の性的欲求の欠乏、後天性の閉経後の性的欲求の減退、後天性の閉経後の性的欲求の抑制からなる群から選択される、請求項１又は４記載の使用。
【請求項６】
前記閉経後の性的欲求障害が、全般型サブタイプである、請求項１〜５のいずれか１項記載の使用。
【請求項７】
前記閉経後の性的欲求障害が、状況型サブタイプである、請求項１〜６のいずれか１項記載の使用。
【請求項８】
前記閉経後の性的欲求障害が、心理学的因子によるものである、請求項１〜７のいずれか１項記載の使用。
【請求項９】
前記閉経後の性的欲求障害が、混合因子によるものである、請求項１〜８のいずれか１項記載の使用。
【請求項１０】
前記フリバンセリンが、コハク酸、臭化水素酸、酢酸、フマル酸、マレイン酸、メタンスルホン酸、乳酸、リン酸、塩酸、硫酸、酒石酸、クエン酸及びその混合物から選択される酸により形成される塩から選択される医薬的に許容できる酸付加塩の形態で適用される、請求項１〜９のいずれか１項記載の使用。
【請求項１１】
前記フリバンセリンが、遊離塩基の形態で適用される、請求項１〜１０のいずれか１項記載の使用。
【請求項１２】
前記フリバンセリンが、前記遊離塩基の同質異像Ａの形態で適用され、ＤＳＣによる融点が161℃である、請求項１１記載の使用。
【請求項１３】
前記フリバンセリンが、１日あたり0.1〜400mgの範囲の投与量で適用される、請求項１〜１２のいずれか１項記載の使用。
【請求項１４】
前記フリバンセリンが、ある期間にわたって連続的に１日１回又は２回投与される、請求項１〜１３のいずれか１項記載の使用。
【請求項１５】
前記フリバンセリンが、朝と晩に投与される、請求項１〜１４のいずれか
１項記載の使用。
【請求項１６】
前記フリバンセリンが、ある期間にわたって連続的に晩のみ１回投与（フリバンセリン50又は100mg）される、請求項１〜１５のいずれか１項記載の使用。
【請求項１７】
任意に遊離塩基、医薬的に許容される酸付加塩の形態の及び／又は任意に水和物及び／又は溶媒和物の形態のフリバンセリンを含有する、女性における閉経後の性的欲求障害（生来型又は後天性）の治療医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月26日(2010.4.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式
【化１】
2009536174.tif 000001
［式中、
Ｘ1は、式
【化２】
2009536174.tif 000002
で表わされる２価の基を表わし、
Ａ及びＡ’は、互いに独立して、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキレン基、Ｎ、Ｏ又はＳによって所望により中断された、未置換の又は置換された、直鎖の又は枝分かれした炭素原子数１ないし１２のアルキレン基；炭素原子数５ないし１２のシクロアルキレン基；ビフェニレン基；炭素原子数６ないし１０のアリーレン基；又は、炭素原子数５ないし１０のアリーレン−（炭素原子数１ないし１２のアルキレン）基を表わし；
Ｒ1は、式
【化３】
2009536174.tif 000003
で表わされる基を表わし；
Ｒ2及びＲ3は、互いに独立して、水素原子；炭素原子数１ないし１２のアルキル基；ＯＲ7；ＮＲ7Ｒ9；炭素原子数６ないし１０のアリール基を表わし；
Ｘ2は、Ｏ又はＮＨを表わし；
Ｗ1は、炭素原子数１ないし２０のアルキル基；又は基Ｓｐ−Ｓｉｌ（ここで、Ｓｐは、
直鎖の又は枝分かれした、飽和した又は単不飽和の又は多不飽和の炭素原子数３ないし１２の炭化水素基を表わし；Ｓｉｌは、シラン；オリゴシロキサン又はポリシロキサン部分を表わす。）を表わし；及び、
Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9は、互いに独立して、水素原子；炭素原子数１ないし１２のアルキル基；又は炭素原子数３ないし１２のシクロアルキル基を表わす。］で表わされる化合物。
【請求項２】
式（１）で表わされる化合物の製造方法であって、以下の反応スキーム
【化４】
2009536174.tif 000004
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＸ1は、請求項１で定義した通りである。）に従って、
式（１ｍ）で表わされるクロロトリアジン  ２モルと式（１ｎ）で表わされる化合物  １モルとを反応させることを含む方法。
【請求項３】
微粒化された、式（１）で表わされる化合物の製造方法であって、適切な溶媒から湿式粉砕、湿式混練、噴霧乾燥することによって、式（１）で表わされる化合物の適切な溶媒からのＲＥＳＳ法に従った膨張によって又は再沈殿によって、０．０２ないし２μｍの平均粒子サイズを有する微粒子を得ることを含む方法。
【請求項４】
化粧品的に許容可能なキャリヤー又は補助剤と一緒に、少なくとも１種の、請求項１に記載の式（１）で表わされる化合物を含む化粧品組成物。
【請求項５】
式（１）で表わされる化合物が微粒化状態で組成物中に存在する請求項４に記載の化粧品組成物。
【請求項６】
（ａ）０．０２ないし２μｍの粒子サイズを有する、少なくとも１種の微粒化された式（１）で表わされるＵＶ吸収剤、及び、
（ｂ）適切な分散剤
を含むＵＶ吸収剤分散体。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月24日(2010.3.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７９】
表から明らかなように、実施例１及び２における臭素を用いないパラジウムとスズ又はアンチモンとの二元配合物を用いたパラキシレンのカルボン酸誘導体への転化率は、比較例１におけるスズ及びアンチモンを用いたものよりも遙かに大きかった。また、実施例１及び２における転化率は、以下に報告する比較例１１〜１３においてパラジウム、アンチモン、及びスズのそれぞれを単独で用いた実験におけるものよりも非常に大きかった。驚くべきことに、パラジウム、アンチモン、及びスズを含む実施例４及び３において用いた触媒組成物は、低いレベルの炭素酸化物と組み合わせて、実施例３におけるほぼ定量的な転化率に見られるように、パラキシレン供給材料からカルボン酸誘導体への遙かに大きな転化率を示した。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９２】
実施例６〜９及び比較例１６〜１７：
比較例１１〜１５において用いた塩溶液の組み合わせをパラキシレンの酸化において用い、比較例１１〜１５の手順にしたがって反応器液体生成物及び排気ガスの試料を分析した。結果を表５に報告する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１９】
実施例３０〜３３：
実施例３０〜３２においては反応温度が１９３〜１９９℃の範囲であった他は、実施例６〜９と実質的に同様に行う一連の半連続パラキシレン酸化において、パラジウム、スズ、アンチモン、及びモリブデンの触媒組成物を用いた。触媒組成物は、秤量量の酢酸パラジウム（ＩＩ）、酢酸アンチモン（ＩＩＩ）、酢酸スズ（ＩＩ）、酢酸モリブデン（ＩＩ）二量体、及び９５％酢酸水溶液を、金属として計算して且つ酢酸水溶液の重量を基準として、４０００ｐｐｍｗのパラジウム、２０００ｐｐｍｗのアンチモン、２０００ｐｐｍｗのスズ、及び５０００ｐｐｍｗのモリブデンを与える量で反応器に充填することによって調製した。それぞれの酸化実験の後、反応器の内容物を取り出し、実施例６〜９と同様に分析して生成物及び選択率を評価した。実施例４８〜５０の結果を、３つの実験の平均の選択率と一緒に表１４に報告する。それぞれの実験からの反応器内容物は、また、暗色の固体粒子を含んでいた。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３２】
実施例４３：
実施例１〜４の手順にしたがい、酸化において用いる酢酸溶媒の重量を基準として約５００ｐｐｍｗに対応するほぼ等重量部の金属又はメタロイドを与える量の、パラジウム、白金、バナジウム、チタン、モリブデン、クロム、スズ、アンチモンの１種類以上の酢酸可溶性塩、並びに幾つかの場合においては、１種類以上の更なる金属又はメタロイドの酢酸可溶性塩、或いは酢酸水溶液中のその標準化溶液の種々の組み合わせから調製した組成物を用いて、酢酸水溶液溶媒中における一連のパラキシレン酸化実験を行った。金属及びメタロイドの組み合わせ、温度、及び酸化結果を表１７に報告する。また、参照のために実施例１〜４の結果も含ませる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３３】
【表１７】
2009536661.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月7日(2010.5.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
細菌性の耳、鼻またはのどの状態の治療のための医薬組成物であって、金属イオン隔離剤、ｐＨを５より大きくするのに十分な緩衝剤、および中耳または内耳の少なくとも部分に、鼻腔または副鼻腔内の表面に、あるいは口腔組織または咽頭組織に付着または接着したバイオフィルムの少なくとも一部を取り外すか、除去するかまたは別の方式で破壊することが可能な０．２重量％より多い界面活性剤、を含む溶媒和系を含む、前記医薬組成物。
【請求項２】
細菌性の耳、鼻またはのどの状態の治療のための医薬組成物であって、（ａ）金属イオン隔離剤、（ｂ）中耳または内耳の少なくとも部分に、鼻腔または副鼻腔内の表面に、あるいは口腔組織または咽頭組織に付着または接着したバイオフィルムの少なくとも一部を取り外すか、除去するかまたは別の方式で破壊することが可能な双性イオン性界面活性剤、および（ｃ）５より大きいｐＨを提供するのに十分な緩衝剤、を含む溶媒和系を含む、前記医薬組成物。
【請求項３】
中耳の少なくとも部分に適用する、請求項１または２に記載の医薬組成物。
【請求項４】
鼻腔または副鼻腔に適用する、請求項１または２に記載の医薬組成物。
【請求項５】
金属イオン隔離剤が、酸性度が細菌性バイオフィルム中の１またはそれより多くの金属イオンを隔離するのに十分であるが、中耳または内耳を傷つけるほどは酸性でない穏やかな酸を含み、ここで該金属イオン隔離剤はナトリウム、カルシウムまたは鉄用の隔離剤を含み、そして、ここで該金属イオン隔離剤はカルボン酸、二塩基酸、三塩基酸またはその混合物を含む、請求項１または請求項２記載の医薬組成物。
【請求項６】
金属イオン隔離剤が、ギ酸、酢酸、クロロ酢酸、ジクロロ酢酸、シュウ酸、オキサミド酸、グリコール酸、乳酸、ピルビン酸、アスパラギン酸、フマル酸、マレイン酸、コハク酸、イミノ二酢酸、グルタル酸、２−ケトグルタル酸、グルタミン酸、アジピン酸、グルクロン酸、粘液酸、ニトリロ三酢酸、サリチル酸、ケトピメリン酸、安息香酸、マンデル酸、クロロマンデル酸、フェニル酢酸、フタル酸、ホウ酸またはその混合物を含む、請求項１または請求項２記載の医薬組成物。
【請求項７】
金属イオン隔離剤がクエン酸を含む、請求項１または請求項２記載の医薬組成物。
【請求項８】
金属イオン隔離剤が穏やかな酸を含み、かつ約０．０１〜約０．５Ｍの濃度で存在し、緩衝剤が当該穏やかな酸の塩を含み、そして、溶媒和系が８．５未満のｐＨを有する、請求項１または請求項２記載の医薬組成物。
【請求項９】
さらに抗菌剤を含む、請求項１または２に記載の医薬組成物。
【請求項１０】
組織上の細菌性バイオフィルムを破壊するための溶媒和系であって、組成物が、金属イオン隔離剤、溶媒和系が５より大きなｐＨを有するのに十分な緩衝剤、０．２重量％より多い界面活性剤、および抗菌剤を含む、前記溶媒和系。
【請求項１１】
ヒト組織上の細菌性バイオフィルムを破壊するための溶媒和系であって、組成物が、金属イオン隔離剤、双性イオン性界面活性剤、及び該溶媒和系が５より大きなｐＨを有するのに十分な緩衝剤、を含む、前記溶媒和系。
【請求項１２】
金属イオン隔離剤が、酸性度が細菌性バイオフィルム中の１またはそれより多くの金属イオンを隔離するのに十分であるが、中耳または内耳を傷つけるほどは酸性でない穏やかな酸を含み、ここで該金属イオン隔離剤はナトリウム、カルシウムまたは鉄用の隔離剤を含み、そして、ここで該金属イオン隔離剤はカルボン酸、二塩基酸、三塩基酸またはその混合物を含む、請求項１０または請求項１１に記載の溶媒和系。
【請求項１３】
金属イオン隔離剤が、ギ酸、酢酸、クロロ酢酸、ジクロロ酢酸、シュウ酸、オキサミド酸、グリコール酸、乳酸、ピルビン酸、アスパラギン酸、フマル酸、マレイン酸、コハク酸、イミノ二酢酸、グルタル酸、２−ケトグルタル酸、グルタミン酸、アジピン酸、グルクロン酸、粘液酸、ニトリロ三酢酸、サリチル酸、ケトピメリン酸、安息香酸、マンデル酸、クロロマンデル酸、フェニル酢酸、フタル酸、ホウ酸またはその混合物を含む、請求項１２記載の医薬組成物。
【請求項１４】
金属イオン隔離剤がクエン酸を含む、請求項１２記載の溶媒和系。
【請求項１５】
界面活性剤が、陽イオン性界面活性剤を含む、請求項１０に記載の溶媒和系。
【請求項１６】
キトサン塩、立方相脂質、ガリウム含有化合物、カルボン酸エステル、スルホン酸、活性ハロゲン化合物、活性酸素化合物、有機過酸化物、オゾン、一重項酸素生成剤、フェノール性誘導体または四級アンモニウム化合物、を含む抗菌剤を含む、請求項１０または請求項１１に記載の溶媒和系。
【請求項１７】
抗菌剤が、ガリウム・アセトアセトネート、臭化ガリウム、塩化ガリウム、フッ化ガリウム、ヨウ化ガリウム、ガリウム・マルトレート、硝酸ガリウム、窒化ガリウム、ガリウム・パーコレート、亜リン酸ガリウム、硫酸ガリウムまたはその混合物を含む、請求項１６記載の溶媒和系。
【請求項１８】
金属イオン隔離剤が穏やかな酸を含み、かつ約０．０１〜約０．５Ｍの濃度で存在し、界面活性剤が溶媒和系の約０．５％〜約２５％であり、緩衝剤が当該穏やかな酸の塩を含み、そして、溶媒和系が８．５未満のｐＨを有する、、請求項１０または請求項１１に記載の溶媒和系。
【請求項１９】
金属イオン隔離剤がクエン酸を含み、界面活性剤が陽イオン性界面活性剤または双性イオン性界面活性剤を含み、そして抗菌剤がガリウム含有化合物を含む、請求項１０または請求項１１記載の溶媒和系。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月23日(2010.4.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（２Ｓ）−（４Ｅ）−Ｎ−メチル−５−［３−（５−イソプロポキシピリジン）イル］−４−ペンテン−２−アミンの、リン酸塩、エジシル酸（１,２−エタンジスルホン酸）
塩、クエン酸塩、オロチン酸（ウラシル−６−カルボン酸）塩、Ｒ−マンデル酸塩、硫酸塩、１,５−ナフタレンジスルホン酸塩、Ｄ−アスパラギン酸塩またはリシン一塩酸塩。
【請求項２】
（２Ｓ）−（４Ｅ）−Ｎ−メチル−５−［３−（５−イソプロポキシピリジン）イル］−４−ペンテン−２−アミンと酸の化学量論比（モル比）は１：２〜２：１である、請求項１記載の塩。
【請求項３】
（２Ｓ）−（４Ｅ）−Ｎ−メチル−５−［３−（５−イソプロポキシピリジン）イル］−４−ペンテン−２−アミンと酸の化学量論比（モル比）は１：１である、請求項１記載の塩。
【請求項４】
実質的に結晶性の形態である、請求項１記載のリン酸塩または１,２−エタンジスルホン酸塩。
【請求項５】
特定ピークが１８.６、９.３、４.２５、３.９９および３.１１Åのｄ−値に存在し、
そして／または本質的に
【表１】
2009536665.tif 000001
【表２】
2009536665.tif 000002
（使用される定義：
相対強度(％)＊    定義
80〜100         vs (非常に強い)
30〜80          s (強い)
4〜30           m (中程度)
2〜4            w (弱い)
<2              vw (非常に弱い)
＊相対強度は可変スリットで測定された回折図形から得られる）
で定義されたＸ−線粉末回折パターンを有する、請求項１記載のリン酸塩。
【請求項６】
特定ピークが５.６、４.３３、４.１９および３.７６Åのｄ−値に存在し、そして／または本質的に
【表３】
2009536665.tif 000003
（使用される定義：
相対強度(％)＊    定義
−               vs (非常に強い)
60〜100          s (強い)
20〜60           m (中程度)
8〜20            w (弱い)
<8               vw (非常に弱い)
＊相対強度は可変スリットで測定された回折図形から得られる）
で定義されたＸ−線粉末回折パターンを有する、請求項１記載のエジシル酸塩。
【請求項７】
中枢神経系疾患を治療するための薬剤の製造における、請求項１〜６の何れかの項記載の塩の使用。
【請求項８】
疾患は、加齢による記憶障害、軽度の認識機能障害、初老期認知症（早期アルツハイマー病）、老年性認知症（アルツハイマー型認知症）、レビー小体型認知症、血管性認知症、アルツハイマー病、卒中、エイズによる認知症、注意欠陥障害、注意欠陥多動性障害、失読症、統合失調症、統合失調症様障害および統合失調性感情障害からなる群より選択される、請求項７記載の使用。
【請求項９】
活性成分として治療的に有効な量の請求項１〜６の何れかの項記載の塩を、１種またはそれ以上の薬学的に許容しうる希釈剤、賦形剤および／または不活性担体と一緒に含有する、医薬組成物。
【請求項１０】
活性成分として請求項１〜６の何れかの項記載の塩を含有する、中枢神経系疾患を治療するための薬剤。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月12日(2010.3.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）非金属ヘテロ原子に結合した少なくとも１つの水素原子を含む少なくとも１種の帯電防止作用化合物と
ｂ）ヘテロ原子に結合した少なくとも１つの水素原子と完全に反応するに足る量の少なくとも１種の金属アルキルと
を接触させることによるオレフィン重合用帯電防止剤の製造方法であって、少なくとも１種の帯電防止作用化合物及び少なくとも１種の金属アルキルは各々接触中少なくとも０．０１重量％の濃度で存在する、前記オレフィン重合用帯電防止剤の製造方法。
【請求項２】
帯電防止作用化合物は、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＮＨ２、−ＮＨＲ１、−ＳＨ、−ＰＨ２、−ＰＨＲ１及び−ＳＯ３Ｈから選択される官能基を含み、式中、Ｒ１はアルキル基、アリール基、アルキルアリール基又はアリールアルキル基であり、ここで、炭素原子の１個以上がヘテロ原子により置換されていても良い、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
帯電防止作用化合物（１）はポリスルホンコポリマー、ポリマーポリアミン及び油溶性スルホン酸を含む、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
金属アルキルはアルミニウムアルキル類、リチウムアルキル類、ホウ素アルキル類及び亜鉛アルキル類の中から選択される、請求項１〜３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の方法により得ることのできる、オレフィン重合用帯電防止剤。
【請求項６】
油溶性スルホン酸の金属アルキルアルキルスルホネートを含む請求項５に記載の帯電防止剤。
【請求項７】
ポリスルホンコポリマー及びポリマーポリアミンを含む請求項６に記載の帯電防止剤。
【請求項８】
請求項５〜７のいずれかに記載の帯電防止混合物及び重合用触媒の共存下で、重合用反応器中で、１−オレフィン類を２０〜２００℃の温度及び０．１〜２０ＭＰａの圧力で重合させる方法。
【請求項９】
金属アルキルと帯電防止化合物との接触を反応器中に導入前直ちに又は導入中に行う、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
金属アルキルと帯電防止化合物との接触時間が、重合反応器中への導入前１０秒〜１０時間である、請求項８又は９に記載の方法。
【請求項１１】
重合触媒が、少なくとも１種のチグラー・ナッタ触媒、フィリップス触媒又は遷移金属配位化合物、特にメタロセン及び／又は後遷移金属錯体を含む触媒を含む、請求項８〜１０のいずれかに記載の方法。
【請求項１２】
エチレンを単独重合させる、又はエチレンを４０重量％（総ポリマー基準）までのプロピレン、１−ブテン、１−ヘキセン又は１−オクテンと共重合させる、請求項８〜１１のいずれかに記載の方法。
【請求項１３】
プロピレンを単独重合させる、又はプロピレンを４０重量％（総ポリマー基準）までのエチレン、１−ブテン、１−ヘキセン又は１−オクテンと共重合させる、請求項８〜１１のいずれかに記載の方法。
【請求項１４】
重合反応器が気相流動床を含む、請求項８〜１３のいずれかに記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月7日(2010.5.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ１）分子中に統計的平均で２個以上のイソシアネート基及び
デュロプラスチック三次元架橋結合構造の成分としてそのガラス転移温度を高める２個以上の硬質セグメント（ａ１１）、又は
デュロプラスチック三次元架橋結合構造の成分としてそのガラス転移温度を低下させる２個以上の軟質セグメント
を含有する少なくとも１種のポリイソシアネートと、
（Ａ２）少なくとも１種の、一般式Ｉ：
Ｘ［−Ｒ（−ＯＨ）ｎ］ｍ            （Ｉ）
［式中、指数及び変数は、次の意味を有する：
ｎは、１〜５の数であり、
ｍは、１又は２であり、
Ｘは、イソシアネート反応性の官能基を表わし、かつ
Ｒは、２〜５結合性有機基を表わすが、条件として、（Ａ１）が軟質セグメントを含有する場合には、Ｒは、少なくとも１個の硬質セグメント（ａ１１）を含有し、又はそれから成り立つ］のポリオールとを、
モル比（Ａ２）：（Ａ１）≧２及び当量比［Ｘ＋ＯＨ］：ＮＣＯ≧２で反応させることによって製造可能な、分子中に統計的平均で２個以上のヒドロキシル基を有する分枝鎖ポリオール（Ａ）。
【請求項２】
ポリイソシアネート（Ａ１）は、硬質セグメント（ａ１１）を有する、請求項１に記載の分枝鎖ポリオール（Ａ）。
【請求項３】
分子中に統計的平均で２個以上のヒドロキシル基を有する、請求項１又は２に記載の分枝鎖ポリオール（Ａ）。
【請求項４】
ポリイソシアネート（Ａ１）は、分子中に３個以上のイソシアネート基を有する、請求項１から３までのいずれか１項に記載の分枝鎖ポリオール（Ａ）。
【請求項５】
ポリイソシアネート（Ａ１）は、イソシアヌレート−、尿素−、ウレタン−、ビウレット−、ウレットジオン−、イミノオキサジアジンジオン−、カルボジイミド−及びアロファネート基を含む群から選択される、少なくとも１個の基（ａ１２）を含有する、請求項１から４までのいずれか１項に記載の分枝鎖ポリオール（Ａ）。
【請求項６】
ポリイソシアネート（Ａ１）の硬質セグメント（ａ１１）は、非置換の及び不活性置換基（ａ１４）で置換された、へテロ原子（ａ１５）含有及びへテロ原子（ａ１５）不含の、飽和及び不飽和の環状脂肪族基（ａ１３）及び不活性置換基（ａ１４）で置換された及び非置換の、へテロ原子（ａ１５）含有及びヘテロ原子（ａ１５）不含の芳香族基（ａ１３）を含む群から選択される、請求項２から５までのいずれか１項に記載の分枝鎖ポリオール（Ａ）。
【請求項７】
一般式Ｉのイソシアネート反応性官能基Ｘは、ヒドロキシル基、チオール基、一級アミノ基及び二級アミノ基−ＮＨ−を含む群から選択される、請求項１から６までのいずれか１項に記載の分枝鎖ポリオール（Ａ）。
【請求項８】
一般式Ｉの有機基Ｒは、２結合性又は３結合性である、請求項１から７までのいずれか１項に記載の分枝鎖ポリオール（Ａ）。
【請求項９】
一般式Ｉのポリオール（Ａ２）は、ジオール、トリオール、テトロール、ペンチット、ヘキシット、チオアルカノール及びアルカノールアミンを含む群から選択される、請求項１から８までのいずれか１項に記載の分枝鎖ポリオール（Ａ）。
【請求項１０】
一般式Ｉのポリオール（Ａ２）の３０モル％までは、少なくとも１種の、一般式ＩＩ：
Ｘ−Ｒ１          （ＩＩ）
［式中、変項Ｘは前記の意味を有し、かつ変項Ｒ１は、１結合性の有機基を表わす］の化合物（Ａ３）によって代えられている、請求項１から９までのいずれか１項に記載の分枝鎖ポリオール（Ａ）。
【請求項１１】
請求項１から１０までのいずれか１項に記載の、分子中に統計的平均で２個以上のヒドロキシル基を有する分枝鎖ポリオール（Ａ）を製造する方法において、
（Ａ１）分子中に統計的平均で２個以上のイソシアネート基及び
デュロプラスチック三次元架橋結合構造の成分としてそのガラス転移温度を高める２個以上の硬質セグメント（ａ１１）、又は
デュロプラスチック三次元架橋結合構造の成分としてそのガラス転移温度を低下させる２個以上の軟質セグメント
を含有する少なくとも１種のポリイソシアネートと、
（Ａ２）少なくとも１種の、一般式Ｉ：
Ｘ［−Ｒ（−ＯＨ）ｎ］ｍ            （Ｉ）
［式中、指数及び変数は、次の意味を有する：
ｎは、１〜５の数であり、
ｍは、１又は２であり、
Ｘは、イソシアネート反応性の官能基を表わし、かつ
Ｒは、２−〜５結合性有機基を表わすが、条件として、（Ａ１）が軟質セグメントを含有する場合には、Ｒは、少なくとも１個の硬質セグメント（ａ１１）を含有し、又はそれから成り立つ］のポリオールとを、
モル比（Ａ２）：（Ａ１）≧２及び当量比［Ｘ＋ＯＨ］：ＮＣＯ≧２で、反応混合物中の遊離イソシアネート基がそれ以上検出されなくなるまで反応させることを特徴とする方法。
【請求項１２】
一般式Ｉのポリオール（Ａ２）の３０モル％までを、請求項１０に記載の少なくとも１種の一般式ＩＩの化合物（Ａ３）によって代える、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
請求項１から１０までのいずれか１項に記載のポリオール（Ａ）及び請求項１１及び１２に記載の方法により製造されるポリオール（Ａ）を、熱硬化可能な物質として又は熱硬化可能な物質の製造のために用いる使用。
【請求項１４】
熱硬化可能な物質は、付加的に、物理的に、酸化的に及び／又は化学線で硬化可能である、請求項１３に記載の使用。
【請求項１５】
熱硬化可能な物質は、被覆物質、接着物質、密閉物質又は成形品及びシートの前駆体である、請求項１３又は１４に記載の使用。
【請求項１６】
被覆物質は、電気浸漬ラッカー、プライマー、充填剤、下地、ベースラッカー、単一上塗ラッカー又はクリアラッカーである、請求項１５に記載の使用。