【手続補正書】
【提出日】平成22年5月31日(2010.5.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
除草剤組成物であって：
a）除草剤として活性な量の、以下の式（I）：
【化１】
2007535513.tif 000001
｛式中、
R1およびR2が、互いに独立に、水素、C1-C10アルキル、C3-C8シクロアルキル、もしくはC3-C8シクロアルキル-C1-C3アルキルであるか、または
R1およびR2が、R1およびR2の結合する炭素原子と共にC3-C7環を形成し、
R3およびR4が、互いに独立に、水素、C1-C10アルキル、C1-C10ハロアルキル、C3-C8シクロアルキル-C1-C10アルキル、C1-C6アルコキシ-C1-C10アルキル、もしくはC3-C8シクロアルキルであるか、または
R3およびR4が、R3およびR4の結合する炭素原子と共にC3-C7環を形成するか、または
R1と一緒にR3またはR4が、R1、R3、およびR4の結合する炭素原子と共にC5-C8環を形成するか、または
R2と一緒にR3またはR4が、R2、R3、およびR4の結合する炭素原子と共にC5-C8環を形成し；
mが、0、1、または2から選ばれる整数であり；
R5およびR6が、互いに独立に、水素、シアノ、C1-C10アルキル、またはC1-C10アルコキシカルボニルであり；
nが、1、2、または3から選ばれる整数であり；
Yが、水素、C1-C6アルコキシカルボニル、カルボキシル、C2-C6アルケニル、C1-C10アルキル、もしくは（ハロゲン、C1-C6アルコキシ、C2-C6アルケニルオキシ、C2-C6アルキニルオキシ、ベンジルオキシ、C1-C6アルコキシカルボニル、カルボキシル、ヒドロキシルか、ホルミルによって置換された）C1-C10アルキルであるか、または
Yが、フェニル、もしくは（ハロゲン、C1-C6アルキル、C1-C6ハロアルキル、C1-C6アルコキシ-C1-C6アルキル、ヒドロキシ-C1-C6アルキル、C1-C6アルキルチオ-C1-C6アルキル、C1-C6アルキルスルフィニル-C1-C6アルキル、C1-C6アルキルスルホニル-C1-C6アルキル、C1-C6アルキルアミノ-C1-C6アルキル、ジ-C1-C6アルキルアミノ-C1-C6アルキル、シアノ-C1-C6アルキルか、フェノキシ-C1-C6アルキルによって置換された）フェニルであるか、または
Yが、（C1-C6アルコキシもしくは（ハロゲン、C1-C6アルコキシ、C2-C6アルケニル、C2-C6アルキニル、C1-C6アルコキシカルボニル、C1-C6アルキルカルボニルか、C3-C8シクロアルキルによって置換された）C1-C6アルコキシによって置換された）フェニルであるか、または
Yが、（C2-C6アルケニル、C3-C8シクロアルコキシ、C1-C6アルキルチオ、もしくは（ハロゲンかC1-C6アルコキシによって置換された）C1-C6アルキルチオによって置換された）フェニルであるか、または
Yが、（C1-C6アルキルスルフィニルもしくは（ハロゲンかC1-C6アルコキシによって置換された）C1-C6アルキルスルフィニルによって置換された）フェニルであるか、または
Yが、（C1-C6アルキルスルホニルもしくは（ハロゲンかC1-C6アルコキシによって置換された）C1-C6アルキルスルホニルによって置換された）フェニルであるか、または、
Yが、（ベンジルオキシ、アミノ、もしくは（C1-C6アルキル、C1-C6アルキルスルホニル、C1-C6アルキルカルボニル-C1-C6アルキルか、C1-C6アルキルスルホニル-C1-C6アルキルによって置換された）アミノによって置換された）フェニルであるか、または
Yが、（ジ-C1-C6アルキルアミノ、シアノ、ニトロ、C1-C6アルコキシカルボニル、カルボキシル、C3-C8シクロアルコキシカルボニル、C2-C6アルケニルオキシカルボニル、C2-C6アルキニルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、フェノキシカルボニルか、C1-C6アルキルカルボニルオキシによって置換された）フェニル、もしくはC1-C6アルコキシカルボニル-C1-C6アルキルであるか、または
Yが、ヘテロ原子として1つ以上の窒素、酸素、もしくは硫黄原子を含む5員もしくは6員、単環式もしくは二環式芳香族環であって、ここで、上記芳香族複素環が、ヒドロキシル、メルカプト、ハロゲン、C1-C10アルキルか、（ヒドロキシル、C3-C8シクロアルキル、ハロ-C3-C8シクロアルキル、C1-C4アルキル-C3-C8シクロアルキル、C1-C10アルコキシ、C1-C10アルキルチオ、C1-C10アルキルスルホニル、C1-C10アルコキシカルボニル、C2-C6ハロアルケニル、アミノ、C1-C10アルキルアミノ、C1-C6アシルアミノ、C1-C4ハロアルキルカルボニルアミノ、C1-C10アルキルスルホニルアミノ、C1-C4ハロアルキルスルホニルアミノ、カルバモイル、C1-C10アルキルカルバモイル、C1-C6アシル、C1-C4ハロアルキルカルボニル、C1-C10アルコキシイミノ、シアノ、フェニルか、フェノキシによって置換された）C1-C10アルキルによって置換されていてもよく、または
上記芳香族複素環が、C1-C4ハロアルキル、C3-C8シクロアルキル、C1-C10アルコキシ、C1-C10アルコキシカルボニル、もしくは（C1-C10アルコキシカルボニル、フェニル、芳香族複素環式ラジカル、シアノ、カルバモイルか、C1-C10アルキルカルバモイルによって置換された）C1-C10アルコキシによって置換されていてもよく、または
上記芳香族複素環が、C1-C4ハロアルコキシ、C3-C8シクロアルコキシ、C3-C8シクロアルキル-C1-C3アルコキシ、C1-C10アルキルチオ、もしくは（C1-C10アルコキシカルボニル、フェニル、芳香族複素環式ラジカル、シアノ、カルバモイルか、C1-C10アルキルカルバモイルによって置換された）C1-C10アルキルチオによって置換されていてもよく、または
上記芳香族複素環が、C1-C4ハロアルキルチオ、C2-C6アルケニル、C2-C6アルケニルオキシ、C2-C6アルキニル、C2-C6アルキニルオキシ、C1-C10アルキルスルフィニル、もしくは（C1-C10アルコキシカルボニル、フェニル、芳香族複素環式ラジカル、シアノ、カルバモイルか、C1-C10アルキルカルバモイルによって置換された）C1-C10アルキルスルフィニルによって置換されていてもよく、または
上記芳香族複素環が、C1-C10アルキルスルホニル、もしくは（C1-C10アルコキシカルボニル、フェニル、芳香族複素環式ラジカル、シアノ、カルバモイルか、C1-C10アルキルカルバモイルによって置換された）C1-C10アルキルスルホニルによって置換されていてもよく、または
上記芳香族複素環が、C1-C10ハロアルキルスルフィニル、もしくは（C1-C10アルコキシカルボニル、フェニル、芳香族複素環式ラジカル、シアノ、カルバモイルか、C1-C10アルキルカルバモイルによって置換された）C1-C10アルキルスルホニルオキシによって置換されていてもよく、または
上記芳香族複素環が、C1-C4ハロアルキルスルホニル、C1-C10アルキルスルホニルオキシ、C1-C4ハロアルキルスルホニルオキシ、フェニル、フェノキシ、フェニルチオ、芳香族複素環式ラジカル、（酸素原子、硫黄原子か、スルホニル基を介して結合した）芳香族複素環式ラジカル、フェニルスルフィニル、フェニルスルホニル、フェニルスルホニルオキシ、C1-C6アシル、C1-C4ハロアルキルカルボニル、ベンジルカルボニル、ベンゾイル、カルボキシル、C1-C10アルコキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、フェノキシカルボニル、シアノ、カルバモイル、C1-C10アルキルカルバモイル、フェニルカルバモイル、C1-C6アシルオキシ、C1-C4ハロアルキルカルボニルオキシ、ベンジルカルボニルオキシ、ベンゾイルオキシ、ニトロ、アミノ、C1-C10アルキルアミノ、フェニルアミノ、C1-C6アシルアミノ、C1-C6ハロアルキルカルボニルアミノ、ベンジルカルボニルアミノ、ベンゾイルアミノ、C1-C10アルキルスルホニルアミノ、C1-C6ハロアルキルスルホニルアミノ、ベンジルスルホニルアミノ、もしくはフェニルスルホニルアミノによって置換されていてもよい。｝によって表される化合物、ならびに
b）除草剤の拮抗薬として活性な量の、以下の式（S-I）：
【化２】
2007535513.tif 000002
｛式中、
Xs1が、水素またはハロゲンであり；かつ
Rs1が、水素、C3-C8アルケニル、C3-C8アルキニル、C3-C8シクロアルキル、C1-C8アルキル、もしくは（C1-C8アルコキシか、C3-C8アルケニルオキシによって置換された）C1-C8アルキルであるか、または
Rs1が、アルカリ金属およびアルカリ土類金属、鉄、銅、アルミニウム、アンモニウムか四級アンモニウム、スルホニウム、もしくはホスホニウムから成る群から選ばれる陽イオンである。｝によって表される薬害軽減剤；あるいは
以下の式（S-II）：
【化３】
2007535513.tif 000003
｛式中、
E1が、窒素またはメチンであり；
Xs1が、互いに独立に、水素またはハロゲンであり；そして
Rs1が、水素、C3-C8アルケニル、C3-C8アルキニル、C3-C8シクロアルキル、C1-C8アルキル、もしくは（C1-C8アルコキシかC3-C8アルケニルオキシによって置換された）C1-C8アルキルであるか、または
Rs1が、アルカリ金属とアルカリ土類金属、鉄、銅、アルミニウム、アンモニウムか四級アンモニウム、スルホニウム、もしくはホスホニウムから成る群から選ばれる陽イオンである。｝によって表される薬害軽減剤；あるいは
以下の式（S-III）： 
【化４】
2007535513.tif 000004
｛式中、
Xs1が、互いに独立に、水素またはハロゲンであり；そして
Rs1が、互いに独立に、水素、C3-C8アルケニル、C3-C8アルキニル、C3-C8シクロアルキル、C1-C8アルキル、もしくは（C1-C8アルコキシかC3-C8アルケニルオキシによって置換された）C1-C8アルキルであるか、または
Rs1が、アルカリ金属とアルカリ土類金属、鉄、銅、アルミニウム、アンモニウムか四級アンモニウム、スルホニウム、もしくはホスホニウムから成る群から選ばれる陽イオンである。｝によって表される薬害軽減剤；あるいは
以下の式（S-IV）： 
【化５】
2007535513.tif 000005
｛式中、
Rs1が、水素、C3-C8アルケニル、C3-C8アルキニル、C3-C8シクロアルキル、C1-C8アルキル、もしくは（C1-C8アルコキシかC3-C8アルケニルオキシによって置換された）C1-C8アルキルであるか、または
Rs1が、アルカリ金属とアルカリ土類金属、鉄、銅、アルミニウム、アンモニウムか四級アンモニウム、スルホニウム、もしくはホスホニウムから成る群から選ばれる陽イオンである。｝によって表される薬害軽減剤；あるいは
以下の式（S-V）：
【化６】
2007535513.tif 000006
｛式中、
Rs2およびRs3が、互いに独立に、C1-C8アルキル、C2-C8アルケニル、もしくはC3-C8シクロアルキルであるか、または
Rs2およびRs3が一緒に、以下の式：
【化７】
2007535513.tif 000007
（式中、Rs4およびRs5が、互いに独立に、水素もしくはC1-C8アルキルである。）によって表されるラジカルを形成するか、または
Rs2およびRs3が一緒に、以下の式：
【化８】
2007535513.tif 000008
（式中、
Rs7およびRs8が、互いに独立に、C1-C6アルキルであるか、もしくは
Rs7およびRs8が一緒に-（CH2）5-を形成し、かつ
Rs6が、水素、C1-C6アルキル、アリールか、ヘテロアリールである。）によって表されるラジカルを形成する。｝によって表される薬害軽減剤；あるいは
以下の式（S-VI）：
【化９】
2007535513.tif 000009
｛式中、
Rs9が、水素もしくはハロゲンであり、かつ
Rs10が、シアノもしくはトリフルオロメチルである。｝によって表される薬害軽減剤；あるいは
以下の式（S-VII）： 
【化１０】
2007535513.tif 000010
｛式中、Rs11が、水素もしくはメチルである。｝によって表される薬害軽減剤；あるいは
以下の式（S-VIII）：
【化１１】
2007535513.tif 000011
｛式中、
snが、0もしくは1であり；
Rs12が、水素、C1-C8アルキル、C3-C8シクロアルキル、C3-C8アルケニル、C3-C8アルキニル、もしくは-N（-Rs13-Rs14）：
（式中、
Rs13およびRs14が、互いに独立に、水素、C1-C8アルキル、C3-C8シクロアルキル、C3-C8アルケニルか、C3-C8アルキニルであるか、もしくは
Rs13とRs14が一緒に、（酸素、硫黄、SO、SO2、NHか、N（C1-C4アルキル）によって中断されていてもよい）C4-C6アルキレン基を形成する。）であり；
Rs15が、水素、または（アルカリ金属とアルカリ土類金属、鉄、銅、アルミニウム、アンモニウムか四級アンモニウム、スルホニウム、もしくはホスホニウムから成る群から選ばれる）陽イオンであり；
Rs16が、水素、ハロゲン、C1-C8アルキル、もしくはメトキシであり；そして
Rs17が、水素、ハロゲン、C1-C8アルキル、トリフルオロメチル、もしくはC1-C8アルコキシである。｝によって表される薬害軽減剤；あるいは
以下の式（S-IX）：
【化１２】
2007535513.tif 000012
によって表される薬害軽減剤；あるいは
以下の式（S-X）：
【化１３】
2007535513.tif 000013
｛式中、
Rs18が、ベンジル、水素、C3-C8アルケニル、C3-C8アルキニル、C3-C8シクロアルキル、C1-C8アルキル、もしくは（C1-C8アルコキシかC3-C8アルケニルオキシによって置換された）C1-C8アルキルであるか、または、
Rs18が、（アルカリ金属とアルカリ土類金属、鉄、銅、アルミニウム、アンモニウムか四級アンモニウム、スルホニウム、もしくはホスホニウムから成る群から選ばれる）陽イオンである。｝によって表される薬害軽減剤、
から成る混合物を含むことを特徴とする除草剤組成物。
【請求項２】
前記薬害軽減剤が、以下の式（S-I.1）：
【化１４】
2007535513.tif 000014
｛式中、
Rs1が、水素、C1-C8シクロアルキル、C1-C8アルキル、もしくは（C1-C8アルコキシか、C3-C8アルケニルオキシによって置換された）C1-C3アルキルであるか、または
Rs1が、（アルカリ金属とアルカリ土類金属、鉄、銅、アルミニウム、アンモニウム、四級アンモニウム、スルホニウム、もしくはホスホニウムから成る群から選ばれる）陽イオンである。｝によって表される化合物であるか、あるいは
以下の式（S-II.1）：
【化１５】
2007535513.tif 000015
｛式中、Rs1が、C1-C8アルキル、もしくは（C3-C8アルケニルオキシによって置換された）C1-C8アルキルである。｝によって表される化合物であるか、あるいは
以下の式（S-III.1）：
【化１６】
2007535513.tif 000016
｛式中、Rs1が、互いに独立に、C1-C8アルキル、もしくは（C3-C8アルケニルオキシによって置換された）C1-C8アルキルである。｝によって表される化合物であるか、あるいは
以下の式（S-IV.1）：
【化１７】
2007535513.tif 000017
｛式中、Rs1が、C1-C8アルキル、もしくは（C3-C8アルケニルオキシによって置換された）C1-C8アルキルである。｝によって表される化合物であるか、あるいは
以下の式（S-V.1）：
【化１８】
2007535513.tif 000018
｛式中、
Rs2およびRs3が、互いに独立に、C2-C8アルケニルであるか、または
Rs2およびRs3が、一緒に以下の式：
【化１９】
2007535513.tif 000019
（式中、Rs5が、水素もしくはC1-C4アルキルである。）によって表されるラジカルを形成するか、または
Rs2およびRs3が一緒に、以下の式：
【化２０】
2007535513.tif 000020
（式中、
Rs7およびRs8が、互いに独立に、C1-C4アルキルであるか、もしくは
Rs7およびRs8が一緒に、-（CH2）5-を形成し、そして
Rs6が、水素、C1-G4アルキルか、
【化２１】
2007535513.tif 000021
である。）によって表されるラジカルを形成する。｝によって表される化合物であるか、
あるいは
以下の式（S-VI.1）：
【化２２】
2007535513.tif 000022
｛式中、
Rs9が、水素もしくは塩素であり；そして
Rs10が、シアノもしくはトリフルオロメチルである。｝によって表される化合物
であるか、あるいは
以下の式（S-VII.1）：
【化２３】
2007535513.tif 000023
｛式中、Rs11が、水素もしくはメチルである。｝によって表される化合物であるか、あるいは
以下の式（S-VIII.1）：
【化２４】
2007535513.tif 000024
｛式中、
Rs13およびRs14が、互いに独立に、水素、C1-C4アルキル、C3-C6シクロアルキル、C3-C6アルケニル、もしくはC3-C6アルキニルであるか、または
Rs13およびRs14が一緒に、C4-C6アルキレン基を形成し；
Rs15が、水素もしくは（アルカリ金属とアルカリ土類金属、鉄、銅、アルミニウム、アンモニウムか四級アンモニウム、スルホニウム、もしくはホスホニウムから成る群から選ばれる）陽イオンであり；
Rs16が、水素、C1-C6アルキル、もしくはメトキシであり；そして
Rs17が、水素、C1-C6アルキル、もしくはC1-C6アルコキシである。｝によって表される化合物であるか、あるいは
以下の式（S-IX.1）：
【化２５】
2007535513.tif 000025
によって表される化合物であるか、あるいは
以下の式（S-X.1）：
【化２６】
2007535513.tif 000026
｛式中、Rs18が、C1-C8アルキルもしくは（C3-C8アルケニルオキシによって置換された）
C1-C8アルキルである。｝によって表される化合物であることを特徴とする、請求項1に記載の組成物。
【請求項３】
前記薬害軽減剤が、クロキントセット-メキシル、またはそのリチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム塩、マグネシウム塩、アルミニウム塩、鉄塩、アンモニウム塩、四級アンモニウム塩、スルホニウム塩、もしくはホスホニウム塩であるか、あるいは前記薬害軽減剤が、フェンクロラゾール-エチル、メフェンピル-ジエチル、イソオキサジフェン-エチル、フリラゾールおよびそのR異性体、ベノキサコール、ジクロルミド、MON4660、オキサベトリニル、シオメトリニルおよびそのZ異性体、フェンクロリム、N-シクロプロピル-4-（2-メトキシ-ベンゾイルスルファモイル）-ベンズアミド、N-イソプロピル-4-（2-メトキシ-ベンゾイルスルファモイル）-ベンズアミド、ナフタル酸無水物、またはフルラゾールであることを特徴とする、請求項1または2に記載の組成物。
【請求項４】
式（I）によって表される化合物において、
R1およびR2が、互いに独立に、C1-C10アルキルもしくはC3-C8シクロアルキルであるか、または
R1およびR2が、R1およびR2の結合する炭素原子と共にC3-C7環を形成する、
ことを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載の組成物。
【請求項５】
式（I）によって表される化合物において、
R3およびR4が、互いに独立に、水素、C1-C10アルキル、もしくはC3-C8シクロアルキルであるか、または
R3およびR4が、R3およびR4の結合する炭素原子と共にC3-C7環を形成する、
ことを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載の組成物。
【請求項６】
式（I）によって表される化合物において、
mが1または2である、
ことを特徴とする、請求項1〜5のいずれか1項に記載の組成物。
【請求項７】
式（I）によって表される化合物において、
R5およびR6が、互いに独立に、水素、メチル、メトキシカルボニル、またはエトキシカルボニルである、
ことを特徴とする、請求項1〜6のいずれか1項に記載の組成物。
【請求項８】
式（I）によって表される化合物において、
nが1である、
ことを特徴とする、請求項1〜7のいずれか1項に記載の組成物。
【請求項９】
式（I）によって表される化合物において、
Yが、フェニル、または（C1-C6アルキル、C1-C6ハロアルキル、C1-C6アルコキシ-C1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ、C1-C6ハロアルコキシ、C1-C6アルコキシ-C1-C6アルコキシ、もしくはハロゲンによって置換された）フェニルである、
ことを特徴とする、請求項1〜8のいずれか1項に記載の組成物。
【請求項１０】
式（I）によって表される化合物において、
Yが、ヘテロ原子として1つ以上の窒素、酸素、もしくは硫黄原子を含む5員または6員、単環式または二環式芳香族環であって、ここで、上記芳香族複素環が、C1-C10アルキルまたは（C1-C10アルコキシによって置換された）C1-C10アルキルによって置換されていてもよく、あるいは上記複素芳香族環が、C1-C10アルキルスルホニル、C1-C4ハロアルキル、C3-C8シクロアルキル、C1-C10アルコキシ、C1-C4ハロアルコキシ、C1-C10アルコキシカルボニル、C3-C8シクロアルキル-C1-C3アルコキシ、C1-C10アルキルチオ、フェニル、フェノキシ、C1-C4ハロアルキルカルボニル、シアノ、ニトロ、ハロゲン、カルバモイル、C1-C10アルキルカルバモイル、またはフェニルカルバモイルによって置換されていてもよい、
ことを特徴とする、請求項1〜8のいずれか1項に記載の組成物。
【請求項１１】
式（I）によって表される化合物において、
Yが、チエニル、ピラゾリル、イソオキサゾリル、イソチアゾリル、ピリジル、またはピリミジルである、
ことを特徴とする、請求項1〜8または10のいずれか1項に記載の組成物。
【請求項１２】
式（I）によって表される化合物において、
Yが、チエン-3-イル、ピラゾール-4-イル、ピラゾール-5-イル、イソオキサゾール-4-イル、イソチアゾール-4-イル、ピリジン-3-イル、またはピリミジン-5-イルである、
ことを特徴とする、請求項11に記載の組成物。
【請求項１３】
式（I）によって表される化合物が、3-（5-ジフルオロメトキシ-1-メチル-3-トリフルオロメチル-1H-ピラゾール-4-イルメチルスルホニル）-5,5-ジメチル-4,5-ジヒドロイソキサゾールである、
ことを特徴とする、請求項1〜8または10〜12のいずれか1項に記載の組成物。
【請求項１４】
前記薬害軽減剤がベノキサコールであることを特徴とする、請求項13に記載の組成物。
【請求項１５】
前記薬害軽減剤がクロキントセット-メキシル、MON4660、メフェンピル-ジエチルまたはフェンクロラゾール-エチルであることを特徴とする、請求項13に記載の組成物。
【請求項１６】
前記式Iの化合物が式（1.27）
【化２７】
2007535513.tif 000027
の化合物であって、そして前記薬害軽減剤がクロキントセット-メキシル、フェンクロラゾール-エチル、メフェンピル-ジエチル、イソキサジフェン-エチル、フリラゾールもしくはそのR異性体、ベノキサコール、ジクロルミド、MON4660、オキサベトリニル、シオメトリニルもしくはそのZ異性体、フェンクロリム、N-シクロプロピル-4-（2-メトキシ-ベンゾイルスルファモイル）-ベンズアミド、N-イソプロピル-4-（2-メトキシ-ベンゾイルスルファモイル）-ベンズアミド、ナフタル酸無水物またはフルラゾールである、
ことを特徴とする、請求項1または2に記載の組成物。
【請求項１７】
除草剤として活性な量の請求項1に規定される式（I）によって表される除草剤、および除草剤の拮抗薬として活性な量の請求項1に規定される式（S-I）〜（S-X）によって表される薬害軽減剤を用いて同時または別々の時期に有用植物、その種子もしくは切り枝、またはその栽培地を処理することを特徴とする有用植物から成る作物の中の雑草およびイネ科雑草対策の方法。
【請求項１８】
前記式Iの除草剤が請求項13に規定されるとおりであり、そして前記薬害軽減剤がクロキントセット-メキシルまたはそのリチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム塩、マグネシウム塩、アルミニウム塩、鉄塩、アンモニウム塩、四級アンモニウム塩、スルホニウム塩もしくはホスホニウム塩であるか、あるいは前記薬害軽減剤がフェンクロラゾール-エチル、メフェンピル-ジエチル、イソキサジフェン-エチル、フリラゾールもしくはそのR異性体、ベノキサコール、ジクロルミド、MON4660、オキサベトリニル、シオメトリニルもしくはそのZ異性体、フェンクロリム、N-シクロプロピル-4-（2-メトキシ-ベンゾイルスルファモイル）-ベンズアミド、N-イソプロピル-4-（2-メトキシ-ベンゾイルスルファモイル）-ベンズアミド、ナフタル酸無水物またはフルラゾールである、
ことを特徴とする、請求項17に記載の方法。
【請求項１９】
前記有用植物の作物がトウモロコシであることを特徴とする、請求項17または18に記載の方法。
【請求項２０】
前記式Iの除草剤が請求項13に規定されるとおりであり、そして前記薬害軽減剤がベノキサコールであることを特徴とする、請求項17に記載の方法。
【請求項２１】
前記有用植物の作物がトウモロコシであることを特徴とする、請求項20に記載の方法。
【請求項２２】
前記処理が発芽後使用であることを特徴とする、請求項21に記載の方法。
【請求項２３】
前記式Iの除草剤が請求項13に規定されるとおりであり、前記薬害軽減剤がクロキントセット-メキシル、MON4660、メフェンピル-ジエチルまたはフェンクロラゾール-エチルであることを特徴とする、請求項17に記載の方法。
【請求項２４】
前記有用植物の作物が小麦または大麦であることを特徴とする、請求項23に記載の方法。
【請求項２５】
前記処理が発芽前使用であることを特徴とする、請求項24に記載の方法。