【事件の表示】
　平成　５年特許願第１４０６７９号「位置合わせ装置」拒絶査定不服審判事件〔平成　６年１２月２０日出願公開、特開平　６−３４７２１５〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
【１】（手続の経緯・本願発明）
　本願は、平成５年６月１１日の出願であって、その請求項１〜５に係る発明は、平成１５年１２月４日付けで補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１〜５に記載されたとおりのものと認められるところ、その請求項１には次のとおりに記載されている（以下、請求項１に係る発明を「本願発明」と言う。）。
「【請求項１】　原版のパターンをウエハに露光する露光装置であって、光電変換素子と、物体に設けられた位置検出用マークからの光パターンを該光電変換素子上に投影する手段と、前記位置検出用マークの位置ずれ計測方向に前記物体を移動させる手段とを有し、前記位置ずれ計測方向と該光電変換素子の配列方向の１方向とが平行でない或いは直交しない角度に前記光電変換素子を配置し、前記角度に関する情報と前記光電変換素子上に投影された前記光パターンから検出される位置に関する情報とに基づき、前記物体の移動量を決定することを特徴とする露光装置。」。
　
【２】（刊行物）
　これに対し、原査定に引用された本願出願前に頒布された刊行物である特開平５−４１３４３号公報（以下、「刊行物」という。）は、本願発明と同様、ウエハの露光装置（下記記載ａ．参照）に関し、図面と共に以下の記載がある。
ａ．「【０００６】このような装置を備えた投影露光装置の一例を図１２を参照して説明する。この図１２に示すように投影露光装置は、ホルダー１１に固定されているレチクルＲ上のパターン領域ＰＡを、投影レンズ１０を介してウェハＷ（又はガラスプレート）上に投影露光するものである。」
　前記記載ａ．から、
・レチクルＲ上のパターン領域ＰＡをウエハＷに投影露光する装置、が読みとれる。
ｂ．「【０００３】これらのマーク位置を検出する方式としては、特開昭６１−１２８１０６号公報、特開昭５７−１４２６１２号公報等に開示された技術が知られている。これらの従来技術では、主に以下の２つの理由で走査ビーム、又はマーク照明光として単色光を使っている。〈１〉投影型露光装置（ステッパー）において、投影光学系を介してウェハマークを検出する形式では、投影光学系の大きい色収差を避けるために単一波長の照明光、又はレーザビームを使う。〈２〉高輝度、高分解能の検出を行うべく微小スポットに集光するために単色のレーザビームを使う。」
ｃ．「【０００５】・・・従って、撮像方式では照明光を白色化（広帯域化）するとともに、結像光学系を色消ししておくだけで、レジストに影響されない極めて高精度な位置検出装置が得られることになる。」
　前記記載ｂ．ｃ．から、
・投影露光装置は、高分解能の位置検出を技術課題として有することが読みとれる。
ｄ．「【０００９】・・・従って、ウェハＷ上のウェハマークＭＸｎの像は、指標板１３上に結像され、リレー系１４、１５、ミラー１６を介してこのウェハマークＭＸｎの像と指標マーク３０ａ、３０ｂの像とが、ＣＣＤカメラ等の撮像素子１７に結像する。」
ｅ．「【００２１】
【実施例】次に、本発明の一実施例に係る位置検出装置を備えた投影露光装置の構成を図１を参照にして説明する。図１において、レチクルＲ上のパターン領域ＰＡの像は、投影レンズ１０を介してウェハＷ上（のショット領域）に結像投影される。ウェハＷは、Ｘ，Ｙ方向にステップアンドリピート方式で移動するステージ５上に載置され・・・」
ｆ．「【００２２】さて、本実施例による装置は、ここではウェハＷ上のウェハマークＭＸｎ，ＭＹｎをオフ・アクシス方式で検出するウェハアライメントセンサーに対して適用される。このウェハアライメントセンサーは、投影レンズ１０の下部直近に配置されたプリズム状のミラー９、対物レンズ７、リレーレンズ１９，２１、絞り２５、ハーフミラー４、レンズ系２６、回転偏光板２８、反射型共役指標板２０、結像レンズ１５、ハーフミラー１６及びＣＣＤ２次元撮像素子１７，１８等によって構成される。」
　前記記載ｄ．ｆ．から、
・ウエハＷ上のウエハマークＭＸｎの像をＣＣＤ２次元撮像素子１７に結像させるウエハアライメントセンサー、が読みとれる。
ｇ．「【００３４】上記のように形成されたマークＭＸｎは、Ｘ方向の位置検出に使われ、このマークＭＸｎはＹ方向に伸びた５本の線状パターンＰ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、Ｐ５がＸ方向にほぼ一定のピッチＰ（デューティ１：１）で配列された格子状のマルチパターンである。」
ｈ．「【００４３】次に、プロセッサ５０では、この平均波形データを適当なスライスレベルで画素単位に２値化し、２値化波形の走査方向（Ｘ方向）の中心から、指標マーク２２ａ，２２ｂの中心位置Ｘｃ、及びマークＭＸｎ（パターンＰ１〜Ｐ５）のＸ方向の中心位置Ｘｍを計算する。・・・」
ｉ．「【００４５】そして、プロセッサ５０は、位置Ｘｃと位置Ｘｍとの差ΔＸ＝Ｘｃ−Ｘｍを算出し、前述のウェハステージが位置決めされたときの位置ＸＡと差ΔＸとを加えた値をマーク位置情報（アライメント情報）として算出する。さらに、ステージコントローラ５２は、このマーク位置情報に基づいてモータ５４を制御し、ステージ５を所定位置に移動させる（アライメントする）。」（「ステージコントローラ５４」は「ステージコントローラ５２」の誤記である。）
　前記記載ｅ．ｇ．ｉ．から、位置Ｘｃと位置Ｘｍとの差ΔＸが生じたときにステージ５（したがってウエハＷ）をＸ方向（すなわちΔＸ方向）に移動させること、が読みとれる。
　したがって、
・ウエハマークＭＸｎのＸ方向の中心位置Ｘｍに基づきウエハＷの移動量を決定すること、
・ΔＸ方向にウエハＷを移動させるステージコントローラ５２、モータ５４、が読みとれる。
ｊ．「【００３０】・・・ＣＣＤ１７，１８は、２次元撮像素子であり、水平走査方向と垂直走査方向とに画素（ピクセル）が配列されるが、本実施例のＣＣＤ１７，１８では、ウェハＷ上のマークのエッジを横切る方向を水平走査方向に一致させるものとする。」
　前記記載ｊ．から、
・ＣＣＤ２次元撮像素子１７の配列方向の一方向がウェハＷ上のマークのエッジを横切る方向と一致するように配置すること、が読みとれる。
　ここで、
・・「ウェハＷ上のマークのエッジを横切る方向」とは、マークＭＸｎの場合、Ｘ方向であることは、前記記載ｇ．及び図１３から明らかであること、
・・Ｘ方向はΔＸ方向に合致すること、を考慮すると、前記記載ｊ．から、
・ΔＸ方向とＣＣＤ２次元撮像素子１７の配列方向の一方向とが平行になるようにＣＣＤ２次元撮像素子１７を配置すること、が読みとれる。
　
　以上のことを勘案すると、刊行物には次の発明が記載されているものと認められる。
（刊行物に記載された発明）
　「レチクルＲ上のパターン領域ＰＡをウエハＷに投影露光する装置であって、ＣＣＤ２次元撮像素子１７と、ウエハＷ上のウエハマークＭＸｎの像をＣＣＤ２次元撮像素子１７に結像させるウエハアライメントセンサーと、ΔＸ方向にウエハＷを移動させるステージコントローラ５２、モータ５４とを有し、ΔＸ方向とＣＣＤ２次元撮像素子１７の配列方向の一方向とが平行になるようにＣＣＤ２次元撮像素子１７を配置し、ウエハマークＭＸｎのＸ方向の中心位置Ｘｍに基づきウエハＷの移動量を決定するようにした露光装置。」（以下、「刊行物に記載された発明」という。）。
　
【３】（対比）  
　本願発明と刊行物１に記載された発明とを対比する。
　刊行物に記載された発明における、
「レチクルＲ上のパターン領域ＰＡ」、「ウエハＷ」、「投影露光する装置」、「ＣＣＤ２次元撮像素子１７」、「ウエハＷ上のウエハマークＭＸｎ」、「像」、「結像させるウエハアライメントセンサー」、「ΔＸ方向」、「ウエハＷを移動させるステージコントローラ５２、モータ５４」、「ウエハマークＭＸｎのＸ方向の中心位置Ｘｍ」、「ウエハＷの移動量」、
は、それぞれ、本願発明の、
「原版のパターン」、「ウエハ」、「露光装置」、「光電変換素子」、「物体に設けられた位置検出用マーク」、「光パターン」、「投影する手段」、「位置検出用マークの位置ずれ計測方向」、「物体を移動させる手段」、「光パターンから検出される位置に関する情報」、「物体の移動量」、
に相当し、両者は、
（一致点）
　原版のパターンをウエハに露光する露光装置であって、光電変換素子と、物体に設けられた位置検出用マークからの光パターンを該光電変換素子上に投影する手段と、前記位置検出用マークの位置ずれ計測方向に前記物体を移動させる手段とを有し、前記光電変換素子上に投影された前記光パターンから検出される位置に関する情報に基づき、前記物体の移動量を決定する露光装置、
で一致し、次の点で相違する。
（相違点）
１．光電変換素子の配置について、
　本願発明では、光電変換素子は「位置ずれ計測方向と該光電変換素子の配列方向の１方向とが平行でない或いは直交しない角度に前記光電変換素子を配置し」ているのに対し、刊行物に記載された発明では、位置ずれ計測方向と光電変換素子の配列方向の１方向とが平行になるように光電変換素子を配置している点。
２．物体の移動量の決定について、
　本願発明では、「角度に関する情報と前記光電変換素子上に投影された前記光パターンから検出される位置に関する情報とに基づき」物体の移動量を決定しているのに対し、刊行物に記載された発明では、光電変換素子上に投影された前記光パターンから検出される位置に関する情報に基づき決定している点。
　
【４】（当審の判断）
４−１．相違点１．について
　前記相違点１について検討する。
　測定対象の位置ずれを光学的に検出し位置ずれを補正する装置において、位置ずれ計測の分解能を上げるため、測定対象の位置ずれ計測方向に対して受光部の受光面を角度θだけ斜めに配置することは、広く採用されている周知の配置構成であり、そのとき得られる分解能が前記角度θに依存することも、よく知られている技術的事項である（例えば、特開昭６２−２３８４０２号公報参照）。
　刊行物に記載された発明は、原版のパターンをウエハに露光する露光装置であって、位置検出用マークの位置ずれを光電変換素子で検出し、ウエハの位置ずれを補正する装置であるが、このような装置がウエハの位置を高分解能で検出することを技術課題として有することが、刊行物の記載から読みとれる（前記記載ｂ．ｃ．参照）。
　そうしてみると、刊行物に記載された発明において、ウエハの位置ずれを高分解能で検出するべく、周知の、測定対象の位置ずれ計測方向に対して斜めに光電変換素子を配置する構成を採用することに、格別の創意を要したものとは言えない。
　
４−２．相違点２．について、
　相違点１．について、で述べたように、刊行物に記載された発明において、光電変換素子を「位置ずれ計測方向と該光電変換素子の配列方向の１方向とが平行でない或いは直交しない角度に前記光電変換素子を配置」する前記周知の配置構成に変更すると、その分解能は前記角度に依存することになる。
　このことは言い換えると、決定されるべき物体の移動量が、「光電変換素子上に投影された前記光パターンから検出される位置に関する情報」に依存するだけでなく、前記角度にも依存することを意味している。
　そうしてみると、物体の移動量を決定する構成を、「角度に関する情報と前記光電変換素子上に投影された前記光パターンから検出される位置に関する情報とに基づき」決定する構成に変更することは、前記周知の配置構成を採用することに伴い、当業者が当然に行うべき構成変更と言えるものである。
　そして、本願発明による効果も、刊行物に記載された発明及び周知技術に基いて当業者が容易に予測し得る範囲のものである。
　なお、審判請求人は審判請求書において、本願発明では光電変換素子に対して位置検出用マークを傾けて配置するのではなく、位置検出用マークに対して光電変換素子を傾けて配置させているので、位置検出用マークは従来と同じｘ軸又はｙ軸に平行なものを使用することができる旨、主張しているので、この点について以下に検討する。
　前記【４】４−１．で述べたように、測定対象の位置ずれ計測方向に対して斜めに受光部の受光面を配置する配置構成は周知であり、また、位置検出マークの配置上の制約、既存製造設備の活用等を勘案すれば、当業者であれば、位置検出マークを斜めに形成するよりは、受光素子を傾斜させて配置することを選択するものと認められるから、刊行物に記載された発明において、直接の測定対象である位置検出用マークの位置ずれ計測方向に対して光電変換素子を傾斜させて配置する構成を採用することに格別の困難性があるとは言えない。
　そして、刊行物に記載された発明において、前記配置構成を採用することにより、位置検出用マークを殊更変更することなく、従来と同じくｘ軸又はｙ軸に平行なものを使用することができることは、光電変換素子を斜めに配置する構成を採用したことから当業者がただちに予測し得る効果に過ぎない故、審判請求人の主張は採用し得ない。
　
【５】（むすび）
  したがって本願の請求項１に係る発明は、前記刊行物に記載された発明並びに周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることが出来たものと認められる故、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることが出来ない。
　前記のとおり、本願の請求項１に係る発明が特許を受けることができないものであるから、本願のその他の請求項に係る発明について審理するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって結論のとおり審決する。