【事件の表示】
　特願２０００−　５７３７４「電子ビーム照射装置と電子ビーム照射方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１３年　９月　７日出願公開、特開２００１−２４２３００〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯 
　本願は、平成１２年３月２日の出願であって、平成１６年１月５日付けで最後の拒絶理由通知に対して、平成１６年２月２０日付けで手続補正がなされたが、平成１６年３月１０日付けで上記手続補正が却下されるとともに、同日付けで拒絶査定がなされ、この拒絶査定に対して平成１６年４月１５日付けで審判請求がなされるとともに、平成１６年５月６日付けで手続補正がなされたものである。
　
２．平成１６年５月６日付け手続補正についての補正却下の決定
[補正却下の決定の結論]
　平成１６年５月６日付け手続補正を却下する。
[理由］新規事項追加、目的制限違反
（１）補正後の本願発明
　平成１６年５月６日付け手続補正（以下「本件補正」という。）により、特許請求の範囲の請求項１は、
「【請求項１】電子ビームが照射される被電子ビーム照射体を支持する支持部と、上記被電子ビーム照射体に対して微小間隔をもって対向し、上記被電子ビーム照射体に電子ビームを照射する電子ビーム出射孔を有する電子ビーム照射ヘッドとを具備し、該電子ビーム照射ヘッドに、上記電子ビーム出射孔に連通する電子ビームの通路を中心にその周囲に、上記被電子ビーム照射体との対向面に開口する２つ以上のリング状気体吸引溝が形成され、上記電子ビーム通路と上記リング状気体吸引溝には排気手段が連結されて、上記電子ビーム通路が高真空度に保持されるようにした電子ビーム照射装置において、上記リング状気体吸引溝が、少なくとも上記電子ビーム出射孔から順に配置される第１及び第２のリング状気体吸引溝を有し、かつ上記第１のリング状気体吸引溝は、上記第２のリング状気体吸引溝より高い排気とされて成り、上記第１のリング状気体吸引溝の開口幅Ｗ１と、上記第２のリング状気体吸引溝の開口幅Ｗ２とが、Ｗ１＞Ｗ２の関係とされ、上記第１のリング状気体吸引溝と上記電子ビーム出射孔との間隔Ｄ１が、２．５ｍｍ≦Ｄ１≦５ｍｍとされ、上記第１及び第２のリング状気体吸引溝の間隔Ｄ２が、上記第１のリング状気体吸引溝の幅Ｗ１に対し、Ｄ２＜Ｗ１の関係とされて成り、上記電子ビーム照射ヘッドの、上記被電子ビーム照射体に対する微小間隔の保持を、静圧浮上型構成とし、上記静圧浮上型構成は、上記被電子ビーム照射体との対向面に開口し、上記リング状気体吸引溝の外周に上記電子ビーム出射孔を中心とするリング状の通路に設けられ、圧縮気体供給源より上記通路に供給される圧縮気体により浮上する静圧浮上手段により構成され上記静圧浮上手段に、上記被電子ビーム照射体との対向面の開口を埋め込む通気パッドが配置され、上記被電子ビーム照射体は板状であり、上記被電子ビーム照射体を支持する支持部が、上記被電子ビーム照射体をその板面に関して回転させる回転駆動機能と、該被電子ビーム照射体をその回転面に沿う直線方向に移行させる移行駆動機能とを有することを特徴とする電子ビーム照射装置。」
と補正された。
　
（２）新規事項追加
　本件補正による「上記第１のリング状気体吸引溝の開口幅Ｗ１と、上記第２のリング状気体吸引溝の開口幅Ｗ２とが、Ｗ１＞Ｗ２の関係とされ、上記第１のリング状気体吸引溝と上記電子ビーム出射孔との間隔Ｄ１が、２．５ｍｍ≦Ｄ１≦５ｍｍとされ、上記第１及び第２のリング状気体吸引溝の間隔Ｄ２が、上記第１のリング状気体吸引溝の幅Ｗ１に対し、Ｄ２＜Ｗ１の関係とされて成り、」との補正が新規事項を追加するものか否かを検討する。
　
　本願の願書に最初に添付された明細書及び図面（以下「当初明細書」という。）には、上記補正に関連して、以下の事項が記載されている。
　記載１
「【０００９】
　すなわち、本発明構成においては、被電子ビーム照射体に対する電子ビーム出射孔に連通する電子ビームの通路を排気してこの電子ビーム通路を真空に保持するものであるが、この電子ビーム出射孔の周囲に、リング状気体吸引溝を設けて此処から、電子ビーム照射ヘッドと、被電子ビーム照射体との間の微小間隔部の、特に電子ビーム出射孔近傍の気体を排除する構成とすることによって、電子ビーム出射孔に入り込む気体と、この電子ビーム出射孔と被電子ビーム照射体との間の空間の気体を有効に排除する効果を奏する。このようにして、電子ビーム照射ヘッド内の電子ビーム通路を高真空に保持でき、しかもこの電子ビーム出射孔から導出されて被電子ビーム照射体に向かう飛翔通路においても高い真空下に保持できる。したがって、電子ビームの、前述した隔膜による散乱、更に電子ビームの飛翔中の気体分子との衝突による散乱を効果的に回避できる。」
　記載２
「【００１４】
　一方、電子ビーム照射ヘッド６は、例えば図２にその一例の概略断面図を示し、図３にその正面図を示すように、電子ビーム出射孔５に連通する電子ビーム通路２０を有する例えばセラミックもしくは金属より成るブロック２１を有してなる。また、このブロック２１には、その電子ビーム出射孔５を中心にその周囲に、被電子ビーム照射体３との対向面に開口する１つ以上、図２の例においては、第１および第２のリング状気体吸引溝６１および６２が、電子ビーム出射孔５を中心に同心的に形成される。」
　記載３
「【００１７】
　また、静圧浮上手段２２すなわち静圧軸受は、被電子ビーム照射体３との対向部にリング状に構成される。例えば、ブロック２１の被電子ビーム照射体３との対向面に開口し、外側の気体吸引溝、図示の例では第２の気体吸引溝６２の更に外周に、電子ビーム出射孔５を中心とするリング状に形成される。この静圧軸受すなわち静圧浮上手段２２は、例えば上述したリング状の圧縮気体通路２２ａと、この開口を埋込むように配置した通気パッド２２ｂが配置された構成とし得る。」
　記載４
「【００１９】
　また、パッド２２ｂは、静圧軸受面積当たりの負荷容量が高く、剛性が高くとれる多孔質パッドによることが望ましい。」
　記載５
「【００２０】
　上述の電子ビーム照射ヘッド６において、各部の寸法を例示すると、例えば電子ビーム出射孔５の直径は１０μｍ〜２００μｍ程度、電子ビーム出射孔５の中心から第１のリング状気体吸引溝６１までの距離Ｄ1 は約２．５ｍｍ、第１のリング状気体吸引溝６１の幅Ｗ1 は４ｍｍ〜５ｍｍ程度、第１および第２のリング状気体吸引溝６１および６２間の間隔Ｄ2 は約２ｍｍ、第２のリング状気体吸引溝６２の幅Ｗ2 は約２ｍｍ、第２のリング状気体吸引溝６２と静圧浮上手段２２との間の間隔Ｄ3 は約２ｍｍ、静圧浮上手段２２の幅Ｗ3 は５ｍｍ〜１０ｍｍ程度、静圧浮上手段２２からブロック２１の周面まで距離（幅）Ｄ4 は約２ｍｍ程度に選定することができる。」
　記載６
「【００２９】
　この状態で、第１および第２のリング状気体吸引溝６１および６２の吸引動作、すなわち真空排気の調整を行って、静圧浮上手段２２による正の気体圧力と、第１および第２のリング状気体吸引溝６１および６２による負の圧力の差動によって間隔ｄが所定の狭小間隔、例えば５μｍとなるように設定する。そして、リング状気体吸引溝６１および６２の真空度が、所定の値まで上がった後、電子ビームコラム１等に設けたゲートバルブを開け、電子ビーム出射孔５から電子ビーム２を被電子ビーム照射体３上に照射する。」
　記載７
「【００３１】
　このとき、本発明構成においては、被電子ビーム照射体３に対する電子ビーム出射孔５に連通する電子ビームの通路２０が排気手段５０によって排気されて真空状態にあり、一方、静圧浮上手段２２から気体噴出がなされているが、両者間すなわち電子ビーム出射孔５の周囲には、リング状気体吸引溝６１および６２が形成されていることから、この気体が、これらリング状気体吸引溝６１および６２によって吸引され、電子ビーム出射孔５に至ることが回避される。すなわち、静圧浮上手段２２からの気体は、まず、第２のリング状気体吸引溝６２によって多くが吸収されるが、更に上述の構成では、第１のリング状気体吸引溝６１で吸収される。そして、このとき、電子ビーム照射ヘッド６と、被電子ビーム照射体３との間隔ｄが、狭小であることから、第２のリング状気体吸引溝６２と第１のリング状気体吸引溝６１との間の通気コンダクタンスは小さく、更に第２のリング状気体吸引溝６２と電子ビーム出射孔５との間隔Ｄ1 を必要に応じて上述したように例えば５ｍｍ程度に大きくして置くことによって、また第１のリング状気体吸引溝６１の真空度を大きくしたことによって、これら第２のリング状気体吸引溝６２と電子ビーム出射孔５との間のコンダクタンスは、極めて小さくされることから、電子ビーム出射孔５へのガス分子が洩れ込みは殆ど回避される。」
　記載８
　図３には、電子ビーム照射装置の電子ビーム照射ヘッドの下面図が記載され、電子ビーム照射ヘッドを構成する第１のリング状気体吸引溝（６１）等に関する寸法が、第１のリング状気体吸引溝（６１）の開口幅Ｗ１、第２のリング状気体吸引溝（６２）の開口幅Ｗ２、第１のリング状気体吸引溝（６１）と上記電子ビーム出射孔（５）との間隔Ｄ１、第１及び第２のリング状気体吸引溝（６１，６２）の間隔Ｄ２なる記号を用いて記載されている。
　
　そこで、上記記載１〜８について検討する。
　その中で「記載５」には、電子ビーム照射ヘッドを構成する第１のリング状気体吸引溝６１等の（開口）幅の寸法について、第１のリング状気体吸引溝６１の幅Ｗ1 は４ｍｍ〜５ｍｍ程度、第２のリング状気体吸引溝６２の幅Ｗ2 は約２ｍｍ、第１および第２のリング状気体吸引溝６１および６２間の間隔Ｄ2 は約２ｍｍ、電子ビーム出射孔５の中心から第１のリング状気体吸引溝６１までの距離Ｄ1 は約２．５ｍｍであることが明記されている。
　しかしながら、記載５には、第１のリング状気体吸引溝６１の幅Ｗ1 、第２のリング状気体吸引溝６２の幅Ｗ2、第１および第２のリング状気体吸引溝６１および６２間の間隔Ｄ2 、電子ビーム出射孔５の中心から第１のリング状気体吸引溝６１までの距離Ｄ1についての具体的な寸法が記載されているに過ぎない。
　なお、「記載７」には、「第２のリング状気体吸引溝６２と電子ビーム出射孔５との間隔Ｄ1 を必要に応じて上述したように例えば５ｍｍ程度に大きくして置くこと」と記載されているが、当初明細書を参照しても、この記載７以外に、距離Ｄ1について「５ｍｍ程度に大きく」することについて記載されていないので、記載７における「上述したように」は誤記というべきである。
　したがって、当初明細書には、電子ビーム出射孔５の中心から第１のリング状気体吸引溝６１までの距離Ｄ1が、約２．５ｍｍ及び５ｍｍ程度が記載されているに過ぎないといえる。
　
　また、上記記載１〜８の記載を参照しても、補正後の請求項１に記載された「第１のリング状気体吸引溝の開口幅Ｗ１と、第２のリング状気体吸引溝の開口幅Ｗ２とが、Ｗ１＞Ｗ２の関係と」すること、「第１のリング状気体吸引溝と電子ビーム出射孔との間隔Ｄ１が、２．５ｍｍ≦Ｄ１≦５ｍｍと」すること、及び「第１及び第２のリング状気体吸引溝の間隔Ｄ２が、第１のリング状気体吸引溝の幅Ｗ１に対し、Ｄ２＜Ｗ１の関係と」することを示唆する記載または、そのような寸法関係とする必要性等が当初明細書に記載されていない。
　
　してみると、当初明細書には、補正後の請求項１に記載された「第１のリング状気体吸引溝の開口幅Ｗ１と、第２のリング状気体吸引溝の開口幅Ｗ２とが、Ｗ１＞Ｗ２の関係とされ、第１のリング状気体吸引溝と電子ビーム出射孔との間隔Ｄ１が、２．５ｍｍ≦Ｄ１≦５ｍｍとされ、上記第１及び第２のリング状気体吸引溝の間隔Ｄ２が、上記第１のリング状気体吸引溝の幅Ｗ１に対し、Ｄ２＜Ｗ１の関係とされて成り」という技術思想が記載されているとはいえない。
　
　したがって、補正後の請求項１に記載された上記技術思想は、当初明細書に記載されておらず、また、上記当初明細書の記載から自明なこととも認められないので、本件補正は、当初明細書の記載された事項の範囲内でしたものではない。
　
　よって、本件補正は、特許法第１７条の２第３項の規定に違反するので、特許法第１５９条第１項で読み替えて準用する特許法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。
　
（３）目的制限違反
　本件補正により、補正前の請求項１に記載された発明特定事項に「上記第１のリング状気体吸引溝の開口幅Ｗ１と、上記第２のリング状気体吸引溝の開口幅Ｗ２とが、Ｗ１＞Ｗ２の関係とされ」、及び「上記第１及び第２のリング状気体吸引溝の間隔Ｄ２が、上記第１のリング状気体吸引溝の幅Ｗ１に対し、Ｄ２＜Ｗ１の関係とされて成り、」という特定事項が付加されたが、この付加された点について検討する。
　
　補正前の請求項１には、補正後の請求項１の「第１のリング状気体吸引溝の開口幅Ｗ１と、第２のリング状気体吸引溝の開口幅Ｗ２との大小関係の規定、第１のリング状気体吸引溝と電子ビーム出射孔との間隔Ｄ１の範囲の規定、及び第１及び第２のリング状気体吸引溝の間隔Ｄ２と、上記第１のリング状気体吸引溝の幅Ｗ１との大小関係の規定」の前提となる、「第１のリング状気体吸引溝の開口幅Ｗ１、第２のリング状気体吸引溝の開口幅Ｗ２、第１のリング状気体吸引溝と電子ビーム出射孔との間隔Ｄ１、第１及び第２のリング状気体吸引溝の間隔Ｄ２」について記載されていない。
　
　したがって、補正前の請求項１に記載された発明特定事項に「上記第１のリング状気体吸引溝の開口幅Ｗ１と、上記第２のリング状気体吸引溝の開口幅Ｗ２とが、Ｗ１＞Ｗ２の関係とされ、上記第１のリング状気体吸引溝と上記電子ビーム出射孔との間隔Ｄ１が、２．５ｍｍ≦Ｄ１≦５ｍｍとされ、上記第１及び第２のリング状気体吸引溝の間隔Ｄ２が、上記第１のリング状気体吸引溝の幅Ｗ１に対し、Ｄ２＜Ｗ１の関係とされて成り、」との発明特定事項を付加する補正は、特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当しないのは明らかである。
　
　よって、上記補正は、特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当しないばかりか、請求項の削除を目的とするものにも該当せず、誤記の訂正を目的とするものにも該当せず、また、明りょうでない記載の釈明を目的とするものにも該当しない。
　以上のことから、本件補正は、特許法第１７条の２第４項各号に規定するいずれの事項を目的とするものにも該当しないので、特許法第１５９条第１項で読み替えて準用する特許法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。
　
（４）むすび
　以上のとおりであるから、本件補正は、特許法第１７条の２第３項及び同第４項の規定に違反するので、特許法第１５９条第１項で読み替えて準用する特許法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。
　
３．本願発明について
　平成１６年５月６日付け手続補正は上記のとおり却下され、また、平成１６年２月２０日付けの手続補正は上述したように却下されているので、本願の請求項１に係る発明は、平成１５年１１月２７日付けの手続補正により補正された明細書及び図面の記載からみて、特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される以下のとおりのものと認める。（以下「本願発明」という。）
「電子ビームが照射される被電子ビーム照射体を支持する支持部と、上記被電子ビーム照射体に対して微小間隔をもって対向し、上記被電子ビーム照射体に電子ビームを照射する電子ビーム出射孔を有する電子ビーム照射ヘッドとを具備し、該電子ビーム照射ヘッドに、上記電子ビーム出射孔に連通する電子ビームの通路を中心にその周囲に、上記被電子ビーム照射体との対向面に開口する１つ以上のリング状気体吸引溝が形成され、上記電子ビーム通路と上記リング状気体吸引溝には排気手段が連結されて、上記電子ビーム通路が高真空度に保持されるようにした電子ビーム照射装置において、上記電子ビーム照射ヘッドの、上記被電子ビーム照射体に対する微小間隔の保持を、静圧浮上型構成とし、上記静圧浮上型構成は、上記被電子ビーム照射体との対向面に開口し、上記リング状気体吸引溝の外周に上記電子ビーム出射孔を中心とするリング状の通路に設けられ、圧縮気体供給源より上記通路に供給される圧縮気体により浮上する静圧浮上手段により構成され、上記静圧浮上手段に、上記被電子ビーム照射体との対向面の開口を埋め込む通気パッドが配置され、上記被電子ビーム照射体は板状であり、上記被電子ビーム照射体を支持する支持部が、上記被電子ビーム照射体をその板面に関して回転させる回転駆動機能と、該被電子ビーム照射体をその回転面に沿う直線方向に移行させる移行駆動機能とを有することを特徴とする電子ビーム照射装置。」
　
４．引用刊行物に記載された発明
　本願の出願前に頒布され、原査定の拒絶の理由に引用された特開昭５９−９０９２６号公報（以下「引用刊行物１」という。）には、「局部的真空エンベロプを組み込んだ荷電粒子ビームリソグラフイ装置」の発明に関して、以下の事項が記載されている。
＜記載事項１＞
「２０．特許請求の範囲第４項に記載された荷電粒子ビームリソグラフイ装置であって、前記ビーム発生源が電子ビーム発生源であり、前記ビームステアリング及び形成手段が電子光学コラムより成るところの装置。」（第３ページ左上欄第１７〜同右上欄第１行）
＜記載事項２＞
「本発明は、荷電粒子ビームリソグラフイ装置に関するもので、特に、局部的に真空処理をおこなうエンベロプ装置に組み込んだ荷電粒子ビームリソグラフイ装置に関するものである。」（第３ページ左下欄第１４〜１７行）
＜記載事項３＞
「電子及びイオンビームリソグラフィ装置に必要なことは、処理中に被加工物を移動できることである。例えば、電子ビームリソグラフィ装置において、非常に正確なミクロン又はサブミクロンのパターンが被加工物上に露光される。」（第３ページ右下欄第１３〜１７行）
＜記載事項４＞
「第５及び第６図の先端は、第７及び第８図に略示側面図として示されている、空気ベアリングを加えた３段エンベロプとほぼ対応している。その３段真空エンベロプに対して、高真空領域６５が、円錐部材６８（２４’に対応）によって囲まれ、真空ポンプ１２に接続されている。中間真空領域６６が環状円錐部材６９（２２’に対応）によって囲まれ、第２段真空ポンプ１９に接続されている。中間真空領域６７が外部円錐部７０（２１’に対応）によって囲まれ、第１段真空ポンプ９４に接続されている。空気ベアリングを加えた３段エンベロプに対しては、同じ構造物に更に空気供給孔７２、環状溝７３及び放射状空気溝７１が設けられている。空気供給孔７２が領域９６を介して正（ｐｏｓｉｔｉｖｅ）の空気供給器８９に接続されている。動作中には、空気は適切な圧力で供給され、真空エンベロプ８７の先端１０５の表面７０と半導体ウエフア９９の表面の間に空気ベアリングを形成する。最外側の中間真空領域６７への空気の流れを最小にするために、環状溝７３が、間隔をあけて外側に形成されている。環状溝７３は、空気流に対して低抵抗の通路を形成するために放射状に外に伸びた放射状空気溝７１に接続されている。」（第５ページ右下欄第１８行〜第６ページ右上欄第１行）
＜記載事項５＞
「磨かれた単結晶シリコンのためのＳＥＭＩ標準M.1.1の仕様書にある非常に平滑な半導体に対して、ウエフア保持ステージ３０及び真空チャック２７は、ウエフアに関して固定した垂直（Z軸）位置に保持され得る。その間隙は、許容可能な２０−４０マイクロメートルの範囲内に容易に保つことができる。」（第６ページ右上欄第９〜１５行）
＜記載事項６＞
「在来の平坦な空気ベアリングのようなベアリング手段を用いて、第１の芯とプラテン９の表面との間に小さな間隙が形成される。」（第８ページ右下欄第１２〜１４行）
＜記載事項７＞
「本発明の荷電粒子ビームリソグラフイ装置のもう１つの実施例が第７図及び第８図に示されているが、真空エンベロプ８７に空気ベアリングが据え付られている。正の空気供給器８９は、外側の環状領域９６を通して加圧空気源を形成する。真空エンベロプ８７の内部領域は、第１図及び第２図に示され、開示されたように構成されている。第８図の実施例において、真空エンベロプ８７の先端１０５とマスク又はウエフア９９の表面との間の間隙は、許容範囲内に保たれるが、それは、ベアリング中に圧縮されたガスによって加えられた外向きの力と、ベローズ１０７のバネ力との間で成されている動的平衡によって保たれる。ベローズ１０７を利用すると、他の実施例に開示されたような作動器要素は必要ない。空気の流速とベローズ１０７の剛性の調整によい、間隙の適した範囲を得る平衡条件が確保される。段階的遮断は、大気、第１段ポンプ９４からの真空レベル、第２段真空ポンプからの真空レベルとチャネル８２及びコラム領域１０１に通じるポンプ８４からの高真空との間で保たれている。この実施例において、分離ポンプ８４は先端内に高真空を提供するために利用され、その真空は、レンズ８６のように電子光学要素の存在に起因し、真空コラム内で高コンダクタンスに打ち勝つように形成される。アパーチヤ８５は、コラム８０の上部領域を下部領域と分離している。上部領域の真空は、高真空ポンプ８３によって形成され、マニホールド８１によって連通している。この２段排気装置は、実際において、付加的段階の真空排気をおこない、それは、もし、荷電粒子ビームが大へん長い距離を進行するか、発生源特性が高真空状態を必要とするときに利用できる。真空バルブ装置（図示せず）はまた、アパーチヤ板８５の上に備えられ、ビームが出ている間又はビームが止まっているどのような時も２つの真空領域に分離している。ウエフア操作装置８８は、ステージ組立体９７、Ｘ，Ｙ位置センサ９２，９３及び実質的に第２図と第３図に関して上で記載したように働くＸ，Ｙ軸駆動手段９０，９１とから成る。」（第１０ページ右上欄第１５行〜同右下欄第１４行）
＜記載事項８＞
ＦＩＧ．７には、半導体ウエファ（９９）に対向した真空エンベロプ（８７）と、半導体ウエファ（９９）との対向面に開口した外側の環状領域（９６）とを具備し、電子ビームの通路には高真空ポンプ８４が接続された荷電粒子ビームリソグラフイ装置が記載されている。
　
　そして、ＦＩＧ．７の記載から、真空エンベロプ（８７）は、半導体ウエフア（９９）に対して電子ビームを露光する電子ビーム出射孔、電子ビーム出射孔に連通する高真空領域（６５）を有すること、及び半導体ウエフア（９９）が板状であることが、読み取れる。
　ＦＩＧ．５〜７の記載から、電子ビームの通路を中心にその周囲に、半導体ウエフア（９９）との対向面に開口するリング状中間真空領域、他のリング状中間真空領域が形成される点、及び空気ベアリングとして、上記リング状中間真空領域、他のリング状中間真空領域の外周に上記電子ビームの通路を中心とする環状領域（９６）が設けられ、加圧空気源である空気供給器（８９）より上記環状領域（９６）に加圧空気が供給されることにより空気ベアリングが構成されることを読み取ることができる。
　ＦＩＧ．１及びＦＩＧ．８の記載から、半導体ウエファ（９９）を支持する真空チャック（１０２）が、上記半導体ウエフア（９９）をＸ，Ｙ駆動装置（９０，９１）によってＸ方向及びＹ方向に駆動されることが、読み取れる。
　ＦＩＧ．８に記載された破線（１０８）は電子ビームを示すことは明らかであり、また、ＦＩＧ．５及びＦＩＧ．８の記載から、高真空領域（６５）が電子ビームの通路となっていることが、読み取れる。
　
　したがって、上記記載事項１乃至８及び図面の記載に基づけば、引用刊行物１には、　
　「電子ビームが露光される半導体ウエファ（９９）を保持する真空チャック（１０２）と、半導体ウエファ（９９）に対して２０−４０マイクロメートルの間隙をもって対向し、上記半導体ウエファ（９９）に電子ビームを露光する電子ビーム出射孔を有する真空エンベロプ（８７）とを具備し、該真空エンベロプ（８７）に、上記電子ビーム出射孔に連通する電子ビーム通路を中心にその周囲に、上記半導体ウエファ（９９）との対向面に開口するリング状中間真空領域、他のリング状中間真空領域が形成され、上記電子ビーム通路には高真空ポンプ（８４）が接続され、上記中間真空領域が第２段真空ポンプ（１９、９５）に接続されて、上記他のリング状中間真空領域（６７）が第１段真空ポンプ（１９、９４）に接続され、上記電子ビーム通路が高真空度に保持されるようにした荷電粒子ビームリソグラフィ装置において、上記真空エンベロプ（８７）の、上記半導体ウエファ（９９）に対する上記間隙を保つために、空気ベアリングが据え付けられ、上記空気ベアリングは、半導体ウエファ（９９）との対向面に開口するリング状中間真空領域、他のリング状中間真空領域の外周に電子ビーム出射孔を中心とする環状領域（９６）が設けられ、加圧空気源である空気供給器（８９）より上記環状領域（９６）に加圧空気が供給されるベアリング手段により構成され、上記半導体ウエファ（９９）は板状であり、半導体ウエファ（９９）を保持する真空チャック（１０２）が、上記半導体ウエファ（９９）をＸ，Ｙ駆動装置（９０，９１）によってＸ方向及びＹ方向に駆動されることを特徴とする荷電粒子ビームリソグラフイ装置。」の発明（以下「引用発明」という。）が記載されている。
　
５．対比
　本願発明と引用発明とを比較する。
　引用発明の「露光される」は本願発明の「照射される」に相当し、以下、「半導体ウエファ（９９）」は「被電子ビーム照射体」に、「保持する」は「支持する」に、「真空チャック（１０２）」は「支持部」に、「２０−４０マイクロメートルの間隙」は「微小間隔」に、「真空エンベロプ（８７）」は「電子ビーム照射ヘッド」に、「高真空ポンプ（８４）が接続され、」は「排気手段が連結されて」に、「第２段真空ポンプ（１９、９５）に接続されて」は「排気手段が連結されて」に、「荷電粒子ビームリソグラフィ装置」は「電子ビーム照射装置」に、「上記間隙を保つために」は「微小間隔の保持を」に、「空気ベアリングが据え付けられ、」は「静圧浮上型構成とし、」に、「空気ベアリング」は「静圧浮上型構成」に、「環状領域（９６）」は「リング状の通路」に、「加圧空気源である空気供給器（８９）」は「圧縮気体供給源」に、「加圧空気」は「圧縮気体」に、「ベアリング手段」は「浮上する静圧浮上手段」に、「真空チャック（１０２）」は「支持部」に、それぞれ相当する。
　また、引用発明の「リング状中間真空領域」または「他のリング状中間真空領域」と、本願発明の「１つ以上のリング状気体吸引溝」とは、１つ以上のリング状気体吸引領域という上位概念で一致する。
　さらに、引用発明の「半導体ウエファ（９９）をＸ，Ｙ駆動装置（９０，９１）によってＸ方向及びＹ方向に駆動される」と本願発明の「被電子ビーム照射体をその板面に関して回転させる回転駆動機能と、該被電子ビーム照射体をその回転面に沿う直線方向に移行させる移行駆動機能とを有する」とは、被電子ビーム照射体を二次元的に駆動させる駆動機能を有するという上位概念で一致する。
　
　したがって、両者は、
「電子ビームが照射される被電子ビーム照射体を支持する支持部と、上記被電子ビーム照射体に対して微小間隔をもって対向し、上記被電子ビーム照射体に電子ビームを照射する電子ビーム出射孔を有する電子ビーム照射ヘッドとを具備し、該電子ビーム照射ヘッドに、上記電子ビーム出射孔に連通する電子ビーム通路を中心にその周囲に、上記被電子ビーム照射体との対向面に開口する１つ以上のリング状気体吸引領域が形成され、上記電子ビーム通路と上記リング状気体吸引領域には排気手段が連結されて、上記電子ビーム通路が高真空度に保持されるようにした電子ビーム照射装置において、上記電子ビーム照射ヘッドの、上記被電子ビーム照射体に対する微小間隔の保持を、静圧浮上型構成とし、上記静圧浮上型構成は、上記被電子ビーム照射体との対向面に開口し、上記リング状気体吸引領域の外周に上記電子ビーム出射孔を中心とするリング状の通路に設けられ、圧縮気体供給源より上記通路に供給される圧縮気体により浮上する静圧浮上手段により構成され、上記被電子ビーム照射体は板状であり、上記被電子ビーム照射体を支持する支持部が、上記被電子ビーム照射体を二次元的に駆動させる駆動機能を有するとを有することを特徴とする電子ビーム照射装置。」の点で一致するが、以下の点で相違する。
[相違点１]
　１つ以上のリング状気体吸引領域の構成が、本願発明は、溝であるのに対して、引用発明は、そのような限定がなされていない点。
[相違点２]
　静圧浮上手段における被電子ビーム照射体との対向面の開口に対して、本願発明は、その開口を埋め込む通気パッドが配置されるのに対して、引用発明は、そのような通気パッドが配置されない点。
[相違点３]
　被電子ビーム照射体を支持する支持部が有する、被電子ビーム照射体を二次元的に駆動させる駆動機能について、本願発明は、被電子ビーム照射体をその板面に関して回転させる回転駆動機能と、該被電子ビーム照射体をその回転面に沿う直線方向に移行させる移行駆動機能であるのに対して、引用発明は、被電子ビーム照射体をＸ，Ｙ駆動装置（９０，９１）によってＸ方向及びＹ方向に駆動される点。
　
６．当審の判断
（１）相違点１
　引用発明のリング状気体吸引領域の構成を、本願発明のように「溝」とすることは、リング状気体吸引領域が形成される電子線照射ヘッド（真空チャック）の構造、電子線照射ヘッドと排気手段との接続関係とを考慮して、適宜に決定し得る設計事項にすぎない。
　
（２）相違点２
　本願の出願前に頒布され、原査定の拒絶の理由に引用された特開昭５１−１０３８０７号公報（以下「引用刊行物２」という。）には、エアベアリングのような静圧浮上手段の開口に多数のオリフィス孔を形成した通気性焼結板（通気パッド）を埋め込むことにより安定した浮上を得ることが記載されている（第１ページ左下欄第８〜１７行、第２ページ左下欄第１４〜１８行）。
　そして、上記引用刊行物２に記載された発明を引用発明に適用する際の阻害要因はない。
　また、本願明細書の段落【００１９】に記載された「また、パッド２２ｂは、静圧軸受面積当たりの負荷容量が高く、剛性が高くとれる多孔質パッドによることが望ましい。」という効果、及び本件の審判請求に係る手続補正書に記載された「上述した静圧浮上手段における通気パッドを介した圧縮気体の均一な圧力」という効果（第５ページ第５，６行）は、引用刊行物２に記載された多孔質部材においても奏する効果にすぎない。
　なお、５μｍ程度に狭小な間隔に保持することができると請求人が主張する本願発明の効果について検討すると、上記効果は、却下された平成１６年５月６日付け手続補正の手続補正書の請求項１に記載された電子ビーム照射ヘッドに設けられる各溝の大きさ、各溝の間隔、及び各静圧浮上手段に供給する圧縮気体の圧力等が少なくとも具体的に決定されて初めて、５μｍ程度に狭小な間隔に保持するという効果が生じるといえるので、５μｍ程度に狭小な間隔に保持するという請求人が主張する効果は、請求項１の記載に基づく効果とはいえず、格別なものとはいえない。
　
　してみると、一般の静圧浮上手段において、静圧浮上手段の開口に通気パッドを埋め込むことは引用刊行物２に記載されているので、相違点２に係る本願発明の発明特定事項である「静圧浮上手段に、被電子ビーム照射体との対向面の開口を埋め込む通気パッドが配置され」ることは、必要に応じて適宜になし得る事項であるといえる。
　　
　したがって、相違点２に係る本願発明の発明特定事項は、引用刊行物１に記載の発明及び引用刊行物２に記載の発明に基づいて当業者が容易になし得たものである。
　
（３）相違点３
　本願の出願前に頒布され、原査定の拒絶の理由に引用された特開平１１−２８８５２９号公報（以下「引用刊行物３」という。）には、本願発明の電子ビーム照射装置に相当する電子ビーム描画装置において、被電子ビーム照射体を支持する支持部が、上記被電子ビーム照射体をその板面に関して回転させる回転駆動機能と、該被電子ビーム照射体をその回転面に沿う直線方向に移行させる移行駆動機能とを有する発明が記載されている（段落【０００６】）。
　そして、上記引用刊行物３に記載された発明を引用発明に適用する際の阻害要因はない。
　
　したがって、相違点３に係る本願発明の発明特定事項は、引用刊行物１に記載の発明及び引用刊行物３に記載の発明に基づいて当業者が容易になし得たものである。
　
　そして、本願発明の効果は、引用刊行物１乃至３の記載から当業者が予測し得る範囲内のものである。
　
７．むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用刊行物１乃至３に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明することができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。