【手続補正書】
【提出日】平成22年3月23日(2010.3.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１個の脱水素化炭化水素に脱水素化される少なくとも１個の炭化水素の不均一系触媒による部分脱水素化の方法であって、脱水素化される少なくとも１個の炭化水素の不均一系触媒による部分脱水素化のため、酸素分子、水素分子および脱水素化される少なくとも１個の炭化水素を含む反応ガス混合物の流入流全体を所定の横断面を有するシャフト中に存在する固定触媒床に通して流し、この固定触媒床は、反応ガス混合物の流入流の流動方向において、はじめに、不活性成形体の床と反応ガス混合物流入流の流動方向においてこれと隣接する少なくとも１個の成形触媒体を含む触媒活性床とを含み、それらの床は、その流動方向における、反応ガス混合物の流入流において、少なくともその入口領域において、水素分子と酸素分子の水への燃焼反応および／または炭素酸化物および水が得られる反応ガス混合物の流入流に含まれる炭化水素と酸素分子の燃焼反応については、少なくとも１個の脱水素化炭化水素に脱水素化される少なくとも１個の炭化水素の脱水素化のものに比べてより低い活性エネルギーを必要とするが、ただし、脱水素化される少なくとも１個の炭化水素の部分量を少なくとも１個の脱水素化炭化水素に脱水素化し、その際、反応ガス混合物の流入流は、シャフト内で、シャフト内を体積流量Ｖ１で固定触媒床上に流動する水素分子および脱水素化される少なくとも１個の炭化水素を含む流入ガス流Ｉに固定触媒床の上流で酸素分子を含む流入ガスＩＩを合計体積流量Ｖ２で計量することにより得られる前記方法において、該流入ガスＩＩを、該流入ガス流Ｉの流動方向において固定触媒床の上流に存在する配管系の複数の流出開口部Ａから流出する流入ガスＩＩ流の形態で、
ａ）該流入ガス流Ｉの不在を仮定して、該流出開口部Ａから流出する該流入ガスＩＩ流全ての複数個Ｍの方向は、該流入ガス流Ｉの流動方向と角α９０±６０°をつくり、
ｂ）該シャフト内の該流入ガス流Ｉの流量Ｗに対して、該固定触媒床からの流出開口部Ａ全ての複数個Ｍの距離Ｄは、２・Ｗを掛けた該反応ガス流入混合物の導入時間Ｊ以下であり、
ｃ）射影面Ｅ内の該流入ガス流Ｉの流動方向に直角に該射影面Ｅへの、該流入ガス流Ｉの流動方向において、流出開口部Ａ全ての複数個Ｍの重心の射影に際して、該流入ガス流Ｉにより考慮される射影面積の少なくとも７５％について、任意のｍ2で存在する流出開口部重心の数ＺＡは≧１０であり、
ｄ）該流出開口部重心の数ＺＡに対応する該流出開口部Ａから流出する該個々の流入ガスＩＩ流が５０％以下だけその数平均から偏位し、
ｅ）該流出開口部の数ＺＡのうち、１つの流出開口部重心から最も近い流出開口部重心までの距離ｄは、２√１ｍ2／ＺＡ以下であり、
ｆ）Ｖ１：Ｖ２比は、≧８である
ように計量することを特徴とする方法。
【請求項２】
該流入ガスＩＩが以下の成分：
水蒸気  ０〜８０体積％
Ｎ2  １０〜９７体積％および
Ｏ2  ３〜２５体積％
を有することを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
該流入ガスＩＩが以下の成分：
Ｈ2Ｏ  １５〜８０体積％、
Ｎ2  ２０〜８５体積％および
Ｏ2  ５〜２５体積％
を有することを特徴とする、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
該Ｖ１：Ｖ２比が≧１５であることを特徴とする、請求項１から３までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
該１つの流出開口部Ａの最長寸法Ｌが≧０．１ｍｍ〜≦５ｃｍであることを特徴とする、請求項１から４までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
該流入ガス流Ｉの不在を仮定して、該流出開口部Ａから流出する該流入ガス流ＩＩ全ての複数個Ｍの方向が該流入ガス流Ｉの流動方向と角α９０±３０°をつくることを特徴とする、請求項１から５までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
該流出開口部Ａ全ての複数個Ｍが条件Ｄ≦０．５・Ｗ・Ｊを満たすことを特徴とする、請求項１から６までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
ＺＡ≧５０であることを特徴とする、請求項１から７までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
該距離ｄが１．５√１ｍ2／ＺＡ以下であることを特徴とする、請求項１から８までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
該流出開口部重心の数ＺＡに対応する該流出開口部Ａから流出する該個々の流入ガスＩＩ流が３０％以下だけその数平均から偏位することを特徴とする、請求項１から９までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
流出開口部Ａ全ておよびこれらから流出する該個々の流入ガスＩＩ流の該複数個Ｍとは、そこから合計体積流量Ｖ２のちょうど合計７０％以上が流出するこれらの流出開口部Ａおよびこれらから流出する該個々の流入ガスＩＩ流を表すが、ただし、これらから流出する該個々の流入ガスＩＩ流が、該全ての個々の流入ガスＩＩ流全体のうち、この複数個Ｍに含まれない該個々の流入ガスＩＩ流の最大より小さいものを含まないことを特徴とする、請求項１から１０までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
射影面Ｅ内の該流入ガス流Ｉの流動方向に直角に該射影面Ｅへの、該流入ガス流Ｉの流動方向において、流出開口部Ａ全ての重心Ｍの射影に際して、該流入ガス流Ｉにより考慮される射影面積の少なくとも８５％について、任意のｍ2で存在する流出開口部重心の数ＺＡは≧１０であることを特徴とする、請求項１から１１までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
該反応ガス混合物の流入流が該固定触媒床を通り流れるが、ただし、その中に含まれる脱水素化される少なくとも１個の炭化水素の少なくとも２ｍｏｌ％が少なくとも１個の脱水素化炭化水素に脱水素化されることを特徴とする、請求項１から１２までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
該反応ガス混合物の流入流が脱水素化される少なくとも１個の炭化水素の少なくとも５体積％を含むことを特徴とする、請求項１から１３までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
該酸素分子の反応ガス混合物の流入流のモル量がその中に含まれる該水素分子のモル量５０ｍｏｌ％以下であることを特徴とする、請求項１から１４までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１６】
該反応ガス混合物の流入流が該固定触媒床を通過する場合に該反応ガス混合物の流入流に含まれる酸素分子の合計量の少なくとも９５ｍｏｌ％を該反応ガス混合物の流入流に存在する該水素分子の燃焼に消費することを特徴とする、請求項１から１５までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１７】
該固定触媒床に入る場合の該反応ガス混合物の流入流の温度は、３００〜７００℃であることを特徴とする、請求項１から１６までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１８】
脱水素化される少なくとも１個の炭化水素を有する該固定触媒床の負荷が、その中に含まれる触媒の合計量に対して、１００〜１００００Ｎｌ／ｌ・ｈであることを特徴とする、請求項１から１７までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１９】
該導入時間Ｊが≦２０００ｍｓであることを特徴とする、請求項１から１８までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項２０】
該流入ガスＩＩを流す配管の横断面が該流出開口部Ａの存在するところで多角形であることを特徴とする、請求項１から１９までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項２１】
該流出開口部Ａが丸形であることを特徴とする、請求項１から２０までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項２２】
該流入ガス流Ｉの温度と該流入ガス流ＩＩの温度間の温度差ΔＴII1が３００℃以下であることを特徴とする、請求項１から２１までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項２３】
該脱水素化される少なくとも１個の炭化水素がプロパンであることを特徴とする、請求項１から２１までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項２４】
トレイリアクターとして構成されるシャフトリアクターで実施されることを特徴とする、請求項１から２３までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項２５】
該脱水素化される少なくとも１個の炭化水素の不均一系触媒による部分脱水素化の方法に、該少なくとも１個の脱水素化炭化水素の不均一系触媒の部分酸化の方法が後接続されていることを特徴とする、請求項１から２４までのいずれか１項に記載の方法。