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【手続補正書】
【提出日】平成21年12月11日(2009.12.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理空間を有する処理チャンバと、
前記処理チャンバに結合された遠隔ラジカル発生システムであって、処理ガスを受容し、該処理ガスからラジカルを形成し、該ラジカルを、前記処理チャンバ内の基板の上部の前記処理空間に搬送するように構成された遠隔ラジカル発生システムと、
前記処理チャンバに結合され、前記処理チャンバ内の前記処理空間に基板を支持し、前記基板の温度を制御するように構成された台座であって、
前記台座の上部表面に形成された1または2以上の溝を有し、
前記1または2以上の溝の少なくとも一つは、前記台座の端部まで延伸する、台座と、
前記処理チャンバに結合され、前記処理チャンバを減圧するように構成された真空排気システムと、
を有する処理システム。
【請求項２】
さらに、
前記ラジカル発生システムの出口に結合され、前記ラジカルを前記基板の上部に分配する、ガス分配システムを有することを特徴とする請求項1に記載の処理システム。
【請求項３】
前記台座は、前記基板の前記温度を制御されるように構成された、1もしくは2以上の加熱素子、1もしくは2以上の冷却素子、またはこれらの組み合わせを有することを特徴とする請求項1に記載の処理システム。
【請求項４】
前記台座は、コーティングされたアルミニウムで形成されることを特徴とする請求項1に記載の処理システム。
【請求項５】
前記コーティングは、アノーディック層であることを特徴とする請求項4に記載の処理システム。
【請求項６】
前記コーティングは、少なくとも一つのIII族元素を有することを特徴とする請求項4に記載の処理システム。
【請求項７】
前記コーティングは、Al2O3、Sc2O3、Sc2F3、YF3、La2O3、Y2O3、およびDyO3からなる群から選定された少なくとも一つを含むことを特徴とする請求項4に記載の処理システム。
【請求項８】
前記台座は、1または2以上の抵抗加熱素子を有する加熱制御素子を有することを特徴とする請求項1に記載の処理システム。
【請求項９】
前記台座は、1または2以上の熱電装置を有する加熱制御素子を有することを特徴とする請求項1に記載の処理システム。
【請求項１０】
前記処理チャンバは、コーティングされたアルミニウムで形成されることを特徴とする請求項1に記載の処理システム。
【請求項１１】
前記コーティングは、アノーディック層であることを特徴とする請求項10に記載の処理システム。
【請求項１２】
前記コーティングは、少なくとも一つのIII族元素を含むことを特徴とする請求項10に記載の処理システム。
【請求項１３】
前記コーティングは、Al2O3、Sc2O3、Sc2F3、YF3、La2O3、Y2O3、およびDyO3からなる群から選定された少なくとも一つを含むことを特徴とする請求項10に記載の処理システム。
【請求項１４】
前記ガス分配システムは、
複数の開口を介して、前記処理チャンバ内に前記ラジカルを分配するガス分配板と、
前記ラジカル発生システムの前記出口に結合されたプレナムであって、前記ラジカル発生システムからの前記ラジカルを受容し、前記ガス分配板内の前記複数の開口に、前記ラジカルを供給するように構成されたプレナムと、
を含むことを特徴とする請求項2に記載の処理システム。
【請求項１５】
前記ガス分配板は、コーティングされたアルミニウムで構成されることを特徴とする請求項14に記載の処理システム。
【請求項１６】
前記コーティングは、アノーディック層であることを特徴とする請求項15に記載の処理システム。
【請求項１７】
前記コーティングは、少なくとも一つのIII族元素を含むことを特徴とする請求項15に記載の処理システム。
【請求項１８】
前記コーティングは、Al2O3、Sc2O3、Sc2F3、YF3、La2O3、Y2O3、およびDyO3からなる群から選定された少なくとも一つを含むことを特徴とする請求項15に記載の処理システム。
【請求項１９】
さらに、
前記ラジカル発生システムに結合された処理ガス供給システムであって、前記処理ガスを、前記ラジカル発生システムに供給するように構成された処理ガス供給システムを有することを特徴とする請求項1に記載の処理システム。
【請求項２０】
前記処理ガス供給システムは、O2、N2、NO、NO2、N2O、CO、CO2、NH3、NF3、CF4、もしくはこれらの2以上の組み合わせのうちの、1または2以上を供給するように構成されることを特徴とする請求項19に記載の処理システム。
【請求項２１】
さらに、
前記処理チャンバに結合され、前記処理空間を取り囲むように構成された端部リングを有し、
前記基板の周囲端部にわたるラジカルの流れが妨害されることを特徴とする請求項20に記載の処理システム。
【請求項２２】
前記端部リングは、前記台座の周囲端部に結合された台座端リングを有することを特徴とする請求項21に記載の処理システム。
【請求項２３】
さらに、
前記処理チャンバに結合され、前記処理空間を取り囲むように構成された端部リングを有し、
前記基板の周囲端部にわたるラジカルの流れが妨害され、
前記端部リングは、前記ガス分配システムの周囲端部に結合された端部リングを有することを特徴とする請求項2に記載の処理システム。
【請求項２４】
前記1または2以上の溝は、
第1の方向に延伸する溝の第1の配列と、
前記第1の方向と実質的に直交する、第2の方向に延伸する溝の第2の配列と、
を有することを特徴とする請求項1に記載の処理システム。
【請求項２５】
前記1または2以上の溝は、実質的に半径方向の溝の第1の配列を有することを特徴とする請求項1に記載の処理システム。
【請求項２６】
前記1または2以上の溝は、さらに、
実質的に環状であり、前記第1の溝の組と実質的に直交する溝の第2の配列を有することを特徴とする請求項25に記載の処理システム。
【請求項２７】
前記台座は、さらに、リフトピンシステムを有することを特徴とする請求項1に記載の処理システム。
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月21日(2010.1.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上の誘電体膜を処理する方法であって、
当該方法は：
エッチングプラズマ、アッシングプラズマ、若しくは湿式洗浄化学物質、又は上記2以上の組合せに表面層が曝露された前記誘電体膜を有する前記基板を処理システム内に設ける工程；及び
前記誘電体膜上で非プラズマ除去プロセスを実行する工程；
を有し、
前記除去プロセスは：
前記表面層を化学的に変化させるためにHF、NH3、又はこれらの混合物を有する処理ガスに前記誘電体膜上の前記表面層を曝露する工程；並びに
前記の化学的に変化した表面層の吸着物を除去するため、前記の化学的に変化した表面層を熱処理する工程；
を有する、
方法。
【請求項２】
前記曝露する工程が、1.6から2.7の範囲の誘電率を有する誘電体膜の表面層を曝露する工程を有する、請求項1に記載の方法。
【請求項３】
前記曝露する工程が、有孔性誘電体膜若しくは非有孔性誘電体膜、又はこれらの混合誘電体膜の表面層を曝露する工程を有する、請求項1に記載の方法。
【請求項４】
前記曝露する工程が、単相材料有孔性誘電体膜若しくは二相材料有孔性誘電体膜、又はこれらが混合した有孔性誘電体膜の表面層を曝露する工程を有する、請求項1に記載の方法。
【請求項５】
前記曝露する工程が、有機材料若しくは無機材料、又はこれらの混合材料を有する膜の表面層を曝露する工程を有する、請求項1に記載の方法。
【請求項６】
前記曝露する工程が、シリケートベースの材料を有する膜の表面層を曝露する工程を有する、請求項5に記載の方法。
【請求項７】
前記曝露する工程が、シリコン、炭素、及び酸素を有する複合膜の表面層を曝露する工程を有する、請求項5に記載の方法。
【請求項８】
前記曝露する工程が、さらに水素を有する前記複合膜の表面層を曝露する工程を有する、請求項7に記載の方法。
【請求項９】
前記曝露する工程が、約1mTorrから約100Torrの範囲のプロセス圧力で実行される、請求項1に記載の方法。
【請求項１０】
前記曝露する工程が、前記基板温度を約10℃から約200℃の範囲の温度に維持したまま実行される、請求項1に記載の方法。
【請求項１１】
前記曝露する工程が、さらに不活性ガスを有する処理ガスに前記基板を曝露する工程を有する、請求項1に記載の方法。
【請求項１２】
前記曝露する工程が、さらに希ガスを有する処理ガスに前記基板を曝露する工程を有する、請求項11に記載の方法。
【請求項１３】
前記熱処理する工程が前記基板の温度を約50℃よりも高い温度に昇温する工程を有する、請求項1に記載の方法。
【請求項１４】
前記熱処理する工程が前記基板の温度を約100℃よりも高い温度に昇温する工程を有する、請求項1に記載の方法。
【請求項１５】
前記熱処理する工程が、不活性ガスを導入する工程中に実行される、請求項14に記載の方法。
【請求項１６】
前記導入する工程が窒素を導入する工程をさらに有する、請求項15に記載の方法。
【請求項１７】
基板上に形成されるlow-k膜内に特徴部位を形成する方法であって：
上に前記low-k膜を有する前記基板をプロセスチャンバ内に設ける工程；
前記low-k膜内に形成されるlow-k特徴部位に相当するパターン特徴部位を有するマスクパターンを前記low-k膜上に形成する工程；
ドライプラズマエッチングプロセスを用いて前記のlow-k膜内に形成されるlow-k特徴部位をエッチングする工程；並びに
前記low-k特徴部位上で乾式の非プラズマエッチングプロセスを実行して、前記プラズマエッチングプロセスによって損傷を受ける、及び/又は活性化する前記low-k特徴部位の表面層を除去する工程；
を有する方法。
【請求項１８】
前記形成する工程が、前記ドライプラズマ除去プロセスを補償するため、前記low-k特徴部位の限界寸法未満の限界寸法を有するマスクパターンを形成する工程を有する、請求項17に記載の方法。
【請求項１９】
前記low-k特徴部位が、相互接続ビア、若しくはワイヤとなる溝、又は上記の組合せを有する、請求項18に記載の方法。
【請求項２０】
前記の乾式の非プラズマエッチングプロセスを実行する工程が：
前記表面層を化学的に変化させるため、HF、若しくはNH3、又は上記の混合物を有する処理ガスに前記low-k特徴部位上の表面層を曝露する工程；及び
前記の化学的に変化した表面層の吸着物を除去するため、前記の化学的に変化した表面層を熱処理する工程；
を有する、
請求項19に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月1日(2010.3.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
分岐したステントグラフト装置であって、
第１および第２の脚部（４２、４４）が設けられた分岐したステントグラフト（４０）と、
生体適合性グラフト材料製の管状体（１２、６２、７２）、および管状体（１２、６２、７２）に接合され、その長手方向に管状体を支持する複数の自己拡張型ステント（１４、７４）を備える長い脚部延長（１０、６０、７０）とを含み、
長い脚部延長（１０、６０、７０）は、管状体の第１の端から延在しそこに固定される、被覆されていない管状の自己拡張型ステントアセンブリ（２６、８４）を備え、
前記ステントアセンブリは、可撓性を有してともに連結される（２６ｂ、８８）複数の自己拡張型ステント（２６ａ、８６）を備える、分岐したステントグラフト装置。
【請求項２】
被覆されていない管状の自己拡張型ステントアセンブリ（２６、８４）は、可撓性を有してともに連結される（２６ｂ、８８）複数のジグザグ自己拡張型ステント（２６ａ、８６）を備える、請求項１に記載の分岐したステントグラフト装置。
【請求項３】
被覆されていない管状の自己拡張型ステントアセンブリ（２６）は、複数のステントに一体形成された形状記憶金属管状要素、およびステント間の連結部を備える、請求項１または２に記載の分岐したステントグラフト装置。
【請求項４】
管状体に接合される複数の自己拡張型ステント（２６ａ、８６）は、ジグザグのGianturco型ステントを備える、いずれかの先行する請求項に記載の分岐したステントグラフト装置。
【請求項５】
管状体（１２、６２、７２）には、自身の第２の端における外側封止面（２０、８０）、および第２の端における管状体内の少なくとも１つの自己拡張型ステント（７８）が設けられる、いずれかの先行する請求項に記載の分岐したステントグラフト装置。
【請求項６】
被覆されていない管状の自己拡張型ステントアセンブリ（２６、８４）は、少なくとも管状体（１２、６２、７２）の直径と同等の距離だけ管状体内に延在する、いずれかの先行する請求項に記載の分岐したステントグラフト装置。
【請求項７】
管状体（１２、６２、７２）の第１の端から延在する、被覆されていない管状の自己拡張型ステントアセンブリ（２６、８４）は、管状体の長さの４分の１から管状体の長さに等しい長さと同等の露出長を有する、いずれかの先行する請求項に記載の分岐したステントグラフト装置。
【請求項８】
管状体（１２、６２、７２）は、自身から延在するサイドアーム（６４）を備える、いずれかの先行する請求項に記載の分岐したステントグラフト装置。
【請求項９】
自己拡張型ステント（８６）は、隣接するステントの交互の頂点（８５）に結び付けられた糸から形成される可撓性連結部によって可撓性を有してともに連結される、いずれかの先行する請求項に記載の分岐したステントグラフト装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月9日(2010.2.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水質調節方法であって、粒状の蛇紋岩の層を介する水濾過を包含し、用いられる該蛇紋岩が０．１５÷２ｍｍの粒子サイズを有することを特徴とし、該蛇紋岩がアルカリ性溶液によって陰イオン交換物質に事前に変換されている、方法。
【請求項２】
アルカリ溶液として、０．０１ｇ−ｅｑ／ｌ以上のアルカリ度を有する、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化アンモニウム、もしくは水酸化カルシウムの溶液、または炭酸ナトリウムもしくは炭酸カリウムの溶液、または種々の組み合わせのそれらの混合物が用いられることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
蛇紋岩層が、その最大許容濃度を超えて最も少なく吸着される汚染成分の「漏出」が起る間隔を超えない間隔で、アルカリ性溶液によって定期的に処理されることを特徴とする、請求項１または請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記アルカリ性溶液による処理は、水浄化中の濾過の流れの方向または反対の方向における粒状の蛇紋岩の層を介する濾過によって実行されることを特徴とする、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
各濾過サイクルの最初において、粒状の蛇紋岩層の３÷５の量に対応する、得られた水の最初の部分が、浄水のさらなるバッチから分離され、次のサイクルにおける蛇紋岩処理のためのアルカリ溶液を調整するために用いられることを特徴とする、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記水濾過は粒状の蛇紋岩の２つ以上の順番に配置された層を介して実行され、該濾過サイクルの継続時間は、最後の下流側層を介して最も少なく吸着される汚染成分の「漏出」によって決定され、その後に、ラインの最初であった該層のアルカリ性溶液による処理が続くことを特徴とする、請求項４または請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記いくつかの層を介する水濾過と同時に、アルカリ性溶液によるもう１つの層の処理が実行され、該アルカリ性溶液により処理された層が、次の濾過サイクルにおいて最後の下流側層として用いられ、該層は、最初の層の代わりに用いられ、アルカリ性溶液の処理に送られることを特徴とする、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
アルカリ性溶液による処理の継続時間またはアルカリ溶液の量は、その前の濾過サイクルの間に浄化された水から抽出される、最も多く吸着される汚染成分の９０％以上が脱着されるという条件から決定されることを特徴とする、請求項４〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
前記方法は、水または水−空気の方法による粒状の蛇紋岩の層の定期的な洗浄を含む、請求項４〜８のいずれか１項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月10日(2010.3.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
前駆体成分を組合せて混合物を形成し、該前駆体成分の架橋を開始させること；
架橋が完了する前に混合物を冷凍すること；及び
該混合物を凍結乾燥させて、高吸収性ヒドロゲルを形成することを含む、
高吸収性ヒドロゲルの製造方法。
【請求項２】
凍結乾燥の後、前記ヒドロゲルを状態調整することを更に含む、請求項1記載の方法。
【請求項３】
前記前駆体成分が第1の求電子性前駆体及び第2の求核性前駆体を含む、請求項1記載の方法。
【請求項４】
前記混合物を冷凍する前に、更に前記組合せた前駆体成分を冷却した皿又は容器上に載せることを含む、請求項1記載の方法。
【請求項５】
前記混合物を前記皿又は容器上で冷凍する、請求項4記載の方法。
【請求項６】
前記前駆体成分の架橋が水相で開始される、請求項1記載の方法。
【請求項７】
前記前駆体成分の架橋が共有結合の架橋を含む、請求項1記載の方法。
【請求項８】
前記混合物が凍結乾燥されるとき、前記ヒドロゲルは実質的に架橋を完了する、請求項1記載の方法。
【請求項９】
前記前駆体成分が高度に分岐された活性PEGを含む、請求項1記載の方法。
【請求項１０】
前記前駆体成分は更に2以上のリジン基を有するオリゴペプチドを含む、請求項9記載の方法。
【請求項１１】
前記凍結乾燥したヒドロゲルを状態調整して、前記前駆体成分の架橋を実質的に完了させる、請求項2記載の方法。
【請求項１２】
架橋が完了する前に、前記ヒドロゲルが、前記組合せた前駆体成分の凝固点以下に冷却した皿又は容器上に載せられる、請求項11記載の方法。
【請求項１３】
前記前駆体成分を組合せる時、速やかに前記ヒドロゲルを前記皿又は容器上に載せ、かつ該ヒドロゲルを凍結乾燥するとき、完全な架橋が所定の割合で行われるまで、該ヒドロゲルを所定の温度で該皿又は容器上に維持する、請求項12記載の方法。
【請求項１４】
前記ヒドロゲルの状態調整が：
該ヒドロゲルを管理された湿度環境に曝露すること；
熱により該ヒドロゲルを更に乾燥すること；
該ヒドロゲルを管理されたガス環境に曝露すること；
該ヒドロゲルをエアロゾル化緩衝溶液に曝露すること；及び
該ヒドロゲルを完全乾燥することを含む、群から選ばれた1以上の状態調整ステップを含む、請求項2及び11〜13のいずれか1項記載の方法。
【請求項１５】
前記ヒドロゲルは複数の連続したステージで状態調整され、各ステージは1以上の状態調整ステップを含む、請求項14記載の方法。
【請求項１６】
前記ヒドロゲルを凍結乾燥するステップが：
該ヒドロゲルを凍結乾燥温度及び真空状態に曝露することを含む第1ステージ；及び
該凍結乾燥温度の上昇及び該真空状態を低減させることの少なくとも1つを含む第2ステージを含む、請求項1〜15のいずれかに記載の方法。
【請求項１７】
前記第2ステージは第2ステージの期間、前記真空状態を低減させることを含み、かつ前記凍結乾燥温度を該第2ステージの期間少なくとも断続的に上昇させる、請求項16記載の方法。
【請求項１８】
前記第2ステージの期間、前記凍結乾燥温度を一定の速度で上昇させる、請求項17記載の方法。
【請求項１９】
前記ヒドロゲルが状態調整される時、該ヒドロゲルは実質的に架橋を完了する、請求項2及び11〜15のいずれか1項記載の方法。
【請求項２０】
前記ヒドロゲルが状態調整された後、該ヒドロゲルは実質的に未反応の反応性エステル末端基を有さない、請求項19記載の方法。
【請求項２１】
前記凍結乾燥したヒドロゲルを1以上の構造体として形成することを更に含む、請求項1〜20のいずれかに記載の方法。
【請求項２２】
前記ヒドロゲルに、切断、機械加工、圧延、くり抜き、及び圧縮の少なくとも1を行い、前記1以上の構造体を形成する、請求項21記載の方法。
【請求項２３】
前記1以上の構造体が、体腔への導入のための寸法を有する構造体を含む、請求項21記載の方法。
【請求項２４】
請求項1〜23のいずれかに記載の方法により形成されたヒドロゲルを含む、患者の体内に導入するための寸法を有するインプラント。
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月27日(2009.11.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２０℃の水に対する溶解度が７５０ｍｇ／Ｌ未満の物質を封入するマイクロカプセルであって、
前記マイクロカプセルの壁が、壁形成物質：
（ａ）１種類以上の脂肪族イソシアネート、および
（ｂ）１種類以上の芳香族イソシアネート、および
（ｃ）式（Ｉ）
【化１】
2009531169.tif 000001
で表される１種類以上の化合物−アセチレンカルバミド誘導体−
（式中、
Ｒ１、Ｒ３、Ｒ５、Ｒ７は、互いに独立して、メチレン、エチレン、ｎ−プロピレン、イソプロピレン、ｎ−ブチレン、イソブチレン、ｓｅｃ−ブチレン、ｔｅｒｔ−ブチレンであり、
Ｒ２、Ｒ４、Ｒ６、Ｒ８は、互いに独立して、水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチルであり、
Ｒ９、Ｒ１０は、水素またはヒドロキシメチルであり、
化合物（Ｉ）は、存在し得る全ての異性体の、および立体化学の配置、並びに、（Ｉ）のモル数が２〜１０である化合物（Ｉ）のオリゴマーの形態も含む）
の界面重合反応によって形成され、
そして、攪拌下に水で従来の通例の希釈をして、従来のレーザー回折粒度分析器で測定した場合に、０．３〜２５μｍの平均直径を有することを特徴とする、前記マイクロカプセル。
【請求項２】
請求項１（ａ）の前記芳香族イソシアネートが、式（ＩＩ）：
【化２】
2009531169.tif 000002
（式中、ｎ＝０からｎ＝６である）
で表される、請求項１に記載のマイクロカプセル。
【請求項３】
前記芳香族イソシアネートが、ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート、またはその位置異性体または立体化学異性体の混合物、またはＰＡＰＩである、請求項１に記載のマイクロカプセル。
【請求項４】
前記脂肪族イソシアネートが、ｍ−テトラメチルキシレンジイソシアネート、またはその位置異性体または立体化学異性体ＴＭＸＤＩの混合物である、請求項１に記載のマイクロカプセル。
【請求項５】
前記化合物（Ｉ）が以下の群：
Ｎ，Ｎ’，Ｎ’’，Ｎ’’’−テトラブトキシメチルアセチレンカルバミド、Ｎ，Ｎ’，Ｎ’’，Ｎ’’’−テトラメトキシメチルアセチレンカルバミド、Ｎ，Ｎ’，Ｎ’’，Ｎ’’’−テトラメトキシエチルアセチレンカルバミド、Ｎ，Ｎ’，Ｎ’’，Ｎ’’’−テトラエトキシエチルアセチレンカルバミドまたはＮ，Ｎ’，Ｎ’’，Ｎ’’’−テトラプロポキシメチルアセチレンカルバミド、またはこれらの混合物、
から選択されることを特徴とする、請求項１に記載のマイクロカプセル。
【請求項６】
マイクロカプセル化される物質が以下の群：
フルロクロリドン、ピレスロイド、天然のピレトリンまたはこれらの混合物、λ−シハロトリン、γ−シハロトリン、スーパーシハロトリン、デルタメトリン、α−シペルメトリン、クロマゾン、トリフルトリン、フェノトリン、アラクロール、アセタクロール、ペンディメタリン、トリフルラリン、有機リン酸系物質、クロルピリホス、エンドスルファン、フェノキサプロップ、トリアゾール殺真菌剤、テブコナゾール、プロピコナゾール、ケトコナゾール、トリアジメノール、エポキシコナゾール、フルロキシピル、
から選択されることを特徴とし、農薬製剤中に存在する請求項１に記載のマイクロカプセル。
【請求項７】
請求項３０に従ってマイクロカプセル化された物質および／または水相中に懸濁された物質が、フルロクロリドンおよび／またはλ−シハロトリンおよび／またはクロマゾンおよび／またはメタザクロールおよび／またはアラクロールと、解毒剤、毒性緩和剤、殺環形動物剤および／またはセミオケミカルを含む他の有害生物防除剤または農薬との組み合わせを含有することを特徴とし、農薬製剤中に存在する請求項１に記載のマイクロカプセル。
【請求項８】
請求項１に記載のマイクロカプセルを含むカプセル懸濁液のタイプの農薬製剤を調製する方法であって、次の工程：
（ａ）４５℃〜７０℃の温度で、
（ｉ）カプセル化される前記１種類または複数種類の水非混和性農業用活性物質、芳香族イソシアネート、脂肪族イソシアネート、および化合物（Ｉ）、場合によっては、固体であってもよい前記の任意の化合物を溶解するのに好適な溶媒、場合によっては、前記活性化合物が固体である場合は分散剤、場合によってはまた界面活性剤を含む水非混和相、
（ｉｉ）水、界面活性剤またはその混合物、保護コロイドまたはその混合物、界面活性剤特性と保護コロイド特性の両方を有するポリマーからなる溶液を含む水相；
の分散体を提供する工程、および
（ｂ）２０℃〜９０℃の温度範囲で前記分散体を加熱し、維持する工程であって、前記水非混和性物質が別個のポリウレア−置換アセチレンカルバミド混合ポリマーマイクロカプセル壁膜内にカプセル化される工程、
（ｃ）前記マイクロカプセルが形成され、前記壁形成物質が実質的に消費された後、任意に、粘度調整剤、粘土、または類似のメソ多孔質物質、親水コロイド、抗菌剤、ＵＶ保護剤、湿潤剤、追加の界面活性剤のような、機能的に使用可能な農業用製剤に必要な製剤助剤を含有する水溶液を添加する工程、
を含む方法。
【請求項９】
マイクロカプセル化される物質が農薬カプセル懸濁液、すなわちＣＳ製剤、またはカプセル懸濁液および懸濁濃縮物、すなわちＺＣ製剤、または水分散性粒剤、すなわちＷＧ製剤において使用されることを特徴とする、請求項１に記載のマイクロカプセルの農薬製剤中での使用。
【請求項１０】
除草剤クロマゾンをマイクロカプセル化してカプセル懸濁液を形成し、このカプセル懸濁液をメタザクロールの懸濁濃縮物と一緒に配合することにより、メタザクロールおよびクロマゾンのＺＣタイプの製剤を得ることを特徴とする、請求項１に記載のマイクロカプセルの使用。
【請求項１１】
マイクロカプセルが農業用途に好適な任意の製剤タイプで存在することを特徴とする、請求項１に記載のマイクロカプセルの使用。
【請求項１２】
マイクロカプセルが医薬化合物または医療用化合物、難燃剤、相変化物質、熱硬化性物質、インキ、触媒をマイクロカプセル化するために使用されることを特徴とする、請求項１に記載のマイクロカプセルの使用。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月4日(2010.3.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
患者の心臓の機械的活動と関連した、少なくとも１つの心音を表す電気信号を生成するために操作可能な埋め込み型心音センサと、
心音信号を生成するために前記心音センサに連結された心音センサインタフェース回路と、
頻脈性不整脈検出器と、
前記心音センサインタフェース回路と前記頻脈性不整脈検出器とに連結されたコントローラ回路と
を含む埋め込み型医療装置（ＩＭＤ）を含むシステムであって、
前記コントローラ回路は、
心室頻脈性不整脈の少なくとも１つの発症が被検者において検出されることを決定し、かつ
自己相関関数を使用して、前記心音信号から前記心室頻脈性不整脈の血行動態安定性の測定を得、血行動態安定性の測定は大動脈圧の代理測定を含み、
前記血行動態安定性の測定に基づいて、前記心室頻脈性不整脈の間に血行圧力が安定しているか否か判断するように
構成された血行動態安定性評価モジュールを含むシステム。
【請求項２】
前記心音センサインタフェース回路は、試料採取された心音信号を得るためのサンプリング回路を含み、かつ
前記血行動態安定性の測定は、血行動態パラメータＨｅを含み、
ここで、
2009531131.tif 000001
であり、ｓnは測定された心音中に得られた心音信号のデジタル化された試料である請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記血行動態安定性評価モジュールは、心音信号から得られた血行動態安定性の前記測定のベースラインを確立するためのベースラインモジュールを含み、かつ
前記血行動態安定性評価モジュールは、血行動態安定性の前記ベースライン測定からの測定された変化が規定の閾値を超える時、前記心室頻脈性不整脈を不安定であると見なすように更に構成される請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
前記ベースラインモジュールが、血行動態安定性の前記測定の中心傾向を決定することによって血行動態安定性の前記測定のベースラインを確立するように構成される請求項３に記載のシステム。
【請求項５】
前記システムは、心室収縮間の心室時間間隔を提供するための前記コントローラ回路に連結されたタイマ回路を更に含み、
前記血行動態安定性評価モジュールは、心室時間間隔の変動の測定を得るための心室収縮変動モジュールを含み、
前記血行動態安定性モジュールは、前記心音信号から得られた血行動態安定性の前記測定のベースラインを確立するためのベースラインモジュールを含み、かつ
血行動態安定性の前記ベースライン測定からの測定された変化が規定の安定性測定閾値を超え、かつ心室時間間隔の変動の前記測定が規定の変動閾値を超える両方の時、前記血行動態安定性評価モジュールは、前記心室頻脈性不整脈を不安定であると見なすように更に構成される請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
前記システムは、前記コントローラ回路に連結された衝撃回路を更に含み、かつ
前記コントローラ回路は、前記血行動態安定性評価モジュールによって得られた血行動態安定性の前記測定に従って規定の衝撃刺激の付与を遅延させるように構成される請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
前記システムは、前記コントローラ回路に連結された抗頻脈性不整脈ペーシング（ＡＴＰ）回路を更に含み、かつ前記コントローラ回路は、
心室頻脈性不整脈発症を検出後、規定のＡＴＰ療法を開始し、かつ
血行動態安定性の前記測定に従って前記ＡＴＰ療法の持続時間を延長するように構成される請求項１に記載のシステム。
【請求項８】
前記コントローラ回路に連結された少なくとも１つの埋め込み型心臓信号感知回路を含み、前記埋め込み型心臓信号感知回路は、患者の心臓活動を表す電気心臓信号を生成するように構成され、かつ前記血行動態安定性評価モジュールは、前記電気心臓活動信号と相関する心音信号から血行動態安定性の前記測定を得るように構成される請求項１に記載のシステム。
【請求項９】
前記コントローラ回路に連結された患者活動センサを含み、前記血行動態安定性評価モジュールは、患者活動と相関する心音信号から血行動態安定性の前記測定を得るように構成される請求項１に記載のシステム。
【請求項１０】
前記心音センサインタフェース回路は、
低域フィルタ回路と、
低域フィルタ処理した心音信号の高周波数に信号利得を加えるためのプリエンファシス回路とを含む請求項１に記載のシステム。
【請求項１１】
外部装置を含み、かつ前記ＩＭＤは、前記コントローラ回路に連結された通信回路を含み、かつ前記ＩＭＤは、心音信号から得られた少なくとも１つの血行動態安定性の測定に関する情報を外部装置に通信するように構成される請求項１に記載のシステム。
【請求項１２】
前記外部装置はＩＭＤプログラマである請求項１１に記載のシステム。
【請求項１３】
前記外部装置はネットワークと通信するサーバであり、かつ前記サーバは、第３の装置を介して前記ＩＭＤと通信するように構成される請求項１１に記載のシステム。
【請求項１４】
心室収縮の間の心室時間間隔を与えるために、前記頻脈性不整脈検出器に接続されたタイマ回路を有し、
前記頻脈性不整脈検出器は、平均心室収縮速度が、規定の速度閾値よりも大きく平均心房収縮速度を超えたとき、頻脈性不整脈が起こったことを宣言するように構成されている請求項１に記載のシステム。
【請求項１５】
前記心音センサは、加速度計、ひずみ計、及びマイクロホンのうちの少なくとも１つを含む請求項１に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月14日(2010.1.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
生物適合性又は生物分解性の前記素材は、神経再生を刺激するための作用物質を含む請求項１または請求項２に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月24日(2010.3.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
患者の胃の中で使用する機器であって、胃の中に配置するのに適したバルーンと、該バルーンに連結されると共に該バルーンが患者の十二指腸内に入ることを防止するように構成されたアンカと、前記バルーンが膨脹可能に該バルーンに連結されると共に該バルーンの膨脹を促進するために前記患者の胃から口まで伸びるように構成された膨脹チューブとを具備する機器。
【請求項２】
前記膨脹チューブが静止長の２．５倍よりも大きく伸びるように構成されている請求項１に記載の機器。
【請求項３】
前記アンカが、胃の空洞の自然な収縮を少なくとも或る程度妨げるように、該空洞の中に配置されるように構成されている請求項１に記載の機器。
【請求項４】
前記バルーンが患者に満腹感を促進するように構成されている請求項１に記載の機器。
【請求項５】
前記バルーンが患者の蠕動の波及び胃内容排出を妨げるように構成されている請求項１に記載の機器。
【請求項６】
治療用装置及び送信機からなるリストから選択され、前記アンカに連結される機器を具備する請求項１に記載の機器。
【請求項７】
前記膨脹チューブの近位端に連結され、そこから患者の前記胃の中への流体のリークを防止することによって、前記バルーン内の圧力を維持するように構成された閉鎖機構を具備する請求項１に記載の機器。
【請求項８】
前記膨脹チューブに可逆的に係合及び装着することによって前記膨脹チューブを伸ばすように構成された引き抜き具を具備する請求項１に記載の機器。
【請求項９】
前記膨脹チューブが伸ばされている間に前記膨脹チューブに一時的に連結されるように構成されると共に伸ばされた後に少なくとも部分的に前記膨脹チューブが緩められているとき、前記バルーンの膨脹を促進するように構成された充填チューブを具備する請求項１に記載の機器。
【請求項１０】
前記アンカが弾力性のあるチューブを具備し、当該機器が、前記弾力性のあるチューブの湾曲の範囲を制限し前記弾力性のあるチューブに連結された湾曲制限チューブを具備する請求項１に記載の機器。
【請求項１１】
前記膨脹チューブが、前記弾力性のあるチューブ内に配置されるように構成され、該弾力性のあるチューブは、前記膨脹チューブが真っ直ぐな配置となるか又は所定の限界まで曲げられることを可能にする請求項１０に記載の機器。
【請求項１２】
前記アンカが、予め選択された湾曲形状となる方向に当該アンカを付勢する弾力性のある記憶物質を有する材料からなる請求項１に記載の機器。
【請求項１３】
真っ直ぐなロッドを具備し、前記アンカが遠位端及び開口近位端を有し、前記アンカが前記開口近位端から前記遠位端に向かって延びる中核を有する形状とされ、前記アンカが前記中核内に前記真っ直ぐなロッドを挿入することによって前記予め選択された湾曲形状から真っ直ぐにされるように構成されている請求項１２に記載の機器。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月19日(2010.2.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１研磨表面、
前記第１研磨表面に対向する第１対向表面、及び、
第１層を貫通して延在する第１開口を備える、第１層と、
取付け表面、
前記取付け表面に対向し、かつ、前記第１層の前記第１研磨表面に比べて、前記第１層の前記第１対向表面の近くに位置する第２対向表面、及び、
前記第２層を貫通して延在し、前記第１層の前記第１開口に実質的に隣接する第２開口を備える、第２層と、
前記第１開口内に設けられるパッド窓と、前記パッド窓は、
前記第１研磨表面に実質的に隣接する第２研磨表面、及び、
前記第２研磨表面に対向する第３対向表面を備え、前記第３対向表面は、前記第１層の前記第１研磨表面と前記第２層の前記取付け表面との間の領域内に位置し、パッド窓は、気体透過性材料からなることとを備える研磨パッド。
【請求項２】
前記第１層の前記第１研磨表面及び前記パッド窓の前記第２研磨表面は、実質的に研磨平面に沿って位置し、
前記パッド窓の前記第３対向表面から前記研磨平面までの第１高さは、前記取付け表面から前記研磨平面までの第２高さより小さい請求項１に記載の研磨パッド。
【請求項３】
前記第１高さは、前記第１層の前記第１対向表面から前記研磨平面までの第３高さより小さい請求項２に記載の研磨パッド。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月10日(2009.12.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の粒子を含み、各粒子が、内部空洞を規定し、50μm〜250μmの最大外寸を有する球面状のポリマー殻を含み、殻内の単一のポートまたは開口部が粒子の外寸の1/10から粒子の外寸までの範囲の大きさまたは寸法を有し、ポートまたは開口部が空洞への進入路を提供する、軟組織かさ増し物質。
【請求項２】
粒子の殻が、実質的に球形であるためにその外径が50μm〜250μmである、請求項1記載のかさ増し物質。
【請求項３】
粒子のポートが実質的に円形であり、その直径が粒子の直径の1/10から粒子のそれぞれの直径までである、請求項2記載のかさ増し物質。
【請求項４】
少なくともいくつかの粒子の殻が10μm未満の寸法のミクロ細孔を有する、請求項2または3記載のかさ増し物質。
【請求項５】
少なくともいくつかの粒子の殻が10μm〜50μmの寸法のマクロ細孔を有する、請求項2〜4いずれか記載のかさ増し物質。
【請求項６】
粒子の殻の外表面積の20％未満がマクロ細孔で占められる、請求項5記載のかさ増し物質。
【請求項７】
殻が、ポリマーとの複合物としてまたはポリマーに吸着もしくは結合した複合物として、リン酸カルシウム化合物、造影剤、治療剤、増殖因子、自己血小板富化血漿、正常ヒト細胞、および自己幹細胞から選択される少なくとも1つの添加剤を含む、請求項1〜6いずれか記載のかさ増し物質。
【請求項８】
少なくともいくつかの粒子の殻が、ヒドロキシアパタイトおよび/またはリン酸三カルシウムの外表層を有する、請求項1〜7いずれか記載のかさ増し物質。
【請求項９】
(i)請求項1〜8いずれか記載の軟組織かさ増し物質；および
(ii)かさ増し物質粒子が懸濁された適合性担体媒体を含み、軟組織への注入による適用に適切な粘稠度を有する、注入用軟組織かさ増し組成物。
【請求項１０】
担体媒体が、溶媒に溶解されたコラーゲン、キトサン、アルギネート、ポリビニルピロリドン、シリコーンオイル、ゼラチン、脂肪、ヒアルロン酸、食塩水、水、血漿、水溶液、グリコール、中鎖トリグリセリド、グリセリド、グリセリン、B-グルカンおよびアガロース溶液、乳酸エチル、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ポロキサマーもしくはポリ(N-イソプロピルアクリルアミド)またはそれらの誘導体から選択される担体媒体材料を含む、請求項9記載の組成物。
【請求項１１】
担体媒体が室温で液体であり、ヒト軟組織に注入された場合にゲル形態へと相変化するように適合される、請求項10記載の組成物。
【請求項１２】
担体物質媒体が高度に精製されたグルタルアルデヒド架橋ウシ皮膚コラーゲンを含む、請求項10または11記載の組成物。
【請求項１３】
担体媒体が偽可塑性液であり、そのため注入の際に比較的高い剪断環境下で低い粘度をもたらし、注入後に注入された物質を安定化または懸濁するための高い粘度をもたらす、請求項10記載の組成物。
【請求項１４】
担体媒体が水に溶解されたヒアルロン酸を含む、請求項13記載の組成物。
【請求項１５】
担体媒体が、添加剤として、造影剤、自己血小板富化血漿、正常ヒト細胞、および/または自己幹細胞を含む、請求項9〜14いずれか記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月3日(2009.12.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
トイレ砂から猫の滲出物を除去することと、
トイレ砂を洗浄することと、
トイレ砂を乾燥させることと、を含み、
前記トイレ砂がその乾燥中に攪拌されることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記トイレ砂は容器の中に配置され、トイレ砂からの猫の滲出物の除去、トイレ砂の洗浄およびトイレ砂の乾燥のうちの少なくとも１つを行っている際に前記容器が動かされることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記トイレ砂が、容器の中に配置され、前記容器の下側および側面のうちの少なくとも１つが、トイレ砂の乾燥中に実質的に露出されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記容器の中に物質を分注するための分注器を配置する工程を更に備え、
前記分注器が、情報を格納するためのメモリを備えることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
トイレ砂を収容するための容器と、
前記トイレ砂を洗浄するための装置と、
前記トイレ砂を乾燥させるための装置と、を含み、
前記トイレ砂がその乾燥中に攪拌されることを特徴とする装置。
【請求項６】
前記トイレ砂から猫の滲出物を除去するための分離器をさらに備えることを特徴とする請求項５に記載の装置。
【請求項７】
前記容器の中に物質を分注するための分注器を更に備え、
前記分注器が、情報を格納するためのメモリを備えることを特徴とする請求項５に記載の装置。
【請求項８】
トイレ砂ボックスと共に使用する装置において、
前記トイレ砂ボックスの中に物質を分注するための分注器を備え、
前記分注器が、情報を格納するためのメモリを備えることを特徴とする装置。
【請求項９】
前記メモリと通信することができ、前記分注器の動作を制御する制御器をさらに備えることを特徴とする請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記情報が、前記分注器の内容物の化学物質成分、前記分注器の内容物の初期容積、ユーザ識別情報、分注量情報および日付情報のうちの少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項８に記載の装置。
【請求項１１】
前記制御器が、前記分注器が使用のために許可されているかどうかを確認するために前記メモリに問い合わせるように適合され、許可されていることが確認された場合に限り、前記制御器が動作を許可することを特徴とする請求項８に記載の装置。
【請求項１２】
前記制御器が、１回の分注当たりの物質の量および分注されるべき分注量の大きさを決定し、どの程度の大きさの物質が分注され、何回の分注量が残っているかを計算するように適合されることを特徴とする請求項８に記載の装置。
【請求項１３】
容器内で見つかった猫の滲出物をトイレ砂から手作業でない方法で分離して除去し、前記容器の外に前記猫の滲出物を出すことと、
洗浄液体によって前記猫の滲出物を洗い流すことを含み、
容器中の前記トイレ砂が、猫の滲出物の除去および洗い流し中に、洗浄液体に影響されず乾燥したままであることを特徴とする方法。
【請求項１４】
トイレ砂から猫の滲出物を除去することと、
トイレ砂を洗浄することと、
トイレ砂を乾燥させることであって、トイレ砂の乾燥中に前記トイレ砂の異なる湿った面を順に露出させることと、を含むことを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月5日(2010.3.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
偏向のない近位部分（３４）及び該偏向のない近位部分から延びている湾曲した遠位部分（３６）を有し、前記湾曲した遠位部分（３６）が少なくとも第１の連続的に偏向可能な予備成形された曲率を有する、リード本体（３２）と、
前記リード本体（３２）の中を貫いて延びているルーメン（４３）と、
前記近位部分（３４）から前記遠位部分（３６）まで、前記リード本体（３２）の中を貫いて延びている導線（３８）と、
前記リード本体（３２）の前記遠位部分（３６）に配置され、前記導線（３８）に電気的に結合された電極（４４）と、
より剛性の高い近位部分及びより可撓性の高い遠位部分を有するスタイレット（５０）と、
前記スタイレット（５０）を前記ルーメン（４３）の中に通して前記遠位部分（３６）で前進／引き出しを行うときに、前記リード本体（３２）の前記遠位部分（３６）が連続的に偏向可能であることと
を備える、心臓（１２）の左心室（２３）用の電気リードアセンブリ（１０）。
【請求項２】
前記リード本体（３２）の前記遠位部分（３６）が、一定の曲率半径を有する、請求項１に記載の前記リードアセンブリ（１０）。
【請求項３】
前記リード本体（３２）の前記遠位部分（３６）の曲率半径が約０．４インチ（約１０．１６ｍｍ）であり、前記リード本体（３２）の弧長が約１．５インチ（約３８．１ｍｍ）である、請求項２に記載の前記リードアセンブリ（１０）。
【請求項４】
前記リード本体（３２）の前記遠位部分（３６）が、遠位方向に次第に小さくなる曲率半径を有する、請求項１に記載の前記リードアセンブリ（１０）。
【請求項５】
前記リード本体（３２）の前記遠位部分（３６）の曲率半径が、約０．２インチ（約５．０８ｍｍ）から約１．５インチ（約３８．１ｍｍ）の範囲内で変化し、前記リード本体（３２）の前記遠位部分（３６）の弧長が、約０．７インチ（約１７．７８ｍｍ）から約３インチ（約７６．２ｍｍ）である、請求項４に記載の前記リードアセンブリ（１０）。
【請求項６】
前記リード本体（３２）の前記遠位部分（３６）が、遠位方向に次第に大きくなる曲率半径を有する、請求項１に記載の前記リードアセンブリ（１０）。
【請求項７】
前記リード本体（３２）の前記遠位部分（３６）の曲率半径が、約０．２インチ（約５．０８ｍｍ）から約１．５インチ（約３８．１ｍｍ）の範囲内で変化し、前記リード本体（３２）の前記遠位部分（３６）の弧長が、約０．７（約１７．７８ｍｍ）インチから約３インチ（約７６．２ｍｍ）である、請求項６に記載の前記リードアセンブリ（１０）。
【請求項８】
前記リード本体（３２）の前記遠位部分（３６）が、前記近位部分（３４）より可撓性があり、前記リード本体（３２）が、前記遠位部分（３６）と前記近位部分（３４）の間に位置する移行領域（４６）を含み、前記移行領域（４６）が、前記リード本体（３２）の前記最も遠位の約１インチ（約２５．４ｍｍ）から約４インチ（約１０１．６ｍｍ）の範囲内にある、請求項１に記載の前記リードアセンブリ（１０）。
【請求項９】
オフセット形体（５２）をさらに備える、請求項１に記載の前記リードアセンブリ（１０）。
【請求項１０】
安定形状（５４）をさらに備える、請求項１に記載の前記リードアセンブリ（１０）。
【請求項１１】
前記連続的に偏向可能な予備成形された曲率が、弧長１ｍｍ当たりの曲率半径の最大変化０．５ｍｍを有する、請求項１に記載の前記リードアセンブリ（１０）。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月15日(2010.3.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
組織撮像および操作システムであって、
内部に少なくとも１つの管腔部を規定する展開カテーテルと、
該展開カテーテルから遠位側に突出し、拡張時に内部に開口エリアを規定する拡張式フードであって、該開口エリアは該少なくとも１つの管腔部と流体連絡する、フードと、
該展開カテーテルの長手軸に対して軸外となるように該フードに沿って配置可能な可視化素子であって、該開口エリアに半透明流体が充填されると、該開口エリアに隣接する組織を撮像するように構成される、可視化素子と、
を備える、システム。
【請求項２】
前記展開カテーテルを送達可能な送達カテーテルをさらに備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記展開カテーテルは操縦可能である、請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
前記展開カテーテルは、少なくとも１つのプルワイヤを介して操縦される、請求項３に記載のシステム。
【請求項５】
前記展開カテーテルはコンピュータ制御により操縦される、請求項３に記載のシステム。
【請求項６】
前記フードは折り畳み可能である、請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
前記フードは柔軟性材料から構成される、請求項１に記載のシステム。
【請求項８】
前記フードは、組織表面上への配置のための接触端部を規定する、請求項１に記載のシステム。
【請求項９】
前記フードは、薄型送達構成から拡張展開構成に再構成されるように構成される、請求項１に記載のシステム。
【請求項１０】
前記フードは、前記拡張展開構成に自己拡張するように構成される、請求項９に記載のシステム。
【請求項１１】
前記フードは、超弾性または形状記憶合金のフレームを備える、請求項９に記載のシステム。
【請求項１２】
前記フードは折り目が付けられた表面を規定する、請求項１に記載のシステム。
【請求項１３】
前記フードは円錐形状である、請求項１に記載のシステム。
【請求項１４】
前記フードは、前記開口エリアが選択的に変化可能となるように、前記カテーテルから選択的に展開することができる、請求項１に記載のシステム。
【請求項１５】
前記フードは非膨張性膜を備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項１６】
前記フードは少なくとも１つの支持部材を備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項１７】
前記少なくとも１つの支持部材は、対応するプルワイヤを介して作動可能である、請求項１６に記載のシステム。
【請求項１８】
前記可視化素子は、少なくとも１つの光ファイバー、ＣＣＤ撮像装置、またはＣＭＯＳ撮像装置を備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項１９】
前記カテーテルの長手軸に対して軸外となるように前記フードの内部に沿って配置可能な少なくとも１つのさらなる可視化素子をさらに備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項２０】
前記可視化素子は、前記展開カテーテルの遠位端から延在する長手方向に平行移動可能な部材上に配置される、請求項１に記載のシステム。
【請求項２１】
前記可視化素子は、前記展開カテーテルの長手軸に対して軸外となるように関節運動を行うことができる、請求項２０に記載のシステム。
【請求項２２】
流体を前記フード内に推進するポンプをさらに備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項２３】
前記開口エリアに隣接する前記組織に照明を当てるために前記フード上に配置された少なくとも１つの発光ダイオードをさらに備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項２４】
前記展開カテーテルを介して送達可能な組織係合部をさらに備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項２５】
前記展開カテーテルを介して送達可能な剥離プローブをさらに備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項２６】
前記半透明流体は、生理食塩水、血漿、水、または過フッ素化液を含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項２７】
前記フード内に位置する膨張式部材をさらに備え、該膨張式部材は、透明膜を有するとともに流体源と結合することにより、前記流体で拡張した際に前記開口エリアを占有して他の流体を押しのける、請求項１に記載のシステム。
【請求項２８】
前記透明膜は、前記流体の屈折率に近いかまたはそれと一致する屈折率を有する、請求項２７に記載のシステム。
【請求項２９】
前記フード内に位置する少なくとも第２の膨張式部材をさらに備える、請求項２７に記載のシステム。
【請求項３０】
前記第１の膨張式部材および第２の膨張式部材は、前記展開カテーテルから拡張状態の該第１の膨張式部材および第２の膨張式部材の間に機器を送ることができるように、前記フード内で互いに配置される、請求項２９に記載のシステム。
【請求項３１】
前記膨張式部材は、前記流体で拡張する場合、前記フードの遠位縁部を越えて拡張するように構成される、請求項２７に記載のシステム。
【請求項３２】
前記フードの遠位側に向かって延在する細長バイパス部をさらに備え、該細長バイパス部は、該フードの近位側に位置する少なくとも１つの近位側開口部と、該フードの遠位側に位置する少なくとも１つの遠位側開口部と、それらの間に延在するとともに、該近位側開口部と該遠位側開口部の間を流体が流動できるようにするバイパス管腔とを有する、請求項１に記載のシステム。
【請求項３３】
前記展開カテーテルが内部を移動できる外側シースをさらに備え、該外側シースは、前記組織に対する展開カテーテルの位置を制御するための少なくとも１つの関節運動部を有する、請求項１に記載のシステム。
【請求項３４】
前記展開カテーテルは、少なくとも１つの関節運動部をさらに備える、請求項３３に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月27日(2010.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
医療手法における医療装置と第二目標物との間の衝突の検出方法であって、
前記医療装置は磁気共鳴画像化に用いる磁石からなり、前記磁石は該磁石の長手方向の軸心を取り囲んでいる円筒内腔と、長手方向の軸心における半径方向の平面である端面とを備え、
前記磁石は、前記第二目標物から離れる方向へ向けてその長手方向に沿って移動可能であり、
前記磁石と前記第二目標物と間の衝突に反応する検出装置の該磁石への取り付け、
前記検出装置が、衝突によって屈曲されるように配置された少なくとも１本の光ファイバーが取り付けられる柔軟体からなること、および
検出が、前記少なくとも１本の光ファイバーを経ての光の伝達に変化し、それによって屈曲および衝突を検出すること、
からなることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記柔軟体は、前記磁石の前記半径方向の端面に取り付けられて該磁石の前記端面と平行である端面と、前記内腔と共通する円筒面に配置されている内面と、前記磁石の前記端面における外縁の内側と前記内腔の外側とに離間されている外縁と、を備えたリングであるものとする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記円筒内腔は、概して半径方向の内側へ突出している複数の隆起を有するとともに、
前記柔軟体は、概して半径方向の内側へ突出している複数の突起であって、前記内腔の前記複数の隆起に合致する該複数の突起を含むものとする、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
少なくとも１本のファイバーの少なくとも一部分は、前記複数の突起での衝突検出のため、屈曲によって該複数の突起へ突入するものとする、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記柔軟体は、第一圧縮柔軟発泡材の第一層を含むものであり、前記第一層は、前記接触面で後面と、該後面から離間されている前面とを備え、
前記柔軟体は、第二圧縮柔軟発泡材の第二層を含むものであり、前記第二層は、前記第一層の前記前面と接触している後面と、該第二層の該後面から離間されている前面とを備え、
前記第二層は前記第一層より剛直であり、
前記少なくとも１本のファイバーは、前記第一層と前記第二層との間の接合部に配置されるものとする、請求項１、２または３に記載の方法。