【手続補正書】
【提出日】平成22年9月24日(2010.9.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）０．３重量％〜１５重量％の過酸化水素、
ｂ）水、および
ｃ）以下のi）〜iii）を含む安定剤システム
i）１０重量ｐｐｍ〜１重量％のスズ酸塩安定剤、
ii）１０重量ｐｐｍ〜１重量％のホスホン酸キレート剤またはホスホン酸キレート剤の混合物、
iii）１０重量ｐｐｍ〜１重量％の芳香族キレート剤または芳香族キレート剤の混合物、
を含む組成物であって、
１０ｐｐｍ未満のピロリン酸塩を含み、かつ
７．０より大きいｐＨを有する組成物。
【請求項２】
８．０〜１０．５のｐＨを有する請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記安定剤システムが、１５ｐｐｍ〜２５００ｐｐｍのスズ酸塩安定剤、１５ｐｐｍ〜２５００ｐｐｍのホスホン酸キレート剤またはホスホン酸キレート剤の混合物、および、１５ｐｐｍ〜２５００ｐｐｍの芳香族キレート剤または芳香族キレート剤の混合物を含む請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
前記ホスホン酸キレート剤がアミノトリ（メチレンホスホン酸）、ジエチレントリアミンペンタ（メチレンホスホン酸）、ヘキサメチレンジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）、ビスヘキサメチレントリアミンペンタメチレンホスホン酸、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸、およびそれらの混合物からなる群から選択され、そして、
前記芳香族キレート剤がサリチル酸、６−ヒドロキシ−ピコリン酸、８−ヒドロキシ−キノリン、およびそれらの混合物からなる群から選択される請求項３に記載の組成物。
【請求項５】
前記安定剤システムが、２０ｐｐｍ〜１０００ｐｐｍのスズ酸塩安定剤、２０ｐｐｍ〜１０００ｐｐｍのホスホン酸キレート剤またはホスホン酸キレート剤の混合物、および、２０ｐｐｍ〜１０００ｐｐｍの芳香族キレート剤または芳香族キレート剤の混合物を含む請求項４に記載の組成物。
【請求項６】
９．０〜９．５のｐＨを有する請求項５に記載の組成物。
【請求項７】
前記安定剤システムが、３０ｐｐｍ〜２００ｐｐｍのスズ酸塩安定剤、３０ｐｐｍ〜２００ｐｐｍのホスホン酸キレート剤またはホスホン酸キレート剤の混合物、および、３０ｐｐｍ〜２００ｐｐｍの芳香族キレート剤または芳香族キレート剤の混合物を含む請求項６に記載の組成物。
【請求項８】
前記ホスホン酸キレート剤が１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸、アミノトリ（メチレンホスホン酸）、ジエチレントリアミンペンタ（メチレンホスホン酸）、およびそれらの混合物からなる群から選択され、そして、
前記芳香族キレート剤が８−ヒドロキシ−キノリン、およびサリチル酸からなる群から選択される請求項７に記載の組成物。
【請求項９】
８５℃で２４時間貯蔵した後の過酸化水素の損失が１０％未満である安定性を有する請求項１に記載の組成物。
【請求項１０】
前記ホスホン酸キレート剤がアミノトリ（メチレンホスホン酸）、ジエチレントリアミンペンタ（メチレンホスホン酸）、ヘキサメチレンジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）、ビスヘキサメチレントリアミンペンタメチレンホスホン酸、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸、およびそれらの混合物からなる群から選択され、そして
前記芳香族キレート剤がサリチル酸、６−ヒドロキシ−ピコリン酸、８−ヒドロキシ−キノリン、およびそれらの混合物からなる群から選択される請求項２に記載の組成物。
【請求項１１】
前記組成物が１ｐｐｍ未満のピロリン酸塩を含む請求項１０に記載の組成物。
【請求項１２】
前記組成物が、さらに０．２５重量％〜２５重量％の界面活性剤または界面活性剤の混合物を含む請求項１に記載の組成物。
【請求項１３】
８．０〜１０．５のｐＨを有する請求項１２に記載の組成物。
【請求項１４】
前記安定剤システムが、１５ｐｐｍ〜２５００ｐｐｍのスズ酸塩安定剤、１５ｐｐｍ〜２５００ｐｐｍのホスホン酸キレート剤またはホスホン酸キレート剤の混合物、および、１５ｐｐｍ〜２５００ｐｐｍの芳香族キレート剤または芳香族キレート剤の混合物を含む請求項１３に記載の組成物。
【請求項１５】
前記ホスホン酸キレート剤がアミノトリ（メチレンホスホン酸）、ジエチレントリアミンペンタ（メチレンホスホン酸）、ヘキサメチレンジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）、ビスヘキサメチレントリアミンペンタメチレンホスホン酸、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸、およびそれらの混合物からなる群から選択され、そして
前記芳香族キレート剤がサリチル酸、６−ヒドロキシ−ピコリン酸、８−ヒドロキシ−キノリン、およびそれらの混合物からなる群から選択される請求項１４に記載の組成物。
【請求項１６】
前記安定剤システムが、２０ｐｐｍ〜１０００ｐｐｍのスズ酸塩安定剤、２０ｐｐｍ〜１０００ｐｐｍのホスホン酸キレート剤またはホスホン酸キレート剤の混合物、および、２０ｐｐｍ〜１０００ｐｐｍの芳香族キレート剤または芳香族キレート剤の混合物を含む請求項１５に記載の組成物。
【請求項１７】
９．０〜９．５のｐＨを有する請求項１６に記載の組成物。
【請求項１８】
前記安定剤システムが、３０ｐｐｍ〜２００ｐｐｍのスズ酸塩安定剤、３０ｐｐｍ〜２００ｐｐｍのホスホン酸キレート剤またはホスホン酸キレート剤の混合物、および、３０ｐｐｍ〜２００ｐｐｍの芳香族キレート剤または芳香族キレート剤の混合物を含む請求項１７に記載の組成物。
【請求項１９】
前記ホスホン酸キレート剤が１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸、アミノトリ（メチレンホスホン酸）、ジエチレントリアミンペンタ（メチレンホスホン酸）、およびそれらの混合物からなる群から選択され、そして、
前記芳香族キレート剤が８−ヒドロキシ−キノリン、およびサリチル酸からなる群から選択される請求項１８に記載の組成物。
【請求項２０】
前記組成物が、さらに増厚剤を含む請求項１９に記載の組成物。
【請求項２１】
（１）ａ）０．３重量％〜１５重量％の過酸化水素、
ｂ）水、
ｃ）０．２５重量％〜２５重量％の界面活性剤または界面活性剤の混合物、
ｄ）０．２５重量％〜３．０重量％の増厚剤または増厚剤の混合物、および
ｅ）以下のi）〜iii）を含む安定剤システム
i）１０重量ｐｐｍ〜１重量％のスズ酸塩安定剤、
ii）１０重量ｐｐｍ〜１重量％のホスホン酸キレート剤またはホスホン酸キレート剤の混合物、
iii）１０重量ｐｐｍ〜１重量％の芳香族キレート剤または芳香族キレート剤の混合物、
を含む組成物であって、
１０ｐｐｍ未満のピロリン酸塩を含み、かつ、
７．０より大きいｐＨを有する
組成物を表面に塗布する工程と、
（２）前記組成物を除去する工程と
を含む、表面の洗浄方法。
【請求項２２】
前記組成物が８．０〜１０．５のｐＨを有し、
前記組成物が、２０ｐｐｍ〜１０００ｐｐｍのスズ酸塩安定剤、２０ｐｐｍ〜１０００ｐｐｍのホスホン酸キレート剤またはホスホン酸キレート剤の混合物、および、２０ｐｐｍ〜１０００ｐｐｍの芳香族キレート剤または芳香族キレート剤の混合物を含み、
前記ホスホン酸キレート剤がアミノトリ（メチレンホスホン酸）、ジエチレントリアミンペンタ（メチレンホスホン酸）、ヘキサメチレンジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）、ビスヘキサメチレントリアミンペンタメチレンホスホン酸、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸、およびそれらの混合物からなる群から選択され、そして前記芳香族キレート剤がサリチル酸、６−ヒドロキシ−ピコリン酸、８−ヒドロキシ−キノリン、およびそれらの混合物からなる群から選択される請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
前記組成物が８５℃で２４時間貯蔵した後の過酸化水素の損失が１０％未満である安定性を有する請求項２１に記載の方法。