(57)【要約】【課題】緑色蛍光体の輝度寿命及びＰＤＰの駆動電圧を改善したＰＤＰを提供する。【解決手段】プラズマディスプレイパネルの蛍光体層は、Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎと（Ｙ1-x，Ｇｄx）3（Ａｌ1-y，Ｇａy）5Ｏ12：Ｃｅ（ただし、０≦ｘ≦１，０≦ｙ≦０．５）の混合物を含む緑色蛍光体層を備え、Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎの表面は金属酸化物で被覆され、さらに金属酸化物で被覆されたＺｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎの最表面は酸化アルミニウムで被覆されていることを特徴とする。【選択図】図１
2012227083.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも前面側が透明な前面基板と放電空間を介して対向配置される背面基板とを有し、前記放電空間を複数に仕切るための隔壁が前記背面基板に形成され、かつ前記隔壁により仕切られた放電空間で放電が発生するように前記前面基板および前記背面基板に電極群が配置されるとともに放電により発光する蛍光体層が設けられたプラズマディスプレイパネルを備えたプラズマディスプレイ装置であって、
前記蛍光体層はＺｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎと（Ｙ1-x，Ｇｄx）3（Ａｌ1-y，Ｇａy）5Ｏ12：Ｃｅ（ただし、０≦ｘ≦１，０≦ｙ≦０．５）の混合物を含む緑色蛍光体層を備え、前記Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎの表面は金属酸化物で被覆され、さらに前記金属酸化物で被覆された前記Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎの最表面は酸化アルミニウムで被覆されていることを特徴とするプラズマディスプレイ装置。
【請求項２】
前記金属酸化物は酸化マグネシウムであることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項３】
前記酸化マグネシウムの重量比率は、
前記Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎに対して２５００ｐｐｍ以下であることを特徴とする請求項２記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項４】
前記酸化アルミニウムの重量比率は、
前記Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎに対して１００ｐｐｍ以上１００００ｐｐｍ以下であることを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項５】
少なくとも前面側が透明な前面基板と放電空間を介して対向配置される背面基板とを有し、前記放電空間を複数に仕切るための隔壁が前記背面基板に形成され、かつ前記隔壁により仕切られた放電空間で放電が発生するように前記前面基板および前記背面基板に電極群が配置されるとともに放電により発光する蛍光体層が設けられたプラズマディスプレイパネルを備えたプラズマディスプレイ装置の製造方法であって、
前記蛍光体層は、Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎと（Ｙ1-x，Ｇｄx）3（Ａｌ1-y，Ｇａy）5Ｏ12：Ｃｅ（ただし、０≦ｘ≦１、０≦ｙ≦０．５）とを含む緑色蛍光体粒子を備え、
Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎを含む緑色蛍光体粒子の表面を金属酸化物で被覆し、金属酸化物で被覆された前記Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎの最表面を酸化アルミニウムで被覆することを特徴とするプラズマディスプレイ装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空紫外線によって励起される蛍光体を含む蛍光体層を有するプラズマディスプレイパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、コンピュータやテレビなどの画像表示に用いられるカラー表示デバイスとして、プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと呼ぶ）が大型で薄型軽量を実現することのできるカラー表示デバイスとして注目されている。ＰＤＰは、赤色、緑色、青色のいわゆる３原色を加法混色することにより、フルカラー表示を行っている。このフルカラー表示を行うために、３原色の各色を発光する蛍光体層が備えられている。この蛍光体層を構成する蛍光体粒子はＰＤＰの放電セル内で発光する紫外線により励起され、各色の可視光を生成している。
【０００３】
ここで、ＰＤＰの動画像品質は、赤色、緑色、青色の各色蛍光体の残光特性によって大きく左右される。蛍光体の１／１０残光時間（以下、単に残光時間と呼ぶ）が８ｍｓｅｃ以上あると、発光が尾を引くのが視認され表示画像品質が悪化する。また４ｍｓｅｃ以下であると残光が人の目に見えにくくなるため、表示画像品質が向上する。
【０００４】
ＰＤＰに用いられる蛍光体のうち、緑色蛍光体では、通常使用されているＺｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎや（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ3：Ｔｂの残光時間が１０ｍｓｅｃ以上と長い。そのため、残光時間の短い（Ｙ，Ｇｄ）Ａｌ3（ＢＯ3）4：Ｔｂを混合することなどが特許文献１に開示されている。しかし、Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎからなる緑色蛍光体は、赤色蛍光体や青色蛍光体と異なり負極性に帯電し易い。そのため、ＰＤＰに用いた場合に、放電特性を悪化させることが知られており、ＰＤＰの発光効率低下の一因となっている。
【０００５】
そこで、負帯電を改善するために、負帯電のＺｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎの表面に正帯電の酸化物を極性が正になるまで緻密に積層コーティングする方法が特許文献２、３に開示されており、特に特許文献３には、Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎの蛍光体粒子表面に酸化マグネシウム（ＭｇＯ）が被覆されることで高輝度かつ輝度劣化の小さいプラズマディスプレイ装置（以下、ＰＤＰ装置と呼ぶ）を実現する方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平１０−１９５４２８号公報
【特許文献２】特開平１１−８６７３５号公報
【特許文献３】国際公開ＷＯ２００７−０９７３２７
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ（通常８〜１４ｍｓｅｃ）に（Ｙ，Ｇｄ)Ａｌ3（ＢＯ3)4：Ｔｂを混合しても色域が狭くなる上、残光時間が４ｍｓｅｃ以下にすることができない。また、Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎの蛍光体粒子表面が正帯電の金属酸化物で被覆されることで、ＰＤＰ内へ金属酸化物由来の不純ガスが混入し、電圧特性が悪化してしまう。正帯電の金属酸化物において、特にＭｇＯをはじめとするアルカリ土類金属の酸化物は強い塩基性であるため、炭酸ガスとの反応性が強く、多くの不純ガスをＰＤＰ内に持ち込む。その結果、駆動電圧が高くなり、消費電力が上昇してしまう。
【０００８】
本発明は、上記課題を解決して駆動電圧の上昇を抑え、消費電力を低減した高性能なＰＤＰ装置を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するため、本発明のＰＤＰ装置は、少なくとも前面側が透明な前面基板と放電空間を介して対向配置される背面基板とを有し、放電空間を複数に仕切るための隔壁が背面基板に形成され、かつ隔壁により仕切られた放電空間で放電が発生するように前面基板および背面基板に電極群が配置されるとともに放電により発光する蛍光体層が設けられたプラズマディスプレイパネルを備えたプラズマディスプレイ装置であって、蛍光体層は、Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎと（Ｙ1-x，Ｇｄx）3（Ａｌ1-y，Ｇａy）5Ｏ12：Ｃｅ（ただし、０≦ｘ≦１，０≦ｙ≦０．５）の混合物を含む緑色蛍光体層を備え、Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎの表面は金属酸化物で被覆され、さらに金属酸化物で被覆されたＺｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎの最表面は酸化アルミニウムで被覆されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
以上のように、本発明のＰＤＰによれば、長寿命、低消費電力、高輝度のＰＤＰ装置を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の実施の形態におけるプラズマディスプレイ装置に用いるパネルの要部を示す分解斜視図
【図２】本発明の実施の形態によるプラズマディスプレイ装置のＰＤＰの電極配列図
【図３】本発明の実施の形態によるプラズマディスプレイ装置のＰＤＰの断面を表す図
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明の実施の形態１によるプラズマディスプレイ装置について、図１〜図３を用いて説明する。しかし、本発明の実施の態様はこれに限定されるものではない。
【００１３】
＜実施の形態１＞
１、ＰＤＰの構成
図１は本発明の実施の形態１によるＰＤＰにおいて、前面板１と背面板２とを分離した状態で示す分解斜視図、図２は本発明の実施の形態によるプラズマディスプレイ装置のＰＤＰの電極配列図、図３は前面板１と背面板２とを貼り合わせてＰＤＰとしたときの放電セル構造を示す断面図である。
【００１４】
図１に示すように、ＰＤＰは、ガラス製の前面基板４と背面基板１０とを、その間に放電空間３を形成するように対向配置することにより構成されている。
【００１５】
前面板１は、ガラス製の前面基板４上に導電性の第１電極である走査電極５および第２電極である維持電極６を、間に放電ギャップＭＧを設けて互いに平行に配置して表示電極７を構成するとともに、その表示電極７を行方向に複数本配列して設け、そして走査電極５および維持電極６を覆うようにガラス材料からなる誘電体層８が形成され、その誘電体層８上にはＭｇＯからなる保護層９が形成されている。走査電極５および維持電極６は、それぞれＩＴＯなどの透明電極と、この透明電極をそれぞれに電気的に接続されるように形成されたＡｇなどの導電性金属からなる膜厚が数μｍ程度のバス電極とから構成されている。また、背面板２は、ガラス製の背面基板１０上に、ガラス材料からなる絶縁体層１１で覆われかつ列方向にストライプ状に配列したＡｇからなる複数本のデータ電極１２が設けられ、そして絶縁体層１１上には、前面板１と背面板２との間の放電空間３を放電セル毎に区画するためのガラス材料からなる井桁状の隔壁１３が設けられている。また、絶縁体層１１の表面および隔壁１３の側面には、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の蛍光体層１４Ｒ、１４Ｇ、１４Ｂが設けられている。そして、走査電極５および維持電極６とデータ電極１２とが交差するように前面板１と背面板２とが対向配置され、走査電極５および維持電極６とデータ電極１２が交差する交差部分には、図２に示すように、放電セル１５が設けられている。また、放電空間３には、放電ガスとして、例えばネオンとキセノンの混合ガスが封入されている。なお、ＰＤＰの構造は上述したものに限られるわけではなく、例えばストライプ状の隔壁を備えたものであってもよい。
【００１６】
ここで、図３に示すように、放電セル１５を形成する井桁形状の隔壁１３は、データ電極１２に平行に形成された縦隔壁１３ａと、この縦隔壁１３ａに直交するように形成した横隔壁１３ｂとから構成されている。また、この隔壁１３内に塗布して形成される蛍光体層１４Ｒ、１４Ｇ、１４Ｂは、縦隔壁１３ａに沿ってストライプ状に青色蛍光体層１４Ｂ、赤色蛍光体層１４Ｒ、緑色蛍光体層１４Ｇの順に配列して形成されている。
【００１７】
図２は、この図１に示すＰＤＰの電極配列図である。行方向に長いｎ本の走査電極Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３・・・Ｙｎ（図１の５）およびｎ本の維持電極Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３・・・Ｘｎ（図１の６）が配列されている。そして、列方向に長いｍ本のデータ電極Ａ１・・・Ａｍ（図１の１２）が配列されている。さらに、１対の走査電極Ｙ１および維持電極Ｘ１と１つのデータ電極Ａ１とが交差した部分に放電セル１５が形成され、放電セル１５は放電空間内にｍ×ｎ個形成されている。また、前記走査電極Ｙ１および維持電極Ｘ１は、図２に示すように、走査電極Ｙ１−維持電極Ｘ１−維持電極Ｘ２−走査電極Ｙ２・・・・の配列で繰り返すパターンで、前面板１に形成されている。そしてこれらの電極のそれぞれは、前面板１、背面板２の画像表示領域外の周辺端部に設けられた接続端子それぞれに接続されている。
【００１８】
２、ＰＤＰの製造方法
２−１、前面板の製造方法
フォトリソグラフィ法によって、前面基板４上に、走査電極５および維持電極６が形成される。走査電極５は、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）などの透明電極と、透明電極に積層された銀（Ａｇ）などからなるバス電極とから構成されている。維持電極６は、ＩＴＯなどの透明電極と、透明電極に積層されたＡｇなどからなるバス電極とから構成されている。バス電極の材料には、銀（Ａｇ）と銀を結着させるためのガラスフリットと感光性樹脂と溶剤などを含む電極ペーストが用いられる。まず、スクリーン印刷法によって、電極ペーストが、透明電極が形成された前面基板４上に塗布される。次に、乾燥炉によって、電極ペースト中の溶剤が除去される。次に、所定のパターンのフォトマスクを介して、電極ペーストが露光される。次に、電極ペーストが現像され、バス電極パターンが形成される。最後に、焼成炉によって、バス電極パターンが所定の温度で焼成される。つまり、電極パターン中の感光性樹脂が除去される。また、電極パターン中のガラスフリットが溶融する。その後、室温まで冷却することにより、溶融していたガラスフリットが、ガラス化する。以上の工程によって、バス電極が形成される。ここで、電極ペーストをスクリーン印刷する方法以外にも、スパッタ法、蒸着法を用いることができる。次に、誘電体層８が形成される。誘電体層８の材料には、誘電体ガラスフリットと樹脂と溶剤などを含む誘電体ペーストが用いられる。たとえば、誘電体層８は、膜厚が約４０μｍの酸化ビスマス（Ｂｉ2Ｏ3）系低融点ガラスまたは酸化亜鉛（ＺｎＯ）系低融点ガラスで形成されている。まずダイコート法によって、誘電体ペーストが所定の厚みで走査電極５、維持電極６を覆うように前面基板４上に塗布される。次に、乾燥炉によって、誘電体ペースト中の溶剤が除去される。最後に、焼成炉によって、誘電体ペーストが所定の温度で焼成される。つまり、誘電体ペースト中の樹脂が除去される。また、誘電体ガラスフリットが溶融する。その後、室温まで冷却することにより、溶融していた誘電体ガラスフリットが、ガラス化する。以上の工程によって、誘電体層８が形成される。ここで、誘電体ペーストをダイコートする方法以外にも、スクリーン印刷法、スピンコート法を用いることができる。また、誘電体ペーストを用いずに、ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法によって、誘電体層８となる膜を形成することもできる。次に、誘電体層８上に保護層９が形成される。保護層９は、膜厚が約０．８μｍの酸化マグネシウム（ＭｇＯ）を主体とするアルカリ土類金属酸化物からなる薄膜層であり、誘電体層８をイオンスパッタから保護するとともに放電開始電圧などの放電特性を安定させるために設けられている。
【００１９】
以上の工程により前面基板４上に走査電極５、維持電極６、誘電体層８および保護層９を有する前面板１が完成する。
【００２０】
２−２、背面板の製造方法
フォトリソグラフィ法によって、背面基板１０上に、データ電極１２が形成される。データ電極１２の材料には、導電性を確保するための銀（Ａｇ）と銀を結着させるためのガラスフリットと感光性樹脂と溶剤などを含むデータ電極ペーストが用いられる。まず、スクリーン印刷法によって、データ電極ペーストが所定の厚みで背面基板１０上に塗布される。次に、乾燥炉によって、データ電極ペースト中の溶剤が除去される。次に、所定のパターンのフォトマスクを介して、データ電極ペーストが露光される。次に、データ電極ペーストが現像され、データ電極パターンが形成される。最後に、焼成炉によって、データ電極パターンが所定の温度で焼成される。つまり、データ電極パターン中の感光性樹脂が除去される。また、データ電極パターン中のガラスフリットが溶融する。その後、室温まで冷却することにより、溶融していたガラスフリットが、ガラス化する。以上の工程によって、データ電極１２が形成される。ここで、データ電極ペーストをスクリーン印刷する方法以外にも、スパッタ法、蒸着法を用いることができる。
【００２１】
次に、絶縁体層１１が形成される。絶縁体層１１の材料には、絶縁体ガラスフリットと樹脂と溶剤などを含む絶縁体ペーストが用いられる。例えば、絶縁体層１１は、誘電体層８と同様の酸化ビスマス（Ｂｉ2Ｏ3）系低融点ガラスなどであってもよいが、可視光反射層としての働きも兼ねるように酸化チタン（ＴｉＯ2）粒子を混合した材料であってもよい。まず、スクリーン印刷法によって、絶縁体ペーストが所定の厚みでデータ電極１２が形成された背面基板１０上にデータ電極１２を覆うように塗布される。次に、乾燥炉によって、絶縁体ペースト中の溶剤が除去される。最後に、焼成炉によって、絶縁体ペーストが所定の温度で焼成される。つまり、絶縁体ペースト中の樹脂が除去される。また、絶縁体ガラスフリットが溶融する。その後、室温まで冷却することにより、溶融していた絶縁体ガラスフリットが、ガラス化する。以上の工程によって、絶縁体層１１が形成される。ここで、絶縁体ペーストをスクリーン印刷する方法以外にも、ダイコート法、スピンコート法を用いることができる。また、絶縁体ペーストを用いずに、ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法によって、絶縁体層１１となる膜を形成することもできる。
【００２２】
次に、フォトリソグラフィ法によって、隔壁１３が形成される。隔壁１３の材料には、フィラーと、フィラーを結着させるためのガラスフリットと、感光性樹脂と、溶剤などを含む隔壁ペーストが用いられる。まず、ダイコート法によって、隔壁ペーストが所定の厚みで絶縁体層１１上に塗布される。次に、乾燥炉によって、隔壁ペースト中の溶剤が除去される。
【００２３】
次に、所定のパターンのフォトマスクを介して、隔壁ペーストが露光される。次に、隔壁ペーストが現像され、隔壁パターンが形成される。最後に、焼成炉によって、隔壁パターンが所定の温度で焼成される。つまり、隔壁パターン中の感光性樹脂が除去される。また、隔壁パターン中のガラスフリットが溶融する。その後、室温まで冷却することにより、溶融していたガラスフリットが、ガラス化する。以上の工程によって、隔壁１３が形成される。ここで、フォトリソグラフィ法以外にも、サンドブラスト法を用いることができる。隔壁１３は、例えば低融点ガラス材料を用いて約０．１２ｍｍの高さに形成されている。また、実施の形態では、画面サイズが４２インチクラスのフルハイビジョンテレビに合わせて、隔壁１３の高さは０．１ｍｍ〜０．１５ｍｍ、また隣接する隔壁１３のピッチは０．１５ｍｍとしている。なお、ＰＤＰの構造は上述したものに限られるわけではなく、隔壁１３の形状がストライプ状であってもよい。
【００２４】
次に、蛍光体層１４が形成される。蛍光体層１４の材料には、蛍光体粒子とバインダと溶剤などとを含む蛍光体ペーストが用いられる。まず、ディスペンス法によって、蛍光体ペーストが所定の厚みで隣接する複数の隔壁１３間の絶縁体層１１上および隔壁１３の側面に塗布される。次に、乾燥炉によって、蛍光体ペースト中の溶剤が除去される。最後に、焼成炉によって、蛍光体ペーストが所定の温度で焼成される。つまり、蛍光体ペースト中の樹脂が除去される。以上の工程によって、蛍光体層１４が形成される。ここで、ディスペンス法以外にも、スクリーン印刷法を用いることができる。
【００２５】
以上の工程により、背面基板１０上に、データ電極１２、絶縁体層１１、隔壁１３および蛍光体層１４を有する背面板２が完成する。
【００２６】
２−３、前面板と背面板との組立方法
まず、ディスペンス法によって、背面板２の周囲に封着ペーストが塗布される。塗布された封着ペーストは、封着ペースト層（図示せず）を形成する。次に乾燥炉によって、封着ペースト層中の溶剤が除去される。その後、封着ペースト層は、約３５０℃の温度で仮焼成される。仮焼成によって、封着ペースト層中の樹脂成分などが除去される。次に、表示電極７とデータ電極１２とが直交するように、前面板１と背面板２とが対向配置される。さらに、前面板１と背面板２の周縁部が、クリップなどにより押圧した状態で保持される。この状態で、所定の温度で焼成することにより、低融点ガラス材料が溶融する。その後、室温まで冷却することにより、溶融していた低融点ガラス材料がガラス化する。これにより、前面板１と背面板２とが気密封着される。最後に、放電空間３にＮｅ、Ｘｅなどを含む放電ガスが封入される。封入する放電ガスの組成は、従来から用いられているＮｅ−Ｘｅ系であるが、Ｘｅの含有量を５体積％以上に設定し、封入圧力は５５ｋＰａ〜８０ｋＰａの範囲に設定する。これによりＰＤＰが完成する。
【００２７】
３、蛍光体材料の構成とその製造方法
次に、各色の蛍光体材料と蛍光体材料の製造方法について説明する。本実施の形態において、蛍光体材料は固相反応法により製造されたものを用いている。
【００２８】
３−１、青色蛍光体の構成とその製造方法
まず青色蛍光体材料について説明する。本発明の実施の形態では、青色蛍光体層１４Ｂとして、残光時間の短いＢａＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕの青色蛍光体材料を用いている。青色蛍光体材料であるＢａＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕは以下の方法で作製する。
【００２９】
炭酸バリウム（ＢａＣＯ3）と炭酸マグネシウム（ＭｇＣＯ3）と酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）と酸化ユーロピウム（Ｅｕ2Ｏ3）とを蛍光体組成に合うように混合する。この混合物を空気中において８００℃〜１２００℃で焼成し、さらに水素と窒素を含む混合ガス雰囲気において１２００℃〜１４００℃で焼成して作製する。
【００３０】
３−２、赤色蛍光体の構成とその製造方法
次に赤色蛍光体材料について説明する。本発明の実施の形態では、赤色蛍光体層１４Ｒとして、（Ｙ，Ｇｄ）（Ｐ，Ｖ）Ｏ4：Ｅｕ蛍光体またはＹ2Ｏ3：Ｅｕ蛍光体の少なくとも一つを含む赤色蛍光体材料を用いている。赤色蛍光体材料である（Ｙ，Ｇｄ）（Ｐ，Ｖ）Ｏ4：Ｅｕ蛍光体またはＹ2Ｏ3：Ｅｕ蛍光体は以下の方法で作製する。酸化イットリウム（Ｙ2Ｏ3）、酸化ガドリミウム（Ｇｄ2Ｏ3）、酸化バナジウム（Ｖ2Ｏ5）、５酸化リン（Ｐ2Ｏ5）と酸化ユーロピウム（ＥｕＯ2）とを蛍光体組成に合うように混合する。この混合物を空気中において６００℃〜８００℃で焼成し、さらに酸素と窒素を含む混合ガス雰囲気において１０００℃〜１２００℃で焼成して作製する。
【００３１】
３−３、緑色蛍光体とその製造方法
３−３−１、緑色蛍光体
まず、緑色蛍光体材料について説明する。本発明の実施の形態では、緑色蛍光体層１４Ｇとして、Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎと（Ｙ1-x，Ｇｄx）3（Ａｌ1-y，Ｇａy）5Ｏ12：Ｃｅとを含む緑色蛍光体材料を用いている。
【００３２】
さらに、本実施の形態では、Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ蛍光体の表面は２層の金属酸化物膜によって被覆されている。例えば、Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ蛍光体の表面は第１層目として酸化マグネシウム（ＭｇＯ）の金属酸化物で被覆され、さらに第２層目として酸化アルミニウムが酸化マグネシウム（ＭｇＯ）で被覆されたＺｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎの最表面に被覆されている。
【００３３】
第１層目として酸化マグネシウム（ＭｇＯ）が被覆される目的は、ＰＤＰ装置としての輝度の向上とＰＤＰ装置を長時間使用した場合の蛍光体の輝度劣化を抑制することである。
【００３４】
また、第２層目として最表面に酸化アルミニウムが被覆される目的は、第１層目がＰＤＰ装置内に持ち込む水（Ｈ2Ｏ）、一酸化炭素（ＣＯ）や二酸化炭素（ＣＯ2）などの不純ガスを低減することである。
【００３５】
特に、第１層目として酸化マグネシウム（ＭｇＯ）を被覆材料として用いた場合、ＰＤＰ装置に持ち込む不純ガスが多く、輝度が向上したとしても、駆動電圧が上昇してしまう。しかし、第１層目の酸化マグネシウム（ＭｇＯ）に加えて、さらに第２層目として酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）がＺｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎの最表面に被覆されることで、不純ガスのＰＤＰ装置への持ち込みが低減される。
【００３６】
なお、ＰＤＰ装置内に持ち込む不純ガスとは、蛍光体粒子表面に吸着した水（Ｈ2Ｏ）、一酸化炭素（ＣＯ）や二酸化炭素（ＣＯ2）などがＰＤＰ装置の製造工程を経た後も蛍光体粒子表面に残留するガスを指す。
【００３７】
そして、Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎの最表面に被覆される酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）のＺｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎに対する重量比率は、１００ｐｐｍ以上１００００ｐｐｍ以下である。１００ｐｐｍを下回る場合はＰＤＰ装置内へ持ち込む不純ガスの低減効果が小さい。また、１００００ｐｐｍを上回る場合は酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）の被覆により蛍光体の励起源を遮蔽する効果が増大し、蛍光体の輝度が損なわれる。なお、第１層目の被覆材料については、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）に限らず、酸化ストロンチウム（ＳｒＯ）や酸化バリウム（ＢａＯ）などの金属酸化物を含む。本実施形態では第１層目に酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、第２層目に酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）を用いているが、酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）は必ずしも第２層目でなくても良く、Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ蛍光体の最表面が酸化アルミニウムで被覆されていればよい。蛍光体粒子へのコーティングの方法は後に詳細に説明する。
【００３８】
３−３−２、緑色蛍光体の製造方法
次に、本発明の実施の形態における緑色蛍光体の製造方法について詳しく説明する。Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ蛍光体は、従来の固相反応法や液相法や液体噴霧法を用いて作製する。固相反応法は酸化物や炭酸化物原料とフラックスを焼成して作製する方法である。また、液相法は、有機金属塩や硝酸塩を水溶液中で加水分解し、必要に応じてアルカリなどを加えて沈殿させて生成した蛍光体材料の前駆体を熱処理して作製する方法である。
【００３９】
さらに、液体噴霧法は、蛍光体材料の原料が入った水溶液を加熱された炉中に噴霧して作製する方法である。本実施の形態で使用するＺｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ蛍光体は、特に作製方法に影響を受けるものではないが、ここでは一例として固相反応法による製法について述べる。
【００４０】
はじめに原料混合であるが、原料としては酸化亜鉛、酸化珪素、炭酸マンガン（ＭｎＣＯ3）を用いる。また、上述のように、炭酸マンガンを用いる方法と同様に水酸化マンガン、硝酸マンガン、ハロゲン化マンガン、シュウ酸マンガン等を初期の材料に用い、これらを製造過程における焼成工程（後に詳細に説明する）を経ることにより、間接的に酸化マンガンを得る方法がある。また、直接的に酸化マンガンを使用しても構わない。
【００４１】
Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎにおける亜鉛供給源となる材料として（以下、「Ｚｎ材」という。）、高純度の（純度９９％以上）の酸化亜鉛を用いる。また、上述のように、酸化亜鉛を直接用いる方法以外に、高純度（純度９９％以上）の水酸化亜鉛、炭酸亜鉛、硝酸亜鉛、ハロゲン化亜鉛、シュウ酸亜鉛等を初期の材料に用い、これらを製造過程における焼成工程（後に詳細に説明する）を経ることにより、間接的に上記酸化亜鉛を得る方法であっても構わない。
【００４２】
Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎにおける珪素供給源となる材料（以下、「Ｓｉ材」という。）としては、高純度（純度９９％以上）の二酸化珪素を用いることができる。また、珪酸エチルなどの珪素アルコキシド化合物を加水分解して得られる珪素の水酸化物を用いてもよい。
【００４３】
具体的な緑色蛍光体の材料の配合の一例として０．１６ｍｏｌのＭｎＣＯ3と、１．８０ｍｏｌのＺｎＯと、１．００ｍｏｌのＳｉＯ2とを混合している。Ｍｎ材、Ｚｎ材およびＳｉ材の混合には、工業的に通常用いられるＶ型混合機、攪拌機等を用いることができ、また、粉砕機能を有したボールミル、振動ミル、ジェットミル等も用いることができる。以上のようにして、緑色蛍光体材料の混合粉が得られる。
【００４４】
次に焼成工程について説明する。蛍光体材料の混合粉を大気雰囲気中において、焼成開始後６時間程度で最高温度１２００℃にし、この最高温度を維持して４時間焼成を行う。その後、通常行われる大気雰囲気中で約１２時間かけて降温させる。なお、焼成時の雰囲気は、大気雰囲気に限るものではなく、窒素雰囲気中、窒素と水素の混合雰囲気中でもよい。また、最高温度は、１１００℃〜１３５０℃の間が好ましいが、最高温度維持時間や昇温時間や降温時間などは適宜変更しても問題ない。
【００４５】
次に、もう一方の緑色蛍光体材料である（Ｙ1-x，Ｇｄx）3（Ａｌ1-y，Ｇａy）5Ｏ12：Ｃｅは以下の方法で作製する。酸化イットリウム（Ｙ2Ｏ3）と酸化ガドリニウム（Ｇｄ2Ｏ3）と酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）と酸化ガリウム（Ｇａ2Ｏ3）と酸化セリウム（ＣｅＯ2）とを蛍光体組成に合うように混合する。混合物を空気中において１０００℃〜１２００℃で焼成し、さらに酸素と窒素を含む混合ガス雰囲気において１２００℃〜１４００℃で焼成して作製する。本実施の形態では、ｘ＝０，ｙ＝０．２となるように組成を調整したが、０≦ｘ≦１，０≦ｙ≦０．５であれば、如何なる組成であっても問題はない。
【００４６】
このようにして作製したＺｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎと（Ｙ1-x，Ｇｄx）3（Ａｌ1-y，Ｇａy）5Ｏ12：Ｃｅを混合し、緑色蛍光体を作製する。なお、本実施の形態では、Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎと（Ｙ1-x，Ｇｄx）3（Ａｌ1-y，Ｇａy）5Ｏ12：Ｃｅを重量比率で５０％ずつ混合したが、混合比率については、色度設計値や蛍光体粒子径により適宜調整が必要であり、駆動電圧低減の効果は、如何なる混合比率であっても同様の効果が得られる。
【００４７】
３−３−３、緑色蛍光体の粒子表面に金属酸化物を被覆する方法
次に、緑色蛍光体の蛍光体粒子表面に金属酸化物を被覆する方法について説明する。まず、被覆されていないＺｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ蛍光体に酸化マグネシウム（ＭｇＯ）を被覆する場合について述べる。硝酸マグネシウムを水またはアルカリ水溶液中に溶解する。その溶解液中に被覆されていないＺｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ蛍光体を投入して混合液を作製し、加熱しながら攪拌する。加熱温度は３０℃未満では金属塩が溶液中に析出してしまう。また６０℃を超える温度では、Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ蛍光体が酸やアルカリによって溶解してしまう。このため、３０℃以上かつ６０℃以下の温度範囲内で加熱、攪拌する。この攪拌により溶解液中のマグネシウム陽イオンが負帯電性のＺｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ蛍光体に密着することで被覆が行われる。この混合液を濾過、乾燥し、その後この乾燥物を空気中において４００℃〜８００℃で焼成することで酸化マグネシウム（ＭｇＯ）が表面に被覆されたＺｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ蛍光体が完成する。なお、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）の被覆量は最初に投入する硝酸塩の量で決定される。なお、他の金属酸化物で被覆される場合についても原料の硝酸塩を適宜変更して上記手法を用いることで同様にＺｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ蛍光体の蛍光体粒子表面に金属酸化物を被覆することができる。
【００４８】
次に、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）で被覆されたＺｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ蛍光体の最表面に酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）を被覆する場合について述べる。硝酸アルミニウムを水またはアルカリ水溶液中に溶解する。その溶解液中に被覆されていないＺｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ蛍光体を投入して混合液を作製し、加熱しながら攪拌する。加熱温度は３０℃未満では金属塩が溶液中に析出してしまう。また６０℃を超える温度では、Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ蛍光体が酸やアルカリによって溶解してしまう。このため、３０℃以上かつ６０℃以下の温度範囲内で加熱、攪拌する。この攪拌により溶解液中のアルミニウム陽イオンが負帯電性のＺｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ蛍光体に密着することで被覆が行われる。この混合液を濾過、乾燥し、その後この乾燥物を空気中において４００℃〜８００℃で焼成することで酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）が最表面に被覆されたＺｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ蛍光体が完成する。なお、酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）の被覆量は最初に投入する硝酸塩の量で決定される。
【００４９】
４、実機評価試験結果
本発明の実施形態におけるＺｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎと（Ｙ1-x，Ｇｄx）3（Ａｌ1-y，Ｇａy）5Ｏ12：Ｃｅとを含む緑色蛍光体層を備えたＰＤＰの実機評価結果を表１に示した。なお、本試験評価では、比較品及び実施例品のいずれもＺｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎと（Ｙ1-x，Ｇｄx）3（Ａｌ1-y，Ｇａy）5Ｏ12：Ｃｅを重量比率で５０％ずつ混合したものである。
【００５０】
４−１、比較品および実施例品の詳細
比較品１および実施例品の詳細は以下の通りである。なお、各金属酸化物の被覆量（ｐｐｍ）とは、製造条件中の緑色蛍光体の粉体における重量（ｗｔ％）に対する各金属酸化物の重量（ｗｔ％）を示している。
【００５１】
＜比較品１＞
比較品１は、蛍光体粒子の表面に何も被覆されていないＺｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎと（Ｙ1-x，Ｇｄx）3（Ａｌ1-y，Ｇａy）5Ｏ12：Ｃｅとから構成される蛍光体層を備えたＰＤＰである。
【００５２】
＜実施例品１＞
実施例品１のＰＤＰにおける蛍光体層は、蛍光体Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎと（Ｙ1-x，Ｇｄx）3（Ａｌ1-y，Ｇａy）5Ｏ12：Ｃｅとを備え、蛍光体Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎの蛍光体粒子の表面に酸化マグネシウム（ＭｇＯ）のみが被覆されている。酸化マグネシウム（ＭｇＯ）の被覆量は、５００ｐｐｍである。
【００５３】
＜実施例品２＞
実施例品２のＰＤＰにおける蛍光体層は、蛍光体Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎと（Ｙ1-x，Ｇｄx）3（Ａｌ1-y，Ｇａy）5Ｏ12：Ｃｅとを備え、蛍光体Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎの蛍光体粒子の表面に酸化マグネシウム（ＭｇＯ）のみが被覆されている。酸化マグネシウム（ＭｇＯ）の被覆量は、２５００ｐｐｍである。
【００５４】
＜実施例品３＞
実施例品３は蛍光体Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎの蛍光体粒子の表面に酸化マグネシウム（ＭｇＯ）が被覆され、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）が被覆されたＺｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎの最表面にさらに酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）が第２層目として被覆されている蛍光体と、（Ｙ1-x，Ｇｄx）3（Ａｌ1-y，Ｇａy）5Ｏ12：Ｃｅとから構成される蛍光体層を備えたＰＤＰである。酸化マグネシウム（ＭｇＯ）は２５００ｐｐｍ、酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）は１００ｐｐｍがそれぞれ被覆されている。
【００５５】
＜実施例品４＞
実施例品４は蛍光体Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎの蛍光体粒子の表面に酸化マグネシウム（ＭｇＯ）が被覆され、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）が被覆されたＺｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎの最表面にさらに酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）が第２層目として被覆されている蛍光体と、（Ｙ1-x，Ｇｄx）3（Ａｌ1-y，Ｇａy）5Ｏ12：Ｃｅとから構成される蛍光体層を備えたＰＤＰである。酸化マグネシウム（ＭｇＯ）は２５００ｐｐｍ、酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）は１０００ｐｐｍがそれぞれ被覆されている。
【００５６】
＜実施例品５＞
実施例品５は蛍光体Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎの蛍光体粒子の表面に酸化マグネシウム（ＭｇＯ）が被覆され、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）が被覆されたＺｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎの最表面にさらに酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）が第２層目として被覆されている蛍光体と、（Ｙ1-x，Ｇｄx）3（Ａｌ1-y，Ｇａy）5Ｏ12：Ｃｅとから構成される蛍光体層を備えたＰＤＰである。酸化マグネシウム（ＭｇＯ）は２５００ｐｐｍ、酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）は１００００ｐｐｍがそれぞれ被覆されている。
【００５７】
＜実施例品６＞
実施例品６は蛍光体Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎの蛍光体粒子の表面に酸化マグネシウム（ＭｇＯ）が被覆され、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）が被覆されたＺｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎの最表面にさらに酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）が第２層目として被覆されている蛍光体と、（Ｙ1-x，Ｇｄx）3（Ａｌ1-y，Ｇａy）5Ｏ12：Ｃｅとから構成される蛍光体層を備えたＰＤＰである。酸化マグネシウム（ＭｇＯ）は２５００ｐｐｍ、酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）は１５０００ｐｐｍがそれぞれ被覆されている。
【００５８】
４−２、実機評価
表１には、比較品１と実施例品１〜実施例品５までの実機評価を行うために、粉体輝度、ＴＤＳ分析によるガス分率（％）、駆動電圧の変動量（Ｖ）の結果を示している。
【００５９】
４−２−１、粉体輝度の評価
比較品１、実施例品１〜６の各蛍光体粉末に対して、１４６ｎｍの紫外線で発光させた場合の輝度を分光光度計（浜松ホトニクス、ＰＭＡ−１２）で測定した。比較品１の輝度を基準に１００とした場合の各実施例品における輝度を相対的に表している。
【００６０】
４−２−２、吸着ガス量の評価
ＰＤＰ装置への不純ガスの量を評価するために、ＴＤＳ昇温脱離ガス分光法（ＴＤＳ：Ｔｈｅｒｍａｌ  Ｄｅｓｏｒｐｔｉｏｎ  Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）による蛍光体粉末のガス吸着量を評価した。なお測定には電子化学株式会社  ＷＡ１０００Ｓ／Ｗを使用した。
【００６１】
比較品１、実施例品１〜６の蛍光体粉末について、６０℃から６５０℃へ毎分１０℃で昇温させた場合の蛍光体粉末から脱離する水（Ｈ2Ｏ）、一酸化炭素（ＣＯ）、二酸化炭素（ＣＯ2）の総量をそれぞれ測定した。比較品１における各々のガス量を基準として１００とした場合の各実施例品における吸着ガス量を相対的に示している。
【００６２】
４−２−３、ＰＤＰの特性
蛍光体粒子に被覆された酸化物がＰＤＰ装置内に持ち込む不純ガスに起因する駆動電圧の変動量を評価するため、比較品１、実施例品１〜６を実際に使用したＰＤＰ装置を作製し、駆動電圧を測定した。駆動電圧はＰＤＰ装置が完全点灯する最低の電圧値とし、比較品１の駆動電圧（Ｖ）を基準として各実施例品における駆動電圧を比較品１と比較し、比較品１との駆動電圧差（Ｖ）を示している。つまり、比較品１の駆動電圧（Ｖ）より大きければ＋の値となり、小さければ−の値となる。
【００６３】
４−３、結果
各実機における結果を下記表１に示す。
【００６４】
【表１】
2012227083.tif 000003
【００６５】
粉体の輝度については、実施例品１〜２の第１層目の酸化マグネシウム（ＭｇＯ）のみを被覆した場合、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）の被覆量が２５００ｐｐｍ以下では蛍光体の輝度に大きな変化は無く、ＰＤＰ装置として使用上問題ない。また、実施例品３〜６の第１層目として酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、第２層目として酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）を被覆した場合、酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）の被覆量が１００００ｐｐｍ以下であれば蛍光体の輝度に大きな影響はない。しかし、酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）の被覆量が１００００ｐｐｍを超えた場合、酸化アルミニウム層により蛍光体を励起する紫外線が遮蔽され、輝度が大きく低下する。
【００６６】
吸着ガス量については、第１層目の酸化マグネシウム（ＭｇＯ）のみが被覆されている場合、比較品１、実施例品１、２からその被覆量が増加するにともなって、水（Ｈ2Ｏ）、一酸化炭素（ＣＯ）、二酸化炭素（ＣＯ2）の吸着量が極めて大きく、特に輝度劣化の効果が高い２５００ｐｐｍでは酸化マグネシウム（ＭｇＯ）が被覆されていない場合に比べて水（Ｈ2Ｏ）が約１．４倍、一酸化炭素（ＣＯ）が１．３倍程度、二酸化炭素（ＣＯ2）については２倍以上増えている。一方、第２層目としてＺｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎの最表面に酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）を１００，１０００，１００００ｐｐｍと被覆させた実施例品３〜５は水（Ｈ2Ｏ）、一酸化炭素（ＣＯ）、二酸化炭素（ＣＯ2）ともにガス吸着量が大幅に小さい。
【００６７】
また、ＰＤＰ装置としての駆動電圧については、実施例品２では比較品１に対して２．５Ｖ上昇している。一方、第２層目としてＺｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎの最表面に酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）が被覆されている実施例品３〜５では比較品１に対して１．５Ｖ、０．５Ｖ、０．５Ｖと、Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎの表面に第一層目のみが被覆されている実施例品２に比べ駆動電圧が低減している。
【００６８】
特に、第２層目としてＺｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎの最表面に酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）が１０００ｐｐｍ以上１００００ｐｐｍ以下被覆されている場合、駆動電圧差がより小さい。
【００６９】
以上の結果から、第２層目の酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）の被覆量が１００ｐｐｍ以上１００００ｐｐｍ以下の場合、より駆動電圧が低減したＰＤＰ装置を実現することができる。
【００７０】
５、実施の形態のまとめ
上記実施形態において特徴的な部分を以下に列記する。なお、上記実施形態に含まれる発明は、以下に限定されるものではない。なお、各構成の後ろに括弧で記載したものは、各構成の具体例である。各構成はこれらの具体例に限定されるものではない。
【００７１】
（１）
本発明のＰＤＰ装置は、少なくとも前面側が透明な前面基板（４）と放電空間（３）を介して対向配置される背面基板（１０）とを有し、放電空間（３）を複数に仕切るための隔壁（１３）が背面基板（１０）に形成され、かつ隔壁（１３）により仕切られた放電空間（１５）で放電が発生するように前面基板（４）および背面基板（１０）に電極群が配置されるとともに放電により発光する蛍光体層（１４）が設けられたプラズマディスプレイパネルを備えたプラズマディスプレイ装置であって、Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎと（Ｙ1-x，Ｇｄx）3（Ａｌ1-y，Ｇａy）5Ｏ12：Ｃｅ（ただし、０≦ｘ≦１，０≦ｙ≦０．５）の混合物を含む緑色蛍光体層（１４Ｇ）を備え、Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎの表面は金属酸化物で被覆され、さらに金属酸化物で被覆されたＺｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎの最表面は酸化アルミニウムで被覆されていることを特徴とする。
【００７２】
これにより、より低電圧で駆動する高輝度、高発光効率のＰＤＰ装置を実現することができる。
【００７３】
（２）
（１）のＰＤＰ装置であって、金属酸化物は酸化マグネシウムであることを特徴とする。
【００７４】
これにより、高輝度かつ輝度劣化の小さいＰＤＰ装置を実現することができる。
【００７５】
（３）
（１）のＰＤＰ装置であって、酸化マグネシウムの重量比率は、Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎに対して２５００ｐｐｍ以下であることを特徴とする。
【００７６】
これにより、より高輝度かつ輝度劣化の小さいＰＤＰ装置を実現することができる。
【００７７】
（４）
（１）のＰＤＰ装置であって、酸化アルミニウムの重量比率は、Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎに対して１００ｐｐｍ以上１００００ｐｐｍ以下であることを特徴とする。
【００７８】
これにより、輝度を維持するとともに、ＰＤＰ装置内へ持ち込まれる不純ガスが低減される。その結果、駆動電圧が低減し、電圧マージンの確保および発光効率の維持が可能となり、高品質なＰＤＰ装置を提供することができる。
【００７９】
（５）
少なくとも前面側が透明な前面基板と放電空間を介して対向配置される背面基板とを有し、放電空間を複数に仕切るための隔壁が背面基板に形成され、かつ隔壁により仕切られた放電空間で放電が発生するように前面基板および背面基板に電極群が配置されるとともに放電により発光する蛍光体層が設けられたプラズマディスプレイパネルを備えたプラズマディスプレイ装置の製造方法であって、Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎを含む緑色蛍光体粒子の表面を金属酸化物で被覆し、金属酸化物で被覆されたＺｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎの最表面を酸化アルミニウムで被覆することを特徴とする。
【００８０】
これにより、より低電圧で駆動する高輝度、高発光効率のＰＤＰ装置を実現することができる。
【産業上の利用可能性】
【００８１】
本発明は、長寿命、低消費電力、高輝度のＰＤＰ装置を実現することができ、大画面の表示デバイスなどに有用である。
【符号の説明】
【００８２】
１  前面板
２  背面板
３  放電空間
４  前面基板
５  走査電極
６  維持電極
８  誘電体層
９  保護層
１０  背面基板
１１  絶縁体層
１２  データ電極
１３  隔壁
１３ａ  縦隔壁
１３ｂ  横隔壁
１４  蛍光体層
１４Ｒ  赤色蛍光体層
１４Ｇ  緑色蛍光体層
１４Ｂ  青色蛍光体層
１５  放電セル
【図１】
2012227083.tif 000004
【図２】
2012227083.tif 000005
【図３】
2012227083.tif 000006