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【手続補正書】
【提出日】平成21年11月26日(2009.11.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラスシートに積層された少なくとも１層のシートを含んでなる物品であって、前記１層のシートが、約３０ミル〜約１２０ミルの厚さを有し、かつ（ａ）アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、モノメチルマレイン酸およびそれらの混合物よりなる群から選択される酸からのカルボン酸モノマー単位を約１７〜約３０重量％有し、コポリマーの酸基の約１％〜約１００％が、カルボン酸イオンと金属対イオンとを含んでなるカルボン酸塩へと中和され、そして前記金属対イオンが本質的に亜鉛イオンからなるエチレン酸コポリマー樹脂と、（ｂ）可塑剤、加工助剤、流動向上添加剤、潤滑剤、顔料、染料、難燃剤、衝撃改質剤、結晶化度を増加させる核剤、シリカなどの抗ブロッキング剤、熱安定剤、ＵＶ吸収剤、ＵＶ安定剤、分散剤、界面活性剤、キレート剤、カップリング剤、接着剤、プライマーおよび蛍光増白剤よりなる群から選択される少なくとも１種の添加剤とから本質的になる樹脂組成物から得られる物品。
【請求項２】
（Ａ）アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、モノメチルマレイン酸およびそれらの混合物よりなる群から選択される酸からのカルボン酸モノマー単位を約１７〜約３０重量％有し、コポリマーの酸基の約１％〜約１００％が、カルボン酸イオンと金属対イオンとを含んでなるカルボン酸塩へと中和され、そして前記金属対イオンが本質的に亜鉛イオンからなるエチレン酸コポリマー樹脂を含んでなる樹脂組成物を約１７５℃〜約２５０℃の温度で押出し、約３０ミル〜約１２０ミルの中間層シートを形成する工程と、（Ｂ）前記中間層シートを、ガラスまたは他の剛性構造材料を含んでなる第２のシートの層に１２０℃未満の温度で積層する工程とを含んでなる積層方法。
【請求項３】
（Ａ）（ａ）アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、モノメチルマレイン酸およびそれらの混合物よりなる群から選択される酸からのカルボン酸モノマー単位を約１７〜約３０重量％有し、コポリマーの酸基の約１％〜約１００％が、カルボン酸イオンと金属対イオンとを含んでなるカルボン酸塩へと中和され、そして前記金属対イオンが本質的に亜鉛イオンからなるエチレン酸コポリマー樹脂と、（ｂ）可塑剤、加工助剤、流動向上添加剤、潤滑剤、顔料、染料、難燃剤、衝撃改質剤、結晶化度を増加させる核剤、シリカなどの抗ブロッキング剤、熱安定剤、ＵＶ吸収剤、ＵＶ安定剤、分散剤、界面活性剤、キレート剤、カップリング剤、接着剤、プライマーおよび蛍光増白剤よりなる群から選択される少なくとも１種の添加剤とから本質的になる樹脂組成物の約３０ミル〜約１２０ミルの中間層シートの第１の層を提供する工程と、（Ｂ）ガラスまたは他の剛性構造材料を含んでなる第２のシートの層を提供する工程と、（Ｃ）前記第１の層を前記第２の層に１２０℃未満の温度で積層する工程とを含んでなる積層方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２３】
積層体は、３０ポンド−インチより大きい剥離接着を有した。
次に、本発明の好ましい態様を示す。
1.  ３〜８個の炭素を有するα，β−不飽和酸よりなる群の酸から選択されるカルボン酸モノマーを約１２〜約３０重量％有するエチレン酸コポリマー樹脂を含んでなり、前記コポリマーの酸基の約１％〜約１００％が、カルボキシレートイオンと金属対イオンとを含んでなるカルボン酸塩へと中和され、そして前記金属対イオンが本質的に亜鉛イオンからなる、安全グレージング用途での使用に適切なエチレン酸コポリマー樹脂組成物。
2.  前記酸基の約１５％〜約４５％が中和されている上記１に記載の組成物。
3.  前記酸基の約２５％〜約４０％が中和されている上記２に記載の組成物。
4.  前記エチレンコポリマーが、約１７〜約２３重量％のカルボン酸モノマーを含んでなる上記２または３に記載の組成物。
5.  ３〜８個の炭素を有するα，β−不飽和酸よりなる群の酸から選択されるカルボン酸モノマーを約１２〜約３０重量％有するエチレン酸コポリマー樹脂を含んでなり、前記コポリマーの酸基の約１％〜約１００％が、カルボキシレートイオンと金属対イオンとを含んでなるカルボン酸塩へと中和され、そして前記金属対イオンが本質的に亜鉛イオンからなる樹脂組成物から得られるシートを少なくとも１層含んでなる物品。
6.  少なくとも１枚のガラスシートをさらに含んでなり、そして前記少なくとも１層のシートが透明で、少なくとも約４０％の光透過率を有する、安全グレージングとしての使用に適切な多層積層体物品である上記５に記載の物品。
7.  前記エチレン酸コポリマーの酸基の約１５％〜約４５％が中和されている上記６に記載の物品。
8.  前記エチレン酸コポリマーの酸基の約２５％〜約４０％が中和されている上記７に記載の物品。
9.  前記エチレンコポリマーが、約１７〜約２３重量％のカルボン酸モノマーを含んでなる上記５〜８のいずれか一項に記載の物品。
10.  ３〜８個の炭素を有するα，β−不飽和酸よりなる群の酸から選択されるカルボン酸モノマーを約１２〜約３０重量％有するエチレン酸コポリマー樹脂を含んでなり、前記コポリマーの酸基の約１％〜約１００％が、カルボキシレートイオンと金属対イオンとを含んでなるカルボン酸塩へと中和され、そして前記金属対イオンが本質的に亜鉛イオンからなる第１のシートの層を、ガラスまたは他の剛性構造材料を含んでなる第２のシートの層に１２０℃未満の温度で積層する工程を含んでなる積層方法。
11.  前記積層が大気圧で実行される上記１０に記載の方法。
12.  １１０℃未満の温度でオートクレーブを使用せずに前記積層が実行される上記１０または１１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月1日(2009.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無可塑高弾性率ポリマーと少なくとも１つのエンボス加工表面とを含む熱可塑性中間層シートまたはフィルムであって、前記エンボス加工表面が、少なくとも２つの平行でない方向の脱気するための比較的連続した溝を提供する表面パターンを含み、前記溝が約０．１〜約１ｍｍ離隔され、約２〜約２５μｍの深さおよび約３０〜約３００μｍの幅を有する、熱可塑性中間層シートまたはフィルム。
【請求項２】
請求項１に記載の熱可塑性中間層シートまたはフィルムとガラス表面とを含む予備積層体。
【請求項３】
請求項１に記載の予備積層体を提供する工程と、熱可塑性中間層シートをガラス表面に積層する工程とを含む、ガラス積層体を作製するための方法。
【請求項４】
前記無可塑高弾性率ポリマーがエチレン酸コポリマーまたはそれから誘導されたイオノマーである、請求項１記載の熱可塑性中間層シートまたはフィルム。
【請求項５】
前記少なくとも１つのエンボス加工表面が、３２μｍ未満の全エリア粗さＡＲt、０．４２〜０．６２のＡＲp／ＡＲtの比、および約５未満のエリアとがりＡＫｕを有する、請求項１記載の熱可塑性中間層シートまたはフィルム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７６】
表3
2009518467.tif 000001
次に、本発明の好ましい態様を示す。
1.  無可塑高弾性率ポリマーと少なくとも１つのエンボス加工表面とを含む熱可塑性中間層シートまたはフィルムであって、前記エンボス加工表面が、少なくとも２つの平行でない方向の脱気するための比較的連続した溝を提供する表面パターンを含み、前記溝が約０．１〜約１ｍｍ離隔され、約２〜約２５μｍの深さおよび約３０〜約３００μｍの幅を有する、熱可塑性中間層シートまたはフィルム。
2.  上記１に記載の熱可塑性中間層シートまたはフィルムとガラス表面とを含む予備積層体。
3.  上記１に記載の予備積層体を提供する工程と、熱可塑性中間層シートをガラス表面に積層する工程とを含む、ガラス積層体を作製するための方法。
4.  前記無可塑高弾性率ポリマーがエチレン酸コポリマーまたはそれから誘導されたイオノマーである、上記１〜３のいずれか一項に記載の熱可塑性中間層シートまたはフィルム、予備積層体または方法。
5.  前記溝の深さが約１４〜約２０μｍである、上記１〜４のいずれか一項に記載の熱可塑性中間層シートまたはフィルム、予備積層体または方法。
6.  前記溝の幅が約４０〜約２５０μｍである、上記３に記載の熱可塑性中間層シートまたはフィルム、予備積層体または方法。
7.  前記少なくとも１つのエンボス加工表面が、３２μｍ未満の全エリア粗さＡＲt、０．４２〜０．６２のＡＲp／ＡＲtの比、および約５未満のエリアとがりＡＫｕを有する、上記１〜６のいずれか一項に記載の熱可塑性中間層シートまたはフィルム、予備積層体または方法。
8.  ＡＲp／ＡＲtの前記比が０．５２〜０．６２である、上記５に記載の熱可塑性中間層シートまたはフィルム。
9.  前記エリアとがりＡＫｕが約２．５未満である、上記５に記載の熱可塑性中間層シートまたはフィルム。
10.  前記熱可塑性中間層シートまたはフィルムの両方の表面が、少なくとも２つの平行でない方向の脱気するための比較的連続した溝を提供するエンボス加工表面パターンを含み、前記溝が約０．１〜１ｍｍ離隔され、約２５μｍ未満の深さおよび約３０〜３００μｍの幅を有する、上記１〜９のいずれか一項に記載の熱可塑性中間層シートまたはフィルム、予備積層体または方法。
11.  前記予備積層体が、前記熱可塑性中間層シートまたはフィルムの対向する面上にガラスの２つの層を含む、上記１〜１０のいずれか一項に記載の予備積層体または方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月4日(2009.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
タンパク質又はペプチドの何れか一つを含む加工された試料を得るために前記タンパク質又はペプチドの何れか一つを含む試料を加工するための方法であり、
前記試料を分離媒体に通過させる段階を含み、前記分離媒体は、カーボンナノチューブの表面に前記タンパク質及びペプチドの何れか一つを結合させるためにカーボンナノチューブを含む、前記方法。
【請求項２】
タンパク質又はペプチドの結合された１つを分離媒体から溶出する段階をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記溶出が、脱着媒体を分離媒体に通過させることにより、カーボンナノチューブからタンパク質又はペプチドの結合された１つを放出させることを含む、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
カーボンナノチューブの多孔性層を含むように構成及び配置された分離媒体を提供する段階をさらに含み、並びに
試料の前記通過が、試料を多孔性層に通過させることを含む、請求項１〜３の何れか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記溶出が、カーボンナノチューブの層からタンパク質又はペプチドの結合された１つを溶出する段階を含む、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
脱着媒体を通過させることが、カーボンナノチューブの層に脱着媒体を通過させ、これにより、カーボンナノチューブの層からタンパク質又はペプチドの結合された１つを放出させることを含む、請求項４に記載の方法。
【請求項７】
試料を通過させる前記段階を実施する前に、適切な溶媒を用いて分離媒体を調製する段階をさらに含む、請求項１〜６の何れか一項に記載の方法。
【請求項８】
分離媒体の前記調製が、分離媒体を含むカーボンナノチューブ材料を酸性水溶液で洗浄することを含む、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
分離媒体のカーボンナノチューブのクロマトグラフィー特性を化学的に修飾する段階をさらに含む、請求項１〜８の何れか一項に記載の方法。
【請求項１０】
カーボンナノチューブが、カーボンナノチューブにタンパク質又はペプチドの特定の１つを選択的に結合するように、分離媒体のカーボンナノチューブのクロマトグラフィー特性を化学的に変化させる段階をさらに含む、請求項１〜８の何れか一項に記載の方法。
【請求項１１】
カーボンナノチューブへのタンパク質又はペプチドの特定の１つの優先的結合が存在するように、分離媒体のカーボンナノチューブのクロマトグラフィー特性を化学的に変化させる段階をさらに含む、請求項１〜８の何れか一項に記載の方法。
【請求項１２】
カーボンナノチューブの表面上に固定化しながら、タンパク質又はペプチドの結合された１つに対して様々な化学操作を実施する段階をさらに含む、請求項１〜８の何れか一項に記載の方法。
【請求項１３】
タンパク質又はペプチドの結合された１つを分離媒体から溶出した後に、タンパク質又はペプチドの結合された１つに対して様々な化学操作を実施する段階をさらに含む、請求項１〜８の何れか一項に記載の方法。
【請求項１４】
前記様々な化学操作の実施が、カーボンナノチューブの表面上に固定化されながら、タンパク質又はペプチドの結合された１つの酵素的消化及び精製を実施することを含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
分離媒体が、その中にカーボンナノチューブが含有される収容部をさらに含み、前記収容部が、ピペット先端、カラム、チューブからなる群から選択される、請求項１〜１４の何れか一項に記載の方法。
【請求項１６】
試料を通過させる前記段階が、カーボンナノチューブ表面との非共有的相互作用の結果、タンパク質及びペプチドの何れか１つがカーボンナノチューブの表面に結合されるように、試料を分離媒体に通過させることを含む、請求項１〜８又は１２〜１５の何れか一項に記載の方法。
【請求項１７】
カーボンナノチューブ及び請求項１〜１６の何れか一項に記載の方法に従って使用するための説明書を含むキット。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月4日(2009.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インスリン関連疾患の治療を必要とする被験体におけるインスリン関連疾患の治療のための組成物であって、該組成物は治療上有効量の医薬的に許容し得る植物産物を含み、該植物産物が、ゲルマクレンＡ、ゲルマクレンＤ、ヨーロッパキイチゴ種子油、ワサビ粉末、ダバナ油、バコパモンニエラ、オレオレジンフェンネルおよびセンテラアジアティカからなる群に由来する化合物または抽出物である、上記組成物。
【請求項２】
インスリン関連疾患の治療を必要とする被験体におけるインスリン関連疾患の治療のための組成物であって、該組成物は、治療上有効量の医薬的に許容し得る植物産物と、被験体のインスリンのレベルまたは感受性を調節するための薬物とを含み、
ａ．該植物産物が、アカシアまたはホップに由来する化合物または抽出物であり；
ｂ．該アカシア由来の植物産物が、アセンヤクノキまたはアラビアゴムモドキに由来し；および
ｃ．該ホップに由来する植物産物が、プレニルフラボノイド（prenylflavonoid）、カルコン、還元イソアルファ酸、ジヒドロイソアルファ酸、テトラヒドロイソアルファ酸、ヘキサヒドロイソアルファ酸、キサントフモール、イソキサントフモール、６−プレニルナリンゲン（prenylnaringen）および８−プレニルナリンゲニンからなる群から選択される、上記組成物。
【請求項３】
インスリン関連疾患の治療を必要とする被験体におけるインスリン関連疾患の治療に使用するキットであって、該キットは、治療上有効量の医薬的に許容し得る植物産物と、被験体のインスリンのレベルまたは感受性を調節するための薬物とを含み、
ａ．該植物産物が、アカシアまたはホップに由来する化合物または抽出物であり；
ｂ．該アカシア由来の植物産物が、アセンヤクノキまたはアラビアゴムモドキに由来し；および
ｃ．該ホップに由来する植物産物が、プレニルフラボノイド、カルコン、還元イソアルファ酸、ジヒドロイソアルファ酸、テトラヒドロイソアルファ酸、ヘキサヒドロイソアルファ酸、キサントフモール、イソキサントフモール、６−プレニルナリンゲンおよび８−プレニルナリンゲニンからなる群から選択される、上記キット。
【請求項４】
インスリン関連疾患の治療を必要とする被験体におけるインスリン関連疾患の治療のための脂肪細胞修飾のための組成物であって、該組成物は、治療上有効量の医薬的に許容し得る植物産物を含み、該植物産物が、アカシアまたはホップに由来する化合物または抽出物であって、
ａ．該アカシア由来の植物産物が、アセンヤクノキまたはアラビアゴムモドキに由来し；および
ｂ．該ホップに由来する植物産物が、プレニルフラボノイド、カルコン、還元イソアルファ酸、ジヒドロイソアルファ酸、テトラヒドロイソアルファ酸、ヘキサヒドロイソアルファ酸、キサントフモール、イソキサントフモール、６−プレニルナリンゲンおよび８−プレニルナリンゲニンからなる群から選択される、上記組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月30日(2009.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
化合物の生合成に関与する遺伝子からのｍＲＮＡ転写物の安定性を増大することによって、微生物における前記化合物の産生を増大するための方法であって、
二本鎖ステムループ形成ＤＮＡが、前記遺伝子の転写の開始部位より７ヌクレオチドまたはそれ以上下流に導入される方法。
【請求項２】
微生物における化合物の産生を増大するためのＤＮＡ安定化エレメントとしての二本鎖ステムループ形成ＤＮＡの使用であって、
前記ＤＮＡが、前記化合物の生合成に関与する遺伝子の転写の開始部位より７ヌクレオチドまたはそれ以上下流に導入される使用。
【請求項３】
微生物における化合物の生合成に関与する遺伝子からのｍＲＮＡ転写物の安定化のための、二本鎖ステムループ形成ＤＮＡの使用。
【請求項４】
化合物が、タンパク質、酵素、ヌクレオチド、リボヌクレオチド、アミノ酸、ビタミン、ビタミン様物質、カロテノイド、脂質および脂肪酸からなる群から選択される、請求項１に記載の方法または請求項２もしくは３に記載の使用。
【請求項５】
二本鎖ステムループ形成ＤＮＡの配列が、ｃｇｇＲ〜ｇａｐＡおよび／またはｈｒｃＡ〜ｇｒｐＥのシストロン間領域の配列から選択される、請求項１もしくは４に記載の方法または請求項２〜４のいずれか１項に記載の使用。
【請求項６】
微生物における化合物の生合成に関与する遺伝子からのｍＲＮＡ転写物の安定化のために導入される前記ＤＮＡが、以下の特性：
少なくとも６塩基対の二本鎖ステム構造および３〜３０ヌクレオチドのヘアピンループ構造と、
−２．８ｋｃｌ／ｍｏｌ以下である前記構造の計算された熱力学的安定性（ΔＧ）とを有する１つ以上のステムループ二次構造を形成する最低１５ヌクレオチドからなる、請求項１、４〜５のいずれか１項に記載の方法または請求項２〜５のいずれか１項に記載の使用。
【請求項７】
前記微生物がバチルス属（Ｂａｃｉｌｌｕｓ）、好ましくは枯草菌（Ｂａｃｉｌｌｕｓ  ｓｕｂｔｉｌｉｓ）である、請求項１、４〜６のいずれか１項に記載の方法または請求項２〜６のいずれか１項に記載の使用。
【請求項８】
前記ＤＮＡの配列が、
（ｉ）枯草菌（Ｂａｃｉｌｌｕｓ  ｓｕｂｔｉｌｉｓ）の天然に存在する遺伝子ｃｇｇＲ〜遺伝子ｇａｐＡの配列、好ましくは遺伝子ｃｇｇＲの３’末端およびｃｇｇＲ遺伝子の終止コドンより１０ヌクレオチド以上下流の配列であり、配列番号１またはその一部によって表される配列
（ｉｉ）枯草菌（Ｂａｃｉｌｌｕｓ  ｓｕｂｔｉｌｉｓ）の天然に存在する遺伝子ｈｒｃＡ〜遺伝子ｇｒｐＥの配列、好ましくはこれらの遺伝子間の配列であり、配列番号３によって表される配列
からなる群から選択される、請求項１、４〜７のいずれか１項に記載の方法または請求項２〜７のいずれか１項に記載の使用。
【請求項９】
前記ＤＮＡの配列が配列番号２または配列番号４である、請求項８に記載の方法または使用。
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月27日(2009.11.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面に近接して細胞のパターンを形成する方法であり、
細胞のパターンの形成を導くための表面を提供する工程と、
磁場を提供する工程と、
該表面に対して第一位置に磁場モジュレータを配置し、該磁場を変調する工程であり、該磁場モジュレータが、該表面に一体的に連結されておらず、該磁場モジュレータが、実質的に類似の高さを有する特徴のパターン、または実質的に異なる高さを有する特徴のパターンを含む、工程と、
細胞の第一の組を含む流体と、該表面とを接触させる工程と、
該実質的に異なる高さを有する特徴のパターンを含む磁場モジュレータを使用して、該表面に近接して実質的に類似の幅を有する細胞の第一パターンを形成する工程、または該実質的に類似の高さを有する特徴のパターンを含む磁場モジュレータを使用して、該表面に近接して実質的に異なる幅を有する細胞の第一パターンを形成する工程であり、該表面に近接した該細胞の第一パターンの位置が、少なくとも部分的に該磁場モジュレータの該第一位置により決定される、工程と
を含む、方法。
【請求項２】
細胞の第二の組を含む流体と、前記表面とを接触させて、該細胞の第二の組の少なくとも一部の第二パターンを該表面上に形成する工程をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記細胞の第二パターンの少なくとも一部が、前記細胞の第一パターンの少なくとも一部の頂部に配置される、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記細胞の第一パターンの少なくとも一つの特徴が、前記細胞の第二パターンの少なくとも一つの特徴から５００ミクロン未満離れている、請求項２に記載の方法。
【請求項５】
前記細胞の第一および第二の組が、異なる特徴を少なくとも一つ有する、請求項２に記載の方法。
【請求項６】
前記細胞の第一および第二の組が、異なる細胞型である、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記細胞の第一および第二の組が、同じ細胞型である、請求項５に記載の方法。
【請求項８】
前記パターン化された細胞を前記表面上に付着させる工程をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
流体と前記表面とを接触させる工程には、該表面を横切って該流体を流す工程が含まれる、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記細胞が、三次元の細胞構造体を形成する、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記三次元の細胞構造体には、組織が含まれる、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記組織には、２以上の型の細胞が含まれる、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記細胞の第一パターンには、寸法が１０ミクロン未満の特徴が少なくとも一つ含まれる、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
前記細胞の第一パターンには、寸法が１００ミクロン未満の特徴が少なくとも一つ含まれる、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
前記表面は可撓性である、請求項１に記載の方法。
【請求項１６】
前記表面は、管状または半管状である、請求項１に記載の方法。
【請求項１７】
表面に近接して細胞のパターンを形成する方法であり、
細胞のパターンの形成を導くための表面を提供する工程と、
磁場を提供する工程と、
該表面に対して第一位置に磁場モジュレータを配置し、該磁場を変調する工程と、
該表面に近接して細胞の第一の組の第一パターンを形成する工程であって、該表面に近接した該第一パターンの位置が、少なくとも部分的に該磁場モジュレータの該第一位置により決定される、工程と、
細胞の第二の組を含む流体と、該表面とを接触させて、該細胞の第二の組の少なくとも一部の第二パターンを該表面上に形成する工程と
を含む、方法。
【請求項１８】
前記磁場モジュレータが、前記表面に一体的に連結されていない、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
表面に近接して細胞のパターンを形成する方法であり、
細胞のパターンの形成を導くための表面を提供する工程と、
磁場を提供する工程と、
該表面に対して第一位置に磁場モジュレータを配置し、該磁場を変調する工程と、
細胞の第一の組を含む流体と、該表面とを接触させる工程と、
該表面に近接して細胞の第一パターンを形成する工程であって、該第一パターンの位置が、少なくとも部分的に該磁場モジュレータの該第一位置により決定される、工程と、
該細胞に、三次元の細胞構造体を形成させる工程と
を含む、方法。
【請求項２０】
前記磁場モジュレータが、前記表面に一体的に連結されていない、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記三次元の細胞構造体には、組織が含まれる、請求項１９に記載の方法。
【請求項２２】
表面に近接して細胞のパターンを形成するための装置であり、
細胞のパターンの形成を導くための表面であり、該表面の少なくとも一部分は湾曲している、表面と、
磁場と、
該磁場および該表面に隣接して配置される磁場モジュレータであり、該表面に一体的に連結されていない、磁場モジュレータと
を含む、装置。
【請求項２３】
前記磁場モジュレータの特徴が互いに対して異なる間隔を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項２４】
前記磁場モジュレータの特徴が磁気感受性である、請求項１に記載の方法。
【請求項２５】
前記表面上に形成された細胞のパターンが、１０ミクロン未満の幅を有する細胞の列を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項２６】
前記磁場モジュレータの表面の少なくとも一部分が湾曲している、請求項１に記載の方法。
【請求項２７】
前記細胞のパターンの形成を導くための表面の少なくとも一部分が湾曲している、請求項１に記載の方法。
【請求項２８】
前記細胞の第一の組の少なくとも一部分が、一次細胞を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項２９】
前記磁場モジュレータの特徴がのこぎりの歯の形を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３０】
前記磁場モジュレータが前記表面の近くに配置されるが該表面と物理的に接触していない、請求項１に記載の方法。
【請求項３１】
マイクロメートル精度を有するステージ装置を使用して前記磁場モジュレータを前記表面に対して移動させることにより、該磁場モジュレータを該表面に対する第二位置に配置する工程をさらに包含する、請求項２に記載の方法。
【請求項３２】
前記細胞の第一パターンが細胞の多層を含む、請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月7日(2009.12.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
単離されたヒトのモノクローナル抗体またはその抗原結合部分であって、該抗体が、
（ａ）ヒトのＰＴＫ７に結合し；かつ、
（ｂ）ウィルムス腫瘍細胞株（ＡＴＣＣアクセッション番号ＣＲＬ−１４４１）に結合する、
抗体またはその抗原結合部分。
【請求項２】
請求項１に記載の単離されたモノクローナル抗体またはその抗原結合部分であって、
（ａ）配列番号１〜４からなる群より選択されるアミノ酸配列を含む、重鎖可変領域；および、
（ｂ）配列番号５〜１０からなる群より選択されるアミノ酸配列を含む、軽鎖可変領域、
を含む、抗体またはその抗原結合部分。
【請求項３】
単離されたモノクローナル抗体またはその抗原結合部分であって、
（ａ）配列番号１〜４からなる群より選択されるアミノ酸配列を含む、重鎖可変領域；および、
（ｂ）配列番号５〜１０からなる群より選択されるアミノ酸配列を含む、軽鎖可変領域、
を含み、ここで、該抗体またはその抗原結合部分はヒトのＰＴＫ７に結合する、抗体またはその抗原結合部分。
【請求項４】
ヒトのＰＴＫ７に結合する、単離されたモノクローナル抗体またはその抗原結合部分であって、
（ａ）配列番号１１〜１４からなる群より選択されるアミノ酸配列を含む重鎖可変領域ＣＤＲ１；
（ｂ）配列番号１５〜１８からなる群より選択されるアミノ酸配列を含む重鎖可変領域ＣＤＲ２；
（ｃ）配列番号１９〜２２からなる群より選択されるアミノ酸配列を含む重鎖可変領域ＣＤＲ３；
（ｄ）配列番号２３〜２８からなる群より選択されるアミノ酸配列を含む軽鎖可変領域ＣＤＲ１；
（ｅ）配列番号２９〜３４からなる群より選択されるアミノ酸配列を含む軽鎖可変領域ＣＤＲ２；および、
（ｆ）配列番号３５〜４０からなる群より選択されるアミノ酸配列を含む軽鎖可変領域ＣＤＲ３
を含む、単離された抗体またはその抗原結合部分。
【請求項５】
モノクローナル抗体またはその抗原結合部分であって、
（ａ）配列番号４のアミノ酸配列を含む重鎖可変領域および／または配列番号１０のアミノ酸配列を含む軽鎖可変領域；
（ｂ）配列番号１のアミノ酸配列を含む重鎖可変領域および／または配列番号５のアミノ酸配列を含む軽鎖可変領域；
（ｃ）配列番号１のアミノ酸配列を含む重鎖可変領域および／または配列番号６のアミノ酸配列を含む軽鎖可変領域；
（ｄ）配列番号２のアミノ酸配列を含む重鎖可変領域および／または配列番号７のアミノ酸配列を含む軽鎖可変領域；
（ｅ）配列番号３のアミノ酸配列を含む重鎖可変領域および／または配列番号８のアミノ酸配列を含む軽鎖可変領域；および、
（ｆ）配列番号３のアミノ酸配列を含む重鎖可変領域および／または配列番号９のアミノ酸配列を含む軽鎖可変領域；
を含み、ここで、該抗体またはその抗原結合部分は、ヒトのＰＴＫ７に結合する、モノクローナル抗体またはその抗原結合部分。
【請求項６】
ヒトのＰＴＫ７への結合について請求項４に記載の抗体と競合する、単離されたモノクローナル抗体またはその抗原結合部分。
【請求項７】
治療剤に結合している請求項１〜５のいずれか１項に記載の抗体またはその抗原結合部分を含む、免疫結合体。
【請求項８】
前記治療剤が細胞毒素または放射性同位元素である、請求項７に記載の免疫結合体。
【請求項９】
配列番号１、配列番号２、配列番号３、配列番号４、配列番号５、配列番号６、配列番号７、配列番号８、配列番号９または配列番号１０を含む、抗体またはその抗原結合部分の可変領域をコードする、単離された核酸分子。
【請求項１０】
請求項９に記載の核酸分子を含む、発現ベクター。
【請求項１１】
請求項１０に記載の発現ベクターを含む、宿主細胞。
【請求項１２】
抗ＰＴＫ７抗体を調製するための方法であって、請求項１１に記載の宿主細胞において該抗体を発現する工程、および、該宿主細胞から該抗体を単離する工程を含む、方法。
【請求項１３】
ヒトのＰＴＫ７を発現する腫瘍細胞の増殖によって特徴づけられる疾患の治療または予防のための組成物であって、請求項１〜５のいずれか１項に記載の抗体またはその抗原結合部分を、該疾患を治療または予防するために有効な量において含む、組成物。
【請求項１４】
前記疾患が癌である、請求項１３に記載の組成物。
【請求項１５】
前記癌が、結腸癌、肺癌、乳癌、すい臓癌、メラノーマ、急性骨髄性白血病、腎臓癌、膀胱癌、卵巣癌、および前立腺癌からなる群より選択される、請求項１４に記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月9日(2009.12.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一つのブリスタパックの開いたブリスタポケットから薬剤粉末を送達するのに適した薬剤ディスペンサ装置であって、
(a)ハウジングと、
(b)前記ハウジングに設けられた空気入口と、
(c)前記ハウジングによって閉じ込められた、それによって受入れ可能な少なくとも一つのブリスタパックの開いたブリスタポケットから薬剤粉末を分配する分配メカニズムと、
(d)前記分配メカニズムと関連付けられ、前記空気入口と連通しているマニホルドとを備え、前記マニホルドが、
(i)本体を備え、
(ii)前記本体が、チムニー入口からチムニー出口に気流を方向付けるため、前記チムニー入口及び前記チムニー出口を有するチムニーを規定し、
(iii)前記本体が、チャンバ入口及びチャンバ出口を有するチャンバをさらに規定し、
(iv)前記ブリスタパックの前記開いたブリスタポケットが前記チムニー出口及び前記チャンバ入口に隣接して位置付けられたとき、前記気流が、前記開いたブリスタポケットを介して前記チムニー出口から前記チャンバ入口に方向付けられて、前記薬剤粉末を取り込み、かつ前記気流中の前記薬剤粉末を前記チャンバ入口から前記チャンバ出口に運搬することができるように、前記チムニー出口及び前記チャンバ入口が互いに並んで位置し、
前記ディスペンサ装置を患者が吸入によって使用する間、前記ハウジングに設けられた前記空気入口のみを通して、前記気流が前記マニホルドの前記チムニーに引き込まれる、薬剤ディスペンサ装置。
【請求項２】
前記ハウジングがシェルの半割り部分二つの噛み合うアセンブリを備える、請求項１に記載の薬剤ディスペンサ装置。
【請求項３】
前記空気入口が保護グリルを備える、請求項１又は２のいずれか一項に記載の薬剤ディスペンサ装置。
【請求項４】
前記マニホルドチムニー入口が、前記空気入口と並列の関係で設けられた請求項１から３のいずれか一項に記載の薬剤ディスペンサ装置
【請求項５】
前記ハウジングが、前記空気入口を除いて、空気がその中に入ることに対する比較的気密の障壁となる、請求項１から４のいずれか一項に記載の薬剤ディスペンサ装置。
【請求項６】
前記空気入口を通して前記マニホルドの前記チムニーに引き込まれる前記気流の一部のみが、前記チムニー出口を介して前記開いたブリスタポケットに向けられる、前記請求項のいずれか一項に記載の薬剤ディスペンサ装置。
【請求項７】
前記チムニーと前記チャンバの間に一つ又は複数のブリード穴が設けられて、前記気流の一部（流出気流）が前記一つ又は複数のブリード穴を通して前記チャンバ内に向けられて、取り込まれた前記薬剤粉末を運搬する前記気流の一部に破裂的に衝撃を与える、請求項６に記載の薬剤ディスペンサ装置。
【請求項８】
前記マニホルドが、マウスピースと前記分配メカニズムの中間の位置で前記ハウジング内に位置する、請求項１から７のいずれか一項に記載の薬剤ディスペンサ装置。
【請求項９】
前記分配メカニズムが、それによって受入れ可能な複数のブリスタパックそれぞれの開いたブリスタポケットから薬剤粉末を送達するためのものであり、前記マニホルドがチムニー出口及びチムニー入口の対を複数備え、前記対がそれぞれ、前記複数のブリスタパックのうち一つの開いたブリスタポケットと関連付けられた、請求項１から８のいずれか一項に記載の薬剤ディスペンサ装置。
【請求項１０】
前記空気入口の断面積が、吸入による使用の際、前記気流が前記マニホルドを通ってその中に引き込まれる前記マニホルドの任意の部分の断面積よりも大きい、請求項１から９のいずれか一項に記載の薬剤ディスペンサ装置。
【請求項１１】
前記又は各チムニー出口及び/若しくはチャンバ入口が、本質的に円形の輪郭を規定し、1から7mmの直径を有する、請求項１から１０のいずれか一項に記載の薬剤ディスペンサ装置。
【請求項１２】
前記又は各チムニー出口及び/若しくはチャンバ入口が、前記本質的に円形の輪郭にまたがるクロスピースを備える、請求項１１に記載の薬剤ディスペンサ装置。
【請求項１３】
前記一つ又は複数のブリード穴が、互いに平行に配置された二つの細長いスロット状のブリード穴を有する、請求項７又は請求項７に従属する場合の請求項８から請求項１２に記載の薬剤ディスペンサ装置。
【請求項１４】
前記一つ又は複数のブリード穴の少なくとも一つが、前記チャンバの内壁の方向に向けられた、請求項８、又は請求項８に従属する場合の請求項９から１３のいずれか一項に記載の薬剤ディスペンサ装置。
【請求項１５】
前記マニホルドが高密度ポリエチレンから造られた、請求項１から１４のいずれか一項に記載の薬剤ディスペンサ装置。
【請求項１６】
前記マニホルドが、全体的に又は部分的に、フルオロポリマー材料でコーティングされた、及び/又は該材料から成る、請求項１から１５のいずれか一項に記載の薬剤ディスペンサ装置。
【請求項１７】
前記フルオロポリマー材料が、テトラフルオロエチレン(PTFE)、フッ化エチレンプロピレン(FEP)、過フルオロアルコキシアルカン(PFA)、エチレンテトラフルオロエチレン(ETFE)、フッ化ビニルジエン(PVDF)、塩素化エチレンテトラフルオロエチレン、及びそれらの任意の混合物から成る群から選択された、一つ又は複数のモノマー単位を倍数含む、請求項１６に記載の薬剤ディスペンサ装置。
【請求項１８】
薬剤製品を分配するための、請求項１から１７のいずれか一項に記載の薬剤ディスペンサ装置の使用法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月19日(2009.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
図２は、端面７の断面図である。端面は、光源１７からの光を受光するようになっている光学素子１１を含む。光学素子１１は、プリズム１５を備え、かつ第２の光学素子１２から光学素子１１を隔てる隙間すなわちチャネル１３によって境界づけられており、この第２の光学素子は、患者の喉領域（または他の関心領域）からの反射光を受光し、かつカメラ１９にこの光を伝送するようになっている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
この例においては、反射光がカメラ１９によって受光される領域の前方の端面７に対して、光が発光される領域の位置を定めるために、わずかなキャスタレーションが使用されている。さらに、光学素子１１は、カメラの前方を横切る光の伝送レベルを低減させる隙間すなわちチャネル１３によって、境界づけられている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
本発明のこの例においては、カメラ１９によって受信される信号に影響を与える周辺光または散乱光のレベルが、端面５１を越えたところのポイント６０に光の焦点を合わせる収束レンズを使用することにより低減され、光線は、その後広がって患者の関心領域に入射する光量を最大にする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
図８ａおよび図８ｂは、光学素子１１８を通って光を伝送または受光するように構成された、光源または画像キャプチャ装置１１９を図示している。図８ａでは、伝送または受光される自然の光線１１４は、ターゲット１２０を照らすのに必要な最適光線１１５より幅が狭い。図８ｂにおいて、伝送または受光される自然の光線１１６は、最適光線１１５より幅が広い。図８ａでは、ターゲット１２０のかなりの領域が、照明も撮像もされない。図８ｂでは、ターゲット１２０の照明または撮像は、照明または画像のかなりの量がターゲット１２０の外側にきてしまうので、非効率的である。
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月20日(2009.11.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
OX40細胞外ドメインのアミノ酸配列中のエピトープと特異的に結合する単離または精製された抗体であって、該抗体がヒト抗体、ヒト化抗体またはキメラ抗体を含み、かつ該抗体がOX40アンタゴニスト活性を有する、前記抗体。
【請求項２】
前記OX40細胞外ドメインのアミノ酸配列中のエピトープが、
MCVGARRLGRGPCAALLLLGLGLSTVTGLHCVGDTYPSNDRCCHECRPGNGMVSRCSRSQNTVCRPCGPGFYNDVVSSKPCKPCTWCNLRSGSERKQLCTATGDTVCRCRAGTQPLDSYKPGVDCAPCPPGHFSPGDNQACKPWTNCTLAGKHTLQPASNSSDAICEDRDPPATQPQETQGPPARPITVQPTEAWPRTSQGPS（配列番号50）
として記載される配列内に存在する、請求項１に記載の抗体。
【請求項３】
OX40細胞外ドメインのアミノ酸配列中のエピトープと特異的に結合する単離または精製された抗体であって、該抗体が、112F32、112V8、112Y131、112Y55、または112Z5として示されるハイブリドーマ細胞系によって産生される抗体が結合するアミノ酸配列と結合するヒト抗体、ヒト化抗体またはキメラ抗体を含む、前記抗体。
【請求項４】
112F32、112V8、112Y131、112Y55、または112Z5として示されるハイブリドーマ細胞系によって産生される抗体の約1〜5000倍の範囲内でOX40結合親和性を有する、単離または精製された抗体。
【請求項５】
112F32、112V8、112Y131、112Y55、または112Z5として示されるハイブリドーマ細胞系によって産生される抗体の結合特異性を有し；あるいはOX40との結合について112F32、112V8、112Y131、112Y55、または112Z5として示されるハイブリドーマ細胞系によって産生される抗体と競合する、請求項１、請求項３、または請求項４のいずれか一項に記載の抗体。
【請求項６】
112V8、112Y55およびY131のものとして示されるハイブリドーマ細胞系と同じエピトープと結合し、OX40リガンド(OX40L)とのOX40の結合を85%以上阻害または阻止する、請求項１に記載の抗体。
【請求項７】
112F32、112V8、112Y131、112Y55、または112Z5として示されるハイブリドーマ細胞系によって産生される、請求項１に記載の抗体。
【請求項８】
ELISAアッセイによって決定されるように、112F32、112V8、112Y131、112Y55、または112Z5として示されるハイブリドーマ細胞系によって産生される抗体のOX40との結合を阻害または阻止する、請求項１、請求項３、または請求項４のいずれか一項に記載の抗体。
【請求項９】
ELISAアッセイによって決定されるように、112F32、112V8、112Y131、112Y55、または112Z5として示されるハイブリドーマ細胞系によって産生される抗体のOX40との結合の少なくとも50%を阻害する、請求項１、請求項３、または請求項４のいずれか一項に記載の抗体。
【請求項１０】
配列番号7〜10および配列番号44〜49で示される成熟重鎖および軽鎖可変領域配列を含む、請求項１に記載の抗体またはその抗体断片。
【請求項１１】
前記抗体断片が、Fab、Fab'、F(ab')2、Fv、Fd、単鎖Fv(scFv)、ジスルフィド結合Fv(sdFv)およびVLまたはVHから選択される、請求項１０に記載の抗体断片。
【請求項１２】
前記活性がOX40シグナル伝達を阻害することを含む、請求項１に記載の抗体。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか一項に記載の抗体と、製薬上許容される担体または賦形剤とを含む、医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月1日(2009.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
抗原に対して特異的なT細胞受容体（TCR）をコードするRNAで一過性にトランスフェクトされたエフェクターT細胞を含む組成物であって、この場合において該T細胞は、MHC分子と複合体化した抗原を提示する細胞に対して特異的なエフェクター機能を示す、前記組成物。
【請求項２】
抗原が、腫瘍抗原、病原体抗原、又は自己抗原である、請求項１の組成物。
【請求項３】
（i）抗原が腫瘍抗原であって、好ましくは該腫瘍は腎細胞癌、メラノーマ、慢性リンパ球性白血病、乳癌、肺癌、前立腺癌、卵巣癌、又は結腸癌である、及び／又は抗原がMART-1、MAGE-1、MAGE-3、gp75、MDM2、チロシナーゼ、テロメラーゼ、gp100、サバイビン（survivin）、アルファ-1フェトプロテイン、G250、又はNY-ESO-1であるか；
（ii）抗原が病原体抗原であって、好ましくは該病原体はHIV又はHCVである、
請求項２の組成物。
【請求項４】
（i）エフェクター機能が、IL-2分泌、TNFα分泌、TNFβ分泌、インターフェロン-γ（INF-γ）分泌、細胞傷害性、及び制御性エフェクター機能からなる群から選択される、一またはそれ以上の機能であるか；又は
（ii）T細胞がCD8+であり、好ましくはTCRがMHCクラスI拘束性である、又はTCRがMHCクラスII拘束性である、又はエフェクター機能が細胞傷害性であるか；又は
（iii）T細胞がCD4+であり、好ましくはTCRがMHCクラスI拘束性である、又はTCRがMHCクラスII拘束性である、又はエフェクター機能がマクロファージの活性化及び／又はB細胞の活性化である、又はT細胞がFoxP3をコードするRNAで一過性にトランスフェクトされているか；又は
（iv）前記T細胞をエレクトロポレーション後に凍結保存するか；又は
（v）前記TCRが一本鎖TCR（scTCR）であるか；
（vi）前記TCRがキメラ非MHC拘束性TCRであるか；又は
（vii）前記TCRが、細胞外ドメイン、膜貫通ドメイン及び細胞内ドメインを含むキメラポリペプチドであり、そして好ましくは細胞内ドメインがFc受容体又はCD3ゼータ鎖由来のシグナル伝達ドメインを含有し、そして好ましくは細胞外ドメインが抗原特異的scFvである、
請求項１の組成物。
【請求項５】
CD4+ T細胞が
（i）制御性T細胞（Treg）であり、好ましくはエフェクター機能が制御性エフェクター機能であり、最も好ましくは制御性機能がIL-10分泌及び／又はTGF-β分泌である、又は該TregがCD4+CD25+である、又はT細胞がFoxP3+である、又は前記TCRが自己抗原に対して特異的であるか；又は
（ii）TH1細胞であるか；又は
（iii）TH2細胞である、
請求項４の組成物。
【請求項６】
免疫療法のための医薬の生産のための、請求項１〜５のいずれか一項の組成物の使用。
【請求項７】
精製CD8+ T細胞又は精製CD4+ T細胞を含む組成物を、抗原に対して特異的なTCR受容体をコードするRNAを用いてエレクトロポレーションすることを含む、T細胞に新規の抗原特異性を付与する方法。
【請求項８】
（i）T細胞を、磁気分離法（magnetic sorting）によって精製するか；又は
（ii）精製T細胞が、組成物中にある全T細胞の少なくとも75%を含み、好ましくは組成物中にある全T細胞の少なくとも90%を含むか；又は
（iii）精製T細胞が、エレクトロポレーションの前に、フィトヘマグルチニン（PHA）又はOKT3によってin vitroで刺激されていないか；又は
（iv）精製T細胞が、エレクトロポレーションの前に、増殖するよう刺激されており、好ましくは精製T細胞がPHA及び／又はOKT3で刺激されるか；又は
（v）T細胞を、制御性T細胞からの分離によって精製するか；又は
（vi）T細胞を、矩形波パルスを使用して100 V/mm〜150 V/mmの電界強度で2〜10 msエレクトロポレーションする、
請求項７の方法。
【請求項９】
休止期T細胞を、抗原に対して特異的なTCRをコードするRNAを用いてエレクトロポレーションすることを含む、T細胞に新規の抗原特異性を付与する方法。
【請求項１０】
（i）休止期T細胞が、精製CD8+ T細胞又は精製CD4+ T細胞のいずれかであるか；又は
（ii）該細胞を磁気分離法によって精製するか；又は
（iii）T細胞を、矩形波パルスを使用して100 V/mm〜150 V/mmの電界強度で2〜10 msエレクトロポレーションする、
請求項９の方法。
【請求項１１】
エレクトロポレーションの前にPHA又はOKT3によってin vitroで刺激されていないT細胞を、RNAを用いて、矩形波パルスを使用して100 V/mm〜150 V/mmの電界強度で2〜10 msエレクトロポレーションすることを含む、T細胞を一過性にトランスフェクトする方法。
【請求項１２】
（i）前記T細胞が、精製CD8+ T細胞であるか；又は
（ii）前記T細胞が、精製CD4+ T細胞であり、好ましくはT細胞が精製制御性T細胞であるか；又は
（iii）RNAがFoxP3をコードする、
請求項１１の方法。
【請求項１３】
請求項９〜１２のいずれか一項の方法で生産されるT細胞。
【請求項１４】
免疫療法のための医薬の生産のための、請求項１３のT細胞の使用。
【請求項１５】
抗原に対して特異的なTCRをコードするRNAを用いて一過性にトランスフェクトされたT細胞を投与することを含む、被験者に抗原特異的T細胞エフェクター機能を提供する方法であって、この場合において該T細胞は、MHC分子と複合体化した抗原を提示する細胞に対して特異的なエフェクター機能を示す、前記方法。
【請求項１６】
（i）エフェクター機能が細胞傷害性であるか；又は
（ii）抗原が腫瘍特異的であり、好ましくは投与が腫瘍内注入によるか；又は
（iii）抗原が病原体特異的であるか；又は
（iv）T細胞が、被験者について自己由来のものである、
請求項１５の方法。
【請求項１７】
CD4+ T細胞を、FoxP3をコードする核酸を用いてトランスフェクトすることを含む、Treg細胞を作製する方法。
【請求項１８】
核酸がmRNAである、請求項１７の方法。
【請求項１９】
FoxP3をコードする外来性RNAを含み、及び／又は請求項１７又は１８の方法によって生産される、Treg細胞。
【請求項２０】
免疫療法のための医薬の生産のための、請求項１９のTreg細胞の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月25日(2009.11.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも三つの段階相から成る圧縮可能で自己膨張性のステント（１０）であって、
遠端の機能相（１７）、近端の機能相（１９）及び転移相（１８）が設けられ、
遠端相（１７）の膨張程度が近端相（１９）の膨張程度より大きく、
機能相（１７、１９）及び／又は転移相（１８）が少なくとも一つの編組及び／又は織物及び／又は中間膜付きスクリムから成り、
転移相（１８）において、少なくとも二本のワイヤ、繊維又は糸が互いに加撚されていることを特徴とする、
圧縮可能で自己膨張性のステント。
【請求項２】
ステント（１０）が網状構造及び／又は多数の開口を備え、転移相（１８）の開口が機能相（１７、１９）の開口より大きいことを特徴とする請求項１に記載のステント。
【請求項３】
ステントを作るためのワイヤ、繊維又は糸の直径が、０．００１ｍｍ〜２ｍｍであるか、０．０５ｍｍ〜０．５ｍｍであるか、又は０．１ｍｍ〜０．２ｍｍであることを特徴とする請求項１又は２のいずれかに記載のステント。
【請求項４】
ステントが、形状記憶材料から成ることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のステント。
【請求項５】
ステントが、バイオ相容性の形状記憶材料、特に金属又は金属合金、特にステンレス鋼又はニチノール又は特にプラスチック、モノファイル及び／又はマルチファイル及び／又は複合ガラス繊維のような別のバイオ相容性の材料から成ることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載のステント。
【請求項６】
端部（２０）が、複数の専用に閉じた端部を備えていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載のステント。
【請求項７】
近端部（２１）における少なくとも一つの開放端部が接続要素（１１）にしっかりと固定されることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載のステント。
【請求項８】
遠端部（２０）が、１２、１８、又は２４個の閉じた端部を備えていることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載のステント。
【請求項９】
ステントの材料が、被膜、特にバイオ相容性の被膜、ヘパリン、ニチノールの炭化、ナノ技術被膜、防Ｘ線粒子、活性物質除去被膜、好ましく微孔質のバイオ技術又はその他の被膜を備えていることを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載のステント。
【請求項１０】
長手方向に丸くなった端部をもつ圧縮可能でかつ自己膨張性の編組及び／又は織物及び／又は中間膜付きスクリムの製造方法において、単一若しくは二本のワイヤ、繊維又は糸が、編組及び／又は織物及び／又は中間膜付きスクリム内を直接回って後方に案内されることを特徴とする方法。
【請求項１１】
鼻を通して挿入でき、チューブ内に圧縮でき、しかも自己膨張性であり、通気道を開いた状態に副木固定及び／又は保持する少なくとも一つのステント（１０）を用いて、人又は動物の体内の腔、器官経路、及び／又は管を開口状態で支持、及び／又は保持する装置であって、特に鼾及び睡眠時無呼吸を治療する装置において、
使用前にステントが引込まれるチューブ（１４）を有し、装置を使用部位まで鼻内に挿入した後、チューブから鼻から引き出してステントをチューブから外すことによってステントが膨張して、少なくともステントの遠端部の領域で通気道の内壁に対して装着することを特徴とする装置。
【請求項１２】
ステント（１０）が、請求項１〜９のいずれか一項に記載のステントであることを特徴とする請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
ステント（１０）の遠端相（１７）の長さが０．５ｃｍ〜２０ｃｍであり、チューブ（１４）の長さが０．５ｃｍ〜５０ｃｍであり、またステント（１０）の全長が２ｃｍ〜５０ｃｍであるか、又は、
ステント（１０）の遠端相（１７）の長さが１ｃｍ〜１０ｃｍであり、チューブ（１４）の長さが１０ｃｍ〜３５ｃｍであり、またステント（１０）の全長が１０ｃｍ〜３５ｃｍであることを特徴とする請求項１１又は１２記載の装置。
【請求項１４】
少なくとも一つのステントの近端部が、接続要素（１１、１２）を介して引張り要素に接続され得、引張り要素（１３）が少なくとも一つのステントをチューブ（１４）内へ引き込むのに用いられ得ることを特徴とする請求項１１〜１３のいずれか一項に記載の装置。