(57)【要約】  本発明は、日焼け止め組成物の布帛汚れを低減するための、ドロメトリゾールトリシロキサンの使用に関する。更に、本発明は、日焼け止め組成物の布地からの洗浄性を促進するための、ドロメトリゾールトリシロキサンの使用に関する。更に、本発明は、とりわけドロメトリゾールトリシロキサンを含む日焼け止め組成物に関する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
日焼け止め組成物の布帛汚れを低減するための、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)の使用。
【請求項２】
日焼け止め組成物の布地からの洗浄性を促進するための、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)の使用。
【請求項３】
日焼け止め組成物が、日焼け止め組成物の紫外線防御指数の少なくとも3分の1であるUV-A防御を有し、且つ/又は少なくとも370nmの臨界波長を示す、請求項1又は2に記載の使用。
【請求項４】
日焼け止め組成物が、少なくとも1種の更なるUV-Aフィルターを含む、請求項1から3のいずれか一項に記載の使用。
【請求項５】
少なくとも1種の更なるUV-Aフィルターが、トリアジン誘導体、ベンゾトリアゾール誘導体、ベンゾフェノン誘導体、ジベンゾイルメタン誘導体、ショウノウ誘導体、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項4に記載の使用。
【請求項６】
少なくとも1種の更なるUV-Aフィルターが、4-(tert.-ブチル)-4'-メトキシジベンゾイルメタン(INCIブチルメトキシジベンゾイルメタン)、ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイルヘキシルベンゾエート)、2,4-ビス-{[4-(2-エチル-ヘキシルオキシ)-2-ヒドロキシ]-フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5トリアジン(INCIビス-エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン)、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項4又は5に記載の使用。
【請求項７】
2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)が、日焼け止め組成物の総重量に基づいて0.2〜15重量%、好ましくは0.5〜5重量%、より好ましくは1〜3重量%の量で日焼け止め組成物中に存在する、請求項1から6のいずれか一項に記載の使用。
【請求項８】
日焼け止め組成物が、少なくとも1種の微粒子UVフィルターを更に含み、好ましくは少なくとも1種の微粒子UVフィルターが、2,2'-メチレンビス[6-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)フェノール](INCIメチレンビス-ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール)、2,4,6-トリス(ビフェニル-4-イル)-1,3,5-トリアジン(INCIトリスビフェニルトリアジン)、1,1'-(1,4-ピペラジンジイル)ビス[1-[2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]フェニル]-メタノン(INCIビス-(ジエチルアミノヒドロキシベンゾイルベンゾイル)ピペラジン)、5,6,5',6'-テトラフェニル-3-3'-(1,4-フェニレン)ビス(1,2,4-トリアジン)(INCIフェニレンビス-ジフェニルトリアジン)、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される有機微粒子UVフィルター、二酸化チタン、酸化亜鉛、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される無機微粒子UVフィルター、又は任意の前記有機及び無機微粒子UVフィルターの組み合わせである、請求項1から7のいずれか一項に記載の使用。
【請求項９】
日焼け止め組成物が、[(3Z)-3-[[4-[(Z)-[7,7-ジメチル-2-オキソ-1-(スルホメチル)-3-ビシクロ[2.2.1]ヘプタニリデン]メチル]フェニル]メチリデン]-7,7-ジメチル-2-オキソ-1-ビシクロ[2.2.1]ヘプタニル]メタンスルホン酸(INCIテレフタリリデンジショウノウスルホン酸)、2-フェニル-1H-ベンゾイミダゾール-5-スルホン酸(INCIフェニルベンゾイミダゾールスルホン酸)、二ナトリウムフェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホネート、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される少なくとも1種の水溶性UVフィルターを更に含む、請求項1から7のいずれか一項に記載の使用。
【請求項１０】
日焼け止め組成物が、少なくとも1種のUVフィルターを更に含み、少なくとも1種の更なるUV-Bフィルターが、4,4',4''-(1,3,5-トリアジン-2,4,6-トリイルトリイミノ)トリス-安息香酸-トリス(2-エチルヘキシル)エステル(INCIエチルヘキシルトリアゾン)、(RS)-2-エチルヘキシル-2-ヒドロキシベンゾエート(INCIエチルヘキシルサリチレート)、3,3,5-トリメチル-シクロヘキシルサリチレート(ホモサレート)、2-エチルヘキシル2-シアノ-3,3-ジフェニル-2-プロペノエート(INCIオクトクリレン)、(RS)-2-エチルヘキシル-(2E)-3-(4-メトキシフェニル)プロパ-2-エノエート(INCIエチルヘキシルメトキシシンナメート)、4-メトキシケイ皮酸2-エチルヘキシルエステル(INCIエチルヘキシルメトキシシンナメート)、マロネート誘導体、例えばジメチコンジエチルベンザルマロネート、ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項1から9のいずれか一項に記載の使用。
【請求項１１】
(i)2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)、
(ii)ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイルヘキシルベンゾエート)、
(iii)4,4',4''-(1,3,5-トリアジン-2,4,6-トリイルトリイミノ)トリス-安息香酸-トリス(2-エチルヘキシル)エステル(INCIエチルヘキシルトリアゾン)、及び
(iv)(RS)-2-エチルヘキシル-2-ヒドロキシベンゾエート(INCIエチルヘキシルサリチレート)
を含む日焼け止め組成物。
【請求項１２】
少なくとも1種の更なるUVフィルターを含み、前記少なくとも1種の更なるUVフィルターが、好ましくは2,4-ビス-{[4-(2-エチル-ヘキシルオキシ)-2-ヒドロキシ]-フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5トリアジン(INCIビス-エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン)である、請求項11に記載の日焼け止め組成物。
【請求項１３】
少なくとも1種の更なるUVフィルターである2,4-ビス-{[4-(2-エチル-ヘキシルオキシ)-2-ヒドロキシ]-フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5トリアジン(INCIビス-エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン)が、日焼け止め組成物の総重量に基づいて0.1〜2.8重量%の量で日焼け止め組成物中に存在する、請求項11又は12に記載の日焼け止め組成物。
【請求項１４】
2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)が、0.1〜15重量%の量で日焼け止め組成物中に存在する、請求項11から13のいずれか一項に記載の日焼け止め組成物。
【請求項１５】
ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイルヘキシルベンゾエート)が、0.1〜10重量%の量で存在する、請求項11から14のいずれか一項に記載の日焼け止め組成物。
【請求項１６】
4,4',4''-(1,3,5-トリアジン-2,4,6-トリイルトリイミノ)トリス-安息香酸-トリス(2-エチルヘキシル)エステル(INCIエチルヘキシルトリアゾン)が、日焼け止め組成物の総重量に基づいて0.1〜5重量%、好ましくは0.5〜3重量%の量で存在する、請求項11から15のいずれか一項に記載の日焼け止め組成物。
【請求項１７】
(RS)-2-エチルヘキシル-2-ヒドロキシベンゾエート(INCIエチルヘキシルサリチレート)が、日焼け止め組成物の総重量に基づいて0.1〜5重量%の量で存在する、請求項11から16のいずれか一項に記載の日焼け止め組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、日焼け止め組成物の布帛汚れを低減するための、ドロメトリゾールトリシロキサンの使用に関する。更に、本発明は、日焼け止め組成物の布地からの洗浄性を促進するための、ドロメトリゾールトリシロキサンの使用に関する。更に、本発明は、とりわけドロメトリゾールトリシロキサンを含む日焼け止め組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
UV照射は、ヒトの皮膚に有害な影響を及ぼす。皮膚の日焼けの重大な影響に加えて、UV照射は皮膚がんのリスクを増大させることでも知られる。更に、UV-A及びUV-B光への長時間曝露は、皮膚に光毒性及び光アレルギー性の反応を起こし得て、皮膚老化を加速し得る。
【０００３】
ヒトの皮膚をUV照射から防御するために、UV-Aフィルター、UV-Bフィルター及び広帯域フィルターを含む、様々な日光防御UVフィルター(UV吸収剤とも呼ばれる)が存在する。これらのフィルターは、日焼け止め又は化粧料組成物に添加される。UVフィルターは有機化合物又は無機化合物のいずれかであり、UV光領域において高い吸収効力を有する。一般に、UV光は、UV-A照射及びUV-B照射に分けることができる。吸収極大の位置に応じて、UVフィルターはUV-Aフィルター及びUV-Bフィルターに分けられる。1種のUVフィルターがUV-A光及びUV-B光の両方を吸収する場合、それは広帯域吸収剤と呼ばれる。
【０００４】
2006年以降、EU委員会は、全ての日焼け止め又は化粧料組成物がUV-A防御指数を有するように推奨しており、これはラベルに明示された紫外線防御指数(SPF)の少なくとも3分の1であり、ここで紫外線防御指数とは主にUV-B防御を指す。
【０００５】
しかしながら、日焼け止め又は化粧料組成物におけるUV-Aフィルター及び広帯域フィルターの使用は、ある種の欠点を有する。詳細には、日焼け止め又は化粧料組成物は、布帛又は布地に付着し、布帛汚れを起こす場合がある。水中でのフィルターの低溶解度を考慮すると、生じた汚れは布帛の洗浄中に除去することが困難である。
【０００６】
したがって、UV-A防御を低減することなく、布帛汚れを低減し、且つ/又は日焼け止め組成物の布地からの洗浄性を促進することが所望される。
【０００７】
DE10 2014 207 919 A1は、ある特定のキレート剤と組み合わせたビス-エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジンを含む、布帛汚れが低減される日焼け止め組成物を開示している。
【０００８】
DE10 2014 207 916 A1は、ある特定のキレート剤と組み合わせたブチルメトキシジベンゾイルメタンを含む、布帛汚れが低減される日焼け止め組成物を開示している。
【０００９】
対照的に、DE10 2014 207 935 A1は、概して、キレート剤と組み合わせてより少ない布帛汚れを示す日焼け止め組成物に関する。
【００１０】
DE10 2014 207 924 A1は、布帛汚れを低減するための、日焼け止め組成物中においてある特定のキレート剤と組み合わせたUVフィルターのジエチルアミノヒドロキシベンゾイルヘキシルベンゾエート。
【００１１】
EP2 939 710 A1は、日焼け止めにより引き起こされる布汚れの持続性を低減する方法を開示しており、それによると二ナトリウムフェニルベンゾイミダゾールテトラスルホン酸及び/又はその塩を含む化粧品及び/又は医薬調製物が主眼となる。
【００１２】
EP3 150 190 A1は、布帛汚れを低減するための、ピロクトン及び又はその塩を含む日焼け止め組成物を開示している。
【００１３】
EP3 153 151 A1は、布帛汚れの低減を示す日焼け止め組成物に関し、それによると、該日焼け止め組成物はtert-ブチル-メトキシジベンゾイルメタン及び少なくとも2種の添加剤を含む。
【００１４】
EP3 150 258 A1は、布帛汚れを低減するための、ビス-エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン及びピロクトンを含む日焼け止め組成物を開示している。
【００１５】
EP3 150 189は、布帛汚れを低減するために、ピロクトンと組み合わせたジエチルアミノヒドロキシベンゾイルヘキシルベンゾエートを含む日焼け止め組成物に関する。
【００１６】
EP3 354 253 A2は、化粧料組成物の布帛汚れを低減するための、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイルヘキシルベンゾエートの使用を開示している。
【００１７】
しかしながら、UV-A防御を低減することなく、布帛汚れ及び布地からの洗浄性という課題に関して更に改善された日焼け止め組成物に対する必要性が依然として存在する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１８】
【特許文献１】DE10 2014 207 919 A1
【特許文献２】DE10 2014 207 916 A1
【特許文献３】DE10 2014 207 924 A1
【特許文献４】EP2 939 710 A1
【特許文献５】EP3 150 190 A1
【特許文献６】EP3 153 151 A1
【特許文献７】EP3 150 258 A1
【特許文献８】EP3 150 189
【特許文献９】EP3 354 253 A2
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１９】
したがって、改善された布帛汚れ及び洗浄性の特性を有する日焼け止め組成物を提供することが本発明の目的であった。これに関連して、それでもやはりUV-B防御に加えて十分なUV-A防御をもたらす日焼け止め組成物を提供することが別の目的である。布帛汚れを低減し、且つ/又は日焼け止め組成物の布地からの洗浄性を促進するために、日焼け止め組成物における使用に好適な、UV-A防御をもたらすUVフィルターを提供することが本発明の別の目的であった。
【課題を解決するための手段】
【００２０】
これらの目的の少なくとも1つは、日焼け止め組成物における2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)の使用により達成され得ることが驚いたことに見出された。
【００２１】
詳細には、本出願の発明者らは、ドロメトリゾールトリシロキサンを使用することにより、日焼け止め組成物の布帛汚れを低減することができ、且つ布地からの汚れの洗浄性が促進され得ることを見出した。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】日焼け止め組成物1a、1b、1c、2a及び2bの結果を示す図である。
【図２】日焼け止め組成物3a、3b、3c、4a及び4bの結果を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
したがって、一実施形態によれば、本発明は、日焼け止め組成物の布帛汚れを低減するための、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)の使用に関する。
【００２４】
別の実施形態では、本発明は、日焼け止め組成物の洗浄性を促進するための、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)の使用に関する。
【００２５】
前記使用の好ましい実施形態では、日焼け止め組成物は、日焼け止め組成物の紫外線防御指数の少なくとも3分の1であるUV-A防御を有し、且つ/又は少なくとも370nmの臨界波長を示す。
【００２６】
前記使用の別の好ましい実施形態では、日焼け止め組成物は、少なくとも1種の更なるUV-Aフィルターを含む。
【００２７】
前記使用のより好ましい実施形態では、少なくとも1種の更なるUV-Aフィルターは、トリアジン誘導体、ベンゾトリアゾール誘導体、ベンゾフェノン誘導体、ジベンゾイルメタン誘導体、ショウノウ誘導体、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される。
【００２８】
前記使用の更により好ましい実施形態では、少なくとも1種のUV-Aフィルターは、4-(tert.-ブチル)-4'-メトキシジベンゾイルメタン(INCIブチルメトキシジベンゾイルメタン)、ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイルヘキシルベンゾエート)、2,4-ビス-{[4-(2-エチル-ヘキシルオキシ)-2-ヒドロキシ]-フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5トリアジン(INCIビス-エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン)、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される。
【００２９】
前記使用の別の好ましい実施形態では、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)は、日焼け止め組成物の総重量に基づいて0.2〜15重量%、好ましくは0.5〜5重量%、より好ましくは1〜3重量%の量で日焼け止め組成物中に存在する。
【００３０】
前記使用の別の好ましい実施形態では、日焼け止め組成物は、少なくとも1種の更なるUV-Bフィルターを含む。
【００３１】
前記使用の別の好ましい実施形態では、少なくとも1種の更なるUV-Bフィルターは、トリアジン誘導体、シンナメート誘導体、サリチレート誘導体、マロネート誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される。
【００３２】
前記使用のより好ましい実施形態では、少なくとも1種のUV-Bフィルターは、4,4',4''-(1,3,5-トリアジン-2,4,6-トリイルトリイミノ)トリス-安息香酸-トリス(2-エチルヘキシル)エステル(INCIエチルヘキシルトリアゾン)、(RS)-2-エチルヘキシル-2-ヒドロキシベンゾエート(INCIエチルヘキシルサリチレート)、3,3,5-トリメチル-シクロヘキシルサリチレート(ホモサレート)、2-エチルヘキシル2-シアノ-3,3-ジフェニル-2-プロペノエート(INCIオクトクリレン)、(RS)-2-エチルヘキシル-(2E)-3-(4-メトキシフェニル)プロパ-2-エノエート(INCIエチルヘキシルメトキシシンナメート)、マロネート誘導体、例えばジメチコンジエチルベンザルマロネート、ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される。
【００３３】
前記使用の別の好ましい実施形態では、日焼け止め組成物は、少なくとも1種の水溶性UVフィルターを更に含む。
【００３４】
より好ましい実施形態では、水溶性UVフィルターは、[(3Z)-3-[[4-[(Z)-[7,7-ジメチル-2-オキソ-1-(スルホメチル)-3-ビシクロ[2.2.1]ヘプタニリデン]メチル]フェニル]メチリデン]-7,7-ジメチル-2-オキソ-1-ビシクロ[2.2.1]ヘプタニル]メタンスルホン酸(INCIテレフタリリデンジショウノウスルホン酸)、2-フェニル-1H-ベンゾイミダゾール-5-スルホン酸(INCIフェニルベンゾイミダゾールスルホン酸)、二ナトリウムフェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホネート、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される。
【００３５】
前記使用の別の好ましい実施形態では、日焼け止め組成物は、少なくとも1種の微粒子フィルターを更に含む。少なくとも1種の微粒子UVフィルターは、有機微粒子UVフィルター、無機UVフィルター、又はこれらの組み合わせであることが好ましい。
【００３６】
より好ましい実施形態では、少なくとも1種の有機微粒子UVフィルターは、2,2'-メチレンビス[6-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)フェノール](INCI  メチレンビス-ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール)、2,4,6-トリス(ビフェニル-4-イル)-1,3,5-トリアジン(INCIトリスビフェニルトリアジン)、1,1'-(1,4-ピペラジンジイル)ビス[1-[2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]フェニル]-メタノン(INCIビス-(ジエチルアミノヒドロキシベンゾイルベンゾイル)ピペラジン)、5,6,5',6'-テトラフェニル-3-3'-(1,4-フェニレン)ビス(1,2,4-トリアジン)(INCIフェニレンビス-ジフェニルトリアジン)、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される。
【００３７】
別のより好ましい実施形態では、少なくとも1種の無機微粒子UVフィルターは、二酸化チタン、酸化亜鉛、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される。
【００３８】
別の実施形態では、本発明は、
(i)2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)、
(ii)ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイルヘキシルベンゾエート)、
(iii)4,4',4''-(1,3,5-トリアジン-2,4,6-トリイルトリイミノ)トリス-安息香酸-トリス(2-エチルヘキシル)エステル(INCIエチルヘキシルトリアゾン)、及び
(iv)(RS)-2-エチルヘキシル-2-ヒドロキシベンゾエート(INCIエチルヘキシルサリチレート)
を含む日焼け止め組成物に関する。
【００３９】
前記日焼け止め組成物の好ましい実施形態では、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)は、日焼け止め組成物の総重量に基づいて0.1〜15重量%、好ましくは0.5〜5重量%、より好ましくは1〜3重量%の量で日焼け止め組成物中に存在する。
【００４０】
前記日焼け止め組成物の別の好ましい実施形態では、ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイルヘキシルベンゾエート)は、日焼け止め組成物の総重量に基づいて0.1〜10重量%、好ましくは1〜7重量%の量で存在する。
【００４１】
前記日焼け止め組成物の別の好ましい実施形態では、4,4',4''-(1,3,5-トリアジン-2,4,6-トリイルトリイミノ)トリス-安息香酸-トリス(2-エチルヘキシル)エステル(INCIエチルヘキシルトリアゾン)は、日焼け止め組成物の総重量に基づいて0.1〜5重量%、好ましくは0.5〜3重量%の量で存在する。
【００４２】
前記日焼け止め組成物の別の好ましい実施形態では、(RS)-2-エチルヘキシル-2-ヒドロキシベンゾエート(INCIエチルヘキシルサリチレート)は、日焼け止め組成物の総重量に基づいて0.1〜5重量%の量で存在する。
【００４３】
別の態様では、本発明は、日焼け止め組成物の布帛汚れを低減する方法であって、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)を日焼け止め組成物に添加することを含む、方法に関する。
【００４４】
別の態様では、本発明は、日焼け止め組成物の洗浄性を促進する方法であって、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)を日焼け止め組成物に添加することを含む、方法に関する。
【００４５】
前記方法の好ましい実施形態では、日焼け止め組成物は、日焼け止め組成物の紫外線防御指数の少なくとも3分の1であるUV-A防御を有し、且つ/又は少なくとも370nmの臨界波長を示す。
【００４６】
前記方法の別の好ましい実施形態では、日焼け止め組成物は、少なくとも1種の更なるUV-Aフィルターを含む。
【００４７】
前記方法のより好ましい実施形態では、少なくとも1種の更なるUV-Aフィルターは、トリアジン誘導体、ベンゾトリアゾール誘導体、ベンゾフェノン誘導体、ジベンゾイルメタン誘導体、ショウノウ誘導体、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される。
【００４８】
前記方法の更により好ましい実施形態では、少なくとも1種の更なるUV-Aフィルターは、4-(tert.-ブチル)-4'-メトキシジベンゾイルメタン(INCIブチルメトキシジベンゾイルメタン)、ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイルヘキシルベンゾエート)、2,4-ビス-{[4-(2-エチル-ヘキシルオキシ)-2-ヒドロキシ]-フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5トリアジン(INCIビス-エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン)、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される。
【００４９】
前記方法の別の好ましい実施形態では、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)は、日焼け止め組成物の総重量に基づいて0.2〜15重量%、好ましくは0.5〜5重量%、より好ましくは1〜3重量%の量で日焼け止め組成物中に存在する。
【００５０】
前記方法の別の好ましい実施形態では、日焼け止め組成物は、少なくとも1種の更なるUV-Bフィルターを含む。
【００５１】
前記方法のより好ましい実施形態では、少なくとも1種の更なるUV-Bフィルターは、トリアジン誘導体、シンナメート誘導体、サリチレート誘導体、マロネート誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される。
【００５２】
前記方法の更により好ましい実施形態では、少なくとも1種のUV-Bフィルターは、4,4',4''-(1,3,5-トリアジン-2,4,6-トリイルトリイミノ)トリス-安息香酸-トリス(2-エチルヘキシル)エステル(INCIエチルヘキシルトリアゾン)、(RS)-2-エチルヘキシル-2-ヒドロキシベンゾエート(INCIエチルヘキシルサリチレート)、3,3,5-トリメチル-シクロヘキシルサリチレート(ホモサレート)、2-エチルヘキシル2-シアノ-3,3-ジフェニル-2-プロペノエート(INCIオクトクリレン)、(RS)-2-エチルヘキシル-(2E)-3-(4-メトキシフェニル)プロパ-2-エノエート(INCIエチルヘキシルメトキシシンナメート)、マロネート誘導体、例えばジメチコンジエチルベンザルマロネート、ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される。
【００５３】
前記方法の別の好ましい実施形態では、日焼け止め組成物は、少なくとも1種の水溶性UVフィルターを更に含む。
【００５４】
より好ましい実施形態では、水溶性UVフィルターは、[(3Z)-3-[[4-[(Z)-[7,7-ジメチル-2-オキソ-1-(スルホメチル)-3-ビシクロ[2.2.1]ヘプタニリデン]メチル]フェニル]メチリデン]-7,7-ジメチル-2-オキソ-1-ビシクロ[2.2.1]ヘプタニル]メタンスルホン酸(INCIテレフタリリデンジショウノウスルホン酸)、2-フェニル-1H-ベンゾイミダゾール-5-スルホン酸(INCIフェニルベンゾイミダゾールスルホン酸)、二ナトリウムフェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホネート、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される。
【００５５】
前記方法の別の好ましい実施形態では、日焼け止め組成物は、少なくとも1種の微粒子フィルターを更に含む。少なくとも1種の微粒子UVフィルターは、有機微粒子UVフィルター、無機UVフィルター、又はこれらの組み合わせであることが好ましい。
【００５６】
より好ましい実施形態では、少なくとも1種の有機微粒子UVフィルターは、2,2'-メチレンビス[6-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)フェノール](INCI  メチレンビス-ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール)、2,4,6-トリス(ビフェニル-4-イル)-1,3,5-トリアジン(INCIトリスビフェニルトリアジン)、1,1'-(1,4-ピペラジンジイル)ビス[1-[2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]フェニル]-メタノン(INCIビス-(ジエチルアミノヒドロキシベンゾイルベンゾイル)ピペラジン)、5,6,5',6'-テトラフェニル-3-3'-(1,4-フェニレン)ビス(1,2,4-トリアジン)(INCIフェニレンビス-ジフェニルトリアジン)、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される。
【００５７】
別のより好ましい実施形態では、少なくとも1種の無機微粒子UVフィルターは、二酸化チタン、酸化亜鉛、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される。
【００５８】
本発明の好ましい実施形態を詳細に記載する前に、本発明を理解するための重要な定義を示す。
【００５９】
本明細書及び添付の特許請求の範囲に使用される場合、「a」及び「an」という単数形は、文脈により明確に別段の指示がない限りそれぞれの複数形も含む。本発明の文脈において、用語「約」及び「およそ」は、当業者が、対象となる特徴物の技術的効果をなおさら確実にするために理解する、精度の間隔を示す。該用語は、典型的には、示された数値から±20%、好ましくは±15%、より好ましくは±10%、更により好ましくは±5%の偏差を示す。用語「含む(comprising)」は、限定するものではないことを理解されたい。本発明の目的上、用語「からなる(consisting of)」は、用語「含む(comprising of)」の好ましい実施形態であると考えられる。以下、ある群が、少なくともある特定の数の実施形態を含むと定義される場合、これは、好ましくはこれらの実施形態のみからなる群もまた包含することを意図している。更に、本記載及び特許請求の範囲における用語「第1の」、「第2の」、「第3の」又は「(a)」、「(b)」、「(c)」、「(d)」等は、同様の要素を区別するために使用され、必ずしも連続的又は時系列的な順序を記載しているわけではない。そのように使用される用語は適切な状況下で互換的であり、本明細書に記載の本発明の実施形態は、本明細書に記載されるか又は説明されるものとは別の順番で操作可能であることを理解されたい。
【００６０】
用語「日焼け止め組成物」は、ある特定の部分のUV照射を反射及び/又は吸収する任意の局所用製品を指す。したがって、用語「日焼け止め組成物」は、日焼け止め組成物だけでなく、UV防御をもたらす任意の化粧料組成物も含むと理解されるべきである。用語「局所用製品」は、皮膚に塗布する製品を指し、例えば、スプレー剤、ローション剤、クリーム剤、油剤、又はゲル剤と呼ばれ得る。日焼け止め組成物は、1種以上の活性剤、例えば、有機又は無機のUVフィルター、同様に他の原料又は添加剤、例えば、乳化剤、皮膚軟化剤、粘度調整剤、安定剤、防腐剤、又は芳香剤を含んでもよい。
【００６１】
用語「布帛汚れ」は、本明細書で使用される場合、日焼け止め組成物、詳細には良好なUV-A防御をもたらすものが、布地に黄色を残すという観察結果を指す。日焼け止め組成物は、ヒトの皮膚に塗布される間又は塗布後に布地と接触することが多く、その汚れが布地上に見られるため、これは望ましくない。布帛の汚れは、以下に概要を述べるL*a*bにより測定することができる。
【００６２】
用語「洗浄性」は、本明細書で使用される場合、日焼け止め組成物により引き起こされた布地上の汚れが、ある特定の数の洗浄サイクル後に、どの程度まで布地から除去され得るかを説明する。洗浄性を評価するために、1回以上の洗浄サイクルの前と後に布帛汚れを測定する。洗浄サイクルを、30℃〜50℃の温度で市販の液体洗浄ゲルを用いて実行する。典型的には、1〜3回の洗浄サイクル後の布帛汚れに関する差異を判定する。
【００６３】
用語「UVフィルター」は、本明細書で使用される場合、日光により引き起こされるUV照射を吸収又は反射することができる有機又は無機の化合物を指す。UVフィルターは、そのUV防御曲線に基づいて、UV-A、UV-B又は広帯域フィルターとして分類することができる。本出願の文脈において、広帯域フィルターは、UV-A防御もまたもたらすため、UV-Aフィルターとして列記されてもよい。言い換えれば、好ましいUV-Aフィルターはまた、広帯域フィルターも含む。
【００６４】
本明細書で使用される場合、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)は、DTSとも呼ばれ、ベンゾトリアゾール誘導体の群に属するUVフィルターである。これは、1つは303nm(UVB)及び1つは344nm(UVA)における2つの吸収ピークを有する広帯域UVフィルターである。更なるUVフィルターは以下に列記される。
【００６５】
用語「紫外線防御指数(SPF)」は、本明細書で使用される場合、日焼け止め組成物により、皮膚が主にUV-B照射からどの程度防御されるかを示す。詳細には、該指数は、未処置の皮膚と比較して、防御された皮膚が日焼けすることなくどの程度長く日光に曝露され得るかを示す。例えば、通例、日光下で10分後に日焼けするヒトの皮膚に、SPF15の日焼け止め組成物をむらなく塗布した場合、該日焼け止めにより、当業者は日光下に15倍長く留まることが可能になる。言い換えれば、SPF15とは、日焼け止めを1平方センチメートル当たり2ミリグラム(mg/cm2)の投薬量の厚さでむらなく塗布したと仮定すると、日焼けを起こすUV照射の1/15が皮膚に到達することを意味する。
【００６６】
用語「臨界波長」は、UV防御曲線(波長に対する%防御)下の面積が、UV領域(290〜400nm)における曲線下の総面積の90%に相当する波長と定義される。例えば、370nmの臨界波長は、UV領域における防御曲線下の総面積の90%に370nmにおいて到達するという点で、日焼け止め組成物の防御が、UV-Bの波長、すなわち290〜320nmの波長に限定されることなく370nmまで及ぶことを示す。
【００６７】
「広帯域」防御(広域スペクトル又は広域防御とも呼ばれる)の定義は、「臨界波長」に基づく。広帯域適用には、UV-B及びUV-Aの防御が提供されなければならない。US要件に基づくと、広域スペクトル防御を達成するためには少なくとも370nmの臨界波長が必要とされる。
【００６８】
本発明に基づく2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)の使用、並びにその適用を含む方法に関する好ましい実施形態を以下に記載する。本発明の好ましい実施形態は、単独でも又は互いに組み合わせても好ましいことを理解されたい。
【００６９】
上述のように、本発明は、一実施形態では、日焼け止め組成物の布帛汚れを低減するための、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)の使用に関する。
【００７０】
日焼け止め組成物の布帛汚れは、好ましくは上述したいわゆるL*a*b法により測定される。この方法では、2つの試料間の色差を数値に基づいて識別することができる。この方法の利点は、色を測定するために使用される機器に依存しないことである。代わりに、色差は様々な色に対する数値に基づいて決定することができる。本明細書で使用される場合、日焼け止め組成物の布帛汚れを決定するために、布地上の日焼け止め組成物汚れと布地単独との間の色差を決定する。したがって様々な日焼け止め組成物及びそれらの布帛汚れの特性は、布地上のそれらの汚れの色を布地単独の色と比較することにより測定することができる。色差が低いほど、より少ない布帛汚れが観察される。同様に、洗浄後の布帛汚れの可能な低減、すなわち洗浄性を決定するために、1回以上の洗浄サイクル後の布地上の日焼け止め組成物汚れと布地単独との間の色差を決定することができる。色差は絶対色座標で示され、デルタΔで表すことができる。最初に、2つの試料の色を測定する。次に、得られた測色値、CIE L*a*b座標を使用して差異を算出することができる。国際照明委員会(Commission Internationale de l'Eclairage)(CIE)により定義されたL*a*b色空間は、反対色説に従って作成された。この理論では、2つの色は同時に赤色及び緑色ではあり得ず又は同時に黄色及び青色ではあり得ないと述べている。以下の式:
ΔE*=[ΔL*2+Δa*2+Δb*2]1/2
を使用して、2つの試料間の総色差を決定する。
【００７１】
この式に関して、L*は明度を表し、a*は赤色/緑色座標であり、b*は黄色/青色座標である。L*(ΔL*)、a*(Δa*)、及びb*(Δb*)に対するデルタ値は、正又は負であり得る。ΔE*として与えられる総色差は、常に正である。
ΔL*(L*試料1-L*試料2)=明度及び暗さにおける差異(+はより明るく、-はより暗い)。
Δa*(a*試料1-a*試料2)=赤色及び緑色における差異(+はより赤色であり、-はより緑色である)
Δb*(b*試料1-b*試料2)=黄色及び緑色における差異(+はより黄色であり、-はより緑色である)
ΔE*=総色差。
【００７２】
本発明に基づく布帛汚れを決定するために、布地上の汚れの色を布地単独の色と比較する。白色布地を使用することが好ましい。汚れが黄色のみである場合、ΔE*≒Δb*であり、式中、日焼け止め組成物汚れの視感度はΔb*により表される。日焼け止め組成物汚れの色は典型的には黄色であるため、本発明の目的上、ΔE*はΔb*と同一であると考えられる。
【００７３】
別の実施形態では、本発明は、日焼け止め組成物の布地からの洗浄性を促進するための、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)の使用に関する。本明細書で使用される場合、洗浄性は、布地上の日焼け止め組成物汚れが洗浄により除去され得る程度を指す。日焼け止め組成物汚れの洗浄性、すなわち除去可能性は、1回以上の洗浄サイクルの前及び後に、上述のL*a*b*法に基づいて汚れの色差を決定することにより決定することができる。
【００７４】
本発明に関して、日焼け止め組成物に関する以下の好ましい実施形態は関連性がある。
【００７５】
本発明の好ましい実施形態では、日焼け止め組成物は、上記で定義された紫外線防御指数の少なくとも3分の1であるUV-A防御を有する。例えば、日焼け止め組成物の紫外線防御指数が30である場合、所与の日焼け止め組成物のUV-A防御は、少なくとも10でなければならない。本発明の別の好ましい実施形態では、日焼け止め組成物のUV-A防御は、少なくとも370nmの臨界波長を示さなければならない。本発明の別の好ましい実施形態では、日焼け止め組成物は、上記で定義された紫外線防御指数の少なくとも3分の1であるUV-A防御を有し、また少なくとも370nmの臨界波長を示す。
【００７６】
当業者は、上記の基準に基づいて良好なUV-A防御をもたらす日焼け止め組成物が、少なくとも1種のUV-Aフィルターの存在を必要とすることを認識している。本明細書で使用される場合、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)は、DTSとも呼ばれ、UV-Aフィルターとして役立つ。加えて、少なくとも1種の更なるUV-Aフィルターが存在してもよい。この文脈において、日焼け止め組成物の十分なUV-A防御に到達するためにはより多量のUV-Aフィルターが必要とされるけれども、DTSの使用は本発明に基づく日焼け止め組成物の布帛汚れを低減することを、本発明の発明者らは驚いたことに見出した。
【００７７】
本発明の好ましい実施形態では、日焼け止め組成物は、少なくとも1種の更なるUV-Aフィルターを含む。この文脈において、少なくとも1種の更なるUV-Aフィルターとは、1〜3種の更なるUV-Aフィルター、好ましくは1種又は2種の更なるUV-Aフィルターを意味する。更に、UV-Aフィルターという用語は、UV-A領域において吸収する任意のUVフィルターを意味することを理解されたい。これは、広帯域フィルターはまた、UV-A及びUV-B照射を吸収及び/又は反射するため、UV-Aフィルターという表現に包含されることを意味する。
【００７８】
より好ましい実施形態では、少なくとも1種の更なるUV-Aフィルターは、トリアジン誘導体、ベンゾトリアゾール誘導体、ベンゾフェノン誘導体、ジベンゾイルメタン誘導体、ショウノウ誘導体、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される。
【００７９】
更により好ましい実施形態では、少なくとも1種の更なるUV-Aフィルターは、4-(tert.-ブチル)-4'-メトキシジベンゾイルメタン(INCIブチルメトキシジベンゾイルメタン)、ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイルヘキシルベンゾエート)、2,4-ビス-{[4-(2-エチル-ヘキシルオキシ)-2-ヒドロキシ]-フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5トリアジン(INCIビス-エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン)、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される。
【００８０】
別の好ましい実施形態では、日焼け止め組成物は、少なくとも1種の水溶性UVフィルターを更に含む。
【００８１】
より好ましい実施形態では、水溶性UVフィルターは、[(3Z)-3-[[4-[(Z)-[7,7-ジメチル-2-オキソ-1-(スルホメチル)-3-ビシクロ[2.2.1]ヘプタニリデン]メチル]フェニル]メチリデン]-7,7-ジメチル-2-オキソ-1-ビシクロ[2.2.1]ヘプタニル]メタンスルホン酸(INCIテレフタリリデンジショウノウスルホン酸)、2-フェニル-1H-ベンゾイミダゾール-5-スルホン酸(INCIフェニルベンゾイミダゾールスルホン酸)、二ナトリウムフェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホネート、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される。
【００８２】
別の好ましい実施形態では、日焼け止め組成物は、少なくとも1種の微粒子フィルターを更に含む。少なくとも1種の微粒子UVフィルターは、有機微粒子UVフィルター、無機UVフィルター、又はこれらの組み合わせであることが好ましい。
【００８３】
より好ましい実施形態では、少なくとも1種の有機微粒子UVフィルターは、2,2'-メチレンビス[6-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)フェノール](INCIメチレンビス-ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール)、2,4,6-トリス(ビフェニル-4-イル)-1,3,5-トリアジン(INCIトリスビフェニルトリアジン)、1,1'-(1,4-ピペラジンジイル)ビス[1-[2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]フェニル]-メタノン(INCIビス-(ジエチルアミノヒドロキシベンゾイルベンゾイル)ピペラジン)、5,6,5',6'-テトラフェニル-3-3'-(1,4-フェニレン)ビス(1,2,4-トリアジン)(INCIフェニレンビス-ジフェニルトリアジン)、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される。
【００８４】
別のより好ましい実施形態では、少なくとも1種の無機微粒子UVフィルターは、二酸化チタン、酸化亜鉛、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される。
【００８５】
更なるUV-Aフィルターの好適な量は、日焼け止め組成物の総重量に基づいて0.1〜10重量%、好ましくは1〜7重量%の範囲である。しかしながら、更なるUV-A-フィルターの量は、布帛汚れを回避するために可能な限り低いことが好ましい。したがって、更なるUV-Aフィルターの量は、日焼け止め組成物の総重量に基づいて0.1〜5重量%の範囲であることが好ましい場合がある。
【００８６】
微粒子UVフィルターの好適な量は、日焼け止め組成物の総重量に基づいて0.1〜10重量%、好ましくは0.5〜7重量%の範囲である。
【００８７】
水溶性UVフィルターの好適な量は、日焼け止め組成物の総重量に基づいて0.1〜6重量%、好ましくは0.5〜3重量%の範囲である。
【００８８】
本発明の好ましい実施形態では、日焼け止め組成物は、少なくとも1種の更なるUV-Bフィルターを付加的に含む。この文脈において、少なくとも1種の更なるUV-Aフィルターとは、1〜3種の更なるUV-Bフィルター、好ましくは1種又は2種の更なるUV-Bフィルターを意味する。更に、UV-Bフィルターという用語は、UV-B領域において吸収する任意のUVフィルターを意味することを理解されたい。これは、広帯域フィルターはまた、UV-A及びUV-B照射を吸収及び/又は反射するため、UV-Bフィルターという表現に包含されることを意味する。
【００８９】
より好ましい実施形態では、少なくとも1種の更なるUV-Bフィルターは、トリアジン誘導体、シンナメート誘導体、サリチレート誘導体、マロネート誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される。
【００９０】
特に好ましい実施形態では、少なくとも1種の更なるUV-Bフィルターは、4,4',4''-(1,3,5-トリアジン-2,4,6-トリイルトリイミノ)トリス-安息香酸-トリス(2-エチルヘキシル)エステル(INCIエチルヘキシルトリアゾン)、(RS)-2-エチルヘキシル-2-ヒドロキシベンゾエート(INCIエチルヘキシルサリチレート)、3,3,5-トリメチル-シクロヘキシルサリチレート(ホモサレート)、2-エチルヘキシル2-シアノ-3,3-ジフェニル-2-プロペノエート(INCIオクトクリレン)、(RS)-2-エチルヘキシル-(2E)-3-(4-メトキシフェニル)プロパ-2-エノエート(INCIエチルヘキシルメトキシシンナメート)、マロネート誘導体、例えばジメチコンジエチルベンザルマロネート、ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される。
【００９１】
更なるUV-Bフィルターの好適な量は、日焼け止め組成物の総重量に基づいて0.1〜10重量%の範囲である。
【００９２】
本発明の使用の好ましい実施形態では、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)は、日焼け止め組成物の総重量に基づいて0.2〜15重量%の量で日焼け止め組成物中に存在する。より好ましい実施形態では、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)は、日焼け止め組成物の総重量に基づいて0.3〜10重量%の量で存在する。更により好ましい実施形態では、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)は、日焼け止め組成物の総重量に基づいて0.5〜5重量%の量で存在する。特に好ましい実施形態では、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)は、日焼け止め組成物の総重量に基づいて1〜3重量%の量で存在する。
【００９３】
上記の好ましい実施形態と関連して、日焼け止め組成物の総重量は、上記で定義された日焼け止め組成物を指し、日焼け止め組成物は少なくとも1種の添加剤を含み得ることを理解されたい。
【００９４】
一実施形態では、少なくとも1種の添加剤は、乳化剤、皮膚軟化薬、粘度調整剤(増粘剤)、感覚増強剤、アジュバント、防腐剤、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される。
【００９５】
好ましい乳化剤には、
-  グルコース誘導体、例えば、セテアリルグルコシド、アラキジルグルコシド、ラウリルグルコシド、ポリグリセリル-3メチルグルコースジステアレート、メチルグルコースセスキステアレート、
-  スクロース誘導体、例えば、スクロースポリステアレート、スクロースパルミテート、
-  ソルビトール誘導体、例えば、ポリソルベート-n、PEG-10ソルビタンラウレート、
-  脂肪族アルコールポリグリコールエーテル及び脂肪酸ポリグリコールエーテル、例えば、セテアレス-20、ベヘネス-25、ステアレス-2、PEG-100ステアレート、
-  脂肪酸のグリセリド、例えば、ステアリン酸グリセリル、オレイン酸グリセリル、
-  グルタミン酸誘導体、例えば、グルタミン酸ステアロイルナトリウム、
-  スルホコハク酸誘導体、例えば、二ナトリウムセテアリルスルホスクシネート、
-  リン酸誘導体、例えば、リン酸セチルカリウム、
-  ポリグリセリルの脂肪酸エステル、例えば、ジイソステアリン酸ポリグリセリル-3、ジポリヒドロキシステアリン酸ポリグリセリル-2、
-  オキシアルケニル化有機修飾シリコーン/ポリシロキサン/ポリアルキル/ポリエーテルコポリマー及び誘導体
が含まれる。
【００９６】
好ましい皮膚軟化薬には、
-  直鎖又は分岐の脂肪酸と直鎖又は分岐の脂肪族アルコールとのエステル、例えば、カプリル酸プロピルヘプチル、ココカプリレート、ミリスチン酸イソプロピル、パルミチン酸エチルヘキシル、
-  芳香族カルボン酸と直鎖又は分岐の脂肪族アルコールとのエステル、例えば、安息香酸C12〜C15-アルキル、安息香酸エチルヘキシル、安息香酸フェネチル、
-  直鎖又は分岐のアルコールとのジカルボン酸エステル、例えば、アジピン酸ジブチル、炭酸ジカプリリル、セバシン酸ジイソプロピル、
-  ヒドロキシカルボン酸と直鎖又は分岐の脂肪族アルコールとのエステル、
-  直鎖又は分岐の脂肪酸と多価アルコールとのエステル、例えば、ブチレングリコールジカプリレート/ジカプレート、
-  C6〜C18脂肪酸をベースとしたモノ-、ジ-、トリ-グリセリド、例えば、カプリル酸トリグリセリド/カプリン酸トリグリセリド、ココグリセリド、
-  ゲルベアルコール、例えば、オクチルドデシノール、
-  炭化水素、例えば、水素化ポリイソブテン、ミネラルオイル、スクアレン、イソヘキサデカン、
-  エーテル、例えば、ジカプリリルエーテル、
-  シリコーン誘導体(有機修飾ポリシロキサン)、例えば、ジメチルポリシロキサン、環状シリコーン
が含まれる。
【００９７】
好ましい増粘剤には、
-  脂肪族アルコール、例えば、セチルアルコール、セテアリルアルコール、ステアリルアルコール、
-  脂肪酸、例えば、ステアリン酸、
-  脂肪酸エステル、例えば、ステアリン酸ミリスチル、
-  ワックス、例えば、蜜ロウ、カルナウバロウ、微結晶性ロウ、セレシン、臭ロウ、
-  多糖類又は誘導体、例えば、キサンタンガム、グアーガム、寒天、アルギネート、ジェランガム、カラギーナン、
-  ポリアクリレート又は網状アクリル酸のホモポリマー又はポリアクリルアミド、例えば、カルボマー、アクリレートコポリマー、アクリレート/C10〜C30-アルキルアクリレートクロスポリマー、アクリレート/ベヘネス-25メタクリレートコポリマー、
-  シリケート誘導体、例えば、ケイ酸マグネシウム、
-  セルロース誘導体、例えば、ヒドロキシプロピルセルロース
が含まれる。
【００９８】
好ましい感覚増強剤には、
-  ポリアミド誘導体、例えば、ナイロン-12、
-  メタクリル酸ポリメチル、
-  シリカ、
-  マイカ、
-  ポリメチルシルセスキオキサン、
-  ポリエチレン、
-  デンプン誘導体、例えば、アルミニウムデンプンオクテニルスクシネート、
-  ジメチコン誘導体、
-  窒化ホウ素、
-  HDI/トリメチロールヘキシルラクトンクロスポリマー
が含まれる。
【００９９】
好ましいアジュバントには、
-  トコフェロール誘導体、
-  レチノール誘導体、
-  アスコルビン酸誘導体、
-  ビサボロール、
-  アラントイン、
-  パンテノール、
-  キレート剤(EDTA、EDDS、EGTA、フィチン酸、ピロクトンオラミン)、
-  エチルヘキシルグリセリン、
-  カプリリルグリコール、
-  ヒドロキシアセトフェノン、
-  カプリルヒドロキシム酸、
-  噴射剤、例えば、プロパン、ブタン、イソブテン、ジメチルエーテル、
-  スチレン/PVP又はスチレンアクリルアミドコポリマー、
-  害虫忌避剤、例えば、ブチルアセチルアミノプロピオネート
が含まれる。
【０１００】
好ましい防腐剤には、
-  パラベン誘導体、
-  ベンジルアルコール、
-  フェノキシエタノール、
-  ジンゲロン
が含まれる。
【０１０１】
上記の好ましい実施形態と関連して、日焼け止め組成物が2種以上の添加剤を含む場合、上記で定義された添加剤の組み合わせもまた本発明の一部であることを理解されたい。
【０１０２】
上記の好ましい及び特に好ましい実施形態と関連して、日焼け止め組成物は、更に水を含んでもよいことを理解されたい。日焼け止め組成物中に水が存在する場合、日焼け止め組成物は、水中油型エマルジョン(O/Wエマルジョン)又は油中水型エマルジョン(W/Oエマルジョン)であり得る。
【０１０３】
別の態様では、本発明は、
(i)2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)、
(ii)ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイルヘキシルベンゾエート)、
(iii)4,4',4''-(1,3,5-トリアジン-2,4,6-トリイルトリイミノ)トリス-安息香酸-トリス(2-エチルヘキシル)エステル(INCIエチルヘキシルトリアゾン)、及び
(iv)(RS)-2-エチルヘキシル-2-ヒドロキシベンゾエート(INCIエチルヘキシルサリチレート)
を含む日焼け止め組成物に関する。
【０１０４】
ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイルヘキシルベンゾエート)は、DHHBとも呼ばれ、ベンゾフェノン誘導体の群に属するUVフィルターである。これはBASFによりUvinul A Plusの商標名で販売されている。これはUV-Aフィルターである。
【０１０５】
4,4',4''-(1,3,5-トリアジン-2,4,6-トリイルトリイミノ)トリス-安息香酸-トリス(2-エチルヘキシル)エステル(INCIエチルヘキシルトリアゾン)は、EHTとも呼ばれ、トリアジン誘導体の群に属するUVフィルターである。これはBASFによりUvinul T150の商標名で販売されている。これはUV-Bフィルターである。
【０１０６】
(RS)-2-エチルヘキシル-2-ヒドロキシベンゾエート(INCIエチルヘキシルサリチレート)は、EHSとも呼ばれ、サリチル酸誘導体の群に属するUVフィルターである。これは、例えば、SymriseによりNeo Heliopan OSの商標名で販売されている。これはUV-Bフィルターである。
【０１０７】
上記の日焼け止め組成物と関連して、日焼け止め組成物は、上記で定義された少なくとも1種の添加剤、好ましくは乳化剤、皮膚軟化剤、粘度調整剤、安定剤、防腐剤、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される少なくとも1種の添加剤を含み得ることを理解されたい。
【０１０８】
上記で定義された日焼け止め組成物の好ましい実施形態では、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)は、日焼け止め組成物の総重量に基づいて0.1〜15重量%の量で日焼け止め組成物中に存在する。
【０１０９】
上記で定義された日焼け止め組成物の別の好ましい実施形態では、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)は、日焼け止め組成物の総重量に基づいて0.3〜10重量%の量で日焼け止め組成物中に存在する。
【０１１０】
上記で定義された日焼け止め組成物の別の好ましい実施形態では、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)は、日焼け止め組成物の総重量に基づいて0.5〜5重量%の量で日焼け止め組成物中に存在する。
【０１１１】
上記で定義された日焼け止め組成物の特に好ましい実施形態では、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)は、日焼け止め組成物の総重量に基づいて1〜3重量%の量で日焼け止め組成物中に存在する。
【０１１２】
上記で定義された日焼け止め組成物の更により特に好ましい実施形態では、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)は、日焼け止め組成物の総重量に基づいて1〜2.6重量%の量で日焼け止め組成物中に存在する。
【０１１３】
上記の好ましい実施形態と関連して、日焼け止め組成物の総重量は、上記で定義された日焼け止め組成物を指し、日焼け止め組成物は少なくとも1種の添加剤を含み得ることを理解されたい。
【０１１４】
上記で定義された日焼け止め組成物の好ましい実施形態では、ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイルヘキシルベンゾエート)は、日焼け止め組成物の総重量に基づいて0.1〜10重量%の量で日焼け止め組成物中に存在する。
【０１１５】
上記で定義された日焼け止め組成物の特に好ましい実施形態では、ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイルヘキシルベンゾエート)は、日焼け止め組成物の総重量に基づいて1〜7重量%の量で日焼け止め組成物中に存在する。
【０１１６】
上記の好ましい実施形態と関連して、日焼け止め組成物の総重量は、上記で定義された日焼け止め組成物を指し、日焼け止め組成物は少なくとも1種の添加剤を含み得ることを理解されたい。
【０１１７】
上記で定義された日焼け止め組成物の好ましい実施形態では、4,4',4''-(1,3,5-トリアジン-2,4,6-トリイルトリイミノ)トリス-安息香酸-トリス(2-エチルヘキシル)エステル(INCIエチルヘキシルトリアゾン)は、日焼け止め組成物の総重量に基づいて0.1〜5重量%の量で日焼け止め組成物中に存在する。
【０１１８】
上記で定義された日焼け止め組成物の特に好ましい実施形態では、4,4',4''-(1,3,5-トリアジン-2,4,6-トリイルトリイミノ)トリス-安息香酸-トリス(2-エチルヘキシル)エステル(INCIエチルヘキシルトリアゾン)は、日焼け止め組成物の総重量に基づいて0.5〜3重量%の量で日焼け止め組成物中に存在する。
【０１１９】
上記の好ましい実施形態と関連して、日焼け止め組成物の総重量は、上記で定義された日焼け止め組成物を指し、日焼け止め組成物は少なくとも1種の添加剤を含み得ることを理解されたい。
【０１２０】
上記で定義された日焼け止め組成物の好ましい実施形態では、(RS)-2-エチルヘキシル-2-ヒドロキシベンゾエート(INCIエチルヘキシルサリチレート)は、日焼け止め組成物の総重量に基づいて0.1〜5重量%の量で日焼け止め組成物中に存在する。
【０１２１】
上記の好ましい実施形態と関連して、日焼け止め組成物の総重量は、上記で定義された日焼け止め組成物を指し、日焼け止め組成物は少なくとも1種の添加剤を含み得ることを理解されたい。
【０１２２】
上記で定義された日焼け止め組成物のより好ましい実施形態では、日焼け止め組成物の総重量に基づいて、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)は、1〜3重量%の量で日焼け止め組成物中に存在し、ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイルヘキシルベンゾエート)は、1〜7重量%の量で日焼け止め組成物中に存在し、4,4',4''-(1,3,5-トリアジン-2,4,6-トリイルトリイミノ)トリス-安息香酸-トリス(2-エチルヘキシル)エステル(INCIエチルヘキシルトリアゾン)は、0.5〜3重量%の量で日焼け止め組成物中に存在し、(RS)-2-エチルヘキシル-2-ヒドロキシベンゾエート(INCIエチルヘキシルサリチレート)は、0.1〜5重量%の量で日焼け止め組成物中に存在する。
【０１２３】
上記の好ましい実施形態と関連して、日焼け止め組成物の総重量は、上記で定義された日焼け止め組成物を指し、日焼け止め組成物は少なくとも1種の添加剤を含み得ることを理解されたい。
【０１２４】
上記で定義された日焼け止め組成物の別のより好ましい実施形態では、日焼け止め組成物の総重量に基づいて、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)は、1〜2.6重量%の量で日焼け止め組成物中に存在し、ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイルヘキシルベンゾエート)は、1〜7重量%の量で日焼け止め組成物中に存在し、4,4',4''-(1,3,5-トリアジン-2,4,6-トリイルトリイミノ)トリス-安息香酸-トリス(2-エチルヘキシル)エステル(INCIエチルヘキシルトリアゾン)は、0.5〜3重量%の量で日焼け止め組成物中に存在し、(RS)-2-エチルヘキシル-2-ヒドロキシベンゾエート(INCIエチルヘキシルサリチレート)は、0.1〜5重量%の量で日焼け止め組成物中に存在する。
【０１２５】
上記の好ましい実施形態と関連して、日焼け止め組成物の総重量は、上記で定義された日焼け止め組成物を指し、日焼け止め組成物は少なくとも1種の添加剤を含み得ることを理解されたい。
【０１２６】
上記で定義された日焼け止め組成物の好ましい実施形態では、日焼け止め組成物は、少なくとも1種の更なるUVフィルターを含む。
【０１２７】
上記で定義された日焼け止め組成物の別の好ましい実施形態では、日焼け止め組成物は、少なくとも1種の更なるUVフィルターを含み、少なくとも1種の更なるUVフィルターは、2-フェニル-1H-ベンゾイミダゾール-5-スルホン酸(INCIフェニルベンゾイミダゾールスルホン酸)及び/又は2,4-ビス-{[4-(2-エチル-ヘキシルオキシ)-2-ヒドロキシ]-フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5トリアジン(INCIビス-エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン)である。
【０１２８】
上記で定義された日焼け止め組成物の特に好ましい実施形態では、少なくとも1種の更なるUVフィルターは、2,4-ビス-{[4-(2-エチル-ヘキシルオキシ)-2-ヒドロキシ]-フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5トリアジン(INCIビス-エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン)である。
【０１２９】
したがって、上記で定義された日焼け止め組成物の特に好ましい実施形態では、日焼け止め組成物は、少なくとも1種の更なるUVフィルターを含み、少なくとも1種の更なるUVフィルターは、好ましくは2,4-ビス-{[4-(2-エチル-ヘキシルオキシ)-2-ヒドロキシ]-フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5トリアジン(INCIビス-エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン)である。
【０１３０】
上記で定義された日焼け止め組成物の特に好ましい実施形態では、日焼け止め組成物は、
(i)2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)、
(ii)ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイルヘキシルベンゾエート)、
(iii)4,4',4''-(1,3,5-トリアジン-2,4,6-トリイルトリイミノ)トリス-安息香酸-トリス(2-エチルヘキシル)エステル(INCIエチルヘキシルトリアゾン)、
(iv)(RS)-2-エチルヘキシル-2-ヒドロキシベンゾエート(INCIエチルヘキシルサリチレート)、及び
(v)2,4-ビス-{[4-(2-エチル-ヘキシルオキシ)-2-ヒドロキシ]-フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5トリアジン(INCIビス-エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン)
を含む。
【０１３１】
上記で定義された日焼け止め組成物の好ましい実施形態では、少なくとも1種の更なるUVフィルターである2,4-ビス-{[4-(2-エチル-ヘキシルオキシ)-2-ヒドロキシ]-フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5トリアジン(INCIビス-エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン)は、日焼け止め組成物の総重量に基づいて0.1〜2.8重量%の量で日焼け止め組成物中に存在する。
【０１３２】
上記で定義された日焼け止め組成物の別の好ましい実施形態では、少なくとも1種の更なるUVフィルターである2,4-ビス-{[4-(2-エチル-ヘキシルオキシ)-2-ヒドロキシ]-フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5トリアジン(INCIビス-エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン)は、日焼け止め組成物の総重量に基づいて0.1〜2.5重量%の量で日焼け止め組成物中に存在する。
【０１３３】
上記で定義された日焼け止め組成物の好ましい実施形態では、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)は、日焼け止め組成物の総重量に基づいて0.1〜15重量%の量で日焼け止め組成物中に存在する。
【０１３４】
上記で定義された日焼け止め組成物の別の好ましい実施形態では、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)は、日焼け止め組成物の総重量に基づいて0.3〜10重量%の量で日焼け止め組成物中に存在する。
【０１３５】
上記で定義された日焼け止め組成物の別の好ましい実施形態では、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)は、日焼け止め組成物の総重量に基づいて0.5〜5重量%の量で日焼け止め組成物中に存在する。
【０１３６】
上記で定義された日焼け止め組成物の特に好ましい実施形態では、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)は、日焼け止め組成物の総重量に基づいて1〜3重量%の量で日焼け止め組成物中に存在する。
【０１３７】
上記で定義された日焼け止め組成物の別の特に好ましい実施形態では、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)は、日焼け止め組成物の総重量に基づいて1〜2.6重量%の量で日焼け止め組成物中に存在する。
【０１３８】
上記の好ましい実施形態と関連して、日焼け止め組成物の総重量は、上記で定義された日焼け止め組成物を指し、日焼け止め組成物は少なくとも1種の添加剤を含み得ることを理解されたい。
【０１３９】
上記で定義された日焼け止め組成物の好ましい実施形態では、ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイルヘキシルベンゾエート)は、日焼け止め組成物の総重量に基づいて0.1〜10重量%の量で日焼け止め組成物中に存在する。
【０１４０】
上記で定義された日焼け止め組成物の特に好ましい実施形態では、ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイルヘキシルベンゾエート)は、日焼け止め組成物の総重量に基づいて1〜7重量%の量で日焼け止め組成物中に存在する。
【０１４１】
上記の好ましい実施形態と関連して、日焼け止め組成物の総重量は、上記で定義された日焼け止め組成物を指し、日焼け止め組成物は少なくとも1種の添加剤を含み得ることを理解されたい。
【０１４２】
上記で定義された日焼け止め組成物の好ましい実施形態では、4,4',4''-(1,3,5-トリアジン-2,4,6-トリイルトリイミノ)トリス-安息香酸-トリス(2-エチルヘキシル)エステル(INCIエチルヘキシルトリアゾン)は、日焼け止め組成物の総重量に基づいて0.1〜5重量%の量で日焼け止め組成物中に存在する。
【０１４３】
上記で定義された日焼け止め組成物の特に好ましい実施形態では、4,4',4''-(1,3,5-トリアジン-2,4,6-トリイルトリイミノ)トリス-安息香酸-トリス(2-エチルヘキシル)エステル(INCIエチルヘキシルトリアゾン)は、日焼け止め組成物の総重量に基づいて0.5〜3重量%の量で日焼け止め組成物中に存在する。
【０１４４】
上記の好ましい実施形態と関連して、日焼け止め組成物の総重量は、上記で定義された日焼け止め組成物を指し、日焼け止め組成物は少なくとも1種の添加剤を含み得ることを理解されたい。
【０１４５】
上記で定義された日焼け止め組成物の好ましい実施形態では、(RS)-2-エチルヘキシル-2-ヒドロキシベンゾエート(INCIエチルヘキシルサリチレート)は、日焼け止め組成物の総重量に基づいて0.1〜5重量%の量で日焼け止め組成物中に存在する。
【０１４６】
上記の好ましい実施形態と関連して、日焼け止め組成物の総重量は、上記で定義された日焼け止め組成物を指し、日焼け止め組成物は少なくとも1種の添加剤を含み得ることを理解されたい。
【０１４７】
上記で定義された日焼け止め組成物のより好ましい実施形態では、日焼け止め組成物の総重量に基づいて、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)は、1〜3重量%の量で日焼け止め組成物中に存在し、ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイルヘキシルベンゾエート)は、1〜7重量%の量で日焼け止め組成物中に存在し、4,4',4''-(1,3,5-トリアジン-2,4,6-トリイルトリイミノ)トリス-安息香酸-トリス(2-エチルヘキシル)エステル(INCIエチルヘキシルトリアゾン)は、0.5〜3重量%の量で日焼け止め組成物中に存在し、(RS)-2-エチルヘキシル-2-ヒドロキシベンゾエート(INCIエチルヘキシルサリチレート)は、0.1〜5重量%の量で日焼け止め組成物中に存在し、2,4-ビス-{[4-(2-エチル-ヘキシルオキシ)-2-ヒドロキシ]-フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5トリアジン(INCIビス-エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン)は、0.1〜2.5重量%の量で日焼け止め組成物中に存在する。
【０１４８】
上記の好ましい実施形態と関連して、日焼け止め組成物の総重量は、上記で定義された日焼け止め組成物を指し、日焼け止め組成物は少なくとも1種の添加剤を含み得ることを理解されたい。
【０１４９】
上記の好ましい実施形態と関連して、ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイルヘキシルベンゾエート)と、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)とは、ある特定の比で存在し得ることを理解されたい。
【０１５０】
したがって、上記で定義された日焼け止め組成物の好ましい実施形態では、ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイルヘキシルベンゾエート)と、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)とは、0.8以上の比で存在する。
【０１５１】
本発明は、以下の実施例により更に例証される。
【実施例】
【０１５２】
日焼け止め組成物の製造方法
試験を行った各日焼け止め組成物用の、以下の表1.1.a、1.1.b、1.2.a、1.2.b、1.3.a及び1.3.bに示すパートAの原料、同様にパートBの原料を合わせて、それぞれ80℃まで加熱し、ここでパートAをパートBに撹拌下で添加し、更に均質化した。それに続いて、日焼け止め組成物を撹拌下で室温まで冷却した。必要であれば、パートCを続いて添加してpHを調節した。
【０１５３】
日焼け止め組成物
互いに比較した日焼け止め組成物は、いずれの場合にも、同等のSPF及び/又はUV-A防御をもたらす。
【０１５４】
【表１】
2022501414.tif 000002
2022501414.tif 000003
2022501414.tif 000004
2022501414.tif 000005
【０１５５】
布帛汚れの測定
日焼け止め組成物の布帛汚れを、上述のL*a*bにより測定した。以下の装置を使用して分光光度計で測定を実施した:Remission分光計Datacolor SF400(光源D65、オブザーバ10°)。
【０１５６】
布帛汚れを決定するために、白色布地上の日焼け止め組成物汚れの色と白色布地単独の色との間の差異を、ΔE*=Δb*という仮定に従って決定した。色差が低いほど、布帛汚れはより少ない。
【０１５７】
更に、洗浄性を決定するために、1回又は3回の洗浄サイクル後の白色布地上の日焼け止め組成物汚れの色と白色布地単独の色との間の差異を、ΔE*=Δb*という仮定に従って決定した。洗浄前に得られた値と比較して、色差が低いほど布帛汚れはより多く低減されており、すなわち、日焼け止め組成物の布地からの洗浄性がより良好である。
【０１５８】
白色布地上に汚れを作るために、日焼け止め組成物の塗布用に、日焼け止め組成物を水又はエタノールで、希釈混合物の総重量に基づいて10重量%の濃度に希釈した。汚れを得るために、300mg(15mg/cm2)の希釈混合物を、白色布地に塗布する(WG 170±10、洗浄後WG 190±10に調整された白色度)。
【０１５９】
洗浄性を決定するために、洗浄機中で40℃の温度で20分間及びHenkelから入手したPersil Universal Gel(汚れ上に3g)を使用して、1回又は3回の洗浄サイクルを実施した。各布地を別々に洗浄した。
【０１６０】
日焼け止め組成物1a、1b、1c、2a及び2bの結果を、表2.1.a、2.1.b及び図1に示す。
【０１６１】
【表２】
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【０１６２】
日焼け止め組成物3a、3b、3c、4a及び4bの結果を、表2.2.a、2.2.b及び図2に示す。
【０１６３】
【表３】
2022501414.tif 000007
【０１６４】
日焼け止め組成物5a、5b、6a及び6bの結果を、表2.3.a及び2.3.bに示す。
【０１６５】
【表４】
2022501414.tif 000008
【０１６６】
本発明は、詳細には以下の更なる項目に関する。
1.  日焼け止め組成物の布帛汚れを低減するための、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)の使用。
2.  日焼け止め組成物の布地からの洗浄性を促進するための、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)の使用。
3.  日焼け止め組成物が、日焼け止め組成物の紫外線防御指数の少なくとも3分の1であるUV-A防御を有し、且つ/又は少なくとも370nmの臨界波長を示す、項目1又は2に記載の使用。
4.  日焼け止め組成物が、少なくとも1種の更なるUV-Aフィルターを含む、項目1〜3のいずれか一つに記載の使用。
5.  少なくとも1種の更なるUV-Aフィルターが、トリアジン誘導体、ベンゾトリアゾール誘導体、ベンゾフェノン誘導体、ジベンゾイルメタン誘導体、ショウノウ誘導体、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、項目4に記載の使用。
6.  少なくとも1種の更なるUV-Aフィルターが、4-(tert.-ブチル)-4'-メトキシジベンゾイルメタン(INCIブチルメトキシジベンゾイルメタン)、ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイルヘキシルベンゾエート)、2,4-ビス-{[4-(2-エチル-ヘキシルオキシ)-2-ヒドロキシ]-フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5トリアジン(INCIビス-エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン)、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、項目4又は5に記載の使用。
7.  2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)が、日焼け止め組成物の総重量に基づいて0.2〜15重量%、好ましくは0.5〜5重量%、より好ましくは1〜3重量%の量で日焼け止め組成物中に存在する、項目1〜6のいずれか一つに記載の使用。
8.  日焼け止め組成物が、少なくとも1種の微粒子UVフィルターを更に含み、好ましくは少なくとも1種の微粒子UVフィルターが、2,2'-メチレンビス[6-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)フェノール](INCIメチレンビス-ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール)、2,4,6-トリス(ビフェニル-4-イル)-1,3,5-トリアジン(INCIトリスビフェニルトリアジン)、1,1'-(1,4-ピペラジンジイル)ビス[1-[2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]フェニル]-メタノン(INCIビス-(ジエチルアミノヒドロキシベンゾイルベンゾイル)ピペラジン)、5,6,5',6'-テトラフェニル-3-3'-(1,4-フェニレン)ビス(1,2,4-トリアジン)(INCIフェニレンビス-ジフェニルトリアジン)、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される有機微粒子UVフィルター、二酸化チタン、酸化亜鉛、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される無機微粒子UVフィルター、又は任意の前記有機及び無機微粒子UVフィルターの組み合わせである、項目1〜7のいずれか一つに記載の使用。
9.  日焼け止め組成物が、[(3Z)-3-[[4-[(Z)-[7,7-ジメチル-2-オキソ-1-(スルホメチル)-3-ビシクロ[2.2.1]ヘプタニリデン]メチル]フェニル]メチリデン]-7,7-ジメチル-2-オキソ-1-ビシクロ[2.2.1]ヘプタニル]メタンスルホン酸(INCIテレフタリリデンジショウノウスルホン酸)、2-フェニル-1H-ベンゾイミダゾール-5-スルホン酸(INCIフェニルベンゾイミダゾールスルホン酸)、二ナトリウムフェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホネート、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される少なくとも1種の水溶性UVフィルターを更に含む、項目1〜7のいずれか一つに記載の使用。
10.  日焼け止め組成物が、少なくとも1種のUVフィルターを更に含み、少なくとも1種の更なるUV-Bフィルターが、4,4',4''-(1,3,5-トリアジン-2,4,6-トリイルトリイミノ)トリス-安息香酸-トリス(2-エチルヘキシル)エステル(INCIエチルヘキシルトリアゾン)、(RS)-2-エチルヘキシル-2-ヒドロキシベンゾエート(INCIエチルヘキシルサリチレート)、3,3,5-トリメチル-シクロヘキシルサリチレート(ホモサレート)、2-エチルヘキシル2-シアノ-3,3-ジフェニル-2-プロペノエート(INCIオクトクリレン)、(RS)-2-エチルヘキシル-(2E)-3-(4-メトキシフェニル)プロパ-2-エノエート(INCIエチルヘキシルメトキシシンナメート)、4-メトキシケイ皮酸2-エチルヘキシルエステル(INCIエチルヘキシルメトキシシンナメート)、マロネート誘導体、例えばジメチコンジエチルベンザルマロネート、ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、項目1〜9のいずれか一つに記載の使用。
11.  (i)2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)、
(ii)ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイルヘキシルベンゾエート)、
(iii)4,4',4''-(1,3,5-トリアジン-2,4,6-トリイルトリイミノ)トリス-安息香酸-トリス(2-エチルヘキシル)エステル(INCIエチルヘキシルトリアゾン)、及び
(iv)(RS)-2-エチルヘキシル-2-ヒドロキシベンゾエート(INCIエチルヘキシルサリチレート)
を含む日焼け止め組成物。
12.  2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-[2-メチル-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]-1-ジシロキサニル]プロピル]フェノール(INCIドロメトリゾールトリシロキサン)が、日焼け止め組成物の総重量に基づいて0.1〜15重量%、好ましくは0.5〜5重量%、より好ましくは1〜3重量%の量で日焼け止め組成物中に存在する、項目11に記載の日焼け止め組成物。
13.  ヘキシル2-[4-(ジエチルアミノ)-2-ヒドロキシベンゾイル]ベンゾエート(INCIジエチルアミノヒドロキシベンゾイルヘキシルベンゾエート)が、日焼け止め組成物の総重量に基づいて0.1〜10重量%、好ましくは1〜7重量%の量で存在する、項目11又は12に記載の日焼け止め組成物。
14.  4,4',4''-(1,3,5-トリアジン-2,4,6-トリイルトリイミノ)トリス-安息香酸-トリス(2-エチルヘキシル)エステル(INCIエチルヘキシルトリアゾン)が、日焼け止め組成物の総重量に基づいて0.1〜5重量%、好ましくは0.5〜3重量%の量で存在する、項目11〜13のいずれか一つに記載の日焼け止め組成物。
15.  (RS)-2-エチルヘキシル-2-ヒドロキシベンゾエート(INCIエチルヘキシルサリチレート)が、日焼け止め組成物の総重量に基づいて0.1〜5重量%の量で存在する、項目11〜14のいずれか一つに記載の日焼け止め組成物。
【図１】
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【図２】
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【国際調査報告】
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2022501414.tif 000012
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