【手続補正書】
【提出日】平成22年10月29日(2010.10.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子源（１）と、衝突電離によってイオン（２２）を形成するための反応ゾーン（３０）とを備え、前記電子源（１）は電子（２１）の通過開口部（４０）を介して反応ゾーン（３０）と連通するように接続されている真空圧力測定装置において、前記電子源（１）は真空室（７）を備える絶縁性ハウジング（６）で取り囲まれており、前記真空室（７）を外部領域に対して封止するように分離するとともに少なくとも部分的に電子透過性に構成されたナノ膜（５）を少なくとも１つの部分領域で支持する隔膜支持体（４）として壁部が構成されており、当該真空室（７）の中には電子（２１）を放出するための陰極（２）が配置されており、前記ナノ膜（５）の領域および／または前記ナノ膜の表面には陽極構造（３）が設けられており、それにより電子（２１）が前記ナノ膜（５）に向かって案内されて少なくとも部分的に該ナノ膜を通り抜けるように案内されるようになっており、前記ナノ膜（５）は前記真空圧力測定装置の真空室に接していることを特徴とする真空圧力測定装置。
【請求項２】
前記真空室（７）は前記ハウジング（６）によって全面的に真空気密に取り囲まれており、その中に独立した真空を有しており、その内部またはその表面には真空条件を維持するためのゲッター（８）が配置されていることを特徴とする、請求項１に記載の真空圧力測定装置。
【請求項３】
前記真空室（７）は前記ハウジング（６）によって全面的に真空気密に取り囲まれており、前記ハウジング（６）は接続部または真空弁を備える接続部を有しており、これに真空条件を連続的または非連続的に維持するための真空システムが配置されており、好ましくはターボ分子ポンプが配置されていることを特徴とする、請求項１に記載の真空圧力測定装置。
【請求項４】
前記ハウジング（６）は前記真空室（７）を前記真空測定装置の真空室と接続する開口部を有していることを特徴とする、請求項１に記載の真空圧力測定装置。
【請求項５】
前記陰極（２）は熱陰極であることを特徴とする、請求項１〜４のうちいずれか１項に記載の真空圧力測定装置。
【請求項６】
前記陰極（２）は間接的に加熱される陰極構造であることを特徴とする、請求項５に記載の真空圧力測定装置。
【請求項７】
前記陰極は電界放出陰極（２）であることを特徴とする、請求項１から４までのいずれか１項に記載の真空圧力測定装置。
【請求項８】
前記電界放出陰極（２）の手前に制御グリッド（１２）が配置されていることを特徴とする、請求項７に記載の真空圧力測定装置。
【請求項９】
前記電界放出陰極（２）はマイクロチップまたはカーボンナノチューブ（ＣＮＴ）の型式の陰極であり、または好ましくはナノ構造化された電界放出面であることを特徴とする、請求項７または８に記載の真空圧力測定装置。
【請求項１０】
前記電界放出面は電解放出フィルム（２）を有するナノ構造化された面であり、該電界放出フィルムは前記陰極支持体（９）の上に載っていることを特徴とする、請求項９に記載の真空圧力測定装置。
【請求項１１】
ナノ構造化された前記電界放出面は前記陰極支持体の金属中実材料の表面で構成されており、好ましくはステンレス鋼でできていることを特徴とする、請求項９に記載の真空圧力測定装置。
【請求項１２】
前記ナノ膜（５）はセラミックでできており、好ましくは窒化物セラミックまたは特に酸化物セラミックもしくはこれらの混合形態でできていることを特徴とする、請求項１〜１１のうちいずれか１項に記載の真空圧力測定装置。
【請求項１３】
前記ナノ膜（５）はＳｉ３Ｎ４，ＳｉＯ２，Ａｌ２Ｏ３，ＺｒＯ２，Ｙ２Ｏ３，ＳｉＣのセラミックまたはこれらの混合形態でできていることを特徴とする、請求項１２に記載の真空圧力測定装置。
【請求項１４】
前記ナノ膜（５）は酸化アルミニウムでできており、好ましくはα型酸化アルミニウムおよび特にサファイアもしくはその混合形態でできていることを特徴とする、請求項１２または１３に記載の真空圧力測定装置。
【請求項１５】
前記ナノ膜（５）は金属フィルムでできており、好ましくはニッケルフィルム、アルミニウムフィルム、銅フィルム、または特殊鋼フィルム、もしくはこれらの合金でできていることを特徴とする、請求項１から１１までのいずれか１項に記載の真空圧力測定装置。
【請求項１６】
前記ナノ膜（５）は特殊鋼フィルムでできており、好ましくは前記真空測定装置のハウジング壁（４２）と同じ材料でできていることを特徴とする、請求項１から１１までのいずれか１項に記載の真空圧力測定装置。
【請求項１７】
前記ナノ膜（５）の厚み（ｄｎ）は２５から５００ｎｍの範囲内にあり、好ましくは１００から２００ｎｍの範囲内にあることを特徴とする、請求項１〜１６のうちいずれか１項に記載の真空圧力測定装置。
【請求項１８】
前記ナノ膜（５）の面積寸法は０．１から４０．０ｍｍ２の範囲内にあることを特徴とする、請求項１〜１７のうちいずれか１項に記載の真空圧力測定装置。
【請求項１９】
前記ナノ膜（５）の面積寸法は０．１から１．０ｍｍ２の範囲内にあり、好ましくは０．３から０．７ｍｍ２の範囲内にあり、前記ナノ膜（５）の最大の寸法公差は前記反応ゾーン（３０）の換気時に大気圧に対して耐えるために１つの方向で０．７ｍｍを超えておらず、好ましくは０．５ｍｍを超えていないことを特徴とする、請求項１〜１８のうちいずれか１項に記載の真空圧力測定装置。
【請求項２０】
前記ナノ膜（５）の面形状は実質的に前記陰極（２）の形状に合わせて適合化されていることを特徴とする、請求項１〜１９のうちいずれか１項に記載の真空圧力測定装置。
【請求項２１】
前記ナノ膜（５）を少なくとも部分的に通り抜けるように電子（２１）を加速させるために５ＫＶから５０ＫＶ、好ましくは１０ＫＶから５０ＫＶの範囲内の値をもつ電圧が前記陰極（２）と前記陽極構造（３）の間で印加されることを特徴とする、請求項１〜２０のうちいずれか１項に記載の真空圧力測定装置。
【請求項２２】
加速電圧が１０ｋＶ以上であるとき、前記ナノ膜（５）を備える前記電子源構造（１）はナノ単位の薄さの当該膜の９０％以上の電子透過性を有していることを特徴とする、請求項１〜２１のうちいずれか１項に記載の真空圧力測定装置。
【請求項２３】
前記電子源（１）の前記真空室（７）の中では１０−１ｍｂａｒから１０−８ｍｂａｒの範囲内の値の真空が生じており、好ましくは１０−３から１０−６ｍｂａｒの範囲内の値の真空が生じていることを特徴とする、請求項１〜２２のうちいずれか１項に記載の真空圧力測定装置。
【請求項２４】
前記真空測定装置は全圧測定セルまたは全圧測定管であり、好ましくはベイアード・アルバートの型式または抽出式マノメータの型式であることを特徴とする、請求項１〜２３のうちいずれか１項に記載の真空圧力測定装置。
【請求項２５】
前記真空測定装置は分圧測定装置であり、好ましくは質量分析計であり、好ましくは四重極質量分析計の型式であることを特徴とする、請求項１から１９までのいずれか１項に記載の真空圧力測定装置。
【請求項２６】
前記熱陰極（２）は管工学に属する、特に受像管工学に属する低コストな高出力標準陰極であることを特徴とする、請求項１〜２５のうちいずれか１項に記載の真空圧力測定装置。
【請求項２７】
前記ナノ膜（５）の後には該ナノ膜（５）と前記真空測定装置の前記反応ゾーン（３０）の間に抑制グリッド（４３）が配置されていることを特徴とする、請求項１〜２６のうちいずれか１項に記載の真空圧力測定装置。