【手続補正書】
【提出日】平成21年11月30日(2009.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エッチングガス源と、サンプルのエッチングが行われる主チャンバと、第１膨張チャンバと、第２膨張チャンバと、各膨張チャンバを前記主チャンバと前記エッチングガス源とに接続する手段とを備えたエッチングシステムによってサンプルをエッチングする方法であって、
（ａ）前記接続手段を制御して、前記第１膨張チャンバに前記エッチングガス源から前記主チャンバへのエッチングガスの一定の流れを維持するのに好適な量のエッチングガスがチャージされ、一旦チャージされるとそこから分離される工程、
（ｂ）前記接続手段を制御して、チャージされた第１膨張チャンバを前記主チャンバに接続し、それによって前記第１膨張チャンバ内のエッチングガスの圧力が低下するように前記第１膨張チャンバ中のエッチングガスのチャージが前記主チャンバに流れる工程、
（ｃ）前記第１膨張チャンバ内のエッチングガスが前記主チャンバに流れている間に、前記接続手段を制御して、前記第２膨張チャンバに前記エッチングガス源から、前記主チャンバへのエッチングガスの一定の流れを維持するのに好適な量のエッチングガスがチャージされ、一旦チャージされると、そこから分離される工程、
（ｄ）前記工程（ｃ）に引き続き、前記第１膨張チャンバ内のエッチングガスの圧力が、前記主チャンバへのエッチングガスの一定の流れを維持するのに十分なレベル未満に低下する前に、前記接続手段を制御して前記第１膨張チャンバを前記主チャンバから分離し、前記第２膨張チャンバを前記主チャンバに接続する工程、
（ｅ）前記工程（ｄ）に引き続き、前記第２膨張チャンバ内のエッチングガスが前記主チャンバに流れている間に、前記接続手段を制御して、前記第１膨張チャンバに前記エッチングガス源から、前記主チャンバへのエッチングガスの一定の流れを維持するのに好適な量のエッチングガスがチャージされ、一旦チャージされると、そこから分離される工程、および
（ｆ）前記工程（ｅ）に引き続き、前記第２膨張チャンバ内のエッチングガスの圧力が、前記主チャンバへのエッチングガスの一定の流れを維持するのに十分なレベル未満に低下する前に、前記接続手段を制御して前記第２膨張チャンバを前記主チャンバから分離し、
前記第１膨張チャンバを前記主チャンバに接続する工程を含む方法。
【請求項２】
更に、前記工程（ｃ）〜（ｆ）を反復する工程を含む請求項１に記載の方法。
【請求項３】
工程（ｄ）および（ｆ）において、前記第１および第２膨張チャンバを同時に前記主チャンバに接続するように、前記接続手段が制御される請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記第１および第２膨張チャンバは同時に、前記主チャンバに瞬時に接続される請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記エッチングシステムは、前記第１および第２膨張チャンバが同時に前記主チャンバに接続されたとき、前記第１膨張チャンバから前記第２膨張チャンバに、及びその逆に前記第２膨張チャンバから前記第１膨張チャンバに、エッチングガスが流れるのを防止する手段を備え、
工程（ｄ）において、前記第１および第２膨張チャンバが同時に前記主チャンバに接続されたとき、前記防止手段は、前記第２膨張チャンバから前記第１膨張チャンバにエッチングガスが流れ込むのを防止し、
工程（ｆ）において、前記第１および第２膨張チャンバが同時に前記主チャンバに接続されたとき、前記防止手段は、前記第１膨張チャンバから前記第２膨張チャンバにエッチングガスが流れ込むのを防止する請求項３に記載の方法。
【請求項６】
前記工程（ａ）、（ｃ）及び（ｅ）のうちの少なくとも１つは、前記接続手段を制御して、対応する前記膨張チャンバに、前記接続手段に接続された不活性ガス源からの不活性ガスをチャージする工程を含む請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記不活性ガスは、窒素、ヘリウム、アルゴン、キセノン、又はこれらの組み合わせである請求項６に記載の方法。
【請求項８】
エッチングガス源と、
サンプルのエッチングが行われる主チャンバと、
第１膨張チャンバと、
第２膨張チャンバと、
各膨張チャンバを前記主チャンバと前記エッチングガス源とに接続する手段と、
コントローラとを有する気相エッチングシステムであって、
前記コントローラは、下記工程を行うように構成される
（ａ）前記接続手段を制御して、前記第１膨張チャンバを前記エッチングガス源に接続して、接続中に前記主チャンバへのエッチングガスの一定の流れを維持するのに好適な量のエッチングガスでチャージし、一旦チャージされるとそこから分離される工程、
（ｂ）前記接続手段を制御して、
チャージされた第１膨張チャンバを前記主チャンバに接続し、それによって前記第１膨張チャンバ内のエッチングガスのチャージが前記主チャンバに流れて前記第１膨張チャンバ内のエッチングガスの圧力が低下し、かつ
前記第２膨張チャンバを前記エッチングガス源に接続して、接続中に前記主チャンバへのエッチングガスの一定の流れを維持するのに好適な量のエッチングガスでチャージし、一旦チャージされるとそこから分離される工程、および
（ｃ）前記工程（ｂ）に引き続き、前記接続手段を制御して、
チャージされた第２膨張チャンバを前記主チャンバに接続し、それによって前記第２膨張チャンバ内のエッチングガスのチャージが前記主チャンバに流れて前記第２膨張チャンバ内のエッチングガスの圧力が低下し、かつ
前記第１膨張チャンバを前記エッチングガス源に接続して、接続中に前記主チャンバへのエッチングガスの一定の流れを維持するのに好適な量のエッチングガスでチャージし、一旦チャージされるとそこから分離される工程。
【請求項９】
前記コントローラは、前記工程（ｂ）および（ｃ）を反復するように更に構成される請求項８に記載のシステム。
【請求項１０】
工程（ｃ）は、前記第１膨張チャンバ内のエッチングガスの圧力が、前記主チャンバへのエッチングガスの一定の流れを維持するのに十分なレベル未満に低下する前に、前記第２膨張チャンバを前記主チャンバに接続してエッチングガスを供給する工程を含み、
工程（ｂ）が工程（ｃ）に続く場合、工程（ｂ）は、前記第２膨張チャンバ内のエッチングガスの圧力が、前記主チャンバへのエッチングガスの一定の流れを維持するのに十分なレベル未満に低下する前に、前記第１膨張チャンバを前記主チャンバに接続してエッチングガスを供給する工程を含む
請求項９に記載のシステム。
【請求項１１】
工程（ｃ）は、前記第１および第２膨張チャンバの両方を前記主チャンバに瞬時に接続する工程を含み、
工程（ｂ）が工程（ｃ）に続く場合、工程（ｂ）は、前記第１および第２膨張チャンバの両方を前記主チャンバに瞬時に接続する工程を含む請求項１０に記載のシステム。
【請求項１２】
前記第１および第２膨張チャンバの両方を前記主チャンバに接続するとき、前記第１膨張チャンバから前記第２膨張チャンバに、その逆に、前記第２膨張チャンバから前記第１膨張チャンバに、エッチングガスが流れるのを防止する手段を更に備える請求項１１に記載のシステム。
【請求項１３】
前記防止手段は、
前記第１膨張チャンバと第２膨張チャンバとの間のエッチングガスの流れ方向を測定するセンサであって、前記センサに反応して前記接続手段を制御し、前記第１膨張チャンバから前記第２膨張チャンバ内へ、及びその逆に前記第２膨張チャンバから前記第１膨張チャンバ内へ、エッチングガスが流れ込むのを防止する前記コントローラに接続されているセンサ；および
前記第１膨張チャンバと第２膨張チャンバとの間に設けた少なくとも１個の逆止弁のうち少なくとも一方を備える請求項１２に記載のシステム。
【請求項１４】
前記主チャンバへのエッチングガスの流速を制御するための手段、及び前記主チャンバ内のエッチングガスの圧力を制御するための手段の少なくとも１つを更に含む請求項８に記載のシステム。
【請求項１５】
更に、混合ガス（単数又は複数種）源を有し、ここで前記コントローラは、前記接続手段を、各膨張チャンバを前記混合ガス源（単数又は複数種）に選択的に接続するように制御する請求項８に記載のシステム。