【手続補正書】
【提出日】平成22年3月12日(2010.3.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
チャンバと、
前記チャンバ内のガスをイオン化するための点火源と、
前記チャンバ内の前記イオン化ガスにエネルギーを供給して高輝度光を生成するための少なくとも１つのレーザとを備える光源。
【請求項２】
前記少なくとも１つのレーザが、前記高輝度光が生じる領域に向けられる複数のレーザである請求項１に記載の光源。
【請求項３】
前記イオン化ガスに供給される前記レーザエネルギーの特性を変更するために少なくとも１つの光学要素を備える請求項１に記載の光源。
【請求項４】
前記光学要素がレンズまたはミラーである請求項３に記載の光源。
【請求項５】
前記光学要素が、不遊レンズ、色消しレンズ、単一要素レンズおよびフレネルレンズから成るグループから選択されたレンズである請求項４に記載の光源。
【請求項６】
前記光学要素が、コーティングされたミラー、誘電体でコーティングされたミラー、狭帯域ミラーおよび紫外線を透過して赤外線を反射するミラーから成るグループから選択されたミラーである請求項４に記載の光源。
【請求項７】
前記光学要素が、前記レーザエネルギーを前記ガスに向けるための１つまたは複数の光ファイバ要素である請求項３に記載の光源。
【請求項８】
前記チャンバが紫外線透過領域を備える請求項１に記載の光源。
【請求項９】
前記チャンバまたは前記チャンバ内の窓が、石英、Ｓｕｐｒａｓｉｌ石英、サファイア、ＭｇＦ２、ダイヤモンドおよびＣａＦ２から成るグループから選択された材料を含む請求項１に記載の光源。
【請求項１０】
前記チャンバが密閉されたチャンバである請求項１に記載の光源。
【請求項１１】
前記チャンバが能動的に励起され得る請求項１に記載の光源。
【請求項１２】
前記チャンバが誘電材料を含む請求項１に記載の光源。
【請求項１３】
前記チャンバがガラスバルブである請求項１２に記載の光源。
【請求項１４】
前記ガスが、１つまたは複数の希ガス、Ｘｅ、Ａｒ、Ｎｅ、Ｋｒ、Ｈｅ、Ｄ２、Ｈ２、Ｏ２、Ｆ２、金属ハロゲン化物、ハロゲン、Ｈｇ、Ｃｄ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｇａ、Ｆｅ、Ｌｉ、Ｎａ、エキシマ形成ガス、空気、蒸気、金属酸化物、エアロゾル、流れる溶媒、または再生溶媒である請求項１に記載の光源。
【請求項１５】
前記ガスが、前記チャンバ内の対象に衝突するパルスレーザビームによって生成される請求項１に記載の光源。
【請求項１６】
前記少なくとも１つのレーザが、光ファイバ要素内に結合された複数のダイオードレーザを備える請求項１に記載の光源。
【請求項１７】
前記少なくとも１つのレーザがパルスレーザまたは連続波レーザを備える請求項１に記載の光源。
【請求項１８】
前記少なくとも１つのレーザが、ＩＲレーザ、ダイオードレーザ、ファイバレーザ、イッテルビウムレーザ、ＣＯ２レーザ、ＹＡＧレーザ、およびガス放電レーザから成るグループから選択される請求項１に記載の光源。
【請求項１９】
前記少なくとも１つのレーザが、イオン化媒体に強く吸収される電磁エネルギーの少なくとも１つの波長を放射する請求項１に記載の光源。
【請求項２０】
前記点火源が、電極、紫外線点火源、容量性点火源、誘導性点火源、閃光ランプ、パルスレーザおよびパルスランプから成るグループから選択される請求項１に記載の光源。
【請求項２１】
前記点火源が前記チャンバの外部または内部にある請求項１に記載の光源。
【請求項２２】
前記イオン化ガスによって放射された電磁放射の特性を変更するために少なくとも１つの光学要素を備える請求項１に記載の光源。
【請求項２３】
前記光学要素が、前記イオン化ガスによって放射された前記電磁放射をツールに送るように構成される請求項２２に記載の光源。
【請求項２４】
前記ツールが、ウェハ検査ツール、顕微鏡、計量ツール、リソグラフィツールおよび内視鏡検査ツールから成るグループから選択される請求項２３に記載の光源。
【請求項２５】
点火源でチャンバ内のガスをイオン化するステップと、
前記チャンバ内の前記イオン化ガスにレーザエネルギーを供給して高輝度光を生成するステップとを含む、光を生成するための方法。
【請求項２６】
前記イオン化ガスに供給される前記レーザエネルギーの特性を変更するための少なくとも１つの光学要素によって前記レーザエネルギーを方向づけるステップを含む請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
前記光の特性を変更するための少なくとも１つの光学要素によって前記高輝度光を方向づけるステップを含む請求項２５に記載の方法。
【請求項２８】
前記イオン化媒体によって放射された前記高輝度光をツールに送るステップを含む請求項２５に記載の方法。
【請求項２９】
チャンバと、
前記チャンバ内のイオン性媒体をイオン化するための点火源と、
前記チャンバ内の前記イオン化媒体に対して実質的に連続したエネルギーを供給して高輝度光を生成するための少なくとも１つのレーザとを備える光源。
【請求項３０】
前記少なくとも１つのレーザが、連続波レーザおよび高いパルス繰返し数のレーザから成るグループから選択される請求項２９に記載の光源。
【請求項３１】
前記少なくとも１つのレーザが、前記イオン化媒体にエネルギーのパルスを供給する高いパルス繰返し数のレーザであり、そのため前記高輝度光が実質的に連続的である請求項２９に記載の光源。
【請求項３２】
動作中、前記高輝度光の大きさが約９０％を上回って変動することはない請求項３１に記載の光源。
【請求項３３】
前記少なくとも１つのレーザが、前記イオン化媒体にエネルギーが供給されないときに、前記イオン化媒体の冷却を最小化するためにエネルギーを実質的に連続して供給する請求項３１に記載の光源。
【請求項３４】
前記イオン化媒体に供給される前記レーザエネルギーの特性を変更するために少なくとも１つの光学要素を備える請求項２９に記載の光源。
【請求項３５】
前記光学要素がレンズまたはミラーである請求項３４に記載の光源。
【請求項３６】
前記光学要素が、コーティングされたミラー、誘電体でコーティングされたミラー、狭帯域ミラーおよび紫外線を透過して赤外線を反射するミラーから成るグループから選択されたミラーである請求項３４に記載の光源。
【請求項３７】
前記光学要素が、前記レーザエネルギーを前記イオン性媒体に向けるための１つまたは複数の光ファイバ要素である請求項３４に記載の光源。
【請求項３８】
前記チャンバまたは前記チャンバ内の窓が、石英、ｓｕｐｒａｓｉｌ石英、サファイア、ＭｇＦ２、ダイヤモンドおよびＣａＦ２から成るグループから選択された材料を備える請求項２９に記載の光源。
【請求項３９】
前記チャンバが密閉されたチャンバである請求項２９に記載の光源。
【請求項４０】
前記チャンバがガラスバルブである請求項２９に記載の光源。
【請求項４１】
前記チャンバが紫外線透過性誘電体チャンバである請求項２９に記載の光源。
【請求項４２】
前記イオン化媒体が、１つまたは複数の希ガス、Ｘｅ、Ａｒ、Ｎｅ、Ｋｒ、Ｈｅ、Ｄ２、Ｈ２、Ｏ２、Ｆ２、金属ハロゲン化物、ハロゲン、Ｈｇ、Ｃｄ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｇａ、Ｆｅ、Ｌｉ、Ｎａ、エキシマ形成ガス、空気、蒸気、金属酸化物、エアロゾル、流れる溶媒、再生溶媒、または揮発性の対象である請求項２９に記載の光源。
【請求項４３】
前記イオン性媒体が前記チャンバ内の対象であり、前記点火源が、前記対象にぶつかるパルスレーザビームを供給するパルスレーザである請求項２９に記載の光源。
【請求項４４】
前記対象が金属のプールまたはフィルムである請求項４３に記載の光源。
【請求項４５】
前記少なくとも１つのレーザが、光ファイバ要素内に結合された複数のダイオードレーザを備える請求項２９に記載の光源。
【請求項４６】
前記少なくとも１つのレーザが、前記イオン化媒体に強く吸収される電磁エネルギーの少なくとも１つの波長を放射する請求項２９に記載の光源。
【請求項４７】
前記点火源が前記チャンバの外部または内部にある請求項２９に記載の光源。
【請求項４８】
前記イオン化媒体によって放射された電磁放射の特性を変更するために少なくとも１つの光学要素を備える請求項２９に記載の光源。
【請求項４９】
前記光学要素がミラーまたはレンズである請求項４８に記載の光源。
【請求項５０】
前記光学要素が、前記イオン化媒体によって放射された前記電磁放射をツールに送るように構成される請求項４８に記載の光源。
【請求項５１】
チャンバ内のイオン性媒体を点火源でイオン化するステップと、
前記チャンバ内の前記イオン化媒体に対して実質的に連続したレーザエネルギーを供給して高輝度光を発生させるステップとを含む、光を生成するための方法。
【請求項５２】
前記イオン性媒体に供給される前記レーザエネルギーの特性を変更するための少なくとも１つの光学要素によって前記レーザエネルギーを方向づけるステップを含む請求項５１に記載の方法。
【請求項５３】
前記イオン性媒体が固体、液体またはガスを含む請求項５２に記載の方法。
【請求項５４】
前記光の特性を変更するための少なくとも１つの光学要素によって前記高輝度光を方向づけるステップを含む請求項５２に記載の方法。
【請求項５５】
チャンバと、
前記チャンバ内のイオン性媒体をイオン化するための第１の点火手段と、
前記チャンバ内の前記イオン化媒体に対して実質的に連続したレーザエネルギーを供給するための手段とを備える光源。
【請求項５６】
レーザで維持されたプラズマを収容するための石英チャンバであって、前記チャンバ内のイオン化媒体に実質的に連続したレーザエネルギーを供給することにより前記レーザで維持されたプラズマによって生成される高輝度光を放射する石英チャンバを備える光バルブ。
【請求項５７】
前記石英チャンバの内側面が反射性である請求項５６に記載の光バルブ。
【請求項５８】
前記プラズマが約１０，０００Ｋと約２０，０００Ｋの間の高温プラズマである請求項５６に記載の光バルブ。
【請求項５９】
レーザで維持されたプラズマを収容するための密閉されたチャンバであって、前記チャンバ内のイオン化媒体に実質的に連続したレーザエネルギーを供給することにより前記レーザで維持されたプラズマによって生成される高輝度光を放射するチャンバを備える光源。
【請求項６０】
前記チャンバが、反射性の内側面を有する放物面形状ならびに前記放射された光およびレーザエネルギーに対して透過性の窓を備える請求項５９に記載の光源。
【請求項６１】
前記チャンバが、放物面形状および反射性の内側面を有し、前記放物面形状と反射性の内側面が協働して、前記チャンバ内の窓の方へ相当な量の前記高輝度光を反射し、かつ前記窓からの相当な量の前記高輝度光を反射する請求項５９に記載の光源。
【請求項６２】
前記窓がサファイアまたは石英を含む請求項５９に記載の光源。
【請求項６３】
反射面を備えるチャンバと、
前記チャンバ内のガスをイオン化するための点火源と、
反射器の方へ向けられた電磁エネルギーの所定の波長の第１の組を少なくとも実質的に反射し、電磁エネルギーの所定の波長の第２の組が前記反射器を通り抜けることを少なくとも実質的に可能にする反射器と、
高輝度光を発生するプラズマを生成するように、前記チャンバの外部にあって前記チャンバ内の前記イオン化ガスに電磁エネルギーを供給するための少なくとも１つのレーザとを備える光源。
【請求項６４】
前記少なくとも１つのレーザが、電磁エネルギーの第１の組の波長を前記反射器の方へ向け、前記反射器が電磁エネルギーの波長の前記第１の組の少なくとも一部分を前記チャンバの前記反射面の方へ反射し、前記反射面が電磁エネルギーの波長の前記第１の組の一部分を前記プラズマの方へ向ける請求項６３に記載の光源。
【請求項６５】
前記高輝度光の少なくとも一部分が、前記チャンバの前記反射面の方へ向けられ、前記反射器の方へ反射され、かつ前記光源の出力に向かって前記反射器を通り抜ける請求項６４に記載の光源。
【請求項６６】
前記高輝度光を受け取るために前記光源の前記出力に対して間を置いて配置された顕微鏡、紫外線顕微鏡、ウェハ検査システム、レチクル検査システムまたはリソグラフィシステムを備える請求項６５に記載の光源。
【請求項６７】
前記高輝度光の一部分が、前記チャンバの前記反射面の方へ向けられ、前記反射器の方へ反射され、また、電磁エネルギーの所定の波長の前記第２の組を含む電磁エネルギーが前記反射器を通り抜ける請求項６６に記載の光源。
【請求項６８】
前記チャンバが窓を備える請求項６３に記載の光源。
【請求項６９】
前記チャンバが密閉されたチャンバである請求項６３に記載の光源。
【請求項７０】
前記チャンバの前記反射面が、湾曲した形状、放物面の形状、楕円の形状、球形状または非球面の形状を成す請求項６３に記載の光源。
【請求項７１】
前記レーザからの前記電磁エネルギーが進む経路に沿って配設された光学要素を備える請求項６３に記載の光源。
【請求項７２】
前記光学要素が、前記レーザから前記プラズマへの電磁エネルギーを大きな立体角にわたって供給するように適合される請求項７１に記載の光源。
【請求項７３】
前記チャンバの前記反射面が、前記レーザから前記プラズマへの電磁エネルギーを大きな立体角にわたって供給するように適合される請求項６３に記載の光源。
【請求項７４】
前記チャンバの前記反射面が、前記プラズマによって発生された前記高輝度光を大きな立体角にわたって収集するように適合される請求項６３に記載の光源。
【請求項７５】
前記大きな立体角が約３ステラジアンより大きい請求項７４に記載の光源。
【請求項７６】
前記大きな立体角が約５ステラジアンである請求項７５に記載の光源。
【請求項７７】
前記反射面、反射器および前記窓の１つまたは複数が、電磁エネルギーの所定の波長をフィルタリングするための材料を含む請求項６８に記載の光源。
【請求項７８】
前記レーザが連続波のファイバレーザである請求項６３に記載の光源。
【請求項７９】
反射面を備えるチャンバと、
前記チャンバ内のガスをイオン化するための点火源と、
高輝度光を発生するプラズマを生成するように、前記チャンバの外部にあって前記チャンバ内の前記イオン化ガスに電磁エネルギーを供給するための少なくとも１つのレーザと、
前記少なくとも１つのレーザから前記チャンバの前記反射面へ電磁エネルギーが進む経路に沿って配置された反射器とを備える光源。
【請求項８０】
前記反射器が、前記反射器の方へ向けられた電磁エネルギーの所定の波長の第１の組を少なくとも実質的に反射し、かつ電磁エネルギーの所定の波長の第２の組が前記反射器を通り抜けることを少なくとも実質的に可能にするように適合される請求項７９に記載の光源。
【請求項８１】
反射面を備えるチャンバ内のガスを点火源でイオン化するステップと、
前記チャンバ内の前記イオン化ガスにレーザエネルギーを供給して高輝度光を発生するプラズマを生成するステップとを含む、光を生成するための方法。
【請求項８２】
電磁エネルギーの第１の組の波長を含む前記レーザエネルギーを前記反射器の方へ向けるステップを含み、前記反射器が電磁エネルギーの波長の前記第１の組の少なくとも一部分を前記チャンバの前記反射面の方へ反射し、前記反射面が電磁エネルギーの波長の前記第１の組の一部分を前記プラズマの方へ向ける請求項８１に記載の方法。
【請求項８３】
前記高輝度光の一部分を前記チャンバの前記反射面の方へ向けるステップを含み、前記高輝度光の一部分が前記反射器の方へ反射され、また、電磁エネルギーの所定の波長の前記第２の組を含む電磁エネルギーが前記反射器を通り抜ける請求項８２に記載の方法。
【請求項８４】
前記レーザエネルギーの特性を変更する光学要素によって前記レーザエネルギーを方向づけて、大きな立体角にわたって前記プラズマの方へ前記レーザエネルギーを向けるステップを含む請求項８１に記載の方法。
【請求項８５】
前記チャンバの前記反射面が、前記レーザから前記プラズマへの前記レーザエネルギーを大きな立体角にわたって供給するように適合される請求項８１に記載の方法。
【請求項８６】
前記チャンバの前記反射面が、前記プラズマによって発生された前記高輝度光を大きな立体角にわたって収集するように適合される請求項８１に記載の方法。
【請求項８７】
前記レーザエネルギーの特性を変更する光学要素によって前記レーザエネルギーを方向づけて、約０．０１２ステラジアンの立体角にわたって前記プラズマの方へ前記レーザエネルギーを向けるステップを含む請求項８１に記載の方法。
【請求項８８】
前記レーザエネルギーの特性を変更する光学要素によって前記レーザエネルギーを方向づけて、約０．０４８ステラジアンの立体角にわたって前記プラズマの方へ前記レーザエネルギーを向けるステップを含む請求項８１に記載の方法。
【請求項８９】
前記レーザエネルギーの特性を変更する光学要素によって前記レーザエネルギーを方向づけて、約２πステラジアンより大きな立体角にわたって前記プラズマの方へ前記レーザエネルギーを向けるステップを含む請求項８１に記載の方法。
【請求項９０】
反射面を備えるチャンバ内のガスを点火源でイオン化するステップと、
電磁エネルギーの波長の第１の組を前記チャンバ内の前記イオン化ガスの方へ少なくとも実質的に反射する反射器の方へレーザからの電磁エネルギーを向けて、高輝度光を発生するプラズマを生成するステップとを含む、光を生成するための方法。
【請求項９１】
前記レーザからの前記電磁エネルギーが、まず前記反射器によって前記チャンバの前記反射面の方へ反射される請求項９０に記載の方法。
【請求項９２】
前記チャンバの前記反射面の方に向けられた前記電磁エネルギーが、前記プラズマの方へ反射される請求項９１に記載の方法。
【請求項９３】
前記高輝度光の一部分が、前記チャンバの前記反射面の方へ向けられ、前記反射器の方へ反射されて前記反射器を通り抜ける請求項９２に記載の方法。
【請求項９４】
前記チャンバの前記反射面の方に向けられた前記電磁エネルギーが、前記プラズマの方へ反射される請求項９２に記載の方法。
【請求項９５】
前記高輝度光の一部分が、前記チャンバの前記反射面の方へ向けられ、前記反射器の方へ反射されて前記反射器によって反射される請求項９３に記載の方法。
【請求項９６】
密閉されたチャンバと、
前記チャンバ内のガスをイオン化するための点火源と、
高輝度光を発生するプラズマを生成するように、前記密閉されたチャンバの外部にあって前記チャンバ内の前記イオン化ガスに電磁エネルギーを供給するための少なくとも１つのレーザと、
前記密閉されたチャンバの外部に配設され、前記密閉されたチャンバによって放射された前記高輝度光の少なくとも一部分を受け取って前記光源の出力の方へ反射する湾曲した反射面とを備える光源。
【請求項９７】
前記レーザからの前記電磁エネルギーが進む経路に沿って配設された光学要素を備える請求項９６に記載の光源。
【請求項９８】
前記密閉されたチャンバが、前記湾曲した反射面に対して前記密閉されたチャンバを配置する支持要素を備える請求項９６に記載の光源。
【請求項９９】
前記レーザ電磁エネルギーの少なくとも一部分を受け取り、かつ前記高輝度光を発生する前記プラズマに対して前記電磁エネルギーを合焦するために、前記密閉されたチャンバの内部または外部に配設される第２の湾曲した反射面を備える請求項９６に記載の光源。
【請求項１００】
密閉されたチャンバと、
前記チャンバ内のガスをイオン化するための点火源と、
前記密閉されたチャンバの外部にあって電磁エネルギーを供給するための少なくとも１つのレーザと、
前記電磁エネルギーの少なくとも一部分を受け取って前記チャンバ内の前記イオン化ガスの方へ反射し、高輝度光を発生するプラズマを生成する湾曲した反射面とを備える光源であって、前記湾曲した反射面が、前記プラズマによって放射された前記高輝度光の少なくとも一部分も受け取って前記光源の出力の方へ反射する光源。
【請求項１０１】
前記湾曲した反射面が、前記チャンバ内の前記プラズマがある領域に対して前記電磁エネルギーを合焦する請求項１００に記載の光源。
【請求項１０２】
前記湾曲した反射面が前記チャンバ内に配置される請求項１００に記載の光源。
【請求項１０３】
前記湾曲した反射面が前記チャンバの外部に配置される請求項１００に記載の光源。
【請求項１０４】
前記高輝度光が紫外線光を含む請求項１００に記載の光源。