【事件の表示】
　平成　７年特許願第１８８１４３号「露光用マスク作製装置における走査用データ作成装置及び走査用データの作成方法」拒絶査定不服審判事件〔平成　９年　１月１７日出願公開、特開平　９−　１５８３３〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、出願日が平成７年６月３０日である特願平７−１８８１４３号であって、平成１５年３月１３日付けで拒絶査定がなされ、これに対し平成１５年４月２４日に拒絶査定に対する審判請求がなされた。
　
２．本願発明
　本願の請求項１に係る発明は、平成１４年１２月２５日提出の手続補正書により補正された明細書及び図面の記載から見て、その特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりのもの（以下、「本願発明」という。）と認める。
「露光用マスクに形成されたパターンを露光光を用いてレジストに転写したときレジストに形成されるパターンの変形を抑制するために、補正されたパターンを露光用マスクに形成するためのラスタ走査方式若しくはベクタ走査方式のパターン描画装置を備えた露光用マスク作製装置に具備され、そして該パターン描画装置の描画走査を制御するための走査用データを作成する走査用データ作成装置であって、
　（イ）外部からマスクデータを受け取り、該マスクデータに基づき走査用データを生成するための走査用データ生成手段、
　（ロ）走査用データ生成手段にて生成された走査用データを記憶するデータ記憶手段、
　（ハ）該データ記憶手段に記憶された走査用データを読み出し、読み出された走査用データに対して所定の手法に基づき補正処理を行い、得られた補正された走査用データを再び該データ記憶手段に記憶するための補正処理手段、及び、
　（ニ）該データ記憶手段に記憶された補正された走査用データをパターン描画装置に送出するための出力制御手段、
から成ることを特徴とする走査用データ作成装置。」
　
３．引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された、本願の出願前に頒布された特開平４−３４５５０号公報（以下、引用例１という。）には、次の事項が記載されている。
ア．［産業上の利用分野］
　本発明は、マスク製造用露光データの作成方法、より詳しくは、ＬＳＩを製造する場合に使用されるマスク（レチクルを含む）を製造する場合に、マスク製造用露光装置に供給すべきマスク製造用の露光データを作成する方法に関する。
　［従来の技術］
　従来、マスク製造用露光データは第２図に示すようにして作成されていた。即ち、設計データ・ファイル１に格納された各層のパターンデータ・・・からなる設計データを汎用計算機２に供給し、この汎用計算機２において、露光装置に必要なフォーマットへの変換・・・などの処理を行うことによって作成されていた。なお、このようにして作成されたマスク製造用の露光データは、露光データ・ファイル３に格納され、露光実行時に露光装置４に供給されていた。（公報第２頁左上欄１行〜右上蘭３行）
　
イ．まず、設計データ・ファイル１に格納された設計データが汎用計算機２に供給され、この汎用計算機２において、露光装置フォーマットへの変換、特殊パターンの発生、層合成の処理が行われ、この結果が露光装置フォーマット設計データ・ファイル５に格納され、その後、露光を実行する際に、露光装置フォーマット設計データ・ファイル５に格納された露光装置フォーマット設計データと、サイジングデータ・ファイル６に格納されたサイジングデータと、論理処理条件ファイル７に格納された論理処理条件と、特殊パターン・ファイル８に格納された特殊パターン・データと、ミラー情報ファイル９に格納されたミラー情報と、リダクト情報ファイル１０に格納されたリダクト情報とが専用計算機１１に供給され、この専用計算機１１において、露光前処理、即ち、露光装置フォーマット設計データに対するサイジング、論理処理、特殊パターンの発生、ミラー、リダクトの各処理が実行される。ここに、マスク製造用露光データが作成され、このマスク製造用露光データは露光装置４に供給される。
　
　したがって、上記記載事項、及び第１図も参照すれば、引用例１には、
「パターンデータを露光する露光装置４に具備され、マスク製造用露光データを作成する専用計算機１１であって、露光装置フォーマット設計データの供給を受け、この専用計算機１１において、露光前処理、即ち、露光装置フォーマット設計データに対するサイジング、論理処理、特殊パターンの発生、ミラー、リダクトの各処理が実行され、マスク製造用露光データが作成され、このマスク製造用露光データは露光装置４に供給する専用計算機１１」（以下、「引用発明」という。）が記載されていると認められる。
　
　また、同じく、原査定の拒絶の理由に引用された、本願の出願前に頒布された特開平６−１８６７２４号公報（以下、引用例２という。）には、次の事項が記載されている。
ウ．【００１５】
　マスク設計時の問題として、エッチング、メッキ工程での線幅の変化に対しマスク線幅寸法をどの位補正（線が細くなる時はマスク線幅をその分太くしておく。太く成るときは逆。）するかが重要なテーマとして取り上げられる。
【００１６】
　エッチング、メッキ等ではそれぞれの工程（処理）ごとに線幅の変化は方向性がある為予め実験等にてその変化を調査し、変化量をマスク設計時にもりこむのが一般的である。
　
エ．【００３３】【作用】
　前述したように本発明は、レーザープロッターにおける作画データをラスター変換したデータに補正データを反映させ、パターン密度ごとにマスク補正を行なうようにしたので、エッチングなどに対するパターンの不均一性が解消され、より高密度の回路などのパターン作製が可能となる。
　
オ．【００３６】
　まず、従来同様、図２（ａ）に示すような作画プログラムの入力をする。即ち、アパーチャー（モジュレーター）選択命令（Ｄ１０）、位置指定（Ｘ１２３、Ｙ１２３など）、レーザー照射する（Ｄ０１）、しない（Ｄ０２）などのデータを入力する。
【００３７】
　このように入力された全データを、レーザープロッターの制御を行なうコンピューターのメモリ上にラスター変換（周知のように画素に分解する方式）する。即ち、図２（ｂ）に示すように、作画パターンをあるピッチ（一般的には５〜２５．４μｍ、本実施例は図２（ｂ）のように５μｍピッチとした）に分割した画素データとする。
【００３８】
　このラスター変換データをもとに、それに寸法的に対応したレーザービームをフィルム（原板）上に、スキャンしながら照射してパターンを作製するのであるが、本実施例では、このラスター変換されたデータにパターン補正をするようにしたものである。以下にそれを説明する。
　
カ．【００４１】
　以上のようにして、ラスター変換したデータを補正した後のデータを用いて、レーザービームをスキャンしながらパターンマスクを作製すれば、図１に示すレジスト３を、パターン密度に応じた幅１で作製できる。無論、ネガレジストとポジレジストとではレーザービームの照射の仕方は逆であるが、要するに画素データとしての照射「１」、無照射「０」を補正することによってレジスト幅を最適の幅にできることは同じである。
【００４２】
　以上の説明は、プリント基板を主体に説明したが、それ以外のパターンマスクにも適用できることは説明を要さないであろう。
　
４．対比
　本願発明と引用発明とを対比すると、引用発明の「パターンデータを露光する露光装置４」は、「パターン描画装置」についての明示的記載はないが、パターンデータを露光するのであるから、「パターン描画装置」を有していることは自明である。また、引用発明の「露光前処理、即ち、露光装置フォーマット設計データに対するサイジング、論理処理、特殊パターンの発生、ミラー、リダクトの各処理が実行され」は、本願発明の「補正された」に相当するので、引用発明の「パターンデータを露光する露光装置４」は、本願発明の「補正されたパターンを露光用マスクに形成するためのパターン描画装置を備えた露光用マスク作製装置」に相当する。
　また、引用発明の「マスク製造用露光データ」、本願発明の「走査用データ」は、ともに「パターン描画装置用データ」といえる。したがって、引用発明の「専用計算機１１」、本願発明の「走査用データ作成装置」は、ともに「パターン描画装置用データ作成装置」といえる。そして、引用発明の「マスク製造用露光データ」は、「露光装置４」を制御するためのデータであることも自明である。
　引用発明の「露光装置フォーマット設計データ」は、本願発明の「マスクデータ」に相当し、「専用計算機１１」は、外部から「露光装置フォーマット設計データの供給を受け、」「マスク製造用露光データ」を作成するものなので、引用発明も、本願発明の「外部からマスクデータを受け取り、該マスクデータに基づき走査用データを生成するための走査用データ生成手段」に対応する「外部からマスクデータを受け取り、該マスクデータに基づきパターン描画装置用データを生成するためのパターン描画装置用データ生成手段」を有しているといえる。
　
　したがって、両者は、「補正されたパターンを露光用マスクに形成するためのパターン描画装置を備えた露光用マスク作製装置に具備され、そして該パターン描画装置の描画を制御するためのパターン描画装置用データを作成するパターン描画装置用データ作成装置であって、
　外部からマスクデータを受け取り、該マスクデータに基づきパターン描画装置用データを生成するためのパターン描画装置用データ生成手段、
　を有しているパターン描画装置用データ作成装置」である点で一致し、以下の各点で相違する。
　
相違点１；
　本願発明では、「補正」が、「露光用マスクに形成されたパターンを露光光を用いてレジストに転写したときレジストに形成されるパターンの変形を抑制するため」であるのに対し、引用発明では、そのような限定がない点。
　
相違点２；
　本願発明では、「パターン描画装置」が、「ラスタ走査方式若しくはベクタ走査方式」であるのに対し、引用発明では、そのような限定がない点。
　
相違点３；
　パターン描画装置用データが、本願発明では、「走査用データ」であるのに対し、引用発明では、そのような限定がなく、本願発明では、パターン描画装置の「描画走査を制御する」のに対し、引用発明では、そのような限定がない点。
　
相違点４；
　本願発明では、「走査用データ生成手段にて生成された走査用データを記憶するデータ記憶手段」を有している、のに対し、引用発明では、そのような限定がない点。
　
相違点５；
　本願発明では、「該データ記憶手段に記憶された走査用データを読み出し、読み出された走査用データに対して所定の手法に基づき補正処理を行い、得られた補正された走査用データを再び該データ記憶手段に記憶するための補正処理手段」を有している、のに対し、引用発明では、そのような限定がない点。
　
相違点６；
　本願発明では、「該データ記憶手段に記憶された補正された走査用データをパターン描画装置に送出するための出力制御手段」を有している、のに対し、引用発明では、そのような限定がない点。
　
相違点７；
　パターン描画装置用データ作成装置が、本願発明では、「走査用データ作成装置」であるのに対し、引用発明では、「専用計算機１１」である点。
　
５．当審の判断
　上記各相違点について検討する。
相違点１について
　露光用マスクに形成されたパターンを露光光を用いてレジストに転写したときレジストに形成されるパターンの変形を抑制するために、補正されたパターンを露光用マスクに形成することは、従来周知（例えば、特開昭６３−２１６０５２号公報、特開昭６３−２９３８２２号公報、特開平２−１５１８６１号公報、特開平４−１３６８５３号公報、特開平６−２９１８０号公報等参照。）の技術事項であり、引用発明において、相違点１のような限定を付すことは、当業者にとって容易である。
　
相違点２について
　パターン描画装置が、「ラスタ走査方式若しくはベクタ走査方式」であることは、周知慣用の技術手段であり、引用例２のレーザープロッターも、レーザープロッターにおける作画データをラスター変換したデータ（上記記載事項エ．）を用いるもので、ラスタ走査方式といえるものである。
　
相違点３について
　引用例２の上記記載事項オ．には、「このラスター変換データ（本願発明の「走査用データ」に相当する。）をもとに、それに寸法的に対応したレーザービームをフィルム（原板）上に、スキャンしながら照射してパターンを作製する（本願発明の「描画走査を制御する」に相当する。）のである」と記載されており、引用発明において、相違点３のような限定を付すことは、当業者にとって容易である。
　
相違点４について
　引用例２の上記記載事項オ．には、「このように入力された全データを、レーザープロッターの制御を行なうコンピューターのメモリ上にラスター変換（周知のように画素に分解する方式）する。」と記載されており、引用発明において、相違点４のような限定を付すことは、当業者にとって容易である。
　
相違点５について
　引用例２の上記記載事項オ．には、「このラスター変換されたデータにパターン補正をするようにしたものである。」、記載事項カ．には、「ラスター変換したデータを補正した後のデータを用いて、レーザービームをスキャンしながらパターンマスクを作製」と記載されており、ラスター変換されたデータは、上記「相違点４について」で述べたように「コンピューターのメモリ上」にあるので、それを補正する場合、メモリから読み出すことは自明である。
　また、補正されたデータを元の記憶手段に記憶することは、従来周知（例えば、特開平５−２２７４２８号公報（段落【００４６】〜【００４８】）、特開平６−３８１３６号公報（段落【００２７】）、特開平６−７６１４２号公報（段落【００１０】〜【００１２】）、特開平６−３３７２０４号公報（段落【００２４】）等参照。）の技術事項であるので、引用発明において、相違点５のような限定を付すことは、当業者にとって容易である。
　
相違点６について
　引用例１の上記記載事項イ．には、「この専用計算機１１において、露光前処理・・・が実行される。ここに、マスク製造用露光データが作成され、このマスク製造用露光データは露光装置４に供給される。」と記載されており、引用発明においても、当然、何らかの出力制御装置を有していると理解され、引用発明に相違点６のような限定を付すことは、当業者にとって容易である。
　
相違点７について
　パターン描画装置用データを、「走査用データ」とすることは、上記「相違点３について」で述べたように、引用例２の記載事項から、当業者にとって容易であるので、パターン描画装置用データ作成装置である、引用発明の専用計算機１１を、相違点７に係る構成ととすることは、当業者にとって容易である。
　
　本願発明の効果も、引用発明、引用例２に記載された発明、及び従来周知の技術事項から予測される範囲のものである。
　
６．むすび
　したがって、本願発明は、引用例１、２に記載された発明、及び従来周知の技術事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。