【事件の表示】
　特願２００２−２３０１１８「プラズマ処理装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１６年　３月　４日出願公開、特開２００４−　７１８８０〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
Ｉ．手続の経緯
　本願は、平成１４年８月７日に出願されたものであって、平成１７年２月２３日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、平成１７年３月３１日付けで拒絶査定に対する審判請求がなされると共に、平成１７年４月２８日付けで手続補正がなされたものである。
　
ＩＩ．平成１７年４月２８日付け手続補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　平成１７年４月２８日付け手続補正を却下する。
　
［理　　由］
（１）手続補正の内容
　本件補正は、特許請求の範囲を次のように補正するものである。
　補正前の特許請求の範囲の「【請求項１】　減圧される処理室内において、プラズマによりこの処理室内に配置された試料台上に載置される試料を処理するプラズマ処理装置であって、前記処理室内の前記試料台の外側で前記プラズマに露出されて配置され接地された部品が、主成分であるアルミナと導電性を有する材料とを焼結して形成された導電性セラミックにより構成されたプラズマ処理装置。
【請求項２】　減圧される処理室内において、プラズマによりこの処理室内に配置された試料台上に載置される試料を処理するプラズマ処理装置であって、前記処理室内の前記試料台の外側で前記プラズマに露出されて配置され前記プラズマに対するアース材として作用するリングを有するものにおいて、前記リングが、主成分であるアルミナと導電性を有する材料とを焼結して形成された導電性セラミックにより構成されたプラズマ処理装置。
【請求項３】　減圧される処理室内において、プラズマによりこの処理室内に配置された試料台上に載置される試料を処理するプラズマ処理装置であって、前記処理室内の前記試料台の外側に配置されこの処理室の内壁保護用に設置された内筒を有するものにおいて、前記内筒が、主成分であるアルミナと導電性を有する材料とを焼結して形成された導電性セラミックにより構成され、該内筒が前記プラズマに対するアース材として作用するプラズマ処理装置。
【請求項４】　前記導電性セラミックが、９９．０％〜９９．６％のアルミナと、０．４％〜１．０％の炭素（Ｃ）を含む請求項１ないし３のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
ラズマ処理濃置。
【請求項５】　前記導電性セラミックが、不純物として含有する鉄（Ｆｅ）、ニッケル（Ｎｉ）、クロム（Ｃｒ）、コバルト（Ｃｏ）、ナトリウム（Ｎａ）が、各々２０ｐｐｍ以下である請求項４に記載のプラズマ処理装置。
【請求項６】　前記導電性セラミックの電気抵抗が０．１Ω・ｃｍ〜１００Ω・ｃｍの範囲である請求項１ないし３のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
【請求項７】　減圧される真空容器の処理室内において、プラズマによりこの処理室内に配置された試料台上に載置される試料を処理するプラズマ処理装置であって、前記プラズマに露出され接地された前記処理室の側壁全体が、主成分であるアルミナと導電性を有する材料とを焼結して形成した導電性セラミックで構成された請求項１に記載のプラズマ処理装置。」を、
　
「【請求項１】　真空容器内に配置されその内側が減圧される処理室内においてプラズマによりこの処理室内に配置された試料台上に載置される試料を処理するプラズマ処理装置であって、
　前記処理室内の前記試料台の外側で前記プラズマに露出されて配置され接地された部品が、主成分であるアルミナと導電性を有する材料とを焼結して形成された導電性セラミックにより構成されたプラズマ処理装置。
【請求項２】　前記部品がリング形状を有し前記プラズマに対するアース材として作用する請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項３】　真空容器内に配置されその内側が減圧される処理室内においてプラズマによりこの処理室内に配置された試料台上に載置される試料を処理するプラズマ処理装置であって、前記処理室内の前記試料台の外側に配置されこの処理室の内壁保護用に設置された内筒を有するものにおいて、
　前記内筒が、主成分であるアルミナと導電性を有する材料とを焼結して形成された導電性セラミックにより構成され、該内筒が前記プラズマに対するアース材として作用するプラズマ処理装置。
【請求項４】　前記接地された部品が前記真空容器の内周面を覆って処理室内に配置された部材を下方から支持する請求項１または２に記載のプラズマ処理装置。
【請求項５】　減圧される真空容器の処理室内において、プラズマによりこの処理室内に配置された試料台上に載置される試料を処理するプラズマ処理装置であって、
　前記プラズマに露出され接地された前記処理室の側壁全体が、主成分であるアルミナと導電性を有する材料とを焼結して形成した導電性セラミックで構成された請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項６】　前記導電性セラミックが、９９．０％〜９９．６％のアルミナと、０．４％〜１．０％の炭素（Ｃ）を含む請求項１ないし５のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
【請求項７】　前記導電性セラミックの電気抵抗が０．１Ω・ｃｍ〜１００Ω・ｃｍの範囲である請求項１ないし５のいずれかに記載のプラズマ処理装置。」とする。
　
（２）補正の適否
　上記補正について検討するに、上記補正は、下記（ア）〜（ウ）の補正事項を含んでいるといえる。
（ア）旧請求項４に対応する新請求項６において、旧請求項４で引用されていなかった請求項（新請求項４、５）にも引用範囲を拡大する。
（イ）旧請求項６に対応する新請求項７において、旧請求項６で引用されていなかった請求項（新請求項４、５）にも引用範囲を拡大する。
（ウ）旧請求項のいずれにも対応しない請求項（新請求項４）を新設する。
　そして、これら（ア）〜（ウ）の補正事項は、特許法第１７条の２第４項第１号の「請求項の削除」、同項第２号の「特許請求の範囲の減縮」、同項第３号の「誤記の訂正」、同項第４号の「明りようでない記載の釈明」のいずれにも該当するとはいえない。
　
（３）まとめ
　したがって、上記補正事項を含む本件補正は、特許法第１７条の２第４項の規定に違反するものであるから、特許法第１５９条第１項の規定によって読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。
　
ＩＩＩ．本願発明について、
１．本願発明
　前記したとおり平成１７年４月２８日付け手続補正は却下されたから、本願の請求項１〜７に係る発明は、平成１６年８月２３日付け手続補正書によって補正された明細書の特許請求の範囲の請求項１〜７に記載された事項により特定されるとおりのものと認められるところ、請求項１に係る発明は、次のとおりである（以下、「本願発明１」という）。
「減圧される処理室内において、プラズマによりこの処理室内に配置された試料台上に載置される試料を処理するプラズマ処理装置であって、前記処理室内の前記試料台の外側で前記プラズマに露出されて配置され接地された部品が、主成分であるアルミナと導電性を有する材料とを焼結して形成された導電性セラミックにより構成されたプラズマ処理装置。」
　
２．原査定の拒絶理由
　本願発明１に関する原査定の拒絶理由の概要は、本願発明１は、その出願前に日本国内において頒布された刊行物である引用例１、２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない、というものである。
　
３．引用例と主な記載事項
　上記引用例１とその主な記載事項は、次のとおりである。
（１）引用例１：特開平１１−３８８３号公報
（１ａ）「プラズマ発生装置とプラズマ処理室および被処理物を載置する試料台と該試料台上の被処理物に高周波電圧を印加する装置からなるプラズマ処理装置において、該試料台から被処理物を通りプラズマを介して前記高周波電圧回路を形成するためのアース部材を該プラズマ処理室内に設けており、該アース部材を電気絶縁材料と電気伝導体材料からなる複合材料としたことを特徴とするプラズマ処理装置。」（特許請求の範囲の請求項１）
（１ｂ）「請求項１乃至３のいずれかに記載のプラズマ処理装置において、該アース部材を電気絶縁材料と電気伝導体材料からなる焼結材料としたことを特徴とするプラズマ処理装置。」（特許請求の範囲の請求項５）
（１ｃ）「【発明の属する技術分野】本発明は，プラズマ処理装置に関し、特に高周波電圧を被処理材料である基板に印加して基板を処理するプラズマエッチング装置やプラズマＣＶＤ装置などのプラズマ処理装置に係わり、・・・」（段落【０００１】）
（１ｄ）「【発明が解決しようとする課題】従来の技術では耐プラズマ性に優れた電気伝導性の良い材料が見当たらないため、表面に耐プラズマ性の良好なアルミナなどのセラミックスを被覆するなどの方法や、ステンレス鋼でアース部材を作成するなどの方法が取られている。しかし、半導体デバイスの微細化が進むにつれ、金属汚染に対する許容値が厳しくなってきている。本発明では、金属汚染の恐れが少ない材料からなるアース部材であるとともに、高周波回路を形成するに十分な電気伝導性を有し、かつ耐プラズマ性に優れた寿命の長いアース部材を提供することを目標としている。
【課題を解決するための手段】耐プラズマ性に優れた材料としては、アルミナセラミックスや窒化アルミニウムなどのアルミニウム系セラミックスが知られている。しかし、これらはいずれも電気絶縁体である。そこで、ほとんどはこれらのセラミックスで構成された部材とするが、微少な部分がアルミニウムなどの電気伝導体で構成したものをアース部材とする。アースに要求される電気抵抗の目安はプラズマ抵抗より小さければよいと考えられることと、電流値もそれほど大きいものではないので、アルミニウムの部分はごく僅かで十分である。・・・」（段落【０００４】〜【０００５】）
（１ｅ）「【発明の実施の形態】以下、図を用いて本発明の実施例を説明する。図１は本発明を適用するプラズマエッチング装置の一例を示したものである。・・・エッチング室１３の圧力が十分高真空に排気されていること、好ましくは１０-5Ｔｏｒｒ台以下となっていることを確認し、エッチング室１３と搬送室９の間のバルブ１４を開け、基板１０をエッチング室１３に搬入する。基板１０は基板載置用の電極に載置される。・・・ガス導入口（図示せず）からエッチング用のガスとして、ポリシリコンをエッチングする場合は、Ｃｌ2や添加ガスが導入される。・・・この状態で電極に数１００ｋＨｚから１０数ＭＨｚ、好ましくは８００ｋＨｚから２ＭＨｚの高周波電圧が印加され、基板にバイアス電圧が付加される。マイクロ波でプラズマ状態となったエッチングガスイオンが高周波電圧印加と同時に基板に垂直に引き込まれる。エッチングガスのなかの電気的に中性なＣｌなどのラジカルはランダムな方向から基板に入射する。・・・被エッチング部は、高周波電圧の印加で基板に引き込まれたイオンの助けをかりて、いわゆるイオンアシストエッチングが進行する。」（段落【０００６】）
（１ｆ）「本発明のアースは、たとえば、アルミナ粒子４２を数μｍから数１０μｍ程度に微細化してアルミニウム合金４３とともに高温下で成形することによって作成できる。」（段落【０００９】）
　
４．当審の判断
４−１．引用例１記載の発明
（カ）引用例１の上記（１ａ）には、「プラズマ発生装置とプラズマ処理室および被処理物を載置する試料台と該試料台上の被処理物に高周波電圧を印加する装置からなるプラズマ処理装置において、該試料台から被処理物を通りプラズマを介して前記高周波電圧回路を形成するためのアース部材を該プラズマ処理室内に設けており、該アース部材を電気絶縁材料と電気伝導体材料からなる複合材料としたことを特徴とするプラズマ処理装置。」が記載されている。
（キ）引用例１の上記（１ｅ）には、「プラズマ処理装置」の実施例に関して、「エッチング室１３の圧力が十分高真空に排気されていること・・・を確認し、・・・、基板１０をエッチング室１３に搬入する。・・・」と記載されているから、プラズマ処理室の内部は、減圧されるといえる。
（ク）引用例１の上記（１ｄ）には、「本発明では、・・・高周波回路を形成するに十分な電気伝導性を有し、かつ耐プラズマ性に優れた寿命の長いアース部材を提供することを目標としている。」と記載されているから、「アース部材」は、導電性を有するものといえる。
　以上の（カ）〜（ク）の事項を総合すると、引用例１には、
「プラズマ発生装置と減圧されるプラズマ処理室および被処理物を載置する試料台と該試料台上の被処理物に高周波電圧を印加する装置からなるプラズマ処理装置において、該試料台から被処理物を通りプラズマを介して前記高周波電圧回路を形成するためのアース部材を該プラズマ処理室内に設けており、該アース部材を電気絶縁材料と電気伝導体材料からなる導電性を有する複合材料としたプラズマ処理装置。」の発明（以下、「引用例１発明」という）が記載されていると認められる。
　
４−２．本願発明１と引用例１発明との対比
　本願発明１と引用例１発明を対比すると、引用例１発明における「プラズマ処理室」、「被処理物」、「アース部材」は、それぞれ、本願発明１における「処理室」、「試料」、「接地された部品」に相当する。また、引用例１発明における「試料台から被処理物を通りプラズマを介して前記高周波電圧回路を形成するためのアース部材を該プラズマ処理室内に設けており、」という事項からみて、アース部材は、試料台の外側でプラズマに露出されて配置されているといえるから、両者は、
「減圧される処理室内において、プラズマによりこの処理室内に配置された試料台上に載置される試料を処理するプラズマ処理装置であって、前記処理室内の前記試料台の外側で前記プラズマに露出されて配置され接地された部品が導電性のものにより構成されたプラズマ処理装置。」である点で一致するが、次の点で相違している。
相違点：接地された部品が、本願発明１では、「主成分であるアルミナと導電性を有する材料とを焼結して形成された導電性セラミック」により構成されたものであるのに対し、引用例１発明では、「電気絶縁材料と電気伝導体材料からなる導電性を有する複合材料」により構成されたものである点。
　
４−３．相違点についての判断
　引用例１の上記（１ｄ）には、
「本発明では、・・・耐プラズマ性に優れた寿命の長いアース部材を提供することを目標としている」
「耐プラズマ性に優れた材料としては、アルミナセラミックスや窒化アルミニウムなどのアルミニウム系セラミックスが知られている。・・・そこで、ほとんどはこれらのセラミックスで構成された部材とする・・・」
と記載されているから、引用例１には、アース部材（接地された部品）を耐プラズマ性に優れた寿命の長いものとするために、アース部材（接地された部品）のほとんどをアルミナセラミックスなどのセラミックスで構成することが教示されているといえる。
　また、引用例１の上記（１ｂ）、（１ｆ）には、それぞれ、
「アース部材を電気絶縁材料と電気伝導体材料からなる焼結材料」とすること、
「本発明のアースは、たとえば、アルミナ粒子４２を数μｍから数１０μｍ程度に微細化してアルミニウム合金４３とともに高温下で成形することによって作成できる」こと、
が記載されているから、引用例１には、アース部材（接地された部品）を電気絶縁材料と電気伝導体材料とを焼結することにより形成することが開示されているといえる。
　さらに、導電性のセラミックス部材をアルミナ等のセラミックスと導電性を有する材料とを焼結することにより形成することは、特開昭５９−７８９７３号公報、特開平９−１９９５７４号公報、特開２００１−２４４２４６号公報等に見られるように、本出願前周知のことである。
　そして、上記教示事項、開示事項、及び、周知事項を総合的に勘案すると、引用例１発明において、アース部材（接地された部品）を構成する「電気絶縁材料と電気伝導体材料からなる導電性を有する複合材料」における「電気絶縁材料」をアルミナセラミックスとし、該アルミナセラミックスと電気伝導体材料とを焼結して導電性を有する複合材料を形成し、本願発明１の特定事項のように、接地された部品を「主成分であるアルミナと導電性を有する材料とを焼結して形成された導電性セラミック」により構成されたものとすることは、当業者が容易に想到し得た事項であるというべきである。
　
ＩＶ．むすび
　以上のとおりであるから、本願発明１は、引用例１に記載された発明及び周知事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　したがって、本願発明１は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないから、本願は、その余の発明について検討するまでもなく拒絶されるべきである。
　よって、結論のとおり審決する。