Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月8日(2010.1.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シーケンス制御装置を用いて液体レベル（２３）を測定することによって、液体供給ユニット（１）内の液体の量を監視することを伴う、液体（２２）を被印刷材料に塗布する印刷装置（５）を有する印刷機のための方法であって、
前記液体（２２）のための供給開口（７）、前記液体（２２）のための出口開口（１０）、前記液体（２２）のためのリザーバ（８）及びプリントヘッド（９）を備えるハウジング（６）を前記印刷装置（５）に設けるステップと、
前記液体（２２）のための保存容器（２）を前記供給開口（７）へ、且つチャンバ（１５）を有する測定装置（１１）を前記出口開口（１０）へ取り付けるステップと、
前記測定装置（１１）の前記チャンバ（１５）内の前記液体レベル（２３）を検出することによって、前記印刷装置（５）の出口における前記液体（２２）の存在を検出する、前記測定装置（１１）によって前記液体レベル（２３）を測定するステップと、
を備えることを特徴とする、印刷機のための方法。
【請求項２】
前記液体（２２）の前記検出は容量測定方法によって行われることを特徴とする、請求項１に記載の印刷機のための方法。
【請求項３】
前記容量測定方法は、電場の変化に依存する、充填レベル（２３）の製造規定高さを検出し、且つ該充填レベル（２３）の製造規定高さを該変化に従ってさらに処理することが出来る状態に変換することを特徴とする、請求項２に記載の印刷機のための方法。
【請求項４】
装置コントローラは、液体装置（３）をオンまたはオフにすることを特徴とする、請求項１に記載の印刷機のための方法。
【請求項５】
シーケンス制御装置を用いて液体レベル（２３）を測定することによって、液体供給ユニット（１）内の液体の量を監視することを伴う、液体（２２）を被印刷材料に塗布する印刷装置（５）及び保存容器（２）を有する印刷機のための液体供給ユニット（１）であって、
前記印刷装置（５）は前記液体（２２）のための供給開口（７）、前記液体（２２）のための出口開口（１０）、リザーバ（８）及びプリントヘッド（９）を備えるハウジング（６）を有しており、
前記保存容器（２）は前記供給開口（７）に接続されており、
チャンバ（１５）を備える測定装置（１１）は前記出口開口（１０）に接続されており、
前記測定装置（１１）は前記チャンバ（１５）内の充填レベル（２３）を測定し、液体装置（３）を制御することに適している、
ことを特徴とする、液体供給ユニット（１）。
【請求項６】
前記測定装置（１１）は、センサ（１２）及び該センサに接続される評価電子機器（１９）を備えることを特徴とする、請求項５に記載の液体供給ユニット（１）。
【請求項７】
前記センサ（１２）は、前記印刷装置（５）の前記出口開口（１０）に配置されていることを特徴とする、請求項６に記載の液体供給ユニット（１）。
【請求項８】
前記センサ（１２）は、流れに関して前記出口開口（１０）に接続される前記チャンバ（１５）を有することを特徴とする、請求項７に記載の液体供給ユニット（１）。
【請求項９】
測定パラメータとして、前記センサ（１２）は、前記印刷装置（５）の外側の前記センサ（１２）内に形成される前記チャンバ（１５）内の様々な液体レベル（２３）を検出することを特徴とする、請求項６乃至８のいずれか１項に記載の液体供給ユニット（１）。
【請求項１０】
センサを備える、特に請求項５乃至９のいずれか１項に記載の液体供給ユニット（１）のための測定装置（１１）であって、
該センサ（１２）は、サンドイッチ状に互いに接触する複数の平面要素（２９、３１、３２）を含み、中間要素（３１）は除去領域を用いてチャンバ（１５）を形成しており、前記測定装置（１１）の少なくとも一部は回路基板材料から作製されることを特徴とする、測定装置（１１）。
【請求項１１】
前記センサ（１２）は、入口開口（１４）を有する供給フランジ（１３）と、該開口に接続される前記チャンバ（１５）とを有することを特徴とする、請求項１０に記載の測定装置（１１）。
【請求項１２】
前記センサ（１２）は、前記チャンバ（１５）に接続され、オーバーフロー開口（１７）を有するオーバーフローフランジ（１６）を含むことを特徴とする、請求項１０に記載の測定装置（１１）。
【請求項１３】
少なくとも１つの前記要素（２９、３１、３２）は、電極（３０、３３）の支持体として構成されることを特徴とする、請求項１０に記載の測定装置（１１）。
【請求項１４】
前記電極（３０、３３）は、前記チャンバ（１５）の内壁の少なくとも一部を形成することを特徴とする、請求項１３に記載の測定装置（１１）。
【請求項１５】
前記センサ（１２）は、静電容量センサ又は誘導センサ又は光電センサ（１２）として構成されることを特徴とする、請求項１０乃至１４のいずれか１項に記載の測定装置（１１）。
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月13日(2010.1.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
あるＩＰＦ（特発性肺線維症）患者が、Ｖ型コラーゲンによる経口寛容治療の候補であるかを決定するための方法であって、
患者由来のサンプルの少なくとも一部をＶ型コラーゲン又はその抗原性成分と接触させ；そして、
Ｖ型コラーゲン特異的免疫応答を測定する；
ここにおいて、Ｖ型コラーゲン特異的免疫応答の存在は、患者がＶ型コラーゲンによる経口寛容治療の候補であることを示唆する
ことを含んでなる、前記方法。
【請求項２】
肺移植を待っている患者を、肺移植拒絶の高められたリスクについてスクリーニングする方法であって、
患者由来のサンプルの少なくとも一部をＶ型コラーゲン又はその抗原性成分と接触させ；そして、
Ｖ型コラーゲン特異的免疫応答を測定する；
ここにおいて、Ｖ型コラーゲン特異的免疫応答の存在は、肺移植拒絶の高められたリスクを示唆する
ことを含んでなる、前記方法。
【請求項３】
Ｖ型コラーゲン特異的免疫応答を測定が、サンプル中のＶ型コラーゲン特異的抗原のレベルを測定することを含む、請求項１又は請求項２の方法。
【請求項４】
Ｖ型コラーゲン特異的抗原をＶ型コーラーゲン被覆ビーズを用いて測定する、請求項３の方法。
【請求項５】
Ｖ型コラーゲン特異的免疫応答の測定が、Ｖ型コラーゲン特異的Ｔ細胞応答を測定することを含む、請求項１又は請求項２の方法。
【請求項６】
Ｖ型コラーゲン特異的免疫応答の測定が、Ｖ型コラーゲン特異的遅延型過敏性応答を測定することを含む、請求項１又は請求項２の方法。
【請求項７】
遅延型過敏性応答をトランスビボＤＴＨアッセイを用いて測定する、請求項６の方法。
【請求項８】
サンプルが、血液、血清、間質性肺液、痰、粘液及び組織から成る群より選択される、請求項１又は請求項２に記載の方法。
【請求項９】
ＩＰＦ（特発性肺線維症）の治療のための医薬として使用される、Ｖ型コラーゲン又はその抗原性成分を含む組成物。
【請求項１０】
請求項１又は請求項２に記載の方法に使用するためのキットであって、
Ｖ型コラーゲン又はその抗原性成分；並びに
前記Ｖ型コラーゲン又はその抗原性成分がＶ型コラーゲン特異的抗体に結合した場合にシグナルを発生する少なくとも一つの部分：
を含んでなるキット。
【請求項１１】
さらに表面を含み、前記表面は前記Ｖ型コラーゲン又はその抗原性成分を結合するために適している、請求項１０に記載のキット。
【請求項１２】
前記表面が、フィルター、ビーズ、プレート、膜、チップ及びスライドから成る群より選択される、請求項１１に記載のキット。
【請求項１３】
前記キットがさらに、レポーター分子、レポーター原子、キット中の抗原に結合された抗体に対する抗体、緩衝液、安定化剤、抗菌剤及びアジュバントから成る群トから選択される化合物の少なくとも一つを含む、請求項１０に記載のキット。
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月18日(2010.1.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
散乱測定技術を使用して、一個以上のサンプルの一個以上の特性に関する光学的情報を収集する方法であって、
夫々が光散乱特性によって特徴付けられるサンプル溶液を保持するように構成された一個以上のサンプル容器を、内部に備えた基板を用意する工程と、
一個以上のサンプル溶液を複数のサンプル容器へ分配する工程と、
サンプル溶液の表面に対して角度を付けることで気泡が鏡面反射減少素子の下に閉じ込められないようにしつつ、前記サンプル溶液から一個或いはそれ以上の検出器へ反射する光を減少させるべく、複数のサンプル容器の中の少なくとも幾つかのサンプル溶液に、前記鏡面反射減少素子を適用する工程と、
前記鏡面反射減少素子を適用する工程が、気泡が鏡面反射減少素子の下に閉じ込められないように、サンプル溶液の表面に対して角度を成すように鏡面反射減少素子を適用する請求項１に記載の方法。
光源からの光線をサンプル容器中の物体へ導く工程と、
サンプル容器中の物体で散乱された光を集め、集められた光を一個或いはそれ以上の検出器へ伝送する工程と、
検出器からの信号を解析して一個以上のサンプルの一個以上の特性を検出する工程と
を備える方法。
【請求項２】
前記鏡面反射減少素子が、ゲル、油、固体、プラスティク、ガラス、可撓性固体、硬質固体、蝋状物から選ばれる一個である請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記鏡面反射減少素子がサンプル溶液の凹凸面の曲率を減少するように構成された請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記鏡面反射減少素子が、光源の波長範囲に対応する波長範囲の光を吸収し、
反射を更に減少するように構成された請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記鏡面反射減少素子が、サンプル溶液の屈折率に近い或いは同じ屈折率を有する請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記鏡面反射減少素子を少なくとも幾らかのサンプル溶液に適用する前に、鏡面反射減少素子を殺菌する工程を、更に備えた請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記鏡面反射減少素子が直接サンプル溶液の表面の上に留まる請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記鏡面反射減少素子が液体或いは固体からなる請求項１に記載の方法。
【請求項９】
散乱測定技術を使用して一個以上のサンプルの一個以上の特性に関する光学的情報を収集するための装置であって、
光源と、
夫々が光散乱特性によって特徴付けられるサンプル溶液を保持するように構成された複数のサンプル容器を内部に備えた基板であって、複数のサンプル容器の中の少なくとも幾つかのサンプル容器が、気泡が鏡面反射減少素子の下に閉じ込められないようにサンプル溶液の表面に対して角度をなし、かつ一個或いはそれ以上の検出器への鏡面反射をする光を減少させる機能の鏡面反射減少素子を含む基板と、
光源からの光線をサンプル容器の中の物体に導くための一個以上の照明用光学素子と、
サンプル容器の中の物体からの散乱光を集め、集められた光を一個以上の検出器へと伝送する一個以上の集光用光学素子と
を備えた装置。
【請求項１０】
前記鏡面反射減少素子が、ゲル、油、固体、プラスティク、ガラス、可撓性固体、硬質固体、蝋状物から選ばれる一個である請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
前記鏡面反射減少素子がサンプル溶液の凹凸面の曲率を減少するように構成された請求項９に記載の装置。
【請求項１２】
前記鏡面反射減少素子が、光源の波長範囲に対応する波長範囲の光を吸収し、
反射を更に減少するように構成された請求項９に記載の装置。
【請求項１３】
前記鏡面反射減少素子が、サンプル溶液の屈折率に近い或いは同じ屈折率を有する請求項９に記載の装置。
【請求項１４】
前記鏡面反射減少素子がサンプル容器の中に入れられる前に殺菌される請求項９に記載の装置。
【請求項１５】
前記鏡面反射減少素子が直接サンプル溶液の表面の上にある請求項９に記載の装置。
【請求項１６】
前記鏡面反射減少素子が液体或いは固体から成る請求項９に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月21日(2010.1.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
隣接端および遠位端を含む圧電層；
前記圧電層の前記隣接端に結合されたベース部；
隣接端および遠位端を含む非圧電層であって、ここで前記圧電層の少なくとも一部が前記非圧電層の少なくとも一部に、前記圧電層と前記非圧電層が同一の広がりを持たない様式で結合し、ベース部は非圧電層の隣接端には結合していないものである、前記非圧電層；および
前記圧電層に動作可能に関連する電極、
を含む、センサー。
【請求項２】
非圧電層の遠位端が、圧電層の遠位端を越えて伸び；および
圧電層の隣接端が、非圧電層の隣接端を越えて伸びている、
請求項１に記載のセンサー。
【請求項３】
非圧電層の遠位端が、圧電層の遠位端とぴったり重なり；および
圧電層の隣接端が、非圧電層の隣接端を越えて伸びている、
請求項１に記載のセンサー。
【請求項４】
圧電層の遠位端が、非圧電層の遠位端を越えて伸び；および
圧電層の隣接端が、非圧電層の隣接端を越えて伸びている、
請求項１に記載のセンサー。
【請求項５】
隣接端および遠位端を含む圧電層；
隣接端および遠位端を含む非圧電層であって、ここで前記圧電層の少なくとも一部が前記非圧電層の少なくとも一部に、前記圧電層と前記非圧電層が同一の広がりを持たない様式で結合している、前記非圧電層；
前記圧電層と前記非圧電層のうちの１つに結合した第１ベース部：
前記圧電層と前記非圧電層のうちの１つに結合した第２ベース部：および
前記圧電層に動作可能に関連する電極、
を含む、センサー。
【請求項６】
非圧電層の隣接端が第１ベース部に結合され；
非圧電層の遠位端が第２ベース部に結合され；
圧電層の隣接端が第１ベース部に結合され；および
非圧電層の遠位端が圧電層の遠位端を越えて伸びている、
請求項５に記載のセンサー。
【請求項７】
非圧電層の隣接端が第１ベース部に結合され；
非圧電層の遠位端が第２ベース部に結合され；
非圧電層の遠位端が圧電層の遠位端を越えて伸びており；および
非圧電層の隣接端が圧電層の隣接端を越えて伸びている、
請求項５に記載のセンサー。
【請求項８】
圧電層が、第１圧電部および第２圧電部を含み；
第１圧電部が、隣接端および遠位端を含み；
第２圧電部が、隣接端および遠位端を含み；
非圧電層の隣接端が、第１ベース部に結合され；
非圧電層の遠位端が、第２ベース部に結合され；
第１圧電部の隣接端が、第１ベース部に結合され；
第２圧電部の遠位端が、第２ベース部に結合され；および
第１圧電部の遠位端および第２圧電部の隣接端が、その間にスペースを形成している、
請求項５に記載のセンサー。
【請求項９】
圧電層が、第１圧電部および第２圧電部を含み；
第１圧電部が、隣接端および遠位端を含み；
第２圧電部が、隣接端および遠位端を含み；
非圧電層の隣接端が、第１ベース部に結合され；
非圧電層の遠位端が、第２ベース部に結合され；
第１圧電部の隣接端が、第１ベース部に結合され；および
第１圧電部の遠位端および第２圧電部の隣接端が、その間にスペースを形成している、
請求項５に記載のセンサー。
【請求項１０】
圧電層が、第１圧電部および第２圧電部を含み；
第１圧電部が、隣接端および遠位端を含み；
第２圧電部が、隣接端および遠位端を含み；
非圧電層の隣接端が、第１ベース部に結合され；
非圧電層の遠位端が、第２ベース部に結合され；および
第１圧電部の遠位端および第２圧電部の隣接端が、その間にスペースを形成している、
請求項５に記載のセンサー。
【請求項１１】
圧電層の隣接端が、第１ベース部に結合され；
非圧電層の遠位端が、第２ベース部に結合され；
非圧電層の遠位端が圧電層の遠位端を越えて伸びており；および
圧電層の隣接端が非圧電層の隣接端を越えて伸びている、
請求項５に記載のセンサー。
【請求項１２】
圧電層の隣接端が、第１ベース部に結合され；
圧電層の遠位端が、第２ベース部に結合され；
圧電層の遠位端が非圧電層の遠位端を越えて伸びており；および
圧電層の隣接端が非圧電層の隣接端を越えて伸びている、
請求項５に記載のセンサー。
【請求項１３】
非圧電層が、ガラス、セラミック、金属、ポリマー、およびポリマーとセラミックとの複合材の少なくとも１つを含む、請求項１〜５のいずれかに記載のセンサー。
【請求項１４】
非圧電層が、二酸化ケイ素、銅、ステンレス鋼、およびチタンの少なくとも１つを含む、請求項１〜５のいずれかに記載のセンサー。
【請求項１５】
圧電層が、チタン酸ジルコン酸鉛、マグネシウムニオブ酸鉛−チタン酸鉛固溶体、チタン酸鉛ストロンチウム、石英シリカ、圧電セラミックチタン酸ジルコン酸鉛（ＰＺＴ）、および圧電セラミック−ポリマー繊維複合体の少なくとも１つを含む、請求項１〜５のいずれかに記載のセンサー。
【請求項１６】
非圧電層の長さが約０．１ｍｍ〜約１０．０ｍｍの範囲である、請求項１〜５のいずれかに記載のセンサー。
【請求項１７】
圧電層の長さが約０．１ｍｍ〜約１０．０ｍｍの範囲である、請求項１〜５のいずれかに記載のセンサー。
【請求項１８】
非圧電層の幅が約０．１ｍｍ〜約４．０ｍｍの範囲である、請求項１〜５のいずれかに記載のセンサー。
【請求項１９】
圧電層の幅が約０．１ｍｍ〜約４．０ｍｍの範囲である、請求項１〜５のいずれかに記載のセンサー。
【請求項２０】
圧電層と非圧電層のうち少なくとも１つの、少なくとも１つの物理的寸法が一定でない、請求項１〜５のいずれかに記載のセンサー。
【請求項２１】
電極を、センサーの共振周波数を測定するために用いる、請求項１〜５のいずれかに記載のセンサー。
【請求項２２】
測定された共振周波数が、センサーに蓄積された分析物の量を示す、請求項２１に記載のセンサー。
【請求項２３】
振動関連応力が、圧電層内のある位置に集中し；および
電極を、集中した応力の位置付近に配置する、
請求項１〜５のいずれかに記載のセンサー。
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月21日(2010.1.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの遊星ギアボックス（７）を備える風力タービン（１）であって、該遊星ギアボックス（７）は、
該風力タービン（１）の振動及び／又はアコースティックエミッションを測定する手段を含む１つ又は複数のセンサ（２１）を備え、
該１つ又は複数のセンサ（２１）は、前記遊星ギアボックス（７）の１つ又は複数の回転部品に取り付けられる
ことを特徴とする風力タービン。
【請求項２】
前記遊星ギアボックス（１１）は、遊星ギアシャフト（１６）をそれぞれ含む少なくとも２つの遊星ギア（１２）を備え、該遊星ギアボックス（１１）は、該遊星ギア（１２）同士を接続する少なくとも１つの遊星キャリア（１５）をさらに備え、
前記１つ又は複数のセンサ（２１）は、前記少なくとも２つの遊星ギアシャフト（１６）のうちの１つ又は複数に、又はこれに近接して取り付けられる、
請求項１に記載の風力タービン（１）。
【請求項３】
前記遊星ギアボックス（１１）は、遊星ギアシャフト（１６）をそれぞれ含む少なくとも２つの遊星ギア（１２）を備え、該遊星ギアボックス（１１）は、該遊星ギア（１２）同士を接続する少なくとも１つの遊星キャリア（１５）をさらに備え、
前記１つ又は複数のセンサ（２１）は、前記少なくとも１つの遊星キャリア（１５）に取り付けられる、
請求項１に記載の風力タービン（１）。
【請求項４】
前記少なくとも１つの遊星キャリア（１５）はそれぞれ、前記センサ（２１）を１つだけ備える、請求項３に記載の風力タービン（１）。
【請求項５】
前記１つ又は複数のセンサ（２１）は、データを外部データ受信機（２３）に送信する１つ又は複数のデータ送信機（２２）に接続され、
前記１つ又は複数のデータ送信機（２２）は、前記ギアボックス（７）の前記１つ又は複数の回転部品に取り付けられる、
請求項１乃至４のいずれか１項に記載の風力タービン（１）。
【請求項６】
前記接続は無線で行なわれる、請求項５に記載の風力タービン（１）。
【請求項７】
前記１つ又は複数のデータ送信機（２２）は、前記センサ（２１）の測定値を無線送信する手段を備える、請求項５または６に記載の風力タービン（１）。
【請求項８】
前記１つ又は複数のデータ送信機（２２）及び前記１つ又は複数のセンサ（２１）は、１つのユニットとして一体形成される、請求項５乃至７のいずれか１項に記載の風力タービン（１）。
【請求項９】
前記１つ又は複数のセンサ（２１）は、１つ又は複数のデータ処理ユニット（２４）に接続され、
前記１つ又は複数のデータ処理ユニット（２４）は、前記ギアボックス（７）の前記１つ又は複数の回転部品に取り付けられる、
請求項１乃至８のいずれか１項に記載の風力タービン（１）。
【請求項１０】
前記１つ又は複数のセンサ（２１）の２つ以上は、同じ前記データ処理ユニット（２４）に接続される、請求項９に記載の風力タービン（１）。
【請求項１１】
前記１つ又は複数のデータ処理ユニット（２４）及び前記１つ又は複数のデータ送信機（２２）は、１つのユニットとして一体形成される、請求項９または１０のいずれか１項に記載の風力タービン（１）。
【請求項１２】
前記１つ又は複数のデータ処理ユニット（２４）及び前記１つ又は複数のセンサ（２１）は、１つのユニットとして一体形成される、請求項９乃至１１のいずれか１項に記載の風力タービン（１）。
【請求項１３】
遊星ギアボックス（１１）であって、
ギアボックスハウジング（２０）と、
前記ハウジング（２０）に対して回転する１つ又は複数のギアボックス部品と、
該遊星ギアボックス（１１）の振動及び／又はアコースティックエミッションを測定する手段を含む１つ又は複数のセンサ（２１）と、
を備え、
前記１つ又は複数のセンサ（２１）は、該遊星ギアボックス（１１）の前記回転部品のうちの１つ又は複数に取り付けられる、
ことを特徴とする遊星ギアボックス。
【請求項１４】
前記１つ又は複数のセンサ（２１）は、該遊星ギアボックス（１１）の１つ又は複数の遊星ギアシャフト（１６）に、又はこれに近接して取り付けられる、請求項１３に記載の遊星ギアボックス（１１）。
【請求項１５】
前記１つ又は複数のセンサ（２１）は、該遊星ギアボックス（１１）の少なくとも１つの遊星キャリア（１５）に取り付けられる、請求項１３又は１４に記載の遊星ギアボックス（１１）。
【請求項１６】
前記少なくとも１つの遊星キャリア（１５）はそれぞれ、前記センサ（２１）を１つだけ備える、請求項１５に記載の遊星ギアボックス（１１）。
【請求項１７】
前記１つ又は複数のセンサ（２１）は、データを外部データ受信機（２３）に送信する１つ又は複数のデータ送信機（２２）に接続され、
前記１つ又は複数のデータ送信機（２２）は、前記遊星ギアボックス（１１）の前記１つ又は複数の回転部品に取り付けられる、
請求項１３乃至１６のいずれか１項に記載の遊星ギアボックス（１１）。
【請求項１８】
前記接続は無線で行なわれる、請求項１７に記載の遊星ギアボックス（１１）。
【請求項１９】
前記１つ又は複数のデータ送信機（２２）は、前記センサ（２１）の測定値を無線送信する手段を備える、請求項１７に記載の遊星ギアボックス（１１）。
【請求項２０】
前記１つ又は複数のデータ送信機（２２）及び前記１つ又は複数のセンサ（２１）は、１つのユニットとして一体形成される、請求項１７乃至１９のいずれか１項に記載の遊星ギアボックス（１１）。
【請求項２１】
前記１つ又は複数のセンサ（２１）は、１つ又は複数のデータ処理ユニット（２４）に接続され、
該１つ又は複数のデータ処理ユニット（２４）は、該ギアボックス（１１）の前記１つ又は複数の回転部品に取り付けられる、
請求項１７乃至２０のいずれか１項に記載の遊星ギアボックス（１１）。
【請求項２２】
前記１つ又は複数のセンサ（２１）の２つ以上は、同じ前記データ処理ユニット（２４）に接続される、請求項２１に記載の遊星ギアボックス（１１）。
【請求項２３】
前記１つ又は複数のデータ処理ユニット（２４）及び前記１つ又は複数のデータ送信機（２２）は、１つのユニットとして一体形成される、請求項２１または２２に記載の遊星ギアボックス（１１）。
【請求項２４】
前記１つ又は複数のデータ処理ユニット（２４）及び前記１つ又は複数のセンサ（２１）は、１つのユニットとして一体形成される、請求項２１乃至２３のいずれか１項に記載の遊星ギアボックス（１１）。
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月26日(2010.1.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
前記パイプ（２０）が、内側パイプ（１０）と凹部部分によって互いに分離される外側パイプ部分（２００）とを備えることを特徴とする、請求項６に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月30日(2010.4.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の導電性伸長接触構造体と、
流動及び硬化する特性を有する成形可能材料を含む基板と、を備え、
前記成形可能材料は、硬化された状態であり、
各接触構造体の第１の部分は、各接触構造体の第２の部分が前記基板から離れて伸長された状態で前記成形可能材料内に埋め込まれ、
前記各接触構造体は、前記基板を通して、前記基板の第１の側に配置された前記各接触構造体の第１の端部から、前記基板の反対側の第２の側に配置された前記各接触構造体の第２の端部まで導電性経路を提供し、
前記各接触構造体の第２の部分の長さは、前記各接触構造体の長さの半分よりも長い、プローブアレイ構造体。
【請求項２】
前記接触構造体の前記第１の端部は、電子デバイスの少なくとも一部の端子に対応するように配置された先端を備える、請求項１に記載のプローブアレイ構造体。
【請求項３】
前記先端はそれぞれ、隣接する先端から１５０ミクロン未満に配置されている、請求項２に記載のプローブアレイ構造体。
【請求項４】
前記接触構造体はそれぞれ、その一部が前記基板内に埋め込まれた伸長構造体と、構造体的に異なる先端とを備えており、前記先端は前記伸長構造体に結合されている、請求項３に記載のプローブアレイ構造体。
【請求項５】
各伸長構造体は、対応する先端にワイヤボンディングされているワイヤを備える、請求項４に記載のプローブアレイ構造体。
【請求項６】
各ワイヤは、はんだまたはろう材なしで、対応する先端に結合される、請求項５に記載のプローブアレイ構造体。
【請求項７】
前記各接触構造体の第２の部分は、柔軟性及び弾力性を有する、請求項１に記載のプローブアレイ構造体。
【請求項８】
前記各接触構造体の第２の部分の一つは、片持ち梁を有する、請求項７に記載のプローブアレイ構造体。
【請求項９】
前記各接触構造体の第２の部分の一つは、オーバーコートされたワイヤを有する、請求項７に記載のプローブアレイ構造体。
【請求項１０】
前記各接触構造体の第２の部分の一つは、バネ接触を有する、請求項７に記載のプローブアレイ構造体。
【請求項１１】
前記成形可能材料は、アクリル材料、エポキシ樹脂、ガラス、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項１に記載のプローブアレイ構造体。
【請求項１２】
前記成形可能材料は、流動可能な状態にある間、前記各接触構造体の第１の部分の周囲で成形され、前記各接触構造体の第１の部分を埋め込むために前記硬化された状態に硬化される、請求項１に記載のプローブアレイ構造体。
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月22日(2010.1.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１種のポリマーに分散された少なくとも１種の粒子混合物から形成される材料であって、
ａ）前記粒子混合物が、粒度分布ｄ５０が０．１から５０μｍの間の粒子で構成され、前記粒子が、平均サイズＴ１かつ比表面積Ｓ１である少なくとも１種の活性物質Ｍ１を主成分とするキャリアからなり、かつ、物理結合および／または化学結合によって、平均サイズＴ２および比表面積Ｓ２である少なくとも１種の電気的伝導性材料Ｍ２の粒子が付着されるものであり、
−平均サイズの比Ｔ１／Ｔ２が５から１００００の間であり、
−比表面積の比Ｓ１／Ｓ２が１／３００から１／２の間であり、
−前記活性物質Ｍ１および前記電気的伝導性材料Ｍ２の各々の量が、１％＝Ｍ２／Ｍ１＝１５％となる量であり、
ｂ）ポリマーの量が、前記活性物質および前記電気的伝導性材料の総量の１０％〜５０％である、前記材料。
【請求項２】
活性物質Ｍ１の粒子が、その表面の１％から５０％を、電気的伝導性材料Ｍ２で被覆されている、請求項１に記載の材料。
【請求項３】
導電性材料の抵抗率が０．０３から０．２Ω・ｃｍの間である、請求項１に記載の材料。
【請求項４】
導電性材料の比表面積が２０から１００ｍ２／ｇの間である、請求項１に記載の材料。
【請求項５】
均質であって、かつ、存在する導電性材料の粒子が、１ｎｍから１００ｎｍの間にピークのある、単分散分布を特徴とする均質な混合物を構成する、請求項１に記載の材料。
【請求項６】
活性物質の比表面積が０．１ｍ2／ｇよりも大きい、請求項１に記載の材料。
【請求項７】
混合物中に存在する活性物質が、
ａ）遷移金属酸化物と、
ｂ）遷移リン酸塩と、
ｃ）遷移金属ケイ酸塩と、
ｄ）上記ａ）〜ｃ）で定義した少なくとも２種の化学物質の混合物と、
からなる群から選択されることを特徴とする、請求項１に記載の材料。
【請求項８】
２以上の導電性材料を含み、その導電性材料のうちの少なくとも１種が、カーボンブラックと、グラファイトと、炭素繊維と、これらのうちの少なくとも２種の混合物と、からなる群から選択される、請求項１に記載の材料。
【請求項９】
ポリマーは、ＥＧタイプのポリマーおよび／またはこれらのブレンドからなる群から、また、対応する塩形成ポリマーの群から選択される、３鎖分岐型ポリマーまたは４鎖分岐型ポリマーである、請求項１に記載の材料。
【請求項１０】
遷移金属酸化物が、ＬｉＶ３Ｏ８と、ＬｉＶ６Ｏ１３と、Ｖ６Ｏ１３と、ＬｉＶ２Ｏ５と、Ｖ２Ｏ５と、リチウム含有Ｖ２Ｏ５と、ＬｉＭｎ２Ｏ４と、ＬｉＣｏＯ２と、からなる群から選択される、請求項７記載の材料。
【請求項１１】
遷移リン酸塩が、ＬｉＦｅＰＯ４と、ＬｉＭｎｘＦｅ（１−ｘ）ＰＯ４（ｘ≦１）と、からなる群から選択される、請求項７記載の材料。
【請求項１２】
遷移金属ケイ酸塩が、Ｌｉ２ＦｅＳｉＯ４と、Ｌｉ２ＧｅＳｉＯ４と、からなる群から選択される鉄ケイ酸塩である、請求項７記載の材料。
【請求項１３】
請求項１記載の材料を含む、電気化学系のための電極であって、前記電気化学系が、液体電池、ポリマー電池、ゲル電池、又は燃料電池である、前記電極。
【請求項１４】
請求項１記載の材料を含有する塗料。
【請求項１５】
請求項１記載の材料を含有する磁気テープ用のコーティング。
【請求項１６】
比表面積Ｓ１を有するフィラー材料（Ｍ１）と、１＝Ｓ２／Ｓ１＝２００である比表面積Ｓ２を有する導電性材料（Ｍ２）とを、質量比１％≦Ｍ２／Ｍ１≦１５％で共粉砕し、ここで粒度比Ｔ１／Ｔ２が１から１０００の範囲であり、
１種または複数種のポリマーと、１種有機溶媒、または脂肪族もしくは脂環族タイプの非極性溶媒からなる群から選択される少なくとも２種の有機溶媒の混合物とを、ポリマーを５％から３５％、溶媒を６５％から９５％、含むポリマーの溶液に、分散された共粉砕材料を分散させる、請求項１に記載の材料を調製するための方法。
【請求項１７】
共粉砕が乾燥状態で実施されることを特徴とする、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
共粉砕が、粉末１ｋｇあたり０．１ｋＷｈから１．５ｋＷｈの間であるエネルギ入力を用いて０から６０℃の間の温度で実施される、請求項１６に記載の方法。
【請求項１９】
共粉砕を、不活性ガスの存在下で実施する、請求項１６に記載の方法。
【請求項２０】
共粉砕を、５から１８０分の範囲の時間実施する、請求項１６に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月19日(2010.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子機器で使用する接着性封入用組成物であって、
水素添加環状オレフィン系ポリマー、及び
ポリイソブチレン樹脂、を含む接着性封入用組成物。
【請求項２】
封入用フィルムであって、
請求項１記載の前記接着性封入用組成物を含む接着性フィルム、及び
前記接着性フィルムに設けられる裏材、を具備する封入用フィルム。
【請求項３】
有機エレクトロルミネッセンスＥＬデバイスであって、
一対の対向する電極、
前記電極の間に配置される少なくとも有機発光層を有する発光ユニット、及び
前記発光ユニットに、前記発光ユニットの上部に、又は前記発光ユニットの周囲に配置される、請求項１記載の前記接着性封入用組成物を含む接着性フィルム、を具備する、有機エレクトロルミネッセンスＥＬデバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月15日(2009.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
結合剤成分および硬化剤成分からなる二成分の接着用または封止用組成物であって、
Ａ）  前記結合剤成分が、
５から５０質量％のエポキシ化アルキレンポリスルフィド、
５から２５質量％の少なくとも１種類の可塑剤、
３０から６０質量％の充填剤、および
０．５から４質量％の接着促進剤、
を含有し、
Ｂ）  前記硬化剤成分が、
２０から５０質量％の少なくとも１種類の可塑剤、
０．１から４０質量％の少なくとも１種類のアミン末端液体ゴム、
１から５質量％の硬化促進剤、
２０から６０質量％の充填剤、および
１から１０質量％のカーボンブラック、
を含有し、
前記成分ＡおよびＢ各々の合計が１００％になり、該成分ＡおよびＢが、２：１から１：２の比で混合されることを特徴とする組成物。
【請求項２】
前記可塑剤が安息香酸エステル可塑剤であることを特徴とする請求項１記載の組成物。
【請求項３】
前記安息香酸エステル可塑剤が、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、テトラプロピレングリコール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオールの安息香酸エステル、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステルまたはそれらの混合物から選択されることを特徴とする請求項２記載の組成物。
【請求項４】
前記接着促進剤が、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、４−（メチルジエトキシシリル）−１，２−エポキシシクロヘキサン、３−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリ−（イソブトキシ）シランおよびそれらの混合物からなる群より選択されることを特徴とする請求項１から３いずれか１項記載の組成物。
【請求項５】
前記アミノ末端液体ゴムがアミノ末端ブタジエン−アクリロニトリルコポリマーであることを特徴とする請求項１から４いずれか１項記載の組成物。
【請求項６】
前記アミノ末端ブタジエン−アクリロニトリルコポリマーの含有量が１０から３０％であることを特徴とする請求項５記載の組成物。
【請求項７】
前記アミノ末端ブタジエン−アクリロニトリルコポリマーの分子量が３，０００から５，０００であることを特徴とする請求項５または６記載の組成物。
【請求項８】
前記硬化剤成分Ｂが、１０質量％までの脂肪族または脂環式ポリアミンをさらに含有することを特徴とする請求項１から７いずれか１項記載の組成物。
【請求項９】
前記硬化剤成分Ｂが、イミダゾール、マンニッヒ塩基、グアニジン、単官能性メルカプタンおよびそれらの混合物から選択させる触媒を３質量％までさらに含有することを特徴とする請求項１から８いずれか１項記載の組成物。
【請求項１０】
複層ガラスの縁領域に補助シールを提供するため、および／または複層ガラスユニットをさねの基部の枠に摩擦固定様式で結合するため、および／または複層ガラスの横の縁領域を窓枠または窓のサッシのさねの平行な内面に背面固定するために、請求項１から９いずれか１項記載の組成物を使用する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月16日(2009.12.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
図３Ｂに示したように、２つのピストン３０３および３０４のそれぞれはプレートの形をしている。各プレート３０３および３０４には、他の端部で永久磁石プレート３０５および３０６に取り付けられたシャフト３０７および３０８が、中央に垂直に取り付けられる。永久磁石プレート３０５および３０６は、その内部に、鉄、適切なグレードの鋼などの磁路材料（magnetic path material）と一緒に適切に配置された永久磁石を収容する。永久磁石および磁路材料は、永久磁石３０５および３０６の外側縁部から放射する磁束を生成するように構成され、磁束は、シリンダー３０１を取り囲む駆動巻線３０９および３１０を横切る（図３Ａ）。シリンダー３０１は非磁性材料から作られ、複数の非磁性材料を用いてシリンダー３０１を構成することができる。例えば、熱流を必要とする３１３および３１４などの領域にアルミニウムなどの材料を用いることができ、セラミックまたはファイバーグラスを、熱流を必要としない３１７などの領域に用いることができる。磁路材料により作られた磁場戻り路（magnetic field return paths）３１１および３１２が駆動巻線３０９および３１０を取り囲む。
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月26日(2010.1.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機ポリマーを含むコーティングを熱可塑性樹脂組成物の表面に塗布することによる前記熱可塑性樹脂組成物のコーティング方法であって、前記熱可塑性樹脂組成物が、前記熱可塑性樹脂組成物中の熱可塑性樹脂の総量を基準として、約０．０１〜約３．０重量パーセントの式Ｚ+［Ｒ2ＳＯ3］-［Ｉ］（式中、Ｚはモノカチオンであり、そしてＲ2は、炭素に結合した少なくとも１つのフッ素原子を含有し、そして任意選択的にフッ素以外の基で置換されていてもよいヒドロカルビルである）の化合物を含むことを改善点とすることを特徴とする方法。
【請求項２】
表面の少なくとも一部がコートされる熱可塑性樹脂組成物であって、前記熱可塑性樹脂組成物中の熱可塑性樹脂の総量を基準として、約０．０１〜約３．０重量パーセントの式Ｚ+［Ｒ2ＳＯ3］-［Ｉ］（式中、Ｚはモノカチオンであり、そしてＲ2は、炭素に結合した少なくとも１つのフッ素原子を含有し、そして任意選択的にフッ素以外の基で置換されていてもよいヒドロカルビルである）の化合物を含むことを特徴とする熱可塑性樹脂組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
［Ｉ］を含有する熱可塑性樹脂組成物は、上述の自動車車両コーティングプロセスの全てに使用されてもよい。［Ｉ］が使用されてもよい自動車車体用の組成物には、それらの全てが参照により本明細書によって援用される、米国特許公報（特許文献３）（ＡＤ６９９８）および米国特許公報（特許文献４）（ＡＤ７０４３）に記載されているものが含まれる。熱可塑性樹脂組成物中の［Ｉ］の存在は、改善されたペイント接着に意外にもしばしばつながる。［Ｉ］を含有する組成物はまた、類似のコーティングプロセスに、例えば電化製品本体またはケースのコーティングに使用されてもよい。
なお、本発明は、特許請求の範囲を含め、以下の発明を包含する。
１．有機ポリマーを含むコーティングを熱可塑性樹脂組成物の表面に塗布することによる前記熱可塑性樹脂組成物のコーティング方法であって、前記熱可塑性樹脂組成物が、前記熱可塑性樹脂組成物中の熱可塑性樹脂の総量を基準として、約０．０１〜約３．０重量パーセントの式Ｚ+［Ｒ2ＳＯ3］-［Ｉ］（式中、Ｚはモノカチオンであり、そしてＲ2は、炭素に結合した少なくとも１つのフッ素原子を含有し、そして任意選択的にフッ素以外の基で置換されていてもよいヒドロカルビルである）の化合物を含むことを改善点とすることを特徴とする方法。
２．Ｒ2が、１〜１６個の炭素原子を含有するフルオロ置換アルキルであり、そして水素およびフッ素以外の基を全く含有しないことを特徴とする１に記載の方法。
３．Ｚがアルカリ金属カチオンまたは有機オニウムカチオンであることを特徴とする１または２に記載の方法。
４．前記コーティングが電着法を用いて塗布されることを特徴とする１〜３のいずれかに記載の方法。
５．前記熱可塑性樹脂組成物が自動車車両または自動車車体の部品を構成することを特徴とする１〜４のいずれかに記載の方法。
６．表面の少なくとも一部がコートされる熱可塑性樹脂組成物であって、前記熱可塑性樹脂組成物中の熱可塑性樹脂の総量を基準として、約０．０１〜約３．０重量パーセントの式Ｚ+［Ｒ2ＳＯ3］-［Ｉ］（式中、Ｚはモノカチオンであり、そしてＲ2は、炭素に結合した少なくとも１つのフッ素原子を含有し、そして任意選択的にフッ素以外の基で置換されていてもよいヒドロカルビルである）の化合物を含むことを特徴とする熱可塑性樹脂組成物。
７．Ｒ2が、１〜１６個の炭素原子を含有するフルオロ置換アルキルであり、そして水素およびフッ素以外の基を全く含有しないことを特徴とする６に記載の熱可塑性樹脂組成物。
８．Ｚがアルカリ金属カチオンまたは有機オニウムカチオンであることを特徴とする６または７に記載の熱可塑性樹脂組成物。
９．自動車車両または自動車車体の部品を構成することを特徴とする６〜８のいずれかに記載の熱可塑性樹脂組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月19日(2010.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インターネット通信をリダイレクトするためのコンピューターシステムであって、前記システムは：
一つ以上の予め定義されたビットストリングまたは文字セットについて発信元のコンピュータからリクエストされた情報を解析するプロセッサと；
前記一つ以上の予め定義されたビットストリングまたは文字セットについてドメインネームシステム（ＤＮＳ）サーバから受信した情報を解析するプロセッサと；
ａ）予め定義されたビットストリングまたは文字セットの内の一つ以上が見付からなかった場合、前記リクエストされた情報の一つ以上の第１のＩＰアドレスを前記発信元のコンピュータに供給し、
ｂ）一つ以上の異なるビットストリングまたは文字セットが見付かった場合、前記リクエストされた情報の一つ以上の第２のＩＰアドレスを前記発信元のコンピュータに供給し、
ｃ）予め定義されたビットストリングまたは文字セットの内の一つ以上が見付かり、かつ高次レベルプロトコルであると推測できる場合、一つ以上の第３のＩＰアドレスを前記発信元のコンピュータに供給し、または、
ｄ）前記リクエストされた情報に係るトラフィックを修正せずに通過させるプロセッサと；
一つ以上の代替のビットストリングまたは文字セットについて前記発信元のコンピュータから前記第１、第２および／または第３のＩＰアドレスに提出されたリクエストを解析するプロセッサと；を備え、
前記代替のビットストリングまたは文字セットは、特定の高次レベルインターネット通信プロトコルを示す、
システム。
【請求項２】
前記高次レベルインターネットプロトコルは、ＨＴＴＰ、ＨＴＴＰＳ、ＳＭＴＰ、ＦＴＰ、ＳＳＨ、Ｔｅｌｎｅｔ、または上記ＩＰ以外のプロトコル、またはこれらの内の二つ以上である、
請求項１のシステム。
【請求項３】
一つのプロセッサを備える、
請求項１のシステム。
【請求項４】
前記代替のビットストリングまたは文字セットは、特定ポート番号を経由して通信するリクエストに関連する、
請求項１のシステム。
【請求項５】
発信元のコンピュータからの前記情報はＤＮＳクエリーであり、前記予め定義されたビットストリングまたは文字セットはホスト名と関連している、
請求項１のシステム。
【請求項６】
更に、前記ＩＰアドレスのコンピュータに接続するリクエストを受信するプロセッサを備える、
請求項１のシステム。
【請求項７】
更に、特定のインターネット通信プロトコルを示す予め定義されたビットストリングまたは文字セットについて前記リクエストを解析するプロセッサを備える、
請求項６のシステム。
【請求項８】
前記プロトコルがＨＴＴＰである、
請求項２又は請求項７のシステム。
【請求項９】
前記リクエストを受信する前記プロセッサおよび前記リクエストを解析する前記プロセッサが同一プロセッサである、
請求項７のシステム。
【請求項１０】
更に、前記第１、第２および／または第３のＩＰアドレスにプロセッサを備え、前記プロセッサは、前記発信元から送信された前記情報のコンテンツと関連する情報を含むランディングページを生成する、
請求項７のシステム。
【請求項１１】
前記高次レベルプロトコルは、前記発信元のコンピュータの前記ＩＰアドレスから推測できる、
請求項１のシステム。
【請求項１２】
更に、異なるＩＰアドレスを供給すべきでないビットストリングまたは文字セットのリストを維持する、
請求項１のシステム。
【請求項１３】
前記リストの項目は、前記異なるＩＰアドレスに提出されたリクエストを解析する前記プロセッサにより生成される、
請求項１２のシステム。
【請求項１４】
前記リストは、一つ以上の条件または予め定義されたビットストリングもしくは文字セットが見付からない場合は、透過的にＤＮＳ応答を渡し、条件または予め定義されたビットストリングもしくは文字セットの内の一つ以上が見付かった場合は、異なるＩＰアドレスを供給するプロセッサによって維持される、
請求項１２のシステム。
【請求項１５】
更に、前記リスト作成後に一回以上リストを更新する、
請求項１２のシステム。
【請求項１６】
前記リストは、元のＩＰアドレス、リクエストされるホスト名、ＤＮＳクエリーのサイズ、単一のホスト名またはドメイン名の頻度、ポート番号、日付および／または時間についてのリクエストの監視に基づいて更新される、
請求項１５のシステム。
【請求項１７】
一つのリストが、前記異なるＩＰアドレスに提出される前記リクエストを解析する一つのコンピュータ上で維持され、一つのリストが、前記異なるＩＰアドレスに提出される前記リクエストを解析する一つのコンピュータ上で維持され、前記二つのリストが、入力が共通しているか共通していないかを識別するために比較される、
請求項１２のシステム。
【請求項１８】
一つのリストがウェブサーバ上で維持され、少なくとも二つのリストは入力が共通しているか共通していないかを識別するために比較される、
請求項１７のシステム。
【請求項１９】
前記システムは、インターネットトラフィックを解析し、監視するために用いられる、
請求項１のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月7日(2010.4.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ビットストリームから空間情報及びダウンミックス信号を抽出する段階と、
前記空間情報及びサラウンド効果のためのフィルター情報を用いて、前記ダウンミックス信号の一つのチャンネルに適用された後に同じチャンネルに転送される第１レンダリング情報及び前記チャンネルに適用された後に他のチャンネルに転送される第２レンダリング情報を含むレンダリング情報を生成する段階と、を含むことを特徴とする信号処理方法。
【請求項２】
前記ダウンミックス信号に前記第１レンダリング情報及び前記第２レンダリング情報を適用し、前記サラウンド効果を有するサラウンド信号を生成する段階をさらに含むことを特徴とする、請求項１に記載の信号処理方法。
【請求項３】
前記サラウンド信号を生成する段階は、時間ドメイン、周波数ドメイン、ＤＦＴドメイン及びＱＭＦドメインのうちの一つで行われることを特徴とする、請求項２に記載の信号処理方法。
【請求項４】
前記ダウンミックス信号がモノ信号である場合、前記チャンネルは、前記ダウンミックス信号にデコリレータを適用して生成されたデコリレートされたダウンミックス信号であることを特徴とする、請求項１に記載の信号処理方法。
【請求項５】
前記ダウンミックス信号がステレオ信号である場合、前記チャンネルが左チャンネルであり、前記他のチャンネルが右チャンネルであることを特徴とする、請求項１に記載の信号処理方法。
【請求項６】
前記ダウンミックス信号がステレオ信号である場合、前記チャンネルが右チャンネルであり、前記他のチャンネルが左チャンネルであることを特徴とする、請求項１に記載の信号処理方法。
【請求項７】
ビットストリームから空間情報及びダウンミックス信号を抽出する段階と、
前記空間情報及びサラウンド効果のためのフィルター情報を用いて、前記ダウンミックス信号の一つのチャンネルに適用された後に第１のチャンネルに転送される第１レンダリング情報及び前記チャンネルに適用された後に第２のチャンネルに転送される第２レンダリング情報を含むレンダリング情報を生成する段階と、を含むことを特徴とする信号処理方法。
【請求項８】
サラウンド効果のためのフィルター情報及びビットストリームから抽出された空間情報を用いて、前記サラウンド効果を有するサラウンド信号を生成するためのレンダリング情報を生成する空間情報変換部と、
前記レンダリング情報を、前記ビットストリームから抽出されたダウンミックス信号に適用するレンダリング部と、を含み、
前記レンダリング情報は、前記ダウンミックス信号の一つのチャンネルに適用されて同じチャンネルに転送される第１レンダリング情報及び前記チャンネルに適用されて他のチャンネルに転送される第２レンダリング情報を含むことを特徴とする信号処理装置。
【請求項９】
前記レンダリング部は、前記ビットストリームから抽出されたダウンミックス信号に前記レンダリング情報を適用することにより、時間ドメイン、周波数ドメイン、ＤＦＴドメイン及びＱＭＦドメインのうちの一つで前記サラウンド信号を生成することを特徴とする、請求項８に記載の信号処理装置。
【請求項１０】
前記ダウンミックス信号がモノ信号である場合、前記チャンネルは、前記ダウンミックス信号にデコリレータを適用して生成されたデコリレートされたダウンミックス信号であることを特徴とする、請求項８に記載の信号処理装置。
【請求項１１】
前記ダウンミックス信号がステレオ信号である場合、前記チャンネルが左チャンネルであり、前記他のチャンネルが右チャンネルであることを特徴とする、請求項８に記載の信号処理装置。
【請求項１２】
前記ダウンミックス信号がステレオ信号である場合、前記チャンネルが右チャンネルであり、前記他のチャンネルが左チャンネルであることを特徴とする、請求項８に記載の信号処理装置。
【請求項１３】
サラウンド効果のためのフィルター情報及びビットストリームから抽出された空間情報を用いて、前記サラウンド効果を有するサラウンド信号を生成するためのレンダリング情報を生成する空間情報変換部と、
前記レンダリング情報を、前記ビットストリームから抽出されたダウンミックス信号に適用するレンダリング部と、を含み、
前記レンダリング情報は、前記ダウンミックス信号の一つのチャンネルに適用されて第１のチャンネルに転送される第１レンダリング情報及び前記チャンネルに適用されて第２のチャンネルに転送される第２レンダリング情報を含むことを特徴とする信号処理装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月2日(2010.3.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マルチソースの空間情報を用いてソースマッピング情報を生成する段階と、
前記ソースマッピング情報及びサラウンド効果のフィルター情報を用いて少なくとも一つのレンダリング情報を生成する段階と、
少なくとも一つの前記レンダリング情報の隣接するレンダリング情報を用いて前記少なくとも一つのレンダリング情報の補間を行う段階と、
を含むことを特徴とする信号処理方法。
【請求項２】
前記補間は、時間ドメイン、周波数ドメイン及びＱＭＦドメインの一つで行われることを特徴とする、請求項１に記載の信号処理方法。
【請求項３】
前記補間は、前記隣接するレンダリング情報間で線形的に行なわれることを特徴とする、請求項１に記載の信号処理方法。
【請求項４】
前記補間は、前記少なくとも一つのレンダリング情報が存在する特定の位置の以前の値、デフォルト値、ならびに前記以前の値および前記デフォルト値の組合せのうち少なくとも一つを使用することによって行われることを特徴とする、請求項１に記載の信号処理方法。
【請求項５】
前記少なくとも一つのレンダリング情報が生成された第１周波数帯域から第２周波数帯域に前記少なくとも一つのレンダリング情報を拡張する段階をさらに含むことを特徴とする、請求項１に記載の信号処理方法。
【請求項６】
少なくとも一つの前記補間が行われたレンダリング情報を、前記マルチソースをダウンミックスして生成されたダウンミックス信号に適用し、前記サラウンド効果を有するサラウンド信号を生成する段階をさらに含むことを特徴とする、請求項１に記載の信号処理方法。
【請求項７】
前記フィルター情報は、ＨＲＴＦフィルター情報と使用者の選択によって決定された値のうち少なくとも一つを含むことを特徴とする、請求項６に記載の信号処理方法。
【請求項８】
マルチソースの空間情報を用いてソースマッピング情報を生成するソースマッピング部と、
前記ソースマッピング情報及びサラウンド効果のフィルター情報を用いて少なくとも一つのレンダリング情報を生成する合成部と、
少なくとも一つの前記レンダリング情報の隣接するレンダリング情報を用いて前記少なくとも一つのレンダリング情報の補間を行う補間部と、
を含むことを特徴とする信号処理装置。
【請求項９】
前記補間部は、時間ドメイン、周波数ドメイン及びＱＭＦドメインのうち一つで前記少なくとも一つのレンダリング情報の補間を行うことを特徴とする、請求項８に記載の信号処理装置。
【請求項１０】
前記補間部は、前記隣接するレンダリング情報間で線形的に補間を行うことを特徴とする、請求項８に記載の信号処理装置。
【請求項１１】
前記補間部は、前記少なくとも一つのレンダリング情報が存在する特定の位置の以前の値、デフォルト値、ならびに前記以前の値および前記デフォルト値の組合せのうち少なくとも一つを使用することによって補間を行うことを特徴とする、請求項８に記載の信号処理装置。
【請求項１２】
前記補間部は、前記少なくとも一つのレンダリング情報が生成された第１周波数帯域から第２周波数帯域に前記少なくとも一つのレンダリング情報を拡張することを特徴とする、請求項８に記載の信号処理装置。
【請求項１３】
前記補間部は、前記第１周波数帯域のレンダリング情報と同じ値を用いて拡張を行うことを特徴とする、請求項１２に記載の信号処理装置。
【請求項１４】
前記補間が行われたレンダリング情報を、前記マルチソースをダウンミックスして生成されたダウンミックス信号に適用し、サラウンド効果を有するサラウンド信号を生成するレンダリング部をさらに含むことを特徴とする、請求項８に記載の信号処理装置。
【請求項１５】
前記フィルター情報は、ＨＲＴＦフィルター情報と使用者の選択によって決定された値のうち少なくとも一つを含むことを特徴とする、請求項１４に記載の信号処理装置。