Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月6日(2010.9.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
タッチ感知を一体化した液晶ディスプレイを備えているタッチ・スクリーンにおいて、  第１ポラライザーを備え、
第２ポラライザーを備え、
ディスプレイ制御回路が上に形成されている第１基板であって、前記第１ポラライザーと前記第２ポラライザーの間に配置されている、第１基板を備え、
カウンタ電極が上に配置されている第２基板であって、前記第１ポラライザーと前記第２ポラライザーの間に前記第１基板に隣接して配置されている第２基板を備え、
前記第１基板と前記第２基板の間に配置されている液晶層を備え、
前記第１基板上に配置されている複数のピクセル電極を備え、
前記液晶層と前記第２基板との間に配置されていて第１方向に延びる複数のタッチ駆動電極を備え、
前記液晶層と前記第２基板との間に配置されていて第１方向と交差する第２方向に延びる複数のタッチ感知電極を備え、
前記複数のタッチ駆動電極と前記複数のタッチ感知電極は、タッチ感知動作モードの間動作し、
前記複数のタッチ駆動電極と前記複数のタッチ感知電極は、相互に隔置されていてその間に容量結合ノードを形成し、
前記複数のタッチ駆動電極又は前記複数のタッチ感知電極の一方は、表示動作モードの間前記液晶ディスプレイに対するカウンタ電極として働き、
さらに、前記タッチ感知動作モードの間前記複数のタッチ感知電極に作動結合されている、前記容量結合ノードにおけるキャパシタンスの変化によって生じる電流及び／又は電圧の変化を測定するための少なくとも１つの容量感知回路を備えている、
タッチ・スクリーン。
【請求項２】
前記複数のタッチ駆動電極は、前記表示動作モードの間前記カウンタ電極として働くように構成されている、請求項１に記載のタッチ・スクリーン。
【請求項３】
前記複数のタッチ感知電極が前記第２基板上に直接配置され、
誘電層が前記複数のタッチ感知電極上に直接配置され、
前記複数のタッチ駆動電極が前記誘電層上に直接配置されている、
請求項１乃至２の１つに記載のタッチ・スクリーン。
【請求項４】
少なくとも前記タッチ感知動作の間、前記複数のタッチ駆動電極は、周期電圧を有する刺激波形を前記複数のタッチ駆動電極の１つ又は複数の電極に沿って前記容量結合ノードへ順次送るように動作する、請求項１に記載のタッチ・スクリーン。
【請求項５】
前記複数のタッチ感知電極は、セグメント化された導電ブラック・マトリクスから成る、請求項１及び４の１つに記載のタッチ・スクリーン。
【請求項６】
前記複数のタッチ感知電極は、ポリマー・ブラック・マトリクスの裏に配置された不透明な金属層から成る、請求項１及び４の１つに記載のタッチ・スクリーン。
【請求項７】
前記複数のタッチ感知電極の中の電極の間において前記第２基板上に直接配置されている、請求項３乃至６の１つに記載のタッチ・スクリーン。
【請求項８】
前記第２基板上に配置されていて、前記複数のタッチ駆動電極及び前記複数のタッチ感知電極の１つに少なくとも結合されているアクティブＴＦＴ層をさらに備えている、請求項１に記載のタッチ・スクリーン。
【請求項９】
前記複数のタッチ感知電極が前記第２基板上に直接配置され、
平坦化層が前記複数のタッチ感知電極上に配置され、
前記複数のタッチ駆動電極が前記平坦化層上に配置されている、
請求項１に記載のタッチ・スクリーン。
【請求項１０】
前記複数のタッチ駆動電極は、前記表示動作モードの間、ＶCOMにも使用される、請求項９に記載のタッチ・スクリーン。
【請求項１１】
カラーフィルタが、前記複数のタッチ感知電極と前記平坦化層との間に配置されている、請求項１０に記載のタッチ・スクリーン。
【請求項１２】
前記複数のタッチ駆動電極が前記第２基板上に直接配置され、
平坦化層が前記複数のタッチ駆動電極上に配置され、
前記複数のタッチ感知電極が前記平坦化層上に配置されている、
請求項１に記載のタッチ・スクリーン。
【請求項１３】
前記複数のタッチ感知電極は、前記表示動作モードの間、ＶCOMにも使用される、請求項１２に記載のタッチ・スクリーン。
【請求項１４】
少なくとも前記タッチ感知動作の間、前記複数のタッチ駆動電極は、周期電圧を有する刺激波形を前記複数のタッチ駆動電極の１つ又は複数の電極に沿って前記容量結合ノードへ順次送るように動作する、請求項９に記載のタッチ・スクリーン。
【請求項１５】
少なくとも前記タッチ感知動作の間、前記複数のタッチ駆動電極は、周期電圧を有する刺激波形を前記複数のタッチ駆動電極の１つ又は複数の電極に沿って前記容量結合ノードへ順次送るように動作する、請求項１２に記載のタッチ・スクリーン。
【請求項１６】
前記カウンタ電極は、前記ディスプレイの１つの領域が前記表示動作モードの間に一定のＶCOMを維持し、別の領域に前記タッチ感知動作モードの間に独立してタッチの走査を行うことができるように、セグメント化されている、請求項１に記載のタッチ・スクリーン。
【請求項１７】
少なくとも前記タッチ感知動作の間、前記複数のタッチ駆動電極は、周期電圧を有する刺激波形を前記複数のタッチ駆動電極の１つ又は複数の電極に沿って前記容量結合ノードへ順次送るように動作する、請求項１６に記載のタッチ・スクリーン。
【請求項１８】
前記容量感知回路は、電荷増幅器から成り、前記複数のタッチ感知電極は、前記電荷増幅器の入力に接続されている、請求項１乃至１７に記載のタッチ・スクリーン。
【請求項１９】
前記電荷増幅器は、出力と、反転入力及び非反転入力と、前記出力と反転入力の間のフィードバック経路とを有し、前記複数のタッチ感知電極は、前記電荷増幅器の反転入力に接続されている、請求項１８に記載のタッチ・スクリーン。
【請求項２０】
請求項１乃至１９に記載のタッチ・スクリーンを組み込んだ電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月7日(2010.9.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一体化された液晶ディスプレイ・タッチ・スクリーンにおいて、
第１ポラライザーと、
第２ポラライザーと、
ディスプレイ制御回路が上に形成されている第１基板であって、前記第１ポラライザーと前記第２ポラライザーの間に配置されている、第１基板と、
前記第１ポラライザーと前記第２ポラライザーの間に、前記第１基板に隣接して、配置されている第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板の間に配置されている液晶層と、
前記第２基板上に直接又は間接に配置されているカラーフィルタと、
前記第１基板と前記第２基板の間に配置されている第１の複数のタッチ感知要素と、
前記第１ポラライザーと前記第２ポラライザーの間で且つ前記第１基板と前記第２基板の間以外に配置された第２の複数のタッチ感知要素と、
を備えているタッチ・スクリーン。
【請求項２】
前記第１の複数のタッチ感知要素は、複数のタッチ駆動電極又は複数のタッチ感知電極のうちの一方から成り、
前記第２の複数のタッチ感知要素は、前記複数のタッチ駆動電極又は前記複数のタッチ感知電極のうちの他方から成り、
前記複数のタッチ駆動電極と前記複数のタッチ感知電極は、少なくともタッチ感知動作モードの間は動作し、
前記複数のタッチ駆動電極と前記複数のタッチ感知電極は、相互に隔置されていてその間に容量結合ノードを形成し、
さらに、前記タッチ感知動作モードの間前記複数のタッチ感知電極に作動結合されている、前記容量結合ノードにおけるキャパシタンスの変化によって生じる電流及び／又は電圧の変化を測定するための少なくとも１つの容量感知回路を備えている、
請求項１に記載のタッチ・スクリーン。
【請求項３】
前記複数のタッチ駆動電極及び前記複数のタッチ感知電極のうちの少なくとも一方は、表示動作モードの間、液晶ディスプレイの電極としても働く、請求項２に記載のタッチ・スクリーン。
【請求項４】
前記複数のタッチ感知電極は、前記第２基板と前記第２ポラライザーの間に配置され、前記複数のタッチ駆動電極は、前記第１基板と前記第２基板の間に配置されている、請求項２に記載のタッチ・スクリーン。
【請求項５】
前記複数のタッチ駆動電極と前記複数のタッチ感知電極の一方は、その液晶層に面する側が前記第２基板上に配置され、前記複数のタッチ駆動電極と前記複数のタッチ感知電極の他方は、その第２ポラライザーに面する側が前記第１基板上に配置されている、請求項２に記載のタッチ・スクリーン。
【請求項６】
前記複数のタッチ駆動電極は、その液晶層に面する側が前記第１基板上に配置され、前記複数のタッチ感知電極は、その第１ポラライザーに面する側が前記第１基板上に配置されている、請求項２に記載のタッチ・スクリーン。
【請求項７】
液晶ディスプレイを形成する複数のディスプレイ・ピクセルをさらに備え、該複数のディスプレイ・ピクセルは、カウンタ電極付きの複数の蓄積コンデンサーを有し、前記複数のタッチ駆動電極は、表示動作モードの間、前記複数の蓄積コンデンサーのカウンタ電極としても働く、請求項２に記載のタッチ・スクリーン。
【請求項８】
刺激パルスが、少なくともタッチ感知動作モードの間、前記複数のタッチ駆動電極に印加され、前記複数のタッチ駆動電極が、表示動作モードの間、接地されている、請求項２に記載のタッチ・スクリーン。
【請求項９】
前記第１基板と前記第２基板の間に配置されている前記第１の複数のタッチ感知要素が、前記第２基板上に直接又は間接に配置されている複数のタッチ駆動電極から成る、請求項１及び２の１つに記載のタッチ・スクリーン。
【請求項１０】
前記複数のタッチ駆動電極は、前記カラーフィルタの上にパターン形成されたＩＴＯから成り、前記タッチ駆動電極は、ディスプレイＶCOMに使用することができるように構成されている、請求項３に記載のタッチ・スクリーン。
【請求項１１】
前記第２の複数のタッチ感知要素は、前記第２の基板上に形成されていて、前記第１ポラライザーと前記第２ポラライザーの間で且つ前記第１基板と前記第２基板の間以外に配置された複数のタッチ感知電極から成る、請求項１及び２の１つに記載のタッチ・スクリーン。
【請求項１２】
前記複数のタッチ駆動電極は、その液晶層に隣接する側が前記第２基板上に直接パターン形成されたＩＴＯから成り、前記カラーフィルタは、前記複数のタッチ駆動電極の上に堆積されている、請求項２に記載のタッチ・スクリーン。
【請求項１３】
前記第２の複数のタッチ感知要素は、前記第２基板上に形成され且つ前記第２基板と前記第２ポラライザーの間に配置された複数のタッチ感知電極から成り、前記カラーフィルタの上に堆積されたＩＴＯ層を更に備えており、前記ＩＴＯ層は、ディスプレイＶCOMから成る、請求項１２に記載のタッチ・スクリーン。
【請求項１４】
前記第１基板と前記第２基板の間に配置された前記第１の複数のタッチ感知要素は、複数のタッチ駆動電極にセグメント化された導電ブラック・マトリクスから成る、請求項１及び２の１つに記載のタッチ・スクリーン。
【請求項１５】
前記第２の複数のタッチ感知要素は、前記第２基板と前記第２ポラライザーの間に配置された複数のタッチ感知電極から成る、請求項１、２及び１４に記載のタッチ・スクリーン。
【請求項１６】
前記第１基板と第２基板の間に配置された前記第１の複数のタッチ感知要素は、ブラック・マトリクスの裏に配置された複数の金属タッチ駆動電極から成り、前記第２の複数のタッチ感知要素は、前記第２基板上に形成され且つ前記第２基板と前記第２ポラライザーの間に配置された複数のタッチ感知電極から成る、請求項１及び２の１つに記載のタッチ・スクリーン。
【請求項１７】
前記第１基板と第２基板の間に配置された前記第１の複数のタッチ感知要素は、前記第１基板上の複数のＩＴＯ駆動ピクセルから成る、請求項１に記載のタッチ・スクリーン。
【請求項１８】
前記第２の複数のタッチ感知要素は、前記第１ポラライザー上に配置された複数のタッチ感知電極から成り、前記第１ポラライザーは、前記第１基板に重ね合わせられ、前記ＩＴＯ駆動ピクセルは、ディスプレイ・ピクセル駆動にも使用される、請求項１７に記載のタッチ・スクリーン。
【請求項１９】
前記第１基板と第２基板の間に配置された前記第１の複数のタッチ感知要素は、前記第１基板上に形成された複数のタッチ駆動電極から成り、前記複数のタッチ駆動電極は、ディスプレイ・ピクセル蓄積コンデンサーの電極も形成している、請求項１に記載のタッチ・スクリーン。
【請求項２０】
請求項１乃至１９に記載のタッチ・スクリーンを組み込んだ電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月1日(2010.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
伝熱流体は、バッチ方式、半バッチ方式、または連続方式で導入される。流体のバッチ方式の導入の場合は、基板２１０と冷却された面との間の伝熱は、自然対流または強制対流によって生じうる。強制対流の場合は、流体を再循環ポンプ（図示せず）によって室を通って再循環させることができる。冷却流体の連続方式の導入の場合は、流体は流体排出部２２５を通じて排出される。場合によっては、冷却流体は転送開口部２０７を通って排出されてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月7日(2010.6.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マルチカラー有機発光ダイオードの製造方法であって、前記ダイオードが複数の第１のサブピクセル領域および複数の第２のサブピクセル領域を含み、前記方法が：
パターン化されたアノードを基体上に形成するステップと、
導電性ポリマーとフッ素化酸ポリマーとを含むパターン化されていない連続正孔注入層を前記アノード上に形成するステップと
を含み；
前記第１のサブピクセルと前記第２のサブピクセルとの間にはクロストークが実質的に観察されないことを特徴とする方法。
【請求項２】
パターン化されていない連続プライマー層を前記正孔注入層上に形成するステップと；
第１の液体組成物から第１のエレクトロルミネッセンス材料を前記第１のサブピクセル領域内の前記プライマー層上に堆積するステップと；
第２の液体組成物から第２のエレクトロルミネッセンス材料を前記第２のサブピクセル領域内の前記プライマー層上に堆積するステップと；
カソードを堆積するステップと
をさらに含み；
前記第１のエレクトロルミネッセンス材料が第１の色の光を発し、前記第２のエレクトロルミネッセンス材料が第２の色の光を発し、前記第１の色が前記第２の色とは異なることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ダイオードが複数の第３のサブピクセル領域をさらに含み、前記方法が：
パターン化されていない連続プライマー層を前記正孔注入層上に形成するステップと；
第１の液体組成物から第１のエレクトロルミネッセンス材料を前記第１のサブピクセル領域内の前記プライマー層上に堆積するステップと；
第２の液体組成物から第２のエレクトロルミネッセンス材料を前記第２のサブピクセル領域内の前記プライマー層上に堆積するステップと；
第３の液体組成物から第３のエレクトロルミネッセンス材料を前記第３のサブピクセル領域内の前記プライマー層上に堆積するステップと；
カソードを堆積するステップと
をさらに含み；
前記第１のエレクトロルミネッセンス材料が第１の色の光を発し、前記第２のエレクトロルミネッセンス材料が第２の色の光を発し、前記第３のエレクトロルミネッセンス材料が第３の色の光を発し、前記第１、第２、および第３の色が互いに異なることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記導電性ポリマーが、少なくとも１０−７Ｓ／ｃｍの導電率を有するフィルムを含むことを特徴とする請求項１、２または３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記導電性ポリマーがコポリマーであることを特徴とする請求項１、２または３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記導電性ポリマーが、ポリチオフェン、ポリセレノフェン、ポリ（テルロフェン）、ポリピロール、ポリアニリン、および多環式芳香族、ならびにそれらのコポリマーからなる群から選択されることを特徴とする請求項１、２または３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記フッ素化酸ポリマーが、ポリオレフィン、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリイミド、ポリアミド、ポリアラミド、ポリアクリルアミド、ポリスチレン、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される１つまたは複数の主鎖を有することを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記ポリマー主鎖がフッ素化されていることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記ポリマー主鎖が高フッ素化されていることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
前記ポリマー主鎖が完全フッ素化されていることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項１１】
前記酸性基が、スルホン酸基およびスルホンイミド基から選択されることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項１２】
前記酸性基がフッ素化側鎖上に存在することを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記フッ素化酸ポリマーが、エーテルスルホネート、エステルスルホネート、およびエーテルスルホンイミドから選択される基であるフッ素化ペンダント基を有するフッ素化オレフィン主鎖を有することを特徴とする請求項１または７に記載の方法。
【請求項１４】
前記フッ素化酸ポリマーが、フッ素化および部分スルホン化ポリ（アリーレンエーテルスルホン）のホモポリマーまたはコポリマーであることを特徴とする請求項１または７に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月31日(2010.5.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高出力エキシマ又は分子状フッ素ガス放電レーザＤＵＶ光源システム
を備え、
前記光源システムはパルス・ストレッチャを備え、
前記パルス・ストレッチャは、光遅延ライン・ミラーと光遅延ライン・ミラー・ガス・パージ・アセンブリとを備え、
前記ガス・パージ・アセンブリは、前記光遅延ライン・ミラーの表面全域にパージ・ガスを誘導するパージ・ガス供給システムを備える、
ことを特徴とする装置。
【請求項２】
複数の光遅延ライン・ミラーを含む前記光遅延ライン・ミラーと、
前記複数の光遅延ライン・ミラーの各々の表面全域にパージ・ガスを誘導する前記パージ・ガス供給システムと、
をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
パージ・ガス供給ラインと、
それぞれの前記光遅延ミラーの前記表面全域にパージ・ガスを誘導するパージ・ガス分配及び誘導機構と、
を備える前記パージ・ガス供給システム
をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項４】
パージ・ガス供給ラインと、
それぞれの前記光遅延経路ミラーの前記表面全域にパージ・ガスを誘導するパージ・ガス分配マニホルド及びバッフル装置と、
を備える前記パージ・ガス供給システム
をさらに含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の装置。
【請求項５】
それぞれの光遅延経路ミラーを前記遅延経路内の光ビームに曝す光透過開口部を備える前記バッフルをさらに含むことを特徴とする請求項４に記載の装置。
【請求項６】
互いに接合されたとき、パージ・ガス注入口プレナムをガス・マニホルドのガス分配開口部に接続する内部チャネルを形成する、上部プレート及び底部プレートを備える前記分配マニホルド
をさらに含むことを特徴とする請求項４に記載の装置。
【請求項７】
前記光遅延経路の位置合せの誤差を補正するための、光遅延経路ミラーの位置を調整するミラー位置調整機構をさらに備えることを特徴とする請求項５に記載の装置。
【請求項８】
前記光遅延経路に対して前記光遅延経路ミラーを移動させるための、光遅延経路筐体壁に移動可能に接続された光遅延経路ミラー取付け台を備える前記ミラー位置調整機構
をさらに含むことを特徴とする請求項７に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月31日(2010.5.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
本質的に平面状の試験基体であって：
第１の表面エネルギーを有し平面状測定部分を有する第１の層と、
前記第１の層の少なくとも前記測定部分上の、第２の表面エネルギーを有する液体閉じ込めパターンと、
場合により液体印刷組成物と
を含み、
前記第１の層の前記測定部分と前記液体閉じ込めパターンとは合わせて実質的に平面状であり、前記第２の表面エネルギーが前記第１の表面エネルギーとは顕著に異なることを特徴とする試験基体。
【請求項２】
前記第１の層が支持体を含むことを特徴とする請求項１に記載の試験基体。
【請求項３】
前記第１の層が、支持体上の有機層および支持体上の無機層からなる群から選択される層を含むことを特徴とする請求項１に記載の試験基体。
【請求項４】
前記有機層が、活性材料および不活性材料からなる群から選択される少なくとも１つの材料を含むことを特徴とする請求項３に記載の試験基体。
【請求項５】
前記閉じ込めパターンが、前記第１の層よりも高い表面エネルギーを有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の試験基体。
【請求項６】
前記閉じ込めパターン、およびいずれの液体印刷組成物が、前記第１の層よりも低い表面エネルギーを有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の試験基体。
【請求項７】
前記閉じ込めパターンが、非フッ素化またはフッ素化低表面エネルギー（ＬＳＥ）材料を含むことを特徴とする請求項１または６に記載の試験基体。
【請求項８】
前記液体印刷組成物が、前記第１の層の表面エネルギーよりも低いが、前記閉じ込めパターンの表面エネルギーとほぼ同じかそれよりも大きい表面エネルギーを有することを特徴とする請求項１、６および７のいずれか１項に記載の試験基体。
【請求項９】
前記液体閉じ込めパターンが非フッ素化またはフッ素化反応性界面活性（ＲＳＡ）組成物を含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の試験基体。
【請求項１０】
本質的に平面状の試験基体上に閉じ込めパターンを形成する方法であって、前記試験基体が、第１の表面エネルギーを有し平面状測定部分を有する第１の層と、前記第１の層の少なくとも前記測定部分上の、第２の表面エネルギーを有する液体閉じ込めパターンとを含み、
前記第１の層の前記測定部分と前記液体閉じ込めパターンとは合わせて実質的に平面状であり、前記第２の表面エネルギーが前記第１の表面エネルギーとは顕著に異なり：
前記閉じ込めパターンを形成するために、非フッ素化またはフッ素化ＲＳＡ組成物を前記第１の層に適用するステップと、
前記ＲＳＡ組成物を放射線にパターン露光するステップであって、それによって前記閉じ込めパターンの一部が露光し、一部が未露光となるステップと
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１１】
放射線への露光後に前記ＲＳＡ組成物を現像して、前記露光領域または前記未露光領域のいずれかを除去するステップをさらに含むことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
現像が、加熱、液体組成物による処理、吸収材料による処理、および粘着性材料による処理からなる群から選択される技術を含むことを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
放射線に露光すると前記ＲＳＡ組成物が前記第１の層と反応し、露光後に前記ＲＳＡ組成物を現像して、前記未露光領域内の前記ＲＳＡ組成物を除去するステップをさらに含むことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
露光後に前記ＲＳＡ組成物を現像して、前記露光領域内のＲＳＡ組成物を部分的に除去するステップをさらに含むことを特徴とする請求項１３に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月14日(2009.9.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの単極保護開閉器モジュール（２）を有する保護開閉器（１）であってハウジング（３）と、可動接点（８４）を担持して閉鎖位置と開放位置との間を固定接点（８５）に対し揺動可能な開閉腕（４３）と、閉鎖位置と開放位置の間で開閉腕（４３）を手動変位させるための手動操作機構（４２）と、引外し条件発生時に開閉腕（４３）を開放位置に自動復帰させるための引外し機能（４４）とを含み、
複数の保護開閉器モジュール（２）が１つの多極保護開閉器装置へと並列接続可能であり、こうして保護開閉器モジュール（２）が機械的に関連したユニットを形成し、全ての保護開閉器モジュール（２）の手動操作機構（４２）が連結されており、こうして保護開閉器モジュール（２）が一緒にのみ開閉可能であり、全ての保護開閉器モジュール（２）の引外し機構（４４）が連結されており、こうして各保護開閉器モジュール（２）の引外し機構（４４）によって他の全ての保護開閉器モジュール（２）も引き外され、連結部材（１２０）が隣り合う保護開閉器モジュール（２）の間に嵌挿可能であり、かつ保護開閉器モジュール（２）を相互に機械的に固定するのに役立つと共に、両方の保護開閉器モジュール（２）の手動操作機構（４２）と引外し機構（４４）との連結も引き起こす保護開閉器。
【請求項２】
連結部材（１２０）が一体に形成されている請求項１に記載の保護開閉器。
【請求項３】
盲蓋（１５ａ、１５ｂ）が、露出したハウジング正面（１４ａ、１４ｂ）用成端部としてハウジング正面（１４ａ、１４ｂ）に嵌着可能である請求項１又は２に記載の保護開閉器。
【請求項４】
前記又は各保護開閉器モジュール（２）が、可動接点（８４）に電気的に結合されて導体を接続する１つの給電端子（２４）を有し、複数の保護開閉器モジュール（２）にわたって延設されたバスバー（１３０）を接触させるように形成された連結接点（２９）が給電端子（２４）と並列接続されており、ハウジング幅全体にわたって延設されたハウジング条溝（３０）内に連結接点（２９）が配置されている請求項１から３の１つに記載の保護開閉器。
【請求項５】
前記又は各保護開閉器モジュール（２）が、信号用リレー（７１）に電気的に結合されて導体を接続する２つの信号端子（２８ａ、２８ｂ）を有し、複数の保護開閉器モジュール（２）にわたって延設されたバスバー部材（１３５ａ、１３５ｂ）を接触させるように形成された連結接点（３１ａ、３１ｂ）が信号端子（２８ａ、２８ｂ）の少なくとも一方と並列に接続されており、ハウジング幅全体にわたって延設されたハウジング条溝（３２ａ、３２ｂ）内に前記又は各連結接点（３１ａ、３１ｂ）が配置されている請求項１から４の１つに記載の保護開閉器。
【請求項６】
ハウジング条溝（３０、３２ａ、３２ｂ）は、その開口幅および深さに関して、相対応する連結接点（２９、３１ａ、３１ｂ）が指の安全性を保ってハウジング（３）内に受容されているように寸法設計されている請求項４又は５記載の保護開閉器。
【請求項７】
絶縁体から成る成端条板（１３２）が各ハウジング正面（１４ａ、１４ｂ）でハウジング条溝（３０、３２ａ、３２ｂ）に差込可能であり、差込状態の際、この成端条板が相応するハウジング正面（１４ａ、１４ｂ）側でハウジング条溝（３０、３２ａ、３２ｂ）を成端する請求項４から６の１つに記載の保護開閉器。
【請求項８】
ハウジング条溝（３０、３２ａ、３２ｂ）が各ハウジング正面（１４ａ、１４ｂ）に案内板（１３４）を有し、該案内板が成端条板（１３２）の対応する案内溝（１３３）と協動して成端条板（１３２）を嵌合式に固定する請求項７記載の保護開閉器。
【請求項９】
成端条板（１３２）が目標破断部を介してハウジング（６）に形成されている請求項７又は８記載の保護開閉器。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月8日(2009.9.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
サンプルを観察するための単純化された走査型電子顕微鏡（１０２）であって、電子ソースと、電子を集束させる永久磁石レンズ（２４０）と、焦点を微細調節するレンズ・コイル（２４４）と、後方散乱電子を検出するダイオード検出器（２８０）を備えており、これにより、電子顕微鏡に二次電子検出器と、真空内にあって、前記サンプルが観察のためにその上に装填されるＸ−Ｙ調節可能サンプルステージとがないことを含む、単純化された走査型電子顕微鏡。
【請求項２】
ユーザが調節可能なビーム・エネルギーまたはユーザが調節可能なビーム・サイズをさらに有していない、請求項１に記載の単純化された走査型電子顕微鏡。
【請求項３】
真空ゲージまたは真空コントローラを有していない、請求項１または２に記載の単純化された走査型電子顕微鏡。
【請求項４】
電子カラム・ハウジング（８１１）に組み込まれたターボ分子ポンプ（２８２）をさらに備える、請求項１〜３のいずれかに記載の単純化された走査型電子顕微鏡。
【請求項５】
電子顕微鏡外部に位置決めされ、空気導管を介して電子顕微鏡に接続された予備真空排気ポンプ（１１０）をさらに備える、請求項１〜４のいずれかに記載の単純化された走査型電子顕微鏡。
【請求項６】
前記電子顕微鏡が、その唯一の電源として１１０Ｖ、２０アンペア電源から作動可能である、請求項１〜５のいずれかに記載の単純化された走査型電子顕微鏡。
【請求項７】
従来の住居用電力、つまりＵＳまたは非ＵＳで動作可能である、請求項１〜６のいずれかに記載の単純化された走査型電子顕微鏡。
【請求項８】
２４Ｖ、４００Ｗの直流電源によって動作可能である、請求項１〜５のいずれかに記載の単純化された走査型電子顕微鏡。
【請求項９】
ユーザ領域の外部にガスを排気することなく動作可能である、請求項１〜８のいずれかに記載の単純化された走査型電子顕微鏡。
【請求項１０】
４５．３６ｋｇ（１００ポンド）未満、３４．０２ｋｇ（７５ポンド）未満、または２２．６８ｋｇ（５０ポンド）未満の重量である、請求項１〜９のいずれかに記載の単純化された走査型電子顕微鏡。
【請求項１１】
ユーザによってユーザ領域において操作されるようになされ、前記レンズと前記サンプルとの間の空間から空気を除去する真空ポンプをさらに備え、前記真空ポンプが前記除去された空気を前記ユーザ領域に排気し、これにより前記ユーザ領域の外部にポンプ排気を排出する必要のない、請求項１〜１０のいずれかに記載の単純化された走査型電子顕微鏡。
【請求項１２】
前記永久磁石レンズと前記サンプルとの間の空間から空気を除去するダイヤフラム・ポンプ（１１０）をさらに備える、請求項１〜１１のいずれかに記載の単純化された走査型電子顕微鏡。
【請求項１３】
ユーザが光学画像上のインジケータ（４３、４４）を動かして、前記サンプルの対応する領域を前記電子ビームに撮像させるナビゲーション・システムをさらに備える、請求項１〜１２のいずれかに記載の単純化された走査型電子顕微鏡。
【請求項１４】
撮像のために位置決めする前にサンプルチャンバを部分的に真空排気するために挿入されるときにサンプルホルダと真空的に連通し、前記サンプルを装填し、電子ビーム画像を形成するまでの時間を１分未満に短縮する真空チャンバをさらに備える、請求項１〜１３のいずれかに記載の単純化された走査型電子顕微鏡。
【請求項１５】
撮像のために位置決めする前にサンプルチャンバを部分的に真空排気するために挿入されるときにサンプルホルダと真空的に連通し、前記サンプルを装填し、電子ビーム画像を形成するまでの時間を３０秒未満に短縮する真空チャンバをさらに備える、請求項１〜１３のいずれかに記載の単純化された走査型電子顕微鏡。
【請求項１６】
サンプルを観察するための単純化された走査型電子顕微鏡であって、電子ソースと、電子を集束させる永久磁石レンズと、焦点を微細調節するレンズ・コイルと、後方散乱電子を検出するダイオード検出器を備えており、これにより、電子顕微鏡が標準的な住居用電源によって動作し、ユーザ領域の外部に排気する必要なく、前記サンプルの挿入後１分未満で電子ビーム画像を形成することが可能であることを含む、単純化された走査型電子顕微鏡。
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月14日(2009.9.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの単極保護開閉器モジュール（２）を有する保護開閉器（１）であってハウジング（３）と、可動接点（８４）を担持して閉鎖位置と開放位置との間を固定接点（８５）に対し揺動可能な開閉腕（４３）と、閉鎖位置と開放位置の間で開閉腕（４３）を手動変位させるための手動操作機構（４２）と、引外し条件発生時に開閉腕（４３）を開放位置に自動復帰させるための引外し機能（４４）とを含み、
開閉腕（４３）が開放位置の方向にばね押しされており、
開閉腕（４３）が、手動操作機構（４２）とラッチ可能なラッチレバー（４９）と可動接点（８４）を担持する接点レバー（４８）とを含み、ラッチレバー（４９）がハウジング（３）で揺動可能に支承され、かつピボット（８１）を介して接点レバー（４８）と結合されており、
引外し機構（４４）が引外し摺動子（５３）を有し、この引外し摺動子が引外し器（５５、５６）によって待機位置から引外し位置の方向に摺動可能であり、
接点レバー（４８）が回転固定されるように引外し摺動子（５３）が開閉腕（４３）を付勢する保護開閉器。
【請求項２】
手動操作機構（４２）が駆動子（４６）を有し、閉鎖位置に変位させるためにこの駆動子と開閉腕（４３）がラッチ可能であり、引外し摺動子（５３）が、押し進めながら開閉腕（４３）を駆動子（４６）からラッチ解除して開放位置の方向に付勢するように形成されている請求項１記載の保護開閉器。
【請求項３】
開閉腕（４３）をラッチ解除するために引外し摺動子（５３）が、駆動子（４６）を案内するラッチ解除輪郭（９３）を有する請求項１又は２記載の保護開閉器。
【請求項４】
開閉腕（４３）を開放位置の方向に付勢すべく、引外し摺動子（５３）が止め（９５）を有する請求項１から３の１つに記載の保護開閉器。
【請求項５】
引外し摺動子（５３）が、逐次押し進めながら開閉腕（４３）を同時にラッチ解除して開放位置の方向に付勢するように形成されている請求項１から４の１つに記載の保護開閉器。
【請求項６】
引外し摺動子（５３）が引外し器（５５、５６）によって押し進められながらゼロとは異なる初速度で開閉腕（４３）に衝突して開閉腕を開放位置の方向に付勢する請求項１から５の１つに記載の保護開閉器。
【請求項７】
接点レバー（４８）がラッチレバー（４９）に対して閉鎖位置の方向に弾力的に予荷重を受けている請求項６記載の保護開閉器。
【請求項８】
ばねが、可動接点（８４）の方から見てピボット（８１）の背後で接点レバー（４８）に作用する請求項７記載の保護開閉器。
【請求項９】
引外し摺動子（５３）がピボット（８１）の領域で開閉腕（４３）に衝突する請求項１から８の１つに記載の保護開閉器。
【請求項１０】
開放位置に回避時に開閉腕（４３）が開閉腕（４３）をその引外し位置に駆動する請求項１から９の１つに記載の保護開閉器。
【請求項１１】
引外し摺動子（５３）がラッチ解除輪郭（９３）の構成要素として滑り斜面（９８）を有し、該滑り斜面に駆動子（４６）が作用し、閉鎖位置への開閉腕（４３）の変位時に同時に引外し摺動子（５３）が引外し位置から待機位置の方向に押し進められ、待機位置への引外し摺動子（５３）の押し進めが阻止されているとき滑り斜面で駆動子（４６）が開閉腕（４３）からラッチ解除される請求項３から１０の１つに記載の保護開閉器。
【請求項１２】
手動操作機構（４２）が揺動レバー（７）と連結棒（４５）を含み、該連結棒（４５）が固定端（８９）を揺動レバー（７）で偏心支承され、自由端で駆動子（４６）を担持している請求項１から１１の１つに記載の保護開閉器。
【請求項１３】
揺動レバー（７）が、開閉腕（４３）の開放位置に一致した第１揺動位置の方向に予荷重を受けている請求項１２記載の保護開閉器。
【請求項１４】
閉鎖位置にある開閉腕（４３）に駆動子（４６）をラッチングすることによって揺動レバー（７）が、予荷重に抗して、閉鎖位置に一致する第２揺動位置で鎖錠可能である請求項１３記載の保護開閉器。
【請求項１５】
開閉腕（４３）が開放位置に復帰しかつ揺動レバー（７）が第１揺動位置に復帰すると駆動子（４６）が開閉腕（４３）と自動的にラッチングされる請求項１３又は１４記載の保護開閉器。
【請求項１６】
揺動レバー（７）の第１揺動位置の際、ばねによって連結棒（４５）が開閉腕（４３）の方に付勢される請求項１５記載の保護開閉器。
【請求項１７】
揺動レバー（７）に一体に射出成形されるばね接合板（７２）によって前記ばねが形成されている請求項１６記載の保護開閉器。
【請求項１８】
過負荷引外し器（５５）が引外し摺動子（５３）を押し進めるためのバイメタル板（５４）を有し、
引外し摺動子（５３）が作用部（１１１）を有し、引外し摺動子（５３）を押し進めるためのバイメタル板（５４）がこの作用部に作用し、該作用部（１１１）が偏心輪（１１３）により形成されており、該偏心輪が引外し摺動子（５３）に対し回動可能であり、こうして作用部（１１１）とバイメタル板（５４）との間に生じる距離が調整可能である請求項１から１７の１つに記載の保護開閉器。
【請求項１９】
偏心輪（１１３）が、複数の規定された回転位置において引外し摺動子（５３）に掛け止め可能である請求項１８記載の保護開閉器。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月31日(2010.5.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
照明デバイスであって、
互いに反対側の第１の表面と第２の表面を備えた少なくとも１つの連続したＯＬＥＤ層と、
前記ＯＬＥＤ層の前記第１の表面に電気的に接触している第１の電極層と、
前記ＯＬＥＤ層の前記第２の表面に電気的に接触している第２の電極層と、
少なくとも前記第２の電極層によって前記ＯＬＥＤ層から間隔をおいて位置し、各々が受光角を備える複数の光学コリメート手段とを有し、
前記第２の電極層は、前記光学コリメート手段の前記受光角の範囲内に配置されている互いに間隔をおいた区分内で前記ＯＬＥＤ層とのみ電気的接触状態にある、
ことを特徴とする照明デバイス。
【請求項２】
前記区分のアスペクト比は、非対称である、
請求項１記載の照明デバイス。
【請求項３】
前記ＯＬＥＤ層と前記光学コリメート手段は、前記ＯＬＥＤの前記表面に垂直な方向に互いに間隔をおいて位置している、
請求項１又は２記載の照明デバイス。
【請求項４】
前記光学コリメート手段は、複数個のレンズにより形成されている、
請求項１ないし３のいずれか１項に記載の照明デバイス。
【請求項５】
前記光学コリメート手段は、ポリマ箔から成る、
請求項１ないし４のいずれか１項に記載の照明デバイス。
【請求項６】
前記第２の電極層は、少なくとも複数の区分では連続し且つ前記区分相互間に設けられた絶縁層により前記ＯＬＥＤ層から電気的に絶縁されている、
請求項１ないし５のいずれか１項に記載の照明デバイス。
【請求項７】
前記第２の電極層は、前記区分相互間において不連続である、
請求項１ないし５のいずれか１項に記載の照明デバイス。
【請求項８】
前記光学コリメート手段は、本質的に回転対称光学視準特性を示す、
請求項１ないし７のいずれか１項に記載の照明デバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月20日(2010.5.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマ処理を監視する方法であって、
プラズマチャンバ内でプラズマ処理を開始するステップと、
前記プラズマ処理に関するプラズマパラメータデータを得るステップであって、前記プラズマパラメータデータが単独の平面イオン流束プローブの使用により得られ、前記平面イオン流束プローブの感知表面がプラズマに曝され、かつ前記プラズマチャンバ内の壁面又は構成部品表面と同じ平面にあるステップと、
故障状態を示すために前記プラズマパラメータデータを評価するステップと、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記プラズマパラメータデータを評価する方法は、
コンピュータ可読記憶媒体システム上に前記プラズマパラメータデータを記憶するステップと、
前記プラズマパラメータデータをフィルタリングするステップと、
前記プラズマパラメータデータにアルゴリズムを行うステップと、
前記プラズマパラメータデータに数学的演算を行うステップと、
前記プラズマパラメータデータを既存の基準データを比較し、それにより、解釈し、並びに、前記解釈に基づく状況報告及び警告の少なくともいずれかを発行するステップと、
の任意の組合せを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記プラズマパラメータデータは、前記プラズマを実質的にかく乱することなく得られることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記プローブは、高周波バイアス表面内に延びているリセス内に、又は、接地表面に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記プラズマパラメータデータは、前記平面イオン流束プローブに対する少なくとも１つの高周波（ＲＦ）パルスを含む高周波バーストを適用することによって得られることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】
（ａ）前記プラズマパラメータデータが、ウエハの処理中に一連の測定値として収集され、
（ｂ）前記プラズマパラメータデータが、ポストＲＦ斜面プラズマ密度データを含み、かつ／又は、
（ｃ）前記プラズマパラメータデータが、前記プラズマチャンバのＲＦ整合システムのランダム再調整を含む、
ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項７】
時間の関数としてのプラズマパラメータの前記一連の測定値が、グラフの形でプロットされていることを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記故障状態が、処理チャンバ内の処理副生成物の堆積、又はヘリウムの漏洩であることを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項９】
（ａ）前記ポストＲＦ斜面プラズマ密度データの前記傾斜の変化は、前記プラズマチャンバ故障状態が前記処理チャンバ内の処理副生成物の堆積であることを示すのに使用され、
（ｂ）前記プラズマ密度の絶対値の約５％から約２０％の間のＲＦ斜面の後の前記プラズマ密度の振動は、前記プラズマチャンバ故障状態がヘリウムの漏洩であることを示すのに使用され、かつ／又は、
（ｃ）前記ＲＦ斜面後に起こる、前記プラズマ密度の前記絶対値の５％未満の振幅と５秒未満の持続時間と前記プラズマ密度の振動は、前記プラズマチャンバ故障状態が前記整合システムのランダム再調整であることを示すのに使用される、
ことを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項１０】
前記プラズマパラメータデータは、前記プラズマチャンバ故障状態が悪い安定化速度の発生であることを示すのに使用されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
整合調整後の前記プラズマ密度の振幅の安定性は、その適切な均衡点に戻る前に約０．５秒以上かかり、前記プラズマチャンバ故障状態が悪い安定化速度の発生であることを示すことを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項１２】
前記プラズマパラメータデータは、前記プラズマチャンバ故障状態がプラズマ閉じ込めの損失の発生であることを示すのに使用されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記プラズマパラメータデータは、前記プラズマチャンバ故障状態が、同じタイプのウエハ上で同じ処理レシピを行う一群のプラズマチャンバ内でチャンバの整合の欠如の発生であることを示すのに使用されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
（ａ）前記状況報告及び警告の少なくともいずれかは、前記システム内で修正ステップを開始させ、
（ｂ）前記状況報告及び警告の少なくともいずれかは、ログ含有ウエハ履歴内に前記解釈を記録させ、かつ／又は、
（ｃ）前記状況報告及び警告の少なくともいずれかは、前記プラズマチャンバ内のウエハの処理を停止させる、
ことを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項１５】
請求項１に記載の方法を行う装置であって、
（ａ）前記プローブが、前記壁面内、又は、シャワーヘッド電極、ライナ、閉じ込めリング、焦点リング、ガス出口を備えていない電極、ガス分配板、及び基板支持体のいずれかであるプラズマ処理チャンバの構成部品に埋め込まれており、
（ｂ）前記プローブが温度制御構成部品を使用して加熱され、
（ｃ）前記プローブは、前記プローブの感知表面と前記プローブが中に埋め込まれたチャンバ構成部品の隣接する周囲の表面との間の微分磨耗率を補償することが可能であり、かつ／又は、
（ｄ）前記プローブは、容量結合プラズマ処理チャンバ、誘導結合プラズマ処理チャンバ、及び電子サイクロトロン共鳴プラズマ処理チャンバのいずれかに埋め込まれている、
ことを特徴とする装置。
【請求項１６】
前記平面イオン流束プローブが、多片シャワーヘッド電極アセンブリの前記内側電極部又は外側電極部内に埋め込まれていることを特徴とする請求項１５に記載の装置。
【請求項１７】
前記プローブがシャワーヘッド電極内に配置され、前記プローブは、前記プローブの前記感知表面から背面へ貫通するガス通路を作り出す１つ又は複数のガス供給貫通孔を備えており、（ａ）前記ガス供給貫通孔が、前記プローブのない状態では存在する全ガス分配パターンに近づくように配置される、又は（ｂ）前記ガス供給貫通孔が、前記プローブのない状態では前記シャワーヘッド電極内に配置されるが、前記プローブ内に配置されることを特徴とする請求項１５に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月31日(2010.5.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に堆積された膜を選択的に溶融させるための薄ビームレーザ結晶化装置であって、
凸面反射器と平面出力カプラとを備えた発振器を有する、パルスレーザ出力ビームを生成するレーザ源と、
第１の軸方向で前記ビームを集束し、第２の軸方向で該ビームを空間的に拡大して、前記膜との相互作用のためのラインビームを生成する光学的配置と、
を備えることを特徴とする装置。
【請求項２】
前記凸面反射器は、円柱軸を定める円柱形であり、該反射器は、第１のビーム寸法に対して平行な軸によって位置決めされ、前記第１のビーム寸法は、前記第１の軸に対応することを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記レーザ源は、増幅器をさらに備えることを特徴とする請求項１又は２に記載の装置。
【請求項４】
前記レーザ源は、前記発振器からの出力ビームを前記増幅器内に入力するために集束する光学素子をさらに備えることを特徴とする請求項３に記載の装置。
【請求項５】
ビーム混合器をさらに備えることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の装置。
【請求項６】
時間的パルス・ストレッチャをさらに備えることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の装置。
【請求項７】
前記凸面反射器は、前記平面出力カプラから距離Ｌだけ離間され、曲率半径ｒを有し、比ｒ／Ｌが０．５から５までの範囲内であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の装置。
【請求項８】
前記距離Ｌは、１．０ｍから２．０ｍまでの範囲内であり、前記曲率半径ｒは、２．０ｍから３．０ｍまでの範囲内であることを特徴とする請求項７に記載の装置。
【請求項９】
前記反射器と前記出力カプラとの間に設けられた偏光子をさらに備えることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１０】
基板上に堆積された膜を選択的に溶融させるための薄ビームレーザ結晶化装置であって、
パルスレーザ出力ビームを生成するレーザ源を備え、前記レーザ源は、第１の軸方向のビーム幅ｗと前記第１の軸方向の前記幅ｗに対して制限された回折の３倍未満の発散とを有する発振器出力を生成する、不安定共振器キャビティを含む発振器を有し、
前記第１の軸方向で前記ビームを拡大し、第２の軸方向で空間的に該ビームを集束して、前記膜との相互作用のためのラインビームを生成する光学的配置を備える
ことを特徴とする装置。
【請求項１１】
前記発振器出力は、前記第２の軸方向のビーム幅Ｗと、前記幅Ｗに対して制限された回折の３倍より大きい該第２の軸方向の発散とを有することを特徴とする請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
パルス多段レーザを用いて、少なくとも１つの軸方向に選択された発散を有するビームを生成するための方法であって、
第１のレーザ段について、パルス繰返し数の範囲にわたって、発散とレーザパルス繰返し数との間の関係を測定し、
第２のレーザ段について、パルス繰返し数の範囲にわたって、発散とレーザパルス繰返し数との間の関係を測定し、
前記第１のレーザ段についての前記関係と前記第２のレーザ段についての前記関係とを比較して、選択された発散を生成するために温度デルタ及びパルス繰返し数を決定する行為を含み、
前記温度デルタは、前記第１のレーザ段の作動温度設定値と前記第２のレーザ段の作動温度設定値との間の差であることを特徴とする方法。
【請求項１３】
前記比較する行為は、前記パルス繰返し数の範囲内での最小発散を生成するために、温度デルタ及びパルス繰返し数を決定することを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
決定された温度デルタは、摂氏５度を超えることを特徴とする請求項１２又は１３に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月21日(2010.5.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガス放電レーザのためのチャンバであって、
壁を有し、前記壁が、チャンバ容積を囲む内面と、外面とを有すると共に、オリフィスを伴って形成される、チャンバ・ハウジングと、
前記オリフィスを貫通して延びる、前記チャンバ容積の中に電流を流すための少なくとも１つの導電体と、
前記導電体と前記壁との間に配置される、前記オリフィスを通るガス流を防いで前記容積中のチャンバ圧力が保持できるようにするための部材と、
前記オリフィスに隣接して配置される、前記壁の前記外面の少なくとも一部における圧力を保持して前記チャンバ圧力に起因する前記オリフィス近辺における前記壁の反りを減少させるための与圧コンパートメントと、
を備えることを特徴とするチャンバ。
【請求項２】
前記流れ防止部材が、セラミック絶縁体と、前記セラミック絶縁体と前記ハウジング壁との間に配置される圧縮可能なシールとを含むことを特徴とする、請求項１に記載のチャンバ。
【請求項３】
前記チャンバ容積内部の前記ガス圧が５００ｋＰａを超えることを特徴とする、請求項１に記載のチャンバ。
【請求項４】
前記導電体は放電電極と電気的に連通することを特徴とする、請求項１に記載のチャンバ。
【請求項５】
ガス放電レーザのためのチャンバであって、
与圧可能なチャンバ容積を囲む壁を有するチャンバ・ハウジングと、
前記チャンバ容積の中に配置された一対の離間された放電電極と、
前記容積の中に配置され、前記ハウジング壁の一部に連結されたセラミック絶縁体と、  前記絶縁体の変形を減少させるために、前記壁の一部の両側の圧力差を減少させる手段と、
を備えることを特徴とするチャンバ。
【請求項６】
前記壁の一部は複数のオリフィスを伴って形成され、前記チャンバは複数の導電体をさらに備え、前記壁を通して前記放電電極のうちの１つに電流を流すために、前記導電体の各々はそれぞれのオリフィスを貫通して延びることを特徴とする、請求項５に記載のチャンバ。
【請求項７】
前記絶縁体は前記電極のうちの１つと前記壁の一部との間に位置決めされることを特徴とする、請求項５に記載のチャンバ。
【請求項８】
前記減少させる手段が、前記壁の一部に取り付けてコンパートメントを構築するためのカバーと、前記コンパートメントに与圧するためのガス供給源とを含むことを特徴とする、請求項５に記載のチャンバ。
【請求項９】
前記カバーは、前記コンパートメント内のオゾンのビルドアップを除去するために前記カバーを通過してガスが流れるようにするための出口オリフィスを伴って形成されることを特徴とする、請求項８に記載のチャンバ。
【請求項１０】
レーザ・ビームを生成するための方法であって、
チャンバ容積を囲む壁を有するチャンバ・ハウジングを提供し、
前記チャンバ容積の中に一対の離間された放電電極を配置し、
前記容積の中にセラミック絶縁体を配置し、前記絶縁体を前記ハウジング壁の一部に連結し、
前記チャンバをガス状利得媒質で与圧し、
前記利得媒質中に放電を生じさせるために、前記電極間に電圧差を構築し、
前記絶縁体の変形を減少させるために、前記壁の一部の両側の圧力差を減少させる、
ステップを含むことを特徴とする方法。