【誤訳訂正書】
【提出日】平成22年10月27日(2010.10.27)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】請求項７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項７】
コイルが、ほぼ１回転の円弧を有するアーチ部を有する複数のアーチ断片を含んでおり、該複数のアーチ断片は、ほぼ１回転の円弧を有する最外部アーチ断片と、ほぼ１回転の円弧を有するひとつ内側のアーチ断片を含んでおり、高周波電源がコイルに接続され、最外部アーチ断片及びひとつ内側のアーチ断片における高周波電流が、コイルの内部断片における電流よりも実質的に大きくなるように該コイルが構成されることを特徴とする請求項１乃至６いずれかに記載の真空プラズマプロセッサ。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】請求項１４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１４】
チェンバ内の圧力及び（ａ）コイル、（ｂ）チェンバ、（ｃ）ホルダ、等の配置によって、一定振幅高周波エンベロープがコイルに加えられたときに、コイルの中央部から離れたコイルの一部と対応するワークピースの一部に入射されるプラズマ入射束よりも、コイルの中央部と対応したワークピースの一部に入射されるプラズマ入射束の方が一様になるようにし、前記可変振幅エンベロープはワークピース全体に入射されるプラズマ入射束を実質的に一定とすることを特徴とする請求項１乃至１３いずれかに記載の真空プラズマプロセッサ。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】請求項１５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１５】
エンベロープ振幅を変化できる高周波キャリアをコイルに与えることによって、チェンバ内の気体をプラズマへと励起し、該コイルは高周波キャリアに反応しプラズマ励起電磁場をプラズマと結合させ、エンベロープ振幅のバリエーションとコイル、チェンバ、ワークピース、及びホルダ、それぞれのパラメータは、プラズマエンベロープが一定振幅を有しているときよりも、ワークピース全体にかけてのプラズマ密度が、実質的に低い標準偏差を有する ことを特徴とする真空プラズマプロセッサチェンバにおいて、ホルダ上のワークピースをプラズマによって処理する方法。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】請求項１６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１６】
一定振幅高周波エンベロープがコイルに与えられるとき、コイルの中央部から離れたコイルの一部と対応したワークピースの一部に入射されるプラズマ入射束よりも、コイルの中央部に対応するワークピースの一部に入射されるプラズマ入射束の方が一様性が高くなるように、且つワークピース全体に入射されるプラズマ入射束が実質的に一定になるようにコイルが設定されることを特徴とする請求項１５記載の方法。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】請求項２３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項２３】
プラズマによってワークピースを処理する真空チェンバと、ワークピースを固定するためのチェンバ内ホルダと、チェンバ内気体をプラズマへと励起するコイルと、可変振幅エンベロープを有する高周波キャリアをコイルに供給する高周波電源を具備し、前記可変振幅、チェンバ圧力、及びコイル、チェンバ、ホルダは、一定振幅高周波エンベロープがコイルに加えられるとき、コイルの中心部から離れたコイルの一部と対応するワークピースの一部に入射されるプラズマ入射束よりも、コイルの中央部に対応するワークピースの一部に入射されるプラズマ入射束の方が一様性が高いように設定され、前記可変振幅エンベロープでは、コイルの中央部と対応するワークピースの一部から離れたワークピースの一部に入射されるプラズマ入射束が、コイルの中央部に対応するワークピースの一部に入射されるプラズマ入射束に少なくとも等しくなるようにすることを特徴とするワークピースを処理する真空プラズマプロセッサ。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】請求項２４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項２４】
エンベロープ振幅が、ワークピース全体に入射されるプラズマ入射束を実質的に一定にするような値を有するように電源が設定されることを特徴とする請求項２３記載の真空プラズマプロセッサ。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】請求項２５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項２５】
ワークピース全体に入射されるプラズマ入射束を、ワークピースの中央部に入射されるプラズマ入射束よりも、ワークピースの周辺部に入射されるプラズマ入射束の方が一様になるようにする異なる値をエンベロープ振幅が有するように電源を設定することを特徴とする請求項２３記載の真空プラズマプロセッサ。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】請求項２７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項２７】
高振幅部分及び低振幅部分の振幅と持続期間を変化させ、振幅と持続期間は変化するけれども、ワークピースに入射するプラズマ入射束の時間平均電力を実質的に一定にするように電源を設定することを特徴とする請求項２６記載の真空プラズマプロセッサ。
【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】請求項２８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項２８】
エンベロープ振幅を変化できる高周波キャリアをコイルに与えることによって、チェンバ内の気体をプラズマへと励起させ、該コイルは高周波キャリアに反応し、プラズマ励起電磁場をプラズマと結合し、チェンバ内の圧力、及びコイル、チェンバ、ホルダなどの設定は、一定振幅高周波エンベロープをコイルに加えたときに、コイルの中央部から離れたコイルの一部と対応するワークピースの一部に入射されるプラズマ入射束よりも、コイルの中央部と対応するワークピースの一部に入射されるプラズマ入射束の方が、密度が高くなるように設定され、コイルの中央部に対応するワークピースの一部から離れたワークピースの一部に入射されるプラズマ入射束が、少なくともコイルの中央部に対応するワークピースの一部入射束プラズマ入射束に等しくなるように、可変振幅エンベロープを制御することを特徴とする、真空プラズマプロセッサチェンバにおいてホルダ上のワークピースをプラズマ処理する方法。
【誤訳訂正１０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】請求項２９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項２９】
ワークピースの周辺部に入射されるプラズマ入射束が、ワークピースの中央部に入射されるプラズマ入射束よりも密度が高くなるように可変振幅エンベロープが制御されることを特徴とする請求項２８の方法。
【誤訳訂正１１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００３】
ＯｇｌｅによるＵＳ特許４，９４８，４５８号は、上記の結果を達成するための多巻回螺旋コイルを開示している。一般にアルキメデスタイプである螺旋は、インピーダンス整合回路網を介して高周波電源に接続されている内部端子及び外部端子間を、径方向及び周辺方向へと延びている。このような一般的タイプのコイルは、容量性磁場成分を有する振動高周波場を生み出し、誘電窓を通り抜けて、誘電窓に近接するチェンバ内のプラズマの一部に存在する気体内の電子を熱する。その振動高周波はプラズマ内でプラズマ内の電子を熱する電流を誘発する。誘電窓に近接するプラズマの一部分における磁場の空間分布は、コイルの各巻回によって生じる個々の磁場の和の関数である。コイルの各巻回によって生じる磁場成分は、各巻回の高周波電流の大きさに関する関数であり、それは高周波電源の周波数におけるコイルの送電線効果によって異なるものである。
【誤訳訂正１２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１７】
本発明のもうひとつの形態は、真空チェンバ内にワークピースホルダを含有し、可変振幅エンベロープを有する高周波電源によって誘発されチェンバ内の気体をプラズマへと励起するコイルを具備した真空プラズマプロセッサと関係している。真空プラズマプロセッサでは、可変振幅とチェンバ内の圧力と、（ａ）コイル（ｂ）チェンバ（ｃ）ホルダの配置は、一定振幅高周波エンベロープがコイルに与えられた時に、コイルの中央から離れたコイルの一部と対応するワークピースの一部よりも、コイルの中央に対応しているワークピースの一部において大きな束を持つ原因となり、また、可変振幅エンベロープは、ワークピース全体におけるプラズマ束において、コイルの中央と対応したワークピースの一部から離れたワークピースの一部におけるプラズマ束が、少なくともコイルの中央部に対応するワークピースの一部におけるプラズマ束と等しくなるような原因となる。
【誤訳訂正１３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１９】
さらなる本発明の実施の形態は、コイルを駆動する高周波電源の可変振幅エンベロープの制御によって、コイルの中央に対応するワークピースの一部から離れたワークピースの一部におけるプラズマ束が、少なくともコイルの中央に対応するワークピースの一部におけるプラズマ束と等しくなるプラズマプロセッサと関係している。
【誤訳訂正１４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４６】
平面コイル２４の異なる部分での電圧のプラズマへの静電（つまり容量性）結合は（例えば、同じ角座標位置θにおけるループ断片４６と４８の間の部分）、発生したプラズマ束の一様性に影響を与える。このような電圧のプラズマへの容量性結合は、コイルの断片でおこるピークピーク電圧の大きさと、コイルとプラズマを隔てている誘電窓１９の厚みや誘電物質に依存している。高周波電圧のために発生する容量性電流の影響は、最大高周波ピークピーク電圧が端子５２及び５４において起こるようにすることによって、最小化することができる。コイル２４の幾何的構成とキャパシタ８０の適切な値の選択によって、最大高周波ピークピーク電圧は、端子５２，５４で起こるようになる。