【事件の表示】
　特許第３３５９６２９号「ポリウレタン組成物からなる研磨パッド」の請求項１に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３３５９６２９号の請求項１に係る特許を取り消す。
【理　由】
（１）手続の経緯
　本件特許３３５９６２９号の発明は、平成１４年４月８日（特許法第４１条に基づく優先権主張平成１３年４月９日）に出願され、平成１４年１０月１１日にその特許の設定登録がなされ、その後、田嶋順治及び西川秋子より特許異議の申立てがなされ、それに基づく取消理由通知がなされ、それに対して、特許異議意見書が提出されるとともに、その指定期間内である平成１５年１２月１日に訂正請求がなされたものである。
（２）訂正の適否についての判断
ア、訂正の内容
訂正事項ａ：特許請求の範囲の訂正
ａ−１、請求項１の
「【請求項１】 有機ポリイソシアネート、ポリオール及び硬化剤からなるポリウレタンを主な構成素材としてなる研磨パッドであって、前記硬化剤の主成分が４，４’−メチレンビス（o−クロロアニリン）であり、且つ、前記ポリオールが、数平均分子量が５００〜１６００であり、且つ、分子量分布（重量平均分子量／数平均分子量）が１．９未満であるポリテトラメチレングリコールを含んでなることを特徴とする研磨パッド。」を、
「【請求項１】 有機ポリイソシアネート、ポリオール及び硬化剤からなるポリウレタンを主な構成素材としてなる研磨パッドであって、前記有機ポリイソシアネートが、トルエンジイソシアネート及び４，４’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネートからなり、前記硬化剤の主成分が４，４’−メチレンビス（o−クロロアニリン）であり、且つ、前記ポリオールが、ポリテトラメチレングリコール及び低分子ポリオールからなり、該ポリテトラメチレングリコールの数平均分子量が５００〜１６００であり、且つ、分子量分布（重量平均分子量／数平均分子量）が１．９未満であることを特徴とする研磨パッド。」と訂正する。
訂正事項ｂ：発明の詳細な説明の訂正
ｂ−１、特許明細書の段落【0006】中の
「前記硬化剤の主成分が４，４’−メチレンビス（o−クロロアニリン）であり、且つ、前記ポリオールが、数平均分子量が５００〜１６００であり、且つ、分子量分布（重量平均分子量／数平均分子量）が１．９未満であるポリテトラメチレングリコールを含んでなる」を、
「前記有機ポリイソシアネートが、トルエンジイソシアネート及び４，４’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネートからなり、前記硬化剤の主成分が４，４’−メチレンビス（o−クロロアニリン）であり、且つ、前記ポリオールが、ポリテトラメチレングリコール及び低分子ポリオールからなり、該ポリテトラメチレングリコールの数平均分子量が５００〜１６００であり、且つ、分子量分布（重量平均分子量／数平均分子量）が１．９未満である」と訂正する。
ｂ−２、特許明細書の段落【0007】中の
「本発明で使用する有機ポリイソシアネートとしては、２，４−及び／または２，６−トルエンジイソシアネート、２，２’−、２，４’−、及び／または４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、ｍ−フェニレンジイソシアネート、ｐ−キシリレンジイソシアネート、ｍ−キシリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、１，４−シクロヘキサンジイソシアネート、４，４’−ジシクロへキシルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等が挙げられる。これらは１種でも用いても、２種以上を混合しても差し支えない。」を、
「本発明で使用する有機ポリイソシアネートとしては、トルエンジイソシアネート及び４，４’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネートが挙げられる。」と訂正する。
イ、訂正の適否
　訂正事項ａは、特許請求の範囲に関する訂正であり、訂正事項ａ−１は、請求項１において、有機ポリイソシアネートを、「トルエンジイソシアネート及び４，４’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート」と限定すると共に、ポリオールを、「ポリテトラメチレングリコール及び低分子ポリオール」と限定するものであり、有機ポリイソシアネートについては、明細書の段落【0025】及び【0035】の実施例の記載に基づき、また、ポリオールについては、明細書の段落【0015】に記載に基づくものであり、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内において、特許請求の範囲の減縮を目的とする訂正と認められる。
　訂正事項ｂは、発明の詳細な説明における訂正であり、特許請求の範囲の訂正である訂正事項ａに伴い、特許請求の範囲との整合性をはかるための、明りょうでない記載の釈明を目的とするものと認められ、上記訂正事項ａと同様に、願書に添付した明細書の範囲内の訂正と認められる。
　また、上記訂正事項ａ及びｂは、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものではない。
　以上のとおりであるから、上記訂正は、特許法第１２０条の４第２項及び第３項で準用する特許法第１２６条第２項〜第４項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
（３）特許異議の申立てについての判断
ア、訂正明細書の請求項１に係る発明
　訂正明細書の請求項１に係る発明（以下、「本件発明」という。）は、その特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される次のとおりのものと認める。
「【請求項１】 有機ポリイソシアネート、ポリオール及び硬化剤からなるポリウレタンを主な構成素材としてなる研磨パッドであって、前記有機ポリイソシアネートが、トルエンジイソシアネート及び４，４’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネートからなり、前記硬化剤の主成分が４，４’−メチレンビス（o−クロロアニリン）であり、且つ、前記ポリオールが、ポリテトラメチレングリコール及び低分子ポリオールからなり、該ポリテトラメチレングリコールの数平均分子量が５００〜１６００であり、且つ、分子量分布（重量平均分子量／数平均分子量）が１．９未満であることを特徴とする研磨パッド。」
イ、引用した刊行物等に記載された事項
　当審における取消理由通知に引用した刊行物等は次のとおりである。
刊行物１：特開平１１−３３８７８号公報
（特許異議申立人田嶋順治提出甲第１号証）
刊行物２：特開平２−２３２１７３号公報
（同甲第２号証）
刊行物３：特開昭６１−１６２５２２号公報
（同甲第３号証）
刊行物４：“Szycher's Handbook of Polyurethanes”CRC Press,1999,p5-14〜5-16
（同甲第４号証）
刊行物５：“Kirk-Othmer Encyclopedia of Chemical Technology Fourth Edition”Vol.19,John Wiley  Sons,1996,p759〜764
（同甲第５号証）
刊行物６：特開２０００−２４８０３４号公報
（同参考資料１）
刊行物７：特開平４−２１３３１６号公報
（特許異議申立人西川秋子提出甲第１号証）
参考資料１：「高分子辞典」朝倉書店、昭和４８年１月２０日、第397〜398頁
（特許異議申立人田嶋順治提出参考資料２）
　上記の刊行物及び参考資料には次のとおりの記載が認められる。
ａ、刊行物１
「【請求項１】  （ａ）イソシアネート末端プレポリマーと（ｂ）活性水素含有化合物を二液混合攪拌し反応硬化させるに際し、（ｃ）未発泡又は発泡済みポリスチレン系ビーズを（ａ）イソシアネート末端プレポリマー又は（ｂ）活性水素含有化合物の少なくとも一方に予め添加混合しておき、二液反応硬化の際に放出される反応熱及び外部からの加熱によって未発泡ポリスチレン系ビーズ(c)を微発泡させるか、又は発泡済みポリスチレン系ビーズ(c)を単に分散させることを特徴とする泡含有ポリウレタン成形物の製造方法。」（特許請求の範囲請求項１）
「【請求項６】  請求項１〜４いずれか記載の泡含有ポリウレタン成形物を主構成物としてなる研磨パッド。」（同請求項６）
「このイソシアネート成分は、注型成形時に必要とされるポットライフに応じて適宜に選定されると共に、生成する末端ＮＣＯプレポリマーを低溶融粘度とすることが必要である為、単独又は２種以上の混合物で適用される。」（第３頁第３欄19〜23行、段落【0011】）
「それらの具体例としては、特に限定はしないが、テトラメチレンジイソシアネ−ト、……ビス−（４−イソシアナトシクロヘキシル）メタン（＝水添ＭＤＩ）、……２，４−及び／または２，６−ジイソシアナトトルエン…等が挙げられる。」（同第３欄24〜43行、段落【0012】）
「ポリエ−テルポリオ−ルとしては、反応性水素原子を有する出発化合物と、例えば酸化エチレン、酸化プロピレン、酸化ブチレン、酸化スチレン、テトラヒドロフラン、エピクロルヒドリンの様な酸化アルキレン又はこれら酸化アルキレンの混合物との反応生成物が挙げられる。」（同第４欄1〜6行、段落【0014】）
「低分子ポリオール(a-3)としては、短鎖グリコールを使用し、例えばエチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、１，５−ペンタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール等が利用できる。」（第４頁第５欄6〜14行、段落【0022】）
「使用される有機ジアミン化合物としては、例えば、３,３’−ジクロロ−４,４’−ジアミノジフェニルメタン、……等が挙げられる。」（同第５欄32〜38行、段落【0025】）
「［実施例１］ポリオキシテトラメチレングリコール（ＭＷ＝１０００）、ジエチレングリコール、２,６ートリレンジイソシアネートから構成されるイソシアネート末端プレポリマー（ＮＣ０当量＝６００）１０００部に、参考例１で得られたポリスチレン系ビーズ４０部を添加混合したコンパウンドと３,３’ージクロロー４,４’ージアミノジフェニルメタン２１１部を、それぞれエラストマー注型機のＡ液タンク及びＢ液タンクに仕込む。………インゴットは２５℃まで放冷した後に、１.５ｍｍ厚みにスライスし、研磨パッドを形成した。」（第７頁第１１欄25〜39行、段落【0049】）
「こうして得られた研磨パッド１０枚を研磨装置に装着し、ＳiＯ2膜の研磨特性を測定した。ウエハー荷重５.０ｐｓｉ、プラテン回転数２８０ｒｐｍ、研磨時間６０秒の研磨条件で研磨試験を行った結果、研磨速度１８５０±２０オングストローム/分、平坦性７±２％であった。」（同第１１欄41〜47行、段落【0050】）
ｂ、刊行物２
「１．発泡ポリウレタン材料にポリウレタンより硬い硬度を有する粒子300μ以下の微粒子状物が充填されており、前記微粒子状物が発泡ポリウレタン材料に対して0.5〜50重量％含有することを特徴とする研磨パッド。」（特許請求の範囲請求項１）
「多官能性イソシアネートの例としては、トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、……メチレン−ビス（４−シクロヘキシルイソシアネート）などが利用出来る。多官能ポリオールの例としては、ポリ（オキシテトラメチレン）グリコール、……が利用出来る。」（第２頁右下欄1〜11行）
「このエポキシ樹脂粉末770ｇをウレタンプレポリマーとしてハイプレンＬ−３１５（三井東圧化学（株）商品名）7,067ｇに添加し、……均一に前記粉末を分散させた。
この混合物に……、3,3'-ジクロロ-4,4'ジアミノジフェニルメタンを添加し、…硬化を行った。」（第３頁左下欄7行〜同右下欄2行）
ｃ、刊行物３
「（１）テトラヒドロフランを重合させてポリテトラメチレンエーテルグリコールを製造する方法において超強酸を開始剤とし、テトラヒドロフランに対して重量比で0.8倍以上の飽和脂肪族炭化水素又は飽和脂環式炭化水素を溶媒として反応させることを特徴とする分子量分布の狭いポリテトラメチレンエーテルグリコールの製造法。」（特許請求の範囲請求項１）
「ＰＴＭＧは、ポリウレタン、ポリエーテルポリエステル等の原料として有用であり、工業的用途としては、主に平均分子量500〜3000程度のＰＴＭＧが一般的に用いられるが、分子量分布の狭いＰＴＭＧをポリウレタンエラストマー、ポリエステルエラストマー等の原料に用いた場合には、ソフトセグメントがより均質になることにより、耐熱性、伸長回復率が改良されるため分子量分布の狭いＰＴＭＧが要求されている。」（第１頁右下欄9〜18行）
ｄ、刊行物４
「ポリ（テトラメチレンエーテル）グリコール、ＰＴＭＥＧには、狭い分子量分布及び／又は数値としては低い多分散性（すなわち、Ｍｗ／Ｍｎ、Ｍｗは平均重量分子量であり、Ｍｎは数平均分子量である）が、ポリウレタン特製品における多くの最終用途のためには望ましいことが、長く認識されていた。」（第５−１４頁、下から8〜5行）
ｅ、刊行物５
「市販のＰＴＭＥＧ−グレードは、通常2.0〜2.1を有する。分子量分布は、一般に、多分散係数又は多分散性ＭＷＤ＝Ｍｗ／Ｍｎで特徴付けられる。この比は、Ｍｖ’／Ｍｎよりも低い。市販のＰＴＭＥＧグレード1000では、約1.6である。」（第７６１頁33〜37行）
ｆ、刊行物６
「【従来の技術】従来、高分子発泡体を用いた研磨材としては、発泡ポリウレタンを用いた研磨パッドが耐磨耗性に優れるため、好ましく用いられている。このような研磨パッド用ポリウレタン発泡体として、特開平２−２３２１７３号公報には、３，３’−ジクロロ−４，４’−ジアミノジフェニルメタン（ＭＯＣＡ）、発泡剤として水、触媒としてトリエチレンジアミン（三共エアプロダクツ（株）製、商品名：Ｄａｂｃｏ）、及び変成シリコンオイルからなる硬化剤と、２５０μｍのエポキシ樹脂粉末を分散させたトリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）／ポリテトラメチレングリコール（ＰＴＭＧ）プレポリマー（三井東圧化学（株）製、商品名：ハイプレンＬ−３１５）との混合物からなるものが開示されている。」（第２頁左欄25〜37行、段落【0002】）
ｇ、刊行物７
「【請求項１】  パラフェニレンジイソシアネートと、ポリテトラメチレンエーテルグリコールと、４，４’−メチレンビス（Ｏ−クロロアニリン）を主成分とし、前記ポリテトラメチレンエーテルグリコールの分子量分布が、ＭW を重量平均分子量、ＭN を数平均分子量としたときに、
ＭW ／ＭN ＜２．０
であり、
且つ、前記ポリテトラメチレンエーテルグリコールの数平均分子量ＭN が、１，１００以上であることを特徴とするポリウレタンエラストマー組成物。」（特許請求の範囲請求項１）
「【産業上の利用分野】この出願の発明はポリウレタンエラストマー組成物に関し、更に詳細には耐熱性および耐水性を向上せしめたポリウレタンエラストマー組成物に関するものである。」（第２頁第１欄15〜18行、段落【0001】）
ｈ、参考資料１
　第３０７頁の「耐熱性」の項には、「物質を加熱した場合その物質は熱エネルギーを獲得しその結果物質自身が変化したり、あるいはその物質のもつ種々の性質が変化する。熱に対するこれらの変化の起こりにくさを耐熱性という。」と記載されている。
ウ、対比・判断
　本件発明と刊行物１に記載された発明とを対比する。
　刊行物１の実施例に記載される２，６−トリレンジイソシアネートは本件発明のトルエンジイソシアネートに相当するものであるから、両者は、有機ポリイソシアネート、ポリオール及び硬化剤からなるポリウレタンを主な構成素材としてなる研磨パッドであって、前記硬化剤の主成分が４，４’−メチレンビス（o−クロロアニリン）であり、且つ、前記ポリオールが、ポリテトラメチレングリコール及び低分子ポリオールからなり、該ポリテトラメチレングリコールの数平均分子量において、重複するものである研磨パッドである点で一致し、以下の点で相違するものと認める。
相違点１：本件発明では、有機ポリイソシアネートが、トルエンジイソシアネート及び４，４’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネートからなるとするのに対し、刊行物１では、実施例にトルエンジイソシアネートのみからのものが記載されている点、
相違点２：本件発明では、ポリテトラメチレングリコールの分子量分布（重量平均分子量／数平均分子量）が１．９未満であるとするのに対し、刊行物１にはそういったことの記載がない点。
　そこで、まず相違点１について検討する。
　刊行物１及び２には、研磨パッドに使用される有機イソシアネートとして、トルエンジイソシアネートとともに、４，４’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネートが記載され、研磨パッドの使用に際しては両者ともよく使用されるよく知られたものと認められ、特に、刊行物１には２種以上の混合物とすることも記載されており、当業者であれば容易に併用することができたものと認められる。
　また、本件特許明細書には、有機イソシアネートとしてトルエンジイソシアネート及び４，４’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネートの併用が特別に優れたものとすることの記載もなく、実施例によっても、本件発明のトルエンジイソシアネート及び４，４’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネートの併用が格別な効果を奏するものとは認められない。なお、実施例は、トルエンジイソシアネートの２，４体／２，６体の80/20の混合物と４，４’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネートの特定の量比のものが１例示されているに過ぎない。
　次に、相違点２について検討する。
　刊行物３〜５及び７に見られるとおり、分子量分布が１．９未満のポリテトラメチレングリコールをポリウレタンエラストマーに使用することはよく知られ、それによって、刊行物３及び７では耐熱性が改善されることが記載されているところであり、刊行物１におけるポリテトラメチレングリコールとして分子量分布の狭い１．９未満のものを使用することに格別な困難性は見出せない。
　また、本件明細書において、２０℃、４０℃及び６０℃において弾性率が測定され、熱による変化が小さいとするものであり、耐熱性の指標を機械的物性である弾性率の測定で示しているものであり、その効果も予測し得たところと言わざるを得ない。
　したがって、相違点１及び２は格別なものとは認められないものであるから、本件発明は、上記刊行物１〜５及び７に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
（４）むすび
　以上のとおり、本件発明は、刊行物１〜５及び７に記載された発明に基づいて当業者が容易にすることができたものであるから、本件発明についての特許は特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものである。
　したがって、本件発明についての特許は、特許法第１１３条第２項に該当し、取り消されるべきものである。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１６年３月２２日（２００４．３．２２）
【訂正の要旨】
審決（決定）の【理由】欄参照。
（５４）【発明の名称】
ポリウレタン組成物からなる研磨パッド
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】有機ポリイソシアネート、ポリオール及び硬化剤からなるポリウレタンを主な構成素材としてなる研磨パッドであって、
前記有機ポリイソシアネートが、トルエンジイソシアネート及び４，４’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネートからなり、
ポリテトラメチレングリコール及び低分子量ポリオールからなり、該ポリテトラメチレングリコールの
である
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【発明の属する技術分野】
　本発明はレンズ、反射ミラー等の光学材料やシリコンウエハー、ハードディスク用のガラス基板、アルミ基板、及び一般的な金属研磨加工等の高度の表面平坦性を要求される材料の平坦化加工を広い温度領域で安定的に行うことが可能な研磨パッドに関するものである。本発明の研磨パッドは、特にシリコンウエハー並びにその上に酸化物層、金属層等が形成されたデバイスを、さらにこれらの酸化物層や金属層を積層・形成する前に平坦化する工程に使用することも可能である。
　【０００２】
　【従来の技術】
　高度の表面平坦性を要求される材料の代表的なものとしては、半導体集積回路（ＩＣ、ＬＳＩ）を製造するシリコンウエハーと呼ばれる単結晶シリコンの円盤があげられる。シリコンウエハーは、ＩＣ、ＬＳＩ等の製造工程において、回路形成に使用する各種薄膜の信頼できる半導体接合を形成するために、各工程において、表面を高精度に平坦に仕上げることが要求される。このような研磨仕上げ工程においては、一般的に研磨パッドはプラテンと呼ばれる回転可能な支持円盤に固着され、半導体ウエハー等の加工物は研磨ヘッドに固着される。そして双方の運動により、プラテンと研磨ヘッドとの間に相対速度を発生させ、研磨操作が実行される。
　【０００３】
　この研磨操作時に、研磨パッドと加工物との間の摩擦により熱が発生し、研磨パッド表面の温度が上昇する。この温度上昇により、研磨パッドの硬度（弾性率）が変わり、高度な表面平坦性を要求される平坦化加工に悪影響を及ぼす。
　【０００４】
　【発明が解決しようとする課題】
　本発明の目的は、研磨時の研磨パッドと加工物との間の摩擦熱により、研磨パッドの硬度（弾性率）が変化し、平坦化加工に悪影響を及ぼすといった従来の問題点を克服した、広い温度領域で平坦化加工を安定的に行うことができる研磨パッドを提供することにある。
　【０００５】
　【課題を解決するための手段】
　本発明者等は、上述のような現状に鑑み、鋭意研究を重ねた結果、以下の技術的手段を用いることで、上記課題を解決できることを見出した。
　【０００６】
　即ち、本発明は、有機ポリイソシアネート、ポリオール及び硬化剤からなるポリウレタンを主な構成素材としてなる研磨パッドであって、
前記有機ポリイソシアネートが、トルエンジイソシアネート及び４，４’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネートからなり、
ポリテトラメチレングリコール及び低分子量ポリオールからなり、該ポリテトラメチレングリコールの
である
　【０００７】
　【発明の実施の形態】
　本発明で使用する有機ポリイソシアネートとしては、
トルエンジイソシアネート及び４，４’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネートが挙げられる。
　【０００８】
　ポリオールとしては、耐加水分解性、弾性特性、耐摩耗性等の観点より、ポリテトラメチレングリコールを含んでいることが必要である。なお、このポリテトラメチレングリコールは、数平均分子量が５００から１６００までで、分子量分布（重量平均分子量／数平均分子量）が１．９未満であることを満たす必要がある。
　【０００９】
　この数平均分子量は、ＪＩＳ　Ｋ　１５５７に準じて測定した水酸基価から求めた値である。また、分子量分布は、次の測定条件により測定した値である。
　【００１０】
　また、分子量分布は、次の測定条件により測定した値である。
・ＧＰＣ装置：ＬＣ−１０Ａ（島津製作所製）
・試料作製：試料約４ｍｇをテトラヒドロフラン２ｍｌに溶解
・カラム：ＭＩＸ−Ｅ　２本（ＰＬ社製）
・カラム温度：４０℃
・移動相：テトラヒドロフラン
・流速：０．７ｍｌ／分
・注入量：６０μｌ
・検出器：ＲＩ（３７℃）
・分子量分布：標準ＰＰＧ（ポリプロピレンポリオール）換算。
　【００１１】
　このテトラメチレングリコールの数平均分子量が５００未満であると、これを用いて得られるポリウレタンは十分な弾性特性を有さず、脆いポリマーとなり、このポリウレタンから製造される研磨パッドは硬くなりすぎ、研磨対象である加工物の研磨面のスクラッチの原因となり、好ましくない。また、摩耗しやすくなるため、パッド寿命の観点からも好ましくない。
　【００１２】
　数平均分子量が１６００を超えると、これを用いて得られるポリウレタンから製造される研磨パッドは、軟らかくなり、十分に満足のいく平坦化加工ができないため好ましくない。
　【００１３】
　また、ポリテトラメチレングリコールの分子量分布が１．９以上となると、これから得られるポリウレタンの硬度（弾性率）の温度依存性が大きくなり、このポリウレタンから製造される研磨パッドは、温度による硬度（弾性率）の差が大きくなる。上述したように、研磨パッドと加工物との間に摩擦熱が発生することで、研磨時に研磨パッドの温度は変化している。従って、研磨特性に差が生じることになり、好ましくない。
　【００１４】
　ポリオールとして、上述したポリテトラメチレングリコール以外に、本発明の研磨パッドの特性を損なわない範囲で、ポリテトラメチレングリコール以外の高分子量ポリオール、例えばエーテル系ポリオール、エステル系ポリオール、カーボネート系ポリオール等を併用しても構わない。
　【００１５】
　また、ポリオールとしては、上述した高分子量ポリオールの他に、エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、１，４−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）ベンゼン等の低分子量ポリオールを併用しても構わない。
　【００１６】
　硬化剤としては、得られるポリウレタン、ならびにそれから製造される研磨パッドの機械特性、耐摩耗性等の観点から、４，４’−メチレンビス（ｏ−クロロアニリン）を主成分としてなることが必要である。
　【００１７】
　ただし、硬化剤として、本発明の研磨パッドの特性を損なわない範囲で、４，４’−メチレンビス（ｏ−クロロアニリン）以外に、２，６−ジクロロ−ｐ−フェニレンジアミン、４，４’−メチレンビス（２，３−ジクロロアニリン）等のポリアミン類、或いは、上述した低分子量ポリオールを併用しても構わない。
　【００１８】
　本発明における有機ポリイソシアネート、ポリオール、硬化剤の比は、各々の分子量やこれらから製造される研磨パッドの所望物性などにより種々変え得る。所望する研磨特性を有する研磨パッドを得るためには、ポリオールと硬化剤の合計官能基（水酸基＋アミノ基）数に対する有機ポリイソシアネートのイソシアネート基数は０．９５−１．１５の範囲が望ましく、好ましくは、０．９９−１．１０であることがより望ましい。
　【００１９】
　また、ポリオール中の、高分子量成分と低分子量成分の比は、これらから製造される研磨パッドに要求される特性により決められる。
　【００２０】
　本発明のポリウレタンは、溶融法、溶液法など公知のウレタン化技術を応用して製造することができるが、コスト、作業環境などを考慮した場合、溶融法で製造することが好ましい。
　【００２１】
　本発明のポリウレタンの重合手順としては、プレポリマー法、ワンショット法のどちらでも可能であるが、事前に有機ポリイソシアネートとポリオールからイソシアネート末端プレポリマーを合成しておき、これに硬化剤を反応させるプレポリマー法が、一般的である。
　【００２２】
　なお、本発明において、ポリウレタン組成物に対して、必要に応じて、酸化防止剤等の安定剤、滑剤、顔料、充填剤、帯電防止剤、その他の添加剤を加えても差し支えない。
　【００２３】
　本発明の研磨パッドの形態としては、特許第３０１３１０５に見られるような加圧ガスを内包した高分子微小エレメントが含浸されたポリウレタンマトリックスからなるものであっても構わないし、特開平１１−３２２８７８に見られるようなポリスチレン系ビーズを分散させた微発泡ポリウレタンからなるものでも構わない。また、特開２０００−１７８３７４に見られるような微細気泡ポリウレタン発泡体からなるものでも構わない。
　【００２４】
　【実施例】
　以下、本発明を実施例を挙げて説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
　【００２５】
（実施例１）
　容器にトルエンジイソシアネート（２，４−体／２，６−体＝８０／２０の混合物）１４７９０重量部、４，４’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート３９３０重量部、数平均分子量が１００６で分子量分布が１．７のポリテトラメチレングリコール２５１５０重量部、ジエチレングリコール２７５６重量部を入れ、８０℃で１２０分間、加熱撹拌し、イソシアネート等量２．１０ｍｅｑ／ｇのプレポリマーを得た。このプレポリマーに、エクスパンセル５５１ＤＥ（塩化ビニリデンとアクリロニトリルの共重合体からなる微小中空体；日本フィライト社製）１４８０重量部を混合し、減圧脱泡した。このプレポリマー混合物を８０℃に調整しておき、撹拌しながら、予め１２０℃で溶融させておいた４，４’−メチレンビス（ｏ−クロロアニリン）１２８１６重量部を添加した。約１分間撹拌した後、パン型のオープンモールドへ混合液を入れ、オーブンにて１１０℃で、６時間ポストキュアを行い、発泡ポリウレタンブロックを作製した。
　【００２６】
　ポリテトラメチレングリコール等のポリオールの分子量のＧＰＣによる測定は、上述のＧＰＣ装置島津製作所製ＬＣ−１０Ａを使用した測定方法により行った。
　なお、ポリウレタン研磨パッドを構成するポリオール成分の分析は、ポリウレタンを分解して行う。分析手順は以下のとおりである。
　ａ）ポリウレタン研磨パッドサンプル１ｇをＰＴＦＥ容器に採取し、ピリジン７．０ｍｌ、水０．５ｍｌを加え、容器全体をステンレス製オートクレーブに入れて１６０℃にて８時間加熱して分解する。
　ｂ）分解液をジクロロメタン／２Ｎ−ＨＣｌ（混合比１／１）にて抽出する。ジクロロメタン層にポリオールが抽出されるので、これを分取する。
　ｃ）ジクロロメタン層から溶剤を留去し、得られたポリオールを上述の方法にてＧＰＣ測定を行う。
　【００２７】
　ポリオール成分の同定は、公知の分析方法で行うことができる。例えば上記の分解にて得られたポリオールのＩＲスペクトルを測定する方法、ＧＣ−ＭＳ法により分析する方法が例示される。またポリウレタン研磨パッドの熱分解ＧＣ−ＭＳ法によっても分析可能である。
　【００２８】
　次にこの発泡ポリウレタンブロックを約５０℃に加熱しながら、スライサー（アミテック社製　ＶＧＷ−１２５）にて厚さ１．２７ｍｍにスライスし、研磨シートを得た。このシートから５ｍｍ幅の短冊を切り出し、弾性率を測定した。
　【００２９】
　弾性率の測定方法は、動的粘弾性測定装置Ｒｈｅｏｇｅｌ−Ｅ４０００（ユービーエム社製）で引っ張り試験用治具を用い、正弦波振動を加え、周波数１Ｈｚで測定した。温度依存性モードで、−２０℃から８０℃まで測定し、２０℃、４０℃、６０℃での貯蔵弾性率を各温度での弾性率とした。
　【００３０】
　得られた研磨シートの２０℃、４０℃、６０℃の弾性率は、それぞれ４０４ＭＰａ、２９９ＭＰａ、１９０ＭＰａであった。
　【００３１】
　得られた研磨シートに両面テープ（積水化学工業製　ダブルタックテープ＃５６７３ＦＷ）を貼り合わせ、研磨パッドを完成させた。得られた研磨パッドを、ＣＭＰ研磨装置（岡本工作機械社製　ＳＰＰ−６００Ｓ）にて酸化膜の堆積したシリコンウエハを用いて研磨特性を評価した。このときスラリーとしては、ｐＨ１１に調整されたシリカスラリー（フジミインコーポレーテット社製　ＲＤ９７００１）を１５０ｇ／分の流量で流しながら、研磨荷重３５０ｇ／ｃｍ２、研磨パッド回転数３５ｒｐｍ、ウエハ回転数３３ｒｐｍにて、研磨実験を行った。
　【００３２】
　研磨特性としては、平均研磨速度と面内均一性を評価した。６インチシリコンウエハに熱酸化膜が１μｍ堆積したものを用い、０．５μｍ研磨した時の平均研磨速度を求めた。
　【００３３】
　また、このときにウエハの面内膜厚２８点を測定し、式（数１）により、面内均一性を求めた。面内均一性は値が小さい程、均一性が優れていると言える。
　【００３４】
　【数１】
　　面内均一性（％）＝｛（最大膜厚−最小膜厚）／（２×平均膜厚）｝×１００
　得られた研磨パッドの平均研磨速度は、１３５０Å／分で、面内均一性は７％であった。
　【００３５】
（実施例２）
　ポリテトラメチレングリコールとして、数平均分子量が９９０で分子量分布が１．５のものを２４７５０重量部用いた以外は、実施例１と同様に研磨シート及び、研磨パッドを作製した。
　【００３６】
　得られた研磨シート及び、研磨パッドより、測定した弾性率、平均研磨速度、面内均一性を表１に記す。
　【００３７】
（比較例１）
　ポリテトラメチレングリコールとして、数平均分子量が１０１８で分子量分布が２．０のものを２５４５０重量部用いた以外は、実施例１と同様に研磨シート及び、研磨パッドを作製した。
　【００３８】
　得られた研磨シート及び、研磨パッドより、測定した弾性率、平均研磨速度、面内均一性を表１に記す。
　【００３９】
　【表１】
　【発明の効果】
　本発明により得られた研磨パッドは、平均研磨速度が大きく、面内均一性も優れており、安定した平坦化加工を行うことが可能である。これは、各温度での弾性率からも分かるように、弾性率の温度依存性が小さく、このため、研磨時の研磨パッドと加工物との間の摩擦熱による研磨パッドの硬度（弾性率）変化が小さく抑えられていることによると考えられる。