【事件の表示】
　特願２００２−２１４１５０「電気光学装置及びプロジェクタ」拒絶査定不服審判事件〔平成１５年　６月１３日出願公開、特開２００３−１６７５３４〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、出願日が平成１４年７月２３日（優先権主張平成１３年９月２１日）である特願２００２−２１４１５０号であって、平成１６年１２月８日付で拒絶査定がなされ、これに対し平成１７年１月１１日付で拒絶査定に対する審判請求がなされ、平成１７年１月２８日付で手続補正がなされた。
　
２．平成１７年１月２８日付の手続補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　　平成１７年１月２８日付の手続補正（以下、「本件補正」という。）を却下する。
［理由］独立特許要件違反
（１）補正後の本願発明
　本件補正により、特許請求の範囲の請求項１は、平成１６年１１月２６日付手続補正書の特許請求の範囲の請求項１記載の、
「一対の基板と、
　前記一対の基板間に挟持された電気光学物質と、
　前記一対の基板のうち一方の基板上には、前記電気光学物質に対向する表面側に、表示用電極と、
　前記表示用電極に対応して設けられたスイッチング素子とを備え、
　光が入射される前記一対の基板のうちの他方の基板は、基板本体と、前記基板本体上に設けられたマイクロレンズと、前記マイクロレンズに接着層で接着されたカバーガラスと、前記カバーガラスの前記電気光学物質側の表面に埋め込まれ前記スイッチング素子に対向する所定パターンを有した複数の層からなる遮光膜と、前記遮光膜上及び前記カバーガラス上に前記表示用電極と対向する他の表示用電極と、を有し、
　前記遮光膜の前記電気光学物質側の表面は、前記カバーガラスの前記電気光学物質側の表面と同一平面上に形成されていることを特徴とする電気光学装置。」が
「一対の基板と、前記一対の基板間に挟持された電気光学物質とを備え、
　前記一対の基板のうち一方の基板上には、前記電気光学物質に対向する表面側に、表示用電極と、前記表示用電極に対応して設けられたスイッチング素子とを備え、
　プロジェクタの光源からの光が入射される前記一対の基板のうちの他方の基板は、基板本体と、前記基板本体上に設けられたマイクロレンズと、前記マイクロレンズに接着層で接着されたカバーガラスと、前記カバーガラスの前記電気光学物質側の表面に埋め込まれ前記スイッチング素子に対向する所定パターンを有した複数の層からなる遮光膜と、前記遮光膜上及び前記カバーガラス上に前記表示用電極と対向する他の表示用電極と、を有し、
　前記複数の遮光膜は光入射側から順にアルミニウムからなる層、クロムからなる層及び酸化クロムからなる層の三層構造からなり、
　前記遮光膜の前記電気光学物質側の表面は、前記カバーガラスの前記電気光学物質側の表面と同一平面上に形成されていることを特徴とする電気光学装置。」と補正された。
　
　この補正は、補正前の「光」を「プロジェクタの光源からの光」と限定し、「遮光膜」に関し、「前記複数の遮光膜は光入射側から順にアルミニウムからなる層、クロムからなる層及び酸化クロムからなる層の三層構造からなり、」の構成の限定を加えたもので、特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　そこで、本件補正後の前記請求項１に記載された発明（以下、「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）について以下に検討する。
　
（２）引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開２００１−２２２８４号公報（以下、「引用例１」という。）には、以下の点が記載されている。
ア．【０００１】【発明の属する技術分野】
　本発明は、電気光学装置およびその製造方法ならびに投射型表示装置に関する。
　
イ．【００１９】
Ａ：実施形態の構成
　図１（ａ）は、本発明を適用した液晶ライトバルブ３００の断面の一部を模式的に示す図である。同図に示すように、この液晶ライトバルブ３００は、シール材（図示略）によって接合された素子側基板１および対向基板２と、これらの各基板の間隙（セルギャップ）内に封入された液晶３とにより概略構成される。・・・
【００２１】
　ここで、図２（ａ）は、この画素電極１２とその付近の部分とをガラス基板１１の内側（液晶３側）から見た場合の構成を示す拡大平面図であり、図２（ｂ）は、図２（ａ）におけるＡ−Ａ’線視断面図である。図２（ａ）に示すように、ガラス基板１１上には、複数の画素電極１２と、各画素電極１２の境界に沿って図２（ａ）中のＸ方向に延びる走査線１３および容量線１４と、Ｙ軸方向に延びるデータ線１５とが形成されている。さらに、各画素電極１２に隣接する位置には、該画素電極１２をスイッチング制御するためのＴＦＴ１６（図１（ａ）においては図示せず）が形成されている。
　
ウ．【００２７】
　一方、対向基板２は、凸マイクロレンズ基板２１、接着層２２、凹マイクロレンズ基板２３、遮光膜２４、対向電極２５および配向膜２６が順次積層されて構成されている。
・・・
　【００２９】
　図４および図５に示すように、このマイクロレンズ基板２１は、長方形状の基板部２１１と、この基板部２１１の一方の面上に形成されるマイクロレンズ領域２１２と、マイクロレンズ領域２１２が形成されたのと同じ面上に配設されるスペーサ部２１３とに分けることができる。本実施形態においては、これらの各部は、例えば高屈折率樹脂材料によって一体に形成される。
【００３０】
　マイクロレンズ領域２１２には、図５に示すように、対向基板２側から入射される入射光を集光するための複数の凸マイクロレンズ２１４、２１４、…が形成されている。これらの各凸マイクロレンズ２１４は、各々の光軸が上記各画素電極１２の中心部分を通過するようにマトリクス状に配設されている。
　
エ．【００３５】
　遮光膜２４は、凹マイクロレンズ基板２３の内側（液晶３側）表面であって、ガラス基板１１上の各ＴＦＴ１６に対向する位置に形成される薄膜であり、Ｃｒ（クロム）等の金属材料によって構成される。この遮光膜２４は、ＴＦＴ１６に対する遮光だけでなく、コントラストの向上等にも寄与している。
　
オ．【００５２】
　このようにして作成された成形型６３の表面を、上述した離型剤層５５と同様の離型剤層６４によって覆う。そして、離型剤層６４を形成した表面に光硬化性または熱硬化性を有する高屈折率樹脂材料６５を均一に塗布・平坦化するとともに、紫外線を照射するか、または加熱することによって硬化させる（図５（ｂ４））。このようにして硬化した高屈折率樹脂材料６５を成形型６３から剥離することにより、凹マイクロレンズ基板２３を得ることができる。
　
カ．【００５７】Ｃ：応用例
　次に、図６を参照して、本発明にかかる電気光学装置を液晶ライトバルブ３００として用いた液晶プロジェクタについて説明する。・・・
【００５８】
　このような構成において、ランプユニット４０１から発せられた光は、ミラー４０４〜４０６ならびにダイクロイックミラー４０２および４０３によって赤色光、緑色光および青色光に分離され、赤色光（Ｒ）は液晶ライトバルブ５００に、緑色光（Ｇ）は液晶ライトバルブ５００に、青色光（Ｂ）は液晶ライトバルブ３００に、それぞれ導かれる。そして、各液晶ライトバルブによって変調された各光成分は、ダイクロイックプリズム４０７によって再度合成された後、投射レンズ４０８を介してスクリーン４０９にカラー画像として投射される。
　
　したがって、上記記載事項、及び【図１】、【図４】、【図８】等から引用例１には、
「ガラス基板１１と凹マイクロレンズ基板２３と、該一対の基板間に挟持された液晶３とを備え、
　前記一対の基板のうち一方の基板上には、前記液晶３に対向する表面側に、画素電極１２と、前記画素電極１２に隣接する位置にスイッチング制御するためのＴＦＴ１６とを備え、
　液晶プロジェクタのランプユニット４０１からの光が入射される前記一対の基板のうちの他方の基板は、長方形状の基板部２１１と、前記長方形状の基板部２１１に設けられた凸マイクロレンズ２１４、２１４、…と、前記凸マイクロレンズ２１４、２１４、…に接着層２２で接着された凹マイクロレンズ基板２３と、前記凹マイクロレンズ基板２３の前記液晶３側の表面に前記スイッチング制御するためのＴＦＴ１６に対向する位置に形成される遮光膜２４と、前記遮光膜上及び前記凹マイクロレンズ基板２３上に前記画素電極１２と対向する対向電極２５と、を有し、
　前記遮光膜２４はＣｒ（クロム）等の金属材料によって構成され、
　ている電気光学装置。」（以下、「引用発明」という。）が記載されている。
　
　同じく、原査定の拒絶の理由で周知例として引用された、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開２０００−２９４７９１号公報（以下、「周知例１」という。）には、以下の点が記載されている。
キ．【０００８】（第１の実施の形態）
　図１は本発明の第１の実施の形態にかかる半導体装置および半導体製造方法を説明するためのプロセス図であって、本実施の形態において示す図は、概ね図４のＡ−Ａ’部分の２ヶ所のＴＦＴの付近を記載しているものである。まず、図１（ａ）に示すように、ガラス基板１に一般的なフォトリソグラフィとエッチングを用いて例えば２００ｎｍ程度の深さで掘り込み部２を形成した後、スパッタ法を用いて６００ｎｍ程度の膜厚でアルミニウム３を成膜する。続いて、図１（ｂ）に示すように、アルミニウム３に例えばＣＭＰ（化学的機械的研磨）法を用いて研磨を行い、上面が平坦なアルミニウム３１を形成する。この時に掘り込み部２以外のガラス基板１上に残すアルミニウム３の膜厚は例えば３５０ｎｍ程度とする。続いて、図１（ｃ）に示すように、アルミニウム３１の陽極酸化を行い、掘り込み部２以外の領域のアルミニウム３１を酸化して透明絶縁層３２を形成すると同時に遮光膜３５を作製する。
　
　同じく、原査定の拒絶の理由で周知例として引用された、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開平１０−６８８１１号公報（以下、「周知例２」という。）には、以下の点が記載されている。
ク．【０００９】
　・・・図１（ａ）には、フォトマスク２を介して、レーザー光１を透明基板３上に照射して、エッチングする工程が示されている。これにより、フォトマスクのパターンに従った溝のパターンが透明基板上に形成される。
　・・・
【００１０】
（２）溝に遮光性組成物を充填する工程
　ブラックマトリクスは、上記工程により得られた透明基板の溝に遮光性組成物を埋めることにより得られる。
・・・
【００１６】
（３）はみ出し部分の除去工程
　上記の遮光性組成物の塗布工程では、図１（ｃ）に示すように、溝以外の領域にも遮光性組成物が塗布されることがあり、また、溝上にのみ塗布されても、表面張力により中央部分が盛り上がるので、溝以外の部分及び溝上の透明基板面からはみ出した部分の遮光性組成物を取り除く必要がある。そこで、溝以外の部分は、スクレーパー等の平滑にする器具により除去して透明基板の面と面一にし、ブラックマトリクスを平滑化する。図１（ｄ）には、平滑化した状態が示されている。
　
　また、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開２０００−３３０１３３号公報（以下、「引用例２」という。）には、以下の点が記載されている。
ケ．【請求項２】　前記遮光層が光高反射率層と光低反射率層との積層構造である請求項１記載の液晶表示装置。
　【請求項３】　前記光高反射率層がアルミニウム層若しくはクロム層のいずれかであり、前記光低反射率層がモリブデンシリサイド層若しくは酸化クロム層のいずれかである請求項２記載の液晶表示装置。
・・・
【０００１】【発明の属する技術分野】
　本発明は、投射型映像表示装置に用いられる液晶表示装置に関するものである。
　
コ．【００２４】
　高反射率層５は、図２に示すように波長４００〜７００ｎｍで光反射率が４０％以上であるアルミニウム等で形成され、また低反射率層６は、波長４００〜７００ｎｍで光反射率が４０％以下である、例えば酸化クロム等で形成される。
　
（３）対比
　そこで、本願補正発明と引用発明とを比較する。
　引用発明の「ガラス基板１１と凹マイクロレンズ基板２３」は、本願補正発明の「一対の基板」に相当する。同様に、「液晶３」は「電気光学物質」に、「画素電極１２」は「表示用電極」に、「隣接する位置に形成された」は「対応して設けられた」に、「スイッチング制御するためのＴＦＴ１６」は「スイッチング素子」に、「液晶プロジェクタのランプユニット４０１」は「プロジェクタの光源」に、「長方形状の基板部２１１」は「基板本体」に、「凸マイクロレンズ２１４、２１４、…」は「マイクロレンズ」に、「接着層２２」は「接着層」に、「対向電極２５」は「他の表示用電極」に、それぞれ相当する。
　
　また、本願補正発明の「カバーガラス」と、引用発明の「凹マイクロレンズ基板２３」とは、いずれも「遮光膜形成層」ということができる。
　
　また、引用発明の「遮光膜２４」も、所定のパターンを有していることは、自明である。
　
　また、本願補正発明の「光入射側から順にアルミニウムからなる層、クロムからなる層及び酸化クロムからなる層の三層構造からなる遮光膜」と、引用発明の「Ｃｒ（クロム）等の金属材料によって構成された遮光膜２４」とは、「遮光膜」の点で一致する。
　
　したがって、本願補正発明と引用発明とは、「一対の基板と、前記一対の基板間に挟持された電気光学物質とを備え、
　前記一対の基板のうち一方の基板上には、前記電気光学物質に対向する表面側に、表示用電極と、前記表示用電極に対応して設けられたスイッチング素子とを備え、
　プロジェクタの光源からの光が入射される前記一対の基板のうちの他方の基板は、基板本体と、前記基板本体上に設けられたマイクロレンズと、前記マイクロレンズに接着層で接着された遮光膜形成層と、前記遮光膜形成層の前記電気光学物質側の表面に前記スイッチング素子に対向する所定パターンを有した遮光膜と、前記遮光膜上及び前記遮光膜形成層上に前記表示用電極と対向する他の表示用電極と、を有し、
　ていることを特徴とする電気光学装置。」である点で一致し、以下の各点で相違する。
　
相違点１；
　遮光膜形成層に関し、本願補正発明は、カバーガラスであるのに対し、引用発明は、凹マイクロレンズ基板２３である点。
　
相違点２；
　本願補正発明は、遮光膜がカバーガラスの表面に埋め込まれ、電気光学物質側の表面は、前記カバーガラスの前記電気光学物質側の表面と同一平面上に形成されているのに対し、引用発明は、そのような限定がない点。
　
相違点３；
　本願補正発明は、遮光膜が、光入射側から順にアルミニウムからなる層、クロムからなる層及び酸化クロムからなる層の三層構造であるのに対し、引用発明は、そのような限定がない点。
　
（４）判断
以下、各相違点について検討する。
相違点１について
　引用発明の凹マイクロレンズ基板２３は、高屈折率樹脂材料で形成されたものであるが、接着層を介してマイクロレンズをカバーしている点で、本願補正発明と同様であり、ガラス材料として、上記相違点１に係る本願補正発明のように限定することは、当業者にとって容易である。
　
相違点２について
　遮光膜を基板に埋め込み、その表面が基板表面と同一平面となるように形成することは、上記周知例１、２に記載されるように従来周知の技術事項であり、上記相違点２に係る本願補正発明の構成とすることは、当業者にとって容易である。
　
相違点３について
　投射型映像表示装置に用いられる液晶表示装置の遮光膜の光入射側（透明基板側）をアルミニウム層若しくはクロム層の光高反射率層とし、液晶側をモリブデンシリサイド層若しくは酸化クロム層の光低反射率層とすることが、上記引用例２に記載され、中間層をクロムとし、液晶側を酸化クロムとした３層構造の遮光層も従来周知（例えば、特開平２−１４４５２５号公報、特開平９−２４４０１４号公報、特開平１０−１０４６００号公報等参照。）の技術事項である。してみれば、これら周知の技術事項から、上記相違点３に係る本願補正発明の構成とすることは、当業者にとって容易である。
　
　そして、本願補正発明の効果も、引用例１，２に記載された発明、及び従来周知の技術事項から予測される範囲のもので格別のものとは言えない。
　
　したがって、本願補正発明は、引用例１，２に記載された発明、及び従来周知の技術事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
（５）むすび
　以上のとおり、本件補正は、特許法第１７条の２第５項で準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するものであり、特許法第１５９条第１項で読み替えて準用する特許法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。
　
３．本願発明について
（１）本願発明
　平成１７年１月２８日付の手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、平成１６年１１月２６日付手続補正書の請求項１に記載された事項により特定されるものである。（上記、「２．（１）補正後の本願発明」参照。）
　
（２）引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された引用例１の記載事項は、前記「２．（２）」に記載したとおりである。
　
（３）対比・判断
　本願発明は、本願補正発明から、上記「２．（１）補正後の本願発明」で述べた構成の限定を省いたものである。
　
　そうすると、本願発明と引用発明とは、「一対の基板と、前記一対の基板間に挟持された電気光学物質と、
　前記一対の基板のうち一方の基板上には、前記電気光学物質に対向する表面側に、表示用電極と、
　前記表示用電極に対応して設けられたスイッチング素子とを備え、
　光が入射される前記一対の基板のうちの他方の基板は、基板本体と、前記基板本体上に設けられたマイクロレンズと、前記マイクロレンズに接着層で接着された遮光膜形成層と、前記遮光膜形成層の前記電気光学物質側の表面に埋め込まれ前記スイッチング素子に対向する所定パターンを有した遮光膜と、前記遮光膜上及び前記遮光膜形成層上に前記表示用電極と対向する他の表示用電極と、を有し、
　ていることを特徴とする電気光学装置。」である点で一致し、以下の各点で相違する。
　
相違点ａ；
　遮光膜形成層に関し、本願発明は、カバーガラスであるのに対し、引用発明は、凹マイクロレンズ基板２３である点。
　
相違点ｂ；
　本願発明は、遮光膜がカバーガラスの表面に埋め込まれ、電気光学物質側の表面は、前記カバーガラスの前記電気光学物質側の表面と同一平面上に形成されているのに対し、引用発明は、そのような限定がない点。
　
相違点ｃ；
　本願発明は、遮光膜が、複数の層からなるのに対し、引用発明は、そのような限定がない点。
　
　各相違点について見てみると、相違点ａ、ｂは、本願補正発明と引用発明との対比における相違点１、２と同様であり、それらの構成を限定することは、前記「２．（４）」に記載したとおり、引用例１に記載された発明、及び従来周知の技術事項から、当業者にとって容易である。
　相違点ｃについても、複数の層からなる遮光層は、従来周知（例えば、引用例２，特開平２−１４４５２５号公報、特開平９−２４４０１４号公報、特開平１０−１０４６００号公報等参照。）の技術事項であるので、引用発明において、相違点ｃの構成を限定することは、当業者にとって容易である。
　
　そして、本願発明の効果も、引用例１に記載された発明、及び従来周知の技術事項から予測される範囲のもので格別のものとは言えない。
　
　したがって、本願発明も、引用例１に記載された発明、及び従来周知の技術事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
　なお、請求人は、審尋回答書の中で、補正案を提示しているが、これによっても、特許性を有するようになるとは認められない。
　
（４）むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用例１に記載された発明、及び従来周知の技術事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。