【誤訳訂正書】
【提出日】平成22年2月8日(2010.2.8)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
デバイスステージによって保持されるデバイスと光学アセンブリとの間のギャップの環境を制御するための環境システムであって、
前記デバイスの近傍に位置付けられている流体バリアと、
前記ギャップを満たす液浸流体を送出し、前記デバイス及び前記デバイスステージの少なくとも一方と前記流体バリアとの間に直接に存在する液浸流体を回収する液浸流体システムとを備え、
前記流体バリアは前記ギャップを取り囲み、且つ、前記流体バリアは流体蒸気を含む前記液浸流体が前記ギャップ近傍の領域から出てゆくことを抑制する環境システム。
【請求項２】
デバイスステージによって保持されるデバイスと光学アセンブリとの間のギャップの環境を制御するための環境システムであって、
前記デバイスの近傍に位置付けられている流体バリアと、
前記ギャップを満たす液浸流体を送出し、前記デバイス及び前記デバイスステージの少なくとも一方と前記流体バリアとの間に直接に存在する液浸流体を回収する液浸流体システムとを備え、
前記流体バリアが前記デバイス近傍に位置付けられる排出インレットを含み、
前記液浸流体システムが前記排出インレットと連通する低圧源を含む環境システム。
【請求項３】
像をデバイスに転写するための露光装置であって、前記露光装置は光学アセンブリと、前記デバイスを保持するデバイスステージと、前記光学アセンブリ及び前記デバイスの間のギャップの環境を制御する請求項１又は２に記載の環境システムとを備える露光装置。
【請求項４】
前記デバイスステージは、前記デバイスのデバイス露光面とほぼ面一であるステージ表面を含む請求項３に記載の露光装置。
【請求項５】
基板を供給する工程と、請求項３に記載の装置にて前記基板に像を転写する工程とを含むデバイスを製造するための方法。
【請求項６】
デバイス露光面を含むデバイスに像を転写するための露光装置であって、
前記デバイスの近傍に、光学アセンブリと前記デバイスとの間にギャップを有するように位置付けられる光学アセンブリと、
前記デバイスの近傍に位置付けられる流体バリア及び前記ギャップを満たす液浸流体を送出する液浸流体システムを含み、前記ギャップの環境を制御する環境システムと、
デバイスを保持するデバイスステージであって、前記デバイス露光面とほぼ面一であるステージ表面を含むデバイスステージとを備え、
前記デバイスステージは、前記デバイスを保持するデバイスホルダと、前記ステージ表面を画成するガードと、前記デバイス露光面が前記ステージ表面とほぼ面一になるように、前記デバイス及び前記デバイスホルダに対して前記ガードを移動させる駆動アセンブリとを含み、
前記ガードは、移動されて、前記デバイスへのアクセスをもたらすことが可能である第１の部分を含む露光装置。
【請求項７】
デバイス露光面を含むデバイスに像を転写するための露光装置であって、
前記デバイスの近傍に、光学アセンブリと前記デバイスとの間にギャップを有するように位置付けられる光学アセンブリと、
前記デバイスの近傍に位置付けられる流体バリア及び前記ギャップを満たす液浸流体を送出する液浸流体システムを含み、前記ギャップの環境を制御する環境システムと、
デバイスを保持するデバイスステージであって、前記デバイス露光面とほぼ面一であるステージ表面を含むデバイスステージとを備え、
前記液浸流体システムは、前記デバイス及び前記デバイスステージの少なくとも一方と前記流体バリアとの間に直接存在する液浸流体を回収する露光装置。
【請求項８】
基板を供給する工程と、請求項６又は７に記載の装置にて前記基板に像を転写する工程とを含むデバイスを製造するための方法。
【請求項９】
デバイスステージによって保持されているデバイスと光学アセンブリとの間のギャップの環境を制御するための方法であって、
流体バリアを前記デバイスの近傍に位置付ける工程と、
液浸流体システムを用いて液浸流体で前記ギャップを満たす工程と、
前記デバイス及び前記デバイスステージの少なくとも一方と前記流体バリアとの間に直接存在する液浸流体を回収する工程とを含み、
前記流体バリアは前記デバイスの近傍に位置付けられた排出インレットを含み、
前記液浸流体を回収する工程が低圧源とを前記排出インレットとを接続する工程を含む方法。
【請求項１０】
像をデバイスに転写するための露光装置の製作方法であって、光学アセンブリを設ける工程と、請求項９に記載の方法によって前記ギャップの前記環境を制御する工程とを含む方法。
【請求項１１】
基板を供給する工程と、請求項１０に記載の方法によって製作された前記露光装置で像を前記基板に転写する工程とを含むデバイス製造方法。
【請求項１２】
デバイス露光面を含むデバイスに像を転写するための方法であって、
光学アセンブリを前記デバイスの近傍に、前記光学アセンブリと前記デバイスとの間にギャップを有するように位置付ける工程と、
前記デバイスの近傍に位置付けられる流体バリア及び前記ギャップを満たす液浸流体を送出する液浸流体システムを含む環境システムで、前記ギャップの環境を制御する工程と、
前記デバイス露光面とほぼ面一であるステージ表面を含むデバイスステージで、前記デバイスを保持する工程とを含み、
前記デバイスステージは前記デバイスを保持するデバイスホルダと、前記ステージ表面を画成するガードと、前記ステージ表面が前記デバイス露光面とほぼ面一になるように前記デバイス及び前記デバイスホルダに対して前記ガードを移動する駆動アセンブリとを含み、前記ガードの第１の部分を移動してデバイスに対するアクセスが提供される方法。
【請求項１３】
露光面を含むワークピースに像を転写するための露光装置であって、
前記ワークピースの前記露光面とほぼ面一であるステージ表面を含み、前記ワークピースを保持するステージと、
前記ワークピース及び前記ステージの少なくとも一方との間にギャップを有して位置付けられた光学アセンブリと、
前記ワークピース及び前記ステージの少なくとも一方に対向する第１の表面を有する囲い部材、前記ギャップを満たすために液浸流体を前記囲い部材内に送出する液浸流体システム、並びに、前記液浸流体の漏れを抑えるための前記囲い部材の前記第１の表面上のインレット部分を有し、前記ギャップの環境を制御する環境システムと、を備え、
前記ワークピース及び前記ステージの少なくとも一方と前記第１の表面との間の距離は、前記ワークピース及び前記ステージの少なくとも一方と前記光学アセンブリの終端面との間の距離よりも短く、
前記環境システムは、前記囲み部材の前記第１の表面上に液浸流体の漏れを抑えるためのアウトレット部分を含む露光装置。
【請求項１４】
前記アウトレット部分が加圧された気体を提供するように配置された請求項１３に記載の露光装置。
【請求項１５】
露光面を含むワークピースに像を転写するための露光装置であって、
前記ワークピースの前記露光面とほぼ面一であるステージ表面を含み、前記ワークピースを保持するステージと、
前記ワークピース及び前記ステージの少なくとも一方との間にギャップを有して位置付けられた光学アセンブリと、
前記ワークピース及び前記ステージの少なくとも一方に対向する第１の表面を有する囲い部材、前記ギャップを満たすために液浸流体を前記囲い部材内に送出する液浸流体システム、並びに、前記液浸流体の漏れを抑えるための前記囲い部材の前記第１の表面上のアウトレット部分を有し、前記ギャップの環境を制御する環境システムと、を備え、
前記ワークピース及び前記ステージの少なくとも一方と前記第１の表面との間の距離は、前記ワークピース及び前記ステージの少なくとも一方と前記光学アセンブリの終端面との間の距離よりも短く、
前記アウトレット部分が加圧された気体を提供するように配置された露光装置。
【請求項１６】
基板を供給する工程と、請求項１３〜１５のいずれか一項に記載の装置にて前記基板に像を転写する工程とを含むデバイスを製造するための方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２１】
一実施形態では、光学アセンブリ１６は一つ以上の光学マウントアイソレータ３７で装置フレーム１２に固定されている。光学マウントアイソレータ３７は、装置フレーム１２の振動が光学アセンブリ１６に振動を生じることを阻止する。各光学マウントアイソレータ３７は、振動を遮断する空気圧シリンダ（不図示）、及び振動を遮断して少なくとも２つの運動の自由度で位置を制御するアクチュエータ（不図示）を含むことができる。好適な光学マウントアイソレータ３７が、マサチュセッツ州のウォバーンにあるＩｎｔｅｇｒａｔｅｄ  Ｄｙｎａｍｉｃｓ  Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇによって販売されている。図示を容易にするために、間隔を置いて隔てられた２つの光学マウントアイソレータ３７が、光学アセンブリ１６を装置フレーム１２に固定するためのものとして示されている。しかし、例えば、間隔を置いて隔てられた３個の光学マウントアイソレータ３７を使用して、光学アセンブリ１６を装置フレーム１２にキネマティックに固定することができる。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２７】
測定システム２２は、光学アセンブリ１６又はその他の基準に対するレチクル２８及びウェハ３０の動作をモニターする。この情報によって、制御システム２４は、レチクルステージアセンブリ１８を制御してレチクル２８を正確に位置付けることができ、ワークピースステージアセンブリ２０を制御してウェハ３０を正確に位置付けることができる。測定システム２２の設計は変更することができる。例えば、測定システム２２は、多軸レーザー干渉計、エンコーダ、ミラー及び／又は他の測定デバイスを使用することができる。測定システム２２の安定性は、レチクル２８からウェハ３０への像の正確な転写に関して重要である。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３８】
一実施形態において流体バリア２５４は、流体蒸気２４９（三角形で図示）を含む液浸流体２４８をギャップ２４６近傍の領域に収容し、ギャップ２４６の周囲に内部チャンバー２６３を形成し、規定する。図２Ｂに示される実施形態において流体バリア２５４は、コンテインメントフレーム２６４（本願では囲い部材とも呼ばれる）、シール２６６及びフレームサポート２６８を含む。内部チャンバー２６３は、コンテインメントフレーム２６４、シール２６６、光学ハウジング２６２Ａ及びウェハ３０によって規定される閉じた容積を表している。流体バリア２５４は、ギャップ２４６からの液浸流体２４８の流れを制限し、ギャップ２４６に十分な液浸流体２４８を維持することを補助し、ギャップ２４６から漏出する液浸流体２４８の回収を可能にし、流体からのいかなる蒸気２４９も収容する。一実施形態において流体バリア２５４は、ギャップ２４６の周囲を完全に取り囲んで、動作している。さらに、一実施形態において流体バリア２５４は、液浸流体２４８及びその蒸気２４９を、光学アセンブリ１６に中心付けられたウェハ３０及びデバイスステージ４２上の領域に閉じ込める。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４１】
図２Ｃはコンテインメントフレーム２６４の一実施例の透視図を示している。この実施形態において、コンテインメントフレーム２６４は環状のリング形状であり、ギャップ２４６（図２Ｂに図示）を取り囲む。加えて、この実施形態において、コンテインメントフレーム２６４は頂面２７０Ａと、反対側の底面であってウェハ３０に対向する底面２７０Ｂ（第１表面とも呼ばれる）と、ギャップ２４６に対向する内面２７０Ｃと外面２７０Ｄとを含む。なお、用語「頂」及び「底」は単なる便宜上のために用いられたものであって、コンテインメントフレーム２６４の向きは回転することができる。また、コンテインメントフレーム２６４は別の形状を有することができる。あるいは、例えば、コンテインメントフレーム２６４は矩形形状のフレーム若しくは８角形形状のフレームとすることができる。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４２】
加えて、本願に示されているように、コンテインメントフレーム２６４は温度を制御して液浸流体２４８の温度を安定化してもよい。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４３】
図２Ｂに戻ると、シール２６６はコンテインメントフレーム２６４を光学アセンブリ１６に密封しつつ、光学アセンブリ１６に対するコンテインメントフレーム２６４の幾分かの動きを許容している。一実施形態において、シール２６６はフレキシブルで弾力性のある材質であって、液浸流体２４８に影響を及ぼさない材質で製造される。シール２６６に好適な材質は、ゴム（ラバー）、Ｂｕｎａ−Ｎ、ネオプレン、バイトン（Ｖｉｔｏｎ）又はプラスチックを含む。あるいは、シール２６６は、ステンレススチールのような金属又はラバー又はプラスチックで製造されたベローズであってもよい。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４４】
図２Ｄは図２Ｂの一部断面の部分拡大図を示している。フレームサポート２６８は、ウェハ３０及びデバイスステージ４２の上方で、コンテインメントフレーム２６４を装置フレーム１２及び光学アセンブリに接続し、これらを支持する。一実施形態において、フレームサポート２６８はコンテインメントフレーム２６４の全重量を支持する。あるいは、例えば、フレームサポート２６８はコンテインメントフレーム２６４の一部の重量のみを支持することができる。一実施形態において、フレームサポート２６８は１つ又はそれより多数の支持アセンブリ２７４を含むことができる。例えば、フレームサポート２６８は３つの、間隔をもって並べられた支持アセンブリ（２つのみを図示）を含むことができる。この実施形態において、各支持アセンブリ２７４は、装置フレーム１２とコンテインメントフレーム２６４の頂面２７０Ａとの間に延在する。
【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４５】
一実施形態において、各支持アセンブリ２７４はフレクシャである。本願において、用語「フレクシャ」はある方向に比較的高い剛性を有し、別の方向に比較的低い剛性を有する部品を意味する。一実施形態において、複数のフレクシャは協同作用して、（ｉ）Ｘ軸の方向及びＹ軸の方向に比較的硬くなり、(ｉｉ)Ｚ軸の方向に比較的フレキシブルとなる。相対的なフレキシブル性に対する相対的な剛性の比は少なくとも約１００／１であり、少なくとも約１０００／１とすることもできる。換言すれば、フレクシャはコンテインメントフレーム２６４のＺ軸方向の動きを許容することができ、コンテインメントフレーム２６４のＸ軸方向及びＹ軸方向の動きを抑制することができる。この実施形態では、支持アセンブリ２７４は受動的にコンテインメントフレーム２６４を支持する。
【誤訳訂正１０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４６】
あるいは、例えば、各支持アセンブリ２７４はアクチュエータであることができ、アクチュエータを使用してウェハ３０及びデバイスステージ４２に対してコンテインメントフレーム２６４の位置を調整することができる。加えて、フレームサポート２６８はコンテインメントフレーム２６４の位置をモニターするフレーム測定システム２７５を含むことができる。例えば、フレーム測定システム２７５は、Ｚ軸に沿った、Ｘ軸周り及び／又はＹ軸周りのコンテインメントフレーム２６４の位置をモニターすることができる。この情報によって、支持アセンブリ２７４を用いてコンテインメントフレーム２６４の位置を調整することができる。この実施形態では、支持アセンブリ２７４は、コンテインメントフレーム２６４の位置を能動的に調整できる。
【誤訳訂正１１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４７】
一実施形態において、環境システム２６は１つ又はそれより多数の圧力イコライザ２７６を含み、圧力イコライザ２７６を用いてチャンバー２６３内の圧力を制御することができる。換言すれば、圧力イコライザ２７６は、大気圧の変化又は流体制御に関連した圧力変化によって、コンテインメントフレーム２６４とウェハ３０又は終端光学素子２６２Ｂとの間に力が発生することを抑制している。例えば、圧力イコライザ２７６は、チャンバー２６３の内部及び／又はギャップ２４６の圧力をチャンバー２６３の外部の圧力とほぼ同一にすることができる。例えば、各圧力イコライザ２７６は、コンテインメントフレーム２６４を通じて延在する通路であることができる。一実施形態において、チューブ２７７（一つのみ図示）は各圧力イコライザ２７６の通路に装着され、流体蒸気を測定システム２２（図１に図示）から遠ざけて輸送している。別の実施形態では、圧力イコライザ２７６は約０．０１、０．０５、０．１、０．５又は１．０ＰＳＩ未満の圧力差を許容している。
【誤訳訂正１２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５０】
一実施形態において、図２Ｂ及び２Ｄに戻ると、デバイスステージ４２はウェハ３０の頂面のデバイス露光面２７９とＺ軸に沿ってほぼ同じ高さを有するステージ表面２８０を含む。換言すれば、一実施形態においてステージ表面２８０はデバイス露光面２７９とほぼ面一である。別の実施形態において例えば、ほぼ面一であるとは、複数の平面が約１、１０、１００又は５００μｍ以内にあることを意味している。その結果、コンテインメントフレーム２６４の底面２７０Ｂとウェハ３０との間の距離は、コンテインメントフレーム２６４の底面２７０Ｂとデバイスステージ４２との間の距離とほぼ等しい。一実施形態において、例えば、デバイスステージ４２はウェハ３０を受け取るためのディスク型の凹部２８２を含むことができる。デバイスステージ４２の別の設計は以下に明らかにされる。
【誤訳訂正１３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５１】
図２Ｄは、フレームギャップ２８４がコンテインメントフレーム２６４の底面２７０Ｂとウェハ３０及び／又はデバイスステージ４２との間に存在し、コンテインメントフレーム２６４に対するデバイスステージ４２及びウェハ３０の動作を容易にしていることを図示している。フレームギャップ２８４のサイズは変更可能である。例えば、フレームギャップ２８４は約５μｍと３ｍｍの間にすることができる。別の例では、フレームギャップ２８４は約５、１０、５０、１００、１５０、２００、２５０、３００、４００又は５００μｍとすることができる。
【誤訳訂正１４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５３】
加えて、ウェハギャップ２８５がウェハ３０の縁とウェハステージ４２との間に存在できる。一実施形態において、ウェハギャップ２８５は可能な限り狭くして、ウェハ３０が光学アセンブリ１６から中心がずれて、一部が流体コンテインメントフレーム２６４の領域内にあって一部がその領域外にあるときの漏れを最小限にしている。例えば、一実施形態において、ウェハギャップ２８５は約１、１０、５０、１００、５００又は１０００μｍとすることができる。
【誤訳訂正１５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５４】
図２Ｄはまた、いくらかの液浸流体２４８がコンテインメントフレーム２６４とウェハ３０及び／又はデバイスステージ４２との間を流れることを図示している。一実施形態において、コンテインメントフレーム２６４は、コンテインメントフレーム２６４の底面２７０Ｂの位置又はその近傍に位置付けられる一つ又はそれより多数の排出インレット２８６を含む。一つ又はそれより多数の排出インレット２８６は注入／排出源２６０（図２Ｂに図示）と連通する。この設計では、フレームギャップ２８４に漏出する液浸流体２４８は、注入／排出源２６０によって排出されることができる。図２Ｄに示される実施形態において、コンテインメントフレーム２６４の底面２７０Ｂは、実質的に環状溝の形状であって、概ね光学アセンブリ１６と同心である一個の排出インレット２８６を含む。あるいは、例えば、コンテインメントフレーム２６４の底面２７０Ｂは間隔をあけて配置された複数個の環状溝の形状の排出インレット２８６を含む。排出インレット２８６は概ね光学アセンブリ１６と同心であって、液浸流体２４８が完全にフレームギャップ２８４を出ることを抑制する。さらに、間隔をあけて配置された複数の開口であって円内に向けられた開口を、環状の溝の代わりに使用することができる。
【誤訳訂正１６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５５】
一実施形態において、注入／排出源２６０は排出インレット２８６に減圧及び／又は部分減圧を適用する。部分減圧は、液浸流体２４８を（ｉ）底面２７０Ｂの小さなランド領域２８８と（ｉｉ）ウェハ３０及び／又はデバイスステージ４２との間の液浸流体２４８を引き寄せる。フレームギャップ２８４内の液浸流体２４８は流体ベアリング２８９Ａ（矢印で図示）として作用する。流体ベアリング２８９Ａは、コンテインメントフレーム２６４をウェハ３０及び／又はデバイスステージ４２の上方に支持し、コンテインメントフレーム２６４がウェハ３０及び／又はデバイスステージ４２上で最小限の摩擦で浮動することを許容し、比較的小さなフレームギャップ２８４を許容している。この実施形態において、ほとんどの液浸流体２４８は流体バリア２５４内に閉じ込められ、外周の周りの漏れのほとんどは狭いフレームギャップ２８４内で排出される。
【誤訳訂正１７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５６】
加えて、環境システム２６は、追加の流体ベアリング２８９Ｂ（矢印で図示）をコンテインメントフレーム２６４とウェハ３０及び／又はデバイスステージ４２との間に生成するためのデバイスを含むことができる。例えば、コンテインメントフレーム２６４は、ベアリング流体２９０Ｃ（三角形で図示）のベアリング流体源２９０Ｂと連通する１つ又はそれより多数のベアリングアウトレット２９０Ａを含むことができる。一実施形態において、ベアリング流体２９０Ｃは空気である。この実施形態において、ベアリング流体源２９０Ｂは、加圧された空気２９０Ｃをベアリングアウトレット２９０Ａに提供して、静的空気ベアリング２８９Ｂを生成する。流体ベアリング２８９Ａ、２８９Ｂはコンテインメントフレーム２６４の重量の全て又は一部を支持することができる。別の実施形態では、流体ベアリング２８９Ａ、２８９Ｂの一方又は両方は、コンテインメントフレーム２６４の重量の約１、５、１０、２０、３０、４０、５０、６０、７０、８０、９０、１００パーセントを支持する。一実施形態では、同心の流体ベアリング２８９Ａ、２８９Ｂを用いて、フレームギャップ２８４を維持している。
【誤訳訂正１８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５８】
別の実施形態において、排出インレット２８６内の部分減圧はコンテインメントフレーム２６４を引き寄せてウェハ３０に向かわせる。この実施形態において、流体ベアリング２８９Ｂは、コンテインメントフレーム２６４の重量の一部を支持すると同時に排出インレット２８６内の部分減圧によって生じた予圧に対抗している。
【誤訳訂正１９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５９】
加えて、加圧された空気２９０Ｃは、液浸流体２４８をコンテインメントフレーム２６４内に閉じ込めるために役立つ。上記のように、フレームギャップ２８４内の液浸流体２４８は、排出インレット２８６を通じてほぼ引き出される。この実施形態において、排出インレット２８６を超えて漏れる液浸流体２４８は、ベアリング流体２９０Ｃによって排出インレット２８６に押し戻される。
【誤訳訂正２０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６１】
図２Ｄにおいて、ベアリングアウトレット２９０Ａは実質的に環状溝の形状であり、光学アセンブリ１６及び排出インレット２８６と概ね同心であり、排出インレット２８６の径よりも大きな径を有する。あるいは、例えば、コンテインメントフレーム２６４の底面２７０Ｂは、間隔をあけて配置された複数の環状溝の形状のベアリングアウトレット２９０Ａを含むことができる。ベアリングアウトレット２９０Ａは光学アセンブリ１６と概ね同心である。さらに、間隔をあけて配置された複数の開口であって円内に向けられた開口を、環状の溝の代わりに使用することができる。あるいは、例えば、磁力型のベアリングを用いてコンテインメントフレーム２６４を支持することが可能である。
【誤訳訂正２１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６２】
図２Ｂ及び２Ｄに示すように、ウェハ３０は光学アセンブリ１６の下方で中心に置かれている。この位置において、流体ベアリング２８９Ａ、２８９Ｂはコンテインメントフレーム２６４をウェハ３０の上方に支持する。図２Ｅは、光学アセンブリ１６に対して移動されたデバイスステージ４２及びウェハ３０と共に図２Ａの露光装置１０の一部を示している。この位置では、ウェハ３０及びデバイスステージ４２はもはや光学アセンブリ１６の下方で中心ではなく、流体ベアリング２８９Ａ、２８９Ａ（図２Ｄに図示）はウェハ３０及びデバイスステージ４２の上方にコンテインメントフレーム２６４を支持している。
【誤訳訂正２２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６５】
なお、注入／排出源２６０の要素の向きは変更することができる。さらに、一つ又はそれより多数の要素は必要でないかもしれない、且つ／又は幾つかの要素は二重にすることができる。例えば、注入／排出源２６０は複数のポンプ、複数のリザーバ、温度コントローラー又は他の要素を含むことができる。さらに、環境システム２６は複数の注入／排出源２６を含むことができる。
【誤訳訂正２３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６６】
液浸流体２４８のチャンバー２６３内への注入とチャンバー２６３外への汲み出しとの比は、システムの設計の要請に適合するように変更できる。さらに、液浸流体２４８がパッドインレット２７８Ｂから排出される量と排出インレット２８６から排出される量との比は変更できる。一実施形態において、液浸流体２４８はパッドインレット２７８Ｂから第１の比率で排出され、排出インレット２８６から第２の比率で排出される。例として、第１の比率は約０．１〜５リットル／分であることができ、第２の比率は０．０１〜０．５リットル／分であることができる。しかしながら、他の第１の比率及び第２の比率を使用することができる。
【誤訳訂正２４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６７】
なお、液浸流体２４８のチャンバー２６３内への注入とチャンバー２６３外への汲み出しとの比は、（ｉ）流体バリアを超える液浸流体２４８の漏れを調整するため、（ｉｉ）ウェハ３０が光学アセンブリ１６から中心が外れているとき、ウェハギャップ２８５からの液浸流体２４８の漏れを制御するため、及び／又は（ｉｉｉ）ギャップ２４６の液浸流体２４８の温度及び純度を制御するために、調節することができる。例えば、ウェハ３０が中心から外れたとき、液浸流体２４８の温度が高くなりすぎたとき、及び／又はギャップ２４６の液浸流体２４８中の混入物の濃度が許容範囲を超えたときに、前記比率は増やすことができる。
【誤訳訂正２５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６９】
図４Ａは、別の実施形態の、流体バリア４５４Ａ、ウェハ３０の一部及びデバイスステージ４２の一部の部分拡大図である。この実施形態において、流体バリア４５４Ａは、上記の対応する要素及び図２Ｄに示された対応する要素に幾分似ている。しかしながら、この実施形態では、コンテインメントフレーム４６４Ａは、２つの同心の排出インレット４８６Ａを含み、それらは、コンテインメントフレーム４６４Ａの底面４７０Ｂに位置付けられる。２つの排出インレット４８６Ａは、注入／排出源２６０（図２Ｂに図示）に連通する。この設計では、フレームギャップ２８４に漏出する液浸流体２４８は注入／排出源２６０によって排出することができる。この実施形態では、コンテインメントフレーム４６４の底面４７０Ｂは、各々概ね環状溝の形状であり、光学アセンブリ１６とほぼ同心である２つの排出インレット４８６Ａを含む。
【誤訳訂正２６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００７１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００７１】
図４Ｂは別の実施形態の、流体バリア４５４Ｂ、ウェハ３０の一部及びデバイスステージ４２の一部の部分拡大図である。この実施形態において、流体バリア４５４Ｂは、上記の対応する要素及び図２Ｄに示された対応する要素に幾分似ている。しかしながら、この実施形態においてコンテインメントフレーム４６４Ｂは、底面４７０Ｂに位置付けられる一つのベアリングアウトレット４９０Ｂと２つの排出インレット４８６Ｂを含む。排出インレット４８６Ｂは注入／排出源２６０（図２Ｂに図示）と連通し、ベアリングアウトレット４９０Ｂはベアリング流体源２９０Ｃ（図２Ｄに図示）に連通する。しかしながら、この実施形態では、ベアリングアウトレット４９０Ｂは排出インレット４８６Ｂの内側で排出インレット４８６Ｂと同心となるように位置付けられる。換言すれば、ベアリングアウトレット４９０Ｂは排出インレット４８６Ｂより小さな径を有し、ベアリングアウトレット４９０は排出インレット４８６Ｂよりも光学アセンブリ１６に近くにある。さらに、この設計では、ベアリング流体２９０Ｃ（図２Ｄに図示）は液浸流体２４８と同じ組成の液体とすることができる。この設計では、フレームギャップ２８４のベアリング流体２９０Ｃは、排出インレット４８６Ｂから注入／排出源２６０によって排出することができる。
【誤訳訂正２７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００７２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００７２】
図４Ｃは別の実施形態の流体バリア４５４Ｃ、ウェハ３０の一部及びデバイスステージ４２の一部の部分拡大図である。この実施形態において、流体バリア４５４Ｃは幾分、上記要素及び図２Ｄに示された要素に似ている。しかしながら、この実施形態では、コンテインメントフレーム４６４Ｃは、底面４７０Ｂに位置付けられる１つのベアリングアウトレット４９０Ｃと２つの排出インレット４８６Ｃとを含む。排出インレット４８６Ｃは注入／排出源２６０（図２Ｂに図示）と連通しており、ベアリングアウトレットはベアリング流体源（図２Ｄに図示）と連通している。しかしながら、この実施形態において、ベアリングアウトレット４９０Ｃは２つの排出インレット４８６Ｃの間に位置付けられる。換言すれば、内側の排出インレット４８６Ｃはベアリングアウトレット４９０Ｃよりも小さな径を有し、ベアリングアウトレット４９０Ｃは外側の排出インレット４８６Ｃよりも小さな径を有する。この設計では、内側の排出インレット４８６Ｃはベアリングアウトレット４９０Ｃよりも光学アセンブリ１６に近くにある。
【誤訳訂正２８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００７５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００７５】
しかしながら、図５Ａ及び５Ｂに図示される実施形態において、流体バリア５５４は、コンテインメントフレーム５６４、シール５６６及びフレームサポート５６８に加えて、内側バリア５５５を含む。この実施形態において、内側バリア５５５は環状のリング形状で、光学アセンブリ５１６の底部を取り囲み、光学アセンブリ５１６に同心であって、シール５６６に隣接するコンテインメントフレーム５６４内に位置付けられる。
【誤訳訂正２９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００７６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００７６】
内側バリア５５５は幾つかの目的に供することができる。例えば、ウェハ３０が光学アセンブリ５１６から中心がずれ、一部が流体コンテインメントフレーム５６４の領域の内側にあり、一部が流体コンテインメントフレーム５６４の領域の外側にあるとき、内側バリア５５５は、コンテインメントフレーム５６４へ漏出する液浸流体５４８の量を制限することができ、排出インレット５８６での排出の必要量を減少させ、ウェハギャップ２８５への液浸流体５４８の漏れも減少させている。この設計では、流体注入／排出パッド５５８を用いて、液浸流体５４８の大部分をチャンバー５６３から回収することができる。加えて、液浸流体５４８が内側バリア５５５の頂部のレベル若しくはその近傍のレベルに維持される場合には、液浸流体５４８の注入に関係する圧力サージを減少させることができる。なぜならば、液浸流体５４８の超過分は内側バリア５５５の頂部を溢れ出て、静的な圧力ヘッド（圧力水頭）を生み出すからである。この状況においても、表面張力の効果によって、いくらかの圧力サージが残り得る。これらの効果は、図５Ｂに示される距離Ｗを増すことによって減少できる。例えば、液浸流体が水である場合、Ｗは好ましくは数ミリメートル若しくはそれより大きくすべきである。加えて、液浸流体５４８と接触する内側バリア５５５及び光学アセンブリ５１６の表面の「濡れ性」を調節して表面張力を減らすことによって、残存する圧力サージを減少させる又は取り除くことが可能である。一実施形態において、内側バリア５５５は、重要な高さの差を約５０μｍのギャップで、内側バリア５５の底部とウェハ３０又はデバイスステージ４２の頂部との間に維持することができる。
【誤訳訂正３０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００８０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００８０】
ガード駆動アセンブリ６５６の設計は変更することができる。例えば、ガード駆動アセンブリ６５６は、一つ又はそれより多数のロータリモータ、ボイスコイルモータ、リニアモータ、電磁アクチュエータ及び／又は別なタイプの力によるアクチュエータを含むことができる。一実施形態において、ガード駆動アセンブリ６５６は制御システム２４（図１に図示）の制御の下で、Ｚ軸に沿って、Ｘ軸周りに及びＹ軸周りに移動させ、且つ位置付ける。センサ６８１（箱形として図示）を用いてガード表面及びウェハ上面６７９の相対的な高さを測定することができる。センサ６８１からの情報は制御システム２４（図１に図示）に転送することができ、制御システム２４は高さセンサ６８１からの情報を用いてガード駆動アセンブリ６５６を制御する。
【誤訳訂正３１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００８２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００８２】
例えば、ホルダ駆動アセンブリ７５６は、一つ又はそれより多数のロータリモータ、ボイスコイルモータ、リニアモータ、電磁アクチュエータ及び／又は別なタイプの力によるアクチュエータを含むことができる。一実施形態において、ホルダ駆動アセンブリ７５６は、制御システム２４（図１に図示）の制御の下で、Ｚ軸に沿って、Ｘ軸周りに及びＹ軸周りに移動し、且つ位置付ける。
【誤訳訂正３２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００８７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００８７】
【図１】図１は本発明の特徴を有する露光装置の側面図である。
【図２】図２Ａは図１の２Ａ−２Ａ線の断面図であり、図２Ｂは図２Ａの２Ｂ−２Ｂ線の断面図であり、図２Ｃは本発明の特徴を有するコンテインメントフレームの斜視図であり、図２Ｄは図２Ｂの２Ｄ−２Ｄ線の拡大詳細断面図であり、図２Ｅは光学アセンブリに対して移動されるウェハステージを有する図２Ａの露光装置の部分図である。
【図３】図３は本発明の特徴を有するインジェクタ／排出源の側面図である。
【図４】図４Ａは流体バリアの別の実施形態の拡大詳細図であり、図４Ｂは流体バリアのさらに別の実施形態の拡大詳細図であり、図４Ｃは流体バリアのさらに別の実施形態の拡大詳細図である。
【図５】図５Ａは露光装置の別の実施形態の部分断面図であり、５Ｂは図５Ａの５Ｂ−５Ｂ線の拡大詳細図である。
【図６】図６は本発明の特徴を有するデバイスステージの一実施形態の斜視図である。
【図７】図７Ａは本発明の特徴を有するデバイスステージのさらに別の実施形態の斜視図であり、図７Ｂは図７Ａの７Ｂ−７Ｂ線の断面図である。
【図８−１】図８Ａは本発明に従ってデバイスを製造するためのプロセスを概説するフローチャートである
【図８−２】図８Ｂはデバイス処理をより詳細に概説するフローチャートである。