(57)【要約】【課題】プラズマ処理により、被処理物を覆う被覆を被処理物表面の酸化を抑制しつつ選択的かつ高速で除去する。【解決手段】被覆除去装置１は、大気圧プラズマ照射部１５を備える。大気圧プラズマ照射部１５は、不活性ガスの誘導結合型プラズマからなる一次プラズマ４６を吹き出す放電管３３と、第２の不活性ガスと反応性ガスの混合ガス領域と一次プラズマ４６が衝突されることによりプラズマ化した混合ガスから成る二次プラズマ４７を発生する混合器４１を備える。二次プラズマ４７がマスク２２を介して線材２に照射され、反応熱により被覆４が炭化する。炭化した被覆は研磨部１７Ａ，１７Ｂで除去される。【選択図】図１
2012182001.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機材料からなる被覆を有する被処理物を保持する保持部と、
第１の不活性ガスの誘導結合型プラズマからなる一次プラズマを吹き出す誘導結合型プラズマ発生部と、第２の不活性ガスと反応性ガスの混合ガス領域と前記一次プラズマとが衝突されることによりプラズマ化した混合ガスから成る二次プラズマを発生するプラズマ展開部とを有し、前記二次プラズマを前記被処理物に照射する大気圧プラズマ照射部と、
前記大気圧プラズマ照射部との間に配置されて前記二次プラズマの前記被処理物に対する照射領域を制限するマスクと、
前記被処理物に対して前記大気圧プラズマ照射部及び前記マスクとは反対側に配置された接地電極と
を備える、プラズマ処理装置。
【請求項２】
前記第１及び第２の不活性ガスはArガスであり、前記反応性ガスはH２である、請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項３】
前記第１及び第２の不活性ガスはArガスであり、前記反応性ガスはO２である、請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項４】
前記大気圧プラズマ処理部における前記二次プラズマの照射により炭化した前記被覆を除去する残渣除去部をさらに備える、請求項１から請求項３のいずれか１項に記載のプラズマ処理装置。
【請求項５】
前記被処理物は線材であり、
前記保持部に保持される線材に対して張力を付与する張力付与部をさらに備える、請求項１から請求項４のいずれか１項に記載のプラズマ処理装置。
【請求項６】
有機材料からなる被覆を有する被処理物に隣接して接地電極を配置し、
第１の不活性ガスの誘導結合型プラズマからなる一次プラズマを発生させ、発生した一次プラズマを第２の不活性ガスと反応性ガスの混合ガスとに衝突させることによりプラズマ化した混合ガスから成る二次プラズマを発生させ、
前記二次プラズマを前記接地電極とは反対側から前記被処理物の前記被膜に照射する、プラズマ処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被処理材から被覆を除去するためのプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
線材のポリイミド被覆除去方法としては、刃物やリユータにより物理的に削り落とす方法が知られている。しかし、この方法は被覆除去に長時間を要し効率的でない。また、燃焼ガスや放電で炭化されることでポリイミド被覆を除去する方法も知られている（特許文献１参照）。しかし、この方法では、線材の芯材が銅等の場合に表面の酸化を生じやすい。被覆除去時に銅等の芯材の表面が酸化していると、はんだ接合時の不具合の原因となる。芯材表面の酸化を防止するには、被覆除去に十分な時間をかける必要があり、高速での被覆除去が困難となる。
【０００３】
特許文献２には、絶縁チャンバ内にガスを供給しつつ上下電極で高周波電力を供給して大気圧プラズマを発生させ、この大気圧プラズマに近接して被処理物を配置することで被覆を化学分解して除去する方法が記載されている。しかし、この方法では狭いチャンバ内に被処理物を配置する必要があり、被処理物の所望の箇所の被覆を選択的に除去することはできない。
【０００４】
線材を電子回路や部品に接合する際には、一般に、はんだ漕に線材を直接浸漬させて被覆を剥離している。しかし、被覆が除去された部分の線材のはんだ漕内への溶出や、被覆残渣による接合不良等の不具合がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００１−１２４９３１号公報
【特許文献２】特開２００７−５９３０５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、プラズマ処理により、被処理物を覆う被覆を被処理物表面の酸化を抑制しつつ選択的かつ高速で除去することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の第１の態様は、有機材料からなる被覆を有する被処理物を保持する保持部と、第１の不活性ガスの誘導結合型プラズマからなる一次プラズマを吹き出す誘導結合型プラズマ発生部と、第２の不活性ガスと反応性ガスの混合ガス領域と前記一次プラズマとが衝突されることによりプラズマ化した混合ガスから成る二次プラズマを発生するプラズマ展開部とを有し、前記二次プラズマを前記被処理物に照射する大気圧プラズマ照射部と、前記大気圧プラズマ照射部との間に配置されて前記二次プラズマの前記被処理物に対する照射領域を制限するマスクと、前記被処理物に対して前記大気圧プラズマ照射部及び前記マスクとは反対側に配置された接地電極とを備える、プラズマ処理装置を提供する。
【０００８】
誘導結合プラズマ発生部からの一次プラズマがプラズマ展開部中の第２の不活性ガスと反応性ガスの混合ガス領域に導入され、混合ガス中の第２の不活性ガスを励起して拡大した二次プラズマとする。そして、この二次プラズマが反応性ガスを構成する元素を活性化する。この二次プラズマ（大気圧プラズマ）の反応熱による温度上昇で二次プラズマを照射され被覆は高速で炭化して除去可能な状態となる。特に、接地電極を二次プラズマの照射側と反対側に配置したことで、二次プラズマの空間的なゆらぎが抑制されると共に、二次プラズマから被覆に入射する電子の方向性が安定するので、被覆の二次プラズマが照射された部位は高効率かつ高速で炭化する。二次プラズマの照射領域はマスクによって制限されるので、被処理物の所望の領域のみについて選択的に被覆を除去できる。
【０００９】
被処理物が銅等の比較的酸化しやすい材料の場合には、前記第１及び第２の不活性ガスはArガスであり、前記反応性ガスはH２である。
【００１０】
反応ガスとしてH2ガスを採用することで、二次プラズマ（大気圧プラズマ）中から酸素が除外されるので、被処理物の酸化反応を抑制ししつ高速で被覆を炭化させることができる。
【００１１】
被処理物がニッケル等の比較的酸化しにくい材料の場合には、前記第１及び第２の不活性ガスはArガスであり、前記反応性ガスはO２である。これにより、高速で被覆を炭化させることができる。
【００１２】
具体的には、プラズマ処理装置は、前記大気圧プラズマ処理部における前記二次プラズマの照射により炭化した前記被覆を除去する残渣除去部をさらに備える。
【００１３】
さらに具体的には、前記被処理物は線材である場合、プラズマ処理装置は、前記保持部に保持される線材に対して張力を付与する張力付与部をさらに備える。
【００１４】
本発明の第２の態様は、有機材料からなる被覆を有する被処理物に隣接して接地電極を配置し、第１の不活性ガスの誘導結合型プラズマからなる一次プラズマを発生させ、発生した一次プラズマを第２の不活性ガスと反応性ガスの混合ガスとに衝突させることによりプラズマ化した混合ガスから成る二次プラズマを発生させ、前記二次プラズマを前記接地電極とは反対側から前記被処理物の前記被膜に照射する、プラズマ処理方法を提供する。
【発明の効果】
【００１５】
本発明のプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法によれば、第１の不活性ガスの誘導結合型プラズマである一次プラズマと第２の不活性ガスと反応性ガスの混合ガスとを衝突させてプラズマ化される二次プラズマを発生させ、被処理物のうちマスクで規定された部分の被覆に対して接地電極とは反対側から照射する。そのため、被処理物表面の酸化を抑制しつつ被覆を選択的かつ高速で除去することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の実施形態に係る被覆除去装置の模式図。
【図２】大気圧プラズマ照射部の模式図。
【図３】混合器周辺の模式的な断面図。
【図４】冷却部の模式的な斜視図。
【図５】大気圧プラズマ照射部の保持部及びマスクの模式的な一部断面図。
【図６】研磨部の模式的な斜視図。
【図７】線材の斜視図。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
図１は本発明の実施形態に係る被覆除去装置（プラズマ処理装置）１を示す。この被覆除去装置１はプラズマ処理により被処理物の表面に被覆を除去するものである。本実施形態において、被覆除去の対象となる被処理物は図７に模式的に示す線材２である。この線材２は、本実施形態で銅製である２本の芯材３，３と、これらの芯材３，３を覆うポリイミド樹脂からなる被覆４を備える。芯材３，３の直径は例えば０．０３ｍｍ以上０．１以下ｍｍ程度である。また、被覆４の厚みは例えば１５μ以上３０μｍ以下である。芯材３，３の材質は銅に限定されず、例えばニッケル等の他の金属でもよい。また、被覆４の材質はポリイミド等のイミド系樹脂に限定されず、他の有機材料でもよい。本実施形態では２本の芯材３，３を並設して配置し、その外周を被覆４で覆っているが、芯材は２本に限定されず１本あるいは３本以上の複数本であってもよい。また、本実施形態では芯材３自体は単体の線材であるが、芯材は複数の芯線で構成されるものでもよい。
【００１８】
線材２は供給部１１から巻き出され、被覆が除去された後に回収部１２に巻き取られる。供給部１１は、被覆除去処理前の線材２を巻き付けたドラム１１ａと、このドラム１１ａを線材２を巻き出す方向に回転駆動する駆動機構１１ｂを備える。回収部１２は被覆除去済みの線材を巻き付けるためのドラム１２ａと、このドラム１２ａを線材２を巻き取る方向に回転駆動する駆動機構１２ｂを備える。
【００１９】
供給部１１に対して線材２の送り方向下流側に隣接する位置と、回収部１２に対して線材２の送り方向上流側に隣接する位置には、線材２に張力を付与するための張力付与部１３Ａ，１３Ｂが設けられている。これらの張力付与部１３Ａ，１３Ｂは、それぞれ固定の支持軸１３ａに回転自在に支持された一対の固定ローラ１３ｂ，１３ｂと、鉛直方向に延びるガイドレール１３ｃ上を移動自在な可動の支軸１３ｄに回転自在に支持された可動ローラ１３ｅを備える。可動ローラ１３ｅは一対の固定ローラ１３ｂ，１３ｂ間に配置されている。固定ローラ１３ｂ，１３ｂと可動ローラ１３ｅに巻掛けられた線材２には、可動ローラ１３ｅが昇降することで張力が付与される。線材２に適切な張力を付与できる限り、張力付与部１３Ａ，１３Ｂの具体的な構成は特定に限定されない。
【００２０】
供給部１１側の張力付与部１３Ａから回収部１２側の張力付与部１３Ｂに到る線材２の経路には、冷却部１４Ａ、大気圧プラズマ照射部１５、２個の研磨部１７Ａ，１７Ｂ、及び冷却部１４Ｂが順に設けられている。
【００２１】
図４を併せて参照すると、冷却部１４Ａ，Ｂは台座１４ａの上に、例えばペルチエ素子で冷却される冷却部材１４ｂを備える。冷却部材１４ｂには貫通孔１４ｃが形成れており、線材２は冷却部材１４ｂからの直接又は間接的な熱伝達により冷却される。線材２を適切に冷却できる限り冷却部１４の具体的な構成は特に限定されない。
【００２２】
後述するように、大気圧プラズマ照射部１５では線材２のマスク２２の開口２２ａから露出する部分にプラズマが照射される。線材２のプラズマが照射された部分の熱は、線材２内に残る。大気圧プラズマ照射部１５よりも線材２の送り方向上流側に配置された冷却部１４Ａは、線材２のプラズマが照射される部分からの熱が線材２の上流側へ伝わるのを抑制ないし低減する。その結果、線材２のプラズマが照射される部分から伝わる熱によって、プラズマが照射される部分よりも上流側の線材２において被覆４の炭化、被覆４の溶融ないし軟化による形状の不安定な部分の拡大を抑制できる。
【００２３】
一方、大気圧プラズマ照射部１５よりも線材２の送り方向下流側に配置された冷却部１４Ｂは、線材２のプラズマが照射される部分からの熱が線材２の下流側へ伝わるのを抑制ないし低減する。その結果、線材２のプラズマが照射される部分から伝わる熱によって、プラズマが照射される部分よりも下流側の線材２において被覆４の炭化、被覆４の溶融ないし軟化による形状の不安定な部分の拡大を抑制できる。また、冷却部１４Ｂは、後述するようにプラズマの照射により線材２の被覆が炭化された部分を冷却する。その結果、後述するように研磨部１７Ａ，１７Ｂにおいて被覆４の炭化された部分が除去される際には線材２の温度は低下しているので、研磨部１７Ａ，１７Ｂにおいて被覆４を除去することで剥き出しとなって直接空気に接触する芯材３が酸化するのを抑制できる。なお、プラズマ照射による線材２の温度上昇を適切に抑制できるのであれば、上流側の冷却部１４Ａと下流側の冷却部１４Ｂのうちのいずれか一方のみを設けてもよい。
【００２４】
大気圧プラズマ照射部１５は、プラズマ照射装置２０、保持部２１、及びマスク２２を備える。
【００２５】
図３及び図５を参照すると、保持部２１は、底壁２１ａと、この底壁２１ａから上方に延びる互いに対向する一対の側壁２１ｂ，２１ｂを備える。個々の側壁２１ｂ，２１ｂの上端には線材２を通過させるための切欠２１ｃが形成されている。底壁２１ａには接地電極２３が配置されている。接地電極２３と保持部２１を通過する線材２との隙間は０．５ｍｍ以上１ｍｍ以下程度に設定される。側壁２１ｂ，２１ｂの上端にマスク２２が取り付けられている。マスク２２は絶縁性と耐熱性を有し、例えばセラミック材料からなる。マスク２２の中央には線材２のうちプラズマ照射装置２０からのプラズマが照射される領域を規定するための開口２２ａが設けられている。開口２２ａの幅は例えば２ｍｍ以上５ｍｍ以下程度に設定される。保持部２１、マスク２２、及び接地電極２３の具体的な構造は図示のものに限定されない。なお、プラズマ照射時に図示しないクランプ機構等で線材２を保持して位置決めしてもよい。
【００２６】
プラズマ照射装置２０は保持部２１の上方に配置され保持部２１を通過する線材２のうちマスク２２の開口２２ａを介して露出する部分にプラズマ（後述する二次プラズマ４７）を照射する。プラズマ照射装置２０については後に詳述する。
【００２７】
研磨部１７Ａ，１７Ｂは、後に詳述するように大気圧プラズマ照射部１５で被覆４が選択的に炭化された部分を線材２を研磨し、芯材３，３から炭化した被覆４を除去する。一方の研磨部１７Ａは線材２の上側を研磨し、他方の研磨部１７Ｂは線材２の下側を研磨するので研磨部１７Ａ，１７Ｂは上下の姿勢が逆で配置される。図６を参照すると、研磨部１７Ａ，１７Ｂはモータを含む駆動機構１７ａ、駆動機構１７ａにより回転駆動される回転軸１７ｂ、及び回転軸１７ｂに取り付けられた研磨材１７ｃを備える。本実施形態における研磨材１７ｃは円筒状に成型したフェルトである。研磨材１７ｃに対向して柔軟性を有する材料（例えばウレタン、シリコン等）からなる受け部１７ｄを備える台座７ｅを備える。線材２のうち大気圧プラズマ照射部１５で被覆４が選択的に炭化された部分に回転する研磨材１７ｃが当接し、それによって炭化した被覆４が除去される。線材２の研磨材１７ｃが当接する側とは反対側は受部１７ｄにより支持される。研磨材１７ｃで除去された被覆４を吸引して回収する回収機構２４が設けられている。研磨材１７ｃの形状及び材質を含め研磨部１７Ａ，１７Ｂの詳細は図示のものに限定されない。
【００２８】
図１及び図２に概念的に示す制御装置２５は、大気圧プラズマ照射部１５（特にプラズマ照射装置２０）を含む、被覆除去装置１全体の動作を制御する。
【００２９】
図２及び図３を参照して、大気圧プラズマ照射部１５のプラズマ照射装置２０を説明する。
【００３０】
プラズマ照射装置２０は、固定のプラズマヘッド３１に収容され、断面円形の反応空間３２を形成する誘電体からなる円筒状の放電管（誘導結合型プラズマ発生部）３３を備える。放電管３３の外側には波線形状で平板型のアンテナ３４が設けられている。アンテナ３４には整合回路３５を介して高周波電源３６が接続されている。放電管３３の上端側には、不活性ガスであるArガスを放電管３３に供給する第１ガス源１７Ａが接続されている。
【００３１】
プラズマヘッド３１の下端側には混合器（プラズマ展開部）４１が装着されている。混合器４１は下端に開口（プラズマ噴出口４２ａ）が形成された混合室４２を備える。プラズマ噴出口４２ａが保持部２１を通過する線材２の対象物２の上方に間隔をあけて位置している。この間隔は例えば０．５ｍｍ以上５ｍｍ以下に設定される。放電管３３の下端は混合器４１の混合室４２内に進入している。また、混合室４２の周壁部には、１個あるいは複数のガス供給口４３が設けられている。これらのガス供給口４３は、第２ガス源３７Ｂに接続されている。第２ガス源３７Ｂは、不活性ガスとしてのArガスと反応性ガスとしてのH2ガスとの混合ガス（Ar/H2ガス）を供給する。
【００３２】
アンテナ３４に対して整合回路３５を介して高周波電源３６から高周波電圧を印加され、それによって放電管３３に高周波電界が印加される。放電管３３の上端から反応空間３２へ第１ガス源３７Ａが流量制御装置３８Ａを介してArガスを供給する。点火装置（図示せず）で高電圧を印加して点火することで、放電管３３の下端から、Arガスがプラズマ化されたものであり、プラズマ密度が高く、高温の誘導結合型プラズマ（熱プラズマ）である一次プラズマ４６が混合器４１の混合室４２へ吹き出される。
【００３３】
第２ガス源３７Ｂから流量制御装置３８Ｂを経てAr/H2ガスがガス供給口４３を介して混合室４２に供給される。放電管３３からの一次プラズマ４６（Arプラズマ）が混合室４２中のAr/H2ガス領域に導入され、混合ガス中の特にArガスを励起して混合ガスの二次プラズマ４７（Arプラズマ）を発生させる。二次プラズマ４７は、混合室４２の全領域に展開し、プラズマ噴出口４２ａから下方に吹き出して線材２に照射される。
【００３４】
次に、本実施形態の被覆除去装置１の動作を説明する。
【００３５】
供給部１１から回収部１２に向けて線材２が間欠的に送られる。線材２には張力付与部１３Ａ，１３Ｂにより安定した張力が付与され、しかも冷却部１４で冷却されることで線材２の温度上昇が抑制されている。
【００３６】
大気圧プラズマ照射部１５に到達した線材２にはプラズマ照射装置２０から二次プラズマ４７が照射される。具体的に、線材２のうちマスク２２の開口２２ａを介して露出している部分に選択的に二次プラズマ４７が照射される。この二次プラズマ４７の反応熱による温度上昇で二次プラズマ４７を照射された被覆４は高速で炭化して除去可能な状態となる。特に、接地電極２３を二次プラズマ４７の照射側と反対側である下側に配置したことで、二次プラズマ４７の空間的なゆらぎが抑制されると共に、二次プラズマ４７から被覆４に入射する電子の方向性が安定するので、二次プラズマ４７が照射された被覆４の部位は高効率かつ高速で炭化する。二次プラズマ４７の照射領域はマスク２２によって制限されるので、線材２の所望の領域のみについて選択的に被覆を除去できる。二次プラズマ４７は線材２の下側や複数の芯材３，３の間の被覆４の領域まで回り込むので、線材２の上側だけでなく下側や複数の芯線３，３の間でも被覆４が炭化する。
【００３７】
プラズマ照射装置２０は例えば以下のような条件で動作する。まず、高周波電源３６の電力は２０Ｗ以上５０Ｗ以下程度に設定される。また、第１ガス源３７ＡのAr流量は５０ｓｃｃｍ以上１００ｓｃｃｍ以下程度に設定される。第２ガス源３７ＢのAr/H2流量は１００ｓｃｃｍ以上４００ｓｃｃｍ以下程度に設定される。また、第２ガス源３７ＢでのH2濃度は１％以上４％以下程度の範囲に設定される。さらに、プラズマ照射時間は５秒以上１０秒以下程度の範囲に設定される。
【００３８】
反応ガスとしてH2ガスを採用することで、二次プラズマ４７中から酸素が除外されるので、銅製である芯材３の酸化を抑制ししつ高速で被覆４を炭化させることができる。
【００３９】
大気圧プラズマ照射部１５で炭化した被覆４のうち線材２の図において上側の部分は研磨部１７Ａで除去され、下側の部分は研磨部１７Ｂで除去される。研磨部１７Ａ，１７Ｂを通過した線材２は被覆４が選択に除去され、その部分では芯材３，３の表面が露出している。
【００４０】
前述のように、大気圧プラズマ照射部１５よりも線材２の送り方向上流側の冷却部１４Ａで大気圧プラズマ照射部１５よりも上流側の線材２への熱伝達を低減することで、大気圧プラズマ照射部１５よりも上流側の線材２において被覆４の炭化、被覆４の溶融ないし軟化による形状の不安定な部分の拡大を抑制できる。また、前述のように、大気圧プラズマ照射部１５よりも線材２の送り方向下流側の冷却部１４Ｂで大気圧プラズマ照射部１５よりも下流側の線材２への熱伝達を抑制することで、大気圧プラズマ照射部１５よりも下流側の線材２において被覆４の炭化、被覆４の溶融ないし軟化による形状の不安定な部分の拡大を抑制できる。さらに、前述のように、線材２のうち被覆４が大気圧プラズマ照射部１５で炭化された部分は、冷却部１４Ｂにより冷却されて温度が低下するので、研磨部１７Ａ，１７Ｂにおいて被覆４を除去することで剥き出しとなって直接空気に接触する芯材３が酸化するのを抑制できる。
【００４１】
以上のように、本実施形態の被覆除去装置１により、芯材３，３の酸化を抑制しつつ被覆４を選択的かつ高速で除去することができる。
【００４２】
本発明は前記実施形態に限定されず、種々の変形が可能である。
【００４３】
例えば、芯材３がニッケル等の比較的酸化しにくいものの場合、プラズマ照射装置２０の第２ガス源１７Ｂは、不活性ガスとしてのArガスと反応性ガスとしてO2ガスとの混合ガス（Ar/O2ガス）を供給するものに置換でき、この場合、より高速に線材２の被覆４を炭化させることができる。
【００４４】
本発明は、導線等の線材に限定されず、配線部品、電子部品、部品端子、基板（プリント基板、シート基板、フィルム基板等）の導電路等の樹脂製の被覆層の剥離に適用できる。
【符号の説明】
【００４５】
１  被覆除去装置（プラズマ処理装置）
２  線材
３  芯材
４  被覆
１１  供給部
１１ａ  ドラム
１１ｂ  駆動機構
１２  回収部
１２ａ  ドラム
１２ｂ  駆動機構
１３Ａ，１３Ｂ  張力付与部
１３ａ  支軸
１３ｂ  固定ローラ
１３ｃ  ガイドレール
１３ｄ  支軸
１３ｅ  可動ローラ
１４  冷却部  
１４ａ  台座
１４ｂ  冷却部材
１４ｃ  貫通孔
１５  大気圧プラズマ照射部
１７Ａ，１７Ｂ  研磨部
１７ａ  駆動機構
１７ｂ  回転軸
１７ｃ  研磨材
１７ｄ  受部
１７ｅ  台座
２０  プラズマ照射装置
２１  保持部
２１ａ  底壁
２１ｂ  側壁
２１ｃ  切欠
２２  マスク
２２ａ  開口
２３  接地電極
２４  回収機構
２５  制御装置
３１  プラズマヘッド
３２  反応空間
３３  放電管
３４  アンテナ（誘導結合型プラズマ発生部）
３５  整合回路
３６  高周波電源
３７Ａ  第１ガス源
３７Ｂ  第２ガス源
３８Ａ，３８Ｂ  流量制御装置
４１  混合器（プラズマ展開部）
４２  混合室
４２ａ  プラズマ噴射口
４３  ガス供給口
４６  一次プラズマ
４７  二次プラズマ
【図１】
2012182001.tif 000003
【図２】
2012182001.tif 000004
【図３】
2012182001.tif 000005
【図４】
2012182001.tif 000006
【図５】
2012182001.tif 000007
【図６】
2012182001.tif 000008
【図７】
2012182001.tif 000009