Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月21日(2010.5.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
選択された軸に沿ったビームの強度の対称性を向上させるためのビーム・ミキサーであって、前記ビームは前記軸に沿って第１の端から第２の端まで延び、前記ビーム・ミキサーは、
空間的な反転経路を設定する複数のミラーであって、該空間的な反転経路は、始点及び終点を有し、該経路の該始点における前記第１のビーム端の近くの前記ビームの一部分が該経路の該終点における前記第２のビーム端に移動することで特徴付けられる、前記複数のミラーと、
前記ビームを第１及び第２のビーム部分に分割し、該第１の部分を前記反転経路上に配置し、前記第１の部分が前記反転経路に沿って進んだ後、前記第１及び第２の部分を共通経路上で再結合させて前記ビームを混合する、光学部品と、
を備えることを特徴とするビーム・ミキサー。
【請求項２】
前記光学部品は前記ビームの前記第１の部分を前記反転経路上に反射するビーム・スプリッタであることを特徴とする、請求項１に記載のビーム・ミキサー。
【請求項３】
前記複数のミラーは３つのミラーを含むことを特徴とする、請求項１に記載のビーム・ミキサー。
【請求項４】
前記ミラーは平面ミラーであることを特徴とする、請求項３に記載のビーム・ミキサー。
【請求項５】
前記反転経路は前記共通経路に実質的に直交して延びることを特徴とする、請求項１に記載のビーム・ミキサー。
【請求項６】
前記反転経路の長さは前記ミキサーに入射するパルスのパルス長より短いことを特徴とする、請求項１に記載のビーム・ミキサー。
【請求項７】
選択された軸に沿ったビームの強度プロファイルを変えるためのビーム・ミキサーであって、前記ビームは前記軸に沿って第１の端から第２の端まで延び、前記ビーム・ミキサーは、
前記ビームに沿った第１の位置における前記第１のビーム端の近くの前記ビームの一部分を、前記ビームに沿った第２の位置における前記第２のビーム端に移動させるための光学的な反転手段と、
前記ビームの第１の部分を前記反転手段の方に方向付け、第２の部分を共通ビーム経路に方向付け、及び、前記反転手段の出力を前記共通ビーム経路に方向つけるための手段とを備えることを特徴とするビーム・ミキサー。
【請求項８】
前記ビーム・スプリッタは、該ビーム・スプリッタに入射する光の４０乃至６０パーセントを前記反転手段に向けて反射することを特徴とする、請求項７に記載のビーム・ミキサー。
【請求項９】
ビームを生成する発振器と、
前記ビームを増幅する増幅器と、
選択された軸に沿った前記ビームの強度の対称性を向上させるビーム・ミキサーと、
を備えることを特徴とするレーザ光源。
【請求項１０】
前記発振器はシード・ビームを出力し、前記ビーム・ミキサーは選択された軸に沿った前記シード・ビームの強度の対称性を向上させ、前記増幅器により増幅するための出力を生成するように配置されることを特徴とする、請求項９に記載のレーザ光源。
【請求項１１】
前記ビーム・ミキサーは、
空間的な反転経路を設定する複数のミラーであって、該空間的な反転経路は、始点及び終点を有し、該経路の該始点における前記第１のビーム端の近くの前記ビームの一部分が該経路の該終点における前記第２のビーム端に移動することで特徴付けられる、前記複数のミラーと、
前記ビームを第１及び第２のビーム部分に分割し、該第１の部分を前記反転経路上に配置し、前記第１の部分が前記反転経路に沿って進んだ後、前記第１及び第２の部分を共通経路上で再結合させて前記ビームを混合する、光学部品と、
を備えることを特徴とする、請求項１０に記載のレーザ光源。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月9日(2010.6.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
相互接続デバイスを作成する方法であって、
誘電体層を提供し、
前記誘電体層内に、前記誘電体層の上部に露出される導体を提供し、
前記露出された導体をキャッピングし、
導体イオンを前記誘電体層から溶解させることにより、前記誘電体層から前記導体イオンをスクラブし、前記誘電体層の表面の改質し、
前記スクラブは、腐食防止剤、脱酸素剤およびｐＨを１．５ないし２．０に調整する調整剤を含むスクラブ溶液を用い、
前記腐食防止剤の濃度は、１００〜２０００ｐｐｍであり、前記脱酸素剤の濃度は、１０００〜５０００ｐｐｍであり、前記調整剤の濃度は、５〜１５ｇ／Ｌである
方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法であって、
前記表面の改質は、前記導体の電荷および前記誘電体層の表面電荷を変化させることによる前記誘電体層からの導体イオンの洗浄を含む方法。
【請求項３】
前記表面の改質は、酸素の体積百分率が２０％未満である大気中で行なう請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記腐食防止剤としてトリアゾール化合物である請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記腐食防止剤は、トルオールトリアゾールまたはベンゾトリアゾールである請求項１記載の方法。
【請求項６】
前記脱酸素剤は、Ｌ−アスコルビン酸である請求項１記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月22日(2009.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ステータ（１０２、２０２、４００）と、
第１のラッチ位置と第２のラッチ位置との間を前記ステータに対して回転するように構成され、第１の磁路、および前記第１の磁路と共有部分を有する第２の磁路を形成するように前記ステータと協働するロータ（１０４、２０４、３００）と、
前記ロータが第２のラッチ位置および第１のラッチ位置にあるとき、それぞれ第１のラッチ位置および第２のラッチ位置に向かって前記ロータを偏倚させるように前記ロータに結合されたばね（１１８）と、
前記ステータおよび前記ロータの１つに固定的に結合され、前記第１の磁路内に含まれる少なくとも１つの磁石（１２０、１２２、１２４、２１２、２３２、４２０）であって、前記ロータが第２のラッチ位置より第１のラッチ位置に近いときには前記ロータを第１のラッチ位置に向かって偏倚させ、前記ロータが第１のラッチ位置より第２のラッチ位置に近いときには前記ロータを第２のラッチ位置に向かって偏倚させる磁気ラッチ力を生成するように構成された磁石と、
前記磁気ラッチ力を低下させるために、付勢されると前記第２の磁路中の磁束を変化させるように前記ステータおよび前記ロータの１つに固定的に結合された少なくとも１つのコイル（４２４）と
を備える双安定磁気スイッチアセンブリ（１００、２００）。
【請求項２】
前記ロータ（１０４、２０４、３００）はそれを貫通する空胴（３１２）を備え、前記ステータ（１０２、２０２、４００）は前記空胴内に配置されている、請求項１に記載のスイッチアセンブリ（１００、２００）。
【請求項３】
前記ステータ（１０２、２０２、４００）は、外側へ突出する複数の半径方向歯（４０８、４１２）を備え、前記ロータ（１０４、２０４、３００）は、内側へ突出する複数の脈条（３１４、３１６）を備え、前記ロータは第１のラッチ位置にあるときには、前記歯のそれぞれが前記脈条の別々の第１のものに整列し、前記ロータが第２のラッチ位置にあるときには、前記歯のそれぞれが前記脈条の別々の第２のものに整列する、請求項３に記載のスイッチアセンブリ（１００、２００）。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月7日(2010.6.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気化学セルを製造及び密封する方法であって、
通気部材（２２０）と、内側ヘッダリングと、開放端を備えた円筒形電気化学セル容器（２０４）とを準備する段階、
を含み、
前記電気化学セル容器（２０４）は、アノード（２１０）、カソード（２１２）、及び電解質を保持するように構成され、前記内側ヘッダリングは、所定のヘッダ直径及び成形された開口を有するように選択され、前記通気部材（２２０）は、蒸気障壁をもたらすように該成形開口に適合する周囲と、非突出部分を超えて半径方向に延びる少なくとも１つの突出部分とを有し、
前記内側ヘッダリングを前記通気部材の近くに位置決めし、該通気部材（２１０）にしわを寄せることなく前記突出部分を圧着して前記開口を密封することによってセル密閉部を作り出す段階、
前記セル密閉部を前記開放端の近くに位置決めし、該セル密閉部と前記アノード（２１０）又は前記カソード（２１２）の一方との間に電気接触を作り出す段階、及び
前記セル密閉部を前記電気化学セル容器（２０４）に対して密封する段階、
を更に含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記内側ヘッダリングに適合するように選択された外側ヘッダリングを準備する段階を更に含み、
前記セル密閉部を作り出す段階は、前記突出部分が前記内側及び外側ヘッダリング間で圧着されるように通気ホイルを位置決めする段階を含む、
ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記セル密閉部及び電気化学セル容器を密封する段階は、熱、圧力、及び超音波エネルギのうちの少なくとも１つを前記外側ヘッダリングに印加する段階を含むことを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記外側ヘッダリングは、所定の長さの側壁を含み、
前記突出部分は、前記側壁の前記所定の長さの半分を超えない距離にわたって前記通気部材の非突出部分を超えて半径方向に延びている、
ことを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項５】
少なくとも１つのガスケット（２２４）を準備する段階を更に含み、
前記セル密閉部を作り出す段階は、前記ガスケット（２２４）を前記内側ヘッダリングと前記外側ヘッダリングの間に位置決めする段階を含む、
ことを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項６】
前記セル密閉部及び電気化学セル容器を密封する段階は、熱、圧力、及び超音波エネルギのうちの少なくとも１つを印加する段階を含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記セル密閉部及び電気化学セル容器を密封する段階は、該セル密閉部及び該電気化学セル容器を機械的に圧縮する段階を含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項８】
ガスケット（２２４）を準備する段階を更に含み、
前記セル密閉部を作り出す段階は、前記セル密閉部を密封する段階中の前記機械的に圧縮する段階を強化するために、前記ガスケット（２２４）を前記内側ヘッダリングの近くに位置決めする段階を含む、
ことを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】
電気化学セル容器のための通気口密閉シールアセンブリであって、
電気化学反応ガスが通過して流れることを可能にする開口を有する密閉カップと、
所定の周囲形状を有する接触部材と、
前記接触部材の前記所定の周囲形状と同じでない周囲形状を有し、前記密閉カップと該接触部材の間に固定されて、前記アセンブリを通る前記電気化学反応ガスの流れを選択的に制御する破裂可能通気口（６２０）と、
を含み、
前記破裂可能通気口（６２０）の第１の直径は、第１の共通平面軸に沿った前記接触部材の前記所定の周囲形状の対応する第１の直径に等しく、
前記破裂可能通気口（６２０）の第２の直径は、第２の共通平面軸に沿った前記接触部材の前記所定の周囲形状の対応する第２の直径よりも大きく、
前記第１及び第２の共通平面軸は、前記接触部材の中心点で交差しており、
前記破裂可能通気口（６２０）は機械的圧縮により前記密閉カップ内に保持されており前記機械的圧縮が前記破裂可能通気口（６２０）が少なくとも２つの隔置した平面において前記接触部材と密封接触を形成するように構成された周囲圧着を含むことを特徴とするアセンブリ。
【請求項１０】
前記通気口の形状は、矩形ではなく、複数の平面突起（６６２）が、前記破裂可能通気口（６２０）の周縁に沿って一体化されていることを特徴とする請求項９に記載のアセンブリ。
【請求項１１】
前記平面突起（６６２）は、実質的に同じ大きさ及び形状を有し、前記密閉カップは、所定の長さの側壁を含み、該平面突起は、該側壁の該所定の長さの半分を超えない距離にわたって前記破裂可能通気口（６２０）の非突出部分を超えて半径方向に延びていることを特徴とする請求項１０に記載のアセンブリ。
【請求項１２】
前記破裂可能通気口（６２０）は、前記密閉カップ内に粘着的に保持されることを特徴とする請求項９に記載のアセンブリ。
【請求項１３】
前記破裂可能通気口（６２０）はまた、機械的圧縮によって前記密閉カップ内に保持されることを特徴とする請求項１２に記載のアセンブリ。
【請求項１４】
前記機械的圧縮は、少なくとも２つの空間平面において前記破裂可能通気口に前記接触部材との密封接触を生じさせる周囲圧着を含むことを特徴とする請求項１３に記載のアセンブリ。
【請求項１５】
前記破裂可能通気口（６２０）は、金属ホイル、接着剤、及びポリマー材料を含む積層体であることを特徴とする請求項９に記載のアセンブリ。
【請求項１６】
前記層は、前記ポリマー材料が、前記接触部材の近くにあり、かつ前記金属ホイルが、該ポリマー材料と前記接着剤の間に配置されるように配列されることを特徴とする請求項１５に記載のアセンブリ。
【請求項１７】
前記破裂可能通気口（６２０）は、アルミニウムを含むことを特徴とする請求項９に記載のアセンブリ。
【請求項１８】
前記破裂可能通気口（６２０）は、接着剤を含むことを特徴とする請求項９に記載のアセンブリ。
【請求項１９】
前記破裂可能通気口（６２０）は、ポリマーを含むことを特徴とする請求項９に記載のアセンブリ。
【請求項２０】
前記接触部材の近くに位置決めされたガスケットを更に含むことを特徴とする請求項９に記載のアセンブリ。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月8日(2010.6.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気化学電池を製造する方法であって、
（ａ）基板として鋼鉄層を含むシートを準備する段階、
（ｂ）前記基板から負の電極ケーシングを形成する段階、
（ｃ）前記負の電極ケーシングの可変接触保持及び５３８から２６９１アンペア／平方メートルの電気メッキ電流密度によるラックメッキ工程を用いて、光沢スズを含み、かつ１から１０マイクロメートルの平均厚みを有する層を前記基板上に電気メッキする段階、
（ｄ）負の電極材料が前記負の電極ケーシング上の前記スズ層と接触するように、亜鉛を含む負の電極材料及び水性アルカリ電解質を該負の電極ケーシングの凹状部分に堆積させる段階、及び
（ｅ）前記負の電極ケーシング及び前記負の電極材料を正電極及び正電極ケーシングと組み合わせて密封電池を形成する段階、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記スズ層は、８０７から２１５３アンペア／平方メートルの電流密度を用いて電気メッキされることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記スズ層の前記平均厚みは、２．５から９マイクロメートルであることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記基板は、前記アノードケーシングの前記凹状部分の少なくとも一部上に中間銅層を含み、該銅層は、前記光沢スズ層が前記負の電極ケーシング上に電気メッキされる前に前記鋼鉄層に付加されることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記銅層は、前記鋼鉄層を被覆するか、または、前記銅層は、前記鋼鉄層上に電気メッキされることを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記銅層は、平均で０．２から２．０マイクロメートル厚みのストライク層であることを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記銅層は、前記ケーシングの可変接触保持及び３２３から８６１アンペア／平方メートルの電気メッキ電流密度によるラックメッキ工程を用いて電気メッキされることを特徴とする請求項５または請求項６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
前記負の電極ケーシングの最大直径又は最大長さ寸法は、１１．６ミリメートルよりも大きいことを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
前記スズ層の前記平均厚みは、５マイクロメートル未満であり、前記基板は、前記光沢スズ層が前記負の電極ケーシング上に電気メッキされる前に、前記アノードケーシングの前記凹状部分の少なくとも一部上に中間銅層を含むことを特徴とする請求項１から請求項８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
光沢スズを含む前記層におけるスズは、スズを含む合金であるか、または、光沢スズを含む前記層におけるスズは、非合金スズであることを特徴とする請求項１から請求項９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
光沢スズを含む前記層の表面は、球形分光光度計を「正反射除外」モードで用いて試験した時に１から４０の正反射除外Ｙパラメータ値を有することを特徴とする請求項１から請求項１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
前記電池は、プリズム形状を有することを特徴とする請求項１から請求項１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
前記電池は、触媒電極を有することを特徴とする請求項１から請求項１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
前記電池は、バッテリ電池であり、かつ水性アルカリ電解質を含むことを特徴とする請求項１から請求項１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
前記電池は、亜鉛−空気バッテリ電池であることを特徴とする請求項１から請求項１４のいずれか１項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月7日(2010.6.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機電子デバイスの形成方法であって、
導電性材料とフッ素化酸ポリマーとを含む第１の層を形成するステップであって、前記第１の層が第１の表面エネルギーを有するステップと、
前記第１の層の上に第２の層を形成するステップであって、前記第２の層が、前記第１の表面エネルギーよりも高い第２の表面エネルギーを有するステップと、
前記第２の層の選択された部分を除去して、前記第１の層の非被覆領域を得るステップと、
前記第１の層の前記非被覆領域上に第３の層を形成するステップと、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記第１の層は５．２ｅＶを超える仕事関数を有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第１の層は５．２ｅＶを超える仕事関数を有する正孔注入層であり、前記第２の層は正孔輸送層であり、前記第３の層は光活性層であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記第１の層は、少なくとも１つのフッ素化酸ポリマーがドープされた少なくとも１つの導電性ポリマーを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記導電性ポリマーは、ポリチオフェン、ポリセレノフェン、ポリ（テルロフェン）、ポリピロール、ポリアニリン、多環式芳香族ポリマー、およびそれらのコポリマーからなる群から選択されることを特徴とする請求項１または４に記載の方法。
【請求項６】
前記フッ素化酸ポリマーが、過フッ素化炭素主鎖および次式、
−（Ｏ−ＣＦ２ＣＦＲｆ３）ａ−Ｏ−ＣＦ２ＣＦＲｆ４ＳＯ３Ｅ５
（式中、Ｒｆ３およびＲｆ４は独立に、Ｆ、Ｃｌ、および１〜１０個の炭素原子を有する過フッ素化アルキル基から選択され、ａ＝０、１、または２であり、Ｅ５はＨである）
で表される側鎖を有することを特徴とする請求項１、４または５に記載の方法。
【請求項７】
前記第１の層が、無機酸化物、導電性ポリマー、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される導電性材料を含むことを特徴とする請求項１、４、５または６に記載の方法。
【請求項８】
前記導電性ポリマーがフッ素化酸ポリマーと混合されていることを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記酸ポリマーがフッ素化オレフィン主鎖を有することを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項１０】
前記第２の層が架橋性であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記フッ素化酸ポリマーがコロイド形成性酸であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記酸ポリマーがＦＳＡポリマーであることを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記第２の層が、ポリマー材料、非ポリマー材料、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される正孔輸送材料を含むことを特徴とする請求項１〜１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
前記第３の層が光活性材料を含むことを特徴とする請求項１〜１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
前記第３の層がエレクトロルミネッセンス材料を含むことを特徴とする請求項１〜１４のいずれか１項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月31日(2010.5.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パルス毎にそれぞれの選択された狭い範囲の値内に維持されることを必要とする１組のパラメータで非常に狭い幅の非常に細長い光パルスのビームを生成するパルスレーザＤＵＶ光源及び光学列を含み、加工物上の材料の結晶化のために作業ステージ上に担持された該加工物を照射する光を送出するパルスＤＵＶ加工物処理装置であって、
レーザコントローラと、
作業ステージコントローラと、
顧客レシピ制御指令発生器からプロセスレシピ制御要求を受信して、制御信号を前記レーザコントローラ及び前記作業ステージコントローラに供給するシステムコントローラと、
を含み、該システムコントローラは、
データベース主導プロセスコントローラであって、
外部プロセスユーザインタフェースを通してユーザによって選択可能な一般プロセス指令段階を収容するデータベースを含む、前記プロセスコントローラ、
を含むことを特徴とする装置。
【請求項２】
ユーザからユーザへのプロセス制御カスタム化、
を更に含むことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記外部プロセスユーザインタフェースを通じて選択されたプロセス指令段階をそれぞれの１つ又は複数の一般スクリプトに変換する解釈プログラム、
を更に含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の装置。
【請求項４】
ＯＥＭデータベースに格納されたタスクに基づいて該ＯＥＭデータベースからユーザによって選択可能な前記ユーザプロセス指令段階を該ユーザに対して特定する作業フローエンジン、
を更に含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の装置。
【請求項５】
前記レーザコントローラ及び前記作業ステージコントローラを含む群からデバイスのコントローラへの指令を実行するプロセスサーバと、
前記ユーザからのレシピ定義を入力して前記プロセスサーバにユーザ指令を送るＧＵＩクライアントと、
を更に含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の装置。
【請求項６】
前記ＧＵＩクライアントは、
前記レーザ及び作業ステージを含む群からの少なくとも１つのデバイスのステータス、及び／又は前記加工物上の前記結晶化のプロセスのステータスを表示するディスプレイ、  を含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項５に記載の装置。
【請求項７】
前記ＧＵＩクライアントは、インタフェースを通じて製造実行システムインタフェースと通信する、
ことを更に含むことを特徴とする請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記ＯＥＭによって供給された読取専用タスク定義を収容するＯＥＭ読取専用データベースと、
ユーザ提供レシピ定義を収容するマスターシステムコントローラ読取書込データベースと、
を更に含むことを特徴とする請求項７に記載の装置。
【請求項９】
前記ＯＥＭデータベースは、プロセス制御中に前記プロセスサーバによって使用可能なマクロ又はスクリプトの形式で一般タスク定義を収容し、
前記ＭＳＣデータベースに格納されたユーザ入力パラメータを前記ＯＥＭデータベースからの一般指令と組み合わせる指令解釈プログラム、
を更に含むことを特徴とする請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記入力パラメータは、前記ＭＳＣデータベースに以前に格納されたものであり、前記一般指令は、前記ＯＥＭデータベースのスクリプトに収容される、
ことを更に含むことを特徴とする請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
前記プロセスサーバと通信し、各々がメッセージ待ち行列及びメッセージループを含む複数のプロセス制御サブシステムと、
前記それぞれのサブシステムへのアクセスを順番に並べる各メッセージ待ち行列及びメッセージループに関連したメッセージポンプと、
を更に含むことを特徴とする請求項９又は１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記レーザ及び前記作業ステージを含む群からの少なくとも１つのデバイスと通信し、該通信を前記指令解釈プログラム内で利用された中立言語フォーマットからデバイス特定のデバイス言語フォーマットに変換する言語変換器を利用するデバイスインタフェース、  を更に含むことを特徴とする請求項１０に記載の装置。
【請求項１３】
パルス毎にそれぞれの選択された狭い範囲の値内に維持されることを必要とする１組のパラメータで非常に狭い幅の非常に細長い光パルスのビームを生成するパルスレーザＤＵＶ光源及び光学列を含み、加工物上の材料の結晶化のために作業ステージ上に担持された該加工物を照射する光を送出するパルスＤＵＶ加工物処理装置であって、
レーザコントローラと、
作業ステージコントローラと、
タスクを単一スレッドとして又は複数の非再入可能スレッドとして符号化するために、別のそれぞれのプロセスでそれぞれのタスクを実行するシステムコントローラと、
を含むことを特徴とする装置。
【請求項１４】
前記それぞれのタスクは、各々が単一スレッドとして単一プロセス内のそれぞれのスレッドで実行されるコアタスクを含む、
ことを更に含むことを特徴とする請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】
パルス毎にそれぞれの選択された狭い範囲の値内に維持されることを必要とする１組のパラメータで非常に狭い幅の非常に細長い光パルスのビームを生成するパルスレーザＤＵＶ光源及び光学列を含み、加工物上の材料の結晶化のために作業ステージ上に担持された該加工物を照射する光を送出するパルスＤＵＶ加工物処理装置であって、
レーザコントローラと、
作業ステージコントローラと、
１つがプロセスデバイスの各々とのデバイスインタフェースを含む少なくとも２つの別々に機能するスレッドを利用してシステムデバイスマネージャによって制御される複数のプロセスデバイスと、
を含むことを特徴とする装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月26日(2010.5.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
タブを有する第１の電力接点と、タブを有する第２の電力接点と、さらに、それぞれ第１および第２の電力接点を受入れる、そこに形成された第１および第２の空洞を有するハウジングであって、第１の電力接点が第２の空洞内に部分的に挿入され、それによって第２の空洞における第１の電力接点の設置を防止するときに、前記第１の電力接点のタブは前記ハウジングと干渉し、さらに、前記第２の電力接点が前記第１の空洞内に部分的に挿入され、それによって前記第１の空洞における第２の電力接点の設置を防止するときに、前記第２の電力接点のタブは前記ハウジングと干渉するもの、とを有する電気コネクタ。
【請求項２】
第１の空洞は、前記第１の電力接点のタブを受入れる窓を有し、さらに、前記第２の空洞は、第２の電力接点のタブを受入れる窓を有している請求項１記載の電気コネクタ。
【請求項３】
前記第２の電力接点が前記第１の空洞内に部分的に挿入されるときには、前記第１の空洞の窓および第２の電力接点のタブは、誤って整列され、また、前記第１の電力接点が前記第２の空洞内に部分的に挿入されるときには、前記第２の空洞の窓および前記第１の電力接点のタブは、誤って整列される、請求項２記載の電気コネクタ。
【請求項４】
前記第１の電力接点は、第１および第２の半片を有しており、この第１の半片は、それに形成された第１および第２の突出部を有し、また第２の半片は、それに形成された第１および第２の孔を有し、その第１の半片が第２の半片に重ね合わされるときに、それぞれ、突出部の関連する１つを受入れ、前記突出部は、第１の距離だけ前記第１の半片から離れて置かれ、また、前記第２の電力接点は、第１および第２の半片を有し、前記第２の電力接点の第１の半片は、それに形成された第１および第２の突出部を有し、また、前記第２の電力接点の第２の半片は、それに形成された第１および第２の孔を有し、前記第２の電力接点の第１の半片が第２の電力接点の第２の半片に対して重ね合わされるときに、それぞれ、第２の電力接点の突出部の関連する１つを受入れる、前記第２の電力接点の第１の半片に形成された突出部は、前記第１の距離とは異なる第２の距離だけ離れて置かれる、請求項１記載の電気コネクタ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８４】
図２２A〜２４は、短い電力接点３０２および長い電力接点３２２の形状において短い、および長い電力接点３０２、３０４の他の実施例を描いている。短い、および長い電力接点３２０、３２２が、短い、および長い電力接点３２０、３２２の関連する本体部材３２３ａ、３２３ｂから外方および下方に角度を有するタブ３２４を有するということを除いては、短い、および長い電力接点３２０、３２２は、構造的な、かつ機能的な観点から、それぞれの、短い、および長い電力接点３０２、３０４にほぼ近似している。
最後に、この発明の２つの態様を以下に例示しておく。
第１の態様は、
第１の電気コネクタであって、空洞を画定する電気絶縁ハウジングであってそのハウジングはそこに形成され前記第１の電気コネクタの周りの周囲との流体伝達内に前記空洞を置く孔を有するもの、および前記空洞内に位置された組合う部分を有する電力接点を有するものと、
前記第１の電気コネクタと組合う第２の電気コネクタであって、この第２の電気コネクタは空洞を画定する電気絶縁ハウジングであり、この第２の電気コネクタの前記ハウジングはそこに形成され前記第２の電気コネクタの周りの周囲との流体伝達内に前記第２の電気コネクタの空洞を置く孔を有するものと、前記第２の電気コネクタのハウジングの空洞内に位置された組合う部分を有する電力接点とを有し、前記第１および第２の電気コネクタが組合うときに、第１および第２の電気コネクタのハウジング内に形成された前記孔は、一部が重なり合う、コネクタ装置。
さらに、第２の態様は、
この電気コネクタは、電力接点とこの電力接点を受入れる電気絶縁ハウジングとを有するものであって、孔が前記ハウジング内に形成され、この孔は、それによって電力接点によって加熱された空気がその孔経由で電力接点を出ることができる電力接点の組合う部分と整列され、凹部が、ハウジング内に形成され、この凹部は、前記基板に面し、かつ、この凹部と基板は、電気コネクタが基板に設置されるときに、ハウジングの側部から延びる通路を画定し、さらに、電力接点の部分が前記凹部を通して延び、それによって、電気コネクタの周りの周囲からの空気が、前記ハウジングと基板との間に、さらに電力接点のうえに通過することができる、基板に設置するための電気コネクタ。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月4日(2010.6.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリマービーズを含む物品の調製方法であって、
前駆体組成物として、
ａ）該前駆体組成物の全質量を基準として１０質量パーセント超から８５質量パーセントまでの極性溶媒と、
ｂ）該前駆体組成物の全質量を基準として１５質量パーセントから９０質量パーセント未満の重合性材料であって、該重合性材料は、フリーラジカル重合が可能であり且つモノマー分子当たりのエチレン系不飽和基の平均数が少なくとも１．２であり、該極性溶媒中に混和性であり且つ、
ｉ）少なくとも２つの（メタ）アクリロイル官能基を有し且つ少なくとも５つのアルキレンオキシド単位を有する、ポリ（アルキレンオキシド（メタ）アクリレート）と、
ｉｉ）該前駆体組成物中の重合性材料の全質量を基準として０から２０質量パーセント未満のアニオン性モノマーであって、酸性基、酸性基の塩またはそれらの混合物に加えてエチレン系不飽和基を含む該アニオン性モノマーとを含む、該重合性材料と、を含む該前駆体組成物を準備する工程と、
液滴が全体的に気相によって囲まれている、該前駆体組成物の該液滴を形成する工程と、
該重合性材料を少なくとも部分的に重合させて第１の膨潤したポリマービーズを形成するのに十分な時間、該液滴を放射線に曝露する工程と、を含む、調製方法。
【請求項２】
前駆体組成物のフリーラジカル重合反応生成物を含むポリマービーズを含む物品であって、該前駆体組成物は、
ａ）該前駆体組成物の全質量を基準として１０質量パーセント超から８５質量パーセント以下の極性溶媒と、
ｂ）前駆体組成物の全質量を基準として１５質量パーセントから９０質量パーセント未満の重合性材料であって、該重合性材料は、フリーラジカル重合が可能であり且つモノマー分子当たりのエチレン系不飽和基の平均数が少なくとも１．２であり、該極性溶媒中に混和性であり且つ、
ｉ）少なくとも２つの（メタ）アクリロイル基を有し且つ少なくとも５つのアルキレンオキシド単位を有する、ポリ（アルキレンオキシド（メタ）アクリレート）と、
ｉｉ）該前駆体組成物中の重合性材料の全質量を基準として０から２０質量パーセント未満のアニオン性モノマーであって、酸性基、酸性基の塩またはそれらの混合物に加えてエチレン系不飽和基を含む該アニオン性モノマーとを含む、該重合性材料と、を含む、物品。
【請求項３】
ポリマービーズを含む物品であって、該ポリマービーズは、
ａ）フリーラジカル重合が可能であり且つモノマー分子当たりのエチレン系不飽和基の平均数が少なくとも１．２である重合性材料を含む前駆体組成物のフリーラジカル重合反応生成物であって、該重合性材料は、
ｉ）少なくとも２つの（メタ）アクリロイル基を有し且つ少なくとも５つのアルキレンオキシド単位を有する、ポリ（アルキレンオキシド（メタ）アクリレート）と、
ｉｉ）該前駆体組成物中の重合性材料の全質量を基準として０から２０質量パーセント未満のアニオン性モノマーであって、酸性基、酸性基の塩またはそれらの混合物に加えてエチレン系不飽和基を含む該アニオン性モノマーとを含む、該フリーラジカル重合反応生成物と、
ｂ）活性剤と、を含む、物品。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月31日(2010.5.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
加えて、比較的高粘性のエステルを含んでなる、滑剤組成物における極性ポリマー（例えば、アルキルフマレート−α−オレフィン、ポリアルキルメタクリレート、またはアルキルメタクリレート−α−オレフィン系）の低濃度での更なる使用は、多くの場合、エステルのための安定化剤として作用し、相乗的に滑剤組成物の低温粘度を低下できることが見出された。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
本発明の好ましい態様では、使用される複合エステルは、ＮＲ（天然ゴム）、ＮＢＲ（ニトリル−ブタジエンゴム）、ＨＮＢＲ（水素化ニトリルブチルゴム）、ＦＰＭ（フッ素ゴム）、ＡＣＭ（アクリレートゴム）、ＰＴＦＥ（Ｔｅｆｌｏｎ）、ＰＵ（ポリウレタン）、シリコーン、ポリアクリレートおよびネオプレンからなる群から選択されるシーリング材に対して、より好ましくはＮＢＲ、ＨＮＢＲおよびＡＣＭに対して適合性である。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月4日(2010.6.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水分散性イソシアネートを含む第１成分と、
シクロヘキサンジメタノール及び水を含む第２成分と、を含む、反応性組成物。
【請求項２】
表面、表面上の下塗剤組成物のコーティング少なくとも１つ、及び下塗剤組成物上の反応性組成物のコーティングであって、
水分散性イソシアネートを含む第１成分と、
シクロヘキサンジメタノール及び水を含む第２成分と、を含む反応性組成物のコーティング少なくとも１つ、を含むコーティング面。
【請求項３】
下塗剤組成物を塗布する工程と、
下塗剤組成物を乾燥させる工程と、
反応性コーティング組成物を乾燥した下塗剤表面に塗布する工程と、
前記反応性コーティング組成物を反応及び乾燥させる工程と、
剥離剤を用いて下塗剤層及びコーティング組成物層を剥離する工程と、を含む表面の処理方法であって、前記反応性コーティング組成物が、
水分散性イソシアネート、シクロヘキサンジメタノール、及び水を含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月27日(2010.5.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
用品に芳香を付与する方法であって、少なくとも１つの式Ｉ
【化１】
2009540066.tif 000001
式中、
ＸおよびＹは独立して、−ＣＲ１Ｒ２Ｒ３、−ＮＲ４Ｒ５および−ＯＲ６からなる群から選択され、ここでＲ１〜Ｒ５は、Ｈおよび少なくとも１つの酸素、窒素またはケイ素原子を任意に含む本質的に炭化水素である部分から選択され、Ｒ６は、少なくとも１つの酸素、窒素またはケイ素原子を任意に含む本質的に炭化水素である部分から選択され、および
Ａは、少なくとも１つの酸素、硫黄、窒素またはケイ素原子を任意に含む本質的に炭化水素である部分であり、ただし化合物Ａ−ＣＨＯは芳香性アルデヒドである、
で表される化合物の添加を含む、前記方法。
【請求項２】
部分Ａが由来する芳香性アルデヒドが、２，６，１０−トリメチルウンデカ−９−エナール、８，８−ジメチル−１，２，３，４，５，６，７，８−オクタヒドロ−ナフタレン−２−カルバルデヒド、（４−イソプロピル−フェニル）−エタナール、２，４−ジメチル−シクロヘキサ−３−エン−１−カルバルデヒド、１，３，５−トリメチル−シクロヘキサ−１−エン−４−カルバルデヒド、４−（４−ヒドロキシ−４−メチルペンチル）−シクロヘキサ−３−エン−１−カルバルデヒド、ヘキサ−２−エナール、３，５，５−トリメチル−ヘキサナール、ヘプタナール、２，６−ジメチル−ヘプタ−５−エナール、デカナール、デカ−９−エナール、デカ−４−エン−１−アール、２−メチル−デカナール、ウンデカ−１０−エン−１−アール、ウンデカナール、ドデカナール、２−メチル−ウンデカナール、トリデカナール、トリデカ−２−エナール、オクタナール、ノナナール、ノナ−２−エナール、ウンデカ−９−エナール、２−フェニル−プロパナール、２−（４−メチル−フェニル）−エタナール、３，７−ジメチル−オクタナール、ジヒドロファルネサール、７−ヒドロキシ−３，７−ジメチル−オクタナール、２，６−ジメチル−オクタ−５−エン−１−アール、３−（３−イソプロピル−フェニル）−ブタナール、２−（３，７−ジメチル−オクタ−６−エン−オキシ）−エタナール、４−（４−メチル−ペンタ−３−エニル）−シクロヘキサ−３−エン−１−カルバルデヒド、２，３，５，５−テトラメチル−ヘキサナール、ロンギホルアルデヒド、２−メチル−４−（２，６，６−トリメチルシクロヘキサ−２−エン−１−イル）−ブタナール、２−メチル−３−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−プロパナール、３−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−プロパナール、２−（４−イソプロピル−フェニル）−プロパナール、３−（ベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２−メチル−プロパナール、３，７−ジメチル−オクタ−６−エン−１−アール、２−メチル−３−（４−イソプロピルフェニル）−プロパナール、４−ｔｅｒｔ−ブチル−シクロヘキサン−１−カルバルデヒド、４−（オクタヒドロ−４，７−メタノ−５Ｈ−インデン−５−イリデン）−ブタナール、（３，７−ジメチル−オクタ−６−エニルオキシ）−エタナール、（２Ｅ，６Ｚ）−ノナジエナール、２，４−ジメチル−２，６−ヘプタジエナール、（Ｅ）−デカ−２−エナール、ドデカ−２−エナール、３，７−ジメチル−オクタ−２，６−ジエナール、２，４−ジエチル−ヘプタ−２，６−ジエナール、３，７−ジメチル−ノナ−２，６−ジエナール、３−プロピル−ヘプタ−２−エナール、および４−イソプロペニル−シクロヘキサ−１−エン−１−カルバルデヒドからなる群から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
フレグランスが湿気への曝露によって徐々に放出される芳香組成物の製造方法であって、
（ａ）式ＩＩ
【化２】
2009540066.tif 000002
式中、ＸおよびＹは独立して、−ＣＲ１Ｒ２Ｒ３、−ＮＲ４Ｒ５および−ＯＲ６からなる群から選択され、ここでＲ１〜Ｒ５は、Ｈおよび少なくとも１つの酸素、窒素またはケイ素原子を任意に含む本質的に炭化水素である部分から選択され、Ｒ６は、少なくとも１つの酸素、窒素またはケイ素原子を任意に含む本質的に炭化水素である部分から選択される、
で表される化合物を、クネーフェナーゲル縮合が行われる条件下で塩基の存在下で芳香性アルデヒドと配合するステップ
および
（ｂ）（ａ）の生成物を組成物に添加するステップ
を含む、前記方法。
【請求項４】
式Ｉ
【化３】
2009540066.tif 000003
式中、
ｉ）ＸおよびＹは同じであり、
ａ）−ＯＲ６、式中、Ｒ６は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ベンジルからなる群から選択される；または
ｂ）フェニル、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル；
から選択されるか、あるいは
ｉｉ）ＸおよびＹは異なり、以下の表
【表１】
2009540066.tif 000004
から選択され、および
Ａは、分枝状または直鎖状のＣ７〜Ｃ１５アルキルおよびＣ７〜Ｃ１５アルケニル部分から選択され、これらはエーテル、ヒドロキシル、カルボニルまたはエステル部分として存在する酸素原子を任意に含む、
で表される化合物。
【請求項５】
既知の用品原料および少なくとも１つの式Ｉ
【化４】
2009540066.tif 000005
式中、
ＸおよびＹは独立して、−ＣＲ１Ｒ２Ｒ３、−ＮＲ４Ｒ５および−ＯＲ６からなる群から選択され、ここでＲ１〜Ｒ５は、Ｈおよび少なくとも１つの酸素、窒素またはケイ素原子を任意に含む本質的に炭化水素である部分から選択され、Ｒ６は、少なくとも１つの酸素、窒素またはケイ素原子を任意に含む本質的に炭化水素である部分から選択され、および
Ａは、少なくとも１つの酸素、硫黄、窒素またはケイ素原子を任意に含む本質的に炭化水素である部分であり、ただし化合物Ａ−ＣＨＯは芳香性アルデヒドである、
で表される化合物を含む、用品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
本発明の特定の特色の１つは、上述のクネーフェナーゲル合成を使用する場合、化合物を製造工場で作り、ユーザーに輸送する必要がなく、その場で作ってもよいことである。したがって、それらを単純かつ簡単に現場で作り、それらの存在が望ましい組成物に直接添加することができる。これは、豊富な多用途性を与え、ユーザーが、配達を待つことなく、現地で所望の化合物を作ることを可能にする。したがって、本発明はまた、芳香組成物の製造方法を提供し、ここで、フレグランスは湿気への曝露によって徐々に放出され、該方法は、
（ａ）式ＩＩ
【化７】
2009540066.tif 000006
式中、ＸおよびＹは上に定義したとおりである、
で表される化合物を、クネーフェナーゲル縮合が行われる条件下で塩基の存在下で芳香性アルデヒドと配合するステップ
および
（ｂ）（ａ）の生成物を組成物に添加するステップ
を含む。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月11日(2010.6.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記の式を有する化合物、またはその製薬上許容し得る塩、そのプロドラッグまたはその代謝産物：
【化１】
2009540009.tif 000001
(式中、Yは、有機酸官能基またはその12個までの炭素原子を含むアミドもしくはエステルであるか；或いは、Yは、ヒドロキシメチルまたはその12個までの炭素原子を含むエーテルであるか；或いは、Yは、テトラゾリル官能基であり；
Aは、-(CH2)6-、シス-CH2CH=CH-(CH2)3-または-CH2C≡C-(CH2)3-であり、これらにおいて、１個または２個の炭素原子はSまたはOによって置換し得；或いは、Aは、-(CH2)m-Ar-(CH2)o-であり、Arはインターアリーレンまたはヘテロインターアリーレンであり、mとoの和は1〜4であり、1個のCH2はSまたはOによって置換し得；
Uは、O、S、NR1であり、R1はH、C1-6アルキル、C1-7アシル、ベンゾイル、ビフェニルアシル、C1-6スルホニル、フェニルスルホニル、ビフェニルスルホニル、トリフルオロメチルアシルまたはトリフロイルであり；そして、
Bは、アリールまたはヘテロアリールである)。
【請求項２】
Bが、フェニル、アルキルフェニル、またはp-t-ブチルフェニルである、請求項１記載の化合物。
【請求項３】
下記の式を有する請求項１記載の化合物、またはその製薬上許容し得る塩、プロドラッグまたは代謝産物：
【化２】
2009540009.tif 000002
(式中、Gは、1,3-インターアリーレンもしくはインターヘテロアリーレン、または-(CH2)3-である)。
【請求項４】
Bが、フェニルである、請求項３記載の化合物。
【請求項５】
Gが、インターチエニレンである、請求項４記載の化合物。
【請求項６】
Bが、ヒドロキシアルキルフェニルである、請求項５記載の化合物。
【請求項７】
下記の式を有する請求項１記載の化合物、またはその製薬上許容し得る塩、そのプロドラッグまたはその代謝産物の使用：
【化３】
2009540009.tif 000003
(式中、点線は、結合の存在または不存在を示し；
Rは、1〜12個の炭素原子を含むヒドロカルビルまたはヒドロキシヒドロカルビルであり；
Xは、CH2、OまたはSであり；そして、
Gは、1,3-インターアリーレンもしくはインターヘテロアリーレン、または-(CH2)3-である)。
【請求項８】
Gが、インターチエニレンである、請求項７記載の化合物。
【請求項９】
Xが、CH2、またはOである、請求項８記載の化合物。
【請求項１０】
下記の式を有する請求項１記載の化合物、またはその製薬上許容し得る塩またはそのプロドラッグ：
【化４】
2009540009.tif 000004
【請求項１１】
下記の式を有する請求項１記載の化合物、またはその製薬上許容し得る塩またはそのプロドラッグ：
【化５】
2009540009.tif 000005
【請求項１２】
下記のいずれかの式を有する請求項１記載の化合物、またはその製薬上許容し得る塩またはそのプロドラッグ：
【化６】
2009540009.tif 000006
2009540009.tif 000007
2009540009.tif 000008
【請求項１３】
下記から選ばれる請求項１記載の化合物：
(S)-メチル 5-(((3-(4-(1-ヒドロキシヘキシル)フェニル)-2-オキソオキサゾリジン-4-イル)メトキシ)メチル)チオフェン-2-カルボキシレート；
(S)-メチル 5-(((3-(4-(1-フルオロヘキシル)フェニル)-2-オキソオキサゾリジン-4-イル)メトキシ)メチル)チオフェン-2-カルボキシレート；
(S)-5-(((3-(4-(1-ヒドロキシヘキシル)フェニル)-2-オキソオキサゾリジン-4-イル)メトキシ)メチル)チオフェン-2-カルボン酸；および、
(S)-5-(((3-(4-(1-フルオロヘキシル)フェニル)-2-オキソオキサゾリジン-4-イル)メトキシ)メチル)チオフェン-2-カルボン酸。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか１項記載の化合物を含む、眼内圧降下用の医薬品。
【請求項１５】
請求項１〜１３のいずれか１項記載の化合物の、哺乳類の眼内圧降下用の医薬品の製造における使用。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月27日(2010.5.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７８】
実施例２７
Ｌ−酒石酸塩の形成
３.６７ｇ(１０mmol)の遊離塩基一水和物(Ｎ−ヒドロキシ−３−[４−[[[２−(２−メチル−１Ｈ−インドール−３−イル)エチル]アミノ]メチル]フェニル]−２Ｅ−２−プロペンアミド)および５０mlの無水エタノールを、マグネティック・スターラーおよび添加用漏斗を備えた２５０ml  ３首フラスコに入れた。本混合物を６０℃に加熱し、熱懸濁液に１５ml  無水エタノールに溶解した０.８３ｇ(５.５mmol、１０％過剰)のｌ−酒石酸を滴下した。最初に、大きな黄色の凝集塊が形成され、それが適切な撹拌を妨害したが、経時的にこれは自由に流動し、撹拌できる黄色粉末へと変換した。撹拌を６０℃で２時間続けた。本混合物を続いて室温に冷却し、氷浴に約３０分間入れた。本黄色粉末を濾過により回収し、１回冷無水エタノール(１０ml)で洗浄した。それを一晩真空下で乾燥させ、４.１ｇのＮ−ヒドロキシ−３−[４−[[[２−(２−メチル−１Ｈ−インドール−３−イル)エチル]アミノ]メチル]フェニル]−２Ｅ−２−プロペンアミドのｌ−酒石酸(ヘミ酒石酸)塩を得た(９６.６％)。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月12日(2010.3.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アミノ酸官能性シロキサンを製造する方法であって、任意選択的に溶媒の存在下で、Ｎ−アシルアミノ酸及びＮ−アロイルアミノ酸の群から選択されるアミノ酸誘導体をアミノ官能性シロキサンと反応させることによって、アミノ酸官能性シロキサンを製造する方法。
【請求項２】
前記Ｎ−アシル基が、Ｎ−アセチル化基、Ｎ−プロパノイル基、Ｎ−ブタノイル基、Ｎ−ペンタノイル基及びＮ−ヘキサノイル基から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記Ｎ−アシルアミノ酸が、Ｎ−アセチル−グリシン、Ｎ−アセチル−アラニン、Ｎ−アセチルトリプトファン、Ｎ−アセチル−バリン、Ｎ−アセチル−グルタミン又は２−ピロリドン−５−カルボン酸及び４−アセトアミド−安息香酸の群から選択されるＮ−アセチル化アミノ酸である、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記アミノシロキサンが、式（４）
−（ＲａＳｉＯ（４−ａ）／２）−                                      （４）
（式中、各Ｒは独立して、任意選択的に１つ又は複数のアミン、アルコキシ、ヒドロキシ又はフッ素で置換される、１個〜１０個の炭素原子を有する脂肪族炭素基等の有機基であり、ａは０、１又は２である）
のシロキサン単位を含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記Ｒ基の実質的に全てがアルキル基又はアミノアルキル基である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
各Ｒ基が、同じであっても異なっていてもよく、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ビニル基、シクロへキシル基、フェニル基、トリル基、アミノメチル基、アミノエチル基、アミノプロピル基、アミノブチル基、アミノイソブチル基、アミノシクロヘキシル基、アミノフェニル基若しくはアミノトリル基、又はアミノエチルアミノイソブチル基若しくはアミノエチルアミノプロピル基、又は３，３，３−トリフルオロプロピル基若しくはβ−（ペルフルオロブチル）エチル基の群から選択される、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
溶媒の非存在下で、前記反応が、室温（２５℃）よりも高いが前記アミノ酸の沸点／分解点よりも低い温度で実施されることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記反応の温度が７５℃〜１５０℃である、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
溶媒の非存在下で、前記反応が、不活性雰囲気中又は真空下で実施される、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記不活性雰囲気が窒素である、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記溶媒が、アルコールである、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
前記アルコールが、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ペンタノール及びヘキサノール、又はそれらの混合物から選択される、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
溶媒の存在下で、前記反応が室温〜５０℃の温度で実施される、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか一項に記載の方法によって得られる、シロキサン塩化合物。
【請求項１５】
溶媒の非存在下で請求項１に記載の方法によって得られる、アミド化合物。
【請求項１６】
軟膏、クリーム、ジェル、ペースト、又はエアロゾルフォームの製造における、請求項１４に記載のシロキサン塩の使用。
【請求項１７】
軟膏、クリーム、ジェル、ペースト、又はエアロゾルフォームの製造における、請求項１５に記載のアミドの使用。
【請求項１８】
ヘアケア製品又はスキンケア製品の製造における、請求項１４又は１５に記載の化合物の使用。
【請求項１９】
請求項１４又は１５に記載の１つ又は複数の化合物と、許容可能な担体材料とを含む、パーソナルケア製品。
【請求項２０】
油中水型エマルション組成物又は水中油型エマルション組成物のいずれかに請求項１４又は１５に記載の化合物を含む、請求項１９に記載のパーソナルケア製品。
【請求項２１】
油（非水性）相と、水性相とを含み、これらの相の片方又は両方に乳化剤が存在する、請求項１９又は２０に記載のパーソナルケア製品。