【誤訳訂正書】
【提出日】平成22年1月5日(2010.1.5)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
拡散装置であって、
中心部を通るノズルを含み、上側に曲面を有し、前記曲面の上方に開放空間を定義する本体部であって、前記ノズルは、ガスが、前記ノズルを通るとともに前記ノズル内に膨張することが可能となるよう配置されている本体部と、
前記ノズルの上方に配置されるとともに、前記ガス流が膨張する間、前記本体部における前記開放空間に前記ノズルからの前記ガスを反射するよう配置されている反射部で、前記ノズル、反射部、前記開放空間は、前記ガスが実質的に均一な流れにて前記開放空間から流出するよう、前記ガスの前記流れを遅くするよう構成されている反射部と、
前記開放空間を一組の膨張空間に分割する、前記本体部の前記開放空間に配置された一組のベーンとを備え、これにより各膨張空間から前記ガスが実質的に均等な量にて流出する、拡散装置。
【請求項２】
請求項１に記載の拡散装置であって、前記ノズルは前記本体部に組み込まれて形成されている拡散装置。
【請求項３】
請求項１に記載の拡散装置であって、前記ノズルは、前記本体部と独立して形成されている拡散装置。
【請求項４】
請求項１に記載の拡散装置であって、前記反射部はノズルの上方に同軸上に配置されている拡散装置。
【請求項５】
請求項１に記載の拡散装置であって、前記本体部の前記曲面は、前記ガスの前記流れが前記開放空間に拡張するよう、放射状に前記開放空間に拡張するように配置されている拡散装置。
【請求項６】
請求項１記載の拡散装置であって、さらに、
反射部を所定の位置に保持するために前記本体部の上側に取り付けられた一組のアームを備える拡散装置。
【請求項７】
請求項１に記載の拡散装置であって、前記一組のアームは、前記一組のベーンを所定の位置に保持するために前記一組のベーンに装着されている拡散装置。
【請求項８】
請求項１に記載の拡散装置であって、前記ノズルは、前記反射部に向かって直径が増加するよう傾斜した内壁を有する拡散装置。
【請求項９】
請求項８に記載の拡散装置であって、前記ノズルの前記内壁は、６度以下の角度で傾斜している拡散装置。
【請求項１０】
請求項１記載の拡散装置であって、さらに、
前記ガスを前記ノズルに流入するために前記ノズルに接続された吸気口と、
入力ガスの入力速度を制限するために前記吸気口に配置され、前記ガスの前記入力速度を減少させる流量制御器と
を備える拡散装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載の拡散装置であって、前記流量制御器は、前記吸気口への前記入力ガスの通過を許容するオリフィスを有する円盤である拡散装置。
【請求項１２】
請求項１１記載の拡散装置であって、さらに、
前記吸気口と前記流量制御器との間に接続されている弁を備え、前記弁は、前記拡散装置が前記開放空間を介してガスを膨張させるために使用される場合には、前記吸気口への前記入力ガスの通過を許容するために開き、前記拡散装置が前記拡散装置からの前記ガスを排気するために使用される場合には、前記入力ガスの前記吸気口への通過を防ぐために閉じるよう配置されている拡散装置。
【請求項１３】
請求項２に記載の拡散装置であって、前記ノズルは前記本体部に組み込まれて形成されている拡散装置。
【請求項１４】
請求項１に記載の拡散装置であって、前記拡散装置は、半導体処理システムにおけるウェハロードロックにて用いられる拡散装置。
【請求項１５】
請求項１に記載の拡散装置であって、前記拡散装置は、半導体処理システムにおけるプラズマ処理チャンバにて用いられる拡散装置。
【請求項１６】
請求項１に記載の拡散装置であって、前記拡散装置は、真空運搬部からガスを排気するために前記真空運搬部において用いられる拡散装置。
【請求項１７】
半導体処理システムにおいてガスを循環するチャンバであって、
一組の囲い壁と、
前記チャンバの囲い壁の開口上に取り付けられた拡散装置と
を備え、前記拡散装置は、
中心部を通るノズルを含み、上側に曲面を有し、前記曲面の上方に開放空間を定義する本体部であって、前記ノズルは、ガスが、前記ノズルを通るとともに、前記ノズル内に膨張することが可能となるよう配置されている本体部と、
前記ノズルの上方に配置されるとともに、前記ガス流が膨張する間、前記ノズルからの前記ガスを、前記本体部の前記開放空間に反射するよう配置されている反射部であって、前記ガスが前記ノズルに流入する前記ガスの速度より小さい、実質的に均一な速度で前記開放空間から前記チャンバに流入するよう、前記ガスの前記流れを前記開放空間に膨張させる反射部と、
前記開放空間を一組の膨張空間に分割する、前記本体部の前記開放空間に配置された一組のベーンとを備え、各膨張空間から前記ガスが実質的に均等な量にて流出するチャンバ。
【請求項１８】
請求項１７に記載のチャンバであって、前記ノズルは前記本体に組み込まれて形成されているチャンバ。
【請求項１９】
請求項１７に記載のチャンバであって、前記ノズルは、前記本体部と独立して形成されているチャンバ。
【請求項２０】
請求項１７に記載のチャンバであって、前記反射部は、前記ノズルの上方に同軸上に配置されているチャンバ。
【請求項２１】
請求項１７記載のチャンバであって、前記拡散装置はさらに、
前記反射部を所定の位置に保持するために前記本体部の上側に取り付けられた一組のアームを備えるチャンバ。
【請求項２２】
請求項２１に記載のチャンバであって、前記一組のアームは、前記ベーンを所定の位置に保持するために前記ベーンに装着されているチャンバ。
【請求項２３】
請求項２１に記載のチャンバであって、前記ノズルは、前記反射部に向かって直径が増加するよう傾斜した内壁を有するチャンバ。
【請求項２４】
請求項２３に記載のチャンバであって、前記ノズルの前記内壁は、６度以下の角度で傾斜しているチャンバ。
【請求項２５】
請求項１７記載のチャンバであって、前記拡散装置はさらに、
前記ガスを前記ノズルに流入するために前記ノズルに接続された吸気口と、
入力ガスの入力速度を制限するために前記吸気口に配置され、前記吸気口に出力する前記入力ガスの前記入力速度を減少させる流量制御器と
を備えるチャンバ。
【請求項２６】
請求項２５に記載のチャンバであって、前記流量制御器は、前記吸気口への前記入力ガスの通過を許容するオリフィスを有する円盤であるチャンバ。
【請求項２７】
請求項２５記載のチャンバであって、前記拡散装置はさらに、
前記吸気口と前記流量制御器との間に接続されるとともに、前記拡散装置が前記開放空間を介して前記ガスを膨張させるために使用される場合には、前記吸気口への前記ガスの前記通過を許容するために開き、前記拡散装置が前記拡散装置からの前記ガスを排気するために使用される場合には、前記入力ガスの前記吸気口への通過を防ぐために閉じるよう配置されている弁を備えるチャンバ。
【請求項２８】
請求項１７に記載のチャンバであって、前記チャンバは、真空と大気とを相互に切り替えるウェハロードロックであるチャンバ。
【請求項２９】
請求項１７記載のチャンバであって、前記チャンバはプラズマ処理チャンバであるチャンバ。
【請求項３０】
請求項１７記載のチャンバであって、前記チャンバは、真空状態のウェハロードロックと前記ウェハを処理するプラズマ処理チャンバとの間を行き来する、ウェハ搬送のためのロボットアームを備える真空運搬部であるチャンバ。
【請求項３１】
請求項１７記載のチャンバであって、前記拡散装置が取り付けられている前記囲い壁は、前記チャンバの床面であるチャンバ。
【請求項３２】
請求項１７記載のチャンバであって、前記拡散装置が取り付けられている前記囲い壁は、前記チャンバの天井面であるチャンバ。
【請求項３３】
ガスを吸気する装置であって、
中心部を通るノズルを含み、上側に曲面を有し、前記曲面の上方にガス流を膨張させるための膨張空間を定義する本体部であって、前記ノズルは、ガスが前記ノズルを通るとともに前記ノズル内に膨張することが可能となるよう配置されている本体部と、
前記ノズルの上方に配置されるとともに、前記ガス流が膨張する間、前記本体部の前記膨張空間に前記ノズルからの前記ガスを反射するよう配置されている反射部であって、前記ガスを吸気する時には、前記ノズルからの前記ガスの速度よりも小さい、実質的に均一な速度にて前記ガスが前記膨張空間から流出するよう、前記ガスの前記流れは前記膨張空間に膨張する反射部と、
前記ガスを前記ノズルに流入するために前記ノズルに接続された吸気口と、
入力ガスの入力速度を制限するために前記吸気口に配置されている流量制御器と
を備え、前記流量制御器は前記吸気口に出力する前記入力ガスの前記入力速度を減少させ、
前記膨張空間を一組の膨張空間に分割する、前記本体部の前記膨張空間に配置されている一組のベーンを備え、これにより各膨張空間から前記ガスが実質的に均等な量にて流出する、装置。
【請求項３４】
請求項３３に記載の装置であって、前記ノズルは前記本体に組み込まれて形成されている装置。
【請求項３５】
請求項３３に記載の装置であって、前記ノズルは、前記本体部と独立して形成されている装置。
【請求項３６】
請求項３３に記載の装置であって、前記反射部は、前記ノズルの上方に同軸上に配置されている装置。
【請求項３７】
請求項３３に記載の装置であって、前記本体部の前記曲面は、前記ガスの前記流れが前記膨張空間に膨張するよう、放射状に前記膨張空間を拡張する装置。
【請求項３８】
請求項３３記載の装置であって、さらに、
前記反射部を所定の位置に保持するために前記本体部の上側に取り付けられている一組のアームを備える装置。
【請求項３９】
請求項３８に記載の装置であって、前記一組のアームは、前記ベーンを所定の位置に保持するために前記ベーンに装着されている装置。
【請求項４０】
請求項３３に記載の装置であって、前記ノズルは、前記反射部に向かって直径が増加するよう傾斜した内壁を有する装置。
【請求項４１】
請求項４０に記載の装置であって、前記ノズルの前記内壁は、６度以下の角度で傾斜している装置。
【請求項４２】
請求項３３に記載の装置であって、前記流量制御器は、前記吸気口への前記入力ガスの通過を許容するオリフィスを有する円盤である装置。
【請求項４３】
請求項３９記載の装置であって、さらに、
前記吸気口と前記流量制御器との間に接続されている弁を備え、前記弁は、前記拡散装置が前記膨張空間を介して前記ガスを膨張させるために使用される場合には、前記吸気口への前記入力ガスの通過を許容するために開き、前記拡散装置が前記拡散装置から前記ガスを排気するために使用される場合には、前記ガスの前記吸気口への通過を防ぐために閉じるよう配置されている装置。
【請求項４４】
請求項３３に記載の装置であって、前記ノズルは前記本体部に組み込まれて形成されている装置。
【請求項４５】
請求項３３に記載の装置であって、前記装置は、半導体処理システムにおけるウェハロードロックにおいて用いられる装置。
【請求項４６】
請求項３３に記載の装置であって、前記装置は、半導体処理システムにおけるプラズマ処理チャンバにおいて用いられる装置。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１１】
一実施形態によると、本発明は、本体部と反射部とを含む拡散装置を提供する。本体部は、中心部を通るノズルを含み、上側に曲面を有し、曲面上の開放空間を定義する。ノズルは、ガスがノズルを通って流れ、かつノズルの内部に膨張可能なように配置されている。反射部は、ノズルの上方に配置されるとともに、ガス流が膨張する間、本体部の開放空間にノズルからのガスを反射するよう配置されている。本構成では、開放空間からガスが流出するよう、ノズル、反射部、および開放空間において、ガスの流れは緩やかにされる。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１２】
別の実施形態において、本発明は、半導体処理システムにおいてガスを循環するチャンバを提供する。そのチャンバは、一組の囲い壁と拡散装置とを備える。拡散装置は、チャンバの囲い壁のオリフィスに装着されている。拡散装置は、本体部、反射部、および一組のベーンを備える。本体部は、中心部を通るノズルを含み、上側に曲面を有し、曲面上の開放空間を定義する。ノズルは、ガスがノズルを通って流れ、かつノズルの内部に膨張することができるよう配置されている。反射部は、ノズルの上方に配置されるとともに、ガス流が膨張する間、本体部の開放空間にノズルからのガスを反射するよう配置されている。本構成では、ノズル、反射部、および開放空間において、ガスの流れはチャンバへと低速で広がり、緩やかになる。一組のベーンは、開放空間を一組の膨張空間に分割し、分割された各々の空間からチャンバへと流出するガスの量が実質的に均等となるよう配置されている。ベーンの数および形状は、開放空間からチャンバへと流入する実質的に均一な流れを供給するために選択される。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１４】
本発明は、従来の拡散装置に実質的な利点を提供する。例えば、本発明の拡散装置は、チャンバへのガスの吸気、あるいはチャンバからのガスの排気に用いられ得る。吸気に使用する際には、例えば、ノズル、反射部、および膨張空洞は、流入するガス流を徐々に低い高さで膨張させる。チャンバ内に流入するガス流が緩やかかつ均一なため、チャンバ内のウェハは、位置がずれない。さらに、チャンバ内の微粒子が流れに混入してチャンバ内のウェハに付着する可能性が低い。したがって、拡散装置、および本発明の上述のような拡散装置を備えるチャンバにより、半導体製造システムにおけるスループット、および／もしくは歩留まりが向上する。他方、拡散装置はさらに、チャンバを排気して真空にするために用いられ得る。本モードにて拡散装置を使用することにより、チャンバは、単独で排気ポート、あるいは排気装置を用いる必要がないため、チャンバ内のスペースを節約することができ、あるいは大規模な拡散装置を用いることができる。本発明のこれらの利点およびその他の利点は、以下の詳細な説明および種々の図面から明らかになる。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２２】
図２は、本発明の一実施形態に係る一例としての拡散装置２００を上から見た側面図である。拡散装置２００は、本体部２０２、反射部２０４、スパイダ２０６、一対の案内ベーン２１０、２１２、および本図に示されない反射部２０４の下方のノズルを備える。スパイダ２０６は、一組のアーム２０６を有し、ネジ２１４によって本体部２０２に固定して取り付けられている。反射部２０４は、本体部２０２の中心部を覆って配置され、かつ、反射部２０４を所定の位置に保持するためのアーム２０６に取り付けられている。さらに、案内ベーン２１０、２１２は、アーム２０６の下方に取り付けられ、反射部２０４下方の本体中心部へと下方向に伸びている。アーム２０６は、クモ状、または三脚状としてよいが、その他の構造もまた、反射部２０４、および案内ベーン２１０、２１２を備え付けるのに使用され得る。アーム２０６は、リング構造２１６にて本体部２０２に取り付けられるのが好ましい。さらに、拡散装置２００は、任意の個数の案内ベーンを含むか、または一つも案内ベーンを含まなくてもよい。本体部２０２は、環状の形状が好ましいが、ガス流の膨張に適した任意の形状を用いてもよい。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３２】
弁４１６の下流では、チャンバに流入するガス流を膨張させる機能を奏する拡散装置２００内の絞りが小さいため、気圧はチャンバ気圧に近い。吸気と排気とを交互に切り替えるため、チャンバ気圧は、チャンバ吸入開始時における気圧に準じた真空と最大チャンバ気圧との間の範囲にあり、通常は、チャンバ内へのガス導入時と同程度の大気圧である。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３３】
拡散装置２００は、流量制御器４１６の孔を通じてガス流を調節し、続いて、均一で速度の小さいガス流が広い範囲を介してチャンバに流入するよう、流域を徐々に拡張することにより、孔の下流の吸入口４１２における流速よりもガスの流速を緩やかにするよう機能する。具体的には、６度以下の角度で広がる傾斜壁４１０により、ノズル３０２に流入するガス流はノズル３０２内で弱められる。次に、ノズル３０２からの流れは反射部２０４へと導かれ、拡散装置２００の開放空間４０８へのガス流を反射し、さらに膨張させる。流れは反射部２０４から出ると、開放空間４０８に流入し、その中でガス流はさらに、拡散装置２００の開放空間内全域に広がる。チャンバが最短時間で空にされ得る（すなわち吸気され得る）よう、拡散装置２００の容積は、最小限に維持されるのが好ましい。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３４】
拡散装置２００はさらに、均一な流速を提供するために、開放空間４０８を仕切る一組の案内ベーンを備えてもよい。図４Ｂは、本発明の一実施形態における、案内ベーン２１０、２１２を備える拡散装置２００の直線Ａ−Ａ’での断面図である。図示のとおり、案内ベーン２１０、２１２は、拡散装置２００の開放空間４０８に備えられている。本構成では、案内ベーン２１０、２１２は、開放空間４０８を膨張空間４６０、４６２および４６４に分割するよう配置されている。例えば、案内ベーン２１０は、開放空間４０８を膨張空間４６０と４６２とに分割し、案内ベーン２１２は、開放空間４０８を膨張空間４６２と４６４とに分割する。
【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３６】
本発明は、従来の拡散装置に重要な利点を提供する。本発明の拡散装置は、チャンバへのガスの吸入、あるいは真空状態を提供するためのチャンバからのガスの排気に用いられ得る。チャンバへのガスの吸気に使用される場合には、例えば、ノズルや反射部を通るガスは、流入するガス流を膨張させる。反射部は、チャンバ内に実質的に均一なガス流を供給するため、ガス流がさらに減速されるとともに膨張される膨張空間に流入するガスを反射する。