Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月5日(2010.3.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１電極と、
第２電極と、
第１電極と第２電極との間に配置されたチタン酸バリウムストロンチウム（ＢＳＴ）誘電体層と
を備え、ＤＣ（直流）バイアス電圧を前記ＢＳＴ誘電体層に印加することにより、共振周波数でスイッチオンされ、前記ＢＳＴ誘電体層に印加された前記ＤＣバイアス電圧を取り除くことによりスイッチオフされるように構成されていることを特徴とする音響共振器。
【請求項２】
前記共振周波数は、前記ＤＣバイアス電圧のレベルに基づいて同調される、請求項１の音響共振器。
【請求項３】
前記共振周波数は、前記ＤＣバイアス電圧のレベルが上がると高くなる、請求項２の音響共振器。
【請求項４】
前記音響共振器は、サファイア基板上に形成される、請求項１の音響共振器。
【請求項５】
前記音響共振器は、前記第２電極と前記音響共振器を支持する基板との間の空気ギャップ上に形成される、請求項１の音響共振器。
【請求項６】
前記音響共振器は、前記第２電極と前記音響共振器を支持する基板との間に配置される音響反射器上に形成され、前記音響反射器は、前記基板に起因する前記音響共振器の共振の制動を低下させる、請求項１の音響共振器。
【請求項７】
前記音響共振器は、プラチナ（Ｐｔ）層を備える、請求項６の音響共振器。
【請求項８】
前記音響共振器は、プラチナ（Ｐｔ）と二酸化シリコン（ＳｉＯ2）との複数の交互層を備える、請求項６の音響共振器。
【請求項９】
前記音響共振器は、基板上に形成される第１部分および空気ギャップ上に形成される第２部分を含む、請求項１の音響共振器。
【請求項１０】
前記音響共振器は、スイッチング可能なフィルタの一部として使用される、請求項１の音響共振器。
【請求項１１】
前記音響共振器は、アンテナ上で高周波信号を送受信するためのデュプレクサの一部として使用される、請求項１の音響共振器。
【請求項１２】
信号の周波数範囲をフィルタリングするためのフィルタであって、前記フィルタは、
少なくとも一つのキャパシタと、
前記キャパシタに結合された少なくとも一つの音響共振器と、
を備え、前記音響共振器は、
第１電極と、
第２電極と、
前記第１電極と前記第２電極との間に配置されるチタン酸バリウムストロンチウム（ＢＳＴ）誘電体層とを含み、該音響共振器は、ＤＣ（直流）バイアス電圧を前記ＢＳＴ誘電体層に印加することにより、共振周波数でスイッチオンされ、前記ＢＳＴ誘電体層に印加された前記ＤＣバイアス電圧を取り除くことによりスイッチオフされるように構成されている、
ことを特徴とするフィルタ。
【請求項１３】
前記共振周波数は前記ＤＣバイアス電圧のレベルに基づいて同調される、請求項１２のフィルタ。
【請求項１４】
前記共振周波数は、前記ＤＣバイアス電圧のレベルが上がると高くなる、請求項１３のフィルタ。
【請求項１５】
前記音響共振器は、前記第２電極と前記音響共振器を支持する基板との間に配置される空気ギャップ上に形成される、請求項１２のフィルタ。
【請求項１６】
前記音響共振器は、前記第２電極と前記音響共振器を支持する基板との間に配置される音響反射器上に形成され、前記音響反射器は、前記基板に起因する前記音響共振器の共振の制動を低下させる、請求項１２のフィルタ。
【請求項１７】
前記音響反射器は、プラチナ（Ｐｔ）と二酸化シリコン（ＳｉＯ2）との複数の交互層を備える、請求項１６のフィルタ。
【請求項１８】
前記音響共振器は、基板上に形成される第１部分および空気ギャップ上に形成される第２部分を含む、請求項１２のフィルタ。
【請求項１９】
少なくとも一つの第１のキャパシタと該第１のキャパシタに結合された少なくとも一つの第１の音響共振器とを含む第１のフィルタであって、該第１のフィルタはアンテナに接続されるようになっており、かつ、前記第１の音響共振器は、
第１電極と、
第２電極と、
前記第１電極と前記第２電極との間に配置される第１のチタン酸バリウムストロンチウム（ＢＳＴ）誘電体層とを含み、該第１の音響共振器は、ＤＣ（直流）バイアス電圧が前記第１のＢＳＴ誘電体層に印加されることで共振周波数でスイッチオンされるものである前記第１のフィルタと、
少なくとも一つの第２のキャパシタと該第２のキャパシタに結合された少なくとも一つの第２の音響共振器とを含む第２のフィルタであって、該第２のフィルタはアンテナに接続されるようになっており、かつ、前記第２の音響共振器は、
第３電極と、
第４電極と、
前記第３電極と前記第４電極との間に配置される第２のチタン酸バリウムストロンチウム（ＢＳＴ）誘電体層とを含み、ここで、該第２の音響共振器は、ＤＣ（直流）バイアス電圧が前記第２のＢＳＴ誘電体層に印加されないことでスイッチオフされるものである前記第２のフィルタと
を具備することを特徴とするデュプレクサ。
【請求項２０】
前記共振周波数は、前記ＤＣバイアス電圧のレベルに基づいて同調される、請求項１９のデュプレクサ。
【請求項２１】
前記共振周波数は、前記ＤＣバイアス電圧のレベルが上がると高くなる、請求項２０のデュプレクサ。
【請求項２２】
少なくとも一つの第１のキャパシタと前記第１のキャパシタに結合された少なくとも一つの第１の音響共振器とを備えた第１のフィルタであって、前記第１の音響共振器は、
第１電極と、
第２電極と、
前記第１電極と前記第２電極との間に配置される第１のチタン酸バリウムストロンチウム（ＢＳＴ）誘電体層とを含み、ＤＣ（直流）バイアス電圧が前記ＢＳＴ誘電体層に印加されることで前記第１の音響共振器が共振周波数でスイッチオンされるものである前記第１のフィルタと、
前記第１のフィルタに並列に接続されてなり、かつ、少なくとも一つの第２のキャパシタと該第２のキャパシタに結合された少なくとも一つの第２の音響共振器とを含む第２のフィルタであって、前記第２の音響共振器は、
第３電極と、
第４電極と、
前記第３電極と前記第４電極との間に配置される第２のチタン酸バリウムストロンチウム（ＢＳＴ）誘電体層とを含み、ここで、該第２の音響共振器は、ＤＣ（直流）バイアス電圧が前記第２のＢＳＴ誘電体層に印加されないことでスイッチオフされるものである前記第２のフィルタと
を具備することを特徴とするフィルタバンク。
【請求項２３】
前記共振周波数は、前記ＤＣバイアス電圧のレベルに基づいて同調される、請求項２２のフィルタバンク。
【請求項２４】
前記共振周波数は、前記ＤＣバイアス電圧のレベルが上がると高くなる、請求項２３のフィルタバンク。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月18日(2010.5.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２０】
携帯電子装置の電気インタフェースに接続される付属品において、スイッチが作動されたか否かを判定する方法をコンピュータに実行させるためのプログラムであって、該電気インタフェースは、第１の接続点及び第２の接続点を含む１対のバイアス電圧供給接続点を具備しており、前記付属品は、前記第１の接続点と前記第２の接続点との間に接続され且つ前記第１の接続点及び前記第２の接続点によりバイアスされる信号供給素子と、前記信号供給素子と並列に設けられた１組の岐路の中にあり、第１の分圧素子及び機械的に作動する第１のスイッチを含む少なくとも１つの電気的な第１の岐路とを具備しており、プログラムが前記携帯電子装置に提供された場合、
前記第１の接続点と前記第２の接続点との間の電圧レベル変化を検出するステップと、
前記電圧レベル変化と関連する雑音レベルを判定するステップと、
前記雑音レベルを前記信号供給素子の使用と関連する雑音レベルと比較するステップと、
前記比較に基づいて前記スイッチの作動が実行されたか否かを判定するステップと
をコンピュータに実行させるためのプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月8日(2010.3.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
冷凍の、シート化された非積層性の生地の製造方法であって、
以下の工程：
（ａ）穀粉、脂質源、化学膨潤剤、酵母、チーズもしくはチーズ代用品、生地コンディショナーおよび１３０°Ｆから１７０°Ｆの間のメトラー降下点を有するショートニングチップを混練すること；
（ｂ）その生地を７０°Ｆから８０°Ｆで１０から３０分間バルクで寝かせること；
（ｃ）寝かせた生地を、生地の高さが高応力シート化プロセスの後では少なくとも８０％減少するような２から５回の圧縮工程を含む高応力シート化プロセスに付すこと；および
（ｄ）その生地を冷凍すること、
を含み、
前記化学膨潤剤は主として焼成過程で反応し、且つ冷凍生地の高さに比べて、焼成後の冷凍生地の高さが少なくとも１００％増加することを特徴とする、方法。
【請求項２】
圧縮の数が３回であることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
チーズまたはチーズ代用品の濃度が、１から４％の間にあることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
化学膨潤剤が、工程（ａ）から（ｄ）の過程で、放出されないように内包されていることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
穀粉が、小麦粉もしくはジャガイモ粉またはその組み合わせであることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
酵母の種類が、クリーム酵母、圧搾酵母、活性乾燥酵母、パン酵母、保護された活性乾燥酵母、冷凍酵母およびそれらの組み合わせから成る群から選択されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
化学膨潤剤が、遅延作用型膨潤剤、または速効性膨潤剤および遅効性膨潤剤の２つの組み合わせであることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
脂質源が、乳化油、植物油または香味油であることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
生地が、調味料及び／又は着色料、糖類からなる甘味料を１から５％、もしくは人工甘味料、１．５から２％のパン粉製品、又はそれらの組合せをさらに含むことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
生地製品が、生地を冷凍する前にトッピングまたは調味料で上部を覆われることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
ショートニングチップが、混練工程の終了前３０秒から３分の間に添加されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
冷凍前に、シート化生地を端から端へ巻く工程をさらに含むことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
端から端へ巻く前に、シート化生地の１方の面に調味料ペーストを塗ることをさらに含むことを特徴とする、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
調味料ペーストを塗る前に、油またはショートニングでブラッシングすることをさらに含むことを特徴とする、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
請求項１のプロセスにより作られた、冷凍の、シート化された非積層性の生地製品。
【請求項１６】
請求項１のプロセスにより作られた、冷凍の、シート化された非積層性の生地が、解凍時間なしで、冷凍庫から直接オーブンに入れられることを特徴とする、焼成製品の製造方法。
【請求項１７】
オーブンがコンベクションオーブンまたは電子レンジであることを特徴とする、請求項１６に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月9日(2010.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の格子セルを有する格子の上でパターンを分割することに基づいたオンおよびオフの書き込み方式を使用して、ウェハのようなターゲット面上に前記パターンを投影するための、書き込みビームプローブを含むリソグラフィシステムを動作させる方法であって、
前記パターンは、前記複数の格子セルのうちの１つのフィーチャよりも大きなサイズの複数のフィーチャを有し、
前記複数の格子セルの各々において、前記書き込みビームプローブは、オンまたはオフに切り替えられ、
前記ターゲット上の前記書き込みビームプローブは、少なくとも前記複数の格子セルのうちのいくつかの表面積を覆うように設定され、また、
オンおよびオフの切り替えの位置依存分布が、１つのフィーチャ内で、前記書き込みビームプローブのサイズの範囲内に与えられる方法。
【請求項２】
前記位置依存分布は、前記ターゲット上に書き込まれる１つのフィーチャの縁の近くに与えられる請求項１の方法。
【請求項３】
位置依存配置が、前記ターゲット上の１つのフィーチャの縁のサブ格子セルの配置を与えるようになされる請求項１の方法。
【請求項４】
１つのフィーチャの縁の位置決めが、この縁に平行に配置され、かつこの縁から所定の距離の所に位置された複数の格子セルの線の非書き込み部分によって果される請求項１の方法。
【請求項５】
さらなる複数の格子セルが、前記フィーチャの外側のフィーチャの縁に隣接している前記格子の少なくとも１つの線に書き込まれることによって、前記複数の格子セルの線が、前記縁に平行に配置される請求項１の方法。
【請求項６】
少なくとも１組の格子セルが、前記線に付加的に書き込まれる請求項５の方法。
【請求項７】
全体の照射量の調節が、規則的なパターンで前記書き込みビームプローブのオンとオフとを切り替えることによって、前記フィーチャに果される請求項１の方法。
【請求項８】
前記フィーチャの前記複数の縁は、前記格子に対して移動される請求項７の方法。
【請求項９】
書き込みビームプローブのオン／オフの切り替えが、ピクセルの速度よりも遅い請求項１の方法。
【請求項１０】
前記パターンの１つのフィーチャの有効な縁の位置が、前記縁から前記書き込みビームプローブのサイズの範囲内で、１つまたは１組の格子セルの非書き込みによって制御される請求項１の方法。
【請求項１１】
複数の格子セルを有する格子の上でパターンを分割することに基づいた書き込み方式を使用して、ウェハのようなターゲット面上に前記パターンを発生させるための、書き込みビームプローブを含むリソグラフィシステムであって、
前記書き込みビームプローブは、前記複数の格子セルの各々への書き込みまたは非書き込みのために、前記複数の格子セルの各々においてオンまたはオフに切り替えられ、
前記パターンは、前記複数の格子セルのうちの１つのフィーチャよりも大きなサイズの複数のフィーチャを有し、
前記ターゲット上の前記書き込みビームプローブは、前記複数の格子セルのうちの１つのサイズよりもかなり大きく、複数の格子セルを覆っており、また、
複数の格子セルの書き込みおよび非書き込みの位置依存分布が、１つのフィーチャ内で、前記書き込みビームプローブのサイズの範囲内に与えられるシステム。
【請求項１２】
前記書き込みビームプローブのサイズは、前記格子セルのサイズの５ないし２０倍の範囲内の値である請求項１１のシステム。
【請求項１３】
前記書き込みビームプローブは、ガウスプローブであり、
所定の格子セルの全体の露光が、露光される格子セルに隣接している複数の格子セルに部分的な露光を与える請求項１１のシステム、もしくは請求項１ないし１０のいずれか１の方法。
【請求項１４】
複数の格子セルの書き込みおよび非書き込みの位置依存分布が、１つのフィーチャ内で、複数のパスを必要とすることなく果される請求項１１のシステム、もしくは請求項１ないし１０のいずれか１の方法。
【請求項１５】
ウェハのようなターゲット面上にパターンが投影されるリソグラフィシステムを動作させる方法であって、
前記パターンは、プローブにより形成されるビームの形態で、大規模な非常に多くの書き込みビームの使用に関連し、前記システムの荷電粒子ビームのコラム部分で発生され、また、前記パターンを書き込むために前記ターゲット面上で走査され、
前記書き込みビームは、前記コラム内で各書き込みビームをブランキングする、またはしないことによって、前記コラムで変調され、
前記パターンの書き込みは、前記コラムに対する前記ターゲットの機械的な移動に対して横方向に、書き込みビームの各々を走査することによって果され、
システムのパターンの複数のフィーチャは、各プローブにより形成されるビームが、少なくとも複数の格子セルを覆うような寸法の複数の格子セルに分割された仮想格子を使用して、前記ターゲット上に配置され、
前記複数の格子セルのうちの１つのフィーチャよりも大きなサイズの１つのフィーチャの縁が、このフィーチャを書き込むための少なくとも最後の走査の線に、少なくとも１組の格子セルの非書き込みによって、前記格子のサイズから実質的に独立して配置されており、
これらの組は、格子セルの数よりも多く、かつ、前記プローブにより形成されるビームの寸法の書き込みのために、特に、前記プローブ形成ビームの半分のサイズの書き込みのために必要な格子セルの数よりも少ない方法。
【請求項１６】
前記複数のフィーチャのパターニングは、複数のパスを必要とすることなく達成される請求項１または１５の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
本発明の基本的なさらなる洞察に従って、このフィーチャとこのフィーチャの縁との少なくとも一方のサブピクセルの配置では、可能なステップの最大数は、プローブの限定された範囲によりのみならず、ブランカの制約、即ち技術的に制限された複雑さの経済的に果され得るブランキングシステムを維持する目的を制限する。この制約は、マスクレスの、大規模なマルチビームシステムでの偏向走査のようなラスタ走査の場合、最速の走査方向にのみ設定される。これは、書き込まれる前記ターゲット面を有するステージの機械的な移動の方向に置かれたフィーチャの縁に対して、様々な形式の凸凹の縁が書き込まれることができるが、関連するフィーチャの境界の内部の同じ方向にこのフィーチャの単一の線もしくは部分的な線のみへの非書き込みは、前記ブランカの制約により実際には可能でないであろう。それ故、縁のサブピクセルの位置に対するわずかに異なる方式が、電気的な走査の方向に向けられた大部分の縁のためよりも機械的な移動の方向に置かれた縁の位置に適用される。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月8日(2010.3.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一つの透明導電体、一つの光起電性層、および複数のビアを備える太陽電池を形成する工程と、
前記各ビア孔をコーティングして前記各ビア孔内の側壁に沿い絶縁層を形成する工程とを備える方法。
【請求項２】
少なくとも一つの透明導電体、一つの光起電性層、および少なくとも一つの下部電極を有する太陽電池を形成する工程と、
前記少なくとも一つの透明導電体、一つの光起電性層、および少なくとも一つの下部電極を貫通するビア孔を形成する工程と、
前記ビア孔の各孔の側壁に沿って絶縁層を形成する工程とを備える方法。
【請求項３】
前記コーティングが前記側壁に付着して前記絶縁層を形成する物質のエアロゾルのスプレーであることを備える請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
高効率の背部電極構成を有する請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記各ビア孔に前記透明導電体と電気的に連結され、前記ビア孔中の絶縁層によって前記背部電極とは電気的に絶縁された導電性のコアを充填する工程と、
実質的に各ビア孔内で、前記導電性コアと連結された背部電極を形成する工程とをさらに備える請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
コーティングが、実質的に前記透明導電体の絶縁物質での被覆を避けるために、前記太陽電池の下側から絶縁物質をスプレーする供給源を使用することを備える請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
コーティングが、マスクを前記透明導電体に対して使用することなく、前記透明導電体上への絶縁物質の付着を最少化するために、前記太陽電池の下側から絶縁物質をスプレーする供給源を使用することを備える請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
コーティングが、前記透明導電体上への絶縁物質の付着を最少化するために、マスクを
前記透明導電体に対して使用して、前記太陽電池の上側から絶縁物質をスプレーする供給源を使用することを備える請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
コーティングが、十分な量の絶縁物質をスプレーして、前記ビア孔を完全に埋めることなく前記側壁を被覆することを備える請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
コーティングが、十分な量の絶縁物質をスプレーして、前記側壁と下部電極の下側を被覆して、下部絶縁層を形成することを備える請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記絶縁物質層が接着性の物質により形成される請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
コーティングが前記ビア孔へのエアロゾルの塗布により絶縁層を形成することを備える請求項１〜１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
純粋に誘電性の元素および接着性の成分を有する絶縁性エアロゾルの塗布により絶縁層を形成することを備える請求項１〜１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
コーティングが前記ビア孔への絶縁性物質の塗布およびスプレー後に気体の衝突により絶縁性物質により閉塞されたビア孔の閉塞を除去することを備える請求項１〜１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
コーティングが、太陽電池の片側に施された実質的に均一なコーティングに気体の衝突を使用し、絶縁物質を前記各ビア孔内に誘導することを備える請求項１〜１４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６】
コーティングが、太陽電池の片側に実質的に均一な絶縁物質のコーティングを印刷して前記各ビア孔内に絶縁層を形成し、空気の衝突を使用して前記絶縁物質を前記各ビア孔内に誘導し、さらに前記均一なコーティングに、前記各ビア孔に相当する開口を生成することを備える請求項１〜１５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１７】
さらに複数の電気伝導フィンガーを前記太陽電池の前記透明導電体上に形成する請求項１〜１６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１８】
コーティングが、太陽電池の片側に実質的に均一な絶縁物質のコーティングを印刷して前記各ビア孔内に絶縁層を形成し、該片側の反対側から吸引を使用して前記均一なコーティングの絶縁物質を前記各ビア孔内に引き込み、さらに前記均一なコーティングに、前記各ビア孔に相当する開口を生成することを備える請求項１〜１７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１９】
前記絶縁層が、少なくとも以下の一つの物質より成る請求項１〜１８のいずれか一項に記載の方法：ＥＶＡ，ＰＶＯＨ，ＰＶＡ，ＰＶＰ，ＵＶ硬化性絶縁インク、またはガラス転移点（Ｔｇ）が１５０℃未満である熱可塑性プラスチック。
【請求項２０】
絶縁層の上に、該絶縁層を形成する物質とは異なる物質より成る二番目の絶縁層を形成する請求項１〜１９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２１】
絶縁層の上に、該絶縁層を形成する物質とは異なる以下の物質より選択される物質より成る二番目の絶縁層を形成する請求項１〜２０のいずれか一項に記載の方法：ＥＶＡ，ＰＶＯＨ，ＰＶＡ，ＰＶＰ，ＵＶ硬化性絶縁インク、またはガラス転移点（Ｔｇ）が１５０
℃未満である熱可塑性プラスチック。
【請求項２２】
請求項１〜２１のいずれか一項に記載の方法によって製造された太陽電池。
【請求項２３】
少なくとも一つの透明導電体、一つの光起電性層、少なくとも一つの下部電極、および少なくとも一つの背部電極により構成される高効率の背部電極の構成を有する太陽電池と、
前記太陽電池の前記透明導電体に取り付けられた複数の導電性フィンガーと、
前記複数の導電性フィンガーと連結された複数の充填されたビアと、
前記充填された各ビアは、前記透明導電体から前記背部電極に電荷を伝導する導電性のコアを有することと、ビア絶縁層により前記各ビア中の導電性コアが下部電極から隔てられていることとを備えたデバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月13日(2010.1.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遺伝的に改変して、ジヒドロキシアセトンリン酸からグリセロールへのネイティブな代謝経路が欠失した又は破壊され、代謝可能な炭素源の存在下で細胞を培養する時、この炭素源の２重量％より少ない部分がこの細胞により消費されてグリセロールへ代謝される、全ゲノム重複以前の半子嚢菌綱の酵母細胞。
【請求項２】
Saccharomyces コンプレックス(Kurtzman 2003)のZygosaccharomyces、Zygotorulaspora、Torulaspora、Lachancea、Kluyveromyces、Eremothecium又はHanseniasporaクレードに属する請求項１に記載の細胞。
【請求項３】
Kluyveromyces、Candida又はIssatchenkia属の請求項１に記載の細胞。
【請求項４】
I. orientalis/P. fermentansクレード(Kurtzman及びRobnett 1998)又はSaccharomycesコンプレックスの Kluyveromycesクレード(Kurtzman 2003)に属する請求項１に記載の細胞。
【請求項５】
機能性LDH遺伝子カセットを持ち、ラクタートを産生する請求項１〜４のいずれか一項に記載の細胞。
【請求項６】
ネイティブな代謝経路の欠失又は破壊として、少なくとも１個のネイティブなグリセロール−３−リン酸デヒドロゲナーゼ遺伝子が欠失した又は破壊された請求項５に記載の細胞。
【請求項７】
ネイティブな代謝経路の欠失又は破壊として、少なくとも１個のネイティブなグリセロール−３−ホスファターゼ遺伝子が欠失した又は破壊された請求項５に記載の細胞。
【請求項８】
ネイティブな代謝経路の欠失又は破壊として、少なくとも１個のネイティブなグリセロール−３−リン酸デヒドロゲナーゼ遺伝子及び少なくとも１個のネイティブなグリセロール−３−ホスファターゼ遺伝子が欠失した又は破壊された請求項５に記載の細胞。
【請求項９】
ネイティブな代謝経路の欠失又は破壊として、少なくとも１個のネイティブなジヒドロキシアセトンホスファターゼ遺伝子が欠失した又は破壊された、ネイティブなグリセロールデヒドロゲナーゼ遺伝子が欠失した又は破壊された、又はネイティブなジヒドロトキシアセトンホスファターゼ遺伝子及びネイティブなグリセロールデヒドロゲナーゼ遺伝子の両者が欠失した又は破壊された請求項５に記載の細胞。
【請求項１０】
ピルビン酸からエタノールへのネイティブな代謝経路が欠失した又は破壊された請求項５〜９のいずれか一項に記載の細胞。
【請求項１１】
ラクタートを産生するように遺伝的に改変された酵母細胞であって、更にジヒドロキシアセトンリン酸からグリセロールへのネイティブな代謝経路が欠失し又は破壊され、かつピルビン酸塩からエタノールへのネイティブな代謝経路が欠失した又は破壊された酵母細胞。
【請求項１２】
ジヒドロキシアセトンリン酸からグリセロールへのネイティブな代謝経路の欠失又は破壊として、少なくとも１個のネイティブなグリセロール−３−リン酸デヒドロゲナーゼ遺伝子が欠失した又は破壊された請求項１１に記載の酵母細胞。
【請求項１３】
ジヒドロキシアセトンリン酸からグリセロールへのネイティブな代謝経路の欠失又は破壊として、少なくとも１個のグリセロール−３−ホスファターゼ遺伝子が欠失した又は破壊された請求項１１に記載の酵母細胞。
【請求項１４】
ジヒドロキシアセトンリン酸からグリセロールへのネイティブな代謝経路の欠失又は破壊として、少なくとも１個のネイティブなグリセロール−３−リン酸デヒドロゲナーゼ遺伝子、及び少なくとも１個のネイティブなグリセロール−３−ホスファターゼ遺伝子が欠失した又は破壊された請求項１３に記載の酵母細胞。
【請求項１５】
ジヒドロキシアセトンリン酸からグリセロールへのネイティブな代謝経路の欠失又は破壊として、少なくとも１個のネイティブなジヒドロキシアセトンホスファターゼ遺伝子が欠失した又は破壊された、ネイティブなグリセロールデヒドロゲナーゼ遺伝子が欠失した又は破壊された、又はネイティブなジヒドロトキシアセトンホスファターゼ遺伝子及びネイティブなグリセロールデヒドロゲナーゼ遺伝子の両者が欠失した又は破壊された請求項１３に記載の細胞。
【請求項１６】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の細胞を、発酵条件下かつ所望の発酵産物を産生するための炭素源の存在下で、培養することから成る発酵方法であって、グリセロール収量が、この細胞により消費される炭素源に対して２重量％より少ない発酵方法。
【請求項１７】
請求項５〜１０のいずれか１項に記載の細胞を、発酵条件下かつラクタートを産生するための炭素源の存在下で、培養することから成る発酵方法であって、グリセロール収量が、この細胞により消費される炭素源に対して２重量％より少ない発酵方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明に従う細胞は、発酵条件下で培養した場合、非常に低レベルのグリセロールを産生することが分かった。グリセロール産生は、発酵条件の範囲内で、０．２g/L以下であることが分かった。驚いたことに、本発明の細胞は、グリセロール産生を欠くにも拘わらず、またいくつかの態様では、グリセロール−３−リン酸産生を欠くにも拘わらず、発酵条件下で良く生育する。いくつかの例において、本発明の細胞の酸寛容性が改善されたことが分かった。従って、本発明はまた、本発明の上記の態様の何れかの細胞を、発酵産物を産生する発酵条件下で培養することから成る発酵方法であって、炭素源に対するグリセロールの収量が２重量％より少ない発酵方法である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
本発明の細胞は、多くの発酵条件下で、グリセロール産生能をはっきり減少させた。細胞のグリセロール産生能の減少は低グリセロール収量により表される。本発明の細胞は、一般的に、消費した炭素源の２重量％より少なくグリセロールに代謝する。大部分の場合、グリセロール収量は、培養で消費される炭素源の重量に基づき、１％以下又は０．１％以下でさえある。好ましくは、細胞は、所望の発酵産物に消費する炭素源の、例えば少なくとも５０，６０，７０、８０又は８５％の様に、少なくとも４０％を代謝する。
本発明の細胞が発酵条件下で高い増殖能を示すことを見出した。細胞は、様々な用途にグリセロールを使うのでこれは驚くべきことであり、また野生型の酵母細胞において、グリセロールの役割は、NADH/NAD+をバランスさせる働きがあると信じられてきた。細胞自体のためのグリセロール産生量の低下を補うために、グリセロールを発酵培地中に加える事は、本発明の範囲内である。しかしながら、申請者等は、少なくともいくつかの発酵過程において、このようなことをしても少しも利益がなかったことを見出した。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月19日(2010.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）配列番号１の塩基配列を含むＤＮＡ、
（ｂ）配列番号１の塩基配列と相補的な塩基配列を有するＤＮＡとストリンジェントな条件下でハイブリダイズし、アルドラーゼ活性を有するタンパク質をコードするＤＮＡ、
（ｃ）配列番号２のアミノ酸配列を含むタンパク質をコードするＤＮＡ、
（ｄ）配列番号２のアミノ酸配列において、１又は数個のアミノ酸残基の置換、欠失、挿入、付加又は逆位を含むアミノ酸配列を有し、アルドラーゼ活性を有するタンパク質をコードするＤＮＡ、および
（ｅ）配列番号２のアミノ酸配列と少なくとも７０％の相同性を有するアミノ酸配列を有し、アルドラーゼ活性を有するタンパク質をコードするＤＮＡ、
からなる群から選択されるＤＮＡ。
【請求項２】
請求項１に記載のＤＮＡとベクターＤＮＡとを含む組み換えＤＮＡ。
【請求項３】
請求項２に記載の組み換えＤＮＡで形質転換された単離細胞。
【請求項４】
培地中で請求項３に記載の細胞を培養すること、及び該培地、細胞又はその両方においてアルドラーゼ活性を有するタンパク質を蓄積させることを含む、アルドラーゼ活性を有するタンパク質を製造する方法。
【請求項５】
（ａ）配列番号２のアミノ酸配列を含むタンパク質、
（ｂ）配列番号２のアミノ酸配列において、１又数個のアミノ酸残基の置換、欠失、挿入、付加又は逆位を含むアミノ酸配列を有し、アルドラーゼ活性を有するタンパク質、及び（ｃ）配列番号２のアミノ酸配列と少なくとも７０％の相同性を有し、アルドラーゼ活性を有するタンパク質、
からなる群から選択されるタンパク質。
【請求項６】
下記性質を有するタンパク質：
（Ａ）アセトアルデヒドとα−ケト酪酸からの４−ヒドロキシ−３−メチル−２−ケト−ペンタン酸の生成を触媒する活性を有する、
（Ｂ）該活性がＺｎ2+、Ｍｎ2+、及びＭｇ2+からなる群から選択される二価カチオンに依存する、
（Ｃ）ゲル濾過によって測定される分子量が約１８６ｋＤａ、および
（Ｄ）ＳＤＳ−ＰＡＧＥによって測定される１サブユニット当たりの分子量が約２７ｋＤａ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
本発明の別の目的は、
（１）水性溶媒中で、
（ａ）配列番号２のアミノ酸配列を含むタンパク質、
（ｂ）配列番号２のアミノ酸配列において１又は数個のアミノ酸残基の置換、欠失、挿入、付加又は逆位を含むアミノ酸配列を有し、アルドラーゼ活性を有するタンパク質、および
（ｃ）配列番号２のアミノ酸配列と少なくとも７０％の相同性を有し、アルドラーゼ活性を有するタンパク質、
からなる群から選択される少なくとも１つのアルドラーゼの存在下で、アセトアルデヒド及びα−ケト酪酸を反応させること、
（２）生成した４−ヒドロキシ−３−メチル−２−ケト−ペンタン酸を４−ヒドロキシ−Ｌ−イソロイシンに変換させること、並びに
（３）生成した４−ヒドロキシ−Ｌ−イソロイシンを単離すること
を含む、４−ヒドロキシ−Ｌ−イソロイシン又はその塩を製造する方法を提供する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５４】
【表３】
2009529856.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月12日(2010.3.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）
【化１】
2009529545.tif 000001
式中、
Ｒ１は、メチルまたはエチルであり；
Ｙは、ＮＨ、ＯまたはＳであり；
Ｒ２およびＲ３は、独立して水素またはＣ１〜３アルコキシの少なくとも１つから選択され；
ｎは、０または１であり；また
Ｃ−２とＣ−２’との間の点線は、結合なし、単結合または−（ＣＨ２）ｍ−基の少なくとも１つを表し、ここでｍは１または２であって、ただし、４−（（ベンズヒドリルアミノ）メチル）−２−メトキシフェノールは含まれない、
で表される化合物。
【請求項２】
４−（（ビス（４−メトキシフェニル）−メチルアミノ）−メチル）−２−メトキシフェノール、
４−（（１，２−ジフェニルエチルアミノ）メチル）−２−メトキシフェノール、
４−（（ベンズヒドリルオキシ）メチル）−２−メトキシフェノール、
４−（（９Ｈ−フルオレン−９−イルアミノ）メチル）−２−メトキシフェノールまたは
４−（（ベンズヒドリルアミノ）メチル）−２−エトキシフェノール
の少なくとも１種を含む、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
式（Ｉ）
【化２】
2009529545.tif 000002
式中、
Ｒ１は、メチルまたはエチルであり；
Ｙは、ＮＨ、ＯまたはＳであり；
Ｒ２およびＲ３は、独立して水素またはＣ１〜３アルコキシの少なくとも１つから選択され；
ｎは、０または１であり；また
Ｃ−２とＣ−２’との間の点線は、結合なし、単結合または−（ＣＨ２）ｍ−基の少なくとも１つを表し、ここでｍは１または２である、
で表される化合物の、冷却剤としての使用。
【請求項４】
口または皮膚に冷却効果を付与する方法であって、請求項３において定義された式（Ｉ）で表される化合物を含む製品を当該箇所に適用することによる、前記方法。
【請求項５】
口粘膜に適用される製品または皮膚に適用される製品の少なくとも１種から選択される製品であって、該製品が、製品基剤および有効量の請求項３において定義された式（Ｉ）で表される冷却化合物を含む、前記製品。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月10日(2010.3.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
Ｒ１は、フェニル基、又はメチレンジオキシ基、低級アルキル基、ハロゲン原子、アルキル基、アミノメチル基、アルキルアミノメチル基、ジアルキルアミノメチル基、アシルアミノ基、又はアシルアミノアルキル基で置換されたフェニル基である、請求項２に記載の化合物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２０】
２型糖尿病の予防又は治療用である、請求項１９に記載の医薬製剤。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２１】
代謝障害の予防又は治療用である、請求項１９に記載の医薬製剤。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２２】
前記障害が肥満である、請求項２１に記載の医薬製剤。
【手続補正５】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２３】
摂食障害、悪液質、糖尿病、変形関節症、胆石、睡眠時無呼吸、神経変性障害、又は癌の予防又は治療用である、請求項１９に記載の医薬製剤。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月9日(2010.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高度に保存されたウイルス遺伝子由来の少なくとも1つのDNA配列を含むDNA分子を含む、個体におけるウイルス感染を予防または治療するための医薬組成物。
【請求項２】
前記ウイルスが持続感染または潜伏感染を引き起こす、請求項1記載の医薬組成物。
【請求項３】
前記ウイルスがヘルペスウイルス、レトロウイルス、肝炎ウイルスおよびパピローマウイルスからなる群から選択される、請求項1または2記載の医薬組成物。
【請求項４】
前記ウイルスがサイトメガロウイルスである、請求項1または2記載の医薬組成物。
【請求項５】
前記ウイルスがヒトサイトメガロウイルスである、請求項1または2記載の医薬組成物。
【請求項６】
前記DNA分子が精製プラスミドDNAである、請求項1〜5のいずれかに記載の医薬組成物。
【請求項７】
弱毒生ウイルスまたは不活化ウイルスを含む追加免疫ワクチンをさらに含む、請求項1〜6のいずれかに記載の医薬組成物。
【請求項８】
前記ウイルスが化学的に不活化されている、請求項7記載の医薬組成物。
【請求項９】
前記化学的不活化がホルマリン不活化である、請求項8記載の医薬組成物。
【請求項１０】
前記ウイルスが弱毒化されている、請求項7記載の医薬組成物。
【請求項１１】
前記ウイルスがHCMVであり、前記弱毒ウイルスがHCMVのTowne株である、請求項10記載の医薬組成物。
【請求項１２】
前記DNA分子が、少なくとも2つの高度に保存されたウイルス遺伝子由来の少なくとも2つのDNA配列を含む、請求項1〜11記載の医薬組成物。
【請求項１３】
前記DNA分子が、少なくとも3つの高度に保存されたウイルス遺伝子由来の少なくとも3つのDNA配列を含む、請求項1〜11記載の医薬組成物。
【請求項１４】
前記DNA分子が、少なくとも2つの高度に保存されたウイルス遺伝子由来の少なくとも4つのDNA配列を含む、請求項1〜11記載の医薬組成物。
【請求項１５】
前記DNA分子が、5〜10の高度に保存されたウイルス遺伝子由来の5〜10のDNA配列を含む、請求項1〜11記載の医薬組成物。
【請求項１６】
前記高度に保存されたウイルス遺伝子が、マウスgB、M54、M105、ヒトgB、UL54およびUL105からなる群から選択されるCMV遺伝子である、請求項1〜15記載の医薬組成物。
【請求項１７】
高度に保存された必須HCMV遺伝子由来の少なくとも1つのDNA配列を含むDNA分子を含む、個体においてHCMV感染を予防または治療するための医薬組成物。
【請求項１８】
前記個体が妊娠している、請求項16記載の医薬組成物。
【請求項１９】
前記個体が女性である、請求項16記載の医薬組成物。
【請求項２０】
前記個体が臓器移植レシピエントである、請求項16記載の医薬組成物。
【請求項２１】
前記個体が臓器移植ドナーである、請求項16記載の医薬組成物。
【請求項２２】
前記個体が1歳未満の小児である、請求項16記載の医薬組成物。
【請求項２３】
弱毒生HCMVウイルスまたは不活化HCMVウイルスを含む追加免疫ワクチンをさらに含む、請求項17〜22記載の医薬組成物。
【請求項２４】
前記弱毒ウイルスがHCMVのTowne株である、請求項23記載の医薬組成物。
【請求項２５】
高度に保存されたウイルス遺伝子由来の少なくとも1つのDNA配列を含むDNA分子を含むワクチン組成物であって、前記ウイルスが持続感染または潜伏感染を引き起こす前記ワクチン組成物。
【請求項２６】
前記ウイルスがヘルペスウイルス、レトロウイルス、肝炎ウイルスおよびパピローマウイルスからなる群から選択される、請求項25記載のワクチン組成物。
【請求項２７】
前記ウイルスがヒトサイトメガロウイルスである、請求項26記載のワクチン組成物。
【請求項２８】
前記DNA分子が、少なくとも2つの高度に保存されたウイルス遺伝子由来の少なくとも2つのDNA配列を含む、請求項27記載のワクチン組成物。
【請求項２９】
前記DNA分子が、少なくとも3つの高度に保存されたウイルス遺伝子由来の少なくとも3つのDNA配列を含む、請求項27記載のワクチン組成物。
【請求項３０】
前記高度に保存されたウイルス遺伝子がgB、UL54およびUL105からなる群から選択される、請求項27〜29記載のワクチン組成物。
【請求項３１】
請求項25〜30のいずれかに記載の第1ワクチン組成物および弱毒生ウイルスまたは不活化ウイルスを含む第2ワクチン組成物を含むキット。
【請求項３２】
前記第1ワクチン組成物が、高度に保存されたヒトサイトメガロウイルス遺伝子由来の少なくとも1つのDNA配列を含むDNA分子を含み、前記第2ワクチン組成物が弱毒生HCMVを含む、請求項31記載のキット。
【請求項３３】
高度に保存されたウイルス遺伝子由来の少なくとも1つのDNA配列を含むDNA分子を含む、個体においてCD8+T細胞応答を誘発するための医薬組成物。
【請求項３４】
前記ウイルスが持続感染または潜伏感染を引き起こす、請求項33記載の医薬組成物。
【請求項３５】
前記ウイルスがヘルペスウイルス、レトロウイルス、肝炎ウイルスおよびパピローマウイルスからなる群から選択される、請求項33または34記載の医薬組成物。
【請求項３６】
前記ウイルスがサイトメガロウイルスである、請求項33または34記載の医薬組成物。
【請求項３７】
前記ウイルスがヒトサイトメガロウイルスである、請求項33または34記載の医薬組成物。
【請求項３８】
前記DNA分子が精製プラスミドDNAである、請求項33〜37のいずれかに記載の医薬組成物。
【請求項３９】
弱毒生ウイルスまたは不活化ウイルスを含む追加免疫ワクチンをさらに含む、請求項33〜38のいずれかに記載の医薬組成物。
【請求項４０】
前記ウイルスが化学的に不活化されている、請求項39記載の医薬組成物。
【請求項４１】
前記化学的不活化がホルマリン不活化である、請求項40記載の医薬組成物。
【請求項４２】
前記ウイルスが弱毒化されている、請求項39記載の医薬組成物。
【請求項４３】
前記ウイルスがHCMVであり、前記弱毒ウイルスがHCMVのTowne株である、請求項40記載の医薬組成物。
【請求項４４】
前記DNA分子が、少なくとも2つの高度に保存されたウイルス遺伝子由来の少なくとも2つのDNA配列を含む、請求項33〜43記載の医薬組成物。
【請求項４５】
前記DNA分子が、少なくとも3つの高度に保存されたウイルス遺伝子由来の少なくとも3つのDNA配列を含む、請求項33〜43記載の医薬組成物。
【請求項４６】
前記DNA分子が、少なくとも2つの高度に保存されたウイルス遺伝子由来の少なくとも4つのDNA配列を含む、請求項33〜43記載の医薬組成物。
【請求項４７】
前記DNA分子が、5〜10の高度に保存されたウイルス遺伝子由来の5〜10のDNA配列を含む、請求項33〜43記載の医薬組成物。
【請求項４８】
前記高度に保存されたウイルス遺伝子が、マウスgB、M54、M105、ヒトgB、UL54およびUL105からなる群から選択されるCMV遺伝子である、請求項33〜47記載の医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月15日(2010.3.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】
工程ｉｉｉ）で加えられる水が水性媒体中に含まれる、請求項１〜７のいずれかに記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２７】
水和可能で生体吸収性の一つ以上のセラミックスが、例えばα−硫酸カルシウム、β−硫酸カルシウムのような硫酸カルシウム；硫酸カルシウム半水和物；燐酸カルシウム；炭酸カルシウム；フッ化カルシウム；珪酸カルシウム；硫酸マグネシウム；燐酸マグネシウム；炭酸マグネシウム；フッ化マグネシウム；珪酸マグネシウム；硫酸バリウム；燐酸バリウム；炭酸バリウム；フッ化バリウム；および珪酸バリウム；ならびにそれらの混合物からなる群から選択される、水和されていない、水和された、半水和されたもしくは部分的に水和されたセラミックである、請求項１〜２６のいずれかに記載の方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２８】
水和可能で生体吸収性の一つ以上のセラミックスが、例えばα−硫酸カルシウム、β−硫酸カルシウムもしくは硫酸カルシウム半水和物またはそれらの混合物のような、水和されていない、水和された、半水和されたもしくは部分的に水和された硫酸カルシウムである、請求項１〜２７のいずれかに記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月10日(2010.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ブルーベリー抽出物を含む、耳鳴りの治療及び／又は予防のための治療用組成物。
【請求項２】
ブルーベリー抽出物がＶａｃｃｉｎｉｕｍ  ｍｙｒｔｉｌｌｕｓから得られる、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
ブルーベリー抽出物少なくとも２５％のアントシアノサイド含量を有する乾燥抽出物である、請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項４】
ブルーベリー抽出物並びに抗酸化剤、及びマグネシウム（酸化マグネシウムの形態）、ビタミンＢ２、ビタミンＢ６、ビタミンＢ１２、葉酸及びマツヨイグサ油(evening primrose oil)から選択される微栄養素、場合により、薬学的に許容できるキャリヤー及びさらに佐薬を含有する、請求項１〜３のいずれかに記載の組成物。
【請求項５】
投与単位が：
ブルーベリー抽出物            ５〜５００ｍｇ
マグネシウム（ＭｇＯとして）  １０〜２００ｍｇ
含有する、請求項１〜４のいずれかに記載の組成物。
【請求項６】
投与単位が：
ブルーベリー抽出物  ５０〜５００ｍｇ
マグネシウム（酸化マグネシウムとして）  １０〜２００ｍｇ
ビタミンＢ１  ０〜５ｍｇ
ビタミンＢ２  ０〜５ｍｇ
ビタミンＢ６  ０〜５ｍｇ
ビタミンＢ１２  ０〜１μｇ
マツヨイグサ油  ０〜１００ｍｇ及び
葉酸  ０〜１０ｍｇ
含有する請求項１〜４のいずれかに記載の組成物。
【請求項７】
投与単位が：
ブルーベリー抽出物  ５０〜５００ｍｇ
マグネシウム（酸化マグネシウムとして）  １０〜２００ｍｇ
ビタミンＢ１  ０．２〜５ｍｇ
ビタミンＢ２  ０．２〜５ｍｇ
ビタミンＢ６  ０．２〜５ｍｇ
ビタミンＢ１２  ０．１〜１μｇ
マツヨイグサ油  １０〜１００ｍｇ及び
葉酸  ０．０１〜１０ｍｇ
含有する請求項１〜４のいずれかに記載の組成物。
【請求項８】
投与単位が：
ブルーベリー抽出物  １００〜２００ｍｇ
マグネシウム（酸化マグネシウムとして）  １０〜２０ｍｇ
ビタミンＢ１  ０．２〜１ｍｇ
ビタミンＢ２  ０．２〜１ｍｇ
ビタミンＢ６  ０．２〜１ｍｇ
ビタミンＢ１２  ０．１〜１μｇ
マツヨイグサ油  ３０〜６０ｍｇ及び
葉酸  ０．０１〜１ｍｇ
含有する請求項１〜７のいずれかに記載の組成物。
【請求項９】
投与単位が：
ブルーベリー濃縮物  １５０ｍｇ
マツヨイグサ油  ５０ｍｇ
マグネシウム（酸化マグネシウムとして）  １８．７５ｍｇ
葉酸  ０．０５ｍｇ
ビタミンＢ１  ０．３１２ｍｇ
ビタミンＢ２  ０．６２５ｍｇ
ビタミンＢ６  ０．３９６ｍｇ
ビタミンＢ１２  ０．２２５μｇ
含有する請求項１〜８のいずれかに記載の組成物。
【請求項１０】
投与単位が錠剤、硬ゼラチンカプセル又は軟ゼラチンカプセルの形態である、請求項１〜９のいずれかに記載の組成物。
【請求項１１】
投与単位がブリスター包装で与えられる、請求項１〜１０のいずれかに記載の組成物。
【請求項１２】
２minim.〜２０minim.の寸法の卵形軟ゼラチンカプセルの形態又は６minim.〜２２minim.の寸法の楕円形軟ゼラチンカプセルの形態である、請求項１〜１１のいずれかに記載の組成物。
【請求項１３】
１０minim.の寸法の卵形軟ゼラチンカプセルの形態である、請求項１〜１２のいずれかに記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月17日(2009.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウイルス、細菌、真菌、寄生生物およびそれらの部分からなる群から選択される有効量の家禽ワクチン薬剤および前記家禽ワクチン薬剤用の支持量のキャリアを含む、吸入による家禽へのワクチン接種のための乾燥粉末組成物であって、前記キャリアは、本質的に還元糖または非還元糖と生体適合性ポリマーとの組み合わせからなり、前記乾燥粉末組成物は、２〜３０μｍの平均粒径および１．１〜４．０の粒径多分散性を有する粒子の形態であり、前記キャリアの組み合わせにおける、前記生体適合性ポリマーと前記還元糖または非還元糖との重量比が、１／１〜１／８である、乾燥粉末組成物。
【請求項２】
前記還元糖が、グルコース、フルクトース、マンノース、ガラクトース、ソルボース、キシロース、リボース、ラクトース、マルトース、セロビオースおよびそれらの混合物からなる群から選択される、請求項１に記載の家禽へのワクチン接種のための乾燥粉末組成物。
【請求項３】
請求項１に記載の乾燥粉末ワクチン接種組成物を生成する方法であって、前記方法は、ウイルス、細菌、真菌、寄生生物およびそれらの部分からなる群から選択されるワクチン薬剤、液体キャリア、および本質的に還元糖または非還元糖と生体適合性ポリマーとの組み合わせからなる支持量の固体キャリアの混合物を含む液相を噴霧乾燥することにより、前記乾燥粉末ワクチン接種組成物が２〜３０μｍの平均粒径を有する粒子の形態で提供される工程を含む、方法。
【請求項４】
吸入によって家禽においてワクチン接種を行うためのシステムであって、
−請求項１に記載の乾燥粉末ワクチン接種組成物を含むチャンバと、
−前記家禽の上に乾燥粉末ワクチン接種組成物を噴霧するための手段と
を備える、システム。
【請求項５】
１つ以上のキャリアが、還元糖、非還元糖、生体適合性ポリマー、タンパク質およびポリオールからなる群から選択される、請求項４に記載の家禽においてワクチン接種を行うためのシステム。
【請求項６】
前記１つ以上のキャリアが、還元糖または非還元糖と生体適合性ポリマーとの組み合わ
せを含み、前記組み合わせにおける、前記生体適合性ポリマーと前記還元糖または非還元糖との重量比が、１／１〜１／８である、請求項５に記載の家禽においてワクチン接種を行うためのシステム。