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【手続補正書】
【提出日】平成22年2月1日(2010.2.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
軽度または中等度の非炎症性尋常性ざ瘡の局所治療薬の製造のための、バルプロ酸（ＶＰＡ）、又はその医薬上許容される塩の使用。
【請求項２】
前記治療薬が、バルプロ酸（ＶＰＡ）、又はその医薬上許容される塩を１〜４重量％含有し、バルプロ酸（ＶＰＡ）、又はその医薬上許容される塩が皮膚科学的に許容される担体に懸濁されている、請求項１に記載の使用。
【請求項３】
バルプロ酸（ＶＰＡ）、又はその医薬上許容される塩を１日に１〜３回局所適用し、１日の累積用量が病変１ｃｍ２につき０．５ｍｇ〜２００ｍｇである、請求項１又は２に記載の使用。
【請求項４】
前記１日の累積用量が、病変１ｃｍ２につき２．０ｍｇ〜５０ｍｇである、請求項３に記載の使用。
【請求項５】
局所適用される前記治療薬の合計量が１日当たり２，０００ｍｇ以下であり、局所適用されるバルプロ酸（ＶＰＡ）、又はその医薬上許容される塩の合計量が１日当たり６０ｍｇ以下である、請求項１〜４のいずれかに記載の使用。
【請求項６】
前記治療薬で治療された患者におけるバルプロ酸（ＶＰＡ）、又はその医薬上許容される塩の血清濃度が、少なくとも５６日間にわたる継続治療後に、１２．０μｇ／ｍｌ未満である、請求項１〜５のいずれかに記載の使用。
【請求項７】
前記血清濃度が４μｇ／ｍｌ未満である、請求項６に記載の使用。
【請求項８】
治療によって、適用部位に紅斑または痛みを生じない、請求項１〜７のいずれかに記載の使用。
【請求項９】
前記治療薬の局所耐容性が、イソトレチノインの局所耐容性より高い、請求項１〜８のいずれかに記載の使用。
【請求項１０】
前記治療薬が他の活性剤をさらに含む、請求項１〜９のいずれかに記載の使用。
【請求項１１】
前記他の活性剤が、ヒストン脱アセチル化酵素阻害剤でない、請求項１０に記載の使用。
【請求項１２】
前記他の活性剤が、抗生物質、レチノイド、ホルモン剤および局所殺菌剤からなる群より選択される、請求項１１に記載の使用。
【請求項１３】
前記治療薬が、１つのバルプロ酸（ＶＰＡ）、又はその医薬上許容される塩を、ざ瘡治療用の単一活性剤として含む、請求項１〜９のいずれかに記載の使用。
【請求項１４】
（ｉ）バルプロ酸（ＶＰＡ）、又はその医薬上許容される塩である第一活性剤、および（ｉｉ）バルプロ酸（ＶＰＡ）、又はその医薬上許容される塩以外のヒストン脱アセチル化酵素阻害剤、抗生物質、レチノイド、ホルモン剤および局所殺菌剤からなる群より選択される第二活性剤、を含む、局所医薬組成物。
【請求項１５】
（ｉ）バルプロ酸（ＶＰＡ）、又はその医薬上許容される塩である第一活性剤、および（ｉｉ）バルプロ酸（ＶＰＡ）、又はその医薬上許容される塩以外のヒストン脱アセチル化酵素阻害剤、抗生物質、レチノイド、ホルモン剤および局所殺菌剤からなる群より選択される第二活性剤、を含む、ざ瘡治療用の医薬キット。
【請求項１６】
バルプロ酸（ＶＰＡ）、又はその医薬上許容される塩を含む、軽度または中等度の非炎症性尋常性ざ瘡の局所治療用医薬組成物。
【請求項１７】
バルプロ酸（ＶＰＡ）、又はその医薬上許容される塩を１〜４重量％含有し、バルプロ酸（ＶＰＡ）、又はその医薬上許容される塩が皮膚科学的に許容される担体に懸濁されている、請求項１６に記載の組成物。
【請求項１８】
バルプロ酸（ＶＰＡ）、又はその医薬上許容される塩を１日に１〜３回局所適用し、１日の累積用量が病変１ｃｍ２につき０．５ｍｇ〜２００ｍｇである、請求項１６又は１７に記載の組成物。
【請求項１９】
前記１日の累積用量が、病変１ｃｍ２につき２．０ｍｇ〜５０ｍｇである、請求項１８に記載の組成物。
【請求項２０】
局所適用される前記組成物の合計量が１日当たり２，０００ｍｇ以下であり、局所適用されるバルプロ酸（ＶＰＡ）、又はその医薬上許容される塩の合計量が１日当たり６０ｍｇ以下である、請求項１６〜１９のいずれかに記載の組成物。
【請求項２１】
前記組成物で治療された患者におけるバルプロ酸（ＶＰＡ）、又はその医薬上許容される塩の血清濃度が、少なくとも５６日間にわたる継続治療後に、１２．０μｇ／ｍｌ未満である、請求項１６〜２０のいずれかに記載の組成物。
【請求項２２】
前記血清濃度が４μｇ／ｍｌ未満である、請求項２１に記載の組成物。
【請求項２３】
治療によって、適用部位に紅斑または痛みを生じない、請求項１６〜２２のいずれかに記載の組成物。
【請求項２４】
前記組成物の局所耐容性が、イソトレチノインの局所耐容性より高い、請求項１６〜２３のいずれかに記載の組成物。
【請求項２５】
他の活性剤をさらに含む、請求項１６〜２４のいずれかに記載の組成物。
【請求項２６】
前記他の活性剤が、ヒストン脱アセチル化酵素阻害剤でない、請求項２５に記載の組成物。
【請求項２７】
前記他の活性剤が、抗生物質、レチノイド、ホルモン剤および局所殺菌剤からなる群より選択される、請求項２６に記載の組成物。
【請求項２８】
１つのバルプロ酸（ＶＰＡ）、又はその医薬上許容される塩を、ざ瘡治療用の単一活性剤として含む、請求項１６〜２４のいずれかに記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月9日(2010.2.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
５．５０、７．６０、９．００、９．６２、１０．９８、１１．９７、１２．５２、１２．８１、１３．５２、１５．１９、１５．７１、１５．９４、１６．５７、１６．７２、１７．１１、１７．５７、１７．９８、１８．３０、１９．２６、１９．６８、２０．３７、２１．０４、２２．００、２２．８６、２３．４０、２３．７０、２４．０４、２４．６８、２５．１５、２６．９７、２７．７０、２８．７４、３０．３５、３０．６０、３１．９４、３３．２５±０．２の２θ値で粉末Ｘ線回折のピークを有し、２℃／分の加熱速度での示差走査熱量測定プロフィールにおいて、１００℃および１７９．６℃に吸熱ピークを有する、単斜晶系結晶の形態の（−）−シス−４−アミノ−１−（２−ヒドロキシメチル−１，３−オキサチオラン−５−イル）−（１Ｈ）−ピリミジン−２−オンの新規な結晶。
【請求項２】
１００℃／分の加熱速度での示差走査熱量測定プロフィールにおいて、１１５℃から１３０℃の間に吸熱ピークを有する、請求項１記載の結晶。
【請求項３】
熱重量分析において、温度８０℃から１４０℃の間で４％〜４．５％の重量減少を示す、請求項１記載の結晶。
【請求項４】
請求項１に記載の（−）−シス−４−アミノ−１−（２−ヒドロキシメチル−１，３−オキサチオラン−５−イル）−（１Ｈ）−ピリミジン−２−オンの単斜晶系結晶の調製方法であって、ラミブジンを４５℃の水に溶解し、次いで、その溶液を攪拌しながらゆっくり冷却し、その形態ＩＩＩの純粋な結晶を３０℃で播種してもよく、母液からその結晶を分離し、該生成物を有機溶剤を用いて洗浄してもよく、そして乾燥させることを含む、方法。
【請求項５】
冷却速度が、０．５℃／分〜３．５℃／分の範囲にあるところの、請求項４記載の方法。
【請求項６】
請求項１に記載の（−）−シス−４−アミノ−１−（２−ヒドロキシメチル−１，３−オキサチオラン−５−イル）−（１Ｈ）−ピリミジン−２−オンの単斜晶系結晶の調製方法であって、２０℃〜４５℃の間の温度の水中でラミブジンの結晶形態Ｉまたは結晶形態ＩＩを攪拌し、次いで、攪拌しながらその混合物をゆっくり冷却し、母液からその結晶形態を分離し、該生成物を有機溶媒を用いて洗浄してもよく、そして乾燥させることを含む、方法。
【請求項７】
結晶を洗浄するために用いられる有機溶媒が、Ｃ１〜Ｃ４の脂肪族アルコールから選択されるところの、請求項６記載の方法。
【請求項８】
脂肪族アルコールがエタノールであるところの、請求項７記載の方法。
【請求項９】
請求項１に記載の単斜晶系結晶の形態の（−）−シス−４−アミノ−１−（２−ヒドロキシメチル−１，３−オキサチオラン−５−イル）−（１Ｈ）−ピリミジン−２−オンの治療上の有効量を、医薬上許容される担体と組み合わせて含む、固体投与単位形態の医薬組成物。
【請求項１０】
ヒトにおけるＨＩＶ感染症を処置するのに有用な医薬組成物であって、治療上有効量の、３’−アジド−３’−デオキシチミジン（ＡＺＴ）および請求項１に記載の単斜晶系結晶の形態の（−）−シス−４−アミノ−１−（２−ヒドロキシメチル−１，３−オキサチオラン−５−イル）−ＩＨ−ピリミジン−２−オンの組み合わせを、医薬上許容される担体と組み合わせて含む、医薬組成物。
【請求項１１】
経口投与形態であるところの、請求項１０記載の医薬組成物。
【請求項１２】
錠剤形であるところの、請求項１１記載の医薬組成物。
【請求項１３】
カプセル剤形であるところの、請求項１１記載の医薬組成物。
【請求項１４】
ヒトにおけるＨＩＶ感染症の治療用医薬の製造における３’−アジド−３’−デオキシチミジン（ＡＺＴ）および請求項１に記載の単斜晶系結晶の形態の（−）−シス−４−アミノ−１−（２−ヒドロキシメチル−１，３−オキサチオラン−５−イル）−ＩＨ−ピリミジン−２−オンの使用。
【請求項１５】
治療用医薬が連続して、または同時に投与される、請求項１４記載の使用。
【請求項１６】
治療用医薬が経口用であるところの、請求項１４記載の使用。
【請求項１７】
治療用医薬が錠剤であるところの、請求項１６記載の使用。
【請求項１８】
治療用医薬がカプセル剤であるところの、請求項１６記載の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月17日(2010.2.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
小児患者の非経口栄養のためのアミノ酸溶液であって、前記アミノ酸溶液が１００ｇのアミノ酸当たり９〜３０ｇのグルタミンと、１００ｇのアミノ酸当たり０．３〜２ｇのタウリンと、を含むことを特徴とする該アミノ酸溶液。
【請求項２】
前記アミノ酸溶液が、１００ｇのアミノ酸当たり１〜４ｇのチロシン、１００ｇのアミノ酸当たり０．３〜１．５ｇのシステイン、１００ｇのアミノ酸当たり３〜５ｇのフェニルアラニン、及び１００ｇのアミノ酸当たり１〜３ｇのメチオニン、を含むことを特徴とする請求項１に記載のアミノ酸溶液。
【請求項３】
グルタミンがオリゴペプチドの形態で存在することを特徴とする、請求項１または請求項２に記載のアミノ酸溶液。
【請求項４】
チロシンが５アミノ酸単位以下の鎖長を有するオリゴペプチドの形態で存在することを特徴とする、請求項２または請求項３に記載のアミノ酸溶液。
【請求項５】
前記オリゴペプチドがジペプチドまたはトリペプチドであることを特徴とする、請求項３または請求項４に記載のアミノ酸溶液。
【請求項６】
グルタミンがアラニルグルタミン、グリシルグルタミンまたはそれらの混合物の形態で存在することを特徴とする、請求項１〜請求項５のうちいずれか１項に記載のアミノ酸溶液。
【請求項７】
チロシンがグリシルチロシン、アラニルチロシンまたはそれらの混合物の形態で存在することを特徴とする、請求項２〜請求項６のうちいずれか１項に記載のアミノ酸溶液。
【請求項８】
前記アミノ酸溶液が３ｇ／ｌ以下のグルタミン酸を含むことを特徴とする、請求項１〜請求項７のうちいずれか１項に記載のアミノ酸溶液。
【請求項９】
前記アミノ酸溶液が３〜３０％（ｗ／ｗ）のタンパク質構成単位を含むことを特徴とする、請求項１〜請求項８のうちいずれか１項に記載のアミノ酸溶液。
【請求項１０】
チロシンとフェニルアラニンとの割合が１：１〜１：３であることを特徴とする、請求項２〜請求項８のうちいずれか１項に記載のアミノ酸溶液。
【請求項１１】
前記アミノ酸のシステイン、タウリンおよびメチオニンの総量が全アミノ酸の２〜５％（ｗ／ｗ）であることを特徴とする、請求項２〜請求項９のうちいずれか１項に記載のアミノ酸溶液。
【請求項１２】
前記アミノ酸溶液に含まれるタンパク質または５アミノ酸単位より長い鎖長を有するペプチドが１％未満であることを特徴とする、請求項１〜請求項１１のうちいずれか１項に記載のアミノ酸溶液。
【請求項１３】
小児患者の非経口栄養のための医薬組成物の調製のための、請求項１に記載のアミノ酸溶液の使用。
【請求項１４】
前記患者が腸の奇形または炎症を患っていることを特徴とする、請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
腎疾患または肝疾患を有する患者の非経口栄養のための医薬組成物の調製のための、請求項１に記載のアミノ酸溶液の使用。
【請求項１６】
完全非経口栄養のための医薬組成物であって、
ａ）炭水化物により３０〜６０％のエネルギー、
ｂ）脂肪により３０〜５０％のエネルギー、
ｃ）請求項１記載のアミノ酸溶液により１０〜２０％のエネルギー、
を提供することを特徴とする、該医薬組成物。
【請求項１７】
前記栄養組成がさらに電解質、ビタミンおよび微量元素を含むことを特徴とする、請求項１６に記載の医薬組成物。
【請求項１８】
小児患者の治療のための非経口輸液の調製のための請求項１６に記載の医薬組成物の使用であって、前記輸液が前記患者の体重１ｋｇ当たり９０〜１８０ｋｃａｌの１日量を含むことを特徴とする、該使用。
【請求項１９】
１００ｇのアミノ酸当たり７〜３０ｇのグルタミンをオリゴペプチドの形態で含む非経口栄養のための滅菌アミノ酸溶液の調製方法であって、１２４℃以上の温度における加熱滅菌の工程を少なくとも含むことを特徴とする、該方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
＊グリシル−Ｌ−チロシンの形態で
＊＊Ｌ−アラニル−Ｌ−グルタミンの形態で
ＡＡ＝アミノ酸
ＥＡＡ＝必須アミノ酸
ＢＣＡＡ＝分岐鎖アミノ酸
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月23日(2010.3.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レストレスレッグス症候群（ＲＬＳ）の治療またはレストレスレッグス症候群の病徴の緩和における使用のためのＲ（＋）−Ｎ−プロパルギル−１−アミノインダンまたは医薬的に許容可能なその塩。
【請求項２】
ＲＬＳの病徴の緩和における使用のための、請求項１に記載のＲ（＋）−Ｎ−プロパルギル−１−アミノインダンまたは医薬的に許容可能なその塩であって、前記病徴は、脚の刺痛、脚の痙攣、脚の痛みまたは脚の不穏状態であるＲ（＋）−Ｎ−プロパルギル−１−アミノインダンまたは医薬的に許容可能なその塩。
【請求項３】
請求項２に記載のＲ（＋）−Ｎ−プロパルギル−１−アミノインダンまたは医薬的に許容可能なその塩であって、ＲＬＳの前記病徴はＩＲＬＳレーティングスケールによって決定され、前記使用が、前記ＩＲＬＳレーティングスケールスコアを基準と比較して減少させるＲ（＋）−Ｎ−プロパルギル−１−アミノインダンまたは医薬的に許容可能なその塩。
【請求項４】
１日あたり０．０１ｍｇから２０ｍｇの量における使用のための、請求項１から３の何れか１項に記載のＲ（＋）−Ｎ−プロパルギル−１−アミノインダンまたは医薬的に許容可能なその塩。
【請求項５】
１日あたり０．５ｍｇから５ｍｇの量における使用のための、請求項４に記載のＲ（＋）−Ｎ−プロパルギル−１−アミノインダンまたは医薬的に許容可能なその塩。
【請求項６】
１日あたり１から４回、好ましくは１日１回の使用のための、請求項１から５の何れか１項に記載のＲ（＋）−Ｎ−プロパルギル−１−アミノインダンまたは医薬的に許容可能なその塩。
【請求項７】
就寝時刻の１から３時間前における１日１回の使用のための、請求項６に記載のＲ（＋）−Ｎ−プロパルギル−１−アミノインダンまたは医薬的に許容可能なその塩。
【請求項８】
１日を通して３から７時間おきにおける使用のための、請求項１から５の何れか１項に記載のＲ（＋）−Ｎ−プロパルギル−１−アミノインダンまたは医薬的に許容可能なその塩。
【請求項９】
Ｒ（＋）−Ｎ−プロパルギル−１−アミノインダンのエシレート、メシレート、硫酸塩または酒石酸塩である、好ましくはＲ（＋）−Ｎ−プロパルギル−１−アミノインダンのメシレート塩である、請求項１から８の何れか１項に記載のＲ（＋）−Ｎ−プロパルギル−１−アミノインダンの医薬的に許容可能な塩。
【請求項１０】
Ｒ（＋）−Ｎ−プロパルギル−１−アミノインダンのメシレート塩である、請求項９に記載のＲ（＋）−Ｎ−プロパルギル−１−アミノインダンの医薬的に許容可能な塩であって、使用されるＲ（＋）−Ｎ−プロパルギル−１−アミノインダンメシレートの量は１日あたり１．６６ｍｇである塩。
【請求項１１】
経口、非経口、直腸または経皮の使用のために処方される、請求項１から１０の何れか１項に記載のＲ（＋）−Ｎ−プロパルギル−１−アミノインダンまたは医薬的に許容可能なその塩。
【請求項１２】
カルビドパ、レボドパ、ペルゴリド、プラミペキソール、オキシコドン、クロナゼパム、カルバマゼピン、ガバペンチン、バルプロ酸塩、ロピニロールまたはクロニジンとの使用のための請求項１から１１の何れか１項に記載のＲ（＋）−Ｎ−プロパルギル−１−アミノインダンまたは医薬的に許容可能なその塩。
【請求項１３】
錠剤の形態、経皮の使用に適した形態、または舌下の使用に適した形態で処方される、請求項１から１２の何れか１項に記載のＲ（＋）−Ｎ−プロパルギル−１−アミノインダンまたは医薬的に許容可能なその塩。
【請求項１４】
単位剤形において、Ｒ（＋）−Ｎ−プロパルギル−１−アミノインダンまたは医薬的に許容可能なその塩および少なくとも１つのペルゴリド、プラミペキソール、オキシコドン、クロナゼパム、カルバマゼピン、ガバペンチン、バルプロ酸塩、ロピニロールまたはクロニジンを含む医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月19日(2010.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの導電性支持体、又は非導電性支持体における構造化された若しくは全面の導電性面を電解コーティングする装置であって、
少なくとも１個の電解槽、１個のアノード及び１個のカソードを備え、且つ
電解槽は、少なくとも１種の金属塩を有する電解質溶液を含み、電解質溶液から金属イオンを、支持体の導電性面に蒸着させて、金属層を形成すると共に、カソードを、被覆される支持体の表面と接触させ、そして支持体は、電解槽を通って搬送され、且つ
カソードは、少なくとも２枚のディスク（２，４，１０）を含み、該少なくとも２枚のディスク（２，４，１０）は回転可能なように各々の軸（１，５，１４）に対して取り付けられ、且つ相互に係合していることを特徴とする装置。
【請求項２】
複数のディスク（２，４，１０）を各々の軸（１，５，１４）に対して相互に隣接して配置する請求項１に記載の装置。
【請求項３】
軸（１，５，１４）における２枚のディスク（２，４，１０）間の距離は、少なくともディスク（２，４，１０）の幅に相当する請求項２に記載の装置。
【請求項４】
ディスク（２，４，１０）に軸（１，５，１４）を介して電圧が供給される請求項１〜３のいずれか１項に記載の装置。
【請求項５】
軸（１，５，１４）及びディスク（２，４，１０）は、装置の稼働中に電解質溶液中を通過しない導電性材料から少なくとも部分的に作製される請求項４に記載の装置。
【請求項６】
凹部（１６）をディスク（２，４，１０）に形成する請求項１〜５のいずれか１項に記載の装置。
【請求項７】
ディスク（２，４，１０）は、スポークによって軸に固定された環を含む請求項６に記載の装置。
【請求項８】
ディスク（２，４，１０）は、相互に電気的に絶縁された個々の部分（１１）を周辺に分散させて有する請求項１〜７のいずれか１項に記載の装置。
【請求項９】
相互に電気的に絶縁された部分（１１）を、カソード接続及びアノード接続することが共に可能である請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
軸（１，５）は、非導電性部分によってそれぞれ相互に分離された複数の導電性部分から構成され、且つ導電性部分は、カソード接続及びアノード接続共に可能であり、そして軸における導電性部分は、それぞれディスクの導電性部（１１）と接触する請求項８又は９に記載の装置。
【請求項１１】
ディスク（２，４，１０）を支持体（３１）から上昇させることが可能であり、そして支持体（３１）に降下させることが可能である請求項１〜１０のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１２】
装置は、更に、支持体（３１）を回転可能であり、且つ電解槽の内側又は外側に配置可能である装置を備える請求項１〜１１のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１３】
相互係合ディスク（２，４，１０）が配置された少なくとも２本の軸（１，５）をそれぞれ有する２基の装置を相互に対向配置することにより、被覆されるべき支持体（３１）は、これらの装置の間を通過可能であり、そして相互係合ディスク（２，４，１０）が配置された少なくとも２本の軸（１，５）は、それぞれ支持体（３１）の上側及び下側と接触する請求項１〜１２のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１４】
第１のローラーから巻き戻され、そして第２のローラーに巻き取られる可撓性の支持部を被覆するために、相互係合ディスク（２，４，１０）が配置された少なくとも２本の軸（１，５）をそれぞれ有する２基の装置を、相互に重ねて、又は相互に隣接して配置し、且つ可撓性支持部は、蛇行式で装置を通過する請求項１〜１３のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１５】
少なくとも１つの導電性支持体、又は非導電性支持体における構造化された若しくは全面の導電性面を電解コーティングする装置であって、
請求項１〜１４のいずれか１項に記載され、連続して接続される複数の装置を含むことを特徴とする装置。
【請求項１６】
少なくとも１つの導電性支持体、又は非導電性支持体における構造化された若しくは全面の導電性面を電解コーティングする方法であって、
請求項１〜１５のいずれか１項に記載の装置中において行われることを特徴とする方法。
【請求項１７】
支持体に接触するディスクはカソード接続され、支持体に接触していないディスクは、アノード接続される請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
支持体と接触するディスクにおける部分はカソード接続され、支持体に接触していないディスクにおける部分はアノード接続されうる請求項１６に記載の方法。
【請求項１９】
ディスクに軸を介して電圧が供給される請求項１６〜１８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２０】
軸を、生産の一時停止中に脱金属化のためにアノード接続する１６又は１７に記載の方法。
【請求項２１】
請求項１〜１５のいずれか１項に記載の装置を使用して、少なくとも１つの導電性支持体又は非導電性支持体における構造化された若しくは全面の導電性面を電解コーティングする方法。
【請求項２２】
請求項１〜１５のいずれか１項に記載の装置を使用して、プリント基板の導体トラック、ＲＦＩＤアンテナ、トランスポンダ・アンテナ又は他のアンテナ構造物、ＩＣカードモジュール、フラットケーブル、シートヒータ、フォイル導体、太陽電池又はＬＣＤ／プラズマディスプレイ画面における導体トラックの製造し、或いは任意の形の電解被覆製品を製造する方法。
【請求項２３】
請求項１〜１５のいずれか１項に記載の装置を使用して、電磁放射線の遮蔽に、熱伝導に、又は梱包材料として使用される製品に対する装飾表面又は機能表面を製造する方法。
【請求項２４】
請求項１〜１５のいずれか１項に記載の装置を使用して、一方の側又は両側が金属で覆われる薄い金属フォイル又はポリマー支持部を製造する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月2日(2010.4.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、
該基材に施与されている硬質材料層とを備え、
マグネトロンスパッタリングにより堆積された該硬材料層で少なくとも部分的に被覆された物であって、
前記硬質材料層が、金属元素Ａｌ、ＣｒおよびＳｉと、Ｂ、Ｃ、Ｎ、Ｏの群から選択される非金属元素とを含有し、
前記非金属元素中の酸素の原子割合が、３０％よりも高いことを特徴とする物。
【請求項２】
前記非金属元素中の酸素の前記原子割合が、７０％よりも高いことを特徴とする請求項１に記載の物。
【請求項３】
前記非金属元素中の酸素の前記原子割合が、ほぼ１００％であることを特徴とする請求項２に記載の物。
【請求項４】
前記硬質材料層中の前記金属元素Ａｌ、ＣｒおよびＳｉが、式ＡｌｘＣｒｙＳｉｚの組成を有し、ここで、ｘ、ｙおよびｚは、前記３種の元素の割合を相互に原子パーセントで示しており、ｘ、ｙ、ｚは、条件
ｘ＝１００％−ｙ−ｚ、
１％≦ｙ≦７０％および
０．１％≦ｚ≦２０％
を満たしていることを特徴とする前記請求項のいずれか一項に記載の物。
【請求項５】
前記硬質材料層において、Ａｌ、Ｃｒ、Ｓｉの群からなる前記金属元素の原子割合が、全部で５０原子％よりも高く、さらに好ましくは８０原子％よりも高く、特に好ましくはほぼ１００原子％であることを特徴とする前記請求項のいずれか一項に記載の物。
【請求項６】
前記基材および前記硬質材料層の間に、Ａｌ、ＳｉおよびＩＵＰＡＣ（１９８８年）による周期律表の第４から６族の元素から選択された元素と、Ｂ、Ｃ、Ｎ、Ｏの群からなる非金属元素から選択された元素とから組成されている接着層が存在することを特徴とする前記請求項のいずれか一項に記載の物。
【請求項７】
前記接着層の前記金属元素が、前記硬質材料層の前記金属元素の群から選択されていて、前記接着層中の前記非金属元素中のＮの原子割合が、前記硬質材料層においてよりも高いことを特徴とする請求項６に記載の物。
【請求項８】
前記硬質材料層および前記接着層の間に、前記硬質材料層および接着層を形成する元素から選択された元素で組成されている移行層が存在することを特徴とする請求項６又は７のいずれか一項に記載の物。
【請求項９】
前記移行層は、層を横断する方向に沿って少なくとも１種の元素の濃度が連続的に変化しており、その元素の前記濃度が、前記硬質材料層との境界のところでは、前記硬質材料層での濃度と本質的に等しくなっていて、前記接着層との境界のところでは、前記接着層での濃度と本質的に等しくなっていることを特徴とする請求項８に記載の物。
【請求項１０】
前記硬質材料層が、本質的にＡｌ、Ｃｒ、ＳｉおよびＯからなり、前記接着層がＡｌ、Ｃｒ、ＳｉおよびＮからなることを特徴とする請求項６から９のいずれか一項に記載の物。
【請求項１１】
前記接着層が、（Ａｌ、Ｃｒ、Ｓｉ）Ｎからなることを特徴とする請求項６から１０のいずれか一項に記載の物。
【請求項１２】
前記硬質材料層が、いちばん外側の層であるか、又は着色層、滑り層またはドライ潤滑剤層が施与されている場合、これらの層の下の最終層であることを特徴とする前記請求項のいずれか一項に記載の物。
【請求項１３】
前記接着層、移行層および硬質材料層の連続からなる多層被覆を有することを特徴とする前記請求項のいずれか一項に記載の物。
【請求項１４】
切削のための切断工具であることを特徴とする前記請求項のいずれか一項に記載の物。
【請求項１５】
前記硬質材料層は、前記非金属中の窒素割合が、１０原子％〜７０原子％の範囲であることを特徴とする前記請求項のいずれか一項に記載の物。
【請求項１６】
硬質材料層を基材上に作成する方法であって、
マグネトロンスパッタリングにより、硬質材料層を前記基材上に堆積させ、
前記硬質材料層が、金属元素Ａｌ、ＣｒおよびＳｉと、Ｂ、Ｃ、Ｎ、Ｏの群から選択される非金属元素とを含有し、
前記非金属元素中の酸素の原子割合が、３０％よりも高い方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
この課題は、請求項１に記載の物および請求項１６に記載の方法により解決される。従属請求項は、本発明の好ましい実施形態に関する。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月1日(2010.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上面と下面を有する不織ウェブであって、平均繊維直径が約５０ｎｍ〜約８００ｎｍである第１ポリマーのポリマーナノ繊維と前記ナノ繊維間の細孔とを含有し、前記ウェブの少なくとも上面で、前記ポリマーナノ繊維が、前記第１ポリマーとは異なる少なくとも第２ポリマーでコートされており、上面のナノ繊維の第２ポリマーのコーティング厚さが、下面のナノ繊維の第２ポリマーのコーティング厚さより厚い、不織ウェブ。
【請求項２】
上面と下面を有する不織ウェブであって、第１ポリマーのポリマー繊維と、前記繊維間の細孔とを含有し、前記繊維が、前記第１ポリマーとは異なる少なくとも第２ポリマーでコートされており、第２ポリマーのコーティング厚さには、ウェブの厚さ全体にわたって勾配がある、不織ウェブ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
従って、本明細書の例示のデータによれば、ポーラス繊維ウェブ材料、特に、ポーラス不織ナノ繊維ウェブに対する新しい有用な変性は、モノマーコーティングをウェブに蒸着した後、堆積したモノマーを重合することにより達成できることが分かる。
次に、本発明の好ましい態様を示す。
1.  上面と下面を有する不織ウェブであって、平均繊維直径が約５０ｎｍ〜約８００ｎｍである第１ポリマーのポリマーナノ繊維と前記ナノ繊維間の細孔とを含有し、前記ウェブの少なくとも上面で、前記ポリマーナノ繊維が、前記第１ポリマーとは異なる少なくとも第２ポリマーでコートされており、上面のナノ繊維の第２ポリマーのコーティング厚さが、下面のナノ繊維の第２ポリマーのコーティング厚さより厚い、不織ウェブ。
2.  第２ポリマーのコーティングが、前記下面のナノ繊維に存在しない 上記１に記載の不織ウェブ。
3.  前記第１ポリマーの前記ポリマーナノ繊維を接続する前記第２ポリマーのナノ繊維をさらに含む 上記１に記載の不織ウェブ。
4.  前記第２ポリマーの前記ナノ繊維が、前記第１ポリマーの前記ナノ繊維間の細孔を橋架けしている 上記３に記載の不織ウェブ。
5.  ポリマーナノ繊維の第２ポリマーのコーティングの厚さが、約１５ｎｍ〜約２μｍである 上記１に記載の不織ウェブ。
6.  第２ポリマーのコーティング厚さには、ウェブの厚さ全体にわたって勾配がある 上記１に記載の不織ウェブ。
7.  第２ポリマーのコーティング厚さには、ウェブの厚さ全体にわたって勾配がある 上記３に記載の不織ウェブ。
8.  下面の約２μｍ内のポリマーナノ繊維が、第２ポリマーでコートされている 上記２に記載の不織ウェブ。
9.  下面のポリマーナノ繊維と、下面に隣接するウェブの厚さの一部とが、第２ポリマーでコートされている 上記１に記載の不織ウェブ。
10.  前記ウェブの下面の第２ポリマーのコーティングが、前記上面からの第２ポリマーのコーティングの勾配と重なる前記ウェブの厚さ全体にわたる勾配厚さを生成する 上記９に記載の不織ウェブ。
11.  第２ポリマーが撥液性である 上記１に記載の不織ウェブ。
12.  ウェブが、少なくとも約３００ｃｍの静水頭を有する 上記１１に記載の不織ウェブ。
13.  コートされた上面が、少なくとも約１３５°の静水接触角を示す 上記１１に記載の不織ウェブ。
14.  前記第１ポリマーの繊維が、フッ素化成分を含まない 上記１に記載の不織ウェブ。
15.  前記第２ポリマーが親水性であり、コートされたウェブ表面が、未コートの同等のウェブより少なくとも２５％短い水湿潤時間を有する 上記１に記載の不織ウェブ。
16.  前記第１および第２ポリマーとは異なる第３ポリマーのコーティングをさらに含む 上記１に記載の不織ウェブ。
17.  前記下面のナノ繊維が、前記第３ポリマーでコートされている 上記１６に記載の不織ウェブ。
18.  不織ウェブの平均細孔サイズが、前記第２ポリマーのコーティングにより低減する 上記１に記載の不織ウェブ。
19.  不織ウェブの平均細孔サイズが、前記橋架けする第２ポリマーのナノ繊維により低減する 上記４に記載の不織ウェブ。
20.  不織布の支持スクリム；メルトブローンウェブ、スパンボンドウェブ、フラッシュスパンウェブ、ステープル系カードまたはエアレイドウェブ、ウェットレイドウェブ、樹脂ボンドウェブ、ニードルパンチウェブおよびスパンレースウェブからなる群より選択される不織布；ポーラスフィルム；編布；開口フィルム；紙；およびこれらの組み合わせをさらに含む 上記１に記載の不織ウェブ。
21.  上面と下面を有する不織ウェブであって、第１ポリマーのポリマー繊維と、前記繊維間の細孔とを含有し、前記繊維が、前記第１ポリマーとは異なる少なくとも第２ポリマーでコートされており、第２ポリマーのコーティング厚さには、ウェブの厚さ全体にわたって勾配がある、不織ウェブ。
22.  第２ポリマーのコーティングが、前記下面のナノ繊維には存在しない 上記２１に記載の不織ウェブ。
23.  不織ウェブが、前記第１ポリマーの前記繊維を接続する前記第２ポリマーのナノ繊維をさらに含む 上記２１に記載の不織ウェブ。
24.  前記第２ポリマーの前記ナノ繊維が、前記第１ポリマーの前記ナノ繊維間の細孔を橋架けしている 上記２３に記載の不織ウェブ。
25.  前記第１ポリマーの前記ポリマー繊維が、スパンボンド繊維、メルトブローン繊維、フラッシュスパン繊維、エレクトロスパン繊維、エレクトロブローン繊維、ステープル繊維およびこれらの組み合わせからなる群より選択される 上記２１に記載の不織ウェブ。
26.  織布の支持スクリム；メルトブローンウェブ、スパンボンドウェブ、フラッシュスパンウェブ、ステープル系カードまたはエアレイドウェブ、ウェットレイドウェブ、樹脂ボンドウェブ、ニードルパンチウェブおよびスパンレースウェブからなる群より選択される不織布；ポーラスフィルム；編布；開口フィルム；紙；およびこれらの組み合わせをさらに含む 上記２５に記載の不織ウェブ。
27.  前記第１ポリマーの繊維が、フッ素化成分を含まない 上記２１に記載の不織ウェブ。
28.  前記第２ポリマーが親水性であり、コートされたウェブ表面が、未コートの同等のウェブより少なくとも２５％短い水湿潤時間を有する 上記２１に記載の不織ウェブ。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月1日(2010.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１１】
該炉がさらに、該加熱ゾーンの検出された圧力及び該第１の容積の該第２の部分の圧力の一方又は両者に基づいて、該流量調節器を自動的に制御するための制御器を備えていることを特徴とする請求項２又は３に記載のＣＶＩ／ＣＶＤ炉。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月16日(2010.4.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの単官能（メタ）アクリレートモノマーと、Ｎ−ビニルアミド、Ｎ−アクリロイルアミンまたはその混合物から選択される少なくとも１つの単官能モノマーと、少なくとも１つのラジカル光重合開始剤と、少なくとも１つの着色剤とを含み、水および揮発性有機溶剤を実質的に含まないインクジェット用インクであって、２５℃で１００ｍＰａｓ未満の粘度を有し、インク全重量に対して１５重量％以下の多官能モノマーを含有し、少なくとも１つの前記単官能（メタ）アクリレートモノマーと、Ｎ−ビニルアミド、Ｎ−アクリロイルアミンまたはその混合物から選択される少なくとも１つのモノマーとの総量が、インク全重量に対して少なくとも６０重量％であり、少なくとも１つの前記単官能（メタ）アクリレートモノマーの、Ｎ−ビニルアミド、Ｎ−アクリロイルアミンまたはその混合物から選択される少なくとも１つの前記単官能モノマーに対する前記モル比率が１．１以上であるインクジェット用インク。
【請求項２】
少なくとも１つの前記単官能（メタ）アクリレートモノマーと、Ｎ−ビニルアミド、Ｎ−アクリロイルアミンまたはその混合物から選択される少なくとも１つの前記単官能モノマーとの総量が少なくとも７０重量％である、請求項１に記載のインクジェット用インク。
【請求項３】
前記総量が少なくとも８０重量％である、請求項２に記載のインクジェット用インク。
【請求項４】
少なくとも１つの前記単官能（メタ）アクリレートモノマーの、Ｎ−ビニルアミド、Ｎ−アクリロイルアミンまたはその混合物から選択される少なくとも１つの前記単官能モノマーに対する前記モル比率が１．１〜４である、請求項１〜３のいずれかに記載のインクジェット用インク。
【請求項５】
前記比率の上限が３．５以下である、請求項４に記載のインクジェット用インク。
【請求項６】
インク全重量に対して１０重量％以下の多官能モノマーを含有する、請求項１〜５のいずれかに記載のインクジェット用インク。
【請求項７】
少なくとも１つの多官能モノマーを含有し、該多官能モノマーの１つ以上が多官能（メタ）アクリレートモノマーである、請求項１〜６のいずれかに記載のインクジェット用インク。
【請求項８】
少なくとも１つの前記単官能（メタ）アクリレートが、フェノキシエチルアクリレート（ＰＥＡ）、環状ＴＭＰホルマールアクリレート（ＣＴＦＡ）、イソボルニルアクリレート（ＩＢＯＡ）、テトラヒドロフルフリルアクリレート（ＴＨＦＡ）、２−（２−エトキシエトキシ）エチルアクリレート、オクタ／デシルアクリレート（ＯＤＡ）、トリデシルアクリレート（ＴＤＡ）、イソデシルアクリレート（ＩＤＡ）およびラウリルアクリレートから選択される、請求項１〜７のいずれかに記載のインクジェット用インク。
【請求項９】
少なくとも１つの前記単官能（メタ）アクリレートが、環状単官能（メタ）アクリレートである、請求項１から７のいずれかに記載のインクジェット用インク。
【請求項１０】
存在する前記唯一の単官能（メタ）アクリレートとして少なくとも１つの環状単官能（メタ）アクリレートを含む、請求項９に記載のインクジェット用インク。
【請求項１１】
前記環状単官能（メタ）アクリレートが、フェノキシエチルアクリレート（ＰＥＡ）、環状ＴＭＰホルマールアクリレート（ＣＴＦＡ）、イソボルニルアクリレート（ＩＢＯＡ）、テトラヒドロフルフリルアクレート（ＴＨＦＡ）、またはその混合物である、請求項９または１０に記載のインクジェット用インク。
【請求項１２】
ＴＨＦＡ／ＮＶＣ、ＩＢＯＡ／ＮＶＣ、ＰＥＡ／ＮＶＣ、ＣＴＦＡ／ＮＶＣ、ＩＢＯＡ／ＡＣＭＯおよびＩＢＯＡ／ＮＶＰから選択されるモノマーの組合せを含有する、請求項８から１１のいずれかに記載のインクジェット用インク。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれかに記載の前記インクジェット用インクを基材上へ印刷し、前記インクを硬化することを含むインクジェット印刷の方法。
【請求項１４】
請求項１から１２のいずれかに記載の前記インクジェット用インクをその上に印刷した基材。
【請求項１５】
請求項１から１２のいずれかに記載の前記インクジェット用インクを含むインクジェット用インクカートリッジ。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月25日(2010.2.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
チャンバを排気する真空排気システムであって、
第１真空ポンプと、
第２真空ポンプと、
ガスをチャンバから第１真空ポンプに搬送する第１排気路と、
ガスをチャンバから第２真空ポンプに搬送する第２排気路と、
各々の真空ポンプの状態を監視する手段と、
第１排気路及び第２排気路を選択的に開閉するための弁手段と、
真空ポンプの状態に応じて、
（i）第１反応体リッチな排気ガスをチャンバから第１排気路に沿って、さらに第２反応物リッチな排気ガスをチャンバから第２排気路に沿って交互に搬送し、
又は
（ii）第１反応体リッチなガス及び第２反応体リッチなガスの両方を共通の排気路に沿って搬送するかの何れかのために弁手段を制御するための手段を含む、
真空排気システム。
【請求項２】
制御する手段は、真空ポンプの状態及びチャンバに供給されるべき、又はチャンバから排気されるべきガスの組成の変化に応じて弁手段を制御する、
請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
監視する手段は、各ポンプの運転特性を監視するように構成される、
請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
運転特性は、ポンプのモータによって引かれる電流、モータ動力、ポンプ温度、ポンプからのガス排気圧、及びポンプの軸受の振動のうちの一つからなる、
請求項３に記載のシステム。
【請求項５】
監視する手段は、第１真空ポンプの状態を監視する第１ポンプ監視手段と、第２真空ポンプの状態を監視する第２ポンプ監視手段を含む、
請求項１乃至請求項４の何れか１項に記載のシステム。
【請求項６】
各ポンプ監視手段は、それぞれの真空ポンプと一体にされる、
請求項５に記載のシステム。
【請求項７】
排気路は、チャンバからのガスを受け入れるための共通の前方ラインを含み、
第１排気路は、前方ラインと第１真空ポンプの間に延びる第１排気ラインを含み、
第２排気路は、前方ラインと第２真空ポンプの間に延びる第２排気ラインを含む、
請求項１乃至請求項６の何れか１項に記載のシステム。
【請求項８】
弁手段は、前方ラインと排気ラインの接合点に配置された弁からなる、
請求項７に記載のシステム。
【請求項９】
プロセスチャンバと、
チャンバに第１反応体を供給するための第１反応体供給源と、
チャンバに第２反応体を供給するための第２反応体供給源と、
プロセスチャンバからガスを取り出すための、請求項１乃至請求項８の何れか１項に記載の真空排気システムとを含む、
原子層堆積装置。
【請求項１０】
チャンバへの反応体の供給の間に、パージガスをチャンバに供給するためのパージガス供給源を含む、
請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
第１反応体と第２反応体が交互に供給されるチャンバを排気する方法であって、
第１真空ポンプを用いて、チャンバから延びる第１排気路に沿って第１反応体リッチなガスをチャンバから、さらに第２真空ポンプを用いて、チャンバから延びる第２排気路に沿って第２反応体リッチなガスをチャンバから引くのを交互に行うステップと、
チャンバを排気している間、真空ポンプの各々の状態を監視するステップと、
第１及び第２真空ポンプの一方の監視状態に応じて、引き続いて、第１及び第２真空ポンプの他方を用いて第１反応体リッチなガス及び第２反応体リッチなガスの両方をチャンバから引くステップを含む、
方法。
【請求項１２】
各ポンプの運転特性を監視する、
請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
運転特性は、ポンプのモータによって引かれる電流、モータ動力、ポンプ温度、ポンプからのガス排気圧、及びポンプの軸受の振動のうちの一つからなる、
請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
第１真空ポンプの状態は、第１反応体がチャンバに供給される前に監視され、
第２真空ポンプの状態は、第２反応体がチャンバに供給される前に監視される、
請求項１１乃至請求項１３の何れか１項に記載の方法。
【請求項１５】
原子層堆積を行う方法であって、
プロセスチャンバ内の基板の位置を確認するステップと、
チャンバに、第１反応体を第２反応体を交互に供給するステップと、
第１真空ポンプを用いて第１排気路に沿って第１反応体リッチなガス流を取り出し、第２真空ポンプを用いて第２排気路に沿って第２反応体リッチなガス流を取り出すステップと、
堆積工程中、真空ポンプの各々の状態を監視するステップと、
第１及び第２真空ポンプの一方の監視された状態に応じて、引き続いて、第１及び第２真空ポンプの他方を用いて第１反応体リッチなガス及び第２反応体リッチなガスの両方をチャンバから取り除くステップを含む、
方法。
【請求項１６】
反応体の供給の間にパージガスをチャンバに供給する、
請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
各々のポンプの運転特性を監視する、
請求項１５又は請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
運転特性は、ポンプのモータによって引かれる電流、モータ動力、ポンプ温度、ポンプからのガス排気圧、及びポンプの軸受の振動のうちの一つからなる、
請求項１８に記載の方法。
【請求項１９】
第１真空ポンプの状態は、第１反応体がチャンバに供給される前に監視され、
第２真空ポンプの状態は、第２反応体がチャンバに供給される前に監視される、
請求項１５乃至請求項１８の何れか１項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月8日(2010.3.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内燃機関の排ガス系統に還元剤を供給するための装置であって、還元剤を蓄え容器から排ガス系統に圧送するための圧送ポンプが設けられており、該圧送ポンプ（８）と排ガス系統（４）との間に配置された調量装置（１６）が設けられており、該調量装置（１６）が、圧送ポンプ（８）によって連続的に圧送された還元剤を一時的に排ガス系統（４）に供給するようになっている形式のものにおいて、
調量装置を制御するための制御装置が設けられており、調量装置（１６）と排ガス系統（４）との間に、還元剤を排ガス系統（４）に噴射するための噴射ノズル（１４）が配置されており、該噴射ノズル（１４）が、該噴射ノズル（１４）に供給される還元剤の圧力によって制御可能であり、調量装置（１６）が、圧送ポンプ（８）の吐出し側を選択的に圧送ポンプ（８）の吸込み側に接続するかまたは吸込み側から分離するようになっており、排ガス系統への還元剤の所要の供給の事例において、吐出し側が、吸込み側から分離され、これによって、噴射ノズル（１４）に供給される還元剤の圧力が、噴射ノズル（１４）を開放するように調量装置を制御するために、制御装置が調整されていることを特徴とする、内燃機関の排ガス系統に還元剤を供給するための装置。
【請求項２】
調量装置（１６）が、圧送ポンプ（８）と噴射ノズル（１４）との間の吐出し管路（１２）と、圧送ポンプ（８）と蓄え容器（６）との間の吸込み管路（１０）とに沿って配置されており、調量装置（１６）が、吐出し管路（１２）と吸込み管路（１０）とを選択的に互いに接続するかまたは互いに分離するようになっている、請求項１記載の装置。
【請求項３】
調量装置（１６）が、吐出し管路（１２）と吸込み管路（１０）とを接続する戻し通路（２２）と、該戻し通路（２２）を開閉するための制御可能な弁（２４）とを有している、請求項２記載の装置。
【請求項４】
弁が、電磁弁（２４）であり、ばね（３６）のばね力によって負荷される弁部材（３４）を有しており、該弁部材（３４）が、戻し通路（２２）を電磁弁（２４）の電流なしの状態で閉鎖している、請求項３記載の装置。
【請求項５】
弾性変形可能なダイヤフラム（４８）が設けられており、該ダイヤフラム（４８）が、弁部材（３４）によって貫通された、電磁弁（２４）と戻し通路（２２）との間の開口（４６）を、弁部材（３４）を取り囲んで気密に閉鎖している、請求項４記載の装置。
【請求項６】
ダイヤフラム（４８）が環状であり、該ダイヤフラム（４８）が、その内側の周面に沿って液密に弁部材（３４）に結合されていて、その外側の周面に沿って液密に開口（４６）の仕切り壁に結合されている、請求項５記載の装置。
【請求項７】
吐出し管路（１２）と吸込み管路（１０）とが、調量装置（１６）の内部で少なくとも部分的に、弾性変形可能な圧縮体（５２）によって仕切られるようになっている、請求項１から６までのいずれか１項記載の装置。
【請求項８】
調量装置（１６）が、圧送ポンプ（８）と別個の構成部材である、請求項１から７までのいずれか１項記載の装置。
【請求項９】
噴射ノズル（１４）が、弾性変形可能な少なくとも１つの圧縮体を有しており、該圧縮体が、噴射ノズル（１４）の内部の、排ガス系統（４）への還元剤の供給のための管路を少なくとも部分的に取り囲んでいる、請求項１から８までのいずれか１項記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月26日(2010.4.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
構造骨組み用の、降伏能力を有する筋かい部材を含む筋かいアセンブリ内で使用される
構造接続具であって、該接続具は荷重がかかる間前記筋かい部材の前記降伏能力の全て又は略全てに順応でき、該接続具は、
（ａ）  前記筋かい部材を受け、前記筋かい部材に溶接されるように構成された第１端部と、
（ｂ）  前記構造骨組みに接続されるように適合された第２端部と、
（ｃ）  前記第１端部と第２端部との間に設けられた中間部分と、
を備え、
前記第１端部は前記第１端部と前記筋かい部材との間の完全溶け込み溝溶接を可能にする斜面を含んでいることを特徴とする接続具。
【請求項２】
前記第１端部、前記第２端部及び中間部分が、前記筋かい部材によって画定される軸内に設置される請求項１に記載の接続具。
【請求項３】
前記筋かい部材は外側寸法と内側寸法とを有した中空の構造セクションであり、前記斜面は前記第１端部の遠位端部に設けられ、前記遠位端部は、前記中空構造セクションの前記内側寸法以下の寸法である請求項１に記載の接続具。
【請求項４】
前記斜面は、複数の様々な中空構造セクションであって、様々な内側寸法と、略等しい外側寸法とを有するものを受けるように構成されている請求項３に記載の接続具。
【請求項５】
前記中間部分は前記第１端部と前記第２端部との間で傾斜している請求項１に記載の接続具。
【請求項６】
前記中間部分は塑性ヒンジ屈曲領域を含んでいる請求項１に記載の接続具。
【請求項７】
前記第２端部は前記構造骨組みに直接溶接又はボルト締めによって接続される請求項１に記載の接続具。
【請求項８】
前記第２端部は少なくとも１つの標準的に製作された端接続部に溶接又はボルト締めにより接続され、前記標準的に製作された端接続部は前記構造骨組みに接続される請求項１に記載の接続具。
【請求項９】
前記第２端部は、そこに開けられた複数の穴であって、対応する複数のボルトを受けるものを含み、前記第２端部はガセット・プレートにボルト締めされるように動作可能であり、前記ガセット・プレートは前記構造骨組みに接続される請求項１に記載の接続具。
【請求項１０】
静的、準静的、または動的用途で使用される請求項１に記載の接続具。
【請求項１１】
前記筋かい部材はウエブ部分、フランジ部分及びフランジ部分の間の寸法を有するＷセクションであり、前記構造接続具の第１端部の前記斜面は前記Ｗセクションのウエブ部分を受ける切込みを有する傾斜した遠位端部を含む請求項１に記載の接続具。
【請求項１２】
前記荷重が動的荷重及び静的荷重を含む請求項１に記載の接続具。
【請求項１３】
前記動的荷重が地震誘導荷重、暴風誘導荷重及び爆発誘導荷重を含む請求項１２に記載の接続具。
【請求項１４】
前記接続具が鋳造構造接続具である請求項１に記載の接続具。
【請求項１５】
構造骨組み用の構造筋かいアセンブリにおいて、
（ａ）  降伏能力を有する筋かい部材と、
（ｂ）  構造接続具であって、
（ｉ）第１端部と、
（ｉｉ）前記構造骨組みに接続されるように適合された第２端部と、
（ｉｉｉ）前記第１端部と第２端部の間に設けられた中間部分とを含んだ鋳造接続具と、
を備えた構造筋かいアセンブリであって、
前記第１端部は前記筋かい部材を受ける斜面手段を含み、前記第１端部は前記筋かい部材に接続するためのものであり、該接続具の荷重がかかる間前記筋かい部材の前記降伏能力の全て又は略全てに順応できることを特徴とする筋かいアセンブリ。
【請求項１６】
前記斜面は、前記第１端部と前記筋かい部材との間の完全溶け込み溝溶接を可能にする請求項１５に記載の筋かいアセンブリ。
【請求項１７】
前記第１端部、前記第２端部および中間部分が、前記筋かい部材によって画定される軸内に設置される請求項１５に記載の筋かいアセンブリ。
【請求項１８】
前記接続具の中間部分が屈曲塑性ヒンジ領域を含んでいる請求項１５に記載の筋かいアセンブリ。
【請求項１９】
前記筋かい部材は中空構造セクションまたはＷセクションである請求項１５に記載の筋かいアセンブリ。
【請求項２０】
前記筋かいアセンブリを前記構造骨組みに接続する標準的に製作された端接続部をさらに備えている請求項１５に記載の筋かいアセンブリ。
【請求項２１】
前記標準的に製作された端接続部はガセット・プレートであり、前記第２端部は前記ガセット・プレートに溶接され、またはボルト締めによって接続される請求項２０に記載の筋かいアセンブリ。
【請求項２２】
前記荷重が動的荷重及び静的荷重を含む請求項１５に記載の筋かいアセンブリ。
【請求項２３】
前記動的荷重が地震誘導荷重、暴風誘導荷重及び爆発誘導荷重を含む請求項２２に記載の筋かいアセンブリ。
【請求項２４】
前記接続具が鋳造構造接続具である請求項１５に記載の筋かいアセンブリ。
【請求項２５】
（ａ）  降伏能力を有する筋かい部材と、
（ｂ）  構造接続具であって、
（ｉ）第１端部と、
（ｉｉ）第２端部と、
（ｉｉｉ）第１端部と第２端部の間に設けられた中間部分と、    
を備え、前記第１端部が前記筋かい部材を受ける斜面手段を含み、該接続具は荷重 がかかる間前記筋かい部材の前記降伏能力の全て又は略全てに順応できる筋かいア センブリを、標準的に制作された端接続部を含む構造骨組みに組み入れる方法にお いて、
該方法は、
（ａ）  前記標準的に製作された端接続部を前記構造接続具の第２端部にボルト締め又は 溶接によって取り付けるステップ、及び、
（ｂ）  前記接続具の第１端部を前記筋かい部材にボルト締め又は溶接によって取り付け るステップ
を含む方法。
【請求項２６】
前記第１端部、前記第２端部および中間部分が、前記筋かい部材によって画定される軸内に設置される請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
前記接続具が鋳造構造接続具である請求項２５に記載の方法。
【請求項２８】
前記接続具の中間部分が屈曲塑性ヒンジ領域を含んでいる請求項２５に記載の方法。
【請求項２９】
筋かいアセンブリにおける構造接続具の使用であって、荷重から構造骨組みを保護するため、前記筋かいアセンブリは降伏能力を有する筋かい部材を含み、該接続具は荷重がかかる間前記筋かい部材の前記降伏能力の全て又は略全てに順応でき、該接続具は、
（ａ）  前記筋かい部材を受けると共に該筋かい部材に接続されるように構成される第   １端部と、
（ｂ）  前記構造骨組みに接続されるように適合された第２端部と、
（ｃ）  前記第１端部及び前記第２端部の間に配置された中間部分であって、該第１端部 、該第２端部及び該中間部分は前記筋かい部材によって画定される軸内に配置され る中間部分、
を備え、
前記第１端部は、該第１端部と前記筋かい部材の間に完全溶け込み溝溶接を可能とする斜面を含む接続具の使用。