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【手続補正書】
【提出日】平成22年3月1日(2010.3.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
揮発性成分（Ｓ）と非揮発性成分とからなる磁気的に誘導した画像を製造するためのコーティング組成物であって、後者の前記非揮発性成分はインキビヒクル（Ｉ）と磁気的に配向可能な光学可変性干渉顔料（Ｐ）とからなり、前記インキビヒクルの容積（Ｖ（Ｉ））対顔料の容積（Ｖ（Ｐ））の比は３．０を超え、前記コーティング組成物がフレキソ印刷用インキ、グラビア印刷用インキ、シルクスクリーン印刷用インキ及びローラーコーティングインキからなる群から選択される印刷インキであることを特徴とする、前記コーティング組成物。
【請求項２】
前記非揮発性成分が、全組成物の５０重量％〜１００重量％の量で存在する、請求項１に記載のコーティング組成物。
【請求項３】
前記揮発性成分が、有機溶媒、水及びその混合物からなる群から選択される、請求項１又は２に記載のコーティング組成物。
【請求項４】
前記磁気的に配向可能な光学可変性顔料が、真空蒸着磁気薄層干渉顔料、干渉コーティング化金属顔料、干渉コーティング化非金属顔料、磁気液晶顔料及びその混合物からなる群から選択される、請求項１〜３の一項に記載のコーティング組成物。
【請求項５】
前記磁気的に配向可能な干渉顔料が、五層及び七層の真空蒸着磁気薄層干渉顔料からなる群から選択される、請求項４に記載のコーティング組成物。
【請求項６】
前記磁気的に配向可能な干渉顔料が５〜４０μｍの範囲の平均直径ｄ５０をもつ、請求項１〜５の一項に記載のコーティング組成物。
【請求項７】
前記磁気的に配向可能な干渉顔料が、０．１μｍ〜６μｍの範囲の厚さを有する、請求項１〜６の一項に記載のコーティング組成物。
【請求項８】
請求項１に記載の磁気的に誘導された画像を製造するためのコーティング組成物の製造プロセスであって、揮発性成分（Ｓ）と非揮発性成分とを一緒に混合する段階を含み、後者の非揮発性成分はインキビヒクル（Ｉ）と磁気的に配向可能な光学可変性干渉顔料（Ｐ）からなり、前記インキビヒクルの容積（Ｖ（Ｉ））対顔料の容積（Ｖ（Ｐ））の比は３．０を超え、前記コーティング組成物がフレキソ印刷用インキ、グラビア印刷用インキ、シルクスクリーン印刷用インキ及びローラーコーティングインキからなる群から選択される印刷インキであることを特徴とする、前記製造プロセス。
【請求項９】
前記非揮発性成分が、全組成物の５０重量％〜１００重量％の量で存在する、請求項８に記載のプロセス。
【請求項１０】
前記揮発性成分（Ｓ）が、有機溶媒、水及びその混合物からなる群から選択される、請求項８〜９の一項に記載のコーティング組成物。
【請求項１１】
前記磁気的に配向可能な光学可変性顔料が、真空蒸着磁気薄層干渉顔料、干渉コーティング化金属顔料、干渉コーティング化非金属顔料、磁気液晶顔料及びその混合物からなる群から選択される、請求項８〜１０の一項に記載のプロセス。
【請求項１２】
前記磁気的に配向可能な干渉顔料が、五層及び七層の真空蒸着磁気薄層干渉顔料からなる群から選択される、請求項１１に記載のプロセス。
【請求項１３】
前記磁気的に配向可能な干渉顔料が５〜４０μｍの範囲の平均直径ｄ５０をもつ、請求項８〜１２の一項に記載のプロセス。
【請求項１４】
前記磁気的に配向可能な干渉顔料が、０．１μｍ〜６μｍの範囲の厚さを有する、請求項８〜１３の一項に記載のプロセス。
【請求項１５】
磁気的に誘導された画像を製造するための請求項１〜７の一項に記載のコーティング組成物の使用。
【請求項１６】
ａ）請求項１〜７の一項に記載のコーティング組成物を基材表面に適用する；
ｂ）磁場を印加することによって、段階ａ）の適用したコーティング組成物中の磁性顔料粒子を配向させる；及び
ｃ）段階ｂ）の配向したコーティング組成物を硬化／乾燥して、配向した位置に前記粒子を固定させる、各段階を含む、磁気的に誘導した画像を製造するプロセス。
【請求項１７】
前記配向段階ｂ）は、前記コーティング段階ａ）と同時に実施する、請求項１６に記載のプロセス。
【請求項１８】
前記配向段階ｂ）を前記コーティング段階ａ）に続いて実施する、請求項１６に記載のプロセス。
【請求項１９】
前記硬化／乾燥段階ｃ）は、揮発性化合物の物理的蒸発、ＵＶ−硬化、酸化的レチキュレーション、化学的架橋、電子ビーム硬化またはその任意の組み合わせからなる群から選択されるプロセスによって実施する、請求項１６〜１８の一項に記載のプロセス。
【請求項２０】
硬化固体インキビヒクル（Ｉ）中に磁気的に配向した光学可変性干渉顔料（Ｐ）を含む基材上の磁気的に誘導された画像コーティングであって、前記インキビヒクルの容積（Ｖ（Ｉ））対顔料の容積（Ｖ（Ｐ））の比は３．０を超え、且つ前記コーティング層はｄ５０／３より厚いことを特徴とし、前記ｄ５０は、磁気的に配向可能な光学可変性干渉顔料フレークの平均直径であり、前記画像コーティングがフレキソ印刷用インキ、グラビア印刷用インキ、シルクスクリーン印刷用インキ及びローラーコーティングインキからなる群から選択される印刷インキで印刷される、前記磁気的に誘導された画像コーティング。
【請求項２１】
紙幣、クレジットカード、アクセスカード、セキュリティバッジ、有価証券、権利書若しくは身分証明書、乗車券、宝くじ、イベントチケット、タックスバンデロール、セキュリティスレッド、ラベル、ホイル、ストリップまたは製品セキュリティ用途における請求項２０に記載の磁気的に誘導した画像コーティングの使用。
【請求項２２】
請求項２０に記載の磁気的に誘導された画像コーティングを含む、紙幣、クレジットカード、アクセスカード、セキュリティバッジ、有価証券、権利書若しくは身分証明書、乗車券、宝くじ、イベントチケット、タックスバンデロール、セキュリティスレッド、ラベル、ホイル、ストリップまたは製品セキュリティ用途用のセキュリティエレメント。
【請求項２３】
赤外線マーカー、蛍光マーカー、ＵＶマーカー、燐光マーカー、磁気マーカー、裁判用マーカー及びその混合物からなる群から選択されるマーキング手段をさらに含む、請求項２２に記載のセキュリティエレメント。
【請求項２４】
請求項２２又は２３の一つに記載のセキュリティエレメントを含む、紙幣、クレジットカード、アクセスカード、セキュリティバッジ、有価証券、権利書若しくは身分証明書、乗車券、宝くじ、イベントチケット、タックスバンデロール、セキュリティスレッド、ラベル、ホイル、ストリップまたは製品セキュリティ用途。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
認識された光学的特徴及び色純度（ｃｏｌｏｒ ｐｕｒｉｔｙ）は、基材（ｓｕｂｓｔｒａｔｅ）上の硬化インキまたはコーティング層の中の顔料の最終配向に依存する。ランダム配向した光学可変性の顔料フレークまたは小板は、色変わり（ｃｏｌｏｒ ｓｈｉｆｔ）が少なく且つ色純度が低い。最大の色変わりと色純度には、インキまたはコーティング内で光学可変性の顔料フレークまたは小板が同一の特定の配向、たとえば基材表面に対して共通の平面（ｃｏ−ｐｌａｎａｒ）をとる必要がある。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月22日(2010.4.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）車体、複数の可動地面係合部材、および、前記可動地面係合部材に対して旋回可能となるように回転可能な接続部によって前記車体に取り付けられた旋回体、を有する中央クレーンユニットと、
ｂ）ブーム支持部材、前記ブーム支持部材に枢動可能に取り付けられたブーム、および、前記ブーム支持部材に取り付けられた少なくとも１つの可動地面係合部材を有するブームユニットであって、可動地面係合部材が前記ブームの質量を支持し、前記ブーム、前記ブーム支持部材および前記ブームユニットの可動地面係合部材とが一緒に一つのユニットとして移動するようになっているブームユニットと、
ｃ）カウンタウエイト支持部材上に設けられたカウンタウエイト、および、カウンタウエイト支持部材上に取り付けられた可動地面係合部材を有するカウンタウエイトユニットと、
ｄ）前記ブームによって吊り上げられた吊り荷の平衡を前記カウンタウエイトによって保つことができるように、前記ブームと前記カウンタウエイトユニットを接続している綱具装置と、
を備えている自走式リフトクレーンであって、
ｅ）前記ブームユニットは第１構造部材によって前記中央クレーンユニットに接続されており、前記カウンタウエイトユニットは第２構造部材によって前記中央クレーンユニットに接続されており、前記第１及び第２構造部材は、圧縮荷重を受けながら前記ブームユニット、前記旋回体、および、前記カウンタウエイトユニットを互いに横方向で整列された状態に維持するが、前記ブームユニット、前記旋回体、および、前記カウンタウエイトユニット間の相対的な上下方向の動きは可能とし、当該自走式リフトクレーンは、前記中央クレーンユニットと、前記ブームユニットと、前記第１構造部材との連結体上に枢動可能に取り付けられたメインマストをさらに備えている、自走式リフトクレーン。
【請求項２】
前記中央クレーンユニットの前記可動地面係合部材は少なくとも２つのクローラを備えている、請求項１に記載の自走式リフトクレーン。
【請求項３】
前記ブームユニットの前記可動地面係合部材は少なくとも２つのクローラを備えている、請求項１に記載の自走式リフトクレーン。
【請求項４】
前記カウンタウエイトユニットの前記可動地面係合部材は複数の車輪を備えている、請求項１に記載の自走式リフトクレーン。
【請求項５】
前記カウンタウエイトユニットの前記可動地面係合部材は少なくとも２つのクローラを備えている、請求項１に記載の自走式リフトクレーン。
【請求項６】
前記メインマストは前記ブームユニットの前記ブーム支持部材に枢動可能に取り付けられている、請求項１に記載の自走式リフトクレーン。
【請求項７】
前記中央クレーンユニットは前記旋回体に枢動可能に接続された補助マストをさらに備えている、請求項６に記載の自走式リフトクレーン。
【請求項８】
前記ブームユニットの前記少なくとも２つのクローラは、２つのクローラからなる組を２組備えている、請求項３に記載の自走式リフトクレーン。
【請求項９】
前記ブームユニットのクローラはそれぞれ上下方向軸を中心として回転可能であり、前記ブームユニットが、ｉ）前記中央クレーンユニットの前記回転可能な旋回接続部の軸を中心とした円弧方向、および、ｉｉ）前記中央クレーンユニットの直線方向の移動に対応した横方向、の両方に移動可能となっている、請求項３に記載の自走式リフトクレーン。
【請求項１０】
前記ブームは、メインブームと、前記メインブームの最上部に枢動可能に取り付けられたラッフィングジブとを備えている、請求項１に記載の自走式リフトクレーン。
【請求項１１】
吊り荷ホイストラインを含んでいるドラムであって、前記第１構造部材上に取り付けられたドラムをさらに備えている、請求項１に記載の自走式リフトクレーン。
【請求項１２】
前記ブームは、最上部および最下部において互いに接続された２つの独立した格子構造を備えている、請求項１に記載の自走式リフトクレーン。
【請求項１３】
前記綱具装置は、ｉ）前記メインマストと前記ブームの間に設けられ、ブーム角度を変化可能としているブームホイスト綱具装置と、ｉｉ）前記メインマストと前記カウンタウエイトユニットの間に設けられた背面連結部材ストラップとを備えている、請求項１に記載の自走式リフトクレーン。
【請求項１４】
第２のカウンタウエイトユニットをさらに備えている、請求項１に記載の自走式リフトクレーン。
【請求項１５】
前記第２のカウンタウエイトユニットは自由につり下げて使用するように構成されている、請求項１４に記載の自走式リフトクレーン。
【請求項１６】
前記カウンタウエイトユニットの前記可動地面係合部材は上下方向軸を中心として回転可能であり、前記カウンタウエイトユニットが、ｉ）前記中央クレーンユニットの前記回転可能な旋回接続部の軸を中心とした円弧方向、および、ｉｉ）前記中央クレーンユニットの直線方向の移動に対応した方向、の両方に移動可能となっている、請求項１に記載の自走式リフトクレーン。
【請求項１７】
ａ）カウンタウエイト支持部材、カウンタウエイト、および、少なくとも２つの可動地面係合部材、を有するカウンタウエイトユニットであって、前記カウンタウエイト支持部材は旋回軸を中心として前記可動地面係合部材に対して旋回可能となるように回転可能な接続部によって前記可動地面係合部材に取り付けられている、カウンタウエイトユニットと、
ｂ）ブーム支持部材、少なくとも２つの可動地面係合部材、前記ブーム支持部材に枢動可能に取り付けられたブーム、および、前記ブーム支持部材に枢動可能に取り付けられたメインマスト、を有するブームユニットと、
ｃ）前記ブームユニットと前記カウンタウエイトユニットの間に設けられた構造部材であって、圧縮荷重を受けながら前記ブームユニットおよび前記カウンタウエイトユニットを互いに横方向に整列された状態に維持するとともに、前記ブームユニットと前記カウンタウエイトユニット間の相対的な上下方向の動きは可能とする構造部材であって、該構造部材上に取り付けられ、吊り荷ホイストラインを含んでいるドラムを備えている構造部材と、
ｄ）前記ブームによって吊り上げられた吊り荷の平衡を前記カウンタウエイトによって保つことができるように、前記ブーム、前記マスト、および、前記カウンタウエイトユニットを接続している綱具装置と、
を備えている自走式リフトクレーンであって、
ｅ）前記ブームユニットの前記可動地面係合部材は前記ブームユニット支持部材に対して回転可能であり、前記ブームユニットが、ｉ）前記カウンタウエイトユニットの前記旋回軸を中心とした円弧方向に移動でき、且つ、ｉｉ）前記構造部材と同一線上の方向に移動できるようになっている、自走式リフトクレーン。
【請求項１８】
前記ブームユニットの前記少なくとも２つの可動地面係合部は、２つのクローラからなる組を２組備えている、請求項１７に記載の自走式リフトクレーン。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月2日(2010.2.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
この工程においては、制御された量の吸着剤粒子を、脱ガムしたトリグリセリドと混合する。脱ガムしたトリグリセリド中のリンの量を所望のレベル（例えば、典型的には１ｐｐｍよりも多く約１０ｐｐｍ以下）に減少させるために、有効量の吸着剤粒子を用いる。脱ガムしたトリグリセリド中のリンの量を所望のレベルに減少させるのに必要な吸着剤粒子の有効量は、用いる吸着剤粒子のタイプ、及びはじめの脱ガムしたトリグリセリドによって異なる。本発明の一つの望ましい態様においては、W.R. Grace (Columbia, MD)から商業的に入手できる有効量のTriSyl（登録商標）シリカヒドロゲル粒子を用いる。例えば、ヨーロッパ特許出願ＥＰ−０１８５１８２−Ａ１、及びＥＰ−０５０７４２４−Ａ１を参照されたい。ここでは、食用油の製造において脱ガムしたトリグリセリド中のリンの量を減少させるために有効量のTriSyl（登録商標）シリカヒドロゲル粒子を用いることが開示されている（そのそれぞれの内容は、全て、参照として本明細書中に包含する）。TriSyl（登録商標）シリカヒドロゲル粒子の優れた吸着特性のために、脱ガムしたトリグリセリド中のリンの量を所望のレベルまで減少させるのに、より小さな濃度（例えば、脱ガムしたトリグリセリドの質量又は容積に対するシリカ粒子の質量の比）のTriSyl（登録商標）シリカヒドロゲル粒子しか必要でないことが見出された。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月8日(2010.4.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
約50から約100mg/m2の間の用量の、ドセタキセルまたはその薬学的に許容される塩と組み合わせた、約0.4から約1.3mg/m2の間の用量の、ET-743またはその薬学的に許容される塩を投与する工程を含む、併用療法における癌に対する人体の治療のための医薬の調製用の、ET-743またはその薬学的に許容される塩の使用。
【請求項２】
ET-743およびドセタキセルが静脈内注入によって投与され、かつET-743についての注入時間が24時間までおよびドセタキセルの注入時間が6時間までである、請求項１に記載の使用。
【請求項３】
ET-743についての注入時間が約3時間である、請求項２に記載の使用。
【請求項４】
ドセタキセルについての注入時間が約1時間である、請求項２または３に記載の使用。
【請求項５】
ET-743が用量約1.1mg/m2または約1.3mg/m2で投与される、請求項１から４のいずれか一項に記載の使用。
【請求項６】
ドセタキセルが用量約60mg/m2または約75mg/m2で投与される、請求項１から５のいずれか一項に記載の使用。
【請求項７】
ドセタキセルが用量約60mg/m2で注入時間約1時間をかけて投与され、次いでET-743が用量約1.3mg/m2で注入時間約3時間をかけて投与される、請求項６に記載の使用。
【請求項８】
ドセタキセルが用量約60mg/m2で注入時間約1時間をかけて投与され、次いでET-743が用量約1.1mg/m2で注入時間約3時間をかけて投与される、請求項６に記載の使用。
【請求項９】
ドセタキセルが用量約75mg/m2で注入時間約1時間をかけて投与され、次いでET-743が用量約1.1mg/m2で注入時間約3時間をかけて投与される、請求項６に記載の使用。
【請求項１０】
ドセタキセルが用量約75mg/m2で注入時間約1時間をかけて投与され、次いでET-743が用量約1.3mg/m2で注入時間約3時間をかけて投与される、請求項６に記載の使用。
【請求項１１】
ET-743およびドセタキセルが3または4週間ごとに1回投与される、請求項１から１０のいずれか一項に記載の使用。
【請求項１２】
ET-743およびドセタキセルが3週間ごとに1回投与される、請求項１１に記載の使用。
【請求項１３】
併用療法がフィルグラスチムを投与する工程をさらに含む、請求項１から１２のいずれか一項に記載の使用。
【請求項１４】
患者が再発性であるか、または先行する化学療法に抵抗性である、請求項１から１３のいずれか一項に記載の使用。
【請求項１５】
患者が、腹膜癌、肉腫、骨肉腫、卵巣癌、乳癌、黒色腫、膵臓癌、胃腺癌、結腸直腸癌、中皮腫、腎臓癌、子宮内膜癌、頭頸部癌腫、前立腺癌および肺癌から選択される癌を有する、請求項１から１４のいずれか一項に記載の使用。
【請求項１６】
少なくとも1サイクル分の、請求項１から１５のいずれか一項に記載の使用のために適切な量のET-743および薬学的に許容される担体を含有する用量単位でのET-743の供給物、ならびに請求項１から１５のいずれか一項に記載の使用におけるET-743の投与のための説明書を含む、ET-743をドセタキセルとの組合せで投与するための医療用キット。
【請求項１７】
少なくとも1サイクル分の、請求項１から１５のいずれか一項に記載の使用のために適切な量のドセタキセルおよび薬学的に許容される担体を含有する用量単位でのドセタキセルの供給物、ならびに請求項１から１５のいずれか一項に記載の使用におけるドセタキセルの投与のための説明書を含む、ドセタキセルをET-743との組合せで投与するための医療用キット。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月9日(2010.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
固体カーボンナノチューブ（ＣＮＴ）組成物であって、
カーボンナノチューブと、
少なくとも０．５重量％のＳ及び少なくとも０．５重量％のＣｌと
を含み、ラマンスペクトルにおいて１５９３〜１６０５ｃｍ-1のピーク最大値を有する接線モード（ＴＭ）を示す、ＣＮＴ組成物。
【請求項２】
３００Ｓ／ｃｍを超えるバルク導電率を有する、請求項１に記載のＣＮＴ組成物。
【請求項３】
３００Ｓ／ｃｍ〜５０，０００Ｓ／ｃｍの範囲のバルク導電率を有する、請求項１又は２に記載のＣＮＴ組成物。
【請求項４】
２０００〜５０００Ｓ／ｃｍの範囲のバルク導電率を有する、請求項１〜３のいずれかに記載のＣＮＴ組成物。
【請求項５】
前記組成物がネットワークフィルムである、請求項１〜４のいずれかに記載のＣＮＴ組成物。
【請求項６】
０．４０を超えるＣＮＴの体積分率を有する、請求項１〜５のいずれかに記載のＣＮＴ組成物。
【請求項７】
５００ｎｍ未満のフィルム厚を有する、請求項１〜６のいずれかに記載のＣＮＴ組成物。
【請求項８】
８を超えるＧ／Ｄを有する、請求項１〜７のいずれかに記載のＣＮＴ組成物。
【請求項９】
８〜４０の範囲のＧ／Ｄを有する、請求項１〜８のいずれかに記載のＣＮＴ組成物。
【請求項１０】
１４〜１８の範囲のＧ／Ｄを有する、請求項１〜９のいずれかに記載のＣＮＴ組成物。
【請求項１１】
ＣＮＴの処理方法であって、
ＣＮＴを準備し、そして
該ＣＮＴとドープ剤とを接触させること
を含み、そして、次の少なくとも一つ：
該ＣＮＴにＵＶ処理を施すこと；又は
ドープ剤を添加する前に約１４〜約２２の範囲のＧ／Ｄ比を示すように該ＣＮＴに複数の欠陥を導入すること；又は
該ドープ剤を添加する前に若しくは添加すると同時に該ＣＮＴに酸化プラズマ処理を施すこと；又は
該ドープ剤を添加する前に若しくは添加すると同時に該ＣＮＴに電子線を照射すること；又は
ドーピング触媒を使用して該ドーピング工程を触媒すること
をさらに特徴とする、ＣＮＴの処理方法。
【請求項１２】
前記ＣＮＴをＵＶオゾン処理することを含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
異なるドーパントで連続的に処理して、異なるバンドギャップを有するナノチューブにおいて好ましいデプレッションレベルを達成することを含む、請求項１１又は１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記ＣＮＴが５００ｎｍ未満の厚さを有するフィルムの形態にある、請求項１１〜１３のいずれかに記載の方法。
【請求項１５】
前記ＣＮＴを液状ドープ剤で処理することを含む、請求項１１〜１４のいずれかに記載の方法。
【請求項１６】
前記ＣＮＴを少なくとも６０％のドープ剤を含有する溶液で処理することを含む、請求項１１〜１４のいずれかに記載の方法。
【請求項１７】
前記ＣＮＴと液体塩化チオニルとを接触させることを含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項１８】
前記ＣＮＴを酸素の存在下でＵＶ光により処理する、請求項１１に記載の方法。
【請求項１９】
Ｇ／Ｄ比が８〜３０の範囲になるようにＣＮＴに欠陥を導入する、請求項１１〜１８のいずれかに記載の方法。
【請求項２０】
基材と、ストレージ層と、該ストレージ層に直接接触するドープＣＮＴ層とを備える多層構造体。
【請求項２１】
前記基材がＮＩＲ又はＩＲにおいて透明である、請求項２０に記載の多層構造体。
【請求項２２】
前記基材がＺｎＳ、ＺｎＳｅ、サファイア、Ｇｅ、Ｓｉ又はそれらの組み合わせを含む、請求項２０に記載の多層構造体。
【請求項２３】
前記ドープＣＮＴ層が塩化チオニルを含む、請求項２０〜２２のいずれかに記載の多層構造体。
【請求項２４】
前記ストレージ層が塩化チオニルを含む、請求項２０〜２３のいずれかに記載の多層構造体。
【請求項２５】
前記ストレージ層が０．０１重量％未満のドーパントを含む、請求項２０〜２４のいずれかに記載の多層構造体。
【請求項２６】
前記ストレージ層が重合体を含む、請求項２０〜２５のいずれかに記載の多層構造体。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月28日(2010.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
方法であって、
支持体に近接する無機炭素含有前駆物質を処理して、当該無機炭素含有前駆物質から実質的に全ての非炭素種を除去するものである処理する工程を有し、
前記無機炭素含有前駆物質は、前記支持体に近接して位置することにより、複数のナノ細孔を有する支持ナノ多孔性炭素質膜を生成するものであり、
前記複数のナノ細孔は窒素ガス吸着等温線の非局所密度汎関数理論法分析によって決定される平均的な横断面の幅が約７ｎｍ未満であることを特徴とするものである、
方法。
【請求項２】
請求項１記載の方法において、この方法は、さらに、
前記無機炭素含有前駆物質の処理前に、化学蒸着、物理蒸着、スパッタリング、マグネトロンスパッタリング、又はそれらの任意の組み合わせによって支持体に近接する前記無機炭素含有前駆物質を蒸着する工程を有するものである。
【請求項３】
請求項１記載の方法において、前記複数のナノ細孔は実質的に長尺な孔であることを特徴とするものである。
【請求項４】
請求項１記載の方法において、前記複数のナノ細孔は形が実質的に円柱状であることを特徴とするものである。
【請求項５】
請求項１記載の方法において、前記複数のナノ細孔は窒素ガス吸着等温線の非局所密度汎関数理論法分析によって決定される平均的な横断面の幅が約３ｎｍ未満であることを特徴とするものである。
【請求項６】
請求項１記載の方法において、前記複数のナノ細孔は窒素ガス吸着等温線の非局所密度汎関数理論法分析によって決定される平均的な横断面の幅が約１ｎｍ未満であることを特徴とするものである。
【請求項７】
請求項１記載の方法において、前記無機炭素含有前駆物質は炭化物、炭窒化物、又はそれらの任意の組み合わせに由来するものである。
【請求項８】
請求項７記載の方法において、前記炭化物は２価炭化物、４価炭化物、又はそれらの任意の組み合わせを有するものである。
【請求項９】
請求項１記載の方法において、前記無機炭素含有前駆物質は無晶形、水晶形、ナノ水晶形、マイクロ水晶形、水晶形、又はそれらの任意の組み合わせを特徴とするものである。
【請求項１０】
請求項１記載の方法において、前記無機炭素含有前駆物質は少なくとも１つの金属を有するものである。
【請求項１１】
請求項１０記載の方法において、前記金属はＴｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｗ、Ｆｅ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｂ、Ｃａ、Ｃｒ、又はそれらの任意の組み合わせを含む。
【請求項１２】
請求項１記載の方法において、前記無機炭素含有前駆物質は約５ｎｍ〜約１０００マイクロメーターの範囲の厚さを有することを特徴とするものである。
【請求項１３】
請求項１記載の方法において、前記無機炭素含有前駆物質は約３０ｎｍ〜約５００マイクロメーターの範囲の厚さを有することを特徴とするものである。
【請求項１４】
請求項１記載の方法において、前記無機炭素含有前駆物質は約３００ｎｍ〜約１００マイクロメーターの範囲の厚さを有することを特徴とするものである。
【請求項１５】
請求項１記載の方法において、前記無機炭素含有前駆物質は約５００ｎｍ〜約１マイクロメーターの範囲の厚さを有することを特徴とするものである
【請求項１６】
請求項１記載の方法において、前記無機炭素含有前駆物質は粉末状、バルク状、粒子状、又はそれらの任意の組み合わせであることを特徴とするものである。
【請求項１７】
請求項１記載の方法において、前記支持体は多孔性である。
【請求項１８】
請求項１記載の方法において、前記支持体は無孔性である。
【請求項１９】
請求項１記載の方法において、前記支持体は無機質組成物を有するものである。
【請求項２０】
請求項１９記載の方法において、前記無機質組成物は酸化アルミニウムを有するものである。
【請求項２１】
請求項１記載の方法において、前記無機炭素含有前駆物質を処理する工程はハロゲン化、加熱、焼結、又はそれらの任意の組み合わせを有するものである。
【請求項２２】
請求項２１記載の方法において、前記無機炭素含有前駆物質は約１０℃〜約２０００℃の範囲の温度で処理されるものである。
【請求項２３】
請求項２１記載の方法において、前記無機炭素含有前駆物質は約１００℃〜約１０００℃の範囲の温度で処理されるものである。
【請求項２４】
請求項２１記載の方法において、前記無機炭素含有前駆物質は約３００℃〜約７００℃の範囲の温度で処理されるものである。
【請求項２５】
請求項１記載の方法において、この方法は、さらに、
支持ナノ多孔性炭素質膜を冷却する工程を有するものである。
【請求項２６】
請求項２５記載の方法において、前記冷却工程は支持ナノ多孔性炭素質膜を温度勾配、流体、ヒートシンク、又はそれらの任意の組み合わせに曝す工程を有するものである。
【請求項２７】
請求項１記載の方法において、この方法によって生成される支持ナノ多孔性炭素質膜である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
したがって、本技術分野では亀裂がなく同時に調節可能な孔サイズ及び広い表面面積を持つ薄いナノ多孔性膜が明らかに必要とされている。そのような組成物及び膜の合成方法もまた必要とされている。
この出願の発明に関連する先行技術文献情報としては、以下のものがある（国際出願日以降国際段階で引用された文献及び他国に国内移行した際に引用された文献を含む）。
【特許文献１】米国特許出願公開第２００３／０３４２９５号明細書
【特許文献２】欧州特許出願公開第０，６１７，９９７号明細書
【特許文献３】米国特許第６，０３９，７９２号明細書
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月7日(2010.5.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ドライパウダーを注入するための装置であって、
コンベヤを含む第１の容器と、
前記ドライパウダーのエアゾールを生成する手段と、
前記第１の容器と接続され、垂直反応装置の頂上部分に接続されている第２の容器と、
を備えることを特徴とするドライパウダー注入装置。
【請求項２】
前記第１の容器は、さらに、加熱手段と、ガス流入口と、ガス流出口と、を備えることを特徴とする請求項１に記載のドライパウダー注入装置。
【請求項３】
前記ドライパウダーは、パウダー状の酸化物基質で担持される金属触媒を有しており、
前記パウダー状の酸化物基質は、０．５μｍ〜５μｍの粒子サイズを有することを特徴とする請求項１に記載のドライパウダー注入装置。
【請求項４】
前記第２の容器は、加熱手段および／または中性化手段を備えることを特徴とする請求項１に記載のドライパウダー注入装置。
【請求項５】
単層カーボンナノチューブ（ＳＷＮＴｓ）の生産方法であって、エアゾール注入工程とＳＷＮＴｓ生産工程とを備え、
前記エアゾール注入工程において、加熱され、乾いて、還元された触媒粒子のエアゾールが反応装置に注入され、前記触媒粒子は担持物質と触媒物質とを備えており、前記エアゾールは流動床を使って生成され、
前記ＳＷＮＴｓ生産工程において、触媒作用によるＳＷＮＴｓの生産をするのに十分長い時間と十分高い反応温度で、前記還元された触媒粒子をカーボン含有ガスに曝露することによって、触媒作用によりＳＷＮＴｓを生産する
ことを特徴とする単層カーボンナノチューブの生産方法。
【請求項６】
前記触媒粒子は、コバルト、鉄、ニッケル、タングステン、モリブデン、あるいはそれらの組み合わせであることを特徴とする請求項５に記載の単層カーボンナノチューブの生産方法。
【請求項７】
前記エアゾールは、Ｈｅ，ＡｒおよびＮ２によって構成されるグループから選択された不活性ガスであることを特徴とする請求項５に記載の単層カーボンナノチューブの生産方法。
【請求項８】
前記カーボン含有ガスは、ＣＯ，ＣＨ４，Ｃ２Ｈ４およびＣ２Ｈ２、あるいはそれらの組み合わせによって構成されるグループから選択されたガスを含むことを特徴とする請求項５に記載の単層カーボンナノチューブの生産方法。
【請求項９】
前記担持物質は、ＳｉＯ２，Ａｌ２Ｏ３，ＭｇＯ，ＺｒＯ２、ゼオライト、ＭＣＭ−４１，Ｍｇ（Ａｌ）Ｏによって構成されるグループから選択されることを特徴とする請求項５に記載の単層カーボンナノチューブの生産方法。
【請求項１０】
前記反応温度は、約７００℃〜約１０００℃であることを特徴とする請求項５に記載の単層カーボンナノチューブの生産方法。
【請求項１１】
前記反応温度は、約７５０℃〜約９５０℃であることを特徴とする請求項１０に記載の単層カーボンナノチューブの生産方法。
【請求項１２】
前記カーボン含有ガスは、希釈ガスをさらに含んでいることを特徴とする請求項５に記載の単層カーボンナノチューブの生産方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
一態様において、本発明は、ドライパウダーを注入するための装置を提供する。本装置は、コンベヤを含む第１の容器と、ドライパウダーのエアゾールを生成する手段と、第１の容器と接続され垂直反応装置の頂上部分に接続されている第２の容器と、を備えている。ドライパウダーは、望ましくは、ＳＷＮＴｓを準備するための触媒である。そして、ドライパウダーは、Ｈ２，ＮＨ３，ＣＨ４，Ｈｅ，Ａｒ，Ｋｒ，Ｘｅ，Ｎ２、あるいはそれらの混合物を使って還元される。ドライパウダーまたは触媒は、０．５μｍ〜５μｍの粒子サイズを有するパウダー状の酸化物基質で担持される金属触媒でありえる。そして、エアゾールは、加圧されたヘリウムまたはアルゴンを使ってつくられる。いくつかの態様において、エアゾール化したパウダーは、約６００℃〜約１２００℃に加熱される。
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月19日(2009.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
紡績機又は撚糸機のスピンドルに糸をクランプするクランプ装置（４）であって、該クランプ装置（４）がスピンドル上部分（１）に配置され、定置のクランプエレメント（５）と、軸方向に移動可能で、前記定置のクランプエレメント（５）に対しばね力によって圧着可能なクランプエレメント（６）とを有しており、前記移動可能なクランプエレメント（６）が球形の遠心力エレメント（９）によってばね力に抗して、定置のクランプエレメント（５）と移動可能なクランプエレメント（６）との間にクランプギャップ（１６）が形成されるようにかつクランプ装置（４）が遠心力エレメント（９）を配置しかつ案内するために役立つ受容部を有するように、軸方向で定置のクランプエレメント（５）に対し移動可能なクランプエレメント（６）に、間隔を付与する力で負荷される形式のものにおいて、遠心力エレメント（９）の受容部がそれぞれ、互いに協働する、半径方向に延在する２つのハーフシェル（１３，１５）から構成され、該ハーフシェル（１３，１５）が遠心力エレメント（９）を取囲んでおり、かつクランプ装置（４）の、クランプギャップ（１６）とは反対側に配置されており、ハーフシェル（１３，１５）とクランプギャップ（１６）との間に圧縮ばね（８）が配置されていることを特徴とする、クランプ装置。
【請求項２】
ハーフシェル（１３，１５）がクランプ装置（４）の外周に均等に分配されて配置されている、請求項１記載のクランプ装置。
【請求項３】
それぞれ１つのハーフシェル（１５）が移動可能なクランプエレメント（６）に配置され、それぞれ協働するハーフシェル（１３）が不動に配置された台エレメント（７）に配置されている、請求項１又は２記載のクランプ装置。
【請求項４】
台エレメント（７）又は移動可能なクランプエレメント（６）のハーフシェル（１３，１５）が水平線に対し傾けられた滑子案内を有し、協働するハーフシェル（１３，１５）が水平線に対しほぼ平行な滑子案内を有し、前記滑子案内が遠心力エレメントの案内に用いられている、請求項３記載のクランプ装置。
【請求項５】
クランプエレメント（６）における滑子案内の傾きが１０°と７０°との間、特に１５°と６５°との間である、請求項４記載のクランプ装置。
【請求項６】
移動可能なクランプエレメント（６）がそのハーフシェル（１５）で、台エレメント（７）の外周に配置された溝（１４）内で案内されている、請求項１から５までのいずれか１項記載のクランプ装置。
【請求項７】
クランプエレメント（５，６）が互いに向き合った端面に協働するウェブと切欠きとを有している、請求項１から６までのいずれか１項記載のクランプ装置。
【請求項８】
クランプエレメント（５，６）の外周面（１７，１８）がクランプギャップ（１６）の領域にて少なくとも区分的に円錐に構成されている、請求項１から７までのいずれか１項記載のクランプ装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月10日(2010.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無電解銅メッキ溶液であって、
水性銅塩成分と、
水性コバルト塩成分と、
トリアミン化合物である錯化剤と、
前記無電解銅メッキ溶液を酸性にするのに十分な量のｐH修飾物質と
を含み、
前記ｐH修飾物質は、硫酸、硝酸、塩化水素酸、ホウフッ化水素酸、及び酢酸からなる酸性のｐＨ修飾物質のグループから選択される
無電解銅メッキ溶液。
【請求項２】
前記水性銅塩成分は、硫酸銅（２）、硝酸銅（２）、塩化銅（２）、テトラフルオロホウ酸銅（２）、及び酢酸銅（２）により構成された銅塩の集合から選択される請求項１記載の無電解銅メッキ溶液。
【請求項３】
前記水性銅塩成分は、硫酸エチレンジアミン銅（２）、硫酸ビス（エチレンジアミン）銅（２）、硝酸ジエチレントリアミン銅（２）、及び硝酸ビス（ジエチレントリアミン）銅（２）で構成された錯塩である銅塩の集合から選択される請求項１記載の無電解銅メッキ溶液。
【請求項４】
前記水性コバルト塩成分は、硫酸コバルト（２）、硝酸コバルト（２）、塩化コバルト（２）、テトラフルオロホウ酸コバルト（２）、及び酢酸コバルト（２）により構成された集合から選択される請求項１記載の無電解銅メッキ溶液。
【請求項５】
前記トリアミン化合物は、ジエチレントリアミン、ジプロピレントリアミン、及びエチレンプロピレントリアミンにより構成された集合から選択される請求項１記載の無電解銅メッキ溶液。
【請求項６】
前記無電解銅メッキ溶液のｐHは、約４．３ないし約４．６である請求項１記載の無電解銅メッキ溶液。
【請求項７】
無電解銅メッキ溶液であって、
約０．００１モル濃度（Ｍ）から、その溶解限度までの間の濃度を有する水性銅塩成分と、
水性コバルト塩成分と、
トリアミン化合物である錯化剤と、
前記無電解銅メッキ溶液を酸性にするのに十分な量のｐH修飾物質と、
を含み、
前記ｐH修飾物質は、硫酸、硝酸、塩化水素酸、ホウフッ化水素酸、及び酢酸からなる酸性のｐＨ修飾物質のグループから選択される
無電解銅メッキ溶液。
【請求項８】
前記ｐＨ修飾物質は、前記無電解銅メッキ溶液を約４．０ないし約６．４のｐＨに調製する緩衝液である請求項７記載の無電解銅メッキ溶液。
【請求項９】
前記水性銅塩成分は、硫酸銅（２）、硝酸銅（２）、塩化銅（２）、テトラフルオロホウ酸銅（２）、及び酢酸銅（２）により構成された集合から選択される請求項７記載の無電解銅メッキ溶液。
【請求項１０】
前記水性コバルト塩成分は、硫酸コバルト（２）、硝酸コバルト（２）、塩化コバルト（２）、テトラフルオロホウ酸コバルト（２）、及び酢酸コバルト（２）により構成された集合から選択される請求項７記載の無電解銅メッキ溶液。
【請求項１１】
無電解銅メッキ溶液であって、
水性銅塩成分と、
約０．００１モル濃度（Ｍ）から、その溶解限度までの間の濃度を有する水性コバルト塩成分と、
トリアミン化合物である錯化剤と、
前記無電解銅メッキ溶液を酸性にするのに十分な量のｐH修飾物質と、
を含み、
前記無電解銅メッキ溶液のｐHは、約４．０ないし約４．６である
無電解銅メッキ溶液。
【請求項１２】
前記水性銅塩成分は、硫酸銅（２）、硝酸銅（２）、塩化銅（２）、テトラフルオロホウ酸銅（２）、及び酢酸銅（２）にからなるグループから選択される請求項１１記載の無電解銅メッキ溶液。
【請求項１３】
前記水性コバルト塩成分は、硫酸コバルト（２）、硝酸コバルト（２）、塩化コバルト（２）、テトラフルオロホウ酸コバルト（２）、及び酢酸コバルト（２）により構成された集合から選択される請求項１１記載の無電解銅メッキ溶液。
【請求項１４】
無電解銅メッキ溶液であって、
水性銅塩成分と、
水性コバルト塩成分と、
約０．００５モル濃度（Ｍ）ないし約１０．０Ｍの濃度を有する、トリアミン化合物である錯化剤と、
前記無電解銅メッキ溶液を酸性にするのに十分な量のｐH修飾物質と、
を含み、
前記無電解銅メッキ溶液のｐHは、約４．０ないし約４．６である
無電解銅メッキ溶液。
【請求項１５】
前記無電解銅メッキ溶液は、第一の混合物を第二の混合物と混合することで調製され、
前記第一の混合物は、本質的に、前記水性銅塩成分と、前記ｐＨ修飾物質と、前記錯化剤の一部とにより構成され、
前記第二の混合物は、本質的に、前記水性コバルト塩成分と、前記錯化剤の残りとにより構成される請求項１４記載の無電解銅メッキ溶液。
【請求項１６】
前記無電解銅メッキ溶液は、連続的に、前記水性銅塩成分を一定量の水に混ぜ合わせ、次に、前記ｐＨ修飾物質を前記水性銅塩成分／水の組み合わせに追加し、その後、前記錯化剤を追加し、最後に前記水性コバルト塩成分を追加することで調製される請求項１４記載の無電解銅メッキ溶液。
【請求項１７】
無電解銅メッキ溶液を調製する方法であって、
水性銅塩成分と、錯化剤の一部と、酸とを混ぜ合わせて第一の成分とするステップと、
水性コバルト塩成分と、錯化剤の残りの部分とを混ぜ合わせて第二の成分とするステップと、
前記第一の成分と前記第二の成分とを、堆積工程において使用する前に混合するステップと
を備える方法。
【請求項１８】
前記水性銅塩成分は、硫酸銅（２）、硝酸銅（２）、塩化銅（２）、テトラフルオロホウ酸銅（２）、及び酢酸銅（２）により構成された集合から選択される請求項１７記載の無電解銅メッキ溶液を調製する方法。
【請求項１９】
前記水性コバルト塩成分は、硫酸コバルト（２）、硝酸コバルト（２）、塩化コバルト（２）、テトラフルオロホウ酸コバルト（２）、及び酢酸コバルト（２）により構成された集合から選択される請求項１７記載の無電解銅メッキ溶液を調製する方法。
【請求項２０】
前記錯化剤は、トリアミン化合物である請求項１７記載の無電解銅メッキ溶液を調製する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月11日(2010.3.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上にゲルマニウムを堆積させる方法であって、３５０℃よりも低い温度で前記基板をゲルマニウム（ＩＩ）前駆体の蒸気と接触させるステップを含む方法。
【請求項２】
前記温度が３００℃よりも低い、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記温度が２５０℃よりも低い、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記温度が２２５℃よりも低い、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
基板上にゲルマニウム含有膜を形成する方法であって、化学蒸着又は原子層堆積において、イソプロピル、イソブチル、ベンジル、アリル、アルキルアミノ、ニトリル及びイソニトリルからなる群より選択される配位子を含むゲルマニウム錯体の使用を含む方法。
【請求項６】
前記化学蒸着又は原子層堆積が３５０℃よりも低い温度で行われる、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
ＧｅＳｂＴｅ半導体を形成する方法であって、ＧｅＳｂＴｅ半導体材料の膜を堆積させるステップと、前記膜を窒素でドープするステップとを含む方法。
【請求項８】
前記ドープするステップが、アンモニアの使用を含む、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記ドープするステップが、アミン液の使用を含む、請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
前記アンモニアを前記膜の形成中に前駆体との共反応物として導入する、請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
前記ドープするステップが、任意にパルス間のパージと共に、窒素ドーパントのパルシングを含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
前記ドープするステップが、膜の形成において窒素含有前駆体からの窒素の導入を含む、請求項９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月17日(2010.2.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
鉄道車両用のディスクブレーキキャリパであって、
制動するブレーキディスク（ＢＤ）の両側方に吊り下げられ、前記キャリパの実質的に水平な中心線（ＣＬ）に垂直な面内でのみ移動するブレーキパッドホルダ（４）を備え、
制動ユニット（１１）から前記ブレーキパッドホルダ（４）に動作を伝達する前記キャリパの部材（６、８、９、１０）は、該部材の全方向における一定の範囲への動作を可能にする弾性接続部（７）の、ゴム弾性材料の要素（１２、１３）のみを介して前記車両から吊り下げられ、
前記弾性接続部（７）は、少なくとも１つの板状のゴム弾性要素（１２、１３）を備え、該ゴム弾性要素（１２、１３）は、前記車両への取り付け部分（１）と、前記キャリパの前記部材（６、８、９、１０）のうちの１つ（６）との間に圧縮されて実質的に水平に取り付けられていることを特徴とするディスクブレーキキャリパ。
【請求項２】
前記ブレーキパッドホルダ（４）と、前記制動ユニット（１１）から前記ブレーキパッドホルダ（４）へ動作を伝達する前記キャリパの前記部材（６、８、９、１０）とは、共通の取付ブラケット（１）から吊り下げられていることを特徴とする請求項１に記載のディスクブレーキキャリパ。
【請求項３】
前記弾性接続部（７）は、前記取付ブラケット（１）とブリッジ部品（６）との間に配置され、前記ブリッジ部品には前記制動ユニット（１１）から前記ブレーキパッドホルダ（４）へ動作を伝達するレバー（８、９）が回動可能に接続されていることを特徴とする請求項２に記載のディスクブレーキキャリパ。
【請求項４】
少なくとも１つのゴム要素（１２、１３）が前記取付ブラケット（１）と前記ブリッジ部品（６）との間に取り付けられていることを特徴とする請求項３に記載のディスクブレーキキャリパ。
【請求項５】
前記ブリッジ部品（６）は、前記取付ブラケット（１）及び一方側の板状のゴム要素（１２）と、プレート（１４）及び他方側の板状のゴム要素（１３）との間で、金属同士が接続しないようにクランプされ、前記プレート（１４）はネジ（１５）により前記取付ブラケット（１）に取り付けられていることを特徴とする請求項４に記載のディスクブレーキキャリパ。
【請求項６】
前記ゴム部材（１２、１３）は、前記ネジ（１５）が、前記取付ブラケット（１）と前記プレート（１４）との間の間隔を規定する間隔スリーブ（１６）によって囲まれるところで、予め決められた圧縮状態にされていることを特徴とする請求項５に記載のディスクブレーキキャリパ。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月26日(2010.4.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
容積から流動性製品を吐出するための自動閉鎖弁（０１）であって、
流出口（１８）を有する弁蓋（０４）を含み、
弁蓋（０４）の製品側で弁蓋から離間させて配置される案内皿体（０９）を含み、
弁蓋（０４）と案内皿体（０９）との間で保持される弁膜（０２）を含み、生成された圧力差に基づいて弁膜（０２）が閉鎖位置と施与位置と逆吸引位置との間で切り換わることができ、
弁蓋（０４）と弁膜（０２）との間の空洞（１６）を含み、閉鎖位置および逆吸引位置のとき弁膜（０２）が弁蓋（０４）に当接することによって弁膜が流出口（１８）に対して閉鎖され、施与位置のときには弁膜（０２）が弁蓋（０４）から持ち上がることによって弁膜が流出口に対して開放されており、
製品の容積から空洞（１６）にかけて延びる少なくとも１つの貫流口（１４）を含み、
逆吸引位置のとき少なくとも流出口（１８）と弁膜（０２）を案内皿体（０９）から持ち上げたときに開口する空隙（２３）とによって形成された空気逆吸引通路を含み、閉鎖位置および施与位置のとき弁膜（０２）が案内皿体（０９）に載置されることによってこの空気逆吸引通路が閉鎖されている自動閉鎖弁において、
弁膜（０２）が案内口（０３）をさらに含み、この案内口は逆吸引位置において空気逆吸引通路の一部を形成することを特徴とする自動閉鎖弁。
【請求項２】
弁膜（０２）が案内要素（０８；２７）によって案内されており、案内要素（０８；２７）が弁膜（０２）の案内口（０３）内に突出し、かつ同時に空気逆吸引通路の一部を形成する請求項１記載の自動閉鎖弁（０１）。
【請求項３】
流出口（１８）と弁膜（０２）と案内口（０３）が円形かつ同心に実施されている請求項１または２記載の自動閉鎖弁（０１）。
【請求項４】
弁膜（０２）が、閉鎖位置のとき吐出方向に湾曲する皿ばねの態様である請求項１ないし３のいずれか１つに記載の自動閉鎖弁（０１）。
【請求項５】
相互に離間して案内皿体（０９）に固着される複数の案内栓（０８）によって案内要素が形成されている請求項２ないし４のいずれか１つに記載の自動閉鎖弁（０１）。
【請求項６】
案内要素が溝付き案内栓（２７）によって形成されており、この案内栓がその側面に少なくとも１つの溝（２８）を有し、この溝が同時に空気逆吸引通路の一部を形成する請求項２ないし４のいずれか１つに記載の自動閉鎖弁（０１）。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月30日(2010.4.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
梱包される品物をプラスチック材料のフィルムからなる容器形状の梱包で梱包するための梱包機（１）であって、型（３０，３１）を有する成形装置（３）、及び密封ツール（８４，８５）を有する密封装置（５）のうちの少なくとも一方を作業ユニットとして有し、さらに、少なくとも１つの作業ユニット（３，５，８）のために設けられた洗浄装置（１６）を有する梱包機（１）であって、
前記洗浄装置（１６）は、前記型（３０，３１）及び前記密封ツール（８４，８５）のうちの少なくとも一方の内部に開口する洗浄剤流入口を含んでいる
ことを特徴とする梱包機。
【請求項２】
請求項１に記載の梱包機であって、
前記洗浄装置（１６）は、独立したユニットとして構成されている
ことを特徴とする梱包機。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の梱包機であって、
前記洗浄装置（１６）は、作業ユニット（３，５，８）内に含まれている
ことを特徴とする梱包機。
【請求項４】
請求項１〜３の何れかに記載の梱包機であって、
洗浄装置（１６）は、前記型（３０，３１）と、及び前記密封ツール（８４，８５）と、及び切断ツールとのうちの少なくとも１つのために設けられている
ことを特徴とする梱包機。
【請求項５】
請求項４に記載の梱包機であって、
前記洗浄装置（１６）は、洗浄流体供給流路（２３）と、及び前記型（３０，３１）への接続のための洗浄流体排出流路（５１）と、及び密封ツール（８４，８５）と、及び前記切断ツールとのうちの少なくとも１つを含んでいる
ことを特徴とする梱包機。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の梱包機であって、
前記洗浄装置は、前記型（３０，３１）、及び密封ツール（８４，８５）のうちの少なくとも一方と、及び該密封ツールと、のうちの少なくとも１つから排出するための洗浄剤流出口を含んでいる
ことを特徴とする梱包機。
【請求項７】
請求項４または請求項５に記載の梱包機であって、
前記洗浄流体のための排出口が、前記型（３０，３１）の下部と、及び前記密封ツール（８４，８５）の下部と、及び前記切断ツール内部とのうちの少なくとも１つに形成されている
ことを特徴とする梱包機。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載の梱包機であって、
前記洗浄装置は、作用剤供給流路への接続部と、及び前記型及び密封ツールのうちの少なくとも一方の作用剤排出流路への接続部とのうちの少なくとも１つを備えている
ことを特徴とする梱包機。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載の梱包機であって、
前記洗浄装置は、吸引装置への接続部を含んでいる
ことを特徴とする梱包機。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれかに記載の梱包機であって、
前記型、及び前記密封ツールのうちの少なくとも一方のために、ヒータが設けられている
ことを特徴とする梱包機。
【請求項１１】
請求項１０に記載の梱包機であって、
前記ヒータのためにカバーが設けられている
ことを特徴とする梱包機。
【請求項１２】
請求項１１に記載の梱包機であって、
前記カバーと、前記ヒータに隣接し、該ヒータのための接触面のための補完的領域との間に、シールが設けられている
ことを特徴とする梱包機。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれかに記載の梱包機であって、
梱包フィルム（１０）の搬送面の下方であって、前記梱包機（１）の側壁の間に、梱包機（１）の領域のために洗浄装置（１６）が設けられている
ことを特徴とする梱包機。
【請求項１４】
型（３０，３１）を有し、梱包される品物を梱包する梱包機（１）のために、プラスチック材料フィルムからなる容器形状の梱包物を成形するための成形装置（３）であって、
前記型（３０，３１）のために洗浄装置が設けられ、
前記型（３０，３１）内部に開口する洗浄剤流入口を含んでいる
ことを特徴とする成形装置。
【請求項１５】
請求項１４に記載の成形装置であって、
前記洗浄装置（１６）は、請求項２〜１３のいずれかに記載の洗浄装置の特徴を備えている
ことを特徴とする成形装置。
【請求項１６】
密封ツール（８４，８５）を有し、梱包される品物を梱包するために梱包機（１）のためのプラスチック材料フィルムからなる容器形状の梱包を密封するための密封装置（５）であって、
前記密封ツール（８４，８５）のために洗浄装置（１６）が設けられ、
前記密封ツール（８４，８５）内部に開口する洗浄剤流入口を含んでいる
ことを特徴とする密封装置。
【請求項１７】
請求項１６に記載の密封装置であって、
前記洗浄装置（１６）は、請求項２〜１３のいずれかに記載の洗浄装置の特徴を備えている
ことを特徴とする密封装置。