【事件の表示】
　平成　９年特許願第　４００３２号「高周波グロー表面分析装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１０年　８月２１日出願公開、特開平１０−２２１２５５〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成９年２月７日の出願であって、平成１５年８月５日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、平成１５年９月１１日に審判請求がなされるとともに、平成１５年１０月２日付けで手続補正がなされたものである。
　
２．平成１５年１０月２日付けの手続補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　平成１５年１０月２日付けの手続補正を却下する。 
［理由］
（１）補正内容
　本件補正は、特許請求の範囲の請求項１において、補正前（補正前の明細書および図面は、平成１４年８月２０日付けの手続補正書により補正されたとおりのものである）に
　「【請求項１】低圧下で試料表面に不活性ガスを導入し、陽極と前記試料間に高周波電圧を印加して、スパッタリングを発生させ、グロー放電発光をさせて発光を分析する高周波グロー表面分析装置において、
　前記陽極と対極であり、前記高周波電圧が接続される極よりも大きい前記試料の前記スパッタリング位置を除く表面全面または前記試料の裏面全面のいずれかの面または両面を前記高周波電圧印加電極の一極と同電位に保つカバー導体を配置して構成したことを特徴とする高周波グロー表面分析装置。」と記載していたのを、
　「【請求項１】低圧下で試料表面に不活性ガスを導入し、陽極と前記試料間に高周波電圧を印加して、スパッタリングを発生させ、グロー放電発光をさせて発光を分析する高周波グロー表面分析装置において、
　前記試料の前記スパッタリング位置を除く表面全面または前記試料の裏面全面のいずれかの面または両面を前記高周波電圧印加電極の一極と同電位に保つため、前記試料の表面の前記スパッタリング位置を除き密着させられている表カバー導体と、
　前記試料の裏面全面に密着させられている裏カバー導体を配置して構成したことを特徴とする高周波グロー表面分析装置。」
　と補正することを含むものである。
　
（２）補正の目的の違反
　この補正は補正内容として、補正前に「前記陽極と対極であり、前記高周波電圧が接続される極よりも大きい前記試料の前記スパッタリング位置を除く表面全面または前記試料の裏面全面」と記載していたのを、単に、「前記試料のスパッタリング位置を除く表面全面または前記試料の裏面全面」と補正することを含むものであるが、補正前は、「前記試料の前記スパッタリング位置を除く表面全面または前記試料の裏面全面」について、それらが、「前記陽極と対極であり、前記高周波電圧が接続される極よりも大きい」ものであると大小関係の限定をしていたのに、補正によりその限定を外したものであり、これは平成１５年改正前の特許法第１７条の２第４項第１号ないし第４号に掲げる事項（請求項の削除、特許請求の範囲の減縮、誤記の訂正、明りょうでない記載の釈明）のいずれもを目的としないものであり、平成１５年改正前の特許法第１７条の２第４項の規定に適合しないから、特許法第１５９条第１項において準用する同法第５３条第１項の規定により、却下されるべきものである。
　
（３）独立特許要件の違反
　仮に、前記（２）で認めた目的違反でないとしても、今回補正された請求項１に係る発明（以下、「本願補正発明」という）は、以下で記載するように、独立して特許を受けることができないものである。
　
（３−１）本願補正発明
　本願補正発明は前記２．（１）の段落で記載した平成１５年１０月２日付けの手続補正書の請求項１に記載のとおりのものであり、択一的に記載されているから次の発明Ａ（以下で、「本願補正発明Ａ」という）を含むことが明らかである。
　本願補正発明Ａ：
　低圧下で試料表面に不活性ガスを導入し、陽極と前記試料間に高周波電圧を印加して、スパッタリングを発生させ、グロー放電発光をさせて発光を分析する高周波グロー表面分析装置において、
　前記試料の前記スパッタリング位置を除く表面全面を前記高周波電圧印加電極の一極と同電位に保つため、前記試料の表面の前記スパッタリング位置を除き密着させられている表カバー導体と、
　前記試料の裏面全面に密着させられている裏カバー導体を配置して構成したことを特徴とする高周波グロー表面分析装置。
　
（３−２）引用刊行物
　原査定の拒絶の理由で引用された刊行物は、特開平８−１９３９５３号公報である。（以下で、「刊行物１」という）
　
　刊行物１には、
ア）段落【０００２】に「【従来の技術】気体圧力が４〜１０Torr程度のアルゴン（Ａｒ）雰囲気中で、二つの電極間に直流または高周波の高電圧を印加すると、グロー放電が起こり、Ａｒイオンが生成される。生成したＡｒイオンは高電界で加速され、陰極表面に衝突し、そこに存在する物質をたたき出す。この現象をスパッタリングと呼ぶが、スパッタされた粒子（原子、分子、イオン）はプラズマ中で励起され、基底状態に戻る際にその元素に固有の波長の光を放出する。この発光を分光器で分光して元素を同定する分析法が、グロー放電発光分光分析方法と呼ばれている。」と記載されており、図２には、該方法を実現する装置が示されており、それが試料表面分析のためのものであることも明らかである。
　したがって、段落【０００２】には、
　低圧下で試料表面に不活性ガスを導入し、陽極と前記試料間に高周波電圧を印加して、スパッタリングを発生させ、グロー放電発光をさせて発光を分析する高周波グロー表面分析装置
　が記載されている。
　
イ）段落【０００４】に「銅からなる支持ブロック２を通じ試料５に負電圧を印加」することが記載され、段落【００１４】に「陽極ブロック３と、支持ブロック２を通して試料５との間に、電源部９により数百〜数千ボルトの高電圧を印加すると、グロー放電を生じ」ることが記載されており、また段落【０００２】に二つの電極間に高周波の高電圧を印加することが記載されているから、電源部９は高周波高電圧の電源であってよいことは当然である（注：特開平８−２１０９７９号公報はグロー放電発光分光分析に係るものであるが、段落【００１３】に高周波高電圧の電源を用いる旨の記載があるとおりである）から、銅からなる支持ブロック２は、高周波高電圧を印加する場合に、陰極となるものであることが明らかであり、図２を視察すると、試料の５のスパッタ位置（分析面５ａ）を除く表面全面には、銅からなる支持ブロック２（すなわち陰極）が密着して配置されているから、試料５のスパッタ位置（分析面５ａ）を除く表面全面は、高周波電圧印加電極の一極である陰極と同電位に保たれることも明らかである。
　したがって、上記個所には、
　試料５のスパッタリング位置（５ａ）を除く表面全面を高周波電圧印加電極の一極である陰極と同電位に保つため、前記試料の表面の前記スパッタリング位置を除き密着させられている銅からなる支持ブロック２を配置して構成した高周波グロー表面分析装置、
　が記載されている。
　
ウ）図２を視察すると、試料５の裏面全面に、試料ホルダー２０が密着して配置されていることが明らかであり、該ホルダーが導体であることは、段落【００１４】に、陽極ブロック３と、試料ホルダ２０を通して試料５との間に数百〜数千ボルトの高電圧を印加できるものであることが記載されていることからみて明らかなことである。
　
　したがって、前記ア）、イ）、ウ）から明らかなように、刊行物１には、次の発明（以下で、「刊行物１記載の発明α」という）が記載されている。　刊行物１記載の発明α：
　低圧下で試料表面に不活性ガスを導入し、陽極と前記試料間に高周波電圧を印加して、スパッタリングを発生させ、グロー放電発光をさせて発光を分析する高周波グロー表面分析装置において、
　前記試料５の前記スパッタリング位置（５ａ）を除く表面全面を電源部の陰極と同電位に保つため、前記試料の表面の前記スパッタリング位置を除き密着させられている銅からなる支持ブロック２と、
　前記試料５の裏面全面に密着させられている導体の試料ホルダー２０を配置して構成したことを特徴とする高周波グロー表面分析装置。
　
（３−３）対比・検討
　本願補正発明Ａと刊行物１記載の発明αを対比すると、刊行物１記載の発明αにおける「銅からなる支持ブロック２」、「導体の試料ホルダー２０」が、それぞれ本願補正発明Ａにおける「表カバー導体」、「裏カバー導体」に該当し、これは単に呼称の仕方の相違に過ぎず、実質上同じ物であり、そのほかに、両発明に相違点は、認められず、両発明は同一発明である。
　
　したがって、本願補正発明Ａを択一的に含む本願補正発明は、刊行物１に記載された発明と同一の発明である。
　
（３−４）独立特許要件についてのむすび
　以上のとおり、本願補正発明は、本願出願前に頒布された刊行物１に記載された発明と同一であるから、特許法第２９条第１項第３号の規定を満足せず、独立して特許を受けることができないものであり、平成１５年改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第４項の規定に適合しないから、特許法第１５９条第１項において準用する特許法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
３．本願発明
　平成１５年１０月２日付けの手続補正は、上記のとおり却下されたので、本願の請求項１ないし７に係る発明は、平成１４年８月２０日付けの手続補正書で補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１ないし７に記載された事項により特定されるとおりのものであり、請求項１に係る発明（以下で、「本願発明」という）は、前記２．（１）で記載したとおりのものであり、択一的に記載されているから、次の発明Ｂを含むことが明らかである。（以下で、「本願発明Ｂ」という。）
　
　本願発明Ｂ：
　低圧下で試料表面に不活性ガスを導入し、陽極と前記試料間に高周波電圧を印加して、スパッタリングを発生させ、グロー放電発光をさせて発光を分析する高周波グロー表面分析装置において、
　前記陽極と対極であり、前記高周波電圧が接続される極よりも大きい前記試料の裏面全面を前記高周波電圧印加電極の一極と同電位に保つカバー導体を配置して構成したことを特徴とする高周波グロー表面分析装置。
　
４．引用刊行物
　原査定の拒絶理由で示された刊行物は前記段落２．（３−２）で記載したとおりの刊行物１である。
　
　引用刊行物１は、前記２．（３−２）で記載した構成ア）が記載されている。そして、
エ）刊行物１の段落【００１４】に、陽極ブロック３と、試料ホルダ２０を通して試料５との間に数百〜数千ボルトの高電圧を印加することでグロー放電を生じるようにすることも記載されており、前記２．（３−２）のロ）で記載したとおり、電源部９は高周波高電圧の電源であってよいことは当然であるから、試料ホルダー２０は導体であり、高周波高電圧を印加する場合に、陰極となるものであることが明らかであり、図２を視察すると、試料５の裏面全面に、試料ホルダー２０が密着して配置されているから、試料５の裏面全面は、高周波電圧印加電極の一極である陰極と同電位に保たれることも明らかである。
　したがって、上記個所には、
　前記試料の裏面全面を前記高周波電圧印加電極の一極と同電位に保つため、前記試料５の裏面全面に密着させられている導体の試料ホルダー２０を配置して構成したことを特徴とする高周波グロー表面分析装置、
　が記載されている。
　
　したがって、前記ア）、エ）から明らかなように、刊行物１には、次の発明（以下で、「刊行物１記載の発明β」という）が記載されている。
　刊行物１記載の発明β：
　低圧下で試料表面に不活性ガスを導入し、陽極と前記試料間に高周波電圧を印加して、スパッタリングを発生させ、グロー放電発光をさせて発光を分析する高周波グロー表面分析装置において、
　前記試料５の裏面全面を電源９の陰極と同電位に保つため、前記試料５の裏面全面に密着させられている導体の試料ホルダー２０を配置して構成したことを特徴とする高周波グロー表面分析装置。、　
　
５．対比・検討
　本願発明Ｂと刊行物１記載の発明βを対比すると、刊行物１記載の発明βにおける「導体の試料ホルダー２０」が、本願発明Ｂにおける「カバー導体」に相当するから、両者は、
　低圧下で試料表面に不活性ガスを導入し、陽極と前記試料間に高周波電圧を印加して、スパッタリングを発生させ、グロー放電発光をさせて発光を分析する高周波グロー表面分析装置において、
　試料の裏面全面を前記高周波電圧印加電極の一極と同電位に保つカバー導体を配置して構成したことを特徴とする高周波グロー表面分析装置、
　である点で一致し、次の点で相違する。
　
　相違点
　本願発明Ｂは、陽極と対極であり、高周波電圧が接続される極よりも大きい試料であるのに対し、刊行物１記載の発明βには、それについて記載がない点。
　
　前記相違点について検討すると、
　本願発明Ｂにおいて、「陽極と対極であり、高周波電圧が接続される極」が本願明細書の実施例においてどれに該当するのか、明確な記載がないから不明りょうであるが、図４の陰極Ｋの図示、段落【０００７】、【０００８】の記載、及び図１，２，３からみて、ピストンブロック１３を指して、「陽極と対極であり、高周波電圧が接続される極」と呼称しているものと認められる。
　そして、本願発明Ｂにおいては、ピストンブロック１３が陰極であって、それよりも試料が大きいものであり、ピストンブロック１３の電位が試料の裏面全面に密着させられているカバー導体に与えられるものと認められる。　刊行物１において、導体の試料ホルダー２０は、図２でみて、一体物のように描かれており、それは、試料の裏面全面に下から密着させられている平坦な導体部分と、該平坦な部分において下方に突き出しているピン状の導体部分（ピン状の部分より試料の方が大きいことは図２で明らかである）からなることが明らかであり、該ピン状の導体部分から電源の高周波電圧が印加されるのであるが、該試料ホルダーを、平坦な導体部分と、ピン状の導体部分とに分離して、ピン状の導体部分を陰極とし、平坦な導体部分をカバー導体とすることは当業者が容易に想到できた程度のものである。
　
　したがって、本願発明Ｂを択一的に含む本願発明は刊行物１記載の発明βに基づいて当業者が容易に発明できたものである。
　
６．むすび
　以上、本願発明は、刊行物１記載の発明に基づいて当業者が容易に発明できたものであるので、特許法第２９条第２項の規定を満足しないものであるから、その余の請求項について検討するまでもなく、特許を受けることができないものである。
　よって、結論のとおり審決する。