【手続補正書】
【提出日】平成22年9月14日(2010.9.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
−少なくとも１種の両親媒性界面活性剤の存在下で、一般式：
ＭＺｎ  （１）、
Ｒ’ｘＭＺｎ−ｘ  （２）、
ＬｍｘＭＺｎ−ｍｘ  （３）、または
（ＲＯ）ｎ−１Ｍ−Ｒ”−Ｍ（ＯＲ）ｎ−１  （４）
〔式（１）、（２）、（３）および（４）中、
ＭはＡｌ（ＩＩＩ）、Ｃｅ（ＩＩＩ）、Ｃｅ（ＩＶ）、Ｚｒ（ＩＶ）、Ｓｎ（ＩＶ）、Ｎｂ（Ｖ）、Ｖ（Ｖ）、Ｔａ（Ｖ）もしくはＨｆ（Ｖ）または希土類金属、好ましくはＡｌ（ＩＩＩ）、Ｃｅ（ＩＩＩ）、Ｃｅ（ＩＶ）、Ｚｒ（ＩＶ）、Ｎｂ（Ｖ）、Ｙ（ＩＩＩ），Ｌａ（ＩＩＩ）またはＥｕ（ＩＩＩ）であり、括弧内の数字はＭ原子の原子価を表し、
ｎはＭ原子の原子価を示し、
ｘは１からｎ−１までの整数であり、
各Ｚは、互いに独立に、ハロゲン原子または−ＯＲ基を表し、
Ｒはアルキル基、好ましくは炭素数１〜４を有するアルキル基を表し、
各Ｒ’は、互いに独立に、アルキル基、特にＣ１〜４アルキル基；アルケニル基、特にＣ２〜４アルケニル基；アルキニル基、特にＣ２〜４アルキニル基；アリール基、特にＣ６〜１０アリール基；メタクリロイルまたはメタクリルロイルオキシ（Ｃ１〜１０アルキル）基；エポキシアルキルまたはエポキシアルコキシアルキル基であって、アルキル基が直鎖、分枝鎖または環状のＣ１〜１０アルキル基であり、アルコキシ基は炭素数１〜１０であるもの；Ｃ２〜１０ハロアルキル基；Ｃ２〜１０ペルハロアルキル基；Ｃ２〜１０メルカプトアルキル基；Ｃ２〜１０アミノアルキル基；（Ｃ２〜１０アミノアルキル）アミノ（Ｃ２〜１０アルキル）基；ジ（Ｃ２〜１０アルキレン）トリアミノ（Ｃ２〜１０アルキル）基、およびイミダゾリル（Ｃ２〜１０アルキル）基の中から選択される非加水分解性基を表し、
Ｌは単座または多座の錯化配位子、好ましくは多座錯化配位子を表し、
ｍは配位子Ｌのヒドロキシル化数を表し、および
Ｒ”は、アルキレン基、好ましくはＣ１〜１２アルキレン基；Ｎ，Ｎ−ジ（Ｃ２〜１０アルキレン）アミノ基；ビス［Ｎ，Ｎ−ジ（Ｃ２〜１０アルキレン）アミノ］基；Ｃ２〜１０メルカプトアルキレン基；（Ｃ２〜１０アルキレン）ポリスルフィド基；アルケニレン基、特にＣ２〜４アルケニレン基；アリーレン基、特にＣ６〜１０アリーレン基；ジ（Ｃ２〜１０アルキレン）（Ｃ６〜１０アリーレン）基およびＮ，Ｎ’−ジ（Ｃ２〜１０アルキレン）ウレイド基；の中から選択される非加水分解性基である〕を有する金属アルコキシド型またはハロゲン化金属型の分子金属前駆物質の少なくとも１種からゾルゲル法によって製造された少なくとも１層のメソ構造層と、
−金属基板と、を含む構造体。
【請求項２】
ゾルゲル法によるメソ構造層の製造において、一般式（１）、（２）、（３）もしくは（４）の前記分子金属前駆物質が、ケイ素アルコキシド型、有機アルコキシシラン型、またはハロゲン化ケイ素型のケイ素系前駆物質のうち少なくとも１種と組み合わせて使用される、請求項１に記載の構造体。
【請求項３】
前記ケイ素系前駆物質が下記式に対応する、請求項２に記載の構造体：
ＳｉＺ４  （５）、
Ｒ’ｘＳｉＺ４−ｘ  （６）、
ＬｍｘＳｉＺ４−ｍｘ  （７）、または
（ＲＯ）３Ｓｉ−Ｒ”−Ｓｉ（ＯＲ）３  （８）
ただし、式（５）、（６）、（７）および（８）中、Ｚ、Ｒ’、ｘ、Ｌ、ｍおよびＲ”は、請求項１で定義された意味と同一の意味を有する。
【請求項４】
Ｌがカルボン酸、β‐ジケトン、β‐ケトエステル、α‐もしくはβ‐ヒドロキシ酸、アミノ酸、ポリアミン、ホスホン酸またはホスホナートを表す、請求項１〜３のいずれかに記載の構造体。
【請求項５】
前記両親媒性界面活性剤がイオン性、両性、双性イオン性、またはノニオン性である、請求項１に記載の構造体。
【請求項６】
前記イオン性両親媒性界面活性剤がホスファート、スルファート、スルホナートおよびカルボン酸から選択されるアニオン性界面活性剤である請求項５に記載の構造体。
【請求項７】
前記イオン性両親媒性界面活性剤が第四級アンモニウム塩およびホスホニウム塩から選択されるカチオン性界面活性剤である請求項５に記載の構造体。
【請求項８】
前記第四級アンモニウム塩が下記一般式（Ｉ）に対応するものの中から選択される、請求項７に記載の構造：
【化１】
2010506041.tif 000001
ただし、式中、官能基Ｒ８〜Ｒ１１は同一であっても異なっていてもよく、直鎖または分枝鎖の、炭素数が１〜３０の脂肪族基であり、Ｘはハロゲン原子またはスルファートである。
【請求項９】
前記ノニオン性両親媒性界面活性剤が以下に掲げるものから選択される、請求項５に記載の構造：
−  酸化エチレン単位を２〜３０個含むエトキシル化直鎖Ｃ１２〜２２アルコール、
−  炭素数が１２〜２２個である脂肪酸とソルビタンとのエステル、ならびに
−  以下に掲げるものから選択される両親媒性ブロック共重合体：
ポリ（（メタ）アクリル酸）を単位とした共重合体、
ポリジエンを単位とした共重合体、
水素化ジエンを単位とした共重合体、
ポリ（酸化エチレン）を単位とした共重合体、
ポリ（酸化プロピレン）を単位とした共重合体、
ポリイソブチレンを単位とした共重合体、
ポリスチレンを単位とした共重合体、
ポリシロキサンを単位とした共重合体、
ポリ（２−ビニルナフタレン）を単位とした共重合体、
ポリ（ビニルピリジン−ヨウ化Ｎ−メチルビニルピリジニウム共重合体）を単位とした共重合体、および
ポリ（ビニルピロリドン）を単位とした共重合体。
【請求項１０】
前記両親媒性界面活性剤が、前記分子金属前駆物質の総モル数に対して、０．０５〜２モル％、好ましくは０．２〜１モル％の量で使用される、請求項１に記載の構造体。
【請求項１１】
前記メソ構造層の製造中にラテックスが存在する、請求項１に記載の構造体。
【請求項１２】
前記メソ構造層が官能化されている、請求項１に記載の構造体。
【請求項１３】
前記メソ構造層のゾルゲル法による製造が少なくとも１種の官能化剤の存在下で行われる、または前記メソ構造層は少なくとも１種の官能化剤で処理される、請求項１２に記載の構造体。
【請求項１４】
前記官能化剤が、耐食性、耐引掻き性および耐擦れ性、もしくは機械的強度を付与する薬品、ハロゲン化化合物を捕獲する蛍光プローブもしくはｐＨ感受性プローブを構成する薬品、または着色を施す薬品から選択される、請求項１３に記載の構造体。
【請求項１５】
前記官能化剤が、アゾール型、アミン型、メルカプタン型、カルボキシラート型およびホスホナート型の有機防食剤；非酸化性イオン型の無機防食剤；チタンまたはアルミニウムのアルコキシドおよびシリカまたはアルミナのナノ粒子；酸化ジルコニウム；イミダゾリウム基を含有するアントラセン分子からなる薬品；メチルオレンジおよびフェノールフタレイン；ローダミン、フルオレセイン、キニザリン、メチレンブルーおよびエチルバイオレットから選択される、請求項１４に記載の構造体。
【請求項１６】
メソ構造層の製造において開始成分が以下の順序で添加される、請求項１に記載の構造体：
（１）請求項１または４で定義された式（１）、（２）、（３）または（４）の分子金属前駆物質、
（２）場合によっては請求項３または４で定義された式（５）、（６）、（７）または（８）のケイ素アルコキシドまたはハロゲン化ケイ素、
（３）両親媒性界面活性剤、
（４）水性媒質または水／アルコール媒質、好ましくは、水／エタノール媒質、および
（５）場合によっては官能化剤、および場合によってはラテックス。
【請求項１７】
前記金属基板は、チタン、アルミニウムもしくはこれらそれぞれの合金、マグネシウム合金またはスチールから作製される、請求項１に記載の構造体。
【請求項１８】
数層のメソ構造層を含み、各メソ構造層の気孔率が勾配をなす、請求項１に記載の構造体。
【請求項１９】
同じ一つのメソ構造層において気孔率が勾配をなす、請求項１に記載の構造体。
【請求項２０】
ナノビルディングブロックと、ポリマーまたは有機／無機ハイブリッドマトリックスとを含む少なくとも１層の高密度層を含む、請求項１に記載の構造体。
【請求項２１】
前記ナノビルディングブロックは少なくとも１種の金属酸化物を主成分とし、前記有機／無機ハイブリッドマトリックスは、溶媒および場合によっては触媒の存在下に少なくとも２種の金属アルコキシドまたはハロゲン化金属を重縮合させることによって得られる、請求項２０に記載の構造体。
【請求項２２】
以下に掲げる工程を含む、請求項１または２に記載の構造体の製造方法：
（ａ）請求項１および４で定義された式（１）、（２）、（３）または（４）：
ＭＺｎ  （１）、
Ｒ’ｘＭＺｎ−ｘ  （２）
ＬｍｘＭＺｎ−ｍｘ  （３）または
（ＲＯ）ｎー１Ｍ−Ｒ”−Ｍ（ＯＲ）ｎ−１  （４）
の分状子金属前駆物質のうち少なくとも１種を、場合によっては請求項３および４で定義された下記式（５）、（６）、（７）または（８）：
ＳｉＺ４  （５）
Ｒ’ｘＳｉＺ４−ｘ  （６）
ＬｍｘＳｉＺ４−ｍｘ  （７）または
（ＲＯ）３Ｓｉ−Ｒ”−Ｓｉ（ＯＲ）３  （８）
のケイ素アルコキシド型、有機アルコキシシラン型またはハロゲン化ケイ素型のケイ素系前駆物質の少なくとも１種と組み合わせて、水性または水／アルコール媒質中で、少なくとも１種の両親媒性界面活性剤、さらに場合によっては少なくとも１種の官能化剤、さらに場合によってはラテックスの存在下で、加水分解／縮合することによってゾルゲル材料を製造する工程、
（ｂ）工程（ａ）で得られた材料を金属基板に積層する工程、
（ｃ）被覆された基板を熱的に、化学的にもしくは紫外線放射でまたはその代わりにこれら３種の処理を組み合わせて処理し、網状組織を高密度化し、洗浄する工程、
（ｄ）場合によっては熱処理もしくは化学抽出またはこれら２種の手法の組み合わせによって界面活性分子を除去する工程、および
（ｅ）場合によっては官能化する工程。
【請求項２３】
前記ゾルゲル材料が工程（ａ）において開始成分を以下の順序で添加することによって製造される、請求項２２に記載の製造方法：
（１）請求項１および４で定義した式（１）、（２）、（３）または（４）の分子金属前駆物質、
（２）場合によっては請求項３および４で定義した式（５）、（６）、（７）または（８）のケイ素アルコキシドまたはハロゲン化ケイ素、
（３）両親媒性界面活性剤、
（４）水性媒質または水／アルコール媒質、ならびに
（５）場合によっては官能化剤、および場合によってはラテックス。
【請求項２４】
工程（ｂ）における積層が、浸漬塗布、回転する基板への積層、スプリンクル塗布、スプレー塗布、層流塗布またはブラシでの積層により行われる、請求項２２または２３に記載の製造方法。
【請求項２５】
航空機または航空宇宙機の技術分野における、金属基板の耐食性、耐引掻き性および耐擦れ性、機械的強度、プローブ、着色および／または疎水性を向上させるための、請求項１または２に記載の構造体の使用。