【手続補正書】
【提出日】平成22年4月14日(2010.4.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水素精製装置であって、
この装置が、内部隔室を有した圧力容器を形成するシール容器を具備し、
前記装置が、前記隔室内へと、水素ガスおよび他のガスを含有した混合ガス流を受領し得るよう構成されているとともに、前記混合ガス流から、少なくとも実質的に純粋な水素ガスを含有してなる水素リッチな透過物流と、少なくとも実質的に前記他のガスを含有してなる副生成物流と、を生成し得るよう構成され、
前記装置が、さらに、水素選択性メンブランを具備し、
この水素選択性メンブランが、前記隔室内において延在するとともに、前記容器と協働してシールを形成し得るよう前記容器に対して恒久的にかつ直接的に固定され、これにより、前記水素選択性メンブランが、前記隔室を、混合ガス領域と透過物領域とに分離しており、
前記メンブランが、前記混合ガス流に対して接触し得るよう構成された混合ガス面と、この混合ガス面に対する裏面をなす透過面と、を備え、
前記メンブランが、前記混合ガス流の第１部分を前記混合ガス領域から前記透過物領域にまで前記メンブランを通して選択的に通過させ得るよう構成されているとともに、前記混合ガス流の第２部分に関しては前記混合ガス領域から前記透過物領域へと前記メンブランを通して選択的に通過させ得ないように構成され、
前記透過物流が、前記混合ガス流の前記第１部分から形成され、
前記副生成物流が、前記混合ガス流の前記第２部分から形成されていることを特徴とする装置。
【請求項２】
請求項１記載の装置において、
さらに、前記水素選択性メンブランのうちの消費された部分と、前記容器のうちの消費された部分と、から形成されてなるインターフェースを具備していることを特徴とする装置。
【請求項３】
請求項２記載の装置において、
前記水素選択性メンブランの前記消費された部分が、前記容器の前記消費された部分と一緒に、合金を形成していることを特徴とする装置。
【請求項４】
請求項３記載の装置において、
前記水素選択性メンブランが、前記容器に対して溶接され、
これにより、前記メンブランと前記容器との間にシールが形成されていることを特徴とする装置。
【請求項５】
請求項１記載の装置において、
前記水素選択性メンブランの一部が、前記容器に対してろう付けされ、
これにより、前記メンブランと前記容器との間にシールが形成されていることを特徴とする装置。
【請求項６】
請求項２記載の装置において、
前記水素選択性メンブランが、前記容器に対して拡散結合され、
これにより、前記メンブランと前記容器との間にシールが形成されていることを特徴とする装置。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の装置において、
前記装置が、前記容器の前記透過物領域の中にメンブラン支持体を具備し、
このメンブラン支持体が、前記水素選択性メンブランの前記透過表面を支持し得るよう構成されていることを特徴とする装置。
【請求項８】
請求項７記載の装置において、
前記容器が、前記透過物領域の中に第１チャンバを備え、
この第１チャンバが、前記メンブラン支持体を受領し得るよう構成されていることを特徴とする装置。
【請求項９】
請求項７記載の装置において、
前記メンブラン支持体が、前記水素選択性メンブランを通過した前記混合ガス流の前記第１部分を、前記メンブラン支持体自体を通して流し得るよう構成されていることを特徴とする装置。
【請求項１０】
請求項７〜９のいずれか１項に記載の装置において、
前記容器と前記メンブラン支持体とが、これらの間に移行領域を形成し、
前記装置が、前記移行領域にわたって延在する少なくとも１つのパッドを具備し、
この少なくとも１つのパッドが、前記水素選択性メンブランの前記透過表面が前記移行領域に対して係合することを防止していることを特徴とする装置。
【請求項１１】
請求項１０記載の装置において、
前記少なくとも１つのパッドが、前記水素選択性メンブランと前記容器との間においてガス不透過性シールを形成しないものとされていることを特徴とする装置。
【請求項１２】
請求項１０記載の装置において、
前記少なくとも１つのパッドが、３０％未満という圧縮状態のガスケットを備えていることを特徴とする装置。
【請求項１３】
請求項１０記載の装置において、
前記少なくとも１つのパッドが、前記装置の使用時に前記メンブランの皺形成を最小化し得るよう構成されたテーパー形状の内周縁部領域を備えていることを特徴とする装置。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか１項に記載の装置において、
前記容器が、前記水素選択性メンブランが溶接される一対をなす端部プレートを備えていることを特徴とする装置。
【請求項１５】
請求項１〜１４のいずれか１項に記載の装置において、
前記容器が、一対をなす端部プレートを備え、
これら端部プレートの各々が、外周縁部と、内周縁部と、これら外周縁部および内周縁部の間に延在しているシール領域と、を備え、
前記水素選択性メンブランが、前記内部隔室から前記端部プレートの前記シール領域を少なくとも部分的に横断して延在していることを特徴とする装置。
【請求項１６】
請求項１５記載の装置において、
前記水素選択性メンブランが、外周縁部領域を備え、
この外周縁部領域が、少なくとも前記端部プレートの前記外周縁部にまで延在していることを特徴とする装置。
【請求項１７】
請求項１〜１６のいずれか１項に記載の装置において、
前記水素選択性メンブランが、外周縁部領域を備え、
前記装置が、前記外周縁部領域と前記容器との間において連続的なシールを具備していることを特徴とする装置。
【請求項１８】
請求項１〜１７のいずれか１項に記載の装置において、
前記水素選択性メンブランが、全体的に平面状をなすメンブランとされ、
このメンブランが、前記容器内にわたって延在するに際して前記容器との交差箇所として内周縁部を形成し、
前記メンブランの面積が、前記内周縁部が形成する面積よりも大きいものとされていることを特徴とする装置。
【請求項１９】
請求項１〜１８のいずれか１項に記載の装置において、
前記容器が、前記隔室を形成する内周縁部を備え、
前記水素選択性メンブランが、前記容器の前記内周縁部よりも外側に延在する外周縁部領域を備えていることを特徴とする装置。
【請求項２０】
請求項１９記載の装置において、
前記水素選択性メンブランの前記外周縁部領域が、前記容器よりも外側に延在していることを特徴とする装置。
【請求項２１】
請求項１〜２０のいずれか１項に記載の装置において、
前記容器が、一対をなす端部プレートと、周縁シェルと、を備え、
前記水素選択性メンブランが、前記周縁シェルに対して恒久的にかつ直接的に固定され、これにより、前記メンブランと前記周縁シェルとの間に気密シールが形成され、
前記周縁シェルが、前記一対をなす端部プレートに対して恒久的にかつ直接的に固定されていることを特徴とする装置。
【請求項２２】
請求項２１記載の装置において、
前記周縁シェルが、前記一対をなす端部プレートとは別部材として形成されていることを特徴とする装置。
【請求項２３】
請求項２１または２２記載の装置において、
前記装置が、前記水素選択性メンブランのうちの消費された部分と、前記周縁シェルのうちの消費された部分と、から形成されてなるインターフェースを具備していることを特徴とする装置。
【請求項２４】
請求項２３記載の装置において、
前記水素選択性メンブランの前記消費された部分が、前記周縁シェルの前記消費された部分と一緒に、合金を形成していることを特徴とする装置。
【請求項２５】
請求項２４記載の装置において、
前記水素選択性メンブランが、前記周縁シェルに対して、溶接されているあるいは拡散結合されていることを特徴とする装置。
【請求項２６】
請求項２１記載の装置において、
前記水素選択性メンブランの一部が、前記周縁シェルに対してろう付けされ、
これにより、前記メンブランと前記周縁シェルとの間にシールが形成されていることを特徴とする装置。
【請求項２７】
請求項２１記載の装置において、
前記装置が、メンブラン支持体を具備し、
このメンブラン支持体が、前記水素選択性メンブランの前記透過表面を支持し得るよう構成されていることを特徴とする装置。
【請求項２８】
請求項２７記載の装置において、
前記メンブラン支持体が、外周縁部を備え、
前記周縁シェルが、前記メンブラン支持体に対してオーバーラップしており、
これにより、前記メンブランの前記透過表面が前記メンブラン支持体の前記外周縁部に対して接触することが防止されていることを特徴とする装置。
【請求項２９】
水素精製装置であって、
この装置が、内部隔室を有した圧力容器を形成するシール容器を具備し、
このシール容器が、ガスケットを有さないタイプのものとされ、
前記装置が、前記隔室内へと、水素ガスおよび他のガスを含有した混合ガス流を受領し得るよう構成されているとともに、前記混合ガス流から、少なくとも実質的に純粋な水素ガスを含有してなる水素リッチな透過物流と、少なくとも実質的に前記他のガスを含有してなる副生成物流と、を生成し得るよう構成され、
前記装置が、さらに、前記隔室内に配置された水素選択性メンブランを具備し、
この水素選択性メンブランが、前記容器と協働して気密シールを形成し、これにより、前記水素選択性メンブランが、前記隔室を、混合ガス領域と透過物領域とに分離しており、
前記気密シールが、圧縮性ガスケットを使用することなく形成され、
前記水素選択性メンブランが、前記混合ガス流に対して接触し得るよう構成された混合ガス面と、この混合ガス面に対する裏面をなす透過面と、を備え、
前記透過物流が、前記混合ガス流のうちの、前記透過面にまで前記水素選択性メンブランを通過した部分から形成され、
前記副生成物流が、前記混合ガス流のうちの、前記水素選択性メンブランを通過しなかった部分から形成され、
前記水素選択性メンブランの一部が、前記シール容器の一部を構成していることを特徴とする装置。
【請求項３０】
請求項２９記載の装置において、
前記水素選択性メンブランの一部が、前記シールの一部を形成していることを特徴とする装置。
【請求項３１】
請求項３０記載の装置において、
前記水素選択性メンブランが、外周縁部領域を備え、
この外周縁部領域が、前記シールの一部を形成していることを特徴とする装置。
【請求項３２】
請求項３０または３１記載の装置において、
前記シールが、全体的に金属から形成されていることを特徴とする装置。
【請求項３３】
請求項３０〜３２のいずれか１項に記載の装置において、
前記水素選択性メンブランの一部が、前記メンブランのうちの消費された部分であることを特徴とする装置。
【請求項３４】
請求項３３記載の装置において、
前記水素選択性メンブランの前記消費された部分が、前記容器のうちの消費された部分と一緒に、合金を形成していることを特徴とする装置。
【請求項３５】
請求項３４記載の装置において、
前記水素選択性メンブランが、前記容器に対して溶接され、
これにより、前記シールが形成されていることを特徴とする装置。
【請求項３６】
請求項３３記載の装置において、
前記水素選択性メンブランが、前記容器に対して拡散結合され、
これにより、前記シールの一部が形成されていることを特徴とする装置。
【請求項３７】
請求項３０記載の装置において、
前記水素選択性メンブランの一部が、前記容器に対してろう付けされ、
これにより、前記シールの一部が形成されていることを特徴とする装置。
【請求項３８】
請求項３０〜３７のいずれか１項に記載の装置において、
前記容器が、シール領域を備えている少なくとも２つの構成部材から形成され、
前記少なくとも２つの構成部材が、前記シール領域のところにおいて互いに固定され、これにより、前記水素選択性メンブランと協働して前記シールを形成していることを特徴とする装置。
【請求項３９】
請求項３８記載の装置において、
前記水素選択性メンブランが、前記シール領域の少なくとも一部にわたって延在する外周縁部領域を備えていることを特徴とする装置。
【請求項４０】
請求項３９記載の装置において、
前記水素選択性メンブランの前記外周縁部領域が、前記容器の外側に延在していることを特徴とする装置。
【請求項４１】
請求項２９〜４０のいずれか１項に記載の装置において、
前記装置が、前記容器の前記透過物領域の中にメンブラン支持体を具備し、
このメンブラン支持体が、前記水素選択性メンブランの前記透過表面を支持し得るよう構成されていることを特徴とする装置。
【請求項４２】
請求項４１記載の装置において、
前記メンブラン支持体が、前記水素選択性メンブランを通過した前記混合ガス流の一部を、前記メンブラン支持体自体を通して流し得るよう構成されていることを特徴とする装置。
【請求項４３】
請求項４１記載の装置において、
前記容器と前記メンブラン支持体とが、これらの間に移行領域を形成し、
前記装置が、前記移行領域にわたって延在する少なくとも１つのパッドを具備し、
この少なくとも１つのパッドが、前記水素選択性メンブランの前記透過表面が前記移行領域に対して係合することを防止していることを特徴とする装置。
【請求項４４】
請求項４３記載の装置において、
前記少なくとも１つのパッドが、前記水素選択性メンブランと前記容器との間においてガス不透過性シールを形成しないものとされていることを特徴とする装置。
【請求項４５】
請求項４４記載の装置において、
前記少なくとも１つのパッドが、３０％未満という圧縮状態のガスケットを備えていることを特徴とする装置。
【請求項４６】
請求項４３記載の装置において、
前記少なくとも１つのパッドが、前記装置の使用時に前記メンブランの皺形成を最小化し得るよう構成されたテーパー形状の内周縁部領域を備えていることを特徴とする装置。
【請求項４７】
請求項２９〜４６のいずれか１項に記載の装置において、
前記容器が、一対をなす端部プレートを備え、
前記装置が、前記一対をなす端部プレートと前記水素選択性メンブランとの間に、シールを備えていることを特徴とする装置。
【請求項４８】
請求項４７記載の装置において、
前記メンブランの一部と前記容器の一部が消費されることにより、前記シールが形成されていることを特徴とする装置。
【請求項４９】
請求項２９〜４８のいずれか１項に記載の装置において、
前記容器が、フレームを具備し、
前記水素選択性メンブランが、このフレームに対して、圧縮性ガスケットを使用することなく、恒久的にかつ直接的に固定され、
これにより、前記水素選択性メンブランと前記フレームとの間に、気密シールが形成されていることを特徴とする装置。
【請求項５０】
請求項４９記載の装置において、
前記容器が、さらに、前記フレームを固定するための一対をなす端部プレートを備えていることを特徴とする装置。
【請求項５１】
水素精製装置であって、
この装置が、内部隔室を有した圧力容器を形成するシール容器を具備し、
このシール容器が、一対をなす端部プレートを備え、
前記装置が、前記隔室内へと、水素ガスおよび他のガスを含有した混合ガス流を受領し得るよう構成されているとともに、前記混合ガス流から、少なくとも実質的に純粋な水素ガスを含有してなる水素リッチな透過物流と、少なくとも実質的に前記他のガスを含有してなる副生成物流と、を生成し得るよう構成され、
前記装置が、さらに、前記隔室内において支持された水素選択性メンブランを具備し、
前記水素選択性メンブランが、前記混合ガス流に対して接触し得るよう構成された混合ガス面と、この混合ガス面に対する裏面をなす透過面と、を備え、
前記透過物流が、前記混合ガス流のうちの、前記透過面にまで前記水素選択性メンブランを通過した部分から形成され、
前記副生成物流が、前記混合ガス流のうちの、前記水素選択性メンブランを通過しなかった部分から形成され、
前記容器が、前記メンブランの一部と前記一対をなす端部プレートの一部とから形成されてなるインターフェースを備え、これにより、前記メンブランと前記一対をなす端部プレートとが、互いに恒久的にかつ直接的に固定されるとともに、シールを形成していることを特徴とする装置。
【請求項５２】
請求項５１記載の装置において、
前記一対をなす端部プレートの各々が、内周縁部と、外周縁部と、これら内周縁部および外周縁部の間に延在しているシール領域と、を備え、
前記メンブランの少なくとも一部が、前記隔室内から前記一対をなす前記端部プレートの前記内周縁部を超えて延在しているとともに、前記一対をなす端部プレートの前記シール領域どうしの間に延在していることを特徴とする装置。
【請求項５３】
請求項５２記載の装置において、
前記メンブランの少なくとも一部が、前記容器よりも外側に延在していることを特徴とする装置。
【請求項５４】
請求項５１〜５３のいずれか１項に記載の装置において、
前記メンブランが、溶接によってまたは拡散結合によって、前記端部プレートに対して固定されていることを特徴とする装置。
【請求項５５】
請求項５１〜５４のいずれか１項に記載の装置において、
前記装置が、メンブラン支持体を具備し、
このメンブラン支持体が、前記水素選択性メンブランの前記透過表面を支持し得るよう構成されていることを特徴とする装置。
【請求項５６】
請求項５５記載の装置において、
前記メンブラン支持体が、外周縁部を備え、
前記装置が、少なくとも１つのパッドを具備し、
この少なくとも１つのパッドが、前記メンブラン支持体の前記外周縁部に対してオーバーラップし得るよう構成され、
これにより、前記水素選択性メンブランの前記透過表面が前記メンブラン支持体の前記外周縁部に対して係合することが防止されていることを特徴とする装置。
【請求項５７】
請求項５６記載の装置において、
前記少なくとも１つのパッドが、前記メンブランと第２端部プレートとの間においてガス不透過性シールを形成していない少なくとも１つのガスケットを備え、
このガスケットが、３０％未満の圧縮状態とされるとともに、ガス透過性材料から形成されていることを特徴とする装置。
【請求項５８】
水素精製装置であって、
この装置が、内部隔室を有した圧力容器を形成する容器を具備し、
前記装置が、前記隔室内へと、水素ガスおよび他のガスを含有した混合ガス流を受領し得るよう構成されているとともに、前記混合ガス流から、少なくとも実質的に純粋な水素ガスを含有してなる水素リッチな透過物流と、少なくとも実質的に前記他のガスを含有してなる副生成物流と、を生成し得るよう構成され、
前記容器が、少なくとも１つの周縁シェルを備え、
前記装置が、さらに、少なくとも１つの水素選択性メンブランを具備し、
この水素選択性メンブランが、前記隔室内において延在するとともに、前記少なくとも１つの周縁シェルと協働してシールを形成し得るよう前記少なくとも１つの周縁シェルに対して恒久的にかつ直接的に固定され、これにより、前記水素選択性メンブランが、前記隔室を、少なくとも１つの混合ガス領域と少なくとも１つの透過物領域とに分離しており、
前記少なくとも１つの水素選択性メンブランが、前記混合ガス流に対して接触し得るよう構成された混合ガス面と、この混合ガス面に対する裏面をなす透過面と、を備え、
前記少なくとも１つの水素選択性メンブランが、前記混合ガス流の第１部分を前記少なくとも１つの混合ガス領域から前記少なくとも１つの透過物領域にまで前記少なくとも１つの水素選択性メンブランを通して選択的に通過させ得るよう構成されているとともに、前記混合ガス流の第２部分に関しては前記少なくとも１つの混合ガス領域から前記少なくとも１つの透過物領域へと前記少なくとも１つの水素選択性メンブランを通して通過することを制限し得るように構成され、
前記透過物流が、前記混合ガス流の前記第１部分から形成され、
前記副生成物流が、前記混合ガス流の前記第２部分から形成されていることを特徴とする装置。
【請求項５９】
請求項５８記載の装置において、
前記少なくとも１つの水素選択性メンブランが、破壊的な結合プロセスによって、前記周縁シェルに対して恒久的にかつ直接的に固定され、
前記破壊的な結合プロセスにおいては、前記メンブランのうちの消費された部分と前記周縁シェルのうちの消費された部分とから合金が形成されていることを特徴とする装置。
【請求項６０】
請求項５８記載の装置において、
前記少なくとも１つの水素選択性メンブランが、前記少なくとも１つの周縁シェルに対して、溶接されていることを特徴とする装置。
【請求項６１】
請求項５８記載の装置において、
前記少なくとも１つの水素選択性メンブランが、前記少なくとも１つの周縁シェルに対して、ろう付けされているあるいは拡散結合されていることを特徴とする装置。
【請求項６２】
請求項５８記載の装置において、
前記装置が、さらに、前記少なくとも１つの水素選択性メンブランのうちの消費された部分と前記少なくとも１つの周縁シェルのうちの消費された部分とから形成されてなる少なくとも１つのインターフェースを具備していることを特徴とする装置。
【請求項６３】
請求項６２記載の装置において、
前記少なくとも１つの水素選択性メンブランの前記消費された部分が、前記少なくとも１つの周縁シェルの前記消費された部分と一緒に、合金を形成していることを特徴とする装置。
【請求項６４】
請求項５８記載の装置において、
前記少なくとも１つの周縁シェルが、前記容器の一部とは別部材として形成されていることを特徴とする装置。
【請求項６５】
請求項６４記載の装置において、
前記少なくとも１つの周縁シェルが、この少なくとも１つの周縁シェルと前記容器の前記一部との間に気密シールを形成するようにして、前記容器の前記一部に対して固定されていることを特徴とする装置。
【請求項６６】
請求項６５記載の装置において、
前記気密シールが、前記少なくとも１つの周縁シェルを前記容器の前記一部に対して溶接することにより形成されていることを特徴とする装置。
【請求項６７】
請求項６６記載の装置において、
前記気密シールが、前記少なくとも１つの周縁シェルを前記容器の前記一部に対してレーザー溶接することにより形成されていることを特徴とする装置。
【請求項６８】
請求項６６記載の装置において、
前記装置が、さらに、前記少なくとも１つの周縁シェルのうちの消費された部分と前記容器の前記一部のうちの消費された部分とから形成されてなる少なくとも１つのインターフェースを具備していることを特徴とする装置。
【請求項６９】
請求項６８記載の装置において、
前記少なくとも１つの周縁シェルの前記消費された部分が、前記容器の前記一部の前記消費された部分と一緒に、合金を形成していることを特徴とする装置。
【請求項７０】
請求項６５記載の装置において、
前記装置が、さらに、前記少なくとも１つの周縁シェルと前記容器の前記一部との間に配置された少なくとも１つのガスケットを具備し、
この少なくとも１つのガスケットが、前記気密シールを形成していることを特徴とする装置。
【請求項７１】
請求項６５記載の装置において、
前記容器の前記一部が、一対をなす端部プレートとされ、
前記気密シールが、前記一対をなす端部プレートの間において、前記少なくとも１つの周縁シールと前記少なくとも１つのガスケットとを圧縮することによって、形成されていることを特徴とする装置。
【請求項７２】
請求項５８記載の装置において、
前記少なくとも１つの水素選択性メンブランのうちの第１のものが、前記少なくとも１つの周縁シェルのうちの第１のものに対して恒久的にかつ直接的に固定され、
前記少なくとも１つの水素選択性メンブランのうちの第２のものが、前記少なくとも１つの周縁シェルのうちの第２のものに対して恒久的にかつ直接的に固定され、
前記少なくとも１つの周縁シェルのうちの前記第１のものが、前記少なくとも１つの周縁シェルのうちの前記第２のものに対して固定され、これにより、それらの間に気密シールが形成されていることを特徴とする装置。
【請求項７３】
請求項７２記載の装置において、
前記装置が、さらに、前記少なくとも１つの周縁シェルのうちの前記第１のものと前記少なくとも１つの周縁シェルのうちの前記第２のものとの間に配置された１つまたは複数のガスケットを具備していることを特徴とする装置。
【請求項７４】
水素精製装置であって、
この装置が、内部隔室を有した圧力容器を形成する容器を具備し、
前記装置が、前記隔室内へと、水素ガスおよび他のガスを含有した混合ガス流を受領し得るよう構成されているとともに、前記混合ガス流から、少なくとも実質的に純粋な水素ガスを含有してなる水素リッチな透過物流と、少なくとも実質的に前記他のガスを含有してなる副生成物流と、を生成し得るよう構成され、
前記装置が、さらに、少なくとも１つの周縁フレームを備え、
前記装置が、さらに、少なくとも１つの水素選択性メンブランを具備し、
この少なくとも１つの水素選択性メンブランが、前記内部隔室の内部に実質的に配置され、
前記少なくとも１つの水素選択性メンブランの各々が、前記少なくとも１つの周縁フレームのうちの対応するものに対して、気密シールを形成するようにして、それらメンブランと周縁フレームとの間のインターフェースのところにおいて固定され、
前記インターフェースが、前記少なくとも１つの水素選択性メンブランのうちの消費された部分と前記少なくとも１つの周縁フレームのうちの消費された部分とから形成され、
前記少なくとも１つの水素選択性メンブランの各々が、前記混合ガス流に対して接触し得るよう構成された混合ガス面と、この混合ガス面に対する裏面をなす透過面と、を備え、
前記透過物流が、前記混合ガス流のうちの、前記少なくとも１つの水素選択性メンブランを通過した部分から形成され、
前記副生成物流が、前記混合ガス流のうちの、前記少なくとも１つの水素選択性メンブランを通過していない部分から形成されていることを特徴とする装置。
【請求項７５】
請求項７４記載の装置において、
前記少なくとも１つの周縁フレームが、前記容器の一部を形成していることを特徴とする装置。
【請求項７６】
水素精製装置を形成するための方法であって、
水素選択性メンブランを、破壊的な結合プロセスによって、周縁フレームに対して恒久的にかつ直接的に固定し、その場合、その破壊的な結合プロセスにおいては、前記メンブランのうちの消費された少なくとも一部によって、前記周縁フレームと一緒に、シールを形成し；
前記周縁フレームを具備した容器を準備し、その場合、その容器を、内部に前記水素選択性メンブランが固定された内部隔室を具備したものとし、この内部隔室の内部を、内部に固定された前記水素選択性メンブランによって混合ガス領域と透過物領域とに区分されたものとする；
ことを特徴とする方法。
【請求項７７】
請求項７６記載の方法において、
前記水素選択性メンブランを恒久的にかつ直接的に固定するに際しては、前記水素選択性メンブランを前記周縁フレームに対して溶接することを特徴とする方法。
【請求項７８】
請求項７６記載の方法において、
前記水素選択性メンブランを、第１の水素選択性メンブランとし、
前記恒久的にかつ直接的に固定するという操作を、少なくとも第２の水素選択性メンブランに関しても繰り返して行い、
前記容器を準備するという操作においては、前記容器の内部隔室内に、前記第１の水素選択性メンブランと前記第２の水素選択性メンブランとを配置することを特徴とする方法。
【請求項７９】
請求項７６記載の方法において、
前記水素選択性メンブランを、第１の水素選択性メンブランとし、前記周縁フレームを、第１の周縁フレームとし、
前記恒久的にかつ直接的に固定するという操作を、少なくとも第２の水素選択性メンブランに関しておよび少なくとも第２の周縁フレームに関しても繰り返して行い、
前記容器を準備するという操作においては、前記容器の内部隔室内に、前記第１の周縁フレームと前記第２の周縁フレームと前記第１の水素選択性メンブランと前記第２の水素選択性メンブランとを配置することを特徴とする方法。
【請求項８０】
請求項７６記載の方法において、
さらに、前記容器の１つまたは複数の他の部分と一緒に気密シールを形成し、これにより、前記容器を、シールされた容器とすることを特徴とする方法。
【請求項８１】
請求項８０記載の方法において、
前記周縁フレームと前記容器の前記１つまたは複数の他の部分との間に１つまたは複数のガスケットを配置することを特徴とする方法。
【請求項８２】
請求項７６記載の方法において、
前記容器を、一対をなす端部プレートを具備したものとし、
前記周縁フレームを、一対をなす端部プレートの間に配置することを特徴とする方法。