【誤訳訂正書】
【提出日】平成22年9月21日(2010.9.21)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
チタンおよび／またはフッ素でドーピングされた高純度の石英ガラスからなる、波長が１５ｎｍ以下の放射線を透過させるための光学部品用石英ガラスブランクにおいて、下記の特徴、
ａ）（５μｍ）３の容積要素について平均したＴｉＯ２分布の局所分散が、該石英ガラスブランク中のＴｉＯ２含有量の平均値に対して０．０５％ＴｉＯ２未満であることによるミクロ不均一性、
ｂ）該石英ガラスブランクの光学的に使用される面ＣＡ部分のブランクのシリンダ軸の方向で平均された熱膨張率変動△αが５ｐｐｂ／Ｋ未満であり、
ｃ）公式（１）
【数１】
2008505827.tif 000001
で表わされる理論上の熱膨張変動Δａ値に対する、（ｂ）に基づいて平均された、光学的に使用される面部分の△αの差が０．５ｐｐｂ／Ｋ以下である、ただしＣ０α≦５ｐｐｂ／Ｋ、
（ｄ）最大０．４ｐｐｂ／（Ｋ・ｃｍ）である該石英ガラスの有効面での熱膨張率の径方向分散
、および、
（ｅ）最大２ｎｍ／ｃｍである、６３３ｎｍでのシリンダ軸に垂直な方向における応力複屈折（ＳＤＢ）であって、その特性曲線を基本的の公式（２）
【数２】
2008505827.tif 000002
で表すことができる応力複屈折（ＳＤＢ）
を備え
ただし、
ｒ＝シリンダ軸からの径方向距離、
Ｒ＝光学的に使用される面ＣＡの最大半径、
Ｃ０、Ｃ３、Ｃ８＝ゼルニケの球面多項式の適応パラメータ
であることを特徴とする石英ガラスブランク。
【請求項２】
前記石英ガラスブランクが、重量比が５ないし１０％のＴｉＯ２または重量比４ないし６％のフッ素、または双方の物質の一次結合を含み、双方のドーピング物質の結合には下記の配分規則（３）および（４）、
ＴｉＯ２［重量％］＝７．４−１．６・フッ素含有量［重量％］      （３）
フッ素含有量［重量％］＝４．５−０．６１４・ＴｉＯ２含有量［重量％］  （４）
が適用されることを特徴とする請求項１に記載の石英ガラスブランク。
【請求項３】
７００重量ｐｐｍから１０００重量ｐｐｍの範囲の平均ＯＨ含有量を有し、石英ガラスブランクの厚みにわたって平均されたシリンダ軸と垂直な方向の面でのＯＨ含有量の変化が±５０ｐｐｍを超えないことを特徴とする請求項１および２のいずれか一項に記載の石英ガラスブランク。
【請求項４】
前記石英ガラスブランクの仮想温度が９５０℃を超えないことを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の石英ガラスブランク。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか一項に記載の石英ガラスブランクを製造する方法であって、珪素含有およびチタン含有および／またはフッ素含有化合物の火炎堆積法によって得られるドーピングされた石英ガラスを複数の変形加工段階によって大容積の棒状の原材料として均質の石英ガラスブランクに変形加工する工程を含み、該原材料は先ず２つのホルダの間に保持されてゾーンごとに融解温度に加熱され、その際に加熱されたゾーンは双方のホルダの相対運動によってシリンダ形のドリル材が生ずるように互いに作用され、該ドリル材は次に少なくとも１つの別の変形加工工程で加熱可能な形態に軟化され、軸方向に作用する力によって石英ガラスブランクの形状に変形される方法。
【請求項６】
前記ホルダと前記原材料とが同じ石英ガラス材料からなることを特徴とする請求項５に記載の石英ガラスブランクの製造方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００６】
石英ガラスブランクに関して上記の目的は本発明により、下記の特性の組合せを備えた石英ガラスブランクの一実施形態によって達成される。
石英ガラスブランクは、
ａ）（５μｍ）３の容積要素について平均したＴｉＯ２分布の局所分散が、該石英ガラスブランク中のＴｉＯ２含有量の平均値に対して０．０５％ＴｉＯ２未満であることによるミクロ不均一性、
ｂ）該石英ガラスブランクの光学的に使用される面ＣＡ（有効口径）部分のブランクのシリンダ軸（図２参照）の方向で平均された熱膨張率変動△αが５ｐｐｂ／Ｋ未満であり、
ｃ）公式（１）
【数１】
2008505827.tif 000003
で表わされる理論上の熱膨張変動Δａ値に対する、（ｂ）に基づいて平均された、光学的に使用される面部分の△αの差が０．５ｐｐｂ／Ｋ以下である、ただしＣ０α≦５ｐｐｂ／Ｋ、
（ｄ）最大０．４ｐｐｂ／（Ｋ・ｃｍ）である該石英ガラスの有効面での熱膨張率（径方向）分散
、および、
（ｅ）最大２ｎｍ／ｃｍである、６３３ｎｍでのシリンダ軸に垂直な方向における応力複屈折（ＳＤＢ）であって、その特性曲線を基本的の公式（２）
【数２】
2008505827.tif 000004
で表すことができる応力複屈折（ＳＤＢ）
を含み、
ただし、公式（１）および（２）内の変数は次を意味する：
ｒ＝シリンダ軸からの径方向距離、
Ｒ＝通常はＣＡ（「有効口径」）と呼ばれる石英ガラス上の光学的に使用される面の最大半径、
Ｃ０、Ｃ３、Ｃ８＝公式（１）と（２）でそれぞれ異なるゼルニケの球面多項式の適応パラメータ。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００８】
結像不良をできる限り排除するため、特に加熱時のミラーの変形に注意する必要がある。公式（１）に基づく膨張率の最適な分布は、図１に示すように変形に影響を及ぼす。
熱膨張率の不均一性は基本的に縁部でミラー表面の低周波湾曲を誘発するが、これは能動的な修正措置によって制御可能である。このような修正措置は例えば超大型の望遠鏡（例えばＶＬＴ：ｖｅｒｙ  ｌａｒｇｅ  ｔｅｌｅｓｃｏｐｅ）の場合、ミラーの変形を補償するいわゆるアクチュエータによって行われる。
これに対してランダムまたは高周波の（互いに密着した）不均一性によって、表面の各ポイントに著しいずれが生じ、これは補償することができない、または膨大な費用をもってしか補償することができない。
ミクロ不均一性および研磨可能性を損なう層を最小限にすることと併せて、膨張率の特性曲線を最適化することによって、石英ガラスブランクをＥＵＶリソグラフィ用の光学部品として使用可能になる。
本発明の別の有利な実施形態は従属請求項に記載されている。
この場合、ドーピング材料のフッ素および／またはチタンを導入し、石英ガラスに、重量比が５ないし１０％の範囲のＴｉＯ２、または重量比４ないし６％の範囲のフッ素を含めることが特に好適であることが実証されている。前記２つのドーピング物質の結合には、ＴｉＯ２またはフッ素含有を平均化するために、好適には下記の配分規則（３）および（４）、
ＴｉＯ２［重量％］＝７．４−１．６・フッ素含有量［重量％］      （３）
フッ素含有量［重量％］＝４．５−０．６１４・ＴｉＯ２含有量［重量％］  （４）
が適用される。
さらにシリンダ軸に垂直な方向に対して垂直な６３３ｎｍでの応力複屈折（ＳＤＢ）は最大５ｎｍ／ｃｍであり、基本的成分は勾配が５０（ｎｍ／ｃｍ）／ｃｍを超えない低周波成分で占められる。測定分解能はレーザ測定スポットの大きさに対応して１ｍｍである。本発明にとって第１に重要であるのは湾曲した表面（球面ミラー）を有する光学部品であるので、応力複屈折を曲率半径に応じてシリンダ軸方向に対して垂直な方向に同様に算定し、最適化しなければならない（シリンダ軸方向については図２も参照されたい）。さらにＳＤＢの特徴は層の自由度を特徴付ける役割をも果たす。
好適な実施形態では、石英ガラスブランクは、直接ガラス化による製造工程（いわゆるＤＱ法）を条件として、７００重量ｐｐｍから１０００重量ｐｐｍの範囲の平均ＯＨ含有量を有しており、石英ガラスブランクの厚みについて平均したシリンダ軸に垂直な面でのＯＨ含有量の変化は±５０ｐｐｍを超えない（図２のシリンダ軸方向（４）に対応）。ＯＨ含有量のこのような少ない分散は、石英ガラスの光学特性ならびに熱特性をできるだけ均一に保つために必要である。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１２】
最後に図３Ｃには公式（１）で表わされる理論上の熱膨張変動Δａ値に対する、実際の△αの差の曲線が示されている。△αの上記差は０．０７ｐｐｂ／Ｋである。
応力複屈折の曲線は図４Ａ、４Ｂおよび５Ａ、５Ｂに示されている。（「エッジ効果」は別にして）対応するグレースケール目盛りを引いて平面図で示すことによって、応力がほぼない板材が認められる。エッジ効果の原因は板材の機械的仕上げ加工におけるサンプルの縁部の固定に帰することができる。円筒形のサンプル板の板材の直径（図２に対応する径方向の切断方向）にわたるＳＤＢの曲線は図４Ｂに示されている。
図５Ａはミラー基板の対角線断面の半部の応力曲線を示しており、この場合はある程度の積層が認められる。図５Ｂでは２つの断面方向でのＳＤＢの曲線によってこの積層がより明らかに示されている。断面１のＳＤＢ曲線は対角線断面のほぼ中心の板材の厚みにわたって推移している。これに対して断面２は板材のほぼ中心の径方向に推移している。
図６Ｂのシルエット写真は層を大幅になくした石英ガラスブランクを示している。この改良は特に図６Ａに示された初期状態と直に比較すれば明らかである。
その上、均一化された後のＴｉＯ２含有率の分散は大幅に改善され、ミラー基板の表面ではＴｉＯ２含有率が０．６重量％である初期の拡散に対して最大で０．０５重量％であるに過ぎない。
ミラー基板での測定結果は本発明による均一化方法の成果を、ひいてはこの材料をＥＵＶリソグラフィに使用するのに適していることを示している。