【事件の表示】
　特願２０００−３５８１８５「流体制御モジュール」拒絶査定不服審判事件〔平成１３年　９月　７日出願公開、特開２００１−２４２９４０〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１．手続の経緯
　本願は、平成１２年１１月２４日（パリ条約による優先権主張１９９９年１１月２３日、米国）の出願であって、平成１５年３月１７日付けで手続補正がなされたところ、同年４月２１日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、同年７月２９日に審判請求がなされるとともに、同年８月２０日に手続補正がなされたものである。
　
第２．平成１５年８月２０日付け手続補正についての補正却下の決定
　
［補正却下の決定の結論］
　平成１５年８月２０日付け手続補正を却下する。
　
［理由］
１．補正後の請求項１に記載された発明
　平成１５年８月２０日付けの手続補正（以下、「本件補正」という。）により、本願明細書における特許請求の範囲の請求項１は、
　
「流体回路との接続に適応する化学的に不活性な流体制御モジュールであって、
　化学的に不活性な流路と、
　前記流路に接続され、かつ流体に露呈される部分が化学的に不活性である調整可能な制御弁と、
　前記流路に接続され、かつ流体に露呈される部分が化学的に不活性な第１の圧力センサと、
　前記流路内に設けられ、断面積の減少した領域を有するとともに前記流路内において流体の流量を制限する絞り部と、
　前記制御弁および前記第１の圧力センサを収容するとともに、汚染を招くことのない高分子からなり、かつ化学的に不活性なハウジングと、
　
前記制御弁および前記第１の圧力センサに接続されるとともに前記ハウジング内に収容され、かつ前記流路内で流体が停止した際に、前記第１の圧力センサをリセットするコントローラと、
　を備え、
　
前記第１の圧力センサが、前記絞り部と前記制御弁との間に配置され、
と補正された。
　
　上記補正は、補正前の請求項１に記載した発明を特定するために必要な事項に限定を付加するものであって、特許法第１７条の２第４項第２号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
　
　そこで、本件補正後の前記請求項１に記載された発明（以下、「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第４項の規定に適合するか）について以下検討する。
　
２．引用例
　原査定の拒絶の理由に引用した特開平１１−２６５２１７号公報（以下、「引用例」という。）には、以下の記載がある。
ア．「【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、ガスなどの流体の流量を制御する圧力式流量制御装置、特に、流体制御弁の下流側に絞り機構を設け、この絞り機構の上流側の圧力を下流側の圧力の約２倍以上に保持した状態でガスの流量制御を行う圧力式流量制御装置に関する。」
　
イ．「【００１０】
【発明の実施の形態】発明の実施の形態を図面を参照しながら説明する。図１および図２は、この発明の第１の実施の形態を示す。まず、図１は、この発明の圧力式流量制御装置の一例を示し、この図において、１は例えば直方体状の本体ブロックで、耐化学薬品性を有する素材、例えばステンレス鋼よりなる。この本体ブロック１の左右両端には、それぞれ、ガスなど流体の導入用および導出用の継手ブロック２，３が溶接によって一体的に連設されている。これらの継手ブロック２，３も例えばステンレス鋼よりなる。
【００１１】前記本体ブロック１の内部には、上流側が継手ブロック２に連なり、下流側が継手ブロック３に連なるガス流路４が形成され、このガス流路４の途中にガス流量を制御する流体制御弁５、圧力センサ６および絞り機構７がこの順に設けられている。なお、前記流路４は、継手ブロック２の入口から流体制御弁５までの流路４ａと、流体制御弁５から絞り機構７までの流路４ｂと、絞り機構７から継手ブロック３の出口までの流路４ｃとからなる。」
　
ウ．上記イ．等の記載から、本体ブロック１は、左右両端に継手ブロック２，３を有しており、引用例に記載された圧力式流量制御装置が流体回路との接続に適応することは自明のことである。
　
エ．上記イ．等の記載から、本体ブロック１は、耐化学薬品性を有する素材からなるものであるから、化学的に不活性であるといえる。
　
　これらの記載及び図面を参照すると、引用例には次の発明が記載されている。（以下、「引用発明」という。）
　
「流体回路との接続に適応する圧力式流量制御装置であって、
　ガス流路と、
　前記ガス流路に接続される調整可能な流体制御弁と、
　前記ガス流路に接続される圧力センサと、
　流体の流量を制限する絞り機構と、
　前記流体制御弁および前記圧力センサを搭載するとともに、化学的に不活性な本体ブロックと、
　を備え、
　前記圧力センサが、前記絞り機構と前記流体制御弁との間に配置されている圧力式流量制御装置。」
　
３．対比
　本願補正発明と上記引用発明とを対比すると、その作用・機能からみて、後者における「圧力式流量制御装置」が前者の「流体制御モジュール」に相当し、以下同様に、「ガス流路」が「流路」に、「流体制御弁」が「制御弁」に、「圧力センサ」が「第１の圧力センサ」にそれぞれ相当する。
　また、後者の「絞り機構」と前者の「絞り部」とは、流体の流量を制限する絞りという概念で共通し、後者の「ハウジング」と前者の「本体ブロック」とは、制御弁および圧力センサを配設するとともに、化学的に不活性な本体部という概念で共通する。
　したがって、両者は、
　
「流体回路との接続に適応する流体制御モジュールであって、
　流路と、
　前記流路に接続される調整可能な制御弁と、
　前記流路に接続される第１の圧力センサと、
　流体の流量を制限する絞りと、
　前記制御弁および前記第１の圧力センサを配設するとともに、化学的に不活性な本体部と、
　を備え、
　前記第１の圧力センサが、前記絞りと前記制御弁との間に配置されている流体制御モジュール。」の点で一致し、以下の点で相違する。
　
［相違点１］
　本願補正発明において、「流路」、「制御弁」、「第１の圧力センサ」、の流体に露呈される部分が化学的に不活性であり、「流体制御モジュール」が化学的に不活性であるのに対し、引用発明においては、「ガス流路」、「流体制御弁」、「圧力センサ」、「圧力式流量制御装置」がかかる性質を備えていない点。
［相違点２］
　本願補正発明は、制御弁および第１の圧力センサに接続され、かつ流路内で流体が停止した際に、第１の圧力センサをリセットする「コントローラ」を備えるとともに、「本体部」に関して、汚染を招くことのない高分子からなり、制御弁、第１の圧力センサ、コントローラを「収容」するものであるのに対し、引用例には、「コントローラ」について記載がなく、「本体部」に関して、汚染を招くことのない高分子からなるものとはされておらず、制御弁、圧力センサを搭載しているものの、「収容」しているとまではいえない点。
［相違点３］
　本願補正発明が、「制御弁を前記第１の圧力センサで検出された圧力に応じて調整することによって、流体圧力、流速または流量を制御可能である」のに対し、引用例には、流体制御弁が圧力センサで検出された圧力に応じて調整される旨の記載がない点。
［相違点４］
　「絞り」に関して、本願補正発明の「絞り部」が、流路内に設けられ、断面積の減少した領域を有するものであるのに対し、引用発明の「絞り機構」はかかる構成とされていない点。
　
４．判断
（１）［相違点１］について
　バルブ装置において、扱う流体が腐食性である場合に、流体に露呈する部分を耐腐食性の高分子材料で被覆する等により、化学的に不活性とすることは、例えば、特開平１１−４８９９号公報、特開平６−３５５４６号公報、特開平１０−２２２２３０号公報に記載されているように周知の技術であり、引用発明の装置において腐食性の流体を用いることを妨げる格別の事情は見あたらず、その際に、流路、流体制御弁、圧力センサ等の流体に露呈される部分を化学的に不活性とすることは当業者が普通に行うことである。
　
（２）［相違点２］について
　圧力センサの零点補正を行うことは、例えば、特開平６−１６７５９２号公報、特開平９−２９１８５６号公報に記載されており周知であるとともに、センサ一般において、零点補正を行う際に、センサに測定対象の負荷がない状態で行うことは技術常識である。そして、引用発明において、圧力センサの零点補正を行う際に、制御弁および圧力センサに接続され、流路に流体が停止している状態で、圧力センサをリセットするコントローラを設けることは、当業者が普通に想到し得ることである。
　また、引用発明において、制御弁、圧力センサおよびコントローラの保護等の目的のために、本体部を、制御弁等を収容するような、例えば、筺体とすることは、当業者が適宜なし得る設計事項であり、その際、本体部や本体部内部の保護等のために、耐腐食性の高分子材料を採用することも格別困難ではない。
　
（３）［相違点３］について
　流体制御装置において、検出した圧力に応じて弁の調整を行うことは、例えば、特開平８−３３８５４６号公報、実願昭６２−２２６４８号（実開昭６３−１３０８０６号）のマイクロフィルム、特開平１０−５５２１８号公報に記載されているように周知の技術であり、引用例には、圧力センサで検出した圧力値をどのように用いるか明記がないが、周知技術のように、弁の調整に用いることは適宜設計し得る事項と認められる。
　
（４）［相違点４］について
　流路内に設けられ、断面積の減少した領域を有する絞りは周知であるところ、流路に制御弁、圧力センサの順で備えた流体制御装置の下流にかかる絞りを備えたものは、例えば、特開平１０−５５２１８号公報、特開平１１−２６５２１５号公報、特開平１１−２６５２１４号公報に記載されており、引用発明において、絞り機構に代えて、かかる周知の絞りを設けるに格別のものは認められない。
　
（５）本願補正発明を全体として検討しても、引用例に記載された発明及び周知技術から予測される以上の格別の効果を奏するものとも認められない。
　
　したがって、本願補正発明は、引用例に記載された発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際に独立して特許を受けることができない。
　
５．むすび
　以上のとおりであるから、本件補正は、特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第４項の規定に違反するものであり、特許法第１５９条第１項の規定で読み替えて準用する特許法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
第３．本願発明について
１．本願発明
　平成１５年８月２０日付けの手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１ないし７１に係る発明は、平成１５年３月１７日付け手続補正書により補正された明細書および出願当初の図面記載からみて、その明細書の特許請求の範囲の請求項１ないし７１に記載された事項により特定されるとおりのものであると認められるところ、その請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、次のとおりである。
　
「流体回路との接続に適応する化学的に不活性な流体制御モジュールであって、
　化学的に不活性な流路と、
　前記流路に接続され、かつ流体に露呈される部分が化学的に不活性である調整可能な制御弁と、
　前記流路に接続され、かつ流体に露呈される部分が化学的に不活性な第１の圧力センサと、
　前記流路内に設けられ、断面積の減少した領域を有するとともに前記流路内において流体の流量を制限する絞り部と、
　前記制御弁および前記第１の圧力センサを収容するとともに、汚染を招くことのない高分子からなり、かつ化学的に不活性なハウジングと、
　を備え、
　前記制御弁を前記第１の圧力センサで検出された圧力に応じて調整することによって、流体圧力、流速または流量を制御可能であることを特徴とする流体制御モジュール。」
　
２．引用例
　原査定の拒絶の理由に引用した引用例、及びその記載事項は前記「第２．２．」に記載したとおりである。
　
３．対比・判断
　本願発明は、前記「第２．」で検討した本願補正発明から限定事項を省いたものである。
　
　そうすると、本願発明の構成要件を全て含み、さらに他の構成要件を付加したものに相当する本願補正発明が、前記「第２．４．」に記載したとおり、引用例に記載された発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様の理由により、引用例に記載された発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
４．むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用例に記載された発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
　よって、結論のとおり審決する。