【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年12月9日(2009.12.9)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多層反射防止スタックで被覆された少なくとも１つの主面を有する基板を含む物品であり、
前記多層反射防止スタックは、前記基板から順に：
ａ）屈折率ｎD25が１.５０〜２.００であり、第１の硬化性組成物を硬化することにより得られ、
エポキシ基または（メタ）アクリルオキシ基と、シラノール基に加水分解可能な少なくとも２つの官能基と、を持った少なくとも１つの前駆体化合物の加水分解縮合から得られた有機−無機ハイブリッドマトリックスを含有し、
少なくとも１つのコロイド状金属酸化物若しくは少なくとも１つのコロイド状カルコゲニドまたはこれらの化合物の混合物が粒径１〜１００ｎｍ、好ましくは２〜５０ｎｍの粒子形態で直接分散している高屈折率（ＨＩ）層であって、前記少なくとも１つのコロイド状金属酸化物若しくは少なくとも１つのコロイド状カルコゲニドまたはこれらの化合物の混合物が、ルチル型の複合酸化チタンであることを特徴とする高屈折率層：
ｂ）屈折率ｎD25が１.３８〜１.４４の範囲であり、第２の硬化性組成物の成膜および硬化から得られ、
（ｉ）下記式で表される１分子当たり加水分解可能な官能基を４基含有する少なくとも１つの前駆体化合物（Ｉ）と、
Ｓｉ（Ｗ）４
（式中の前記Ｗ基は、全てのＷ基が同時に水素原子を表さない限り、それぞれ同一であっても異なっていてもよい加水分解可能な基である。）
（ｉｉ）少なくとも１つのフッ素基を持ち、１分子当たり少なくとも２つの加水分解可能な基を含有する少なくとも１つの前駆体シラン（ＩＩ）と、の加水分解縮合による生成物を含有し、
前記第２の組成物はその理論上の乾燥抽出物（ＴＤＥ）に少なくとも１０質量％のフッ素を含有し、前記第２の組成物の前記前駆体化合物（Ｉ）に対する前記前駆体化合物（Ｉ）＋前駆体シラン（ＩＩ）の合計のモル比Ｉ／Ｉ＋ＩＩが８０％超である低屈折率（ＬＩ）層を含む。
【請求項２】
前記基板の主面が耐磨耗層、または、プライマー膜の層および耐磨耗膜の層で被覆され、前記耐磨耗膜上に前記反射防止スタックが成膜される、請求項１に記載の物品。
【請求項３】
さらに、前記高屈折率層の前記マトリックス中にシリカ（ＳｉＯ２）が分散する、請求項１または２に記載の物品。
【請求項４】
前記高屈折率層（ＨＩ）の前記有機−無機ハイブリッドマトリックス中に分散した前記無機粒子がＴｉＯ２、ＳｎＯ２、ＺｒＯ２およびＳｉＯ２に基づいた複合構造を有する、請求項１〜３のいずれかに記載の物品。
【請求項５】
前記低屈折率層の前記理論上の乾燥抽出物（ＴＤＥ）の６０質量％以上、好ましくは６５質量％以上、さらに好ましくは７０質量％以上が、前記前駆体化合物（Ｉ）に由来する、請求項１から４のいずれかに記載の物品。
【請求項６】
前記前駆体化合物（Ｉ）に対する前記前駆体化合物（Ｉ）＋前駆体シラン（ＩＩ）の合計のモル比Ｉ／Ｉ＋ＩＩが８５％以上である、請求項１から５のいずれかに記載の物品。
【請求項７】
前記前駆体化合物（Ｉ）に対する前記前駆体化合物（Ｉ）＋前駆体シラン（ＩＩ）の合計のモル比Ｉ／Ｉ＋ＩＩが９０％以上である、請求項１から５のいずれかに記載の物品。
【請求項８】
前記前駆体化合物（Ｉ）に対する前記前駆体化合物（Ｉ）＋前駆体シラン（ＩＩ）の合計のモル比Ｉ／Ｉ＋ＩＩが９５％以上である、請求項１から５のいずれかに記載の物品。
【請求項９】
前記加水分解可能なＷ基が、ＲをアルキルとするＯＲ、ＣｌまたはＨ基を表す、請求項１から８のいずれかに記載の物品。
【請求項１０】
前記低屈折率層（ＬＩ）の前記硬化性組成物が、前記式Ｓｉ（Ｗ）４の前駆体化合物(Ｉ)の前記シラン類および前記前駆体フルオロシラン（ＩＩ）とは異なるトリまたはジアルコキシシランを、該組成物中のシラン類の総質量の１０質量％以下含有する、請求項１から９のいずれかに記載の物品。
【請求項１１】
前記低屈折率層（ＬＩ）の前記硬化性組成物が、前記前駆体（Ｉ）の前記シラン類および前記前駆体フルオロシラン（ＩＩ）のみを含有する、請求項１から９のいずれかに記載の物品。
【請求項１２】
前記反射防止スタックが、１つの低屈折率層（ＬＩ）で被覆された１つの高屈折率層（ＨＩ）のみを有する、請求項１から１１のいずれかに記載の物品。
【請求項１３】
前記反射防止スタックが、前記基板から、中屈折率層（ＭＩ）、高屈折率層（ＨＩ）および低屈折率層（ＬＩ）の順に積層された少なくとも３層を含み、前記中屈折率層（ＭＩ）の屈折率ｎD25が1.４５〜１.８０である、請求項１から１１のいずれかに記載の物品。
【請求項１４】
前記高屈折率（ＨＩ）材料の層の屈折率が、１.７より高く、好ましくは１.７２〜１.８２の範囲で、さらに好ましくは約１.７７である、請求項１から１３のいずれかに記載の物品。
【請求項１５】
前記高屈折率（ＨＩ）材料の層の物理的な厚さが、１０〜２００ｎｍの範囲で、好ましくは８０〜１５０ｎｍの範囲である、請求項１から１４のいずれかに記載の物品。
【請求項１６】
前記低屈折率（ＬＩ）材料の層の物理的な厚さが、４０〜１５０ｎｍで、好ましくは約９０ｎｍである、請求項１から１５のいずれかに記載の物品。
【請求項１７】
前記組成物（ＨＩ）の前記有機マトリックスが、エポキシアルコキシシランの加水分解物である、請求項１から１６のいずれかに記載の物品。
【請求項１８】
前記エポキシアルコシキシシランが１つのエポキシ基と３つのアルコキシ基とを有し、後者が前記ケイ素原子と直接結合している、請求項１７に記載の光学物品。
【請求項１９】
前記エポキシアルコキシシランが下記式（Ｉ）に対応する請求項１８に記載の光学物品。
【化１】
2007500864.tif 000001
（式中、Ｒ１は炭素原子を１〜６個含むアルキル基で、好ましくはメチル基またはエチル基であり、
Ｒ２はメチル基または水素原子であり、
ａは１〜６の整数であり、
ｂは０、１または２を表す。）
【請求項２０】
前記エポキシアルコキシシランがγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランである、請求項１９に記載の物品。
【請求項２１】
前記高屈折率層（ＨＩ）の前記硬化性組成物が：
−アルミニウムキレート類、
−下記式（ＩＩ）または（ＩＩＩ）の化合物：
から選ばれるアルミニウム化合物からなる触媒と組み合わせられ、前記触媒がアルミニウムキレートの場合は、大気圧での沸点Ｔが７０℃〜１４０℃の範囲の有機溶剤が、前記硬化性組成物中（ＨＩ）に存在する、請求項１から２０のいずれかに記載の物品。
【化２】
2007500864.tif 000002
（式中、ＲおよびＲ’は炭素原子を１〜１０個含む直鎖または分岐鎖アルキル基であり、
Ｒ’’は、炭素原子を１〜１０個含む直鎖または分岐鎖アルキル基、フェニル基、または下記の基であり、
【化３】
2007500864.tif 000003
式中、Ｒは上記の意味を有し、ｎは１〜３の整数である。）
【請求項２２】
前記硬化性組成物（ＨＩ）の前記触媒がアルミニウムキレートであり、好ましくはアルミニウムアセチルアセトネートである、請求項２１に記載の物品。
【請求項２３】
前記第２の硬化性組成物（ＬＩ）の前記前駆体化合物（Ｉ）がテトラアルコキシシランであり、好ましくはテトラエトキシシランである、請求項１から２２のいずれかに記載の物品。
【請求項２４】
前駆体シラン（ＩＩ）がペルフルオロシラン類から選ばれる、請求項1から２３のいずれかに記載の物品。
【請求項２５】
前記基板が有機ガラス製の基板であり、任意に耐磨耗膜および／または耐衝撃膜が設けられる、請求項１から２４のいずれかに記載の物品。
【請求項２６】
さらに、前記反射防止膜上に成膜される疎水性の汚染防止膜を有する、請求項１から２５のいずれかに記載の物品。
【請求項２７】
請求項１から２６のいずれかに記載の物品の製造方法であって、
任意に耐磨耗膜、または、プライマー層および耐磨耗膜で被覆された前記基板の少なくとも１面に、エポキシ基または（メタ）アクリルオキシ基と、シラノール基に加水分解可能な少なくとも２つの官能基と、を持った少なくとも１つの前駆体化合物の加水分解縮合から得られる有機−無機ハイブリッドマトリックスを含む第１の硬化性組成物（ＨＩ）を塗布し、その後硬化させることにより、少なくとも１つの金属酸化物および／または少なくとも１つのカルコゲニドが粒径１〜１００ｎｍ、好ましくは２〜５０ｎｍの粒子形態で分散した高屈折率（ＨＩ）材料の層を少なくとも１層成膜する工程であって、前記少なくとも１つの金属酸化物および／または少なくとも１つのカルコゲニドが、ルチル型の複合酸化チタンであることを特徴とする工程と、
前記層（ＨＩ）に、第２の硬化性組成物（ＬＩ）を塗布し、その後硬化させることにより、
好ましくはいかなる無機フィラーをも含有せず、
（ｉ）下記式で表される１分子当たり加水分解可能な官能基を４基含有する少なくとも１つの前駆体化合物（Ｉ）と、
Ｓｉ（Ｗ）４
（式中の前記Ｗ基は、全てのＷ基が同時に水素原子を表さない限り、それぞれ同一であっても異なっていてもよい加水分解可能な基である。）
（ｉｉ）少なくとも１つのフッ素基を持ち、１分子当たり少なくとも２つの加水分解可能な基を含有する少なくとも１つの前駆体シラン（ＩＩ）と、の加水分解縮合による生成物を含有し、
前記第２の組成物はその理論上の乾燥抽出物（ＴＤＥ）に少なくとも１０質量％のフッ素を含有し、前記第２の組成物の前記前駆体化合物（Ｉ）に対する前記前駆体化合物（Ｉ）＋前駆体シラン（ＩＩ）の合計のモル比Ｉ／Ｉ＋ＩＩが、８０％超である低屈折率（ＬＩ）材料の層を少なくとも１層成膜する工程と、を含む。
【請求項２８】
前記高屈折率（ＨＩ）および低屈折率（ＬＩ）の材料の各層がディップコートまたはスピンコート、好ましくはスピンコートによって成膜される、請求項２７に記載の方法。
【請求項２９】
前記高屈折率（ＨＩ）材料の層および前記低屈折率（ＬＩ）材料の層の成膜の間に、前記層（ＨＩ）を表面処理して、該表面を前記層（ＬＩ）の成膜のために調整することを含む、請求項２７また２８に記載の方法。
【請求項３０】
前記高屈折率材料の層の前記表面処理が赤外線処理と、その後の周囲温度の気流により冷却である、請求項２９に記載の方法。
【請求項３１】
前記反射防止スタックが、基板から順に、中屈折率材料の層、高屈折率材料の層および低屈折率材料の層を連続的に含む三重層のスタック（ＭＩ／ＨＩ／ＬＩ）である、請求項２７から３０のいずれかに記載の方法。
【請求項３２】
前記高屈折率（ＨＩ）材料の層の屈折率が、１.７２〜１.８２であり、好ましくは約１.７７である、請求項２７から３１のいずれかに記載の方法。
【請求項３３】
前記低屈折率（ＬＩ）材料の層の屈折率が、１.３８〜１.４４の範囲であり、好ましくは約１.４３である、請求項２７から３２のいずれかに記載の方法。
【請求項３４】
前記高屈折率（ＨＩ）材料の層の物理的な厚さが、１０〜２００ｎｍの範囲で、好ましくは８０〜１５０ｎｍの範囲である、請求項２７から３３のいずれかに記載の方法。
【請求項３５】
前記低屈折率（ＬＩ）材料の層の物理的な厚さが、４０〜１５０ｎｍで、好ましくは約９０ｎｍである、請求項２７から３４のいずれかに記載の方法。
【請求項３６】
前記第1の硬化性組成物（ＨＩ）の前記前駆体化合物が、エポキシアルコキシシランの加水分解物である、請求項２７から３５のいずれかに記載の方法。
【請求項３７】
前記エポキシアルコシキシシランが１つのエポキシ基と３つのアルコキシ基とを有し、後者が前記ケイ素原子と直接結合している、請求項３６に記載の方法。
【請求項３８】
１つのエポキシ基を有する前記シランが下記式（Ｉ）に対応するエポキシシランである請求項３７に記載の方法。
【化４】
2007500864.tif 000004
（式中、Ｒ１は炭素原子を１〜６個含むアルキル基で、好ましくはメチル基またはエチル基であり、
Ｒ２はメチル基または水素原子であり、
ａは１〜６の整数であり、
ｂは０、１または２を表す。）
【請求項３９】
前記エポキシシランがγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランである、請求項３８に記載の方法。
【請求項４０】
前記硬化性組成物（ＨＩ）が
−アルミニウムキレート類、
−下記式（ＩＩ）または（ＩＩＩ）の化合物：
から選ばれるアルミニウム化合物からなる触媒と組み合わせられ、前記触媒がアルミニウムキレートの場合は、大気圧での沸点Ｔが７０℃〜１４０℃の範囲の有機溶剤が、硬化性組成物中に存在する、請求項２７から３９のいずれかに記載の方法。
【化５】
2007500864.tif 000005
（式中、ＲおよびＲ’は炭素原子を１〜１０個含む直鎖または分岐鎖アルキル基であり、
Ｒ’’は、炭素原子を１〜１０個含む直鎖または分岐鎖アルキル基、フェニル基、または下記の基である。
【化６】
2007500864.tif 000006
式中、Ｒは上記の意味を有し、ｎは１〜３の整数である。）
【請求項４１】
前記組成物（ＨＩ）の前記触媒がアルミニウムキレートであり、好ましくはアルミニウムアセチルアセトネートである、請求項４０に記載の方法。
【請求項４２】
前記低屈折率の組成物（ＬＩ）の前記前駆体化合物（Ｉ）がテトラアルコキシシランであり、好ましくはテトラエトキシシランである、請求項２７から４１のいずれかに記載の方法。
【請求項４３】
前記低屈折率（ＬＩ）の組成物の前記前駆体シラン（ＩＩ）がペルフルオロシランである、請求項２７から４２のいずれかに記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４３】
本発明は、上記で規定された物品の製造方法に関し、該製造方法は、
第１の硬化性組成物（ＨＩ）を基板の少なくとも１面に塗布し、硬化させることにより、エポキシ基または（メタ）アクリルオキシ基と、シラノール基に加水分解可能な少なくとも２つの官能基と、を持った少なくとも１つの前駆体化合物と、
粒径２〜５０ｎｍの粒子形態の少なくとも１つの金属酸化物若しくは少なくとも１つのカルコゲニドまたはこれら化合物の混合物と、を含む高屈折率材料の層（ＨＩ）を少なくとも１層成膜する工程と、
該層（ＨＩ）に、第２の硬化性組成物（ＬＩ）を塗布し、その後硬化させることにより、
好ましくはいかなる無機フィラーをも含有せず、
（ｉ）下記式で表される１分子当たり加水分解可能な官能基を４基含有する少なくとも１つの前駆体化合物（Ｉ）と、
Ｓｉ（Ｗ）４
（式中のＷ基は、全てのＷ基が同時に水素原子を表さない限り、それぞれ同一であっても異なっていてもよい加水分解可能な基である。）
（ｉｉ）少なくとも１つのフッ素基を持ち、１分子当たり少なくとも２つの加水分解可能な基を含有する少なくとも１つの前駆体シラン（ＩＩ）と、の加水分解縮合による生成物を含有し、
該第２の組成物はその理論上の乾燥抽出物（ＴＤＥ）に少なくとも１０質量％のフッ素を含有し、前記第２の組成物の前記前駆体化合物（Ｉ）に対する前記前駆体化合物（Ｉ）＋前駆体シラン（ＩＩ）の合計のモル比Ｉ／Ｉ＋ＩＩは、８０％超である低屈折率（ＬＩ）材料の層を少なくとも１層成膜する工程と、を含む。