【手続補正書】
【提出日】平成22年6月3日(2010.6.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１９３ｎｍリソグラフィのための上面反射防止コーティング層として用いるのに適した組成物であって、芳香族部分及び１９３ｎｍの放射波長に対して１．５未満の屈折率値ｎを有する、塩基水溶液に可溶なポリマーを含む、前記組成物。
【請求項２】
前記芳香族部分は、置換又は非置換の芳香族部分又はそれらの組合せから成る群から選択される、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記芳香族部分は独立に、置換又は非置換型の、縮合芳香族部分、複素環芳香族部分及びそれらの組合せから成る群から選択される、請求項２に記載の組成物。
【請求項４】
前記芳香族部分は、ナフタレン、チオフェン及びそれらの組合せから成る群から選択される、請求項３に記載の組成物。
【請求項５】
前記ポリマーは、塩基水溶液中への前記組成物の溶解を促進する部分をさらに含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
前記溶解を促進する部分は、ヒドロキシル基、スルホンアミジル基、Ｎ−ヒドロキシジカルボキシイミジル基、その他のジカルボキシイミジル基、その他のアミノ基及びその他のイミジル基から成る群から選択される、請求項５に記載の組成物。
【請求項７】
前記ポリマーはさらにフッ素含有部分を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項８】
前記組成物はさらに硫黄含有酸性部分を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項９】
前記ポリマーはエチレン型主鎖を有する、請求項１に記載の組成物。
【請求項１０】
前記ポリマーは、アクリル酸ビニル、メタアクリル酸ビニル、及びそれらの組合せから成る群から選択されるモノマー単位を含む、請求項９に記載の組成物。
【請求項１１】
前記芳香族部分は前記エチレン型主鎖からのペンダント基である、請求項９に記載の組成物。
【請求項１２】
前記屈折率ｎは１．４又はそれ以下である、請求項１に記載の組成物。
【請求項１３】
前記組成物は、１９３ｎｍの放射波長に対して０．０５から０．２５までの吸光係数ｋを有する、請求項１に記載の組成物。
【請求項１４】
前記ポリマーは、以下に示す構造から成る群から選択される構造を有する少なくとも１つのモノマー単位を含む、請求項７に記載の組成物。
【化１】
2009511969.tif 000001
【請求項１５】
前記ポリマーは、以下に示す構造から成る群から選択される構造を有する少なくとも１つのモノマー単位を含む、請求項８に記載の組成物。
【化２】
2009511969.tif 000002
【請求項１６】
前記ポリマーは以下に示すモノマー単位を含有する、請求項１に記載の組成物。
【化３】
2009511969.tif 000003
【請求項１７】
前記ポリマーは、本質的に以下に示すモノマー単位から成る、請求項１６に記載の組成物。
【化４】
2009511969.tif 000004
式中、ｘは３５〜６５であり、ｙは２０〜６５であり、ｚは５〜３０である。
【請求項１８】
前記ポリマーは以下に示すモノマー単位を含有する、請求項１に記載の組成物。
【化５】
2009511969.tif 000005
【請求項１９】
前記ポリマーは更に以下に示すモノマー単位を含有する、請求項１８に記載の組成物。
【化６】
2009511969.tif 000006
【請求項２０】
前記ポリマーは、本質的に以下に示すモノマー単位から成る、請求項１９に記載の組成物。
【化７】
2009511969.tif 000007
式中、ｘは２５〜６０であり、ｙは３０〜７０であり、ｚは５〜２５である。
【請求項２１】
前記ポリマーは１５００〜５００００の重量平均分子量を有する、請求項１に記載の組成物。
【請求項２２】
基板上にパターン付けされた材料フィーチャを形成する方法であって、
（ａ）基板上に材料表面を設けるステップと、
（ｂ）前記材料表面上に放射感応性レジスト層を形成するステップと、
（ｃ）前記レジスト層上に上面反射防止コーティングを形成するステップであって、前記反射防止コーティングは、芳香族部分及び１９３ｎｍの放射波長に対して１．５未満の屈折率値ｎを有する、塩基水溶液に可溶なポリマーを含む、ステップと、
（ｄ）前記レジスト層をパターン様式で放射に露光して、前記レジスト層内に放射露光領域のパターンを作製するステップと、
（ｅ）前記レジスト層及び反射防止コーティングの部分を選択的に除去して、前記材料表面の部分を露出させるステップと、
（ｆ）前記材料の前記露出部分をエッチング又はイオン注入して、前記パターン付けされた材料フィーチャを形成するステップと
を含む方法 
【請求項２３】
前記放射は１９３ｎｍの波長を有する紫外放射である、請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
前記材料層は、誘電体、金属、及び半導体から成る群から選択される、請求項２２に記載の方法。
【請求項２５】
前記芳香族部分は独立に、置換又は非置換型の、縮合芳香族部分、複素環芳香族部分及びそれらの組合せから成る群から選択される、請求項２２に記載の方法。
【請求項２６】
前記ポリマーは、塩基水溶液中への前記組成物の溶解を促進する部分をさらに含む、請求項２２に記載の方法。
【請求項２７】
前記溶解を促進する部分は、ヒドロキシル基、スルホンアミジル基、Ｎ−ヒドロキシジカルボキシイミジル基、その他のジカルボキシイミジル基、その他のアミノ基及びその他のイミジル基から成る群から選択される、請求項２６に記載の方法。
【請求項２８】
前記ポリマーはさらにフッ素含有部分を含む、請求項２２に記載の方法。
【請求項２９】
前記反射防止コーティングはさらに硫黄含有酸性部分を含む、請求項２２に記載の方法。
【請求項３０】
前記ポリマーはエチレン型主鎖を有する、請求項２２に記載の方法。
【請求項３１】
前記ポリマーは、アクリル酸ビニル、メタクリル酸ビニル、及びそれらの組合せから成る群から選択されるモノマー単位を含む、請求項３０に記載の方法。
【請求項３２】
前記芳香族部分は前記エチレン型主鎖からのペンダント基である、請求項３０に記載の方法。
【請求項３３】
前記屈折率ｎは１．４又はそれ以下である、請求項２２に記載の方法。
【請求項３４】
前記反射防止コーティングは、１９３ｎｍの放射波長に対して０．０５から０．２５までの吸光係数ｋを有する、請求項２２に記載の方法。
【請求項３５】
前記ポリマーは、以下に示す構造から成る群から選択される構造を有する少なくとも１つのモノマー単位を含む、請求項２８に記載の方法。
【化８】
2009511969.tif 000008
【請求項３６】
前記ポリマーは、以下に示す構造から成る群から選択される構造を有する少なくとも１つのモノマー単位を含む、請求項２９に記載の方法。
【化９】
2009511969.tif 000009
【請求項３７】
前記ポリマーは以下に示すモノマー単位を含有する、請求項２２に記載の方法。
【化１０】
2009511969.tif 000010
【請求項３８】
前記ポリマーは、本質的に以下に示すモノマー単位から成る、請求項３７に記載の方法。
【化１１】
2009511969.tif 000011
式中、ｘは３５〜６５であり、ｙは２０〜６５であり、ｚは５〜３０である。
【請求項３９】
前記ポリマーは以下に示すモノマー単位を含有する、請求項２２に記載の方法。
【化１２】
2009511969.tif 000012
【請求項４０】
前記ポリマーは更に以下に示すモノマー単位を含有する、請求項３９に記載の方法。
【化１３】
2009511969.tif 000013
【請求項４１】
前記ポリマーは、本質的に以下に示すモノマー単位から成る、請求項４０に記載の方法。
【化１４】
2009511969.tif 000014
式中、ｘは２５〜６０であり、ｙは３０〜７０であり、ｚは５〜２５である。
【請求項４２】
前記ポリマーは１５００〜５００００の重量平均分子量を有する、請求項２２に記載の方法。