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　特願２０００−１１８７２５「プラズマフォーカス高エネルギフォトン源」拒絶査定不服審判事件〔平成１３年　２月１６日出願公開、特開２００１−　４２０９８〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯 
　本願は、平成１２年３月１５日（パリ条約による優先権主張１９９９年３月１５日、米国）の外国語書面出願であって、平成１２年５月１５日付けで翻訳文提出書が提出され、平成１４年８月７日付けで手続補正がなされ、平成１５年６月９日付けで手続補正がなされ、平成１５年６月９日付けの手続補正が平成１５年７月２３日付けで却下がされるとともに、同日付けで拒絶査定がなされ、平成１５年１０月２７日付けで審判請求がなされるとともに、平成１５年１１月２６日付けで手続補正がなされたものである。
　
２．平成１５年１１月２６日付け手続補正についての補正却下の決定
[補正却下の決定の結論]
　平成１５年１１月２６日付け手続補正を却下する。
[理由］独立特許要件違反
（１）補正後の本願発明
　平成１５年１１月２６日付け手続補正（以下、「本件補正」という。）により、特許請求の範囲の請求項１は、次のように補正された。
「Ａ．真空室と、
Ｂ．前記真空室内に設置された２つの電極とを有し、前記２つの電極が、前記２つの電極の間に電気放電領域を規定し、前記電気放電領域の外部の絞り込み部に電気放電を焦点合わせさせる、高周波プラズマ絞り込みが生じる
ように配置され、
Ｃ．少なくとも１つのスペクトル線を持つ光を供給するように選択された活性化ガス、及び貴ガスである緩衝ガスを含む機能ガスと、
Ｄ．前記放電領域に機能ガスを供給する機能ガス供給システムと、
Ｅ．前記少なくとも１対の電極間に放電を生じさせるに十分な電気パルス及び高電圧を供給するパルスパワー源と、
Ｆ．前記プラズマ絞り込みで作り出された放射を収集し、前記放射を所望の方向に差し向けるための外部反射放射収集−指向器と、
Ｇ．絞り込み部から放射収集−指向器にむかって広がる光線と整列した複数の円錐表面部を備える円錐形デブリス収集器と、を有し、前記複数の円錐表面部が前記光線の軸線方向に対して半径方向及び長手方向のいずれにも一部の前記円錐表面部が他の円錐表面部の内部に入るように配置された
ことを特徴とする高エネルギフォトン源。」
　　
　そして、平成１５年６月９日付けの手続補正が平成１５年７月２３日付けで却下されているので、上記補正は、平成１４年８月７日付けの手続補正により補正された請求項１、即ち、
「Ａ．真空室と、
Ｂ．前記真空室内に設置され、電気放電領域を規定し、かつ放電上の絞り込み部に高周波プラズマ絞り込みが生じるように配置された少なくとも２つの電極と、
Ｃ．少なくとも１つのスペクトル線を持つ光を供給するように選択された活性ガス、及び貴ガスである緩衝ガスを含む機能ガスと、
Ｄ．前記放電領域に機能ガスを供給する機能ガス供給システムと、
Ｅ．前記少なくとも１対の電極間に放電を生じさせるに十分な電気パルス及び高電圧を供給するパルスパワー源と、
Ｆ．前記プラズマ絞り込みで作り出された放射を収集し、前記放射を所望の方向に差し向けるための外部反射放射収集−指向器と、
Ｇ．絞り込み部から放射収集−指向器にむかって広がる光線と整合した表面を備える円錐入れ子式デブリス収集器と、
を有することを特徴とする高エネルギフォトン源。」をさらに補正したものであるので、この補正は、
イ．電極に関して、補正前のＢ．項の「真空室内に設置され、電気放電領域を規定し、かつ放電上の絞り込み部に高周波プラズマ絞り込みが生じるように配置された少なくとも２つの電極と。」を「前記真空室内に設置された２つの電極とを有し、前記２つの電極が、前記２つの電極の間に電気放電領域を規定し、前記電気放電領域の外部の絞り込み部に電気放電を焦点合わせさせる、高周波プラズマ絞り込みが生じるように配置され、」と補正することにより、電極の数、電極と電気放電領域との位置関係、及び高周波プラズマ絞り込みの作用について、それぞれ限定するものである。
ロ．デブリス収集器に関して、補正前のＧ．項の「絞り込み部から放射収集−指向器にむかって広がる光線と整合した表面を備える円錐入れ子式デブリス収集器」を「絞り込み部から放射収集−指向器にむかって広がる光線と整列した複数の円錐表面部を備える円錐形デブリス収集器と、を有し、前記複数の円錐表面部が前記光線の軸線方向に対して半径方向及び長手方向のいずれにも一部の前記円錐表面部が他の円錐表面部の内部に入るように配置された」と補正することにより、デブリス収集器の構造について限定するものである。
　
　したがって、本件補正は、特許法第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の限縮を目的とするものに該当する。
　　
　そこで、本件補正後の請求項１に係る発明（以下、「本願補正発明」という。）が、特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項において準用する同法１２６条第４項の規定に適合するか）について検討する。
　
（２）刊行物に記載された発明
　本願の優先権主張日の前に頒布され、原査定の拒絶の理由に引用された特開平１０−３１９１９５号公報（以下、「引用刊行物」という。）には、「プラズマ・フォーカス高エネルギー・フォトン・ソース」の発明に関して、以下の事項が記載されている。
＜記載事項１＞
「【請求項１】 
Ａ．真空チャンバと、
Ｂ．前記真空チャンバ内に位置決めされ、放電領域を構成し、放電の際に高周波プラズマ・ピンチを生成するために配置された、少なくとも２つの電極と、
Ｃ．希ガスであるバッファガス及び少なくとも１つの光スペクトル線を作るために選択される活性ガスを有する作動ガスと、
Ｄ．前記作動ガスを前記放電領域に供給するための作動ガス供給装置と、
Ｅ．少なくとも１００Ｈｚの周波数であり、前記電極の少なくとも１対の間に放電を生成するのに十分な高電圧の電気的パルスを与えるためのパルス電源と、
Ｆ．前記プラズマ・ピンチで作り出される放射を収集し、所望の方向に前記放射を差し向けるための外部の反射放射収集−導波器と、を有する高エネルギ・フォトン・ソース。」（特許請求の範囲）
＜記載事項２＞
「【発明の実施の形態】
第１の好ましい実施形態
高エネルギ紫外光ソースの簡単な図面を図１に示す。大きなコンポーネントがプラズマ・ピンチ・ユニット２、光エネルギ・フォトン収集器４、空洞の光パイプ６である。プラズマ・ピンチ・ソースは、低インダクタンス・パルス・パワー回路１０によって電力が供給される同軸の電極８を有する。」（第３欄第４１〜４８行）
＜記載事項３＞
「【００１３】放射収集器
放射スポットで作り出された放射は、十分な４IIステラジアンに一様に放出される。いくらかのタイプの収集光学系は、この放射を捕獲するために必要であり、それをリソグラフィ・ツールの方に差し向ける。前述の提案されている１３ｎｍ光ソースは、多層誘電性被覆ミラーの使用に基づいた収集光学系を提案した。多層誘電性ミラーの使用は、広い角度範囲にわたって高い収集効率を達成するのに用いられる。破片を作り出すどんな放射ソースでも、これらの誘電性ミラーを被覆することがあり、それらの反射率を低下させ、かくして、ソースからの収集された出力を減少させる。この好ましい装置は、電極の腐食によって損害を受け、かくして、放射スポットに接近して配置されたいかなる誘電性ミラーをも時間をかけて劣化し得る。」（第５欄第１０〜２４行）
＜記載事項４＞
「【００１４】従って、放射収集器の我々の選択は、硬Ｘ線放射の収集のために以前に開発された技術を利用することである。この技術は、多くの材料が単一なＸ線領域よりも少ない実際のコンポーネントを備える屈折率を有する事実を活用する。全反射は、スネルの法則が反射材料内の屈折角が９０°よりも大きいことを示す角度で達成され得る。タングステンのようないくつかの材料は、１３ｎｍで入射をかすめないように、１８°まで全体の外面反射を示す。大きな円錐角を受け入れる能力がある収集器を作り出すために、種々の円錐切断面は、互いに内部に入れ子になり得る。各円錐切断面は、所望の方向に放射円錐のその断面を向けなおすために、放射の１つの反射よりも多くを使用しうる。我々は、我々が最小で２５°の立体角にわたって放出されている１３ｎｍ放射を収集し、差し向けることができることを判断する。」（第５欄第２５〜３９行）
＜記載事項５＞
　図１には、複数の誘導性ミラーから収集器４が構成されることが図示されている。
　
　以上の記載事項及び参照されている図１の記載に基づけば、引用刊行物には、
「Ａ．真空チャンバと、
Ｂ．前記真空チャンバ内に設置された少なくとも２つの電極とを有し、前記少なくとも２つの電極が、前記２つの電極の間に放電領域を規定し、前記放電領域の外部の絞り込み部に放電を焦点合わせさせる、高周波プラズマ絞り込みが生じるように配置され、
Ｃ．少なくとも１つの光スペクトル線を作るために選択されて活性ガス、及び希ガスであるバッファガスを含む作動ガスと、
Ｄ．前記放電領域に前記作動ガスを供給する作動ガス供給装置と、
Ｅ．少なくとも１対の前記電極間に放電を生成するのに十分な高電圧の電気的パルスを与えるためのパルス電源と、
Ｆ．前記プラズマ・ピンチで作り出された放射を収集し、前記放射を所望の方向に差し向けるための外部の反射放射収集−導波器と、を有する高エネルギ・フォトン・ソース。」の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されている。
　
（３）対比
　本願補正発明と引用発明とを比較する。
　引用発明における「真空チャンバ」、「放電領域」、「高周波プラズマ・ピンチ」、「光スペクル線」、「希ガス」、「バッファガス」、「作動ガス」、「作動ガス供給装置」、「高電圧の電気的パルスを与える」、「パルス電源」、「外部の反射放射収集−導波器」、及び「高エネルギ・フォトン・ソース」は、本願補正発明における「真空室」、「電気放電領域」、「高周波プラズマ絞り込み」、「スペクル線を持つ光」、「貴ガス」、「緩衝ガス」、「機能ガス」、「機能ガス供給システム」、「電気パルス及び高電圧を供給する」、「パルスパワー源」、「外部反射放射収集−指向器」、及び「高エネルギフォトン源」にそれぞれ相当するので、両者は、
「Ａ．真空室と、
Ｂ．前記真空室内に設置された２つの電極とを有し、前記２つの電極が、前記２つの電極の間に電気放電領域を規定し、前記電気放電領域の外部の絞り込み部に電気放電を焦点合わせさせる、高周波プラズマ絞り込みが生じるように配置され、
Ｃ．少なくとも１つのスペクトル線を持つ光を供給するように選択された活性化ガス、及び貴ガスである緩衝ガスを含む機能ガスと、
Ｄ．前記放電領域に機能ガスを供給する機能ガス供給システムと、
Ｅ．前記少なくとも１対の電極間に放電を生じさせるに十分な電気パルス及び高電圧を供給するパルスパワー源と、
Ｆ．前記プラズマ絞り込みで作り出された放射を収集し、前記放射を所望の方向に差し向けるための外部反射放射収集−指向器と、
を有することを特徴とする高エネルギフォトン源。」の発明特定事項の点で一致するが、以下の点でのみ相違する。
[相違点]
　本願補正発明では、「絞り込み部から放射収集−指向器にむかって広がる光線と整列した複数の円錐表面部を備える円錐形デブリス収集器と、を有し、前記複数の円錐表面部が前記光線の軸線方向に対して半径方向及び長手方向のいずれにも一部の前記円錐表面部が他の円錐表面部の内部に入るように配置され」ているのに対して、引用発明では、係る構成を有しない点。
　
（４）当審の判断
　上記[相違点]について検討する。
　引用刊行物の＜記載事項３＞における「破片を作り出すどんな放射ソースでも、これらの誘電性ミラーを被覆することがあり、それらの反射率を低下させ、かくして、ソースからの収集された出力を減少させる。」との記載は、本願補正発明に係る発明が解決しようとする課題である「砕屑形成に関連する従来技術の問題を回避する」（本願明細書段落【０００８】参照）ことを示唆するものである。
　また、引用刊行物には、（放射）収集器ではあるが、「種々の円錐切断面は、互いに内部に入れ子になり得る」（＜記載事項４＞）点、即ち本願補正発明でいう「円錐入れ子式」に相当する形状に形成する点が記載されている。
　そして、プラズマから本願補正発明に係るフォトン源の一種であるＸ線を発生させる際に生成する破片、すなわちデブリスを除去する手段に関して、
イ．円錐形、又はダクト状（円錐形に相当する）のデブリス除去手段をＸ線光路に沿って配置する点は周知である（原査定の拒絶の理由にそれぞれ引用された特開平８−３２１３９５号公報（段落【００３３】及び図６）、並びに特開平９−２４５９９２号公報（図１〜６）参照）。
ロ．デブリス除去手段を複数Ｘ線光路に沿って複数配置する点は周知である（原査定の拒絶の理由にそれぞれ引用された特開平８−３２１３９５号公報（段落【００３４】及び図８）、並びに特公平７−７０３５６号公報（第１２欄第２７〜３５行参照））。
　
　したがって、プラズマの絞り込み部で発生したデブロスが放射収集−指向器に付着しないようにするために、絞り込み部から放射収集−指向器にむかって広がる光線と整列した複数の円錐表面部を備える円錐形デブリス収集器を設ける点は、引用発明及び上記周知事項に基づいて容易になし得ることであり、その際、複数の円錐表面部が上記光線の軸線方向に対して半径方向及び長手方向のいずれにも一部の前記円錐表面部が他の円錐表面部の内部に入るように配置することは、円錐形デブリス収集器により上記破片を除去する効率等を考慮して、適宜になし得る設計事項に過ぎない。
　そして、本願補正発明の効果は、引用刊行物の記載及び上記周知事項から当業者が予測し得る範囲内のものである。
　よって、本願補正発明は、引用刊行物に記載された発明及び上記周知事項に基づいて当業者が容易に発明することができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができない。
　　
　なお、本願補正発明は、引用刊行物に記載された発明のみからでも当業者が容易に発明することができたものである。すなわち、引用刊行物の上記＜記載事項３＞によれば、放射収集器を構成する誘電性ミラーは、放射ソースの破片により被覆され、その反射率が低下する点、及び放射スポットに近接して配置された誘電性ミラーは劣化する、即ち、放射スポットに対向する放射収集器の誘電性ミラーは、放射ソースの破片により被覆されてしまう点が読み取れるので、引用刊行物に記載された（放射）収集器において、少なくとも放射スポット（本願明細書でいう「放射点」）に対向する側は、本願補正発明の「円錐形デブリス収集器」と同様に放射ソースの破片を収集する機能も有するといえる。
　また同＜記載事項３＞の「大きな円錐角を受け入れる能力がある収集器を作り出すために、種々の円錐切断面は、互いに内部に入れ子になり得る。各円錐切断面は、所望の方向に放射円錐のその断面を向けなおすために、放射の１つの反射よりも多くを使用しうる。」との記載、並びに図１に図示された放射スポットと収集器４との位置関係及び収集器４の構造からみて、放射スポットに対向する（放射）収集器の側において、複数の誘電性被覆ミラーは、放射スポットから放射収集器にむかって広がる光線と整列しており、それぞれ円錐表面を備える点、及び複数の誘電性被覆ミラーは、前記光線の軸線に対して半径方向及び長手方向のいずれも一部の円錐表面部が他の円錐表面部の内部に入るように配置されていることが、読み取れる。
　してみると、引用刊行物に記載された（放射）収集器の放射スポットに対向する側は、本願補正発明の「円錐形エブリス収集器」に相当するので、上記相違点に係る事項は格別なものではないので、本願補正発明は、引用刊行物に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明することができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができない。
　
（５）むすび
　以上のとおり、本件補正は、平成１５年改正前特許法第１７条の２第５項で準用する同法第１２６条第４項の規定に違反するものであり、特許法第１５９条第１項で読み替えて準用する特許法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。
　
３．本願発明について
　平成１５年１１月２６日付け手続補正は上記のとおり却下され、また、平成１５年６月９日付の手続補正が平成１５年７月２３日付けで却下されているので、本願の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、平成１４年８月７日付の手続補正書により補正された明細書及び図面の記載からみて、特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される次のとおりのものである。
「Ａ．真空室と、
Ｂ．前記真空室内に設置され、電気放電領域を規定し、かつ放電上の絞り込み部に高周波プラズマ絞り込みが生じるように配置された少なくとも２つの電極と、
Ｃ．少なくとも１つのスペクトル線を持つ光を供給するように選択された活性ガス、及び貴ガスである緩衝ガスを含む機能ガスと、
Ｄ．前記放電領域に機能ガスを供給する機能ガス供給システムと、
Ｅ．前記少なくとも１対の電極間に放電を生じさせるに十分な電気パルス及び高電圧を供給するパルスパワー源と、
Ｆ．前記プラズマ絞り込みで作り出された放射を収集し、前記放射を所望の方向に差し向けるための外部反射放射収集−指向器と、
Ｇ．絞り込み部から放射収集−指向器にむかって広がる光線と整合した表面を備える円錐入れ子式デブリス収集器と、
を有することを特徴とする高エネルギフォトン源。」
　
４．引用刊行物に記載された発明
引用刊行物に記載された発明は、前記「２．（２）」に記載されたとおりである。
　
５．対比・判断
本願発明は、前記「２（１）」で認定した本願補正発明から、電極の数、電極と電気放電領域との位置関係、高周波プラズマ絞り込みの作用、及びデブリス収集器の構造について限定を省いたものである。
　そうすると、本願発明の発明特定事項を全て含み、さらに上記限定を付加したものに相当する本願補正発明が、前記「２．（３）」に記載したとおり、引用刊行物に記載された発明及び上記周知事項に基づいて当業者が容易に発明することができたものであるから、本願発明も、同様な理由により、引用刊行物に記載された発明及び上記周知事項に基づいて当業者が容易に発明することができたものである。
　
６．むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用刊行物に記載された発明及び上記周知事項に基づいて当業者が容易に発明することができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。