【手続補正書】
【提出日】平成22年3月23日(2010.3.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベース基板（１２）、充填部材（１６）、および流路（１８）を備えるマイクロ流体装置であって、
前記ベース基板（１２）の内部は、２つの対向側壁（２３，２４）と１つの底壁によって区画形成される凹部（１４）を備え、
前記充填部材（１６）は、前記凹部（１４）を充填する充填部を有し、
前記流路（１８）は、前記充填部内に形成され
前記流路（１８）は第１開口（３５）と第２開口を備え、
前記第１開口（３５）は、前記充填部材（１６）の第１側壁（２１）に配置され、
前記第２開口は、前記充填部材（１６）の第２側壁（２２）に配置され、
前記第１側壁（２１）は、前記第２側壁（２２）に対して対向関係に配置され、
前記第１側壁（２１）と前記第２側壁（２２）のうちの少なくとも一方は、前記対向側壁（２３，２４）に対して垂直であり、
前記流路（１８）は周縁壁によって区画形成され、
前記流路（１８）の少なくとも一部分における前記周縁壁の断面は、円形、または楕円形の外形を備える
ことを特徴とする、マイクロ流体装置。
【請求項２】
前記第１開口（３５）と前記第２開口のうちの少なくとも一方は、円形、または楕円形の領域を区画形成する、
請求項１記載のマイクロ流体装置。
【請求項３】
前記流路（１８）の周縁壁は、前記第１開口（３５）に隣接する円錐部（９）を有し、
前記円錐部（９）は長さ方向に延び、
前記円錐部（９）において前記周縁壁の幅は、前記第１開口（３５）に向かって減少する、
請求項２記載のマイクロ流体装置。
【請求項４】
前記流路（１８）は、前記充填部材（１６）内において水平方向に延びる、
請求項１〜３何れか一項記載のマイクロ流体装置。
【請求項５】
前記流路（１８）の長さ方向は、前記第１側壁（２１）と前記第２側壁（２２）のうちの少なくとも一方に対して、垂直である、
請求項１〜４何れか一項記載のマイクロ流体装置。
【請求項６】
前記第１側壁（２１）は、前記ベース基板（１２）の壁部分を区画形成する、
請求項１〜５何れか一項記載のマイクロ流体装置。
【請求項７】
前記ベース基板（１２）の前記壁部分は、前記ベース基板（１２）の側壁に設けられる、
請求項６記載のマイクロ流体装置。
【請求項８】
前記ベース基板（１２）の前記壁部分は、前記ベース基板（１２）の水平凹部（２８，２９）内に設けられる、
請求項６または７記載のマイクロ流体装置。
【請求項９】
前記ベース基板（１２）の前記壁部分は、水平凹部（２８）を備える、
請求項６または７記載のマイクロ流体装置。
【請求項１０】
前記水平凹部（２８）は、前記第１開口（３５）を備える、
請求項９記載のマイクロ流体装置。
【請求項１１】
前記充填部材（１６）によって充填される前記凹部（１４）を主凹部（１４）と称し、
前記水平凹部（２８，２９）の少なくとも一部分は、前記主凹部（１４）に対して垂直に延びる、
請求項８〜１０何れか一項記載のマイクロ流体装置。
【請求項１２】
前記水平凹部（２８，２９）は周縁壁と入口を備えることによって、流体チャンバ（３０，３２，６２，６４）を区画形成する、
請求項８〜１１何れか一項記載のマイクロ流体装置。
【請求項１３】
前記マイクロ流体装置は、前記ベース基板（１２）の互いに対向する２つの側面上に第１水平凹部（２８）と第２水平凹部（２９）を備え、
前記第１水平凹部（２８）は、前記第１側壁（２１）の少なくとも一部を備え、
前記第２水平凹部（２９）は、前記第２側壁（２２）の少なくとも一部を備え、
前記第１水平凹部（２８）は、第１流体チャンバ（３０，６２）を区画形成し、
前記第２水平凹部（２９）は、第２流体チャンバ（３２，６４）を区画形成し、
前記第１流体チャンバ（３０，６２）は、前記流路（１８）を通じて前記第２流体チャンバ（３２，６４）に流体連通する、
請求項８〜１２何れか一項記載のマイクロ流体装置。
【請求項１４】
前記ベース基板（１２）は、前記第１流体チャンバ（３０，６２）と前記第２流体チャンバ（３２，６４）を一体的に区画形成する、
請求項１３記載のマイクロ流体装置。
【請求項１５】
前記マイクロ流体装置は更に、
前記第１流体チャンバ（３０，６２）に配置される検出電極（２８）と、
前記第２流体チャンバ（３２，６４）に配置される基準電極（２８）と
を備える、
請求項１３または１４記載のマイクロ流体装置。
【請求項１６】
前記マイクロ流体装置は更に、
前記検出電極（２８）と前記基準電極（２８）にそれぞれ通信する電気生理学測定回路システムを備える、
請求項１５記載のマイクロ流体装置。
【請求項１７】
前記充填部材（１６）は、前記ベース基板（１２）の全表面を区画形成する、
請求項１〜１６何れか一項記載のマイクロ流体装置。
【請求項１８】
前記ベース基板（１２）は、前記充填部材（１６）の材料よりも変形しにくい材料からなる、
請求項１〜１７何れか一項記載のマイクロ流体装置。
【請求項１９】
前記ベース基板（１２）の前記材料は、高温と減圧のうちの少なくとも一方の条件下で、前記充填部材（１６）の前記材料よりも変形しにくい、
請求項１８記載のマイクロ流体装置。
【請求項２０】
前記第１開口（３５）を第１主開口（３５）と称し、前記第２開口を第２主開口と称し、
前記マイクロ流体装置は更に補助流路（６９）を備え、
前記補助流路（６９）は第１補助開口と第２補助開口を備え、
前記第１補助開口は前記第１側壁（２１）に配置される、
請求項１〜１９何れか一項記載のマイクロ流体装置。
【請求項２１】
前記マイクロ流体装置は更に、
（ｉ）前記ベース基板（１２）内に区画形成される複数の凹部（１４）であって、前記充填部材（１６）は、それぞれ凹部（１４）のうちの少なくとも一部分を充填する充填部をそれぞれ有することと；
（ｉｉ）それぞれ前記充填部内にそれぞれ対応するように配置される複数の流路（４８，５８）であって、それぞれ前記流路（４８，５８）は、前記第１側壁（２１）に設けられる第１開口（３５）と、前記第２側壁（２２）に設けられる第２開口とを有することとを備える、
請求項１〜２０何れか一項記載のマイクロ流体装置。
【請求項２２】
前記第１側壁（２１）のそれぞれ前記第１開口（３５）に対応する部分は、共通平面を区画形成すべく整列される、
請求項２１記載のマイクロ流体装置。
【請求項２３】
前記第１側壁（２１）のそれぞれ前記第１開口（３５）に対応する部分は、前記ベース基板（１２）の壁部分を区画形成し、
前記ベース基板（１２）の前記壁部分は、前記ベース基板（１２）の水平凹部（２８）内に設けられる、
請求項２２記載のマイクロ流体装置。
【請求項２４】
前記第１側壁（２１）のそれぞれ前記第１開口（３５）に対応する部分は、前記ベース基板（１２）の複数の壁部分を区画形成し、
複数の前記壁部分は、それぞれ水平凹部（２８）内に設けられるように、複数の水平凹部（２８）を区画形成する、
請求項２２記載のマイクロ流体装置。
【請求項２５】
ベース基板（１２）、充填部材（１６）、および流路（１８）を備えるマイクロ流体装置であって、
前記ベース基板（１２）は凹部（１４）を備え、前記凹部（１４）は２つの対向側壁（２３，２４）と１つの底壁を備え、
前記充填部材（１６）の一部は、前記凹部（１４）内に設けられる充填部を有し、
前記流路（１８）は、前記充填部内に区画形成され、
前記流路（１８）は、第１開口（３５）と第２開口を備え、
前記第１開口（３５）は、前記充填部材（１６）の第１側壁（２１）に配置され、
前記第２開口は、前記充填部材（１６）の第２側壁（２２）に配置され、
前記第１側壁（２１）は、前記第２側壁（２２）に対して対向関係に配置され、
前記流路（１８）は、周縁壁によって区画形成され、
前記流路（１８）の少なくとも一部分における前記周縁壁の断面は、円形、または楕円形の外形を備え、
前記周縁壁は、前記第１開口（３５）に隣接する円錐部（９）を備え、
前記円錐部（９）は長さ方向に延び、
前記円錐部（９）において前記周縁壁の幅は、前記第１開口（３５）に向かって減少する
ことを特徴とする、マイクロ流体装置。
【請求項２６】
前記第１側壁（２１）と前記第２側壁（２２）のうちの少なくとも一方は、前記対向側壁（２３，２４）に対して垂直である、
請求項２５記載のマイクロ流体装置。
【請求項２７】
第１流体チャンバ（３０，６２）と第２流体チャンバ（３２，６４）を有するマイクロ流体装置であって、
前記第１流体チャンバ（３０，６２）は、試験されるべき粒子を含有し、
前記第２流体チャンバ（３２，６４）は、区画部材によって前記第１流体チャンバ（３０，６２）から流体連通不能に区画され、
前記区画部材はベース基板（１２）、充填部材（１６）、および流路（１８）を備え、
前記ベース基板（１２）の内部は、凹部（１４）を備え、
前記充填部材（１６）は、前記凹部（１４）を充填する充填部を有し、
前記流路（１８）は、前記充填部に区画形成され
前記流路（１８）は第１開口（３５）と第２開口を備え、
前記第１開口（３５）は、前記充填部材（１６）の第１側壁（２１）に配置され、
前記第２開口は、前記充填部材（１６）の第２側壁（２２）に配置され、
前記第１側壁（２１）は、前記第２側壁（２２）に対して対向関係に配置され、
前記第１側壁（２１）と前記第２側壁（２２）のうちの少なくとも一方は、前記凹部（１４）を区画形成する一対の対向側壁（２３，２４）に対して垂直であり、
前記流路（１８）は周縁壁によって区画形成され、
前記流路（１８）の少なくとも一部分における前記周縁壁の断面は、円形、または楕円形の外形を備える
ことを特徴とする、マイクロ流体装置。
【請求項２８】
第１流体チャンバ（３０，６２）と第２流体チャンバ（３２，６４）を備えるマイクロ流体装置であって、
前記第１流体チャンバ（３０，６２）は、試験されるべき粒子を含有し、
前記第２流体チャンバ（３２，６４）は、区画部材を用いることによって前記第１流体チャンバ（３０，６２）から流体連通不能に区画され、
前記区画部材はベース基板（１２）、充填部材（１６）、および流路（１８）を備え、
前記ベース基板（１２）の内部は、区画形成される凹部（１４）を備え、
前記充填部材（１６）の一部は、前記凹部（１４）を充填する充填部を有し、
前記流路（１８）は、前記充填部内に区画形成され
前記流路（１８）は第１開口（３５）と第２開口を備え、
前記第１開口（３５）は、前記充填部材（１６）の第１側壁（２１）に配置され、
前記第２開口は、前記充填部材（１６）の第２側壁（２２）に配置され、
前記第１側壁（２１）は、前記第２側壁（２２）に対して対向関係に配置され、
前記流路（１８）は、周縁壁によって区画形成され、
前記流路（１８）の少なくとも一部分における前記周縁壁の断面は、円形、または楕円形の外形を備え、
前記周縁壁は、前記第１開口（３５）に隣接する円錐部（９）を備え、
前記円錐部（９）は長さ方向に延び、
前記円錐部（９）において前記周縁壁の幅は、前記第１開口（３５）に向かって減少する
ことを特徴とする、マイクロ流体装置。
【請求項２９】
マイクロ流体装置の作製方法であって、前記作製方法は、
ベース基板（１２）を提供することと；
前記ベース基板（１２）の表面に凹部（１４）を形成することと；
前記凹部（１４）を充填材（１６）によって充填することであって、前記充填材（１６）は前記凹部（１４）を充填する充填部を有することと；
前記凹部（１４）における前記充填材（１６）に、前記充填材（１６）の変形条件を作用させることによって、前記充填部内に流路（１８）を形成することと
を備える
ことを特徴とする、マイクロ流体装置の作製方法。
【請求項３０】
マイクロ流体装置の作製方法であって、前記作製方法は、
ベース基板（１２）を提供することと；
前記ベース基板（１２）の第１表面に第１凹部（１４）を形成することと；
前記ベース基板（１２）の第２表面に第２凹部（２８，２９）を形成することであって、前記第２表面は前記第１表面とは異なることと；
前記第１凹部（１４）を前記充填材（１６）によって充填することであって、前記第１凹部（１４）を充填する前記充填材（１６）の部分を充填部と称することと；
前記第１凹部（１４）において前記充填材（１６）に、前記充填材の変形条件を作用させることによって、前記充填部に流路（１８）を形成することと
を備える
ことを特徴とする、マイクロ流体装置の作製方法。
【請求項３１】
マイクロ流体装置の作製方法であって、前記作製方法は、
ベース基板（１２）を提供することと；
凹部（１４）が前記ベース基板（１２）の少なくとも一側面内まで広がり且つ開口するように、前記ベース基板（１２）の表面に前記凹部（１４）を形成することと；
前記ベース基板（１２）を充填材（１６）によって覆うことであって、前記凹部（１４）を充填する前記充填材（１６）の部分を充填部と称することと；
前記凹部（１４）において前記充填材（１６）に、前記充填材（１６）の変形条件を作用させることによって、前記充填部内に流路（１８）を形成することと
を備える
ことを特徴とする、マイクロ流体装置の作製方法。