Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月13日(2010.1.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
波力式ウォータビークルであって、
（１）サテライト参照型位置センサを具えるフロートと、
（２）（ａ）水平面における方向を検知する水平センサと、（ｂ）ステアリングアクチュエータとを具えるスウィマと、
（３）前記フロートと前記スウィマを連結する連係具と、
（４）（ａ）前記位置センサ、前記水平センサ、及び前記ステアリングアクチュエータとリンクしており、（ｂ）前記位置センサ及び前記水平センサから受信した信号に応答して、あるいは、前記ビークル上のセンサから受信した信号に応答して、前記ステアリングアクチュエータを制御する支持を含む、又は含むようにプログラム可能な」コンピュータシステムを具え、
前記フロート、スウィマ及び連係具は、前記ビークルが水中にある場合に、
（ｉ）前記フロートが水面上又は水面近くにあり、
（ｉｉ）前記スウィマが前記フロートより下に位置し、
（ｉｉｉ）前記連係具が張力を受けることができるように構成されており、
前記スウィマが、
（２ａ）長さ方向の軸を有するスウィマ本体部と、
（２ｂ）フィンシステムであって、
（ａ）前記スウィマ本体部に固定され、
（ｂ）フィンを具え、
（ｃ）前記ビークルが波を伝える水の中にある場合に、
（ｉ）前記波の運動により変化する構成を有し、
（ｉｉ）水と相互作用して、前記スウィマを水平方向に移動させる力を生成するフィンシステムと、を具えることを特徴とするウォータビークル。
【請求項２】
請求項１に記載のウォータビークルにおいて、前記フィンシステムが、
（Ａ）フィンシステムで構成したフィンが、回転軸を中心に回転して、前記回転軸が、前記ビークルが波を伝える水の中にあるときに変化する前記スウィマ本体部との空間的な関係を有し、
（Ｂ）前記フィンシステムで構成したフィンが、回転軸を中心に回転して、前記フィンシステムが、（ｉ）前記フィンの一部ではない弾性要素であって、（ｉｉ）弾性的に変形し、前記ビークルが波を伝える水の中にあるときに前記フィンシステムの構成の変化に影響を与える弾性要素を具え、
（Ｃ）前記フィンシステムで構成したフィンが、（ｉ）前記スウィマ本体部と所定の空間的な関係を有する相対的に硬質の中心部と、（ｉｉ）相対的に変形可能な船外部とを具える先端を有するフィンを具え、
（Ｄ）前記フィンシステムで構成したフィンが、２つの概略薄板状のフィンを具え、各フィンが、前記スウィマ本体部の長さ方向の軸と概略的に整列した回転軸を中心に回転する、これらの特徴のうちの１またはそれ以上を有することを特徴とするウォータビークル。
【請求項３】
請求項１または２に記載のウォータビークルにおいて、前記スウィマ本体部が、
（Ｇ）実質的に硬質の前部と、相対的に可撓性のある垂直面上の中央部と、実質的に硬質の船尾部とを具え、
（Ｈ）前記スウィマ本体部が、電気設備、通信設備、記録設備、制御電子機器、ステアリング装置、及びセンサから選択した１又はそれ以上の要素を具え、
（Ｉ）前記スウィマ本体部が、（ｉ）前記フィンシステムで構成されておらず、（ｉｉ）前記ビークルが波を伝える水の中にあるときに、水平面上の前記スウィマ本体部の方向に影響を及ぼす第２のフィンを具え、
（Ｊ）前記スウィマ本体部が、（ｉ）前記フィンシステムで構成されておらず、（ｉｉ）概略管状ハウジングと、前記スウィマ本体部の先端及び後端にそれぞれ近接する垂直なフィン面を具える第３のフィンを具える、
ことを特徴とするウォータビークル。
【請求項４】
情報を取得する方法であって、請求項１乃至３のいずれか１項に記載のウォータビークルから取得され、あるいはこれにより記録された情報を分析するステップを具えることを特徴とする方法。
【請求項５】
請求項１乃至３のいずれか１項に記載のウォータビークルの機能を制御する方法であって、信号を前記ウォータビークルに送信するステップを具えることを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月25日(2010.2.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
航空機システムにおいて、
第１および第２の対向する流れ面と、先端部（２０）とを有するエーロフォイルと、
前記エーロフォイルにより保持される渦消散デバイス（１５３０）とを具備し、
前記渦消散デバイス（１５３０）は、
加圧された流体の源に結合可能であり、前記先端部（２０）から外に流体の流れを方向付けるように位置付けられたオリフィス（１５９１）を有する流体フローノズル（５２）と、
前記流体フローノズル（５２）と流体連通するように結合され、前記オリフィス（１５９１）を通過する流れを選択的に制御するバルブデバイス（２２３１）と、
前記バルブデバイス（２２３１）に動作可能に結合され、前記オリフィス（１５９１）を通して流れのパルスを送り出すように前記バルブデバイス（２２３１）の動作を指示する制御装置（２２３３）とを含み、
前記ノズルは、前記エーロフォイルの第１の流れ面の方に位置付けられた第１の列と、前記エーロフォイルの第２の流れ面の方に位置付けられた第２の列とを含む少なくとも２つの列（１５９４）に配列され、
前記制御装置は、前記第２の列におけるノズルのオリフィスを作動させないようにしている間に、前記第１の列におけるノズルのオリフィスを選択的に作動させ、前記第１の列におけるノズルのオリフィスを作動させないようにしている間に、前記第２の列におけるノズルのオリフィスを選択的に作動させるように前記バルブデバイスに指示する航空機システム。
【請求項２】
オリフィス（１５９１）は、前記先端部の面（１５２１）に位置付けられている請求項１記載のシステム。
【請求項３】
前記制御装置（２２３３）は、約１Ｈｚから約１０Ｈｚまでの周波数で、オリフィス（１５９１）を通して流れのパルスを送り出すように前記バルブデバイス（２２３１）に指示する請求項１または２のいずれか１項記載のシステム。
【請求項４】
翼をさらに具備し、
オリフィス（１５９１）は第１のオリフィスを含み、
前記翼（１４）は、先端部（２０）を有する配備可能な高揚力デバイスを含み、
前記渦消散デバイス（１５３０）は、前記高揚力デバイスの先端部（２０）から外に流体の流れを方向付けるために、前記高揚力デバイスの先端部（２０）に位置付けられたオリフィスを有する第２の流体フローノズルを含み、
前記第２の流体フローノズルは、前記加圧された流体の源に結合できる請求項１ないし３のいずれか１項記載のシステム。
【請求項５】
前記制御装置（２２３３）は、オリフィスに対してステップパルスを供給するように前記バルブデバイス（２２３１）に指示するための命令を含む請求項１ないし４のいずれか１項記載のシステム。
【請求項６】
前記制御装置（２２３３）は、前記オリフィスに対してランプパルスを供給するように前記バルブデバイス（２２３１）に指示するための命令を含む請求項１ないし５のシステム。
【請求項７】
エーロフォイルシステムを動作させる方法において、
エーロフォイルにより揚力を発生させる間に、前記エーロフォイルを大気に通過させることにより、翼先端部の渦を発生させることと、
前記エーロフォイルの先端部（２０）から外に複数の流体パルスを方向付けることにより、前記渦を少なくとも部分的に消散させることとを含み、
複数の流体パルスを方向付けることは、第１および第２の列（１５９４）に配列された複数のオリフィスを通して複数の流体パルスを方向付けることを含み、
前記方法は、前記第２の列におけるノズルのオリフィス（１５９１）を作動させないようにしている間に、前記第１の列におけるノズルのオリフィスを作動させることと、前記第１の列におけるノズルのオリフィスを作動させないようにしている間に、前記第２の列におけるノズルのオリフィスを作動させることとをさらに含む方法。
【請求項８】
複数の流体パルスを方向付けることは、約１Ｈｚから約１０Ｈｚまでの周波数で複数の流体パルスを方向付けることを含む請求項７記載の方法。
【請求項９】
複数の流体パルスを方向付けることは、前記オリフィスを通してステップパルスを方向付けることを含む請求項７または８のいずれか１項記載の方法。
【請求項１０】
複数の流体パルスを方向付けることは、前記オリフィスを通してランプパルスを方向付けることを含む請求項７ないし９のいずれか１項記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月6日(2010.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アクチュエータを有する液滴射出装置を駆動する方法であって、
前記液滴射出装置に液体の液滴を射出方向に射出させるために、前記アクチュエータに一次駆動パルスを印加する工程と、
前記アクチュエータに、前記液滴の体積を変えずに前記液滴の前記射出方向における長さを減少させる１つ以上の二次駆動パルスを印加する工程と
を備え、
前記液滴射出装置が、少なくとも１００ｋＨｚの固有周波数ｆjを有することを特徴とする方法。
【請求項２】
前記１つ以上の二次駆動パルスが、前記一次駆動パルスの後に印加されることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記一次駆動パルスに続き、前記二次駆動パルスの最初のパルスが、前記液滴射出装置の前記固有周波数ｆｊに対応する周期より長い時間だけ遅延されることを特徴とする請求項２記載の方法。
【請求項４】
前記１つ以上の二次駆動パルスが、前記一次駆動パルスの前に印加されることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記二次駆動パルスが、前記一次駆動パルスの前後に印加されることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項６】
前記１つ以上の二次駆動パルスが、前記一次駆動パルスの振幅より小さい振幅を有することを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項７】
前記１つ以上の二次駆動パルスが、前記一次駆動パルスのパルス幅より小さいパルス幅を有することを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項８】
前記液体が高分子量材料を含むことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項９】
前記高分子量材料がポリマーであることを特徴とする請求項８記載の方法。
【請求項１０】
前記ポリマーが発光ポリマーを含むことを特徴とする請求項９記載の方法。
【請求項１１】
アクチュエータを有する液滴射出装置を駆動する方法であって、
前記液滴射出装置に液体の液滴を射出方向に射出させるために、前記アクチュエータに一次駆動パルスを印加する工程と、
前記アクチュエータに、前記液滴の体積を変えずに前記液滴の形状を変える１つ以上の二次駆動パルスを印加する工程と
を備え、
前記二次駆動パルスの周波数が前記液滴射出装置の固有周波数ｆｊより大きいことを特徴とする方法。
【請求項１２】
前記二次パルスが、前記液滴の前記射出方向における長さを変えることを特徴とする請求項１１記載の方法。
【請求項１３】
前記二次パルスが、前記液滴の前記射出方向における長さを減少させることを特徴とする請求項１２記載の方法。
【請求項１４】
アクチュエータを有する液滴射出装置を駆動する方法であって、
前記液滴射出装置に、高分子量材料を含む液体の単一の液滴を射出させるために、前記アクチュエータに、２つ以上の駆動パルスを含むマルチパルス波形を印加する工程
を備え、
前記駆動パルスの周波数が３０ｋＨｚより大きいことを特徴とする方法。
【請求項１５】
アクチュエータを有する液滴射出装置を駆動する方法であって、
前記液滴射出装置に液体の液滴を射出方向に射出させるために、前記アクチュエータに複数の駆動パルスを印加する工程
を備え、
前記駆動パルスの周波数が、前記液滴射出装置の固有周波数ｆｊより大きく、前記液体が、約１０３以上の分子量を有する材料を含むことを特徴とする方法。
【請求項１６】
アクチュエータを有する液滴射出装置を駆動する方法であって、
前記液滴射出装置に、高分子量材料を含む液体の液滴を射出させるために、前記アクチュエータに、２つ以上の駆動パルスを含むマルチパルス波形を印加する工程
を備え、
前記液滴の質量の少なくとも約６０％が、前記液滴内の点から半径ｒ以内に含まれ、ｒは
【数１】
2009533253.tif 000001
によって与えられる球体の液滴の半径に対応し、式中、ｍｄは前記液滴の質量であり、ρは前記液体の濃度であることを特徴とする方法。
【請求項１７】
アクチュエータを有する液滴射出装置を駆動する方法であって、
前記液滴射出装置に液体の液滴を射出方向に射出させるために、前記アクチュエータに一次駆動パルスを印加する工程と、
前記アクチュエータに１つ以上の二次駆動パルスを印加して、前記液滴の体積を変えずに前記液滴の前記射出方向における長さを減少させる工程であって、前記液滴の前記射出方向における長さが約１０％以上減少する工程と
を備えることを特徴とする方法。
【請求項１８】
前記液滴の前記射出方向における長さが約２５％以上減少することを特徴とする請求項１７記載の方法。
【請求項１９】
前記液滴の前記射出方向における長さが約５０％以上減少することを特徴とする請求項１７記載の方法。
【請求項２０】
前記液体が高分子量材料を含むことを特徴とする請求項１７記載の方法。
【請求項２１】
前記液滴射出装置が、少なくとも１００ｋＨｚの固有周波数ｆjを有することを特徴とする請求項１７記載の方法。
【請求項２２】
アクチュエータを有する液滴射出装置を駆動する方法であって、
前記液滴射出装置に液体の液滴を射出方向に射出させるために、前記アクチュエータに一次駆動パルスを印加する工程と、
前記アクチュエータに、前記液滴の体積を変えずに前記液滴の後尾部を減少させる１つ以上の二次駆動パルスを印加する工程であって、前記液滴の質量の約２０％未満が前記後尾部に配置される工程、
を備えることを特徴とする方法。
【請求項２３】
前記液滴の質量の約１０％未満が前記後尾部に配置されることを特徴とする請求項２２記載の方法。
【請求項２４】
前記液滴の質量の約５％未満が前記後尾部に配置されることを特徴とする請求項２２記載の方法。
【請求項２５】
前記液滴が約４ｍ／ｓを超える速度を有することを特徴とする請求項２２記載の方法。
【請求項２６】
前記液滴が約６ｍ／ｓを超える速度を有することを特徴とする請求項２２記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月24日(2010.3.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一層（Ｓ１）と第二層（Ｓ２）とを含む多層製品であって、Ｓ１が
Ａ）  Ａ．１）  ウレタン結合またはエステル結合を含む、一分子あたり少なくとも二つのアクリレート官能性を有する脂肪族オリゴマーまたは対応するオリゴマーの混合物および、
Ａ．２）  一分子あたり少なくとも二つのアクリレート基を有する脂肪族反応性希釈剤または対応する反応性希釈剤の混合物
からなる群の少なくとも一つから選択される一種類以上の脂肪族ポリマー前駆体、
Ｂ）  一種類以上の微粒子無機化合物、
Ｃ）  トリアジン誘導体およびビフェニルトリアジン誘導体からなる群から選択される少なくとも一種類の有機紫外線吸収剤、好ましくは少なくとも一種類のビフェニルトリアジン誘導体の紫外線吸収剤、
Ｄ）  要すれば一種類以上のＨＡＬＳクラスのラジカル掃去剤
Ｅ）  要すれば一種類以上の流れ調整剤、
Ｆ）  要すれば一種類以上の溶媒、並びに
Ｇ）  アシルホスフィンオキシド誘導体およびα−アミノアルキルフェノン誘導体からなる群から選択される少なくとも一種類の光開始剤
から得られ、第二層が熱可塑性ポリマーである、多層製品。
【請求項２】
成分ＡとＢとの混合物に基づいて、
成分Ａ、２０〜９５ｗｔ．％と、
成分Ｂ、５〜８０ｗｔ．％と、
成分Ｇ、０．１〜１０ｗｔ．％と
が使用され、かつ、
実験的に決定される固形分が成分Ａ、ＢおよびＦの混合物に関して２０〜５０ｗｔ．％になるように所定量の成分Ｆが使用され、かつ、
成分Ａ、ＢおよびＦの混合物の固形分に基づいて、
成分Ｃ、０．１〜２０ｗｔ．％、
成分Ｄ、０〜１０ｗｔ．％および
成分Ｅ、０〜５ｗｔ．％
が使用される、請求項１に記載の多層製品。
【請求項３】
該脂肪族反応性希釈剤（成分Ａ．２）が１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリトリトールテトラアクリレートおよびそれらのメタクリレート誘導体である、請求項１または２のいずれか一項に記載の多層製品。
【請求項４】
成分Ｂが平均粒度（ｄ５０）１〜２００ｎｍの二酸化ケイ素である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の多層製品。
【請求項５】
成分Ｃが下記式（ＩＶ）
【化１】
2009533242.tif 000001
（式中、
Ｘ＝ＯＲ６、ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＲ６、ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＲ６またはＯＣＨ（Ｒ７）ＣＯＯＲ８
Ｒ６＝分枝または非分枝Ｃ１〜Ｃ１３アルキル、Ｃ２〜Ｃ２０アルケニル、Ｃ６〜Ｃ１２アリールまたは−ＣＯ−Ｃ１〜Ｃ１８アルキル
Ｒ７＝Ｈまたは分枝もしくは非分枝Ｃ１〜Ｃ８アルキル、かつ
Ｒ８＝Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、Ｃ２〜Ｃ１２アルケニルまたはＣ５〜Ｃ６シクロアルキル）
の化合物である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の多層製品。
【請求項６】
成分Ｄが一種類以上の下記式（Ｖ）
【化２】
2009533242.tif 000002
（式中、
Ｙ＝Ｈ；Ｒ６またはＯＲ６
Ｒ６＝分枝または非分枝Ｃ１〜Ｃ１３アルキル、Ｃ２〜Ｃ２０アルケニル、Ｃ６〜Ｃ１２アリールまたは−ＣＯ−Ｃ１〜Ｃ１８アルキル、かつ
Ｒ９＝Ｚ−Ｒ１０−Ｚ−Ｒ１１、
【化３】
2009533242.tif 000003
（式中、
Ｚ＝二価の基、例えばＣ（Ｏ）Ｏ、ＮＨまたはＮＨＣＯ
Ｒ１０＝二価の有機基、例えば（ＣＨ２）ｌ（ｌ＝０〜１２）、Ｃ＝ＣＨ−Ｐｈ−ＯＣＨ３
【化４】
2009533242.tif 000004
Ｒ１１＝ＨまたはＣ１〜Ｃ２０アルキル））
の化合物である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の多層製品。
【請求項７】
成分Ｇが式ＶＩ（アシルホスフィンオキシド）および式ＶＩＩ（α−アミノアルキルフェノン）、
【化５】
2009533242.tif 000005
（式中、
Ｒ１２＝Ｃ１〜Ｃ３０アルキル、任意にＣ１〜Ｃ４アルキルおよび／または塩素、臭素で置換されていてもよいＣ５〜Ｃ６シクロアルキル、Ｃ６〜Ｃ２０アリール、Ｃ６〜Ｃ２０アリールオキシまたはＣ７〜Ｃ１２アラルキル、
Ｒ１３＝Ｃ１〜Ｃ３０−アルキル、Ｃ１〜Ｃ３０アルコキシ、または任意にＣ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４アシルおよび／もしくは塩素、臭素で置換されていてもよいＣ５〜Ｃ６シクロアルキル、Ｃ６〜Ｃ２０アリール、Ｃ６〜Ｃ２０アリールオキシ、Ｃ７〜Ｃ２１アロイルもしくはＣ７〜Ｃ１２アラルキル、
Ｒ１４＝Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、
ｎ＝０〜５、
Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７およびＲ１８は、互いに独立して、Ｃ１〜Ｃ３０アルキル、または任意にＣ１〜Ｃ４アルキル、および／もしくは塩素、臭素で置換されていてもよいＣ５〜Ｃ６シクロアルキル、Ｃ６〜Ｃ２０アリールもしくはＣ７〜Ｃ１２アラルキルであり、
基Ｒ１７およびＲ１８は、更に、式（ＶＩＩ）において示される窒素Ｎが複素環システムの一部になるように環に結合されていてもよく、
Ｒ１９＝任意にＣ１〜Ｃ４アルキル、および／または塩素、臭素で置換されていてもよく、環のＣ原子が更にヘテロ原子、例えばＮ、ＯまたはＳ、で置換されていてもよい、Ｃ５〜Ｃ６シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ３０アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ３０アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ３０ジアルキルアミノ）
からなる群の少なくとも一種類から選択される、請求項１〜６のいずれか一項に記載の多層製品。
【請求項８】
（ｉ）  第一工程において、第一層Ｓ１をコーティング配合物の形態で第二層Ｓ２に適用し、
（ｉｉ）  第二工程において、該第一層のコーティング配合物を硬化する、
請求項１〜７のいずれか一項に記載の多層製品の製造方法。
【請求項９】
視覚的印象に関して常に高い要件を有する外部適用への、特にグレージングへの、請求項１〜７のいずれか一項に記載の多層製品の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月9日(2010.2.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
冷却物品を受容する内側容器（１６）と内側容器（１６）の周囲の外側容器（１）とを備えた、冷却物品を搬送するための容器であって、内側容器（１６）は、断熱材料を含み、外側リブ（１８）が上に配置された外側表面（１７）を有し、外側リブ（１８）は、内側容器（１６）及び外側容器（１）間に空間を作り出し、外側容器（１）は、空間通気用の複数の通気孔（５）を有していることを特徴とする、前記容器。
【請求項２】
内側容器（１６）の外側リブ（１８）が、外側容器（１）の内側表面に突き当たる、請求項１に記載の容器。
【請求項３】
外側リブ（１８）が、通気孔（５）に対してずれた位置に配列される、請求項１又は２に記載の容器。
【請求項４】
内側容器（１６）の断熱材料が発泡プラスチック材料である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の容器。
【請求項５】
外側容器（１）がボール箱である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の容器。
【請求項６】
内側容器（１６）が外側容器（１）から取外し可能である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の容器。
【請求項７】
物品の冷却搬送用容器において物品を梱包する方法であって、
・断熱材料を含み、外側リブを備えた外側表面を有する内側容器内に物品及び冷却剤を挿入する工程
・外側リブにより作り出される内側容器及び外側容器間の空間を通気するための複数の通気孔を有する外側容器内に、内側容器を挿入する工程
によって特徴付けられる、前記方法。
【請求項８】
医薬品もしくは診断薬又は食品を搬送するための請求項１〜６のいずれか１項に記載の容器の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月2日(2010.4.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流動性製品を吐出するための自動閉鎖弁（０１）であって、
‐吐出口（０３）と外周面に平らな周方向エッジ（１１）とを備えた皿ばね形状を有する弁膜（０２）を含み、生成された圧力差に基づいて弁膜（０２）が閉鎖位置と吐出位置と逆吸引位置との間で切換わることができ、
‐載置面（０６）を有して弁の対称軸線を横切って設けられた止めディスク（０４）を含み、閉鎖位置および逆吸引位置のときこの止めに弁膜（０２）が当接し、こうして吐出口（０３）が閉鎖されており、吐出位置のとき弁膜が前記載置面から持ち上げられており、
‐止めリング（１２）を含み、吐出位置および閉鎖位置のとき弁膜（０２）の周方向エッジ（１１）が止めリングに密封当接し、逆吸引位置のとき弁膜が止めリングから持ち上げられており、
‐横方向ガイド（１３）を含み、このガイドが前記弁の対称軸と平行に軸線方向に延び、弁膜（０２）の周方向エッジ（１１）の少なくとも一部が周方向で前記ガイドに対向し、周方向エッジ（１１）と横方向ガイド（１３）との間で隙間（１５）が解放される逆吸引位置に切り換えるために周方向エッジ（１１）が横方向ガイド（１３）に沿って軸線方向に摺動可能であり、
前記皿ばね形状の弁膜（０２）は、閉鎖位置において止めディスク（０４）の方向に湾曲し、吐出位置において閉鎖位置とは逆方向に湾曲している自動閉鎖弁。
【請求項２】
弁膜（０２）と吐出口（０３）が円形かつ同心になされており、止めディスク（０４）が円錐台形状の側面を備えた栓（０８）を有し、閉鎖位置のとき栓（０８）が吐出口（０３）内に突出する請求項１記載の自動閉鎖弁。
【請求項３】
吐出口（０３）が周方向でシールリップ（０７）を有し、シールリップ（０７）の内面の少なくとも一部が栓（０８）の円錐台形状に一致している請求項２記載の自動閉鎖弁。
【請求項４】
止めディスク（０４）にさらに載置手段（２２、２３）が設けられており、閉鎖位置のとき弁膜（０２）が部分的に載置手段に載置される請求項１ないし３のいずれか１つに記載の自動閉鎖弁。
【請求項５】
弁膜（０２）に輪郭成形手段（２５）が設けられており、これらの輪郭成形手段が吐出口（０３）内に突出し、および／または吐出口（０３）の壁体に配置されている請求項１ないし４のいずれか１つに記載の自動閉鎖弁。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月31日(2010.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
工具保持具と工具とを含むシステムであって、前記工具保持具は、工具を保持する固定具、好ましくは締付チャックを含み、特に回転工具の工具シャフトがその中に受入れられ、前記システムは脱出防止部を含み、前記工具が軸方向に移動して前記工具保持具から出ないようロックする、システム。
【請求項２】
前記脱出防止部は、少なくとも１つのロッキング要素と、それに対応し、前記ロッキング要素を受入れる少なくとも１つの溝とを含み、それらはフォームロッキング態様で相互作用し、ならびに／または前記ロッキング要素および前記ロッキング溝は少なくとも部分的にボール頭部形状で構成され、ならびに／または前記締付チャックは前記ロッキング要素を含み、前記工具は前記ロッキング溝を含むか、もしくはその逆である、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記工具、特に前記回転工具は、少なくとも１つの、好ましくは２つの、特に好ましくは４つのロッキング溝を含み、前記ロッキング溝は好ましくは前記工具シャフトの周方向表面に配置され、面側から始まる前記ロッキング溝は前記シャフトの少なくとも一部分上を延在する、請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
前記ロッキング要素の前記工具保持具における組立て、およびそれに対応して、前記ロッキング溝の前記工具における構成は、同じ角度で配置され、および／または前記ロッキング要素は、前記工具保持具において、前記工具の回転軸に垂直な面に配置される、請求項２または３の１つに記載のシステム。
【請求項５】
前記工具保持具における前記ロッキング要素は、ボール、ピン、ボルト、および／またはねじ切りされたピンであり、それらは、少なくとも１つの、および少なくとも部分的にボール形状の凸面構成を含み、前記工具保持具における前記ロッキング要素は好ましくはステンレス鋼合金から形成され、好ましくは少なくとも前記ボールおよび／または前記ロッキング要素の前記部分的にボール頭部形状の部分は焼きいれされる、請求項２〜４の１つに記載のシステム。
【請求項６】
前記ロッキング要素は前記工具保持具の支持ボア孔において支持され、前記支持ボア孔は、好ましくは、外側周方向表面から、前記工具を受ける前記工具保持具の内側キャビティ内に連続的に延在し、それらは、前記工具保持具の回転軸に垂直に構成されるか、および／または前記工具を受ける前記内側キャビティの内側周方向表面に接線方向に近接して構成され、特に、前記ロッキング要素は、前記支持ボア孔において、好ましくはねじ切りされたピンによって、および／もしくはプレスばめによって保持され、ならびに／または前記ロッキング要素は外部ねじ筋とともに構成され、それらは前記支持ボア孔に構成される内側ねじ筋に対応して構成される、請求項２〜５の１つに記載のシステム。
【請求項７】
前記ロッキング要素は、前記支持ボア孔におけるそれらの支持された位置において、前記ボール頭部形状の構成が、前記工具を受入れる前記工具保持具の前記内部キャビティ内に少なくとも部分的に入る状態で、到達する、請求項６に記載のシステム。
【請求項８】
前記ロッキング要素はボールであり、それらは、工具保持具、特に焼きばめチャックにおいて、少なくとも１つのボール保持部において保持され、前記ボール保持部の前記ボールのための前記支持ボア孔は内側を基準にして前記支持ボア孔直径よりも小さい直径を含み、前記工具保持具は前記工具保持具の内部において少なくとも１つのボール保持部を含み、前記ボール保持部は、別途の構成要素であるか、スリーブ内に機械加工されるか、またはボール保持部を含むスリーブであり、前記スリーブは、前記工具保持具にプレスばめ、焼きばめ、または溶接され、ねじ切りされたピンによってインターロッキング態様で保持され、ならびに／またはロッキング要素およびロッキング溝によって前記スリーブに固定される、請求項２〜７の１つに記載のシステム。
【請求項９】
前記工具は前記脱出防止部によって保持され、特に焼きばめ工具において、軸方向にクリアランスなしで、力を付与する要素によって、特に少なくとも１つの圧縮ばね、円錐形ばね、コイルばね、ディスクばね、およびばねパケット、ならびに／またはゴム弾性要素によって保持される、請求項１〜８の１つに記載のシステム。
【請求項１０】
前記工具は前記脱出防止部によって保持され、特に、チャックにおいて、軸方向においてクリアランスなしで最少量の潤滑で保持され、前記最少量の潤滑のための移送部は少なくとも１つの貫通ボア孔を円錐形の径方向フランジ部に含み、前記移送部の前記径方向フランジは径方向凹部をその円筒形の包囲表面に沿って含み、それに対応して、円筒包囲表面部形状の環状膜が好ましくはフォームロッキングかつ面一の態様で埋込まれ、したがってそれは接触し、好ましくはゴム弾性材料から構成され、前記貫通ボア孔は径方向に前記移送部の内側キャビティから前記膜へ延在する、請求項９に記載のシステム。
【請求項１１】
請求項１〜１０の１つに記載のシステムのための工具保持具であって、前記工具保持具は前記工具保持具に関する請求項１〜１０の１つまたは複数の特徴を含む、工具保持具。
【請求項１２】
請求項１〜１０の１つに記載のシステムのための工具であって、前記工具は前記工具に関する請求項１〜１１の１つまたは複数の特徴を含む、工具。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月18日(2010.2.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原動機付き二輪車の電子制御式インテグラルブレーキシステム内におけるブレーキ圧制御方法であって、所定の増圧トリガによって液圧回路（２）内の積極的な増圧がなされる上記ブレーキ圧制御方法において、
積極的なブレーキ圧の増圧が不要な所定の状況においては、前記所定の増圧トリガを生成せずに、前記液圧回路（２）内で、原動機付き二輪車のインテグラル機能によって増圧がなされないようにすることを特徴とするブレーキ圧制御方法。
【請求項２】
前記増圧トリガをブレーキ操作手段（５）の操作とすることを特徴とする請求項１記載のブレーキ圧制御方法。
【請求項３】
前記ブレーキ操作手段（５）を、前記原動機付き二輪車の前輪ブレーキ（６）及び後輪ブレーキ（８）を操作するものとすることを特徴とする請求項２記載のブレーキ圧制御方法。
【請求項４】
前記原動機付き二輪車が停止しているか、又はほぼ停止している場合には、ブレーキ作用を不要とすることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のブレーキ圧制御方法。
【請求項５】
前記原動機付き二輪車の速度又は車輪回転速度に対応する値が所定値を下回ったときに、前記原動機付き二輪車が停止しているか、又はほぼ停止していると判断することを特徴とする請求項４記載のブレーキ圧制御方法。
【請求項６】
前記原動機付き二輪車が停止しているか、又はほぼ停止しているかの判断を、前輪（ＶＲ）又は後輪（ＨＲ）の少なくとも１つの車輪回転数信号に基づき行うことを特徴とする請求項４又は５記載のブレーキ圧制御方法。
【請求項７】
前記原動機付き二輪車が停止しているか、又はほぼ停止しているかの判断を、前輪（ＶＲ）及び後輪（ＨＲ）の１つずつの車輪回転数信号に基づき行うことを特徴とする請求項６記載のブレーキ圧制御方法。
【請求項８】
所定の時間内における少なくとも１つの車輪回転数信号のマーカ信号の数が所定の数よりも小さい場合に、前記原動機付き二輪車が停止しているか、又はほぼ停止していると判断することを特徴とする請求項６又は７記載のブレーキ圧制御方法。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載のブレーキ圧制御方法を実行することを特徴とする電子制御式ブレーキシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月26日(2010.3.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＮＯｘ型の汚染物質種を還元する触媒Ａ、
炭化水素ＨＣを酸化する触媒Ｂ、
電子伝導性化合物Ｃ、
イオン伝導性化合物Ｄ
からなり、
汚染ガスを処理する電気化学系を含み、前記ガスを浄化する構造物であって、
前記触媒Ａ及びＢが、化合物Ｃを介して電気的に及び化合物Ｄを介してイオン的に接触していて、
触媒Ａ及びＢが無機物の気孔に堆積していて、
電子伝導性、イオン伝導性又はイオン及び電子伝導性の無機物が、それぞれ、前記電気化学系の成分Ｃ、成分Ｄ、又は成分Ｃ及びＤの全量を構成するように、
前記構造物が少なくとも１つのイオン伝導性及び／又は電子伝導性多孔質無機物からなるか、又は少なくとも１つのイオン伝導性及び／又は電子伝導性多孔質無機物で被覆されていることを特徴とする構造物。
【請求項２】
前記構造物がハニカム構造物であり、かつ前記汚染ガスがディーゼル又はガソリンエンジン由来の排ガスであることを特徴とする請求項１に記載の構造物。
【請求項３】
多孔質無機物が電子伝導体であり、電気化学系の成分Ｃを構成することを特徴とする請求項１又は２に記載の構造物。
【請求項４】
多孔質無機物が電子伝導体及びイオン伝導体であり、電気化学系の成分Ｃ及びＤを構成することを特徴とする請求項１に記載の構造物。
【請求項５】
イオン伝導性又は電子伝導性多孔質無機物が、最初からイオン伝導体及び／若しくは電子伝導体ではない又は僅かにイオン伝導体及び／若しくは電子伝導体であるにすぎない多孔質物質のドープ、還元又は酸化処理によって得られることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の構造物。
【請求項６】
前記のイオン伝導性及び／又は電子伝導性多孔質無機物が、最初からイオン伝導体及び／若しくは電子伝導体ではない又は僅かにイオン伝導体及び／若しくは電子伝導体であるにすぎない多孔質物質をイオン伝導性物質及び／又は電子伝導性物質と混ぜることにより得られることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の構造物。
【請求項７】
多孔質無機物が、炭化物型、若しくはケイ化物型、若しくはホウ化物型の、又はＬａ１−ｘＳｒｘＭｎＯ３類の、又はガドリニウム・セリウム混合酸化物ＣＧＯ型の電子伝導性無機物を含むか、又はこれらからなることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の構造物。
【請求項８】
多孔質無機物が、ホタル石型構造、又はガレート系ペロブスカイト構造、又はビメボックス（ｂｉｍｅｖｏｘ）構造、又はラモックス（ｌａｍｏｘ）構造、又はさらにはアパタイト構造の酸素イオンを介して伝導する無機物を含むか、又はこれらからなることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の構造物。
【請求項９】
多孔質無機物が、ペロブスカイト型、又はＢａＣｅ１−ｘＭｘＯ３−α型、又はさらにはＬａｘＳｒ１−ｘＳｃＯ３−α類の化合物の陽子伝導性無機物を含むか、又はこれらからなることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の構造物。
【請求項１０】
多孔質無機物が炭化ケイ素ＳｉＣを主成分とすることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の構造物。
【請求項１１】
無機物が、その電気抵抗率が４００℃で２０Ω・ｃｍ未満になるように、アルミニウム又は窒素をドープされたＳｉＣを主成分とすることを特徴とする請求項１０に記載の構造物。
【請求項１２】
多孔質無機物が、ドープされていないか又はドープされている炭化ケイ素及び、ホタル石型構造、若しくはペロブスカイト構造、若しくはビメボックス（ｂｉｍｅｖｏｘ）構造、若しくはラモックス（ｌａｍｏｘ）構造、若しくはアパタイト構造を有する酸素イオンによって伝導性になる少なくとも１つの無機物又は、ペロブスカイト型、若しくはＢａＣｅ１−ｘＭｘＯ３−α型、さらにはＬａｘＳｒ１−ｘＳｃＯ３−α類の化合物の少なくとも１つの陽子伝導性無機物の混合物を含むか、又はこれらからなることを特徴とする請求項１０又は１１に記載の構造物。
【請求項１３】
多孔質無機物が、ドープされていないか又はドープされている炭化ケイ素（ただし、その気孔に還元触媒Ａ、酸化触媒Ｂ及び、ホタル石型構造、若しくはペロブスカイト型構造、若しくはビメボックス（ｂｉｍｅｖｏｘ）構造、若しくはラモックス（ｌａｍｏｘ）構造、若しくはアパタイト構造を有する酸素イオンによって伝導する少なくとも１つの無機物又は、ペロブスカイト型、若しくはＢａＣｅ１−ｘＭｘＯ３−α型、さらにはＬａｘＳｒ１−ｘＳｃＯ３−α類の化合物のような少なくとも１つの陽子伝導性無機物の混合物が堆積している）を含むか、又はこれからなることを特徴とする請求項１０又は１１に記載の構造物。
【請求項１４】
少なくとも１つの一体型ハニカムブロックを含み、ディーゼルエンジンの排ガスを浄化及びろ過する構造物であって、前記ブロックが、ガスが孔壁を通過できるようにガスの吸気面に沿って開いている導入路及びガスの排気面に沿って開いている導出路の範囲を定めるために、それらの末端のどちらか一方で目止剤によって閉じられていて、孔壁で隔てられていて、互いに平行な軸を有する隣接した導路又はチャネルの集成体を含むことを特徴とする請求項１〜１３のいずれか１項に記載の構造物。
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月6日(2010.1.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
合成樹脂組成物の表面を塗料材料で塗膜することを含む方法であって、前記塗膜方法が静電気で支援され、前記組成物が約５×１０7オーム／ｓｑ以上の表面抵抗および約５ｋＶ未満の散逸電圧値を有することを改良点とすることを特徴とする方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
（実施例１９〜２４および比較例Ｉ）
組成物を３０ｍｍ「ウェルナー＆フライデラー（Ｗｅｒｎｅｒ  ＆  Ｐｆｌｅｉｄｅｒｅｒ）」二軸スクリュー押出機内で製造した。ポリマーＧ、Ｂおよび「ロタデル（Ｌｏｔａｄｅｒ）」（登録商標）、ならびに「イルガノックス（Ｉｒｇａｎｏｘ）」（登録商標）および「ウルトラノックス（Ｕｌｔｒａｎｏｘ）」（登録商標）、タルク、「アラルダイト（Ａｒａｌｄｉｔｅ）」（登録商標）、「エポン（ＥＰＯＮ）」（登録商標）および「ロキシオール（Ｌｏｘｉｏｌ）」（登録商標）を押出機の背部にフィードした一方で、ＰＰＧ、「バンシル（Ｖａｎｓｉｌ）」（登録商標）および「プラストホール（Ｐｌａｓｔｈａｌｌ）」（登録商標）をサイドフィードした。その後、この組成物を「ペレスタット（Ｐｅｌｅｓｔａｔ）」（登録商標）とペレットブレンドし、シリンダー設定２９０℃、型温１２０℃、７．６ｃｍ×１２．７ｃｍ×厚さ０．３２ｃｍのプレートを成形するニッセイ・ジャパン（Ｎｉｓｓｅｉ  Ｊａｐａｎ）６オンス射出成形機にフィードした。プレートの表面抵抗率および散逸電圧値を試験した。その後、プレートを静電気で吹付け塗装し、塗料の重量を測定した。すべてのデータを表４に示す。
本発明は以下の実施の態様を含むものである。
１．合成樹脂組成物の表面を塗料材料で塗膜することを含む方法であって、前記塗膜方法が静電気で支援され、前記組成物が約５×１０7オーム／ｓｑ以上の表面抵抗および約５ｋＶ未満の散逸電圧値を有することを改良点とすることを特徴とする方法。
２．前記表面抵抗が約５×１０8オーム／ｓｑ以上であり、前記散逸電圧値が約３ｋＶ未満であることを特徴とする前記１．に記載の方法。
３．前記合成樹脂が熱硬化性であることを特徴とする前記１．または２．に記載の方法。
４．前記合成樹脂が熱可塑性であることを特徴とする前記１．または２．に記載の方法。
５．前記熱可塑性樹脂が、ポリオレフィン、ポリ（メタ）アクリレート、ポリカーボネート、フッ素化ポリマー、ポリエステル、ポリアミド、サーモトロピック液晶ポリマー、ポリスルホン、ポリ（オキシメチレン）ホモポリマーまたはポリ（オキシメチレン）コポリマー、ポリスルフィド、ポリケトン、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンコポリマー、塩素化ポリマー、または熱可塑性エラストマーあるいはそれらのブレンドであることを特徴とする前記４．に記載の方法。
６．導電性充填剤が存在することを特徴とする前記１．〜５．のいずれか一項に記載の方法。
７．前記導電性充填剤が炭素であることを特徴とする前記６．に記載の方法。
８．イオン伝導性樹脂が存在することを特徴とする前記１．〜７．のいずれか一項に記載の方法。
９．前記合成樹脂組成物が車体または器具の一部であることを特徴とする前記１．〜８．のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月9日(2010.4.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
巻線ワイヤフィルタであって、前記巻線ワイヤフィルタは、連続する単一のワイヤから作成され、第１の内径と、第１の外径と、該第１の内径とは異なる第２の内径及び該第１の外径とは異なる第２の外径のうちの少なくとも一方とを有することを特徴とする巻線ワイヤフィルタ。
【請求項２】
請求項１に記載の巻線ワイヤフィルタにおいて、２つの第２の外径を含むことを特徴とする巻線ワイヤフィルタ。
【請求項３】
隣接する層の複数のワイヤが互いに接合されていることを特徴とする巻線ワイヤフィルタ。
【請求項４】
請求項３に記載の巻線ワイヤフィルタにおいて、前記複数のワイヤは蝋付けによって接合されることを特徴とする巻線ワイヤフィルタ。
【請求項５】
請求項３に記載の巻線ワイヤフィルタにおいて、前記複数のワイヤは接着剤によって接合されることを特徴とする巻線ワイヤフィルタ。
【請求項６】
巻線ワイヤフィルタであって、巻線の少なくとも一部は、巻線ワイヤの少なくとも一部の全体にわたって前記ワイヤに隣接して存在する細長い一片（a strip）のシート状材料を含むことを特徴とする巻線ワイヤフィルタ。
【請求項７】
請求項６に記載の巻線ワイヤフィルタにおいて、前記シート状材料は編物状の金属である、特徴とする巻線ワイヤフィルタ。
【請求項８】
請求項６に記載の巻線ワイヤフィルタにおいて、前記シート状材料はセラミックフィルタ紙である、特徴とする巻線ワイヤフィルタ。
【請求項９】
請求項１に記載の巻線ワイヤフィルタにおいて、前記第１の内径と前記第２の内径とを含み、連続する外層をさらに含むことを特徴とする巻線ワイヤフィルタ。
【請求項１０】
フィルタを作製する方法であって、
マンドレルにワイヤを巻くことであって、最内径と最外径とを有する環状装置が生成される、マンドレルにワイヤを巻くこと、及び
巻かれる前記ワイヤの螺旋角αと、ドウェルと、位置とを変更することであって、該変更することは、少なくとも２つの内径又は少なくとも２つの外径を有するフィルタを生成するのに効果的である、巻かれる前記ワイヤの螺旋角と、ドウェルと、位置とを変更すること、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１１】
請求項１０に記載の方法において、前記螺旋角を変更することであって、該変更することは、前記フィルタの内部又は外部上に平坦な表面を提供するのに効果的である、変更することをさらに含むことを特徴とする方法。
【請求項１２】
請求項１０に記載の方法において、巻線前に、前記ワイヤに蝋材を塗布することをさらに含むことを特徴とする方法。
【請求項１３】
請求項１０に記載の方法において、シート状材料に隣接して前記ワイヤを巻くことをさらに含むことを特徴とする方法。
【請求項１４】
巻線ワイヤフィルタであって、
多数の開口を有する中空円筒状コアと、
前記コアの長さに沿って該コアに巻かれる連続する単一のワイヤと、
を備えることを特徴とする巻線ワイヤフィルタ。
【請求項１５】
請求項１４に記載の巻線ワイヤフィルタにおいて、前記コアは、丸められて円筒にされると共に、当接している縁を溶接されるエキスパンドメタルシートであることを特徴とする巻線ワイヤフィルタ。
【請求項１６】
請求項１４に記載の巻線ワイヤフィルタにおいて、前記中空円筒状コアは、金属から成るメッシュ又は織物であることを特徴とする巻線ワイヤフィルタ。
【請求項１７】
環状構造体に巻線ワイヤから構成される構造体を取り付ける方法において、
ａ）波形状ワイヤを有する少なくとも一層の外側層を有する前記巻線ワイヤ構造体形成することと、
ｂ）前記巻線ワイヤ構造体を前記環状構造体内に前記波形状ワイヤを圧縮することで、圧力嵌めすることとを備えていることを特徴とする方法。
【請求項１８】
請求項１７に記載の方法において、前記巻線ワイヤ構造体は、補助剤が塗布されたワイヤから形成されていることを特徴とする方法。
【請求項１９】
請求項１８に記載の方法において、前記補助剤は接着剤であることを特徴とする方法。
【請求項２０】
請求項１７に記載の方法において、前記ワイヤは並んで巻き付けられている平坦な状態であることを特徴とする方法。
【請求項２１】
巻線ワイヤ構造体を作製する方法であって、
（ａ）ワイヤを波形状にすることと、
（ｂ）前記巻線ワイヤ構造体を製造するために波形状ワイヤを巻回することを特徴とする方法。
【請求項２２】
請求項２１に記載の方法において、前記工程（ｂ）よりも前に、補助剤を前記波形状ワイヤに塗布することを特徴とする方法。
【請求項２３】
請求項２２に記載の方法において、前記補助剤は接着剤であることを特徴とする方法。
【請求項２４】
請求項２１に記載の方法において、前記ワイヤは並んで巻き付けられている平坦な状態であることを特徴とする方法。
【請求項２５】
波形状ワイヤを有することを特徴とする巻線ワイヤ構造体。
【請求項２６】
請求項２５に記載の巻線ワイヤ構造体において、更に、前記巻線ワイヤ構造体の剪断強度を増加させるための接着剤を有することを特徴とする巻線ワイヤ構造体。
【請求項２７】
請求項２５に記載の巻線ワイヤ構造体において、前記ワイヤは並んで巻き付けられている平坦な状態であることを特徴とする巻線ワイヤ構造体。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月9日(2010.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板表面上にシリコン含有材料をエピタキシャル形成する方法において、
単結晶表面と、アモルファス表面、多結晶表面及びその組合せより成るグループから選択された第２の表面とを含む基板をプロセスチャンバー内に位置させるステップと、
シリコンソースと、ハロゲン含有化合物を含む担体ガスとで構成された堆積ガスに上記基板を露出して、上記単結晶表面にはエピタキシャル層を、上記第２の表面には多結晶層を堆積するステップと、
エッチングガスに上記基板を露出して、上記多結晶層及びエピタキシャル層をエッチングするステップと、
を備えた方法。
【請求項２】
前記ハロゲン含有化合物は、ＨＣｌを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記エッチングガスは、前記ハロゲン含有化合物を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
上記エピタキシャル層は、シリコンゲルマニウム、シリコン炭素、シリコンゲルマニウム炭素、及びその組合せより成るグループから選択された材料を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
基板表面上にシリコン含有材料をエピタキシャル形成する方法において、
単結晶表面と、アモルファス表面、多結晶表面及びその組合せより成るグループから選択された第２の表面とを含む基板をプロセスチャンバー内に位置させるステップと、
シリコンソース及び担体ガスで構成された堆積ガスに上記基板を露出して、上記単結晶表面にはエピタキシャル層を、上記第２の表面には多結晶層を堆積するステップと、
約６５０℃より低いプロセスチャンバー温度における塩素化炭化水素エッチングガスに上記基板を露出して、上記多結晶層及びエピタキシャル層をエッチングするステップと、
を備えた方法。
【請求項６】
前記ハロゲン含有ガスは、ＨＣｌを含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記塩素化炭化水素は、塩化メチル、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、塩化エチル、クロロアルケン、又はその組合せを含む、請求項５に記載の方法。
【請求項８】
前記塩素化炭化水素は、前記堆積ガスと同時に前記チャンバーへ流れ込む、請求項５に記載の方法。
【請求項９】
前記塩素化炭化水素は、前記堆積ガスと交互に前記チャンバーへ流れ込む、請求項５に記載の方法。
【請求項１０】
上記エピタキシャル層は、シリコンゲルマニウム、シリコン炭素、シリコンゲルマニウム炭素、及びその組合せより成るグループから選択された材料を含む、請求項５に記載の方法。
【請求項１１】
基板表面上にシリコン含有材料をエピタキシャル形成する方法において、
シリコンソース及びＨＣｌを担体ガスとして含む堆積ガスに上記基板を露出するステップと、
ＨＣｌをエッチングガスとして使用してエッチングを行うステップと、
を備えた方法。
【請求項１２】
上記堆積ガスは、更に、Ｃｌ２、Ｈ２、Ｎ２、不活性ガス、又はその組合せを含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
プロセスチャンバーに位置された基板上にシリコン含有材料をエピタキシャル形成する方法であって、上記基板は、単結晶表面と、アモルファス表面、多結晶表面及びその組合せより成るグループから選択された第２の表面とを含むものである方法において、
上記プロセスチャンバーへのハロゲン含有ガスの流れを、上記単結晶表面にはエピタキシャル層を、上記第２の表面には多結晶層を堆積するための第１の流量に制御するステップと、
上記プロセスチャンバーへのハロゲン含有ガスの流量を、上記多結晶層及びエピタキシャル層をエッチングするための第２の流量に制御するステップと、
を備えた方法。
【請求項１４】
上記第１の流量におけるハロゲン含有ガスと、上記第２の流量におけるハロゲン含有ガスは、同じものである、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記ハロゲン含有ガスは、ＨＣｌを含む、請求項１４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月25日(2010.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ｎ型ＺｎＯ基材を提供する工程、
該基材に低エネルギーのアクセプタイオンを注入することによって該基材をドーピングする工程、及び
大気圧未満のチャンバー中で、注入された基材をピーク温度まで電子ビームで加熱し、該ピーク温度を所定の時間保持し、そして基材温度を下げる工程
を含む、ｐ型酸化亜鉛（ＺｎＯ）を調製する方法。
【請求項２】
前記ｎ型ＺｎＯ基材がバルクＺｎＯである、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記アクセプタイオンが窒素イオン、ヒ素イオン及びリンイオンから選択される、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記アクセプタイオンが窒素イオンである、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記低エネルギーのアクセプタイオンを注入する工程が、７０ｋｅＶ未満、４５ｋｅＶ未満、４０ｋｅＶ未満、３５ｋｅＶ未満、３０ｋｅＶ未満、又は２５ｋｅＶ未満のビームエネルギーを有する低エネルギーのアクセプタイオンの質量分離集束ビームを用いる、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
注入の間のイオンフルエンスが１×１０15イオン／ｃｍ2〜５×１０16イオン／ｃｍ2である、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記基材中のアクセプタの得られる原子％が１０原子％未満である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
前記基材中のアクセプタの原子％が０．１原子％〜５．０原子％である、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記基材に低エネルギーのアクセプタイオンを注入する工程の前に、追加の１つ又は複数の工程、即ち、
該基材にドナーイオンを注入することによって該基材を予備ドーピングする工程、及び任意選択で、
大気圧未満のチャンバー中で、注入された基材を熱アニールする工程
をさらに含む、請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
前記ドナーイオンが水素イオン、リチウムイオン、アルミニウムイオン及びガリウムイオンから選択される、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記ドナーイオンが水素イオンである、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記ドナーイオンが、５０ｋｅＶ未満、４５ｋｅＶ未満、４０ｋｅＶ未満、３５ｋｅＶ未満、３０ｋｅＶ未満、又は２５ｋｅＶ未満のビームエネルギーを有する低エネルギーのドナーイオンの質量分離集束ビームを用いて注入される、請求項９〜１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
前記基材中のドナーの得られる原子％が１０原子％未満である、請求項９〜１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
前記基材中のドナーの原子％が０．０１原子％〜５．０原子％である、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
得られるｐ型ＺｎＯのｐ型キャリア移動度が１〜５００ｃｍ2・Ｖｓ-1である、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１６】
得られるｐ型ＺｎＯのキャリア濃度が１．０×１０13〜５．０×１０19ｃｍ-3である、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１７】
得られるｐ型ＺｎＯの抵抗率が０．０００１〜１０Ω・ｃｍである、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１８】
ｐ型材料が請求項１〜１７のいずれか１項に記載の方法に従って調製されたｐ型ＺｎＯである、ｐ−ｎ接合又はｎ−ｐ−ｎ／ｐ−ｎ−ｐ接合を調製する方法。