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　平成１１年特許願第　１１６３０号「熱処理雰囲気を創出するための装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１１年１１月１６日出願公開、特開平１１−３１５３２３〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成１１年１月２０日（パリ条約による優先権主張１９９８年１月２２日、米国）の出願であって、平成１５年９月２９日付けで拒絶査定がなされ、平成１６年１月６日付けで拒絶査定に対する審判請求がなされたものである。
　
２．本願発明
　本願請求項１乃至３に係る発明は、本願明細書の特許請求の範囲の請求項１乃至３に記載された事項により特定されるとおりの「熱処理雰囲気を創出するための装置」であるところ、請求項１に係る発明（以下、「本願発明１」という）は、次のとおりである。
「【請求項１】　鉄金属、非鉄金属、合金及び金属及び或はセラミック粉末を熱処理するための一酸化炭素雰囲気及び水素雰囲気を、吸熱を伴う状態下に発生させるための反応装置であって、
　非補助的な熱源と、
　該非補助的な熱源からの熱に近接して配置した触媒のための多孔質のセラミックキャリヤ手段と、
　該多孔質のセラミックキャリヤ手段上に配置した、貴金属を含有する触媒手段と、
　該触媒手段の一部分を加熱するための加熱手段と、
　炭化水素ガス及び酸化体ガスの混合物を含む流入ガス源にして、前記混合物が５乃至１００％の間の酸素を含有し且つ前記非補助的な熱源に対して露呈されてなる流入ガス源と、
　前記炭化水素ガス及び酸化体ガスを前記多孔質のセラミックキャリヤ手段及び触媒手段に差し向けるための配向手段にして、前記炭化水素ガスが酸化することにより一酸化炭素及び水素を含む流出ガスを生成し、該流出ガスの空間速度が、使用する触媒１立方フィート当たり少なくとも１０，０００ＳＣＦＨ（標準状態での毎時約２８０ｍ３／時）である配向手段と、
　前記触媒手段に隣り合ってその出口を位置付けた熱交換器と、
　を含んでいる反応装置。」
　
３．原査定の拒絶理由の概要
　原査定の拒絶理由の概要は、本願請求項１乃至３に係る発明は、本願出願前頒布された刊行物である引用文献１（特開平８−１６９７０１号公報）に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない、というものである。
　
４．引用文献とその記載事項
（１）引用文献１：特開平８−１６９７０１号公報
（１ａ）「【請求項１】　鉄金属、非鉄金属、合金、並びに金属及び／又はセラミック粉末の熱処理用一酸化炭素及び水素雰囲気の吸熱発生用反応器装置であって、
　非補助熱源、
　前記熱源からの熱のすぐ隣に配置された触媒のための多孔質セラミック担体手段、
　前記担体手段上に配置された貴金属を含有する触媒手段、
　炭化水素ガスと５〜１００％の酸素を含有する酸化剤ガス混合物とを含む流入ガス源であって、前記非補助熱源にさらそうとする炭化水素ガス及び酸素を含む流入ガス源、及び
　前記炭化水素ガス及び酸素を担体及び触媒手段に向けるための手段であり、ここで該炭化水素ガスが酸化して一酸化炭素及び水素を含む流出ガスを少なくとも１０，０００標準ｆｔ３／流出ガスＨｒ／使用触媒ｆｔ３の空間速度で生成するところの手段、を含む一酸化炭素及び水素雰囲気の吸熱発生用反応器装置。」（特許請求の範囲の請求項１）
（１ｂ）「【請求項１４】　非補助熱源が酸化された炭化水素流出ガス中に配置される請求項１記載の反応器装置。
【請求項１５】　炭化水素ガス及び酸素を担体及び触媒手段に向けるための第一導管と、該第一導管を包囲する第二導管であって、流出ガスから流入ガスへの熱交換が行われる反応器装置から流出ガスを運び出すための第二導管とを含む請求項１４記載の反応器装置。」（特許請求の範囲の請求項１４，１５）
（１ｃ）「系は自動的に作動し、即ち、流入ガスを予熱し又は触媒床を加熱するための補助加熱器は全く必要とされない。流出ガスから又は炉ガスから触媒又は流入ガスへの熱交換があり得る。」（段落【００４２】）
（１ｄ）「導管１８の流出ガスは、管１６ａ及び１６ｂの流入ガスの周囲を循環し、流出ガスと流入ガスとの間で熱交換が行われ、従って従来技術におけるように操作間に流入ガスを加熱するために加熱コイル又は炎のような補助加熱手段を設けることは必要でないことを理解されたい。しかしながら、熱交換プロセスを開始させるために操作の開始時に流入ガスを初期に加熱することが必要である場合がある。」（段落【００４８】）
　
５．当審の判断
５−１．引用文献１記載の発明
　引用文献１の上記（１ａ）には、「鉄金属、非鉄金属、合金、並びに金属及び／又はセラミック粉末の熱処理用一酸化炭素及び水素雰囲気の吸熱発生用反応器装置であって、非補助熱源、前記熱源からの熱のすぐ隣に配置された触媒のための多孔質セラミック担体手段、前記担体手段上に配置された貴金属を含有する触媒手段、炭化水素ガスと５〜１００％の酸素を含有する酸化剤ガス混合物とを含む流入ガス源であって、前記非補助熱源にさらそうとする炭化水素ガス及び酸素を含む流入ガス源、及び前記炭化水素ガス及び酸素を担体及び触媒手段に向けるための手段であり、ここで該炭化水素ガスが酸化して一酸化炭素及び水素を含む流出ガスを少なくとも１０，０００標準ｆｔ３／流出ガスＨｒ／使用触媒ｆｔ３の空間速度で生成するところの手段、を含む一酸化炭素及び水素雰囲気の吸熱発生用反応器装置。」が記載され、また、上記（１ｂ）には、反応器装置が「炭化水素ガス及び酸素を担体及び触媒手段に向けるための第一導管と、該第一導管を包囲する第二導管であって、流出ガスから流入ガスへの熱交換が行われる反応器装置から流出ガスを運び出すための第二導管とを含む」ことが記載されているから、これらの記載を整理すると、引用文献１には、
「鉄金属、非鉄金属、合金、並びに金属及び／又はセラミック粉末の熱処理用一酸化炭素及び水素雰囲気の吸熱発生用反応器装置であって、非補助熱源、前記熱源からの熱のすぐ隣に配置された触媒のための多孔質セラミック担体手段、前記担体手段上に配置された貴金属を含有する触媒手段、炭化水素ガスと５〜１００％の酸素を含有する酸化剤ガス混合物とを含む流入ガス源であって、前記非補助熱源にさらそうとする炭化水素ガス及び酸素を含む流入ガス源、及び前記炭化水素ガス及び酸素を担体及び触媒手段に向けるための手段であり、ここで該炭化水素ガスが酸化して一酸化炭素及び水素を含む流出ガスを少なくとも１０，０００標準ｆｔ３／流出ガスＨｒ／使用触媒ｆｔ３の空間速度で生成するところの手段、炭化水素ガス及び酸素を担体及び触媒手段に向けるための第一導管と、該第一導管を包囲する第二導管であって、流出ガスから流入ガスへの熱交換が行われる反応器装置から流出ガスを運び出すための第二導管、を含む一酸化炭素及び水素雰囲気の吸熱発生用反応器装置。」という発明（以下、「引用発明１」という）が記載されていると認められる。
　
５−２．本願発明１と引用発明１との対比
　本願発明１と引用発明１とを対比すると、引用発明１における「一酸化炭素及び水素雰囲気の吸熱発生用反応器装置」、「非補助熱源」、「多孔質セラミック担体手段」、「酸化剤ガス」、「炭化水素ガス及び酸素を担体及び触媒手段に向けるための手段」、「少なくとも１０，０００標準ｆｔ３／流出ガスＨｒ／使用触媒ｆｔ３」は、それぞれ、本願発明１における「一酸化炭素雰囲気及び水素雰囲気を、吸熱を伴う状態下に発生させるための反応装置」、「非補助的な熱源」、「多孔質のセラミックキャリヤ手段」、「酸化体ガス」、「炭化水素ガス及び酸化体ガスを前記多孔質のセラミックキャリヤ手段及び触媒手段に差し向けるための配向手段」、「使用する触媒１立方フィート当たり少なくとも１０，０００ＳＣＦＨ」に相当する。また、引用発明１における「炭化水素ガス及び酸素を担体及び触媒手段に向けるための第一導管と、該第一導管を包囲する第二導管であって、流出ガスから流入ガスへの熱交換が行われる反応器装置から流出ガスを運び出すための第二導管」は、「流出ガスから流入ガスへの熱交換が行われる」ことからみて、「熱交換器」であると云える。さらに、引用発明１における「熱交換器」を構成する第一導管の出口は、「炭化水素ガス及び酸素を担体及び触媒手段に向けるための第一導管」という構成からみて、触媒手段に隣り合って位置付けられていると云えるから、両者は、
「鉄金属、非鉄金属、合金及び金属及び或はセラミック粉末を熱処理するための一酸化炭素雰囲気及び水素雰囲気を、吸熱を伴う状態下に発生させるための反応装置であって、非補助的な熱源と、該非補助的な熱源からの熱に近接して配置した触媒のための多孔質のセラミックキャリヤ手段と、該多孔質のセラミックキャリヤ手段上に配置した、貴金属を含有する触媒手段と、炭化水素ガス及び酸化体ガスの混合物を含む流入ガス源にして、前記混合物が５乃至１００％の間の酸素を含有し且つ前記非補助的な熱源に対して露呈されてなる流入ガス源と、前記炭化水素ガス及び酸化体ガスを前記多孔質のセラミックキャリヤ手段及び触媒手段に差し向けるための配向手段にして、前記炭化水素ガスが酸化することにより一酸化炭素及び水素を含む流出ガスを生成し、該流出ガスの空間速度が、使用する触媒１立方フィート当たり少なくとも１０，０００ＳＣＦＨである配向手段と、前記触媒手段に隣り合ってその出口を位置付けた熱交換器と、を含んでいる反応装置。」である点で一致するが、次の点で相違する。
相違点：
　本願発明１の反応装置は、「触媒手段の一部分を加熱するための加熱手段」を含んでいるのに対し、引用発明１の反応装置は、そのような加熱手段を含んでいるか否かが明りょうでない点。
　
５−３．相違点についての判断
　本願発明１における「触媒手段の一部分を加熱するための加熱手段」は、本願明細書の「本システムは自熱的に運転される、即ち、流入するガスを前加熱するための或いは触媒床を加熱するための何らの補助ヒータも不要である。」（段落【００２９】）、「運転中に流入するガスを加熱するための加熱コイル或いは火炎のような補助的な加熱手段は不要である。しかしながら、運転開始時点で熱交換プロセスを生じさせるために、流入するガスを初期加熱する必要はある。」（段落【００３２】）、「本発明の反応器は、冷間始動時に触媒２６の一部分のみを加熱すればよいという新規な設計形状を有している。」（段落【００４９】）等の記載からみて、自熱的に運転され、運転中には補助的な加熱手段が不要である反応装置を運転開始する際に、触媒手段の一部分を加熱することによって反応装置を冷間始動させるものと認められる。
　これに対し、引用文献１の上記（１ｃ）の「系は自動的に作動し、即ち、流入ガスを予熱し又は触媒床を加熱するための補助加熱器は全く必要とされない。」という記載、及び、上記（１ｄ）の「操作間に流入ガスを加熱するために加熱コイル又は炎のような補助加熱手段を設けることは必要でないことを理解されたい。しかしながら、熱交換プロセスを開始させるために操作の開始時に流入ガスを初期に加熱することが必要である場合がある。」という記載からみて、引用発明１の反応装置も、運転中には補助的な加熱手段は不要であるが、操作の開始時（すなわち、運転開始時）に、流入ガスを初期加熱し、触媒床（すなわち、触媒手段）を加熱して反応装置を冷間始動させる場合があると云える。
　してみると、引用発明１の反応装置も、そのように操作の開始時に流入ガスを初期に加熱する場合には、反応装置を冷間始動させる「触媒手段を加熱するための加熱手段」を含んでいると云える。しかも、該「触媒手段を加熱するための加熱手段」は、「触媒手段の一部分を加熱するための加熱手段」を包含しているから、前記相違点は、実質的な相違とは云えない。
　仮に、本願発明１における「触媒手段の一部分を加熱するための加熱手段」が、本願明細書の発明の詳細な説明における「触媒２６の一部分のみを加熱すればよい」（段落【００４９】）という記載にみられるように、「触媒手段の一部分のみを加熱するための加熱手段」を意味するものであるとしても、その点の相違は、次の理由により当業者が容易に想到し得たものと云うべきである。
　すなわち、本願発明１における「一部分のみ」以外の触媒手段は、該加熱手段により直接的に加熱されないとしても、反応装置の定常運転までには、触媒機能を奏する昇温状態となるのであるから、昇温されないように設定されているわけではない。それ故、直接的に加熱されない部分であっても、直接的な加熱部分からの熱伝導等の熱移動により間接的に加熱され得ることは明らかである。一方、引用発明１の「触媒手段を加熱するための加熱手段」は、流入ガスを初期加熱し、初期加熱された流入ガスの熱を流入ガスが接触した触媒手段表面に移動させて触媒手段を加熱するのであるから、流入ガスが最初に接触する触媒手段の表面を最初に加熱し、次に接触する表面を次に加熱し、さらに、それら表面部からの熱伝導等の熱移動により触媒手段内部や出口側を順次加熱していくというような加熱の態様となることは熱移動の技術常識から明らかである。してみれば、本願発明１と引用発明１とは、直接的に加熱される部分からの熱移動により直接的に加熱されない部分も間接的に加熱されるという触媒手段の加熱の態様において格別に相違するとは云えない。しかも、引用発明１の「触媒手段を加熱するための加熱手段」は、反応装置を始動させるものであり、その始動が円滑になされる程度に触媒手段を加熱すれば良いのであるから、流入ガスの最初の接触により加熱される触媒手段表面の最初の加熱段階から、触媒手段の全体が加熱される最終加熱段階までのうち、触媒手段の全体が加熱されていない段階で冷間始動のための加熱を停止するように加熱手段を構成すること、すなわち、「触媒手段の一部分のみを加熱するための加熱手段」とすることは、省エネルギー等の観点から当業者が容易に想到し得たことと云うべきである。
　
６．むすび
　したがって、本願発明１は、引用文献１に記載された発明であるか、又は、引用文献１に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第１項第３号又は同条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、その余の発明について検討するまでもなく、本願は、拒絶されるべきである。
　よって、結論のとおり審決する。