【事件の表示】
　特許第３４３８７７１号「光拡散部材、光拡散部材の製造法及び転写フィルム」の請求項１乃至１３に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３４３８７７１号の請求項１乃至７に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続の経緯
　特許第３４３８７７１号の請求項１乃至１３に係る発明についての出願は、平成１１年３月１７日に特許出願され、平成１５年６月１３日にその発明について特許権の設定登録がなされ、その後、その特許について、異議申立人・尾田久敏及び異議申立人・株式会社クラレより特許異議の申立てがなされ、平成１６年８月２５日付けで取消しの理由が通知され、その指定期間内である平成１６年１１月２日に訂正請求（後日取り下げ）がなされた後、平成１７年６月７日付けで取消しの理由が通知され、その指定期間内である平成１７年８月１１日に訂正請求がなされたものである。
　　
２．訂正の適否についての判断
（１）訂正の内容
ア．訂正事項Ａ
　特許請求の範囲の請求項１〜１３において、請求項２と３と４と１１を組み合わせて訂正後の請求項１とし、請求項５〜９の項数を順に繰り上げて訂正後の請求項２〜６とし、請求項１，１２，１３を削除する。
　また、特許請求の範囲の請求項１０において、請求項２と４を組み合わせて訂正後の請求項７とし、他の請求項を引用しない記載形式に改める。
　
イ．訂正事項Ｂ
　訂正後の請求項１において、ＬＣＤセル内に光拡散面を有するとの限定を追加する。
　
ウ．訂正事項Ｃ
　訂正後の請求項１および７において、「光拡散面の反射光強度（Ｒ）」を「光拡散面の法線方向における反射光強度（Ｒ）」と訂正し（訂正事項Ｃ１）、「拡散方向６０度以上」および「拡散方向１５度」をそれぞれ「法線に対する入射角度６０度以上」、「法線に対する入射角度１５度」と訂正する（訂正事項Ｃ２）。
　
エ．訂正事項Ｄ
　（ｉ）発明の名称を、「拡散反射板、拡散反射板の製造法及び転写フィルム」と訂正し、（ｉｉ）明細書段落［０００６］第１文を削除し、（ｉｉｉ）同段落第２文において「光拡散部材」を「光拡散部材（拡散反射板）」と訂正し、（ｉｖ）明細書段落［０００６］第４文における「光拡散面の反射光強度（Ｒ）」を「光拡散面の法線方向における反射光強度（Ｒ）」、「拡散方向６０度以上」を「法線に対する入射角度（拡散方向）６０度以上」、「拡散方向１５度」を「法線に対する入射角度（拡散方向）１５度」とそれぞれ訂正し、（ｖ）明細書段落［００２０］の「実施例１」を「参考例１」に訂正する。
　
（２）訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　訂正事項Ａは、元の独立請求項１および２を削除し、元の従属請求項３と４と１１の内容を請求項２に加えて訂正後請求項１とし、かつ、元の請求項２と４の内容を請求項１０に加えて訂正後請求項７とするものである。したがって、この訂正は、特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
　
　訂正事項Ｂは、本件明細書段落［００１６］の「特に反射型ＬＣＤ用拡散反射板の場合、ＬＣＤセル内に光拡散面を形成する必要から」等の記載に基づき、いわゆるインナーセルタイプの反射型液晶表示装置に用いられるものであることを限定するものである。したがって、この訂正は、特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
　
　訂正事項Ｃ１は、「反射光強度（Ｒ）」についてその観測方向を明確化したものであり、観測方向が法線方向であることは、本件明細書段落［００１３］の「必要とされる６の範囲で拡散反射板の法線方向で観測される輝度すなわち反射強度」との記載、ならびに、第８図の記載から明らかである。この訂正は、反射光強度の観測方向を明りょうにしたものであるから、明りょうでない記載の釈明を目的とするものである。
　訂正事項Ｃ２は、「拡散方向」についてその技術的意義を明確化したものである。この「拡散方向」が「法線に対する入射角度」であることは、本件明細書の段落［００１３］における「反射光線２１と入射光線２２のなす角度をθとすると、必要とされるθの範囲で拡散反射板の法線方向で観測される輝度すなわち反射強度を大きくすれば・・」、「法線に対し拡散反射を６０度の範囲の光源で得ようとし・・」との記載、ならびに、第８図の記載等から明らかである。
　この訂正は、「拡散方向」を明りょうにしたものであるから、明りょうでない記載の釈明を目的とするものである。
　
　訂正事項Ｄは、訂正事項Ａ〜Ｃの訂正に伴い、発明の名称および発明の詳細な説明の対応する記載を訂正するものである。
　したがって、この訂正は、明りょうでない記載の釈明を目的とするものである。
　
（３）むすび
　したがって、上記訂正は、特許法第１２０条の４第２項及び同条第３項で準用する第１２６条第２項及び第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
３．特許異議の申立てについての判断
（１）本件発明
　上記２．で示したように上記訂正が認められるから、本件の請求項１乃至７に係る発明（以下、「本件発明１乃至７」という。）は、上記訂正に係る訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１乃至７に記載された事項に特定される次のとおりのものである。
「【請求項１】金属メッキ膜表面のメッキ膜自体の凹凸形状を転写した面を転写した面の光拡散面に反射膜を形成した、ＬＣＤセル内に光拡散面を有する反射型液晶表示装置用の拡散反射板であって、光拡散面の法線方向における反射光強度（Ｒ）と、完全拡散面の反射光強度（Ｒ０）との比（Ｒ／Ｒ０）が、法線に対する入射角度６０度以上の領域で１未満となり、法線に対する入射角度１５度で１以上となる拡散反射板。
【請求項２】金属メッキ膜表面のメッキ膜自体の凹凸形状が、平均ピッチ０．７〜１５０μｍである請求項１記載の拡散反射板。
【請求項３】ロール芯材表面、ベルト表面又は巻物表面の少なくとも一部に被覆されている金属メッキ膜表面のメッキ膜自体の凹凸形状を転写する工程を備える請求項１〜または２記載の拡散反射板の製造法。
【請求項４】金属メッキ膜が、銅メッキ又は銅メッキと他の金属薄膜の積層膜である請求項３記載の拡散反射板の製造法。
【請求項５】金属メッキ膜が、銅メッキ工程後、（１）銅エッチング工程及び（２）化学的に安定な薄膜の積層工程の少なくともいずれかの工程を備える請求項４記載の拡散反射板の製造法。
【請求項６】化学的に安定な薄膜が、ニッケル、クロム又はニッケルとクロムの積層メッキ薄膜である請求項５記載の拡散反射板の製造法。
【請求項７】金属メッキ膜表面のメッキ膜自体の凹凸形状を転写した面を転写した面の光拡散面を備えた光拡散部材を製造するための転写フィルムであって、金属メッキ膜表面のメッキ膜自体の凹凸形状を転写した面の光拡散面が形成された仮支持体に、薄膜層が積層されており、前記薄膜層の前記仮支持体に積層されていない面が被転写基板への接着面を構成しており、前記光拡散面は、反射膜を形成した時の特性が、光拡散面の法線方向における反射光強度（Ｒ）と、完全拡散面の反射光強度（Ｒ０）との比（Ｒ／Ｒ０）が、法線に対する入射角度６０度以上の領域で１未満となり、法線に対する入射角度１５度で１以上となるものである転写フィルム。」
　
（２）異議申立人提出の証拠に記載された発明／平成１７年６月７日付けの取消理由で引用された刊行物に記載された発明
　刊行物１．特開平８−２４８４１４号公報　
　刊行物２．特開平１０−２３９５０５号公報　
　刊行物３．特開平８−５５５０７号公報（異議申立人・尾田久敏が提出した甲第１号証）　
　刊行物４．特開平８−２９８７５号公報（同甲第２号証）　
　刊行物５．特開平８−７２０６５号公報（異議申立人・株式会社クラレが提出した甲第１号証）　
　刊行物６．特開平９−５７８４６号公報（同甲第４号証）　
　刊行物７．特開平７−１１８８９０号公報（同甲第５号証）
　刊行物８．特開平５−２１４５７７号公報（同甲第６号証）
　刊行物９．特開平７−３３３４０４号公報（同甲第７号証）
　刊行物１０．特開平５−３０７１０５号公報（同甲第８号証）
　刊行物１１．特開平３−１４２４０１号公報（同甲第９号証）
　刊行物１２．特開平１１−７４５４８号公報　
　刊行物１３．特開平１０−１１７００６号公報　
　刊行物１４．特開平９−１９９７４５号公報　
　刊行物１５．特開平９−２６０６９８号公報　
　　
（３）対比・判断
［本件発明１について］
　本件発明１と上記刊行物１乃至１５に記載された発明とを比較検討する。
　先ず、刊行物３及び５に記載された発明について検討すると、刊行物３及び５には、金属メッキ膜表面のメッキ膜自体の凹凸形状を転写した面の光拡散面を備えた光拡散部材、について記載されているといえる。しかしながら、刊行物３及び５には、本件発明１の構成要件である「金属メッキ膜表面のメッキ膜自体の凹凸形状を転写した面を転写した面の光拡散面に反射膜を形成した拡散反射板」については何等記載がなく、まして、本件発明１のように「該拡散反射板を、ＬＣＤセル内に光拡散面を有する反射型液晶表示装置用に用いる」ことの記載もない。
　刊行物８には、その段落「０００５」に「本発明は、マザーロールＲに、得ようとする製品と同一のエンボスｆを有する凹凸面Ｆを形成し、次いで、メッキが剥離可能であるように表面処理し、続いて、マザーロールＲの全周に厚膜メッキＰを施し、その後同芯研磨し、前記厚膜メッキＰをマザーロールＲより剥離して平面状に展開してエンボス型板Ｅとしその研磨面を版台Ｈへの貼付面とすることを特徴とするエンボス型板の製作方法を提供するものである。」と記載され、段落「０００８」に「マザーロールＲはエンボスｆを形成する方法として、上記実施例では、エッチング法により行っているが、メッキ法により形成することもできる。」と記載されている。しかし、刊行物８に記載されているのは、マザーロールＲにメッキ法により、得ようとする製品と同一のエンボスを有する凹凸面を形成し、その全周に厚膜メッキＰを施すことにより、マザーロールＲの凹凸面を厚膜メッキＰに転写してエンボス型板とする電鋳技術に関するもので、その「産業上の利用分野」として段落「０００１」に「本発明は、紙、ビニールクロス、レザークロス、合成皮革あるいはクッションタイルに様々な幾何学的模様や不規則な凹凸や、印刷模様に一致させた凹条部をプレス形成するためのエンボス型板の製作方法に関する。」と記載されるように、刊行物８に記載の発明は、本件発明１のＬＣＤセル内に光拡散面を有する反射型液晶表示装置用の拡散反射板の技術分野とは全く異なる技術分野に属する発明である。
　また、刊行物１，２，４，６，７，９乃至１５のいずれにも、本件発明１の構成要件である「金属メッキ膜表面のメッキ膜自体の凹凸形状を転写した面を転写した面の光拡散面に反射膜を形成した、ＬＣＤセル内に光拡散面を有する反射型液晶表示装置用の拡散反射板」について何等記載はなく、それを示唆する記載もない。
　
　そして、本件発明１は、上記構成を採ることにより、平成１７年８月１１日付け特許異議意見書の第４頁に記載されるように、２回転写した面を利用する場合は、１回目の転写層にはメッキ膜に対する剥離性を要求し、２回目の転写層には基板に対する密着性を要求することができる等、材料設計上の自由度が広がり、また、１回転写した面を利用する場合、基板によっては、薄膜層にメッキ膜を押し当てラミネートするなどして凹凸形状を転写する際に、基板に破損が生じる問題があるが、２回転写した面を利用することにより、このような問題を回避でき、加えて、２回転写した面を光拡散面とする場合には、可搬性の低いメッキ膜に換えて、任意に可搬性に優れた転写物を鋳型として利用できるので製造上のメリットも存在するなど、優れた作用効果を奏するものである。
　
　したがって、本件発明１は、刊行物１乃至１５に記載された発明に基づいて当業者が容易になし得た発明であるとすることはできない。
　
［本件発明２乃至６について］
　本件発明２乃至６は、いずれも本件発明１を引用する発明であり、本件発明１の構成を全て包含する発明であるから、［本件発明１について］の項で述べた理由と同様の理由により、刊行物１乃至１５に記載された発明に基づいて当業者が容易になし得た発明であるとすることはできない。
　
［本件発明７について］
　本件発明７と刊行物１乃至１５に記載された発明とを比較検討すると、刊行物１乃至１５のいずれにも、本件発明７の構成要件である「金属メッキ膜表面のメッキ膜自体の凹凸形状を転写した面を転写した面の光拡散面を備えた光拡散部材を製造するための転写フィルムであって、金属メッキ膜表面のメッキ膜自体の凹凸形状を転写した面の光拡散面が形成された仮支持体に、薄膜層が積層されており、前記薄膜層の前記仮支持体に積層されていない面が被転写基板への接着面を構成している転写フィルム」について何等記載されてなく、それを示唆する記載もない。
　したがって、本件発明７は、刊行物１乃至１５に記載された発明に基づいて当業者が容易になし得た発明であるとすることはできない。
　
　また、本件特許は特許法第３６条第６項第２号及び同条第４項の規定に違反してなされたものであるとする平成１７年６月７日付けの取消理由については、上記訂正により解消した。
　
（４）むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立ての理由、その証拠、平成１７年６月７日付けの取消理由、その証拠によっては、本件発明１乃至７についての特許を取り消すことができない。
　また、他に本件発明１乃至７についての特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１７年９月２６日（２００５．９．２６）
【訂正の要旨】
審決（決定）の【理由】欄参照。
（５４）【発明の名称】
拡散反射板
拡散反射板
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項
１
に反射膜を形成した、ＬＣＤセル内に光拡散面を有する反射型液晶表示装置用の拡散反射板であって、光拡散面の法線方向における反射光強度（Ｒ）と、完全拡散面の反射光強度（Ｒ０）との比（Ｒ／Ｒ０）が、法線に対する入射角度６０度以上の領域で１未満となり、法線に対する入射角度１５度で１以上となる拡散反射板
　【請求項
２
１記
拡散反射板
　【請求項
３
または２
拡散反射板
　【請求項
４
３
拡散反射板
　【請求項
５
４
拡散反射板
　【請求項
６
５
拡散反射板
　【請求項
７
金属メッキ膜表面のメッキ膜自体の凹凸形状を転写した面を転写した面の光拡散面を備えた光拡散部材を製造するための転写フィルムであって、金属メッキ膜表面のメッキ膜自体の凹凸形状を転写した面の
しており、前記光拡散面は、反射膜を形成した時の特性が、光拡散面の法線方向における反射光強度（Ｒ）と、完全拡散面の反射光強度（Ｒ０）との比（Ｒ／Ｒ０）が、法線に対する入射角度６０度以上の領域で１未満となり、法線に対する入射角度１５度で１以上となるものである
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【発明の属する技術分野】
　本発明は、バックライトを必要としない反射型液晶表示装置や表示装置前面に配置し移り込みを防止するアンチグレアフィルムや高効率を必要とされる太陽電池などに使用される光拡散部材、光拡散部材の製造法及び光拡散部材の製造に使用される転写フィルムに関する。
　【０００２】
　【従来の技術】
　液晶ディスプレイ（以下ＬＣＤと略す）は、薄型、小型、低消費電力などの特長を生かし、現在、時計、電卓、ＴＶ、パソコン等の表示部に用いられている。更に近年、カラーＬＣＤが開発されＯＡ・ＡＶ機器を中心にナビゲーションシステム、ビュウファインダー、パソコンのモニター用など数多くの用途に使われ始めており、その市場は今後、急激に拡大するものと予想されている。特に、外部から入射した光を反射させて表示を行う反射型ＬＣＤは、バックライトが不要であるために消費電力が少なく、薄型、軽量化が可能である点で携帯用端末機器用途として注目されている。
　【０００３】
　従来から反射型ＬＣＤにはツイステッドネマティック方式並びにスーパーツイステッドネマティック方式が採用されているが、これらの方式では直線偏光子により入射光の１／２が表示に利用されないことになり表示が暗くなってしまう。そこで、偏光子を１枚に減らし、位相差板と組み合わせた方式や相転移型ゲスト・ホスト方式の表示モードが提案されている。図２は、反射型ＬＣＤの断面図を示すもので、１はガラス基板、２は薄膜層、３は反射膜、１１はカラーフィルタ、１２はブラックマトリクス、１３は透明電極、１４は平坦化膜、１５は配向膜、１６は液晶層、１７はスペーサ、１８は位相差フィルム、１９は偏光板である。
　【０００４】
　反射型ＬＣＤにおいて外光を効率良く利用して明るい表示を得るためには、更にあらゆる角度からの入射光に対して、表示画面に垂直な方向に散乱する光の強度を増加させる必要がある。そのために、反射板上の反射膜を適切な反射特性が得られるように制御することが必要である。基板に感光性樹脂を塗布しフォトマスクを用いてパターン化して凹凸を形成し、金属薄膜を形成して拡散反射板を形成する方法（特開平４−２４３２２６号公報）が提案されている。
　【０００５】
　【発明が解決しようとする課題】
　前記の方法では凹凸を形成するために、各基板ごとにフォトマスクで露光し、現像する工程があるため、工程が複雑であり、低コスト、高生産性とは言えなかった。またフォトマスクでは現像、ポストベーク等の工程によって凹凸形状が変化しやすく一定の反射特性を持つ拡散反射板を安定に生産することが難しい。さらに反射特性を向上させる目的で、凹凸の高さを複数もつ拡散反射板を得たい場合、前記の方法では複数回の感光性樹脂の塗布、露光、現像が必要であるため工程がより煩雑となる。本発明は、製造効率が高く、反射型ＬＣＤ用拡散反射板等の光拡散特性を良好にする光拡散面を持つ光拡散部材、その製造に使用される転写フィルムを提供するものである。
　【０００６】
　【課題を解決するための手段】
　
本
（拡散反射板）
法線方向における
法線に対する入射角度（
）
法線に対する入射角度（
）
　【０００７】
　【発明の実施の形態】
　本発明の反射型ＬＣＤ用拡散反射板等の光拡散面の形成方法によれば、基板の凹凸形成予定面に薄膜層を形成しておき、その薄膜層に対して金属メッキ膜表面を押しあてることによって、フォトマスクでパターニングする方法よりも工程が単純かつ低コストで表面に多数の微細な凹凸を有する光拡散面を形成できる。これに更に金属薄膜等の反射膜を形成すれば所望の拡散反射板が得られる。また、反射膜の代わりに光拡散面を形成する媒質間に屈折率差を備えさせられれば、所望の光拡散板が得られる。
　【０００８】
　また、金属メッキ膜に薄膜層を積層する工程、前記基板の凹凸形成予定面に前記薄膜層を転写する工程は、フォトマスクでパターニングする方法よりも単純で、低コストに表面に多数の微細な凹凸を有する薄膜層を形成できる。これに更に金属薄膜等の反射膜を形成すれば所望の拡散反射板が得られる。また、反射膜の代わりに光拡散面を形成する媒質間に屈折率差を備えさせられれば、所望の光拡散板が得られる。
　【０００９】
　また、金属メッキ膜を押し当てることによって表面に多数の微細な凹凸を有する状態に加工処理されたベースフィルム、薄膜層、カバーフィルムが順次積層された転写フィルムを用いて、カバーフィルムを剥がしながら基板に薄膜層が接するようにラミネートして基板上に薄膜層とベースフィルムを積層し、前記ベースフィルムを剥離することで基板上に表面に多数の微細な凹凸を有する薄膜層を形成できる。これに更に金属薄膜等の反射膜を形成すれば所望の拡散反射板が得られる。また、反射膜の代わりに光拡散面を形成する媒質間に屈折率差を備えさせられれば、所望の光拡散板が得られる。また、あらかじめ薄膜層とベースフィルムの間に反射膜を積層した転写フィルムを用いて、カバーフィルムを剥がしながら基板に薄膜層が接するようにラミネートし、基板上に薄膜層、反射膜、ベースフィルムを積層し、前記ベースフィルムのみを剥離すると所望の拡散反射板が得られる。
　【００１０】
　また、ベースフィルムに、変形可能な下塗り層を設け、この層に金属メッキ膜を押し当てる工程、下塗り層を硬化する工程により形成したものをベースフィルムの代わりに用いてもよい。金属メッキ膜は、その表面の凹凸形状を使うために用いるので転写によって複数回の使用が可能となる。これにより、金属メッキ膜そのものを用いる場合より安価に光拡散面を製造できる。また、転写により金属メッキを施しにくい、例えばガラス表面等の基材表面に光拡散面を効率よく製造できる。
　【００１１】
　金属メッキ膜は、シート状、ベルト状またはロール状または巻物状または曲面の一部等の基材の表面に全面または必要な部分に多数の微細な凹凸が形成されたものを用いることができ、加圧装置に貼り付けたり、凹凸を形成する面と加圧装置との間に挟み込んで用いてもよい。押し当てる工程で熱、光等を与えてもよい。また、ベルト状、ロール状、巻物状金属メッキ膜をシームレスに形成することで、光拡散面も容易にシームレス化が可能である。金属メッキ膜表面の凹凸の程度は、通常、薄膜層を硬化することで変形することを考慮し設計する必要がある。薄膜層の硬化による変形率をａとすると、薄膜層の硬化後の形状として、凹部と凸部の高さの差が０．１μｍ〜１５μｍ、さらには、０．１μｍ〜５μｍ、凸部のピッチが０．７μｍ以上１５０μｍあるいは画素ピッチのいずれか小さい方以下、さらには２μｍ以上１５０μｍあるいは画素ピッチのいずれか小さい方以下であることが好ましい。
　【００１２】
　図１は本発明の光拡散面を備えた拡散反射板の断面図、図３は本発明の光拡散面の形成に使用される金属メッキ膜の断面図、図４は本発明の光拡散面の形成に使用される金属メッキ膜の断面図、図５は本発明の光拡散面の形成に使用される金属メッキ膜の断面図であり、１はガラス基板、２は銅メッキ膜、３は反射膜、４は薄膜層、５は化学的に安定な薄膜、６は芯材である。
　【００１３】
　図８に本発明の拡散反射板の反射特性の測定装置を示す。反射光線２１と入射光線２２のなす角度をθとすると、必要とされるθの範囲で拡散反射板の法線方向で観測される輝度すなわち反射強度を大きくすれば反射特性に優れる拡散反射板が得られる。必要とされるθの範囲が−６０°〜６０°である場合、図９に示すような凹曲面で凹凸が形成されている拡散反射板は、図１０に示したように凹部と凸部の高さＨと、凸部のピッチＰの関係がＰ＝７×Ｈの関係式で示される直線付近であれば、反射特性に優れる拡散反射板が得られる。また、θが−１５°〜１５°の場合は、Ｐ＝３０×Ｈの関係式で示される直線付近であれば反射特性に優れる拡散反射板が得られる。このことは、法線に対し拡散反射を６０度の範囲の光源で得ようとし、さらに１５度の範囲でより強く得ようとする場合、Ｐ＝７×Ｈの関係式とＰ＝３０×Ｈの関係式で示される２つの直線付近の領域を複合した形状にできればよいことを示す。むろん、前述の２つの直線付近の範囲にすべての凹凸が含まれるとは限定しない。なぜなら凹凸形状作製プロセス上複数の形状が形成されることは当然であるからである。また、液晶層のギャップ均一性や光の干渉の影響を考慮しなければならない。
　【００１４】
　したがって、金属メッキ膜表面の凹凸の程度は、凸曲面で凹部と凸部の高さの差が０．１×ａμｍ〜１５×ａμｍ、さらには、０．１×ａμｍ〜５×ａμｍ、凸部のピッチが０．７μｍ以上１５０μｍあるいは画素ピッチのいずれか小さい方以下、さらには２μｍ以上１５０μｍあるいは画素ピッチのいずれか小さい方以下であることが好ましい。ａの値は、薄膜層の材質により異なり、例えば、２であったり、１あるいは０．７であることもある。以上は図９に示すような凹曲面で拡散反射板の凹凸を形成した場合の例であるが、図１１に示すような凹凸複合の曲面で拡散反射板の凹凸を形成した場合、法線に対し６０度以内の光源からの拡散反射は、図１２に示すような凹部と凸部の高さＨと、凸部のピッチＰの関係がＰ＝３．５×Ｈの関係式で示される直線付近であれば反射特性に優れる。凹凸形状は、面内に周期的に並んでいる必要はなく、不規則であってもよい。またＬＣＤの場合、画素ピッチと異なる周期性が凹凸形状にあるとモアレが発生するので、凹凸の周期性は、画素ピッチと同じかまたは整数で割れる周期、あるいは不規則な配列で凹凸が並んでいることが好ましい。なお、金属メッキ膜表面の凹凸形状は不規則な配列で並んでいるので、故意に周期性をつけない限りＬＣＤに用いてモアレが発生することはない。
　【００１５】
　また、凹凸の面形状は特に限定されないが、複合平面だけでなく凹曲面あるいは凸曲面、凹凸複合の曲面、さらには球面や放物面に近似した凹曲面あるいは凸曲面、凹凸複合の曲面であることが好ましい。なぜなら、曲面とすることで、より広範囲の光源位置からの拡散光を期待できるからである。
　【００１６】
　特に反射型ＬＣＤ用拡散反射板の場合、ＬＣＤセル内に光拡散面を形成する必要から、平均高低差Ｈは、セルギャップやΔｎｄを考慮し、小さいほど好ましい。しかし、凸部のピッチＰを、光の干渉が生じるほど小さくはできないので、前述のＰとＨの関係式から、平均高低差Ｈの下限が求まる。以下では、理解しやすいようにθを絶対値で論じる。ＬＣＤセルの屈折率ｎは、その構造により異なり、例えばｎ＝１．３の場合必要とされる拡散方向θは、５０．３度未満の領域である。５０．３度以上の拡散方向は、ＬＣＤセルと大気の界面で全反射を起こす。したがって、５０．３度以上の拡散方向の反射強度Ｒを低く抑え、５０．３度未満の反射強度Ｒを高める必要がある。例えばｎ＝１．５の場合必要とされる拡散方向θは、４１．８度未満の領域である。４１．８度以上の拡散方向は、ＬＣＤセルと大気の界面で全反射を起こす。したがって、４１．８度以上の拡散方向の反射強度Ｒを低く抑え、４１．８度未満の反射強度Ｒを高める必要がある。一般に人がＬＣＤをみる場合、ＬＣＤの正面から見る。この場合、人の目のある方向からＬＣＤへ入射する光は少なく、人の目のある方向から１０度以上の角度をなす方向からの入射光が多い。例えば、ｎ＝１．５の場合、２２．８度の大気からの入射光がＬＣＤセルと大気の界面通過で１５度となる。したがって、ＬＣＤセル内に形成する拡散反射板のθ＝１５度方向付近の反射強度Ｒを特に高める必要がある。例えば、ｎ＝１．３の場合、１９．７度の大気からの入射光がＬＣＤセルと大気の界面通過で１５度となる。したがって、ＬＣＤセル内に形成する拡散反射板のθ＝１５度方向付近の反射強度Ｒを特に高める必要がある。反射型ＬＣＤ用拡散反射板に用いる光拡散面を製造するには、以上のような反射強度特性を鑑み、関係式をたて、平均高低差Ｈと、ピッチＰを設計する必要がある。
　【００１７】
　本発明の金属メッキ膜は、銅メッキ膜、ニッケルメッキ膜、クロムメッキ膜、銀メッキ膜あるいは、これらの積層膜等が使用される。金属メッキ膜表面の凹凸の制御は、通常、メッキ条件、エッチング条件あるいはメッキ条件とエッチング条件の両条件で制御する。金属メッキの方法は、一例が文献「現場技術者のための実用めっき（１）（昭和５３年発行、槇書店、日本プレーティング協会編）」に示されている。例えば、鋼管上に酸性銅メッキにより銅を２０μｍの厚さに形成し、微細な凹凸形状を得る。また、日本電解、日光グレード、福田金属箔粉工業、古河サーキットホイール、三井金属等から市販のメッキ銅箔、メッキニッケル箔等のメッキ箔を購入し、任意の凹凸形状をエッチングで得ることもできる。
　【００１８】
　特に銅メッキ膜、特に好ましくは電気銅メッキ膜は、安価である上、凹凸形状の平均ピッチが０．７〜１５０μｍの範囲が好ましく、メッキ膜厚、エッチング等によって平均高低差を制御することで、転写後の光拡散面による光拡散方向分布を容易に制御、最適化できる。エッチングの方法は、希硫酸、塩酸、クエン酸、過硫酸アンモニウム、硫酸及び過酸化水素等を主成分とするエッチング液を用いて容易にできる。また、イオンミリング、ＲＩＥ等のドライエッチングによっても可能である。化学的に安定な薄膜は、銅メッキ膜が大気雰囲気で酸化されやすい為、必要となる。化学的に安定な薄膜は、ニッケル膜、クロム膜等の金属膜あるいは、酸化金属膜等がある。化学的に安定な薄膜の形成方法は、いわゆる防錆処理、メッキ、真空蒸着、スパッタ、ＣＶＤ等がある。
　【００１９】
　以上反射型ＬＣＤ表示装置で説明したが、本発明の光拡散面は外部光線を拡散させることが必要なデバイスに用いることが出来る。例えば太陽電池の効率向上を目的とした拡散反射板の光拡散面がある。例えばディスプレイ表面の写り込みを防止することを目的としたアンチグレア処理表面がある。さらに、これらの製造に使用される転写フィルムの光拡散面がある。図１５は、太陽電池の断面図であり、３０は半導体層、３１は透明電極である。
　【００２０】
　【実施例】
参考例１
　図６により説明する。ガラス基板１上に下記薄膜層形成用溶液を、スピンコートし２μｍの膜厚の薄膜層４を形成する。次に、銅メッキ膜２（日本電解社製銅箔Ｙ１５８商品名））を薄膜層に微細形状の凹凸面が接するようにラミネータ（ロールラミネータＨＬＭ１５００、日立化成テクノプラント社製商品名）を用いて基板温度９０℃、ロール温度８０℃、ロール圧力７ｋｇ／平方ｃｍ、速度０．５ｍ／分でラミネートし、ガラス基板上に薄膜層、銅箔が積層された基板を得た。次に、銅箔を剥離し、ガラス基板上に不規則な凹凸形状の表面の薄膜層を得た。次に、オーブンで２３０℃、３０ｍｉｎの熱硬化をし、真空蒸着法で、アルミニウム薄膜を０．２μｍの膜厚になるよう積層し反射層を形成した。図１３には方位角（φ）を一定とした場合の反射強度（標準白色板に対する相対強度）の入射角度依存性を示す。入射角度−６０°〜６０°の範囲で十分な反射強度が得られ、反射特性にすぐれた拡散反射板を得ることができることが分かった。
　薄膜層形成用溶液：ポリマーとしてスチレン、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、アクリル酸、グリシジルメタクリレート共重合樹脂を用いた（ポリマーＡ）。分子量は約３５０００、酸価は１１０である。部は重量部（以下同じ）。
（ポリマー）ポリマーＡ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　７０部
（モノマー）ペンタエリスリトールテトラアクリレート　　　　　　　　３０部
（光開始剤）イルガキュアー３６９（チバスペシャルティーケミカルズ）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２．２部
　Ｎ，Ｎ−テトラエチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン　　　　２．２部
（溶剤）プロピレングリコールモノメチルエーテル　　　　　　　　　４９２部
（重合禁止剤）ｐ−メトキシフェノール　　　　　　　　　　　　　　０．１部
（界面活性剤）パーフルオロアルキルアルコキシレート　　　　　　０．０１部
　【００２１】
実施例２
　図７により説明する。鋼管に銅メッキを２０μｍ施したのち、１ｗｔ％の希硫酸で２０ｓｅｃソフトエッチングし、メルテックス社のカパーグリーム１２５Ａを５倍に希釈した溶液により防錆処理し、微細形状のロール原盤とした。次に、ベースフィルム７に厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを用い、このベースフィルム上に下記組成の感光性樹脂組成物を溶剤（プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート）で溶解し、コンマコーターで２０μｍの膜厚になるよう塗布乾燥し下塗り層９とした。次にロール原盤を押しあて紫外線を照射し光硬化性樹脂を硬化しロール原盤を分離し、不規則な凹凸形状を光硬化性樹脂層（下塗り層）の表面に形成した。次に光硬化性樹脂層（下塗り層）上に下記薄膜層形成用溶液をコンマコーターで２μｍの膜厚になるよう塗布乾燥し薄膜層４を形成し、カバーフィルム８としてポリエチレンフィルムを被覆して転写フィルムを得た。
　【００２２】
　次に、この転写フィルムのカバーフィルムを剥がしながら、薄膜層４がガラス基板１に接する様にラミネータ（ロールラミネータＨＬＭ１５００、日立化成テクノプラント社製商品名）を用いて基板温度９０℃、ロール温度８０℃、ロール圧力７ｋｇ／平方ｃｍ、速度０．５ｍ／分でラミネートし、ガラス基板上に薄膜層、光硬化性樹脂層（下塗り層）、ベースフィルムが積層された基板を得た。次に、光硬化性樹脂層（下塗り層）、ベースフィルムを剥離し、ガラス基板上に不規則な凹凸形状の表面の薄膜層を得た。次に、オーブンで２３０℃、３０ｍｉｎの熱硬化をし、真空蒸着法で、アルミニウム薄膜を０．２μｍの膜厚になるよう積層し反射層を形成した。図１４には方位角（φ）を一定とした場合の反射強度（標準白色板に対する相対強度）の入射角度依存性を示す。入射角度−６０°〜６０°の範囲で十分な反射強度が得られ、反射特性にすぐれた拡散反射板を得ることができることが分かった。
　感光性樹脂溶液（％は重量％）：
　アクリル酸−ブチルアクリレート−ビニルアセテート共重合樹脂　　　３３％
　ブチルアクリレート（モノマー）　　　　　　　　　　　　　　　　　５３％
　ビニルアセテート（モノマー）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　８％
　アクリル酸（モノマー）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２％
　ヘキチンジオールアクレレート（モノマー）　　　　　　　　　　　　　１％
　ベンゾインイソブチルエーテル（光開始剤）　　　　　　　　　　　　　３％
　薄膜層形成用溶液：ポリマーとしてスチレン、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、アクリル酸、グリシジルメタクリレート共重合樹脂を用いた（ポリマーＡ）。分子量は約３５０００、酸価は１１０である。部は重量部（以下同じ）。
（ポリマー）ポリマーＡ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　７０部
（モノマー）ペンタエリスリトールテトラアクリレート　　　　　　　　３０部
（光開始剤）イルガキュアー３６９（チバスペシャルティーケミカルズ）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２．２部
　Ｎ，Ｎ−テトラエチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン　　　　２．２部
（溶剤）プロピレングリコールモノメチルエーテル　　　　　　　　　４９２部
（重合禁止剤）ｐ−メトキシフェノール　　　　　　　　　　　　　　０．１部
（界面活性剤）パーフルオロアルキルアルコキシレート　　　　　　０．０１部
　【００２３】
　【発明の効果】
　本発明の反射型液晶表示装置等の光拡散部材では、良好な反射特性を有する拡散反射板等の光拡散部材を効率良く製造することができ、かつ微細形状の凹凸をあらかじめ任意に適切に設定しておくことによって、反射特性を自由に制御でき、かつ再現性のよい反射特性が得られる。
【図面の簡単な説明】
　【図１】本発明の光拡散面を用いた拡散反射板の断面図。
　【図２】反射型ＬＣＤの断面図。
　【図３】本発明の光拡散面の形成に使用される金属メッキ膜の断面図。
　【図４】本発明の光拡散面の形成に使用される金属メッキ膜の断面図。
　【図５】本発明の光拡散面の形成に使用される金属メッキ膜の断面図。
　【図６】本発明の実施例１の光拡散面を形成した薄膜層の断面図。
　【図７】本発明の実施例２の光拡散面を形成した転写フィルム、転写フィルムで形成した拡散反射板の製造工程を示す断面図。
　【図８】本発明の光拡散面の反射光特性を測定する装置の斜視図。
　【図９】本発明による拡散反射板の断面図。
　【図１０】本発明の図９に示す拡散反射板の正面と光源がなす角度と凹凸部の高さの差と凸部のピッチとの関係を示す図。
　【図１１】本発明による拡散反射板の断面図。
　【図１２】本発明の図１１に示す拡散反射板の正面と光源がなす角度と凹凸部の高さの差と凸部のピッチとの関係を示す図。
　【図１３】本発明の実施例１の拡散反射板の反射特性の入射角依存性を示すグラフ。
　【図１４】本発明の実施例２の拡散反射板の反射特性の入射角依存性を示すグラフ。
　【図１５】太陽電池の断面図。
　【符号の説明】
　１．ガラス基板
　２．銅メッキ膜
　３．反射膜
　４．薄膜層
　５．化学的に安定な薄膜
　６．芯材
　７．ベースフィルム
　８．カバーフィルム
　９．下塗り層
　１２．アンチグレアフィルム
　１３．画素電極
　１４．薄膜トランジスタ
　１５．配向膜
　１６．液晶層
　１７．スペーサ
　１８．位相差フィルム
　１９．偏光板
　２０．試料
　２１．反射光線
　２２．入射光線
　２３．輝度計
　３０．半導体層
　３１．透明電極