【事件の表示】
　平成１１年特許願第１７３８９５号「薄膜磁気ヘッド」拒絶査定不服審判事件〔平成１３年　１月１２日出願公開、特開２００１−　　６９３１〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
一．平成１５年１０月２２日付の手続補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　　平成１５年１０月２２日付の手続補正を却下する。
　
［補正却下の決定の理由］
　上記手続補正後の本願発明（以下、「本願補正発明」という。）は、補正
された特許請求の範囲の請求項１記載のとおりであり、特許法第１７条の２
第４項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　
　そして、本願補正発明が、特許出願の際独立して特許を受けることができ
るものではない（特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６
条第４項の規定に適合しない）理由１、２について以下に検討する。
　
理由１　上記請求項１に係る発明は、その出願前日本国内又は外国において頒布された下記の刊行物に記載された発明に基いて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　　　　　　　　　　　　　　　　記
　本願補正発明は、上記の補正された特許請求の範囲の請求項１記載の以下
のとおりのものである。
　
「記録媒体に記録された記録信号を読み取るＭＲヘッドの上に、記録信号を
前記記録媒体に書き込むインダクティブヘッドが形成された薄膜磁気ヘッドにおいて、
　前記インダクティブヘッドは磁性材料製の下部コア層と、記録媒体との対
向面で前記下部コア層と磁気ギャップを介して対向する上部コア層と、両コ
ア層に記録磁界を誘導するコイル層とを有し、
　前記上部コア層及び／または下部コア層は、組成式が、Ｎｉ100-XＦｅX（Ｘは組成比で単位はｗｔ％である）で示され、しかもＦｅの組成比Ｘが６７ｗｔ％から７５ｗｔ％の範囲内（ただし、６７ｗｔ％から７０ｗｔ％を除く）である軟磁性膜がメッキ形成されたものであり、前記軟磁性膜は平均結晶粒径が１００Å以下であり、且つ膜面の中心線平均粗さ（Ｒａ）は１５Å以下であることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。」
　
１．引用文献に記載された事項
　原査定の拒絶の理由（三回目、平成１５年５月１３日発送）に引用された
引用文献１（特開平８−２３６３４９号公報）には、図面とともに、
（１）下部磁性（極）層４と、下部磁性（極）層４とギャップ層５を介して　　対向する上部磁性（極）層９と、コイル層７を有する薄膜磁気ヘッド１　　（図１参照）、
　　上部磁極層９、下部磁極層４として軟磁性薄膜を用いること（段落００　　３８）、
（２）Ｎｉ−Ｆｅ合金で、保磁力が１　Ｏｅ以下の軟磁性薄膜を形成するこ　　と（請求項１）、
（３）Ｎｉの含有率を３０〜８０ｗｔ％にすること（請求項１）、
（４）電気めっき法により軟磁性薄膜を形成すること（請求項６、３欄４２
　　行）、
（５）軟磁性薄膜のグレインの平均粒径を８０〜１００Å程度にすること
　　（段落００２０）、
（６）軟磁性薄膜の飽和磁束密度は、０．８〜１．８Ｔ程度が好ましいこと
　　（段落００２２）、
（７）めっき浴中に、有機光沢剤を含有させること（段落００２６）、
が記載されている。
　
　これらの記載によれば、引用文献１には、
「薄膜磁気ヘッド１において、　
　軟磁性薄膜の下部磁性（極）層４と、下部磁性（極）層４とギャップ層５を介して対向する上部磁性（極）層９と、コイル層７を有し、
　上部磁性層９または下部磁性層４は、Ｎｉ−Ｆｅ合金で、Ｎｉの含有量が３０〜８０％である軟磁性薄膜がめっき形成されたものであり、前記軟磁性薄膜はグレインの平均粒径が８０〜１００Åである薄膜磁気ヘッド１」
という発明（以下「引用発明という。）が記載されている。
　
　前記拒絶の理由に引用された引用文献２（特開平１０−６４７２５号公報
）には、
（ａ）保磁力Ｈｃは、結晶性が高いほど高く、粒子の径が細かいほど、即ち
、非晶質に近いほど、低くなること、
が記載されている（段落０００５）。
　
　前記拒絶の理由に引用された引用文献３（特開平６−３０１９１９号公報
）には、図面とともに、
（ア）薄膜磁気ヘッド（図１参照）のＮｉ−Ｆｅ合金からなるヘッドコアを　　電界メッキで形成すること（請求項１）、
（イ）磁気コア膜についても、平滑膜化が必要となっており、電着膜の平滑
　　緻密化が進められてきたこと（段落０００２）、
が記載されている。
　
２．本願補正発明と引用発明との比較、検討
　引用発明の「軟磁性薄膜の下部磁性（極）層４と、下部磁性（極）層４とギャップ層５を介して対向する上部磁性（極）層９と、コイル層７」は、
本願補正発明の構成にそって明白な事項を補充すると、軟磁性薄膜の下部磁性（極）層４と、記録媒体との対向面で前記下部磁性（極）層４とギャップ層５を介して対向する上部磁性（極）層９と、両磁性（極）層に記録磁界を誘導するコイル層７であり、記録信号を前記記録媒体に書き込むインダクティブヘッドとなるものであり、薄膜磁気ヘッド１に形成されている。
　
　そして、引用発明の「下部磁性層４」、「ギャップ層５」のギャップ、「上部磁性層９」、「コイル層７」は、それぞれ、本願補正発明の「下部コア層」、「磁気ギャップ」、「上部コア層」、「コイル層」に相当する。
　
　従って、両者は
「記録信号を前記記録媒体に書き込むインダクティブヘッドが形成された薄膜磁気ヘッドにおいて、
　前記インダクティブヘッドは磁性材料製の下部コア層と、記録媒体との対向面で前記下部コア層と磁気ギャップを介して対向する上部コア層と、両コア層に記録磁界を誘導するコイル層とを有し、
　前記上部コア層及び／または下部コア層は、組成式が、Ｎｉ100-XＦｅX（Ｘは組成比で単位はｗｔ％である）で示され、軟磁性膜がメッキ形成されたものであり、前記軟磁性膜は平均結晶粒径が１００Å以下であることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。」の点で一致し、以下の点で相違している。
　
［相違点１］本願補正発明は、「記録媒体に記録された記録信号を読み取る
ＭＲヘッドの上に、記録信号を前記記録媒体に書き込むインダクティブヘッ
ドが形成された薄膜磁気ヘッド」という構成を備えているのに対し、
　引用発明は、上記の内「記録媒体に記録された記録信号を読み取るＭＲヘッドの上に」という構成を備えていない点。
　
［相違点２］本願補正発明は、「Ｆｅの組成比Ｘが６７ｗｔ％から７５ｗｔ
％の範囲内（ただし、６７ｗｔ％から７０ｗｔ％を除く）である軟磁性膜」
という構成を備えているのに対し、
　引用発明は、「Ｎｉ−Ｆｅ合金で、Ｎｉの含有量が３０〜８０ｗｔ％である軟磁性薄膜」という構成を備えている点。
　
［相違点３］本願補正発明は、「膜面の中心線平均粗さ（Ｒａ）は１５Å以
下」という構成を備えているのに対し、
　引用発明には、かかる構成を備えていない点。
　
３．相違点の判断
［相違点１］について
　相違点１の本願補正発明の構成に相当する構成は周知であり（「薄膜技術
の新潮流」平尾　孝　他２名著　株式会社工業調査会　（１９９８年１１月
２０日）発行　２０３−２０６頁、特に図５．１７参照）、引用発明におい
て、そのように構成することは、当業者であれば容易になし得ることである。
　
［相違点２］について
　引用発明は「Ｎｉ−Ｆｅ合金で、Ｎｉの含有量が３０〜８０ｗｔ％である
軟磁性薄膜」、すなわち「Ｆｅの含有量を２０〜７０ｗｔ％である軟磁性薄
膜」である。
　この範囲と、少なくとも本願補正発明のＦｅの組成比が「６７ｗｔ％から
７５ｗｔ％の範囲」とは、一応一致している。
　但し、本願補正発明は「（ただし、６７ｗｔ％から７０ｗｔ％を除く）」
としている。
　しかしながら、本願図２、３を見ても、７０ｗｔ％の前後に予測外の効果
の飛躍がなく、７０ｗｔ％に臨界的意義がない、６７ｗｔ％から７０ｗｔ％
を除く積極的理由もない。当初から本願明細書には、除くことも、除く理由
の記載もない。
　結局、引用発明との数値範囲の一致を避けるために、単に除いた以外に理
由が見いだせず、このようなことは、当業者であれば、必要に応じて、容易
になし得ることである。
　
［相違点３］について
　引用文献１には、めっき浴中に、有機光沢剤を含有させること（段落００
２６）、引用文献３には、本願補正発明と同様な薄膜磁気ヘッド（図１参照
）において、磁気コア膜についても、平滑膜化が必要となっており、電着膜
の平滑緻密化が進められてきたこと（段落０００２）、が記載されている。
　引用発明においても、メッキ膜を光沢化、平滑膜化、平滑緻密化し、結局
、中心線平均粗さ（Ｒａ）を小さくすることは、当業者であれば容易になし
得ることである。
　
　また、引用文献２に、保磁力Ｈｃは、結晶性が高いほど高く、粒子の径
が細かいほど、即ち、非晶質に近いほど、低くなることが記載されており（
段落０００５）、引用文献１に、Ｎｉ−Ｆｅ合金で、保磁力が１　Ｏｅ以下の軟磁性薄膜を形成すること（請求項１）、本発明の軟磁性薄膜においては、グレインの平均粒径を８０〜１００Å程度にすること（段落００２０）が記載されている。
　結局、引用発明において、結晶粒径を小さくして保磁力Ｈｃを低下させる
ことは、適宜なされることである。
　そして、結晶粒径を小さくすると、本願明細書段落００５４、００５８記
載のように「結晶粒径が粗大化し、面荒れがひどく」ならず、「結晶粒径の
粗大化を緩和でき」、「膜面における面荒れを小さくできる」、すなわち、
中心線平均粗さ（Ｒａ）を小さくすることができるから、引用発明において
、結晶粒径を小さくして、中心線平均粗さ（Ｒａ）を小さくすることは、当
業者であれば容易になし得ることである。
　
　そして、本願図５を見ても、中心線平均粗さ（Ｒａ）１５Åの前後におい
て、予測外の効果の飛躍、すなわち臨界的意義がなく、また、引用発明にお
いて、中心線平均粗さ（Ｒａ）を小さくする際、１５Å以下を除かなければ
ならない技術的理由はないから、単に適当に１５Å以下と決めることは、当
業者であれば容易になし得たものである。
　
理由２　本願は、下記の理由で、特許法第３６条第４項に規定する要件を満たしていないから、特許出願の際独立して特許を受けることができない（特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第４項の規定に適合しない）。
　　　　　　　　　　　　　　　　記
１．本願補正発明の詳細な説明には、電気メッキを実施する際、必要不可欠
なメッキ浴の必須条件（引用文献１段落００２４−００３０、引用文献２段
落００２３−００２９、引用文献３の３頁表１に記載されているような浴成
分と濃度、温度、ｐＨ等）、メッキ電流密度、電圧、パルス周波数、時間等
の記載が全くない。
（本願明細書段落００６０に、単に好ましいとした「デューティー比」の範
囲の記載はあるが、本願図２等実施例で実施したはずのパルス電流のデュー
ティー比の具体的数値の記載もない。）
　従って、本願請求項１の軟磁性膜をどのようにして製造したが不明であり
、本願図２以下の比較実施例のデータもどのようなメッキ条件下で得られた
か不明であり、他の当業者が追試もできない。
　
２．以下の細かな点でも記載が不明、不十分である。
（１）図２のように、パルス法と直流法のすべての点が同一曲線上に乗るこ
とが（１点だけ違う）、メッキ電流密度、電圧、パルス周波数、時間、デュ
ーティー比等が違っても、一般的に言えるのか疑問である。
　また、直流法が１．８Ｔで飽和することを、一点だけで示しているが、根
拠として不十分である。
　
（２）本願明細書段落００８１、００８４記載のとおり「パルス電流の条件を変え」ると、図４、５のように保磁力は変化するから、図３の傾向は一般的に言えない。
　しかも、「パルス電流の条件を」どう変えたか、具体的記載がない。
さらに、前記段落記載のとおり図４、５は、Ｆｅの組成比を７２ｗｔ％に固
定したときのデータであるから、他の組成比のときはどうなるか不明であり
、図４、５から一般的なことは言えない。
　
　以上のとおり、本願明細書の発明の詳細な説明には、当業者がその実施を
することができる程度に明確かつ十分に記載されていない。
　
［補正却下の決定の理由］の理由１、２のむすび
　以上理由１、２のとおり、本願は、特許法第２９条第２項及び第３６条第４項の規定を満たしておらず、特許出願の際独立して特許を受けることがで
きない。
　従って、本件補正は、特許法第１７条の２第５項で準用する同法第１２６
条第４項の規定に適合しないものであり、特許法第１５９条第１項で準用する同法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。
　
二．平成１５年１０月２２日付の手続補正は上記のとおり却下されたので、
本願の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、平成１５年７月８日付手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に記載された以下のとおりのものである。
　
「記録媒体に記録された記録信号を読み取るＭＲヘッドの上に、記録信号を
前記記録媒体に書き込むインダクティブヘッドが形成された薄膜磁気ヘッド
において、
　前記インダクティブヘッドは磁性材料製の下部コア層と、記録媒体との対
向面で前記下部コア層と磁気ギャップを介して対向する上部コア層と、両コ
ア層に記録磁界を誘導するコイル層とを有し、
　前記上部コア層及び／または下部コア層は、組成式が、Ｎｉ100-XＦｅX（Ｘは組成比で単位はｗｔ％である）で示され、しかもＦｅの組成比Ｘが６７
ｗｔ％から７５ｗｔ％の範囲内（ただし、６７ｗｔ％から７０ｗｔ％を除く
）である軟磁性膜がメッキ形成されたものであり、前記軟磁性膜の平均結晶
粒径は１００Å以下であることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。」
　
１．引用文献に記載された事項
　上記一．［補正却下の決定の理由］の理由１の「１．引用文献に記載さ
れた事項」のとおりであり、同じ引用発明を引用する。
　
２．本願発明と引用発明との比較、検討
　本願発明には、前記本願補正発明の「且つ膜面の中心線平均粗さ（Ｒａ）は１５Å以下であること」の点がない。
　この点を省き、本願発明と引用発明との比較において、上記一．［補正却下の決定の理由］の理由１の「２．本願補正発明と引用発明との比較、検討」と同じ判断をする。
　
　従って、両者は、
「記録信号を前記記録媒体に書き込むインダクティブヘッドが形成された薄
膜磁気ヘッドにおいて、
　前記インダクティブヘッドは磁性材料製の下部コア層と、記録媒体との対
向面で前記下部コア層と磁気ギャップを介して対向する上部コア層と、両コ
ア層に記録磁界を誘導するコイル層とを有し、
　前記上部コア層及び／または下部コア層は、組成式が、Ｎｉ100-XＦｅX（Ｘは組成比で単位はｗｔ％である）で示され、軟磁性膜がメッキ形成されたものであり、前記軟磁性膜の平均結晶粒径は１００Å以下であることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。」
の点で一致し、以下の点で相違している。
　
［相違点１］本願発明は、「記録媒体に記録された記録信号を読み取るＭＲ
ヘッドの上に、記録信号を前記記録媒体に書き込むインダクティブヘッドが
形成された薄膜磁気ヘッド」という構成を備えているのに対し、
　引用発明は、上記の内「記録媒体に記録された記録信号を読み取るＭＲヘッドの上に」という構成を備えていない点。
　
［相違点２］本願発明は、「Ｆｅの組成比Ｘが６７ｗｔ％から７５ｗｔ％の
範囲内（ただし、６７ｗｔ％から７０ｗｔ％を除く）である軟磁性膜」とい
う構成を備えているのに対し、
　引用発明は、「Ｎｉ−Ｆｅ合金で、Ｎｉの含有量が３０〜８０ｗｔ％である軟磁性薄膜」という構成を備えている点。
　
３．相違点の判断
　上記［相違点１］、［相違点２］は、上記一．［補正却下の決定の理由］の理由１の「２．本願補正発明と引用発明との比較、検討」での、［相違点１］、［相違点２］と同じであり、同じ判断をする。
　
三．むすび
　従って、本願請求項１に係る発明は、引用文献１−３に記載された発明及
び周知技術に基づいて、当業者であれば、容易に発明をすることができたも
のであるから、本願は、請求項２〜４に係る発明について検討するまでもな
く、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。