(57)【要約】【課題】個基板の実装面に電子部品がフリップチップ実装され、電子部品と基板との間にボイドが形成されないように封止樹脂が充填された、信頼性の高い高周波モジュールを効率よく製造することを可能にする。【解決手段】少なくとも一部の電子部品３ｂがフリップチップ実装された集合基板１０を、その主面１０ａが垂直になる姿勢で収容することが可能で、かつ、上面が開口した基板収容空間１１が、収容されるべき集合基板の厚み方向に対応する方向に複数並べて配設された治具２０を用い、開口１１ａから基板収容空間のそれぞれに、集合基板を収容し、開口から基板収容空間のそれぞれに、未硬化の封止樹脂４ａを充填して、集合基板を未硬化の封止樹脂に浸漬した状態で樹脂を硬化させることにより集合基板の実装面と電子部品を封止する封止層を形成し、その後、集合基板を所定の位置でカットして、個々の個基板に分割する。【選択図】図４
2012164769.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
個基板の実装面に所定の電子部品がフリップチップ実装され、前記実装面が前記電子部品とともに絶縁性樹脂材料からなる封止層により封止された構造を有する高周波モジュールの製造方法であって、
表面および／または内部に電極パターンが配設された複数の個基板がマトリックス状に連設された集合基板を準備する工程と、
前記集合基板の実装面上に所定の電子部品をフリップチップ実装する工程と、
前記集合基板を、主面が垂直になるような姿勢で収容する、上面が開口した基板収容空間が、収容される前記集合基板の厚み方向に対応する方向に複数並べて配設された治具の、前記基板収容空間に、前記集合基板を収容する工程と、
前記集合基板が収容された前記基板収容空間のそれぞれに、前記開口から未硬化の封止樹脂を充填して、前記集合基板を前記未硬化の封止樹脂に浸漬させる工程と、
前記集合基板が浸漬された状態で前記未硬化の封止樹脂を硬化させることにより、前記集合基板の実装面と前記電子部品を封止する封止層を形成する工程と、
前記封止層が形成された前記集合基板を所定の位置でカットして、個々の個基板に分割する工程と
を含むことを特徴とする高周波モジュールの製造方法。
【請求項２】
前記治具として、前記基板収容空間の、前記集合基板の厚み方向に対応する方向の寸法を小さくすることができるように構成された治具を用い、前記集合基板が収容された前記基板収容空間のそれぞれに、前記未硬化の封止樹脂を充填した後に、前記基板収容空間の、前記集合基板の厚み方向に対応する方向の寸法を小さくした後、前記未硬化の封止樹脂を硬化させるようにしたことを特徴とする請求項１記載の高周波モジュールの製造方法。
【請求項３】
前記基板収容空間に充填された前記未硬化の封止樹脂の脱泡処理を行った後で、前記未硬化の封止樹脂を硬化させることを特徴とする請求項１または２記載の高周波モジュールの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高周波モジュールの製造方法に関し、詳しくは、所定の電子部品をフリップチップ実装した個基板の実装面および電子部品が、封止樹脂により封止された構造を有する高周波モジュールの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
高周波モジュールの一つに、基板の実装面上に電子部品を搭載するとともに、該実装面および電子部品を、絶縁性樹脂などからなる封止層により封止して、信頼性を向上させるようにした高周波モジュールがある。
【０００３】
そして、このような構造を有するモジュールの製造方法として、集合基板上に所定の部品を搭載した後に部品実装面から樹脂をポッティングして、集合基板をブロックごとに封止する方法がある（特許文献１、図１０〜図１４参照）。
しかしながら、上記特許文献１では、部品実装面から封止樹脂をポッティングするようにしているので、封止樹脂を供給するためのディスペンサの配設スペース上の制限や、設備コストなどの理由から、多数個の個基板を含む集合基板に対して同時に封止樹脂を供給することは困難な場合があり、生産効率が悪いという問題点がある。
【０００４】
また、フリップチップ実装により電子部品を基板上に実装した高周波モジュールの場合、封止樹脂がフリップチップ実装された電子部品と基板の間の隙間まで入り込めずに、ボイドが生じやすいという問題点があることが知られている（特許文献２，段落０００３参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−０５１５７６号公報
【特許文献２】特開２０００−３３２０５７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記課題を解決するものであり、個基板の実装面に少なくとも一部の電子部品がフリップチップ実装され、かつ、該実装面が電子部品とともに封止層により封止されているとともに、基板と電子部品との間にボイドが形成されないように封止樹脂が確実に充填された、信頼性の高い高周波モジュールを効率よく確実に製造することが可能な高周波モジュールの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の課題を解決するため、本発明の高周波モジュールの製造方法は、
個基板の実装面に所定の電子部品がフリップチップ実装され、前記実装面が前記電子部品とともに絶縁性樹脂材料からなる封止層により封止された構造を有する高周波モジュールの製造方法であって、
表面および／または内部に電極パターンが配設された複数の個基板がマトリックス状に連設された集合基板を準備する工程と、
前記集合基板の実装面上に所定の電子部品をフリップチップ実装する工程と、
前記集合基板を、主面が垂直になるような姿勢で収容する、上面が開口した基板収容空間が、収容される前記集合基板の厚み方向に対応する方向に複数並べて配設された治具の、前記基板収容空間のそれぞれに、前記集合基板を収容する工程と、
前記集合基板が収容された前記基板収容空間のそれぞれに、前記開口から未硬化の封止樹脂を充填して、前記集合基板を前記未硬化の封止樹脂に浸漬させる工程と、
前記集合基板が浸漬された状態で前記未硬化の封止樹脂を硬化させることにより、前記集合基板の実装面と前記電子部品を封止する封止層を形成する工程と、
前記封止層が形成された前記集合基板を所定の位置でカットして、個々の個基板に分割する工程と
を含むことを特徴としている。
【０００８】
また、本発明の高周波モジュールの製造方法は、前記治具として、前記基板収容空間の、前記集合基板の厚み方向に対応する方向の寸法を小さくすることができるように構成された治具を用い、前記集合基板が収容された前記基板収容空間のそれぞれに、前記未硬化の封止樹脂を充填した後に、前記基板収容空間の、前記集合基板の厚み方向に対応する方向の寸法を小さくした後、前記未硬化の封止樹脂を硬化させるようにしたことを特徴としている。
【０００９】
また、本発明の高周波モジュールの製造方法においては、前記基板収容空間に充填された前記未硬化の封止樹脂の脱泡処理を行った後で、前記未硬化の封止樹脂を硬化させることが好ましい。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の電子部品モジュールの製造方法は、その実装面上に所定の電子部品がフリップチップ実装された集合基板を、主面が垂直になるような姿勢で収容することができるように構成され、上面が開口した基板収容空間が、収容される前記集合基板の厚み方向に対応する方向に複数並べて配設された治具の、上記基板収容空間に、集合基板を収容し、基板収容空間の開口から未硬化の封止樹脂を充填して、集合基板を未硬化の封止樹脂に浸漬し、封止樹脂を硬化させることにより、集合基板の実装面と電子部品を封止する封止層を形成した後、集合基板を所定の位置でカットして、個々の個基板に分割するようにしているので、集合基板と電子部品との間にボイドが形成されないように封止樹脂を充填して、信頼性の高い高周波モジュールを効率よく製造することができる。
なお、本発明において、「集合基板を、主面が垂直になるような姿勢で収容する」という場合、主面は文字どおり正確に垂直である必要はなく、実質的に垂直といえるような姿勢で収容することができればよい。
【００１１】
すなわち、本発明においては、複数の個基板を含む集合基板の段階で、実装面と電子部品の樹脂封止を行うようにしているので、生産性を向上させることが可能になる。また、集合基板を、主面が垂直になるように保持して基板収容空間に封止樹脂を充填するようにしているので、フリップチップ実装された電子部品と、集合基板の実装面との隙間から気泡が抜けやすく、集合基板と電子部品との間にボイドが形成されない、良好な樹脂封止を行うことが可能になる。
【００１２】
したがって、本発明によれば、個基板の実装面に電子部品がフリップチップ実装され、実装面が電子部品とともに封止層により封止された信頼性の高い高周波モジュールを効率よく製造することができる。
【００１３】
また、治具として、各基板収容空間の、集合基板の厚み方向に対応する方向の寸法を小さくすることができるように構成された治具を用い、集合基板が収容された基板収容空間に封止樹脂を充填した後に、基板収容空間のそれぞれの、集合基板の厚み方向に対応する方向の寸法を小さくした後、封止樹脂を硬化させるようにした場合、製品の低背化を図ることが可能になり、小型で信頼性の高い高周波モジュールを提供することが可能になる。
【００１４】
また、集合基板の厚み方向に対応する方向の寸法が小さくされた基板収容空間の内壁と集合基板の間にほとんど隙間がないような態様で、基板収容空間に集合基板が収容、保持された状態で封止樹脂の硬化が行われるため、集合基板に反りが生じることを防止して、背が低く、小型で信頼性が高く、しかも反りのない高周波モジュールを得ることが可能になる。
【００１５】
また、基板収容空間に封止樹脂を充填した後、脱泡処理を行った後で、封止樹脂を硬化させることにより、さらに確実に集合基板と電子部品との間にボイドのない信頼性の高い高周波モジュールを製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の実施例１にかかる高周波モジュールの製造方法により製造される高周波モジュールを示す図である。
【図２】本発明の実施例１において用いた集合基板の構成を示す図であり、(ａ)は平面図、(ｂ)は正面図である。
【図３】本発明の実施例１において、治具の基板収容空間に集合基板を収容した状態を示す図である。
【図４】本発明の実施例１において、治具の開口から基板収容空間のそれぞれに、未硬化の封止樹脂を充填して、集合基板を未硬化の封止樹脂に浸漬した状態を示す図である。
【図５】本発明の他の実施例（実施例２）において用いた治具を示す図であり、（ａ）は基板収容空間の、集合基板の厚み方向に対応する方向の寸法を大きくした状態を示す図、（ｂ）は基板収容空間の、集合基板の厚み方向に対応する方向の寸法を小さくした状態を示す図である。
【図６】図５の治具の基板収容空間に集合基板を収容した状態を示す図である。
【図７】集合基板を収容した治具の基板収容空間に、封止樹脂を充填した状態を示す図である。
【図８】封止樹脂を充填した後、治具の各基板収容空間を仕切る仕切り壁を集合基板の厚み方向に移動させて、基板収容空間の集合基板の厚み方向に対応する方向の寸法を小さくした状態を示す図である。
【図９】本発明の実施例２において製造される、低背化された高周波モジュールを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下に本発明の実施例を示して、本発明の特徴とするところをさらに詳しく説明する。
【実施例１】
【００１８】
図１は、本発明の実施例１にかかる方法により製造される高周波モジュールを示す図である。
この高周波モジュール１は、基板（個基板）２の実装面２ａに、例えばチップコンデンサ３ａ、半導体装置３ｂなどの電子部品３（３ａ，３ｂ）が実装され、半導体装置３ｂがフリップチップ実装されているとともに、実装面２ａと電子部品３（３ａ，３ｂ）が、エポキシ樹脂などの絶縁性樹脂からなる封止層４により封止された構造を有している。
【００１９】
以下に、この高周波モジュール１を製造する方法について説明する。
(１)まず、図２(ａ)に示すように、表面および／または内部に電極パターン（図示せず）が配設された複数の個基板２がマトリックス状に連設された集合基板１０を準備する。
【００２０】
(２)それから、図２(ｂ)に示すように、この集合基板１０の実装面１０ａ上に所定の電子部品３（３ａ，３ｂ）を実装し、半導体装置３ｂについてはフリップチップ実装する。
【００２１】
(３)次に、図３に示すように、電子部品３（３ａ，３ｂ）が実装され、そのうちの一部（電子部品３ｂ）がフリップチップ実装された集合基板１０を、その主面（実装面）１０ａが垂直になる姿勢で収容することが可能で、かつ、上面が開口１１ａとされた基板収容空間１１が、収容されるべき集合基板１０の厚み方向（図３に矢印Ａで示す方向）に対応する方向に複数並べて配設された治具２０を用意し、この治具２０の開口１１ａから基板収容空間１１のそれぞれに、集合基板１０を収容する。
【００２２】
なお、後述の封止樹脂（硬化させる前の封止層）４ａ（図４）を硬化させた後、治具２０の基板収容空間１１の開口１１ａから集合基板１０を確実に取り出すことができるようにするためには、治具２０として、少なくとも封止樹脂４ａと接する基板収容空間１１の内壁面１１ｂを、硬化後の封止樹脂（封止層）４（図１）との剥離性に優れた材料から形成するか、または、内壁面１１ｂに剥離性を付与するような処理を施した治具を用いることが望ましい。
【００２３】
ただし、基板収容空間１１の内周面１１ｂに、硬化後の封止樹脂（封止層）４との剥離性を持たせていない場合にも、集合基板１０と、治具２０の基板収容空間１１の内壁面１１ｂとの間に、硬化後の封止樹脂（封止層）４との剥離性を有するシート状部材（剥離シート）や板状部材（剥離板）などを配設することにより対応することが可能である。
【００２４】
なお、この実施例１では、治具２０として、基板収容空間１１の内壁面１１ｂに、硬化後の封止樹脂（封止層）４に対する剥離性を付与した構成のものを用いる場合を例にとって説明する。
【００２５】
(４)図４に示すように、治具２０の開口１１ａから、集合基板１０が収容された基板収容空間１１のそれぞれに、未硬化の封止樹脂４ａを充填して、集合基板１０を未硬化の封止樹脂４ａに浸漬させる。
【００２６】
(５)その後、未硬化の封止樹脂４ａの脱泡処理を行う。封止樹脂４ａの脱泡処理は、例えば、封止樹脂４ａを減圧雰囲気にさらす方法や、封止樹脂４ａに振動を加えながら、封止樹脂４ａを減圧雰囲気にさらす方法などが例示されるが、その具体的な方法に特別の制約はない。
【００２７】
なお、封止樹脂４ａを減圧雰囲気にさらすにあたっては、治具２０全体を減圧雰囲気に置いてもよく、また、基板収容空間１１の開口側から真空吸引するようにしてもよい。
また、封止樹脂４ａに振動を加える方法としては、治具２０を振動させるようにしてもよく、また、超音波振動などの方法により封止樹脂４ａを直接振動させるようにしてもよい。
【００２８】
(６)次いで、集合基板１０が浸漬された状態で未硬化の封止樹脂４ａを硬化させることにより、集合基板１０の実装面１０ａと電子部品３を封止する封止層４（図１参照）を形成する。
【００２９】
(７)そして、封止層４が形成された集合基板１０を、治具２０の基板収容空間１１から取り出し、所定の位置でカットして、個々の個基板に分割する。
これにより、図１に示すような、高周波モジュール１が得られる。
【００３０】
この実施例１では、複数の個基板２を含む集合基板１０の段階で、複数の集合基板１０を、治具２０の各基板収容空間１１に収容して樹脂封止を行うようにしているので、生産性を向上させることが可能になるとともに、集合基板１０を、主面１０ａが垂直になるように保持して基板収容空間１１に封止樹脂４ａを充填するようにしているので、集合基板１０がフリップチップ実装された電子部品３（３ｂ）を備えている場合にも、気泡が集合基板１０と電子部品３の間から抜けやすく、集合基板１０と電子部品３との間にボイドが形成されることを防止することができる。
【００３１】
したがって、この実施例１の方法によれば、基板（個基板）２の実装面２ａに少なくとも一部の電子部品３（３ｂ）がフリップチップ実装され、実装面２ａおよび電子部品３が封止層４により確実に封止された、信頼性の高い高周波モジュールを効率よく製造することができる。
【００３２】
なお、この実施例１では、治具２０として、基板収容空間１１の内壁面１１ｂが、硬化後の封止樹脂（封止層）４との剥離性を備えた構成のものを用いたが、上述のように、剥離シートや剥離板を用いることにより、治具２０として、基板収容空間１１の内壁面１１ｂが硬化後の封止樹脂との剥離性を備えていない構成のものを用いた場合にも、同様の効果を得ることができる。
【実施例２】
【００３３】
図５は本発明の他の実施例（実施例２）において用いた治具を示す図であり、（ａ）は基板収容空間の、集合基板の厚み方向に対応する方向の寸法を大きくした状態を示す図、（ｂ）は基板収容空間の、集合基板の厚み方向に対応する方向の寸法を小さくした状態を示す図である。
【００３４】
この実施例２では、集合基板を収容するための基板収容空間を備えた治具として、図５（ａ），（ｂ）に示すように、基板収容空間１１の、集合基板１０の厚み方向（矢印Ａで示す方向）に対応する方向の寸法を変化させることができるように構成された治具２０Ａを用いた。なお、治具２０Ａは、集合基板１０の厚み方向に対応する方向の寸法を変化させるように構成されていることを除いて、上記実施例１で用いた治具２０と同じ構成を有している。
【００３５】
なお、この治具２０Ａでは、各基板収容空間１１を仕切る、仕切り壁２１を、集合基板１０の厚み方向（図５（ａ），（ｂ）に矢印Ａで示す方向）に移動させることにより、基板収容空間１１の、矢印Ａで示す方向の寸法を、大きくしたり小さくしたりすることができるように構成されている。
【００３６】
そして、この実施例２では、治具２０Ａを用いたこと以外は、上記実施例１の場合と同様にして、高周波モジュールを作製した。
以下、この実施例２における高周波モジュールの製造方法について、実施例１の高周波モジュールの製造方法と相違する点を中心に説明を行う。
【００３７】
(１)図６に示すように、治具２０Ａにおける基板収容空間１１の、集合基板１０の厚み方向に対応する方向（矢印Ａの方向）の寸法を大きくした状態で、電子部品３が実装された集合基板１０を、基板収容空間１１の開口１１ａから挿入して、基板収容空間１１のそれぞれに、その主面（実装面）１０ａが垂直になる姿勢で収容する。
【００３８】
(２)それから、図７に示すように、治具２０Ａの開口１１ａから基板収容空間１１のそれぞれに、未硬化の封止樹脂４ａを充填して、集合基板１０を未硬化の封止樹脂４ａに浸漬させる。
【００３９】
(３)その後、未硬化の封止樹脂４ａの脱泡処理を行う。
封止樹脂４ａの脱泡処理は、例えば、封止樹脂４ａを減圧雰囲気にさらす方法や、封止樹脂４ａに所定の振動を加えながら、封止樹脂４ａを減圧雰囲気にさらす方法などが例示されるが、その方法に特別の制約はないのは上述の通りである。
【００４０】
(４)それから、図８に示すように、各基板収容空間１１を仕切る、仕切り壁２１を、集合基板１０の厚み方向（図８に矢印Ａで示す方向）に移動させることにより、基板収容空間１１の、矢印Ａで示す方向の寸法を小さくする。
【００４１】
(５)次いで、集合基板１０が浸漬された状態で未硬化の封止樹脂４ａを硬化させることにより、集合基板１０の実装面１０ａと電子部品３を封止する封止層４を形成する。上述のように、基板収容空間１１の、矢印Ａで示す方向の寸法を小さくした状態で封止樹脂を硬化させることにより、封止層４を備えた集合基板１０の厚みを薄くすることが可能になる。
【００４２】
(６)そして、封止層４が形成された集合基板１０を取り出し、所定の位置でカットして、個々の個基板に分割する。
【００４３】
これにより、図９に示すような、実施例１の方法で得られる高周波モジュールに比べて背の低い（厚みが薄い）高周波モジュール１が得られる。
さらに、その他の点においても、上記実施例１の高周波モジュールの製造方法の場合と同様の効果を得ることができる。
【００４４】
なお、この実施例２では、仕切り壁２１を移動させることにより、基板収容空間１１の、集合基板の厚み方向に対応する方向の寸法を小さくする前の段階で脱泡処理を行っているが、脱泡処理は、基板収容空間１１の、集合基板の厚み方向に対応する方向の寸法を小さくした後で行ってもよい。
【００４５】
また、上記の実施例１および２では、集合基板を基板収容空間１１に収容した後、基板収容空間１１に封止樹脂４ａを充填（注入）するようにしているが、状況によっては、基板収容空間に封止樹脂を充填（注入）した後、基板収容空間内の封止樹脂に集合基板を浸漬するようにしてもよい。
また、セラミック多層基板の低背化が進むと、集合基板を基板収容空間に収容する前に、基板収容空間に封止樹脂を注入しておく方が、樹脂を注入しやすくて望ましいという場合もある。
【００４６】
なお、本発明においては、集合基板あるいは個基板の具体的な構成に特別の制約はなく、その実装面に実装される電子部品の種類、そのうちのフリップチップ実装される電子部品の種類や割合、搭載される電子部品の配設態様などに特別の制約はなく、発明の範囲内において、種々の応用、変形を加えることができる。
【００４７】
また、本発明は、フリップチップ実装された電子部品や個基板の実装面を覆う天板を備えた構成を有するセラミック多層基板を製造する場合にも適用することが可能である。
【符号の説明】
【００４８】
１        高周波モジュール
２        基板（個基板）
２ａ      個基板の実装面
３        電子部品
４        封止層
４ａ      未硬化の封止樹脂
１０      集合基板
１０ａ    集合基板の実装面
１１      基板収容空間
１１ａ    開口
１１ｂ    基板収容空間の内壁面
２０      治具
２０Ａ    治具
２１      仕切り壁
Ａ        集合基板の厚み方向を示す矢印
【図１】
2012164769.tif 000003
【図２】
2012164769.tif 000004
【図３】
2012164769.tif 000005
【図４】
2012164769.tif 000006
【図５】
2012164769.tif 000007
【図６】
2012164769.tif 000008
【図７】
2012164769.tif 000009
【図８】
2012164769.tif 000010
【図９】
2012164769.tif 000011