(57)【要約】      （修正有）【課題】芯材を備えない層間絶縁層をコア基板に積層しても反りの生じないプリント配線板を提供する。【解決手段】ガラスクロスの芯材にガラスエポキシ樹脂を含浸させたコア基板３０に無機粒子を添加して、熱膨張係数（ＣＴＥ）を２０〜４０ｐｐｍまで低下させている。そして、コア基板３０の厚みａを０．２mmに、上面側の第１層間絶縁層５０Ａの厚みｂを０．１mmに、下面側の第２層間絶縁層５０Ｂの厚みｃを０．１mmに設定してある。これにより、薄いコア基板３０と、芯材を備えない層間絶縁層５０Ａ、５０Ｂとを用いて、プリント配線板に反りを発生させない。【選択図】図６
2012069926.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１面と該第１面の裏面側の第２面とを有し、貫通孔を備えるコア基板と、
前記コア基板の前記第１面上に形成された第１導体回路と、
前記コア基板の前記第２面上に形成された第２導体回路と、
前記貫通孔に形成されている前記第１導体回路と第２導体回路とを接続するスルーホール導体と、
前記コア基板の第１面上に形成されている少なくとも１つの第１層間絶縁層と、
前記コア基板の第２面上に形成されている少なくとも１つの第２層間絶縁層と、からなるプリント配線板であって、
前記コア基板の熱膨張係数がα（１／Ｋ）、前記コア基板のヤング率がＥ（ＧＰa）、前記コア基板の厚みがａ（mm）、各第１層間絶縁層の厚みの和がｂ（mm）、各第２層間絶縁層の厚みの和がｃ（mm）であるとき、前記α、前記Ｅ、前記ａ、前記ｂ、前記ｃは以下の関係式を満足する。
α／（Ｅ×(ａ＋ｂ＋ｃ））＝０．５×１０−６〜２．５×１０−６／ＧＰａ・mm・Ｋ
【請求項２】
請求項１のプリント配線板において、前記コア基板は、ガラス繊維、無機粒子および樹脂から成る。
【請求項３】
請求項１のプリント配線板において、前記コア基板は、無機粒子を２０ｗｔ％〜４０ｗｔ％含有する。
【請求項４】
請求項２のプリント配線板において、前記無機粒子が、シリカ又はアルミナからなる。
【請求項５】
請求項１のプリント配線板において、前記層間絶縁層は、ガラス繊維を含有しない。
【請求項６】
請求項１のプリント配線板において、前記貫通孔は、前記第１面に第１開口を有する第１開口部と前記第２面に第２開口を有する第２開口部からなり、前記第１開口部は前記第１面から前記第２面に向かってテーパーしているとともに前記第２開口部は前記第２面から前記第１面に向かってテーパーしていて、前記第１開口部と第２開口部は前記コア基板の内部で繋がっている。
【請求項７】
請求項１のプリント配線板において、前記スルーホール導体は、前記貫通孔を充填しているめっき膜から成る。
【請求項８】
請求項６のプリント配線板において、前記第１開口の重心を通り前記コア基板の第１面に垂直な直線と前記第２開口の重心を通り前記コア基板の第１面に垂直な直線はオフセットしている。
【請求項９】
請求項１のプリント配線板において、前記コア基板の厚みと、前記各第１層間絶縁層の厚みと、前記各第２層間絶縁層の厚みの和が、０．０８mm〜０．６０mmの範囲である。
【請求項１０】
請求項１のプリント配線板において、前記コア基板の厚みが０．０６ｍｍ〜０．４０ｍｍの範囲である。
【請求項１１】
請求項１のプリント配線板において、前記各第１層間絶縁層の厚みｂと、前記各第２層間絶縁層の厚みｃが、それぞれ０．０１mm〜０．１０mmの範囲である。
【請求項１２】
前記第１層間絶縁層と前記第２層間絶縁層とがそれぞれ複数層であることを特徴とする請求項１のプリント配線板。
【請求項１３】
第１面と該第１面の裏面側の第２面とを有するコア基板に、スルーホール導体用の貫通孔を形成することと；
前記第１面上に第１導体回路を形成することと、
前記第２面上に第２導体回路を形成することと、
前記貫通孔に形成されている第１導体回路と第２導体回路を接続するスルーホール導体を形成することと；
前記コア基板の前記第１面上に少なくとも１つの第１層間絶縁層を積層することと；
前記コア基板の前記第２面上に少なくとも１つの第２層間絶縁層を積層することと；
前記第１層間絶縁層と前記第２層間絶縁層にバイアホールを形成することと；からなるプリント配線板の製造方法であって：
前記コア基板の熱膨張係数がα（１／Ｋ）、前記コア基板のヤング率がＥ（ＧＰa）、前記コア基板の厚みがａ（mm）、各第１層間絶縁層の厚みの和がｂ（mm）、各第２層間絶縁層の厚みの和がｃ（mm）であるとき、前記α、前記Ｅ、前記ａ、前記ｂ、前記ｃは以下の関係式を満足する。
α／（Ｅ×(ａ＋ｂ＋ｃ））＝０．５×１０−６〜２．５×１０−６／ＧＰａ・mm・Ｋ
【請求項１４】
請求項１３のプリント配線板の製造方法において、スルーホール導体を形成することは前記貫通孔をめっき膜で充填することからなる。
【請求項１５】
請求項１３および請求項１４のプリント配線板の製造方法において、前記スルーホール用貫通孔を電解めっきで充填することと、前記導体回路用開口に電解めっき膜を形成する工程は同時に行われる。
【請求項１６】
請求項１３のプリント配線板の製造方法において、前記コア基板は、ガラス繊維、無機粒子および樹脂から成る。
【請求項１７】
請求項１３のプリント配線板の製造方法において、前記コア基板は、無機粒子を２０ｗｔ％〜４０ｗｔ％含有する。
【請求項１８】
請求項１３のプリント配線板の製造方法において、前記無機粒子が、シリカ又はアルミナからなる。
【請求項１９】
請求項１３のプリント配線板の製造方法において、前記層間絶縁層は、ガラス繊維を含有しない。
【請求項２０】
請求項１３のプリント配線板の製造方法において、前記貫通孔を形成することは、前記第１面に第１開口を有する第１開口部を形成することと、前記第２面に第２開口を有する第２開口部を形成することとからなり、前記第１開口部は前記第１面から前記第２面に向かってテーパーしているとともに前記第２開口部は前記第２面から前記第１面に向かってテーパーしていて、前記第１開口部と第２開口部は前記コア基板の内部で繋がっている。
【請求項２１】
請求項１３のプリント配線板の製造方法において、前記第１開口の重心を通り前記コア基板の第１面に垂直な直線と前記第２開口の重心を通り前記コア基板の第１面に垂直な直線はオフセットしている。
【請求項２２】
請求項１３のプリント配線板の製造方法において、前記コア基板の厚みと、前記各第１層間絶縁層の厚みと、前記各第２層間絶縁層の厚みの和が、０．０８mm〜０．６０mmの範囲である。
【請求項２３】
請求項１３のプリント配線板の製造方法において、前記コア基板の厚みが０．０６ｍｍ〜０．４０ｍｍの範囲である。
【請求項２４】
請求項１３のプリント配線板の製造方法において、前記各第１層間絶縁層の厚みｂと、前記各第２層間絶縁層の厚みｃが、それぞれ０．０１mm〜０．１０mmの範囲である。
【請求項２５】
請求項１３のプリント配線板の製造方法において、前記第１層間絶縁層と前記第２層間絶縁層とがそれぞれ複数層である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スルーホールを介して表裏を電気的接続させるコア基板に絶縁層を設けたプリント配線板に関し、特に、ＩＣチップなどの電子部品を載置するパッケージ基板に好適に用い得るプリント配線板及び該プリント配線板の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
電子部品を載置するパッケージ基板として、ガラス繊維などの芯材を備えるコア基板に、芯材を備えるプリプレグを積層したプリント配線板が広く用いられている。特許文献１には、コア基板にプリプレグを積層した複合基板において、プリプレグからなる層間絶縁層の弾性率をコア基板よりも小さくすることが開示されている。特許文献２には、コア基板にビルドアップ層を積層した多層プリント配線板において、ビルドアップ層の熱膨張係数を７０ｐｐｍ／℃以下にすることが開示されている。特許文献３には、片面基板を積層した多層回路基板において、層間絶縁層の熱膨張係数を３５ｐｐｍ以下にすることが開示されている。特許文献４には、コア基板と第１、第２層間絶縁層との厚みを調整することが開示されている。特許文献５には、プリント配線板上に熱膨張係数６〜１３ｐｐｍの熱膨張緩和シートを積層することが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００７−３２９４４１号公報
【特許文献２】特開２００４−２８１６９５号公報
【特許文献３】特開２００８−２７７７２１号公報
【特許文献４】特開２００８−２４４１８９号公報
【特許文献５】特開２００１−２７４５５６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
近年、電子部品の小型化やＩＣチップの周波数が３ＧＨｚ以上の高周波数になってきたため、ＩＣ搭載用基板の薄型化や配線の高密度化に伴うファインパターン配線形成と、発熱量増加による熱応力低減のための放熱が必要となってきた。そこで、基板を薄くしても反りが生じないファインパターン配線の形成が可能な基板が必要となる。
【０００５】
本発明は、上述した課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、ガラス繊維等の芯材を備えない層間絶縁層をコア基板に積層しても反りの生じないプリント配線板、及び、該プリント配線板の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
請求項１に記載の発明は、
第１面と該第１面の裏面側の第２面とを有し、貫通孔を備えるコア基板と、
前記コア基板の前記第１面上に形成された第１導体回路と、
前記コア基板の前記第２面上に形成された第２導体回路と、
前記貫通孔に形成されている前記第１導体回路と第２導体回路とを接続するスルーホール導体と、
前記コア基板の第１面上に形成されている少なくとも１つの第１層間絶縁層と、
前記コア基板の第２面上に形成されている少なくとも１つの第２層間絶縁層と、からなるプリント配線板であって、
前記コア基板の熱膨張係数がα（１／Ｋ）、前記コア基板のヤング率がＥ（ＧＰa）、前記コア基板の厚みがａ（mm）、各第１層間絶縁層の厚みの和がｂ（mm）、各第２層間絶縁層の厚みの和がｃ（mm）であるとき、前記α、前記Ｅ、前記ａ、前記ｂ、前記ｃは以下の関係式を満足する。
α／（Ｅ×(ａ＋ｂ＋ｃ））＝０．５×１０−６〜２．５×１０−６／ＧＰａ・mm・Ｋ
が成立することを技術的特徴とする。
【発明の効果】
【０００７】
コア基板に無機粒子を添加して、熱膨張係数を下げると共に、コア基板と少なくとも１つの各第１層間絶縁層及び少なくとも１つの各第２層間絶縁層の厚みを調整し、α／（Ｅ×(ａ＋ｂ＋ｃ)）＝０．５×１０−６〜２．５×１０−６／ＧＰａ・mm・Ｋを成立させることで、低熱膨張係数の薄いコア基板と、ガラス繊維等の芯材を備えない層間絶縁層とを用いて、プリント配線板に反りを発生させないと予測される。ここで、コア基板のスルーホール導体が、第１面上に形成された第１導体回路と、第２面上に形成された第２導体回路と、貫通孔内部にめっき充填して成り第１導体回路と第２導体回路を接続しているため、スルーホール導体により放熱性が向上し、プリント配線板の反りを抑えることができると推測される。薄いコア基板に、ガラス繊維等の芯材を備えない層間絶縁層を積層することで、ファインパターン配線の形成が可能で、プリント配線板を薄くし、放熱性を改善できると予測される。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の実施例１に係るプリント配線板の製造工程図である。
【図２】実施例１のプリント配線板の製造工程図である。
【図３】実施例１のプリント配線板の製造工程図である。
【図４】実施例１のプリント配線板の製造工程図である。
【図５】実施例１のプリント配線板の製造工程図である。
【図６】実施例１に係るプリント配線板の断面図である。
【図７】ＩＣチップを実装した状態の実施例１に係るプリント配線板の断面図である。
【図８】実施例１の別例の断面図である。
【図９】実施例３に係るプリント配線板の断面図である。
【図１０】図１０（Ａ）は反り量を説明するための模式図であり、図１０（Ｂ）は重心を説明するための模式図である。
【図１１】実施例２で反り量を試験した結果を示す図表である。
【図１２】実施例２で用いたコア基板のガラスクロスの構成を示す図表である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
[実施例１]
次に、本発明の実施例１に係るプリント配線板１０の構成について、図１〜図７を参照して説明する。図６は、該プリント配線板１０の断面図を、図７は、図６に示すプリント配線板１０にＩＣチップ８０を取り付けた状態を示している。図６に示すように、プリント配線板１０では、コア基板３０の表面に導体回路３４が形成されている。コア基板３０の表面と裏面とはスルーホール導体３６を介して接続されている。スルーホール導体３６は、上面（第１面）側から下面（第２面）に向けてテーパーしている第１導体部３６ａと、下面（第２面）側から第１面に向けてテーパーしている第２導体部３６ｂとからなる。コア基板３０の上面（第１面）に、バイアホール６０及び導体回路５８の形成された第１層間絶縁層５０Ａが配設され、下面（第２面）に、バイアホール６０及び導体回路５８の形成された第２層間絶縁層５０Ｂが配設されている。該バイアホール６０及び導体回路５８の上層にはソルダーレジスト層７０が形成されている。上面（第１面）側のソルダーレジスト層７０の開口７１には、半田バンプ７６Ｕが形成され、下面（第２面）側のソルダーレジスト層７０の開口には、半田バンプ７６Ｄが形成されている。図７に示すように、上面側の半田バンプ７６Ｄに、ＩＣチップ８０のパッド８２が接続される。
【００１０】
実施例１では、ガラスクロスの芯材にエポキシ樹脂を含浸させたコア基板３０にシリカ又はアルミナから成る無機粒子を２０ｗｔ％〜４０ｗｔ添加して、熱膨張係数（α）を５×１０−６(1/K)〜８×１０−６(1/K)まで低下させている。そして、コア基板３０のヤング率（Ｅ）は２２ＧＰａに設定されている。また、ガラス転位点を既存のものよりも高めている。ここで、コア基板３０は厚みａを０．１５mmに調整してある。上面側の第１層間絶縁層５０Ａは厚みｂを０．０２mmに、下面側の第２層間絶縁層５０Ｂは同様に、厚みｃを０．０２mmに設定されている。
【００１１】
これにより、実施例１のプリント配線板１０は、
α／（Ｅ×(ａ＋ｂ＋ｃ)）＝０．９×１０−６〜１．７×１０−６／ＧＰａ・mm・Ｋを成立させている。
【００１２】
上記関係を成立させることで、薄いコア基板３０と、芯材を備えない第１層間絶縁層５０Ａ、第２層間絶縁層５０Ｂとを用いて、プリント配線板に反りを発生させない。ここで、コア基板３０のスルーホール導体３６が、上面（第１面）側から下面（第２面）に向けてテーパーしている第１導体部３６ａと、下面（第２面）側から第１面に向けてテーパーしている第２導体部３６ｂとからなるため、該スルーホール導体３６によりコア基板３０の反りを抑えることができると予測される。薄いコア基板に、芯材を備えず薄い層間絶縁層を積層することで、プリント配線板を薄くし、放熱性を高めることができると推測される。
【００１３】
コア基板の厚みと層間絶縁層の厚みの和が０．０８mm〜０．６０mmの範囲では、コア基板の厚みは０．０６ｍｍ〜０．４０ｍｍであることが望ましい。さらに、第１層間絶縁層と第２層間絶縁層のそれぞれの厚みが０．０１mm〜０．１０mmであることが望ましい。コア基板の厚みが０．０６mm未満の場合、コア基板の熱膨張係数、ヤング率を調整してもプリント配線板の反りを防止することはできないと推測される。一方、コア基板の厚みが０．４０ｍｍを超える場合、第１層間絶縁層と第２層間絶縁層のそれぞれの厚みが薄すぎて、絶縁性を確保できなくなると推測される。
【００１４】
スルーホール導体は最大外径（コア基板の表面部での径）ｄが７０〜１５０μｍであることが望ましい。７０μｍ未満では、スルーホール導体の第１導体部と第２導体部とを中央部に向けて縮径させた場合に、第１導体部と第２導体部の接続不良が発生する可能性がある。１５０μｍを越えると、スルーホールの配線密度を下がり、ファインピッチを実現できなくなると推測される。ここで、スルーホール導体は、コア基板に１％〜５％配置することが望ましい。１％未満では、スルーホールの配線密度が下がり、ファインピッチを実現できなくなる可能性がある。５％を越えると、コア基板の剛性が下がり、反りの発生を防ぐことが難しくなると推測される。
【００１５】
引き続き、図６を参照して上述したプリント配線板１０の製造方法について図１〜図６を参照して説明する。
（１）ガラスエポキシ樹脂またはＢＴ（ビスマレイミドトリアジン）樹脂をガラスクロス等の芯材に含浸させ、樹脂中に平均粒子径０．３μｍのシリカ又はアルミナから成る無機粒子を２０〜４０重量％添加して、熱膨張係数（ＣＴＥ）を５×１０−６(1/K)〜８×１０−６(1/K)まで低下させた厚さ０．１５ｍｍの絶縁性基板３０を用いる。この絶縁性基板３０の両面に３〜５μｍの銅箔３２がラミネートされている銅張積層板３０Ａを出発材料とする（図１（Ａ））。まず、上面（第１面）側からレーザを照射し、スルーホール形成位置に第１面側から第２面に向けて縮径するテーパーから成る第１開口３１ａを形成する（図１（Ｂ））。引き続き、下面（第２面）側からレーザを照射し、スルーホール形成位置に第２面側から第１面に向けて縮径するテーパーから成る第２開口３１ｂを形成することで、第１開口３１ａ及び第２開口３１ｂから成るスルーホール用通孔３１を設ける（図１（Ｃ））。テーパーしているとは、コア基板の中心に向かって第１開口３１aおよび第２開口３１ｂが除除に小さくなることを含んでいる。
【００１６】
実施例１では、絶縁性基板３０の厚みが０．１５ｍｍと薄いため、上面、下面の２回に分けてレーザを照射しなくても１度で開口を形成することはできるが、レーザの出力を下げて２回に分けて通孔を形成することで、 第２面に向けて縮径するテーパーから成る第１開口３１ａ、第１面に向けて縮径するテーパーから成る第２開口３１ｂを形成し、後述する工程で、中央部に向けて縮径する第１導体部３６ａ、第２導体部３６ｂからなるスルーホール導体を形成する。
【００１７】
（２）基板３０表面に、パラジウム触媒（アトテック製）を付与し、無電解銅めっきを施すことにより、基板表面及びスルーホール用通孔３１側壁に厚さ０．６μｍの無電解銅めっき膜３３を形成する（図１（Ｄ））。
【００１８】
（３）市販の感光性フィルムを張り付け、マスクを載置して露光・現像処理し、導体回路とスルーホール導体を形成する部分の無電解めっき膜３３が露出する所定パターンのめっきレジスト３５を形成する（図１（Ｅ））。
【００１９】
（４）下記条件で電解めっきを施し、スルーホール用通孔３１内、及び、基板３０のめっきレジスト３５非形成部に電解銅めっき３７を形成する（図２（Ａ））。
〔電解めっき水溶液〕
硫酸                １８０  ｇ／ｌ
硫酸銅                ８０  ｇ／ｌ
添加剤（アトテックジャパン製、商品名：カパラシドＧＬ）
１  ｍｌ／ｌ
〔電解めっき条件〕
電流密度              １Ａ／ｄｍ２
時間                      ７０分
温度                      室温
【００２０】
（５）そして、めっきレジスト３５を５％ＫＯＨで剥離後、めっきレジストを形成していた部分の無電解めっき膜３３と銅箔３２を、塩化第２銅を主成分とするエッチング液にて溶解除去し、スルーホールランド３６ｃを含む導体回路３４を形成する（図２（Ｂ））。
【００２１】
（６）導体回路３４およびスルーホールランド３６ｃの表面をエッチング液で粗化し粗化層（凹凸層）３４αを形成する（図２（Ｃ））。
【００２２】
（７）基板３０の上面（第１面）及び下面（第２面）に、芯材を備えず基板より少し小さめの層間絶縁層用樹脂フィルム（味の素社製：商品名；ＡＢＦ−４５ＳＨ）を基板上に載置し、圧力０．４５ＭＰａ、温度８０℃、圧着時間１０秒の条件で仮圧着して裁断した後、さらに、以下の方法により真空ラミネーター装置を用いて貼り付けることにより第１層間絶縁層５０Ａ、第２層間絶縁層５０Ｂを形成する（図２（Ｄ））。すなわち、層間絶縁層用樹脂フィルムを基板上に、真空度６７Ｐａ、圧力０．４７ＭＰａ、温度８５℃、圧着時間６０秒の条件で本圧着し、その後、１７０℃で４０分間熱硬化させた。図６を参照して上述したようにコア基板３０は厚みａを０．１５mmに、上面側の第１層間絶縁層５０Ａは厚みｂを０．０２mmに、下面側の第２層間絶縁層５０Ｂは厚みｃを０．０２mmに設定されている。
【００２３】
（８）次に、波長１０．４μｍのＣＯ2 ガスレーザにて、ビーム径４．０ｍｍ、トップハットモード、パルス幅３〜３０μ秒、マスクの貫通孔の径１．０〜５．０ｍｍ、１〜３ショットの条件で層間絶縁層５０Ａ、５０Ｂにバイアホール用開口５１を形成する（図２（Ｅ））。
【００２４】
（９）バイアホール用開口５１を形成した基板を、６０ｇ／ｌの過マンガン酸を含む８０℃の溶液に１０分間浸漬し、層間絶縁層５０Ａ、５０Ｂの表面に存在する粒子を除去することにより、バイアホール用開口５１の内壁を含む層間絶縁層５０Ａ、５０Ｂの表面を粗化し粗化面５０αを形成する（図３（Ａ））。
【００２５】
（１０）次に、上記処理を終えた基板を、中和溶液（シプレイ社製）に浸漬してから水洗いする。さらに、粗面化処理（粗化深さ３μｍ）した該基板の表面に、パラジウム触媒を付与することにより、層間絶縁層の表面およびバイアホール用開口の内壁面に触媒核を付着させた。すなわち、上記基板を塩化パラジウム（ＰｂＣｌ2 ）と塩化第一スズ（ＳｎＣｌ2 ）とを含む触媒液中に浸漬し、パラジウム金属を析出させることにより触媒を付与する。
【００２６】
（１１）次に、上村工業社製の無電解銅めっき水溶液（スルカップＰＥＡ）中に、触媒を付与した基板を浸漬して、粗面全体に厚さ０．３〜３．０μｍの無電解銅めっき膜を形成し、バイアホール用開口５１の内壁を含む第１層間絶縁層５０Ａ、第２層間絶縁層５０Ｂの表面に無電解銅めっき膜５２の形成された基板を得る（図３（Ｂ））。
【００２７】
（１２）無電解銅めっき膜５２が形成された基板に市販の感光性ドライフィルムを張り付け、マスクを載置して、１１０ｍＪ／ｃｍ2 で露光し、０．８％炭酸ナトリウム水溶液で現像処理することにより、厚さ２５μｍのめっきレジスト５４を設ける（図３（Ｃ））。
【００２８】
（１３）基板を５０℃の水で洗浄して脱脂し、２５℃の水で水洗後、さらに硫酸で洗浄してから、以下の条件で電解めっきを施し、めっきレジスト５４非形成部に、厚さ１５μｍの電解銅めっき膜５６を形成した（図４（Ａ））。
〔電解めっき液〕
硫酸                      ２．２４  ｍｏｌ／ｌ
硫酸銅                    ０．２６  ｍｏｌ／ｌ
添加剤                    １９．５    ｍｌ／ｌ
（アトテックジャパン社製、カパラシドＧＬ）
〔電解めっき条件〕
電流密度                    １  Ａ／ｄｍ2
時間                        ７０  分
温度                        ２２±２  ℃
【００２９】
（１４）さらに、めっきレジスト５４を５％ＫＯＨで剥離除去した後、そのめっきレジスト下の無電解めっき膜を硫酸と過酸化水素との混合液でエッチング処理して溶解除去し、導体回路５８及びバイアホール６０とする（図４（Ｂ））。
【００３０】
（１５）ついで、上記（４）と同様の処理を行い、導体回路５８及びバイアホール６０の表面を粗化し粗化面５８αを形成する（図４（Ｃ））。
【００３１】
（１６）次に、多層配線基板の両面に、市販のソルダーレジスト組成物７０を２０μｍの厚さで塗布し、乾燥処理を行った後、ソルダーレジスト開口部のパターンが描画された厚さ５ｍｍのフォトマスクをソルダーレジスト層７０に密着させて紫外線で露光し、ＤＭＴＧ溶液で現像処理し、上面側に小径の開口７１、下面側に大径の開口７１を形成する（図５（Ａ））。さらに、加熱処理を行ってソルダーレジスト層を硬化させ、開口を有し、その厚さが１５〜２５μｍのソルダーレジストパターン層を形成する。
【００３２】
（１７）次に、ソルダーレジスト層７０を形成した基板を無電解ニッケルめっき液に浸漬して、開口部７１に厚さ５μｍのニッケルめっき層７２を形成する。さらに、その基板を無電解金めっき液に浸漬して、ニッケルめっき層７２上に、厚さ０．０３μｍの金めっき層７４を形成する（図５（Ｂ））。ニッケル−金層以外にも、ニッケル−パラジウム−金層、スズ、貴金属層（金、銀、パラジウム、白金など）の単層を形成してもよい。
【００３３】
（１８）開口７１内にフラックス７８を塗布した後、上面側ソルダーレジスト層７０の開口７１に小径半田ボール７７Ｕを搭載し、下面側ソルダーレジスト層７０の開口７１に大径半田ボール７７Ｄを搭載し（図５（Ｃ））、リフローすることにより上面に半田バンプ７６Ｕを、下面側に半田バンプ７６Ｄを形成する（図６）。
【００３４】
（１９）プリント配線板１０にＩＣチップ８０を載置し、リフローを行うことで、半田バンプ７６Ｕを介してプリント配線板の接続パッドとＩＣチップ８０の電極８２が接続される（図７）。
【００３５】
図８は、実施例１の別例を示す。別例では、スルーホール導体３６の第１導体部３６ａを構成する第１開口３１ａの重心を通り前記コア基板の第１面に垂直な直線ＡＬと、第２導体部３６ｂを構成する第２開口３１ｂの重心を通りコア基板の第１面に垂直な直線ＢＬとはオフセットしている。ここで、重心とは図１０（Ｂ）に示すように、円形の開口に於ける長径（最長径部分）と短径（最短径部分）との交点を意味する。
【００３６】
[実施例２]
実施例２で、実施例１と同様に形成すると共に、コア基板の厚み（ａ）、第１層間絶縁層の厚み（ｂ）、第２層間絶縁層の厚み（ｃ）、コア基板の熱膨張係数（ＣＴＥ）、コア基板のヤング率（Ｅ）を変えて、反り量を測定した結果を図１１中に示す。ただし、第１層間樹脂絶縁層、第２層間樹脂絶縁層はそれぞれ１層でも複数層でもよい。プリント配線板は、１２mm×１２mmの大きさで、反り量は、図１０（Ａ）中に示すようにプリント配線板の外端部から、一番反った部位までのプリント配線板の垂直方向での距離を、温度２５℃と２６０℃とで測定した。ここで、反り量が±１００μｍ（ここで、＋とは凹形状で上側への反り量を、−とは凹形状で下側への反り量を意味する）を越えると、ＩＣチップの実装精度が低下するため、反り量を１００μｍ以下に抑える必要がある。なお、反り量はシュミレーションにより計算した値である。
【００３７】
[実施例２−１]
コア基板の熱膨張係数（ＣＴＥ）８．６１、コア基板のヤング率（Ｅ）１９．１（Ｇpa）、コア基板の厚み（ａ）０．１５（mm）、第１層間絶縁層の厚み（ｂ）０．０３（mm）、第２層間絶縁層の厚み（ｃ）０．０３（mm）にした。コア基板の構造は、ＢＴ（ビスマレイミドトリアジン）イミド系樹脂、ガラスクロスは熱膨張率２．４（１／Ｋ）のＳガラス（図１２参照）、フィラーはＳｉＯ2を３０％含む。実施例２−１では、ＣＴＥ／（Ｅ×（ａ＋ｂ＋ｃ））＝２．１５×１０−６／ＧＰａ・mm・Ｋ，反り量は１００μｍ以下の８１μｍであった。
【００３８】
[実施例２−２]
コア基板の熱膨張係数（ＣＴＥ）６．１８（１／Ｋ）、コア基板のヤング率（Ｅ）２６（Ｇpa）、コア基板の厚み（ａ）０．１（mm）、第１層間絶縁層の厚み（ｂ）０．０４（mm）、第２層間絶縁層の厚み（ｃ）０．０４（mm）にした。コア基板の構造は、変性エポキシ（低熱膨張のエポキシ系樹脂）、ガラスクロスは熱膨張率２．４（１／Ｋ）のＳガラス（図１２参照）、フィラーはＳｉＯ2を３０％含む。実施例２−２では、ＣＴＥ／（Ｅ×（ａ＋ｂ＋ｃ））＝１．３２×１０−６／ＧＰａ・mm・Ｋ，反り量は７９μｍであった。
【００３９】
[実施例２−３]
コア基板の熱膨張係数（ＣＴＥ）６．１８（１／Ｋ）、コア基板のヤング率（Ｅ）２６（Ｇpa）、コア基板の厚み（ａ）０．１５（mm）、第１層間絶縁層の厚み（ｂ）０．０３（mm）、第２層間絶縁層の厚み（ｃ）０．０３（mm）にした。コア基板の構造は、変性エポキシ（低熱膨張のエポキシ系樹脂）、ガラスクロスは熱膨張率２．４（１／Ｋ）のＳガラス（図１２参照）、フィラーはＳｉＯ2を３０％含む。実施例２−３では、ＣＴＥ／（Ｅ×（ａ＋ｂ＋ｃ））＝１．１３×１０−６／ＧＰａ・mm・Ｋ，反り量は７０μｍであった。
【００４０】
[実施例２−４]
コア基板の熱膨張係数（ＣＴＥ）６．１８（１／Ｋ）、コア基板のヤング率（Ｅ）２６（Ｇpa）、コア基板の厚み（ａ）０．２（mm）、第１層間絶縁層の厚み（ｂ）０．０４（mm）、第２層間絶縁層の厚み（ｃ）０．０４（mm）にした。コア基板の構造は、変性エポキシ（低熱膨張のエポキシ系樹脂）、ガラスクロスは熱膨張率２．４（１／Ｋ）のＳガラス（図１２参照）、フィラーはＳｉＯ2を３０％含む。実施例２−４では、ＣＴＥ／（Ｅ×（ａ＋ｂ＋ｃ））＝０．８５×１０−６／ＧＰａ・mm・Ｋ，反り量は６４μｍであった。
【００４１】
[実施例２−５]
コア基板の熱膨張係数（ＣＴＥ）６．１８（１／Ｋ）、コア基板のヤング率（Ｅ）２６（Ｇpa）、コア基板の厚み（ａ）０．２５（mm）、第１層間絶縁層の厚み（ｂ）０．０３（mm）、第２層間絶縁層の厚み（ｃ）０．０３（mm）にした。コア基板の構造は、変性エポキシ（低熱膨張のエポキシ系樹脂）、ガラスクロスは熱膨張率２．４（１／Ｋ）のＳガラス（図１２参照）、フィラーはＳｉＯ2を３０％含む。実施例２−５では、ＣＴＥ／（Ｅ×（ａ＋ｂ＋ｃ））＝０．７７×１０−６／ＧＰａ・mm・Ｋ，反り量は６１μｍであった。
【００４２】
[実施例２−６]
コア基板の熱膨張係数（ＣＴＥ）６．１８（１／Ｋ）、コア基板のヤング率（Ｅ）２６（Ｇpa）、コア基板の厚み（ａ）０．３（mm）、第１層間絶縁層の厚み（ｂ）０．０２５（mm）、第２層間絶縁層の厚み（ｃ）０．０２５（mm）にした。コア基板の構造は、変性エポキシ（低熱膨張のエポキシ系樹脂）、ガラスクロスは熱膨張率２．４（１／Ｋ）のＳガラス（図１２参照）、フィラーはＳｉＯ2を３０％含む。実施例２−６では、ＣＴＥ／（Ｅ×（ａ＋ｂ＋ｃ））＝０．６８×１０−６／ＧＰａ・mm・Ｋ，反り量は５５μｍであった。
【００４３】
[実施例２−７]
コア基板の熱膨張係数（ＣＴＥ）６．１８（１／Ｋ）、コア基板のヤング率（Ｅ）２６（Ｇpa）、コア基板の厚み（ａ）０．２５（mm）、第１層間絶縁層の厚み（ｂ）０．０４（mm）、第２層間絶縁層の厚み（ｃ）０．０４（mm）にした。コア基板の構造は、変性エポキシ（低熱膨張のエポキシ系樹脂）、ガラスクロスは熱膨張率２．４（１／Ｋ）のＳガラス（図１２参照）、フィラーはＳｉＯ2を３０％含む。実施例２−７では、ＣＴＥ／（Ｅ×（ａ＋ｂ＋ｃ））＝０．７２×１０−６／ＧＰａ・mm・Ｋ，反り量は５６μｍであった。
【００４４】
[実施例２−８]
コア基板の熱膨張係数（ＣＴＥ）８．６１（１／Ｋ）、コア基板のヤング率（Ｅ）１９．１(Ｇpa）、コア基板の厚み（ａ）０．１５（mm）、第１層間絶縁層の厚み（ｂ）０．０４（mm）、第２層間絶縁層の厚み（ｃ）０．０４（mm）にした。コア基板の構造は、ＢＴ（ビスマレイミドトリアジン）イミド系樹脂、ガラスクロスは熱膨張率２．４（１／Ｋ）のＳガラス（図１２参照）、フィラーはＳｉＯ2を３０％含む。実施例２−８では、ＣＴＥ／（Ｅ×（ａ＋ｂ＋ｃ））＝１．９６×１０−６／ＧＰａ・mm・Ｋ，反り量は８２μｍであった。
【００４５】
[実施例２−９]
コア基板の熱膨張係数（ＣＴＥ）８．６１（１／Ｋ）、コア基板のヤング率（Ｅ）１９．１（Ｇpa）、コア基板の厚み（ａ）０．２（mm）、第１層間絶縁層の厚み（ｂ）０．０４（mm）、第２層間絶縁層の厚み（ｃ）０．０４（mm）にした。コア基板の構造は、ＢＴ（ビスマレイミドトリアジン）イミド系樹脂、ガラスクロスは熱膨張率２．４（１／Ｋ）のＳガラス（図１２参照）、フィラーはＳｉＯ2を３０％含む。実施例２−９では、ＣＴＥ／（Ｅ×（ａ＋ｂ＋ｃ））＝１．６１×１０−６／ＧＰａ・mm・Ｋ，反り量は７６μｍであった。
【００４６】
[実施例２−１０]
コア基板の熱膨張係数（ＣＴＥ）８．６１（１／Ｋ）、コア基板のヤング率（Ｅ）１９．１（Ｇpa）、コア基板の厚み（ａ）０．１（mm）、第１層間絶縁層の厚み（ｂ）０．０４（mm）、第２層間絶縁層の厚み（ｃ）０．０４（mm）にした。コア基板の構造は、ＢＴ（ビスマレイミドトリアジン）イミド系樹脂、ガラスクロスは熱膨張率２．４（１／Ｋ）のＳガラス（図１２参照）、フィラーはＳｉＯ2を３０％含む。実施例２−１０では、ＣＴＥ／（Ｅ×（ａ＋ｂ＋ｃ））＝２．５０×１０−６／ＧＰａ・mm・Ｋ，反り量は８５μｍであった。
【００４７】
[比較例１]
コア基板の熱膨張係数（ＣＴＥ）１２．２１（１／Ｋ）、コア基板のヤング率（Ｅ）９．６（Ｇpa）、コア基板の厚み（ａ）０．１（mm）、第１層間絶縁層の厚み（ｂ）０．０４（mm）、第２層間絶縁層の厚み（ｃ）０．０４（mm）にした。コア基板の構造は、変性エポキシ（低熱膨張のエポキシ系樹脂）、ガラスクロスは熱膨張率４．５（１／Ｋ）のＥガラス（図１２参照）、フィラーはＳｉＯ２、Ａｌ2Ｏ3を２５％含む。比較例１では、ＣＴＥ／（Ｅ×（ａ＋ｂ＋ｃ））＝７．０７×１０−６／ＧＰａ・mm・Ｋ，反り量は１００μｍであった。
【００４８】
[比較例２]
コア基板の熱膨張係数（ＣＴＥ）１２．３５（１／Ｋ）、コア基板のヤング率（Ｅ）１３．２（Ｇpa）、コア基板の厚み（ａ）０．１（mm）、第１層間絶縁層の厚み（ｂ）０．０４（mm）、第２層間絶縁層の厚み（ｃ）０．０４（mm）にした。コア基板の構造は、ＢＴ（ビスマレイミドトリアジン）イミド系樹脂、ガラスクロスは熱膨張率４．５（１／Ｋ）のＥガラス（図１２参照）、フィラーはＳｉＯ2を２５％含む。比較例１では、ＣＴＥ／（Ｅ×（ａ＋ｂ＋ｃ））＝５．２０×１０−６／ＧＰａ・mm・Ｋ，反り量は１００μｍを超える１３６μｍであった。
【００４９】
[比較例３]
コア基板の熱膨張係数（ＣＴＥ）８．６１（１／Ｋ）、コア基板のヤング率（Ｅ）１９．１（Ｇpa）、コア基板の厚み（ａ）０．０５（mm）、第１層間絶縁層の厚み（ｂ）０．０６（mm）、第２層間絶縁層の厚み（ｃ）０．０６（mm）にした。コア基板の構造は、ＢＴ（ビスマレイミドトリアジン）イミド系樹脂、ガラスクロスは熱膨張率２．４（１／Ｋ）のＳガラス（図１２参照）、フィラーはＳｉＯ2を３０％含む。比較例３では、ＣＴＥ／（Ｅ×（ａ＋ｂ＋ｃ））＝２．６５×１０−６／ＧＰａ・mm・Ｋ，反り量は１００μｍを超える１４５μｍであった。
【００５０】
[参考例１]
コア基板の熱膨張係数（ＣＴＥ）６．１８（１／Ｋ）、コア基板のヤング率（Ｅ）２６（Ｇpa）、コア基板の厚み（ａ）０．５（mm）、第１層間絶縁層の厚み（ｂ）０．０４（mm）、第２層間絶縁層の厚み（ｃ）０．０４（mm）にした。コア基板の構造は、変性エポキシ（低熱膨張のエポキシ系樹脂）、ガラスクロスは熱膨張率２．４（１／Ｋ）のＳガラス（図１２参照）、フィラーはＳｉＯ2を３０％含む。参考例１では、ＣＴＥ／（Ｅ×（ａ＋ｂ＋ｃ））＝０．４１×１０−６／ＧＰａ・mm・Ｋ，反り量は５１μｍであった。
【００５１】
実施例２−１〜実施例２−１０に示すように、コア基板の熱膨張係数を下げると共に、コア基板と第１層間絶縁層及び第２層間絶縁層の厚みを調整し、ＣＴＥ／（Ｅ×（ａ＋ｂ＋ｃ））＝０．５×１０−６〜２．５×１０−６／ＧＰａ・mm・Ｋを成立させることで、プリント配線板に１００μｍ以上の反りを発生させないと推定される。なお、コア基板の厚みを０．０６mm未満にすると、ＣＴＥ／（Ｅ×（ａ＋ｂ＋ｃ））＝０．５×１０−６〜２．５×１０−６／ＧＰａ・mm・Ｋを満たしても、反り量を±１００μｍ以下に抑えることができなく成ると推定される。また、参考例１に示すようにＣＴＥ／（Ｅ×（ａ＋ｂ＋ｃ））＝０．５×１０−６／ＧＰａ・mm・Ｋ未満の場合、反り量を１００μｍ以下に抑えることができるが、コア基板の厚みを０．４mm以上に設定する必要があり、総厚みを薄くする本願の目的を達成できなくなると予想される。
【００５２】
[実施例３]
実施例１では、コア基板３０の上に第１層間絶縁層５０Ａ、第２層間絶縁層５０Ｂが一層設けられた。これに対して、実施例３では、コア基板３０の上に、第１面（上面）側に２層の第１層間絶縁層５０Ａ、１５０Ａが、第２面（下面）側に２層の第２層間絶縁層５０Ｂ、１５０Ｂが設けられる。層間絶縁層１５０Ａ、１５０Ｂには、バイアホール１６０及び導体回路１５８が形成される。実施例３のように、２層以上の層間絶縁層を備える場合でも、第１面（上面）側の下側第１層間絶縁層５０Ａの厚みＢ１と、上側第１層間絶縁層１５０Ａの厚みＢ２とを加えたｂ、第２面（下面）側の下側第２層間絶縁層５０Ｂの厚みＣ１と、上側第２層間絶縁層１５０Ｂの厚みＣ２とを加えたｃが、実施例１と同様に、
α／（Ｅ×(ａ＋ｂ＋ｃ)）＝０．５×１０−６〜２．５×１０−６／ＧＰａ・mm・Ｋ
を成立させることで、反りの発生を抑えることができると推測される。
【００５３】
実施例２−１〜実施例２−１０は、第１層間樹脂絶縁層および第２層間樹脂絶縁層は、実施例１と同様に１層づつでもいいし、実施例３と同様にそれぞれ２層以上の複数層でもよい。
【符号の説明】
【００５４】
１０  プリント配線板
３０  絶縁性基板
３１  バイアホール用通孔
３１ａ  第１開口
３１ｂ  第２開口
３４  導体回路
３６  バイアホール導体
３６ａ  第１導体部
３６ｂ  第２導体部
３６ｃ  バイアホールランド
５０Ａ  第１層間絶縁層
５０Ｂ  第２層間絶縁層
５８  導体回路
６０  バイアホール
７０  ソルダーレジスト層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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