(57)【要約】【課題】作業時間の増大や製品制度の低下を招くことなく、平坦な状態で対象ワークを保持することのできる吸着ステージを提供する。【解決手段】露光光が結像されて所定のマスクパターンが露光される対象ワーク２２を平坦な載置面４０ｂ上で保持する吸着ステージ（４０）であって、載置面４０ｂに対する対象ワーク２２の姿勢を固定すべく対象ワーク２２を吸着可能な固定吸着機構６０と、載置面４０ｂと面当接させるべく対象ワーク２２を吸着可能な平面吸着機構７０と、を備え、平面吸着機構７０は、載置面４０ｂを開口する複数の平面吸着孔７１を有し、載置面４０ｂ上における任意の一点から外縁へ向けて順に各平面吸着孔７１による吸着動作を開始する。【選択図】  図１８
2012151418.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光光が結像されて所定のマスクパターンが露光される対象ワークを平坦な載置面上で保持する吸着ステージであって、
前記載置面に対する前記対象ワークの姿勢を固定すべく該対象ワークを吸着可能な固定吸着機構と、前記載置面と面当接させるべく該対象ワークを吸着可能な平面吸着機構と、を備え、
該平面吸着機構は、前記載置面を開口する複数の平面吸着孔を有し、前記載置面上における任意の一点から外縁へ向けて順に該各平面吸着孔による吸着動作を開始することを特徴とする吸着ステージ。
【請求項２】
前記平面吸着機構は、前記載置面上において、それぞれが少なくとも１つ以上の前記平面吸着孔が位置する複数の吸着区画を有し、該各吸着区画単位で前記各平面吸着孔の吸着動作を開始することを特徴とする請求項１に記載の吸着ステージ。
【請求項３】
前記固定吸着機構は、前記載置面上において、上端面で前記対象ワークに吸着可能な少なくとも２つ以上の固定吸着部を有することを特徴とする請求項１または請求項２に記載の吸着ステージ。
【請求項４】
前記各固定吸着部は、前記対象ワークを吸着保持した状態での前記上端面の前記載置面に沿う方向の変位が可能とされていることを特徴とする請求項３に記載の吸着ステージ。
【請求項５】
請求項３または請求項４に記載の吸着ステージであって、
さらに、前記載置面に対して該載置面に直交する直交方向へと進退自在とされ、上端に吸着面を有するリフトピンを備え、
前記各固定吸着部は、前記載置面から前記上端面を前記直交方向に突出した状態で前記対象ワークを吸着保持可能であるとともに、前記対象ワークを吸着保持した状態で前記上端面を前記載置面と面一とすることが可能であることを特徴とする吸着ステージ。
【請求項６】
前記平面吸着機構は、前記載置面上における中心位置から前記載置面の周縁部へ向けて、順に前記各平面吸着孔による吸着動作を開始することを特徴とする請求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載の吸着ステージ。
【請求項７】
前記平面吸着機構は、前記載置面上における縁部から前記載置面の中心位置を通る方向へ向けて、順に前記各平面吸着孔による吸着動作を開始することを特徴とする請求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載の吸着ステージ。
【請求項８】
前記平面吸着機構は、吸着動作を開始した前記平面吸着孔における吸着状態に応じて、次の前記平面吸着孔による吸着動作を開始することを特徴とする請求項１ないし請求項７のいずれか１項に記載の吸着ステージ。
【請求項９】
前記平面吸着機構は、前記固定吸着機構により保持された前記対象ワークでの撓みに応じて、前記各平面吸着孔における吸着動作開始の順序を設定することを特徴とする請求項１ないし請求項８のいずれか１項に記載の吸着ステージ。
【請求項１０】
前記対象ワークの基準平面に対する位置および姿勢を制御する載置ステージであって、請求項１ないし請求項９のいずれか１項に記載の吸着ステージを用いることを特徴とする載置ステージ。
【請求項１１】
請求項１ないし請求項９のいずれか１項に記載の吸着ステージを用いることを特徴とする露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プリント基板や液晶基板等の基板を吸着により保持する吸着ステージ、およびそれを搭載する露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
フォトレジストなどの感光材料を塗布した対象ワークの表面に、所定のマスクパターンを露光装置により露光し、その後エッチング工程により基板上にマスクパターンを形成するフォトリソグラフィ法が種々の分野で広く応用されており、プリント配線基板や液晶基板等も露光装置を用いて製造されている。このような露光装置では、所定のパターンが形成されたマスクを透過した露光光を投影レンズで対象ワーク上に結像させることにより、対象ワーク上に所定のマスクパターンを形成するものがある。この露光装置では、対象ワーク上の所望の位置に結像させるために、対象ワークを吸着により保持する吸着ステージを用いることが知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
この従来の露光装置の吸着ステージでは、載置台としての基板クランプ台に、貫通孔を通じて上下に移動可能とされた受取ピンと、穴により形成された吸着パッドと、が設けられている。この吸着ステージでは、搬送アームにより搬送された対象ワークを、基板クランプ台の載置面から突出させた受取ピンの上端で受け取り、搬送アームを退避させた後に受取ピンを下降させることにより、その対象ワークを基板クランプ台の載置面に載置させ、その対象ワークを吸着パッドで吸着することにより保持することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００４−１８６６８１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、露光装置では、露光光の結像によりマスクパターンを対象ワーク上に形成するものであることから、載置面に保持された対象ワークが結像面に対して平坦な状態であることが求められる。ところが、上記した従来の吸着ステージでは、単に面精度の高い基板クランプ台（載置面）に載置して吸着するものであることから、受取ピンにより支持された状態における対象ワークに生じている撓み（うねりや反りとも言い全体的か部分的かは問わない）を解消することは極めて困難である。そこで、載置面上の対象ワークを複数の爪で押さえつけることにより対象ワークを平坦な状態としてから、吸着パッドで吸着する構成とすることが考えられる。
【０００６】
しかしながら、このような構成とすると、載置面に載置された対象ワーク上へと爪を出し入れする必要があることから、マスクパターンの形成に要する時間（スループット）の増大を招いてしまう。また、爪で対象ワークを押さえつけることにより当該対象ワークの表面にキズを付けてしまう虞があるとともに、爪の動作に起因して対象ワークに塵埃を付着させてしまう虞があり、製品精度の低下を招いてしまう虞がある。
【０００７】
本発明は、上記の事情に鑑みて為されたもので、その目的は、作業時間の増大や製品制度の低下を招くことなく、平坦な状態で対象ワークを保持することのできる吸着ステージを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
請求項１に記載の発明は、露光光が結像されて所定のマスクパターンが露光される対象ワークを平坦な載置面上で保持する吸着ステージであって、前記載置面に対する前記対象ワークの姿勢を固定すべく該対象ワークを吸着可能な固定吸着機構と、前記載置面と面当接させるべく該対象ワークを吸着可能な平面吸着機構と、を備え、該平面吸着機構は、前記載置面を開口する複数の平面吸着孔を有し、前記載置面上における任意の一点から外縁へ向けて順に該各平面吸着孔による吸着動作を開始することを特徴とする。
【０００９】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の吸着ステージであって、前記平面吸着機構は、前記載置面上において、それぞれが少なくとも１つ以上の前記平面吸着孔が位置する複数の吸着区画を有し、該各吸着区画単位で前記各平面吸着孔の吸着動作を開始することを特徴とする。
【００１０】
請求項３に記載の発明は、請求項１または請求項２に記載の吸着ステージであって、前記固定吸着機構は、前記載置面上において、上端面で前記対象ワークに吸着可能な少なくとも２つ以上の固定吸着部を有することを特徴とする。
【００１１】
請求項４に記載の発明は、請求項３に記載の吸着ステージであって、前記各固定吸着部は、前記対象ワークを吸着保持した状態での前記上端面の前記載置面に沿う方向の変位が可能とされていることを特徴とする。
【００１２】
請求項５に記載の発明は、請求項３または請求項４に記載の吸着ステージであって、さらに、前記載置面に対して該載置面に直交する直交方向へと進退自在とされ、上端に吸着面を有するリフトピンを備え、前記各固定吸着部は、前記載置面から前記上端面を前記直交方向に突出した状態で前記対象ワークを吸着保持可能であるとともに、前記対象ワークを吸着保持した状態で前記上端面を前記載置面と面一とすることが可能であることを特徴とする。
【００１３】
請求項６に記載の発明は、請求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載の吸着ステージであって、前記平面吸着機構は、前記載置面上における中心位置から前記載置面の周縁部へ向けて、順に前記各平面吸着孔による吸着動作を開始することを特徴とする。
【００１４】
請求項７に記載の発明は、請求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載の吸着ステージであって、前記平面吸着機構は、前記載置面上における縁部から前記載置面の中心位置を通る方向へ向けて、順に前記各平面吸着孔による吸着動作を開始することを特徴とする。
【００１５】
請求項８に記載の発明は、請求項１ないし請求項７のいずれか１項に記載の吸着ステージであって、前記平面吸着機構は、吸着動作を開始した前記平面吸着孔における吸着状態に応じて、次の前記平面吸着孔による吸着動作を開始することを特徴とする。
【００１６】
請求項９に記載の発明は、請求項１ないし請求項８のいずれか１項に記載の吸着ステージであって、前記平面吸着機構は、前記固定吸着機構により保持された前記対象ワークでの撓みに応じて、前記各平面吸着孔における吸着動作開始の順序を設定することを特徴とする。
【００１７】
請求項１０に記載の発明は、前記対象ワークの基準平面に対する位置および姿勢を制御する載置ステージであって、請求項１ないし請求項９のいずれか１項に記載の吸着ステージを用いることを特徴とする。
【００１８】
請求項１１に記載の露光装置は、請求項１ないし請求項９のいずれか１項に記載の吸着ステージを用いることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１９】
本発明の吸着ステージによれば、平面吸着機構が、載置面における任意の一点から外縁へ向けて、順に吸着動作を開始することから、対象ワークに撓みが生じている場合であっても、その撓みによる余剰分を載置面の外側（外縁）へと逃がすことができるので、対象ワークを適切に平坦な載置面に吸着させることができる。これにより、対象ワークを平坦な状態として吸着保持することができる。
【００２０】
また、吸着ステージでは、平面吸着機構が、載置面を開口する複数の平面吸着孔で吸引（真空引き）することにより、対象ワークを平坦な状態とするものであることから、製品精度の低下を招いてしまうことを防止することができる。
【００２１】
さらに、吸着ステージでは、平面吸着機構が、載置面を開口する複数の平面吸着孔で吸引（真空引き）することにより、対象ワークを平坦な状態とするものであることから、対象ワークが載置面上に載置されると直ちに各平面吸着孔での吸引（真空引き）を開始することができるので、マスクパターンの形成に要する時間（スループット）の短縮を図ることができる。
【００２２】
上記した構成に加えて、前記平面吸着機構は、前記載置面上において、それぞれが少なくとも１つ以上の前記平面吸着孔が位置する複数の吸着区画を有し、該各吸着区画単位で前記各平面吸着孔の吸着動作を開始することとすると、平面吸着機構における吸着動作の開始のための制御を吸着区画毎に行うこととすることができるので、簡易な制御で対象ワークを平坦な状態とすることができる。
【００２３】
上記した構成に加えて、前記固定吸着機構は、前記載置面上において、上端面で前記対象ワークに吸着可能な少なくとも２つ以上の固定吸着部を有することとすると、簡易な構成で、固定吸着機構で吸着保持することにより、対象ワークの姿勢が変化することを防止することができる。
【００２４】
上記した構成に加えて、前記各固定吸着部は、前記対象ワークを吸着保持した状態での前記上端面の前記載置面に沿う方向の変位が可能とされていることとすると、対象ワークの姿勢を維持しつつ、平面吸着機構による段階的な吸着動作により対象ワークにおいて撓みによる余剰分を外側へと逃がすことの妨げとなることを防止することができる。
【００２５】
上記した構成に加えて、さらに、前記載置面に対して該載置面に直交する直交方向へと進退自在とされ、上端に吸着面を有するリフトピンを備え、前記各固定吸着部は、前記載置面から前記上端面を前記直交方向に突出した状態で前記対象ワークを吸着保持可能であるとともに、前記対象ワークを吸着保持した状態で前記上端面を前記載置面と面一とすることが可能であることとすると、リフトピンとの間での対象ワークの保持状態の移行の際の当該対象ワークへの負荷を抑制することができる。
【００２６】
また、対象ワークの姿勢を維持しつつ当該対象ワークを静かに載置面上に載置することができる。
【００２７】
上記した構成に加えて、前記平面吸着機構は、前記載置面上における中心位置から前記載置面の周縁部へ向けて、順に前記各平面吸着孔による吸着動作を開始することとすると、対象ワークにおいて寄せられる余剰分に偏りが生じることをより抑制することができるので、固定吸着機構の各固定吸着部の吸着により決められた位置および姿勢をより確実に維持しつつ平坦化することができる。
【００２８】
上記した構成に加えて、前記平面吸着機構は、前記載置面上における縁部から前記載置面の中心位置を通る方向へ向けて、順に前記各平面吸着孔による吸着動作を開始することとすると、対象ワークの撓みによる余剰分を他方の縁部へと逃がすことができるので、対象ワークを適切に平坦な載置面に吸着させることができ、対象ワークを平坦な状態として吸着保持することができる。
【００２９】
上記した構成に加えて、前記平面吸着機構は、吸着動作を開始した前記平面吸着孔における吸着状態に応じて、次の前記平面吸着孔による吸着動作を開始することとすると、先に吸着動作が開始された箇所（平面吸着孔）において、対象ワークが載置面に適切に吸着されてから、次の平面吸着孔での吸着動作を開始することができるので、より適切に対象ワークを平坦な状態とすることができる。
【００３０】
上記した構成に加えて、前記平面吸着機構は、前記固定吸着機構により保持された前記対象ワークでの撓みに応じて、前記各平面吸着孔における吸着動作開始の順序を設定することとすると、対象ワークの撓みに応じた順に、各平面吸着孔における吸着動作が開始されるので、より適切に対象ワークを平坦な状態とすることができる。
【００３１】
上記した吸着ステージを用いた載置ステージでは、吸着ステージにおいて対象ワークが極めて高い精度で平坦な状態とされていることから、露光装置の投影光学系に対して、対象ワークにおける露光を行う箇所を適切な状態で位置させることができる。
【００３２】
上記した吸着ステージを用いた露光装置では、吸着ステージにおいて対象ワークが極めて高い精度で平坦な状態とされていることから、対象ワークにマスクパターン像を適切に露光することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】本願発明に係る露光装置１０の構成を模式的に示す説明図である。
【図２】載置ステージ３０の構成を模式的に示す斜視図である。
【図３】図２のＩ−Ｉ線に沿って得られた断面図である。
【図４】載置ステージ３０におけるベース部材３１、両Ｙ軸駆動機構３２、Ｙ軸スライダ３３、両Ｘ軸駆動機構３４および両Ｘ軸スライダ３５の様子を示す図２と同様の斜視図である。
【図５】図４にＸＹ調整板３６および各連結部（５１、５２、５３、５４）を加えた様子を示す図２と同様の斜視図である。
【図６】両Ｘ軸スライダ３５、ＸＹ調整板３６および各連結部（５１、５２、５３、５４）の位置関係を説明するための説明図である。
【図７】第１連結部５１の構成を模式的に示す斜視図である。
【図８】第２連結部５２の構成を模式的に示す斜視図である。
【図９】第３連結部５３の構成を模式的に示す斜視図である。
【図１０】第４連結部５４の構成を模式的に示す斜視図である。
【図１１】図５に各Ｚ軸駆動機構３７を加えた様子を示す図２と同様の斜視図である。
【図１２】Ｚ軸駆動機構３７Ａの構成の説明のために、その駆動本体部の周辺を拡大して示す図３と同様の断面図である。
【図１３】リフト機構３９の構成を模式的に示す斜視図である。
【図１４】載置ステージ３０の機能構成を示すブロック図である。
【図１５】チャックプレート４０の周辺構成を模式的に示す斜視図であり、各リフトピン３９ｂが載置面４０ｂの上方へと突出された状態を示している。
【図１５Ａ】図１５に示す一点鎖線で囲まれた範囲を拡大して示す図１５と同様の斜視図である。
【図１６】チャックプレート４０の周辺構成を模式的に示す図１５と同様の斜視図であり、各リフトピン３９ｂが載置面４０ｂの下方へと引き込まれた状態を示している。
【図１７】チャックプレート４０を上方から見た模式的な正面図である。
【図１８】３つの吸着区画（７７〜７９）を説明するための図１７と同様の正面図である。
【図１９】チャックプレート４０を裏面側から見た模式的な斜視図である。
【図２０】他の例の吸着動作の開始の方向を説明するための図１７と同様の正面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３４】
以下に、本願発明に係る載置ステージ３０の実施の形態について図面を参照しつつ説明する。
【実施例】
【００３５】
先ず、本願発明に係る載置ステージ３０を用いた露光装置１０の概略的な構成について説明する。図１は、本願発明に係る露光装置の一例としての露光装置１０の構成を模式的に示す説明図である。露光装置１０は、図１に示すように、光軸方向に沿って出射側から順に、光源１１と、コールドミラー１２と、露光シャッタ１３と、紫外線バンドパスフィルタ１４と、インテグレータレンズ１５と、コリメータレンズ１６と、平面鏡１７と、マスクステージ１８と、マスクブラインド１９と、投影レンズ２０と、倍率補正部２１と、載置ステージ３０（投影露光ステージ）と、を有する。この露光装置１０は、露光光として紫外線を用いている。
【００３６】
光源１１は、露光に用いる露光光としての紫外線の照射のために設けられており、本実施例では、水銀ランプ１１ａが楕円反射鏡（楕円鏡）１１ｂの第１焦点位置に配置されて構成されている。この光源１１では、水銀ランプ１１ａから出射された出射光を、楕円反射鏡１１ｂで反射してコールドミラー１２へと進行させる。
【００３７】
コールドミラー１２は、入射した光のうち、赤外領域の熱線を透過させるとともに他の波長帯域の光を反射するものであり、入射した光から赤外領域の熱線を分離することができる。このため、光源１１からの出射光は、コールドミラー１２により赤外領域の熱線が分離されて、露光シャッタ１３もしくは紫外線バンドパスフィルタ１４へと進行する。
【００３８】
その露光シャッタ１３は、コールドミラー１２により反射された出射光の透過および遮断の切り替えを可能とすべく、コールドミラー１２から紫外線バンドパスフィルタ１４へと向かう光路（後述する照射光路）上に出し入れ自在とされている。この露光シャッタ１３は、光路上から退避されると後述するように対象ワーク２２の露光を可能とし、光路上に位置されると対象ワーク２２の露光を停止させる。
【００３９】
紫外線バンドパスフィルタ１４は、入射した光のうち紫外線のみの透過を許すものであり、本実施例では、波長３６５ｎｍの水銀のスペクトル線であるｉ線の透過を許すｉ線バンドパスフィルタにより構成されている。このため、コールドミラー１２により反射された出射光は、紫外線バンドパスフィルタ１４により紫外線（ｉ線）の波長帯域のみの光（実際には、ｉ線の波長帯域の近傍の強度が高い光）とされて、インテグレータレンズ１５へと進行する。
【００４０】
インテグレータレンズ１５は、入射した光の照度ムラを打ち消して照射面において周辺部まで均一で明るい照度分布とする。このため、紫外線バンドパスフィルタ１４を経て紫外線（ｉ線）の波長帯域のみの光とされた入射光は、インテグレータレンズ１５により均一な照度分布とされてコリメータレンズ１６へと進行する。
【００４１】
コリメータレンズ１６は、入射した光を平行光（光束）として出射する。このため、インテグレータレンズ１５を経て均一な照度分布とされた出射光は、コリメータレンズ１６により平行光とされて平面鏡１７へと進行し、その平面鏡１７により反射されてマスクステージ１８へと進行する。
【００４２】
マスクステージ１８は、パターンが形成されたマスク１８ａを、平面鏡１７により反射された出射光の光路上に位置させつつ当該光路の光軸に直交する方向に移動可能に保持する。また、マスクステージ１８は、図示は略すが、マスク１８ａの取り外しが可能とされており、マスク１８ａとは異なるパターンが形成されたマスクへの交換が可能とされている。このため、平面鏡１７により反射された出射光は、マスク１８ａを透過することにより、マスク１８ａに形成されたパターンの形状に応じたものとされて投影レンズ２０へと進行する。
【００４３】
このことから、露光装置１０では、光源１１から、コールドミラー１２、露光シャッタ１３、紫外線バンドパスフィルタ１４、インテグレータレンズ１５、コリメータレンズ１６および平面鏡１７を経る光路が、マスク１８ａを露光光としての紫外線（ｉ線）で照射するための照射光学系として機能する。
【００４４】
このマスクステージ１８と投影レンズ２０との間に、マスクブラインド１９が設けられている。マスクブラインド１９は、マスク１８ａを経た出射光の光路上に進退自在に設けられており、マスク１８ａのマスクパターンのうち所望の領域のみのマスクパターン像を、載置ステージ３０に載置された後述する対象ワーク２２上に適切に形成すべく、マスク１８ａのマスクパターンに応じて適宜光路上に進出される。
【００４５】
投影レンズ２０は、載置ステージ３０上の後述する対象ワーク２２に、マスク１８ａに形成されたパターンを適切に露光するためのものであり、マスクステージ１８に保持されたマスク１８ａのパターンの像（以下、マスクパターン像ともいう）を、適宜変倍して載置ステージ３０に載置された後述する対象ワーク２２の表面に形成する。すなわち、投影レンズ２０は、載置ステージ３０に載置された状態の対象ワーク２２の表面を結像面として、当該結像面とマスク１８ａとを光学的に共役な位置関係としている。露光装置１０では、上述したように、露光光として紫外線（ｉ線）を用いることから、投影レンズ２０は、露光光である紫外線（ｉ線）に対して高精度に収差補正されて設定されている。このため、投影レンズ２０は、マスク１８ａを透過した出射光が入射されると、マスク１８ａのマスクパターン像を載置ステージ３０上の結像面（後述する対象ワーク２２上）に適切に形成する。
【００４６】
この投影レンズ２０と載置ステージ３０との間に、倍率補正部２１が設けられている。倍率補正部２１は、載置ステージ３０上に載置される後述する対象ワーク２２における歪みに応じて、載置ステージ３０上の結像面に形成するマスクパターン像を変形させるものである。この倍率補正部２１は、光路に直交する面で見て、任意の方向での倍率を適宜変化させることにより、結像面でのマスクパターン像を変形させる。倍率補正部２１は、例えば、光路方向に複数枚のガラス板を並列し、各ガラス板を適宜湾曲させたり回転させたりする構成とすることで、実現することができる。
【００４７】
このように、露光装置１０では、マスクブラインド１９、投影レンズ２０および倍率補正部２１が、所定のパターンが形成されたマスク１８ａを透過した露光光としての紫外線を、載置ステージ３０上の結像面（後述する対象ワーク２２上）にマスクパターン像として結像させる投影光学系として機能する。
【００４８】
載置ステージ３０では、マスクパターンの露光のために対象ワーク２２が載置される。この載置ステージ３０は、載置される対象ワーク２２の表面を投影レンズ２０の結像面に一致させて対象ワーク２２を保持することができるとともに、保持した対象ワーク２２を投影光路に直交する面に沿って移動させることが可能とされている。この載置ステージ３０における対象ワーク２２の移動は、本実施例では、載置ステージ３０の内方に設けられた駆動制御部４３（図１４参照）の制御下で行われる。この載置ステージ３０の構成については、後に詳細に説明する。なお、載置ステージ３０における対象ワーク２２の移動は、手動により行うものであってもよい。
【００４９】
その対象ワーク２２は、本実施例では、シリコンウエハやガラス基板やプリント基板等に、紫外線（ｉ線）に対して光反応するフォトレジスト等の感光材料が塗布または張り付けられて形成されている。このため、対象ワーク２２は、紫外線（ｉ線）の照射により露光可能とされている。
【００５０】
この露光装置１０では、照射光学系において、光源１１から出射された出射光が、コールドミラー１２、紫外線バンドパスフィルタ１４、インテグレータレンズ１５、コリメータレンズ１６および平面鏡１７を経て、マスクステージ１８へと到達することにより、マスクステージ１８に保持されたマスク１８ａを紫外線（ｉ線）で一様に照射する。すると、露光装置１０では、投影光学系すなわちマスクブラインド１９、投影レンズ２０および倍率補正部２１の機能により、載置ステージ３０上の結像面に、紫外線（ｉ線）によるマスクパターン像が適切に形成される。このことから、露光装置１０では、対象ワーク２２を結像面に沿う適切な位置（姿勢）とすることにより、対象ワーク２２にマスクパターン像を適切に露光することができる。このマスクパターン像に対する対象ワーク２２の位置、すなわち光学的に投影光学系（主に、投影レンズ２０）を経たマスク１８ａに対する対象ワーク２２の位置は、載置ステージ３０が保持する対象ワーク２２を結像面上で適宜移動させることにより、調整する（アライメントする）ことができる。
【００５１】
本発明に係る露光装置１０で用いる載置ステージ３０は、図２および図３に示すように、ベース部材３１と、２つのＹ軸駆動機構３２と、Ｙ軸スライダ３３と、２つのＸ軸駆動機構３４と、２つのＸ軸スライダ３５と、ＸＹ調整板３６と、３つのＺ軸駆動機構３７と、Ｚ軸調整板３８と、リフト機構３９と、チャックプレート４０と、を有する。
【００５２】
ベース部材３１は、上述した投影光学系に対する対象ワーク２２（図１参照）の位置関係を設定する際の基準となる基準平面に沿って延在する板状部材であり、当該投影光学系に対して固定的に設けられている。この基準平面は、上述した投影光学系によりマスクパターン像が結像される位置、すなわち投影レンズ２０によりマスク１８ａと光学的に共役な位置関係とされた結像面である。基準平面は、本実施例では、当該投影光学系の光軸方向をＺ軸方向として、そのＺ軸に直交する平面であるＸ−Ｙ平面に平行な平面とする。このＺ軸方向の正の側は、載置ステージ３０から上述した投影光学系へと向かう側（図２を正面視して上側）とし、本明細書では、載置ステージ３０における上側とも言う。このため、ベース部材３１は、Ｘ−Ｙ平面に沿って延在している。このベース部材３１の上面に、２つのＹ軸駆動機構３２が設けられている。
【００５３】
２つのＹ軸駆動機構３２は、図２ないし図４に示すように、ベース部材３１の上面において、Ｘ軸方向で見た両端位置に設けられている。この両Ｙ軸駆動機構３２は、ベース部材３１に対するＹ軸方向への駆動力をＹ軸スライダ３３へと付与するものである。そのＹ軸スライダ３３は、中央に貫通孔３３ａを有する板状を呈し、基準平面に沿って設けられている。
【００５４】
各Ｙ軸駆動機構３２は、後述するＸ軸駆動機構３４と基本的に同様の構成であり、Ｙ軸固定子３２ａと、一対のベース側Ｙ軸ガイド部材３２ｂと、図示は略すが、Ｙ軸可動子と、一対のスライダ側Ｙ軸ガイド部材と、を有する。Ｙ軸固定子３２ａは、ベース部材３１の上面において、異なる磁極が隣り合うように複数の永久磁石がＹ軸方向に整列されて形成されており、所謂マグネットトラックを構成している。両ベース側Ｙ軸ガイド部材３２ｂは、ベース部材３１の上面において、Ｙ軸固定子３２ａを挟むように対を為して設けられており、Ｙ軸方向に延在している。この両ベース側Ｙ軸ガイド部材３２ｂは、Ｙ軸スライダ３３の下面（裏面）に設けられた一対のスライダ側Ｙ軸ガイド部材（図示せず）と、延在方向（Ｙ軸方向）への摺動自在な嵌合が可能とされている。図示を略すＹ軸可動子は、Ｙ軸スライダ３３の下面（裏面）において、一対のスライダ側Ｙ軸ガイド部材（図示せず）の間に設けられており、Ｚ軸方向（上下方向）でＹ軸固定子３２ａと対向可能とされている。このＹ軸可動子（図示せず）には、電流の印加が可能とされたコイルが収容されている。
【００５５】
各Ｙ軸駆動機構３２では、Ｙ軸可動子（図示せず）とＹ軸固定子３２ａとの間での磁力による吸引反発力を適宜作用させることにより、当該Ｙ軸可動子が固定されたＹ軸スライダ３３をベース部材３１に対してＹ軸方向に適宜移動させることができる。このため、本実施例では、Ｙ軸方向が基準平面に沿う第１方向として機能し、両Ｙ軸駆動機構３２が第１駆動機構として機能し、Ｙ軸スライダ３３が第１スライダとして機能する。このベース部材３１上におけるＹ軸スライダ３３の位置を検出するために、図示は略すが位置検出素子が設けられている。なお、両Ｙ軸駆動機構３２は、単一のＹ軸スライダ３３を移動させるものであることから、双方が同期されて制御される。
【００５６】
載置ステージ３０では、その内方に設けられた駆動制御部４３（図１４参照）により、両Ｙ軸可動子（図示せず）への印加電流を同期的に制御して、当該両Ｙ軸可動子と両Ｙ軸固定子３２ａとの間での磁力による吸引反発力を適宜作用させることにより、当該両Ｙ軸可動子が固定されたＹ軸スライダ３３をベース部材３１に対して適宜移動させる。このとき、駆動制御部４３では、この移動が磁力による吸引反発力を利用するものであることから、設定した移動目標位置へと適切に移動するように、位置検出素子（図示せず）からの位置情報に基づいてサーボ制御を行う。このＹ軸スライダ３３に、２つのＸ軸駆動機構３４が設けられている。
【００５７】
２つのＸ軸駆動機構３４は、Ｙ軸スライダ３３の上面において、Ｙ軸方向で見た両端位置に設けられている。この各Ｘ軸駆動機構３４は、Ｙ軸スライダ３３に対するＸ軸方向への駆動力を、対応するＸ軸スライダ３５（３５Ａ、３５Ｂ）へと付与するものである。その両Ｘ軸スライダ３５は、Ｘ軸方向で見て略等しい長さ寸法とされた板状を呈し、Ｚ軸方向で見て等しい高さ位置（上下位置）で基準平面に沿って設けられている。
【００５８】
各Ｘ軸駆動機構３４は、Ｘ軸固定子３４ａと、一対のベース側Ｘ軸ガイド部材３４ｂと、Ｘ軸可動子３４ｃと、一対のスライダ側Ｘ軸ガイド部材３４ｄと、を有する。Ｘ軸固定子３４ａは、Ｙ軸スライダ３３の上面において、異なる磁極が隣り合うように複数の永久磁石がＹ軸方向に整列されて形成されており、所謂マグネットトラックを構成している。両ベース側Ｘ軸ガイド部材３４ｂは、Ｙ軸スライダ３３の上面において、Ｘ軸固定子３４ａを挟むように対を為して設けられており、Ｘ軸方向に延在している。この両ベース側Ｘ軸ガイド部材３４ｂは、対応するスライダ側Ｘ軸ガイド部材３４ｄの延在方向への摺動自在な嵌合が可能とされている。Ｘ軸可動子３４ｃは、Ｘ軸スライダ３５の下面（裏面）に設けられており、Ｚ軸方向（上下方向）でＸ軸固定子３４ａと対向可能とされている（図３参照）。このＸ軸可動子３４ｃには、電流の印加が可能とされたコイルが収容されている。Ｘ軸可動子３４ｃの両側に、一対のスライダ側Ｘ軸ガイド部材３４ｄが設けられている。
【００５９】
この２つのＸ軸駆動機構３４は、一方（個別に述べるときは３４Ａとする）がＸ軸スライダ３５Ａに対応されて設けられており、他方が（個別に述べるときは３４Ｂとする）がＸ軸スライダ３５Ｂに対応されて設けられている。すなわち、Ｘ軸駆動機構３４Ａは、一方のＸ軸スライダ３５ＡをＸ軸方向に移動させるべく設けられており、そのＸ軸可動子３４ｃがＸ軸スライダ３５Ａの下面に設けられている。また、Ｘ軸駆動機構３４Ｂは、他方のＸ軸スライダ３５ＢをＸ軸方向に移動させるべく設けられており、そのＸ軸可動子３４ｃがＸ軸スライダ３５Ｂの下面に設けられている。
【００６０】
各Ｘ軸駆動機構３４では、Ｘ軸可動子３４ｃとＸ軸固定子３４ａとの間での磁力による吸引反発力を適宜作用させることにより、対応するＸ軸スライダ３５（３５Ａもしくは３５Ｂ）をＹ軸スライダ３３に対してＸ軸方向に適宜移動させることができる。このため、本実施例では、Ｘ軸方向が基準平面に沿いかつ第１方向に対して傾斜する第２方向として機能し、各Ｘ軸駆動機構３４が第２駆動機構として機能し、各Ｘ軸スライダ３５が第２スライダとして機能する。このＹ軸スライダ３３上における各Ｘ軸スライダ３５Ａ、３５Ｂの位置を検出するために、図示は略すが位置検出素子が設けられている。なお、本実施例では、Ｘ軸スライダ３５ＡとＸ軸スライダ３５ＢとがＸ軸方向での移動可能な範囲の中央位置にある状態、すなわちＸ軸スライダ３５ＡとＸ軸スライダ３５ＢとがＹ軸スライダ３３の上面においてＸ軸方向での中央位置でＹ軸方向に整列している状態（図４等参照）を、両Ｘ軸駆動機構３４による駆動制御（Ｘ軸方向への移動）の基準位置としている。
【００６１】
載置ステージ３０では、その内方に設けられた駆動制御部４３（図１４参照）により、各Ｘ軸可動子３４ｃへの印加電流が個別に制御されて、Ｘ軸可動子３４ｃとＸ軸固定子３４ａとの間での磁力による吸引反発力を適宜作用させることにより、Ｘ軸可動子３４ｃが固定されたＸ軸スライダ３５（３５Ａもしくは３５Ｂ）がＹ軸スライダ３３に対して適宜個別にもしくは一体的に移動される。このとき、駆動制御部４３では、この移動が磁力による吸引反発力を利用するものであることから、設定した移動目標位置へと適切に移動するように、位置検出素子（図示せず）からの位置情報に基づいてサーボ制御を行う。この２つのＸ軸スライダ３５を架け渡すように、ＸＹ調整板３６が設けられている（図５参照）。
【００６２】
ＸＹ調整板３６は、対象ワーク２２（図１参照）のＸ−Ｙ方向での位置およびＸ−Ｙ平面に沿う回転姿勢の設定（調整）のために設けられている。このＸＹ調整板３６は、図５に示すように、板状を呈し、両Ｘ軸スライダ３５の上方で、当該Ｘ軸スライダ３５ＡとＸ軸スライダ３５Ｂとを基準平面に沿って架け渡すように、延在されている。ＸＹ調整板３６は、基本的には、第１連結部５１でＸ軸スライダ３５Ａに連結されるとともに、第２連結部５２でＸ軸スライダ３５Ｂに連結されている。本実施例では、その第１連結部５１および第２連結部５２に加えて、第３連結部５３でＸ軸スライダ３５Ａに連結されるとともに、第４連結部５４でＸ軸スライダ３５Ｂに連結されている。この各連結部（５１、５２、５３、５４）は、Ｚ軸方向に延在されており、上側の一端でＸＹ調整板３６に接続するとともに、下側の他端でＸ軸スライダ３５（３５Ａ、３５Ｂ）に接続している。
【００６３】
ここで、図６に示すように、ＸＹ調整板３６において、第１連結部５１が接続された箇所を板側第１支持点Ｓｂ１とし、第２連結部５２が接続された箇所を板側第２支持点Ｓｂ２とし、第３連結部５３が接続された箇所を板側第３支持点Ｓｂ３とし、第４連結部５４が接続された箇所を板側第４支持点Ｓｂ４とする。また、Ｘ軸スライダ３５Ａにおいて、第１連結部５１が接続された箇所をスライダ側第１支持点Ｓｓ１とし、第３連結部５３が接続された箇所をスライダ側第３支持点Ｓｓ３とする。さらに、Ｘ軸スライダ３５Ｂにおいて、第２連結部５２が接続された箇所をスライダ側第２支持点Ｓｓ２とし、第４連結部５４が接続された箇所をスライダ側第４支持点Ｓｓ４とする。本実施例では、ＸＹ調整板３６における各支持点（Ｓｂ１、Ｓｂ２、Ｓｂ３、Ｓｂ４）は、Ｚ軸方向からみると、正方形を描くように配置されている。
【００６４】
その第１連結部５１は、板側第１支持点Ｓｂ１とスライダ側第１支持点Ｓｓ１とをＺ軸方向で見て同一直線上に位置させつつ相対的な位置関係を固定した状態で、両支持点Ｓｂ１、Ｓｓ１を含む基準軸線Ｂａ回りにＸ軸スライダ３５ＡとＸＹ調整板３６とが相対的に回転することを許容するように、Ｘ軸スライダ３５ＡとＸＹ調整板３６とを連結する。本実施例では、第１連結部５１は、図７に示すように、Ｘ軸スライダ３５Ａに固定されＺ軸方向に延出された連結基部分５１ａと、その延出端部分５１ｂに対して回転可能に設けられた回転部分５１ｃと、を有する。この連結基部分５１ａは、全体に円筒状を呈し、その中心軸線（Ｂａ）がＺ軸方向に沿うものとされている。この回転部分５１ｃは、連結基部分５１ａの延出端部分５１ｂを取り囲む環状を呈し、延出端部分５１ｂに対して連結基部分５１ａの中心軸線（Ｂａ）回りに回転自在とされている。第１連結部５１では、回転部分５１ｃがＸＹ調整板３６に固定的に取り付けられている。
【００６５】
この第１連結部５１では、連結基部分５１ａの中心軸線（Ｂａ）回りに、連結基部分５１ａと回転部分５１ｃとの相対的な回転が可能であることから、連結基部分５１ａが設けられたＸ軸スライダ３５Ａと、回転部分５１ｃが設けられたＸＹ調整板３６と、の上記中心軸線（Ｂａ）回りの相対的な回転を許容しつつ、Ｘ軸スライダ３５ＡとＸＹ調整板３６とを連結している。このため、第１連結部５１では、連結基部分５１ａの中心軸線が基準軸線Ｂａとなり、連結基部分５１ａの中心位置がスライダ側第１支持点Ｓｓ１となり、回転部分５１ｃの中心位置が板側第１支持点Ｓｂ１となる。
【００６６】
第２連結部５２は、板側第２支持点Ｓｂ２とスライダ側第２支持点Ｓｓ２とをＸ−Ｙ平面に沿う第３方向への相対的な位置の変化を許容し、かつＺ軸方向回りにＸ軸スライダ３５ＢとＸＹ調整板３６とが相対的に回転することを許容するように、Ｘ軸スライダ３５ＢとＸＹ調整板３６とを連結する（図６等参照）。この第２連結部５２は、本実施例では、図８に示すように、Ｘ軸スライダ３５Ｂに固定されＺ軸方向に延出された連結基部分５２ａと、その連結基部分５２ａに対して回転可能とされた連結回転部分５２ｂと、その上端面に固定されたレール保持部分５２ｃと、そのレール保持部分５２ｃに摺動可能に保持されるレール５２ｄと、そのレール５２ｄに固定された取付部分５２ｅと、を有する。この連結基部分５２ａは、全体に円筒状を呈し、その中心軸線がＺ軸方向に沿うものとされている。連結回転部分５２ｂは、連結基部分５２ａよりも小さな径寸法の円柱状を呈し、その連結基部分５２ａ上の同心位置に設けられている。この連結回転部分５２ｂは、連結基部分５２ａに対して当該連結基部分５２ａの中心軸線回りに回転自在とされている。レール保持部分５２ｃは、Ｘ−Ｙ平面に沿う方向であって、Ｘ軸方向（第２方向）およびＹ軸方向（第１方向）に対して傾斜する第３方向へと摺動可能にレール５２ｄを保持することが可能とされている。レール５２ｄは、第３方向に延在された棒状を呈し、取付部分５２ｅに固定されている。取付部分５２ｅは、全体に円柱状を呈し、ＸＹ調整板３６に固定的に取り付けられている。このため、レール５２ｄは、取付部分５２ｅを介してＸＹ調整板３６に固定されていることとなる。このレール５２ｄの延在方向すなわち第３方向は、本実施例では、ＸＹ調整板３６上において板側第２支持点Ｓｂ２と板側第１支持点Ｓｂ１とを結ぶ線分の延在方向に一致するものとされており、各支持点（Ｓｂ１、Ｓｂ２、Ｓｂ３、Ｓｂ４）が描く正方形の対角線と一致されている。このため、第３方向は、両Ｘ軸駆動機構３４が駆動制御の基準位置とされると、Ｘ軸方向（第２方向）およびＹ軸方向（第１方向）に対して４５度の傾斜を有するものとなる。なお、第３方向は、本実施例では、ＸＹ調整板３６に対して固定されているが、Ｘ軸スライダ３５Ｂに対して固定されているものであってもよい。
【００６７】
この第２連結部５２では、レール５２ｄとレール保持部分５２ｃとの第３方向への相対的な移動が可能であるとともに、そのレール保持部分５２ｃが設けられた連結回転部分５２ｂの中心軸線回りに、連結回転部分５２ｂと連結基部分５２ａとの相対的な回転が可能である。このため、第２連結部５２は、連結基部分５２ａが設けられたＸ軸スライダ３５Ｂと、レール５２ｄ（取付部分５２ｅ）が設けられたＸＹ調整板３６と、の第３方向への相対的な変位を許容し、かつ連結基部分５２ａ（連結回転部分５２ｂ）の中心軸線回りのＸ軸スライダ３５ＢとＸＹ調整板３６との相対的な回転を許容しつつ、Ｘ軸スライダ３５ＢとＸＹ調整板３６とを連結している。このため、第２連結部５２では、連結基部分５２ａの中心位置がスライダ側第２支持点Ｓｓ２となり、レール５２ｄ（取付部分５２ｅ）の中心位置が板側第２支持点Ｓｂ２となる。この第２連結部５２は、Ｘ軸スライダ３５ＡとＸ軸スライダ３５Ｂとが駆動制御の基準位置とされた際、板側第２支持点Ｓｂ２とスライダ側第２支持点Ｓｓ２とをＺ軸方向で見て同一直線上に位置させる（レール５２ｄの中心位置（取付部分５２ｅの中心軸線）と連結基部分５２ａの中心軸線とが一致する）基準位置となるように位置設定されて、Ｘ軸スライダ３５ＢとＸＹ調整板３６とにそれぞれ設けられている。
【００６８】
第３連結部５３は、板側第３支持点Ｓｂ３とスライダ側第３支持点Ｓｓ３とをＸ−Ｙ平面に沿う方向への相対的な位置の変化を許容し、かつＺ軸方向回りにＸ軸スライダ３５ＡとＸＹ調整板３６とが相対的に回転することを許容するように、Ｘ軸スライダ３５ＡとＸＹ調整板３６とを連結する（図６等参照）。本実施例では、第３連結部５３は、図９に示すように、Ｘ軸スライダ３５Ａに固定された第１レール５３ａと、その第１レール５３ａを摺動可能に保持する第１レール保持部分５３ｂと、その第１レール保持部分５３ｂに固定された固定板部分５３ｃと、その固定板部分５３ｃに固定された第２レール保持部分５３ｄと、その第２レール保持部分５３ｄに摺動可能に保持される第２レール５３ｅと、その第２レール５３ｅに固定された回転軸部分５３ｆと、その回転軸部分５３ｆに対して回転可能に設けられた回転部分５３ｇと、を有する。この第１レール５３ａは、Ｙ軸方向に延在された棒状を呈する。第１レール保持部分５３ｂは、第１レール５３ａの延在方向へと摺動可能に第１レール５３ａを保持することが可能とされている。固定板部分５３ｃは、板状を呈し、下面側に第１レール保持部分５３ｂが設けられるとともに、上面側に第２レール保持部分５３ｄが設けられており、第１レール保持部分５３ｂと第２レール保持部分５３ｄとの位置関係を固定している。第２レール保持部分５３ｄは、Ｘ軸方向へと摺動可能に第２レール５３ｅを保持することが可能とされている。第２レール５３ｅは、Ｘ軸方向に延在された棒状を呈し、その延在方向に移動自在に第２レール保持部分５３ｄに保持されている。回転軸部分５３ｆは、全体に円柱状を呈し、中心軸線がＺ軸方向に沿うように第２レール５３ｅに固定されている。回転部分５３ｇは、回転軸部分５３ｆを取り囲む環状を呈し、その回転軸部分５３ｆに対して当該回転軸部分５３ｆの中心軸線回りに回転自在とされている。第３連結部５３では、回転部分５３ｇがＸＹ調整板３６に固定的に取り付けられている。
【００６９】
この第３連結部５３では、第１レール５３ａと第１レール保持部分５３ｂ（それが固定板部分５３ｃを介して固定された第２レール保持部分５３ｄ）とのＹ軸方向への相対的な移動が可能であり、かつ第２レール保持部分５３ｄと第２レール５３ｅとのＸ軸方向への相対的な移動が可能であり、しかもその第２レール５３ｅに設けられた回転軸部分５３ｆの中心軸線回りに、回転軸部分５３ｆと回転部分５３ｇとの相対的な回転が可能である。このため、第３連結部５３は、第１レール５３ａが設けられたＸ軸スライダ３５Ａと、回転部分５３ｇが設けられたＸＹ調整板３６と、のＸ−Ｙ平面に沿う方向への相対的な変位を許容し、かつ回転軸部分５３ｆの中心軸線回りの相対的な回転を許容しつつ、Ｘ軸スライダ３５ＡとＸＹ調整板３６とを連結している。このため、第３連結部５３では、第１レール５３ａの中心位置がスライダ側第３支持点Ｓｓ３となり、回転部分５３ｇの中心位置が板側第３支持点Ｓｂ３となる。この第３連結部５３は、Ｘ軸スライダ３５ＡとＸ軸スライダ３５Ｂとが駆動制御の基準位置とされた際、板側第３支持点Ｓｂ３とスライダ側第３支持点Ｓｓ３とをＺ軸方向で見て同一直線上に位置させる（回転軸部分５３ｆの中心軸線と第１レール５３ａの中心位置を含むＺ軸方向に沿う直線とが一致する）基準位置となるように位置設定されて、Ｘ軸スライダ３５ＡとＸＹ調整板３６とにそれぞれ設けられている。すなわち、第３連結部５３は、板側第３支持点Ｓｂ３とスライダ側第３支持点Ｓｓ３とのＺ軸方向で見た間隔を変動させることなく（当該間隔を所定の大きさ寸法に維持しつつ）、板側第３支持点Ｓｂ３とスライダ側第３支持点Ｓｓ３とのＸ−Ｙ平面に沿う方向への相対的な位置の変動を可能とするものである。
【００７０】
第４連結部５４は、板側第４支持点Ｓｂ４とスライダ側第４支持点Ｓｓ４とをＸ−Ｙ平面に沿う方向への相対的な位置の変化を許容し、かつＺ軸方向回りにＸ軸スライダ３５ＢとＸＹ調整板３６とが相対的に回転することを許容するように、Ｘ軸スライダ３５ＢとＸＹ調整板３６とを連結する（図６等参照）。本実施例では、第４連結部５４は、図１０に示すように、Ｘ軸スライダ３５Ｂに固定された第１レール５４ａと、その第１レール５４ａを摺動可能に保持する第１レール保持部分５４ｂと、その第１レール保持部分５４ｂに固定された固定板部分５４ｃと、その固定板部分５４ｃに固定された第２レール保持部分５４ｄと、その第２レール保持部分５４ｄに摺動可能に保持される第２レール５４ｅと、その第２レール５４ｅに固定された回転軸部分５４ｆと、その回転軸部分５４ｆに対して回転可能に設けられた回転部分５４ｇと、を有する。この第１レール５４ａは、Ｘ軸方向に延在された棒状を呈する。第１レール保持部分５４ｂは、第１レール５４ａの延在方向へと摺動可能に第１レール５４ａを保持することが可能とされている。固定板部分５４ｃは、板状を呈し、下面側に第１レール保持部分５４ｂが設けられるとともに、上面側に第２レール保持部分５４ｄが設けられており、第１レール保持部分５４ｂと第２レール保持部分５４ｄとの位置関係を固定している。第２レール保持部分５４ｄは、Ｙ軸方向へと摺動可能に第２レール５４ｅを保持することが可能とされている。第２レール５４ｅは、Ｙ軸方向に延在された棒状を呈し、その延在方向に移動自在に第２レール保持部分５４ｄに保持されている。回転軸部分５４ｆは、全体に円柱状を呈し、中心軸線がＺ軸方向に沿うように第２レール５４ｅに固定されている。回転部分５４ｇは、回転軸部分５４ｆを取り囲む環状を呈し、その回転軸部分５４ｆに対して当該回転軸部分５４ｆの中心軸線回りに回転自在とされている。第４連結部５４では、回転部分５４ｇがＸＹ調整板３６に固定的に取り付けられている。
【００７１】
この第４連結部５４では、第１レール５４ａと第１レール保持部分５４ｂ（それが固定板部分５４ｃを介して固定された第２レール保持部分５４ｄ）とのＸ軸方向への相対的な移動が可能であり、かつ第２レール保持部分５４ｄと第２レール５４ｅとのＹ軸方向への相対的な移動が可能であり、しかもその第２レール５４ｅに設けられた回転軸部分５４ｆの中心軸線回りに、回転軸部分５４ｆと回転部分５４ｇとの相対的な回転が可能である。このため、第４連結部５４は、第１レール５４ａが設けられたＸ軸スライダ３５Ｂと、回転部分５４ｇが設けられたＸＹ調整板３６と、のＸ−Ｙ平面に沿う方向への相対的な変位を許容し、かつ回転軸部分５４ｆの中心軸線回りの相対的な回転を許容しつつ、Ｘ軸スライダ３５ＢとＸＹ調整板３６とを連結している。このため、第４連結部５４では、第１レール５４ａの中心位置がスライダ側第４支持点Ｓｓ４となり、回転部分５４ｇの中心位置が板側第４支持点Ｓｂ４となる。この第４連結部５４は、Ｘ軸スライダ３５ＡとＸ軸スライダ３５Ｂとが駆動制御の基準位置とされた際、板側第４支持点Ｓｂ４とスライダ側第４支持点Ｓｓ４とをＺ軸方向で見て同一直線上に位置させる（回転軸部分５４ｆの中心軸線と第１レール５４ａの中心位置を含むＺ軸方向に沿う直線とが一致する）基準位置となるように位置設定されて、Ｘ軸スライダ３５ＢとＸＹ調整板３６とにそれぞれ設けられている。すなわち、第４連結部５４は、板側第４支持点Ｓｂ４とスライダ側第４支持点Ｓｓ４とのＺ軸方向で見た間隔を変動させることなく（当該間隔を所定の大きさ寸法に維持しつつ）、板側第４支持点Ｓｂ４とスライダ側第４支持点Ｓｓ４とのＸ−Ｙ平面に沿う方向への相対的な位置の変動を可能とするものである。
【００７２】
このため、ＸＹ調整板３６は、ベース部材３１上において、Ｙ軸スライダ３３をＹ軸方向に適宜移動させることによりＹ軸方向の位置の調整が可能であるとともに、両Ｘ軸スライダ３５（３５Ａ、３５Ｂ）を一体的にＸ軸方向に適宜移動させることによりＸ軸方向の位置の調整が可能であり、Ｘ−Ｙ平面に沿う移動が自在とされている。また、ＸＹ調整板３６は、図６に示すように、ベース部材３１上において、Ｘ軸スライダ３５ＡとＸ軸スライダ３５Ｂとを個別にＸ軸方向に適宜移動させること（Ｘ軸方向で見た相対的な位置関係）により、基準軸線Ｂａを回転中心としてＺ軸方向回りで見た回転姿勢を適宜調整することが可能とされている（矢印Ａ１参照）。このとき、ＸＹ調整板３６では、基準軸線Ｂａを基点とする回転に起因する板側第２支持点Ｓｂ２およびスライダ側第２支持点Ｓｓ２と、板側第３支持点Ｓｂ３およびスライダ側第３支持点Ｓｓ３と、板側第４支持点Ｓｂ４およびスライダ側第４支持点Ｓｓ４と、のＸ−Ｙ平面に沿う方向での変動分が、第２連結部５２における第３方向への変位と、第３連結部５３および第４連結部５４におけるＸ−Ｙ平面に沿う方向への変位と、で、吸収されることにより、両Ｘ軸スライダ３５（３５Ａ、３５Ｂ）による支持が可能とされている。また、ＸＹ調整板３６では、第２連結部５２が第３方向への変位のみを許容する構成とされていることから、Ｘ軸スライダ３５Ａに対するＸ軸スライダ３５Ｂの位置関係とＸＹ調整板３６の基準軸線Ｂａ回りの回転姿勢とを一対一で対応させることができる。このため、本実施例では、ＸＹ調整板３６が平面調整板として機能し、両Ｘ軸駆動機構３４と両Ｘ軸スライダ３５とが回転駆動機構としての機能も有する。
【００７３】
このＸＹ調整板３６には、中心位置を取り囲むように設けられた３つの支持部挿通孔３６ａ、３６ｂ、３６ｃと、その中央に設けられた中央貫通孔３６ｄと、が設けられている。３つの支持部挿通孔３６ａ、３６ｂ、３６ｃは、３つのＺ軸駆動機構３７に対応して設けられている。中央貫通孔３６ｄは、Ｚ軸方向から見てＹ軸スライダ３３の貫通孔３３ａよりも小さな大きさ寸法とされており、Ｘ軸スライダ３５ＡとＸ軸スライダ３５Ｂとが駆動制御の基準位置とされた際、当該貫通孔３３ａの中心に位置するものとされている。
【００７４】
その３つのＺ軸駆動機構３７は、ＸＹ調整板３６の下側（裏面側）に設けられている（図１１および図１２参照）。各Ｚ軸駆動機構３７は、対象ワーク２２（図１参照）のＺ軸方向での位置およびＺ軸方向に対する傾斜の設定（調整）のために設けられている。この３つのＺ軸駆動機構３７は、本実施例では、図１１に示すように、１つ（個別に述べるときは３７Ａとする）がＸ軸スライダ３５Ａの上方に位置されており、残りの２つ（個別に述べるときは３７Ｂ、３７Ｃとする）がＸ軸スライダ３５Ｂの上方に位置されている。この各Ｚ軸駆動機構３７は、基本的な構成は等しいものであることから、Ｚ軸駆動機構３７Ａの概略的な構成を説明し、他については省略する。
【００７５】
Ｚ軸駆動機構３７Ａは、図１２に示すように、駆動モータ３７ａと、変換部３７ｂと、伝達軸３７ｃと、スライド軸受部３７ｄと、第１移動部３７ｅと、第１ガイド部３７ｆと、第２ガイド部３７ｇと、第２ガイド保持部３７ｈと、第２移動部３７ｉと、第３ガイド部３７ｊと、第３ガイド保持部３７ｋと、ボールジョイント軸３７ｌと、球面軸受部３７ｍと、Ｚ軸移動部３７ｎと、を有する。
【００７６】
駆動モータ３７ａは、載置ステージ３０の内方に設けられた駆動制御部４３（図１４参照）により、印加電流が適宜制御されて、回転制御される。この駆動モータ３７ａは、本実施例では、ステッピングモータが用いられている。この駆動モータ３７ａの出力軸は、変換部３７ｂに接続されている。この変換部３７ｂには、伝達軸３７ｃも接続されており、駆動モータ３７ａ（その出力軸）の回転運動を、伝達軸３７ｃのＹ軸方向への進退運動に変換する。その伝達軸３７ｃは、Ｙ軸方向に延在された棒状を呈し、スライド軸受部３７ｄにＹ軸方向への進退自在に保持されている。そのスライド軸受部３７ｄは、ＸＹ調整板３６の裏面（下側の面）に固定されており、駆動モータ３７ａから駆動力が付与された伝達軸３７ｃが、Ｙ軸方向に進退移動することを補助する。
【００７７】
その伝達軸３７ｃに、第１移動部３７ｅが固定されている。この第１移動部３７ｅは、上面がＸ−Ｙ平面に沿いかつ下面がＸ−Ｙ平面に対して傾斜する所謂くさび形状を呈し、上面部で第１ガイド部３７ｆを摺動自在に保持している。その第１ガイド部３７ｆは、Ｙ軸方向に延在された棒状を呈し、ＸＹ調整板３６の裏面（下側の面）に固定されている。このため、第１移動部３７ｅは、伝達軸３７ｃのＹ軸方向への進退移動に伴って、Ｙ軸方向への進退移動することが可能とされている。
【００７８】
この第１移動部３７ｅの下面に沿うように、第２ガイド部３７ｇが固定されている。この第２ガイド部３７ｇは、棒状を呈し、Ｙ−Ｚ平面に沿いかつＹ軸に傾斜する方向に延在している。この第２ガイド部３７ｇは、第２ガイド保持部３７ｈに保持される。その第２ガイド保持部３７ｈは、第２ガイド部３７ｇを延在方向に摺動自在に保持可能とされており、第２移動部３７ｉに固定されている。
【００７９】
その第２移動部３７ｉは、全体に柱状を呈し、Ｙ軸方向に延出する腕部分３７ｏを有する。腕部分３７ｏの上面は、第１移動部３７ｅの下面と平行とされている。この腕部分３７ｏの上面に、第２ガイド保持部３７ｈが固定されている。第２移動部３７ｉには、Ｙ軸方向で見て腕部分３７ｏが延出された側とは反対側に、第３ガイド部３７ｊが固定されている。この第３ガイド部３７ｊは、棒状を呈し、Ｚ軸方向に延在している。第３ガイド部３７ｊは、第３ガイド保持部３７ｋに保持される。この第３ガイド保持部３７ｋは、第３ガイド部３７ｊを延在方向に摺動自在に保持可能とされており、ＸＹ調整板３６の延出壁３６ｅに固定されている。この延出壁３６ｅは、ＸＹ調整板３６の裏面（下側の面）から、Ｚ軸方向に沿って下側へと延出されている。
【００８０】
このため、第２移動部３７ｉは、第１移動部３７ｅがＹ軸方向へと進退移動されると、その第１移動部３７ｅに第２ガイド部３７ｇおよび第２ガイド保持部３７ｈを介して接続されていることにより、第３ガイド保持部３７ｋと第３ガイド部３７ｊとの案内方向であるＺ軸方向へと進退移動される。すなわち、第２移動部３７ｉは、伝達軸３７ｃが最も進出する（第１移動部３７ｅが駆動モータ３７ａから離間する）と、Ｚ軸方向で下側へと移動し、伝達軸３７ｃが最も後退する（第１移動部３７ｅが駆動モータ３７ａに接近する）と、Ｚ軸方向で上側へと移動する。このことから、各Ｚ軸駆動機構３７は、所謂クサビ機構とされている。このＺ軸方向に進退移動される第２移動部３７ｉおよび第３ガイド部３７ｊと、ＸＹ調整板３６に固定されてＺ軸方向の高さ位置が一定とされた延出壁３６ｅおよび第３ガイド保持部３７ｋと、は、下部がＸ軸スライダ３５ＡとＸ軸スライダ３５Ｂとの間の空間に位置されている。
【００８１】
この第２移動部３７ｉの上部にボールジョイント軸３７ｌが設けられている。このボールジョイント軸３７ｌは、Ｚ軸方向に延出されて設けられており、その延出端が球状（３７ｐ）とされている。ボールジョイント軸３７ｌの球状部３７ｐは、球面軸受部３７ｍにより保持されている。この球面軸受部３７ｍは、ボールジョイント軸３７ｌの球状部３７ｐを、その球面形状に沿って摺動自在に保持している。球面軸受部３７ｍの上方にＺ軸移動部３７ｎが設けられている。このＺ軸移動部３７ｎは、柱状を呈している。Ｚ軸移動部３７ｎは、第２移動部３７ｉに対して、ボールジョイント軸３７ｌの球状部３７ｐの中心位置回りに、揺動自在とされている。
【００８２】
このため、Ｚ軸駆動機構３７Ａでは、駆動モータ３７ａが適宜回転駆動されることにより第１移動部３７ｅがＹ軸方向へと進退移動し、この第１移動部３７ｅのＹ軸方向への進退移動に伴って第２移動部３７ｉがＺ軸方向へと進退移動し、その第２移動部３７ｉにボールジョイント軸３７ｌおよび球面軸受部３７ｍを介して取り付けられたＺ軸移動部３７ｎが、スライド軸受部３７ｄ、第１移動部３７ｅおよび第３ガイド保持部３７ｋを介して取り付けられたＸＹ調整板３６に対してＺ軸方向で進退移動する。
【００８３】
各Ｚ軸駆動機構３７は、上述したように、ＸＹ調整板３６の各支持部挿通孔（３６ａ、３６ｂ、３６ｃ）に個別に対応して設けられている。具体的には、図１１に示すように、Ｚ軸駆動機構３７ＡのＺ軸移動部３７ｎは、支持部挿通孔３６ａに挿通されており、Ｚ軸駆動機構３７ＢのＺ軸移動部３７ｎは、支持部挿通孔３６ｂに挿通されており、Ｚ軸駆動機構３７ＣのＺ軸移動部３７ｎは、支持部挿通孔３６ｃに挿通されている。各Ｚ軸駆動機構３７では、Ｚ軸移動部３７ｎの上方に、Ｚ軸調整板３８の支持のための調整板支持部（３７ｑ、３７ｒ、３７ｓ）が設けられている。このため、本実施例では、Ｚ軸方向が基準平面に直交する第４方向となり、Ｚ軸調整板３８が第４方向調整板として機能し、各Ｚ軸駆動機構３７が第４方向駆動機構として機能する。また、各Ｚ軸駆動機構３７では、駆動モータ３７ａ、変換部３７ｂ、伝達軸３７ｃ、スライド軸受部３７ｄ、第１移動部３７ｅ、第１ガイド部３７ｆ、第２ガイド部３７ｇ、第２ガイド保持部３７ｈ、第２移動部３７ｉ、第３ガイド部３７ｊ、第３ガイド保持部３７ｋ、ボールジョイント軸３７ｌ、球面軸受部３７ｍおよびＺ軸移動部３７ｎが駆動本体部として機能する。
【００８４】
Ｚ軸駆動機構３７ＡのＺ軸移動部３７ｎ上に設けられる調整板支持部３７ｑは、全体に円柱状を呈し、Ｚ軸調整板３８の裏面（下側の面）に対して所定の位置で固定される。すなわち、調整板支持部３７ｑは、ボールジョイント軸３７ｌと球面軸受部３７ｍとにより揺動自在とされたＺ軸移動部３７ｎ上に設けられていることから、Ｚ軸調整板３８のＸ−Ｙ平面に対する傾斜の変化を許容（支持角度を変更自在に）しつつＺ軸調整板３８の所定の位置を固定的に支持している。このため、調整板支持部３７ｑは、第４方向駆動機構における第１支持部として機能する。
【００８５】
Ｚ軸駆動機構３７ＢのＺ軸移動部３７ｎ上に設けられる調整板支持部３７ｒは、長尺なガイドレールを有し、図示は略すがＺ軸調整板３８の裏面に設けられたガイドレール保持部により摺動可能に当該ガイドレールが保持されることにより、Ｚ軸調整板３８の裏面に接続される。このガイドレールは、延在方向の延長線上にＺ軸駆動機構３７Ａの調整板支持部３７ｑ（Ｚ軸移動部３７ｎ）の軸線が位置するように、換言すると、当該軸線へ向けて延在するように、位置設定されている。この調整板支持部３７ｒは、ボールジョイント軸３７ｌと球面軸受部３７ｍとにより揺動自在とされたＺ軸移動部３７ｎ上に設けられていることから、Ｚ軸調整板３８のＸ−Ｙ平面に対する傾斜の変化を許容（支持角度を変更自在に）しつつＺ軸調整板３８の裏面をガイドレールの延在方向へと変位自在に支持している。このため、調整板支持部３７ｒは、第４方向駆動機構における第２支持部として機能する。
【００８６】
Ｚ軸駆動機構３７ＣのＺ軸移動部３７ｎ上に設けられる調整板支持部３７ｓは、全体に円柱状を呈し、Ｚ軸調整板３８の裏面に摺動自在に当接される。すなわち、調整板支持部３７ｓは、ボールジョイント軸３７ｌと球面軸受部３７ｍとにより揺動自在とされたＺ軸移動部３７ｎ上に設けられていることから、Ｚ軸調整板３８のＸ−Ｙ平面に対する傾斜の変化を許容（支持角度を変更自在に）しつつＺ軸調整板３８を移動自在に支持している。このため、調整板支持部３７ｓは、第４方向駆動機構における第３支持部として機能する。
【００８７】
そのＺ軸調整板３８は、図２に示すように、対象ワーク２２（図１参照）を吸着保持するチャックプレート４０の固定的な載置を可能とする板状部材である。Ｚ軸調整板３８は、各Ｚ軸駆動機構３７を同期させて駆動することにより、Ｚ軸方向で見た高さ位置が調整される。また、Ｚ軸調整板３８は、各Ｚ軸駆動機構３７を適宜個別に駆動することにより、Ｘ−Ｙ平面に対する傾斜が調整される。このとき、Ｚ軸調整板３８では、Ｚ軸駆動機構３７Ａの調整板支持部３７ｑが固定された箇所が基点となり、その調整板支持部３７ｑ、Ｚ軸駆動機構３７Ｂの調整板支持部３７ｒおよびＺ軸駆動機構３７Ｃの調整板支持部３７ｓの高さ位置の差異に起因するそれぞれの間隔の変動分が、調整板支持部３７ｒにおけるガイドレールの延在方向への変位と、調整板支持部３７ｓにおける変位と、で、吸収されることにより、各Ｚ軸駆動機構３７による支持が可能とされている。また、Ｚ軸調整板３８では、Ｚ軸駆動機構３７Ｂの調整板支持部３７ｒがガイドレールの延在方向への変位のみを許容する構成とされていることから、Ｚ軸駆動機構３７Ａの調整板支持部３７ｑが固定された箇所を基点として、Ｚ軸方向回りに回動することが防止されている。
【００８８】
このＺ軸調整板３８には、図３に示すように、工具顕微鏡４１と超音波センサ４２とが設けられている。この工具顕微鏡４１と超音波センサ４２とは、図示は略すが中央挿通孔３８ａの内周縁部に固定されている。その工具顕微鏡４１は、中央挿通孔３８ａから下方へと、ＸＹ調整板３６の中央貫通孔３６ｄおよびＸ軸スライダ３５ＡとＸ軸スライダ３５Ｂとの間の空間に延在されている。工具顕微鏡４１は、露光装置１０の投影光学系に対するＺ軸調整板３８（ＸＹ調整板３６）の基準位置の調整に用いる顕微鏡であり、光軸方向が中央挿通孔３８ａを介して固定されたＺ軸調整板３８が基準姿勢とされた状態においてＺ軸方向に等しいものとされている。このＺ軸調整板３８の基準姿勢は、各Ｚ軸駆動機構３７（調整板支持部（３７ｑ、３７ｒ、３７ｓ））による支持の高さ位置が等しいものとされた状態、すなわちベース部材３１を基準としてＸ−Ｙ平面に沿う状態をいう。この工具顕微鏡４１は、光軸を露光装置１０の投影光学系の投影光軸と一致させることにより、露光装置１０の投影光学系に対するＸ−Ｙ平面に沿う方向で見たＺ軸調整板３８（ＸＹ調整板３６）の位置を基準位置とするように配置されている。また、工具顕微鏡４１は、チャックプレート４０上に対象ワーク２２が吸着保持された際、当該対象ワーク２２を基準平面に沿うものとすべく、チャックプレート４０が取り付けられるＺ軸調整板３８のＺ軸方向で見た位置（高さ位置）の調整のためにも用いることが可能とされている。
【００８９】
超音波センサ４２は、Ｚ軸調整板３８の中央挿通孔３８ａから下方へと、ＸＹ調整板３６の中央貫通孔３６ｄおよびＸ軸スライダ３５ＡとＸ軸スライダ３５Ｂとの間の空間に延在されている。この超音波センサ４２は、チャックプレート４０上に対象ワーク２２が吸着保持（載置）されているか否かの判別のために設けられている。超音波センサ４２は、検出方向が、Ｚ軸調整板３８が基準姿勢とされた状態においてＺ軸方向に等しいものとされている。
【００９０】
図２および図３に示すように、Ｚ軸調整板３８の下方に、リフト機構３９（図２および図３参照）が設けられている。このリフト機構３９は、チャックプレート４０上で、対象ワーク２２（図１参照）をＺ軸方向（正確には、Ｚ軸調整板３８すなわち後述する載置面４０ｂに直交する方向であり、Ｚ軸を含む高さ方向）に移動させるものである。リフト機構３９は、図１３に示すように、リフトベース３９ａと、複数のリフトピン３９ｂと、上下駆動部３９ｃと、リフトピン第１吸引部３９ｄ（図１４参照）と、リフトピン第２吸引部３９ｅ（図１４参照）と、を有する。リフトベース３９ａは、上下駆動部３９ｃによりＺ軸方向へと変位自在に保持された枠部材である。この上下駆動部３９ｃは、図示は略すが上端面がＺ軸調整板３８の裏面（下側の面）に固定されて当該Ｚ軸調整板３８に取り付けられている。このため、リフトベース３９ａは、Ｚ軸調整板３８のＸ−Ｙ平面に対する傾斜に拘らず、上下駆動部３９ｃにより、Ｚ軸調整板３８とＸＹ調整板３６との間で、Ｚ軸調整板３８の板面に直交する方向で見た当該Ｚ軸調整板３８に対する位置（Ｚ軸を含む高さ方向の位置）が変位自在とされている。このリフトベース３９ａに各リフトピン３９ｂが設けられている。
【００９１】
各リフトピン３９ｂは、リフトベース３９ａからＺ軸方向の上側に突起された筒状部材であり、上端にリフトピン吸着面３９ｆが設けられている。このリフトピン吸着面３９ｆは、可撓性を有する材料から形成されており、上方を開口するボウル形状（お碗形状）を呈する（図１５Ａ等参照）。各リフトピン３９ｂには、図示は略すが、リフトピン第１吸引部３９ｄまたはリフトピン第２吸引部３９ｅ（図１４参照）が接続されている。このリフトピン第１吸引部３９ｄまたはリフトピン第２吸引部３９ｅは、対応する各リフトピン３９ｂの基端部からその内方の空間に連通し、当該空間の真空引きおよびその解除が可能とされている。この各リフトピン３９ｂでは、対象ワーク２２（図１参照）がリフトピン吸着面３９ｆに載置された状態で内方の空間がリフトピン第１吸引部３９ｄまたはリフトピン第２吸引部３９ｅで真空引きされることにより、その対象ワーク２２（図１参照）の吸着保持が可能とされている。本実施例では、リフトピン３９ｂは、リフトベース３９ａ上において、内方に２つ（リフトピン３９ｂ１とも言う）配置されるとともに、外方に４つ（リフトピン３９ｂ２とも言う）配置されており、２つのリフトピン３９ｂ１にはリフトピン第１吸引部３９ｄが接続され、４つのリフトピン３９ｂ２にはリフトピン第２吸引部３９ｅ（図１４参照）が接続されている。このため、リフト機構３９では、２つのリフトピン３９ｂ１と４つのリフトピン３９ｂ２とを別々に真空引きすることが可能とされている。
【００９２】
この各リフトピン３９ｂは、Ｚ軸調整板３８に設けられたピン挿通孔３８ｂ（図３等参照）およびチャックプレート４０に設けられたピン挿通孔４０ａ（図３および図１５Ａ等参照）を経て、チャックプレート４０（その後述する載置面４０ｂ）の上方へと突出可能とされている。このリフト機構３９は、載置ステージ３０の内方に設けられた駆動制御部４３（図１４参照）により制御される。この駆動制御部４３は、図１４に示すように、両Ｙ軸駆動機構３２、両Ｘ軸駆動機構３４、各Ｚ軸駆動機構３７、リフト機構３９、後述する固定吸着機構６０および平面吸着機構７０を制御することが可能とされており、後述する姿勢取得機構４４からの検出信号を取得可能とされている。リフト機構３９は、各リフトピン３９ｂをチャックプレート４０の上方へと突出させた状態（図１５参照）で、当該各リフトピン３９ｂの上端面に載置された対象ワーク２２（図１参照）を吸着保持し、その後リフトベース３９ａを下降させて各リフトピン３９ｂをチャックプレート４０側へと引き込む（図１６参照）ことにより、吸着保持した対象ワーク２２をチャックプレート４０（後述する載置面４０ｂ）上に載置させることができる。
【００９３】
そのチャックプレート４０は、図１５および図１６に示すように、全体に矩形の板状を呈し、高い精度で平坦とされた上面で対象ワーク２２（図１参照）の載置のための載置面４０ｂを形成する。チャックプレート４０は、Ｚ軸調整板３８が基準姿勢とされた状態において、載置面４０ｂが基準平面（Ｘ−Ｙ平面）に沿うものとなるように設定されている。そのチャックプレート４０には、固定吸着機構６０と平面吸着機構７０とが設けられている。
【００９４】
固定吸着機構６０は、基本的に、リフト機構３９（その各リフトピン３９ｂ）により吸着保持された対象ワーク２２（図１参照）を、チャックプレート４０の載置面４０ｂ上への載置のために、姿勢変化を招くことなく載置面４０ｂに対する位置を固定して保持するものである。この固定吸着機構６０は、固定吸着部としての複数のリップ吸着部６１を有する。この各リップ吸着部６１は、図１５Ａに示すように、載置面４０ｂを凹ますようにチャックプレート４０に設けられた各吸着凹所４０ｃに個別に設けられている。各リップ吸着部６１は、全体に筒状を呈し、上端がリップ吸着面６１ａとされており、後述するリップ吸引部（６２〜６５（図１４参照））の作用により、リップ吸着面６１ａでの対象ワーク２２（図１参照）の吸着保持が可能とされている。この各リップ吸着部６１は、対象ワーク２２を吸着保持した状態でのリップ吸着面６１ａ（保持位置）の載置面４０ｂに沿う方向での変位を可能とし、かつリップ吸着面６１ａ（保持位置）を載置面４０ｂからその直交方向（Ｚ軸を含む高さ方向）に突出した状態での対象ワーク２２の吸着保持が可能であるとともに、対象ワーク２２を吸着保持した状態でリップ吸着面６１ａ（保持位置）を載置面４０ｂと面一とすることが可能とされている。各リップ吸着部６１は、本実施例では、可撓性を有する樹脂材料から形成され、載置面４０ｂの直交方向（Ｚ軸を含む高さ方向）に延在する蛇腹状の筒部材とされている。
【００９５】
このリップ吸着部６１は、図１５および図１６に示すように、本実施例では、載置面４０ｂの各辺に沿うように３つずつすなわち合計１２個設けられており、それぞれの辺毎の４つのグループに分けられている。以下では、グループ毎にリップ吸着部６１を述べるときは、図１７に示すように、便宜上第ｎ群リップ吸着部６１Ａ、６１Ｂ、６１Ｃ、６１Ｄ（ｎは、１〜４の整数）と言う。すなわち、第１群リップ吸着部６１Ａ、第２群リップ吸着部６１Ｂ、第３群リップ吸着部６１Ｃ、第４群リップ吸着部６１Ｄは、それぞれ３つのリップ吸着部６１を有している。
【００９６】
各リップ吸着部６１には、図示は略すが、リップ吸引部（６２〜６５（図１４参照））が接続されている。このリップ吸引部（６２〜６５）は、対応する各リップ吸着部６１の基端部からその内方の空間に連通し、当該空間の真空引きおよびその解除が可能とされている。この各リップ吸着部６１では、対象ワーク２２（図１参照）がリップ吸着面６１ａに載置された状態で内方の空間がリップ吸引部（６２〜６５）で真空引きされることにより、その対象ワーク２２（図１参照）の吸着保持が可能とされている。このとき、各リップ吸着部６１では、可撓性を有する蛇腹状の筒部材とされていることから、リップ吸着面６１ａ（保持位置）の載置面４０ｂに沿う方向での変位が可能であるとともに、リップ吸引部（６２〜６５）による吸引により軸線方向に折り畳むように縮むことが可能とされている。本実施例では、各リップ吸着部６１は、上述したように、折り畳むように縮むことにより、リップ吸着面６１ａ（保持位置）を載置面４０ｂと面一とすることが可能とされている。
【００９７】
本実施例では、図１４に示すように、第１群リップ吸着部６１Ａには、リップ第１吸引部６２が接続され、第２群リップ吸着部６１Ｂには、リップ第２吸引部６３が接続され、第３群リップ吸着部６１Ｃには、リップ第３吸引部６４が接続され、第４群リップ吸着部６１Ｄにはリップ第４吸引部６５が接続されている。このため、固定吸着機構６０では、各第ｎ群リップ吸着部６１Ａ、６１Ｂ、６１Ｃ、６１Ｄ（ｎは、１〜４の整数）を別々に真空引きすることが可能とされている。固定吸着機構６０では、図１５および図１６に示すように、複数のリップ吸着部６１（少なくとも２つ）で対象ワーク２２を吸着保持することにより、対象ワーク２２の姿勢が変化することを防止することができる。ここで対象ワーク２２の姿勢とは、基準平面に対する対象ワーク２２のＸ、Ｙ、Ｚ軸方向への傾斜を言う。なお、各リップ吸着部６１におけるリップ吸着面６１ａ（保持位置）の載置面４０ｂに沿う方向での変位は、吸着保持した対象ワーク２２自体に載置面４０ｂに沿う方向の力が作用しない限り移動方向が揃うことはなくかつ弾性的なものであることから、吸着保持した対象ワーク２２をＸ−Ｙ平面に沿う方向へと移動させるものではない。これにより、固定吸着機構６０は、対象ワーク２２を吸着保持した各リップ吸着部６１における保持箇所の載置面４０ｂに沿う方向での変位を許容しつつ、載置面４０ｂに直交する方向で載置面４０ｂ側に移動させることができる。このため、固定吸着機構６０は、載置面４０ｂから離間させて吸着保持した対象ワーク２２を載置面４０ｂ上に載置させることができる。
【００９８】
平面吸着機構７０は、載置面４０ｂ上に載置された対象ワーク２２を平坦な状態として、載置面４０ｂ上で吸着保持するものである。この平面吸着機構７０は、複数の平面吸着孔７１を有する。この各平面吸着孔７１は、高さ方向にチャックプレート４０を貫通する貫通孔であり（図３参照）、載置面４０ｂの全領域に渡って設けられている。本実施例では、各平面吸着孔７１は、載置面４０ｂに設けられた複数の環状溝７２上に設けられており、同一の環状溝７２上に位置するもの同士が連通されている（図１５Ａ等参照）。この各環状溝７２は、載置面４０ｂの中心位置を中心とする矩形状を呈し、載置面４０ｂにおける中央近傍位置から各辺近傍位置にかけて段階的に内方の面積を拡大させるように設けられている。各環状溝７２を個別に言う場合には、内側から順に環状溝７２Ａ〜環状溝７２Ｇとする。
【００９９】
各平面吸着孔７１には、図示は略すが、平面孔吸引部（７３〜７５（図１４参照））が接続されている。この平面孔吸引部（７３〜７５（図１４参照））は、チャックプレート４０の裏面側で、対応する各平面吸着孔７１に連通し、その内方の空間の真空引きおよびその解除が可能とされている。この各平面吸着孔７１では、対象ワーク２２（図１参照）が載置面４０ｂに載置された状態で内方の空間が平面孔吸引部（７３〜７５（図１４参照））で真空引きされることにより、その対象ワーク２２（図１参照）の載置面４０ｂ上での吸着保持が可能とされている。本実施例では、各平面吸着孔７１が環状溝７２Ａ〜環状溝７２Ｇ上に設けられていることから、各環状溝７２Ａ〜環状溝７２Ｇは、各平面吸着孔７１が平面孔吸引部（７３〜７５（図１４参照））で真空引きされることにより、対象ワーク２２（図１参照）を載置面４０ｂに吸着保持させることができる。このため、チャックプレート４０は、固定吸着機構６０および平面吸着機構７０により、対象ワーク２２（図１参照）を載置面４０ｂ上で吸着により保持することができる吸着ステージとして機能する。
【０１００】
各環状溝７２は、本実施例では、図１８に示すように、内側の環状溝７２Ａ〜環状溝７２Ｃと、中間の環状溝７２Ｄ〜環状溝７２Ｆと、外側の環状溝７２Ｇと、の３つのグループ（符号７７、７８、７９参照）に分けられている。このため、本実施例では、各グループに対応して３つの平面孔吸引部７３、７４、７５（図１４参照）が設けられており、内側の環状溝７２Ａ〜環状溝７２Ｃには、平面第１孔吸引部７３が接続され、中間の環状溝７２Ｄ〜環状溝７２Ｆには、平面第２孔吸引部７４が接続され、外側の環状溝７２Ｇには、平面第３孔吸引部７５が接続されている。この接続のために、チャックプレート４０の裏面側に複数の吸引室７６（図１９参照）が形成されている。
【０１０１】
各吸引室７６は、図１９に示すように、チャックプレート４０の裏面が凹状とされつつリブ部で区画された凹所が、図示を略す封止部材で閉鎖されることにより形成されている。この各吸引室７６は、本実施例では、内側の吸引室７６Ａと、それを取り巻く吸引室７６Ｂと、その各辺を取り巻く４つの吸引室７６Ｃと、を有する。図示は略すが、吸引室７６Ａは、環状溝７２Ａ〜環状溝７２Ｃ上の各平面吸着孔７１（図１８等参照）に連通し、吸引室７６Ｂは、環状溝７２Ｄ〜環状溝７２Ｆ上の各平面吸着孔７１（図１８等参照）に連通し、４つの吸引室７６Ｃは、環状溝７２Ｇ上の各平面吸着孔７１（図１８等参照）に連通している。また、図示は略すが、吸引室７６Ａには、平面第１孔吸引部７３が接続され、吸引室７６Ｂには、平面第２孔吸引部７４が接続され、吸引室７６Ｃには、平面第３孔吸引部７５が接続されている（図１４参照）。
【０１０２】
このため、平面吸着機構７０では、図１８に示すように、平面第１孔吸引部７３（図１４参照）で真空引きすることにより、吸引室７６Ａ（図１９参照）およびそこに連通する各平面吸着孔７１を介して環状溝７２Ａ〜環状溝７２Ｃ内を真空引きすることができる。このとき、環状溝７２Ａ〜環状溝７２Ｃが、載置面４０ｂ上において互いに隣接しつつ中心位置を取り囲んでいることから、載置面４０ｂの中心位置から環状溝７２Ｃの周辺位置までの所定の領域（第１吸着区画７７とする）で、載置面４０ｂとそこに載置された対象ワーク２２との間が真空引きされることとなる。これにより、平面吸着機構７０では、平面第１孔吸引部７３で真空引きすることにより、載置面４０ｂの中心位置から環状溝７２Ｃの周辺位置までの第１吸着区画７７において、載置面４０ｂとの協働により対象ワーク２２を吸着保持することができる。同様に、平面吸着機構７０では、平面第２孔吸引部７４で真空引きすることにより、吸引室７６Ｂおよびそこに連通する各平面吸着孔７１を介して環状溝７２Ｄ〜環状溝７２Ｆ内を真空引きし、第１吸着区画７７の外方から環状溝７２Ｆの周辺位置までの第２吸着区画７８において、載置面４０ｂとの協働により対象ワーク２２を吸着保持することができる。また、同様に、平面吸着機構７０では、平面第３孔吸引部７５で真空引きすることにより、４つの吸引室７６Ｃおよびそこに連通する各平面吸着孔７１を介して環状溝７２Ｇ内を真空引きし、第２吸着区画７８の外方から環状溝７２Ｇの周辺位置までの第３吸着区画７９において、載置面４０ｂとの協働により対象ワーク２２を吸着保持することができる。
【０１０３】
なお、本実施例では、リフト機構３９、固定吸着機構６０および平面吸着機構７０における各吸引部（３９ｄ、３９ｅ、６２〜６５、７３〜７５）は、図示は略すが、単一の真空ポンプとそこに接続された複数の配管と各配管に設けられた弁機構とにより構成されており、当該弁機構を適宜開閉動作させることにより各吸引部における個別の真空引きおよびその解除が行われる。この平面吸着機構７０の動作は、リフト機構３９および固定吸着機構６０の動作とともに、載置ステージ３０の内方に設けられた駆動制御部４３の制御下で行われる（図１４参照）。この制御については、後に詳細に説明する。
【０１０４】
この載置ステージ３０では、チャックプレート４０の上方へと突出させた各リフトピン３９ｂの上端面に載置された対象ワーク２２（図１参照）を吸着保持し、その対象ワーク２２を、リフト機構３９の動作により、チャックプレート４０による吸着保持へと移行する。その後、載置ステージ３０では、チャックプレート４０で吸着保持した対象ワーク２２の姿勢に応じて、当該対象ワーク２２を露光装置１０の投影光学系の結像面（基準平面）に沿う適切な姿勢としつつ当該投影光学系に対する適切な位置とする。具体的には、ベース部材３１上において、両Ｙ軸スライダ３３をＹ軸方向に、かつ両Ｘ軸スライダ３５（３５Ａ、３５Ｂ）をＸ軸方向に適宜移動させることにより、チャックプレート４０、Ｚ軸調整板３８および各Ｚ軸駆動機構３７を介してＸＹ調整板３６に設けられた対象ワーク２２のＸ−Ｙ平面に沿う位置および回転姿勢を調整する。また、各Ｚ軸駆動機構３７による支持位置を適宜変更することにより、チャックプレート４０およびＺ軸調整板３８を介してＸＹ調整板３６に設けられた対象ワーク２２のＺ軸方向での位置（高さ位置）およびＸ−Ｙ平面に対する傾斜を調整する。これにより、露光装置１０では、対象ワーク２２にマスクパターン像を適切に露光することができる。
【０１０５】
次に、リフト機構３９、固定吸着機構６０および平面吸着機構７０により、対象ワーク２２を平坦な状態としてチャックプレート４０（その載置面４０ｂ）で吸着保持する工程について、図１ないし図１９を参照しつつ説明する。なお、この工程は、上述したように、載置ステージ３０の内方に設けられた駆動制御部４３（図１４参照）の制御下で行われる。また、図２、図３および、図１５ないし図１８では、構成および動作の理解容易のために対象ワーク２２の図示は省略している。
【０１０６】
載置ステージ３０に載置される対象ワーク２２（図１参照）は、図示は略すが、搬送ハンド（搬送アーム）により保持された状態で、チャックプレート４０上に搬送される。この搬送ハンドは、公知の構成とされており、対象ワーク２２を下方から支持するように吸着保持することが可能とされ、その保持状態を維持しつつ移動可能とされている。対象ワーク２２が、搬送ハンド（搬送アーム）によりチャックプレート４０上に搬送されたことは、超音波センサ４２（図３参照）により検出することができる。
【０１０７】
その対象ワーク２２がチャックプレート４０上に搬送されると、載置ステージ３０では、図１５に示すように、リフト機構３９が、各リフトピン３９ｂをチャックプレート４０（載置面４０ｂ）の上方へと突出させて、各リフトピン吸着面３９ｆを対象ワーク２２の裏面に当接させる。その後、リフト機構３９では、リフトピン第１吸引部３９ｄ（図１４参照）での真空引きにより２つのリフトピン３９ｂ１で対象ワーク２２の中央近傍を吸着保持し、続いてリフトピン第２吸引部３９ｅ（図１４参照）での真空引きにより４つのリフトピン３９ｂ２で対象ワーク２２の４つの隅部近傍を吸着保持する。これにより、リフト機構３９では、搬送ハンド（図示せず）に吸着保持されている対象ワーク２２の姿勢を維持したまま、各リフトピン３９ｂ（そのリフトピン吸着面３９ｆ）で吸着保持することができる。なお、本実施例の露光装置１０では、対象ワーク２２が搬送ハンド（図示せず）に吸着保持されている状態において、その対象ワーク２２の姿勢を姿勢取得機構４４（図１４参照）で取得する。その後、リフト機構３９は、図１６に示すように、各リフトピン３９ｂをチャックプレート４０側へと引き込んで、吸着保持した対象ワーク２２の裏面に各リップ吸着部６１のリップ吸着面６１ａを当接させる。
【０１０８】
すると、載置ステージ３０では、図１６および図１７に示すように、固定吸着機構６０が、各リップ吸引部６２〜６５（図１４参照）での真空引きを行って、各リップ吸着部６１（そのリップ吸着面６１ａ）で対象ワーク２２を吸着保持する。その後、リフト機構３９は、各リフトピン３９ｂによる吸着保持を解除して、各リフトピン３９ｂをチャックプレート４０内へと引き込む。固定吸着機構６０は、各リップ吸引部６２〜６５での真空引きを継続し、対象ワーク２２を吸着保持した状態でリップ吸着面６１ａ（保持位置）を載置面４０ｂと面一となる高さ位置まで、各リップ吸着部６１を収縮させる（折り畳ませる）。これにより、固定吸着機構６０では、リフト機構３９に吸着保持されていた対象ワーク２２の姿勢を維持したまま、各リップ吸着部６１で吸着保持しつつ対象ワーク２２を載置面４０ｂ上に載置することができる。なお、固定吸着機構６０では、第ｎ群リップ吸着部６１Ａ、６１Ｂ、６１Ｃ、６１Ｄ（ｎは、１〜４の整数）にグループ分けされた構成とされていたが、本実施例では、総ての吸着動作を一斉に行うものとしている。
【０１０９】
その後、載置ステージ３０では、平面吸着機構７０による段階的な吸着動作を開始する。平面吸着機構７０では、本実施例では、図１８に示すように、先ず、平面第１孔吸引部７３（図１４参照）での真空引きにより、載置面４０ｂの第１吸着区画７７での対象ワーク２２の吸着保持を行う。これにより、平面吸着機構７０では、固定吸着機構６０に吸着保持されている対象ワーク２２の姿勢を維持したまま、当該対象ワーク２２を載置面４０ｂの第１吸着区画７７に吸着させることができる。次に、平面吸着機構７０では、平面第２孔吸引部７４（図１４参照）での真空引きにより、載置面４０ｂの第２吸着区画７８での対象ワーク２２の吸着保持を行う。次に、平面吸着機構７０では、平面第３孔吸引部７５（図１４参照）での真空引きにより、載置面４０ｂの第３吸着区画７９での対象ワーク２２の吸着保持を行う。この平面吸着機構７０による段階的な吸着動作により、対象ワーク２２が、固定吸着機構６０に吸着保持されていた姿勢を維持しつつ平坦な状態とされて載置面４０ｂ（チャックプレート４０）に吸着される。これについて以下で説明する。
【０１１０】
対象ワーク２２では、リフト機構３９（その各リフトピン３９ｂ）に保持されている状態において撓みが生じている場合がある。この撓みとは、全体的か部分的かは問わず平板状の対象ワーク２２自体が湾曲していることを言い、うねりや反りとも言うことができる。この撓みは、露光装置１０の投影光学系によるマスクパターン像の適切な露光の妨げとなってしまうことから、解消した状態とすること、すなわち対象ワーク２２を平坦な状態として載置面４０ｂ（チャックプレート４０）で保持することが望まれている。
【０１１１】
平面吸着機構７０では、上述したように、最初に、対象ワーク２２を平坦な載置面４０ｂの第１吸着区画７７に吸着させる。これは、対象ワーク２２は、固定吸着機構６０に吸着保持されている状態において、自身の重さにより中央が垂れ下がるように湾曲している撓みが生じていることが考えられることによる。これにより、対象ワーク２２は、固定吸着機構６０に吸着保持されている姿勢が維持されて、中央近傍が載置面４０ｂに吸着されて平坦とされる。その後、平面吸着機構７０では、第１吸着区画７７での吸着を維持したまま、対象ワーク２２を載置面４０ｂの第２吸着区画７８に吸着させる。すると、対象ワーク２２では、先に吸着された中央近傍から放射方向外側が、載置面４０ｂに吸着されることとなるので、中央近傍を中心として撓みによる余剰分を放射方向外側へと逃がすように、中央近傍を取り囲む箇所（第２吸着区画７８に相当する領域）が載置面４０ｂに吸着されて平坦とされる。このとき、対象ワーク２２は、固定吸着機構６０の各リップ吸着部６１により吸着保持されているが、その各リップ吸着部６１が可撓性を有する蛇腹状の筒部材とされてリップ吸着面６１ａ（保持位置）の載置面４０ｂに沿う方向での変位を許容していることから、各リップ吸着部６１による吸着保持が問題となることはない。その後、平面吸着機構７０では、第１吸着区画７７および第２吸着区画７８での吸着を維持したまま対象ワーク２２を載置面４０ｂの第３吸着区画７９に吸着させる。すると、対象ワーク２２では、先に吸着された中央近傍およびその外方から放射方向外側が、載置面４０ｂに吸着されることとなるので、吸着された箇所を中心として撓みによる余剰分を放射方向外側へと逃がすように、中央近傍を取り囲む箇所（第３吸着区画７９に相当する領域）が載置面４０ｂに吸着されて平坦とされる。すなわち、本実施例では、載置面４０ｂにおける中心位置から放射方向外側の外周縁部へ向けて、順に吸着動作を開始していることとなる。
【０１１２】
これにより、チャックプレート４０では、搬送ハンド（図示せず）により吸着保持されている対象ワーク２２の姿勢を変化させることなく、当該対象ワーク２２を平坦な状態として、載置面４０ｂに吸着させる（吸着保持する）ことができる。
【０１１３】
本実施例の載置ステージ３０では、上述したように、搬送ハンド（図示せず）により吸着保持されている状態での対象ワーク２２の姿勢を姿勢取得機構４４（図１４参照）で取得している。その取得した対象ワーク２２の姿勢は、上述したように、リフト機構３９および固定吸着機構６０を経て平面吸着機構７０により平坦な状態とされても変化することはない。このため、載置ステージ３０では、対象ワーク２２をチャックプレート４０で吸着保持した後、姿勢取得機構４４（図１４参照）で取得した当該対象ワーク２２の姿勢に基づいて、ベース部材３１上において、両Ｙ軸スライダ３３をＹ軸方向にかつ両Ｘ軸スライダ３５（３５Ａ、３５Ｂ）をＸ軸方向に適宜移動させつつ、各Ｚ軸駆動機構３７による支持位置を適宜変更することにより、対象ワーク２２において露光装置１０の投影光学系により露光を行う箇所を、その結像面となる基準平面上に適切な状態で位置させることができる。これにより、露光装置１０では、対象ワーク２２にマスクパターン像を適切に露光することができる。
【０１１４】
このように、本発明に係る吸着ステージとしてのチャックプレート４０では、平面吸着機構７０が、載置面４０ｂにおいて、中心位置を含む第１吸着区画７７から、第２吸着区画７８を経て第３吸着区画７９へと外周縁部へ向けて、順に吸着動作を開始することから、対象ワーク２２に撓みが生じている場合であっても、その撓みによる余剰分を放射方向外側へと逃がすことができるので、対象ワーク２２を適切に平坦な載置面４０ｂに吸着させることができる。これにより、対象ワーク２２を平坦な状態として吸着保持することができる。
【０１１５】
また、チャックプレート４０では、平面吸着機構７０が、載置面４０ｂを開口する複数の平面吸着孔７１で吸引（真空引き）することにより、対象ワーク２２を平坦な状態とするものであることから、製品精度の低下を招いてしまうことを防止することができる。これは、例えば、載置面４０ｂ上で対象ワーク２２を爪で押さえつけることにより平坦な状態とする構成とした場合、当該爪で対象ワーク２２の表面にキズを付けてしまったり、当該爪の動作に起因して対象ワーク２２に塵埃を付着させてしまったりして、製品精度の低下を招いてしまう虞があることによる。
【０１１６】
さらに、チャックプレート４０では、平面吸着機構７０が、載置面４０ｂを開口する複数の平面吸着孔７１で吸引（真空引き）することにより、対象ワーク２２を平坦な状態とするものであることから、対象ワーク２２が載置面４０ｂ上に載置されると直ちに各平面吸着孔７１での吸引（真空引き）を開始することができるので、マスクパターンの形成に要する時間（スループット）の短縮を図ることができる。これは、例えば、載置面４０ｂ上で対象ワーク２２を爪で押さえつけることにより平坦な状態とする構成とした場合、載置面４０ｂに載置された対象ワーク２２上へと当該爪を出し入れする必要があることから、マスクパターンの形成に要する時間を増大させる要因となってしまうことによる。
【０１１７】
チャックプレート４０では、平面吸着機構７０が、対象ワーク２２における撓みによる余剰分を矩形状の第３吸着区画７９の外方へと逃がすものであることから、寄せられる余剰分を分散することができるので、固定吸着機構６０の各リップ吸着部６１の吸着により決められた位置および姿勢を維持しつつ平坦化することができる。特に、本実施例では、当該余剰分を、載置面４０ｂの中心位置から放射方向外側へと逃がすものであることから、寄せられる余剰分に偏りが生じることをより抑制することができるので、固定吸着機構６０の各リップ吸着部６１の吸着により決められた位置および姿勢をより確実に維持しつつ平坦化することができる。
【０１１８】
チャックプレート４０では、平面吸着機構７０において、複数の吸着区画（上記した実施例では７７〜７９）を設けることにより、吸着動作の開始のための制御を吸着区画毎に行うこととすることができるので、簡易な制御で対象ワーク２２を平坦な状態とすることができる。
【０１１９】
チャックプレート４０では、平面吸着機構７０としての各平面吸着孔７１が、載置面４０ｂの全領域に渡って設けられていることから、対象ワーク２２をより適切に平坦な状態としつつ吸着保持することができる。
【０１２０】
チャックプレート４０では、平面吸着機構７０において、載置面４０ｂを開口する複数の平面吸着孔７１が環状溝７２により連通されていることから、各平面孔吸引部（７３〜７５（図１４参照））での負担の増加を招くことなく、載置面４０ｂ上において広範な領域で対象ワーク２２を吸着することができる。
【０１２１】
チャックプレート４０では、平面吸着機構７０において、複数の環状溝７２（上記した実施例では７２Ａ〜７２Ｇ）が設けられていることから、簡易な構成で、載置面４０ｂ上において少なくとも１つの平面吸着孔７１を有する複数の吸着区画（上記した実施例では７７〜７９）を形成することができる。
【０１２２】
チャックプレート４０では、平面吸着機構７０において、同心状に複数の環状溝７２（上記した実施例では７２Ａ〜７２Ｇ）が設けられていることから、簡易な構成で、載置面４０ｂにおける中心位置から放射方向外側へ向けて順に吸着動作を開始させることができる。
【０１２３】
チャックプレート４０では、固定吸着機構６０の各リップ吸着部６１が、対象ワーク２２を吸着保持した状態においてリップ吸着面６１ａ（保持位置）の載置面４０ｂに沿う方向での変位を許容していることから、対象ワーク２２の姿勢を維持しつつ、平面吸着機構７０による段階的な吸着動作により対象ワーク２２において撓みによる余剰分を放射方向外側へと逃がすことの妨げとなることを防止することができる。
【０１２４】
チャックプレート４０では、固定吸着機構６０の各リップ吸着部６１が、リップ吸着面６１ａ（保持位置）を載置面４０ｂからその直交方向（Ｚ軸を含む高さ方向）に突出した状態での対象ワーク２２の吸着保持が可能であることから、リフト機構３９との間での対象ワーク２２の吸着保持状態の移行の際の当該対象ワーク２２への負荷を抑制することができる。
【０１２５】
チャックプレート４０では、固定吸着機構６０の各リップ吸着部６１が、リップ吸着面６１ａ（保持位置）を載置面４０ｂからその直交方向（Ｚ軸を含む高さ方向）に突出した状態での対象ワーク２２の吸着保持が可能であるとともに、対象ワーク２２を吸着保持した状態でリップ吸着面６１ａ（保持位置）を載置面４０ｂと面一とすることが可能とされていることから、対象ワーク２２の姿勢を維持しつつ当該対象ワーク２２を静かに載置面４０ｂ上に載置することができる。
【０１２６】
チャックプレート４０では、固定吸着機構６０において、複数のリップ吸着部６１で対象ワーク２２を吸着保持することから、対象ワーク２２の姿勢が変化することを防止することができる。
【０１２７】
チャックプレート４０では、固定吸着機構６０が、リフト機構３９の各リフトピン３９ｂにより吸着保持された状態の対象ワーク２２を、複数のリップ吸着部６１で吸着保持することから、リフト機構３９により吸着保持された対象ワーク２２の姿勢を維持したまま当該対象ワーク２２を吸着保持することができる。
【０１２８】
チャックプレート４０では、平面吸着機構７０が、固定吸着機構６０の各リップ吸着部６１により吸着保持された状態の対象ワーク２２を、複数の平面吸着孔７１で吸着保持することから、固定吸着機構６０により吸着保持された対象ワーク２２の姿勢すなわちリフト機構３９により吸着保持された対象ワーク２２の姿勢を維持したまま当該対象ワーク２２を吸着保持することができる。
【０１２９】
チャックプレート４０では、リフト機構３９が、搬送ハンド（図示せず）により吸着保持された状態の対象ワーク２２を、複数のリフトピン３９ｂで吸着保持することから、搬送ハンド（図示せず）により吸着保持された対象ワーク２２の姿勢を維持したまま当該対象ワーク２２を吸着保持することができる。
【０１３０】
チャックプレート４０では、固定吸着機構６０の各リップ吸着部６１が、可撓性を有する樹脂材料から形成され、載置面４０ｂの直交方向に延在する蛇腹状の筒部材とされていることから、簡易な構成で、対象ワーク２２を吸着保持した状態でのリップ吸着面６１ａ（保持位置）の載置面４０ｂに沿う方向での変位を可能とし、かつリップ吸着面６１ａ（保持位置）を載置面４０ｂからその直交方向（Ｚ軸を含む高さ方向）に突出した状態での対象ワーク２２の吸着保持が可能であるとともに、対象ワーク２２を吸着保持した状態でリップ吸着面６１ａ（保持位置）を載置面４０ｂと面一とすることを可能とすることができる。
【０１３１】
チャックプレート４０では、上方に対象ワーク２２が搬送されたか否かの判別のために、超音波センサ４２を用いていることから、チャックプレート４０上での高さ位置（Ｚ軸方向で見た位置）に拘らず対象ワーク２２の有無を検出することができる。
【０１３２】
露光装置１０では、チャックプレート４０において、対象ワーク２２が極めて高い精度で平坦な状態とされていることから、対象ワーク２２にマスクパターン像を適切に露光することができる。
【０１３３】
露光装置１０では、搬送ハンド（図示せず）により吸着保持されている状態での対象ワーク２２の姿勢を姿勢取得機構４４（図１４参照）で取得し、当該対象ワーク２２をチャックプレート４０で吸着保持した後、姿勢取得機構４４で取得した当該対象ワーク２２の姿勢に基づいて、ベース部材３１上において、両Ｙ軸スライダ３３をＹ軸方向にかつ両Ｘ軸スライダ３５（３５Ａ、３５Ｂ）をＸ軸方向に適宜移動させつつ、各Ｚ軸駆動機構３７による支持位置を適宜変更することにより、対象ワーク２２において露光装置１０の投影光学系により露光を行う箇所を、その結像面となる基準平面上に適切な状態で位置させることができるので、マスクパターンの形成に要する時間（スループット）の短縮を図ることができる。
【０１３４】
したがって、本発明に係るチャックプレート４０（吸着ステージ）では、作業時間の増大や製品制度の低下を招くことなく、平坦な状態で対象ワーク２２を保持することができる。
【０１３５】
なお、上記した実施例では、本発明に係る吸着ステージの一例としてのチャックプレート４０について説明したが、露光光が結像されて所定のマスクパターンが露光される対象ワークを平坦な載置面上で保持する吸着ステージであって、前記載置面に対する前記対象ワークの姿勢を固定すべく該対象ワークを吸着可能な固定吸着機構と、前記載置面と面当接させるべく該対象ワークを吸着可能な平面吸着機構と、を備え、該平面吸着機構は、前記載置面を開口する複数の平面吸着孔を有し、前記載置面上における任意の一点から外縁へ向けて順に該各平面吸着孔による吸着動作を開始することを特徴とする吸着ステージであればよく、上記した実施例に限定されるものではない。
【０１３６】
また、上記した実施例では、平面吸着機構７０が載置面４０ｂ上を３つの吸着区画７７〜７９に分けて順に吸着動作を開始する構成とされていたが、載置面４０ｂ上において任意の１点から外縁へ向けて順に各平面吸着孔７１による吸着動作を開始するものであれば、撓みによる余剰分を外側へと逃がすことができるので、吸着区画を設けなくてもよく、上記した実施例に限定されるものではない。載置面４０ｂ上において任意の１点から外縁へ向けるとは、例えば、上記した実施例のように載置面４０ｂが矩形状であるものとして、任意の１点が載置面４０ｂの中心位置であれば、当該中心位置からの間隔が小さいものから大きいものへと向かう（中心位置からの放射方向）ことを言い、任意の１点が載置面４０ｂの隅部近傍であれば、図２０に矢印Ａ２で示すように、全体として対角線方向へ向かうことを言い、任意の１点が載置面４０ｂの辺部近傍であれば、図２０に矢印Ａ３で示すように、全体としてそこに対向する辺部へ向かうことを言う。
【０１３７】
さらに、上記した実施例では、平面吸着機構７０が、載置面４０ｂ上を３つの吸着区画７７〜７９に分けるとともに、第１吸着区画７７、第２吸着区画７８、第３吸着区画７９の順に吸着動作を開始する構成とされていたが、載置面４０ｂ上において任意の１点から外縁へ向けて順に吸着動作を開始するものであれば、吸着区画（但し、少なくとも１つの平面吸着孔７１を有する）の数および吸着動作の移行の方向は適宜設定（例えば、対象ワーク２２に生じる撓みの傾向に応じて設定する等）すればよく、上記した実施例に限定されるものではない。
【０１３８】
上記した実施例では、平面吸着機構７０において、各平面吸着孔７１が複数の環状溝７２（７２Ａ〜７２Ｇ）により連通されていたが、この各環状溝７２は設けなくてもよく、上記した実施例に限定されるものではない。
【０１３９】
上記した実施例では、平面吸着機構７０において、同心状に複数の環状溝７２（上記した実施例では７２Ａ〜７２Ｇ）が設けられていたが、この環状溝は吸着区画を形成すべく複数の平面吸着孔７１を連通させるものであれば、形状および本数は適宜設定すればよく、上記した実施例に限定されるものではない。
【０１４０】
上記した実施例では、平面吸着機構７０において、単に、第１吸着区画７７、第２吸着区画７８、第３吸着区画７９の順に吸着動作を開始する構成とされていたが、吸着動作を開始した吸着区画における吸着状態に応じて、次の吸着区画の吸着動作を開始する構成としてもよい。これは、例えば、図１４に二点鎖線で示すように、各吸着区画における吸着状態を取得可能な吸着状態取得機構４５を設け、その吸着状態取得機構４５からの出力信号すなわち適切に吸着しているか否かに応じて、駆動制御部４３（図１４参照）が各平面孔吸引部７３、７４、７５（図１４参照）を駆動制御することにより、実現することができる。この吸着状態取得機構４５は、例えば、各平面吸着孔７１、各平面孔吸引部７３、７４、７５もしくは各吸引室７６における圧力変動を検出することにより、簡易な構成で実現することができる。このような構成とした場合、先に吸着動作が開始された吸着区画において、対象ワーク２２が載置面４０ｂに適切に吸着されてから、次の吸着区画での吸着動作を開始することができるので、より適切に対象ワーク２２を平坦な状態とすることができる。
【０１４１】
上記した実施例では、平面吸着機構７０において、載置面４０ｂを同心状の３つの吸着区画７７〜７９に分けて、第１吸着区画７７、第２吸着区画７８、第３吸着区画７９の順に吸着動作を開始する構成とされていたが、載置面４０ｂ上において任意の１点から外縁へ向けて順に吸着動作を開始することを前提として、載置面４０ｂを任意の吸着区画に分けるとともに、搬送ハンド（図示せず）、リフト機構３９もしくは固定吸着機構６０に吸着保持されている対象ワーク２２の撓みに応じて、各吸着区画における吸着動作を開始する順番を適宜設定する構成としてもよい。この場合、少なくとも２つ以上の吸着区画が載置面４０ｂの外縁を含むように載置面４０ｂを区画するか、載置面４０ｂの中心位置からの間隔が同一であってもＸ軸方向および／またはＹ軸方向での位置が異なる少なくとも２つ以上の吸着区画に分ければよい。また、対象ワーク２２の撓みは、姿勢取得機構４４（図１４参照）や照射光学系でのピント調整のための光学系（図示せず）を用いて検出すればよい。このような構成の場合、対象ワーク２２における撓みの位置や方向性に応じて、駆動制御部４３（図１４参照）が各吸着区画に対応する平面孔吸引部を適宜駆動制御することにより、実現することができる。このような構成とした場合、対象ワーク２２の撓みに応じた順に、各吸着区画における吸着動作が開始されるので、より適切に対象ワーク２２を平坦な状態とすることができる。このことは、吸着区画を設けることなく複数の平面吸着孔７１による吸着動作を順に開始する場合であっても同様である。
【０１４２】
上記した実施例では、固定吸着機構６０において、６つのリップ吸着部６１が設けられていたが、対象ワーク２２の姿勢を維持する観点から少なくとも２つのリップ吸着部６１を有するものであればよく、上記した実施例に限定されるものではない。
【０１４３】
上記した実施例では、固定吸着機構６０において、４つの第ｎ群リップ吸着部６１Ａ、６１Ｂ、６１Ｃ、６１Ｄ（ｎは、１〜４の整数）での吸着動作を一斉に行うものとしていたが、現実の対象ワーク２２の撓みや対象ワーク２２における撓みの傾向に応じて、順に吸着動作を行うものとしてもよく、上記した実施例に限定されるものではない。
【０１４４】
上記した実施例では、固定吸着機構６０の各リップ吸着部６１が、可撓性を有する樹脂材料から形成され、載置面４０ｂの直交方向に延在する蛇腹状の筒部材とされていたが、対象ワーク２２を吸着保持した状態でのリップ吸着面６１ａ（保持位置）の載置面４０ｂに沿う方向での変位を可能とし、かつリップ吸着面６１ａ（保持位置）を載置面４０ｂからその直交方向（Ｚ軸を含む高さ方向）に突出した状態での対象ワーク２２の吸着保持が可能であるとともに、対象ワーク２２を吸着保持した状態でリップ吸着面６１ａ（保持位置）を載置面４０ｂと面一とすることを可能とするものであれば、例えば、弾性変形可能な中空の球体にリップ吸着面としての吸着孔と真空引きのための引き孔とを設けて構成してもよく、上記した実施例に限定されるものではない。
【０１４５】
以上、本発明の吸着ステージ、それを用いた載置ステージおよびそれを用いた露光装置を実施例に基づき説明してきたが、具体的な構成については、この実施例に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない限り、設計の変更や追加等は許容される。
【符号の説明】
【０１４６】
１０  露光装置
２２  対象ワーク
３０  載置ステージ
３９ｂ  リフトピン
４０  （吸着ステージとしの）チャックプレート
４０ｂ  載置面
６０  固定吸着機構
６１  （固定吸着部としての）リップ吸着部
７０  平面吸着機構
７１  平面吸着孔
【図１】
2012151418.tif 000003
【図２】
2012151418.tif 000004
【図３】
2012151418.tif 000005
【図４】
2012151418.tif 000006
【図５】
2012151418.tif 000007
【図６】
2012151418.tif 000008
【図７】
2012151418.tif 000009
【図８】
2012151418.tif 000010
【図９】
2012151418.tif 000011
【図１０】
2012151418.tif 000012
【図１１】
2012151418.tif 000013
【図１２】
2012151418.tif 000014
【図１３】
2012151418.tif 000015
【図１４】
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【図１５】
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【図１５Ａ】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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