(57)【要約】【課題】バルク型の光記録媒体の製品コストの増加を抑えつつ、バルク層に対し録再用レーザ光がほぼロス無く到達されるようにする。【解決手段】第１の光（録再光）の照射によって深さ方向において選択的にマークの記録が行われ上記マークが多層状に形成される記録層の下層側に対し、上記第１の光とは波長の異なる第２の光（サーボ光）を反射するための反射膜を形成した光記録媒体とする。これにより、上記記録層に対して録再光がほぼロス無く照射されるようにできる。また同時に、上記のように反射膜を上記記録層の下層側に設けた構造とすれば、当該反射膜としては、サーボ光のみを選択反射する必要性はないものとできるので、従来用いられていた誘電体多層膜は不要とでき、例えば金属材料の単層構造による比較的低コストな反射膜を用いることができる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の光の照射によって深さ方向において選択的にマークの記録が行われ、上記マークが多層状に形成される記録層と、
上記第１の光とは波長の異なる第２の光を反射するための反射膜であって、上記記録層の下層側に設けられた反射膜と
を備える光記録媒体。
【請求項２】
上記反射膜に対して位置案内子が形成されている請求項１に記載の光記録媒体。
【請求項３】
上記反射膜は金属を主成分とする材料で構成されている請求項２に記載の光記録媒体。
【請求項４】
上記反射膜は、上記第１の光に対する反射率が上記第２の光に対する反射率よりも小さくなるように構成されている
請求項３に記載の光記録媒体。
【請求項５】
上記反射膜は、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、金（Ａｕ）の何れかを主成分とした材料で構成されている請求項３に記載の光記録媒体。
【請求項６】
上記反射膜は合金で構成されている請求項３に記載の光記録媒体。
【請求項７】
上記反射膜は銀と銅の合金で構成されている請求項６に記載の光記録媒体。
【請求項８】
上記記録層の上層側にカバー層が形成されている請求項１に記載の光記録媒体。
【請求項９】
上記記録層と上記反射膜とを有する層ユニットを２つ備え、それぞれの層ユニットにおける上記反射膜同士を対向させた向きでそれらの層ユニットを接着した貼り合わせ構造を有する
請求項１に記載の光記録媒体。
【請求項１０】
その上面側に対し凹凸断面形状が与えられた基板を有し、上記基板の上記上面側に対して上記反射膜が成膜されることで、上記反射膜に上記位置案内子が形成されている
請求項２に記載の光記録媒体。
【請求項１１】
上記記録層の下面側に対し凹凸断面形状が与えられ、上記記録層の下面側に上記反射膜が成膜されることで上記反射膜に上記位置案内子が形成されている
請求項２に記載の光記録媒体。
【請求項１２】
第１の光の照射によって深さ方向において選択的にマークの記録が行われ、上記マークが多層状に形成される記録層の下層側に対し、上記第１の光とは波長の異なる第２の光を反射するための反射膜を形成する
光記録媒体の製造方法。
【請求項１３】
その上面側に案内溝としての凹凸断面形状が与えられた基板を生成する基板生成工程と、
上記基板の上記上面側に対して上記反射膜を成膜する反射膜成膜工程と、
上記反射膜と上記記録層とを接着する記録層接着工程と
を有する請求項１２に記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項１４】
その下面側に対して案内溝としての凹凸断面形状が与えられた上記記録層を生成する記録層生成工程と、
上記記録層の上記下面側に対して上記反射膜を成膜する反射膜成膜工程と、
上記反射膜と基板とを接着する基板接着工程と
を有する請求項１２に記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項１５】
第１の光の照射によって深さ方向において選択的にマークの記録が行われ、上記マークが多層状に形成される記録層と、上記第１の光とは波長の異なる第２の光を反射するための反射膜であって上記記録層の下層側に設けられた反射膜とを備える光記録媒体に対する記録を行う記録装置であって、
上記第１の光と上記第２の光とが入射され、これら第１の光と第２の光の双方を上記光記録媒体に対して照射する対物レンズと、
上記対物レンズをフォーカス方向に駆動する対物レンズフォーカス機構と、
上記対物レンズに入射する上記第１の光のコリメーション状態を変化させることで上記第１の光の合焦位置を上記第２の光とは独立して変化させる合焦位置独立調整機構と、
上記第２の光の上記反射膜からの反射光を受光して得られるフォーカスエラー信号に基づいて上記対物レンズフォーカス機構を駆動することで、上記第２の光が上記記録層の下層側に形成された上記反射膜に合焦するように上記対物レンズについてのフォーカスサーボ制御を行うフォーカスサーボ制御部と、
上記第１の光の合焦位置が上記反射膜の上層側に形成された上記記録層内の記録対象層位置に調整されるように上記合焦位置独立調整機構を制御すると共に、上記第１の光によるマーク記録が実行されるように制御を行う制御部と
を備える記録装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、深さ方向において選択的にマークの記録が行われ、上記マークが多層状に形成される記録層を有する光記録媒体とその製造方法に関する。また、光記録媒体が有する記録層に対するマーク記録を行う記録装置に関する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００２】
【特許文献１】特開２００８−１３５１４４号公報
【特許文献２】特開２００８−１７６９０２号公報
【背景技術】
【０００３】
光の照射により信号の記録／再生が行われる光記録媒体として、例えばＣＤ（Compact Disc）、ＤＶＤ（Digital Versatile Disc）、ＢＤ（Blu-ray Disc：登録商標）などのいわゆる光ディスクが普及している。
【０００４】
これらＣＤ、ＤＶＤ、ＢＤなど現状において普及している光記録媒体の次世代を担うべき光記録媒体に関して、先に本出願人は、上記特許文献１や上記特許文献２に記載されるようないわゆるバルク記録型（単にバルク型とも呼ばれる）の光記録媒体を提案している。
【０００５】
ここで、バルク記録とは、例えば図１９に示すようにして少なくともカバー層１０１とバルク層（記録層）１０２とを有する光記録媒体（バルク型記録媒体１００）に対し、逐次焦点位置を変えてレーザ光照射を行ってバルク層１０２内に多層記録を行うことで、大記録容量化を図る技術である。
【０００６】
このようなバルク記録に関して、上記特許文献１には、いわゆるマイクロホログラム方式と呼ばれる記録技術が開示されている。マイクロホログラム方式では、バルク層１０２の記録材料として、いわゆるホログラム記録材料が用いられる。ホログラム記録材料としては、例えば光重合型フォトポリマ等が広く知られている。
【０００７】
マイクロホログラム方式は、ポジ型マイクロホログラム方式と、ネガ型マイクロホログラム方式とに大別される。
ポジ型マイクロホログラム方式は、対向する２つの光束（光束Ａ、光束Ｂ）を同位置に集光して微細な干渉縞（ホログラム）を形成し、これを記録マークとする手法である。
また、ネガ型マイクロホログラム方式は、ポジ型マイクロホログラム方式とは逆の発想で、予め形成しておいた干渉縞をレーザ光照射により消去して、当該消去部分を記録マークとする手法である。このネガ型マイクロホログラム方式では、初期化処理として、予めバルク層に干渉縞を形成しておく処理が必要となる。
【０００８】
また、本出願人は、マイクロホログラム方式とは異なるバルク記録の手法として、例えば特許文献２に開示されるようなボイド（void：空包、空孔）を記録マークとして形成する記録手法も提案している。
ボイド記録方式は、例えば光重合型フォトポリマ或いは樹脂などで構成されたバルク層１０２に対して、比較的高パワーでレーザ光照射を行い、上記バルク層１０２内に空包を記録する手法である。特許文献２に記載されるように、このように形成された空包部分は、バルク層１０２内における他の部分と屈折率が異なる部分となり、それらの境界部分で光の反射率が高められることになる。従って上記空包部分は記録マークとして機能し、これによって空包マークの形成による情報記録が実現される。
【０００９】
このようなボイド記録方式は、ホログラムを形成するものではないので、記録にあたっては片側からの光照射を行えば済むものとできる。すなわち、上述のポジ型マイクロホログラム方式の場合のように２つの光束を同位置に集光して記録マークを形成する必要は無いものとできる。
また、ネガ型マイクロホログラム方式との比較では、初期化処理を不要にできるというメリットがある。
なお、特許文献２には、ボイド記録を行うにあたり記録前のプリキュア光の照射を行う例が示されているが、このようなプリキュア光の照射は省略してもボイドの記録は可能である。
【００１０】
ところで、上記のような各種の記録手法が提案されているバルク記録型（単にバルク型とも称する）の光記録媒体であるが、このようなバルク型の光記録媒体の記録層（バルク層）は、例えば反射膜が複数形成されるという意味での明示的な多層構造を有するものではない。すなわち、バルク層１０２においては、通常の多層ディスクが備えているような記録層ごとの反射膜、及び案内溝は設けられていない。
従って、先の図１９に示したバルク型記録媒体１００の構造のままでは、マークが未形成である記録時において、フォーカスサーボやトラッキングサーボを行うことができないことになる。
【００１１】
このため実際において、バルク型記録媒体１００に対しては、次の図２０に示すような位置案内子を有する基準となる反射面（基準面）を設けるようにされている。
具体的には、カバー層１０１の下面側に例えばピットやグルーブの形成による位置案内子（つまりこの場合は案内溝となる）がスパイラル状又は同心円状に形成され、そこに選択反射膜１０３が成膜される。そして、このように選択反射膜１０３が成膜されたカバー層１０２の下層側に対し、図中の中間層１０４としての、例えばＵＶ硬化樹脂などの接着材料を介してバルク層１０２が積層される。
ここで、上記のようなピットやグルーブ等による位置案内子（案内溝）の形成により、例えば半径位置情報や回転角度情報などの絶対位置情報（アドレス情報）の記録が行われている。以下では、このような案内溝が形成され絶対位置情報の記録が行われた面（この場合は上記選択反射膜１０３の形成面）のことを、「基準面Ｒｅｆ」と称する。
【００１２】
また、上記のような媒体構造とした上で、バルク型記録媒体１００に対しては、次の図２１に示されるようにマークの記録（又は再生）のためのレーザ光（以下、録再用レーザ光、或いは単に録再光とも称する）とは別途に、位置制御用のレーザ光としてのサーボ用レーザ光（単にサーボ光とも称する）を照射するようにされる。
図示するようにこれら録再用レーザ光とサーボ用レーザ光とは、共通の対物レンズを介してバルク型記録媒体１００に照射される。
【００１３】
このとき、上記サーボ用レーザ光としては、録再用レーザ光とは波長帯の異なるレーザ光を用いるようにされる。これは、サーボ用レーザ光の基準面Ｒｅｆからの反射光と、録再用レーザ光の記録マークからの反射光とをそれらの波長の違いを利用して分離検出できるようにするためである。
そしてこれに対応して、基準面Ｒｅｆに形成される反射膜としては、サーボ用レーザ光は反射し、録再用レーザ光は透過するという波長選択性を有する選択反射膜１０３を用いるようにされている。
【００１４】
以上の前提を踏まえた上で、図２１を参照し、バルク型記録媒体１００に対するマーク記録時の動作について説明する。
先ず、案内溝や反射膜の形成されていないバルク層１０２に対して多層記録を行うとしたときには、バルク層１０２内の深さ方向においてマークを記録する層位置を何れの位置とするかを予め定めておくことになる。図中では、バルク層１０２内においてマークを形成する層位置（マーク形成層位置：情報記録層位置とも呼ぶ）として、第１情報記録層位置Ｌ１〜第５情報記録層位置Ｌ５の計５つの情報記録層位置Ｌが設定された場合を例示している。図示するように第１情報記録層位置Ｌ１は、案内溝が形成された選択反射膜１０３（基準面Ｒｅｆ）からフォーカス方向（深さ方向）に第１オフセットｏｆ-L1分だけ離間した位置として設定される。また、第２情報記録層位置Ｌ２、第３情報記録層位置Ｌ３、第４情報記録層位置Ｌ４、第５情報記録層位置Ｌ５は、それぞれ基準面Ｒｅｆから第２オフセットｏｆ-L2分、第３オフセットｏｆ-L3分、第４オフセットｏｆ-L4分、第５オフセットｏｆ-L5分だけ離間した位置として設定される。
なお、ここでは図示の都合上、情報記録層位置Ｌが５つであるものとしているが、実際には、例えば１０μｍ程度の間隔を空けて数十（例えば２０）程度の情報記録層位置Ｌを設定することになる。
【００１５】
マークが未だ形成されていない記録時においては、録再用レーザ光の反射光に基づいてバルク層１０２内の各層位置を対象としたフォーカスサーボ、トラッキングサーボを行うことはできない。従って、記録時における対物レンズのフォーカスサーボ制御、トラッキングサーボ制御は、サーボ用レーザ光の反射光に基づき、当該サーボ用レーザ光のスポット位置が基準面Ｒｅｆにおいて案内溝に追従するようにして行うことになる。
【００１６】
但し、上記録再用レーザ光は、マーク記録のために基準面Ｒｅｆよりも下層側に形成されたバルク層１０２に到達させる必要がある。このため、この場合の光学系には、対物レンズのフォーカス機構とは別途に、録再用レーザ光の合焦位置を独立して調整するための録再光用フォーカス機構が設けられることになる。
具体的に、このようなフォーカス機構としては、対物レンズに入射する録再用レーザ光のコリメーションを変化させるエキスパンダを設けるようにする。すなわち、このように対物レンズに入射する録再用レーザ光のコリメーションを変化させることで、録再用レーザ光の合焦位置を、サーボ用レーザ光とは独立して調整できるようにするものである。
【００１７】
このようなフォーカス機構によって、上述のようにサーボ用レーザ光の基準面Ｒｅｆからの反射光に基づき対物レンズのフォーカスサーボ制御が行われる下で、録再用レーザ光の合焦位置については、バルク層１０２内の所要の情報記録層位置Ｌに一致するように調整することができる。
確認のため述べておくと、録再用レーザ光のトラッキング方向の位置については、サーボ用レーザ光の基準面Ｒｅｆからの反射光に基づく対物レンズのトラッキングサーボ制御が行われることで、所定の位置（基準面Ｒｅｆに形成された案内溝の直下となる位置）に制御されることになる。
【００１８】
また、マーク記録が既に行われたバルク型記録媒体１００について再生を行う際は、記録時のように対物レンズの位置をサーボ用レーザ光の反射光に基づいて制御する必要性はない。すなわち、再生時においては、再生対象とする情報記録層位置Ｌ（再生時については情報記録層Ｌとも称する）に形成されたマーク列を対象として、録再用レーザ光の反射光に基づいて対物レンズのフォーカス及びトラッキングサーボ制御を行えばよい。
【００１９】
ここで、図２０や図２１に示したように、従来におけるバルク型記録媒体１００は、光の入射面側から順にカバー層１０１、基準面Ｒｅｆ（選択反射膜１０３）、バルク層１０２が形成されたものとなっている。つまり、位置制御を行うためのサーボ用レーザ光の反射光を得るための基準面Ｒｅｆ（反射面）が、バルク層１０２の上層側に形成されているものである。
【００２０】
このとき、バルク層１０２でのマークの記録や再生の特性を考慮すると、バルク層１０２には、録再用レーザ光がロスなく入射されることが望ましいものとなる。
例えば、特に前述のボイド記録方式が採用される場合においては、バルク層１０２へのマーク記録のために比較的大きなレーザパワーを要し、またバルク層１０２にて記録されたマークの反射率は小であるため、選択反射膜３における録再用レーザ光の透過率は重要であり、ほぼ全透過に近いことが理想となる。
このため従来では、選択反射膜１０３として、波長選択性に優れる誘電体多層膜を用いるようにされていた。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００２１】
上述のように従来のバルク型記録媒体１００では、バルク層１０２に対し録再用レーザ光がほぼ１００％透過して到達できるようにするために、選択反射膜１０３として、波長選択性に優れた誘電体多層膜を用いるようにされている。
しかしながら、現状において誘電体多層膜は非常に高価であり、その分製品コストの増加を招来するという問題がある。
また、誘電体多層膜を用いる場合は、所望の特性を得るための各誘電体膜の膜厚制御を適正に行うことが困難となり、歩留まりの低下やそれによる高コスト化も問題となる。
【００２２】
本発明は以上の問題点に鑑み為されたもので、バルク型の光記録媒体の製品コストの増加を抑えつつ、バルク層に対し録再用レーザ光がほぼロス無く到達できるようにすることをその課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００２３】
上記課題の解決のため、本発明では光記録媒体として以下のように構成することとした。
すなわち、本発明の光記録媒体は、第１の光の照射によって深さ方向において選択的にマークの記録が行われ、上記マークが多層状に形成される記録層と、上記第１の光とは波長の異なる第２の光を反射するための反射膜であって、上記記録層の下層側に設けられた反射膜とを備えるものである。
【００２４】
また本発明では、光記録媒体の製造方法として以下のようにすることとした。
つまり、本発明の光記録媒体の製造方法は、第１の光の照射によって深さ方向において選択的にマークの記録が行われ、上記マークが多層状に形成される記録層の下層側に対し、上記第１の光とは波長の異なる第２の光を反射するための反射膜を形成するものである。
【００２５】
また、本発明では記録装置として以下のように構成することとした。
つまり、本発明の記録装置は、第１の光の照射によって深さ方向において選択的にマークの記録が行われ、上記マークが多層状に形成される記録層と、上記第１の光とは波長の異なる第２の光を反射するための反射膜であって上記記録層の下層側に設けられた反射膜とを備える光記録媒体に対する記録を行う記録装置であって、上記第１の光と上記第２の光とが入射され、これら第１の光と第２の光の双方を上記光記録媒体に対して照射する対物レンズを備える。
また、上記対物レンズをフォーカス方向に駆動する対物レンズフォーカス機構を備える。
また、上記対物レンズに入射する上記第１の光のコリメーションを変化させることで上記第１の光の合焦位置を上記第２の光とは独立して変化させる合焦位置独立調整機構を備える。
また、上記第２の光の上記反射膜からの反射光を受光して得られるフォーカスエラー信号に基づいて上記対物レンズフォーカス機構を駆動することで、上記第２の光が上記記録層の下層側に形成された上記反射膜に合焦するように上記対物レンズについてのフォーカスサーボ制御を行うフォーカスサーボ制御部を備える。
また、上記第１の光の合焦位置が上記反射膜の上層側に形成された上記記録層内の記録対象層位置に調整されるように上記合焦位置独立調整機構を制御すると共に、上記第１の光によるマーク記録が実行されるように制御を行う制御部を備えるものである。
【００２６】
上記のように記録層（バルク層）の下層側に対して第２の光（サーボ光）を反射する反射膜を設けるものとすれば、記録層に対し、第１の光（録再光）がほぼロス無く照射されるようにできる。
また同時に、上記のように反射膜を記録層の下層側に設けた構造とすれば、当該反射膜としては、第１の光の透過率を１００％近くに維持する必要性はないものとできるので、従来用いられていた誘電体多層膜は不要とでき、例えば金属材料（合金材料も含む）の単層構造による低コストな反射膜を用いることができる。
なお確認のため述べておくと、第１の光は、上記マークの再生時には上記記録層内における対象とする層位置に対して合焦するものであり、つまりは上記反射膜には焦点を結んだ後の第１の光が照射されるものである。従って、第１の光の上記反射膜からの反射光が、当該第１の光の上記マークからの反射光（再生光）に対して与える影響はその分小さいものとできる。
【発明の効果】
【００２７】
本発明によれば、第１の光の照射によって深さ方向において選択的にマークの記録が行われ、上記マークが多層状に形成される記録層を有する光記録媒体において、上記第１の光とは波長の異なる第２の光を反射するための反射膜として誘電体多層膜による波長選択反射膜を用いることなく、上記第１の光が上記記録層に対してほぼロス無く照射されるようにできる。
この結果、本発明によれば、上記のように第１の光が記録層に対してほぼロス無く照射されるということと、光記録媒体の製品コストの削減を図るということとの両立が図られる。
【００２８】
また、本発明の製造方法によれば、このように優れた効果を奏する本発明の光記録媒体を製造することができる。
また、本発明の記録装置によれば、本発明の光記録媒体に対応して適正にマーク記録を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】実施の形態の光記録媒体の断面構造図である。
【図２】実施の形態の光記録媒体について位置制御手法について説明するための図である。
【図３】銀を主成分とした反射膜（及びアルミニウムを主成分とした反射膜）についての膜厚（nm）に対する各波長ごとの反射率変化特性を示した図である。
【図４】銅を主成分とした反射膜についての膜厚（nm）に対する各波長ごとの反射率変化特性を示した図である。
【図５】金を主成分とした反射膜についての膜厚（nm）に対する各波長ごとの反射率変化特性を示した図である。
【図６】合金による反射膜についての膜厚（nm）に対する各波長ごとの反射率変化特性について説明するための図である。
【図７】実施の形態としての光記録媒体の製造方法について説明するための図である。
【図８】実施の形態の記録装置が備える光学系の構成を主に示した図である。
【図９】実施の形態の記録装置全体の内部構成を示したブロック図である。
【図１０】対物レンズを介して録再用レーザ光が最下情報記録層位置に合焦するように照射され、それに伴いバルク型記録媒体から得られる録再用レーザ光の反射光が受光部に導かれる様子を示した図である。
【図１１】最下情報記録層位置から基準面までの距離に対する「迷光強度／再生光強度」の変化特性を、基準面Ｒｅｆの反射率とマーク反射率との反射率比ごとに計算した結果を示した図である。
【図１２】図１１の計算にあたり前提とした基準面、対物レンズ射出面（戻り光側）、受光面の各強度分布パターンを示した図である。
【図１３】最下情報記録層位置からの反射光の球面と基準面からの反射光の球面とに差が生じることについて説明するための図である。
【図１４】バルク層側に案内溝を形成した変形例としての光記録媒体の断面構造図である。
【図１５】変形例としての光記録媒体の製造方法について説明するための図である。
【図１６】カバー層を省略した変形例としての光記録媒体の断面構造図である。
【図１７】貼り合わせ構造を採用した変形例としての光記録媒体の断面構造図である。
【図１８】半透明記録膜を複数有して多層状記録が可能とされた変形例としての光記録媒体の断面構造図である。
【図１９】バルク記録方式について説明するための図である。
【図２０】基準面を備える実際のバルク型記録媒体の断面構造を例示した図である。
【図２１】バルク型記録媒体に対するマークの記録／再生手法について説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００３０】
以下、発明を実施するための形態（以下実施の形態とする）について説明していく。
なお、説明は以下の順序で行う。
＜１．実施の形態の光記録媒体＞
［1-1．光記録媒体の構造］
［1-2．具体的な反射膜材料について］
［1-3．光記録媒体の製造方法］
＜２．記録装置の構成＞
［2-1．光学系の構成］
［2-2．記録装置の全体的な内部構成］
＜３．最下情報記録層位置から基準面までの距離と反射率比についての考察＞
＜４．変形例＞
【００３１】
＜１．実施の形態の記録媒体＞
［1-1．光記録媒体の構造］
図１は、本発明の光記録媒体の一実施形態としてのバルク型記録媒体１の断面構造図を示している。
ここで、バルク型記録媒体とは、いわゆるバルク記録が行われる光記録媒体である。バルク記録とは、通常の多層光ディスクのような複数の記録膜が形成された多層構造は採らずに、バルク状の記録層に対して逐次焦点位置を変えてレーザ光照射を行って多層記録を行う技術を指す。
【００３２】
図１において、バルク型記録媒体１は、ディスク状の光記録媒体とされ、回転駆動されるバルク型記録媒体１に対するレーザ光照射が行われてバルク層３に対するマーク記録（情報記録）が行われる。また、記録情報の再生としても、回転駆動されるバルク型記録媒体１に対してレーザ光を照射して行われる。
なお光記録媒体とは、光の照射により情報の記録／再生が行われる記録媒体を総称したものである。
【００３３】
図示するようにバルク型記録媒体１には、上層側から順にカバー層２、バルク層３、接着層４、反射膜５、基板６が形成されている。
ここで、本明細書において「上層側」とは、後述する記録装置（記録再生装置１０）側からのレーザ光が入射する面を上面としたときの上層側を指す。
【００３４】
また、本明細書においては「深さ方向」という語を用いるが、この「深さ方向」とは、上記「上層側」の定義に従った上下方向と一致する方向（すなわち記録装置側からのレーザ光の入射方向に平行な方向：フォーカス方向）を指すものである。
【００３５】
バルク型記録媒体１において、カバー層２は、例えば樹脂で構成され、記録層としてのバルク層３の保護層として機能する。
【００３６】
カバー層２の下層側には、バルク層３が形成されている。
バルク層３の形成材料（記録材料)としては、例えば先に挙げたポジ型マイクロホログラム方式やネガ型マイクロホログラム方式などのマイクロホログラム方式、或いはボイド記録方式など、採用するバルク記録の方式に応じて適宜最適とされるものが採用されればよい。
なお、本発明において、バルク層に対するマーク記録の方式は特に限定されるべきものではなく、バルク記録方式の範疇において任意の方式が採用されればよい。以下の説明では一例として、ボイド記録方式が採用される場合を例示する。
ボイド記録方式が採用される場合、バルク層３の記録材料としては樹脂を主成分としたものを用いる。
【００３７】
バルク層３の下層側には、所要の接着材料で構成された接着層（中間層）４を介して、反射膜５が形成されている。
当該反射膜５には、記録／再生位置を案内するための位置案内子が形成される。反射膜に位置案内子が形成されているというのは、位置案内子が形成されている界面上に反射膜が形成されるという意味である。
具体的にこの場合は、図中の基板６の一方の面側に対してグルーブ又はピット列が形成されることで、図のような凹凸の断面形状が与えられ、基板６の当該凹凸断面形状が与えられた面上に対し反射膜５が成膜されることで、当該反射膜５に上記グルーブ又はピット列による位置案内子が形成されたものとなっている。
上記グルーブ又はピット列によっては、バルク型記録媒体１の記録面内方向に平行な方向における絶対位置を表す情報（絶対位置情報：半径位置情報、及び回転角度情報）が記録される。この絶対位置情報は、上記位置案内子がグルーブで形成される場合には当該グルーブの蛇行（ウォブル）周期の変調により記録され、ピット列で形成される場合には、ピットの長さや形成間隔の変調により記録が為される。
【００３８】
また、基板６は、例えばポリカーボネートやアクリルなどの樹脂で構成される。基板６は、例えば上記位置案内子としての凹凸断面形状が与えられたスタンパを用いた射出成形などによって生成される。
【００３９】
ここで、バルク層３内部には、位置案内子或いはそれが形成された反射膜は設けられておらず、後述するようにバルク層３における記録／再生位置は、位置案内子が形成された反射膜５からの反射光に基づき制御されることになる。
この意味で、位置案内子が形成された反射膜５（反射面）については、基準面Ｒｅｆと表記する。
【００４０】
ところで、従来のバルク型記録媒体１００の場合と同様に、位置案内子や反射膜の形成されていないバルク層３に対して多層記録を行うとしたときには、バルク層３内の深さ方向において、予めマークを記録する層位置を何れの位置とするかを定めておくことになる。
図２に示されるように、この場合もバルク層３内においてマークを形成する層位置（マーク形成層位置：情報記録層位置とも呼ぶ）としては、先の図２１の場合と同様に、例えば第１情報記録層位置Ｌ１〜第５情報記録層位置Ｌ５の計５つの情報記録層位置Ｌが設定されているとする。
この場合、基準面Ｒｅｆからの各情報記録層位置Ｌへのオフセットｏｆ-Lの情報は、後述する記録再生装置１０におけるコントローラ３９に設定される。
なお、ここでも図示の都合上、情報記録層位置Ｌが５つであるものとしているが、実際には例えば１０μｍ程度の間隔を空けて数十（例えば２０）程度の情報記録層位置Ｌを設定することになる。
【００４１】
また、先に説明したように、バルク型の光記録媒体に対しては、記録層に対してマークの記録再生のためのレーザ光（録再用レーザ光）と共に、基準面Ｒｅｆにおける位置案内子に基づく位置制御を行うための、録再用レーザ光とは波長の異なるレーザ光（サーボ用レーザ光）とを照射するものとされる。
図２では一例として、バルク層３内における情報記録層位置Ｌ３を対象としたマークの記録時において、バルク型記録媒体１に対して照射される録再用レーザ光とサーボ用レーザ光との様子を示している。
マークの記録時には、図のようにサーボ用レーザ光を反射膜５（基準面Ｒｅｆ）に合焦させるように照射して、反射膜５からの当該サーボ用レーザ光の反射光に基づき対物レンズのフォーカス・トラッキングサーボをかけることになる。そしてその状態において、録再用レーザ光の合焦位置を、所望の情報記録層位置Ｌに一致させるように調整して、バルク層３内の所望の位置（フォーカス方向及びトラッキング方向）にマークを記録することになる。
後述もするように、録再用レーザ光の合焦位置の調整は、録再光用フォーカス機構（図８における固定レンズ１４、可動レンズ１５、レンズ駆動部１６の組）により行われることになる。
【００４２】
なお本例において、録再用レーザ光の波長は４００nm程度、サーボ用レーザ光の波長は６５０nm程度であるとする。
【００４３】
ここで、上記による説明からも理解されるように、本実施の形態では、記録時の位置制御のためにサーボ用レーザ光の反射光を得るための反射膜５を、バルク層３の下層側に対して形成するものとしている。
このように反射膜５をバルク層３の下層側に設けるようにしたことで、バルク層５に対し、録再用レーザ光がほぼロス無く照射されるようにできる。
また同時に、上記のように反射膜５をバルク層３の下層側に設けた構造とすれば、反射膜５としては、従来の構成を採る場合のように録再用レーザ光の透過率を１００％近く確保する必要性はないものとできる。従って、反射膜５としては、従来用いられていた誘電体多層膜とする必要はないものとでき、例えば金属材料の単層構造による比較的低コストな反射膜を用いることができる。これにより、材料自体の低コスト化や、誘電体多層膜を用いないことによる歩留まりの向上により、コストの削減が図られる。
このようにして本実施の形態によれば、録再用レーザ光をバルク層３にほぼロス無く照射できるようにするにあたり、バルク型の光記録媒体の製品コストの削減を図ることができる。
【００４４】
なお確認のため述べておくと、録再用レーザ光は、バルク層３に記録されたマークの再生時には、バルク層３内における対象とする情報記録層位置Ｌに合焦しているものであり、つまりは反射膜５には焦点を結んだ後の録再用レーザ光が照射されるものである。従って、録再用レーザ光の反射膜５からの反射光が、当該録再用レーザ光の記録マークからの反射光（再生光）に対して与える影響は、その分小となる。
【００４５】
ここで、上記により説明したような実施の形態としての光記録媒体に関連する技術として、例えば下記の参考文献１及び参考文献２に記載される技術を挙げることができる。
これら参考文献１及び参考文献２には、ページ単位でのホログラム（ホログラムページ）の記録に供されるホログラム記録媒体が記載されている。
具体的に参考文献１では、「第一の基板５→記録層４→フィルタ層６→光吸収層９→反射膜２→第二の基板１」による構造を有するホログラム記録媒体が記載されている。
また参考文献２では、「透明基板７０→ホログラム記録層６０→ギャップ層５０→波長選択層４０→ギャップ層３０→反射層２０→基板１０」による構造を有するホログラム記録媒体が記載されている。つまり何れも、記録層の下層側に対して波長選択性を有する反射層（フィルタ層６、波長選択層４０）が設けられた構造を採るものである。
但し、参考文献１、参考文献２に記載の構造において、上記フィルタ層６、上記波長選択層４０は、ホログラムからの回折光を反射して装置側に再生光として戻すために必要とされる層であり、サーボ光は透過するように構成されたものとなる。このとき、ホログラムの回折効率はおよそ１％前後程度であるので、上記フィルタ層６、上記波長選択層４０は、十分な再生光検出強度が得られるべく、記録光（情報光・参照光）をほぼ全反射するように構成される（参考文献１における［０００５］や［０１１７］、参考文献２における［００２３］などを参照）。
またこれら参考文献１、参考文献２に記載の記録媒体は、記録層において多層記録は行われないものであり、この点でバルク型の光記録媒体とは相違している。
・参考文献１…特開２００７−１０２１８５号公報
・参考文献２…特開２００７−３３３７６６号公報
【００４６】
［1-2．具体的な反射膜材料について］
以下、反射膜５の材料の具体例について説明する。
先ず前提として、バルク層３に記録された情報の再生は、録再用レーザ光を照射し、その結果得られる記録マーク（本例の場合はボイドとなる）からの反射光を後述する記録再生装置１０側で受光して行うことになる。
【００４７】
このとき、図１に示したバルク型記録媒体１の構造によると、上記もしているようにバルク層３内の或る情報記録層位置Ｌを対象として再生を行っている限りは録再用レーザ光は反射膜５に対してジャストフォーカスの状態で照射されることはなく、焦点を結んだ後の光が照射されることになる。従って、当該録再用レーザ光の反射膜５からの反射光の、記録マークについての再生光に対する影響はその分小となる。
【００４８】
但し、再生性能の向上を図る上では、反射膜からの録再用レーザ光の反射光強度は抑制できることに越したことはない。例えば、録再用レーザ光の反射膜５からの反射光については、信号処理によってその影響を除去するなどして再生性能の向上を図るということも考えられるが、これによっては装置側の処理負担が増大し、例えば再生レートの低下を招くなどといった問題が生じ兼ねない。例えばこの意味で、反射膜からの録再用レーザ光の反射光強度は抑制できることが望ましいものとなる。
【００４９】
一方、録再用レーザ光の反射光強度の抑制のみを考慮するのであれば、反射膜５の膜厚を薄くすることで、当該反射膜５の反射率を低下させるということができる。
しかしながら、反射膜５の膜厚を薄くした場合には、サーボ用レーザ光の反射光についての光強度についても小となってしまうので、サーボ制御を行うための各種エラー信号の信号品質の低下を招き、その結果安定したサーボ制御を行うことが困難となってしまう虞がある。
【００５０】
そこで、反射膜５の構成材料としては、このような点を考慮して選定する。具体的には、少なくともサーボ用レーザ光に対する反射率が録再用レーザ光に対する反射率よりも大となる性質を有する（つまり反射率について「サーボ用レーザ光＞録再用レーザ光」となる波長選択性を有する）材料を選定する。
また、上述のように録再用レーザ光の反射光量は小であるほど望ましいので、反射膜５の膜厚については、この点を考慮して設定すべきとなる。
このとき、従来用いていた誘電体多層膜はその構造が複雑であり高価となるので、このような波長選択性を有する反射膜材料としては、単層構造でも実現可能な金属材料を用いることとする。
【００５１】
ここで、上記の波長選択性を有する金属材料の一例としては、銀（Ａｇ）を挙げることができる。
図３は、銀を主成分として構成した反射膜５についての膜厚（nm）に対する各波長ごとの反射率の変化特性を示している。
なお図３では比較として、反射膜５を、光ディスクの反射膜として最も一般的に用いられているアルミニウム（Ａｌ）を主成分として構成した場合の膜厚に対する各波長ごとの反射率の変化特性も併せて示している。
図３では、横軸を膜厚（０nm〜６０nm）、縦軸を反射率（０〜１）とし、銀による反射膜５については、波長４００nmのレーザ光に対する反射率を＊印によりプロットし、波長６５０nmのレーザ光に対する反射率を◆印によりプロットして示している。
またアルミニウムによる反射膜５については、波長４００nmのレーザ光に対する反射率を●印によりプロットし、波長６５０nmのレーザ光に対する反射率は■印によりプロットして示している。
【００５２】
先ず、アルミニウムによる反射膜５については、その膜厚を変化させても、波長＝４００nm（録再用レーザ光）に対する反射率と波長＝６５０nm（サーボ用レーザ光）に対する反射率とには殆ど差が生じないことが分かる。
【００５３】
これに対し、銀による反射膜５としたときには、アルミニウムとする場合よりも全体的に録再用レーザ光に対する反射率とサーボ用レーザ光に対する反射率との差が生じていることが分かる。このような波長選択性は、銀の光学定数のうち主に消衰係数ｋの波長分散に起因して得られる。
この場合、特に膜厚が約１０nm以上の範囲においては、録再用レーザ光に対する反射率とサーボ用レーザ光に対する反射率との差が顕著に表れるものとなる。
このとき、膜厚３０nm程度までの範囲では、録再用レーザ光に対する反射率とサーボ用レーザ光に対する反射率との差が拡大傾向となり、膜厚３０nm程度以上では録再用レーザ光に対する反射率とサーボ用レーザ光に対する反射率との差が緩やかに縮小傾向となることが分かる。
【００５４】
この図３から理解されるように、銀を主成分とした反射膜５とすることで、上述した波長選択性を有する反射膜を実現することができる。つまり、少なくともサーボ用レーザ光に対する反射率が録再用レーザ光に対する反射率よりも大となる性質を有する反射膜を実現できるものである。
【００５５】
ここで、反射膜５のサーボ用レーザ光に対する反射率は、録再用レーザ光に対する反射率の２倍以上あれば、十分な波長選択性が得られているとみなすことができる。すなわち、反射膜５のサーボ用レーザ光に対する反射率をＲsv、録再用レーザ光に対する反射率をＲrpとしたとき、それらの反射率比（以下、反射率比Ｒrp／Ｒsvと表記）が０．５以下であれば、十分な波長選択性が確保されているとすることができる。
【００５６】
図３によれば、銀による反射膜５とする場合において反射率比Ｒrp／Ｒsv≦０．５となるのは、反射膜５の膜厚が４nm程度〜２０nm程度の範囲であることが分かる。なお、膜厚の下限値は、例えば成膜技術上の制約やサーボの安定性のため反射率Ｒsvを或る程度確保すべき等の制約から自ずと限界があるので、この点を考慮すると、十分な波長選択性を得るにあたっての膜厚は２０nm程度以下であると定義することができる。
【００５７】
このとき、反射膜５の膜厚は、サーボ用レーザ光と録再用レーザ光との反射率比Ｒrp／Ｒsvを左右する一因となるのと同時に、反射率の絶対的な大きさを左右する要因ともなる。
ここで、反射膜５からの録再用レーザ光の反射光の光量が大であると、その分、迷光の光量が増大し、再生信号の品質を悪化させるものとなる。迷光による影響は、記録マークからの反射光量をＲmk、迷光としての反射光の光量をＲnsとしたとき、単純には「Ｒsn／Ｒmk」と表すことができる。そして、迷光の光量Ｒnsは、反射膜５の録再用レーザ光に対する反射率Ｒrpと比例するものと捉えることができるので、このことによれば、迷光による影響を抑制するためには、マークの反射率Ｒmkとの兼ね合いで、当該反射率Ｒrpの値をなるべく小とすればよいということになる。
【００５８】
本例のようにボイド記録方式が採用される場合、ボイドマークの反射率Ｒmkとの兼ね合いから、迷光による影響がほぼ無いとみなすことのできる反射率Ｒrpについては０．３程度以下とすることが１つの指標として試算されている。
図３によると、このような反射率Ｒrp≦０．３程度の条件を満たすためには、反射膜５の膜厚を、上述の２０nm程度以下とすればよいことが分かる。つまり、上述した膜厚２０nm程度以下という条件によれば、反射膜５として十分な波長選択性が得られ、且つ、迷光による影響がほぼ無いようにできるという効果を奏するものとなる。
【００５９】
このようにして銀を主成分とする反射率５によれば、上述した波長選択性を有する反射膜を実現することができる。
また、反射膜５の膜厚を適切に設定することで、十分な波長選択性を確保しつつ迷光による影響がほぼ無くなるようにすることができる。
このとき、膜厚としては、前述のようなサーボの安定性を確保すべくサーボ用レーザ光の反射光量が過小とならないことも考慮して設定する。
【００６０】
また、他の金属材料の一例としては、銅（Ｃｕ）を挙げることができる。
図４は、銅を主成分として構成した反射膜５についての膜厚（nm）に対する各波長ごとの反射率の変化特性を示している。
図４では、横軸を膜厚（０nm〜６０nm）、縦軸を反射率（０〜１）とし、銅による反射膜５についての波長４００nmのレーザ光に対する反射率を−印によりプロットし、波長６５０nmのレーザ光に対する反射率を×印によりプロットして示している。
【００６１】
反射膜５を銅で構成する場合としても、先の図３に示したアルミニウムとする場合と比較して、全体的に録再用レーザ光に対する反射率Ｒrpとサーボ用レーザ光に対する反射率Ｒsvとの差が生じていることが分かる。特に、この場合も膜厚が約１０nm以上の範囲において、録再用レーザ光に対する反射率Ｒrpとサーボ用レーザ光に対する反射率Ｒsvとの差が顕著に表れていることが分かる。
このような銅の波長選択性は、消衰係数ｋの波長分散及び屈折率ｎの波長分散に起因して得られるものである。
【００６２】
銅の場合において特筆すべきは、膜厚が３０nm以上においても反射率Ｒrpと反射率Ｒsvとの差が拡大傾向のまま維持されるという点である。膜厚６０nmのとき、反射率Ｒrpと反射率Ｒsvとの差はおよそ「０．９−０．４」であり、このときの反射率比Ｒrp／Ｒsvはおよそ０．４５程度となる。
【００６３】
図４によると、銅の場合において前述した反射率比Ｒrp／Ｒsv≦０．５の条件を満たすためには、反射膜５の膜厚は１０nm程度以上に設定すればよいことになる。
但し、前述のように膜厚が過大であると反射率Ｒrpが過大となることにより迷光による影響も大となってしまう。このため、前述した反射率Ｒrp≦０．３程度の条件も満たすとすると、この場合における反射膜５の膜厚は１０nm程度以上且つ３０nm程度以下に設定すべきであることが分かる。
【００６４】
このように銅を主成分とした反射膜５とすることによっても、上述した波長選択性を有する反射膜を実現することができる。
また、この場合も反射膜５の膜厚を適切に設定することで、十分な波長選択性を確保しつつ迷光による影響がほぼ無くなるようにすることができる。
また、この場合も膜厚は、サーボ用レーザ光の反射光量が過小とならない程度に設定する。
【００６５】
また、他の金属材料の一例としては、金（Ａｕ）も挙げることができる。
図５は、金を主成分として構成した反射膜５についての膜厚（nm）に対する各波長ごとの反射率の変化特性を示しており、先の図３，図４と同様に横軸を膜厚（０nm〜６０nm）、縦軸を反射率（０〜１）とした上で、金による反射膜５についての波長４００nmのレーザ光に対する反射率を｜印によりプロットし、波長６５０nmのレーザ光に対する反射率を▲印によりプロットして示している。
【００６６】
反射膜５を金で構成する場合としても、図３に示したアルミニウムとする場合と比較して全体的に録再用レーザ光に対する反射率Ｒrpとサーボ用レーザ光に対する反射率Ｒsvとの差が生じる。
金の場合も、膜厚が概ね１０nm以上の範囲において反射率Ｒrpと反射率Ｒsvとの差が顕著に表れ、またこの場合も銅と同様に、膜厚が３０nm以上においても反射率Ｒrpと反射率Ｒsvとの差が拡大傾向となる。
確認のため述べておくと、このような金の波長選択性としても、消衰係数ｋと屈折率ｎの波長依存性に起因して得られるものである。
【００６７】
図５によると、金の場合において前述した反射率比Ｒrp／Ｒsv≦０．５の条件を満たすためには、反射膜５の膜厚は１８nm程度以上に設定すればよいことになる。
ここで、金の場合において特筆すべきは、膜厚が大となっても録再用レーザ光の反射率Ｒrpが０．３を超えないという点である。この点より、金とする場合には、前述した反射率Ｒrp≦０．３程度の条件については、特段考慮する必要性はないものとなり、結果、金の場合において両条件を満たすにあたって設定すべき膜厚は、１８nm程度以上ということになる。
【００６８】
このように金を主成分とした反射膜５とすることによっても、上述した波長選択性を有する反射膜を実現でき、なお且つ反射膜５の膜厚を所定値以上に設定することで十分な波長選択性を確保しつつ迷光による影響がほぼ無くなるようにできる。また、このように膜厚を所定値以上に設定することで、サーボ用レーザ光の反射光量を確保でき、サーボの安定性を確保できる。
【００６９】
また、前述した波長選択性を実現するための反射膜５の材料としては、合金を挙げることができる。
図６は、合金による反射膜５についての膜厚（nm）に対する各波長ごとの反射率変化特性について説明するための図である。
図６において、●印及び×印によるプロットが合金、具体的には銀と銅の合金で構成した反射膜５の膜厚に対する反射率変化特性を示している。●印によるプロットは銀：銅の原子組成比を概ね５８：４２とした場合の反射率変化特性を示し、×印によるプロットが同原子組成比を概ね１８：８２とした場合の反射率変化特性を示している。
またこの図では比較として、■印のプロットにより銀を主成分とする反射膜５の膜厚に対する反射率変化特性を示すと共に、▲印のプロットにより銅を主成分とする反射膜５の膜厚に対する反射率変化特性を示している。
図示もしているように、実線との組み合わせがサーボ用レーザ光（波長６５０nm）に対する反射率変化特性であり、破線との組み合わせが録再用レーザ光（波長４００nm）に対する反射率変化特性である。
【００７０】
図６において、銀：銅＝５８：４２の合金の反射率変化特性（●印）は、対録再用レーザ光、対サーボ用レーザ光の何れとしても、銀を主成分とする場合の特性（■印）と銅を主成分とする場合の特性（▲印）のほぼ中間の特性となっていることが分かる。
また、銀：銅＝１８：８２の合金の反射率変化特性（×印）は、対録再用レーザ光、対サーボ用レーザ光の何れも、上記の銀：銅＝５８：４２の合金の特性と比較して、銅を主成分とする場合の特性に近い特性となっていることが確認できる。
これらの点より、銀と銅の合金とした場合の反射率変化特性は、銀と銅のうち含有量の多い方の金属を主成分とする場合の特性により近い特性が得られるということが分かる。
【００７１】
このように銀と銅の合金とする場合は、対録再用レーザ光、対サーボ用レーザ光の双方の反射率変化特性として、銀を主成分とする場合の特性と銅を主成分とする場合の特性との中間的な特性（銀と銅のうち含有量の多い方の金属を主成分とする場合の特性により近い特性）を得ることができる。
このことからも理解されるように、銀と銅の合金とする場合においても、前述の波長選択性を実現できると共に、その膜厚の調整により録再用レーザ光の反射光量を十分に小さくすることができ、迷光による影響がほぼ無くなるようにできる。
具体的に、銀：銅＝５８：４２の合金の場合には、前述の反射率比Ｒrp／Ｒsv≦０．５且つ反射率Ｒrp≦０．３の条件を満たすための膜厚は０．６nm程度以上且つ２２nm程度以下となる。また、銀：銅＝１８：８２の合金の場合には、同条件を満たすための膜厚は６nm程度以上且つ２４nm程度以下となる。
なお、これらの場合においても、膜厚は、サーボ用レーザ光の反射光量が過小とならない程度に設定する。
【００７２】
ここで、前述もしたように、銅を主成分とする場合は、膜厚を１０nm程度以上とすることで反射率比Ｒrp／Ｒsv≦０．５の条件が満たされる。しかしながら、銀を主成分とする場合と比較すると、反射率比Ｒrp／Ｒsvを小さくすることはできないものとなる。
一方、銀を主成分とする場合は、前述のように膜厚を２０nm程度以下とすることで反射率比Ｒrp／Ｒsvの条件が満たされるものとなるが、このとき、膜厚を薄くするということは、その分保存信頼性の面で不利となってしまう。
【００７３】
銀と銅の合金は、保存信頼性に優れることが知られており、その分膜厚を薄くできる利点がある。
この点を考慮すると、銀と銅の合金、特に銀の含有量を５０％以上とする合金とする場合には、銀の有する特性（つまり反射率比Ｒrp／Ｒsvをより小さくできる特性）を維持しつつ、保存信頼性に優れる反射膜５を実現することができて、膜厚を薄く形成する場合により有利とすることができる。
【００７４】
［1-3．光記録媒体の製造方法］
図７は、バルク型記録媒体１の製造方法について説明するための図である。
バルク型記録媒体１の製造工程としては、基板生成工程（図７（ａ））、反射膜成膜工程（図７（ｂ））、記録層接着工程（図７（ｃ））、カバー層積層工程（図７（ｄ））に大別される。
【００７５】
先ず、図７（ａ）の基板生成工程では、案内溝の形成された基板６を生成する。すなわち、反射膜５に位置案内子が形成されるようにするための凹凸断面形状がその一方の面に与えられた基板６を生成するものである。
先にも触れたように、基板６の生成は、樹脂を形成材料として、スタンパを用いた射出成形により生成する。
【００７６】
図７（ｂ）の反射膜成膜工程では、上記基板生成工程で生成した基板６の上記案内溝が形成された側の面に対し、反射膜５を成膜する。つまり本例の場合は、前述した銀又は銅又は金の何れかを主成分とした金属材料か、或いは合金材料を反射膜５として成膜する。
この際、成膜は、例えばスパッタリングや蒸着等により行う。
【００７７】
図７（ｃ）の記録層接着工程では、接着材料を用いて、反射膜５上にバルク層３としての記録材料を接着する。この場合、バルク層３の記録材料としては、例えば予めフィルム状に加工されたもの（フィルム状記録材料）を用いる。先にも述べたように、本例の場合、記録材料は樹脂を主成分としたものとなる。
上記のフィルム状記録材料を円盤状に打ち抜き、これを所要の接着材料を用いて反射膜５上に接着する。接着材料としては、例えばＰＳＡ（Pressure Sensitive Adhesive：感圧型接着剤）を用いる。ＰＳＡを用いる場合、反射膜５上にＰＳＡを載置し、さらに当該ＰＳＡ上にバルク層３を載置した状態で加圧処理を行って、反射膜５とバルク層３とを接着する。
これにより、図示するようなバルク層３・接着層４・反射膜５・基板６の積層構造を有する構造体が形成される。
【００７８】
なお、バルク層３の接着には、ＵＶ硬化樹脂を用いることもできる。その場合は、反射膜５上にＵＶ硬化樹脂を例えばスピンコート法などで塗布した後、紫外線照射による硬化処理を施すことで、反射膜５とバルク層３とを接着する。
【００７９】
図７（ｄ）のカバー層積層工程では、バルク層３上にカバー層２を積層する。
本例の場合、カバー層２の材料としてはＵＶ硬化樹脂（例えばＵＶレジン）を用いる。このため、この場合のカバー層積層工程では、バルク層３上にＵＶ硬化樹脂を例えばスピンコート法などで塗布した後、紫外線照射による硬化処理を施すことで、カバー層２を積層する。
【００８０】
以上の工程により、図１に示したバルク型記録媒体１が完成する。
【００８１】
＜２．記録装置の構成＞
［2-1．光学系の構成］
図８は、バルク型記録媒体１に対する記録／再生を行う実施の形態としての記録装置が備える主に光学系の構成について説明するための図である。
実施の形態の記録装置は、バルク型記録媒体１についての記録機能と共に再生機能も有する。この点より以下、実施の形態の記録装置については、記録再生装置１０と称する。
図８は、当該記録再生装置１０が備える光学ピックアップＯＰの内部構成を主に示すものである。
【００８２】
図８において、記録再生装置１０に装填されたバルク型記録媒体１は、当該記録再生装置１０における所定位置においてそのセンターホールがクランプされるようにしてセットされ、図示は省略したスピンドルモータによる回転駆動が可能な状態に保持される。
光学ピックアップＯＰは、上記スピンドルモータにより回転駆動されるバルク型記録媒体１に対して録再用レーザ光、サーボ用レーザ光を照射するために設けられる。
【００８３】
光学ピックアップＯＰ内には、マークによる情報記録、及びマークにより記録された情報の再生を行うための録再用レーザ光の光源である録再用レーザ１１と、基準面Ｒｅｆに形成された位置案内子を利用した位置制御を行うための光であるサーボ用レーザ光の光源であるサーボ用レーザ２４とが設けられる。
ここで、前述のように録再用レーザ光とサーボ用レーザ光とはそれぞれ波長が異なる。つまりこの場合、録再用レーザ光の波長はおよそ４００nm程度（いわゆる青紫色レーザ光）、サーボ用レーザ光の波長はおよそ６５０nm程度（赤色レーザ光）である。
【００８４】
また、光学ピックアップＯＰ内には、録再用レーザ光とサーボ用レーザ光のバルク型記録媒体１への出力端となる対物レンズ２０が設けられる。  
さらには、上記録再用レーザ光のバルク型記録媒体１からの反射光を受光するための録再光用受光部２３と、サーボ用レーザ光のバルク型記録媒体１からの反射光を受光するためのサーボ光用受光部２９とが設けられる。
【００８５】
その上で、光学ピックアップＯＰ内においては、上記録再用レーザ１１より出射された録再用レーザ光を上記対物レンズ２０に導くと共に、上記対物レンズ２０に入射した上記バルク型記録媒体１からの録再用レーザ光の反射光を上記録再光用受光部２３に導くための光学系が形成される。
【００８６】
具体的に、上記録再用レーザ１１より出射された録再用レーザ光は、コリメーションレンズ１２を介して平行光となるようにされた後、偏光ビームスプリッタ１３に入射する。偏光ビームスプリッタ１３は、このように録再用レーザ１１側から入射した録再用レーザ光については透過するように構成されている。
【００８７】
上記偏光ビームスプリッタ１３を透過した録再用レーザ光は、固定レンズ１４、可動レンズ１５、及びレンズ駆動部１６から成るエキスパンダに入射する。このエキスパンダは、前述した録再光用フォーカス機構に相当するものであり、光源である録再用レーザ１１に近い側が固定レンズ１４とされ、録再用レーザ１１から遠い側に可動レンズ１５が配置され、レンズ駆動部１６によって上記可動レンズ１５が録再用レーザ光の光軸に平行な方向に駆動されるように構成されている。この録再光用フォーカス機構により、録再用レーザ光について独立したフォーカス制御を行うことが可能とされる。
後述するように、当該録再光用フォーカス機構におけるレンズ駆動部１６は、図９に示すコントローラ３９によって、対象とする情報記録層位置Ｌに対応して設定されたオフセットｏｆ-Lの値に応じて駆動される。
【００８８】
上記録再光用フォーカス機構を形成する固定レンズ１４及び可動レンズ１５を介した録再用レーザ光は、図のようにミラー１７にて反射された後、１／４波長板１８を介してダイクロイックプリズム１９に入射する。
ダイクロイックプリズム１９は、その選択反射面が、録再用レーザ光と同波長帯の光は反射し、それ以外の波長による光は透過するように構成されている。従って上記のようにして入射した録再用レーザ光は、ダイクロイックプリズム１９にて反射される。
【００８９】
上記ダイクロイックプリズム１９で反射された録再用レーザ光は、図示するようにして対物レンズ２０を介してバルク型記録媒体１に対して照射される。
対物レンズ２０に対しては、当該対物レンズ２０をフォーカス方向（バルク型記録媒体１に対して接離する方向）、及びトラッキング方向（上記フォーカス方向に直交する方向：バルク型記録媒体１の半径方向）に変位可能に保持する２軸アクチュエータ２１が設けられる。
２軸アクチュエータ２１には、フォーカスコイル、トラッキングコイルが備えられ、それぞれに駆動信号（後述する駆動信号ＦＤ、ＴＤ）が与えられることで、対物レンズ２０をフォーカス方向、トラッキング方向にそれぞれ変位させる。
【００９０】
ここで、再生時においては、上記のようにしてバルク型記録媒体１に対して録再用レーザ光が照射されることに応じて、バルク型記録媒体１（バルク層３内の再生対象の情報記録層Ｌに記録されたマーク列）より上記録再用レーザ光の反射光が得られる。このように得られた録再用レーザ光の反射光は、対物レンズ２０を介してダイクロイックプリズム１９に導かれ、当該ダイクロイックプリズム１９にて反射される。
ダイクロイックプリズム１９で反射された録再用レーザ光の反射光は、１／４波長板１８→ミラー１７→録再光用フォーカス機構（可動レンズ１５→固定レンズ１４）を介した後、偏光ビームスプリッタ１３に入射する。
【００９１】
ここで、このように偏光ビームスプリッタ１３に入射する録再用レーザ光の反射光（復路光）は、１／４波長板１８による作用とバルク型記録媒体１での反射時の作用とにより、録再用レーザ光１１側から偏光ビームスプリッタ１３に入射した録再用レーザ光（往路光）とはその偏光方向が９０度異なるようにされる。この結果、上記のようにして入射した録再用レーザ光の反射光は、偏光ビームスプリッタ１３にて反射される。
【００９２】
このように偏光ビームスプリッタ１３にて反射された録再用レーザ光の反射光は、集光レンズ２２を介して録再光用受光部２３の受光面上に集光する。
【００９３】
また、光学ピックアップＯＰ内には、上記により説明した録再用レーザ光についての光学系の構成に加えて、サーボ用レーザ２４より出射されたサーボ用レーザ光を対物レンズ２０に導き且つ、上記対物レンズ２０に入射したバルク型記録媒体１からのサーボ用レーザ光の反射光をサーボ光用受光部２９に導くための光学系が形成される。
図示するように上記サーボ用レーザ２４より出射されたサーボ用レーザ光は、コリメーションレンズ２５を介して平行光となるようにされた後、偏光ビームスプリッタ２６に入射する。偏光ビームスプリッタ２６は、このようにサーボ用レーザ２４側から入射したサーボ用レーザ光（往路光）は透過するように構成される。
【００９４】
上記偏光ビームスプリッタ２６を透過したサーボ用レーザ光は、１／４波長板２７を介してダイクロイックプリズム１９に入射する。
先に述べたように、ダイクロイックプリズム１９は、録再用レーザ光と同波長帯の光は反射し、それ以外の波長による光は透過するように構成されているため、上記サーボ用レーザ光はダイクロイックプリズム１９を透過し、対物レンズ２０を介してバルク型記録媒体１に照射される。
【００９５】
また、このようにバルク型記録媒体１にサーボ用レーザ光が照射されたことに応じて得られる当該サーボ用レーザ光の反射光（基準面Ｒｅｆからの反射光）は、対物レンズ２０を介した後ダイクロイックプリズム１９を透過し、１／４波長板２７を介して偏光ビームスプリッタ２６に入射する。
先の録再用レーザ光の場合と同様にして、このようにバルク型記録媒体１側から入射したサーボ用レーザ光の反射光（復路光）は、１／４波長板２７の作用とバルク型記録媒体１での反射時の作用とにより、往路光とはその偏光方向が９０度異なるものとされ、従って復路光としてのサーボ用レーザ光の反射光は偏光ビームスプリッタ２６にて反射される。
【００９６】
偏光ビームスプリッタ２６にて反射されたサーボ用レーザ光の反射光は、集光レンズ２８を介してサーボ光用受光部２９の受光面上に集光する。
【００９７】
なお、図示による説明は省略するが、実際において記録再生装置１０には、上記により説明した光学ピックアップＯＰ全体をトラッキング方向にスライド駆動するスライド駆動部が設けられ、当該スライド駆動部による光学ピックアップＯＰの駆動により、レーザ光の照射位置を広範囲に変位させることができるようにされている。
【００９８】
ここで、前述のように本実施の形態のバルク型記録媒体１は、バルク層３の下層側に対して基準面Ｒｅｆが設けられるので、記録時には、このようにバルク層３の下層側に設けられた基準面Ｒｅｆに対してサーボ用レーザ光が合焦するように対物レンズ２０のフォーカスサーボ制御を行いつつ、録再光用フォーカス機構により、録再用レーザ光が、基準面Ｒｅｆよりも上層側におけるバルク層３内に合焦するように、対物レンズ２０に入射する録再用レーザ光のコリメーションを調整することになる。
【００９９】
但し、このとき、光学系の構成によっては、録再光用フォーカス機構によって録再用レーザ光のコリメーションを変化させても、録再用レーザ光の合焦位置を基準面Ｒｅｆよりも上層側に位置させることができない場合もある。
具体的に、従来のバルク型記録媒体１００については、基準面Ｒｅｆがバルク層３（１０２）の上層側に設けられているので、これに対応する記録再生装置では、上記のような記録時のフォーカスサーボ制御状態、すなわちサーボ用レーザ光の合焦位置を基準面Ｒｅｆに一致させる位置に対物レンズ２０を位置させている状態において、録再光用フォーカス機構の可動レンズ１５がニュートラル位置（例えば可動範囲内の中間位置）にあるときの録再用レーザ光の合焦位置が、基準面Ｒｅｆよりも下層側に位置するように光学系が設計されることになるが、このような光学系の構成をそのまま踏襲した場合には、基準面Ｒｅｆがバルク層３の下層側にあるバルク型記録媒体１について、バルク層３内の情報記録層位置Ｌに録再用レーザ光を合焦させることができなくなる虞がある（録再光用フォーカス機構による合焦位置の調整範囲は有限であるため）。
【０１００】
このため、本実施の形態の記録再生装置１０においては、録再光用フォーカス機構の可動レンズ１５がニュートラル位置にあり、且つ対物レンズ２０がサーボ用レーザ光の合焦位置を基準面Ｒｅｆに一致させる位置にある状態において、当該対物レンズ２０を介して照射される録再用レーザ光の合焦位置が基準面Ｒｅｆよりも上層側に位置する（例えばバルク層３の深さ方向における略中心に位置する）ようにして、光学系が設計されているとする。
これにより、録再光用フォーカス機構における可動レンズ１５の位置を大きく動かすことなく（つまり録再用レーザ光のコリメーションを大きく変化させることなく）録再用レーザ光を基準面Ｒｅｆよりも上層側のバルク層３内に合焦させることができる。
【０１０１】
ここで、録再光用フォーカス機構によるコリメーション状態の変化が少なければ、光学倍率の変化量も小とでき、対物レンズ２０の位置の変化（フォーカス方向及びトラッキング方向）に起因して生じるサーボ用レーザ光の焦点位置と録再用レーザ光の焦点位置と間のずれの抑制が図られる。つまりこの結果、録再用レーザ光の位置制御精度の向上が図られる。
【０１０２】
［2-2．記録装置の全体的な内部構成］
図９は、記録再生装置１０の全体的な内部構成を示している。
なお図９において、光学ピックアップＯＰの内部構成については、先の図８に示した構成のうち録再用レーザ１１、レンズ駆動部１６、２軸アクチュエータ２１のみを抽出して示している。
【０１０３】
先ず、記録再生装置１０には、バルク層３を対象とした記録／再生や、記録マークの再生時における対物レンズ２０のフォーカス／トラッキング制御（つまり録再用レーザ光の反射光に基づく位置制御）を行うための信号処理系の構成として、図中の記録処理部３２、録再光用マトリクス回路３３、再生処理部３４が設けられている。
【０１０４】
記録処理部３２には、バルク型記録媒体１に対して記録すべきデータ（記録データ）が入力される。記録処理部３２は、入力された記録データに対してエラー訂正符号の付加や所定の記録変調符号化を施すなどして、バルク型記録媒体１に実際に記録される例えば「０」「１」の２値データ列である記録変調データ列を得る。
記録処理部３２は、上記生成した記録変調データ列に応じた記録パルス信号ＲＣＰを生成する。そして該記録パルス信号ＲＣＰに基づき光学ピックアップＯＰ内の録再用レーザ１１の発光駆動を行う。
【０１０５】
録再光用マトリクス回路３３は、図２に示した録再光用受光部２３としての複数の受光素子からの受光信号ＤＴ-rp（出力電流）に対応して電流電圧変換回路、マトリクス演算／増幅回路等を備え、マトリクス演算処理により必要な信号を生成する。
具体的には、上述した記録変調データ列を再生した再生信号に相当する高周波信号（以降、再生信号ＲＦと称する）、フォーカスサーボ制御のためのフォーカスエラー信号ＦＥ-rp、トラッキングサーボ制御のためのトラッキングエラー信号ＴＥ-rpを生成する。
【０１０６】
録再光用マトリクス回路３３にて生成された上記再生信号ＲＦは、再生処理部３４に供給される。
また、上記フォーカスエラー信号ＦＥ-rp、上記トラッキングエラー信号ＴＥ-rpは、録再光用サーボ回路３５に対して供給される。
【０１０７】
再生処理部３４は、上記再生信号ＲＦについて、記録変調符号の復号化やエラー訂正処理など上述した記録データを復元するための再生処理を行い、上記記録データを再生した再生データを得る。
【０１０８】
また、録再光用サーボ回路３５は、マトリクス回路３３から供給されるフォーカスエラー信号ＦＥ-rp、トラッキングエラー信号ＴＥ-rpに基づきフォーカスサーボ信号ＦＳ-rp、トラッキングサーボ信号ＴＳ-rpをそれぞれ生成し、これらフォーカスサーボ信号ＦＳ-rp、トラッキングサーボ信号ＴＳ-rpに基づくフォーカス駆動信号ＦＤ-rp、トラッキング駆動信号ＴＤ-rpに基づき、２軸アクチュエータ２１のフォーカスコイル、トラッキングコイルを駆動することで、録再用レーザ光についてのフォーカスサーボ制御、トラッキングサーボ制御を行う。
先の説明からも理解されるように、このような録再用レーザ光の反射光に基づく２軸アクチュエータ２１（対物レンズ２０）のサーボ制御は、再生時において行われるものである。
【０１０９】
また、録再光用サーボ回路３５は、再生時に対応してコントローラ３９から為される指示に応じて、トラッキングサーボループをオフとして上記トラッキングコイルにジャンプパルスを与えることでトラックジャンプ動作を実現したり、トラッキングサーボの引き込み制御等も行う。また、再生時におけるフォーカスサーボの引き込み制御等も行う。
【０１１０】
また、記録再生装置１０においては、サーボ用レーザ光の反射光についての信号処理系として、サーボ光用マトリクス回路３６、位置情報検出部３７、サーボ光用サーボ回路３８が設けられる。
【０１１１】
サーボ光用マトリクス回路３６は、図２に示したサーボ光用受光部２９における複数の受光素子からの受光信号ＤＴ-sv（出力電流）に対応して電流電圧変換回路、マトリクス演算／増幅回路等を備え、マトリクス演算処理により必要な信号を生成する。
具体的にサーボ光用マトリクス回路３６は、フォーカスサーボ制御のためのフォーカスエラー信号ＦＥ-sv、及びトラッキングサーボ制御のためのトラッキングエラー信号ＴＥ-svを生成する。
また、基準面Ｒｅｆにおいて記録された絶対位置情報の検出を行うための位置情報検出用信号Ｄｐｓを生成する。例えば絶対位置情報がピット列により記録される場合、位置情報検出用信号Ｄｐｓとしては和信号を生成する。或いは、ウォブリンググルーブにより絶対位置情報が記録される場合には、位置情報検出用信号Ｄｐｓとしてはプッシュプル信号を生成する。
【０１１２】
位置情報検出用信号Ｄｐｓは、位置情報検出部３７に供給される。位置情報検出部３７は、上記位置情報検出用信号Ｄｐｓに基づき基準面Ｒｅｆに記録された絶対位置情報を検出する。検出された絶対位置情報はコントローラ３９に対して供給される。
【０１１３】
サーボ光用サーボ回路３８には、サーボ光用マトリクス回路３６にて生成されたフォーカスエラー信号ＦＥ-sv、トラッキングエラー信号ＴＥ-svが供給される。
サーボ光用サーボ回路３８は、これらフォーカスエラー信号ＦＥ-sv、トラッキングエラー信号ＴＥ-svに基づきフォーカスサーボ信号ＦＳ-sv、トラッキングサーボ信号ＴＳ-svをそれぞれ生成する。
そして、記録時には、コントローラ３９からの指示に応じて、フォーカスサーボ信号ＦＳ-sv、トラッキングサーボ信号ＴＳ-svに基づき生成したフォーカス駆動信号ＦＤ-sv、トラッキング駆動信号ＴＤ-svに基づいて、２軸アクチュエータ２１のフォーカスコイル、トラッキングコイルを駆動することで、サーボ用レーザ光についてのフォーカスサーボ制御、トラッキングサーボ制御を実現する。
【０１１４】
また、サーボ光用サーボ回路３８は、記録時に対応してコントローラ３９から為される指示に応じて、トラッキングサーボループをオフとして２軸アクチュエータ２１のトラッキングコイルにジャンプパルスを与えることでトラックジャンプ動作を実現したり、基準面Ｒｅｆに対するフォーカスサーボの引き込み制御等も行う。
【０１１５】
コントローラ３９は、例えばＣＰＵ（Central Processing Unit）やＲＯＭ（Read Only Memory）、ＲＡＭ（Random Access Memory）などのメモリ（記憶装置）を備えたマイクロコンピュータで構成され、例えば上記ＲＯＭ等に記憶されたプログラムに従った制御・処理を実行することで、記録再生装置１０の全体制御を行う。
例えばコントローラ３９は、前述したように予め各情報記録層位置Ｌに対応して設定されたオフセットｏｆ-Lの値に基づいて、録再用レーザ光の合焦位置の制御（設定）を行う。具体的には、記録対象とする情報記録層位置Ｌに対応して設定されたオフセットｏｆ-Lの値に基づき、光学ピックアップＯＰ内のレンズ駆動部１６を駆動することで、深さ方向における記録位置の選択を行う。
【０１１６】
また、コントローラ３９は、先に説明したような記録／再生時の対物レンズ２０のサーボ制御切り替えを実現するための制御も行う。具体的にコントローラ３９は、記録時には、サーボ光用サーボ回路３８に対してフォーカス駆動信号ＦＤ-sv、トラッキング駆動信号ＴＤ-svの出力を指示し、また録再光用サーボ回路３５にはフォーカス駆動信号ＦＤ-rp、トラッキング駆動信号ＴＤ-rpの出力を停止するように指示を行う。
また記録時においてコントローラ３９は、記録処理部に対する指示を行って記録データに基づくマーク記録を実行させる。
【０１１７】
一方、再生時には、録再光用サーボ回路３５に対してフォーカス駆動信号ＦＤ-rp、トラッキング駆動信号ＴＤ-rpの出力を指示し、サーボ光用サーボ回路３８に対しては、フォーカス駆動信号ＦＤ-sv、トラッキング駆動信号ＴＤ-svの出力を停止するように指示を行う。
【０１１８】
またコントローラ３９は、サーボ光用サーボ回路３８に対するシーク動作制御も行う。すなわち、サーボ用レーザ光のスポット位置を基準面Ｒｅｆ上における所定の目標アドレスに移動させるようにサーボ回路３８に対する指示を行う。
【０１１９】
以上で説明した構成による記録再生装置１０によれば、バルク層３の下層側に反射膜５（基準面Ｒｅｆ）が形成されたバルク型記録媒体１に対応して、バルク層３内の所定位置（フォーカス方向及びトラッキング方向）にマーク記録を行うことができる。
【０１２０】
＜３．最下情報記録層位置から基準面までの距離と反射率比についての考察＞
図１０は、対物レンズ２０を介して録再用レーザ光がバルク型記録媒体１内の最も下層側に設定された情報記録層位置Ｌ（以下、最下情報記録層位置Ｌmbと称する）に合焦するように照射され、それに伴いバルク型記録媒体１から得られる録再用レーザ光の反射光が受光部（録再光用受光部２３）に導かれる様子を示している。
なお図１０においては、対物レンズ２０を介して録再用レーザ光が最下情報層位置Ｌmbに照射される部分を拡大して示している。
また、図１０において、録再用レーザ光の光学系については、対物レンズ２０から偏光ビームスプリッタ１３までの間の各部（例えばダイクロイックプリズム１９や録再光用フォーカス機構など）、及び録再用レーザ１１・コリメーションレンズ１２は省略して示している。
【０１２１】
再生時において、所要の情報記録層位置Ｌに記録された情報の再生を行うために、録再用レーザ光を当該情報記録層位置Ｌに合焦させるように照射したときには、マークからの反射光と共に、基準面Ｒｅｆからの反射光が得られる。
図を参照して分かるように、この際の基準面Ｒｅｆからの反射光は、情報記録層位置Ｌで焦点を結んだ後、拡散光の状態で照射された光についての反射光となる。
【０１２２】
このような録再用レーザ光の基準面Ｒｅｆからの反射光は、マークからの反射光（つまり再生光）と共に録再光用受光部２３に受光されることになる。つまり、上記基準面Ｒｅｆからの反射光は、上記再生光に対するノイズ光として作用することになる。
以下、このような基準面Ｒｅｆからの録再用レーザ光の反射光のことを、迷光とも呼ぶ。
【０１２３】
このとき、基準面Ｒｅｆからの迷光の光強度は、再生対象とする情報記録層位置Ｌから基準面Ｒｅｆまでの距離が最も小となるときに最大となる。つまり、ノイズの重畳量は、最下情報記録層位置Ｌmbについての再生時において最大となるものである。
このことからも理解されるように、迷光によるノイズの影響について考慮する際は、最下情報記録層位置Ｌmbから基準面Ｒｅｆまでの距離（以下、距離ｄと表記）が重要な要素となる。
【０１２４】
また、迷光の光強度は、当然のことながら基準面Ｒｅｆの録再用レーザ光に対する反射率（前述の反射率Ｒrpと同義：以下では反射率Ｒrrとも表記する）によっても変化する。従って、迷光の光強度を抑えてノイズの重畳による影響を抑制するためには、当該反射率Ｒrrは小であることが望ましい。
【０１２５】
一方で、ノイズの影響は、再生光の強度と相対的なものとなるので、ノイズの影響について考慮する際には、当然のことながらマークの反射率（以下、反射率Ｒmrとも表記）についても考慮すべきとなる。
【０１２６】
このようにして、迷光によるノイズの影響について考慮する際には、距離ｄと、基準面Ｒｅｆの反射率Ｒrrと、マーク反射率Ｒmrとの三者が重要な要素となる。
【０１２７】
ここで、迷光によるノイズの影響について見積もるにあたり、「迷光強度／再生光強度」をＳＮＲ相関の評価指標とする。
バルク型記録媒体１において、基準面Ｒｅｆに形成されたパターンは比較的低い周波数で変化するので、迷光は、バルク層３からの再生信号に対しＤＣオフセットとして重畳することになる。従って、上記のように「迷光強度／再生光強度」をＳＮＲ相関の評価指標とみなすことができる。
その上で、システムとして許容できるノイズ／再生光の強度比について、「迷光強度／再生光強度≦α」とおく。
このようにした場合、基準面Ｒｅｆの反射率Ｒrr、マーク反射率Ｒmr、距離ｄについては、当該「迷光強度／再生光強度≦α」の条件が満たされるように設定すればよいことになる。
【０１２８】
図１１は、最下情報記録層位置から基準面までの距離ｄに対する「迷光強度／再生光強度」の変化特性を、基準面Ｒｅｆの反射率Ｒrrとマーク反射率Ｒmrとの反射率比ごとに計算した結果を示している。
具体的に図１１では、縦軸を「迷光強度／再生光強度」、横軸をｄ（１〜１０μｍ）として、基準面Ｒｅｆの反射率Ｒrrとマーク反射率Ｒmrとの反射率比（Ｒｅｆ反射率／マーク反射率＝２５,５０,１００,１５０）ごとに、距離ｄに対する「迷光強度／再生光強度」の変化特性を計算した結果を示している。
Ｒｅｆ反射率／マーク反射率＝２５についての計算結果は×印、Ｒｅｆ反射率／マーク反射率＝５０の計算結果は▲印、Ｒｅｆ反射率／マーク反射率＝１００の計算結果は■印、Ｒｅｆ反射率／マーク反射率＝１５０の計算結果は◆印である。
【０１２９】
なお、この図１１に示す計算結果を得るにあたっては、基準面Ｒｅｆのパターン（位置案内子のパターン）として、図１２（ａ）に示すようなグループとランドの繰り返しパターン（強度分布パターン）を設定した。
また、計算にあたっては、最下情報記録層位置Ｌmbからの反射光の球面と基準面Ｒｅｆからの反射光の球面とに、図１３に示されるフォーカス時参照球面ＳＲ１、デフォーカス時参照球面ＳＲ２のような差が生じることを前提とした。
さらにこの前提に基づき、バルク型記録媒体１からの録再用レーザ光の反射光（基準面Ｒｅｆからの反射光も含む）についての対物レンズ２０からの射出面上における強度分布パターンが図１２（ｂ）に示すものとなり、さらに上記録再用レーザ光の反射光の録再光用受光部２３の受光面上における強度分布パターンが図１２（ｃ）に示すものとなることを前提として計算を行った。
なお計算は、録再用レーザ光の波長λ＝４００nm、対物レンズ２０の開口数ＮＡ＝０．８５として行った。
【０１３０】
この図１１の計算結果に基づき、設計上好ましい距離ｄとＲｅｆ反射率／マーク反射率との関係を導き出すことができる。
例えば、前述した「迷光強度／再生光強度」の許容値がα＝１とされる場合において、Ｒｅｆ反射率／マーク反射率＝５０とするのであれば、距離ｄは、およそ１０μｍ以上とすればよいことが分かる。或いは、同じα＝１の条件下において、Ｒｅｆ反射率／マーク反射率を１００や１５０などとする場合には、距離ｄとしてはさらに大とする必要があることが分かる。
なお確認のために述べておくと、Ｒｅｆ反射率（反射率Ｒrr）は、反射膜５の材料、膜厚等によって定まるものとなる。またマーク反射率（反射率Ｒmr）は例えばバルク層３についてどのような材料（記録材料）を選定するか等により定まるものとなる。
【０１３１】
＜４．変形例＞
以上、本発明の実施の形態について説明したが、本発明としてはこれまでで説明した具体例に限定されるべきものではない。
例えばこれまでの説明では、基板６の上面に対して案内溝を形成する場合を例示したが、図１４に示されるバルク型記録媒体４０のように、バルク層の下面側に対して案内溝を形成する構造とすることもできる。なお、このように案内溝が形成されたバルク層については、バルク層３’と表記する。
この場合の基板６は、上記のように案内溝（及び反射膜５）がバルク層側に形成されることに対応させて、その上面側も平面状に形成されたものを用いる（以下、基板６’と表記する）。
【０１３２】
図１５は、図１４に示すバルク型記録媒体４０の製造方法について説明するための図である。
図１５において、バルク型記録媒体４０の製造にあたっては、先ずはバルク層３’の材料であるフィルム状記録材料３’ｍを用意する（図１５（ａ））。すなわち、フィルム状の記録材料を円盤状に打ち抜いたものを用意する。
【０１３３】
そして、このようなフィルム状記録媒体３’ｍに対し、案内溝を形成することで、バルク層３’を完成させる（図１５（ｂ））。
フィルム状記録材料３’ｍに対する案内溝の形成は、いわゆるナノプリント技術を用いて行う。具体的には、例えば熱転写などの手法で行う。
【０１３４】
さらに、このように生成されたバルク層３’に対し、反射膜５の成膜を行う（図１５（ｃ））。すなわち、バルク層３’の案内溝が形成された側の面に対し、銀又は銅又は金による金属材料を成膜する。
【０１３５】
反射膜５を成膜した後は、例えばＰＳＡやＵＶ硬化樹脂等の接着材料による接着層４によって、反射膜５と基板６’とを接着する（図１５（ｄ））。
その上で、バルク層３の上面側に対し、カバー層２を積層する（図１５（ｅ））。これにより、図１４に示したバルク型記録媒体４０が完成する。
【０１３６】
ここで、これまでの説明では、バルク層３（又はバルク層３’）の上層側にカバー層２が形成された構造を例示したが、本発明の光記録媒体としては、例えば図１６に示されるバルク型記録媒体４５のように、カバー層２を省略した構造とすることもできる。
この場合、バルク層３（又はバルク層３’）内における上層部分（最上の情報記録層位置Ｌよりも上層側の部分）が、カバー層としての機能を担うことになる。
【０１３７】
或いは、本発明の光記録媒体は、図１７に示すバルク型記録媒体５０のように、２つの層ユニットを貼り合わせた構造とすることもできる。
具体的に、このバルク型記録媒体５０としては、それぞれが「カバー層２・バルク層３・パターン転写中間層５１・反射膜５」を有する２つの層ユニットを、反射膜５同士を対向させた向きで接着層４により接着して貼り合わせた構造を有する。
ここで、パターン転写中間層５１は、例えばバルク層３上に塗布したＵＶ硬化樹脂に対し前述した案内溝形成のためのスタンパを押し当てた状態で紫外線照射による硬化処理を施すことにより形成することができる。
【０１３８】
なお、図１４に示したようなバルク層３’を有する光記録媒体についても、同様の貼り合わせ構造とすることが可能である。
つまりその場合は、「カバー層２・バルク層３’・反射膜５」を有する層ユニットを、反射膜５同士を対向させた向きで接着層４により接着した構造とすればよい。
【０１３９】
なお、貼り合わせ構造とする場合にも、カバー層２を省略可能であることは言うまでもない。
【０１４０】
また、これまでの説明では、本発明の光記録媒体がいわゆるバルク型の光記録媒体とされる場合を例示したが、本発明の光記録媒体としては、例えば図１８に示されるような複数の半透明記録膜５６を備えた記録層５８を有する多層記録媒体５５とすることもできる。
図１８において、カバー層２、接着層４、反射膜５、及び基板６についてはバルク型記録媒体１の場合と同様となるので改めての説明は省略する。
この多層記録媒体５５が備える記録層５８は、バルク層３としてのバルク状の記録層とは異なり、複数の半透明記録膜５６が中間層５７を隔てて形成された多層構造を有する。具体的には、半透明記録膜５６→中間層５７→半透明記録膜５６→中間層５７・・・の繰り替えし積層が行われている。
但し、ここで注意すべきは、上記半透明記録膜５６には、グルーブやピット列等の形成に伴う位置案内子が形成されていないという点である。つまり、この多層記録媒体５５としても、位置案内子は、基準面Ｒｅｆとしての１つの層位置に対してのみ形成される。
このような構造とすることで、バルク型の光記録媒体とする場合と同様に、各層ごとに位置案内子を形成するための工程を省略することができ、その分、記録媒体の製造コストを抑える上で有利とできる。
【０１４１】
ここで、図１８に示す多層記録媒体５５は、半透明記録膜５６が形成されているため、記録時においても録再用レーザ光の反射光を得ることができる。従って、この場合の記録時における録再用レーザ光のフォーカスサーボ制御は、当該録再光用レーザ光の反射光に基づいて対物レンズ２０を駆動することで、記録対象とする半透明記録膜５６に合焦させるようにして行うことになる。
一方、記録時における録再用レーザ光のトラッキングサーボ制御に関しては、この場合もサーボ用レーザ光を用いて行うことになる。すなわち、この場合としても、記録時におけるトラッキングサーボ制御は、サーボ用レーザ光の基準面Ｒｅｆからの反射光に基づき対物レンズ２０を駆動することで、当該サーボ用レーザ光の焦点位置が基準面Ｒｅｆの案内溝に追従するようにして行う。
【０１４２】
また、再生時には、この場合も既に記録されたマーク列に基づいて録再用レーザ光のトラッキングサーボ制御を行うことができる。また、上記説明からも理解されるように、再生時においても、録再用レーザ光のフォーカスサーボ制御は、対象とする半透明記録膜５６（情報記録層Ｌ）からの反射光を利用して行うことができる。つまりこの場合、再生時におけるサーボ制御は、バルク型の光記録媒体とする場合と同様の手法で行うことになる。
【０１４３】
ここで、図１８に示した多層記録媒体５５としても、バルク型の光記録媒体と同様に、深さ方向において選択的にマークの記録が行われ、上記マークが多層状に形成される記録層を有する光記録媒体である点に変わりはない。
【０１４４】
また、これまでの説明では、録再用レーザ光の波長を４００nm程度、サーボ用レーザ光の波長を６５０nm程度とする場合を例示したが、これらの波長については例示した数値に限定されるべきものではない。
【０１４５】
また、これまでの説明では、記録再生装置１０において、光学系が、録再光用フォーカス機構の可動レンズ１５がニュートラル位置にあり且つ対物レンズ２０がサーボ用レーザ光の合焦位置を基準面Ｒｅｆに一致させる位置にある状態において、当該対物レンズ２０を介して照射される録再用レーザ光の合焦位置が基準面Ｒｅｆよりも上層側に位置する（例えば記録層の深さ方向における略中心に位置する）ように設計されている場合を例示したが、本発明の記録装置としては、少なくとも、サーボ用レーザ光（第２の光）を記録層の下層側に形成された反射膜（反射膜５）に合焦させ、その状態で上記反射膜の上層側に形成された上記記録層に対して録再用レーザ光（第１の光）を合焦させることができるように構成されていればよい。
【０１４６】
また、これまでの説明では、基準面（反射膜）にて形成される位置案内子がピット又はグルーブとしての案内溝とされる場合を例示したが、基準面における位置案内子はマークの記録により形成されたものであってもよい。
その場合、案内溝の形成工程は不要であり、代わりに、反射膜５に対してマーク形成を行う、或いは反射膜５の上面側に対しマーク記録を可能とするための記録材料を形成しそこにマークを記録する、といった工程が追加されることになる。
【０１４７】
またこれまでの説明では、本発明の記録装置が光記録媒体に対する記録及び再生の双方を行う記録再生装置に適用される場合を例示したが、本発明は光記録媒体（記録層）に対する記録のみが可能とされた記録専用装置（記録装置）にも好適に適用できる。
【符号の説明】
【０１４８】
１,４０,４５,５０  バルク型記録媒体、２  カバー層、３,３’  バルク層、３’ｍ  フィルム状記録材料、４  接着層（中間層）、５  反射膜、Ｒｅｆ  基準面、６,６’  基板、Ｌ  マーク形成層位置（情報記録層位置）、１０  記録再生装置、１１  録再用レーザ、１２,２５  コリメーションレンズ、１３,２６  偏光ビームスプリッタ、１４  固定レンズ、１５  可動レンズ、１６  レンズ駆動部、１７  ミラー、１８,２７  １／４波長板、１９  ダイクロイックプリズム、２０  対物レンズ、２１  ２軸アクチュエータ、２２,２８  集光レンズ、２３  録再光用受光部、２４  サーボ用レーザ、２９  サーボ光用受光部、３２  記録処理部、３３  録再光用マトリクス回路、３４  再生処理部、３５  録再光用サーボ回路、３６  サーボ光用マトリクス回路、３７  位置情報検出部、３８  サーボ光用サーボ回路、３９  コントローラ、５５  多層記録媒体、５６  半透明記録膜、５７  中間層、５８  記録層
【図１】
2012089197.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図１２】
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