(57)【要約】【課題】光導波路のクラッド層あるいはコアを連続的に塗工して加熱処理する工程を含む場合でも、熱による寸法変化が小さく、上記クラッド層およびコアの基材上における形成位置が正確なタッチパネル用光導波路の製法を提供する。【解決手段】ステンレス製の長尺基材を選択し、基材１０の上にクラッド層形成用感光性樹脂組成物（１’）を連続して塗布する工程と、樹脂組成物を加熱して組成物中の溶媒を揮散させる第１プレ加熱工程と、樹脂組成物に照射線Ｌを照射してクラッド層１を形成する工程と、クラッド層の上にコア形成用感光性樹脂組成物を連続して塗布する工程と、樹脂組成物を加熱して組成物中の溶媒を揮散させる第２プレ加熱工程と、樹脂組成物にフォトマスクを介して照射線を照射して露光し硬化を完了させた後、現像液を用いて未露光部分を溶解除去し、パターン形状のコアを形成する工程と、を備えることを特徴とするタッチパネル用光導波路の製法。【選択図】図１
2012093563.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材としてステンレス製の長尺基材を選択し、この基材の上に、クラッド層形成用の感光性樹脂組成物を基材長手方向に連続して塗布する工程と、塗布後の感光性樹脂組成物を加熱して組成物中の溶媒を揮散させる第１プレ加熱工程と、上記第１プレ加熱工程を経たクラッド層形成用の感光性樹脂組成物に照射線を照射してクラッド層を形成する工程と、上記クラッド層の上に、コア形成用の感光性樹脂組成物を基材長手方向に連続して塗布する工程と、塗布後の感光性樹脂組成物を加熱して組成物中の溶媒を揮散させる第２プレ加熱工程と、上記第２プレ加熱工程を経たコア形成用の感光性樹脂組成物に、フォトマスクを介して照射線を照射して露光し硬化を完了させた後、現像液を用いて未露光部分を溶解除去して、所定パターン形状のコアを形成する工程と、を備えることを特徴とするタッチパネル用光導波路の製法。
【請求項２】
上記各工程のうち、少なくとも感光性樹脂組成物を塗布する工程とプレ加熱工程とが、巻回された長尺基材を繰り出して加工完了後に巻き取る、ロール・トゥ・ロール加工法により連続して行われる請求項１記載のタッチパネル用光導波路の製法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、タッチパネル用光導波路の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、タッチパネルにおける触れ位置の検知手段の一つとして、光導波路を用いて指等の位置を光学的に検出する光学的検出手段が用いられている（特許文献１を参照）。
【０００３】
この光学的検出手段は、長方形状のパネルの角部を挟む左右の側部に設置された出光側の光導波路の出射部から、多数の光（略平行な光）を、上記パネルの検知領域を挟んでそれぞれ対向する他側部に向けて出射（投射）し、この検知領域内に光の格子を形成するとともに、パネルの他側部に設置された受光側の光導波路の入射部に入射した光を、受光素子等で検知するようになっている。そして、この状態で、指等の物体が、上記検知領域内の格子状の光の一部を遮断すると、その遮断された部分が、受光側の光導波路に繋がる受光素子等で感知され、上記指等が触れた部分の位置（ｘ，ｙ方向位置）が特定される。
【０００４】
上記タッチパネル用の光導波路としては、近年、高分子系の樹脂材料を用いた、軽量でフレキシブルなポリマー光導波路が開発され、使用され始めている。このポリマー光導波路は、例えば以下のようにして製造される。すなわち、まず、クラッド層用の感光性樹脂組成物を用いて、基材上にクラッド層（アンダークラッド層）を形成する。ついで、このクラッド層上に、上記クラッド層とは屈折率の異なるコア用の感光性樹脂組成物を塗布し、この感光性樹脂組成物層の表面をプレ加熱（ｐｒｅ−ｂａｋｅ）により乾燥させた後、上記感光性樹脂組成物の塗布面にマスクを介して光を照射して露光する。そして、未露光部分を、現像液を用いて現像・除去することにより、上記クラッド層上に所定パターン状のコアを有する、タッチパネル用光導波路が得られる。
【０００５】
このようなタッチパネル用光導波路の製造方法に関し、本出願人は、光導波路の基材として、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ），ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ），ポリイミド（ＰＩ）等のテープ状基材を用いて、クラッド層の形成材料あるいはコアの形成材料（ワニス）を、ロール・トゥ・ロール（ｒｏｌｌ  ｔｏ  ｒｏｌｌ）で連続的に塗工することにより、上記タッチパネル用光導波路を、効率的に製造することのできる方法を提案している（特許文献２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１０−２０１０３号公報
【特許文献２】特開２００９−１８６８３４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上記のようなタッチパネル用ポリマー光導波路の製法において、光導波路のクラッド層あるいはコアを、連続的に塗工して加熱処理する場合、以下のような問題点があった。すなわち、上記クラッド層あるいはコアの形成工程では、感光性樹脂組成物の露光前に、この感光性樹脂中の溶媒を蒸発させて表面を乾燥させるためのプレ加熱（ｐｒｅ−ｂａｋｅ）として、約１００〜１５０℃の熱をかけるため、光導波路のキャリア基材として使用されるＰＥＴ，ＰＥＮ等のポリマー製フィルムが、この加熱により伸縮して寸法変化を起こし、上記クラッド層およびコアの基材上における位置精度が低下してしまう。この傾向は、ロール・トゥ・ロールで、ポリマー製フィルムに繰り出しや巻き取り等の力が加わる場合に大きくなる。
【０００８】
上記基材上におけるコアの位置精度は、タッチパネルの組み込み時に重要で、出光側光導波路のコアと受光側光導波路のコアとの光軸がずれている場合は、受光側光導波路のコアに繋がる受光素子に、発光側の光が充分に届かず、光量不足でタッチパネルの感度が低下するおそれがあるため、上記光導波路の製造段階における位置精度の向上が望まれている。
【０００９】
本発明は、このような事情に鑑みなされたもので、光導波路のクラッド層あるいはコアを連続的に塗工して加熱処理する工程を含む場合でも、熱による寸法変化が小さく、上記クラッド層およびコアの基材上における形成位置が正確なタッチパネル用光導波路の製法の提供をその目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記の目的を達成するため、本発明のタッチパネル用光導波路の製法は、基材としてステンレス製の長尺基材を選択し、この基材の上に、クラッド層形成用の感光性樹脂組成物を基材長手方向に連続して塗布する工程と、塗布後の感光性樹脂組成物を加熱して組成物中の溶媒を揮散させる第１プレ加熱工程と、上記第１プレ加熱工程を経たクラッド層形成用の感光性樹脂組成物に照射線を照射してクラッド層を形成する工程と、上記クラッド層の上に、コア形成用の感光性樹脂組成物を基材長手方向に連続して塗布する工程と、塗布後の感光性樹脂組成物を加熱して組成物中の溶媒を揮散させる第２プレ加熱工程と、上記第２プレ加熱工程を経たコア形成用の感光性樹脂組成物に、フォトマスクを介して照射線を照射して露光し硬化を完了させた後、現像液を用いて未露光部分を溶解除去して、所定パターン形状のコアを形成する工程と、を備えることを要旨とする。
【００１１】
すなわち、本発明者らは、タッチパネル用光導波路の製造に伴う課題を研究する過程で、タッチパネル用光導波路を支持する基材として、剛性の高いステンレス鋼からなる金属箔を用いると、加熱による伸長と樹脂の硬化に伴う収縮とが相殺され、光導波路の加熱寸法安定性が向上することを見出し、本発明に到達した。
【発明の効果】
【００１２】
本発明のタッチパネル用光導波路の製法は、その基材としてステンレス製の長尺基材を使用することにより、クラッド層露光前の第１プレ加熱による寸法変化、および、クラッド層を硬化させるための露光・加熱硬化処理等に伴う寸法変化が抑制される。また、同様に、コア露光前の第２プレ加熱による寸法変化、および、コアを硬化させるための露光・加熱硬化処理等に伴う寸法変化も抑えられる。これにより、本発明のタッチパネル用光導波路の製法は、クラッド層およびコア形成時における伸縮や寸法変化が起こりにくく、これらクラッド層およびコアを、基材上の所定の位置に正確に、かつ、高い精度で作製することができる。
【００１３】
また、上記各工程のうち、少なくとも感光性樹脂組成物を塗布する工程とプレ加熱工程とが、巻回された長尺基材を繰り出して加工完了後に巻き取る、ロール・トゥ・ロール加工法により連続して行われる場合は、クラッド層およびコアの形成材料である感光性樹脂組成物の塗布と露光前のプレ加熱（乾燥）とを、効率的に行うことができる。しかも、本発明のタッチパネル用光導波路の製法は、上記のように、その基材としてステンレス製の長尺基材を使用しているため、ロール・トゥ・ロール加工法のように繰り出し，巻き取りの力が加わる場合でも、基材がその力に耐えるため、クラッド層用およびコア用の感光性樹脂組成物のプレ加熱時にも寸法変化が発生せず、クラッド層およびコアを、基材上の所定の位置に高精度で作製できる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】（ａ）〜（ｃ）は、本発明の実施形態のタッチパネル用光導波路の製法におけるクラッド層の形成方法を説明する模式図である。
【図２】（ａ）〜（ｆ）は、本発明の実施形態のタッチパネル用光導波路の製法におけるコアの形成方法を説明する模式図である。
【図３】本発明に実施例において、寸法変化を測定するために基材に設けられる位置計測用穴の形状例を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
つぎに、本発明実施の形態を、図面にもとづいて詳しく説明する。
図１（ａ）〜（ｃ）は、本発明の実施形態のタッチパネル用光導波路の製法におけるクラッド層の形成方法を説明する模式図であり、図２（ａ）〜（ｆ）は、上記タッチパネル用光導波路の製法におけるコアの形成方法を説明する模式図である。なお、図１（ａ）〜（ｃ）は、工程ラインの流れに沿って順次作製される光導波路の製造過程を、製品（形成材料）の流れ方向（実線矢印で表示）の側方から見た図である。また、図２（ａ）〜（ｆ）は、その製造過程を、製品の流れ方向から見た図であり、これら各図における製品（形成材料）は、紙面の表面方向から裏面方向に向かって流れているものとする。
【００１６】
まず、本実施形態におけるタッチパネル用光導波路の製法の概略を述べる。
この製法では、まず、基材としてステンレス製の長尺基材１０を準備し、図１（ａ）に示すように、一方の繰り出しロール（図示せず）から上記長尺基材１０を矢印の方向に繰り出しながら、塗工機等を用いてロール・トゥ・ロール（ｒｏｌｌ  ｔｏ  ｒｏｌｌ）で、この基材１０の上にクラッド層形成用の感光性樹脂組成物（以下「ワニス」ということがある）からなるワニス１’を塗布する（第１塗布工程）。ついで、図１（ｂ）のように、塗布後の長尺基材１０およびワニス１’をプレ加熱ＰＨして感光性樹脂組成物中の溶媒を揮散させる（第１プレ加熱工程）。続いて、図１（ｃ）のように、感光性樹脂組成物（層）に照射線Ｌを照射して、クラッド層１（アンダークラッド層）を硬化形成する（第１成膜工程）。
【００１７】
つぎに、コアの形成は、図２（ａ）に示すように、クラッド層１が積層された長尺基材１０を移動させながら、塗工機等を用いてロール・トゥ・ロールで、このクラッド層１上に、コア形成用の感光性樹脂組成物（ワニス２’）を塗布する（第２塗布工程）。続いて、図２（ｂ）のように、ワニス２’をプレ加熱ＰＨして感光性樹脂組成物中の溶媒を揮散させる（第２プレ加熱工程）。ついで、図２（ｃ）のように、感光性樹脂組成物（層）に、フォトマスクＭを介して照射線Ｌを照射して露光し、続いて、図２（ｄ）のように、感光性樹脂組成物の硬化を完了させるためのポスト加熱Ｈ（ｃｕｒｅ）等を行った後、図２（ｅ）のように、現像液Ｄを用いて未露光部分を溶解除去して所定パターン形状のコア２，２，・・・を形成（第２成膜工程）し、図２（ｆ）のように、これを加熱乾燥Ｈ（ｄｒｙ）することにより、基材１０上にクラッド層１とコア２とが積層されたポリマー光導波路を得る。
【００１８】
本実施形態のタッチパネル用光導波路の製法は、このようにして光導波路を製造するものであって、製造に使用する基材１０として、上記のような加熱処理を経ても寸法変化を起こしにくい、ステンレス製の金属箔を用いる点が、本発明の特徴である。
【００１９】
つぎに、上記製法について詳細に説明する。
まず、ステンレス製の長尺基材１０を準備する。この長尺基材１０に用いるステンレスとしては、例えばＡＩＳＩ（米国鉄鋼協会）の規格によれば、ＳＵＳ３０１，ＳＵＳ３０４，ＳＵＳ３０５，ＳＵＳ３０９，ＳＵＳ３１０，ＳＵＳ３１６，ＳＵＳ３１７，ＳＵＳ３２１，ＳＵＳ３４７，ＳＵＳ４３０等があげられる。なかでも、耐食性および機械的特性に優れるＳＵＳ３０４が好適に選択される。また、ステンレス箔は、その厚さが１２〜１００μｍ、好ましくは２０〜５０μｍのものが用いられる。なお、上記ステンレス箔は、その幅が１００〜５００ｍｍ、好ましくは２５０〜３５０ｍｍ程度で、その長手方向の長さが１０〜１００ｍ程度の長尺なテープ状（あるいはリボン状）のものが用意される。そして、上記テープ状の長尺基材１０は、取扱いや加工機等へのセッティング等が行いやすいように、リールやロール等（図示省略）に巻回した状態で準備される。
【００２０】
つぎに、クラッド層の形成工程は、図１（ａ）に示すように、上記基材１０の表面の所定領域に、クラッド層１形成用の感光性樹脂組成物（ワニス１’）を塗布し、その層を形成する。このワニス１’の塗布は、例えば、スピンコート法，ディッピング法，キャスティング法，インジェクション法，インクジェット法、マルチコーター等の塗工機を用いて、ロール・トゥ・ロール（ｒｏｌｌ  ｔｏ  ｒｏｌｌ）で、ワニス１’を基材長手方向に連続的に塗布する方法により行われる（第１塗布工程）。なお、図１（ａ）は、マルチコーターを用いて、上記長尺基材１０を繰り出しながらワニス１’を塗工する際の例であり、図中の符号Ｃは、コーターロールを示す。
【００２１】
ついで、図１（ｂ）に示すように、上記ワニス１’が塗布された長尺基材１０を走行させた状態で、オーブン等によりプレ加熱処理（点線矢印ＰＨ：以下同じ）を行って、このワニス１’中の溶媒等、揮発成分を揮発させ、ワニス１’の表面（感光性樹脂組成物層の表面）を乾燥させるとともに、上記ワニス１’の層を基材１０上に定着させる（第１プレ加熱工程）。このプレ加熱処理は、通常、１００〜１５０℃で２〜２０分間行われる。
【００２２】
続いて、図１（ｃ）に示すように、上記ワニス１’が定着した長尺基材１０を走行させた状態で、照射線（白抜き矢印Ｌ：以下同じ）の照射を行ってワニス１’を硬化させ、クラッド層１を作製する（第１成膜工程）。上記硬化用の照射線としては、例えば、可視光，紫外線，赤外線，Ｘ線，α線，β線，γ線等が用いられ、好適には、紫外線が用いられる。紫外線の光源としては、例えば、低圧水銀灯，高圧水銀灯，超高圧水銀灯等があげられ、紫外線の照射量は、通常、１０〜１００００ｍＪ／ｃｍ2、好ましくは、５０〜３０００ｍＪ／ｃｍ2である。硬化後のクラッド層１の厚さは、通常、１０〜５０μｍの範囲に設定されている。
【００２３】
なお、上記第１プレ加熱工程と第１成膜工程とは、実際に工場等で実施する場合、ワニス１’の塗布を行うマルチコーターの塗工区画（ゾーン）に連続する、オーブン（プレ加熱処理）区画および紫外線照射区画として、同一の工程ライン上に連続して設ける方が、生産効率および工程管理の観点から有利である。また、後記するコアの形成工程と工程ラインが分離されている場合は、放冷の後、上記クラッド層１が積層された長尺基材１０を、一旦ロール等に巻回することもある。
【００２４】
つぎに、コアの形成工程は、まず、図２（ａ）に示すように、クラッド層１が形成済みの長尺基材１０を繰り出しながら（あるいは、上記照射線を照射する第１成膜工程に続いて）、上記クラッド層１と同様の塗工機〔図１（ａ）参照〕等を用いてロール・トゥ・ロールで、クラッド層１上に、コア２形成用の感光性樹脂組成物（ワニス２’）を基材長手方向に連続的に塗布し、ワニス２’の層を形成する（第２塗布工程）。
【００２５】
続いて、これも上記クラッド層１と同様、図２（ｂ）に示すように、上記ワニス２’が塗布された長尺基材１０を走行させた状態で、オーブン等によりプレ加熱処理（点線矢印ＰＨ）を行って、このワニス２’中の揮発成分等を揮発させ、後記するマスクＭ等が接触可能なように、ワニス２’の表面を乾燥させるとともに、上記ワニス１’の層を基材１０上に定着させる（第２プレ加熱工程）。このプレ加熱処理は、通常、１００〜１５０℃で２〜２０分間行われる。
【００２６】
ついで、図２（ｃ）に示すように、上記ワニス２’を、所定のコアパターンに対応する開口を有するフォトマスクＭを介して、照射線Ｌにより露光する。このフォトマスクＭは、テープ状のフォトマスクＭが巻回された一方のロール（図示せず）から繰り出され、他方のロール（図示せず）に巻き取られるもので、上記長尺基材１０の流れ方向（光導波路の製造方向）に、同期して移動するようになっている。そして、このフォトマスクＭを介して露光された部分が、未露光部分の後記の現像（溶解除去）工程を経て、コア２〔図２（ｆ）参照〕となる。これについて詳しく説明すると、上記露光に際しては、例えばコンタクト露光や、フォトマスクＭをワニス２’層から僅かに離して行うプロキシミティ露光等が用いられる。また、用いる照射線Ｌとしては、上記クラッド層１の作製と同様、紫外線が好適に用いられ、その使用に際しては、バンドパスフィルターと称される露光フィルターを用いることが好ましい。紫外線の照射量は、通常、１０〜１００００ｍＪ／ｃｍ2、好ましくは、５０〜３０００ｍＪ／ｃｍ2である。
【００２７】
上記露光後、図２（ｄ）に示すように、硬化反応を完結させるために、ポスト加熱Ｈ（ｃｕｒｅ）を行う。このポスト加熱Ｈ（ｃｕｒｅ）は、８０〜２５０℃、好ましくは、１００〜２００℃にて、１０秒〜２時間、好ましくは、５分〜１時間の範囲内で行う。その後、図２（ｅ）に示すように、現像液Ｄを用いて現像を行うことにより、ワニス２’における未露光部分を溶解させて除去し、残存した部分を所望のコア２のパターンに形成する（第２成膜工程）。なお、上記現像には、例えば、浸漬法，スプレー法，パドル法等が用いられる。また、現像液Ｄとしては、例えば、γ−ブチロラクトン水溶液、水酸化テトラメチルアンモニウム等のような有機アルカリ水溶液，水酸化ナトリウム，水酸化カリウム等の無機アルカリ水溶液が用いられる。現像液Ｄおよび現像条件は、感光性樹脂組成物の組成によって、適宜選択される。
【００２８】
そして、図２（ｆ）に示すように、加熱乾燥Ｈ（ｄｒｙ）を行い、上記現像液Ｄを蒸発させて、長尺基材１０上にクラッド層１とコア２が積層されたポリマー光導波路を得る。なお、加熱乾燥Ｈ（ｄｒｙ）は、８０〜１５０℃、好ましくは、１００〜１２０℃にて、１０秒〜２時間の範囲内で行う。また、乾燥後のタッチパネル用光導波路は、巻取り機等を用いてロール等に一旦巻回するか、あるいは、上記乾燥後に連続して、所定長さに切断される。
【００２９】
上記実施形態におけるタッチパネル用光導波路の製法によれば、その基材としてステンレス製の長尺基材１０を使用することにより、上記各工程での加熱に起因する寸法変化が抑えられる。これにより、上記タッチパネル用光導波路の製法は、クラッド層１およびコア２形成時における伸縮や寸法変化が起こりにくく、これらクラッド層１およびコア２を、基材１０上の所定の位置に正確に、かつ、高い精度で作製することができる。
【００３０】
また、本実施形態におけるタッチパネル用光導波路の製法は、巻回された長尺基材１０を繰り出して加工完了後に巻き取る、ロール・トゥ・ロール加工法により行っているため、タッチパネル用光導波路を連続して効率的に作製することができる。
【００３１】
つぎに、実施例について比較例と併せて説明する。ただし、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。
【実施例】
【００３２】
実施例として、３００ｍｍ幅のステンレス製長尺基材および樹脂製長尺基材を用いて、上記実施形態と同様のロール・トゥ・ロール加工により、これら長尺基材上にクラッド層を形成したもの（実施例１，比較例１）と、このクラッド層上にさらにコアを形成したもの（実施例２，比較例２）を作製し、クラッド層の積層前後とコアの積層前後の基材（製品）の寸法変形率を、上記ステンレス製基材と樹脂製基材とを用いた場合で比較した。
【００３３】
まず、光導波路の作製に先立って、クラッド層およびコアを形成する材料を調整した。なお、比較例に用いた形成材料も同じである。
【００３４】
〔クラッド層の形成材料〕
成分Ａ：エポキシ樹脂  〈ダイセル化学社製，ＥＨＰＥ３１５０〉７５重量部
成分Ｂ：エポキシ樹脂  〈日油社製，マープルーフＧ−０１５０Ｍ〉２５重量部
成分Ｃ：（光酸発生剤）トリアリールスルホニウム塩の５０％プロピオンカーボネート溶液〈サンアプロ社製  ＣＰＩ−２００Ｋ〉  ４重量部
上記成分Ａ，Ｂ，Ｃをシクロヘキサノン〈和光純薬工業社製〉７０重量部に溶解することにより、クラッド層の形成材料（ワニスＩ）を調製した。
【００３５】
〔コアの形成材料〕
成分Ｄ：（光カチオン重合エポキシ樹脂）Ｏ−クレゾールノボラックグリシジルエーテル〈東都化成社製  ＹＤＣＮ−７００−１０〉  １００重量部
成分Ｃ：（光酸発生剤）トリアリールスルホニウム塩の５０％プロピオンカーボネート溶液〈サンアプロ社製  ＣＰＩ−２００Ｋ〉  ２重量部
上記成分Ｄ，Ｃを乳酸エチル６０重量部に溶解することにより、コアの形成材料（ワニスＩＩ）を調製した。
【００３６】
〔基材の準備〕
実施例１，２の光導波路を作製するのに使用する長尺基材として、厚さ２０μｍ，幅３００ｍｍのステンレス（ＳＵＳ３０４）製長尺基材（長さ５０ｍ）を準備した。また、比較例１，２の光導波路を作製するのに使用する長尺基材として、厚さ１００μｍ，幅３００ｍｍのシクロオレフィンポリマー樹脂〈日本ゼオン社製  ゼオノア  ＺＥＯＮＯＲ（登録商標）〉製長尺基材（長さ５０ｍ）を準備した。
【００３７】
なお、上記各ステンレス製およびシクロオレフィンポリマー樹脂製長尺基材には、上記クラッド層またはコアの形成前後の基材の寸法変形率を測定できるように、図３に示すように、基材長手方向に所定の間隔で、４個１組の位置計測用穴（２．０ｍｍφ）が予め設けられており、上記クラッド層の形成に伴う加熱、および、コアの形成に伴う加熱による基材の寸法変化を測定できるようになっている。
【００３８】
（実施例１）
上記ステンレス製長尺基材を繰り出しながら、マルチコーターを用いて、その表面にロール・トゥ・ロールで、クラッド層形成用のワニスＩを塗布し、続けて、オーブンにより１２０℃×２分間のプレ加熱処理を行って、上記ワニスＩを基材上に定着させた。ついで、２０００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線照射による露光を行って、感光性樹脂組成物を完全に硬化させ、基材上にクラッド層（厚さ：１５μｍ）を形成した。なお、寸法変化率の第１の計測は、上記位置計測用穴が形成された基材の一部をサンプリングして、上記クラッド層の形成前後における、長尺基材の加工進行方向（基材の長手方向：ＭＤ）と長尺基材の加工進行方向に垂直な方向（基材の幅方向：ＴＤ）の加熱伸縮量（単位：ｍｍ）を、それぞれ測定した。
【００３９】
（実施例２）
つぎに、上記クラッド層が成された基材を走行させた状態で、マルチコーターを用いて、その表面にロール・トゥ・ロールで、コア形成用のワニスＩＩを塗布し、続けて、オーブンにより１２０℃×２分間のプレ加熱処理を行って、上記ワニスＩを基材上に定着させた。ついで、ワニスＩＩ層の上方に、コアのパターンと同形状の開口パターンが形成された合成石英系のクロムマスク（露光マスク）を配置し、このマスクの上方から、プロキシミティ露光法にて４０００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線照射による露光を行った後、１２０℃×１０分間の加熱（硬化）処理を行った。
【００４０】
つぎに、γ−ブチロラクトン水溶液を用いて現像することにより、未露光部分を溶解除去した後、１２０℃×５分間の加熱（乾燥）処理を行うことにより、コアを形成した。なお、寸法変化率の第２の計測は、上記位置計測用穴が形成された基材の一部をサンプリングして、上記クラッド層上へのコアの積層前後における、長尺基材の長手方向と幅方向の加熱伸縮量（単位：ｍｍ）を、それぞれ測定した。
【００４１】
（比較例１）
上記ステンレス製長尺基材を繰り出しながら、マルチコーターを用いて、その表面にロール・トゥ・ロールで、クラッド層形成用のワニスＩを塗布し、続けて、オーブンにより１２０℃×２分間のプレ加熱処理を行って、上記ワニスＩを基材上に定着させた。ついで、２０００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線照射による露光を行って、感光性樹脂組成物を完全に硬化させ、基材上にクラッド層（厚さ：１５μｍ）を形成した。なお、寸法変化率の第１の計測は、実施例１と同様、上記位置計測用穴が形成された基材の一部をサンプリングして、上記クラッド層の形成前後における、長尺基材の長手方向と幅方向の加熱伸縮量（単位：ｍｍ）を、それぞれ測定した。
【００４２】
（比較例２）
つぎに、上記クラッド層が成された基材を走行させた状態で、マルチコーターを用いて、その表面にロール・トゥ・ロールで、コア形成用のワニスＩＩを塗布し、続けて、オーブンにより１２０℃×２分間のプレ加熱処理を行って、上記ワニスＩを基材上に定着させた。ついで、ワニスＩＩ層の上方に、コアのパターンと同形状の開口パターンが形成された合成石英系のクロムマスク（露光マスク）を配置し、このマスクの上方から、プロキシミティ露光法にて４０００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線照射による露光を行った後、１２０℃×１０分間の加熱（硬化）処理を行った。
【００４３】
つぎに、γ−ブチロラクトン水溶液を用いて現像することにより、未露光部分を溶解除去した後、１２０℃×５分間の加熱（乾燥）処理を行うことにより、コアを形成した。なお、寸法変化率の第２の計測も、実施例２と同様、上記位置計測用穴が形成された基材の一部をサンプリングして、上記クラッド層上へのコアの積層前後における、長尺基材の長手方向と幅方向の加熱伸縮量（単位：ｍｍ）を、それぞれ測定した。
【００４４】
［寸法変化率］
光導波路の各製作段階における第１の計測および第２の計測は、先に述べたように、基材長手方向に所定の間隔で４個１組の位置計測用穴（２．０ｍｍφ）が設けられている部位（図３参照）をサンプリングして行った。
【００４５】
測定は、まず、クラッド層形成前に、加工前のリファレンス（初期値）として、基材に設けられた各位置計測用穴Ｗ，Ｘ，Ｙ，Ｚ間の距離を予め計測する。例えば、図３においては、穴Ｗ−穴Ｙ間の距離（Ｍ1）と穴Ｘ−穴Ｚ間の距離（Ｍ2）が、長尺基材の加工進行方向（基材の長手方向）のリファレンスとなる。同様に、穴Ｗ−穴Ｘ間の距離（Ｔ1）と穴Ｙ−穴Ｚ間の距離（Ｔ2）が、長尺基材の加工進行方向に垂直な方向（基材の幅方向）のリファレンスとなる。
【００４６】
つぎに、上記実施例１，比較例１のようにしてクラッド層を形成し、その後、同じ位置計測用穴Ｗ，Ｘ，Ｙ，Ｚを用いて同様の計測を行い、クラッド層形成後のＭ1およびＭ2のそれぞれの値を、上記加工前のリファレンス値と比較して、以下の計算式によりクラッド層形成前後の寸法変化率を求めた。
クラッド層形成前後の寸法変化率（％）＝（（クラッド層形成後の位置計測用穴間の距離）−（位置計測用穴間の距離のリファレンス値））／（位置計測用穴間の距離のリファレンス値）×１００
【００４７】
ついで、上記実施例２，比較例２のようにしてコアを形成し、その後、同じ位置計測用穴Ｗ，Ｘ，Ｙ，Ｚを用いて同様の計測を行い、コア形成後のＭ1およびＭ2のそれぞれの値を、上記加工前のリファレンス値と比較して、以下の計算式によりコア形成後の寸法変化率を求めた。
コア形成後の寸法変化率（％）＝（（コア形成後の位置計測用穴間の距離）−（位置計測用穴間の距離のリファレンス値））／（位置計測用穴間の距離のリファレンス値）×１００
【００４８】
上記実施例および比較例における寸法変化率の測定結果を、下記の「表１」および「表２」に示す。
【００４９】
【表１】
2012093563.tif 000003
【００５０】
【表２】
2012093563.tif 000004
【００５１】
上記の表１より、基材としてステンレス（ＳＵＳ３０４）製長尺基材を使用した実施例１，２の場合、光導波路は、基材長手方向および基材幅方向ともに、加工後に若干伸びてはいるものの、その伸び量は非常に小さく、また、クラッド層形成からコア形成に従って伸び量が縮小している。これにより、本発明のタッチパネル用光導波路の製法は、クラッド層およびコア形成時における伸縮や寸法変化が起こりにくく、これらクラッド層およびコアを、基材上の所定の位置に正確に、かつ、高い精度で作製することが可能であることがわかる。
【００５２】
これに対して、上記の表２より、基材としてシクロオレフィンポリマー樹脂〈日本ゼオン社製  ゼオノア  ＺＥＯＮＯＲ（登録商標）〉製長尺基材を使用した比較例１，２の場合、光導波路は、加工後に基材長手方向に伸び、その伸び量がクラッド層形成からコア形成に従って大きくなっている。また、比較例１，２の光導波路は、基材幅方向には縮み、同様に、その縮み量がクラッド層形成からコア形成に従って拡大していることがわかる。
【産業上の利用可能性】
【００５３】
本発明のタッチパネル用光導波路の製法によれば、加工時の加熱による寸法変化が小さく、クラッド層およびコアの基材上における形成位置が正確で高精度なタッチパネル用光導波路を提供できる。
【符号の説明】
【００５４】
１  クラッド層
１’  ワニス
１０  基材
【図１】
2012093563.tif 000005
【図２】
2012093563.tif 000006
【図３】
2012093563.tif 000007