(57)【要約】【課題】吸着方法を改善することにより、特定の環境下で使用が可能で、固定用の土台との着脱が容易な静電チャックを提供する。【解決手段】板状の絶縁材料の中に導電性材料からなる吸着用電極が埋設されている静電チャックであって、前記吸着用電極が、前記板状の絶縁材料の表面側と裏面側の双方に、それぞれ独立して形成されており、好ましくは、前記表面側の吸着用電極は双極型構造、前記裏面側の吸着用電極は単極型構造であること、さらに好ましくは、前記静電チャック裏面の主面方向に対して、前記裏面中心から前記裏面外周に向かって、前記静電チャック裏面の主面全面積の５％以上４０％以下を占める範囲内に配置されている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
板状の絶縁材料の中に導電性材料からなる吸着用電極が埋設されている静電チャックであって、前記吸着用電極が、前記板状の絶縁材料の表面側と裏面側の双方に、それぞれ独立して形成されていることを特徴とする静電チャック。
【請求項２】
前記表面側の吸着用電極は双極型、前記裏面側の吸着用電極は単極型であることを特徴とする請求項１に記載の静電チャック。
【請求項３】
前記板状の絶縁材料が、シリカガラスであることを特徴とする請求項１または請求項２のいずれかに記載の静電チャック。
【請求項４】
前記裏面側の吸着用電極は、前記静電チャック裏面の主面方向に対して、前記裏面中心から前記裏面外周に向かって、前記静電チャック裏面の主面全面積の５％以上４０％以下を占める範囲内に配置されていることを特徴とする請求項３に記載の静電チャック。
【請求項５】
板状のシリカガラスの一主面に対し導電性材料による電極パターンを形成して表面側誘電層用の板材を作製する工程と、他の板状のシリカガラスの一主面に対し導電性材料による電極パターンを形成して裏面側誘電層用の板材を作製する工程と、基材用の板状のシリカガラスのそれぞれの主面に、前記表面側誘電層用の板材と前記裏面側誘電層用の板材を貼り合わせる工程と、引き続き減圧下で加熱、加圧することで融着させる工程と、からなることを特徴とする請求項３から請求項４のいずれかに記載の静電チャックの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば半導体製造装置において、板状、その他各種形状の被吸着物を静電吸着する用途に用いられる静電チャックに関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造装置用のパターニング用マスクやＬＥＤなどの絶縁材料を加工するプロセスにおいて、これらの絶縁材料を固定する手段として、例えば、吸着面上に対して、不均一な電界を形成すると発生するグラディエント(Ｇｒａｄｉｅｎｔ)力を利用する静電チャックがある。
【０００３】
静電チャックは、一例として、基材部と、その上に吸着力を発生させる電極と、さらにその上に吸着物を保持する誘電層とが一体となった構造である。そして、静電チャック本体は、金属等からなる土台に対して、使用環境や目的に応じて適切な方法で固定される。
【０００４】
例えば、特許文献１には、静電チャックの基材部にねじ穴を形成し、土台に対してボルトで固定するという技術が開示されている。
【０００５】
また、特許文献２には、基板を処理する基板処理装置において基板を載置し、ベース部材と、その上に設けられた基板吸着用の静電チャックと、前記ベース部材および前記静電チャックを接着する有機接着剤層とを有する基板載置部材の再利用方法であって、前記基板載置部材を新たな基板載置部材と交換する際に、前記基板載置部材を前記基板処理装置から取り外し、接着剤層を除去して前記ベース部材と前記静電チャックとを分離し、前記ベース部材および／または前記静電チャックを再利用することを特徴とする基板載置部材の再利用方法とあり、ここに、各種接着剤で静電チャックを土台に固定するという技術が開示されている。
【０００６】
さらに特許文献３には、絶縁層で被覆されたチャック電極を内部に備え、該チャック電極に電圧を印加することにより被吸着物を表面に静電吸着する静電チャックであって、被吸着物を静電吸着すべき面の反対側の面も静電吸着可能に構成し、該静電チャックを保持する保持台に静電吸着により着脱自在とした静電チャックと該静電チャックを保持する保持台と、を具備することを特徴とする薄板保持装置、という技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００６−２７９０５７号公報
【特許文献２】特開２００４−０５５８１５号公報
【特許文献３】特開平９−１６２２７２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
特許文献１の技術は、静電チャックを堅牢かつ確実に固定することができ、不具合やメンテナンスで、静電チャックの取り外し、交換する作業が容易である。しかしながら、この方法では、特に静電チャックの基材部を石英材料で構成した場合、ねじ穴の形成が難しい。よって、例えば、ねじ穴に金属材料を介在させてねじ溝を切る、などの構成が必要になり、静電チャックの構造が複雑になる。他にも、静電チャックの設計範囲に制限が生じる、あるいはねじ穴部の耐久性に不安が残る、等が懸念される。
【０００９】
特許文献２の技術では、静電チャックの固定に接着剤を用いているので、静電チャック自体に複雑な加工が不要であり、取り付け、取り外しも比較的容易である。しかし、この方法では、静電チャックをベース部材から取り外すときの剥がし作業に、残存接着剤を除去する作業、新しい接着剤を塗布する作業、等が必要で、依然として煩雑さが残る。また、静電チャックの使用環境によっては、接着剤を適用できない場合がある。
【００１０】
特許文献３の技術は、電極で発生されるグラディエント(Ｇｒａｄｉｅｎｔ)力、またはクーロン力を利用して、静電チャック本体自体も保持台に固定するものである。このため、幅広い温度環境下での使用が可能であること、保持台からの着脱が容易であること、位置調整が可能なこと、という点で好適であるといえる。
【００１１】
しかしながら、特許文献３に記載された技術では、以下の点が懸念される。すなわち、特許文献３の図３にあるように、吸着物の吸引と保持台への吸引を同じ電極で実施した場合、特に吸着物の吸引面に形成される誘電層厚さを、５０〜５００μｍの薄い厚さにすると、静電チャック全体の強度を保持するためには、静電チャックの全体厚さを厚くする必要がある。吸着力は誘電層の厚さに反比例するので、この場合、誘電層厚が非常に厚くなる保持台側の吸着力が、著しく低下するので、十分な吸着力が得られない。
【００１２】
この問題を回避するためには、例えば特許文献３の図４にあるように、吸着面側と保持台側の吸着用電極を個別に設置する方法が考えられる。しかしながら、単に、静電チャックの表裏面にそれぞれ吸着用電極を配置するだけでは、適切な吸着を実現すること、静電チャックの取り回しや設計を容易にすること、という要求に対しては、必ずしも十分対応できるものとはいいがたい。
【００１３】
本発明は、かかる課題を鑑みてなされたもので、電極で発生されるグラディエント(Ｇｒａｄｉｅｎｔ)力、またはクーロン力を利用して、静電チャック本体自体も保持台に固定する静電チャックに関するものであり、静電チャックの取り回しや設計を容易にすることができ、適切な吸着をも実現することのできる静電チャックと、その製造方法を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明に係る静電チャックは、板状の絶縁材料の中に導電性材料からなる吸着用電極が埋設されている静電チャックであって、前記吸着用電極が、前記板状の絶縁材料の表面側と裏面側の双方に、それぞれ独立して形成されていることを特徴とする。このような構成をとることで、取り回しや設計を容易にすることのできる静電チャックとすることが可能となる。
【００１５】
また、本発明に係る静電チャックは、前記表面側の吸着用電極は双極型、前記裏面側の吸着用電極は単極型であることが好ましい。
【００１６】
また、本発明に係る静電チャックは、前記板状の絶縁材料が、シリカガラスであることが好ましい。
【００１７】
さらに、本発明に係る静電チャックは、前記裏面側の吸着用電極は、前記静電チャック裏面の主面方向に対して、前記裏面中心から前記裏面外周に向かって、前記静電チャック裏面の主面全面積の５％以上４０％以下を占める範囲内に配置されていることが好ましい
【００１８】
本発明の一態様に係る静電チャックの製造方法は、板状のシリカガラスの一主面に対し導電性材料による電極パターンを形成して表面側誘電層用の板材を作製する工程と、他の板状のシリカガラスの一主面に対し導電性材料による電極パターンを形成して裏面側誘電層用の板材を作製する工程と、基材用の板状のシリカガラスのそれぞれの主面に、前記表面側誘電層用の板材と前記裏面側誘電層用の板材を貼り合わせる工程と、引き続き減圧下で加熱、加圧することで融着させる工程と、からなることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１９】
本発明により、取り回しや設計を容易にすることができ、適切な吸着をも実現することのできる静電チャックと、その製造方法を提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、図面をもとに本発明の詳細な内容を説明する。図１は、本発明の一実施形態に係る、静電チャックの周辺の形状を断面方向からみた概念図である。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の一実施形態に係る、静電チャックと固定用土台の形状を、断面方向からみた概念図。
【図２】本発明の一実施形態に係る、表面側吸着用電極または裏面側吸着用電極の電極パターンを、一主面方向からみた模式図。
【図３】本発明の一実施形態に係る、裏面側吸着用電極の配置を、断面方向からみた概念図。
【図４】本発明の他の実施形態に係る、裏面側吸着用電極の配置を、断面方向からみた概念図。
【図５】本発明の他の実施形態に係る、裏面側の形状を、断面方向からみた概念図。
【００２２】
本発明に係る静電チャックは、板状の絶縁材料の中に導電性材料からなる吸着用電極が埋設されている静電チャックであって、前記吸着用電極が、前記板状の絶縁材料の表面側と裏面側の双方に、それぞれ独立して形成されている。
【００２３】
図１では、表面側誘電層１１と、裏面側誘電層１２と、これらの誘電層に挟まれて位置する基材層１３とが一体となっている板状の絶縁材料がある。この板状の絶縁材料中に、表面側吸着用電極３１と裏面側吸着用電極３２とがそれぞれ独立して配置された、導電性材料からなる吸着用電極が埋設されている。そして、静電チャック１はこれらで構成されている。静電チャック１は、固定用土台４の上に載置され、固定されている。
【００２４】
板状の絶縁材料としては、静電チャックに用いることのできる各種公知の材料が適用できる。例えば、窒化アルミニウム、アルミナ、窒化ケイ素、窒化ホウ素が挙げられ、好適にはシリカガラスが用いられる。なお、通常は、表面側誘電層１１と裏面側誘電層１２に同じ材料を適用するが、異なる材料であっても差し支えない。特にシリカガラスを適用する場合は、各種添加物を適量添加してその物性を変化させ、表面および裏面のそれぞれに要求される物性に対応させてもよい。
【００２５】
表面側吸着用電極３１と裏面側吸着用電極３２は、静電チャックに対して、吸着力としてクーロン力、ジョンソン・ラーベック力、もしくはグラディエント力を発生させるために形成されている。これらは、表面側吸着面２１もしくは裏面側吸着面２２の主面方向に対して所定の幅と、深さ方向に対して所定の厚さを有した、帯状または箔状の導電性材料からなる。そして、この電極同士が平面方向に対して一定の間隔で配置された各種パターン形状となっており、広い面積で吸着物を強力に吸着保持できる。
【００２６】
表面側吸着用電極３１と裏面側吸着用電極３２については、その電極の幅、厚さ、間隔は、要求される静電チャックの仕様に応じて、適時設計することができる。また、図２に電極パターン形状の一例を示すが、こちらも任意に設計できる。さらに、表面側吸着用電極３１と裏面側吸着用電極３２は、同じ仕様である必要はなく、それぞれ任意に設計することができる。
【００２７】
表面側吸着用電極３１または裏面側吸着用電極３２の材料には、静電チャックに適用が可能な公知の導電性材料が用いられる。一例として、Ｎｉ、Ｍｏ、Ｗ、ＰｔおよびＴｉのうち、いずれか一つからなる単一、またはこれら２種以上の合金からなる単一の材料である。さらには、これらの２種以上の金属からなる複合構造でもよい。なお、電極の形状についても、帯状または箔状以外の形状、例えば、糸状、網状であってもよい。
【００２８】
表面側誘電層１１と、裏面側誘電層１２の厚さも、設計される静電チャックに要求される仕様に応じて、適時設定される。なお、表面側誘電層１１と裏面側誘電層１２の厚さとは、表面側吸着用電極３１または裏面側吸着用電極３２のパターン全体を包含する平面を仮想し、この平面の吸着面側の面から吸着面までの平均間隔を示す。平均間隔は特に限定されないが、一例として、中心部と外周１０ｍｍ内側４点からなる面内５点の平均値で示すことが出来る。
【００２９】
そして、本発明に係る静電チャックは、吸着用電極が、前記板状の絶縁材料の表面側と裏面側の双方に、それぞれ独立して形成されている。すなわち、表面側吸着用電極３１または裏面側吸着用電極３２を、吸着する面の近傍に対して、その上に誘電層が形成されているものである。
【００３０】
通常、静電チャック１は、ボルトや接着剤等の手段で、装置内の所定の箇所に、固定用土台４の上に固定される。本発明では、静電チャック１と固定用土台４を、吸着力としてクーロン力、ジョンソン・ラーベック力、もしくはグラディエント力によって静電吸着するものである。これにより、静電チャック１は、任意に固定、取り外しができる、静電チャック１本体に特別な加工、補助部材を付加する必要がない、という特徴を有する。
【００３１】
また、本発明に係る静電チャックにおいては、表面側吸着用電極３１が双極型、裏面側吸着用電極３２が単極型であることが好ましい。本発明において、電極は任意に設計が可能ではあるが、裏面側吸着用電極３２が単極型であると、固定用土台４に対して、アースを配置することが構造上容易になり、静電チャック１と固定用土台４を含めた周辺全体の設計自由度を高くすることができる。さらに、裏面側吸着用電極３２が単極型、表面側吸着用電極３１が双極型の組み合わせの場合、電極に電圧を印加するための電源装置の数を少なくすることができ、省エネや省スペース等の観点から、より好ましいといえる。
【００３２】
本発明に係る静電チャックは、表面側誘電層１１，裏面側誘電層１２、および基材層１３が、いずれもシリカガラスからなることが好ましい。シリカガラスは高純度であり、加工性にも優れているので、特に半導体製造装置により好適に用いることができる。なお、使用目的に応じて、シリカガラスに各種金属元素を適時添加してもよい。
【００３３】
また、本発明に係る静電チャックの裏面側吸着用電極３２は、前記静電チャック裏面の主面方向に対して、前記裏面中心から前記裏面外周に向かって、前記静電チャック裏面の主面全面積の５％以上４０％以下を占める範囲内に配置されていることが、好ましい。
【００３４】
裏面側全面に吸着力が印加された状態では、例えば、静電チャック１を加熱して使用する場合において、静電チャック１全体が反ってくる。よって、静電チャック１内部の応力が増加することになり、静電チャック１への負荷が大きくなる。この状態は、使用する環境によっては、必ずしも好ましいものではない。そこで、この場合、裏面側全面を吸着面とするのではなく、裏面中心付近のみ吸着力を発生させるように電極を配置することで、静電チャック１内部の応力を低減することができる。
【００３５】
表面側誘電層１１と裏面側誘電層１２が、同じ割合で膨張、収縮したとしても、裏面側誘電層１２側は、静電チャック１の自重がかかっていることと、固定用土台４と接しているので、固定用土台４からの応力が影響する。また、熱の放散率が相違してくるという要因にて、静電チャック１全体の反りが増大する傾向にある。
【００３６】
ここで、裏面側吸着面２２の全面ではなく、裏面側吸着面２２の外周付近には吸着力が発生しない構造をとることで、裏面側誘電層１２付近の応力が、固定されていない固定用土台４との接触面方向に分散される。この接触面が吸着力で固定されていると、応力の逃げ場がなく、静電チャック１内部に残存し、結果として、反り増大につながる。
【００３７】
図３は、本発明の一実施形態に係る、裏面側吸着用電極の配置を、断面方向からみた概念図である。静電チャック裏面全範囲５１は、静電チャック１の裏面全面の面積に相当し、裏面側吸着用電極形成範囲５２は、このうち、裏面側吸着用電極３２が形成され、吸着力が発生する範囲を示している。
【００３８】
通常は、特に理由がない限り、静電チャック１の主面の形状が円形であれば、裏面側吸着用電極形成範囲５２も、これと同型の円形に設計する。しかしながら、必ずしも完全に形を同一にすることが必須条件ということではなく、楕円形状、略多角形形状、等の変形も可能である。
【００３９】
そして、静電チャック裏面の主面方向に対して、裏面中心から裏面外周に向かって、静電チャック裏面の主面全面積の５％以上４０％以下を占める範囲内に配置されているとは、静電チャック断面における中心線５３を中心にして、静電チャック裏面の主面全面積に対して、面積に換算して５％以上４０％以下の範囲に、裏面側吸着用電極３２が形成されていることを示している。
【００４０】
一例として、静電チャック１が真円で構成されている場合、裏面側吸着用電極３２は、静電チャック断面における中心線５３に中心をもつ真円の範囲内に、電極パターンが形成されている。なお、表面側吸着用電極３１と裏面側吸着用電極３２の電極パターンは、同一形状でなくてもよい。
【００４１】
ここで、静電チャック断面における中心線５３の近辺に、裏面側吸着用電極３２が形成されていることが特徴である。これは、別の表現をすると、静電チャック１の裏面外周付近を吸着しないともいえる。従って、外周部を吸着して、中心付近は吸着しない形態は、本発明の好ましい一形態には入らない。
【００４２】
静電チャックの裏面側吸着用電極３２が、静電チャック裏面の主面面積の５％未満の場合は、静電チャック１を固定するのに必要な吸着力が不足するので好ましくない。一方、４０％を越えると、前述のとおり、接触面での、応力の逃げ場が少なくなり、静電チャック１内部に残存する応力が増加するのでこちらも好ましくない。
【００４３】
図４は、本発明の他の実施形態に係る、裏面側吸着用電極３２の配置を、断面方向からみた概念図を示す。このように、裏面側吸着用電極３２の形成される範囲が、必ずしも静電チャック断面における中心線５３を包含することは、必須要件ではなく、裏面側吸着面２２の外周部に吸着力が発生しなければ、このような変形例も可能である。
【００４４】
なお、本発明に係る静電チャック１の表面および裏面の断面形状は、図１に示すものに限定されるものではなく、例えば、図５に示すような形状であってもよい。特に、静電チャック１全体で見た場合、断面形状による反り緩和効果と、本発明に係る裏面側吸着用電極の配置最適化による効果とを合わせる事で、より効果的に反りを緩和できる。
【００４５】
本発明に係る静電チャックの製造方法の一形態は、板状のシリカガラスの一主面に対し導電性材料による電極パターンを形成して表面側誘電層用の板材を作製する工程と、他の板状のシリカガラスの一主面に対し導電性材料による電極パターンを形成して裏面側誘電層用の板材を作製する工程と、基材用の板状のシリカガラスのそれぞれの主面に、前記表面側誘電層用の板材と前記裏面側誘電層用の板材を貼り合わせる工程と、引き続き減圧下で加熱、加圧することで融着させる工程と、からなる。
【００４６】
各工程自体は、格別特殊な方法を必要とするものではなく、使用する材料や使用目的に応じて、広く公知の方法が適用できる。また、図示はしないが、表面側吸着用電極３１、および裏面側吸着用電極３２に電流を供給する給電端子の取り付け方については、静電チャック１全体の設計仕様に応じて、適切な方法でなされる。例えば、表面側吸着用電極３１と表面側吸着用電極３２の給電端子を、固定用土台４の主面側に適切な孔を開けて配置してもよいし、静電チャック１の側面側から取り回しても良い。
【実施例】
【００４７】
以下、本発明の好ましい実施形態を、図１を用いて説明するが、本発明はこの実施例により限定されるものではない。
【００４８】
（実験１）
誘電層１１及び誘電層１２として、直径１５０ｍｍ、平均厚さ５ｍｍのシリカガラス板を用意し、この上面の直径１４８ｍｍの範囲に対して、Ｍｏ金属膜を用い、円形状のくし型パターンの双極型の電極３を真空蒸着法により形成した。電極３のパターンを上面から見た図を図５に示す。電極３の膜厚は平均で０．３μｍ、電極３の幅は平均で２ｍｍ、電極間の間隔は平均で０．５ｍｍである。次に、基材層１３として、直径１５０ｍｍ、平均厚さ５ｍｍのシリカガラス板を用意した。そして、基材層１３及び誘電層１２に対して、電極パターンの最外部の電極部に相当する２箇所に、直径５．１ｍｍの真円の端子孔を形成した。
【００４９】
次に、基材層１３に対して、電極パターンを形成した誘電層１１と誘電層１２を、それぞれ重ね合わせた。この状態で、１０Ｐａの減圧下、１３００℃で６０分、加圧圧力２０ＭＰａの条件にて加圧融着を実施し、一体化させることで電極が埋設された静電チャックの母体を得た。そして、この母体の誘電層１１の平均厚さが１５０μｍ、誘電層１２の平均厚さが１５０μｍになるように、表層の研削、研磨を行った。そして、端子孔の形状に合わせて加工された直径５ｍｍ、長さ５ｍｍのＭｏ製の給電端子を準備し、端子孔の内壁面と端子孔に露出した電極面に対して、ドータイトＤ−７５３（藤倉化成）の導電ペーストを塗布してから、給電端子を挿入し、固定した。このようにして実施例１の静電チャックを得た。
【００５０】
比較例１として、実施例１の誘電層１２に相当するシリカガラス板を用意し、こちらには電極を形成しない構造とした。それ以外の構成は、実施例１に準じた。
【００５１】
静電チャックの直径１５０ｍｍより１ｍｍ径大で、厚さ２０ｍｍ、深さ１ｍｍの窪みが形成されたアルミニウム製の固定用土台を用意し、実施例１と比較例１の静電チャックを、それぞれ挿入した。そして、実施例１には、所定の治具を用いて、給電端子に電流を印加する配線を施した
【００５２】
実施例１の静電チャックは、２０００Ｖ、を印加して、固定用土台４に固定した。また、比較例１の静電チャックは、誘電層１２相当の裏面側２２の全面に対して、樹脂系接着剤を塗布して固定した。
【００５３】
アルミニウム製固定土台を、垂直方向に引き上げ荷重をかけても浮き上がらないように固定し、それぞれの静電チャックの表面に、接着剤で金属製の取っ手を取り付けて、垂直に上方へ０〜１５ｋｇの範囲で少しずつ荷重をかけて、静電チャックに引上げ荷重をかけることで、垂直方向の接着力を評価した。
【００５４】
その結果、実施例１と比較例１の静電チャックの両方とも、固定用土台が外れることはなかった。このことから、実施例１の静電チャックは、静電チャックを接着剤で固定するのと同様に、実用上十分な接着力が得られていることが確認された。もちろん、実施例１の静電チャックは、電流の供給を止めれば、任意に固定用土台から取り外せる点で、比較例１の静電チャックに対して優位である。
【００５５】
（実験２）
裏面側電極３２の電極パターンの形状は変更せず、電極パターン最外周部の半径を、直径１５０ｍｍに対して、表１の割合で変更したものを作製し、それ以外は実施例１同様に作製した。これらの静電チャックに対して、厚さ１ｍｍ、直径１５０ｍｍのシリカガラス円盤を吸着物として吸着した状態で、静電チャック全体を外部からヒーターで１２０℃に加熱した状態で、静電チャック全体の反りを評価した。反りの評価方法は、吸着物の上方から吸着物に対して、レーザー変位計を用いて、シリカガラス円板の反りを測定して、吸着前のシリカガラス円板の反りとの差を算出、比較する方法とした。
【００５６】
【表１】
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【００５７】
表１の結果から、本発明のより好ましい実施範囲における静電チャックは、加熱して使用した場合において静電チャックの反りが低減される点で、より優れているといえる。
【００５８】
以上のとおり、本発明に係る静電チャックは、取り回しや設計を容易にすることができ、かつ適切な吸着が実現できる。
【産業上の利用可能性】
【００５９】
本発明に係る静電チャックは、例えば半導体製造装置において、各種電気絶縁性基板を静電吸着する用途に好適に用いられる。
【符号の説明】
【００６０】
1…静電チャック、11…表面側誘電層、12…裏面側誘電層、13…基材層、21…表面側吸着面、22…裏面側吸着面、31…表面側吸着用電極、32…裏面側吸着用電極、4…固定用土台、51…静電チャック裏面全範囲、52…裏面側吸着用電極形成範囲、53…静電チャック断面における中心線。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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