(57)【要約】      （修正有）【課題】検出器の分解能に起因するエラーの発生を抑制する。【解決手段】磁気記録媒体上にて、データ領域の情報とサーボ領域のサーボ信号と、を検出するために別途用いられる検出器の分解能を入力する分解能入力手段と、或る露光位置の候補α、βから別の露光位置の候補α、βまでの距離を、分解能入力手段により入力された分解能の自然数倍に設定することにより、露光位置の候補α、βを基板４上にて決定する露光位置候補決定手段と、電子ビームの照射位置を基板４に対して相対的に移動させる移動手段と、サーボパターンに対応した形状の露光且つデータパターンに対応した形状の露光を行う露光手段とを備え、移動手段により基板４を移動させながら、露光手段を用いて、露光位置候補決定手段により決定された或る露光位置の候補にのみ露光を行う、及び／又は、或る露光位置の候補α、βを始点とし且つ別の露光位置の候補α、βを終点として連続的に露光を行う。【選択図】図７
2012094781.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のトラックを有する磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤を製造するための電子ビーム露光装置において、
一主面上に感光膜が形成された基板を保持しつつ、前記基板の主面上における電子ビームの照射位置を当該基板に対して相対的に移動させる移動手段と、
前記基板上に設定されたデータ部及びサーボ部に対して電子ビームを照射することにより、磁気記録媒体において情報の記録を行うためのデータ領域の基となるデータパターンに対応した形状の露光を前記基板上のデータ部に行い、且つ、磁気記録媒体においてデータ領域のトラック位置及び／又はパターン位置を特定するためのサーボ領域の基となるサーボパターンに対応した形状の露光を前記基板上のサーボ部に行う露光手段と、
前記磁気記録媒体上にて、前記データ領域の情報と前記サーボ領域のサーボ信号とを検出するために別途用いられる検出器の分解能を入力する分解能入力手段と、
前記基板上の各トラック内の少なくともサーボ部内、サーボ部からデータ部までの間、及びデータ部内において、或る露光位置の候補から別の露光位置の候補までの距離を、前記分解能入力手段により入力された分解能の自然数倍に設定することにより、露光位置の候補を前記基板上にて決定する露光位置候補決定手段と、
を備え、
前記移動手段により前記基板を移動させながら、前記露光手段を用いて、前記露光位置候補決定手段により決定された或る露光位置の候補にのみ露光を行う、及び／又は、或る露光位置の候補を始点とし且つ別の露光位置の候補を終点として連続的に露光を行うことを特徴とする電子ビーム露光装置。
但し、前記データパターンは、データパターンそのものに加え、データパターンの基礎となるパターンも含む。
【請求項２】
前記磁気記録媒体が複数の同心円状のトラックを有する場合、
トラック間の距離を入力するトラックピッチ入力手段と、
一主面上に感光膜が形成された基板を保持しつつ当該基板を回転させる回転手段と、
前記回転手段の駆動を制御する回転制御手段と、
を更に備え、
各々のトラックにおいて少なくとも前記データ部のデータパターンの形態が１ビットごとに径方向及び周方向に分離されており、
前記トラックピッチ入力手段から前記露光位置候補決定手段へと前記トラック間の距離（ＴＰ）を伝送することにより、トラックの径が拡大されたことに伴うビット周期のずれ（ΔＢＰ）を求め、或るトラック（Ｔ０）と、該トラックから外周方向に向かって隣接するトラック（Ｔ１）との間のΔＢＰが前記分解能の自然数倍となるよう、前記露光位置候補決定手段によって露光位置の候補を決定することを特徴とする請求項１に記載の電子ビーム露光装置。
但し、ΔＢＰ＝ＢＰ０＊ＴＰ／ｒ
ｒ：トラックＴ０の半径
ＢＰ０：トラックＴ０のビット周期
である。
【請求項３】
前記露光手段による露光は平面視円形状のビットで行われることを特徴とする請求項１又は２に記載の電子ビーム露光装置。
【請求項４】
前記露光位置候補決定手段は、前記基板上の各トラック内の全体において、或る露光位置の候補から別の露光位置の候補までの距離を、前記分解能入力手段により入力された分解能の自然数倍に設定することにより、露光位置の候補を前記基板上にて決定することを
特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の電子ビーム露光装置。
【請求項５】
前記露光手段による電子ビームの照射は、前記移動手段によって線速一定に行うことを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の電子ビーム露光装置。
【請求項６】
前記露光手段から照射される電子ビームを偏光する電子ビーム偏光手段を更に備え、
前記電子ビーム偏光手段により、前記露光位置候補決定手段によって決定された露光位置に対して、電子ビームによる露光が行われるようにすることを特徴とする請求項１ないし５のいずれかに記載の電子ビーム露光装置。
【請求項７】
複数のトラックを有する磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤を製造するための電子ビーム露光方法において、
一主面上に感光膜が形成された基板を保持しつつ、前記基板の主面上における電子ビームの照射位置を当該基板に対して相対的に移動させる移動工程と、
前記基板上に設定されたデータ部及びサーボ部に対して電子ビームを照射することにより、磁気記録媒体において情報の記録を行うためのデータ領域の基となるデータパターンに対応した形状の露光を前記基板上のデータ部に行い、且つ、磁気記録媒体においてデータ領域のトラック位置及び／又はパターン位置を特定するためのサーボ領域の基となるサーボパターンに対応した形状の露光を前記基板上のサーボ部に行う露光工程と、
前記磁気記録媒体上にて、前記データ領域の情報と前記サーボ領域のサーボ信号とを検出するために別途用いられる検出器の分解能を入力する分解能入力工程と、
前記基板上の各トラック内の少なくともサーボ部内、サーボ部からデータ部までの間、及びデータ部内において、或る露光位置の候補から別の露光位置の候補までの距離を、前記分解能入力工程により入力された分解能の自然数倍に設定することにより、露光位置の候補を前記基板上にて決定する露光位置候補決定工程と、
を有し、
前記移動工程により前記基板を移動させながら、前記露光工程において、前記露光位置候補決定工程により決定された或る露光位置の候補にのみ露光を行う、及び／又は、或る露光位置の候補を始点とし且つ別の露光位置の候補を終点として連続的に露光を行うことを特徴とする電子ビーム露光方法。
但し、前記データパターンは、データパターンそのものに加え、データパターンの基礎となるパターンも含む。
【請求項８】
データ部とサーボ部とが基板上に形成され、複数のトラックを有する磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤において、
前記データ部は、磁気記録媒体において情報の記録を行うためのデータ領域の基となるデータパターンが形成された部分であり、
前記サーボ部は、磁気記録媒体においてデータ領域のトラック位置及び／又はパターン位置を特定するためのサーボ領域の基となるサーボパターンが形成された部分であり、
前記基板における各トラック内の少なくともサーボ部内、サーボ部からデータ部までの間、及びデータ部内において、或るパターン位置の候補から別のパターン位置の候補までの距離が検出器の分解能の自然数倍となるように設定されたパターン位置の候補にのみ、及び／又は、前記設定されたパターン位置の候補を始点とし且つ前記設定された別のパターン位置の候補を終点として連続的に、サーボパターン及びデータパターンが形成されていることを特徴とする原盤。
但し、前記データパターンは、データパターンそのものに加え、データパターンの基礎となるパターンも含む。そして、前記検出器は、前記磁気記録媒体製造中ないし製造後に用いられる検出器であって、前記磁気記録媒体のサーボ領域におけるサーボ信号及びデー
タ領域における情報を検出する検出器である。
【請求項９】
複数のトラックが同心円状に形成されるとともに、各々のトラックにおいて少なくとも前記データ部のデータパターンの形態が１ビットごとに径方向及び周方向に分離されており、
或るトラック（Ｔ０）と、該トラックから外周方向に向かって隣接するトラック（Ｔ１）との間のΔＢＰが分解能の自然数倍であることを特徴とする請求項８に記載の原盤。
但し、ΔＢＰ＝ＢＰ０＊ＴＰ／ｒ
ΔＢＰ：トラックの径が拡大されたことに伴うビット周期のずれ
ｒ：トラックＴ０の半径
ＢＰ０：トラックＴ０のビット周期
ＴＰ：トラックＴ０とＴ１との間の距離
である。
【請求項１０】
前記データパターンは平面視円形状のビットにより形成されたことを特徴とする請求項８又は９に記載の原盤。
【請求項１１】
複数のトラックが同心円状に形成されるとともに、各々のトラックにおいて少なくとも前記データパターンの形態が１ビットごとに径方向及び周方向に分離されていることを特徴とする請求項８ないし１０のいずれかに記載の原盤。
【請求項１２】
前記パターン位置の候補は、前記基板における各トラック内の全体において、或るパターン位置の候補から別のパターン位置の候補までの距離が検出器の分解能の自然数倍となるように設定されていることを特徴とする請求項８ないし１１のいずれかに記載の原盤。
【請求項１３】
請求項８ないし１２のいずれかに記載の原盤からインプリントにより製造されたことを特徴とするワーキングモールド。
【請求項１４】
複数のトラックを有する磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤であって、データ部とサーボ部とを基板上に有する原盤の製造方法において、
前記データ部は、磁気記録媒体において情報の記録を行うためのデータ領域の基となるデータパターンが形成された部分であり、
前記サーボ部は、磁気記録媒体においてデータ領域のトラック位置及び／又はパターン位置を特定するためのサーボ領域の基となるサーボパターンが形成された部分であり、
前記基板上の各トラック内の少なくともサーボ部内、サーボ部からデータ部までの間、及びデータ部内において、或るパターン位置の候補から別のパターン位置の候補までの距離が検出器の分解能の自然数倍となるように設定されたパターン位置の候補にのみ、及び／又は、前記設定されたパターン位置の候補を始点とし且つ前記設定された別のパターン位置の候補を終点として連続的に、サーボパターン及びデータパターンを形成することを特徴とする原盤の製造方法。
但し、前記データパターンは、データパターンそのものに加え、データパターンの基礎となるパターンも含む。そして、前記検出器は、前記磁気記録媒体製造中ないし製造後に用いられる検出器であって、前記磁気記録媒体のサーボ領域におけるサーボ信号及びデータ領域における情報を検出する検出器である。
【請求項１５】
請求項１４に記載の製造方法により製造された原盤からインプリントによりワーキングモールドを製造することを特徴とするワーキングモールドの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子ビーム露光装置、電子ビーム露光方法、原盤及びその製造方法、並びにワーキングモールド及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ハードディスク駆動装置などの磁気記録再生装置（以降、磁気記録装置と言う）に用いられる媒体の一つとして、パターンドメディア方式の磁気記録媒体が知られている。
【０００３】
近年、この磁気記録媒体におけるパターンを形成する手法として、「インプリント法」が用いられている。インプリント法は、スタンパと呼ばれる元型のモールドに凹凸のパターンを形成しておき、この凹凸パターンの凹凸を反転させた反転パターンを、スタンパからの転写によって磁気記録媒体や別のワーキングモールドに形成する手法である。その場合、元型となるモールドには、フォトリソグラフィ法を利用して凹凸のパターンを形成するのが一般的である。
【０００４】
フォトリソグラフィ法では、モールドの基（素材）になる基板に対して、「レジスト膜の形成」、「レジスト膜の露光」及び「レジスト膜の現像」を順に行うことによってレジストパターンを形成する。このうち、レジスト膜の露光には、電子ビーム描画装置が用いられている。電子ビーム描画装置は、基板上に形成されたレジスト膜に電子ビームを照射することにより、レジスト膜を露光する装置である。
【０００５】
上述のように、レジスト膜への電子ビーム照射によって所定パターン形状の露光（即ちパターン描画）を終えたら、このパターン描画によって露光されたレジスト膜を現像することにより、基板上にレジストパターンを形成する。更に、このレジストパターンをマスクに用いて基板をエッチングすることにより、上記のパターンが形成されたモールドを得る。
【０００６】
このように形成されたモールド（所謂「原盤」、「マスターモールド」とも言う）により磁気記録媒体を作製することもできるし、この原盤からワーキングモールドを作製し、このワーキングモールドにより磁気記録媒体を作製することもできる。
なお、ここでいう「ワーキングモールド」とは、インプリント法により原盤の凹凸を転写して凹凸を反転させる工程を一回又は複数回行って凹凸を形成した複製物である。また、本明細書におけるワーキングモールドは、上記複製物の中でも特に、最終製品である磁気記録媒体にパターンを転写するモールドのことを主として指すものとする。もちろんこのワーキングモールドは、最終製品である磁気記録媒体にパターンを転写するモールドを作製するためのモールドについても含む。
【０００７】
なお、インプリント用モールド構造体を用いて磁気記録媒体を製造する技術として、特許文献１に記載の技術が知られている。具体的には、通常、データアドレスマークは磁気ヘッドにより書かれるところ、データアドレスマークに対応する凹凸パターンを、インプリント用モールド構造体の溝部に形成しておくという技術である。この構成により、インプリントにより形成された磁気記録媒体において、熱揺らぎや欠陥に起因する、読み出し不良・書き込み時の位置ズレ不良を回避することができる。
【０００８】
また、ビット状のパターンを有する磁気記録媒体をインプリント用のスタンパから製造することも知られている（例えば、特許文献２参照）。この特許文献２には、磁気記録媒
体において、データ領域の磁性ドットが配置される中心線を軸に、周方向に異なる個数の磁性ドットで微小位置検出部を構成し、磁化反転を抑制することにより、安定したサーボパターンを維持する技術が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００９−２４５５３４号公報
【特許文献２】特開２０１０−４００９９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
近年、このパターンドメディアが有するパターンサイズは、ますます微細化されてきている。この微細化はナノサイズにて行われており、磁気記録媒体の検査装置や、読み出し・書き込みを行う磁気記録装置の分解能のレベルへと、微細化が近づいてきている。
【００１１】
この分解能の一例を挙げると、マスタークロックが５００ＭＨｚの装置を用いた場合、検査装置や磁気記録装置にて用いられる電子ビームと基板の相対線速度が１ｍ／ｓのときの分解能は２ｎｍになる。これに対して、最近のパターンサイズはライン・アンド・スペースパターンで２５ｎｍ（ライン：スペース＝１：１）というレベルの微細なパターンが実現されつつある。
なお、本明細書における「分解能」とは、検査装置や磁気記録装置にて用いられるエネルギービーム（光ビーム、電子ビーム等を含む）と基板の相対線速度を１ｍ／ｓとしたときの、検査装置や磁気記録装置のマスタークロックの逆数のことである。
【００１２】
このように、分解能とパターンサイズのオーダーが近接することにより、不具合が発生することが、本発明者らの手により発見されている。
この不具合について、図１を用い、ビット状のパターン（以降、単にビットとも言う）を形成した場合について具体的に説明する。
【００１３】
図１（ａ）に示すように、例えばビット状の凸部（磁性部）が磁気記録媒体上に、設計通りに形成されていたとする。設計通りにパターンが形成されていれば、通常だとエラーは起こらないはずである。
【００１４】
しかしながら、磁気記録装置においては、分解能に応じた部分しか読み書きを行うことができない。つまり、図１（ｂ）に示すように、分解能である２ｎｍ間隔で配置された破線部分においてでしか、読み書きを行うことができない。
【００１５】
一方、上述のように仮に設計通りにパターンが形成されていても、図１（ｂ）に示す破線部分に、ビットの中心点（×）が存在するというわけではない。
図１（ｂ）に示す破線部分に、ビットの中心点が存在しないと以下の不具合が発生する。
【００１６】
つまり、この磁気記録媒体の読み書きの際、磁気記録装置の分解能の限界に起因して、ビットの位置をずらして認識してしまうおそれが発生する。具体的には、ビットＡの中心点が読み書き可能な部分（即ち図１（ｂ）の破線部分）に存在していたとしても、それに隣接するビットＢの中心点が、図１（ｂ）に示す破線部分に存在しない場合が出てくる。
この場合、本来読み書きを行いたかった部分ａではなく、分解能に応じて離間した隣の破線部分ｂで読み書きを行ってしまうという現象が起こる。
【００１７】
仮にマスタークロックが５００ＭＨｚで相対線速度が１ｍ／ｓ（即ち分解能が２ｎｍ）
の場合、磁気記録装置において読み書きの認識を開始するパターン（後述する同期信号検出部２１２ｂ）の位置をｘ＝０ｎｍとすると、磁気記録装置はｘ＝２ｎｍ、４ｎｍ、６ｎｍ・・・の地点しか、読み書きの認識を行うことができない。
具体例で説明すると、例えばｘ＝４ｎｍの地点のビットＡは問題なく読み書きできる。しかしながら、ビットＢの中心がｘ＝１１ｎｍの地点に存在する場合、そもそも読み書きを行わない、又は、ｘ＝１０ｎｍか１２ｎｍの地点で読み書きを行うことになってしまう。読み書きを行わなければそもそもエラーとなってしまうし、仮に、図１（ｃ）のように読み書きをｘ＝１０ｎｍの地点で行えたとしても、本来読み書きを行うべき１１ｎｍの地点から、１ｎｍ分、ズレが生じることになってしまう。
【００１８】
このように、アナログ的にパターンを形成したにもかかわらず、読み書きや検査段階でのデジタル的認識を行うことにより、データが丸められ量子化誤差が生じる。その結果、位置ズレが発生してしまう。以降、この位置ズレのことを「データ転び」又は単に「転び」とも言う。
【００１９】
なお、ビット状パターンを用いた磁気記録媒体の場合、読み書き等の位置ズレにおいては、ビット径の１０％程度が許容範囲であると考えられている。現在、電子ビームによる露光においては、ビット径が１２．５ｎｍ程度となっている。その結果、１．２５ｎｍ程度のズレしか許容できない。それにもかかわらず、先ほど例示した図１（ｂ）に示すように、隣接するビットＢとビットＣとで互いに離れる方向にデータが転んでしまうと、少なくとも合計２ｎｍ以上のズレが発生してしまい、読み書きの際のエラーの発生確率が著しく高くなってしまう。
【００２０】
この不具合は、単に磁性記録媒体の読み書きエラーを発生させるのみならず、原盤又はワーキングモールドを製造するモールド製造工程から出荷工程に至るまでにおいて深刻な事態を招く恐れがある。例えば、設計通りのパターンを有する原盤又はワーキングモールドが作製できたとしても、まず、パターン検査装置の分解能の関係で、上述のようなエラーが生じるおそれがある。その上、上述のように磁気記録媒体を作製するに至る最終段階でエラーが生じるおそれもある。そもそも、設計通りに微細パターンを形成したにも関わらず、その後の磁気記録媒体の段階でエラーが発生するため、製品としての磁気記録媒体の歩留まりが低下するどころか、このエラーの原因究明のために多くの時間や労力を費やさなければならず、場合によっては基となるモールドを含めて全ての工程を再検討し、作製し直さなければならないおそれすらある。
【００２１】
本発明の主たる目的は、検出器の分解能に起因するエラーの発生を抑制する電子ビーム露光装置、電子ビーム露光方法、原盤及びその製造方法、並びにワーキングモールド及びその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２２】
上述の通り、本発明者らは、分解能とパターンサイズのオーダーが近接することにより、「データの転び」が磁気記録媒体の製造工程全体において重大な影響を及ぼすという知見を得た。この知見を基に、本発明者らはまず、検査装置や磁気記録装置のマスタークロックを高くする（即ち分解能を向上させる（例：分解能２ｎｍ→１ｎｍ））という手段について検討した。
【００２３】
しかし、検査装置や磁気記録装置のマスタークロックは有限である上、マスタークロックを高くした検査装置や磁気記録装置は著しく高額となる。それに加え、磁気記録媒体が搭載されるハードディスク回路では低コストの回路設計が求められているという事情もある。この事情に反して高額な装置を用いると、磁気記録媒体そのものに価格を上乗せすることになる。そのため、上述の手段はコスト面で難がある。
なお、相対線速度を遅くするという手段も考えられるが、そのように設定すると、そもそも原盤作製に多大な時間を要することになる。そうなると、作業効率が低下するおそれがある。
【００２４】
そこで本発明者らは、後々に製造される磁気記録媒体に対して用いられる検査装置や磁気記録装置の分解能を、原盤の作製段階から予め考慮に入れておく、という知見を得た。更に詳しく言うと、以下の通りの知見を得た。即ち、まず、後で用いられる装置の分解能に応じて、デジタル的なパターン認識を行うことが可能な場所（以降、「露光位置の候補」と言う。）を原盤の基となる基板上に設定しておく。そしてこの露光位置の候補ありきという考えのもと、基板上に露光を行い、パターン形成を行うという知見である。
従来のように先にパターン形状を設計しておき、アナログ的に原盤にパターンを形成し、
その後、作製される磁気記録媒体に対してデジタル的な検査や記録を行う技術と、この知見とは全く異なる。
【００２５】
具体的には、原盤の基となる基板上の各トラック内の所定の位置において、或る露光位置の候補から別の露光位置の候補までの距離を、後々に用いる検査装置や磁気記録装置の分解能の自然数倍に設定する。そして、データ転びの発生を抑制すべく、このように決定された露光位置の候補にのみ露光を行う、及び／又は、或る露光位置の候補を始点とし且つ別の露光位置の候補を終点として連続的に露光を行う。こうして、図１（ｂ）（ｃ）に示すような破線部分に必ずパターンが配置されるよう原盤を最初から作製しておく、という手段を想到した。この手段によって、原盤作製後に用いる装置の分解能に起因するエラーの発生を抑制することが、原盤作製の段階において保証できることを、本発明者らは見出した。
【００２６】
この知見に基づいて成された本発明の態様は、以下の通りである。
本発明の第１の態様は、
複数のトラックを有する磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤を製造するための電子ビーム露光装置において、
一主面上に感光膜が形成された基板を保持しつつ、前記基板の主面上における電子ビームの照射位置を当該基板に対して相対的に移動させる移動手段と、
前記基板上に設定されたデータ部及びサーボ部に対して電子ビームを照射することにより、磁気記録媒体において情報の記録を行うためのデータ領域の基となるデータパターンに対応した形状の露光を前記基板上のデータ部に行い、且つ、磁気記録媒体においてデータ領域のトラック位置及び／又はパターン位置を特定するためのサーボ領域の基となるサーボパターンに対応した形状の露光を前記基板上のサーボ部に行う露光手段と、
前記磁気記録媒体上にて、前記データ領域の情報と前記サーボ領域のサーボ信号とを検出するために別途用いられる検出器の分解能を入力する分解能入力手段と、
前記基板上の各トラック内の少なくともサーボ部内、サーボ部からデータ部までの間、及びデータ部内において、或る露光位置の候補から別の露光位置の候補までの距離を、前記分解能入力手段により入力された分解能の自然数倍に設定することにより、露光位置の候補を前記基板上にて決定する露光位置候補決定手段と、
を備え、
前記移動手段により前記基板を移動させながら、前記露光手段を用いて、前記露光位置候補決定手段により決定された或る露光位置の候補にのみ露光を行う、及び／又は、或る露光位置の候補を始点とし且つ別の露光位置の候補を終点として連続的に露光を行うことを特徴とする電子ビーム露光装置である。
但し、前記データパターンは、データパターンそのものに加え、データパターンの基礎となるパターンも含む。
本発明の第２の態様は、第１の態様に記載の態様であって、
前記磁気記録媒体が複数の同心円状のトラックを有する場合、
トラック間の距離を入力するトラックピッチ入力手段と、
一主面上に感光膜が形成された基板を保持しつつ当該基板を回転させる回転手段と、
前記回転手段の駆動を制御する回転制御手段と、
を更に備え、
各々のトラックにおいて少なくとも前記データ部のデータパターンの形態が１ビットごとに径方向及び周方向に分離されており、
前記トラックピッチ入力手段から前記露光位置候補決定手段へと前記トラック間の距離（ＴＰ）を伝送することにより、トラックの径が拡大されたことに伴うビット周期のずれ（ΔＢＰ）を求め、或るトラック（Ｔ０）と、該トラックから外周方向に向かって隣接するトラック（Ｔ１）との間のΔＢＰが前記分解能の自然数倍となるよう、前記露光位置候補決定手段によって露光位置の候補を決定することを特徴とする。
但し、ΔＢＰ＝ＢＰ０＊ＴＰ／ｒ
ｒ：トラックＴ０の半径
ＢＰ０：トラックＴ０のビット周期
である。
本発明の第３の態様は、第１又は第２の態様に記載の態様であって、
前記露光手段による露光は平面視円形状のビットで行われることを特徴とする。
本発明の第４の態様は、第１ないし第３のいずれかの態様に記載の態様であって、
前記露光位置候補決定手段は、前記基板上の各トラック内の全体において、或る露光位置の候補から別の露光位置の候補までの距離を、前記分解能入力手段により入力された分解能の自然数倍に設定することにより、露光位置の候補を前記基板上にて決定することを特徴とする。
本発明の第５の態様は、第１ないし第４のいずれかの態様に記載の態様であって、
前記露光手段による電子ビームの照射は、前記移動手段によって線速一定に行うことを特徴とする。
本発明の第６の態様は、第１ないし第５のいずれかの態様に記載の態様であって、
前記露光手段から照射される電子ビームを偏光する電子ビーム偏光手段を更に備え、
前記電子ビーム偏光手段により、前記露光位置候補決定手段によって決定された露光位置に対して、電子ビームによる露光が行われるようにすることを特徴とする。
本発明の第７の態様は、
複数のトラックを有する磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤を製造するための電子ビーム露光方法において、
一主面上に感光膜が形成された基板を保持しつつ、前記基板の主面上における電子ビームの照射位置を当該基板に対して相対的に移動させる移動工程と、
前記基板上に設定されたデータ部及びサーボ部に対して電子ビームを照射することにより、磁気記録媒体において情報の記録を行うためのデータ領域の基となるデータパターンに対応した形状の露光を前記基板上のデータ部に行い、且つ、磁気記録媒体においてデータ領域のトラック位置及び／又はパターン位置を特定するためのサーボ領域の基となるサーボパターンに対応した形状の露光を前記基板上のサーボ部に行う露光工程と、
前記磁気記録媒体上にて、前記データ領域の情報と前記サーボ領域のサーボ信号とを検出するために別途用いられる検出器の分解能を入力する分解能入力工程と、
前記基板上の各トラック内の少なくともサーボ部内、サーボ部からデータ部までの間、及びデータ部内において、或る露光位置の候補から別の露光位置の候補までの距離を、前記分解能入力工程により入力された分解能の自然数倍に設定することにより、露光位置の候補を前記基板上にて決定する露光位置候補決定工程と、
を有し、
前記移動工程により前記基板を移動させながら、前記露光工程において、前記露光位置候補決定工程により決定された或る露光位置の候補にのみ露光を行う、及び／又は、或る
露光位置の候補を始点とし且つ別の露光位置の候補を終点として連続的に露光を行うことを特徴とする電子ビーム露光方法である。
但し、前記データパターンは、データパターンそのものに加え、データパターンの基礎となるパターンも含む。
本発明の第８の態様は、
データ部とサーボ部とが基板上に形成され、複数のトラックを有する磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤において、
前記データ部は、磁気記録媒体において情報の記録を行うためのデータ領域の基となるデータパターンが形成された部分であり、
前記サーボ部は、磁気記録媒体においてデータ領域のトラック位置及び／又はパターン位置を特定するためのサーボ領域の基となるサーボパターンが形成された部分であり、
前記基板における各トラック内の少なくともサーボ部内、サーボ部からデータ部までの間、及びデータ部内において、或る露光位置の候補から別の露光位置の候補までの距離が検出器の分解能の自然数倍となるように設定された露光位置の候補にのみ、及び／又は、前記設定された露光位置の候補を始点とし且つ前記設定された別の露光位置の候補を終点として連続的に、サーボパターン及びデータパターンが形成されていることを特徴とする原盤である。
但し、前記データパターンは、データパターンそのものに加え、データパターンの基礎となるパターンも含む。そして、前記検出器は、前記磁気記録媒体製造中ないし製造後に用いられる検出器であって、前記磁気記録媒体のサーボ領域におけるサーボ信号及びデータ領域における情報を検出する検出器である。
本発明の第９の態様は、第８の態様に記載の態様であって、
複数のトラックが同心円状に形成されるとともに、各々のトラックにおいて少なくとも前記データ部のデータパターンの形態が１ビットごとに径方向及び周方向に分離されており、
或るトラック（Ｔ０）と、該トラックから外周方向に向かって隣接するトラック（Ｔ１）との間のΔＢＰが分解能の自然数倍であることを特徴とする。
但し、ΔＢＰ＝ＢＰ０＊ＴＰ／ｒ
ΔＢＰ：トラックの径が拡大されたことに伴うビット周期のずれ
ｒ：トラックＴ０の半径
ＢＰ０：トラックＴ０のビット周期
ＴＰ：トラックＴ０とＴ１との間の距離
である。
本発明の第１０の態様は、第８又は第９の態様に記載の態様であって、
前記データパターンは平面視円形状のビットにより形成されたことを特徴とする。
本発明の第１１の態様は、第８ないし第１０のいずれかの態様に記載の態様であって、
複数のトラックが同心円状に形成されるとともに、各々のトラックにおいて少なくとも前記データパターンの形態が１ビットごとに径方向及び周方向に分離されていることを特徴とする。
本発明の第１２の態様は、第８ないし１１のいずれかの態様に記載の態様であって、
前記露光位置の候補は、前記基板における各トラック内の全体において、或る露光位置の候補から別の露光位置の候補までの距離が検出器の分解能の自然数倍となるように設定されていることを特徴とする。
本発明の第１３の態様は、第８ないし第１２のいずれかに記載の原盤からインプリントにより製造されたことを特徴とするワーキングモールドである。
本発明の第１４の態様は、
複数のトラックを有する磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤であって、データ部とサーボ部とを基板上に有する原盤の製造方法において、
前記データ部は、磁気記録媒体において情報の記録を行うためのデータ領域の基となるデータパターンが形成された部分であり、
前記サーボ部は、磁気記録媒体においてデータ領域のトラック位置及び／又はパターン位置を特定するためのサーボ領域の基となるサーボパターンが形成された部分であり、
前記基板上の各トラック内の少なくともサーボ部内、サーボ部からデータ部までの間、及びデータ部内において、或る露光位置の候補から別の露光位置の候補までの距離が検出器の分解能の自然数倍となるように設定された露光位置の候補にのみ、及び／又は、前記設定された露光位置の候補を始点とし且つ前記設定された別の露光位置の候補を終点として連続的に、サーボパターン及びデータパターンを形成することを特徴とする原盤の製造方法である。
但し、前記データパターンは、データパターンそのものに加え、データパターンの基礎となるパターンも含む。そして、前記検出器は、前記磁気記録媒体製造中ないし製造後に用いられる検出器であって、前記磁気記録媒体のサーボ領域におけるサーボ信号及びデータ領域における情報を検出する検出器である。
本発明の第１５の態様は、第１４の態様に記載の製造方法により製造された原盤からインプリントによりワーキングモールドを製造することを特徴とするワーキングモールドの製造方法である。
【発明の効果】
【００２７】
本発明によれば、検出器の分解能に起因するエラーの発生を抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本実施形態におけるデータ転びの様子を示す概略図である。（ａ）は、設計通りに基板上に形成されたビット状のパターンを示す図であり、バツ印（×）はビット中心である。（ｂ）は、検出器の分解能ごとの区切り（破線）を入れた場合のビット状のパターンを示す図であり、白丸（○）は、設計上、検出器によりビットが本来検出されるべき部分である。（ｃ）は、検出器の分解能ごとの区切り（破線）を入れた上で、検出器によりビットが実際に検出されることになってしまう位置（黒丸（●））を示す図である。
【図２】露光の対象となる基板の構造の一例を示す図である。
【図３】本実施形態における基板を示す図であり、その基板におけるデータ部及びサーボ部、そしてデータパターンを示す図である。
【図４】同心円状のトラックが複数形成されている場合のビットの周期のズレ（ΔＢＰ）を説明するための概略図である。破線は、検出器の分解能ごとの区切りである。白丸（○）は、検出器によりビットが検出される部分である。
【図５】本発明の実施の形態に係る電子ビーム露光装置の構成例を示す概略図である。
【図６】電子ビーム露光時の様子を示す図である。
【図７】本実施形態における露光位置の候補を、基板上にて決定する様子を示す概略図である。
【図８】変形例における種々の露光形状を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しつつ詳細に説明する。
本実施形態においては、次の順序で説明を行う。
１．原盤（基板）の構造
ａ）原盤上のサーボ部
ｂ）原盤上のデータ部
ｃ）パターン配置条件（露光位置の候補の選定条件）
２．電子ビーム露光装置の基本構成（機構系の構成、制御系の構成）
３．電子ビーム露光装置の基本動作
４．電子ビーム露光装置の制御方法（電子ビーム露光方法を含む）
５．実施の形態による効果
６．変形例
【００３０】
＜１．原盤（基板）の構造＞
図２は、露光の対象となる基板４の構造の一例を示すもので、図中（Ａ）は平面図、（Ｂ）は側断面図を示している。
【００３１】
本実施形態において、基板４は、複数のトラックを有する磁気記録媒体を製造するため、又は複数のトラックを有する磁気記録媒体の製造に用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤となる基板である。その材質について言えば、本実施形態においては、石英ガラス基板を用いて構成されるものである。また、基板４の平面形状は円形（即ち円盤状）になっている。基板４の一方の主面（上面）には、感光膜の一例としてのレジスト膜１８を形成してある。本実施形態においては、レジスト膜１８は、ポジ型レジストを使用する。
【００３２】
ポジ型レジストを用いた場合、電子ビームの照射によって露光された部分が、その後の現像処理によって除去されることになる。ポジ型レジストは、ネガ型レジストに比べて、電子ビームに対する感度が高く、得られる解像度も高いため、これを用いてレジスト膜１８を形成（成膜）した方が好ましい。本実施の形態においては、ポジ型レジストを用いてレジスト膜１８を形成してあるものとする。
【００３３】
基板４は、レジスト膜１８が形成されている領域（成膜領域）のほぼ全部を露光の対象にしても良いし、当該領域の一部を露光の対象にしても良い。ここでは一例として、基板４の物理的な中心Ｃｐを基準にして、そこから基板４の半径方向に長さＬｒ１までの円形領域Ｅ０を除いて、当該円形領域Ｅ０よりも外側の領域をレジスト膜１８の有効領域（露光対象領域）１９に設定している。
【００３４】
ここで記述するレジスト膜１８の有効領域１９とは、電子ビーム露光後に行われる現象処理によってレジストのパターンが形成される領域をいう。このため、レジスト膜１８の有効領域は、たとえば、電子ビーム露光とその後の現像処理によって得られたパターンに基づくディスク原盤を用いて、ディスク状の記録媒体を製造する場合に、当該記録媒体のディスク面に転写される領域に対応する領域（製品の品質維持に必要な領域）となる。
【００３５】
そして、この有効領域１９には、図３に示すように、データ部２１と、前記データ部２１に隣接するサーボ部２２とが形成される。このサーボ部２２とデータ部２１とは同心円状の各トラック内において、交互に配置されている。
なお、前記データ部２１は、磁気記録媒体において情報の記録を行うためのデータ領域の基となるデータパターン２１’が形成された部分である。
また、前記サーボ部２２は、磁気記録媒体においてトラック位置及び／又はパターン位置を特定するためのサーボ領域の基となるサーボパターン２２’が形成された部分である。
そして、本実施形態においては、データパターン２１’もサーボパターン２２’も凹凸によりパターンが形成されている場合について述べる。
【００３６】
なお、以降、パターンが存在する部分に関して原盤又はワーキングモールド上に設けられたものは「部」という単語を使用し、例えば「データ部」、「サーボ部」という。
一方、この原盤又はワーキングモールドにより将来的に形成される磁気記録媒体におけるパターンが存在する部分については「領域」という単語を使用し、例えば「データ領域」、「サーボ領域」ということにする。
上記内容を端的に言えば、本実施形態の原盤に設けられたデータ部２１及びサーボ部２２の凹凸パターンが、インプリントにより磁気記録媒体に転写され、磁気記録媒体におけるデータ領域及びサーボ領域となる。
【００３７】
以下、原盤におけるデータ部２１及びサーボ部２２について、サーボ部２２→データ部２１という順に説明する。その際、基板を円形とする関係上、図３に記載されているような、複数のトラックが同心円状に形成される場合について説明する。
【００３８】
なお、以下に説明するデータ部２１におけるデータパターン２１’、そしてサーボ部２２におけるサーボパターン２２’は、上述の通り基板４上における「露光位置の候補（パターン位置の候補とも言う）」に形成されることになる。それを踏まえた上で、以下の説明においては、まずサーボ部２２及びデータ部２１の機能について説明する。その後、「露光位置の候補」について詳述する。
以降、データパターン２１’やサーボパターン２２’の総称として、説明の便宜上、単に「パターン」とも言う。
【００３９】
ａ）原盤上のサーボ部
同心円状の各トラック内での円周方向において、前記サーボ部２２においては、プリアンブル部２２１、アドレス部２２２、及びバースト部２２３が、この配置順で構成されている。
【００４０】
（プリアンブル部）
前記プリアンブル部２２１は、磁気記録媒体において、再生信号のクロックを同期させるための情報が記録されることになる部分である。そしてこのプリアンブル部２２１は、同期信号生成部２２１ａと、同期信号検出部２２１ｂを更に具備している。
【００４１】
同期信号生成部２２１ａは、サーボ情報を呼び出す前に、信号アンプの増幅率を調整して振幅を一定にする働き、及びＡ／Ｄ変換（Analog to Digital Converter）クロック信
号のサンプリングタイミングを生成する働きを有する。同期信号生成部２２１ａは、媒体の内周から外周までの全てあるいは一部の範囲で、径方向に連続して形成されている。そして、周方向に一定の間隔で形成されている。
【００４２】
次に、同期信号検出部２２１ｂは、サーボ情報の開始を示す特徴的なパターンである。同期信号検出部２２１ｂは、原盤の内周から外周までの全てあるいは一部の範囲で、径方向に連続して形成されている。そして、周方向に同期信号生成部２２１ａに比べて長いビット長の部分を有している。この部分が、最終的に磁気記録媒体において、単一の磁性部又は数ビット長の既定符号を生成する複数の磁性部となる。
【００４３】
以上の同期信号生成部２２１ａ及び同期信号検出部２２１ｂは、本実施形態の原盤において、一つの特徴となる部分である。同期信号生成部２２１ａが、最終的に磁気記録媒体において磁性部となり、同期信号となる「クロック」（即ち、形成されるパターンが有する所定の周期）を生成することになる。更には、同期信号検出部２２１ｂが、各々のトラックのサーボ部２２からデータ部２１に向かう方向において、データパターン２１’の検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターン２２’となる。
【００４４】
（アドレス部）
アドレス部２２２は、サーボフレーム毎のトラック番号及びセクタ番号を示すＩＤパターンである。磁気記録装置において、磁気ヘッドの位置するトラック位置を示す。
【００４５】
アドレス部２２２は、セクタ番号を示す周方向位置では、媒体の内周から外周までの全
てあるいは一部の範囲で、径方向に連続して形成されている。
なお、原盤のアドレス部２２２を転写された磁気記録媒体において、トラック番号の上位桁を示す周方向位置では、媒体の内周から外周までの全てあるいは一部の範囲で、アドレス部２２２に対応するパターンが径方向に連続している。一方、トラック番号の下位桁を示す周方向位置では、媒体の径方向に断続的となる磁性体が形成されている。
【００４６】
（バースト部）
バースト部２２３は、シリンダアドレスのオントラック状態からのオフトラック量を検出するための磁気記録媒体におけるオフトラック検出用領域に対応する基板上部分である。
【００４７】
バースト部２２３が磁気記録媒体に転写されると、この領域によって、磁気記録装置において、磁気ヘッドの位置のトラック中心からのずれ情報が検出される。磁気記録媒体においてバースト部２２３に対応する領域が、周方向に、特定の形状及び配列からなる磁性パターンを有し、それぞれの磁性パターンは、媒体の径方向に、トラック毎に、等間隔に配置されている。
【００４８】
なお、同心円状の各トラック内での円周方向におけるこれらの配置順はこの順番に限られない。ただ、上述の通り、磁気記録媒体におけるプリアンブル部２２１にて同期信号を生成・制御し、アドレス部２２２にて磁気記録装置における磁気ヘッドの位置するトラック位置を認識し、バースト部２２３にて磁気ヘッドのトラック中心からのズレ情報を記録するという役割を担っていることから、この順番が好ましい。
【００４９】
ｂ）原盤上のデータ部
本実施形態においては、前記サーボ部２２に隣接するようにデータ部２１が形成されている。更に詳しく言うと、円周方向において、バースト部２２３の後に、データ部２１が形成されている。このデータ部２１は、最終的に磁気記録媒体においてユーザデータを書き込み可能な領域となり、磁気記録再生装置の磁気ヘッドによってそれが可能となる。
【００５０】
また、前記パターンとしては、ディスクリートパターン及びビットパターンのいずれかであっても良い。本実施形態においては平面視円形からなるビットパターンの場合について述べる。
【００５１】
ビットパターンならば、ビットの略中心位置を基準に設定することができるという利点がある。
つまり、検出器において正確に認識可能な地点にビットの略中心があれば、その地点にて最もビットを認識しやすくなる。その結果、ビット径の大きさに拘らず、或る露光位置の候補から別の露光位置の候補までの距離を、前記分解能入力手段により入力された分解能の自然数倍に設定することによって、データ転びを抑制することができる。
【００５２】
なお、ここで挙げた「検出器」は、前記磁気記録媒体製造中ないし製造後に用いられる検出器であって、前記磁気記録媒体のサーボ領域におけるサーボ信号及びデータ領域における情報を検出する検出器である。この検出器としては、検査装置や磁気記録再生装置などが挙げられる。
【００５３】
各々のトラックにおいて少なくとも前記データ部２１のデータパターン２１’の形態は、１ビットごとに径方向及び周方向に分離されている。最終的な磁気記録媒体においては、データ領域は、磁気ヘッドによってユーザデータの書き込み可能な磁性帯を有する複数のトラックが設けられ、隣接するトラック間にはユーザデータの書き込み不能な非磁性帯が設けられている。即ち、磁気記録媒体は、磁性帯が非磁性帯によって物理的に分離され
たディスクリートトラック型の記録媒体となっている。
【００５４】
ｃ）パターン配置条件（露光位置の候補の選定条件）
本実施形態においては、磁気記録媒体を作製した後に使用するはずの検出器の分解能を考慮に入れ、予め、確実に分解能に応じて検出できる基板４上の位置に、パターンを形成しておく。更に詳しく言えば、本実施形態の原盤における大きな特徴は、データパターン２１’及びサーボパターン２２’（即ち「パターン」）が以下の条件を満たすように配置されていることである。
【００５５】
［条件１］
基板４における各トラック内の少なくともサーボ部２２内、サーボ部２２からデータ部２１までの間、及びデータ部２１内において、或る露光位置の候補から別の露光位置の候補までの距離が検出器の分解能の自然数倍となるように設定された露光位置の候補にのみパターンが形成されている。ここでは、サーボ部２２からデータ部２１までの間は、サーボ部２２の端のサーボパターン２２’から、データ部２１のデータパターン２１’のうち該サーボパターン２２’に最も近い部分までの距離を意味する。
なお、本実施形態では、前記基板上の各トラック内の全体において分解能の自然数倍となるように設定された場合について述べる。なお、データ部２１からサーボ部２２までの間が除外可能な理由は、＜６．変形例＞にて述べる。
【００５６】
先にも述べたように、磁気記録媒体の読み書きの際、磁気記録装置の分解能の限界に起因して、ビットの位置をずらして認識してしまうおそれが発生する。具体的には、ビットＡの中心点が読み書き可能な部分に存在していたとしても、それに隣接するビットＢの中心点が、図１に示す破線部分に存在しない場合が出てくる。
この場合、本来読み書きを行いたかった部分ではなく、分解能に応じて離間した隣の破線部分で読み書きを行ってしまうという現象が起こる。
つまり、アナログ的にパターンを形成したにもかかわらず、読み書きや検査段階でのデジタル的認識を行うことにより位置ズレが発生してしまい、所謂「データ転び」が発生するおそれがある。
【００５７】
ところが、本実施形態のように、磁気記録媒体作製前の原盤段階において既に検出器の分解能を考慮に入れてビットを配置することにより、データ転びの発生を抑制することができる。例示するならば、０ｎｍ、３ｎｍ、６ｎｍ、９ｎｍ・・・の地点しかパターンを認識できない分解能３ｎｍの検出器を用いることを予め考慮に入れ、１ｎｍや２ｎｍの地点にはビット略中心を配置せず、３ｎｍ、６ｎｍ、９ｎｍの地点にビット略中心を配置している。
【００５８】
なお、後で詳述するが、本実施形態における「ビットの略中心」とは、「検出器によって本来認識されるべき地点でビットが認識される程度、ビット中心に近いビット内の部分」のことである。
【００５９】
更に、データパターン２１’におけるデータ転びのみならず、サーボパターン２２’をデジタル的に認識する際にも、上記の条件１は役立つ。即ち、基板４の有効領域１９全体に亘って条件１を満たすようにパターンを形成しておくというやり方である。
【００６０】
具体的に言うならば、基板４の平面図である図７（ａ）に示すように、基板４の有効領域１９全体に亘って方眼紙的な区分けを行い、露光位置の候補（α及びβ並びにそれ以外の黒丸）を基板４上で予め決定しておく。このようにしてから原盤が形成されると、データパターン２１’の検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターン２２’は、後々に使用される検出器によって必ず検出可能となるような基板４上の位置に形成さ
れる。更には、それ以外のサーボパターン２２’そしてデータパターン２１’もすべて、検出器によって必ず検出可能となるような基板４上の位置に形成される。その結果、検出器の分解能に起因するエラーの発生を抑制できる。
【００６１】
また、上記の［条件１］以外にも、以下の条件を満たしても良い。
［条件２］
基板４における各トラック内において、前記設定された露光位置の候補を始点とし且つ前記設定された別の露光位置の候補を終点として連続的にパターンが形成されている。なお、本実施形態において、先に述べたサーボ部２２におけるプリアンブル部２２１やアドレス部２２２などは、この条件を満たすように原盤上に形成されている。
【００６２】
条件２を満たすことにより、パターンの始点と終点を繋ぐようにパターンが形成されているならば、連続的なパターンを形成したとしても、検出器によって必ず検出可能となる。その結果、条件１と同様に、ビットではない連続的なパターンであっても、検出器の分解能に起因するエラーの発生を抑制できる。
【００６３】
なお、本実施形態においては、どちらか一方の条件を満たしているパターンを原盤に形成すれば良い。また、図３に示すように、各々のパターンが上記の２つの条件のいずれかを満たすような種々のパターンを、基板４上に形成しても良い。
【００６４】
なお、上記「自然数倍」の臨界値についても述べる。
下限値についてであるが、ビットの径に応じて、互いに隣接するビットが一定の距離を確保できる程度の倍数ならば良い。例えば、ビット径が１０ｎｍ、分解能が２ｎｍである場合、データパターン２１’の形態を１ビットごとに径方向及び周方向に分離するためにも、ビット略中心間距離は、分解能の５倍以上の自然数倍とした方が良い。
上限値についてであるが、１つのトラックにおけるデータ部２１の幅（同心円状トラックの場合はデータ部２１の周長）に応じて、所定の情報を記録できる程度の数のビットを形成できる程度の倍数ならば良い。
【００６５】
（その他の部分）
上記以外の部分としては、データパターン２１’とサーボパターン２２’との間に、半径方向につながった略放射状の凸パターンからなる緩衝パターン等を設けることも考えられるが、本実施形態の効果を損なわない限り特に制限はなく、目的に応じて上記以外の部分を適宜選択することができる。
【００６６】
（トラック変化によるパターン周期の変化）
上述の通り、同心円状トラックにおいて、１つのトラック内においては、上記の２つの条件のうち少なくともいずれかを満たすことにより、最終的に磁気記録媒体でデータ転びを抑制することができる。ところが、同心円状に複数のトラックを形成する場合、外周又は内周側のトラックは円周長が変化する。そして、ビット状のパターンを作製する場合、ビット略中心の位置のクロックを、各トラックにおいて一定にするのが非常に好ましい。
【００６７】
具体的には、図４に示すように、トラック間の距離（ＴＰ）から、トラックの径が拡大されたことに伴うビット周期のずれ（ΔＢＰ）を求める。
但し、ΔＢＰ＝ＢＰ０＊ＴＰ／ｒ
ｒ：トラックＴ０の半径
ＢＰ０：トラックＴ０のビット周期
である。
【００６８】
そして、或るトラック（Ｔ０）と、該トラックから外周方向に向かって次のトラック（
Ｔ１）との間のΔＢＰが分解能の自然数倍となるよう、ビット略中心の位置を決定する。
こうすることにより、最終的な磁気記録媒体において、例えトラック位置が変わろうとも、確実に検出器が正しい位置にて読み書き等を行うことができる。そしてひいては、データ転びを同心円状のトラック全てにおいて抑制することができる。
【００６９】
以上が、本実施形態に係る原盤の構成についての説明である。
以下、この原盤を作製するのに用いられる電子ビーム露光装置について説明する。
【００７０】
＜２．電子ビーム露光装置の基本構成＞
図５は、本発明の実施の形態に係る電子ビーム露光装置の構成例を示す概略図である。図示した電子ビーム露光装置１は、大きくは、電子ビームを発生する電子ビーム発生部２と、この電子ビーム発生部２で発生させた電子ビームを制御する電子ビーム制御系３と、露光の対象となる基板４を支持するステージ機構５と、このステージ機構５の駆動を制御するステージ制御系６とを備えている。
【００７１】
なお、本実施形態においては、電子ビーム発生部２と電子ビーム制御系３とを合わせて「露光手段」としている。この露光手段によって、電子ビームを照射して、前記サーボ領域の基となるサーボパターン２２’に対応した形状の露光を前記基板上のサーボ部２２に行い、且つ、前記データ領域の基となるデータパターン２１’に対応した形状の露光を前記基板上のデータ部２１に行うことになる。
【００７２】
また、ステージ機構５とステージ制御系６と合わせて「移動手段」としている。この移動手段によって、一主面上に感光膜が形成された基板を保持しつつ、基板４の主面上における電子ビームの照射位置を当該基板４に対して相対的に移動させることになる。
【００７３】
なお、本実施形態においてはｒ−θ系の回転ステージを用いるため、ステージ機構５は「移動手段」（ＸＹＺ軸に移動可能）と「回転手段」（ｒ−θ軸に移動可能）とを兼ねている。また、ステージ制御系６は、電子ビームの照射位置を被照射体となる基板４に対して相対的に移動させる機能を有する。これに加え、ステージ制御系６は、この「回転手段」の駆動を制御する「回転制御手段」である。
【００７４】
更に、本実施形態に係る電子ビーム露光装置は、上記の構成に対して所望の動作をさせるべく、所望の数値や動作パターンのようなデータを入力するインターフェイス２０を加えた構成となっている。このインターフェイス２０は、構成の一つとして、後述する「分解能入力手段」を備えている。更に、このインターフェイス２０は、同じく後述する「露光位置候補決定手段」を備えている。
以下、このインターフェイス２０に入力されたデータに応じて動作させる各部の構成についてまずは説明する。
【００７５】
（電子ビーム発生部）
電子ビーム発生部２は、電子ビームの発生源となる電子銃７を用いて構成してある。電子銃７は、ステージ機構５に支持された基板４と対向する状態に配置してある。電子銃７は、電子ビームを下向きに発生するものとなっている。
なお、電子ビームを基板４に照射する際の照射形状は、本実施形態においては平面視円形としている。つまり、線状のパターンを形成する際には、ステージ機構５により基板４を回転させながら基板４上のレジストに電子ビームを照射し続け、線状の露光を行う。そして、円形ビット形状に露光する場合は、瞬間的に電子ビームを照射する。
【００７６】
（電子ビーム制御系）
電子ビーム制御系３は、たとえば、図示のように集束レンズ８と、ブランキング電極９
と、アパーチャ１０と、対物レンズ１１と、偏向器１２とを有している。
【００７７】
集束レンズ８は、電子銃７から出射された電子ビームのビーム径の広がりを抑制するものである。集束レンズ８は、電子銃７から基板４に至る電子ビームの軌道上において、電子銃７とブランキング電極９との間に配置してある。
【００７８】
ブランキング電極９は、電子ビームの下流側への進行を制御するものである。ブランキング電極９は、ブランキングするとき（即ちブランキング電極９をＯＮにするとき）は電子ビームをアパーチャ１０で遮るように電子ビームの進行を制御する。一方、ブランキングしないとき（即ちブランキング電極９をＯＦＦにするとき）は電子ビームをアパーチャ１０の開口部１３に通すように電子ビームの進行を制御する。ブランキング電極９は、電子銃７から基板４に至る電子ビームの軌道上において、集束レンズ８とアパーチャ１０との間に配置してある。
【００７９】
アパーチャ１０は、電子ビーム露光処理に際して、不要な電子ビーム成分を遮断する機能を果たすものである。アパーチャ１０は、不要な電子ビーム成分を遮断し、かつ必要な電子ビーム成分を通過させるための開口部１３を一体に有している。アパーチャ１０は、電子銃７から基板４に至る電子ビームの軌道上において、ブランキング電極９と対物レンズ１１（偏向器１２）との間に配置してある。
【００８０】
対物レンズ１１は、アパーチャ１０の開口部１３を通過した電子ビームのビーム径を絞るものである。対物レンズ１１は、電子銃７から基板４に至る電子ビームの軌道上において、アパーチャ１０とステージ機構５との間に配置してある。
【００８１】
偏向器１２は、アパーチャ１０の開口部１３を通過した電子ビームの向き（進行方向）を変えるものである。偏向器１２は、電子銃７から基板４に至る電子ビームの軌道上において、前述した対物レンズ１１とともに、アパーチャ１０とステージ機構５との間に配置してある。
なお、本実施形態においては、電子ビーム制御系の内、少なくともブランキング電極９を含む部分であって、電子ビームを偏向させることに関係する部分が「電子ビーム偏向手段」となる。
【００８２】
（ステージ機構）
ステージ機構５は、回転ステージ１４と、直動ステージ１５とを用いて構成してある。回転ステージ１４及び直動ステージ１５は、前述したｒ−θ系のステージを構成している。
【００８３】
回転ステージ１４は、基板４を水平に保持するとともに、保持した基板４を回転させるものである。回転ステージ１４は、たとえば、図示しないスピンドルモータ等の駆動源を用いて回転する仕組みになっている。回転ステージ１４は、基板４を保持しつつ当該基板４を回転させる回転手段の一例として設けてある。
なお、本実施形態においては、この回転ステージ１４が「回転手段」となる。
【００８４】
直動ステージ１５は、水平面に平行な一軸方向（以下、「水平方向」と記す）に直線的に移動するものである。直動ステージ１５は、回転ステージ１４及びこれに保持した基板４と一体になって水平方向に移動する。直動ステージ１５は、回転ステージ１４で保持した基板４を、この基板４の半径方向と平行な方向に移動させる移動手段の一例として設けてある。
【００８５】
（ステージ制御系）
ステージ制御系６は、回転ステージ１４を制御する回転ステージ制御部１６と、直動ステージ１５を制御する直動ステージ制御部１７とを有している。
【００８６】
回転ステージ制御部１６は、回転ステージ１４の駆動を制御するものである。更に詳述すると、回転ステージ制御部１６は、たとえば、回転ステージ１４の回転・停止といった基本的な動作に加えて、回転ステージ１４の回転速度及び回転方向の制御を行う。ここで記述する回転ステージ１４の回転速度は、単位時間当たりの回転数（単位；ｒｐｍ）で表されるものである。回転ステージ１４は、回転ステージ１４の回転方向の現在位置（回転位相）を、たとえば、電子ビーム露光装置１が備える図示しない回転位置検知センサを用いて認識する。
なお、本実施形態においては、この回転ステージ制御部１６が「回転制御手段」となる。
【００８７】
直動ステージ制御部１７は、直動ステージ１５の駆動を制御するものである。更に詳述すると、直動ステージ制御部１７は、たとえば、直動ステージ１５の移動・停止といった基本的な動作に加えて、直動ステージ１５の移動速度及び移動方向の制御を行う。回転ステージ制御部１６は、直動ステージ１５の移動方向の現在位置を、たとえば、電子ビーム露光装置１が備える図示しない移動位置検知センサを用いて認識する。
【００８８】
＜３．電子ビーム露光装置の基本動作＞
次に、本発明の実施の形態に係る電子ビーム露光装置１の基本動作について説明する。
【００８９】
まず、回転ステージ１４の上に基板４を載せて固定する。このとき、回転ステージ１４の回転中心と基板４の物理的な中心Ｃｐとが一致するように、基板４を位置決めする。また、レジスト膜１８が上を向くように（レジスト膜１８が電子銃７と対向するように）基板４を水平に配置する。
【００９０】
次に、必要に応じて、予め設定されたイニシャライズ処理（たとえば、回転ステージ１４の回転方向の基準位置を検知するための処理や、直動ステージ１５の移動方向の基準位置を検知するための処理など）を行う。各々の基準位置は、たとえば、前述した回転位置検出センサ及び移動位置検知センサを用いて検知されるものである。
【００９１】
次に、回転ステージ１４に保持した基板４を予め決められた初期位置に配置し、そこで回転ステージ１４の駆動により基板４を回転させる。そして、基板４の回転速度が予め決められた速度で安定したら、予め決められたタイミングで電子ビーム露光を開始する。そのときの様子を図６に示す。
【００９２】
電子ビーム露光においては、電子銃７から出射した電子ビームを集束レンズ８で集束させるとともに、集束された電子ビームの進行をブランキング電極９で制御して、アパーチャ１０の開口部１３に電子ビームを通す。更に、アパーチャ１０を通過した電子ビームのビーム径を対物レンズ１１で絞るとともに、その電子ビームの向きを偏向器１２で制御する。
【００９３】
これにより、基板４上に形成してあるレジスト膜１８は、回転ステージ１４の回転駆動によって同心円状に露光される。また、直動ステージ１５の駆動によって基板４を水平方向に移動（微動）し、この移動にあわせて同心円状の露光を基板４の１回転ごとに繰り返すことにより、レジスト膜１８の有効領域１９全体が露光される。ただし、基板４が１回転する間に行われる同心円状の露光では、所望するピットパターンにあわせて電子ビームの照射のオンオフを切り替えるように制御する。この切り替えはブランキング電極９を用いて行う。
【００９４】
なお、本実施形態においては、サーボ部２２の一部においては線状のパターンが形成されるように電子ビームを基板４に露光する。そして、サーボ部２２の他の部分及びデータ部２１においては円形状のビットからなるパターンが形成されるように電子ビームを基板４に露光する。
【００９５】
＜４．電子ビーム露光装置の制御方法（電子ビーム露光方法を含む）＞
次に、本発明の実施の形態に係る電子ビーム露光方法を含めて、電子ビーム露光装置１の制御方法を説明する。
【００９６】
電子ビーム露光は、上述のインターフェイス２０に入力されたデータに基づき、前述したとおり回転ステージ１４の駆動により基板４を回転させながら行う。このとき、回転ステージ制御部１６は、たとえば露光ビームの線速が一定になるように回転ステージ１４の駆動を制御する。線速一定とすることにより、パターンの認識開始部分からの距離の制御を行いやすい。その結果、より確実にデータ転びが抑制された原盤を作製することができる。
【００９７】
ここで、本実施形態において、「分解能入力手段」はインターフェイス２０に設けられている。最終的に製造される磁気記録媒体上にて、トラック位置を検出するためのサーボ領域のサーボ信号と、情報の記録を行うためのデータ領域の情報と、を検出するために別途用いられる検出器の分解能を、この分解能入力手段へと入力する。
【００９８】
そして、この分解能入力手段から、同じくインターフェイス２０に設けられている「露光位置候補決定手段」へと、分解能の数値を伝達する。この分解能に基づき、露光装置にセットされる基板４に対して、図７（ａ）に示すような方眼紙的な区分けを行う。具体的には、前記基板上の各トラック内において、或る露光位置の候補αから別の露光位置の候補βまでの距離を、前記分解能入力手段により入力された分解能の自然数倍に設定することにより、露光位置の候補を前記基板上にて決定する。
【００９９】
以上のように、分解能入力手段により入力された分解能を有する検出器を用いても、デジタル的なパターン認識を行うことが可能な場所（即ち「露光位置の候補」）を、インターフェイス２０を用いて基板４上にて決定する。
【０１００】
そして、露光位置候補決定手段（インターフェイス２０）にて区分けされることにより決定された露光位置の候補となる基板４上の位置データは、電子ビームを発生する電子ビーム発生部２と、この電子ビーム発生部２で発生させた電子ビームを制御する電子ビーム制御系３と、露光の対象となる基板４を支持するステージ機構５と、このステージ機構５の駆動を制御するステージ制御系６とに伝達される。言い換えるなら、露光位置の候補についての位置データは、露光手段、移動手段、回転手段、回転制御手段へと伝達される。
【０１０１】
露光位置の候補についての位置データが各構成に伝達された上で、この位置データを考慮に入れつつ、上述の条件１及び／又は条件２に対応する露光を行う。
即ち、前記移動手段により前記基板を移動させながら、前記露光手段を用いて、前記露光位置候補決定手段により決定された或る露光位置の候補にのみ露光を行う、及び／又は、或る露光位置の候補を始点とし且つ別の露光位置の候補を終点として連続的に露光を行う。この連続的な露光は、本実施形態においては、基板４が円盤状であることから、円周方向及び径方向に対して行う。このとき、少なくとも、基板４上の各トラック内のサーボ部内、サーボ部からデータ部までの間、及びデータ部内において、上述の露光を行えば良い。もちろん、各トラック内の全体にわたって上述の露光を行っても良いし、その方が好ましい。基板４の有効領域１９の全体に渡って、一様な区分けを行うことが可能になるた
めである。また、その結果、基板４の有効領域１９の全体に渡ってデータ転びの発生を抑制することができるためである。
【０１０２】
この際、本実施形態ではポジ型レジストを用いていることから、電子ビーム偏向手段（ブランキング電極９）を利用して、以下のような露光を行っても良い。即ち、分解能における数値は、電子ビーム制御系を介して電子ビーム偏向手段にも伝達する。そして、上述のいずれかの条件を満たす場所におけるレジストに対し電子ビームが露光されるよう、ブランキング電極をＯＦＦにする。それ以外の場所においてはブランキング電極９をＯＮとし、レジストに電子ビームが露光されないようにしても良い。
【０１０３】
なお、上述のようにレジストに対して電子ビームを露光した後は、公知の手段を用いて凹凸からなるデータ部２１及びサーボ部２２を有する原盤を製造することができる。かいつまんで言うと、レジストへの露光後、現像を行い、所定のパターン形状となったレジストパターンを得る。このレジストパターンをマスクにして、レジストの下部の導電層又は直接基板４をエッチングする。導電層を設けている場合は、最終的にこの導電層にも所定のパターンを形成し、最後に基板４へとパターン転写する。そして、レジストパターン（それに加え導電層）を除去し、データパターン２１’を有するデータ部２１、及びサーボパターン２２’を有するサーボ部２２を備えた原盤を得る。
【０１０４】
＜５．実施の形態による効果＞
本実施形態では、原盤の基となる基板上の各トラック内において、或る露光位置の候補から別の露光位置の候補までの距離を、後々に用いる検査装置や磁気記録装置の分解能の自然数倍に設定する。そして、データ転びの発生を抑制すべく、このように決定された露光位置の候補にのみ露光を行う、及び／又は、或る露光位置の候補を始点とし且つ別の露光位置の候補を終点として連続的に露光を行う。
つまり、本実施形態においては、原盤の作製段階から既に、基板の区分けを行うことにより露光位置の候補を決定している。そしてこの露光位置の候補ありきという考えのもとに露光を行い、パターン形成を行っている。
【０１０５】
これにより、検査装置や磁気記録装置による位置検出の際、装置の分解能に起因するエラーの発生を抑制できる。更には、磁気記録媒体に対して用いられる検査装置や磁気記録装置のマスタークロックを高くせずとも、データ転びの発生を抑制することができる。また、相対線速度を遅くすることなく、データ転びの発生を抑制することができる。
その結果、製品としての磁気記録媒体の歩留まりを向上させることができ、分解能に起因するエラーのために不要な時間や労力を費やす必要もなくなる。
【０１０６】
＜６．変形例＞
なお、本発明の技術的範囲は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、発明の構成要件やその組み合わせによって得られる特定の効果を導き出せる範囲において、種々の変更や改良を加えた形態も含む。
【０１０７】
まず、基板４の形状であるが、円形基板以外であっても良く、例えば矩形基板や多角形基板、更には半円形状の基板であっても良い。
また、トラックにおいても同心円状ではなく、直線のトラックであっても良いし、同心円以外の曲線のトラックであっても良い。
【０１０８】
また、本実施形態においては、複数のトラックを有する磁気記録媒体について述べた。その一方、本発明の思想は、当然、１つのトラックの場合にも適用可能である。なお、本実施形態における「各トラック」とは、１つのトラックの場合も含む。
【０１０９】
次に、データパターン２１’についてであるが、本実施形態においては、原盤又はワーキングモールドの凹凸パターン一つ一つが、そのままデータ領域におけるデータパターンに対応する場合について述べた。その一方で、本実施形態の変形例として、凹凸パターン一つ一つはデータパターンにならずとも、複数の凹凸パターンによって初めてデータパターンとなる場合（即ちデータパターンの基礎となるパターン）も挙げられる。
具体的には、ビット状のパターンを形成する場合、４個のビットを１組としてデータパターンとするように、原盤又はワーキングモールドを形成しても良い。つまりこの場合、１個のビットが素パターンとなり、４個のビットによってデータパターンが形成されても良い。
【０１１０】
また、本実施形態においては円形のビットにより形成されたパターンについて述べたが、図８の符号Ａに示すように、矩形のビットによりパターンが形成されても良い。
【０１１１】
更に、本実施形態においてはビットにより形成されたパターンについて述べたが、データ部２１及びサーボ部２２におけるパターンは、ビット以外の形状（例えばライン・アンド・スペース即ち線状）のパターン（図８の符号Ｂ）であっても良い。
【０１１２】
更に、ビット形状のパターン（図８の符号Ｃ）と線状パターン（図８の符号Ｂ）とを混合させたデータ部２１やサーボ部２２を形成しても良い。特にサーボ部２２においては、サーボ部２２全体を線状のパターンにより形成しても良いし、サーボ部２２の一部のみ（例えばプリアンブル部２２１のみやその他の部分のみ）をビット状のパターンとしても良い。もちろん、プリアンブル部２２１内でも、ビット形状のパターンと線状パターンとを混合させても良い。
【０１１３】
ここで挙げた線状パターンは、図８の符号Ｄ〜Ｇに示すように、各トラック間を跨ぐように連続的に形成されていても良い。その際、上述の条件２に示すように、或る露光位置の候補を始点とし且つ別の露光位置の候補を終点として連続的に露光を行えば良い。トラックのサーボ部２２からデータ部２１に向かう方向に垂直な方向に連続的に露光を行っても良い（符号Ｄ）。更には、この垂直な方向から傾いた方向に連続的に露光を行っても良い（符号Ｅ）。また、これらの特徴を組み合わせて露光を行っても良い（符号Ｆ）。
【０１１４】
このように線状パターンを形成したとしても、検出器によって、トラックの形状に従ってパターンを認識する際に、少なくとも始点と終点においては、データ転びなくパターンを認識することができる。
好ましくは、図８の符号Ｇに示すように、各トラック間を跨ぐようにパターンを連続的に形成する際、始点と終点の間の各トラックにてパターン認識して欲しい部分も、露光位置の候補に位置するように露光を行う。
【０１１５】
また、本実施形態においては、露光位置の候補を基板４上にて決定する際に、トラック方向と径方向に対応した区分けを行った。この区分けにおいては、トラック方向の線と径方向の線とが交わる点を、基板４上の露光位置の候補とした。一方、図７（ｂ）に示すように、トラックの形状に合わせて（例えばＸ−Ｙ方向に）区分けを行っても良い。また、区分けの仕方についても、交点を露光位置の候補とするのではなく、図７（ｃ）に示すように、この露光位置の候補を囲むような線を利用しても良い。更に、トラック方向の線とその線と平行でない線とを交わらせて、その交点や囲まれた領域、またはその領域内の中央を、露光位置の候補としても良い。
【０１１６】
なお、データ部２１やサーボ部２２のパターンを線状とする場合のパターン配置であるが、データ転びが発生しないような配置、即ち独立して存在する線状パターンの隣り合う端同士の距離が分解能の自然数倍となる配置とするのが好ましい。
【０１１７】
ただ、エッチングによるパターン形成の際に、オーバーエッチング等により線状パターンが予想よりも大きくなってしまう、又は位置が変動してしまう可能性がある。
一方、その場合であっても、データ転びが発生しない程度に配置が変化していても、本発明の思想を適用しうる。
【０１１８】
例えば図１において、分解能が２ｎｍ、且つｘ＝０ｎｍの地点で検出器がパターン検出を開始するという状況で、ｘ＝２ｎｍ〜６ｎｍの位置まで線状パターンを作製するはずがｘ＝１．９ｎｍ〜４．１ｎｍの位置までの線状パターンを形成する場合について考える。この場合、分解能の自然数倍であるｘ＝２ｎｍ及び４ｎｍの地点にはパターンが存在し、ｘ＝０ｎｍ及び６ｎｍの地点にはパターンが存在しないことから、データの転びは抑制される。その結果、この場合であっても、本発明の思想を適用しうる。
【０１１９】
上記の内容は、本実施形態で述べたビットの略中心についても同様である。即ち、ビット径が４ｎｍ、分解能が２ｎｍ、且つｘ＝０ｎｍの地点から検出器がパターン検出を開始するという状況で、本来ｘ＝６ｎｍの地点にビットの中心を配置しなければならないところ、ビットの中心が５．５ｎｍ＜ｘ＜６．５ｎｍの範囲内の地点に配置されたとしても、データ転びの恐れはある程度抑制できる。そのため、本実施形態における「ビットの略中心」とは、「検出器によって本来認識されるべき地点でビットが認識される程度、ビット中心に近いビット内の部分」のことである。
【０１２０】
次に、本実施形態だと、同心円状の各トラック内での円周方向において、サーボ部２２においては、プリアンブル部２２１、アドレス部２２２、及びバースト部２２３が、この配置順で構成されている。その一方で、検出器において正常に検出できるのならば、サーボ部２２はこの順番の配置でなくとも良い。
【０１２１】
また、これらの部分のうち、少なくともプリアンブル部２２１の同期信号生成部２２１ａ及び同期信号検出部２２１ｂさえあれば良い。本実施形態においては、この同期信号生成部２２１ａのおかげで、分解能の自然数倍の間隔を空けてパターンを形成できるためである。また、同期信号検出部２２１ｂのおかげで、データパターン２１’の検出を開始するタイミング合わせを行うことができるためである。
【０１２２】
更に、本実施形態においては同期信号生成部２２１ａと同期信号検出部２２１ｂとをひとまとまりにしてプリアンブル部２２１を設けているが、両者を分離してプリアンブル部２２１を形成しても良い。つまり、各トラック内での円周方向において、同期信号生成部２２１ａ→アドレス部２２２→バースト部２２３→同期信号検出部２２１ｂ→データパターン２１’、という順番としても良い。
【０１２３】
また、本実施形態で記載したように、同期信号検出部２２１ｂとデータ部２１との間にアドレス部２２２やバースト部２２３を設けても勿論良いし、データパターン２１’の検出を開始するタイミング合わせを行う部分をバースト部２２３が兼ねても良い。
【０１２４】
結局のところ、データパターン２１’の検出を開始するタイミング合わせを行う部分から、データ部２１におけるパターンまでの距離が、その後に用いられる検出器の分解能の自然数倍であれば、データ部２１及びサーボ部２２はどのような配置関係であっても構わない。
【０１２５】
更に、露光位置の候補間の距離は、本実施形態のように各トラック内にて上述のように設定しても良いが、基板４上の各トラック内の少なくともサーボ部２２内、サーボ部２２からデータ部２１までの間、及びデータ部２１内において、分解能の自然数倍であれば良
い。つまり、データ部２１からサーボ部２２までの間は、露光位置の候補間の距離を上述のように設定しなくとも構わない。
【０１２６】
先に述べたように、サーボ部２２にはプリアンブル部（同期信号生成部２２１ａと同期信号検出部２２１ｂ）が設けられている。そしてこの同期信号生成部２２１は、サンプリングのタイミングを生成するため、情報呼び出す前に一旦、このタイミングが再設定される。そのため、データ部２１とサーボ部２２との間（つまり同期信号生成部２２１ａの手前の部分）においては、露光位置の候補間の距離は上述のように設定されていなくとも構わない。
【０１２７】
同心円状にパターンを形成する場合、周長や分解能の値によっては、露光位置の候補間の距離を全周に亘って上述のように設定することが困難な場合も考えられる。その際、データ部２１とサーボ部２２との間の距離を調整することにより、それ以外の部分の露光位置の候補間の距離を、分解能の自然数倍とすることもできる。
【０１２８】
次に、本実施形態においてはポジ型レジストを用いた場合について述べたが、ネガ型レジストを用いても良い。ネガ型レジストを用いた場合は、電子ビームの照射によって露光された部分が、現像後も除去されずに残ることになる。つまり、原盤となる基板上には、ビット状のレジスト層が形成されることとなり、ひいては基板には円柱状のビットが形成されることになる。
【０１２９】
また、最終的に作製される磁気記録媒体の構成（磁性体及び非磁性体）に合わせて、この円柱状のビットが形成された原盤から直接、磁気記録媒体を作製しても良い。また、パターンを一度反転させるためにこの原盤からワーキングモールドを作製し、このワーキングモールドから磁気記録媒体を作製しても良い。
【０１３０】
次に、本実施形態においては、インターフェイス２０が、分解能入力手段と露光位置候補決定手段とを共に具備する場合について述べた。その一方、インターフェイス２０とは別体にして、これらの手段を露光装置に設けても良い。また、これらのうちいずれかの手段のみを、インターフェイスと一体にしても良い。
【０１３１】
また、露光位置候補決定手段を含むインターフェイス２０に入力された、「露光位置の候補」となる基板４上の位置データを、露光手段、移動手段、回転手段、回転制御手段へと伝達した。その一方で、上述の２つの条件を満たして基板４上に露光が行えるのならば、これらの内の一部にのみ、位置データを伝達しても良い。例えば、露光手段（特に電子ビーム偏向手段）にのみ位置データを伝達し、移動手段、回転手段及び回転制御手段においては一定動作を行わせる、という露光装置も考えられる。この場合、電子ビーム偏向手段のみに位置データを伝達すれば良いので、装置の簡略化を図ることができ、ひいては製造コストの減少をもたらすことができる。
【０１３２】
また、電子ビームの露光の順番であるが、基板４の半径方向において、電子ビーム露光は、基板４の内周側から外周側に向けて行っても良いし、逆に、基板４の外周側から内周側に向けて行っても良い。つまり、本発明を実施するにあたって、レジスト膜１８の有効領域１９に対する電子ビーム露光の順序は任意に変更可能である。
【０１３３】
また、上記実施の形態においては、移動手段の一例として、回転ステージ１４を搭載した直動ステージ１５を挙げたが、これに限らず、例えば、直線状に凹凸パターンを配する場合等、ｒ−θステージの代わりに、Ｘ−Ｙステージを用いても良い。
【０１３４】
更に、この移動手段は、電子ビーム発生部２及び電子ビーム制御系３を移動させるもの
であっても良い。すなわち、基板４の一主面上で電子ビームの照射位置を基板４の半径方向と平行な方向に移動させる移動手段としては、基板４側を移動させるものでも良いし、電子ビーム側を移動させるものでも良いし、それら両方を移動させるものでも良い。また、電子ビームの移動は、電子ビームを偏向して行うものでも良い。
【０１３５】
また、上記実施の形態で採用した電子ビーム露光装置及び電子ビーム露光方法は、それぞれ、ＤＴＲ技術に用いられる基板（ディスク原盤、スタンパ原盤など）の製造装置及び製造方法として適用することが可能であり、更に当該製造装置及び製造方法を本発明の一つの態様として抽出することも可能である。
【符号の説明】
【０１３６】
１        電子ビーム露光装置
２        電子ビーム発生部
３        電子ビーム制御系
４        基板
５        ステージ機構
６        ステージ制御系
７        電子銃
８        集束レンズ
９        ブランキング電極
１０      アパーチャ
１１      対物レンズ
１２      偏向器
１３      開口部
１４      回転ステージ
１５      直動ステージ
１６      回転ステージ制御部
１７      直動ステージ制御部
１８      レジスト膜
１９      レジスト膜の有効領域
２０      インターフェイス
２１      データ部
２１’    データパターン
２２      サーボ部
２２’    サーボパターン
２２１    プリアンブル部
２２１ａ  同期信号生成部
２２１ｂ  同期信号検出部
２２２    アドレス部
２２３    バースト部
Ａ〜Ｇ    露光形状
α，β    露光位置の候補
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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