(57)【要約】【課題】実時間ホログラフィ干渉を用いて、観測対象物の微小な変位・変形を即時観測する計測装置に関し、特に、取り扱いが安全であり、装置稼働率の高いホログラフィ計測装置に関する。【解決手段】本発明のホログラフィ干渉計測装置は、レーザ光源と、レーザ光源から出射されるレーザ光を２つに分けるビームスプリッタ光学系と、ビームスプリッタ光学系を含み、分けられた２つのレーザ光をそれぞれ参照光及び物体光として干渉させる干渉光学系と、干渉光学系により生じた干渉縞をホログラム記録媒体上に記録するホログラム作成器と、干渉光学系に設けられる観測対象物を保持すると共に、観測対象物を変位・変形させる機構を有する試料台と、を具備し、ホログラム作成器は、透明電極を備えた２枚の透明な支持体間に、透明な光導電体と液晶が挟まれたホログラム記録媒体を有することを特徴とする。【選択図】  図１
2012073409.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ光源と、
該レーザ光源から出射されるレーザ光を２つに分けるビームスプリッタ光学系と、
該ビームスプリッタ光学系を含み、前記分けられた２つのレーザ光をそれぞれ参照光及び物体光として干渉させる干渉光学系と、
該干渉光学系により生じた干渉縞をホログラム記録媒体上に記録するホログラム作成器と、
前記干渉光学系に設けられる観測対象物を保持すると共に、該観測対象物を変位・変形させる機構を有する試料台と、を具備し、
前記ホログラム作成器は、透明電極を備えた２枚の透明な支持体間に、透明な光導電体と液晶が挟まれたホログラム記録媒体を有することを特徴とするホログラフィ干渉計測装置。
【請求項２】
前記試料台は、板状の観測対象物を水平に保持する保持機構を具備する請求項１記載のホログラフィ干渉計測装置。
【請求項３】
前記ビームスプリッタ光学系は、偏光ビームスプリッタを有し、前記レーザ光源と前記偏光ビームスプリッタとの間に、前記レーザ光源からのレーザ光の偏光面を回転させる回転機構を有する請求項１又は請求項２記載のホログラフィ干渉計測装置。
【請求項４】
前記レーザ光源は、波長が４００〜４１０ｎｍである外部共振器型半導体レーザである請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載のホログラフィ干渉計測装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、観測対象物の微小な変位・変形の即時観測が可能な、実時間ホログラフィ干渉を用いた計測装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
レーザ光の可干渉性を利用した干渉計測装置は、観測対象物にレーザ光を照射し、その観測対象物によって反射又は観測対象物を透過したレーザ光と、比較対象となる基準面から反射したレーザ光を干渉させ、これら２つのレーザ光の光路のサブミクロンからミクロンオーダーの微小な差を測定することができるので、観測対象物の微小な変位・変形を計測するために使用されている。
【０００３】
ホログラフィ干渉計測装置はそのひとつであり、従来の干渉計測装置では観測対象にすることが出来なかった拡散面を持った観測対象物、例えば平面を有するものや、レンズ等の計測に適用でき、種々の応用例が知られている。干渉計測方法には、２重露光法と実時間法とが知られており、中でも、実時間法は、２重露光法に比して多くの変位・変形の情報を実時間で観測することができるため、観測対象物の亀裂検出、接合不良検出、振動観測に適している。その概略は、１回目のレーザ光の照射で観測対象物からの物体光（観測対象物からの反射光あるいは透過光）と参照光とを干渉させてその干渉縞をホログラム記録媒体に記録し、その後、その観測対象物に微小な変位や変形を与えた後に２回目の照射を行う。そして、その２回目の照射で得られる観測対象物像と、１回目の照射でホログラム記録媒体に記録された干渉縞から再生された観測対象物像を、干渉させ観測するものであり、非接触且つ非破壊で観測することができる。
【０００４】
通常、ホログラム記録媒体としては、ハロゲン化銀感光材料や、フォトレジストや、サーモプラスチック等が用いられており、中でもハロゲン化銀感光材料が最も感度が高く性能が安定しているためよく使われている。しかしながら、この材料は暗室での現像作業が必要である等取り扱いが難しく、取り付けるのに手間がかかる。そのため、取り扱いの容易なホログラム記録媒体として、ロジンの誘導体を用いたプラスチック層を用いることが知られている（例えば特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平０９−１２７８５２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１に開示されているホログラム記録媒体は、それ自体の取り扱いは容易であるものの、ホログラム記録時に火災が発生する危険性があり、安全性に問題がある。すなわち、ホログラム記録媒体として用いられるロジンの誘導体を用いたプラスチック層が、溶剤蒸気を作用させることによりフロスト変形することで凹凸を形成してホログラム記録させるものであるため、例えばヘキサン等の可燃性の蒸気が必須である。そして、このような可燃性の蒸気と同時に数ｋＶの高電圧電源を用いてホログラム記録するため、火災や感電の危険が常に伴う。更に、プラスチック層の表面に、フロスト変形による軟化−硬化を利用して物理的に凹凸を形成及び消去しているため、これらを繰り返し行うことによってプラスチック層自体が劣化し易く、可逆性・反復性が劣化することは避けられない。そのため凹凸の形成及び消去ができる回数は１０回程度とそれほど多くなく、ホログラム記録媒体としての寿命が短いため、装置稼働率を上げにくいという問題がある。
【課題を解決するための手段及び発明の効果】
【０００７】
以上の課題を解決するために、本発明の一実施形態のホログラフィ干渉計測装置は、レーザ光源と、レーザ光源から出射されるレーザ光を２つに分けるビームスプリッタ光学系と、ビームスプリッタ光学系を含み分けられた２つのレーザ光をそれぞれ参照光及び物体光として干渉させる干渉光学系と、干渉光学系により生じた干渉縞をホログラム記録媒体上に記録するホログラム作成器と、干渉光学系に設けられる観測対象物を保持すると共に、観測対象物を変位・変形させる機構を有する試料台と、を具備し、ホログラム作成器は、透明電極を備えた２枚の透明支持体間に透明な光導電体と液晶が挟まれたホログラム記録媒体を有することを特徴とする。これにより、火災等の危険がなく、また、可逆性・反復性の優れたホログラフィ干渉計測装置とすることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】図１は、本発明の一実施形態に係るホログラフィ干渉計測装置の構成を示す図である。
【図２】図２は、ホログラム記録媒体の構成を示す部分的な断面図である。
【図３】図３は、本発明の一実施形態に係るホログラフィ干渉計測装置の別の構成を示す図である。
【図４】図４は、本発明の一実施形態に係るホログラフィ干渉計測装置の別の構成を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本発明を実施するための最良の形態を、以下に図面を参照しながら説明する。ただし、以下に示す形態は、本発明の技術思想を具体化するためのホログラフィ干渉計測装置を例示するものであって、以下に限定するものではない。
また、本明細書は、特許請求の範囲に示される部材を、実施の形態の部材に特定するものでは決してない。特に、実施の形態に記載されている構成部品の寸法、材質、形状、その相対的配置等は、特定的な記載がない限りは、本発明の範囲をそれのみに限定する趣旨ではなく、単なる説明例にすぎない。尚、各図面が示す部材の大きさや位置関係等は、説明を明確にするため誇張していることがある。さらに以下の説明において、同一の名称、符号については同一もしくは同質の部材を示しており、詳細説明を適宜省略する。
【００１０】
本発明の一実施形態において、ホログラフィ干渉計測装置は、レーザ光源、光学系、ホログラム作成器、試料台を構成要素とするものであり、更に、付属する部品として撮像装置や制御装置等を備えるものである。
【００１１】
更に詳細には、光学系は、レーザ光源から出射されるレーザ光を２つに分けるビームスプリッタ光学系と、ビームスプリッタ光学系を含むと共に分けられた２つのレーザ光をそれぞれ参照光及び物体光として干渉させる干渉光学系とを具備し、ホログラム作成器は、この干渉光学系により生じた干渉縞を記録させるホログラム記録媒体を具備している。試料台は、干渉光学系に設けられる観測対象物を保持し、その観測対象物を変位・変形させる機構を具備している。そして、本実施の形態においては、ホログラム作成器が、透明電極を備えた２枚の透明支持体間に透明な光導電体と液晶が挟まれたホログラム記録媒体を有していることを特徴とする。
【００１２】
本発明の実施の形態は、このような構成により、ホログラムの記録を熱反応や溶媒との反応によるものではなく、光と電荷、すなわち、光導電体に生じた電荷の濃淡の、液晶の配向分布への転写によるものとすることができるため、ホログラム記録時の火災や感電の危険性を低減して、安全に行うことができる。また、液晶は、その分子配向を電圧によって変化させるだけなので、プラスチックのように情報の記録と消去とを繰り返してもそれ自体が劣化しにくく、寿命が長い。そのため、大量生産品の検査時等に、記録媒体の交換の手間を省くことができるため、単位時間当たりの検査数を増やし、装置稼働率を上げることができる。
【００１３】
＜実施の形態１＞
透過型のホログラム記録媒体を用いた実施の形態のホログラフィ干渉計測装置の構成を図１に示す。本実施の形態は、例えば半導体ウエハのような不透明な観測対象物の計測に適している。
【００１４】
本実施の形態において、ホログラフィ干渉計測装置は、レーザ光源１００、光学系、ホログラム作成器３００、試料台５００、撮像装置４００、制御装置（図示せず）を有している。レーザ光源１００は、半導体レーザ１１０と１／２波長板１２０を有している。光学系のうち、ビームスプリッタ光学系は、ビーム拡大光学系２１０と、レーザ光源１００から出射されるレーザ光を２つのレーザ光に分けるビームスプリッタ２２１とを有する。干渉光学系は、ビームスプリッタ光学系と、分けられた２つのレーザ光をそれぞれ参照光１１００及び物体光１２００として干渉させるようにミラー２３１及びビーム拡大・縮小光学系２１１とを有する。ホログラム作成器３００は、レーザ光源１００からのレーザ光の照射を制御する光シャッター３３０と、ホログラム記録媒体３１０に電圧を印加する電圧印加電源装置３２０と、干渉光学系により生じた干渉縞を記録するホログラム記録媒体３１０とを有する。試料台５００は、真空吸着ステージ５１０と、三方弁５２０とを有する。撮像装置４００は、ＣＣＤカメラ４１０と、レンズ４２０、４２１とを有する。制御装置（図示せず）は、試料台５００、光シャッター３３０、電圧印加電源装置３２０を制御する装置である。
以下、各構成部材について、詳説する。
【００１５】
１．レーザ光源
本実施の形態においてレーザ光源１００は、観測対象物１０００にレーザ光を照射して得られる物体光１２００と、参照光（再生光）１１００とを得るための光源である。実時間ホログラフィ干渉観測には、コヒーレントなレーザ光が出射可能で、且つ、連続発振可能なレーザ光源が好ましい。具体的には、半導体レーザ１１０を用いるのが好ましく、これにより、装置を小型化とすることができる。更に、輸送時等の振動衝撃に対して耐性が優れているため、保守等の取り扱いが容易となる。そして、このような半導体レーザ１１０と後述の液晶１６を有するホログラム記録媒体３１０とを組み合わせることで、装置の組み立て時、及び駆動時の取り扱いが簡便で、更には自動化も容易となり、実時間ホログラフィ干渉計測装置の装置稼働率向上に寄与することができる。
【００１６】
半導体レーザ１１０としては、積層された半導体層の端面を出射面（発光面）とするファブリペロー型レーザ、積層された半導体層の上面を発光面とする面発光レーザや、分布帰還型レーザ、分布反射型レーザ等を用いることができる。
【００１７】
また、外部共振器を用いた外部共振器型半導体レーザを用いてもよく、これにより、発振波長がより制御されたレーザ光を出射することができる。特に、ホログラム記録媒体が、温度変化等によって微小な収縮や膨張を生じる場合には、外部共振器型半導体レーザのような波長可変な光源が好ましい。
【００１８】
レーザ光源１００の発振波長は、目的や用途に応じて任意に選択することができる。ホログラフィ干渉計測装置を、通常環境下で使用する場合、すなわち、空気中で使用する場合は、比較的入手が容易な光学部品が使用可能な３００ｎｍ〜１１００ｎｍの範囲のものを用いることが好ましい。干渉計測において用いられる干渉縞は、照射されるレーザ光の２分の１波長を単位とする等高線を表すものであり、発振波長が短い程、より微小な変位や変形を観測することができる。そのため、半導体レーザの中でも比較的波長の短いものが好ましく、特に、４００ｎｍ〜４７５ｎｍの紫外〜青色領域の発振波長を有する半導体レーザが好ましい。その中でも、４００〜４１０ｎｍ、更に好ましくは４０５ｎｍ付近に発振波長を有する半導体レーザが、他の発振波長領域のものに比して安価であり好ましい。このような半導体レーザとしては、例えば、ＩＩ−ＶＩ族化合物半導体（ＺｎＳｅ等）や窒化物半導体（ＩｎＸＡｌＹＧａ１−Ｘ−ＹＮ、０≦Ｘ、０≦Ｙ、Ｘ＋Ｙ≦１）、ＧａＰを用いたものを適用させることができ、特に窒化物半導体が好ましい。また、外部共振器型半導体レーザのような波長可変光源を用いると、ある任意の１つの波長での計測が終了した後、それとは異なる波長で再度計測することができるため、干渉縞の縞と縞の中間の値を定量的に測定することが可能である。
【００１９】
レーザ光源１００は、半導体レーザ１１０に加えて、コリメータレンズ等の光学系と組み合せて用いることができ、更には、ペルチェ素子等温度制御可能な素子と共に用いることで、ホログラムの記録時と再生時との発振波長の再現性を向上させることができる。
【００２０】
また、半導体レーザ１１０から出射されるレーザ光の偏光を制御可能な部品、特に、レーザ光の偏光面を回転させる回転機構を備えることもでき、例えば、図１では、レーザ光源１００は、半導体レーザ１１０のレーザ光が照射される位置に１／２波長板１２０を備えている。そして、この１／２波長板１２０を、半導体レーザ１１０からのレーザ光の光軸を中心として回転可能なように、すなわち、レーザ光の偏光面に対して角度が変えられるように取り付ける。これにより、ビームスプリッタ光学系（特に、偏光ビームスプリッタ２２１）で２つに分けられたレーザ光（Ｐ偏光とＳ偏光）の出力の比率を変化させることができ、その比率を調整することで、干渉光学系で得られる物体光１２００と参照光（再生光）１１００との強度比を調整することができる。このように、分けられた２つのレーザ光の強度比を調整可能な部品を有することで、ホログラム記録媒体３１０に記録される干渉縞を観測しやすく調整することができるため、計測をより精度良く行うことができる。しかも、Ｐ偏光とＳ偏光の出力の比率を調整するのみなので、フィルター等を用いて一方の光を吸収させて強度比を設ける場合に比して、半導体レーザ１１０からのレーザ光の出力を有効に利用することができるため、装置の消費電力が増えるのを抑制できる。更に、半導体レーザ１１０の注入電流を変化させる必要がないため、レーザ光の波長の変化を抑制でき、精度の高い観測が可能となる。
【００２１】
１／２波長板１２０としては、紫色ダイオードレーザー用水晶波長板（メレスグリオ株式会社製）や、光学硝子板の表面の一部に等方性材料をコーティングしたガラス位相板等を用いることができる。尚、１／２波長板１２０の回転角度は、レーザ光の光軸を中心に９０°以下の範囲とすることが好ましい。
【００２２】
また、このような機能を有する部品としては上記の１／２波長板の他、鉛ガラス（ＦＧ―６２）、特殊ガラス（ＳＦＳ１）、Ｅｕドープガラス、Ｃｅドープガラス等のファラデー回転子等を用いてもよい。これらは磁場（磁界）を加えることでレーザ光の偏光面を回転させることができるものであり、上記と同様に９０°以下の範囲で回転させることが好ましい。或いは、偏波保持シングルモードファイバを用いてもよく、そのファイバの出口光軸をレーザ光の光軸を中心に９０°以下の範囲で回転させるのが好ましい。また、このような部品を用いず、半導体レーザ１１０を、その光軸を中心として回転可能なようにしてもよい。
【００２３】
２．光学系
本実施の形態において、光学系としては、ビーム拡大光学系、ビームスプリッタ光学系、干渉光学系とを有する。尚、各光学系は、以下の機能を有する光学部材に加え、それらを補助する各種リレー光学系を含むことができる。
【００２４】
２−１．ビーム拡大光学系
ビーム拡大光学系２１０は、レーザ光源１００からのレーザ光を、後述のビームスプリッタ光学系に入射させる際に、適切な大きさとなるように拡大するためのものであり、本実施の形態においては、図１に示すように小径で焦点距離の短い平凸レンズ２１０ａと、２１０ａと開口数ＮＡが等しく焦点距離の長い平凸レンズ２１０ｂとの、２種のレンズを用いている。レーザ光の光路において、レンズ２１０ａ及びビームスプリッタ光学系に入射させる直前に設けられるレンズ２１０ｂは、反射防止コートを施したものが好ましい。これにより、レーザ光源１００への戻り光を抑制することができ、戻り光によるノイズの発生を防ぐことができる。このようなレンズとしては、精密ＵＶグレード平凹合成フューズドシリカレンズ等を用いることができる。
【００２５】
２−２．ビームスプリッタ光学系
ビームスプリッタ光学系は、レーザ光源１００からのレーザ光を物体光１２００と参照光（再生光）１１００との２つに分けるものであり、レーザ光源１００から出射されるレーザ光から、一定方向の偏光だけを特定の方向に取り出す偏光素子を有している。このような偏光素子としては、ダイオードレーザー用偏光キューブビームスプリッター（メレスグリオ株式会社製）等の偏光ビームスプリッタや、ウォラストンプリズム、サバール板が挙げられる。偏光ビームスプリッタを用いた場合、偏光ビームスプリッタ２２１に入射したレーザ光源１００からのレーザ光は、偏光ビームスプリッタ２２１を直進し透過したＰ偏光とＰ偏光と垂直な方向に反射したＳ偏光とに分けられ、観測対象物１０００の変位・変形前においては、Ｐ偏光は参照光１１００になり、Ｓ偏光は観測対象物１０００に照射され反射されることで得られる物体光１２００となる。また、観測対象物１０００の変位・変形後においては、Ｐ偏光は再生光１１００となり、Ｓ偏光は物体光１２００となる。
【００２６】
２−３．干渉光学系
干渉光学系は、上述のビームスプリッタ光学系を含む光学系であり、２つに分けられたレーザ光をそれぞれ参照光１１００と物体光１２００としてホログラム記録媒体３１０上に照射し、干渉させるものである。図１に示すように、偏光ビームスプリッタ２２１を透過したＰ偏光のレーザ光は、参照光１１００としてホログラム記録媒体３１０に照射されるよう、ミラー２３１で反射される。このとき、ミラー２３１は、ホログラム記録媒体３１０の略中央にその光軸が位置するように角度を調整して載置する。ミラー２３１としては、ＭＡＸＢＲＩｔｅＴＭ／００９（メレスグリオ株式会社製）等の反射率の高い光学部材が好ましい。尚、図１ではミラーを１枚用いているが、更に他のリレー光学系を用いてもよい。
【００２７】
ビームスプリッタ光学系の偏光ビームスプリッタ２２１によって分けられたレーザ光のうち、観測対象物１０００に向けて照射されるよう光軸がＰ偏光と垂直な方向に反射したＳ偏光のレーザ光は、図１に示すように１／４波長板２３２を透過し、観測対象物１０００に照射される。そして、観測対象物１０００によって反射されたレーザ光は、再度１／４波長板２３２を透過してＰ偏光となり、偏光ビームスプリッタ２２１を透過して直進し、物体光１２００としてホログラム記録媒体３１０に照射される。このとき、参照光（再生光）１１００と同じく、ホログラム記録媒体３１０の略中央にその光軸が位置するように物体光１２００を照射する。
【００２８】
尚、観測対象物１０００に照射されるレーザ光は、一方向への光を拡大或いは縮小するレンズ２１１ａ、２１１ｂを有するビーム拡大・縮小光学系２１１によってレーザ光の大きさが調整されている。ここでは、観測対象物１０００の大きさ等に応じて適切なレンズを用いることができ、例えば、精密ＵＶグレード平凸合成フューズドシリカレンズ等を用いることができる。
【００２９】
３．ホログラム作成器
ホログラム作成器３００は、レーザ光の照射を制御する光シャッター３３０と、液晶１６を有し干渉光学系によって生じた干渉縞を記録するホログラム記録媒体３１０と、ホログラム記録媒体３１０に電圧を印加する電圧印加電源装置３２０とを有する。本実施の形態においては、実時間ホログラフィ干渉計測装置として利用可能な透過型のホログラム記録を用いる場合について説明する。
【００３０】
３−１．光シャッター
光シャッター３３０は、レーザ光源１００からのレーザ光のホログラム記録媒体３１０への照射を制御する、すなわち、レーザ光の通過及び遮断を切り替え可能な部品であり、例えば、黒色艶消し処理されたバネ鋼のブレードのような部材を開閉することによって、通過と遮断とを切り替える。レーザ光源の電源のｏｎ／ｏｆｆによりホログラム記録媒体への照射を制御すると出力や波長が不安定となるが、光シャッターを用いることで安定な出力や波長を得ることができる。図１では、レーザ光源１００とビーム拡大光学系２１０との間に位置するように配置されているが、この位置に限られるものではなく、ビームスプリッタ光学系の偏光素子とレーザ光源１００の半導体レーザ１１０との間の光路内であれば、任意の位置に設けることができる。光シャッター３３０は、観測対象物１０００の変位前に閉じ、観測対象物１０００の変位後に再び開けられる。
【００３１】
３−２．ホログラム記録媒体
本実施の形態において、ホログラム記録媒体３１０は、透明電極１２、１８を有する２枚の支持体１０、２０と、その間に挟まれた光導電体層１４と液晶１６とを有するものであり、物体光１２００と参照光１１００との干渉によって形成される光の強度分布（干渉縞）に従って光導電体層１４に電荷の濃淡を生じさせ、それを液晶１６の配向分布に転写することで観測対象物１０００の変位・変形を観測するものである。
【００３２】
図２は、ホログラム記録媒体３１０の構造を模式的に示す断面図である。ホログラム記録媒体３１０は、透明で平坦な支持体１０、２０を有しており、その支持体１０、２０にはそれぞれが互いに対向する側の面に設けられる透明電極１２、１８が設けられている。一方の透明電極１２の上に、透明な光導電体層１４が設けられており、その上に、液晶１６を挟む上下一対の配向膜２２を有している。配向膜２２は、液晶１６の初期配向を均一に所望の配向にするために設けるものである。
【００３３】
観測対象物１０００に付与する変位・変形を短時間で行い、その干渉縞を観測する実時間法では、ホログラム記録媒体３１０に記録された情報は長期保存する必要はなく、変位・変形後の干渉縞の観測時間内において安定であればよい。更に、実時間法での計測を短時間で行うためには、電荷情報の濃淡の変化に対する応答速度が速い記録媒体が好ましく、このような部材として液晶が適している。そして、液晶を用いたホログラム記録媒体３１０を用いることで、情報の記録の際に熱を必要とせず、また、可燃性の溶剤蒸気を用いることがないため、安全で且つ簡易に行うことができる。
【００３４】
ホログラム記録媒体３１０を構成する各部材の厚さや製法、屈折率等については、レーザ光源１００の波長等に応じて、適宜選択する。本実施の形態では、透過型のホログラム記録媒体としているため、支持体１０、２０は、物体光１２００及び参照光（再生光）１１００を透過可能なものが好ましく、具体的にはガラス板、石英ガラス板等が好ましい。特に、厚さ１〜２ｍｍ程度の溶融石英ガラス板が好ましい。
【００３５】
支持体１０、２０に設けられる透明電極１２、１８は、レーザ光源１００からのレーザ光の透過率が高く、且つ、低抵抗なものが好ましく、具体的には酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ）、酸化スズ−酸化アンチモン（ＡＴＯ）、フッ素ドープ酸化スズ（ＦＴＯ）、酸化インジウム−酸化亜鉛（ＩＺＯ）、酸化ガリウム−酸化亜鉛（ＧａＺｎＯ）、二酸化スズ（ＳｎＯ２）、又は酸化亜鉛（ＺｎＯ）等、及びこれらの組み合わせが挙げられる。二枚で一対として用いられる支持体１０、２０は、同じ透明電極材を用いてもよく、また、異なる透明電極材を用いても構わない。特に、ＩＴＯは、透過率が高く電気抵抗が低いため好ましい。また、透明電極１２、１８の膜厚は、２０〜１００ｎｍ程度が好ましい。
【００３６】
透明な光導電体層１４は、液晶１６に配向分布を転写するためのものであり、透過率の高いものが用いられる。具体的には、水素化アモルファスシリコン（α−Ｓｉ：Ｈ）、非晶質水素化シリコンカーバイド（α−ＳｉＣ：Ｈ）、硫化カドミウム（ＣｄＳ）、有機感光体（ＯＰＣ、例えば、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール誘導体、ポリ−９−ビニルアントラセン、又はポリ−９−（Ｐ−ビニルフェニルアントラセン）等）、結晶Ｓｉ、結晶ＧａＡｓ、Ｂｉ１２ＳｉＯ２０単結晶、カルコゲンガラス（アモルファスセレン、など）、六方晶系セレン、の薄膜等が挙げられる。膜厚としては３μｍ以下が好ましく、特に１μｍ以下が好ましい。さらに電気伝導度に異方性があり膜厚方向の電気伝導度が膜表面に平行な方向の電気伝導度より高いもの（ｃ軸配向した六方晶系セレン、など）が電荷の濃淡をはっきりさせるために好ましい。
【００３７】
配向膜２２は、液晶１６を配向させるためのものであり、具体的にはポリビニルアルコール（Ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ  ａｌｃｏｈｏｌ）、ポリイミド（Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）、ポリビニルシンナメート（Ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ  ｃｉｎｎａｍａｔｅ）等が挙げられる。膜厚は、数ｎｍ〜数十ｎｍ程度が好ましく、約５０ｎｍ程度が好ましい。特にポリイミド膜が好ましい。
【００３８】
液晶１６は、光導電体層１４に生じた電荷の濃淡を転写することで、その配向分布を変化させるものであり、物体光１２００と参照光１１００との干渉によって生じる干渉縞を記録するものである。具体的な材料としては、ネマチック液晶、スメクチック液晶、カイラルネマチック液晶、コレステリック液晶（リオトロピック液晶、サーモトロピック液晶）、強誘電性液晶（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）、又は反強誘電性液晶（Ａｎｔｉ−ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）等が挙げられる。これらの膜厚は、数十μｍ以下とするのが好ましく、更には１０μｍ以下、より好ましくは０．１μｍ〜１μｍである。
【００３９】
３−３．電圧印加電源装置
電圧印加電源装置３２０は、ホログラム記録媒体３１０として用いられる液晶１６を挟んだ透明な支持体１０、２０に設けられる透明電極１２、１８に、数Ｖ〜数百Ｖの電圧を印加するものであり、この電圧信号が、干渉縞に従って空間変調されて印加されることで液晶１６の分子配向を変化させるものである。観測対象物１０００を変位・変形させる前に、光シャッター３３０を閉じるのに合わせて印加する電圧をゼロとし、ホログラム記録媒体３１０への干渉縞の記録を完了させる。
【００４０】
４．試料台
試料台５００は、観測対象物１０００を保持する保持機構と、微小な変位や変形を観測対象物１０００に与えることが可能な機構を有しているものである。本実施の形態では、図１に示すように真空吸着ステージ５１０と、三方弁５２０とを備えている。三方弁５２０の開閉により真空吸着のＯＮ／ＯＦＦを制御することができる。
【００４１】
観測対象物１０００の保持機構としては、重力、大気圧、静電気、磁力等の自然の力を利用した機構、バネ、押さえ板、接着剤等の機械的な機構が挙げられる。更に、観測対象物１０００が半導体ウエハ等の薄い板状の場合、その主面を水平に保持できるような試料台５００を用いることで、観測対象物１０００の交換が容易となるため、自動化搬入装置の導入が容易となり、時間当たりの計測数増が実現し易い。このような重力を用いて水平に保持できる保持機構としては、例えば、観測対象物１０００の載置面が水平な台や、水平な高さに設けられるスリット等を挙げることができる。その台の一部に真空吸着用の穴を設けることによって保持可能な真空吸着ステージも挙げられる。
【００４２】
微小な変位・変形を観測対象物１０００に付与する機構としては、上記の真空吸着ステージ５１０のように、観測対象物１０００の表面に部分的に異なる圧力を付与するものや、減圧箱５１５のように、観測対象物１０００の略全表面に対して圧力（減圧）を付与するもの等、観測対象物１０００の周囲の気圧を変化させることを利用した圧力的機構を用いることができる。
【００４３】
真空吸着ステージ５１０は、例えば、板状の観測対象物１０００の一面を吸着し、もう片方の面に作用している大気圧と差を生じさせることで観測対象物１０００に微小な変位・変形を与えることができるため、板状の観測対象物１０００の変形具合の観測に適している。また、減圧箱５１５は、板状の観測対象物１０００の上面も含めた全面に対してかかる圧力を変化させることで微小な変位・変形を与えることができるため、内圧を有するものを観測するのに適しており、例えば、貼り合わせた観測対象物１０００の接着不良箇所等の欠陥部分の膨張による変化を干渉縞の変化として観測することができる。
【００４４】
更に、上記のような圧力的機構の他、観測対象物１０００に光を照射させその内部の膨張率を変化させることを利用した光学的機構（各種照明等）、電気信号等を付与することで振動等を与えることを利用した電気的機構（圧電素子等）、昇温・降温によりその内部の膨張率を変化させることを利用した熱的機構等を用いることができる。これら各機構は、それぞれ単一で用いてもよく、あるいは、組み合わせて用いてもよく、観測対象物１０００の状態に応じて、適宜選択することができる。
【００４５】
５．撮像装置
撮像装置４００は、観測対象物１０００の微小な変位・変形前の観測対象物像と、変位・変形後の観測対象物像とが干渉した干渉像を観測し、記録するためのものである。図１では、ＣＣＤカメラ４１０、レンズ４２０、４２１、画像表示装置及び画像記録装置（図示せず）を有している。ＣＣＤカメラ４１０の代わりに、ＣＭＯＳカメラや銀塩写真カメラ等を用いてもよく、レーザ光源１００の波長を可視光領域の発振波長とする場合は、これらカメラを用いず、肉眼で観察することもできる。
【００４６】
６．制御装置（図示せず）
制御装置（図示せず）は、試料台５００、光シャッター３３０、電圧印加電源装置３２０等を制御するものである。具体的には、ホログラム記録媒体３１０の液晶１６の配向をそろえて初期化する時間、レーザ光源１００からの光をホログラム記録媒体３１０に照射する時間、試料台５００に備えた微小変位・変形させる機構を作動させる時間が、所定のシーケンスで実現するように制御するものである。また、試料台５００に自動観測対象物交換装置を組み合わせた場合は、それも含めたシーケンスを実現するように制御する。これら全ての機構を制御してもよく、或いは、その一部を手動で操作するようにしてもよい。
【００４７】
＜実施の形態２＞
実施の形態２のホログラフィ干渉計測装置の構成を図３に示す。実施の形態２では、反射型のホログラム記録媒体３１１を用いており、例えば貼り合わせガラス等の透明な観測対象物１０００の計測に適している。観測対象物１０００が透明であるため、レーザ光が観測対象物１０００を透過して物体光１２００となる点が、実施の形態１とは異なる。更に、ビームスプリッタ光学系において、偏光ビームスプリッタ２２１を直進して透過したレーザ光のＰ偏光を物体光１２００とし、光軸をＰ偏光と垂直な方向に反射したＳ偏光を参照光（再生光）１１００として用いる点が異なる。また、試料台５００として減圧箱５１５を用いている点が異なる。その他の構成については、実施の形態１と同様である。
【００４８】
反射型のホログラム記録媒体３１１は、観測対象物１０００を透過した物体光１２００が照射される面と、参照光（再生光）１１００が照射される面とが、それぞれ異なる面となるように配置される。参照光（再生光）１１００を、ホログラム記録媒体３１１によって反射させるため、記録される干渉縞による反射の効率が高い部材を用いることが好ましい。例えば、図２に示すホログラム記録媒体３１１を構成する部材のうち、液晶１６を実施の形態１と異なる部材とすることで反射型のホログラム記録媒体とすることができる。このような部材としては、カイラルネマチック液晶、コレステリッック液晶等が挙げられる。
【００４９】
このような反射型ホログラム記録媒体３１１は、観測対象物１０００により近づけてホログラム記録媒体を配置することができる。特に、表面でのレーザ光の散乱が多い観測対象物１０００（例えば、光を透過するランプシェード等）の場合、その観測対象物１０００とホログラム記録媒体３１１との距離を短く配置することで、レーザ光の利用効率を向上することができるため、記録時間を短くすることができ、更には、計測時間も短くすることができる。このような反射型ホログラム記録媒体３１１としては、用いるレーザ光の主波長の反射率が高い液晶を用いるのが好ましく、特に、紫外〜青色領域の発振波長を有するレーザ光源を用いる場合、コレステリック液晶が好ましい。
【００５０】
また、ここで試料台５００として用いる減圧箱５１５は、例えば２つ以上の部材を貼り合わせた観測対象物１０００を大気圧下で減圧箱５１５内に載置し、その状態でまずホログラム記録媒体３１１に干渉縞を記録し、次いで、減圧箱５１５の内部を減圧することで微小に変位・変形させ、その状態で再生光を照射することでホログラムを再生し、物体光１２００と干渉させる。これにより、貼り合わせた観測対象物１０００の、その貼り合わせ部の接着不良箇所等の欠陥部分が膨張する等の微小な変位・変形を干渉縞の変化として実時間観測することができる。
【実施例】
【００５１】
（実施例１）
図１に実施例１の実時間ホログラフィ干渉計測装置の構造を示す。実施例１では、クラック等の異常部を有する窒化物半導体ウエハを観測対象物１０００として用い、そのクラックの状態を実時間で観測する例について説明する。窒化物半導体ウエハは、厚さ０．４ｍｍ、直径が２インチの板状である。
【００５２】
半導体レーザ１１０として、窒化物半導体レーザを有する外部共振器型半導体レーザを用い、ここから出射された発振波長が約４０５ｎｍのレーザ光は、１／２波長板１２０を透過し偏光方向が回転された後、開放された光シャッター３３０を通過する。その後、ビーム拡大光学系２１０のレンズ２１０ａ、２１０ｂを透過して、拡大されたレーザ光がビームスプリッタ光学系の偏光ビームスプリッタ２２１に入射する。ここで、レーザ光源１００からのレーザ光の光軸と同じ方向に直進するＰ偏光と、そのＰ偏光の光軸と垂直な方向に反射されたＳ偏光の２つのレーザ光に分けられる。
【００５３】
２つに分けられたレーザ光のうち、Ｐ偏光は、ミラー２３１によって反射され参照光１１００として、液晶１６を有する透過型ホログラム記録媒体３１０に照射される。また、Ｓ偏光は、ホログラム記録媒体３１０とは別の方向に設けられる試料台５００に向けて照射される。Ｓ偏光は、１／４波長板２３２を透過して円又は楕円偏光に変換され、次にビーム拡大・縮小光学系２１１のレンズ２１１ａ、２１１ｂを透過して観測する観測対象物１０００である窒化物半導体ウエハに照射される。ここでは、レーザ光はレンズ２１１ａで拡大されて、レンズ２１１ｂで概ね平行にされて観測対象物１０００に照射される。
【００５４】
尚、本実施例で用いられている透過型のホログラム記録媒体３１０は、図２に示すように、ＩＴＯからなる透明電極１２、１８が一面に設けられている一対のガラスからなる透明の支持体１０、２０を有しており、光導電体層１４として水素化アモルファスシリコン（α−Ｓｉ：Ｈ）が、膜厚１μｍで設けられ、更に配向膜２２としてポリイミド（Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）膜が、膜厚５０ｎｍで設けられている。そして、液晶１６として強誘電性液晶が膜厚１μｍで設けられている構成を有する。
【００５５】
観測対象物１０００は、微小変位や微小変形させる機構として、真空吸着を用い、更に、水平に観測対象物１０００を保持する保持機構として、水平なステージを用いた重力による保持機構を有する試料台５００に保持されている。ここでは、試料台５００は、真空吸着ステージ５１０と、三方弁５２０とを備えており、この三方弁５２０を開閉することで真空吸着の制御をする。
【００５６】
観測対象物１０００に照射され、反射されたレーザ光は、再びビーム拡大・縮小光学系２１１のレンズ２１１ｂ、２１１ａを透過する。ここで、レーザ光は、再度１／４波長板２３２を透過することでＰ偏光に変換され、偏光ビームスプリッタ２２１を透過して直進方向に進む。そして、このレーザ光が物体光１２００としてホログラム記録媒体３１０に照射される。
【００５７】
ホログラム記録媒体３１０に照射された２つのレーザ光（参照光１１００と物体光１２００）によって干渉縞が形成されており、その干渉縞によって光導電体層１４の内部抵抗が変化する。そして、この光導電体層１４に隣接する液晶１６には、透明電極１２、１８間に電圧印加電源装置３２０から送られた記録用の電圧信号が、干渉縞に従って空間変調されて印加される。液晶１６は、空間変調された電圧に従って分子配向を変えることで屈折率を変化させる。その結果干渉縞に従って屈折率分布（或いは反射率分布）がホログラム記録媒体３１０に記録される。
【００５８】
次いで、光シャッター３３０を閉じ、電圧印加電源装置３２０から印加する電圧をゼロとし、試料台５００に備えられた微小な変位・変形を観測対象物１０００に付与する機構を用いて変位・変形させる。ここでは、水平なステージを有する真空吸着ステージ５１０を用いているので、観測対象物１０００の表面には大気圧がかかり、裏面には大気圧より低い圧力がかかることで、変位・変形されている。例えば、大気中に載置した観測対象物１０００に、その裏面側から真空吸着によって大気圧がかかるようにする。
【００５９】
再び光シャッター３３０を開け、レーザ光源１００からレーザ光を出射させ、偏光ビームスプリッタ２２１でＰ偏光とＳ偏光とに分け、Ｓ偏光を観測対象物１０００に照射する。観測対象物１０００によって反射されて得られる物体光１２００がホログラム記録媒体３１０を透過し変位・変形後の観測対象物像となる。他方のＰ偏光は、再生光１１００としてホログラム記録媒体３１０に照射される。これにより、先にホログラム記録媒体３１０に記録された変位・変形前の観測対象物像を再生することができる。観測対象物１０００の微小な変位・変形前の観測対象物像と、変位・変形後の観測対象物像とが干渉した干渉像が撮像装置４００で撮像される。
【００６０】
以上の作業により、窒化物半導体ウエハ内のクラック部（異常部）の干渉縞と、クラックのない正常部の干渉縞とを同時に観測することができ、そのクラック部分での変位・変形が周囲の正常部と異なるため、それが干渉縞の折れ曲がり等の変化として実時間で観測することができる
【００６１】
（実施例２）
図３に実施例２の実時間ホログラフィ干渉計測装置の構造を示す。実施例２では、透明な二枚の板状のガラスを貼り合わせたものを観測対象物１０００として用い、その貼り合わせの接着不良状態を実時間で観測する例について説明する。二枚のガラスは、それぞれ厚さ０．５ｍｍ、一辺３インチの矩形であり、二液混合型エポキシ系接着剤を接着剤として用いている。
【００６２】
半導体レーザ１１０として、窒化物半導体レーザを有する外部共振器型半導体レーザを用い、ここから出射された発振波長が約４０５ｎｍのレーザ光は、開放された光シャッター３３０を通過し、その後、ビーム拡大光学系２１０のレンズ２１０ａ、２１０ｂを透過して、拡大されたレーザ光がビームスプリッタ光学系の偏光ビームスプリッタ２２１に入射する。ここで、レーザ光源１００からのレーザ光の光軸と同じ方向に直進するＰ偏光と、そのＰ偏光の光軸と垂直な方向に反射されたＳ偏光の２つのレーザ光に分けられる。
【００６３】
２つに分けられたレーザ光のうち、Ｐ偏光は、ミラー２３３によって反射され試料台５００として設けられた減圧箱５１５に向けて照射される。減圧箱５１５内には、中央部に貫通孔を有する水平な台を備えており、その貫通孔を塞ぐように、台上に観測対象物１０００である貼り合わせガラスが載置され、水平に保持されている。そして、Ｐ偏光はその観測対象物１０００の内部を透過して物体光１２００として反射型のホログラム記録媒体３１１に照射される。また、Ｓ偏光は、１／２波長板１２１を透過することによりＰ偏光となり、ミラー２３１によって反射され、反射型のホログラム記録媒体３１１に向けて照射される。
【００６４】
尚、本実施例で用いられている反射型のホログラム記録媒体３１１は、図２に示すように、ＩＴＯからなる透明電極１２、１８が一面に設けられている一対のガラスからなる透明の支持体１０、２０を有しており、光導電体層１４として水素化アモルファスシリコン（α−Ｓｉ：Ｈ）が、膜厚１μｍで設けられ、更に配向膜２２としてポリイミド（Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）膜が、膜厚５０ｎｍで設けられている。そして、液晶１６としてコレステリック液晶が膜厚１μｍで設けられている構成を有する。
【００６５】
観測対象物１０００を透過した物体光１２００と、参照光１１００とは、それぞれ異なる面側から反射型のホログラム記録媒体３１１に照射され、２つのレーザ光の干渉縞がホログラム記録媒体３１１に記録される。
【００６６】
次いで、光シャッター３３０を閉じ、電圧印加電源装置３２０から印加する電圧をゼロとし、試料台５００に備えられた微小な変位・変形を観測対象物１０００に付与する機構、ここでは、減圧にすることで、観測対象物１０００の内部と外部とに圧力差を生じさせることで変位・変形させる。
【００６７】
再び光シャッター３３０を開け、レーザ光源１００からレーザ光を出射させ、偏光ビームスプリッタ２２１でＰ偏光とＳ偏光とに分け、Ｐ偏光を観測対象物１０００に照射して透過した物体光１２００はホログラム記録媒体３１１を透過し変位・変形後の観測対象物像となる。Ｓ偏光は再生光１１００としてホログラム記録媒体３１１に照射される。これにより、先にホログラム記録媒体３１１に記録された変位・変形を与える前の観測対象物像を再生する。そして、変位・変形前後の２つの観測対象物像が干渉することで、干渉像が撮像装置４００で撮像される。
【００６８】
以上の作業により、貼り合わせたガラスに生じた接着不良の状態を、その欠陥部分が圧力変化による変位・変形（膨張）で生じた干渉縞の変化として実時間で観測することができる。
【００６９】
（実施例３）
図４に実施例３の実時間ホログラフィ干渉計測装置の構造を示す。実施例３では、生体細胞（例えば骨を形成する細胞である骨芽細胞）を観測対象物１０００として用い、その細胞内部での微小な変位・変形を観測することが可能な顕微鏡に適用させた例について説明する。ホログラム記録媒体としては、実施例１と同様の透過型のホログラム記録媒体３１０を用いており、ＩＴＯからなる透明電極１２、１８が一面に設けられている一対のガラスからなる透明の支持体１０、２０を有しており、光導電体層１４として水素化アモルファスシリコン（α−Ｓｉ：Ｈ）が、膜厚１μｍで設けられ、更に配向膜２２としてポリイミド（Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）膜が、膜厚５０ｎｍで設けられている。そして、液晶１６として強誘電性液晶が膜厚１μｍで設けられた構造を有している。
【００７０】
半導体レーザ１１０として、窒化物半導体レーザを用い、ここから出射された発振波長が約４４５ｎｍのレーザ光は、開放された光シャッター３３０を通過し、その後、ビーム拡大光学系２１０のレンズ２１０ａ、２１０ｂを透過し、拡大されたレーザ光が１／２波長板１２０を透過してビームスプリッタ光学系の偏光ビームスプリッタ２２１に入射する。ここで、レーザ光源１００からのレーザ光の光軸と同じ方向に直進するＰ偏光と、そのＰ偏光の光軸に垂直な方向に反射されたＳ偏光の２つのレーザ光に分けられる。
【００７１】
２つに分けられたレーザ光のうち、Ｐ偏光は、ミラー２３３によって反射され、更にビーム縮小光学系２１２のレンズ２１２ａによって縮小され、観測対象物１０００に照射される。観測対象物１０００は、試料台５００として設けられるスライドガラス５１６の上に載置され、その上に透明なカバーガラス５１７が載置され、両者によって挟まれている。Ｐ偏光は観測対象物１０００の内部を透過し、物体光１２００としてレンズ２１２ｂによって拡大された後に、透過型のホログラム記録媒体３１０に照射される。また、Ｓ偏光は、１／２波長板１２１によりＰ偏光となり参照光１１００としてミラー２３１、２３４によって反射され、透過型のホログラム記録媒体３１０に向けて照射される。
【００７２】
観測対象物１０００を透過した物体光１２００と、参照光１１００とは、透過型のホログラム記録媒体３１０に照射され、２つのレーザ光の干渉縞がホログラム記録媒体３１０に記録される。
【００７３】
次いで、光シャッター３３０を閉じ、電圧印加電源装置３２０から印加する電圧をゼロとし、図示していないが、スライドガラス５１６の周囲に紙面に垂直な磁界がかけられるように設置されているコイルに電流を流すことにより磁界強度を制御することで、観測対象物１０００に微小な変位・変形を付与する。
【００７４】
再び光シャッター３３０を開け、レーザ光源１００からレーザ光を出射させ、偏光ビームスプリッタ２２１でＰ偏光とＳ偏光とに分け、Ｐ偏光を観測対象物１０００に照射し、透過されて得られる物体光１２００がホログラム記録媒体３１０を透過し、変位・変形後の観測対象物像として撮像装置４００に送られる。他方のＳ偏光が１／２波長板１２１によりＰ偏光となり再生光としてホログラム記録媒体３１０に照射される。これにより、先にホログラム記録媒体３１０に記録された変位・変形を与える前の観測対象物像を再生することができ、その観測対象物像が撮像装置４００に送られる。そして、観測対象物１０００の微小な変位・変形前の観測対象物像と、変位・変形後の観測対象物像とが干渉した干渉像が撮像装置４００で撮像される。
以上の作業により、生体細胞内に生じた状態変化が、干渉縞の折れ曲がり等の変化として重力の影響を排除して実時間で観測することができる。
【産業上の利用可能性】
【００７５】
本発明に係る実時間ホログラフィ干渉計測装置は、半導体ウエハ、液晶パネル、太陽電池パネル、スキー板、貼り合わせたガラスやアクリル等の複数の素材が接合された板状製品の欠陥や不良の検出するための計測装置として用いることができる。更に、微小振動する超音波モータ、スピーカー等への振動解析にも用いることができる。更には、電磁場の細胞レベルの影響の観測、強磁性体や強誘電体の電磁場への応答観測等の顕微鏡応用が可能となる。
【符号の説明】
【００７６】
１０…透明で平坦な支持体，１２…透明電極，１４…透明な光導電体層，１６…液晶，１８…透明電極，２０…透明で平坦な支持体，２２…配向膜
１００…レーザ光源，１１０…半導体レーザ，１２０…１／２波長板，１２１…１／２波長板
２１０…ビーム拡大光学系，２１０ａ…レンズ，２１０ｂ…レンズ，２１１…ビーム拡大・縮小光学系，２１１ａ…レンズ，２１１ｂ…レンズ，２１２…ビーム縮小光学系，２１２ａ…レンズ，２１２ｂ…レンズ，２２１…偏光ビームスプリッタ，２３１…ミラー，２３２…１／４波長板，２３３…ミラー，２３４…ミラー
３００…ホログラム作成器，３１０…ホログラム記録媒体／透過型ホログラム，３１１…ホログラム記録媒体／反射型ホログラム，３２０…電圧印加電源装置，３３０…光シャッター
４００…撮像装置，４１０…ＣＣＤカメラ，４２０…レンズ，４２１…レンズ
５００…試料台，５１０…真空吸着ステージ，５１５…減圧箱，５１６…スライドガラス，５１７…カバーガラス，５２０…三方弁
１０００…観測対象物
１１００…参照光（再生光）
１２００…物体光
【図１】
2012073409.tif 000003
【図２】
2012073409.tif 000004
【図３】
2012073409.tif 000005
【図４】
2012073409.tif 000006