(57)【要約】【課題】  液体回収口を簡素な構造として、基板ステージ上の液体を分裂させることなく回収することができる液浸露光装置を提供する。【解決手段】  液体を介してマスクのパターンを基板に露光する露光装置が、マスクのパターンの像を基板に投影する投影光学系と、基板を移動するステージと、投影光学系と基板との間に液体を供給する供給部と、回収口に設けられた多孔部材を介して液体を回収し、液体を回収するための回収流量が変更可能な回収部と、ステージの移動距離、移動速度および加速度のうち少なくとも１つに対して閾値を設け、ステージの移動距離、移動速度および加速度のうち少なくとも１つが該閾値以上の場合に、該閾値より小さい場合に比べ、回収部のうち少なくともステージの進行方向側の部分における液体の回収流量が小さくなるように回収部を制御する。【選択図】  図２
2012094650.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体を介してマスクのパターンを基板に露光する露光装置において、
前記マスクのパターンの像を前記基板に投影する投影光学系と、
前記基板を移動するステージと、
前記投影光学系と前記基板との間に前記液体を供給する供給部と、
回収口に設けられた多孔部材を介して前記液体を回収し、前記液体を回収するための回収流量が変更可能な回収部と、
前記ステージの移動距離、移動速度および加速度のうち少なくとも１つに対して閾値を設け、前記ステージの移動距離、移動速度および加速度のうち少なくとも１つが該閾値以上の場合に、該閾値より小さい場合に比べ、前記回収部のうち少なくとも前記ステージの進行方向側の部分における前記液体の回収流量が小さくなるように前記回収部を制御する制御部と
を有することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記制御部は、さらに、前記ステージの減速に同期して前記回収部のうち少なくとも前記ステージの進行方向側の部分における前記液体の回収流量が大きくなるように前記回収部を制御することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
請求項１に記載の露光装置を用いて基板を露光するステップと、
該露光された基板を現像するステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は露光装置およびデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
露光装置においてウエハに投影するパターンの解像力向上技術としてローカルフィル方式の液浸露光装置がある。ローカルフィル方式の液浸露光装置は、投影光学系の最終レンズとウエハ（基板）との間を液体で満たして、マスクのパターンの像を投影光学系によりウエハに投影する。
【０００３】
この方式では、液体が最終レンズとウエハとの間の領域外に漏れ出ないように、液体の供給と回収が行われる。最終レンズとウエハの間に供給された液体は、ウエハステージが移動するとウエハステージの進行方向に引きずられる。そのため、ウエハステージの移動速度を高めると、最終レンズとウエハ間にある液体の一部が分裂して回収不可能になる。分裂した液体は、ウエハ上で気化するとウォーターマークを残し、ウエハに形成されるパターンに悪影響を及ぼす。さらに、ウエハステージに配置される基準マークや露光量などを計測するための各種センサ上にウォーターマークが残ると計測誤差が生じる。
【０００４】
このような問題に鑑みて、特許文献１には、最終レンズとウエハ間に供給された液体の回収口に、液体を回収するための領域として３つの領域が開示されている。その３つの領域として、第１領域と、露光光の光路に対して第１領域の外側に配置された第２領域と、露光光の光路に対して第２領域の外側に配置された第３領域を設けることが開示されている。また、ステージ移動による液体の分裂を防ぐために、第２領域における液体の吸引力を、第１領域における吸引力及び第３領域における吸引力より小さくすることが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９−１８８０６０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、特許文献１で開示されている技術においては、液体回収口を、露光光の光路から外側に向かって第１領域、第２領域及び第３領域を設けた構造としているため、液体回収口の構造が複雑になり、大型化したり重量が重くなったりする。
【０００７】
そこで本発明は、液体回収口を簡素な構造として、基板ステージ上の液体が分裂することを低減して該液体を回収することができる液浸露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一側面としての露光装置は、液体を介してマスクのパターンを基板に露光する露光装置において、前記マスクのパターンの像を前記基板に投影する投影光学系と、前記基板を移動するステージと、前記投影光学系と前記基板との間に前記液体を供給する供給部と、回収口に設けられた多孔部材を介して前記液体を回収し、前記液体を回収するための回収流量が変更可能な回収部と、前記ステージの移動距離、移動速度および加速度のうち少なくとも１つに対して閾値を設け、前記ステージの移動距離、移動速度および加速度のうち少なくとも１つが該閾値以上の場合に、該閾値より小さい場合に比べ、前記回収部のうち少なくとも前記ステージの進行方向側の部分における前記液体の回収流量が小さくなるように前記回収部を制御する制御部とを有することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、液体回収口を簡素な構造として、基板ステージ上の液体が分裂することを低減して該液体を回収することができる液浸露光装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】液浸露光装置の概略構成図である。
【図２】液浸領域周辺の構成図である。
【図３】液浸液の挙動を説明するための図である。
【図４】液浸領域周辺の上面図である。
【図５】回収圧力Ｐとステージの速度Ｖの関係を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明の実施例について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、各図において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。
【実施例１】
【００１２】
図１は液浸露光装置の概略構成図を示し、図２は、液浸液が満たされた液浸領域の周辺の構成図を示している。図１において実線矢印は電気信号の流れを表す。ただし、干渉計ミラー５１、５２、５３とレーザ干渉計５４、５５、５６との間の矢印はレーザ測長を表す。図２において実線矢印は液体の流れ、点線矢印は電気信号の流れを表す。
【００１３】
図１に示すように、露光装置１は、照明光学系１０より照明された原版（マスク、レチクル）２０のパターンの像を、ウエハ等の基板４１に投影する投影光学系３０を有する。そして、露光装置１は、投影光学系３０の基板４１側に配置された最終レンズ３０ａと基板４１との間に供給された液体（液浸液）を介して基板４１を露光する。
【００１４】
露光装置１は、原版２０を支持する原版ステージ２１と、基板４１を支持する２つの基板ステージＷＳを有する。２つの基板ステージＷＳは、互いに独立して移動可能に構成されている。
露光装置１内は、露光動作を行う露光ステーション２と、基板４１の計測を行う計測ステーション３に大きく分けられる。基板ステージＷＳは、露光ステーション２と計測ステーション３との間で移動可能である。
【００１５】
計測ステーション３では計測装置７０、７１により基板４１に対して各種計測を行う。露光ステーション２には、投影光学系３０、液体供給部及び液体回収部が存在する。液体供給部は、投影光学系３０と、露光ステーション２にある基板ステージＷＳに搭載された基板４１との間に供給口８１を介して液浸液３５を供給する。液体回収部は、液体供給部により供給された液浸液３５の少なくとも一部を回収口９１から回収する。
【００１６】
照明光学系１０は光源からの光を用いて原版２０を照明する。照明光学系１０により原版２０を照明する間、原版２０を保持する原版ステージ２１と基板ステージＷＳは、互いに同期しながら移動する。このようにステージを移動しながら、原版２０上のパターンが、投影光学系３０と液浸液３５を介して基板４１上に投影される。基板４１の表面にはフォトレジスト（感光剤）が塗布されており、感光させることで潜像パターンを形成する。
【００１７】
原版ステージ２１及び基板ステージＷＳの位置情報は、干渉計ミラー５１、５２、５３及びレーザ干渉計５４、５５、５６によって、リアルタイムに計測される。ステージ制御装置６０は、これらの計測値に基づいて、原版ステージ２１、基板ステージＷＳの位置決め及び同期制御を行う。
【００１８】
基板ステージＷＳには、基板４１の位置、回転方向および傾きを変更する駆動装置が内蔵されている。基板４１の露光時には、基板４１の照明領域が投影光学系３０の焦点面に常に高精度に合致するように駆動装置が制御される。
【００１９】
図２に示すように、液体供給部は液体供給装置３１、液体供給配管３６および供給口８１を備え、液体供給装置３１は液浸液３５を収容するタンク及び加圧ポンプを有する。液体供給装置３１から供給される液体は、液体供給配管３６および供給口８１を通じて、最終レンズ３０ａと基板４１に挟まれた空間に満たされる。
【００２０】
液体回収部は、液体回収装置３３、液体回収配管３８および回収口９１を備え、液体回収装置３３は低圧源となる圧力調整装置９７、気液分離器、及び、回収した液浸液を収容するタンクを有する。最終レンズ３０ａと基板４１の間に供給された液浸液３５は、回収口９１および液体回収配管３８を通じて回収される。
【００２１】
基板ステージＷＳ上の基板４１周辺には、液浸液３５を保持するために、その表面が基板４１の表面と略同一高さに合わせられた補助部材４３が配置される。補助部材４３は液浸液３５を保持しやすくするために、撥水処理されることが好ましい。
【００２２】
液体供給回収制御装置４０は、液体供給装置３１の動作を制御し、液体供給配管３６を介して単位時間あたり所定量の液浸液を基板４１上に供給する。また、液体供給回収制御装置４０は、液体回収装置３３の動作を制御し、液体回収配管３８を介して液浸液を基板４１（基板ステージＷＳ）上から回収する。
【００２３】
液体供給配管３６および液体回収配管３８はノズル部材に接続され、ノズル部材に設けられた供給口８１を介して液浸液が供給される。供給口８１は最終レンズ３０ａの周囲を取り囲むように円環状に配置されている。ノズル部材には、多孔板（多孔部材）で形成された回収口９１、減圧領域９４、圧力検出器９５が設けられている。液体回収部はさらに、減圧領域９４、圧力検出器９５、流量検出器９６及び液体供給回収制御装置４０の回収流量制御部４０ａを有する。
【００２４】
多孔板には液浸液３５が通過する微細な孔９３が等間隔で加工されている。本実施例において微細孔の直径は７０μｍとしいているが、数十〜数百μｍ程度の直径でも適用可能である。微細孔の直径が大きい、或いは開口率が大きい、或いは多孔板の板厚が薄い多孔板は流抵抗が小さいため、液浸液３５と減圧領域９４内の液体との圧力差が小さくても比較的多くの液浸液３５を回収することができる。以下、液浸液３５の液体圧力から減圧領域９４の液体圧力を引いた値（圧力差）を回収圧力と呼ぶ。
【００２５】
減圧領域９４は、液体で満たされた状態となっており、内部の液体が基板側へ逆流することはない。さらに液体回収部による回収圧力は常にバブルポイント以下に制御されている。バブルポイントとは液浸液３５のみを回収可能な液浸液３５と減圧領域９４との最大差圧△Ｐ［Ｐａ］である。バブルポイント△Ｐは多孔板の微細孔の孔径Ｄ［ｍ］、液浸液３５の表面張力γ［Ｎ／ｍ］から算出できる。例えば、微細孔の直径Ｄ＝７０μｍのバブルポイントは（１）式により求めることができる。
△Ｐ＝４γ／Ｄ  ・・・（１）
液浸液３５の表面張力をγ＝０．０７１７［Ｎ／ｍ］とすると、△Ｐ＝４０９７［Ｐａ］である。微細孔の直径が７０μｍの多孔板は△Ｐ＜４０９７［Ｐａ］に制御することで液浸液３５の周辺の空気を吸い込むこと無く、液浸液３５のみを回収することが可能である。
【００２６】
圧力検出器９５は、減圧領域９４の液体の圧力を検出し、検出された圧力値と不図示の液浸液３５の圧力検出器により検出された圧力値との差を電気信号として回収流量制御部４０ａへ出力している。流量検出器９６は、減圧領域９４から回収される液体の流量を検出し、検出された流量値を液浸液３５の回収流量として回収流量制御部４０ａへ信号出力している。圧力調整装置９７は、液体回収配管３８を介し減圧領域９４の液体の圧力を変更可能とし、減圧領域９４内の液体の圧力が回収流量制御部４０ａにより命令される圧力値になるように調整されている。
【００２７】
回収流量制御部４０ａは、露光ステーション２にあり、搭載した基板上に液浸液を保持している基板ステージ（ＷＳ１とする）の移動速度に応じて液浸液３５の回収流量を決定する。回収流量制御部４０ａは、基板ステージＷＳ１の制御装置６０から制御信号を取り込むことにより、基板ステージＷＳ１の移動速度を検出している。基板ステージＷＳ１の移動速度に応じて適正な回収流量であるかどうか流量検出器９６で検出する。検出された値が適正範囲外である場合には、圧力調整装置９７に圧力変更を命令する。流量検出器９６で検出された値が適正範囲内である場合には、圧力調整装置９７に圧力維持を命令する。
【００２８】
次に、基板ステージの移動と液浸液の挙動について説明する。基板ステージＷＳ１が停止している場合、液浸液３５のメニスカスは図３（ａ）に示す様な断面形状になっている。基板ステージＷＳ１が移動することにより液浸液３５には、基板ステージＷＳ１の移動方向にせん断応力が生じ、液浸液３５は図３（ｂ）に示す様に基板ステージＷＳ１の移動方向に引きずられる。
【００２９】
回収圧力が一定の場合、液浸液３５と多孔板９１とが接触する面積が増大するにつれて、減圧領域９４への液体回収量が増加する。そのため、多孔板９１近傍の液体３５ａ（メニスカス）は引きずられずに孔９３から減圧領域９４へ回収されるようになる。一方、液浸液３５の基板付近の液体３５ｂ（メニスカス）は基板ステージＷＳ１の移動方向へ移動しようとし、多孔板付近３５ａでは引きずられないため液浸液３５は図３（ｂ）に示すように先端が多孔板９１から離れ、薄く基板４１上に延び出す。そのため、基板ステージＷＳ１が所定値以上の移動速度となった時、液浸液３５が基板ステージＷＳ１によって引っ張られる力が液浸液３５の表面張力より大きくなり液浸液３５が分裂する。
【００３０】
次に、液浸液３５の回収流量を小さくすることで液浸液３５の分裂が防止される原理を説明する。液浸液３５の体積Ｑの＋Ｘ方向の変化量△Ｑは液浸液のメニスカス位置の変動によるものであるから、液浸液の高さをＺ、メニスカスの移動速度をｕとすると（２）式で表せる。
△Ｑ＝Ｚ×ｕ  ・・・（２）
一方、液浸液３５の体積変化量△Ｑは体積増加量と体積減少量との差であり、△Ｑ＝（体積増加量−体積減少量）と表せる。ここで体積増加量は基板ステージの速度Ｖで引きずられる液浸液の体積と等しいから、クウェット流れの式より、供給量はＶ×Ｚ／２である。また、体積減少量は多孔板から回収される液浸液の体積であるから、メスニスカスの移動距離をＸ、単位面積当たりの回収量をｑとすると、ｑ×Ｘである。したがって、△Ｑは（３）式で表される。
△Ｑ＝Ｖ×Ｚ／２−ｑ×Ｘ  ・・・（３）
（２）、（３）式より、液浸液のメニスカスの速度は
ｕ＝Ｖ／２−ｑ×Ｘ／Ｚ  ・・・（４）
となる。（４）式より単位面積当たりの回収流量ｑを小さくすると、メニスカスの移動速度ｕは大きくなる。従って、基板ステージと液浸液との速度差が小さくなるため液浸液が分裂されにくくなる。
【００３１】
次に、本実施例における液浸液の回収の制御方法について説明する。本実施例において、基板ステージＷＳ１の速度に応じ、回収口９１から回収する液浸液３５の回収流量を制御する。
【００３２】
本実施例の減圧領域９４は図２および４に示すとおり、仕切り板９８により９４ａ、９４ｂ、９４ｃ、９４ｄの４つの領域に区切られている。多孔板９１ａから回収される液浸液３５は減圧領域９４ａ、回収配管３８、流量検出器９６ａを介し、液体回収装置３３により回収されている。圧力調整装置９７ａは、減圧領域９４ａが回収流量制御部４０ａにより命令される圧力値になるように圧力制御している。減圧領域９４ｂ、９４ｃ、９４ｄも同様な構成となっており、各々の減圧領域の圧力を独立に制御可能であり、基板ステージＷＳ１の速度に応じて減圧領域９４ａ、９４ｂ、９４ｃ、９４ｄの圧力を制御することにより、回収口からの液浸液の回収流量を制御できる。
【００３３】
本実施例における基板ステージＷＳ１の速度Ｖと回収部による回収圧力Ｐの関係を図５に示す。速度の閾値をＶ１とし、速度Ｖが０≦Ｖ≦Ｖ１とき、回収部による回収圧力ＰはＰ１であり、Ｖ１＜Ｖ≦Ｖ２のとき回収圧力ＰがＰ２となるように回収部が回収流量制御部４０ａにより制御されている。なお、Ｐ１およびＰ２の大きさは、０＜Ｐ２＜Ｐ１である。
【００３４】
本実施例において、基板ステージＷＳ１の速度ＶはＶ１＝０．３ｍ／ｓ、Ｖ２＝０．７ｍ／ｓである。また、本実施例において回収圧力ＰはＰ１＝１５００Ｐａ、Ｐ２＝１００Ｐａの圧力値としている。
【００３５】
基板ステージＷＳ１が停止している場合、供給量と回収量が釣り合った状態にあり、液浸液３５は図４（ａ）の形状となっている。基板ステージＷＳ１が＋Ｘ方向に速度Ｖ１で移動する場合について説明する。基板ステージＷＳ１の速度Ｖが０≦Ｖ≦Ｖ１である場合は、減圧領域９４ａ、９４ｂ、９４ｃ、９４ｄの回収圧力をＰ１に制御する。Ｖ１は予め実験により求めた値であり、回収圧力がＰ１のときに基板ステージＷＳ１を駆動させても液浸液３５が分裂しない基板ステージＷＳ１の最高速度である。回収圧力Ｐ１は液浸領域が露光領域を満たすことでできる最小の領域となる値に設定することが好ましい。
【００３６】
なぜならば、液浸領域が大きい場合、基板ステージＷＳ１が移動中に液浸領域が基板ステージの移動方向に引きずられ、液浸液が回収口９１の外側に飛び出してしまう可能性があるからである。予め回収口９１の面積を大きく設計することも可能であるが、回収口９１の大型化は液浸露光装置の大型化を招くため好ましくない。
【００３７】
次に、基板ステージＷＳ１が＋Ｘ方向に速度Ｖ（Ｖ１＜Ｖ≦Ｖ２）で移動している場合について説明する。このとき液浸液３５は図４（ｂ）の状態になる。この場合、減圧領域のうち基板ステージＷＳ１の進行方向側の減圧領域９４ａの液体と液浸液３５の液体の圧力差（回収口９１ａからの液体の回収圧力）をＰ２に制御する。所定値Ｖ２は予め実験により求めた値であり、回収圧力がＰ２のときに基板ステージＷＳ１を駆動させても液浸液３５が分裂しない基板ステージＷＳ１の最高速度である。減圧領域９４ｂ、９４ｃ、９４ｄの液体と液浸液３５との圧力差はＰ１に制御する。基板ステージＷＳ１の進行方向である多孔板９１ａは単位面積あたりの液浸液３５の回収流量が小さくなるように圧力制御されている。そのため、多孔板９１ａ近傍の液浸液は基板ステージＷＳ１の進行方向に引きずられやすくなり、基板ステージ近傍の液浸液の分裂が起きにくくなっている。一方、多孔板９１ｂ、９１ｃ、９１ｄの直下にある液浸液３５は＋Ｘ方向に引きずれる時には流れの上流〜中流にあるため分裂しない。このように液浸液の回収圧力を制御することにより、液浸液の分裂を防ぎ、基板ステージＷＳ１が一旦停止した時には図４（ａ）の初期位置付近に液浸液３５に復帰することが可能となり、次の動作も同様にて連続に行うことができる。
【００３８】
基板ステージＷＳ１の進行方向が−Ｘ方向である場合は、回収圧力を小さくする減圧領域が９１ｃとなり、進行方向が＋Ｙ方向の場合は圧力を小さくする減圧領域が９１ｂとなり、進行方向が−Ｙ方向の場合は回収圧力を小さくする減圧領域が９１ｄとなる。
【００３９】
本実施例によれば液浸液３５の移動速度（メニスカスの速度）ｕを大きくすることができる。基板ステージＷＳ１の速度がＶのときに、液浸液３５が同じ方向に速度ｕで移動する場合、基板ステージＷＳ１の液浸液３５に対する相対速度はＶ−ｕである。前述のとおり、相対速度Ｖ−ｕが小さい程、液浸液３５は分裂されにくい。つまり、速度ｕが大きい程、液浸液３５は分裂されにくい。本実施例において、Ｖ＞０のとき回収圧力Ｐ２をゼロとしてもよい。この場合、回収流量もゼロとなるため液浸液３５の速度ｕは最大、見かけ上の基板ステージ速度Ｖ−ｕは最小となり、液浸液３５が最も分裂しにくい。
【００４０】
本実施例においては、基板ステージＷＳ１の速度に応じて、閾値Ｖを設けて回収圧力をＰ１、Ｐ２の２値で制御する方法を示したが、閾値を複数設けて回収圧力を３値以上で制御しても良い。例えば、本実施例で示した基板ステージＷＳ１の速度に応じた回収圧力の制御値Ｐ１、Ｐ２の他に、基板ステージＷＳ１の移動速度が所定値以上（閾値以上）の時に回収圧力をＰ３に制御する等である。
【００４１】
また、本実施例においては、液体回収部による回収圧力を制御することで液体の回収流量を調整しているが、回収流量を調整する方法はこれに限定されるものではない。例えば、減圧空間９４と流量検出器９６の間に流量調整弁（不図示）を設け、基板ステージＷＳ１の速度に応じて流量調整弁の開度を制御する等で液浸液３５の回収流量を制御してもよい。
【００４２】
本実施例においては、基板ステージＷＳ１の速度に応じて液浸液３５の回収流量を制御する例を示したが、ステージ制御装置６０から移動距離および加速度の少なくとも１つの情報（制御信号）を取り込み、これに応じて液体回収流量を制御しても良い。例えば、基板ステージＷＳ１が全移動距離の１／２を移動したときに、回収流量を移動開始時の１／２に減らすように制御する。また、基板ステージＷＳ１が停止状態から最高速度まで加速する際の加速度が１Ｇ以上である場合、加速度が１Ｇ未満で移動している場合よりも回収流量が数十パーセント程度小さくなるように制御する。
【００４３】
次に、本実施例の回収流量を大きくする制御を行うタイミングについて以下に述べる。基板ステージＷＳ１の進行方向の加速度が１Ｇ以上と大きい場合、液浸液３５が分離しやすいため、回収流量を小さくする。しかし、基板ステージＷＳ１の進行方向の加速度が負、若しくは１Ｇ未満の場合、液浸液３５は分裂しにくいため、基板ステージＷＳ１が減速するタイミングで、基板ステージＷＳ１の進行方向側の回収口からの液体の回収流量を大きくする。このように基板ステージＷＳ１の加速度に応じて、回収流量を制御することで液浸液３５の分裂を防ぎ、基板ステージＷＳ１の速度を大きくすることが可能となる。
【００４４】
また、基板ステージＷＳ１の移動距離が百ｍｍ以上と大きい場合、液浸液３５が基板ステージＷＳ１の進行方向に引きずられる距離が大きくなるため、回収流量を制御する方式では回収領域が大きくなる。そのため、長距離駆動を行う直前のタイミングで、基板ステージＷＳ１の進行方向側の回収口からの液浸液３５の回収流量を大きくするとともに基板ステージＷＳ１の移動速度を小さくする。このような制御を行うことで液浸液３５を分裂させることなく基板ステージＷＳ１の長距離駆動を行うことができる。
【００４５】
また、露光動作を繰り返す際に、露光領域から次の露光領域に移動するステップ駆動では移動距離が数十ｍｍ程度と小さい。このステップ駆動などの移動距離が小さい駆動を行う場合、液浸液３５が基板ステージＷＳ１の進行方向に引きずられる距離が小さいため比較的液浸液が分裂しにくい。そのため、基板ステージがステップ駆動する場合は、基板ステージがステップ駆動を開始するタイミングで、基板ステージＷＳ１の進行方向側の回収口からの液体の回収流量が大きくなるように制御を行う。それにより液浸液３５は必要最小限の大きさを維持した状態で次の露光動作を行うことができる。
【００４６】
本実施例では、図４に示す様に減圧領域が仕切り板９８で区切られた４つの領域となっており、基板ステージＷＳ１の移動方向に位置する減圧領域のみ回収流量が小さくなるように制御されていた。しかし、仕切り板９８がなく減圧容器９８が一つの空間としてもよい。このような構造とすることで基板ステージＷＳ１の移動方向に関係なく、基板ステージＷＳ１の移動速度、加速度および移動距離の少なくとも１つの情報に応じて回収圧力を制御すればよいため、回収流量制御部４０ａによる制御を単純化することができる。
【００４７】
以上のように、本実施例によれば、基板ステージＷＳ１の移動速度、加速度および移動距離の少なくとも１つの情報に対して閾値を設け、その閾値よりも大きい場合に回収部のうち少なくとも基板ステージの進行方向側の部分における液体の回収流量を制御する。これにより液浸液３５と基板ステージＷＳ１の相対速度が小さくなり、液浸液３５が分裂しにくくなる。さらに、投影光学系の光軸から外側に向かって複数の回収領域を設けていないため、液体回収口を簡素な構造として、基板ステージ上から液浸液を分裂することなく回収することができる。したがって、液浸液の分裂に起因する露光装置の停止時間を短縮させ、露光装置のスループットを向上させることができる。
【実施例２】
【００４８】
次に、前述の露光装置を利用したデバイス（半導体ＩＣ素子、液晶表示素子等）の製造方法を説明する。デバイスは、前述の露光装置を使用して、感光剤が塗布された基板（ウェハ、ガラス基板等）を露光する工程と、その基板（感光剤）を現像する工程と、他の周知の工程と、を経ることにより製造される。他の周知の工程には、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等が含まれる。本デバイス製造方法によれば、従来よりも高品位のデバイスを製造することができる。
【符号の説明】
【００４９】
１  露光装置
３０  投影光学系
３５  液浸液
４１  基板
ＷＳ  基板ステージ
８１  供給口
９１  回収口
【図１】
2012094650.tif 000003
【図２】
2012094650.tif 000004
【図３】
2012094650.tif 000005
【図４】
2012094650.tif 000006
【図５】
2012094650.tif 000007