(57)【要約】【課題】従来より微小な液滴を高精度に着弾させることが可能な形状精度の高い吐出口を有するインクジェットヘッドを提供する。【解決手段】ノズル層と撥液層とが形成されたインクの吐出口を備えるインクジェットヘッドであって、撥液層がカチオンの拡散が小さいアニオン部を有する熱カチオン開始剤を含む撥液層原料を硬化した層であることにより、形状精度の高い吐出口を実現することができる。【選択図】図１
2012081601.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インクを吐出するための吐出口が形成されるノズル層と、該ノズル層の上に形成された撥液層と、を有するインクジェットヘッドであって、
前記撥液層が、下記式（１）
Ｒf−Ｓｉ（Ｒ1）bＸ(3-b)    （１）
（Ｒfは炭素原子に結合する１個から３０個のフッ素原子を有する非加水分解性置換基、Ｒ1は非加水分解性置換基、Ｘは加水分解性置換基、ｂは０から２の整数を示す）で表されるフッ素含有基を有する加水分解性シラン化合物と、下記式（２）
Ｒc−Ｓｉ（Ｒ1）bＸ(3-b)    （２）
（Ｒcはカチオン重合性基を有する非加水分解性置換基を示し、Ｒ1、Ｘ及びｂは前記式（１）と同義である）で表されるカチオン重合性基を有する加水分解性シラン化合物と、を縮合することで得られるシロキサン化合物と、下記式（３）
（Ｒ2−Ｙ−）m−Ｚ-−（−Ｆ）n    （３）
（Ｚは炭素原子、窒素原子、リン原子及びホウ素原子からなる群から選ばれる１つの原子、Ｙは−Ｓ（＝Ｏ）2−、−ＣＦ2−Ｏ−、−ＣＦ2−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＦ2−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＣＦ2−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−及び単結合からなる群から選ばれる１つの基、Ｒ2はフッ素置換されていてもよい炭化水素基を示す。ｍとｎは、Ｚが炭素原子の場合、ｍ＋ｎ＝３、且つｎ＝０から２の整数、Ｚが窒素原子の場合、ｍ＋ｎ＝２、且つｎ＝０又は１、Ｚがリン原子の場合、ｍ＋ｎ＝６、且つｎ＝０から６の整数、Ｚがホウ素原子の場合、ｍ＋ｎ＝４、且つｎ＝０から３の整数を示す）で表されるアニオン部を有する熱カチオン開始剤と、を含む撥液層原料を硬化した層であるインクジェットヘッド。
【請求項２】
前記熱カチオン開始剤のアニオン部が、下記式（３−ａ）
【化１】
2012081601.tif 000007
で表される請求項１に記載のインクジェットヘッド。
【請求項３】
前記熱カチオン開始剤のアニオン部が、下記式（３−ｂ）
【化２】
2012081601.tif 000008
で表される請求項１に記載のインクジェットヘッド。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか一項に記載のインクジェットヘッドの製造方法であって、
光重合性のノズル層原料を含むノズル層原料層の上に、前記撥液層原料を塗布して撥液層原料層を形成する工程と、該ノズル層原料層及び撥液層原料層を加熱処理する工程と、該ノズル層原料層及び撥液層原料層をパターン露光して露光部を硬化し、ノズル層及び撥液層とする工程と、現像処理により未露光部を除去することで該ノズル層及び撥液層に吐出口を形成する工程と、を含むインクジェットヘッドの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、インクを吐出するための吐出口表面が撥液処理されたインクジェットヘッド及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
吐出口の形成されているノズル層上に撥液層が形成されているインクジェットヘッドの製造方法として、以下に示す方法が特許文献１に開示されている。まず、基板上にカチオン重合性樹脂を含むノズル層を形成する。その後、該ノズル層上に、フッ素含有基を有する加水分解性シラン化合物とカチオン重合性基を有する加水分解性シラン化合物とからつくられる縮合生成物である撥液層を形成する。この際、撥液層中の塗布溶媒を除去するために加熱処理を行う。次に、インクを吐出するための吐出口を形成するために、マスクを用いて所望の形状にパターン露光を行う。その後、現像処理にて未露光部を除去することで吐出口を形成する。また、該撥液層に光カチオン開始剤を添加してもよいことが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特表２００７−５１８５８７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１によれば、撥液層に光カチオン開始剤を添加しない場合にも、ノズル層であるカチオン重合性樹脂に添加されている光カチオン開始剤の働きにより撥液層を硬化することが可能である。更に、撥液層に光カチオン開始剤を添加することで、撥液層の硬化に必要な光照射の露光量マージンを増やすことも出来る。そして、これらは現在一般家庭やオフィス等にあるインクジェットヘッドで出力した画像の画質を満足するには充分な構成である。
【０００５】
しかしながら、今後出力画像の更なる高画質化を実現するために飛翔液滴の現状以上の小液滴化を行う場合、吐出口の形状は今まで以上に高い均一性が求められる。小液滴になるほど飛翔液滴の運動エネルギーが小さくなり外的影響を受け易いため、吐出口が不均一である場合にはその影響により吐出方向が定まらない場合がある。特許文献１記載の方法において、パターン露光の露光量が多い場合には、基板表面の段差によって発生する照射光の反射により微小な吐出口変形が発生し、真円パターンがやや楕円形となる場合がある。しかし、この微小な吐出口変形は、現状までの吐出口の大きさならば問題にならなかったが、更なる小液滴を高精度に着弾させるための微小吐出口においては問題となりえる。微小吐出口の形成においては、従来の方法では露光量を現状よりも大幅に減らすことで、照射光の基板からの反射の影響を抑制することが必要である。しかしながら、撥液層の感度がノズル層の感度よりも低い場合には、露光量を大幅に低減すると撥液層の硬化は困難となる。また、撥液層に光カチオン開始剤を添加した場合においても、露光量を現状よりも大幅に低減すると発生するカチオンの量が微量となり、同様に撥液層の硬化は困難となる。
【０００６】
一方、撥液層に熱カチオン開始剤を添加することが考えられる。この場合には、撥液層原料を塗布した後に加熱処理を行うことで撥液層を事前にある程度まで硬化することが可能となり、露光量を現状よりも大幅に低減しても撥液層を十分に硬化出来る。しかしながら、カチオンの拡散距離が大きい熱カチオン開始剤を使用すると、加熱処理により撥液層からカチオンが拡散しノズル層にまで及んでしまうため、本来除去すべき吐出口のパターン部分にまで該カチオンが拡散する。これにより、吐出口のエッジ付近において、ノズル層から発せられるカチオンの拡散との相乗効果により、除去すべきノズル層部分も硬化してしまい、吐出口が大きく変形する課題を有する。
【０００７】
本発明は、従来より微小な液滴を高精度で着弾させることが可能な形状精度の高い吐出口を有するインクジェットヘッド及びその製造方法の提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明に係るインクジェットヘッドは、インクを吐出するための吐出口が形成されるノズル層と、該ノズル層上に形成された撥液層と、を有するインクジェットヘッドであって、前記撥液層が、下記式（１）
Ｒf−Ｓｉ（Ｒ1）bＸ(3-b)    （１）
（Ｒfは炭素原子に結合する１個から３０個のフッ素原子を有する非加水分解性置換基、Ｒ1は非加水分解性置換基、Ｘは加水分解性置換基、ｂは０から２の整数を示す）で表されるフッ素含有基を有する加水分解性シラン化合物と、下記式（２）
Ｒc−Ｓｉ（Ｒ1）bＸ(3-b)    （２）
（Ｒcはカチオン重合性基を有する非加水分解性置換基を示し、Ｒ1、Ｘ及びｂは前記式（１）と同義である）で表されるカチオン重合性基を有する加水分解性シラン化合物と、を縮合することで得られるシロキサン化合物と、下記式（３）
（Ｒ2−Ｙ−）m−Ｚ-−（−Ｆ）n    （３）
（Ｚは炭素原子、窒素原子、リン原子及びホウ素原子からなる群から選ばれる１つの原子、Ｙは−Ｓ（＝Ｏ）2−、−ＣＦ2−Ｏ−、−ＣＦ2−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＦ2−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＣＦ2−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−及び単結合からなる群から選ばれる１つの基、Ｒ2はフッ素置換されていてもよい炭化水素基を示す。ｍとｎは、Ｚが炭素原子の場合、ｍ＋ｎ＝３、且つｎ＝０から２の整数、Ｚが窒素原子の場合、ｍ＋ｎ＝２、且つｎ＝０又は１、Ｚがリン原子の場合、ｍ＋ｎ＝６、且つｎ＝０から６の整数、Ｚがホウ素原子の場合、ｍ＋ｎ＝４、且つｎ＝０から３の整数を示す）で表されるアニオン部を有する熱カチオン開始剤と、を含む撥液層原料を硬化した層である。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、従来より微小な液滴を高精度で着弾させることが可能な形状精度の高い吐出口を有するインクジェットヘッド及びそれを安定的に生産可能な製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明に係るインクジェットヘッドの一例を示す断面模式図である。
【図２】本発明に係るインクジェットヘッドの製造方法の一例を示す断面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
［インクジェットヘッド］
図１に、本発明の一実施形態であるインクジェットヘッドの断面模式図を示す。図１に示すインクジェットヘッドは、インクを吐出するためのエネルギーを発生する複数の発熱素子２を有する素子基板１と、素子基板１上にフォトリソグラフィ工程によって形成されるノズル層３とを有する。また、ノズル層３には、インクを吐出する吐出口４及び発熱素子２によって与えるエネルギーによりインクが発泡する領域である発泡室５が形成されている。ノズル層３上には撥液層６が形成されている。また、素子基板１には、インクを発泡室５へ送り込むインク流路７が形成されている。
【００１２】
（撥液層）
本発明に係る撥液層は、下記式（１）
Ｒf−Ｓｉ（Ｒ1）bＸ(3-b)    （１）
で表されるフッ素含有基を有する加水分解性シラン化合物と、下記式（２）
Ｒc−Ｓｉ（Ｒ1）bＸ(3-b)    （２）
で表されるカチオン重合性基を有する加水分解性シラン化合物と、を縮合することで得られるシロキサン化合物と、下記式（３）
（Ｒ2−Ｙ−）m−Ｚ-−（−Ｆ）n    （３）
で表されるアニオン部を有する熱カチオン開始剤と、を含む撥液層原料を硬化した層である。
【００１３】
前記式（１）で表されるフッ素含有基を有する加水分解性シラン化合物において、Ｒfは炭素原子に結合する１個から３０個のフッ素原子を有する非加水分解性置換基である。Ｒfとしては、ＣＦ3（ＣＦ2）l−Ａ−であることが好ましい。ｌは整数であり、０から２０が好ましく、３から１５がより好ましく、５から１０が更に好ましい。Ａは１０個を超えない炭素原子を含有することが好ましく、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、メチレンオキシ、エチレンオキシ、プロピレンオキシ及びブチレンオキシ等、６個を超えない炭素原子を有する二価のアルキレン基又はアルキレンオキシ基であることがより好ましい。最も好ましいのはエチレンである。Ｒ1は非加水分解性置換基である。Ｒ1としては、メチル基等が挙げられる。Ｘは加水分解性置換基である。Ｘとしては、アルコキシ基等が挙げられる。Ｘとしてはアルコキシ基が好ましく、メトキシ、エトキシであることがより好ましい。ｂは０から２の整数である。ｂは０又は１であることが好ましく、０であることが特に好ましい。
【００１４】
前記式（１）で表されるフッ素含有基を有する加水分解性シラン化合物としては、例えば以下の化合物が挙げられる。ＣＦ3−Ｃ2Ｈ4−ＳｉＸ3；Ｃ2Ｆ5−Ｃ2Ｈ4−ＳｉＸ3；Ｃ4Ｆ9−Ｃ2Ｈ4−ＳｉＸ3；Ｃ6Ｆ13−Ｃ2Ｈ4−ＳｉＸ3；Ｃ8Ｆ17−Ｃ2Ｈ4−ＳｉＸ3；Ｃ10Ｆ21−Ｃ2Ｈ4−ＳｉＸ3。Ｘはメトキシ基又はエトキシ基である。なお、前記式（１）で表されるフッ素含有基を有する加水分解性シラン化合物はこれらの化合物に限定されない。また、前記式（１）で表されるフッ素含有基を有する加水分解性シラン化合物は、１種のみを用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００１５】
前記式（２）で表されるカチオン重合性基を有する加水分解性シラン化合物において、Ｒcはカチオン重合性基を有する非加水分解性置換基を示す。カチオン重合性有機基としては、ビニルエーテル基や、エポキシ基、オキセタン基等によって表される環状エーテル基を用いることができる。入手の容易さ及び反応制御の観点からエポキシ基が好ましい。Ｒcとしては、グリシドキシプロピル基、エポキシシクロヘキシルエチル基等が挙げられる。前記式（２）において、Ｒ1、Ｘ及びｂは前記式（１）と同義であり、好ましい範囲も同様である。
【００１６】
前記式（２）で表されるカチオン重合性基を有する加水分解性シラン化合物としては、例えば、グリシドオキシプロピルトリメトキシシラン、グリシドオキシプロピルトリエトキシシラン、エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、エポキシシクロヘキシルエチルトリエトキシシラン等が挙げられる。前記式（２）で表されるカチオン重合性基を有する加水分解性シラン化合物はこれらの化合物に限定されない。また、前記式（２）で表されるカチオン重合性基を有する加水分解性シラン化合物は、１種のみを用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００１７】
本発明に係る撥液層原料は、前記式（１）で表されるフッ素含有基を有する加水分解性シラン化合物と前記式（２）で表されるカチオン重合性基を有する加水分解性シラン化合物と、を縮合することで得られるシロキサン化合物を含む。前記シロキサン化合物は水の存在下、前記式（１）で表される化合物と前記式（２）で表される化合物の加水分解反応により調製される。前記シロキサン化合物の縮合の度合いは、反応温度、ｐＨ等によって適切に制御できる。さらに、金属アルコキシドを加水分解反応の触媒として用い、加水分解反応の結果として縮合の度合いを制御することも可能である。金属アルコキシドとしては、アルミニウムアルコキシド、チタンアルコキシド、ジルコニウムアルコキシド及びその錯体（アセチルアセトン錯体等）が好ましい。なお、本発明においては、前記式（１）で表されるフッ素含有基を有する加水分解性シラン化合物と、前記式（２）で表されるカチオン重合性基を有する加水分解性シラン化合物とは、異なる化合物を用いる。
【００１８】
本発明に係る撥液層原料は、前記式（３）で表されるアニオン部を有する熱カチオン開始剤を含む。該熱カチオン開始剤は特定のアニオン部を有するため、カチオンの拡散が小さく、後述する加熱工程において撥液層からノズル層へのカチオンの拡散を抑制することができる。これにより、吐出口形成のために除去されるノズル層部分の不必要な硬化を抑制することができ、所望の形状の吐出口を形成することができる。
【００１９】
前記式（３）において、Ｚは炭素原子、窒素原子、リン原子及びホウ素原子からなる群から選ばれる１つの原子を示す。Ｙは−Ｓ（＝Ｏ）2−、−ＣＦ2−Ｏ−、−ＣＦ2−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＦ2−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＣＦ2−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−及び単結合からなる群から選ばれる１つの基を示す。Ｒ2はフッ素置換されていてもよい炭化水素基を示す。Ｒ2としては、例えばＣＦ3−、Ｃ2Ｆ5−等が挙げられる。なお、ｍが２以上である場合、Ｒ2同士が互いに結合していてもよい。ｍとｎは、Ｚが炭素原子の場合、ｍ＋ｎ＝３、且つｎ＝０から２の整数、Ｚが窒素原子の場合、ｍ＋ｎ＝２、且つｎ＝０又は１、Ｚがリン原子の場合、ｍ＋ｎ＝６、且つｎ＝０から６の整数、Ｚがホウ素原子の場合、ｍ＋ｎ＝４、且つｎ＝０から３の整数を示す。
【００２０】
前記式（３）で表されるアニオン部を有する熱カチオン開始剤としては、例えば、下記式（３−ａ）から（３−ｈ）で表される化合物が例示される。
【００２１】
【化１】
2012081601.tif 000003
【００２２】
この中でも（３−ａ）、（３−ｂ）が好ましい。なお、前記熱カチオン開始剤はこれらの化合物に限定されない。また、前記熱カチオン開始剤は、１種のみを用いてもよく、２種以上を併用してもよい。撥液層原料中には、前記シロキサン化合物と前記熱カチオン開始剤以外にも、塗布溶媒としてエタノール等が含まれてもよい。
【００２３】
（ノズル層）
ノズル層原料としては特に限定されないが、後述するようにパターン露光により露光部を硬化させる観点から、光重合性の材料を用いることが好ましい。例えば、エポキシ樹脂、シランカップリング剤及び光カチオン開始剤を含む材料を用いることが出来る。
【００２４】
［インクジェットヘッドの製造方法］
以下、本発明に係るインクジェットヘッドの製造方法の一例を、図２を用いて示す。インクを吐出するためのエネルギーを発生する複数の発熱素子２を有する素子基板１を用意する（図２（ａ））。前記素子基板１上に発泡室５となる型材８を形成する（図２（ｂ））。型材８としては、型材８上にノズル層３が形成された際にその崩壊を防ぐために、ポジ型レジスト、特に比較的分子量の大きい光分解性ポジ型レジストを用いることが好ましい。次に、型材８及び素子基板１上に前記ノズル層原料を塗布してノズル層原料層３を形成する（図２（ｃ））。ノズル層原料層３は、ノズル層原料をスピンコーティング法、直接塗布法により塗布することで作製することができる。次に、ノズル層原料層３上に前記撥液層原料を塗布して撥液層原料層６を形成する（図３（ｄ））。撥液層原料層６はノズル層原料層３と同様の方法により作製することができる。その後、加熱処理を行う。該加熱処理により、撥液層原料層６中の塗布溶媒を除去し、かつ熱カチオン開始剤の作用によりカチオンが発生し、撥液層原料層６は硬化し始める。該加熱処理における加熱温度は５０〜１００℃が好ましい。また、加熱処理後の撥液層原料層６の厚みは、０．０５〜１．０μｍであることが好ましい。
【００２５】
次に、ノズル層原料層３及び撥液層原料層６の硬化領域に対して、マスク９を用いて紫外線１０を照射し、パターン露光を行う（図３（ｅ））。これにより、ノズル層原料層３及び撥液層原料層６の露光部を硬化し、ノズル層３及び撥液層６とすることができる。紫外線１０の波長としては特に限定されないが、例えばｉ線を用いることができる。露光量としては、ノズル層原料層３及び撥液層原料層６を十分に硬化でき、かつ素子基板１表面の段差により発生する照射光の素子基板１からの反射の影響を十分低減できる露光量を適宜選択することができる。これにより、微小な吐出口の形成においても吐出口変形を抑制することができる。その後、必要に応じて露光部の硬化反応を促進させるために加熱処理する。次に、現像処理により未露光部を除去することでノズル層３及び撥液層６に吐出口４を形成する（図３（ｆ））。本発明に係る熱カチオン開始剤は、カチオンの拡散が非常に小さいアニオン部を有するため、未露光部のノズル層原料層３は硬化せず、撥液層原料層６のみを硬化する。ノズル層原料層３の未露光部が現像されると同時に撥液層原料層６の未露光部が除去されることで、凹凸のない滑らかなエッジ部とマスク９形状に対して非常に綺麗な相似形状を示す吐出口４を形成することができる。次に、インク流路７を素子基板１に公知の方法で作製し（図３（ｇ））、型材８を溶解除去する（図３（ｈ））。以上の工程によりインクジェットヘッドが完成する。
【実施例】
【００２６】
以下、本発明の実施例を説明するが、本発明はこれらに限定されない。なお、「部」は「質量部」を示す。
【００２７】
［実施例１］
本実施例において、ノズル層原料には表１の組成からなる光重合性の材料を用いた。
【００２８】
【表１】
2012081601.tif 000004
【００２９】
本実施例において、撥液層原料には、Ｃ10Ｆ21−Ｃ2Ｈ4−ＳｉＸ3（Ｘはエトキシ基）とγ−グリシドキシプロピルトリエトキシシランとの縮合生成物に、下記式（４）で示される熱カチオン開始剤を混合した材料を用いた。また、撥液層６原料の塗布溶媒としてエタノールを用いた。
【００３０】
【化２】
2012081601.tif 000005
【００３１】
本実施例では図２に示す方法でノズル層３及び撥液層６を形成し、インクジェットヘッドを作製した。まず、発熱素子２を複数備える素子基板１上に、発泡室５となる型材８を形成した（図２（ａ）、（ｂ））。次に、前記ノズル層原料を塗布し、ノズル層原料層３を形成した（図２（ｃ））。その後、前記撥液層原料を塗布し、撥液層原料層６を形成した（図２（ｄ））。この後、撥液層原料層６中の塗布溶媒を除去するため、また撥液層原料層６の硬化を開始するため７０℃で３分間加熱処理を行った。次に、ノズル層原料層３及び撥液層原料層６の硬化領域に対して、マスク９を用いて紫外線１０の照射を行った（図２（ｅ））。本実施例においては、紫外線１０はｉ線による単波長での露光とした。その後、９０℃で４分間加熱処理を行った。次に、未露光部を溶解除去し、円形の吐出口４を形成した（図２（ｆ））。その後、素子基板１にインク流路７を形成した（図２（ｇ））。次に、型材８を溶解除去し、発泡室５を形成した（図２（ｈ））。これによりインクジェットヘッドを得た。本実施例では、円形の吐出口４の面積が４９０μｍ2、２１０μｍ2、７０μｍ2、３５μｍ2の４種類のインクジェットヘッドを作製した。
【００３２】
（吐出口４の形状評価）
円形の吐出口４の形状評価として、円形の吐出口４の真円度による評価を行った。真円のマスク９を用いて吐出口４の形成を行った場合でも、下地の凹凸等からの反射の影響で実際に出来上がる吐出口４にゆがみが発生し、真円とならない場合がある。そこで、形成された吐出口４の最長径と最短径とを測定し、真円度として数値化した。真円度は最長径／最短径で表され、以下の基準で評価した。
◎：１以上、１．０５未満
○：１．０５以上、１．１未満
△：１．１以上、１．２未満
×：１．２以上。
【００３３】
（撥水性評価）
撥液層６の撥水性の評価として、撥液層６表面における純水の動的後退接触角による評価を行った。評価は以下の基準で行った。
◎：９０°以上
○：７５°以上、９０°未満
△：６５°以上、７５°未満
×：６５°未満。
【００３４】
表２に、前記４種類のインクジェットヘッドにおける前記評価結果を示す。なお、表２における吐出口面積とは、大：４９０μｍ2、中：２１０μｍ2、小：７０μｍ2、微小：３５μｍ2を示す。
【００３５】
［比較例１］
撥液層原料に熱カチオン開始剤を混合しなかったこと以外は実施例１と同様に４種類のインクジェットヘッドを作製し、評価した。結果を表２に示す。
【００３６】
［比較例２］
前記式（４）で示される熱カチオン開始剤の代わりに、六フッ化アンチモンをアニオン部とする光カチオン開始剤を用いた以外は実施例１と同様に４種類のインクジェットヘッドを作製し、評価した。結果を表２に示す。
【００３７】
［比較例３］
前記式（４）で示される熱カチオン開始剤の代わりに、六フッ化アンチモンをアニオン部とする熱カチオン開始剤を用いた以外は実施例１と同様に４種類のインクジェットヘッドを作製し、評価した。結果を表２に示す。
【００３８】
【表２】
2012081601.tif 000006
【００３９】
比較例１、２及び３に比べて実施例１は、吐出口４の面積が小さい場合においても、形状、撥水性ともに良好な状態であり、本発明の効果が確認出来た。
【符号の説明】
【００４０】
１    素子基板
２    発熱素子
３    ノズル層（ノズル層原料層）
４    吐出口
５    発泡室
６    撥液層（撥液層原料層）
７    インク供給口
８    型材
９    マスク
１０  紫外線
【図１】
2012081601.tif 000009
【図２】
2012081601.tif 000010