(57)【要約】【課題】ミストの微細化のための放電を良好に行うことができるミスト発生装置及び美容装置を提供する。【解決手段】水からスチームを生成するスチーム生成機構と、スチーム生成機構が生成したスチームが通過するスチーム案内管路内で放電を生じさせる第２電極部７２と、第２電極部７２を保持するピンプレート７４とを備え、ピンプレート７４には、第２電極部７２に結露した水がピンプレート７４を介して重力に従って鉛直下方に流下することを促進させる貫通孔８５が形成されている。【選択図】図９
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体からミストを生成するミスト発生部と、
前記ミスト発生部が生成した前記ミストが通過するミスト経路内で放電を生じさせる電極部と、
前記電極部を保持する保持部材と
を備え、
前記保持部材には、前記電極部に結露した液体が前記保持部材を介して重力に従って鉛直下方に流下することを促進させる流下促進部が形成されていることを特徴とするミスト発生装置。
【請求項２】
請求項１に記載のミスト発生装置において、
前記保持部材は、水平方向と交差する方向に延びる延長部を有し、当該延長部に前記電極部を保持する保持部が設けられ、
前記流下促進部は、前記延長部における前記保持部よりも下側となる位置に形成された貫通孔を含むことを特徴とするミスト発生装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載のミスト発生装置において、
前記保持部材は、水平方向と交差する方向に延びる延長部を有し、当該延長部に前記電極部を保持する保持部が設けられ、
前記流下促進部は、前記延長部における前記保持部よりも下側となる位置に形成された凹部を含むことを特徴とするミスト発生装置。
【請求項４】
請求項１〜請求項３のうち何れか一項に記載のミスト発生装置において、
前記流下促進部は、前記保持部材における前記電極部の保持部と連続していることを特徴とするミスト発生装置。
【請求項５】
ミストを放出して肌表面の手入れを行う美容装置において、
請求項１〜請求項４のうち何れか一項に記載のミスト発生装置を備えたことを特徴とする美容装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液体からミストを生成するミスト発生装置、及び該ミスト発生装置を備えた美容装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ミスト発生装置は、液体をボイラーにて沸騰させて気化させたスチームを人体の顔などに向けて放出することにより、肌に潤いを与えるなどの美容効果やスキンケアを目的とした装置として用いられている（例えば、特許文献１）。
【０００３】
この特許文献１に記載のミスト発生装置では、ボイラーによって生成されたスチームを装置の外部に放出させるスチーム流路の途中位置に、第１電極部及び第２電極部が設けられている。そして、このミスト発生装置では、第１電極部に高電圧を印加させることによって両電極部間にアーク放電を起こさせる。その結果、第１電極部の表面に結露した水に対して静電霧化が誘起されることにより、微細化されたスチームが生成されるようになっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１０−１８７７６２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、特許文献１に記載のミスト発生装置では、結露した水が第２電極部を保持するピンプレートの保持部に滞留すると、この滞留した水が第２電極部を覆うように拡がることにより、第１電極部から第２電極部への放電を阻害して十分な静電霧化を行うことができなくなる虞があった。
【０００６】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、ミストの微細化のための放電を良好に行うことができるミスト発生装置及び美容装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明のミスト発生装置は、液体からミストを生成するミスト発生部と、前記ミスト発生部が生成した前記ミストが通過するミスト経路内で放電を生じさせる電極部と、前記電極部を保持する保持部材とを備え、前記保持部材には、前記電極部に結露した液体が前記保持部材を介して重力に従って鉛直下方に流下することを促進させる流下促進部が形成されていることを特徴とする。
【０００８】
また、本発明のミスト発生装置において、前記保持部材は、水平方向と交差する方向に延びる延長部を有し、当該延長部に前記電極部を保持する保持部が設けられ、前記流下促進部は、前記延長部における前記保持部よりも下側となる位置に形成された貫通孔を含むことを特徴とする。
【０００９】
また、本発明のミスト発生装置において、前記保持部材は、水平方向と交差する方向に延びる延長部を有し、当該延長部に前記電極部を保持する保持部が設けられ、前記流下促進部は、前記延長部における前記保持部よりも下側となる位置に形成された凹部を含むことを特徴とする。
【００１０】
また、本発明のミスト発生装置において、前記流下促進部は、前記保持部材における前記電極部の保持部と連続していることを特徴とする。
また、本発明の美容装置は、ミストを放出して肌表面の手入れを行う美容装置において、上記構成のミスト発生装置を備えたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、ミストの微細化のための放電を良好に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明に係る第１実施形態の美顔器の斜視図。
【図２】同美顔器の背面図。
【図３】給水タンク及びタンクホルダーの断面図。
【図４】美顔器本体の背面図。
【図５】タンクホルダーに接続される管路の斜視図。
【図６】図２における６−６線矢視断面図。
【図７】美顔器本体を後方側から見た斜視図。
【図８】同美顔器のスチーム放電部の断面図。
【図９】同美顔器の第２電極部の取り付け構造を説明するための斜視図。
【図１０】本発明に係る第１実施形態のピンプレートにおいて、第２電極部に結露した水がピンプレートを伝って鉛直下方に流下する際の作用を示す断面図であって、（ａ）は第２電極部の先端部に水が結露した状態を示す断面図、（ｂ）は第２電極部からピンプレートに水が伝っている最中の状態を示す断面図、（ｃ）はピンプレートに伝った水が鉛直下方に流下している状態を示す断面図。
【図１１】（ａ）は本発明に係る第２実施形態のピンプレート及び第２電極部を第２板部側から見た側面図、（ｂ）は本発明に係る第２実施形態のピンプレート及び第２電極部の正面図、（ｃ）は本発明に係る第２実施形態のピンプレート及び第２電極部を第１板部側から見た側面図。
【図１２】本発明に係る第２実施形態のピンプレートにおいて、第２電極部に結露した水が第２電極部からピンプレートに伝っている最中の状態を示す正面図。
【図１３】（ａ）（ｂ）は本発明に係る別の実施形態のピンプレート及び第２電極部を第２板部側から見た側面図。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
（第１実施形態）
以下、本発明をミスト発生装置を備える美容装置としての美顔器に具体化した第１実施形態を図１〜図１０に従って説明する。なお、以下の説明において、「前後方向」、「左右方向」、「上下方向」をいう場合には、図中における矢印に示す方向を示すものとする。
【００１４】
図１に示すように、本実施形態の美顔器１０における有底略円筒状の本体ケース１１内には美顔器本体１２が収容されている。また、本体ケース１１の開口部と面一をなす美顔器本体１２の上面にはノズル部１３及びスイッチ部１４が設置されている。そして、ノズル部１３及びスイッチ部１４を有する美顔器本体１２の上面は、本体ケース１１に対し開閉可能（傾動可能）に取り付けられたメインカバー１５にて露出・隠蔽が可能とされている。
【００１５】
ノズル部１３は、美顔器本体１２の上面の中央に設けられており、スチーム（温ミスト）を放出する一対のスチームノズル１６ａ，１６ｂ、冷ミストを放出するミストノズル１７、及びマイナスイオンを放出するイオンノズル１８を有している。そして、ミストノズル１７が左右方向中央位置に、スチームノズル１６ａがその右側に、スチームノズル１６ｂが左側に、イオンノズル１８がミストノズル１７の上側にそれぞれ配置されている。尚、スチームノズル１６ａ，１６ｂは、互いの間隔が例えば７０ｍｍに設定されている。
【００１６】
また、スチームノズル１６ａ，１６ｂ、ミストノズル１７、及びイオンノズル１８の各放出方向は前側斜め上方の同一方向に向くように設定されている。すなわち、美顔器１０の前側と使用者とが対向するように使用された時に、その使用者の顔表面に向けて各ノズル１６ａ，１６ｂ，１７，１８の放出方向が向くように設定されている。また、このノズル部１３にもノズルカバー１９が開閉可能（傾動可能）に取り付けられ、その開閉にて各ノズル１６ａ，１６ｂ，１７，１８の露出・隠蔽が可能とされている。
【００１７】
また、ノズル部１３の手前右側には、スイッチ部１４として、それぞれ押しボタンスイッチにて構成される電源スイッチ２０、運転制御スイッチ２１、及びコース選択スイッチ２２が設けられている。電源スイッチ２０は、美顔器１０のオンオフ操作を行うものである。また、運転制御スイッチ２１及びコース選択スイッチ２２は、その操作にて、スチームと冷ミストとを組み合わせて対象体に向けて放出するコースや、スチームのみを放出するコースといった各種のコースの選択、及びその決定（動作開始）を行うものである。
【００１８】
また、メインカバー１５の前端部には、開閉操作部２３として、開閉操作板２４及び開閉操作カバー２５が設けられている。開閉操作板２４は、メインカバー１５に図示しない締結ねじにより固定された開閉操作カバー２５に対して、その後端部が回動可能に取り付けられており、この開閉操作板２４の前端部にはフック部２６が設けられている。そして、開閉操作板２４のフック部２６は、メインカバー１５が閉じられた際に、美顔器本体１２の上面の前端部に設けられたフック受け部２７に対して図示しないばねの付勢力に基づき掛止することにより、メインカバー１５の開放動作をロックするようになっている。また、開閉操作カバー２５の後端部にはフック部２８が設けられており、このフック部２８にはミストノズル１７を掃除するためのミスト針２９が着脱自在に取り付けられている。
【００１９】
また、図２に示すように、美顔器本体１２の後方下部における右寄りの位置には、インレットプラグ３０が設けられている。そして、このインレットプラグ３０には、外部から電源を供給するための電源コード３１が着脱可能に取り付けられている。
【００２０】
また、美顔器本体１２の後方下部における左寄りの位置には、美顔器本体１２の内部から水（液体）を排水するための排水口３２、及び該排水口３２を通じた排水動作を操作するための排水操作板３３が設けられている。そして、本体ケース１１には、排水口３２及び排水操作板３３を覆うように排水カバー３４が回動自在に取り付けられている。
【００２１】
また、図１に示すように、ノズル部１３の左側には、美顔器本体１２の上面から凹設されてなるタンクホルダー３５が設けられており、該タンクホルダー３５内には、本体ケース１１の開口部と面一となるように給水タンク３６が着脱可能に収容されている。
【００２２】
具体的には、図３に示すように、タンクホルダー３５において給水タンク３６を収容する内面には、給水タンク３６を相対移動不能に係止させるタンク固定部３７が設けられている。このタンク固定部３７は、先端部３８ａが凸状をなすタンクフック３８と、該タンクフック３８をその先端部３８ａがタンクホルダー３５の内側に向くようにして基端側から付勢するタンクフックバネ３９とを備えている。そして、給水タンク３６がタンクホルダー３５に対して装着されると、タンクホルダー３５の内側に付勢されたタンクフック３８の先端部３８ａが、給水タンク３６の外側面に設けられた凹部４０に対して係合することにより、給水タンク３６がタンクホルダー３５に対して相対移動不能に係止されるようになっている。
【００２３】
また、図４及び図５に示すように、タンクホルダー３５の下部からは、図２に示した排水口３２に連なる排出チューブ４１が延設されている。この排出チューブ４１の途中には分岐部４２が設けられ、その分岐部４２には下流側が二股状に分岐した給水チューブ４３の上流端が接続されている。そして、この給水チューブ４３の各下流端は、給水タンク３６から給水された水からスチーム（ミスト）を発生させるミスト発生装置としてのスチーム生成機構４４（図６参照）、及び給水タンク３６から給水された水から冷ミストを生成する冷ミスト生成機構４５に対してそれぞれ接続されている。なお、排出チューブ４１における分岐部４２よりも上流側及び給水チューブ４３における分岐位置よりも上流側となる各位置からは分岐チューブ４１ａ，４３ａが鉛直方向上側に延びるように分岐し、それらの各上端がタンクホルダー３５に接続されている。そして、排出チューブ４１内及び給水チューブ４３内から気泡が各分岐チューブ４１ａ，４３ａ及びタンクホルダー３５を通じて外部に排出されるようになっている。
【００２４】
図６に示すように、スチーム生成機構４４は、美顔器本体１２の中央よりも前側に備えられており、駆動電流の供給に基づいて発熱しその発熱の自己制御機能を有するＰＴＣ（Positive Temperature Coefficient）ヒーター４６ａ，４６ｂを前側と後側にそれぞれ備えている。そして、スチーム生成機構４４は、給水タンク３６から給水チューブ４３を介してＰＴＣヒーター４６ａ，４６ｂの内側のミスト室としてのボイラー室４７内に供給された水を沸騰させてスチーム（ミスト）の生成を行っている。
【００２５】
ボイラー室４７の上部には、生成したスチームを一対のスチームノズル１６ａ，１６ｂまで案内するためのスチーム案内管路４８が接続されている。そのため、ボイラー室４７にて生成されたスチームはスチーム案内管路４８を通って各スチームノズル１６ａ，１６ｂまでそれぞれ案内される。そして、ボイラー室４７やスチーム案内管路４８内は高圧となるため、各スチームノズル１６ａ，１６ｂの放出孔からはある程度の勢いを以てスチームが放出されるようになっている。尚、スチームノズル１６ａ，１６ｂの放出孔の内径は例えば３．６ｍｍに設定されている。
【００２６】
また、スチーム案内管路４８の途中位置には、スチーム放電部４９が備えられている。スチーム放電部４９は、自身の放電により、通過するスチームをより微細化するものである。また、このスチーム放電部４９では、抗酸化作用があり肌にも良いとされる金属（例えば白金）を用い、放電を利用してその金属微粒子を発生させている。
【００２７】
冷ミスト生成機構４５は、スチーム生成機構４４よりも後側に備えられており、ベンチュリー効果を用いて冷ミストを生成する。給水タンク３６から給水チューブ４３を通じて供給される水はスチーム生成として利用される他に冷ミスト生成としても利用され、その給水タンク３６からの水の一部をミストノズル１７まで送水する送水管路５０が備えられている。送水管路５０は、後側のＰＴＣヒーター４６ｂの放熱面の平面方向に蛇行して該放熱面に当接するように配置される殺菌部５１を有している。この殺菌部５１の内部には、所定の水量が保持されており、スチーム生成時の後側のＰＴＣヒーター４６ｂの熱（余熱）により、冷ミスト用の水が例えば８０℃以上、３０秒以上で殺菌処理されるようになっている。このように殺菌された水が送水管路５０に供給される。その結果、ミストノズル１７から放出される冷ミストは、美容に適した衛生状態に保たれる。
【００２８】
また、図７に示すように、冷ミスト生成機構４５として、美顔器本体１２内には左右一対のポンプブロック５２が設けられている。これらのポンプブロック５２は、電源モーターを駆動源としたポンプ５３と、該ポンプ５３から送出される空気をミストノズル１７に向けて流動させるエアチューブ５４とを各々備えている。そして、各ポンプブロック５２から送出される空気は、両エアチューブ５４が接続されるエアパイプ５５で混合されることにより風量が増大した状態で、エアチューブ５６（図６参照）を通じてミストノズル１７へと送風される。
【００２９】
次に、スチーム放電部４９の詳細な構成について図８及び図９に基づき説明する。
図８及び図９に示すように、スチーム放電部４９は、スチーム案内管路４８内において放電を行うものであり、一対の第１電極部７０，７１と、この第１電極部７０，７１間に配置される第２電極部７２とを備えている。
【００３０】
第１電極部７０，７１は、円柱状をなし、それぞれの軸中心が左右方向に沿う軸線Ｌｎ上、つまり同一軸線上となるように、スチーム案内管路４８に固定される電極ホルダー７３によって支持されている。尚、電極ホルダー７３は、その基端側（第１電極部７０，７１を支持している方向とは反対側）が図示しない防水パッキンにて防水されており、スチーム案内管路４８からスチームが流出することが防止されている。
【００３１】
また、第２電極部７２は、Ｐｔ含有の円柱状の金属部材にて構成されており、スチーム案内管路４８の内面（前側の内面）からスチーム案内管路４８の径方向内側に延出形成された延出部７５に固定される別部材からなる保持部材としてのピンプレート７４によって両第１電極部７０，７１の中間で軸線Ｌｎ上に位置するように保持されている。
【００３２】
すなわち、延出部７５には、その一方の側面（図８では左側面）７６に突起部７７が形成されるとともに、その側面７６とは反対側の側面（図８では右側面）７８に水平断面Ｌ字状の一対の突起部７９が突起部７７の形成位置を挟んで延出部７５の延出方向にピンプレート７４の短手方向の幅寸法と対応した間隔を隔てて形成されている。
【００３３】
また、ピンプレート７４は、水平方向と直交する鉛直方向に延びる第１板部８０と、該第１板部８０に対して平行に延びる延長部としての第２板部８１と、各板部８０，８１の一端側（図８及び図９では下端側）において各板部８０，８１間を接続する接続部８２とで構成されている。第１板部８０は、第２板部８１と比較して短く構成されており、第１板部８０の幅方向の中央位置には延出部７５の突起部７７と係合する係合孔８３が形成されている。一方、第２板部８１における接続部８２とは反対側（図９において上側）の端部には、第２板部８１を厚み方向となる左右方向に貫通する切り欠き溝８４が切り欠き形成されている。そして、この切り欠き溝８４の内奥部となる溝内下部位置には切り欠き溝８４の溝幅よりも径寸法が大きい第２電極部７２の断面形状と対応した略円形状の挿通部８４ａが切り欠き溝８４に連続形成され、その挿通部８４ａに第２電極部７２が挿通されて保持されるようになっている。すなわち、本実施形態では、切り欠き溝８４の挿通部８４ａは、第２電極部７２を保持する保持部として機能する。この場合、切り欠き溝８４の溝内下部の挿通部８４ａは、ピンプレート７４を延出部７５に取り付けた際に第１電極部７０，７１の軸線Ｌｎと同一軸線上となるように設定されている。その結果、その挿通部８４ａに挿通された第２電極部７２が第１電極部７０，７１と同一軸線Ｌｎ上に配置（各軸中心が一致して配置）されるようになっている。
【００３４】
また、第２板部８１には、矩形状の流下促進部としての貫通孔８５が厚み方向に貫通形成されている。この貫通孔８５は、第２板部８１の上端部に形成された切り欠き溝８４における溝内下部の挿通部８４ａの下方に隣接する位置から第２板部８１における接続部８２側となる下端部の近傍に至るまで鉛直方向に延びるように形成されている。そして、ピンプレート７４は、第１板部８０及び第２板部８１における接続部８２とは反対側の端部を上側に向けて延出部７５の下側から両板部８０，８１間に延出部７５を挟入させる取着態様で取り付けられるようになっている。この場合、延出部７５の突起部７７とピンプレート７４の係合孔８３とが係合し、更に断面Ｌ字状の前後方向で対向する一対の突起部７９が第２板部８１を上下方向にガイドすることにより、ピンプレート７４はスチーム案内管路４８内に着脱可能に取り付けられるようになっている。
【００３５】
次に、上記のように構成された美顔器１０の作用について、特に、第２電極部７２に結露した水がピンプレート７４を伝って鉛直下方に流下する際の作用に着目して以下説明する。
【００３６】
さて、図１０（ａ）に示すように、スチーム案内管路４８を通過するスチームの一部が第２電極部７２の先端部に対して結露したとする。すると、結露した水Ｗは、その表面張力に従って第２電極部７２の表面上を拡がった後、第２電極部７２を保持しているピンプレート７４の表面上を伝うように流動する。この場合、第２電極部７２は、ピンプレート７４の第１板部８０の両側面間を貫通するようにして保持されているため、第２電極部７２に結露した水Ｗは、ピンプレート７４の第２板部８１の両側面上をそれぞれ伝うように流動する。そして、ピンプレート７４の第２板部８１の両側面に伝った水は、ピンプレート７４の第２板部８１の両側面上を重力に従って鉛直下方に流下する。
【００３７】
ここで、ピンプレート７４の第２板部８１において第２電極部７２を挿通して保持する挿通部８４ａの下側近傍には、第２板部８１を厚み方向に貫通する貫通孔８５が形成されている。そのため、図１０（ｂ）に示すように、第２電極部７２からピンプレート７４の第２板部８１の両側面に伝った水Ｗにおける下端側の部分は、貫通孔８５を通じて互いに接触することにより結合して大きな水滴となる。その結果、ピンプレート７４の第２板部８１の両側面に伝った水Ｗは、水滴の大きさが増大することにより、第２板部８１の両側面上を重力に従って流下し易くなる。
【００３８】
そして、図１０（ｃ）に示すように、ピンプレート７４の第２板部８１の両側面に伝った水Ｗは、ピンプレート７４の第２板部８１において第２電極部７２を保持する切り欠き溝８４の挿通部８４ａの近傍から下方へ離間するように重力に従って鉛直下方に速やかに流下する。すなわち、第２電極部７２に結露した水Ｗがピンプレート７４の第２板部８１を介して重力に従って鉛直下方に流下することが促進される。そのため、第２電極部７２の先端部に対して水Ｗが結露したとしても、結露した水Ｗは、ピンプレート７４の第２板部８１を伝うように速やかに流動することにより、結露した水Ｗが第２電極部７２の先端部に滞留することが抑制される。したがって、第１電極部７０，７１から第２電極部７２への放電を通じたスチームの微細化が良好に行われる。
【００３９】
上記第１実施形態によれば、以下に示す効果を得ることができる。
（１）スチーム案内管路４８内のスチームが第２電極部７２に結露したとしても、結露した水Ｗは、ピンプレート７４に形成された貫通孔８５がピンプレート７４において水Ｗが伝う面（表裏両側面）を広い意味で粗面化し、その水Ｗが密に接触可能な面積を貫通孔８５がない平滑面の場合よりも縮小している。そのため、第２電極部７２に水Ｗが結露したとしても、そのような結露した水Ｗは、平滑面を伝う場合と比較して、その水Ｗの表面張力を弱める流下促進部として機能する貫通孔８５が形成されたピンプレート７４を伝って速やかに流下するようになり、第２電極部７２を覆うように滞留することが抑制される。したがって、スチームの微細化のための放電を良好に行うことができる。
【００４０】
（２）第２電極部７２に結露した水Ｗが、ピンプレート７４を伝うようにしてピンプレート７４において貫通孔８５が開口形成された一方側の側面に至った場合、この水Ｗは、ピンプレート７４において貫通孔８５が開口形成された他方側の側面に結露した水Ｗと結合して水滴が大きくなる。その結果、第２電極部７２からピンプレート７４に伝った水滴の大きさが増大するため、かかる水滴は重力に従って速やかに下方に流下する。そのため、第２電極部７２に水Ｗが結露したとしても、第２電極部７２に結露した水Ｗが第２電極部７２を覆うように滞留することを抑制する構成を簡易に実現することができる。
【００４１】
（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態について図１１及び図１２に基づき説明する。なお、第２実施形態は、第２電極部７２に結露した水Ｗの流下促進を図る流下促進部の構成が第１実施形態と異なる。したがって、以下の説明においては、第１実施形態と相違する構成について主に説明するものとし、第１実施形態と同一又は相当する構成については同一符号を付して重複説明を省略するものとする。
【００４２】
さて、図１１（ａ）〜（ｃ）に示すように、ピンプレート７４における第２板部８１の表裏両側面には、上下方向に細長く直線状に延びる流下促進部としての凹条９０，９１がそれぞれ形成されている。これらの凹条９０，９１は、その上端部が切り欠き溝８４における溝内下部の挿通部８４ａに連続すると共に、その下端部が第２板部８１における上下方向の略中央位置よりも下方寄りとなる位置まで延びるように形成されている。
【００４３】
そして、図１２に示すように、本実施形態では、第２電極部７２に結露した水Ｗが、ピンプレート７４の第２板部８１において第２電極部７２を挿通して保持する切り欠き溝８４の挿通部８４ａの下側に伝うと、その水Ｗは、挿通部８４ａの鉛直下方に連続形成された凹条９０，９１に沿って流下する。この場合、ピンプレート７４の第２板部８１を伝う水Ｗは、ピンプレート７４の表裏両側面が凹条９０，９１により非平滑面となるように粗面化されているため、ピンプレート７４に対する接触面積が小さくなり、その表面張力が弱まる。その結果、ピンプレート７４の第２板部８１に伝った水Ｗは、凹条９０，９１が形成されたことで粗面化されたピンプレート７４の表裏各側面上を凹条９０，９１の延びる方向に沿うように鉛直下方に流下し易くなる。
【００４４】
その結果、ピ第２電極部７２の先端部に対して水Ｗが結露したとしても、結露した水Ｗは、ピンプレート７４の第２板部８１を伝うように速やかに流動することにより、結露した水Ｗが第２電極部７２の先端部に滞留することが抑制される。したがって、第１電極部７０，７１から第２電極部７２への放電を通じたスチームの微細化が良好に行われる。
【００４５】
特に、本実施形態では、ピンプレート７４の第２板部８１において第２電極部７２を保持する切り欠き溝８４の挿通部８４ａから鉛直下方に連続するように形成された凹条９０，９１はピンプレート７４を厚み方向に貫通していない。そのため、第２電極部７２を挿通部８４ａに挿通させて保持する際のかしめ変形を許容するために切り欠き溝８４はピンプレート７４の厚み方向に貫通しているものの、それよりも下方に形成される凹条９０，９１はピンプレート７４を厚み方向に貫通していないので、ピンプレート７４の剛性がある程度確保される。
【００４６】
上記第２の実施形態によれば、以下に示す効果を得ることができる。
（３）スチーム案内管路４８内のスチームが第２電極部７２に結露したとしても、結露した水Ｗは、ピンプレート７４に形成された凹条９０，９１がピンプレート７４において水Ｗが伝う面（表裏両側面）を広い意味で粗面化し、その水Ｗが密に接触可能な面積を凹条９０，９１がない平滑面の場合よりも縮小している。そのため、第２電極部７２に水Ｗが結露したとしても、そのような結露した水Ｗは、平滑面を伝う場合と比較して、その水Ｗの表面張力を弱める流下促進部として機能する凹条９０，９１が形成されたピンプレート７４を伝って速やかに流下するようになり、第２電極部７２を覆うように滞留することが抑制される。したがって、スチームの微細化のための放電を良好に行うことができる。
【００４７】
（４）第２電極部７２に結露した水Ｗをピンプレート７４に伝わせて速やかに流下させるためにピンプレート７４に形成される流下促進部が、ピンプレート７４を厚み方向に貫通しない凹条９０，９１で構成されているため、第２電極部７２の保持部として機能するピンプレート７４の剛性を良好に維持することができる。
【００４８】
なお、上記各実施形態は、以下のような別の実施形態に変更してもよい。
・上記第２実施形態において、図１３（ａ）に示すように、ピンプレート７４の第２板部８１において第２電極部７２が挿通される側面に対し、複数の凹条９２を鉛直方向に平行に延びるように形成してもよい。なお、図１３（ａ）に示すピンプレート７４は、これらの凹条９２が切り欠き溝８４との間に若干の距離を隔てて形成されているが、これらの凹条９２を切り欠き溝８４における溝内下部の挿通部８４ａに連続するように形成してもよい。また、図１３（ａ）に示すピンプレート７４は、これらの凹条９２がピンプレート７４の第２板部８１の下端部に至るまで延びるように形成されているが、これらの凹条９２をピンプレート７４の第２板部８１における上下方向の途中位置まで延びるように形成してもよい。
【００４９】
・上記各実施形態において、図１３（ｂ）に示すように、ピンプレート７４の第２板部８１において第２電極部７２が挿通される側面に対し、貫通孔８５及び凹条９３を形成するようにしてもよい。なお、図１３（ｂ）に示すピンプレート７４は、切り欠き溝８４の鉛直下方となる位置に貫通孔８５を形成すると共に、この貫通孔８５に対して水平方向両側となる位置に凹条９３が設けられているが、これらの貫通孔８５及び凹条９３は任意の配置態様で形成してもよい。
【００５０】
・上記第１実施形態において、貫通孔８５は、ピンプレート７４において切り欠き溝８４の鉛直下方となる位置に設けられているが、この切り欠き溝８４よりも下側となる位置であれば任意の位置に形成してもよい。ただし、第２電極部７２からピンプレート７４の第２板部８１に伝った水Ｗが円滑に貫通孔８５に到達するように、切り欠き溝８４における溝内下部の挿通部８４ａに対して近接する位置に貫通孔８５を形成することが望ましい。
【００５１】
・上記第２実施形態において、凹条９０，９１は、ピンプレート７４の切り欠き溝８４の鉛直下方に連続するように設けられているが、この切り欠き溝８４よりも下側となる位置に切り欠き溝８４との間に上下方向に間隔を隔てて形成してもよい。ただし、第２電極部７２からピンプレート７４の第２板部８１に伝った水Ｗが円滑に凹条９０，９１に到達するように、切り欠き溝８４における溝内下部の挿通部８４ａに対して近接する位置に凹条９０，９１を形成することが望ましい。
【００５２】
・上記各実施形態において、第２電極部７２を保持する切り欠き溝８４が設けられたピンプレート７４の第２板部８１を、鉛直方向に対して傾斜した方向に向けて延びるように設けてもよい。
【００５３】
・上記各実施形態において、ピンプレート７４の第２板部８１において第２電極部７２が挿通される側面に対し、複数の凸部を互いに近接して配置するようにしてもよい。この構成によれば、第２電極部７２からピンプレート７４の第２板部８１に伝った水Ｗは、その表面張力によって、これらの凸部の先端に対してピンプレート７４の側面との間に隙間を介在させて接触するようになる。そのため、ピンプレート７４の第２板部８１に伝った水Ｗは、ピンプレート７４における平滑面状の部位を伝う場合と比較して、ピンプレート７４に対する接触面積が低下する。したがって、ピンプレート７４の凸部に至った水Ｗを重力に従って速やかに流下させることができる。
【００５４】
・上記第２実施形態において、ピンプレート７４の第２板部８１において第２電極部７２が挿通される一方側の側面のみに、凹条９０，９１を形成するようにしてもよい。
・上記各実施形態において、ピンプレート７４における第２板部８１の表裏両側面の少なくとも一方の面を粗仕上げにすることにより、第２板部８１の表裏各側面上に伝う水Ｗの表面張力を弱めるようにしてもよい。このようにすれば、第１実施形態における貫通孔８５や第２実施形態における凹条９０，９１を設けなくても、ピンプレート７４における第２板部８１の粗面化された側面自体が流下促進部として機能する。
【００５５】
・上記各実施形態において、第１電極部７０，７１を保持する電極ホルダー７３を鉛直方向に延びるように設けると共に、この電極ホルダー７３に対し、第１電極部７０，７１から伝った水Ｗを鉛直下方に流下させることを促進する構造を設けてもよい。
【００５６】
・上記各実施形態において、ＰＴＣヒーター４６ａ，４６ｂによりスチームを発生させるスチーム生成機構４４に代えて、超音波振動にて水をミスト化する装置や静電霧化装置を用いてミスト化する装置等を用い、ミストを発生させるようにしてもよい。
【００５７】
・上記実施形態において、本発明を美顔器１０に具体化したが、加湿器などに具体化してもよい。
・上記実施形態では、液体として水に具体化したが、アルカリイオン水、美容液を含んだ水、電解水、芳香剤を含んだ水等で実施してもよい。
【符号の説明】
【００５８】
１０…美容装置としての美顔器、４４…ミスト発生装置を構成するミスト発生部としてのスチーム生成機構、７０，７１…第１電極部、７２…第２電極部、７４…保持部材としてのピンプレート、８１…延長部としての第２板部、８４ａ…保持部としての挿通部、８５…流下促進部としての貫通孔、９０，９１，９２，９３…流下促進部を構成する凹条。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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