(57)【要約】  【課題】内部での多重反射が抑制された光学機能素子を提供する。また、該光学機能素子が搭載されることにより、実際には存在しない像の写り込みが抑制された撮像装置を提供する。  【解決手段】光学機能素子は、基材層と、基材層の一主面に形成され、入射する光のうち、あらかじめ定められた割合の光を反射し、残余の光を透過する半透過層と、基材層に対して基材層の一主面とは反対側の主面上に形成され、基材層を通過する光の反射を防止する反射防止層とを備える。撮像装置は、該光学機能素子と、光学機能素子からの透過光を受光する第１の受光素子と、光学機能素子からの反射光を受光する第２の受光素子とを備える。【選択図】図１
2012042665.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材層と、
前記基材層の一主面に形成され、入射する光のうち、あらかじめ定められた割合の光を反射し、残余の光を透過する半透過層と、
前記基材層に対して前記基材層の一主面とは反対側の主面上に形成され、前記基材層を通過する光の反射を防止する反射防止層と
を備える光学機能素子。
【請求項２】
前記基材層が、光学的等方材料からなる
請求項１に記載の光学機能素子。
【請求項３】
前記基材層の厚みが、１００μｍ以下である
請求項１または２に記載の光学機能素子。
【請求項４】
４００ｎｍ〜６５０ｎｍの波長域における前記反射防止層の実効反射率の平均が、１．２％以下である
請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学機能素子。
【請求項５】
前記半透過層および前記反射防止層が、共通した材料から構成される
請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学機能素子。
【請求項６】
前記半透過層および前記反射防止層が、スパッタ法により形成される
請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学機能素子。
【請求項７】
前記半透過層および前記反射防止層が、蒸着法により形成される
請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学機能素子。
【請求項８】
前記反射防止層がモスアイ層である
請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学機能素子。
【請求項９】
基材層，前記基材層の一主面に形成され、入射する光のうち、あらかじめ定められた割合の光を反射し、残余の光を透過する半透過層，および前記基材層に対して前記基材層の一主面とは反対側の主面上に形成され、前記基材層を通過する光の反射を防止する反射防止層
を備える光学機能素子と、
光学機能素子からの透過光を受光する第１の受光素子と、
光学機能素子からの反射光を受光する第２の受光素子と
を備える撮像装置。
【請求項１０】
前記第１の受光素子が、第１の撮像素子であり、
前記第２の受光素子が、第２の撮像素子である
請求項９に記載の撮像装置。
【請求項１１】
前記第２の受光素子が、オートフォーカスセンサである
請求項１０に記載の撮像装置。
【請求項１２】
前記オートフォーカスセンサが、位相差検出方式のオートフォーカスセンサである
請求項１１に記載の撮像装置。
【請求項１３】
前記光学機能素子の主面に立てた法線と被写体光の光軸とのなす角が、４５°より小である
請求項９〜１２のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項１４】
前記反射防止層の形成される主面が、前記第１の受光素子に近い側の主面である
請求項９〜１３のいずれか１項に記載の撮像装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本願開示は、光学機能素子および撮像装置に関する。特に、多重反射が抑制された光学機能素子および該光学機能素子を含む撮像装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
撮影用のレンズおよびファインダ用のレンズを共通のものとし、撮影用レンズからの入射光をミラーで反射させ、ファインダで確認できるようにした一眼レフカメラが知られている。一眼レフカメラは、レンズを交換することにより、撮影シーンや撮影者のニーズに合わせた撮影が可能である。また、ファインダの光学系に入射する光は、レンズから入射した光をミラーで反射させたものであり、撮影時には、ミラーを退避させ、レンズから入射した光がそのままフィルムに届くようにされる。そのため、一眼レフカメラを用いると、ファインダから確認した被写体を、視差なくイメージ通りに撮影できるという利点がある。
【０００３】
一眼レフカメラにオートフォーカス（Autofocus）センサを搭載するために、ミラーを半透過ミラーとし、透過光をさらに別のサブミラーでオートフォーカスセンサに導くようにした一眼レフカメラも知られている（例えば、特許文献１および２を参照。）。このような一眼レフカメラでは、シャッタを切る直前までオートフォーカス（以下、オートフォーカスをＡＦと適宜記載する。）が行われる。
【０００４】
上述したように、一眼レフカメラは、可動とされたミラーの位置を変更することにより、ファインダの光学系とフィルムのどちらへ入射光を導くかを切り替えている。これは、被写体が撮影される瞬間（露光中）については、ファインダから被写体が確認できなくなることを意味する。また、半透過ミラーおよびサブミラーを備える構成の場合には、半透過ミラーおよびサブミラーをともに退避位置に移動させる必要があり、連写を行おうとしたときにＡＦを正常に機能させることが困難となる。
【０００５】
そこで、サブミラーを廃し、半透過ミラーを固定式とした構成が提案されている（例えば、特許文献３を参照。）。特許文献３に開示される構成では、半透過ミラーによる反射光をＡＦセンサユニットに導き、透過光を撮像素子に導くようにしている。特許文献３に開示される構成によれば、露光中においても常に被写体の確認ができ、また、常にＡＦが行われるようにすることができる。
【０００６】
ところが、半透過ミラーを固定式とすると、半透過ミラーの内部で多重反射が起き、実際には存在しない像（以下、ゴーストと適宜称する。）が写り込むことがある。このような現象は、半透過ミラーの片面に赤外（Infrared（ＩＲ））カットフィルタや紫外（Ultraviolet（ＵＶ））カットフィルタを設けた場合にも同様に発生する。
【０００７】
特に、デジタル方式のカメラでは、撮影されたデジタル画像の拡大が容易であり、ゴーストが問題となりやすい。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特許第２８０１２１７号明細書
【特許文献２】特開平８−２５４７５１号公報
【特許文献３】特開２００６−１９７４０６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
多重反射が抑制された光学機能素子および該光学機能素子を含む撮像装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
光学機能素子の好ましい実施の態様は、以下のとおりである。
基材層と、
基材層の一主面に形成され、入射する光のうち、あらかじめ定められた割合の光を反射し、残余の光を透過する半透過層と、
基材層に対して基材層の一主面とは反対側の主面上に形成され、基材層を通過する光の反射を防止する反射防止層と
を備える。
【００１１】
撮像装置の好ましい実施の態様は、以下のとおりである。
基材層，基材層の一主面に形成され、入射する光のうち、あらかじめ定められた割合の光を反射し、残余の光を透過する半透過層，および基材層に対して基材層の一主面とは反対側の主面上に形成され、基材層を通過する光の反射を防止する反射防止層
を備える光学機能素子と、
光学機能素子からの透過光を受光する第１の受光素子と、
光学機能素子からの反射光を受光する第２の受光素子と
を備える。
【００１２】
光学機能素子は、基材層の一主面上に半透過層が形成され、半透過層が形成される面とは逆の主面上に反射防止層が形成される。基材層の内部を反射防止層に向かって進む光は、反射防止層によって基材層の内部への反射が抑制される。したがって、光学機能素子の内部での多重反射が抑制される。
【発明の効果】
【００１３】
少なくとも１つの実施例によれば、光学機能素子の内部での多重反射を抑制することができ、したがってゴーストの写り込みが抑制された撮像装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】図１は、第１の実施の形態にかかる光学機能素子の断面模式図である。
【図２】図２Ａは、半透過層の一構成例を示す断面模式図である。図２Ｂは、図２Ａに示す層構成から期待される光学特性のシミュレーション結果を示した図である。
【図３】図３Ａは、無機材料を積層することにより形成した反射防止層の一構成例を示す断面模式図である。図３Ｂは、図３Ａに示す層構成から期待される光学特性のシミュレーション結果を示した図である。
【図４】図４は、反射防止層として基材層にモスアイを形成したときの、入射光の波長λ［ｎｍ］に対する実効反射率Ｒｅ［％］を示した図である。
【図５】図５は、反射光の分光測定の概略を示す略線図である。
【図６】図６Ａおよび図６Ｂは、半透過ミラー固定式の撮像装置において、半透過ミラーの反りがＡＦに与える影響を説明するための略線図である。
【図７】図７Ａは、第２の実施の形態にかかる撮像装置の概略を示す断面模式図である。図７Ｂは、光学機能素子の近傍を拡大して示す略線図である。
【図８】図８は、サンプルＳ１〜サンプルＳ５について、入射光の波長λ［ｎｍ］に対する実効反射率Ｒｅ［％］を示す図である。
【図９】図９は、サンプルＳ１〜サンプルＳ５について、撮影された光源装置の像を説明するための図である。
【図１０】図１０Ａは、半透過ミラー固定式の撮像装置の概略的構成を示す断面模式図である。図１０は、半透過ミラーの近傍を拡大して示す略線図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、光学機能素子および撮像装置の実施の形態について説明する。なお、説明は、以下の順序で行う。
＜０．半透過ミラー固定式の撮像装置＞
（概略的構成）
（半透過ミラー内部の多重反射）
＜１．第１の実施の形態＞
［光学機能素子］
（基材層）
（半透過層）
（反射防止層）
（反りの低減）
＜２．第２の実施の形態＞
［撮像装置］
（撮像装置の構成）
（光学機能素子の配置）
［実施例］
＜３．変形例＞
【００１６】
なお、以下に説明する実施の形態は、光学機能素子および撮像装置の好適な具体例である。以下の説明においては、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、特にこの発明を限定する旨の記載がない限り、光学機能素子および撮像装置の例は、以下に示す実施の形態に限定されないものとする。
【００１７】
＜０．半透過ミラー固定式の撮像装置＞
実施の形態の理解を容易とするため、まず、半透過ミラー固定式の撮像装置の概略的構成について説明する。
【００１８】
（概略的構成）
図１０Ａは、半透過ミラー固定式の撮像装置の概略的構成を示す断面模式図である。図１０Ｂは、半透過ミラーの近傍を拡大して示す略線図である。図１０Ａに示すように、撮像装置１１１の本体を構成する筐体１２１に対して、交換可能な撮影光学系１２３が取り付けられている。撮影レンズ１２５、絞り等が鏡筒１２７に配置され、撮影光学系１２３が構成される。撮影光学系１２３の撮影レンズ１２５は、フォーカス駆動系（図示しない）によって駆動され、ＡＦ動作が可能とされている。
【００１９】
筺体１２１の内部には、被写体光の光軸に対して傾けられるようにして、半透過ミラー１０１が固定されている。半透過ミラー１０１の上方には、ＡＦモジュール１３３が配置されている。ＡＦの方式は、通常、位相差検出方式である。半透過ミラー１０１に対して撮影レンズ１２５の反対側に、フィルム１３５が配置されている。なお、図１０Ａにおいては、シャッタ機構の図示を省略している。
【００２０】
半透過ミラー１０１は、撮影レンズ１２５を介して筺体１２１の内部に入射する被写体光を、反射および透過させるものである。半透過ミラー１０１は、図１０Ｂに示すように、光透明性を有する樹脂フィルム１０３を基材として用い、その一主面上に光学薄膜１０５が形成されたものである。光学薄膜１０５は、撮影レンズ１２５に近い側の一主面上に形成され、半透過ミラー１０１に入射する光が所定の反射率で反射されるようにするために設けられる。半透過ミラー１０１によって反射された光がＡＦモジュール１３３に導かれ、その残余の光（透過光）がフィルムまたは撮像素子に届くようにされる。すなわち、図１０の構成を有する撮像装置は、被写体光の一部をＡＦに使用し、残りの光でフィルムまたは撮像素子の露光を行うようにされる。図１０に示す撮像装置は、透過光がフィルム１３５に届くようにされた例である。
【００２１】
図１０に示す構成では、半透過ミラー１０１が固定式とされて退避動作を行うことがないため、ＡＦモジュールに対して、常に被写体光の一部が入射する。したがって、常にＡＦが行われるようにすることができる。なお、図１０に示す構成では、光学式ビューファインダが設けられておらず、半透過ミラー１０１によって上方に反射された光をＡＦモジュール１３３に導いてＡＦを行うようにしている。ただし、光学系を工夫して光学式ビューファインダおよびＡＦモジュール１３３の両方を上部に設けることも可能である。
【００２２】
（半透過ミラー内部の多重反射）
図１０Ｂに示すように、半透過ミラー１０１を透過する光には、半透過ミラー１０１の内部で複数回反射したのちにフィルムまたは撮像素子に向けて出射される光が含まれている。
【００２３】
図１０Ｂの半透過ミラー１０１において、撮影レンズに近い側の面をＳｉ、反対側の面をＳｐとする。面Ｓｉに入射する被写体光Ｂに対して、半透過ミラー１０１を透過して、面Ｓｐから外部に出射される光をＴn（ｎ＝０，１，２，・・・）とする。半透過ミラー１０１に入射した被写体光Ｂは、その一部が面Ｓｉにおいて所定の割合で反射され、ＡＦモジュールに向かう反射光Ｒ0となる。残りの光は半透過ミラー１０１の内部を進むが、一部が面Ｓｐで反射されて半透過ミラー１０１の内部に戻る。面Ｓｐで反射されなかった光が、Ｔ0として外部に向けて出射される。
【００２４】
半透過ミラー１０１の内部に戻った光は、面Ｓｉで反射され、一部が面Ｓｐで再び反射されて半透過ミラー１０１の内部に戻り、残りの光がＴ1として外部に向けて出射される。以下、さらに反射を繰り返して外部に向けて出射される光を、反射の回数が多い順にＴ2，Ｔ3，・・・とし、ｎが１以上であるＴnを高次の不要光と記載する。
【００２５】
フィルムまたは撮像素子が高次の不要光により露光されると、高次の不要光がゴーストとして記録されてしまう。例えば、蛍光灯のように光を発する物体を撮影すると、蛍光灯の像の周囲に、もやの様な不鮮明な像がゴーストとして写り込む。ゴーストは、蛍光灯の像に対して、ある一方向について発生する。また、点灯しているＬＥＤ（Light-Emitting Diode）などを撮影すると、ＬＥＤの光を放つ部分の近傍に、一列に並んだ複数の輝点が写り込む。この複数の輝点は、ＬＥＤの発光部から離れるにしたがい目立たなくなる。これは、ｎが大きくなるにしたがい、不要光の強度が小さくなるためであると考えられる。
【００２６】
上述したようなゴーストの写り込みは、フィルムから現像される写真ではあまり大きな問題とはならないが、半透過ミラー固定式の撮像装置を、ＣＣＤ（Charge Coupled Device)、ＣＭＯＳ(Complementary Metal Oxide Semiconductor)等をイメージセンサとして用いるデジタル方式のカメラとした場合に問題となりやすい。デジタル画像は、パーソナルコンピュータ等を用いて容易に拡大ができるからである。
【００２７】
半透過ミラー固定式の撮像装置では、被写体光の一部を反射させてＡＦに使用し、残りの光を露光のために用いている。そのため、このような高次の不要光を可能な限り低減させ、撮像に使用される光の光量を十分なものとすることが望ましい。
【００２８】
また、図１０Ｂに示すように、面Ｓｐで反射されて半透過ミラー１０１の内部に戻った光のうちの一部は、面Ｓｉで反射されずに外部へ出射される光Ｒm（ｍ＝１，２，・・・）となる。半透過ミラー１０１の上方に、位相差ＡＦのためのＡＦモジュールが配置される構成では、光Ｒmがノイズ光として捉えられてしまい、測距値の誤差要因となる。したがって、ピントがあった画像を得ることができなくなってしまう。
【００２９】
ゴーストや測距値のずれは、半透過ミラー１０１の片面にＩＲカットフィルタやＵＶカットフィルタを設けた場合にも同様に発生するため、半透過ミラー固定式の撮像装置に用いる半透過ミラーは、内部の多重反射が抑制されたものであることが望ましい。
【００３０】
＜１．第１の実施の形態＞
次に、第１の実施の形態について説明する。第１の実施の形態は、半透過ミラー固定式の撮像装置の半透過ミラーとして用いて好適な光学機能素子である。
【００３１】
［光学機能素子］
光学機能素子は、基材層と、基材層の一主面上に形成される半透過層と、半透過層が形成される面とは反対側の主面上に形成される反射防止層とを備える。
【００３２】
半透過層は、入射する光をあらかじめ定められた割合で反射し、残余の光を透過する。反射防止層は、基材層の内部を進む光が、基材層と反射防止層との界面で反射されて基材層の内部に戻ることを防止する。
【００３３】
したがって、光学機能素子の内部での多重反射を抑制することができ、光学機能素子から出射される高次の不要光を低減させることができる。また、半透過層および反射防止層が基材層に対して同じ側の面上に形成されないので、膜応力による光学機能素子の反りを低減させることができる。すなわち、半透過層や反射防止層のような光学機能層が片面のみに積層される光学機能素子よりも平面性が向上する。その結果、特に反射光の反射角度の精度が増し、ＡＦ性能が向上する。
【００３４】
図１は、第１の実施の形態にかかる光学機能素子の断面模式図である。光学機能素子１は、基材層３、半透過層５および反射防止層７が積層された構成とされる。図１に示すように、基材層３の一主面上に半透過層５が形成される。基材層３に対して、半透過層５が形成される面とは反対側の主面上に、反射防止層７が形成される。以下、基材層３、半透過層５および反射防止層７について、順に説明する。
【００３５】
（基材層）
基材層３は、半透過層５および反射防止層７を形成するための支持基板となるものである。基材層３の形状や大きさは特に制限されるものではないが、光学機能素子１が半透過ミラー固定式の撮像装置に組み込まれるものであるとした場合、基材層３の厚みが、なるべく小さくされていることが好ましい。具体的には、基材層３の厚みが、１０μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましい。入射した光が、基材層３の内部を進む距離を小さくすることができ、結像性能の劣化を低減することができるからである。また、撮像装置を軽量なものとすることができるからである。
【００３６】
基材層３は、透明性を有する。基材層３は、可視光領域で高い透明性を有していることが好ましい。光学機能素子１が半透過ミラー固定式の撮像装置に組み込まれるものであるとした場合、可視光領域を元にして、撮像素子の感度特性が設計で決められるからである。ここで、可視光領域（カラーフィルタを含む撮像素子の感度域といってもよい。）とは、４００ｎｍ〜７００ｎｍの波長域を指す。基材層３単体の光透明性としては、例えば、ヘイズが０．９以下であることが好ましいが、半透過層５および反射防止層７が形成された光学機能素子１として、所定の透過率および反射率となればよい。なお、ヘイズの測定条件はＪＩＳ  Ｋ  ７３６１（ＩＳＯ  １３４６８）、ＪＩＳ  Ｋ  ７１３６（ＩＳＯ  １４７８２）、ＪＩＳ  Ｋ  ７１０５またはＡＳＴＭ  Ｄ  １００３に準拠したものである。以下に、ヘイズの測定装置を示す。
測定装置：ヘイズメーター（日本電色工業株式会社製  ＮＤＨ５０００）
【００３７】
基材層３は、その面内方向に関して、光学的に等方であると好ましい。基材層３が、その面内方向に関して光学的異方性を有している場合と比較して、光が入射したときの吸収による光量ロスを低減できるからである。また、光学機能素子を撮像装置の光路上に組み込んだ場合、波長毎の透過率のバラつきが抑えられ、したがってホワイトバランスの崩れを低減できるからである。そのほか、光の振動方向による結像位置のズレの発生を抑制でき、画質（解像度）の劣化を抑制できるからである。
【００３８】
ここで、「光学的に等方である」とは、面内の直交する２方向における屈折率をＮｘ、Ｎｙとしたときに、ΔＮ＝Ｎｘ−Ｎｙ（ここでは、Ｎｘ＞Ｎｙとする。）の値が、０．０１未満であることをいう。ΔＮは、試料に単一波長光束を入射させ、透過光の位相差を測定することにより、（位相差）＝（試料の厚さ）×ΔＮの関係を用いて求められる。なお、本明細書にいう「光学的に等方である」とは、光学的に厳密な等方性だけでなく、製造誤差や測定誤差(評価誤差)に起因した若干の異方性をも含むものとする。以下に、位相差の測定装置を示す。
測定装置：位相差測定装置（王子計測機器株式会社製  ＫＯＢＲＡ）
【００３９】
なお、基材層３を構成する材料として、ΔＮが０．０１以上の材料を使用してもよい。この場合、位相差の測定値が３００ｎｍ以下であることが好ましい。位相差が３００ｎｍ以下であれば、光学機能素子を撮像装置の光路上に組み込んだ場合にも、画質（解像度）の劣化に影響を与えないからである。
【００４０】
基材層３の材料としては、例えば、ポリカーボネート（Polycarbonate（ＰＣ））,シクロオレフィンポリマー（Cycloolefin Polymer（ＣＯＰ））,ポリエチレンテレフタレート（Polyethyleneterephtalate（ＰＥＴ））,ポリエーテルスルフォン（Polyethersulphone（ＰＥＳ））,ポリエチレンナフタレート（Polyethylenenaphthalate（ＰＥＮ））,トリアセチルセルロース（Triacetylcellulose（ＴＡＣ））,ポリイミド（Polyimide）,アラミド（Aramid（芳香族ポリアミド））などを使用することができる。基材層３の材料としては、樹脂に限られず、ガラス等を使用してもよい。光学的に等方であるという点で、非晶性プラスチックであるＰＣ,ポリイミドもしくはＣＯＰが選択されることが好ましい。または、ガラスが選択されることが好ましい。
【００４１】
また、基材層３として、例えば、アクリル系の樹脂が付いたフィルムを用いてもよい。可視光領域内で透明であり、目標とする光透明性を有する材料を選択すればよい。
【００４２】
（半透過層）
基材層３の一主面上には、半透過層５が形成される。半透過層５は、光学機能素子１が所定の反射率および透過率を有するようにするために設けられる。例えば、光学機能素子１が、可視光領域で反射率３０±１０％(透過率７０±１０％)の反射特性(光透過特性)を有するように、半透過層の設計がなされる。
【００４３】
半透過層５は、例えば、高屈折率材料および低屈折率材料の積層体である。高屈折率材料からなる層（以下、高屈折率層と称する。）および低屈折率材料からなる層（以下、低屈折率層と称する。）を交互に積層し、半透過層３とすることができる。高屈折率層を構成する高屈折率材料は、屈折率２．０以上（例えば２．０〜２．５）の材料である。低屈折率層を構成する低屈折率材料は、屈折率１．６未満の材料である。
【００４４】
高屈折率層としては、金属酸化物を使用することができる。高屈折率材料は、例えば、Ｉｎ2Ｏ3、ＳｎＯ2、ＺｎＯ、ＩＴＯのいずれかもしくはこれらの合金、またはＺｎＯにＡｌもしくはＧａをドープした透明導電性材料からなることが好ましい。または、ＴｉＯ2、Ｎｂ2Ｏ5、ＺｒＯ2、Ｔａ2Ｏ5のいずれかからなることが好ましい。低屈折率材料としては、例えば、ＭｇＦ2、ＡｌＦ3、ＳｉＯ2が好ましい。
【００４５】
図２Ａは、半透過層の一構成例を示す断面模式図である。図２Ａに示す構成例では、基材層３の一主面上に、高屈折率層５Hと低屈折率層５Lが積層された構成とされている。以下に、半透過層５および基材層３の層構成の一例を示す。
層構成：（低屈折率層／高屈折率層）基材層
低屈折率層：ＳｉＯ2（ＴＨL：約２０ｎｍ）
高屈折率層：ＴｉＯ2またはＮｂ2Ｏ5（ＴＨH：約６０ｎｍ）
基材層：ポリイミド、ＣＯＰまたはＰＣ（ＴＨS：１０μｍ〜９０μｍ）
【００４６】
図２Ｂは、図２Ａに示す層構成から期待される光学特性のシミュレーション結果を示した図である。図２Ｂでは、入射光の波長λ［ｎｍ］に対する反射率Ｒ［％］および透過率Ｔ［％］をそれぞれ示している。
【００４７】
図２Ｂに示すように、上述した構成により、可視光領域で反射率３０±１０％の反射特性が得られている。以下に、反射率および透過率のシミュレーション条件を示す。
シミュレーション条件：サンプルに立てた法線と入射光の光軸とがなす角度を３７°と想定し、各波長における反射率および透過率をそれぞれ計算した。反射率は、サンプルに対する正反射方向に向けて出射される反射光の割合を求めた。
【００４８】
半透過層５が、所定の反射率および透過率を有するようにするために、ＳＷＰＦ(Short Wave Pass Filter)の設計手法を使用することができる。ＳＷＰＦとは、短波長側の光を透過させて、長波長側の光を阻止（反射）するフィルタのことである。ＳＷＰＦの基礎設計は、（高屈折率材料の屈折率）×Ｈ＝λ／４（λ：設計中心波長）の関係を満たす層厚Ｈおよび（低屈折率材料の屈折率）×Ｌ＝λ／４の関係を満たす層厚Ｌを用いて、下記の式で表すことができる。
【００４９】
Ｌ／２・Ｈ・Ｌ・・・・Ｌ・Ｈ・Ｌ／２＝Ｌ／２（ＨＬ）nＨＬ／２（・・・の部分は繰り返しを表し、ｎは、繰り返し回数を表す整数である。）
【００５０】
基材層３として、例えばＰＣ（屈折率１．５９）のフィルムを使用した場合、上式における最初の層（Ｌ／２）は、ＰＣフィルムとみなすことができる。したがって、上式を、下記の式（１）のように簡略化する。
【００５１】
（ＨＬ）nＨＬ／２（ｎは、繰り返し回数を表す整数）    式（１）
【００５２】
設計中心波長を設定し、層厚Ｈおよび層厚Ｌを基礎設計する。さらに、最適化を行うことによって、目標とする反射特性(光透過特性)を得るようになされる。なお、半透過層５の層構成は、図２に示すものに限られない。基材層に対して、低屈折率層から順に積層した構成としてもよく、必要に応じて、高屈折率層および低屈折率層をさらに複数積層した構成としてもよい。
【００５３】
基材層３の一主面上に半透過層５を形成する方法としては、蒸着法、スパッタ法、化学気相成長（Chemical Vapor Deposition（ＣＶＤ））のようなドライプロセスを適用することができる。
【００５４】
（反射防止層）
基材層３において、半透過層５が形成される面とは反対側の主面上には、反射防止層７が形成される。反射防止層７は、半透過層５の形成された面から光学機能素子１に入射した光のうち、光学機能素子１の内部を進む光が、光学機能素子１の出射面側で反射されて光学機能素子１の内部に戻ることを防止するために設けられる。
【００５５】
基材層３に反射防止層７を形成したときの、基材層３の側から入射した光に対する基材層３と反射防止層７との界面における実効反射率が、なるべく低くされていることが好ましい。特に、比視感度の高い波長５５５ｎｍ近傍の実効反射率が低くされていることが好ましい。より具体的には、４００ｎｍ〜６５０ｎｍの波長域において、実効反射率の平均が、１．２％以下であることが好ましく、０．５％以下であることがより好ましい。光学機能素子を撮像装置に組み込んだ場合、４００ｎｍ〜６５０ｎｍの波長域における実効反射率の平均が１．２％以下であると、ゴーストの発生が抑制されるからである。また、４００ｎｍ〜６５０ｎｍの波長域における実効反射率の平均が０．５％以下であると、記録された画像を拡大したときにも、ゴーストが気にならない程度に抑制されたものとなるからである。
【００５６】
ここで、実効反射率とは、半透過層や反射防止層のような光学機能層が形成されていない基材層のみを測定して得られた反射率をＲｏとして、以下の関係により求められるものをいう。
（実効反射率）＝（サンプルの反射率の測定値）−Ｒｏ／２
なお、Ｒｏを２で割るのは、光の入射側と出射側の界面の寄与のうち、片面の寄与分を求めるためである。
【００５７】
反射防止層７は、例えば、屈折率の異なる材料からなる積層体であり、蒸着法もしくはスパッタ法により無機材料を積層したもの、もしくは、ウェットコートにより有機材料を塗布したものを用いることができる。または、微細かつ緻密な凹凸が表面に形成されたモスアイ（Moth-eye）と呼ばれる層を反射防止層７として用いることができる。
【００５８】
図３Ａは、無機材料を積層することにより形成した反射防止層の一構成例を示す断面模式図である。図３Ａに示す構成例では、基材層３の一主面上に、半透過層５が形成されている。さらに、半透過層５が形成された面とは反対側の主面上に反射防止層７が形成されている。反射防止層７は、高屈折率層７H1、低屈折率層７L1、高屈折率層７H2および低屈折率層７L2が順に積層された構成とされている。なお、低屈折率層から順に積層した構成としてもよく、７H1と７H2、７L1と７L2がそれぞれ同種の材料とされていなくともよい。高屈折率層を構成する材料および低屈折率層を構成する材料としては、半透過層５に適用されるものと同様のものを選択することができる。
【００５９】
屈折率の異なる層の積層により構成される反射防止層は、各界面からの反射光が互いに干渉するようにされ、光の干渉効果により、反射光を低減させる。したがって、反射防止層７の設計は、概略的には半透過層３の設計と同様であり、上述したＳＷＰＦの設計手法を適用することができる。
【００６０】
以下に、基材層３および反射防止層７の層構成の一例を示す。以下に示す層構成は、上述したＳＷＰＦの手法により求めたものである。
層構成：基材層／（高屈折率層１／低屈折率層１／高屈折率層２／低屈折率層２）
基材層：ポリイミド、ＣＯＰまたはＰＣ（ＴＨS：１０μｍ〜９０μｍ）
高屈折率層１：ＴｉＯ2またはＮｂ2Ｏ5（ＴＨH1：約１５ｎｍ）
低屈折率層１：ＳｉＯ2（ＴＨL1：約３０ｎｍ）
高屈折率層２：ＴｉＯ2またはＮｂ2Ｏ5（ＴＨH2：約１２０ｎｍ）
低屈折率層２：ＳｉＯ2（ＴＨL2：約９５ｎｍ）
【００６１】
図３Ｂは、図３Ａに示す層構成から期待される光学特性のシミュレーション結果を示した図である。図３Ｂでは、反射防止層７を備える光学素子の実効反射率Ｒｅの計算結果を実線ＡＲで示している。また、反射防止層７を有しない光学素子の実効反射率、すなわち光の入射側と出射側の界面の反射率に対する寄与のうち、片面分の寄与の計算結果を破線ＣＬで示している。以下に、実効反射率のシミュレーション条件を示す。
シミュレーション条件：サンプルに立てた法線と入射光の光軸とがなす角度を３７°と想定し、各波長における反射率を計算した。実効反射率は、サンプルに対する正反射方向に向けて出射される反射光の割合から求めた。なお、基材層３および半透過層５の層構成は、図２Ａに示したものと同様とした。
【００６２】
上述した層構成により、４００ｎｍ〜６５０ｎｍの波長域において平均すると、およそ０．４％の実効反射率が得られている。必要に応じて、高屈折率層および低屈折率層をさらに複数積層した構成としてもよい。
【００６３】
また、反射防止層７として、有機材料を塗布したものを用いてもよい。例えば、有機材料として、アルコキシシランおよびシランカップリング材を含有するシリコーン樹脂（ＳｉＯ2フッ素ポリマ、屈折率：１．３〜１．４）や、ポリテトラフルオロエチレン（Polytetrafluoroethylene（ＰＴＦＥ））などのフッ素系樹脂（屈折率：１．３〜１．４）を用いることができる。
【００６４】
基材層３の一主面上に反射防止層７を形成する方法としては、半透過層５の形成と同様に、蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤのようなドライプロセスまたはスピンコート、ディップコート、ロールコート、グラビアコート、ダイコートのようなウェットプロセスから適宜選択することができる。
【００６５】
上述したように、屈折率の異なる層を積層することによる反射防止効果は、反射光の干渉効果によるものである。すなわち、積層体の形成による反射防止効果には波長依存性があり、また、層厚依存性もある。
【００６６】
モスアイは、透過させたい光の波長よりも小さいピッチで、緻密な凹凸が多数形成されたものであり、モスアイによる反射防止効果は、波長依存性が低い。これは、入射光に対して、モスアイ構造体の深さ方向にそって実効的な屈折率が連続的に変化している層のようにモスアイが作用するためである。また、モスアイの反射防止効果が干渉効果を利用したものではないためである。したがって、モスアイを用いることで、可視光の波長域において平均反射率０．３％以下の反射特性を得ることも可能である。
【００６７】
図４は、反射防止層７として基材層３にモスアイを形成したときの、入射光の波長λ［ｎｍ］に対する実効反射率Ｒｅ［％］を示した図である。図４に示す例では、４００ｎｍ〜６５０ｎｍの波長域において、平均しておよそ０．７％の反射特性が得られている。以下に、実効反射率算出のための反射率の測定装置および測定方法を示す。また、図５に、反射光の分光測定の概略を示す。
測定装置：紫外可視分光光度計（日本分光株式会社製  ＵＢｅｓｔ  Ｖ５６０）
測定方法：サンプルに立てた法線と入射光の光軸とがなす角度を３７°とし、反射光を検出器により検出して、各波長における反射率をそれぞれ測定した。なお、図５に示すように、サンプル４１からの反射光は、ミラーＭに反射した光を検出器Ｄにより検出させるようにした。
【００６８】
モスアイの製造には、例えば、マスタ（原版）の凹凸形状を転写法やナノインプリントにより複製する手法が知られている。マスタの制作には、エッチングや、電子線露光等を用いることができる。マスタの凹凸形状の複製に適用できる転写法としては、例えば、型にエネルギー線硬化型樹脂を流し込み、エネルギー線を照射して硬化させる方法、樹脂に熱や圧力を加え、形状を転写する方法、または樹脂フィルムをロールから供給し、熱を加えながら型の形状を転写する方法（ラミネート転写法）などが挙げられる。
【００６９】
（反りの低減）
ここで、好ましい実施の態様においては、半透過層５および反射防止層７は、基材層３に対して、まず一方が形成され、他方がその後に形成される。言い換えれば、半透過層５および反射防止層７は、基材層３の同じ側の主面上に重ねて形成されることはない。仮に、反射防止層を半透過層に重ねて形成したとすると、入射光がほぼすべて光学機能素子に進入し、かつ、反射防止層および半透過層の形成されていない面では、光学機能素子の内部への反射が起きてしまう。すなわち、反射防止層および半透過層は、ともに意図された機能を発揮しない。
【００７０】
半透過層５と反射防止層７とが、一方に対して互いに逆側の主面上に形成されることにより、光学機能素子１の反りが低減されるという副次的な効果が生ずる。なお、ここでいう「反り」とは、一次元的な曲がりのほか、二次元的な歪みも含むものとする。
【００７１】
半透過層と反射防止層とを基材層に対して互いに逆側の面に形成したときの、光学機能素子の反りに対する改善効果を以下の手順で調べた。
【００７２】
基材層の片面に半透過層のみを形成したサンプルＳＳ−１およびサンプルＳＳ−２を準備した。また、基材層の片面に半透過層を形成し、反対側の面に反射防止層を形成したサンプルＢＳ−１およびサンプルＢＳ−２を準備した。各サンプルの半透過層および反射防止層は、屈折率の異なる無機材料を積層することにより形成した。基材層には、厚さ約９０μｍのＰＣを用いた。
【００７３】
各サンプルについて、富士フイルム株式会社製  コンパクトレーザ干渉計（Ｆ６０１（平面測定））により、反りの大きさを測定したところ、以下の結果が得られた。
サンプルＳＳ−１：０．７０８μｍ、サンプルＳＳ−２：０．６９１μｍ
サンプルＢＳ−１：０．６０６μｍ、サンプルＢＳ−２：０．６６９μｍ
ここで、各サンプルの反りの大きさは、測定領域（３６ｍｍ□）のうち、最も高い点と最も低い点との差である。
【００７４】
基材層の片面に半透過層のみを形成した場合と比べて、半透過層と反射防止層とを基材層に対して互いに逆側の面に形成した方が、反りの大きさが低減されている。これは、半透過層による膜応力と反射防止層による膜応力とが相殺され、反りの大きさが低減されたものと考えられる。
【００７５】
光学機能素子が撮像装置等に組み込まれるものであるとした場合、光学機能素子の有する反りが抑制されたものであることが好ましい。特に、光学機能素子が半透過ミラー固定式の撮像装置の半透過ミラーとして用いられる場合、反りが抑制されたものであることが好ましい。半透過ミラーに大きな反りが存在すると、ＡＦモジュールへ向かうべき反射光が設計とずれた方向へ向かってしまい、ＡＦに悪影響を及ぼしてしまうからである。
【００７６】
図６Ａおよび図６Ｂは、半透過ミラー固定式の撮像装置において、半透過ミラーの反りがＡＦに与える影響を説明するための略線図である。図６Ａおよび図６Ｂは、半透過ミラー固定式の撮像装置において、撮影系の光軸を含む縦断面を模式的に表している。
【００７７】
図６Ａに示すように、半透過ミラー１０１が平板状であるとした場合に、半透過ミラー１０１に立てた法線ＮＡに対してαの角度で被写体光Ｂが入射したとする。このときの反射光Ｒ0Aの進行方向は、法線ＮＡに対して−αの角度をなす。
【００７８】
図６Ｂに示すように、半透過ミラー１０１に大きな反りが存在し、その断面が弓状であるとした場合に、被写体光Ｂが入射する接平面に立てた法線ＮＢが、法線ＮＡとβの角度をなしていたとする。このときの反射光Ｒ0Bは、Ｒ0Aに対して２βの角度だけずれた方向へ進行する。図６Ｂにおいては、半透過ミラー１０１が、光入射側に対して凸の場合を示したが、光出射側に対して凸となっている場合も同様である。
【００７９】
このように、反射光Ｒ0をＡＦに使用する構成では、半透過ミラーの反りがＡＦの性能に与える影響が大きい。したがって、光学機能素子の反りの低減は、半透過ミラー固定式の撮像装置のＡＦ性能の向上に貢献する。
【００８０】
＜２．第２の実施の形態＞
次に、第２の実施の形態について説明する。第２の実施の形態は、内部の多重反射が抑制された光学機能素子を半透過ミラーとして備える、半透過ミラー固定式の撮像装置である。
【００８１】
［撮像装置］
撮像装置は、光学機能素子と、光学機能素子からの透過光を受光する第１の受光素子と、光学機能素子からの反射光を受光する第２の受光素子とを含み、光学機能素子は、第１の受光素子に対して、光の入射する側に固定される。
【００８２】
光学機能素子は、基材層と、基材層の一主面上に形成される半透過層と、半透過層が形成される面とは反対側の主面上に形成される反射防止層とを備える。半透過層は、入射する光をあらかじめ定められた割合で反射し、残余の光を透過する。反射防止層は、基材層の内部を進む光が、基材層と反射防止層との界面で反射されて基材層の内部に戻ることを防止する。光学機能素子は、内部の多重反射が抑制されたものである。
【００８３】
したがって、光学機能素子から高次の不要光の出射が抑制され、ゴーストの写り込みが抑制される。また、光学機能素子からの反射光におけるノイズ光の混在が抑制され、ＡＦを確実に行うことができる。
【００８４】
（撮像装置の構成）
図７Ａは、第２の実施の形態にかかる撮像装置の概略を示す断面模式図である。図７Ｂは、光学機能素子の近傍を拡大して示す略線図である。図７Ａに示す撮像装置の概略的構成は、図１０Ａにおいて示したものと同様であるが、第２の実施の形態にかかる撮像装置１１は、フィルムに代えて、第１の受光素子３１を備える。第１の受光素子３１は、例えば、ＣＣＤやＣＭＯＳなどの撮像素子であり、イメージセンサとして機能する。
【００８５】
図７Ａに示すように、撮像装置１１の本体を構成する筐体２１に対して、交換可能な撮影光学系２３が取り付けられている。撮影レンズ２５、絞り等が鏡筒２７に配置され、撮影光学系２３が構成される。撮影光学系２３の撮影レンズ２５は、フォーカス駆動系（図示しない）によって駆動され、ＡＦ動作が可能とされている。なお、撮影光学系は、筺体と一体とされた構成としてもよい。
【００８６】
筺体２１の内部には、半透過ミラーとして、光学機能素子１が固定されている。光学機能素子１の上方には、第２の受光素子３３が配置されている。第２の受光素子は、例えば、撮像素子である。該撮像素子は、例えば、ＡＦセンサの機能を有する。第２の受光素子としてＡＦセンサを配置する場合には、位相差検出方式のＡＦセンサとされることが好ましいが、コントラストＡＦ方式のＡＦセンサの機能を持たせてもよい。ＡＦの方式として、位相差検出方式およびコントラストＡＦ方式を組み合わせてもよい。暗い場所や、コントラストの低い被写体でも良好にＡＦを行うために、ＡＦ補助光を発生し、戻り光からＡＦ評価値を形成するようにしてもよい。
【００８７】
光学機能素子１に対して撮影レンズ２５の反対側には、第１の受光素子３１が配置されている。なお、図７Ａにおいては、シャッタ機構の図示を省略しているが、機械式シャッタまたは電子式シャッタのいずれも適用することができる。
【００８８】
また、撮像装置１１には、電子式ビューファインダとしての機能を有するディスプレイ３７が設けられている。ディスプレイ３７は、液晶ディスプレイ（Liquid Crystal Display（ＬＣＤ））、有機ＥＬ(Electroluminescence:電界発光効果)等のフラットディスプレイである。ディスプレイ３７には、第１の受光素子３１または撮像素子としての第２の受光素子３３から取り出された撮像信号を信号処理部（図示しない）で処理して得られる映像信号が供給され、現在の被写体像（動画）が表示される。図７Ａに示す例では、ディスプレイ３７は、筺体２１の背面側に設けられているが、これに限られず、筺体上面などに設けてもよく、可動式や取り外し式としてもよい。
【００８９】
（光学機能素子の配置）
ここで、光学機能素子１が固定される角度について、図７Ｂを参照して説明する。好ましい実施の態様においては、光学機能素子１の主面に立てた法線Ｎと被写体光Ｂの光軸とのなす角ξが、ξ＜４５°となるように光学機能素子１が固定される。このようにすることで、被写体光が光学機能素子１を通過する距離（光学的距離といってもよい。）を小とすることができ、画質の劣化を低減することができるからである。また、被写体光が光学機能素子１の界面で屈折することにより生じる、光束のシフトｄを小とすることができるからである。さらに、角ξが小さいほど反射防止層の反射率が小さくなり、反射防止層による反射防止効果が大きくなる（低反射となる）からである。
【００９０】
図７Ｂにおいては、反射防止層７が第１の受光素子３１に近い側となるように光学機能素子１が固定されている。逆に、反射防止層７が撮影レンズ２５に近い側となるようにされていてもよいが、反射防止層７が第１の受光素子３１に近い側となるように光学機能素子１が固定されることが好ましい。光学機能素子１の上方に、ＡＦセンサを第２の受光素子として備えるＡＦモジュールが配置される場合、光学機能素子１の内部を通過しない光を、ＡＦのために使用することができるからである。
【００９１】
第２の実施の形態によれば、半透過ミラーとして光学機能素子１を備えるため、撮像素子３１への高次の不要光の出射が抑制される。したがって、撮像装置１１によって得られるデジタル画像は、ゴーストの写り込みが抑制されたものとなる。また、ＡＦセンサを第２の受光素子として備えるＡＦモジュールが配置される場合、ＡＦモジュールへのノイズ光の混入が低減されるため、ＡＦを確実に行うことができる。さらに、片面に光学薄膜を成膜して半透過ミラーを構成する場合と比較して、光学機能素子１は反りが低減されている。したがって、光学機能素子１からの反射光を確実に第２の受光素子３３に導くことができる。
【実施例】
【００９２】
光学機能素子としてサンプルＳ１〜サンプルＳ５の５種類を準備し、各サンプルについて、入射光の波長λ［ｎｍ］に対する反射率を測定し、測定結果から実効反射率Ｒｅ［％］をそれぞれ求めた。次に、撮像装置にサンプルＳ１〜サンプルＳ５をそれぞれ組込み、光源装置を被写体として暗室にて撮影を行った。
【００９３】
（サンプルＳ１〜サンプルＳ３）
基材層として厚さ約９０μｍのＰＣを用い、反射防止層として、基材層に近い側から、Ｎｂ2Ｏ5／ＳｉＯ2／Ｎｂ2Ｏ5／ＳｉＯ2の４層をスパッタ法により積層した。各サンプル間における各層の厚さは、相異なるものとした。反射防止層が形成される面とは反対側の面には、基材層に近い側から、Ｎｂ2Ｏ5／ＳｉＯ2で構成される半透過層を形成した。
【００９４】
（サンプルＳ４）
反射防止層として、基材層に近い側から、Ｎｂ2Ｏ5／ＳｉＯ2の２層を積層したこと以外は、サンプルＳ１と同様にしてサンプルＳ４を準備した。
【００９５】
（サンプルＳ５）
反射防止層および半透過層を形成しない基材層のみのサンプルを、サンプルＳ５として準備した。
【００９６】
図８は、サンプルＳ１〜サンプルＳ５について、入射光の波長λ［ｎｍ］に対する実効反射率Ｒｅ［％］示す図である。以下に、実効反射率算出のための反射率の測定装置および測定方法を示す。
測定装置：紫外可視分光光度計（日本分光株式会社製  ＵＢｅｓｔ  Ｖ５６０）
測定方法：サンプルに立てた法線と入射光の光軸とがなす角度を３７°とし、反射光を検出器により検出して、各波長における反射率をそれぞれ測定した。なお、図５に示すように、サンプル４１からの反射光は、ミラーＭに反射した光を検出器Ｄにより検出させるようにした。
【００９７】
図９は、サンプルＳ１〜サンプルＳ５について、撮影された光源装置の像を説明するための図である。図９Ａ、Ｂ、Ｃ、ＤおよびＥが、サンプルＳ１、Ｓ２、Ｓ３、Ｓ４およびＳ５にそれぞれ対応する図である。図９において、斜線を付した部分が、ゴーストに対応する領域である。サンプルＳ１では、撮影した画像を拡大してもゴーストはほとんど確認されなかった。サンプルＳ２では、ゴーストはほとんど確認されなかった。サンプルＳ３では、ゴーストが明瞭に確認され、ゴーストには赤みが感じられた。サンプルＳ４およびサンプルＳ５では、ゴーストが明瞭に確認された。各サンプルについて、４００ｎｍ〜６５０ｎｍの波長域における実効反射率の平均を以下に示す。
サンプルＳ１・・・０．４９［％］
サンプルＳ２・・・１．１３［％］
サンプルＳ３・・・１．２４［％］
サンプルＳ４・・・３．０８［％］
サンプルＳ５・・・４．３９［％］
【００９８】
以下に、被写体の詳細および撮影条件を示す。
被写体：評価・調整用光源装置（大日本印刷株式会社製  ＤＮＰスタンダードカラービュアーランプ  ＨＤＦ−５１Ｆ）
撮影条件：ＩＳＯ  ２００、Ｆ５．６、露光時間１／６０秒、ＤＲＯａｕｔｏ設定、撮影レンズの焦点距離１８ｍｍ、被写体からの距離約１ｍ
【００９９】
図８および図９から、光学機能素子の光出射側の界面における反射に起因する反射率を低減することで、ゴーストの写り込みが抑制されることがわかった。写り込んだゴーストの色みが、反射率の測定結果から予想される結果と一致していることからも、光学機能素子内部の多重反射の発生を抑制することが、ゴーストの発生の抑制につながることがわかった。
【０１００】
以上説明したように、好ましい実施の態様によれば、光学機能素子の内部での多重反射を抑制することができ、したがって、撮像装置をゴーストの写り込みが抑制されたものとすることができる。
【０１０１】
＜３．変形例＞
以上、好適な実施の形態について説明してきたが、好適な具体例は、上述した説明に限定されるものではなく、各種の変形が可能である。
【０１０２】
例えば、光学機能素子１は、撮像装置だけではなく露光装置や顕微鏡の反射鏡などにも適用が可能である。また、必要に応じて、ハードコート、防汚コート、自己洗浄層、ＩＲカットフィルタやＵＶカットフィルタなどがさらに積層された構成としてもよい。
【０１０３】
上述した説明では、撮像装置１１としてデジタルカメラを例に挙げたが、動画撮影が可能なデジタルカメラに上述した構成を適用してもよい。
【符号の説明】
【０１０４】
１                ・・・  光学機能素子
３                ・・・  基材層
５                ・・・  半透過層
５H            ・・・  高屈折率層
５L            ・・・  低屈折率層
７                ・・・  反射防止層
７H1，７H2  ・・・  高屈折率層
７L1，７L2  ・・・  低屈折率層
１１              ・・・  撮像装置
２１              ・・・  筺体
２３              ・・・  撮影光学系
２５              ・・・  撮影レンズ
２７              ・・・  鏡筒
３１              ・・・  第１の受光素子
３３              ・・・  第２の受光素子
３７              ・・・  ディスプレイ
【図１】
2012042665.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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