(57)【要約】【課題】鍋を配置するための凹部が表面に設けられた結晶化ガラス製調理器用トッププレートであって、凹部に配置された鍋の加熱むらを抑制できる結晶化ガラス製調理器用トッププレートを提供する。【解決手段】結晶化ガラス製調理器用トッププレート１は、平板部と、平板部の表面に凹部が形成されている結晶化ガラス製調理器用トッププレートである。結晶化ガラス製調理器用トッププレート１では、凹部が形成されている領域において、厚みが一定である。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
平板部と、平板部の表面に凹部が形成されている結晶化ガラス製調理器用トッププレートであって、
前記凹部が形成されている領域において、厚みが一定である、結晶化ガラス製調理器用トッププレート。
【請求項２】
前記凹部が形成されている部分の厚みと、平板部の厚みとが同じである、請求項１に記載の結晶化ガラス製調理器用トッププレート。
【請求項３】
前記凹部の深さは、前記凹部が形成されている領域の厚みの２倍〜３０倍の範囲内にある、請求項１または２に記載の結晶化ガラス製調理器用トッププレート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、結晶化ガラス製調理器用トッププレートに関する。特に、本発明は、平板部と、平板部の表面に凹部が形成されている結晶化ガラス製調理器用トッププレートに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、高い耐熱性を有し、かつ美観に優れている調理器用トッププレートとして、例えば下記の特許文献１などにおいて、結晶化ガラス製調理器用トッププレートが提案されている。また、特許文献１では、図８に示すように、例えば中華鍋などの底面が凸状の鍋１０２などを安定して配置できるように、結晶化ガラス製調理器用トッププレート１００の表面１００ａに凹部１０１を設けることが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−１３８５５３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、平板状の結晶化ガラス製調理器用トッププレート１００の表面１００ａに凹部１０１を設けた場合、凹部１０１が設けられた部分において、厚みが一定ではなくなる。具体的には、凹部１０１が設けられた部分の中央部が薄くなり、半径方向外側に向かって厚みが厚くなっている。そのため、調理器用トッププレート１００の下方に配置される加熱器として赤外線ヒーターやＩＨヒーターを用いた場合、加熱器と凹部１０１上に配置される鍋１０２の底面との距離が一定でなくなる。その結果、鍋１０２のうち、凹部１０１の中央部の上に位置する部分は相対的に強く加熱されるものの、凹部１０１の周縁部の上に位置する部分は相対的に弱く加熱されることとなる。従って、鍋１０２が均一に加熱されず、鍋１０２の中央部の温度が高くなりすぎたり、鍋１０２の周縁部の温度が低くなりすぎたりするという問題がある。
【０００５】
本発明は、係る点に鑑みてなされたものであり、その目的は、鍋を配置するための凹部が表面に設けられた結晶化ガラス製調理器用トッププレートであって、凹部に配置された鍋の加熱むらを抑制できる結晶化ガラス製調理器用トッププレートを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明に係る結晶化ガラス製調理器用トッププレートは、平板部と、平板部の表面に凹部が形成されている結晶化ガラス製調理器用トッププレートである。本発明に係る結晶化ガラス製調理器用トッププレートでは、凹部が形成されている領域において、厚みが一定である。このため、凹部に沿って加熱器を配置することで、加熱器と凹部上に配置される鍋の底面との距離のばらつきを小さくすることができる。従って、鍋の底面が高い均一性で加熱される。
【０００７】
本発明に係る結晶化ガラス製調理器用トッププレートでは、凹部が形成されている部分の厚みと、平板部の厚みとが同じであることが好ましい。この場合、結晶化ガラス製調理器用トッププレートにおける剛性ばらつきを小さくできる。このため、結晶化ガラス製調理器用トッププレートの耐久性をさらに向上することができる。
【０００８】
本発明に係る結晶化ガラス製調理器用トッププレートでは、凹部の深さは、凹部が形成されている領域の厚みの２倍〜３０倍の範囲内にあることが好ましい。この場合、例えば中華鍋などの底部が凸状である鍋を安定して載置することができる。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、鍋を配置するための凹部が表面に設けられた結晶化ガラス製調理器用トッププレートであって、凹部に配置された鍋の加熱むらを抑制できる結晶化ガラス製調理器用トッププレートを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の一実施形態に係る調理器用トッププレートの略図的平面図である。
【図２】図１の線ＩＩ−ＩＩにおける略図的断面図である。
【図３】本発明の一実施形態における調理器用トッププレートの製造工程を説明するための模式的断面図である。
【図４】本発明の一実施形態における調理器用トッププレートの製造工程を説明するための模式的平面図である。
【図５】図４の線Ｖ−Ｖにおける略図的断面図である。
【図６】本発明の一実施形態における調理器用トッププレートの製造工程を説明するための模式的平面図である。
【図７】本発明の一実施形態における調理器用トッププレートの製造工程を表すタイムチャートである。
【図８】特許文献１に記載の結晶化ガラス製調理器用トッププレートの略図的断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明の好ましい実施形態の一例について説明する。但し、下記の実施形態は単なる一例である。本発明は、下記の実施形態に何ら限定されない。
【００１２】
図１は、本実施形態の調理器用トッププレートの略図的平面図である。図２は、図１の線ＩＩ−ＩＩにおける略図的断面図である。
【００１３】
図１及び図２に示すように、調理器用トッププレート１は、板状の結晶化ガラス成形体により構成されている。調理器用トッププレート１を構成する結晶化ガラスの種類は、調理器用トッププレート１の要求特性などに応じて適宜選択することができる。調理器用トッププレート１は、例えば、β−スポジュメン固溶体やβ−石英固溶体を主結晶とする結晶化ガラスからなるものであってもよい。
【００１４】
また、調理器用トッププレート１を構成している結晶化ガラスは、例えば、黒色であってもよいし、白色または透明であってもよい。
【００１５】
調理器用トッププレート１の一部に凹状１ｂに形成されている。すなわち、調理器用トッププレート１は、平板部１ａと、凹部１ｂとを有する。
【００１６】
ここで、本実施形態では、調理器用トッププレート１の凹部１ｂが形成されている領域における厚みが一定である。なお、本発明において、厚みが一定であるとは、最大厚みと平均厚みとの差が平均厚みの１０％以下であり、かつ平均厚みと最小厚みとの差が平均厚みの１０％以下であることをいう。
【００１７】
平板部１ａの厚みｔ０と、凹部１ｂが形成されている部分の厚みｔ１とは等しい。ここで、平板部１ａの厚みｔ０と、凹部１ｂの厚みｔ１とが等しいことには、ｔ０とｔ１とが完全に等しい場合のみならず、ｔ１がｔ０の０．９倍〜１．１倍の範囲内である場合が含まれるものとする。
【００１８】
具体的には、平板部１ａの厚みｔ０は、例えば、２ｍｍ〜８ｍｍの範囲内にあることが好ましく、３ｍｍ〜５ｍｍの範囲内にあることがより好ましい。
【００１９】
本実施形態において、凹部１ｂの平面形状は、円形である。凹部１ｂの直径Ｌ（図１を参照）に対する深さＤ（図２を参照）の比（Ｄ／Ｌ）は、０．０２〜０．５の範囲内であることが好ましく、０．０２〜０．２の範囲内にあることがより好ましい。また、厚みｔ１に対する深さＤの比（Ｄ／ｔ１）は、２〜３０の範囲内にあることが好ましく、２〜１５の範囲内にあることがより好ましい。
【００２０】
次に、調理器用トッププレート１の製造方法の一例について、図３〜図７を参照しながら説明する。
【００２１】
まず、図３及び図４に示す平板状の結晶性ガラス板２を用意する。結晶性ガラス板２の種類は、製造しようとする調理器用トッププレート１の結晶化ガラスの種類に応じて適宜選択することができる。
【００２２】
次に、結晶性ガラス板２のうちの、変形させようとする被成形部２Ａにバーナー１１の炎１２を直接当てることにより被成形部２Ａ（図４を参照）を加熱する。具体的には、本実施形態では、被成形部２Ａの加熱には、図３に示す加熱手段１０ａ、１０ｂを用いる。加熱手段１０ａは、結晶性ガラス板２の一方側に配置されている一方、加熱手段１０ｂは、結晶性ガラス板２の他方側に配置されている。これら加熱手段１０ａ、１０ｂによって、結晶性ガラス板２の両面が加熱される。
【００２３】
加熱手段１０ａ、１０ｂは、ｙ方向に沿って直線状に配列された複数のバーナー１１を有する。加熱手段１０ａ、１０ｂのそれぞれにおいて、複数のバーナー１１のうちｙ方向のｙ１側端部位置しているバーナー１１ａ及びｙ２側端部に位置しているバーナー１１ｂは、結晶性ガラス板２のｙ方向における端部２ａ、２ｂの上に位置している。従って、図５に示すように、バーナー１１ａ、１１ｂの炎１２は、端部２ａ、２ｂの端面に当たる。
【００２４】
本実施形態では、上記加熱手段１０ａ、１０ｂをｙ方向に垂直なｘ方向に沿って変位させる。具体的には、図３及び図４に示すように、加熱手段１０ａ、１０ｂをｘ方向に沿って、Ａ０からＡ１の間で往復変位させることにより、変形させようとする被成形部２Ａを含むｙ方向のｙ１側端部からｙ２側端部にわたる領域Ａの両表面及び両端面を加熱する。この加熱は、領域Ａの両端面のクラックが修復される程度にまで領域Ａが軟化するまで行われる。
【００２５】
より詳細には、図７に示すように、まずは、加熱手段１０ａ、１０ｂをＡ０からＡ１へと一定速度で変位させた後に、Ａ１において一旦停止させる。その後、再度、Ａ１からＡ０へと一定速度で変位させた後に、Ａ０において一旦停止させる。これを複数回繰り返す。すなわち、加熱手段１０ａ、１０ｂをＡ０とＡ１とにおいて一旦停止させながらＡ０とＡ１との間を複数回にわたって往復変位させる。その後、図６に示すように、結晶性ガラス板２のうちの被成形部２Ａ及びその周辺を除く領域の両表面を覆うように、遮蔽板２０を配置する。そして、遮蔽板２０の上から、加熱手段１０ａ、１０ｂにより被成形部２Ａをさらに加熱する。この被成形部２Ａの加熱は、被成形部２Ａがガラス転移点〜ガラス転移点よりも１００℃高い温度程度の成形可能温度になるまで続けられる。
【００２６】
次に、一対の成形型を用いて、結晶性ガラス板２の被成形部２Ａをプレスにより凹状に成形する。これにより、結晶性ガラス板２の形状が、実質的に調理器用トッププレート１と等しい形状となる。
【００２７】
次に、その成形された結晶性ガラス板２を熱処理することにより結晶化させる。これにより、調理器用トッププレート１を完成させることができる。なお、この結晶化工程は、加熱雰囲気において間接加熱により行うことが好ましい。
【００２８】
以上説明したように、本実施形態では、調理器用トッププレート１の凹部１ｂが形成されている領域における厚みが一定である。このため、凹部１ｂに沿って加熱器を配置することで、加熱器と凹部１ｂ上に配置される鍋の底面との距離のばらつきを小さくすることができる。従って、鍋の底面が高い均一性で加熱される。
【００２９】
また、本実施形態では、平板部１ａの厚みｔ０と、凹部１ｂの厚みｔ１とが等しい。例えば、ｔ０とｔ１とが異なっている場合、平板部１ａと凹部１ｂが形成されている部分とで結晶化の進行速度が異なる場合がある。このため、調理器用トッププレート１全体を均一に結晶化させることが困難となる場合がある。それに対して、平板部１ａの厚みｔ０と、凹部１ｂの厚みｔ１とが等しい場合は、平板部１ａと凹部１ｂが設けられている部分との結晶化速度差を小さくすることができる。従って、高い均一性で結晶化されており、機械的強度が高い結晶化ガラス製調理器用トッププレート１を得ることができる。
【００３０】
また、平板部１ａの厚みｔ０と、凹部１ｂの厚みｔ１とを等しくすることにより、結晶化ガラス製調理器用トッププレート１における剛性ばらつきを小さくできる。このため、結晶化ガラス製調理器用トッププレート１の耐久性をさらに向上することができる。
【符号の説明】
【００３１】
１…調理器用トッププレート
１ａ…平板部
１ｂ…凹部
２…結晶性ガラス板
２Ａ…被成形部
２ａ、２ｂ…端部
１０ａ、１０ｂ…加熱手段
１１、１１ａ、１１ｂ…バーナー
１２…炎
２０…遮蔽板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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