(57)【要約】【課題】処理空気に含まれる粉塵を確実に捕捉することができる粉塵処理装置を提供する。【解決手段】粉塵捕捉液を収容する処理槽と、処理槽を処理空気導入室と粉塵分離室とに区画するとともに下部に処理空気導入室と粉塵分離室とを連通する連通口を備えた仕切り壁と、処理空気導入室に粉塵捕捉液を噴霧するための粉塵捕捉液供給手段を具備し、処理空気導入室を粉塵発生源に連通し、粉塵分離室を排気手段に連通した粉塵処理装置であって、粉塵分離室には処理空気導入室側から仕切り壁の連通口を通して流入する粉塵捕捉液を攪拌するための攪拌板が配設されており、粉塵捕捉液供給手段は水に泡状になる液体を混入させた粉塵捕捉液を噴霧する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
粉塵捕捉液を収容する処理槽と、該処理槽を処理空気導入室と粉塵分離室とに区画するとともに下部に処理空気導入室と粉塵分離室とを連通する連通口を備えた仕切り壁と、該処理空気導入室に粉塵捕捉液を噴霧するための粉塵捕捉液供給手段を具備し、該処理空気導入室を粉塵発生源に連通し、該粉塵分離室を排気手段に連通した粉塵処理装置において、
該粉塵分離室には該処理空気導入室側から該仕切り壁の連通口を通して流入する粉塵捕捉液を攪拌するための攪拌板が配設されており、
該粉塵捕捉液供給手段は、水に泡状になる液体を混入させた粉塵捕捉液を噴霧する、
ことを特徴とする粉塵処理装置。
【請求項２】
該粉塵捕捉液に混入する泡状になる液体は、界面活性剤からなる、請求項１記載の粉塵処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レーザー加工装置や研磨装置等の加工装置によって加工する際に発生する粉塵を処理するための粉塵処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイス製造工程においては、略円板形状である半導体基板の表面に格子状に配列されたストリートと呼ばれる分割予定ラインによって複数の領域が区画され、この区画された領域にＩＣ、ＬＳＩ等のデバイスを形成する。そして、半導体ウエーハをストリートに沿って切断することによりデバイスが形成された領域を分割して個々のデバイスを製造している。また、サファイヤ基板の表面にフォトダイオード等の受光素子やレーザーダイオード等の発光素子等が積層された光デバイスウエーハもストリートに沿って切断することにより個々のフォトダイオード、レーザーダイオード等の光デバイスに分割され、電気機器に広く利用されている。
【０００３】
上述した半導体ウエーハや光デバイスウエーハ等のウエーハをストリートに沿って分割する方法として、ウエーハに形成されたストリートに沿ってパルスレーザー光線を照射することによりレーザー加工溝を形成し、このレーザー加工溝に沿って破断する方法が実用化されている。
【０００４】
上述したように被加工物であるウエーハにレーザー光線を照射すると、デブリが発生し、このデブリを含む粉塵が飛散されるため、粉塵を処理する必要がある。この粉塵を処理する装置として湿式粉塵処理装置が実用化されている。この湿式粉塵処理装置は、粉塵捕捉液を収容する処理槽と、該処理槽を処理空気導入室と粉塵分離室とに区画するとともに下部に処理空気導入室と粉塵分離室とを連通する連通口を備えた仕切り壁とを具備し、上記処理空気導入室を粉塵発生源に連通し、上記粉塵分離室を排気手段に連通して構成されている。（例えば、特許文献１および特許文献２参照。）
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０００−２３７５２１号公報
【特許文献２】特開２００５−３２９３７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
而して、上記特許文献に開示された粉塵処理装置においては、処理空気導入室に導入された処理空気に含まれる粉塵を確実に捕捉することができず、必ずしも満足し得るものではない。
【０００７】
本発明は上記事実に鑑みてなされたものであり、その主たる技術課題は、処理空気に含まれる粉塵を確実に捕捉することができる粉塵処理装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記主たる技術課題を解決するため、本発明によれば、粉塵捕捉液を収容する処理槽と、該処理槽を処理空気導入室と粉塵分離室とに区画するとともに下部に処理空気導入室と粉塵分離室とを連通する連通口を備えた仕切り壁と、該処理空気導入室に粉塵捕捉液を噴霧するための粉塵捕捉液供給手段を具備し、該処理空気導入室を粉塵発生源に連通し、該粉塵分離室を排気手段に連通した粉塵処理装置において、
該粉塵分離室には該処理空気導入室側から該仕切り壁の連通口を通して流入する粉塵捕捉液を攪拌するための攪拌板が配設されており、
該粉塵捕捉液供給手段は、水に泡状になる液体を混入させた粉塵捕捉液を噴霧する、
ことを特徴とする粉塵処理装置が提供される。
【０００９】
上記粉塵捕捉液に混入する泡状になる液体は、界面活性剤からなる。
【発明の効果】
【００１０】
本発明による粉塵処理装置は、処理空気導入室に粉塵捕捉液を噴霧するための粉塵捕捉液供給手段が水に泡状になる液体を混入させた粉塵捕捉液を噴霧するので、特に仕切り壁の連通口を通して粉塵分離室に流入した粉塵捕捉液が攪拌板の攪拌作用により泡状となり表面積が増大する。このように泡状となり表面積が増大した粉塵捕捉液は、粉塵分離室に吸引された処理空気中の粉塵に確実に効率よく付着する。従って、処理空気中の粉塵を確実に捕捉することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明に従って構成された粉塵処理装置の断面図。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明に従って構成された粉塵処理装置の好適な実施形態について、添付図面を参照して詳細に説明する。
【００１３】
図１には、本発明に従って構成された粉塵処理装置の断面図が示されている。図１に示す粉塵処理装置は、粉塵捕捉液を収容する処理槽２を具備している。この処理槽２は、底壁２１と側壁２２および上壁２３とからなっている。処理槽２内には、処理槽を処理空気導入室２aと粉塵分離室２bとに区画する仕切り壁３が配設されている。この仕切り壁３の下部には、処理空気導入室２aと粉塵分離室２bとを連通する連通口３１が設けられている。
【００１４】
処理空気導入室２aを形成する上壁２３には処理空気導入口２３１が設けられており、この処理空気導入口２３１が粉塵発生源としての図示しない加工装置に連通されている。図示の実施形態における粉塵処理装置は、処理空気導入室２aに粉塵捕捉液を噴霧するための粉塵捕捉液供給手段５を具備している。この粉塵捕捉液供給手段５は、粉塵捕捉液としての水を貯留する水タンク５１と、該水タンク５１に貯留された水を送出管５２を介して送出するポンプ５３と、該ポンプ５３によって送出された水を処理空気導入室２aに供給する粉塵捕捉液供給管５４とからなっている。粉塵捕捉液供給管５４は処理空気導入室２aを形成する上壁２３に配設され、その吐出端である図１において下端には粉塵捕捉液を霧状に噴出する噴霧ノズル５５が設けられている。このように構成された粉塵捕捉液供給手段５は、上記送出管５２に送出された水に泡状になる液体として界面活性剤を混入する界面活性剤供給手段５６を備えている。
【００１５】
上記粉塵分離室２bには、仕切り壁３の連通口３１と対向して攪拌板６が配設されている。この攪拌板６は、下部に連通口３１を通して粉塵分離室２bに流入する粉塵捕捉液を攪拌するための湾曲凹部６１を備えており、該湾曲凹部６１の下側に流通穴６２が設けられている。
【００１６】
また、粉塵分離室２bには、粉塵分離室２bに収容される粉塵捕捉液の水位を維持するための水位維持パイプ７が配設されている。この水位維持パイプ７は一端（上端）が処理槽２の底壁２１から所定の高さ位置に開口し、その他端が底壁２１を貫通して図示しない排水手段に接続されている。
【００１７】
また、粉塵分離室２bには、上記攪拌板６と水位維持パイプ７との間に水位を安定させるための水位安定板８が配設されている。この水位安定板８は、下端が処理槽２の底壁２１と水位維持パイプ７の一端（上端）の間の位置に位置付けられており、上端が処理槽２の上壁２３に接続されている。そして、水位安定板８には、粉塵分離室２bの上部と水位維持パイプ７が配設された領域の上部に形成される排気室２cとを連通する開口８１が設けられている。
【００１８】
なお、排気室２cを構成する上壁２３には排出口２３２が設けられており、この排出口２３２が送風機９に接続されている。
【００１９】
図示の実施形態における粉塵処理装置は以上のように構成されており、以下その作用について説明する。
処理槽２の上壁２３に設けられた処理空気導入口２３１に連通された粉塵発生源としての図示しない加工装置によって発生する粉塵を処理するためには、上記送風機９を作動するとともに粉塵捕捉液供給手段５のポンプ５３を作動する。送風機９が作動すると、排気室２cおよび水位安定板８の開口８１を介して粉塵分離室２bの空気が吸引される。この結果、処理槽２の処理空気導入室２aの処理空気および粉塵捕捉液１０が仕切り壁３の連通口３１を通して粉塵分離室２b側に流入されるとともに、処理空気導入口２３１から粉塵を含む処理空気が処理空気導入室２aに吸引される。また、処理空気導入室２aには粉塵捕捉液供給手段５を構成する粉塵捕捉液供給管５４の下端に設けられた噴霧ノズル５５から水に泡状になる液体として界面活性剤が混入された粉塵捕捉液が噴霧される。この結果、処理空気導入室２aに吸引された処理空気中の粉塵に水滴が付着して仕切り壁３の連通口３１を通して粉塵分離室２bに流入するとともに、粉塵の一部は処理槽２に収容されている粉塵捕捉液１０に接触して落下する。一方、仕切り壁３の連通口３１を通して粉塵分離室２b側に流入した粉塵捕捉液１０は、攪拌板６の湾曲凹部６１に沿って上方に舞い上げられ、この攪拌作用により泡状となり表面積が増大する。このように泡状となり表面積が増大した粉塵捕捉液は、処理空気導入室２aから連通口３１を通して粉塵分離室２bに吸引された処理空気中の粉塵を確実に効率よく捕捉する。
【００２０】
粉塵分離室２bに吸引された処理空気中の粉塵は水滴に付着し、一部は仕切り壁３を伝って粉塵捕捉液１０に落下し、残りは処理空気とともに攪拌板６を乗り越えて水位安定板８との間に侵入する。そして、水滴に付着した粉塵はそのまま粉塵捕捉液１０に落下したり、仕切り壁３や水位安定板８を伝って粉塵捕捉液１０に落下する。このようにして、水滴に付着した粉塵が粉塵捕捉液１０に落下することによって除去された処理空気は、水位安定板８に設けられた開口８１を通して排気室２cに導かれ、排出口２３２から送風機９を通して排出される。
【００２１】
なお、処理槽２の粉塵分離室２bに収容される粉塵捕捉液は、水位が水位維持パイプ７の上端に達すると、該水位維持パイプ７を通して排出される。また、粉塵分離室２bには、上記攪拌板６と水位維持パイプ７との間に水位を安定させるための水位安定板８が配設されているので、水位維持パイプ７が位置する領域の水位は安定している。
【００２２】
以上のように図示の実施形態における粉塵処理装置は、処理空気導入室２aに粉塵捕捉液を噴霧するための粉塵捕捉液供給手段５が水に泡状になる液体を混入させた粉塵捕捉液を噴霧するので、特に仕切り壁３の連通口３１を通して粉塵分離室２bに流入した粉塵捕捉液が攪拌板６の攪拌作用により泡状となり表面積が増大する。このように泡状となり表面積が増大した粉塵捕捉液は、粉塵分離室２bに吸引された処理空気中の粉塵を確実に効率よく捕捉する。
【符号の説明】
【００２３】
２：処理槽
２ａ：処理空気導入室
２ｂ：粉塵分離室
３：仕切り壁
３１：連通口
５：粉塵捕捉液供給手段
５１：水タンク
５３：ポンプ
５４：粉塵捕捉液供給管
５５：噴霧ノズル
５６：界面活性剤供給手段
６：攪拌板
７：水位維持パイプ
８：水位安定板
９：送風機
【図１】
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