(57)【要約】【課題】帯状可撓性基板の下垂や皺の発生を抑制でき、高品質の処理が可能であると共に、可撓性基板の逆方向への搬送にも対応可能な可撓性基板の位置制御装置を提供する。【解決手段】帯状の可撓性基板１を、搬送ロール２，２で張力付与しながら縦姿勢で横方向に搬送する搬送経路において、幅方向に展張するための展張装置１０Ａ，１０Ｂは、可撓性基板１の縁部１ａ，１ｂを搬送基準面にて転支すべく搬送方向に並設された２つの基準ローラ（２，１２）と、前記２つの基準ローラの間で可撓性基板１の縁部を反対側から転支する押込ローラ１１とを備え、前記可撓性基板の縁部が、前記２つの基準ローラに対する前記押込ローラの押込量ｄに応じた屈曲状態に案内され、縁部１ａ，１ｂの搬送方向の張力が、可撓性基板１の幅方向中間部分よりも高められている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
帯状の可撓性基板を、搬送ロールで張力付与しながら縦姿勢で横方向に搬送する搬送経路において、幅方向に展張するための展張装置であって、
前記可撓性基板の縁部を搬送基準面にて転支すべく搬送方向に並設された２つの基準ローラと、前記２つの基準ローラの間で前記可撓性基板の縁部を反対側から転支する押込ローラとを備え、前記可撓性基板の縁部が、前記２つの基準ローラに対する前記押込ローラの押込量に応じた屈曲状態に案内されることで、前記縁部の搬送方向の張力が、前記可撓性基板の幅方向中間部分よりも高められていることを特徴とする可撓性基板の展張装置。
【請求項２】
前記押込ローラを前記搬送基準面と交差する方向に変位可能に支持する支持機構をさらに備え、前記支持機構を介して前記押込量を調整可能であることを特徴とする請求項１記載の可撓性基板の展張装置。
【請求項３】
前記押込ローラを、前記支持機構を介して前記押込量を増す方向に付勢する付勢手段をさらに備え、前記押込量が、前記付勢手段の付勢力によって調整されることを特徴とする請求項２記載の可撓性基板の展張装置。
【請求項４】
前記押込ローラの前記押込量を上限値に規制する調整可能な規制手段をさらに備えたことを特徴とする請求項３記載の可撓性基板の展張装置。
【請求項５】
前記基準ローラまたは前記押込ローラの何れかが、軸方向に対して傾斜した周面を有する円錐ローラからなり、前記円錐ローラは、その小径側が前記可撓性基板の幅方向中央側に位置しかつ前記搬送基準面における回転方向が前記搬送方向と同方向になるように支持されていることを特徴とする請求項１記載の可撓性基板の展張装置。
【請求項６】
前記円錐ローラに対して前記可撓性基板の縁部を挟んだ状態で圧接される円錐ローラをさらに備え、前記円錐ローラは、その小径側が前記可撓性基板の幅方向中央側に位置しかつ前記搬送基準面における回転方向が前記搬送方向と同方向になるように支持されていることを特徴とする請求項５記載の可撓性基板の展張装置。
【請求項７】
前記２つの基準ローラの一方が、前記可撓性基板をその全幅に亘って転支する搬送ロールで代用されていることを特徴とする請求項１記載の可撓性基板の展張装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、帯状の可撓性基板を、縦姿勢で横方向に搬送する搬送経路において、幅方向に展張するための展張装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体薄膜などの薄膜積層体の基板には、通常、剛性基板が用いられるが、軽量でロールを介した取り扱いの利便性による生産性向上やコスト低減を目的として、プラスチックフィルムなどの可撓性基板が用いられる場合がある。特許文献１〜３には、巻出しロールから供給される帯状可撓性基板（ポリイミドフィルム）を所定ピッチでステップ搬送しながら、前記可撓性基板の搬送方向に配列された複数の成膜ユニットで、前記可撓性基板上に性質の異なる複数の薄膜を積層形成し、製品ロールとして巻取る薄膜積層体の製造装置が開示されている。
【０００３】
このような薄膜積層体の製造装置には、横姿勢すなわち帯状可撓性基板の幅方向を水平方向にして搬送しつつ成膜を行なうタイプと、特許文献１〜３のように、縦姿勢すなわち帯状可撓性基板の幅方向を上下方向にして搬送しつつ成膜を行なうタイプがある。後者は、前者に比べて設置面積が小さく、基板表面が汚染されにくい等の利点があるが、搬送ロール間の距離が長くなると、重力に抗して搬送高さを一定に維持するのが困難になり、可撓性基板の表面に皺が発生したり、可撓性基板が垂れ下がったりする傾向が顕著になる。
【０００４】
可撓性基板の搬送経路に設置される成膜ユニット、例えば、プラズマＣＶＤなどの化学蒸着や、スパッタなどの物理蒸着を行なうための真空蒸着ユニットは、真空室の内部に配置され、ヒータによって高温に加熱されている。そのため、可撓性基板も急激な温度変化を避けるため巻出し部などで予熱された状態で成膜ユニットに導入される。したがって、可撓性基板の全幅に亘り接触する搬送ロールは、極力間隔を開けて必要最小限に設置されることが要求され、上記問題は避けて通れない。
【０００５】
そこで、特許文献１〜３に開示された装置では、可撓性基板の側縁部を挟持する挟持ローラ対を成膜ユニット間に配設し、各挟持ローラの挟持部における回転方向が、可撓性基板の搬送方向に対して斜上方および斜下方に向かう傾斜角を有するようにして、可撓性基板の縁部に上方および下方に向かう展張力を作用させ、可撓性基板の下垂や皺の発生を防止するようにしている。
【０００６】
しかし、上記装置では、可撓性基板の縁部に作用する展張力が、可撓性基板の搬送方向に依存するため、可撓性基板の逆方向への搬送を含む往復成膜プロセスを実施する場合には、それぞれの傾斜角を反転させる必要がある。搬送経路に沿って多数配設された挟持ローラ対を一斉に反転させる機構を具備することはコスト増となる。そこで、特許文献４に開示された装置では、傾斜配置された挟持ローラ対の代わりに、回転軸方向に対して傾斜した周面を有する円錐形状の挟持ローラ対を用いることで、正逆双方向の搬送において同様の展張力を付与できるようにしている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００９−３８２７６
【特許文献２】特開２００９−３８２７７
【特許文献３】特開２００９−５７６３２
【特許文献４】国際公開２０１０／０８７２１８
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
上述した各形式の挟持ローラ対では、挟持面に作用する摩擦力を介して可撓性基板に展張力が伝達されるので、挟持ローラ対の接圧を調節することにより、可撓性基板の縁部に付与される展張力を制御可能である。当然ながら、可撓性基板の上下縁部を挟持することによるガイドローラとしての機能も持ち合わせている。しかし、可撓性基板の搬送力に対しては抵抗となり、挟持ローラ対の接圧が大きくなるほど、あるいは、挟持ローラ対の設置数が多くなるほど、可撓性基板の搬送負荷が増大することになる。
【０００９】
本発明は、上記のような点に鑑みてなされたものであり、その目的は、搬送負荷の増加を抑えつつ帯状可撓性基板の下垂や皺を抑制でき高品質の処理を可能にする可撓性基板の展張装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するために、本発明は、帯状の可撓性基板を、搬送ロールで張力付与しながら縦姿勢で横方向に搬送する搬送経路において、幅方向に展張するための展張装置であって、前記可撓性基板の縁部を搬送基準面にて転支すべく搬送方向に並設された２つの基準ローラと、前記２つの基準ローラの間で前記可撓性基板の縁部を反対側から転支する押込ローラとを備え、前記可撓性基板の縁部が、前記２つの基準ローラに対する前記押込ローラの押込量に応じた屈曲状態に案内されることで、前記縁部の搬送方向の張力が、前記可撓性基板の幅方向中間部分よりも高められるように構成されていることを特徴とする、可撓性基板の展張装置にある。
【００１１】
可撓性基板は、搬送経路の上流側および下流側に配置された搬送ロールで張力付与された状態で搬送され、これら搬送ロールまたは必要に応じて追加されるガイドロールの中間では、ロール間に張架されることで基本的に非接触の状態で搬送され、成膜等の処理を行う空間に通過される。このような搬送経路において、上記展張装置により、可撓性基板の縁部における搬送方向の張力が高められ、縁部に沿って搬送方向に延在する高張力ゾーンが形成されることで、可撓性基板の面積の大部分を占める幅方向中間ゾーンが展張状態に維持され、皺の発生や下垂が抑制される。
【００１２】
しかも、高張力ゾーンは、上記展張装置の位置に留まらず、縁部に沿って搬送方向に延在するので、搬送ロールによる支持がない区間すなわち搬送スパンが長い場合に有利である。また、高張力ゾーンによる展張作用は、可撓性基板の搬送方向に依存しないので、正逆双方向の搬送を含むプロセスに好適に実施可能であり、かつ、可撓性基板の停止状態でも展張作用が得られるので、可撓性基板の搬送と停止を繰り返すステップ搬送の停止期間中に成膜等の処理を行う装置への実施にも好適である。さらに、展張作用を得るためにローラを傾斜配置する必要はなく、ローラと基板との間に摩擦抵抗を生じないので、搬送負荷の増加を抑制できる利点もある。
【００１３】
なお、本発明において、上記「搬送ロール」には、可撓性基板との全幅に亘る接触によって、搬送経路の下流側で可撓性基板に搬送力を付与する駆動ロール、および、搬送経路の上流側で搬送張力（制動力）を付与する張力付与ロールが含まれることは勿論、駆動ロールの下流側で可撓性基板に巻取り張力を付与する巻取りロール、搬送経路の上流側で巻出し張力を付与する巻出しロール、および、各ロール間に必要に応じて追加されるガイドロール等が含まれ、張力付与ロールが巻出しロールによって代用される態様や、駆動ロールが巻取りロールによって代用される態様が含まれる。
【００１４】
本発明において、前記押込ローラを前記搬送基準面と交差する方向に変位可能に支持する支持機構をさらに備え、前記支持機構を介して前記押込量を調整可能であることが好ましい。押込量の調整により、可撓性基板の縁部に付加される搬送方向の張力を調整可能となり、搬送系全体としての搬送張力や搬送速度、可撓性基板の厚さ、搬送スパンの長さ、処理空間の温度および処理時間などの設定や変更に応じて、展張作用を調整できる利点がある。
【００１５】
本発明において、前記押込ローラを、前記支持機構を介して前記押込量を増す方向に付勢する付勢手段をさらに備え、前記押込量が、前記付勢手段の付勢力によって調整されるようにしても良い。押込ローラによる押込力が一定に維持されることで、系全体の搬送張力に応じた展張作用を得ることができる。
【００１６】
本発明において、前記押込ローラの前記押込量を上限値に規制する調整可能な規制手段をさらに備えることが好ましい。押込ローラの押込量が付勢手段の付勢力によって調整される場合、何らかの自体で系全体の搬送張力が低下し、押込量が過大になると、展張装置自体によって生じる皺が、幅方向中間ゾーンに影響する虞があるが、押込量の上限値が規制されていれば、このような事態を回避できる。
【００１７】
本発明において、前記基準ローラまたは前記押込ローラの何れかが、軸方向に対して傾斜した周面を有する円錐ローラからなり、前記円錐ローラは、その小径側が前記可撓性基板の幅方向中央側に位置しかつ前記搬送基準面における回転方向が前記搬送方向と同方向になるように支持されていても良い。円錐ローラは、周面の径差によって、可撓性基板の縁部に対する展張作用を有するので、基準ローラまたは押込ローラの何れかを円錐ローラとすることで、基準ローラと押込ローラの張力付加による上述した展張作用との相乗的な展張効果が得られる。
【００１８】
なお、本発明に係る展張装置では、ローラ対の挟持によらず、可撓性基板が屈曲状態に案内されることによって、基準ローラおよび押込ローラに圧接されるが、円錐ローラによる展張作用を確実に得るために、一対の円錐ローラにより可撓性基板が挟持されるように構成することもできる。
【００１９】
すなわち、本発明において、前記円錐ローラに対して前記可撓性基板の縁部を挟んだ状態で圧接される円錐ローラをさらに備え、前記円錐ローラは、その小径側が前記可撓性基板の幅方向中央側に位置しかつ前記搬送基準面における回転方向が前記搬送方向と同方向になるように支持されていても良い。この態様では、基準ローラと押込ローラの張力付加による展張作用に加えて、円錐ローラ対の接圧に応じた展張力が得られるので、円錐ローラ対の接圧を制御することで、可撓性基板の幅方向の位置制御を行うこともできる。
【００２０】
本発明において、前記２つの基準ローラの一方が、前記可撓性基板をその全幅に亘って転支する搬送ロール（駆動ロール、張力付与ロール、巻出しロール、巻取りロール、ガイドロールなど）で代用されていても良い。本発明に係る展張装置が、搬送スパンの上流側または下流側に配置された搬送ロールに隣接して設置される場合、搬送ロール側に位置した基準ロールが搬送ロールで代用されることで、装置の構成を簡略化でき、設置スペースを節減できる利点がある。
【発明の効果】
【００２１】
本発明に係る可撓性基板の展張装置は、上述したように、搬送負荷の増加を抑えつつ帯状可撓性基板の下垂や皺の発生を抑制でき、平面化された可撓性基板に対して高品質の処理を可能にするとともに、可撓性基板の逆方向への搬送を含む往復プロセスにも低コストで対応可能である。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の基本的な実施形態に係る展張装置が設置された成膜部を示す概略平面図（ａ）および側面図（ｂ）である。
【図２】本発明第１実施形態に係る展張装置を示す概略平面図（ａ）および側面図（ｂ）である。
【図３】図２のＢ−Ｂ断面図（ｂ）およびその平面図（ａ）である。
【図４】本発明第２実施形態に係る展張装置を示す概略平面図（ａ）および側面図（ｂ）並びにそのＣ−Ｃ断面図（ｃ）である。
【図５】本発明第２実施形態に係る展張装置が設置された成膜部を示す概略平面図（ａ）および側面図（ｂ）である。
【図６】本発明第３実施形態に係る展張装置を示す概略平面図（ａ）および側面図（ｂ）並びにそのＣ−Ｃ断面図（ｃ）である。
【図７】本発明第４実施形態に係る展張装置を示す概略平面図（ａ）および側面図（ｂ）である。
【図８】本発明第５実施形態に係る展張装置を示す概略平面図（ａ）および側面図（ｂ）である。
【図９】本発明に係る展張装置の他の実施形態を示す概略平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら詳細に説明する。なお、以下において、各実施形態に共通または対応する構成には、共通または対応する符号を付すことで説明を省略する場合がある。
【００２４】
図１（ａ）および（ｂ）は、本発明に係る基本的な実施形態の展張装置１０Ａ，１０Ｂが設置された成膜部、例えば、太陽電池用の薄膜光電変換素子を構成する薄膜積層体の製造装置における１つの成膜ユニット４付近を示している。薄膜積層体製造装置は、所定の真空度に維持された真空室の内部で、図示しない巻出しロールから巻出された帯状の可撓性基板１（フレキシブルフィルム）を縦姿勢で水平方向に搬送し、その搬送経路に沿って複数の成膜ユニット４が並設された成膜部において、可撓性基板１の表面に薄膜を積層形成し、図示しない巻取りロールに巻き取るものである。
【００２５】
図１は、１つの成膜ユニット４の両側に搬送ロール２，２が配設される例を示しているが、搬送ロール２，２間に複数の成膜ユニット４が配設され、総計１０以上にもなる成膜ユニット４が２つの搬送ロール２，２間に配設される場合もある。搬送ロール２，２はガイドロールであり、図中右側となる搬送方向（Ｆ）下流側の搬送ロール２のさらに下流側には、搬送速度および搬送量を制御する不図示の駆動ロールが配設され、上流側の搬送ロール２のさらに上流側には、可撓性基板１に所定の搬送張力を付与する張力付与ロールが配設されており、可撓性基板１は、所定の搬送速度および搬送張力に維持された状態で、連続的または間欠的に搬送される。但し、駆動ロールおよび張力付与ロールの何れかまたは両方が、搬送ロール２，２の位置に配設されていても良い。また、逆方向（Ｒ）への搬送を含む正逆双方向の成膜プロセスが実施される場合は、駆動ロール／張力付与ロール、および、巻出し／巻取りロールの駆動方向および制御動作が、正逆双方向に切り替えて実施される。
【００２６】
成膜ユニット４は、プラズマＣＶＤなどの化学蒸着（ＣＶＤ）や、スパッタなどの物理蒸着（ＰＶＤ）を行なうための真空蒸着ユニットで構成され、可撓性基板１を挟んでその両側に対向配置されたカソード（表面に多数の原料ガス噴出孔を有する高周波電極またはスパッタターゲット）とアノード（ヒータを内蔵した接地電極）で構成される。可撓性基板１の搬送・成膜方式としては、可撓性基板１を一定速度で連続的に搬送しながら成膜を行う連続成膜方式（ロールツーロール方式）と、可撓性基板１を成膜ユニット４毎にステップ搬送しその停止期間中に成膜プロセスを実施するステップ成膜方式（ステッピングロール方式）がある。ステップ成膜方式では、成膜ユニット４を構成する電極対が、可撓性基板１の搬送面に向かって開口した開閉式チャンバーに収容されている。これらの構成は周知であるので詳細な図示および説明を省略する。
【００２７】
展張装置１０Ａ，１０Ｂは、成膜ユニット4の搬送方向上流側および下流側に、搬送ロール２，２に隣接して配置され、可撓性基板１の上縁部１ａを展張するための上側展張装置１０Ａと、可撓性基板１の下縁部１ｂを展張するための下側展張装置１０Ｂとで構成されており、それぞれが、可撓性基板１の縁部１ａ，１ｂを、搬送ロール２，２と同側から搬送基準面（搬送ロール２，２の周面に共に接する仮想平面）にて転支する基準ローラ１２，１２と、各基準ローラ１２，１２と搬送ロール２，２との間で可撓性基板１の縁部１ａ，１ｂを反対側から転支する押込ローラ１１，１１とで構成されている。
【００２８】
基準ローラ１２および押込みローラ１１は、何れも搬送ロール２，２の回転軸と平行な軸を中心として回転自在に支持され、基準ローラ１２は、搬送基準面に沿って固定配置されている。一方、押込ローラ１１は、搬送基準面を越えて、搬送基準面と交差する方向における基準ローラ１２側にオフセットされており、このオフセットすなわち押込量ｄに応じて、可撓性基板１の縁部１ａ，１ｂのみが屈曲状態で案内されるようになっている。
【００２９】
先述したように、可撓性基板１は、搬送経路の下流側に配置された図示しない駆動ロールおよび上流側に配置された図示しない張力付与ロールで、幅方向全体に亘って均一に張力付与された状態で搬送されるが、搬送ロール２，２間では、上記押込ローラ１１の押込量ｄに応じた屈曲の分だけ、可撓性基板１の縁部１ａ，１ｂにおける搬送方向の張力が高められ、縁部１ａ，１ｂに沿って搬送方向に延びる高張力ゾーンが形成される。このような上下縁部１ａ，１ｂの高張力ゾーンによって、搬送ロール２，２間における可撓性基板１全体としての下垂が防止されることは勿論、可撓性基板１の面積の大部分を占める幅方向中間ゾーン（製品領域）が、上下の縁部１ａ，１ｂ側に展張され、すなわち平面化され、皺の発生が抑制されることになる。
【００３０】
仮に、可撓性基板１の下垂や皺の防止を目的として、幅方向全体に均一に付加される搬送張力を増加させれば、搬送ロール２，２間では、上下縁部１ａ，１ｂが幅方向中央寄りに収縮し、幅方向中間部には、搬送方向に延びる張力皺が発生するうえ、成膜による加熱皺も誘発されることになる。しかし、本発明に係る展張装置１０Ａ，１０Ｂでは、搬送張力自体は変化させず、上下縁部１ａ，１ｂの張力を局部的に高めるのみであるため、幅方向への収縮や、張力皺は生じない。押込ローラ１１を通過する際に縁部１ａ，１ｂが屈曲されるが、これら縁部１ａ，１ｂは、製品領域外の加工マージンであり、薄膜光電変換素子を積層形成した後に裁断されるので、製品部分への影響はない。
【００３１】
展張装置１０Ａ，１０Ｂにより可撓性基板１の縁部１ａ，１ｂに付与される張力は、押込ローラ１１の押込量ｄ（押込力Ｐ）に応じて決定される。したがって、可撓性基板１の搬送張力に応じた最適な押込量ｄを設定するために、押込ローラ１１は、搬送基準面と交差する方向に変位可能に構成されることが好ましい。また、押込量ｄを設定する代わりに、スプリングなどの付勢部材によって押込ローラ１１を付勢し、押込力Ｐを付与するように構成することもできる。さらに、押込ローラ１１や基準ローラ１２の形態によって、本発明に係る展張装置には、種々の実施形態が存在する。以下、代表的な実施形態について説明する。
【００３２】
（第１実施形態）
図２および図３は、本発明第１実施形態に係る展張装置１０を示している。図１に示した基本的実施形態では、展張装置１０Ａ，１０Ｂが搬送ロール２，２に隣接して配置され、これら搬送ロール２，２が、可撓性基板１を搬送基準面に転支する基準ローラの機能を有していたが、本実施形態の展張装置１０では、搬送ロール２，２とは別に基準ローラ１３を備える場合を示している。すなわち、展張装置１０は、２つの基準ローラ１２，１３とそれらの間に配設された１つの押込ローラ１１とを備えている。
【００３３】
基準ローラ１２，１３は、それぞれ軸（支軸）１２ａ，１３ａの先端部（下端部）に図示しないベアリングを介して回転自在に支持され、各軸１２ａ，１３ａの基部（上部）は、それぞれ固定ブラケット１２ｂ，１３ｂを介して真空室構造（図示せず）に固定されている。基準ローラ１２，１３は、何れも細長い円筒状をなし、かつ、上下幅方向の端部は滑らかに面取りされている。
【００３４】
押込ローラ１１も、基準ローラ１２，１３と同様に細長い円筒状をなし、軸１１ａの先端部（下端部）に図示しないベアリングを介して回転自在に支持され、軸１１ａの基部（上部）は、可動ブラケット１４の先端部に支持されている。可動ブラケット１４の基端部は、一方の固定ブラケット１２ｂの上下両側で、基準ローラ１２の軸１２ａに枢支されている。この構成により、押込ローラ１１は、図２（ａ）に破線で示されるように、軸１２ａを中心として回動可能であり、搬送基準面（１）と交差する方向（可撓性基板１の厚さ方向）に変位可能となっている。
【００３５】
可動ブラケット１４の先端部には、押込ローラ１１が可撓性基板１を転支する方向（押込方向）への付勢力すなわち押込力Ｐを付与するためのスプリング１５（付勢部材）が連結されている。図３に示される例では、スプリング１５は、搬送基準面（１）と交差する方向に張架されたコイルスプリング（引張ばね）で構成されているが、可動ブラケット１４をクランクアームとして機能させ得る他の位置に連結される形態、圧縮ばねとして反対側に連結される形態、スパイラルスプリングなど他の形式のスプリングで構成される形態であっても良い。また、ワイヤーやレバーで連結された重錘で付勢部材を構成することもできる。
【００３６】
スプリング１５の他端は、図示しない支持部材を介して真空室構造（図示せず）に固定されている。その場合、前記支持部材が、例えば長孔を通じて螺合するネジを介して、変位可能に固定されることで、スプリング１５の支持位置が調整可能であり、スプリング１５によって押込ローラ１１に付与される押込力Ｐまたは初期変位が調整可能であることが好ましい。
【００３７】
さらに、固定ブラケット１２ｂの先端から、押込ローラ１１の軸１１ａ側に延出した延出部１２ｃに、ストッパー１６が設けられている。このストッパー１６は、延出部１２ｃに螺合するネジ部材として構成され、その螺合位置に応じて、押込ローラ１１の変位すなわち押込量ｄを上限値に規制可能である。この構成により、可撓性基板１の正逆搬送方向Ｆ，Ｒの転換時などに搬送張力が一時的に低下した場合でも、押込ローラ１１によって可撓性基板１が過度に押し込まれるのを防止できる。
【００３８】
なお、ストッパー１６と同様の機構を、押込ローラ１１（軸１１ａ）の反対側にも設け、ゼロまたはそれ以上の押込量ｄが得られる下限値を設定可能とすることもできる。一方、ストッパー１６を設ける代わりに、スプリング１５の弾性変形の上限または下限によって、押込量ｄの上限値または下限値が与えられるように構成することもできる。また、ストッパー１６の先端を軸１１ａに連結し、ストッパー１６の螺合位置に応じて押込量ｄが設定されるように構成することもできる。上記各場合において、ストッパー１６が当接または連結する位置は、軸１１ａ以外に、可動ブラケット１４の他の部分であっても良い。
【００３９】
また、各ローラ１１，１２，１３が軸（支軸）１１ａ，１２ａ，１３ａに回転自在に支持される代わりに、各ローラ１１，１２，１３の何れかまたは全てが回転軸（１１ａ，１２ａ，１３ａ）と一体に構成され、各回転軸（１１ａ，１２ａ，１３ａ）がベアリングを介して各ブラケット１１ｂ，１２ｂ，１３ｂに回転自在に支持されても良い。その場合、各ローラ１１，１２，１３を小径にすなわち細く形成でき、可撓性基板１の搬送方向における展張装置１０の所要スペースを少なくできる利点がある。
【００４０】
上記第１実施形態の展張装置１０では、搬送ロール２，２とは別に基準ローラ１３を備えているので、可撓性基板１の搬送経路上の任意の位置に設置でき、搬送ロール２，２の間に複数の成膜ユニット４が並設される場合に、開閉式成膜ユニット間への設置や、固定式の成膜ユニットの電極対間への設置に好適である。特に、本実施形態の展張装置１０の各ローラ１１，１２，１３は、可撓性基板１に対する挟持力を得るためのゴム被覆を省略でき、金属やセラミックなどの高耐熱性の素材でローラ表面を構成できる利点がある。
【００４１】
（第２実施形態）
図４および図５は、本発明第２実施形態に係る展張装置２０を示している。第２実施形態の展張装置２０では、一方の基準ローラ２３が、軸方向に対して傾斜した周面を有する円錐ローラ（２３）からなり、かつ、該円錐ローラ（２３）に対して可撓性基板１の縁部１ａを挟んだ状態で圧接される円錐ローラ２４をさらに備え、円錐形状の挟持ローラ対（２３，２４）として構成されている。
【００４２】
各円錐ローラ２３は、図４（ｃ）に示すように、それぞれの小径側が可撓性基板１の幅方向中央側に位置し、かつ、搬送基準面（１）における回転方向が搬送方向（Ｆ，Ｒ）と同方向になるように、軸２３ａ，２４ａに回転自在に支持されている。軸２３ａは、固定支持部材２５の先端（下端）に支持され、軸２４ａは可動支持部材２６の先端（下端）に支持されている。
【００４３】
固定支持部材２５は、固定ブラケット２５ｂを介して真空室構造（図示せず）に固定されている。一方、可動支持部材２６の基端（上端）は、固定支持部材２５の上端から延出した延出部２５ａに軸２６ａを介して回動自在に支持され、かつ、中間部において、固定支持部材２５との間に加圧力調整ネジ２８を介してスプリング２７が張架されており、このスプリング２７の付勢により、円錐ローラ２４が円錐ローラ（基準ローラ２３）に圧接されるように構成されている。
【００４４】
以上のように構成された第２実施形態の展張装置２０では、先述した実施形態１０Ａ，１０Ｂ，１０における押込ローラ１１の押込力Ｐによる展張作用に加えて、各円錐ローラ（２３，２４）の周面の傾斜角（大径部と小径部の周長差）に応じて、小径側から大径側に向かう展張力Ｑが可撓性基板１の縁部１ａ，１ｂに付与され、これらの相乗的な効果により、可撓性基板１の縁部１ａ，１ｂが効果的に展張されることになる。
【００４５】
（第３実施形態）
図６は、本発明第３実施形態に係る展張装置３０を示している。第３実施形態の展張装置３０は、上記第２実施形態と同様に、一方の基準ローラ２３が、円錐形状の挟持ローラ対（２３，２４）として構成されていることに加えて、中央の押込ローラ３１が、テーパーローラ（３１）に変更されている点に特徴がある。押込ローラ３１は、図６（ｃ）に示されるように、軸３１ａが、周面の傾斜に応じた傾斜角を有して可動ブラケット３４に支持されており、可撓性基板１を搬送基準面と平行に転支可能である。
【００４６】
先述した円錐ローラ（２３，２４）による小径側から大径側に向かう展張力Ｑは、可撓性基板１に圧接される限りにおいて、１つの円錐ローラ（テーパーローラ３１）でも同様に生じる。第３実施形態の展張装置３０では、可撓性基板１の縁部１ａは、２つの基準ローラ２３，１２によって転支され、中央の押込ローラ３１（テーパーローラ）はそれらの中間において反対側から押込力Ｐによって押し込まれることで可撓性基板１の縁部１ａに圧接される。
【００４７】
したがって、第３実施形態の展張装置３０では、中央の押込ローラ３１の押込力Ｐによる展張作用に加えて、押込ローラ３１の周面の傾斜角に応じた展張力ｑ、および、円錐形状の基準ローラ（２３，２４）による展張力Ｑが、可撓性基板１の縁部１ａ，１ｂに付与されることになる。
【００４８】
（第４実施形態）
図７は、本発明第４実施形態に係る展張装置４０を示している。第４実施形態の展張装置４０では、第３実施形態と同様に中央の押込ローラ４１がテーパーローラで構成されているが、２つの基準ローラ１２，１３は何れも円筒状ローラとしてある。押込ローラ４１の軸４１ａが、周面の傾斜に応じた傾斜角を有して可動ブラケット４４に支持されている点も第３実施形態と同様である。この第４実施形態の展張装置４０では、中央の押込ローラ４１の押込力Ｐによる展張作用に加えて、押込ローラ４１の周面の傾斜角に応じた展張力ｑが、可撓性基板１の縁部１ａ，１ｂに付与される。
【００４９】
（第５実施形態）
図８は、本発明第５実施形態に係る展張装置５０を示している。第５実施形態の展張装置５０では、中央の押込ローラ１１を円筒状ローラとする一方、２つの基準ローラ２３，５３が、何れも円錐形状の挟持ローラ対（２３，２４；５３，５４）として構成されている。したがって、第２実施形態の展張装置２０において、他の基準ローラ１２も円錐形状の挟持ローラ対（５３，５４）に変更された形態であり、押込ローラ１１の押込力Ｐによる展張作用に加えて、２つの円錐形状の挟持ローラ対（２３，２４；５３，５４）によって、大きな展張力Ｑを得ることができる。
【００５０】
（他の実施形態）
図９（ａ）〜（ｃ）は、本発明の他の実施形態に係る展張装置６０，７０，８０を示している。これらの展張装置６０，７０，８０では、何れも中央の押込ローラ２１が、円錐形状の挟持ローラ対（２１，２２）で構成されている点に共通の特徴がある。これらのうち、図９（ａ）に示す本発明第６実施形態に係る展張装置６０では、２つの基準ローラ１２，１３が何れも円筒状ローラからなる。
【００５１】
一方、図９（ｂ）に示す本発明第７実施形態に係る展張装置７０では、２つの基準ローラ２３，５３が何れも円錐形状の挟持ローラ対（２３，２４および５３，５４）からなり、すなわち、第７実施形態の展張装置７０では、３つのローラ全てが円錐形状の挟持ローラ対（２１，２２；２３，２４；５３，５４）で構成されている。
【００５２】
また、図９（ｃ）に示す本発明第８実施形態に係る展張装置８０では、一方の基準ローラ３３が、テーパーローラで構成されている。テーパーローラを基準ローラとして用いる場合にも、第４実施形態と同様に、テーパーローラの周面の傾斜角が相殺されるような傾斜角を有して支持されることが好ましい。
【００５３】
以上、本発明のいくつかの実施形態につき述べたが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、上記以外にも本発明の技術的思想に基づいてさらに各種の変形および変更が可能である。
【００５４】
例えば、上記各実施形態では、押込ローラ（１１，２１，３１，４１）が、回動可能に枢支された可動ブラケット１４，４４によって、搬送基準面（１）と交差する方向に変位可能に支持される場合について述べたが、押込ローラの支持機構はこれに限定されるものではなく、搬送基準面（１）と交差する方向に摺動可能な可動ブラケット（スライド）によって支持されていても良い。また、図４（ｃ）に示したように、軸２５ａおよび可動支持部材２５によって接離可能に支持された円錐ローラ２３と同様に、搬送方向（Ｆ，Ｒ）に平行な軸を中心として揺動可能に枢支されていても良い。
【００５５】
また、上記各実施形態では、本発明に係る展張装置を、太陽電池用の薄膜積層体の製造装置に実施する場合について述べたが、本発明に係る展張装置は、有機ＥＬ等の半導体薄膜の製造装置は勿論、塗装、洗浄、乾燥、熱処理、表面加工など、成膜以外にも、可撓性基板の展張が求められる各種装置に実施可能である。
【符号の説明】
【００５６】
１  可撓性基板
１ａ，１ｂ  縁部
２  搬送ロール（基準ローラ）
４  成膜ユニット
１０，１０Ａ，１０Ｂ，２０，３０，４０，５０，６０，７０，８０  展張装置
１１  押込ローラ
１１ａ，１２ａ，１３ａ，２３ａ，２４ａ，３１ａ，４１ａ  軸
１１ｂ，１２ｂ，１３ｂ，２５ｂ  固定ブラケット
１２，１３  基準ローラ
１４，３４，４４  可動ブラケット（支持機構）
１５  スプリング（付勢部材）
１６  ストッパー（規制手段）
２１  押込ローラ（円錐ローラ）
２３，５３  基準ローラ（円錐ローラ）
２２，２４，５４  円錐ローラ
２５  固定支持部材
２６  可動支持部材
２７  スプリング
２８  加圧力調整ネジ
３１，４１  押込ローラ（テーパーローラ）
３３  基準ローラ（テーパーローラ）
Ｆ，Ｒ  搬送方向
Ｐ  押込力
Ｑ，ｑ  展張力
ｄ  押込量
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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