(57)【要約】【課題】絞りホルダの絞りを隔壁の電子ビーム通過口に密着させると共に、絞りホルダ移動による微粉末発生を抑える。【解決手段】本発明の電子顕微鏡用絞り機構は、絞りを保持する絞りベースと、該絞りベースを保持すると共に絞りが電子ビーム通過口に一致する位置と外れる位置とに選択的に配置されるよう、隔壁に沿って移動可能に設けられる絞りホルダと、該絞りホルダの周囲に移動方向に沿って配置される凹凸部を有するレールとから構成される。前記絞りベースは前記レールと接する上下ローラを備え、前記絞りホルダは、前記絞りホルダに対して独立に前記絞りベースが前記電子ビーム通過口との距離が変わる方向に移動可能に前記絞りベースを支持し且つ前記絞りベースを前記電子ビーム通過口から離れる方向に付勢する絞りベース付勢手段を備える。前記レールは、絞りが電子ビーム通過口に一致する位置で電子ビーム通過口を塞ぐように前記ローラに力を与える凹凸部を有する。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
隔壁により仕切られると共に、この隔壁に設けられた電子ビーム通過口を介して連通する圧力の異なる２つの真空室の間のガスの流通を制限するため、絞りで前記電子ビーム通過口を塞ぐように配置する電子顕微鏡用絞り機構であって、
前記絞りを保持する絞りベースと、該絞りベースを保持すると共に絞りが前記電子ビーム通過口に一致する位置と外れる位置とに選択的に配置されるよう、前記隔壁に沿って移動可能に設けられる絞りホルダと、該絞りホルダの周囲に移動方向に沿って配置されるレールとから構成され、
前記絞りベースは前記レールと接するローラを備え、
前記絞りホルダは、前記絞りホルダに対して独立に前記絞りベースが前記電子ビーム通過口との距離が変わる方向に移動可能に前記絞りベースを支持し且つ前記絞りベースを前記電子ビーム通過口から離れる方向に付勢する絞りベース付勢手段を備え、
前記レールは、前記絞りホルダの移動に伴い前記絞りが前記電子ビーム通過口に一致する位置に来た時に、前記絞りベースが前記電子ビーム通過口の方向に移動し、その結果前記絞りが前記隔壁に接触して電子ビーム通過口を塞ぐように前記ローラに力を与える凹凸部を有する、
ことを特徴とする電子顕微鏡用絞り機構。
【請求項２】
前記絞りベースは、前記絞りベースに対して独立に前記絞りが前記電子ビーム通過口との距離が変わる方向に移動可能に前記絞りを支持し且つ前記絞りを前記電子ビーム通過口に接近する方向に付勢する絞り付勢手段を備えることにより、前記絞りホルダの移動に伴い前記絞りが前記隔壁に接触して電子ビーム通過口を塞いだ時に、前記絞り付勢手段により絞りが前記隔壁に押圧されるようにしたことを特徴とする請求項１記載の電子顕微鏡用絞り機構。
【請求項３】
前記絞りベースは、複数の絞りを前記絞りホルダの移動方向に並べて保持し、前記レールは、前記絞りホルダの移動に伴い各絞りが前記電子ビーム通過口に一致する位置に来た時に、前記絞りベースが前記電子ビーム通過口の方向に移動し、その結果前記絞りが前記隔壁に接触して電子ビーム通過口を塞ぐように前記ローラに力を与える凹凸部を有する
ことを特徴とする請求項１又は２記載の電子顕微鏡用絞り機構。
【請求項４】
１つの絞りを保持した前記絞りベースが前記絞りホルダにその移動方向に並べて保持され、前記レールは、前記絞りホルダの移動に伴い各絞りが前記電子ビーム通過口に一致する位置に来た時に、前記絞りベースが前記電子ビーム通過口の方向に移動し、その結果前記絞りが前記隔壁に接触して電子ビーム通過口を塞ぐように前記ローラに力を与える凹凸部を有する、
ことを特徴とする請求項１又は２記載の電子顕微鏡用絞り機構。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、隔壁に仕切られると共に、この隔壁に設けられた電子ビーム通過口を介して連通する圧力の異なる２つの真空室間のガスの流通を制限するための電子顕微鏡の絞り機構に関する。
【背景技術】
【０００２】
図１は、隔壁により仕切られると共に、この隔壁に設けられた電子ビーム通過口を介して連通する圧力の異なる真空室のガスの流通を制限する手段を備えた電子顕微鏡の一概略例を示したものである。
【０００３】
図中１は電子銃室で、該電子銃室内には電子銃２が設けられている。３は照射系レンズ室で、該照射系レンズ室内には前記電子銃２からの電子ビームを集束する集束レンズ４と、該集束した電子ビームで試料５上を二次元的に走査するための走査コイル６が設けられている。
【０００４】
７は試料室で、該試料室内に配置される前記試料５はサイドエントリ型の試料ホルダ（図示せず）に装着され、対物レンズの上磁極８と対物レンズの下磁極９の間に配置される。  
１３は結像系レンズ室で、該結像系レンズ室内には、前記試料５を透過し、前記対物レンズで集束された電子を観察室１４内に配置された蛍光板１５上に拡大して映し出す中間レンズ１６と投射レンズ１７が設けられている。
【０００５】
該蛍光板は蛍光板退避手段（図示せず）により電子ビーム光軸Ｏ上から退避出来、該蛍光板の下方に設けられたＣＣＤカメラ１８が前記拡大された像を検出することが出来る様に成っている。
【０００６】
１９は前記ＣＣＤカメラ１８の出力信号がＡＤ変換器２０を介して送られて来る制御装置であり、透過電子顕微鏡を構成する各手段の制御及び各種演算処理等を行うものである。
【０００７】
２１は表示装置で、前記制御装置１９からの指令に基づいて画面上に試料像等を表示するもの、２２はマウスやキーボードの如き入力装置である。
【０００８】
２３は前記電子銃室２内を排気するための排気ポンプ、２４は前記照射系レンズ室３，結像系レンズ室１３及び観察室１４内を排気する排気ポンプ、２５は前記試料室７内を排気する排気ポンプである。
【０００９】
２６は前記試料室７内に導入される雰囲気ガスが貯蔵されたガスボンベ、２７は該ガスボンベの開閉を行うガスバルブ、２８は前記ガスボンベ２６からの雰囲気ガスの流量を調整するガス流量制御装置、２９は先端が前記試料室７内に配置された試料５の近傍に位置し、前記ガスボンベからの雰囲気ガスを該試料近傍に導入するためのガスノズルである。
【００１０】
前記対物レンズの上磁極８の上面には絞りホルダ１０が、前記対物レンズの下磁極９の電子ビーム通過口内にはオリフィス１１が、前記試料室７内に導入された雰囲気ガスが他部（前者が試料室７上部の部屋、後者が該試料室下部の部屋）へ流入するのを制限するために設けられている。尚、実際には、前記対物レンズは電子ビーム通過口を有する隔壁を持つ枠体Ｗに包まれた形になっているので、前記絞りホルダ１０は対物レンズ上磁極側の隔壁の上面に、前記オリフィス１１も対物レンズ下磁極側の隔壁の電子ビーム通過口側に設けられている。
【００１１】
前記絞りホルダ１０の先端部には、径の異なる複数の絞りＳ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４が一直線上に並ぶ様に設けられており、絞りホルダ駆動機構１２により前記絞りホルダ１０を移動させることにより、前記各絞りＳ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４のいずれかを、電子ビーム光軸Ｏの位置に配置させることが出来る様に成っている。
【００１２】
この様な構成の透過電子顕微鏡において、前記電子銃１からの電子ビームは前記集束レンズ４により集束され、前記対物レンズの上磁極８を通って前記試料５上に集束される。
【００１３】
この際、該試料を透過した電子は前記対物レンズの下磁極９，中間レンズ１６及び投射レンズ１７を通って順次拡大され、前記蛍光板１５上に拡大像が形成される。
【００１４】
該拡大像は、前記蛍光板退避手段（図示せず）による前記蛍光板１５の退避により、前記ＣＣＤカメラ１８に検出される。
【００１５】
該ＣＣＤカメラの出力信号は前記ＡＤ変換器２０を介して前記制御装置１９に送られ、該制御装置は前記出力信号（透過電子信号）に所定の信号処理を施して前記表示装置２１に送るので、該表示装置の画面上に透過電子像が表示される。
【００１６】
さて、最近、この様な透過電子顕微鏡での観察において、試料近傍に雰囲気ガスを供給し、該試料と雰囲気ガスとの反応過程をその場観察することが行われるようになった。
【００１７】
この様な観察を行う場合には、前記制御装置１９の指令により前記ガスバルブ２７を開け、該制御装置からの流量駆動信号を前記ガス流量制御装置２８に送ることにより、前記ガスボンベ２６からの雰囲気ガスを前記ガスノズル２９を介して所定流量で前記試料室７内の試料５の近傍に供給して、該試料との反応を誘発させる。
【００１８】
この際、前記対物レンズの上磁極８の上面側の隔壁上において、電子ビーム光軸Ｏ上に前記絞りホルダ１０の何れかの絞りが位置する様に、前記試料ホルダ駆動機構１２により絞りホルダ１０が移動されており、前記対物レンズの下磁極９側の隔壁の電子ビーム通過孔側にはオリフィス１１が設けられているので、前記試料室７内の雰囲気ガスが前記照射系レンズ室３や結像系レンズ室１３に流入することが抑制され、これらの室内の真空度は観察レベルに保たれる。尚、この時、前記絞りホルダ１０の何れの絞りを電子ビーム光軸上に位置させるかの選択は、前記試料室内に導入される雰囲気ガス量と前記試料室内の設定圧力に応じて行われる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１９】
【特許文献１】特開２００９−１５２０８７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００２０】
しかし、前記絞りホルダ１０は、前記対物レンズの上磁極８の上面側の隔壁上において、電子ビーム光軸Ｏ上にスライドしながら移動する構造であるため、隔壁と絞りホルダ１０の密着度が良いと、絞りホルダ１０が前記対物レンズの上磁極８の上面側の隔壁上を擦りながら移動するので、両者から微粉末が発生して放電発生の原因が形成されてしまう。
【００２１】
また、微粉末の発生を抑えるために、前記隔壁と絞りホルダ１０の間にわずかな隙間を持たせると、前記隔壁と絞りホルダ１０間の密着度が十分ではなくなり、前記試料室７から、前記照射系レンズ室３に雰囲気ガスが漏れてしまい、雰囲気ガスが前記電子銃室１に達すると、前記電子銃２で放電が発生する恐れがある。
【００２２】
このように、前記隔壁と前記絞りホルダ１０の密着度と微粉末発生が、トレードオフの関係になっている。
【００２３】
本発明は、この様な問題点を解決する新規な透過電子顕微鏡の絞り機構を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００２４】
本発明の電子顕微鏡用絞り機構は、隔壁により仕切られると共に、この隔壁に設けられた電子ビーム通過口を介して連通する圧力の異なる２つの真空室の間のガスの流通を制限するため、絞りで前記電子ビーム通過口を塞ぐように配置する電子顕微鏡用絞り機構であって、前記絞りを保持する絞りベースと、該絞りベースを保持すると共に絞りが前記電子ビーム通過口に一致する位置と外れる位置とに選択的に配置されるよう、前記隔壁に沿って移動可能に設けられる絞りホルダと、該絞りホルダの周囲に移動方向に沿って配置されるレールとから構成され、前記絞りベースは前記レールと接するローラを備え、前記絞りホルダは、前記絞りホルダに対して独立に前記絞りベースが前記電子ビーム通過口との距離が変わる方向に移動可能に前記絞りベースを支持し且つ前記絞りベースを前記電子ビーム通過口から離れる方向に付勢する絞りベース付勢手段を備え、前記レールは、前記絞りホルダの移動に伴い前記絞りが前記電子ビーム通過口に一致する位置に来た時に、前記絞りベースが前記電子ビーム通過口の方向に移動し、その結果前記絞りが前記隔壁に接触して電子ビーム通過口を塞ぐように前記ローラに力を与える凹凸部を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、絞りを保持する絞りベースを電子ビーム通過口との距離が変わる方向に移動可能に絞りホルダに支持させると共に、凹凸部を有するレールに絞りベースが備えるローラを接触させるようにしたので、絞りホルダの移動に伴い絞りが前記電子ビーム通過口に一致する位置に来た時に、レールの凹凸に従って前記絞りベースが前記電子ビーム通過口の方向に移動し、その結果前記絞りが前記隔壁に接触して電子ビーム通過口を塞ぎ、絞りが他の位置にある時には常に前記電子ビーム通過口から離れた位置に維持されることになる。
【００２６】
このため、電子ビーム通過口と絞りの接触に基づく微粉末の発生を十分に抑制することができ、併せて、絞りが前記電子ビーム通過口に一致する位置に来た時に絞りを電子ビーム通過口に十分に密着させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】試料室にガスを供給し、異なる真空室のガスの流通を制限する手段を備えた電子顕微鏡の一概略例を示したものである。
【図２】本発明の電子顕微鏡の絞りホルダ機構の主要部を成す絞りホルダの一概略例を示したものである。
【図３】図２のはＱ-Ｑ線断面図である。
【図４】図２のＰ-Ｐ線断面図である。
【図５】本発明に係る電子顕微鏡の対物レンズ上磁極側の隔壁の主要部概略例を示している。
【図６】上下ローラ接触フランジの一概略例を示している。
【図７】本発明の絞り機構の動作の説明に使用した図である。
【図８】本発明の絞り機構の動作の説明に使用した図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
以下、添付図面に従って、本発明の実施の形態を詳細に説明する。
【００２９】
図２は本発明の電子顕微鏡の絞り機構の主要部を構成する絞りホルダの一概略例を示したもの、図３，図４はその断面を表したもので、図３はＱ-Ｑ線断面図、図４はＰ-Ｐ線断面図である。
【００３０】
図中３１は略直方体状に形成された絞りホルダ３０の本体（以後、絞りホルダ本体と称す）で、一方の端部（根元側の部分）が固定ネジ３２で絞りホルダ駆動機構（図示せず）に取付けられている。
【００３１】
該絞りホルダ本体の他方の端部（先端側の部分）から中央部分にかけ、二段構えの直方体状の凹部３３（上段の直方体状凹部を３３Ａ，下段の直方体状凹部を３３Ｂ）が形成されており、ここに、該二段構えの直方体状の凹部より僅かに一回り小さい二段構えの直方体状の絞りベース３４が嵌入されている。
【００３２】
該絞りベースの両端部各々には、段差を有する孔（段差の上部の孔径＜段差の下部の孔径）が二つ設けられており、該各孔内に、段差の上部の孔径より大きく、段差の下部の孔径より少し小さい径のバネ３５Ａ，３５Ｂ，３５Ｃ，３５Ｄを外周に配置した、段差の上部の孔径より少し小さい径のネジ３６Ａ，３６Ｂ，３６Ｃ，３６Ｄが挿入され、前記絞りホルダ本体３１の下段差の上段面（即ち、上段差の下段面）に捻じ込まれている。従って、前記絞りベース３４は前記バネ３５Ａ，３５Ｂ，３５Ｃ，３５Ｄによって前記絞りホルダ本体３１の下段差の上段面（即ち、上段差の下段面）から上方へ押圧されて浮き上がり、前記ネジ３６Ａ，３６Ｂ，３６Ｃ，３６Ｄのネジ頭により抑えられた状態に成っている。尚、前記絞りホルダ本体３１の四つの孔の近傍には、それぞれ、二つのガイド孔Ｇｈが開けられ、又、前記絞りベース３４の該各ガイド孔に対向する位置にガイド棒Ｇｂが取付けられており、該各ガイド棒が前記ガイド孔内で上下に動ける様に成っている。
【００３３】
前記絞りベース３４の中央部には直方体状の凹部３７が形成されており、且つ、同中央部には、該凹部の底面に開口部を有する三つの絞り体装着孔３８Ａ，３８Ｂ，３８Ｃが同一間隔を隔てて穿たれている。
【００３４】
該絞り体装着孔は二段構えの孔から成り、段差上部孔より段差下部孔の径が大きく成っており、段差下部孔内には、互いに絞り径の異なる絞り３９Ａ，３９Ｂ，３９Ｃが装着されており、落下しない様に絞り押さえ４０が絞りベース３４の下面に取付けられている。尚、各絞りの中心軸間隔は等しく成っている。
【００３５】
又、前記段差上部孔内には、該孔の径より小さい径の鍔を備えたパイプ４１Ａ，４１Ｂ，４１Ｃが装着されており、該各パイプの外周で前記鍔の上にはバネ４２Ａ，４２Ｂ，４２Ｃが挿入されている。
【００３６】
そして、前記凹部３７には、前記絞り体装着孔の各開口に対向する位置に前記パイプ４１Ａ，４１Ｂ，４１Ｃの径と同一径の孔４３Ａ，４３Ｂ，４３Ｃが形成されたプレート４４がはめ込まれ、前記絞りベース３４にネジ止めされている。従って、前記バネ４２Ａ，４２Ｂ，４２Ｃは前記プレート４４の下面と前記各パイプの鍔の間にあって該パイプを介して前記絞り３９Ａ，３９Ｂ，３９Ｃを下方に押圧する様に成っている。尚、図示しなかったが、前記プレート４４には、前記絞り３９Ａ，３９Ｂ，３９Ｃに対応させて孔４３Ａ，４３Ｂ，４３Ｃが設けられているが、これらの孔から離れた位置にこれらの孔の径より遥かに大きい径を有する通常観察用孔が設けられており、該孔に応じて前記絞りべース３４にも前記各絞りより径の遥かに大きい通常観察用孔が開けられている。
【００３７】
前記ホルダ本体３１の、前記凹部３３より先端に近い側部と、該凹部より根元に近い側部の一部に段差が形成されており、両部分の段差下段面に上面規制ローラ４５Ｕ，４６Ｕと下面規制ローラ４５Ｄ，４６Ｄがそれぞれ取り付けられている。尚、上面規制ローラ４５Ｕ，４６Ｕは、そのローラの最上点が前記絞りホルダ本体３１の上面と同じライン上にある様に、下面規制ローラ４５Ｄ，４６Ｄは、そのローラの最下点が前記絞りホルダ本体３１の下面と同じライン上にある様に、該上面規制ローラと下面規制ローラは取り付けられている。
【００３８】
又、前記ホルダ本体３１の、前記絞り体装着孔３８Ａ，３８Ｂの真ん中に当たる両側部には、それぞれ、上下ローラ４７Ａ，４７Ｂが取付けられている。
【００３９】
さて、この様に構成されたホルダ３０が取付けられる透過電子顕微鏡の対物レンズ上磁極側の隔壁は以下の様な構造を成している。
【００４０】
図５は透過電子顕微鏡の対物レンズ上磁極側の隔壁の主要部概略例を示している。
【００４１】
図中４８は透過電子顕微鏡の対物レンズ上磁極側の隔壁で、該隔壁の電子ビーム通過口４９（上側、即ち、照射系レンズ室側の電子ビーム通過口を４９Ａ、下側、即ち、試料室側の電子ビーム通過口を４９Ｂとする）の中心軸（電子ビーム光軸Ｏ）をその中心軸が交差する様に絞りホルダ挿入空間５０が設けられている。
【００４２】
前記照射系レンズ室側の電子ビーム通過口４９Ａ内には、図６に示す様に、中心部に電子ビーム通過口Ｏ´を有し、前記ホルダ３０を前記絞りホルダ挿入空間５０に挿入した時に、前記上下ローラ４７Ａ，４７Ｂがそれぞれ接触するレール５１Ａ，５１Ｂが絞りホルダ挿入方向に沿って形成された上下ローラ接触フランジ５２が取付けられている。
【００４３】
前記レール５１Ａ，５１Ｂは、山（凸）の部分ＭＡａ，ＭＡｂ，ＭＡｃ，ＭＢａ，ＭＢｂ，ＭＢｃと谷（凹）の部分ＶＡａ，ＶＡｂ，ＶＡｃ，ＶＢａ，ＶＢｂ，ＶＢｃと山と谷を結ぶ坂（傾斜部）から成り、山（凸）の数は前記絞りの個数と同一に成っており、山と山との距離及び谷と谷との距離は、前記絞りと絞りとの距離に等しく成っている。
【００４４】
この様に形成された絞り機構を図１に示す如き試料室にガスを供給する手段を備えた透過電子顕微鏡に組み入れ、試料室内に導入される雰囲気ガスの量（試料室内の圧力に対応）に応じ、該ガスを導入する前に、電子ビーム光軸Ｏ上に前記絞りホルダ３０の何れかの絞りが位置する様に、前記試料ホルダ駆動機構１２により該絞りホルダ３０を移動駆動する場合の動作について以下に説明する。
【００４５】
前記絞りホルダ挿入空間５０に挿入された前記絞りホルダ３０を絞りホルダ駆動機構（図１の１２）により移動させた場合、前記絞りホルダ本体３１に取付けられている上下ローラ４７Ａ，４７Ｂが、それぞれ、前記上下ローラ接触フランジ５２のレール５１Ａ，５１Ｂに接触する。
【００４６】
この時、図７の（ａ）及び（ｂ）（（ａ）の一部拡大図）に示す様に、前記上下ローラ４７Ａ，４７Ｂが前記レール５１Ａ，５１Ｂの谷（凹）部分に接触した場合（図では、上下ローラ４７Ａとレール５１Ａの谷の部分ＶＡｂが接触していることを示しているが、実際には、上下ローラ４７Ｂとレール５１Ｂの谷の部分ＶＢｂも接触している）、該各上下ローラは該各レールから下方への押圧力を受けないので、前記絞りベース３４は、前記バネ３５Ａ，３５Ｂ，３５Ｃ，３５Ｄによって前記絞りホルダ本体３１の下段差の上段面（即ち、上段差の下段面）から上方へ付勢されて浮き上がり、前記ネジ３６Ａ，３６Ｂ，３６Ｃ，３６Ｄのネジ頭により抑えられた状態にあり、前記各絞り３９Ａ，３９Ｂ，３９Ｃは、図７の（ａ）の一部詳細図である図７の（ｃ）に示す様に、前記絞りホルダ挿入空間５０の下面から僅かに離れた状態になる。
【００４７】
一方、図８の（ａ）及び（ｂ）（（ａ）の一部拡大図）に示す様に、前記上下ローラ４７Ａ，４７Ｂが前記レール５１Ａ，５１Ｂの山（凸）部分に接触した場合（図では、上下ローラ４７Ａとレール５１Ａの山の部分ＭＡｂが接触していることを示しているが、実際には、上下ローラ４７Ｂとローラ接触部５１Ｂの山の部分ＭＢｂも接触している）、該各上下ローラは該各レールから下方への押圧力を受けるため、前記絞りベース３４も該押し圧力を受け、それにより前記バネ３５Ａ，３５Ｂ，３５Ｃ，３５Ｄが圧縮され、前記各絞り３９Ａ，３９Ｂ，３９Ｃは図８の（ｃ）に示す様に、前記絞りホルダ挿入空間５０の下面に密着する状態になる。
【００４８】
尚、前記試料室側の電子ビーム通過口４９Ｂの中心軸に対向する前記対物レンズ上磁極側の隔壁４８の部分が照射レンズ系室側に僅かに飛び出るように形成されているので、実際には、前記上下ローラが接触する前記レールの山に対応した絞りのみが絞りホルダ挿入空間５０の下面に密着する（図８の（ｃ）では絞り３９Ｂが密着している）。
【００４９】
この様に、前記絞りホルダ挿入空間５０に挿入された前記絞りホルダ３０を絞りホルダ駆動機構により移動させ、前記絞りホルダ本体３１に取付けられている上下ローラ４７Ａ，４７Ｂを、それぞれ、上下ローラ接触フランジ５２のレール５１Ａ，５１Ｂの何れかの山（凸）部に接触させることにより、任意の絞りを電子ビーム光軸Ｏ上に持って来ることが出来る。
【００５０】
尚、前述した様に、前記絞り（３９Ａ，３９Ｂ，３９Ｃ）は前記パイプ（４１Ａ，４１Ｂ，４１Ｃ）を介して前記バネ（４２Ａ，４２Ｂ，４２Ｃ）により下方に押圧されているので、前記絞りホルダ挿入孔５０の下面に対する絞りの密着度はより確実になる。
【００５１】
尚、本発明は上記例に限定されない。
【００５２】
例えば、前記例では絞りの数が３個であったが、２個でも、４個以上でも良い。但し、該絞りの個数に応じた数、上下ローラ接触フランジ５２に山と谷が、及び、プレート４４に孔が、それぞれ形成される。
【符号の説明】
【００５３】
５：試料、７：試料室、８：対物レンズ上磁極、
９：対物レンズ下磁極、１０：絞りホルダ、１１：オリフィス、
Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４：絞り、１２：絞りホルダ駆動機構、
Ｏ：電子ビーム光軸、３０：絞りホルダ、３１：絞りホルダ本体、
３９Ａ，３９Ｂ，３９Ｃ：絞り、４４：プレート、
４５Ｕ，４６Ｕ：上面規制ローラ、４５Ｄ，４６Ｄ：下面規制ローラ
４７Ａ，４７Ｂ：上下ローラ、４８：対物レンズ上磁極側の隔壁
４９Ａ，４９Ｂ：電子ビーム通過口、５０：絞りホルダ挿入孔、
５１Ａ，５１Ｂ：レール、５２：上下ローラ接触フランジ
ＭＡａ，ＭＡｂ，ＭＡｃ，ＭＢａ，ＭＢｂ，ＭＢｃ：山部（凸部）
ＶＡｂ，ＶＢａ，ＶＢｂ：谷部（凹部）  
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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