(57)【要約】【課題】マスター情報担体の繰り返し転写できる使用可能回数を向上させることのできる磁気記録媒体の製造方法を提供する。【解決手段】基板上に磁性層を形成することにより被磁気転写媒体Ｗを形成する工程と、付着物除去工程と、マスター情報担体に被磁気転写媒体Ｗを重ね合わせ、マスター情報担体側から外部磁界を印加して、磁性層に情報信号を書き込む磁気転写工程とを備え、前記付着物除去工程が、被磁気転写媒体Ｗの被磁気転写面Ａよりも柔らかく粘着性を有さない表面を有する付着物捕捉板Ｈを被磁気転写面Ａに貼り合わせ、被磁気転写面Ａに付着した付着物を付着物捕捉板Ｈの塑性変形により捕捉させる貼り合わせ工程と、付着物捕捉板Ｈを被磁気転写面Ａから引き剥がすことにより、付着物捕捉板Ｈとともに付着物を除去する引き剥がし工程とを有する磁気記録媒体の製造方法とする。【選択図】図２
2012155780.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に磁性層を形成することにより被磁気転写媒体を形成する工程と、
前記被磁気転写媒体の被磁気転写面に付着している付着物を除去する付着物除去工程と、
情報信号に対応する転写パターンの形成されたマスター情報担体に前記被磁気転写媒体を、前記被磁気転写面をマスター情報担体に対向させて重ね合わせ、前記マスター情報担体側から外部磁界を印加して、前記被磁気転写媒体の前記磁性層に情報信号を書き込む磁気転写工程とを備え、
前記付着物除去工程が、前記被磁気転写面よりも柔らかく粘着性を有さない表面を有する付着物捕捉板を前記被磁気転写面に貼り合わせ、前記被磁気転写面に付着した付着物を前記付着物捕捉板の塑性変形により捕捉させる貼り合わせ工程と、
前記付着物捕捉板を前記被磁気転写面から引き剥がすことにより、前記付着物捕捉板とともに前記付着物を除去する引き剥がし工程とを有することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２】
基板上に磁性層を形成することにより被磁気転写媒体を形成する工程と、
情報信号に対応する転写パターンの形成されたマスター情報担体の磁気転写面に付着している付着物を除去する付着物除去工程と、
前記マスター情報担体に前記被磁気転写媒体を、前記被磁気転写面をマスター情報担体に対向させて重ね合わせ、前記マスター情報担体側から外部磁界を印加して、前記被磁気転写媒体の前記磁性層に情報信号を書き込む磁気転写工程とを備え、
前記付着物除去工程が、前記磁気転写面よりも柔らかく粘着性を有さない表面を有する付着物捕捉板を前記磁気転写面に貼り合わせ、前記磁気転写面に付着した付着物を前記付着物捕捉板の塑性変形により捕捉させる貼り合わせ工程と、
前記付着物捕捉板を前記磁気転写面から引き剥がすことにより、前記付着物捕捉板とともに前記付着物を除去する引き剥がし工程とを有することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項３】
前記付着物捕捉板として、金属材料からなるものを用いることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項４】
前記付着物捕捉板が、アルミニウム、銅、金、またはその合金からなる群から選ばれる何れか１つからなるものであることを特徴とする請求項３に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項５】
前記付着物除去工程を、減圧環境下で行うことを特徴とする請求項１〜請求項４の何れか１項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、サーボ信号等の磁気記録媒体に磁気転写する情報信号の書き込まれたマスター情報担体を用いて、磁気記録媒体に情報信号の磁気転写を行う磁気記録媒体の製造方法に関し、特に、１枚のマスター情報担体によって繰り返し転写できる回数を大幅に向上させることのできる磁気記録媒体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、磁気記録再生装置の一種であるハードディスク装置（ハードディスクドライブ）においては、記録密度が年１．５倍以上増えており、今後もその増加傾向が続くと言われている。ハードディスク装置の記録密度の増大に伴って、高記録密度化に適した磁気ヘッド及び磁気記録媒体の開発が進められている。最新の磁気記録媒体においては、トラック密度は３２０ｋＴＰＩにも達している。
【０００３】
高いトラック密度を有する磁気記録媒体では、磁気ヘッドをトラック上で正確に走査するために、磁気ヘッドのトラッキングサーボ技術が重要な役割を果たしている。現在のハードディスクドライブには、ディスクの１周中、一定の角度間隔でトラッキング用のサーボ信号や、アドレス情報信号、再生クロック信号などのサーボ信号等の情報信号が記録されている。そして、磁気ヘッドから一定間隔の時間で再生されるこれらの情報信号によって、磁気ヘッドの位置を検出しながら、磁気ヘッドが正確にトラック上を走査するように磁気ヘッドの位置を修正する制御が行われている。
【０００４】
上述したサーボ信号等は、磁気ヘッドが正確にトラック上を走査するための基準信号となる。このため、サーボ信号等の書き込みには高い位置決め精度が求められる。
従来のハードディスクドライブの製造現場では、高精度の位置検出装置を組み込んだサーボ信号記録装置（以下、サーボライタという。）を用いて、磁気記録媒体に対するサーボ信号の書き込みを行っている。サーボライタは、一般に、生産性を高めるために、一つのスピンドルに多数枚の磁気記録媒体をチャッキングして、多数枚の磁気記録媒体に対して同時にサーボ信号等を書き込む構造となっている。
【０００５】
サーボライタを用いてサーボ信号を書き込む場合、磁気ヘッドを高精度に位置決めしながら多数のトラックに亘って信号を書き込むため、長い時間が必要であり、生産性が低いという課題がある。この課題を解決するためには、同時にサーボ信号を書き込む磁気記録媒体の枚数を多くすればよい。
しかしながら、同時にサーボ信号を書き込む磁気記録媒体の枚数を増やすためにサーボライタの数を増やすと、サーボライタの維持管理に多額のコストがかかる。また、サーボライタのスピンドルを長くして、同時にチャッキングできる磁気記録媒体の枚数を増やすと、サーボ信号を書き込む際の磁気記録媒体にブレが生じ易くなり、磁気記録媒体に対するサーボ信号の書き込み精度が低下する。このため、１つのスピンドルにチャッキングできる磁気記録媒体の枚数に限界があり、同時にチャッキングできる磁気記録媒体の枚数を増やすことは困難であった。
【０００６】
さらに、上述したサーボライタの数を増やす場合の問題や、同時にチャッキングできる磁気記録媒体の枚数を増やす場合の問題は、磁気記録媒体のトラック密度が向上し、トラック数が多くなるほど深刻となる。
そこで、サーボライタを用いることなく、磁気記録媒体にサーボ信号等の書き込みを行う技術が提案されている。具体的には、サーボ信号等の情報信号の書き込まれたマスター情報担体と磁気記録媒体とを重ね合わせ、外部から転写用のエネルギーを与えることにより、マスター情報担体に書き込まれた情報信号を磁気記録媒体に磁気転写する技術が提案されている。
【０００７】
例えば、特許文献１には、基体の表面に情報信号に対応する凹凸形状が形成されたマスター情報坦体表面を磁気記録媒体の表面に接触させることにより、マスター情報坦体表面の凹凸形状に対応する磁化パターンを磁気記録媒体に記録する技術が記載されている。
磁気記録媒体に磁気転写されるサーボ信号等の情報信号が書き込まれたマスター情報担体を用いて、磁気記録媒体に情報信号の磁気転写を行う場合、サーボライタを用いる場合と比較して、磁気記録媒体に対する情報信号の書き込み作業を短時間で行うことができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平１０−４０５４４号公報
【特許文献２】特開２００９−２５２２８２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
磁気転写に用いられる情報信号の書き込まれたマスター情報担体は、非常に高価なものである。しかし、マスター情報担体は、磁気記録媒体に情報信号を転写する際に繰り返し使用できるものである。このため、マスター情報担体の繰り返し磁気転写に使用できる回数（使用可能回数）をより多くして、磁気記録媒体の製造単価を低下させ、情報信号の書き込まれた磁気記録媒体の商業生産にマスター情報担体を適用できるようにすることが要求されている。
【００１０】
マスター情報担体の使用可能回数をより多くする方法としては、磁気転写を行う前に、磁気記録媒体やマスター情報担体の表面をクリーニングしておくことにより、マスター情報担体の表面の摩耗を抑制する方法が考えられる。
磁気記録媒体の表面をクリーニングする方法としては、例えば、特許文献２に記載されているように、粘着シートを用いる方法などがある。
【００１１】
しかしながら、粘着シートを用いて磁気記録媒体やマスター情報担体の表面をクリーニングした場合、粘着シートの粘着物が磁気記録媒体等に付着して、磁気転写を行う際に磁気記録媒体とマスター情報担体との相互間で粘着物が転写されてしまい、逆に磁気記録媒体等が汚染されてしまう虞があった。このため、磁気記録媒体等の表面をクリーニングする技術を用いても、マスター情報担体の使用可能回数を、十分に多くすることは困難であった。
【００１２】
本発明は、このような従来の事情に鑑みて提案されたものであり、繰り返し使用されるマスター情報担体を用いて磁気転写することにより情報信号が書き込まれる磁気記録媒体の表面に付着した付着物を効果的に除去できることにより、マスター情報担体の繰り返し転写できる使用可能回数を向上させることのできる磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者らは、上記課題を解決すべく、磁気記録媒体やマスター情報担体に付着する付着物に着目して鋭意検討を行った。その結果、磁気記録媒体等に付着する付着物の中でマスター情報担体を破損させる付着物としては、磁気記録媒体の保護層に使われる硬質炭素に起因する付着物が多いことが分かった。また、硬質炭素は、電気絶縁性で静電気を帯びるため、磁気記録媒体等の表面に付着物として付着しやすいことが分かった。さらに、磁気記録媒体に付着物として付着した硬質炭素は、磁気記録媒体の表面に対するワイピング工程において磁気記録媒体の外端部に掃き寄せられる場合があり、その後の磁気記録媒体のハンドリング等によってデータ面に再移動した硬質炭素が、マスター情報担体を破損させる原因となることを見出した。
【００１４】
そこで、本発明者らは、磁気記録媒体やマスター情報担体に付着物として付着した硬質炭素に着目して、以下に示すように検討を重ねた。その結果、磁気記録媒体の保護層に用いられる硬質炭素からなる付着物は、硬質でゴツゴツした形状を有するものであり、塑性変形する柔らかい物質にめり込ませることにより効率よく捕捉できるものであることを見出した。このことから、本発明者らは、粘着物を用いることなく、硬質炭素などの付着物を磁気記録媒体等から効率よく除去でき、マスター情報担体の繰り返し転写できる使用可能回数を向上できる本発明の製造方法を完成させた。
【００１５】
すなわち、本発明は、以下の手段を提供する。
（１）基板上に磁性層を形成することにより被磁気転写媒体を形成する工程と、前記被磁気転写媒体の被磁気転写面に付着している付着物を除去する付着物除去工程と、情報信号に対応する転写パターンの形成されたマスター情報担体に前記被磁気転写媒体を、前記被磁気転写面をマスター情報担体に対向させて重ね合わせ、前記マスター情報担体側から外部磁界を印加して、前記被磁気転写媒体の前記磁性層に情報信号を書き込む磁気転写工程とを備え、前記付着物除去工程が、前記被磁気転写面よりも柔らかく粘着性を有さない表面を有する付着物捕捉板を前記被磁気転写面に貼り合わせ、前記被磁気転写面に付着した付着物を前記付着物捕捉板の塑性変形により捕捉させる貼り合わせ工程と、前記付着物捕捉板を前記被磁気転写面から引き剥がすことにより、前記付着物捕捉板とともに前記付着物を除去する引き剥がし工程とを有することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【００１６】
（２）基板上に磁性層を形成することにより被磁気転写媒体を形成する工程と、情報信号に対応する転写パターンの形成されたマスター情報担体の磁気転写面に付着している付着物を除去する付着物除去工程と、前記マスター情報担体に前記被磁気転写媒体を、前記被磁気転写面をマスター情報担体に対向させて重ね合わせ、前記マスター情報担体側から外部磁界を印加して、前記被磁気転写媒体の前記磁性層に情報信号を書き込む磁気転写工程とを備え、前記付着物除去工程が、前記磁気転写面よりも柔らかく粘着性を有さない表面を有する付着物捕捉板を前記磁気転写面に貼り合わせ、前記磁気転写面に付着した付着物を前記付着物捕捉板の塑性変形により捕捉させる貼り合わせ工程と、前記付着物捕捉板を前記磁気転写面から引き剥がすことにより、前記付着物捕捉板とともに前記付着物を除去する引き剥がし工程とを有することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【００１７】
（３）前記付着物捕捉板として、金属材料からなるものを用いることを特徴とする（１）または（２）に記載の磁気記録媒体の製造方法。
（４）前記付着物捕捉板が、アルミニウム、銅、金、またはその合金からなる群から選ばれる何れか１つからなるものであることを特徴とする（３）に記載の磁気記録媒体の製造方法。
（５）前記付着物除去工程を、減圧環境下で行うことを特徴とする（１）〜（４）の何れか１項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の磁気記録媒体の製造方法は、前記被磁気転写面またはマスター情報担体の磁気転写面よりも柔らかい表面を有する付着物捕捉板を前記被磁気転写面またはマスター情報担体の磁気転写面に貼り合わせ、前記転写面に付着した付着物を前記付着物捕捉板の塑性変形により捕捉させる貼り合わせ工程と、前記付着物捕捉板を前記被磁気転写面またはマスター情報担体の磁気転写面から引き剥がすことにより、前記付着物捕捉板とともに前記付着物を除去する引き剥がし工程とを有する付着物除去工程を備える方法であるので、磁気記録媒体となる被磁気転写媒体またはマスター情報担体に付着している硬質炭素などからなる付着物を、粘着物を用いることなく被磁気転写媒体から効果的に除去できる。
【００１９】
したがって、情報信号に対応する転写パターンの形成されたマスター情報担体に被磁気転写媒体を、前記被磁気転写面をマスター情報担体に対向させて重ね合わせ、マスター情報担体側から外部磁界を印加して、前記被磁気転写媒体の前記磁性層に情報信号を書き込む磁気転写工程において、磁気記録媒体およびマスター情報担体間で付着物が転写されて、磁気記録媒体およびマスター情報担体が汚染されることを防止できる。
【００２０】
また、本発明の磁気記録媒体の製造方法では、付着物捕捉板として、前記被磁気転写面またはマスター情報担体の磁気転写面よりも柔らかく、塑性変形により付着物を捕捉できる表面を有するものを用いているので、被転写面に磁気記録媒体の保護層として使われる硬質炭素が付着している場合に、被磁気転写面に付着している付着物を効果的に除去できる。その結果、マスター情報担体の繰り返し転写できる使用可能回数を向上できる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】図１は、本発明の磁気記録媒体の製造方法の一例を説明するための図であって、被磁気転写媒体の一例を示した断面模式図である。
【図２】図２は、本発明の磁気記録媒体の製造方法の一例を説明するための図であって、付着物除去工程を行っている状況を示した断面模式図である。
【図３】図３は、本発明の磁気記録媒体の製造方法の一例を説明するための図であって、磁気転写工程を行っている状況を示した断面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明の磁気記録媒体の製造方法について、図面を参照して詳細に説明する。なお、以下の説明で用いる図面は、特徴をわかりやすくするために、便宜上特徴となる部分を模式的に示している場合があり、各部の寸法比率などが実際と同じであるとは限らない。
【００２３】
「磁気記録媒体の製造方法」
図１〜図３は、本発明の磁気記録媒体の製造方法の一例を説明するための図である。本実施形態の磁気記録媒体の製造方法は、被磁気転写媒体を形成する工程と、付着物除去工程と、磁気転写工程とを備えている。図１は、被磁気転写媒体の一例を示した断面模式図であり、図２は、付着物除去工程を行っている状況を示した断面模式図であり、図３は、磁気転写工程を行っている状況を示した断面模式図である。
【００２４】
被磁気転写媒体を形成する工程は、基板２００上に、磁気転写工程において情報信号の書き込まれる磁性層２０１を形成する工程である。本実施形態においては、被磁気転写媒体Ｗを形成する工程において、図２に示すように、基板２００の一方の面に磁性層２０１が形成された被磁気転写媒体Ｗを形成する。
なお、本実施形態においては、被磁気転写媒体Ｗを形成する工程において、図１に示す被磁気転写媒体Ｗを形成するが、図面を見やすくするため、図２には基板２００と磁性層２０１のみを記載し、図１に示す被磁気転写媒体Ｗの詳細な積層構造および製造方法については後述する。
【００２５】
また、本実施形態においては、被磁気転写媒体を形成する工程の後で付着物除去工程の前に、ワイピング工程および／またはバーニッシュ工程を行ってもよい。
【００２６】
ワイピング工程は、例えば、回転させた被磁気転写媒体Ｗの被磁気転写面Ａに、ワイピングテープを押し当てて、被磁気転写面Ａを拭く工程とすることができる。ワイピング工程を行うことにより、被磁気転写媒体Ｗの被磁気転写面Ａに付着したスパッタダスト等を除去することができるので、被磁気転写面Ａを清浄化することができ、磁気ヘッドの浮上量をより小さくすることが可能となる。
ワイピング工程に用いられるワイピングテープとしては、例えば、超極細繊維よりなる布帛を帯状にスリットしたワイピングテープや、超極細繊維マルチフィラメント糸の織編物などを用いることができる。
【００２７】
バーニッシュ工程は、例えば、回転させた被磁気転写媒体Ｗの被磁気転写面Ａに、研磨テープを押し当てることにより、被磁気転写面Ａを研磨する工程とすることができる。バーニッシュ工程を行うことにより、被磁気転写媒体Ｗの被磁気転写面Ａにある異常突起物や微小な塵埃等を除去することができ、被磁気転写面Ａが平滑化される。したがって、ハードディスクドライブでの磁気ヘッドの浮上量をより小さくすることができるとともに、磁気転写工程において被磁気転写媒体Ｗとマスター情報担体Ｍとの間に隙間が生じて転写パターンが不鮮明となったり、マスター情報担体Ｍが損傷を受けたりすることを防止できる。
【００２８】
バーニッシュ工程に用いられる研磨テープ（バーニッシュテープ）としては、ポリエステル製のベースフィルム上に、研磨材層が形成されたテープなどが挙げられる。
研磨材層を形成する際に用いられる研磨材としては、平均粒子径が０．０５μｍ〜５０μｍ程度の、酸化クロム、α−アルミナ、炭化珪素、非磁性酸化鉄、ダイヤモンド、γ−アルミナ、α，γ−アルミナ、熔融アルミナ、コランダム、人造ダイヤモンド等が挙げられる。
【００２９】
付着物除去工程は、磁気記録媒体またはマスター情報担体の転写面に付着している付着物を除去する工程であり、この工程は付着物捕捉板を磁気記録媒体またはマスター情報担体の転写面に貼り合わせる工程と、その後この付着物捕捉板を前記転写面から引き剥がす工程とを含む。この付着物除去工程は磁気記録媒体に対する場合とマスター情報担体に対する場合でほぼ同じため、以下の説明は主に磁気記録媒体に対する場合で行う。
【００３０】
本実施形態においては、付着物除去工程において、図２に示すように、付着物捕捉板Ｈを被磁気転写媒体Ｗの被磁気転写面Ａに貼り合わせ、被磁気転写面Ａに付着した付着物を付着物捕捉板Ｈの塑性変形により捕捉させる貼り合わせ工程と、付着物捕捉板Ｈを被磁気転写面Ａから引き剥がすことにより、付着物捕捉板Ｈとともに付着物を除去する引き剥がし工程とを行う。
【００３１】
貼り合わせ工程および引き剥がし工程においては、例えば、磁気転写工程を行う際に被磁気転写媒体Ｗおよびマスター情報担体Ｍを保持する装置と同様の装置などを用いて付着物捕捉板Ｈおよび被磁気転写媒体Ｗを保持して、付着物捕捉板Ｈと被磁気転写媒体Ｗとの貼り合わせと、付着物捕捉板Ｈと被磁気転写媒体Ｗとの引き剥がしとを行うことができる。
【００３２】
付着物除去工程は、減圧環境下で行うことが好ましい。付着物除去工程を減圧環境下で行った場合、付着物除去工程において、被磁気転写媒体Ｗと付着物捕捉板Ｈとが吸着して、被磁気転写媒体Ｗから付着物捕捉板Ｈを引き剥がしにくくなることを防止でき、効率よく付着物除去工程を行うことができる。
【００３３】
付着物捕捉板Ｈは、被磁気転写媒体Ｗの被磁気転写面Ａよりも柔らかく、塑性変形する表面を有するものである。また、従来用いられている粘着テープのように、僅かであっても粘着物が被磁気転写面Ａに付着することが無いように、付着物捕捉板Ｈの表面は粘着性を有さないようにする。なお、本発明において、被磁気転写媒体Ｗの被磁気転写面Ａよりも柔らかくとは、より具体的には被磁気転写媒体Ｗの保護層として用いられる炭素膜より柔らかいことを指す。また、付着物除去工程をマスター情報担体に対して行う場合は、マスター情報担体の転写面よりも柔らかくすることを指し、より具体的にはマスター情報担体の表面が炭素保護膜で覆われている場合はその炭素膜より柔らかいことを指す。
付着物捕捉板Ｈの表面は、被磁気転写面Ａに付着した付着物を効果的に捕捉できるように、平坦性に優れたものであることが好ましい。具体的には、付着物捕捉板Ｈの表面は、被磁気転写面Ａと同程度の平坦性を有するものであることが好ましい。
【００３４】
付着物捕捉板Ｈは、図２に示すように、被磁気転写媒体Ｗと平面視同形とすることができる。なお、付着物捕捉板Ｈの平面形状は、被磁気転写媒体Ｗと平面視同形に限定されるものではなく、例えば、被磁気転写媒体Ｗと重ね合わせた時に被磁気転写媒体Ｗの輪郭の外側に付着物捕捉板Ｈの輪郭が配置される被磁気転写媒体Ｗよりも平面積の大きい形状であってもよい。
【００３５】
また、付着物捕捉板Ｈとしては、金属材料からなるものを用いることが好ましい。金属材料からなる付着物捕捉板Ｈは、付着物除去工程を終了した後の被磁気転写媒体Ｗの被磁気転写面Ａに、付着物捕捉板Ｈを構成する材料からなる付着物が残留することがなく、好ましい。また、付着物捕捉板Ｈを導電性のある金属材料とすることで静電気の発生を防ぎ、硬質炭素粉のような帯電した付着物を捕捉し易くなる。
【００３６】
また、付着物捕捉板Ｈに用いられる金属材料としては、具体的には、アルミニウム、銅、金、またはその合金からなる群から選ばれる何れか１つからなるものであることが好ましい。これらの材料からなる付着物捕捉板Ｈは、柔らかく、容易に塑性変形して被磁気転写面Ａに付着した付着物がめり込むため、付着物を容易により効率よく捕捉でき、被磁気転写面Ａに付着している付着物をより効果的に除去できる。本発明の付着物捕捉板Ｈは、上記の金属材料によって形成するほか、ベースとなる板の表面にスパッタリング、真空蒸着、電気メッキ等の方法により金属薄膜として形成しても良い。その場合の薄膜の膜厚は付着物の粒径より大きくし、好ましくは薄膜が容易に塑性変形できるように付着物の粒径の数倍程度以上とする。
【００３７】
付着物捕捉板Ｈは、繰り返し使用できるものである。なお、付着物捕捉板Ｈは、被磁気転写面Ａに付着した付着物を効果的に捕捉できるように、付着物除去工程を５０００回程度行う毎に交換することが好ましい。
【００３８】
次に、付着物除去工程後に得られた付着物の除去された被磁気転写媒体Ｗに、情報信号を書き込む磁気転写工程を行う。
磁気転写工程では、まず、被磁気転写媒体Ｗの被磁気転写面Ａである信号記録面を初期磁化する。初期磁化は、磁気記録媒体として面内磁気記録媒体を製造する場合は、トラック方向の一方向に初期直流磁界を印加することにより行い、垂直磁気記録媒体を製造する場合は、被磁気転写面Ａに対して垂直な方向の一方向に初期直流磁界を印加することにより行う。
【００３９】
初期直流磁界は、永久磁石や電磁石を用いて被磁気転写媒体Ｗに印加できる。永久磁石としては、より安定で磁力の強いＮｄＦｅＢ系の焼結磁石を用いることが好ましい。また、初期直流磁界の印加は、被磁気転写媒体Ｗと非接触の状態で行うことが、被磁気転写媒体Ｗの被磁気転写面Ａの清浄性を維持する上で好ましい。
【００４０】
また、磁気転写工程では、図３に示すように、情報信号に対応する転写パターンの形成されたマスター情報担体Ｍを用意する。マスター情報担体Ｍとしては、例えば、図３に示すように、表面に凸部１００ａ及び凹部１００ｂが形成されたＮｉ基材１００と、このＮｉ基材１００の一方の面上に形成された磁性層１０１とを備えたものを挙げることができる。また、マスター情報担体Ｍの他の例としては、例えば、図３に示すマスター情報担体Ｍの凹部１００ｂ内に、磁性層１０１が埋め込まれたものが挙げられる。
【００４１】
図３に示すマスター情報担体Ｍは、例えば、以下に示す方法などによって製造できる。
まず、ウェハの表面に電子線レジストをスピンコート法により塗布する。次いで、電子線露光装置を用いて、電子線レジストにサーボ信号等に対応させて変調した電子ビームを照射し、レジストの露光・現像を行う。その後、未露光部分を除去することによって、ウェハ上に、被磁気転写媒体Ｗに情報信号を書き込むための転写パターンに対応したレジストパターンを形成する。なお、転写パターンとしては、ハードディスクドライブのサーボ信号の他、ハードディスクドライブにおいてサーボ信号を生成するためのプリサーボ信号やセルフサーボ信号などの情報信号に対応するパターンが例示できる。
【００４２】
次に、このレジストパターンをマスクにして、ウェハに対して反応性エッチング処理を行い、ウェハのレジストでマスクされていない箇所を掘り下げる。このエッチング処理後、ウェハ上に残存するレジストパターンを溶剤で除去することにより、マスター情報担体Ｍを作製するための原盤が得られる。
次に、原盤上に、スパッタリング法によりＮｉからなる導電層を１０ｎｍ程度の厚みで形成する。その後、導電層の形成された原盤を母型として用い、電鋳法により、この原盤上に数ミクロン厚のＮｉ層を形成する。その後、Ｎｉ層を原盤から外して洗浄することにより、図３に示すように、表面に凸部１００ａ及び凹部１００ｂの形成されたＮｉ基材１００が得られる。
【００４３】
次に、Ｎｉ基材１００の表面に磁性層１０１を形成する。磁性層１０１としては、上記被磁気転写媒体Ｗに用いられる磁性層と同じものを形成することができる。なお、Ｎｉ基材１００の表面に形成された磁性層１０１のうち、被磁気転写媒体Ｗへの磁気転写に用いられるのは凸部１００ａが形成された部分の磁性層１０１であり、凹部１００ｂが形成された部分の磁性層１０１は、被磁気転写媒体Ｗと接触しないため、磁気転写に用いられない。
【００４４】
さらに、図３に示す磁性層１０１の形成されたＮｉ基材１００の表面に、数ｎｍ程度の厚さの硬質炭素膜等からなる保護膜（図示略）を形成してもよい。保護膜を設けることにより、マスター情報担体Ｍの耐摩耗性を高めることができる。
以上の工程を経ることによって、図３に示す情報信号に対応する転写パターンの形成されたマスター情報担体Ｍが得られる。
【００４５】
次に、図３に示すように、マスター情報担体Ｍの磁性層１０１側の面と、被磁気転写媒体Ｗの被磁気転写面Ａとを対向させて、マスター情報担体Ｍに被磁気転写媒体Ｗを接触させた状態で所定の押圧力で密着させて重ね合わせる。その後、図３に示すように、マスター情報担体Ｍの転写面とは反対側から、磁界生成手段Ｇを用いて、磁界生成手段Ｇを相対的にトラック方向Ｘに移動させながら外部磁界を印加して、被磁気転写媒体Ｗの磁性層に情報信号を書き込む。この転写用の外部磁界は、上記初期直流磁界とは逆方向となる磁界である。これにより、被磁気転写媒体Ｗでは、マスター情報担体Ｍの転写パターンと対向する箇所で磁化反転が生じ、サーボ信号等に対応した磁化パターンが書き込まれる。
以上の工程により、情報信号の書き込まれた磁気記録媒体が得られる。
【００４６】
本実施形態においては、このようにして得られた磁気記録媒体に対してグライド検査を行う。グライド検査とは、磁気記録媒体の表面に突起物が無いかどうか検査する工程である。すなわち、磁気ヘッドを用いて磁気記録媒体に対して記録再生を行う際に、磁気記録媒体の表面に浮上量（媒体と磁気ヘッドの間隔）以上の高さの突起があると、磁気ヘッドが突起に衝突して磁気ヘッドが損傷したり、磁気記録媒体に欠陥が発生したりする原因となる。グライド検査では、そのような高い突起の有無を検査する。
【００４７】
グライド検査をパスした磁気記録媒体には、通常ではサーティファイ検査が実施される。サーティファイ検査とは、通常のハードディスクドライブの記録再生と同様に、磁気記録媒体に対して磁気ヘッドで所定の信号を記録した後、その信号を再生し、得られた再生信号によって磁気記録媒体の記録不能を検出し、磁気記録媒体Ｗの電気特性や欠陥の有無など媒体の品質を確かめるものである。
なお、本実施形態において製造された磁気記録媒体は、サーボ信号等の情報信号が既に書き込まれているため、従来の方式でのサーティファイ検査とは異なる。すなわち、磁気記録媒体に磁気転写されたサーボ信号等を用いて、磁気ヘッドを特定箇所に位置づけして読み書きを行う形式の検査を行う。
【００４８】
なお、本実施形態の磁気転写工程においては、磁界生成手段Ｇとして、電磁石や永久磁石からなるものを用いることができる。また、図３に示す磁界生成手段Ｇは、被磁気転写媒体Ｗの半径方向において同一方向の外部磁界を発生させながら、被磁気転写媒体Ｗの中心からトラック方向Ｘに回転移動させることが可能となっている。
本実施形態の磁気転写工程においては、磁気記録媒体として面内磁気記録媒体を製造する場合、磁界生成手段Ｇによってトラック方向の他方向に転写用の外部磁界を発生させ、垂直磁気記録媒体を製造する場合、磁界生成手段Ｇによって被磁気転写面Ａに対して垂直な方向の他方向に転写用の外部磁界を発生させる。
【００４９】
なお、１枚のマスター情報担体Ｍを用いて複数の被磁気転写媒体Ｗに情報信号を書き込み、複数の磁気記録媒体を製造する場合、マスター情報担体の繰り返し転写できる使用可能回数を効果的に向上させるために、全ての磁気記録媒体の製造に用いる被磁気転写媒体Ｗに対して付着物除去工程を行うことが好ましいが、一部の被磁気転写媒体Ｗに対してのみ付着物除去工程を行ってもよい。また、磁気転写工程ごとにマスター情報担体に対して付着物除去工程を行うことが好ましいが、所定回数ごとに付着物除去工程を行ってもよい。一部の被磁気転写媒体Ｗに対してのみ、または所定の磁気転写工程ごとに付着物除去工程を行った場合であっても、付着物除去工程を行わない場合と比較して、マスター情報担体の繰り返し転写できる使用可能回数を向上させることができる。また、一部の被磁気転写媒体Ｗや所定の磁気転写工程ごとに付着物除去工程を行った場合、全ての被磁気転写媒体Ｗ等に対して付着物除去工程を行う場合と比較して、効率よく磁気記録媒体を製造でき、磁気記録媒体の生産性を向上させることができる。
【００５０】
本実施形態の磁気記録媒体の製造方法は、転写面（被磁気転写媒体Ｗの被磁気転写面Ａまたはマスター情報担体Ｍの磁気転写面）よりも柔らかい表面を有する付着物捕捉板Ｈを転写面に貼り合わせ、転写面に付着した付着物を付着物捕捉板Ｈの塑性変形により捕捉させる貼り合わせ工程と、付着物捕捉板Ｈを転写面から引き剥がすことにより、付着物捕捉板Ｈとともに付着物を除去する引き剥がし工程とを有する付着物除去工程を備える方法であるので、磁気記録媒体またはマスター情報担体の転写面に付着している硬質炭素などからなる付着物を、粘着物を用いることなく転写面から効果的に除去できる。
【００５１】
したがって、情報信号に対応する転写パターンの形成されたマスター情報担体Ｍに被磁気転写媒体Ｗを、被磁気転写面Ａをマスター情報担体Ｍに対向させて重ね合わせ、マスター情報担体Ｍ側から外部磁界を印加して、被磁気転写媒体Ｗの磁性層に情報信号を書き込む磁気転写工程において、磁気記録媒体Ｗおよびマスター情報担体Ｍ相互間で付着物が転写されて、磁気記録媒体Ｗおよびマスター情報担体Ｍが汚染されることを防止できる。
【００５２】
また、本実施形態の磁気記録媒体の製造方法では、付着物捕捉板として、転写面よりも柔らかく、塑性変形により付着物を捕捉できる表面を有するものを用いているので、転写面に磁気記録媒体の保護層に用いられる硬質炭素が付着している場合に、転写面に付着している付着物を効果的に除去できる。その結果、マスター情報担体Ｍの繰り返し転写できる使用可能回数を向上でき、磁気記録媒体の生産コストを大幅に低減できる。
【００５３】
また、上述した磁気記録媒体の製造方法では、被磁気転写媒体を形成する工程において、図２に示すように、基板２００の一方の面に磁性層２０１が形成された被磁気転写媒体Ｗを形成したが、基板２００の両面に磁性層２０１が形成された被磁気転写媒体を形成してもよい。基板２００の両面に磁性層２０１を形成する場合、一方の面に形成された磁性層と、他方の面に形成された磁性層とは、同じであってもよいし、異なっていてもよい。
【００５４】
基板２００の両面に磁性層２０１が形成された被磁気転写媒体を形成した場合、被磁気転写媒体の両面に被磁気転写面Ａが形成されるので、付着物除去工程において、被磁気転写媒体の両面に付着している付着物を除去する。
また、基板２００の両面に磁性層２０１が形成された被磁気転写媒体に、情報信号を書き込む磁気転写工程を行う場合、以下に示す方法により、磁気記録媒体の両面に情報信号を書き込むことが好ましい。
【００５５】
すなわち、一対のマスター情報担体Ｍを磁性層１０１側の面を内側に向けて対向配置し、一対のマスター情報担体Ｍの間に、両面に磁性層２０１が形成された被磁気転写媒体を挟み込み、マスター情報担体Ｍと被磁気転写媒体とを接触させた状態で所定の押圧力で密着させる。その後、マスター情報担体Ｍの転写面と反対側から、磁界生成手段Ｇを用いて外部磁界を印加する。これにより、被磁気転写媒体の両面に、サーボ信号等に対応した磁化パターンが書き込まれる。
また、基板２００の両面に磁性層２０１が形成された被磁気転写媒体であっても、磁気転写する情報信号がプリサーボ情報やセルフサーボ情報の場合は、磁気記録媒体の片面のみに情報信号を書き込むことができる。
【００５６】
「被磁気転写媒体」
次に、本実施形態の磁気記録媒体の製造方法において形成した被磁気転写媒体Ｗについて、図１を用いて詳細に説明する。図１は、被磁気転写媒体Ｗの一例を示した断面模式図である。図１に示す被磁気転写媒体Ｗは、非磁性基板（基板）３１上に、スペーサ層３２ｂにより反強磁性結合させた２層の軟磁性層３２ａを含む軟磁性下地層３２と、配向制御層３３と、非磁性下地層３８と、垂直磁性層３４と、保護層３５と、潤滑剤膜３６とを順次積層した構造を有している。
【００５７】
また、垂直磁性層３４は、下層の磁性層３４ａと、中層の磁性層３４ｂと、上層の磁性層３４ｃとの３層を含み、磁性層３４ａと磁性層３４ｂの間に非磁性層３７ａが挟み込まれ、磁性層３４ｂと磁性層３４ｃの間に非磁性層３７ｂが挟み込まれていることで、磁性層３４ａ〜３４ｃと非磁性層３７ａ，３７ｂとが交互に積層されたものとなっている。
【００５８】
非磁性基板３１としては、例えば、アルミニウムやアルミニウム合金などの金属材料からなる金属基板を用いてもよいし、例えば、ガラスや、セラミック、シリコン、シリコンカーバイド、カーボンなどの非金属材料からなる非金属基板を用いてもよい。また、これら金属基板や非金属基板の表面に、例えばメッキ法やスパッタ法などを用いて、ＮｉＰ層又はＮｉＰ合金層が形成されたものなどを用いてもよい。
【００５９】
ガラス基板としては、例えば、アモルファスガラスや結晶化ガラスなどを用いることができる。アモルファスガラスとしては、例えば、汎用のソーダライムガラスや、アルミノシリケートガラスなどを用いることができる。また、結晶化ガラスとしては、例えば、リチウム系結晶化ガラスなどを用いることができる。
セラミック基板としては、例えば、汎用の酸化アルミニウムや、窒化アルミニウム、窒化珪素などを主成分とする焼結体、又はこれらの繊維強化物からなるものなどを用いることができる。
【００６０】
非磁性基板３１は、その平均表面粗さ(Ｒａ)が１ｎｍ（１０Å）以下、好ましくは０．５ｎｍ以下であるとことが、磁気ヘッドを低浮上させた高記録密度記録に適している点から好ましい。また、表面の微小うねり(Ｗａ)が０．３ｎｍ以下（より好ましくは０．２５ｎｍ以下。）であることが、磁気ヘッドを低浮上させた高記録密度記録に適している点から好ましい。また、端面のチャンファー部の面取り部と、側面部との少なくとも一方の表面平均粗さ(Ｒａ)が１０ｎｍ以下（より好ましくは９．５ｎｍ以下。）のものを用いることが、磁気ヘッドの飛行安定性にとって好ましい。なお、微少うねり(Ｗａ)は、例えば、表面荒粗さ測定装置Ｐ−１２（ＫＬＭ−Ｔｅｎｃｏｒ社製）を用い、測定範囲８０μｍでの表面平均粗さとして測定することができる。
【００６１】
また、非磁性基板３１は、Ｃｏ又はＦｅが主成分となる軟磁性下地層３２と接して配置されている場合、表面の吸着ガスや、水分の影響、基板成分の拡散などにより、腐食が進行する可能性がある。このため、非磁性基板３１と軟磁性下地層３２の間に密着層を設けることが好ましい。非磁性基板３１と軟磁性下地層３２の間に密着層を設けることにより、腐食の進行を抑制できる。密着層の材料としては、例えば、Ｃｒ、Ｃｒ合金、Ｔｉ、Ｔｉ合金など適宜選択することが可能である。また、密着層の厚みは２ｎｍ（２０Å）以上であることが好ましい。
【００６２】
軟磁性層３２ａとしては、Ｆｅ：Ｃｏを４０：６０〜７０：３０（原子比）の範囲で含む材料を用いることが好ましい。また、軟磁性層３２ａの透磁率や耐食性を高めるために、Ｔａ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｃｒの中から選ばれる何れか１種を１〜８原子％の範囲で含有させることが好ましい。
スペーサ層３２ｂとしては、Ｒｕ、Ｒｅ、Ｃｕ等を用いることができ、中でも特にＲｕを用いることが好ましい。
【００６３】
配向制御層３３は、垂直磁性層３４の結晶粒を微細化して、記録再生特性を改善するためのものである。配向制御層３３としては、特に限定されるものではないが、ｈｃｐ構造、ｆｃｃ構造、アモルファス構造を有するものを用いることが好ましい。特に、Ｒｕ系合金、Ｎｉ系合金、Ｃｏ系合金、Ｐｔ系合金、Ｃｕ系合金を用いることが好ましい。また、配向制御層３３は、上記の合金を多層化したものであってもよい。具体的に例えば、非磁性基板３１側からＮｉ系合金とＲｕ系合金との多層構造、Ｃｏ系合金とＲｕ系合金との多層構造、Ｐｔ系合金とＲｕ系合金との多層構造を積層したものであることが好ましい。
【００６４】
配向制御層３３の直上の垂直磁性層３４の初期部には、ノイズの原因となる結晶成長の乱れが生じやすい。このため、配向制御層３３と垂直磁性層３４の間に非磁性下地層３８を設けることが好ましい。垂直磁性層３４の初期部の結晶成長の乱れた部分を、非磁性下地層３８に置き換えることで、ノイズの発生を抑制することができる。
【００６５】
非磁性下地層３８としては、Ｃｏを主成分とし、更に酸化物を含んだ材料からなるものを用いることが好ましい。非磁性下地層３８のＣｒの含有量は、２５原子％以上、５０原子％以下とすることが好ましい。非磁性下地層３８に含まれる酸化物としては、例えばＣｒ、Ｓｉ、Ｔａ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｃｏなどの酸化物を用いることが好ましく、その中でも特に、ＴｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３、ＳｉＯ２などを好適に用いることができる。非磁性下地層３８の酸化物の含有量としては、磁性粒子を構成する例えばＣｏ、Ｃｒ、Ｐｔ等の合金を１つの化合物として算出したｍｏｌ総量に対して、３ｍｏｌ％以上、１８ｍｏｌ％以下とすることが好ましい。
【００６６】
磁性層３４ａ，３４ｂは、グラニュラー構造のものであることが好ましく、Ｃｏを主成分とし、更に酸化物を含んだ材料を用いることが好ましい。磁性層３４ａ，３４ｂに含まれる酸化物としては、例えばＣｒ、Ｓｉ、Ｔａ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｃｏなどの酸化物を用いることが好ましく、中でも特に、ＴｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３、ＳｉＯ２などが好適に用いられる。
また、下層の磁性層３４ａは、酸化物を２種類以上添加した複合酸化物を含むものであることが好ましい。中でも特に、Ｃｒ２Ｏ３−ＳｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３−ＴｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３−ＳｉＯ２−ＴｉＯ２などを好適に用いることができる。
【００６７】
磁性層３４ａ，３４ｂに適した材料としては、例えば、９０（Ｃｏ１４Ｃｒ１８Ｐｔ）−１０（ＳｉＯ２）｛Ｃｒ含有量１４原子％、Ｐｔ含有量１８原子％、残部Ｃｏからなる磁性粒子を１つの化合物として算出したモル濃度が９０ｍｏｌ％、ＳｉＯ２からなる酸化物組成が１０ｍｏｌ％｝、９２（Ｃｏ１０Ｃｒ１６Ｐｔ）−８（ＳｉＯ２）、９４（Ｃｏ８Ｃｒ１４Ｐｔ４Ｎｂ）−６（Ｃｒ２Ｏ３）の他、（ＣｏＣｒＰｔ）−（Ｔａ２Ｏ５）、（ＣｏＣｒＰｔ）−（Ｃｒ２Ｏ３）−（ＴｉＯ２）、（ＣｏＣｒＰｔ）−（Ｃｒ２Ｏ３）−（ＳｉＯ２）、（ＣｏＣｒＰｔ）−（Ｃｒ２Ｏ３）−（ＳｉＯ２）−（ＴｉＯ２）、（ＣｏＣｒＰｔＭｏ）−（ＴｉＯ）、（ＣｏＣｒＰｔＷ）−（ＴｉＯ２）、（ＣｏＣｒＰｔＢ）−（Ａｌ２Ｏ３）、（ＣｏＣｒＰｔＴａＮｄ）−（ＭｇＯ）、（ＣｏＣｒＰｔＢＣｕ）−（Ｙ２Ｏ３）、（ＣｏＣｒＰｔＲｕ）−（ＳｉＯ２）などの組成物を挙げることができる。
【００６８】
また、上層の磁性層３４ｃは、酸化物を含まない磁性層とすることが好ましい。上層の磁性層３４ｃに適した材料としては、具体的には、上述した磁性層３４ａ，３４ｂに適した材料から酸化物を除いた材料などが挙げられる。
【００６９】
なお、垂直磁性層３４は、４層以上の磁性層で構成してもよい。例えば、グラニュラー構造の磁性層を上記磁性層３４ａ，３４ｂに１層加えて３層で構成し、その上に、酸化物を含まない磁性層３４ｃを設けた４層構造の垂直磁性層としてもよいし、グラニュラー構造の磁性層３４ａ，３４ｂの上に、酸化物を含まない磁性層３４ｃを２層構造として設けた４層構造の垂直磁性層３４としてもよい。
【００７０】
また、垂直磁性層３４を構成する３層以上の磁性層間には、非磁性層３７ａ、３７ｂが設けられていることが好ましい。非磁性層３７ａ、３７ｂを適度な厚みで設けることで、個々の膜の磁化反転が容易になり、磁性粒子全体の磁化反転の分散を小さくすることができる。その結果Ｓ／Ｎ比をより向上させることが可能である。非磁性層３７ａ、３７ｂには、従来公知の材料を用いることができ、例えばＲｕ，Ｒｅ，Ｃｕなどを用いることが可能である。
【００７１】
また、垂直磁性層３４を構成する３層以上の磁性層間には、非磁性層３７ａ、３７ｂが設けられていることが好ましい。非磁性層３７ａ、３７ｂを適度な厚みで設けることで、個々の膜の磁化反転が容易になり、磁性粒子全体の磁化反転の分散を小さくすることができる。その結果Ｓ／Ｎ比をより向上させることが可能である。非磁性層３７ａ、３７ｂには、従来公知の材料を用いることができ、例えばＲｕ，Ｒｅ，Ｃｕなどを用いることが可能である。
【００７２】
保護層３５は、垂直磁性層３４の腐食を防ぐと共に、磁気ヘッドが磁気記録媒体に接触したときの表面の損傷を防ぐためのものである。保護層３５には、従来公知の材料を用いることができ、例えばＣ、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２などを含むものを用いることが可能である。保護層３５の厚みは、１〜１０ｎｍとすることが、磁気ヘッドと磁気記録媒体との距離を小さくできるので高記録密度の点から好ましい。
【００７３】
潤滑層３６は、磁気記録再生装置（ハードディスクドライブ）に内蔵された磁気記録媒体の表面を磁気ヘッドがシークするに際して磁気記録媒体の表面を保護するために用いられるが、マスター情報担体Ｍを用いて、磁気記録媒体の磁性層３４に情報信号を書き込む際に、保護層３５がマスター情報担体Ｍに接触して、マスター情報担体Ｍの摩耗を促進させることを防止する効果もある。潤滑層３６としては、従来公知の材料を用いることができ、例えば、パーフルオロポリエーテル、フッ素化アルコール、フッ素化カルボン酸などの潤滑剤を保護層３５上に塗布することによって形成できる。
【００７４】
「被磁気転写媒体の製造方法」
図１に示す被磁気転写媒体Ｗを製造するには、まず、非磁性基板３１上に、密着層と、軟磁性下地層３２と、配向制御層３３と、非磁性下地層３８と、垂直磁性層３４と、保護層３５と、潤滑層３６とを順次積層する積層構造形成工程を行う。
【００７５】
積層構造形成工程は、公知の方法によって行うことができる。例えば、非磁性基板３１上に、スパッタ法などを用いて、密着層、軟磁性層３２ａとスペーサ層３２ｂと軟磁性層３２ａとからなる軟磁性下地層３２、配向制御層３３、非磁性下地層３８、下層の磁性層３４ａと非磁性層３７ａと中層の磁性層３４ｂと非磁性層３７ｂと上層の磁性層３４ｃとからなる垂直磁性層３４を下から順に積層する。その後、ＣＶＤ法、イオンビーム法などを用いて保護層３５を成膜する。次いで、保護層３５上に潤滑剤を塗布する方法などによって潤滑層３６を形成する。
【実施例】
【００７６】
以下、実施例により本発明の効果をより明らかなものとする。なお、本発明は、以下に示す実施例に限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲で適宜変更して実施できる。
（実施例１）
【００７７】
＜被磁気転写媒体を形成する工程＞
非磁性基板として、洗浄済みのガラス基板（コニカミノルタ社製、外形２．５インチ）を用意し、ＤＣマグネトロンスパッタ装置（アネルバ社製Ｃ−３０４０）の成膜チャンバ内に収容して、到達真空度１×１０−５Ｐａとなるまで成膜チャンバ内を排気した。
その後、ガラス基板の上に６０Ｃｒ−４０Ｔｉターゲットを用いて層厚１０ｎｍの密着層を成膜した。
【００７８】
次に、密着層の上に４６Ｆｅ−４６Ｃｏ−５Ｚｒ−３Ｂ｛Ｆｅ含有量４６原子％、Ｃｏ含有量４６原子％、Ｚｒ含有量５原子％、Ｂ含有量３原子％｝のターゲットを用いて１００℃以下の基板温度で、層厚３４ｎｍの軟磁性層、層厚０．７６ｎｍのＲｕ層、層厚３４ｎｍの４６Ｆｅ−４６Ｃｏ−５Ｚｒ−３Ｂの軟磁性層を成膜し、これを軟磁性下地層とした。
次に、軟磁性下地層の上に、Ｎｉ−６Ｗ｛Ｗ含有量６原子％、残部Ｎｉ｝ターゲット、Ｒｕターゲットを用いて、それぞれ５ｎｍ（ガス圧１Ｐａ）、２０ｎｍ（ガス圧６Ｐａ）の層厚で順に成膜し、これを配向制御層とした。
【００７９】
次に、配向制御層の上に、スパッタ法を用いて多層構造の磁性層として、８４（Ｃｏ１２Ｃｒ１６Ｐｔ）−１６ＴｉＯ２（膜厚３ｎｍ）、９１（Ｃｏ５Ｃｒ２２Ｐｔ）−４ＳｉＯ２−３Ｃｒ２Ｏ３−２ＴｉＯ２（膜厚３ｎｍ）、Ｒｕ４７．５Ｃｏ（膜厚０．５ｎｍ）、Ｃｏ１５Ｃｒ１６Ｐｔ６Ｂ（膜厚３ｎｍ）を積層した。
【００８０】
次に、ＣＶＤ法により層厚２．５ｎｍの炭素膜からなる保護層を成膜した。
次に、保護層上に、ディッピング法によりパーフルオロポリエーテルからなる潤滑剤を塗布することによって、厚さ１５オングストロームの潤滑層を形成した。以上の工程により、被磁気転写媒体Ｗを得た。
【００８１】
次に、潤滑層までの各層の形成された被磁気転写媒体Ｗに対して、ワイピング処理を施した。ワイピング処理は、被磁気転写媒体を回転数３００ｒｐｍで回転させ、ワイピングテープを送り速度１０ｍｍ／秒で送り出しながら、ワイピングテープを被磁気転写媒体に押圧力９８ｍＮで５秒間押し当てることにより行った。ワイピングテープとしては、ナイロン樹脂とポリエステル樹脂による線径２μｍの剥離型複合繊維を用いた。
【００８２】
次に、ワイピング処理を施した被磁気転写媒体Ｗに対してバーニッシュ加工を施した。バーニッシュ加工は、被磁気転写媒体を回転数３００ｒｐｍで回転させ、研磨テープを送り速度は１０ｍｍ／秒で送り出しながら、研磨テープを被磁気転写媒体に押圧力９８ｍＮで５秒間押し当てることにより行った。バーニッシュテープとしては、ポリエチレンテレフタレート製のフィルム上に、平均粒径０．５μｍの結晶成長タイプのアルミナ粒子をエポキシ樹脂で固着したものを用いた。
【００８３】
＜付着物除去工程＞
付着物除去工程においては、付着物捕捉板Ｈを被磁気転写媒体Ｗの被磁気転写面Ａに貼り合わせて、被磁気転写面Ａに付着した付着物を付着物捕捉板Ｈの塑性変形により捕捉させる貼り合わせ工程と、付着物捕捉板Ｈを被磁気転写面Ａから引き剥がすことにより、付着物捕捉板Ｈとともに付着物を除去する引き剥がし工程とを行った。
【００８４】
付着物捕捉板Ｈとしては、被磁気転写媒体Ｗと平面視同形のアルミニウムからなるものを用いた。本実施例の付着物捕捉板は次の方法で製造した。先ず、外径６５ｍｍ、内径２０ｍｍ、厚さ１．３ｍｍのドーナツ状のアルミニウム合金（５０８６相当品）の表面を、Ｄ５０（平均粒径）が０．５μｍのアルミナ砥粒を用いて３分間研磨した。その後、Ｄ５０が３０ｎｍのコロイダルシリカ砥粒を用いて１０分間研磨し、表面の平均表面粗さ(Ｒａ)を１ｎｍ（１０Å）以下、微小うねり(Ｗａ)を０．３ｎｍ以下とした。
付着物除去工程は、この付着物捕捉板を磁気記録媒体の片面に減圧雰囲気下で重ね、５０ｍＮで１秒間押し当てた後に離した。また、付着物捕捉板Ｈは、付着物除去工程を５０００回行う毎に交換した。
【００８５】
＜磁気転写工程＞
「マスター情報担体の製造」
表面に２７１ｋトラック／インチのプリサーボ信号等の転写パターンに対応する形状を有する凸部と凹部とを備えるＮｉからなる基材を用意した。なお、基材の磁気記録媒体に磁気転写される情報信号に対応するトラックは幅１２０ｎｍ、トラック間隔は６０ｎｍであり、基材凸部と基材凹部との段差（転写パターンの段差）は４５ｎｍであった。
【００８６】
このような基材上に、ＤＣスパッタリング法を用いて、層厚１０ｎｍのＲｕ膜からなる下地層を基材凸部および基材凹部の形状に沿って形成した。その後、下地層上に基材凸部および基材凹部の形状に沿って、ＤＣスパッタリング法を用いて、層厚２０ｎｍの７０Ｃｏ−５Ｃｒ−１５Ｐｔ−１０ＳｉＯ２合金膜と、層厚１５ｎｍの８０Ｃｏ−５Ｃｒ−１５Ｐｔ合金膜とからなる磁性層とを順次積層し、磁気記録媒体に磁気転写される情報信号が書き込まれた磁性層を形成した。
【００８７】
次に、磁性層上に、ＣＶＤ法により、層厚２０ｎｍの炭素膜からなる保護膜を形成した。以上の工程を経ることによって、情報信号に対応する転写パターンの形成されたマスター情報担体Ｍを得た。
【００８８】
次に、付着物除去工程後に得られた付着物の除去された被磁気転写媒体Ｗに、以下に示す方法により、情報信号を書き込んだ。
まず、被磁気転写媒体Ｗの被磁気転写面Ａに対して、ＮｄＦｅＢ系焼結磁石を用いて、被磁気転写媒体Ｗを貫通する方向に１０ｋＯｅの初期直流磁界を印加することにより、初期磁化を施した。
【００８９】
次に、マスター情報担体Ｍの磁性層側の面と、被磁気転写媒体Ｗの被磁気転写面Ａとを対向させて、マスター情報担体Ｍに被磁気転写媒体Ｗを接触させた状態で９８ｍＮの押圧力で密着させて重ね合わせた。その後、マスター情報担体Ｍの転写面とは反対側から、４ｋＯｅの外部磁界を１０秒間印加して、被磁気転写媒体Ｗの片面の磁性層に情報信号を書き込んだ。
以上の工程により、情報信号の書き込まれた磁気記録媒体を得た。
【００９０】
＜磁気記録媒体の評価＞
上記方法で１枚のマスター情報担体Ｍを繰り返し用いて複数枚の磁気記録媒体を製造し、得られた磁気記録媒体のそれぞれについて、以下に示すようにして、プリサーボ信号等の再生特性を評価した。
すなわち、磁気記録媒体に記録されたプリサーボ信号等を読み込み、得られた信号を用いて磁気ヘッドを位置決めできる装置であるリードライトアナライザ（型番：ＲＷＡ１６３２；米国ＧＵＺＩＫ社製）、及び、スピンスタンド（型番：Ｓ１７０１ＭＰ）を用い、磁気ヘッドとして、ＴｕＭＲを用いた磁気ヘッドを使用して、プリサーボ信号の読み込み時のＳ／Ｎ比（Ｓｉｎｇｎａｌ  ｔｏ  ｎｏｉｓｅ  ｒａｔｉｏ）を測定した。そして、Ｓ／Ｎ比が１６．０ｄＢ以下となった場合に磁気転写不良と判断し、磁気転写不良が発生するまでの１枚のマスター情報担体Ｍの磁気転写回数を、磁気転写可能な回数と評価した。
【００９１】
その結果、実施例１では、１枚のマスター情報担体Ｍを用いて、８２０００回の磁気転写が可能であった。
【００９２】
（比較例１）
比較例１では、付着物除去工程を行わなかったこと以外は、実施例１と同様にして複数枚の磁気記録媒体を製造した。
その結果、比較例１では、１枚のマスター情報担体Ｍを用いて、３５０００回の磁気転写が可能であった。
【符号の説明】
【００９３】
３１…非磁性基板  ３２…軟磁性下地層  ３２ａ…軟磁性層  ３２ｂ…スペーサ層  ３３…配向制御層  ３４…垂直磁性層  ３５…保護層  ３６…潤滑層  ３８…非磁性下地層  １００…Ｎｉ基材  １００ａ…凸部  １００ｂ…凹部  １０１…磁性層  ２００…非磁性基板  ２０１…磁性層  Ａ…被磁気転写面  Ｈ…付着物捕捉板  Ｍ…マスター情報担体  Ｗ…被磁気転写媒体  Ｇ…磁界生成手段。
【図１】
2012155780.tif 000003
【図２】
2012155780.tif 000004
【図３】
2012155780.tif 000005