(57)【要約】【課題】本発明は、基板が薄くなっても、基板自体の有する歪量を矯正し、基板を精度よく検査できる基板欠陥検査システム及び基板欠陥検査方法並びに、基板自体の有する歪量を矯正し、基板を検査可能範囲に維持して搬送できる搬送装置を提供することにある。【解決手段】本発明は、基板を載置し前記基板を検査する検査領域に搬送し、前記検査領域に検査光を照射して前記基板を撮像し前記基板の欠陥を検査する基板欠陥検査システムまたは基板欠陥検査方法において、前記基板を湾曲形状に矯正し、前記湾曲形状に沿って配置され複数の光学検査ユニットで前記検査を行うことを特徴とする。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を載置し前記基板を検査する検査領域に搬送する搬送装置と、前記検査領域に検査光を照射して前記基板を撮像し前記基板の欠陥を検査する光学ユニットを具備する光学式検査装置とを有する基板欠陥検査システムにおいて、
前記搬送装置は、前記搬送する方向(搬送方向)と垂直方向に湾曲形状を有する湾曲形状搬送路と、前記湾曲形状搬送路に沿って前記基板を湾曲形状に保持する湾曲形状保持手段と、を有することを特徴とする基板欠陥検査システム。
【請求項２】
前記湾曲形状搬送路は、前記基板の面に接し前記垂直方向の形状が湾曲形状を有し、前記基板をエア浮上させるエア浮上ステージで構成され、前記湾曲形状保持手段は、前記浮上された前記基板を前記湾曲形状に保持し、前記搬送装置は前記基板を把持し搬送する駆動部を有することを特徴とする請求項１に記載の基板欠陥検査システム。
【請求項３】
前記湾曲形状保持手段は、前記基板の搬送方向の端部を前記湾曲形状の傾斜にあった角度で前記基板を把持する把持手段と、前記基板の搬送方向の他の端部を前記湾曲形状の傾斜にあった角度で前記基板を保持する保持把持手段とを有することを特徴とする請求項２に記載の基板欠陥検査システム。
【請求項４】
前記保持手段は、前記傾斜にあった角度を持つ開口部を具備し、前記基板が前記開口部内を移動する基板保持ユニットを有することを特徴とする請求項３に記載の基板欠陥検査システム。
【請求項５】
前記保持手段は、前記他の端部で基板に接し、前記端部を前記エア浮上ステージ側に押さえ込む側部搬送ローラを有することを特徴とする請求項３に記載の基板欠陥検査システム。
【請求項６】
前記湾曲形状搬送路は、前記基板の面に接し前記垂直方向に複数配置された基板面搬送ローラを前記搬送方向に複数組設けて形成され、前記湾曲形状保持手段は、前記基板を前記基板面搬送ローラ上で前記湾曲形状に保持することを特徴とする請求項１に記載の基板欠陥検査システム。
【請求項７】
前記湾曲形状保持手段は、前記基板の搬送方向の端部で基板に接し、前記端部を前記基板面搬送ローラの側に押さえ込む側部搬送ローラを有することを特徴とする請求項６に記載の基板欠陥検査システム。
【請求項８】
前記湾曲形状保持手段は、前記基板の搬送方向の側部で前記基板に接し、前記基板の両側を挟み込む側部搬送ローラを有することを特徴とする請求項６に記載の基板欠陥検査システム。
【請求項９】
前記湾曲形状保持手段は、前記側部搬送ローラを駆動する手段を有することを特徴とする請求項７または８に記載の基板欠陥検査システム。
【請求項１０】
前記湾曲形状保持手段は、前記基板の搬送方向の両端部における前記湾曲形状の傾斜にあった傾斜角を持つ開口部を具備し、前記基板が前記開口部内を移動する基板保持ユニットを有することを特徴とすること請求項６に記載の基板欠陥検査システム。
【請求項１１】
前記光学検査ユニットを複数設け、前記複数の光学検査ユニットを前記湾曲形状に沿って配置することを特徴とする請求項２または６に記載の基板欠陥検査システム。
【請求項１２】
前記光学式検査装置とは別の処理を行う処理装置を有することを特徴とする請求項２または６に記載の基板欠陥検査システム。
【請求項１３】
基板を載置し前記基板を検査する検査領域に搬送し、前記検査領域に検査光を照射して前記基板を撮像し前記基板の欠陥を検査する基板欠陥検査方法において、
前記基板を湾曲形状に矯正し、前記湾曲形状に沿って配置され複数の光学検査ユニットで前記検査を行うことを特徴する基板欠陥検査方法。
【請求項１４】
前記検査領域に向って前記基板の状態を平面から前記湾曲形状に移行し、検査後は前記基板の状態を前記湾曲形状から前記平面に移行することを特徴とする請求項１３に記載の基板欠陥検査方法。
【請求項１５】
基板を搬送する方向(搬送方向)と垂直方向に湾曲形状を有する湾曲形状搬送路と、前記湾曲形状搬送路に沿って前記基板を湾曲形状に保持する湾曲形状保持手段と、前記基板を前記湾曲形状搬送路上で搬送させる駆動手段を有することを特徴とする搬送装置。
【請求項１６】
前記湾曲形状搬送路は、前記基板の面に接し前記垂直方向に複数配置された基板面搬送ローラを前記搬送方向に複数組設けて形成され、前記湾曲形状保持手段は、前記基板を前記基板面搬送ローラ上で前記湾曲形状に保持する側部搬送ローラを有し、前記駆動手段は前記基板面搬送ローラを回転させることを特徴とする請求項１５に記載の搬送装置。
【請求項１７】
前記湾曲形状搬送路は、前記基板の面に接し前記垂直方向の形状が湾曲形状を有し、前記基板をエア浮上させるエア浮上ステージで構成され、前記湾曲形状を保持する湾曲形状保持手段を具備し、前記湾曲形状保持手段は、前記基板の搬送方向の端部を前記湾曲形状の傾斜にあった角度で把持する把持手段と、前記基板の搬送方向の他の端部を前記湾曲形状の傾斜にあった角度で保持する保持手段とを有し、前記駆動手段は、前記把持手段を前記基板の搬送方向に移動させる駆動部を有することを特徴とする請求項１５に記載の搬送装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示用パネル等の製造に用いられるガラス基板やプラスチック基板等の基板欠陥検査システム及び基板欠陥検査方法並びに搬送装置に係り、特に大型基板の表面の傷や異物を検査するのに好適な基板欠陥検査システム及び基板欠陥検査方法並びに搬送装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示パネルや太陽電池パネルの製造は、フォトリソグラフィ技術等によりガラス基板上にパターンを形成して行なわれる。その際に、ガラス基板の表面の傷や異物等の欠陥が存在すると、パターンが良好に形成されず、不良の原因となる。このため、従来から、欠陥検査装置を用いてガラス基板の表面の傷や異物等の欠陥検査が行なわれている。
【０００３】
この種の従来の欠陥検査装置としては、例えば特許文献１、２がある。特許文献１では、基板の全体の平面状態で搬送し検査することが開示されている。特許文献２では、基板を平面状態で搬送し、基板の検査位置で基板の全面からの反射光が目視の視野に入るように基板を湾曲させ、目視検査することが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−２９２１８４号公報
【特許文献２】特開２００９−２７１００１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、基板の大型化に伴い、基板が薄板になるほど基板自体が有する歪量が大きくなり、基板の全体の平面度を矯正するのが困難になってきた。特に、特許文献２に開示された技術のように単に湾曲させても、基板自体が有する歪を矯正できない。
【０００６】
本発明は上記の課題を鑑みてなされたものであり、本発明の第1の目的は、基板が薄くなっても、基板自体の有する歪量を矯正し、基板を精度よく検査できる基板欠陥検査システム及び基板欠陥検査方法を提供することにある。
また、本発明の第２の目的は、基板が薄くなっても、基板自体の有する歪量を矯正し、基板を検査可能範囲に維持して搬送できる搬送装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、上記の目的を達成するために、少なくとも下記の特徴を有する。
本発明は、基板を載置し前記基板を検査する検査領域に搬送し、前記検査領域に検査光を照射して前記基板を撮像し前記基板の欠陥を検査する基板欠陥検査システムまたは基板欠陥検査方法において、前記基板を湾曲形状に矯正し、前記湾曲形状に沿って配置され複数の光学検査ユニットで前記検査を行うことを第１の特徴とする。
【０００８】
また、本発明は、前記湾曲形状に形成された前記湾曲形状搬送路を、前記基板の面に接し前記垂直方向に複数配置された基板面搬送ローラを前記搬送方向に複数組設けて形成し、前記基板の湾曲形状を保持する湾曲形状保持手段は、前記基板を前記基板面搬送ローラ上で前記湾曲形状に保持することを第２の特徴とする。
さらに、本発明は、前記保持を、前記基板の搬送方向の側部で前記基板に接し、前記基板の両側を挟み込む側部搬送ローラ、または前記基板の搬送方向の端部で基板に接し、前記端部を前記基板面搬送ローラの側に押さえ込む側部搬送ローラで行うことを第３の特徴とする。
【０００９】
さらに、本発明は、前記湾曲形状搬送路は、前記基板の面に接し前記垂直方向の形状が湾曲形状を有し、前記基板をエア浮上させるエア浮上ステージで構成され、前記湾曲形状保持手段は、前記浮上された前記基板を前記湾曲形状に保持し、前記搬送装置は前記基板を把持し搬送する駆動部を有することを第４の特徴とする。
また、本発明は、前記保持を、前記基板の搬送方向の端部を前記湾曲形状の傾斜にあった角度で把持する前記駆動部に設けられた把持手段と、前記基板の搬送方向の他の端部を前記湾曲形状の傾斜にあった角度で保持する保持手段とで行うこと第５の特徴とする。
【００１０】
さらに、本発明は、前記保持手段を、前記傾斜にあった角度を持つ開口部を具備し、前記基板が前記開口部内を移動する基板保持ユニットで行うことを第６の特徴とする。
また、本発明は、前記光学検査ユニットを複数設け、前記検査を前記複数の光学検査ユニットを前記湾曲形状に沿って配置して行うことを第７の特徴とする。
【００１１】
さらに、本発明は、前記搬送を、前記検査領域に向って前記基板の状態を平面から前記湾曲形状に移行させ、検査後は前記基板の状態を前記湾曲形状から前記平面に移行させて行うことを第８の特徴とする。
また、本発明は、基板を搬送する装置であって、前記基板を搬送する方向(搬送方向)と垂直方向に湾曲形状を有する湾曲形状搬送路と、前記湾曲形状搬送路に沿って前記基板を湾曲形状に保持する湾曲形状保持手段と、前記基板を前記湾曲形状搬送路上で搬送させる駆動手段を有することを第９の特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、基板が薄くなっても、基板自体の有する歪量を矯正し、基板を精度よく検査できる基板欠陥検査システムまたは基板欠陥検査方法を提供できる。
また、本発明によれば、基板が薄くなっても、基板自体の有する歪量を矯正し、基板を検査可能範囲に維持して搬送できる搬送装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明のガラス基板欠陥検査システムの第１の実施形態を示す概略図である。
【図２】第１の実施形態に用いた光学ユニットを示す図である。
【図３】本発明の特徴である第１の実施形態の搬送部と光学式検査装置の概略構成を示す図である。
【図４】本発明の特徴である第１の実施形態の搬送部の他の実施例を示した図である。
【図５】発明のガラス基板欠陥検査システムの第２の実施形態を示す概略図である。
【図６】図５の状態における検査ステージの搬送部を上部から見た概略構成を示した図である。
【図７】エア浮上ステージの構成を示した図である。
【図８】第２の実施形態における光学式検査装置の光学ユニットを含む断面を図６に示す断面Ｂ−Ｂから見た図である。
【図９】第１光学ユニットを含む本実施形態の特徴である精密ステージを図８に示す検査領域Ｒを含む断面を断面Ｃ−Ｃから見た図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、図面に基づいて本発明の基板欠陥検査システムの実施形態を、ガラス基板欠陥検査システムを例に説明する。
図１は本発明のガラス基板欠陥検査システムの第１の実施形態１００を示す概略図である。ガラス基板欠陥検査システム１００は、搬送ロボット(図示せず)等により基板Ｐが載置されるロードステージ６１Ａ、基板Ｐを検査する光学式検査装置８Ｂ、８Ｃを有する検査ステージ６１Ｂ、６２Ｃ及び検査された基板Ｐを搬送ロボット(図示せず)等によりラインから搬出するアンロードステージ６１Ｄを有する。また、ガラス基板欠陥検査システム１００は、ステージ６１Ａ〜６１Ｄに設けられ、基板Ｐを下流のステージに搬送する搬送部４１Ａ〜４１Ｄと、各搬送部４１Ａ〜４１Ｄを駆動する搬送駆動部４１Ｋとを具備する搬送装置４０及び搬送装置４０や光学式検査装置８Ｂ、８Ｃの状態を監視し、制御する制御装置３０を有する。
【００１５】
図１は、ロードステージ６１Ａが丁度基板ＰＡを載置し、検査ステージ６１Ｂ、６１Ｂが基板ＰＢ、ＰＣを検査し、そしてアンロードステージではこれから基板ＰＤを搬出しようとしている状態を示している。なお、各基板ＰはＸ軸である矢印Ｂ方向に搬送されている。また、以下の説明では符号を記す全体を表すときは、添え字Ａ〜Ｄを省略する。
【００１６】
光学式検査装置８は図２に示す光学ユニット９を図１に示すＹ方向に複数有する。光学ユニット９は検査光２を基板Ｐへ照射する投光系、基板Ｐからの反射光を受光する反射光検出系、及び基板Ｐからの散乱光を受光する受光系を有する。
【００１７】
投光系は、レーザ光源９１、レンズ９２，９３、及びミラー９４を有する。レーザ光源９１は、検査光２となるレーザ光を発生する。レンズ９２は、レーザ光源９１から発生されたレーザ光を集光する。レンズ９３は、レンズ９２で集光されたレーザ光を集束させる。ミラー９４は、レンズ９３で集束させたレーザ光を、検査光２として基板Ｐへ斜めに照射する。
【００１８】
基板Ｐへ斜めに照射された検査光２の一部は基板Ｐの表面で反射され、一部は基板Ｐの内部へ透過する。基板Ｐの表面に傷や異物等の欠陥がある場合、基板Ｐへ照射された検査光２の一部が欠陥により散乱され、散乱光が発生する。基板Ｐの内部へ透過した検査光２の一部は基板Ｐの裏面で反射され、一部は基板Ｐの裏面から外部へ射出される。基板Ｐの裏面に傷や異物等の欠陥がある場合、基板Ｐの内部へ透過した検査光２の一部が欠陥により散乱され、散乱光が発生する。
【００１９】
受光系は、集光レンズ９７、結像レンズ９８、及びＣＣＤラインセンサー９９を有する。集光レンズ９７は、基板Ｐの表面又は裏面からの散乱光を集光し、結像レンズ９８は、集光レンズ９７で集光された散乱光をＣＣＤラインセンサー９９の受光面に結像させる。ＣＣＤラインセンサー９９は、受光面に複数のＣＣＤが配列され、受光面で受光した散乱光の強度に応じた検出信号を制御装置(図１参照)３０の信号変換回路３４へ出力する。
【００２０】
反射光検出系は、ミラー９４、レンズ９５、及びＣＣＤラインセンサー９６を有する。基板Ｐの表面からの反射光は、ミラー９４を介してレンズ９５に入射する。レンズ９５は、基板Ｐの表面からの反射光を集束させ、ＣＣＤラインセンサー９６の受光面に結像させる。
【００２１】
このとき、ＣＣＤラインセンサー９６の受光面における反射光の受光位置は、基板Ｐの表面の高さによって変化する。ＣＣＤラインセンサー９６は、受光面に複数のＣＣＤが配列され、受光面で受光した反射光の強度に応じた検出信号を制御装置(図１参照)３０内の焦点調節制御回路３１へ出力する。焦点調節制御回路３１は、制御装置３０内のＣＰＵ３２からの指令に従って、焦点調節機構９０を駆動する。例えば、基板Ｐの表面の欠陥の検査を行う場合、焦点調節制御回路３１は、ＣＣＤラインセンサー９６の検出信号から、基板Ｐの表面からの反射光がＣＣＤラインセンサー９６の受光面の中心位置で受光される様に、焦点調節機構９０を駆動して光学ユニット９を移動させる。焦点調節機構９０は、例えばパルスモータで構成され、焦点調節制御回路３１からの駆動パルスに応じて光学ユニット９を上下に移動させて焦点位置を調節する。従って、焦点調節機構９０の調節範囲内、即ち検査可能範囲内に光学ユニット９を設ける必要がある。
【００２２】
図３は、本発明の特徴である第１の実施形態の搬送部４１と光学式検査装置８の概略構成を示す図である。各搬送部４１Ａ〜４１Ｄ及び光学式検査装置８Ｂ、８Ｃはそれぞれの間で基本的に同じ構成を有するので、代表して図３に検査ステージ６１Ｂの搬送部４１Ｂと光学式検査装置８Ｂの構成を示す。但し、煩雑さを避ける為に符号において添え字Ｂは省略する。図３(ａ)は搬送部４１を上から見た図を、図３(ｂ)は図３(ａ)におけるＡ−Ａ断面図を示す。
【００２３】
搬送部４１は、基板面に接し基板Ｐを搬送し、湾曲形状搬送路を形成する複数(本例では５個)の基板面搬送ローラ４２と、基板Ｐの搬送方向側部面で接し基板Ｐを搬送する複数組(本例では両側前後に計４個)の側部搬送ローラ４３(湾曲形状保持手段)と、を具備する破線で示す湾曲形成搬送ローラ部４４を搬送方向に一組以上(本実施形態では３組(４４ａ〜４４ｃ))具備する基板湾曲形状形成手段を有する。図３(ａ)では煩雑さを避けるために４４ｂと４４ｃに分散して符号を記す。
【００２４】
５個の基板面搬送ローラ４２ａ〜４２ｅは、図３(ｂ)に示すように基板Ｐが湾曲の形状を形成できるように段差を持つ回転しない支持軸４２ｓに回転可能に支持されている。また、５個の基板面搬送ローラ４２ａ〜４２ｅのうち両側の基板面搬送ローラ４２ａ、４２ｅは駆動輪４２ｒによって回転する。駆動輪４２ｒは駆動源(図示せず)よって回転する駆動軸４２ｊに固定されている。なお、中心側の基板面搬送ローラ４２ｂ〜４２ｄは基板Ｐの移動に伴って回転する従動輪である。また、図３(ａ)に示す湾曲形状は実際より誇張して描いている。この点は他の図面においても同様である。
【００２５】
一方、４個の側部搬送ローラ４３ａ〜４３ｄは、基板面搬送ローラ４２ａ、４２ｅの搬送(Ｘ)方向前後に設けられ、基板Ｐの搬送方向の側部面で基板に接し基板Ｐの両側を挟み込み、下向きの力を与える。この結果、基板Ｐが５個の基板面搬送ローラ４２ａ〜４２ｅに沿って湾曲を形成する。即ち、基板を湾曲形状に保持する湾曲形状保持手段の役目を果たす。このとき、４個の側部搬送ローラ４３ａ〜４３ｄは、基板面搬送ローラ４２ａ、４２ｅで移動する基板Ｐによってそれぞれ矢印Ｄ、Ｅ方向に従動回転する。勿論、４個の側部搬送ローラ４３ａ〜４３ｄのうち少なくとも一個を４個の側部搬送ローラ４３ａ〜４３ｄが矢印Ｄ、Ｅ方向に回転するように駆動してもよい。
【００２６】
また、光学式検査装置８の基板Ｐを検査する検査領域で安定した湾曲形状を形成するには次の方法及びその方法を実現する構成が必要である。まず第１の方法は、基板Ｐがロードステージ６１Ａに平面状態で載置され、アンロードステージ６１Ｄで平面状態で搬出される場合である。この場合は、検査する前に基板Ｐを平面状態から湾曲形状状態に、及び検査後に基板Ｐを湾曲形状状態から平面状態に移行させる必要がある。そのために、例えば、検査ステージ６１Ｂの検査領域の手前において、５個の基板面搬送ローラ４２ａ〜４２ｅうちの中心側の基板面搬送ローラ４２ｂ〜４２ｄの高さを徐々に上げ、また側部搬送ローラ４３の幅を徐々に狭める構成とする。そして、検査ステージ６１Ｃも検査領域の後部においては、中心側の基板面搬送ローラ４２ｂ〜４２ｄの高さを徐々に下げ、また側部搬送ローラ４３の幅を徐々に広くし、搬出可能な状態にする構成とする。検査後に基板Ｐを湾曲形状状態から平面状態に移行は一気に行ってもよい。
第２の方法としては、基板Ｐが湾曲形状を有するロードステージ６１Ａに載置され、湾曲形状を有するアンロードステージ６１Ｄで搬出される場合である。この場合は、搬送されてくる基板Ｐの先端部または後端部に存在する側部搬送ローラ４３の幅を徐々に狭めたり広げたりする機構とする。
【００２７】
以上説明したように、強制的に基板Ｐの形状を湾曲形状に矯正することによって、基板Ｐが有する歪量によらず安定した湾曲姿勢を維持することができる。
この姿勢に対応して、図３(ｂ)に示すように、光学式検査装置８が複数有する図２に示す光学ユニット９(図３(ｂ)では４ユニット９Ａ〜９Ｄ)を基板Ｐの表面形状に合わせて反搬送(Ｘ)方向と垂直(Ｙ)方向に配置する。基板Ｐの表面形状に完全に合わせて配置することが望ましいが、図２で説明したように光学ユニット９の焦点調節機構９０の調節できる範囲に設置すればよい。極端に言えば、焦点調節機構９０の調節範囲が広ければ複数の光学ユニット９を平坦に配置してもよい。
【００２８】
以上説明した実施形態によれば、基板自体の有する歪量を矯正でき、基板を精度よく検査できる。
【００２９】
図４は湾曲形状保持手段の他の実施例を示した図である。図３に示す実施例１では、側部搬送ローラ４３で基板Ｐを挟み込むように上から押さえていたが、図４(ａ)に示す実施例２は、基板Ｐの搬送方向の端部を側部搬送ローラ４３で直接上から押さえ、基板Ｐを強制的に湾曲形状に矯正する。この場合の平面−湾曲間の移行は、基板面搬送ローラ４２の移行構成は実施例１と同じであるが、第１の方法に対しては側部搬送ローラ４３の高さを基板面搬送ローラ４２の高さに合わせる機構とし、第２の方法に対しては搬送されてくる基板Ｐの先端部または後端部に存在する側部搬送ローラ４３の高さを徐々に低くしたり高くしたりする機構とする。
【００３０】
また、図４(ｂ)に示す実施例３は、基板Ｐの搬送方向の両端部における湾曲形状の傾斜にあった傾斜角を持つ開口部４５ａを有し、基板Ｐが移動する基板保持ユニット４５を検査ステージ６１Ｂ、６１Ｃに設けて基板Ｐを強制的に湾曲形状に矯正する。また、開口部４５ａの内部の摺動面にはローラ４５ｂを設ける、或いは鏡面仕上げするなどして移動し易くする。この場合の平面−湾曲間の移行は、基板面搬送ローラ４２の構成は実施例１と同じであるが、第１の方法に対しては基板保持ユニット４５の傾斜角度を基板面搬送ローラ４２の高さに合わせる変化させた機構とする。第２の方法に対しては特別な機構は必要がないが、基板Ｐに基板保持ユニット4５に開口部４５ａに挿入し易くする工夫が必要である。
また、以上の説明した基板面搬送ローラ４２、側部搬送ローラ４３及び湾曲形成搬送ローラ部４４等の個数は一例であって、他の個数を設けてもよい。
【００３１】
図５は本発明のガラス基板欠陥検査システムの第２の実施形態２００を示す概略図である。ガラス基板欠陥検査システム２００は、第１の実施形態と同様に、搬送ロボット(図示せず)等により基板Ｐが載置されるロードステージ６１Ａ、基板Ｐを検査する光学式検査装置８Ｂ、８Ｃを有する検査ステージ６１Ｂ、６２Ｃ及び検査された基板Ｐを搬送ロボット(図示せず)等によりラインから搬出するアンロードステージ６１Ｄを有する。また、ガラス基板欠陥検査システム２００は、第１の実施形態と同様に、基板Ｐを保持し下流のステージに搬送する駆動部５２と駆動部５２を駆動するエア供給吸気部５４とを具備する搬送装置５０及び搬送装置５０や光学式検査装置８Ｂ、８Ｃの状態を監視し、制御する制御装置３０を有する。
【００３２】
また、図５は、アンロードステージ６１Ｄの基板が既に搬出され、ロードステージ６１Ａに基板ＰＡを載置し後、検査ステージ６１Ｂ、６１Ｂで基板ＰＢ、ＰＣを検査している状態を示している。なお、各基板ＰはＸ軸である矢印Ｂ方向に搬送されている。また、以下の説明では符号を記す全体を表すときは、添え字Ａ〜Ｄを省略する。
【００３３】
第２の実施形態２００が第１の実施形態と異なる点は搬送装置５０である。第２の実施形態の搬送装置５０は、基板Ｐをエア浮上させて搬送するエア浮上方式を採用している点である。
搬送装置５０は、各ステージ６１Ａ〜６１Ｄを構成するエア浮上ステージ５１と基板Ｐを把持し浮かしながら隣接ステージ６１間を移動する駆動部５２とを具備する搬送部５３と、エア浮上ステージ５１に圧搾エアを供給する圧搾エア供給源５４Ａと空気を吸気する真空供給源５４Ｂとを具備するエア供給吸気部５４とを有する。
【００３４】
図６は、図５の状態における検査ステージ６１Ｂの搬送部５３を上部から見た概略構成を示した図である。検査ステージ６１のエア浮上ステージ５１は、搬送(Ｘ)方向に複数配列された長方形の分割ステージ５１Ｂを有する。分割ステージ５１Ｂは、後述する検査するための検査領域Ｒの両端部に設けられた精密浮上ステージ５１Ｓとその他の部分に設けられた高浮上部ステージ５１Ｈとを有する。
【００３５】
駆動部５２は、エア浮上ステージ５１の搬送(Ｘ)方向に沿ってけられた設けられたリニアガイド５２ａと、リニアガイド５２ａに沿って走行するリニアアクチュエータ５２ｂと、リニアアクチュエータ５２ｂに固定され基板Ｐを把持するグリッパ５２ｃと、リニアアクチュエータ５２ｂのリニアガイド５２ａ上(搬送(Ｘ)方向)の位置を検出するリニアスケール５２ｄを有する。駆動部５２の反対側にはグリッパ５２ｃと共に基板Ｐを安定して保持する図４(ｂ)に示す支持ユニットと同一構造を有する基板保持ユニット４５を設けている。
【００３６】
制御装置３０は、リニアスケール５２ｄの位置情報を読み込み、搬送速度やグリッパ５２ｃを制御する。
【００３７】
図７(ａ)は精密浮上ステージ５１Ｓの構成を、図７(ｂ)は高浮上部ステージ５１Ｈの構成を示した図である。前述したように、検査は隣接する分割ステージ５１Ｂ間の幅４０ｍｍ程度の検査領域Ｒ(図６参照)で行われる。従って、精密浮上ステージ５１Ｓは、検査領域Ｒを挟んで基板Ｐの平坦度を保つように基板Ｐを浮上させる。そのために、精密浮上ステージ５１Ｈは、図７(ａ)に示すように、基板Ｐを浮上させるために圧搾エアを噴出す噴出口ＰＥ(白丸)とエアを吸引し基板を吸着させる吸引口ＰＶ(黒丸)と交互に配置している。そして、圧搾エア供給源５４Ａと真空供給源５４Ｂとを制御し、基板Ｐの平坦度を得るように両者のバランスを取っている。一方、高浮上部ステージ５１Ｈは、図７(ｂ)に示すように、基板Ｐを浮上させる圧搾エアを噴出す噴出口ＰＥのみを有し、基板Ｐを安定して浮上し搬送速度を低下させる負荷とならないようにしている。
【００３８】
なお、検査ステージ６１Ｃの搬送部５３は検査ステージ６１Ｂと基本的には同じ構成を有する。また、ロードステージ６１Ａ及びアンロードステージ６１ｄの搬送部５３は、高浮上部ステージ５１Ｈのみで構成される。
【００３９】
図８は、第２の実施形態における光学式検査装置８Ｂ、８Ｃの光学ユニット１０の含めた図６における断面Ｂ−Ｂから見た図である。光学ユニット１０はガラス基板Ｐの傷や汚れを検査する第１光学ユニット１０Ａと、気泡、異物または汚れを検査する第２光学ユニット１０Ｂと有する。
【００４０】
第１光学ユニット１０Ａは、光源ユニット１６Ａと撮像ユニット１１Ａとに分かれる。光源ユニット１６Ａは、１０μｍ程度の傷を検出するために、線状光源を形成できるレーザ光源１７Ａと、レーザ光を斜方照射するためのミラー１８Ａと、安定した線状光を形成するシリンドリカルレンズ１９Ａとを有する。一方、撮像ユニット１１Ａは、ガラス基板Ｐの表面または裏面から散乱光を受光するレンズ１３Ａと、受光レンズから散乱光をＰ偏光光、Ｓ偏光光に分離する偏光ビームスプリッタ１４Ａと、ガラス基板Ｐの搬送に伴いガラス基板の所定幅を撮像するラインＣＣＤ１２Ａ１、１２Ａ２とを有する。
【００４１】
一方、第２光学ユニット１０Ｂは、撮像ユニット１１Ｂによる撮像結果の輝度ムラにより気泡、異物または汚れを検出する。そのために、光源１６Ｂとして広範囲に照射できるＬＥＤや蛍光灯を用い、ガラス基板Ｐから透過光を検出する。撮像ユニット１１Ｂは撮像手段１２Ｂと透過光を受光するレンズ１３Ｂとを有する。また、撮像手段１２Ｂはガラス基板Ｐに移動に伴い所定幅を効率よく撮像するために、第１光学ユニット１０Ａと同様にラインＣＣＤ１２Ｂを用いる。
【００４２】
図９は、第１光学ユニット１０Ｂを含む本実施形態の特徴である精密ステージ５１Ｓを図８に示す検査領域Ｒを含む断面を断面Ｃ−Ｃから見た図である。
【００４３】
図９に示すように、精密浮上ステージ５１Ｓは湾曲形状の搬送路を形成し、精密浮上ステージ５１Ｓの両端側にはグリッパ５２ｃと検査ステージ６１Ｂ，６１Ｃに図４(ｂ)に示す基板保持ユニット４５が設けられている。基板Ｐはグリッパ５２ｃで搬送方向の片側を固定され、反対側を基板保持ユニット４５に保持(支持)されながら搬送される。グリッパ５２ｃと基板保持ユニット４５の傾斜角度は、図４(ｂ)に示す実施例３と同様に、精密浮上ステージ５１Ｓは湾曲形状に合った角度を有する。この結果、基板Ｐは強制的に精密浮上ステージ５１Ｓの湾曲形状に矯正される。
なお、搬送路は精密浮上ステージ５１Ｓと高浮上部ステージ５１Ｈとで構成されるので、高浮上部ステージ５１Ｈも湾曲形状の搬送路を形成する。
【００４４】
以上説明したように、本実施形態での基板湾曲形状形成手段は、湾曲形状搬送路を有する浮上ステージ５１と、基板を湾曲形状に保持するグリッパ５２ｃと基板保持ユニット４５とを具備する湾曲形状保持手段とを有する。また、湾曲形状保持手段である基板保持ユニット４５の代わりに、図３又は図４(ａ)に示した側部搬送ローラを用いることができる。
【００４５】
さらに、本実施形態では、撮像ユニット１１ＢをＹ方向に６箇所に、そのうちの２箇所の撮像ユニット１１Ｂの光源手段である光源１６ＢをＹ方向３に３箇所にそれぞれ設けている。そして、各撮像ユニット１１Ｂａ〜１１Ｂｆおよび光源１６Ｂａ〜１６ｃは、撮像歪を可能な限り低減するために、湾曲形状に対して垂直になるように設けている。垂直に設ける本方法は第１の実施形態にも適用可能である。なお、図９において矢印はエアの流れを示す。
図９においては第２光学ユニット１０Ｂを例に示したが、第２光学ユニット１０Ａにおいても同様である。
また、第１に実施形態同様に、光学式検査装置８の基板Ｐを検査する領域で安定した湾曲形状を形成する必要である。そのために、本実施形態ではグリッパ５２ｃが基板の所定を保持しているので、基板Ｐが湾曲形状を有するロードステージ６１Ａに載置され、湾曲形状を有するアンロードステージ６１Ｄで搬出される場合が望ましい。そして、検査ステージに設けられた基板保持ユニット４５については第１の実施形態の実施例３と同様な工夫を行う。
【００４６】
以上説明したように、第２の実施形態においても、強制的に基板Ｐの形状を湾曲形状に矯正することによって、基板Ｐが有する歪量によらず安定した湾曲姿勢を維持することができ、基板を精度よく検査できる。
【００４７】
以上説明したガラス基板欠陥検査システムの第１及び第２の実施形態では、複数(実施形態では２)台の光学式検査装置を設けた。これは、１台の光学式検査装置では基板の全領域を検査できない場合に、複数台の光学式検査装置で領域を分担して検査して処理時間を短くし、スループットを向上させるためである。
【００４８】
また、以上説明したガラス基板欠陥検査システムの第１及び第２実施形態は、処理ユニットとして２台の光学式検査装置を有していたが、処理ユニットの数は２台に限らないことは勿論であり、処理ユニットの構成も少なくとも１台の光学式検査装置と他の処理をする処理ユニットとの組合せる構成としてもよい。
【符号の説明】
【００４９】
８Ｂ、８Ｃ：光学式検査装置              ９、１０：光学ユニット
１１Ｂ、１１Ｂａ〜１１Ｂｆ：撮像ユニット
１６、１６ａ〜１６ｃ：光源              ３０：制御装置
４０：第１の実施形態における搬送装置    ４１Ａ〜４１Ｄ：搬送部
４１Ｋ：搬送駆動部                      ４２、４２ａ〜４２ｅ：基板面搬送ローラ
４３、４３ａ〜４３ｄ：側部搬送ローラ
４４、４４ａ〜４２ｃ：湾曲形成搬送ローラ部
４５：基板保持ユニット                  ５０：第２の実施形態における搬送装置
５１：エア浮上ステージ                  ５１Ｂ：分割ステージ
５１Ｓ：精密浮上ステージ                ５１Ｈ：高浮上部ステージ
５２：駆動部                            ５２ｃ：グリッパ
５３：搬送部                            ５４：エア供給吸気部
５４Ａ：圧搾エア供給源                  ５４Ｂ：真空供給源
６１Ａ〜６１Ｄ：ステージ
１００：第１の実施形態のガラス基板欠陥検査システム
２００：第２の実施形態のガラス基板欠陥検査システム
Ｐ、ＰＡからＰＢ：基板                  ＰＥ：圧搾エアの噴出口
ＰＶ：エアの吸引口                      Ｒ：検査領域。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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