(57)【要約】      （修正有）【課題】ウエハの処理の効率または装置への作業の効率を向上させた真空処理装置を提供する。【解決手段】減圧された内部に供給された処理用ガスを用いて生成したプラズマを用いて前記内部に配置された試料を処理する真空容器と、雰囲気圧下で前記真空容器と連結されて配置されこの真空容器で処理される試料がその内部の空間で搬送される搬送容器５と、この搬送容器５内に前記雰囲気の流れを生成するための送風機及び前記搬送容器５に配置された排出口と、前記搬送容器５内の前記流れ中に配置され前記真空容器で処理された後の試料が収納される収納容器と、この収納容器内の気体を排気する排気手段とを備えた試料処理装置。【選択図】図２
2012114456.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
背面側に試料が処理される処理容器が連結されて配置されて、前記試料が内部の略大気圧下の室内で搬送される搬送容器であって、
この搬送容器内に前記大気の上下方向の流れを生成するための送風機及び前記搬送容器に配置された排出口と、
前記搬送容器内の前記流れ中に配置され前記処理容器で処理された後に前記略大気圧下の室内に導入された前記試料がその内側に収納される収納容器であって、
前記試料が内部に収納される収納用の空間と前記室内部との間を連通する開口を有し前記搬送容器の側壁との間に前記上下方向に流れる大気が通る空間を開けて配置された収納容器と、
この収納容器の下部に配置され内部の気体がその外部に排気される排気口とを備えた搬送容器。
【請求項２】
前面側に処理対象の試料が収納されたカセットが載せられる台が配置され背面側に試料が処理される処理容器が連結されて配置されて、前記試料が内部の略大気圧下の室内で搬送される搬送容器であって、
前記搬送容器内部の前記室内に配置され前記台上に載置された前記カセットと前記試料をやりとりし前記室内で前記試料を搬送するためのロボットと、
前記搬送容器の前記室内に前記大気の流れを生成するための送風機及び前記搬送容器に配置された排出口と、
前記搬送容器内の前記流れ中に配置され前記処理容器で処理された後に前記略大気圧下の室内に導入された前記試料がその内側に収納される収納容器であって、前記試料が内部に収納される収納用の空間と前記室内部との間を連通する開口を有し前記搬送容器の側壁との間に前記上下方向に流れる大気が通る空間を開けて配置された収納容器と、
この収納容器の下部に配置され内部の気体がその外部に排気される排気口とを備えた搬送容器。
【請求項３】
前記収納容器が、その外周を覆いその内部に略閉じられた前記収納用の空間を構成する外壁と、この外壁上に配置された前記開口とを備えた請求項１または２に記載の搬送容器。
【請求項４】
前記搬送容器の前方から見て一端側に配置された記収納容器の他端側に配置された前記開口が前記室内の前記流れに面する請求項１乃至３のいずれかに記載の搬送容器。
【請求項５】
前記収納用の空間内部の気圧が前記搬送容器内部の前記室内の気圧より低くされる請求項３に記載の搬送容器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
カセット内のウエハを真空容器に搬送してこの真空容器内の処理室内でプラズマを用いて前記ウエハを処理する真空処理装置に係り、大気中に配置されウエハがカセットと前記真空容器と接続された搬送容器またはバッファ室との間でやり取りされる大気搬送室とを備えた真空処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
上記のような装置、特に、減圧された装置内において処理対象である基板状の半導体ウエハを処理する真空処理装置においては、処理の微細化，精密化とともに、処理対象であるウエハの処理の効率の向上が求められてきた。このために、近年では、一つの装置に複数の処理室が接続されて備えられたマルチチャンバ装置が開発され、処理対象のウエハに対して一つの装置で複数行程の処理を施すことにより、処理の効率を向上させることが行われてきた。
【０００３】
このような複数の処理室あるいはチャンバを備えて処理を行う装置では、それぞれの処理室あるいはチャンバが、内部のガスやその圧力が減圧可能に調節されウエハを搬送するためのロボットアーム等が備えられた搬送室（搬送チャンバ）に接続されている。
【０００４】
このような構成により、処理前または処理後のウエハは１つの処理室から他の処理室へ減圧されたり不活性ガスが導入された搬送室内を搬送され、外気と接触することなく処理が連続的に施される。このためウエハの汚染が抑制され処理の歩留まりや効率が向上する。
【０００５】
また、処理室や搬送室の内側を昇圧あるいは減圧する時間を省いたり削減したりすることができ、処理の工程が短縮されウエハの処理全体に係る手間や時間を抑えて処理の効率が向上する。
【０００６】
こうした複数のチャンバを備えた真空処理装置としては、さらに、搬送装置を内部に有する真空搬送容器の周囲にロードロック室，アンロードロック室や必要な異なる処理に応じて配置された複数の処理容器とを配置してこれらを連結し、ロードロック室，アンロードロック室に接続された大気圧下の大気搬送室を介して試料を各処理容器との間でやりとりする構成により、試料の処理の効率を向上させたものが知られている。
【０００７】
このような真空処理装置では、大気圧のカセット内のウエハが大気搬送室内に配置された搬送ロボット等の搬送手段によりカセットから取り出されて大気搬送室内を移送されてロードロック室内に配置された後、その開口部を開閉するバルブを閉塞してロードロック室内の圧力を真空搬送容器あるいは処理容器内の圧力と略等しい圧力まで減圧する。減圧後に真空搬送容器側のバルブが開かれ試料が処理容器内のロボットアームにより取り出されて搬送され処理容器内の試料台上に載置される。処理容器と真空搬送容器との間の連通を開閉するバルブを閉じて処理容器内で試料の処理が行われた後、このバルブが開放されて試料がロボットアームにより取り出される。この後、試料は別の処理を施すため他の処理容器に搬送される、あるいは上記と逆の経路でカセット内へ戻される。
【０００８】
こうした装置は、複数の処理容器内で並行して処理を進めることが出来るものが、その処理の流れとして１つのウエハに対して１つの処理容器内にて処理を行った後別の処理容器内に搬送して更に別の処理を施す直列的な処理と、複数の処理容器で同等または異なる処理を別々のウエハに対して行う並列的な処理とが考えられる。さらに、一つのウエハに直列的に処理を行う場合においても、一方の処理容器で或るウエハに第１の処理を行う間に他方の処理容器にて別のウエハに対して第２の処理を並行して行うことができる。
【０００９】
このような真空処理装置では、処理する対象のウエハの種類，求められる処理の仕様、あるいは処理の枚数等に応じて、装置の制御装置または装置の使用者が、ウエハの搬送を含む処理のスケジュールを選択可能にしたものが知られている。このような従来技術は、特開２００１−０９３７９１号公報（特許文献１）に開示のものが知られている。
【００１０】
また、処理容器内で処理が施されて後のウエハは、通常はこれが取り出された元のカセットの元の位置に戻されることが一般的に行われている。しかし、処理後のウエハは処理に用いられた反応性や腐食性の高いガスや生成物がその周囲に存在しており、処理前のウエハが存在する同じカセット内に戻すと他のウエハに悪影響を及ぼすおそれが有る。
【００１１】
そこで、装置外周に配置または装着されたウエハカセットとは別に、装置内部にウエハを収納するカセットを配置し、装置外のカセットから処理前のウエハの大部分または全部を搬送して収納する一方処理後のウエハは装置外部のカセットに収納する、或いは装置内のカセットに処理後のウエハを収納し装置外に配置されたカセット内に処理前のウエハが無くなった後に装置内のカセットから処理後のウエハを搬送する構成が考えられていた。
【００１２】
このような構成を開示する従来技術としては、特開平６−００５６８８号公報（特許文献２）または特開２００２−０４３２９２号公報（特許文献３）に開示のものが知られていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１３】
【特許文献１】特開２００１−０９３７９１号公報
【特許文献２】特開平６−００５６８８号公報
【特許文献３】特開２００２−０４３２９２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
上記従来技術は、次の点の考慮が不十分であり問題が生じていた。
【００１５】
例えば、複数処理容器内で複数ウエハを並列に処理する場合において、複数の処理室内で同等の処理を並行して行う場合、大気搬送室に装着された複数ウエハカセットからウエハを複数の処理容器に搬送しようとしても、装置内のカセットが１つである場合には、ウエハカセット内のウエハを十分に収納できる容量が装置内のカセットの容量が足らずに、処理の効率を損なっていた。
【００１６】
また、上記従来技術では、少なくとも２つ以上の処理容器を用いて処理対象のウエハを処理するもので、いずれかの処理容器内の処理室で異常が生じて処理が不能となった場合、処理を行う処理経路として正常な処理を行っている処理容器を通るスケジュールとすることで、稼働率の低下を低減するものであるが、エッチング処理後のウエハについては、これをそのまま搬出後に処理容器内を大気開放するのみで、処理後のウエハ周囲に反応性の高いガスや反応生成物が存在してこれが周囲の部材やウエハに悪影響を及ぼす点については考慮されていなかった。
【００１７】
すなわち、エッチング処理後ではＦＯＵＰ(Front  Opening  Unified  Pod)等のカセットに回収された処理後のウエハ上や周囲の残留ガスや生成物が同じカセット内の未処理のウエハへの付着や異物による汚染等を生起し、エッチング処理時にハロゲンガス起因の異物がマスクとなってエッチング残り等の歩留まり低下の原因となっていた点について、上記従来技術では十分に考慮されていなかった。また、上記残留ガスをウエハ周囲から十分に除去できず、ＦＯＵＰ等のカセット内のガス，生成物の高濃度化による環境へ悪影響が及んでしまうという点についても十分考慮されていなかった。
【００１８】
また、このようなカセットをロードロック室に設けようとすると、ロードロック室の構造が複雑あるいは容積が増大して装置全体の設置スペースを大きくしてしまう。また、大気搬送室、あるいは真空搬送室に取り付ける配置としたものでも、ウエハを搬送するロボットの動作スペースやウエハ搬送のために必要なスペースを確保したうえでこのようなカセット用のスペースを設ける点については、考慮されておらず、単に搬送容器の外部に取り付けた構造とすると設置スペースを大きくしたり、メンテナンス用のスペースが低減して作業の効率を損なったりする等の問題が生じ、ひいては処理の効率を損なうものとなってしまうという問題点については、考慮されていなかった。
【００１９】
本発明は、ウエハの処理の効率または装置への作業の効率を向上させた搬送容器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２０】
上記目的は、背面側に試料が処理される処理容器が連結されて配置されて、前記試料が内部の略大気圧下の室内で搬送される搬送容器であって、この搬送容器内に前記大気の上下方向の流れを生成するための送風機及び前記搬送容器に配置された排出口と、前記搬送容器内の前記流れ中に配置され前記処理容器で処理された後に前記略大気圧下の室内に導入された前記試料がその内側に収納される収納容器であって、前記試料が内部に収納される収納用の空間と前記室内部との間を連通する開口を有し前記搬送容器の側壁との間に前記上下方向に流れる大気が通る空間を開けて配置された収納容器と、この収納容器の下部に配置され内部の気体がその外部に排気される排気口とを備えた搬送容器により達成される。
【００２１】
また、前面側に処理対象の試料が収納されたカセットが載せられる台が配置され背面側に試料が処理される処理容器が連結されて配置されて、前記試料が内部の略大気圧下の室内で搬送される搬送容器であって、前記搬送容器内部の前記室内に配置され前記台上に載置された前記カセットと前記試料をやりとりし前記室内で前記試料を搬送するためのロボットと、前記搬送容器の前記室内に前記大気の流れを生成するための送風機及び前記搬送容器に配置された排出口と、前記搬送容器内の前記流れ中に配置され前記処理容器で処理された後に前記略大気圧下の室内に導入された前記試料がその内側に収納される収納容器であって、前記試料が内部に収納される収納用の空間と前記室内部との間を連通する開口を有し前記搬送容器の側壁との間に前記上下方向に流れる大気が通る空間を開けて配置された収納容器と、この収納容器の下部に配置され内部の気体がその外部に排気される排気口とを備えた搬送容器により達成される。
【００２２】
さらに、前記収納容器が、その外周を覆いその内部に略閉じられた前記収納用の空間を構成する外壁と、この外壁上に配置された前記開口とを備えたことにより達成される。
【００２３】
さらにまた、前記搬送容器の前方から見て一端側に配置された記収納容器の他端側に配置された前記開口が前記室内の前記流れに面することにより達成される。
【００２４】
さらに、前記収納用の空間内部の気圧が前記搬送容器内部の前記室内の気圧より低くされることにより達成される。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明の第一の実施の形態である真空処理装置の構成の概略を示す上面図である。
【図２】図１に示す真空処理装置の大気側ブロックを拡大して示す上面図である。
【図３】図２に示す大気搬送容器の構成を詳細に示す側方及び正面から見た縦断面図である。
【図４】図３に示す第２の待機ステーションの構成を拡大して示す横断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
本発明の第１の実施の形態を図１乃至図４を用いて説明する。
【００２７】
図１は、本発明の第一の実施の形態である真空処理装置の構成の概略を模式的に示す上面図である。この図では、装置の一部を横断面にして示している。
【００２８】
この図において、本実施の形態に係るプラズマ処理装置１００は、本図上方側の真空側ブロック１０１と本図下方側の大気側ブロック１０２とに、大きく区分けされる。
【００２９】
大気側ブロック１０２は、この真空処理装置１００において処理される対象となる半導体ウエハ等の基板状の試料を内側に複数枚収納可能なカセット１７がその上面に載置されるカセット台１６を複数有し、これが本図において下方側となる装置の前面側に水平方向に１つ以上並べられて装着された大気側搬送容器１１とを備えている。大気側搬送容器
１１の内側には、カセット１７内の試料が搬送される空間である大気搬送室１５が配置される。なお、３つのカセット１７に代えて２つの処理ウエハ用のカセット１７に隣接してダミーウエハを収納するダミーカセットを配置しても良い。
【００３０】
真空側ブロック１０１は、中心部に配置された真空側搬送容器５と、平面形が略多角形（本実施の形態では略五角形）の真空側搬送容器５の多角形の各辺に相当する側壁に取り付けられてこれと連結された複数の真空容器とを備えている。
【００３１】
すなわち、真空側搬送容器５の図上方側（装置後方側）の２つの側壁には、それぞれがその内側で試料がエッチング処理される処理室を有した真空容器を備えるエッチング処理ユニット１，１′が配置されている。このエッチング処理ユニット１，１′は図示していないが大きく分けて真空容器及びこの真空容器内の処理室にプラズマを生成する電界及び磁場発生装置を含む処理容器部とその下方に配置されて真空容器の動作及びその内側の処理室内でのエッチング処理に必要な機器を収納するベッドとを備えたものとなっている。また、真空側搬送容器５の図左右側（装置左右側）の２つの側壁には、それぞれがその内側で試料がアッシング（灰化）処理される処理室を有した真空容器を備えるアッシング処理ユニット２，２′が配置されている。これらのアッシング処理ユニット２，２′も同様に上方の処理容器部と下方のベッド部とに大きく分けられる。また、これらのユニットの真空容器内には試料がその上に載置されてプラズマにより処理が行われる試料台３，３′及び４，４′が配置されている。
【００３２】
さらに、大気側搬送容器１１と真空側搬送容器５との間には、これらの側壁に取り付けられて連結され、これらの容器の間で試料をやりとりするための真空容器であるロードロック室あるいはアンロードロック室８，８′が配置されている。本実施の形態では、これらは共に、未処理あるいは処理後の試料が内部に載置され各処理ユニットまたは真空側搬送容器５内の真空容器内の圧力に略等しい高真空の圧力と大気側搬送容器１１内の略大気圧との間で圧力を変動させて所定の値に調節可能に構成されている。この構成により、大気側ブロック１０２内部と真空側ブロック１０１内部との間で、一方から他方へまたはその逆方向へ試料をやりとり可能にしている。
【００３３】
なお、ロードロック室あるいはアンロードロック室８，８′は、両社同等の機能を備えており、試料を搬送する方向を一方向に限定するか、両方向に搬送するかは、仕様に応じて適宜設定することができるが、以後、両者を単にロードロック室と呼ぶ。これらロードロック室８，８′内には、エッチング処理ユニット１，１′及びアッシング処理ユニット２，２′と同様に真空容器内にその上に試料が載置される試料台７，７′が配置されている。
【００３４】
このような構成の真空処理装置１００においては、カセット１７内に収納された処理対象の半導体ウエハ等の試料は、大気側搬送容器１１の大気搬送室１５内に配置されたロボットアーム１２によりカセット１７内から取り出されて大気搬送室１５内を搬送され、大気側搬送容器１１の背面側の側壁に形成された開口を通して、ロードロック室８（或いは８′）の何れかに搬送されて、これらの内部に配置された試料台７（または７′）上に載置される。
【００３５】
上記開口を閉塞して封止した後、ロードロック室８内を排気して内部の圧力を真空側搬送容器５内の圧力と略等しい所定の圧力まで低減させる。所定の圧力になったことを確認後、真空側搬送容器５側の開口を開放し、真空側搬送容器５内に配置されたロボットアーム６がロードロック室８内の試料台７上に載置された試料を取り出して真空側搬送容器５内の真空搬送室内を搬送しいずれかの処理ユニット、例えばエッチング処理ユニット１の真空容器内の処理室内に移動させる。真空容器内に搬送された試料は真空容器内の試料台３上に載置される。エッチング処理ユニット１の真空容器内と真空側搬送容器５内の真空搬送室１５とを連通する開口をゲートバルブ等の開閉装置により閉塞した後、試料が真空容器内でエッチング処理される。
【００３６】
エッチング処理が終了後、開口を開放して、上記と逆の順または方向に試料が搬送され、或いは、アッシング処理ユニット２（または２′）内に搬送されて灰化処理された後に、真空側搬送容器５内を搬送され、ロードロック室８′（または８）及び大気側搬送容器１１内の大気搬送室１５を通って、元のカセット１７内に収納される。
【００３７】
図２は、図１に示す真空処理装置の大気側ブロックを拡大して示す上面図である。
【００３８】
この図において、大気側ブロック１０２の図上下方の前面側に複数のカセット１７が大気側搬送容器１１の前面側に水平方向にほぼ同じ高さに並べられて配置されている。また、図上大気側搬送容器１１の左端側の前面にはカセット１７とほぼ同じ高さに使用者が装置へ指令入力や動作の操作が可能な装置コンソール１３が配置されている。以下の図面では、先に説明した符号が引用された部分についての説明は省略する。
【００３９】
大気側搬送容器１１内には大気搬送室１５が配置されており、この大気搬送室１５内の空間で図上左右方向（水平方向）に移動可能で、カセット１７内部とロードロック室８，８′と試料を搬送してやり取りするロボットアーム１２が配置されている。このロボットアーム１２は、大気搬送室１５内に配置された移動レール１４に沿って少なくとも複数のカセット１７が並べられた水平方向の距離を移動する。この移動レール１４はロボットアーム１２がウエハをカセットに対し収納／取出し可能となるよう３つのカセット１７の左右端とほぼ同等の長さに構成されている。
【００４０】
また、本実施の形態では、大気側搬送容器１１の図上右端の上方(装置に対して右背面)に、エッチング処理ユニット１で処理が施された後のウエハを収納する第１の待機ステーション９が配置されており、大気搬送容器１１内と連通して大気搬送容器に装着されている。
【００４１】
この第１の待機ステーション９は、その内部にウエハを少なくともカセット１７内のウエハ収納枚数から１枚少ない枚数のウエハを収納可能なカセット１８（図示せず）が配置されており、前面側はこのカセット１８内最下から最上のウエハ収納位置までウエハ径と同等かそれ以上の大きさの幅で開口され、ウエハの収納／取出しに支障が生じないように構成されている。
【００４２】
また、大気側搬送容器１１内の図上左側（水平方向左側）には、第２の待機ステーション１０が配置され、第１の待機ステーションと同じ構成のカセット１８が収納されている。
【００４３】
図３は、図２に示す大気搬送容器の構成を詳細に示す側方及び正面から見た縦断面図である。図３（ａ）は図２のＡ方向から見た側面図であり、図３（ｂ）は図２上下方から（装置正面から）見た図である。
【００４４】
この図において、第２の待機ステーション１０は、図上大気側搬送容器１１の左端側の中央高さ付近に配置されている。その下方にカセット１７内の試料をロードロック室８または８′に搬送する前に、試料の面に垂直な軸について回転方向の位置を調節するアライナ２３が配置されている。
【００４５】
第２待機ステーション１０内のカセット１８の高さ位置は、大気側搬送容器１１の前面でカセット１７が配置されるカセット台１６の上面またはカセット１７の下端位置と重なっている。つまり第２待機ステーション１０内のカセット１８の試料を収納する高さの範囲が、大気側搬送容器１１の前面でカセット１７が配置されるカセット１６台の上面またはカセット１７の試料収納部の下端の高さを含むように配置されている。
【００４６】
特に、本実施の形態では、アライナ２３上部の試料載置面と第２の待機ステーション１０の下端または収納されたカセットの最下のウエハ収納位置との間にカセット１７の下端（または試料収納部の下端）またはカセット台１６の上面の高さが位置するように配置されている。
【００４７】
上記の通り、第２の待機ステーション１０内には、試料を収納するためのカセット１８が配置されている。この第２待機ステーション１０は、後述する通り図３（ｂ）上で右側に試料が収納／取出しされる開口部を備えており、この開口以外のカセットの周囲は、他の前後左の３方向及び上下方向が板部材により囲まれている。つまり、この板部材はカセット１８を内部に収納する容器となっている。
【００４８】
さらに、第２の待機ステーション１０内にはカセット１８の図３（ｂ）上左側（カセット１８の奥側）の下部にこの待機ステーション１０の容器内のガスを吸引して排出する開口である排気口２０が配置され、排出されたガスはこの排気口２０と連通した排気ダクト２１を通りこれに連通する大気側搬送容器１１背面下部の排気口２２から外部に排気される。排気されたガスはこの排気口２２と接続された別のダクトまたはパイプを介して装置本体が配置されたクリーンルーム等の室の外に排出される。この実施の形態では、クリーンルーム等の装置外部に排気ポンプ等の吸気（減圧）手段が配置されているが、排気口２２にファン等の吸引手段を配置して排気口２０及び排気ダクト２１から第２の待機ステーション１０内のガスを排出するようにしても良い。
【００４９】
また、図３（ｂ）に示されるように、大気側搬送容器１１は略直方体の外形状を備え、その内部の上部には、大気側搬送容器１１外の雰囲気をその内部の大気搬送室１５内に導入するための複数のファンユニット１９が複数配置されている。本実施の形態では、大気側搬送容器１１内の大気搬送室１５はその大気搬送容器１１の左右方向の幅とほぼ同等の幅を備えており、その幅の略全体に亙って上記ファンユニット１９により上方から下方に向かう気流が生成されている。また、このため、大気側搬送容器１１の下部であって大気搬送室１５の下方には、その左右方向の略全体に亙り配置された複数の排気用開口２６が設けられ、これらの排気用開口２６から上下方向の気流が大気搬送室１５内から大気側搬送容器１１外部の雰囲気内へ流出する。
【００５０】
また、上記ファンユニット１９の回転によって大気搬送室１５内へ導入された雰囲気により、大気搬送室１５内は大気側搬送容器１１外部の雰囲気圧よりも所定の値だけ高い圧力に設定されている。このため、カセット１７の取り外し時等で大気搬送室１５内が雰囲気に曝される場合でも、雰囲気側から大気搬送室１５側への気流の流れが抑制され、大気搬送室１５内への塵埃や異物の進入が低減される。
【００５１】
図４は、図３に示す第２の待機ステーションの構成を拡大して示す横断面図である。図４（ａ）は図３（ｂ）のＢ方向から見た図である。図４（ｂ）は図４（ａ）上Ｃ方向から見た側面図、図４（ｃ）は図４（ａ）上Ｄ方向から見た側面（装置正面方向から見た）図である。
【００５２】
第２の待機ステーション１０は、上記の通りその内部にカセット１８を収納するための略直方体であって一方の側の側壁に開口を備えた容器２４を備えている。また、第２の待機ステーション１０はアライナ２３上方に配置され、そのアライナ２３の試料載置面と第２の待機ステーション１０の下端（または容器２４の下端）とが所定の隙間を開けて上下方向に並べられて配置されている。この隙間が、アライナ２３とロボットアーム１２とが試料をやり取りして搬送するための空間となっている。
【００５３】
第２の待機ステーション１０及びその下方のアライナ２３の周囲には、大気側搬送容器１１の側壁部との間に空間が形成されており、上述の上下方向の気流が矢印の方向に流れている。つまり、第２の待機ステーション１０内のカセット１８を囲む容器２４を構成する板部材の側面及びアライナ２３の側面と大気側搬送容器１１の側壁（前面，左側面，後面の板部材）との間に隙間３２が配置されており、この隙間３２を通ってファンユニット１９により生起された気流が上下方向に流れる構成となっている。
【００５４】
また、第２の待機ステーション１０の容器２４の装置右側には開口３０が形成されており、この開口３０の前面（装置右側）の空間も、同様に上下方向に気流が流れている。これにより、第２の待機ステーション１０の容器２４内のカセット１８に処理後の試料が収納された状態でも、試料の周囲の反応性の高いガスが大気搬送室１５の方向に移動したとしても、上下の流れにより下方に移送されて、ロボットアーム１２や大気搬送室１５内の他の部位、例えば、アライナ２３の下方に配置されたロボットアーム１２用の制御装置２７等に与える影響を低減している。
【００５５】
また、第２の待機ステーション１０とその下方に配置されたアライナ２３との間の隙間にも流れが生成されている。このため、この隙間に進入した反応性の高いガスや生成物がアライナ２３や第２の待機ステーション１０の容器２４の外周に与える影響を低減するように構成されている。
【００５６】
さらに、容器２４内部では、カセット１８の装置左側（容器２４の奥側）の背面側底部に配置された排気口２０から容器内のガスが排気されるため、反応性の高いガスや付着性の高い生成物が吸引されることで、容器２４内にカセット１８内の試料周囲の空間から上記排気口２０へ向かう流れが形成される。このため試料周囲の反応性ガスや生成物が第２待機ステーション１０内から大気搬送室１５内へ移動することが抑制されている。
【００５７】
また、カセット１８は図４（ａ），（ｂ），（ｃ）に開示の通り、略円筒形状でその内部が試料の収納用の空間となっており、このカセット１８を覆う容器２４内の空間のカセット１８の奥側（装置左側）の左右に各々カセット１８の高さ全体に亙る開口１８′を有し、容器２４内または試料周囲の空間で開口３０側から排気口２０側へ向かう流れを損なわないように構成されている。この開口１８′はカセット１８内にウエハが収納される高さに配置された３つの板状の支柱２９同士の間の空間により構成されている。
【００５８】
また、この第２の待機ステーション１０は大気搬送室１５または大気側搬送容器１１から取り外し可能に構成されている。すなわち、大気側搬送容器１１の左側の側壁の中央部近傍に第２の待機ステーション１０に作業者が直接作業を施すために近接できるようアクセスドア３３が配置されており、このアスセスドア３３を開放することで作業者が容易に第２の待機ステーション１０に対して作業を施せる。
【００５９】
この作業の際、作業者はアスセスドア３３を開放した後、第２の待機ステーション１０のカセット１８を囲む容器２４のうち装置左側の側壁面を構成する板部材であるパネル２４′を取り外すことで、内部のカセット１８に作業を施すことが可能となる。
【００６０】
また、この側壁を構成するパネル２４′の取り外しにより、容器２４の左側に内部のカセット１８を取り外しできる大きさの開口が形成され、作業者はカセット１８を大気側搬送容器１１外に取り外すことができ、その交換や清掃を容易に行うことができる。さらに、容器２４の内側壁に対しても作業が行え、例えば、容器２４内壁面の拭き取り等クリーニングを行うことができる。また、アスセスドア３３から容器２４本体を取り外すことができる。
【００６１】
本実施の形態では、容器２４内のカセット１８の構造は大気側搬送容器１１に取り付けられるカセット１７内の収納用の構造と略同一であり、その試料を収納する高さの範囲及び収納可能な枚数を同じくしている。このカセット１８の収納用の構造は、その天井面と底面に相当する上下の円板部材は試料の円形の基板形状と略相似形状で少し大きな径を備えて、内部の試料の全体を覆う大きさとなっている。また、上記の通り上下方向に複数（３つ）配置された支柱２９と、これら支柱２９各々に設けられて複数の段を構成してその上にウエハ２５の端部が載せられる複数のフランジとを有している。支柱２９は収納される試料の外周にその中心から略同一距離に（同円周上に）位置しており、またフランジによる段数が試料の収納枚数となっている。
【００６２】
また、容器２４の上面及び下面の板部材の装置右側（前面側）の中央部には、ロボットアーム１２の試料搬送用のアームの干渉を避けるための切り欠き部２８及び底部の切り欠き部２８′が形成されている。さらに、破線で示すように試料２５がアライナ２３上に載せられた状態で、試料の前端（装置右側端）は、第２待機ステーション１０の前端、特に切り欠き部２８′の最深部より後方に位置している。このことにより、試料を載置した状態で第２の待機ステーション１０の容器２４内からの生成物やガスによる影響を低減している。
【００６３】
上記のような実施の形態では、大気搬送室１５内の上下方向の気流流れ(ダウンフロー)内に第２の待機ステーション１０及びその容器２４が配置されることで、待機ステーション１０内に収納される試料からの反応生成物や反応性の高いガスが大気側搬送容器１１や大気搬送室１５内に流れ出ることを抑制している。
【００６４】
特に、本実施の形態の第２の待機ステーション１０は、その装置右側に試料がやり取りされる開口３０を有しており、この開口の前面側も上記ダウンフローに曝されている。このため反応性ガスや反応生成物がダウンフローによってさらに拡散が抑制される。
【００６５】
また、容器２４内の奥側（開口３０のカセット１８を挟んで反対の側）の低部にガス排出用の排気口２０が配置されて、この排気口２０に向かって容器２４内のガスの流れが形成されて排気される。この作用により容器２４内がその外周の大気側搬送容器１１内の空間の圧力よりも低い圧力にされている。つまり、大気搬送室１５内が高圧にされ容器内が低圧にされる。あるいは、大気搬送室１５内が大気側搬送容器１１外周の雰囲気よりも高い正圧にされる一方で、容器２４内が低い負圧にされる。これにより、大気搬送室１５内への容器２４内の生成物，ガスの流出が抑制され、大気側搬送容器１１内の汚染，腐食等の悪影響が抑制される。
【００６６】
また、アライナ２３上方の空間である第２の待機ステーション１０を大気側搬送容器１１内のスペースに配置することが可能となり、真空処理装置１００のクリーンルームのような建屋のフロアへの設置スペースの増大を抑制し、また設置されたフロアでのスペースを有効的に活用することができる。作業スペースの低減が抑制されるので、作業の効率が向上し、ひいては処理の効率が向上する。
【符号の説明】
【００６７】
１，１′…エッチング処理ユニット、２，２′…アッシング処理ユニット、３，３′，４，４′，７，７′…試料台、５…真空側搬送容器、６，１２…ロボットアーム、８，
８′…ロードロック室、９…第１の待機ステーション、１０…第２の待機ステーション、１１…大気側搬送容器、１３…装置コンソール、１４…移動レール、１５…大気搬送室、
１６…カセット台、１７，１８…カセット、１９…ファンユニット。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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