(57)【要約】【課題】  塗布材を基板上に転写する際に、転写されて塗布材の転写幅を均一にするとともに、このような印刷版の製造を容易にしつつ、生産性の低下を防ぐことができる印刷版および該印刷版を備えた印刷装置を提供する。【解決手段】  印刷版５０の表面には、所望の画像パターンに対応する複数の版突部５１が樹脂により形成されており、複数の版突部の両端部に位置する両端版突部５１ａの担持面ＳＦが、中央版突部５１ｂの担持面ＳＦよりも大きくなるように形成されている。特に、両端版突部５１ａの担持面の幅Ｄが中央版突部５１ｂの担持面の幅Ｅに対して１．５倍ないし１．７倍の大きさになるように形成されている。【選択図】図４
2012200978.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基台と、
前記基台の一方主面で一方向に間隔を有し、樹脂により形成され塗布剤を担持する複数の版突部を有し、
複数の前記版突部は、両端部から数えて１個以上の一方向に連続する版突部で構成される両端版突部と、
前記両端版突部の間に位置する版突部で構成される中央版突部と、を有し、
前記両端版突部の塗布剤を担持する担持面が、前記中央版突部の塗布材を担持する担持面より大きいことを特徴とする印刷版。
【請求項２】
前記両端版突部は、複数の版突部の両端部に位置し、前記両端版突部の塗布剤を担持する担持面が、前記中央版突部の塗布材を担持する担持面に対して１．５倍ないし１．７倍の大きさであることを特徴とする請求項１に記載の印刷版。
【請求項３】
前記両端版突部は、複数の版突部の両端部から数えて１０個の一方向に連続する版突部で構成されることを特徴とする請求項１に記載の印刷版。
【請求項４】
前記両端版突部の塗布剤を担持する担持面の幅が、両端部に位置する版突部から前記中央版突部に隣接する版突部に向かって段階的に狭くなっていることを特徴とする請求項３に記載の印刷版。
【請求項５】
複数の前記版突部の塗布材を担持する担持面の幅が、前記版突部の延伸する方向の一方端から他方端まで均一であることを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれか一項に記載の印刷版。
【請求項６】
前記中央版突部の塗布剤を担持する担持面の幅が４０μｍないし５０μｍであることを特徴とする請求項１ないし請求項５のいずれか一項に記載の印刷版。
【請求項７】
前記基台を支持するためのフィルム状基材をさらに備え、
前記フィルム状基材は前記基台の他方主面に当接していることを特徴とする請求項１ないし請求項６のいずれか一項に記載の印刷版。
【請求項８】
請求項１ないし請求項７のいずれか一項に記載の印刷版を備える印刷装置であって、
基板を水平に保持するステージと、
前記印刷版の一方主面に塗布材を供給する供給機構と、
前記印刷版を他方主面側から押圧し、複数の前記版突部を前記基板に当接させることで前記供給機構から供給された前記塗布材を基板に転写する転写機構と、を備えることを特徴とする印刷装置。
【請求項９】
前記転写機構は、前記印刷版を外周面に装着する版胴を有し、
前記供給機構は、前記版胴と平行に配置され、前記印刷版の一方主面に形成された複数の版突部の担持面に前記塗布材を供給する供給ローラと、
前記供給ローラの表面に前記塗布材を供給する供給部と、を有し、
前記版胴を回転しつつ前記版胴の外周面に装着された前記印刷版を前記基板に押圧し、前記版突部に供給された塗布材を前記基板に転写することを特徴とする請求項８に記載の印刷装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス基板等の基板上にストライプ状のパターンを印刷する技術に関し、例えば、有機エレクトロルミネッセンス（以下、ＥＬと称す）素子や液晶表示用カラーフィルタ等にパターンニングする印刷版および該印刷版を有する印刷装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬデバイスが照明やディスプレイに利用される動きが活発になっている。これらの有機ＥＬデバイスを製造する際には、基板に対して比較的大きなサイズで薄膜状に有機ＥＬ材料を塗布したり、赤、緑、および青色発光の有機ＥＬ材料を微細なストライプ状に塗り分けたりすることが必要となる。これらの塗布作業を繰り返して層を重ねることによって、有機ＥＬデバイスの発光層が形成される。
【０００３】
このような塗布技術として凸版印刷による印刷法が知られている。例えば、特許文献１には、有機ＥＬ素子（デバイス）の製造方法が記載されている。この有機ＥＬ素子の製造方法は、凸部（版突部）が形成された凸版（印刷版）に有機発光体を供給し、有機ＥＬ素子基材上に有機発光体を転写し、有機ＥＬ素子を製造するものである。その際、凸版印刷に用いる凸版のうち、外縁部をダミー領域、その内部を画像形成領域として、印刷時に押圧のムラが生じやすい凸版の外縁部のダミー領域を使用せず、押圧の均一な内部の画像形成領域のみを用いて有機ＥＬ素子を製造する。
【０００４】
また、特許文献２は、凸版印刷に用いられる印刷版を製造するための製造用マスク、印刷版および印刷版の製造方法が記載されている。このような印刷版製造用マスクは、印刷版に形成される凸部に対応する開口部と、開口部の周囲に凸部を補強するための補強部に対応する補強部用開口部とを有し、当該マスクを用いて印刷版を製造するものである。このようにして製造された印刷版は、印刷時に印刷版が押圧されたとしても、すべての凸部の形状を正常に保つことができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００６−２７８２０６（例えば、図１など）
【特許文献２】特開２００７−２６４２２４（例えば、図６、図７など）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、例えば特許文献１に記載された技術では、印刷版の外縁部にダミー領域を設けることで、押圧のムラが生じやすいダミー領域を使用せず、押圧のムラが生じない画像形成領域内のパターンを用いることができるが、有機ＥＬ素子基材上にダミー領域が印刷される。そのため、印刷されたダミー領域の発光材料を除去する必要がある。もしくは、除去処理を行なわずダミー領域をデバイスとして使用しないようにする場合は、有機ＥＬ素子基材上のパターンニングの効率が悪くなる。
【０００７】
また、特許文献２に記載された技術では、印刷版製造用マスクの開口部と補強部用開口部とに向けて紫外線を照射し、感光性樹脂を硬化させ、凸部と凸部を補強するための凸部より低い補強部を形成することで、凸部の強度を向上させ押圧が均一になるようにすることで押圧のムラが生じないようにしている。このような印刷版を用いて印刷することで特許文献１のような問題は解消される。しかし、印刷版を製造するためのマスクの設計、硬化、溶剤による溶解などの製版の条件出しが複雑となる。また印刷版のパターンを変更するごとに製版の条件出しを行う必要があるためこのような印刷版製造用マスクを用いて印刷版を製造することは困難である。
【０００８】
この発明は上記課題に鑑みなされたものであり、凸版印刷技術を用いて塗布材を基板上に高精細にパターンニングするにあたり、塗布材を基板上に転写した際に塗布材の転写幅を均一にするとともに、このような印刷版の製造を容易にしつつ、１枚の基板に対して効率よくパターンニングすることができる印刷版および該印刷版を備えた印刷装置を提供することが目的である。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
請求項１に係る発明（印刷版）は、基台と、基台の一方主面で一方向に間隔を有し、樹脂により形成され塗布剤を担持する複数の版突部を有し、複数の版突部は、両端部から数えて１個以上の一方向に連続する版突部で構成される両端版突部と、両端版突部の間に位置する版突部で構成される中央版突部と、を有し、両端版突部の塗布剤を担持する担持面が、中央版突部の塗布材を担持する担持面より大きいことを特徴とする。
【００１０】
請求項２に係る発明は、請求項１に記載される印刷版であって、両端版突部は、複数の版突部の両端部に位置し、両端版突部の塗布剤を担持する担持面が、中央版突部の塗布材を担持する担持面に対して１．５倍ないし１．７倍の大きさであることを特徴とする。
【００１１】
請求項３に係る発明は、請求項１に記載される印刷版であって、両端版突部は、複数の版突部の両端部から数えて１０個の一方向に連続する版突部で構成されることを特徴とする。
【００１２】
請求項４に係る発明は、請求項３に記載される印刷版であって、両端版突部の塗布剤を担持する担持面の幅が、両端部に位置する版突部から中央版突部に隣接する版突部に向かって段階的に狭くなっていることを特徴とする。
【００１３】
請求項５に係る発明は、請求項１ないし請求項４のいずれかに記載される印刷版であって、複数の版突部の塗布材を担持する担持面の幅が、版突部の延伸する方向の一方端から他方端まで均一であることを特徴とする。
【００１４】
請求項６に係る発明は、請求項１ないし請求項５のいずれかに記載の印刷版であって、中央版突部の塗布剤を担持する担持面の幅が４０μｍないし５０μｍであることを特徴とする。
【００１５】
請求項７に係る発明は、請求項１ないし請求項６のいずれかに記載の印刷版であって、基台を支持するためのフィルム状基材をさらに備え、フィルム状基材は基台の他方主面に当接していることを特徴とする。
【００１６】
請求項８に係る発明は、請求項１ないし請求項７のいずれかに記載の印刷版を備える印刷装置であって、基板を水平に保持するステージと、印刷版の一方主面に塗布材を供給する供給機構と、印刷版を他方主面側から押圧し、複数の版突部を基板に当接させることで供給機構から供給された塗布材を基板に転写する転写機構と、を備えることを特徴とする。
【００１７】
請求項９に係る発明は、請求項８に記載の印刷装置であって、転写機構は、印刷版を外周面に装着する版胴を有し、供給機構は、版胴と平行に配置され、印刷版の一方主面に形成された複数の版突部の担持面に塗布材を供給する供給ローラと、供給ローラの表面に塗布材を供給する供給部と、を有し、版胴を回転しつつ版胴の外周面に装着された印刷版を基板に押圧し、版突部に供給された塗布材を基板に転写することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１８】
請求項１ないし請求項９のいずれかに係る発明によれば、基板に転写される画像パターンに対応する版突部の両端部または両端部近傍に位置する両端版突部の担持面の幅寸法を、両端版突部の間に位置する中央版突部よりも広くすることで、転写機構による押圧を受けても両端版突部の変形を防ぎ、両端版突部によって転写される塗布材の転写量と、中央版突部によって転写される塗布材の転写量を等しくすることができる。これらによって転写された画像パターンの転写幅のバラつきを軽減させることができる。また、形成される版突部すべてを用いて所望の画像パターンを形成するため、基板上の余分な領域に塗布材が付着することがなく、基板に対して効率よくパターンニングすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明に係る印刷装置の一実施形態を示す斜視図である
【図２】本発明に係る印刷装置の要部を示す図である。
【図３】基板を説明するための図である。
【図４】本発明の第１の実施形態に係る印刷版を示す図である。
【図５】本発明の第２の実施形態に係る印刷版を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
図１は本発明に係る印刷装置１の一実施形態を示す斜視図である。また、図２は本発明に係る印刷装置１の要部を示す概要図である。以下、図１および図２を参照して、本発明の一実施形態に係る印刷装置１について説明する。なお、具体的に説明するため、印刷装置１が有機ＥＬ材料を溶解した溶液を塗布材として用いる有機ＥＬデバイスを製造する印刷装置に適用された例を用いて、以下の説明を行う。そして、本明細書における有機ＥＬ材料は、有機ＥＬデバイスにおける有機層（正孔注入層、正孔輸送層、赤色発光、緑色発光、青色発光の発光層、電子輸送層、電子注入層等のうちで有機物を含む層）を形成するための高分子有機ＥＬ材料と、溶媒とを含む。このような有機ＥＬ材料を塗布材として用いることができる。例えば、赤色発光層を形成するための材料は、赤色発光材料と、溶媒としてのキシレン（主溶媒）およびシクロヘキシルベンゼンなどを含む。なお、キシレンに替えてアニソールを主溶媒として用いても良い。
【００２１】
印刷装置１は、有機ＥＬデバイスを製造する工程において、ガラス基板（以降、単に基板９０と称す）の上面に所望の形状の画像パターン（例えば、ラインとスペースで構成される画像パターン）を印刷するための装置である。
【００２２】
そして、主として基板９０を保持するステージ１０と、ステージ１０を主走査方向（Ｙ軸方向）に往復移動させるための搬送機構２０と、ステージ１０に保持された基板９０に対して印刷版５０に形成された画像パターンを転写するための転写機構３０と、転写機構３０に塗布材を供給するための供給機構４０と、これらを載置する装置台６０と、転写機構３０とステージ１０の鉛直方向（Ｚ軸方向）の離間距離を調整するための昇降テーブル６５とを備える。
【００２３】
ステージ１０は、平板状の外形を有しており、その上面に基板９０を水平に保ちつつ図示を省略するチャック機構を備えており、チャック機構により基板９０がステージ１０上に固定的に保持される。そして、装置台６０上を搬送機構２０により主走査方向（Ｙ軸方向）に往復移動する。
【００２４】
搬送機構２０は、一対のガイドレール２３と、搬送駆動部２４とを備える。一対のガイドレール２３は、後述する版胴３３の軸心に対して直交する水平方向に装置台６０の一方端部から他方端部まで延設され、装置台６０の上面に固定される。搬送駆動部２４は、一対のガイドレール２３の延設方向を駆動方向とし、リニアモータで構成される。そして一対のガイドレール２３および搬送駆動部２４はステージ１０の裏面と連結されており、搬送駆動部２４の駆動力を受けてステージ１０を版胴３３の軸心に対して直交する主走査方向（Ｙ軸方向）に往復移動させる。
【００２５】
昇降テーブル６５は、図示を省略する昇降駆動部および昇降ガイドを備えており、昇降テーブル６５は昇降ガイドに沿ってＺ軸方向に昇降可能となる。昇降テーブル６５には、転写機構３０および供給機構４０が搭載されており、転写機構３０および供給機構４０は、昇降テーブル６５とともに昇降可能となる。
【００２６】
転写機構３０は、印刷版５０をその外周面に当接するように装着する版胴３３と、版胴３３をステージ１０に対して水平となるように軸支する版胴支持部３７と、版胴３３の外周面に装着された印刷版５０を洗浄するための洗浄機構３５とを備える。
【００２７】
版胴３３は、図示を省略する保持機構（例えば、クランプ機構など）を備える。そして、印刷版５０を版胴３３の外周面に保持機構により保持する。
【００２８】
版胴支持部３７は、図示を省略する回転駆動機構を備える。そして、版胴３３をステージ１０に対して水平となるように軸支し、軸支した状態で回転駆動機構からの駆動力を受けて所定の回転速度で軸心を中心に版胴３３を回転可能に支持する。版胴支持部３７に軸支された版胴３３の下方には空間が形成されており、下方空間をステージ１０が移動する。つまり、ステージ１０の上面に保持された基板９０は、搬送駆動部２４からの駆動力を受けて所定の速度で版胴３３の軸心に対して直交する主走査方向（Ｙ軸方向）に移動し、版胴３３の下方空間を通過する。
【００２９】
このとき、あらかじめステージ１０に保持された基板９０と版胴３３の外周面に装着された印刷版５０との間に生じる隙間を所定の範囲内になるように、昇降テーブル６５の鉛直方向の位置が調整される。
【００３０】
洗浄機構３５は、版胴３３の外周面に装着された印刷版５０から基板９０に塗布材が転写された後、印刷版５０の表面を洗浄する。なお、洗浄機構３５は版胴３３から離間した装置の端部と版胴３３に近接した位置との間を移動可能となっている。
【００３１】
供給機構４０は、印刷版５０の表面に塗布材を供給するため機構である。図２を参照しつつ供給機構４０について説明を続ける。供給機構４０は供給ローラ４３（図１）と、供給ローラ４３に塗布材を供給するための供給部４５と、供給ローラ４３を支持するための供給ローラ支持部４７（図１）と、供給ローラ４３の表面を洗浄するための洗浄機構４９とを備える。
【００３２】
供給ローラ４３は、その軸心が版胴３３の軸心と平行に配置される。例えば、供給ローラ４３は、その外周面が平滑な平ローラで構成される。そして、供給ローラ４３はその外周面を版胴３３に装着された印刷版５０に当接させながら互いに反対方向に回転することによって、印刷版５０の表面に塗布材を供給する。
【００３３】
供給部４５は、図示を省略する供給源と接続されており供給源に貯留される塗布材を供給ローラ４３に供給する。供給部４５には供給ローラ４３の軸心方向を長手方向とするスリットを有するスリットノズルなどが用いられる。そして、供給源から供給される塗布材を、供給ローラ４３の外周面上に所定の流量で吐出して、当該外周面上に塗布材の膜を形成する。なお、供給部４５と供給ローラ４３の外周面までは所定の距離だけ離間しており、その離間距離は図示を省略するモータが駆動することによって調整される。
【００３４】
供給ローラ支持部４７は、供給ローラ４３の外周面が版胴３３の外周面に対向するように供給ローラ４３を水平に軸支する。そして、図示を省略する駆動機構により供給ローラ４３の外周面と版胴３３の外周面との離間距離を調整する。
【００３５】
洗浄機構４９は、印刷版５０の表面に塗布材を供給した後においても供給ローラ４３の表面に残存する塗布材を除去するための機構である。供給ローラ４３の表面に塗布材が残存した場合、その上にさらに供給部４５から供給ローラ４３の表面に新たな塗布材が供給されたとき、塗布材の膜厚が増加することで膜厚が不均一となり、必要な膜厚をもった所望の画像パターンの転写ができなくなる。そのため、供給ローラ４３の表面を洗浄する機構として洗浄機構４９が設けられている。
【００３６】
このように、印刷装置１においては、供給部４５から供給ローラ４３の外周面に塗布材が供給され、供給ローラ４３の表面に塗布材の膜が形成される。そして、塗布材は、供給ローラ４３の表面から印刷版５０に形成された所望の画像パターンに転写供給され、印刷版５０上に塗布材の薄膜パターンが形成される。この印刷版５０上に形成された塗布材の薄膜パターンが、基板９０上に転写されることで所望の画像パターンが印刷される。
【００３７】
印刷装置１の図示を省略する制御部は、搬送機構２０を制御することによって基板９０を保持したステージ１０を主走査方向（Ｙ軸方向）に移動させる。そして、版胴３３の下方空間を通過させる際、図示を省略する回転駆動機構を制御することによってステージ１０の主走査方向（Ｙ軸方向）の移動速度に応じて互いに速度差が生じないように版胴３３の回転を制御する。これによって、ステージ１０に保持された基板９０と印刷版５０とが対向しながら所定の隙間を維持しつつ、印刷版５０に供給された塗布材が基板９０に転写されていく。
【００３８】
ここで、図３を参照しつつ基板９０について説明する。以降においては、例えば４０インチのフルハイビジョン用のディスプレイを製造する場合について説明を行う。図３（ａ）は基板９０の全体を示す平面図である。基板９０は、７３０×９２０ｍｍあるいは８００×９００ｍｍの矩形形状のガラス基板であり、その上面に画像パターン領域９０ａと、画像パターン領域９０ａ内に配列される複数の突起８を備える。以降においては、基板９０が７３０×９２０ｍｍのサイズである場合について説明する。
【００３９】
画像パターン領域９０ａは、有機ＥＬデバイス用の発光層が形成される領域であって、基板９０の周辺部を除く中央部に、５００×９００ｍｍの領域として規定されている。そして、当該領域内に塗布材が転写されることで、基板９０上に有機ＥＬデバイス用の発光層が形成される。
【００４０】
次に図３（ｂ）、（ｃ）を参照しつつ突起８について説明する。図３（ｂ）は図３（ａ）に示す領域９０ｂを拡大した平面図である。図３（ｃ）は図３（ｂ）の側面視の断面を模式的に示す図である。
【００４１】
突起８は、第１方向（図示では上下方向）にわたって延伸するとともに、第１方向と直交する第２方向（図示では左右方向）に沿って互いに平行に配列された複数の突起８が同一間隔で形成されている。そして、複数の突起８によって、その間には多数の窪部が形成される。複数の窪部は例えば赤色発光層を形成すべき赤色用窪部９Ｒ、緑色発光層を形成すべき緑色用窪部９Ｇ、青色発光層を形成すべき青色用窪部９Ｂが図示左右方向に沿って、画像パターン領域の全面にわたり、多数、繰り返し形成されている。
【００４２】
突起８の繰り返される間隔（突起８の中心間距離）は１２０μないし１５０μｍとなる。そして、５７６１個の突起８が基板９０上に配列されている。突起８の個数はフルハイビジョンにおける第２方向の解像度が１９２０ピクセルであり、これらが３色分必要であることから、上述した個数になる。なお、第２方向の両側にはテストエリアを備える場合は、突起８の個数は５７６７個となる。
また、突起８は図面上では高さを有する構造であるが、このような高さを必要とするわけではない。なぜなら突起８は隣接する発光層が接触しないようにするためのものであり、高さを有せずとも隣接する発光層間に絶縁体を設けるようにしてもよい。
【００４３】
次に印刷版５０の第１の実施形態について図４を参照しつつ説明する。図４（ａ）は本発明に係る印刷版５０の全体をあらわす平面図である。なお、図示の都合上、一部を省略している。図４（ｂ）は、図４（ａ）に示す領域５０ａを拡大した平面図であり、図４（ｃ）は図４（ｂ）の側面視の断面を模式的に示す図である。
【００４４】
印刷版５０は、７３０×９２０ｍｍの矩形形状を有し、上方からその中央部に所望の画像パターンが形成されるパターン形成領域５５と、パターン形成領域５５を一方主面に備える基台５３と、基台５３の他方主面に装着されるフィルム５９とを備える。
【００４５】
パターン形成領域５５は、基台５３の中央部に形成されており、パターン形成領域５５に塗布材が供給され、基板９０上に有機ＥＬデバイスの画像パターンを転写するための領域である。
【００４６】
基台５３の一方主面には、両端版突部５１ａと、中央版突部５１ｂとを備える版突部５１が形成されている。そして、一方主面に形成された版突部５１によって構成される領域が上述したパターン形成領域５５となる。したがって、パターン形成領域５５に塗布材が供給されるということは、言い換えると基台５３の一方主面に形成された版突部５１上に塗布材が供給されることであり、版突部５１が有機ＥＬデバイスの画像パターンを形成する。また、基台５３とその一方主面に形成される版突部５１は、同一の樹脂材で一体的に形成されている。
【００４７】
フィルム５９は、印刷版５０を版胴３３の外周面に固定的に配設するための部材として機能する。具体的には、基台５３の他方主面と接着することで基台５３を支持し、版胴３３の図示を省略する保持機構（例えば、クランプ機構など）によりフィルム５９が保持されることで版胴３３の外周面に印刷版５０が固定的に保持される。なお、フィルム５９を介さずに、基部５３の他方主面が直接、版胴３３の外周面に当接し保持される構成であってもよい。この場合、保持機構として例えば吸着等により固定的に保持することが可能である。このようなフィルム５９として、例えば１００μｍ程度の厚さのポリエチレンテレフタレート（Polyethylene Terephthalate）を採用する。
【００４８】
次に図４（ｃ）を参照しつつ、基台５３の一方主面に形成される版突部５１について説明する。なお、図４（ｃ）ではパターン形成領域５５の一方側端部（図示では最も右側）のみ図示し、パターン形成領域５５の他方側端部（図示では最も左側）については図示を省略しているが同様に両端版突部５１ａが存在する。
【００４９】
版突部５１は樹脂により形成されており、例えば光が照射されることで硬化する感光性樹脂が用いられる。版突部５１は、第１方向（図示では上下方向）にわたって延伸するとともに、第１方向と直交する第２方向（図示では左右方向）に沿って互いに平行に並列された１９２０個の版突部５１が同一間隔で形成されている。そして、これらの版突部５１が両端版突部５１ａおよび中央版突部５１ｂとして機能する。
【００５０】
両端版突部５１ａは、同一間隔で形成されている版突部５１の両端部に位置するように形成されている。つまり、パターン形成領域５５の両端部に位置する。そして、その頂部には塗布材を担持するための担持面ＳＦを有し、担持面ＳＦの幅は、両端版突部５１ａが延設する方向である第１方向に対して均一の幅寸法となっている。両端版突部５１ａの担持面ＳＦに塗布材が供給され保持されることで、基板９０へ両端版突部５１ａに対応する画像パターンを転写することが可能となる。両端版突部５１ａの担持面ＳＦは、基板９０に両端版突部５１ａに対応する画像パターンを転写するための印刷面として機能する。なお、担持面ＳＦの幅寸法とは第１方向と直交する第２方向の担持面の寸法を言う。
【００５１】
中央版突部５１ｂは、同一間隔で形成されている版突部５１において両端版突部５１ａの間に位置するように形成されている。つまり、パターン形成領域５５を構成する版突部５１のうち両端版突部５１ａ以外が中央版突部５１ｂとして機能する。そして、その頂部には両端版突部５１ａと同様に塗布材を担持するための担持面ＳＦを有しており、担持面ＳＦの幅は、中央版突部５１ｂが延設する方向である第１方向に対して均一の幅寸法となっている。全ての中央版突部５１ｂは同じ形状を有する。
【００５２】
そして、中央版突部５１ｂの担持面ＳＦに塗布材が供給され保持されることで、基板９０へ中央版突部５１ｂに対応する画像パターンを転写することが可能となる。中央版突部５１ｂの担持面ＳＦは、基板９０に中央版突部５１ｂに対応する画像パターンを転写するための印刷面として機能する。
【００５３】
両端版突部５１ａおよび中央版突部５１ｂの第１方向（図示では上下方向）の長さ寸法は等しく、５００ｍｍとなるように形成されている。また、その形状は断面視で塗布材を担持するための担持面ＳＦを最頂部として徐々に広がりながら最深部に向かって傾斜するように形成されている。最頂部である担持面ＳＦから最深部までの高さは１００μｍないし３００μｍであって、押圧された際に最深部の底面が基板９０に当接しない高さに形成されている。これによって、最深部の底面は、転写機構３０による押圧によっても印刷されず、かつ担持面ＳＦに供給された塗布材が最深部に流れに込みにくいという効果を得ることができる。また、担持面ＳＦに微細突起を形成してもよい。微細突起を設けることで塗布材が最深部に流れ込むのをさらに抑制することができる。
【００５４】
次に、両端版突部５１ａと中央版突部５１ｂについて具体的に説明する。中央版突部５１ｂは上述したとおり複数の版突部５１のうち両端版突部５１ａ以外の版突部５１に相当する。そして、中央版突部５１ｂの印刷面である担持面の幅Ｅはすべて同じ幅寸法となるように形成されている。具体的には、担持面の幅Ｅは４０μｍないし５０μｍの幅で均一に形成されている。これは上述した有機ＥＬディスプレイで４０インチのフルハイビジョン用に、ラインとスペースのストライプ状のパターンを形成するのに適した幅となっている。なお、担持面の幅Ｅは対象製品の解像度に応じて決められ、担持面の長さは対象製品のサイズに応じて決められる。
【００５５】
したがって、対象製品のサブピクセル間隔が１２０μｍならば、それぞれの版突部５１の中心間の距離は３６０μｍとなり、サブピクセル間隔が１５０μｍならば、それぞれの版突部５１の中心間の距離は４５０μｍとなる。
【００５６】
両端版突部５１ａと中央版突部５１ｂとの異なる点はその担持面の幅寸法である。両端版突部５１ａの担持面の幅Ｄは、中央版突部５１ｂの担持面の幅Ｅよりも広い幅寸法を有している。すなわち、両端版突部５１ａの担持面の幅Ｄ＞中央版突部５１ｂの担持面の幅Ｅの関係が成り立っている。
【００５７】
より具体的には、両端版突部５１ａの担持面の幅Ｄと中央版突部５１ｂの担持面の幅Ｅとの関係は、Ｄ＝Ｅ×ｎ（１．５≦ｎ≦１．７）の関係となっている。両端版突部５１ａの担持面の幅Ｄは、中央版突部５１ｂの担持面の幅Ｅの１．５倍ないし１．７倍となるように形成されている。これは、中央版突部５１ｂの担持面の幅Ｅが４０μｍないし５０μｍとなるように形成されている時に最適となる。例えば、中央版突部５１ｂの担持面の幅Ｅが５０μｍとなるように形成されていた場合、両端版突部５１ａの担持面の幅Ｄは、７５μｍないし８５μｍの間の幅寸法になるように形成されていればよい。
【００５８】
このように、両端版突部５１ａの担持面の幅Ｄを中央版突部５１ｂの担持面の幅Ｅに対して１．５倍ないし１．７倍となるように形成することで、印刷時の押圧による両端版突部５１ａの変形を抑制することができる。
【００５９】
次に両端版突部５１ａの担持面の幅Ｄを中央版突部５１ｂの担持面の幅Ｅに対して、（１）１．３倍、（２）１．５倍、（３）１．７倍、（４）１．９倍に変えて基板９０上に転写される塗布材の転写幅の均一性について評価を行った結果を表１に示す。
【００６０】
表１では中央版突部５１ｂの担持面の幅をＥ１とし、各条件での両端版突部５１ａの担持面の幅をＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４としている。また、中央版突部５１ｂによって基板９０に転写された塗布材の転写幅をＰＥ１とし、各条件で両端版突部５１ａによって基板９０に転写された塗布材の転写幅をＰＤ１、ＰＤ２、ＰＤ３、ＰＤ４としている。そして、中央版突部５１ｂによって転写された塗布材の転写幅と、両端版突部５１ａによって転写された塗布材の転写幅との差分が±１０μｍ以内に収まるものには均一性について可とし、収まらないものについては均一性を不可としている。
【表１】
2012200978.tif 000003
【００６１】
表１中の（１）は両端版突部５１ａの担持面の幅Ｄ１を、中央版突部５１ｂの担持面の幅Ｅ１に対して１．３倍にした場合を表している。すなわち、Ｄ１＝Ｅ１×１．３の関係が成り立っている。この際、中央版突部５１ｂの担持面の幅Ｅ１によって転写される塗布材の転写幅ＰＥ１は、両端版突部５１ａの担持面の幅Ｄ１によって転写される塗布材の転写幅ＰＤ１より大きくなる。すなわち、ＰＥ１＞ＰＤ１となる。これは、両端版突部５１ａの強度が十分ではないため、転写時の押圧で変形し転写が不十分になっているためである。
【００６２】
表１中の（２）は両端版突部５１ａの担持面の幅Ｄ２を、中央版突部５１ｂの担持面の幅Ｅ１に対して１．５倍にした場合を表している。すなわち、Ｄ２＝Ｅ１×１．５の関係が成り立っている。この際、中央版突部５１ｂの担持面の幅Ｅ１によって転写される塗布材の転写幅ＰＥ１と、両端版突部５１ａの担持面の幅Ｄ２によって転写される塗布材の転写幅ＰＤ２とほぼ等しくなる。すなわちＰＥ１≒ＰＤ２となる。樹脂によって形成された印刷版５０の特性上、完全に転写幅が等しくなる現実的には難しい。しかし、中央版突部５１ｂによって転写された塗布材の転写幅ＰＥ１と、両端版突部５１ａによって転写された塗布材の転写幅ＰＤ２の差分が±１０μｍ以内となれば、有機ＥＬデバイスのパターン形成という点においては欠陥が発生せず、これらの関係は等しいと言うことができる。
【００６３】
表１中の（３）は両端版突部５１ａの担持面の幅Ｄ３を、中央版突部５１ｂの担持面の幅Ｅ１に対して１．７倍にした場合を表している。すなわち、Ｄ３＝Ｅ１×１．７の関係が成り立っている。この際、中央版突部５１ｂの担持面の幅Ｅ１によって転写される塗布材の転写幅ＰＥ１と、両端版突部５１ａの担持面の幅Ｄ３によって転写される塗布材の転写幅ＰＤ３とほぼ等しくなる。すなわちＰＥ１≒ＰＤ３となる。これも（２）で説明したのと同様の理由により、これらの関係は等しいと言うことができる。
【００６４】
表１中の（４）は両端版突部５１ａの担持面の幅Ｄ４を、中央版突部５１ｂの担持面の幅Ｅ１に対して１．９倍にした場合を表している。すなわち、Ｄ４＝Ｅ１×１．９の関係が成り立っている。この際、中央版突部５１ｂの担持面の幅Ｅ１によって転写される塗布材の転写幅ＰＥ１に対して、両端版突部５１ａの担持面の幅Ｄ４によって転写される塗布材の転写幅ＰＤ４が大きくなる。すなわちＰＥ１＜ＰＤ４となる。これは、両端版突部５１ａの担持面の幅Ｄ４を広くしすぎたことで、転写時に塗布材が基板９０上に広がるためである。
【００６５】
以上の結果から、両端版突部５１ａの担持面の幅Ｄを中央版突部５１ｂの担持面の幅Ｅに対して、１．５倍ないし１．７倍にすることで、両端版突部５１ａの印刷時の押圧による変形を抑制し、両端版突部５１ａおよび中央版突部５１ｂによって基板９０に転写される塗布材の転写幅を均一にすることができる。
【００６６】
このように、パターン形成領域５５の両端部に位置する両端版突部５１ａの担持面の幅寸法を、中央版突部５１ｂの担持面の幅寸法に対して１．５倍ないし１．７倍の幅寸法とすることで、転写機構３０による押圧を受けても両端版突部５１ａの変形を抑制することができ、転写された画像パターンの転写幅のバラつきを軽減させることができる。また、パターン形成領域５５全体を用いて所望の画像パターンを形成できるため、基板９０上の余分な領域に塗布材が付着することがなく、基板９０に対して効率よくパターンニングすることができる。
【００６７】
なお、上述した印刷版５０は公知の製造方法によって製造することができる。例えば、通常のフレキソ印刷版の製造方法が適用でき、例えば、ポリエチレンテレフタレート上に樹脂材料を塗布、硬化してレーザにより彫刻する方法、感光性樹脂材料にフォトマスクを使用したフォトリソ法などである。また、両端版突部５１ａの担持面の幅寸法を広くするだけで良いので印刷版の製造が容易である。
【００６８】
次に印刷装置１を用いて基板９０上に所望の画像パターンを形成する動作について図２を参照しつつ説明する。印刷装置１では、版胴３３の外周面に印刷版５０が図示を省略する保持機構により保持される。また、処理対象の基板９０がステージ１０上に載置され、ステージ１０に設けられている図示しないチャック機構により基板９０がステージ１０にて保持される。
【００６９】
そして、版胴３３に保持された印刷版５０は図２中の矢印の方向に回転しつつ、印刷版５０の表面に形成される所望の画像パターンに対応する複数の版突部５１からなるパターン形成領域５５に、供給ローラ４３が図２中の矢印の方向に回転しながら当接することで塗布材が供給される。なお、供給ローラ４３には供給部４５と接続された供給機構４０から塗布材が供給される。
【００７０】
塗布材が供給された印刷版５０は基板９０に対して版胴３３に押圧されつつ当接する。そして、印刷版５０の表面に形成されたパターン形成領域５５を構成する版突部５１の担持面に供給された塗布材が基板９０上に転写される。その際、印刷版５０に形成される複数の版突部５１が押圧されることで圧縮されるように変形するが、このように印刷版５０を基板９０に押圧する力が働くことで印刷版５０に形成される複数の版突部５１が全面にわたって確実に基板９０に当接する。
【００７１】
所望の画像パターンに対応する版突部５１が押圧された場合でも、パターン形成領域５５の両端を形成する両端版突部５１ａの担持面の幅寸法を、中央版突部５１ｂの担持面の幅寸法の１．５倍ないし１．７倍にすることで、両端版突部５１ａの押圧による変形を抑制し基板９０に転写される画像パターンの転写幅を中央版突部５１ｂによって転写された画像パターンの転写幅と均一にすることができる。そのため、パターン形成領域５５をすべて用いて所望の画像パターンを形成でき、基板９０に対して効率的に有機ＥＬデバイスを製造することができ生産性の低下を防ぐことができる。
【００７２】
次に、印刷版５０に塗布材を供給した供給ローラ４３は洗浄機構４９によりその表面に付着した塗布材を除去するため洗浄される。また、印刷版５０は、その表面に供給された塗布材を基板９０に転写した後、洗浄機構３５によりその表面に付着した塗布材を除去するため洗浄される。
【００７３】
所望の画像パターンが印刷された基板９０はチャック機構が解除され、ステージ１０上から図示を省略する搬送ロボット等により搬送される。以上により、印刷装置１を用いて基板９０上に所望の画像パターンを形成することができる。
【００７４】
次に印刷版５０の第２の実施形態について図５を用いて説明する。図５において図４と共通する部分については同一の符号を割り当て説明は省略する。図５（ａ）は本発明に係る第２の実施形態に係る印刷版５０の全体をあらわす平面図である。なお、図示の都合上、一部を省略している。図５（ｂ）は、図５（ａ）に示す領域５０ａを拡大した平面図であり、図５（ｃ）は図５（ｂ）の側面視の断面を模式的に示す図である。なお、図示の都合上、基台５３の一方側端部しか表していないが当然ながら他方側端部にも同様の構成を有する。
【００７５】
図４に図示された第１の実施形態にかかる印刷版５０と最も異なる点は、版突部５１が、パターン形成領域５５の両端部から数えて第２方向に連続する１０個の両端版突部５１ａを有していることである。また、それぞれの両端版突部５１ａの担持面の幅が、パターン形成領域５５の両端側から中央側に向かって中央版突部５１ｂの隣に形成された両端版突部５１ａまで段階的に担持面の幅が狭くなっていることである。
【００７６】
本実施形態について詳細に説明する。基台５３の一方主面には版突部５１が形成されており、版突部５１は、第１方向（図示では上下方向）にわたって延伸するとともに、第１方向と直交する第２方向（図示では左右方向）に沿って互いに平行に並列された１９２０個の版突部５１が同一間隔で形成されている。そして、これらの版突部５１が両端版突部５１ａおよび中央版突部５１ｂとして機能する。
【００７７】
両端版突部５１ａは、同一間隔で形成されている版突部５１の両端部から中央方向（図示では左方向）に数えて連続する１０個の両端版突部５１ａにより形成されている。したがって、画像パターンを形成する１９２０個の版突部５１のそれぞれの両端部から約０．５２％が両端版突部５１ａとなる。
【００７８】
両端版突部５１ａの頂部には塗布材を担持するための担持面ＳＦを有し、担持面ＳＦの幅は、両端版突部５１ａが延設する方向である第１方向に対して均一の幅寸法となっている。両端版突部５１ａの担持面ＳＦに塗布材が供給され保持されることで、基板９０へ両端版突部５１ａに対応する画像パターンを転写することが可能となる。両端版突部５１ａの担持面ＳＦは、基板９０に両端版突部５１ａに対応する画像パターンを転写するための印刷面として機能する。
【００７９】
中央版突部５１ｂは、同一間隔で形成されている版突部５１において両端版突部５１ａの間に位置するように形成されている。つまり、パターン形成領域５５を構成する版突部５１のうち両端版突部５１ａ以外が中央版突部５１ｂとして機能する。そして、中央版突部５１ｂの頂部には両端版突部５１ａと同様に塗布材を担持するための担持面ＳＦを有しており、担持面ＳＦの幅は、中央版突部５１ｂが延設する方向である第１方向に対して均一の幅寸法となっている。また、全ての中央版突部５１ｂは同じ形状を有する。
【００８０】
そして、中央版突部５１ｂの担持面ＳＦに塗布材が供給され保持されることで、基板９０へ中央版突部５１ｂに対応する画像パターンを転写することが可能となる。中央版突部５１ｂの担持面ＳＦは、基板９０に中央版突部５１ｂに対応する画像パターンを転写するための印刷面として機能する。
【００８１】
両端版突部５１ａおよび中央版突部５１ｂの第１方向（図示では上下方向）の長さ寸法は等しく、５００μｍとなるように形成されている。また、その形状は断面視で塗布材を担持するための担持面ＳＦを最頂部として徐々に広がりながら最深部に向かって傾斜するように形成されている。最頂部である担持面ＳＦから最深部までの高さは１００μｍ以上であって、押圧された際に最深部の底面が基板９０に当接しない高さに形成されている。これによって、最深部の底面は、転写機構３０による押圧によっても印刷されず、かつ担持面ＳＦに供給された塗布材が最深部に流れに込みにくいという効果を得ることができる。また、担持面ＳＦに微細突起を形成してもよい。微細突起を設けることで塗布材が最深部に流れ込むのをさらに抑制することができる。
【００８２】
中央版突部５１ｂは、その担持面の幅Ｅ１が４０μｍないし５０μｍとなるように形成されている。中央版突部５１ｂの担持面の幅Ｅ１が上述した幅寸法であるならば、それぞれの両端版突部５１ａおよびそれぞれの中央版突部５１ｂの中心間の距離は、３６０μｍないし４５０μｍとなるように同一間隔で形成されていることが好ましい。
【００８３】
これに対し、版突部５１の両端部から数えて１０個の第２方向に連続する両端版突部５１ａの担持面の幅Ｄ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４、Ｄ５、Ｄ６、Ｄ７、Ｄ８、Ｄ９、Ｄ１０は、中央版突部５１ｂの担持面の幅Ｅ１よりも広く、かつ、両端部に位置する両端版突部５１ａから中央版突部５１ｂに隣接する位置に形成される両端版突部５１ａまで担持面の幅が段階的に狭くなっている。すなわち、Ｅ１＜Ｄ１０≦Ｄ９≦Ｄ８≦Ｄ７≦Ｄ６≦Ｄ５≦Ｄ４≦Ｄ３≦Ｄ２≦Ｄ１の関係が成り立っている。なお、図５（ｂ）、（ｃ）では、図示の都合上、担持面の幅Ｄ６からＤ９に対応する両端版突部５１ａを省略している。
【００８４】
ここで、もっとも端部に形成される両端版突部５１ａの担持面の幅Ｄ１は、Ｄ１＝Ｅ１×ｎ（１．５≦ｎ≦１．７）となるように形成されている。また、担持面の幅Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４、Ｄ５、Ｄ６、Ｄ７、Ｄ８、Ｄ９、Ｄ１０は、中央版突部５１ｂの担持面の幅Ｅ１より広く、かつ両端版突部５１ａの担持面の幅Ｄ１以下となるように決めてられている。例えば、両端版突部５１ａの担持面の幅Ｄ１と中央版突部５１ｂの担持面の幅Ｅ１との差分を均等割りし、得られた値ずつ担持面の幅Ｄ１０からＤ１に向けて広げていくようにしてもよい。
【００８５】
このように、両端版突部５１ａの各担持面の幅を設定することで、印刷時の押圧によっても、押圧に弱い両端部のみならず、両端部近傍における両端版突部５１ａの変形を抑制することができる。
【００８６】
以上のように、このように構成された印刷版５０を第１の実施形態で説明した印刷装置１に適用することができ、転写機構３０による押圧によってもパターン形成領域５５の両端部近傍を形成する両端版突部５１ａが変形することを防ぐことができる。そのため、両端版突部５１ａによって転写される塗布材の転写量と、中央版突部５１ｂによって転写される塗布材の転写量とが略等しくなり転写幅のバラつきを軽減させることができる。また、パターン形成領域５５をすべて用いて所望の画像パターンを形成できるため、基板９０に対して効率よくパターンニングすることができる。
＜変形例＞
【００８７】
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記の実施の形態に限られるものではなく様々な変形が可能である。
【００８８】
また、上記実施の形態では、ステージ１０を水平移動させながら版胴３３を回転させて印刷材料を転写しているが、ステージ１０を固定して版胴３３自体を水平方向に移動させながら回転させてもよい。版胴３３とステージ１０との少なくとも一方が相対的に水平方向に移動すれば、同様の印刷が可能であるためである。
【００８９】
また、印刷版５０を版胴３３に装着し基板９０に押圧しているが、印刷版の裏面全体を押圧することでスタンプ印のごとく印刷版５０に形成された所望の画像パターンを基板９０に転写するように構成してもよい。
【００９０】
さらに、上記実施形態および各変形例で説明した各構成は、相互に矛盾しない限り適宜組み合わせることができる。
【符号の説明】
【００９１】
１    印刷装置
１０    ステージ
２０    搬送機構
３０    転写機構
３３    版胴
４０    供給機構
４３    供給ローラ
４５    供給部
５０    印刷版
５３    基部
９０    基板
５１    版突部
５１ａ    両端版突部
５１ｂ    中央版突部
５９    フィルム
９０    基板
ＳＦ    担持面
【図１】
2012200978.tif 000004
【図２】
2012200978.tif 000005
【図３】
2012200978.tif 000006
【図４】
2012200978.tif 000007
【図５】
2012200978.tif 000008