(57)【要約】      （修正有）【課題】発熱体端部のペスト現象による寿命の低下を防止する。【解決手段】基板処理装置は、ウエハ１０５を処理する処理室と、処理室内のウエハ１０５を加熱する加熱装置とを備えており、加熱装置は処理室を覆う断熱体１０７と、断熱体１０７の内周面に設けられた二珪化モリブデンからなる発熱体１０８と、断熱体１０７外に引き出された発熱体１０８の端部を囲繞するカバー８４と、カバー８４内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給装置８７とを有し、断熱体１０７には不活性ガスを供給する不活性ガス供給ライン１２２が接続されている。カバー内に不活性ガスを供給することにより、発熱体の端部における低温領域のペストによる寿命の低下を防止することができる。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を処理する処理室と、
前記処理室内の前記基板を加熱する加熱装置と、
を備えた基板処理装置であって、
前記加熱装置は、前記処理室を覆う断熱体と、
前記断熱体の内周面に設けられた発熱体と、
前記断熱体の外部に引き出された前記発熱体の端部を囲繞するカバーと、
前記カバー内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給装置と、
を有する基板処理装置。
【請求項２】
前記断熱体内が予め設定された温度以上になった際に、前記不活性ガスが前記カバー内に供給されることを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板処理装置に関する。
例えば、半導体集積回路装置（以下、ＩＣという）が作り込まれる半導体ウエハ（以下、ウエハという）にアニール、酸化、拡散、ＣＶＤおよびイオン打ち込み後のキャリア活性化や平坦化のためのリフロー等に利用して有効なものに関する。
【背景技術】
【０００２】
ＩＣの製造方法における一工程である水素アニール工程に使用する従来の水素アニール装置として、ウエハを処理する処理室と処理室を加熱する加熱装置との間の空間を不活性ガス雰囲気とした状態で、処理室内に水素ガスを導入しつつ排気してウエハを水素アニールする水素アニール装置であって、処理室と加熱装置との間の空間を酸素を含む雰囲気に置換し、該雰囲気で加熱装置の発熱体の表面に酸化膜を形成する水素アニール装置がある。例えば、特許文献１参照。
この水素アニール装置によれば、発熱体の表面に酸化膜を形成することができるので、酸化保護膜の劣化が防止され、発熱体の長寿命化を図ることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−２６１３６２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、従来の水素アニール装置においては、発熱体の端部は断熱体の外部に引き出されるので、低温領域のペスト（粉化）現象による寿命の低下を防止することができない。
【０００５】
本発明の目的は、発熱体の端部における低温酸化による寿命の低下を防止することができる基板処理装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本願において開示される発明のうち代表的なものは、次の通りである。
（１）基板を処理する処理室と、
前記処理室内の前記基板を加熱する加熱装置と、
を備えた基板処理装置であって、
前記加熱装置は、前記処理室を覆う断熱体と、
前記断熱体の内周面に設けられた発熱体と、
前記断熱体の外部に引き出された前記発熱体の端部を囲繞するカバーと、
前記カバー内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給装置と、
を有する基板処理装置。
（２）前記断熱体内が予め設定された温度以上になった際に、前記不活性ガスが前記カバー内に供給されることを特徴とする（１）に記載の基板処理装置。
【発明の効果】
【０００７】
この基板処理装置によれば、カバー内に不活性ガスを供給することにより、発熱体の端部における低温領域のペスト（粉化）現象による寿命の低下を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の一実施形態である基板処理装置を示す概略斜視図である。
【図２】反応炉を示す側面断面図である
【図３】主要部を示す側面断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本発明の一実施形態を図面に即して説明する。
【００１０】
本実施形態において、本発明に係る基板処理装置は、基板としてのウエハに熱処理を施すものとして構成されている。また、ウエハの搬送には密閉式のカセットであるＦＯＵＰ（Ｆｒｏｎｔ  Ｏｐｅｎｉｎｇ  Ｕｎｉｆｉｅｄ  Ｐｏｄ）が使用されている。ＦＯＵＰ（以下、ポッドという）はウエハを密閉可能な収納室に収納するので、搬送時のウエハの汚染を防止することができる。
【００１１】
図１に示されているように、本実施形態に係る基板処理装置は筐体１を備えている。筐体１の前面には外部搬送装置（図示せず）との間でポッドを授受するポッドステージ２が設けられ、ポッドステージ２はシャッタ３を介して筐体１内と連通している。
筐体１の内部前方にはポッドステージ２と対向してポッドオープナ５が設けられ、ポッドオープナ５の上方にはポッドストッカ６が設けられ、ポッドストッカ６とポッドオープナ５とポッドステージ２間にはポッドローダ７が設けられている。
筐体１の内部後方片側にはボートエレベータ８が設けられ、ボートエレベータ８から水平に延びる昇降アーム９にはシールキャップ１０が設けられている。シールキャップ１０は処理室を形成する処理炉１１の炉口を閉塞する。シールキャップ１０にはウエハ１０５を水平姿勢で多段に保持する保持具（以下、ボートという）１０６が載置される。ボート１０６の降下状態では炉口シャッタ１６により、炉口が閉塞される。
【００１２】
筐体１の他側にはボート交換装置１２がボートエレベータ８に対向して設けられ、ボート交換装置１２とボートエレベータ８とポッドオープナ５との間にウエハ移載機１３が設けられている。
ポッドステージ２は外部搬送装置とポッドローダ７と間でポッド４を授受する。ポッドローダ７は横行、昇降および進退可能であり、ポッドステージ２のポッド４をポッドオープナ５およびポッドストッカ６に移載したり、ポッドオープナ５とポッドストッカ６との間でポッド４を移載したりする。ポッドオープナ５はポッド４の蓋を開閉する。
ウエハ移載機１３は昇降、進退および回転可能であり、ポッドオープナ５上のポッド４とボート交換装置１２に保持されたボート１０６との間でウエハ１０５の移載を行う。
ボート交換装置１２は２本のボート支持アーム１４、１５を有する。ボート支持アーム１４、１５は独立して回転可能かつ昇降可能となっており、ウエハ移載位置Ａ、ボート授受位置Ｂ、ウエハクーリング位置Ｃ間でボート１０６の移動を行うようになっている。
シールキャップ１０はボート授受位置Ｂで未処理ウエハ１０５を保持したボート１０６をボート交換装置１２から受取り、ボートエレベータ８により処理炉１１に搬入する。
【００１３】
処理炉１１では未処理ウエハ１０５が加熱され、所要の処理ガスが導入されウエハ処理される。ボート１０６はウエハ処理中、処理炉１１内で処理の均一性を向上させるため、シールキャップ１０に設けられた回転装置（図示せず）により回転される。
処理が完了すると、ボートエレベータ８は処理炉１１からボート１０６をボート授受位置Ｂに引出し、ボート１０６をボート交換装置１２に受渡す。
処理済ウエハ１０５を保持するボート１０６はウエハクーリング位置Ｃに移動され、所定の温度となる迄冷却される。その間、未処理ウエハ１０５を保持するボート１０６がウエハ移載位置Ａよりボート授受位置Ｂに移動され、シールキャップ１０に受渡され、ボートエレベータ８により処理炉１１に搬入される。
ウエハクーリング位置Ｃで処理済ウエハ１０５が所定の温度迄冷却されると、ボート交換装置１２は処理済ウエハ１０５を保持するボート１０６をウエハ移載位置Ａ迄移動させる。
ウエハ移載機１３はウエハ移載位置Ａにあるボート１０６から処理済ウエハ１０５をポッドオープナ５上のポッド４に払出す。処理済ウエハ１０５がポッド４に装填されると、ポッド４はポッドローダ７によりポッドステージ２へ移載され、さらに、外部搬送装置により搬出される。
未処理ウエハ１０５が装填されたポッド４はポッドオープナ５にポッドローダ７により移載される。ウエハ移載機１３はポッド４から未処理ウエハ１０５をウエハ移載位置Ａにある空のボート１０６に移載する。
そして、ウエハ１０５の処理が繰返し実行される。
【００１４】
以下、本実施形態に係る処理炉１１を説明する。
【００１５】
図２および図３に示されているように、円筒形状の加熱装置１０２の内部には、反応管１０４が同心に設けられており、反応管１０４と加熱装置１０２との間には円筒形状の炉内空間１２４が形成されている。炉内空間１２４は排気導路１１３に連通している。
反応管１０４内には処理ガス導入管１１９および排気ライン１２１が連通されている。処理ガス導入管１１９には流量制御器１２５が設けられ、排気ライン１２１には圧力制御器１２６が設けられており、処理ガスが所定流量で導入されるとともに、反応管１０４内が所定圧力に維持されるべく、排気ガスが排出されるようになっている。冷却ガス導入ダクト１１６には冷却ガス供給ライン１１７が連通され、冷却ガス供給ライン１１７にはエアバルブ１２９が設けられている。
炉内空間１２４には不活性ガス供給ライン１２２が連通されており、不活性ガス供給ライン１２２には流量制御弁１２７、エアバルブ１２８が設けられている。不活性ガス供給ライン１２２には酸素ガス混合ライン１３０が合流され、酸素ガス供給ライン１３０には流量制御弁１３１とエアバルブ１３２が設けられている。酸素ガス混合ライン１３０からは酸素ガスまたは空気が不活性ガス供給ライン１２２に合流されるようになっている。
【００１６】
加熱装置１０２は発熱部１０９とヒータケース１１１と天井部１１２とから構成されている。発熱部１０９は円筒形状の断熱体１０７および断熱体１０７の内周面に配設された発熱体１０８から構成されている。
断熱体１０７は、酸化アルミニウム（Ａｌ2 Ｏ3 ）とシリカ（ＳｉＯ2 ）とによって形成されたアルミナセラミックによって形成されている。
発熱体１０８は急速加熱が可能であり、発熱表面積が大きくなるように、断面が楕円形状または平板形状等の形状が採用されている。
発熱体１０８は抵抗発熱体としての二珪化モリブデン（ＭｏＳｉ2 ）によって形成されている。二珪化モリブデンからなる発熱体は金属（例えば、Ｆｅ−Ｃｒ−Ａｌ系金属）発熱体に比べて融点が高く、しかも、１０００℃超の温度領域では酸化被膜（保護膜）が形成されるので、耐酸化性能が高い。そのため、二珪化モリブデンからなる発熱体は高温領域（１０００〜１８００℃）での熱処理に多用されている。
しかし、二珪化モリブデンからなる発熱体は、低温領域（４００〜６００℃）では低温酸化によりペスト（粉化）現象が発生して発熱体が痩せ細り、最終的には断線にいたってしまうという問題点がある。
【００１７】
図３に示されているように、発熱体１０８は端部８１が直角に屈曲されるとともに、端部８１が断熱体１０７の筒壁を貫通して外部に引き出されることにより、断熱体１０７の内周において吊り下げられた状態になっている。発熱体１０８の端部８１には電線８２の一端部が接続されており、電線８２の他端部にはステンレス鋼によって形成されたヒータ端子８３の一端部が接続されている。ヒータ端子８３の他端部にはパワーケーブル（図示せず）が接続されており、パワーケーブル、ヒータ端子８３および電線８２を経由して端部８１に通電されることにより、発熱体１０８が発熱するようになっている。
電線８２は可撓性を有するアルミニウム製網組線によって形成されている。アルミニウムは耐熱性、耐腐蝕性、良電気電導性を備えるが、融解温度は６００℃程度である。
二珪化モリブデン製の発熱体１０８は極めて脆いため、熱膨張・熱収縮による力によって破損する可能性がある。しかし、電線８２の可撓性により、発熱体１０８の熱膨張・熱収縮による力を吸収することができるので、二珪化モリブデン製の発熱体１０８の破損は防止することができる。
【００１８】
図３に示されているように、断熱体１０７の外周面にはカバー８４が発熱体１０８の端部８１と電線８２とヒータ端子８３を囲繞するように形成されている。カバー８４の下端部にはカバー８４内にガスを供給するためのノズル８５が接続されており、ノズル８５にはガス供給ライン８６が接続されている。ガス供給ライン８６は不活性ガス供給装置８７およびエア供給装置８８に接続されており、不活性ガス供給装置８７およびエア供給装置８８は主制御部１３７によって制御されるようになっている。
図３に示されているように、断熱体１０７の筒壁には、炉内空間１２４内の温度を検出する熱電対８９が挿入されており、熱電対８９は主制御部１３７に検出結果を送信するようになっている。
カバー８４の上端部にはカバー８４内を排気する排気口９０が開設されている。
【００１９】
反応管１０４内で処理されるウエハ１０５の処理状態は主制御部１３７によって制御される。主制御部１３７は、炉内の温度を制御する温度制御部１３８、処理ガスの流量、冷却ガスの流量を制御するガス流量制御部１３９、反応管１０４内の圧力を制御する圧力制御部１４０、ボートエレベータ等の機構部を制御する駆動制御部１４１を備えている。
発熱部１０９は加熱装置１０２の軸心方向に所要のゾーンに分割されており、各ゾーン毎にヒータ温度検出器１３５が設けられている。反応管１０４の内面に沿って炉内温度検出器１３６が立設され、炉内温度検出器１３６で検出された炉内検出温度、ヒータ温度検出器１３５が検出したヒータ検出温度は、温度制御部１３８に入力される。検出された各ゾーンの温度、炉内検出温度に基づき均熱加熱を行うためのゾーン制御が行われる。
【００２０】
炉内空間１２４の所要箇所には、少なくとも一つの酸素濃度検出器１４３が設けられている。酸素濃度検出器１４３が検出した酸素濃度はガス流量制御部１３９に入力されるようになっている。
エアバルブ１２９、１２８、１３２の開閉がガス流量制御部１３９により制御される。ガス流量制御部１３９は流量制御器１２５によりガス導入量を制御し、圧力制御部１４０は圧力制御器１２６を介して排気圧力を制御し、反応管１０４内の圧力を制御する。さらに、エアバルブ１２８、１３２の開閉、流量制御弁１２７、流量制御弁１３１を制御することで、炉内空間１２４に供給するガスを不活性ガスとするか、または、酸素を含むガスとするかの制御を行うとともに、酸素濃度検出器１４３からの検出結果に基づき酸素濃度を所定値に維持する制御も行うようになっている。
【００２１】
次に、本実施形態に係る処理炉の作用を説明する。
【００２２】
所定枚数のウエハ１０５が移載されたボート１０６は、ボートエレベータ８により処理室１７内に搬入される。ボート１０６が処理室１７に搬入されると、処理室１７はシールキャップによって気密封止される。
反応炉１１は加熱装置１０２によって加熱され、処理室１７が排気ライン１２１によって減圧され、処理ガスが処理室１７に処理ガス導入管１１９によって導入される。これにより、処理室１７内のウエハ１０５に熱処理が施される。
【００２３】
この際、不活性ガス（本実施形態では窒素ガス）が断熱体１０７の外周面のカバー８４内に、不活性ガス供給装置８７からガス供給ライン８６およびノズル８５を経由して供給されるとともに、排気口９０から排気される。発熱体１０８の端部８１と電線８２とヒータ端子８３は、カバー８４に吹き込まれた不活性ガスによって冷却される。したがって、電線８２を形成するアルミニウム製網組線（融解温度が６００℃）の融解を防止することができる。また、カバー８４内が不活性ガスに置換されるので、発熱体１０８の端部８１と電線８２とヒータ端子８３の酸化を防止することができる。
なお、熱電対８９が予め設定された温度以上にならない場合には、不活性ガス供給装置８７は不活性ガスをカバー８４内に供給しない。この設定温度としては、例えば、ペスト現象発生温度領域である４００℃に対して、安全上の余裕（マージン）を考慮して、３５０℃、とする。
【００２４】
熱処理が完了すると、処理ガスの供給が停止され、処理室１７内が不活性ガスに置換される。また、冷却ガス供給ライン１１７から冷却ガス（例えば、冷却空気）が供給されながら、排気導路１１３から排気され、加熱装置１０２、反応管１０４は所謂スタンバイ温度（後述する）に降下されて維持される。
その後、ボート１０６がボートエレベータ８によって降下され、処理済のウエハ１０５が処理室１７外へ搬出される。反応管１０４の下端炉口が炉口シャッタ１６により閉じられ、ウエハ移載機１３によりウエハ１０５が払出される。
以降、前述した作業が繰り返される。
【００２５】
ここで、スタンバイ温度とは熱処理ステップ間の待機温度である。例えば、熱処理温度が１０００℃であっても、処理済のウエハを処理室から搬出する際には、筐体内のボートエレベータやボート交換装置やウエハ移載機等の耐熱性の問題点から、ウエハおよびボートの温度を筐体内のボートエレベータやボート交換装置やウエハ移載機等を保護可能な温度に下げる必要がある。
スタンバイ温度と熱処理温度との温度差が大きいと、昇降温に時間およびエネルギを浪費するため、スタンバイ温度は、筐体内のボートエレベータやボート交換装置やウエハ移載機等の耐熱性を確保可能な範囲内で、可及的に高い方が望ましい。
【００２６】
本実施形態においては、発熱体１０８が二珪化モリブデンの低温酸化温度領域に曝されないように、スタンバイ温度を、筐体内のボートエレベータやボート交換装置やウエハ移載機等の耐熱性を確保可能な上限温度である、７００℃以上、に設定する。
本実施形態においては、二珪化モリブデン製の発熱体１０８は７００℃未満の温度領域に曝されることがないので、低温酸化することはない。すなわち、本実施形態においては、二珪化モリブデン製の発熱体１０８における低温酸化によるペスト（粉化）現象の発生を防止することができるので、発熱体１０８が痩せ細りによって最終的に断線しまうという障害の発生を未然に防止することができる。
【００２７】
このスタンバイ温度のステップにおいても、カバー８４内には不活性ガスが不活性ガス供給装置８７からガス供給ライン８６およびノズル８５を経由して供給されるとともに、排気口９０から排気される。これにより、電線８２を形成するアルミニウム製網組線（融解温度が６００℃）の融解を防止することができるとともに、発熱体１０８の端部８１と電線８２とヒータ端子８３の酸化を防止することができる。
すなわち、断熱体１０７内の温度が７００℃であれば、断熱体１０７内の発熱体１０８の表面にはペスト現象が発生しない。しかし、発熱体１０８の端部８１は断熱体１０７の外部に引き出されていることにより、断熱体１０７内に位置する発熱体１０８よりも温度が輻射によって下がるので、発熱体１０８の端部８１にはペスト現象が発生する可能性が高い。そのため、カバー８４内に不活性ガスを供給することにより、発熱体１０８の端部８１にペスト現象が発生するのを防止する。
【００２８】
なお、ヒータ温度検出器１３５によって７００℃未満（すなわち、ペスト現象発生温度未満）が検出された場合には、不活性ガスが炉内空間１２４に不活性ガス供給ライン１２２から供給される。これにより、発熱体１０８が酸素と接触するのを防止することができるので、万一、二珪化モリブデン製の発熱体１０８が７００℃未満の温度領域に曝された場合であっても、二珪化モリブデン製の発熱体１０８における低温酸化によるペスト（粉化）現象を発生を防止することができ、発熱体１０８が痩せ細りによって最終的に断線しまうという障害の発生を未然に防止することができる。
他方、不活性ガスを炉内空間１２４に常時供給しなくても済むため、不活性ガスの消費量を低減することができる。
【００２９】
ところで、二珪化モリブデン製の発熱体１０８の表面には高温の熱処理によって酸化被膜を形成することができる。しかし、熱処理時の高温領域（例えば、１０００〜１８００℃）と、スタンバイ温度時の低温領域（例えば、７００℃）とが繰り返されることにより、二珪化モリブデン製の発熱体１０８の表面に形成された酸化被膜にはクラックが発生する。その結果、発熱体１０８の寿命が低下してしまう。
【００３０】
そこで、本実施形態においては、二珪化モリブデン製の発熱体１０８に発生するクラック部分に酸化被膜を形成するものとした。
反応管１０４の下端炉口が炉口シャッタ１６によって閉じた後に、エアバルブ１３２を開き、酸素ガスを不活性ガス供給ライン１２２から供給される不活性ガスに混合し、炉内空間１２４に供給する。炉内空間１２４の酸素濃度は、酸素ガスと不活性ガスの流量を酸素濃度検出器１４３の検出結果に基づいて流量制御弁１２７および流量制御弁１３１を制御して調整する。炉内空間１２４の酸素濃度は、少なくとも２０％となるように調整する。なお、酸素濃度は、３０％または４０％または４０％以上の高濃度としてもよい。
酸素濃度を調整するのと並行して、発熱体１０８に電力が供給されて、発熱体１０８が昇温される。昇温温度は、１０００℃〜１６００℃の高温とされる。酸素雰囲気で、発熱体１０８が加熱されることで、発熱体１０８の表面に酸化膜が形成される。酸化膜は不活性ガス雰囲気で発熱し、表面の酸化膜の劣化を補修する。
これにより、二珪化モリブデン製の発熱体１０８に発生するクラック部分に酸化被膜を形成することができるので、二珪化モリブデン製の発熱体１０８を寿命を延ばすことができる。
【００３１】
ちなみに、酸化被膜の生成は、加熱温度と時間に律束し、加熱温度が高温程短時間で被膜が膜形成され、また、酸素濃度が高濃度程早く被膜が形成される。
例えば、発熱体１０８が二珪化モリブデンの場合には、１２００℃で３時間加熱され、１４００℃で２時間加熱され、１６００℃で１時間加熱されると、発熱体１０８の表面には、三酸化モリブデン（ＭｏＯ3 ）被膜が形成される。
発熱体がカンタルＡｌの場合には、１０００℃で１０時間加熱され、１２００℃で５時間加熱されると、発熱体１０８の表面には、三酸化アルミニウム（Ａｌ2 Ｏ3 ）被膜が形成される。
【００３２】
本実施形態によれば、次の効果が得られる。
【００３３】
（１）不活性ガスを断熱体外周面のカバー内に供給することにより、断熱体内の発熱体部分よりも温度が下がる発熱体端部のペスト現象の発生を防止することができるので、発熱体端部ひいては発熱体全体の寿命の低下を防止することができる。
【００３４】
（２）不活性ガスを断熱体外周面のカバー内に供給することにより、電線を形成するアルミニウム製網組線の融解を防止することができるとともに、電線とヒータ端子の酸化を防止することができる。
【００３５】
（３）カバー内が設定温度（例えば、３５０℃）に達しない場合には不活性ガスをカバー内に供給しないように設定することにより、不活性ガスの消費量を低減することができるので、コストを低減することができる。
【００３６】
（４）電線を可撓性を有するアルミニウム製網組線によって形成することにより、発熱体の熱膨張・熱収縮による力を吸収することができるので、脆い二珪化モリブデン製の発熱体の破損を防止することができる。
【００３７】
（５）スタンバイ温度を７００℃以上に設定することにより、二珪化モリブデン製の発熱体における低温酸化によるペスト（粉化）現象を発生を防止することができるとともに、不活性ガスを炉内空間に常時供給しなくても済むため、不活性ガスの消費量を低減することができる。
【００３８】
（６）二珪化モリブデン製の発熱体に発生するクラック部分に酸化被膜を形成することにより、二珪化モリブデン製の発熱体を寿命を延ばすことができる。
【００３９】
（７）二珪化モリブデン製の発熱体を寿命を延ばすことにより、加熱装置の故障を減少させることができるので、基板処理装置のスループットを高めることができる。
【００４０】
なお、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々に変更が可能であることはいうまでもない。
【００４１】
例えば、発熱体に酸化被膜を形成するステップは、熱処理ステップと熱処理ステップとの間において逐次繰り返すように設定するに限らず、酸化被膜のクラックの発生状態や酸化被膜の劣化状態に応じて、複数回の熱処理ステップに対して１回の酸化被膜形成ステップを組込んでもよい。
【符号の説明】
【００４２】
１１…反応炉、１７…処理室、
８１…発熱体の端部、８２…電線、８３…ヒータ端子、８４…カバー、８５…ノズル、８６…ガス供給ライン、８７…不活性ガス供給装置、８８…エア供給装置、８９…熱電対、９０…排気口、
１０２…加熱装置、１０４…反応管、１０５…ウエハ、１０６…ボート、１０７…断熱体、１０８…金属発熱体、１０９…発熱部、１１０…円筒空間、１１１…ヒータケース、１１２…天井部、１１３…排気導路、１１４…ガス吹出し孔、１１６…冷却ガス導入ダクト、１１７…冷却ガス導入ライン、１１９…処理ガス導入管、１２１…排気ライン、１２２…不活性ガス供給ライン、１２４…炉内空間、１２５…流量制御器、１２６…圧力制御器、１２７…流量制御弁、１２８…エアバルブ、１２９…エアバルブ、１３０…酸素ガス混合ライン、１３１…流量制御弁、１３２…エアバルブ、１３５…ヒータ温度検出器、１３６…炉内温度検出器、１３７…主制御部、１３８…温度制御部、１３９…ガス流量制御部、１４０…圧力制御部、１４１…駆動制御部、１４３…酸素濃度検出器。
【図１】
2012114327.tif 000003
【図２】
2012114327.tif 000004
【図３】
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