(57)【要約】【課題】白色の基板であって、高い光反射性と可撓性とを有し、更に耐熱性及び寸法安定性に優れた白色基板、並びに該白色基板を用いた表示装置を提供する。【解決手段】本発明に係る白色基板は、白色の基板であって、透明樹脂の硬化物と、ガラス繊維と、光散乱性フィラーとを含有する。本発明に係る白色基板の波長５５０ｎｍにおける光反射率は７０％以上である。本発明に係る表示装置は、表示素子と、上記白色基板とを備える。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
白色の基板であって、
透明樹脂の硬化物と、ガラス繊維と、光散乱性フィラーとを含有し、
波長５５０ｎｍにおける光反射率が７０％以上である、白色基板。
【請求項２】
前記ガラス繊維が、織布又は不織布である、請求項１に記載の白色基板。
【請求項３】
前記透明樹脂の硬化物と前記ガラス繊維との屈折率差が０．０２以上であり、かつ前記透明樹脂の硬化物と前記光散乱性フィラーとの屈折率差が０．２以上である、請求項１又は２のいずれか１項に記載の白色基板。
【請求項４】
前記光散乱性フィラーが、平均粒径が０．１μｍ以上、２０μｍ以下である酸化チタンである、請求項１〜３のいずれか１項に記載の白色基板。
【請求項５】
前記光散乱性フィラーが、平均粒径が０．１μｍ以上、２０μｍ以下である酸化亜鉛である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の白色基板。
【請求項６】
前記光散乱性フィラーが、平均粒径が０．１μｍ以上、２０μｍ以下であり、かつ中空度が１０％以上、９０％以下である中空粒子である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の白色基板。
【請求項７】
前記ガラス繊維がＴガラスである、請求項１〜６のいずれか１項に記載の白色基板。
【請求項８】
前記透明樹脂が、前記透明樹脂１００重量％中、（メタ）アクリル樹脂又はエポキシ樹脂を５０重量％以上含む、請求項１〜７のいずれか１項に記載の白色基板。
【請求項９】
前記透明樹脂が、下記式（１）で表されるチオール基含有シラン化合物の加水分解縮合物を含む、請求項１〜８のいずれか１項に記載の白色基板。
Ｒ１Ｓｉ（ＯＲ２）３  ・・・式（１）
前記式（１）中、Ｒ１は、チオール基を有しかつ芳香環を有さない炭素数１〜８の有機基、又はチオール基を有しかつ芳香環を有する有機基を表し、Ｒ２は、水素原子、芳香環を有さない炭素数１〜８の有機基、又は芳香環を有する有機基を表す。
【請求項１０】
前記透明樹脂が、エポキシ基を有する化合物及びイソシアネート基を有する化合物の内の少なくとも一種をさらに含む、請求項９に記載の白色基板。
【請求項１１】
前記透明樹脂が、炭素−炭素二重結合を有する化合物をさらに含む、請求項９又は１０に記載の白色基板。
【請求項１２】
３０〜２００℃における平均線膨張係数が２０ｐｐｍ／℃以下である、請求項１〜１１に記載の白色基板。
【請求項１３】
反射型表示装置用白色基板である、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の白色基板。
【請求項１４】
表示素子と、
請求項１〜１３のいずれか１項に記載の白色基板とを備える、表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明樹脂の硬化物とガラス繊維とフィラーとを含有する白色基板に関し、より詳細には、可撓性を有し、耐熱性及び寸法安定性に優れた白色基板、並びに該白色基板を用いた表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
反射型表示装置としては、反射型液晶表示装置、電気泳動型表示装置及び電気濡れ効果型表示装置等がある。これらの反射型表示装置は、外光の反射を利用して表示を行うことから、バックライト光源が不要であり、省電力の表示装置として知られている。上記反射型表示装置は、携帯機器及び電子棚札などの様々な用途に用いられている。また、近年、携帯機器などの軽量化を目的として、従来のガラス基材にかえて、可撓性を有するシート基材を用いることで、薄型でありかつ耐久性が高い表示装置が作製されている。
【０００３】
上記可撓性を有するシート基材としては、主に、透明なプラスチックフィルムが用いられている。なお、表示装置の高精細化及びカラー化に対応するために、必ずしも透明性が必要とされない背面基板として、耐熱性と寸法安定性とを考慮して薄い金属板が用いられる場合もある。
【０００４】
一方、外光を反射する基板を得るために、背面基板上にアルミニウム等の金属の薄膜を反射層として形成する方法、並びに背面の金属基板を反射材として利用する方法がある。また、下記の特許文献１には、樹脂を含浸させて硬化させた繊維布を含む積層板と、白色顔料及び樹脂を含みかつ該積層板上に形成された反射層と、シリカを含みかつ該反射層上に形成されたバリア層と、該バリア層上に形成された導電層とを備える反射型導電性基板が開示されている。
【０００５】
特許文献２では、繊維布を含有する基材層と、表面を平滑化する平滑性改良層とを備える反射型液晶表示素子用プラスチック基板が開示されている。上記基材層の具体例としては、シアネート樹脂と、繊維布と、無機充填材とを含む樹脂組成物を含浸及び乾燥させたプリプレグを加熱成形した基材層が記載されている。また、上記無機充填材の具体例としては、平均粒径が２μｍ以下である球状溶融シリカが挙げられている。
【０００６】
一方で、下記の特許文献３では、透明樹脂とガラス繊維と微粒子とを含む直下型バックライト用拡散板が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平１１−２８１２号公報
【特許文献２】特開２００３−５０３８４号公報
【特許文献３】特開２００６−４０８６４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
反射材として金属を用いた場合、反射光は金属光沢を帯びる。表示の見やすさ及び表示色の色再現性からは、反射光は、白色に近く、いわゆる「ペーパーホワイト」であることが望まれる。
【０００９】
特許文献１では、樹脂の硬化物と繊維布とを含む積層板の表面上に、該積層板とは別に白色顔料を含む反射層を形成している。このため、積層板の形成工程と反射層の形成工程とを別々に行わなければならず、製造効率が低い。さらに、このように、積層板の表面上に白色顔料を含む反射層を積層した場合には、白色性が不十分になりやすい。
【００１０】
特許文献２に記載の基材層は、シアネート樹脂の硬化物と、繊維布と、無機充填材とを含む。しかしながら、特許文献２に記載のプラスチック基板でも、光が十分に散乱せずに、白色性が不十分になったり、光を十分に反射しなかったりすることがある。
【００１１】
特許文献３に記載の拡散板は、光をある程度透過させることを目的としている。特許文献３では、上記拡散板の光線透過率は好ましくは８０％以上であることが記載されている。このため、特許文献３に記載の拡散板の光反射率はさほど高くない。特許文献３に記載の拡散板は、反射型液晶表示装置に用いられるプラスチックフィルムではない。
【００１２】
また、白色で反射率の高い発泡プラスチックシートを背面基材として用いることも考えられるが、発泡プラスチックシートの耐熱性及び寸法安定性は不十分である。
【００１３】
本発明の目的は、白色の基板であって、高い光反射性と可撓性とを有し、更に耐熱性及び寸法安定性に優れた白色基板、並びに該白色基板を用いた表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明の広い局面によれば、白色の基板であって、透明樹脂の硬化物と、ガラス繊維と、光散乱性フィラーとを含有し、波長５５０ｎｍにおける光反射率が７０％以上である、白色基板が提供される。
【００１５】
本発明に係る白色基板のある特定の局面では、上記ガラス繊維は、織布又は不織布である。
【００１６】
本発明に係る白色基板の他の特定の局面では、上記透明樹脂の硬化物と上記ガラス繊維との屈折率差が０．０２以上であり、かつ上記透明樹脂の硬化物と上記光散乱性フィラーとの屈折率差が０．２以上である。
【００１７】
本発明に係る白色基板のさらに他の特定の局面では、上記光散乱性フィラーが、平均粒径が０．１μｍ以上、２０μｍ以下である酸化チタンである。
【００１８】
本発明に係る白色基板のさらに他の特定の局面では、上記光散乱性フィラーは、平均粒径が０．１μｍ以上、２０μｍ以下である酸化亜鉛である。
【００１９】
本発明に係る白色基板の別の特定の局面では、上記光散乱性フィラーは、平均粒径が０．１μｍ以上、２０μｍ以下であり、かつ中空度が１０％以上、９０％以下である中空粒子である。
【００２０】
本発明に係る白色基板のさらに別の特定の局面では、上記ガラス繊維はＴガラスである。
【００２１】
上記透明樹脂は、該透明樹脂１００重量％中、（メタ）アクリル樹脂又はエポキシ樹脂を５０重量％以上含むことが好ましい。
【００２２】
上記透明樹脂は、下記式（１）で表されるチオール基含有シラン化合物の加水分解縮合物を含むことが好ましい。この場合に、上記透明樹脂は、エポキシ基を有する化合物及びイソシアネート基を有する化合物の内の少なくとも一種を更に含むことが好ましい。さらに、上記透明樹脂は、炭素−炭素二重結合を有する化合物をさらに含むことが好ましい。
【００２３】
Ｒ１Ｓｉ（ＯＲ２）３  ・・・式（１）
上記式（１）中、Ｒ１は、チオール基を有しかつ芳香環を有さない炭素数１〜８の有機基、又はチオール基を有しかつ芳香環を有する有機基を表し、Ｒ２は、水素原子、芳香環を有さない炭素数１〜８の有機基、又は芳香環を有する有機基を表す。
【００２４】
本発明に係る白色基板の３０〜２００℃における平均線膨張係数は、２０ｐｐｍ／℃以下であることが好ましい。本発明に係る白色基板は、反射型表示装置用白色基板であることが好ましい。
【００２５】
本発明に係る表示装置は、表示素子と、本発明に従って構成された白色基板とを備える。
【発明の効果】
【００２６】
本発明に係る白色基板は、透明樹脂の硬化物とガラス繊維と光散乱性フィラーとを含有し、波長５５０ｎｍにおける光反射率が７０％以上であるので、白色であり、高い光反射性と可撓性とを有し、かつ耐熱性及び寸法安定性に優れている。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
以下、本発明を詳細に説明する。
【００２８】
本発明に係る白色基板は、白色の基板である。本発明に係る白色基板は、透明樹脂（ａ）の硬化物と、ガラス繊維（ｂ）と、光散乱性フィラー（ｃ）とを含有する。本発明に係る白色基板の波長５５０ｎｍにおける光反射率は７０％以上である。
【００２９】
本発明に係る白色基板は、白色であり、高い光反射性と可撓性とを有する。さらに、本発明に係る白色基板は、耐熱性及び寸法安定性にも優れている。本発明に係る白色基板の使用により、視認性及び色再現性に優れた反射型表示装置を提供することができる。
【００３０】
本発明に係る白色基板は、例えば、光散乱性フィラー（ｃ）を透明樹脂（ａ）中に分散させて分散液を得た後、該分散液をガラス繊維（ｂ）に含浸させ、必要に応じて乾燥した後、加熱及び活性光線の照射の内の少なくとも一方により透明樹脂（ａ）を硬化することにより得られる。
【００３１】
本発明に係る白色基板中には、ガラス繊維（ｂ）及び光散乱性フィラー（ｃ）が存在する。ガラス繊維（ｂ）及び光散乱性フィラー（ｃ）により、白色基板に入射した光は、散乱し、かつ反射される。
【００３２】
本透明に係る白色基板は、ガラス繊維（ｂ）を含有することから、寸法安定性に優れている。さらに、本発明に係る白色基板は、ガラス繊維（ｂ）及び光散乱性フィラー（ｃ）による光散乱により、反射光の白色性及び光反射率に優れている。
【００３３】
従って、本発明に係る白色基板は、反射型表示装置用白色基板として好適に用いられる。本発明に係る白色基板は、反射型液晶表示装置用白色基板、電気泳動型表示装置用白色基板、又は電気濡れ効果型表示装置用白色基板として好適に用いられる。本発明に係る白色基板は、反射型表示装置用白色基板であることが好ましい。本発明に係る白色基板は、反射型液晶表示装置用白色基板、電気泳動型表示装置用白色基板、又は電気濡れ効果型表示装置用白色基板であることが好ましい。
【００３４】
以下、本発明に係る白色基板に含まれる各成分の詳細を説明する。本発明に係る白色基板を形成するための白色基板形成用材料は、透明樹脂（ａ）と、ガラス繊維（ｂ）と、光散乱性フィラー（ｃ）とを含有する。
【００３５】
（透明樹脂（ａ））
本発明に係る白色基板に含まれている透明樹脂（ａ）の硬化物は、透明樹脂（ａ）を硬化させることにより得られる。透明樹脂（ａ）は、透明な樹脂であれば特に限定されない。透明樹脂（ａ）は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【００３６】
上記透明樹脂（ａ）としては、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリ（メタ）アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、（メタ）アクリル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ビニルエステル樹脂、ポリイミド樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂及びシルセスキオキサン樹脂等が挙げられる。
【００３７】
透明樹脂（ａ）は、硬化前に室温（２５℃）で液状の硬化性樹脂であることが好ましい。透明樹脂（ａ）は、（メタ）アクリル樹脂、エポキシ樹脂及びシルセスキオキサン樹脂からなる群から選択された少なくとも一種であることが好ましい。
【００３８】
白色基板の耐熱性をより一層良好にする観点からは、透明樹脂（ａ）は、該透明樹脂（ａ）１００重量％中、（メタ）アクリル樹脂又はエポキシ樹脂を５０重量％以上含むことが好ましく、７０重量％以上含むことがより好ましく、８０重量％以上含むことが更に好ましく、９０重量％以上含むことが特に好ましい。透明樹脂（ａ）の全量が（メタ）アクリル樹脂又はエポキシ樹脂であってもよい。
【００３９】
硬化前に室温で液状の硬化性樹脂である上記（メタ）アクリル樹脂としては、（メタ）アクリルオリゴマーが挙げられる。上記（メタ）アクリル樹脂は、加熱及び活性光線の照射により架橋して、硬化する。上記（メタ）アクリル樹脂の硬化物自体の透明性は高い。上記（メタ）アクリル樹脂は、２つ以上の（メタ）アクリロイル基を有することが好ましい。
【００４０】
上記２つ以上の（メタ）アクリロイル基を有する樹脂としては特に限定されず、例えば、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、３−メチル−１，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ノルボルナンジメチロールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリテトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート及びビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート等の２官能モノマーや、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及びイソシアヌル酸トリス（２−アクリロイルオキシエチル）等の３官能モノマーや、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート及びジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の４官能以上のモノマー等が挙げられる。また、多官能のエポキシ（メタ）アクリレート化合物又はウレタン（メタ）アクリレート化合物等も好適に用いることができる。更に、これらの多官能（メタ）アクリレートを変性した変性物も用いることができる。これらの（メタ）アクリレート化合物は１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【００４１】
上記２つ以上の（メタ）アクリロイル基を有する樹脂は、脂環構造を有する（メタ）アクリレート化合物、又はトリアジン環構造を有する（メタ）アクリレート化合物であることがより好ましい。上記脂環構造を有する（メタ）アクリレート化合物は、ノルボルナンジメチロールジ（メタ）アクリレート又はジシクロペンタジエンジメタノールジ（メタ）アクリレートであることが好ましい。上記トリアジン環構造を有する（メタ）アクリレート化合物は、イソシアヌル酸トリス（２−アクリロイルオキシエチル）又はε−カプロラクトン変性イソシアヌル酸トリス（２−アクリロイルオキシエチル）であることがより好ましい。
【００４２】
上記（メタ）アクリル樹脂は、脂環式（メタ）アクリレート又はトリアジン環構造を有する（メタ）アクリレートであることがより好ましい。上記脂環式（メタ）アクリレート樹脂は、ノルボルナンジメチロールジアクリレート及びジシクロペンタジエニルジアクリレートの内の少なくとも一種であることが好ましい。上記トリアジン環構造を有する（メタ）アクリレートは、イソシアヌル酸トリス（２−アクリロイルオキシエチル）又はε−カプロラクトン変性イソシアヌル酸トリス（２−アクリロイルオキシエチル）であることが好ましい。これらの好ましい（メタ）アクリル樹脂の使用により、白色基板の耐熱性をより一層高めることができる。上記（メタ）アクリル樹脂は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【００４３】
上記（メタ）アクリルは、アクリルとメタクリルとを意味する。上記（メタ）アクリレートは、アクリレートとメタクリレートとを意味する。上記（メタ）アクリロイルは、アクリロイルとメタクリロイルとを意味する。
【００４４】
透明樹脂（ａ）を架橋して、硬化させる方法としては、加熱する方法、活性光線を照射する方法、並びに加熱しかつ活性エネルギー線を照射する方法が挙げられる。透明樹脂（ａ）は、加熱及び活性光線の照射の内の少なくとも一方により硬化する樹脂であることが好ましい。
【００４５】
透明樹脂（ａ）が（メタ）アクリル樹脂である場合には、活性光線を照射する方法が好ましく、硬化反応を完結させる観点からは、活性光線の照射の後に、さらに加熱する方法がより好ましい。
【００４６】
上記活性光線は、紫外線であることが好ましい。該紫外線を照射するための光源としては、例えば、メタルハライドランプ及び高圧水銀灯ランプ等が挙げられる。
【００４７】
透明樹脂（ａ）を活性光線の照射により架橋して、硬化させるために、上記白色基板形成用材料は、光重合開始剤を含有することが好ましい。透明樹脂（ａ）が上記（メタ）アクリル樹脂である場合に、光重合開始剤が用いられることが好ましい。該光重合開始剤は、ラジカルを発生する光重合開始剤であることが好ましい。上記光重合開始剤は、透明樹脂（ａ）中に添加されることが好ましい。
【００４８】
上記光重合開始剤は特に限定されない。上記光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ’−テトラエチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、２−ジメチルアミノ−２−（４−メチル−ベンジル）−１−（４−モルフォリン−４−イル−フェニル）−ブタン−１−オン、２，６−ジメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ｔ−ブチルアントラキノン、１−クロロアントラキノン、２，３−ジクロロアントラキノン、３−クロロ−２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、１，４−ナフトキノン、９，１０−フェナントラキノン、１，２−ベンゾアントラキノン、１，４−ジメチルアントラキノン、２−フェニルアントラキノン、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール２量体、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、及び４−（ｐ−メトキシフェニル）−２，６−ジ−（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン等が挙げられる。上記光重合開始剤は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【００４９】
透明樹脂（ａ）１００重量部に対して、上記光重合開始剤の含有量は好ましくは０．０１重量部以上、より好ましくは０．１重量部以上、好ましくは５重量部以下、より好ましくは３重量部以下である。上記光重合開始剤の含有量が上記下限以上であると、白色基板形成用材料を充分に硬化させることができる。上記光重合開始剤の含有量が多いほど、活性光線による重合反応の感度は高くなるが、５重量部を超えると着色等の問題が生じやすくなる傾向がある。また、上記重合開始剤の含有量が０．０１部未満では重合反応が不十分となりやすい。
【００５０】
加熱及び活性光線の照射の内の少なくとも一方により、透明樹脂（ａ）を架橋して、硬化させた後に、さらに高温で熱処理することが好ましい。熱処理により、透明樹脂（ａ）の反応がさらに進行して、白色基板の耐熱性が安定化する。上記熱処理の条件は、窒素雰囲気下又は真空状態で、１５０〜２５０℃、１〜２４時間の条件であることが好ましい。
【００５１】
透明樹脂（ａ）としてエポキシ樹脂を用いてもよい。該エポキシ樹脂は、例えば従来公知のエポキシ樹脂を使用でき特に限定されない。上記エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＦ型又はビスフェノールＳ型などのエポキシ樹脂、フェノールノボラック型又はクレゾールノボラック型などのノボラック型エポキシ樹脂、トリグリシジルイソシアヌレート型又はヒダントイン型などの含窒素環型エポキシ樹脂、脂環式型エポキシ樹脂、脂肪族型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、グリシジルエーテル型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型などのジシクロ型エポキシ樹脂、エステル型エポキシ樹脂、並びにエーテルエステル型エポキシ樹脂等が挙げられる。これらのエポキシ樹脂の変性物を用いてもよい。白色基板の変色を防止する観点からは、上記エポキシ樹脂は、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、トリグリシジルイソシアヌレート型エポキシ樹脂及びジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂からなる群から選択された少なくとも一種であることが好ましい。上記エポキシ樹脂は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【００５２】
透明樹脂（ａ）を硬化させるために、上記白色基板形成用材料は、硬化剤を含有していてもよい。特に透明樹脂（ａ）がエポキシ樹脂である場合に、硬化剤が用いられることが好ましい。上記硬化剤は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。上記白色基板形成用材料は、光重合開始剤及び硬化剤の内の少なくとも一種を含有することが好ましい。
【００５３】
上記硬化剤としては、例えば、有機酸化合物及びアミン化合物等が挙げられる。上記有機酸化合物としては、テトラヒドロフタル酸、メチルテトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸及びメチルヘキサヒドロフタル酸等が挙げられる。上記アミン化合物としては、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、メタフェニレンジアミン、ジアミンジフェニルメタン及びジアミノジフェニルスルホン酸等が挙げられる。これらのアミン化合物のアミンアダクトを用いてもよい。
【００５４】
また、他の硬化剤としては、例えば、アミド化合物、ヒドラジド化合物、イミダゾール化合物、イミダゾリン化合物、フェノール化合物、ユリア化合物及びポリスルフィッド化合物等が挙げられる。
【００５５】
上記アミド化合物としては、ジシアンジアミド及びポリアミド等が挙げられる。上記ヒドラジド化合物としては、ジヒドラジット等が挙げられる。上記イミダゾール化合物としては、メチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、エチルジイミダゾール、イソプロピルイミダゾール、２，４−ジメチルイミダゾール、フェニルイミダゾール、ウンデシルイミダゾール、ヘプタデシルイミダゾール及び２−フェニル−４−メチルイミダゾール等が挙げられる。上記イミダゾリン化合物としては、メチルイミダゾリン、２−エチル−４−メチルイミダゾリン、エチルイミダゾリン、イソプロピルイミダゾリン、２，４−ジメチルイミダゾリン、フェニルイミダゾリン、ウンデシルイミダゾリン、ヘプタデシルイミダゾリン及び２−フェニル−４−メチルイミダゾリン等が挙げられる。
【００５６】
上記硬化剤として、酸無水物化合物も使用できる。該酸無水物化合物の使用により、白色基板の変色をより一層防止できる。上記酸無水物化合物としては、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水ナジック酸、無水グルタル酸、テトラヒドロフタル酸無水物、メチルテトラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルテトラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルナジック酸無水物、ドデセニルコハク酸無水物、ジクロロコハク酸無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物及びクロレンディック酸無水物等が挙げられる。
【００５７】
上記エポキシ樹脂と上記酸無水物化合物とを併用する場合には、エポキシ樹脂と硬化剤との含有量は特に制限されない。エポキシ樹脂のエポキシ基１当量に対して、酸無水物化合物の酸無水物の当量は好ましくは０．５当量以上、より好ましくは０．７当量以上、好ましくは１．５当量以下、より好ましくは１．２当量以下である。上記硬化剤の当量が上記下限以上であると、白色基板の着色を充分に抑制できる。上記硬化剤の当量が上記上限以下であると、白色基板の耐湿性が良好になる。
【００５８】
上記白色基板形成用材料は、硬化促進剤を含有していてもよい。該硬化促進剤は特に限定されない。上記硬化促進剤としては、例えば、第三級アミン、イミダゾール化合物、第四級アンモニウム塩、第四級ホスホニウム塩、有機金属塩、リン化合物及び尿素化合物等が挙げられる。上記硬化促進剤は、第三級アミン、イミダゾール化合物及び第四級ホスホニウム塩からなる群から選択された少なくとも一種であることが好ましい。上記硬化促進剤は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【００５９】
上記硬化促進剤の含有量は特に制限されない。透明樹脂（ａ）１００重量部に対して、上記硬化促進剤の含有量は好ましくは０．０５重量部以上、より好ましくは０．２重量部以上、好ましくは７．０重量部以下、より好ましくは３．０重量部以下である。上記硬化促進剤の含有量が上記下限以上であると、白色基板形成用材料を充分に硬化させることができる。上記硬化促進剤の含有量が上記上限以下であると、白色基板の着色をより一層抑制できる。
【００６０】
透明樹脂（ａ）は、下記式（１）で表されるチオール基含有シラン化合物の加水分解縮合物（以下、加水分解縮合物（ａ１）ともいう）を含むことが好ましい。加水分解縮合物（ａ１）は、シルセスキオキサン樹脂である。加水分解縮合物（ａ１）の使用により、白色基板の可撓性を高めることができる。
【００６１】
Ｒ１Ｓｉ（ＯＲ２）３  ・・・式（１）
上記式（１）中、Ｒ１は、チオール基を有しかつ芳香環を有さない炭素数１〜８の有機基、又はチオール基を有しかつ芳香環を有する有機基を表し、Ｒ２は、水素原子、芳香環を有さない炭素数１〜８の有機基、又は芳香環を有する有機基を表す。
【００６２】
上記Ｒ１としては、具体的には、チオール基を有する炭素数１〜８の脂肪族炭化水素基、チオール基を有する炭素数１〜８の脂環式炭化水素基、及びチオール基を有する芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記Ｒ２としては、具体的には、水素原子、炭素数１〜８の脂肪族炭化水素基、炭素数１〜８の脂環式炭化水素基、及び芳香族炭化水素基等が挙げられる。チオール基を有する場合の「炭化水素基」は、炭素原子と水素原子とだけでなく、チオール基に由来する硫黄原子も含む基である。複数の上記Ｒ２は同一であってもよく、異なっていてもよい。
【００６３】
上記式（１）で表されるチオール基含有シラン化合物を含有する成分（以下、成分（ａ１１）ともいう）を加水分解及び縮合させることにより、加水分解縮合物（ａ１）を得ることができる。すなわち、加水分解反応及び縮合反応により、加水分解縮合物（ａ１）を得ることができる。
【００６４】
上記式（１）で表されるチオール基含有シラン化合物としては、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリプロポキシシラン、３−メルカプトプロピルトリブトキシシラン、１，４−ジメルカプト−２−（トリメトキシシリル）ブタン、１，４−ジメルカプト−２−（トリエトキシシリル）ブタン、１，４−ジメルカプト−２−（トリプロポキシシリル）ブタン、１，４−ジメルカプト−２−（トリブトキシシリル）ブタン、２−メルカプトメチル−３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、２−メルカプトメチル−３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、２−メルカプトメチル−３−メルカプトプロピルトリプロポキシシラン、２−メルカプトメチル−３−メルカプトプロピルトリブトキシシラン、１，２−ジメルカプトエチルトリメトキシシラン、１，２−ジメルカプトエチルトリエトキシシラン、１，２−ジメルカプトエチルトリプロポキシシラン、及び１，２−ジメルカプトエチルトリブトキシシラン等が挙げられる。なかでも、加水分解反応の反応性が高く、かつ入手が容易であるため、３−メルカプトプロピルトリメトキシシランが好ましい。上記式（１）で表されるチオール基含有シラン化合物は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【００６５】
加水分解縮合物（ａ１）を得る際に、上記式（１）で表されるチオール基含有シラン化合物は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。さらに、加水分解縮合物（ａ１）を得る際に、上記チオール基含有シラン化合物以外の架橋性化合物を用いてもよい。加水分解縮合物（ａ１）には、上記チオール基含有シラン化合物のみを用いたものだけでなく、上記チオール基含有シラン化合物と、該チオール基含有シラン化合物以外の架橋性化合物を用いたものも含まれる。上記成分（ａ１１）には、上記式（１）で表されるチオール基含有シラン化合物と、必要に応じて用いられる上記架橋性化合物とが含まれる。
【００６６】
上記架橋性化合物としては、トリアルキルアルコキシシラン、ジアルキルジアルコキシシラン、アルキルトリアルコキシシラン、テトラアルコキシシラン、テトラアルコキシチタン及びテトラアルコキシジルコニウム等が挙げられる。なかでも、トリアルキルアルコキシシラン、ジアルキルジアルコキシシラン又はテトラアルコキシシランが好ましい。これらの好ましい架橋性化合物の使用により、加水分解縮合物（ａ１）の架橋密度を容易に調整できる。上記アルキルトリアルコキシシランの使用により、加水分解縮合物（ａ１）に含まれるチオール基の数を容易に調整できる。テトラアルコキシチタン又はテトラアルコキシジルコニウムの使用により、加水分解縮合物（ａ１）の硬化物の屈折率が高くなる。上記架橋性化合物は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【００６７】
上記トリアルコキシシランとしては、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリエチルメトキシシラン、トリエチルエトキシシラン、トリフェニルメトキシシラン及びトリフェニルエトキシシラン等が挙げられる。上記ジアルキルジアルコキシシランとしては、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、メチルフェニルジエトキシシラン及び３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン等が挙げられる。上記アルキルトリアルコキシシランとしては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン及びフェニルトリエトキシシラン等が挙げられる。上記テトラアルコキシシランとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン及びテトラブトキシシラン等が挙げられる。上記テトラアルコキシチタンとしては、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラプロポキシチタン及びテトラブトキシチタン等が挙げられる。上記テトラアルコキシジルコニウムとしては、テトラエトキシジルコニウム、テトラプロポキシジルコニウム及びテトラブトキシジルコニウム等が挙げられる。これら以外の金属アルコキシドを用いてもよい。
【００６８】
加水分解縮合物（ａ１）を得る際の加水分解反応に用いる触媒は、従来公知の触媒を用いることができ特に限定されない。触媒活性が高く、更に縮合反応の触媒としても機能するので、上記触媒はギ酸であることが好ましい。
【００６９】
成分（ａ１１）１００重量部に対して、上記触媒の含有量は好ましくは０．１重量部以上、より好ましくは１重量部以上、好ましくは２５重量部以下、より好ましくは１０重量部以下である。上記触媒の含有量が上記下限以上であると、上記加水分解反応が十分に進行し、反応時間が短くなる。上記触媒の含有量が上記上限以下であると、透明樹脂（ａ）の保存安定性が高くなる傾向がある。さらに、後工程で触媒を容易に除去できる。
【００７０】
上記加水分解反応の反応温度及び反応時間は、上記シラン化合物の反応性に応じて任意に設定できる。上記反応温度は、通常０〜１００℃、好ましくは２０〜６０℃である。上記反応時間は、１分〜２時間程度である。
【００７１】
上記加水分解反応の際に、溶剤を用いてもよく、溶剤を用いなくてもよい。該溶剤の種類は特に限定されない。溶剤は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。上記加水分解反応の際に用いられる上記溶剤は、縮合反応に用いられる溶剤と同じであることが好ましい。上記シラン化合物の反応性が低い場合は、上記加水分解反応の際に、溶剤を用いないことが好ましい。
【００７２】
［加水分解反応により生じた水酸基のモル数］／［成分（ａ１１）に含まれるアルコキシ基の合計モル数］（以下、モル比Ａともいう）が０．５以上であるように、上記加水分解反応を進行させることが好ましい。上記モル比Ａは０．８以上であることがより好ましい。上記縮合反応は、加水分解により生じた水酸基間だけでなく、該水酸基と残存アルコキシ基との間でも進行する。このため、上記モル比Ａは０．５以上であることが好ましい。
【００７３】
上記縮合反応では、加水分解により生じた水酸基間で水が生成し、更に水酸基とアルコキシ基間でアルコールが生成する。この縮合反応により、加水分解縮合物（ａ１）はガラス化する。
【００７４】
上記縮合反応では、従来公知の縮合触媒を用いることができる。上記ギ酸は、触媒活性が高く、加水分解反応の触媒としてだけでなく、縮合反応の触媒としても作用する。従って、上記縮合触媒は、ギ酸であることが好ましい。上記縮合反応での反応温度及び反応時間はそれぞれ、成分（ａ１１）の反応性に応じて任意に設定できる。上記反応温度は、通常４０〜１５０℃程度、好ましくは６０〜１００℃である。上記反応時間は、３０分〜１２時間程度である。
【００７５】
［未反応の水酸基と未反応のアルコキシ基との合計モル数］／［成分（ａ１１）に含まれるアルコキシ基の合計モル数）（以下、モル比Ｂともいう）が０．３以下であるように上記縮合反応を進行させることが好ましい。上記モル比Ｂは０．２以下であることがより好ましい。上記モル比Ｂが上記上限以下であると、未反応の水酸基とアルコキシ基とが、透明樹脂（ａ）の保管中に縮合反応してゲル化し難くなる。さらに、硬化物において縮合反応が進行し難くなり、硬化物にクラックが発生し難くなる。
【００７６】
上記縮合反応の際に、成分（ａ１１）の濃度は好ましくは２重量％以上、より好ましくは１５重量％以上、好ましくは８０重量％以下、より好ましくは６０重量％以下である。上記縮合反応によって生成する水及びアルコールよりも沸点が高い溶剤を用いることが好ましい。この場合には、反応系中から、溶剤を容易に除去できる。上記濃度が上記下限以上及び上記上限以下である場合には、反応中にゲル化し難くなり、加水分解縮合物（ａ１）の分子量が大きくなりすぎず、加水分解縮合物（ａ１）の保存安定性がより一層高くなる。
【００７７】
上記縮合反応の際に、該縮合反応によって生成する水及びアルコールよりも沸点が高い溶剤を用いることが好ましい。該溶剤は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。また、上記架橋性化合物を溶剤として用いることもできる。
【００７８】
上記縮合反応の後に、触媒を除去することが好ましい。触媒の除去により、加水分解縮合物（ａ１）の保存安定性が高くなる。上記触媒の除去方法は、触媒の種類に応じて公知方法を適宜に選択できる。上記触媒の除去方法としては、触媒の沸点以上に加熱する方法、及び減圧する方法等が挙げられる。上記触媒がギ酸である場合には、これらの方法によりギ酸を容易に除去できる。
【００７９】
透明樹脂（ａ）は、加水分解縮合物（ａ１）に加えて、エポキシ基を有する化合物（以下、エポキシ化合物（ａ２）ともいう）及びイソシアネート基を有する化合物（以下、イソシアネート化合物（ａ３）ともいう）の内の少なくとも一種をさらに含むことが好ましい。この場合には、加熱により透明樹脂（ａ）を効率的に架橋させ、硬化させることができる。
【００８０】
エポキシ化合物（ａ２）は特に限定されない。エポキシ化合物（ａ２）としては、例えばフェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂、トリアジン骨格含有エポキシ樹脂、フルオレン骨格含有エポキシ樹脂、線状脂肪族エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、トリフェノールフェノールメタン型エポキシ樹脂、アルキル変性トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン骨格含有エポキシ樹脂、ナフタレン骨格含有エポキシ樹脂及びアリールアルキレン型エポキシ樹脂等が挙げられる。エポキシ化合物（ａ２）は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【００８１】
エポキシ化合物（ａ２）は、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（三菱化学社製の商品名「エピコート８２８」など）、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂（三菱化学社製の商品名「エピコート８０７」など）、水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（東都化成社製の商品名「サントートＳＴ−３０００」など）、又は脂環式エポキシ樹脂（ダイセル化学工業社製の商品名「セロキサイド２０２１」など）であることが好ましい。これらの好ましいエポキシ化合物（ａ２）の使用により、白色基板の透明性及び耐熱性をより一層高めることができる。
【００８２】
上記エポキシ化合物（ａ２）の分子量は高い方が好ましい。高分子量のエポキシ化合物（ａ２）の使用により、白色基板の可撓性が高くなる。高分子量のエポキシ化合物（ａ２）としては、エポキシ当量が２０００ｇ／当量以上のエポキシ樹脂（三菱化学社製の商品名「エピコート１０１０」及び「エピコート４００７Ｐ」など）、エポキシ変性シリコーン樹脂（信越化学工業社製の商品名「Ｘ−２２−１６３Ａ」など）、並びにポリエチレングリコールジグリシジルエーテル等が挙げられる。なかでも、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテルが好ましい。
【００８３】
イソシアネート化合物（ａ３）は特に限定されない。イソシアネート化合物（ａ３）としては、例えば、芳香族ジイソシアネート、脂肪族ジイソシアネート及び脂環族ジイソシアネート等が挙げられる。イソシアネート化合物（ａ３）としては、具体的には、１，５−ナフチレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルジメチルメタンジイソシアネート、４，４’−ジベンジルイソシアネート、ジアルキルジフェニルメタンジイソシアネート、テトラアルキルジフェニルメタンジイソシアネート、１，３−フェニレンジイソシアネート、１，４−フェニレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ブタン−１，４−ジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソプロピレンジイソシアネート、メチレンジイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、シクロヘキサン−１，４−ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、水素化キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン−４，４’−ジイソシアネート、１，３−ビス（イソシアネートメチル）シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンジイソシアネート、及びｍ−テトラメチルキシリレンジイソシアネート、並びにダイマー酸のカルボキシル基をイソシアネート基に転化したダイマージイソシアネート等が挙げられる。イソシアネート化合物（ａ３）は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【００８４】
白色基板の透明性及び耐熱性を高める観点からは、イソシアネート化合物（ａ３）は、イソホロンジイソシアネートであることが好ましい。
【００８５】
イソシアネート化合物（ａ３）の分子量は高い方が好ましい。高分子量のイソシアネート化合物（ａ３）の使用により、白色基板の可撓性が高くなる。高分子量のイソシアネート化合物（ａ３）としては、ポリオールのジイソシアネート変性物、及びポリメリックＭＤＩ（三井武田ケミカル社製の商品名「コスモネートＭ」など）等が挙げられる。上記ポリオールとしては、ポリカーボネートジオール及びポリエステルジオール等が挙げられる。
【００８６】
加熱による透明樹脂（ａ）の硬化反応を促進するために、エポキシ化合物（ａ２）と触媒とを併用してもよい。エポキシ化合物（ａ２）と併用される触媒としては、例えば、三級アミン、イミダゾール化合物、有機ホスフィン及びテトラフェニルボロン塩等が挙げられる。
【００８７】
上記三級アミンとしては、１，８−ジアザ−ビシクロ［５．４．０］ウンデセン−７、トリエチレンジアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、及びトリス（ジメチルアミノメチル）フェノール等が挙げられる。上記イミダゾール化合物としては、２−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾール及び２−ヘプタデシルイミダゾール等が挙げられる。上記有機ホスフィンとしては、トリブチルホスフィン、メチルジフェニルホスフィン、トリフェニルホスフィン、ジフェニルホスフィン及びフェニルホスフィン等が挙げられる。上記テトラフェニルボロン塩としては、テトラフェニルホスホニウム  テトラフェニルボレート、２−エチル−４−メチルイミダゾール  テトラフェニルボレート、及びＮ−メチルモルホリン  テトラフェニルボレート等が挙げられる。
【００８８】
上記イソシアネート化合物（ａ３）と触媒とを併用することが好ましい。イソシアネート化合物（ａ３）と併用される触媒としては、有機スズ化合物及び三級アミン等が挙げられる。
【００８９】
上記有機スズ化合物としては、ジブチルスズジラウレート及びオクチル酸スズ等が挙げられる。上記三級アミンとしては、１，８−ジアザ−ビシクロ［５．４．０］ウンデセン−７、トリエチレンジアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、及びトリス（ジメチルアミノメチル）フェノール等が挙げられる。
【００９０】
透明樹脂（ａ）１００重量部に対して、上記エポキシ化合物（ａ２）及びイソシアネート化合物（ａ３）と併用される触媒の含有量は、好ましくは０．０１重量部以上、好ましくは５重量部以下である。
【００９１】
透明樹脂（ａ）１００重量％中、加水分解縮合物（ａ１）と、エポキシ化合物（ａ２）及びイソシアネート化合物（ａ３）の内の少なくとも一種との配合比は、用途に応じて適宜に決定できる。
【００９２】
［加水分解縮合物（ａ１）に含まれるチオール基のモル数］／［エポキシ化合物（ａ２）に含まれるエポキシ基とイソシアネート化合物（ａ３）に含まれるイソシアネート基との合計のモル数］（以下、モル比Ｃともいう）は、好ましくは０．９以上、好ましくは１．１以下である。上記モル比Ｃが０．９以上であると、硬化後にエポキシ基及びイソシアネート基が残存し難くなり、白色基板の耐候性が高くなる。上記モル比が１．１以下であると、チオール基が残存し難くなり、チオール基の分解による悪臭が生じ難くなる。
【００９３】
透明樹脂（ａ）は、加水分解縮合物（ａ１）に加えて、炭素−炭素二重結合を有する化合物（以下、不飽和化合物（ａ４）ともいう）をさらに含むことが好ましい。該不飽和化合物（ａ４）の使用により、加熱及び活性光線の照射により、白色基板を硬化させることができる。
【００９４】
不飽和化合物（ａ４）は特に限定されない。不飽和化合物（ａ４）の上記炭素−炭素二重結合としては、ビニル基、（メタ）アクリロイル基及びアリル基等が挙げられる。上記炭素−炭素二重結合は、加水分解縮合物（ａ１）のチオール基と反応（エン−チオール反応）する。この反応の反応機構は、重合開始剤の有無により異なる。このため、加水分解縮合物（ａ１）及び不飽和化合物（ａ４）は、最適な配合量に適宜調整される。
【００９５】
上記重合開始剤が用いられない場合は、炭素−炭素二重結合１個に対して、チオール基１個が付加反応する。上記重合開始剤が用いられる場合は、炭素−炭素二重結合１個に対して、チオール基１個が付加反応することに加えて、連鎖的ラジカル反応が進行する。この結果、上記重合開始剤が用いられない場合は、加水分解縮合物（ａ１）に含まれるチオール基と不飽和化合物（ａ４）に含まれる炭素−炭素二重結合とは、１：１（モル比）で反応する。上記重合開始剤が用いられる場合には、加水分解縮合物（ａ１）に含まれるチオール基と、不飽和化合物（ａ４）に含まれる炭素−炭素二重結合とは、１：１（モル比）では反応しない。
【００９６】
上記の観点から、重合開始剤が用いられない場合は、加水分解縮合物（ａ１）と不飽和化合物（ａ４）との配合比は、［加水分解縮合物（ａ１）に含まれるチオール基のモル数］／［不飽和化合物（ａ４）に含まれる炭素−炭素二重結合のモル数］（以下、モル比Ｄ１ともいう）は、好ましくは０．９以上、好ましくは１．１以下、より好ましくは１．０以下である。上記モル比Ｄ１が０．９以上であると、硬化後に炭素−炭素二重結合が残存し難くなり、白色基板の耐候性が高くなる。上記モル比が１．１以下であると、チオール基が残存し難くなり、チオール基の分解による悪臭が生じ難くなる。
【００９７】
重合開始剤が用いられる場合には、加水分解縮合物（ａ１）と不飽和化合物（ａ４）との配合比は、［加水分解縮合物（ａ１）に含まれるチオール基のモル数］／［不飽和化合物（ａ４）に含まれる炭素−炭素二重結合のモル数］（以下、モル比Ｄ２といもいう）は、好ましくは０．０１以上、好ましくは１．１以下である。上記モル比Ｄ２が０．０１以上であると、白色基板の硬化物の水蒸気バリア性がより一層高くなる。さらに、硬化後に炭素−炭素二重結合が残存し難くなり、白色基板の耐候性が高くなる。上記モル比Ｄ２が１．１以下であると、チオール基が残存し難くなり、チオール基の分解による悪臭が生じ難くなる。
【００９８】
また、炭素−炭素二重結合を有する官能基とチオール基との反応より優先して、炭素−炭素二重結合を有する官能基同士が反応するのを抑制するために、不飽和化合物（ａ４）は、アリル基を有することが好ましい。
【００９９】
アリル基を１つ有する化合物としては、けい皮酸、モノアリルシアヌレート、モノアリルイソシアヌレート、ペンタエリスリトールモノアリルエーテル、トリメチロールプロパンモノアリルエーテル、グリセリンモノアリルエーテル、ビスフェノールＡモノアリルエーテル、ビスフェノールＦモノアリルエーテル、エチレングリコールモノアリルエーテル、ジエチレングリコールモノアリルエーテル、トリエチレングリコールモノアリルエーテル、プロピレングリコールモノアリルエーテル、ジプロピレングリコールモノアリルエーテル、及びトリプロピレングリコールモノアリルエーテル等が挙げられる。
【０１００】
アリル基を２つ有する化合物としては、ジアリルフタレート、ジアリルイソフタレート、ジアリルシアヌレート、ジアリルイソシアヌレート、ペンタエリスリトールジアリルエーテル、トリメチロールプロパンジアリルエーテル、グリセリンジアリルエーテル、ビスフェノールＡジアリルエーテル、ビスフェノールＦジアリルエーテル、エチレングリコールジアリルエーテル、ジエチレングリコールジアリルエーテル、トリエチレングリコールジアリルエーテル、プロピレングリコールジアリルエーテル、ジプロピレングリコールジアリルエーテル、及びトリプロピレングリコールジアリルエーテル等が挙げられる。
【０１０１】
アリル基を３つ以上含有する化合物としては、トリアリルイソシアヌレート、ペンタエリスリトールトリアリルエーテル、ペンタエリスリトールテトラアリルエーテル、及びトリメチロールプロパントリアリルエーテル等が挙げられる。アリル基を有する化合物は、トリアリルイソシアヌレート、ジアリルフタレート又はペンタエリスリトールトリアリルエーテルであることが特に好ましい。
【０１０２】
不飽和化合物（ａ４）の分子量は高いことが好ましい。高分子量の不飽和化合物（ａ４）の使用により、硬化物の可撓性が高くなる。高分子量の不飽和化合物（ａ４）としては、メチルアリルシロキサンとジメチルシロキサンとからなる共重合物、エピクロルヒドリンとアリルグリシジルエーテルとからなる共重合物（ダイソー社製の商品名「エピクロマー」、及び日本ゼオン社製の商品名「Ｇｅｃｈｒｏｎ」など）、並びにアリル基末端ポリイソブチレンポリマー（カネカ社製の商品名「エピオン」）等が挙げられる。
【０１０３】
［不飽和化合物（ａ４）に含まれる炭素−炭素二重結合のモル数］／［不飽和化合物（ａ４）のモル数］（以下、モル比Ｅともいう）は２以上であることが好ましい。上記モル比Ｅは、１分子あたりに含まれる炭素−炭素二重結合の平均個数を示す。上記モル比Ｅが２以上であると、透明樹脂（ａ）の硬化性が高くなり、かつ硬化物の架橋密度が高くなる。このため、硬化物の耐熱性及び硬度が高くなる傾向がある。
【０１０４】
上記白色基板形成用材料は、加水分解縮合物（ａ１）を含む場合にも、重合開始剤を含有していてもよい。該重合開始剤としては、光カチオン重合開始剤及び光ラジカル重合開始剤等が挙げられる。上記重合開始剤は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【０１０５】
上記光カチオン重合開始剤としては、紫外線の照射により酸を発生する化合物であるスルホニウム塩、ヨードニウム塩、メタロセン化合物及びベンゾイントシレート等が挙げられる。上記光カチオン重合開始剤の市販品としては、ユニオンカーバイド社製の商品名「サイラキュアＵＶＩ−６９７０」、「サイラキュアＵＶＩ−６９７４」及び「サイラキュアＵＶＩ−６９９０」、チバ・ジャパン社製の商品名「イルガキュア２６４」、並びに日本曹達社製の商品名「ＣＩＴ−１６８２」等が挙げられる。
【０１０６】
上記光ラジカル重合開始剤は特に限定されない。上記光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ’−テトラエチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、２−ジメチルアミノ−２−（４−メチル−ベンジル）−１−（４−モルフォリン−４−イル−フェニル）−ブタン−１−オン、２，６−ジメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ｔ−ブチルアントラキノン、１−クロロアントラキノン、２，３−ジクロロアントラキノン、３−クロロ−２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、１，４−ナフトキノン、９，１０−フェナントラキノン、１，２−ベンゾアントラキノン、１，４−ジメチルアントラキノン、２−フェニルアントラキノン、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール２量体、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、及び４−（ｐ−メトキシフェニル）−２，６−ジ−（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン等が挙げられる。中でも、硬化樹脂の着色を抑制できることから、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンが好ましい。また、エン−チオール反応の抑制効果を有し、透明樹脂（ａ）の保存安定性を高めることができることから、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、２−ジメチルアミノ−２−（４−メチル−ベンジル）−１−（４−モルフォリン−４−イル−フェニル）−ブタン−１−オン等のα−アミノアルキルフェノン系光ラジカル重合開始剤が好ましい。
【０１０７】
透明樹脂（ａ）１００重量部に対して、上記重合開始剤の含有量は好ましくは１重量部以上、好ましくは１５重量部以下、より好ましくは１０重量部以下、更に好ましくは５重量部以下である。
【０１０８】
透明樹脂（ａ）の保存安定性をより一層高めるために、エン−チオール反応抑制剤を使用できる。該エン−チオール反応抑制剤としては、リン化合物、ラジカル重合禁止剤、三級アミン及びイミダゾール化合物等が挙げられる。
【０１０９】
上記リン化合物としては、トリフェニルホスフィン及び亜リン酸トリフェニル等が挙げられる。上記ラジカル重合禁止剤としては、ｐ−メトキシフェノール、ハイドロキノン、ピロガロール、ナフチルアミン、ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、塩化第一銅、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩、及びジフェニルニトロソアミン等が挙げられる。上記三級アミンとしては、ベンジルジメチルアミン、２−（ジメチルアミノメチル）フェノール、２，４，６−トリス（ジアミノメチル）フェノール、及びジアザビシクロウンデセン等が挙げられる。上記イミダゾール化合物としては、２−メチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、２−エチルへキシルイミダゾール、２−ウンデシルイミダゾール及び１−シアノエチル−２−メチルイミダール等が挙げられる。
【０１１０】
上記リン化合物のなかでも、亜リン酸トリフェニルが好ましい。該亜リン酸トリフェニルは、エン−チオール反応の抑制効果が高く、かつ室温で液状であるため、取り扱いが容易である。透明樹脂（ａ）１００重量部に対して、上記リン系化合物の含有量は好ましくは０．１重量部以上、好ましくは１０重量部以下である。上記リン化合物の含有量が０．１重量部以上であると、エン−チオール反応を充分に抑制できる。上記リン化合物の含有量が１０重量部以下であると、硬化後に上記リン化合物の残存量が少なくなり、上記リン化合物に由来する硬化物の物性の低下を抑制できる。
【０１１１】
上記ラジカル重合禁止剤のなかでも、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩が好ましい。該Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩は、少量でもエン−チオール反応を抑制できる。透明樹脂（ａ）１００重量部に対して、上記ラジカル重合禁止剤の含有量は好ましくは０．０００１重量部以上、好ましくは０．１重量部以下である。上記ラジカル重合禁止剤の含有量が０．０００１重量部以上であると、エン−チオール反応を充分に抑制できる。上記ラジカル重合禁止剤の含有量が０．１重量部以下であると、硬化阻害が少ない。
【０１１２】
上記三級アミンのなかでも、ベンジルジメチルアミンが好ましい。該ベンジルジメチルアミンは、エン−チオール反応の抑制効果が高く、かつ室温で液状であるため、取り扱いが容易である。透明樹脂（ａ）１００重量部に対して、上記三級アミンの含有量は好ましくは０．００１重量部以上、好ましくは５重量部以下である。上記三級アミンの含有量が０．００１重量部以上であると、エン−チオール反応を充分に抑制できる。上記三級アミンの含有量が５重量部以下であると、加水分解縮合物（ａ１）中の未反応の水酸基及びアルコキシ基の縮合反応が生じ難くなり、ゲル化が生じ難くなる。
【０１１３】
加水分解縮合物（ａ１）と不飽和化合物（ａ４）との配合比は、用途に応じて適宜変更できる。また、加水分解縮合物（ａ１）と不飽和化合物（ａ４）とを併用する場合には、必要に応じて溶剤を配合できる。
【０１１４】
（ガラス繊維（ｂ））
本発明に係るガラス繊維（ｂ）の形態は特に限定されない。ガラス繊維（ｂ）は、織布又は不織布であることが好ましい。ガラス繊維（ｂ）は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。ガラス繊維が織布である場合には、ガラス繊維は、ガラスクロスである。
【０１１５】
上記ガラスクロスとしては、例えば、断面が円形又は楕円形等でありかつ断面最長径が３〜１０μｍ程度の長繊維（フィラメント）を、１００〜８００本程度撚り合わせたヤーンを、経糸及び緯糸として用いて、これらの糸を交錯させるように織ることにより得られる。織り方としては、平織、綾織及び朱子織等が挙げられる。
【０１１６】
上記ガラスクロスの厚さは最も厚い部分で、通常１０〜５００μｍである。上記ガラスクロスの厚さは、最も厚い部分で、１５〜３５０μｍであることが好ましい。
【０１１７】
ガラス繊維（ｂ）は、Ｅガラス又はＴガラスであることが好ましく、特にＴガラスであることが好ましい。該Ｅガラス及びＴガラスであるガラス繊維は、回路基板用の芯材として広く用いられており、繊維径、繊維束径、ガラスクロスとしての目付、織り密度及び厚さ等に関して、種々の規格品が揃っている。コスト及び入手の容易性の観点からは、Ｅガラスが好ましい。耐熱性及び寸法安定性の点ではＴガラスが優れており、白色基板の耐熱性及び寸法安定性をより一層高くする観点からＴガラスがより好適に用いられる。
【０１１８】
ガラス繊維（ｂ）の引っ張り弾性率は好ましくは５ＧＰａ以上、より好ましくは１０ＧＰａ以上、好ましくは５００ＧＰａ以下、より好ましくは２００ＧＰａ以下である。上記引っ張り弾性率が低すぎると、白色基板の強度が低くなる傾向がある。
【０１１９】
透明樹脂（ａ）１００重量部及び透明樹脂（ａ）の硬化物１００重量部に対して、ガラス繊維（ｂ）の含有量は好ましくは１０重量部以上、より好ましくは１５重量部以上、好ましくは２００重量部以下、より好ましくは１２０重量部以下である。ガラス繊維（ｂ）の含有量が上記下限以上であると、ガラス繊維による熱膨張の低減効果がより一層高くなる。ガラス繊維（ｂ）の含有量が上記上限以下であると、ガラス繊維（ｂ）に透明樹脂（ａ）を含浸させることが容易になり、白色基板の表面又は内部にボイドが生じ難くなり、白色基板の均一性がより一層高くなる。
【０１２０】
透明樹脂（ａ）の硬化物とガラス繊維（ｂ）との界面は、十分に濡れていることが好ましい。この界面の濡れが不十分であると、ガラス繊維（ｂ）と透明樹脂（ａ）の硬化物の界面の接着性が低下し、白色基板を曲げた際に樹脂の剥落が起こるなど、強度的な問題を生じやすい。このため、ガラス繊維（ｂ）の表面は、表面処理剤により処理されていることが好ましい。上記表面処理剤としては、シランカップリング剤、アルミネートカップリング剤及びチタネートカップリング剤等が挙げられる。
【０１２１】
（光散乱性フィラー（ｃ））
光散乱性フィラー（ｃ）としては、公知の白色顔料等を使用することができ、特に限定されない。光散乱性フィラー（ｃ）としては、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化アンチモン、酸化マグネシウム、アルミナ、水酸化アルミニウム、硫酸バリウム、ベリリア、チタン酸バリウム、チタン酸カリウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カルシウム、炭酸アルミニウム、ケイ酸アルミニウム、窒化ケイ素、窒化ホウ素、ホウ酸アルミニウム及び炭化ケイ素が挙げられる。光散乱性フィラー（ｃ）は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【０１２２】
光散乱性フィラー（ｃ）の平均粒径は好ましくは０．１μｍ以上、より好ましくは０．２μｍ以上、好ましくは２０μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以下である。平均粒径が上記下限以上であると、光散乱性が十分に高くなる。平均粒径が上記上限以下であると、透明樹脂（ａ）と光散乱性フィラー（ｃ）とを含む混合物をガラス繊維（ｂ）に含浸させる際の浸透が速やかに進行しやすくなり、粒子の凝集による散乱性の不均一化が生じ難くなる。
【０１２３】
白色基板の光反射率をより一層良好にする観点からは、光散乱性フィラー（ｃ）は、酸化チタンであることが好ましい。さらに、白色基板の光反射率をより一層良好にする観点からは、光散乱性フィラー（ｃ）は、平均粒径が０．１μｍ以上、２０μｍ以下である酸化チタンであることが好ましい。
【０１２４】
白色基板の光反射率をより一層良好にする観点からは、光散乱性フィラー（ｃ）は、酸化亜鉛であることが好ましい。さらに、白色基板の光反射率をより一層良好にする観点からは、光散乱性フィラー（ｃ）は、平均粒径が０．１μｍ以上、２０μｍ以下である酸化亜鉛であることが好ましい。
【０１２５】
また、白色基板の光反射率を良好にする観点から、光散乱性フィラー（ｃ）は、中空粒子であることも好ましい。中空粒子としては、シリカ等の無機物により形成された中空粒子でもよく、樹脂により形成された中空粒子でもよい。また、中空粒子の中空度は１０％以上、９０％以下であることが好ましい。ここで中空度とは、中空粒子の体積に占める中空空間の割合を百分率で示したものである。光散乱性フィラー（ｃ）としての中空粒子の平均粒径は０．１μｍ以上、２０μｍ以下であることが好ましい。
【０１２６】
従って、白色基板の光反射率をより一層良好にする観点からは、光散乱性フィラー（ｃ）は、酸化チタン、酸化亜鉛又は中空度が１０％以上、９０％以下である中空粒子であることが好ましく、平均粒径が０．１μｍ以上、２０μｍ以下である酸化チタンであるか、平均粒径が０．１μｍ以上、２０μｍ以下である酸化亜鉛であるか、又は、平均粒径が０．１μｍ以上、２０μｍ以下であり、かつ中空度が１０％以上、９０％以下である中空粒子であることがより好ましい。
【０１２７】
光散乱性フィラー（ｃ）の含有量は特に限定されない。光散乱性フィラー（ｃ）の比重等を考慮し、白色基板１００体積％中、光散乱性フィラー（ｃ）の含有量は好ましくは３体積％以上、より好ましくは５体積％以上、好ましくは５０体積％以下、より好ましくは４０体積％以下である。光散乱性フィラー（ｃ）の含有量が上記下限以上であると、光散乱による光反射率が十分に高くなる。光散乱性フィラー（ｃ）の含有量が上記上限以下であると、白色基板が脆化し難くなり、可撓性が高くなる。
【０１２８】
光散乱性フィラー（ｃ）の透明樹脂（ａ）への分散性及び界面の密着性を向上するために、光散乱性フィラー（ｃ）は、表面処理剤で表面処理されていることが好ましい。該表面処理剤としては、シラン系カップリング剤、チタネート系カップリング剤及びアルミネート系カップリング剤等が挙げられる。
【０１２９】
光散乱性フィラー（ｃ）の表面処理は、予めカップリング剤でフィラー表面を処理してもよく、また、透明樹脂（ａ）とフィラーとの分散液にカップリング剤を添加することでフィラー表面にカップリング剤を反応させる方法で処理してもよい。
【０１３０】
透明樹脂（ａ）とフィラーとの分散液にカップリング剤を添加する場合に、透明樹脂（ａ）とフィラーとの分散液１００重量部に対して、カップリング剤の配合量は５重量部以下であることが好ましい。カップリング剤の配合量が５重量部以下であると、耐熱性がより一層良好になる。
【０１３１】
透明樹脂（ａ）の硬化物とガラス繊維（ｂ）との屈折率差が０．０２以上であり、かつ透明樹脂（ａ）の硬化物と光散乱性フィラー（ｃ）との屈折率差が０．２以上であることが好ましい。透明樹脂（ａ）の硬化物とガラス繊維（ｂ）との屈折率差が０．０３以上であり、かつ透明樹脂（ａ）の硬化物と光散乱性フィラー（ｃ）との屈折率差が０．３以上であることがより好ましい。これらの屈折率差を満たすと、ガラス繊維（ｂ）及び光散乱フィラー（ｃ）による透明樹脂（ａ）の硬化物との界面での光散乱性が十分に大きくなり、白色基板としての高い光反射率を得ることができる。上記屈折率差は、例えば、透明樹脂（ａ）の分子構造の変性、又は各成分の配合比により調整できる。
【０１３２】
一方、光散乱性フィラー（ｃ）が中空粒子である場合には、中空粒子の空隙部分の屈折率がほぼ１であることから、粒子を形成する無機材料や樹脂との屈折率差が０．２よりも十分に大きくなるため、中空粒子を形成する材料と透明樹脂（ａ）の屈折率差は特に限定されない。
【０１３３】
（他の成分）
本発明の白色基板は、各種用途での必要性に応じて、可塑剤、耐候剤、酸化防止剤、熱安定剤、滑剤、帯電防止剤、増白剤、着色剤、導電剤、離型剤、表面処理剤及び粘度調節のための溶剤等を含有していてもよい。
【０１３４】
（白色基板）
本発明に係る白色基板は、透明樹脂（ａ）と、ガラス繊維（ｂ）と、光散乱性フィラー（ｃ）とを含有する白色基板形成用材料を、成形した後に硬化させることにより得られる。例えば、加熱及び活性光線の照射の内の少なくとも一種により、透明樹脂（ａ）を硬化させる。
【０１３５】
白色基板の製造方法としては、以下の第１〜第３の方法が挙げられる。ただし、以下の第１〜第３の方法に限定されない。
【０１３６】
第１の方法では、常温又は加熱下で、流動性の透明樹脂（ａ）にガラス繊維（ｂ）及び光散乱性フィラー（ｃ）を分散した液状物を調製する。次に、基材上に該液状物をシート上に塗布した後、必要に応じて乾燥する。その後、加熱及び活性光線の照射の内の少なくとも一方により、シート状の白色基板形成用材料を架橋して、硬化させる。
【０１３７】
第２の方法では、常温又は加熱下で、流動性の透明樹脂（ａ）にガラス繊維（ｂ）及び光散乱性フィラー（ｃ）を分散して、白色基板形成用材料を調製する。次に、基材上に白色基板形成用材料を供給した後、必要に応じて乾燥する。その後、他の基材でプレス又はラミネートして、白色基板をシート状にする。次に、加熱及び活性光線の照射の内の少なくとも一方により、シート状の白色基板形成用材料を架橋して、硬化させる。
【０１３８】
第３の方法では、常温又は加熱下で、流動性の透明樹脂（ａ）に光散乱性フィラー（ｃ）を分散した分散液を、ガラスクロス又はガラス不織布であるガラス繊維（ｂ）に含浸させ、白色基板形成用材料を得た後、必要に応じて乾燥する。その後、白色基板形成用材料を２枚の基材間でプレス又はラミネートして、シート状にする。次に、加熱及び活性光線の照射の内の少なくとも一方により、シート状の白色基板形成用材料を架橋して、硬化させる。
【０１３９】
本発明に係る白色基板の厚みは、特に制限されない。白色基板の厚みは、好ましくは２０μｍ以上、好ましくは５００μｍ以下である。さらに、白色基板の厚みは、より好ましくは５０μｍ以上、より好ましくは３００μｍ以下である。上記厚みが２０μｍ以上であると、光反射率が十分に高くなる。上記厚みが５００μｍ以下であると、可撓性がより一層高くなる。
【０１４０】
白色基板の厚みが２００μｍを超える場合には、複数の白色基板を接着層を介して積層するか、又は、シート化と硬化とを繰り返して、積層することで白色基板を厚膜化することが好ましい。
【０１４１】
本発明に係る白色基板の波長５５０ｎｍにおける光反射率は、７０％以上であり、好ましくは８０％以上、より好ましくは８５％以上である。光反射率が高いほど、表示装置の表示品位が高まり、表示画像が鮮明になる。
【０１４２】
上記光反射率は、積分球を備える市販の分光光度計を用いて、波長５５０ｎｍの反射率を測定することによって求めることができる。
【０１４３】
本発明に係る白色基板には、表面平滑化層、ハードコート層又はガスバリア層を積層してもよい。
【０１４４】
上記表面平滑化層又はハードコート層を形成する際には、例えば、白色基板上に、既知の表面平滑化剤又はハードコート剤を塗布し、必要に応じて溶剤を除去するために乾燥する。次に、加熱及び活性光線の照射の内の少なくとも一方により、表面平滑化剤又はハードコート剤を硬化させる。
【０１４５】
白色基板上に表面平滑化剤又はハードコート剤を塗布する方法は、特に制限されない。例えば、ロールコート法、スピンコート法、ワイヤバーコート法、ディップコート法、エクストルージョン法、カーテンコート法又はスプレーコート法等の従来公知の方法を採用できる。
【０１４６】
また、ガスバリア性を高めるためのガスバリア層を積層することにより、水分や酸素等のバリア性を高めてもよい。
【０１４７】
上記ガスバリア層は特に限定されず、アルミニウムなどの金属、ＳｉＯ２及びＳｉＮなどの珪素化合物、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、並びに酸化亜鉛等の既知のガスバリア層を形成することが可能である。ガスバリア性、白色基板への密着性及び反射光の白色性の観点からは、ＳｉＯ２及びＳｉＮなどの珪素化合物が好ましい。
【０１４８】
ガスバリア層を形成する方法は、特に限定されず、蒸着法及びスパッタリング法等の乾式法、並びにゾル−ゲル法等の湿式法が挙げられる。なかでも、スパッタリング法が好ましい。スパッタリング法により形成されたガスバリア層は、緻密でガスバリア性に優れており、かつ、白色基板への密着性も良好である。
【０１４９】
以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明を具体的に説明する。本発明は、以下の実施例のみに限定されない。
【０１５０】
（実施例１）
透明樹脂（ａ）であるトリシクロデカンジメタノールジアクリレート（ＮＫエステル  Ａ−ＤＣＰ、新中村化学工業社製）６０重量部に、光散乱性フィラー（ｃ）である酸化チタン（石原産業社製「ＣＲ−９０−２」、平均粒径０．２５μｍ、屈折率２．７０）４０重量部を加えて、回転羽根式分散機で１時間分散した。
【０１５１】
さらに、光重合開始剤である２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モリフォリノプロパン−１−オン（チバ・ジャパン社製「イルガキュア９０７」）１重量部を加えて溶解し、分散液１（硬化性組成物）を調製した。
【０１５２】
ガラス繊維（ｂ）として、１０×１０ｃｍのＥガラス繊維であるＩＰＣ＃２０１３相当のガラスクロス（日東紡社製、厚さ７５μｍ、屈折率１．５５８）を用意した。分散液１を、ガラス板上に１０×１０ｃｍの範囲で展開して、この上に１０×１０ｃｍのガラスクロスを載せ、１０分間放置して分散液１をガラスクロスに含浸させた。その後、ガラス板上の分散液１を含浸したガラスクロスに厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム（東洋紡績社製「コスモシャインＡ４１００」）を重ねて、ラミネーターを通過させて、厚みを均一にした。
【０１５３】
次に、ＰＥＴフィルム側より、高圧水銀灯にて２０００ｍＪ／ｃｍ２（３６５ｎｍ）の紫外線を照射し、さらに、ガラス面側から同様に２０００ｍＪ／ｃｍ２（３６５ｎｍ）の紫外線を照射して硬化性組成物を硬化させた。さらに、ＰＥＴフィルム及びガラス板から硬化したシートを剥離し、２２０℃のオーブン中で１時間加熱処理を行い、白色基板を得た。得られた白色基板の厚さは８５μｍであった。
【０１５４】
（実施例２）
透明樹脂（ａ）であるε−カプロラクトン変性トリス−（２−アクリロキシエチル）イソシアヌレート（ＮＫエステル  Ａ−９３００−１ＣＬ、新中村化学工業社製）５０重量部を８０℃に加熱して、光散乱性フィラー（ｃ）である酸化チタン（石原産業社製「ＣＲ−９５」、平均粒径０．２８μｍ、屈折率２．７０）５０重量部を加えて、回転羽根式分散機で１時間分散した。
【０１５５】
さらに、光重合開始剤である１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（チバ・ジャパン社製「イルガキュア１８４」）１重量部を加えて溶解し、分散液２（硬化性組成物）を調製した。
【０１５６】
ガラス繊維（ｂ）として、１０×１０ｃｍのＥガラス繊維であるＩＰＣ＃２０１３相当のガラスクロス（日東紡社製、厚さ７５μｍ、屈折率１．５５８）を用意した。分散液２を、ガラス板上に１０×１０ｃｍの範囲で展開して、この上に１０×１０ｃｍのガラスクロスを載せ、１０分間放置して分散液２をガラスクロスに含浸させた。その後、ガラス板上の分散液２を含浸したガラスクロスに厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム（東洋紡績社製「コスモシャインＡ４１００」）を重ねて、５０℃にロールを加熱したラミネーターを通過させて、厚みを均一にした。
【０１５７】
次に、ＰＥＴフィルム側より、高圧水銀灯にて２０００ｍＪ／ｃｍ２（３６５ｎｍ）の紫外線を照射し、さらに、ガラス面側から同様に２０００ｍＪ／ｃｍ２（３６５ｎｍ）の紫外線を照射して硬化性組成物を硬化させた。さらに、ＰＥＴフィルム及びガラス板から硬化したシートを剥離し、２３０℃のオーブン中で３０分間加熱処理を行い、白色基板を得た。得られた白色基板の厚さは８５μｍであった。
【０１５８】
（実施例３）
透明樹脂（ａ）であるトリメチロールプロパントリアクリレート（ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＰＴ、新中村化学工業社製）５０重量部と、９，９’−ビス［４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン（新中村化学社製「Ａ−ＢＰＥＦ」）２０重量部とを加えて８０℃に加熱しながら混合し、混合物３を得た。
【０１５９】
上記混合物３を８０℃に保ちながら光散乱性フィラー（ｃ）である酸化チタン（石原産業社製「ＣＲ−９０−２」）３０重量部を加えて、回転羽根式分散機で１時間分散した。
【０１６０】
さらに、光重合開始剤である２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モリフォリノプロパン−１−オン（チバ・ジャパン社製「イルガキュア９０７」）１重量部を加えて溶解し、分散液３を調製した。
【０１６１】
ガラス繊維（ｂ）として、１０×１０ｃｍのＴガラス繊維であるＩＰＣ＃２１１６相当のガラスクロス（日東紡社製、厚さ９５μｍ、屈折率１．５２４）を用意した。分散液３を、ガラス板上に１０×１０ｃｍの範囲で展開して１００℃に加熱し、この上に１０×１０ｃｍのガラスクロスを載せ、１０分間放置して分散液３をガラスクロスに含浸させた。その後、ガラス板上の分散液３を含浸したガラスクロスに厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム（東洋紡績社製「コスモシャインＡ４１００」）を重ねて、７０℃に温度調節されたラミネーターを通過させて、厚みを均一にした。
【０１６２】
次に、ＰＥＴフィルム側より、高圧水銀灯にて２０００ｍＪ／ｃｍ２（３６５ｎｍ）の紫外線を照射し、さらに、ガラス面側から同様に２０００ｍＪ／ｃｍ２（３６５ｎｍ）の紫外線を照射して硬化性組成物を硬化させた。さらに、ＰＥＴフィルム及びガラス板から硬化したシートを剥離し、２２０℃のオーブン中で１時間加熱処理を行い、白色基板を得た。得られた白色基板の厚さは１１０μｍであった。
【０１６３】
（実施例４）
透明樹脂（ａ）である３，４−エポキシシクロヘキセニルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキセンカルボキシレート（セロキサイド２０２１Ｐ、ダイセル化学工業社製）２１重量部及びビスアリールフルオレン系エポキシ樹脂（オンコートＥＸ−１０１０、長瀬産業社製）１４重量部に、硬化剤であるメチルヘキサヒドロ無水フタル酸とヘキサヒドロ無水フタル酸との７：３（重量比）混合物（リカシッドＭＨ−７００、新日本理化社製）２９重量部と、硬化促進剤（ヒシコーリンＰＸ−４ＥＴ、日本化学工業社製）１重量部とを添加し、混合し、混合物４を得た。
【０１６４】
上記混合物４に、光散乱性フィラー（ｃ）である酸化チタン（石原産業社製「ＣＲ−９０−２」）３５重量部を加えて、回転羽根式分散機で１時間分散し、分散液４（硬化性組成物）を得た。
【０１６５】
ガラス繊維（ｂ）として、１０×１０ｃｍのＴガラス繊維であるＩＰＣ＃２０１３相当のガラスクロス（日東紡社製、厚さ７５μｍ、屈折率１．５２４）を用意した。分散液４を、ガラス板上に１０×１０ｃｍの範囲で展開して８０℃に加熱し、この上に１０×１０ｃｍのガラスクロスを載せて、１０分間放置して分散液４をガラスクロスに含浸させた。その後、ガラス板上の分散液４を含浸したガラスクロスに厚さ１００μｍのステンレス箔を重ね、７０℃に温度調節されたラミネーターを通過させて、厚みを均一にし、１００℃のオーブン内で１時間加熱処理を行い、さらに１８０℃のオーブン中で３時間加熱硬化して白色基板を得た。得られた白色基板の厚さは９０μｍであった。
【０１６６】
（実施例５）
透明樹脂（ａ）であるポリシルセスキオキサン（ＨＢＳＱ１０１、荒川化学工業社製）４０重量部及びイソシアヌル酸トリアリル２５重量部を混合し、混合物５を得た。
【０１６７】
上記混合物５に、光散乱性フィラー（ｃ）である酸化亜鉛（堺化学工業社製「微細酸化亜鉛」、平均粒径０．２９μｍ、屈折率１．９５）３５重量部を加えて、回転羽根式分散機で１時間分散した。
【０１６８】
さらに、光重合開始剤である２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モリフォリノプロパン−１−オン（チバ・ジャパン社製「イルガキュア９０７」）１重量部を加えて溶解し、分散液５（硬化性組成物）を調製した。
【０１６９】
ガラス繊維（ｂ）として、１０×１０ｃｍのＴガラス繊維であるＩＰＣ＃２１１６相当のガラスクロス（日東紡社製、厚さ９５μｍ、屈折率１．５２４）を用意した。分散液５を、ガラス板上に１０×１０ｃｍの範囲で展開して８０℃に加熱し、この上に１０×１０ｃｍのガラスクロスを載せて、１０分間放置して分散液５をガラスクロスに含浸させた。その後、ガラス板上の分散液５を含浸したガラスクロスに厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム（東洋紡績社製「コスモシャインＡ４１００」）を重ねて、７０℃に温度調節されたラミネーターを通過させて、厚みを均一にした。
【０１７０】
次に、ＰＥＴフィルム側より、高圧水銀灯にて２０００ｍＪ／ｃｍ２（３６５ｎｍ）の紫外線を照射して、硬化性組成物を硬化させた。さらに、ＰＥＴフィルム及びガラス板から硬化したシートを剥離し、２００℃のオーブン中で１時間加熱処理を行い、白色基板を得た。得られた白色基板の厚さは１１０μｍであった。
【０１７１】
（実施例６）
透明樹脂（ａ）であるポリシルセスキオキサン溶液（コンポセランＳＱ１０２−１、荒川化学工業社製）３５重量部及びイソホロンジイソシアネート２５重量部に、硬化促進剤であるジブチルスズジラウレート０．１重量部を添加し、混合し、混合物６を得た。
【０１７２】
上記混合物６に、光散乱性フィラー（ｃ）である酸化チタン（石原産業社製「ＣＲ−９０−２」）４０重量部を加えて、回転羽根式分散機で１時間分散し、分散液６（硬化性組成物）を得た。
【０１７３】
ガラス繊維（ｂ）として、１０×１０ｃｍのＴガラス繊維であるＩＰＣ＃２０１３相当のガラスクロス（日東紡社製、厚さ７５μｍ、屈折率１．５２４）を用意した。分散液６を、ガラス板上に１０×１０ｃｍの範囲で展開して８０℃に加熱し、この上に１０×１０ｃｍのガラスクロスを載せて、１０分間放置して分散液６をガラスクロスに含浸させた。その後、ガラス板上の分散液６を含浸したガラスクロスに厚さ１００μｍのステンレス箔を重ねて、７０℃に温度調節されたラミネーターを通過させて、厚みを均一にし、１００℃のオーブン内で１時間加熱処理を行い、さらに１８０℃のオーブン中で３時間加熱硬化して白色基板を得た。得られた白色基板の厚さは９０μｍであった。
【０１７４】
（実施例７）
透明樹脂（ａ）であるトリシクロデカンジメタノールジアクリレート（ＮＫエステル  Ａ−ＤＣＰ、新中村化学工業社製）８５重量部に、光散乱性フィラー（ｃ）である中空樹脂粒子（試作品、平均粒径２．９μｍ、中空度７５％）１５重量部を加えて、回転羽根式分散機で１時間分散した。
【０１７５】
さらに、光重合開始剤である２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モリフォリノプロパン−１−オン（チバ・ジャパン社製「イルガキュア９０７」）１重量部を加えて溶解し、分散液７（硬化性組成物）を調製した。
【０１７６】
ガラス繊維（ｂ）として、１０×１０ｃｍのＥガラス繊維であるＩＰＣ＃２１１６相当のガラスクロス（日東紡社製、厚さ９５μｍ、屈折率１．５５８）を用意した。分散液７を、ガラス板上に１０×１０ｃｍの範囲で展開して、この上に１０×１０ｃｍのガラスクロスを載せ、１０分間放置して分散液７をガラスクロスに含浸させた。その後、ガラス板上の分散液７を含浸したガラスクロスに厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム（東洋紡績社製「コスモシャインＡ４１００」）を重ねて、ラミネーターを通過させて、厚みを均一にした。
【０１７７】
次に、ＰＥＴフィルム側より、高圧水銀灯にて１０００ｍＪ／ｃｍ２（３６５ｎｍ）の紫外線を照射し、さらに、ガラス面側から同様に１０００ｍＪ／ｃｍ２（３６５ｎｍ）の紫外線を照射して硬化性組成物を硬化させた。さらに、ＰＥＴフィルム及びガラス板から硬化したシートを剥離し、２２０℃のオーブン中で１時間加熱処理を行い、白色基板を得た。得られた白色基板の厚さは１１０μｍであった。
【０１７８】
（実施例８）
透明樹脂（ａ）であるε−カプロラクトン変性トリス−（２−アクリロキシエチル）イソシアヌレート（ＮＫエステル  Ａ−９３００−１ＣＬ、新中村化学工業社製）８０重量部を８０℃に加熱して、光散乱性フィラー（ｃ）である中空樹脂粒子（試作品、平均粒径４．０μｍ、中空度６５％）２０重量部を加えて、回転羽根式分散機で１時間分散した。
【０１７９】
さらに、光重合開始剤である１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（チバ・ジャパン社製「イルガキュア１８４」）１重量部を加えて溶解し、分散液８（硬化性組成物）を調製した。
【０１８０】
ガラス繊維（ｂ）として、１０×１０ｃｍのＥガラス繊維であるＩＰＣ＃２１１６相当のガラスクロス（日東紡社製、厚さ９５μｍ、屈折率１．５５８）を用意した。分散液８を、ガラス板上に１０×１０ｃｍの範囲で展開してホットプレート上で８０℃に加熱し、この上に１０×１０ｃｍのガラスクロスを載せ、１０分間放置して分散液８をガラスクロスに含浸させた。その後、ガラス板上の分散液８を含浸したガラスクロスに厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム（東洋紡績社製「コスモシャインＡ４１００」）を重ねて、５０℃にロールを加熱したラミネーターを通過させて、厚みを均一にした。
【０１８１】
次に、ＰＥＴフィルム側より、高圧水銀灯にて１０００ｍＪ／ｃｍ２（３６５ｎｍ）の紫外線を照射し、さらに、ガラス面側から同様に１０００ｍＪ／ｃｍ２（３６５ｎｍ）の紫外線を照射して硬化性組成物を硬化させた。さらに、ＰＥＴフィルム及びガラス板から硬化したシートを剥離し、２３０℃のオーブン中で３０分間加熱処理を行い、白色基板を得た。得られた白色基板の厚さは１１０μｍであった。
【０１８２】
（比較例１）
光散乱性フィラー（ｃ）を用いなかったこと以外は実施例１と同様にして、白色基板を作製した。
【０１８３】
（比較例２）
透明樹脂（ａ）であるトリシクロデカンジメタノールジアクリレート（ＮＫエステル  Ａ−ＤＣＰ、新中村化学工業社製）の配合量を９０重量部に、光散乱性フィラー（ｃ）である酸化チタン（石原産業社製「ＣＲ−９０−２」）の配合量を１０重量部に変更したこと以外は実施例１と同様にして、白色基板を作製した。
【０１８４】
（比較例３）
ガラス繊維（ｂ）として、Ｅガラス繊維であるＩＰＣ＃２１１６相当のガラスクロス（日東紡社製、屈折率１．５５８）を使用したこと以外は実施例３と同様にして、白色基板を作製した。
【０１８５】
（比較例４）
光散乱性フィラー（ｃ）を、平均粒径４μｍの溶融シリカ（電気化学工業社製「ＦＢ−５ＳＤＣ」、屈折率１．４６）をアクリロイロキシプロピルトリエトキシシランで表面処理したフィラーに変更したこと以外は実施例２と同様にして、白色基板を得た。
【０１８６】
（比較例５）
実施例１で調製した分散液１をガラス板上に展開し、厚さ８０μｍのスペーサーを介してもう１枚のガラス板で挟み込んで厚さを均一にした後、高圧水銀灯にて１０００ｍＪ／ｃｍ２（３６５ｎｍ）の紫外線を照射し、さらに、反対面から１０００ｍＪ／ｃｍ２（３６５ｎｍ）の紫外線を照射して分散液を硬化した。ガラス板を剥がして分散液１の硬化物シートを取り出し、２２０℃のオーブン中で１時間加熱処理を行ってガラス繊維（ｂ）を含まない厚さ８０μｍの白色基板を得た。
【０１８７】
（評価）
ａ）屈折率
離型処理された２枚のガラス板を用意した。また、各実施例及び比較例の分散液を調製する際に、光散乱性フィラー（ｃ）を配合しなかったこと以外は同様にして調製された分散液を用意した。この２枚のガラス板を１００μｍの間隔を隔てて、各実施例及び比較例の光散乱性フィラー（ｃ）を含まない分散液を挟み込み、各実施例及び比較例のＵＶ光を照射及び加熱の条件によって硬化して試験片（硬化物）を作製した。アッベ屈折計（アタゴ社製「ＮＡＲ−１Ｔ」）を用いて、試験片の屈折率ｎＤ（ナトリウムＤ線（５８９ｎｍ）、２５℃）を測定し、得られた測定値を透明樹脂（ａ）の硬化物の屈折率とした。ガラス繊維（ｂ）の屈折率及び光散乱性フィラー（ｃ）の屈折率については、メーカー公称値を採用した。
【０１８８】
ｂ）白色基板の厚み
ダイヤル厚みゲージ（尾崎製作所社製「Ｇ−６」）にて、作製した白色基板の厚みを測定した。
【０１８９】
ｃ）光反射率
分光光度計（島津製作所製「ＵＶ−３１０１ＰＣ」）に積分球を取り付け、ＢａＳＯ４白板を１００％とした時の測定光入射（反射）角８°で反射率を４００〜８００ｎｍの範囲で測定した。５５０ｎｍの反射率（％）を光反射率とした。
【０１９０】
ｄ）ガラス転移温度
動的粘弾性測定装置（アイティー計測制御社製「ＤＶＡ−２００」）を用いて、３０℃から３００℃まで１０℃／分の速度で得られた白色基板を昇温して、引張モードによる測定を行った。ｔａｎδのピーク温度をガラス転移温度とした。このガラス転移温度は、硬化性組成物を硬化させた硬化物のガラス転移温度に相当する。
【０１９１】
ｅ）線膨張係数
ＴＭＡ／ＥＸＳＴＡＲ６０００型熱応力歪測定装置（セイコー電子社製）を用いて、得られた白色基板を３０℃から２５０℃まで１０℃／分の速度で昇温した後、１０℃／分の速度で０℃まで冷却した。その後、再度、１０℃／分の速度で２５０℃まで昇温し、この昇温時の３０℃〜２５０℃における平均線膨張係数を求めた。
【０１９２】
ｆ）柔軟性
得られた白色基板を直径の異なる丸棒に巻きつけ、クラックの発生を目視により観察した。クラックが生じなかった丸棒の直径の最小値を柔軟性の値とした。クラックが生じない丸棒の最小径は１５ｍｍ以下であることが好ましく、１０ｍｍ以下であることがより好ましい。
【０１９３】
評価結果を下記の表１〜２に示す。なお、下記の表１〜２には、白色基板１００体積％中の光散乱性フィラー（ｃ）の含有量も示した。
【０１９４】
【表１】
2012177877.tif 000002
【０１９５】
【表２】
2012177877.tif 000003