(57)【要約】【課題】  液浸露光装置のステージ上に搭載された複数の部材間に存在する隙間への液体の侵入を防止できる液浸露光装置を提供する。【解決手段】  液体を介して基板を露光する露光装置であって、複数の部材からその表面が組み立てられたステージと、前記ステージの表面に存在する、前記部材間の少なくとも一つの隙間を封止する封止材を備える。前記封止材としては、細長状のフッ素樹脂製チューブ、テープ及び外側の面にフッ素樹脂層が設けられた金属箔からなる管を用いることができる。【選択図】図４
2012134290.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体を介して基板を露光する露光装置であって、
複数の部材からその表面が組み立てられたステージと、
前記ステージの表面に存在する、前記部材間の少なくとも一つの隙間を封止する封止材を備える露光装置。
【請求項２】
前記封止材が細長状のフッ素樹脂製チューブであり、
前記フッ素樹脂製チューブが、前記隙間に沿ってその隙間を封止している請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記フッ素樹脂製チューブの長手方向に対して垂直な断面が、楕円形又は涙型である請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記封止材が、
金属箔と、
前記金属箔の一方の面に設けられた粘着層と、
前記金属箔の他方の面に設けられたフッ素樹脂層を含むテープであり、
前記テープが、前記隙間を覆うように、前記粘着層を介して前記ステージの表面に貼付されている請求項１に記載の露光装置。
【請求項５】
前記封止材は、シート状基材を中空部が形成されるように屈曲した部材であって、
前記部材の外側の面はフッ素樹脂で形成され、
前記部材は、前記部材が屈曲することによって形成された曲面部を前記ステージの外部に向けて、前記隙間に沿ってその隙間を封止する請求項１に記載の露光装置。
【請求項６】
前記シート状基材が金属箔であって、前記部材の外側にはフッ素樹脂層が設けられており、
前記部材の長手方向に対して垂直な断面は、潰れた先端部と丸みを有する末端部を有する涙型であり、
前記部材は、前記先端部を前記ステージの内部に向けて、前記隙間に沿ってその隙間を封止している請求項５に記載の露光装置。
【請求項７】
前記フッ素樹脂製チューブ、前記フッ素樹脂層又は、前記部材の外側の面を形成するフッ素樹脂が、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体（ＰＦＡ）及びテトラフルオロエチレン・ヘキサフルオロプロピレン共重合体（ＦＥＰ）のいずれか一種を含む請求項２〜６のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項８】
前記金属箔が、チタン、チタン合金、タンタル及びタンタル合金のいずれか一種を含む請求項４又は６に記載の露光装置。
【請求項９】
前記ステージの内部の前記隙間に対応する位置に、前記封止材を支持する支持部材が設けられている請求項１に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記ステージが、基板ステージである請求項１〜９のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１１】
前記部材が、撥水板及びグレーティング板である請求項１〜１０のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１２】
液体を介して基板を露光する露光装置に搭載されるステージの製造方法であって、
複数の部材からステージを組み立てることと、
細長状のフッ素樹脂製チューブを用意することと、
前記組み立てられたステージの前記液体と接する表面に存在する前記部材間の隙間に、該隙間にそって前記細長状のフッ素樹脂製チューブを挿入することと、及び
前記フッ素樹脂製チューブを前記隙間の中に固定させて、前記隙間を封止することを含むステージの製造方法。
【請求項１３】
更に、前記フッ素樹脂製チューブを前記隙間に挿入する前に、前記フッ素樹脂製チューブの長手方向に対して垂直な断面が、１つの先端部を有する涙型又は２つの先端部を有するアーモンド型となるように前記フッ素樹脂製チューブを変形させることを含み、
前記フッ素樹脂製チューブの前記隙間への挿入は、前記変形させたフッ素樹脂製チューブのいずれかの先端部が前記ステージの内部を向く方向に、前記フッ素樹脂製チューブを前記隙間に挿入することを含む請求項１２に記載のステージの製造方法。
【請求項１４】
前記ステージの内部の前記隙間に対応する位置に、前記フッ素樹脂製チューブを支持する支持部材を設け、
前記フッ素樹脂製チューブの前記隙間の中への固定は、前記支持部材により前記フッ素樹脂製チューブを支持することを含む請求項１２又は１３に記載のステージの製造方法。
【請求項１５】
請求項１から１１のいずれか一項に記載の露光装置を用いるデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置、露光装置のステージ製造方法及びデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイス、液晶表示デバイス等のマイクロデバイスの製造プロセスにおけるフォトリソグラフィ工程では、マスクに露光光を照射することでマスク上に形成されたパターンを感光性の基板上に投影露光する。近年のマイクロデバイスの高密度化に応えるべく、フォトリソグラフ工程では、基板上に形成されるパターンを一層微細化することが要求されている。そのようなパターンの微細化を実現するための手段の一つとして、下記特許文献１に開示されているような、投影光学系と基板との間の露光光の光路空間を液体（以下、適宜、必要に応じて液浸用液体と記載する）、例えば純水で満たし、液体を介して基板を露光する液浸法が提案されている。そして、このような液浸法に用いる露光装置（以下、適宜、必要に応じて液浸露光装置と記載する）では、液体は投影光学系下の局所的な領域にのみ存在するので、ウエハステージの全てのショットエリアや計測ステージの計測領域上を液体が接触しながら移動する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】国際公開第９９／４９５０４号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
液浸露光装置のステージには、複数の部材（部品）が搭載されており、それら部材間には隙間が存在する。その隙間を通じて、ステージ内部に液浸用液体が浸入することは、電気的及び機械的動作に悪影響を及ぼすことになる。また、ステージ内部にまで液体が浸入せずとも隙間内に液体が残存すると、液体の蒸発時の気化熱によるステージの温度低下がステージの寸法変化をもたらし、露光精度を低下させる。
【０００５】
本発明の態様は、このような事情に鑑み、液浸露光装置のステージ上に搭載された複数の部材間に存在する隙間への液体の侵入を防止できる液浸露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
第１の態様によれば、液体を介して基板を露光する露光装置であって、複数の部材からその表面が組み立てられたステージと、前記ステージの表面に存在する、前記部材間の少なくとも一つの隙間を封止する封止材を備える露光装置が提供される。
【０００７】
第２の態様によれば、液体を介して基板を露光する露光装置に搭載されるステージの製造方法であって、複数の部材からステージを組み立てることと、細長状のフッ素樹脂製チューブを用意することと、前記組み立てられたステージの前記液体と接する表面に存在する前記部材間の隙間に、該隙間にそって前記細長状のフッ素樹脂製チューブを挿入することと、及び前記フッ素樹脂製チューブを前記隙間の中に固定させて、前記隙間を封止することを含むステージの製造方法が提供される。
【０００８】
第３の態様によれば、第１の態様の露光装置を用いるデバイス製造方法が提供される。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の態様によれば、液浸露光装置のステージを構成する複数の部材間に生じた隙間を封止材により封止することで、ステージ内部に液浸用液体が浸入すること、及び隙間内に液浸用液体が残存することを防止して液浸露光装置を電気的及び機械的に保護し、露光精度の低下を防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】第１の実施形態の露光装置の概略構成を示す図である。
【図２】図１中のウエハステージの平面図である。
【図３】ウエハステージに搭載される複数の部材（部品）間に生じる隙間を示す図である。
【図４】第１の実施形態の封止材（断面楕円形）が部材間の隙間を封止する様子を示す図である。
【図５】第１の実施形態のウエハステージ製造方法を示すフローチャートである。
【図６】第１の実施形態の封止材（断面涙型）が部材間の隙間を封止する様子を示す図である。
【図７】第１の実施形態の封止材（断面アーモンド型）が部材間の隙間を封止する様子を示す図である。
【図８】第２の実施形態の封止材が部材間の隙間を封止する様子を示す図である。
【図９】第３の実施形態の封止材が部材間の隙間を封止する様子を示す図である。
【図１０】第３の実施形態の封止材の概略図である。
【図１１】基準部材、照度ムラセンサ及び空間像計測センサを有するウエハステージの平面図である。
【図１２】半導体デバイスの製造工程の一例を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明の態様の露光装置及び露光装置のステージ製造方法の実施形態について図面を参照しながら説明する。
【００１２】
［第１の実施形態］
＜露光装置＞
図１に示す露光装置ＥＸは、スキャニングステッパーよりなる走査露光型の露光装置である。露光装置ＥＸは投影光学系ＰＬ（投影ユニットＰＵ）を備えており、以下において、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸと平行にＺ軸を取り、これに直交する面（ほぼ水平面に平行な面）内でレチクルとウエハとが相対走査される方向にＹ軸を、Ｚ軸及びＹ軸に直交する方向にＸ軸を取り、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸の回りの回転（傾斜）方向をそれぞれθｘ、θｙ、及びθｚ方向として説明を行う。
【００１３】
露光装置ＥＸは、照明系１０、照明系１０からの露光用の照明光（露光光）ＩＬにより照明されるレチクルＲ（マスク）を保持するレチクルステージＲＳＴ、レチクルＲから射出された照明光ＩＬをウエハＷ（基板）に投射する投影光学系ＰＬを含む投影ユニットＰＵ、ウエハＷを保持するウエハステージＷＳＴ（基板ステージ）を含むステージ装置９５、及び制御系等を備えている。
【００１４】
照明系１０は、例えば米国特許出願公開第２００３／００２５８９０号明細書などに開示されるように、光源と、照明光学系とを含み、照明光学系は、回折光学素子等を含み通常照明、複数極照明、又は輪帯照明等のための光量分布を形成する光量分布形成光学系、オプティカルインテグレータ（フライアイレンズ又はロッドインテグレータ等）を含む照度均一化光学系、及びレチクルブラインド等（いずれも不図示）を有する。照明系１０は、レチクルブラインドで規定されたレチクルＲのパターン面のスリット状の照明領域ＩＡＲを照明光ＩＬによりほぼ均一な照度で照明する。照明光ＩＬとしては、一例としてＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）が用いられている。なお、照明光としては、ＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）、ＹＡＧレーザ若しくは固体レーザ（半導体レーザなど）の高調波、又は水銀ランプの輝線（ｉ線等）なども使用できる。
【００１５】
レチクルＲはレチクルステージＲＳＴの上面に真空吸着等により保持され、レチクルＲのパターン面（下面）には、回路パターンなどが形成されている。レチクルステージＲＳＴは、例えばリニアモータ等を含むレチクルステージ駆動系１１によって、ＸＹ平面内で微少駆動可能であると共に、走査方向（Ｙ方向）に指定された走査速度で駆動可能となっている。
【００１６】
レチクルステージＲＳＴの移動面内の位置情報（Ｘ方向、Ｙ方向の位置、及びθｚ方向の回転角を含む）は、レーザ干渉計よりなるレチクル干渉計１１６によって、移動鏡１５（又は鏡面加工されたステージ端面）を介して例えば０．５〜０．１ｎｍ程度の分解能で常時検出される。レチクル干渉計１１６の計測値は、主制御装置２０に送られる。主制御装置２０は、その計測値に基づいてレチクルステージＲＳＴの少なくともＸ方向、Ｙ方向、及びθｚ方向の位置を算出し、この算出結果に基づいてレチクルステージ駆動系１１を制御することで、レチクルステージＲＳＴの位置及び速度を制御する。
【００１７】
図１において、レチクルステージＲＳＴの下方に配置された投影ユニットＰＵは、鏡筒４０と、該鏡筒４０内に所定の位置関係で保持された複数の光学素子を有する投影光学系ＰＬとを含む。投影光学系ＰＬは、例えば両側テレセントリックで所定の投影倍率β（例えば１／４倍、１／５倍などの縮小倍率）を有する。照明系１０からの照明光ＩＬによってレチクルＲの照明領域ＩＡＲが照明されると、レチクルＲを通過した照明光ＩＬにより、投影光学系ＰＬを介して照明領域ＩＡＲ内のレチクルＲの回路パターンの像が、ウエハＷの一つのショット領域上の露光領域ＩＡ（照明領域ＩＡＲと共役な領域）に形成される。ウエハＷは、例えばシリコン又はＳＯＩ(silicon on insulator)等からなる直径が２００ｍｍから４５０ｍｍ程度の円板状の基材の表面に、フォトレジスト（感光剤）を所定の厚さ（例えば２００ｎｍ程度）で塗布した基板を含む。
【００１８】
また、露光装置ＥＸは、液浸法を適用した露光を行うため、投影光学系ＰＬを構成する最も像面側（ウエハＷ側）の光学素子である先端レンズ１９１を保持する鏡筒４０の下端部の周囲を取り囲むように、局所液浸装置８の一部を構成するノズルユニット３２が設けられている。ノズルユニット３２は、露光用液体Ｌｑ（例えば純水）を供給可能な供給口と、液浸用液体Ｌｑを回収可能な多孔部材（メッシュ）が配置された回収口とを有する。ノズルユニット３２の供給口は、供給流路及び供給管３１Ａを介して、液体Ｌｑを送出可能な液体供給装置１８６に接続されている。
【００１９】
液浸法によるウエハＷの露光時に、液体供給装置１８６から送出された液浸用液体Ｌｑは、図１の供給管３１Ａ及びノズルユニット３２の供給流路を流れた後、その供給口より照明光ＩＬの光路空間を含むウエハＷ上の液浸領域１４に供給される。また、液浸領域１４からノズルユニット３２の回収口を介して回収された液浸液体Ｌｑは、回収流路及び回収管３１Ｂを介して液体回収装置１８９に回収される。
【００２０】
図１において、ウエハステージＷＳＴは、不図示の複数の例えば真空予圧型空気静圧軸受を構成するエアパッドを介して、ベース盤１２のＸＹ面に平行な上面１２ａ上に数μｍ程度のクリアランスを介して非接触で支持されている。また、ウエハステージＷＳＴは、例えば平面モータ、又は直交する２組のリニアモータを含むステージ駆動系１２４によってＸ方向及びＹ方向に駆動可能である。更に、露光装置ＥＸは、ウエハステージＷＳＴの位置情報を計測するために、エンコーダシステムを含む位置計測システムを備えている。
【００２１】
ウエハステージＷＳＴは、Ｘ方向、Ｙ方向に駆動されるステージ本体９１と、ステージ本体９１上に搭載されたウエハテーブルＷＴＢと、ステージ本体９１内に設けられて、ステージ本体９１に対するウエハテーブルＷＴＢ（ウエハＷ）のＺ方向の位置、及びθｘ方向、θｙ方向のチルト角を相対的に微小駆動するＺ・レベリング機構（不図示）とを備えている。ウエハテーブルＷＴＢの中央の上部には、ウエハＷを真空吸着等によってほぼＸＹ平面に平行な吸着面上に保持するウエハホルダ（不図示）が設けられている。
【００２２】
また、図２に示すように、ウエハテーブルＷＴＢの上面には、ウエハホルダ上に載置されるウエハＷの表面とほぼ同一面となる、液浸液体Ｌｑに対して撥液化処理された表面（又は保護部材）を有し、且つ外形（輪郭）が矩形でその中央部にウエハホルダ（ウエハの載置領域）よりも一回り大きな円形の開口が形成された高平面度の平板状のプレート体２８が設けられている。
【００２３】
プレート体２８は、図２のウエハテーブルＷＴＢ（ウエハステージＷＳＴ）の平面図に示されるように、その円形の開口を囲む、外形（輪郭）が矩形の表面に撥液化処理が施されたプレート部（撥液板）２８ａと、プレート部２８ａをＹ方向に挟むように配置されたＸ方向に細長い１対の第１及び第２のスケール体（グレーティング板）２８ｂ、２８ｃと、プレート部２８ａをＸ方向に挟むように配置されたＹ方向に細長い１対の第３及び第４のスケール体（グレーティング板）２８ｄ、２８ｅを有する。スケール体２８ｂ、２８ｃは同じ構成であり、スケール体２８ｄ、２８ｅはほぼスケール体２８ｂ、２８ｃを９０°回転した構成である。
【００２４】
また、第１、第２のスケール体２８ｂ、２８ｃの表面にＸ軸の回折格子３９Ｘ１、３９Ｘ２が形成され、第３、第４のスケール体２８ｄ、２８ｅの表面にＹ軸の回折格子３９Ｙ１、３９Ｙ２が形成されている。回折格子３９Ｘ１、３９Ｘ２及び３９Ｙ１、３９Ｙ２は、それぞれＹ方向及びＸ方向を長手方向とする格子線３７及び３８を所定の周期（ピッチ）でＸ方向及びＹ方向に沿って形成した反射型の回折格子（例えば位相型の回折格子）である。回折格子３９Ｘ１〜３９Ｙ２は、スケール体２８ｂ〜２８ｅの表面に、１００ｎｍ〜４μｍの周期（例えば２μｍ周期）で例えばホログラム（例えば感光性樹脂に干渉縞を焼き付けて作成される）により反射型の回折格子を形成することで作製できる。なお、各スケール体に形成される回折格子は、機械的に溝等を形成して作製してもよい。なお、図２では、図示の便宜上から、回折格子の周期は、実際の周期に比べて格段に広く図示されている。スケール体２８ｂ〜２８ｄの構成は同様であるため、代表的にスケール体２８ｄの概略構成を説明する。
【００２５】
スケール体２８ｄは、表面にＹ方向（計測方向）に所定の周期ＰＹを持つ回折格子３９Ｙ１が形成された平板状部材である。なお、回折格子３９Ｙ１の表面を保護するために、その表面を覆うように、薄い接着層を介して平板状のカバーガラス（不図示）を配置してもよい。スケール体２８ｄは、低熱膨張率の材料、例えばガラス、ガラスセラミックス（例えばショット社のゼロデュア（商品名））、又はセラミックス（例えばＡｌ2Ｏ3あるいはＴｉＣなど）等から形成されている。スケール体２８ｄは、ウエハテーブルＷＴＢの表面に例えば吸着保持されている。
【００２６】
本実施形態の露光装置ＥＸは、ステージの変位情報を得るために、該回折格子を用いたエンコーダシステムを含む位置計測システムを備える。投影光学系ＰＬの下端のノズルユニット３２の周囲には、エンコーダシステムの一部である、レーザ光源を備える検出ヘッド（不図示）が設けられている。検出ヘッドは、それぞれＹ方向及びＸ方向に所定周期で形成された回折格子３９Ｘ１、３９Ｘ２及び３９Ｙ１、３９Ｙ２にレーザビームを照射して、回折格子から発生する回折光よりなる干渉光を光電変換して、その回折格子のＹ方向及びＸ方向の位置、即ちステージの位置を例えば０．５〜０．１ｎｍの分解能で、例えば数ｎｍ程度の精度で計測する。
【００２７】
更に、本実施形態では、図２に示すプレート部２８ａの一部に基準マークが形成された基準マーク板（不図示）が固定されている。この底面に、その基準マークと対応するレチクルＲのアライメントマークの像との位置関係を計測するレチクルアライメント系（不図示）が設置され、この検出結果が主制御装置２０に供給されている。さらに、本実施形態では、図１に示すベース盤１２の上面１２ａに、ウエハステージＷＳＴと独立にＸ方向、Ｙ方向に移動可能に計測ステージ（不図示）が載置されている。計測ステージには、例えば投影光学系ＰＬの結像特性を計測する空間像計測装置（不図示）が配置されている。
【００２８】
図２に示すように、ウエハステージＷＳＴ（ＷＴＢ）は、複数の部材（２８ａ〜２８ｅ）からその表面が組み立てられている。そして、上述のように、グレーティング板２８ｂ〜２８ｅは、ステージの位置を検出する位置計測システムの一部であるので、応力により歪みが生じることのないよう、撥水板２８ａとの接触を避けて設置される。したがって、図３に示すように、撥水板２８ａとグレーティング板２８ｂ〜２８ｅの間には隙間２７が生じる。更に、撥水板２８ａとグレーティング板２８ｂ〜２８ｅとの間隔は一定ではなく、隙間２７の幅Ｄは約０．１〜０．５ｍｍの間で変動する。
【００２９】
撥水板２８ａとグレーティング板２８ｂ〜２８ｅの間に隙間を生じさせないために、撥水板２８ａとグレーティング板２８ｂ〜２８ｅを一体に成形することも考えられるが、以下のような課題があり実現されていない。まず、グレーティング板２８ｂ〜２８ｅがガラス又はセラミックスに撥水層を設けた精密部品であるのに対し、撥水板２８ａは、金属表面に撥水層を設けた比較的高い精度を要求されない部品である。このように、材質及び要求される精度の異なる撥水板２８ａとグレーティング板２８ｂ〜２８ｅを一体物として形成することは難しい。また、撥水板２８ａは、グレーティング板２８ｂ〜２８ｅと比較して交換頻度が高い部品なので、露光装置のメンテナンスコストの点からも、撥水板２８ａとグレーティング板２８ｂ〜２８ｅは、別部品とすることが望ましい。
【００３０】
図４に示すように、本実施形態では、撥水板２８ａとグレーティング板２８ｂ〜２８ｅの間に生じる隙間２７を封止する封止材として、細長状のフッ素樹脂製チューブ５０を用いる。細長状のフッ素樹脂製チューブ５０を、その長手方向がステージの表面とほぼ平行となる向きで隙間２７の中に設置することで、フッ素樹脂製チューブ５０は、隙間２７に沿ってその隙間２７を封止する。本実施形態において、「ステージの表面」とは、ウエハステージＷＳＴ（ウエハテーブルＷＴＢ）の液浸用液体が接触する面であり、撥水板２８ａおよびグレーティング板２８ｂ〜２８ｅ等の複数の部材から組み立てられている、ＸＹ平面とほぼ平行な面である。このように、フッ素樹脂製チューブ５０を隙間２７内に設置することにより、以下のような効果を奏する。
【００３１】
フッ素樹脂製チューブ５０は、可撓性で且つ中空であるため弾力性があり、隙間２７を形成する壁面に柔軟にフィットし、幅Ｄの一定でない隙間２７を効果的に封止することができる。これにより、ステージ内部に液浸用液体の浸入を防止できる。また、隙間２７を封止するフッ素樹脂製チューブ５０の側壁の一部は、ウエハテーブルＷＴＢの表面に露出して液浸用液体に接することになるが、フッ素樹脂は撥水性であるため、フッ素樹脂製チューブ５０上及び、フッ素樹脂製チューブ５０と隙間２７を形成する壁面とが形成する窪み５１に液浸用液体が残存することがない。
【００３２】
更に、フッ素樹脂製チューブ５０からは、液浸用液体への不純物の溶出が極めて少ない。したがって、液浸用液体へ溶出した不純物がウエハＷに付着して生じる露光不良を防止できる。また、フッ素樹脂製チューブ５０は、露光光に用いられる深紫外線であるＡｒＦエキシマレーザ光に対する耐久性が高く、長期間に渡り、撥水性を保ったまま封止材として機能する。
【００３３】
図４に示すように、フッ素樹脂製チューブ５０は、やや潰れた状態で、即ち、長手方向に対して垂直な断面の形状を楕円形に変形させた状態で隙間２７の中に設置される。やや潰れた状態のフッ素樹脂製チューブ５０は、弾性力によりその断面形状を円形に復活させようとする。そのため、フッ素樹脂製チューブ５０の側面は、隙間２７の幅Ｄが変化しても、隙間２７を形成する壁面に常にフィットして隙間を封止できる。
【００３４】
フッ素樹脂製チューブ５０は、チューブの両脇に配置され接触している撥水板２８ａとグレーティング板２８ｂ〜２８ｅの表面と面一となるように設置されることが好ましい。これは、隙間２７において、撥水板２８ａとグレーティング板２８ｂ〜２８ｅの表面と面一である仮想平面２６を考えた場合に、この仮想平面２６に、フッ素樹脂製チューブ５０の側面のうち、ウエハステージＷＳＴの外部に向かって最もに突出した部分５２が接触することを意味する。このように配置することで、フッ素樹脂製チューブ５０の周辺に液浸用液体が残存する可能性をより小さくすることができる。
【００３５】
フッ素樹脂製チューブ５０は、その弾性力及び隙間２７を形成する壁面との摩擦力によって、隙間２７内の特定位置に留まることができるが、フッ素樹脂製チューブ５０をより確実に隙間２７内に設置するために、ウエハステージＷＳＴの内部の隙間２７に対応する位置に、フッ素樹脂製チューブ５０（封止材）を下側から接触して支持する支持部材２９を設けてもよい。ステージ内部において、支持部材２９は、フッ素樹脂製チューブ５０を支持するので、フッ素樹脂製チューブ５０が何らかの原因で隙間２７から外れステージ内に落下することを防止し、隙間２７の封止をより確実なものにする。図４において、支持部材２９は、撥水板２８ａを支持する部材に一体に形成されているが、これに限定されず、グレーティング板２８ｂ〜２８ｅを支持する部材に一体に形成されていてもよい。
【００３６】
フッ素樹脂製チューブ５０の材質であるフッ素樹脂としては、ポリテトラフルオロエチレン(ＰＴＦＥ)、テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体（ＰＦＡ）、テトラフルオロエチレン・ヘキサフルオロプロピレン共重合体(ＦＥＰ)、テトラフルオロエチレン・エチレン共重合体（ＥＴＦＥ）、ポリクロロトリフルオロエチレン(ＰＣＴＦＥ)及びポリビニリデンフルオライド(ＰＶＤＦ)等が挙げられる。特に、レーザ耐久性及び撥水性の点から、ＰＴＦＥ製チューブ及びＰＦＡ製のチューブが好ましい。
【００３７】
フッ素樹脂製チューブ５０の直径（長手方向に対して垂直な方向の断面における直径）は、隙間２７を封止する観点から隙間２７の幅Ｄの最大値より大きく、且つ、取り扱い性及び作業性の観点から０．５ｍｍ〜５ｍｍが好ましい。また、フッ素樹脂製チューブ５０を隙間２７に挿入できるように、図４に示すフッ素樹脂製チューブの肉厚ｄ５０は、隙間２７の幅Ｄの最小値の半分より小さく、且つ、剛性の観点から１０μｍ〜５０μｍが好ましい。更に、フッ素樹脂製チューブ５０の長手方向の長さは、それが設置される隙間２７の長さに合わせて適宜選択可能であるが、取り扱い性、作業性及び直線性保持の観点から、５〜２０ｃｍが好ましい。
【００３８】
＜ステージの製造方法＞
フッ素樹脂製チューブの設置方法を含む、露光装置のステージの製造方法について、図５に従って説明する。まず、複数の部材（部品）からステージを組み立てる（ステップＳ１）。本実施形態においては、撥水板２８ａとグレーティング板２８ｂ〜２８ｅ等からウエハステージＷＳＴを組み立る。
【００３９】
撥水板２８ａとグレーティング板２８ｂ〜２８ｅの間には、隙間２７が存在しており、この隙間２７の幅Ｄに合わせて、適当な直径及び肉厚のフッ素樹脂製チューブ５０を用意する（ステップＳ２）。例えば、様々のサイズの医療用ＰＴＦＥ製チューブが米国Ｚｅｕｓ社から販売されており、これから適時選択して用いることもできる。
【００４０】
用意したフッ素樹脂製チューブ５０の長手方向に対して垂直な断面が、１つの先端部を有する涙型（ティアドロップ型、ペアシェイプ）となるようにフッ素樹脂製チューブ５０を変形させる。例えば、バイス（万力）の口金の長手方向とフッ素樹脂製チューブの長手方向が平行となるように互いを配置し、フッ素樹脂製チューブの一部を口金で挟んで口金を加圧する。チューブは、口金で挟んだ部分が潰れて先端部を形成し、その断面が涙型に変形する。
【００４１】
次に、変形させたフッ素樹脂製チューブ５０を隙間２７に沿って、即ち、その長手方向がウエハステージＷＳＴの表面とほぼ平行となるように隙間２７に挿入する（ステップＳ３）。このとき、図６に示すように、変形させたフッ素樹脂製チューブ５０の先端部が前記ステージの内部を向く方向にフッ素樹脂製チューブを隙間に挿入する。フッ素樹脂製チューブは潰されて変形し、長手方向に対して垂直な断面における先端部の幅が小さくなっているので、隙間２７に挿入しやすい。フッ素樹脂製チューブを隙間に挿入しやすいように変形させる作業は、チューブを隙間に挿入する直前に行ってもよいし、また、予め変形させたチューブを用意してもよい。
【００４２】
次に、チューブを隙間２７の中に固定させて、前記隙間を封止する（ステップＳ４）。変形を加えたフッ素樹脂製チューブ５０は、その弾性により断面を円形に復元しようとする力が働くので、一定時間放置することにより、フッ素樹脂製チューブ５０の側壁から、側壁が接触している隙間２７を形成する壁面に向かって力が加わる。その結果、フッ素樹脂製チューブ５０は隙間２７を確実に封止し、フッ素樹脂製チューブ５０と隙間２７を形成する壁面との間に生じる摩擦力により、フッ素樹脂製チューブ５０は隙間２７内に固定される。フッ素樹脂製チューブ５０を隙間２７に、より短時間で固定させるために、フッ素樹脂製チューブ５０を加熱してもよい。例えば、ドライヤー等により熱風を照射することにより、変形させたチューブはより短時間で元の形に復元しようとし、その結果、より短時間で隙間２７内に固定される。また、フッ素樹脂製チューブ５０の中空部分に空気、窒素等の不活性ガスを送り、内部から圧力をかけることによって変形されたチューブの復元を促進してもよい。不活性ガスの温度が高いとより効果的である。尚、復元される力によって隙間２７の中に固定されたチューブ５０は、図４に示すように、潰した先端部が無くなり断面が楕円形となるか、又は、図６に示すように、潰した先端部が無くなるまでは復元せずに、先端部を残したまま涙型を維持する。また、上述のように、フッ素樹脂製チューブ５０による隙間２７の封止をより確実なものとするために、ウエハステージＷＳＴの内部の隙間２７に対応する位置に、フッ素樹脂製チューブ５０（封止材）を支持する支持部材２９を設け、支持部材２９によりフッ素樹脂製チューブ５０を支持してもよい。
【００４３】
以上説明したように、ステップＳ１〜ステップＳ４の工程を経て、本実施形態のウエハステージＷＳＴは製造される。尚、本実施形態では、フッ素樹脂製チューブ５０を隙間２７に挿入しやすいように、その断面を涙型に変形させたが、図７に示すように断面を２つの先端部を有するアーモンド型（ラグビーボール型）に変形させてもよい。例えば、バイス（万力）の口金の長手方向とフッ素樹脂製チューブ５０の長手方向が平行となるように互いを配置し、フッ素樹脂製チューブ５０の一部を口金で挟んで口金を加圧して先端部を形成することを２回繰り返して、２つの先端部を有するアーモンド形に変形することができる。又は、バイス（万力）の口金でチューブ全体を挟み、空洞部を潰して端面が直線となるよう変形してもよい。チューブの復元が可能な範囲の変形であれば、チューブの復元の後、隙間を封止することが可能である。
【００４４】
尚、本実施形態では、ウエハステージＷＳＴの製造方法の一部として、隙間２７を封止材であるフッ素樹脂製チューブ５０で封止する方法を説明したが、露光装置ＥＸのメンテナンス方法の一部として、隙間２７を封止するフッ素樹脂製チューブ５０を交換することもできる。例えば、露光装置ＥＸの使用により、フッ素樹脂製チューブ５０が劣化した場合、露光装置ＥＸのメンテナンス方法の一部として、劣化したフッ素樹脂製チューブ５０を取り出し、次に、上述の方法で隙間２７を新しいフッ素樹脂製チューブ５０で封止する。また、撥水板２８ａは交換可能な部品であり、露光装置ＥＸのメンテナンス時に交換されるが、このとき、同時にフッ素樹脂製チューブ５０も交換することも考えられる。この場合、撥水板２８ａを新しい部品に交換した後、同様に上述の方法で、隙間２７を新しいフッ素樹脂製チューブ５０で封止する。
【００４５】
＜露光方法＞
次に、上述した露光装置ＥＸを使ってウエハＷを液浸露光する方法について説明する。主制御装置２０は、局所液浸装置８を制御してノズルユニット３２を介し投影光学系ＰＬとウエハＷとの間の露光光IＬの光路空間を液体Ｌｑで満たしてウエハＷ上に液体Ｌｑの液浸領域１４を形成する。主制御装置２０は、照明系１０、レチクルステージＲＳＴ及びウエハステージＷＳＴを制御して、レチクルＲを通過した露光光IＬを投影光学系ＰＬとウエハＷとの間の液浸用液体Ｌｑ及び投影光学系ＰＬを介してウエハＷに照射することによって、レチクルＲのパターンの像をステップ・アンド・スキャン方式でウエハＷに投影する。
【００４６】
液浸露光中、又はその前後において、例えば、ウエハＷの端部を露光する場合などに、液浸領域１４は撥水板２８ａ上とグレーティング板２８ｂ〜２８ｅ上に跨って存在する。この時、液浸領域１４を構成する液浸液体Ｌｑは、撥水板２８ａ、グレーティング板２８ｂ〜２８ｅ及びこれらの間に形成される隙間２７に配置されるフッ素樹脂製チューブ５０と接触するが、隙間２７はフッ素樹脂製チューブ５０により封止されているので、液浸用液体Ｌｑはステージ内部へ浸入しない。また、フッ素樹脂製チューブ５０は撥水性なので、フッ素樹脂製チューブ５０上及び、フッ素樹脂製チューブ５０と隙間２７を区画する壁面とが形成する窪み５１に液浸用液体が残存することはない。更に、フッ素樹脂製チューブ５０からは、液浸用液体への不純物の溶出が極めて少なく、不純物による露光不良を防止できる。また、フッ素樹脂製チューブ５０は、露光光に用いられる深紫外線であるＡｒＦエキシマレーザ等に対する耐久性が高く、長期間に渡り、撥水性を保ったまま封止材として機能することができる。
【００４７】
［第２の実施形態］
本実施形態の露光装置は、図８に示すように、封止材としてテープ１５０を用いた以外は第１の実施形態と同様の構成である。尚、第１の実施形態と共通の部材には、同一の番号を付し、その説明を省略する。
【００４８】
テープ１５０は、金属箔１５１と、金属箔１５１の一方の面に設けられた粘着層１５３と、金属箔１５１の他方の面に設けられたフッ素樹脂層１５２を有し、粘着層１５３を介して隙間２７を覆うようにステージの表面に貼付され、隙間２７を封止する。
【００４９】
フッ素樹脂層１５２に用いられるフッ素樹脂としては、第１の実施形態で用いたフッ素樹脂製チューブの材質であるフッ素樹脂と同等のものが挙げられる。特に、ＰＦＡ、ＰＴＦＥ及びＦＥＰは、レーザ耐久性が高く、液浸用液体への不純物への溶出が少ないので好ましい。
【００５０】
金属箔１５１は、テープ１５０の基材としての役割を果たし、レーザ耐久性を有し、且つ液浸用液体への不純物への溶出が少ないものが好ましい。このような材料として、例えば、チタン箔、チタン合金箔、タンタル箔又は、タンタル合金箔が好ましい。
【００５１】
粘着層１５３も液浸用液体への不純物への溶出が少ないことが好ましく、且つ他部材を汚染しないよう、アウトガスが少ないものが好ましい。また、粘着層１５３は金属箔１５１によってレーザ光から遮蔽されるため、レーザ耐久性は不要である。このような材料として、例えば、アクリル系粘着層、エポキシ系接着層等が好ましい。
【００５２】
テープ１５０の幅や長さは、隙間２７を十分に覆い封止可能なように、隙間２７の大きさに合わせて適宜選択可能であるが、取り扱い性及び作業性の観点から、幅０．３ｃｍ〜１．０ｃｍ及び長さ５ｃｍ〜２０ｃｍとすることが好ましい。また、粘着層１５３をレーザ光から確実に遮蔽し、且つ粘着層１５３の液浸用液体との接触をできるだけ回避するため、粘着層１５３の幅は金属箔１５１より、０．１〜１ｍｍ程度狭く、図８に示すように、粘着層１５３の両端部は金属箔１５１の両端部より内側に配置されていることが好ましい。テープ１５０の基材である金属箔１５１の厚さは、作業性が良い可撓性を得られるよう、１０〜５０μｍが好ましく、更に、テープ１５０の全体の厚みは、テープ１５０とステージの表面との段差に液体残りが生じないよう、１０〜３０μｍが好ましい。
【００５３】
テープ１５０は、隙間２７を上側から（ウエハテーブルＷＴＢの外部から）覆うように封止するので、幅Ｄの一定でない隙間２７を効果的に封止することができる。また、テープ１５０の表面は撥水性のフッ素樹脂層１５２が設けられているので、その上を液浸用液体が通過しても、液浸用液体が残存することがない。更に、テープ１５０は、上述のように液浸用液体への不純物の溶出が極めて少ない材料により構成されているので、液浸用液体へ溶出した不純物による露光不良を防止できる。また、テープ１５０は、露光光に用いられる深紫外線であるＡｒＦエキシマレーザ光に対する耐久性が高く、長期間に渡り、撥水性を保ったまま封止材として機能する。
【００５４】
テープ１５０は、例えば以下のようにして製造できる。まず、金属箔１５１を用意し、その一方の表面にフッ素樹脂層１５２を形成する。金属箔としては、例えば、ＴＰ２７０ＣやＴＰ３４０Ｃ（ＪＩＳ番号）等のチタン箔、ＴＰ２７０ＰｄＣやＴＰ２７０ＰｄＣ（ＪＩＳ番号）等のチタン合金箔を用いることができる。フッ素樹脂層は、例えば、ＰＦＡ、ＰＴＦＥ及びＦＥＰ等の蒸着、ＣＹＴＯＰ（旭化学）及びＴＥＦＬＯＮ―ＡＦ（デュポン）などの湿式コートにより形成できる。フッ素樹脂層１５２の形成後、フッ素樹脂層１５２のレーザ耐久性を向上させるために、必要により１２０〜２００℃で加熱を行ってもよい。次に、金属箔１５１のフッ素樹脂層１５２が形成された面とは異なる面（フッ素樹脂層１５２が形成された面の裏面）に粘着層１５３を形成する。例えば、粘着層１５３として、アクリル系の両面テープを用いることができる。尚、フッ素樹脂層をディップコートにより金属箔表面に形成した場合、金属箔の両表面にフッ素樹脂層が形成されるが、この場合、金属箔のどちらか一方の面にのみ、フッ素樹脂層に積層する形で、粘着層を形成する。
【００５５】
以上の方法で製造されたテープ１５０は、露光装置ＥＸのウエハステージＷＳＴの製造過程において、又は、露光装置ＥＸのメンテナンス時において、隙間２７を覆うように粘着層１５３を介してウエハステージＷＳＴの表面に貼付され、隙間２７を封止する。
【００５６】
隙間２７をテープ１５０で封止された露光装置ＥＸは、第１の実施形態と同様の方法で、液浸露光を行うことができる。液浸露光中、液浸領域１４を構成する液浸液体は、撥水板２８ａ、グレーティング板２８ｂ〜２８ｅ及びこれらの間に形成される隙間２７上に配置されるテープ１５０と接触するが、隙間２７はテープ１５０により封止されているので、ステージ内部への液浸用液体の浸入を防止できる。また、テープ１５０の表面は撥水性であるため、テープ１５０の表面に液浸用液体が残存することがない。また、テープ１５０の厚みは十分に薄いため、ステージ表面とテープ１５０の段差に液浸用液体が残存することもない。更に、テープ１５０からは、液浸用液体への不純物の溶出は極めて少なく、不純物による露光不良を防止できる。また、テープ１５０は、露光光に用いられる深紫外線であるＡｒＦエキシマレーザ等に対する耐久性が高く、長期間に渡り、撥水性を保ったまま封止材として機能することができる。
【００５７】
［第３の実施形態］
本実施形態の露光装置は、図９および図１０に示すように、封止材として管２５０を用いた以外は第１の実施形態と同様の構成である。尚、第１の実施形態と共通の部材には、同一の番号を付しその説明を省略する。
【００５８】
本実施形態の封止材は、シート状基材を中空部が形成されるように屈曲した部材であって、部材の外側の面はフッ素樹脂で形成されている。本実施形態では、このような部材として、外側の面にフッ素樹脂層２５２が設けられた金属箔２５１からなる管２５０を用いた。本実施形態の管２５０の長手方向に対して垂直な断面は、潰れた先端部２５３と丸みを有する末端部２５４を有する涙型である。管２５０は、隙間２７に沿って、即ち、その長手方向がステージの表面とほぼ平行となる向きで、且つ、先端部２５３をステージの内部に向けて隙間２７の中に設置され、隙間２７を封止する。
【００５９】
管２５０を構成する金属箔２５１及びその外側の面に形成されるフッ素樹脂層２５２は、第２の実施形態の封止材に用いる金属箔及びフッ素樹脂層と同様の材料を用いることができる。管２５０は、第２の実施形態の封止材と同様に、液浸用液体と接触し、且つレーザ光が照射されるため、液浸用液体への不純物への溶出が少なく、且つレーザ耐久性を有することが好ましい。このような観点から、金属箔としては、チタン箔、チタン合金箔、タンタル箔又はタンタル合金箔が、フッ素樹脂層としては、ＰＦＡ、ＰＴＦＥ又はＦＥＰが好ましい。
【００６０】
管２５０の長手方向に対して垂直な断面の幅であって、ステージの表面とほぼ平行な方向の幅の最大値Ｄ２５０は、上述のように管２５０が隙間２７を封止できるように、隙間２７の幅Ｄの最大値より大きく、且つ取り扱い性及び作業性の観点から０．３０ｍｍ〜０．３４ｍｍが好ましい。また、管２５０の肉厚ｄ２５０は、剛性の観点から、５μｍ〜３０μｍであることが好ましい。更に、管２５０の長手方向に対して垂直な断面における、先端部２５３から末端部２５４までの長さａ、管２５０の長手方向の長さｂは、それぞれ、作業性や直線性保持の観点から、長さａは、３ｍｍ〜１０ｍｍ、長さｂは、５ｃｍ〜２０ｃｍの範囲であることが好ましい。
【００６１】
管２５０は、中空であり、特に丸みを有する末端部２５４近傍は弾力性があるため、隙間２７を形成する壁面に柔軟にフィットし、幅Ｄの一定でない隙間２７を効果的に封止する。また、管２５０の表面は、撥水性のフッ素樹脂層２５２が設けられているので、液浸用液体が管２５０の表面及び管２５０と隙間２７を区画する壁面とが形成する窪み５１に残存することがない。更に、管２５０は、液浸用液体への不純物の溶出が極めて少なく、液浸用液体へ溶出した不純物による露光不良を防止できる。また、露光光に用いられる深紫外線であるＡｒＦエキシマレーザ等に対する耐久性が高く、長期間に渡り、撥水性を保ったまま封止材として機能する。
【００６２】
管２５０の周辺に液浸用液体が残存する可能性をより小さくするために、管２５０は、管２５０の両脇に配置され、管２５０と接触している撥水板２８ａ及びグレーティング板２８ｂ〜２８ｅと面一、つまり仮想平面２６と面一となるように配置されることが好ましい。仮想平面２６と面一となるとは、管２５０の側面のうち、ウエハステージＷＳＴの外部に向かって最も突出した部分２５５が仮想名面２６と接触するように配置されることである。また、管２５０は、隙間２７を形成する壁面との摩擦力によって、隙間２７内の特定の位置に位置しているが、その位置を固定し隙間２７内への設置を確実にするため、ウエハステージＷＳＴの内部の隙間２７に対応する位置に、管２５０（封止材）を支持する支持部材２９を設けてもよい。
【００６３】
管２５０は、例えば以下の様にして製造することができる。まず、矩形の金属箔２５１を用意し、その一方の表面にフッ素樹脂層２５２を形成する。金属箔２５１は、第２の実施形態で用いた金属箔１５１と同様のものを用いることができ、フッ素樹脂層２５２も第２の実施形態で用いたフッ素樹脂層１５２と同様の方法で形成することができる。次に、フッ素樹脂層２５２が形成された面を外側の面とする管（筒）が形成されるように、矩形の金属箔２５１の対向する両端を折り曲げ、その両端部を接着する。このとき、両端部の接着面を金属箔２５１における同一面（フッ素樹脂層２５２が形成されていない面）上に設けることで、管２５０の断面は、接着部分を潰れた先端部２５３とする涙型を形成する。金属箔２５１は、例えば点溶接により接着することができ、図１０に示すように、管２５０は複数の点溶接部２５５を有する。尚、フッ素樹脂層２５２をディップコートにより金属箔２５１の表面に形成した場合、金属箔２５１の両表面にフッ素樹脂層２５２が形成されるが、この場合、どちらか一方の面を外側にして管２５０を形成すればよい。
【００６４】
以上の方法で製造された管２５０は、露光装置ＥＸのウエハステージＷＳＴの製造過程において、又は、露光装置ＥＸのメンテナンス時において、その長手方向をステージの表面とほぼ平行となる向きで、且つ、先端部２５３をステージの内部に向けて隙間２７の中に設置され、隙間２７を封止する。
【００６５】
隙間２７を管２５０で封止された露光装置ＥＸは、第１の実施形態で説明した方法と同様の方法で、液浸露光を行うことができる。液浸露光中、液浸領域１４を構成する液浸液体は、撥水板２８ａ、グレーティング板２８ｂ〜２８ｅ及びこれらの間に形成される隙間２７に配置される管２５０と接触するが、隙間２７は管２５０により封止されているので、ステージ内部への液浸用液体の浸入を防止できる。また、管２５０の表面は撥水性であるため、管２５０の表面に液浸用液体が残存することがない。更に管２５０からは、液浸用液体への不純物の溶出が極めて少なく、不純物による露光不良を防止できる。管２５０は、露光光に用いられる深紫外線であるＡｒＦエキシマレーザ等に対する耐久性が高く、長期間に渡り、撥水性を保ったまま封止材として機能することができる。
【００６６】
尚、本実施形態のシート状基材は金属箔に限られず、例えば、フッ素樹脂製シートを用いることもできる。この場合、部材の外側の面はフッ素樹脂で形成されるので、別途、外側の面にフッ素樹脂層を設ける必要がない。また、本実施形態では、点溶接により金属箔の端部を閉じて管形状にした部材（封止材）を用いたが、本実施形態の部材（封止材）は、必ずしも管形状である必要はない。例えば、フッ素樹脂製シートを中空部が形成されるように屈曲して、曲面部を形成した部材でもよく、フッ素樹脂製シートの端部は、閉じられている必要はない。そして、このような部材も、部材が屈曲することによって形成された曲面部をステージの外部に向けて隙間２７の中に設置され、隙間２７を封止でき、上述の管２５０を用いた場合と同様の効果を奏する。
【００６７】
尚、上述の第１〜３の実施形態では、撥水板２８ａと封止材５０、１５０及び２５０は別々の部品であったが、撥水板と封止材は一体に接続されたひとつの部品であってもよい。例えば、撥水板２８ａの矩形の外周の４辺に、フッ素樹脂製チューブ５０の側面が接続されている形態である。撥水板２８ａは交換可能な部品であり、露光装置ＥＸのメンテナンス時に交換されるが、撥水板２８ａとフッ素樹脂製チューブ５０を一体の部品とすると、撥水板の交換とフッ素樹脂製チューブ５０の隙間２７への設置を一度に行うことができ作業効率がよい。
【００６８】
また、第１〜３の実施形態では、ウエハテーブルＷＴＢ（ウエハステージＷＳＴ）上の部品である、撥水板２８ａとグレーティング板２８ｂ〜２８ｅの間に生じる隙間２７を封止する態様について説明したが、封止材が封止する隙間はこれに限られない。例えば、露光装置ＥＸは、上述のようにベース盤１２の上面１２ａに、ウエハステージＷＳＴと独立にＸ方向、Ｙ方向に移動可能な計測ステージ（不図示）が載置されている。計測ステージには、例えば投影光学系ＰＬの結像特性を計測する空間像計測装置等、複数の部品が配置されているが、これら部品間に生じる隙間、又はこれら部品と計測ステージとの間に生じた隙間を上述の実施形態で説明した封止材によって封止してもよい。また、上述の実施形態で説明した封止材は、例えば、露光装置ＥＸにおけるノズルユニット３２と鏡筒４０との間に生じる隙間を封止することもきる。このような隙間を封止することにより、液浸用液体が露光装置内部に進入することを防止し、露光装置を電気的及び機械的に保護することができる。
【００６９】
更なる例として、図１１に、ウエハＷ２を保持するウエハステージＷＳＴ２を示す。ウエハステージＷＳＴ２には、第１〜３の実施形態で説明したウエハステージＷＳＴとは異なり、撥水板２８ａ及びグレーティング板２８ｂ〜２８ｄの代わりに、基準部材３００、照度ムラセンサ４００及び空間像計測センサ５００が設けられている。そして、基準部材３００、照度ムラセンサ４００及び空間像計測センサ５００と、ウエハステージＷＳＴ２の表面との間には、それぞれ、隙間Ｋ、Ｌ及びＮが形成されている。これら隙間Ｋ、Ｌ及びＮも、上述の実施形態で説明した封止材を用いて封止することが可能である。これにより、液浸用液体が露光装置内に進入することを防止できる等、上述の実施形態と同等の効果を奏することができる。
【００７０】
また、上記の実施形態の露光装置ＥＸ又は露光方法を用いて半導体デバイス等の電子デバイス（又はマイクロデバイス）を製造することができる。電子デバイスは、図１２に示すように、電子デバイスの機能・性能設計を行うステップＳ１１、この設計ステップに基づいたレチクル（マスク）を製作するステップＳ１２、デバイスの基材である基板（ウエハ）を製造してレジストを塗布するステップＳ１３、前述した実施形態の露光装置（露光方法）によりレチクルのパターンを基板（感光基板）に露光する工程、露光した基板を現像する工程、現像した基板の加熱（キュア）及びエッチング工程などを含む基板処理ステップＳ１４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む）Ｓ１５、並びに検査ステップＳ１６等を経て製造される。
【００７１】
言い換えると、このデバイスの製造方法は、上記の実施形態の露光装置ＥＸ（露光方法）を用いてレチクルのパターンの像を基板（ウエハ）に転写することと、そのパターンの像が転写されたその基板をそのパターンの像に基づいて加工すること（ステップＳ１４の現像、エッチング等）とを含んでいる。
【００７２】
なお、本発明は、上述のステップ・アンド・スキャン方式の走査露光型の投影露光装置（スキャナ）の他に、ステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパ等）にも適用できる。
【００７３】
また、本発明は、半導体デバイス製造用の露光装置に限らず、液晶表示素子やプラズマディスプレイなどを含むディスプレイの製造に用いられる、デバイスパターンをガラスプレート上に転写する露光装置、薄膜磁気ヘッドの製造に用いられるデバイスパターンをセラミックスウエハ上に転写する露光装置、並びに撮像素子（ＣＣＤなど）、有機ＥＬ、マイクロマシーン、ＭＥＭＳ(Ｍｉｃｒｏｅｌｅｃｔｒｏｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  Ｓｙｓｔｅｍｓ)、及びＤＮＡチップなどの製造に用いられる露光装置などにも適用することができる。このように、本発明は上述の実施形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取り得る
【符号の説明】
【００７４】
ＥＸ…露光装置、Ｒ…レチクル、Ｗ…ウエハ、ＷＴＢ…ウエハテーブル、ＷＳＴ…ウエハステージ、２０…主制御装置、５０、１５０、２５０…封止材、２８ａ…撥水板、２８ｂ〜２８ｅ…グレーティング板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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