(57)【要約】【課題】セラミック多層基板を用いた電子部品実装工程における歩留まりを改善することを目的としたセラミック多層基板を提供する。【解決手段】アルミナ成分とガラス成分を有するグリーンシートを焼成することに形成されたセラミック基板部２と、セラミック基板部２内部に形成された内部配線パターン３と、セラミック基板部２の表面に形成された外部配線パターン４と、セラミック基板部２に形成され、内部配線パターン３、もしくは前記外部配線パターン４に接続され、導電性ペーストが充填されたビア５と、内部配線パターン３、もしくは外部配線パターン４が形成される配線部６と、配線部６の周辺に配置された非配線部７と、を有するセラミック多層基板１において、非配線部７に、ビア５に充電された導電性ペーストと同一の導電性ペーストが充填されたダミービア８を設けたこと、を特徴とするセラミック多層基板１とした。【選択図】図２
2012114183.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルミナ成分とガラス成分を有するグリーンシートを焼成することに形成されたセラミック基板部と、
前記セラミック基板部内部に形成された内部配線パターンと、
前記セラミック基板部の表面に形成された外部配線パターンと、
前記セラミック基板部に形成され、前記内部配線パターン、もしくは前記外部配線パターンに接続され、導電性ペーストが充填されたビアと、
前記内部配線パターン、もしくは前記外部配線パターンが形成される配線部と、
前記配線部の周辺に配置された非配線部と、
を有するセラミック多層基板において、
前記非配線部に、前記ビアに充填された前記導電性ペーストと同一の導電性ペーストが充填されたダミービアを設けたこと、
を特徴とするセラミック多層基板。
【請求項２】
前記非配線部の面積に対する前記ダミービアの面積の占める比率は、前記配線部の面積に対する前記ビアの面積の占める比率と同等であること、
を特徴とする請求項１記載のセラミック多層基板。
【請求項３】
前記グリーンシートが焼成される際に、前記グリーンシートがその面積方向に対して無収縮であることを特徴とする請求項１乃至２に記載にセラミック多層基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、セラミック多層基板に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
セラミック多層基板は、耐熱性・耐湿性に優れ、また、高周波回路において良好な周波数特性を有することから、モバイル機器のＲＦ（Ｒａｄｉｏ  Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ）モジュール、放熱性を利用したパワーＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ、発光ダイオード）用の基板や液晶のバックライト向けＬＥＤ用の基板、また、自動車搭載用の電子制御回路用の基板として用いられている。
現在、このセラミック多層基板の平面寸法は、下記特許文献１に示すように、約１００ｍｍ角のセラミック多層基板が用いられていた（例えば、これに類似する技術は下記特許文献１に記載されている）。
【０００３】
また、現在のセラミック多層基板の平面方向の反りは、セラミック多層基板一辺が１００ｍｍの正方形のものの場合、３５ｕｍから２００ｕｍ程度（一般には約１００ｕｍ）となっていた（例えば、これに類似する技術は下記特許文献２に記載されている）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】国際公開第２００９／０８７８４５号
【特許文献２】特開２００８−２５１７８２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
近年の電子機器の高密度化に伴い、このセラミック多層基板のビア（ビア材が充填されたスルーホール）の間隔が２００ｕｍ以下と、ビア間隔の狭ピッチ化が進んでいる。
【０００６】
そのビア間隔の狭ピッチ化に伴い、セラミック多層基板の製造工程において、従来のセラミック多層基板の平面方向の反りの形状とは、異なった形状の反りが生じるようになってきた。
【０００７】
図１は、セラミック多層基板の反りの形状を示す斜視図を示すもので、図１（ａ）は従来の反りの形状（おわん型反り）のセラミック多層基板の反りの形状を示す斜視図、図１（ｂ）は、本願の解決しようとする課題のセラミック多層基板の反りの形状（鞍型反り）を示す斜視図を示すものである。
【０００８】
従来のセラミック多層基板の反りの形状は、図１（ａ）に示すような反り（以下、おわん型反りと記述する）であった。しかし、近年のセラミック多層基板のビア間隔の狭ピッチ化とセラミック多層基板の内部配線部の高密度化に伴い、ラミック多層基板の反りの形状は、図１（ｂ）に示すように、今までにはない、特殊な形状の反り（以下、鞍型反りと記述する）は生じることを見出した。
【０００９】
このようなセラミック多層基板の鞍型反りが生じてしまうと、セラミック多層基板上に、半導体チップ等の電子部品を実装する際、セラミック多層基板自身や、実装しようとする電子部品が破損してしまい、その結果として、セラミック多層基板を用いた電子部品実装工程における歩留まりが低下するという課題を有していた。
【００１０】
そこで、本発明は、セラミック多層基板の鞍型反りの発生を抑制することによって、セラミック多層基板を用いた電子部品実装工程における歩留まりを改善することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
そして、この目的を達成するために本発明は、アルミナ成分とガラス成分を有するグリーンシートを焼成することに形成されたセラミック基板部と、前記セラミック基板部内部に形成された内部配線パターンと、前記セラミック基板部の表面に形成された外部配線パターンと、前記セラミック基板部に形成され、前記内部配線パターン、もしくは前記外部配線パターンに接続され、導電性ペーストが充填されたビアと、前記内部配線パターン、もしくは前記外部配線パターンが形成される配線部と、前記配線部の周辺に配置された非配線部と、を有するセラミック多層基板において、前記非配線部に、前記ビアに充電された前記導電性ペーストと同一の導電性ペーストが充填されたダミービアを設けたこと、を特徴とするセラミック多層基板とし、これにより所期の目的を達成するものである。
【発明の効果】
【００１２】
以上のように本発明は、アルミナ成分とガラス成分を有するグリーンシートを焼成することに形成されたセラミック基板部と、前記セラミック基板部内部に形成された内部配線パターンと、前記セラミック基板部の表面に形成された外部配線パターンと、前記セラミック基板部に形成され、前記内部配線パターン、もしくは前記外部配線パターンに接続され、導電性ペーストが充填されたビアと、前記内部配線パターン、もしくは前記外部配線パターンが形成される配線部と、前記配線部の周辺に配置された非配線部と、を有するセラミック多層基板において、前記非配線部に、前記ビアに充電された前記導電性ペーストと同一の導電性ペーストが充填されたダミービアを設けたこと、を特徴とするセラミック多層基板としたものであるので、セラミック多層基板を用いた電子部品実装工程における歩留まりを改善することができる。
【００１３】
すなわち、本発明においては、前記非配線部に、前記ビアに充電された前記導電性ペーストと同一の導電性ペーストが充填されたダミービアを設けたることによって、前記グリーンシートが焼成される際の前記配線部全体の状態変化の影響（言い換えると、前記グリーンシートの前記配線部に対応する部分を形成するガラス成分、ビアに充填された導電性ペースト、それぞれの状態変化による影響）と、前記グリーンシートが焼成される際の前記非配線部全体の状態変化の影響（言い換えると、前記グリーンシートの前記非配線部に対応する部分を形成するガラス成分、ビアに充填された導電性ペースト、それぞれの状態変化による影響）とのギャップを抑えることによって、前記グリーンシートが焼成される際の、前記セラミック基板部全体における状態変化を平均化することができるので、その結果として、セラミック多層基板の鞍型反りの発生を抑制することができる。
【００１４】
すなわち、セラミック多層基板の鞍型反りの発生を抑制することによって、セラミック多層基板を用いた電子部品実装工程における歩留まりを改善することができるのである。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】セラミック多層基板の反りの形状を示す斜視図を示すもので、（ａ）は従来の反りの形状（おわん型反り）のセラミック多層基板の反りの形状を示す斜視図、（ｂ）は、本願の解決しようとする課題のセラミック多層基板の反りの形状（鞍型反り）を示す斜視図
【図２】本発明の実施の形態１におけるセラミック多層基板の平面図と断面図を示すものであり、（ａ）は平面図、（ｂ）は図２（ａ）中の点線Ａ−Ａの断面図
【図３】図１中の領域Ｂと領域Ｃを拡大した平面図であり、（ａ）は領域Ｂの平面図、（ｂ）は領域Ｃの平面図
【図４】本発明の実施の形態１におけるセラミック多層基板のプロセスフローを示す図
【図５】本発明の実施の形態１におけるグリーンシートの断面図を示すものであり、（ａ）はグリーンシート９Ａの断面図、（ｂ）はグリーンシート９Ｂの断面図、（ｃ）はグリーンシート９Ｃの断面図
【図６】本発明の実施の形態１の積層工程における積層手順を示す断面図
【図７】本発明の実施の形態１の積層工程におけるグリーンシート積層体の断面図
【図８】本発明の実施の形態１の積層工程における加圧加熱方法を説明する断面図
【図９】本発明の実施の形態１の脱バインダー工程における加熱方法を説明する断面図
【図１０】本発明の実施の形態１の焼成工程における加熱方法を説明する断面図
【図１１】本発明の実施の形態１の拘束層除去工程後におけるグリーンシート積層体の断面図
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下に、本発明の一実施形態を図面とともに詳細に説明する。
【００１７】
（実施の形態１）
［１］セラミック多層基板の構成
まず、はじめに、本発明の実施１におけるセラミック多層基板の構成に関して説明する。図２は、本発明の実施の形態１におけるセラミック多層基板の平面図と断面図を示すものであり、図２（ａ）は平面図、図２（ｂ）は図２（ａ）中の点線Ａ−Ａの断面図である。
【００１８】
図２に示すように、セラミック多層基板１は、複数（具体的には本実施形態では後述のように３枚）のセラミック製のグリーンシートを焼成して形成されたセラミック基板部２と、そのセラミック基板部２内部に形成された内部配線パターン３と、そのセラミック基板部２の表面に形成された外部配線パターン４と、そのセラミック基板部２に形成され、内部配線パターン３、もしくは前記外部配線パターン４のどちらかに接続され、導電性ペーストが充填されたビア５と、内部配線パターン３、もしくは外部配線パターン４が形成される配線部６と、その配線部６の周辺に配置された非配線部７と、を有している。
さらに、セラミック多層基板１は、非配線部７にダミービア８を形成している。ここで、ダミービア８に充填されている導体ペーストは、配線部６に形成されているビア５に充填されている導体ペーストと同一のものが用いられている。
【００１９】
また、セラミック基板部２の表裏に形成されている外部配線パターン４は、所望の電子部品（例えばＩＣ＝Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ  Ｃｕｉｒｃｕｉｔ）を実装するための電極や、所望の回路パターンとなっている。
【００２０】
本実施形態において、セラミック基板部２は、後述で再度説明するが、何れも、アルミナ粉末を５５［ｗｔ％］、ガラス粉末を４５［ｗｔ％］の割合で配合したガラス・セラミックの固体成分と、有機溶剤等からなる有機バインダーを、固体成分と有機バインダーとの割合が、固体成分８４：有機バインダー１６の重量比の割合で混合された組成物からなる、シート状の形状のグリーンシートと呼ばれるものを、複数枚（少なくとも２枚以上）積層し、加圧し、その後、９００［℃］にて焼成することによって形成する。なお、本実施形態のセラミック基板部２においては、三枚のグリーンシートを積層、焼成したものを用いた。
【００２１】
また、本実施形態において、セラミック基板部２の内部にあるビア５、および、ダミービア８は、前述の焼成前のグリーンシートに、予め、例えば、ＮＣパンチプレス（Ｎｕｍｅｒｉｃａｌ  Ｃｏｎｔｒｏｌパンチプレス）によって孔を形成し、その後、その孔に導電性ペーストを充填し、更に前述のセラミックシートを焼成する際に同時に焼成される事によって形成する。なお、本実施形態において、銀（Ａｇ）粒子とガラス成分を含有する導電性ペーストを用いた。
【００２２】
また、本実施形態において、セラミック基板部２の内部にある内部配線パターン３は、前述の焼成前のグリーンシートに、予め、スクリーン印刷法を用いて所望のパターンに印刷して形成後、前述のセラミックシートを焼成する際に同時に焼成される事によって形成している。なお、本実施形態においては、銀（Ａｇ）粒子とガラス成分を含有する導電性ペーストを用いた。
【００２３】
また、本実施形態において、セラミック基板部２の表面（表裏面）の外部配線パターン４は、前述のグリーンシートを焼成後、導電性ペーストをスクリーン印刷法により所望のパターンに印刷して形成後、前述のセラミックシートを焼成する温度より低い温度で、かつ、この導電性ペーストが十分に焼成される温度にて熱処理を行うことによって形成する。                                                                              なお、本実施形態においては、ビア５、およびダミービア８と同じく、銀（Ａｇ）粒子とガラス成分を含有する導電性ペーストを用いた。
【００２４】
以上のように本実施形態のセラミック多層基板１は、アルミナ成分とガラス成分を有するグリーンシートを焼成することに形成されたセラミック基板部２と、セラミック基板部２内部に形成された内部配線パターン３と、セラミック基板部２の表面に形成された外部配線パターン４と、セラミック基板部２に形成され、内部配線パターン３、もしくは前記外部配線パターン４に接続され、導電性ペーストが充填されたビア５と、内部配線パターン３、もしくは外部配線パターン４が形成される配線部６と、配線部６の周辺に配置された非配線部７と、を有するセラミック多層基板１において、非配線部７に、ビア５に充電された導電性ペーストと同一の導電性ペーストが充填されたダミービア８を設けたこと、
を特徴とするセラミック多層基板１としたものであるので、セラミック多層基板１を用いた電子部品実装工程における歩留まりを改善することができる。
【００２５】
すなわち、本発明においては、非配線部７に、ビア５に充電された導電性ペーストと同一の導電性ペーストが充填されたダミービア８を設けたることによって、グリーンシートが焼成される際の配線部６全体の状態変化の影響（言い換えると、グリーンシートの配線部６に対応する部分を形成するガラス成分、及びビア５に充填された導電性ペーストのそれぞれの状態変化による影響）と、グリーンシートが焼成される際の非配線部７全体の状態変化の影響（言い換えると、グリーンシートの非配線部７に対応する部分を形成するガラス成分、及びビアに充填された導電性ペーストのそれぞれの状態変化による影響）とのギャップを抑えることによって、グリーンシートが焼成される際の、セラミック基板部全体１における状態変化を平均化することができるので、その結果として、セラミック多層基板１の鞍型反りの発生を抑制することができる。
【００２６】
すなわち、セラミック多層基板１の鞍型反りの発生を抑制することによって、セラミック多層基板１を用いた電子部品実装工程における歩留まりを改善することができるのである。
【００２７】
また、図３は、図１中の領域Ｂと領域Ｃを拡大した平面図であり、図３（ａ）は領域Ｂの平面図、図３（ｂ）は領域Ｃの平面図を示すものである。
【００２８】
ここで、領域Ｂとは、配線部６からある一定の面積を抜きとった領域を示すものである。また、領域Ｃとは、非配線部７からある一定の面積を抜きとった領域を示すものである。なお、図３（ａ）、図３（ｂ）中の領域Ｂと領域Ｃはセラミック多層基板１の表面において、同一面積になるように記載している。
【００２９】
また、本実施形態においては、図３（ａ）、図３（ｂ）に示すように、ビア５とダミービア８は、同一直径（すなわち同一面積）の大きさになるように、セラミック多層基板1上の、それぞれ、配線部６、および非配線部７に設けている。
すなわち、図３（ａ）、（ｂ）に示すように、本実施形態においては、非配線部７の面積に対するダミービア８の面積の占める比率は、配線部６の面積に対するビア５の面積の占める比率が同等になるようにしている。
【００３０】
以上のように、非配線部７の面積に対するダミービア８の面積の占める比率は、配線部６の面積に対するビア５の面積の占める比率が同等になるように、セラミック多層基板１を構成することによって、グリーンシートが焼成される際の配線部６全体の状態変化の影響と、グリーンシートが焼成される際の非配線部７全体の状態変化の影響とのギャップをより安定して抑えることができるので、その結果として、セラミック多層基板１の鞍型反りの発生を。さらに安定して抑制することができる。
【００３１】
すなわち、セラミック多層基板１の鞍型反りの発生をさらに安定して抑制することによって、セラミック多層基板１を用いた電子部品実装工程における歩留まりを、更に安定して改善することができるのである。
【００３２】
なお、本実施形態においては、ビア５とダミービア８は、同一直径（すなわち同一面積）の大きさになるように、セラミック多層基板1上の、それぞれ、配線部６、および非配線部７に設けたが、必ずしも。ビア５とダミービア８は、同一直径（すなわち同一面積）の大きさにする必要はなく、非配線部７の面積に対するダミービア８の面積の占める比率は、配線部６の面積に対するビア５の面積の占める比率が同等になるように配置すればよい。
【００３３】
［２］セラミック多層基板の製造方法
それでは、以下に、本発明の実施の形態１におけるセラミック多層基板の製造方法について説明する。
【００３４】
図４は、本発明の実施の形態１におけるセラミック多層基板の製造方法のフローチャートを示すものである。
【００３５】
図４は、本実施形態のセラミック多層基板１のプロセスフローを示す図であり、大きく分けて、ステップ１：グリーンシート準備工程と、ステップ２：積層工程と、ステップ３：脱バインダー工程と、ステップ４：焼成工程と、ステップ５：拘束層除去工程と、ステップ６：外部配線パターン形成工程という、６つのステップからなるものである。
【００３６】
［ステップ１：グリーンシート準備工程］
図５は、本発明の実施の形態１におけるグリーンシートの断面図を示すものであり、図５（ａ）はグリーンシート９Ａの断面図、図５（ｂ）はグリーンシート９Ｂの断面図、図５（ｃ）はグリーンシート９Ｃの断面図を示すものである。
【００３７】
本実施形態においては、純のグリーンシート（アルミナ粉末を５５［ｗｔ％］、ガラス粉末を４５［ｗｔ％］の割合で配合したガラス・セラミックの固体成分と、有機溶剤等からなる有機バインダーを、固体成分と有機バインダーとの割合が、固体成分８４：有機バインダー１６の重量比の割合で混合された組成物をシート状に形成したもの）から、図
５（ａ）〜図５（ｃ）に示すように、グリーンシート９Ａ（図５（ａ））、グリーンシート９Ｂ（図５（ｂ））、グリーンシート９Ｃ（図５（ｃ））を作成する。
【００３８】
まず、はじめに、図５（ａ）に示すグリーンシート９Ａに関して説明する。グリーンシート７Ａには、例えば、ＮＣパンチプレスによって孔を形成し、その後、その孔に、銀（Ａｇ）粒子を含有する導電性ペーストを充填することによって、ビア５、ダミービア８を形成する。これにて、グリーンシート９Ａが完成する。
【００３９】
次に、図５（ｂ）に示すグリーンシート９Ｂに関して説明する。グリーンシート９Ｂは、はじめに、グリーンシート９Ａと同様に、孔を形成し、その後、その孔に、銀（Ａｇ）粒子を含有する導体ペーストを充填することによって、ビア５、ダミービア８を形成する。次に、グリーンシート９Ｂ上面に導電性ペーストを、スクリーン印刷法を用いて所望のパターンに印刷して、内部配線パターン３を形成する。これにて、グリーンシート９Ｂが完成する。
【００４０】
次に、図５（ｃ）に示すグリーンシート９Ｃに関して説明する。グリーンシート９Ｃは、グリーンシート９Ａと同様に、まずはじめに孔を形成し、その後、その孔に、銀（Ａｇ）粒子を含有する導体ペーストを充填することによって、ビア５、ダミービア８を形成する。次に、グリーンシート９Ｃ上面に導電性ペーストを、スクリーン印刷法を用いて所望のパターンに印刷して、内部配線パターン３を形成する。これにて、グリーンシート９Ｃが完成する。
以上が、図４中のステップ１のグリーンシート準備工程である。
【００４１】
［ステップ２：積層工程］
次に、図６、図７、図８を用いてステップ２の積層工程について説明する。図６は、本発明の実施の形態１の積層工程における積層手順を示す断面図である。また、図７は、本発明の実施の形態１の積層工程におけるグリーンシート積層体の断面図を示すものである。また、図８は、本発明の実施の形態１の積層工程における加圧加熱方法を説明する断面図を示すものである。
【００４２】
まず、はじめに、図６、図７に示している拘束層１０に関して説明する。
【００４３】
一般に、アルミナ粉末とガラス粉末を配合したガラス・セラミックの組成物で、シート状の形状のグリーンシートを、高温を印加すると、アルミナ粉末とガラス粉末が焼成することによって、そのグリーンシートの体積（平面方向、および厚さ方向）に収縮する。
【００４４】
本実施形態においても、次の工程であるステップ３：脱バインダー工程、ステップ４：焼成工程にて、グリーンシート積層体１１（図７中に図示）を、加圧しながら熱を印加するのであるが、その際、それらグリーンシート９Ａ、９Ｂ、９Ｃを挟み込むように、印加する温度では焼成しない成分のセラミックからなる拘束層１０をそれぞれ上下面に配置しておく。
【００４５】
こうすることによって、グリーンシー９Ａ、８９Ｂ、９Ｃは、図６中に示す、Ｘ方向、およびＹ方向（すなわち、グリーンシート積層体１１の平面方向）には収縮せず、Ｚ方向（すなわち、グリーンシート積層体１１の厚さ方向）にのみ収縮する。このＸ方向、Ｙ方向に収縮させないために、この拘束層１０を使用するのである。本実施形態においては、アルミナ粉末をシート状に成形したものを拘束層１０として用いた。
【００４６】
次に、図６を用いて、グリーンシート９Ａ、９Ｂ、９Ｃを積層し、グリーンシート積層体１１を準備する方法を説明する。
【００４７】
まず、拘束層１０上に、グリーンシート９Ｃを積層する。次に、グリーンシート９Ｃ上にグリーンシート９Ｂを積層し、更に、グリーンシート９Ｂ上にグリーンシート９Ａに所望の位置になるように、位置合わせを実施しながら積層する。
【００４８】
最後に、グリーンシート９Ａ上に、拘束層１０を配置する。
【００４９】
このようにして、図７に示すような、グリーンシート積層体１１が準備されるのである。
【００５０】
次に、図８に示すように、グリーンシート積層体１１を台座１２上に配置し、その上面から加圧加熱をすることによって、グリーンシート積層体１１中のグリーンシート９Ａ、９Ｂ、９Ｃ同士を仮接着する。
【００５１】
ここで、図８中のグリーンシート積層体１１は、図７中のグリーンシート積層体１１と同一のものであるが、図８中のグリーンシート積層体１１は簡略化して図示している。
【００５２】
また、本実施形態において、グリーンシート積層体１１を上から加圧した圧力は１５．２［ＭＰａ］とし、加熱温度は８５［℃］を用いた。このようにして、グリーンシート積層体１１中のグリーンシート９Ａ、９Ｂ、９Ｃ同士を仮接着する。
【００５３】
［ステップ３：脱バインダー工程］
次に、ステップ３の脱バインダー工程について説明する。
【００５４】
図９は、本発明の実施の形態１の脱バインダー工程における加熱方法を説明する断面図を示すものである。
【００５５】
この工程では、図９に示すように、（図８と同じように）、グリーンシート積層体１１を台座１３上に配置し、その上面から加熱をすることによって、グリーンシート積層体１１中のグリーンシート９Ａ、９Ｂ、９Ｃ内部の有機バインダーを除去する。
【００５６】
本実施形態において、グリーンシート積層体１１の加熱温度は６５０［℃］にて加熱を行った。このようにして、グリーンシート積層体１１中のグリーンシート９Ａ、９Ｂ、９Ｃ内部の有機バインダーを除去する。
【００５７】
［ステップ４：焼成工程］
次に、ステップ４の焼成工程について説明する。
【００５８】
図１０は、本発明の実施の形態１の焼成工程における加熱方法を説明する断面図を示すものである。
【００５９】
グリーンシート積層体１１を台座１４上に配置し、その上面から加熱をすることによって、グリーンシート積層体１１を焼成する。本実施形態において、グリーンシート積層体１１上の加熱温度は前述のように９００［℃］を用いた。
このようにして、この焼成工程後、図１０に示すように、グリーンシート積層体１１は、その厚さ方向に収縮したものになる。
【００６０】
［ステップ５：拘束層除去工程］
次に、ステップ５の拘束層除去工程について説明する。
この工程では、水９６ｇと平均粒径０．１〜１０ｕｍのアルミナ粉末４ｇの割合の混合物を、圧力０．４［ＭＰａ］の圧縮空気にて、グリーンシート積層体８の上下面の拘束層１０上から吹き付ける。
【００６１】
図１１は、本発明の実施の形態１の拘束層除去工程後におけるグリーンシート積層体の断面図を示すものである。こうすることによって、拘束層１０のみ除去することができ、図１１に示すようなものになる。
【００６２】
［ステップ６：外部配線パターン形成工程］
次に、ステップ６の外部電極・回路パターン配線部形成工程について説明する。
【００６３】
ステップ６にて焼成されたグリーンシート積層体１１の表裏面（上下面）に、図１に示すような、外部配線パターン４を形成する。
【００６４】
本実施形態においては、前述のように、スクリーン印刷法を用いて、導体ペーストを所望のパターンに印刷して形成し、その後、ステップ３の焼成工程で印加した温度より低い温度で、かつ、導体ペーストが十分に焼成される温度にて熱処理を行うことによって形成した。本実施形態においては、この導体ペーストの焼成温度が８５０℃の銀ペースト（Ａｇペースト）を用い、焼成のための熱処理温度は８５０℃を用いた。
【００６５】
この工程後のグリーンシート積層体１１は、図１に示すような、本実施形態のセラミック多層基板になる。
【００６６】
以上のように、図４に示すステップ１からステップ６を行うことによって、本実施形態のセラミック多層基板を製造することができる。
【産業上の利用可能性】
【００６７】
本発明にかかるセラミック多層基板は、セラミック多層基板の反りを低減することができるので、特に、最近普及の進んでいる液晶テレビや携帯電話の液晶画面用のバックライト向けＬＥＤ用の基板として用いられることが大いに期待されるものとなる。
【符号の説明】
【００６８】
１  セラミック多層基板
２  セラミック基板部
３  内部配線パターン
４  外部配線パターン
５  ビア
６  配線部
７  非配線部
８  ダミービア
９Ａ、９Ｂ、９Ｃ  グリーンシート
１０  拘束層
１１  グリーンシート積層体
１２、１３、１４  台座
【図１】
2012114183.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
2012114183.tif 000007
【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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