(57)【要約】【課題】レーザ光を効率的に増幅する。【解決手段】ＥＵＶ光源装置は、レーザ装置と、前記レーザ装置から出力されたレーザ光を入力して所定のターゲット物質に集光し、該レーザ光の集光によって励起した前記所定のターゲット物質から放射した極端紫外光を集光しつつ出力するチャンバと、を備える。レーザ装置は、スラブ型増幅装置と、前記光を出力するマスタオシレータと、前記スラブ型増幅装置から出力された光を増幅する増幅器と、を備える。スラブ型増幅装置は、自由空間軸と導波軸とを有する第１スラブ型増幅器と、前記第１スラブ型増幅器の入力段に配置され、該第１スラブ型増幅器に入力する光の偏光方向および断面形状の少なくとも一方を変換する第１ビーム調節部と、を備える。【選択図】図１
2012109417.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つのスラブ型増幅器と、
前記少なくとも１つのスラブ型増幅器の入力側および出力側の少なくとも一方に配置される、少なくとも１つのビーム調節光学ユニットと、
を備えるスラブ型増幅装置。
【請求項２】
前記少なくとも１つのビーム調節光学ユニットが、該少なくとも１つのビーム調節光学ユニットに入力されるレーザ光の偏光方向およびビーム断面形状の少なくとも一方を変換して出力する、
請求項１記載のスラブ型増幅装置。
【請求項３】
前記少なくとも１つのビーム調節光学ユニットが、第１のビーム調節光学ユニットを含み、
該第１のビーム調節光学ユニットが、前記少なくとも１つのスラブ型増幅器の入力側に配置される、
請求項２記載のスラブ型増幅装置。
【請求項４】
前記少なくとも１つのスラブ型増幅器において、自由空間軸が定義され、
前記第１のビーム調節光学ユニットが、少なくとも１つの偏光方向調節光学ユニットを含み、
前記少なくとも１つの偏光方向調節光学ユニットが、該少なくとも１つの偏光方向調節光学ユニットに入力されるレーザ光の偏光方向を、前記自由空間軸方向と略一致するように変換して出力する、
請求項３記載のスラブ型増幅装置。
【請求項５】
前記少なくとも１つのスラブ型増幅器において、自由空間軸が定義され、
前記第１のビーム調節光学ユニットが、少なくとも１つのビーム形状調節光学ユニットを含み、
前記少なくとも１つのビーム形状調節光学ユニットが、該少なくとも１つのビーム形状調節光学ユニットに入力されるレーザ光のビーム断面を、前記自由空間軸方向に長い形状に変換して出力する、
請求項３記載のスラブ型増幅装置。
【請求項６】
前記少なくとも１つのスラブ型増幅器において、自由空間軸が定義され、
前記第１のビーム調節光学ユニットが、少なくとも１つの偏光方向調節光学ユニットおよび少なくとも１つのビーム形状調節光学ユニットを含み、
前記少なくとも１つの偏光方向調節光学ユニットが、該少なくとも１つの偏光方向調節光学ユニットに入力されるレーザ光の偏光方向を、前記自由空間軸方向と略一致するように変換して出力し、
前記少なくとも１つのビーム形状調節光学ユニットが、該少なくとも１つのビーム形状調節光学ユニットに入力されるレーザ光のビーム断面を、前記自由空間軸方向に長い形状に変換して出力する、
請求項３記載のスラブ型増幅装置。
【請求項７】
前記少なくとも１つのビーム調節光学ユニットが、第２のビーム調節光学ユニットを含み、
前記第２のビーム調節光学ユニットが、前記少なくとも１つのスラブ型増幅器の出力側に配置される、
請求項２記載のスラブ型増幅装置。
【請求項８】
前記第２のビーム調節光学ユニットが、少なくとも１つの偏光方向調節光学ユニットを含み、
前記少なくとも１つの偏光方向調節光学ユニットが、該少なくとも１つの偏光方向調節光学ユニットに入力されるレーザ光の偏光方向を、所定の方向に変換して出力する、
請求項７記載のスラブ型増幅装置。
【請求項９】
前記第２のビーム調節光学ユニットが、少なくとも１つのビーム形状調節光学ユニットを含み、
前記少なくとも１つのビーム形状調節光学ユニットが、該少なくとも１つのビーム形状調節光学ユニットに入力されるレーザ光のビーム断面形状を、所定の形状に変換して出力する、
請求項７記載のスラブ型増幅装置。
【請求項１０】
前記第２のビーム調節光学ユニットが、少なくとも１つの偏光方向調節光学ユニットおよび少なくとも１つのビーム形状調節光学ユニットを含み、
前記少なくとも１つの偏光方向調節光学ユニットが、該少なくとも１つの偏光方向調節光学ユニットに入力されるレーザ光の偏光方向を、所定の方向に変換して出力し、
前記少なくとも１つのビーム形状調節光学ユニットが、該少なくとも１つのビーム形状調節光学ユニットに入力されるレーザ光のビーム断面形状を、所定の形状に変換して出力する、
請求項７記載のスラブ型増幅装置。
【請求項１１】
前記少なくとも１つのビーム調節光学ユニットが、第１および第２のビーム調節光学ユニットを含み、
前記第１のビーム調節光学ユニットが、前記少なくとも１つのスラブ型増幅器の入力側に配置され、
前記第２のビーム調節光学ユニットが、前記少なくとも１つのスラブ型増幅器の出力側に配置される、
請求項２記載のスラブ型増幅装置。
【請求項１２】
前記少なくとも１つのスラブ型増幅器において、自由空間軸が定義され、
前記少なくとも１つのスラブ型増幅器が、複数設けられ、
前記複数のスラブ型増幅器が、少なくとも前記自由空間軸方向および前記自由空間軸と直交する軸方向において、互いに平行に配置される
請求項２記載のスラブ型増幅装置。
【請求項１３】
マスタオシレータと、
前記マスタオシレータから出力されるレーザ光が入力される、請求項２〜１２のいずれか１項に記載のスラブ型増幅装置と、
前記スラブ型増幅装置から出力されるレーザ光を増幅する増幅器と、
を備えるレーザ装置。
【請求項１４】
請求項１３に記載のレーザ装置を備える極端紫外光源装置。
【請求項１５】
前記偏光方向調節光学ユニットは少なくとも、λ/４波長板、λ/２波長板、複数の高反射ミラーのいずれかを含む、
請求項４記載のスラブ型増幅装置。
【請求項１６】
前記ビーム形状調節光学ユニットは少なくとも凹面シリンドリカルミラー、凸面シリンドリカルミラー、凹面シリンドリカルレンズ、凸面シリンドリカルレンズ、凹面軸外方物面ミラー、凸面軸外方物面ミラーのいずれかを含む、
請求項５記載のスラブ型増幅装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、スラブ型増幅装置、およびそれを備えるレーザ装置、ならびにレーザ装置を備える極端紫外光源装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、たとえば半導体プロセスのフォトリソグラフィに使用される光源装置としては、エキシマレーザが存在する。また、近年では、半導体プロセスのさらなる微細化を目的として、極端紫外（Ｅｘｔｒｅｍｅ  Ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ：ＥＵＶ）光源装置の研究が進められている。また、これらの光源装置は、レーザ加工装置にも使用される場合がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１０−２１５１８号公報
【特許文献２】米国特許出願公開第２０１０／０１９５１９６号
【概要】
【０００４】
本開示の一態様によるスラブ型増幅装置は、少なくとも１つのスラブ型増幅器と、少なくとも１つのスラブ型増幅器の入力側および出力側の少なくとも一方に配置される少なくとも１つのビーム調節光学ユニットとを備えてもよい。
【０００５】
また、本開示の別の態様によるレーザ装置は、マスタオシレータと、マスタオシレータから出力されるレーザ光が入力されるスラブ型増幅装置と、スラブ型増幅装置から出力されるレーザ光を増幅する増幅器とを備えてもよい。
【０００６】
また、本開示のさらなる別の態様による極端紫外光源装置は、上述のレーザ装置を備えてもよい。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】図１は、実施の形態１によるＥＵＶ光源装置を示す。
【図２】図２は、実施の形態１によるスラブ型増幅装置の概略構成を示す。
【図３】図３は、図２のスラブ型増幅器の概略構成を示す。
【図４】図４は、図３のスラブ型増幅器の断面図を示す。
【図５】図５は、実施の形態１によるレーザ光のビーム断面形状の一例を示す。
【図６】図６は、実施の形態１においてスラブ型増幅装置に入力されるレーザ光の一例を示す。
【図７】図７は、実施の形態１においてスラブ型増幅装置中のレーザ光の一例を示す。
【図８】図８は、実施の形態１においてスラブ型増幅装置から出力されるレーザ光の一例を示す。
【図９】図９は、本実施の形態１による偏光方向調節光学ユニットの一例を示す。
【図１０】図１０は、偏光方向調節光学ユニットの変形例１を示す。
【図１１】図１１は、偏光方向調節光学ユニットの変形例２を示す。
【図１２】図１２は、本実施の形態１における入力側のビーム形状調節光学ユニットの一例を示す。
【図１３】図１３は、本実施の形態１における出力側のビーム形状調節光学ユニットの一例を示す。
【図１４】図１４は、ビーム形状調節光学ユニットの変形例１を示す。
【図１５】図１５は、ビーム形状調節光学ユニットの変形例２を示す。
【図１６】図１６は、ビーム形状調節光学ユニットの変形例３を示す。
【図１７】図１７は、スラブ型増幅装置の変形例１を示す。
【図１８】図１８は、スラブ型増幅装置の変形例２を示す。
【図１９】図１９は、スラブ型増幅装置の変形例３を示す。
【図２０】図２０は、スラブ型増幅装置の変形例４を示す。
【図２１】図２１は、スラブ型増幅装置の変形例５を示す。
【図２２】図２２は、実施の形態２によるスラブ型増幅装置の一例を示す。
【図２３】図２３は、図２２のビーム調節光学ユニットの具体例を示す。
【図２４】図２４は、実施の形態３によるスラブ型増幅装置の一例を示す。
【実施するための形態】
【０００８】
以下、本開示を実施するための形態を添付の図面を参照に詳細に説明する。なお、以下の説明において、各図は本開示の内容を理解し得る程度に形状、大きさ、および位置関係を概略的に示してあるに過ぎず、従って、本開示は各図で例示された形状、大きさ、および位置関係のみに限定されるものではない。また、各図では、構成の明瞭化のため、断面におけるハッチングの一部が省略されている。さらに、後述において例示する数値は、本開示の好適な例に過ぎず、従って、本開示は例示された数値に限定されるものではない。
【０００９】
（実施の形態１）
以下、本開示の実施の形態１を、図面を参照して詳細に説明する。図１は、本実施の形態１によるＥＵＶ光源装置を示す。ＥＵＶ光源装置１００は、ドライバレーザ１０１と、チャンバ４０と、ドライバレーザ１０１からのレーザ光Ｌ２をチャンバ４０内の所定の位置（プラズマ生成サイトＰ１）に集光するレーザ集光光学素子（例えば、軸外放物面ミラーＭ４）とを備えてもよい。また、チャンバ４０と露光装置６０との間には、露光装置接続部５０が設けられてもよい。
【００１０】
ドライバレーザ１０１は、マスタオシレータ１０と、空間フィルタ２０と、第１および第２のスラブ型増幅装置３０ａおよび３０ｂと、リレー光学系Ｒ１と、高反射ミラーＭ１およびＭ２と、リレー光学系Ｒ２〜Ｒ４と、第１および第２の高速軸流型増幅器ＭＡ１およびＭＡ２と、高反射ミラーＭ３と、を備えてもよい。
【００１１】
マスタオシレータ１０は、たとえば量子カスケードレーザや分布帰還型半導体レーザなどの半導体レーザであってもよい。ただし、これらに限定されず、シード光としてのレーザ光を出力可能な種々のレーザデバイスを用いることができる。マスタオシレータ１０から出力されたレーザ光Ｌ１は、たとえばアパーチャを有する隔壁とレンズとの組合わせで構成される空間フィルタ２０を通過することにより、その干渉等が抑えられ得る。
【００１２】
空間フィルタ２０を通過したレーザ光Ｌ１は、２つのスラブ型増幅装置３０ａおよび３０ｂを通過する際に増幅される。増幅後のレーザ光を、レーザ光Ｌ２とする。また、第１のスラブ型増幅装置３０ａと第２のスラブ型増幅装置３０ｂとの間には、レーザ光Ｌ２のビーム径を拡大するリレー光学系Ｒ１が配置される。リレー光学系Ｒ１は、第１のスラブ型増幅装置３０ａから出力されたレーザ光Ｌ２のダイバージェンスアングルやビームプロファイルを修正する。これにより、レーザ光Ｌ２が第２のスラブ型増幅装置３０ｂにて効率よく増幅され得る。
【００１３】
第２のスラブ型増幅装置３０ｂから出力されたレーザ光Ｌ２は、高反射ミラーＭ１およびＭ２で反射された後、リレー光学系Ｒ２に入射する。リレー光学系Ｒ２は、レーザ光Ｌ２のビーム径を拡大する。ビーム径が拡大されたレーザ光Ｌ２は、第１の高速軸流型増幅器ＭＡ１における増幅空間の略全域を通過する。これにより、第１の高速軸流型増幅器ＭＡ１における増幅空間のエネルギーを効率的にレーザ光Ｌ２に付与可能となる。第１の高速軸流型増幅器ＭＡ１から出力されたレーザ光Ｌ２は、リレー光学系Ｒ３にて平行光化された後、第２の高速軸流型増幅器ＭＡ２に入射する。リレー光学系Ｒ３から出力されたレーザ光Ｌ２は、ビーム径が拡大された状態を保っているため、第２の高速軸流型増幅器ＭＡ２における増幅空間の略全域を通過することができる。これにより、第２の高速軸流型増幅器ＭＡ２における増幅空間のエネルギーを効率的にレーザ光Ｌ２に付与可能となる。
【００１４】
第２の高速軸流型増幅器ＭＡ２から出力されたレーザ光Ｌ２は、リレー光学系Ｒ４によって平行光化された後、高反射ミラーＭ３で反射される。このようにして、ドライバレーザ１０１からハイパワーのレーザ光Ｌ２が出力され得る。
【００１５】
ドライバレーザ１０１から出力されたレーザ光Ｌ２は、軸外放物面ミラーＭ４で反射され、チャンバ４０内のプラズマ生成サイトＰ１またはその近傍に集光される。なお、軸外放物面ミラーＭ４は、チャンバ４０外に配置されても、チャンバ４０内に配置されてもよい。
【００１６】
チャンバ４０には、ドライバレーザ１０１から出力されたレーザ光Ｌ２が透過するウィンドウ４１に加えて、ドロップレットジェネレータ４２と、ターゲット回収部４３と、ＥＵＶ集光光学素子（例えば、ＥＵＶ集光ミラーＭ５）とをさらに備えてもよい。
【００１７】
ドロップレットジェネレータ４２は、ノズル４２ａを介して溶融したターゲット物質をドロップレットＤの形態で出力する。ドロップレットＤは、プラズマ生成サイトＰ１に向けて、ノズル４２ａから出力される。レーザ光Ｌ２は、ドロップレットＤがプラズマ生成サイトＰ１に到着するタイミングに合わせて、プラズマ生成サイトＰ１に集光される。なお、レーザ光Ｌ２は、たとえばＥＵＶ集光ミラーＭ５の中心に軸方向に設けられた貫通穴Ｍ５ａを介してドロップレットＤに集光されてもよい。
【００１８】
集光されたレーザ光Ｌ２がドロップレットＤに照射されると、ドロップレットＤを構成するターゲット物質の一部または全部がイオン化し、プラズマ化する。このプラズマが脱励起する際、たとえば１３．５ｎｍ付近の波長のＥＵＶ光Ｌ３を含む光が放射される。ＥＵＶ集光ミラーＭ５は、プラズマから放射された光のうち、ＥＵＶ光Ｌ３を選択的に反射する。反射されたＥＵＶ光Ｌ３は、チャンバ４０の外部の露光装置接続部５０内に設定された中間集光点ＩＦに集光された後、露光装置６０へ入力されてもよい。あるいは図示しない他の加工装置に入力されてもよい。
【００１９】
なお、プラズマの発生に寄与しなかったドロップレットＤまたはドロップレットＤの残骸は、たとえばプラズマ生成サイトＰ１を挟んでノズル４２ａと対向するようにチャンバ４０に配置されたターゲット回収部４３によって回収されてもよい。
【００２０】
また、チャンバ４０には、プラズマ生成サイトＰ１付近に磁場を発生させる、少なくとも１つの電磁石コイル４４が設けられてもよい。プラズマ生成サイトＰ１付近で発生したターゲット物質の帯電物（粒子、イオン等）は、電磁石コイル４４が発生させる磁場にトラップされ、その結果、所定の方向へ向かうイオン流が生成される。このイオン流の下流側に回収部を配置しておくことで、ターゲット物質のデブリを容易に回収することが可能となる。
【００２１】
／スラブ型増幅装置
ここで、本実施の形態１におけるスラブ型増幅装置３０ａおよび３０ｂを、図面を参照して詳細に説明する。なお、以下の説明において、スラブ型増幅装置の共通構成を説明する場合、スラブ型増幅装置は符号３０で参照される。図２は、スラブ型増幅装置の構成を概略的に示す。スラブ型増幅装置３０は、入力側と出力側とにそれぞれ配置されたビーム調節光学ユニット３１および３２と、スラブ型増幅器ＳＡと、を備えてもよい。
【００２２】
／／スラブ型増幅器
図３は、図２のスラブ型増幅器の概略構成を示す。なお、図３では、内部構成を示すため、スラブ型増幅器ＳＡの外部筐体（気密容器）を省略する。図３に示すように、スラブ型増幅器ＳＡは、入力側ウィンドウＷ３１と、２つの互いに対向する放電電極３３１および３３２と、２つの凹球面ミラーＭ３１およびＭ３２と、出力側ウィンドウＷ３２と、を備えてもよい。一方の放電電極３３２はたとえば接地されており、他方の放電電極３３１には、たとえば交流電源３３４から交流ＲＦ電圧が印加されてもよい。この２つの放電電極３３１と３３２との間には、ガス状の増幅媒体が充填され、放電電極への電圧印加により放電領域３３３が形成される。２つの凹球面ミラーＭ３１およびＭ３２は、レーザ光Ｌ１（Ｌ２）を反射し、反射されたレーザ光Ｌ１（Ｌ２）が放電領域３３３内を往復する。レーザ光Ｌ１（Ｌ２）は放電領域３３３を通過する際に増幅されエネルギーを付与される。入力側ウィンドウＷ３１から入射したレーザ光Ｌ１（Ｌ２）は、２つの凹球面ミラーＭ３１およびＭ３２によって反射され、増幅された後、出力側ウィンドウＷ３２より出力される。
【００２３】
また、２つの放電電極３３１および３３２内には、不図示の冷却装置から供給された冷却媒体が流れる流路が形成されていてもよい。冷却装置から供給された冷却媒体Ｃ３１は、流入口３３１ａおよび３３２ａから放電電極３３１および３３２内にそれぞれ流入し、放電電極３３１および３３２内の不図示の流路を通過する際に放電電極３３１および３３２の熱を奪い、その後、流出口３３１ｂおよび３３２ｂより排水Ｃ３２として流出する。
【００２４】
このようなスラブ型増幅器ＳＡでは、たとえば図４に示すように、放電電極３３１および３３２に対して垂直な導波軸ＡＷ（電界印加方向）と、放電電極３３１および３３２に対して平行な自由空間軸ＡＦとが定義される。スラブ型増幅器ＳＡでの増幅効率を高めるためには、レーザ光の偏光方向が、自由空間軸ＡＦと平行であるのが好ましい。また、放電領域３３３の導波軸ＡＷ方向の長さｇ（電極間のギャップ長さ）は、通常、数ｍｍである。これは、自由空間軸ＡＦ方向の放電領域３３３の長さと比較して非常に短い。そこで、スラブ型増幅器ＳＡに入射するレーザ光は、偏光方向が自由空間軸ＡＦと平行であって、ビーム断面形状が自由空間軸ＡＦ方向に長いことが好ましい。
【００２５】
また、スラブ型増幅器ＳＡは、水平面Ｈ（Ｘ−Ｙ平面）に対して所定角度θ（たとえばθ＝４５°）傾いた状態で設置される場合がある。このような場合でも、レーザ光は、そのビーム断面の長手方向と、傾斜したスラブ型増幅器ＳＡの自由空間軸ＡＦ方向とが一致するように入射することが好ましい。そこで、本実施の形態１では、後述するビーム調節光学ユニットを用いて、図５に示すような、ビーム断面形状が円形のレーザ光Ｌ１（Ｌ２）を、図６に示すような、ビーム断面形状が一軸方向に長いレーザ光Ｌ１ａ（Ｌ２ａ）に変換し、且つ、そのビーム断面の長手方向とスラブ型増幅器ＳＡの自由空間軸ＡＦ方向とが一致するように、レーザ光Ｌ１ａ（Ｌ２ａ）をスラブ型増幅器ＳＡに入射させる。また、スラブ型増幅器ＳＡから出力されたレーザ光Ｌ２ａ（図６参照）を、図７に示すような、ビーム断面形状が円形のレーザ光Ｌ２に戻す。
【００２６】
／／ビーム調節光学ユニット
つづいて、図２に示すビーム調節光学ユニットについて説明する。スラブ型増幅器ＳＡの入力側に配置されたビーム調節光学ユニット３１は、スラブ型増幅器ＳＡへ入力されるレーザ光Ｌ１（Ｌ２）のビーム断面形状およびその偏光方向をスラブ型増幅器ＳＡに対して好適なビーム形状および偏光方向に変換する。一方、スラブ型増幅器ＳＡの出力側に配置されたビーム調節光学ユニット３２は、スラブ型増幅器ＳＡから出力されたレーザ光Ｌ２のビーム断面形状および偏光方向を、これよりも下流側の増幅器（たとえば別のスラブ型増幅器ＳＡや高速軸流型増幅器ＭＡ１およびＭＡ２等）や光学系（たとえばリレー光学系Ｒ１〜Ｒ４）に対して好適なビーム断面形状および偏光方向に変換する。なお、ビーム断面形状または偏光方向の変換が不要な場合は、それぞれを達成する構成を省略できる。また、以下の説明において、下流側の増幅器や光学系を、単に下流側の光学部等という場合がある。
【００２７】
図８は、ビーム調節光学ユニットの一例を示す概略図である。図８に示すように、スラブ型増幅器ＳＡの入力側に配置されたビーム調節光学ユニット３１は、レーザ光Ｌ１の進行方向における上流側に配置された偏光方向調節光学ユニット３１１と、その下流側に配置されたビーム形状調節光学ユニット３１２と、を含んでもよい。また、スラブ型増幅器ＳＡの出力側に配置されたビーム調節光学ユニット３２は、レーザ光進行方向における上流側に配置されたビーム形状調節光学ユニット３２２と、その下流側に配置された偏光方向調節光学ユニット３２１と、を含んでもよい。
【００２８】
偏光方向調節光学ユニット３１１は、入射したレーザ光Ｌ１（Ｌ２）の偏光方向を、スラブ型増幅器ＳＡに好適な偏光方向に変換する。ビーム形状調節光学ユニット３１２は、レーザ光Ｌ１（Ｌ２）のビーム断面形状をスラブ型増幅器ＳＡに好適な形状に変換する。一方、ビーム形状調節光学ユニット３２２は、スラブ型増幅器ＳＡから出力されたレーザ光Ｌ２のビーム断面形状を下流側の光学部等に好適な形状に変換する。偏光方向調節光学ユニット３２１は、断面形状が変換されたレーザ光Ｌ２の偏光方向を後段の光学部等に好適な偏光方向に変換する。
【００２９】
／／／偏光方向調節光学ユニット
ここで図９に、偏光方向調節光学ユニット３１１の一例を示す。なお、偏光方向調節光学ユニット３２１についても、偏光方向調節光学ユニット３１１と同様の構成とすることが可能である。図９に示すように、偏光方向調節光学ユニット３１１は、たとえばλ／２板３１１１で構成されてもよい。λ／２板３１１１は、その結晶の光学軸の方向ＤＳが、結晶に入射するレーザ光Ｌ１（Ｌ２）の偏光方向に対して（９０°−θ）／２傾いて配置されるのが好ましい。図９において結晶に入射するレーザ光Ｌ１（Ｌ２）は鉛直方向の直線偏光である。レーザ光Ｌ１（Ｌ２）は、λ／２板３１１１を通過することで、その偏光方向が９０°−θ（たとえば４５°）変換される。これにより、レーザ光Ｌ１（Ｌ２）の偏光方向が、水平面に対してθ傾いているスラブ型増幅器ＳＡに対して好適な方向に傾く。なお、λ／２板３１１１は、透過型としたが、反射型であってもよい。反射型の波長板を使用することで、波長板自体をたとえば背面側から冷却することが可能となるため、熱的に安定させることが容易である。
【００３０】
（偏光方向調節光学ユニットの変形例１）
また、図１０に、偏光方向調節光学ユニット３１１（３２１）の変形例１を示す。図１０に示すように、偏光方向調節光学ユニット３１１Ａは、２つのλ／４板３１１２および３１１３で構成されてもよい。この構成において、まず、偏光方向が鉛直方向に対してθの傾きを持つ直線偏光のレーザ光Ｌ１（Ｌ２）がλ／４板３１１２に入射すると、このレーザ光Ｌ１（Ｌ２）の偏光状態が円偏光に変換されて反射される。その後、円偏光のレーザ光Ｌ１（Ｌ２）がλ／４板３１１３に入射すると、このレーザ光Ｌ１（Ｌ２）が、偏光方向が鉛直方向に対して−θの傾を持つレーザ光Ｌ１（Ｌ２）に変換されて反射される。すなわち、２つのλ／４板３１１２および３１１３を介することで、レーザ光Ｌ１（Ｌ２）の偏光方向が２θ回転する。これにより、レーザ光Ｌ１（Ｌ２）の偏光方向が、水平面に対してθ傾いているスラブ型増幅器ＳＡに対して好適な方向に傾く。なお、λ／４板３１１２および３１１３は、反射型としたが、透過型であってもよい。
【００３１】
（偏光方向調節光学ユニットの変形例２）
また、図１１に、偏光方向調節光学ユニット３１１および３２１の変形例２を示す。図１１に示すように、入力側のビーム調節光学ユニット３１における偏光方向調節光学ユニット３１１Ｂは、３つの高反射ミラーＭ３１１〜Ｍ３１３で構成されてもよい。この偏光方向調節光学ユニット３１１Ｂには、たとえば偏光方向が鉛直方向（Ｙ方向）の直線偏光のレーザ光Ｌ１（Ｌ２）が水平方向（Ｚ方向）に入射する。高反射ミラーＭ３１１は、入射したレーザ光Ｌ１（Ｌ２）を鉛直方向（Ｙ方向）へ反射する。これにより、レーザ光Ｌ１（Ｌ２）の偏光方向が、水平方向（Ｚ方向）となる。つぎに、高反射ミラーＭ３１２は、レーザ光Ｌ１（Ｌ２）を、スラブ型増幅器ＳＡの傾き（θ）に沿う方向に反射する。この際、レーザ光Ｌ１（Ｌ２）の偏光方向は、水平方向（Ｚ方向）のままである。つぎに、高反射ミラーＭ３１３は、レーザ光Ｌ１（Ｌ２）を水平方向（Ｚ方向）へ反射する。この結果、レーザ光Ｌ１（Ｌ２）の偏光方向がスラブ型増幅器ＳＡの傾き（θ）の方向と一致する。
【００３２】
一方、出力側のビーム調節光学ユニット３２における偏光方向調節光学ユニット３２１Ｂは、３つの高反射ミラーＭ３２１〜Ｍ３２３で構成されていてもよい。スラブ型増幅器ＳＡから出力されたレーザ光Ｌ２ａは、まず、高反射ミラーＭ３２１で反射される。高反射ミラーＭ３２１は、レーザ光Ｌ２ａをスラブ型増幅器ＳＡの傾き（θ）に沿う方向に反射する。この際、レーザ光Ｌ２ａの偏光方向は、水平方向（Ｚ方向）になる。つぎに、高反射ミラーＭ３２２は、レーザ光Ｌ２ａを鉛直方向（Ｙ方向）に反射する。この際、レーザ光Ｌ２ａの偏光方向は、水平方向（Ｚ方向）のままである。つぎに、高反射ミラーＭ３２３は、レーザ光Ｌ２ａを水平方向（Ｚ方向）へ反射する。この結果、レーザ光Ｌ２ａの偏光方向が鉛直方向（Ｙ方向）に変換される。このように、複数の反射ミラーを用いても、偏光方向を所望の方向へ変換可能である。
【００３３】
／／／入力側のビーム形状調節光学ユニット
つぎに、図１２に、スラブ型増幅器ＳＡの入力側に配置されたビーム調節光学ユニット３１におけるビーム形状調節光学ユニット３１２の一例を示す。図１２に示すように、ビーム形状調節光学ユニット３１２は、たとえばシリンドリカル凸面レンズ３１２１とシリンドリカル凹面レンズ３１２２とで構成されてもよい。シリンドリカル凸面レンズ３１２１は、入射したレーザ光Ｌ１（Ｌ２）を焦点距離Ｆ１離れた焦点ＰＦに集光させる。シリンドリカル凹面レンズ３１２２は、焦点距離Ｆ２離れた位置に焦点を持つ。ここで、シリンドリカル凹面レンズ３１２２の焦点を、シリンドリカル凸面レンズ３１２１の焦点ＰＦに一致させることで、シリンドリカル凸面レンズ３１２１で集光されたレーザ光Ｌ１（Ｌ２）を、断面形状が一方方向に長い平行光（レーザ光Ｌ１ａ（Ｌ２ａ））に変換することが可能である。そこで、シリンドリカル凸面レンズ３１２１およびシリンドリカル凹面レンズ３１２２をスラブ型増幅器ＳＡの傾きの方向と同じ方向へ傾けて配置することで、ビーム断面形状が円形のレーザ光Ｌ１（Ｌ２）をスラブ型増幅器ＳＡの自由空間軸ＡＦ方向に伸長された断面形状を有するレーザ光Ｌ１ａ（Ｌ２ａ）に変換することが可能となる。なお、本例では、透過系の光学素子を用いて入力側のビーム形状調節光学ユニット３１２を構成した。しかし、これに限らず、反射系の光学素子を用いてビーム形状調節光学ユニット３１２を構成することもできる。すなわち、シリンドリカル凸面レンズ３１２１のシリンドリカル凹面レンズ３１２２の代わりに、シリンドリカル凸面ミラーまたはシリンドリカル軸外放物面凸面ミラーを用いてもよい。また、ビーム形状調節光学ユニット３１２は、スラブ型増幅器ＳＡのレーザ光出力側に配置して、シリンドリカル凸面レンズ３１２１とシリンドリカル凹面レンズ３１２２との相対的位置関係を入力側における位置関係とは反対にしてもよい。これにより、ビーム断面形状が一方方向に長いレーザ光をビーム断面形状が円形のレーザ光に変換するビーム形状調節光学ユニット３２２としても使用することが可能である。
【００３４】
／／／出力側のビーム形状調節光学ユニット
図１３に、スラブ型増幅器ＳＡの出力側に配置されたビーム調節光学ユニット３２におけるビーム形状調節光学ユニット３２２の一例を示す。図１３に示すように、ビーム形状調節光学ユニット３２２は、たとえばシリンドリカル凸面ミラー３２２１と、シリンドリカル凹面ミラー３２２２とで構成されてもよい。シリンドリカル凸面ミラー３２２１は、入射したレーザ光Ｌ２ａをシリンドリカル凹面ミラー３２２２へ反射する。この際、シリンドリカル凸面ミラー３２２１は、ビーム断面の径が短い方の方向にビーム断面形状が伸長されるように、レーザ光Ｌ２ａを反射する。シリンドリカル凹面ミラー３２２２は、シリンドリカル凸面ミラー３２２１で反射されたレーザ光Ｌ２ａのビーム断面形状が円形となる位置に配置されるのが好ましい。シリンドリカル凹面ミラー３２２２は、この位置でレーザ光Ｌ２ａを反射することで、このレーザ光Ｌ２ａを、ビーム断面形状が円形の平行光（レーザ光Ｌ２）に変換することができる。なお、ビーム形状調節光学ユニット３２２は、スラブ型増幅器ＳＡのレーザ光入力側でシリンドリカル凸面ミラー３２２１とシリンドリカル凹面ミラー３２２２との相対的位置関係を出力側における位置関係とは反対にしてもよい。これにより、ビーム断面形状が円形のレーザ光を一方方向に長いビーム断面形状を有するレーザ光に変換するビーム形状調節光学ユニット３１２としても使用することが可能である。
【００３５】
（ビーム形状調節光学ユニットの変形例１）
また、図１４に、ビーム形状調節光学ユニット３２２の変形例１を示す。図１４に示すように、ビーム形状調節光学ユニット３２２Ａは、たとえば大小異なるシリンドリカル凹面レンズ３２２１ａとシリンドリカル凹面ミラー３２２２ａとで構成されてもよい。シリンドリカル凹面レンズ３２２１ａは、ビーム断面の径が短い方の方向にビーム断面形状が伸長されるように、入射したレーザ光Ｌ２ａを透過させる。シリンドリカル凹面ミラー３２２２ａは、シリンドリカル凹面レンズ３２２１ａを透過したレーザ光Ｌ２ａのビーム断面形状が円形となる位置に配置されるのが好ましい。シリンドリカル凹面ミラー３２２２ａは、この位置でレーザ光Ｌ２ａを反射することで、このレーザ光Ｌ２ａをビーム断面形状が円形の平行光（レーザ光Ｌ２）に変換することができる。なお、ビーム形状調節光学ユニット３２２Ａも上述のビーム形状調節光学ユニット３２２と同様に、スラブ型増幅器ＳＡのレーザ光出力側でシリンドリカル凹面レンズ３２２１ａとシリンドリカル凹面ミラー３２２２ａとの相対的位置関係を入力側における位置関係とは反対にしてもよい。これにより、ビーム断面形状が円形のレーザ光を一方方向に長いビーム断面形状を有するレーザ光に変換するビーム形状調節光学ユニット３１２として使用することも可能である。
【００３６】
（ビーム形状調節光学ユニットの変形例２）
また、図１５に、ビーム形状調節光学ユニット３２２の変形例２を示す。図１５に示すように、ビーム形状調節光学ユニット３２２Ｂは、たとえば互いに反射面が向かい合うよう配置された２つのシリンドリカル軸外放物面凹面ミラー３２２１ｂおよび３２２２ｂで構成されてもよい。シリンドリカル軸外放物面凹面ミラー３２２１ｂは、入射したレーザ光Ｌ２ａを焦点Ｆ３２２Ｂに集光させるように反射する。シリンドリカル軸外放物面凹面ミラー３２２２ｂは、その焦点がシリンドリカル軸外放物面凹面ミラー３２２１ｂの焦点Ｆ３２２Ｂと一致するように、且つ、焦点Ｆ３２２Ｂを通過したレーザ光Ｌ２ａのビーム断面形状が円形となる位置に配置できるように設計・設置されるのが好ましい。シリンドリカル軸外放物面凹面ミラー３２２２ｂは、この位置でレーザ光Ｌ２ａを反射することで、焦点Ｆ３２２Ｂを通過したレーザ光Ｌ２ａをビーム断面形状が円形の平行光（レーザ光Ｌ２）に変換する。なお、ビーム形状調節光学ユニット３２２Ｂも上述のビーム形状調節光学ユニット３２２Ａと同様に、スラブ型増幅器ＳＡのレーザ光出力側でシリンドリカル軸外放物面凹面ミラー３２２１ｂおよび３２２２ｂの相対的位置関係を入力側における位置関係と反対にしてもよい。これにより、ビーム断面形状が円形のレーザ光を一方方向に長いビーム断面形状を有するレーザ光に変換するビーム形状調節光学ユニット３１２として使用することも可能である。
【００３７】
（ビーム形状調節光学ユニットの変形例３）
また、図１６に、ビーム形状調節光学ユニット３２２の変形例３を示す。図１６に示すように、ビーム形状調節光学ユニット３２２Ｃは、たとえば互いに反射面が向かい合うよう配置されたシリンドリカル軸外放物面凸面ミラー３２２１ｃとシリンドリカル軸外放物面凹面ミラー３２２２ｃとで構成されてもよい。シリンドリカル軸外放物面凸面ミラー３２２１ｃは、レーザ光Ｌ２ａの反射方向とは反対側に焦点Ｆ３２２Ｃを持ち、入射したレーザ光Ｌ２ａのビーム断面の径が短い方の方向にビーム断面形状が伸長されるように、レーザ光Ｌ２ａを反射する。シリンドリカル軸外放物面凹面ミラー３２２２ｃは、その焦点がシリンドリカル軸外放物面凸面ミラー３２２１ｃの焦点Ｆ３２２Ｃと一致するように、且つ、シリンドリカル軸外放物面凸面ミラー３２２１ｃで反射されたレーザ光Ｌ２ａのビーム断面形状が円形となる位置に配置できるように設計・設置されるのが好ましい。シリンドリカル軸外放物面凹面ミラー３２２２ｃは、この位置でレーザ光Ｌ２ａを反射することで、シリンドリカル軸外放物面凸面ミラー３２２１ｃで反射されたレーザ光Ｌ２ａをビーム断面形状が円形の平行光（レーザ光Ｌ２）に変換する。なお、ビーム形状調節光学ユニット３２２Ｃも上述のビーム形状調節光学ユニット３２２Ｂと同様に、スラブ型増幅器ＳＡのレーザ光出力側でシリンドリカル軸外放物面凸面ミラー３２２１ｃとシリンドリカル軸外放物面凹面ミラー３２２２ｃとの相対的位置関係を入力側における位置関係とは反対にしてもよい。これにより、ビーム断面形状が円形のレーザ光を一方方向に長いビーム断面形状を有するレーザ光に変換するビーム形状調節光学ユニット３１２として使用することも可能である。
【００３８】
（スラブ型増幅装置の変形例１）
つづいて、スラブ型増幅装置３０の変形例１について以下に説明する。図１７は、変形例１によるスラブ型増幅装置を示す。図１７に示すスラブ型増幅装置３０Ａは、図８に示すスラブ型増幅装置３０と同様の構成を備えるが、ビーム調節光学ユニット３１および３２が、それぞれビーム調節光学ユニット３１Ａおよび３２Ａに置き換えられている。ビーム調節光学ユニット３１Ａは、ビーム調節光学ユニット３１と同様に、偏光方向調節光学ユニット３１１とビーム形状調節光学ユニット３１２とを備えるが、その位置が入れ代わっている。同様に、ビーム調節光学ユニット３２Ａは、ビーム調節光学ユニット３２と同様の構成を備えるが、ビーム形状調節光学ユニット３２２と偏光方向調節光学ユニット３２１との位置が入れ代わっている。このように、偏光方向調節光学ユニット３１１および３２１とビーム形状調節光学ユニット３１２および３２２との位置をそれぞれ入れ換えても、同様の効果を奏することが可能である。
【００３９】
（スラブ型増幅装置の変形例２）
また、図１８は、変形例２によるスラブ型増幅装置を示す。図１８に示すスラブ型増幅装置３０Ｂは、図８に示すスラブ型増幅装置３０と同様の構成を備えるが、一方のビーム調節光学ユニット３１がビーム調節光学ユニット３１Ａに置き換えられている。ビーム調節光学ユニット３１Ａは、図１７に示す変形例１のビーム調節光学ユニット３１Ａと同様である。このように、一方のビーム調節光学ユニット３１（あるいはビーム調節光学ユニット３２であってもよい）における偏光方向調節光学ユニット３１１（または３２１）とビーム形状調節光学ユニット３１２（または３２２）との位置を入れ換えても、同様の効果を奏することが可能である。
【００４０】
（スラブ型増幅装置の変形例３）
また、図１９は、変形例３によるスラブ型増幅装置を示す。図１９に示すスラブ型増幅装置３０Ｃは、図８に示すスラブ型増幅装置３０と同様の構成を備えるが、ビーム調節光学ユニット３１および３２がビーム調節光学ユニット３１Ｃおよび３２Ｃにそれぞれ置き換えられている。ビーム調節光学ユニット３１Ｃでは、ビーム調節光学ユニット３１の構成から、偏光方向調節光学ユニット３１１が省略されている。同様に、ビーム調節光学ユニット３２Ｃでは、ビーム調節光学ユニット３２の構成から、偏光方向調節光学ユニット３２１が省略されている。このように、一方方向に長いビーム断面形状の長手方向とスラブ型増幅器ＳＡの自由空間軸ＡＦの方向とを一致させる構成のみであっても、レーザ光Ｌ１（Ｌ２）の効率的な増幅が可能である。
【００４１】
（スラブ型増幅装置の変形例４）
また、図２０は、変形例４によるスラブ型増幅装置を示す。図２０に示すスラブ型増幅装置３０Ｄは、図８に示すスラブ型増幅装置３０と同様の構成を備えるが、ビーム調節光学ユニット３１および３２がビーム調節光学ユニット３１Ｄおよび３２Ｄにそれぞれ置き換えられている。ビーム調節光学ユニット３１Ｄでは、ビーム調節光学ユニット３１の構成から、ビーム形状調節光学ユニット３１２が省略されている。同様に、ビーム調節光学ユニット３２Ｄでは、ビーム調節光学ユニット３２の構成から、ビーム形状調節光学ユニット３２２が省略されている。このように、入射するレーザ光Ｌ１（Ｌ２）の偏光方向をスラブ型増幅器ＳＡの自由空間軸ＡＦ方向と合わせる構成のみであっても、レーザ光Ｌ１（Ｌ２）の効率的な増幅が可能である。
【００４２】
（スラブ型増幅装置の変形例５）
また、図２１は、変形例５によるスラブ型増幅装置を示す。図２１に示すスラブ型増幅装置３０Ｅは、図８に示すスラブ型増幅装置３０と同様の構成を備えるが、ビーム調節光学ユニット３１および３２が、それぞれ変形例３によるビーム調節光学ユニット３１Ｃ（図１９参照）および変形例４におけるビーム形状調節光学ユニット３２Ｄ（図２０参照）に置き換えられている。このように、スラブ型増幅器ＳＡに対しては、入射するレーザ光の偏光方向をスラブ型増幅器ＳＡの自由空間軸ＡＦ方向と合わせ、スラブ型増幅装置３０Ｅよりも下流側の光学部等に対しては、出力されるビーム断面形状を下流側の光学部等に好適な形状に変換する構成であってもよい。
【００４３】
（実施の形態２）
つぎに、本開示の実施の形態２を、図面を参照して詳細に説明する。ただし、以下の説明において、本実施の形態１またはその変形例と同様の構成については、同一の符号を付し、その重複する説明を省略する。
【００４４】
図２２は、本実施の形態２によるスラブ型増幅装置の一例を示す。図２２に示すように、スラブ型増幅装置２３０は、たとえば図２に示すスラブ型増幅装置３０と同様の構成を備えるが、ビーム調節光学ユニット３１および３２が、それぞれビーム調節光学ユニット２３１および２３２に置き換えられている。
【００４５】
ビーム調節光学ユニット２３１は、ビーム調節光学ユニット３１における偏光方向調節光学ユニット３１１の機能とビーム形状調節光学ユニット３１２の機能との双方を兼ね備える。同様に、ビーム調節光学ユニット２３２は、ビーム調節光学ユニット３２におけるビーム形状調節光学ユニット３２２の機能と偏光方向調節光学ユニット３２１の機能との双方を兼ね備える。図２３を参照に、ビーム調節光学ユニット２３１および２３２の具体例を説明する。
【００４６】
図２３に示すように、入力側のビーム調節光学ユニット２３１は、シリンドリカル凹面ミラーＭ２３１と、シリンドリカル凸面ミラーＭ２３２と、高反射ミラーＭ２３３とで構成されてもよい。このビーム調節光学ユニット２３１には、たとえば偏光方向が鉛直方向（Ｙ方向）の直線偏光のレーザ光Ｌ１（Ｌ２）が水平方向（Ｚ方向）に入射する。シリンドリカル凹面ミラーＭ２３１は、入射したレーザ光Ｌ１（Ｌ２）を鉛直方向（Ｙ方向）へ反射する。これにより、レーザ光Ｌ１（Ｌ２）のビーム断面形状がＺ方向に長い形状に変換され、且つ、レーザ光Ｌ１（Ｌ２）の偏光方向が水平方向（Ｚ方向）になる。つぎに、シリンドリカル凸面ミラーＭ２３２は、レーザ光Ｌ１（Ｌ２）を、スラブ型増幅器ＳＡの傾き（θ）に沿う方向に反射する。この際、レーザ光Ｌ１（Ｌ２）は平行光に変換される。ただし、レーザ光Ｌ１（Ｌ２）の偏光方向は、水平方向（Ｚ方向）のままである。つぎに、高反射ミラーＭ２３３は、レーザ光Ｌ１（Ｌ２）を水平方向（Ｚ方向）へ反射する。この結果、ビーム断面形状がスラブ型増幅器ＳＡの傾き（θ）方向に長く、偏光方向がスラブ型増幅器ＳＡの傾き（θ）の方向と一致するレーザ光Ｌ１ａ（Ｌ２ａ）がスラブ型増幅器ＳＡに入射する。なお、シリンドリカル凹面ミラーＭ２３１およびシリンドリカル凸面ミラーＭ２３２は、それぞれたとえばシリンドリカル軸外放物面凹面ミラーおよびシリンドリカル軸外放物面凸面ミラーに置き換えることができる。
【００４７】
一方、図２３に示すように、出力側のビーム調節光学ユニット２３２は、シリンドリカル凸面ミラーＭ２３４と、シリンドリカル凹面ミラーＭ２３５と、高反射ミラーＭ２３６とで構成されてもよい。スラブ型増幅器ＳＡから出力されたレーザ光Ｌ２ａは、まず、シリンドリカル凸面ミラーＭ２３４で反射される。シリンドリカル凸面ミラーＭ２３４は、レーザ光Ｌ２ａをスラブ型増幅器ＳＡの傾き（θ）に沿う方向に反射する。これにより、レーザ光Ｌ２ａのビーム断面形状が円形となるようにビーム整形され、且つ、レーザ光Ｌ２ａの偏光方向が水平方向（Ｚ方向）になる。つぎに、シリンドリカル凹面ミラーＭ２３５は、レーザ光Ｌ２ａを鉛直方向（Ｙ方向）に反射する。シリンドリカル凹面ミラーＭ２３５は、シリンドリカル凸面ミラーＭ２３４で反射されたレーザ光Ｌ２ａのビーム断面形状が円形となる位置に配置される。シリンドリカル凹面ミラーＭ２３５で反射されることにより、レーザ光Ｌ２ａは、ビーム断面形状が円形の平行光に変換される。ただし、レーザ光Ｌ２ａの偏光方向は水平方向（Ｚ方向）のままである。つぎに、高反射ミラーＭ２３６は、レーザ光Ｌ２ａを水平方向（Ｚ方向）へ反射する。この結果、ビーム断面形状が円形で、偏光方向が鉛直方向（Ｙ方向）のレーザ光Ｌ２が出力される。なお、シリンドリカル凸面ミラーＭ２３４およびシリンドリカル凹面ミラーＭ２３５は、それぞれたとえばシリンドリカル軸外放物面凸面ミラーおよびシリンドリカル軸外放物面凹面ミラーに置き換えることができる。
【００４８】
以上のように、複数の種々のミラーを組み合わせることで、ビーム形状調節機能と偏光方向調節機能とを兼ね備えるビーム調節光学ユニットを実現することができる。なお、その他の構成、動作および効果は、上述した実施の形態またはその変形例と同様であるため、ここでは詳細な説明を省略する。
【００４９】
（実施の形態３）
つぎに、本開示の実施の形態３を、図面を参照して詳細に説明する。ただし、以下の説明において、本実施の形態１および２のいずれかまたはその変形例と同様の構成については、同一の符号を付し、その重複する説明を省略する。
【００５０】
たとえば図１に示すＥＵＶ光源装置１００のように、複数のスラブ型増幅器ＳＡを用いる場合、複数のスラブ型増幅器ＳＡを自由空間軸ＡＦ方向に並べて使用することができる。これにより、省スペース化を図ることができる。また、複数のスラブ型増幅器ＳＡを導波軸ＡＷ方向に並べた場合、装置のフットプリントを低減することができる。以下、この場合を、実施の形態３として説明する。ただし、以下の説明では、簡略化のため、実施の形態１を引用する。
【００５１】
図１におけるスラブ型増幅装置３０ａ〜３０ｂの構成は、図２４に示す構成に置き換えることができる。図２４では、２つのスラブ型増幅器ＳＡ１およびＳＡ２が導波軸ＡＷ方向に並べられている。それぞれの自由空間軸ＡＦと導波軸ＡＷとは平行である。図２４中、下段のスラブ型増幅器ＳＡ１は、マスタオシレータ１０を起点とした光路における上流側に位置する。このスラブ型増幅器ＳＡ１の入力側には、たとえばビーム調節光学ユニット３１Ａが配置される。ただし、これに限らず、上述したビーム調節光学ユニットのいずれであってもよい。
【００５２】
一方、図２４中、上段のスラブ型増幅器ＳＡ２は、光路における下流側に位置する。このスラブ型増幅器ＳＡ２の出力側には、たとえばビーム調節光学ユニット３２Ａが配置される。ただし、これに限らず、上述したビーム調節光学ユニットのいずれであってもよい。
【００５３】
スラブ型増幅器ＳＡ１とスラブ型増幅器ＳＡ２との光路上には、リレー光学系Ｒ３１が設けられ、スラブ型増幅器ＳＡ１から出力されるレーザ光がリレー光学系Ｒ３１を介してスラブ型増幅器ＳＡ２に入射する。リレー光学系Ｒ３１は、たとえば２つの高反射ミラーＭ３０１およびＭ３０２で構成してもよい。
【００５４】
このように、複数のスラブ型増幅器ＳＡを自由空間軸ＡＦと導波軸ＡＷとが平行になるように配置した場合、上流側のスラブ型増幅器ＳＡから出力されたレーザ光をビーム調節光学ユニットを介さずに下流側のスラブ型増幅器ＳＡに入射させることが可能である。この結果、上流側のそれぞれのスラブ型増幅器ＳＡの出力側のビーム調節光学ユニットを省略でき、構成の簡略化が可能になる。
【００５５】
なお、上述では、リレー光学系Ｒ３１を２つの高反射ミラーＭ３０１およびＭ３０２で構成した。ただし、これに限るものではない。たとえば高反射ミラーＭ３０１およびＭ３０２を、それぞれ凹面ミラーや軸外放物面ミラーなどに置き換えてもよい。また、その他の構成、動作および効果は、上述した実施の形態またはその変形例と同様であるため、ここでは詳細な説明を省略する。
【００５６】
また、上記実施の形態およびその変形例は本発明を実施するための例にすぎず、本発明はこれらに限定されるものではなく、仕様等に応じて種々変形することは本発明の範囲内であり、更に本発明の範囲内において、他の様々な実施の形態が可能であることは上記記載から自明である。例えば各実施の形態に対して適宜例示した変形例は、他の実施の形態に対して適用することも可能であることは言うまでもない。
【符号の説明】
【００５７】
１００  ＥＵＶ光源装置
１０１  ドライバレーザ
１０  マスタオシレータ
２０  空間フィルタ
３０、３０ａ、３０ｂ、３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃ、３０Ｄ、３０Ｅ、２３０  スラブ型増幅装置
３１、３２、３１Ａ、３２Ａ、３１Ｂ、３１Ｃ、３２Ｃ、３１Ｄ、３２Ｄ、２３１、２３２  ビーム調節光学ユニット
４０  チャンバ
４２  ドロップレットジェネレータ
４２ａ  ノズル
４３  ターゲット回収部
４４  電磁石コイル
５０  露光装置接続部
６０  露光装置
３１１、３２１、３１１Ａ、３１１Ｂ、３２１Ｂ  偏光方向調節光学ユニット
３１２、３２２、３２２Ａ、３２２Ｂ、３２２Ｃ  ビーム形状調節光学ユニット
３３１、３３２  放電電極
３３３  放電領域
３３４  交流電源
３３１ａ、３３２ａ  流入口
３３１ｂ、３３２ｂ  流出口
Ｃ３１  冷却媒体
Ｃ３２  排水
３１１１  λ／２板
３１１２、３１１３  λ／４板
３１２１、３２２１ａ  シリンドリカル凸面レンズ
３１２２  シリンドリカル凹面レンズ
３２２１  シリンドリカル凸面ミラー
３２２２、３２２２ａ  シリンドリカル凹面ミラー
３２２１ｂ、３２２２ｂ、３２２２ｃ  シリンドリカル軸外放物面凹面ミラー
３２２１ｃ  シリンドリカル軸外放物面凸面ミラー
ＡＦ  自由空間軸
ＡＷ  導波軸
Ｄ  ドロップレット
ＤＳ  結晶の光学軸方向
Ｆ３２２Ｂ、Ｆ３２２Ｃ  焦点
ＩＦ  中間集光点
Ｌ１、Ｌ２、Ｌ１ａ、Ｌ２ａ  レーザ光
Ｌ３  ＥＵＶ光
Ｍ１、Ｍ２、Ｍ３、Ｍ３０１、Ｍ３０２、Ｍ３１１〜Ｍ３１３、Ｍ３２１〜Ｍ３２３  高反射ミラー
Ｍ４  軸外放物面ミラー
Ｍ５  ＥＵＶ集光ミラー
Ｍ５ａ  貫通穴
Ｍ３１、Ｍ３２  凹球面ミラー
Ｍ２３１、Ｍ２３５  シリンドリカル凹面ミラー
Ｍ２３２、Ｍ２３４  シリンドリカル凸面ミラー
Ｍ２３３、Ｍ２３６  高反射ミラー
ＭＡ１、ＭＡ２  高速軸流型増幅器
Ｐ１  プラズマ生成サイト
Ｒ１〜Ｒ４、Ｒ３１  リレー光学系
ＳＡ、ＳＡ１、ＳＡ２  スラブ型増幅器
Ｗ３１  入力側ウィンドウ
Ｗ３２  出力側ウィンドウ
【図１】
2012109417.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
2012109417.tif 000026
【手続補正書】
【提出日】平成23年9月29日(2011.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２１】
2012109417.tif 000027