(57)【要約】      （修正有）【課題】ガラス基板や透明な樹脂基板等を含む透明基板の検査を効率化できる透明基板の検査装置、透明基板の検査方法、及び前記透明基板の検査方法でガラス基板を検査する検査工程を有するガラス基板の製造方法を提供する。【解決手段】検査装置１０は、透明基板７２の断面及びその周辺部に、斜め方向から光を照射する照明手段１１ａと、前記照明手段１１ａから照射された光の透過光を受光し、前記断面の画像を撮像する撮像手段１２ａと、前記撮像手段１２ａが撮像した前記断面の画像に基づいて、前記断面の面積を算出する画像処理手段１３と、を有する。【選択図】図３
2012163339.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板の断面及びその周辺部に、斜め方向から光を照射する照明手段と、
前記照明手段から照射された光の透過光を受光し、前記断面の画像を撮像する撮像手段と、
前記撮像手段が撮像した前記断面の画像に基づいて、前記断面の面積を算出する画像処理手段と、を有する透明基板の検査装置。
【請求項２】
前記撮像手段は、前記透明基板の板厚方向の倍率が幅方向の倍率よりも高い光学系を備えている請求項１記載の透明基板の検査装置。
【請求項３】
前記照明手段及び前記撮像手段は、前記透明基板の断面の両端部の画像を撮像できる位置に少なくとも１組ずつ設けられている請求項１又は２記載の透明基板の検査装置。
【請求項４】
前記画像処理手段は、更に、前記断面の面積、前記透明基板の長さ、及び前記透明基板の比重に基づいて、前記透明基板の重量を算出する請求項１乃至３の何れか一項記載の透明基板の検査装置。
【請求項５】
前記照明手段から前記透明基板の断面に照射された光は、前記透明基板の断面で全反射される請求項１乃至４の何れか一項記載の透明基板の検査装置。
【請求項６】
前記透明基板はガラス基板である請求項１乃至５の何れか一項記載の透明基板の検査装置。
【請求項７】
透明基板の断面及びその周辺部に、斜め方向から光を照射する照明工程と、
前記照明工程で照射された光の透過光を受光し、前記断面の画像を撮像する撮像工程と、
前記撮像工程で撮像した前記断面の画像に基づいて、前記断面の面積を算出する画像処理工程と、を有する透明基板の検査方法。
【請求項８】
前記撮像工程では、前記透明基板の板厚方向の倍率を幅方向の倍率よりも高くして前記断面の画像を撮像する請求項７記載の透明基板の検査方法。
【請求項９】
前記照明工程及び前記撮像工程では、少なくとも前記透明基板の断面の両端部の画像を撮像する請求項７又は８記載の透明基板の検査方法。
【請求項１０】
前記画像処理工程では、更に、前記断面の面積、前記透明基板の長さ、及び前記透明基板の比重に基づいて、前記透明基板の重量を算出する請求項７乃至９の何れか一項記載の透明基板の検査方法。
【請求項１１】
前記照明工程で前記透明基板の断面に照射された光は、前記透明基板の断面で全反射される請求項７乃至１０の何れか一項記載の透明基板の検査方法。
【請求項１２】
前記透明基板はガラス基板である請求項７乃至１１の何れか一項記載の透明基板の検査方法。
【請求項１３】
請求項１２記載の透明基板の検査方法で前記ガラス基板を検査する検査工程を有するガラス基板の製造方法。
【請求項１４】
前記ガラス基板となるカラス原料を溶解させて板状のガラスリボンに成形する成形工程と、
前記ガラスリボンを徐冷する徐冷工程と、
前記ガラスリボンを切断して前記ガラス基板を作製するする切断工程と、を有し、
前記検査工程では、前記切断工程で切断された前記ガラス基板の断面を検査する請求項１３記載のガラス基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明基板を検査する透明基板の検査装置、透明基板の検査方法、及び前記透明基板の検査方法でガラス基板を検査する検査工程を有するガラス基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、フロート法によるガラス基板の製造工程では、溶解したガラス原料を錫の上で板状のガラスリボンに成形し、徐冷してから横切りにすることで、所定サイズのガラス基板を作製する。その後、作製した所定サイズのガラス基板を更に縦切り及び横切りして、例えば所謂Ｇ８やＧ１０等のサイズに切り分け、底面（錫と接していた面）を研磨してマザーガラスを作製する。
【０００３】
上記ガラス基板の製造工程において、板状のガラスリボンから作製した所定サイズのガラス基板は、ガラスの品質等を検査するために一定時間おきに（例えば、２時間に１回程度）抜き取られ、重量測定が行われる場合がある。測定された重量は、上記ガラス基板の製造工程に対してフィードバックされ、単位時間当たりのガラス原料の溶解量（プル）を安定化させている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平５−１７１７２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、板状のガラスリボンから作製した所定サイズのガラス基板を一定時間おきに抜き取って検査を行うことは、マザーガラスの生産性を低下させる問題があった。なお、以上の説明は、フロート法によるガラス基板の製造工程を例にして行ったが、フュージョン法によるガラス基板の製造工程でも同様の問題は生じ得るし、或いは、透明な樹脂基板（アクリル板等）の製造工程でも同様の問題は生じ得る。
【０００６】
本発明は、上記の点に鑑みてなされたものであり、ガラス基板や透明な樹脂基板等を含む透明基板の検査を効率化できる透明基板の検査装置、透明基板の検査方法、及び前記透明基板の検査方法でガラス基板を検査する検査工程を有するガラス基板の製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本透明基板の検査装置は、透明基板の断面及びその周辺部に、斜め方向から光を照射する照明手段と、前記照明手段から照射された光の透過光を受光し、前記断面の画像を撮像する撮像手段と、前記撮像手段が撮像した前記断面の画像に基づいて、前記断面の面積を算出する画像処理手段と、を有することを要件とする。
【０００８】
本透明基板の検査方法は、透明基板の断面及びその周辺部に、斜め方向から光を照射する照明工程と、前記照明工程で照射された光の透過光を受光し、前記断面の画像を撮像する撮像工程と、前記撮像工程で撮像した前記断面の画像に基づいて、前記断面の面積を算出する画像処理工程と、を有することを要件とする。
【０００９】
本ガラス基板の製造方法は、本発明に係る透明基板の検査方法でガラス基板を検査する検査工程を有することを要件とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、ガラス基板や透明な樹脂基板等を含む透明基板の検査を効率化できる透明基板の検査装置、透明基板の検査方法、及び前記透明基板の検査方法でガラス基板を検査する検査工程を有するガラス基板の製造方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本実施の形態に係るフロート法によるガラス基板の製造工程を模式的に例示する左側面図である。
【図２】本実施の形態に係るフロート法によるガラス基板の製造工程を例示するフローチャートである。
【図３】本実施の形態に係るガラス基板の検査装置を模式的に例示する左側面図である。
【図４】本実施の形態に係るガラス基板の検査装置を模式的に例示する正面図である。
【図５】本実施の形態に係る撮像手段の構成を模式的に例示する左側面図である。
【図６】本実施の形態に係る撮像手段の構成を模式的に例示する斜視図である。
【図７】本実施の形態に係るガラス基板の検査方法を例示するフローチャートである。
【図８Ａ】撮像した断面の一端部の画像を例示する図である。
【図８Ｂ】撮像した断面の他端部の画像を例示する図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、図面を参照して発明を実施するための形態について説明する。各図面において、同一構成部分には同一符号を付し、重複した説明を省略する場合がある。
【００１３】
以降の説明では、本実施の形態に係る透明基板の検査装置又は透明基板の検査方法をフロート法によるガラス基板の製造工程における検査に用いる例を示すが、これには限定されず、本実施の形態に係る透明基板の検査装置又は透明基板の検査方法をフュージョン法によるガラス基板の製造工程や透明な樹脂基板（アクリル板等）の製造工程における検査に用いてもよい。又、本実施の形態に係る透明基板の検査装置又は透明基板の検査方法をガラス基板の製造工程における検査に用いる場合には、特に、ガラス基板の検査装置又はガラス基板の検査方法と称する場合がある。
【００１４】
［ガラス基板の製造方法］
まず、フロート法によるガラス基板の製造工程について説明する。なお、本実施の形態において、ある工程に対して、前の工程側を上流、後の工程側を下流と称する場合がある。
【００１５】
図１は、本実施の形態に係るフロート法によるガラス基板の製造工程を模式的に例示する左側面図である。なお、本実施の形態では、ガラス基板の製造工程を下流側から見た場合を正面とする。
【００１６】
図１を参照するに、本実施の形態に係るフロート法によるガラス基板の製造工程は、大略すると、溶解窯１と、フロートバス２と、徐冷炉３と、切断装置４と、ベルトコンベア等の搬送手段５と、ガラス基板の検査装置１０とを有する。なお、図１、図３〜図６において、ガラスリボンやガラス基板が搬送される方向（＝図１等の矢印Ａ方向）に平行な方向をＸ方向、ガラスリボンやガラス基板の底面（フロートバス内で錫と接する面）と平行でＸ方向と垂直な方向をＹ方向、Ｘ方向及びＹ方向と垂直な方向をＺ方向とする。
【００１７】
図２は、本実施の形態に係るフロート法によるガラス基板の製造工程を例示するフローチャートである。図１及び図２を参照するに、まず、ステップＳ１００では、溶解窯１においてガラス原料７０を溶解する。ガラス原料としては、特に限定はされないが、例えば、珪砂、石灰石、ソーダ灰等を主成分とする材料を用いることができる。
【００１８】
次に、ステップＳ１１０では、ステップＳ１００において溶解窯１で溶解されたガラス原料７０を、フロートバス２において板状のガラスリボン７１に成形する。具体的には、ステップＳ１００において溶解窯１で溶解されたガラス原料７０をフォアハース（図示せず）に供給し、フォアハースのツイールの開口部から流量制御しながらガラス原料７０をフロートバス２に流し込む。フロートバス２には、ガラス原料７０より比重の重い溶解金属（ここでは、一例として錫７９とする）が貯留されており、フロートバス２に流し込まれたガラス原料７０は溶融した錫７９の上に浮きながら流れ、錫７９の表面上を広がって均一な厚み（例えば７ｍｍ程度）となる。
【００１９】
次に、ガラス原料７０を所定の温度に維持した状態で、歪が生じないように左右からアシストロール（図示せず）でＹ方向にゆっくり引き伸ばし、所定の厚み及び幅の板状のガラスリボン７１に成形する。なお、ガラス原料７０をフロートバス２に流し込む早さやアシストロールで引き伸ばす早さは、成形された板状のガラスリボン７１の板厚を決定する一因となる。
【００２０】
次に、ステップＳ１２０では、板状のガラスリボン７１を徐冷する。具体的には、フロートバス２の後段には、ガラスリボン７１をフロートバス２から引き出して、徐冷炉３に搬入するリフトアウトローラ（図示せず）が設けられている。このリフトアウトローラを駆動することによって、ガラスリボン７１は、徐冷炉３の方向に引っ張られながら、搬送手段５上をフロートバス２の下流側に進行する。そして、ガラスリボン７１は、フロートバス２からガラスリボン７１の温度を徐々に下げるための機構（図示せず）を備える徐冷炉３に搬入され、徐冷炉３内のレヤーローラ（図示せず）によって搬送されながら常温に近い温度域までゆっくり冷却される。徐冷することにより、ガラスリボン７１に内在する残留応力を低減できる。
【００２１】
次に、ステップＳ１３０では、徐冷炉３を通過したガラスリボン７１を切断装置４によって横切り（Ｙ方向に切断）にして、所定サイズのガラス基板７２を作製する。
【００２２】
次に、ステップＳ１４０では、本実施の形態に係るガラス基板の検査装置１０を用いて、ステップＳ１３０で切断した所定サイズのガラス基板７２の検査を行う。前述のように、従来のフロート法によるガラス基板の製造工程では、ガラスリボンから作製した所定サイズのガラス基板は、ガラスの品質等を検査するために一定時間おきに抜き取られ、重量測定が行われる場合があった。ステップＳ１４０では、抜き取り検査を行うことなく、ガラスリボン７１から作製した所定サイズのガラス基板７２の下流側端の断面を撮像して断面の面積を測定し、測定した断面の面積からガラス基板７２の重量を算出する。
【００２３】
このように、ガラス基板７２の検査は、徐冷炉３を通過したガラスリボン７１を切断装置４で所定サイズのガラス基板７２に切断した後に行われる。すなわち、ガラス基板の検査装置１０は、切断装置４の後（下流）に配置される。ガラス基板の検査装置１０の詳細については、後述する。
【００２４】
ステップＳ１４０の後、ステップＳ１５０に示す後工程において、例えば所謂Ｇ８やＧ１０等のサイズのマザーガラスを作製する。ステップＳ１５０に示す後工程は、例えば、ガラス基板７２を更に縦切り（Ｘ方向に切断）及び横切り（Ｙ方向に切断）してマザーガラスを作製する工程や、マザーガラスを面取りする工程や、マザーガラスの底面（フロートバス内で錫と接していた面）を研磨する工程や、マザーガラスを洗浄する工程や、マザーガラスを梱包する工程等を含んで構成される。
【００２５】
ステップＳ１５０の後、ステップＳ１６０においてマザーガラスの梱包・出荷を行う。
【００２６】
［ガラス基板の検査装置］
次に、ガラス基板の検査装置について説明する。図３は、本実施の形態に係るガラス基板の検査装置を模式的に例示する左側面図である。図４は、本実施の形態に係るガラス基板の検査装置を模式的に例示する正面図である。図５は、本実施の形態に係る撮像手段の構成を模式的に例示する左側面図である。図６は、本実施の形態に係る撮像手段の構成を模式的に例示する斜視図である。
【００２７】
図３及び図４を参照するに、ガラス基板の検査装置１０は、大略すると、照明手段１１ａ及び１１ｂと、撮像手段１２ａ及び１２ｂと、画像処理手段１３とを有する。
【００２８】
図４に示すように、ガラス基板７２は、前述のステップＳ１１０において左右からアシストロールでＹ方向に引き延ばされるため、ガラス基板７２の下流側端の断面形状は、図４に示す７２ａ、７２ｂ、及び７２ｃようになる。すなわち、ガラス基板７２の下流側端の断面形状は、Ｙ方向（幅方向）の一端部７２ａ及び他端部７２ｂが、採板部７２ｃ（一端部７２ａと他端部７２ｂとの間の板厚が均一な部分）よりも厚い断面となる。又、一端部７２ａ及び他端部７２ｂの幅（Ｙ方向）は２００ｍｍ程度となる。なお、ガラス基板７２をどの位置でＹ方向に切断しても、図４に示す断面形状と略同一となる。
【００２９】
ガラス基板７２の各部の寸法の一例を挙げると、一端部７２ａ及び他端部７２ｂの最大板厚（Ｚ方向）は、例えば２ｍｍ程度である。採板部７２ｃの板厚（Ｚ方向）は、例えば０．７ｍｍ程度である。ガラス基板７２の幅（Ｙ方向）は、例えば５ｍ程度である。ガラス基板７２の長さ（Ｘ方向）は、例えば５ｍ程度である。
【００３０】
ガラス基板の検査装置１０において、照明手段１１ａは、一端部７２ａ及びその周辺部に、ガラス基板７２の底面側の斜め方向から光を照射する機能を有する。又、照明手段１１ｂは、他端部７２ｂ及びその周辺部に、ガラス基板７２の底面側の斜め方向から光を照射する機能を有する。照明手段１１ａ及び１１ｂからの各照射光のガラス基板７２の下流側端の断面への入射角は、照明手段１１ａ及び１１ｂからの各照射光がガラス基板７２の下流側端の断面で全反射される角度に設定されている。照明手段１１ａ及び１１ｂからの各照射光のガラス基板７２の下流側端の断面への入射角は、例えば４５度とすることができる。照明手段１１ａ及び１１ｂとしては、例えば蛍光灯等を用いることができる。但し、照明手段１１ａ及び１１ｂは蛍光灯には限定されず、蛍光灯に代えて、例えば、ＬＥＤ（Light Emitting Diode:発光ダイオード）や有機ＥＬ素子（Organic Electro-Luminescence素子）、ハロゲンランプ、キセノンランプ等を用いても構わない。
【００３１】
撮像手段１２ａは、照明手段１１ａから一端部７２ａ及びその周辺部に照射された光の透過光を受光し、一端部７２ａを含むガラス基板７２の下流側端の断面を撮像する機能を有する。又、撮像手段１２ｂは、照明手段１１ｂから他端部７２ｂ及びその周辺部に照射された光の透過光を受光し、他端部７２ｂを含むガラス基板７２の下流側端の断面を撮像する機能を有する。
【００３２】
図５及び図６を参照するに、撮像手段１２ａは、凸型円筒レンズ２１ａと、凹型円筒ミラー２２ａと、カメラ２３ａとを有する。又、撮像手段１２ｂは、凸型円筒レンズ２１ｂと、凹型円筒ミラー２２ｂと、カメラ２３ｂとを有する。凸型円筒レンズ２１ａ及び凹型円筒ミラー２２ａは、Ｙ方向には曲率を有していない。同様に、凸型円筒レンズ２１ｂ及び凹型円筒ミラー２２ｂは、Ｙ方向には曲率を有していない。カメラ２３ａ及び２３ｂとしては、例えばＣＣＤ（Charge Coupled Device）カメラやＣＭＯＳ（Complimentary Metal Oxide Semiconductor Device）カメラ等を用いることができる。
【００３３】
照明手段１１ａから一端部７２ａ及びその周辺部に照射された光（拡散光）は、一端部７２ａを含むガラス基板７２の下流側端の断面で全反射される。一方、照明手段１１ａからガラス基板７２の下流側端の断面以外の部分に照射された光は、凸型円筒レンズ２１ａを介して凹型円筒ミラー２２ａに達し、凹型円筒ミラー２２ａで光路を曲げられ、カメラ２３ａの撮像素子（図示せず）に入射する。
【００３４】
同様に、照明手段１１ｂから他端部７２ｂ及びその周辺部に照射された光（拡散光）は、他端部７２ｂを含むガラス基板７２の下流側端の断面で全反射される。一方、照明手段１１ｂからガラス基板７２の下流側端の断面以外の部分に照射された光は、凸型円筒レンズ２１ｂを介して凹型円筒ミラー２２ｂに達し、凹型円筒ミラー２２ｂで光路を曲げられ、カメラ２３ｂの撮像素子（図示せず）に入射する。
【００３５】
その結果、一端部７２ａを含むガラス基板７２の下流側端の断面、及び他端部７２ｂを含むガラス基板７２の下流側端の断面のみが黒色となる画像が撮像できる（後述の図８Ａ及び図８Ｂ参照）。
【００３６】
なお、前述のように、凸型円筒レンズ２１ａ及び凹型円筒ミラー２２ａは、Ｙ方向には曲率を有していない。同様に、凸型円筒レンズ２１ｂ及び凹型円筒ミラー２２ｂは、Ｙ方向には曲率を有していない。そのため、凸型円筒レンズ２１ａからカメラ２３ａまでの横倍率（Ｙ方向の倍率）は１となり、縦倍率（Ｚ方向の倍率）は１よりも大きな所定値となる。同様に、凸型円筒レンズ２１ｂからカメラ２３ｂまでの横倍率（Ｙ方向の倍率）は１となり、縦倍率（Ｚ方向の倍率）は１よりも大きな所定値となる。
【００３７】
つまり、凸型円筒レンズ２１ａ及び凹型円筒ミラー２２ａ、並びに凸型円筒レンズ２１ｂ及び凹型円筒ミラー２２ｂは、それぞれガラス基板７２の板厚方向の倍率が幅方向の倍率よりも高い光学系である。縦倍率を横倍率よりも大きな値に設定する理由は、Ｚ方向（ガラス基板７２の板厚方向）の解像度を上げるためである。以下に、具体例を挙げて説明する。
【００３８】
例えば、カメラ２３ａ及び２３ｂが、それぞれ１００万画素（１０００画素×１０００画素）のカメラで、３００ｍｍ程度の範囲を撮影可能な場合、１画素当たりの測定長は、３００ｍｍ÷１０００画素＝０．３ｍｍとなる。ところが、前述のように、ガラス基板７２の一端部７２ａ及び他端部７２ｂの最大板厚（Ｚ方向）は、例えば２ｍｍ程度である。従って、一端部７２ａ及び他端部７２ｂの最大板厚（Ｚ方向）は、それぞれ７画素程度にしか相当せず、板厚の測定誤差が大きくなる。
【００３９】
一方、ガラス基板７２の幅（Ｙ方向）は、例えば５ｍ程度であるから、Ｙ方向（ガラス基板７２の幅方向）の解像度は十分である。そこで、縦倍率を横倍率よりも大きな値に設定すれば、Ｚ方向（ガラス基板７２の板厚方向）の解像度を上げることができる。例えば、縦倍率を横倍率の３倍に設定すると、１画素当たりの測定長は、３００ｍｍ÷１０００画素÷３倍＝０．１ｍｍとなる。例えばガラス基板７２の一端部７２ａ及び他端部７２ｂの最大板厚（Ｚ方向）がそれぞれ２．０ｍｍの場合には、それぞれ２０画素分に相当するため、板厚の測定精度を向上できる。
【００４０】
なお、縦倍率と横倍率との比率は、凸型円筒レンズ２１ａ及び凹型円筒ミラー２２ａの曲率や焦点距離等、並びに凸型円筒レンズ２１ｂ及び凹型円筒ミラー２２ｂの曲率や焦点距離等を調整することにより、適宜設定できる。
【００４１】
図３及び図４に戻り、画像処理手段１３は、撮像手段１２ａ及び１２ｂで撮像したガラス基板の下流側端の断面の画像に基づいて、ガラス基板の下流側端の断面の面積を算出する機能を有する。又、画像処理手段１３は、更に、算出したガラス基板の下流側端の断面の面積、既知のガラス基板の長さ、及び既知のガラス基板の比重に基づいて、ガラス基板の重量を算出する機能を有する。画像処理手段１３は、図示しないＣＰＵ及びＲＯＭやＲＡＭ等のメモリ等を有する。画像処理手段１３の図示しないメモリには、ガラス基板７２の断面の面積を演算するためのプログラム等が記録されており、このプログラムが図示しないＣＰＵにより実行されることで、画像処理手段１３の各種機能が実現される。但し、ガラス基板７２の断面の面積を演算するためのプログラム等は、光記録媒体や磁気記録媒体等のコンピュータが読み取り可能な記録媒体に記憶されていても構わない。
【００４２】
［ガラス基板の検査方法］
次に、ガラス基板の検査方法について説明する。図７は、本実施の形態に係るガラス基板の検査方法を例示するフローチャートである。つまり、図７は、図２のステップＳ１４０の内容を具体的に例示するものである。
【００４３】
まず、ステップＳ１４１では、図３及び図４に示すガラス基板７２の下流側端の断面を撮像する。具体的には、ガラス基板７２の下流側端の断面がガラス基板の検査装置１０の位置に搬送されるタイミングで照明手段１１ａを点灯し、一端部７２ａ及びその周辺部にガラス基板７２の底面側の斜め方向から光を照射する。又、照明手段１１ｂを点灯し、他端部７２ｂ及びその周辺部にガラス基板７２の底面側の斜め方向から光を照射する。そして、照明手段１１ａ及び１１ｂから照射された光の透過光（ガラス基板７２の下流側端の断面以外の部分に照射された光）を撮像手段１２ａ及び１２ｂでそれぞれ受光し、ガラス基板７２の下流側端の断面の画像を撮像する。
【００４４】
なお、ガラス基板７２は、所定のスピードに制御されて搬送手段５上を搬送されるため、ガラス基板７２の下流側端の断面がガラス基板の検査装置１０の位置に搬送されるタイミングは予め知ることができる。但し、ガラス基板の検査装置１０の位置にガラス基板７２の下流側端の断面を検知可能なセンサを配置し、センサがガラス基板７２の下流側端の断面を検知したタイミングでカメラ２３ａ及び２３ｂで撮像する方法を用いてもよい。又、ガラス基板７２がガラス基板の検査装置１０の位置に搬送される時間間隔よりも十分に短い時間間隔で随時撮像し、撮像した画像の中からガラス基板７２の下流側端の断面を選択する方法を用いてもよい。
【００４５】
図８Ａは、ステップＳ１４１で撮像した一端部７２ａを含むガラス基板７２の下流側端の断面の画像を例示する図である。図８Ｂは、ステップＳ１４１で撮像した他端部７２ｂを含むガラス基板７２の下流側端の断面の画像を例示する図である。照明手段１１ａから一端部７２ａ及びその周辺部に斜め方向から光を照射された光は、一端部７２ａを含むガラス基板７２の下流側端の断面で全反射され、その他の部分を透過するため、図８Ａに示すように、一端部７２ａを含むガラス基板７２の下流側端の断面の画像７３ａは、黒色に視認される画像となる。同様に、照明手段１１ｂから他端部７２ｂ及びその周辺部に斜め方向から光を照射された光は、他端部７２ｂを含むガラス基板７２の下流側端の断面で全反射され、その他の部分を透過するため、図８Ｂに示すように、他端部７２ｂを含むガラス基板７２の下流側端の断面の画像７３ｂは、黒色に視認される画像となる。
【００４６】
次に、ステップＳ１４２では、画像処理手段１３は、ガラス基板７２の断面の面積を算出する。図４から明らかなように、ガラス基板７２の断面の面積は、一端部７２ａ及び他端部７２ｂの面積と、採板部７２ｃの面積との和である。そこで、まず、画像処理手段１３は、ステップＳ１４１で撮像した一端部７２ａ及び他端部７２ｂの画像に基づいて、一端部７２ａ及び他端部７２ｂの面積を算出する。一端部７２ａ及び他端部７２ｂの面積は、図８Ａ及び図８Ｂの画像７３ａ及び７３ｂに含まれる画素数を計数し、計数した画素数に単位当たりの画素の面積を乗算することにより算出できる。
【００４７】
続いて、画像処理手段１３は、採板部７２ｃの面積を算出する。ところで、採板部７２ｃの面積を算出するためには、採板部７２ｃの幅と板厚を知る必要があるが、ガラス基板７２の幅は既知の値であるため、ステップＳ１４１で撮像したガラス基板７２の一端部７２ａ及び他端部７２ｂの画像からガラス基板７２の一端部７２ａ及び他端部７２ｂの幅を算出することにより、採板部７２ｃの幅を知ることができる。又、ガラス基板の製造工程では、一般的に、レーザ計測器等により採板部の板厚を測定しているため、その値を用いることができる。
【００４８】
但し、採板部７２ｃの面積を算出するために、専用の撮像手段（凸型円筒レンズ、凹型円筒ミラー、及びカメラ）を１個又は複数個設け、一端部７２ａ及び他端部７２ｂと同様な方法により、採板部７２ｃの面積を算出してもよい。
【００４９】
次に、ステップＳ１４３では、画像処理手段１３は、ガラス基板７２の重量を算出する。具体的には、前述のようにガラス基板７２の長さ及び比重は既知の値であるため、画像処理手段１３は、ステップＳ１４１で算出した断面積に既知のガラス基板７２の長さ及び比重を乗算することにより、ガラス基板７２の重量を算出する。
【００５０】
以上のように、本実施の形態によれば、ガラス基板７２の下流側端の断面を撮像して面積を算出し、算出した面積に基づいてガラス基板７２の重量を算出する。その結果、抜き取り検査を行うことなくガラス基板７２の重量を算出できるため、ガラス基板７２の検査を効率化できる。算出したガラス基板７２の重量は、ガラス基板７２の製造工程にフィードバックされる。例えば、算出したガラス基板７２の重量が目標値よりも大きければ、単位時間当たりのガラス原料の溶解量（プル）が多すぎると判断し、プルを下げることができる。なお、ガラス基板７２は、所定の時間間隔でガラス基板の検査装置１０の位置に搬送されるが、その度に個々のガラス基板７２の重量が算出され、ガラス基板７２の製造工程にフィードバックされる。
【００５１】
従来行われていた抜き取り検査の頻度は２時間に１回程度であったが、本実施の形態に係る検査方法を用いてガラス基板７２の重量を算出することにより、２時間に２００回程度の測定が可能となる（つまり、２００倍の効率となる）。そのため、算出したガラス基板７２の重量をガラス基板７２の製造工程にフィードバックする頻度を大幅に増やすことが可能となり、従来よりもプルを安定的に制御することができる。その結果、ガラス基板７２の品質を向上できる。
【００５２】
又、ガラス基板７２の検査装置において、縦倍率（ガラス基板７２の板厚方向の倍率）を横倍率（ガラス基板７２の幅方向の倍率）よりも大きな値に設定することにより、ガラス基板７２のようなアスペクト比が極端に大きいガラス基板に対しても、板厚の測定精度を向上できる。その結果、ガラス基板７２の重量の算出精度を向上できる。
【００５３】
以上、好ましい実施の形態について詳説したが、上述した実施の形態に制限されることはなく、特許請求の範囲に記載された範囲を逸脱することなく、上述した実施の形態に種々の変形及び置換を加えることができる。
【００５４】
例えば、上記実施の形態では、照明手段１１ａ及び１１ｂをガラス基板７２の底面側に配置し、撮像手段１２ａ及び１２ｂをガラス基板７２の上面側に配置する例を示した。しかし、照明手段１１ａ及び１１ｂをガラス基板７２の上面側に配置し、撮像手段１２ａ及び１２ｂをガラス基板７２の底面側に配置しても構わない。
【符号の説明】
【００５５】
１  溶解窯
２  フロートバス
３  徐冷炉
４  切断装置
５  搬送手段
１０  ガラス基板の検査装置
１１ａ、１１ｂ  照明手段
１２ａ、１２ｂ  撮像手段
１３  画像処理手段
２１ａ、２１ｂ  凸型円筒レンズ
２２ａ、２２ｂ  凹型円筒ミラー
２３ａ、２３ｂ  カメラ
７０  ガラス原料
７１  ガラスリボン
７２  ガラス基板
７２ａ  一端部
７２ｂ  他端部
７２ｃ  採板部
７３ａ、７３ｂ  画像
７９  錫
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８Ａ】
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【図８Ｂ】
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