(57)【要約】【課題】口内をより清潔な状態に維持することのできる口内ケア装置を得る。【解決手段】口内ケア装置１の清掃部２０には、少なくとも一対の電極１５，２３ｃで形成された通電部の一方の電極２３ｃが形成されている。この一方の電極２３ｃは、導電性部材で形成された芯部２３ａを絶縁性部材で形成された被覆部２３ｂにて被覆し、芯部２３ａの先端２３ｃを露出させることで形成されている。そして、清掃部２０における一方の電極２３ｃよりも当該清掃部２０の移動方向前部に壁部２４，２５を形成した。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一対の電極で形成された通電部の一方の電極を清掃部に形成し、当該清掃部を口腔に対して相対移動させることで口内のケアを行う口内ケア装置であって、
前記一方の電極は、導電性部材で形成された芯部を絶縁性部材で形成された被覆部にて被覆し、前記芯部の先端を露出させることで形成されており、
前記清掃部における前記一方の電極よりも当該清掃部の移動方向前部に壁部が形成されていることを特徴とする口内ケア装置。
【請求項２】
前記通電部の他方の電極が、前記口内ケア装置における使用者の一部と当接する部位に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の口内ケア装置。
【請求項３】
前記壁部は、口内の所定部位に当接する当接面が平坦状の第１の壁部と、口内の所定部位に当接する当接面が凹凸を有する第２の壁部と、を有することを特徴とする請求項１または請求項２に記載の口内ケア装置。
【請求項４】
前記清掃部における前記一方の電極よりも当該清掃部の移動方向後部には、第３の壁部が形成されていることを特徴とする請求項１〜３のうちいずれか１項に記載の口内ケア装置。
【請求項５】
前記第３の壁部は、前記一方の電極の前記移動方向と交差する方向の両側方に延設されており、当該第３の壁部には、口内の除去物質を捕集する捕集部が形成されていることを特徴とする請求項４に記載の口内ケア装置。
【請求項６】
少なくとも前記第３の壁部の側面に凹凸が形成されていることを特徴とする請求項１〜５のうちいずれか１項に記載の口内ケア装置。
【請求項７】
前記壁部および一方の電極部の先端をつないで形成される仮想面が、舌の表面に対応する形状となるように、前記壁部および一方の電極部を前記清掃部に形成したことを特徴とする請求項１〜６のうちいずれか１項に記載の口内ケア装置。
【請求項８】
前記口内ケア装置は制御部を有しており、
前記制御部は、通電初期における前記一方の電極部に流す電流値が所定の電流値よりも小さい電流値となるように制御し、当該一方の電極部に流す電流値を、通電初期における電流値から徐々に変化させて所定の電流値に収束するように制御することを特徴とする請求項１〜７のうちいずれか１項に記載の口内ケア装置。
【請求項９】
前記口内ケア装置は、前記清掃部による押し付け圧力を検知する圧力検知出段を有し、当該圧力検知手段が所定値以上の圧力値を検知したことを使用者に報知する報知手段を有することを特徴とする請求項１〜８のうちいずれか１項に記載の口内ケア装置。
【請求項１０】
前記口内ケア装置は制御部を有しており、
前記制御部は、通電初期における前記一方の電極部に流す電流の周波数が所定の周波数よりも高い周波数となるように制御し、当該一方の電極部に流す電流の周波数を、通電初期における周波数から徐々に変化させて所定の周波数に収束するように制御することを特徴とする請求項１〜９のうちいずれか１項に記載の口内ケア装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、口内ケア装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、口内ケア装置として、合成樹脂またはゴムで形成された舌の清掃部材を、把持部の先端に着脱自在に設けたものが知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
この特許文献１では、光電気化学反応を起こす半導体を用いて水を電解することで、酸素（発生期の酸素）と水素を発生させ、発生した酸素（発生期の酸素）を用いて舌の殺菌を行うようにしている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平５−３１１２９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、舌には舌乳頭と呼ばれる無数の小突起が形成されており、舌付着汚れは、無数の舌乳頭間に入り込んだ汚れや細菌等の雑菌と、その上部に蓄積した汚れや雑菌とで主に構成されている。そのため、上記従来の技術のように、半導体によって発生させた酸素を用いて殺菌を行うだけでは、酸素が無数の舌乳頭間に行きわたらず、舌深部に存在する細菌等の雑菌を効率的に殺菌することができなかった。すなわち、上記従来の技術では、舌に細菌等の雑菌が残存してしまい、口内を清潔な状態に維持することができなかった。
【０００６】
そこで、本発明は、口内をより清潔な状態に維持することのできる口内ケア装置を得ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明にあっては、少なくとも一対の電極で形成された通電部の一方の電極を清掃部に形成し、当該清掃部を口腔に対して相対移動させることで口内のケアを行う口内ケア装置であって、前記一方の電極は、導電性部材で形成された芯部を絶縁性部材で形成された被覆部にて被覆し、前記芯部の先端を露出させることで形成されており、前記清掃部における前記一方の電極よりも当該清掃部の移動方向前部に壁部が形成されていることを主要な特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、導電性部材で形成された芯部を絶縁性部材で形成された被覆部にて被覆し、芯部の先端を露出させることで一方の電極を形成している。そのため、電流を殺菌を行いたい部位に集中的に流すことができ、舌に付着した細菌等の雑菌をより効率的に殺菌することができる。
【０００９】
また、清掃部における一方の電極よりも当該清掃部の移動方向前部に壁部を形成することで、壁部で舌表面を刷掃することができ、舌付着汚れを機械的に除去することができるようになる。
【００１０】
このように、本発明によれば、まず、舌付着汚れを機械的に除去した後に、機械的に除去されずに残存した細菌および舌付着汚れのみに一方の電極から電流を流すことができる。そのため、壁部による刷掃がない場合に較べて、舌深部に存在する細菌をより効率的に殺菌することができ、口内をより清潔な状態に維持することができるようになる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】図１は、本発明の一実施形態にかかる口内ケア装置を模式的に示す正面図である。
【図２】図２は、本発明の一実施形態にかかる口内ケア装置を模式的に示す背面図である。
【図３】図３は、本発明の一実施形態にかかるブリッスル束を示す断面図である。
【図４】図４は、本発明の一実施形態にかかるブリッスルを示す拡大断面図である。
【図５】図５は、本発明の一実施形態にかかる口内ケア装置の清掃部を側面方向から見た図である。
【図６】図６は、本発明の一実施形態にかかる口内ケア装置の清掃部を前方から見た図である。
【図７】図７は、本発明の一実施形態にかかる枠状壁部を示す斜視図である。
【図８】図８は、本発明の一実施形態にかかる枠状壁部を示す断面図である。
【図９】図９は、本発明の一実施形態の変形例にかかる口内ケア装置を模式的に示す正面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、以下では、口内ケア装置として舌ケア装置を例示する。また、以下では、舌ケア装置の把持部側を清掃部の移動方向前方（掻出方向：使用時に口腔に対して相対的に移動する方向）、舌ケア装置の清掃部側を清掃部の移動方向後方として説明する。また、舌ケア装置のブリッスル束が設けられている側の面を表面、舌ケア装置のブリッスル束が設けられていない側の面を背面として説明する。
【００１３】
本実施形態にかかる舌ケア装置（口内ケア装置）１は、図１に示すように、使用者が手で把持する略円柱状の把持部１１を有する本体部１０と、使用者の口腔内に挿入される逆台形状の清掃部２０と、を備えている。この舌ケア装置１は、通常、使用者が本体部１０を把持しながら当該使用者の口腔内（舌の奥部）に清掃部２０を挿入することで、口内のケアを行うものである。すなわち、使用者の舌の表面（口内の所定の部位）に清掃部２０を当接させた状態で、後方から前方（舌の奥側から手前側）に向けて清掃部２０を移動させることで、口内のケアを行うものである。
【００１４】
本体部１０は、使用者が手で把持する把持部１１と、当該把持部１１と清掃部２０とを連結する柄部１２と、を備えている。
【００１５】
本実施形態では、把持部１１には、図示せぬ電池（例えば、充電部としての充電池）が内蔵されており、把持部１１の表面側に設けられた電源スイッチ１３を操作することで、舌ケア装置１の電源のオン・オフ状態を切り換えることができるようになっている。
【００１６】
また、把持部１１の電源スイッチ１３よりも後部（図１の上部）には、電流レベル調節スイッチ１４が設けられている。そして、この電流レベル調節スイッチ１４を操作することで、後述する通電部（本実施形態では、芯部２３ａの先端２３ｃおよび第２の電極１５）に流れる電流値を切り換えることができるようになっている。なお、本実施形態では、電流値を強・中・弱の３段階に切り換えることができるようにしたものを例示している。そして、柄部１２の背面側には、図示せぬＬＥＤランプ等によって点灯する電流レベル表示部１６が３つ設けられており、例えば、各段階に対応した電流レベル表示部１６を点灯させることで、現在の電流値を認識できるようにしている（図２参照）。
【００１７】
さらに、本体部１０の内部には、電源のオン・オフ状態や通電部（芯部２３ａの先端２３ｃおよび第２の電極１５）に流れる電流値の切り換え等を制御する制御回路１７が収容されている。この制御回路１７には、図示せぬ電池や通電部（芯部２３ａの先端２３ｃおよび第２の電極１５）等が、導線２７などの導電体を介して電気的に接続されている。
【００１８】
また、本実施形態では、図２に示すように、把持部１１の背面側に露出するように、第２の電極（通電部）１５が設けられており、この第２の電極１５も導線２７などの導電体を介して制御回路（制御部）１７に電気的に接続されている。そして、この第２の電極１５が、舌ケア装置（口内ケア装置）１における使用者の一部（本実施形態では使用者の手）と当接する部位（把持部１１）に形成されている他方の電極に相当するものである。
【００１９】
清掃部２０は、基台２１を備えており、この基台２１上には、複数のブリッスル束２２、第１の壁部２４、第２の壁部２５および壁面枠（第３の壁部）２６が設けられている。
【００２０】
本実施形態では、ブリッスル束２２は、舌の表面を擦掃するものであり、複数のブリッスル２３を束ねることで１つのブリッスル束２２が形成されている。そして、これら複数のブリッスル２３は、芯鞘構造をしている。
【００２１】
具体的には、各ブリッスル２３は、可撓性を有する導電性樹脂（例えばカーボン含有のポリアミド樹脂やカーボン含有のポリブチレンテレフタレート樹脂）で形成された芯部２３ａが、可撓性を有する絶縁性樹脂（例えばカーボンを含まないポリアミド樹脂やポリブチレンテレフタレート樹脂）で形成された被覆部２３ｂにて被覆された２層構造をしている（図４参照）。なお、被覆部２３ｂは、芯部２３ａよりも硬度が低い可撓性材料（弾性材料）にて構成されている。
【００２２】
そして、各ブリッスル２３の先端２３ｃは、図４に示すように、略円錐状の尖鋭形状をしており、芯部２３ａが被覆部２３ｂよりも大きく突出するように構成されている。因みに、本実施形態のブリッスル２３は、基台２１の表面２１ｃからの突出長さが約２０（ｍｍ）、略円錐状の尖鋭部分の長さが約２（ｍｍ）、直径が約０．２（ｍｍ）、被覆部２３ｂの厚さが約０．０６（ｍｍ）に設定されている。なお、図４では、芯部２３ａの径を若干誇張して描いている。また、ブリッスル２３の各寸法はこの限りではない。
【００２３】
そして、本実施形態では、芯鞘構造のブリッスル２３を複数本束ねたブリッスル束２２を金属製の保持板２１ｂを挟み込むようにＵ字状に折り返し、保持板２１ｂを含む折返し部分を導電性植毛台２１ａに圧入することで、ブリッスル２３を導電性植毛台２１ａに植設している（図３参照）。なお、本実施形態では、この導電性植毛台２１ａを、基台２１に着脱自在に装着させている。また、芯部２３ａは、導電性植毛台２１ａに電気的に接続されている。すなわち、各ブリッスル２３はブリッスル束２２として導電性植毛台２１ａに植設した際に、当該導電性植毛台２１ａに金属製の保持板２１ｂを介して電気的に接続される。因みに、導電性植毛台２１ａを除く基台２１および柄部１２は絶縁性樹脂により形成されている。そして、導電性植毛台２１ａは導線２７を介して制御回路（制御部）１７に電気的に接続されている。また、上述したように、第２の電極１５も導線２７などの導電体を介して制御回路（制御部）１７に電気的に接続されている。このように、本実施形態では、ブリッスル２３の先端２３ｃが、導電性部材で形成された芯部２３ａを絶縁性部材で形成された被覆部２３ｂにて被覆し、芯部２３ａの先端２３ｃを露出させることで形成した一方の電極に相当するものである。なお、導電性植毛台２１ａに本体部１０との通電経路の役割を果たす導電性板を設けるようにしてもよい。また、芯鞘構造の一方の電極は、ブリッスル毛に限らず、樹脂性突起でもよい。
【００２４】
このような構成の舌ケア装置１は、使用者が把持本体部１１を把持し、使用者の手が第２の電極１５に接触した状態で、各ブリッスル２３の芯部２３ａの先端２３ｃを舌の表面に接触させながら使用するものである。つまり、舌ケア装置１の使用時には、制御回路（制御部）１７に電気的に接続された各ブリッスル２３の芯部２３ａの先端２３ｃ（一方の電極）と、制御回路（制御部）１７に電気的に接続された第２の電極（他方の電極）１５と、が人体（使用者の人体）および唾液等の口腔内液を介して電気的に接続された電気回路が形成されることになる。したがって、制御回路（制御部）１７により、所定の直流電圧（例えば、約１５（Ｖ））を印加すれば、上述の電気回路が形成されてブリッスル２３の芯部２３ａの先端２３ｃに電流が流れ、当該先端２３ｃの周囲で口腔内液の電気分解が行われ、口腔内液に含まれる塩化物イオンから殺菌作用のある塩素が生成される。なお、先端（通電部）２３ｃに流す電流は直流、交流のどちらも可能である。
【００２５】
ここで、本実施形態では、清掃部２０における一方の電極、すなわち、基台２１のブリッスル束２２が形成される領域よりも清掃部２０の移動方向前部（図１の下側）に、芯部２３ａが突出する方向（図５の下側）に延在する壁部を形成している。
【００２６】
具体的には、舌の表面（口内の所定部位）に当接する当接面２４ａが平坦状の第１の壁部２４と、舌の表面（口内の所定部位）に当接する当接面２５ａが凹凸を有する第２の壁部２５とを、基台２１のブリッスル束２２が形成される領域よりも清掃部２０の移動方向前部（図１の下側）に形成している。本実施形態では、当接面２５ａを先細り状（清掃部２０の移動方向に沿った断面視で略山形）にすることで、第２の壁部２５の当接面２５ａが凹凸を有するようにしている。また、本実施形態では、第１の壁部２４の先端に、清掃部２０の移動方向前方に突出する爪部２４ｂを形成している。
【００２７】
そして、第１の壁部２４は、図１に示すように、平面視で、清掃部２０の移動方向後方に凸となるように湾曲させながら、清掃部２０の移動方向と直交（交差）する方向に延在するように形成されている。一方、第２の壁部２５は、第１の壁部２４を清掃部２０の移動方向前後に挟むように形成されており、清掃部２０の移動方向と直交（交差）する方向に延在するように形成されている。そして、この第２の壁部２５は、平面視ジグザク状に形成されている。
【００２８】
さらに、本実施形態では、基台２１のブリッスル束２２が形成される領域よりも清掃部２０の移動方向後部（清掃部２０における一方の電極よりも当該清掃部の移動方向後部）に、第３の壁部としての枠状壁部２６を形成している。
【００２９】
すなわち、枠状壁部２６は、基台２１のブリッスル束２２が形成される領域よりも清掃部２０の移動方向後部で、清掃部２０の移動方向と直交（交差）する方向に延在する後側壁部２６ｅを有している。そして、後側壁部２６ｅの両端からは、基台２１のブリッスル束２２が形成される領域よりも清掃部２０の移動方向と直交（交差）する両側方に延在する横側壁部２６ｆが連設されている。このように、本実施形態では、枠状壁部２６は、後側壁部２６ｅと横側壁部２６ｆとで枠状に形成されており、この枠状壁部２６によって、ブリッスル束２２、第１の壁部２４および第２の壁部２５は、清掃部２０の移動方向前方以外の３方を囲まれている。
【００３０】
さらに、本実施形態では、枠状壁部２６に、ブリッスル束２２や第１の壁部２４および第２の壁部２５によって除去された舌に付着した汚れ（口内の除去物質）を捕集する捕集部２６ｂを設けている。この捕集部２６ｂは、横側壁部２６ｆを段差状に傾斜させることで形成している。具体的には、捕集部２６ｂは、横方向に延在する横辺２６ｇと清掃部２０の移動方向後側かつ外方に延在する斜辺２６ｈとで構成されており、頂部２６ｉが鋭角となるように形成されている。なお、図１では、横側壁部２６ｆを清掃部２０の移動方向と直交（交差）する方向に屈曲させることで、１辺（横辺２６ｇ）が横方向に延在する捕集部２６ｂとしたものを例示したが、清掃部２０の移動方向と直交（交差）する方向よりも清掃部２０の移動方向後側に屈曲させ、捕集部２６ｂの１辺（図１の横辺２６ｇに相当する辺）が清掃部２０の移動方向後側かつ外方に延在するようにしてもよい。
【００３１】
そして、枠状壁部２６の内面（少なくとも第３の壁部の側面）２６ｃには、凹凸２６ｄが形成されている。この凹凸２６ｄは、図８（ａ）に示すように、通常の溝部として設けてもよいし、図８（ｂ）に示すように、底部側が幅広のテーパ状の溝部として設けてもよいし、図８（ｃ）に示すように、内面が湾曲した略円柱面上の溝部として設けてもよい。なお、凹凸２６ｄの形状は、図８（ａ）〜（ｃ）に示す形状に限るものではない。例えば、凹凸２６ｄを溝部として形成する必要はないし、凹凸２６ｄの内面の断面形状も様々な形状とすることができる。
【００３２】
このように、本実施形態では、清掃部２０の基台２１に、柄部に近い方（清掃部２０の移動方向前方）から第２の壁部２５、第１の壁部２４、第２の壁部２５、芯鞘構造のブリッスル束２２が順番に設けられている（図５参照）。そして、これら第１および第２の壁部２４，２５およびブリッスル束２２の左右両端および上端を囲うように、枠状壁部２６が設けられている。
【００３３】
さらに、本実施形態では、第１および第２の壁部２４，２５の当接面２４ａ，２５ａをつないで形成される仮想面３０が、舌の表面に対応する形状となるように、第１および第２の壁部２４，２５を清掃部２０に形成している。また、各ブリッスル２３の芯部２３ａの先端（一方の電極部の先端）２３ｃをつないで形成される仮想面（ブリッスル束２２の当接面２２ａをつないで形成される仮想面）３０も、舌の表面に対応する形状となるように各ブリッスル２３を清掃部２０に形成している。
【００３４】
具体的には、清掃部２０の移動方向と直交（交差）する方向においては、第１および第２の壁部２４，２５および各ブリッスル２３の基台２１の表面２１ｃからの突出長さを、両端および中央部で長くなるようにし、一端と中央部、中央部と他端との間の突出長さをそれぞれの中間部分で短くなるように形成している（図６参照）。そして、仮想面３０によって、基台２１の表面２１ｃ側に凸の湾曲形状が２つ形成されるようにしている。
【００３５】
また、清掃部２０の移動方向においては、第１および第２の壁部２４，２５の突出長さは、ほぼ同一となっているが、各ブリッスル２３の基台２１の表面２１ｃからの突出長さは、後方に向かうにつれて長くなるように形成している（図５参照）。このように、各ブリッスル２３の基台２１の表面２１ｃからの突出長さを、後方に向かうにつれて長くなるように形成することで、各ブリッスル２３を舌の奥部に容易に当接させることができるようにしている。
【００３６】
なお、枠状壁部２６の当接面２６ａの形状も、仮想面３０と同様に舌の形状に合わせるようにするのが好適である。
【００３７】
このように、仮想面３０を舌の表面に対応する形状となるように形成することで、刷掃時に壁部（第１の壁部２４，第２の壁部２５，枠状壁部２６）の当接面やブリッスル２３の先端２３ａを舌表面により確実に接触させることができる。
【００３８】
また、本実施形態では、舌ケア装置（口内ケア装置）１に、清掃部２０による押し付け圧力を検知する圧力センサー（圧力検知出段）２８を設けている。そして、この圧力センサー（圧力検知出段）２８が所定値以上の圧力値を検知した場合に、そのことを使用者に報知する報知手段を舌ケア装置（口内ケア装置）１に設けている。
【００３９】
具体的には、第１および第２の壁部２４，２５や芯鞘構造のブリッスル束２２を植毛している基台２１内部に、圧力センサー（圧力検知出段）２８を設けており、この圧力センサー（圧力検知出段）２８により舌清掃時の押し圧力を検知するようにしている。この圧力センサーとしては、歪ゲージ式、半導体ピエゾ抵抗式、静電容量式等の圧力センサーを用いることができる。そして、圧力センサー（圧力検知出段）２８のセンサー部で測定した変位量を本体部１０に設けられた制御回路（制御部）１７にて検知し、一定以上の圧力を超えた場合には、そのことを報知するようにしている。この報知手段としては、音による報知やランプを点灯させる等による報知、装置を一時停止することによる報知などがある。そして、制御回路（制御部）１７にこの報知手段を設けるようにするのが好適である。なお、報知手段を制御する回路を制御回路（制御部）１７とは別に設けてもよい。
【００４０】
また、本実施形態では、制御回路（制御部）１７が、通電初期において各ブリッスル２３の芯部２３ａの先端２３ｃ（一方の電極）に流す電流値が所定の電流値よりも小さい電流値となるように制御している。具体的には、電流レベル調節スイッチ１４を操作することでいずれかの段階を選択した状態で、その段階に最適な電流値を所定の電流値に設定し、通電開始時には、制御回路（制御部）１７によって、各ブリッスル２３の芯部２３ａの先端２３ｃ（一方の電極）に流す電流値が、選択した段階における最適な電流値（所定の電流値）よりも小さい電流値となるように制御している。
【００４１】
さらに、制御回路（制御部）１７は、各ブリッスル２３の芯部２３ａの先端２３ｃ（一方の電極）に流す電流値を、通電初期における電流値から徐々に変化させて選択した段階における最適な電流値（所定の電流値）に収束するように制御している。
【００４２】
具体的には、各ブリッスル２３の芯部２３ａの先端２３ｃ（一方の電極）に流す電流値を、通電時間に応じて段階的に上昇させ、所定時間経過以降はその段階に最適な電流値が先端２３ｃ（一方の電極）に流れるように制御している。
【００４３】
このように、通電開始直後の電流値を低く設定し、段階的に上昇させていくことで、使用者に電気を感じさせないよう配慮している。なお、舌が感じることのできる電流値は５μＡ程度であるため、通電開始直後の電流値を数μＡに設定し、一定時間ごとに電流値を数μＡから段階的に上昇させ、所望の電流値となるようにさせるのが望ましい。また、電流レベルをいずれの段階に設定した場合であっても、通電開始直後の電流値は数μＡに設定するのが望ましい。
【００４４】
また、本実施形態では、制御回路（制御部）１７が、通電初期における各ブリッスル２３の芯部２３ａの先端２３ｃ（一方の電極）に流す電流の周波数が所定の周波数よりも大きい周波数となるように制御している。具体的には、所望の周波数を所定の周波数とし、通電開始時には、制御回路（制御部）１７によって、各ブリッスル２３の芯部２３ａの先端２３ｃ（一方の電極）に流す電流の周波数が、所望の周波数（所定の周波数）よりも大きい周波数となるように制御している。
【００４５】
さらに、制御回路（制御部）１７は、各ブリッスル２３の芯部２３ａの先端２３ｃ（一方の電極）に流す電流の周波数を、通電初期における周波数から徐々に変化させて所望の周波数（所定の周波数）に収束するように制御している。
【００４６】
具体的には、各ブリッスル２３の芯部２３ａの先端２３ｃ（一方の電極）に流す電流の周波数を、通電時間に応じて段階的に低くし、所定時間経過以降は先端２３ｃ（一方の電極）に流れる電流が所望の周波数となるように制御している。
【００４７】
周波数も電流値と同様に、電流の感じやすさを左右する因子である。そして、生体は低周波ほど電流を感じやすい。そのため、本実施形態では、通電開始時に高い周波数の電流を流し、段階的に周波数を下げ、最終的に効果が最も出やすいと考えられる最適な周波数となるように制御回路（制御部）１７にて制御している。
【００４８】
このように、本実施形態の制御回路（制御部）１７は電流値および周波数を制御する機能も有している。なお、電流値や周波数を制御する制御部を制御回路（制御部）１７とは別に設けることも可能である。
【００４９】
次に、本実施形態にかかる舌ケア装置１の使用方法および作用を説明する。以下では、一例として、舌を通電させることで、口腔内の塩化物イオンを有効塩素に変化させ殺菌を行うとともに、歯磨き剤や洗口剤等に含まれる薬効成分をイオントフォレシスで送達するようにした舌ケア装置１の使用方法を説明する。なお、イオントフォレシスとは、弱い直流電流の電気的性質を利用し、皮膚の帯電バランスを崩し、普通は通過することのできない表皮のバリアゾーンを弱めて、物質を電気的圧力により真皮層へと浸透させることをいう。
【００５０】
まず、舌ケア装置１を使用する際には、薬効成分等が配合された剤をブリッスル束２２を植毛した近傍の清掃部２０に塗布する。その後、電源スイッチ１３を操作することで、舌ケア装置１の電源をオン状態に切り換える。そして、電流レベル調節スイッチ１４を操作することで、芯部２３ａの先端２３ｃに流れる電流値を所望の強度となるように切り換えると、柄部１２の背面側に設けた電流レベル表示部１６の選択した強度を示す部位が点灯する。なお、本実施形態では、初期設定では弱の表示となるようにしている。そして、電流レベル表示ランプが所望の強度を示していることを確認した後、舌ケア装置１の清掃部２０を口腔内に入れ、ブリッスル束２２や壁部の当接面を舌表面に接触させた状態で後方から前方（舌の奥側から手前側）に向けて清掃部２０を移動させることで舌を刷掃する。
【００５１】
このとき、上述したように、清掃部２０の基台２１には、柄部に近い方から第２の壁部２５、第１の壁部２４、第２の壁部２５、芯鞘構造のブリッスル束２２が順番に設けられている。
【００５２】
このような順で、第１の壁部２４、第２の壁部２５、ブリッスル束２２および枠状壁部２６を設けることで、第１の壁部２４、第２の壁部２５、ブリッスル束２２および枠状壁部２６は、舌の表面を刷掃する際に以下のように動作する。
【００５３】
まず、清掃部２０の移動方向で最前列（図１の最下部）に配置された凹凸を有する第２の壁部２５によって、舌に蓄積した汚れがほぐされ、舌乳頭に固着した汚れが剥離する。そして、最前列の第２の壁部２５によって舌付着汚れが除去しやすくなった状態で、第１の壁部２４が舌を刷掃することにより、舌乳頭部上部に蓄積した舌付着汚れの多くを除去することができる。とくに、本実施形態では、第１の壁部２４の先端に、清掃部２０の移動方向前方に突出する爪部２４ｂを形成しているため、より効率よく舌乳頭部上部に蓄積した舌付着汚れを除去することができる。
【００５４】
そして、前方に配置された第１の壁部２４および第２の壁部２５による刷掃を行った後に、通電部であるブリッスル２３を用いて刷掃することで、第１の壁部２４および第２の壁部２５によって除去できずに残存している舌付着汚れに対してのみ通電を行う。さらに、本実施形態では、第１の壁部２４および第２の壁部２５による刷掃を行った後、ブリッスル２３を用いて刷掃する前に、再度第２の壁部２５によって舌表面を刷掃するようになっている。そのため、当接面２４ａが平坦な第１の壁部２４での刷掃により寝た状態になってしまった舌乳頭をほぐしながら起こすことができ、ブリッスル２３を容易に舌乳頭間に入り込ませることができるようになっている。
【００５５】
そして、通電しながらブリッスル束２２による刷掃を行うことで、舌深部に残存した細菌に対して、通電により生成された有効塩素や送達された薬効成分による殺菌効果を発揮させる。こうして、第１および第２の壁部２４，２５による刷掃では除去できずに残存している舌付着汚れを効率よく除去殺菌する。
【００５６】
そして、第１および第２の壁部２４，２５およびブリッスル束２２の左右両端および上端を囲うように設けられた枠状壁部２６によって、第１の壁部２４、第２の壁部２５、ブリッスル束２２での舌刷掃後に剥離した舌付着汚れを掻きとる。このとき、捕集部２６ｂが汚れを保持しながら掻きとるため、剥離した汚れが残存してしまうのを抑制することができる。さらに、枠状壁部２６の内面（少なくとも第３の壁部の側面）２６ｃに凹凸２６ｄを形成しているため、剥離した汚れを凹凸２６ｄにて確保しながら刷掃することができ、剥離した汚れが残存してしまうのをより一層抑制することができる。
【００５７】
このように、本実施形態にかかる舌ケア装置１では、機械的な除去が容易な汚れを除去した後に、こびりついた汚れに対してブリッスル２３から通電を行い、除去殺菌するようにしている。
【００５８】
以上説明したように、本実施形態では、導電性部材で形成された芯部２３ａを絶縁性部材で形成された被覆部２３ｂにて被覆し、芯部２３ａの先端２３ｃを露出させることで一方の電極を形成している。そのため、電流を殺菌を行いたい部位に集中的に流すことができ、舌に付着した細菌等の雑菌をより効率的に殺菌することができる。
【００５９】
ところで、舌には舌乳頭と呼ばれる無数の小突起が見られ、舌乳頭間やその上部に、口腔内の粘膜から剥離した剥離上皮細胞や白血球、口腔内細菌、唾液タンパク、食べ物のカスが堆積した舌苔が付着している。そして、粘膜剥離細胞や唾液タンパク等が、細菌が産出するタンパク分解酵素によって分解されると、揮発性硫黄化合物等が発生し口臭を引き起こす大きな要因となる。さらに、舌に付着して増殖した細菌が舌以外の部位に悪影響を与え、口内環境が不衛生な状態となってしまう。
【００６０】
そこで、本実施形態では、清掃部２０に通電部を形成し、電流を集中的に対象部位（舌に付着した汚れや細菌等）に流すことで、口腔内液の電気分解を行って口腔内液に含まれる塩化物イオンから殺菌作用のある塩素を生成し、口腔内細菌を殺菌したり、菌増殖の抑制を図っている。
【００６１】
そして、本実施形態では、ブリッスル２３の芯部２３ａを絶縁性の被覆部２３ｂで被覆しつつ、芯部２３ａの先端２３ｃを露出させることで一方の電極を形成している。このように、導電性の芯部２３ａと絶縁性の被覆部２３ｂからなるブリッスル２３を用いることで、一方の電極を舌の細菌が繁殖しやすい場所に選択的に当接させることが可能となる。また、導電性の芯部２３ａと絶縁性の被覆部２３ｂからなるブリッスル２３を用いて通電することで、口腔内で発生した有効塩素や、有効塩素によって電離が促進されてイオン化した薬効成分を対象部位に速やかに届けることが可能となる。したがって、本実施形態によれば、通電により発生させた有効塩素や、有効塩素によってイオン化した薬効成分を集中的に対象部位に送達することができ、舌に付着した菌をより効率よく殺菌して口臭原因物質の発生を抑制することができるようになる。
【００６２】
しかしながら、舌付着汚れは、無数の舌乳頭間に入り込んだ汚れや細菌等の雑菌と、その上部に蓄積した汚れや雑菌とで主に構成されている。そのため、単に芯鞘構造からなるブリッスル２３を用いて通電しながら舌を刷掃するだけでは、通電により発生させた有効塩素や、有効塩素によってイオン化した薬効成分が、乳頭の上部に蓄積した細菌によって消費されてしまい、舌深部に存在する細菌に対して作用させにくいという問題がある。
【００６３】
そこで、本実施形態では、清掃部２０における一方の電極（芯部２３ａの先端２３ｃ）よりも当該清掃部２０の移動方向前部に壁部（第１および第２の壁部２４，２５）を形成し、ブリッスル２３を用いて対象部位に通電する前に、壁部で舌表面を刷掃して対象部位の舌付着汚れを機械的に除去するようにした。
【００６４】
このように、ブリッスル２３を用いて対象部位に通電する前に、壁部で舌表面を刷掃して対象部位の舌付着汚れを機械的に除去することで、機械的に除去されずに残存した細菌および舌付着汚れのみに一方の電極から電流を流すことができる。すなわち、壁部による刷掃がない場合に較べて、舌深部に存在する細菌をより効率的に殺菌することができ、口内をより清潔な状態に維持することができるようになる。さらに、壁部による刷掃がない場合に比べて通電時における細菌の絶対量が少なくなるため、１個の細菌に対する有効塩素および薬効成分の割り当て量が多くなり、殺菌効果のより一層の向上が期待できるという利点もある。
【００６５】
なお、壁部による刷掃を伴わない通電の場合、有効塩素や薬効成分は、舌乳頭に蓄積された汚れの浅い部分において消費されてしまうため、舌深部に存在する細菌には作用せず、多くの細菌残ってしまい、汚れの再付着が起こりやすく口臭予防の効果も長くは持たない。これに対して、ブリッスル２３を用いて対象部位に通電する前に、壁部で舌表面を刷掃して対象部位の舌付着汚れを機械的に除去するようにすれば、残存する細菌がより少なくなって、汚れの再付着が起こりにくくなり、口臭予防の効果を長く持たせることができる。
【００６６】
また、本実施形態では、通電部の第２の電極（他方の電極）１５が、舌ケア装置（口内ケア装置）１における使用者の一部と当接する部位である把持部１１の背面に露出するように形成されている。
【００６７】
このように、舌ケア装置（口内ケア装置）１における使用者の一部と当接する部位に第２の電極（他方の電極）１５を設けることで、舌ケア装置１の使用時に、各ブリッスル２３の芯部２３ａの先端２３ｃ（一方の電極）と第２の電極（他方の電極）１５とが人体（使用者の人体）および唾液等の口腔内液を介して電気的に接続された電気回路を形成することができ、舌付着汚れのある部位に電流を流すことができる。したがって、制御回路（制御部）１７により、所定の直流電圧（例えば、約１５（Ｖ））を印加すれば、上述の電気回路が形成されてブリッスル２３の芯部２３ａの先端２３ｃに電流が流れ、当該先端２３ｃの周囲で口腔内液の電気分解が行われ、口腔内液に含まれる塩化物イオンから殺菌作用のある塩素を生成することができる。その結果、通電によって発生した有効塩素や、剤に配合されている薬効成分を舌付着汚れのある部位に集中的に流すことができる。
【００６８】
また、本実施形態では、壁部が、口内の所定部位に当接する当接面２４ａが平坦状の第１の壁部２４と、口内の所定部位に当接する当接面２５ａが凹凸を有する第２の壁部２５と、を有している。そのため、蓄積した舌付着汚れを凹凸を有する第２の壁部２５でほぐした状態で、平坦状の第１の壁部２４によって舌付着汚れの除去を行うことができ、凹凸形状を備えていない壁部のみでの刷掃に較べて、汚れの除去効果を高めることができる。
【００６９】
また、本実施形態では、清掃部２０における各ブリッスル２３の芯部２３ａの先端２３ｃ（一方の電極）よりも当該清掃部２０の移動方向後部に、第３の壁部としての枠状壁部２６を設けている。そのため、第１および第２の壁部２４，２５およびブリッスル束２２によって舌から剥離させた汚れを、取り残さずに除去することができる。
【００７０】
さらに、本実施形態では、枠状壁部２６が、一方の電極の清掃部２０の移動方向と交差する方向の両側方に延設した枠状に形成されているため、舌から剥離させた汚れの取り残しをより一層減少させることができる。また、枠状壁部２６に、口内の除去物質を捕集する捕集部２６ｂを設けることで、剥離させた汚れの除去効果をさらに高めることができる。
【００７１】
また、本実施形態では、枠状壁部２６の内面（少なくとも第３の壁部の側面）２６ｃに凹凸を形成しているため、枠状壁部２６の内面２６ｃの凹凸部分で汚れを保持することができ、剥離させた汚れの除去効果をさらに高めることができる。
【００７２】
また、本実施形態では、第１および第２の壁部２４，２５の当接面２４ａ，２５ａや各ブリッスル２３の芯部２３ａの先端（一方の電極部の先端）２３ｃをつないで形成される仮想面３０が、舌の表面に対応する形状となるようにしている。そのため、第１および第２の壁部２４，２５の当接面２４ａ，２５ａや各ブリッスル２３の芯部２３ａの先端（一方の電極部の先端）２３ｃをより確実に舌の表面に接触させることができる。その結果、通電によって発生した有効塩素や薬効成分を、より効率的に舌表面や舌深部に作用させることができるようになり、舌付着汚れの除去効果を高めることができる。
【００７３】
また、本実施形態では、制御回路（制御部）１７が、各ブリッスル２３の芯部２３ａの先端２３ｃ（一方の電極）に流す電流値を、通電初期における電流値から徐々に変化させて選択した段階における最適な電流値（所定の電流値）に収束するように制御している。
【００７４】
したがって、舌ケア装置（口内ケア装置）１使用時に、舌に流れる電流を段階的に増加させることができ、使用者が電流を感じにくくなる上、使用者が痛みや違和感等を感じたり、味覚変化等が生じてしまうのを抑制することができる。
【００７５】
また、本実施形態では、舌ケア装置（口内ケア装置）１に、清掃部２０による押し付け圧力を検知する圧力センサー（圧力検知出段）２８を設けている。そして、報知手段を設けて、圧力センサー（圧力検知出段）２８が所定値以上の圧力値を検知した場合に、そのことを使用者に報知するようにしている。そのため、使用者が舌ケア装置（口内ケア装置）１を舌に過剰に押し付けて刷掃してしまうのを抑制することができる。このように、過剰な押し付け圧力による舌の刷掃を抑制することで、舌に組織的なダメージを与えてしまったり、機能的ダメージ（味覚変化等）を与えてしまうのを抑制することができる。
【００７６】
また、本実施形態では、制御回路（制御部）１７が、各ブリッスル２３の芯部２３ａの先端２３ｃ（一方の電極）に流す電流の周波数を、通電初期における周波数から徐々に変化させて所望の周波数（所定の周波数）に収束するように制御している。したがって、舌ケア装置（口内ケア装置）１使用時に、舌に流れる電流の周波数を段階的に低減させることができ、使用者が電流を感じにくくなる上、使用者が痛みや違和感等を感じたり、味覚変化等が生じてしまうのを抑制することができる。
【００７７】
以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態には限定されず、種々の変形が可能である。
【００７８】
例えば、上記実施形態では、ブリッスルの芯部の先端を略円錐状の尖鋭形状としたものを例示したが、ブリッスルの芯部の先端を半球形状として被覆部から突出させるようにしてもよい。こうすれば、ブリッスルの先端の舌等への当たりが柔らかくなり、使用時の刺激を抑えることが可能となる。また、芯部を単なる円柱状となるように突出させてもよい。
【００７９】
また、上記実施形態では、ブリッスルを構成する被覆部を芯部よりも硬度が低くなるように構成したものを例示したが、これに限らず、例えば、両者を同等の硬度で構成するようにしてもよい。
【００８０】
また、上記実施形態では、ブリッスル束を保持板を挟み込むようにＵ字状に折り返して導電性植毛台に植設させたものを例示したが、ブリッスル束を折り曲げず（保持板を使用せず）、ブリッスル束の基端部を導電性植毛台に植設するようにしてもよい。
【００８１】
また、上記実施形態では、図１、２に示すように、第２の電極（他方の電極）１５を、舌ケア装置（口内ケア装置）１における使用者の一部と当接する部位である把持部１１の背面に露出するように形成したものを例示したが、これに限定されるものではない。例えば、図９に示すように、第２の電極（他方の電極）１５Ａを、舌ケア装置（口内ケア装置）１Ａにおける使用者の一部と当接する部位である柄部１２の表面側とすることも可能である。このように、柄部１２の表面側に第２の電極（他方の電極）１５Ａを設けることで、舌ケア装置（口内ケア装置）１Ａ使用時には、各ブリッスル２３の芯部２３ａの先端２３ｃ（一方の電極）と第２の電極（他方の電極）１５とが使用者の唾液等の口腔内液を介して電気的に接続された電気回路を形成することができる。なお、清掃部２０に設けた壁部に第２の電極（他方の電極）を設けるようにしても同様の電気回路を形成することができる。このように、使用者の手を介さずに電気回路を形成できるようにすれば、使用者が自ら舌ケア装置（口内ケア装置）１Ａを把持する必要はなく、子供やお年寄り等、自分で装置を使用することが困難な場合であっても、他者により舌の清掃を効率的に行うことができるようになる。
【００８２】
また、上記実施形態では、口内ケア装置として舌ケア装置を例示したが、歯ブラシ等他の口内ケア装置であっても本発明を適用することができる。例えば、舌ケア装置と歯ブラシを兼用する口内ケア装置としてもよい。この場合、清掃部が舌ケア装置と歯ブラシを兼用するようにしてもよいし、清掃部を把持部に着脱可能に装着する構成とし、用途に応じて清掃部を付け替えるようにしてもよい。
【００８３】
また、本体部や電極部、捕集部その他細部のスペック（形状、大きさ、レイアウト等）も適宜変更することが可能である。
【符号の説明】
【００８４】
１  舌ケア装置（口内ケア装置）
１５  第２の電極（他方の電極：通電部）
１７  制御回路（制御部）
２０  清掃部
２３  ブリッスル
２３ａ  芯
２３ｂ  被覆部
２３ｃ  先端（一方の電極：通電部）
２４  第１の壁部（壁部）
２４ａ  先端
２４ｂ  突部
２５  第２の壁部（壁部）
２５ａ  先端
２６  枠壁部（第３の壁部）
２６ａ  先端
２６ｂ  捕集部
２６ｃ  内面
２６ｄ  凹凸
２７  導線
２８  圧力センサ
３０  仮想面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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