(57)【要約】【課題】ワークの研磨装置において、研磨レートを高めるとともに、ワークの傷付きを防止する。【解決手段】この研磨装置１は、機体２と、上下方向の回転軸ＣＴ１を中心として機体２に対して回転自在な研磨上面を有する下定盤３と、研磨上面の上側にワークＷを保持しうるワーク支持部材９とを備えている。ワーク支持部材９は、ワーク支持部材９に保持されたワークＷをワークＷの中心から偏心した上下方向の公転軸を中心として機体２に対して公転させうるように構成されている。これにより、ワークＷの公転速度が増大しても、遠心力による研磨剤の飛散を抑制することができる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
機体と、
上下方向の回転軸を中心として前記機体に対して回転自在な研磨上面を有する下定盤と、
前記研磨上面の上側にワークを保持しうるワーク支持部材とを備え、
前記ワーク支持部材は、当該ワーク支持部材に保持されたワークを当該ワークの中心から偏心した上下方向の公転軸を中心として前記機体に対して公転させうるように構成されていることを特徴とする研磨装置。
【請求項２】
前記ワーク支持部材は、当該ワーク支持部材に保持されたワークの自転を阻止しうるように構成されていることを特徴とする請求項１に記載の研磨装置。
【請求項３】
前記ワーク支持部材に保持されたワークの公転軸が、当該ワークの中にあることを特徴とする請求項１または２に記載の研磨装置。
【請求項４】
前記ワーク支持部材に保持されたワークの公転軸が、前記下定盤の回転軸に一致していることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の研磨装置。
【請求項５】
前記下定盤の上方には、上下方向の回転軸を中心として前記機体に対して回転自在な研磨下面を有する上定盤が、前記ワーク支持部材に保持されたワークを挟んで対向するように配置されていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の研磨装置。
【請求項６】
前記上定盤の回転軸が、前記下定盤の回転軸に一致していることを特徴とする請求項５に記載の研磨装置。
【請求項７】
前記下定盤と前記上定盤の少なくとも一方は、定盤本体と、この定盤本体の凸状のパッド装着面に装着された研磨パッドとを含むことを特徴とする請求項５または６に記載の研磨装置。
【請求項８】
前記機体に定盤支持部材が回転自在に設けられ、前記下定盤と前記上定盤の少なくとも一方は、前記定盤支持部材にスペーサを介して支持されていることを特徴とする請求項５乃至７のいずれかに記載の研磨装置。
【請求項９】
前記下定盤と前記上定盤の少なくとも一方には、前記ワーク支持部材に保持されたワークに研磨剤を供給する研磨剤供給路が設けられ、
この研磨剤供給路は、前記研磨剤を吐出する吐出孔を有し、
この吐出孔は、前記ワークによって閉塞されないタイミングを当該ワークの研磨中に有するように構成されていることを特徴とする請求項５乃至８のいずれかに記載の研磨装置。
【請求項１０】
前記下定盤と前記上定盤の少なくとも一方には、前記ワーク支持部材に保持されたワークに研磨剤を供給する研磨剤供給路が設けられ、
この研磨剤供給路は、前記研磨剤を吐出する複数の吐出孔を有し、
これらの吐出孔は、前記ワークによって同時に閉塞されるタイミングが当該ワークの研磨中に生じないように構成されていることを特徴とする請求項５乃至８のいずれかに記載の研磨装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば、液晶パネル用マスク等の製造において、ガラス基板の平坦化研磨に用いるのに好適な研磨装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種の研磨装置としては、上定盤と下定盤との間にワークを挟持し、このワークに研磨剤を供給しつつ、上定盤および下定盤をともに回転させるとともに、上定盤および下定盤の回転軸から偏心した回転軸を中心としてワークを自転させることにより、ワークを研磨剤で研磨するように構成されたものが知られていた（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００３−１３６３９８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、こうした研磨装置では、ワークおよび定盤（下定盤、上定盤）が自転するように構成されているため、ワークおよび定盤の各部位の周速度がワークの中心からの距離に比例し、ワークおよび定盤の周縁部の周速度がワークおよび定盤の中央部の周速度より速くなる。したがって、研磨レート（単位時間当たりの研磨量）を高めるべくワークおよび定盤の回転速度を増大させると、研磨剤の一部が遠心力で飛散し、ワークの研磨に寄与する研磨剤が減ってしまう。その結果、所望の研磨レートが得られないばかりか、ワークが傷付く恐れがあるという課題があった。
【０００５】
本発明は、このような事情に鑑み、研磨剤の飛散を抑制することにより、研磨レートを高めるとともに、ワークの傷付きを防止することが可能な研磨装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明に係る第１の研磨装置（１）は、機体（２）と、上下方向の回転軸（ＣＴ１）を中心として前記機体に対して回転自在な研磨上面（３ｄ）を有する下定盤（３）と、前記研磨上面の上側にワーク（Ｗ）を保持しうるワーク支持部材（９）とを備え、前記ワーク支持部材は、当該ワーク支持部材に保持されたワークを当該ワークの中心（ＣＴ３）から偏心した上下方向の公転軸を中心として前記機体に対して公転させうるように構成されている研磨装置としたことを特徴とする。
【０００７】
なお、ここでは、本発明をわかりやすく説明するため、実施の形態を表す図面の符号に対応づけて説明したが、本発明が実施の形態に限定されるものでないことは言及するまでもない。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、研磨剤でワークを研磨する際に、下定盤を回転させるとともに、ワークの中心から偏心した公転軸を中心としてワークを公転させることにより、ワークの公転速度が増大しても、遠心力による研磨剤の飛散を抑制することができる。その結果、研磨レートを高めるとともに、ワークの傷付きを防止することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の実施の形態１に係る研磨装置を示す正面図である。
【図２】図１に示す研磨装置のＡ−Ａ線による断面図である。
【図３】同実施の形態１に係る研磨装置の研磨剤供給路を示す縦断面図である。
【図４】同実施の形態１に係る研磨装置の下定盤を示す平面図である。
【図５】本発明の実施の形態２に係る研磨装置の要部を示す縦断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明の実施の形態について説明する。
［発明の実施の形態１］
【００１１】
図１乃至図４は、本発明の実施の形態１に係る図である。
【００１２】
まず、構成を説明する。
【００１３】
この実施の形態１に係る研磨装置１は、図１および図２に示すように、長方形枠状の機体２を有している。機体２の下部には、所定の直径（例えば、３ｍ）を有する円盤状の下定盤３が、モーター５の駆動により、上下方向の回転軸ＣＴ１を中心として矢印Ｋ、Ｌ方向に回転自在に支持されている。この下定盤３は、図３に示すように、円盤状の鉄からなる定盤本体３ａを有しており、定盤本体３ａの上面にはパッド装着面３ｂが形成されている。また、パッド装着面３ｂにはスポンジ状の軟質材料からなる研磨パッド３ｃが装着されており、研磨パッド３ｃの上面が研磨上面３ｄとなる。さらに、研磨パッド３ｃの上部には溝３ｅが格子状に形成されている。
【００１４】
また、機体２の上部には、図１に示すように、下定盤３と同じ直径を有する円盤状の上定盤６が、モーター７の駆動により、上下方向の回転軸ＣＴ２を中心として矢印Ｍ、Ｎ方向に回転自在に、かつ、図示しない昇降手段の駆動により、上下方向に昇降自在に支持されている。この上定盤６は、図３に示すように、円盤状の鉄からなる定盤本体６ａを有しており、定盤本体６ａの下面にはパッド装着面６ｂが形成されている。また、パッド装着面６ｂにはスポンジ状の軟質材料からなる研磨パッド６ｃが装着されており、研磨パッド６ｃの下面が研磨下面６ｄとなる。
【００１５】
ここで、上定盤６は下定盤３の上方に対向するように配置されており、上定盤６の回転軸ＣＴ２は下定盤３の回転軸ＣＴ１に一致している。つまり、下定盤３の回転軸ＣＴ１と上定盤６の回転軸ＣＴ２とは同軸上にある。
【００１６】
また、機体２には、図１および図２に示すように、下定盤３と上定盤６との間に、長方形板状のワークＷを保持しうるワーク支持部材９が、上下方向の公転軸ＣＴ４を中心として公転自在に支持されている。ここで、ワーク支持部材９の公転軸ＣＴ４は、下定盤３の回転軸ＣＴ１および上定盤６の回転軸ＣＴ２に一致している（同軸上にある）とともに、図２に示すように、ワークＷの中心ＣＴ３から偏心している。なお、ワークＷの平面形状である長方形は、正方形をも含む広い概念である。
【００１７】
このワーク支持部材９は、ステンレスなどの金属材料からなるワークフレーム１２と、ポリカーボネートなどの樹脂材料からなるワークキャリア１３とから構成されている。すなわち、機体２には４個のモーター１０が、平面視で正方形の頂点に位置するように載置されており、各モーター１０はそれぞれ、その出力軸１０ａを上向きに突出させている。各出力軸１０ａにはそれぞれ、円盤状のフランジ１１が嵌合しており、各フランジ１１はそれぞれ、モーター１０の出力軸１０ａから偏心した位置で上向きに立設された円柱状の係合ピン１１ａを有している。これら４本の係合ピン１１ａには、正方形枠状のワークフレーム１２が、その４箇所の隅角部に設けられた４個の円筒状の係合筒部１２ａを回転自在に係合させて取り付けられている。ワークフレーム１２には、その内部空間を覆うように平板状のワークキャリア１３が設けられており、ワークキャリア１３の中央部（したがって、ワーク支持部材９の中央部）にはワーク保持孔１３ａが、ワークＷの形状に合わせて長方形状に形成されている。そして、４個のモーター１０を駆動して４個のフランジ１１を同期して回転させることにより、ワーク支持部材９を公転軸ＣＴ４を中心として公転（オービタル運動）させることができる。
【００１８】
また、下定盤３の内部には、図３および図４に示すように、ワークＷに研磨剤を供給する研磨剤供給路１５が形成されており、研磨剤供給路１５は、定盤本体３ａ内に形成された１本の本流路１５ａを有している。本流路１５ａには２１本の支流路１５ｂが連通して形成されており、各支流路１５ｂの開口端にはそれぞれ吐出孔１５ｃが、下定盤３の研磨上面３ｄに位置するように形成されている。ここで、これら２１個の吐出孔１５ｃは、図４に示すように、後述するワークＷの研磨中に、すべての吐出孔１５ｃがワークＷによって同時に閉塞されるタイミングが生じないように、換言すれば、ワークＷの研磨中の任意のタイミングにおいて少なくとも１個の吐出孔１５ｃがワークＷによって閉塞されないように配列されている。
【００１９】
同様に、上定盤６の内部には、図３に示すように、ワークＷに研磨剤を供給する研磨剤供給路１６が形成されており、研磨剤供給路１６は、定盤本体６ａ内に形成された１本の本流路１６ａを有している。本流路１６ａには２１本の支流路１６ｂが連通して形成されており、各支流路１６ｂの開口端にはそれぞれ吐出孔１６ｃが、上定盤６の研磨下面６ｄに位置するように形成されている。ここで、これら２１個の吐出孔１６ｃは、上述した２１個の吐出孔１５ｃと同様、後述するワークＷの研磨中に、すべての吐出孔１６ｃがワークＷによって同時に閉塞されるタイミングが生じないように、換言すれば、ワークＷの研磨中の任意のタイミングにおいて少なくとも１個の吐出孔１６ｃがワークＷによって閉塞されないように配列されている。
【００２０】
研磨装置１は以上のような構成を有するので、この研磨装置１を用いて長方形板状のワークＷを研磨する際には、次の手順による。
【００２１】
まず、ワーク挟持工程で、上定盤６を上昇させ、ワークキャリア１３のワーク保持孔１３ａにワークＷを嵌着した後、上定盤６を下降させる。すると、ワークＷは、下定盤３の研磨上面３ｄと上定盤６の研磨下面６ｄとの間に挟持された状態となる。
【００２２】
その後、研磨剤供給工程に移行し、研磨剤供給路１５、１６からワークＷに研磨剤を供給する。すると、この研磨剤は、研磨パッド３ｃの溝３ｅに蓄えられる。
【００２３】
この状態で、研磨実行工程に移行し、モーター５を駆動して下定盤３を回転軸ＣＴ１を中心として矢印Ｋ方向に所定の回転速度で回転させるとともに、モーター７を駆動して上定盤６を回転軸ＣＴ２を中心として矢印Ｎ方向、つまり下定盤３と逆向きに同じ回転速度で回転させる。さらに、４個のモーター１０を駆動してワーク支持部材９を公転軸ＣＴ４を中心として公転（オービタル運動）させる。
【００２４】
このとき、ワーク支持部材９の公転軸ＣＴ４は下定盤３の回転軸ＣＴ１および上定盤６の回転軸ＣＴ２に一致しており、しかも、このワーク支持部材９の中央部にワークＷが位置しているので、ワークＷの公転軸は下定盤３の回転軸ＣＴ１および上定盤６の回転軸ＣＴ２に一致する。したがって、ワーク支持部材９の公転と同期して、公転軸ＣＴ４に一致する公転軸を中心としてワークＷが公転する。その結果、ワークＷは、下定盤３の研磨上面３ｄおよび上定盤６の研磨下面６ｄにより、上下両面が同時に研磨されることになる。なお、ワークＷの公転軸はワークＷの中にある。
【００２５】
ここで、ワーク支持部材９の公転速度を増大させれば、その分だけ研磨レートを高めることができる。この場合、ワーク支持部材９の公転速度の増大に伴ってワークＷの公転速度も増大するが、ワークＷは、自転ではなく公転することから、どの部位の速度も一定となる。そのため、ワークＷの公転速度が増大しても、遠心力による研磨剤の飛散を抑制し、ワークＷの研磨に寄与する研磨剤を確保することができる。その結果、研磨レートを高めるとともに、ワークＷの傷付きを防止することが可能となる。
【００２６】
また、ワークＷに研磨剤を供給する２１個の吐出孔１５ｃ、１６ｃは、上述したとおり、ワークＷの研磨中の任意のタイミングにおいて少なくとも１個の吐出孔１５ｃ、１６ｃがワークＷによって閉塞されないように配列されているので、研磨レートを高めるべく研磨剤の供給量を多くした場合、このワークＷによって閉塞されていない吐出孔１５ｃ、１６ｃから研磨剤が支障なく吐出される。したがって、すべての吐出孔１５ｃ、１６ｃがワークＷによって同時に閉塞されている場合と異なり、研磨剤がワークＷを強く押圧することは発生しない。その結果、研磨剤の供給量を多くしても、ワークＷが研磨上面３ｄや研磨下面６ｄから浮いて研磨レートが低下してしまう事態を未然に防ぐことができる。そのため、研磨剤の管理が容易になる。
【００２７】
また、ワークＷの研磨中は下定盤３および上定盤６が回転しているため、下定盤３および上定盤６が回転しない場合と異なり、ワークＷと研磨パッド３ｃ、６ｃとの位置関係が固定される事態を回避し、ワークＷの各部位が接触する研磨上面３ｄおよび研磨下面６ｄの部位を時間的に平均化することができる。その結果、研磨パッド３ｃ、６ｃに厚さむらがあっても、その厚さむらの影響を低減し、ワークＷの研磨量むらを減らすことが可能となる。
【００２８】
また、下定盤３および上定盤６は通常、いずれもワークＷに比べて質量が大きいため、その回転に伴って大きな回転モーメントが生じる。しかし、下定盤３の回転軸ＣＴ１と上定盤６の回転軸ＣＴ２とが一致しており、かつ、下定盤３と上定盤６とが逆向きに同じ回転速度で回転しているので、これらの回転モーメントは互いに打ち消され、結果的に研磨装置１全体の振動を抑制することができる。
【００２９】
また、上述したとおり、ワークキャリア１３のワーク保持孔１３ａがワークＷの形状に合わせて長方形状に形成されているため、ワーク支持部材９の公転に伴ってワークＷが自転することを阻止することができる。その結果、研磨剤を遠心力で無駄に飛散させることなく研磨レートを高めることができる。これは、研磨レートを高めるためにはワークＷや定盤（下定盤３、上定盤６）の周速度を大きくすることが有効であるが、この周速度が大きすぎると研磨剤が円心力によって飛散するため、この周速度には自ずと上限（具体的には、概ね１００ｍ／分）があるとの考えに立脚するものである。
【００３０】
例えば、直径３ｍの定盤を用いて、対角線の長さが２．５ｍの長方形板状のワークＷを研磨する場合を考える。この定盤をその周縁部の周速度が上限を超えないように回転させる場合、この定盤の回転速度は約１０ｒｐｍが上限となる。同様に、このワークＷをその周縁部の周速度が上限を超えないように自転させる場合、このワークＷの回転速度は約１２ｒｐｍが上限となる。したがって、定盤を自転させ、定盤の回転軸とワークＷの回転中心との偏心量が０．３ｍとした従来の研磨方法では、上述したとおり、定盤の回転速度は１０ｒｐｍが上限なので、この上限での相対研磨速度は約１８．８ｍ／分（０．３ｍ×２π×１０ｒｐｍ）となる。
【００３１】
これに対して、ワークＷを自転させずに公転直径０．３ｍで公転させる場合、このワークＷの回転速度は、直径３ｍの定盤の回転速度の１０倍（約１００ｒｐｍ）となる。したがって、ワークＷを公転させたときの回転速度の上限は１００ｒｐｍなので、相対研磨速度は約９４．２ｍ／分（０．３ｍ×π×１００ｒｐｍ）となる。すなわち、研磨剤を遠心力で無駄に飛散させることなく研磨レートを５倍まで増加させることが可能となる。
【００３２】
さらに、上述したとおり、ワークＷの公転軸が下定盤３の回転軸ＣＴ１および上定盤６の回転軸ＣＴ２に一致しているので、研磨上面３ｄおよび研磨下面６ｄのほぼ全面を使ってワークＷを効率的に研磨することができる。
【００３３】
こうして、ワークＷの上下両面が所定の研磨量だけ研磨されたところで、後処理工程に移行し、モーター５、７の駆動を停止して下定盤３および上定盤６の回転を停止するとともに、研磨剤供給路１５、１６からの研磨剤の供給を停止する。その後、上定盤６を上昇させ、ワークキャリア１３からワークＷを取り外した後、上定盤６を下降させる。
【００３４】
ここで、研磨装置１によるワークＷの研磨が終了する。
［発明の実施の形態２］
【００３５】
図５は、本発明の実施の形態２に係る図である。
【００３６】
この実施の形態２に係る研磨装置１では、図５に示すように、機体（図示せず）の下部に定盤支持部材１７が回転自在に設けられ、定盤支持部材１７にスペーサ１９を介して下定盤３が締結されて水平に支持されている。また、前記機体の上部に定盤支持部材２０が回転自在に設けられ、定盤支持部材２０にテーパー状のスペーサ２１を介して上定盤６が締結され、その締結力によって湾曲して支持されているため、上定盤６のパッド装着面６ｂは、所定の曲率を有する凸状に形成されている。このパッド装着面６ｂの曲率はワークＷの大きさに依存する。例えば、ワークＷが一辺２ｍの正方形板状である場合、その対角線の長さ（約２．８ｍ）に対して２０〜１５０μｍとする。なお、上定盤６の研磨パッド６ｃは、スポンジ状の軟質材料から形成されているため、図５に示すように、上定盤６の研磨下面６ｄはワークＷに接触して平坦になる。
【００３７】
その他の構成については、上述した実施の形態１と同様であるので、同一の部材については、同一の符号を付してその説明を省略する。
【００３８】
また、研磨装置１によるワークＷの研磨方法についても、上述した実施の形態１と同様である。
【００３９】
したがって、この研磨装置１では、上述した実施の形態１と同じ作用効果を奏する。
【００４０】
これに加えて、上定盤６のパッド装着面６ｂの曲率との関係で上定盤６の回転速度を適宜増減することにより、平坦なワークＷを製造したり、凹面または凸面を有するワークＷを製造したりすることが可能となる。これは、上定盤６のパッド装着面６ｂが凸状に形成され、研磨パッド６ｃの中央部が周縁部より強く圧縮されているため、上定盤６の回転速度とは無関係に、ワークＷの中央部が周縁部より多く研磨される現象（以下、センター・ファースト現象という。）が発生する一方、自転する上定盤６は中央部の周速度に比べて周縁部の周速度が速く、その差が上定盤６の回転速度に比例して拡大するため、上定盤６の回転速度が大きいほどワークＷの周縁部が中央部より多く研磨される現象（以下、エッジ・ファースト現象という。）が発生することから、ワークＷの加工形状に応じてセンター・ファースト現象とエッジ・ファースト現象とのバランスを取ることに着目したものである。
【００４１】
すなわち、上定盤６の回転速度を所定の速度（以下、規定速度という。）に一致させると、センター・ファースト現象とエッジ・ファースト現象とが拮抗するため、平坦なワークＷが得られる。また、上定盤６の回転速度を規定速度より小さくすると、エッジ・ファースト現象よりセンター・ファースト現象が優勢となるため、凹面を有するワークＷが得られる。さらに、上定盤６の回転速度を規定速度より大きくすると、センター・ファースト現象よりエッジ・ファースト現象が優勢となるため、凸面を有するワークＷが得られる。
【００４２】
なお、ここでは、上定盤６の回転速度を適宜増減すること、つまり上定盤６の回転速度制御により、種々の形状を有するワークＷを製造したが、下定盤３の回転速度制御や、上定盤６および下定盤３の回転速度制御により、種々の形状を有するワークＷを同様にして製造することも可能である。
［発明のその他の実施の形態］
【００４３】
なお、上述した実施の形態１、２では、２１個すべての吐出孔１５ｃ、１６ｃがワークＷによって同時に閉塞されるタイミングがワークＷの研磨中に生じないように配列された研磨装置１について説明した。しかし、吐出孔１５ｃ、１６ｃの個数を１個以上とし、この吐出孔１５ｃ、１６ｃがワークＷによって閉塞されないタイミングをワークＷの研磨中に有するように構成してもよい。この場合、吐出孔１５ｃ、１６ｃがワークＷによって閉塞されないタイミングにおいて、この吐出孔１５ｃ、１６ｃから研磨剤を支障なく吐出することができ、ひいてはワークＷを所定の研磨量だけ研磨することが可能となる。
【００４４】
また、上述した実施の形態１、２では、ワークＷを自転させることなく公転させる場合について説明したが、ワークＷと下定盤３および上定盤６とで回転速度が異なる限り、ワークＷを自転させてもよい。ただし、ワークＷをあまり速く自転させることは、研磨剤が遠心力で飛散する点で好ましくない。
【００４５】
また、上述した実施の形態１、２では、４個のモーター１０を駆動して４個のフランジ１１を同期して回転させることにより、ワーク支持部材９を公転軸ＣＴ４を中心として公転させる場合について説明した。しかし、モーター１０およびフランジ１１の個数は、４個に限るわけではない。また、ワーク支持部材９を公転させる機構については、他にも種々考えられる。例えば、４個のフランジ１１のうち１個のフランジ１１のみを１個のモーター１０で駆動できるようにしておき、剛性のあるワークフレーム１２を利用してリンク機構を構成することにより、１個のモーター１０ですべてのフランジ１１を同時に回転させるようにしても構わない。
【００４６】
また、上述した実施の形態１、２では、下定盤３および上定盤６を備えた研磨装置１について説明したが、下定盤３のみを備えた研磨装置１に本発明を同様に適用することも可能である。この場合、上定盤６でワークＷを下向きに押圧する代わりに、ワークＷ上に錘を載せ、この錘の自重でワークＷを下向きに押圧するようにすれば、下定盤３の研磨上面３ｄによってワークＷの下面を研磨することができる。
【００４７】
さらに、上述した実施の形態２では、上定盤６のパッド装着面６ｂが凸状に形成されている場合について説明した。しかし、これに代えて、または、これに加えて、下定盤３のパッド装着面３ｂを凸状に形成するようにしても構わない。
【産業上の利用可能性】
【００４８】
本発明は、特に大型のワークを研磨する際に好適に適用することができる。
【符号の説明】
【００４９】
１……研磨装置
２……機体
３……下定盤
３ａ……定盤本体
３ｂ……パッド装着面
３ｃ……研磨パッド
３ｄ……研磨上面
３ｅ……溝
５……モーター
６……上定盤
６ａ……定盤本体
６ｂ……パッド装着面
６ｃ……研磨パッド
６ｄ……研磨下面
７……モーター
９……ワーク支持部材
１０……モーター
１０ａ……出力軸
１１……フランジ
１１ａ……係合ピン
１２……ワークフレーム
１２ａ……係合筒部
１３……ワークキャリア
１３ａ……ワーク保持孔
１５……研磨剤供給路
１５ａ……本流路
１５ｂ……支流路
１５ｃ……吐出孔
１６……研磨剤供給路
１６ａ……本流路
１６ｂ……支流路
１６ｃ……吐出孔
１７……定盤支持部材
１９……スペーサ
２０……定盤支持部材
２１……スペーサ
Ｗ……ワーク
ＣＴ１……下定盤の回転軸
ＣＴ２……上定盤の回転軸
ＣＴ３……ワークの中心
ＣＴ４……ワーク支持部材の公転軸
【図１】
2012152836.tif 000003
【図２】
2012152836.tif 000004
【図３】
2012152836.tif 000005
【図４】
2012152836.tif 000006
【図５】
2012152836.tif 000007