(57)【要約】【課題】新規のクロスカップリングの提供。【解決手段】ハロゲン化アリールとアリールホウ酸、アリールグリニヤール試薬またはアミンのクロスカップリング反応を経由してビアリールまたはアリールアミンを製造する目的で、ホスフィンオキサイド化合物を遷移金属、好適にはパラジウムおよびニッケルと一緒に用いる。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
式：Ｒ1−ＮＲ2Ｒ3［式中、Ｒ1は、場合により置換されていてもよいアリールであり、Ｒ2およびＲ3は、独立して、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ、アルコキシ、アリールオキシおよび複素環から成る群から選択されるか、場合により、Ｒ2とＲ3が一緒になって環を形成していてもよい］で表されるアリールアミンの製造方法であって、式ＨＮＲ2Ｒ3で表されるアミンと式Ｒ1−Ｘ［式中、Ｘはハロゲンである］で表されるアリール化合物を式ＨＰ（Ｏ）Ｒ4Ｒ5［式中、Ｒ4およびＲ5は、独立して、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、複素環、有機金属、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＳＱ1、ＯＱ2、ＰＱ3Ｑ4およびＮＱ5Ｑ6（ここで、Ｑ1、Ｑ2、Ｑ3、Ｑ4、Ｑ5およびＱ6は、独立して、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ、アルコキシ、アリールオキシおよび複素環から成る群から選択される）から成る群から選択されるか、場合により、Ｒ4とＲ5が一緒になって環を形成していてもよい］で表されるホスフィンオキサイド化合物と錯体を形成している１種以上の遷移金属を含んで成る触媒量の配位化合物の存在下で接触させることを含んで成る方法。
【請求項２】
Ｒ1が場合により置換されていてもよいフェニルである請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記遷移金属が周期族ＶＩＩＩから選択される請求項２記載の方法。
【請求項４】
Ｒ4およびＲ5が独立してヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルおよび複素環から成る群から選択されそして前記遷移金属がＰｄである請求項３記載の方法。
【請求項５】
Ｒ2およびＲ3が水素、場合により置換されていてもよいアリールおよびヒドロカルビルから成る群から選択されるか、場合により、Ｒ2とＲ3が一緒になって環を形成していてもよい請求項４記載の方法。
【請求項６】
ＸがＣｌである請求項５記載の方法。
【請求項７】
Ｒ1がフェニル、４−メチルフェニル、４−メトキシフェニルおよび４−トリフルオロメチルフェニルから成る群から選択され、
Ｒ2およびＲ3が水素、フェニル、４−メチルフェニルから成る群から選択されるか、一緒になってピペリジル環を形成しており、そして
Ｒ4およびＲ5がｔ−ブチル、フェニル、ｉ−プロピルおよび２，４−メトキシフェニルから成る群から選択される、
請求項６記載の方法。
【請求項８】
式：Ｒ1−Ｒ6［式中、Ｒ1は、場合により置換されていてもよいアリールであり、Ｒ6は、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ、アルコキシ、アリールオキシおよび複素環から成る群から選択される］で表されるビアリールの製造方法であって、式Ｒ6−Ｂ（ＯＨ）2で表されるホウ酸と式Ｒ1−Ｘ［式中、Ｘはハロゲンである］で表されるアリール化合物を式ＨＰ（Ｏ）Ｒ4Ｒ5［式中、Ｒ4およびＲ5は、独立して、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、複素環、有機金属、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＳＱ1、ＯＱ2、ＰＱ3Ｑ4およびＮＱ5Ｑ6（ここで、Ｑ1、Ｑ2、Ｑ3、Ｑ4、Ｑ5およびＱ6は、独立して、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ、アルコキシ、アリールオキシおよび複素環から成る群から選択される）から成る群から選択されるか、場合により、Ｒ4とＲ5が一緒になって環を形成していてもよい］で表されるホスフィンオキサイド化合物と錯体を形成している１種以上の遷移金属を含んで成る触媒量の配位化合物の存在下で接触させることを含んで成る方法。
【請求項９】
Ｒ1が場合により置換されていてもよいフェニルである請求項８記載の方法。
【請求項１０】
前記遷移金属が周期族ＶＩＩＩから選択される請求項９記載の方法。
【請求項１１】
Ｒ4およびＲ5が独立してヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルおよび複素環から成る群から選択されそして前記遷移金属がＰｄである請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
Ｒ6が場合により置換されていてもよいアリールである請求項１１記載の方法。
【請求項１３】
ＸがＣｌである請求項１２記載の方法。
【請求項１４】
Ｒ1がフェニル、４−メトキシフェニル、２−メトキシフェニルおよび４−メチルフェニルから成る群から選択され、
Ｒ6がフェニルおよび４−メトキシフェニルから成る群から選択され、そして
Ｒ4およびＲ5がｔ−ブチル、フェニル、ｉ−プロピルおよび２，４−メトキシフェニルから成る群から選択される、
請求項１３記載の方法。
【請求項１５】
式：Ｒ1−Ｒ7［式中、Ｒ1は、場合により置換されていてもよいアリールであり、Ｒ7は、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ、アルコキシ、アリールオキシおよび複素環から成る群から選択される］で表されるビアリールの製造方法であって、式Ｒ7−ＭｇＸ［式中、Ｘはハロゲンである］で表されるグリニヤール試薬と式Ｒ1−Ｘで表されるアリール化合物を式ＨＰ（Ｏ）Ｒ4Ｒ5［式中、Ｒ4およびＲ5は、独立して、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、複素環、有機金属、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＳＱ1、ＯＱ2、ＰＱ3Ｑ4およびＮＱ5Ｑ6（ここで、Ｑ1、Ｑ2、Ｑ3、Ｑ4、Ｑ5およびＱ6は、独立して、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ、アルコキシ、アリールオキシおよび複素環から成る群から選択される）から成る群から選択されるか、場合により、Ｒ4とＲ5が一緒になって環を形成していてもよい］で表されるホスフィンオキサイド化合物と錯体を形成している１種以上の遷移金属を含んで成る触媒量の配位化合物の存在下で接触させることを含んで成る方法。
【請求項１６】
Ｒ1が場合により置換されていてもよいフェニルである請求項１５記載の方法。
【請求項１７】
前記遷移金属が周期族ＶＩＩＩから選択される請求項１６記載の方法。
【請求項１８】
Ｒ4およびＲ5が独立してヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルおよび複素環から成る群から選択されそして前記遷移金属がＮｉである請求項１７記載の方法。
【請求項１９】
Ｒ7が場合により置換されていてもよいアリールである請求項１８記載の方法。
【請求項２０】
ＸがＣｌである請求項１９記載の方法。
【請求項２１】
Ｒ1が４−クロロアニソールおよびクロロベンゼンから成る群から選択され、
Ｒ7がｏ−トリルであり、そして
Ｒ4およびＲ5がｔ−ブチルである、
請求項２０記載の方法。
【請求項２２】
ホスフィンオキサイドを式：Ｒ1−ＮＲ2Ｒ3で表されるアリールアミンまたは式：Ｒ1−Ｒ6で表されるビアリールまたは式：Ｒ1−Ｒ7で表されるビアリール［前記式中、Ｒ1は、場合により置換されていてもよいアリールであり、Ｒ2およびＲ3は、独立して、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ、アルコキシ、アリールオキシおよび複素環から成る群から選択されるか、場合により、Ｒ2とＲ3が一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ6およびＲ7は、独立して、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ、アルコキシ、アリールオキシおよび複素環から成る群から選択される］の均一触媒反応で配位子として用いる方法であって、
（１）式ＨＰ（Ｏ）Ｒ4Ｒ5［式中、Ｒ4およびＲ5は、独立して、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、複素環、有機金属、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＳＱ1、ＯＱ2、ＰＱ3Ｑ4およびＮＱ5Ｑ6（ここで、Ｑ1、Ｑ2、Ｑ3、Ｑ4、Ｑ5およびＱ6は、独立して、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ、アルコキシ、アリールオキシおよび複素環から成る群から選択される）から成る群から選択されるか、場合により、Ｒ4とＲ5が一緒になって環を形成していてもよい］で表されるホスフィンオキサイド化合物と錯体を形成している１種以上の遷移金属を含んで成る配位化合物を調製し、そして
（２）（ｉ）式Ｒ6−Ｂ（ＯＨ）2で表されるホウ酸または（ii）式ＨＮＲ2Ｒ3で表されるアミンまたは（iii）式Ｒ7−ＭｇＸで表されるグリニヤール試薬のいずれかと式Ｒ1−Ｘで表されるアリール化合物［前記式中、Ｘはハロゲンである］を段階（１）で調製した触媒量の配位化合物の存在下で接触させることにより、それぞれ式：Ｒ1−ＮＲ2Ｒ3で表されるアリールアミンまたは式：Ｒ1−Ｒ6で表されるビアリールまたは式：Ｒ1−Ｒ7で表されるビアリールを形成することを含んで成る方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハロゲン化アリールとアリールホウ酸（ａｒｙｌｂｏｒｏｎｉｃ  ａｃｉｄｓ）、アリールグリニヤール試薬またはアミンのクロスカップリング（ｃｒｏｓｓ−ｃｏｕｐｌｉｎｇ）反応を経由してビアリールまたはアリールアミンを生じさせる目的で、遷移金属と錯体を形成しているホスフィンオキサイド化合物を用いることに関する。
【背景技術】
【０００２】
キレート化する（ｃｈｅｌａｔｉｎｇ）ホスフィン化合物はこれが金属原子と結合している時に触媒として有用であることが一般に知られている。パラジウムホスフィン触媒が用いられる１つの反応は、Ｈａｒｔｗｉｇ、ＳＵＮＬＥＴＴ、１９９７（４）、３２９−３４０頁に概説が示されている如きハロゲン化アリールとアミンのカップリング反応であり、それによってアリールアミンが生じる。この反応の例はクロロベンゼンとピペリジンのカップリング反応であり、それによってＮ−フェニルピペリジンが生じる：
【０００３】
【化１】
2012067121.tif 000002
【０００４】
パラジウム／ホスフィン触媒が用いられた別の反応はＳｕｚｕｋｉ、Ａ．Ｊ．Ｏｒｇｍｅｔ．Ｃｈｅｍ．、５７６（１９９９）、１４７頁に概説が示されている如きＳｕｚｕｋｉ反応であり、この反応では、アリールホウ酸とハロゲン化アリールのカップリングでビアリールが生じる。このような反応の１つの例はフェニルホウ酸とクロロベンゼンからビフェニルを生じさせる反応である：
【０００５】
【化２】
2012067121.tif 000003
【０００６】
そのような生成物は両方とも薬剤、高等（ａｄｖａｎｃｅｄ）材料、液状重合体および配位子の製造で幅広く用いられる重要な種類の化合物であり、これらの製造に関して数多くの研究が成されてきた。しかしながら、調製が容易で穏やかな反応条件下で良好な収率をもたらす安定な触媒の必要性が拡大してきている。
【０００７】
新規な配位子の調製は伝統的に冗長な合成と精製プロトコルに従って一つづつ実施されてきた。組み合わせ技術（ｃｏｍｂｉｎａｔｏｒｉａｌ  ｔｅｃｈｎｉｑｕｅｓ）によって新規な配位子を見つけだすことが大きく加速されたが、新しい合成スキームが求められている。１つの価値ある技術は固相支持体を用いた技術である。このような固相プロトコルでは、重合体結合足場（ｐｏｌｙｍｅｒ−ｂｏｕｎｄ  ｓｃａｆｆｏｌｄ）を基にして、この重合体である支持体（ｐｏｌｙｍｅｒ  ｓｕｐｐｏｒｔ）から濾過で容易に除去可能な溶液の状態の反応体を大過剰量で用いることで反応を完結にまで持って行くことができる。次に、前記足場に修飾を受けさせた後、追加的開裂段階で小型の分子を前記重合体支持体から遊離させて溶液の中に入り込ませることを通して、それの単離を行う。
【０００８】
米国出願番号０９／４１５，３４７（ＵＳ９９／２３５０９）（これは引用することによって全体が本明細書に組み入れられる）では、重合体足場を用いてホスフィンオキサイド化合物およびライブラリー（ｌｉｂｒａｒｉｅｓ）の調製を行った。安定なホスフィン触媒を用いて式Ｒ1−ＮＲ2Ｒ3で表される安定なアリールアミンまたは式Ｒ1−Ｒ6で表されるビアリールを穏やかな条件下で良好な収率で生じさせる便利な製造方法が必要とされている。
【発明の概要】
【０００９】
本発明は、ハロゲン化アリールとアリールホウ酸またはアミンのクロスカップリング反応を経由してビアリールまたはアリールアミンを生じさせる目的で、遷移金属と錯体を形成しているホスフィンオキサイド化合物を用いることに向けたものである。
【００１０】
より具体的には、本発明は式Ｒ1−ＮＲ2Ｒ3で表されるアリールアミンの製造方法に向けたものであり、この方法は、式ＨＮＲ2Ｒ3で表されるアミンと式Ｒ1−Ｘで表されるアリール化合物を式ＨＰ（Ｏ）Ｒ4Ｒ5で表されるホスフィンオキサイド配位子と錯体を形成している１種以上の遷移金属を含んで成る触媒量の配位化合物の存在下で接触させることを含んで成り、ここで、Ｘは、ハロゲンであり、Ｒ1は、場合により置換されていてもよいアリールであり、Ｒ2およびＲ3は、独立して、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ、アルコキシ、アリールオキシおよび複素環から成る群から選択されるか、場合により、Ｒ2とＲ3が一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ4およびＲ5は、独立して、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、複素環、有機金属、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＳＱ1、ＯＱ2、ＰＱ3Ｑ4およびＮＱ5Ｑ6（ここで、Ｑ1、Ｑ2、Ｑ3、Ｑ4、Ｑ5およびＱ6は、独立して、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ、アルコキシ、アリールオキシおよび複素環から成る群から選択される）から成る群から選択されるか、場合により、Ｒ4とＲ5が一緒になって環を形成していてもよい。
【００１１】
好適には、Ｒ1は、場合により置換されていてもよいフェニルであり、そして前記遷移金属は、周期族（Ｐｅｒｉｏｄｉｃ  Ｇｒｏｕｐ）ＶＩＩＩから選択される遷移金属である。より好適には、Ｒ4およびＲ5は、独立して、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルおよび複素環から成る群から選択され、前記遷移金属はＰｄであり、そしてＲ2およびＲ3は、水素、場合により置換されていてもよいアリールから成る群から選択されるか、Ｒ2およびＲ3はヒドロカルビルでありそして一緒になって環を形成している。最も好適には、ＸはＣｌであり、Ｒ1は、フェニル、４−メチルフェニル、４−メトキシフェニルおよび４−トリフルオロメチルフェニルから成る群から選択され、Ｒ2およびＲ3は、水素、フェニル、４−メチルフェニルから成る群から選択されるか、一緒になってピペリジル環を形成しており、そしてＲ4および5は、ｔ−ブチル、フェニル、ｉ−プロピルおよび２，４−メトキシフェニルから成る群から選択される。
【００１２】
本発明は、更に、式Ｒ1−Ｒ6で表されるビアリールの製造方法にも向けたものであり、この方法は、式Ｒ6−Ｂ（ＯＨ）2で表されるホウ酸と式Ｒ1−Ｘで表されるアリール化合物を式ＨＰ（Ｏ）Ｒ4Ｒ5で表されるホスフィンオキサイド配位子と錯体を形成している１種以上の遷移金属を含んで成る触媒量の配位化合物の存在下で接触させることを含んで成り、ここで、Ｘはハロゲンであり、Ｒ1は、場合により置換されていてもよいアリールであり、Ｒ6は、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ、アルコキシ、アリールオキシおよび複素環から成る群から選択され、そしてＲ4および5は、独立して、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、複素環、有機金属、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＳＱ1、ＯＱ2、ＰＱ3Ｑ4およびＮＱ5Ｑ6（ここで、Ｑ1、Ｑ2、Ｑ3、Ｑ4、Ｑ5およびＱ6は、独立して、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ、アルコキ
シ、アリールオキシおよび複素環から成る群から選択される）から成る群から選択されるか、場合により、Ｒ4とＲ5が一緒になって環を形成していてもよい。
【００１３】
好適には、Ｒ1は、場合により置換されていてもよいフェニルであり、そして前記遷移金属は、周期族ＶＩＩＩから選択される遷移金属である。より好適には、Ｒ4および5は、独立して、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルおよび複素環から成る群から選択され、前記遷移金属はＰｄであり、そしてＲ6は、場合により置換されていてもよいアリールである。最も好適には、ＸはＣｌであり、Ｒ1は、フェニル、４−メトキシフェニル、２−メトキシフェニルおよび４−メチルフェニルから成る群から選択され、Ｒ6は、４−メトキシフェニルおよびフェニルから成る群から選択され、そしてＲ4およびＲ5は、ｔ−ブチル、フェニル、ｉ−プロピルおよび２，４−メトキシフェニルから成る群から選択される。
【００１４】
本発明は、更に、式Ｒ1−Ｒ7で表されるビアリールの製造方法にも向けたものであり、この方法は、式Ｒ7−ＭｇＸで表されるグリニヤール試薬と式Ｒ1−Ｘで表されるアリール化合物を式ＨＰ（Ｏ）Ｒ4Ｒ5で表されるホスフィンオキサイド化合物と錯体を形成している１種以上の遷移金属を含んで成る触媒量の配位化合物の存在下で接触させることを含んで成り、ここで、Ｘはハロゲンであり、Ｒ1は、場合により置換されていてもよいアリールであり、Ｒ7は、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ、アルコキシ、アリールオキシおよび複素環から成る群から選択され、そしてＲ4および5は、独立して、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、複素環、有機金属、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＳＱ1、ＯＱ2、ＰＱ3Ｑ4およびＮＱ5Ｑ6（ここで、Ｑ1、Ｑ2、Ｑ3、Ｑ4、Ｑ5およびＱ6は、独立して、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ、アルコキシ、アリールオキシおよび複素環から成る群から選択される）から成る群から選択されるか、場合により、Ｒ4とＲ5が一緒になって環を形成していてもよい。
【００１５】
好適には、Ｒ1は、場合により置換されていてもよいフェニルであり、そして前記遷移金属は、周期族ＶＩＩＩから選択される遷移金属である。より好適には、Ｒ4およびＲ5は、独立して、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルおよび複素環から成る群から選択され、前記遷移金属はＮｉであり、そしてＲ7は、場合により置換されていてもよいアリールである。最も好適には、ＸはＣｌであり、Ｒ1は、４−クロロアニソールおよびクロロベンゼンから成る群から選択され、Ｒ7はｏ−トリルであり、そしてＲ4およびＲ5はｔ−ブチルである。
【００１６】
本発明は、更に、ホスフィンオキサイドを式Ｒ1−ＮＲ2Ｒ3で表されるアリールアミンまたは式Ｒ1−Ｒ6で表されるビアリールまたは式Ｒ1−Ｒ7で表されるビアリールの均一触媒反応で配位子として用いる方法も包含し、この方法は、（１）式ＨＰ（Ｏ）Ｒ4Ｒ5で表されるホスフィンオキサイド化合物と錯体を形成している１種以上の遷移金属を含んで成る配位化合物を生じさせ、そして（２）（ｉ）式Ｒ6−Ｂ（ＯＨ）2で表されるホウ酸または（ｉｉ）式ＨＮＲ2Ｒ3で表されるアミンまたは（ｉｉｉ）式Ｒ7−ＭｇＸで表されるグリニヤール試薬のいずれかと式Ｒ1−Ｘで表されるアリール化合物を段階（１）で生じさせた触媒量の配位化合物の存在下で接触させることでそれぞれ式Ｒ1−ＮＲ2Ｒ3で表されるアリールアミンまたは式Ｒ1−Ｒ6で表されるビアリールまたは式Ｒ1−Ｒ7で表されるビアリールを生じさせることを含んで成り、ここで、Ｘはハロゲンであり、Ｒ1は、場合により置換されていてもよいアリールであり、Ｒ2およびＲ3は、独立して、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ、アルコキシ、アリールオキシおよび複素環から成る群から選択されるか、場合により、Ｒ2とＲ3が一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ6およびＲ7は、独立して、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ、アルコキシ、アリールオキシおよび複素環から成る群から選択され、そしてＲ4およびＲ5は、独立して、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、複素環、有機金属、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＳＱ1、ＯＱ2、ＰＱ3Ｑ4およびＮＱ5Ｑ6（ここで、Ｑ1、Ｑ2、Ｑ3、Ｑ4、Ｑ5およびＱ6は、独立して、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ、アルコキシ、アリールオキシおよび複素環から成る群から選択される）から成る群から選択されるか、場合により、Ｒ4とＲ5が一緒になって環を形成していてもよい。
【００１７】
（発明の詳細な記述）
本開示では、ハロゲン化アリールとアリールホウ酸またはアミンのクロスカップリング反応でビアリールまたはアリールアミンを生じさせる目的で遷移金属と錯体を形成しているホスフィンオキサイド化合物を用いる方法を最初に開示する。ホスフィンオキサイドを均一触媒反応(homogeneous catalysis)で配位子として用いることは以前には行われておらず、その主な理由は、Ｐ原子は孤立電子対（必須であると考えられている）で配位する原子ではないからである。
【００１８】
本発明の方法は本技術分野における同様な方法に対する改良である。本方法で用いるホスフィンオキサイド化合物は空気に安定で取り扱いが容易な固体でありかつ米国特許出願番号０９／４１５，３４７（ＵＳ９９／２３５０９）に記述されている方法を用いていろいろな形態で容易に合成可能である。本方法は組み合わせ手順（ｃｏｍｂｉｎａｔｏｒｉａｌ  ｐｒｏｃｅｄｕｒｅｓ）に容易に適合しかつビアリールおよびアリールアミンのライブラリーの構築で使用可能であり、そのようなライブラリーはこれら自身薬剤、高等材料、液状重合体の製造で幅広く用いられかつ配位子として幅広く用いられる。本方法を用いて製造可能な化合物またはこれの誘導体の２例は合成染料であるＱｕｉｎｉｚａｒｉｎ  Ｇｒｅｅｎおよび抗酸化剤として用いられるｐ−アミノビフェニルである。
【００１９】
ホスフィンオキサイド化合物およびライブラリー
式ＨＰ（Ｏ）Ｒ4Ｒ5で表されるホスフィン化合物は２種類の互変異性形態：
【化３】
2012067121.tif 000004
として存在することが知られている。
【００２０】
このようなホスフィンオキサイド化合物は如何なる方法で製造されてもよい。そのような１つの方法は、米国特許出願番号０９／４１５，３４７（ＵＳ９９／２３５０９）（引用することによって本明細書に組み入れられる）に記述されている如き重合体足場を用いる方法である。このスキームは、（ｉ）ＸＰＲ4Ｒ5およびＨＰ（＝Ｏ）Ｒ4Ｒ5［ここで、Ｘはハロゲンであり、そしてＲ4およびＲ5は、独立して、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルおよび複素環、有機金属、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＳＱ1、ＯＱ2、ＰＱ3Ｑ4およびＮＱ5Ｑ6（ここで、Ｑ1、Ｑ2、Ｑ3、Ｑ4、Ｑ5およびＱ6は、独立して、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ、アルコキシ、アリールオキシおよび複素環から成る群から選択される）から成る群から選択されるか、場合により、Ｒ4とＲ5が一緒になって環を形成していてもよい］から成る群から選択されるホスフィンと（ｉｉ）固体状支持体を接触させる結果として前記ホスフィンに含まれている少なくとも１つのＰを前記固体状支持体に１つ以上の共有結合で間接的または直接結合させそして場合によりＲ4およびＲ5の１つ以上をこの上で定義した他のいずれかのＲ4およびＲ5で置換してもよい段階を含んで成る。
【００２１】
前記ホスフィンオキサイド化合物を生じさせる時の支持体として、実質的に如何なる固体状材料も下記の判断基準を満足させることを条件として使用可能である：
・  この材料が有機溶媒、水性溶媒または無機溶媒に不溶であること［有機重合体である支持体はこの事に関して受け入れられはするが、一般に、それらを架橋させておく必要がある。無機支持体、例えば金属酸化物（ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2など）、粘土およびゼオライトなど、そして修飾炭素（ｍｏｄｉｆｉｅｄ  ｃａｒｂｏｎｓ）は一般にそのような溶媒に不溶であり、これらを支持体として使用することも可能である］。・  この支持体が隣の共有結合で利用され得る反応性部位を含むこと。
・  さらなる化学変換中に追加的架橋が起こらないように反応性部位が孤立していること。
・  反応性部位が反応媒体に対して露出していること［これは、重合体樹脂である支持体を用いる場合、反応溶媒中で膨潤するか或は反応媒体が重合体マトリックス（ｍａｔｒｉｘ）の中を移行するに充分な間隙を有する樹脂を用いることで達成される］。
【００２２】
用語「固体状支持体」は、硬質または半硬質の表面を有していてこの表面にある化合物を共有結合させる官能性を含むか或はそのような官能性を含むように誘導化され（ｄｅｒｉｖａｔｉｚｅｄ）得る材料を指す。所望の物性を達成する目的で他の修飾を行うことも可能である。そのような材料は本技術分野で良く知られており、それには、例として、ポリスチレン支持体、ポリアクリルアミド支持体、ポリエチレングリコール支持体、金属酸化物、例えばシリカなどが含まれる。そのような支持体に持たせる形態は好適には小型球、ペレット、盤、膜または他の通常の形態であるが、他の形態も使用可能である。
【００２３】
好適な固体状支持体は、隣が重合体バックボーンの側鎖またはペンダント型基を通して共有結合し得るような有機もしくは無機重合体である。この重合体は架橋または修飾を受けていてもよい。担持されている（ｓｕｐｐｏｒｔｅｄ）ホスフィン化合物または担持されているホスフィン化合物の組み合わせライブラリーを生じさせる時に用いるに適した好適な重合体には、この上に記述した一般的基準を満足させるポリオレフィン、ポリアクリレート、ポリメタアクリレートおよびそれらの共重合体が含まれる。より好適な高分子量支持体はポリスチレンであり、このポリスチレンのバックボーンが有するペンダント型のフェニル基に隣が結合する。ジビニルベンゼンで架橋させたポリスチレンが最も好適である。具体的には、固相合成で一般に用いられるポリスチレンを使用した。ジビニルベンゼンを１から１０重量％用いてそのような粒状樹脂を架橋させる。置換されるスチレン部分の位置はパラまたはメタ位である。この置換されるスチレン部分が一部のみであると、結果としてもたらされる官能基充填量（ｌｏａｄｉｎｇｓ）は典型的に樹脂１グラム当たり約０．２から２．０ミリモルであるが、この値をより高くすることも低くすることも可能である。
【００２４】
本発明ではホスフィンオキサイドの組み合わせライブラリーばかりでなく単一の化合物も使用可能である。ライブラリーを生じさせる時は、１種以上のホスフィンを１種以上の固体状支持体と反応させることで多数種の担持されているホスフィン化合物を生じさせる。別法として、１種類の担持されているホスフィン化合物と多数種の開裂剤（ｃｌｅａｖｉｎｇ  ａｇｅｎｔｓ）（以下に記述する如き）を反応させることでライブラリーを生じさせることも可能である。
【００２５】
本明細書で用いる如き組み合わせライブラリーは故意に生じさせた複数のいろいろな分子の集合であり、これは選択した合成手段を用いていろいろな様式（例えば可溶分子のライブラリー、樹脂球、シリカチップまたは他の固体状支持体に結合した化合物のライブラリー）で調製可能でありかつ所望の活性または特性に関して選別可能である。このようなライブラリーの調製を一般的には当該化合物がほぼ等モル量で存在するように行い、そしてこれの調製を組み合わせ合成で行う。組み合わせ合成は、分子多様性（ｍｏｌｅｃｕｌａｒ  ｄｉｖｅｒｓｉｔｙ）を示す関連分子を含有する大きな化学的ライブラリーが生じるように選択した複数の反応体を逐次的に加えることで多様な化合物を並列合成することを指す。ライブラリーを選別する方法は非常に多様であり、所望活性、ライブラリーの大きさおよびライブラリーに入っている化合物の種類に依存する。
【００２６】
このようなライブラリーは如何なる種類のライブラリーであってもよい。このような種類には、これらに限定するものでないが、組み合わせ（ａｒｒａｙｓ）および混合物が含まれる。組み合わせは、個々の化合物を空間的に離れた場所［典型的にはグリッド（ｇｒｉｄ）上の場所で識別される］で同時に合成したライブラリーである。混合物であるライブラリーは化合物の混合物を含有し、これに合成と検定を同時に受けさせる。次に、組み合わせ技術で良く知られているいくつかの技術のいずれか、例えばデコンボリューション（ｄｅｃｏｎｖｏｌｕｔｉｏｎ）などを用いて、最も高い活性を示す化合物の識別を実施する［Ｐｒｏｃ．Ｎａｔｌ．Ａｃａｄ．Ｓｃｉ．ＵＳＡ、９１、１０７７９頁（１９９４）］。
【００２７】
本発明の組み合わせライブラリーで用いるに好適な固体状支持体は、この上に記述した如き有機もしくは無機重合体であり、この重合体はこれのバックボーンが有する側鎖またはペンダント型基を通して隣に共有結合し得る。
【００２８】
Ｐを固体状支持体に結合させる時に用いる１つのスキームは、固体状支持体に共有結合している求核性基をホスフィンに含まれる隣に結合しているハロゲンまたは水素と反応させるスキームである。用語「求核性基」は本技術分野で充分に認識されており、反応性電子対を有する化学部分を指す。このようなスキームを組み合わせ合成に容易に適合させることができる。
【００２９】
これらに限定するものでないが、前記ホスフィンオキサイド化合物を生じさせる反応の例を以下のスキーム１に示し、ここで、ＳＳは固体状支持体であり、Ｘはハロゲンであり、Ｍは任意の金属であり、Ｒはこの上で定義した如きＲ4またはＲ5の１つ以上であってもよく、Ｚは、ホスフィンに含まれる少なくとも１つの隣に共有結合する二価結合基であり、これはヒドロカルビレン、置換ヒドロカルビレン、−Ｏ−、−Ｓ−および−ＮＲ’−［ここで、Ｒ’は、場合により置換されていてもよいヒドロカルビルおよびハロゲンから成る群から選択される］から成る群から選択され、そしてそのようなＺ、Ｏ、ＳおよびＮ置換基は固体状支持体に共有結合している。
【００３０】
【化４】
2012067121.tif 000005
【００３１】
本技術分野で公知の任意手順を用いて、前記化合物に含まれる置換基のいずれかを他の官能基に置き換えることも可能である。反応体の選択および反応条件の選択に応じて、そのような置換基の１つまたは全部を単一の反応で反応させてもよい。このような反応を組み合わせ方法に容易に適合させることができる。これらに限定するものでないが、適切な手順の例を以下のスキーム２に示し、ここで、ＸおよびＭはこの上で定義した通りであり、そしてＲは、この上で定義した如きＲ4またはＲ5のいずれかを指す。Ｍに適切な定義の例にはＭｇ、ＬｉおよびＺｎが含まれる。Ｃｐはシクロペンタジエニル環を示す。
【００３２】
【化５】
2012067121.tif 000006
【００３３】
その担持されているホスフィンを式ＥＲ”［式中、Ｅは親電子性基であり、そしてＲ”は、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、複素環、有機金属、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＳＱ1、ＯＱ2、ＰＱ3Ｑ4およびＮＱ5Ｑ6（ここで、Ｑ1、Ｑ2、Ｑ3、Ｑ4、Ｑ5およびＱ6は
、独立して、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ、アルコキシ、アリールオキシおよび複素環から成る群から選択される）から成る群から選択される］で表される化合物と接触させることでホスフィンオキサイド化合物を固体状支持体から脱離させることを通して、ホスフィンオキサイド化合物を生じさせる。Ｒ”が場合によりＲ4またはＲ5のいずれかと置き換わり得る。１種以上の担持されているホスフィンを式ＥＲ”で表される１種以上の化合物と反応させて数種のホスフィン化合物を生じさせると、ライブラリーが生じる。
【００３４】
【化６】
2012067121.tif 000007
【００３５】
この上に示した方法において、Ｅは、隣と固体状支持体を結合させている共有結合を開裂させる任意の親電子性基である。用語「親電子性基」は、本技術分野で充分に認識されている用語であり、この上で定義した如き求核性基から電子対を受け取り得る化学部分を指す。適切な親電子性基にはＨ、トリメチルシリル、ＰＣｌ2、ハロゲンおよびプロトン（これは酸、アルコールまたはアミンの如き化合物から供与される）が含まれる。
【００３６】
ＥＲ”が水の場合、結果として生じるＰＯＨ基が転位を起こすことで本発明で用いるホスフィンオキサイド化合物が生じる。また、式ＲＰＲ4Ｒ5で表される他の任意ホスフィンからそのような化合物を生じさせることも可能であり、この場合には、本技術分野で公知の任意方法を用いてＲを−ＯＨ基で置換することで前記化合物を生じさせる。ＰＳＨ基が存在している時にも相当する転位が起こる。
【００３７】
ホスフィンオキサイド化合物を生じさせる別の方法は、この上に説明したようにして固体状支持体に結合したホスフィンオキサイドを生じさせた後にホスフィンオキサイドを前記固体状支持体から直接開裂させる方法である。
前記固体状支持体からの開裂を起こさせた後、本技術分野で公知の任意方法、例えばＥｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ  ｏｆ  Ｉｎｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ（Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎ、第６巻、３１４９−３２１３頁）に記述されている方法などを用いてＲ4およびＲ5を他のいずれかの置換基で置換することで、さらなる範囲の化合物を生じさせることも可能である。
【００３８】
アミンとハロゲン化アリールを反応させて式ＮＨＲ2Ｒ3で表されるアリールアミンを生じさせる
式Ｒ1−ＮＲ2Ｒ3で表されるアリールアミンを生じさせる方法を記述し、この方法は、式ＨＮＲ2Ｒ3で表されるアミンと式Ｒ1−Ｘで表されるアリール化合物を式ＨＰ（Ｏ）Ｒ4Ｒ5で表されるホスフィンオキサイド化合物と錯体を形成している１種以上の遷移金属を含んで成る触媒量の配位化合物の存在下で接触させることを含んで成る。
【００３９】
この方法において、Ｘはハロゲンであり、Ｒ1は、場合により置換されていてもよいアリール基であり、Ｒ2およびＲ3は、独立して、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ、アルコキシ、アリールオキシおよび複素環から成る群から選択されるか、場合により、Ｒ2とＲ3が一緒になって環を形成していてもよく、そしてＲ4およびＲ5は、独立して、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、複素環、有機金属、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＳＱ1、ＯＱ2、ＰＱ3Ｑ4およびＮＱ5Ｑ6（ここで、Ｑ1、Ｑ2、Ｑ3、Ｑ4、Ｑ5およびＱ6は、独立して、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ、アルコキシ、アリールオキシおよび複素環から成る群から選択される）から成る群から選択されるか、場合により、Ｒ4とＲ5が一緒になって環を形成していてもよい。場合により、この方法を分子内的（ｉｎｔｒａｍｏｌｅｃｕｌａｒｌｙ）に実施することも可能である、即ちアミン官能性とアリール官能性の両方を同じ化合物に存在させ、そしてこのような方法では結果として環化がもたらされる。
【００４０】
前記アミンおよびアリール化合物の調製は如何なる方法で行われてもよく、そのような方法には、本技術分野で良く知られている方法のいずれもが含まれる。
【００４１】
「配位化合物」は、金属イオン（通常は遷移金属）と非金属イオンもしくは分子（これを配位子または錯化剤と呼ぶ）の合体で生じた化合物を指す。
【００４２】
遷移金属は原子番号が２１から８３の金属であると定義する。この遷移金属は好適には周期族ＶＩＩＩ（Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｂ、Ｐｄ、Ｏｓ、ＩｒおよびＰｔとして定義）に属する金属である。ＰｄおよびＮｉがより好適である。このような錯体は本技術分野で公知の如何なる合成方法で作られてもよく、この合成は、直接反応でか或は遷移金属前駆体の使用を経由して行われてもよい。
【００４３】
この上に開示したようにしてホスフィンオキサイド化合物を生じさせる。本発明で用いるホスフィンオキサイドは、これが錯体の１成分として存在する時、いずれかの互変異性形態で存在し得る。そのような錯体を単離しそして使用前に精製してもよいか、或はインサイチューで生じさせて用いることも可能である。そのような技術の多くがＨａｒｔｌｅｙ，Ｆ．Ｒ．（編集）、「Ｃｈｅｍ．Ｍｅｔ．−Ｃａｒｂｏｎ  Ｂｏｎｄ」、１９８７、第４巻、１１６３−１２２５頁に記述されている。
【００４４】
ヒドロカルビルは、炭素と炭素の単結合、二重結合または三重結合および／またはエーテル結合で連結している炭素原子の直鎖、分枝または環状配列を意味し、従って、これは水素原子で置換されている。このようなヒドロカルビル基は脂肪族および／または芳香族であってもよい。ヒドロカルビル基の例にはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、メチルシクロペンチル、シクロヘキシル、メチルシクロヘキシル、ベンジル、フェニル、ｏ−トリル、ｍ−トリル、ｐ−トリル、キシリル、ビニル、アリル、ブテニル、シクロヘキセニル、シクロオクテニル、シクロオクタジエニルおよびブチニルが含まれる。置換ヒドロカルビル基の例にはメトキシ、フェノキシ、トルイル、クロロベンジル、フルオロエチル、ｐ−ＣＨ3−Ｓ−Ｃ6Ｈ5、２−メトキシ−プロピルおよび（ＣＨ3）3ＳｉＣＨ2が含まれる。
【００４５】
アリールは、単環（例えばフェニル）、複数環（例えばビフェニル）または縮合した複数環（少なくとも１つは芳香族である）［例えば、１，２，３，４−テトラヒドロナフチル、ナフチル、アントリルまたはフェナントリル］を有する芳香族炭素環状基を意味し、これは場合により例えばハロゲン、低級アルキル、低級アルコキシ、低級アルキルチオ、トリフルオロメチル、低級アシルオキシ、アリール、ヘテロアリールおよびヒドロキシなどで一置換、二置換または三置換されていてもよい。アリールはまたヘテロアリール基も意味し、ここで、ヘテロアリールは窒素、酸素および硫黄から成る群から選択されるヘテロ原子を少なくとも１つ有する５員、６員もしくは７員の芳香環系であると定義する。ヘテロアリール基の例はピリジル、ピリミジニル、ピロリル、ピラゾリル、ピラジニル、ピリダジニル、オキサゾリル、フラニル、キノリニル、イソキノリニル、チアゾリルおよびチエニルであり、これらは場合により例えばハロゲン、低級アルキル、低級アルコキシ、低級アルキルチオ、トリフルオロメチル、低級アシルオキシ、アリール、ヘテロアリールおよびヒドロキシなどで換されていてもよい。
【００４６】
好適な方法は、Ｒ1が場合により置換されていてもよいフェニルであり、Ｒ4およびＲ5が独立してヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルおよび複素環から成る群から選択されそしてＲ2およびＲ3が水素、場合により置換されていてもよいアリールから成る群から選択されるか、Ｒ2およびＲ3はヒドロカルビルでありそして一緒になって環を形成している方法である。ＸがＣｌであり、Ｒ1がフェニル、４−メチルフェニル、４−メトキシフェニルおよび４−トリフルオロメチルフェニルから成る群から選択され、Ｒ2およびＲ3が水素、フェニル、４−メチルフェニルから成る群から選択されるか、一緒になってピペリジル環を形成しておりそしてＲ4および5がｔ−ブチル、フェニル、ｉ−プロピルおよび２，４−メトキシフェニルから成る群から選択されるのがより好適である。また好適には、前記遷移金属は周期族ＶＩＩＩの遷移金属である。Ｐｄがより好適である。
【００４７】
アリールホウ酸とハロゲン化アリールを反応させて式Ｒ1−Ｒ6で表されるビアリールを生じさせる
本発明では、また、式Ｒ1−Ｒ6で表されるビアリールの製造方法も記述し、この方法は、式Ｒ6−Ｂ（ＯＨ）2で表されるホウ酸と式Ｒ1−Ｘで表されるアリール化合物を式ＨＰ（Ｏ）Ｒ4Ｒ5で表されるホスフィンオキサイド化合物と錯体を形成している１種以上の遷移金属を含んで成る触媒量の配位化合物の存在下で接触させることを含んで成り、ここで、Ｘはハロゲンであり、Ｒ1は、場合により置換されていてもよいアリールであり、Ｒ6は、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ、アルコキシ、アリールオキシおよび複素環から成る群から選択され、そしてＲ4および5は、独立して、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、複素環、有機金属、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＳＱ1、ＯＱ2、ＰＱ3Ｑ4およびＮＱ5Ｑ6（ここで、Ｑ1、Ｑ2、Ｑ3、Ｑ4、Ｑ5およびＱ6は、独立して、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ、アルコキシ、アリールオキシおよび複素環から成る群から選択される）から成る群から選択されるか、場合により、Ｒ4とＲ5が一緒になって環を形成していてもよい。場合により、この方法を分子内的に実施することも可能である、即ちホウ酸官能性とアリール官能性の両方を同じ化合物に存在させ、そしてこのような方法では結果として環化がもたらされる。
【００４８】
好適な方法は、Ｒ1が場合により置換されていてもよいフェニルであり、Ｒ4およびＲ5が独立してヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルおよび複素環から成る群から選択されそしてＲ6が場合により置換されていてもよいアリールである方法である。ＸがＣｌであり、Ｒ1がフェニル、４−メトキシフェニル、２−メトキシフェニルおよび４−メチルフェニルから成る群から選択され、Ｒ6が４−メトキシフェニルおよびフェニルから成る群から選択されそしてＲ4およびＲ5がｔ−ブチル、フェニル、ｉ−プロピルおよび２，４−メトキシフェニルから成る群から選択されるのがより好適である。また好適には、前記遷移金属は周期族ＶＩＩＩの遷移金属である。Ｐｄがより好適である。
【００４９】
アリールグリニヤールとハロゲン化アリールを反応させて式Ｒ1−Ｒ7で表されるビアリールを生じさせる
本発明では、また、式Ｒ1−Ｒ7で表されるビアリールの製造方法も記述し、この方法は、式Ｒ7−ＭｇＸで表されるグリニヤール試薬と式Ｒ1−Ｘで表されるアリール化合物を式ＨＰ（Ｏ）Ｒ4Ｒ5で表されるホスフィンオキサイド化合物と錯体を形成している１種以上の遷移金属を含んで成る触媒量の配位化合物の存在下で接触させることを含んで成り、ここで、Ｘはハロゲンであり、Ｒ1は、場合により置換されていてもよいアリールであり、Ｒ7は、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ、アルコキシ、アリールオキシおよび複素環から成る群から選択され、そしてＲ4および5は、独立して、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、複素環、有機金属、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＳＱ1、ＯＱ2、ＰＱ3Ｑ4およびＮＱ5Ｑ6（ここで、Ｑ1、Ｑ2、Ｑ3、Ｑ4、Ｑ5およびＱ6は、独立して、水素、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ、アルコキシ、アリールオキシおよび複素環から成る群から選択される）から成る群から選択されるか、場合により、Ｒ4とＲ5が一緒になって環を形成していてもよい。場合により、この方法を分子内的に実施することも可能である、即ちグリニヤール官能性とアリール官能性の両方を同じ化合物に存在させ、そしてこのような方法では結果として環化がもたらされる。
【００５０】
好適な方法は、Ｒ1が場合により置換されていてもよいフェニルであり、Ｒ4およびＲ5が独立してヒドロカルビル、置換ヒドロカルビルおよび複素環から成る群から選択されそしてＲ7が場合により置換されていてもよいアリールである方法である。ＸがＣｌであり、Ｒ1が４−クロロアニソールおよびクロロベンゼンから成る群から選択され、Ｒ7がｏ−トリルでありそしてＲ4およびＲ5がｔ−ブチルであるのがより好適である。また好適には、前記遷移金属は周期族ＶＩＩＩの遷移金属である。Ｎｉがより好適である。
【００５１】
この上に開示したホスフィンオキサイドを生じさせるスキーム１および２、開裂手順およびカップリング反応を、好適には、酸素を除去しておいた乾燥した溶媒を用いて乾燥した不活性な雰囲気下で実施する。如何なる溶媒もこれが全ての反応体および生成物に不活性であることを条件として適切である。均一触媒反応に適した温度は−８０℃から２００℃の範囲である。好適な温度は約０℃から約１５０℃である。グリニヤールカップリングを除き、好適には、開示したカップリング反応に塩基を添加すべきである。好適な塩基はＣｓＦ、ＣｓＣＯ3およびＮａＯｔＢｕである。
以下に示す非限定実施例は本発明の説明を意味するものであり、決してそれの限定であると解釈されるべきでない。
【００５２】
材料および方法
空気に敏感な材料の操作の全部を、高真空（１０-4−１０-5トール）ラインに連結している二分岐Ｓｃｈｌｅｎｋラインにつなげた炎乾燥Ｓｃｈｌｅｎｋ型ガラス器具を用いるか或は高容量の再循環装置が備わっていて窒素（Ｏ2が１−２ｐｐｍ）で満たされているＶａｃｕｕｍ  Ａｔｍｏｓｐｈｅｒｅｓグローブボックス内で酸素と水分を徹底的に排除しながら実施した。使用前に、全ての溶媒を、適切な乾燥剤［例えばナトリウムベンゾフェノンケチルおよび金属の水素化物（塩化溶媒の場合を除き）］を用いて乾燥窒素下で蒸留した。デュテリウムオキサイド、ＴＨＦ−Ｄ8、Ｃ6Ｄ6およびクロロホルム−ｄをＣａｍｂｒｉｄｇｅ  Ｉｓｏｔｏｐｅｓ（Ａｎｄｏｖｅｒ、ＭＡ）から購入した。出発材料である有機および無機材料の全部をＡｌｄｒｉｃｈ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏ．（Ｍｉｌｗａｕｋｅｅ  ＷＩ）、Ｆａｒｃｈａｎ  Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ  Ｉｎｃ．（Ｇａｉｎｅｓｖｉｌｌｅ、ＦＬ）、Ｓｔｒｅｍ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ（Ｎｅｗｂｕｒｙｐｏｒｔ、ＭＡ）、Ｃａｌｂｉｏｃｈｅｍ−ＮｏｖａＢｉｏｃｈｅｍ  Ｃｏｒｐ．（Ｓａｎ  Ｄｉｅｇｏ、ＣＡ）、Ｒｉｅｋｅ  Ｍｅｔａｌｓ，Ｉｎｃ．（Ｌｉｎｃｏｌｎ、ＮＥ）またはＬａｎｃａｓｔｅｒ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ  Ｉｎｃ．（Ｗｉｎｄｈａｍ、ＮＨ）から購入して、適宜使用前に蒸留を行った。
【００５３】
省略形のリスト
ｄｂａ        ビス（ジベンジリデンアセトン）
ＤＶＢ        ジビニルベンゼン
ＧＣ／ＭＳ    ガスクロマトグラフィー／マススペクトロスコピー
ＦＴ          フーリエ変換
ｈ            時
ｉ．ｄ        内径
ｉｎ．        インチ
Ｍｅ          メチル
ｍｇ          ミリグラム
ＮＭＲ        核磁気共鳴
ｔＢｕ        ｔ−ブチル
【００５４】
物理的および分析測定
Ｎｉｃｏｌｅｔ  ＮＭＣ−３００広穴（ＦＴ、３００ＭＨｚ、1Ｈ；７５ＭＨｚ、13Ｃ、１２１ＭＨｚ  31Ｐ）またはＧＥ  ＱＭ−３００狭穴（ＦＴ、３００ＭＨｚ、1Ｈ）装置のいずれかを用いてＮＭＲスペクトルを記録した。1Ｈ、13Ｃでは化学シフト（δ）を内部溶媒共鳴を基準にしてＳｉＭｅ4に対して報告する。31Ｐ  ＮＭＲではシフトを外部燐酸を基準にして報告する。Ｃｈｒｏｍｏｓｏｒｂ  Ｗ支持体に３．８％（重量／重量）担持されているＳＥ−３０液相が充填されている内径が０．１２５インチのカラムが用いられているＨｅｗｌｅｔｔ−Ｐａｃｋａｒｄ  ３３９０Ａデジタルレコーダー／積分装置とＦＩＤ検出器が備わっているＶａｒｉａｎ  Ｍｏｄｅｌ  ３７００ガスクロマトグラフを用いて分析ガスクロマトグラフィーを実施した。７０ｅＶの電子衝撃イオン化を伴うＶＧ  ７０−２５０  ＳＥ装置を用いてＧＣ／ＭＳ試験を実施した。
【００５５】
米国特許出願番号０９／４１５，３４７（ＵＳ９９／２３５０９）に記述されているようにして、重合体に結合しているモノホスフィンを生じさせた。このホスフィンに官能基を２段階で付加させることで対称的でない置換を起こさせるか、或は１段階で付加させることで、より対称的な置換を起こさせる。
【００５６】
ｔ−ブチルアミン（２７６ｇ、３．７８モル）とＫＩ（０．３ｇ、２ミリモル）を１０００ｍＬのＴＨＦに入れることで生じさせた溶液を室温で３０分間撹拌しながら、これにクロロメチルポリスチレン−ジビニルベンゼン（Ｍｅｒｒｉｆｉｅｌｄ樹脂、ＤＶＢが２％、７５ｇ、１．２６ミリモル／ｇ、９４．５ミリモル）による処理を受けさせた。次に、この懸濁液を２４時間還流させた後、溶液を濾別した。その結果として得た樹脂をＨ2Ｏ（３ｘ２５０ｍＬ）、ＴＨＦ（３ｘ１５０ｍＬ）に続いてヘキサン（３ｘ２００ｍＬ）で洗浄した。乾燥を真空下で一晩行うことで樹脂を７５ｇ得た（Ｎ元素分析に従う収率９８％、分析：重合体−ＮＨＣ（Ｍｅ）3の計算値：Ｎ、１．２５；測定値：Ｎ、１．２２）。また、重合体−Ｐｈ−ＣＨ2−Ｃｌの1Ｈ共鳴（ＣＨ2＝〜４．５ｐｐｍ）が消失して重合体−Ｐｈ−ＣＨ2−ＮＨＣ（Ｍｅ）3の1Ｈ共鳴（ＣＨ2＝〜３．７ｐｐｍ）が現れたこともクロロメチル基がｔ−ブチルアミノメチル基に完全に変化したことを示している。本明細書では以降、それを樹脂Ｉと呼ぶ。
【００５７】
ＰＣｌ3（２６ｇ、１８９ミリモル）を４００ｍＬのＴＨＦに入れることで生じさせた溶液を室温で３０分間撹拌しながら、これにこの上で得た樹脂Ｉ（２５ｇ、１．２１ミリモル／ｇ、３０．３ミリモル）による処理をゆっくり受けさせた後、Ｅｔ3Ｎ（１６ｇ、１５７．５ミリモル）を加えた。その結果として生じた懸濁液を室温で一晩撹拌した後、この溶液を濾別した。この樹脂をヘキサン（２ｘ５０ｍＬ）、ＣＨ2Ｃｌ2（５ｘ８０ｍＬ）そしてヘキサン（５ｘ３０ｍＬ）で洗浄した。その結果として得た重合体結合（ｐｏｌｙｍｅｒ−ｂｏｕｎｄ）ＰＣｌ3樹脂を真空下で一晩乾燥させた。31Ｐ  ＮＭＲ（１２２ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：δ１７９．１ｐｐｍ。
【００５８】
この上で得た重合体結合ＰＣｌ2樹脂（５．０ｇ、１．１２ミリモル／ｇ、５．６ミリモル）を１５０ｍＬのＴＨＦに入れることで生じさせた懸濁液にフェニルマグネシウムブロマイド（ジエチルエーテル中２Ｍの溶液、６４ミリモル）による処理をゆっくり受けさせた。その結果として生じた混合物を室温で３０分間撹拌した後、この溶液を濾別し、そしてこの樹脂をＴＨＦ（３ｘ５０ｍＬ）、Ｍｅ2ＣＨＯＨ／ＴＨＦ（Ｍｅ2ＣＨＯＨが２０％、１０ｍＬ）、ヘキサン（３ｘ３０ｍＬ）で洗浄した。その結果として得た樹脂を真空下で一晩乾燥させることで、重合体結合ＰＰｈ2を得た。31Ｐ  ＮＭＲ（１２２ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：δ５２．３ｐｐｍ。
【００５９】
Ｃｌ2ＰＰｈ（３３．８ｇ、１８９ミリモル）とＥｔ3Ｎ（１６．０ｇ、１７５．５ミリモル）を５００ｍＬのＴＨＦに入れることで生じさせた溶液を室温で１０分間撹拌しながら、これに樹脂Ｉ（２５．０ｇ、１．２１ミリモル／ｇ、３０．３ミリモル）による処理をゆっくり受けさせた。その結果として生じた懸濁液を室温で一晩撹拌した後、この溶液を濾別した。この樹脂をＴＨＦ（５０ｍＬ）、ヘキサン（３ｘ５０ｍＬ）、ＣＨ2Ｃｌ2（４ｘ５０ｍＬ）そしてヘキサン（２ｘ５０ｍＬ）で洗浄した。その結果として得た重合体結合ＰＰｈＣｌ樹脂を真空下で一晩乾燥させた。31Ｐ  ＮＭＲ（１２２ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：δ１３５．４ｐｐｍ。
【００６０】
前記の結果として得た樹脂、即ち重合体結合ＰＰｈＣｌ（５．０ｇ、１．０３ミリモル／ｇ、５．２ミリモル）を１５０ｍＬのＴＨＦに入れることで生じさせた懸濁液にｉ−プロピルマグネシウムクロライド（ジエチルエーテル中０．５Ｍの溶液、３２．０ミリモル）による処理をゆっくり受けさせた。その結果として生じた混合物を室温で２時間撹拌した後、この溶液を濾別し、そしてこの樹脂をＴＨＦ（３ｘ１０ｍＬ）、Ｍｅ2ＣＨＯＨ／ＴＨＦ（Ｍｅ2ＣＨＯＨが２０％、5ｍＬ）、ヘキサン（３ｘ３０ｍＬ）で洗浄した。その結果として得た樹脂を真空下で一晩乾燥させることで、重合体結合（ｉ−Ｃ3Ｈ7）ＰＰｈを得た。31Ｐ  ＮＭＲ（１２２ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：δ５５．５ｐｐｍ。
【００６１】
以下に示す実験では本方法で用いるホスフィンオキサイド触媒の調製を説明する。
【００６２】
実験１
（Ｍｅ2ＣＨ）ＰＨ（Ｏ）（Ｐｈ）の合成
この上に記述したようにして生じさせた重合体結合ＰＰｈ（ＣＨＭｅ2）［１．２５ｇ、１．０２ミリモル／ｇ、１．２８ミリモル、31Ｐ  ＮＭＲ（１２２ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：δ５５．５ｐｐｍ］とＨ2Ｏ（０．１ｇ、４．８ミリモル）をＴＨＦ（１０ｍＬ）に入れることで生じさせた懸濁液を一晩還流させた後、この樹脂を濾別してＴＨＦ（２ｘ５ｍＬ）で洗浄した。その濾液を真空下で乾燥させることで溶媒と余分なＨ2Ｏを除去した。その結果として生じた残留物は８０ｍｇ（３７％収率）の（Ｍｅ2ＣＨ）ＰＨ（Ｏ）（Ｐｈ）であった。これの1Ｈ  ＮＭＲおよびＧＣ／ＭＳによる純度は＞９５％であった。31Ｐ  ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3、1Ｈ−減結合）：δ４７．８。31Ｐ  ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3、1Ｈ−連成）：δ４７．８（ｄ、Ｊp-H＝４８７．７Ｈｚ）。1Ｈ  ＮＭＲ（５００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：δ７．７４−７５３（ｍ、５Ｈ）、７．２５（ｄ、Ｊp-H＝４８７．５Ｈｚ、１Ｈ）、２．３３（ｍ、１Ｈ）、１．１２（ｍ、６Ｈ）。13Ｃ  ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：δ１３３．８、１３１．１、１２９．４、１２５．４、２８．０、１４．７。ＨＲＭＳ：Ｃ9Ｈ13ＰＯ（Ｍ+）の計算値：１６８．０７０４、測定値：１６８．０７０４。
【００６３】
実験２
（Ｍｅ3Ｃ）ＰＨ（Ｏ）（ＣＭｅ3）の合成
（Ｍｅ3Ｃ）2ＰＣｌ（３．０ｇ、１６．６ミリモル、Ａｌｄｒｉｃｈ）を５．０ｍＬのＣＨ2Ｃｌ2に入れることで生じさせた溶液にＨ2Ｏ（０．５ｇ、２７．８ミリモル）による処理を５分間受けさせた。その結果として生じた反応混合物を室温で更に３０分間撹拌した。溶媒と余分なＨ2Ｏを除去することで（Ｍｅ3Ｃ）ＰＨ（Ｏ）（ＣＭｅ3）を２．４５ｇ（９１％収率）得た。これの1Ｈ  ＮＭＲおよびＧＣ／ＭＳによる純度は＞９５％であった。高純度の生成物を昇華（約１３０℃／１０-3トール）で得た。31Ｐ  ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3、1Ｈ−減結合）：δ６９．８。31Ｐ  ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3、1Ｈ−連成）：δ６９．８（ｄ、Ｊp-H＝４３４．２Ｈｚ）。1Ｈ  ＮＭＲ（５００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：δ５．９６（ｄ、Ｊp-H＝４３４．７Ｈｚ、１Ｈ）、１．１４（ｄ、Ｊp-H＝１５６．４Ｈｚ、１８Ｈ）。13Ｃ  ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：δ３３．８ｐｐｍ  １４（ｄ、ＪP-C＝５８．０Ｈｚ）、２５．６ｐｐｍ。ＭＳ：Ｃ8Ｈ19ＰＯ（Ｍ+）の計算値：１６２．１、測定値：１６３．４（Ｍ+＋Ｈ）。
【００６４】
実験３
２−（ＰＨ（Ｏ）（ｉ−Ｐｒ）−１，５−（ＭｅＯ）2Ｃ6Ｈ3の合成
ＰＢｒ3（２．５ｇ、９．２ミリモル）を１５ｍＬのピリジンに入れることで生じさせた溶液に１，３−ジメトキシベンゼン（２．５ｇ、１８．１ミリモル）による処理を５分間受けさせた。次に、その結果として生じた混合物を４時間還流させることで粗１−ジブロモホスフィノ−２，４−ジメトキシベンゼン（31Ｐ  ＮＭＲ：δ１５９．２ｐｐｍ）を得た。この化合物をさらなる精製なしに次の段階で直接用いた。次に、この上で生じさせた混合物を室温で１０分間撹拌しながらこれに重合体担持第二級アミン（１０．０ｇ、１．１ミリモル／ｇ、１１．０ミリモル）をゆっくり加えた。その結果として生じた懸濁液を室温で一晩撹拌した後、この溶液を濾別した。この樹脂をＴＨＦ（５０ｍＬ）、ヘキサン（３ｘ５０ｍＬ）、ＣＨ2Ｃｌ2（４ｘ５０ｍＬ）そしてヘキサン（２ｘ５０ｍＬ）で洗浄した。その結果として得た樹脂を真空下で一晩乾燥させることで重合体担持Ｐ（Ｂｒ）−２，４−（ＭｅＯ）2−Ｃ6Ｈ3を得た。31Ｐ  ＮＭＲ（１２２ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：δ１５３．８ｐｐｍ。
【００６５】
この重合体結合化合物（２．０ｇ、１．８２ミリモル、０．９０８ミリモル／ｇ）とＩ−ＰｒＭｇＢｒ（１２．０ミリモル、ＴＨＦ中１．０Ｍの溶液）を１０ｍＬのＴＨＦに入れることで生じさせた懸濁液を一晩還流させた後、溶液を濾別した。その結果として得た樹脂をＴＨＦ（３ｘ２０ｍＬ）、ＣＨ2Ｃｌ2（３ｘ１０ｍＬ）、Ｍｅ2ＣＨＯＨ（２ｘ１０ｍＬ）、ＴＨＦ／Ｈ2Ｏ（体積比が７０／３０、２ｘ２０ｍＬ）そしてヘキサン（３ｘ１０ｍＬ）で洗浄した。この樹脂を真空下で一晩乾燥させた。31Ｐ  ＮＭＲ（１２２ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：δ６０．７ｐｐｍ。
【００６６】
重合体結合Ｐ（ｉ−Ｐｒ）−２，４−（ＭｅＯ）2−Ｃ6Ｈ3（２．０ｇ、１．８７６ミリモル、０．９３８ミリモル／ｇ）とＨ2Ｏ（０．５ｇ、２８ミリモル）を１０ｍＬのＴＨＦに入れることで生じさせた懸濁液を一晩還流させた後、この樹脂を濾別してヘキサン（３ｘ１０ｍＬ）で洗浄した。この濾液から溶媒と余分なＨ2Ｏを真空下で除去することでＰ（ｉ−Ｐｒ）−２，４−（ＭｅＯ）2−Ｃ6Ｈ3を１００ｍｇ（２３％収率）得た。これの1Ｈ  ＮＭＲおよびＧＣ／ＭＳによる純度は＞９５％であった。31Ｐ  ＮＭＲ（２０２ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：δ３５．８（ｓ）ｐｐｍ。31Ｐ  ＮＭＲ（1Ｈ−連成、２０２ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3、）：δ３８．５（ｄ、ＪP-H＝４８５．８Ｈｚ）ｐｐｍ。1Ｈ  ＮＭＲ（５００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：δ７．５７（ｍ、１Ｈ）、７．２５（ｄ、ＪP-H＝４８５．２Ｈｚ、１Ｈ）、６．４８（ｍ、１Ｈ）、６．３７（ｍ、１Ｈ）、３．７６（ｄ、Ｊ＝１５．２Ｈｚ、３Ｈ）、３．７０（ｄ、Ｊ＝３８．７Ｈｚ、３Ｈ）、２．１８（ｍ、１Ｈ）、１．１２−０．８１（ｍ、６Ｈ）。13Ｃ  ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：１６５．０、１６１．８、１３５．１、１０５．６、１０５．５、９８．２、６７．９、５５．６、２７．４、１４．５ｐｐｍ。ＭＳ：２２９．２（Ｍ＋１）。
【実施例】
【００６７】
Ａ．  アミンとハロゲン化アリールの反応
実施例１
ドライボックス内で磁気撹拌子が備わっている反応槽（２０ｍＬ）に実験２で得た（Ｍｅ3Ｃ）2ＰＨ（Ｏ）を１４．４ｍｇ（０．０８７ミリモル）、Ｐｄ2（ｄｂａ）3［ｄｂａ＝ビス（ジベンジリデンアセトン）］を２０．０ｍｇ（０．０２１８ミリモル）およびトルエンを４．０ｍＬ充填した。その結果として生じた混合物を室温で一晩撹拌した。次に、この上で生じさせた混合物にＮａＯｔＢｕを１４４ｍｇ（１．５ミリモル）加えた後、前記反応槽にシリンジでＰｈＣｌを１２２μｌ（１．２ミリモル）およびピペリジンを１００μｌ（１．０ミリモル）入れた。その結果として生じた混合物を５時間還流させた。次に、この反応混合物を室温に冷却した後、シリカゲル使用クロマトグラフィーにかけて、酢酸エチル／ヘキサン（体積比が５％）を溶離剤として用いた。その溶離液をロータリーエバポレーション（ｒｏｔａｒｙ  ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ）に続いて高真空下で濃縮することでＮ−フェニルピペリジンを８２ｍｇ（５１％収率）得た。これの1Ｈ  ＮＭＲおよびＧＣ／ＭＳによる純度は＞９５％であった。1Ｈ  ＮＭＲ（５００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：δ７．１５（ｍ、２Ｈ）、６．８４（ｍ、２Ｈ）、６．７２（ｍ、１Ｈ）、３．０６（ｔ、Ｊ＝４５．４８Ｈｚ、４Ｈ）、１．６１（ｍ、４Ｈ）、１．４８（ｍ、２Ｈ）ｐｐｍ。13Ｃ  ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：ｄ１５２．３、１２９．０、１１９．２、１１６．５、５０．７、２５．９、２４．４３ｐｐｍ。ＭＳ：Ｃ11Ｈ15Ｎ（Ｍ+）の計算値：１６１．３、測定値：１６２．３（Ｍ+＋Ｈ）。
【００６８】
実施例２
６．０ｍＬのトルエンに入れたＰｄ2（ｄｂａ）3（５５ｍｇ、０．０８１ミリモル）と（Ｍｅ3Ｃ）2ＰＨ（Ｏ）（２１．０ｍｇ、０．１２６ミリモル）とＮａＯｔＢｕ（４３２ｍｇ、４．５ミリモル）に加えて４−クロロベンゾトリフルオライド（６５０ｍｇ、３．６ミリモル）およびピペリジン（２５８ｍｇ、３．０ミリモル）を用いて実施例１の一般的手順に従った。４８時間後、反応混合物を５％酢酸エチル／ヘキサンを用いたクロマトグラフィーにかけることで４−ピペリジノベンゾトリフルオライドを１６１ｍｇ（２３％収率）得た。これの1Ｈ  ＮＭＲおよびＧＣ／ＭＳによる純度は＞９５％であった。1Ｈ  ＮＭＲ（５００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：δ７．３６（ｄ、Ｊ＝８．７８Ｈｚ、２Ｈ）、６．８２（ｄ、Ｊ＝８．７９Ｈｚ、２Ｈ）、３．１８（ｍ、４Ｈ）、１．６０（ｍ、４Ｈ）、１．５４（ｍ、２Ｈ）ｐｐｍ。13Ｃ  ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：ｄ１５３．７、１２７．６、１２６．３、１１４．５、４９．２、２５．４、２４．２ｐｐｍ。ＭＳ：Ｃ12Ｈ14Ｆ3Ｎ（Ｍ+）の計算値：２２９．１、測定値：２３０．２（Ｍ+＋Ｈ）。
【００６９】
実施例３
２．０ｍＬのトルエンに入れたＰｄ2（ｄｂａ）3（２５ｍｇ、０．０２７ミリモル）と（Ｍｅ3Ｃ）2ＰＨ（Ｏ）（７．０ｍｇ、０．０４２ミリモル）とＮａＯｔＢｕ（１４４ｍｇ、１．５ミリモル）に加えてクロロベンゼン（１３５ｍｇ、１．２ミリモル）およびアニリン（９３ｍｇ、１．０ミリモル）を用いて実施例１の一般的手順に従った。２４時間後、反応混合物を５％酢酸エチル／ヘキサンを用いたクロマトグラフィーにかけることでジフェニルアミンを５１ｍｇ（３０％収率）得た。これの1Ｈ  ＮＭＲおよびＧＣ／ＭＳによる純度は＞９５％であった。1Ｈ  ＮＭＲ（５００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：δ７．１８（ｍ、４Ｈ）、６．９９（ｄ、Ｊ＝７．６８Ｈｚ、４Ｈ）、６．８４（ｔ、Ｊ＝７．３４Ｈｚ、２Ｈ）、５．５９（ｂｒ、１Ｈ）ｐｐｍ。13Ｃ  ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：ｄ１４３．１、１２９．３、１２０．９、１１７．８ｐｐｍ。ＭＳ：Ｃ12Ｈ11Ｎ（Ｍ+）の計算値：１６９．１、測定値：１７０．３（Ｍ+＋Ｈ）。
【００７０】
実施例４
２．０ｍＬの１，２−ジメトキシエタンに入れたＰｄ2（ｄｂａ）3（２０ｍｇ、０．０２１８ミリモル）と実験１で得た（Ｍｅ2ＣＨ）ＰＨ（Ｏ）（Ｐｈ）（７．１ｍｇ、０．０４２４ミリモル）とＮａＯｔＢｕ（１４４ｍｇ、１．５ミリモル）に加えてクロロベンゼン（１３５ｍｇ、１．２ミリモル）およびピペリジン（８６ｍｇ、１．０ミリモル）を用いて実施例１の一般的手順に従った。５時間後、反応混合物を５％酢酸エチル／ヘキサンを用いたクロマトグラフィーにかけることで４−フェニルピペリジンを１７ｍｇ（１１％収率）得た。これの1Ｈ  ＮＭＲおよびＧＣ／ＭＳによる純度は＞９５％であった。1Ｈ  ＮＭＲ（５００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：δ７．１５（ｍ、２Ｈ）、６．８４（ｍ、２Ｈ）、６．７２（ｍ、１Ｈ）、３．０６（ｔ、Ｊ＝５．４８Ｈｚ、４Ｈ）、１．６１（ｍ、４Ｈ）、１．４８（ｍ、２Ｈ）ｐｐｍ。13Ｃ  ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：δ１５２．３、１２９．０、１１９．２、１１６．５、５０．７、２５．９、２４．４３ｐｐｍ。ＭＳ：Ｃ11Ｈ15Ｎ（Ｍ+）の計算値：１６１．３、測定値：１６２．３（Ｍ+＋Ｈ）。
【００７１】
実施例５
３．０ｍＬのトルエンに入れたＰｄ2（ｄｂａ）3（２０ｍｇ、０．０２１８ミリモル）と（Ｍｅ3Ｃ）2ＰＨ（Ｏ）（１４．５ｍｇ、０．０８７８ミリモル）とＮａＯｔＢｕ（１４４ｍｇ、１．５ミリモル）に加えて４−メチルクロロベンゼン（１５２ｍｇ、１．２ミリモル）およびピペリジン（１００μｌ、１．０ミリモル）を用いて実施例１の一般的手順に従った。１２時間後、反応混合物を５％酢酸エチル／ヘキサンを用いたクロマトグラフィーにかけることでＮ−（４−メチルフェニル）ピペリジンを１０６ｍｇ（６１％収率）得た。これの1Ｈ  ＮＭＲおよびＧＣ／ＭＳによる純度は＞９５％であった。1Ｈ  ＮＭＲ（５００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：δ６．９２（ｄ、Ｊ＝８．４Ｈｚ、２Ｈ）、６．７２（ｄ、Ｊ＝８．５Ｈｚ、２Ｈ）、２．９５（ｔ、Ｊ＝５．５Ｈｚ、４Ｈ）、２．１３（ｓ、３Ｈ）、１．５８（ｍ、４Ｈ）、１．４３（ｍ、２Ｈ）ｐｐｍ。13Ｃ  ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：δ１５０．３、１２９．５、１２８．６、１１６．９、５１．２、２５．９、２４．３、２０．３ｐｐｍ。ＭＳ：Ｃ12Ｈ17Ｎ（Ｍ+）の計算値：１７５．１、測定値：１７６．１（Ｍ+＋Ｈ）。
【００７２】
実施例６
３．０ｍＬのトルエンに入れたＰｄ2（ｄｂａ）3（２０ｍｇ、０．０２１８ミリモル）と（Ｍｅ3Ｃ）2ＰＨ（Ｏ）（１４．５ｍｇ、０．０８７８ミリモル）とＮａＯｔＢｕ（１４４ｍｇ、１．５ミリモル）に加えてＰｈＣｌ（１２２μｌ、１．２ミリモル）およびｐ−トルイジン（１０８ｍｇ、１．０ミリモル）を用いて実施例１の一般的手順に従った。１２時間後、反応混合物を５％酢酸エチル／ヘキサンを用いたクロマトグラフィーにかけることでＮ−フェニル−ｐ−トルイジンを８０ｍｇ（４４％収率）得た。これの1Ｈ  ＮＭＲおよびＧＣ／ＭＳによる純度は＞９５％であった。1Ｈ  ＮＭＲ（５００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：δ７．１３（ｔ、Ｊ＝７．９１Ｈｚ、２Ｈ）、６．９８（ｍ、２Ｈ）、６．９８（ｍ、４Ｈ）、６．７８（ｔ、Ｊ＝７．３２Ｈｚ、１Ｈ）、５．４６（ｓ、ｂｒ、１Ｈ）、２．２０（ｓ、３Ｈ）ｐｐｍ。13Ｃ  ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：ｄ１４３．９、１４０．３、１３０．８、１２９．８、１２９．２、１２０．２、１１８．９、１１６．８、２０．６ｐｐｍ。ＭＳ：Ｃ13Ｈ13Ｎ（Ｍ+）の計算値：１８３．３、測定値：１８４．１（Ｍ+＋Ｈ）。
【００７３】
実施例７
４．０ｍＬのトルエンに入れたＰｄ2（ｄｂａ）3（２０ｍｇ、０．０２１８ミリモル）と（Ｍｅ3Ｃ）2ＰＨ（Ｏ）（１４．５ｍｇ、０．０８７８ミリモル）とＮａＯｔＢｕ（１４４ｍｇ、１．５ミリモル）に加えて４−クロロアニソール（１７１ｍｇ、１．２ミリモル）およびピペリジン（１００μｌ、１．０ミリモル）を用いて実施例１の一般的手順に従った。１２時間後、反応混合物を５％酢酸エチル／ヘキサンを用いたクロマトグラフィーにかけることでＮ−（４−メトキシフェニル）ピペリジンを１２８ｍｇ（６７％収率）得た。これの1Ｈ  ＮＭＲおよびＧＣ／ＭＳによる純度は＞９５％であった。1Ｈ  ＮＭＲ（５００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：δ６．８１（ｄ、Ｊ＝９．１１Ｈｚ、２Ｈ）、６．７２（ｄ、Ｊ＝９．１１Ｈｚ、２Ｈ）、３．６５（ｓ、３Ｈ）、２．９２（ｔ、Ｊ＝５．４６Ｈｚ、４Ｈ）、１．６０（、４Ｈ）、１．４６（ｍ、２Ｈ）ｐｐｍ。13Ｃ  ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：δ１５３．５、１４６．８、１１８．６、１４．３、５５．４、５２．２、２６．１、２４．１ｐｐｍ。
【００７４】
実施例８
ドライボックス内で磁気撹拌子が備わっている反応槽（２０ｍＬ）に実験３で得た（Ｍｅ2ＣＨ）ＰＨ（Ｏ）（２，４−（ＭｅＯ）2Ｃ6Ｈ3）を２０．０ｍｇ（０．０８７ミリモル）、Ｐｄ2（ｄｂａ）3を２０．０ｍｇ（０．０２１８ミリモル）およびジオキサンを３．０ｍＬ充填した。その結果として生じた混合物を室温で１０分間撹拌した。次に、この上で生じさせた混合物にＮａＯｔＢｕを１４４ｍｇ（１．５ミリモル）加えた後、前記反応槽にシリンジでＰｈＣｌを１２２μｌ（１．２ミリモル）およびピペリジンを１００μｌ（１．０ミリモル）入れた。その結果として生じた混合物を８時間還流させた。次に、この反応混合物を室温に冷却した後、シリカゲル使用クロマトグラフィーにかけて、酢酸エチル／ヘキサン（体積比が５％）を溶離剤として用いた。その溶離液をロータリーエバポレーションに続いて高真空下で濃縮することで１−フェニルピペリジンを５９ｍｇ（３７％収率）得た。これの1Ｈ  ＮＭＲおよびＧＣ／ＭＳによる純度は＞９５％であった。1Ｈ  ＮＭＲ（５００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：δ７．１５（ｍ、２Ｈ）、６．８４（ｍ、２Ｈ）、６．７２（ｍ、１Ｈ）、３．０６（ｔ、Ｊ＝５．４８Ｈｚ、４Ｈ）、１．６１（ｍ、４Ｈ）、１．４８（ｍ、２Ｈ）ｐｐｍ。13Ｃ  ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：δ１５２．３、１２９．０、１１９．２、１１６．５、５０．７、２５．９、２４．４３ｐｐｍ。ＭＳ：Ｃ11Ｈ15Ｎ（Ｍ+）の計算値：１６１．３、測定値：１６２．３（Ｍ+＋Ｈ）。
【００７５】
実施例１−８の結果を以下の表１に要約する。
【００７６】
【表１】
2012067121.tif 000008
【００７７】
Ｂ．  アリールホウ酸とハロゲン化アリールの反応
実施例９
ドライボックス内で磁気撹拌子が備わっている反応槽（２０ｍＬ）に実験２で得た（Ｍｅ3Ｃ）2ＰＨ（Ｏ）を１４．４ｍｇ（０．０８７ミリモル）、Ｐｄ2（ｄｂａ）3を２０．０ｍｇ（０．０２１８ミリモル）および１，４−ジオキサンを４．０ｍＬ充填した。その結果として生じた混合物を室温で一晩撹拌した。次に、この上で生じさせた混合物にＣｓＣＯ3を６５１ｍｇ（２．０ミリモル）およびＰｈＢ（ＯＨ）2を１４６．３ｍｇ（１．２ミリモル）加えた後、前記反応槽にシリンジでＰｈＣｌを１２２μｌ（１．２ミリモル）入れた。その結果として生じた混合物を２４時間還流させた。次に、この反応混合物を室温に冷却した後、シリカゲル使用クロマトグラフィーにかけて、酢酸エチル／ヘキサン（体積比が５％）を溶離剤として用いた。その溶離液をロータリーエバポレーションに続いて高真空下で濃縮することでビフェニルを１６３ｍｇ（８８％収率）得た。これの1Ｈ  ＮＭＲおよびＧＣ／ＭＳによる純度は＞９５％であった。1Ｈ  ＮＭＲ（５００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：δ７．７７（ｄ、Ｊ＝７．７５Ｈｚ、４Ｈ）、７．６０（ｔ、Ｊ＝７．６５Ｈｚ、４Ｈ）、７．５０（ｔ、Ｊ＝７．３８Ｈｚ、２Ｈ）ｐｐｍ。13Ｃ  ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：δ１４１．２、１２８．７、１２７．２、１２７．１ｐｐｍ。
【００７８】
実施例１０
４．０ｍＬの１，４−ジオキサンに入れたＰｄ2（ｄｂａ）3（２０ｍｇ、０．０２１８ミリモル）と実験２で得た（Ｍｅ3Ｃ）2ＰＨ（Ｏ）（１４．５ｍｇ、０．０８７８ミリモル）とＣｓＣＯ3（６５１ｍｇ、２．０ミリモル）に加えて４−メチルクロロベンゼン（１５２ｍｇ、１．２ミリモル）およびＰｈＢ（ＯＨ）2（１．２ミリモル）を用いて実施例９の一般的手順に従った。２４時間後、反応混合物を５％酢酸エチル／ヘキサンを用いたクロマトグラフィーにかけることで４−フェニルトルエンを１２７ｍｇ（６３％収率）得た。これの1Ｈ  ＮＭＲおよびＧＣ／ＭＳによる純度は＞９５％であった。1Ｈ  ＮＭＲ（５００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：δ７．７４（ｄ、Ｊ＝７．５０Ｈｚ、２Ｈ）、７．６５（ｄ、Ｊ＝８．０５Ｈｚ、２Ｈ）、７．５７（ｍ、２Ｈ）、７．４７（ｍ、１Ｈ）、７．４０（ｍ、２Ｈ）、２．５４（ｓ、３Ｈ）ｐｐｍ。13Ｃ  ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：δ１４１．１、１３８．３、１３６．９、１２９．４、１２８．６、１２６．９、１２６．８、２１．０ｐｐｍ。
【００７９】
実施例１１
４．０ｍＬの１，４−ジオキサンに入れたＰｄ2（ｄｂａ）3（２０ｍｇ、０．０２１８ミリモル）と実験１で得たＰｈＰＨ（Ｏ）（ＣＨＭｅ2）（１４．７ｍｇ、０．０８７４ミリモル）とＣｓＦ（４５６ｍｇ、３．０ミリモル）に加えて４−メチルクロロベンゼン（１２７ｍｇ、１．０ミリモル）およびＰｈＢ（ＯＨ）2（１８３ｍｇ、１．５ミリモル）を用いて前記一般的手順に従った。１２時間後、反応混合物を５％酢酸エチル／ヘキサンを用いたクロマトグラフィーにかけることで４−フェニルトルエンを５２ｍｇ（３１％収率）得た。これの1Ｈ  ＮＭＲおよびＧＣ／ＭＳによる純度は＞９５％であった。
【００８０】
実施例１２
ドライボックス内で磁気撹拌子が備わっている反応槽（２０ｍＬ）に実験２で得た（Ｍｅ3Ｃ）2ＰＨ（Ｏ）を９．６ｍｇ（０．０５８ミリモル）、Ｐｄ2（ｄｂａ）3を１３．３ｍｇ（０．０１４５ミリモル）および１，４−ジオキサンを３．０ｍＬ充填した。その結果として生じた混合物を室温で一晩撹拌した。次に、この反応槽に４−クロロアニソールを１４３．０ｍｇ（１．０ミリモル）、ＰｈＢ（ＯＨ）2を１８２．９ｍｇ（１．５ミリモル）およびＣｓＦを４５６ｍｇ（３．０ミリモル）加えた。その結果として生じた混合物を２４時間還流させた。次に、この反応混合物を室温に冷却した後、シリカゲル使用クロマトグラフィーにかけて、酢酸エチル／ヘキサン（体積比が５％）を溶離剤として用いた。その溶離液をロータリーエバポレーションに続いて高真空下で濃縮することで４−フェニルアニソールを１７９ｍｇ（９７％収率）得た。これの1Ｈ  ＮＭＲおよびＧＣ／ＭＳによる純度は＞９５％であった。1Ｈ  ＮＭＲ（５００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：δ７．４５（ｍ、４Ｈ）、７．３２（ｍ、２Ｈ）、７．２１（ｍ、１Ｈ）、６．８８（ｄ、Ｊ＝８．７２Ｈｚ、２Ｈ）、３．７４（ｓ、３Ｈ）ｐｐｍ。13Ｃ  ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：δ１５９．２、１４０．８、１３３．８、１２８．７、１２８．１、１２６．７、１２６．６、１１４．２、５５．３ｐｐｍ。
【００８１】
実施例１３
４．０ｍＬの１，４−ジオキサンに入れたＰｄ2（ｄｂａ）3（１３．３ｍｇ、０．０１４５ミリモル）と実験２で得た（Ｍｅ3Ｃ）2ＰＨ（Ｏ）（９．６ｍｇ、０．０５８ミリモル）とＣｓＦ（４５６ｍｇ、３．０ミリモル）に加えて２−クロロアニソール（１４３ｍｇ、１．０ミリモル）および４−ＭｅＣ6Ｈ4Ｂ（ＯＨ）2（２０４ｍｇ、１．５ミリモル）を用いて実施例１２の一般的手順に従った。２４時間後、反応混合物を５％酢酸エチル／ヘキサンを用いたクロマトグラフィーにかけることで２−（４−メチルフェニル）アニソールを１６５ｍｇ（８３％収率）得た。これの1Ｈ  ＮＭＲおよびＧＣ／ＭＳによる純度は＞９５％であった。1Ｈ  ＮＭＲ（５００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：δ７．３２（ｄ、Ｊ＝８．０６Ｈｚ、２Ｈ）、７．１８（ｍ、２Ｈ）、７．１０（ｄ、Ｊ＝７．８８Ｈｚ、２Ｈ）、６．９２−６．８４（ｍ、２Ｈ）、３．６７（ｓ、３Ｈ）、２．２８（ｓ、３Ｈ）ｐｐｍ。13Ｃ  ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：δ１５６．５、１３６．５、１３５．６、１３０．７、１２９．４、１２８．７、１２８．３、１２０．８、１１１．２、５５．５、２１．１ｐｐｍ。
【００８２】
実施例１４
３．０ｍＬの１，４−ジオキサンに入れたＰｄ2（ｄｂａ）3（１３．３ｍｇ、０．０１４５ミリモル）と実験２で得た（Ｍｅ3Ｃ）2ＰＨ（Ｏ）（９．６ｍｇ、０．０５８ミリモル）とＣｓＦ（４５６ｍｇ、３．０ミリモル）に加えて４−クロロアニソール（１４３ｍｇ、１．０ミリモル）および４−ＭｅＯＣ6Ｈ4Ｂ（ＯＨ）2（２２８ｍｇ、１．５ミリモル）を用いて実施例１２の一般的手順に従った。２４時間後、反応混合物を５％酢酸エチル／ヘキサンを用いたクロマトグラフィーにかけることで４−（４−メトキシフェニル）アニソールを２１３ｍｇ（９９％収率）得た。これの1Ｈ  ＮＭＲおよびＧＣ／ＭＳによる純度は＞９５％であった。1Ｈ  ＮＭＲ（５００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：δ７．３８（ｄ、Ｊ＝８．６８Ｈｚ、４Ｈ）、６．８６（ｄ、Ｊ＝８．６８Ｈｚ、４Ｈ）、３．７４（ｓ、６Ｈ）ｐｐｍ。13Ｃ  ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：δ１５８．７、１３３．５、１２７．７、１１４．２、５５．３ｐｐｍ。
【００８３】
実施例１５
ドライボックス内で磁気撹拌子が備わっている反応槽（２０ｍｌ）に実験３で得た（Ｍｅ2ＣＨ）ＰＨ（Ｏ）（２，４−（ＭｅＯ）2Ｃ6Ｈ3）を２０．０ｍｇ（０．０８７６ミリモル）、Ｐｄ2（ｄｂａ）3を２０ｍｇ（０．０２１８ミリモル）および１，４−ジオキサンを５．０ｍＬ充填した。その結果として生じた混合物を室温で一晩撹拌した。次に、この反応槽に４−クロロアニソールを１４３．０ｍｇ（１．０ミリモル）、４−ＭｅＯＣ6Ｈ4Ｂ（ＯＨ）2を２２８ｍｇ（１．５ミリモル）およびＣｓＦを４５６ｍｇ（３．０ミリモル）加えた。その結果として生じた混合物を６０時間還流させた。次に、この反応混合物を室温に冷却した後、シリカゲル使用クロマトグラフィーにかけて、酢酸エチル／ヘキサン（体積比が５％）を溶離剤として用いた。その溶離液をロータリーエバポレーションに続いて高真空下で濃縮することでｐ−（４−メトキシフェニル）アニソールを２１３ｍｇ（９９％収率）得た。これの1Ｈ  ＮＭＲおよびＧＣ／ＭＳによる純度は＞９５％であった。1Ｈ  ＮＭＲ（５００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：δ７．３８（ｄ、Ｊ＝８．６８Ｈｚ、４Ｈ）、６．８６（ｄ、Ｊ＝８．６８Ｈｚ、４Ｈ）、３．７４（ｓ、６Ｈ）ｐｐｍ。13Ｃ  ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：δ１５８．７、１３３．５、１２７．７、１１４．２、５５．３ｐｐｍ。分析、Ｃ14Ｈ14Ｏ2の計算値：Ｃ、７８．４８；Ｈ、６．５９、測定値：Ｃ、７８．４４、Ｈ、６．５３。
【００８４】
実施例９−１５の結果を以下の表２に要約する。
【００８５】
【表２】
2012067121.tif 000009
【００８６】
実施例１６
ドライボックス内で磁気撹拌子が備わっている反応槽（１００ｍＬ）に実験２で得た（Ｍｅ3Ｃ）2ＰＨ（Ｏ）を５０ｍｇ（０．３０３ミリモル）、Ｎｉ（ＣＯＤ）2（ＣＯＤ＝１，５−シクロオクタジエン）を８３．４ｍｇ（０．３０３ミリモル）およびＴＨＦを５．０ｍＬ充填した。その結果として生じた混合物を室温で１０分間撹拌した。次に、この上で生じさせた混合物に４−クロロアニソールを１．４３ｇ（１０．０ミリモル）加えた後、この反応槽にｏ−トリルマグネシウムクロライドを１５ｍｌ（１５．０ミリモル、ＴＨＦ中１．０Ｍの溶液）およびＴＨＦを１５ｍＬ加えた。その結果として生じた混合物を室温で１５時間撹拌した後、この反応混合物に１０ｍＬのＨ2Ｏを用いたクエンチを受けさせた（ｑｕｅｎｃｈｅｄ）。この上で生じさせた混合物を３ｘ５０ｍＬのジエチルエーテルで抽出した。このエーテル抽出液を一緒にしてＭｇＳＯ4で乾燥させ、濾過した後、その濾液からエーテルおよびＴＨＦをロータリーエバポレーションで除去した。その結果として生じた残留物をシリカゲル使用クロマトグラフィーにかけて、酢酸エチル／ヘキサン（体積比が５％）を溶離剤として用いた。この溶離液をロータリーエバポレーションに続いて高真空下で濃縮することで４−ｏ−トリルアニソールを１．８５ｇ（９３％収率）得た。これの1Ｈ  ＮＭＲによる純度は＞９５％であった。1Ｈ  ＮＭＲ（５００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：δ７．４７−７．１９（ｍ、８Ｈ）、４．０３（ｓ、３Ｈ）、２．５３（ｓ、３Ｈ）ｐｐｍ。13Ｃ  ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：δ１５８．５、１４１．５、１３５．３、１３４．３、１３０．２、１３０．１、１２９．８、１２６．８、１２５．７、１１３．４、５５．０、２０．４ｐｐｍ。
【００８７】
実施例１７
２０．０ｍＬのＴＨＦに入れたＮｉ（ＣＯＤ）2（８３．４ｍｇ、０．３０３ミリモル）と（Ｍｅ3Ｃ）2ＰＨ（Ｏ）（５０．０ｍｇ、０．３０３ミリモル）に加えてクロロベンゼン（１．１２６ｇ、１０．０ミリモル）およびｏ−トリルマグネシウムクロライド（１５ｍＬ、１５．０ミリモル）を用いて実施例１６の一般的手順に従った。室温で１５時間後、反応混合物に１０ｍＬのＨ2Ｏを用いたクエンチを受けさせた。この上で生じさせた混合物を３ｘ５０ｍＬのジエチルエーテルで抽出した。このエーテル抽出液を一緒にしてＭｇＳＯ4で乾燥させ、濾過した後、その濾液からエーテルおよびＴＨＦをロータリーエバポレーションで除去した。その結果として生じた残留物をシリカゲル使用クロマトグラフィーにかけて、酢酸エチル／ヘキサン（体積比が５％）を溶離剤として用いた。この溶離液をロータリーエバポレーションに続いて高真空下で濃縮することで２−フェニルトルエンを１．６２ｇ（９６％収率）得た。これの1Ｈ  ＮＭＲによる純度は＞９５％であった。1Ｈ  ＮＭＲ（５００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：δ７．６２−７．４７（ｍ、９Ｈ）、２．５０（ｓ、３Ｈ）ｐｐｍ。13Ｃ  ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）：δ１４２．０、１４１．９、１３５．２、１３０．３、１２９．７、１２９．１、１２８．０、１２７．２、１２６．７、１２５．７、２０．４ｐｐｍ。