(57)【要約】【課題】支持体の厚み分布による影響を抑えることで、最終的に製造しようとする塗布層の所望の塗布厚み分布に制御できる塗布装置、塗布方法、及び塗布製品の製造方法を提供する。【解決手段】搬送される帯状の支持体に塗布液を塗布する塗布装置であって、塗布液を塗布することによって塗布層を形成する塗布部と、塗布部よりも支持体の搬送方向の上流側に配された厚み調整部と、を備え、厚み調整部は、支持体に該支持体の幅方向の塗布厚み分布を調整するための厚み調整層を形成し、厚み調整層は、最終的に得ようとする塗布層の所望の塗布厚み分布に対して略反転した形状の塗布厚み分布である。【選択図】  図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
搬送される帯状の支持体に塗布液を塗布する塗布装置であって、
前記塗布液を塗布することによって塗布層を形成する塗布部と、
前記塗布部よりも前記支持体の搬送方向の上流側に配された厚み調整部と、を備え、
前記厚み調整部は、前記支持体に該支持体の幅方向の塗布厚み分布を調整するための厚み調整層を形成し、
前記厚み調整層は、最終的に得ようとする前記塗布層の所望の塗布厚み分布に対して略反転した形状の塗布厚み分布である塗布装置。
【請求項２】
請求項１に記載の塗布装置であって、
前記厚み調整部は、前記厚み調整層を構成する厚み調整液を塗布する厚み調整液塗布部と、前記塗布部の上流側に配され、前記厚み調整液を乾燥する乾燥部とを備え、
前記乾燥部は、前記支持体の幅方向において厚み分布をもたせて前記厚み調整液を乾燥する塗布装置。
【請求項３】
請求項１に記載の塗布装置であって、
前記厚み調整部は、前記塗布部の上流側に配され、前記厚み調整層を構成する厚み調整液を塗布する厚み調整液塗布部を備え、
前記厚み調整液塗布部は、前記支持体の幅方向において厚み分布をもたせて前記厚み調整液を塗布する塗布装置。
【請求項４】
搬送される帯状の支持体に塗布液を塗布する塗布方法であって、
前記塗布液を塗布することによって塗布層を形成する塗布工程と、
前記塗布工程の前に、前記支持体に該支持体の幅方向の塗布厚み分布を調整するための厚み調整層を形成する厚み調整工程と、を有し、
前記厚み調整工程は、最終的に得ようとする前記塗布層の所望の塗布厚み分布に対して略反転した形状の塗布厚み分布で前記厚み調整層を形成する塗布方法。
【請求項５】
請求項４に記載の塗布方法であって、
前記厚み調整工程は、前記厚み調整層を構成する厚み調整液を塗布する厚み調整液塗布工程と、
前記塗布工程の前に前記厚み調整液を乾燥する乾燥工程とを備え、
前記乾燥工程は、前記支持体の幅方向において厚み分布をもたせて前記厚み調整液を乾燥する塗布方法。
【請求項６】
請求項４に記載の塗布方法であって、
前記厚み調整工程は、前記塗布工程の前に前記厚み調整層を構成する厚み調整液を塗布する厚み調整液塗布工程を有し、
前記厚み調整液塗布工程は、前記支持体の幅方向において厚み分布をもたせて前記厚み調整液を塗布する塗布方法。
【請求項７】
搬送される帯状の支持体に塗布液を塗布する塗布製品の製造方法であって、
前記塗布液を塗布することによって塗布層を形成する塗布工程と、
前記塗布工程の前に、前記支持体に該支持体の幅方向の塗布厚み分布を調整するための厚み調整層を形成する厚み調整工程と、を有し、
前記厚み調整工程は、最終的に得ようとする前記塗布層の所望の塗布厚み分布に対して略反転した形状の塗布厚み分布で前記厚み調整層を形成する塗布製品の製造方法。
【請求項８】
請求項７に記載の塗布製品の製造方法であって、
前記厚み調整工程は、前記厚み調整層を構成する厚み調整液を塗布する厚み調整液塗布工程と、
前記塗布工程の前に前記厚み調整液を乾燥する乾燥工程とを備え、
前記乾燥工程は、前記支持体の幅方向において厚み分布をもたせて前記厚み調整液を乾燥する塗布製品の製造方法。
【請求項９】
請求項７に記載の塗布製品の製造方法であって、
前記厚み調整工程は、前記塗布工程の前に前記厚み調整層を構成する厚み調整液を塗布する厚み調整液塗布工程を有し、
前記厚み調整液塗布工程は、前記支持体の幅方向において厚み分布をもたせて前記厚み調整液を塗布する塗布製品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗布装置、塗布方法、及び塗布製品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から写真感光材料や磁気記録媒体などの製造工程において可撓性支持体表面上に所望の塗布液を塗布する工程がある。
【０００３】
塗布液を支持体面に塗布する塗布装置としては、例えば、ロールコータ型、グラビアコート型、ロールコートプラスドクター型、エクストルージョン型、スライドコート型等がある。近年は磁性塗布液の塗布にはエクストルージョン型の塗布装置が多用されている。
【０００４】
エクストルージョン型塗布装置のうち、塗布ヘッド先端部を支持体に押し付けるタイプの方法は、支持体により厚み分布に大きく影響を受ける為、特許文献１及び２のような厚み調整方法が提案されている。
【０００５】
特許文献１には、塗布液を吐出するスリットのギャップ幅を調整することで支持体幅方向の塗布層の厚みを調整することが記載されている。
【０００６】
特許文献２には、塗布ヘッドを構成するブロックの先端と支持体との長さを調整することで、支持体幅方向の塗布厚み分布を調整することが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平５−２９３４１９号公報
【特許文献２】特開平１１−３１４０６５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
支持体の厚み分布が大きい場合には、特許文献２のような弾性変形領域内での調整が困難な場合が生じる。また支持体の厚み分布が局所的に生じている場合には、特許文献1のようなスリットギャップ幅調整では十分に対応できない。
【０００９】
また近年磁気テープは、コンピュータ用や放送用として急速に容量、記録密度が向上しており、膜厚が極薄になるため、塗布液を希釈し膜厚を薄くしている。その際、塗布液が低粘度となるため、塗布ヘッドの吐出口や支持体とのギャップに存在する圧力損失が小さくなり、塗布厚みを十分に制御できなくなる。
【００１０】
本発明は、上記事情を鑑みてなされたものであり、支持体の厚み分布による影響を抑えることで、最終的に製造しようとする塗布層の所望の塗布厚み分布に制御できる塗布装置、塗布方法、及び塗布製品の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
（１）搬送される帯状の支持体に塗布液を塗布する塗布装置であって、
前記塗布液を塗布することによって塗布層を形成する塗布部と、
前記塗布部よりも前記支持体の搬送方向の上流側に配された厚み調整部と、を備え、
前記厚み調整部は、前記支持体に該支持体の幅方向の塗布厚み分布を調整するための厚み調整層を形成し、
前記厚み調整層は、最終的に得ようとする前記塗布層の所望の塗布厚み分布に対して略反転した形状の塗布厚み分布である塗布装置。
（２）搬送される帯状の支持体に塗布液を塗布する塗布方法であって、
前記塗布液を塗布することによって塗布層を形成する塗布工程と、
前記塗布工程の前に、前記支持体に該支持体の幅方向の塗布厚み分布を調整するための厚み調整層を形成する厚み調整工程と、を有し、
前記厚み調整工程は、最終的に得ようとする前記塗布層の所望の塗布厚み分布に対して略反転した形状の塗布厚み分布で前記厚み調整層を形成する塗布方法。
（３）搬送される帯状の支持体に塗布液を塗布する塗布製品の製造方法であって、
前記塗布液を塗布することによって塗布層を形成する塗布工程と、
前記塗布工程の前に、前記支持体に該支持体の幅方向の塗布厚み分布を調整するための厚み調整層を形成する厚み調整工程と、を有し、
前記厚み調整工程は、最終的に得ようとする前記塗布層の所望の塗布厚み分布に対して略反転した形状の塗布厚み分布で前記厚み調整層を形成する塗布製品の製造方法。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、支持体の厚み分布による影響を抑えることで、最終的に製造しようとする塗布層の所望の塗布厚み分布に制御できる塗布装置、塗布方法、及び塗布製品の製造方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】塗布装置の構成を概略的に示す図である。
【図２】図１の塗布装置の塗布部と支持体の状態を示す図である。
【図３】厚み調整層及び塗布層の厚み分布の関係を説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳しく説明する。
【００１５】
図１は、塗布装置の構成を概略的に示す図である。
【００１６】
塗布装置１０は、連続して搬送される帯状の支持体Ｗに塗布層を塗布によって形成する装置である。塗布装置１０は、支持体Ｗの搬送方向の上流側から、順に、厚み調整液塗布部４と、乾燥部８と、塗布部６を備える。また、塗布装置１０は、支持体Ｗの搬送経路に沿って複数のパスローラ２を備える。複数のパスローラ２は、搬送される支持体Ｗを搬送経路に沿って案内する。
【００１７】
厚み調整液塗布部４は、支持体Ｗの塗布面に厚み調整液を塗布し、厚み調整層Ｃ１を形成する。厚み調整液塗布部４は、エクストルージョン方式の構成である。なお、厚み調整液塗布部４は、ローラコート方式、グラビアコート方式、ローラコートプラスドクターブレード方式、スライドコート方式などを採用することができ、いずれでもかまわない。
【００１８】
乾燥部８は、厚み調整液塗布部４によって塗布された厚み調整液からなる厚み調整層Ｃ１を乾燥する。乾燥部８は、厚み調整層Ｃ１を完全には乾燥させずに、支持体Ｗの幅方向（支持体Ｗ面上において搬送方向に対して垂直な方向）に対して、該厚み調整層Ｃ１の乾燥具合に所定の分布（以下、乾燥分布という。）をもたせて乾燥させる。
【００１９】
また、乾燥部８は、支持体Ｗの幅方向に平行に並べられ、乾燥風の吹き出す複数の吹き出し口を備える。これら複数の吹き出し口から吹き出される乾燥風の風量を制御することで、厚み調整層Ｃ１に乾燥分布を持たせて乾燥させる。ここで、乾燥分布は、乾燥風の風速を支持体Ｗの幅方向に変えてもよく、乾燥風の温度を支持体Ｗの幅方向に変えてもよい。
【００２０】
さらに、乾燥部８は、厚み調整液を完全には乾燥させていない状態（つまり、厚み調整液がウェットな状態）で、後述するように、厚み調整層Ｃ１に塗布厚み分布を形成する。厚み調整層Ｃ１の塗布厚み分布については後述する。
【００２１】
塗布部６は、支持体Ｗ上の厚み調整層Ｃ１に重ねて、最終的に得ようとする所望の塗布厚みに応じて塗布液を塗布し、塗布層Ｃ２を形成する。塗布部６は、エクストルージョン方式の構成である。支持体Ｗは、塗布液が塗布される側の面の反対側が、バックアップロール９によって支持される。バックアップロール９によって支持された支持体Ｗが塗布部６の塗布ヘッド側に所定の圧力で押し付けられる。なお、塗布ヘッドを支持体Ｗ側に押し付ける構成とすることで、バックアップロール９を省略した構成としてもよい。
【００２２】
また、塗布装置１０は、塗布部６の下流側に、図示しない乾燥部を備え、この乾燥部によって厚み調整液を完全に乾燥させることにより、揮発させる。
【００２３】
次に、支持体、塗布液、厚み調整液の材料について説明する。
【００２４】
支持体は、種類に制限はなく、紙、プラスチックフィルム、金属シート等を用いることができる。紙としては、例えばレジンコート紙、合成紙等が挙げられる。また、プラスチックフィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートなどのポリエステル、ポリプロピレンのごときポリオレフィン、三酢酸セルローズや二酢酸セルローズのごときセルローズ誘導体、ポリ塩化ビニルのごときビニル系樹脂、ポリカーボネート、ポリアミド樹脂、ポリスルホンなどのプラスチックのフィルム等が挙げられる。また、金属シートではアルミニウム板が代表的である。これらに表面処理、下引き加工等がなされていても使用可能であり、他の液が事前に塗布された支持体上への塗布においても適用可能である。また、支持体の厚さについては特に制限はない。
【００２５】
塗布液の材料は、特に制限はなく、例えば写真感光材料、熱現像記録材料、アブレーション記録材料、磁気記録媒体、綱板表面処理、等の塗布液（下引き処理液、上塗り液、裏面層液等を含む）を用いることができる。
【００２６】
厚み調整液の材料としては、塗布液に使用している同種の溶媒である事が好ましいが、種類に制限は無く、トルエン、メチルエチルケトン、酢酸ブチル及びシクロヘキサノン等の有機溶剤などを用いる事ができる。
【００２７】
次に、塗布部において塗布厚みを調整する原理を説明する。
【００２８】
図２は、図１の塗布装置の塗布部と支持体の状態を示す図である。図２に示すようい、塗布部６において塗布液を吐出する塗布ヘッド先端と支持体ｗ表面との距離をＨとする。厚み調整層の厚みをＴ１とし、塗布液によって形成される塗布層の厚みをＴ２とする。ここで、距離Ｈ＝厚みＴ１＋厚みＴ２と表すことができる。
【００２９】
距離Ｈは、一定であるため、厚み調整層の厚みをＴ１を厚くすると、塗布層の厚みをＴ２は薄くなる。また、厚み調整層の厚みをＴ１を薄くすると、塗布層の厚みをＴ２は厚くなる。
【００３０】
本発明の塗布装置は、厚み調整層の厚みＴ１を調整することによって、塗布層の厚みＴ２を調整するものである。
【００３１】
厚み調整層は、塗布層を形成した後で、揮発によりその全て又は一部が揮発により失われる層であり、最終的な製品において機能を有する層ではないことから、ダミー層ともいうことができる。
【００３２】
なお、上述の塗布厚みの調整の原理は、バックアップロールを設けずに、塗布ヘッドを支持体に押し付けるタイプの塗布方法においても同様である。
【００３３】
次に、塗布装置の作用を説明する。図１及び図２で説明した塗布装置の構成を適宜参照するものとする。
【００３４】
先ず、連続して搬送される支持体Ｗの塗布面に、厚み調整液塗布部４によって厚み調整液を均一な厚みで塗布し、厚み調整層Ｃ１を形成する。乾燥部８は、厚み調整層Ｃ１に乾燥分布を持たせつつ、厚み調整液を乾燥させる。このとき、厚み調整液は、ウェットな状態である。
【００３５】
図３は、支持体Ｗの幅方向に対する塗布厚みの関係を模式的に示す図である。図３Ａから図３Ｃはいずれも、横軸が支持体Ｗの幅方向の位置を示し、縦軸が塗布厚みを示している。
【００３６】
図３Ａは、乾燥部８によって乾燥された後の、厚み調整層（ダミー層）の塗布厚み分布を示す図である。乾燥部８は、支持体Ｗの幅方向の中央の乾燥を両端側より強めることによって、中央の厚み調整層の揮発が端部よりも促される。この結果、厚み調整層の中央の厚みが、両端側より薄く形成される。
【００３７】
塗布部６は、上述の塗布厚み分布を有する厚み調整層Ｃ１に重ねて塗布液を塗布し、塗布層Ｃ２を形成する。
【００３８】
図３Ｂは、塗布層Ｃ２を形成した後の、塗布厚み分布を示している。図３Ｂに示すように、厚み調整層Ｃ１の厚みＴ１が薄い中央では、塗布層Ｃ２の厚みＴ２が厚い。また、厚み調整層Ｃ１の厚みＴ１が厚み両端側では、塗布層Ｃ２の厚みＴ２が薄い。ここで、塗布ヘッドと支持体との距離Ｈは一定であるため、支持体Ｗの幅方向において、厚み調整層Ｃ１と塗布層Ｃ２の厚みの和Ｔ１＋Ｔ２は同じである。
【００３９】
塗布部６により塗布層Ｃ２を形成した後、厚み調整層Ｃ１を乾燥させることで、厚み調整液を揮発させる。このとき、厚み調整液の一部が支持体表面に一部残存してもかまわない。
【００４０】
図３Ｃは、厚み調整層Ｃ１を揮発させた後の塗布厚み分布を示している。この塗布厚み分布は、最終的に得ようとする塗布層の所望の塗布厚み分布に相当する。言い換えると、図３Ｃの塗布厚み分布を目標として、厚み調整層の塗布厚み分布を決定する。具体的には、厚み調整層の塗布厚み分布は、最終的に得ようとする所望の塗布厚み分布に対して略反転した形状である。
【００４１】
このように、本発明の塗布装置は、最終的に得ようとする塗布層の塗布厚み分布を調整するため、塗布部の上流側に配された厚み調整液塗布部と乾燥部によって、厚み調整層の塗布厚み分布を制御するものである。
【００４２】
また、塗布装置は、厚み調整層の上に塗布層を形成することで、支持体自身の厚み分布が塗布層の塗布厚み分布に影響することを抑えることができる。
【００４３】
さらに、塗布装置１０は、塗布部６において低粘度の塗布液を塗布する場合に特に有効である。塗布部６の塗布ヘッドと支持体とのギャップは、厚み調整層の分だけ狭くなり、圧力損失の低下を抑えることができる。
【００４４】
次に、塗布装置の効果を実証するため、以下のような試験を行った。
【００４５】
支持体は、厚み１５μｍのＰＥＴフィルムを使用した。支持体の搬送速度は、３００ｍ／ｍｉｎとした。
【００４６】
厚み調整液１は、次に示す処方で作成した。
【００４７】
（厚み調整液１の処方）
メチルエチルケトン    ８０質量部
シクロヘキサノン      ２０質量部
【００４８】
塗布層を形成するための塗布液の処方は、次の表に示すものを使用した。
【００４９】
【表１】
2012200659.tif 000003
【００５０】
本試験の実施例１−５で使用する塗布装置の構成は、後述する厚み調整方法をのぞき、図１に示す構成と基本的に同じものを使用した。厚み調整液塗布部はエクストルージョン方式を採用した。
【００５１】
実施例１−５は、図１に示す塗布装置と同様に、乾燥部によって厚み調整層の塗布厚み分布を調整した。ここで、支持体の幅方向を部分的（支持体中央部）に乾燥状態を変化させ、厚み調整層の塗布厚み分布を調整した。具体的には、支持体によっては滑らかな厚み分布とならずに部分的に厚い部分又は薄い部分が存在するため、そのような部分ごとに塗布厚み分布を調整するため、部分ごとに乾燥状態を変化させた。こうして、厚み調整層は、最終的に得ようとする塗布層の所望の塗布厚み分布に対して略反転した形状の塗布厚み分布となるように形成された。その後、厚み調整層上に塗布層を形成し、乾燥させることで、厚み調整層を構成する厚み調整液のみを揮発させた。
【００５２】
比較例１−４は、厚み調整液塗布部及び乾燥部を備えていない塗布装置であり、その他の構成は、実施例１−５の塗布装置と基本的に同じ構成である。比較例１−４は、塗布液を塗布する塗布部の塗布ヘッドにおいて、塗布液を吐出するスリットの長さ（スリット長ともいう。）を調整することで、支持体の幅方向に塗布層の塗布厚み分布を形成する。なお、スリット長によって塗布厚み分布を調整する方法としては、特開２００５−１２５２１８の方式を採用した。
【００５３】
実施例１−５、及び比較例１−４の厚み調整層、塗布層、厚み調整方法、及び塗布厚み分布評価を、次の表にまとめる。
【表２】
2012200659.tif 000004
【００５４】
塗布厚み分布評価の評価基準としては、目標とする塗布厚み分布と得られた分布との差が２％以下のとき「○」とし、若干不良（部分的に目標の塗布厚み分布と合致しない）とき「△」とし、２％より大きいとき「×」とした。
【００５５】
この結果、実施例１−５では、厚み調整液によって厚み調整層を形成し、この厚み調整層の塗布厚み分布を調整することによって、所望の塗布厚み分布で塗布層を形成することができることがわかった。
【００５６】
本発明の変形例を説明する。
【００５７】
図１及び図２は、ここで、厚み調整液塗布部と乾燥部とが厚み調整部として機能することにより、塗布層の塗布厚み分布を制御するものであったが、これに限定されない。
【００５８】
例えば、厚み調整液塗布部は、厚み調整層が最終的に得ようとする所望の塗布厚み分布に対して略反転した形状の塗布厚み分布となるように、厚み調整液を塗布してもよい。この場合、図１に示す乾燥部８を設けずに省略することができる。
【００５９】
厚み調整層の塗布厚み分布を制御する厚み調整液塗布部としては、スリット幅又はスリット長を制御すればよい。
【００６０】
スリット幅を制御する場合には、支持体の幅方向の中央のスリット幅を狭くし、両端側のスリット幅を広くすることで、図３Ａに示す塗布厚み分布で厚み調整層を形成することができる。
【００６１】
塗布量を制御する場合には、支持体の幅方向の中央のスリット長を長くし、両端側のスリット長を短くすることで、図３Ａに示す塗布厚み分布で厚み調整層を形成することができる。
【００６２】
なお、厚み調整層の塗布厚み分布を制御する厚み調整液塗布部としては、特開平５−２９３４１９や特開平１１−３１４０６５に記載の調整方法を採用してもよい。
【００６３】
図１及び図２に示す塗布装置１０において、乾燥部８は、乾燥風を吹き出す構成に限定されず、支持体Ｗの幅方向に対して厚み調整液に乾燥分布を持たせることができる範囲で変形が可能である。例えば、乾燥部８は、支持体Ｗの幅方向に対して加熱温度を制御可能なヒータを備えていてもよい。
【００６４】
上述した塗布装置を磁気テープなどの塗布製品の製造方法に適用することができる。磁気テープの製造する際には、搬送される帯状の支持体に塗布装置によって磁性層又は非磁性層を構成する塗布液を塗布し、塗布層を形成する。また、塗布工程の前に、支持体に該支持体の幅方向の塗布厚み分布を調整するための厚み調整層を形成する厚み調整工程と、を行えばよい。
【００６５】
本明細書は次の事項を開示する。
（１）搬送される帯状の支持体に塗布液を塗布する塗布装置であって、
前記塗布液を塗布することによって塗布層を形成する塗布部と、
前記塗布部よりも前記支持体の搬送方向の上流側に配された厚み調整部と、を備え、
前記厚み調整部は、前記支持体に該支持体の幅方向の塗布厚み分布を調整するための厚み調整層を形成し、
前記厚み調整層は、最終的に得ようとする前記塗布層の所望の塗布厚み分布に対して略反転した形状の塗布厚み分布である塗布装置。
（２）（１）に記載の塗布装置であって、
前記厚み調整部は、前記厚み調整層を構成する厚み調整液を塗布する厚み調整液塗布部と、前記塗布部の上流側に配され、前記厚み調整液を乾燥する乾燥部とを備え、
前記乾燥部は、前記支持体の幅方向において厚み分布をもたせて前記厚み調整液を乾燥する塗布装置。
（３）（１）に記載の塗布装置であって、
前記厚み調整部は、前記塗布部の上流側に配され、前記厚み調整層を構成する厚み調整液を塗布する厚み調整液塗布部を備え、
前記厚み調整液塗布部は、前記支持体の幅方向において厚み分布をもたせて前記厚み調整液を塗布する塗布装置。
（４）搬送される帯状の支持体に塗布液を塗布する塗布方法であって、
前記塗布液を塗布することによって塗布層を形成する塗布工程と、
前記塗布工程の前に、前記支持体に該支持体の幅方向の塗布厚み分布を調整するための厚み調整層を形成する厚み調整工程と、を有し、
前記厚み調整工程は、最終的に得ようとする前記塗布層の所望の塗布厚み分布に対して略反転した形状の塗布厚み分布で前記厚み調整層を形成する塗布方法。
（５）（４）に記載の塗布方法であって、
前記厚み調整工程は、前記厚み調整層を構成する厚み調整液を塗布する厚み調整液塗布工程と、
前記塗布工程の前に前記厚み調整液を乾燥する乾燥工程とを備え、
前記乾燥工程は、前記支持体の幅方向において厚み分布をもたせて前記厚み調整液を乾燥する塗布方法。
（６）（４）に記載の塗布方法であって、
前記厚み調整工程は、前記塗布工程の前に前記厚み調整層を構成する厚み調整液を塗布する厚み調整液塗布工程を有し、
前記厚み調整液塗布工程は、前記支持体の幅方向において厚み分布をもたせて前記厚み調整液を塗布する塗布方法。
（７）搬送される帯状の支持体に塗布液を塗布する塗布製品の製造方法であって、
前記塗布液を塗布することによって塗布層を形成する塗布工程と、
前記塗布工程の前に、前記支持体に該支持体の幅方向の塗布厚み分布を調整するための厚み調整層を形成する厚み調整工程と、を有し、
前記厚み調整工程は、最終的に得ようとする前記塗布層の所望の塗布厚み分布に対して略反転した形状の塗布厚み分布で前記厚み調整層を形成する塗布製品の製造方法。
（８）（７）に記載の塗布製品の製造方法であって、
前記厚み調整工程は、前記厚み調整層を構成する厚み調整液を塗布する厚み調整液塗布工程と、
前記塗布工程の前に前記厚み調整液を乾燥する乾燥工程とを備え、
前記乾燥工程は、前記支持体の幅方向において厚み分布をもたせて前記厚み調整液を乾燥する塗布製品の製造方法。
（９）（７）に記載の塗布製品の製造方法であって、
前記厚み調整工程は、前記塗布工程の前に前記厚み調整層を構成する厚み調整液を塗布する厚み調整液塗布工程を有し、
前記厚み調整液塗布工程は、前記支持体の幅方向において厚み分布をもたせて前記厚み調整液を塗布する塗布製品の製造方法。
【符号の説明】
【００６６】
１０    塗布装置
４    厚み調整液塗布部
６    塗布部
８    乾燥部
９    バックアップロール
【図１】
2012200659.tif 000005
【図２】
2012200659.tif 000006
【図３】
2012200659.tif 000007