(57)【要約】      （修正有）【課題】位相イメージングを行う放射線撮影において、イメージングの精度向上を図る。【解決手段】Ｘ線源１１と、第１の透過型格子３１と、第２の透過型格子３２と、第２の透過型格子３２を移動させる走査機構と、フラットパネル検出器３０と、フラットパネル検出器３０で取得される複数の画像に基づき、被写体の位相コントラスト画像を生成する演算処理部と、を備え、第１の透過型格子３１は、第１の方向に複数の第１の格子片３１Ａを連結してなり、第２の透過型格子３２は、第１の方向に複数の第２の格子片３２Ａを連結してなり、Ｘ線源１１の焦点を視点としたフラットパネル検出器３０への投影において、隣り合う二つの第１の格子片３１Ａの連結部３１ｃが投影されるフラットパネル検出器３０の各画素４０と、隣り合う二つの第２の格子片３２Ａの連結部３２ｃが投影される各画素４０との間には、少なくとも一つの画素４０が介在している。【選択図】図１０
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の格子と、
前記第１の格子を通過した放射線によって形成される第１の格子の放射線像の周期パターンに実質的に一致する周期パターンを有する第２の格子と、
前記第２の格子によってマスキングされた前記放射線像を検出する放射線画像検出器と、を備え、
前記第１の格子及び前記第２の格子は、通過する放射線の進行方向と交差する面内において少なくとも第１の方向に配列された複数の格子片をそれぞれ含み、
前記放射線画像検出器は、放射線焦点を視点とする該放射線画像検出器への投影において、前記第１の方向に隣り合う前記第１の格子の格子片同士の連結部が投影される第１の画素群、及び前記第１の方向に隣り合う前記第２の格子の格子片同士の連結部が投影される第２の画素群、並びに前記第１の画素群及び前記第２の画素群を除く第３の画素群を含み、
前記第１の画素群に属する各画素と前記第２の画素群に属する各画素との間には、前記第３の画素群に属する少なくとも一つの画素が介在する放射線検出装置。
【請求項２】
請求項１に記載の放射線検出装置であって、
放射線焦点を視点とした前記放射線画像検出器への投影において、前記第１の格子の中心の投影と、前記第２の格子の中心の投影とは、前記第１の方向に位置ずれしている放射線検出装置。
【請求項３】
請求項１に記載の放射線検出装置であって、
前記第１の方向に並ぶ前記第１の格子の前記格子片の個数と、前記第１の方向に並ぶ前記第２の格子の前記格子片の個数とが異なっている放射線検出装置。
【請求項４】
請求項１に記載の放射線検出装置であって、
前記第１の格子及び前記第２の格子の少なくともいずれか一方において、前記第１の方向に並ぶ格子片の列毎に、一部の格子片の前記第１の方向に沿う寸法が、他の格子片と異なっている放射線検出装置。
【請求項５】
請求項１に記載の放射線検出装置であって、
前記第１及び第２の格子の各々において、前記複数の格子片が配列される面が円筒面であり、その中心軸が放射線焦点を通る放射線検出装置。
【請求項６】
請求項１に記載の放射線検出装置であって、
前記第１及び第２の格子の各々において、前記複数の格子片は、前記第１の方向と交差する第２の方向にも配列されている放射線検出装置。
【請求項７】
請求項６に記載の放射線検出装置であって、
前記放射線画像検出器は、放射線焦点を視点とする前記放射線画像検出器への投影において、前記第２の方向に隣り合う前記第１の格子の格子片同士の連結部が投影される第４の画素群、及び前記第２の方向に隣り合う前記第２の格子の格子片同士の連結部が投影される第５の画素群、並びに前記第４の画素群及び前記第５の画素群を除く第６の画素群を含み、
前記第４の画素群に属する各画素と前記第５の画素群に属する各画素との間には、前記第６の画素群に属する少なくとも一つの画素が介在する放射線検出装置。
【請求項８】
請求項７に記載の放射線検出装置であって、
放射線焦点を視点とした前記放射線画像検出器への投影において、前記第１の格子の中心の投影と、前記第２の格子の中心の投影とは、前記第２の方向に位置ずれしている放射線検出装置。
【請求項９】
請求項７に記載の放射線検出装置であって、
前記第２の方向に並ぶ前記第１の格子の前記格子片の個数と、前記第２の方向に並ぶ前記第２の格子の前記格子片の個数とが異なっている放射線検出装置。
【請求項１０】
請求項７に記載の放射線検出装置であって、
前記第１の格子及び前記第２の格子の少なくともいずれか一方において、前記第２の方向に並ぶ格子片の列毎に、一部の格子片の前記第２の方向に沿う寸法が、他の格子片と異なっている放射線検出装置。
【請求項１１】
請求項１に記載の放射線検出装置と、
前記放射線検出装置に放射線を照射する放射線源と、
を備える放射線撮影装置。
【請求項１２】
請求項１１に記載の放射線撮影装置であって、
前記第１の格子及び前記第２の格子の少なくともいずれか一方を移動させて、前記第２の格子を前記放射線像に対して互いに位相の異なる複数の相対位置関係に置く走査機構を更に備え、
前記放射線画像検出器は、前記各相対位置関係のもとで前記第２の格子によってマスキングされた前記放射線をそれぞれ検出する放射線撮影装置。
【請求項１３】
請求項１２に記載の放射線撮影装置と、
前記放射線画像検出器で取得された複数の画像から、前記放射線画像検出器に入射する放射線の屈折角分布を演算し、この屈折角分布に基づいて、被写体の位相コントラスト画像を生成する演算部と、
を備える放射線撮影システム。
【請求項１４】
請求項１３に記載の放射線撮影システムであって、
前記演算部は、前記複数の画像間における各画素の信号値の変化に基づいて各画素の信号の位相ズレ量を算出することによって前記屈折角分布を演算する放射線撮影システム。
【請求項１５】
請求項１１に記載の放射線撮影装置と、
前記放射線画像検出器で取得された画像から、前記放射線画像検出器に入射する放射線の屈折角分布を演算し、この屈折角分布に基づいて、被写体の位相コントラスト画像を生成する演算部と、
を備える放射線撮影システム。
【請求項１６】
請求項１５に記載の放射線撮影システムであって、
前記第２の格子によってマスキングされた前記放射線像がモアレを含み、
前記演算部は、前記画像の強度分布に対してフーリエ変換を行うことによって空間周波数スペクトル分布を求め、求めた空間周波数スペクトルから前記モアレの基本周波数に対応するスペクトルを分離し、分離された前記スペクトルに対してフーリエ逆変換を行うことによって前記屈折角の分布を演算する放射線撮影システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被写体を透過したＸ線等の放射線を検出する放射線検出装置、並びにこれを備える放射線撮影装置及び放射線撮影システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
Ｘ線は、物質を構成する元素の原子番号と、物質の密度及び厚さとに依存して減衰するといった特性を有することから、被写体の内部を透視するためのプローブとして用いられている。Ｘ線を用いた撮影は、医療診断や非破壊検査等の分野において広く普及している。
【０００３】
一般的なＸ線撮影システムでは、Ｘ線を放射するＸ線源とＸ線を検出するＸ線画像検出器との間に被写体を配置して、被写体の透過像を撮影する。この場合、Ｘ線源からＸ線画像検出器に向けて放射された各Ｘ線は、Ｘ線画像検出器までの経路上に存在する物質の特性（原子番号、密度、厚さ）の差異に応じた量の減衰（吸収）を受けた後、Ｘ線画像検出器の各画素に入射する。この結果、被写体のＸ線吸収像がＸ線画像検出器により検出され画像化される。Ｘ線画像検出器としては、Ｘ線増感紙とフイルムとの組み合わせや輝尽性蛍光体のほか、半導体回路を用いたフラットパネル検出器（ＦＰＤ：Flat Panel Detector）が広く用いられている。
【０００４】
しかし、Ｘ線吸収能は、原子番号が小さい元素からなる物質ほど低くなるため、生体軟部組織やソフトマテリアルなどでは、Ｘ線吸収像としての十分な画像の濃淡（コントラスト）が得られないといった問題がある。例えば、人体の関節を構成する軟骨部とその周辺の関節液は、いずれも殆どの成分が水であり、両者のＸ線の吸収量の差が少ないため、濃淡差が得られにくい。
【０００５】
このような問題を背景に、近年、被写体によるＸ線の強度変化に代えて、被写体によるＸ線の位相変化（角度変化）に基づいた画像（以下、位相コントラスト画像と称する）を得るＸ線位相イメージングの研究が盛んに行われている。一般に、Ｘ線が物体に入射したとき、Ｘ線の強度よりも位相のほうが高い相互作用を示すことが知られている。このため、位相差を利用したＸ線位相イメージングでは、Ｘ線吸収能が低い弱吸収物体であっても高コントラストの画像を得ることができる。このようなＸ線位相イメージングの一種として、近年、２枚の透過回折格子（位相型格子及び吸収型格子）とＸ線画像検出器とからなるＸ線タルボ干渉計を用いたＸ線撮影システムが考案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００６】
Ｘ線タルボ干渉計は、被写体の背後に第１の回折格子（位相型格子あるいは吸収型格子）を配置し、第１の回折格子の格子ピッチとＸ線波長で決まる特定距離（タルボ干渉距離）だけ下流に第２の回折格子（吸収型格子）を配置し、その背後にＸ線画像検出器を配置することにより構成される。上記タルボ干渉距離とは、第１の回折格子を通過したＸ線が、タルボ干渉効果によって自己像を形成する距離であり、この自己像は、Ｘ線源と第１の回折格子との間に配置された被写体とＸ線との相互作用（位相変化）により変調を受ける。
【０００７】
Ｘ線タルボ干渉計では、第１の回折格子の自己像と第２の回折格子との重ね合わせにより生じるモアレ縞を検出し、被写体によるモアレ縞の変化を解析することによって被写体の位相情報を取得する。モアレ縞の解析方法としては、たとえば、縞走査法が知られている。この縞走査法によると、第１の回折格子に対して第２の回折格子を、第１の回折格子の面にほぼ平行で、かつ第１の回折格子の格子方向（条帯方向）にほぼ垂直な方向に、格子ピッチを等分割した走査ピッチで並進移動させながら複数回の撮影を行い、Ｘ線画像検出器で得られる各画素の信号値の変化から、被写体で屈折したＸ線の角度分布（位相シフトの微分像）を取得し、この角度分布に基づいて被写体の位相コントラスト画像を得ることができる。
【０００８】
Ｘ線タルボ干渉計を用いたＸ線撮影システムにおいて、撮影範囲を拡大するには第１及び第２の回折格子も相応に大きなものが必要となる。しかし、第１及び第２の回折格子は、典型的にはμｍオーダーの格子ピッチで高アスペクト比に構成される必要があるため、サイズの大きな格子を精度よく製造することは非常に困難である。そこで、第１及び第２の回折格子を、それぞれ複数の格子片で構成し、個々の格子片は比較的小型なものとすることも提案されている（例えば、特許文献２参照）。
【０００９】
なお、タルボ干渉計を用いた画像撮影による位相イメージングは、Ｘ線と同様に干渉性の高い可視光（例えば、Ｈｅ−Ｎｅレーザー等）を対象に、Ｘ線位相イメージングより以前に考案されている（例えば、非特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】国際公開第０４／０５８０７０号
【特許文献２】特開２００７−２０３０６１号公報
【非特許文献】
【００１１】
【非特許文献１】へクター・カナバル（Hector Canabal）、他２名、「インプルーブド・フェーズ−シフティング・メソッド・フォー・オートマティック・プロセッシング・オブ・モアレ・ディフレクトグラムス（Improved phase-shifting method for automatic processing of moire deflectograms）」、アプライド・オプティクス（APPLIED OPTICS）、1998年9月、Vol.37, No.26, p.6227-6233
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
第１及び第２の回折格子を、それぞれ複数の格子片で構成した場合に、隣り合う二つの格子片の連結部では正常な縞走査が行えず、連結部を透過したＸ線が入射するＸ線画像検出器の画素は、Ｘ線の位相情報を正確に得ることができない欠陥領域となる。そのため、特許文献２では、欠陥領域となる画素におけるＸ線の位相情報は、周辺の画素におけるＸ線の位相情報に基づいて補完し、更に、そのような欠陥領域の発生を避けるように第１及び第２の回折格子を調整するとしているが、具体的な方策は何ら記載されていない。
【００１３】
本発明は、上述した事情に鑑みなされたものであり、被写体の位相イメージングを行う放射線撮影において、Ｘ線照射野の拡大を図りつつ、画質を維持することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
第１の格子と、前記第１の格子を通過した放射線によって形成される第１の格子の放射線像の周期パターンに実質的に一致する周期パターンを有する第２の格子と、前記第２の格子によってマスキングされた前記放射線像を検出する放射線画像検出器と、を備え、前記第１の格子及び前記第２の格子は、通過する放射線の進行方向と交差する面内において少なくとも第１の方向に配列された複数の格子片をそれぞれ含み、前記放射線画像検出器は、放射線焦点を視点とする該放射線画像検出器への投影において、前記第１の方向に隣り合う前記第１の格子の格子片同士の連結部が投影される第１の画素群、及び前記第１の方向に隣り合う前記第２の格子の格子片同士の連結部が投影される第２の画素群、並びに前記第１の画素群及び前記第２の画素群を除く第３の画素群を含み、前記第１の画素群に属する各画素と前記第２の画素群に属する各画素との間には、前記第３の画素群に属する少なくとも一つの画素が介在する放射線検出装置。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、第１の格子及び第２の格子をそれぞれ複数の格子片で構成しており、放射線照射野を容易に拡大することができる。そして、隣り合う第１の格子の二つの格子片の連結部が投影される放射線画像検出器の各画素と、隣り合う第２の格子の二つの格子片の連結部が投影される各画素との間に、少なくとも一つの画素を介在させることで、これらの連結部が投影される画素の極近傍に、放射線の位相情報を得ることができる画素を設けることができる。そこで、連結部が投影される各画素における放射線の位相情報を、極近傍にある画素における放射線の位相情報を用いて正確に補完することができ、画質を維持することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の実施形態を説明するための、放射線撮影システムの一例の構成を示す模式図である。
【図２】図１の放射線撮影システムの制御構成を示すブロック図である。
【図３】放射線画像検出器の構成を示す模式図である。
【図４】第１及び第２の格子の構成を示す斜視図である。
【図５】第１及び第２の格子の構成を示す側面図である。
【図６】第１及び第２の格子の重ね合わせによるモアレ縞の周期を変更するための機構を示す模式図である。
【図７】被写体による放射線の屈折を説明するための模式図である。
【図８】縞走査法を説明するための模式図である。
【図９】縞走査に伴う放射線画像検出器の画素の信号を示すグラフである。
【図１０】第１及び第２の格子の配置の一例を示す模式図である。
【図１１】図１０の第１及び第２の格子の配置をより詳細に示す模式図である。
【図１２】図１０の第１及び第２の格子の配置をより詳細に示す模式図である。
【図１３】第１及び第２の格子の構成の他の例を示す模式図である。
【図１４】第１及び第２の格子の構成の他の例を示す模式図である。
【図１５】第１及び第２の格子の構成の他の例を示す模式図である。
【図１６】第１及び第２の格子の構成の他の例を示す模式図である。
【図１７】第１及び第２の格子の構成の他の例を示す模式図である。
【図１８】図１７の第１及び第２の格子の連結部の放射線画像検出器への投影を示す模式図である。
【図１９】本発明の実施形態を説明するための放射線撮影システムの他の例の構成を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
図１及び図２に示すＸ線撮影システム１０は、被写体（患者）Ｈを立位状態で撮影するＸ線診断装置であって、被写体ＨにＸ線を放射するＸ線源１１と、Ｘ線源１１に対向配置され、Ｘ線源１１から被写体Ｈを透過したＸ線を検出して画像データを生成する撮影部１２と、操作者の操作に基づいてＸ線源１１の曝射動作や撮影部１２の撮影動作を制御するとともに、撮影部１２により取得された画像データを演算処理して位相コントラスト画像を生成するコンソール１３とに大別される。
【００１８】
Ｘ線源１１は、天井から吊り下げられたＸ線源保持装置１４により上下方向（ｘ方向）に移動自在に保持されている。撮影部１２は、床上に設置された立位スタンド１５により上下方向に移動自在に保持されている。
【００１９】
Ｘ線源１１は、Ｘ線源制御部１７の制御に基づき、高電圧発生器１６から印加される高電圧に応じてＸ線を発生するＸ線管１８と、Ｘ線管１８から発せられたＸ線のうち、被写体Ｈの検査領域に寄与しない部分を遮蔽するように照射野を制限する可動式のコリメータ１９ａを備えたコリメータユニット１９とから構成されている。Ｘ線管１８は、陽極回転型であり、電子放出源（陰極）としてのフィラメント（図示せず）から電子線を放出して、所定の速度で回転する回転陽極１８ａに衝突させることによりＸ線を発生する。この回転陽極１８ａの電子線の衝突部分がＸ線焦点１８ｂとなる。
【００２０】
Ｘ線源保持装置１４は、天井に設置された天井レール（図示せず）により水平方向（ｚ方向）に移動自在に構成された台車部１４ａと、上下方向に連結された複数の支柱部１４ｂとからなる。台車部１４ａには、支柱部１４ｂを伸縮させて、Ｘ線源１１の上下方向に関する位置を変更するモータ（図示せず）が設けられている。
【００２１】
立位スタンド１５は、床に設置された本体１５ａに、撮影部１２を保持する保持部１５ｂが上下方向に移動自在に取り付けられている。保持部１５ｂは、上下方向に離間して配置された２つのプーリ１５ｃの間に掛架された無端ベルト１５ｄに接続され、プーリ１５ｃを回転させるモータ（図示せず）により駆動される。このモータの駆動は、操作者の設定操作に基づき、後述するコンソール１３の制御装置２０により制御される。
【００２２】
また、立位スタンド１５には、プーリ１５ｃ又は無端ベルト１５ｄの移動量を計測することにより、撮影部１２の上下方向に関する位置を検出するポテンショメータ等の位置センサ（図示せず）が設けられている。この位置センサの検出値は、ケーブル等によりＸ線源保持装置１４に供給される。Ｘ線源保持装置１４は、供給された検出値に基づいて支柱部１４ｂを伸縮させ、撮影部１２の上下動に追従するようにＸ線源１１を移動させる。
【００２３】
コンソール１３には、ＣＰＵ、ＲＯＭ、ＲＡＭ等からなる制御装置２０が設けられている。制御装置２０には、操作者が撮影指示やその指示内容を入力する入力装置２１と、撮影部１２により取得された画像データを演算処理してＸ線画像を生成する演算処理部２２と、Ｘ線画像を記憶する記憶部２３と、Ｘ線画像等を表示するモニタ２４と、Ｘ線撮影システム１０の各部と接続されるインターフェース（Ｉ／Ｆ）２５とがバス２６を介して接続されている。
【００２４】
入力装置２１としては、例えば、スイッチ、タッチパネル、マウス、キーボード等を用いることが可能であり、入力装置２１の操作により、Ｘ線管電圧やＸ線照射時間等のＸ線撮影条件、撮影タイミング等が入力される。モニタ２４は、液晶ディスプレイ等からなり、制御装置２０の制御により、Ｘ線撮影条件等の文字やＸ線画像を表示する。
【００２５】
撮影部１２には、半導体回路からなるフラットパネル検出器（ＦＰＤ）３０、被写体ＨによるＸ線の位相変化（角度変化）を検出し位相イメージングを行うための第１の透過型格子３１及び第２の透過型格子３２が設けられている。ＦＰＤ３０は、検出面がＸ線源１１から照射されるＸ線の光軸Ａに直交するように配置されている。詳しくは後述するが、第１及び第２の透過型格子３１，３２は、ＦＰＤ３０とＸ線源１１との間に配置されている。また、撮影部１２には、第２の透過型格子３２を上下方向に並進移動させることにより、第１の透過型格子３１に対する第２の透過型格子３２の相対位置関係を変化させる走査機構３３が設けられている。この走査機構３３は、例えば、圧電素子等のアクチュエータにより構成される。
【００２６】
図３に示すように、ＦＰＤ３０は、Ｘ線を電荷に変換して蓄積する複数の画素４０がアクティブマトリクス基板上にｘｙ方向に２次元配列されてなる受像部４１と、受像部４１からの電荷の読み出しタイミングを制御する走査回路４２と、各画素４０に蓄積された電荷を読み出し、電荷を画像データに変換して記憶する読み出し回路４３と、画像データをコンソール１３のＩ／Ｆ２５を介して演算処理部２２に送信するデータ送信回路４４とから構成されている。なお、走査回路４２と各画素４０とは、行毎に走査線４５によって接続されており、読み出し回路４３と各画素４０とは、列毎に信号線４６によって接続されている。
【００２７】
各画素４０は、アモルファスセレン等の変換層（図示せず）でＸ線を電荷に直接変換し、変換された電荷を変換層の下部の電極に接続されたキャパシタ（図示せず）に蓄積する直接変換型の素子として構成することができる。各画素４０には、ＴＦＴスイッチ（図示せず）が接続され、ＴＦＴスイッチのゲート電極が走査線４５、ソース電極がキャパシタ、ドレイン電極が信号線４６に接続される。ＴＦＴスイッチが走査回路４２からの駆動パルスによってＯＮ状態になると、キャパシタに蓄積された電荷が信号線４６に読み出される。
【００２８】
なお、各画素４０は、酸化ガドリニウム（Ｇｄ２Ｏ３）やヨウ化セシウム（ＣｓＩ）等からなるシンチレータ（図示せず）でＸ線を一旦可視光に変換し、変換された可視光をフォトダイオード（図示せず）で電荷に変換して蓄積する間接変換型のＸ線検出素子として構成することも可能である。また、Ｘ線画像検出器としては、ＴＦＴパネルをベースとしたＦＰＤに限られず、ＣＣＤセンサやＣＭＯＳセンサ等の固体撮像素子をベースとした各種のＸ線画像検出器を用いることも可能である。
【００２９】
読み出し回路４３は、積分アンプ回路、Ａ／Ｄ変換器、補正回路、及び画像メモリ（いずれも図示せず）により構成されている。積分アンプ回路は、各画素４０から信号線４６を介して出力された電荷を積分して電圧信号（画像信号）に変換して、Ａ／Ｄ変換器に入力する。Ａ／Ｄ変換器は、入力された画像信号をデジタルの画像データに変換して補正回路に入力する。補正回路は、画像データに対して、オフセット補正、ゲイン補正、及びリニアリティ補正を行い、補正後の画像データを画像メモリに記憶させる。なお、補正回路による補正処理として、Ｘ線の露光量や露光分布（いわゆるシェーディング）の補正や、ＦＰＤ３０の制御条件（駆動周波数や読み出し期間）に依存するパターンノイズ（例えば、ＴＦＴスイッチのリーク信号）の補正等を含めてもよい。
【００３０】
図４及び図５に示すように、第１の透過型格子３１は、複数の第１の格子片３１Ａを連結して構成されており、隣り合う二つの第１の格子片３１Ａは、例えば接着剤などを用いて互いに連結されている。各第１の格子片３１Ａは、基板３１ａと、この基板３１ａに配置された複数のＸ線遮蔽部３１ｂとから構成されている。第２の透過型格子３２もまた、複数の第２の格子片３２Ａを連結して構成されており、各第２の格子片３２Ａは、基板３２ａと、この基板３２ａに配置された複数のＸ線遮蔽部３２ｂとから構成されている。基板３１ａ，３２ａは、いずれもＸ線を透過させるガラス等のＸ線透過性部材により形成されている。
【００３１】
Ｘ線遮蔽部３１ｂ，３２ｂは、いずれもＸ線の光軸Ａに直交する面内において、一方向（図示の例では、ｙ方向）に延伸した線状の部材である。各Ｘ線遮蔽部３１ｂ，３２ｂの材料としては、Ｘ線吸収性に優れるものが好ましく、例えば、金、白金等の金属であることが好ましい。これらのＸ線遮蔽部３１ｂ，３２ｂは、金属メッキ法や蒸着法によって形成することが可能である。
【００３２】
Ｘ線遮蔽部３１ｂは、Ｘ線の光軸Ａに直交する面内において、上記一方向と直交する方向（図示の例では、ｘ方向）に一定の周期ｐ１で、互いに所定の間隔ｄ１を空けて配列されている。同様に、Ｘ線遮蔽部３２ｂは、Ｘ線の光軸Ａに直交する面内において、上記一方向と直交する方向（図示の例では、ｘ方向）に一定の周期ｐ２で、互いに所定の間隔ｄ２を空けて配列されている。このような第１及び第２の透過型格子３１，３２は、入射Ｘ線に位相差を与えるものでなく、強度差を与えるものであるため、透過型格子のなかでも特に吸収型格子ないし振幅型格子と称される。なお、スリット部（上記間隔ｄ１，ｄ２の領域）は空隙でなくてもよく、高分子や軽金属等のＸ線低吸収材で該空隙を充填してもよい。
【００３３】
第１及び第２の透過型格子３１，３２は、タルボ干渉効果の有無に係らず、スリット部を通過したＸ線を幾何学的に投影するように構成されている。具体的には、間隔ｄ１，ｄ２を、Ｘ線源１１から照射されるＸ線のピーク波長より十分大きな値とすることで、照射Ｘ線に含まれる大部分のＸ線をスリット部で回折させずに、直進性を保ったまま通過するように構成する。例えば、前述の回転陽極１８ａとしてタングステンを用い、管電圧を５０ｋＶとした場合には、Ｘ線のピーク波長は、約０．４Åである。この場合には、間隔ｄ１，ｄ２を、１〜１０μｍ程度とすれば、スリット部で大部分のＸ線が回折されずに幾何学的に投影される。
【００３４】
Ｘ線源１１から放射されるＸ線は、平行ビームではなく、Ｘ線焦点１８ｂを発光点としたコーンビームであるため、第１の透過型格子３１を通過して射影される投影像（以下、この投影像をＧ１像と称する）は、Ｘ線焦点１８ｂからの距離に比例して拡大される。第２の透過型格子３２の格子ピッチｐ２は、そのスリット部が、第２の透過型格子３２の位置におけるＧ１像の明部の周期パターンとほぼ一致するように決定されている。すなわち、Ｘ線焦点１８ｂから第１の透過型格子３１までの距離をＬ１、第１の透過型格子３１から第２の透過型格子３２までの距離をＬ２とした場合に、格子ピッチｐ２は、次式（１）の関係を満たすように決定される。
【００３５】
【数１】
2012090945.tif 000003
【００３６】
第１の透過型格子３１を構成する各第１の格子片３１Ａ及び第２の透過型格子３２を構成する各第２の格子片３２Ａは、それらの格子ピッチ及び間隔について式（１）を満たしている。そして、第１の格子片３１Ａのｘ方向に沿う辺の長さｑ１と、第２の格子片３２Ａのｘ方向に沿う辺の長さｑ２とは次式（２）を満たし、第１の格子片３１Ａのｙ方向に沿う辺の長さｒ１と、第２の格子片３２Ａのｙ方向に沿う辺の長さｒ２とは次式（３）を満たしている。
【００３７】
【数２】
2012090945.tif 000004
【００３８】
【数３】
2012090945.tif 000005
【００３９】
即ち、第１の格子片３１Ａと第２の格子片３２Ａとは、その厚みと間隔を除く幾何的な形状において、第１の透過型格子３１及び第２の透過型格子３２のＸ線焦点１８ｂからの距離の比（Ｌ１／（Ｌ１＋Ｌ２））に応じた相似となっている。
【００４０】
第１の透過型格子３１から第２の透過型格子３２までの距離Ｌ２は、タルボ干渉計では、第１の回折格子の格子ピッチとＸ線波長とで決まるタルボ干渉距離に制約されるが、本Ｘ線撮影システム１０の撮影部１２では、第１の透過型格子３１が入射Ｘ線を回折させずに投影させる構成であって、第１の透過型格子３１のＧ１像が、第１の透過型格子３１の後方のすべての位置で相似的に得られるため、該距離Ｌ２を、タルボ干渉距離と無関係に設定することができる。
【００４１】
上記のように撮影部１２は、タルボ干渉計を構成するものではないが、第１の透過型格子３１でＸ線を回折したと仮定した場合のタルボ干渉距離Ｚは、第１の透過型格子３１の格子ピッチｐ１、第２の透過型格子３２の格子ピッチｐ２、Ｘ線波長（ピーク波長）λ、及び正の整数ｍを用いて、次式（４）で表される。
【００４２】
【数４】
2012090945.tif 000006
【００４３】
式（４）は、Ｘ線源１１から照射されるＸ線がコーンビームである場合のタルボ干渉距離を表す式であり、「Atsushi Momose, et al., Japanese Journal of Applied Physics, Vol.47, No.10, 2008年10月, 8077頁」により知られている。
【００４４】
本Ｘ線撮影システム１０では、撮影部１２の薄型化を目的とし、上記距離Ｌ２を、ｍ＝１の場合の最小のタルボ干渉距離Ｚより短い値に設定する。すなわち、上記距離Ｌ２は、次式（５）を満たす範囲の値に設定される。
【００４５】
【数５】
2012090945.tif 000007
【００４６】
なお、Ｘ線源１１から照射されるＸ線が実質的に平行光とみなせる場合のタルボ干渉距離Ｚは次式（６）となり、上記距離Ｌ２を、次式（７）を満たす範囲の値に設定する。
【００４７】
【数６】
2012090945.tif 000008
【００４８】
【数７】
2012090945.tif 000009
【００４９】
Ｘ線遮蔽部３１ｂ，３２ｂは、コントラストの高い周期パターン像を生成するためには、Ｘ線を完全に遮蔽（吸収）することが好ましいが、上記したＸ線吸収性に優れる材料（金、白金等）を用いたとしても、吸収されずに透過するＸ線が少なからず存在する。このため、Ｘ線の遮蔽性を高めるためには、Ｘ線遮蔽部３１ｂ，３２ｂのそれぞれの厚みｈ１，ｈ２を、可能な限り厚くすることが好ましい。例えば、Ｘ線管１８の管電圧が５０ｋＶの場合に、照射Ｘ線の９０％以上を遮蔽することが好ましく、この場合には、厚みｈ１，ｈ２は、金（Ａｕ）換算で３０μｍ以上であることが好ましい。
【００５０】
一方、Ｘ線遮蔽部３１ｂ，３２ｂの厚みｈ１，ｈ２を厚くし過ぎると、斜めに入射するＸ線がスリット部を通過しにくくなり、いわゆるケラレが生じて、Ｘ線遮蔽部３１ｂ，３２ｂの延伸方向（条帯方向）に直交する方向（ｘ方向）の有効視野が狭くなるといった問題がある。このため、視野確保の観点から、厚みｈ１，ｈ２の上限を規定する。ＦＰＤ３０の検出面におけるｘ方向の有効視野の長さＶを確保するには、Ｘ線焦点１８ｂからＦＰＤ３０の検出面までの距離をＬとすると、厚みｈ１，ｈ２は、図５に示す幾何学的関係から、次式（８）及び（９）を満たすように設定する必要がある。
【００５１】
【数８】
2012090945.tif 000010
【００５２】
【数９】
2012090945.tif 000011
【００５３】
例えば、ｄ１＝２．５μｍ、ｄ２＝３．０μｍであり、通常の病院での検査を想定して、Ｌ＝２ｍとした場合には、ｘ方向の有効視野の長さＶとして１０ｃｍの長さを確保するには、厚みｈ１は１００μｍ以下、厚みｈ２は１２０μｍ以下とすればよい。
【００５４】
以上のように構成された第１及び第２の透過型格子３１，３２では、第１の透過型格子３１のＧ１像と第２の透過型格子３２との重ね合わせにより、強度変調された像が形成され、ＦＰＤ３０によって撮像される。第２の透過型格子３２の位置におけるＧ１像のパターン周期ｐ１’と、第２の透過型格子３２の実質的な格子ピッチｐ２’（製造後の実質的なピッチ）とは、製造誤差や配置誤差により若干の差異が生じる。このうち、配置誤差とは、第１及び第２の透過型格子３１，３２が、相対的に傾斜や回転、両者の間隔が変化することによりｘ方向への実質的なピッチが変化することを意味している。
【００５５】
Ｇ１像のパターン周期ｐ１’と格子ピッチｐ２’との微小な差異により、画像コントラストはモアレ縞となる。このモアレ縞の周期Ｔは、次式（１０）で表される。
【００５６】
【数１０】
2012090945.tif 000012
【００５７】
このモアレ縞をＦＰＤ３０で検出するには、画素４０のｘ方向に関する配列ピッチＰは、少なくとも次式（１１）を満たす必要があり、更には、次式（１２）を満たすことが好ましい（ここで、ｎは正の整数である）。
【００５８】
【数１１】
2012090945.tif 000013
【００５９】
【数１２】
2012090945.tif 000014
【００６０】
式（１１）は、配列ピッチＰがモアレ周期Ｔの整数倍でないことを意味しており、ｎ≧２の場合であっても原理的にモアレ縞を検出することが可能である。式（１２）は、配列ピッチＰをモアレ周期Ｔより小さくすることを意味している。
【００６１】
ＦＰＤ３０の画素４０の配列ピッチＰは、設計的に定められた値（一般的に１００μｍ程度）であり変更することが困難であるため、配列ピッチＰとモアレ周期Ｔとの大小関係を調整するには、第１及び第２の透過型格子３１，３２の位置調整を行い、Ｇ１像のパターン周期ｐ１’と格子ピッチｐ２’との少なくともいずれか一方を変更することによりモアレ周期Ｔを変更することが好ましい。
【００６２】
図６に、モアレ周期Ｔを変更する方法を示す。モアレ周期Ｔの変更は、第１及び第２の透過型格子３１，３２のいずれか一方を、光軸Ａを中心として相対的に回転させることにより行うことができる。例えば、第１の透過型格子３１に対して、第２の透過型格子３２を、光軸Ａを中心として相対的に回転させる相対回転機構５０を設ける。この相対回転機構５０により、第２の透過型格子３２を角度θだけ回転させると、ｘ方向に関する実質的な格子ピッチは、「ｐ２’」→「ｐ２’／ｃｏｓθ」と変化し、この結果、モアレ周期Ｔが変化する。（ＦＩＧ．６Ａ）
【００６３】
別の例として、モアレ周期Ｔの変更は、第１及び第２の透過型格子３１，３２のいずれか一方を、光軸Ａに直交し、かつｙ方向に沿う方向の軸を中心として相対的に傾斜させることにより行うことができる。例えば、第１の透過型格子３１に対して、第２の透過型格子３２を、光軸Ａに直交し、かつｙ方向に沿う方向の軸を中心として相対的に傾斜させる相対傾斜機構５１を設ける。この相対傾斜機構５１により、第２の透過型格子３２を角度αだけ傾斜させると、ｘ方向に関する実質的な格子ピッチは、「ｐ２’」→「ｐ２’×ｃｏｓα」と変化し、この結果、モアレ周期Ｔが変化する。（ＦＩＧ．６Ｂ）
【００６４】
更に別の例として、モアレ周期Ｔの変更は、第１及び第２の透過型格子３１，３２のいずれか一方を光軸Ａの方向に沿って相対的に移動させることにより行うことができる。例えば、第１の透過型格子３１と第２の透過型格子３２との間の距離Ｌ２を変更するように、第１の透過型格子３１に対して、第２の透過型格子３２を、光軸Ａの方向に沿って相対的に移動させる相対移動機構５２を設ける。この相対移動機構５２により、第２の透過型格子３２を光軸Ａに移動量δだけ移動させると、第２の透過型格子３２の位置に投影される第１の透過型格子３１のＧ１像のパターン周期は、「ｐ１’」→「ｐ１’×（Ｌ１＋Ｌ２＋δ）／（Ｌ１＋Ｌ２）」と変化し、この結果、モアレ周期Ｔが変化する。（ＦＩＧ．６Ｃ）
【００６５】
本Ｘ線撮影システム１０において、撮影部１２は、上述のようにタルボ干渉計ではなく、距離Ｌ２を自由に設定することができるため、相対移動機構５２のように距離Ｌ２の変更によりモアレ周期Ｔを変更する機構を、好適に採用することができる。モアレ周期Ｔを変更するための第１及び第２の透過型格子３１，３２の上記変更機構（相対回転機構５０、相対傾斜機構５１、及び相対移動機構５２）は、圧電素子等のアクチュエータにより構成することが可能である。
【００６６】
Ｘ線源１１と第１の透過型格子３１との間に被写体Ｈを配置した場合には、ＦＰＤ３０により検出されるモアレ縞は、被写体Ｈにより変調を受ける。この変調量は、被写体Ｈによる屈折効果によって偏向したＸ線の角度に比例する。したがって、ＦＰＤ３０で検出されたモアレ縞を解析することによって、被写体Ｈの位相コントラスト画像を生成することができる。
【００６７】
次に、モアレ縞の解析方法について説明する。
【００６８】
図７は、被写体Ｈのｘ方向に関する位相シフト分布Φ（ｘ）に応じて屈折される１つのＸ線を例示している。符号５５は、被写体Ｈが存在しない場合に直進するＸ線の経路を示しており、この経路５５を進むＸ線は、第１及び第２の透過型格子３１，３２を通過してＦＰＤ３０に入射する。符号５６は、被写体Ｈが存在する場合に、被写体Ｈにより屈折されて偏向したＸ線の経路を示している。この経路５６を進むＸ線は、第１の透過型格子３１を通過した後、第２の透過型格子３２より遮蔽される。
【００６９】
被写体Ｈの位相シフト分布Φ（ｘ）は、被写体Ｈの屈折率分布をｎ（ｘ，ｚ）、ｚをＸ線の進む方向として、次式（１３）で表される。
【００７０】
【数１３】
2012090945.tif 000015
【００７１】
第１の透過型格子３１から第２の透過型格子３２の位置に投射されたＧ１像は、被写体ＨでのＸ線の屈折により、その屈折角φに応じた量だけｘ方向に変位することになる。この変位量Δｘは、Ｘ線の屈折角φが微小であることに基づいて、近似的に次式（１４）で表される。
【００７２】
【数１４】
2012090945.tif 000016
【００７３】
ここで、屈折角φは、Ｘ線波長λと被写体Ｈの位相シフト分布Φ（ｘ）を用いて、次式（１５）で表される。
【００７４】
【数１５】
2012090945.tif 000017
【００７５】
このように、被写体ＨでのＸ線の屈折によるＧ１像の変位量Δｘは、被写体Ｈの位相シフト分布Φ（ｘ）に関連している。そして、この変位量Δｘは、ＦＰＤ３０の各画素４０から出力される信号の位相ズレ量ψ（被写体Ｈがある場合とない場合とでの各画素４０の信号の位相のズレ量）に、次式（１６）のように関連している。
【００７６】
【数１６】
2012090945.tif 000018
【００７７】
したがって、各画素４０の信号の位相ズレ量ψを求めることにより、式（１６）から屈折角φが求まり、式（１５）を用いて位相シフト分布Φ（ｘ）の微分量が求まるから、これをｘについて積分することにより、被写体Ｈの位相シフト分布Φ（ｘ）、すなわち被写体Ｈの位相コントラスト画像を生成することができる。本Ｘ線撮影システム１０では、上記位相ズレ量ψを、下記に示す縞走査法を用いて算出する。
【００７８】
縞走査法では、第１及び第２の透過型格子３１，３２の一方を他方に対して相対的にｘ方向にステップ的に並進移動させながら撮影を行う（すなわち、両者の格子周期の位相を変化させながら撮影を行う）。本Ｘ線撮影システム１０では、前述の走査機構３３により第２の透過型格子３２を移動させているが、第１の透過型格子３１を移動させてもよい。第２の透過型格子３２の移動に伴って、モアレ縞が移動し、並進距離（ｘ方向への移動量）が、第２の透過型格子３２の格子周期の１周期（格子ピッチｐ２）に達すると（すなわち、位相変化が２πに達すると）、モアレ縞は元の位置に戻る。このようなモアレ縞の変化を、格子ピッチｐ２を整数分の１ずつ第２の透過型格子３２を移動させながら、ＦＰＤ３０で縞画像を撮影し、撮影した複数の縞画像から各画素４０の信号を取得し、演算処理部２２で演算処理することにより、各画素４０の信号の位相ズレ量ψを得る。
【００７９】
図８は、格子ピッチｐ２をＭ（２以上の整数）個に分割した走査ピッチ（ｐ２／Ｍ）ずつ第２の透過型格子３２を移動させる様子を模式的に示している。走査機構３３は、ｋ＝０，１，２，・・・，Ｍ−１のＭ個の各走査位置に、第２の透過型格子３２を順に並進移動させる。なお、同図では、第２の透過型格子３２の初期位置を、被写体Ｈが存在しない場合における第２の透過型格子３２の位置でのＧ１像の暗部が、Ｘ線遮蔽部３２ｂにほぼ一致する位置（ｋ＝０）としているが、この初期位置は、ｋ＝０，１，２，・・・，Ｍ−１のうちいずれの位置としてもよい。
【００８０】
まず、ｋ＝０の位置では、主として、被写体Ｈにより屈折されなかったＸ線が第２の透過型格子３２を通過する。次に、ｋ＝１，２，・・・と順に第２の透過型格子３２を移動させていくと、第２の透過型格子３２を通過するＸ線は、被写体Ｈにより屈折されなかったＸ線の成分が減少する一方で、被写体Ｈにより屈折されたＸ線の成分が増加する。特に、ｋ＝Ｍ／２では、主として、被写体Ｈにより屈折されたＸ線のみが第２の透過型格子３２を通過する。ｋ＝Ｍ／２を超えると、逆に、第２の透過型格子３２を通過するＸ線は、被写体Ｈにより屈折されたＸ線の成分が減少する一方で、被写体Ｈにより屈折されなかったＸ線の成分が増加する。
【００８１】
ｋ＝０，１，２，・・・，Ｍ−１の各位置で、ＦＰＤ３０により撮影を行うと、各画素４０について、Ｍ個の信号値が得られる。以下に、このＭ個の信号値から各画素４０の信号の位相ズレ量ψを算出する方法を説明する。第２の透過型格子３２の位置ｋにおける各画素４０の信号値をＩｋ（ｘ）と標記すると、Ｉｋ（ｘ）は、次式（１７）で表される。
【００８２】
【数１７】
2012090945.tif 000019
【００８３】
ここで、ｘは、画素４０のｘ方向に関する座標であり、Ａ０は入射Ｘ線の強度であり、Ａｎは画素４０の信号値のコントラストに対応する値である（ここで、ｎは正の整数である）。また、φ（ｘ）は、上記屈折角φを画素４０の座標ｘの関数として表したものである。
【００８４】
次いで、次式（１８）の関係式を用いると、上記屈折角φ（ｘ）は、次式（１９）のように表される。
【００８５】
【数１８】
2012090945.tif 000020
【００８６】
【数１９】
2012090945.tif 000021
【００８７】
ここで、ａｒｇ［  ］は、偏角の抽出を意味しており、各画素４０の信号の位相ズレ量ψに対応する。したがって、各画素４０で得られたＭ個の信号値から、式（１９）に基づいて各画素４０の信号の位相ズレ量ψを算出することにより、屈折角φ（ｘ）が求められる。
【００８８】
具体的には、各画素４０で得られたＭ個の信号値は、図９に示すように、第２の透過型格子３２の位置ｋに対して、格子ピッチｐ２の周期で周期的に変化する。同図中の破線は、被写体Ｈが存在しない場合の信号値の変化を示しており、同図中の実線は、被写体Ｈが存在する場合の信号値の変化を示している。この両者の波形の位相差が各画素４０の信号の位相ズレ量ψに対応する。
【００８９】
そして、屈折角φ（ｘ）は、式（１５）で示したように微分位相値に対応する値であるため、屈折角φ（ｘ）をｘ軸に沿って積分することにより、位相シフト分布Φ（ｘ）が得られる。
【００９０】
上記の説明では、画素４０のｙ方向に関するｙ座標を考慮していないが、各ｙ座標について同様の演算を行うことにより、ｘ方向及びｙ方向における２次元的な位相シフト分布Φ（ｘ，ｙ）が得られる。
【００９１】
以上の演算は、演算処理部２２により行われ、演算処理部２２は、位相シフト分布Φ（ｘ，ｙ）を位相コントラスト画像として記憶部２３に記憶させる。なお、位相シフト分布Φは、屈折角φより求まる位相シフト分布Φの微分量を積分したものであって、屈折角φ及び位相シフト分布Φの微分量もまた被写体によるＸ線の位相変化に関連している。よって、屈折角φや位相シフト分布Φの微分量を位相コントラスト画像とすることもできる。
【００９２】
上記の縞走査、及び位相コントラスト画像の生成処理は、入力装置２１から操作者により撮影指示がなされた後、制御装置２０の制御に基づいて各部が連係動作し、自動的に行われ、最終的に被写体Ｈの位相コントラスト画像がモニタ２４に表示される。
【００９３】
図１０は、第１及び第２の透過型格子３１，３２の配置を模式的に示している。上述のとおり、本Ｘ線撮影システム１０において、第１の透過型格子３１は、複数の第１の格子片３１Ａを連結して構成され、第２の透過型格子３２もまた、複数の第２の格子片３２Ａを連結して構成されており、第１の格子片３１Ａと第２の格子片３２Ａとは、その厚みと間隔を除く幾何的な形状において、第１の透過型格子３１及び第２の透過型格子３２のＸ線源１１の焦点からの距離の比に応じた相似となっている。
【００９４】
そして、第２の透過型格子３２における複数の第２の格子片３２Ａの配列は、第１の透過型格子３１における複数の第１の格子片３１Ａの配列と同じとなっている。図示の例において、第１の透過型格子３１は、複数の第１の格子片３１Ａが列状に配列されて構成されており、第２の透過型格子３２は、第１の透過型格子３１を構成する複数の第１の格子片と同数の第２の格子片３２Ａが列状に配列されて構成されている。複数の第１の格子片３１Ａの並び方向、及び複数の第２の格子片３２Ａの並び方向は、いずれも縞走査における第２の透過型格子３２の走査方向であるｘ方向に略沿っている。なお、複数の第１の格子片３１Ａの並び方向、及び複数の第２の格子片３２Ａの並び方向は、必ずしも厳密には一致せず、例えば上記の相対回転機構５０（ＦＩＧ．６Ａ参照）により、第１の透過型格子３１に対して、第２の透過型格子３２を、光軸Ａを中心として相対的に回転させることで、若干ずれる場合もある。
【００９５】
以上のように構成された第１及び第２の透過型格子３１，３２は、Ｘ線源１１の焦点を視点とするＦＰＤ３０への投影において、それらの中心Ｏ１，Ｏ２の投影位置がｘ方向、即ち第１の透過型格子３１や第２の透過型格子３２における複数の格子片の並び方向にずれるように配置されている。それによって、隣り合う二つの第１の格子片３１Ａの連結部３１ｃが投影される各画素（第１の画素群に属する画素）４０と、隣り合う二つの第２の格子片３２Ａの連結部３２ｃが投影される各画素（第２の画素群に属する画素）４０との間に、少なくとも一つの画素（第３の画素群に属する画素）４０を介在させるようにしている。換言すれば、連結部３１ｃの投影と、連結部３２ｃの投影との間に、ＦＰＤ３０における画素ピッチより大きい隙間を置くようにしている。
【００９６】
図１１は、第１及び第２の透過型格子３１，３２の配置を詳細に示す。Ｘ線源１１の焦点を視点とするＦＰＤ３０の受像面への投影において、隣り合う二つの第１の格子片３１Ａの連結部３１ｃの投影と、隣り合う二つの第２の格子片３２Ａの連結部３２ｃの投影との間の隙間ｇは、次式（２０）によって表される。
【００９７】
【数２０】
2012090945.tif 000022
【００９８】
ここで、ＬはＸ線源１１とＦＰＤ３０との距離であり、θ１は連結部３１ｃ及び連結部３２ｃのいずれか光軸Ａに近い方とＸ線源１１とを結ぶ線分と、Ｘ線の光軸Ａとのなす角であり、θ２は連結部３１ｃとＸ線源１１とを結ぶ線分と、連結部３２ｃとＸ線源１１とを結ぶ線分とのなす角である。
【００９９】
隙間ｇが、ＦＰＤ３０における画素ピッチＤよりも大きければ、連結部３１ｃが投影される各画素４０と、連結部３２ｃが投影される各画素４０との間に、少なくとも一つの画素４０が介在することになる。よって、連結部３１ｃとＸ線源１１とを結ぶ線分と、連結部３２ｃとＸ線源１１とを結ぶ線分とのなす角θ２が満たすべき条件は、次式（２１）となる。
【０１００】
【数２１】
2012090945.tif 000023
【０１０１】
以上は、Ｘ線源１１を点光源と仮定した場合であるが、Ｘ線源１１が、複数の第１の格子片３１Ａや第２の格子片３２Ａの連結方向に幅ｗを有している場合には、図１２に示すように、連結部３１ｃ、３２ｃの投影の縁にボケが生じ、投影が拡大する。図中、ｘ１は、連結部３２ｃ側への連結部３１ｃの投影の拡大量を示し、ｘ２は連結部３１ｃ側への連結部３２ｃの投影の拡大量を示している。幾何学的に、連結部３１ｃの投影の拡大量ｘ１は次式（２２）で、また連結部３２ｃの投影の拡大量ｘ２は、次式（２３）で表される。
【０１０２】
【数２２】
2012090945.tif 000024
【０１０３】
【数２３】
2012090945.tif 000025
【０１０４】
ここで、Ｌ１はＸ線源１１と第１の透過型格子３１との距離であり、Ｌ２は第１の透過型格子３１と第２の透過型格子３２との距離であり、Ｌ３は第２の透過型格子３２とＦＰＤ３０との距離である。
【０１０５】
よって、連結部３１ｃの投影と、連結部３２ｃの投影との間の隙間ｇ´は、次式（２４）で表される。
【０１０６】
【数２４】
2012090945.tif 000026
【０１０７】
隙間ｇ´が、ＦＰＤ３０における画素ピッチＤよりも大きければ、連結部３１ｃが投影される各画素４０と、連結部３２ｃが投影される各画素４０との間に、少なくとも一つの画素４０が介在することになる。よって、連結部３１ｃとＸ線源１１とを結ぶ線分と、連結部３２ｃとＸ線源１１とを結ぶ線分とのなす角θ２が満たすべき条件は、次式（２５）となる。
【０１０８】
【数２５】
2012090945.tif 000027
【０１０９】
以上により、連結部３１ｃが投影される各画素４０と、連結部３２ｃが投影される各画素４０との間に、少なくとも一つの画素４０を介在させることができる。
【０１１０】
連結部３１ｃ，３２ｃでは正常な縞走査が行えないため、連結部３１ｃ，３２ｃが投影される各画素４０については、周辺の画素４０の出力信号に基づく補完がなされる。その補完には、連結部３１ｃが投影される各画素４０と、連結部３２ｃが投影される各画素４０との間に介在し、連結部３１ｃ，３２ｃが投影される各画素４０の極近傍にある画素４０の出力信号を用いることができる。
【０１１１】
上述したＸ線撮影システム１０によれば、第１の透過型格子３１を複数の第１の格子片３１Ａで、また第２の透過型格子３２を複数の第２の格子片３２Ａで、それぞれ構成しており、放射線照射野を容易に拡大することができる。
【０１１２】
そして、上述したＸ線撮影システム１０によれば、隣り合う二つの第１の格子片３１Ａの連結部３１ｃが投影される各画素４０と、隣り合う二つの第２の格子片３２Ａの連結部３２ｃが投影される各画素４０との間に、少なくとも一つの画素４０を介在させることで、これらの連結部３１ｃ，３２ｃが投影される画素４０の極近傍に、Ｘ線の位相情報を得ることができる画素４０を設けることができる。そこで、連結部３１ｃ，３２ｃが投影される各画素４０におけるＸ線の位相情報を、極近傍にある画素４０におけるＸ線の位相情報を用いて正確に補完することができ、画質を維持することができる。
【０１１３】
また、上述したＸ線撮影システム１０によれば、第１の透過型格子３１で殆どのＸ線を回折させずに、第２の透過型格子３２に幾何学的に投影するため、照射Ｘ線には、高い空間的可干渉性は要求されず、Ｘ線源１１として医療分野で用いられている一般的なＸ線源を用いることができる。そして、第１の透過型格子３１から第２の透過型格子３２までの距離Ｌ２を任意の値とすることができ、該距離Ｌ２を、タルボ干渉計での最小のタルボ干渉距離より小さく設定することができるため、撮影部１２を小型化（薄型化）することができる。また、Ｘ線撮影システム１０によれば、第１の透過型格子３１からの投影像（Ｇ１像）には、照射Ｘ線のほぼすべての波長成分が寄与し、モアレ縞のコントラストが向上するため、位相コントラスト画像の検出感度を向上させることができる。
【０１１４】
なお、上述したＸ線撮影システム１０は、第１の透過型格子３１の投影像に対して縞走査を行って屈折角φを演算するものであって、そのため、第１及び第２の透過型格子３１，３２がいずれも吸収型格子であるものとして説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。上述のとおり、タルボ干渉像に対して縞走査を行って屈折角φを演算する場合にも、本発明は有用である。よって、第１の透過型格子３１は、吸収型格子に限らず位相型格子であってもよい。
【０１１５】
また、上述したＸ線撮影システム１０では、第１の透過型格子３１の投影像と第２の透過型格子３２との重ね合わせによって形成されるモアレ縞を縞走査法によって解析するものとして説明したが、モアレ縞の解析方法は、縞走査法に限られず、例えば「J. Opt. Soc. Am. Vol.72,No.1 (1982) p.156」により知られているフーリエ変換／フーリエ逆変換を用いた方法など、モアレ縞を利用した種々の方法も適用可能である。
【０１１６】
以下に、フーリエ変換／フーリエ逆変換を用いたモアレ縞の解析方法を説明する。Ｘ線遮蔽部３１ｂ、３２ｂがｙ方向に延伸している第１及び第２の透過型格子３１、３２によって形成されるモアレ縞は次式（２６）で表すことがで、式（２６）は次式（２７）に書き換えることができる。
【０１１７】
【数２６】
2012090945.tif 000028
【０１１８】
【数２７】
2012090945.tif 000029
【０１１９】
式（２６）において、ａ（ｘ，ｙ）はバックグラウンドを表し、ｂ（ｘ，ｙ）はモアレの基本周波数成分の振幅を表し、ｆ０はモアレの基本周波数を表す。また式（２７）において、ｃ（ｘ，ｙ）は次式（２８）で表される。
【０１２０】
【数２８】
2012090945.tif 000030
【０１２１】
従って、モアレ縞からｃ（ｘ，ｙ）又はｃ＊（ｘ，ｙ）の成分を取り出すことによって屈折角φ（ｘ，ｙ）の情報を得ることができる。ここで、式（２７）はフーリエ変換によって次式（２９）となる。
【０１２２】
【数２９】
2012090945.tif 000031
【０１２３】
式（２９）において、Ｉ（ｆｘ，ｆｙ）、Ａ（ｆｘ，ｆｙ）、Ｃ（ｆｘ，ｆｙ）は、それぞれＩ(ｘ，ｙ)、ａ（ｘ，ｙ）、ｃ（ｘ，ｙ）に対する二次元のフーリエ変換である。
【０１２４】
モアレ縞のスペクトルパターンにおいて、通常は３つのピークが生じ、Ａ（ｆｘ，ｆｙ）に由来するピークを挟んで、その両脇にＣ（ｆｘ，ｆｙ）及びＣ＊（ｆｘ，ｆｙ）に由来するピークが生じる。このＣ（ｆｘ，ｆｙ）又はＣ＊（ｆｘ，ｆｙ）に由来するピークを含む領域を切り出し、切り出したＣ（ｆｘ，ｆｙ）又はＣ＊（ｆｘ，ｆｙ）に由来するピークを周波数空間の原点に移動させてフーリエ逆変換を行い、得られる複素数情報から屈折角φ（ｘ，ｙ）を得ることができる。
【０１２５】
更に、上述したＸ線撮影システム１０では、被検体ＨをＸ線源１１と第１の透過型格子３１との間に配置しているが、被検体Ｈを第１の透過型格子３１と第２の透過型格子３２との間に配置した場合にも同様に位相コントラスト画像の生成が可能である。
【０１２６】
図１３は、上述のＸ線撮影システム１０の変形例を示している。図示の例において、第１及び第２の透過型格子３１，３２は、Ｘ線源１１を視点とするＦＰＤ３０への投影において、それらの中心Ｏ１，Ｏ２の投影位置がｘ方向、即ち第１の透過型格子３１における複数の第１の格子片３１Ａの連結方向に略一致するように配置されている。
【０１２７】
ただし、第２の透過型格子３２における複数の第２の格子片３２Ａの配列が、第１の透過型格子３１における複数の第１の格子片３１Ａの配列と異なっている。図示の例では、第１の透過型格子３１は、５枚の第１の格子片３１Ａがｘ方向に配列されて構成されているのに対して、第２の透過型格子３２は、第１の透過型格子３１を構成する複数の第１の格子片３１Ａより少ない４枚の第２の格子片３２Ａがｘ方向に配列されて構成されている。
【０１２８】
以上のように構成された第１及び第２の透過型格子３１，３２は、Ｘ線源１１の焦点を視点とするＦＰＤ３０への投影において、それらの中心Ｏ１，Ｏ２の投影位置が略一致するように配置されていても、隣り合う二つの第１の格子片３１Ａの連結部３１ｃが投影される各画素４０と、隣り合う二つの第２の格子片３２Ａの連結部３２ｃが投影される各画素４０との間に、少なくとも一つの画素４０を介在させることができる。
【０１２９】
図１４は、上述のＸ線撮影システム１０の他の変形例を示している。図示の例において、第２の透過型格子３２は、第１の透過型格子３１を構成する複数の第１の格子片３１Ａより少ない４枚の第２の格子片３２Ａがｘ方向に配列され、これらの第２の格子片３２Ａの並びの中央に第３の格子片３２Ｂが介在して構成されている。第３の格子片３２Ｂは、第２の格子片３２Ａとｙ方向に沿う辺の長さ及び厚み、並びに格子ピッチ及び間隔は等しく、ｘ方向に沿う辺の長さが第２の格子片３２Ａとは異なっている。
【０１３０】
以上のように構成された第１及び第２の透過型格子３１，３２は、Ｘ線源１１の焦点を視点とするＦＰＤ３０への投影において、それらの中心Ｏ１，Ｏ２の投影位置が略一致するように配置されていても、隣り合う二つの第１の格子片３１Ａの連結部３１ｃが投影される各画素４０と、隣り合う二つの第２の格子片３２Ａの連結部３２ｃが投影される各画素４０との間に、少なくとも一つの画素４０を介在させることができる。なお、第１の透過型格子３１を、ｘ方向に沿う辺の長さのみ異なる２種の格子片で構成するようにしてもよい。
【０１３１】
上述のＸ線撮影システム１０の第１及び第２の透過型格子３１，３２は、いずれもＸ線遮蔽部３１ｂ，３２ｂの周期配列方向が直線状（すなわち、格子面が平面状）となるように構成されているが、Ｘ線焦点１８ｂを中心に湾曲する凹曲面状に構成することもできる。
【０１３２】
図１５に示す例は、第１及び第２の透過型格子３１，３２の格子面を、縞走査における走査方向に沿った断面においてＸ線焦点１８ｂを中心に湾曲する凹曲面状に構成したものである。第１の透過型格子３１において、走査方向に隣り合う二つの第１の格子片３１Ａを互いに所定の角度だけ傾けて連結し、第２の透過型格子３２においても、同様に、走査方向に隣り合う二つの第２の格子片３２Ａを互いに所定の角度だけ傾けて連結して、それらの格子面を上記の凹曲面状としている。このように、第１及び第２の透過型格子３１，３２を、それぞれ複数の格子片を連結して構成することで、それらの格子面を容易に凹曲面状とすることができる。
【０１３３】
そして、第１及び第２の透過型格子３１，３２の格子面を上記の凹曲面状とすることにより、Ｘ線焦点１８ｂから照射されるＸ線は、被写体Ｈが存在しない場合、すべて格子面に略垂直に入射することになるため、Ｘ線遮蔽部３１ｂの厚みｈ１とＸ線遮蔽部３２ｂの厚みｈ２との上限の制約が緩和され、上記式（８）及び（９）を考慮する必要がなくなる。
【０１３４】
図１６に示す例は、第１及び第２の透過型格子３１，３２の格子面を、縞走査における走査方向と直交する断面においてＸ線焦点１８ｂを中心に湾曲する凹曲面状に構成したものである。第１の透過型格子３１において、走査方向と直交する方向に隣り合う二つの第１の格子片３１Ａを互いに所定の角度だけ傾けて連結し、第２の透過型格子３２においても、同様に、走査方向と直交する方向に隣り合う二つの第２の格子片３２Ａを互いに所定の角度だけ傾けて連結して、それらの格子面を上記の凹曲面状としている。
【０１３５】
また、上述のＸ線撮影システム１０の第１及び第２の透過型格子３１，３２は、縞走査における走査方向（ｘ方向）に列状に複数の格子片を連結して構成されているが、図１７に示すように、複数の第１の格子片３１Ａを行列状に配列して第１の透過型格子３１を構成し、また、複数の第２の格子片３２Ａを行列状に配列して第２の透過型格子３２を構成することもできる。
【０１３６】
図示の例では、第１の透過型格子３１における複数の第１の格子片３１Ａの一方の並び方向は、縞走査における第２の透過型格子３２の走査方向であるｘ方向に略沿っており、他方の並び方向はｙ方向に略沿っている。また、第２の透過型格子３２における複数の第２の格子片３２Ａの一方の並び方向はｘ方向に略沿っており、他方の並び方向はｙ方向に略沿っている。第１の格子片３１Ａと第２の格子片３２Ａとは、その厚みと間隔を除く幾何的な形状において、第１の透過型格子３１及び第２の透過型格子３２のＸ線源１１からの距離の比に応じた相似となっており、それらの配列は同じ（ｘ方向に並ぶ第１の格子片３１Ａ及び第２の格子片３２Ａの個数が同じで、ｙ方向に並ぶ第１の格子片３１Ａ及び第２の格子片３２Ａの個数もまた同じ）である。
【０１３７】
そして、Ｘ線源１１を視点とするＦＰＤ３０への投影において、第１及び第２の透過型格子３１，３２は、それらの中心の投影位置がｘ方向及びｙ方向にずれるように配置されている。それにより、図１８に示すように、ｘ方向に隣り合う二つの第１の格子片３１Ａの連結部３１ｃｘが投影される各画素（第１の画素群Ａ１に属する画素）４０と、同じくｘ方向に隣り合う二つの第２の格子片３２Ａの連結部３２ｃｘが投影される各画素（第２の画素群Ａ２に属する画素）４０との間に、少なくとも一つの画素（第３の画素群Ａ３に属する画素）４０を介在させ、更に、ｙ方向に隣り合う二つの第１の格子片３１Ａの連結部３１ｃｙが投影される各画素（第４の画素群Ａ４に属する画素）４０と、同じくｙ方向に隣り合う二つの第２の格子片３２Ａの連結部３２ｃｙが投影される各画素（第５の画素群Ａ５に属する画素）４０との間にも、少なくとも一つの画素（第６の画素群Ａ６に属する画素）４０を介在させるようにしている。
【０１３８】
なお、ｘ方向及びｙ方向の両方向各々について、その方向に隣り合う二つの第１の格子片３１Ａの連結部が投影される各画素４０と、同方向に隣り合う二つの第２の格子片３２Ａの連結部が投影される各画素４０との間に、少なくとも一つの画素４０を介在させることが好ましいが、ｘ方向及びｙ方向のいずれか一方向について、その方向に隣り合う二つの第１の格子片３１Ａの連結部が投影される各画素４０と、同方向に隣り合う二つの第２の格子片３２Ａの連結部が投影される各画素４０との間に、少なくとも一つの画素４０を介在させるものであってもよく、その方向については、両連結部が投影される画素４０の極近傍に、Ｘ線の位相情報を得ることができる画素４０を設けることができる。
【０１３９】
図１９は、本発明の実施形態を説明するための放射線撮影システムの他の例を示す。
【０１４０】
図１９に示すＸ線撮影システム１００は、Ｘ線源１０１のコリメータユニット１０２に、マルチスリット１０３を配設した点が、上述したＸ線撮影システム１０と異なる。その他の構成については、Ｘ線撮影システム１０と同一であるので説明は省略する。
【０１４１】
上述したＸ線撮影システム１０では、Ｘ線源１１からＦＰＤ３０までの距離を、一般的な病院の撮影室で設定されるような距離（１ｍ〜２ｍ）とした場合に、Ｘ線焦点１８ｂの焦点サイズ（一般的に０．１ｍｍ〜１ｍｍ程度）によるＧ１像のボケが影響し、位相コントラスト画像の画質の低下をもたらす恐れがある。そこで、Ｘ線焦点１８ｂの直後にピンホールを設置して実効的に焦点サイズを小さくすることが考えられるが、実効的な焦点サイズを縮小するためにピンホールの開口面積を小さくすると、Ｘ線強度が低下してしまう。本Ｘ線撮影システム１００においては、この課題を解決するために、Ｘ線焦点１８ｂの直後にマルチスリット１０３を配置する。
【０１４２】
マルチスリット１０３は、撮影部１２に設けられた第１及び第２の透過型格子３１，３２と同様な構成の透過型格子（吸収型格子）であり、一方向（ｙ方向）に延伸した複数のＸ線遮蔽部が、第１及び第２の透過型格子３１，３２のＸ線遮蔽部３１ｂ，３２ｂと同一方向（ｘ方向）に周期的に配列されている。このマルチスリット１０３は、Ｘ線焦点１８ｂから放射される放射線を部分的に遮蔽することにより、ｘ方向に関する実効的な焦点サイズを縮小して、ｘ方向に多数の点光源（分散光源）を形成することを目的としている。
【０１４３】
このマルチスリット１０３の格子ピッチｐ３は、マルチスリット１０３から第１の透過型格子３１までの距離をＬ３として、次式（３０）を満たすように設定する必要がある。
【０１４４】
【数３０】
2012090945.tif 000032
【０１４５】
式（３０）は、マルチスリット１０３により分散形成された各点光源から射出されたＸ線の第１の透過型格子３１による投影像（Ｇ１像）が、第２の透過型格子３２の位置で一致する（重なり合う）ための幾何学的な条件である。
【０１４６】
また、実質的にマルチスリット１０３の位置がＸ線焦点位置となるため、第２の透過型格子３２の格子ピッチｐ２は、次式（３１）の関係を満たすように決定される。
【０１４７】
【数３１】
2012090945.tif 000033
【０１４８】
このように、本Ｘ線撮影システム１００では、マルチスリット１０３により形成される複数の点光源に基づくＧ１像が重ね合わせられることにより、Ｘ線強度を低下させずに、位相コントラスト画像の画質を向上させることができる。以上説明したマルチスリット１０３は、前述したいずれのＸ線撮影システムにおいても適用可能である。
【０１４９】
上述したＸ線撮影システム１０、１００は、本発明を医療診断用の装置に適用したものであるが、本発明は医療診断用途に限られず、工業用等のその他の放射線検出装置に適用することも可能である。
【０１５０】
以上、説明したように、本明細書には、第１の格子と、前記第１の格子を通過した放射線によって形成される第１の格子の放射線像の周期パターンに実質的に一致する周期パターンを有する第２の格子と、前記第２の格子によってマスキングされた前記放射線像を検出する放射線画像検出器と、を備え、前記第１の格子及び前記第２の格子は、通過する放射線の進行方向と交差する面内において少なくとも第１の方向に配列された複数の格子片をそれぞれ含み、前記放射線画像検出器は、放射線焦点を視点とする該放射線画像検出器への投影において、前記第１の方向に隣り合う前記第１の格子の格子片同士の連結部が投影される第１の画素群、及び前記第１の方向に隣り合う前記第２の格子の格子片同士の連結部が投影される第２の画素群、並びに前記第１の画素群及び前記第２の画素群を除く第３の画素群を含み、前記第１の画素群に属する各画素と前記第２の画素群に属する各画素との間には、前記第３の画素群に属する少なくとも一つの画素が介在する放射線検出装置が開示されている。
【０１５１】
また、本明細書には、放射線焦点を視点とした前記放射線画像検出器への投影において、前記第１の格子の中心の投影と、前記第２の格子の中心の投影とが、前記第１の方向に位置ずれしている放射線検出装置が開示されている。
【０１５２】
また、本明細書には、前記第１の方向に並ぶ前記第１の格子の前記格子片の個数と、前記第１の方向に並ぶ前記第２の格子の前記格子片の個数とが異なっている放射線検出装置が開示されている。
【０１５３】
また、本明細書には、前記第１の格子及び前記第２の格子の少なくともいずれか一方において、前記第１の方向に並ぶ格子片の列毎に、一部の格子片の前記第１の方向に沿う寸法が、他の格子片と異なっている放射線検出装置が開示されている。
【０１５４】
また、本明細書には、前記第１及び第２の格子の各々において、前記複数の格子片が配列される面が円筒面であり、その中心軸が放射線焦点を通る放射線検出装置が開示されている。
【０１５５】
また、本明細書には、前記第１及び第２の格子の各々において、前記複数の格子片は、前記第１の方向と交差する第２の方向にも配列されている放射線検出装置が開示されている。
【０１５６】
また、本明細書には、前記放射線画像検出器が、放射線焦点を視点とする前記放射線画像検出器への投影において、前記第２の方向に隣り合う前記第１の格子の格子片同士の連結部が投影される第４の画素群、及び前記第２の方向に隣り合う前記第２の格子の格子片同士の連結部が投影される第５の画素群、並びに前記第４の画素群及び前記第５の画素群を除く第６の画素群を含み、前記第４の画素群に属する各画素と前記第５の画素群に属する各画素との間には、前記第６の画素群に属する少なくとも一つの画素が介在する放射線検出装置が開示されている。
【０１５７】
また、本明細書には、放射線焦点を視点とした前記放射線画像検出器への投影において、前記第１の格子の中心の投影と、前記第２の格子の中心の投影とは、前記第２の方向に位置ずれしている放射線検出装置が開示されている。
【０１５８】
また、本明細書には、前記第２の方向に並ぶ前記第１の格子の前記格子片の個数と、前記第２の方向に並ぶ前記第２の格子の前記格子片の個数とが異なっている放射線検出装置が開示されている。
【０１５９】
また、本明細書には、前記第１の格子及び前記第２の格子の少なくともいずれか一方において、前記第２の方向に並ぶ格子片の列毎に、一部の格子片の前記第２の方向に沿う寸法が、他の格子片と異なっている放射線検出装置が開示されている。
【０１６０】
また、本明細書には、上記の放射線検出装置と、前記放射線検出装置に放射線を照射する放射線源と、を備える放射線撮影装置が開示されている。
【０１６１】
また、本明細書には、前記第１の格子及び前記第２の格子の少なくともいずれか一方を移動させて、前記第２の格子を前記放射線像に対して互いに位相の異なる複数の相対位置関係に置く走査機構を更に備え、前記放射線画像検出器は、前記各相対位置関係のもとで前記第２の格子によってマスキングされた前記放射線をそれぞれ検出する放射線撮影装置が開示されている。
【０１６２】
また、本明細書には、上記の放射線撮影装置と、前記放射線画像検出器で取得された複数の画像から、前記放射線画像検出器に入射する放射線の屈折角の分布を演算し、この屈折角の分布に基づいて、被写体の位相コントラスト画像を生成する演算部と、を備える放射線撮影システムが開示されている。
【０１６３】
また、本明細書には、前記演算部は、前記複数の画像間における各画素の信号値の変化に基づいて該画素の信号の位相ズレ量を算出することによって前記屈折角分布を演算する放射線撮影システムが開示されている。
【０１６４】
また、本明細書には、上記の放射線撮影装置と、前記放射線画像検出器で取得された画像から、前記放射線画像検出器に入射する放射線の屈折角分布を演算し、この屈折角分布に基づいて、被写体の位相コントラスト画像を生成する演算部と、を備える放射線撮影システムが開示されている。
【０１６５】
また、本明細書には、前記第２の格子によってマスキングされた前記放射線像がモアレを含み、前記演算部は、前記画像の強度分布に対してフーリエ変換を行うことによって空間周波数スペクトル分布を求め、求めた空間周波数スペクトルから前記モアレの基本周波数に対応するスペクトルを分離し、分離された前記スペクトルに対してフーリエ逆変換を行うことによって前記屈折角の分布を演算する放射線撮影システムが開示されている。
【符号の説明】
【０１６６】
１０  Ｘ線撮影システム（放射線撮影システム）
１１  Ｘ線源（放射線源）
１２  撮影部
１３  コンソール
１４  Ｘ線源保持装置
１５  立位スタンド
１６  高電圧発生器
１７  Ｘ線源制御部
１８  Ｘ線管
１９  コリメータユニット
２０  制御装置
２１  入力装置
２２  演算処理部
２３  記憶部
２４  モニタ
２５  Ｉ／Ｆ
３０  フラットパネル検出器（放射線画像検出器）
３１  第１の透過型格子
３２  第２の透過型格子（強度変調部）
３３  走査機構（強度変調部）
４０  画素
【図１】
2012090945.tif 000034
【図２】
2012090945.tif 000035
【図３】
2012090945.tif 000036
【図４】
2012090945.tif 000037
【図５】
2012090945.tif 000038
【図６】
2012090945.tif 000039
【図７】
2012090945.tif 000040
【図８】
2012090945.tif 000041
【図９】
2012090945.tif 000042
【図１０】
2012090945.tif 000043
【図１１】
2012090945.tif 000044
【図１２】
2012090945.tif 000045
【図１３】
2012090945.tif 000046
【図１４】
2012090945.tif 000047
【図１５】
2012090945.tif 000048
【図１６】
2012090945.tif 000049
【図１７】
2012090945.tif 000050
【図１８】
2012090945.tif 000051
【図１９】
2012090945.tif 000052