(57)【要約】【課題】表面レリーフマスター版４により表面レリーフ形成層３が本来剥離してはいけない工程で浮きブロッキングにより、剥離してしまうエンボス剥がれや、エンボス樹脂が表面レリーフマスター版４に取られ表面レリーフ型回折構造物の凹凸状のレリーフを埋めてしまう問題を低減し、簡便で装置的な負荷を生じない表面レリーフ形成層を持つ、表面レリーフ型転写箔及びその製造方法を提供する。【解決手段】表面レリーフパターンを支持体フィルム上に剥離性保護層と共に形成された熱可塑性の樹脂層にエンボス加工を行ない複製される表面レリーフ型転写箔において、前記熱可塑性の樹脂が、メタアクリル酸エステルとアクリル酸フッ化アルキルのブロックコポリマーを０．０５〜１．０質量％含んだアクリルウレタン樹脂であることを特徴とする表面レリーフ型転写箔。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面レリーフパターンを支持体フィルム上に剥離性保護層と共に形成された熱可塑性の樹脂層にエンボス加工を行ない複製される表面レリーフ型転写箔において、前記熱可塑性の樹脂が、メタアクリル酸エステルとアクリル酸フッ化アルキルのブロックコポリマーを０．０５〜１．０質量％含んだアクリルウレタン樹脂であることを特徴とする表面レリーフ型転写箔。
【請求項２】
表面レリーフパターンを支持体フィルム上に剥離性保護層と共に形成された熱可塑性の樹脂層にエンボス加工を行ない複製する表面レリーフ型転写箔の製造方法において、前記熱可塑性の樹脂が、メタアクリル酸エステルとアクリル酸フッ化アルキルのブロックコポリマーを０．０５〜１．０質量％含んだアクリルウレタン樹脂であることを特徴とする表面レリーフ型転写箔の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偽造防止を要する透明シート（フィルム）やカード等に転写する、偽造や改ざんを困難とするための偽造防止機能を有し、偽造防止媒体に用いられる表面レリーフ型転写箔及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、偽造を防止する手段は、物品そのものを模倣することが困難なものとするか、あるいは、模倣することが困難なものを本物の証明として物品に取り付けることによって、真贋を判定できるようにしているものがある。
【０００３】
例えば前者は紙幣や株券などの有価証券のようにそのもの自体に微細な印刷加工や透かし加工を施したり色再現が困難な色調の彩色を使用するものであり、素材自体も特殊なものを使用することで、印刷技術による偽造や、複写機やスキャナーによる偽造を困難なものとするものである。
【０００４】
しかしながら、デジタル技術の進歩により、上記のように従来偽造が困難であった微細な印刷加工や色彩までもが、容易にカラーコピーやスキャナー等で再現できるようになっている。その結果、偽造防止策としての印刷加工もさらに高微細化し、より複製や偽造を困難なものとしているが、このように高微細化が進んでくると一目で真偽判定を行うことができず、それらの真贋の判定が容易ではないものとなる。
【０００５】
そこで、物品（偽造防止媒体）に取り付けることにより一目で容易に真贋を判定することが行なわれている。そのような方法は取り扱いも容易であることから回折格子パターン等が記録された、回折構造物が偽造防止手段として広く使われることになった。
【０００６】
前記回折構造物の回折格子パターンを形成するための製造方法は多数あり、本発明ではこの製造方法について限定するものではないが、その一例としてレリーフ型回折構造物の製造方法について述べることにする。
【０００７】
上記レリーフ型回折構造物とは、任意の画像情報を干渉縞として記録されている回折格子パターンが凹凸状に表面にレリーフ状に形成されたもので、表面レリーフ層に光を当てると入射光がこの凹凸によって干渉を起こし、入射光に対してある一定の角度、もしくはある一定の範囲内の角度に任意の画像情報を再生するものである。この表面レリーフ型の回折構造物は、画像情報を凹凸で記録した原版を作製し、これをエンボス加工することによって大量に生産することが可能であるため、現在多くの回折構造物に採用されている（特許文献１）。
【０００８】
しかしながら、前記エンボス加工は表面レリーフ型回折構造物を熱可塑性の樹脂に加熱圧着して、凹凸状を樹脂層に転写する。凹凸状のレリーフが形成される表面レリーフ形成層はアクリル系の樹脂が多く用いられているが、表面レリーフマスター版でパターンを形成する際にベースフィルムから表面レリーフ形成層が剥離し、表面レリーフマスター版側に取られて収率が低下したり、樹脂層がレリーフ型回折構造物の表面に付着してしまい、表面レリーフマスター版側に取られ凹凸状が埋めてしまうとう問題点が多発し、収率低下の原因となっている。
【０００９】
上記不具合を解決するために、表面レリーフ形成層表面を炭化フッ素化合物雰囲気中で発生させたプラズマに接触させ、表面張力下げる提案がなされ、収率の向上に寄与してい
るが、処理が煩雑で、コストアップに成ってしまっている（特許文献２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】実開昭６３−７４６７５号公報
【特許文献２】特開平０２−１９５３７３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
表面レリーフマスター版４により表面レリーフ形成層３が本来剥離してはいけない工程で浮きブロッキングにより、剥離してしまうエンボス剥がれや、エンボス樹脂が表面レリーフマスター版４に取られ表面レリーフ型回折構造物の凹凸状のレリーフを埋めてしまう問題を低減し、簡便で装置的な負荷を生じない表面レリーフ形成層を持つ、表面レリーフ型転写箔及びその製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記の課題を解決するための手段として、請求項１に記載の発明は、表面レリーフパターンを支持体フィルム上に剥離性保護層と共に形成された熱可塑性の樹脂層にエンボス加工を行ない複製される表面レリーフ型転写箔において、前記熱可塑性の樹脂が、メタアクリル酸エステルとアクリル酸フッ化アルキルのブロックコポリマーを０．０５〜１．０質量％含んだアクリルウレタン樹脂であることを特徴とする表面レリーフ型転写箔である。
【００１３】
また、請求項２に記載の発明は、表面レリーフパターンを支持体フィルム上に剥離性保護層と共に形成された熱可塑性の樹脂層にエンボス加工を行ない複製される表面レリーフ型転写箔の製造方法において、前記熱可塑性の樹脂が、メタアクリル酸エステルとアクリル酸フッ化アルキルのブロックコポリマーを０．０５〜１．０質量％含んだアクリルウレタン樹脂であることを特徴とする表面レリーフ型転写箔の製造方法である。
【発明の効果】
【００１４】
表面レリーフ形成層３にメタアクリル酸エステルとアクリル酸フッ化アルキルのブロックコポリマーを質量比率０．０５〜１．０％配合することにより、エンボス時の「版取られ」がなくなり不良が改善できる。これは表面レリーフ形成層３にフッ化アルキルのブロックコポリマーが添加されることにより、ブロックコポリマーの相溶性セグメントがアクリルウレタン樹脂と結合、機能性セグメントが表面レリーフ形成層３表面に突出して、表面レリーフマスター版４との密着が下がり、結果、表面レリーフマスター版４との結合は弱くなることで、エンボスをした際の浮きブロッキングが発生しない。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の表面レリーフ型転写箔７を製造工程を説明するための転写箔原反の構成を示す概念図
【図２】本発明の転写箔原反表面に表面レリーフマスター版４を用いレリーフ形状を形成する製造工程を示した概念図
【図３】本発明の転写箔原反表面に表面レリーフマスター版４を用い加熱加圧によりレリーフ形状の形成工程を示した概念図
【図４】本発明の転写箔原反表面のレリーフ面に光学反射膜が形成された状態を示した概念図
【図５】本発明の表面レリーフ型転写箔７の断面を示した概念図
【図６】本発明の表面レリーフ型転写箔７を偽造防止媒体に転写された状態を示した概念図
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下本発明を実施するための形態を図面を用いて詳細に説明する。図1は表面レリーフ型転写箔７の転写箔原反を示しており、支持体1上に剥離性保護層２及び表面レリーフ形成層３をコートし、適度なエージング（硬化処理）を行う。
【００１７】
図２は転写箔原反表面に表面レリーフマスター版４を用いレリーフ形状を形成する工程を示しており、転写箔原反に熱及び圧力を加えながら表面レリーフマスター版４をプレスして表面に、図３に示すように表面レリーフマスター版４の凹凸パターンを転写させる。この時、表面レリーフ形成層３が剥離し、表面レリーフマスター版４側に取られて収率が低下したり、表面レリーフ形成層３がレリーフ表面に付着してしまい、表面レリーフマスター版４側に取られ凹凸状が埋めてしまうとう問題点が生じる。
【００１８】
表面レリーフ凹凸パターンとしては、任意の画像情報を干渉縞として記録されている回折格子パターンが凹凸状に回折構造形成層に形成されたものを挙げることができ、成形された表面レリーフ層に光を当てると入射光がこの凹凸によって干渉を起こし、入射光に対してある一定の角度もしくはある一定の範囲内の角度に任意の画像情報を再生するものである。
【００１９】
この表面レリーフ凹凸パターンは、画像情報を凹凸で記録した原版を作製し、これをエンボス加工する事によって大量に生産する事が可能であるため、現在多くの偽造防止に採用されている。
【００２０】
図４は形成させたレリーフ面に光学反射膜５を積層した状態を示しており、図５は光学反射膜５に接着層６が積層されて表面レリーフ型転写箔７が作製され、図６に示すように偽造防止媒体８に転写された後に、表面の支持体１が取り除かれる。
【００２１】
支持体１は樹脂フィルムやシートが使用され、その樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、耐熱ポリ塩化ビニル樹脂等でなるフィルムやシート等が挙げられる。
【００２２】
これらの樹脂の中で、耐熱性が高く厚みが安定していることから、ポリエチレンテレフタレート樹脂のシートやフィルムが多く使われ、１０〜５０μｍ程度の厚みが好ましい。また、これら樹脂シートやフィルムには、帯電防止処理、マット加工、エンボス処理、文字や絵柄の印刷、レーザーマーキング等の加工を施したフィルムも使用することができる。
【００２３】
剥離性保護層２としては、表面レリーフ形成層３を被転写体である偽造防止媒体８に転写するためのもので、剥離性保護層２としてのインキの主たる材料はアクリル系の樹脂である。そのほか、塩化ゴム系樹脂及びニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートブチレート、ポリスチレン、塩化ビニル、塩酢ビ系樹脂等が使用できる。
【００２４】
さらには、メラミン樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の使用も可能であり、シリコーン樹脂、パラフインワツクス、反応型フッ素樹脂等の使用も可能である。その厚さとしては０．５〜５．０μｍが好ましい。これらは剥離性保護層２として、支持体１上にグラビア印刷法やマイクログラビア法等、公知の塗布方法によって形成される。
【００２５】
表面レリーフ形成層３には、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線あるいは電子線硬化性樹脂等が使用できる。例えば、熱可塑性樹脂では、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、セルロース系樹脂、ビニル系樹脂等が挙げられる。
【００２６】
また、反応性水酸基を有するアクリルポリオールやポリエステルポリオール等にポリイソシアネートを架橋剤として添加して架橋させたウレタン樹脂、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂等が使用できる。また、紫外線あるいは電子線硬化性樹脂としては、エポキシ（メタ）アクリル、ウレタン（メタ）アクリレート等が使用でき、その厚さとしては０．５〜５．０μｍが好ましい。
【００２７】
光学反射膜５にはアルミニウム、金、銀、銅及びこれらの金属を含む合金を使用することができる。又は、酸化スズ、酸化チタン、酸化インジウムないしは硫化亜鉛等を透明反射層として使用することもできる。厚みとしては１００Å〜１０００Åが好ましい。
【００２８】
接着層６は、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ゴム系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂、塩化ビニル酢酸共重合樹脂等の熱可塑性樹脂が使用できる。膜厚は１〜２０μｍが好ましい。
【００２９】
ホログラム等の表面レリーフをエンボス成形するには、表面レリーフマスター版４を表面レリーフ形成層３に重ね合わせ、９０〜１５０℃の条件にて加熱、加圧した後、冷却を行うことにより形成するが、従来方法では、本来起こってはいけない剥離が発生してしまう問題があった。
【００３０】
表面レリーフマスター版４は、柄が形成されている部分の線数が細かいため、版取られが起き易い。ここで本発明では、フッ素添加物を有機溶剤のメチルエチルケトン（ＭＥＫ）、あるいはトルエンに１〜５％の割合で溶媒を準備する。前記溶媒を表面レリーフ形成層(エンボス樹脂) 材料を溶解したインキに、フッ素添加物を溶かした溶剤を１％〜４％配合する。これにより、表面レリーフマスター版４との耐ブロッキング性を高めることができ、剥離の防止を可能とした。上述のようにフッ素添加物が均一に分散されるように２段階で溶媒に混合しても良いし、表面レリーフ形成層３中のフッ素添加物濃度が０．０５〜１．０質量％となるように、表面レリーフ形成層材料を溶解したインキに直接フッ素添加物を配合しても良い。
【００３１】
表面レリーフ形成層３へのフッ素添加物を増やすことで、ブロックコポリマーの相溶性セグメントがアクリルウレタン樹脂と結合、機能性セグメントがホロ層表面に突出して表面レリーフマスター版との密着が下がり、結果、表面レリーフマスター版との結合は弱くなることで、エンボスをした際の剥離が防止できるものである。具体的には、フッ素添加物として日本油脂株式会社製モディバーＦ６００メタアクリル酸エステルとアクリル酸フッ化アルキルのブロックコポリマー（含有量約９７％）を使用することができる。
【００３２】
本発明によればフッ素添加物を有機溶剤のメチルエチルケトン（ＭＥＫ）、あるいはトルエン等の溶剤に１〜５％の濃度で溶解したフッ素添加物溶液を表面レリーフ形成層(エンボス樹脂)インキに１％〜４％配合したので、表面レリーフ形成層に０．０５〜１．０質量％のフッ素添加物を含むこととなり、ホログラムの製造工程において、表面レリーフ形成層３(エンボス樹脂)が基材層より剥離しない収率に優れた表面レリーフ型転写箔の製造を可能とすることができるものである。
【実施例１】
【００３３】
以下に、本発明の具体的な実施例について説明する。
【００３４】
＜実施例１＞
支持体１として、厚さ２５μｍの透明なポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを使用し、その片面に下記組成物からなる剥離性保護層２用のインキを塗布乾燥し、膜厚２μｍの剥離性保護層２を形成した。次に、下記組成物からなる表面レリーフ形成層３
用のインキを塗布・乾燥し、膜厚１μｍの層を形成した後、ロールエンボス法により表面レリーフマスター版４を熱圧してその表面にレリーフを表面レリーフ形成層３に形成した。
【００３５】
続いて、この表面レリーフ形成層３全面に真空蒸着法にてアルミニウム蒸着膜を膜厚５０ｎｍにて均一に形成し、光学反射層５の薄膜を形成した。さらにその上に下記組成物からなる接着層用のインキを塗布・乾燥させて厚さ３μｍの接着層６を形成し、表面レリーフ型転写箔７を製造した。
【００３６】
「剥離保護層用インキ組成物」
ポリアミドイミド樹脂（Ｔｇ．２５０℃）          １９．２質量％
ポリエチレンパウダー                              ０．８質量％
ジメチルアセトアミド                            ４５．０質量％
トルエン                                        ３５．０質量％
「表面レリーフ形成層用インキ組成物」
アクリルウレタン樹脂                            ２０．０質量％
モディバーＦ６００（日本油脂製）                  ０．１質量％
メチルエチルケトン                              ５０．０質量％
酢酸エチル                                      ３０．０質量％
「接着層用インキ組成物」
塩化ビニル酢酸ビニル共重合樹脂                      １５．０質量％
アクリル樹脂（Ｔｇ．２０℃）                        １０．０質量％
シリカ                                                １．０質量％
メチルエチルケトン                                  ４４．０質量％
トルエン                                            ３０．０質量％
次に、この表面レリーフ型転写箔７を、予め文字や絵柄など所望の印刷を行った透明なプラスチックカード基材に重ね、温度１２０℃に熱した円型の真鍮製版を瞬間的に圧着させる転写機を用いて偽造防止媒体８に転写し、すぐに支持体１を剥離除去して偽造防止媒体８を製造した。
【００３７】
<実施例２＞
実施例１における「表面レリーフ形成層３用インキ組成物」へのフッ素添加物の量を少なくした以下の組成のインキを調整し、表面レリーフ形成層３として塗布・乾燥し、膜厚１μｍの層を形成した。以下実施例１と同様の工程により表面レリーフ型転写箔７を製造した。
【００３８】
「表面レリーフ形成層用インキ組成物」
アクリルウレタン樹脂                            ２０．０質量％
モディバーＦ６００（日本油脂製）                ０．０５質量％
メチルエチルケトン                              ５０．０質量％
酢酸エチル                                      ３０．０質量％
＜比較例１＞
実施例１における「表面レリーフ形成層３用インキ組成物」へのフッ素添加物の量を多くした以下の組成のインキを調整し、表面レリーフ形成層３として塗布・乾燥し、膜厚１μｍの層を形成した。以下実施例１と同様の工程により表面レリーフ型転写箔７を作製した。
【００３９】
「表面レリーフ形成層用インキ組成物」
アクリルウレタン樹脂                            ２０．０質量％
モディバーＦ６００（日本油脂製）                  ０．４質量％
メチルエチルケトン                              ５０．０質量％
酢酸エチル                                      ３０．０質量％
＜比較例２＞
実施例１における「表面レリーフ形成層３用インキ組成物」へのフッ素添加物をなくした以下の組成のインキを調整し、表面レリーフ形成層３として塗布・乾燥し、膜厚１μｍの層を形成した。以下実施例１と同様の工程により表面レリーフ型転写箔７を製造した。
【００４０】
「表面レリーフ形成層用インキ組成物」
アクリルウレタン樹脂                            ２０．０質量％
メチルエチルケトン                              ５０．０質量％
酢酸エチル                                      ３０．０質量％
フッ素添加物が添加された表面レリーフ形成層に表面レリーフマスター版４を熱圧してその表面にレリーフを表面レリーフ形成層３に形成したが、その添加量が０．１質量％、０．０５質量％の場合は、表面レリーフ形成層３が剥離し、浮きが生じたり、版取られは起こらなかった。
【００４１】
フッ素添加物を０．４質量％添加したものは、剥離層上への平滑な表面レリーフ形成層３を塗工することができず、塗工したものに表面レリーフをエンボスしても良好なレリーフ形状を形成することができなかった。
【００４２】
フッ素添加物を用いなかった場合には、表面レリーフ形成層３が表面レリーフマスター版側に取られてしまい、表面レリーフマスター版４の凹凸状を埋めてしまい、次にエンボスされたものには、表面レリーフ形成層３の表面に凹凸が形成されなかった。
【符号の説明】
【００４３】
１・・・支持体
２・・・剥離性保護層
３・・・表面レリーフ形成層
４・・・表面レリーフマスター版
５・・・光学反射膜
６・・・接着層
７・・・表面レリーフ型転写箔
８・・・偽造防止媒体
【図１】
2012068447.tif 000003
【図２】
2012068447.tif 000004
【図３】
2012068447.tif 000005
【図４】
2012068447.tif 000006
【図５】
2012068447.tif 000007
【図６】
2012068447.tif 000008