(57)【要約】【課題】蒸気発生ヒータと加熱ヒータの両方を用いて加熱調理を行う加熱調理器において、蒸気発生ヒータを熱源として有効に利用できる加熱調理器を提供する。【解決手段】水を加熱して蒸気を発生させる蒸気発生ヒータ２１を有する蒸気発生装置２０と、蒸気発生装置２０からの蒸気が供給される加熱室と、加熱室内の被加熱物を加熱する上ヒータ１４,下ヒータ１７と、制御装置１００とを備える。上記制御装置１００は、加熱室内の温度が目標温度になるように、上ヒータ１４,下ヒータ１７を制御する加熱ヒータ制御手段１００aと、上ヒータ１４,下ヒータ１７のオン時に蒸気発生ヒータ２１をオンせず、かつ、上ヒータ１４,下ヒータ１７のオフ時に蒸気発生ヒータ２１をオンするように、蒸気発生ヒータ２１を制御する蒸気発生ヒータ制御手段１００bとを有する。【選択図】図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
水を加熱して蒸気を発生させる蒸気発生ヒータを有する蒸気発生手段と、
上記蒸気発生手段からの蒸気が供給される加熱室と、
上記加熱室内の被加熱物を加熱する加熱ヒータと、
上記蒸気発生手段からの蒸気と上記加熱ヒータの両方を用いた加熱調理運転において、上記加熱室内の温度が目標温度になるように、上記加熱ヒータを制御する加熱ヒータ制御手段と、
上記蒸気発生手段からの蒸気と上記加熱ヒータの両方を用いた加熱調理運転において、上記加熱ヒータのオン時に上記蒸気発生ヒータをオンせず、かつ、上記加熱ヒータのオフ時に上記蒸気発生ヒータを必ずオンするように、上記蒸気発生ヒータを制御する上記蒸気発生ヒータ制御手段と
を備えたことを特徴とする加熱調理器。
【請求項２】
請求項１に記載の加熱調理器において、
上記蒸気発生手段からの蒸気と上記加熱ヒータの両方を用いた加熱調理運転において、上記加熱ヒータ制御手段により上記加熱ヒータをオン可能な第１期間と、上記蒸気発生ヒータ制御手段により上記蒸気発生ヒータをオン可能な第２期間とを交互に繰り返しつつ、上記第１期間において上記加熱ヒータがオフ状態のときに上記蒸気発生ヒータ制御手段により上記蒸気発生ヒータをオンすることを特徴とする加熱調理器。
【請求項３】
請求項１または２に記載の加熱調理器において、
上記蒸気発生ヒータ制御手段により上記蒸気発生ヒータをオンしたとき、上記蒸気発生手段に水を供給する給水手段を備えたことを特徴とする加熱調理器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、加熱調理器に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、加熱調理器としては、水を加熱して蒸気を発生させる蒸気発生ヒータを有する蒸気発生手段と、蒸気発生手段からの蒸気が供給される加熱室と、加熱室内の被加熱物を加熱する加熱ヒータとを備えたものがある(例えば、特開２００７−３２７６７４号公報(特許文献１)参照)。
【０００３】
上記加熱調理器では、蒸気発生ヒータと加熱ヒータとの合計消費電力が電源の最大許容電力を越えてしまう場合がある。このような加熱調理器では、蒸気発生ヒータと加熱ヒータとを同時にオンしないようにして、電源の最大許容電力を越えないようにしている。
【０００４】
上記構成の加熱調理器において、蒸気発生手段からの蒸気および加熱ヒータによる加熱の両方を使用する加熱調理では、加熱室内の温度が目標温度に到達するまでの過渡期には蒸気発生ヒータと加熱ヒータとがそれぞれ交互にオンするようにすることによって、蒸気発生ヒータと加熱ヒータの両方が同時にオフすることはない。
【０００５】
ところが、上記加熱調理器において、加熱室内の温度が目標温度に達した後は、加熱室内の温度を目標温度に維持するように加熱ヒータをオンオフすることにより加熱ヒータのオフ期間が長くなるため、蒸気発生ヒータと加熱ヒータとが両方同時にオフする場合が生じて、熱源を加熱調理に有効に利用できないという問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００７−３２７６７４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
そこで、この発明の課題は、蒸気発生ヒータと加熱ヒータの両方を用いて加熱調理を行う加熱調理器において、蒸気発生ヒータを熱源として有効に利用できる加熱調理器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するため、この発明の加熱調理器は、
水を加熱して蒸気を発生させる蒸気発生ヒータを有する蒸気発生手段と、
上記蒸気発生手段からの蒸気が供給される加熱室と、
上記加熱室内の被加熱物を加熱する加熱ヒータと、
上記蒸気発生手段からの蒸気と上記加熱ヒータの両方を用いた加熱調理運転において、上記加熱室内の温度が目標温度になるように、上記加熱ヒータを制御する加熱ヒータ制御手段と、
上記蒸気発生手段からの蒸気と上記加熱ヒータの両方を用いた加熱調理運転において、上記加熱ヒータのオン時に上記蒸気発生ヒータをオンせず、かつ、上記加熱ヒータのオフ時に上記蒸気発生ヒータを必ずオンするように、上記蒸気発生ヒータを制御する上記蒸気発生ヒータ制御手段と
を備えたことを特徴とする。
【０００９】
上記構成によれば、蒸気発生ヒータからの蒸気と加熱ヒータの両方を用いた加熱調理運転において、加熱室内の温度が目標温度になるように、加熱ヒータ制御手段は加熱ヒータを制御して加熱ヒータにより加熱室内の被加熱物を加熱すると共に、加熱ヒータのオン時に蒸気発生ヒータをオンせず、かつ、加熱ヒータのオフ時に蒸気発生ヒータを必ずオンするように、蒸気発生ヒータ制御手段は蒸気発生ヒータを制御して蒸気を加熱室内に供給する。これによって、蒸気発生ヒータと加熱ヒータの両方を用いて加熱調理を行う加熱調理器において、蒸気発生ヒータを熱源として有効に利用できる。したがって、加熱調理時間を短縮できると共に、多くの蒸気を加熱室内に供給することで被加熱物を斑なく仕上がりのよい加熱調理ができる。
【００１０】
また、一実施形態の加熱調理器では、
上記蒸気発生手段からの蒸気と上記加熱ヒータの両方を用いた加熱調理運転において、上記加熱ヒータ制御手段により上記加熱ヒータをオン可能な第１期間と、上記蒸気発生ヒータ制御手段により上記蒸気発生ヒータをオン可能な第２期間とを交互に繰り返しつつ、上記第１期間において上記加熱ヒータがオフ状態のときに上記蒸気発生ヒータ制御手段により上記蒸気発生ヒータをオンする。
【００１１】
上記実施形態によれば、蒸気発生手段からの蒸気と加熱ヒータの両方を用いた加熱調理運転において、加熱ヒータ制御手段により加熱ヒータをオン可能な第１期間と、蒸気発生ヒータ制御手段により蒸気発生ヒータをオン可能な第２期間とを交互に繰り返しつつ、加熱ヒータをオン可能な第１期間で、加熱室内の温度が目標温度になるように加熱ヒータ制御手段により加熱ヒータをオンオフすると共に、蒸気発生ヒータをオン可能な第２期間で、蒸気発生ヒータ制御手段により蒸気発生ヒータをオンする。さらに、加熱ヒータをオン可能な第１期間において、加熱ヒータがオフ状態のときに蒸気発生ヒータ制御手段により蒸気発生ヒータをオンする。したがって、加熱ヒータをオン可能な第１期間と蒸気発生ヒータをオン可能な第２期間とを交互に繰り返す加熱調理運転の基本的な制御の流れを乱すことなく、蒸気発生ヒータを熱源として有効に利用でき、加熱調理運転の制御が容易にできる。
【００１２】
また、一実施形態の加熱調理器では、
上記蒸気発生ヒータ制御手段により上記蒸気発生ヒータをオンしたとき、上記蒸気発生手段に水を供給する給水手段を備えた。
【００１３】
上記実施形態によれば、蒸気発生ヒータ制御手段により蒸気発生ヒータをオンしたとき、給水手段により供給された水を蒸気発生手段に水を供給することによって、蒸気発生手段から蒸気を確実に発生させて、発生した蒸気により加熱室内に熱を供給し続けることができ、熱源として確実に利用できる。
【発明の効果】
【００１４】
以上より明らかなように、この発明の加熱調理器によれば、蒸気発生ヒータと加熱ヒータの両方を用いて加熱調理を行う加熱調理器において、蒸気発生ヒータを熱源として有効に利用できる加熱調理器を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】図１はこの発明の実施の一形態の加熱調理器を前面側から見た正面図である。
【図２】図２は上記加熱調理器の扉を開いた状態の正面図である。
【図３】図３は上記加熱調理器の右側方から見た縦断面の模式図である。
【図４】図４は上記加熱調理器の正面から見た縦断面図である。
【図５】図５は上記加熱調理器の右側面から見た縦断面図である。
【図６】図６は上記加熱調理器の制御ブロック図である。
【図７Ａ】図７Ａは蒸気を用いた加熱調理運転の開始から目標温度到達までのタイミングチャートである。
【図７Ｂ】図７Ｂは比較例のタイミングチャートである。
【図７Ｃ】図７Ｃは目標温度到達後のタイミングチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、この発明の加熱調理器を図示の実施の形態により詳細に説明する。
【００１７】
図１はこの発明の実施の一形態の加熱調理器を前面側から見た正面図を示しており、図２は扉を開いた状態の加熱調理器の正面図を示している。
【００１８】
この第１実施形態の加熱調理器は、図１に示すように、直方体形状の本体ケーシング１と、本体ケーシング１内に設けられた加熱室２(図２に示す)と、本体ケーシング１の前面側に回動自在に取り付けられた扉３とを備えている。
【００１９】
上記扉３は、下端部を中心に回動し、加熱室２の開口部２ａを開閉する。この扉３の上部にはハンドル４が取り付けられている。また、扉３の略中央部には耐熱ガラス５が配置されており、ユーザは耐熱ガラス５を通して加熱室２内の状態を視認することができる。また、扉３の後面には、耐熱ガラス５を取り囲むように耐熱樹脂製のパッキン４０(図２に示す)が固着されている。このパッキン４０は、扉３を閉じると、加熱室２の開口部２ａの周縁部に強く密着するようになっている。これにより、扉３と加熱室２の開口部２ａの周縁部との間から、加熱室２内の水蒸気などが漏れ出るのを防ぐことができる。
【００２０】
上記本体ケーシング１の上面かつ裏面側に、希釈排気口２８を有する排気ダクト３０を配置している。この排気ダクト３０の一端は、図２に示す加熱室２に設けられた排気口１９に排気口カバー２４(図３に示す)を介して接続されている。
【００２１】
上記本体ケーシング１の前面の右側には操作パネル６を設けている。この操作パネル６は、液晶表示部７、ダイヤル８および複数のボタン９を有している。また、ダイヤル８の下側には水タンク１０を収納している。この水タンク１０は、本体ケーシング１に対して着脱可能となっており、本体ケーシング１の前面側から本体ケーシング１に装着したり、本体ケーシング１から取り外したりする。
【００２２】
そして、この加熱調理器は、本体ケーシング１の下側かつ前面側に着脱可能に取り付けられた露受容器５０(図１に示す)を備えている。この露受容器５０は、扉３の内面および本体ケーシング１の前面を伝って落下する水滴を受ける。
【００２３】
この加熱調理器は、図１に示すように、加熱室２の側面、底面および天面にステンレス鋼製の遮熱板１８(図３に示す)が設けられている。加熱室２の周囲および扉３の内側に断熱材(図示せず)が配置されており、加熱室２内と外部とが断熱されている。
【００２４】
上記加熱室２内の両側面内側に、上下２段構造の上側トレイ受部４３,４４と下側トレイ受４５,４６とを設けている。
【００２５】
図３は上記加熱調理器の右側方から見た縦断面の模式図であり、図１,図２と同一の構成部には同一参照番号を付している。図３において、１０は蒸気用の水を貯める水タンク、１１は水タンク１０内の水位を検知する水位センサ、１２は給水ポンプ、１３は給水パイプ、１４は上ヒータ、１５は上ヒータカバー、１６は被加熱物９０を載せるステンレス製のトレイ、１７は下ヒータ、１８は遮熱板、１９は加熱室２の後面下部に設けられた排気口、２０は蒸気発生手段一例としての蒸気発生装置、２１は蒸気発生装置２０からの蒸気を吹き出す蒸気吹出口、２４は排気口カバー、２５は排気温度センサ、２７は冷気経路、２８は希釈排気口、３０は排気ダクト、３１は冷気導入用開口部、５０は露受容器である。また、水タンク１０の下側に設けられた接続部(図示せず)に給水パイプ１３の一端を接続し、給水パイプ１３の他端を蒸気発生装置２０に接続している。
【００２６】
上記水タンク１０と給水ポンプ１２で給水手段を構成している。また、上ヒータ１４と下ヒータ１７で加熱ヒータを構成している。
【００２７】
上記給水ポンプ１２は、水タンク１０内の水を吸い込み、その水を給水パイプ１３を介して蒸気発生装置２０に供給する。この蒸気発生装置２０は、蒸気発生ヒータ２１を有し、その蒸気発生ヒータ２１により給水ポンプ１２からの水を加熱して水蒸気を発生させ、発生した水蒸気を蒸気吹出口２２を介して加熱室２内に供給したり、その水蒸気を過熱して過熱水蒸気にして加熱室２内に供給したりすることができる。ここで、上記過熱水蒸気とは、１００℃以上の過熱状態にまで加熱された水蒸気を意味する。
【００２８】
被加熱物９０は、蒸気発生装置２０からの水蒸気や過熱水蒸気で加熱可能であり、上ヒータ１４および下ヒータ１７の輻射熱でも加熱可能である。また、上ヒータ１４下には加熱室２の天井壁が設けられ、下ヒータ１７上には加熱室２の底壁が設けられている。上ヒータ１４および下ヒータ１７は加熱室２内に露出していない。
【００２９】
上記加熱ヒータ(上ヒータ１４と下ヒータ１７)の合計消費電力は１５００Ｗであり、蒸気発生ヒータ２１の消費電力は９００Ｗである。一般家庭のコンセントは、定格１００Ｖ１５Ａで最大１５００Ｗまでしか使用できないので、加熱ヒータ(上ヒータ１４と下ヒータ１７)と蒸気発生ヒータ２１を同時にオンすることはできない。
【００３０】
したがって、この実施形態の加熱調理器では、加熱ヒータ(上ヒータ１４と下ヒータ１７)をオン可能な第１期間(本実施形態では４８秒)と、蒸気発生ヒータ２１をオン可能な第２期間(本実施形態では１２秒)とを交互に繰り返す制御を行う。つまり、第１期間では、加熱ヒータ(上ヒータ１４と下ヒータ１７)をオンオフしてよいが、蒸気発生ヒータ２１はオフであり、第２期間では、蒸気発生ヒータ２１をオンオフしてよいが、加熱ヒータ(上ヒータ１４と下ヒータ１７)はオフである。
【００３１】
また、加熱室２の右側上部には、加熱室２内の温度を検出する庫内温度センサ２９(図６に示す)を配置している。
【００３２】
図４は上記加熱調理器の正面から見た縦断面図を示しており、図５は加熱調理器の右側面から見た縦断面図を示している。図４,図５において、図１〜図３と同一の構成部には同一参照番号を付している。
【００３３】
図４,図５に示すように、本体ケーシング１内に配置された加熱室２の右側に、電装品を配置した電装品室Ｓを形成している。この電装品室Ｓは、裏面側が仕切板４１により仕切られている。この仕切板４１に、裏面側から電装品室Ｓに冷却空気を送り込む冷却ファン５３を配置している。また、本体ケーシング１の裏面側に、冷却ファン５３を駆動する冷却ファン用モータ５４を取り付けている。また、電装品室Ｓ内の冷却ファン５３の風下側に、本体ケーシング１に取り付けられたマグネトロン６１,インバータ部６２を配置している。このインバータ部６２は、電源からの交流電圧をマグネトロン６１用の駆動電圧に変換する。
【００３４】
そして、冷却ファン５３は、本体ケーシング１の裏面に形成された複数の吸気口５５(図５に示す)から外気を取り入れ、取り入れた外気を冷却空気として前方に向かって吹き出すようになっている。
【００３５】
また、加熱室２の下部には、回転アンテナ５１(図５に示す)と、その回転アンテナ５１を駆動する回転アンテナ用モータ５２(図６に示す)とが配置されている。そして、マグネトロン６１で発生したマイクロ波は、導波管６０(図４に示す)によって加熱室２の下部中央に導かれ、回転アンテナ用モータによって駆動される回転アンテナ５１によって回転されながら加熱室２内の上方に向かって放射されて被加熱物９０を加熱するようになっている。
【００３６】
また、図６は上記加熱調理器の制御ブロック図を示している。この加熱調理器は、図６に示すように、マイクロコンピュータと入出力回路などからなる制御装置１００を備えている。この制御装置１００は、庫内温度センサ２９により検出された加熱室２内の温度が目標温度になるように、加熱ヒータである上ヒータ１４と下ヒータ１７を制御する加熱ヒータ制御手段１００aと、上ヒータ１４と下ヒータ１７のオン時に蒸気発生ヒータ２１をオンせず、かつ、上ヒータ１４と下ヒータ１７のオフ時に蒸気発生ヒータ２１をオンするように、蒸気発生ヒータ２１を制御する蒸気発生ヒータ制御手段１００bとを有する。そして、制御装置１００は、操作パネル６からの信号および庫内温度センサ２９と水位センサ１１と排気温度センサ２５からの検出信号に基づいて、上ヒータ１４と下ヒータ１７と蒸気発生ヒータ２１と回転アンテナ用モータ５２と冷却ファン用モータ５４と操作パネル６と給水ポンプ１２およびインバータ部６１を制御する。
【００３７】
以下、上記構成の加熱調理器の蒸気加熱動作について、図１〜図６に従って説明する。操作パネル６の電源スイッチ(図示せず)が押圧されると電源がオンし、操作パネル６の操作によって、過熱水蒸気を用いたオーブン調理の運転が開始される。そうすると、先ず、制御装置１００は、水タンク検知部(図示せず)により水タンク１０が正常に装着されているか否かを検知して、水タンク１０が正常に装着されていれば、給水ポンプ１２の運転を開始する。そして、給水ポンプ１２によって、水タンク１０から蒸気発生装置２０内に給水パイプ１３を介して給水される。
【００３８】
次に、蒸気発生ヒータ２１によって、蒸気発生装置２０内の水が沸騰して飽和水蒸気が発生し、発生した飽和水蒸気はさらに加熱されて、１００℃以上(調理内容により異なる)の過熱水蒸気となって蒸気吹出口２２から加熱室２内に供給される。
【００３９】
このようにして、加熱室２内に過熱水蒸気を吹き出すと同時に上ヒータ１４,下ヒータ１７に通電し、加熱室２内の温度・湿度分布を均一に維持しつつ、トレイ１６上に載置された被加熱物９０を加熱する。その場合、被加熱物９０の表面に接触した過熱水蒸気は、被加熱物９０の表面で結露する際に潜熱を放出することによっても被加熱物９０を加熱する。これにより、過熱水蒸気の大量の熱を確実に且つ速やかに被加熱物９０全面に均等に与えることができる。したがって、斑がなくて仕上がりのよい加熱調理を実現することができる。
【００４０】
また、上記加熱調理運転時において、時間が経過すると、加熱室２内の蒸気量が増加し、量的に余剰となった分の蒸気は、排気口１９から排気口カバー２４,排気ダクト３０を介して希釈排気口２８から外部に放出される。
【００４１】
調理終了後、制御装置１００によって操作パネル６の液晶表示部７に調理終了のメッセージが表示され、さらに操作パネル６に設けられたブザー(図示せず)によって合図の音を鳴らす。
【００４２】
これに対して、マイクロ波加熱動作の場合には、使用者によって操作パネル６が操作され、マイクロ波調理メニューが決定された後にスタートキー(図示せず)が押圧されると、マイクロ波加熱調理の運転が開始される。そうすると、制御装置１００は、マグネトロン６１を駆動して、導波管６０および回転アンテナ５１を介して被加熱物９０にマイクロ波を供給し、被加熱物９０を加熱する。
【００４３】
図７Ａは蒸気発生装置２０からの蒸気と加熱ヒータ(上ヒータ１４と下ヒータ１７)を用いた加熱調理運転の開始から目標温度到達までのタイミングチャートを示し、加熱ヒータ(上ヒータ１４と下ヒータ１７)の４８秒間のオン動作と、蒸気発生ヒータ２１の１２秒間のオン動作を交互に繰り返す。この蒸気を用いた加熱調理運転では、制御装置１００は、加熱ヒータ制御手段１００aにより加熱ヒータ(上ヒータ１４と下ヒータ１７)をオン可能な第１期間と、蒸気発生ヒータ制御手段１００bにより蒸気発生ヒータ２１をオン可能な第２期間とを交互に繰り返す制御を行う。
【００４４】
図７Ｂは比較例の目標温度到達後のタイミングチャートを示しており、図７Ｂのタイミングチャートは、比較のための例であって本発明ではない。
【００４５】
図７Ｂに示すように、加熱ヒータ(上ヒータ１４と下ヒータ１７)のオン可能な第１期間において、加熱室２内の温度が目標温度になるように、加熱ヒータ制御手段１００aにより加熱ヒータ(上ヒータ１４と下ヒータ１７)をオンオフするが、加熱ヒータ(上ヒータ１４と下ヒータ１７)のオフ時には、利用可能な熱源である蒸気発生ヒータ２１はオンされない(点線で囲まれた領域)。
【００４６】
これに対して、この実施形態の加熱調理器では、図７Ｃに示すように、加熱ヒータ(上ヒータ１４と下ヒータ１７)のオン可能な第１期間において、加熱室２内の温度が目標温度になるように、加熱ヒータ制御手段１００aにより加熱ヒータ(上ヒータ１４と下ヒータ１７)をオンオフするとき、加熱ヒータ(上ヒータ１４と下ヒータ１７)のオフ時に蒸気発生ヒータ制御手段１００bにより蒸気発生ヒータ２１をオンする。これによって、蒸気発生装置２０から蒸気を加熱室２内に供給して、蒸気発生ヒータ２１で発生させた熱を有効利用できる。
【００４７】
上記構成の加熱調理器によれば、蒸気発生装置２０からの蒸気と加熱ヒータ(上ヒータ１４と下ヒータ１７)の両方を用いた加熱調理運転において、加熱室２内の温度が目標温度になるように、制御手段１００aは加熱ヒータ(上ヒータ１４と下ヒータ１７)を制御すると共に、上ヒータ１４と下ヒータ１７のオン時に蒸気発生ヒータ２１をオンせず、かつ、加熱ヒータ(上ヒータ１４と下ヒータ１７)のオフ時に蒸気発生ヒータ２１を必ずオンするように、蒸気発生ヒータ２１制御手段１００bは蒸気発生ヒータ２１を制御する。これによって、蒸気発生ヒータ２１と加熱ヒータ(上ヒータ１４と下ヒータ１７)の両方を用いて加熱調理を行う加熱調理器において、蒸気発生ヒータ２１を熱源として有効に利用することができる。したがって、加熱調理時間を短縮できると共に、多くの蒸気を加熱室内に供給することで被加熱物を斑なく仕上がりのよい加熱調理ができる。
【００４８】
また、蒸気発生装置２０らの蒸気と加熱ヒータ(上ヒータ１４と下ヒータ１７)の両方を用いた加熱調理運転において、制御装置１００は、加熱ヒータ(上ヒータ１４と下ヒータ１７)をオン可能な第１期間と、蒸気発生ヒータ２１をオン可能な第２期間とを交互に繰り返す制御を行う。この加熱調理運転において、加熱ヒータ制御手段１００aは、加熱室２内の温度が目標温度になるように、第１期間で加熱ヒータ(上ヒータ１４と下ヒータ１７)をオンオフすると共に、蒸気発生ヒータ制御手段１００bは、第２期間で蒸気発生ヒータ２１をオンする。さらに、蒸気発生ヒータ制御手段１００bは、第１期間で加熱ヒータ(上ヒータ１４と下ヒータ１７)がオフ状態のときに蒸気発生ヒータ２１をオンする。したがって、加熱ヒータ(上ヒータ１４と下ヒータ１７)をオン可能な第１期間と蒸気発生ヒータ２１をオン可能な第２期間とを交互に繰り返す加熱調理運転の基本的な制御の流れを乱すことなく、蒸気発生ヒータ２１を熱源として有効に利用でき、加熱調理運転の制御が容易にできる。
【００４９】
また、蒸気発生ヒータ制御手段１００bが蒸気発生ヒータ２１をオンしたとき、給水手段(水タンク１０と給水ポンプ１２)により供給された水を蒸気発生装置２０に供給することによって、蒸気発生装置２０から蒸気を確実に発生させて、発生した蒸気により加熱室２内に熱を供給し続けることができ、熱源として確実に利用することができる。
【００５０】
なお、上記加熱調理器は、蒸気発生装置２０のハウジング温度を検出する温度センサを備え、制御装置１００は、蒸気発生ヒータ２１をオンしたときに蒸気発生装置２０のハウジング温度が所定温度以下になると、給水ポンプ１２をオフする。
【００５１】
上記実施形態では、加熱ヒータとして上ヒータ１４と下ヒータ１７を備えた加熱調理器について説明したが、加熱ヒータはこれに限らず、上ヒータまたはと下ヒータのいずれか一方を備えた加熱調理器でもよいし、加熱室の上部,下部,背面,左側面または右側面の少なくとも一方に設けられた加熱ヒータを備えた加熱調理器にこの発明を適用してもよい。
【００５２】
この発明の加熱調理器としては、例えば、過熱水蒸気を使用するオーブンレンジのみならず、過熱水蒸気を使用するオーブン、過熱水蒸気を使用せず飽和水蒸気を使用するオーブンレンジ、過熱水蒸気を使用せず飽和水蒸気を使用するオーブンなどがある。
【００５３】
この発明の加熱調理器では、オーブンレンジなどにおいて、過熱水蒸気または飽和水蒸気を用いることによって、ヘルシーな調理を行うことができる。例えば、本発明の加熱調理器では、温度が１００℃以上の過熱水蒸気または飽和水蒸気を食品表面に供給し、食品表面に付着した過熱水蒸気または飽和水蒸気が凝縮して大量の凝縮潜熱を食品に与えるので、食品に熱を効率よく伝えることができる。また、凝縮水が食品表面に付着して塩分や油分が凝縮水と共に滴下することにより、食品中の塩分や油分を低減できる。さらに、加熱室内は過熱水蒸気または飽和水蒸気が充満して低酸素状態となることにより、食品の酸化を抑制した調理が可能となる。ここで、低酸素状態とは、加熱室内において酸素の体積％が１０％以下(例えば０.５〜３％)である状態を指す。
【００５４】
この発明の具体的な実施の形態について説明したが、この発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、この発明の範囲内で種々変更して実施することができる。
【符号の説明】
【００５５】
１…本体ケーシング
２…加熱室
２ａ…開口部
３…扉
４…ハンドル
５…耐熱ガラス
６…操作パネル
７…液晶表示部
１０…水タンク
１１…水位センサ
１２…給水ポンプ
１３…給水パイプ
１４…上ヒータ
１５…上ヒータカバー
１６…トレイ
１７…下ヒータ
１８…遮熱板
１９…排気口
２０…蒸気発生装置
２１…蒸気発生ヒータ
２２…蒸気吹出口
２４…排気口カバー
２８…希釈排気口
２９…庫内温度センサ
３０…排気ダクト
３１…冷気導入用開口部
４３,４４…上側トレイ受部
４５,４６…下側トレイ受部
５０…露受容器
５１…回転アンテナ
５２…回転アンテナ用モータ
５３…冷却ファン
５４…冷却ファン用モータ
５５…吸気口
５６…取付板
６０…導波管
６１…マグネトロン
６２…インバータ部
９０…被加熱物
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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【図７Ｃ】
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