(57)【要約】【課題】塗布された塗布液の膜厚の均一性を改善する。【解決手段】塗布液を吐出している吐出部を基板に対して相対移動させることによって該基板に塗布液を塗布して塗布膜を形成する塗布装置であって、基板に塗布液を吐出する吐出部と、前記吐出部を前記基板に対して相対移動させる移動機構と、前記吐出部と前記移動機構とを用いて試行的に形成された塗布膜の膜厚情報を取得する取得部と、速度変更部とを備える。そして、前記速度変更部は、前記基板に対して相対移動中の前記吐出部の移動速度を前記膜厚情報に応じて変更する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
塗布液を吐出している吐出部を基板に対して相対移動させることによって該基板に塗布液を塗布して塗布膜を形成する塗布装置であって、
基板に塗布液を吐出する吐出部と、
前記吐出部を前記基板に対して相対移動させる移動機構と、
前記吐出部と前記移動機構とを用いて試行的に形成された塗布膜の膜厚情報を取得する取得部と、
前記基板に対して相対移動中の前記吐出部の移動速度を前記膜厚情報に応じて変更する速度変更部と、
を備えることを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
請求項１に記載の塗布装置であって、
前記吐出部の移動速度と、前記塗布膜の膜厚との間に負の相関があり、
前記速度変更部は、前記基板のうち前記膜厚情報が基準膜厚よりも厚い部分について、前記吐出部の移動速度を、前記塗布膜を試行的に形成したときの前記吐出部の移動速度よりも速くし、前記基板のうち前記膜厚情報が基準膜厚よりも薄い部分について、前記吐出部の移動速度を、前記塗布膜を試行的に形成したときの前記吐出部の移動速度よりも遅くすることを特徴とする塗布装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の塗布装置であって、
前記移動機構は、前記吐出部を前記基板に対して所定の往路方向と往路方向とに交互に相対移動させる主走査を行い、
前記吐出部は、前記主走査の往路と、復路とにおいて前記基板に前記塗布液を吐出し、
前記速度変更部は、前記主走査の往路における前記吐出部の移動速度の速度分布と、前記主走査の復路における前記吐出部の移動速度の速度分布とを、相互に異なるように設定することを特徴とする塗布装置。
【請求項４】
請求項１に記載の塗布装置であって、
前記吐出部の移動速度と、前記塗布膜の膜厚との間に正の相関があり、
前記速度変更部は、前記基板のうち前記膜厚情報が基準膜厚よりも厚い部分について、前記吐出部の移動速度を、前記塗布膜を試行的に形成したときの前記吐出部の移動速度よりも遅くし、前記基板のうち前記膜厚情報が基準膜厚よりも薄い部分について、前記吐出部の移動速度を、前記塗布膜を試行的に形成したときの前記吐出部の移動速度よりも速くすることを特徴とする塗布装置。
【請求項５】
塗布液を吐出している吐出部を基板に対して相対移動させる所定の塗布装置を用いて該基板に塗布液を塗布して塗布膜を形成する塗布方法であって、
前記塗布装置を用いて試行的に形成された塗布膜の膜厚情報を取得する取得工程と、
前記基板に対して相対移動中の前記吐出部の移動速度を前記膜厚情報に応じて変更する速度変更工程と、
を備えることを特徴とする塗布方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基板、ＰＤＰ（Plasma Display Panel）用ガラス基板、有機ＥＬ表示パネル用ガラス基板、太陽光発電用基板、磁気或は光ディスク用のガラス或はセラミック基板、電池用の電極材料が塗布される金属箔等の各種被処理基板に塗布液を塗布する塗布技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ（Electro Luminescence）材料を利用した有機ＥＬ表示装置の製造において、有機ＥＬ材料を含む流動性材料（以下、「有機ＥＬ液」と称する）などを、表示装置用のガラス基板（以下、単に「基板」と称する）上に形成された複数の隔壁間の溝にストライプ状に塗布する塗布装置が用いられている。
【０００３】
従来、この種の塗布装置として特許文献１に開示のものが知られている。
【０００４】
特許文献１には、基板に向けて有機ＥＬ液を連続的に吐出する複数のノズルを備えた塗布ヘッドを、基板上に形成された隔壁間の溝に沿った主走査方向に移動させるとともに、塗布ヘッドの主走査方向への移動が行われる毎に基板を塗布ヘッドに対して副走査方向に移動する移動機構と、塗布ヘッドに対して副走査方向における相対位置が固定され、複数のノズルから吐出された有機ＥＬ液が流動性を有する間に有機ＥＬ液に光を照射して有機ＥＬ液の乾燥を促進する光照射部とを有する塗布装置が開示されている。
【０００５】
有機ＥＬ表示装置においては、有機ＥＬを発光させるときの輝度ムラを防止するために基板上に形成される有機ＥＬ層の乾燥後の膜厚を均一化することが求められており、特許文献１に記載の塗布装置では、基板に塗布された複数のラインの有機ＥＬ液の乾燥速度の均一性を向上させることによって、該複数のラインの有機ＥＬ液の乾燥後における膜厚の均一性の向上が図られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００９−１２３５８５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
特許文献１の塗布装置において、基板上に塗布された有機ＥＬ液の乾燥後における膜厚の均一性を向上させるためには、塗布された有機ＥＬ液の膜厚の均一性を向上させる必要がある。
【０００８】
従来この種の塗布装置においては、各吐出口のそれぞれから基板の上面に向けて塗布液を一定の吐出流量にて連続的に吐出しつつ、塗布ヘッドを主走査方向に連続的に一定の速度にて移動することによって、塗布された塗布液の膜厚の均一化を図っていた。
【０００９】
しかしながら、例えば、ＭＦＣ（Mass Flow Controller）を用いて吐出流量を一定化する制御を試みたとしても、塗布ヘッドの移動にともなってスキャンチューブが屈曲することによるスキャンチューブ内の体積変動や、塗布液にかかる慣性力などによって吐出流量を一定にすることは困難であるため、塗布された塗布液の膜厚の均一性を向上させることは困難であるという問題があった。
【００１０】
本発明は、こうした問題を解決するためになされたもので、塗布された塗布液の膜厚の均一性を改善できる技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記の課題を解決するために、請求項１の発明は、塗布液を吐出している吐出部を基板に対して相対移動させることによって該基板に塗布液を塗布して塗布膜を形成する塗布装置であって、基板に塗布液を吐出する吐出部と、前記吐出部を前記基板に対して相対移動させる移動機構と、前記吐出部と前記移動機構とを用いて試行的に形成された塗布膜の膜厚情報を取得する取得部と、前記基板に対して相対移動中の前記吐出部の移動速度を前記膜厚情報に応じて変更する速度変更部と、を備えることを特徴とする。
【００１２】
また、請求項２の発明は、請求項１に記載の塗布装置であって、前記吐出部の移動速度と、前記塗布膜の膜厚との間に負の相関があり、前記速度変更部は、前記基板のうち前記膜厚情報が基準膜厚よりも厚い部分について、前記吐出部の移動速度を、前記塗布膜を試行的に形成したときの前記吐出部の移動速度よりも速くし、前記基板のうち前記膜厚情報が基準膜厚よりも薄い部分について、前記吐出部の移動速度を、前記塗布膜を試行的に形成したときの前記吐出部の移動速度よりも遅くすることを特徴とする。
【００１３】
また、請求項３の発明は、請求項１または請求項２に記載の塗布装置であって、前記移動機構は、前記吐出部を前記基板に対して所定の往路方向と往路方向とに交互に相対移動させる主走査を行い、前記吐出部は、前記主走査の往路と、復路とにおいて前記基板に前記塗布液を吐出し、前記速度変更部は、前記主走査の往路における前記吐出部の移動速度の速度分布と、前記主走査の復路における前記吐出部の移動速度の速度分布とを、相互に異なるように設定することを特徴とする。
【００１４】
また、請求項４の発明は、請求項１に記載の塗布装置であって、前記吐出部の移動速度と、前記塗布膜の膜厚との間に正の相関があり、前記速度変更部は、前記基板のうち前記膜厚情報が基準膜厚よりも厚い部分について、前記吐出部の移動速度を、前記塗布膜を試行的に形成したときの前記吐出部の移動速度よりも遅くし、前記基板のうち前記膜厚情報が基準膜厚よりも薄い部分について、前記吐出部の移動速度を、前記塗布膜を試行的に形成したときの前記吐出部の移動速度よりも速くすることを特徴とする。
【００１５】
また、請求項５の発明は、塗布液を吐出している吐出部を基板に対して相対移動させる所定の塗布装置を用いて該基板に塗布液を塗布して塗布膜を形成する塗布方法であって、前記塗布装置を用いて試行的に形成された塗布膜の膜厚情報を取得する取得工程と、前記基板に対して相対移動中の前記吐出部の移動速度を前記膜厚情報に応じて変更する速度変更工程と、を備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１６】
請求項１の発明によれば、基板に塗布液を吐出しつつ基板に対して相対移動中の吐出部の移動速度を、予め形成された塗布膜から取得した該塗布膜の膜厚情報に応じて変更するので、塗布された塗布液の膜厚の均一性を改善できる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】実施形態に係る塗布装置を示す概略平面図である。
【図２】同上の塗布装置を示す概略正面図である。
【図３】塗布液の吐出流量と、塗布膜の膜厚との関係の１例を示す図である。
【図４】基板に形成された塗布膜の膜厚分布の１例を示す図である。
【図５】１の点における吐出部の移動速度と、膜厚との関係の１例を示す図である。
【図６】同上の関係の他の１例を示す図である。
【図７】吐出部の移動速度と、膜厚変動との関係の１例を示す図である。
【図８】同上の関係の他の１例を示す図である。
【図９】同上の関係の他の１例を示す図である。
【図１０】同上の関係の他の１例を示す図である。
【図１１】実施形態に係る塗布装置の動作フローを説明する図である。
【図１２】実施形態に係る塗布装置の動作フローを説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
＜全体構成について：＞
以下、実施形態に係る塗布装置について説明する。図１は実施形態に係る塗布装置２０を示す概略平面図であり、図２は塗布装置２０を示す概略正面図である。なお、説明の便宜上、後述する主走査方向に沿った方向をＸ方向、当該Ｘ方向及び上下方向に直交する方向をＹ方向、上下方向をＺ方向として説明することがある。この塗布装置２０は、基板１０に対して塗布液を塗布する装置である。基板１０としては、例えば、平面表示装置用の方形状のガラス基板、電池用の電極材料が塗布される金属箔等が想定される。また、塗布液としては、基板１０に形成すべきパターン等の形成材料、例えば、有機ＥＬ表示装置の製造を想定した場合には、有機ＥＬ材料及びその溶媒等を含む液等が想定される。また、例えば、電池の製造を想定した場合には、塗布液として、例えば、リチウム遷移金属複合酸化物のような正極活物質、導電材、結着剤、及び増粘剤を溶媒に加えて混練分散した電極形成用の塗料等が想定される。
【００１９】
この塗布装置２０は、基板保持部３０と、ガイド部４０と、主走査駆動機構４４と、可動塗布ユニット５０と、カウンタ用ガイド部７０と、カウンタ用スライダ７４と、配管部材８０、８１、８２と、取得部８６と、制御部９０とを主に備えて構成されている。
【００２０】
○基板保持部３０：
基板保持部３０は、基板１０を略水平姿勢で保持可能に構成されている。ここでは、基板保持部３０は、一主面を所定高さ位置で上向き略水平姿勢に配設したステージ３２を有している。そして、基板１０の一主面をステージ３２の上向き主面に当接させるように基板１０をステージ３２上に載置することで、基板１０が一定位置及び姿勢で保持可能に構成されている。基板保持部は、その他、基板の周囲を把持することで当該基板を保持する構成であってもよい。
【００２１】
また、基板保持部３０の下方には、可動塗布ユニット５０に対して基板１０をＹ方向（副走査方向）に沿って相対移動させる基板移動機構３４が設けられている。ここでは、基板移動機構３４は、上方にステージ３２を支持する台部３６と、一対のスライド受部３７とを有している。スライド受部３７は、台部３６の下端部に設けられ、Ｙ方向に沿って延びる副走査方向ガイド部３９上をスライド移動可能に構成されている。そして、リニアモータ等の基板移動駆動部（図示省略）からの駆動力を受けることで、基板移動機構３４が、上記ステージ３２及び基板１０と共に、Ｙ方向に沿って移動する構成とされている。なお、基板１０をＹ方向に沿って移動させる代りに、上記ガイド部４０及び可動塗布ユニット５０等を、基板１０に対してＹ方向に沿って移動させる構成であってもよい。
【００２２】
また、上記ステージ３２は、基板１０が載置される部分に設けられた不図示の吸着孔によって基板１０を吸着保持している。なお、上記ステージ３２には、必要に応じて、基板１０を加熱する加熱機構が設けられていてもよい。また、上記ステージ３２は、基板移動機構３４に対して鉛直軸周りに回転駆動可能に構成されていてもよい。
【００２３】
○ガイド部４０：
ガイド部４０は、基板１０の上方位置で、基板１０に対して略平行な主走査方向（Ｘ方向）に沿って延びる、例えば、略角棒状部材などに形成された長尺状部材であり、その上面に、上方に開口しかつＸ方向に沿って延びる凹溝が形成されている。
【００２４】
○主走査駆動機構４４：
主走査駆動機構４４は、可動塗布ユニット５０及びカウンタ用スライダ７４をＸ方向に沿って往復移動駆動する駆動機構であり、ガイド部４０の両端部に設けられた一対のプーリ体４６、４６と、一対のプーリ体４６、４６に巻掛けられた駆動ベルト４８と、一方のプーリ体４６を正逆両方向に回転駆動可能なモータ４９とを有している。一対のプーリ体４６、４６間を走行する２経路の駆動ベルト４８のうち一方側（下側）には、上記スライダ５２のベルト取付ブラケットが連結固定されている。また、一対のプーリ体４６、４６間を走行する２経路の駆動ベルト４８のうち他方側（上側）には、上記カウンタ用スライダ７４が連結固定されている。なお、カウンタ用スライダ７４は、可動塗布ユニット５０の往復移動範囲の中央位置（通常は、一対のプーリ体４６、４６の中央位置）を挟んで可動塗布ユニット５０と略対称位置に配設されるように、駆動ベルト４８に連結固定されている。そして、回転方向及び回転速度、回転量等を制御しつつモータ４９を回転駆動することで、スライダ５２及び可動塗布ユニット５０がＸ方向に沿って往復移動駆動される。また、この際、カウンタ用スライダ７４は、可動塗布ユニット５０に対して、前記中央位置を挟んで対称位置を保ちつつ、Ｘ方向に沿って往復移動するようになっている。
【００２５】
なお、可動塗布ユニット５０及びカウンタ用スライダ７４を駆動する機構としては、上記例に限られず、モータ以外の各種回転駆動装置を用いることができ、また、駆動力も直接伝達される場合だけでなく、種々のギア等の伝達機構を介して伝達される構成であってもよい。
【００２６】
○可動塗布ユニット５０：
可動塗布ユニット５０は、スライダ５２と吐出部６０とを有しており、上記ガイド部４０によりＸ方向に沿って往復移動可能に支持されている。
【００２７】
・スライダ５２：
スライダ５２は、ガイド部４０を挿通配置可能な内部空間を有する略直方体状の部材であり、該内部空間の内周面にはエア吐出部が形成されており、外部より後述する配管部材８０を介して供給されるエアが該エア吐出部から吐出されるようになっている。
【００２８】
また、該内部空間の上部面（＋Ｚ側の面）には、略直方体状のベルト取付ブラケットが、スライダ５２に挿通配置されたガイド部４０の凹溝内で−Ｚ方向に突設されている。該ベルト取付ブラケットと、該凹溝とには僅かな隙間があり、該ベルト取付ブラケットの下面（−Ｚ側の面）には、当該凹溝に沿ってスライダ５２を駆動するための駆動ベルト４８が取付けられている。
【００２９】
そして、可動塗布ユニット５０のスライダ５２は、その内部空間と、ガイド部４０との間に吐出されたエア層を介在させることによってガイド部４０の外周面に対して非接触で支持された状態で、駆動ベルト４８によりＸ方向に沿って高速高加速移動されることになる。
【００３０】
もっとも、上記各構成は必須ではない。例えば、ガイド部は、単純な角棒状或は丸棒状で、スライダ内には当該単純な角棒状或は丸棒状よりも一回り大きな内部空間が形成された構成であってもよい。また、ガイド部は、複数の棒状部材により構成されていてもよい。さらに、ガイド部とスライダとの間にエア層が介在している場合には、それらの間に噴出されたエア圧の作用による場合の他、磁力の反発力等他の力の作用による場合を含む。また、例えば、スライダが、リニアガイドなどによって接触支持された状態でＸ方向に沿って移動される構成が採用されても良い。
【００３１】
・吐出部６０：
吐出部６０は、上記スライダ５２によって支持されると共に、基板１０に対して塗布液を吐出可能に構成されている。ここでは、吐出部６０は、ノズル支持部６２と少なくとも一つのノズル６４とを有しており、上記スライダ５２の各側面のうちＸ−Ｚ平面に略平行な一側面に、厚板状の介在取付部材５５を介して取付固定されている。
【００３２】
ノズル支持部６２には、複数（ここでは３つ）のノズル６４が、Ｘ方向及びＹ方向に位置をずらしつつ取付固定されている。なお、ノズル６４の数は、１つ以上であればよく、より多数のノズルが設けられていてもよい。各ノズル６４は、それぞれ塗布液を吐出可能な吐出口を有しており、当該吐出口を下向き（−Ｚ方向）にした姿勢で、ノズル支持部６２に固定されている。また、エア供給源９６から配管部材８０を介して上記スライダ５２にエアが供給されると共に、塗布液供給源９８から配管部材８０、８１を介して各ノズル６４に塗布液が供給されるようになっている。そして、上記スライダ５２をＸ方向に移動させつつ、各ノズル６４から塗布液を吐出することで、当該塗布液がステージ３２上に載置された基板１０に塗布されるようになっている。なお、ノズル６４から吐出される塗布液は、通常、基板１０上に形成された複数の隔壁間の溝にストライプ状に塗布されるが、隔壁が設けられていない基板上に塗布液が塗布されたとしても本発明の有用性を損なうものではない。
【００３３】
○カウンタ用ガイド部７０：
カウンタ用ガイド部７０は、Ｘ方向に沿って延びる２本の長尺棒状部材であり、ガイド部４０の上方（Ｚ方向に沿った上方）に設けられて、カウンタ用スライダ７４を移動可能に支持している。
【００３４】
○カウンタ用スライダ７４：
カウンタ用スライダ７４は、カウンタ用ガイド部７０を挿通可能な内部空間を有する部材である。該内部空間の内周面には、エア吐出部が形成されており、エア供給源９６から配管部材８２を介して供給されるエアが、該エア吐出部より吐出されるようになっている。カウンタ用スライダ７４は、該内部空間内にカウンタ用ガイド部７０を挿通した状態で、該エア吐出部よりエアを吐出させることによって、カウンタ用ガイド部７０との間にエア層を介在させた状態で（つまり、カウンタ用ガイド部７０の外周面に対して浮いた状態で）、Ｘ方向に沿って移動可能に支持される。また、カウンタ用スライダ７４の下面（−Ｚ側面）には、一対のプーリ体４６、４６間を走行する２経路の駆動ベルト４８のうち上側が連結固定されており、カウンタ用スライダ７４は、駆動ベルト４８によってＸ方向に沿って往復移動される。
【００３５】
なお、カウンタ用スライダは、例えば、長尺状のカウンタ用ガイド部に対して、他の低摩擦部材、転動体等を介して接触した状態で、移動自在に支持される構成であってもよい。
【００３６】
○配管部材８０、８１：
配管部材８０は、可動塗布ユニット５０の複数のノズル６４それぞれに流体として塗布液を導く複数の塗布液用の配管のうち一部の配管と、スライダ５２に対して流体としてエアを導くエア用の配管とが束ねられて、一つの配管部材として構成されている。また、配管部材８１は、残りの複数の塗布液用の配管が束ねられて、一つの配管部材として構成されている。
【００３７】
これらの配管部材８０、８１は、しなるように変形可能な可撓性ある線状部材であり、配管部材８０、８１の一端部（流体の送り方向上流側の端部）は、ガイド部４０の一端部（−Ｘ側端部）上方位置に設けられた取付フレーム２２によって片持ち状に支持された２つの配管固定部８４に、Ｘ軸方向に延在する姿勢でそれぞれ固定されるとともに、配管部材８０の他端部と、配管部材８１の他端部とは、可動塗布ユニット５０に対してガイド部４０の軸を挟んで両側に分けられて当該可動塗布ユニット５０にそれぞれ固定されている。これらの配管部材８０、８１は、メインスキャンチューブとも呼ばれる。なお、配管固定部８４とエア供給源９６或は塗布液供給源９８との間は、配管部材８０、８１の延長部分或は別の配管によって接続されている。また、ガイド部４０の軸は、ガイド部４０の幅方向中心位置であり、通常、可動塗布ユニット５０のＹ方向の重心と一致している。
【００３８】
また、スライダ５２の両側部（Ｙ方向における両側部）に、当該スライダ５２の上方に延出するようにしてスライダ側配管固定部５８、５９が取付固定されている。そして、上記配管部材８０の他端部（流体の送り方向下流側の端部）が、吐出部６０側のスライダ側配管固定部５８の外面側に略鉛直姿勢（Ｚ方向に沿った姿勢）で固定され、その固定部分さらにスライダ５２或は各ノズル６４に向けて引回されて、それらスライダ５２或は各ノズル６４に各流体を供給可能に接続されている。また、配管部材８１の他端部（流体の送り方向下流側の端部）が、ノズルカウンタ５６側のスライダ側配管固定部５９の外面側に略鉛直姿勢（Ｚ方向に沿った姿勢）で固定され、その固定部分さらに各ノズル６４に向けて引回されて、各ノズル６４に流体を供給可能に接続されている。なお、配管部材８０、８１の固定箇所は、上記例に限られず、スライダ５２に直接固定されていてもよいし、或は、吐出部６０に固定されていてもよい。
【００３９】
また、エア用の配管と、塗布液用の配管との可動塗布ユニット５０への配設形式は、上記配管部材８０、８１の例に限られず、エア用の配管と、塗布液用の配管とが、スライダ５２およびノズル６４に対してエアおよび塗布液をそれぞれ供給可能なようにＸ方向に沿って移動する可動塗布ユニット５０にそれぞれ配設されていれば、本発明の有用性を損なうものではない。
【００４０】
○配管部材８２：
配管部材８２は、しなるように変形可能な可撓性ある線状部材であり、カウンタ用スライダ７４に対して流体としてエアを導くカウンタ用配管を有している。
【００４１】
通常、この配管部材８２は、１本の配管を有している。この配管部材８２の一端部（流体の送り方向上流側の端部）は、ガイド部４０の一端部（＋Ｘ側端部）上方位置に設けられた取付フレーム２２によって片持ち状に支持された配管固定部８４に、Ｘ軸方向に沿って延在する姿勢で固定されるとともに、配管部材８２の他端部は、カウンタ用スライダ７４にエアを供給可能な状態で接続及び固定されている。なお、配管固定部８４とエア供給源９６との間は、配管部材８２の延長部分或は別の配管によって接続されている。
【００４２】
前述した構成によって、上記配管部材８０、８１、８２は、可動塗布ユニット５０の移動に伴って、Ｘ方向を含む面（ここではＸ方向を含む鉛直面、つまり、Ｘ−Ｚ平面、以下、単に鉛直面という場合がある）に沿って曲るように配設されている。なお、ここで、配管部材が鉛直面に沿って曲るとは、隣設する配管部材間での干渉を抑制できる範囲内で、主として鉛直面内で曲る場合をいい、厳密に当該鉛直面に沿った方向のみで曲る必要はない。
【００４３】
ここでは、可動塗布ユニット５０への配管部材８０、８１は、同方向に凸となるように、より具体的には、ガイド部４０の他端側（＋Ｘ方向）に凸となって湾曲するように配設されている。また、カウンタ用スライダ７４への配管部材８２は、上記配管部材８０、８１の間で、上記とは異なる方向に凸となるように、より具体的には、ガイド部４０の一端側（−Ｘ方向）に凸となって湾曲するように配設されている。
【００４４】
○取得部８６：
取得部８６は、例えばＵＳＢインタフェースなどの入出力インタフェース、マルチメディアドライブ、およびネットワークアダプタなどのＬＡＮやインターネットに接続するためのインタフェースなどを備えて構成され、制御部９０との間でデータの授受を行うものである。また、取得部８６は、干渉計などの膜厚測定機を用いて測定された基板上の塗布膜の膜厚データ２（図２）を、取得部８６に接続された膜厚測定機から直接取得すること、膜厚データ２が記録された光ディスクなどの記憶媒体８８を受け付けること、またはネットワーク経由で取得することなどによって取得し、制御部９０へと供給する。
【００４５】
○制御部９０：
制御部９０は、ＣＰＵ、ＲＯＭおよびＲＡＭ等を備える一般的なマイクロコンピュータによって構成されており、予め格納されたソフトウェアプログラムに従って塗布装置２０の動作制御を行うことによって、塗布装置２０全体の動作制御を司る。ここでは、制御部９０は、後述するエア供給源９６からエアを供給すると共に、塗布液供給源９８からの塗布液供給を開始して各ノズル６４から塗布液を吐出させた状態で、可動塗布ユニット５０をＸ方向に沿って移動させるように、モータ４９を駆動制御する処理を行うように構成されている。また、制御部９０は、モータ４９の駆動制御による可動塗布ユニット５０の移動に際して、取得部８６から取得した膜厚データ２に基づいて、モータ４９の駆動制御を行うことによって、基板上に塗布される塗布液の膜厚の均一性を向上させる制御を行う。該制御については、後述する。
【００４６】
＜膜厚の変動と、該変動への対策について：＞
○塗布膜の膜厚の変動について：
図３は、塗布液の吐出流量と、塗布膜の膜厚との関係の１例を示す図である。より詳細には、図３は、基板１０が副走査方向における所定位置に停止した状態で吐出部６０の主走査方向への移動（単に、「主走査」とも称する）が１回行われる過程における、吐出部６０の移動速度の変動、ノズル６４から吐出される塗布液の吐出流量の変動、および基板１０に形成された塗布膜の膜厚の変動をそれぞれ示している。
【００４７】
図３に示される移動速度分布７ａは、主走査方向に移動する吐出部の、主走査方向の各位置における移動速度の変動を例示している。また、座標ｘ１、およびｘ２は、主走査方向における基板１０の両端部の座標をそれぞれ示している。移動速度分布７ａに示されるように、吐出部６０は、主走査方向へ移動するときに、先ず、停止状態から加速されて座標ｘ１で一定速度になった後に、基板１０が存在する区間（ｘ１〜ｘ２）を通過し、その後、減速されて停止している。
【００４８】
また、図３に示される流量変動線６は、吐出部６０が移動速度分布７ａに沿って移動速度を変動させつつ主走査方向に移動する過程において吐出部６０から吐出される塗布液の吐出流量の変動を例示している。ここで、塗布液供給源９８には、例えば、ＭＦＣが備えられており、該ＭＦＣによって、ノズル６４から吐出される塗布液の吐出流量の一定化が図られているが、塗布液供給源９８から吐出部６０へと塗布液を供給する配管部材８０、８１が、吐出部６０の主走査方向への移動にともなって屈曲することにより発生する配管部材内の体積変動や、吐出部６０の加減速時に塗布液にかかる慣性力などのために、ノズル６４から実際に吐出される塗布液の吐出流量を一定にすることは困難であり、塗布液の吐出流量は、例えば、流量変動線６に示されるように変動する。
【００４９】
なお、主走査の過程における塗布液の吐出流量の変動態様は、主走査における吐出部６０の移動方向、すなわち、吐出部６０が、往路方向へと主走査されるか、あるいは復路方向へと主走査されるかによって異なるとともに、吐出部に対する基板の副走査方向の各位置によっても異なったものとなる。しかしながら、主走査の過程における塗布液の吐出流量の変動態様には、吐出部６０の主走査方向に沿った移動方向毎、および吐出部に対する基板の副走査方向の各位置毎に再現性がある。従って、塗布装置２０が、同一の制御によって基板１０に塗布膜を形成する場合、基板１０上の各部位における塗布膜の膜厚にも再現性がある。
【００５０】
図３に示された断面４ａは、主走査によって塗布液の吐出流量が流量変動線６に沿って変動したときに、該変動に応じて基板１０に形成される塗布膜の主走査方向の断面を示している。基板１０の上方区間（移動速度分布７ａの座標ｘ１から座標ｘ２の区間）では、吐出部６０は等速度であるため、塗布膜の膜厚は、断面４ａに例示されるように変動する。
【００５１】
なお、基板１０に形成される塗布膜の平均膜厚は、通常、数ｕｍであり、塗布膜の膜厚の変動量は、通常、平均膜厚の数％程度である。図３に示される断面４ａの膜厚の変動量、および塗布液の吐出流量の変動量は、理解を容易にするために誇張して示されている。また、本願の他の図面（図７〜図１０）においても同様に、膜厚の変動量が平均膜厚に対して適宜誇張して示されている。
【００５２】
図４は、基板１０に形成された塗布膜４の膜厚分布の１例を示す図である。主走査ライン３は、１回の主走査において吐出部６０が基板１０の一端から他端まで主走査方向（Ｘ軸方向）に移動するときの基板１０上での吐出部６０の移動経路を示す線である。主走査ライン３は、基板１０が吐出部６０に対して副走査方向（Ｙ軸方向）に相対的にステップ移動するにつれて、例えば、基板１０の＋Ｙ側の一端から−Ｙ側の一端まで矢印１２に沿って移動する。図３を参照しつつ上述したように、塗布膜４の膜厚は、例えば、等高線５に示されるように基板１０上の部位によって変動するため、主走査ライン３に沿った塗布膜の断面形状、例えば、図３に示された断面４ａの形状は、通常、主走査ライン３の副走査方向の各位置毎に変化する。このような塗布膜の膜厚の変動は、例えば、干渉計などの膜厚測定機を用いて測定することができ、測定結果は、膜厚データとして取得することができる。なお、基板１０に形成された塗布膜の膜厚が不均一であることは、例えば、有機ＥＬ液を塗布液として塗布することにより製造される有機ＥＬ表示装置においては、有機ＥＬを発光させるときの輝度ムラを発生させる原因となる。
【００５３】
○塗布膜の膜厚の変動への対策について：
塗布装置２０では、塗布液の吐出流量、吐出部６０の主走査方向の移動速度、および基板１０の副走査方向へのステップ移動量などについての所定の制御条件に基づいて、予め塗布液を基板１０上に吐出しつつ吐出部６０を基板１０に対して相対的に移動させることによって基板１０上に塗布膜を形成する試行動作を行い、試行動作によって形成された塗布膜の膜厚データを取得する。そして、塗布装置２０は、試行動作に係る膜厚データおよび制御条件に基づいて、塗布膜を所望の膜厚で形成するための吐出部６０の移動速度を、吐出部６０の主走査方向の各位置毎、および基板１０に対する吐出部６０の副走査方向の各位置毎に移動速度データとして算出する。塗布装置２０は、膜厚の均一性が改善された塗布膜を形成する本動作においては、算出された移動速度データに基づいて吐出部６０の移動速度の制御を行うことによって基板１０に形成される塗布膜の膜厚の均一性を改善する。なお、実施形態に係る塗布装置２０においては、制御部９０が設定に基づいて以下に説明する改善手法１および改善手法２を選択的に適用可能に構成されている。
【００５４】
・改善手法１：
既述したように、塗布膜の平均膜厚に対する膜厚の変動量は、通常、平均膜厚の数％程度である。そこで、改善手法１では、吐出部６０の主走査方向への移動速度が変動したとしても基板１０上の各点毎の塗布液の吐出流量は変動しないと仮定して、基板１０上の各点において塗布膜の膜厚の均一性を改善するための吐出部６０の移動速度データを求める。
【００５５】
図５は、塗布液の吐出流量が変動しないと仮定した場合に、基板１０上の一の点について、吐出部６０の主走査方向への移動速度と、塗布膜の膜厚との関係を曲線８ａとして例示する図である。塗布液の吐出流量が変動しないと仮定すると、該一の点における吐出部６０の主走査方向への移動速度と、塗布膜の膜厚とは、曲線８ａに示されるように反比例の関係となる。すなわち、吐出部６０の主走査方向への移動速度と、塗布膜の膜厚との間には負の相関がある。
【００５６】
図５において点９ａは、吐出部６０の主走査方向への移動速度がｖ１であり、塗布膜の膜厚がｄ１である。この場合、塗布膜の膜厚がｄｇとなる点９ｇについての吐出部６０の主走査方向への移動速度ｖｇは、（１）式によって与えられる。
【００５７】
【数１】
2012071268.tif 000003
【００５８】
従って、先ず、試行動作によって基板１０上に形成された塗布膜の膜厚データを干渉計などの膜厚測定機を用いて測定し、次に、該膜厚データに基づいて取得される基板１０上の一の点における膜厚ｄ１を特定するとともに、試行動作における吐出部６０の制御情報に基づいて該一の点での吐出部６０の移動速度ｖ１を特定して（１）式に代入することによって、本動作において該一の点で基準の膜厚ｄｇを得るための吐出部６０の移動速度ｖｇが算出される。基板１０上の他の点についても同様にして基準の膜厚ｄｇを得るための吐出部６０の移動速度が算出することによって、基板１０上の各点において基準の膜厚ｄｇを得るため吐出部６０の移動速度パターンを求めることができる。
【００５９】
次に、改善手法１によって、本動作における膜厚の均一性の改善を図る例を説明する。図７および図９は、試行動作における吐出部６０の主走査方向への移動速度分布と、塗布膜の膜厚変動との関係の１例をそれぞれ示す図である。図７および図９においては、吐出部６０の主走査方向への移動は、移動速度分布７ａに示される移動速度分布で行われており、主走査方向（Ｘ軸方向）における基板１０の存在区間ｘ１〜ｘ２での吐出部６０の移動速度ｖ１は一定である。
【００６０】
図７においては、基板１０に形成された塗布膜の主走査方向の断面４ｂの形状は台形状であり、基板１０の−Ｘ側の端部、すなわち主走査方向の座標ｘ１の位置において塗布膜の膜厚は最も厚いｄｇであり、基板１０上での主走査方向の座標が増加するにつれて、塗布膜の膜厚は、直線的に減少し、主走査方向の座標ｘ２において最も薄くなっている。
【００６１】
また、図９においては、塗布膜の主走査方向の断面４ｄは、主走査方向における座標ｘ１〜ｘ２の中央からやや＋Ｘ側の位置において膜厚が最大値ｄｇとなり、該位置から塗布膜のＸ座標が減少するにつれて膜厚は減少するとともに、該位置から塗布膜のＸ座標が増加するにつれて膜厚は減少している。なお、図７および図９において、膜厚ｄｇは、塗布膜形成の本動作における所望の膜厚（基準の膜厚）となっている。
【００６２】
図８および図１０は、図７および図９にそれぞれ示された試行動作での塗布膜の膜厚分布の均一性が、改善手法１を適用した本動作においてそれぞれ改善された例を示す図であり、膜厚分布の均一性改善後における吐出部６０の主走査方向への移動速度分布と、塗布膜の膜厚変動との関係をそれぞれ示している。
【００６３】
図８において、移動速度分布７ｂは、本動作における吐出部６０の移動速度分布を示している。移動速度分布７ｂのうち基板１０の主走査方向の座標がｘ１〜ｘ２となる区間の各位置における吐出部６０の移動速度は、図７における吐出部６０の移動速度分布および塗布膜の膜厚分布と、所望の膜厚ｄｇとに基づいて、（１）式によって算出されている。そして、断面４ｂ（図７）に示される膜厚が、基板上でのＸ座標が増加するにつれて直線的に減少していることに対応して、移動速度分布７ｂにおける基板１０の上方区間についての吐出部６０の移動速度分布は、基板上でのＸ座標が増加するにつれて速度ｖ１から直線的に減少している。
【００６４】
また、移動速度分布７ｂにおいては、吐出部６０の加速区間および減速区間での移動速度分布と、基板１０の上方区間での移動速度分布とは、区間の境界部において段差を生じないように設定される。
【００６５】
図８に太線によって示される断面４ｃは、膜厚の均一性が改善された塗布膜の断面である。断面４ｃの形状は、移動速度分布７ｂに対応して形成されており、塗布膜の膜厚は、主走査方向の全域にわたって、所望の膜厚ｄｇに略等しくなっている。また、膜厚分布の比較のために試行動作での断面４ｂ（斜線部）が本動作での断面４ｃに重ねて表示されている。
【００６６】
同様に、図１０において、移動速度分布７ｃは、本動作における吐出部６０の移動速度分布を示している。移動速度分布７ｃのうち基板１０の主走査方向の座標がｘ１〜ｘ２となる区間の各位置における吐出部６０の移動速度は、図９における吐出部６０の移動速度分布および塗布膜の膜厚分布と、所望の膜厚ｄｇとに基づいて、（１）式によって算出されている。そして、断面４ｄ（図９）に示される膜厚が、基板上でのＸ座標が増加するにつれて徐々に増加してピーク値ｄｇとなった後、徐々に減少していることに対応して、移動速度分布７ｃにおける基板１０の上方区間についての吐出部６０の移動速度分布は、基板上でのＸ座標が増加するにつれて徐々に増加して最速の速度ｖ１となった後、徐々に減少している。
【００６７】
また、移動速度分布７ｃにおいては、吐出部６０の加速区間および減速区間での移動速度分布は、移動速度分布７ｂと同様に、基板１０の上方区間での移動速度分布と、区間の境界部において段差を生じないように設定される。
【００６８】
図１０に太線によって示された断面４ｅは、膜厚の均一性が改善された塗布膜の断面である。断面４ｅの形状は、移動速度分布７ｃに対応して形成されており、塗布膜の膜厚は、主走査方向の全域にわたって、所望の膜厚ｄｇに略等しくなっている。また、膜厚分布の比較のために試行動作での断面４ｄ（斜線部）が本動作での断面４ｅに重ねて表示されている。
【００６９】
上述したように、改善手法１によれば、試行動作における塗布膜の膜厚が基準値よりも薄い部分では、吐出部６０の移動速度を試行動作時よりも遅くすることによって、該部分に塗布される塗布液の量を試行動作時よりも増加させ、逆に、試行動作における塗布膜の膜厚が基準値よりも厚い部分では、吐出部６０の移動速度を試行動作時よりも速くすることによって、該部分に塗布される塗布液の量を試行動作時よりも減少させることが可能となるので、本動作において基板１０に形成される塗布膜の膜厚の均一性を試行動作時よりも改善することができる。
【００７０】
なお、例えば、図３、図７〜図１０の移動速度分布７ａ〜７ｃでは、位置（Ｘ座標）に対する吐出部６０の移動速度の関係を表示しているが、時間軸に対する吐出部６０の移動速度の関係を用いても良いことは言うまでもない。
【００７１】
・改善手法２：
改善手法２では、吐出部６０の主走査方向への移動速度が変動したとしても基板１０上の各点毎の塗布液の吐出流量は変動しないという改善手法１での仮定を行うことなく、試行動作における吐出部６０の移動速度と、塗布膜の膜厚との複数通りの組み合わせに基づいて、本動作において所望の膜厚を得るための吐出部６０の移動速度を算出する。
【００７２】
図６は、基板１０上の一の点について、吐出部６０の主走査方向への移動速度と、塗布膜の膜厚との関係を曲線８ｂとして例示する図である。曲線８ｂ上の点９ｂ、９ｃ、および９ｄにおける吐出部６０の移動速度と塗布膜の膜厚とは、試行動作において、該一の点において３通りの吐出部６０の移動速度に対応してそれぞれ形成される塗布膜の膜厚データを取得することによってそれぞれ取得される。
【００７３】
曲線８ｂ、すなわち、該一の点における吐出部６０の移動速度と、塗布膜の膜厚との関係は、試行動作によって得られた点９ｂ、９ｃ、および９ｄに基づいて吐出部６０の移動速度と、塗布膜の膜厚との関係を表現する関数をカーブフィッティングなどによって特定することによって取得される。そして、本動作において所望の膜厚ｄｇを得るための吐出部６０の移動速度ｖｇは、特定された曲線８ｂによって算出される。従って、塗布装置２０は、改善手法２を適用することによって基板１０に形成される塗布膜の膜厚の均一性を改善することができる。
【００７４】
なお、図６では、カーブフィッティングによって吐出部６０の移動速度と、塗布膜の膜厚との関係を特定しているが、例えば、折れ線近似によって、該関係を特定したとしても本発明の有用性を損なうものではない、また、例えば、２つ点９ｂおよび９ｃでのデータに基づいて、吐出部６０の移動速度と、塗布膜の膜厚との関係を直線近似することによって、本動作において所望の膜厚ｄｇを得るための吐出部６０の移動速度ｖｇを算出したとしても本発明の有用性を損なうものではない。
【００７５】
また、実際の塗布膜形成動作においては、吐出部６０の移動速度が低下すると、配管部材８０、８１に対する変形の加速度が低下することなどによって、塗布液の吐出量が低下する場合もある。すなわち、吐出部６０の主走査方向への移動速度と、塗布膜の膜厚との間に正の相関がある場合もある。ここで、改善手法２によれば、予め、吐出部６０の移動速度と、塗布膜の膜厚との関係が反比例の関係、すなわち負の相関関係であるとの仮定を行うことなく吐出部６０の移動速度と、塗布膜の膜厚との関係を取得することができる。従って、例えば、主走査ラインに沿った基板１０の一の点についての吐出部６０の移動速度と、塗布膜の膜厚とが上述のように比例関係、すなわち、正の相関関係であったとしても、改善手法２を適用することによって試行動作における塗布膜の膜厚が基準値よりも薄い部分では、吐出部６０の移動速度を試行動作時よりも速くすることによって、該部分に塗布される塗布液の量を試行動作時よりも増加させ、逆に、試行動作における塗布膜の膜厚が基準値よりも厚い部分では、吐出部６０の移動速度を試行動作時よりも遅くすることによって、該部分に塗布される塗布液の量を試行動作時よりも減少させることが可能となるので、本動作において基板１０に形成される塗布膜の膜厚の均一性を試行動作時よりも改善することができる。
【００７６】
＜塗布装置２０の動作について：＞
次に、実施形態に係る塗布装置２０の動作について説明する。図１１および図１２は、実施形態に係る塗布装置２０の動作フローを説明する図である。
【００７７】
膜厚の均一性が改善された塗布膜を基板１０上に形成する本動作を開始させる操作などに応答して、塗布装置２０は本動作を開始し（ステップＳ１００）、取得部８６は、試行動作によって予め基板１０に形成された塗布膜についての膜厚データを取得する（ステップＳ１１０）。次に、制御部９０は、本動作における制御部９０の移動速度データの算出処理を開始する（ステップＳ１２０）。
【００７８】
本動作における制御部９０の移動速度データの算出処理において、制御部９０は、先ず、取得部８６を介して試行動作での基板１０上の各点における吐出部６０の移動速度データを取得する（ステップＳ１２１）とともに、予め記憶された所望の膜厚（膜厚の目標値）をＲＡＭなどから読み取ることによって取得する（ステップＳ１２２）。
【００７９】
次に、制御部９０は、吐出部６０の移動速度を算出する主走査ライン３を設定する（ステップＳ１２３）。なお、主走査ライン３の設定は、吐出部６０の基板１０に対する副走査方向の相対座標を指定することなどによって行われる。
【００８０】
処理対象の主走査ライン３が設定されると、制御部９０は、試行動作での塗布膜の膜厚データおよび吐出部６０の移動速度データに基づいて、主走査ライン３の各位置における試行動作での塗布膜の膜厚と、吐出部６０の移動速度とを取得する（ステップＳ１２４）。
【００８１】
次に、制御部９０は、例えば、図３〜図１０を参照して既述した改善手法１または改善手法２などを適用することによって、本動作において形成される塗布膜の膜厚の均一性を改善するための吐出部６０の移動速度データを、主走査ライン３の各位置について算出し（ステップＳ１２５）、該移動速度データを、時刻に対する吐出部６０の移動速度の関係を示す移動速度データに変換する（ステップＳ１２６）。
【００８２】
主走査ライン３についての移動速度データの算出処理が完了すると、制御部９０は、移動速度データの算出対象となる主走査ライン３を変更し（ステップＳ１２７）、基板１０上の全ての主走査ライン３についての吐出部６０の移動速度データの算出処理が完了したか否かを確認する（ステップＳ１２８）。
【００８３】
全ての主走査ライン３についての該算出処理が完了していなければ、制御部９０は、処理をステップＳ１２５へと戻して、新たな主走査ライン３についての吐出部６０の移動速度データの算出処理を行い、全ての主走査ライン３についての吐出部６０の移動速度データの算出処理が完了していれば、制御部９０は、処理をステップと１２９へと移す（ステップＳ１２８）。ステップＳ１２９において、制御部９０は、本動作における吐出部６０の移動速度データをＲＡＭなどに記憶し、処理をステップＳ１３０に移す。
【００８４】
次に、制御部９０は、本動作の制御を開始し、吐出部６０の主走査方向の位置、および基板１０に対する吐出部６０の副走査方向での相対的な位置をそれぞれ初期化する（ステップＳ１３０）。
【００８５】
吐出部６０についての初期化が完了すると、制御部９０は、試行動作における吐出流量の制御情報に基づいて吐出部６０からの塗布液の吐出を開始し、算出された本動作についての吐出部６０の移動速度データのうち主走査ライン３についての移動速度データに基づいて、吐出部６０を往路方向に主走査する（ステップＳ１４０）。
【００８６】
吐出部６０の往路方向への主走査が完了すると、制御部９０は、基板１０を吐出部６０に対して副走査方向に所定量のステップ移動する処理を行い（ステップＳ１５０）、該ステップ移動が完了すると、算出された本動作についての吐出部６０の移動速度データのうち該ステップ移動後の主走査ライン３についての移動速度データに基づいて、吐出部６０を復路方向に主走査する（ステップＳ１６０）。吐出部６０の復路方向への主走査が完了すると、制御部９０は、基板１０を吐出部６０に対して副走査方向に所定量のステップ移動する処理を行う（ステップＳ１７０）。
【００８７】
次に、制御部９０は、基板１０上に塗布液の塗布膜を形成するために必要な所定ライン数の主走査ライン３についての主走査が完了したか否かを確認し（ステップＳ１８０）、必要な主走査が全て完了していれば、本動作を終了し、必要な主走査が全て完了していなければ、処理をステップＳ１４０に戻して、吐出部６０の往路方向への主走査を開始する。
【００８８】
上述した動作によって、塗布装置２０は、試行動作での塗布膜の膜厚データおよび吐出部６０の移動速度データに基づいて、塗布膜の膜厚の均一性を改善するための吐出部６０の移動速度データを算出し、本動作においては算出された移動速度データに基づいて吐出部６０の移動制御を行うことによって、基板１０に形成される塗布膜の膜厚の均一性を試行動作時よりも改善することができる。
【００８９】
＜変形例について：＞
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく様々な変形が可能である。
【００９０】
例えば、上述した改善手法１および改善手法２においては、試行動作において、基板１０の上方区間では吐出部６０は等速度で移動されていた（図７および図９）。しかし、試行動作において該区間で吐出部６０が等速で移動されていない場合であっても、上述した改善手法１または改善手法２などを適用することによって、本動作において基板１０に形成される塗布膜の膜厚の均一性を試行動作時よりも改善することができる。
【００９１】
また、上述した改善手法１および改善手法２においては、吐出部６０の移動速度と、塗布膜の膜厚との関係に基づいて吐出部６０の移動速度を求めているが（図５および図６）、吐出部６０の移動速度と、塗布膜の膜厚とから、吐出部からの塗布液に吐出流量を算出することで、算出された吐出流量と、吐出部６０の移動速度との関係を特定し、該関係に基づいて、本動作において基板１０に形成される塗布膜の膜厚の均一性を改善するための吐出部６０の移動速度データを算出したとしても本発明の有用性を損なうものではない。
【００９２】
また、上述した動作フローにおいては、各主走査ライン毎に吐出部６０の移動速度データを求め、本動作においては各主走査ライン毎に対応した吐出部６０の移動速度データによって吐出部６０の主走査が行われているが、形成された塗布膜の副走査方向についての膜厚の変動が少ない場合や、塗布膜の膜厚の均一性についての要求仕様によっては、例えば、所定の主走査ラインについての吐出部６０の主走査に係る制御を全ての主走査ラインに適用しても良い。
【００９３】
また、試行動作における吐出部６０の加速度と塗布膜の膜厚との関係、または吐出部６０の加速度と塗布液の吐出流量との関係に基づいて、改善手法２と同様の手法によって本動作における塗布膜の膜厚均一性を改善するための吐出部６０の加速度を算出し、さらに吐出部６０の移動速度データを算出したとしても本発明の有用性を損なうものではない。例えば、試行動作において形成された塗布膜の膜厚が目標値よりも薄かった基板１０上の所定部位について、吐出部６０の加速度に着目した該手法で試行動作における制御データおよび膜厚データを処理した結果、該所定部位においては、吐出部６０が所定の加速移動を行うことによって、塗布液にかかる慣性力などに起因した吐出流量の増加による膜厚の増加効果が、吐出部６０の加速による吐出部６０の該所定部位の通過時間の短縮による膜厚の減少効果を上回るという特性が得られた場合には、該所定部位については、吐出部６０の移動速度を加速することによって塗布膜の膜厚を増加させ、所望の膜厚が得られることとなる。
【００９４】
なお、例えば、塗布装置２０が、カウンタ用ガイド部７０、カウンタ用スライダ７４、および配管部材８２を備えていないとしても、本発明の有用性を損なうものではない。
【符号の説明】
【００９５】
２  膜厚データ
３  主走査ライン
４  塗布膜
５  等高線
１０  基板
２０  塗布装置
３０  基板保持部
４０  ガイド部
４４  主走査駆動機構
５０  可動塗布ユニット
５２  スライダ
６０  吐出部
６４  ノズル
７０  カウンタ用ガイド部
７４  カウンタ用スライダ
８０、８１、８２  配管部材
８４  配管固定部
９６  エア供給源
９８  塗布液供給源
【図１】
2012071268.tif 000004
【図２】
2012071268.tif 000005
【図３】
2012071268.tif 000006
【図４】
2012071268.tif 000007
【図５】
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【図６】
2012071268.tif 000009
【図７】
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【図８】
2012071268.tif 000011
【図９】
2012071268.tif 000012
【図１０】
2012071268.tif 000013
【図１１】
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【図１２】
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