(57)【要約】【課題】透過率が高い素子基板、液晶表示装置を提供する。【解決手段】素子が形成された基板と、色材層と、電極層と、前記電極層および前記色材層に対する屈折率が調整された調整層と、を備えた。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
素子が形成された基板と、
色材層と、
電極層と、
前記電極層および前記色材層に対する屈折率が調整された調整層と、を備えたことを特徴とする素子基板。
【請求項２】
請求項１に記載の素子基板において、
前記基板上に前記色材層が形成され、
前記色材層上に前記調整層が形成され、
前記調整層上に前記電極層が形成され、
前記調整層の屈折率が、前記色材層の屈折率よりも高く、かつ、前記電極層の屈折率よりも低いことを特徴とする素子基板。
【請求項３】
請求項２に記載の素子基板において、
前記色材層と前記調整層との接触面が、前記色材層側に向けて凸形状を成すことを特徴とする素子基板。
【請求項４】
請求項３に記載の素子基板において、
複数の前記色材層のうち、
透過光波長が長い前記色材層に対応する前記接触面の曲率が、透過光波長が短い前記色材層に対応する前記接触面の曲率よりも大きいことを特徴とする素子基板。
【請求項５】
請求項３に記載の素子基板において、
複数の前記色材層のうち、
透過光波長が長い前記色材層と前記調整層との屈折率の差が、透過光波長が短い前記色材層と前記調整層との屈折率との差よりも大きいことを特徴とする素子基板。
【請求項６】
素子が形成された基板上に色材層を形成する色材層形成工程と、
前記色材層上に、前記色材層の屈折率よりも高い屈折率を有する調整層を形成する調整層形成工程と、
前記調整層上に、前記調整層の屈折率よりも高い屈折率を有する電極層を形成する電極層形成工程と、を含むことを特徴とする素子基板の製造方法。
【請求項７】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の素子基板、または、請求項６に記載の素子基板の製造方法によって製造された素子基板を備えたことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項８】
請求項７に記載の液晶表示装置を搭載したことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、素子基板、素子基板の製造方法、液晶表示装置、電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶表示装置として、カラーフィルター基板と素子基板との間に液晶層が封入されたものが知られている（例えば、特許文献１参照）。このような液晶表示装置において、素子基板は、液晶層に対して画素領域ごとに電界を印加可能になっており、電界印加の有無により、液晶層の液晶分子の方位角が変化し、液晶層を通る光は電界印加の有無により異なる偏光状態になる。そして、液晶層を通った光は、偏光状態に応じてその一部が偏光板に吸収されて、所望の階調の光になる。一方、カラーフィルター基板は、透過させる光の波長が異なる複数の色材層を含み、色材層は、画素領域と１対１で対応されている。液晶層から射出された光は、色材層を通ることにより所定の波長帯域の成分が吸収され、所望の色光になる。一般的には、赤緑青の３つの画素領域において液晶層が独立して制御され、赤緑青の３つの画素領域から射出される光により、フルカラー画像の１画素が構成されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第３２６１８５４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記の液晶表示装置では、カラーフィルターに光が照射された場合に、各材料間における屈折率の差が大きいため、各材料間の界面において光が反射し、透過率が低下してしまう、という課題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。
【０００６】
［適用例１］本適用例にかかる素子基板は、素子が形成された基板と、色材層と、電極層と、前記電極層および前記色材層に対する屈折率が調整された調整層と、を備えたことを特徴とする。
【０００７】
この構成によれば、色材層と電極層と調整層との積層構造において、例えば、屈折率が高い順となるように、調整層が適切な屈折率に調整される。これにより、積層構造に向けて照射された光は、徐々に屈折率が変化する各層内を進行するため、各層の界面における光の反射が低減され、透過率を向上させることができる。
【０００８】
［適用例２］上記適用例にかかる素子基板は、前記基板上に前記色材層が形成され、前記色材層上に前記調整層が形成され、前記調整層上に前記電極層が形成され、前記調整層の屈折率が、前記色材層の屈折率よりも高く、かつ、前記電極層の屈折率よりも低いことを特徴とする。
【０００９】
この構成によれば、色材層と電極層との間には、色材層の屈折率と電極層の屈折率との間の屈折率を有する調整層が形成される。そして、例えば、色材層側から電極層側に向けて光を照射した場合、光は色材層から調整層を介して電極層側に進行するが、この際、光の進行に従って徐々に屈折率が変化する各層内を進行することになる（この場合、光は、屈折率が徐々に高くなる方向に進行する）。このため、光が進行した際、各層の界面における光の反射が低減され、透過率を向上させることができる。なお、電極層側から色材層側に向けて光を照射した場合も同様の作用効果を奏する（なお、この場合、光は、屈折率が徐々に低くなる方向に進行する）。
【００１０】
［適用例３］上記適用例にかかる素子基板は、前記色材層と前記調整層との接触面が、前記色材層側に向けて凸形状を成すことを特徴とする。
【００１１】
この構成によれば、透過率を高めるとともに、凸形状を有する接触面が集光レンズ機能を成し、照射された光を集光させることができる。
【００１２】
［適用例４］上記適用例にかかる素子基板では、複数の前記色材層のうち、透過光波長が長い前記色材層に対応する前記接触面の曲率が、透過光波長が短い前記色材層に対応する前記接触面の曲率よりも大きいことを特徴とする。
【００１３】
この構成によれば、接触面の曲率が大きい場合には、透過した光の焦点距離を短くさせることができる。一方、接触面の曲率が小さい場合には、透過した光の焦点距離を長くさせることができる。従って、相対的に透過光波長が長い色材層を透過した光の焦点距離を短くさせるとともに、透過光波長が短い色材層を透過した光の焦点距離を長くさせて、各色材層を透過した光の焦点を揃え、色バランスを向上させることができる。
【００１４】
［適用例５］上記適用例にかかる素子基板では、複数の前記色材層のうち、透過光波長が長い前記色材層と前記調整層との屈折率の差が、透過光波長が短い前記色材層と前記調整層との屈折率との差よりも大きいことを特徴とする。
【００１５】
この構成によれば、色材層と調整層との屈折率の差を大きくすることにより、透過させた光の焦点距離を短くさせることができる。一方、色材層と調整層との屈折率の差を小さくすることにより、透過させた光の焦点距離を長くさせることができる。従って、相対的に透過光波長が長い色材層を透過した光の焦点距離を短くさせるとともに、透過光波長が短い色材層を透過した光の焦点距離を長くさせて、各色材層を透過した光の焦点を揃え、色バランスを向上させることができる。
【００１６】
［適用例６］本適用例にかかる素子基板の製造方法は、素子が形成された基板上に色材層を形成する色材層形成工程と、前記色材層上に、前記色材層の屈折率よりも高い屈折率を有する調整層を形成する調整層形成工程と、前記調整層上に、前記調整層の屈折率よりも高い屈折率を有する電極層を形成する電極層形成工程と、を含むことを特徴とする。
【００１７】
この構成によれば、色材層と電極層との間には、色材層の屈折率と電極層の屈折率との間の屈折率を有する調整層が形成される。そして、例えば、色材層側から電極層側に向けて光を照射した場合、光は色材層から調整層を介して電極層側に進行するが、この際、光の進行に従って徐々に屈折率が変化する各層内を進行することになる（この場合、光は、屈折率が徐々に高くなる方向に進行する）。このため、光が進行した際、各層の界面における光の反射が低減され、透過率を向上させることができる。なお、電極層側から色材層側に向けて光を照射した場合も同様の作用効果を奏する（なお、この場合、光は、屈折率が徐々に低くなる方向に進行する）。
【００１８】
［適用例７］本適用例にかかる液晶表示装置は、上記の素子基板、または、請素子基板の製造方法によって製造された素子基板を備えたことを特徴とする。
【００１９】
この構成によれば、いわゆるＣＯＡ構造（Color Filter on Array）を有する液晶表示装置を得ることができる。これにより、高開口率化が可能となるとともに、高透過率を有する高品質な液晶表示装置を提供することができる。
【００２０】
［適用例８］本適用例にかかる電子機器は、上記の液晶表示装置を搭載したことを特徴とする。
【００２１】
この構成によれば、高品位の電子機器を提供することができる。この場合、電子機器は、例えば、上記の液晶表示装置を搭載したテレビ受像機、パーソナルコンピューター、携帯型電子機器、その他、各種の電子機器がこれに該当する。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】液晶表示装置の構成を示し、（ａ）は斜視図、（ｂ）一部拡大した平面図。
【図２】第１実施形態にかかる素子基板を含む液晶表示装置の構成を示す要部断面図。
【図３】液滴吐出装置の構成を示す斜視図。
【図４】液滴吐出ヘッドの構成を示す断面図。
【図５】第１実施形態にかかる素子基板の製造方法を示す工程図。
【図６】第１実施形態にかかる素子基板の製造方法を示す工程図。
【図７】第１実施形態にかかる素子基板の製造方法を示す工程図。
【図８】電子機器の構成を示す斜視図。
【図９】第２実施形態にかかる素子基板の製造方法を示す工程図。
【図１０】第２実施形態にかかる素子基板の製造方法を示す工程図。
【図１１】変形例にかかる素子基板の構成を示す要部断面図。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、図面を参照しつつ、第１および第２実施形態について説明する。なお、説明に用いる図面において、特徴的な部分を分かりやすく示すために、図面中の構造の寸法や縮尺を実際の構造に対して異ならせている場合がある。
【００２４】
［第１実施形態］
（液晶表示装置の構成）
まず、液晶表示装置の構成について説明する。図１は、液晶表示装置の構成を示し、同図（ａ）は、斜視図であり、同図（ｂ）は、一部拡大した平面図である。図１（ａ）に示すように、液晶表示装置１ａは、概略板状のものであり、一方の面に表示領域Ａ１を有している。表示領域Ａ１ａ内に、複数の画素領域Ｐが行列状に配置されている。表示領域Ａ１の外側は、額縁Ａ２になっている。液晶表示装置１ａの内部には、複数の走査線１０ａと、複数のデータ線１０ｂが設けられている。複数の走査線１０ａは互いに略平行に配列されている。また、複数のデータ線１０ｂも互いに略平行に配列されている。そして、走査線１０ａとデータ線１０ｂとが略直交（交差）しており、走査線１０ａとデータ線１０ｂとで囲まれた領域の各々が、画素領域Ｐとなっている。
【００２５】
走査線１０ａ及びデータ線１０ｂは、表示領域Ａ１と額縁Ａ２とにわたって設けられている。額縁Ａ２において走査線１０ａの端部は、走査信号を供給する走査線駆動回路（図示略）と電気的に接続されている。また、額縁Ａ２においてデータ線１０ｂの端部は、画像信号を供給するデータ線駆動回路（図示略）と電気的に接続されている。
【００２６】
図１（ｂ）に示すように、表示領域Ａ１には、複数の画素領域Ｐが含まれている。本実施形態の画素領域Ｐでは、赤表示の画素領域Ｐｒ、緑表示の画素領域Ｐｇ、青表示の画素領域Ｐｂが含まれている。そして、画素領域Ｐｒ，Ｐｇ，Ｐｂから、それぞれ赤色光、緑色光、青色光が表示側に向けて射出されると、赤色光、緑色光、青色光が混じり合って視認されて、フルカラー画像の１画素が表示される。画素領域Ｐｒ，Ｐｇ，Ｐｂの各間は、遮光領域Ｄが設けられている。
【００２７】
図２は、本実施形態にかかる素子基板を含む液晶表示装置の要部断面図である。図２に示すように、液晶表示装置１ａは、素子基板１１ａと、素子基板１１ａに対向して配置された対向基板１２と、素子基板１１ａと対向基板１２との間に挟持された液晶層１３を備えている。
【００２８】
素子基板１１ａは、素子としての薄膜トランジスター（ＴＦＴ）１１２が形成された基板としての透明基板１１９と、色材層１２２（１２２Ｒ，１２２Ｇ，１２２Ｂ）と、電極層としての画素電極１１３と、画素電極１１３および色材層１２２に対する屈折率が調整された調整層１２４とを備えている。すなわち、本実施形態にかかる液晶表示装置１ａは、アレイ基板１１０上に色材層１２２が形成された素子基板１１ａを有し、いわゆるＣＯＡ構造（Color Filter on Array）を有するものである。さらに、透明基板１１９上に色材層１２２が形成され、色材層１２２上に調整層１２４が形成され、調整層１２４上に画素電極１１３が形成され、調整層１２４の屈折率が、色材層１２２の屈折率よりも高く、かつ、電極層１１３の屈折率よりも低く設定されている。
【００２９】
透明基板１１９は、ガラスや石英、プラスチック等からなる透明性を有した基板である。そして、透明基板１１９上に素子層１１１が形成されている。素子層１１１には、素子としての薄膜トランジスター（ＴＦＴ）１１２や、図１（ａ）に示した走査線１０ａ、データ線１０ｂ等の各種配線や素子等が含まれている。なお、ＴＦＴ１１２や各種配線は、光が遮光される遮光領域Ｄに対応する部分に設けることが好ましい。
【００３０】
素子層１１１上には、遮光領域Ｄと重なる部分に隔壁１２１が設けられている。隔壁１２１には、画素領域Ｐｒ，Ｐｇ，Ｐｂと重なる部分に開口が設けられている。すなわち、隔壁１２１は、画素領域Ｐｒ、Ｐｇ、Ｐｂの各々を環状に囲んでいる。隔壁１２１は、例えば、黒色顔料等の遮光材料を含有したアクリル樹脂等からなり、ブラックマトリクスとして機能する。
【００３１】
そして、画素領域Ｐｒ，Ｐｇ，Ｐｂと重なる部分に、色材層１２２Ｒ，１２２Ｇ，１２２Ｂが区画配置されている。色材層１２２Ｒ，１２２Ｇ，１２２Ｂは、隔壁１２１に設けられた複数の開口内の各々に配置されており、隔壁１２１によって仕切られている。色材層１２２Ｒ，１２２Ｇ，１２２Ｂは、それぞれ赤色光、緑色光、青色光を透過させ、その他の波長帯域の色光を吸収する特性を有している。
【００３２】
色材層１２２Ｒ，１２２Ｇ，１２２Ｂ上には、調整層１２４が設けられている。調整層１２４は、透光性を有する樹脂材料等からなる。調整層１２４上には、画素電極１１３が形成されている。各画素電極１１３は、コンタクトホール２００を介してＴＦＴ１１２と１対１の関係で電気的に接続されている。ＴＦＴ１１２は、走査信号に基づいて画像信号をスイッチングし、画像信号が画素電極１１３に所定のタイミングで供給される。
【００３３】
画素電極１１３と液晶層１３との間には、第１配向膜１１５が設けられている。第１配向膜１１５は、例えばポリイミド等からなる膜にラビング処理等の配向処理を施したものであり、後述する第２配向膜１２６とともに液晶層１３の配向状態を制御する。ここでは、液晶層１３をネマティックツイスト配向（ＴＮ配向）させるように、第１配向膜１１５および第２配向膜１２６に配向処理がなされている。
【００３４】
ここで、素子基板１１ａは、色材層１２２と調整層１２４と画素電極１１３との積層構造を有している。そして、色材層１２２と画素電極１１３との間に形成された調整層１２４の屈折率が、色材層１２２の屈折率よりも高く、かつ、画素電極１１３の屈折率よりも低くなっている。例えば、色材層１２２の屈折率は約１．５、画素電極１１３の屈折率は約１．９に設定され、調整層１２４の屈折率は約１．７に設定されている。すなわち、調整層１２４の屈折率が、色材層１２２の屈折率と画素電極１１３の屈折率の間になるように調整されている。このように、色材層１２２と画素電極１１３との間に、中間屈折率を有する調整層１２４を形成することにより、色材層１２２と調整層１２４と画素電極１１３に光を透過させた場合に、各層の界面における光の反射が低減され、光の透過率を高めることができる。
【００３５】
また、本実施形態では、色材層１２２と調整層１２４との接触面１２３が、色材層１２２側に向けて凸形状を成している。これにより、例えば、色材層１２２側から画素電極１１３側に向けて光が照射された場合において、効率よく集光させ、コントラストを向上させることができる。
【００３６】
さらに、本実施形態では、複数の色材層１２２のうち、相対的に透過光波長が長い色材層１２２に対応する接触面１２３の曲率が、相対的に透過光波長が短い色材層１２２に対応する接触面１２３の曲率よりも大きくなるように形成されている。換言すれば、相対的に透過光波長が長い色材層１２２に対応する接触面１２３の曲がりの度合いが、相対的に透過光波長が短い色材層１２２に対応する接触面１２３の曲がりの度合いよりも大きい。具体的には、複数の色材層１２２Ｒ，１２２Ｇ，１２２Ｂのうち、赤色光を透過させる色材層１２２Ｒが、最も透過光波長が長く、次いで、緑色光を透過させる色材層１２２Ｇが長く、青色光を透過させる色材層１２２Ｂが最も透過光波長が短い。従って、透過光波長が長い色材層１２２Ｒに対応する接触面１２３ａの曲率が、透過光波長の短い色材層１２２Ｇ，１２２Ｂに対応する接触面１２３ｂ，１２３ｃの曲率よりも大きくなるように形成されている。すなわち、色材層１２２Ｂに対応する接触面１２３ｃ、色材層１２２Ｇに対応する接触面１２３ｂ、色材層１２２Ｒに対応する接触面１２３ａの順に段々に曲率が大きくなるように形成されている。これにより、透過光波長が長い色材層１２２Ｒを透過する光が、他の色材層１２２Ｇ，１２２Ｂを透過する光よりも大きく屈折される。一方、透過光波長が短い色材層１２２Ｂを透過する光の屈折を小さくさせ、焦点距離を長くさせることができる。そして、各色材層１２２Ｒ，１２２Ｇ，１２２Ｂを透過して集光される距離が、素子基板１１ａから等しくなるように各接触面１２３ａ，１２３ｂ，１２３ｃの曲率が形成されている。なお、各色材層１２２Ｒ，１２２Ｇ，１２２Ｂに対応する接触面１２３ａ，１２３ｂ，１２３ｃの曲率の設定方法は、特に限定されないが、例えば、色材層１２２Ｇに対応する接触面１２３ｂの曲率を基準として、接触面１２３ａの曲率は、接触面１２３ｂの曲率よりも大きく、接触面１２３ｃの曲率は、接触面１２３ｂの曲率よりも小さくなるように形成することができる。
【００３７】
対向基板１２は、透明基板１２０を有している。透明基板１２０は、ガラスや石英、プラスチック等からなる透明性を有した基板である。透明基板１２０の素子基板１１ａに対向する面には共通電極１２５が設けられている。そして、共通電極１２５上に第２配向膜１２６が設けられている。また、透明基板１２０の共通電極１２５が形成された面とは反対側の面には第２偏光板（偏光層）１２７が形成されている。第２偏光板１２７は、直線偏光を通す特性を有している。ここでは、第２偏光板１２７の透過軸が、第１偏光板１１６の透過軸に対して略９０°の角度をなしている。共通電極１２５、第２配向膜１２６および第２偏光板１２７は、いずれも画素領域Ｐｒ，Ｐｇ，Ｐｂに対応して通して全面に設けられている。
【００３８】
液晶層１３は、複屈折性を有する液晶材料からなる。本実施形態では、液晶層１３の配向状態がＴＮ配向になっており、液晶層１３は電界非印加状態で複屈折性を発現するようになっている。液晶層１３に電界が印加されると、液晶分子のディレクター方向が電界方向と略平行になり、液晶層１３は複屈折性を発現しなくなる。
【００３９】
次に、本実施形態の液晶表示装置１ａの集光状態について説明する。図２に示すように、液晶表示装置１ａにおいて、素子基板１１ａ側から対向基板１２側に照射された照射光は、第１偏光板１１６を通って直線偏光になり、アレイ基板１１０を透過して色材層１２２に入射する。ここで、画素領域Ｐｒに着目すると、色材層１２２Ｒに入射した光は、赤色光以外の波長帯域の光が吸収され、色材層１２２Ｒから赤色光が射出される。色材層１２２Ｒから射出された赤色光は、色材層１２２Ｒと調整層１２４と接触面１２３ａで屈折し、調整層１２４を透過した光は、画素電極１１３に入射され、調整層１２４と画素電極１１３との界面において屈折し、液晶層１３に入射する。ここで、画素電極１１３に画像信号が供給されていない状態では、液晶層１３は電界非印加状態になっており複屈折性を発現している。電界非印加状態の液晶層１３に入射した光は、位相変調されて第１直線偏光から９０°回転した第２直線偏光になり、対向基板１２に入射し、振動方向が第２偏光板１２７の透過軸と略一致しており、第２偏光板１２７を透過して、画素領域Ｐｒが明表示（赤）となり、第２偏光板１２７を透過した光は、集光点ＣＰ１において集光される。
【００４０】
画素領域Ｐｇ，Ｐｂの集光状態についても、上記画素領域Ｐｒと同様であるが、接触面１２３ａ，１２３ｂ，１２３ｃにおいて、接触面１２３ａの曲率が他の接触面１２３ｂ，１２３ｃの曲率よりも大きく設定され、次いで、接触面１２３ｂの曲率が大きく設定されている。このため、透過光波長の長い色材層１２２Ｒを透過する光は、相対的に大きく屈折され、透過光波長の短い色材層１２２Ｂを透過する光は、相対的に屈折が抑えられる。このため、透過光波長が異なる場合であっても、例えば、素子基板１１ａから各色材層１２２Ｒ，１２２Ｇ，１２２Ｂを透過した光の集光点ＣＰ１〜ＣＰ３までの距離をほぼ等しくさせることができる。
【００４１】
また、画素電極１１３に画像信号が供給された状態では、液晶層１３が電界印加状態となり複屈折性を発現しなくなる。第１偏光板１１６を通って電界印加状態の液晶層１３に入射した直線偏光は、振動方向が第２偏光板１２７の吸収軸と略一致しており、第２偏光板１２７に吸収される。これにより、画素領域Ｐｒが暗表示（黒）になる。画素領域Ｐｇ，Ｐｂについても、上記画素領域Ｐｒと同様である。
【００４２】
（素子基板の製造方法）
次に、素子基板の製造方法について説明する。なお、素子基板の製造において、機能液を液滴として吐出してパターンを形成する液滴吐出装置を用いるため、素子基板の製造方法の説明に先立ち、まず、液滴吐出装置について説明する。
【００４３】
図３は、液滴吐出装置の構成を示す斜視図である。液滴吐出装置ＩＪは、液滴吐出ヘッド１００１と、Ｘ軸方向駆動軸１００４と、Ｙ軸方向ガイド軸１００５と、制御装置ＣＯＮＴと、ステージ１００７と、クリーニング機構１００８と、基台１００９と、ヒーター１０１５を備えている。
【００４４】
ステージ１００７は、機能液が塗布されるワークＷを支持するものであって、ワークＷを基準位置に固定する図示は省略の固定機構を備えている。
【００４５】
液滴吐出ヘッド１００１は、複数の吐出ノズルを備えたマルチノズルタイプの液滴吐出ヘッドであり、長手方向とＸ軸方向とを一致させている。複数の吐出ノズルは、液滴吐出ヘッド１００１の下面に一定間隔で設けられている。そして、液滴吐出ヘッド１００１の吐出ノズルからステージ１００７に支持されているワークＷに向けて、機能液が液滴として吐出され、ワークＷ上に機能液を塗布するように構成されている。
【００４６】
Ｘ軸方向駆動軸１００４には、Ｘ軸方向駆動モーター１００２が接続されている。このＸ軸方向駆動モーター１００２は、ステッピングモーター等からなるもので、制御装置ＣＯＮＴからＸ軸方向の駆動信号が供給されると、Ｘ軸方向駆動軸１００４を回転させる。Ｘ軸方向駆動軸１００４が回転すると、液滴吐出ヘッド１００１はＸ軸方向に移動する。
【００４７】
Ｙ軸方向ガイド軸１００５は、基台１００９に対して動かないように固定されている。ステージ１００７は、Ｙ軸方向駆動モーター１００３を備えている。Ｙ軸方向駆動モーター１００３はステッピングモーター等であり、制御装置ＣＯＮＴからＹ軸方向の駆動信号が供給されると、ステージ１００７をＹ軸方向に移動する。
【００４８】
制御装置ＣＯＮＴは、液滴吐出ヘッド１００１に液滴の吐出制御用の電圧を供給する。また、Ｘ軸方向駆動モーター１００２に液滴吐出ヘッド１００１のＸ軸方向の移動を制御する駆動パルス信号を、Ｙ軸方向駆動モーター１００３にステージ１００７のＹ軸方向の移動を制御する駆動パルス信号を供給する。
【００４９】
クリーニング機構１００８は、液滴吐出ヘッド１００１をクリーニングするものである。クリーニング機構１００８には、図示は省略のＹ軸方向の駆動モーターが備えられている。このＹ軸方向の駆動モーターの駆動により、クリーニング機構は、Ｙ軸方向ガイド軸１００５に沿って移動する。クリーニング機構１００８の移動も制御装置ＣＯＮＴにより制御される。
【００５０】
ヒーター１０１５は、ここではランプアニールによりワークＷを熱処理する手段であり、ワークＷ上に配置された機能液に含まれる溶媒の蒸発及び乾燥を行う。このヒーター１０１５の電源の投入及び遮断も制御装置ＣＯＮＴにより制御される。
【００５１】
液滴吐出装置ＩＪは、液滴吐出ヘッド１００１とワークＷを支持するステージ１００７とを相対的に走査しつつ、ワークＷに対して、液滴吐出ヘッド１００１の下面にＸ軸方向に配列された複数の吐出ノズルから液滴を吐出するようになっている。
【００５２】
図４は、ピエゾ方式による機能液の吐出原理を説明する図である。図４において、機能液を収容する液体室１０２１に隣接してピエゾ素子１０２２が設置されている。液体室１０２１には、機能液を収容する材料タンクを含む液体材料供給系１０２３を介して機能液が供給される。ピエゾ素子１０２２は駆動回路１０２４に接続されており、この駆動回路１０２４を介してピエゾ素子１０２２に電圧を印加し、ピエゾ素子１０２２を変形させることにより、液体室１０２１が変形し、吐出ノズル１０２５から機能液が液滴Ｓとして吐出される。この場合、印加電圧の値を変化させることにより、ピエゾ素子１０２２の歪み量が制御される。また、印加電圧の周波数を変化させることにより、ピエゾ素子１０２２の歪み速度が制御される。ピエゾ方式による液滴吐出は材料に熱を加えないため、材料の組成に影響を与えにくいという利点を有する。
【００５３】
素子基板の製造方法の説明に戻り、図を参照しながら説明する。図５及び図６は、素子基板の製造方法を示す工程図である。本実施形態の素子基板の製造方法は、素子が形成された基板上に色材層を形成する色材層形成工程と、色材層上に、色材層の屈折率よりも高い屈折率を有する調整層を形成する調整層形成工程と、調整層上に、調整層の屈折率よりも高い屈折率を有する電極層を形成する電極層形成工程と、を含むものである。
【００５４】
まず、図５（ａ）に示すように、アレイ基板１１０上に隔壁１２１を形成する。具体的には、例えばアレイ基板１１０上に樹脂材料を成膜し、この膜において画素領域Ｐｒ，Ｐｇ，Ｐｂと重なる部分を開口して、隔壁１２１を形成する。
【００５５】
次いで、色材層形成工程では、図５（ｂ）に示すように、液滴吐出装置ＩＪの液滴吐出ヘッド１００１から隔壁１２１によって区画された領域に向けて各色材層１２２Ｒ，１２２Ｇ，１２２Ｂの材料を含む機能液を液滴Ｓ１として吐出させ、隔壁１２１に囲まれる部分に、機能液１２２Ｒ’，１２２Ｇ’，１２２Ｂ’を付着させる。この際、色材層１２２Ｒ，１２２Ｇ，１２２Ｂの曲率が異なるように、例えば、液滴の吐出の前に、各色材層１２２Ｒ，１２２Ｇ，１２２Ｂに対応する隔壁１２１によって区画された領域に表面処理を施す。具体的には、色材層１２２Ｒに対応する区画領域において、特に、隔壁１２１の側面部（区画領域内における隔壁１２１の表面）に強親液力を有する表面処理を施す。一方、色材層１２２Ｇに対応する区画領域、色材層１２２Ｂに対応する区画領域の順に親液力を弱めた表面処理を施す。これにより、例えば、親液力の強い色材層１２２Ｒに対応する区画領域に塗布された機能液は、隔壁１２１の面に塗れ広がる（はい上がる）。一方、親液性の弱い色材層１２２Ｂに対応する区画領域に塗布された機能液は、色材層１２２Ｒに対応する区画領域に塗布された機能液に比べ、隔壁１２１の面に塗れ広がらない（はい上がりが少ない）。
【００５６】
その後、付着された機能液１２２ｒ’，１２２ｇ’，１２２ｂ’を乾燥・焼成等して固化することにより、図５（ｃ）に示すように、色材層１２２Ｒ，１２２Ｇ，１２２Ｂが形成される。固化された色材層１２２Ｒ，１２２Ｇ，１２２Ｂの表面部は、アレイ基板１１０側に凹形状の曲面を成し、当該曲面の曲率は、色材層１２２Ｂ、色材層１２２Ｇ、色材層１２２Ｒの順に曲率が大きくなるように形成される。
【００５７】
次いで、調整層形成工程では、図６（ｄ）に示すように、液滴吐出装置ＩＪの液滴吐出ヘッド１００１から各色材層１２２Ｒ，１２２Ｇ，１２２Ｂに向けて調整層としての調整層１２４の材料を含む機能液を液滴Ｓ２として吐出させ、各色材層１２２Ｒ，１２２Ｇ，１２２Ｂ上に機能液１２４’を塗布させる。
【００５８】
そして、塗布された機能液１２４’を乾燥・焼成等して固化させる。これにより、図６（ｅ）に示すように、各色材層１２２Ｒ，１２２Ｇ，１２２Ｂ上に調整層１２４が形成される。なお、調整層１２４の屈折率が、色材層１２２の屈折率よりも高く、かつ、画素電極１１３の屈折率よりも低くなるように材料選定される。
【００５９】
次いで、各色材層１２２上に画素電極１１３を形成する。この際、画素電極１１３の屈折率が、調整層１２４の屈折率よりも高くなるように材料選定される。なお、画素電極１１３の形成は、例えば、フォトリソグラフィ法やインクジェット法等を用いることができる。フォトリソグラフィ法を用いる場合には、図７（ａ）に示すように、調整層１２４を形成した後に、コンタクトホール２００を形成し、その後、画素電極１１３を成膜すればよい。また、インクジェット法を用いる場合には、図７（ｂ）に示すように、隔壁１２１の形成時において、隔壁１２１ａと隔壁１２１ｂとの間にコンタクトホール２００を形成しておき、画素電極１１３の材料を含む機能液を液滴として、調整層１２４とコンタクトホール２００に向けて吐出する。そして、塗布した機能液を固化すればよい。
【００６０】
次いで、画素電極１１３および隔壁１２１上に第１配向膜１１５を形成する。これにより、第１偏光板１１６を除いた素子基板１１ａが形成される。
【００６１】
さらに、液晶表示装置１ａの製造方法としては、上記素子基板１１ａの形成と別に、対向基板１２を形成する。具体的には、透明基板１２０上に共通電極１２５を形成し、共通電極１２５上に第２配向膜１２６を形成する。次いで、素子基板１１ａの画素電極１１３と対向基板１２の共通電極１２５とを対向配置させる。そして、素子基板１１ａと対向基板１２とを位置合わせしつつ、素子基板１１ａの周縁部と対向基板１２の周縁部とを貼り合せるとともに、素子基板１１ａと対向基板１２との間に液晶材料を封入して液晶層１３を形成する。また、透明基板１１９の外側に第１偏光板１１６を貼設し、透明基板１２０の外側に第２偏光板１２７を貼設することにより液晶表示装置１ａが形成される（図２参照）。
【００６２】
（電子機器の構成）
次に、電子機器の構成について説明する。なお、本実施形態では、電子機器としてのモバイル型パーソナルコンピューターの構成について説明する。図８は、電子機器としてのモバイル型パーソナルコンピューターの構成を示す斜視図である。モバイル型パーソナルコンピューター１１００は、液晶表示装置１ａと、キーボード１１０２を有する本体部１１０３等を備えている。なお、上記の電子機器は、本発明の電子機器を例示するものであって、本発明の技術範囲を限定するものではない。例えば、液晶表示装置１ａは、他の電子機器として、携帯電話、携帯用オーディオ機器、ＰＤＡ（Personal Digital Assistant）などにも適用することができる。
【００６３】
従って、上記実施形態によれば、以下に示す効果がある。
【００６４】
（１）色材層１２２と画素電極１１３との間に、色材層１２２の屈折率と画素電極１１３の屈折率の間の屈折率を有する調整層１２４を設けた。これにより、各層間の屈折率の差が小さくなり、光が透過した場合に、各層の界面における光の反射が低減されるので、透過率を向上させることができる。
【００６５】
（２）複数の色材層１２２Ｒ，１２２Ｇ，１２２Ｂのうち、透過光波長が長い色材層１２２Ｒに対応する接触面１２３ａの曲率が、他の透過光波長の短い色材層１２２Ｇ，１２２Ｂに対応する接触面１２３ｂ，１２３ｃの曲率よりも大きくなるように形成した。具体的には、色材層１２２Ｂ、色材層１２２Ｇ、色材層１２２Ｒの順にそれぞれの色材層１２２Ｂ，１２２Ｇ，１２２Ｒに対応する接触面１２３の曲率を大きくした。これにより、透過光波長が長い色材層１２２Ｒを透過した光の焦点距離を短くさせ、透過光波長の短い色材層１２２Ｂを透過した光の焦点距離を長くさせることが可能となり、例えば、液晶表示装置１ａの表示面から各色材層１２２Ｒ，１２２Ｇ，１２２Ｂを透過した光の各集光点ＣＰ１〜ＣＰ３の高さ（距離）を揃えることができる。これにより、色バランスを向上させることができる。
【００６６】
［第２実施形態］
次に、第２実施形態について説明する。なお、液晶表示装置の基本的な構成、電子機器の構成については第１実施形態と同様なので説明を省略する（図１，８参照）。また、第１実施形態と同様な部材については、第１実施形態と同じ符号を付している。
【００６７】
図９は、本実施形態にかかる液晶表示装置の要部断面図である。図９に示すように、液晶表示装置１ｂは、素子基板１１ｂと、素子基板１１ｂに対向配置された対向基板１２と、素子基板１１ｂと対向基板１２との間に挟持された液晶層１３を備えている。なお、対向基板１２の構成および液晶層１３等の構成は、第１実施形態と同様なので説明を省略し、第１実施形態の構成と異なる部分、すなわち、素子基板１１ｂの構成について主に説明する。
【００６８】
素子基板１１ｂは、素子としての薄膜トランジスター（ＴＦＴ）１１２が形成された基板としての透明基板１１９と、色材層１２２（１２２Ｒ，１２２Ｇ，１２２Ｂ）と、電極層としての画素電極１１３と、画素電極１１３および色材層１２２に対する屈折率が調整された調整層１２４とを備えている。すなわち、本実施形態にかかる液晶表示装置１ｂは、アレイ基板１１０上に色材層１２２が形成された素子基板１１ｂを有し、いわゆるＣＯＡ構造（Color Filter on Array）を有するものである。さらに、透明基板１１９上に色材層１２２が形成され、色材層１２２上に調整層１２４が形成され、調整層１２４上に画素電極１１３が形成され、調整層１２４の屈折率が、色材層１２２の屈折率よりも高く、かつ、電極層１１３の屈折率よりも低く設定されている。
【００６９】
透明基板１１９は、ガラスや石英、プラスチック等からなる透明性を有した基板である。そして、透明基板１１９上に素子層１１１が形成されている。素子層１１１には、素子としての薄膜トランジスター（ＴＦＴ）１１２や、図１（ａ）に示した走査線１０ａ、データ線１０ｂ等の各種配線や素子等が含まれている。なお、ＴＦＴ１１２や各種配線は、光が遮光される遮光領域Ｄに対応する部分に設けることが好ましい。
【００７０】
素子層１１１上には、遮光領域Ｄと重なる部分に隔壁１２１が設けられている。隔壁１２１には、画素領域Ｐｒ，Ｐｇ，Ｐｂと重なる部分に開口が設けられている。すなわち、隔壁１２１は、画素領域Ｐｒ、Ｐｇ、Ｐｂの各々を環状に囲んでいる。隔壁１２１は、例えば、黒色顔料等の遮光材料を含有したアクリル樹脂等からなり、ブラックマトリクスとして機能する。
【００７１】
そして、画素領域Ｐｒ，Ｐｇ，Ｐｂと重なる部分に、色材層１２２Ｒ，１２２Ｇ，１２２Ｂが区画配置されている。色材層１２２Ｒ，１２２Ｇ，１２２Ｂは、隔壁１２１に設けられた複数の開口内の各々に配置されており、隔壁１２１によって仕切られている。色材層１２２Ｒ，１２２Ｇ，１２２Ｂは、それぞれ赤色光、緑色光、青色光を透過させ、その他の波長帯域の色光を吸収する特性を有している。
【００７２】
色材層１２２Ｒ，１２２Ｇ，１２２Ｂ上には、調整層１２４が設けられている。調整層１２４は、透光性を有する樹脂材料等からなる。調整層１２４上には、画素電極１１３が形成されている。各画素電極１１３は、コンタクトホール２００を介してＴＦＴ１１２と１対１の関係で電気的に接続されている。ＴＦＴ１１２は、走査信号に基づいて画像信号をスイッチングし、画像信号が画素電極１１３に所定のタイミングで供給される。
【００７３】
画素電極１１３と液晶層１３との間には、第１配向膜１１５が設けられている。第１配向膜１１５は、例えばポリイミド等からなる膜にラビング処理等の配向処理を施したものであり、後述する第２配向膜１２６とともに液晶層１３の配向状態を制御する。ここでは、液晶層１３をネマティックツイスト配向（ＴＮ配向）させるように、第１配向膜１１５および第２配向膜１２６に配向処理がなされている。
【００７４】
ここで、素子基板１１ｂは、色材層１２２と調整層１２４と画素電極１１３との積層構造を有している。そして、色材層１２２と画素電極１１３との間に形成された調整層１２４の屈折率が、色材層１２２の屈折率よりも高く、かつ、画素電極１１３の屈折率よりも低くなっている。すなわち、調整層１２４の屈折率が、色材層１２２の屈折率と画素電極１１３の屈折率の間になるように調整されている。このように、色材層１２２と画素電極１１３との間に、中間屈折率を有する調整層１２４を形成することにより、色材層１２２と調整層１２４と画素電極１１３に光を透過させた場合に、各層の界面における光の反射が低減され、光の透過率を高めることができる。
【００７５】
本実施形態では、色材層１２２と調整層１２４との接触面１２３が、色材層１２２側に向けて凸形状を成している。これにより、例えば、色材層１２２側から画素電極１１３側に向けて光が照射された場合において、効率よく集光させ、コントラストを向上させることができる。
【００７６】
なお、図９に示すように、素子基板１１ｂでは、各色材層１２２Ｒ，１２２Ｇ，１２２Ｂに対応する各接触面１２３の曲率が、ほぼ同一である。そして、複数の色材層１２２のうち、透過光波長が長い色材層１２２と調整層１２４との屈折率の差が、透過光波長が短い色材層１２２と調整層１２４との屈折率との差よりも大きくなるように構成されている。なお、画素電極１１３の屈折率は１．９に設定され、調整層１２４の屈折率は１．７に設定され、色材層１２２の屈折率は１．７より小さくなるように設定されている。
【００７７】
そして、色材層１２２の屈折率は１．７よりも小さくなるように設定され、複数の色材層１２２Ｒ，１２２Ｇ，１２２Ｂのうち、相対的に透過光波長が長い色材層１２２Ｒの屈折率が、相対的に透過光波長が短い色材層１２２Ｇ，１２２Ｂの屈折率よりも低い材料で形成されている。これにより、色材層１２２Ｒと調整層１２４との屈折率の差を大きくすることができる。具体的には、複数の色材層１２２Ｒ，１２２Ｇ，１２２Ｂのうち、赤色光を透過させる色材層１２２Ｒが、最も透過光波長が長く、次いで、緑色光を透過させる色材層１２２Ｇが長く、青色光を透過させる色材層１２２Ｂが最も透過光波長が短い。従って、透過光波長が長い色材層１２２Ｒの屈折率が、透過光波長の短い色材層１２２Ｇ，１２２Ｂの屈折率よりも低い材料で形成されている。すなわち、色材層１２２Ｂ、色材層１２２Ｇ、色材層１２２Ｒの順に段々に屈折率が小さい材料で形成される。これにより、透過光波長が長い色材層１２２Ｒを透過する光が、他の色材層１２２Ｇ，１２２Ｂを透過する光よりも大きく屈折される。一方、透過光波長が短い色材層１２２Ｂを透過する光の屈折を小さくさせ、焦点距離を長くさせることができる。そして、各色材層１２２Ｒ，１２２Ｇ，１２２Ｂを透過して集光される距離が、素子基板１１ｂから等しくなるように各色材層１２２Ｒ，１２２Ｇ，１２２Ｂの屈折率が調整されている。
【００７８】
次に、本実施形態の液晶表示装置１ｂの集光状態について説明する。図９に示すように、液晶表示装置１ｂにおいて、素子基板１１ｂ側から対向基板１２側に照射された照射光は、第１偏光板１１６を通って直線偏光になり、アレイ基板１１０を透過して色材層１２２に入射する。ここで、画素領域Ｐｒに着目すると、色材層１２２Ｒに入射した光は、赤色光以外の波長帯域の光が吸収され、色材層１２２Ｒから赤色光が射出される。色材層１２２Ｒから射出された赤色光は、色材層１２２Ｒと調整層１２４との接触面１２３で屈折し、調整層１２４を透過した光は、画素電極１１３に入射され、調整層１２４と画素電極１１３との界面において屈折し、液晶層１３に入射する。ここで、画素電極１１３に画像信号が供給されていない状態では、液晶層１３は電界非印加状態になっており複屈折性を発現している。電界非印加状態の液晶層１３に入射した光は、位相変調されて第１直線偏光から９０°回転した第２直線偏光になり、対向基板１２に入射し、振動方向が第２偏光板１２７の透過軸と略一致しており、第２偏光板１２７を透過して、画素領域Ｐｒが明表示（赤）となり、第２偏光板１２７を透過した光は、集光点ＣＰ１において集光される。
【００７９】
画素領域Ｐｇ，Ｐｂの集光状態についても、上記画素領域Ｐｒと同様であるが、色材層１２２Ｂの屈折率が最も大きく設定され、次いで、色材層１２２Ｇの屈折率が大きく設定され、色材層１２２Ｒの屈折率が最も小さく設定されている。すなわち、色材層１２２Ｒと調整層１２４との屈折率の差が最も大きく、色材層１２２Ｂと調整層１２４との屈折率の差が最も小さい。このため、透過光波長の長い色材層１２２Ｒを透過する光は、相対的に大きく屈折され、透過光波長の短い色材層１２２Ｂを透過する光は、相対的に屈折が抑えられる。このため、透過光波長が異なる場合であっても、例えば、素子基板１１ｂから各色材層１２２Ｒ，１２２Ｇ，１２２Ｂを透過した光の集光点ＣＰ１〜ＣＰ３までの距離をほぼ等しくさせることができる。
【００８０】
また、画素電極１１３に画像信号が供給された状態では、液晶層１３が電界印加状態となり複屈折性を発現しなくなる。第１偏光板１１６を通って電界印加状態の液晶層１３に入射した直線偏光は、振動方向が第２偏光板１２７の吸収軸と略一致しており、第２偏光板１２７に吸収される。これにより、画素領域Ｐｒが暗表示（黒）になる。画素領域Ｐｇ，Ｐｂについても、上記画素領域Ｐｒと同様である。
【００８１】
（素子基板の製造方法）
次に、素子基板の製造方法について説明する。なお、素子基板の製造に用いる液滴吐出装置ＩＪの構成については、第１実施形態と同様のため、説明を省略する。図１０は、本実施形態にかかる素子基板の製造方法を示す工程図である。
【００８２】
まず、アレイ基板１１０上に隔壁１２１を形成する。具体的には、図１０（ａ）に示すように、例えば、アレイ基板１１０上に樹脂材料を成膜し、この膜において画素領域Ｐｒ，Ｐｇ，Ｐｂと重なる部分を開口して、隔壁１２１を形成する。
【００８３】
次いで、色材層形成工程では、図１０（ｂ）に示すように、液滴吐出装置ＩＪの液滴吐出ヘッド１００１から色材層１２２の材料を含む機能液を液滴Ｓ１として吐出させ、隔壁１２１に囲まれる部分に、機能液１２２Ｒ’，１２２Ｇ’，１２２Ｂ’を塗布する。ここで、各色材層１２２Ｒ，１２２Ｇ，１２２Ｂにおいて、それぞれ屈折率が異なる。そして、本実施形態では、機能液１２２Ｂ’，１２２Ｇ’，１２２Ｒ’の順に屈折率が高い材料を含む機能液を液滴として吐出する。但し、機能液１２２Ｂ’，１２２Ｇ’，１２２Ｒ’の屈折率は、調整層１２４の屈折率である１．７よりも小さくなるように設定される。
【００８４】
そして、塗布された機能液１２２Ｒ’，１２３Ｇ’，１２３Ｂ’を乾燥・焼成等して固化させる。これにより、図１０（ｃ）に示すように、それぞれの形状がほぼ同一となる色材層１２２Ｒ，１２２Ｇ，１２３Ｂが形成される。
【００８５】
以降、色材層形成工程等を含む素子基板の製造方法は、第１実施形態と同様なので説明を省略する。そして、以上の工程を経ることにより、素子基板１１ｂが形成される。
【００８６】
従って、上記の第２実施形態によれば、以下に示す効果がある。
【００８７】
複数の色材層１２２Ｒ，１２２Ｇ，１２２Ｂのうち、透過光波長が長い色材層１２２Ｒを、他の透過光波長の短い色材層１２２Ｇ，１２２Ｂよりも屈折率が低い材料で形成した。すなわち、色材層１２２Ｒと調整層１２４との屈折率の差が、最も大きく、次いで、色材層１２２Ｇと調整層１２４との屈折率の差が大きく、色材層１２２Ｂと調整層１２４との屈折率の差が最も小さい。これにより、透過光波長が長い色材層１２２Ｒを透過した光の焦点距離を短くさせ、透過光波長の短い色材層１２２Ｂを透過した光の焦点距離を長くさせることが可能となり、例えば、液晶表示装置１ｂの表示面から各色材層１２２Ｒ，１２２Ｇ，１２２Ｂを透過した光の各集光点ＣＰ１〜ＣＰ３の高さを揃えることができる。これにより、色バランスを向上させることができる。
【００８８】
なお、上記の実施形態に限定されるものではなく、以下のような変形例が挙げられる。
【００８９】
（変形例１）上記実施形態における素子基板１１ａ，１１ｂの構造の他、図１１に示す構成であってもよい。図１１は、変形例にかかる素子基板の構成を示す要部断面図である。
【００９０】
図１１（ａ）に示すように、色材層１２２と調整層１２４との間に、各画素における素子基板１１ｃと対向基板１２との間の液晶層１３のギャップを規定するギャップ層１３０を備えてもよい。この場合において、ギャップ層１３０の屈折率が、色材層１２２の屈折率よりも高く、かつ、調整層１２４の屈折率より低く設定される。或いは、ギャップ層１３０の屈折率が、色材層１２２の屈折率と同等に設定される。このようにすれば、コントラストを向上させることができるとともに、透過率を向上させることができる。
【００９１】
図１１（ｂ）に示すように、素子基板１１ｄは、壁部１２１によって区画された領域のアレイ基板１１０上に形成された調整層１２４と、調整層１２４上に形成された色材層１２２と、色材層１２２上に形成された画素電極１１３とを有する構成であってもよい。ここで、調整層１２４と色材層１２２との接触面１２３が、アレイ基板１１０側に向けて凸形状を有している。この場合において、調整層１２４の屈折率を色材層の１２２の屈折率よりも低くなるように設定する。このようにしても、上記同様の効果を得ることができる。
【００９２】
また、図１１（ｃ）に示すように、素子基板１１ｅは、壁部１２１によって区画された領域のアレイ基板１１０上に形成された調整層１２４と、調整層１２４上に形成されたギャップ層１３０と、ギャップ層１３０上に形成された色材層１２２と、色材層１２２上に形成された画素電極１１３とを有する構成であってもよい。このようにしても、上記同様の効果を得ることができる。
【００９３】
（変形例２）上記実施形態では、色材層１２２と画素電極１１３との間に調整層１２４を一層設けたが、これに限定されず、色材層１２２と画素電極１１３との間に調整層１２４を複数設けてもよい。この場合、各調整層１２４における屈折率を異ならせ、例えば、色材層１２２から画素電極１１３に向けて、徐々に屈折率が高くなるように配置する。このようにすれば、各層間における屈折率差が、さらに小さくなるので、より光反射を低減させ、透過率を向上させることができる。
【００９４】
（変形例３）上記実施形態では、色材層１２２毎に対応した接触面１２３の曲率を調整して、焦点距離を均一化したが、これに限定されない。曲率とともに、各部材間の屈折率差の両方で調整してもよい。このようにしても、上記同様に各色材層１２２Ｒ，１２２Ｇ，１２２Ｂを透過した光の集光点ＣＰ１〜ＣＰ３の高さを揃えることができる。
【００９５】
（変形例４）上記実施形態では、３種類の色材層１２２Ｒ，１２２Ｇ、１２２Ｂを例に挙げて説明したが、これに限定されない。例えば、色材層１２２が、１または２種類であってもよいし、４種類以上あってもよい。このような場合であっても、上記同様の効果を得ることができる。
【００９６】
（変形例５）上記実施形態および変形例にかかる素子基板１１ａ〜１１ｅの構成を任意に組み合わせて液晶表示装置１ａ，１ｂ等に適用してもよい。このようにすれば、設計の自由度を高めることができる。
【００９７】
（変形例６）上記実施形態において説明した液晶層１３は、ＶＡ配向等のＴＮ配向以外の配向のものであってもよいし、横電界により駆動されるものでもよい。液晶層の配向性や駆動方法を変更する場合には、電極配置や配向膜の特性、偏光板の特性等も適宜変更すればよい。また、透過型の液晶装置の他にも、反射型、あるいは半透過半反射型の液晶表示装置としてもよい。このようにしても、上記同様の効果を得ることができる。
【符号の説明】
【００９８】
１ａ，１ｂ…液晶表示装置、１１（１１ａ〜１１ｅ）…素子基板、１２…対向基板、１３…液晶層、１１０…アレイ基板、１１１…素子層、１１２…ＴＦＴ、１１３…電極層としての画素電極、１２２（１２２Ｒ，１２２Ｇ，１２２Ｂ）…色材層、１２３（１２３ａ，１２３ｂ，１２３ｃ）…接触面、１２４…調整層、１００１…液滴吐出ヘッド、１１００…電子機器としてのモバイル型パーソナルコンピューター。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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