(57)【要約】【課題】液晶層の層厚の均一化を達成することが可能な液晶表示素子の製造方法を提供する。【解決手段】液晶表示装置の製造方法であって、第２の透明基板５に第２透明保護膜剤８´を設けて第２の均一化基板５０を形成する工程と、第２の均一化基板５０と第１透明保護膜４が形成された第１の均一化基板１０とを、互いの対応する画素領域Ｄｐ同士を重ねて配置する工程と、第１の均一化基板１０と第２の均一化基板５０とを近づけて第１透明保護膜４の表面形状を第２透明保護膜剤８´に転写する工程と、第２透明保護膜剤８´を硬化する工程と、第１透明保護膜４と第２透明保護膜剤８´との間の押圧力を解放した状態で、第１の均一化基板１０と前記第２の均一化基板５０とを互いの対応する画素領域Ｄｐ同士が重なるように所定の間隙を確保して接合する工程と、を含むので液晶層の層厚の均一化が達成される。【選択図】      図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１透明保護膜が形成された第１の均一化基板と、該第１の均一化基板に液晶層を介して対向配置される第２の基板とを準備する第一工程と、
前記第２の基板のうち前記液晶層が配置される側の面を覆うように第２透明保護膜剤を設けることで前記第２の基板と前記第２透明保護膜剤とから成る第２の均一化基板を形成する第二工程と、
前記第２の均一化基板と前記第１の均一化基板とを、互いの対応する画素領域同士を重ねて対向配置する第三工程と、
前記第１透明保護膜と前記第２透明保護膜剤とを互いに押圧し、前記第１の均一化基板と前記第２の均一化基板とを近づけて前記第１透明保護膜の表面形状を前記第２透明保護膜剤に転写する第四工程と、
前記第２透明保護膜剤を硬化する第五工程と、
前記第１透明保護膜と前記第２透明保護膜剤との間の押圧力を解放した状態で、前記第１の均一化基板と前記第２の均一化基板とを互いの対応する前記画素領域同士が重なるように所定の間隙を確保して接合する第六工程と、を含むことを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の液晶表示素子の製造方法であって、
前記第五工程において、前記第１透明保護膜と前記第２透明保護膜剤とを互いに押圧させたまま、前記第２透明保護膜剤を硬化することを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
【請求項３】
請求項１に記載の液晶表示素子の製造方法であって、
前記第五工程において、前記第１透明保護膜と前記第２透明保護膜剤との間の押圧力を解放してから、前記第２透明保護膜剤を硬化することを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれかに記載の液晶表示素子の製造方法であって、
前記第三工程において、前記第１の均一化基板が有する複数の画素電極のうち前記画素領域を形成する一つの画素電極と、前記第２の均一化基板が有する複数の色要素フィルタのうち前記画素領域を形成する一つの色要素フィルタとが重なるように、前記第１の均一化基板と前記第２の均一化基板とを対向配置し、
前記第六工程において、前記第１の均一化基板と前記第２の均一化基板とを接合する際に、前記一つの画素電極と、前記一つの色要素フィルタとが重なるように、前記第１の均一化基板と前記第２の均一化基板とを接合することを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれかに記載の液晶表示素子の製造方法であって、
前記第四工程において、前記第１透明保護膜と前記第２透明保護膜剤とを互いに押圧する際に、前記第１透明保護膜と前記第２透明保護膜剤とを互いに接触させた状態で押圧すること含むことを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
【請求項６】
請求項１乃至４のいずれかに記載の液晶表示素子の製造方法であって、
前記第四工程において、前記第１透明保護膜と前記第２透明保護膜剤とを互いに押圧する際に、前記第１透明保護膜と前記第２透明保護膜剤との間にフィルム状部材を介在させた状態で押圧することを含むことを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
【請求項７】
請求項６に記載の液晶表示素子の製造方法であって、
前記第四工程において、前記第１透明保護膜よりも前記第２透明保護膜剤との間の粘着力が弱い前記フィルム状部材を、前記第１透明保護膜と前記第２透明保護膜剤との間に介在させることを含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれかに記載の液晶表示素子の製造方法であって、
前記第二工程において、可塑性樹脂または硬化性樹脂からなる前記第２透明保護膜剤を前記第２の基板に設けることを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれかに記載の液晶表示素子の製造方法であって、
前記第一工程において、薄膜トランジスタと画素電極とが画素領域毎に形成されたトランジスタアレイ基板を前記第１の均一化基板として準備し、前記各画素領域に対応するように色要素フィルタが形成されたカラーフィルタ基板を前記第２の基板として準備することを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、液晶表示素子の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
薄膜トランジスタや画素電極等の素子がパターニング形成されたトランジスタアレイ基板と、カラーフィルタや対向電極等の素子が形成されたカラーフィルタ基板とを、各素子形成面が対向するように配置し、それら一対の基板により液晶層を挟持してなる液晶表示素子では、各基板の素子形成面の最表面に凹凸が生じる。この凹凸により液晶層を侠持する一対の基板の最表面同士の間隔が不均一になり、これに伴って前記液晶層の層厚が不均一になると、液晶の応答速度や液晶分子の配向状態等の表示特性に直接悪影響を及ぼす。そこで、従来、液晶表示素子における液晶層の層厚を均一化する方策として、特許文献１に示されるように、基板のうち前記液晶層が配置される側の面に凹凸を緩和するための平坦化膜を積層させて液晶層を侠持する方法が採用されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００１−２２８４８５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上述の平坦化膜を積層する方法によっても、前記基板表面の凹凸を完全には緩和することはできず、平坦化膜表面に凹凸が引き継がれてしまい、或る程度の液晶層の層厚のばらつきは解消できない。従って、表示品位の低下を確実に防止することはできていない。
【０００５】
本発明の目的は、液晶層の層厚の均一化を達成することが可能な液晶表示素子の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
請求項１に記載された本発明の液晶表示素子の製造方法は、第１透明保護膜が形成された第１の均一化基板と、該第１の均一化基板に液晶層を介して対向配置される第２の基板とを準備する第一工程と、前記第２の基板のうち前記液晶層が配置される側の面を覆うように第２透明保護膜剤を設けることで前記第２の基板と前記第２透明保護膜剤とから成る第２の均一化基板を形成する第二工程と、前記第２の均一化基板と前記第１の均一化基板とを、互いの対応する画素領域同士を重ねて対向配置する第三工程と、前記第１透明保護膜と前記第２透明保護膜剤とを互いに押圧し、前記第１の均一化基板と前記第２の均一化基板とを近づけて前記第１透明保護膜の表面形状を前記第２透明保護膜剤に転写する第四工程と、前記第２透明保護膜剤を硬化する第五工程と、前記第１透明保護膜と前記第２透明保護膜剤との間の押圧力を解放した状態で、前記第１の均一化基板と前記第２の均一化基板とを互いの対応する前記画素領域同士が重なるように所定の間隙を確保して接合する第六工程と、を含むこと、を特徴とするものである。
【０００７】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の液晶表示素子の製造方法であって、前記第五工程において、前記第１透明保護膜と前記第２透明保護膜剤とを互いに押圧させたまま、前記第２透明保護膜剤を硬化すること、を特徴とするものである。
【０００８】
請求項３に記載の発明は、請求項１に記載の液晶表示素子の製造方法であって、前記第五工程において、前記第１透明保護膜と前記第２透明保護膜剤との間の押圧力を解放してから、前記第２透明保護膜剤を硬化すること、を特徴とするものである。
【０００９】
請求項４に記載の発明は、請求項１乃至請求項３のいずれかの請求項に記載の液晶表示素子の製造方法であって、前記第三工程において、前記第１の均一化基板が有する複数の画素電極のうち前記画素領域を形成する一つの画素電極と、前記第２の均一化基板が有する複数の色要素フィルタのうち前記画素領域を形成する一つの色要素フィルタとが重なるように、前記第１の均一化基板と前記第２の均一化基板とを対向配置し、前記第六工程において、前記第１の均一化基板と前記第２の均一化基板とを接合する際に、前記一つの画素電極と、前記一つの色要素フィルタとが重なるように、前記第１の均一化基板と前記第２の均一化基板とを接合すること、を特徴とするものである。
【００１０】
請求項５に記載の発明は、請求項１乃至請求項４のいずれかの請求項に記載の液晶表示素子の製造方法であって、前記第四工程において、前記第１透明保護膜と前記第２透明保護膜剤とを互いに押圧する際に、前記第１透明保護膜と前記第２透明保護膜剤とを互いに接触させた状態で押圧すること、を特徴とするものである。
【００１１】
請求項６に記載の発明は、請求項１乃至請求項４のいずれかの請求項に記載の液晶表示素子の製造方法であって、前記第四工程において、前記第１透明保護膜と前記第２透明保護膜剤とを互いに押圧する際に、前記第１透明保護膜と前記第２透明保護膜剤との間にフィルム状部材を介在させた状態で押圧することを含むこと、を特徴とするものである。
【００１２】
請求項７に記載の発明は、請求項６に記載の液晶表示素子の製造方法であって、前記第四工程において、前記第１透明保護膜よりも前記第２透明保護膜剤との間の粘着力が弱い前記フィルム状部材を、前記第１透明保護膜と前記第２透明保護膜剤との間に介在させることを含むこと、を特徴とするものである。
【００１３】
請求項８に記載の発明は、請求項１乃至請求項７のいずれかの請求項に記載の液晶表示素子の製造方法であって、前記第二工程において、可塑性樹脂または硬化性樹脂からなる前記第２透明保護膜剤を前記第２の基板に設けること、を特徴とするものである。
【００１４】
請求項９に記載の発明は、請求項１乃至請求項８のいずれかの請求項に記載の液晶表示素子の製造方法であって、前記第一工程において、薄膜トランジスタと画素電極とが画素領域毎に形成されたトランジスタアレイ基板を前記第１の均一化基板として準備し、前記各画素領域に対応するように色要素フィルタが形成されたカラーフィルタ基板を前記第２の基板として準備すること、を特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、液晶層の層厚の均一化を達成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の一実施形態としての製造方法における転写接合前の工程を示す模式的断面図である。
【図２】上記製造方法における転写接合工程を示す模式的断面図である。
【図３】上記製造方法における基板離隔工程を示す模式的断面図である。
【図４】上記製造方法により製造された液晶表示素子を示す模式的断面図である。
【図５】本発明の他の実施形態としての製造方法における転写接合工程を示す模式的断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
本実施形態の製造方法によって製造される液晶表示素子は一対の基板により液晶層を挟持してなるアクティブマトリックス型の液晶表示素子であり、図１（ａ）に示すように、転写接合する前の第１の透明基板１（第１の基板）は、複数の画素電極２と、この画素電極２に対する信号電圧の印加をオン・オフするスイッチング素子としての複数の薄膜トランジスタ３と、を備えており、１個の画素領域Ｄｐ毎に、前記画素電極２と、前記薄膜トランジスタ３と、がそれぞれ配設されている。
【００１８】
薄膜トランジスタ３は、逆スタガー型で、ゲート電極３０１、ゲート絶縁膜３０２、半導体層３０３、オーミックコンタクト層３０４、ブロッキング層３０５、ソース電極３０６、ドレイン電極３０７等からなり、ドレイン電極３０７が対応画素電極２に導通接続されている。
【００１９】
画素領域Ｄｐ毎に画素電極２と薄膜トランジスタ３が配設されてなる画素アレイ層を覆って第１の透明基板１の前記液晶層が配置される側の面の略全面にわたり、第１透明保護膜４が第１の透明基板１の最表面となるように被着され、第１の透明基板１と第１透明保護膜４とから成る第１の均一化基板１０が形成される。この第１透明保護膜４は、下地層となる画素アレイ層上に非結晶フッ素樹脂剤からなる熱可塑性樹脂の第１透明保護膜剤をスピンコート法等により一様に塗布した後に硬化させて形成されている。したがって、第１透明保護膜４の表面には、画素アレイ層表面の凹凸の度合いが或る程度吸収緩和された凹凸が形成されている。
【００２０】
本実施形態の第１透明保護膜４は、ペルフルオロ（４−ビニルオキシ−１−ブテン：ＢＶＥ）を環化重合させて得られる非結晶フッ素樹脂からなり、紫外、可視、近赤外の幅広い波長範囲において、透明である。
【００２１】
一方、図１（ｂ）に示されているように、転写接合する前の第２の透明基板５（第２の基板）は、ブラックマトリクス６により区画されマトリクス配列された色要素フィルタを複数備えており、１個の画素領域Ｄｐ毎に赤、緑、青の各色要素フィルタ７ｒ、７ｇ、７ｂが順に一つずつ配設されている。
【００２２】
上述のように加工が施され形成された第１の均一化基板１０と第２の透明基板５が準備されたら、まず、第２の透明基板５のカラーフィルタ層７を覆って第２の透明基板５の前記液晶層が配置される側の面の略全面にわたり、前記第１透明保護膜４と同じ材料の非結晶フッ素樹脂剤からなる第２透明保護膜剤８´をスピンコート法により塗布する。これにより、第２の透明基板５と第２透明保護膜剤８´とからなる第２の均一化基板５０が形成される。この塗布プロセスでは、第１の均一化基板１０における薄膜トランジスタ３による段差Ｇを吸収できる程度に厚肉化する必要があるため、下塗りした第２透明保護膜剤８´を完全に乾燥させない状態（30〜120℃で1〜10分間）で複数回重ね塗りする。
【００２３】
次に、第２の均一化基板５０の第２透明保護膜剤８´をガラス転移温度（１０８℃）近傍に加熱した状態で、図２に示すように、第１の均一化基板１０と第２の均一化基板５０とを、互いの対応する画素領域Ｄｐ同士を重ねて対向配置させ、そして準備してある第１の均一化基板１０の第１透明保護膜４を、軟化している前記第２透明保護膜剤８´に押圧させる。具体的には、第１の均一化基板１０が有する複数の画素電極２のうち画素領域Ｄｐを形成する一つの画素電極と、第２の均一化基板５０が有する複数の色要素フィルタ７ｒ、７ｇ、７ｂのうち画素領域Ｄｐを形成する一つの色要素フィルタとが重なるように、前記第１の均一化基板１０と前記第２の均一化基板５０とを対向配置させ、第１の均一化基板１０の第１透明保護膜４を、軟化している前記第２透明保護膜剤８´に押圧させる。
【００２４】
この押圧プロセスでは、ワークが載置される台に加熱手段が装備された熱圧着装置を用い、まず、第２の均一化基板５０を、塗布された第２透明保護膜剤８´を表にして台の所定位置に載置する。そして、前記ガラス転移温度近傍に加熱した状態の第２透明保護膜剤８´を備える第２の均一化基板５０と、押圧ヘッドに裏面が例えば真空吸着された第１の均一化基板１０とを共に位置合わせしつつ、押圧ヘッドを降下させて押圧ヘッドに真空吸着された前記第１透明保護膜４を第２透明保護膜剤８´に接触させ押圧する。この際の押圧ストロークは、図示されるように、第１透明保護膜４と第２透明保護膜剤８´間に隙間が無く、且つ、第２透明保護膜剤８´を硬化させて第２透明保護膜としたときに最低限必要な膜厚が確保されるストロークに設定する。
【００２５】
上述の押圧状態を維持しつつ加熱を停止する。そして前記第２の均一化基板５０の全面に渡り形成された第２透明保護膜剤８´を冷却して硬化させ、第２透明保護膜８を形成する。次いで、図３に示すように、押圧ヘッドと共に第１の均一化基板１０を上昇させて、前記第１透明保護膜４と前記第２透明保護膜８との間の押圧力を開放し、第１の均一化基板１０を第２の均一化基板５０から離隔させる。このとき、第２の均一化基板５０の第２透明保護膜８は、第１透明保護膜４の表面形状が転写されて硬化している。
【００２６】
この離型プロセスでは、押圧させた第１透明保護膜４と第２透明保護膜剤８´は、相互に離型性の良いフッ素樹脂同士であるから、間に離型剤を介在させなくても容易に両者を離脱させることができる。
【００２７】
次に、図４に示すように、第１の均一化基板１０における第１透明保護膜４に第１配向膜９を、第２の均一化基板５０における第２透明保護膜８に共通電極１１と第２配向膜１２を、それぞれ積層する。これら共通電極１１や第１、第２配向膜９、１２は、膜厚が１０〜１００ｎｍ程度と極めて薄いから、それら第１、第２配向膜９、１２の表面形状は第１、第２透明保護膜４、８表面の凹凸形状と略同一である。この後、第１、第２配向膜９、１２に、それぞれ、配向処理を施す。
【００２８】
次に、第１、第２の各均一化基板１０、５０のうちの例えば第１の均一化基板１０の第１配向膜９が積層された面の周縁に沿って、エポキシ樹脂からなる枠状シール材（不図示）を配置した後、枠状シール材内に均一にスペーサ粒子１３を散布する。
【００２９】
次に、上述の第１の均一化基板１０に第２の均一化基板５０を貼り合せる。この貼り合わせ工程では、まず、第１の均一化基板１０と第２の均一化基板５０との間の押圧力を開放した状態で、第１の均一化基板１０と第２の均一化基板５０とを、互いの対応する画素領域Ｄｐ同士が重なるように位置を合わせする。
【００３０】
そして第１透明保護膜と第２透明保護膜との間の距離を一定に確保した状態で、第１の均一化基板１０と第２の均一化基板５０とを接合させる。そのとき、第１透明保護膜と第２透明保護膜との間の距離を一定に確保した状態のまま、シール材を硬化させるために加熱する。
【００３１】
これにより、液晶が封入される基板間隙の大きさ、つまり液晶層の層厚が、画素領域Ｄｐだけでなく画素領域以外の領域も含んだ全域にわたり、スペーサ粒子１３により規制される所定の設定寸法Ｃに正確に保持され、液晶層の層厚が均一化される液晶表示セルが得られる。このようにして得られた液晶表示セルに周知の方法により液晶を注入し注入口を封止すれば、本実施形態の液晶表示素子が完成する。
【００３２】
以上のように、本実施形態の液晶表示素子の製造方法によれば、液晶層を挟持する一対の透明基板１、５の各透明保護膜４、８うちの一方の表面形状を他方の表面に直接転写させるから、液晶が封入される基板間隙の寸法Ｃが液晶封入領域の全域にわたり一定となる。そして、その液晶封入間隙寸法Ｃがスペーサ粒子１３を介在させることにより、長期にわたり安定して正確に保持される。その結果、色ムラ等の画質不良の無い高品位の表示品質が安定して維持される信頼性に優れた液晶表示素子が得られる。
【００３３】
なお、第１、第２透明保護膜４、８の互いに離型性に優れた材料の組み合わせとしては、上述のフッ素樹脂同士以外に、フッ素樹脂とポリアミド樹脂、ポリケトンとポリプロピレン等の他の樹脂材料同士の組み合わせも可能である。
【００３４】
次に、本発明の他の実施形態について、図５に基づき説明する。なお、上記実施形態と同一の構成要素については同一の符号を付して、その説明を省略する。
【００３５】
本実施形態の製造方法では、透明保護膜の表面形状を転写する際に、図５に示すように、第１の均一化基板１０の第１透明保護膜４と第２の透明基板５の第２透明保護膜剤１４´との間に、離型フィルム１５（フィルム状部材）を介在させる。ここで、離型フィルム１５は、第１透明保護膜４よりも第２透明保護膜剤１４’との間の粘着力が弱い。
【００３６】
離型フィルム１５は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ：Poly-Eethylene Trephthalate）からなる厚さが４０μｍ程度の基材１５１に、シリコーンオイルにメタクリル基を有する付加重合性化合物を混合した剥離性材料を加熱または放射線の輻射等により付加重合させて０．１μｍ程度の厚さに形成される剥離層１５２を前記基材１５１に固着してなる。
【００３７】
上記離型フィルム１５を、熱圧着装置の載置台上にセットされた第２の均一化基板５０に塗布されている第２透明保護膜剤１４´上に被せる。このとき、第２透明保護膜剤１４´は、アクリル樹脂剤をスピンコート法によりカラーフィルタ層７上に塗布して形成され、図１（ｂ）に示されるような凹凸が生じた表面形状をなしている。この第２透明保護膜剤１４´上に、離型フィルム１５を剥離層１５２を対面させて載置する。
【００３８】
次に、離型フィルム１５が被装された第２の均一化基板５０を加熱しつつ第１の均一化基板１０を吸着保持した押圧ヘッドを降下させ、上記実施形態と同様に、第１の均一化基板１０と第２の均一化基板５０との互いに対応する画素領域Ｄｐ同士を重ねて第１の均一化基板１０と第２の均一化基板５０とを対向配置させながら、且つ第１の均一化基板１０と第２の均一化基板５０との間に離型フィルム１５を介在したまま第１透明保護膜４を第２透明保護膜剤１４´に所定のストロークで押圧させる。
【００３９】
これにより、図示されるように、第１透明保護膜４表面が薄い離型フィルム１５を介して第２透明保護膜剤１４´に隙間なく押圧され、その表面形状が第２透明保護膜剤１４´に正確に転写される。
【００４０】
所定時間にわたり押圧状態を維持しつつ加熱を継続した後、加熱を停止して所定時間放置して第２透明保護膜剤１４´を硬化させることで、第２透明保護膜１４が形成される。この後、押圧ヘッドと共に第１の均一化基板１０を上昇させて、記第１透明保護膜４と前記第２透明保護膜１４との間の押圧力を開放し第１透明保護膜４を離型フィルム１５から離隔させ、次いで、離型フィルム１５を第２透明保護膜１４から剥離する。このとき、剥離層１５２の離型性効果により離型フィルム１５は第２透明保護膜１４から容易に剥離される。この後は、上記実施形態と同様のプロセスを経て、本実施形態の液晶表示素子が得られる。
【００４１】
以上のように、本実施形態の製造方法では、転写接合プロセスにおいて、離型フィルム１５を介して第１透明保護膜４を第２透明保護膜剤１４´に押圧させるから、第１透明保護膜４と第２透明保護膜剤１４´との離型性が悪くても、容易に両者を離隔させることができる。従って、上記実施形態の方法に比べて、離型フィルム１５という新たな部材が必要となるものの、第１透明保護膜４と第２透明保護膜剤１４´の各材料の選定範囲が広がるという本方法に特有の利点がもたらされる。
【００４２】
なお、本発明は上記の実施形態に限定されるものではない。例えば、上記実施形態では、透明保護膜１及び透明保護膜２を熱可塑性樹脂により形成しているが、例えば光可塑性樹脂といった他の可塑性樹脂で形成してもよく、または例えば熱硬化性樹脂や光硬化性樹脂といった硬化性樹脂で形成してもよい。また、アクティブマトリックス型の液晶表示素子の製造方法に本発明方法が適用されているが、これに限らず、本発明方法は単純マトリクス型液晶表示素子等の他の種々の液晶表示素子の製造方法に広く適用可能である。
【００４３】
また、本実施例では第１透明保護膜４と第２透明保護膜剤１４とを互いに押圧させたまま、第２透明保護膜剤１４を硬化させているが、第１透明保護膜４の表面形状が第２透明保護膜剤１４に転写された後に、第１透明保護膜１と第２透明保護膜剤１４との間の押圧力を解放してから、第２透明保護膜剤１４を硬化させてもよい。
【符号の説明】
【００４４】
１                        第１の透明基板
２                        画素電極
３                        薄膜トランジスタ
４                        第１透明保護膜
５                        第２の透明基板
６１                      ブラックマトリクス
７                        カラーフィルタ層
８´                      第２透明保護膜剤
８                        第２透明保護膜
９                        第１配向膜
１１                      共通電極
１２                      第２配向膜
１３                      スペーサ粒子
１４                      第２透明保護膜
１４´                    第２透明保護膜剤
１５                      離型フィルム
１５１                    基材
１５２                    剥離層
Ｄｐ                      画素領域
１０                      第１の均一化基板
５０                      第２の均一化基板
【図１】
2012068304.tif 000003
【図２】
2012068304.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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