(57)【要約】【課題】限られたスペース内に複数個の光学素子を効率よく設置することが可能なミラー付き光導波路を提供する。【解決手段】下部クラッド層２と、下部クラッド層２上に間隔をおいて並設された複数本のコア３ａ〜３ｄと、コア３ａ〜３ｄのそれぞれに形成されたミラー面６とを有するミラー付き光導波路５であって、各コア３ａ〜３ｄは、長手方向に間隔をおいて第１〜第２の傾斜面１１，２１を有しており、コアの第ｋの傾斜面（ｋは１〜２の整数）１１，２１同士がコアの短手方向に１列に配列しており、コアの傾斜面１１，２１よりなる総ての傾斜面のうち、一部の傾斜面が金属層３０の形成されたミラー面６となっており、残部の傾斜面が金属層３０を有しない透光面７となっており、ミラー面６に対して短手方向に隣接する傾斜面は、いずれも透光面７となっているミラー付き光導波路５。【選択図】図１
2012247670.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下部クラッド層と、
前記下部クラッド層上に間隔をおいて並設された複数本のコアと、
前記複数本のコアのそれぞれに形成されたミラー面と
を有するミラー付き光導波路であって、
各コアは、長手方向に間隔をおいて第１〜第ｎの傾斜面（ｎは２以上の整数）を有しており、
前記複数本のコアの第ｋの傾斜面（ｋは１〜ｎの整数）同士が前記コアの短手方向に１列に配列しており、
前記複数本のコアの第１〜第ｎの傾斜面よりなる総ての傾斜面のうち、一部の傾斜面が金属層の形成されたミラー面となっており、残部の傾斜面が金属層を有しない透光面となっており、
前記ミラー面に対して前記短手方向に隣接する傾斜面は、いずれも前記透光面となっていることを特徴とするミラー付き光導波路。
【請求項２】
前記ｎが２であり、
各コアの第１の傾斜面及び第２の傾斜面のうち、一方が金属層の形成されたミラー面となっており、他方が金属層を有しない透光面となっており、
前記ミラー面に対して前記短手方向に隣接する傾斜面は、いずれも前記透光面となっている請求項１に記載のミラー付き光導波路。
【請求項３】
前記複数本のコアを被覆する上部クラッド層を有する請求項１又は２に記載のミラー付き光導波路。
【請求項４】
各コアは、前記長手方向に間隔をおいて第１〜第ｎの溝（ｎは２以上の整数）を有しており、
前記複数本のコアの第ｋの溝（ｋは１〜ｎの整数）同士が前記コアの短手方向に１列に配列しており、
第ｋの溝の一方の側面が第ｋの傾斜面となっている請求項１〜３のいずれかに記載のミラー付き光導波路。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載のミラー付き光導波路の製造方法であって、
前記下部クラッド層上に前記複数本のコアを形成するコア形成工程と、
前記複数本のコアに前記第ｋの傾斜面を形成する傾斜面形成工程と、
前記一部の傾斜面に前記ミラー面を形成するミラー面形成工程と
を有するミラー付き光導波路の製造方法。
【請求項６】
前記ミラー面形成工程の後に、前記複数本のコアを被覆する上部クラッド層を形成する上部クラッド層形成工程を有する請求項５に記載のミラー付き光導波路の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、コアの光路上に光路変換用のミラー面を有するミラー付き光導波路と、その製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子素子間や配線基板間の高速・高密度信号伝送において、従来の電気配線による伝送では、信号の相互干渉や減衰が障壁となり、高速・高密度化の限界が見え始めている。これを打ち破るため電子素子間や配線基板間を光で接続する技術、いわゆる光インターコネクションが提案されており、電気配線と光配線の複合化に関して種々の検討が行われている。光伝送路としては、光ファイバに比べ、配線の自由度が高く、且つ高密度化が可能な光導波路（板状の光伝送路）を用いることが望ましく、中でも、加工性や経済性に優れたポリマー材料を用いた光導波路が有望である。
【０００３】
例えば、特許文献１，２の導波路フィルム型光モジュールは、板状の光導波路フィルムの長手方向における一方の側面が傾斜したミラー面とされていると共に、この光導波路フィルムの長手方向の途中に光路変換部が設けられている。また、この光導波路フィルムの下面のうちこれらミラー面及び光路変換部と対応する位置に、それぞれ発光素子及び受光素子が設けられている。そして、この発光素子から上方に向けて光信号が送信されると、ミラー面に反射されて長手方向に光路を変えて進行した後、その一部が光路変換部によって下方に光路変換されて受光素子に受信され、残部が光路を変えることなく光路変換部を透過する。なお、特許文献１の導波路フィルム型光モジュールにあっては、光導波路フィルムの長手方向におけるミラー面と反対側の端部が光コネクタ（ＭＴコネクタ）に接続されている。
【０００４】
特許文献３の図１，２には、基板上に第一の光導波路層及び第二の光導波路層がこの順に積層された光電気混載回路実装基板が記載されている。各光導波路層は、互いに平行に並設された３本の角棒状のコアを有しており、各コアは長手方向（光路方向）に間隔をおいて第１，２のミラーを有している。これら３本のコアの第１のミラー同士は一列に並んでおり、第２のミラー同士も一列に並んでいる。第１のミラーの上方に発光素子が設けられ、第２のミラーの上方に受光素子が設けられている。発光素子から下向きに送信された光信号は、第１のミラーで水平方向に光路変換されてコア内を透過し、第２のミラーで上向きに光路変換されて受光素子に受信される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００６−０１１２１０号公報
【特許文献２】特開２００６−０１７８８５号公報
【特許文献３】国際公開第２００６／０５４５６９号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１〜３の光導波路にあっては、限られたスペース内に複数個の光学素子を効率よく設置することができないという問題がある。
すなわち、特許文献１の導波路フィルム型光モジュールは、上述のとおり、板状の光導波路フィルムの長手方向における一方の側面が傾斜したミラー面とされている。このミラー面の下方に４個の発光点が、この光導波路フィルムの短手方向（光路と直交方向）に間隔をおいて１列に設置されている。このように４個の発光点が１列に設置されているため、隣接する発光点同士の間に十分な間隔をおく必要があり、所定のスペース内に多数の発光点を効率よく設置することが困難である。
特許文献２の導波路フィルム型光モジュールにあっては、その図３に示すとおり、４本の導波路コアが平行に設置されており、これら導波路コアの左端部は、傾斜したミラー面となっている。しかしながら、これら４本の導波路コアの左端に形成された４個のミラー面は１列に並んでいるため、これらミラー面の下方の光学素子も１列に設置される。このため、隣接する光学素子同士の間に十分な間隔をおく必要があり、所定のスペース内に多数の光学素子を効率よく設置することが困難である。
特許文献３の光電気混載回路実装基板にあっても、第１のミラー同士が１列に設けられており、また第２のミラー同士も１列に設けられているため、これらの上方に設けられる光学素子も１列に設置される。このため、隣接する光学素子同士の間に十分な間隔をおく必要があり、所定のスペース内に多数の光学素子を効率よく設置することが困難である。
【０００７】
本発明は、限られたスペース内に複数個の光学素子を効率よく設置することが可能なミラー付き光導波路及びその製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者は鋭意検討した結果、複数本のコアが並設されたミラー付き光導波路において、隣り合うコアのミラー面をコアの長手方向（光路方向）にずらして設置することにより、上記課題を解決し得るとの知見に至った。また、本発明者は、上記傾斜面の列をコアの長手方向に間隔をおいて複数列形成し、隣り合うコアにあっては異なる列の傾斜面を選択してミラー面を形成することにより、隣り合うコアのミラー面をコアの長手方向にずらして設置することができ、上記課題を解決し得るとの知見に至った。
【０００９】
すなわち、本発明は、下記［１］〜［６］を提供するものである。
［１］下部クラッド層と、前記下部クラッド層上に間隔をおいて並設された複数本のコアと、前記複数本のコアのそれぞれに形成されたミラー面とを有するミラー付き光導波路であって、各コアは、長手方向に間隔をおいて第１〜第ｎの傾斜面（ｎは２以上の整数）を有しており、前記複数本のコアの第ｋの傾斜面（ｋは１〜ｎの整数）同士が前記コアの短手方向に１列に配列しており、前記複数本のコアの第１〜第ｎの傾斜面よりなる総ての傾斜面のうち、一部の傾斜面が金属層の形成されたミラー面となっており、残部の傾斜面が金属層を有しない透光面となっており、前記ミラー面に対して前記短手方向に隣接する傾斜面は、いずれも前記透光面となっていることを特徴とするミラー付き光導波路。
［２］前記ｎが２であり、各コアの第１の傾斜面及び第２の傾斜面のうち、一方が金属層の形成されたミラー面となっており、他方が金属層を有しない透光面となっており、前記ミラー面に対して前記短手方向に隣接する傾斜面は、いずれも前記透光面となっている［１］に記載のミラー付き光導波路。
または、下部クラッド層と、前記下部クラッド層上に間隔をおいて並設された複数本のコアと、前記複数本のコアのそれぞれに形成されたミラー面とを有するミラー付き光導波路であって、各コアは、長手方向に間隔をおいて第１〜第２の傾斜面を有しており、第１の傾斜面同士が前記コアの短手方向に１列に配列しており、第２の傾斜面同士が前記コアの短手方向に１列に配列しており、各コアの第１の傾斜面及び第２の傾斜面のうち、一方が金属層の形成されたミラー面となっており、他方が金属層を有しない透光面となっており、前記ミラー面に対して前記短手方向に隣接する傾斜面は、いずれも前記透光面となっていることを特徴とするミラー付き光導波路。
［３］前記複数本のコアを被覆する上部クラッド層を有する［１］又は［２］に記載のミラー付き光導波路。
［４］各コアは、前記長手方向に間隔をおいて第１〜第ｎの溝（ｎは２以上の整数）を有しており、前記複数本のコアの第ｋの溝（ｋは１〜ｎの整数）同士が前記コアの短手方向に１列に配列しており、第ｋの溝の一方の側面が第ｋの傾斜面となっている［１］〜［３］のいずれかに記載のミラー付き光導波路。
［５］［１］〜［４］のいずれかに記載のミラー付き光導波路の製造方法であって、前記下部クラッド層上に前記複数本のコアを形成するコア形成工程と、前記複数本のコアに前記第ｋの傾斜面を形成する傾斜面形成工程と、前記一部の傾斜面に前記ミラー面を形成するミラー面形成工程とを有するミラー付き光導波路の製造方法。
［６］前記ミラー面形成工程の後に、前記複数本のコアを被覆する上部クラッド層を形成する上部クラッド層形成工程を有する［５］に記載のミラー付き光導波路の製造方法。
【発明の効果】
【００１０】
本発明のミラー付き光導波路及びその製造方法にあっては、隣り合うコアに設置したミラー面が、コアの長手方向（光路方向）に互いにずれている。これにより、これらミラー面の上方又は下方に設置する光学素子の設置位置もコアの長手方向にずれるため、光学素子同士が干渉し合うことが防止され、所定のスペース内に多数の光学素子を効率よく設置することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】図１（ａ）は第１の実施の形態に係るミラー付き光導波路５の斜視図、図１（ｂ）は図１（ａ）のＢ−Ｂ線に沿う断面図、図１（ｃ）は図１（ａ）のＣ−Ｃ線に沿う断面図である。
【図２】図２（ａ）は図１（ａ）の上部クラッド層４を省略した斜視図、図２（ｂ）は図２（ａ）のＢ−Ｂ線に沿う断面図、図２（ｃ）は図２（ａ）のＣ−Ｃ線に沿う断面図である。
【図３】図１（ａ）の平面図である。
【図４】図１のミラー付き光導波路５の光コネクタ７０への接続を説明する斜視図である。
【図５】図１のミラー付き光導波路５の製造方法の一例を説明する断面図である。
【図６】図６（ａ）は第２の実施の形態に係るミラー付き光導波路５Ａの斜視図、図６（ｂ）は図６（ａ）の平面図である。
【図７】図７（ａ）は第３の実施の形態に係るミラー付き光導波路５Ｂの斜視図、図７（ｂ）は図７（ａ）の平面図、図７（ｃ）は図７（ａ）のＣ−Ｃ線に沿う断面図である。
【図８】図８（ａ）は第４の実施の形態に係るミラー付き光導波路５Ｄの断面図、図８（ｂ）はこのミラー付き光導波路５Ｄの製造工程の一部を説明する断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本発明のミラー付き光導波路は、下部クラッド層と、前記下部クラッド層上に間隔をおいて並設された複数本（ｍ本）のコアと、前記複数本のコアのそれぞれに形成されたミラー面とを有するミラー付き光導波路であって、各コアは、長手方向に間隔をおいて第１〜第ｎの傾斜面（ｎは２以上の整数）を有しており、前記複数本のコアの第ｋの傾斜面（ｋは１〜ｎの整数）同士が前記コアの短手方向に１列に配列しており、前記複数本のコアの第１〜第ｎの傾斜面よりなる総ての傾斜面のうち、一部の傾斜面が金属層の形成されたミラー面となっており、残部の傾斜面が金属層を有しない透光面となっており、前記ミラー面に対して前記短手方向に隣接する傾斜面は、いずれも前記透光面となっていることを特徴とするものである。
以下に、コアの本数（ｍ本）及び各コアの傾斜面の個数（ｎ個）の異なる種々の実施形態を説明する。
【００１３】
＜第１の実施の形態（ｍ＝４、ｎ＝２）＞
図１（ａ）は第１の実施の形態に係るミラー付き光導波路５の斜視図、図１（ｂ）は図１（ａ）のＢ−Ｂ線に沿う断面図、図１（ｃ）は図１（ａ）のＣ−Ｃ線に沿う断面図である。図２（ａ）は図１（ａ）の上部クラッド層４を省略した斜視図、図２（ｂ）は図２（ａ）のＢ−Ｂ線に沿う断面図、図２（ｃ）は図２（ａ）のＣ−Ｃ線に沿う断面図である。図３は図１（ａ）の平面図である。図４は図１のミラー付き光導波路５の光コネクタ７０への接続を説明する斜視図である。図５は図１のミラー付き光導波路５の製造方法の一例を説明する断面図である。
【００１４】
〔ミラー付き光導波路の構成〕
詳細は後述するが、本実施の形態に係るミラー付き光導波路５は、主に、基板１と、基板１上の下部クラッド層２と、下部クラッド層２上に並設された４本（ｍ＝４）のコア３ａ〜３ｄと、コア３ａ〜３ｄに形成された第１の傾斜面１１及び第２の傾斜面２１（ｎ＝２）と、これら傾斜面１１，２１の一部に形成されたミラー面６と、コア３ａ〜３ｄを被覆する上部クラッド層４とを有する。図１（ａ）に示すとおり、隣り合うコア３ａ，３ｂ、隣り合うコア３ｂ，３ｃ、及び隣り合うコア３ｃ，３ｄにおいては、ミラー面６の形成箇所がコアの長手方向（光路方向。図１（ｂ）及び図１（ｃ）の左右方向。）にずれているため、ミラー面６の下方に設置する光学素子の設置位置もずらすことができる。その結果、光学素子同士が干渉し合うことが防止され、所定のスペース内に多数の光学素子を効率よく設置することが可能である。
次に、このミラー付き光導波路５の構成について詳細に説明する。
【００１５】
（基板）
基板１の材料としては、特に制限はなく、例えば、ポリイミド基板、ＦＲ−４基板、ガラスエポキシ樹脂基板、セラミック基板、ガラス基板、シリコン基板、プラスチック基板、金属基板、樹脂層付き基板、金属層付き基板、プラスチックフィルム、樹脂層付きプラスチックフィルム、金属層付きプラスチックフィルム、電気配線板が挙げられる。
基板１として柔軟性及び強靭性のある基材、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリフェニレンエーテル、ポリエーテルサルファイド、ポリアリレート、液晶ポリマー、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリイミドを基板として用いることで、フレキシブルな光導波路としてもよい。
この基板１の厚さとしては、板の反りや寸法安定性により、適宜変えてよいが、好ましくは０．１〜１０．０ｍｍである。本実施の形態では、光信号の波長に対して透明な基板１を用いるとよい。また、基板１のない光導波路を得るためには、下部クラッド層形成工程後から上部クラッド層形成工程後のいずれかの工程において、基板１と下部クラッド層とを剥離すればよく、この場合、下部クラッド層と基板１とに剥離性のある材料を用いれば良い。このときの基板１は光信号の波長に対して透明でなくとも良い。
【００１６】
（下部クラッド層）
上記基板１の上面の全面に、下部クラッド層２が設けられている。
下部クラッド層２としては、コア３ａ〜３ｄより低屈折率の樹脂が使用される。下部クラッド層２の厚さに関しては、特に限定するものではないが、乾燥後の厚さで、５〜５００μｍの範囲が好ましい。５μｍ以上であると、光の閉じ込めに必要なクラッド厚さが確保でき、５００μｍ以下であると、膜厚を均一に制御することが容易である。以上の観点から、下部クラッド層２の厚さは、さらに１０〜１００μｍの範囲であることがより好ましい。
【００１７】
（コア）
本実施の形態では、この下部クラッド層２上に、間隔をおいて４本（ｍ＝４）のコア３ａ〜３ｄが並設されている。これらコア３ａ〜３ｄは、細長い四角柱状であり、互いに間隔をおいて平行に設けられている。これらコア３ａ〜３ｄの長手方向は、基板１の一辺と平行である。これらコア３ａ〜３ｄは、基板１の当該一辺と直交する１対の辺にわたって延在し、これらコア３ａ〜３ｄの両端面はミラー付き光導波路５の側面に露出している。
コア３ａ〜３ｄの材料としては、下部クラッド層２及び上部クラッド層４より高屈折率の樹脂が好適に用いられる。
コア３ａ〜３ｄの厚さについては特に限定されず、通常は１０〜１００μｍとなるように調整される。該コア３ａ〜３ｄの厚さが１０μｍ以上であると、光導波路形成後の光学素子との結合において位置合わせトレランスが拡大できるという利点があり、１００μｍ以下であると、光導波路形成後の光学素子との結合において、結合効率が向上するという利点がある。以上の観点から、コア３ａ〜３ｄの厚さは、さらに３０〜９０μｍの範囲であることが好ましい。
【００１８】
（溝）
上記コア３ａ〜３ｄは、その長手方向（光路方向）に間隔をおいて、第１の溝１０及び第２の溝２０（図２（ｂ）、図２（ｃ））を有している。各溝１０，２０は、各コア３ａ〜３ｄの短手方向にわたって延在しており、その両端が各コア３ａ〜３ｄの両側面にまで至っている。これらの溝１０，２０は、コア３ａ〜３ｄの上面から下部クラッド層２の上面以下の深さにまで至っている。
コア３ａ〜３ｄの合計４個の第１の溝１０は、コアの短手方向に一列に並んでいる。同様に、コア３ａ〜３ｄの合計４個の第２の溝２０は、コアの短手方向に一列に並んでいる。
【００１９】
これら第１の溝１０及び第２の溝２０は、図１（ｂ）及び図１（ｃ）に示すとおり、コアの長手方向（コアの短手方向と直交方向）の縦断面が、直角三角形となっている。具体的には、第１の溝１０の２つの側面のうち、第２の溝２０から遠い側の側面は下部クラッド層２に対して垂直に起立する垂直面となっており、第２の溝２０から近い側の側面は下部クラッド層２に対して傾斜する傾斜面１１となっている。同様に、第２の溝２０の２つの側面のうち、第１の溝１０から近い側の側面は下部クラッド層２に対して略垂直に起立する垂直面となっており、第１の溝１０から遠い側の側面は下部クラッド層２に対して傾斜する傾斜面２１となっている。これら４個の傾斜面１１は、同一平面内に存在しており、同様に、これら４個の傾斜面２１は、同一平面内に存在している。
【００２０】
傾斜面１１，２１とコア３ａ〜３ｄの長手方向（ないし下部クラッド層２の表面）とのなす傾斜角は、用途に応じて適宜設定することができるが、好ましくは３０〜６０°、より好ましくは４０〜５０°、更に好ましくは４４〜４６°である。一方、上記溝１０，２０の垂直面とコア３ａ〜３ｄの長手方向（ないし下部クラッド層２の表面）とのなす角度は、好ましくは４０〜１５０°であり、より好ましくは９０°である。この角度が９０°に近いほど、光信号の反射率が小さく且つ透光率が大きくなり、光損失が小さくなるため好ましい。
【００２１】
（ミラー面）
コア３ａ，３ｃにあっては、第２の溝２０を覆うようにして金属層３０が設けられている。この金属層３０は、溝２０の側面（傾斜面２１及び垂直面）及びその近傍にまで設けられているが、少なくとも溝２０の傾斜面２１を被覆していればよい。この金属層３０のうち傾斜面２１を被覆している部分がミラー面６（図３）となる。一方、これらコア３ａ，３ｃの第１の溝１０には金属層３０が形成されておらず、第１の溝１０の傾斜面１１にはミラー面６が形成されていない。このミラー面６が形成されていない傾斜面１１が透光面７（図３）となる。
また、コア３ｂ，３ｄにあっては、第１の溝１０を覆うようにして金属層３０が設けられている。この金属層３０は、溝１０の側面（傾斜面１１及び垂直面）及びその近傍にまで設けられているが、少なくとも溝１０の傾斜面１１を被覆していればよい。この金属層３０のうち傾斜面１１を被覆している部分がミラー面６（図３）となる。一方、これらコア３ｂ，３ｄの第２の溝２０には金属層３０が形成されておらず、第２の溝２０の傾斜面２１にはミラー面６が形成されていない。このミラー面６が形成されていない傾斜面２１が透光面７（図３）となる。
【００２２】
図３に示すとおり、隣り合うコア３ａ，３ｂ、隣り合うコア３ｂ，３ｃ、及び隣り合うコア３ｃ，３ｄにあっては、ミラー面６がコアの長手方向にずれた位置に設けられている。これにより、これらミラー面６の下方に設置される光学素子の設置位置も互いにずれることになるため、光学素子同士が干渉し合うことが防止され、所定のスペース内に多数の光学素子を効率よく設置することが可能である。
上記金属層３０の材料としては、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｐｄ、Ｎｉ等の各種金属が好適に用いられる。反射率の観点から、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌがより好適に用いられる。
【００２３】
（上部クラッド層）
これら下部クラッド層２の上面及びコア３ａ〜３ｄを覆うようにして、上部クラッド層４が設けられている。上記溝１０，２０は、この上部クラッド層４により充填されている。このように、溝１０，２０が上部クラッド層４で充填され、ミラー面６が大気中に露出しないので、ミラー面６が劣化したり損傷したりすることが防止される。また、詳しくは後述するが、図１（ａ）に矢印で示すとおり、コア３ｂ，３ｄにおいては、第２の溝２０側の端面（図１（ａ）の左端面）からコア３ｂ，３ｄ内を移動した光信号は、第２の溝２０を透過して第１の溝１０のミラー面６で光路変換される必要がある。ここで、第２の溝２０内に上部クラッド層２が充填されているため、充填されていない場合と比べて、光信号が第２の溝２０内をより効率よく透過し、光損失の低減が図られる。さらに、ミラー付き光導波路５の強度が高くなり、溝１０，２０近傍で折れ等が生じることが防止される。
【００２４】
上部クラッド層４の材料としては、コア３ａ〜３ｄより低屈折率の樹脂が使用される。この上部クラッド層４と下部クラッド層２とは、材料が同一であっても異なっていてもよく、屈折率が同一であっても異なっていてもよい。
上部クラッド層４の厚さに関しても下部クラッド層２と同様に、特に限定するものではないが、乾燥後の厚さで、５〜５００μｍの範囲が好ましい。５μｍ以上であると、光の閉じ込めに必要なクラッド厚さが確保でき、５００μｍ以下であると、膜厚を均一に制御することが容易である。以上の観点から、上部クラッド層４の厚さは、さらに１０〜１００μｍの範囲であることがより好ましい。また、コア３ａ〜３ｄを埋め込むためには、上部クラッド層４の厚みはコア３ａ〜３ｄの厚さ以上にすることが好ましい。
【００２５】
〔ミラー付き光導波路を用いた光信号の送受信例〕
次に、図１及び図４を参照して、このように構成されたミラー付き光導波路５に光信号を送受信する一例について説明する。
上記のミラー付き光導波路５は、図4に示すとおり、溝２０側の端部（図４の左端部）が光コネクタ（ＭＴコネクタ）７０に接続される。
コア３ａ，３ｃにおいては、基板１の下面のうち第２の溝２０の傾斜面２１の下方位置に、光学素子（図示略）が接続される。この光学素子が受光素子である場合にあっては、光コネクタ７０から送信された光信号は、コア３ａ，３ｂ内をコアの長手方向に移動した後、第２の溝２０に形成されたミラー面６で下向きに光路変換され、このミラー面６の下方の光学素子によって受信される。この光学素子が発光素子である場合にあっては、発光素子から上向きに送信された光信号は、基板１、下部クラッド層２及びコア３ａ，３ｂ内を移動した後、第２の溝２０に形成されたミラー面６で長手方向（図１及び図４の左方向）に光路変換されてコア３ａ、３ｂ内を光路方向に移動し、光コネクタ７０によって受信される。
コア３ｂ，３ｄにおいては、基板１の下面のうち第１の溝１０の傾斜面１１の下方位置に、光学素子（図示略）が接続される。この光学素子が受光素子である場合にあっては、光コネクタ７０から送信された光信号は、コア３ｂ，３ｄ内をコアの長手方向に移動し、第２の溝２０を通過した後、第１の溝１０に形成されたミラー面６で下向きに光路変換され、このミラー面６の下方の光学素子によって受信される。この光学素子が発光素子である場合にあっては、発光素子から上向きに送信された光信号は、基板１、下部クラッド層２及びコア３ａ，３ｂ内を移動した後、第１の溝１０に形成されたミラー面６で水平方向（図１及び図４の左方向）に光路変換されてコア３ａ、３ｂ内を光路方向に移動し、溝２０を通過した後、光コネクタ７０によって受信される。
【００２６】
〔ミラー付き光導波路の製造方法〕
次に、上記のミラー付き光導波路５の製造方法について説明する。
（１）基板上への下部クラッド層の形成工程（図５（ａ））
基板１上に下部クラッド層２を積層する。下部クラッド層２の形成方法は特に限定されず、例えば、クラッド層形成用樹脂の塗布又はクラッド層形成用樹脂フィルムのラミネートにより形成すればよい。
【００２７】
クラッド層形成用樹脂としては、コア３ａ〜３ｄより低屈折率であり、光又は熱により硬化する樹脂組成物であれば特に限定されず、熱硬化性樹脂組成物や感光性樹脂組成物を好適に使用することができる。
塗布の方法は限定されず、クラッド層形成用樹脂組成物を常法により塗布すればよい。
また、ラミネートに用いるクラッド層形成用樹脂フィルムは、例えば、クラッド層形成用樹脂組成物を溶媒に溶解して、キャリアフィルムに塗布し、溶媒を除去することにより容易に製造することができる。
【００２８】
このクラッド層形成用樹脂フィルムは、支持フィルム上に形成することが好ましい。支持フィルムの種類としては、基板１として柔軟性及び強靭性のある基材として上記に列挙したフィルムが好適に挙げられる。支持体フィルムの厚さは、５〜５０μｍであることが好ましい。５μｍ以上であると、支持体フィルムとしての強度が得やすいという利点があり、５０μｍ以下であると、パターン形成時のマスクとのギャップが小さくなり、より微細なパターンが形成できるという利点がある。以上の観点から、支持体フィルムの厚さは１０〜４０μｍの範囲であることがより好ましく、１５〜３０μｍであることが特に好ましい。
なお、後述するコア層形成用樹脂フィルム及び下部クラッド層用のクラッド層形成用樹脂フィルムも、この支持フィルム上に形成することが好ましい。
【００２９】
（２）コア３ａ〜３ｄの形成工程（図５（ｂ））
次いで、該下部クラッド層２上にコア３ａ〜３ｄを形成する。
このコア３ａ〜３ｄの形成方法には特に制限はなく、例えば、コア層形成用樹脂の塗布又はコア層形成用樹脂フィルムのラミネートによって下部クラッド層２の上面全面にコア層を形成し、エッチングによりコア３ａ〜３ｄを形成すればよい。
上記コア層形成用樹脂及びコア層形成用樹脂フィルムとしては、活性光線によりコア３ａ〜３ｄを形成し得る樹脂組成物を用いることができる。
【００３０】
（３）傾斜面の形成工程（図５（ｃ））
これらコア３ａ〜３ｄに、第１の溝１０及び第２の溝２０を形成する。これら溝１０，２０の形成方法は特に限定されず、レーザーアブレーションやダイシングソーによって形成すればよい。例えば、ダイシングソーを、コア３ａからコア３ｄ側に移動させることにより、これらコア３ａ〜３ｄに第１の溝１０を形成し、次いで、コア３ｄからコア３ａ側に移動させることにより、これらコア３ａ〜３ｄに第２の溝２０を形成することができる。この第１の溝１０の一方の側面が傾斜面１１となり、この第２の溝２０の一方の側面が傾斜面２１となる。
【００３１】
（４）ミラー面の形成工程（図５（ｄ））
コア３ａ，３ｃの第２の傾斜面２１と、コア３ｂ、３ｄの第１の傾斜面１１に、金属層３０よりなるミラー面６を形成する。金属層３０の形成方法としては、特に限定はないが、蒸着、スパッタリング、めっき等が好ましい。
また、傾斜面２１，２１にのみ金属層３０を形成する場合は、傾斜面１１，２１に対応する箇所を開口させたメタルマスクを用いて蒸着、又はスパッタリングを行ったり、レジストを用いて傾斜面１１，２１を開口させ、蒸着、スパッタリング、めっき等を行い、その後、レジストを除去するのが好ましい。金属層３０の形成範囲は適宜調節すればよく、少なくとも傾斜面１１，２１のうちコア３ａ〜３ｄの一部に形成すればよいが、光損失を小さくする観点からは、傾斜面１１，２１の全面に形成することがより好ましい。
【００３２】
（５）上部クラッド層の形成工程（図５（ｅ））
下部クラッド層２及びコア３ａ〜３ｄの上面側から上部クラッド層４を積層する。上部クラッド層４の形成方法としては、特に限定はなく、スピンコートによってクラッド層形成用の樹脂をコーティングしたり、ドライフィルム型のクラッド層形成用の樹脂フィルムをロールラミネータや真空ラミネータ等を用いて積層することが好ましい。このとき、溝１０，２０がクラッド層形成用の樹脂又は樹脂フィルムで埋められる。
【００３３】
＜第２の実施の形態（ｍ＝４、ｎ＝３）＞
図６（ａ）は第２の実施の形態に係るミラー付き光導波路５Ｂの斜視図、図６（ｂ）は図６（ａ）の平面図、図６（ｃ）は図６（ａ）のＣ−Ｃ線に沿う断面図である。なお、図６（ａ）では金属層３０は図示を省略している。
このミラー付き光導波路５Ｂは、コア３ａ〜３ｄに第３の溝５０を設けたこと、ミラー面６の設置箇所を異ならせたこと以外は、図１〜５のミラー付き光導波路５と同様であり、図１〜図５と同一符号は同一部分を示す。
以下に、溝及びミラー面の詳細について説明する。
【００３４】
（溝）
上記コア３ａ〜３ｄは、その長手方向（光路方向）に間隔をおいて、第１の溝１０、第２の溝２０、及び第３の溝５０を有している。各溝１０，２０，５０は、各コア３ａ〜３ｄの短手方向にわたって延在しており、その両端が各コア３ａ〜３ｄの両側面にまで至っている。これらの溝１０，２０，５０は、コア３ａ〜３ｄの上面から下部クラッド層２の上面以下の深さにまで至っている。
コア３ａ〜３ｄの合計４個の第１の溝１０は、コアの短手方向に一列に並んでいる。同様に、コア３ａ〜３ｄの合計４個の第２の溝２０は、コアの短手方向に一列に並んでおり、コア３ａ〜３ｄの合計４個の第３の溝５０は、コアの短手方向に一列に並んでいる。
【００３５】
これら第１の溝１０、第２の溝２０、及び第３の溝５０は、図６（ｃ）に示すとおり、コアの長手方向（コアの短手方向と直交方向）の縦断面が、直角三角形となっている。具体的には、第１〜３の溝１０，２０，５０の各々は、コアの長手方向に対向する２つの側面のうち、一方の側（第１の溝１０側。図６における右側。）の側面が下部クラッド層２に対して垂直に起立する垂直面となっており、他方の側（第３の溝５０側。図６における左側。）の側面が下部クラッド層２に対して傾斜する傾斜面１１，２１，５１となっている。これら４個の傾斜面１１は同一平面内に存在している。同様に、これら４個の傾斜面２１は同一平面内に存在しており、また、これら４個の傾斜面５１は同一平面内に存在している。
【００３６】
傾斜面１１，２１，５１とコア３ａ〜３ｄの長手方向（ないし下部クラッド層２の表面）とのなす傾斜角は、第１の実施の形態の場合と同様である。また、これら傾斜面１１，２１，５１と対向する垂直面のなす角度も第１の実施の形態の場合と同様である。
【００３７】
（ミラー面）
図６（ｂ）に示すとおり、コア３ａ，３ｄにあっては、第３の溝５０を覆うようにして金属層３０が設けられている。この金属層３０は、少なくとも溝５０の傾斜面５１を被覆していればよい。この金属層３０のうち傾斜面５１を被覆している部分がミラー面６となる。一方、これらコア３ａ，３ｄの第１の溝１０及び第２の溝２０には金属層３０が形成されていない。これら第１，２の溝１０，２０の傾斜面１１，２１が透光面７となる。
また、図６（ｂ）に示すとおり、コア３ｂにあっては、第２の溝２０を覆うようにして金属層３０が設けられている。この金属層３０は、少なくとも溝２０の傾斜面２１を被覆していればよい。この金属層３０のうち傾斜面２１を被覆している部分がミラー面６となる。一方、このコア３ｂの第１の溝１０及び第３の溝５０には金属層３０が形成されていない。これら第１，３の溝１０，５０の傾斜面１１，５１が透光面７となる。
さらに、図６（ｂ）に示すとおり、コア３ｃにあっては、第１の溝１０を覆うようにして金属層３０が設けられている。この金属層３０は、少なくとも溝１０の傾斜面１１を被覆していればよい。この金属層３０のうち傾斜面１１を被覆している部分がミラー面６となる。一方、このコア３ｂの第２の溝２０及び第３の溝５０には金属層３０が形成されていない。これら第２，３の溝２０，５０の傾斜面２１，５１が透光面７となる。
【００３８】
図６（ｂ）に示すとおり、隣り合うコア３ａ，３ｂ、隣り合うコア３ｂ，３ｃ、及び隣り合うコア３ｃ，３ｄにあっては、ミラー面６がコアの長手方向にずれた位置に設けられている。これにより、これらミラー面６の下方に設置される光学素子の設置位置も互いにずれることになるため、光学素子同士が干渉し合うことが防止され、所定のスペース内に多数の光学素子を効率よく設置することが可能である。
【００３９】
次に、図６（ａ）を参照して、このように構成されたミラー付き光導波路５Ｂに光信号を送受信する一例について説明する。
上記のミラー付き光導波路５Ｂも、図示は省略するが図４の場合と同様に、第３の溝５０側の端部（図６の左端部）が光コネクタ（ＭＴコネクタ）に接続される。
また、コア３ａ，３ｄにおいては、基板１の下面のうち第３の溝５０の傾斜面５１の下方位置に、光学素子（図示略）が接続される。この光学素子が受光素子である場合にあっては、光コネクタから送信された光信号は、コア３ａ，３ｄ内をコアの長手方向に移動した後、第３の溝５０に形成されたミラー面６で下向きに光路変換され、このミラー面６の下方の光学素子によって受信される。この光学素子が発光素子である場合にあっては、発光素子から上向きに送信された光信号は、基板１、下部クラッド層２及びコア３ａ，３ｂ内を移動した後、第３の溝５０に形成されたミラー面６で長手方向（図６の左方向）に光路変換されてコア３ａ、３ｄ内を光路方向に移動し、光コネクタ７０によって受信される。
【００４０】
コア３ｂにおいては、基板１の下面のうち第２の溝２０の傾斜面２１の下方位置に、光学素子（図示略）が接続される。この光学素子が受光素子である場合にあっては、光コネクタから送信された光信号は、コア３ｂ内をコアの長手方向に移動し、第３の溝５０の傾斜面５１及び垂直面を透過した後、第２の溝２０に形成されたミラー面６で下向きに光路変換され、このミラー面６の下方の光学素子によって受信される。この光学素子が発光素子である場合にあっては、発光素子から上向きに送信された光信号は、基板１、下部クラッド層２及びコア３ｂ内を移動した後、第２の溝２０に形成されたミラー面６で水平方向（図６の左方向）に光路変換されてコア３ｂ内を長手方向に移動し、第３の溝５０の垂直面及び傾斜面５１を透過した後、光コネクタによって受信される。
【００４１】
コア３ｃにおいては、基板１の下面のうち第１の溝１０の傾斜面１１の下方位置に、光学素子（図示略）が接続される。この光学素子が受光素子である場合にあっては、光コネクタから送信された光信号は、コア３ｃ内をコアの長手方向に移動し、第３の溝５０の傾斜面５１及び垂直面並びに第２の溝２０の傾斜面２１及び垂直面を透過した後、第１の溝１０に形成されたミラー面６で下向きに光路変換され、このミラー面６の下方の光学素子によって受信される。この光学素子が発光素子である場合にあっては、発光素子から上向きに送信された光信号は、基板１、下部クラッド層２及びコア３ｃ内を移動した後、第１の溝１０に形成されたミラー面６で水平方向（図６の左方向）に光路変換されてコア３ｃ内を長手方向に移動し、第２の溝２０の垂直面及び傾斜面２１並びに第３の溝５０の垂直面及び傾斜面５１を透過した後、光コネクタによって受信される。
【００４２】
＜第３の実施の形態（ｍ＝４、ｎ＝２）＞
図７（ａ）は第３の実施の形態に係るミラー付き光導波路５Ｃの斜視図、図７（ｂ）は図７（ａ）の平面図、図７（ｃ）は図７（ａ）のＣ−Ｃ線に沿う断面図である。
このミラー付き光導波路５Ｃは、第２の溝２０に代えて第２の溝６０を設けたこと、ミラー面６の設置箇所を異ならせたこと以外は、図１〜５のミラー付き光導波路５と同様であり、図１〜図５と同一符号は同一部分を示す。第２の溝６０は、第２の溝２０において、傾斜面と垂直面とを置換した形状となっている。
以下に、溝及びミラー面の詳細について説明する。
【００４３】
（溝）
上記コア３ａ〜３ｄは、その長手方向（光路方向）に間隔をおいて、第１の溝１０及び第２の溝６０を有している。各溝１０，６０は、各コア３ａ〜３ｄの短手方向にわたって延在しており、その両端が各コア３ａ〜３ｄの両側面にまで至っている。これらの溝１０，６０は、コア３ａ〜３ｄの上面から下部クラッド層２の上面以下の深さにまで至っている。
コア３ａ〜３ｄの合計４個の第１の溝１０は、コアの短手方向に一列に並んでいる。同様に、コア３ａ〜３ｄの合計４個の第２の溝６０は、コアの短手方向に一列に並んでいる。
【００４４】
これら第１の溝１０及び第２の溝６０は、コアの長手方向（コアの短手方向と直交方向）の縦断面が、直角三角形となっている。
具体的には、第１の溝１０の２つの側面のうち、第２の溝２０から遠い側の側面は下部クラッド層２に対して垂直に起立する垂直面となっており、第２の溝２０から近い側の側面は下部クラッド層２に対して傾斜する傾斜面１１となっている。一方、第２の溝６０の２つの側面のうち、第１の溝１０から遠い側の側面は下部クラッド層２に対して略垂直に起立する垂直面となっており、第１の溝１０から近い側の側面は下部クラッド層２に対して傾斜する傾斜面６１となっている。これら４個の傾斜面１１は、同一平面内に存在しており、同様に、これら４個の傾斜面６１は、同一平面内に存在している。
【００４５】
傾斜面１１，６１とコア３ａ〜３ｄの長手方向（ないし下部クラッド層２の表面）とのなす傾斜角は、用途に応じて適宜設定することができるが、好ましくは３０〜６０°、より好ましくは４０〜５０°、更に好ましくは４４〜４６°である。一方、上記溝１０，６０の垂直面とコア３ａ〜３ｄの長手方向（ないし下部クラッド層２の表面）とのなす角度は、好ましくは４０〜１５４０°であり、より好ましくは９０°である。この角度が９０°に近いほど、光信号の反射率が小さく且つ透光率が大きくなり、光損失が小さくなるため好ましい。
【００４６】
（ミラー面）
コア３ａ，３ｃにあっては、第１の溝１０を覆うようにして金属層３０が設けられている。この金属層３０は、溝１０の側面（傾斜面１１及び垂直面）及びその近傍にまで設けられているが、少なくとも溝１０の傾斜面１１を被覆していればよい。この金属層３０のうち傾斜面１１を被覆している部分がミラー面６となる。一方、これらコア３ａ，３ｃの第２の溝６０には金属層３０が形成されておらず、第２の溝６０の傾斜面６１にはミラー面６が形成されていない。このミラー面６が形成されていない傾斜面６１が透光面７となる。
また、コア３ｂ，３ｄにあっては、第２の溝６０を覆うようにして金属層３０が設けられている。この金属層３０は、溝６０の側面（傾斜面６１及び垂直面）及びその近傍にまで設けられているが、少なくとも溝６０の傾斜面６１を被覆していればよい。この金属層３０のうち傾斜面６１を被覆している部分がミラー面６となる。一方、これらコア３ｂ，３ｄの第１の溝１０には金属層３０が形成されておらず、第１の溝１０の傾斜面１１にはミラー面６が形成されていない。このミラー面６が形成されていない傾斜面１１が透光面７となる。
【００４７】
図７（ｂ）に示すとおり、隣り合うコア３ａ，３ｂ、隣り合うコア３ｂ，３ｃ、及び隣り合うコア３ｃ，３ｄにあっては、ミラー面６がコアの長手方向にずれた位置に設けられている。これにより、これらミラー面６の下方に設置される光学素子の設置位置も互いにずれることになるため、光学素子同士が干渉し合うことが防止され、所定のスペース内に多数の光学素子を効率よく設置することが可能である。
【００４８】
次に、図７（ａ）を参照して、このように構成されたミラー付き光導波路５に光信号を送受信する一例について説明する。
上記のミラー付き光導波路５Ｃは、図示は省略するが図４の場合と同様に、第２の溝６０側の端部（図７の左端部）が光コネクタ（ＭＴコネクタ）に接続されることに加え、第１の溝１０側の端部（図７の右端部）も光コネクタ（ＭＴコネクタ）に接続される。
コア３ａ，３ｃにおいては、基板１の下面のうち第１の溝１０のミラー面６の下方位置に、光学素子（図示略）が接続される。この光学素子が受光素子である場合にあっては、左側の光コネクタから送信された光信号は、コア３ａ，３ｃ内をコアの長手方向に移動し、第２の溝６０を透過した後、第１の溝１０に形成されたミラー面６で下向きに光路変換され、このミラー面６の下方の受光素子によって受信される。この光学素子が発光素子である場合にあっては、この発光素子から上向きに送信された光信号は、基板１、下部クラッド層２及びコア３ａ，３ｃ内を移動した後、溝１０に形成されたミラー面６で長手方向（図７の左方向）に光路変換されてコア３ａ、３ｃ内を光路方向に移動し、溝６０を通過して左側の光コネクタによって受信される。
コア３ｂ，３ｄにおいては、基板１の下面のうち第２の溝６０のミラー面６の下方位置に、光学素子（図示略）が接続される。この光学素子が発光素子である場合にあっては、この発光素子から上向きに送信された光信号は、基板１、下部クラッド層２及びコア３ｂ，３ｄ内を移動した後、溝６０に形成されたミラー面６で長手方向（図７の右方向）に光路変換されてコア３ｂ、３ｄ内を光路方向に移動し、溝１０を通過して右側の光コネクタによって受信される。この光学素子が受光素子である場合にあっては、右側の光コネクタから送信された光信号は、コア３ｂ，３ｄ内をコアの長手方向に移動し、第１の溝１０を透過した後、第２の溝６０に形成されたミラー面６で下向きに光路変換され、このミラー面６の下方の受光素子によって受信される。
【００４９】
＜第４の実施の形態＞
図８（ａ）は第４の実施の形態に係るミラー付き光導波路５Ｄの断面図、図８（ｂ）はこのミラー付き光導波路５Ｄの製造工程の一部を説明する断面図である。
（ミラー付き光導波路５Ｄの構成）
図８（ａ）のミラー付き光導波路５Ｄは、図１〜図４のミラー付き光導波路５において、第２の溝２０にミラー面６を有していないコア３ｂ，３ｄの当該溝２０に、反射防止部材３’を形成したものである。ミラー付き光導波路５Ｄのその他の構成は図１〜図４のミラー付き光導波路５と同様であり、同一部分は同一部材を意味する。よって、以下には、反射防止部材３’の構成を説明する。
上述のとおり、このミラー付き光導波路５Ｄは、第２のコア３ｂ，３ｄの溝２０に反射防止部材３’が形成されている。
この反射防止部材３’としては、この反射防止剤３’とコア３ａ〜３ｄとの屈折率差が、上部クラッド層４とコア３ａ〜３ｄとの屈折率差よりも小さい材料であることが好ましく、コア３ａ〜３ｄと同一の屈折率の材料であることがより好ましい。この反射防止部材３’により、コア３ｂ，３ｄ内の光信号が溝２０を通過するときの光損失が低減される。
【００５０】
（ミラー付き光導波路５Ｄの製造方法）
このミラー付き光導波路５Ｄを製造するには、図５に示すミラー付き光導波路５の製造方法において、斜面の形成工程（図５（ｃ））とミラー面の形成工程（図５（ｄ））との間に（第１のタイミング）、または、ミラー面の形成工程（図５（ｄ））と上部クラッド層の形成工程（図５（ｅ））との間に（第２のタイミング）、図８（ｂ）の反射防止材充填工程を実施すればよい。
この反射防止材３’の形成方法には特に制限はなく、例えばコア３ａ〜３ｄと同様の方法を採用することができる。すなわち、コア層形成用樹脂の塗布又はコア層形成用樹脂フィルムのラミネートによって、コア３ｂ，３ｄの溝２０及びその周辺に反射防止材層を形成し、エッチングにより反射防止材３’を形成すればよい。
このように、光信号が透過する溝（すなわちコア３ｂ，３ｄの第２の溝２０）に反射防止材３’が設けられることにより、これら溝を光信号が通過するときの光損失が低減される。
このように、反射防止材３’は少なくとも光信号の通過する溝に形成する必要があるが、その他の溝１０，２０に形成してもよい。例えば、上記第２のタイミングでこの反射防止材３’を形成する場合には、総ての溝１０，２０に上記方法で反射防止材３’を形成してもよい。
【００５１】
＜その他の実施の形態＞
上記実施の形態は本発明の一例であり、本発明は上記実施の形態に限定されるものではない。
例えば、上記ミラー付き光導波路において、基板１は省略してもよい。コアは３本でもよく、５本以上でもよい。各コアの傾斜面は４個以上であってもよい。
第４の実施の形態における上記反射防止材３’は、第２，３の実施の形態に係るミラー付き光導波路５Ｂ，５Ｃの溝に設けてもよい。
【実施例】
【００５２】
以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実施例に限定されない。
【００５３】
実施例１
［クラッド層形成用樹脂フィルムの作製］
（（A）ベースポリマー；（メタ）アクリルポリマー（Ａ−１）の作製）
撹拌機、冷却管、ガス導入管、滴下ろうと、及び温度計を備えたフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４６質量部及び乳酸メチル２３質量部を秤量し、窒素ガスを導入しながら撹拌を行った。液温を６５℃に上昇させ、メチルメタクリレート４７質量部、ブチルアクリレート３３質量部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート１６質量部、メタクリル酸１４質量部、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）３質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４６質量部、及び乳酸メチル２３質量部の混合物を３時間かけて滴下後、６５℃で３時間撹拌し、さらに９５℃で１時間撹拌を続けて、（メタ）アクリルポリマー（Ａ−１）溶液（固形分４５質量％）を得た。
【００５４】
（クラッド層形成用樹脂ワニスの調合）
（Ａ）ベースポリマーとして、前記Ａ−１溶液（固形分４５質量％）８４質量部（固形分３８質量部）、（Ｂ）光硬化成分として、ポリエステル骨格を有するウレタン（メタ）アクリレート（新中村化学工業（株）製「Ｕ−２００ＡＸ」）３３質量部、及びポリプロピレングリコール骨格を有するウレタン（メタ）アクリレート（新中村化学工業（株）製「ＵＡ−４２００」）１５質量部、（Ｃ）熱硬化成分として、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート型三量体をメチルエチルケトンオキシムで保護した多官能ブロックイソシアネート溶液（固形分７５質量％）（住化バイエルウレタン（株）製「スミジュールＢＬ３１７５」）２０質量部（固形分１５質量部）、（Ｄ）光重合開始剤として、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（チバ・ジャパン（株）製「イルガキュア２９５９」）１質量部、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド（チバ・ジャパン（株）製「イルガキュア８１９」）１質量部、及び希釈用有機溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２３質量部を攪拌しながら混合した。孔径２μｍのポリフロンフィルタ（アドバンテック東洋（株）製「ＰＦ０２０」）を用いて加圧濾過後、減圧脱泡し、クラッド層形成用樹脂ワニスを得た。
【００５５】
上記で得られたクラッド層形成用樹脂組成物を、ＰＥＴフィルム（東洋紡績（株）製「コスモシャインＡ４１００」、厚み５０μｍ）の非処理面上に、前記塗工機を用いて塗布し、１００℃で２０分乾燥後、保護フィルムとして表面離型処理ＰＥＴフィルム（帝人デュポンフィルム（株）製「ピューレックスＡ３１」、厚み２５μｍ）を貼付け、クラッド層形成用樹脂フィルムを得た。このとき樹脂層の厚みは、塗工機のギャップを調節することで任意に調整可能であり、本実施例では使用した下部クラッド層２の厚みは１５μｍ、上部クラッド層８の厚みは７０μｍのものを用いた。
【００５６】
［コア層形成用樹脂フィルムの作製］
（Ａ）ベースポリマーとして、フェノキシ樹脂（商品名：フェノトートＹＰ−７０、東都化成株式会社製）２６質量部、（Ｂ）光重合性化合物として、９，９−ビス［４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン（商品名：Ａ−ＢＰＥＦ、新中村化学工業株式会社製）３６質量部、及びビスフェノールＡ型エポキシアクリレート（商品名：ＥＡ−１０２０、新中村化学工業株式会社製）３６質量部、（Ｃ）光重合開始剤として、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイド（商品名：イルガキュア８１９、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）１質量部、及び１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（商品名：イルガキュア２９５９、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）１質量部、有機溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４０質量部を用いたこと以外は上記製造例と同様の方法及び条件でコア層形成用樹脂ワニスＢを調合した。その後、上記製造例と同様の方法及び条件で加圧濾過さらに減圧脱泡した。
【００５７】
上記で得られたコア層形成用樹脂ワニスＢを、ＰＥＴフィルム（商品名：コスモシャインＡ１５１７、東洋紡績株式会社製、厚さ：１６μｍ）の非処理面上に、上記製造例と同様な方法で塗布乾燥し、次いで保護フィルムとして離型ＰＥＴフィルム（商品名：ピューレックスＡ３１、帝人デュポンフィルム株式会社、厚さ：２５μｍ）を離型面が樹脂側になるように貼り付け、コア層形成用樹脂フィルムを得た。このとき樹脂層の厚みは、塗工機のギャップを調節することで任意に調整可能であり、本実施例では使用したコア層形成用樹脂フィルム厚みは、５０μｍのものを用いた。
【００５８】
［光導波路の作製］
以下の手順で、図１〜図５のミラー付き光導波路５を作製した。
（１）基板上への下部クラッド層の形成工程（図５（ａ））
１００ｍｍ×１００ｍｍのポリイミド基板（宇部日東化成株式会社製、商品名；ユーピレックスＲＮ、厚さ；２５μｍ）上に上記で得られたクラッド層形成用樹脂フィルムから保護フィルムである離型ＰＥＴフィルム（ピューレックスＡ３１）を剥離し、平板型ラミネータとして真空加圧式ラミネータ（株式会社名機製作所製、ＭＶＬＰ−５００）を用い、５００Ｐａ以下に真空引きした後、圧力０．４ＭＰａ、温度５０℃、加圧時間３０秒の条件にて加熱圧着し、紫外線露光機（株式会社オーク製作所製、ＥＸＭ−１１７２）にて紫外線（波長３６５ｎｍ）を４Ｊ／ｃｍ2照射し、その後、キャリアフィルムを剥離し、続いて、１７０℃で１時間加熱乾燥及び硬化し、下部クラッド層２を形成した。
【００５９】
（２）コア３ａ〜３ｄの形成工程（図５（ｂ））
次に、下部クラッド層２上に、ロールラミネータ（日立化成テクノプラント株式会社製、ＨＬＭ−１５００）を用い圧力０．４ＭＰａ、温度５０℃、ラミネート速度０．２ｍ／ｍｉｎの条件で上記コア層形成用樹脂フィルムをラミネートし、次に、開口幅が５０μｍネガ型フォトマスクを介し、上記紫外線露光機にて紫外線（波長３６５ｎｍ）を０．６Ｊ／ｃｍ2照射し、次いで８０℃で５分間露光後加熱を行った。その後、支持フィルムであるＰＥＴフィルムを剥離し、現像液（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート／Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド＝８／２、質量比）を用いて、コアパターンを現像した。続いて、洗浄液（イソプロパノール）を用いて洗浄し、１００℃で１０分間加熱乾燥し、４個のコア３ａ〜３ｄ（各コア：長さ１００ｍｍ×幅５０μｍ×高さ５０μｍ。コア同士の間の間隙：７５μｍ。）を形成した。
【００６０】
（３）傾斜面の形成工程（図５（ｃ））
上記で得られたコア３ａ〜３ｄの基板反対側からダイシングソー（ＤＡＣ５５２、株式会社ディスコ製）を用いて、溝１０，２０を形成した。
【００６１】
（４）ミラー面の形成工程（図５（ｄ））
次いで傾斜面１１，２１部分に７５μｍ×７５μｍの開口を有するメタルマスクをコア３ａ，３ｃ上に設置し、蒸着装置（ＲＥ−００２５、株式会社ファースト技研製）を用いてＡｕを０．５μｍ蒸着させ、ミラー面６を得た。
【００６２】
（５）上部クラッド層の形成工程（図５（ｅ））
次いで、上部クラッド層４として厚さ７０μｍの上記クラッド層形成用樹脂フィルムを上記真空加圧式ラミネータ（株式会社名機製作所製、ＭＶＬＰ−５００）を用い、５００Pａ以下に真空引きした後、圧力０．４ＭＰａ、温度１２０℃、加圧時間３０秒ラミネートした。さらに、紫外線（波長３６５ｎｍ）を４Ｊ／ｃｍ2照射後、キャリアフィルムを剥離し、１７０℃で１時間加熱処理することによって、上部クラッド層４を形成し、図１〜図５に示すミラー付き光導波路５を作製した。
【符号の説明】
【００６３】
１  基板
２  下部クラッド層
３ａ〜３ｆ  コア
４  上部クラッド層
５，５Ｂ〜５Ｄ  ミラー付き光導波路
６  ミラー面
７  透光面
１０，２０，５０，６０  溝
１１，２１，５１，６１  傾斜面
【図１】
2012247670.tif 000003
【図２】
2012247670.tif 000004
【図３】
2012247670.tif 000005
【図４】
2012247670.tif 000006
【図５】
2012247670.tif 000007
【図６】
2012247670.tif 000008
【図７】
2012247670.tif 000009
【図８】
2012247670.tif 000010