(57)【要約】【課題】隣接する露光パターンのつなぎ部のオーバー露光を簡単な方法で抑制する。【解決手段】被露光体上にフォトマスクのマスクパターンを通して光源光を照射し、互いに隣接する露光パターンの端部領域を重ね合わせてつなぎ露光する露光方法であって、前記露光パターンの前記端部領域の露光量を前記露光パターンの中央寄りから隣接端部に向かって漸減させてつなぎ露光するものである。【選択図】図６
2012054302.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被露光体上にフォトマスクのマスクパターンを通して光源光を照射し、互いに隣接する露光パターンの端部領域を重ね合わせてつなぎ露光する露光方法であって、
前記露光パターンの前記端部領域の露光量を前記露光パターンの中央寄りから隣接端部に向かって漸減させて露光することを特徴とする露光方法。
【請求項２】
前記露光パターンの前記端部領域の露光量を漸減させる露光は、前記被露光体と前記フォトマスクとを前記互いに隣接する露光パターンの中央部から隣接端部に向かう軸に沿って相対移動させて行なうことを特徴とする請求項１記載の露光方法。
【請求項３】
前記露光パターンの前記端部領域の露光量を漸減させる露光は、前記フォトマスクと前記露光パターンの前記端部領域に対応した前記マスクパターンの部分を遮光するシャッタとを前記互いに隣接する露光パターンの中央部から隣接端部に向かう軸に沿って相対移動させて行なうことを特徴とする請求項１記載の露光方法。
【請求項４】
前記露光パターンを複数ショットの前記光源光により形成することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の露光方法。
【請求項５】
被露光体上にフォトマスクのマスクパターンを通して光源光を照射し、互いに隣接する露光パターンの端部領域を重ね合わせてつなぎ露光する露光装置であって、
前記被露光体と前記フォトマスク、又は前記フォトマスクと前記露光パターンの前記端部領域に対応した前記マスクパターンの部分を遮光するシャッタとを前記互いに隣接する露光パターンの中央部から隣接端部に向かう軸に沿って相対移動させることにより、前記露光パターンの前記端部領域の露光量を前記露光パターンの中央寄りから隣接端部に向かって漸減させる構成としたことを特徴とする露光装置。
【請求項６】
前記露光パターンを複数ショットの前記光源光により形成することを特徴とする請求項５記載の露光装置。
【請求項７】
前記複数ショットの光源光の繰り返し周期に同期させて前記被露光体と前記フォトマスク、又は前記フォトマスクと前記シャッタとを相対移動させることを特徴とする請求項６記載の露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被露光体上にフォトマスクのマスクパターンを通して光源光を照射し、互いに隣接する露光パターンの端部領域を重ね合わせてつなぎ露光する露光方法に関し、特に隣接する露光パターンのつなぎ部のオーバー露光を簡単な方法で抑制しようとする露光方法及び露光装置に係るものである。
【背景技術】
【０００２】
従来のこの種の露光方法は、露光装置の１回の露光で可能なフィールドサイズ以上の領域の所望パターンを複数に分割し、この分割されたパターンを一部がオーバーラップするようにつなぎ合わせて露光するものとなっていた（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
このようなパターンの一部をオーバーラップさせてつなぎ露光する方法では、オーバーラップ部が重複露光されるため、このオーバーラップ部の線幅が他の部分よりも細くなる問題がある。そこで、この問題に対処するために、上記従来技術においては、オーバー露光により線幅が細くなる分を補正するように、予めフォトマスクの上記オーバーラップ部の線幅を他の部分の線幅よりも幅広に形成していた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平５−６８４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、このような従来の露光方法においては、フォトマスクの上記オーバーラップ部の線幅を他の部分の線幅よりも幅広となるように予め形成しておく必要があり、マスクパターンの形状が複雑となり、フォトマスクの製造コストが高くなるという問題がある。
【０００６】
また、オーバーラップ部の重ね合わせ精度が悪いと線状パターンの一部に突起が生じる等の問題がある。したがって、オーバーラップ部のパターンの重ね合わせを正確に行う必要があり、露光が困難であるという問題がある。特に、緻密なパターンを露光する際には、上記オーバーラップ部の重ね合わせには、より高精度な位置決めが要求され、露光装置の製造コストが高価になるという問題がある。
【０００７】
そこで、本発明は、このような問題点に対処し、隣接する露光パターンのつなぎ部のオーバー露光を簡単な方法で抑制しようとする露光方法及び露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明による露光方法は、被露光体上にフォトマスクのマスクパターンを通して光源光を照射し、互いに隣接する露光パターンの端部領域を重ね合わせてつなぎ露光する露光方法であって、前記露光パターンの前記端部領域の露光量を前記露光パターンの中央寄りから隣接端部に向かって漸減させて露光するものである。
【０００９】
このような構成により、被露光体上にフォトマスクのマスクパターンを通して光源光を照射し、互いに隣接する端部領域の露光量をパターンの中央寄りから隣接端部に向かって漸減させて形成した露光パターンの互いに隣接する端部領域を重ね合わせて露光パターンをつなぎ露光する。
【００１０】
また、前記露光パターンの前記端部領域の露光量を漸減させる露光は、前記被露光体と前記フォトマスクとを前記互いに隣接する露光パターンの中央部から隣接端部に向かう軸に沿って相対移動させるものである。これにより、被露光体とフォトマスクとを互いに隣接する露光パターンの中央部から隣接端部に向かう軸に沿って相対移動させ、露光パターンの端部領域の露光量を漸減させる。
【００１１】
さらに、前記露光パターンの前記端部領域の露光量を漸減させる露光は、前記フォトマスクと前記露光パターンの前記端部領域に対応した前記マスクパターンの部分を遮光するシャッタとを前記互いに隣接する露光パターンの中央部から隣接端部に向かう軸に沿って相対移動させるものである。これにより、フォトマスクと露光パターンの端部領域に対応したマスクパターンの部分を遮光するシャッタとを互いに隣接する露光パターンの中央部から隣接端部に向かう軸に沿って相対移動させ、露光パターンの端部領域の露光量を漸減させる。
【００１２】
そして、前記露光パターンを複数ショットの前記光源光により形成するものである。これにより、複数ショットの光源光により露光パターンを形成する。
【００１３】
また、本発明による露光装置は、被露光体上にフォトマスクのマスクパターンを通して光源光を照射し、互いに隣接する露光パターンの端部領域を重ね合わせてつなぎ露光する露光装置であって、前記被露光体と前記フォトマスク、又は前記フォトマスクと前記露光パターンの前記端部領域に対応した前記マスクパターンの部分を遮光するシャッタとを前記互いに隣接する露光パターンの中央部から隣接端部に向かう軸に沿って相対移動させることにより、前記露光パターンの前記端部領域の露光量を前記露光パターンの中央寄りから隣接端部に向かって漸減させる構成としたものである。
【００１４】
このような構成により、被露光体上にフォトマスクのマスクパターンを通して光源光を照射し、被露光体とフォトマスク、又はフォトマスクと露光パターンの端部領域に対応したマスクパターンの部分を遮光するシャッタとを互いに隣接する露光パターンの中央部から隣接端部に向かう軸に沿って相対移動させることにより、互いに隣接する端部領域の露光量をパターンの中央寄りから隣接端部に向かって漸減させて形成した露光パターンの互いに隣接する端部領域を重ね合わせて露光パターンをつなぎ露光する。
【００１５】
さらに、前記露光パターンを複数ショットの前記光源光により形成するものである。これにより、複数ショットの光源光により露光パターンを形成する。
【００１６】
そして、前記複数ショットの光源光の繰り返し周期に同期させて前記被露光体と前記フォトマスク、又は前記フォトマスクと前記シャッタとを相対移動させるものである。これにより、複数ショットの光源光の繰り返し周期に同期させて被露光体とフォトマスク、又はフォトマスクとシャッタとを相対移動させながら露光し、複数ショットの光源光により露光パターンを形成する。
【発明の効果】
【００１７】
請求項１に係る発明によれば、隣接する露光パターンのつなぎ部のオーバー露光を容易に抑制することができる。したがって、フォトマスクは通常のものがそのまま使用でき、フォトマスクの製造コストの上昇を抑制することができる。また、つなぎ部の位置合わせ精度も通常のままでよく、露光装置の製造コストの上昇を抑えることができる。
【００１８】
また、請求項２又は３に係る発明によれば、被露光体とフォトマスク、又はフォトマスクとシャッタとを相対移動させるだけで露光パターンの端部領域の露光量を漸減させることができる。
【００１９】
そして、請求項４に係る発明によれば、被露光体とフォトマスク、又はフォトマスクとシャッタとの相対移動速度を複数ショットの光源光の繰り返し周期により調整することができ、速度制御を容易に行なうことができる。
【００２０】
また、請求項５に係る発明によれば、隣接する露光パターンのつなぎ部のオーバー露光を簡単な方法で容易に抑制することができる。したがって、フォトマスクは通常のものがそのまま使用でき、フォトマスクの製造コストの上昇を抑制することができる。また、つなぎ部の位置合わせ精度も通常のままでよく、露光装置の製造コストの上昇を抑えることができる。
【００２１】
さらに、請求項６に係る発明によれば、被露光体とフォトマスク、又はフォトマスクとシャッタとの相対移動速度を複数ショットの光源光の繰り返し周期により調整することができ、速度制御を容易に行なうことができる。
【００２２】
そして、請求項７に係る発明によれば、一方の露光パターンの端部領域における露光量の不足分を他方の露光パターンの端部領域の露光量で完全に補完して露光することができ、露光領域全体に亘ってより均一に露光することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明による露光装置の第１の実施形態の構成を示す概要図である。
【図２】上記第１の実施形態において使用するフォトマスクの一構成例を示す平面図である。
【図３】上記フォトマスクを使用して被露光体上に露光される露光パターンを示す説明図である。
【図４】上記第１の実施形態において使用するシャッタの一構成例を示す平面図である。
【図５】上記第１の実施形態において使用する制御手段の構成を示すブロック図である。
【図６】上記第１の実施形態の動作及び本発明の露光方法を説明するフローチャートである。
【図７】上記被露光体の第１の領域に対する露光を示す説明図である。
【図８】上記第１の領域における露光量の変化を示す説明図である。
【図９】上記被露光体の第２の領域に対する露光を示す説明図である。
【図１０】上記第２の領域における露光量の変化を示す説明図である。
【図１１】上記露光の結果得られる露光パターンの露光量の均一性について示す説明図である。
【図１２】本発明による露光装置の第２の実施形態の要部を示す平面図である。
【図１３】上記第２の実施形態による露光について示す説明図である。
【図１４】上記第２の実施形態の変形例であり、シャッタを使用した場合の要部を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、本発明の実施形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。図１は本発明による露光装置の第１の実施形態の構成を示す概要図である。この露光装置は、被露光体上にフォトマスクのマスクパターンを通して光源光を照射し、互いに隣接する露光パターンの端部領域（以下「オーバーラップ部」という）を重ね合わせてつなぎ露光するもので、ステージ１と、光源２と、フォトマスク３と、シャッタ４と、制御手段５と、を備えて構成されている。なお、以下の説明において、上記露光パターンは、「露光パターン形成領域」を含む概念である。
【００２５】
上記ステージ１は、上面１ａに被露光体６を載置して後述の制御手段５により制御されてＸＹ平面内を任意の方向に移動可能に構成されたＸＹステージである。
【００２６】
上記ステージ１の上方には、光源２が配設されている。この光源２は、紫外線の光源光７を被露光体６に照射して露光するためのものであり、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、紫外線放射のレーザ光源等である。なお、以下の説明においては、上記光源２は、後述の制御手段５によって制御されて一定の繰返し周期で点灯及び消灯するフラッシュランプであり、Ｎショット（Ｎは正の整数）の光源光７で予定の露光量が得られるように光量調整ができるようになっている。
【００２７】
上記光源２からステージ１に向かう光軸上には、フォトマスク３が配設されている。このフォトマスク３は、例えば、図２に示すように１枚の透明な基材上に外形寸法がＷ1×Ｗ2の第１及び第２のマスクパターン８Ａ，８Ｂを各マスクパターンの中心線間隔が寸法Ｌ1となるように離して平行に並べて形成したものであり、上記ステージ１の上面１ａに近接対向して配設されている。そして、図示省略の移動機構により、上記ステージ１の上面１ａに平行な面内を図１おいてＸ軸方向に移動できるように構成され、上記二つのマスクパターンのうち、いずれか一方のマスクパターンの中心を光源光７の光軸に合致させることによってマスクパターンの選択が可能になっている。
【００２８】
ここで、上記第１のマスクパターン８Ａと第２のマスクパターン８Ｂとは、図３に示すように被露光体６上に形成される露光パターン９の全領域を例えば左右に２分割した第１及び第２の領域１０Ａ，１０Ｂの第１及び第２の露光パターン９Ａ，９Ｂに対応したパターン形状を有し、且つ夫々図２において斜線を付して示す端部領域１１に、被露光体６上に形成される露光パターン９の図３に示すオーバーラップ部１２に対応した共通のパターンを設けている。
【００２９】
上記フォトマスク３のマスク面３ａに近接対向してシャッタ４が設けられている。このシャッタ４は、フォトマスク３の第１及び第２のマスクパターン８Ａ，８Ｂの端部領域１１であって、被露光体６に形成される第１及び第２の露光パターン９Ａ，９Ｂのオーバーラップ部１２に対応した部分を遮光するものであり、図４に示すようにフォトマスク３の第１及び第２のマスクパターン８Ａ，８Ｂの外形寸法と略同じ寸法（Ｗ1×Ｗ3でＷ2≦Ｗ3）の開口部１３を形成している。そして、後述の制御手段５によって制御されて図示省略の移動機構が駆動され、図３に示すオーバーラップ部１２のＸ軸方向の幅ｗと等しい距離ｗだけ同方向に移動可能に形成されている。
【００３０】
なお、図１において、符号１４は、光源２から放射された光源光７の輝度分布を均一化すると共に、平行光にしてフォトマスク３に照射させるカップリング光学系である。
【００３１】
上記ステージ１、光源２、フォトマスク３、シャッタ４に電気的に結線して制御手段５が設けられている。この制御手段５は、シャッタ４を互いに隣接する第１及び第２の露光パターン９Ａ，９Ｂの中央部から隣接端部９Ａａ，９Ｂａに向かう軸（Ｘ軸）に沿って移動させることにより、第１及び第２の露光パターン９Ａ，９Ｂのオーバーラップ部１２の露光量を第１及び第２の露光パターン９Ａ，９Ｂの中央寄りから隣接端部９Ａａ，９Ｂａに向かって漸減させるものであり、図５に示すようにステージ駆動コントローラ１５と、光源駆動コントローラ１６と、フォトマスク駆動コントローラ１７と、シャッタ駆動コントローラ１８と、メモリ１９と、演算部２０と、制御部２１と、を備えて構成されている。
【００３２】
ここで、ステージ駆動コントローラ１５は、ステージ１をＸＹ方向に移動させるものである。また、光源駆動コントローラ１６は、光源２を一定周期で点灯及び消灯させるものである。さらに、フォトマスク駆動コントローラ１７は、フォトマスク３をＸ軸方向に移動させて第１のマスクパターン８Ａと第２のマスクパターン８Ｂとを切り替えるものである。また、シャッタ駆動コントローラ１８は、上記光源２の点灯及び消灯の繰り返し周期に同期してシャッタ４をＸ軸方向にステップ移動させるものである。さらに、メモリ１９は、例えばステージ１のＸ軸方向への移動距離の目標値ＷT、光源２の点灯及び消灯の繰り返し周期Ｔ及び予定の露光量を得るのに必要な光源光７のショット数の目標値Ｎ、フォトマスク３のＸ軸方向への移動距離の目標値ＬT、上記光源２の点灯及び消灯の繰り返し周期Ｔに同期したシャッタ４のＸ軸方向へのステップ移動距離の目標値ｗT（＝ｗ／Ｎ）等を予め記憶するものである。さらにまた、演算部２０は、ステージ１、フォトマスク３及びシャッタ４の移動距離とメモリ１９から読み出した各移動距離の目標値とを比較して、ステージ１、フォトマスク３及びシャッタ４が予め定められた距離だけ適切に移動するようにステージ駆動コントローラ１５、フォトマスク駆動コントローラ１７、及びシャッタ駆動コントローラ１８を制御するものである。そして、制御部２１は、上記各構成要素が適切に駆動するように統合して制御するものである。
【００３３】
次に、このように構成された第１の実施形態の露光装置の動作及び本発明の露光方法について図６のフローチャートを参照して説明する。
先ず、図示省略の入力手段により入力して各初期設定値がメモリ１９に記憶される。また、フォトマスク３は、第１のマスクパターン８Ａが選択され、その中心が光源光７の光軸に合致されている。さらに、シャッタ４は、開口部１３の中心を光源光７の光軸に合致させた状態（スタート位置）で停止している。そして、ステージ１は、その上面に載置された被露光体６上の予め定められた第１の領域１０Ａに第１の露光パターン９Ａが形成できるように位置決めされて停止している。
【００３４】
このような状態において、先ず、ステップＳ１においては、光源駆動コントローラ１６が駆動されて光源２が一定時間点灯され、図７（ａ）に示すようにフォトマスク３を介して被露光体６に１ショットの光源光７が照射され、第１の領域１０Ａが露光される。このとき、第１の領域１０Ａが受ける露光量は、目標の露光量Ｅの１／Ｎである（図８（ａ）参照）。また、光源駆動コントローラ１６は、光源光７のショット数ｎをカウントする。
【００３５】
次に、ステップＳ２においては、光源駆動コントローラ１６でカウントされた光源光７のショット数ｎとメモリ１９から読み出したショット数の目標値Ｎとが演算部２０で比較され、ショット数ｎが目標値Ｎに達した（ｎ＝Ｎ）か否かが判定される。この段階においては、ショット数ｎは目標値Ｎに未達であるため、”ＮＯ”判定となってステップＳ３に進む。
【００３６】
ステップＳ３においては、光源２が消灯している間にシャッタ４がシャッタ駆動コントローラ１８によって制御されて、図７（ｂ）に示すように矢印Ａ方向にステップ移動距離の目標値ｗTに等しい距離（ｗT＝ｗ／Ｎ）だけ移動される。そして、ステップＳ１に戻って、同図（ｂ）に示すように次の１ショットの光源光７が被露光体６に照射されて第１の領域１０Ａが露光される。このとき、第１の領域１０Ａが受ける積算露光量は２Ｅ／Ｎである（図８（ｂ）参照）。
【００３７】
以降、ステップＳ２において”ＹＥＳ”判定となるまで、ステップＳ１〜Ｓ３が繰り返され、複数ショットの光源光７の繰り返し周期に同期させてシャッタ４を矢印Ａ方向にステップ移動させながら、図７（ｃ）に示すように露光が実行される。そして、ショット数ｎが目標値Ｎに合致して第１の領域１０Ａが受ける積算露光量が目標の露光量Ｅに達すると（図８（ｃ）参照）第１の領域１０Ａに対する予定の露光が終了し、第１の露光パターン９Ａが形成される。
【００３８】
このとき、第１の露光パターン９Ａのオーバーラップ部１２における露光量は、図８（ｃ）に示すように第１の露光パターン９Ａの中央寄りから隣接端部９Ａａに向かって漸減している。
【００３９】
次に、ステップＳ４においては、図９（ａ）に示すようにシャッタ４が矢印Ａとは反対の矢印Ｂ方向に移動されてスタート位置まで戻される。また、フォトマスク３がフォトマスク駆動コントローラ１７によって制御されて同図に示す矢印Ｃ方向に距離Ｌ1だけ移動され、マスクパターンが第１のマスクパターン８Ａから第２のマスクパターン８Ｂに切り替えられる。さらに、ステージ１がステージ駆動コントローラ１５によって制御されて同図に示す矢印Ｄ方向に距離（Ｗ1−ｗ）だけ移動され、被露光体６の第２の領域１０Ｂが第２のマスクパターン８Ｂの下に位置付けられる。
【００４０】
続いて、ステップＳ５においては、光源駆動コントローラ１６が駆動されて光源２が一定時間点灯され、図９（ａ）に示すようにフォトマスク３を介して被露光体６に１ショットの光源光７が照射され、第２の領域１０Ｂが露光される。このとき、第２の領域１０Ｂが受ける露光量は、Ｅ／Ｎである（図１０（ａ）参照）。また、光源駆動コントローラ１６は、光源光７のショット数ｎをカウントする。
【００４１】
ステップＳ６においては、光源駆動コントローラ１６でカウントされた光源光７のショット数ｎとメモリ１９から読み出したショット数の目標値Ｎとが演算部２０で比較され、ショット数ｎが目標値Ｎに達した（ｎ＝Ｎ）か否かが判定される。この段階においては、ショット数ｎは目標値Ｎに未達であるため、”ＮＯ”判定となってステップＳ７に進む。
【００４２】
ステップＳ７においては、光源２が消灯している間にシャッタ４がシャッタ駆動コントローラ１８によって制御されて、図９（ｂ）に示すように矢印Ａとは反対の矢印Ｂ方向にステップ移動距離の目標値ｗTに等しい距離（ｗT＝ｗ／Ｎ）だけ移動される。そして、同図（ｂ）に示すように次の１ショットの光源光７が被露光体６に照射されて第２の領域１０Ｂが露光される。このとき、第２の領域１０Ｂが受ける積算露光量は２Ｅ／Ｎである（図１０（ｂ）参照）。
【００４３】
以降、ステップＳ６において”ＹＥＳ”判定となるまで、ステップＳ５〜Ｓ７が繰り返され、複数ショットの光源光７の繰り返し周期に同期させてシャッタ４を矢印Ｂ方向にステップ移動させながら、図９（ｃ）に示すように露光が実行される。そして、ショット数ｎが目標値Ｎに合致して第２の領域１０Ｂが受ける積算露光量が目標の露光量Ｅに達すると（図１０（ｃ）参照）第２の領域１０Ｂに対する予定の露光が終了し、第２の露光パターン９Ｂが形成される。
【００４４】
このとき、第２の露光パターン９Ｂのオーバーラップ部１２における露光量は、図１０（ｃ）に示すように第２の露光パターン９Ｂの中央寄りから隣接端部９Ｂａに向かって漸減している。
【００４５】
しかしながら、上記オーバーラップ部１２の露光量は、第１の露光パターン９Ａの当該部分の露光量と第２の露光パターン９Ｂの当該部分の露光量とを加算したものであるので、結果的にその露光量は目標の露光量Ｅとなる。したがって、図１１に示すように第１の露光パターン９Ａと第２の露光パターン９Ｂとを、端部領域をオーバーラップさせてつなぎ露光した場合でも全体に亘って均一に露光することができる。
【００４６】
なお、上記第１の実施形態においては、シャッタ４を移動する場合について説明したが、本発明はこれに限られず、フォトマスク３側を移動してもよい。
【００４７】
図１２は本発明による露光装置の第２の実施形態の概略構成を示す正面図である。ここでは、第１の実施形態と異なる部分について説明する。
この第２の実施形態は、ステージ１によって被露光体６を同図に矢印Ｆで示す一定方向に移動しながら、複数の単位マスク２２を被露光体６の移動方向と交差する方向に互い違いに２列に並べて有するフォトマスク３により露光するものであり、各単位マスク２２は、同図に示すように矢印Ｆ方向に見て左右に隣接するマスクパターン２３の隣接端部２３ａが接するように配置されている。また、矢印Ｆ方向に先後して位置する単位マスク２２の中心線間隔はＬ2に設定されている。そして、各単位マスク２２は、被露光体６が停止状態において、複数ショットの光源光７の繰り返し周期に同期して矢印Ｇ又はＨ方向に連動して移動するようになっている。なお、各単位マスク２２に対応して夫々個別に光源２及びカップリング光学系１４が設けられている。
【００４８】
このように構成された第２の実施形態は、次のように動作する。
先ず、ステージ１が矢印Ｆ方向に移動されて被露光体６の最初の露光領域（図１２のＯ−Ｏ線の位置）がフォトマスク３の矢印Ｆ方向後列の複数の単位マスク２２の位置に達するとステージ１が停止し、Ｎショットの光源光７がフォトマスク３に照射される。同時に、フォトマスク３（各単位マスク２２）は、Ｎショットの光源光７の繰り返し周期に同期して図１２に示す矢印Ｇ方向にステップ移動距離の目標値ｗTに等しい距離（ｗT＝ｗ／Ｎ）ずつステップ移動しながらトータル距離ｗだけ移動する。これにより、第１の露光パターン９Ａが予定の露光量で形成される。このとき、第１の露光パターン９Ａの端部領域（オーバーラップ部１２）の露光量は、図１３（ａ）に示すようにパターンの中央寄りから隣接端部９Ａａに向かって漸減する。
【００４９】
次に、ステージ１の矢印Ｆ方向への移動が再開され、被露光体６が距離Ｌ2だけ移動して最初の露光領域（図１２のＯ−Ｏ線の位置）がフォトマスク３の矢印Ｆ方向前列の複数の単位マスク２２の位置（図１２のＰ−Ｐ線の位置）に達するとステージ１が停止し、Ｎショットの光源光７がフォトマスク３に照射される。同時に、フォトマスク３（各単位マスク２２）は、Ｎショットの光源光７の繰り返し周期に同期して図１２に示す矢印Ｈ方向にステップ移動距離の目標値ｗTに等しい距離（ｗT＝ｗ／Ｎ）ずつステップ移動しながらトータル距離ｗだけ移動する。これにより、第２の露光パターン９Ｂが予定の露光量で形成される。このとき、第２の露光パターン９Ｂの端部領域（オーバーラップ部１２）の露光量は、図１３（ｂ）に示すようにパターンの中央寄りから隣接端部９Ｂａに向かって漸減する。
【００５０】
以降、上述と同様の動作が繰り返し実行され、被露光体の全面に亘って露光が行われる。この場合、第１の露光パターン９Ａと第２の露光パターン９Ｂとは、それらの端部領域が重ね合わされてつなぎ露光されるため、各露光パターン９Ａ，９Ｂのオーバーラップ部１２は、一方の露光パターンの端部領域における露光量の不足分を他方の露光パターンの端部領域の露光量で補完して予定の露光量とすることができ、図１３（ｃ）に示すように露光領域全体に亘って一定の露光量で露光することができる。
【００５１】
なお、上記第２の実施形態においては、フォトマスク３を矢印Ｇ又はＨ方向に移動する場合について説明したが、本発明はこれに限られず、ステージ１側を矢印Ｇ又はＨ方向に移動してもよい。
【００５２】
また、図１４に示すように、複数の単位マスク２２に近接対向して複数のシャッタ４を設け、該各シャッタ４を連動させて矢印Ｇ又はＨ方向に移動してもよい。この場合、矢印Ｆ方向に見て左右に隣接する単位マスク２２のマスクパターン８の端部領域１１が寸法ｗだけ重なるように配置すると共に、シャッタ４の開口部１３の矢印Ｇ又はＨ方向の幅をマスクパターンの同方向の幅よりも寸法ｗだけ小さく形成するとよい。これにより、図１３と同様にオーバーラップ部１２の露光量がパターンの中央寄りから隣接端部に向かって漸減した露光パターンを形成することができる。
【００５３】
さらに、以上の説明においては、複数ショットの光源光７の繰り返し周期に同期させてシャッタ４又はフォトマスク３を移動させる場合について述べたが、本発明はこれに限られず、１ショットの光源光７で予定の露光量を得ると共に、この１ショット中に被露光体６とフォトマスク３、又はフォトマスク３とシャッタ４とを相対移動させてもよい。この場合、各要素の移動はステップ移動ではなく、直線的な移動となる。
【符号の説明】
【００５４】
３…フォトマスク
４…シャッタ
６…被露光体
７…光源光
８Ａ…第１のマスクパターン
８Ｂ…第２のマスクパターン
９…露光パターン
９Ａ…第１の露光パターン
９Ｂ…第２の露光パターン
９Ａａ，９Ｂａ…隣接端部
１２…オーバーラップ部（端部領域）
【図１】
2012054302.tif 000003
【図２】
2012054302.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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