(57)【要約】【課題】ガラス基板上の被クランプ部における欠陥の発生を抑制することが可能な情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。【解決手段】ガラスブランク材を準備し（Ｓ１０）、ガラスブランク材を用いて略円形状のガラス基板を形成し（Ｓ２０）、ガラス基板に対してラップ研磨処理を施し（Ｓ３１）、ガラス基板に対してポリッシュ研磨処理を施し（Ｓ３３，Ｓ３４）、ガラス基板の主表面を洗浄することによってガラス基板上の複数の付着物を除去し（Ｓ４０）、ガラス基板に化学強化処理を施す（Ｓ５０）。１μｍ以下の大きさを有する付着物の数がガラス基板上の被クランプ部内において５個以下となるようにガラス基板は洗浄される。付着物の数は、ガラス基板の主表面上における被クランプ部に対して、２波長のレーザ光を異なる方向で照射し、それぞれの反射光に基づいて算出される値である。【選択図】図５
2012079363.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラスブランク材を準備する工程と、
前記ガラスブランク材を用いて略円形状のガラス基板を形成する工程と、
前記ガラス基板に対してラップ研磨処理を施す工程と、
前記ガラス基板に対してポリッシュ研磨処理を施す工程と、
前記ガラス基板の主表面を洗浄することによって、前記ガラス基板の前記主表面に付着した複数の付着物を除去する工程と、
前記ガラス基板の前記主表面に化学強化処理を施す工程と、を備え、
前記ガラス基板の前記主表面は、前記ガラス基板が磁気ディスク装置内に情報記録媒体として内蔵された状態において、前記ガラス基板を固定するためのクランプ部材によって押圧される被クランプ部を含み、
前記ガラス基板の前記主表面を洗浄する工程においては、前記被クランプ部が洗浄されることによって、複数の前記付着物のうち１μｍ以下の大きさを有する前記付着物の数が前記被クランプ部内において５個以下となるように前記ガラス基板の前記被クランプ部は洗浄され、
前記付着物の数は、前記被クランプ部に対して、２波長のレーザ光を異なる方向で照射し、それぞれの反射光に基づいて算出される値である、
情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項２】
前記付着物の数が５個以下となるように洗浄される前記被クランプ部は、前記ガラス基板の前記主表面上において前記ガラス基板と同軸上に規定される円環状の部分であり、
前記円環状の部分は、前記ガラス基板の中心に設けられた孔の直径をφＡとしたとき、φＡ×１．０３以上φＡ×１．３以下の範囲に規定される領域である、
請求項１に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項３】
前記化学強化処理が施された前記ガラス基板の前記主表面に対して、取り代が０．１μｍ以上０．５μｍ以下の研磨処理を施す工程をさらに備える、
請求項１または２に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項４】
請求項１から３のいずれかに記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法によって得られたガラス基板と、
前記ガラス基板の主表面上に形成された磁気薄膜層と、を備える、
情報記録媒体。
【請求項５】
請求項４に記載の情報記録媒体を備え、
前記情報記録媒体を７０００ｒｐｍ以上の回転数で駆動する、
磁気ディスク装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体、および磁気ディスク装置に関し、特に、情報記録媒体の製造に用いられる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、その情報記録媒体用ガラス基板を備えた情報記録媒体、およびその情報記録媒体を備えた磁気ディスク装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
コンピュータ等に搭載されるハードディスク等の磁気ディスク装置は、クランプ部材、スピンドルモータ、および磁気ディスク等の情報記録媒体等から構成される（下記の特許文献１参照）。磁気ディスク等の情報記録媒体は、クランプ部材によって挟持され、スピンドルモータに固定される。スピンドルモータからの回転動力を受けて、磁気ディスク等の情報記録媒体は回転する。
【０００３】
磁気ディスク等の情報記録媒体は、情報記録媒体用ガラス基板（以下、ガラス基板ともいう）から製造される。ガラス基板の主表面上に、磁気、光、または光磁気等の性質を利用した記録層を含む磁気薄膜層が形成される。記録層が磁気ヘッドによって磁化されることによって、磁気ディスク等の情報記録媒体に所定の情報が記録される。
【０００４】
一般的に、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法においては、ガラス基板の主表面に対して化学強化処理が施される（下記の特許文献２参照）。化学強化処理によって、ガラス基板の主表面は強化される。ガラス基板の主表面は、ガラス基板が情報記録媒体としてクランプ部材によって挟持された際に、クランプ部材からの押圧力を受ける被クランプ部を含む。被クランプ部を含めて、ガラス基板の主表面は化学強化処理によって強化される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９−５９４３９号公報
【特許文献２】国際公開第２００８／０６２６５７号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ガラス基板の主表面上における被クランプ部に多数の付着物が残存したままで化学強化処理が施されると、被クランプ部に当該付着物が強固に固着される。固着された付着物によって、被クランプ部に欠陥が生じることがある。また、付着物の残存によって、化学強化処理が被クランプ部に均一に施されなくなり、結果として被クランプ部に欠陥が生じることもある。被クランプ部において上記のような欠陥が生じた部分は、化学強化処理によっても強化されない。
【０００７】
被クランプ部がクランプ部材によって挟持されたあと落下等によって外部から衝撃を受けると、被クランプ部の欠陥が生じた部分には、磨耗、割れまたは欠け等の損傷が発生する。当該損傷は、情報記録媒体および磁気ディスク装置の故障を招く。
【０００８】
本発明は、上記の実情に鑑みて為されたものであって、被クランプ部における欠陥の発生を抑制することが可能な情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、その情報記録媒体用ガラス基板を備えた情報記録媒体、およびその情報記録媒体を備えた磁気ディスク装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に基づく情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、ガラスブランク材を準備する工程と、上記ガラスブランク材を用いて略円形状のガラス基板を形成する工程と、上記ガラス基板に対してラップ研磨処理を施す工程と、上記ガラス基板に対してポリッシュ研磨処理を施す工程と、上記ガラス基板の主表面を洗浄することによって、上記ガラス基板の上記主表面に付着した複数の付着物を除去する工程と、上記ガラス基板の上記主表面に化学強化処理を施す工程と、を備え、上記ガラス基板の上記主表面は、上記ガラス基板が磁気ディスク装置内に情報記録媒体として内蔵された状態において、上記ガラス基板を固定するためのクランプ部材によって押圧される被クランプ部を含み、上記ガラス基板の上記主表面を洗浄する工程においては、上記被クランプ部が洗浄されることによって、複数の上記付着物のうち１μｍ以下の大きさを有する上記付着物の数が上記被クランプ部内において５個以下となるように上記ガラス基板の上記被クランプ部は洗浄され、上記付着物の数は、上記被クランプ部に対して、２波長のレーザ光を異なる方向で照射し、それぞれの反射光に基づいて算出される値である。
【００１０】
好ましくは、本発明に基づく上記の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、上記付着物の数が５個以下となるように洗浄される上記被クランプ部は、上記ガラス基板の上記主表面上において上記ガラス基板と同軸上に規定される円環状の部分であり、上記円環状の部分は、上記ガラス基板の中心に設けられた孔の直径をφＡとしたとき、φＡ×１．０３以上φＡ×１．３以下の範囲に規定される領域である。
【００１１】
好ましくは、本発明に基づく上記の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、上記化学強化処理が施された上記ガラス基板の上記主表面に対して、取り代が０．１μｍ以上０．５μｍ以下の研磨処理を施す工程をさらに備える。
【００１２】
本発明に基づく情報記録媒体は、本発明に基づく上記の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法によって得られたガラス基板と、上記ガラス基板の上記主表面上に形成された磁気薄膜層と、を備える。
【００１３】
本発明に基づく磁気ディスク装置は、本発明に基づく上記の情報記録媒体を備え、上記情報記録媒体を７０００ｒｐｍ以上の回転数で駆動する。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、被クランプ部における欠陥の発生を抑制することが可能な情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、その情報記録媒体用ガラス基板を備えた情報記録媒体、およびその情報記録媒体を備えた磁気ディスク装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】実施の形態におけるガラス基板の製造方法によって得られるガラス基板を示す斜視図である。
【図２】実施の形態におけるガラス基板の製造方法によって得られるガラス基板を備えた磁気ディスクを示す斜視図である。
【図３】実施の形態におけるガラス基板の製造方法によって得られるガラス基板（磁気ディスク）を備えた磁気ディスク装置を示す斜視図である。
【図４】図３中におけるＩＶ−ＩＶ線に関する矢視断面図である。
【図５】実施の形態におけるガラス基板の製造方法を示すフローチャート図である。
【図６】実施の形態におけるガラス基板の製造方法において、ガラス基板の主表面上における被クランプ部に付着した付着物の数を算出する態様を示す斜視図である。
【図７】実施例１におけるガラス基板の洗浄工程を示すフローチャート図である。
【図８】実施例２におけるガラス基板の洗浄工程を示すフローチャート図である。
【図９】実施例３におけるガラス基板の洗浄工程を示すフローチャート図である。
【図１０】比較例１におけるガラス基板の洗浄工程を示すフローチャート図である。
【図１１】比較例２におけるガラス基板の洗浄工程を示すフローチャート図である。
【図１２】実施例および比較例における洗浄工程後のそれぞれのガラス基板の主表面上の被クランプ部における付着物の数を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
本発明に基づいた実施の形態について、以下、図面を参照しながら説明する。実施の形態の説明において、個数、量などに言及する場合、特に記載がある場合を除き、本発明の範囲は必ずしもその個数、量などに限定されない。実施の形態の説明において、同一の部品、相当部品に対しては、同一の参照番号を付し、重複する説明は繰り返さない場合がある。
【００１７】
［ガラス基板１・磁気ディスク１０・磁気ディスク装置１００］
図１〜図４を参照して、まず、本実施の形態に基づく情報記録媒体用ガラス基板の製造方法によって得られるガラス基板１、ガラス基板１を備えた磁気ディスク１０、および磁気ディスク１０を備えた磁気ディスク装置１００について説明する。
【００１８】
図１は、磁気ディスク１０（図２参照）に用いられるガラス基板１を示す斜視図である。図２は、ガラス基板１を備えた磁気ディスク１０を示す斜視図である。磁気ディスク１０は、情報記録媒体として磁気ディスク装置１００（図３参照）に用いられる。図３は、磁気ディスク１０を備えた磁気ディスク装置１００を示す斜視図である。図４は、図３中におけるＩＶ−ＩＶ線に関する矢視断面図である。
【００１９】
図１に示すように、磁気ディスク１０に用いられるガラス基板１（情報記録媒体用ガラス基板）は、中心に孔１Ｈが形成された環状の円板形状を呈している。ガラス基板１は、表主表面１Ａ、裏主表面１Ｂ、内周端面１Ｃ、外周端面１Ｄ、被クランプ部１Ｒ、および被クランプ部１Ｓ（図４参照）を有している。
【００２０】
ガラス基板１の大きさは、たとえば０．８インチ、１．０インチ、１．８インチ、２．５インチ、または３．５インチである。ガラス基板の厚さは、破損防止の観点から、たとえば０．３０〜２．２ｍｍである。本実施の形態におけるガラス基板の大きさは、外径が約６４ｍｍ、内径が約２０ｍｍ、厚さが約０．８ｍｍである。ガラス基板の厚さとは、ガラス基板上の点対象となる任意の複数の点で測定した値の平均によって算出される値である。
【００２１】
被クランプ部１Ｒは、表主表面１Ａに含まれる。本実施の形態における被クランプ部１Ｒは、ガラス基板１と同軸上に位置し、平面視円環状を呈している。詳細は図３および図４を参照して後述されるが、被クランプ部１Ｒは、ガラス基板１が磁気ディスク１０として磁気ディスク装置１００内に固定された際に、クランプ部材（図３における上部クランプ部材２４）から押圧力を受ける部分である。被クランプ部１Ｒは、ガラス基板１の中心に設けられた孔１Ｈの直径をφＡとしたとき、たとえば、φＡ×１．０３以上φＡ×１．３以下の範囲に規定される領域である。ガラス基板１の磁気ディスクとしての大きさが２．５インチディスクである場合、たとえば、被クランプ部１Ｒの内周側の直径（内径）は約２２ｍｍであり、外周側の直径（外径）は約２４ｍｍである。
【００２２】
被クランプ部１Ｓは、裏主表面１Ｂに含まれる。本実施の形態における被クランプ部１Ｓも、ガラス基板１と同軸上に位置し、平面視円環状を呈している。被クランプ部１Ｓは、ガラス基板１が磁気ディスク１０として磁気ディスク装置１００内に固定された際に、クランプ部材（図４における下部クランプ部材２２）から押圧力を受ける部分である。被クランプ部１Ｓは、ガラス基板１の中心に設けられた孔１Ｈの直径をφＡとしたとき、たとえば、φＡ×１．０３以上φＡ×１．３以下の範囲に規定される領域である。ガラス基板１の磁気ディスクとしての大きさが２．５インチディスクである場合、たとえば、被クランプ部１Ｓの内周側の直径（内径）は約２０ｍｍであり、外周側の直径（外径）は約２４ｍｍである。
【００２３】
図２に示すように、磁気ディスク１０は、上記したガラス基板１の表主表面１Ａ上に磁気薄膜層２が形成されることによって構成される。図２中では、表主表面１Ａ上にのみ磁気薄膜層２が形成されているが、裏主表面１Ｂ上にも磁気薄膜層２が形成されていてもよい。
【００２４】
磁気薄膜層２は、磁性粒子を分散させた熱硬化性樹脂をガラス基板１の表主表面１Ａ上にスピンコートすることによって形成される（スピンコート法）。磁気薄膜層２は、ガラス基板１の表主表面１Ａに対してスパッタリング法、または無電解めっき法等により形成されてもよい。
【００２５】
ガラス基板１の表主表面１Ａに形成される磁気薄膜層２の膜厚は、スピンコート法の場合は約０．３〜１．２μｍ、スパッタリング法の場合は約０．０４〜０．０８μｍ、無電解めっき法の場合は約０．０５〜０．１μｍである。薄膜化および高密度化の観点からは、磁気薄膜層２はスパッタリング法または無電解めっき法によって形成されるとよい。
【００２６】
磁気薄膜層２に用いる磁性材料としては、特に限定はなく従来公知のものが使用できるが、高い保持力を得るために結晶異方性の高いＣｏを基本とし、残留磁束密度を調整する目的でＮｉやＣｒを加えたＣｏ系合金などが好適である。また、熱アシスト記録用に好適な磁性層材料として、ＦｅＰｔ系の材料が用いられてもよい。
【００２７】
また、磁気記録ヘッドの滑りをよくするために磁気薄膜層２の表面に潤滑剤を薄くコーティングしてもよい。潤滑剤としては、たとえば液体潤滑剤であるパーフロロポリエーテル（ＰＦＰＥ）をフレオン系などの溶媒で希釈したものが挙げられる。
【００２８】
さらに、必要により下地層や保護層を設けてもよい。磁気ディスク１０における下地層は磁性膜に応じて選択される。下地層の材料としては、たとえば、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ、Ｖ、Ｂ、Ａｌ、またはＮｉなどの非磁性金属から選ばれる少なくとも一種以上の材料が挙げられる。
【００２９】
また、下地層は単層とは限らず、同一または異種の層を積層した複数層構造としても構わない。たとえば、Ｃｒ／Ｃｒ、Ｃｒ／ＣｒＭｏ、Ｃｒ／ＣｒＶ、ＮｉＡｌ／Ｃｒ、ＮｉＡｌ／ＣｒＭｏ、ＮｉＡｌ／ＣｒＶ等の多層下地層としてもよい。
【００３０】
磁気薄膜層２の摩耗や腐食を防止する保護層としては、たとえば、Ｃｒ層、Ｃｒ合金層、カーボン層、水素化カーボン層、ジルコニア層、シリカ層などが挙げられる。これらの保護層は、下地層、磁性膜など共にインライン型スパッタ装置で連続して形成できる。また、これらの保護層は、単層としてもよく、あるいは、同一または異種の層からなる多層構成としてもよい。
【００３１】
上記保護層上に、あるいは上記保護層に替えて、他の保護層を形成してもよい。たとえば、上記保護層に替えて、Ｃｒ層の上にテトラアルコキシランをアルコール系の溶媒で希釈した中に、コロイダルシリカ微粒子を分散して塗布し、さらに焼成して酸化ケイ素（ＳｉＯ２)層を形成してもよい。
【００３２】
図３および図４に示すように、磁気ディスク装置１００は、上記した磁気ディスク１０、筐体２０、スピンドルモータ２１（図４参照）、下部クランプ部材２２（図４参照）、ハブ２３（図４参照）、上部クランプ部材２４、固定ネジ２５、ヘッドスライダ２６（図３参照）、サスペンション２７、アーム２８、垂直軸２９、ボイスコイル３０、およびボイスコイルモータ３１を備える。
【００３３】
筐体２０の上面に、スピンドルモータ２１が設置される。スピンドルモータ２１の上面に、円板上の下部クランプ部材２２（クランプ台）が設置される。円柱状のハブ２３は、スピンドルモータ２１上に立設され、下部クランプ部材２２を貫通している。磁気ディスク１０は、孔１Ｈがハブ２３に挿通されるように、下部クランプ部材２２の表面２２Ｎ上に配置される。ハブ２３の上端に、上部クランプ部材２４を貫通する固定ネジ２５が螺合される。
【００３４】
上部クランプ部材２４は、固定ネジ２５によってハブ２３の上端に固定される。上部クランプ部材２４は、固定ネジ２５に押圧固定される内周側の円板状部分２４Ｂと、円板状部分２４Ｂの外周に設けられた環状部分２４Ｍとを有する。
【００３５】
固定ネジ２５によって上部クランプ部材２４の円板状部分２４Ｂが下方に押圧される。円板状部分２４Ｂが板バネとして作用することによって、環状部分２４Ｍの表面２４Ｎは磁気ディスク１０を押圧する。下部クランプ部材２２の表面２２Ｎおよび上部クランプ部材２４の環状部分２４Ｍの表面２４Ｎによって、磁気ディスク１０が挟持される。
【００３６】
下部クランプ部材２２の表面２２Ｎからの押圧力は、ガラス基板１における被クランプ部１Ｓに作用する。換言すると、被クランプ部１Ｓは、ガラス基板１が磁気ディスク１０として磁気ディスク装置１００内に固定された際に、下部クランプ部材２２の表面２２Ｎから押圧力を受ける部分である。
【００３７】
上部クランプ部材２４の環状部分２４Ｍの表面２４Ｎからの押圧力は、ガラス基板１における被クランプ部１Ｒに作用する。換言すると、被クランプ部１Ｒは、ガラス基板１が磁気ディスク１０として磁気ディスク装置１００内に固定された際に、上部クランプ部材２４の環状部分２４Ｍの表面２４Ｎから押圧力を受ける部分である。
【００３８】
上記の構成により、情報記録媒体としての磁気ディスク１０は、下部クランプ部材２２および上部クランプ部材２４によって挟持固定された状態で、スピンドルモータ２１からの回転動力を受けて回転することができる。
【００３９】
図３に示すように、アーム２８は、垂直軸２９の周りに揺動可能に取り付けられる。アーム２８の先端に、板バネ（片持ち梁）状のサスペンション２７が取り付けられる。サスペンション２７の先端に、ヘッドスライダ２６が取り付けられる。
【００４０】
アーム２８のヘッドスライダ２６とは反対側に、ボイスコイル３０が取り付けられる。ボイスコイル３０は、筐体２０上に設けられたマグネット（図示せず）によって挟持される。ボイスコイル３０およびこのマグネットにより、ボイスコイルモータ３１が構成される。
【００４１】
ボイスコイル３０に、所定の電流が供給される。アーム２８は、ボイスコイル３０に流れる電流と上記マグネットの磁場とによって発生する力に基づいて、垂直軸２９の回りに揺動する。アーム２８の揺動によって、サスペンション２７およびヘッドスライダ２６も矢印ＡＲ方向に揺動する。ヘッドスライダ２６は、磁気ディスク１０の半径方向に往復移動する。ヘッドスライダ２６に設けられた磁気ヘッド（図示せず）は、ボイスコイル３０に対してシーク動作を行なう。
【００４２】
当該シーク動作が行なわれる一方で、ヘッドスライダ２６は、ボイスコイル３０の回転に伴って浮揚力を受ける。当該浮揚力とサスペンション２７の弾性力（押圧力）とのバランスによって、ヘッドスライダ２６は磁気ディスク１０の表面に対して一定の浮上量で走行する。当該走行によって、磁気ディスク１０の所定のトラックに対して、情報（データ）の記録および再生が行なわれることが可能となる。
【００４３】
［ガラス基板の製造方法］
次に、図５に示すフローチャート図を用いて、本実施の形態におけるガラス基板（情報記録媒体用ガラス基板）の製造方法について説明する。
【００４４】
本実施の形態におけるガラス基板の製造方法は、ガラスブランク材準備工程（ステップＳ１０）、ガラス基板形成工程（ステップＳ２０）、研磨工程（ステップＳ３０）、洗浄工程（ステップＳ４０）、および化学強化工程（ステップＳ５０）を備えている。化学強化処理工程（ステップＳ５０）を経ることによって得られたガラス基板（図１におけるガラス基板１に相当）に対して、磁気薄膜形成工程（ステップＳ６０）が実施されてもよい。磁気薄膜形成工程（ステップＳ６０）によって、磁気ディスク１０が得られる。
【００４５】
以下、これらの各ステップＳ１０〜Ｓ６０の詳細について順に説明する、以下には、各ステップＳ１０〜Ｓ６０間に適宜行なわれる簡易的な洗浄については記載していない。
【００４６】
（ガラスブランク材準備工程）
ガラスブランク材準備工程（ステップＳ１０）においては、ガラス基板を構成するガラス素材が溶融される（ステップＳ１１）。ガラス素材は、たとえばアルミノシリケートガラスである。溶融したガラス素材は、下型上に流し込まれた後、上型および下型によってプレス成形される（ステップＳ１２）。プレス成形によって、円盤状のガラスブランク材（ガラス母材）が形成される。ガラスブランク材は、ダウンドロー法またはフロート法によって形成されたシートガラス（板ガラス）を、研削砥石で切り出すことによって形成されてもよい。
【００４７】
（ガラス基板形成工程）
次に、ガラス基板形成工程（ステップＳ２０）においては、プレス成形されたガラスブランク材の両方の主表面に対して、ラップ研磨処理が施される（ステップＳ２１）。ガラスブランク材の両方の主表面とは、後述する各処理を経ることによって、図１における表主表面１Ａとなる主表面および裏主表面１Ｂとなる主表面のことである（以下、両主表面ともいう）。上述のとおり、被クランプ部１Ｒは表主表面１Ａに含まれ、被クランプ部１Ｓは裏主表面１Ｂに含まれる。ラップ研磨処理は、遊星歯車機構を利用した両面ラッピング装置などのラップ定盤を、両主表面に押圧することによって行なわれる。ラップ研磨処理によって、ガラス基板としてのおおよその平行度、平坦度、および厚みなどが予備調整される。
【００４８】
ラップ研磨処理の後、円筒状のダイヤモンドドリルなどを用いてガラスブランク材の中心部に対してコアリング（内周カット）処理が施される（ステップＳ２２）。コアリング処理によって、中心部に孔の開いた円環状のガラス基板が得られる。中心部の孔に対しては、所定の面取り加工が施されてもよい。
【００４９】
（研磨工程）
次に、研磨工程（ステップＳ３０）においては、上述のステップＳ２１と同様に、ガラス基板の両主表面に対してラップ研磨処理が施される（ステップＳ３１）。コアリング工程（ステップＳ２２）においてガラス基板の両主表面に形成された微細なキズや突起物などが除去される。ラップ研磨処理の後、ガラス基板の外周端面がブラシによって鏡面状に研磨される（ステップＳ３２）。研磨砥粒としては、酸化セリウム砥粒を含むスラリーが用いられる。
【００５０】
次に、第１ポリッシュ研磨工程として、ラップ研磨工程（ステップＳ３１）においてガラス基板の両主表面に残留したキズを除去しつつ、ガラス基板の反りを矯正する（ステップＳ３２）。第１ポリッシュ研磨工程においては、遊星歯車機構を利用した両面研磨装置などが使用される。
【００５１】
第２ポリッシュ研磨工程においては、ガラス基板に研磨加工が再度実施され、ガラス基板の両主表面上に残留した微小欠陥等が解消される（ステップＳ３４）。ガラス基板の両主表面は鏡面状に仕上げられることによって所望の平坦度に形成され、ガラス基板の反りも解消される。第２ポリッシュ研磨工程においては、遊星歯車機構を利用した両面研磨装置などが使用される。研磨剤としては、コロイダルシリカが使用される。
【００５２】
（洗浄工程）
次に、ガラス基板は洗浄される（ステップＳ４０）。ガラス基板の両主表面が洗剤、純水、オゾン、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、またはＵＶ（ultraviolet）オゾンなどによって洗浄されることによって、ガラス基板の両主表面に付着した付着物が除去される。洗浄工程においては、ガラス基板は、１μｍ以下の大きさを有する付着物の数が、両主表面上の被クランプ部１Ｒおよび被クランプ部１Ｓのそれぞれにおいて５個以下となるまで洗浄される。
【００５３】
換言すると、ガラス基板は、図１（図４）の表主表面１Ａ上における被クランプ部１Ｒとなる主表面上に付着している１μｍ以下の大きさを有する付着物の数が５個以下となり、且つ、図４の裏主表面１Ｂ上における被クランプ部１Ｓとなる主表面上に付着している１μｍ以下の大きさを有する付着物の数も５個以下となるまで洗浄される。なお、ここでいう１μｍ以下の大きさを有する付着物とは、ガラス基板の各主表面における被クランプ部１Ｒ，１Ｓ上から最も突出した部分の高さが１μｍ以下である付着物のことを意味する。
【００５４】
たとえば、ガラス基板１の磁気ディスクとしての大きさが２．５インチディスクである場合、洗浄工程においては、ガラス基板１は、１μｍ以下の大きさを有する付着物の数が、両主表面上の被クランプ部１Ｒおよび被クランプ部１Ｓのそれぞれにおけるφ２０．６ｍｍ（孔１Ｈの大きさφ２０×１．０３）以上φ２６ｍｍ（孔１Ｈの大きさφ２０×１．３）以下の範囲内において、５個以下となるまで洗浄される。
【００５５】
ここで、図６を参照して、本実施の形態における付着物の数はたとえば次のように算出される。まず、２波長のレーザ光３Ｌ，４Ｌを異なる方向から照射するレーザ発振器３，４および受光器５を備えた光学式欠陥検査装置が準備される。ＯＳＡ（Optical Surface Analyzer）カウントを実施する光学式欠陥検査装置としては、たとえばＫＬＡ−Ｔｅｎｃｏｒ社製のＯＳＡ７１２０が使用されることができる。なお、図６においては、光学式欠陥検査装置の全体的な構成については記載されず、光学式欠陥検査装置が部分的に図示されている。
【００５６】
レーザ発振器３から、ガラス基板１の表主表面１Ａ上における被クランプ部１Ｒ（後述の処理を経ることによって表主表面１Ａの被クランプ部１Ｒを形成する主表面）に対して、指向性を持つレーザ光３Ｌが照射される。レーザ光３Ｌは、波長が６６０ｎｍ、表主表面１Ａ上におけるスポットサイズが６μｍ×５μｍ、入射角が約１５°（略垂直）である。レーザ発振器４から、ガラス基板１の表主表面１Ａ上における被クランプ部１Ｒに対して、レーザ光３Ｌとは異なる方向から指向性を持つレーザ光４Ｌが照射される。レーザ光４Ｌは、レーザ光４Ｌは、波長が４０５ｎｍ、表主表面１Ａ上におけるスポットサイズが６μｍ×５μｍ、入射角が約７０°（斜入射）である。
【００５７】
受光器５は、ガラス基板１の表主表面１Ａ上における被クランプ部１Ｒに反射した各レーザ光３Ｌ，４Ｌの反射光を受光する。光学式欠陥検査装置は、受光器５が受光した各レーザ光３Ｌ，４Ｌの光エネルギー等に基づいて所定の演算を行なう。当該演算によって、光学式欠陥検査装置はガラス基板１の表主表面１Ａ上における被クランプ部１Ｒに付着している１μｍ以下の大きさを有する付着物の数を算出する。ガラス基板１の裏主表面１Ｂ上における被クランプ部１Ｓ（図４）に対しても、ガラス基板１の表主表面１Ａ上における被クランプ部１Ｒと同様に、光学式欠陥検査装置によって付着物の数が算出される。光学式欠陥検査装置としては、上記の波長４０５ｎｍの反射光を受光器５とは別の受光器（図示せず）により受光し、演算することによってより高精度に表主表面１Ａ上における被クランプ部１Ｒ（または裏主表面１Ｂ上における被クランプ部１Ｓ）に付着している１μｍ以下の大きさを有する付着物の数を算出することが可能である。
【００５８】
なお、本実施の形態におけるガラス基板の製造方法においては、付着物数の算出は必須の工程には含まれない。付着物数の算出は、ガラス基板の製造に使用される各製造設備（構成機器）の設定条件が決定される初期の段階でのみ実施されるとよい。また、所定の数のガラス基板が製造される毎に付着物数を算出し、その結果を各製造設備（構成機器）の設定に反映させるようにしてもよい。
【００５９】
（化学強化工程）
図５を再び参照して、ガラス基板が洗浄された後、約３００℃に加熱された化学強化処理液にガラス基板を約３０分間浸漬することによって、被クランプ部（被クランプ部１Ｒ，１Ｓ）を含むガラス基板の両主表面に化学強化層を形成する（ステップＳ５０）。化学強化処理液としては、硝酸カリウム（含有率７０％）と硝酸ナトリウム（含有率３０％）との混合溶液が使用される。
【００６０】
ガラス基板に含まれるリチウムイオン、ナトリウムイオン等のアルカリ金属イオンは、これらのイオンに比べてイオン半径の大きなカリウムイオン等のアルカリ金属イオンによって置換される（イオン交換法）。イオン半径の違いによって生じる歪みより、イオン交換された領域に圧縮応力が発生し、被クランプ部（被クランプ部１Ｒ，１Ｓ）を含むガラス基板の両主表面が強化される。以上のようにして、図１に示すガラス基板１に相当するガラス基板が得られる。
【００６１】
ガラス基板１に対しては、両主表面上における取り代が０．１μｍ以上０．５μｍ以下のポリッシュ研磨処理がさらに施されてもよい。化学強化工程を経た後にガラス基板の主表面上に残留している付着物が除去されることによって、ガラス基板１を用いて製造される磁気ディスクにヘッドクラッシュが発生することが低減される。また、ポリッシュ研磨処理における両主表面上の取り代を０．１μｍ以上０．５μｍ以下とすることによって、化学強化処理によって発生した応力の不均一性が表面に現れることもなくなる。本実施の形態におけるガラス基板の製造方法としては、以上のように構成される。
【００６２】
（磁気薄膜形成工程）
化学強化処理が完了したガラス基板（図１に示すガラス基板１に相当）の両主表面（またはいずれか一方の主表面）に対し、磁気薄膜層が形成される。磁気薄膜層は、Ｃｒ合金からなる密着層、ＣｏＦｅＺｒ合金からなる軟磁性層、Ｒｕからなる配向制御下地層、ＣｏＣｒＰｔ合金からなる垂直磁気記録層、Ｃ系からなる保護層、およびＦ系からなる潤滑層が順次成膜されることによって形成される。磁気薄膜層の形成によって、図２に示す磁気ディスク１０に相当する垂直磁気記録ディスクを得ることができる。
【００６３】
本実施の形態における磁気ディスクは、磁気薄膜層から構成される垂直磁気ディスクの一例である。磁気ディスクは、いわゆる面内磁気ディスクとして磁性層等から構成されてもよい。
【００６４】
（作用・効果）
洗浄工程（ステップＳ４０）において、ガラス基板は、１μｍ以下の大きさを有する付着物の数が、両主表面上の被クランプ部（被クランプ部１Ｒ，１Ｓ）において５個以下となるまで洗浄される。本実施の形態におけるガラス基板１（情報記録媒体用ガラス基板）の製造方法によれば、ガラス基板の主表面上の被クランプ部（被クランプ部１Ｒ，１Ｓ）において付着物が強固に固着されることによる欠陥の発生が抑制されている。ガラス基板の主表面上の被クランプ部（被クランプ部１Ｒ，１Ｓ）における付着物の残存数が５個以下であるため、化学強化処理が、ガラス基板の主表面上の被クランプ部（被クランプ部１Ｒ，１Ｓ）において均一に実施されることができ、ガラス基板の主表面上の被クランプ部（被クランプ部１Ｒ，１Ｓ）に欠陥が発生することも抑制されている。
【００６５】
本実施の形態におけるガラス基板（情報記録媒体用ガラス基板）の製造方法によれば、ガラス基板に対する化学強化処理によって、ガラス基板の全体としての耐衝撃性および耐振動性が向上し、衝撃および振動によってガラス基板が破損することも防止される。
【００６６】
化学強化処理が効果的に施された結果、被クランプ部（被クランプ部１Ｒ，１Ｓ）において上記のような欠陥が発生することが抑制されている。被クランプ部がクランプ部材（下部クランプ部材２２，上部クランプ部材２４）によって挟持されたあと落下等によって外部から衝撃を受けたとしても、被クランプ部において、磨耗、割れまたは欠け等の損傷が発生することがない。磁気ディスク１０および磁気ディスク装置１００の故障を招くことがないため、動作の安定性を確保することが可能となる。
【００６７】
［実施例および比較例］
以下、図７〜図１２を参照して、上述の実施の形態に基づいて行なった実施例（実施例１〜３）および実施例に対する比較例（比較例１，２）について説明する。実施例および比較例においては、ガラス基板の一方の主表面（クランプ部を含む）に対して、上述の実施の形態における洗浄工程（ステップＳ４０）に対応する洗浄工程（詳細は後述する）を実施し、当該一方の主表面上の被クランプ部における付着物の数をＯＳＡ（Optical Surface Analyzer）のエンカウント数として算出した。
【００６８】
図７は、実施例１における洗浄工程（ステップＳ４０Ａ）の各工程を示すフローチャート図である。図８は、実施例２における洗浄工程（ステップＳ４０Ｂ）の各工程を示すフローチャート図である。図９は、実施例３における洗浄工程（ステップＳ４０Ｃ）の各工程を示すフローチャート図である。図１０は、比較例１における洗浄工程（ステップＳ４０Ｚ）の各工程を示すフローチャート図である。図１１は、比較例２における洗浄工程（ステップＳ４０Ｚ）の各工程を示すフローチャート図である。
【００６９】
図１２は、実施例１〜３および比較例１，２におけるそれぞれ各洗浄工程を経た後の、ガラス基板の主表面上の被クランプ部における付着物の数を、ＯＳＡ（Optical Surface Analyzer）のエンカウント数として示す図である。図１２に示す付着物の数は、光学式欠陥検査装置を用いて、上述の実施の形態と同様の算出方法（ただし、ガラス基板１としての磁気ディスクとしての大きさは２．５インチディスクとし、測定範囲はφ２０．６ｍｍ〜φ２６ｍｍの範囲とした）により得られた値である。
【００７０】
（実施例１）
図７を参照して、実施例１においては、上述の実施の形態における洗浄工程（ステップＳ４０）（図５参照）として、ガラス基板の主表面（の被クランプ部）に対して以下の洗浄工程（ステップＳ４０Ａ）を実施した。
【００７１】
実施例１における洗浄工程（ステップＳ４０Ａ）においては、洗剤洗浄工程１（ステップＳ４１Ａ）、洗剤洗浄工程２（ステップＳ４２Ａ）、オゾン水洗浄工程（ステップＳ４３Ａ）、純水洗浄工程１（ステップＳ４４Ａ）、純水洗浄工程２（ステップＳ４５Ａ）、ＩＰＡ洗浄工程（ステップＳ４６Ａ）、ＩＰＡ蒸気乾燥工程（ステップＳ４７Ａ）、およびＵＶオゾン洗浄工程（ステップＳ４８Ａ）を順次実施した。以下、各工程の詳細について順に説明する。
【００７２】
洗剤洗浄工程１（ステップＳ４１Ａ）においては、洗剤として濃度３％、ｐＨ１１のアルカリ洗剤を貯留した洗浄槽にガラス基板を浸漬した状態で、５分間、８０ｋＨｚの超音波を照射するという洗浄を行なった。洗剤洗浄工程２（ステップＳ４２Ａ）においては、洗剤として濃度３％、ｐＨ１１のアルカリ洗剤（洗剤洗浄工程１と同様の洗剤）を貯留した洗浄槽にガラス基板を浸漬した状態で、５分間、９５０ｋＨｚの超音波を照射するという洗浄を行なった。
【００７３】
オゾン水洗浄工程（ステップＳ４３Ａ）においては、オゾン水を貯留した洗浄槽にガラス基板を浸漬した状態で、５分間、９５０ｋＨｚの超音波を照射するという洗浄を行なった。純水洗浄工程１（ステップＳ４４Ａ）においては、純水を貯留した洗浄槽にガラス基板を浸漬した状態で、５分間、９５０ｋＨｚの超音波を照射するという洗浄を行なった。純水洗浄工程２（ステップＳ４５Ａ）においては、純水を貯留した洗浄槽にガラス基板を浸漬した状態で、５分間、８０ｋＨｚの超音波を照射するという洗浄を行なった。
【００７４】
ＩＰＡ洗浄工程（ステップＳ４６Ａ）においては、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）を貯留した洗浄槽にガラス基板を浸漬する洗浄を行なった。ＩＰＡ蒸気乾燥工程（ステップＳ４７Ａ）においては、ＩＰＡによる蒸気乾燥を実施した。ＵＶオゾン洗浄工程（ステップＳ４８Ａ）においては、低圧水銀ランプを用いてガラス基板１の両主表面に対して紫外線を照射する洗浄を行なった。
【００７５】
実施例１におけるこれらの洗浄工程（ステップＳ４０Ａ）を経たガラス基板の主表面上の被クランプ部における１μｍ以下の大きさを有する付着物の数を検出したところ５個であった（図１２参照）。
【００７６】
実施例１における洗浄工程（ステップＳ４０Ａ）を経て得られたガラス基板を用いて磁気ディスクおよび磁気ディスク装置（回転数：５０００ｒｐｍ）を製造した。ここでは、１０００個の磁気ディスク装置を製造し、それぞれに対して落下衝撃試験を行なった。落下衝撃試験機としては、一般的なものを使用した。１０００個の磁気ディスク装置を１ｍｍの高さからそれぞれ落下させた後、各磁気ディスク装置を分解し、磁気ディスクにおける割れの発生の有無を目視で確認した。
【００７７】
実施例１における洗浄工程（ステップＳ４０Ａ）を経て得られたガラス基板および磁気ディスクを用いて製造した１０００個の磁気ディスク装置については、１０００個のうち２〜５個の磁気ディスク装置において磁気ディスクに割れが発生していることが確認された。実施例１における洗浄工程（ステップＳ４０Ａ）を経て得られたガラス基板および磁気ディスクを用いて製造した磁気ディスク装置によれば、落下衝撃に対して（後述の比較例に比べて）割れがほとんど発生しないことがわかる。
【００７８】
（実施例２）
図８を参照して、実施例２においては、上述の実施の形態における洗浄工程（ステップＳ４０）（図５参照）として、ガラス基板の主表面（の被クランプ部）に対して以下の洗浄工程（ステップＳ４０Ｂ）を実施した。
【００７９】
実施例２における洗浄工程（ステップＳ４０Ｂ）においては、洗剤洗浄工程１（ステップＳ４１Ｂ）、洗剤洗浄工程２（ステップＳ４２Ｂ）、オゾン水洗浄工程（ステップＳ４３Ｂ）、純水洗浄工程１（ステップＳ４４Ｂ）、純水洗浄工程２（ステップＳ４５Ｂ）、ＩＰＡ洗浄工程（ステップＳ４６Ｂ）、ＩＰＡ蒸気乾燥工程（ステップＳ４７Ｂ）、およびプラズマ洗浄工程（ステップＳ４８Ｂ）を順次実施した。
【００８０】
洗剤洗浄工程１（ステップＳ４１Ｂ）からＩＰＡ蒸気乾燥工程（ステップＳ４７Ｂ）までの各工程については、上述の実施例１（図７参照）における洗剤洗浄工程１（ステップＳ４１Ａ）からＩＰＡ蒸気乾燥工程（ステップＳ４７Ａ）とそれぞれ同様の内容の洗浄および乾燥を実施した。
【００８１】
プラズマ洗浄工程（ステップＳ４８Ｂ）においては、まず、ガラス基板を真空チャンバー内に配置した後、真空チャンバー内の圧力を１×１０−３Ｐａ以下に設定した。次に、流量１０ｓｃｃｍの酸素および流量３ｓｃｃｍのアルゴンを真空チャンバー内に導入し、真空チャンバー内の圧力を１．０Ｐａに設定した。ＤＣ３００Ｗの電力を印加させてプラズマを発生させ、ガラス基板の主表面（被クランプ部を含む）の洗浄を３分間行なった。
【００８２】
実施例２におけるこれらの洗浄工程（ステップＳ４０Ｂ）を経たガラス基板の主表面上の被クランプ部における１μｍ以下の大きさを有する付着物の数を検出したところ４個であった（図１２参照）。
【００８３】
実施例２における洗浄工程（ステップＳ４０Ｂ）を経て得られたガラス基板を用いて磁気ディスクおよび磁気ディスク装置（回転数：５０００ｒｐｍ）を製造した。ここでは、１０００個の磁気ディスク装置を製造し、実施例１と同様に、それぞれに対して落下衝撃試験を行なった。実施例２における洗浄工程（ステップＳ４０Ｂ）を経て得られたガラス基板および磁気ディスクを用いて製造した磁気ディスク装置については、１０００個のうち２〜５個の磁気ディスク装置において割れが発生していることが確認された。実施例１と同様に、落下衝撃に対して（後述の比較例に比べて）割れがほとんど発生しないことがわかる。
【００８４】
（実施例３）
図９を参照して、実施例３の洗浄工程（ステップＳ４０Ｃ）においては、まず、上述の実施例１における洗浄工程（ステップＳ４０Ａ）（図７参照）と同様な内容の洗浄工程を実施した（ステップＳ４１Ｃ）。次に、洗浄が完了したガラス基板（被クランプ部を含む）に対して上述の実施の形態と同様な化学強化処理工程（ステップＳ５０）を実施した後、ガラス基板の主表面に対して以下のポリッシュ研磨工程（ステップＳ４２Ｃ）を実施した。
【００８５】
ポリッシュ研磨工程（ステップＳ４２Ｃ）においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置を用いた。ガラス基板の主表面（被クランプ部を含む）に対して、主表面上における取り代が０．１μｍ以上０．５μｍ以下となるポリッシュ研磨処理を行なった。研磨剤としては、コロイダルシリカを使用した。
【００８６】
実施例３におけるこれらの洗浄工程（ステップＳ４０Ｃ）を経たガラス基板の主表面上の被クランプ部における１μｍ以下の大きさを有する付着物の数を検出したところ２個であった（図１２参照）。
【００８７】
実施例３における洗浄工程（ステップＳ４０Ｃ）を経て得られたガラス基板を用いて磁気ディスクおよび磁気ディスク装置（回転数：５０００ｒｐｍ）を製造した。ここでは、１０００個の磁気ディスク装置を製造し、実施例１と同様に、それぞれに対して落下衝撃試験を行なった。実施例３における洗浄工程（ステップＳ４０Ｃ）を経て得られたガラス基板および磁気ディスクを用いて製造した磁気ディスク装置については、１０００個のうち１個以下の磁気ディスク装置において割れが発生していることが確認された。実施例１と同様に、落下衝撃に対して（後述の比較例に比べて）割れがほとんど発生しないことがわかる。
【００８８】
（比較例１）
図１０を参照して、比較例１においては、上述の実施の形態における洗浄工程（ステップＳ４０）（図５参照）として、ガラス基板の主表面（被クランプ部を含む）に対して以下の洗浄工程（ステップＳ４０Ｙ）を実施した。
【００８９】
比較例１における洗浄工程（ステップＳ４０Ｙ）においては、洗剤洗浄工程１（ステップＳ４１Ｙ）、洗剤洗浄工程２（ステップＳ４２Ｙ）、純水洗浄工程１（ステップＳ４３Ｙ）、純水洗浄工程２（ステップＳ４４Ｙ）、ＩＰＡ洗浄工程（ステップＳ４５Ｙ）、およびＩＰＡ蒸気乾燥工程（ステップＳ４６Ｙ）を順次実施した。以下、各工程の詳細について順に説明する。
【００９０】
洗剤洗浄工程１（ステップＳ４１Ｙ）においては、上述の実施例１（図７参照）における洗剤洗浄工程１（ステップＳ４１Ａ）と同様の内容の洗浄を行なった。洗剤洗浄工程２（ステップＳ４２Ｙ）においては、８０ｋＨｚの超音波を照射するという点の他は、上述の実施例１（図７参照）における洗剤洗浄工程２（ステップＳ４２Ａ）と同様の内容の洗浄を行なった。
【００９１】
純水洗浄工程１（ステップＳ４３Ｙ）においては、上述の実施例１（図７参照）における洗剤洗浄工程３（ステップＳ４４Ａ）と同様の内容の洗浄を行なった。純水洗浄工程２（ステップＳ４４Ｙ）においては、８０ｋＨｚの超音波を照射するという点の他は、上述の実施例１（図７参照）における純水洗浄工程２（ステップＳ４５Ａ）と同様の内容の洗浄を行なった。
【００９２】
ＩＰＡ洗浄工程（ステップＳ４５Ｙ）およびＩＰＡ蒸気乾燥工程（ステップＳ４６Ｙ）においては、上述の実施例１（図７参照）におけるＩＰＡ洗浄工程（ステップＳ４６Ａ）およびＩＰＡ蒸気乾燥工程（ステップＳ４７Ａ）とそれぞれ同様の内容の洗浄および乾燥を実施した。
【００９３】
比較例１におけるこれらの洗浄工程（ステップＳ４０Ｙ）を経たガラス基板の主表面上の被クランプ部における１μｍ以下の大きさを有する付着物の数を検出したところ１０個であった（図１２参照）。
【００９４】
比較例１における洗浄工程（ステップＳ４０Ｙ）を経て得られたガラス基板を用いて磁気ディスクおよび磁気ディスク装置（回転数：５０００ｒｐｍ）を製造した。ここでは、１０００個の磁気ディスク装置を製造し、実施例１と同様に、それぞれに対して落下衝撃試験を行なった。比較例１における洗浄工程（ステップＳ４０Ｙ）を経て得られたガラス基板および磁気ディスクを用いて製造した磁気ディスク装置については、１０００個のうち１５個以上の磁気ディスク装置において割れが発生していることが確認された。この原因については、ガラス基板が磁気ディスクとして形成された後も、ガラス基板の主表面上の被クランプ部に付着物が残存し、この付着物によって割れが引き起こされたものと考えられる。
【００９５】
（比較例２）
図１１を参照して、比較例２においては、上述の実施の形態における洗浄工程（ステップＳ４０）（図３参照）として、ガラス基板の主表面に対して以下の洗浄工程（ステップＳ４０Ｚ）を実施した。
【００９６】
比較例２における洗浄工程（ステップＳ４０Ｚ）においては、洗剤洗浄工程１（ステップＳ４１Ｚ）、洗剤洗浄工程２（ステップＳ４２Ｚ）、純水洗浄工程１（ステップＳ４３Ｚ）、純水洗浄工程２（ステップＳ４４Ｚ）、ＩＰＡ洗浄工程（ステップＳ４５Ｚ）、およびＩＰＡ蒸気乾燥工程（ステップＳ４６Ｚ）を順次実施した。以下、各工程の詳細について順に説明する。
【００９７】
洗剤洗浄工程１（ステップＳ４１Ｚ）においては、超音波を１０分間照射するという点の他は、上述の比較例１（図１０参照）における洗剤洗浄工程１（ステップＳ４１Ｙ）と同様の内容の洗浄を行なった。洗剤洗浄工程２（ステップＳ４２Ｚ）においては、超音波を１０分間照射するという点の他は、上述の比較例１（図１０参照）における洗剤洗浄工程２（ステップＳ４２Ｙ）と同様の内容の洗浄を行なった。
【００９８】
純水洗浄工程１（ステップＳ４３Ｚ）においては、超音波を１０分間照射するという点の他は、上述の比較例１（図１０参照）における洗剤洗浄工程３（ステップＳ４３Ｙ）と同様の内容の洗浄を行なった。純水洗浄工程２（ステップＳ４４Ｚ）においては、超音波を１０分間照射するという点の他は、上述の比較例１（図１０参照）における純水洗浄工程２（ステップＳ４４Ｙ）と同様の内容の洗浄を行なった。
【００９９】
ＩＰＡ洗浄工程（ステップＳ４５Ｚ）およびＩＰＡ蒸気乾燥工程（ステップＳ４６Ｚ）においては、上述の比較例１（図１０参照）におけるＩＰＡ洗浄工程（ステップＳ４５Ｙ）およびＩＰＡ蒸気乾燥工程（ステップＳ４６Ｙ）それぞれ同様の内容の洗浄および乾燥を実施した。
【０１００】
比較例におけるこれらの洗浄工程（ステップＳ４０Ｚ）を経たガラス基板の主表面上における１μｍ以下の大きさを有する付着物の数を検出したところ６個であった（図１２参照）。
【０１０１】
比較例２における洗浄工程（ステップＳ４０Ｚ）を経て得られたガラス基板を用いて磁気ディスクおよび磁気ディスク装置（回転数：５０００ｒｐｍ）を製造した。ここでは、１０００個の磁気ディスク装置を製造し、実施例１と同様に、それぞれに対して落下衝撃試験を行なった。比較例２における洗浄工程（ステップＳ４０Ｚ）を経て得られたガラス基板および磁気ディスクを用いて製造した磁気ディスク装置については、１０００個のうち６〜１０個の磁気ディスク装置において割れが発生していることが確認された。この原因については、ガラス基板が磁気ディスクとして形成された後も、ガラス基板の主表面上の被クランプ部に付着物が残存し、この付着物によって割れが引き起こされたものと考えられる。
【０１０２】
したがって、上述の実施例１〜３および比較例１，２から、上述の実施の形態における洗浄工程（ステップＳ４０）においては、ガラス基板の主表面上における被クランプ部に対して、１μｍ以下の大きさを有する付着物の数が５個以下となるようにガラス基板が洗浄されることがよいことがわかる。
【０１０３】
また、具体的な洗浄方法としては、オゾン水洗浄工程（ステップＳ４３Ａ）およびＵＶオゾン洗浄工程（ステップＳ４８Ａ）を含む実施例１の洗浄工程（ステップＳ４０Ａ）、オゾン水洗浄工程（ステップＳ４３Ｂ）およびプラズマ洗浄工程（ステップＳ４８Ｂ）を含む実施例２の洗浄工程（ステップＳ４０Ｂ）、ならびにポリッシュ研磨工程（ステップＳ４２Ｃ）を含む実施例３の洗浄工程（ステップＳ４０Ｃ）が採用されることがよいことがわかる。
【０１０４】
回転数が５０００ｒｐｍの磁気ディスク装置においては、クランプ部材による被クランプ部へのクランプ力は１５ｃＮ・ｍである。回転数が７０００ｒｐｍの磁気ディスク装置においては、クランプ部材による被クランプ部へのクランプ力は２５ｃＮ・ｍである。回転数が７０００ｒｐｍの磁気ディスク装置の製造において上記の付着物の数が５個以下となるようにガラス基板が洗浄されることによって、顕著な効果を得ることが可能となる。
【０１０５】
以上、本発明に基づいた実施の形態および各実施例について説明したが、今回開示された実施の形態および各実施例はすべての点で例示であって制限的なものではない。本発明の技術的範囲は特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【符号の説明】
【０１０６】
１  ガラス基板、１Ａ  表主表面、１Ｂ  裏主表面、１Ｃ  内周端面、１Ｄ  外周端面、１Ｈ  孔、１Ｒ，１Ｓ  被クランプ部、２  磁気薄膜層、３，４  レーザ発振器、３Ｌ，４Ｌ  レーザ光、５  受光器、１０  磁気ディスク、２０  筐体、２１  ドルモータ、２２  下部クランプ部材、２２Ｎ，２４Ｎ  表面、２３  ハブ、２４  上部クランプ部材、２４Ｂ  円板状部分、２４Ｍ  環状部分、２５  固定ネジ、２６  ヘッドスライダ、２７  サスペンション、２８  アーム、２９  垂直軸、３０  ボイスコイル、３１  ボイスコイルモータ、１００  磁気ディスク装置。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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