(57)【要約】【課題】シャントを提供する。【解決手段】シャントは、入口、出口、及びハウジング内に配置された流れ制御機構を有するハウジングを備える。脳室カテーテルは、ハウジングの入口に連結される。カテーテルは、長手方向の長さ、近位端、遠位端、及び内部を延びる内側ルーメンを有する。カテーテルの内側ルーメンは、遠位端にて少なくとも２つのルーメンを含み、かつ近位端にて唯１つのルーメンを有する。カテーテルは、カテーテルの遠位端に位置する、少なくとも２つのルーメンのそれぞれに対応するスリット及び孔を１つ有する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
入口、出口及び内部に配置された流れ制御機構を有するハウジングと、
前記ハウジングの前記入口に連結されたカテーテルと、を備え、前記カテーテルが、長手方向の長さ、近位端、遠位端、及び内部を延びる内側ルーメンを有し、前記カテーテルの前記内側ルーメンが、前記遠位端にて少なくとも２つのルーメンで構成され、かつ前記近位端にて唯１つのルーメンで構成され、前記カテーテルが、前記少なくとも２つのルーメンのそれぞれに対応する孔を前記遠位端に隣接して有する、シャント。
【請求項２】
各孔が、遠位端にて拡大された開口部を有し、かつ前記拡大された開口部から前記孔の近位端における先細スリットへの遷移部を有する、請求項１に記載のシャント。
【請求項３】
各孔の前記拡大された開口部と前記先細スリットとの間の部分が、一定の厚さのスリットである、請求項２に記載のシャント。
【請求項４】
各孔の前記拡大された開口部が、滑らかな凹状の内側表面を有する、請求項３に記載のシャント。
【請求項５】
各孔の前記拡大された開口部が、滑らかな凹状の内側表面を有する、請求項１に記載のシャント。
【請求項６】
前記カテーテルの前記内側ルーメンが、前記遠位端にて少なくとも３つのルーメンで構成される、請求項１に記載のシャント。
【請求項７】
前記カテーテルの前記内側ルーメンが、前記遠位端にて少なくとも４つのルーメンで構成される、請求項６に記載のシャント。
【請求項８】
前記カテーテルが、前記遠位端に隣接して、前記少なくとも２つのルーメンのそれぞれに対応する孔を唯１つ有する、請求項１に記載のシャント。
【請求項９】
入口、出口及び内部に配置された流れ制御機構を有するハウジングと、
前記ハウジングの前記入口に連結されたカテーテルと、を備え、前記カテーテルが長手方向の長さ、近位端、遠位端、及び内部を延びる内側ルーメンを有し、前記カテーテルの前記内側ルーメンが、孔を有し、前記孔が、遠位端にて拡大された開口部を有し、かつ前記拡大された開口部から前記孔の近位端における先細スリットへの遷移部を有する、シャント。
【請求項１０】
各孔の前記拡大された開口部と前記先細スリットとの間の部分が、一定の厚さのスリットである、請求項９に記載のシャント。
【請求項１１】
各孔の前記拡大された開口部が、滑らかな凹状の内側表面を有する、請求項９に記載のシャント。
【請求項１２】
各孔の前記拡大された開口部が、滑らかな凹状の内側表面を有する、請求項９に記載のシャント。
【請求項１３】
前記カテーテルの前記内側ルーメンが、前記遠位端にて少なくとも３つのルーメンで構成される、請求項９に記載のシャント。
【請求項１４】
前記カテーテルの前記内側ルーメンが、前記遠位端にて少なくとも４つのルーメンで構成される、請求項１３に記載のシャント。
【請求項１５】
カテーテルが、その前記遠位端に隣接して唯１つの孔を有する、請求項９に記載のシャント。
【請求項１６】
カテーテルが、その前記遠位端に隣接して少なくとも２つの孔を有する、請求項９に記載のシャント。
【請求項１７】
脳室カテーテルが、長手方向の長さ、近位端、遠位端、及び内部を延びる内側ルーメンを有し、前記カテーテルの前記内側ルーメンが、前記遠位端にて少なくとも２つのルーメンで構成され、かつ前記近位端にて唯１つのルーメンで構成され、前記カテーテルが、前記遠位端に隣接して、前記少なくとも２つのルーメンのそれぞれに対応する孔を唯１つ有する、脳室カテーテル。
【請求項１８】
各孔が、遠位端にて拡大された開口部を有し、かつ前記拡大された開口部から前記孔の近位端における先細スリットへの遷移部を有する、請求項１７に記載の脳室カテーテル。
【請求項１９】
各孔の前記拡大された開口部と前記先細スリットとの間の部分が、一定の厚さのスリットである、請求項１８に記載の脳室カテーテル。
【請求項２０】
各孔の前記拡大された開口部が、滑らかな凹状の内側表面を有する、請求項１７に記載の脳室カテーテル。
【請求項２１】
各孔の前記拡大された開口部が、滑らかな凹状の内側表面を有する、請求項１７に記載の脳室カテーテル。
【請求項２２】
前記カテーテルの前記内側ルーメンが、前記遠位端にて少なくとも３つのルーメンで構成される、請求項１７に記載の脳室カテーテル。
【請求項２３】
前記カテーテルの前記内側ルーメンが、前記遠位端にて少なくとも４つのルーメンで構成される、請求項２２に記載の脳室カテーテル。
【請求項２４】
脳室カテーテルが、長手方向の長さ、近位端、遠位端、及び内部を延びる内側ルーメンを有し、前記カテーテルが、孔を有し、前記孔が、遠位端にて拡大された開口部を有し、かつ前記拡大された開口部から前記孔の近位端における先細スリットへの遷移部を有する、脳室カテーテル。
【請求項２５】
各孔の前記拡大された開口部と前記先細スリットとの間の部分が、一定の厚さのスリットである、請求項２４に記載の脳室カテーテル。
【請求項２６】
各孔の前記拡大された開口部が、滑らかな凹状の内側表面を有する、請求項２４に記載の脳室カテーテル。
【請求項２７】
各孔の前記拡大された開口部が、滑らかな凹状の内側表面を有する、請求項２４に記載の脳室カテーテル。
【請求項２８】
前記カテーテルの前記内側ルーメンが、前記遠位端にて少なくとも３つのルーメンで構成される、請求項２４に記載の脳室カテーテル。
【請求項２９】
前記カテーテルの前記内側ルーメンが、前記遠位端にて少なくとも４つのルーメンで構成される、請求項２４に記載の脳室カテーテル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一般に、カテーテル孔の遮断又は閉鎖の危険性を低減し、またカテーテルが除去される場合、修正手術の容易性を高めるシステムを有するシャント及びカテーテルに関する。
【背景技術】
【０００２】
水頭症は、脳の脳室、すなわち空洞内での脳脊髄液（ＣＳＦ）の異常な蓄積によって引き起こされる神経学的症状である。ＣＳＦは、主として脈絡叢により産生され、脳及び脊髄を包囲する無色透明の流体である。ＣＳＦは脳の脳室系を絶えず循環し、最終的には血流中に吸収される。ＣＳＦは、脳及び脊髄の保護を助ける。ＣＳＦは脳及び脊髄の浮力を保つため、保護クッション又は「衝撃吸収材」として機能して中枢神経系への傷害を防止する。
【０００３】
子供及び大人を冒す水頭症は、脳内でのＣＳＦの正常な排出がなんらかの形で遮断されるときに起こる。そのような遮断は、例えば、遺伝的素因、脳室内出血又は頭蓋内出血、髄膜炎等の感染、又は頭部の外傷等を含む多数の要因によって起こり得る。ＣＳＦの流れの遮断は、結果として脈絡叢によって産生されるＣＳＦの量とＣＳＦが血流中に吸収される速度との間の不均衡を形成し、それにより脳への圧力が上昇し、これが脳室を拡大させる。
【０００４】
水頭症は、脳室から、ＣＳＦが循環系の一部として吸収され得る身体の他の領域へのＣＳＦの流れを分流するシャントシステムを外科的に挿入することによって、治療することが最も頻繁である。シャントシステムは多様なモデルで提供されており、典型的には、類似した機能的構成要素を共有している。それらの構成要素には、頭蓋骨内の穿頭孔を通して導入され、患者の脳室内に移植される脳室カテーテル、ＣＳＦをその最終的な排出部位に通す排出カテーテル、及び場合により、流れ−制御機構、例えば脳室から排出部位へのＣＳＦの一方向の流れを調節して、脳室内の正常な圧力を維持するシャント弁が挙げられる。脳室カテーテルは、典型的には、図６及び７に示されるように、脳室カテーテルの長さに沿って配置された多数の穴又は孔を含んで、ＣＳＦがシャントシステム内に入ることを可能にしている。
【０００５】
シャント術は、基本的な脳神経外科手技の１つであると考慮されるが、最も高い合併症率を有する。シャント術による最も一般的な合併症は、システムの閉鎖である。閉鎖又は目詰まりは、シャントシステムに沿った任意の地点で生じ得るが、シャントシステムの脳室端部で生じることが最も頻繁である。脳室カテーテルが遮断され又は目詰まりし得るにはいくつかのやり方が存在するが、閉鎖は典型的には、図７に示されるように、カテーテル周囲の及び孔内への脈絡叢等の組織の増殖により生じる。脳室カテーテルの孔はデブリ、細菌、又は凝固血液によっても閉鎖され得る。
【０００６】
これらの問題のうちのいくつかは、シャントシステム内に存在するＣＳＦを使用して、閉鎖している物質を除去するプロセスである逆洗い流し（backflushing）により処理することができる。しかしながら、このプロセスは、脳室カテーテルの孔のサイズが小さいこと、及びシャントシステム内で利用可能な洗い流し液体の量が少ないことにより、効果がない場合がある。他のシャントシステムは、シャントシステムを洗い流すための機構を備えるよう設計されている。例えば、いくつかのシャントシステムは、システム内に、システム内の流体を相当な圧力及び速度で流すことによりシステムを洗い流す揚送装置を備える。逆洗い流しのプロセスと同様、ビルトイン機構を使用してシャントシステムを洗い流すこともまた、孔のサイズ、及び孔が目詰まりしている程度及び範囲等の要因により、障害物を除去できない場合がある。
【０００７】
閉塞した脳室カテーテルは、カテーテルを焼灼して遮断組織を除去することにより、閉塞されていた存在する孔を再び開けることによっても修復することができる。代替的に、カテーテル内に新しい孔を形成してもよい。しかしながら、これらの修復は、目詰まりした孔の位置によっては障害物を脳室カテーテルから除去することが不可能であり得る。加えて、例えば組織増殖が脳室カテーテルの相当な部分を覆っている状況下では、カテーテル内への及びカテーテル周囲の組織増殖の広がりも追加の孔の形成を阻む場合がある。新しい孔を形成して閉鎖した脳室カテーテルを修復することの他の欠点は、この方法が、反復する閉鎖を予防し、又は反復する閉鎖の危険性を低減できないことである。
【０００８】
遮断された脳室カテーテルの洗い流し又は修復における試みが、多くの場合、無益かつ効果がないことにより、閉塞はカテーテルの交換により処理される場合がより多い。これは、閉鎖したカテーテルを脳室から除去することにより達成し得るが、カテーテル周囲の及び孔内への脈絡叢及び他の組織の増殖が、カテーテルの除去及び交換を妨げ得る。例えば、大量出血等の、患者に対する重篤な傷害を引き起こし得る脈絡叢への損傷を避けるよう注意する必要がある。これらの手技は、患者に対する傷害の有意な危険性をもたらすのみでなく、特にシャント閉鎖が繰り返し発生する問題である場合、非常に高価でもあり得る。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
したがって、カテーテル孔の遮断又は閉鎖の危険性を最小限にし又は排除し、またカテーテルが除去される場合、修正手術の容易性を高め、反復される修復及び／又は交換の必要性を除去及び低減するシャント及び脳室カテーテルが必要とされている。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、入口、出口、及びハウジング内に配置された流れ制御機構を有するハウジングを備えるシャントを提供する。脳室カテーテルは、ハウジングの入口に連結される。このカテーテルは、長手方向の長さ、近位端、遠位端、及び内部を延びる内側ルーメンを有する。カテーテルの内側ルーメンは、遠位端にて少なくとも２つのルーメンを含み、かつ近位端にて唯１つのルーメンを有する。カテーテルは、カテーテルの遠位端に位置する、少なくとも２つのルーメンのそれぞれに対応する孔を１つ有する。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明によるシャント及び脳室カテーテルの上面斜視図。
【図２】部品が切断されている、本発明による脳室カテーテルの内部を示す部分斜視図。
【図３】図２の線３−３に沿って取り、矢印の方向に見た断面図。
【図４】図３の線４−４に沿って取り、矢印の方向に見た断面図。
【図４Ａ】図３の線４Ａ−４Ａに沿って取り、矢印の方向に見た断面図。
【図５】図３の線５−５に沿って取り、矢印の方向に見た断面図。
【図６】先行技術による脳室カテーテルの部分平面図。
【図７】図６の線７−７に沿って取り、矢印の方向に見た断面図。
【図８Ａ】本発明による脳室カテーテルの部分平面図。
【図８Ｂ】本発明による脳室カテーテルの部分平面図。
【図９】部品が切断されている、本発明による脳室カテーテルの内部を示す部分斜視図。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、図１〜５、８Ａ、８Ｂ及び９を参照すると、本発明によるシャント１０及び脳室カテーテル１２が示されている。
【００１３】
図１に示されるように、シャント１０はハウジング１４を有し、ハウジング１４は、入口１６、出口１８、及び内部に配置された流れ制御機構を有する。脳室カテーテル１２は、ハウジングの入口１６に連結されている。カテーテル１２は、長手方向の長さ、近位端２０、遠位端２２、及び内部を延びる内側ルーメン２４を有する。内側ルーメン２４は、カテーテルの近位端２０にて単一ルーメンであり、カテーテル１２の遠位端２２にて２つ以上のルーメン２４１、２４１１、２４１１１、２４１１１１等で構成されている。カテーテル１２は、好ましくはシリコーンから製造される。加えて、カテーテル１２は、Ｃｏｄｍａｎ  ＆  Ｓｈｕｒｔｌｅｆｆ，Ｉｎｃ．（Ｒａｙｎｈａｍ，ＭＡ）により市販されるＣＯＤＭＡＮ（登録商標）ＢＡＣＴＩＳＥＡＬ（登録商標）カテーテルのように、抗菌抗生物質を含浸することができる。
【００１４】
カテーテル１２はその遠位端２２に、ルーメン２４１、２４１１１、２４１１１１等のそれぞれに対応する孔２６を唯１つ有する。２〜７個のルーメンが存在することが好ましいが、図面には簡潔さのために３及び４個のルーメンのみ示されている。勿論、当業者は、本開示に基づいて、多ルーメンを備えた本発明の脳室カテーテルの製造方法を容易に理解するであろう。各先細スリット３０は、使用時に脳脊髄液（ＣＳＦ）を受容する。各孔２６は、遠位端にて拡大された開口部２８と、拡大された開口部から孔の近位端における先細スリット３０への遷移部とを有する。本発明のいくつかの実施例では、各孔２６に関して、拡大された開口部２８と先細スリット３０との間の部分３２は、一定の厚さのスリット３２である。同様に、本発明の別の実施例では、各孔２６に関して、拡大された開口部２８と先細スリット３０との間に部分３２は存在しなくてもよい。加えて、図９に示されるように、各孔２６に関して、先細スリットが使用されずに、拡大された開口部２８と孔の近位端との間に一定の厚さのスリット４２が配置されてもよい。孔の全部は、拡大された開口部２８から先細スリット３０の近位端まで、それらの対応するルーメン２４１、２４１１１、２４１１１１等と流体連通している。各孔の拡大された開口部２８は、スプーン形状に類似した滑らかな凹状の内側表面３４を有する。
【００１５】
本発明による多ルーメン２４１、２４１１１、２４１１１１等の使用は、脳室カテーテル１２の完全な閉塞を防止することを助ける。本発明においては、脳室カテーテル１２は、全部のルーメンが遮断された場合にのみ完全に閉塞され得る。加えて、多ルーメンから単一ルーメン２４への遷移部が脳室カテーテルの遠位端から約０．５〜約３．０センチメートルの箇所に存在するため、脈絡叢又は上衣組織のいかなる内殖もこの連結箇所を越えて延びて完全な閉塞を生じ、また多数の孔からの組織の相互連結を生じる必要があり、これは組織が増殖する必要がある長さにより、起こる可能性が低い。脈絡叢又は上衣組織が完全な閉塞を生じるであろう他の唯一のやり方は、組織がスリット３０を越えて多ルーメン２４のそれぞれを遮断し、すなわちスリット３０及び孔２６の全部を閉塞することである。
【００１６】
スリットルーメンの形態は好ましくは先細にされ、又は意図的に形づくられて、スリットを通って流れる流体に、スリットにより提供される経路のサイズに一致した抵抗を提供する。スリット開口部のサイズは、従来の脳室カテーテルよりも長い距離及び大きい表面積にわたり圧力勾配を分布させる。圧力勾配の拡散は誘引する流体の力を弱め、流体の流れの多い領域を減少させることにより、組織内殖の傾向を低下させる。
【００１７】
ここで本発明の図８Ａ及び８Ｂを参照すると、組織内殖３６が図示されている。理解し得るように、孔２６内への組織内殖は、別のルーメンからの組織内殖と相互に連結しないであろう。かくして、脳室カテーテル１２を除去する必要がある場合、図８Ｂに図示されるように、カテーテル１２は引き戻され、組織内殖３６は先細のより広い末端部、すなわち拡大された開口部２８にてルーメンから除去され得る。対照的に、先行技術においては、上述したように、脳室カテーテル１２を除去する必要がある場合、組織内殖３６は脳室カテーテルから除去（remover）することがやや困難であり得る。
【００１８】
以下、図２及び３を参照すると、脳室カテーテル１２は丸い遠位端３８を有して、カテーテルが脳組織を損傷させることなく脳内に導入されることを可能にする。加えて、内側凹状表面４０は、カテーテルの導入に使用されるスタイレットを受容するサイズを有する。
【００１９】
上述のものはあくまで本発明の原理を説明するためのものに過ぎず、当業者によれば発明の範囲及び趣旨から逸脱することなく様々な改変を為し得る点は理解されるであろう。本願明細書に記載の参考文献の全ては、その全文が参照することにより組み込まれる。
【００２０】
〔実施の態様〕
（１）  入口、出口及び内部に配置された流れ制御機構を有するハウジングと、
前記ハウジングの前記入口に連結されたカテーテルと、を備え、前記カテーテルが、長手方向の長さ、近位端、遠位端、及び内部を延びる内側ルーメンを有し、前記カテーテルの前記内側ルーメンが、前記遠位端にて少なくとも２つのルーメンで構成され、かつ前記近位端にて唯１つのルーメンで構成され、前記カテーテルが、前記少なくとも２つのルーメンのそれぞれに対応する孔を前記遠位端に隣接して有する、シャント。
（２）  各孔が、遠位端にて拡大された開口部を有し、かつ前記拡大された開口部から前記孔の近位端における先細スリットへの遷移部を有する、実施態様１に記載のシャント。
（３）  各孔の前記拡大された開口部と前記先細スリットとの間の部分が、一定の厚さのスリットである、実施態様２に記載のシャント。
（４）  各孔の前記拡大された開口部が、滑らかな凹状の内側表面を有する、実施態様３に記載のシャント。
（５）  各孔の前記拡大された開口部が、滑らかな凹状の内側表面を有する、実施態様１に記載のシャント。
（６）  前記カテーテルの前記内側ルーメンが、前記遠位端にて少なくとも３つのルーメンで構成される、実施態様１に記載のシャント。
（７）  前記カテーテルの前記内側ルーメンが、前記遠位端にて少なくとも４つのルーメンで構成される、実施態様６に記載のシャント。
（８）  前記カテーテルが、前記遠位端に隣接して、前記少なくとも２つのルーメンのそれぞれに対応する孔を唯１つ有する、実施態様１に記載のシャント。
（９）  入口、出口及び内部に配置された流れ制御機構を有するハウジングと、
前記ハウジングの前記入口に連結されたカテーテルと、を備え、前記カテーテルが長手方向の長さ、近位端、遠位端、及び内部を延びる内側ルーメンを有し、前記カテーテルの前記内側ルーメンが、孔を有し、前記孔が、遠位端にて拡大された開口部を有し、かつ前記拡大された開口部から前記孔の近位端における先細スリットへの遷移部を有する、シャント。
（１０）  各孔の前記拡大された開口部と前記先細スリットとの間の部分が、一定の厚さのスリットである、実施態様９に記載のシャント。
【００２１】
（１１）  各孔の前記拡大された開口部が、滑らかな凹状の内側表面を有する、実施態様９に記載のシャント。
（１２）  各孔の前記拡大された開口部が、滑らかな凹状の内側表面を有する、実施態様９に記載のシャント。
（１３）  前記カテーテルの前記内側ルーメンが、前記遠位端にて少なくとも３つのルーメンで構成される、実施態様９に記載のシャント。
（１４）  前記カテーテルの前記内側ルーメンが、前記遠位端にて少なくとも４つのルーメンで構成される、実施態様１３に記載のシャント。
（１５）  カテーテルが、その前記遠位端に隣接して唯１つの孔を有する、実施態様９に記載のシャント。
（１６）  カテーテルが、その前記遠位端に隣接して少なくとも２つの孔を有する、実施態様９に記載のシャント。
（１７）  脳室カテーテルが、長手方向の長さ、近位端、遠位端、及び内部を延びる内側ルーメンを有し、前記カテーテルの前記内側ルーメンが、前記遠位端にて少なくとも２つのルーメンで構成され、かつ前記近位端にて唯１つのルーメンで構成され、前記カテーテルが、前記遠位端に隣接して、前記少なくとも２つのルーメンのそれぞれに対応する孔を唯１つ有する、脳室カテーテル。
（１８）  各孔が、遠位端にて拡大された開口部を有し、かつ前記拡大された開口部から前記孔の近位端における先細スリットへの遷移部を有する、実施態様１７に記載の脳室カテーテル。
（１９）  各孔の前記拡大された開口部と前記先細スリットとの間の部分が、一定の厚さのスリットである、実施態様１８に記載の脳室カテーテル。
（２０）  各孔の前記拡大された開口部が、滑らかな凹状の内側表面を有する、実施態様１７に記載の脳室カテーテル。
【００２２】
（２１）  各孔の前記拡大された開口部が、滑らかな凹状の内側表面を有する、実施態様１７に記載の脳室カテーテル。
（２２）  前記カテーテルの前記内側ルーメンが、前記遠位端にて少なくとも３つのルーメンで構成される、実施態様１７に記載の脳室カテーテル。
（２３）  前記カテーテルの前記内側ルーメンが、前記遠位端にて少なくとも４つのルーメンで構成される、実施態様２２に記載の脳室カテーテル。
（２４）  脳室カテーテルが、長手方向の長さ、近位端、遠位端、及び内部を延びる内側ルーメンを有し、前記カテーテルが、孔を有し、前記孔が、遠位端にて拡大された開口部を有し、かつ前記拡大された開口部から前記孔の近位端における先細スリットへの遷移部を有する、脳室カテーテル。
（２５）  各孔の前記拡大された開口部と前記先細スリットとの間の部分が、一定の厚さのスリットである、実施態様２４に記載の脳室カテーテル。
（２６）  各孔の前記拡大された開口部が、滑らかな凹状の内側表面を有する、実施態様２４に記載の脳室カテーテル。
（２７）  各孔の前記拡大された開口部が、滑らかな凹状の内側表面を有する、実施態様２４に記載の脳室カテーテル。
（２８）  前記カテーテルの前記内側ルーメンが、前記遠位端にて少なくとも３つのルーメンで構成される、実施態様２４に記載の脳室カテーテル。
（２９）  前記カテーテルの前記内側ルーメンが、前記遠位端にて少なくとも４つのルーメンで構成される、実施態様２４に記載の脳室カテーテル。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図４Ａ】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８Ａ】
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【図８Ｂ】
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【図９】
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【外国語明細書】
2012071135000001.pdf