(57)【要約】【課題】基材の表面および処理を施した面の損傷を防止し、かつ、生産性も向上することができる原反ロール、この原反ロールの製造方法、および、この原反ロールを使用する基材処理方法を提供する。【解決手段】長尺なシート状基材の被処理面を当接して積層し、巻回してなる原反ロールを用い、この原反ロールを長手方向に搬送しつつ分離して、個々の基材に処理を施すことにより、前記課題を解決する。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
長尺な２枚のシート状の基材を、被処理面を当接した状態で重ね合わせ、ロール状に巻回してなることを特徴とする合わせ原反ロール。
【請求項２】
前記２枚の基材の少なくとも一方が、支持体の表面に成膜を施されたものであり、かつ、この膜の表面が被処理面である請求項１に記載の原反ロール。
【請求項３】
前記２枚の基材の少なくとも一方が、被処理面に表面処理を施されたものである請求項１または２に記載の原反ロール。
【請求項４】
前記２枚の基材の少なくとも一方が、被処理面と、被処理面の逆面とで、表面粗さおよび表面の固さの少なくとも一方が異なる請求項１〜３のいずれかに記載の原反ロール。
【請求項５】
長尺なシート状の基材をロール状に巻回してなる２本の基材ロールから、前記基材を引き出し、２枚の基材を搬送しつつ、互いの被処理面を当接した状態で２枚の基材を重ね合わせ、２枚の基材を重ね合わせたまま、ロール状に巻回することを特徴とする原反ロールの製造方法。
【請求項６】
基材ロールから基材を引き出して、２枚の基材を重ね合わせるまでの間に、少なくとも一方の基材の一面に成膜を行い、成膜した膜の表面を被処理面とする請求項５に記載の原反ロールの製造方法。
【請求項７】
基材ロールから基材を引き出して、２枚の基材を重ね合わせるまでの間に、少なくとも一方の基材の被処理面に、表面処理を行う請求項５または６に記載の原反ロールの製造方法。
【請求項８】
基材ロールから基材を引き出して、２枚の基材を重ね合わせるまでの間に、少なくとも一方の基材の被処理面に、重ね合わせ用の前処理を施す請求項５〜７のいずれかに記載の原反ロールの製造方法。
【請求項９】
請求項１〜４のいずれかに記載の原反ロールから、２枚の基材の積層体を引き出して、長手方向に搬送しつつ、個々の基材に分離し、各基材の被処理面に処理を施すことを特徴とする基材処理方法。
【請求項１０】
各基材の被処理面に前記処理を施した後に、処理を施した面を当接して前記２枚の基材を重ね合わせて、再度、ロール状に巻回する請求項９に記載の基材処理方法。
【請求項１１】
前記２枚の基材を重ね合わせた際に、各基材の搬送方向の相対位置が、前記原反ロールの状態と一致している請求項１０に記載の基材処理方法。
【請求項１２】
前記２枚の基材を重ね合わせた際に、各基材の搬送方向の相対位置が、前記原反ロールの状態と異なる請求項１０に記載の基材処理方法。
【請求項１３】
前記基材の被処理面に処理を施した後で、かつ、処理した面を当接して前記２枚の基材を重ね合わせる前に、少なくとも一方の基材の前記処理を施した面に、重ね合わせ用の前処理を施す請求項９〜１２のいずれかに記載の基材処理方法。
【請求項１４】
前記基材の被処理面に処理を施す位置から、重ね合わせる位置までの搬送距離が、２枚の基材で互いに異なり、少なくとも搬送距離が長い方の基材には、前記重ね合わせ用の前処理を施す請求項１３に記載の基材処理方法。
【請求項１５】
各基材の被処理面に前記処理を施した後に、各基材を別々にロール状に巻回する請求項９に記載の基材処理方法。
【請求項１６】
前記基材の被処理面に施す処理が、成膜および表面処理の少なくとも一方である請求項９〜１５のいずれかに記載の基材処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、長尺な基材を巻回してなる原反ロール、および、この原反ロールの製造方法、ならびに、この原反ロールを用いる基材の処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学素子、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイなどの表示装置、半導体装置、薄膜太陽電池等の各種の装置における防湿性を要求される部位や部品、食品、衣料品、電子部品等の包装に用いられる包装材料などに、基材に、ガスバリア膜（水蒸気バリア膜）を成膜してなる、ガスバリアフィルムが利用されている。
ガスバリア膜としては、窒化ケイ素、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、酸化アルミニウム等の各種の無機化合物からなる膜が知られている。また、これらのガスバリア膜は、プラズマＣＶＤ、スパッタリング、真空蒸着等の真空成膜法で成膜される。
【０００３】
このようなガスバリアフィルムの製造に限らず、基材の表面に、光反射、光反射防止、表面保護など、目的とする機能を発現する膜（以下、便宜的に『機能層』とする）を成膜してなる機能性フィルムが、各種の用途に利用されている。
また、このような機能性フィルムの製造において、高い生産性や生産効率での製造を可能とする方法として、長尺な基材（基板）を、ロール状に巻回してなる基材ロールから送り出し、長手方向に搬送しつつガスバリア膜等の成膜を行って、成膜済みの基材をロール状に巻き取る、いわゆるロール・ツー・ロール（Roll to Roll  以下、ＲｔｏＲともいう）による成膜を行なう装置が知られている。
このＲｔｏＲの装置は、基材への成膜のみならず、基板表面の活性化などの処理や、プラズマ等による粗面化処理などの、基板の表面処理にも、利用可能である。
【０００４】
ところで、このような機能性フィルムの製造等において、高品質な製品を製造するためには、機能層を成膜する基材の表面（被処理面）に損傷等が無いことが重要である。
また、同様に、高品質な製品を製造するためには、成膜した膜の表面（処理面の表面）にも損傷等が無いことが重要である。
【０００５】
ところが、ＲｔｏＲの装置では、成膜（処理）前の基材や、成膜済みの基材を所定の搬送経路で搬送するためのパスローラ（ガイドローラ）が必要であるために、このパスローラとの接触によって、基材の表面（被成膜面）や、成膜した膜の表面が損傷してしまうという問題が有る。
また、成膜した基材を巻き取ると、成膜した膜と、裏面（基材の非成膜面）とが接触し、この接触によって、成膜した膜の表面が損傷してしまうという問題も有る。
【０００６】
このような問題を解決するために、ＲｔｏＲによる成膜装置では、保護フィルムで基材の表面を保護することが行われている。
例えば、特許文献１には、ＲｔｏＲによるハードコート層付きのポリカーボネートフィルムの製造において、基材の表面に保護フィルムを積層して、ロール状に巻回してなる基材ロールを用い、基材を長手方向に搬送しつつ、ハードコート層を塗布する前に保護フィルムを剥離して表面を露出して、次いで、ハードコート層を塗布し、乾燥および紫外線照射してハードコート層を硬化した後、ロール状に巻回することが記載されている。
【０００７】
また、特許文献２には、ＲｔｏＲによる連続成膜装置において、同様に、基材の表面に保護フィルム（保護材）を積層して、ロール状に巻回した基材ロールを用い、基板を長手方向に搬送しつつ、成膜前に保護フィルムを剥離して、基材の表面を露出して成膜を行い、その後、成膜した膜に当接して別の保護フィルムを積層し、成膜済みの基材と保護フィルムとの積層体を、再度、ロール状に巻回することが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００２−１２１３０６号公報
【特許文献２】特開２００８−１８９９５７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
特許文献１や特許文献２に記載される方法や装置によれば、成膜前の基材の表面を損傷することなく、適正な状態の基材表面に成膜を行うことができる。
特に、特許文献２に記載される連続成膜装置によれば、基材の表面のみならず、成膜後の基材の表面（成膜した膜の表面）に保護フィルムを積層した後、巻取りを行うので、成膜した膜とパスローラとの接触による膜の損傷や、巻取りによる成膜した膜と裏面との接触による膜の損傷も、好適に防止することができ、高品質な製品を、安定して製造することが可能である。
【００１０】
しかしながら、このような保護フィルムを用いる装置では、保護フィルムは、使い捨てであるために、製造コストの向上を避けることが出来ないという問題がある。
特に、特許文献２のように、成膜後も保護フィルムを積層するために、２枚の保護フィルムが必要になってしまい、その分、製造コストも割高になってしまう。
【００１１】
本発明の目的は、前記従来技術の問題点を解決することにあり、保護フィルムを用いなくても、基材の被処理面および処理を施した面の保護を図ることができ、低コストで、しかも、効率よく成膜や粗面化処理等の基材の処理を行うことを可能にする原反ロール、この原反ロールの製造方法、および、この原反ロールを用いる基材処理方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
前記目的を達成するために、本発明の原反ロールは、長尺な２枚のシート状の基材を、被処理面を当接した状態で重ね合わせ、ロール状に巻回してなることを特徴とする合わせ原反ロールを提供する。
【００１３】
このような本発明の原反ロールにおいて、前記２枚の基材の少なくとも一方が、支持体の表面に成膜を施されたものであり、かつ、この膜の表面が被処理面であるのが好ましく、また、前記２枚の基材の少なくとも一方が、被処理面に表面処理を施されたものであるのが好ましく、さらに、前記２枚の基材の少なくとも一方が、被処理面と、被処理面の逆面とで、表面粗さおよび表面の固さの少なくとも一方が異なるのが好ましい。
【００１４】
また、本発明の原反ロールの製造方法は、長尺なシート状の基材をロール状に巻回してなる２本の基材ロールから、前記基材を引き出し、２枚の基材を搬送しつつ、互いの被処理面を当接した状態で２枚の基材を重ね合わせ、２枚の基材を重ね合わせたまま、ロール状に巻回することを特徴とする原反ロールの製造方法を提供する。
【００１５】
このような本発明の原反ロールの製造方法において、基材ロールから基材を引き出して、２枚の基材を重ね合わせるまでの間に、少なくとも一方の基材の一面に成膜を行い、成膜した膜の表面を被処理面とするのが好ましく、また、基材ロールから基材を引き出して、２枚の基材を重ね合わせるまでの間に、少なくとも一方の基材の被処理面に、表面処理を行うのが好ましく、さらに、基材ロールから基材を引き出して、２枚の基材を重ね合わせるまでの間に、少なくとも一方の基材の被処理面に、重ね合わせ用の前処理を施すのが好ましい。
【００１６】
さらに、本発明の基板処理方法は、前記本発明の原反ロールから、２枚の基材の積層体を引き出して、長手方向に搬送しつつ、個々の基材に分離し、各基材の被処理面に処理を施すことを特徴とする基材処理方法を提供する。
【００１７】
このような本発明の基板処理方法において、各基材の被処理面に前記処理を施した後に、処理を施した面を当接して前記２枚の基材を重ね合わせて、再度、ロール状に巻回するのが好ましく、この際において、前記２枚の基材を重ね合わせた際に、各基材の搬送方向の相対位置が、前記原反ロールの状態と一致しているのが好ましく、もしくは、前記２枚の基材を重ね合わせた際に、各基材の搬送方向の相対位置が、前記原反ロールの状態と異なるのが好ましく、また、前記基材の被処理面に処理を施した後で、かつ、処理した面を当接して前記２枚の基材を重ね合わせる前に、少なくとも一方の基材の前記処理を施した面に、重ね合わせ用の前処理を施すのが好ましく、この際において、前記基材の被処理面に処理を施す位置から、重ね合わせる位置までの搬送距離が、２枚の基材で互いに異なり、少なくとも搬送距離が長い方の基材には、前記重ね合わせ用の前処理を施すのが好ましい。
もしくは、各基材の被処理面に前記処理を施した後に、各基材を別々にロール状に巻回するのが好ましい。
さらに、前記基材の被処理面に施す処理が、成膜および表面処理の少なくとも一方であるのが好ましい。
【発明の効果】
【００１８】
本発明は、被処理面を当接して２枚の長尺な基材を積層した積層体を、ロール状に巻回してなる原反ロールを用い、この原反ロールから基材の積層体を送り出して、基材を長手方向に搬送しつつ、２枚の基材に分離し、成膜等の処理を施し、好ましくは、処理済みの２枚の基材を、処理を施した面の表面を当接して積層し、再度、ロール状に巻回する。
【００１９】
そのため、本発明によれば、基材の被処理面と、パスローラとが接触することが無いので、保護フィルムを用いなくても、損傷等の無い適正な被接触面に処理を行って、高品質な製品を製造できる。また、被処理面や処理を施した面と、パスローラや、ロール状に巻回した際の裏面（基材の非処理面）との接触も避けることができるので、成膜した膜等の損傷も防止できる。
さらに、本発明によれば、２枚の基材を同時に処理することができるので、生産性も向上することができる。
従って、本発明によれば、基材や成膜した膜等の損傷が無い高品質な製品を、低コストで、かつ、高い生産性で製造することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】（Ａ）は、本発明の原反ロールとなる積層体の一例を、（Ｂ）は、本発明の原反ロールの一例を、（Ｃ）は、本発明の原反ロールとなる積層体の別の例を、それぞれ、概念的に示す図である。
【図２】本発明の原反ロールの製造方法を実施する製造装置の一例を概念的に示す図である。
【図３】本発明の基材処理方法を実施する処理装置の一例を概念的に示す図である。
【図４】本発明の基材処理方法を実施する処理装置の別の例を概念的に示す図である。
【図５】本発明の基材処理方法を実施する処理装置の別の例を概念的に示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明の原反ロール、原反ロールの製造方法、および、基材処理方法について、添付の図面に示される好適実施例を基に、詳細に説明する。
【００２２】
図１に、本発明の原反ロールの一例を概念的に示す。
本発明の原反ロールは、２枚の長尺な基材（基板）Ｓ１およびＳ２を、成膜や表面処理に供される被処理面（以下、表面とする）を合わせた状態で積層し、この積層体をロール状に巻回してなるものである。
具体的には、図１（Ａ）に示すように、２枚の長尺な基材Ｓ１と基材Ｓ２とを、基材Ｓ１の表面Ｓ１−ｆと基材Ｓ２の表面Ｓ２−ｆとを当接した状態で積層し、図１（Ｂ）に示すように、この積層体１０（構成を明瞭にするために、当接面は点線で示す）を、ロール状に巻回してなるものである。
言い換えれば、本発明の原反ロールは、２枚の長尺な基材（原反）の表面を合わせた合わせ原反を作成し、この合わせ原反をロール状に巻回してなるものである。
【００２３】
本発明の原反ロールにおいて、基材Ｓ１およびＳ２には、特に限定はなく、各種の長尺なシート状物（ウエブ状物）が、好適に利用可能である。
具体的には、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリアクリロニトリル、ポリイミド、ポリアクリレート、ポリメタクリレートなどの有機物からなるプラスチック（樹脂）フィルムや、アルミニウム、ステンレスなどの金属ウエブ状物等が、基板Ｚとして、好適に利用可能である。
【００２４】
また、本発明においては、プラスチックフィルム等の長尺なシート状物を支持体１４として、その上に、図１（Ｃ）に示すように、保護層、接着層、密着層、光反射層、遮光層、表面平坦化層、緩衝層、応力緩和層、ガスバリア膜、反射防止膜、透明導電層等の、各種の機能を得るための機能層（機能層）１６が成膜されている長尺なシート状物を、基材（Ｓ３およびＳ４）として用いてもよい。
すなわち、本発明の原反ロールにおいて、基材は、各種の機能層１６を形成された機能性フィルム（機能性シート）であってもよい。
【００２５】
これらの機能層１６は、いずれも、ガスバリアフィルム、反射防止フィルム、保護フィルム、各種ディスプレイの基板フィルム等、公知の各種の機能性フィルムで、機能層（目的とする機能を得るために成膜された膜）として用いられている、公知の材料からなる膜で構成すればよい。
また、機能層１６は、１層からなるものでも複数層からなるものでもよく、また、基材Ｓ３および／または基材Ｓ４は、複数の機能層１６を有するものであってもよい。
【００２６】
このような支持体１４に機能層１６を形成してなる基材Ｓ３およびＳ４を用いる場合には、通常、機能層１６の表面が被処理面となるので、図３（Ｃ）に示すように、基材Ｓ３の表面Ｓ３−ｆと基材Ｓ４の表面Ｓ４−ｆとを当接して積層した積層体１２を作製し、この積層体１２をロール状に巻回して、本発明の原反ロールとする。
【００２７】
本発明の原反ロールにおいて、２枚の長尺な基材Ｓ１およびＳ２（Ｓ３およびＳ４）は、同じものであってもよく、また、異なるものであってもよい。
従って、本発明の原反ロールは、図１（Ａ）および図１（Ｃ）に示されるものに限定はされず、いずれか一方の基材が基材Ｓ１のように機能層１６を有さず、他方が基材Ｓ３のように機能層１６を有するものであってもよい。
【００２８】
さらに、２枚の長尺な基材Ｓ１およびＳ２（Ｓ３およびＳ４）の少なくとも一方は、表面に、表面処理を施されたものであるのが好ましい。
後に詳述するが、本発明は、２枚の基材の表面を当接した状態で積層し、この積層体をロール状に巻回することにより、保護フィルム（保護膜／保護シート）等を用いることなく、基材の表面を保護するものである。基材の少なくとも一方が表面処理を施されたものである場合には、パスローラとの当接等に起因する表面劣化が起き易く、すなわち、このような基材を用いることにより、本発明の効果を、より好適に発現できる等の点で好ましい。
【００２９】
本発明において、基材の表面に施す表面処理には、特に限定はなく、活性化処理、粗面化処理、密着性向上処理、エッチング等が例示される。
これらの基材の表面処理は、例えば、粗面化処理やエッチングであればプラズマ照射等が利用され、活性化処理であればイオン照射やプラズマ照射など、いずれも、基材の種類等に応じて、シート状物の表面処理で行われている公知の各種の方法で行えばよい。
【００３０】
基材Ｓ１およびＳ２は、表面と裏面（被処理面と逆面（非処理面））とで、表面粗さおよび硬さの少なくとも一方が異なるのが好ましい。具体的には、表面の方が裏面よりも表面粗さが低く、および／または、裏面の方が表面よりも硬いのが好ましい。
【００３１】
基材をロール状に巻回してなる通常の基材ロールでは、基材の表面と裏面とが当接した状態で巻き取られている。そのため、裏面との接触によって表面が損傷してしまうことが、往々にして生じる。特に、表面よりも裏面の方が表面粗さが大きい場合や、表面よりも裏面の方が硬い場合には、裏面との接触によって表面が受けるダメージは大きい。
前述のように、本発明は、２枚の基材の表面を当接した積層体をロール状に巻回することにより、保護フィルムを用いることなく基材の表面を保護するものであり、従って、表面と裏面とで表面粗さや硬さが異なる基材を用いた場合には、本発明の効果を、より好適に発現できる等の点で好ましい。
【００３２】
ここで、本発明の原反ロールは、あくまで原反、すなわち何らかの機能性フィルムの原料となる長尺な２枚の基材を、表面を当接した状態で積層して、ロール状に巻回してなるものである。
従って、本発明の原反ロールは、必ず、少なくとも一度は基材Ｓ１と基材Ｓ２とが、もしくは、基材Ｓ３と基材Ｓ４とが剥離されて、積層相手の基材と当接していた表面（被処理面）に、成膜や表面処理等の何らかの処理が施され、剥離された状態で次工程に供給され、あるいは、剥離された状態で製品として供給され、あるいは、再度、表面を当接して巻回され、本発明の原反ロールとされる。
【００３３】
また、本発明の原反ロールを構成する基材は、あくまで原反であるので、基材Ｓ１と基材Ｓ２とが積層された状態で、また、基材Ｓ３と基材Ｓ４が積層された状態で、最終的な製品（機能性フィルム）として使用されることは無い。
すなわち、本発明の原反ロールでは、最終的には、基材Ｓ１と基材Ｓ２とは剥離され、また、基材Ｓ３と基材Ｓ４とは剥離されて、それぞれ、個々に、ガスバリアフィルム、反射防止フィルム、保護フィルム、各種ディスプレイの基板フィルム等、公知の各種の機能性フィルムとして使用される。
【００３４】
図２に、本発明の製造方法によって、前記本発明の原反ロールを製造する製造装置の一例の概念図を示す。
図２に示す製造装置２０は、一例として、図１（Ｃ）に示す、支持体１４の表面に機能層１６を成膜してなる基材Ｓ３およびＳ４を作製し、作製した基材Ｓ３およびＳ４を表面を当接して積層して、ロール状に巻回してなる原反ロールを製造する装置である。図示例において、製造装置２０は、供給部２４と、処理部２６と、積層ローラ２８と、巻取り軸３０とを有して構成される。
【００３５】
製造装置２０において、長尺なシート状物である支持体１４は、ロール状に巻回された供給ロール３２として供給部２４の回転軸３４に装填（軸支）される。
供給ロール３２が回転軸３４に装填されると、両供給ロール３２から支持体１４が引き出され、パスローラｐに案内されて、処理部２６に搬送される。なお、パスローラｐは、長尺なシート状物を所定の搬送経路で搬送するための公知のパスローラ（ガイドローラ）である。
【００３６】
処理部２６は、支持体１４の表面に機能層１６を成膜する部位であって、各支持体１４に対応する２つのドラム３８ａおよび３８ｂと、処理手段４０とを有する。
ドラム３８ａおよび３８ｂは、支持体１４を周面に巻き掛けて搬送する円筒状のものである。支持体１４の一方はドラム３８ａの、他方はドラム３８ｂの、周面の所定領域に巻き掛けられて、所定の処理位置に保持されつつ長手方向に搬送され、処理手段４０によって、機能層１６を成膜される。
【００３７】
処理手段４０は、支持体１４の表面に機能層１６を成膜する、公知の成膜手段である。
例えば、処理手段４０が、ＩＣＰ−ＣＶＤ（誘導結合型プラズマＣＶＤ）によって機能層１６を成膜するものであれば、処理手段４０は、誘導磁場を形成するための誘導コイルや、成膜領域に原料ガスを供給するためのガス供給手段等を有して構成される。
処理手段４０が、ＣＣＰ−ＣＶＤ（容量結合型プラズマＣＶＤ）によって機能層１６を成膜するものであれば、処理手段４０は、中空状で多数の小孔を有し電極および原料ガス供給部として作用するシャワー電極、プラズマ励起電力を供給する高周波電源、原料ガスの供給手段等を有して構成される。
処理手段４０が、スパッタリングによって機能層１６を成膜するものであれば、処理手段４０は、ターゲットの保持手段や高周波電極、スパッタガスの供給手段等を有して構成される。処理手段４０が、反応性スパッタリングによって成膜を行うものであれば、さらに、反応ガスの供給手段を有して構成される。
処理手段４０が、成膜室が真空蒸着によって機能層１６を成膜するものであれば、処理手段４０は、蒸発源（ルツボ）、電子銃や抵抗加熱電源などの成膜材料の加熱手段等を有して構成される。
処理手段４０が、塗布によって機能層１６を成膜するものであれば、処理手段４０は、ロールコートやグラビアコートなどの機能層１６となる塗料の塗布手段、乾燥手段、紫外線源や電子線源等の硬化手段等を有して構成される。
さらに、処理手段４０がフラッシュ蒸着によって機能層１６を成膜するものであれば、減圧下で、有機化合物モノマー（オリゴマー）などの成膜材料を含む液体を噴霧する噴霧手段、噴霧手段が噴霧した微細液体を加熱蒸発させて、支持体１４に付着させる加熱手段、乾燥手段、紫外線源や電子線源などの硬化手段等を有して構成される。
【００３８】
図示例において、２つの供給ロール３２は、互いの表面が対面するように、支持体１４を送り出す。また、ドラム３８ａおよび３８ｂは、共に支持体１４の裏面に当接して、支持体１４を搬送するものであり、かつ、支持体１４の搬送方向と直交する方向に、処理手段４０を挟むように配置される。
従って、処理手段４０は、両支持体１４の表面に対面して配置され、ドラム３８ａおよび３８ｂに搬送される両支持体１４の表面に機能層１６の成膜を行うことができる。なお、処理手段４０は、支持体１４に異なる膜を成膜してもよく、あるいは、一方のみに成膜を行ってもよい。
【００３９】
ドラム３８ａおよび３８ｂによって搬送されつつ、処理手段４０によって機能層１６を成膜された２枚の支持体、すなわち、基材Ｓ３および基材Ｓ４は、パスローラｐによって所定の搬送経路を搬送されて、積層ローラ２８に搬送される。
積層ローラ２８は、２枚の長尺なシート状物を搬送しつつ積層する、公知のローラである。図２に示されるように、基材Ｓ３および基材Ｓ４は互いの機能層１６を対面しているので、積層ローラ２８は、搬送された両支持体１４を重ねることで、基材Ｓ３および基材Ｓ４の機能層１６を当接して、すなわち図１（Ｃ）に示されるように、表面（被処理面）Ｓ３−ｆと表面Ｓ４−ｆとを当接して積層され、積層体１２とする。
【００４０】
積層ローラ２８によって積層された積層体１２は、パスローラｐによって巻取り軸４２に搬送され、巻取り軸４２によってロール状に巻回されて、原反ロール４６とされる。
【００４１】
なお、処理手段４０は、成膜を行うのではなく、支持体１４（少なくとも一方）の表面の表面処理を行うものであってもよい。あるいは、表面処理と成膜との、選択された方を行うものであってもよい。
支持体１４に表面処理のみを行う場合には、表面処理を行われた支持体１４が、基材Ｓ１および基材Ｓ２となって、表面（表面処理を行われた面）を当接して積層体１０とされ、この積層体１０が巻取り軸３０によってロール状に巻回されて、原反ロールとされる。
【００４２】
支持体１４の表面処理手段には、特に限定はなく、実施する処理に応じた公知の手段が、各種、利用可能である。
例えば、処理手段４０が、プラズマによる支持体１４の表面の活性化処理、粗面化処理、エッチング等を行うものであれば、処理手段は、前記ＣＣＰ−ＣＶＤによる成膜手段と同様に、シャワー電極、高周波電源およびガスの供給手段等を有して構成される。
【００４３】
また、本発明の原反ロールの製造方法においては、支持体１４に、このような成膜や表面処理を行うのに限定はされず、支持体１４を、そのまま、図１（Ａ）に示す基材Ｓ１および基材Ｓ２として、表面Ｓ１−ｆと表面Ｓ２−ｆを当接して両基材を積層し、この積層体１０を巻回して原反ロールとしてもよい。
また、成膜や表面処理等を行わないで原反ロールを製造する装置は、処理部２６を有さなくてもよい。
あるいは、処理部２６を複数設けて、１枚の支持体１４に対して、成膜と表面処理との両方を行ってもよく、複数層の機能層１６の成膜を行ってもよい。
【００４４】
以上の説明より明らかなように、本発明の原反ロール４６は、基材Ｓ３と基材Ｓ４とを（基材Ｓ１と基材Ｓ２とを）、表面（被処理面）を当接して積層して、積層体１２（積層体１０）とし、この積層体１２をロール状に巻回してなるものである。そのため、ロール状に巻回した状態では、表面と裏面とが当接することがなく、裏面によって表面が損傷されるのを防止できる。
また、積層体１２とした後は、基材Ｓ３と基材Ｓ４の表面がパスローラｐと当接することが無いので、パスローラｐによる基材表面の損傷も、大幅に低減できる。
しかも、本発明は、保護フィルム（保護膜／保護シート）を用いることなく、基材表面の保護を図るので、製品コストも、大幅に低減できる。
【００４５】
図３に、このような原反ロール４６を用いる、本発明の基材処理方法を実施する処理装置の一例の概念図を示す。
この処理装置５０は、原反ロール４６の各基材Ｓ３および基材Ｓ４の表面に、所定の膜を成膜し（表面処理を行い）、成膜した膜（処理を施した面）を当接して、２枚の基材を積層し、再度、ロール状に巻回するものである。
図示例において、処理装置５０は、回転軸５２と、分離ローラ５４と、処理部５６と、積層ローラ５８と、巻取り軸６０とを有して構成される。
【００４６】
なお、図３においては、支持体１４に機能層１６を成膜してなる基材Ｓ３および基材Ｓ４の積層体１２を巻回してなる原反ロール４６を例に、本発明の基材処理方法の説明を行うが、その作用等は、基材Ｓ１の表面Ｓ１−ｆと基材Ｓ２の表面Ｓ２−ｆとを当接した積層体１０を巻回してなる原反ロールを用いた場合でも、全く、同様である。
この点に関しては、以下の図４に示す例も図５に示す例も、同様である。
【００４７】
基材Ｓ３および基材Ｓ４の積層体１２（積層体１０）を巻回してなる原反ロール４６は、回転軸５２に装填（軸支）される。
原反ロール４６が回転軸５２に装填されると、積層体１２が引き出されて、パスローラｐに案内されて分離ローラ５４に搬送される。分離ローラ５４は、２枚の長尺なシート状物の積層体を、搬送しつつ分離（剥離）する、公知のローラである。
積層体１２は、分離ローラ５４によって基材Ｓ３と基材Ｓ４（基材Ｓ１と基材Ｓ２）とに分離され、処理部５６に搬送される。
【００４８】
処理部５６は、基材Ｓ３の表面Ｓ３−ｆおよび基材Ｓ４の表面Ｓ４−ｆ（基材Ｓ１の表面Ｓ１−ｆおよび基材Ｓ２の表面Ｓ２−ｆ）に、所定の膜を成膜する部位であって、２つのドラム６４ａおよび６４ｂと、処理手段６８とを有する。
ドラム６４ａおよび６４ｂは、前記ドラム３８と同様のものであり、ドラム６４ａは基材Ｓ３を、ドラム６４ｂは基材Ｓ４を、共に、周面の所定位置に巻き掛けて、所定の位置に保持しつつ、長手方向に搬送する。また、処理手段６８も前記処理手段４０と同様のものであり、ドラム６４ａおよび６４ｂによって搬送される基材の表面に、プラズマＣＶＤやスパッタリング等による成膜を行うものである。
従って、処理手段６８が成膜する膜は、一例として、前記各種の機能膜１６が例示される。
【００４９】
前述のように、原反ローラ４６は、基材Ｓ３および基材Ｓ４を表面を当接して積層され、巻回されたものである。
また、図示例において、ドラム６４ａは分離ローラ５４によって分離された基材Ｓ３の裏面に当接して、ドラム６４ｂは分離ローラ５４によって分離された基材Ｓ４の裏面に当接して、共に基材を搬送するものであり、かつ、ドラム６４ａおよびドラム６４ｂは、基材の搬送方向と直交する方向に、処理手段６８を挟むように配置される。
従って、処理手段６８は、基材Ｓ３および基材Ｓ４の表面に対面して配置され、搬送される基材Ｓ３および基材Ｓ４の表面に成膜を行うことができる。
【００５０】
なお、処理装置５０において、処理部５６は、基材Ｓ３および基材Ｓ４の両方に成膜を行うのに限定はされず、基材の一方のみに成膜を行って、他方には、何も行わなくてもよい。
また、処理部５６は、成膜ではなく、基材の表面処理を行うものであってもよく、成膜と表面処理との選択された処理を行うものであってもよい。この際には、処理部は、基材の一方のみに表面処理を行って、他方には、何も行わなくてもよく、また、基材の一方は表面処理を、他方には成膜を行ってもよい。なお、処理手段６８が施す表面処理は、前記支持体１４に施す各種の表面処理が例示される。
さらに、処理部５６を複数設け、１枚の基材の表面に対して、成膜と表面処理の両方の処理を行ってもよく、複数層の成膜を行ってもよい。
【００５１】
処理部５６で成膜を行われた基材Ｓ３および基材Ｓ４は、パスローラｐに案内されて、積層ローラ５８に搬送される。
積層ローラ５８は、先の積層ローラ２８と同様、２枚の長尺なシート状物を搬送しつつ積層するローラである。図３に示されるように、基材Ｓ３および基材Ｓ４は、互いに成膜された膜を対面しているので、積層ローラ５８は、両基材を重ねることで、成膜された膜（その表面）を当接して、基材Ｓ３と基材Ｓ４とを積層する。
なお、必要に応じて、積層前に、基材Ｓ３および基材Ｓ４の少なくとも一方に、接着材や粘着材を塗布してもよい。
【００５２】
積層ローラ５８によって積層された基材Ｓ３と基材Ｓ４との積層体は、パスローラｐに案内されて、巻取り軸６０によってロール状に巻回され、次工程等に供給される。
なお、本発明においては、この巻取り軸６０で巻回したロールを原反ロールとして、再度、本発明の基板処理方法を実施する処理装置５０（後述する処理装置７４および処理装置８０）によって、成膜等の処理を行ってもよい。
【００５３】
以上の説明より明らかなように、本発明の原反ロールを用い、本発明の基材処理方法を実施する処理装置５０によれば、基材Ｓ３および基材Ｓ４（基材Ｓ１および基材Ｓ２）は、被処理面を当接した積層された状態で供給されるので、分離ローラ５４で分離されるまでは、パスローラｐと基材の被処理面とが接触することがなく、パスローラｐによる被処理面の損傷を、大幅に低減できる。
また、基材Ｓ３と基材Ｓ４とを（基材Ｓ１と基材Ｓ２とを）、成膜した膜（処理を施した面）を当接して積層し、この積層体をロール状に巻回するので、成膜した膜が基材の裏面と当接することがなく、裏面によって膜が損傷されるのを防止できる。さらに、積層した後は、成膜した膜がパスローラｐと当接することが無いので、パスローラｐによる膜表面の損傷も、大幅に低減できる。
しかも、本発明は、保護フィルムを用いることなく、基材表面および膜の保護を図ることができるので、製品コストも、大幅に低減できる。
【００５４】
加えて、本発明によれば、ＲｔｏＲによる一回の処理、すなわち原反ロールからの基材の送り出しから、処理済み基材の巻取りを１回行うことで、２枚の基材に同時に成膜を行うことができるので、生産性も向上できる。
【００５５】
すなわち、発明によれば、基材や成膜した膜等の損傷が無い高品質な製品を、低コストで、かつ、高い生産性で製造することが可能となる。
【００５６】
本発明の基材処理方法においては、基材に成膜等の処理を行った後で、かつ、積層ローラ５８によって２枚の基材を積層する前に、少なくとも一方の基材に対して、成膜した膜の表面（処理を施された面の表面）に、積層を良好かつ確実に行うための、重ね合わせ用の前処理を行ってもよい。
なお、この重ね合わせ用の前処理は、前記原反ロール４６を製造する製造装置２０で、基材を積層する前においても、好適に利用可能である。
【００５７】
重ね合わせ用の前処理は、一例として、２枚の基材の表面の密着性向上等を図る処理であって、基材に悪影響を与えない、各種の処理が利用可能である。一例として、プラズマ照射による表面の活性化、イオン照射による表面の活性化、基材表面の帯電処理等が例示される。また、後処理を不要にするために、重ね合わせ用の前処理は、乾式の処理であるのが好ましい。
【００５８】
ここで、本発明の基材処理方法においては、分離ローラ５４で分離した２枚の基材Ｓ３と基材Ｓ４に成膜等の処理を施した後に、再度、この２枚の基材を積層した際に、両基材
の搬送方向の相対位置が、原反ロール４６の状態と一致していてもよく、また、異なっていてもよい。
すなわち、分離ローラ５４での分離位置から、積層ローラ５８での積層位置までの基材の搬送距離が、基材Ｓ３と基材Ｓ４とで、同じでもよく、あるいは、異なってもよい。
【００５９】
このように、分離位置から積層位置までの基材の搬送距離が、２枚の基材で異なる場合には、少なくとも搬送距離の長い基材に、重ね合わせ用の前処理を行うのが好ましい。
その一例の概念図を、図４に示す。なお、図４の処理装置７４は、前述の図３に示す処理装置５０と、ほぼ同じ部材で構成されるので、以下の説明は、異なる点を主に行う。
【００６０】
先の処理装置５０と同様、原反ロール４６が回転軸５２に装填されると、積層体１２が引き出されて分離ローラ５４に搬送され、基材Ｓ３と基材Ｓ４とに分離される。
分離された基材Ｓ３は、図中下方に搬送され、ドラム６４ａに巻き掛けられて搬送されつつ、基材Ｓ３に対応する処理手段６８ａによって成膜等の処理を施され、積層ローラ５８に搬送される。
【００６１】
他方、分離された基材Ｓ４は、図中上方に搬送され、ドラム６４ｂに巻き掛けられて搬送されつつ、基材Ｓ４に対応する処理手段６８ｂによって成膜等の処理を施される。処理を施された基材Ｓ４は、原反ロール４６を内包して１周回るように設けられた、基材Ｓ３よりも長い搬送経路を経て、積層ローラ５８に搬送される。
ここで、ドラム６４から積層ローラ５８までの基材Ｓ４の搬送経路には、前述の重ね合わせ用の前処理を行うための前処理手段７６が配置されている。基材Ｓ４は、長手方向に搬送されつつ、この前処理手段７６によって、プラズマ照射による表面の活性化等の重ね合わせ用の前処理を施された後に、積層ローラ５８に搬送される。
【００６２】
積層ローラ５８に搬送された基材Ｓ３および基材Ｓ４は、成膜された膜等の処理された面を当接して積層されて積層体とされ、次いで、この積層体が、巻取りローラ６０によってロール状に巻回される。
ここで、図示例の処理装置７４においては、基材Ｓ４が、前処理手段７６によって重ね合わせ用の前処理を施されているので、より確実かつ好適に、２枚の基材の積層を行うことができる。
【００６３】
以上の例は、成膜等の処理を施した基材を、処理を施した面を当接して積層して、この積層体をロール状に巻回しているが、本発明は、これに限定はされず、処理済みの基材を、別々にロール状に巻回してもよい。
例えば、図５に概念的に示す処理装置８０のように、原反ロール４６から引き出し、分離して、処理部５６において処理した基材Ｓ３および基材Ｓ４を積層せず、基材Ｓ３は巻取り軸８２で巻取り、基材Ｓ４は、別の巻取り軸８４で巻き取ってもよい。
【００６４】
以上、本発明の原反ロール、原反ロールの製造方法、および、基材処理方法について、詳細に説明したが、本発明は上述の例に限定はされず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変更を行ってもよいのは、もちろんである。
【産業上の利用可能性】
【００６５】
ガスバリアフィルム、各種の光学フィルム、各種ディスプレイ用の基板フィルム等の製造に、好適に利用可能である。
【符号の説明】
【００６６】
１０，１２  積層体
１４  支持体
１６  機能層
２０  製造装置
２４  供給部
２６，５６  処理部
２８，５８  積層ローラ
３０，６０，８２，８４  巻取り軸
３２  支持体ロール
３４，５２  回転軸
３８ａ，３８ｂ，６４ａ，６４ｂ  ドラム
４０，６８（６８ａ，６８ｂ）  処理手段
４６  原反ロール
５０，７４，８０  処理装置
５４  分離ローラ
７６  前処理手段
【図１】
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【図２】
2012041582.tif 000004
【図３】
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【図４】
2012041582.tif 000006
【図５】
2012041582.tif 000007