(57)【要約】      （修正有）【課題】基板処理装置本体内に収容することができる収容容器の数を増やしつつ、装置が大型化することを抑制することができる。【解決手段】基板２００を処理する基板処理部２０２と、前記基板が収容された収容容器１１０を複数収容する収容棚１０５と、前記収容棚に前記収容容器を搬入し、前記収容棚から搬出する収容容器搬送機構１１８と、前記収容棚を垂直方向に昇降する収容棚昇降機構と、を有する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を処理する基板処理部と、
前記基板が収容された収容容器を複数段に収容する収容棚と、
前記収容棚に前記収容容器を搬入し、前記収容棚から搬出する収容容器搬送機構と、
前記複数段の収容棚をそれぞれ垂直方向に昇降する収容棚昇降機構と、を有する基板処理装置。
【請求項２】
前記収容棚昇降機構は、前記収容容器搬送機構が挿入される段の収容棚の昇降幅と前記収容容器搬送機構が挿入される段の上方の段の収容棚の昇降幅が異なる請求項１記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記複数段の収容棚のうち少なくとも１つの段は固定されている請求項1又は２に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記収容棚は、少なくとも２つの前記収容容器を一直線上に同一方向を向いて配置して、垂直方向に複数段に収容する請求項１乃至３いずれか記載の基板処理装置。
【請求項５】
基板が収容された収容容器を収容容器搬送機構を用いて収容棚に搬入し、該収容棚から搬出する工程と、
前記収容容器搬送機構が挿入される段の収容棚を収容棚昇降機構により昇降させ、及び該挿入される段の収容棚より上方の段の収容棚を該挿入される段の収容棚よりさらに昇降させる工程と、
前記収容容器から基板を取り出す工程と、
前記基板を処理炉に搬入する工程と、
前記処理炉で基板を処理する工程と、
を有する半導体装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウエハ等の基板を処理する基板処理装置、及び半導体装置を製造する半導体装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
基板処理装置に関する技術であって、複数の基板が収容される収容容器を基板処理装置本体内に収容するものとして縦型熱処理装置が知られている。この縦型熱処理装置では、基板は通常、収容容器に複数枚収容された状態で装置内に搬送され、１度のプロセス処理で数十〜数百枚の基板が同時に処理される。
【０００３】
特許文献１は、２つの収容棚にそれぞれ収容容器が収容され、シリンダによって、この２つの収容棚をそれぞれ鉛直方向に移動させて、空隙を形成し、一方の収容容器の搬送路を確保して、この収容容器を他の収容棚に移動させる構成を開示する。また、特許文献２は、基板が複数枚収容された収容容器を装置内に十分に収容できるように、回転型の収容容器収容棚が設置されている構成を開示する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００４−２９６９９６号公報
【特許文献２】特開２０００−３１１９３５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
例えば、４５０ｍｍウエハ対応の縦型熱処理装置の処理枚数は、３００ｍｍウエハ対応の縦型熱処理装置の処理枚数と同じである。したがって、必要とされる４５０ｍｍウエハ用の収容容器の数は３００ｍｍウエハ用のものと同じである。
しかしながら、ウエハ（基板）が例えば３００ｍｍから４５０ｍｍへと大口径化することにより、収容容器の大きさも大型化する。具体的には、収容容器へのウエハの装填ピッチは例えば１０ｍｍから１２ｍｍとなり、１つの収容容器に２５枚のウエハを収容する場合の収容容器の高さは３００ｍｍウエハの場合に比べて５０ｍｍ以上高くなる。また、ウエハを装填した収容容器の重量は３倍以上となる。また、３００ｍｍウエハ対応の縦型熱処理装置に設置されている回転型の収容棚の構成を４５０ｍｍウエハ対応の縦型熱処理装置に用いると、収容容器の大型化に伴い装置高さが高くなる。また収容容器自体の重量が増えるため、収容容器棚の強度を強化する必要がある。また、回転時の遠心力も増すこととなり、駆動部も大型化し、複雑な構成となる。
結果として、装置全体が大型化するため、３００ｍｍウエハ対応の縦型熱処理装置と同等のフットプリントやクリーンルーム高さなどの制約を満足することができない。
【０００６】
本発明の目的は、基板処理装置本体内に収容することができる収容容器の数を増やしつつ、装置が大型化することを抑制することができる基板処理装置及び半導体装置の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一態様によれば、基板を処理する基板処理部と、前記基板が収容された収容容器を複数段に収容する収容棚と、前記収容棚に前記収容容器を搬入し、前記収容棚から搬出する収容容器搬送機構と、前記複数段の収容棚をそれぞれ垂直方向に昇降する収容棚昇降機構と、を有する基板処理装置が提供される。
【０００８】
好適には、前記収容棚昇降機構は、前記収容容器搬送機構が挿入される段の収容棚の昇降幅と前記収容容器搬送機構が挿入される段の上方の段の収容棚の昇降幅が異なる。
【０００９】
また、好適には、前記複数段の収容棚のうち少なくとも１つの段は固定されている。
【００１０】
また、好適には、前記収容棚は、少なくとも２つの前記収容容器を一直線上に同一方向を向いて配置して、垂直方向に複数段に収容する。
【００１１】
また、本発明の他の態様によれば、基板が収容された収容容器を収容容器搬送機構を用いて収容棚に搬入し、該収容棚から搬出する工程と、前記収容容器搬送機構が挿入される段の収容棚を収容棚昇降機構により昇降させ、及び該挿入される段の収容棚より上方の段の収容棚を該挿入される段の収容棚よりさらに昇降させる工程と、前記収容容器から基板を取り出す工程と、前記基板を処理炉に搬入する工程と、前記処理炉で基板を処理する工程と、を有する半導体装置の製造方法が提供される。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、基板処理装置本体内に収容することができる収容容器の数を増やしつつ、装置が大型化することを抑制することができる基板処理装置及び半導体装置の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明が適用される基板処理装置を示す斜視図である。
【図２】本発明が適用される基板処理装置を示す透視側面図である。
【図３】本発明が適用される基板処理装置のコントローラの構成を示す図である。
【図４】本発明が適用される基板処理装置のコントローラの動作を示す図である。
【図５】本発明が適用される基板処理装置の動作を説明するための図である。
【図６】本発明が適用される基板処理装置の動作を説明するための図である。
【図７】本発明が適用される基板処理装置の動作を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
次に本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
本発明が適用される実施形態において、基板処理装置は、一例として、半導体装置（ＩＣ）の製造方法における処理装置を実施する半導体製造装置として構成されている。尚、以下の説明では、基板処理装置として基板に酸化、拡散処理やＣＶＤ処理などを行う縦型の装置（以下、単に処理装置という）を適用した場合について述べる。図１は、本発明が適用される基板処理装置の斜視図として示されている。また、図２は図１に示す基板処理装置の側面透視図である。
【００１５】
図１及び２に示されているように、シリコン等からなる複数のウエハ（基板）２００を収容し、収容容器として用いられるウエハキャリアとしてフープ（以下ポッドという。）１１０が使用されている基板処理装置１００は、基板処理装置本体として用いられる筐体１１１を備えている。
【００１６】
筐体１１１の正面壁１１１ａの正面前方部にはメンテナンス可能なように設けられた開口部としての正面メンテナンス口１０３が開設され、この正面メンテナンス口１０３を開閉する正面メンテナンス扉１０４、１０４がそれぞれ建て付けられている。
筐体１１１の正面壁１１１ａにはポッド搬入搬出口１１２が筐体１１１の内外を連通するように開設されており、ポッド搬入搬出口１１２はフロントシャッタ１１３によって開閉されるようになっている。
ポッド搬入搬出口１１２の正面前方側には、搬入搬出部として用いられるロードポート１１４が設置されており、ロードポート１１４はポッド１１０を載置されて位置合わせするように構成されている。ポッド１１０はロードポート１１４上に工程内搬送装置（図示せず）によって搬入され、かつまた、ロードポート１１４上から搬出されるようになっている。
【００１７】
筐体１１１内の前後方向の略中央部における上部には、ポッド棚（収容棚）１０５が設置されている。ポッド棚１０５は垂直に立設される支持部１１６と、支持部１１６に対して上中下段の各位置において垂直方向にそれぞれ独立して移動可能に保持された複数段の載置部１１７とを備えており、ポッド棚１０５は、複数段の載置部１１７にポッド１１０を複数個宛それぞれ載置した状態で保持するように構成されている。すなわち、ポッド棚１０５は、例えば２つのポッド１１０を一直線上に同一方向を向いて配置して垂直方向に複数段に複数個のポッド１１０を収容する。
【００１８】
筐体１１１内におけるロードポート１１４とポッド棚１０５との間には、ポッド搬送装置（収容容器搬送機構）１１８が設置されている。ポッド搬送装置１１８は、ポッド１１０を保持したまま垂直方向に昇降可能な軸部としてのポッドエレベータ１１８ａとポッド１１０を載置して水平方向に搬送する搬送部としてのポッド搬送部１１８ｂとで構成されており、ポッド搬送装置１１８はポッドエレベータ１１８ａとポッド搬送部１１８ｂとの連続動作により、ロードポート１１４、ポッド棚１０５、ポッドオープナ１２１との間で、ポッド１１０を搬送するように構成されている。
【００１９】
筐体１１１内の前後方向の略中央部における下部には、サブ筐体１１９が後端にわたって構築されている。サブ筐体１１９の正面壁１１９ａにはウエハ２００をサブ筐体１１９内に対して搬入搬出するためのウエハ搬入搬出口１２０が一対、垂直方向に上下二段に並べられて開設されており、上下段のウエハ搬入搬出口１２０、１２０には一対のポッドオープナ１２１、１２１がそれぞれ設置されている。ポッドオープナ１２１はポッド１１０を載置する載置台１２２、１２２と、密閉部材として用いられるポッド１１０のキャップを着脱するキャップ着脱機構１２３、１２３とを備えている。ポッドオープナ１２１は載置台１２２に載置されたポッド１１０のキャップをキャップ着脱機構１２３によって着脱することにより、ポッド１１０のウエハ出し入れ口を開閉するように構成されている。
【００２０】
サブ筐体１１９はポッド搬送装置１１８やポッド棚１０５の設置空間から流体的に隔絶された移載室１２４を構成している。移載室１２４の前側領域にはウエハ移載機構１２５が設置されており、ウエハ移載機構１２５は、ウエハ２００を水平方向に回転ないし直動可能なウエハ移載装置１２５ａ及びウエハ移載装置１２５ａを昇降させるためのウエハ移載装置エレベータ１２５ｂとで構成されている。図１に模式的に示されているようにウエハ移載装置エレベータ１２５ｂは耐圧筐体１１１右側端部とサブ筐体１１９の移載室１２４前方領域右端部との間に設置されている。これら、ウエハ移載装置エレベータ１２５ｂ及びウエハ移載装置１２５ａの連続動作により、ウエハ移載装置１２５ａのツイーザ（基板保持体）１２５ｃをウエハ２００の載置部として、ボート（基板保持具）２１７に対してウエハ２００を装填（チャージング）及び脱装（ディスチャージング）するように構成されている。
【００２１】
移載室１２４の後側領域には、ボート２１７を収容して待機させる待機部１２６が構成されている。待機部１２６の上方には、処理室として用いられる処理炉２０２が設けられている。処理炉２０２の下端部は、炉口シャッタ１４７により開閉されるように構成されている。
【００２２】
図１に模式的に示されているように、耐圧筐体１１１右側端部とサブ筐体１１９の待機部１２６右端部との間にはボート２１７を昇降させるためのボートエレベータ１１５が設置されている。ボートエレベータ１１５の昇降台に連結された連結具としてのアーム１２８には蓋体としてのシールキャップ２１９が水平に据え付けられており、シールキャップ２１９はボート２１７を垂直に支持し、処理炉２０２の下端部を閉塞可能なように構成されている。
ボート２１７は複数本の保持部材を備えており、複数枚（例えば、５０〜１２５枚程度）のウエハ２００をその中心を揃えて垂直方向に整列させた状態で、それぞれ水平に保持するように構成されている。
【００２３】
図１に模式的に示されているように移載室１２４のウエハ移載装置エレベータ１２５ｂ側及びボートエレベータ１１５側と反対側である左側端部には、清浄化した雰囲気もしくは不活性ガスであるクリーンエア１３３を供給するよう供給ファン及び防塵フィルタで構成されたクリーンユニット１３４が設置されており、ウエハ移載装置１２５ａとクリーンユニット１３４との間には、図示はしないが、ウエハの円周方向の位置を整合させる基板整合装置としてのノッチ合わせ装置が設置されている。
クリーンユニット１３４から吹き出されたクリーンエア１３３は、ノッチ合わせ装置１３５及びウエハ移載装置１２５ａ、待機部１２６にあるボート２１７に流通された後に、図示しないダクトにより吸い込まれて、筐体１１１の外部に排気がなされるか、もしくはクリーンユニット１３４の吸い込み側である一次側（供給側）にまで循環され、再びクリーンユニット１３４によって、移載室１２４内に吹き出されるように構成されている。  
【００２４】
次に、基板処理装置１００の動作について説明する。
尚、以下の説明において、基板処理装置１００を構成する各部の動作は、コントローラ２４０により制御される。
図３には、コントローラ２４０の構成が示されている。コントローラ２４０は、入出力装置２４１を介して、ポッド搬送装置１１８、ポッド棚１０５、ウエハ移載機構１２５、ボートエレベータ１１５等を制御する。
図１及び図２に示されているように、ポッド１１０がロードポート１１４に供給されると、ポッド搬入搬出口１１２がフロントシャッタ１１３によって開放され、ロードポート１１４の上のポッド１１０はポッド搬送装置１１８によって筐体１１１の内部へポッド搬入搬出口１１２から搬入される。
搬入されたポッド１１０はポッド棚１０５の指定された載置部１１７へポッド搬送装置１１８によって自動的に搬送されて受け渡され、一時的に保管された後、ポッド棚１０５から一方のポッドオープナ１２１に搬送されて受け渡され、一時的に保管された後、ポッド棚１０５から一方のポッドオープナ１２１に搬送されて載置台１２２に移載されるか、もしくは直接ポッドオープナ１２１に搬送されて載置台１２２に移載される。この際、ポッドオープナ１２１のウエハ搬入搬出口１２０はキャップ着脱機構１２３によって閉じられており、移載室１２４にはクリーンエア１３３が流通され、充満されている。例えば、移載室１２４にはクリーンエア１３３として窒素ガスが充満することにより、酸素濃度が２０ｐｐｍ以下と、筐体１１１の内部（大気雰囲気）の酸素濃度よりも遥かに低く設定されている。
【００２５】
載置台１２２に載置されたポッド１１０はその開口側端面がサブ筐体１１９の正面壁１１９ａにおけるウエハ搬入搬出口１２０の開口縁辺部に押し付けられるとともに、そのキャップがキャップ着脱機構１２３によって取り外され、ウエハ出し入れ口を開放される。
ポッド１１０がポッドオープナ１２１によって開放されると、ウエハ２００はポッド１１０からウエハ移載装置１２５ａのツイーザ１２５ｃによってウエハ出し入れ口を通じてピックアップされ、図示しないノッチ合わせ装置１３５にてウエハを整合した後、移載室１２４の後方にある待機部１２６へ搬入され、ボート２１７に装填（チャージング）される。ボート２１７にウエハ２００を受け渡したウエハ移載装置１２５ａはポッド１１０に戻り、次のウエハ２００をボート２１７に装填する。
【００２６】
この一方（上段または下段）のポッドオープナ１２１におけるウエハ移載機構１２５によるウエハのボート２１７への装填作業中に、他方（下段または上段）のポッドオープナ１２１にはポッド棚１０５から別のポッド１１０がポッド搬送装置１１８によって搬送されて移載され、ポッドオープナ１２１によるポッド１１０の開放作業が同時進行される。
【００２７】
予め指定された枚数のウエハ２００がボート２１７に装填されると、炉口シャッタ１４７によって閉じられていた処理炉２０２の下端部が、炉口シャッタ１４７によって、開放される。続いて、ウエハ２００群を保持したボート２１７はシールキャップ２１９がボートエレベータ１１５によって上昇されることにより、処理炉２０２内へ搬入（ローディング）されて行く。
【００２８】
ローディング後は、処理炉２０２にてウエハ２００に任意の処理が実施される。
処理後は、図示しないノッチ合わせ装置１３５でのウエハの整合工程を除き、概上述の逆の手順で、ウエハ２００及びポッド１１０は筐体の外部へ払い出される。
【００２９】
次に、本発明の実施形態に係る基板処理装置１００のポッド搬送装置１１８とポッド棚１０５の昇降機構（収容棚昇降機構）の動作について、ポッド１１０がポッド棚１０５に一時的に保管されて、ポッドオープナ１２１へ搬送するために、ｎ段目の載置部１１７に載置されているポッド１１０をポッド棚１０５から搬出する例を挙げて詳述する。
図４には、コントローラ２４０によるポッド１１０搬出の制御フローが示されている。
【００３０】
ステップＳ１０では、搬出対象であるポッド１１０が載置されているｎ段目の載置部をα上昇させる。ここで、αは、ポッド搬送部１１８ｂがポットオープナ１２１や下段の載置部に載置されたポッド１１０に干渉せずに挿入されるのに足りる距離であればよい。
【００３１】
次に、ステップＳ１２では、ｎ段目より上方にあるｎ＋Ｋ段目の載置部があるか否か判断する。ここで、Ｋ＝Ｍ−ｎである。ｎ＋Ｋ段目の載置部があると判断された場合には、ステップＳ１４へ進み、ないと判断された場合には、ステップＳ１８へ進む。
【００３２】
ステップＳ１４では、ｎ＋Ｋ段目の載置部をα＋β上昇させる。ここで、βは、ポッド搬送部１１８ｂがｎ段目の載置部からポッド１１０をすくい上げるのに足りる距離（ポッド１１０が上段の載置部に干渉せずに搬出される距離）であればよい。
【００３３】
ステップＳ１６では、ｎ＝Ｍか否かを判断し、ｎ＝ＭでなければステップＳ１４へ戻り、ｎ＝Ｍとなったら、ステップＳ１８へ進む。ここで、ｎ＝Ｍとは、最上段の載置部からポッド１１０を搬出する場合を示す。
【００３４】
ステップＳ１８では、ポッドエレベータ１１８ａを上昇させて、ポッド搬送部１１８ｂがｎ段目の載置部下に配置されるように垂直方向に移動させる。
【００３５】
次に、ステップＳ２０では、ポッド搬送部１１８ｂを水平方向に移動させて、搬出するポッド１１０下に挿入させる。
【００３６】
次に、ステップＳ２２では、ポッド搬送部１１８ｂの作用より、ｎ段目の載置部からポッド１１０を搬出する。
【００３７】
次に、ステップＳ２４では、ポッド搬送部１１８ｂがポッドオープナ１２１に相当する位置まで水平方向に移動する。
【００３８】
次に、ステップＳ２６では、ポッドエレベータ１１８ａがポッドオープナ１２１に相当する位置まで垂直方向に移動する。
【００３９】
次に、ステップＳ２８では、ポッド１１０がポッドオープナ１２１へ搬送される。
【００４０】
そして、ステップＳ３０において、次に搬出するポッド１１０がポッド棚１０５に有る場合には、ステップＳ１０へ戻り、無い場合にはポッド搬出が終了される。
【００４１】
次に、図５から図７を参照して、本発明の実施形態に係る基板処理装置１００のポッド搬送装置１１８とポッド棚１０５の昇降機構（収容棚昇降機構）の動作について具体例を挙げて詳述する。
本具体例においては、ポッド棚１０５に２列×３段のものを用いて説明する。また、ポッド１１０をポッド棚１０５に載置する載置部１１７は下から順に１段目の載置部１１７ａ、２段目の載置部１１７ｂ、３段目の載置部１１７ｃとする。
【００４２】
図５には、ｎ＝１のとき、すなわち、１段目の載置部１１７ａからポッド１１０が搬出される例が示されている。図５（ａ）は、ポッド棚１０５の正面図であり、ポッド棚１０５の昇降動作前である。また、図５（ｂ）は、ポッド棚１０５の正面図、図５（ｃ）は、ポッド棚１０５の側面図であり、ポッド１１０搬出時の様子が示されている。
まず、ポッド棚１０５の１段目の載置部１１７ａを垂直方向にα上昇させる（ステップＳ１０）。そして、１段目の載置部１１７ａの上段である２段目の載置部１１７ｂおよび３段目の載置部１１７ｃを垂直方向にα＋β上昇させる（ステップＳ１２、ステップＳ１４、ステップＳ１６）。これにより、１段目の載置部１１７ａに載置されたポッド１１０を搬出する際に、ポッド搬送部１１８ｂがポッドオープナ１２１に載置されたポッド１１０に干渉されることなく搬出するスペースが確保される。また、１段目の載置部１１７ａから搬出されるポッド１１０が上段の載置部に干渉されるのを防止することができる。
次に、ポッド搬送装置１１８のポッドエレベータ１１８ａの作用によりポッド搬送部１１８ｂが１段目の載置部１１７ａ下まで垂直方向に移動され（ステップＳ１８）、さらにポッド搬送部１１８ｂの作用により水平方向に延びて搬出するポッド１１０下まで挿入される（ステップＳ２０）。そして、ポッドエレベータ１１８ａ及びポッド搬送部１１８ｂの作用より、１段目の載置部１１７ａからポッド１１０を搬出し（ステップＳ２２）、ポッド搬送部１１８ｂ（ステップＳ２４）とポッドエレベータ１１８ａ（ステップＳ２６）の作用によりポッドオープナ１２１へ搬送される（ステップＳ２８）。
【００４３】
図６には、ｎ＝２のとき、すなわち、２段目の載置部１１７ｂからポッド１１０が搬出される例が示されている。図６（ａ）は、ポッド棚１０５の正面図であり、ポッド棚１０５の昇降動作前である。また、図６（ｂ）は、ポッド棚１０５の正面図、図６（ｃ）は、ポッド棚１０５の側面図であり、ポッド１１０搬出時の様子が示されている。
まず、ポッド棚１０５の２段目の載置部１１７ｂを垂直方向にα上昇させる（ステップＳ１０）。そして、２段目の載置部１１７ａの上段である３段目の載置部１１７ｃを垂直方向にα＋β上昇させる（ステップＳ１２、ステップＳ１４、ステップＳ１６）。これにより、２段目の載置部１１７ｂに載置されたポッド１１０を搬出する際に、ポッド搬送部１１８ｂが１段目の載置部１１７ａに載置されたポッド１１０に干渉されることなく挿入するスペースが確保され、２段目の載置部１１７ｂから搬出されるポッド１１０が上段の載置部に干渉されるのを防止することができる。
次に、ポッド搬送装置１１８のポッドエレベータ１１８ａの作用によりポッド搬送部１１８ｂが２段目の載置部１１７ｂ下まで垂直方向に移動され（ステップＳ１８）、さらにポッド搬送部１１８ｂの作用により水平方向に延びて搬出するポッド１１０下まで挿入される（ステップＳ２０）。そして、ポッドエレベータ１１８ａ及びポッド搬送部１１８ｂの作用より、２段目の載置部１１７ｂからポッド１１０を搬出し（ステップＳ２２）、ポッド搬送部１１８ｂ（ステップＳ２４）とポッドエレベータ１１８ａ（ステップＳ２６）の作用によりポッドオープナ１２１へ搬送される（ステップＳ２８）。
【００４４】
図７には、ｎ＝３のとき、すなわち、最上段である３段目の載置部１１７ｃからポッド１１０が搬出される例が示されている。図７（ａ）は、ポッド棚１０５の正面図であり、ポッド棚１０５の昇降動作前である。また、図７（ｂ）は、ポッド棚１０５の正面図、図７（ｃ）は、ポッド棚１０５の側面図であり、ポッド１１０搬出時の様子が示されている。
まず、ポッド棚１０５の３段目の載置部１１７ｃを垂直方向にα上昇させる（ステップＳ１０）。そして、３段目の載置部１１７ｃは最上段の載置部であるため、ステップＳ１８の処理に進む。
次に、ポッド搬送装置１１８のポッドエレベータ１１８ａの作用によりポッド搬送部１１８ｂが３段目の載置部１１７ｃ下まで垂直方向に移動され（ステップＳ１８）、さらにポッド搬送部１１８ｂの作用によりポッド搬送部１１８ｂが水平方向に延びて搬出するポッド１１０下まで挿入される（ステップＳ２０）。そして、ポッドエレベータ１１８ａ及びポッド搬送部１１８ｂの作用より、３段目の載置部１１７ｃからポッド１１０を搬出し（ステップＳ２２）、ポッド搬送部１１８ｂ（ステップＳ２４）とポッドエレベータ１１８ａ（ステップＳ２６）の作用によりポッドオープナ１２１へ搬送される（ステップＳ２８）。これにより、３段目の載置部１１７ｃに載置されたポッド１１０を搬出する際に、ポッド搬送部１１８ｂが２段目の載置部１１７ｂに載置されたポッド１１０に干渉されることなく挿入するスペースが確保される。ここで、３段目への載置部１１７ｃからポッド１１０を搬出する際には、干渉がない高さに筐体１１１の天井が位置しているので３段目へのポッド１１０が干渉されることなく搬出される。
【００４５】
すなわち、ポッド棚１０５のそれぞれの段の載置部１１７ａ、１１７ｂ及び１１７ｃをそれぞれ昇降させてポッドエレベータ１１８ａを昇降し、ポッド搬送部１１８ｂを挿入することで、ポッド棚１０５の鉛直方向の変位量を少なくすることができ、ポッド１１０の搬出の際に必要なスペースを確保しながらも、載置部１１７間のピッチを小さくすることができて、結果として装置全体の高さの維持が可能となる。
【００４６】
なお、ポッド棚１０５の昇降機構（収容棚昇降機構）の動作について、ポッド１１０がポッド棚１０５に一時的に保管されて、ポッドオープナ１２１へ搬送するためにポッド棚１０５から搬出する例を挙げて詳述したが、ロードポート１１４からポッド棚１０５へポッド１１０を搬入する場合にも同様に適用される。
【００４７】
また、複数の載置部１１７のうち、固定されたポッド棚と、昇降するポッド棚を混在させてもよい。装置高さは固定された載置部１１７の数が少なくなるにつれて低くなるので、装置高さの制限に応じて、固定されるポッド棚と、昇降するポッド棚を混在させることで、装置仕様の最適化を図ることができる。また、固定されたポッド棚は昇降機構がないため部品点数を減少させることができる。
【００４８】
また、本実施形態においては、ポッド棚を２列とし、列ごとに昇降させる例について説明したが、これに限らず、ポッド１つずつにそれぞれ昇降機構を設けてもよい。これにより、多様な運用に対応できる。
【符号の説明】
【００４９】
１００    基板処理装置
１０５    ポッド棚（収容棚）
１１０    ポッド（収容容器）
１１１    筐体
１１６    支持部
１１７    載置部
１１８    ポッド搬送装置（収容容器搬送機構）
１１８ａ  ポッドエレベータ
１１８ｂ  ポッド搬送部
１２１    ポッドオープナ
２００    ウエハ
２０２    処理炉
２４０    コントローラ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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