(57)【要約】【課題】薄型で小型の光ピックアップ用光学素子を量産する。【解決手段】光を検出する受光部１と、受光部１を一方の主表面側に保持する保持基板２と、保持基板２の一方の主表面上に積層される透明基板３と、透明基板３の保持基板２側とは反対側の主表面上に形成され、光を受光部１に向かう方向に回折する回折格子１６が一部に記録された体積型ホログラム記録層４とを備える。保持基板２は、一方の主表面上に、体積型ホログラム記録層４に回折格子１６を形成する際に用いられる原盤１１との光軸合わせ用のアライメントマーク１０ａを有する。【選択図】図３
2012123869.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光を検出する受光部と、
前記受光部を一方の主表面側に保持する保持基板と、
前記保持基板の前記一方の主表面上に積層される透明基板と、
前記透明基板の前記保持基板側とは反対側の主表面上に形成され、前記光を前記受光部に向かう方向に回折する回折格子が一部に記録された体積型ホログラム記録層と
を備え、
前記保持基板は、前記一方の主表面上に、前記体積型ホログラム記録層に前記回折格子を形成する際に用いられる原盤との光軸合わせ用のアライメントマークを有する、光ピックアップ用光学素子。
【請求項２】
前記アライメントマークは、前記受光部を基準として、前記保持基板に複数形成されている、請求項１に記載の光ピックアップ用光学素子。
【請求項３】
一方の主表面上にアライメントマークを有する保持基板の該一方の主表面側に、光を検出する受光部を配置する工程と、
前記保持基板の前記一方の主表面上に透明基板を積層する工程と、
前記透明基板の前記保持基板側とは反対側の主表面上に体積型ホログラム記録層を形成する工程と、
前記体積型ホログラム記録層の前記透明基板とは反対側から前記体積型ホログラム記録層に原盤を通過した光を入射させて干渉させることにより、前記体積型ホログラム記録層の一部に回折格子を記録する工程と
を備え、
前記回折格子を記録する前記工程において、前記アライメントマークを用いて前記原盤と前記保持基板とを位置合わせする、光ピックアップ用光学素子の製造方法。
【請求項４】
前記受光部を配置する前記工程において、複数の受光部を配置し、
前記回折格子を記録する前記工程において、形成される前記回折格子により回折された光および前記回折格子を透過した光のそれぞれが前記複数の受光部のうちの対応する受光部に向かうように、前記アライメントマークを用いて前記原盤と前記保持基板とを位置合わせする、請求項３に記載の光ピックアップ用光学素子の製造方法。
【請求項５】
前記体積型ホログラム記録層を形成する前記工程において、前記体積型ホログラム記録層に複数の前記回折格子を記録し、
前記複数の受光部のうちの、前記複数の回折格子の各々に対応する受光部毎に前記保持基板を分割する工程をさらに備える、請求項４に記載の光ピックアップ用光学素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光ピックアップ用光学素子およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＣＤ（Compact Disc）、ＤＶＤ（Digital Versatile Disc）、およびＢＤ（Blu-ray Disc）などのように、光情報記録再生用の光源の波長が異なり、複数規格の光ディスクが普及している。この記録再生機器をノートパソコンなどの電子機器に組み込む際には、小型化および薄型化が求められ、記録再生機器における各波長に対応した光ピックアップ装置も同様に小型化および薄型化することが求められている。さらには、各光ディスク用の記録再生機器を一体化し、全ての光ディスクの記録再生が行なえる記録再生機器を組み込む際には、光ピックアップの薄型化がより一層求められる。薄型化した光ピックアップ装置を提供するために、回折光学素子を用いて、光ディスクからの反射光をフォーカス信号用の受光部とトラック信号用の受光部とに回折させる手法が提案されている。
【０００３】
より薄型な光ピックアップ装置を提供するために、１つの透明基板に回折光学素子および受光部を形成した光ヘッドを開示した先行文献として特許文献１がある。特許文献１に記載された光ヘッドにおいては、回折光学素子および受光部を１つの透明基板に形成する構造とすることにより、小型化した光ピックアップを提供することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００４−１４５９３８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
より薄型な光ピックアップ装置を提供するためには、光束分離に係る回折光学素子の回折角を大きくする必要がある。短波長の反射光を大きい回折角で回折するためには、回折光学素子のピッチを微小化することが必要であり、フォトリソグラフィ技術による回折光学素子の製作が非常に困難となる。
【０００６】
そのため、特許文献１に記載された光ヘッドのようにレリーフ型ホログラムの回折格子を用いる場合、光ピックアップの薄型化の限界はフォトリソグラフィ技術による微小化可能範囲に制限されることになる。
【０００７】
本発明は上記の問題点に鑑みなされたものであり、薄型化および小型化を図ることができ、かつ、量産化可能な光ピックアップ用光学素子を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明に基づく光ピックアップ用光学素子は、光を検出する受光部と、受光部を一方の主表面側に保持する保持基板と、保持基板の一方の主表面上に積層される透明基板と、透明基板の保持基板側とは反対側の主表面上に形成され、光を受光部に向かう方向に回折する回折格子が一部に記録された体積型ホログラム記録層とを備える。保持基板は、一方の主表面上に、体積型ホログラム記録層に回折格子を形成する際に用いられる原盤との光軸合わせ用のアライメントマークを有する。
【０００９】
好ましくは、アライメントマークは、受光部を基準として、保持基板に複数形成されている。
【００１０】
本発明に基づく光ピックアップ用光学素子の製造方法は、一方の主表面上にアライメントマークを有する保持基板の一方の主表面側に、光を検出する受光部を配置する工程と、保持基板の一方の主表面上に透明基板を積層する工程とを備える。また、光ピックアップ用光学素子の製造方法は、透明基板の保持基板側とは反対側の主表面上に体積型ホログラム記録層を形成する工程と、体積型ホログラム記録層の透明基板とは反対側から体積型ホログラム記録層に原盤を通過した光を入射させて干渉させることにより、体積型ホログラム記録層の一部に回折格子を記録する工程とを備える。回折格子を記録する工程において、アライメントマークを用いて原盤と保持基板とを位置合わせする。
【００１１】
本発明の一形態においては、受光部を配置する工程において、複数の受光部を配置する。回折格子を記録する工程において、形成される回折格子により回折された光および回折格子を透過した光のそれぞれが複数の受光部ののうちの対応する受光部に向かうように、アライメントマークを用いて原盤と保持基板とを位置合わせする。
【００１２】
本発明の一形態においては、体積型ホログラム記録層を形成する工程において、体積型ホログラム記録層に複数の回折格子を記録する。光ピックアップ用光学素子の製造方法は、複数の受光部のうちの、複数の回折格子の各々に対応する受光部毎に保持基板を分割する工程をさらに備える。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、薄型で小型の光ピックアップ用光学素子を量産することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の実施形態１に係る光ピックアップ用光学素子の構造を示す断面図である。
【図２】同実施形態に係る光ピックアップ用光学素子を保持基板の上方から見た平面図である。
【図３】光ピックアップ用光学素子のアライメントマークと原盤のアライメントマークとを用いて、光ピックアップ用光学素子と原盤とを光軸合わせする状態を示す断面図である。
【図４】光ピックアップ用光学素子を製造する際に用いられる原盤の構造を示す平面図である。
【図５】原盤を用いて体積型ホログラム記録層に回折格子を形成する状態を示す断面図である。
【図６】光ピックアップ用ホログラム光学素子の一部の構成を示す平面図である。
【図７】複数の光ピックアップ用ホログラム光学素子を一度に形成する状態を示す断面図である。
【図８】複数の回折格子が形成された状態を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明の実施形態１に係る光ピックアップ用光学素子およびその製造方法について図面を参照して説明する。以下の実施形態の説明においては、図中の同一または相当部分には同一符号を付して、その説明は繰返さない。
【００１６】
(実施形態１)
まず、本発明の実施形態１に係る光ピックアップ用光学素子の構造について説明する。図１は、本発明の実施形態１に係る光ピックアップ用光学素子の構造を示す断面図である。図２は、本実施形態に係る光ピックアップ用光学素子を保持基板の上方から見た平面図である。
【００１７】
なお、図１においては、説明の便宜上、光ピックアップ用光学素子に含まれないセンサレンズ７および反射光９を図示している。また、図１においては、簡単のため、受光部１ａ、受光部１ｂ、受光部１ｃおよびアライメントマーク１０ａが、同一の断面上に位置するように図示している。
【００１８】
図１に示すように、光ピックアップ用光学素子は、光を検出する複数の受光部１(１ａ，１ｂ，１ｃ)と、受光部１を保持する保持基板２と、保持基板２上に積層された透明基板３と、透明基板３上に積層された体積型ホログラム記録層４とを備える。
【００１９】
保持基板２には、一方の主表面に、受光部１が載置される凹部が複数形成されている。本実施形態においては、保持基板２はガラス基板である。凹部は、保持基板２をエッチングすることにより形成されている。
【００２０】
凹部は、保持基板２の側面を経由して保持基板２の他方の主表面に通じる溝部６と繋がっている。溝部６は、凹部を形成する際に形成されてもよいし、後工程の保持基板２をダイシングする際に形成されてもよい。溝部６内には、受光部１に接続された電気配線が収容される。
【００２１】
複数の受光部１は、保持基板２の一方の主表面側において、分割された複数の領域のそれぞれに配置されている。その結果、複数の受光部１により、各領域の光強度に基づいて、焦点誤差信号およびトラッキング誤差信号を得ることができる。
【００２２】
また、保持基板２の一方の主表面上には、アライメントマーク１０ａが形成されている。アライメントマーク１０ａは、保持基板２をエッチングすることにより形成されている。ただし、アライメントマーク１０ａの形成方法は、エッチングに限られず、レーザ光を保持基板２に照射することにより形成してもよい。本実施形態においては、図２に示すように、アライメントマーク１０ａは、０次透過光を感知する受光部１ａを基準として２つ形成されている。具体的には、受光部１ａを中心とした円上において、２つのアライメントマーク１０ａが受光部１ａに関して点対称の位置に形成されている。アライメントマーク１０ａの用途については後述する。
【００２３】
透明基板３は、保持基板２の一方の主表面に直接的に積層されて、透明接着剤により接着されている。言い換えると、保持基板２の上面と透明基板３の下面とが密着している。透明接着剤は、後述する光ディスクからの反射光９に対して高い透過率を有し、かつ、耐水性を有する材料であることが好ましい。
【００２４】
本実施形態においては、透明基板３はガラス基板である。ただし、透明基板３の材料はガラス基板に限られず、反射光９の波長に対して高い透過率を持つ材料であればよい。
【００２５】
透明基板３において、保持基板２との界面と体積型ホログラム記録層４との界面とは、互いに平行である。そのため、透明基板３は、反射光９が透明基板３を透過する際に、反射光９の波面精度を維持することができる。
【００２６】
体積型ホログラム記録層４は、透明基板３の保持基板２側とは反対側の主表面上に記録材料が塗布されることにより形成される。体積型ホログラム記録層４の厚さを均一にするために、記録材料の塗布にはバーコータなどが用いられる。好ましくは、記録材料は、塗布後の時間経過により、または、加熱されることにより凝固する。記録材料の種類によっては、酸素硬化阻害を起さないようにするために体積型ホログラム記録層４を保護膜で覆う必要がある。
【００２７】
体積型ホログラム記録層４の一部には、回折格子１６が記録されている。図１に示すように、センサレンズ７を通過して集束光になった光ディスクからの反射光９は、回折格子１６に通過して、０次透過光は受光部１ａに入射し、１次回折光は受光部１ｂまたは受光部１ｃに入射する。言い換えると、回折格子１６は、反射光９を受光部１に向かう方向に回折する。なお、図１においては、１次回折光を２つ示しているが、１次回折光の数はこれに限られない。
【００２８】
本実施形態においては、保持基板２の他方の主表面に電子回路部品５が取り付けられている。電子回路部品５は、溝部６内に収容される電気配線を介して受光部１からの信号を受信する。好ましくは、電子回路部品５は、取り外し可能な耐水カバーで覆われている。このようにすることにより、光ピックアップ用光学素子の作製時において、電子回路部品５が濡れることを防止できる。
【００２９】
以下、体積型ホログラム記録層４に回折格子１６を形成する方法について詳細に説明する。
【００３０】
体積型ホログラム記録層４への回折格子１６の形成は、原盤を用いて行われる。原盤には、あらかじめ多分割ホログラムとなる回折格子（屈折率格子）を光ピックアップ用光学素子の体積型ホログラム記録層４に形成できる回折格子（屈折率格子）が形成されている。
【００３１】
図３は、光ピックアップ用光学素子のアライメントマークと原盤のアライメントマークとを用いて、光ピックアップ用光学素子と原盤とを光軸合わせする状態を示す断面図である。図４は、光ピックアップ用光学素子を製造する際に用いられる原盤の構造を示す平面図である。なお、図４においては、説明の便宜上、原盤に含まれない受光部１を図示している。
【００３２】
図３に示すように、原盤１１は、回折格子が形成されているホログラム記録層１１ａと、ホログラム記録層１１ａの一方の主表面上に位置する基板１１ｂと、ホログラム記録層１１ａの他方の主表面上に位置する基板１１ｃとを含む。言い換えると、原盤１１は、ホログラム記録層１１ａを基板１１ｂ、１１ｃで封止することにより作製される。本実施形態においては、基板１１ｂ，１１ｃは、ガラス基板であるが、ポリカーボネイトなどから形成された透明基板であってもよい。あるいは、基板１１ｂ，１１ｃは、ホログラム記録層１１ａの片側の主表面をそれぞれ覆って保護する保護膜であってもよい。
【００３３】
図３，４に示すように、原盤１１には、体積型ホログラム記録層４に回折格子１６を形成する際に用いられる光軸合わせ用のアライメントマーク１０ｂが形成されている。本実施形態においては、レーザを用いてエッチングすることによりアライメントマーク１０ｂを形成している。本実施形態においては、アライメントマーク１０ｂは、基板１１ｂに形成されているが、基板１１ｃに形成されていてもよい。アライメントマーク１０ｂは、光ピックアップ用光学素子のアライメントマーク１０ａに対応するように形成されている。
【００３４】
本実施形態においては、アライメントマーク１０ｂは、受光部１ａの中心を通過して保持基板２の主表面に直交する直線２０が基板１１ｂの主表面と直交して交差する交点２１を基準として２つ形成されている。具体的には、交点２１を中心とした円上において、２つのアライメントマーク１０ｂが交点２１に関して点対称の位置に形成されている。２つのアライメントマーク１０ｂが位置する円の直径は、光ピックアップ用光学素子の２つのアライメントマーク１０ａが位置する円の直径と同一である。
【００３５】
光ピックアップ用光学素子のアライメントマーク１０ａが２つ以上形成されている場合には、アライメントマーク１０ｂは、アライメントマーク１０ａと同じ数だけ形成されている。その場合、複数のアライメントマーク１０ａの円上における各々の位置に対応するように、複数のアライメントマーク１０ｂが円上において各々位置する。
【００３６】
光ピックアップ用光学素子と原盤１１との光軸合わせをする際には、まず、図３に示すように、光ピックアップ用光学素子と原盤１１とを所定の間隔を置いて対向するように配置する。光ピックアップ用光学素子と原盤１１との間隔は、受光部１の配置、体積型ホログラム記録層４に形成される回折格子１６の回折角および透明基板３の厚さから決定される。
【００３７】
光ピックアップ用光学素子と原盤１１とを所定の間隔を置いて配置した状態で、保持基板２の主表面に直交する方向に保持基板２側から、体積型ホログラム記録層の材料が感光しない波長の光、たとえば赤外線を照射する。この光は、原盤１１の基板１１ｂの主表面と直交するように進行する。
【００３８】
光の照射方向と平行な方向から光ピックアップ用光学素子と原盤１１とをカメラで確認しつつ、アライメントマーク１０ａとアライメントマーク１０ｂとが重なるように、光ピックアップ用光学素子と原盤１１との相対位置を調節して光軸合わせを行なう。本実施形態においては、アライメントマーク１０ａは保持基板２に形成されているため、アライメントマーク１０ａ，１０ｂを用いて原盤１１と保持基板２とが位置合わせされる。
【００３９】
図４に示すように、原盤１１のホログラム記録層１１ａには、複数の回折格子(屈折率格子)２６ａ〜２６ｇが形成されている。複数の回折格子の一部２６ａ，２６ｂ，２６ｃ，２６ｄ，２６ｅは、互いに重複している。この複数の回折格子に対して、特定の方向から平面波である再生光が入射すると、複数の回折格子２６ａ〜２６ｇから回折光が出射する。
【００４０】
原盤１１の複数の回折格子２６ａ〜２６ｇは、体積型ホログラム記録層４の回折格子１６から対応する各受光部１への複数の１次回折光および０次透過光を、１次回折光および０次透過光の進行方向とは反対の方向に延長した領域と、ホログラム記録層１１ａとが交差する位置に形成されている。
【００４１】
原盤１１の複数の回折格子２６ａ〜２６ｇは、再生光と同等な光束と、回折光と同等な光束との二光束干渉により形成される。原盤１１のホログラム記録層１１ａに異なる形状の回折格子を作製する場合も同様に、再生光と同等な光束と、各回折光と同等な光束との二光束干渉により形成することができる。
【００４２】
図５は、原盤を用いて体積型ホログラム記録層に回折格子を形成する状態を示す断面図である。なお、図５においては、簡単のため、原盤１１の複数の回折格子のうちの一つのみについて図示している。
【００４３】
図５に示すように、体積型ホログラム記録層４に回折格子１６を形成するには、原盤１１に記録されている回折格子２６からの参照光である１次回折光１２と、作製される回折格子１６の回折角に合わせた信号光である１次回折光１３とを同時に体積型ホログラム記録層４に入射させる。その結果、１次回折光１２と１次回折光１３とによる干渉縞が形成され、体積型ホログラム記録層４に回折格子１６が記録される。
【００４４】
そのために、上述の通り、記録される回折格子１６により回折された１次回折光および回折格子１６を透過した０次透過光のそれぞれが複数の受光部１のうちの対応する受光部に向かうように、アライメントマーク１０ａ，１０ｂを用いて原盤１１と保持基板２とが位置合わせされている。
【００４５】
回折格子１６の形成方法としては、まず、原盤１１に対して、特定の方向から平面波である再生光１４を入射させる。原盤１１のホログラム記録層１１ａには干渉縞からなる回折格子２６が形成されている。この回折格子２６は、再生光１４の一部を回折して集束光である１次回折光１２，１３にする。１次回折光１２は、光ピックアップ用ホログラム光学素子を透過する０次透過光と同等な光束であり、１次回折光１３は受光部１に入射する１次回折光と同等な光束である。１次回折光１３は１つに限られず、複数であってもよい。
【００４６】
１次回折光１２と１次回折光１３とが重なる領域において、体積型ホログラム記録層４を配置することにより、体積型ホログラム記録層４に干渉縞からなる回折格子１６が記録される。
【００４７】
言い換えると、体積型ホログラム記録層４の透明基板３とは反対側から体積型ホログラム記録層４に原盤１１を通過した光を入射させて干渉させることにより、体積型ホログラム記録層４の一部に回折格子１６を記録する。
【００４８】
本実施形態においては、体積型ホログラム記録層４に回折格子１６を記録する際にすでに受光部１が配置されているため、１次回折光１２が受光部１を傷つけない程度の光強度となるように、再生光１４の光強度を決定することが好ましい。
【００４９】
図３においては図示していないが、図５に示すように、原盤１１の基板１１ｃのホログラム記録層１１ａとは反対側の主表面には、反射板１５が取付けられている。再生光１４の一部は原盤１１に記録された回折格子２６により１次回折光１２，１３となり、残りの一部は反射板１５により反射される。
【００５０】
反射板１５は、一定の入射角度を超えて反射板１５に入射する光のみを反射するように作製されている。そのため、再生光１４は体積型ホログラム記録層４に入射することがないため、体積型ホログラム記録層４の不要な露光を防ぐことができる。再生光１４の回折格子２６に対する入射角は、１次回折光１２，１３の回折格子２６に対する回折角の最大値よりも大きいことが好ましい。より好ましくは、再生光１４の回折格子２６に対する入射角を、反射板１５の全反射角とする。
【００５１】
図６は、光ピックアップ用ホログラム光学素子の一部の構成を示す平面図である。図６に示すように、光ピックアップ用ホログラム光学素子の体積型ホログラム記録層４に記録された回折格子１６は、複数の領域に分割されている。本実子形態においては、第１回折格子１６ａ、第２回折格子１６ｂ、第３回折格子１６ｃ、第４回折格子１６ｄ、第５回折格子１６ｅおよび第６回折格子１６ｆから回折格子１６が構成されている。
【００５２】
回折格子１６に集束光が垂直に入射することで、各回折格子１６ａ〜１６ｆから０次透過光と、１次回折光１８ａ〜１８ｆとが出射される。０次透過光は、受光部１ａに集光する。１次回折光１８ａは、受光部１ｂに集光し、１次回折光１８ｂは、受光部１ｃに集光する。１次回折光１８ｃ，１８ｄは、受光部１ｄに集光し、１次回折光１８ｅ，１８ｆは、受光部１ｅに集光する。
【００５３】
上記のようにアライメントマーク１０ａ，１０ｂを用いて、原盤１１と光ピックアップ用ホログラム光学素子との光軸を合わせた状態で、体積型ホログラム記録層に回折格子１６を形成することにより、受光部１に対して回折格子１６が記録される位置を安定して正確に決めることができる。そのため、高精度の受光性能を有する光ピックアップ用ホログラム光学素子を作製することができる。
【００５４】
また、光ピックアップ用ホログラム光学素子の各構成を直接的に積層して一体で形成するとともに体積型ホログラムを採用することにより、各構成を組み合わせた際の体積を小さくすることができるため、光ピックアップの薄型化の限界はフォトリソグラフィ技術による微小化可能範囲に制限されないため、薄型で小型の光ピックアップ用ホログラム光学素子を量産することができる。
【００５５】
以下、本発明の実施形態２に係る光ピックアップ用光学素子およびその製造方法について図面を参照して説明する。
【００５６】
(実施形態２)
本実施形態は、複数の光ピックアップ用光学素子を一度に形成することのみ実施形態１と異なるため、実施形態１と同様の構成については説明を繰り返さない。
【００５７】
図７は、複数の光ピックアップ用ホログラム光学素子を一度に形成する状態を示す断面図である。図８は、複数の回折格子が形成された状態を示す平面図である。なお、図７においては、簡単のため、原盤１１の複数の回折格子のうちの一つのみについて図示している。
【００５８】
図７に示すように、本実施形態の原盤１１においては、ホログラム記録層１１ａに複数の回折格子２６が所定の間隔を置いて形成されている。
【００５９】
図８に示すように、アライメントマーク１０ａ，１０ｂは、後述する複数の回折格子１６が記録されたあと、ダイシング処理が行われる際に、四隅に位置する光ピックアップ用光学素子およびそれに対応する位置の原盤１１にのみ形成されている。原盤１１と光ピックアップ用ホログラム光学素子とは、実施形態１と同様に、アライメントマーク１０ａ，１０ｂを用いて光軸合わせされている。
【００６０】
図７に示すように、原盤１１に記録されている複数の回折格子２６に対して、特定の方向から平面波である再生光１４を入射させる。複数の回折格子２６の各々は、再生光１４の一部を回折して１次回折光１２，１３にする。
【００６１】
１次回折光１２，１３が重なる領域において，体積型ホログラム記録層４を配置することにより、複数の回折格子１６を一度に記録することができる。受光部１は各回折格子２６からの１次回折光１２，１３の数と同じ数だけ形成されている。
【００６２】
形成された複数の回折格子１６をそれぞれ含む複数の光ピックアップ用ホログラム光学素子は、図８に示すように、矩形状の外形を有するようにダイシングされて、各光ピックアップ用ホログラム光学素子に分割される。言い換えると、複数の回折格子１６の各々に対応する、複数の受光部１のうちの受光部毎に保持基板２を分割する。なお、分割されるのは、保持基板２と透明基板３と体積型ホログラム記録層４である。
【００６３】
上記の方法により一度に複数の回折格子１６を形成し、ダイシングにより分断することで、複数の光ピックアップ用光学素子を一括生産することが可能となる。一括で光ピックアップ用光学素子を作製することにより、作製時間を短縮することができるため光ピックアップ用光学素子の量産化が図れ、コストダウンを図ることができる。
【００６４】
なお、今回開示した上記実施形態はすべての点で例示であって、限定的な解釈の根拠となるものではない。したがって、本発明の技術的範囲は、上記した実施形態のみによって解釈されるものではなく、特許請求の範囲の記載に基づいて画定される。また、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれる。
【符号の説明】
【００６５】
１，１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ，１ｅ  受光部、２  保持基板、３  透明基板、４  体積型ホログラム記録層、５  電子回路部品、６  溝部、７  センサレンズ、９  反射光、１０ａ，１０ｂ  アライメントマーク、１１  原盤、１１ａ  ホログラム記録層、１１ｂ，１１ｃ  基板、１２，１３，１８ａ〜１８ｆ  １次回折光、１４  再生光、１５  反射板、１６，２６，２６ａ〜２６ｇ  回折格子、１６ａ  第１回折格子、１６ｂ  第２回折格子、１６ｃ  第３回折格子、１６ｄ  第４回折格子、１６ｅ  第５回折格子、１６ｆ  第６回折格子、２０  直線、２１  交点。
【図１】
2012123869.tif 000003
【図２】
2012123869.tif 000004
【図３】
2012123869.tif 000005
【図４】
2012123869.tif 000006
【図５】
2012123869.tif 000007
【図６】
2012123869.tif 000008
【図７】
2012123869.tif 000009
【図８】
2012123869.tif 000010