(57)【要約】【課題】第１の格子と第２の格子の２つの格子を平行に配列し、この格子を用いて位相コントラスト画像を取得する放射線画像撮影装置において、１回の撮影によって位相コントラスト画像を取得し、かつ位相コントラスト画像の連続性を向上させる。【解決手段】第１および第２の格子のいずれか一方の格子を、画素部の単位で構成された単位格子ＵＧ１_１〜ＵＧ５_２を複数配列したものとし、位相コントラスト画像の１つの画素に対応する所定の範囲内の複数の単位格子ＵＧ１_１〜ＵＧ５_２を、他方の格子の延伸方向に直交する方向について互いに異なる距離だけ平行にシフトして配置し、その各単位格子に対応する画素部から読み出された読出信号に基づいて位相コントラスト画像を構成する１つ画素信号を生成するとともに、位相コントラスト画像の隣接する画素の画素信号を生成する際に用いる読出信号を一部共有する。【選択図】図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
格子構造が周期的に配置され、放射線源から射出された放射線を通過させて第１の周期パターン像を形成する第１の格子と、
該第１の格子により形成された周期パターン像を透過する部分と遮蔽する部分とからなる格子構造が周期的に配置され、第２の周期パターン像を形成する第２の格子と、
該第２の格子により形成された第２の周期パターン像を検出する画素部が２次元状に配列された放射線画像検出器と、
前記放射線画像検出器において検出された前記第２の周期パターン像を表す画像信号に基づいて位相コントラスト画像を生成する画像生成部とを備えた放射線画像撮影装置であって、
前記第１の格子および前記第２の格子のいずれか一方の前記格子が、前記画素部に対応する単位で構成された単位格子を複数配列したものであるとともに、前記位相コントラスト画像を構成する１つの画素に対応する所定の範囲内における複数の前記単位格子が、他方の前記格子の延伸方向に直交する方向について該他方の格子に対して互いに異なる距離だけ平行にシフトして配置されたものであり、
前記画像生成部が、前記所定の範囲内に配置された各単位格子に対応する前記画素部から読み出された読出信号に基づいて、前記位相コントラスト画像を構成する１つの画素の画素信号を生成するものであるとともに、前記位相コントラスト画像を構成する隣接する画素の画素信号を生成する際に用いる前記読出信号を前記隣接する画素で一部共有するものであることを特徴とする放射線画像撮影装置。
【請求項２】
前記画像生成部が、１つの前記画素信号を生成するのに用いる前記読出信号の数よりも少ない数の前記画素信号を表示用画素信号として生成するものであることを特徴とする請求項１記載の放射線画像撮影装置。
【請求項３】
前記所定の範囲内における前記単位格子が、複数列をなして配置されるものであることを特徴とする請求項１または２記載の放射線画像撮影装置。
【請求項４】
前記一部共有される読出信号が複数であって、該複数の読出信号が読み出される前記画素部に対応する複数の前記単位格子の前記他方の格子に対する距離が同じとなるように、前記単位格子が配置されたものであることを特徴とする請求項１から３いずれか１項記載の放射線画像撮影装置。
【請求項５】
前記一部共有される読出信号が複数であって、該複数の読出信号が読み出される前記画素部に対応する複数の前記単位格子の前記他方の格子に対する距離が互いに異なるように、前記単位格子が配置されたものであることを特徴とする請求項１から３いずれか１項記載の放射線画像撮影装置。
【請求項６】
前記位相コントラスト画像を構成する所定の画素の画素信号を生成する際、該所定の画素の左右に両隣の画素の画素信号を生成する際に用いられる前記読出信号が共有されるように前記単位格子が配置されたものであることを特徴とする請求項１から５いずれか１項記載の放射線画像撮影装置。
【請求項７】
前記位相コントラスト画像を構成する所定の画素の画素信号を生成する際、該所定の画素の上下に両隣の画素の画素信号を生成する際に用いられる前記読出信号が共有されるように前記単位格子が配置されたものであることを特徴とする請求項１から６いずれか１項記載の放射線画像撮影装置。
【請求項８】
前記所定の範囲内の複数の前記単位格子の像が、前記他方の格子に対してＰ／Ｍずつ平行にシフトして配列されたものであることを特徴とする請求項１から７いずれか１項記載の放射線画像撮影装置。
ただし、Ｐは前記他方の格子のピッチ、Ｍは前記位相コントラスト画像を構成する１つの画素を生成するために用いられる予め設定された位相情報の数
【請求項９】
前記単位格子が、矩形で形成されたものであることを特徴とする請求項１から８いずれか１項記載の放射線画像撮影装置。
【請求項１０】
前記第２の格子が、前記第１の格子からタルボ干渉距離の位置に配置され、
前記第１の格子のタルボ干渉効果によって形成される前記第１の周期パターン像に強度変調を与えるものであることを特徴とする請求項１から９いずれか１項記載の放射線画像撮影装置。
【請求項１１】
前記第１の格子が、前記放射線を投影像として通過させて前記第１の周期パターン像を形成する吸収型格子であり、
前記第２の格子が、前記第１の格子を通過した前記投影像としての前記第１の周期パターン像に強度変調を与えるものであることを特徴とする請求項１から９いずれか１項記載の放射線画像撮影装置。
【請求項１２】
前記第２の格子が、前記第１の格子から最小のタルボ干渉距離より短い距離に配置されていることを特徴とする請求項１１記載の放射線画像撮影装置。
【請求項１３】
格子構造が周期的に配置され、放射線源から射出された放射線を通過させて周期パターン像を形成する格子と、
該格子によって形成された周期パターン像を透過する第１の電極層と、該第１の電極層を透過した前記周期パターン像の照射を受けて電荷を発生する光導電層と、該光導電層において発生した電荷を蓄積する電荷蓄積層と、読取光を透過する線状電極が多数配列された第２の電極層とがこの順に積層され、前記読取光によって走査されることによって前記各線状電極に対応する画素毎の画像信号が読み出される放射線画像検出器と、
該放射線画像検出器において検出された前記周期パターン像を表す画像信号に基づいて位相コントラスト画像を生成する画像生成部とを備えた放射線画像撮影装置であって、
前記電荷蓄積層が、前記画素部に対応する単位で構成された単位格子パターンを複数配列したものであるとともに、前記位相コントラスト画像を構成する１つの画素に対応する所定の範囲内における複数の前記単位格子パターンが、前記格子の延伸方向に直交する方向について該格子に対して互いに異なる距離だけ平行にシフトして配置されたものであり、
前記画像生成部が、前記所定の範囲内に配置された各単位格子パターンに対応する前記画素部から読み出された読出信号に基づいて、前記位相コントラスト画像を構成する１つの画素の画素信号を生成するものであるとともに、前記位相コントラスト画像を構成する隣接する画素の画素信号を生成する際に用いる前記読出信号を前記隣接する画素で一部共有するものであることを特徴とする放射線画像撮影装置。
【請求項１４】
前記画像生成部が、１つの前記画素信号を生成するのに用いる前記読出信号の数よりも少ない数の前記画素信号を表示用画素信号として生成するものであることを特徴とする請求項１３記載の放射線画像撮影装置。
【請求項１５】
前記所定の範囲内における前記単位格子パターンが、複数列をなして配置されるものであることを特徴とする請求項１３または１４記載の放射線画像撮影装置。
【請求項１６】
前記一部共有される読出信号が複数であって、該複数の読出信号が読み出される前記画素部に対応する複数の前記単位格子パターンの前記格子に対する距離が同じとなるように、前記単位格子パターンが配置されたものであることを特徴とする請求項１３から１５いずれか１項記載の放射線画像撮影装置。
【請求項１７】
前記一部共有される読出信号が複数であって、該複数の読出信号が読み出される前記画素部に対応する複数の前記単位格子パターンの前記格子に対する距離が互いに異なるように、前記単位格子パターンが配置されたものであることを特徴とする請求項１３から１５いずれか１項記載の放射線画像撮影装置。
【請求項１８】
前記位相コントラスト画像を構成する所定の画素の画素信号を生成する際、該所定の画素の左右に両隣の画素の画素信号を生成する際に用いられる前記読出信号が共有されるように前記単位格子パターンが配置されたものであることを特徴とする請求項１３から１７いずれか１項記載の放射線画像撮影装置。
【請求項１９】
前記位相コントラスト画像を構成する所定の画素の画素信号を生成する際、該所定の画素の上下に両隣の画素の画素信号を生成する際に用いられる前記読出信号が共有されるように前記単位格子パターンが配置されたものであることを特徴とする請求項１３から１８いずれか１項記載の放射線画像撮影装置。
【請求項２０】
前記所定の範囲内の複数の前記単位格子パターンが、前記格子の像に対してＰ／Ｍずつ平行にシフトして配列されたものであることを特徴とする請求項１３から１９いずれか１項記載の放射線画像撮影装置。
ただし、Ｐは前記格子の像のピッチ、Ｍは前記位相コントラスト画像を構成する１つの画素を生成するために用いられる予め設定された位相情報の数
【請求項２１】
前記単位格子パターンが、矩形で形成されたものであることを特徴とする請求項１３から２０いずれか１項記載の放射線画像撮影装置。
【請求項２２】
前記放射線画像検出器が、前記格子からタルボ干渉距離の位置に配置され、
前記格子のタルボ干渉効果によって形成される前記周期パターン像に強度変調を与えるものであることを特徴とする請求項１３から２１いずれか１項記載の放射線画像撮影装置。
【請求項２３】
前記格子が、前記放射線を投影像として通過させて前記周期パターン像を形成する吸収型格子であり、
前記放射線画像検出器が、前記格子を通過した前記投影像としての前記周期パターン像に強度変調を与えるものであることを特徴とする請求項１３から２１いずれか１項記載の放射線画像撮影装置。
【請求項２４】
前記放射線画像検出器が、前記格子から最小のタルボ干渉距離より短い距離に配置されていることを特徴とする請求項２３記載の放射線画像撮影装置。
【請求項２５】
格子構造が周期的に配置され、放射線源から射出された放射線を通過させて周期パターン像を形成する格子と、
該格子によって形成された周期パターン像を透過する第１の電極層と、該第１の電極層を透過した前記周期パターン像の照射を受けて電荷を発生する光導電層と、該光導電層において発生した電荷を蓄積する電荷蓄積層と、読取光を透過する線状電極が多数配列された第２の電極層とがこの順に積層され、前記読取光によって走査されることによって前記各線状電極に対応する画素毎の画像信号が読み出される放射線画像検出器と、
該放射線画像検出器において検出された前記周期パターン像を表す画像信号に基づいて位相コントラスト画像を生成する画像生成部とを備えた放射線画像撮影装置であって、
前記電荷蓄積層が、前記線状電極の配列ピッチよりも細かいピッチで格子状に形成されたものであり、
前記格子が、前記画素部に対応する単位で構成された単位格子を複数配列したものであるとともに、前記位相コントラスト画像を構成する１つの画素に対応する所定の範囲内における複数の前記単位格子が、他方の前記格子の延伸方向に直交する方向について該他方の格子に対して互いに異なる距離だけ平行にシフトして配置されたものであり、
前記画像生成部が、前記所定の範囲内に配置された各単位格子に対応する前記画素部から読み出された読出信号に基づいて、前記位相コントラスト画像を構成する１つの画素の画素信号を生成するものであるとともに、前記位相コントラスト画像を構成する隣接する画素の画素信号を生成する際に用いる前記読出信号を前記隣接する画素で一部共有するものであることを特徴とする放射線画像撮影装置。
【請求項２６】
前記画像生成部が、１つの前記画素信号を生成するのに用いる前記読出信号の数よりも少ない数の前記画素信号を表示用画素信号として生成するものであることを特徴とする請求項２５記載の放射線画像撮影装置。
【請求項２７】
前記所定の範囲内における前記単位格子が、複数列をなして配置されるものであることを特徴とする請求項２５または２６記載の放射線画像撮影装置。
【請求項２８】
前記一部共有される読出信号が複数であって、該複数の読出信号が読み出される前記画素部に対応する複数の前記単位格子の前記電荷蓄積層の格子パターンに対する距離が同じとなるように、前記単位格子が配置されたものであることを特徴とする請求項２５から２７いずれか１項記載の放射線画像撮影装置。
【請求項２９】
前記一部共有される読出信号が複数であって、該複数の読出信号が読み出される前記画素部に対応する複数の前記単位格子の前記電荷蓄積層の格子パターンに対する距離が互いに異なるように、前記単位格子が配置されたものであることを特徴とする請求項２５から２８いずれか１項記載の放射線画像撮影装置。
【請求項３０】
前記位相コントラスト画像を構成する所定の画素の画素信号を生成する際、該所定の画素の左右に両隣の画素の画素信号を生成する際に用いられる前記読出信号が共有されるように前記単位格子が配置されたものであることを特徴とする請求項２５から２９いずれか１項記載の放射線画像撮影装置。
【請求項３１】
前記位相コントラスト画像を構成する所定の画素の画素信号を生成する際、該所定の画素の上下に両隣の画素の画素信号を生成する際に用いられる前記読出信号が共有されるように前記単位格子が配置されたものであることを特徴とする請求項２５から３０いずれか１項記載の放射線画像撮影装置。
【請求項３２】
前記所定の範囲内の複数の前記単位格子の像が、前記電荷蓄積層の格子パターンに対してＰ／Ｍずつ平行にシフトして配列されたものであることを特徴とする請求項２５から３１いずれか１項記載の放射線画像撮影装置。
ただし、Ｐは前記電荷蓄積層の格子パターンのピッチ、Ｍは前記位相コントラスト画像を構成する１つの画素を生成するために用いられる予め設定された位相情報の数
【請求項３３】
前記単位格子が、矩形で形成されたものであることを特徴とする請求項２５から３２いずれか１項記載の放射線画像撮影装置。
【請求項３４】
前記放射線画像検出器が、前記格子からタルボ干渉距離の位置に配置され、
前記格子のタルボ干渉効果によって形成される前記周期パターン像に強度変調を与えるものであることを特徴とする請求項２５から３３いずれか１項記載の放射線画像撮影装置。
【請求項３５】
前記格子が、前記放射線を投影像として通過させて前記周期パターン像を形成する吸収型格子であり、
前記放射線画像検出器が、前記格子を通過した前記投影像としての前記周期パターン像に強度変調を与えるものであることを特徴とする請求項２５から３３いずれか１項記載の放射線画像撮影装置。
【請求項３６】
前記放射線画像検出器が、前記格子から最小のタルボ干渉距離より短い距離に配置されていることを特徴とする請求項３５記載の放射線画像撮影装置。
【請求項３７】
前記電荷蓄積層の格子パターンの配列ピッチＰ２が、下式を満たすように前記電荷蓄積層が形成されたものであることを特徴とする請求項２５から３６いずれか１項記載の放射線画像撮影装置。
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ただし、Ｐ１は前記単位格子の格子ピッチ、Ｚ１は前記放射線源の焦点から前記格子までの距離、Ｚ２は前記格子から前記放射線画像検出器の検出面までの距離
【請求項３８】
前記格子の前記放射線を遮蔽する部分の延伸方向と平行となるように前記放射線を遮蔽する放射線遮蔽部材が所定のピッチで複数延設されるとともに、前記放射線源と前記格子との間に配置され、前記放射線源から照射された放射線を領域選択的に遮蔽して多数の点光源とする吸収型格子からなるマルチスリットをさらに備え、
前記マルチスリットの前記所定のピッチＰ３が、下式を満たす大きさであり、
かつ、前記電荷蓄積層の格子パターンの配列ピッチＰ２が、下式の関係を満たすように前記電荷蓄積層が形成されたものであることを特徴とする請求項２５から３６いずれか１項記載の放射線画像撮影装置。
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2012143491.tif 000031
ただし、Ｚ３は前記マルチスリットから前記格子までの距離、Ｚ２は前記格子から前記放射線画像検出器の検出面までの距離、Ｐ１は前記単位格子の格子ピッチ、
【請求項３９】
前記電荷蓄積層の前記積層方向の厚さが２μｍ以下であることを特徴とする請求項２５から３８いずれか１項記載の放射線画像撮影装置。
【請求項４０】
前記電荷蓄積層の誘電率が、前記光導電層の誘電率の２倍以内かつ１／２倍以上であることを特徴とする請求項２５から３９いずれか１項記載の放射線画像撮影装置。
【請求項４１】
放射線を透過する第１の電極層と、該第１の電極層を透過した放射線の照射を受けて電荷を発生する光導電層と、該光導電層において発生した電荷を蓄積する電荷蓄積層と、読取光を透過する線状電極が多数配列された第２の電極層とがこの順に積層され、読取光によって走査されることによって前記各線状電極に対応する画素毎の画像信号が読み出される放射線画像検出器であって、
前記電荷蓄積層が、前記画素部に対応する単位で構成された単位格子パターンを複数配列したものであるとともに、所定の範囲内における複数の前記単位格子パターンが、前記格子の延伸方向に直交する方向について該格子に対して互いに異なる距離だけ平行にシフトして配置されたものであり、
前記所定の範囲内に配置された各単位格子パターンに対応する前記画素部から読み出された読出信号に基づいて位相コントラスト画像を構成する１つの画素の画素信号を生成する際に、前記位相コントラスト画像を構成する隣接する画素の画素信号を生成するために用いる前記読出信号が前記隣接する画素で一部共有されるように前記単位格子パターンが配置されたものであることを特徴とする放射線画像検出器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、格子を利用した放射線画像撮影装置およびその放射線画像撮影装置に用いられる放射線画像検出器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
Ｘ線は、物質を構成する元素の原子番号と、物質の密度及び厚さとに依存して減衰するといった特性を有することから、被写体の内部を透視するためのプローブとして用いられている。Ｘ線を用いた撮影は、医療診断や非破壊検査等の分野において広く普及している。
【０００３】
一般的なＸ線撮影システムでは、Ｘ線を放射するＸ線源とＸ線画像を検出するＸ線画像検出器との間に被写体を配置して、被写体の透過像を撮影する。この場合、Ｘ線源からＸ線画像検出器に向けて放射された各Ｘ線は、Ｘ線画像検出器までの経路上に存在する被写体を構成する物質の特性（原子番号、密度、厚さ）の差異に応じた量の減衰（吸収）を受けた後、Ｘ線画像検出器に入射する。この結果、被写体のＸ線透過像がＸ線画像検出器により検出され画像化される。Ｘ線画像検出器としては、Ｘ線増感紙とフイルムとの組み合わせや輝尽性蛍光体（蓄積性蛍光体）のほか、半導体回路を用いたフラットパネル検出器（ＦＰＤ：Flat Panel Detector）が広く用いられている。
【０００４】
しかし、Ｘ線吸収能は、原子番号が小さい元素からなる物質ほど低くなり、生体軟部組織やソフトマテリアルなどでは、Ｘ線吸収能の差が小さく、従ってＸ線透過像としての十分な画像の濃淡（コントラスト）が得られないといった問題がある。例えば、人体の関節を構成する軟骨部とその周辺の関節液は、いずれも殆どの成分が水であり、両者のＸ線の吸収量の差が小さいため、画像のコントラストが得られにくい。
【０００５】
近年、被検体の吸収係数の違いによるＸ線の強度変化に代えて、被検体の屈折率の違いによるＸ線の位相変化に基づいた位相コントラスト画像を得るＸ線位相イメージングの研究が行われている。この位相差を利用したＸ線位相イメージングでは、Ｘ線吸収能が低い弱吸収物体であっても高コントラストの画像を取得することができる。
【０００６】
このようなＸ線位相イメージングとして、たとえば、特許文献１および特許文献２においては、第１の格子と第２の格子の２つの格子を所定の間隔で平行に配列し、第１の格子によるタルボ干渉効果によって第２の格子の位置に第１の格子の自己像を形成し、この自己像を第２の格子によって強度変調することによって放射線位相コントラスト画像を取得する放射線位相画像撮影装置が提案されている。
【０００７】
そして、特許文献１や特許文献２に記載の放射線位相画像撮影装置においては、第１の格子に対して、第１の格子の面にほぼ平行に第２の格子を配置し、第１の格子または第２の格子を、格子方向にほぼ垂直な方向に、格子ピッチよりも細かい所定量ずつ、相対的に並進移動させながら、その並進移動毎に撮影を行って複数の画像を撮影し、これらの複数の画像に基づいて、被検体との相互作用によって発生したＸ線の位相変化量（位相シフト微分量）を取得する縞走査法が行われる。そして、この位相シフト微分量に基づいて被検体の位相コントラスト画像を取得することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】国際公開ＷＯ２００８／１０２６５４号公報
【特許文献２】特開２０１０−１９０７７７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、特許文献１および特許文献２に記載の放射線位相画像撮影装置においては、上述したように第１または第２の格子を、その格子ピッチよりも細かいピッチで精度よく移動させる必要がある。格子ピッチは典型的には数μｍであり、格子の送り精度はさらに高い精度が要求されるため、非常に高精度な移動機構が必要となる結果、機構の複雑化とコストの増大をもたらす。また、格子の移動毎に撮影を行う場合、位相コントラスト画像を取得するための一連の撮影間で、被検体の動きや装置振動などの要因で被検体と撮影系の位置関係がズレることにより、被検体との相互作用で発生したＸ線の位相変化を正しく導くことができず、結果として、良好な位相コントラスト画像を得ることができないといった問題がある。
【００１０】
本発明は、上記の事情に鑑み、高精度な移動機構を必要とすることなく、１回の撮影によって位相コントラスト画像を取得することができ、さらにその位相コントラスト画像の連続性を向上することができる放射線画像撮影装置およびその放射線画像撮影装置において用いられる放射線画像検出器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の放射線画像撮影装置は、格子構造が周期的に配置され、放射線源から射出された放射線を通過させて第１の周期パターン像を形成する第１の格子と、第１の格子により形成された周期パターン像を透過する部分と遮蔽する部分とからなる格子構造が周期的に配置され、第２の周期パターン像を形成する第２の格子と、第２の格子により形成された第２の周期パターン像を検出する画素部が２次元状に配列された放射線画像検出器と、放射線画像検出器において検出された第２の周期パターン像を表す画像信号に基づいて位相コントラスト画像を生成する画像生成部とを備えた放射線画像撮影装置であって、第１の格子および第２の格子のいずれか一方の格子が、画素部に対応する単位で構成された単位格子を複数配列したものであるとともに、位相コントラスト画像を構成する１つの画素に対応する所定の範囲内における複数の単位格子が、他方の格子の延伸方向に直交する方向についてその他方の格子に対して互いに異なる距離だけ平行にシフトして配置されたものであり、画像生成部が、所定の範囲内に配置された各単位格子に対応する画素部から読み出された読出信号に基づいて、位相コントラスト画像を構成する１つの画素の画素信号を生成するものであるとともに、位相コントラスト画像を構成する隣接する画素の画素信号を生成する際に用いる読出信号を隣接する画素で一部共有するものであることを特徴とする。
【００１２】
また、上記本発明の放射線画像撮影装置においては、画像生成部を、１つの画素信号を生成するのに用いる読出信号の数よりも少ない数の画素信号を表示用画素信号として生成するものとできる。
【００１３】
また、所定の範囲内における単位格子を複数列をなして配置することができる。
【００１４】
また、一部共有される読出信号が複数であって、その複数の読出信号が読み出される画素部に対応する複数の単位格子の他方の格子に対する距離が同じとなるように単位格子を配置することができる。
【００１５】
また、一部共有される読出信号が複数であって、その複数の読出信号が読み出される画素部に対応する複数の単位格子の他方の格子に対する距離が互いに異なるように、単位格子を配置することができる。
【００１６】
また、位相コントラスト画像を構成する所定の画素の画素信号を生成する際、所定の画素の左右に両隣の画素の画素信号を生成する際に用いられる読出信号が共有されるように単位格子を配置することができる。
【００１７】
また、位相コントラスト画像を構成する所定の画素の画素信号を生成する際、所定の画素の上下に両隣の画素の画素信号を生成する際に用いられる読出信号が共有されるように単位格子を配置することができる。
【００１８】
また、所定の範囲内の複数の単位格子の像を、他方の格子に対してＰ／Ｍずつ平行にシフトして配列することができる。
【００１９】
ただし、Ｐは他方の格子のピッチ、Ｍは位相コントラスト画像を構成する１つの画素を生成するために用いられる予め設定された位相情報の数
また、単位格子を矩形で形成することができる。
【００２０】
また、第２の格子を第１の格子からタルボ干渉距離の位置に配置し、第１の格子のタルボ干渉効果によって形成される第１の周期パターン像に強度変調を与えるものとできる。
【００２１】
また、第１の格子を、放射線を投影像として通過させて第１の周期パターン像を形成する吸収型格子とし、第２の格子を、第１の格子を通過した投影像としての第１の周期パターン像に強度変調を与えるものとできる。
【００２２】
また、第２の格子を、第１の格子から最小のタルボ干渉距離より短い距離に配置することができる。
【００２３】
本発明の放射線画像撮影装置は、格子構造が周期的に配置され、放射線源から射出された放射線を通過させて周期パターン像を形成する格子と、格子によって形成された周期パターン像を透過する第１の電極層と、第１の電極層を透過した周期パターン像の照射を受けて電荷を発生する光導電層と、光導電層において発生した電荷を蓄積する電荷蓄積層と、読取光を透過する線状電極が多数配列された第２の電極層とがこの順に積層され、読取光によって走査されることによって各線状電極に対応する画素毎の画像信号が読み出される放射線画像検出器と、放射線画像検出器において検出された周期パターン像を表す画像信号に基づいて位相コントラスト画像を生成する画像生成部とを備えた放射線画像撮影装置であって、電荷蓄積層が、画素部に対応する単位で構成された単位格子パターンを複数配列したものであるとともに、位相コントラスト画像を構成する１つの画素に対応する所定の範囲内における複数の単位格子パターンが、格子の延伸方向に直交する方向についてその格子に対して互いに異なる距離だけ平行にシフトして配置されたものであり、画像生成部が、所定の範囲内に配置された各単位格子パターンに対応する画素部から読み出された読出信号に基づいて、位相コントラスト画像を構成する１つの画素の画素信号を生成するものであるとともに、位相コントラスト画像を構成する隣接する画素の画素信号を生成する際に用いる読出信号を隣接する画素で一部共有するものであることを特徴とする。
【００２４】
また、上記本発明の放射線画像撮影装置においては、画像生成部を、１つの画素信号を生成するのに用いる読出信号の数よりも少ない数の画素信号を表示用画素信号として生成するものとできる。
【００２５】
また、所定の範囲内における単位格子パターンを複数列をなして配置することができる。
【００２６】
また、一部共有される読出信号が複数であって、その複数の読出信号が読み出される画素部に対応する複数の単位格子パターンの格子に対する距離が同じとなるように、単位格子パターンを配置することができる。
【００２７】
また、一部共有される読出信号が複数であって、その複数の読出信号が読み出される画素部に対応する複数の単位格子パターンの格子に対する距離が互いに異なるように、単位格子パターンを配置することができる。
【００２８】
また、位相コントラスト画像を構成する所定の画素の画素信号を生成する際、所定の画素の左右に両隣の画素の画素信号を生成する際に用いられる読出信号が共有されるように単位格子パターンを配置することができる。
【００２９】
また、位相コントラスト画像を構成する所定の画素の画素信号を生成する際、所定の画素の上下に両隣の画素の画素信号を生成する際に用いられる読出信号が共有されるように単位格子パターンを配置することができる。
【００３０】
また、所定の範囲内の複数の単位格子パターンを、格子の像に対してＰ／Ｍずつ平行にシフトして配列することができる。
【００３１】
ただし、Ｐは格子の像のピッチ、Ｍは位相コントラスト画像を構成する１つの画素を生成するために用いられる予め設定された位相情報の数
また、単位格子パターンを矩形で形成することができる。
【００３２】
また、放射線画像検出器を、格子からタルボ干渉距離の位置に配置し、格子のタルボ干渉効果によって形成される周期パターン像に強度変調を与えるものとできる。
【００３３】
また、格子を、放射線を投影像として通過させて周期パターン像を形成する吸収型格子とし、放射線画像検出器を、格子を通過した投影像としての周期パターン像に強度変調を与えるものとできる。
【００３４】
また、放射線画像検出器を、格子から最小のタルボ干渉距離より短い距離に配置することができる。
【００３５】
本発明の放射線画像撮影装置は、格子構造が周期的に配置され、放射線源から射出された放射線を通過させて周期パターン像を形成する格子と、格子によって形成された周期パターン像を透過する第１の電極層と、第１の電極層を透過した周期パターン像の照射を受けて電荷を発生する光導電層と、光導電層において発生した電荷を蓄積する電荷蓄積層と、読取光を透過する線状電極が多数配列された第２の電極層とがこの順に積層され、読取光によって走査されることによって各線状電極に対応する画素毎の画像信号が読み出される放射線画像検出器と、放射線画像検出器において検出された周期パターン像を表す画像信号に基づいて位相コントラスト画像を生成する画像生成部とを備えた放射線画像撮影装置であって、電荷蓄積層が、線状電極の配列ピッチよりも細かいピッチで格子状に形成されたものであり、格子が、画素部に対応する単位で構成された単位格子を複数配列したものであるとともに、位相コントラスト画像を構成する１つの画素に対応する所定の範囲内における複数の単位格子が、他方の格子の延伸方向に直交する方向についてその他方の格子に対して互いに異なる距離だけ平行にシフトして配置されたものであり、画像生成部が、所定の範囲内に配置された各単位格子に対応する画素部から読み出された読出信号に基づいて、位相コントラスト画像を構成する１つの画素の画素信号を生成するものであるとともに、位相コントラスト画像を構成する隣接する画素の画素信号を生成する際に用いる読出信号を隣接する画素で一部共有するものであることを特徴とする。
【００３６】
また、上記本発明の放射線画像撮影装置においては、画像生成部を、１つの画素信号を生成するのに用いる読出信号の数よりも少ない数の画素信号を表示用画素信号として生成するものとできる。
【００３７】
また、所定の範囲内における単位格子を複数列をなして配置することができる。
【００３８】
また、一部共有される読出信号が複数であって、その複数の読出信号が読み出される画素部に対応する複数の単位格子の電荷蓄積層の格子パターンに対する距離が同じとなるように、単位格子を配置することができる。
【００３９】
また、一部共有される読出信号が複数であって、その複数の読出信号が読み出される画素部に対応する複数の単位格子の電荷蓄積層の格子パターンに対する距離が互いに異なるように、単位格子を配置することができる。
【００４０】
また、位相コントラスト画像を構成する所定の画素の画素信号を生成する際、所定の画素の左右に両隣の画素の画素信号を生成する際に用いられる読出信号が共有されるように単位格子を配置することができる。
【００４１】
また、位相コントラスト画像を構成する所定の画素の画素信号を生成する際、所定の画素の上下に両隣の画素の画素信号を生成する際に用いられる読出信号が共有されるように単位格子を配置することができる。
【００４２】
また、所定の範囲内の複数の単位格子の像を、電荷蓄積層の格子パターンに対してＰ／Ｍずつ平行にシフトして配列することができる。
【００４３】
ただし、Ｐは電荷蓄積層の格子パターンのピッチ、Ｍは位相コントラスト画像を構成する１つの画素を生成するために用いられる予め設定された位相情報の数
また、単位格子を矩形で形成することができる。
【００４４】
また、放射線画像検出器を格子からタルボ干渉距離の位置に配置し、格子のタルボ干渉効果によって形成される周期パターン像に強度変調を与えるものとできる。
【００４５】
また、格子を、放射線を投影像として通過させて周期パターン像を形成する吸収型格子とし、放射線画像検出器を、格子を通過した投影像としての周期パターン像に強度変調を与えるものとできる。
【００４６】
また、放射線画像検出器を、格子から最小のタルボ干渉距離より短い距離に配置することができる。
【００４７】
また、電荷蓄積層の格子パターンの配列ピッチＰ２を、下式を満たすように電荷蓄積層を形成することができる。
【００４８】
2012143491.tif 000003
ただし、Ｐ１は単位格子の格子ピッチ、Ｚ１は放射線源の焦点から格子までの距離、Ｚ２は格子から放射線画像検出器の検出面までの距離
また、格子の放射線を遮蔽する部分の延伸方向と平行となるように放射線を遮蔽する放射線遮蔽部材が所定のピッチで複数延設されるとともに、放射線源と格子との間に配置され、放射線源から照射された放射線を領域選択的に遮蔽して多数の点光源とする吸収型格子からなるマルチスリットをさらに設け、マルチスリットの所定のピッチＰ３が、下式を満たす大きさとし、かつ、電荷蓄積層の格子パターンの配列ピッチＰ２が、下式の関係を満たすように電荷蓄積層を形成することができる。
【００４９】
2012143491.tif 000004
2012143491.tif 000005
ただし、Ｚ３はマルチスリットから格子までの距離、Ｚ２は格子から放射線画像検出器の検出面までの距離、Ｐ１は単位格子の格子ピッチ、
また、電荷蓄積層の積層方向の厚さを２μｍ以下とすることができる。
【００５０】
また、電荷蓄積層の誘電率を、光導電層の誘電率の２倍以内かつ１／２倍以上とすることができる。
【００５１】
本発明の放射線画像検出器は、放射線を透過する第１の電極層と、第１の電極層を透過した放射線の照射を受けて電荷を発生する光導電層と、光導電層において発生した電荷を蓄積する電荷蓄積層と、読取光を透過する線状電極が多数配列された第２の電極層とがこの順に積層され、読取光によって走査されることによって各線状電極に対応する画素毎の画像信号が読み出される放射線画像検出器であって、電荷蓄積層が、画素部に対応する単位で構成された単位格子パターンを複数配列したものであるとともに、所定の範囲内における複数の単位格子パターンが、格子の延伸方向に直交する方向について格子に対して互いに異なる距離だけ平行にシフトして配置されたものであり、所定の範囲内に配置された各単位格子パターンに対応する画素部から読み出された読出信号に基づいて位相コントラスト画像を構成する１つの画素の画素信号を生成する際に、位相コントラスト画像を構成する隣接する画素の画素信号を生成するために用いる読出信号が隣接する画素で一部共有されるように単位格子パターンが配置されたものであることを特徴とする。
【発明の効果】
【００５２】
本発明の放射線画像撮影装置によれば、第１の格子および第２の格子のいずれか一方の格子を画素部に対応する単位格子を複数配列したものとし、位相コントラスト画像を構成する１つの画素に対応する所定の範囲内における複数の単位格子を、他方の格子の延伸方向に直交する方向についてその他方の格子に対して互いに異なる距離だけ平行にシフトして配置し、その所定の範囲内に配置された各単位格子に対応する画素部から読み出された読出信号に基づいて、位相コントラスト画像を構成する１つの画素の画素信号を生成するようにしたので、従来のように第２の格子を移動させる高精度な移動機構を必要とすることなく、１回の撮影によって位相コントラスト画像を取得するための複数の縞画像を取得することができる。
【００５３】
そして、さらに位相コントラスト画像を構成する隣接する画素の画素信号を生成する際に用いる読出信号を隣接する画素で一部共有するようにしたので、２つの画素間で一部の位相情報を共有することができるので、位相コントラスト画像の連続性を向上することができ、画質の向上を図ることができる。
【００５４】
また、放射線画像検出器の電荷蓄積層を格子状に形成することによって放射線画像検出器に第２の格子の機能を持たせるようにしてもよく、そのようにした場合、高アスペクト比で形成する必要があり製造が困難な格子を設けなくてもよく、より製造し易いものとなる。
【００５５】
さらに、放射線画像検出器の格子状に形成された電荷蓄積層を、上述した格子と同様に、画素単位の単位格子パターンを複数配列したものとし、位相コントラスト画像を構成する１つの画素に対応する所定の範囲内における複数の単位格子パターンを、上記格子の単位格子と同様に配置するようにした場合には、上述した格子より単位格子パターンを容易に製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】本発明の放射線位相画像撮影装置の第１の実施形態の概略構成図
【図２】図１に示す放射線位相画像撮影装置の上面図
【図３】第１の格子の概略構成図
【図４】第２の格子の概略構成図
【図５】第２の格子の一部断面図
【図６】第１の格子を構成する単位格子の一例を示す図
【図７】各単位格子の自己像と第２の格子との位置関係を示す図
【図８】ＴＦＴ読取方式の放射線画像検出器の概略構成を示す図
【図９】被検体のＸ方向に関する位相シフト分布Φ（ｘ）に応じて屈折される１つの放射線の経路を例示する図
【図１０】位相コントラスト画像を生成する方法を説明するための図
【図１１】表示用画素信号の生成方法を説明するための図
【図１２】複数の単位格子の自己像の配置方法の一例を示す図
【図１３】複数の単位格子の自己像の配置方法の一例を示す図
【図１４】表示用画素信号の生成方法を説明するための図
【図１５】複数の単位格子の自己像の配置方法の一例を示す図
【図１６】複数の単位格子の自己像の配置方法の一例を示す図
【図１７】光読取方式の放射線画像検出器の概略構成を示す図
【図１８】図１７に示す放射線画像検出器の記録の作用を説明するための図
【図１９】図１７に示す放射線画像検出器の読取りの作用を説明するための図
【図２０】吸収画像と小角散乱画像を生成する方法を説明するための図
【図２１】第１および第２の格子を９０°回転させる構成を説明するための図
【図２２】第２の格子の機能を有する放射線画像検出器の一実施形態の概略構成を示す図
【図２３】図２２に示す放射線画像検出器の記録の作用を説明するための図
【図２４】図２２に示す放射線画像検出器の読取りの作用を説明するための図
【図２５】第２の格子の機能を有する放射線画像検出器のその他の実施形態の概略構成を示す図
【図２６】図２５に示す放射線画像検出器の記録の作用を説明するための図
【図２７】図２５に示す放射線画像検出器の読取りの作用を説明するための図
【図２８】第２の格子の機能を有する放射線画像検出器のその他の実施形態の概略構成を示す図
【図２９】本発明の放射線画像検出器の一実施形態における電荷蓄積層のパターンの一例を示す図
【発明を実施するための形態】
【００５７】
以下、図面を参照して本発明の放射線画像撮影装置の第1の実施形態を用いた放射線位相画像撮影装置について説明する。図１に第１の実施形態の放射線位相画像撮影装置の概略構成を示す。図２に図１に示す放射線位相画像撮影装置の上面図（Ｘ−Ｚ断面図）を示す。図２の紙面厚さ方向が図１のＹ方向である。
【００５８】
放射線位相画像撮影装置は、図１に示すように、放射線を被検体１０に向かって照射する放射線源１と、放射線源１から射出された放射線を通過させて第１の周期パターン像を形成する第１の格子２と、第１の格子２により形成された第１の周期パターン像を強度変調して第２の周期パターン像を形成する第２の格子３と、第２の格子３により形成された第２の周期パターン像を検出する放射線画像検出器４と、放射線画像検出器４により検出された第２の周期パターン像に基づいて縞画像を取得し、その取得した縞画像に基づいて位相コントラスト画像を生成する画像生成部５とを備えている。
【００５９】
放射線源１は、被検体１０に向けて放射線を射出するものであり、第１の格子２に放射線を照射したとき、タルボ干渉効果を発生させうるだけの空間的干渉性を有するものである。たとえば、放射線の発光点のサイズが小さいマイクロフォーカスＸ線管やプラズマＸ線源を利用することができる。また、通常の医療現場で用いられるような比較的放射線の発光点（いわゆる焦点サイズ）の大きな放射線源を用いる場合は、所定のピッチを有するマルチスリットを放射線の射出側に設置して使用することができる。この場合の詳細な構成は、たとえば、“Franz Pfeiffer, Timm Weikamp, Oliver Bunk, Christian David, Nature Physics 2, 258-261(01 Apr 2006)Letters, Phase retrieval and differential phase-contrast imaging with low-brilliance X-ray sources”に記されているが、そのスリットのピッチＰ０は以下の式を満たすような大きさとする必要がある。
【数１】
2012143491.tif 000006
【００６０】
なお、Ｐ２は第２の格子３のピッチ、Ｚ１は放射線源１の焦点（マルチスリットを用いる場合はマルチスリットの位置）から第１の格子２までの距離、Ｚ２は第１の格子２から第２の格子３までの距離である（図２参照）。
【００６１】
第１の格子２は、図３に示すように、放射線を主として透過する基板２１と、基板２１上に設けられた格子部材２２とを備えている。そして、格子部材２２は、矩形で形成された複数の単位格子部材２２ａから構成され、この複数の単位格子部材２２ａは、Ｙ方向に配列されるとともに、Ｘ方向について所定のピッチずらされて配列されている。本実施形態においては、Ｘ方向は後述する放射線画像検出器４の画素行方向であり、Ｙ方向は画素列方向である。なお、図３は、各単位格子部材２２ａを模式的に示したものであり、そのＸ方向についてのずらし量は正確ではないものとする。各単位格子部材２２ａのずらし量については後で詳述する。
【００６２】
格子部材２２を構成する単位格子部材２２ａは、いずれも放射線の光軸に直交する面内の一方向（Ｘ方向およびＺ方向に直交するＹ方向）に延伸した矩形の部材である。そして、各単位格子部材２２ａの素材としては、たとえば、金、白金などの金属を用いることができる。また、第１の格子２としては、照射される放射線に対して約９０°または約１８０°の位相変調を与える、いわゆる位相変調型格子であることが望ましく、たとえば、単位格子部材２２ａを金とした場合、通常の医療診断用のＸ線エネルギー領域において必要なＺ方向についての厚さは１μｍ〜数μｍ程度になる。また、振幅変調型格子を用いることもできる。この場合、単位格子部材２２ａは放射線を十分に吸収する厚さが必要である。たとえば、単位格子部材２２ａを金とした場合、通常の医療診断用のＸ線エネルギー領域において必要な厚さは１０μｍ〜数１０μｍ程度になる。
【００６３】
第２の格子３は、図４に示すように、第１の格子２と同様に、放射線を主として透過する基板３１と、基板３１に設けられた複数の格子部材３２とを備えている。複数の格子部材３２は放射線を遮蔽するものであり、いずれも放射線の光軸に直交する面内の一方向（Ｘ方向およびＺ方向に直交するＹ方向）に延伸した線状の部材である。
【００６４】
図５は、図４に示す第２の格子３の５−５線断面図である。複数の格子部材３２は、図５に示すように、Ｘ方向に一定の周期Ｐ２で、互いに所定の間隔ｄ２を空けて配列されている。複数の格子部材３２の素材としては、たとえば、金、白金などの金属を用いることができる。第２の格子３は、振幅変調型格子であることが望ましい。このとき、格子部材３２は放射線を十分に吸収する厚さが必要である。たとえば、格子部材３２を金とした場合、通常の医療診断用のＸ線エネルギー領域において必要な厚さは１０μｍ〜数１０μｍ程度になる。
【００６５】
ここで、本実施形態においては、放射線画像検出器４によって検出された第２の周期パターン像に基づいて互いに異なる複数の位相情報を取得し、その複数の位相情報に基づいて位相コントラスト画像を生成するが、ここでは第２の周期パターン像に基づいて５つの位相情報を生成し、その５つの位相情報に基づいて位相コントラスト画像を生成するものとする。
【００６６】
そして、このように５つの位相情報を生成するための第１の格子２の詳細な構成について、以下に説明する。図６は、第１の格子２の一部を示したものである。
【００６７】
本実施形態の第１の格子２は、上述した単位格子部材２２ａから構成された５種類の単位格子ＵＧ１_１〜ＵＧ５_２を備えている。そして、この５種類の単位格子ＵＧ１_１〜ＵＧ５_２は互いに異なる位相情報を有するものであり、位相コントラスト画像を構成する１つの画素の画素信号を生成するために各種類の単位格子がそれぞれ２つ用いられる。
【００６８】
図６は、位相コントラスト画像の２つの画素の画素信号を生成するために用いられる単位格子を示したものである。そして、図６の上側の実線太線で囲まれる範囲が２つの画素信号のうちの一方の画素信号（以下、第１画素信号という）を生成するために用いられる１０個の単位格子ＵＧ１_１〜ＵＧ５_２であり、図６の下側の点線で囲まれる範囲が２つの画素信号のうちの他方の画素信号（以下、第２画素信号という）を生成するために用いられる１０個の単位格子ＵＧ１_１〜ＵＧ５_２である。
【００６９】
すなわち、本実施形態の第１の格子２は、第１画素信号を生成するために用いられる単位格子と第２画素信号を生成するために用いられる単位格子との一部が重複するように構成されている。具体的には単位格子ＵＧ５_１，ＵＧ５_２を共有するように構成されている。
【００７０】
次に、５種類の単位格子ＵＧ１_１〜ＵＧ５_２について説明する。図７は、放射線が５種類の単位格子ＵＧ１_１〜ＵＧ５_２を透過して第２の格子３の位置に形成された自己像と、第２の格子３の各格子部材３２との位置関係を示している。
【００７１】
図７に示す自己像Ｇ１_１が単位格子ＵＧ１_１によって形成された自己像であり、自己像Ｇ１_２が単位格子ＵＧ１_２によって形成された自己像であり、自己像Ｇ２_１が単位格子ＵＧ２_１によって形成された自己像であり、自己像Ｇ２_２が単位格子ＵＧ２_２によって形成された自己像であり、自己像Ｇ３_１が単位格子ＵＧ３_１によって形成された自己像であり、自己像Ｇ３_２が単位格子ＵＧ３_２によって形成された自己像であり、自己像Ｇ４_１が単位格子ＵＧ４_１によって形成された自己像であり、自己像Ｇ４_２が単位格子ＵＧ４_２によって形成された自己像であり、自己像Ｇ５_１が単位格子ＵＧ５_１によって形成された自己像であり、自己像Ｇ５_２が単位格子ＵＧ５_２によって形成された自己像である。
【００７２】
図７に示すように、５種類の自己像Ｇ１_１〜Ｇ５_２は、それぞれ第２の格子３の格子部材３２からＸ方向について互いに異なる距離で配置されている。具体的には、自己像Ｇ１_１，Ｇ１_２は、第２の格子３の格子部材３２からの距離をゼロとして配置され、自己像Ｇ２_１，Ｇ２_２は格子部材３２からの距離をＰ２/５として配置され、自己像Ｇ３_１，Ｇ３_２は格子部材３２からの距離を（２×Ｐ２）/５として配置され、自己像Ｇ４_１，Ｇ４_２は格子部材３２からの距離を（３×Ｐ２）/５として配置され、自己像Ｇ５_１，Ｇ５_２は格子部材３２からの距離を（４×Ｐ２）/５として配置されている。なお、Ｐ２は、第２の格子３の格子部材３２の配列方向（Ｘ方向）の周期である。
【００７３】
そして、自己像Ｇ５_１と自己像Ｇ５_２とが上下に隣接して配置されており、この自己像５が第１および第２画素信号を生成するために共有される。
【００７４】
第１の格子２の各単位格子ＵＧ１_１〜ＵＧ５_２は、上述したような自己像Ｇ１_１〜Ｇ５_２を形成するようなパターンで形成されており、具体的には、図６に示すように各単位格子について、Ｐ１のピッチで、かつ単位格子間で互いに位相が異なるように多数の単位格子部材２２ａがＸ方向に配列されている。なお、図６においては、図面を見やすくするために数本の単位格子部材２２ａのみ示しているが、実際は多数の単位格子部材２２ａが配列されているものとする。
【００７５】
そして、図７に示すように配置された５種類の自己像Ｇ１_１〜Ｇ５_２を放射線画像検出器４の後述する各画素回路４０によってそれぞれ検出することによって５つの位相情報の画素信号をそれぞれ検出することができる。
【００７６】
なお、上記説明では、位相コントラスト画像の２つの画素の画素信号を生成するために用いられる単位格子ＵＧ１_１〜ＵＧ５_２とその自己像Ｇ１_１〜Ｇ５_２との配置について説明したが、実際には、この単位格子ＵＧ１_１〜ＵＧ５_２とその自己像Ｇ１_１〜Ｇ５_２との配置がＸ方向およびＹ方向について多数繰り返される。
【００７７】
ここで、放射線源１から照射される放射線が、平行ビームではなく、コーンビームである場合には、第１の格子２を通過して形成される第１の格子２の自己像は、放射線源１からの距離に比例して拡大される。したがって、図２に示すように、放射線源１の焦点から第１の格子２までの距離をＺ１、第１の格子２から第２の格子３までの距離をＺ２とした場合、図６に示す第１の格子２の各単位格子ＵＧ１_１〜ＵＧ５_２のピッチＰ１および間隔ｄ１と、図５および図７に示す第２の格子ピッチＰ２および間隔ｄ２は、次式（２）および次式（３）の関係を満たすように決定される。
【数２】
2012143491.tif 000007
【数３】
2012143491.tif 000008
【００７８】
なお、放射線源１から照射される放射線が平行ビームである場合には、Ｐ２＝Ｐ１，ｄ２＝ｄ１を満たすように決定される。
【００７９】
そして、上述したような放射線源１、第１の格子２、第２の格子３および放射線画像検出器４によって位相コントラスト画像を取得可能な放射線位相画像撮影装置が構成されるが、本構成をタルボ干渉計として機能させるためには、さらにいくつかの条件をほぼ満たさねばならない。その条件について以下に説明する。
【００８０】
まず、第１の格子２と第２の格子３とのグリッド面が、図１に示すＸ−Ｙ平面に平行であることが必要である。
【００８１】
そして、さらに、第１の格子２と第２の格子３との距離Ｚ２は、第１の格子２が９０°の位相変調を与える位相変調型格子である場合、次の条件をほぼ満たさなければならない。
【数４】
2012143491.tif 000009
【００８２】
ただし、λは放射線の波長（通常はピーク波長）、ｍは０か正の整数、Ｐ１は上述した第１の格子２の単位格子部材２２ａのＸ方向のピッチ、Ｐ２は上述した第２の格子３の格子ピッチである。
【００８３】
また、第１の格子２が１８０°の位相変調を与える位相変調型格子である場合には、次の条件をほぼ満たさなければならない。
【数５】
2012143491.tif 000010
【００８４】
ただし、λは放射線の波長（通常はピーク波長）、ｍは０か正の整数、Ｐ１は上述した第１の格子２の単位格子部材２２ａのＸ方向のピッチ、Ｐ２は上述した第２の格子３の格子ピッチである。
【００８５】
さらに、第１の格子２が振幅変調型格子である場合には、次の条件をほぼ満たさなければならない。
【数６】
2012143491.tif 000011
【００８６】
ただし、λは放射線の波長（通常はピーク波長）、ｍは正の整数、Ｐ１は上述した第１の格子２の単位格子部材２２ａのＸ方向のピッチ、Ｐ２は上述した第２の格子３の格子ピッチである。
【００８７】
なお、上式（４），（５），（６）は、放射線源１により照射される放射線がコーンビームである場合であり、放射線が平行ビームである場合には、上式（４）に代えて下式（７）、上式（５）に代えて下式（８）、上式（６）に代えて下式（９）となる。
【数７】
2012143491.tif 000012
【数８】
2012143491.tif 000013
【数９】
2012143491.tif 000014
【００８８】
放射線画像検出器４は、第１の格子２に入射した放射線が形成する第１の格子２の各単位格子ＵＧ１_１〜ＵＧ５_２の自己像Ｇ１_１〜Ｇ５_２が第２の格子３によって強度変調された像を画像信号として検出するものである。このような放射線画像検出器４として、本実施形態においては、図８に示すような、ＴＦＴ（thin film transistor）スイッチ４１を備えた画素回路４０が２次元上に多数配列された、いわゆるＴＦＴ読取方式の放射線画像検出器を用いる。
【００８９】
放射線画像検出器４は、各画素回路４０のＴＦＴスイッチ４１をオンオフするための走査信号が出力される多数のゲート走査線４３と、各画素回路４０からＴＦＴスイッチ４１を介して読み出された画素信号が出力される多数のデータ線４４とが直交して設けられている。そして、ゲート走査線４３は画素回路行毎に設けられており、データ線４４は画素回路列毎に設けられている。
【００９０】
多数のゲート走査線４３には各画素回路４０のＴＦＴスイッチ４１をオンオフするための走査信号を出力する走査駆動回路４５が接続されており、多数のデータ線４４には信号検出部４６が接続されている。信号検出部４６はデータ線４４に出力された画素信号を検出して画像生成部５に出力するものである。
【００９１】
そして、上述したように、図７に示す１８個の単位格子ＵＧ１_１〜ＵＧ５_２の自己像Ｇ１_１〜Ｇ５_２が、図８において点線四角で示す９つの画素回路４０によってそれぞれ検出されるように配置されている。すなわち、図７の実線太線内の１０個の自己像Ｇ１_１〜Ｇ５_２に対応する図８に示す上側の１０個の画素回路４０によってそれぞれ検出された画素信号に基づいて、位相コントラスト画像の１つの画素の第１画素信号が生成され、図７の点線内の１０個の自己像Ｇ１_１〜Ｇ５_２に対応する図８に示す下側の１０個の画素回路４０によってそれぞれ検出された画素信号に基づいて、位相コントラスト画像のもう一つの画素の第２画素信号が生成される。なお、図８においては、位相コントラスト画像の２つの画素に対応する１８個の画素回路４０の組を１つだけ点線四角で示しているが、この組がＸ方向およびＹ方向に繰り返されるものとする。
【００９２】
画素回路４０は、それぞれ光電変換素子と、光電変換素子によって変換された電荷を蓄積する蓄電部と、蓄電部に蓄積された電荷信号を読み出すために用いられるＴＦＴスイッチ４１とを備えている。なお、図８においては図示省略したが、図８に示す画素回路４０上には、放射線の照射を可視光に変換する波長変換層が設けられており、上述した光電変換素子は、この波長変換層から発せられた光を光電変換して電荷を発生するものである。
【００９３】
画像生成部５は、放射線画像検出器４の１０個の画素回路４０によってそれぞれ検出された５つの位相情報の画素信号に基づいて、位相コントラスト画像を構成する１つの画素の画素信号を生成するものである。位相コントラスト画像の生成方法については、後で詳述する。
【００９４】
次に、本実施形態の放射線位相画像撮影装置の作用について説明する。
【００９５】
まず、図１に示すように、放射線源１と第１の格子２との間に、被検体１０が配置された後、放射線源１から放射線が射出される。そして、その放射線は被検体１０を透過した後、第１の格子２に照射される。第１の格子２に照射された放射線は、第１の格子２で回折されることにより、第１の格子２から放射線の光軸方向において所定の距離において、タルボ干渉像を形成する。
【００９６】
これをタルボ効果と呼び、光波が第１の格子２を通過したとき、第１の格子２から所定の距離において、第１の格子２の自己像を形成する。たとえば、第１の格子２が、９０°の位相変調を与える位相変調型格子の場合、上式（４）または上式（７）（１８０°の位相変調型格子の場合は上式（５）または上式（８）、強度変調型格子の場合は上式（６）または上式（９））で与えられる距離において第１の格子２の自己像を形成する一方、被検体１０によって、第１の格子２に入射する放射線の波面は歪むため、第１の格子２の自己像はそれに従って変形している。すなわち、上述した第１の格子２の各単位格子ＵＧ１_１〜ＵＧ５_２の自己像Ｇ１_１〜Ｇ５_２が被検体１０によって変形する。
【００９７】
続いて、各単位格子ＵＧ１_１〜ＵＧ５_２の自己像Ｇ１_１〜Ｇ５_２が第２の格子３を通過する。その結果、上記の変形した第１の格子２の各単位格子ＵＧ１_１〜ＵＧ５_２の自己像Ｇ１_１〜Ｇ５_２は第２の格子３との重ね合わせにより、強度変調を受け、上記波面の歪みを反映した画像信号として放射線画像検出器４により検出される。
【００９８】
ここで、放射線画像検出器４における画像検出と読出しの作用について説明する。
【００９９】
上記のようにして第２の格子３による強度変調によって変形した第１の格子２の各単位格子ＵＧ１_１〜ＵＧ５_２の自己像Ｇ１_１〜Ｇ５_２は、その自己像に対応する放射線画像検出器４の各画素回路４０によってそれぞれ検出され、各画素回路の光電変換素子によって光電変換された後、その電荷が蓄電部に蓄積される。
【０１００】
次に、走査駆動回路４５からＹ方向に配列されたゲート走査線４３に走査信号が順次出力され、画素回路行がＹ方向に順次走査されて各画素回路からその対応する自己像に応じた画素信号が読み出され、信号検出部４６によって検出された後、画像生成部５に出力される。なお、各画素回路４０から読み出された画素信号と位相コントラスト画像の１つの画素の画素信号とを区別するため、以下、各画素回路４０から読み出された画素信号については読出信号という。
【０１０１】
そして、画像生成部５は、１０個の画素回路４０から読み出された読出信号に基づいて位相コントラスト画像の１つの画素の画素信号を生成する。
【０１０２】
次に、画像生成部５において位相コントラスト画像を生成する方法について説明するが、まず、本実施形態における位相コントラスト画像の生成方法の原理について説明する。
【０１０３】
図９は、被検体１０のＸ方向に関する位相シフト分布Φ（ｘ）に応じて屈折される１つの放射線の経路を例示している。符号Ｘ１は、被検体１０が存在しない場合に直進する放射線の経路を示しており、この経路Ｘ１を進む放射線は、第１および第２の格子２，３を通過して放射線画像検出器４に入射する。符号Ｘ２は、被検体１０が存在する場合に、被検体１０により屈折されて偏向した放射線の経路を示している。この経路Ｘ２を進む放射線は、第１の格子２を通過した後、第２の格子３により遮蔽される。
【０１０４】
被検体１０の位相シフト分布Φ（ｘ）は、被検体１０の屈折率分布をｎ（ｘ，ｚ）、放射線の進む方向をｚとして、次式（１０）で表される。ここで、説明の簡略化のため、ｙ座標は省略している。
【数１０】
2012143491.tif 000015
【０１０５】
第１の格子２から第３の格子３の位置に形成された自己像は、被検体１０での放射線の屈折により、その屈折角ψに応じた量だけｘ方向に変位する。この変位量Δｘは、放射線の屈折角ψが微小であることに基づいて、近似的に次式（１１）で表される。
【数１１】
2012143491.tif 000016
【０１０６】
ここで、屈折角ψは、放射線の波長λと被検体１０の位相シフト分布Φ（ｘ）を用いて、次式（１２）で表される。
【数１２】
2012143491.tif 000017
【０１０７】
このように、被検体１０での放射線の屈折による自己像Ｇ１の変位量Δｘは、被検体１０の位相シフト分布Φ（ｘ）に関連している。そして、この変位量Δｘは、放射線画像検出器４で検出される各画素の強度変調信号の位相ズレ量Ψ（被検体１０がある場合とない場合とでの各画素の強度変調信号の位相ズレ量）に、次式（１３）のように関連している。
【数１３】
2012143491.tif 000018
【０１０８】
したがって、各画素の強度変調信号の位相ズレ量Ψを求めることにより、上式（１３）から屈折角ψが求まり、上式（１２）を用いて位相シフト分布Φ（ｘ）の微分量が求まる。この微分量をｘについて積分することにより、被検体１０の位相シフト分布Φ（ｘ）、すなわち被検体１０の位相コントラスト画像を生成することができる。
【０１０９】
本実施形態においては、位相コントラスト画像の各画素について、５種類の読出信号がそれぞれ２つずつ取得されている。以下に、この１０個の読出信号から位相コントラスト画像の各画素の強度変調信号の位相ズレ量Ψを算出する方法を説明する。なお、ここでは５種類の読出信号に限定せず、Ｍ種類の読出信号に基づいて位相ズレ量Ψを算出する方法を説明する。
【０１１０】
まず、Ｍ種類の縞画像信号を取得するには、第２の格子３の格子部材３２に対するＸ方向についての距離が互いに異なるＭ種類の単位格子の自己像を形成する必要があるが、このＭ種類の各単位格子の格子部材３２に対する位置をｋ＝０〜Ｍ−１とすると、第ｋ位置における放射線画像検出器４の各画素回路４０の読出信号Ｉｋ（ｘ）は、次式（１４）で表される。
【数１４】
2012143491.tif 000019
【０１１１】
ここで、ｘは、画素回路のｘ方向に関する座標であり、Ａ０は入射放射線の強度であり、Ａｎは強度変調信号のコントラストに対応する値である（ここで、ｎは正の整数である）。また、ψ（ｘ）は、上記屈折角ψを放射線画像検出器４の画素回路の座標ｘの関数として表したものである。
【０１１２】
次いで、次式（１５）の関係式を用いると、上記屈折角ψ（ｘ）は、式（１６）のように表される。
【数１５】
2012143491.tif 000020
【数１６】
2012143491.tif 000021
【０１１３】
ここで、ａｒｇ[]は、偏角の抽出を意味しており、位相コントラスト画像の各画素の位相ズレ量Ψに対応する。したがって、位相コントラスト画像の各画素について取得されたＭ種類の読出信号から、式（１６）に基づいて位相コントラスト画像の各画素の強度変調信号の位相ズレ量Ψを算出することにより、屈折角ψ（ｘ）が求められる。
【０１１４】
位相コントラスト画像の各画素を構成するＭ個の画素回路４０についてそれぞれ取得されたＭ個の読出信号は、図１０に示すように、Ｍ種類の各単位格子の格子部材３２に対する位置ｋに対して、第２の格子３の格子部材３２のピッチＰ２の周期で周期的に変化する。したがって、このＭ個の読出信号列を、たとえば正弦波でフィッティングし、被検体があるときと被検体なしのときのフィッティングカーブの位相ズレ量Ψを取得し、上式（１２）、（１３）により位相シフト分布Φ（ｘ）の微分量を算出し、この微分量をｘについて積分することにより被検体１０の位相シフト分布Φ（ｘ）、すなわち被検体１０の位相コントラスト画像を生成する。
【０１１５】
より具体的には、上述した屈折角ψ（ｘ）を表す式（１６）は、下式（１７）で表すことができる。
【数１７】
2012143491.tif 000022
【０１１６】
ここで、δｋは、下式（１８）で表すことができるので、本実施形態のようにｋ＝５とし、図７に示す自己像Ｇ１_１に対応する読出信号をＩ１Ａ、自己像Ｇ１_２に対応する読出信号をＩ１Ｂ、自己像Ｇ２_１に対応する読出信号をＩ２Ａ、自己像Ｇ２_２に対応する読出信号をＩ２Ｂ、自己像Ｇ３_１に対応する読出信号をＩ３Ａ、自己像Ｇ３_２に対応する読出信号をＩ３Ｂ、自己像Ｇ４_１に対応する読出信号をＩ４Ａ、自己像Ｇ４_２に対応する読出信号をＩ４Ｂ、自己像Ｇ５_１に対応する読出信号をＩ５Ａ、自己像Ｇ５_２に対応するＩ５Ｂとすると、上式（１７）の括弧内は、下式（１９）のように算出することができ、これにより屈折角ψ（ｘ）を算出することができる。
【数１８】
2012143491.tif 000023
【数１９】
2012143491.tif 000024
【０１１７】
なお、上記のようにして位相コントラスト画像を生成する際、各画素回路４０によって検出される読出信号がどの自己像に対応するものであるか、すなわち、その読出信号に対応する単位格子の格子部材３２に対する位置ｋの情報が必要となるが、この対応関係については各画素回路４０について予め設定しておくようにすればよい。
【０１１８】
もしくは、このような対応関係を予め設定しておくのではなく、位相コントラスト画像の１つの画素を構成する複数の画素回路４０の範囲を予め設定しておき、その範囲内の画素回路４０によって検出された読出信号のうちの最大値と最小値を求め、この最大値と最小値とを上述したフィッティングカーブの最大値と最小値とに設定するとともに、それ以外の読出信号を上記フィッティングカーブの最大値と最小値との間の値に設定することによって位相コントラスト画像を生成するようにしてもよい。
【０１１９】
そして、画像生成部５は、上述したようにして生成された位相コントラスト画像の画素信号を用いてモニタなどの表示部において位相コントラスト画像を表示するための表示用画素信号を生成する。具体的には、上述したとおり、本実施形態においては、位相コントラスト画像の１つの画素の画素信号を取得するために１０個の自己像に応じた読出信号を用いるようにしたが、表示用画素信号については、読出信号と同じ数の１０個生成するのではなく、９個の表示画素信号を生成する。すなわち、図７の実線太線内の１０個の自己像Ｇ１_１〜Ｇ５_２に対応する読出信号に基づいて第１画素信号が生成され、この第１画素信号に基づいて９個の表示用画素信号Ｓ１が生成される。また、図７の点線内の１０個の自己像Ｇ１_１〜Ｇ５_２に対応する読出信号に基づいて第２画素信号Ｓ２が生成され、この第２画素信号に基づいて９個の表示用画素信号Ｓ２が生成される。このようにすることで、画素形状が略点対称になり画像の均等性（なめらかさ、見えやすさ）を高めることができ、さらに各単位画素の面積を同じにすることでS/Nのレベルを均一にでき（S/Nは面積の1/2乗に比例）、隣接する画素の情報を一部含むことで画像の連続性を高められることができるという効果がある。
【０１２０】
そして、図１１に示すように９個の表示用画素信号Ｓ１が３行×３列に配置されて１つの表示画素Ｊが構成され、９個の表示用画素信号Ｓ２が３行×３列に配置されて１つの表示画素Ｋが構成される。
【０１２１】
また、上記説明では、位相コントラスト画像の画素のｙ方向に関するｙ座標を考慮していないが、各ｙ座標についても同様の演算を行うことにより、屈折角の２次元分布ψ（ｘ，ｙ）が得られ、これをｘ軸に沿って積分することにより、２次元的な位相シフト分布Φ（ｘ，ｙ）を得ることができる。
【０１２２】
また、屈折角の２次元分布ψ（ｘ，ｙ）に代えて、位相ズレ量の２次元分布Ψ（ｘ，ｙ）をｘ軸に沿って積分することにより位相コントラスト画像を生成するようにしてもよい。
【０１２３】
屈折角の２次元分布ψ（ｘ，ｙ）や位相ズレ量Ψ（ｘ，ｙ）は、位相シフト分布Φ（ｘ，ｙ）の微分値に対応するものであるため位相微分像と呼ばれるが、この位相微分像を位相コントラスト画像として生成するようにしてもよい。
【０１２４】
また、上記実施形態においては、位相コントラスト画像の第１および第２画素信号を生成する際、図７に示すように同じ位相情報を有する自己像Ｇ５_１と自己像Ｇ５_２とを共有するようにしたが、必ずしも同じ位相情報を有する自己像を共有させるようにする必要はなく、たとえば、図１２に示すように、自己像Ｇ１_１〜Ｇ５_２を配置することによって、互いに異なる位相情報を有する自己像Ｇ４_２と自己像Ｇ５_２とを共有するとともに（図１２の左側の２つの画素）、互いに異なる位相情報を有する自己像Ｇ２_２と自己像Ｇ２_２とを共有する（図１２の右側の２つの画素）ようにしてもよい。この場合においても、位相コントラスト画像の画素信号の演算方法や表示用画素信号の演算方法は上記と同様である。
【０１２５】
また、上記実施形態においては、位相コントラスト画像の１つの画素の画素信号を生成するために、５種類の位相情報の自己像をそれぞれ２つずつ用いるようにしたが、これに限らず、５種類の位相情報の自己像を１つずつ用いて上記画素信号を生成するようにしてもよい。
【０１２６】
その場合には、たとえば、図１３に示すように自己像Ｇ１〜Ｇ５が形成されるように単位格子を配置するようにすればよい。なお、自己像Ｇ１は、上述した自己像Ｇ１_１，Ｇ１_２と同じ位相情報を有するものであり、自己像Ｇ２は、上述した自己像Ｇ２_１，Ｇ２_２と同じ位相情報を有するものであり、自己像Ｇ３は、上述した自己像Ｇ３_１，Ｇ３_２と同じ位相情報を有するものであり、自己像Ｇ４は、上述した自己像Ｇ４_１，Ｇ４_２と同じ位相情報を有するものであり、自己像Ｇ５は、上述した自己像Ｇ５_１，Ｇ５_２と同じ位相情報を有するものである。
【０１２７】
そして、図１３に示す実線太線内の５つの自己像Ｇ１〜Ｇ５に応じた読出信号に基づいて位相コントラスト画像の１つの画素の第１画素信号を生成するとともに、図１３に示す点線内の５つの自己像Ｇ１〜Ｇ５に応じた読出信号に基づいて位相コントラスト画像のもう一つの画素の第２画素信号を生成することによって、自己像Ｇ３に応じた読出信号を共有するようにしてもよい。なお、５つの自己像Ｇ１〜Ｇ５に応じた読出信号に基づいて画素信号を算出する方法としては、上式（１９）において、自己像Ｇ１に応じた読出信号をＩ１ＡとＩ１Ｂとの両方に代入し、自己像Ｇ２に応じた読出信号をＩ２ＡとＩ２Ｂとの両方に代入し、自己像Ｇ３に応じた読出信号をＩ３ＡとＩ３Ｂとの両方に代入し、自己像Ｇ４に応じた読出信号をＩ４ＡとＩ４Ｂとの両方に代入し、自己像Ｇ５に応じた読出信号をＩ５ＡとＩ５Ｂとの両方に代入するようにすればよい。
【０１２８】
そして、画像生成部５において表示用画素信号を生成する際には、位相コントラスト画像の１つの画素信号を生成するのに用いた読出信号と同じ数の５個生成するのではなく、４個の表示画素信号を生成するようにすればよい。すなわち、図１３の実線太線内の５個の自己像Ｇ１〜Ｇ５に対応する読出信号に基づいて第１画素信号を生成し、この第１画素信号に基づいて４個の表示用画素信号Ｓ１を生成する。また、図１３の点線内の５個の自己像Ｇ１〜Ｇ５に対応する読出信号に基づいて第２画素信号Ｓ２を生成し、この第２画素信号に基づいて４個の表示用画素信号Ｓ２を生成する。
【０１２９】
そして、図１４に示すように４個の表示用画素信号Ｓ１を２行×２列に配置して１つの表示画素Ｊを構成し、４個の表示用画素信号Ｓ２を２行×２列に配置して１つの表示画素Ｋを構成するようにしてもよい。
【０１３０】
また、位相コントラスト画像の隣接する画素の画素信号を生成する際に、一部の自己像に応じた読出信号を隣接する画素信号で共有する方法としては、上記の場合に限らず、たとえば、図１５に示すように自己像Ｇ１_１〜Ｇ５が形成されるように単位格子を配置し、所定の画素Ｗの画素信号を生成する際に、その画素Ｗの左右の両隣に隣接する画素Ｖと画素Ｘの画素信号を生成する際に用いる読出信号を用いるようにしてもよい。すなわち、画素Ｖ、画素Ｗおよび画素Ｘのそれぞれの画素信号を生成する際、自己像Ｇ３_１，自己像Ｇ４_２および自己像１_２に応じた読出信号を画素Ｖと画素Ｗとで共有し、自己像Ｇ２_１，自己像Ｇ５および自己像２_２に応じた読出信号を画素Ｗと画素Ｘで共有するようにしてもよい。また、図１５に示す自己像の配置の場合、画素Ｘおよび画素Ｙのそれぞれの画素信号を生成する際、自己像Ｇ１_１，自己像Ｇ４_１および自己像３_２に応じた読出信号が画素Ｖと画素Ｗとで共有される。
【０１３１】
なお、９つの自己像Ｇ１_１〜Ｇ５に応じた読出信号に基づいて画素信号を算出する場合、自己像Ｇ５の位相情報の読出信号が１つしかないが、この場合、上式（１９）において、自己像Ｇ５に応じた読出信号をＩ５ＡまたはＩ５Ｂのどちらかに代入するようにすればよい。
【０１３２】
また、図１５に示す自己像の配置方法では、所定の画素と、その画素の左右方向に隣接する画素とで一部の自己像の読出信号を共有するようにしたが、これに限らず、たとえば、図１６に示すように、所定の画素と、その画素の上下方向と左右方向に隣接する画素とで一部の自己像の読出信号を共有するようにしてもよい。
【０１３３】
具体的には、画素Ｖ、画素Ｗ、画素Ｘ、画素Ｓおよび画素Ｔのそれぞれの画素信号を生成する際、自己像Ｇ４_２および自己像Ｇ１_２に応じた読出信号を画素Ｗと画素Ｖとで共有し、自己像Ｇ３_１に応じた読出信号を画素Ｗと画素Ｓとで共有し、自己像Ｇ５および自己像Ｇ２_２に応じた読出信号を画素Ｗと画素Ｘとで共有し、自己像Ｇ２_１に応じた読出信号を画素Ｗと画素Ｔとで共有する。
【０１３４】
また、図１５に示す自己像の配置の場合、画素Ｘ、画素Ｙおよび画素Ｔのそれぞれの画素信号を生成する際、自己像Ｇ４_１および自己像３_２に応じた読出信号が画素Ｘと画素Ｙとで共有され、自己像１_１に応じた読出信号が画素Ｙと画素Ｔとで共有される。
【０１３５】
次に、本発明の放射線画像撮影装置の第２の実施形態を用いた放射線位相画像撮影装置について説明する。上記第１の実施形態の放射線位相画像撮影装置は、第１の格子２から第２の格子３までの距離Ｚ２がタルボ干渉距離となるように、上式（４）〜上式（９）を満たすようにしたが、第２の実施形態の放射線位相画像撮影装置は、第１の格子２が入射放射線を回折せずに投影させる構成としたものである。これにより第１の格子２を通過して射影される投影像が、第１の格子２の後方の全ての位置で相似的に得られるため、第１の格子２から第２の格子３までの距離Ｚ２を、タルボ干渉距離を無関係に設定することができる。
【０１３６】
具体的には、第２の実施形態の放射線位相画像撮影装置においては、第１の格子２と第２の格子３とが、ともに吸収型（振幅変調型）格子として構成されるとともに、タルボ干渉効果の有無に関わらず、スリット部を通過した放射線を幾何学的に投影するように構成されている。より詳細には、第１の格子２の間隔ｄ１と第２の格子３の間隔ｄ２とを、放射線源１から照射される放射線のピーク波長より十分大きな値とすることで、照射放射線に含まれる大部分をスリット部で回折せずに、直進性を保ったまま通過するように構成する。たとえば、放射線源のターゲットとしてタングステンを用い、管電圧を５０ｋＶとした場合には、放射線のピーク波長は約０．４Åである。この場合には、第１の格子２の間隔ｄ１と第２の格子３の間隔ｄ２を、１μｍ〜１０μｍ程度とすればスリット部で大部分の放射線が回折されずに幾何学的に投影される。
【０１３７】
なお、第１の格子２の格子ピッチＰ１と第２の格子３の格子ピッチＰ２との関係と、第１の格子２の間隔ｄ１と第２の格子３の間隔ｄ２との関係とについては、上記第１の実施形態と同様である。また、第２の格子３に対する第１の格子２を構成する単位格子部材２２ａの配置についても、上記第１の実施形態と同様である。
【０１３８】
そして、第２の実施形態においては、第１の格子２と第２の格子３との距離Ｚ２を、上式（６）においてｍ＝１とした場合の最小のタルボ干渉距離より短い値に設定することができる。すなわち、上記距離Ｚ２が、次式（２０）を満たす範囲の値に設定する。
【数２０】
2012143491.tif 000025
【０１３９】
なお、第１の格子２の単位格子部材２２ａと第２の格子３の格子部材３２とは、コントラストの高い周期パターン像を生成するためには、放射線を完全に遮蔽（吸収）することが好ましいが、上述した放射線吸収に優れる材料（金、白金等）を用いたとしても、吸収されずに透過する放射線が少なからず存在する。このため、放射線の遮蔽性を高めるためには、単位格子部材２２ａおよび格子部材３２のそれぞれの厚みを、可能な限り厚くすることが好ましい。単位格子部材２２ａおよび格子部材３２による遮蔽は、照射放射線の９０％以上であることが好ましく、たとえば、放射線源１の管電圧が５０ｋＶの場合には、厚みは、金（Ａｕ）換算で３０μｍ以上であることが好ましい。
【０１４０】
そして、第２の実施形態の放射線位相画像撮影装置においても、図１に示すように、放射線源１と第１の格子２との間に、被検体１０が配置された後、放射線源１から放射線が射出される。そして、その放射線は被検体１０を透過した後、第１の格子２に照射される。
【０１４１】
そして、第１の格子２を通過して射影された投影像が第２の格子３を通過し、その結果、上記投影像は、第２の格子３との重ね合わせにより強度変調を受け、画像信号として放射線画像検出器４により検出される。
【０１４２】
そして、放射線画像検出器４により検出された画像信号は、上記第１の実施形態と同様にして読み出され、複数の自己像に応じた読出信号が画像生成部５において取得された後、画像生成部５は、その複数の読出信号に基づいて、上記第１の実施形態と同様にして、位相コントラスト画像を生成する。
【０１４３】
第２の実施形態の放射線位相画像撮影装置によれば、第１の格子２と第２の格子３との距離Ｚ２をタルボ干渉距離よりも短くすることができるので、一定のタルボ干渉距離を確保しなければならない第１の実施形態の放射線位相画像撮影装置と比較すると、撮影装置をより薄型化することができる。
【０１４４】
また、上記第１の実施形態および第２の実施形態においては、放射線源１から放射線画像検出器４までの距離を、一般的な病院の撮影室で設定されるような距離（１ｍ〜２ｍ）とした場合に、放射線源１の焦点サイズが、たとえば、一般的な０．１ｍｍ〜１ｍｍ程度である場合には、第１の格子２のタルボ干渉効果による自己像や第１の格子２の投影像にボケが生じ、位相コントラスト画像の画質の低下をもたらす恐れがある。
【０１４５】
そこで、放射線源１として上述したような焦点サイズのものを用いる場合には、放射線源１の焦点の直後にピンホールを設置して実効的に焦点サイズを小さくすることが考えられるが、実効的な焦点サイズを縮小するためにピンホールの開口面積を小さくすると放射線強度が低下してしまう。
【０１４６】
したがって、上述したようなピンホールを設けるのではなく、放射線源１の焦点の直後にマルチスリットを配置するようにしてもよい。
【０１４７】
この場合、マルチスリットは、第２の実施形態の第１および第２の格子２，３と同様な構成の吸収型格子であり、Ｙ方向に延伸した複数の放射線遮蔽部が、第１の格子２の単位格子部材２２ａと第２の格子３の格子部材３２と同一方向（Ｘ方向）に周期的に配置されている。このマルチスリットは、放射線源１の焦点から放射される放射線を部分的に遮蔽することにより、Ｘ方向に関する実効的な焦点サイズを縮小することができるとともに、Ｘ方向に多数の点光源（分散光源）を形成することができる。
【０１４８】
このマルチスリットの格子ピッチＰ３は、マルチスリットから第１の格子２までの距離をＺ３として、次式（２１）を満たすように設定する必要がある。
【数２１】
2012143491.tif 000026
【０１４９】
また、実質的にマルチスリットの位置が放射線の焦点位置となるため、第２の格子３の格子ピッチＰ２および間隔ｄ２は、次式（２２）および次式（２３）の関係を満たすように決定される。
【数２２】
2012143491.tif 000027
【数２３】
2012143491.tif 000028
【０１５０】
また、上記第１および第２の実施形態においては、ＴＦＴ読取方式の放射線画像検出器を用いるようにしたが、ＣＭＯＳスイッチを用いた放射線画像検出器や光読取方式の放射線画像検出器を用いるようにしてもよい。以下、光読取方式の放射線画像検出器について説明する。
【０１５１】
図１７（Ａ）は、光読取方式の放射線画像検出器５０の斜視図、図１７（Ｂ）は図１７（Ａ）に示す放射線画像検出器のＸＺ面断面図、図１７（Ｃ）は図１７（Ａ）に示す放射線画像検出器のＹＺ面断面図である。
【０１５２】
光読取方式の放射線画像検出器５０は、図１７（Ａ）〜（Ｃ）に示すように、放射線を透過する第１の電極層５１、第１の電極層５１を透過した放射線の照射を受けることにより電荷を発生する記録用光導電層５２、記録用光導電層５２において発生した電荷のうち一方の極性の電荷に対しては絶縁体として作用し、且つ他方の極性の電荷に対しては導電体として作用する電荷蓄積層５３、読取光の照射を受けることにより電荷を発生する読取用光導電層５４、および第２の電極層５５をこの順に積層してなるものである。なお、上記各層は、ガラス基板５６上に第２の電極層５５から順に形成されている。
【０１５３】
第１の電極層５１としては、放射線を透過するものであればよく、たとえば、ネサ皮膜（ＳｎＯ2）、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）、ＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）、アモルファス状光透過性酸化膜であるＩＤＩＸＯ（Idemitsu Indium X-metal Oxide ；出光興産（株））などを５０〜２００ｎｍ厚にして用いることができ、また、１００ｎｍ厚のＡｌやＡｕなども用いることもできる。
【０１５４】
記録用光導電層５２は、放射線の照射を受けることにより電荷を発生するものであればよく、放射線に対して比較的量子効率が高く、また暗抵抗が高いなどの点で優れているａ−Ｓｅを主成分とするものを使用する。厚さは１０μｍ以上１５００μｍ以下が適切である。また、特にマンモグラフィ用途である場合には、１５０μｍ以上２５０μｍ以下であることが好ましく、一般撮影用途である場合には、５００μｍ以上１２００μｍ以下であることが好ましい。
【０１５５】
電荷蓄積層５３は、蓄積したい極性の電荷に対して絶縁性の膜であれば良く、アクリル系有機樹脂、ポリイミド、ＢＣＢ、ＰＶＡ、アクリル、ポリエチレン、ポリカーボネート、ポリエーテルイミド等のポリマーやＡｓ２Ｓ３、Ｓｂ２Ｓ３、ＺｎＳ等の硫化物、その他に酸化物、フッ化物より構成される。更には、蓄積したい極性の電荷に対して絶縁性であり、それと逆の極性の電荷に対しては導電性を有する方がより好ましく、移動度×寿命の積が、電荷の極性により３桁以上差がある物質が好ましい。
【０１５６】
好ましい化合物としては、Ａｓ２Ｓｅ３、Ａｓ２Ｓｅ３にＣｌ、Ｂｒ、Ｉを５００ｐｐｍから２００００ｐｐｍまでドープしたもの、Ａｓ２Ｓｅ３のＳｅをＴｅで５０％程度まで置換したＡｓ２（ＳｅｘＴｅ１−ｘ）３（０．５＜ｘ＜１）、Ａｓ２Ｓｅ３のＳｅをＳで５０％程度まで置換したもの、Ａｓ２Ｓｅ３からＡｓ濃度を±１５％程度変化させたＡｓｘＳｅｙ（ｘ＋ｙ＝１００、３４≦ｘ≦４６）、アモルファスＳｅ−Ｔｅ系でＴｅを５−３０ｗｔ％のもの等が挙げられる。
【０１５７】
なお、電荷蓄積層５３の材料としては、第１の電極層５１と第２の電極層５５との間に形成される電気力線が曲がらないようにするため、その誘電率が、記録用光導電層５２と読取用光導電層５４の誘電率の１／２倍以上２倍以下のものを用いることが望ましい。
【０１５８】
読取用光導電層５４としては、読取光の照射を受けることにより導電性を呈するものであればよく、たとえば、ａ−Ｓｅ、Ｓｅ−Ｔｅ、Ｓｅ−Ａｓ−Ｔｅ、無金属フタロシアニン、金属フタロシアニン、ＭｇＰｃ（Magnesium phtalocyanine），ＶｏＰｃ（phaseII of Vanadyl phthalocyanine）、ＣｕＰｃ（Cupper phtalocyanine）などのうち少なくとも１つを主成分とする光導電性物質が好適である。厚さは５〜２０μｍ程度が適切である。
【０１５９】
第２の電極層５５は、読取光を透過する複数の透明線状電極５５ａと読取光を遮光する複数の遮光線状電極５５ｂとを有するものである。透明線状電極５５ａと遮光線状電極５５ｂとは、放射線画像検出器５０の画像形成領域の一方の端部から他方の端部まで連続して直線状に延びるものである。そして、透明線状電極５５ａと遮光線状電極５５ｂとは、図１７（Ａ），（Ｂ）に示すように、所定の間隔を空けて交互に平行に配列されている。
【０１６０】
透明線状電極５５ａは読取光を透過するとともに、導電性を有する材料から形成されている。たとえば、第１の電極層５１と同様に、ＩＴＯ、ＩＺＯやＩＤＩＸＯを用いることができる。そして、その厚さは１００〜２００ｎｍ程度である。
【０１６１】
遮光線状電極５５ｂは読取光を遮光するとともに、導電性を有する材料から形成されている。たとえば、上記の透明導電材料とカラーフィルターを組み合せて用いることができる。透明導電材料の厚さは１００〜２００ｎｍ程度である。
【０１６２】
そして、上述した光読取方式の放射線画像検出器５０においては、後で詳述するが、隣接する透明線状電極５５ａと遮光線状電極５５ｂとの１組を用いて画像信号が読み出される。すなわち、図１７（Ｂ）に示すように、１組の透明線状電極５５ａと遮光線状電極５５ｂとによって１画素の画像信号が読み出されることになる。すなわち、１組の透明線状電極５５ａと遮光線状電極５５ｂが、上記第１の実施形態の放射線画像検出器４における画素回路４０の列に相当することになる。ここでは、１画素が略５０μｍとなるように透明線状電極５５ａと遮光線状電極５５ｂとが配置されているものとする。
【０１６３】
そして、本実施形態の放射線位相画像撮影装置は、図１７（Ａ）に示すように、透明線状電極５５ａと遮光線状電極５５ｂの延伸方向に直交する方向（Ｘ方向）に延設された線状読取光源６０を備えている。本実施形態の線状読取光源６０は、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）やＬＤ（Laser Diode）などの光源と所定の光学系とから構成され、略１０μｍの幅の線状の読取光を放射線画像検出器５０に照射するように構成されている。そして、この線状読取光源６０は、所定の移動機構（図示省略）によって透明線状電極５５ａおよび遮光線状電極５５ｂの延伸方向（Ｙ方向）について移動するものであり、この移動により線状読取光源６０から発せられた線状の読取光によって放射線画像検出器５０が走査されて画像信号が読み出される。
【０１６４】
したがって、この線状の読取光による読取ラインが、上記第１の実施形態の放射線画像検出器４の画素回路４０の行に相当することになる。そして、上述したように１組の透明線状電極５５ａと遮光線状電極５５ｂとが上記第１の実施形態の放射線画像検出器４の画素回路４０の列に相当するので、上記光読取方式の放射線画像検出器５０においては、読取ラインと１組の透明線状電極５５ａと遮光線状電極５５ｂとによって画素が形成され、第１の格子２の単位格子はこの画素の単位で形成されるものとする。
【０１６５】
次に、上記光読取方式の放射線画像検出器５０における画像検出と読出しの作用について説明する。
【０１６６】
まず、図１８（Ａ）に示すように高圧電源１００によって放射線画像検出器５０の第１の電極層５１に負の電圧を印加した状態において、第１の格子２の自己像と第２の格子３との重ね合わせによって強度変調された放射線が、放射線画像検出器５０の第１の電極層５１側から照射される。
【０１６７】
そして、放射線画像検出器５０に照射された放射線は、第１の電極層５１を透過し、記録用光導電層５２に照射される。そして、その放射線の照射によって記録用光導電層５２において電荷対が発生し、そのうち正の電荷は第１の電極層５１に帯電した負の電荷と結合して消滅し、負の電荷は潜像電荷として電荷蓄積層５３に蓄積される（図１８（Ｂ）参照）。
【０１６８】
次に、図１９に示すように、第１の電極層５１が接地された状態において、線状読取光源６０から発せられた線状の読取光Ｌ１が第２の電極層５５側から照射される。読取光Ｌ１は透明線状電極５５ａを透過して読取用光導電層５４に照射され、その読取光Ｌ１の照射により読取用光導電層５４において発生した正の電荷が電荷蓄積層５３に蓄積された潜像電荷と結合するとともに、負の電荷が、透明線状電極５５ａに接続されたチャージアンプ２００を介して遮光線状電極５５ｂに帯電した正の電荷と結合する。
【０１６９】
そして、読取用光導電層５４において発生した負の電荷と遮光線状電極５５ｂに帯電した正の電荷との結合によって、チャージアンプ２００に電流が流れ、この電流が積分されて画像信号として検出される。
【０１７０】
そして、線状読取光源６０が、Ｙ方向に移動することによって線状の読取光Ｌ１によって放射線画像検出器５０が走査され、線状の読取光Ｌ１の照射された読取ライン毎に上述した作用によって読み出された読出信号が順次検出され、その検出された読取ライン毎の読出信号が画像生成部５に順次入力されて記憶される。
【０１７１】
そして、画像生成部５において、上記第１の実施形態の同様にして複数の自己像に応じた読出信号に基づいて位相コントラスト画像が生成される。
【０１７２】
また、上記実施形態においては、位相コントラスト画像を取得することによりこれまで描出が難しかった画像を得ることができるが、従来のＸ線画像診断学は吸収画像に基づいているため、位相コントラスト画像と対応して吸収画像が参照できると読影の助けになる。たとえば、吸収画像と位相コントラスト画像を重み付けや階調、周波数処理などの適当な処理によって重ね合わせることにより吸収画像が表現できなかった部分を位相コントラスト画像の情報で補うことは有効である。
【０１７３】
しかし、位相コントラスト画像とは別に吸収画像を撮影することは、位相コントラスト画像の撮影と吸収画像の撮影との間の撮影肢体のズレによって良好な重ね合わせを困難にするのに加え、撮影回数が増えることにより被検体の負担となる。また、近年、位相コントラスト画像や吸収画像の他に、小角散乱画像が注目されている。小角散乱画像は、被検体組織内部の微細構造に起因する組織性状を表現可能であり、たとえば、ガンや循環器疾患といった分野での新しい画像診断のための表現方法として期待されている。
【０１７４】
そこで、画像生成部５において、位相コントラスト画像を生成するために取得した複数枚の縞画像に基づいて吸収画像や小角散乱画像を生成するようにしてもよい。
【０１７５】
具体的には、画素毎に得られる画素信号Ｉｋ（ｘ，ｙ）を、図２０に示すようにｋについて平均化して平均値を算出して画像化することにより吸収画像を生成することができる。なお、平均値の算出は、画素信号Ｉｋ（ｘ，ｙ）をｋについて単純に平均化することにより行ってもよいが、Ｍが小さい場合には誤差が大きくなるため、画素信号Ｉｋ（ｘ，ｙ）を正弦波でフィッティングした後、フィッティングした正弦波の平均値を求めるようにしてもよい。また、正弦波に限らず、矩形波や三角波形状を用いるようにしてもよい。
【０１７６】
また、吸収画像の生成には、平均値に限られず、平均値に対応する量であれば、画素信号Ｉｋ（ｘ，ｙ）をｋについて加算した加算値等を用いることが可能である。
【０１７７】
また、画素毎に得られる画素信号Ｉｋ（ｘ，ｙ）の振幅値を算出して画像化することにより小角散乱画像を生成することができる。なお、振幅値の算出は、画素信号Ｉｋ（ｘ，ｙ）の最大値と最小値との差を求めることによって行ってもよいが、Ｍが小さい場合には誤差が大きくなるため、画素信号Ｉｋ（ｘ，ｙ）を正弦波でフィッティングした後、フィッティングした正弦波の振幅値を求めるようにしてもよい。また、小角散乱画像の生成には、振幅値に限られず、平均値を中心としたばらつきに対応する量として、分散値や標準偏差などを用いることができる。
【０１７８】
また、位相コントラスト画像は、第１および第２の格子２，３の格子部材２２，３２の周期配列方向（Ｘ方向）のＸ線の屈折成分に基づくものとなり、格子部材２２，３２の延伸方向（Ｙ方向）の屈折成分は反映されない。すなわち、ＸＹ面である格子面を介して、Ｘ方向に交差する方向（直交する場合はＹ方向）に沿った部位輪郭がＸ方向の屈折成分に基づく位相コントラスト画像として描出されるのであり、Ｘ方向に交差せずにＸ方向に沿っている部位輪郭はＸ方向の位相コントラスト画像として描出されない。すなわち、被検体とする部位の形状と向きによっては描出できない部位が存在する。例えば、膝等の関節軟骨の荷重面の方向を格子の面内方向であるＸＹ方向のうちＹ方向に合わせると、Ｙ方向にほぼ沿った荷重面（ＹＺ面）近傍の部位輪郭は十分に描出されるが、荷重面に交差しＸ方向にほぼ沿って延びる軟骨周辺組織（腱や靭帯など）については描出が不十分になると考えられる。被検体を動かすことにより、描出が不十分な部位を再度撮影することは可能ではあるが、被検体及び術者の負担が増えることに加え、再度撮影した画像との位置再現性を担保することが難しいといった問題がある。
【０１７９】
そこで、他の例として、図２１に示すように、第１および第２の格子２，３の格子面の中心に直交する仮想線（Ｘ線の光軸Ａ）を中心として、第１および第２の格子２，３を、図２１（ａ）に示すような第１の向きから任意の角度で回転させて、図２１（ｂ）に示すような第２の向きとする回転機構１８０を設け、第１の向きと第２の向きとのそれぞれにおいて位相コントラスト画像を生成するように構成することも好適である。なお、図２１（ａ），（ｂ）においては、図面を見やすくするために第１の格子２の格子部材２２については直線状に表しているが、実際には、上記実施形態のように複数の単位格子部材２２ａがＸ方向にずらされて配置されているものとする。
【０１８０】
こうすることで、上述した位置再現性の問題をなくせる。なお、図２１（ａ）には、第２の格子３の格子部材３２の延伸方向がＹ方向に沿う方向となるような第１および第２の格子２，３の第１の向きを示し、図２１（ｂ）には、図２１（ａ）の状態から９０度回転させ、第２の格子３の格子部材３２の延伸方向がＸ方向に沿う方向となるような第１および第２の格子２，３の第２の向きを示したが、第１の格子２と第２の格子３との間の傾き関係を維持した状態であれば、第１および第２の格子２，３の回転角度は任意である。また、第１の向きおよび第２の向きに加えて、第３の向き、第４の向きなど、２回以上の回転操作を行って、それぞれの向きでの位相コントラスト画像を生成するように構成してもよい。
【０１８１】
また、上記実施形態の放射線位相画像撮影装置においては、第１の格子２と第２の格子３との２つの格子を用いるようにしたが、第２の格子３の機能を放射線画像検出器にもたせることによって第２の格子３を用いないようにすることができる。以下、第２の格子３の機能を有する放射線画像検出器の構成について説明する。
【０１８２】
第２の格子３の機能を有する放射線画像検出器は、放射線が第１の格子２を通過することによって第１の格子２によって形成された第１の格子２の自己像を検出するとともに、その自己像に応じた電荷信号を後述する格子状に分割された電荷蓄積層に蓄積することによって自己像に強度変調を施すものである。
【０１８３】
図２２（Ａ）は、第２の格子３の機能を有する放射線画像検出器４００の斜視図、図２２（Ｂ）は図２２（Ａ）に示す放射線画像検出器のＸＺ面断面図、図２２（Ｃ）は図２２（Ａ）に示す放射線画像検出器のＹＺ面断面図である。
【０１８４】
放射線画像検出器４００は、図２２（Ａ）〜（Ｃ）に示すように、放射線を透過する第１の電極層４１０、第１の電極層４１０を透過した放射線の照射を受けることにより電荷を発生する記録用光導電層４２０、記録用光導電層４２０において発生した電荷のうち一方の極性の電荷に対しては絶縁体として作用し、且つ他方の極性の電荷に対しては導電体として作用する電荷蓄積層４３０、読取光の照射を受けることにより電荷を発生する読取用光導電層４４０、および第２の電極層４５０をこの順に積層してなるものである。なお、上記各層は、ガラス基板４６０上に第２の電極層４５０から順に形成されている。
【０１８５】
そして、第２の格子３の機能を有する放射線画像検出器４００は、第１の電極層４１０、記録用光導電層４２０、電荷蓄積層４３０、読取用光導電層４４０および第２の電極層４５０の材料については、上記光読取方式の放射線画像検出器５０の第１の電極層５１、記録用光導電層５２、電荷蓄積層５３、読取用光導電層５４および第２の電極層５５と同様である。
【０１８６】
そして、第２の格子３の機能を有する放射線画像検出器４００は、上記光読取方式の放射線画像検出器４と電荷蓄積層４３０の形状が異なる。放射線画像検出器４００の電荷蓄積層４３０は、図２２（Ａ）〜（Ｃ）に示すように、第２の電極層４５０の透明線状電極４５０ａおよび遮光線状電極４５０ｂの延伸方向に平行となるように線状に分割されている。
【０１８７】
また、電荷蓄積層４３０は、透明線状電極４５０ａもしくは遮光線状電極４５０ｂの配列ピッチよりも細かいピッチで分割されるが、その配列ピッチＰ２と間隔ｄ２は、上記実施形態の第２の格子３の条件と同様である。
【０１８８】
また、電荷蓄積層４３０は、積層方向（Ｚ方向）について２μｍ以下の厚さで形成される。
【０１８９】
そして、電荷蓄積層４３０は、たとえば、上述したような材料と金属板に穴を空けたメタルマスクやファイバーなどによって形成されたマスクとを用いて抵抗加熱蒸着によって形成することができる。また、フォトリソグラフィを用いて形成するようにしてもよい。
【０１９０】
なお、タルボ干渉計として機能させるための第１の格子２と放射線画像検出器４００との距離の条件については、放射線画像検出器４００が第２の格子３として機能するものであるので、第１の格子２と第２の格子３との距離の条件と同様である。また、上記第２の実施形態のように第１の格子２が入射放射線を回折せずに投影させる構成とし、第１の格子２から放射線画像検出器４００までの距離Ｚ２を、タルボ干渉距離を無関係に設定するようにしてもよく、上式（２０）を満たすような距離としてもよい。
【０１９１】
次に、上記のように構成された放射線画像検出器４００の作用について説明する。
【０１９２】
まず、図２３（Ａ）に示すように高圧電源１００によって放射線画像検出器４００の第１の電極層４１０に負の電圧を印加した状態において、タルボ効果によって形成された第１の格子２の自己像を担持した放射線が、放射線画像検出器４００の第１の電極層４１０側から照射される。
【０１９３】
そして、放射線画像検出器４００に照射された放射線は、第１の電極層４１０を透過し、記録用光導電層４２０に照射される。そして、その放射線の照射によって記録用光導電層４２０において電荷対が発生し、そのうち正の電荷は第１の電極層４１０に帯電した負の電荷と結合して消滅し、負の電荷は潜像電荷として電荷蓄積層４３０に蓄積される（図２３（Ｂ）参照）。
【０１９４】
ここで、電荷蓄積層４３０は、上述したような配列ピッチで線状に分割されているので、記録用光導電層４２０において第１の格子２の自己像に応じて発生した電荷のうちその直下に電荷蓄積層４３０が存在する電荷のみが電荷蓄積層４３０によってトラップされて蓄積され、それ以外の電荷については線状の電荷蓄積層４３０の間を通過し、読取用光導電層４４０を通過した後、透明線状電極４５０ａと遮光線状電極４５０ｂとに流れ出してしまう。
【０１９５】
このように記録用光導電層４２０において発生した電荷のうち、その直下に線状の電荷蓄積層４３０が存在する電荷のみを蓄積することによって、第１の格子２の各単位格子の自己像は電荷蓄積層４３０の線状のパターンとの重ね合わせにより強度変調を受け、被検体による自己像の波面の歪みを反映した縞画像の画像信号が電荷蓄積層４３０に蓄積されることになる。すなわち、電荷蓄積層４３０は、上記実施形態の第２の格子３と同等の機能を果たすことになる。
【０１９６】
そして、次に、図２４に示すように、第１の電極層４１０が接地された状態において、線状読取光源６０から発せられた線状の読取光Ｌ１が第２の電極層４５０側から照射される。読取光Ｌ１は透明線状電極４５０ａを透過して読取用光導電層４４０に照射され、その読取光Ｌ１の照射により読取用光導電層４４０において発生した正の電荷が電荷蓄積層４３０における潜像電荷と結合するとともに、負の電荷が、透明線状電極４５０ａに接続されたチャージアンプ２００を介して遮光線状電極４５０ｂに帯電した正の電荷と結合する。
【０１９７】
そして、読取用光導電層４４０において発生した負の電荷と遮光線状電極４５０ｂに帯電した正の電荷との結合によって、チャージアンプ２００に電流が流れ、この電流が積分されて画像信号として検出される。
【０１９８】
そして、線状読取光源６０が、副走査方向（Ｙ方向）に移動することによって線状の読取光Ｌ１によって放射線画像検出器４００が走査され、線状の読取光Ｌ１の照射された読取ライン毎に上述した作用によって読み出された読出信号が順次検出され、その検出された読取ライン毎の読出信号が画像生成部５に順次入力されて記憶される。
【０１９９】
そして、放射線画像検出器４００の全面が読取光Ｌ１に走査されて１フレーム全体の読出信号が画像生成部５に出力され、画像生成部５は、その入力された複数の自己像に応じた読出信号に基づいて、上記実施形態と同様にして位相コントラスト画像を生成する。
【０２００】
また、上述した第２の格子３の機能を有する放射線画像検出器４００おいては、電極間に、記録用光導電層４２０、電荷蓄積層４３０および読取用光導電層４４０の３層を設ける構成としたが、必ずしもこの層構成である必要はなく、たとえば、図２５に示すように、読取用光導電層４４０を設けることなく、第２の電極層の透明線状電極４５０ａおよび遮光線状電極４５０ｂ上に直接接触するように線状の電荷蓄積層４３０を設け、その電荷蓄積層４３０の上に記録用光導電層４２０を設けるようにしてもよい。なお、この記録用光導電層４２０は、読取用光導電層としても機能するものである。
【０２０１】
この放射線画像検出器４０１の構造は、読取用光導電層４４０なしに第２の電極層４５０に直接電荷蓄積層４３０を設ける構造であり、線状の電荷蓄積層４３０の形成を容易にする。すなわち、この線状の電荷蓄積層４３０は、蒸着で形成することができる。この蒸着工程において、選択的に線状パターンを形成するためにメタルマスクなどを用いるが、読取用光導電層４４０の上に線状の電荷蓄積層４３０を設ける構成では、読取用光導電層４４０の蒸着後のメタルマスクをセットする工程のため、読取用光導電層４４０の蒸着工程と記録用光導電層４２０の蒸着工程の間で大気中操作により、読取用光導電層４４０に劣化や、光導電層間に異物が混入して品質の劣化をもたらす虞がある。上述した読取用光導電層４４０を設けない構造とすることで、光導電層の蒸着後の大気中操作を減らすことができるため、上述の品質劣化の懸念を低減することができる。
【０２０２】
記録用光導電層４２０および電荷蓄積層４３０の材料については、上述した放射線画像検出器４００と同様である。また、電荷蓄積層４３０の線状構成についても、上述した放射線画像検出器と同様である。
【０２０３】
以下に、この放射線画像検出器４０１の放射線画像の記録と読み出しの作用について説明する。
【０２０４】
まず、図２６（Ａ）に示すように高圧電源１００によって放射線画像検出器４０１の第１の電極層４１０に負の電圧を印加した状態において、第１の格子２の自己像を担持した放射線が、放射線画像検出器４０１の第１の電極層４１０側から照射される。
【０２０５】
そして、放射線画像検出器４０１に照射された放射線は、第１の電極層４１０を透過し、記録用光導電層４２０に照射される。そして、その放射線の照射によって記録用光導電層４２０において電荷対が発生し、そのうち正の電荷は第１の電極層４１０に帯電した負の電荷と結合して消滅し、負の電荷は潜像電荷として電荷蓄積層４３０に蓄積される（図２６（Ｂ）参照）。なお、第２の電極層４５０に接した線状の電荷蓄積層４３０は絶縁性の膜であるから、この電荷蓄積層４３０に到達した電荷はそこに捕えられ、第２の電極層４５０へ行くことができず、蓄積されて留まる。
【０２０６】
ここでも、上述した放射線画像検出器４００と同様に、記録用光導電層４２０において発生した電荷のうち、その直下に線状の電荷蓄積層４３０が存在する電荷のみを蓄積することによって、第１の格子２の自己像は電荷蓄積層４３０の線状のパターンとの重ね合わせにより強度変調を受け、被検体による自己像の波面の歪みを反映した縞画像の画像信号が電荷蓄積層４３０に蓄積されることになる。
【０２０７】
そして、図２７に示すように、第１の電極層４１０が接地された状態において、線状読取光源６０から発せられた線状の読取光Ｌ１が第２の電極層４５０側から照射される。読取光Ｌ１は、透明線状電極４５０ａを透過して電荷蓄積層４３０近傍の記録用光導電層４２０に照射され、その読取光Ｌ１の照射により発生した正の電荷が線状の電荷蓄積層４３０へ引き寄せられて再結合する。そして、もう一方の負の電荷は、透明線状電極４５０ａへ引き寄せられ、透明線状電極４５０ａに帯電した正の電荷および透明線状電極４５０ａに接続されたチャージアンプ２００を介して遮光線状電極４５０ｂに帯電した正の電荷と結合する。これによりチャージアンプ２００に電流が流れ、この電流が積分されて画像信号として検出される。
【０２０８】
また、上述した放射線画像検出器４００，４０１においては、電荷蓄積層４３０を、完全に線状に分離して形成するようにしたが、これに限らず、たとえば、図２８に示す放射線画像検出器４０２のように、平板形状の上に線状のパターンを形成することによって格子状の電荷蓄積層４３０を形成するようにしてもよい。
【０２０９】
また、上述した放射線画像検出器４００〜４０２においては、電荷蓄積層４３０を、上記実施形態における第２の格子３と同様に直線状の格子状に形成するようにしたが、これに限らず、上記実施形態における第１の格子２の構成を電荷蓄積層４３０に採用し、図２９に示すように複数の単位格子パターンＰ１_１〜Ｐ５_２の電荷蓄積層４３０を形成するようにしてもよい。そして、電荷蓄積層４３０をこのような構成とした場合には、第１の格子２については、図４に示す第２の格子３のように、直線状の格子部材２２から形成することになる。なお、単位格子パターンＰ１_１，Ｐ１_２が図６に示す単位格子ＵＧ１_１，ＵＧ１_２に対応する形状であり、単位格子パターンＰ２_１，Ｐ２_２が図６に示す単位格子ＵＧ２_１，ＵＧ２_２に対応する形状であり、単位格子パターンＰ３_１，Ｐ３_２が図６に示す単位格子ＵＧ３_１，ＵＧ３_２に対応する形状であり、単位格子パターンＰ４_１，Ｐ４_２が図６に示す単位格子ＵＧ４_１，ＵＧ４_２に対応する形状であり、単位格子パターンＰ５_１，Ｐ５_２が図６に示す単位格子ＵＧ５_１，ＵＧ５_２に対応する形状である。
【０２１０】
また、電荷蓄積層４３０の単位格子パターンについても、上記実施形態の第１の格子２と同様に、図１２、図１３、図１５および図１６に示すような自己像を形成する単位格子と同様のパターンとすることができる。
【０２１１】
また、上記実施形態の放射線画像撮影装置においては、１回の撮影で複数種類の位相情報の画像信号を取得することができるので、上述したような即座に繰り返し使用可能な半導体の検出器に限らず、蓄積性蛍光体シートや銀塩フイルムなども利用することができる。なお、この場合、蓄積性蛍光体シートや現像された銀塩フイルムなどを読み取る際の読取画素が請求項における画素部に相当するものとする。
【０２１２】
また、上記実施形態の放射線画像撮影装置については、乳房画像を撮影する乳房画像撮影表示システムや、被検者を立位状態で撮影する放射線画像撮影システムや、被検者を臥位状態で撮影する放射線画像撮影システムや、被検者を立位状態および臥位状態で撮影可能な放射線画像撮影システムや、長尺撮影を行う放射線画像システムなどに適用可能である。
【０２１３】
さらに、上記実施形態の放射線画像撮影装置については、３次元画像を取得する放射線位相ＣＴ装置や、立体視が可能なステレオ画像を取得するステレオ撮影装置や、断層画像を取得するトモシンセシス撮影装置などにも適用することも可能である。
【符号の説明】
【０２１４】
１     放射線源
２     第１の格子
３     第２の格子
４     放射線画像検出器
５     画像生成部
２２ａ 単位格子部材
４０   画素回路
５０   放射線画像検出器
５１   第１の電極層
５２   記録用光導電層
５３   電荷蓄積層
５４   読取用光導電層
５５   第２の電極層
４１０ 第１の電極層
４２０ 記録用光導電層
４３０ 電荷蓄積層
４４０ 読取用光導電層
４５０ 第２の電極層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図６】
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【図７】
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【図２９】
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