(57)【要約】【課題】例えば、配向膜をガラス基板に平坦性よく塗布することができ、かつ、額縁領域をできるだけ狭くすることができる印刷塗布方法を提供する。【解決手段】チャンバ内を減圧下に維持した状態で、ステージ上に配置されているガラス基板ＧＳの外周部にだけインクＩＮＫを塗布する。続いて、チャンバ内の圧力を大気圧（常圧）に回復した後、チャンバ内を大気圧下に維持した状態で、ステージ上に配置されているガラス基板ＧＳの外周部よりも内側領域である内周部にインクＩＮＫを塗布する。【選択図】図１１
2012143729.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
チャンバと、前記チャンバ内に設けられたステージと、前記ステージ上に配置された基板と、前記チャンバ内に設けられたインクジェットヘッドとを備える印刷塗布装置で、前記インクジェットヘッドを使用することにより、前記基板上にインクを塗布して前記基板上に膜を印刷する印刷塗布方法であって、
（ａ）前記ステージ上に前記基板を配置する工程と、
（ｂ）前記チャンバ内の圧力を大気圧よりも低い減圧状態にする工程と、
（ｃ）前記（ｂ）工程後、前記インクジェットヘッドを使用して、前記基板の外周部に前記インクを塗布する工程と、
（ｄ）前記（ｃ）工程後、前記チャンバ内の圧力を大気圧にする工程と、
（ｅ）前記（ｄ）工程後、前記インクジェットヘッドを使用して、前記基板の前記外周部よりも内側領域である内周部に、前記（ｃ）工程で使用したインクと同一種類の前記インクを塗布する工程とを備えることを特徴とする印刷塗布方法。
【請求項２】
請求項１記載の印刷塗布方法であって、
前記（ｃ）工程で使用する前記インクジェットヘッドと、前記（ｅ）工程で使用する前記インクジェットヘッドとは同一のインクジェットヘッドであることを特徴とする印刷塗布方法。
【請求項３】
請求項１記載の印刷塗布方法であって、
前記基板はガラス基板であることを特徴とする印刷塗布方法。
【請求項４】
請求項３記載の印刷塗布方法であって、
前記膜は、液晶表示装置に使用する配向膜であることを特徴とする印刷塗布方法。
【請求項５】
請求項４記載の印刷塗布方法であって、
前記基板は、薄膜トランジスタが形成されたガラス基板であることを特徴とする印刷塗布方法。
【請求項６】
請求項４記載の印刷塗布方法であって、
前記基板は、カラーフィルタが形成されたガラス基板であることを特徴とする印刷塗布方法。
【請求項７】
第１チャンバと、前記第１チャンバ内に設けられた第１ステージと、前記第１チャンバ内に設けられた第１インクジェットヘッドと、第２チャンバと、前記第２チャンバ内に設けられた第２ステージと、前記第２チャンバ内に設けられた第２インクジェットヘッドとを備える印刷塗布装置で、前記第１インクジェットヘッドおよび前記第２インクジェットヘッドを使用することにより、基板上にインクを塗布して前記基板上に膜を印刷する印刷塗布方法であって、
（ａ）前記第１チャンバ内に設けられている前記第１ステージ上に前記基板を配置する工程と、
（ｂ）前記第１チャンバの内部の圧力を大気圧よりも低い減圧状態にする工程と、
（ｃ）前記（ｂ）工程後、前記第１チャンバ内に設けられている前記第１インクジェットヘッドを使用することにより、前記基板の外周部に前記インクを塗布する工程と、
（ｄ）前記（ｃ）工程後、前記外周部に前記インクを塗布した前記基板を前記第１チャンバから搬出する工程と、
（ｅ）前記（ｄ）工程後、内部の圧力が大気圧にある第２チャンバ内に設けられている前記第２ステージ上に前記基板を配置する工程と、
（ｆ）前記（ｅ）工程後、前記第２チャンバ内に設けられている前記第２インクジェットヘッドを使用することにより、前記基板の前記外周部の内側領域である内周部に前記インクを塗布する工程とを備え、
前記（ｃ）工程において、前記基板の前記外周部に塗布される前記インクと、前記（ｆ）工程において、前記基板の前記内周部に塗布される前記インクとは、同一種類のインクであることを特徴とする印刷塗布方法。
【請求項８】
チャンバと、前記チャンバ内に設けられたステージと、前記ステージ上に配置された基板と、前記チャンバ内に設けられたインクジェットヘッドとを備える印刷塗布装置で、前記インクジェットヘッドを使用することにより、前記基板上にインクを塗布して前記基板上に膜を印刷する印刷塗布方法であって、
（ａ）前記ステージ上に前記基板を配置する工程と、
（ｂ）前記チャンバ内の圧力を大気圧よりも低い減圧状態にする工程と、
（ｃ）前記（ｂ）工程後、前記インクジェットヘッドを使用して、前記基板の第１領域に前記インクを塗布する工程と、
（ｄ）前記（ｃ）工程後、前記チャンバ内の圧力を大気圧にする工程と、
（ｅ）前記（ｄ）工程後、前記インクジェットヘッドを使用して、前記基板の前記第１領域と異なる第２領域に、前記（ｃ）工程で使用したインクと同一種類の前記インクを塗布する工程とを備えることを特徴とする印刷塗布方法。
【請求項９】
請求項８記載の印刷塗布方法であって、
前記第１領域の面積は、前記第２領域の面積よりも小さいことを特徴とする印刷塗布方法。
【請求項１０】
請求項９記載の印刷塗布方法であって、
前記第１領域は、前記基板の外周部であり、前記第２領域は、前記基板の前記外周部よりも内側領域の内周部であることを特徴とする印刷塗布方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、印刷塗布方法に関し、特に、インクジェットヘッドを使用して基板に膜を印刷する印刷塗布方法に適用して有効な技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
特開２００６−２８９３５５号公報（特許文献１）には、大気圧よりも低い減圧下において、インクジェットヘッドを使用して基板にインクを塗布する技術が記載されている。具体的には、大気圧よりも低い減圧状態において、インクジェットヘッドを使用することにより、液晶表示装置に使用される配向膜をガラス基板に塗布（印刷）する技術が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−２８９３５５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
各種の表示素子や半導体装置などは、色々な種類の薄膜を用いて構成されている。これらの薄膜のうち、以下、液晶表示装置における配向膜を一例に挙げて説明する。
【０００５】
薄型軽量や低消費電力という商品として大きな長所を持つ液晶表示装置は、携帯電話機、パーソナルコンピュータ、あるいは、薄型テレビの主流として大きな発展を遂げている。液晶表示装置は、電極が形成された二枚のガラス基板の間に液晶組成物を挟持し、両者の電極間での電圧印加により、液晶の分子配列を変化させて、光を直進させたり、遮ったりする現象を利用し、偏光板との組合せにより、画像を表示している。このとき、配向膜は、液晶が分子配列を規定する役割を有している。すなわち、液晶分子にプレチルト角（液晶分子の分子軸と配向膜表面とのなす角）を予め与える際、配向膜の薄膜表面が重要な役割をもち、薄膜形成後、布などで軽く摩擦すること（ラビング処理）によって、一定方向の液晶の分子配列が実現する。均一な表示をする上でも、配向膜の役割は重要で、配向膜の平坦性が要求されている。また、液晶の分子配列の状況は、明るさや視野角等の表示性能と深い関係があり、これらの特性改善のために、配向膜を平坦性よく成膜することが重要な課題となっている。つまり、配向膜をガラス基板に平坦性よく塗布することが液晶表示装置の特性を向上させる上で重要となってくる。
【０００６】
また、液晶表示装置では、表示面積を大きくするため、ガラス基板のうち液晶表示部が形成されない額縁領域をできるだけ狭くする要求がある。したがって、上述した配向膜をガラス基板に塗布する配向膜塗布工程においても、配向膜が形成されない額縁領域をできるだけ狭くする必要がある。配向膜塗布工程は、例えば、フレキソ印刷技術やインクジェット印刷技術により実施されるが、現状のフレキソ印刷技術や、常圧下（大気圧下）でのインクジェット印刷技術では、配向膜の端面における位置精度の問題から、額縁領域を狭くすることを実現できていない。一方、減圧下（３０ｋｐａ）でのインクジェット印刷技術では、配向膜の印刷位置精度を向上することができるため、額縁領域を狭くすることはできるが、ガラス基板にスルーホールやパターン段差があると、これらの影響を受けて、配向膜の表面に凹凸ができてしまう問題点がある。つまり、減圧下でのインクジェット印刷技術では、配向膜をガラス基板に平坦性よく塗布することができない結果、液晶表示装置に表示ムラを発生させる原因を生じさせる問題点がある。
【０００７】
本発明の目的は、例えば、配向膜をガラス基板に平坦性よく塗布することができ、かつ、額縁領域をできるだけ狭くすることができる印刷塗布方法を提供することにある。
【０００８】
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次のとおりである。
【００１０】
代表的な実施の形態における印刷塗布方法は、チャンバと、前記チャンバ内に設けられたステージと、前記ステージ上に配置された基板と、前記チャンバ内に設けられたインクジェットヘッドとを備え、前記インクジェットヘッドを使用することにより、前記基板上にインクを塗布して前記基板上に膜を印刷する印刷塗布方法に関する。具体的な印刷塗布方法は、（ａ）前記ステージ上に前記基板を配置する工程と、（ｂ）前記（ａ）工程後、前記チャンバ内の圧力を大気圧よりも低い減圧状態にする工程とを備える。そして、（ｃ）前記（ｂ）工程後、前記インクジェットヘッドを使用して、前記基板の外周部に前記インクを塗布する工程と、（ｄ）前記（ｃ）工程後、前記チャンバ内の圧力を大気圧にする工程とを備える。さらに、（ｅ）前記（ｄ）工程後、前記インクジェットヘッドを使用して、前記基板の前記外周部よりも内側領域である内周部に、前記（ｃ）工程で使用したインクと同一種類の前記インクを塗布する工程とを備えることを特徴とするものである。
【００１１】
また、代表的な実施の形態における印刷塗布方法は、第１チャンバと、前記第１チャンバ内に設けられた第１ステージと、前記第１チャンバ内に設けられた第１インクジェットヘッドと、第２チャンバと、前記第２チャンバ内に設けられた第２ステージと、前記第２チャンバ内に設けられた第２インクジェットヘッドとを備え、前記第１インクジェットヘッドおよび前記第２インクジェットヘッドを使用することにより、基板上にインクを塗布して前記基板上に膜を印刷する印刷塗布方法に関するものである。そして、この印刷塗布方法は、（ａ）前記第１チャンバ内に設けられている前記第１ステージ上に前記基板を配置する工程と、（ｂ）前記（ａ）工程後、前記第１チャンバの内部の圧力を大気圧よりも低い減圧状態にする工程とを備える。そして、（ｃ）前記（ｂ）工程後、前記第１チャンバ内に設けられている前記第１インクジェットヘッドを使用することにより、前記基板の外周部に前記インクを塗布する工程と、（ｄ）前記（ｃ）工程後、前記外周部に前記インクを塗布した前記基板を前記第１チャンバから搬出する工程とを備える。次に、（ｅ）前記（ｄ）工程後、内部の圧力が大気圧にある第２チャンバ内に設けられている前記第２ステージ上に前記基板を配置する工程と、（ｆ）前記（ｅ）工程後、前記第２チャンバ内に設けられている前記第２インクジェットヘッドを使用することにより、前記基板の前記外周部の内側領域である内周部に前記インクを塗布する工程とを備える。ここで、前記（ｃ）工程において、前記基板の前記外周部に塗布される前記インクと、前記（ｆ）工程において、前記基板の前記内周部に塗布される前記インクとは、同一種類のインクであることを特徴とするものである。
【００１２】
また、代表的な実施の形態における印刷塗布方法は、チャンバと、前記チャンバ内に設けられたステージと、前記ステージ上に配置された基板と、前記チャンバ内に設けられたインクジェットヘッドとを備え、前記インクジェットヘッドを使用することにより、前記基板上にインクを塗布して前記基板上に膜を印刷する印刷塗布方法に関する。この印刷塗布方法は、（ａ）前記ステージ上に前記基板を配置する工程と、（ｂ）前記（ａ）工程後、前記チャンバ内の圧力を大気圧よりも低い減圧状態にする工程とを備える。そして、（ｃ）前記（ｂ）工程後、前記インクジェットヘッドを使用して、前記基板の第１領域に前記インクを塗布する工程と、（ｄ）前記（ｃ）工程後、前記チャンバ内の圧力を大気圧にする工程とを備える。さらに、（ｅ）前記（ｄ）工程後、前記インクジェットヘッドを使用して、前記基板の前記第１領域と異なる第２領域に、前記（ｃ）工程で使用したインクと同一種類の前記インクを塗布する工程とを備えることを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１３】
本願において開示される発明のうち、代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば以下のとおりである。
【００１４】
例えば、配向膜をガラス基板に平坦性よく塗布することができ、かつ、額縁領域をできるだけ狭くすることができる印刷塗布方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の実施の形態１における液晶表示装置の外観構成の一例を示す図である。
【図２】液晶表示部の構成を示す図である。
【図３】液晶表示部の動作を説明する図である。
【図４】液晶表示部の動作を説明する図である。
【図５】液晶表示装置を製造する製造工程の流れを示すフローチャートである。
【図６】第１現状技術を説明する図である。
【図７】第２現状技術を説明する図である。
【図８】第３現状技術を説明する図である。
【図９】実施の形態１におけるインクジェット塗布装置の構成を示す図である。
【図１０】実施の形態１におけるインクジェット塗布装置での動作を説明するフローチャートである。
【図１１】実施の形態１における特徴工程を説明する図である。
【図１２】変形例１における特徴工程を説明する図である。
【図１３】変形例２における特徴工程を説明する図である。
【図１４】実施の形態２における印刷塗布方法を説明するためのフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下の実施の形態においては便宜上その必要があるときは、複数のセクションまたは実施の形態に分割して説明するが、特に明示した場合を除き、それらはお互いに無関係なものではなく、一方は他方の一部または全部の変形例、詳細、補足説明等の関係にある。
【００１７】
また、以下の実施の形態において、要素の数等（個数、数値、量、範囲等を含む）に言及する場合、特に明示した場合および原理的に明らかに特定の数に限定される場合等を除き、その特定の数に限定されるものではなく、特定の数以上でも以下でもよい。
【００１８】
さらに、以下の実施の形態において、その構成要素（要素ステップ等も含む）は、特に明示した場合および原理的に明らかに必須であると考えられる場合等を除き、必ずしも必須のものではないことは言うまでもない。
【００１９】
同様に、以下の実施の形態において、構成要素等の形状、位置関係等に言及するときは、特に明示した場合および原理的に明らかにそうではないと考えられる場合等を除き、実質的にその形状等に近似または類似するもの等を含むものとする。このことは、上記数値および範囲についても同様である。
【００２０】
また、実施の形態を説明するための全図において、同一の部材には原則として同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。なお、図面をわかりやすくするために平面図であってもハッチングを付す場合がある。
【００２１】
（実施の形態１）
＜液晶表示装置の外観構成＞
液晶表示装置は、例えば、パーソナルコンピュータやワードプロセッサなどのディスプレイ装置をはじめとして、テレビジョンや携帯電話機の表示装置として幅広く使用されている。図１は、本実施の形態１における液晶表示装置ＬＣＤの外観構成の一例を示す図である。図１において、本実施の形態１における液晶表示装置ＬＣＤは、液晶表示部ＤＵと、半導体チップＣＨＰと、フレキシブル基板ＦＳとを有している。液晶表示部ＤＵは、画像を表示する表示部として機能し、複数の液晶表示素子から構成されている。半導体チップＣＨＰは、液晶表示部ＤＵを構成する複数の液晶表示素子を駆動するように構成されており、半導体チップＣＨＰには、液晶表示部ＤＵで画像が表示できるように制御する集積回路が形成されている。この半導体チップＣＨＰは、液晶表示部ＤＵを構成する複数の液晶表示素子のオン／オフを制御する機能を有し、ＬＣＤドライバと呼ばれるものである。
【００２２】
また、フレキシブル基板ＦＳには、多くの電子部品が搭載されており、液晶表示装置ＬＣＤを制御するように構成されている。具体的にフレキシブル基板ＦＳには、ＣＰＵやメモリを形成した半導体チップ（半導体装置）や、抵抗や容量素子やインダクタといった受動素子が複数搭載されている。このフレキシブル基板ＦＳに搭載された電子回路によって、例えば、ＬＣＤドライバである半導体チップＣＨＰが制御され、さらに、この半導体チップＣＨＰによって液晶表示部ＤＵの駆動制御が行われて、液晶表示部ＤＵに画像が表示されるように構成されている。本実施の形態１における液晶表示装置ＬＣＤは、上記のように構成されており、次に、液晶表示部ＤＵの詳細な構成について説明する。
【００２３】
＜液晶表示部の構成＞
図２は、液晶表示部ＤＵの構成を示す図である。図２に示すように、液晶表示部ＤＵは、複数の液晶表示素子から構成されており、液晶表示部ＤＵは、以下のような構成をしている。すなわち、まず、液晶表示部ＤＵは、例えば、冷陰極蛍光管からなるバックライトＢＬを有しており、このバックライトＢＬ上に偏光板ＰＬ１を有している。そして、偏光板ＰＬ１上にＴＦＴガラス基板ＴＳが配置され、このＴＦＴガラス基板ＴＳ上には、スペースを介してカラーフィルタガラス基板ＣＳが配置されている。さらに、カラーフィルタガラス基板ＣＳ上に偏光板ＰＬ２が配置されており、ＴＦＴガラス基板ＴＳとカラーフィルタガラス基板ＣＳの間に設けられているスペースにはスペーサ（図示せず）と液晶ＬＣが注入されている。
【００２４】
液晶ＬＣとは、「液体」と「固体」の中間的な性質を有する物質である。「結晶」とは、分子や原子が互いに規則的に結合した状態の物質をいい、「液体」とは、分子や原子がそれぞればらばらに配置され、分子や原子が不規則に並んでいる状態の物質をいう。これに対し、「液晶ＬＣ」とは、結晶と液体の中間的な配列をしている物質であり、液体でありながら固体のような振る舞いもする物質として定義される。つまり、液晶ＬＣを構成する分子や原子は基本的に液体のように不規則に配置されているが、ある一定方向には、結晶のように規則的に揃って配置されているのである。すなわち、液晶ＬＣは、結晶よりも規則性は低いが、液体よりも規則性が高い状態の物質として定義される。このような液晶ＬＣには、様々な種類の液晶が存在する。例えば、液晶ＬＣを構成する長い分子が長軸方向に揃っており、長軸方向に揃った分子が上下方向に層を形成した液晶ＬＣは、「スメクティック液晶」と呼ばれ、単に、分子の長軸方向がある方向に揃っているという規則性を有する液晶ＬＣは、「ネマテック液晶」と呼ばれる。さらに、「コレスティック液晶」と呼ばれる種類の液晶ＬＣも存在する。このように液晶ＬＣには、分子配列の規則性の違いにより複数の種類が存在することがわかる。
【００２５】
上述した液晶ＬＣは、ＴＦＴガラス基板ＴＳおよびカラーフィルタガラス基板ＣＳで挟まれた構造をしている。この液晶ＬＣを挟んでいるＴＦＴガラス基板ＴＳおよびカラーフィルタガラス基板ＣＳの構成について説明する。
【００２６】
まず、ＴＦＴガラス基板ＴＳは、偏光板ＰＬ１上に形成されたガラス基板ＧＳ１と、このガラス基板ＧＳ１上に配置されたＴＦＴアレイＴＦＡと、ＴＦＴアレイＴＦＡ上に配置された配向膜ＡＦ１を有している。ガラス基板ＧＳ１は、液晶表示装置ＬＣＤの表示性能を確保する必要があるため、一般的な窓ガラスなどと異なり、非常に表面が平滑で、かつ、表面にうねりなどがないことが要求される。つまり、ガラス基板ＧＳ１は、非常に平坦度の高いガラス基板から構成される。さらに、液晶表示部ＤＵに使用されるガラス基板ＧＳ１は、一般的な窓ガラスと成分上の相違点も存在する。例えば、一般的な窓ガラスには、ナトリウムが多く含まれているが、ガラス基板ＧＳ１中にナトリウムが存在すると、ガラス基板ＧＳ１に含まれているナトリウムが不純物として溶け出し、ガラス基板ＧＳ１の表面に形成するＴＦＴ（薄膜トランジスタ）（Thin Film Transistor）に悪影響を及ぼすことになる。このため、液晶表示部ＤＵに使用されるガラス基板ＧＳ１には、非常に平坦性の高いガラス基板が使用されるととともに、いわゆる無アルカリガラスやシリカガラスなどが使用される。
【００２７】
続いて、ガラス基板ＧＳ１上には、ＴＦＴアレイＴＦＡが形成されている。このＴＦＴアレイＴＦＡは、画素（液晶表示素子）ごとに形成された薄膜トランジスタＴＦＴと、ＩＴＯ電極ＩＴＯ１とを有している。
【００２８】
液晶ＬＣを駆動させるためには、液晶ＬＣの上下に電圧を印加する必要があり、液晶ＬＣの上下に電圧を印加するため、ガラス基板ＧＳ１に電極を形成する必要がある。しかし、電極といっても、通常の金属電極を形成すると、通常の金属電極は光を透過させることができない。このため、液晶表示部ＤＵを構成するガラス基板ＧＳには、光を透過する物質で透明電極を形成する必要がある。このことから、ガラス基板ＧＳ上にＩＴＯ電極ＩＴＯ１が形成されている。つまり、ＩＴＯ電極ＩＴＯ１は、光を透過させることができる透明電極であるため、液晶表示部ＤＵに使用されている。このＩＴＯ電極ＩＴＯ１は、インジウムと、抵抗を下げるための少量のすずの酸化物を薄膜化し、液晶ＬＣに接する側のガラス基板ＧＳ１上に貼り付けられている。ＩＴＯ電極ＩＴＯ１は、インジウム・すず酸化物の頭文字をとってＩＴＯ電極ＩＴＯ１と呼ばれているが、透明で電気をよく通すという観点からでは、安価な酸化すずだけから構成することも可能である。しかし、実際には、電極自体をパターニングする必要があり、このパターニングする際の加工性が酸化すずの場合、あまりよくないのである。したがって、ガラス基板ＧＳ１上に形成する透明電極は、パターニングする際の加工性が良好なインジウムを採用したＩＴＯ電極ＩＴＯ１が使用されているのである。
【００２９】
上述したように、液晶ＬＣの上下に電圧を印加することにより、液晶ＬＣを駆動させる。つまり、液晶ＬＣの上下に形成されている透明電極（ＩＴＯ電極）に電圧を印加すると、液晶分子がまっすぐに立ち上がることを利用して液晶ＬＣを駆動させる。したがって、液晶分子を必要な時間だけ立たせておくためには、透明電極に電荷を充分に溜めておくことが望ましい。このように透明電極に充分な電荷を溜める観点から、薄膜トランジスタＴＦＴが形成されているのである。すなわち、薄膜トランジスタＴＦＴとＩＴＯ電極ＩＴＯ１とは電気的に接続されており、薄膜トランジスタＴＦＴがオンすると、オンした薄膜トランジスタＴＦＴを介して、ＩＴＯ電極ＩＴＯ１へ電流が流れてＩＴＯ電極ＩＴＯ１に電荷が蓄積される。そして、この状態で、薄膜トランジスタＴＦＴをオフすることにより、ＩＴＯ電極ＩＴＯ１に蓄積された電荷は、そのまま、ＩＴＯ電極ＩＴＯ１内に留まる。この結果、必要な時間だけＩＴＯ電極ＩＴＯ１に電荷を蓄積することができ、これにより、液晶分子を必要な時間だけ確実に立たせることができるのである。したがって、薄膜トランジスタＴＦＴを設けることにより、液晶ＬＣを充分に駆動させることができることがわかる。
【００３０】
続いて、ＴＦＴアレイＴＦＡを形成したガラス基板ＧＳ１上には、配向膜ＡＦ１が形成されている。この配向膜ＡＦ１は、例えば、ポリイミド膜から形成されており、液晶分子の並ぶ方向を揃える役割を有している膜である。つまり、ＴＦＴアレイＴＦＡを形成したガラス基板ＧＳ１の表面にポリイミド膜を形成し、このポリイミド膜に対して「ラビング」処理を施すことにより配向膜ＡＦ１を形成することができる。「ラビング」とは擦るという意味であり、ナイロンなどでできたロール（刷毛）でポリイミド膜の表面を擦ると、擦ったところに微細な傷ができる。これにより、ポリイミド膜の表面に形成された微細な傷に沿って平行に液晶分子が並ぶというものである。したがって、配向膜ＡＦ１とは、ポリイミド膜の表面にラビング処理で微細な傷を形成した膜であり、液晶分子の並ぶ方向を揃える機能を有している。以上のようにしてＴＦＴガラス基板ＴＳが形成されている。
【００３１】
次に、カラーフィルタガラス基板ＣＳの構成について説明する。まず、液晶ＬＣに接するように配向膜ＡＦ２が形成されている。この配向膜ＡＦ２も、例えば、ポリイミド膜から形成されており、液晶分子の並ぶ方向を揃える役割を有している。つまり、カラーフィタガラス基板ＣＳの液晶ＬＣと接する側の表面にポリイミド膜を形成し、このポリイミド膜に対して「ラビング」処理を施すことにより配向膜ＡＦ２を形成することができる。「ラビング」とは擦るという意味であり、ナイロンなどでできたロール（刷毛）でポリイミド膜の表面を擦ると、擦ったところに微細な傷ができる。これにより、ポリイミド膜の表面に形成された微細な傷に沿って平行に液晶分子が並ぶというものである。したがって、配向膜ＡＦ２とは、ポリイミド膜の表面にラビング処理で微細な傷を形成した膜であり、液晶分子の並ぶ方向を揃える機能を有している。
【００３２】
続いて、配向膜ＡＦ２上にＩＴＯ電極ＩＴＯ２が形成されている。液晶ＬＣを駆動させるためには、液晶ＬＣの上下に電圧を印加する必要があり、液晶ＬＣの上下に電圧を印加するため、カラーフィルタガラス基板ＣＳにも電極を形成する必要がある。しかし、電極といっても、通常の金属電極を形成すると、通常の金属電極は光を透過させることができない。このため、液晶表示部ＤＵを構成するカラーフィルタガラス基板ＣＳにも、光を透過する物質で透明電極を形成する必要がある。このことから、カラーフィルタガラス基板ＣＳ上にＩＴＯ電極ＩＴＯ２が形成されている。つまり、ＩＴＯ電極ＩＴＯ２は、光を透過させることができる透明電極であるため、液晶表示部ＤＵに使用されている。このＩＴＯ電極ＩＴＯ２は、インジウムと、抵抗を下げるための少量のすずの酸化物を薄膜化し、液晶ＬＣに接する配向膜ＡＦ２上に形成されている。このようにして、ＴＦＴガラス基板ＴＳに形成されているＩＴＯ電極ＩＴＯ１と、カラーフィルタガラス基板ＣＳに形成されているＩＴＯ電極ＩＴＯ２により、液晶ＬＣは挟まれることになる。この結果、液晶ＬＣの上下に電圧を印加することができ、液晶ＬＣを駆動させることができることがわかる。
【００３３】
次に、ＩＴＯ電極ＩＴＯ２上には、カラーフィルタＣＦが形成されている。例えば、このカラーフィルタＣＦにより、３つの画素で１つの色情報を表すことができる。具体的には、３つの画素に、それぞれ、３原色の１つに対応した小さなフィルタをかけることにより、任意の色を表示することができるように構成されている。例えば、ある色を表示するためには、その色を赤（Ｒ）と緑（Ｇ）と青（Ｂ）の三原色の成分に分解し、それぞれを白黒の画素でその明るさを表示し、その白黒表示に対して、赤の成分に対応する画素には赤のフィルタ、緑の成分に対応する画素には緑のフィルタ、青の成分に対応する画素には青のフィルタをかける。この結果、それらの３原色が加法混色されて、もとの色が再現されるというものである。このようにカラーフィルタＣＦを設けることにより、液晶表示装置ＬＣＤに表示する画像のカラー化を実現することができる。
【００３４】
そして、カラーフィルタＣＦ上にガラス基板ＧＳ２が配置されている。ガラス基板ＧＳ２もガラス基板ＧＳ１と同様に、液晶表示装置ＬＣＤの表示性能を確保する必要があるため、一般的な窓ガラスなどと異なり、非常に表面が平滑で、かつ、表面にうねりなどがないことが要求される。つまり、ガラス基板ＧＳ２も、非常に平坦度の高いガラス基板から構成される。以上のようにして、カラーフィルタガラス基板ＣＳが形成されている。
【００３５】
＜液晶表示部の動作＞
本実施の形態１における液晶表示部ＤＵは上記のように構成されており、以下に、液晶表示部ＤＵの動作について図面を参照しながら説明する。具体的に、本実施の形態１では、ネマテック液晶を使用した動作について説明する。ネマテック液晶とは、長い形の分子がある方向に揃っている液晶であり、この揃っている方向をダイレクタと呼ぶ。
【００３６】
まず、図２に示すように、ＴＦＴガラス基板ＴＳとカラーフィルタガラス基板ＣＳの間に液晶ＬＣを挟むように入れておく。そして、ＴＦＴガラス基板ＴＳに接する領域において、液晶ＬＣはＴＦＴガラス基板ＴＳと平行に液晶分子が寝ているようにする。つまり、液晶ＬＣのダイレクタがＴＦＴガラス基板ＴＳに平行になるようにしておく。一方、カラーフィルタガラス基板ＣＳにおいても同様に、カラーフィルタガラス基板ＣＳに平行に液晶分子が寝ている状態にする。このとき、ＴＦＴガラス基板ＴＳ上で寝ている液晶分子の方向と、カラーフィルタ基板ＣＳの下でカラーフィルタ基板ＣＳと平行になっている液晶分子の方向とを９０度変えておく。この場合、ＴＦＴガラス基板ＴＳ上からカラーフィルタガラス基板ＣＳ下に行くに従って、液晶分子の向く方向は次第にねじれていき、ＴＦＴガラス基板ＴＳに接する領域における液晶分子の向いている方向と、カラーフィルタガラス基板ＣＳに接する領域における液晶分子の向いている方向とは、９０度ねじれることになる。
【００３７】
上述した構成を前提として、図３に示すように、液晶ＬＣを挟むように偏光板ＰＬ１と偏光板ＰＬ２が配置されており、偏光板ＰＬ１で透過する光の振動方向（ａ方向）と、偏光板ＰＬ２で透過する光の振動方向（ｂ方向）は互いに直交するように偏光板ＰＬと偏光板ＰＬ２が配置されている。このとき、図３に示すように、偏光板ＰＬ１の表面において、液晶分子の揃っている方向は、偏光板ＰＬ１が通過させる光の振動方向と同じ方向になるように液晶分子が配置されている。つまり、液晶分子は、偏光板ＰＬ１を透過する光の振動方向と同じ向きに揃っているのである。同様に、偏光板ＰＬ２についても、同じように液晶分子の揃っている方向を、偏光板ＰＬ２が透過する光の振動方向と平行になるように配置する。ここで、偏光板ＰＬ１と偏光板ＰＬ２とは、通過させる光の振動方向が互いに直角となっていることから、液晶ＬＣが存在しなければ、バックライトから偏光板ＰＬ１に入射した光は、偏光板ＰＬ２を透過できないと考えられる。
【００３８】
ところが、偏光板ＰＬ１と偏光板ＰＬ２に挟まれた液晶ＬＣを構成する液晶分子は、偏光板ＰＬ１と偏光板ＰＬ２の間で、偏光板ＰＬ１を透過する光の振動方向から偏光板ＰＬ２を透過する光の振動方向へ次第に向きを変えている。つまり、液晶分子は、偏光板ＰＬ１から偏光板ＰＬ２に向うに連れて並び方（液晶分子が揃っている方向）が９０度変化する。この結果、バックライトから偏光板ＰＬ１に光を入射すると、偏光板ＰＬ１を通過した光（偏光光）は、液晶分子のねじれた並び方に沿って進み、光の振動方向が９０度変えられた状態で偏光板ＰＬ２に到達する。このとき、偏光板ＰＬ２に到達した光の振動方向は、液晶分子のねじれた並び方によって、偏光板ＰＬ２を透過する光の振動方向と同じ方向に変えられているので、偏光板ＰＬ２を透過する。すなわち、バックライトから偏光板ＰＬ１に入射した光は、液晶分子によって振動方向が９０度変化し、その結果、偏光板ＰＬ２を透過することができるのである。
【００３９】
このように、液晶ＬＣにおける光の振動方向を変える性質は「施光性」と呼ばれる。すなわち、ネマテック液晶では、液晶分子の並び方をねじらせることにより、互いに直交する偏光板ＰＬ１と偏光板ＰＬ２の間で光を透過させることができるのである。以上のように、液晶ＬＣに電圧を印加しない状態では、光が透過できるようになっている。したがって、本実施の形態１における液晶表示装置では、液晶ＬＣに電圧を印加しない場合、画素を白表示させることがわかる。
【００４０】
続いて、液晶ＬＣを挟む上下電極（図２のＩＴＯ電極ＩＴＯ１とＩＴＯ電極ＩＴＯ２）に電圧を印加する場合を考える。この場合、図４に示すように、液晶ＬＣを構成する液晶分子は、ねじれた並び方を解消し、偏光板ＰＬ１および偏光板ＰＬ２に対して、垂直にまっすぐ立つようになる。この結果、液晶分子の施光性は失われ、偏光板ＰＬ１を通過した光は、液晶ＬＣ内を通過しても、なんら振動方向を変えることなく、偏光板ＰＬ２に達する。ここで、偏光板ＰＬ１を通過する光の振動方向と、偏光板ＰＬ２を通過する光の振動方向は、直交しているので、偏光板ＰＬ１を通過した後、振動方向を変えることなく、偏光板ＰＬ２に達した光は、偏光板ＰＬ２を通過することができない。したがって、液晶ＬＣを挟む上下電極（図２のＩＴＯ電極ＩＴＯ１とＩＴＯ電極ＩＴＯ２）に電圧を印加した画素は黒表示になることがわかる。以上のように、液晶ＬＣを挟む上下電極（図２のＩＴＯ電極ＩＴＯ１とＩＴＯ電極ＩＴＯ２）に電圧を印加しない場合には、白表示を行うことができる一方、液晶ＬＣを挟む上下電極（図２のＩＴＯ電極ＩＴＯ１とＩＴＯ電極ＩＴＯ２）に電圧を印加する場合には、黒表示を行うことができることがわかる。この結果、画素ごとに白表示や黒表示を行うことにより、任意の文字や図形を画面上に表示させることができるのである。
【００４１】
上述したように、液晶ＬＣを挟む上下電極（図２のＩＴＯ電極ＩＴＯ１とＩＴＯ電極ＩＴＯ２）に電圧を印加しない場合、ＴＦＴガラス基板ＴＳ上からカラーフィルタガラス基板ＣＳ下に行くに従って、液晶分子の向く方向を次第にねじらせる必要がある。具体的には、ＴＦＴガラス基板ＴＳに接する領域における液晶分子の向いている方向と、カラーフィルタガラス基板ＣＳに接する領域における液晶分子の向いている方向とを、９０度ねじれるように液晶分子を配置する必要がある。このような液晶分子の配置を実現することが画像表示を行う観点から重要であるが、この液晶分子の配置は配向膜を利用することにより実現することができる。
【００４２】
具体的に、図３や図４に示す配向膜ＡＦ１は、ＴＦＴガラス基板ＴＳの表面にポリイミド膜を形成し、このポリイミド膜に対してラビングすることにより形成することができる。同様に、図３や図４に示す配向膜ＡＦ２は、カラーフィルタガラス基板ＣＳの表面のポリイミド膜を形成し、このポリイミド膜に対してラビングすることにより形成することができる。ラビングとは擦るという意味であり、ナイロンなどでできたロール（刷毛）でポリイミド膜の表面を擦ると、擦ったところに微細な傷ができる。これにより、ポリイミド膜の表面に形成された微細な傷に沿って平行に液晶分子が並ぶという性質を利用して、液晶分子の配置方向を制御するものである。したがって、例えば、ＴＦＴガラス基板ＴＳに形成されているポリイミド膜の擦る方向と、カラーフィルタガラス基板ＣＳに形成されているポリイミド膜の擦る方向とを、ちょうど９０度違うようにすることにより、液晶分子の並ぶ方向を、ＴＦＴガラス基板ＴＳとカラーフィルタガラス基板ＣＳの間で次第に９０度変化するようにすることができるのである。以上のことから、配向膜ＡＦ１および配向膜ＡＦ２の役割は重要であり、本実施の形態１における技術的思想は、この配向膜ＡＦ１および配向膜ＡＦ２の製造工程に関するものである。
【００４３】
＜液晶表示装置の製造方法＞
以下では、液晶表示装置の製造方法について図面を参照しながら説明する。図５は、液晶表示装置を製造する製造工程の流れを示すフローチャートである。まず、図５に示すＴＦＴガラス基板とカラーフィルタガラス基板をガラス基板から形成する。
【００４４】
具体的には、ガラス基板を用意し、このガラス基板に対して、洗浄技術、フォトリソグラフィ技術、エッチング技術およびアッシング技術を繰り返し使用することにより、ガラス基板に薄膜トランジスタを形成する。これにより、ガラス基板の表面に薄膜トランジスタを形成したＴＦＴガラス基板を得ることができる（Ｓ１０１）。続いて、ＴＦＴガラス基板に対して洗浄処理を実施した後（Ｓ１０２）、ＴＦＴガラス基板の表面に、例えば、ポリイミド膜からなる配向膜を塗布する（Ｓ１０３）。その後、配向膜を形成したＴＦＴガラス基板の表面をラビングする（Ｓ１０４）。これにより、所定方向に揃った微細な傷を有する配向膜をＴＦＴガラス基板の表面に形成することができる。そして、ＴＦＴガラス基板に対してラビングを実施した後、ＴＦＴガラス基板の表面を洗浄する（Ｓ１０５）。その後、ＴＦＴガラス基板の表面にシール剤を塗布する（Ｓ１０６）。
【００４５】
一方、ガラス基板を用意し、このガラス基板に対して、ブラックマトリックスを形成した後、顔料分散法、染色法、電着法あるいは印刷法などを使用することにより、ガラス基板にカラーフィルタを形成する。これにより、ガラス基板の表面にカラーフィルタを形成したカラーフィルタガラス基板を得ることができる（Ｓ１０７）。続いて、カラーフィルタガラス基板に対して洗浄処理を実施した後（Ｓ１０８）、カラーフィルタガラス基板の表面に、例えば、ポリイミド膜からなる配向膜を塗布する（Ｓ１０９）。その後、配向膜を形成したカラーフィルタガラス基板の表面をラビングする（Ｓ１１０）。これにより、所定方向に揃った微細な傷を有する配向膜をカラーフィルタガラス基板の表面に形成することができる。そして、カラーフィルタガラス基板に対してラビングを実施した後、カラーフィルタガラス基板の表面を洗浄する（Ｓ１１１）。その後、カラーフィルタガラス基板の表面にスペーサを塗布する（Ｓ１１２）。
【００４６】
次に、シール剤と塗布したＴＦＴガラス基板と、スペーサを塗布したカラーフィルタガラス基板とを貼り合せた後（Ｓ１１３）、貼り合せたＴＦＴガラス基板とカラーフィルタガラス基板に対してスクライブ（分断）する（Ｓ１１４）。これにより、貼り合せたＴＦＴガラス基板とカラーフィルタガラス基板は、個々の液晶表示装置のサイズに切断されることになる。その後、シール剤とスペーサによって確保されているＴＦＴガラス基板とカラーフィルタガラス基板との間の隙間に液晶を注入する（Ｓ１１５）。そして、液晶を注入した隙間（空間）を封止する（Ｓ１１６）。
【００４７】
続いて、貼り合せたＴＦＴガラス基板とカラーフィルタガラス基板を挟むように一対の偏光板を貼り付けた後（Ｓ１１７）、検査を実施する（Ｓ１１８）。このようにして液晶パネルを製造することができる。そして、製造された液晶パネルに対して、液晶パネルを駆動するための駆動回路を圧着した後（Ｓ１１９）、さらに、液晶パネルにバックライトを着装する（Ｓ１２０）。次に、バックライトおよび駆動回路を実装した液晶パネルに対して検査を実施し（Ｓ１２１）、最終的に、液晶表示装置が完成する（Ｓ１２２）。
【００４８】
以上のようにして、液晶表示装置を製造することができる。本実施の形態１では、上述した液晶表示装置の製造工程のうち、ＴＦＴガラス基板の表面に配向膜を塗布する配向膜塗布工程（Ｓ１０３）やカラーフィルタガラス基板の表面に配向膜を塗布する配向膜塗布工程（Ｓ１０９）に着目する。つまり、本実施の形態１における技術的思想は、配向膜塗布工程（Ｓ１０３、Ｓ１０９）で実施される。以下では、まず、配向膜塗布工程（Ｓ１０３、Ｓ１０９）での現状の問題点を説明し、その後、その問題点を解決する工夫を施した本実施の形態１における技術的思想について説明する。
【００４９】
＜配向膜塗布工程における現状の問題点＞
液晶表示装置、特に、中小型の液晶表示装置では、表示面積をできるだけ確保する観点から、ガラス基板のうち液晶表示部が形成されない額縁領域をできるだけ狭くする要求がある。具体的には、額縁領域の幅を１ｍｍ程度にする要求があるが、現状の配向膜塗布工程では、額縁領域の幅を２ｍｍ程度にすることが限界である。以下に、現状の配向膜塗布工程について図面を参照しながら説明する。
【００５０】
まず、第１現状技術について説明する。図６は、配向膜塗布工程で使用する第１現状技術を示す模式図である。この第１現状技術は、フレキソ印刷装置を使用した技術である。図６に示すように、フレキソ印刷装置を使用した第１現状技術では、ローラ形状をしたフレキソ印刷装置ＦＰに、例えば、ポリイミドを含むインクＩＮＫを垂らしながら、ローラ形状のフレキソ印刷装置ＦＰをガラス基板ＧＳ（ＴＦＴガラス基板あるいはカラーフィルタガラス基板を総称してガラス基板ＧＳと呼ぶ）上を転がす。これにより、ガラス基板ＧＳ上にインクＩＮＫを付着させて、インクＩＮＫからなる配向膜ＡＦをガラス基板ＧＳ上に塗布する。この第１現状技術では、ガラス基板ＧＳに形成されているスルーホールやパターン段差（例えば、薄膜トランジスタの形成パターン）に起因した凹凸形状ＮＦがあっても、配向膜ＡＦの平坦性を確保することができる。しかし、フレキソ印刷装置ＦＰにインクＩＮＫを垂らしながら、フレキソ印刷装置ＦＰを回転させてガラス基板ＧＳ上に配向膜ＡＦを塗布する構成であるため、材料であるインクＩＮＫの材料使用効率が悪いという問題点がある。さらに、重要な問題点は、フレキソ印刷装置ＦＰの回転精度やフレキソ印刷装置ＦＰに垂らすインクＩＮＫの位置精度などから、ガラス基板ＧＳの額縁領域の幅Ｌ１を２ｍｍ程度確保する必要がある点である。つまり、フレキソ印刷装置ＦＰを使用した第１現状技術では、額縁領域の幅を２ｍｍ程度にすることが限界であり、額縁領域の幅を１ｍｍ程度にする要求を満たすことができない問題点がある。この結果、表示面積をできるだけ大きくした液晶表示装置を製造することが困難となる。
【００５１】
次に、第２現状技術について説明する。図７は、配向膜塗布工程で使用する第２現状技術を示す模式図である。この第２現状技術は、常圧（大気圧）下でのインクジェット装置を使用した技術である。図７に示すように、大気圧下でのインクジェット装置を使用した第２現状技術では、インクジェットヘッドＩＪＨの噴射孔ＨＬからインクＩＮＫをガラス基板ＧＳに向って噴射することにより、ガラス基板ＧＳに配向膜ＡＦを塗布する。この第２現状技術では、大気圧下でインクＩＮＫを噴射しているため、ガラス基板ＧＳに塗布されたインクＩＮＫが乾くまである程度時間がかかる。このため、ガラス基板ＧＳに形成されているスルーホールやパターン段差（例えば、薄膜トランジスタの形成パターン）に起因した凹凸形状ＮＦがあっても、ガラス基板ＧＳに塗布されたインクＩＮＫがレベリング（平坦化）し、配向膜ＡＦの平坦性を確保することができる。しかし、大気圧下でインクＩＮＫを噴射しているため、噴射孔ＨＬから射出されるインクＩＮＫが大気による流れ（ゆらぎ）によって影響を受けやすくなる。つまり、大気の影響により、インクジェットヘッドＩＪＨからのインクＩＮＫの飛び方にばらつきが生じやすくなるため、ガラス基板ＧＳの額縁領域の幅Ｌ１を２ｍｍ程度確保する必要がある。つまり、大気圧下でのインクジェット装置を使用した第２現状技術でも、額縁領域の幅を２ｍｍ程度にすることが限界であり、額縁領域の幅を１ｍｍ程度にする要求を満たすことができない問題点がある。この結果、表示面積をできるだけ大きくした液晶表示装置を製造することが困難となる。
【００５２】
続いて、第３現状技術について説明する。図８は、配向膜塗布工程で使用する第３現状技術を示す模式図である。この第３現状技術は、減圧下（例えば、３０ｋｐａ）でのインクジェット装置を使用した技術である。図８に示すように、減圧下でのインクジェット装置を使用した第３現状技術では、インクジェットヘッドＩＪＨの噴射孔ＨＬからインクＩＮＫをガラス基板ＧＳに向って噴射することにより、ガラス基板ＧＳに配向膜ＡＦを塗布する。この第３現状技術では、減圧下でインクＩＮＫを噴射しているため、噴射孔ＨＬから射出されるインクＩＮＫが空気による流れ（ゆらぎ）の影響を受けにくくなる。つまり、減圧状態にあるため、空気の影響が小さくなり、インクジェットヘッドＩＪＨからのインクＩＮＫの飛び方にばらつきが生じにくくなる。このため、印刷塗布精度を向上させることができ、ガラス基板ＧＳの額縁領域の幅Ｌ２を１ｍｍ程度にする要求を満たすことができる。しかし、この第３現状技術では、減圧下でインクＩＮＫを噴射しているため、ガラス基板ＧＳに塗布されたインクＩＮＫの速乾性が高くなる。このため、ガラス基板ＧＳに形成されているスルーホールやパターン段差（例えば、薄膜トランジスタの形成パターン）に起因した凹凸形状ＮＦがあると、ガラス基板ＧＳに塗布されたインクＩＮＫがレベリングする前にインクＩＮＫが乾燥し、配向膜ＡＦの表面に凹凸形状ＮＦを反映した凹凸が形成されてしまう問題点がある。このように配向膜ＡＦの表面に凹凸が発生すると、液晶表示装置に表示ムラを発生させる原因となり、液晶表示装置の性能低下を招くことになる。
【００５３】
以上のことから、上述した第１現状技術〜第３現状技術では、配向膜をガラス基板に平坦性よく塗布することができ、かつ、額縁領域をできるだけ狭くすることができる印刷塗布方法を実現できていないことがわかる。そこで、本実施の形態１における印刷塗布方法では、配向膜をガラス基板に平坦性よく塗布することができ、かつ、額縁領域をできるだけ狭くすることができる工夫を施している。以下に、この工夫を施した本実施の形態１における印刷塗布方法について説明する。
【００５４】
＜本実施の形態１における印刷塗布装置＞
まず、本実施の形態１における印刷塗布方法で使用するインクジェット塗布装置（印刷塗布装置）ＩＪＡの構成について説明する。図９は、本実施の形態１におけるインクジェット塗布装置ＩＪＡの構成を示す図である。図９に示すように、本実施の形態１におけるインクジェット塗布装置ＩＪＡは、チャンバ（筐体）ＣＢを有し、このチャンバＣＢ内にステージＳＴおよびインクジェットヘッドＩＪＨが配置されている。そして、ステージＳＴは、基板を配置できるように構成されており、ステージＳＴは基板を配置した状態で水平方向に移動できるようになっている。一方、ステージＳＴの上方には、インクジェットヘッドＩＪＨが配置されており、このインクジェットヘッドＩＪＨからインクが噴射されて、ステージＳＴ上に配置された基板にインクからなる配向膜を塗布（印刷）することができるように構成されている。そして、ステージＳＴおよびインクジェットヘッドＩＪＨが配置されているチャンバＣＢ内は、例えば、真空ポンプなどによって３０ｋｐａ程度の減圧下することができるとともに、大気圧（常圧）状態に維持することもできるように構成されている。つまり、本実施の形態１におけるインクジェット塗布装置ＩＪＡは、３０ｋｐａ程度の減圧下や大気圧下（常圧下）の両方で動作できるように構成されている。
【００５５】
＜本実施の形態１における印刷塗布方法＞
本実施の形態１におけるインクジェット塗布装置ＩＪＡは上記のように構成されており、以下にその動作について説明する。このインクジェット塗布装置ＩＪＡにおける動作を説明することにより、本実施の形態１における印刷塗布方法が説明される。
【００５６】
図１０は、本実施の形態１におけるインクジェット塗布装置ＩＪＡでの動作を説明するフローチャートである。この図１０に示すフローチャートを参照しながら、本実施の形態１におけるインクジェット塗布装置ＩＪＡの動作について説明する。
【００５７】
まず、インクジェット塗布装置ＩＪＡ内に設けられているステージＳＴ上にガラス基板を配置する（Ｓ２０１）。ガラス基板は、例えば、薄膜トランジスタが形成されたＴＦＴガラス基板や、カラーフィルタが形成されたカラーフィルタガラス基板である。したがって、このガラス基板の表面にはスルーホールやパターン段差（例えば、薄膜トランジスタのパターンによる段差）が存在し、凹凸形状が形成されている。
【００５８】
続いて、チャンバＣＢ内の圧力を減圧化する。具体的には、例えば、真空ポンプなどによって、チャンバＣＢ内の圧力を３０ｋｐａ程度に減圧する（Ｓ２０２）。なお、先にチャンバＣＢ内の圧力を減圧してから、インクジェット塗布装置ＩＪＡ内に設けられているステージＳＴ上にガラス基板を配置してもよい。その後、チャンバＣＢ内を減圧下に維持した状態で、ステージＳＴ上に配置されているガラス基板の外周部にだけインクを塗布する（Ｓ２０３）。例えば、インクジェットヘッドＩＪＨの噴射孔から噴射するインクを制御することにより、ガラス基板の外周部にだけインクを塗布する。これにより、ガラス基板の外周部にだけ配向膜が塗布（印刷）される。
【００５９】
次に、例えば、チャンバＣＢ内を開放することにより、チャンバＣＢ内の圧力を常圧化（大気圧化）する（Ｓ２０４）。そして、チャンバＣＢ内の圧力を常圧下（大気圧下）に維持した状態で、ステージＳＴ上に配置されているガラス基板の内周部にインクを塗布する（Ｓ２０５）。例えば、インクジェットヘッドＩＪＨの噴射孔から噴射するインクを制御することにより、ガラス基板の内周部インクを塗布する。これにより、ガラス基板の外周部だけでなく、外周部の内側領域である内周部にも配向膜が塗布（印刷）される。以上のようにして、ガラス基板上に配向膜を塗布することができる。
【００６０】
以下では、図１１を参照しながら、本実施の形態１における印刷塗布方法について、さらに詳細に説明する。まず、インクジェット塗布装置内に設けられているステージ上にガラス基板を配置した後、チャンバ内の圧力を減圧化する。具体的には、例えば、真空ポンプなどによって、チャンバ内の圧力を３０ｋｐａ程度に減圧する。そして、図１１の左図に示すように、チャンバ内を減圧下に維持した状態で、ステージ上に配置されているガラス基板ＧＳの外周部にだけインクＩＮＫを塗布する。例えば、インクジェットヘッドＩＪＨからのインクＩＮＫの噴射を制御することにより、ガラス基板ＧＳの外周部にだけインクＩＮＫを塗布（印刷）する。このとき、インクＩＮＫは、減圧状態でインクジェットヘッドＩＪＨの噴射孔ＨＬから噴射されるので、噴射孔ＨＬから射出されるインクＩＮＫが空気による流れ（ゆらぎ）の影響を受けにくくなる。つまり、減圧状態にあるため、空気の影響が小さくなり、インクジェットヘッドＩＪＨからのインクＩＮＫの飛び方にばらつきが生じにくくなる。このため、印刷塗布精度を向上させることができ、ガラス基板ＧＳの額縁領域の幅Ｌ２を狭く（１ｍｍ程度）することができる。つまり、本実施の形態１の特徴は、まず、減圧状態で、インクジェットヘッドＩＪＨの噴射孔ＨＬからインクＩＮＫを噴射し、ガラス基板ＧＳの外周部にインクＩＮＫからなる配向膜ＡＦを形成する点にある。これにより、第１に、インクジェットヘッドＩＪＨからのインクＩＮＫの噴射の際、空気の流れ（ゆらぎ）による影響を受けにくくなるので、位置精度良くガラス基板ＧＳの外周部にインクＩＮＫを印刷することができる。さらに、第２に、ガラス基板ＧＳに塗布されたインクＩＮＫは、減圧状態に置かれているので、速乾性が高く、ガラス基板ＧＳに塗布された後、直ぐに乾燥する。このため、インクＩＮＫは、ガラス基板ＧＳに塗布された後に移動することなく固まるので、設定された塗布位置からずれることを抑制できる。このように本実施の形態１によれば、減圧下でインクジェットヘッドＩＪＨからインクＩＮＫを噴射することにより、空気の流れ（ゆらぎ）による影響を受けにくくなるという第１利点と、速乾性が高く、ガラス基板ＧＳに塗布された後、直ぐに乾燥するので位置ずれが起きにくいという第２利点により、精度良くガラス基板ＧＳの外周部に配向膜ＡＦを塗布することができる。この結果、本実施の形態１によれば、ガラス基板ＧＳの外周部の外側となる額縁領域の幅Ｌ２（例えば、１ｍｍ程度）をきわめて狭くすることができる。
【００６１】
続いて、チャンバ内の圧力を大気圧（常圧）に回復した後、図１１の右図に示すように、チャンバ内を大気圧下に維持した状態で、ステージ上に配置されているガラス基板ＧＳの外周部よりも内側領域である内周部にインクＩＮＫを塗布する。例えば、インクジェットヘッドＩＪＨからのインクＩＮＫの噴射を制御することにより、ガラス基板ＧＳの内周部にインクＩＮＫを塗布（印刷）する。このとき、インクＩＮＫは、大気圧状態でインクジェットヘッドＩＪＨの噴射孔ＨＬから噴射されるので、噴射孔ＨＬから射出されるインクＩＮＫが空気による流れ（ゆらぎ）の影響を受けやすくなるが、既に、ガラス基板ＧＳの外周部には減圧下で塗布した配向膜ＡＦが形成されているので、この外周部に形成された配向膜ＡＦが、例えば土手ＢＫとして機能し、内周部に塗布されたインクＩＮＫが外周部の外側に漏れ出ることを防止できる。すなわち、既に、外周部に形成された配向膜ＡＦが、内周部に塗布されたインクＩＮＫが外周部よりも外側にはみでることを防止できるので、ガラス基板ＧＳの外周部の外側に形成されている額縁領域と配向膜ＡＦが形成されている領域との境界領域の位置精度は、減圧下で外周部に形成された配向膜ＡＦにより規定されることになる。この結果、配向膜ＡＦの外側境界を精度良く位置決めされることになるので、額縁領域を狭くすることができる。
【００６２】
一方、チャンバ内を大気圧下に維持した状態で、ステージ上に配置されているガラス基板ＧＳの外周部よりも内側領域である内周部にインクＩＮＫを塗布する場合、ガラス基板ＧＳに塗布されたインクＩＮＫが乾くまで、減圧状態よりも、より時間がかかる。このため、ガラス基板ＧＳに形成されているスルーホールやパターン段差（例えば、薄膜トランジスタの形成パターン）に起因した凹凸形状ＮＦがあっても、ガラス基板ＧＳに塗布されたインクＩＮＫがレベリング（平坦化）し、配向膜ＡＦの平坦性を確保することができるのである。
【００６３】
以上のように本実施の形態１では、まず、減圧状態でガラス基板ＧＳの外周部にインクジェットヘッドＩＪＨによってインクＩＮＫを噴射して配向膜ＡＦを形成することにより、精度良くガラス基板ＧＳの外周部に配向膜ＡＦを形成することができる。したがって、本実施の形態１における印刷塗布方法によれば、外周部に形成される配向膜ＡＦの位置精度を向上させることができるので、額縁領域の幅Ｌ２を狭くすることができる。この結果、液晶表示装置の表示領域を大きくすることができる。
【００６４】
一方で、ガラス基板ＧＳの外周部よりも内側領域である内周部においては、チャンバ内を大気圧下に維持した状態で、内周部にインクＩＮＫを塗布することができる。したがって、減圧状態よりも速乾性を低くして乾きにくくできるため、インクＩＮＫの液状状態を長くすることができ、ガラス基板ＧＳの凹凸を吸収して、配向膜ＡＦの表面の平坦性を向上することができる。つまり、大気圧下でインクＩＮＫを塗布（印刷）することにより、液状化したインクＩＮＫのレベリング（平坦化）機能を充分に発揮させることができるので、凹凸が存在するガラス基板ＧＳの内周部に形成される配向膜ＡＦの表面での平坦性を向上させることができる。したがって、本実施の形態１における印刷塗布方法によれば、ガラス基板ＧＳの額縁領域をできるだけ狭くすることができ、かつ、ガラス基板ＧＳに形成される配向膜ＡＦの平坦性を向上させることができるという従来技術では実現できない顕著な効果を得ることができるのである。この結果、本実施の形態１によれば、まず、額縁領域をできるだけ狭くすることができるので、液晶表示装置の表示面積を大きくすることができる。そして、ガラス基板ＧＳに形成される配向膜ＡＦの平坦性を向上させることができるので、配向膜ＡＦの表面の凹凸に起因した表示ムラを抑制することができ、液晶表示装置の性能向上を図ることができる。
【００６５】
本実施の形態１における技術的思想は、減圧下でインクジェットヘッドＩＪＨからインクＩＮＫを噴射する印刷塗布方法の利点である位置精度良く配向膜ＡＦを形成できる第１特徴点と、大気圧下でインクジェットヘッドＩＪＨからインクＩＮＫを噴射する印刷塗布方法の利点であるガラス基板ＧＳの凹凸に関係なく配向膜ＡＦの平坦性を向上できる第２特徴点を最大限に発揮できるように構成している点に特徴がある。つまり、本実施の形態１では、上述した第１特徴点を考慮して、ガラス基板ＧＳの外周部だけに位置精度良く配向膜ＡＦを形成できれば、額縁領域をできるだけ狭くできる点に着目し、かつ、上述した第２特徴点を考慮して、凹凸のあるガラス基板ＧＳの内周部だけにレベリング機能を充分発揮できればよい点に着目して、本実施の形態１における印刷塗布方法を実現しているものである。
【００６６】
言い換えれば、減圧下でのインクジェット塗布方法のデメリットは、インクＩＮＫの速乾性が高く、ガラス基板ＧＳの凹凸を反映して配向膜ＡＦが形成されてしまう点を的確に把握し、凹凸のないガラス基板の外周部にだけ配向膜ＡＦを形成する場合には、減圧下でのインクジェット塗布方法のデメリットが顕在化しないという点に着目している。そして、大気圧下でのインクジェット塗布方法のデメリットは、塗布するインクＩＮＫの位置精度が良くない点を的確に把握し、額縁領域との境界領域であるガラス基板ＧＳの外周部ではなく、内周部にだけ配向膜ＡＦを形成する場合には、大気圧下でのインクジェット塗布方法のデメリットは顕在化しないという点に着目している。
【００６７】
これにより、本実施の形態１における印刷塗布方法は、減圧下でのインクジェット塗布方法のメリットと、大気圧下でのインクジェット塗布方法のメリットとを充分に発揮させるとともに、減圧下でのインクジェット塗布方法のデメリットと、大気圧下でのインクジェット塗布方法のデメリットが顕在化しないように構成された優れた技術的思想となっている。
【００６８】
＜本実施の形態１における効果＞
本実施の形態１における効果をまとめると以下のようになる。
【００６９】
（１）減圧状態でガラス基板ＧＳの外周部にインクジェットヘッドＩＪＨによってインクＩＮＫを噴射して、配向膜ＡＦを形成することにより、精度良くガラス基板ＧＳの外周部に配向膜ＡＦを形成することができる。したがって、本実施の形態１における印刷塗布方法によれば、外周部に形成される配向膜ＡＦの位置精度を向上させることができるので、額縁領域の幅Ｌ２を狭くすることができる。この結果、液晶表示装置の表示領域を大きくすることができる。
【００７０】
（２）ガラス基板ＧＳの外周部よりも内側領域である内周部においては、チャンバ内を大気圧下に維持した状態で、内周部にインクＩＮＫを塗布することができる。したがって、減圧状態よりも速乾性を低くして乾きにくくできるため、インクＩＮＫの液状状態を長くすることができ、ガラス基板ＧＳの凹凸を吸収して、配向膜ＡＦの表面の平坦性を向上することができる。つまり、大気圧下でインクＩＮＫを塗布（印刷）することにより、液状化したインクＩＮＫのレベリング（平坦化）機能を充分に発揮させることができるので、凹凸が存在するガラス基板ＧＳの内周部に形成される配向膜ＡＦの表面での平坦性を向上させることができる。
【００７１】
（３）本実施の形態１における印刷塗布方法によれば、上述した（１）と（２）の効果を同時に得ることができる。つまり、本実施の形態１における印刷塗布方法によれば、ガラス基板ＧＳの額縁領域をできるだけ狭くすることができ、かつ、ガラス基板ＧＳに形成される配向膜ＡＦの平坦性を向上させることができるという従来技術では実現できない顕著な効果を得ることができる。
【００７２】
（４）さらに、本実施の形態１によれば、減圧状態でガラス基板ＧＳの外周部にインクジェットヘッドＩＪＨによってインクＩＮＫを噴射する場合と、チャンバ内を大気圧下に維持した状態で、内周部にインクＩＮＫを塗布する場合の両方で、同一種類のインクＩＮＫを使用することができる。このことから、複数種類のインクＩＮＫを使用しなくてもよいので、液晶表示装置のコスト削減を図ることができる。
【００７３】
例えば、本実施の形態１は、減圧状態と常圧状態で同一種類のインクＩＮＫを使用した場合に、インクＩＮＫ自体の乾燥性を相違させることができる点に着目した技術的思想である。この技術的思想によれば、使用するインクＩＮＫを一種類にすることができるので、液晶表示装置のコストを削減できる顕著な効果を得ることができる。これに対し、例えば、圧力は一定にして、乾燥性の異なる複数種類のインクを使用する技術も考えられる。すなわち、速乾性の高いインクを使用してガラス基板の外周部に配向膜を形成し、その後、速乾性の低いインクを使用してガラス基板の内周部に配向膜を形成することも考えられる。しかし、この技術の場合、性質の異なる複数種類のインクが必要となるため、液晶表示装置のコストが上昇してしまう。したがって、減圧状態と常圧状態で同一種類のインクＩＮＫを使用することにより、インクＩＮＫ自体の乾燥性を相違させるという本実施の形態１における技術的思想は、額縁領域の幅を狭くし、かつ、液晶表示装置の性能向上を図るとともに、液晶表示装置のコスト削減も図ことができる点からも優れた技術的思想であるということができる。
【００７４】
（５）また、本実施の形態１で使用するガラス基板ＧＳは、ＴＦＴガラス基板でもよいし、カラーフィルタガラス基板であってもよいが、特に、ＴＦＴガラス基板に使用する場合に顕著な効果を得ることができる。なぜなら、ＴＦＴガラス基板には、薄膜トランジスタやスルーホールなどが形成されており、カラーフィルタガラス基板よりも表面の凹凸形状が大きくなる傾向があるからである。つまり、このように凹凸形状の大きなＴＦＴガラス基板でも、本実施の形態１における印刷塗布方法を適用することにより、ＴＦＴガラス基板上に平坦性の高い配向膜ＡＦを形成することができるのである。
【００７５】
＜本実施の形態１の変形例＞
次に、本実施の形態１の変形例１について説明する。図１２は、変形例１における印刷塗布方法を示す図である。本変形例１においても、まず、インクジェット塗布装置内に設けられているステージ上にガラス基板を配置した後、チャンバ内の圧力を減圧化する。具体的には、例えば、真空ポンプなどによって、チャンバ内の圧力を３０ｋｐａ程度に減圧する。そして、図１２の左図に示すように、チャンバ内を減圧下に維持した状態で、ステージ上に配置されているガラス基板ＧＳの外周部と縦方向に延在する中心線に沿ってインクＩＮＫを塗布する。例えば、インクジェットヘッドＩＪＨからのインクＩＮＫの噴射を制御することにより、ガラス基板ＧＳの外周部と縦方向に延在する中心線に沿ってインクＩＮＫを塗布（印刷）する。これにより、ガラス基板ＧＳの外周部に配向膜ＡＦからなる土手ＢＫ１を形成することができるとともに、ガラス基板ＧＳの縦方向に延在する中心線上に配向膜ＡＦからなる土手ＢＫ２を形成することができる。このとき、インクＩＮＫは、減圧状態でインクジェットヘッドＩＪＨの噴射孔ＨＬから噴射されるので、噴射孔ＨＬから射出されるインクＩＮＫが空気による流れ（ゆらぎ）の影響を受けにくくなる。つまり、減圧状態にあるため、空気の影響が小さくなり、インクジェットヘッドＩＪＨからのインクＩＮＫの飛び方にばらつきが生じにくくなる。このため、印刷塗布精度を向上させることができ、ガラス基板ＧＳの額縁領域の幅Ｌ２を狭く（１ｍｍ程度）することができる。
【００７６】
続いて、チャンバ内の圧力を大気圧（常圧）に回復した後、図１２の右図に示すように、チャンバ内を大気圧下に維持した状態で、ステージ上に配置されているガラス基板ＧＳの外周部（土手ＢＫ１）と縦方向に延在する中心線（土手ＢＫ２）によって区分けされた内周部にインクＩＮＫを塗布する。例えば、インクジェットヘッドＩＪＨからのインクＩＮＫの噴射を制御することにより、ガラス基板ＧＳの内周部にインクＩＮＫを塗布（印刷）する。このとき、インクＩＮＫは、大気圧状態でインクジェットヘッドＩＪＨの噴射孔ＨＬから噴射されるので、噴射孔ＨＬから射出されるインクＩＮＫが空気による流れ（ゆらぎ）の影響を受けやすくなるが、既に、ガラス基板ＧＳの外周部には減圧下で塗布した配向膜ＡＦが形成されているので、この外周部に形成された配向膜ＡＦが、例えば土手として機能し、内周部に塗布されたインクＩＮＫが外周部の外側に漏れ出ることを防止できる。
【００７７】
ここで、本変形例１では、図１２の左図に示すように、ガラス基板ＧＳに土手ＢＫ１と土手ＢＫ２が形成されており、特に、ガラス基板ＧＳの内周部は土手ＢＫ２によって区切られている。すなわち、ガラス基板ＧＳの内周部は、土手ＢＫ２によって小さな領域に分割（２分割）されていることになる。この結果、本変形例１によれば、チャンバ内を大気圧下に維持した状態で、ステージ上に配置されているガラス基板ＧＳの内周部にインクＩＮＫを塗布する場合、土手ＢＫ２によって区切られた小さな領域ごとにインクＩＮＫが塗布される。このため、本変形例１によれば、液状のインクＩＮＫがレベリング（平坦化）しやすくなるという利点が得られる。
【００７８】
続いて、本実施の形態１の変形例２について説明する。図１３は、変形例２における印刷塗布方法を示す図である。本変形例２においても、まず、インクジェット塗布装置内に設けられているステージ上にガラス基板を配置した後、チャンバ内の圧力を減圧化する。具体的には、例えば、真空ポンプなどによって、チャンバ内の圧力を３０ｋｐａ程度に減圧する。そして、図１３の左図に示すように、チャンバ内を減圧下に維持した状態で、ステージ上に配置されているガラス基板ＧＳの外周部と縦方向に延在する中心線と横方向に延在する中心線に沿ってインクＩＮＫを塗布する。例えば、インクジェットヘッドＩＪＨからのインクＩＮＫの噴射を制御することにより、ガラス基板ＧＳの外周部と縦方向に延在する中心線と横方向に延在する中心線に沿ってインクＩＮＫを塗布（印刷）する。これにより、ガラス基板ＧＳの外周部に配向膜ＡＦからなる土手ＢＫ１を形成することができるとともに、ガラス基板ＧＳの縦方向に延在する中心線上に配向膜ＡＦからなる土手ＢＫ２を形成することができる。さらに、ガラス基板ＧＳの横方向に延在する中心線上に配向膜ＡＦからなる土手ＢＫ３を形成することができる。このとき、インクＩＮＫは、減圧状態でインクジェットヘッドＩＪＨの噴射孔ＨＬから噴射されるので、噴射孔ＨＬから射出されるインクＩＮＫが空気による流れ（ゆらぎ）の影響を受けにくくなる。つまり、減圧状態にあるため、空気の影響が小さくなり、インクジェットヘッドＩＪＨからのインクＩＮＫの飛び方にばらつきが生じにくくなる。このため、印刷塗布精度を向上させることができ、ガラス基板ＧＳの額縁領域の幅Ｌ２を狭く（１ｍｍ程度）することができる。
【００７９】
続いて、チャンバ内の圧力を大気圧（常圧）に回復した後、図１２の右図に示すように、チャンバ内を大気圧下に維持した状態で、ステージ上に配置されているガラス基板ＧＳの外周部（土手ＢＫ１）と縦方向に延在する中心線（土手ＢＫ２）と横方向に延在する中心線（土手ＢＫ３）によって区分けされた内周部にインクＩＮＫを塗布する。例えば、インクジェットヘッドＩＪＨからのインクＩＮＫの噴射を制御することにより、ガラス基板ＧＳの内周部にインクＩＮＫを塗布（印刷）する。このとき、インクＩＮＫは、大気圧状態でインクジェットヘッドＩＪＨの噴射孔ＨＬから噴射されるので、噴射孔ＨＬから射出されるインクＩＮＫが空気による流れ（ゆらぎ）の影響を受けやすくなるが、既に、ガラス基板ＧＳの外周部には減圧下で塗布した配向膜ＡＦが形成されているので、この外周部に形成された配向膜ＡＦが、例えば土手として機能し、内周部に塗布されたインクＩＮＫが外周部の外側に漏れ出ることを防止できる。
【００８０】
ここで、本変形例２では、図１３の左図に示すように、ガラス基板ＧＳに土手ＢＫ１と土手ＢＫ２と土手ＢＫ３が形成されており、特に、ガラス基板ＧＳの内周部は土手ＢＫ２と土手ＢＫ３によって区切られている。すなわち、ガラス基板ＧＳの内周部は、土手ＢＫ２と土手ＢＫ３によって小さな領域に分割（４分割）されていることになる。この結果、本変形例２によれば、チャンバ内を大気圧下に維持した状態で、ステージ上に配置されているガラス基板ＧＳの内周部にインクＩＮＫを塗布する場合、土手ＢＫ２と土手ＢＫ３によって区切られた小さな領域ごとにインクＩＮＫが塗布される。このため、本変形例２によれば、液状のインクＩＮＫがレベリング（平坦化）しやすくなるという利点が得られる。
【００８１】
以上のように説明した変形例１および変形例２を考慮すると、本願発明の技術的思想は、チャンバ内を減圧下に維持した状態で、ステージ上に配置されているガラス基板ＧＳの第１領域（例えば、外周部と縦方向に延在する中心線と横方向に延在する中心線）に沿ってインクＩＮＫを塗布する工程を備える。そして、その後、チャンバ内を大気圧下に維持した状態で、ステージ上に配置されているガラス基板ＧＳの第２領域（例えば、外周部（土手ＢＫ１）と縦方向に延在する中心線（土手ＢＫ２）と横方向に延在する中心線（土手ＢＫ３）によって区分けされた内周部）にインクＩＮＫを塗布する工程を備える。このとき、第１領域は、額縁領域と外周部の境界線（境界領域）や、内周部を分割する線（領域）として規定され、第２領域は、分割された内周部内の領域として規定される。したがって、例えば、第１領域の面積は、第２領域の面積よりも小さくなっているということができる。
【００８２】
（実施の形態２）
前記実施の形態１では、同一のインクジェット塗布装置を使用することにより、チャンバ内を減圧下に維持した状態で、ステージ上に配置されているガラス基板の外周部に沿ってインクを塗布する第１工程と、チャンバ内を大気圧下に維持した状態で、ステージ上に配置されているガラス基板ＧＳの内周部にインクを塗布する第２工程とを実施する例について説明した。本実施の形態２では、第１工程を実施するインクジェット塗布装置と、第２工程を実施するインクジェット塗布装置とを異なる装置とする例について説明する。
【００８３】
本実施の形態２では、第１工程を実施するインクジェット塗布装置（第１インクジェット塗布装置）と、第２工程を実施するインクジェット塗布装置（第２インクジェット塗布装置）とは異なる装置であるが、それぞれのインクジェット塗布装置の構成は、前記実施の形態１で説明した図９に示すインクジェット塗布装置ＩＪＡと同様の構成をしている。
【００８４】
以下に、本実施の形態２における印刷塗布方法について図１４を参照しながら説明する。図１４は、本実施の形態２における印刷塗布方法を説明するためのフローチャートである。図１４に示すように、まず、第１インクジェット塗布装置の第１チャンバ内に設けられている第１ステージ上にガラス基板を配置する（Ｓ３０１）。ガラス基板は、例えば、薄膜トランジスタが形成されたＴＦＴガラス基板や、カラーフィルタが形成されたカラーフィルタガラス基板である。したがって、このガラス基板の表面にはスルーホールやパターン段差（例えば、薄膜トランジスタのパターンによる段差）が存在し、凹凸形状が形成されている。
【００８５】
続いて、第１チャンバ内の圧力を減圧化する。具体的には、例えば、真空ポンプなどによって、第１チャンバ内の圧力を３０ｋｐａ程度に減圧する（Ｓ３０２）。その後、第１チャンバ内を減圧下に維持した状態で、第１ステージ上に配置されているガラス基板の外周部にだけインクを塗布する（Ｓ３０３）。例えば、インクジェットヘッドの噴射孔から噴射するインクを制御することにより、ガラス基板の外周部にだけインクを塗布する。これにより、ガラス基板の外周部にだけ配向膜が塗布（印刷）される。
【００８６】
次に、第１インクジェット塗布装置の第１チャンバ内からガラス基板を搬出する（Ｓ３０４）。そして、搬出したガラス基板を常圧下になる第２インクジェット塗布装置の第２チャンバ内に搬入する（Ｓ３０５）。続いて、第２チャンバ内の第２ステージ上にガラス基板を配置する（Ｓ３０６）。その後、第２チャンバ内の圧力を常圧下（大気圧下）に維持した状態で、第２ステージ上に配置されているガラス基板の内周部にインクを塗布する（Ｓ３０７）。例えば、インクジェットヘッドの噴射孔から噴射するインクを制御することにより、ガラス基板の内周部インクを塗布する。これにより、ガラス基板の外周部だけでなく、外周部の内側領域である内周部にも配向膜が塗布（印刷）される。以上のようにして、ガラス基板上に配向膜を塗布することができる。
【００８７】
本実施の形態２においても、前記実施の形態１と同様の効果を得ることができる。
【００８８】
（１）例えば、減圧状態でガラス基板の外周部にインクジェットヘッドによってインクを噴射して、配向膜を形成することにより、精度良くガラス基板の外周部に配向膜を形成することができる。したがって、本実施の形態２における印刷塗布方法によれば、外周部に形成される配向膜の位置精度を向上させることができるので、額縁領域の幅を狭くすることができる。この結果、液晶表示装置の表示領域を大きくすることができる。
【００８９】
（２）ガラス基板の外周部よりも内側領域である内周部においては、チャンバ内を大気圧下に維持した状態で、内周部にインクを塗布することができる。したがって、減圧状態よりも速乾性を低くして乾きにくくできるため、インクの液状状態を長くすることができ、ガラス基板の凹凸を吸収して、配向膜の表面の平坦性を向上することができる。つまり、大気圧下でインクを塗布（印刷）することにより、液状化したインクのレベリング（平坦化）機能を充分に発揮させることができるので、凹凸が存在するガラス基板の内周部に形成される配向膜の表面での平坦性を向上させることができる。
【００９０】
（３）本実施の形態２における印刷塗布方法によれば、上述した（１）と（２）の効果を同時に得ることができる。つまり、本実施の形態２における印刷塗布方法によれば、ガラス基板の額縁領域をできるだけ狭くすることができ、かつ、ガラス基板に形成される配向膜の平坦性を向上させることができるという従来技術では実現できない顕著な効果を得ることができる。
【００９１】
以上、本発明者によってなされた発明をその実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。
【００９２】
前記実施の形態では、インクジェット塗布装置を使用して基板に膜を印刷する印刷塗布方法の一例として、ガラス基板に配向膜を塗布する例について説明したが、本願発明の技術的思想は、これに限らず、インクジェット塗布装置を使用して基板に膜を印刷する印刷塗布方法に幅広く適用することができる。
【産業上の利用可能性】
【００９３】
本発明は、インクジェット塗布装置を使用して基板に膜を印刷する印刷塗布技術を使用する製造業に幅広く利用することができる。
【符号の説明】
【００９４】
ＡＦ  配向膜
ＡＦ１  配向膜
ＡＦ２  配向膜
ＢＫ  土手
ＢＫ１  土手
ＢＫ２  土手
ＢＫ３  土手
ＢＬ  バックライト
ＣＨＰ  半導体チップ
ＣＦ  カラーフィルタ
ＣＢ  チャンバ
ＣＳ  カラーフィルタガラス基板
ＤＵ  液晶表示部
ＦＰ  フレキソ印刷装置
ＦＳ  フレキシブル基板
ＧＳ  ガラス基板
ＧＳ１  ガラス基板
ＧＳ２  ガラス基板
ＨＬ  噴射孔
ＩＪＡ  インクジェット塗布装置
ＩＪＨ  インクジェットヘッド
ＩＮＫ  インク
ＩＴＯ１  ＩＴＯ電極
ＩＴＯ２  ＩＴＯ電極
ＬＣ  液晶
ＬＣＤ  液晶表示装置
ＮＦ  凹凸形状
ＰＬ１  偏光板
ＰＬ２  偏光板
ＴＦＡ  ＴＦＴアレイ
ＴＦＴ  薄膜トランジスタ
ＴＳ  ＴＦＴガラス基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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