(57)【要約】【課題】この発明は、平坦性と耐腐食性に優れた、色素増感型太陽電池などの光電変換素子に用いることができる透明導電性基板を提供する。【解決手段】金属微粒子で構成される網目状の導電部と、該第１導電部の開口部の樹脂とからなる透明導電層を有し、透明導電層の一方の面に、基板を有し、透明導電層の他方の面に、金属酸化物から構成される導電層を有し、該第２導電層のＲａ値が４００ｎｍ以下であることを特徴とする透明導電性基板。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属微粒子を含有する網目状の導電部（以後、第１導電部という）と、該第１導電部の開口部の樹脂（以後、中間樹脂部という）とを有する透明導電層を有し、該透明導電層の一方の面に基板を有し、該透明導電層の他方の面に金属酸化物を有する導電層（以後、第２導電層という）を有し、該第２導電層のＲａ値が４００ｎｍ以下であることを特徴とする透明導電性基板。
【請求項２】
前記第２導電層と接触した第１導電部の面積／第２導電層の面積が、５％以上４０％以下である請求項１に記載の透明導電性基板。
【請求項３】
金属微粒子を含有する網目状の導電部（以後、第１導電部という）と、該第１導電部の開口部の樹脂（以後、中間樹脂部という）とを有する透明導電層を有し、該透明導電層の一方の面に基板を有し、該透明導電層の他方の面に金属酸化物を有する導電層（以後、第２導電層という）を有する透明導電性基板の製造方法であって、以下の工程１〜３をこの順に行うことを特徴とする透明導電性基板の製造方法。
工程１：基板上に金属微粒子を含む塗布液を塗布することで、金属微粒子を含有する網目状の第１導電部を形成する工程。
工程２：前記第１導電部の開口部に透明樹脂を埋設して、中間樹脂部を形成することにより、透明導電層を形成する工程。
工程３：透明導電層の表面に、金属酸化物を有する第２導電層を積層する工程。
【請求項４】
請求項１または２のいずれかに記載の透明導電性基板、または、請求項３の透明導電性基板の製造方法により得られる透明導電性基板、を有することを特徴とする光電変換素子。
【請求項５】
前記光電変換素子が、色素増感型太陽電池である請求項４に記載の光電変換素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高透明性、高導電性を有し、平坦性と耐腐食性に優れた透明導電性基板、及びそれを用いた光電変換素子に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
透明導電性基板は、回路材料として様々な機器に用いられており、電磁波シールド基板やタッチパネル、太陽電池用途として用いられている。太陽光を用いたエネルギー創出法である太陽電池においては、近年の化石燃料の高騰や枯渇、アジア諸国の経済成長に伴う消費電力の増加、化石燃料による炭酸ガス増加などの環境問題などを背景に注目され、研究開発が活発になされている。その中でも、結晶性シリコン又はアモルファスシリコンを用いたシリコン系太陽電池が主流であるが、その製造には多大なエネルギーを必要とし、省エネルギーを目指すに当たり、シリコンを利用することは太陽電池の本来の意図とは相反するものとなってしまう。また、シリコンは集積回路の基本となる材料でもあるため、シリコン需要の増加によるシリコンの不足及びシリコンの高価格化が生じている。
【０００３】
上記理由から、色素増感型太陽電池はシリコンなどの高価な半導体を用いず、低エネルギー、比較的安価な製造が可能であることから、将来の利用が拡大するものと有望視されている。色素増感型太陽電池の基本構成は、Ｉ−／Ｉ３−レドックス対を含有した電解質溶液を一対の電極基板で挟持した構造を有する湿式太陽電池である。一般的に、電極基板には透明ガラス基板とその片面に形成された透明導電層（ＩＴＯ）とその上に形成された多孔質金属酸化物層（酸化チタン）を有しており、電極基板を透明ガラス基板に代えて、透明樹脂基板を用いることで、軽量でかつ柔軟性に富んだ色素増感型太陽電池を作製することができ、太陽電池の設置場所を拡大させることが可能となる。光電変換効率の高い色素増感型太陽電池を得るためには、上述のＩ−／Ｉ３−レドックス対のようなハロゲン系のレドックス対を含有した電解質溶液を用いることが好ましいが、ハロゲン系のレドックス対は化学的な活性が高く、多くの金属を腐食させる。そのため、腐食してしまう金属材料を保護するために、耐食性のある金属でめっきする方法や、導電性樹脂などで保護する方法が検討されている（例えば特許文献１〜３）。
【０００４】
特許文献１に記載された技術は、多数の細線を組み合わせた形状を有する金属膜と金属酸化物製の透明導電膜の間に電気メッキ、無電解メッキ、又は化学処理によって前記金属膜の外表面を覆う腐食防止層を作製することで電解質溶液に対して耐食性を与えているが、金属膜が多数の細線を組み合わせて形成されており、開口部を有しているため、電極表面に凹凸が存在する。色素増感型太陽電池において、電解質層の厚さは、内部抵抗を低くする観点から、短絡を生じない限りできるだけ薄いことが好ましいが、電極表面に凹凸面を有する場合には、電解質層の厚みを均一にすることができず、電解質層が厚くなる凹部では、内部抵抗が高くなり、光電変換効率が低くなる問題があった。
【０００５】
この問題を解決する手段として、特許文献２では、多数の配線を組み合わせた形状を有する金属膜の開口部を埋設する平坦化層を設けることを提案しており、有効な構成であると言える。しかし、耐食性を与えるために金属膜の外表面にメッキ、又は化学処理を施すことは生産工程が増え、メッキ処理を行う際に使用する酸による装置の腐食の懸念から、特殊な装置が必要となり、汎用的な装置が使用できないといったことや、大量の酸性廃液が発生するなど、安全面、環境面への配慮の点で課題が挙げられる。
【０００６】
特許文献３に記載の技術では、前記課題を解決する手法として、網目状の第一導電層の開口部を透過率の高い中間樹脂により埋設し、さらにその上に導電性樹脂を被覆する構成となっている。しかし、網目状の第一導電層の縦方向の高さに段差がある場合には、均一な厚み制御と平坦性を出すためには、多くの導電性樹脂が必要となり、透過率が低下することや、内部抵抗が高くなるなどの問題が懸念される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００５−１５８７２６号公報
【特許文献２】特開２００５−１５８７２７号公報
【特許文献３】特開２００８−２２６７５３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、かかる従来技術の背景に鑑み、高透明性と高導電性を有し、平坦性と耐腐食性に優れた透明導電性基板および光電変換素子を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、かかる課題を解決するために、次のような構成を採用するものである。
１）金属微粒子を含有する網目状の導電部（以後、第１導電部という）と、該第１導電部の開口部の樹脂（以後、中間樹脂部という）とを有する透明導電層を有し、該透明導電層の一方の面に基板を有し、該透明導電層の他方の面に金属酸化物を有する導電層（以後、第２導電層という）を有し、該第２導電層のＲａ値が４００ｎｍ以下であることを特徴とする、透明導電性基板。
２）前記第２導電層と接触した第１導電部の面積／第２導電層の面積が、５％以上４０％以下である１）に記載の透明導電性基板。
３）金属微粒子を含有する網目状の導電部（以後、第１導電部という）と、該第１導電部の開口部の樹脂（以後、中間樹脂部という）とを有する透明導電層を有し、該透明導電層の一方の面に基板を有し、該透明導電層の他方の面に金属酸化物を有する導電層（以後、第２導電層という）を有する、透明導電性基板の製造方法であり、以下の工程１〜３をこの順に行う透明導電性基板の製造方法。
工程１：基板上に金属微粒子を含む塗布液を塗布することで、金属微粒子を含有する網目状の第１導電部を形成する工程。
工程２：前記第１導電部の開口部に透明樹脂を埋設して、中間樹脂部を形成することにより、透明導電層を形成する工程。
工程３：透明導電層の表面に、金属酸化物を有する第２導電層を積層する工程。
４）１）または２）のいずれかに記載の透明導電性基板、または、３）の製造方法により得られる透明導電性基板を有する光電変換素子。
５）前記光電変換素子が、色素増感型太陽電池である４）に記載の光電変換素子。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、高透明性と高導電性を有し、平坦性と耐腐食性に優れた透明導電性基板を得ることができる。また、本発明の透明導電性基板は、透明性と高いレベルの導電性を有し、平坦性と耐腐食性にも優れるので、色素増感型太陽電池の透明電極に好適に用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の透明導電性基板の一例である。
【図２】本発明の透明導電性基板の一例である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本発明の透明導電性基板は、金属微粒子を含有する網目状の第１導電部と、該第１導電部の開口部の中間樹脂部を含有する透明導電層を含み、該透明導電層の一方の面に、基板を有し、該透明導電層の他方の面に、金属酸化物を有する第２導電層を含む。このような構成とすることで、導電性と平坦性に優れた透明導電性基板にすることができ、さらには、耐食性を優れたものにすることができる。なお本発明の透明導電性基板は、前述の透明導電層と第２導電層を有しさえすれば、その他の層をさらに有する態様を含んでも良い。
【００１３】
本発明の透明導電性基板の透明導電層は、前述の第１導電部が、第２導電層を積層する面側に存在することが重要である。このように、第１導電部が第２導電層を積層する面側に存在することで、第２導電層を積層した際に、導通を取ることができるため、該第２導電層の表面から導通させることが可能である。    
【００１４】
該透明導電層中の金属微粒子と樹脂との合計の含有量は、特に限定されないが、透明導電層の全成分１００質量％において、５０質量％以上１００質量％以下が金属微粒子と樹脂の合計量であることが好ましい。また、金属微粒子と樹脂との含有比率は特に限定されず、各用途に応じて必要十分な表面比抵抗となるだけの金属微粒子の比率を適宜選択すればよい。
【００１５】
本発明の透明導電性基板の透明導電層は、該透明導電層中には金属微粒子を含有する網目状ラインの第１導電部を有することが重要である。この金属微粒子を含有する網目状ライン、つまり第１導電部は、金属微粒子同士が連続的に連なった構造であり、この構造に由来して導電性を示す。このように網目状ラインを構成させることで、透明導電性基板の透明性と導電性を優れたものにすることができる。ここで網目状とは、いくつかの点を何本かの線分で結んだ構造のことをいい、金属微粒子を含有する網目状を示す。つまり本発明における網目状とは、金属微粒子で構成される複数の線分が、複数の点で結ばれた構造を意味する。
【００１６】
さらに、透明導電層が有する網目状は、格子状などの規則性のある網目状や、不規則な網目状であっても良い。
【００１７】
ここで、不規則な網目状とは、微分干渉顕微鏡の観察像で、該網目状の形状が、空隙部分の形状や大きさが不揃いである状態、すなわち不規則な状態として観察されるものであり、従って、網目を構成する部分、すなわち線状の部分の形状も直線ではなく線太さが不揃いである状態、すなわち不規則な状態として観察されるものである。
【００１８】
また、透明導電層が有する、金属微粒子を含有した網目状ラインの第１導電部は、金属微粒子を含む他に、その他の成分を有してもよい。その他の成分としては、各種添加剤を挙げることができる。なお、本発明の透明導電性基板（透明導電層）の表面比抵抗を低くすることを考慮すると、金属微粒子を含有する網目状は、金属微粒子以外の成分の含有量が少ないことが好ましく、特に好ましくは金属微粒子のみで構成されることである。
【００１９】
本発明の透明導電性基板の透明導電層を構成する金属微粒子に使用される金属としては特に限定されず、白金、金、銀、銅、ニッケル、パラジウム、ロジウム、ルテニウム、ビスマス、コバルト、鉄、アルミニウム、亜鉛、錫などが挙げられる。これらの金属は１種で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００２０】
本発明の透明導電性基板の第１導電部を構成する金属微粒子の微粒子とは、比較的粒子径の小さい粒子であれば特に限定されないが、数平均粒子径０．００１〜０．３μｍの金属微粒子が好適に使用され、また粒子径は最大でも１．０μｍ未満となるものが好適に使用される。金属微粒子の数平均粒子径、最大粒子径がこの範囲を超えると金属微粒子を網目状に形成させ、透明性、導電性に優れた透明導電性基板を得ることが困難となる場合がある。また、金属微粒子の粒子径分布は大きくても、小さくてもよく、粒子が不揃いであっても、均一であってもよいが、粒子が均一であって、粒子径分布が小さい方が、金属微粒子を網目状に形成させやすいため、好ましい。
【００２１】
ここで、金属微粒子の数平均粒子径は、金属微粒子を含む塗布液を銅メッシュ上に塗布したものを、透過型電子顕微鏡（Ｈ-７１００ＦＡ型  （株）日立製作所製）を用いて測定倍率２万倍にて観察して、１００個の金属微粒子の粒子径を測定し、その１００個の金属微粒子の粒子径の平均値を算出して数平均粒子径とした。
【００２２】
第１導電部の開口部とは、透明導電層中の第１導電部の網目状のラインで囲まれている部分を意味する。すなわち透明導電層を構成する樹脂、つまり中間樹脂部は、この開口部に埋設されている樹脂である。
【００２３】
本発明の透明導電性基板の透明導電層の中間樹脂部を構成する樹脂は、特に限定されないが、紫外線硬化性化合物または熱硬化性化合物からなる樹脂であることが好ましい。紫外線硬化性化合物または熱硬化性化合物としては、特に限定されないが、３官能以上の多官能アクリレートを用いることが好ましい。
【００２４】
３官能以上の多官能アクリレートの具体的な例としては、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ウレタンアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサンメチレンジイソシアネートウレタンポリマーなどを用いることができる。これらの３官能以上の多官能アクリレートは、１種または２種以上を混合して使用することができる。また、市販されている３官能以上の多官能アクリレートを含む紫外線硬化性化合物または熱硬化性化合物としては三菱レーヨン株式会社；（商品名“ダイヤビーム”シリーズなど）、長瀬産業株式会社；（商品名“デナコール”シリーズなど）、新中村株式会社；（商品名“ＮＫエステル”シリーズなど）、大日本インキ化学工業株式会社；（商品名“ＵＮＩＤＩＣ”など）、東亜合成化学工業株式会社；（“アロニックス”シリーズなど）、日本油脂株式会社；（“ブレンマー”シリーズなど）、日本化薬株式会社；（商品名“ＫＡＹＡＲＡＤ”シリーズなど）、共栄社化学株式会社；（商品名“ライトエステル”シリーズなど）、ダイセル・サイテック株式会社；（商品名“Ｅｂｅｃｒｙｌ”シリーズなど）などを挙げることができ、これらの製品を利用することができる。
【００２５】
また、３官能以上の多官能アクリレート以外に、以下のような紫外線硬化性化合物または熱硬化性化合物を本発明の効果を阻害しない範囲内で、低粘度化などの目的で使用することができる。
【００２６】
アリルエステルモノマ−：オルソフタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、テレフタル酸ジアリル、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸ジアリル、コハク酸ジアリル。
【００２７】
アクリル酸エステルモノマー及びメタクリル酸エステルモノマー：メチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、２−ヒドロキシルエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、フェノールＥＯ付加物アクリレート、ノニルフェノールＥＯ付加物アクリレート、ビスフェノールＡのＥＯ付加物ジメタクリレート、ビスフェノールＡのＥＯ付加物ジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、フェノキシエチルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルメタクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパンジメタクリレート、グリセリンジアクリレート、グリセリンジメタクリレート、グリセリンジメタクリレート、２，６−ジブロム−４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルアクリレート、各種のウレタンアクリレート、エポキシアクリレート。
【００２８】
本発明において、上記の紫外線硬化性化合物または熱硬化性化合物を硬化させる方法としては、例えば、活性線として紫外線を照射する方法や高温加熱法等を用いることができ、これらの方法を用いる場合には、上記の紫外線硬化性化合物または熱硬化性化合物に、光重合開始剤または熱重合開始剤等を加えることが望ましい。
【００２９】
光重合開始剤の具体的な例としては、アセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベンゾイルフォメート、ｐ−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントンなどの硫黄化合物などを用いることができる。これらの光重合開始剤は単独で使用してもよいし、２種以上組み合せて用いてもよい。また、熱重合開始剤としては、ベンゾイルパーオキサイドまたはジ−ｔ−ブチルパーオキサイドなどのパーオキサイド化合物などを用いることができる。
【００３０】
光重合開始剤または熱重合開始剤の使用量は、使用する紫外線硬化性化合物及び／または熱硬化性化合物１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部が適当である。電子線またはガンマ線を硬化手段とする場合には、必ずしも重合開始剤を添加する必要はない。また２００℃以上の高温で熱硬化させる場合には熱重合開始剤の添加は必ずしも必要ではない。
【００３１】
本発明の透明導電性基板の透明導電層を形成する中間樹脂部には、透明導電層の有する特性を損なわない範囲において、各種の添加剤等を含有することも可能である。添加剤としては、例えば、酸化防止剤、耐熱安定剤、耐候安定剤、金属密着改良剤、有機又は無機の微粒子、充填剤などが挙げられる。
【００３２】
金属密着改良剤とは、第１導電部と中間樹脂部との密着性を向上させるために用いることができる。金属密着改良剤としては、特に限定はされないが、リン酸、脂肪酸、カルボン酸、これらのエステル化合物などのモノマーが挙げられる。金属密着改良剤の使用量は、透明導電層を得るために使用する紫外線硬化性化合物及び／または熱硬化性化合物の合計１００質量部に対して、０．１〜１０質量部が適当である。
【００３３】
該中間樹脂部の層厚は、第１導電部の全開口部を少なくとも埋設でき、透明導電層の透過率が損なわれない範囲であれば、特に限定されるものではなく、第１導電部の層厚と同じ、もしくはそれ以上であることが好ましい。第１導電部の層厚よりも中間樹脂部の層厚が薄い場合には、該第１導電部と樹脂の高さが異なることにより、透明導電層の表面に凹凸が生じる点で好ましくない。中間樹脂部の層厚が第１導電部の層厚よりも厚い場合には、透明導電層の表面の凹凸の問題は発生する可能性が低いが、全光線透過率が低下する可能性があるため、第１導電部の層厚の５倍以下程度とするのが良いと考える。
【００３４】
本発明の透明導電性基板の積層構成の一例を図１および図２に示す。図１は、第１導電部が第２導電層に接触しておりかつ中間樹脂部内に埋没し基板とは接触していない、図２は、第１導電部が第２導電層、基板のいずれとも接触している。
【００３５】
本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、第１導電部が中間樹脂部内に完全に埋没し第２導電層及び基板と接触していない状態や、第１導電部が基板上に積層されているが中間樹脂部内に埋没し第２導電層と接触していない構成、などが考えられる。しかしながら、それらの積層構成では、第１導電部と第２導電層が接触した状態で積層されていないため、中間樹脂部が第１導電部と第２導電層の通電を阻害する絶縁体となり、導電性の観点からは好ましくなく、そのため図１および図２に例示した積層構成が好ましい。また、図１の積層構成は、中間樹脂部を第１導電部の層厚より厚く積層して、後述する転写法を用いる方法で得ることができ、図２の積層構成は、中間樹脂部を第１導電部の層厚と同一に積層させる方法で得られる。転写法を用いた場合には、第２導電層を積層する面側の透明導電層の表面は、元の基板の平坦性を反映するため、比較的簡単に平坦性に優れた透明導電性基板を得ることができることから、図１の積層構成が導電性及び平坦性の観点から最も好ましい。
【００３６】
本発明の透明導電性基板の第１導電部と中間樹脂部からなる透明導電層の表面比抵抗は、２０Ω／□以下であることが好ましい。ここで、該透明導電層の表面比抵抗は、ランダムに少なくとも３箇所測定した時の平均値を意味する。かかる表面比抵抗は、より好ましくは１５Ω／□以下であり、さらに好ましくは１０Ω／□以下であり、特に好ましくは５Ω／□以下である。かかる表面比抵抗が２０Ω／□以下であると、光電変換素子、例えば、色素増感型太陽電池用の電極としての必要な導電性を満たすことができる。該透明導電層の表面比抵抗は、低い方が好ましいものの、現実的に０．１Ω／□未満とすることは困難と考えられ、そのため透明導電性基板の表面比抵抗は０．１Ω／□が下限と考えられる。
【００３７】
本発明の透明導電性基板は、透明導電層の一方の面に基板を有することが重要である。該基板とは、特に限定されるものではないが、全光線透過率が概ね９０％以上であるものが好ましく、ガラスや樹脂など種々の基板を用いることができる。また、ガラスや樹脂など２種類以上を貼り合わせるなどして組み合わせたものを用いても良い。
【００３８】
かかる基板としては、透明性、柔軟性、加工性を考慮すると、熱可塑性樹脂フィルムであることが好ましい。該熱可塑性樹脂フィルムとは、熱によって溶解もしくは軟化するフィルムの総称であって、特に限定されるものではないが、代表的なものとして、ポリエチレンテレフタレートフィルムやポリ乳酸フィルムなどのポリエステルフィルム、ポリプロピレンフィルムやポリエチレンフィルムなどのポリオレフィンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリメタクリレートフィルムなどのアクリル系フィルム、ポリスチレンフィルム、ナイロンなどのポリアミドフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリウレタンフィルム、フッ素系フィルム、ポリフェニレンスルフィドフィルムなどを用いることができる。
【００３９】
これら熱可塑性樹脂フィルムのなかで、機械的特性、寸法安定性、透明性などの点で、ポリエステルフィルム、ポリオレフィンフィルム、ポリアミドフィルムなどが好ましく、更に、機械的強度、汎用性などの点で、ポリエステルフィルムが特に好ましい。
【００４０】
本発明の第２導電層を形成する金属酸化物は、光透過性及び導電性を考慮すると、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、フッ素ドープ酸化スズ（ＦＴＯ）、酸化スズ、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）、ガリウムドープ酸化亜鉛（ＧＺＯ）等によって形成することが好ましく、これらの中でも、光透過性と導電性が優れ、色素増感型太陽電池に用いられる電解質液に対して高い耐腐食性を有する材料であるＩＴＯまたはＦＴＯによって形成することが好ましい。
第２導電層の形成は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理気相成長法等により行うことができ、該第２導電層の層厚は０．１〜５００ｎｍの範囲内で適宜選択することができる。また、該第２導電層の表面比抵抗は、１０００Ω／□以下であることが好ましい。該第２導電層の表面比抵抗が１０００Ω／□より大きいと、透明導電層に電荷を集約する能力が乏しくなり、透明導電性基板の導電性が低下する可能性がある。第２導電層の表面比抵抗は、小さい方が好ましいものの、小さくするためには第２導電層の層厚を厚くする必要があり、その場合、全光線透過率が低下する可能性があること、技術面を考慮しても、５Ω／□未満とすることは困難と考えられるため、第２導電層の表面比抵抗は５Ω／□が下限と考える。ここで、該第２導電層の表面比抵抗は、第２導電層のみをガラスや樹脂などの基板にスパッタリング法などにより積層させた時に測定した値を示す。
【００４１】
本発明においては、透明導電性基板の表面比抵抗は、透明導電層の表面比抵抗に大きく依存しており、透明導電層の表面比抵抗とほぼ同じ値を示す。つまり、第２導電層は、透明導電性基板の表面からメイン電極である透明導電層へ通電させるための補助電極として働き、前述の第２導電層の表面比抵抗が１０００Ω／□以下であれば、透明導電性基板の表面比抵抗には大きく影響しない。
【００４２】
本発明の透明導電性基板の第２導電層のＲａ値は、４００ｎｍ以下であることが重要である。好ましくは３００ｎｍ以下であり、より好ましくは２００ｎｍ以下であり、さらに好ましくは１００ｎｍ以下である。
【００４３】
該第２導電層のＲａ値が４００ｎｍより大きくなってしまうと、網目状部分と空隙部分とで段差が生じてしまい、平坦性が劣るため、色素増感型太陽電池の透明電極として使用した場合には、電解質層の厚みが不均一となり、内部抵抗による光電変換効率が低下する可能性があるため問題である。
【００４４】
また、該第２導電層の表面のＲａ値は小さい程好ましく、透明導電層に含まれる第１導電部の金属微粒子や、樹脂の表面粗さを考慮すると、透明導電層表面のＲａ値は、２ｎｍが下限と考えられ、該透明導電層表面に積層される該第２導電層の表面平坦性は、該透明導電層の表面平坦性が反映されると考えられるため、本発明の第２導電層の表面のＲａ値の下限は２ｎｍと思われる。
【００４５】
上述したように、本発明の透明導電性基板の第２導電層の表面平坦性は、第１導電部と中間樹脂部からなる透明導電層の表面平坦性が反映されると考えられるため、該透明導電層の表面平坦性も重要である。そのため、該第２導電層が積層された界面の透明導電層のＲａ値は、第２導電層のＲａと同様に、４００ｎｍ以下であることが好ましい。好ましくは３００ｎｍ以下、より好ましくは２００ｎｍ以下であり、さらに好ましくは１００ｎｍ以下である。
【００４６】
本発明における第２導電層と接触した第１導電部の面積／第２導電層の面積は、５％以上４０％以下であることが好ましい。該面積が５％未満の場合、第１導電部と第２導電層間の導通の効率が悪化する可能性がある。また、該面積が５％未満の場合には、網目状の第１導電部の線幅が非常に細くなることで、断線、短絡により第１導電部が導電性を示さない可能性が考えられるため、技術面を考慮しても、該面積の下限値は５％と考える。該面積が４０％より大きい場合には、導電性を示す十分な面積を第１導電部は有しているが、本発明の構成を有する透明導電性基板の透明性の観点から好ましくないと考えられる。
【００４７】
ここで、第２導電層は第１導電部を含む透明導電層を全て被覆しているため、単位面積当たりにおける第１導電部の総面積を算出することで、上述の面積を算出することができる。該第１導電部の総面積は、以下の方法により算出した。デジタルマイクロスコープ（（株）キーエンス製、ＶＨＸ−２００）を用いてサンプル表面を５００倍で観察し、写真データを保存した。保存した写真をＪＴｒｉｍで開き、リサイズ比率６５％にし、ビットマップで保存した。保存したファイルを、Ｓｃｉｏｎ  Ｉｍａｇｅで開き、線部が黒、開口部が白に二値化した。二値化した画像の線、開口部の白抜けや、異物などを除去し、線部、つまり第１導電部の総面積値を計算した（ここで、単位はピクセルである）。また、第２導電層の面積値は、上述の線部および開口部の全面積値を合計することで、計算した。この方法にて得られた第１導電部の総面積値と第２導電層の面積値とを用いることで、第２導電層と接触した第１導電部の面積／第２導電層の面積を算出した。
【００４８】
本発明の透明導電性基板の全光線透過率に関しては、全光線透過率７０％以上であることが重要であり、好ましくは７５％以上であり、より好ましくは８０％以上である。全光線透過率が７０％より小さいと、透明導電性基板の透明性の点で問題が生じる場合がある。
【００４９】
また、透明導電性基板の全光線透過率は高い程好ましく、その上限は特に限定されないが、透明導電性基板表面の光反射を考慮すると、透明導電性基板の全光線透過率を９２％より高くすることは困難と考えられるので、全光線透過率９２％が透明導電性基板の全光線透過率の物理的限界値（上限）と思われる。
【００５０】
本発明の透明導電性基板は、金属微粒子を含有する網目状の第１導電部を有する基板（以下、網目状金属微粒子積層基板という）を用いることにより、好適に透明導電層を得ることができ、その結果、好適に本発明の透明導電性基板を得ることができる。以下、網目状金属微粒子積層基板を用いた本発明の透明導電性基板の製造方法について説明する。
【００５１】
本発明の透明導電性基板は、基板上に金属微粒子を含む塗布液を塗布することで、金属微粒子を含有する網目状の第１導電部を形成する工程１と、前記第１導電部の開口部に透明樹脂を埋設して、中間樹脂部を形成することにより透明導電層を形成する工程２と、透明導電層の表面に金属酸化物からなる第２導電層を積層する工程３を用いて得ることができる。
【００５２】
該工程１において、金属微粒子を含む塗布液を塗布する方法は、ダイコート法、アプリケーター法、コンマコート法、ディッピング法等を用いることが好ましい。かかる金属微粒子を含む塗布液を基板に塗布する前に、基板の表面にアンカーコート剤やプライマー層をコーティングすることによる親水性処理、コロナ放電処理、プラズマ処理などを行ってもよい。
【００５３】
透明導電層を形成する工程２では、第１導電部が透明導電層の表面に出る層厚、つまり該第１導電部と同じ層厚になるように透明樹脂をオーバーコートするオーバーコート法等を用いても良い。また、該第１導電部の表面を被覆するように透明樹脂を塗布し、転写法により基板と透明導電層を剥離し、剥離した透明導電層を工程１で金属微粒子を含む塗布液を塗布した基板とは異なる基板に貼り合わせた後、工程３において第２導電層を積層させても良い。
【００５４】
かかる転写法を用いた場合には、第２導電層を積層する面側の透明導電層の表面は、元の基板の平坦性を反映するため、比較的簡単に、平坦性に優れた透明導電性基板を得ることができる。
【００５５】
かかる工程２において、第１導電部の開口部に透明樹脂を埋設する方法としては、各種の塗布方法が適用でき、特に限定されないが、例えば、リバースコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、バーコート法、ダイコート法またはスプレーコート法などを用いることができる。
【００５６】
以下、本発明の透明導電性基板をより具体的に例示して説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。すなわち、基板であるポリエステルフィルムに、金属微粒子を含む塗布液を塗布し、金属微粒子を含有する網目状の第１導電部を形成する。その後、第１導電部の開口部に樹脂を埋設して、透明導電層を形成した後、該透明導電層の第１導電部が表面に露出した面側に第２導電層を積層することで、平坦性、耐腐食性に優れた透明導電性基板を得ることができる。また、本発明の透明導電性基板は、高い透明性と導電性をも有しているので、色素増感型太陽電池などの光電変換素子として好適に用いることができる。
［特性の測定方法および効果の評価方法］
各実施例・比較例で作成した透明導電性基板の特性の測定方法および効果の評価方法は次のとおりである。
【００５７】
（１）表面粗さＲａ値
透明導電性基板の第２導電層の表面を、レーザー顕微鏡（ＫＥＹＥＮＣＥ製、型番ＶＫ−９７１０）にて、５０倍の対物レンズで、２００μｍ×３００μｍの面積の表面粗さＲａ値を測定した。この時のＲａ値のカットオフ値は０．８μｍに設定した。評価サンプルは、Ａ４サイズの透明導電性基板から任意の場所をサンプリングした。測定は、ランダムに３箇所測定し、それを平均することで表面粗さＲａ値とした。表面粗さは、測定したＲａ値の平均値が４００ｎｍ以下であれば平坦性は良好である。
【００５８】
（２）表面比抵抗
透明導電性基板の表面比抵抗は、透明導電性基板を常態（２３℃、相対湿度６５％）において２４時間放置後、その雰囲気下で、ＪＩＳ−Ｋ−７１９４（１９９４）に準拠した形で、ロレスタ−ＥＰ（三菱化学株式会社製、型番：ＭＣＰ−Ｔ３６０）を用いて測定した。単位は、Ω／□である。なお、本測定器は１×１０６Ω／□以下が測定可能である。表面比抵抗は、ランダムに３箇所測定した表面比抵抗の平均値が２０Ω／□以下であれば導電性は良好である。
【００５９】
（３）全光線透過率
全光線透過率は、常態（２３℃、相対湿度６５％）において、透明導電性基板を２時間放置した後、スガ試験機（株）製全自動直読ヘイズコンピューター「ＨＧＭ−２ＤＰ」を用いて、光源が透明導電性基板の第２導電層の面に垂直にあたるように置いて測定した。測定は、ランダムに３点行い、その平均値を全光線透過率とした。全光線透過率は、測定した全光線透過率の平均値が７０％以上であれば透明性は良好である。
【００６０】
（４）耐腐食性
評価に使用したヨウ素電解質溶液は市販されている色素増感型太陽電池製作キット（西野田電工（株）製）をそのまま使用した。作成した透明導電性基板の積層面に上記のヨウ素電解質溶液を塗布し、室温にて２４時間暗所で静置した。前記ヨウ素電解質溶液を水およびエタノールにて洗浄した後、基板を乾燥し、表面比抵抗を透明導電性基板作製後と耐腐食性試験後で比較した際に、表面比抵抗の変化値が０．３Ω／□以内の場合、耐腐食性が良好とした。
【００６１】
（５）色素増感型太陽電池の特性
本発明で作製した透明導電性基板と、色素増感型太陽電池作製キット（西野田電工（株）製）の酸化チタン焼付済み透明電極を用いて、前記キットの手順に従って色素増感型太陽電池を作製し、
太陽光を照射した際に発電が確認できた場合を良好とした。
【００６２】
（６）第１導電部および第２導電層の面積、第１導電部の面積／第２導電層の面積比
第１導電部の面積は、デジタルマイクロスコープ（（株）キーエンス製、ＶＨＸ−２００）を用いてサンプル表面を５００倍で観察し、写真データを保存した。保存した写真をＪＴｒｉｍで開き、リサイズ比率６５％にし、ビットマップで保存した。保存したファイルを、Ｓｃｉｏｎ  Ｉｍａｇｅで開き、線部が黒、開口部が白に二値化した。二値化した画像の線、開口部の白抜けや、異物などを除去し、線部の総面積値を計算した（ここで、単位はピクセルである）。
また、第２導電層の面積値は、第１導電部を含む透明導電層を全て被覆しているため、上述の線部および開口部の全面積値を合計することで求めた。
上記で得られた第１導電部の総面積値と第２導電層の面積値とを用い、第２導電層と接触した第１導電部の面積／第２導電層の面積を算出した。
【実施例】
【００６３】
次に、実施例に基づいて本発明を説明する。
（金属微粒子溶液１）
金属微粒子溶液１として、銀微粒子溶液である藤倉化成株式会社製ＸＡ−９０５３を用いた。
（紫外線硬化性化合物１）
紫外線硬化性化合物１として、下記紫外線硬化性化合物Ａと紫外線硬化性化合物Ｂの混合比が６０／４０（ｗｔ／ｗｔ）である紫外線硬化性化合物１を用いた。
紫外線硬化性化合物Ａ：４官能ウレタンアクリレート（ダイセル・サイテック（株）製  Ｅｂｅｃｒｙｌ（登録商標）８４０５）
紫外線硬化性化合物Ｂ：ノニルフェノールＥＯ変性アクリレート（東亜合成（株）製アロニックス（登録商標）Ｍ１１１）
（紫外線硬化性化合物２）
紫外線硬化性化合物であるウレタンアクリレートオリゴマー（日本合成化学工業（株）製  紫光ＵＶ−７６００Ｂ）を紫外線硬化性化合物２とした。  
【００６４】
（実施例１）
二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製ルミラー（登録商標）Ｔ６０、以下、基板１）の片面に、金属微粒子溶液を、スクリーン印刷により、線幅３５μｍ、ピッチ３００μｍの網目状が格子状になるように印刷し、１５０℃で１分間加熱して、金属微粒子の網目状を有する積層体（網目状金属微粒子積層基板）を得た。次に、この網目状金属微粒子積層基板の導電化処理として、得られた網目状金属微粒子積層基板を１５０℃で２分間熱処理し、続いて網目状のラインを酸で処理するために、積層基板ごと１Ｎの塩酸（ナカライテスク（株）製  １Ｎ-塩酸）に１分間浸けた。その後、網目状金属微粒子積層基板を取り出し、水洗した後、水分を飛ばすために１５０℃で１分間乾燥して網目状金属微粒子積層基板の導電化処理を行った。
【００６５】
続いて、紫外線硬化性化合物１を１００質量部とし、それに対し、光開始剤として１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製  イルガキュア（登録商標）１８４）を３質量部、金属密着改良剤としてリン酸エステル（日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＰＭ−２）を１質量部添加したものを網目状金属微粒子積層基板の金属微粒子を積層した面上に、ＷＥＴ厚み１２μｍになるように基板にバーコート法を用いて塗布した。続いて、この紫外線硬化性化合物を塗布した面に、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製  ルミラー（登録商標）Ｕ４６、以下、基板２）が接するように張り合わせラミネートした。
【００６６】
次に、この基板をコンベア式ＵＶ照射装置（アイグラフィックス（株）製  ＥＣＳ−４０１ＧＸ、高圧水銀灯４ｋｗ×１灯）を用い、５００ｍＪ／ｃｍ２の照射量を照射し、紫外線硬化性化合物からなる樹脂と基板２が積層された、基板２／透明導電層／基板１の順の構成物を得た。続いて、この構成物から、基板１と透明導電層とを剥離することで、金属微粒子からなる網目状を含む透明導電層が転写された基板２を得た。その後、スパッタリング法により層厚１００ｎｍのＩＴＯ薄膜を、透明導電層の上に第２導電層として積層することで、透明導電性基板を得た。
【００６７】
得られた透明導電性基板の第２導電層の表面のＲａ値は、６０ｎｍであり、表面比抵抗は４．７Ω／□であり、耐腐食性評価後も４．８Ω／□であったため、得られた透明導電性基板の耐腐食性は良好であり、該透明導電性基板を用いた色素増感型太陽電池の発電性は良好であった。また、第２導電層と接触した第１導電部の面積／第２導電層の面積の比率は、１７％であった。
【００６８】
（実施例２）
基板１に、金属微粒子溶液１をｗｅｔ厚み３０μｍになるように基板にワイヤーバーで塗布し、１５０℃の熱風オーブン（タバイエスペック（株）製  ＰＨＨ−２００）で２分間、加熱処理を行い、透明基板の片面に導電層（銀微粒子層）を形成した。この積層基板の導電層（銀微粒子層）面にフォトレジストを積層し、露光した後、不規則なネットワーク状になるようにレジストを現像した。次いで、エッチングを行い、レジストの残っていない部分の銀微粒子を除去、水洗い、乾燥した。最後に、フォトレジストを除去し、不規則な網目状の導電層を有する導電性基板を得た。
次に、この網目状金属微粒子積層基板の導電化処理として、得られた網目状金属微粒子積層基板を１５０℃で２分間熱処理し、続いて網目状のラインを酸で処理するために、積層基板ごと１Ｎの塩酸（ナカライテスク（株）製  １Ｎ-塩酸）に１分間浸けた。その後、網目状金属微粒子積層基板を取り出し、水洗した後、水分を飛ばすために１５０℃で１分間乾燥して網目状金属微粒子積層基板の導電化処理を行った。
【００６９】
続いて、紫外線硬化性化合物１を１００質量部とし、それに対し、光開始剤として１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製  イルガキュア（登録商標）１８４）を３質量部、金属密着改良剤としてリン酸エステル（日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＰＭ−２）を１質量部添加したものを網目状金属微粒子積層基板の金属微粒子を積層した面上に、ＷＥＴ厚み１２μｍになるように基板にバーコート法を用いて塗布した。続いて、この紫外線硬化性化合物を塗布した面に、基板２が接するように張り合わせラミネートした。
【００７０】
次に、この基板をコンベア式ＵＶ照射装置（アイグラフィックス（株）製  ＥＣＳ−４０１ＧＸ、高圧水銀灯４ｋｗ×１灯）を用い、５００ｍＪ／ｃｍ２の照射量を照射し、紫外線硬化性化合物からなる樹脂と基板２が積層された、基板２／透明導電層／基板１の順の構成物を得た。続いて、この構成物から、基板１と透明導電層とを剥離することで、金属微粒子からなる網目状を含む透明導電層が転写された基板２を得た。その後、スパッタリング法により層厚１００ｎｍのＩＴＯ薄膜を、透明導電層の上に第２導電層として積層することで、透明導電性基板を得た。
得られた透明導電性基板の第２導電層の表面のＲａ値は、６０ｎｍであり、表面比抵抗は４．７Ω／□であり、耐腐食性評価後も４．８Ω／□であったため、得られた透明導電性基板の耐腐食性は良好であり、該透明導電性基板を用いた色素増感型太陽電池の発電性は良好であった。また、第２導電層と接触した第１導電部の面積／第２導電層の面積の比率は、１８％であった。
【００７１】
（実施例３）
実施例１と同様にして得られた網目状金属微粒子積層基板を、実施例１と同様に導電化処理を行い、網目状金属微粒子積層基板の金属微粒子を積層した面上に、紫外線硬化性化合物１を１００質量部とし、それに対し、光開始剤として１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製  イルガキュア（登録商標）１８４）を３質量部、金属密着改良剤としてリン酸エステル（日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＰＭ−２）を１質量部添加したものをＷＥＴ厚み１２μｍになるように基板にバーコート法を用いて塗布した。
【００７２】
続いて、この紫外線硬化性化合物を塗布した面に、シランカップリング処理面を有するガラス層をシランカップリング処理面が接するように貼り合わせラミネートした。次に、この基板をコンベア式ＵＶ照射装置（アイグラフィックス（株）製  ＥＣＳ−４０１ＧＸ、高圧水銀灯４ｋｗ×１灯）を用い、５００ｍＪ／ｃｍ２の照射量を照射し、紫外線硬化性化合物からなる樹脂とガラス層が積層した基板を得た。続いて、この網目状金属微粒子積層基板の基板と透明導電層を剥離することで、透明導電層が積層されたガラス板を得た。その後、スパッタリング法により層厚１００ｎｍのＩＴＯ薄膜を、透明導電層の上に第２導電層として積層することで、透明導電性基板を得た。
【００７３】
得られた透明導電性基板の第２導電層表面のＲａ値は、６０ｎｍであり、表面比抵抗は４．８Ω／□であり、耐腐食性評価後も４．８Ω／□であったため、得られた透明導電性基板の耐腐食性は良好であり、該透明導電性基板を用いた色素増感型太陽電池の発電性は良好であった。また、第２導電層と接触した第１導電部の面積／第２導電層の面積の比率は、１５％であった。
【００７４】
（実施例４）
実施例１と同様にして得られた網目状金属微粒子積層基板を、実施例１同様に導電化処理を行い、網目状金属微粒子積層基板の金属微粒子を積層した面上に紫外線硬化性化合物２を１００質量部とし、それに対し、光開始剤として１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製  イルガキュア（登録商標）１８４）を３質量部を添加し、メチルエチルケトン（ナカライテスク（株）製）にて固形分濃度４０質量％まで希釈したものをＷＥＴ厚み７μｍになるように基板にバーコート法を用いて塗布した。
【００７５】
次に、この基板を９０℃の熱風オーブン（タバイエスペック（株）製  ＰＨＨ−２００）で１分間熱処理し、続いて、この基板をコンベア式ＵＶ照射装置（アイグラフィックス（株）製  ＥＣＳ−４０１ＧＸ、高圧水銀灯４ｋｗ×１灯）を用い、５００ｍＪ／ｃｍ２の照射量を照射し、透明導電層を形成後、スパッタリング法にて層厚１００ｎｍのＩＴＯ薄膜を積層することで、透明導電性基板を得た。
【００７６】
得られた透明導電性基板の第２導電層表面のＲａ値は、３００ｎｍであり、表面比抵抗は４．８Ω／□であり、耐腐食性評価後も４．９Ω／□であったため、得られた透明導電性基板の耐腐食性は良好であり、該透明導電性基板を用いた色素増感型太陽電池の発電性は良好であった。また、第２導電層と接触した第１導電部の面積／第２導電層の面積の比率は、１８％であった。
【００７７】
（比較例１）
実施例１と同様にして得られた、網目状金属微粒子積層基板の導電化処理として、１７０℃の熱風オーブン（タバイエスペック（株）製  ＰＨＨ−２００）で２分間、熱処理を行い、続いて、この積層基板ごと２５℃のアセトン（佐々木化学薬品（株）製）に３０秒間浸け（アセトン処理）、積層基板を取り出し、２５℃で３分間乾燥させ、１７０℃の熱風オーブン（タバイエスペック（株）製  ＰＨＨ−２００）で２分間熱処理を行い、導電化処理された網目状金属微粒子積層基板を得た。
得られた網目状金属微粒子積層基板の表面のＲａ値は、４８０ｎｍであり、第２導電層と接触した第１導電部の面積／第２導電層の面積の比率は１６％であり、透明導電層の表面比抵抗は９．８Ω／□と導電性は良好であったが、耐腐食性試験後、金属微粒子からなる網目状の第１導電部が腐食しており、導電性を示さず、該透明導電性基板を用いた色素増感型太陽電池の発電性は不良であった。耐腐食性の機能を有する第２導電層（ＩＴＯ薄膜）が積層されていないため、銀微粒子は腐食してしまったものと推察される。
【００７８】
（比較例２）
ＩＴＯ薄膜を積層しない以外は、実施例１と同様の方法にて、金属微粒子からなる網目状を有する透明導電層／基板２の構成からなる透明導電性基板を形成した。
【００７９】
得られた透明導電性基板の表面のＲａ値は、６０ｎｍであり、第２導電層と接触した第１導電部の面積／第２導電層の面積の比率は１７％であり、表面比抵抗は４．７Ω／□であったが、耐腐食性評価後は金属微粒子からなる網目状の第１導電部が腐食しており、導電性を示さなかった。平坦性には優れていたが、比較例１と同様に、ＩＴＯ薄膜が積層されていないために、銀微粒子が不足してしまったものと推察される。
【００８０】
（比較例３）
実施例１と同様にして得られた、網目状金属微粒子積層基板を、実施例１同様に導電化処理を行い、網目状金属微粒子積層基板の金属微粒子を積層した面上に続いて、得られた網目状金属微粒子積層基板の金属微粒子を積層した面上に、水性ウレタン樹脂分散液（大日本インキ化学工業（株）製ＨＹＤＲＡＮ（登録商標）ＡＰ−２０１）を水で固形分濃度３質量％まで希釈したものをＷｅｔ７μｍになるようにバーコート法によって塗布した。
【００８１】
次に、得られた基板を１７０℃で２分間乾燥させて樹脂層を形成させ、導電性基板を得た。
【００８２】
得られた導電性基板は、第２導電層と接触した第１導電部の面積／第２導電層の面積の比率は１８％であり、全光線透過率は７９％で、表面比抵抗は４．７Ω／□であり、導電性も良好であったが、表面のＲａ値が４４０ｎｍであり、平坦性が不足しており、本透明導電性基板を用いた色素増感型太陽電池の発電性は、実施例１と比較すると劣る結果であった。この理由は、平坦性が劣るために、電極基板の間隔が広くなっており、電解質層の層厚が厚いことによるものと推察される。
【００８３】
実施例１〜４、比較例１〜３の特性評価結果を表１に示す。
【００８４】
【表１】
2012104253.tif 000003
【産業上の利用可能性】
【００８５】
本発明の透明導電性基板は、高い導電性を有し、透明性および平坦性のいずれにも優れているため、光電変換素子に用いることができる。さらには色素増感型太陽電池に使用される電解質に対して、耐腐食性を有する透明導電性基板であるため、色素増感型太陽電池に好適に用いることができる。
【符号の説明】
【００８６】
１  第２導電層
２  金属微粒子からなる網目状（＝第１導電部）
３  樹脂層
４  基板
５  透明導電層  
【図１】
2012104253.tif 000004
【図２】
2012104253.tif 000005