(57)【要約】【課題】  本発明は、雑草に対して優れた除草防除効果を発現すると共に、有用植物／雑草間に高い選択性を有し、且つ、有用作物に対して極めて高い安全性を有する除草剤組成物、及び、当該除草剤組成物による有用植物の薬害を軽減しつつ雑草を防除する方法を提供する。【解決手段】  本発明の薬害が軽減された除草剤組成物は、ピロキサスルホンとジシクロノンを含んでなることを特徴とし、本発明の薬害を軽減しつつ雑草を防除する方法は、上記本発明の薬害が軽減された除草剤組成物を、有用植物が生育する領域に施用することを特徴とする。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ピロキサスルホンとジシクロノンを含んでなることを特徴とする薬害が軽減された除草剤組成物。
【請求項２】
ピロキサスルホンとジシクロノンの重量比が１０００：１〜１：５０である請求項１に記載の薬害が軽減された除草剤組成物。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の除草剤組成物を、有用植物が生育する領域に施用することを特徴とする薬害を軽減しつつ雑草を防除する方法。
【請求項４】
有用植物が生育する領域が農地である請求項３に記載の薬害を軽減しつつ雑草を防除する方法。
【請求項５】
有用植物が生育する領域が畑地又は水田である請求項３又は４に記載の薬害を軽減しつつ雑草を防除する方法。
【請求項６】
有用植物がトウモロコシである請求項３乃至５のいずれか１項に記載の薬害を軽減しつつ雑草を防除する方法。
【請求項７】
請求項１又は２に記載の除草剤組成物を、雑草に対して茎葉施用、土壌施用又は水面施用することを特徴とする薬害を軽減しつつ雑草を防除する方法。
【請求項８】
雑草の発生前、出芽期及び／又は生育期に、ピロキサスルホン及びジシクロノンを同時施用するか、或いは、ピロキサスルホン又はジシクロノンを連続施用又は一定期間をおいて施用することを特徴とする薬害を軽減しつつ雑草を防除する方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有用植物に対する薬害が軽減された除草剤組成物及び有用植物に対する薬害を軽減しつつ雑草を防除する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有用植物の生育を妨げる雑草を防除するための手段として、数多くの除草剤が実用化され、農業生産性省力化に寄与してきた。
【０００３】
とはいえ、雑草の種類は多岐にわたり、更に各々の雑草の発生は一様でなく不均一であり、その発生期間が長期に及ぶことも又、周知である。従って、広汎な草種の雑草に対して一定の期間、十分な除草効果を示し、且つ、有用植物／雑草間に高い選択性を発揮する除草活性成分の開発が望まれる。
【０００４】
しかしながら、公知の除草活性成分の多くは、温度、降雨、日照などのさまざまに変化する自然条件下において、有用植物に対する薬害を引き起こしてしまうこともあり、必ずしも十分な安全性を発揮するとは限らないのが現状である。
【０００５】
このような状況のもとで、特に、新規なイソオキサゾリン誘導体である３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾール（一般名：ピロキサスルホン）が、難防除性雑草に対して、土壌施用、茎葉施用及び水面施用のいずれにおいても高い防除活性を有することが報告されている（特許文献１参照）。加えて、ピロキサスルホンは有用植物／雑草間に比較的高い選択性を有する理想的な除草活性成分であるが、ピロキサスルホンの安全性を更に向上させる余地は依然として存在する。
【０００６】
ところで、別の除草活性成分であるアセトアニリド誘導体の植物毒性から有用植物を保護する薬害軽減剤の一つとして、１−ジクロロアセチルヘキサヒドロ−３，３，８ａ−トリメチルピロロ［１，２−ａ］−ピリミジン−６（２Ｈ）−オン、即ちジシクロノンが知られている（特許文献２）。しかしながら、このジシクロノンと、ピロキサスルホンのようなイソオキサゾリン誘導体との混用に関する報告はなされていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】ＷＯ２００２／０６２７７０
【特許文献２】特開昭５６−０９９４８１
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、雑草に対して優れた防除効果を発現すると共に、有用植物／雑草間に高い選択性を有し、且つ、有用作物に対して極めて高い安全性を有する除草剤組成物、及び、当該除草剤組成物による有用植物の薬害を軽減しつつ雑草を防除する方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らはこのような状況に鑑み、高い除草効果と有用作物／雑草間の選択性を有する除草剤組成物について検討した結果、ピロキサスルホンにジシクロノンを混用した除草剤組成物が、例えばトウモロコシ等の有用植物に対して極めて高い安全性を有することを見いだし、本発明を完成するに至った。
【００１０】
即ち、本発明は、以下のとおりの薬害が軽減された除草剤組成物及び薬害を軽減しつつ雑草を防除する方法を提供するものである。
【００１１】
（１）ピロキサスルホンとジシクロノンを含んでなることを特徴とする薬害が軽減された除草剤組成物。
【００１２】
（２）ピロキサスルホンとジシクロノンの重量比が１０００：１〜１：５０である（１）に記載の薬害が軽減された除草剤組成物。
【００１３】
（３）前記（１）又は（２）に記載の除草剤組成物を、有用植物が生育する領域に施用することを特徴とする薬害を軽減しつつ雑草を防除する方法。
【００１４】
（４）有用植物が生育する領域が農地である前記（３）に記載の薬害を軽減しつつ雑草を防除する方法。
【００１５】
（５）有用植物が生育する領域が畑地又は水田である前記（３）又は（４）に記載の薬害を軽減しつつ雑草を防除する方法。
【００１６】
（６）有用植物がトウモロコシである前記（３）乃至（５）のいずれかに記載の薬害を軽減しつつ雑草を防除する方法。
【００１７】
（７）前記（１）又は（２）に記載の除草剤組成物を、雑草に対して茎葉施用、土壌施用又は水面施用することを特徴とする薬害を軽減しつつ雑草を防除する方法。
【００１８】
（８）雑草の発生前、出芽期及び／又は生育期に、ピロキサスルホン及びジシクロノンを同時施用するか、或いは、ピロキサスルホン又はジシクロノンを連続施用又は一定期間をおいて施用することを特徴とする薬害を軽減しつつ雑草を防除する方法。
【発明の効果】
【００１９】
本発明により、雑草に対する優れた防除効果と、有用植物／雑草間の高い選択性を犠牲にすることなく、有用作物に対して極めて高い安全性を有する除草剤組成物、及び、当該除草剤組成物による有用植物の薬害を軽減しつつ雑草を防除する方法が提供される。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
本発明の薬害が軽減された除草剤組成物は、ピロキサスルホンとジシクロノンを含んでなることを特徴とするものである。
【００２１】
ピロキサスルホンは、上記の通り３−［（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イル）メチルスルホニル］−４，５−ジヒドロ−５，５−ジメチルイソオキサゾールの一般名であり、除草活性成分である。
【００２２】
ジシクロノンは、上記の通り１−ジクロロアセチルヘキサヒドロ−３，３，８ａ−トリメチルピロロ［１，２−ａ］−ピリミジン−６（２Ｈ）−オンの一般名であり、アセトアニリド誘導体の植物毒性から有用植物を保護する薬害軽減剤の一つとして知られている化合物である。
【００２３】
本発明の除草剤組成物において、ピロキサスルホンとジクロシノンとの使用割合は、両者の種類、対象作物の種類や生育時期、移植期などにより適宜変動することができるが、重量比にして通常１０００：１〜１：５０である。
【００２４】
本発明の除草剤組成物は、有用植物が生育する領域に施用することにより、優れた除草効果を有し、且つ、作物／雑草間の優れた選択性を示す。
【００２５】
即ち、本発明の除草剤組成物は、農地、例えば畑地における雑草に対する茎葉施用又は土壌施用において、次に挙げられる、問題となる種々の雑草に対して除草効果を有する。
【００２６】
アカバナ科雑草：オオマツヨイグサ（Ｏｅｎｏｔｈｅｒａ  ｅｒｙｔｈｒｏｓｅｐａｌａ）、コマツヨイグサ（Ｏｅｎｏｔｈｅｒａ  ｌａｃｉｎｉａｔａ）
キンポウゲ科雑草：トゲミノキツネノボタン（Ｒａｎｕｎｃｕｌｕｓ  ｍｕｒｉｃａｔｕｓ）、イボミキンポウゲ（Ｒａｎｕｎｃｕｌｕｓ  ｓａｒｄｏｕｓ）
タデ科雑草：ソバカズラ（Ｐｏｌｙｇｏｎｕｍ  ｃｏｎｖｏｌｖｕｌｕｓ）、サナエタデ（Ｐｏｌｙｇｏｎｕｍ  ｌａｐａｔｈｉｆｏｌｉｕｍ）、アメリカサナエタデ（Ｐｏｌｙｇｏｎｕｍ  ｐｅｎｓｙｌｖａｎｉｃｕｍ）、ハルタデ（Ｐｏｌｙｇｏｎｕｍ  ｐｅｒｓｉｃａｒｉａ）、ナガバギシギシ（Ｒｕｍｅｘ  ｃｒｉｓｐｕｓ）、エゾノギシギシ（Ｒｕｍｅｘ  ｏｂｔｕｓｉｆｏｌｉｕｓ）、イタドリ（Ｐｏｌｉｇｏｎｕｍ  ｃｕｓｐｉｄａｔｕｍ）。
スベリヒユ科雑草：スベリヒユ（Ｐｏｒｔｕｌａｃａ  ｏｌｅｒａｃｅａ）。
ナデシコ科雑草：ハコベ（Ｓｔｅｌｌａｒｉａ  ｍｅｄｉａ）、オランダミミナグサ（Ｃｅｒａｓｔｉｕｍ  ｇｌｏｍｅｒａｔｕｍ）
アカザ科雑草：シロザ（Ｃｈｅｎｏｐｏｄｉｕｍ  ａｌｂｕｍ）、ホウキギ（Ｋｏｃｈｉａ  ｓｃｏｐａｒｉａ）
ヒユ科雑草：アオゲイトウ（Ａｍａｒａｎｔｈｕｓ  ｒｅｔｒｏｆｌｅｘｕｓ）、ホナガアオゲイトウ（Ａｍａｒａｎｔｈｕｓ  ｈｙｂｒｉｄｕｓ）
アブラナ科雑草：ワイルドラディッシュ（Ｒａｐｈａｎｕｓ  ｒａｐｈａｎｉｓｔｒｕｍ）、ノハラガラシ（Ｓｉｎａｐｉｓ  ａｒｖｅｎｓｉｓ）、ナズナ（Ｃａｐｓｅｌｌａ  ｂｕｒｓａ−ｐａｓｔｏｒｉｓ）、マメグンバイナズナ（Ｌｅｐｉｄｉｕｍ  ｖｉｒｇｉｎｉｃｕｍ）
マメ科雑草：アメリカツノクサネム（Ｓｅｓｂａｎｉａ  ｅｘａｌｔａｔａ）、エビスグサ（Ｃａｓｓｉａ  ｏｂｔｕｓｉｆｏｌｉａ）、フロリダベガーウィード（Ｄｅｓｍｏｄｉｕｍ  ｔｏｒｔｕｏｓｕｍ）、シロツメクサ（Ｔｒｉｆｏｌｉｕｍ  ｒｅｐｅｎｓ）、オオカラスノエンドウ（Ｖｉｃｉａ  ｓａｔｉｖａ）、コメツブウマゴヤシ（Ｍｅｄｉｃａｇｏ  ｌｕｐｕｌｉｎａ）。
アオイ科雑草：イチビ（Ａｂｕｔｉｌｏｎ  ｔｈｅｏｐｈｒａｓｔｉ）、アメリカキンゴジカ（Ｓｉｄａ  ｓｐｉｎｏｓａ）
スミレ科雑草：フィールドパンジー（Ｖｉｏｌａ  ａｒｖｅｎｓｉｓ）、ワイルドパンジー（Ｖｉｏｌａ  ｔｒｉｃｏｌｏｒ）
アカネ科雑草：ヤエムグラ（Ｇａｌｉｕｍ  ａｐａｒｉｎｅ）
ヒルガオ科雑草：アメリカアサガオ（Ｉｐｏｍｏｅａ  ｈｅｄｅｒａｃｅａ）、マルバアサガオ（Ｉｐｏｍｏｅａ  ｐｕｒｐｕｒｅａ）、マルバアメリカアサガオ（Ｉｐｏｍｏｅａ  ｈｅｄｅｒａｃｅａ  ｖａｒ  ｉｎｔｅｇｒｉｕｓｃｕｌａ）、マメアサガオ（Ｉｐｏｍｏｅａ  ｌａｃｕｎｏｓａ）、セイヨウヒルガオ（Ｃｏｎｖｏｌｖｕｌｕｓ  ａｒｖｅｎｓｉｓ）
シソ科雑草：ヒメオドリコソウ（Ｌａｍｉｕｍ  ｐｕｒｐｕｒｅｕｍ）、ホトケノザ（Ｌａｍｉｕｍ  ａｍｐｌｅｘｉｃａｕｌｅ）
ナス科雑草：シロバナチョウセンアサガオ（Ｄａｔｕｒａ  ｓｔｒａｍｏｎｉｕｍ）、イヌホオズキ（Ｓｏｌａｎｕｍ  ｎｉｇｒｕｍ）
ゴマノハグサ科雑草：オオイヌノフグリ（Ｖｅｒｏｎｉｃａ  ｐｅｒｓｉｃａ）、タチイヌノフグリ（Ｖｅｒｏｎｉｃａ  ａｒｖｅｎｓｉｓ）、フラサバソウ（Ｖｅｒｏｎｉｃａ  ｈｅｄｅｒａｅｆｏｌｉａ）
キク科雑草：オナモミ（Ｘａｎｔｈｉｕｍ  ｐｅｎｓｙｌｖａｎｉｃｕｍ）、野生ヒマワリ（Ｈｅｌｉａｎｔｈｕｓ  ａｎｎｕｕｓ）、カミツレ（Ｍａｔｒｉｃａｒｉａ  ｃｈａｍｏｍｉｌｌａ）、イヌカミツレ（Ｍａｔｒｉｃａｒｉａ  ｐｅｒｆｏｒａｔａ  ｏｒ  ｉｎｏｄｏｒａ）、コーンマリーゴールド（Ｃｈｒｙｓａｎｔｈｅｍｕｍ  ｓｅｇｅｔｕｍ）、コシカギク（Ｍａｔｒｉｃａｒｉａ  ｍａｔｒｉｃａｒｉｏｉｄｅｓ）、ブタクサ（Ａｍｂｒｏｓｉａ  ａｒｔｅｍｉｓｉｉｆｏｌｉａ）、オオブタクサ（Ａｍｂｒｏｓｉａ  ｔｒｉｆｉｄａ）、ヒメムカシヨモギ（Ｅｒｉｇｅｒｏｎ  ｃａｎａｄｅｎｓｉｓ）、ヨモギ（Ａｒｔｅｍｉｓｉａ  ｐｒｉｎｃｅｐｓ）、セイタカアワダチソウ（Ｓｏｌｉｄａｇｏ  ａｌｔｉｓｓｉｍａ）、セイヨウタンポポ（Ｔａｒａｘａｃｕｍ  ｏｆｆｉｃｉｎａｌｅ）
ムラサキ科雑草：ワスレナグサ（Ｍｙｏｓｏｔｉｓ  ａｒｖｅｎｓｉｓ）
ガガイモ科雑草：オオトウワタ（Ａｓｃｌｅｐｉａｓ  ｓｙｒｉａｃａ）
トウダイグサ科雑草：トウダイグサ（Ｅｕｐｈｏｒｂｉａ  ｈｅｌｉｏｓｃｏｐｉａ）、オオニシキソウ（Ｅｕｐｈｏｒｂｉａ  ｍａｃｕｌａｔａ）
フウロソウ科雑草：アメリカフウロ（Ｇｅｒａｎｉｕｍ  ｃａｒｏｌｉｎｉａｎｕｍ）
カタバミ科雑草：ムラサキカタバミ（Ｏｘａｌｉｓ  ｃｏｒｙｍｂｏｓａ）
ウリ科雑草：アレチウリ（Ｓｉｃｙｏｓ  ａｎｇｕｌａｔｕｓ）
イネ科雑草：イヌビエ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ  ｃｒｕｓ−ｇａｌｌｉ）、エノコログサ（Ｓｅｔａｒｉａ  ｖｉｒｉｄｉｓ）、アキノエノコログサ（Ｓｅｔａｒｉａ  ｆａｂｅｒｉ）、メヒシバ（Ｄｉｇｉｔａｒｉａ  ｓａｎｇｕｉｎａｌｉｓ）、オヒシバ（Ｅｌｅｕｓｉｎｅ  ｉｎｄｉｃａ）、スズメノカタビラ（Ｐｏａ  ａｎｎｕａ）、ブラックグラス（Ａｌｏｐｅｃｕｒｕｓ  ｍｙｏｓｕｒｏｉｄｅｓ）、カラスムギ（Ａｖｅｎａ  ｆａｔｕａ）、セイバンモロコシ（Ｓｏｒｇｈｕｍ  ｈａｌｅｐｅｎｓｅ）、シバムギ（Ａｇｒｏｐｙｒｏｎ  ｒｅｐｅｎｓ）、ウマノチャヒキ（Ｂｒｏｍｕｓ  ｔｅｃｔｏｒｕｍ）、ギョウギシバ（Ｃｙｎｏｄｏｎｅ  ｄａｃｔｙｌｏｎ）、オオクサキビ（Ｐａｎｉｃｕｍ  ｄｉｃｈｏｔｏｍｉｆｌｏｒｕｍ）、テキサスパニカム（Ｐａｎｉｃｕｍ  ｔｅｘａｎｕｍ）、シャターケーン（Ｓｏｒｇｈｕｍ  ｖｕｌｇａｒｅ）、スズメノテッポウ（Ａｌｏｐｅｃｕｒｕｓ  ｇｅｎｉｃｕｌａｔｕｓ）
ツユクサ科雑草：ツユクサ（Ｃｏｍｍｅｌｉｎａ  ｃｏｍｍｕｎｉｓ）
トクサ科雑草：スギナ（Ｅｑｕｉｓｅｔｕｍ  ａｒｖｅｎｓｅ）
カヤツリグサ科雑草：コゴメガヤツリ（Ｃｙｐｅｒｕｓ  ｉｒｉａ）、ハマスゲ（Ｃｙｐｅｒｕｓ  ｒｏｔｕｎｄｕｓ）、キハマスゲ（Ｃｙｐｅｒｕｓ  ｅｓｃｕｌｅｎｔｕｓ）
【００２７】
一方、本発明の除草剤組成物は、例えばトウモロコシ（Ｚｅａ  ｍａｙｓ）、コムギ（Ｔｒｉｔｉｃｕｍ  ａｅｓｔｉｖｕｍ）、オオムギ（Ｈｏｒｄｅｕｍ  ｖｕｌｇａｒｅ）、イネ（Ｏｒｙｓａ  ｓａｔｉｖａ）、ソルガム（Ｓｏｒｇｈｕｍ  ｂｉｃｏｌｏｒ）、ダイズ（Ｇｌｙｃｉｎｅ  ｍａｘ）、ワタ（Ｇｏｓｓｙｐｉｕｍ  ｓｐｐ．）、テンサイ（Ｂｅｔａ  ｖｕｌｇａｒｉｓ）、ピーナッツ（Ａｒａｃｈｉｓ  ｈｙｐｏｇａｅａ）、ヒマワリ（Ｈｅｌｉａｎｔｈｕｓ  ａｎｎｕｕｓ）、ナタネ（Ｂｒａｓｓｉｃａ  ｎａｐｕｓ）等の主要作物、花卉、蔬菜等の園芸作物に対して問題となるような薬害を示さず、優れた選択性及び安全性を具えている。
【００２８】
又、本発明の除草剤組成物は、ダイズ、トウモロコシ、コムギ等の不耕起栽培において、問題となる種々の雑草を効果的に除草することができ、しかも、上記ダイズ等に対しては問題となるような薬害を示さず、優れた選択性及び安全性を具えている。
【００２９】
本発明の除草剤組成物は、農地、例えば水田において、次に挙げられる問題となる種々の雑草に対して除草効果を有する。
【００３０】
イネ科雑草：タイヌビエ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ  ｏｒｙｚｉｃｏｌａ）。
ゴマノハグサ科雑草：アゼナ（Ｌｉｎｄｅｒｎｉａ  ｐｒｏｃｕｍｂｅｎｓ）
ミソハギ科雑草：キカシグサ（Ｒｏｔａｌａ  ｉｎｄｉｃａ）、ヒメミソハギ（Ａｍｍａｎｎｉａ  ｍｕｌｔｉｆｌｏｒａ）
ミゾハコベ科雑草：ミゾハコベ（Ｅｌａｔｉｎｅ  ｔｒｉａｎｄｒａ）
カヤツリグサ科雑草：タマガヤツリ（Ｃｙｐｅｒｕｓ  ｄｉｆｆｏｒｍｉｓ）、ホタルイ（Ｓｃｉｒｐｕｓ  ｊｕｎｃｏｉｄｅｓ）、マツバイ（Ｅｌｅｏｃｈａｒｉｓ  ａｃｉｃｕｌａｒｉｓ）、ミズガヤツリ（Ｃｙｐｅｒｕｓ  ｓｅｒｏｔｉｎｕｓ）、クログワイ（Ｅｌｅｏｃｈａｒｉｓ  ｋｕｒｏｇｕｗａｉ）
ミズアオイ科雑草：コナギ（Ｍｏｎｏｃｈｏｒｉａ  ｖａｇｉｎａｌｉｓ）
オモダカ科雑草：ウリカワ（Ｓａｇｉｔｔａｒｉａ  ｐｙｇｍａｅａ）、オモダカ（Ｓａｇｉｔｔａｒｉａ  ｔｒｉｆｏｌｉａ）、ヘラオモダカ（Ａｌｉｓｍａ  ｃａｎａｌｉｃｕｌａｔｕｍ）
ヒルムシロ科雑草：ヒルムシロ（Ｐｏｔａｍｏｇｅｔｏｎ  ｄｉｓｔｉｎｃｔｕｓ）
セリ科雑草：セリ（Ｏｅｎａｎｔｈｅ  ｊａｖａｎｉｃａ）
【００３１】
しかも、本発明の除草剤組成物は、例えば移植水稲に対して問題となるような薬害を示さず、優れた選択性及び安全性を具えている。
【００３２】
更に、本発明の除草剤組成物は、例えば、堤防ののり面、河川敷、道路の路肩及びのり面、鉄道敷、公園緑地、グランド、駐車場、空港、工場及び貯蔵設備等の工業施設用地、休耕地、或いは、市街の有休地等の、雑草の生育を制御する必要のある非農耕地、或いは、樹園地、牧草地、芝生地、林業地等に発生する広範囲の雑草を除草することができる。又、本発明の除草剤組成物は、河川、水路、運河、貯水池等に発生する、ホテイアオイ（Ｅｉｃｈｈｏｒｎｉａ  ｃｒａｓｓｉｐｅｓ）等の水生雑草に対する除草効果も有する。
【００３３】
本発明でいう有用植物とは、上記に例示した種類だけではなく、例えば、農作物類（トウモロコシ、イネ、コムギ、オオムギ、ライムギ、エンバク、ソルガム、ワタ、ダイズ、ピーナッツ、ソバ、テンサイ、ナタネ、ヒマワリ、サトウキビ及びタバコ等）；ナス科野菜（ナス、トマト、ピーマン、トウガラシ、ジャガイモ等）、ウリ科野菜（キュウリ、カボチャ、ズッキーニ、スイカ、メロン等）、アブラナ科野菜（ダイコン、カブ、セイヨウワサビ、コールラビ、ハクサイ、キャベツ、カラシナ、ブロッコリー、カリフラワー等）、キク科野菜（ゴボウ、シュンギク、アーティチョーク、レタス等）、ユリ科野菜（ネギ、タマネギ、ニンニク、アスパラガス）、セリ科野菜（ニンジン、パセリ、セロリ、アメリカボウフウ等）、アカザ科野菜（ホウレンソウ、フダンソウ等）、シソ科野菜（シソ、ミント、バジル等）、イチゴ、サツマイモ、ヤマノイモ及びサトイモ等の野菜類；仁果類（リンゴ、セイヨウナシ、ニホンナシ、カリン、マルメロ等）、核果類（モモ、スモモ、ネクタリン、ウメ、オウトウ、アンズ、プルーン等）、カンキツ類（ウンシュウミカン、オレンジ、レモン、ライム、グレープフルーツ等）、堅果類（クリ、クルミ、ハシバミ、アーモンド、ピスタチオ、カシューナッツ、マカダミアナッツ等）、液果類（ブルーベリー、クランベリー、ブラックベリー、ラズベリー等）、ブドウ、カキ、オリーブ、ビワ、バナナ、コーヒー、ナツメヤシ、ココヤシ及びアブラヤシ等の果実類；チャ、クワ、街路樹（トネリコ、カバノキ、ハナミズキ、ユーカリ、イチョウ、ライラック、カエデ、カシ、ポプラ、ハナズオウ、フウ、プラタナス、ケヤキ、クロベ、モミノキ、ツガ、ネズ、マツ、トウヒ、イチイ、ニレ、トチノキ等）、サンゴジュ、イヌマキ、スギ、ヒノキ、クロトン、マサキ及びカナメモチ等の果樹以外の樹木類；シバ類（ノシバ、コウライシバ等）、バミューダグラス類（ギョウギシバ等）、ベントグラス類（コヌカグサ、ハイコヌカグサ、イトコヌカグサ等）、ブルーグラス類（ナガハグサ、オオスズメノカタビラ等）、フェスク類（オニウシノケグサ、イトウシノケグサ、ハイウシノケグサ等）、ライグラス類（ネズミムギ、ホソムギ等）、カモガヤ及びオオアワガエリ等の芝生類；オイルパーム及びナンヨウアブラギリ等の油糧作物類；花卉類（バラ、カーネーション、キク、トルコギキョウ、カスミソウ、ガーベラ、マリーゴールド、サルビア、ペチュニア、バーベナ、チューリップ、アスター、リンドウ、ユリ、パンジー、シクラメン、ラン、スズラン、ラベンダー、ストック、ハボタン、プリムラ、ポインセチア、グラジオラス、カトレア、デージー、バーベナ、シンビジューム、ベゴニア等）；観葉植物等を挙げることができるが、これらに限定されるものでもない。
【００３４】
本発明でいう有用植物には、イソキサフルトール等のＨＰＰＤ阻害剤、イマゼタピル、チフェンスルフロンメチル等のＡＬＳ阻害剤、グリホサート等のＥＰＳＰ合成酵素阻害剤、グルホシネート等のグルタミン合成酵素阻害剤、セトキシジム等のアセチルＣｏＡカルボキシラーゼ阻害剤、フルミオキサジン等のＰＰＯ阻害剤、ブロモキシニル、ジカンバ及び２，４−Ｄ等の除草剤に対する耐性を、古典的な育種法並びに遺伝子組換え技術により付与された植物も含まれる。
【００３５】
古典的な育種法により耐性を付与された有用植物の例として、イマゼタピル等のイミダゾリノン系ＡＬＳ阻害型除草剤に耐性のナタネ、コムギ、ヒマワリ、イネ、トウモロコシがあり、Ｃｌｅａｒｆｉｅｌｄ＜登録商標＞の商品名で既に販売されている。同様に、古典的な育種法によるチフェンスルフロンメチル等のスルホニルウレア系ＡＬＳ阻害型除草剤に耐性のダイズがあり、ＳＴＳダイズの商品名で既に販売されている。
【００３６】
同様に、古典的な育種法により、トリオンオキシム系、アリールオキシフェノキシプロピオン酸系除草剤などのアセチルＣｏＡカルボキシラーゼ阻害剤に対する耐性が付与された有用植物の例としてＳＲコーン等がある。アセチルＣｏＡカルボキシラーゼ阻害剤に対する耐性が付与された有用植物は、プロシーディングズ・オブ・ザ・ナショナル・アカデミー・オブ・サイエンシーズ・オブ・ザ・ユナイテッド・ステーツ・オブ・アメリカ（Ｐｒｏｃ．Ｎａｔｌ．Ａｃａｄ．Ｓｃｉ．ＵＳＡ）８７巻、７１７５〜７１７９頁（１９９０年）等に記載されている。又、アセチルＣｏＡカルボキシラーゼ阻害剤に耐性の変異アセチルＣｏＡカルボキシラーゼが、ウィード・サイエンス（Ｗｅｅｄ  Ｓｃｉｅｎｃｅ）５３巻、７２８〜７４６頁（２００５年）等に報告されており、こうした変異アセチルＣｏＡカルボキシラーゼ遺伝子を、遺伝子組換え技術により植物に導入するか、若しくは、抵抗性付与に関わる変異を作物アセチルＣｏＡカルボキシラーゼに導入することにより、アセチルＣｏＡカルボキシラーゼ阻害剤に耐性の植物を作出することができる。更に、キメラプラスティ技術（Ｇｕｒａ  Ｔ．１９９９．Ｒｅｐａｉｒｉｎｇ  ｔｈｅ  Ｇｅｎｏｍｅ’ｓ  Ｓｐｅｌｌｉｎｇ  Ｍｉｓｔａｋｅｓ．Ｓｃｉｅｎｃｅ  ２８５：３１６−３１８）に代表される塩基置換変異導入核酸を、植物細胞内に導入して作物（アセチルＣｏＡカルボキシラーゼ／除草剤標的）遺伝子に部位特異的アミノ酸置換変異を引き起こすことにより、アセチルＣｏＡカルボキシラーゼ阻害剤／除草剤に耐性の植物を作出することができる。
【００３７】
遺伝子組換え技術により耐性を付与された有用植物の例として、グリホサートに耐性のトウモロコシ、ダイズ、ワタ、ナタネ、テンサイ品種があり、ＲｏｕｎｄｕｐＲｅａｄｙ＜登録商標＞、Ａｇｒｉｓｕｒｅ＜登録商標＞ＧＴ等の商品名で既に販売されている。同様に、遺伝子組換え技術によるグルホシネートに耐性のトウモロコシ、ダイズ、ワタ、ナタネ品種があり、ＬｉｂｅｒｔｙＬｉｎｋ＜登録商標＞等の商品名で既に販売されている。更に、遺伝子組換え技術によるブロモキシニル耐性のワタがＢＸＮの商品名で既に販売されている。
【００３８】
上記有用植物には、遺伝子組換え技術を用いて、例えば、バチルス属で知られている選択的毒素等を合成することが可能となった植物も含まれる。
【００３９】
このような遺伝子組換え植物で発現される殺虫性毒素としては、例えばバチルス・セレウス（Ｂａｃｉｌｌｕｓ  ｃｅｒｅｕｓ）やバチルス・ポピリエ（Ｂａｃｉｌｌｕｓ  ｐｏｐｉｌｌｉａｅ）由来の殺虫性タンパク；バチルス・チューリンゲンシス（Ｂａｃｉｌｌｕｓ  ｔｈｕｒｉｎｇｉｅｎｓｉｓ）由来のＣｒｙ１Ａｂ、Ｃｒｙ１Ａｃ、Ｃｒｙ１Ｆ、Ｃｒｙ１Ｆａ２、Ｃｒｙ２Ａｂ、Ｃｒｙ３Ａ、Ｃｒｙ３Ｂｂ１又はＣｒｙ９Ｃ等のδ−エンドトキシン、ＶＩＰ１、ＶＩＰ２、ＶＩＰ３又はＶＩＰ３Ａ等の殺虫性タンパク；線虫由来の殺虫性タンパク；サソリ毒素、クモ毒素、ハチ毒素又は昆虫特異的神経毒素等の動物によって産生される毒素；糸条菌類毒素；植物レクチン；アグルチニン；トリプシン阻害剤、セリンプロテアーゼ阻害剤、パタチン、シスタチン、パパイン阻害剤等のプロテアーゼ阻害剤；リシン、トウモロコシ−ＲＩＰ、アブリン、サポリン、ブリオジン等のリボゾーム不活性化タンパク（ＲＩＰ）；３−ヒドロキシステロイドオキシダーゼ、エクジステロイド−ＵＤＰ−グルコシルトランスフェラーゼ、コレステロールオキシダーゼ等のステロイド代謝酵素；エクダイソン阻害剤；ＨＭＧ−ＣｏＡリダクターゼ；ナトリウムチャネル阻害剤、カルシウムチャネル阻害剤等のイオンチャネル阻害剤；幼若ホルモンエステラーゼ；利尿ホルモン受容体；スチルベンシンターゼ；ビベンジルシンターゼ；キチナーゼ；グルカナーゼ等が挙げられる。
【００４０】
又、このような遺伝子組換え植物で発現される毒素として、Ｃｒｙ１Ａｂ、Ｃｒｙ１Ａｃ、Ｃｒｙ１Ｆ、Ｃｒｙ１Ｆａ２、Ｃｒｙ２Ａｂ、Ｃｒｙ３Ａ、Ｃｒｙ３Ｂｂ１又はＣｒｙ９Ｃ等のδ−エンドトキシンタンパク、ＶＩＰ１、ＶＩＰ２、ＶＩＰ３又はＶＩＰ３Ａ等の殺虫性タンパクのハイブリッド毒素、一部を欠損した毒素、修飾された毒素も含まれる。ハイブリッド毒素は、組換え技術を用いて、これらタンパクの異なるドメインの新しい組み合わせによって作り出される。一部を欠損した毒素としては、アミノ酸配列の一部を欠損したＣｒｙ１Ａｂが知られており、又、修飾された毒素としては、天然型毒素のアミノ酸の１つ又は複数が置換されているものを挙げることができる。
【００４１】
これら毒素の例及びこれら毒素を合成することができる組換え植物は、例えばＥＰ−Ａ−０３７４７５３、ＷＯ９３／００７２７８、ＷＯ９５／０３４６５６、ＥＰ−Ａ−０４２７５２９、ＥＰ−Ａ−０４５１８７８、ＷＯ０３／０５２０７３等の特許文献に記載されている。
【００４２】
これらの組換え植物に含まれる毒素は、特に、鞘翅目害虫、双翅目害虫、鱗翅目害虫への耐性を植物へ付与する。
【００４３】
又、１つ若しくは複数の殺虫性の害虫抵抗性遺伝子を含み、１つ又は複数の毒素を発現する遺伝子組換え植物は既に知られており、いくつかのものは市販されている。これら遺伝子組換え植物の例として、ＹｉｅｌｄＧａｒｄ＜登録商標＞（Ｃｒｙ１Ａｂ毒素を発現するトウモロコシ品種）、ＹｉｅｌｄＧａｒｄ＜登録商標＞Ｒｏｏｔｗｏｒｍ（Ｃｒｙ３Ｂｂ１毒素を発現するトウモロコシ品種）、ＹｉｅｌｄＧａｒｄ＜登録商標＞Ｐｌｕｓ（Ｃｒｙ１ＡｂとＣｒｙ３Ｂｂ１毒素を発現するトウモロコシ品種）、Ｈｅｒｃｕｌｅｘ  Ｉ＜登録商標＞（Ｃｒｙ１Ｆａ２毒素とグルホシネートへの耐性を付与するためのホスフィノトリシン−Ｎ−アセチルトランスフェラーゼ（ＰＡＴ）を発現するトウモロコシ品種）、ＮｕＣＯＴＮ３３Ｂ＜登録商標＞（Ｃｒｙ１Ａｃ毒素を発現するワタ品種）、Ｂｏｌｌｇａｒｄ  Ｉ＜登録商標＞（Ｃｒｙ１Ａｃ毒素を発現するワタ品種）、Ｂｏｌｌｇａｒｄ  ＩＩ＜登録商標＞（Ｃｒｙ１ＡｃとＣｒｙ２Ａｂ毒素を発現するワタ品種）、ＶＩＰＣＯＴ＜登録商標＞（ＶＩＰ毒素を発現するワタ品種）、ＮｅｗＬｅａｆ＜登録商標＞（Ｃｒｙ３Ａ毒素を発現するジャガイモ品種）、ＮａｔｕｒｅＧａｒｄ＜登録商標＞Ａｇｒｉｓｕｒｅ＜登録商標＞ＧＴ  Ａｄｖａｎｔａｇｅ（ＧＡ２１グリホサート耐性形質）、Ａｇｒｉｓｕｒｅ＜登録商標＞ＣＢ  Ａｄｖａｎｔａｇｅ（Ｂｔ１１コーンボーラー（ＣＢ）形質）、Ｐｒｏｔｅｃｔａ＜登録商標＞等が挙げられる。
【００４４】
上記有用植物には、遺伝子組換え技術を用いて、選択的な作用を有する抗病原性物質を産生する能力を付与されたものも含まれる。
【００４５】
抗病原性物質としては、例えばＰＲタンパク（ＰＲＰｓ、ＥＰ−Ａ−０３９２２２５に記載されている）；ナトリウムチャネル阻害剤、カルシウムチャネル阻害剤（ウイルスが産生するＫＰ１、ＫＰ４、ＫＰ６毒素等が知られている）等のイオンチャネル阻害剤；スチルベンシンターゼ；ビベンジルシンターゼ；キチナーゼ；グルカナーゼ；ペプチド抗生物質、ヘテロ環を有する抗生物質、植物病害抵抗性に関与するタンパク因子（植物病害抵抗性遺伝子と呼ばれ、ＷＯ０３／０００９０６に記載されている）等の微生物が産生する物質等が挙げられる。このような抗病原性物質とそれを産生する遺伝子組換え植物は、ＥＰ−Ａ−０３９２２２５、ＷＯ９５／０３３８１８、ＥＰ−Ａ−０３５３１９１等に記載されている。
【００４６】
上記有用植物には、遺伝子組換え技術を用いて、油糧成分改質やアミノ酸含量増強形質などの有用形質を付与した作物も含まれる。例として、ＶＩＳＴＩＶＥ＜登録商標＞（リノレン含量を低減させた低リノレン大豆）、或いは、ｈｉｇｈ−ｌｙｓｉｎｅ（ｈｉｇ  ｈｏｉｌ）ｃｏｒｎ（リジン或いはオイル含有量を増量したコーン）等が挙げられる。
【００４７】
更に、上記の古典的な除草剤形質或いは除草剤耐性遺伝子、殺虫性害虫抵抗性遺伝子、抗病原性物質産生遺伝子、油糧成分改質やアミノ酸含量増強形質などの有用形質について、これらを複数組み合わせたスタック品種も含まれる。
【００４８】
本発明の除草剤組成物において、ピロキサスルホンの施用量については特に限定されるものではないが、有用植物が生育する領域、例えば農地１ヘクタール当たり、通常、５〜８００ｇ、好ましくは１０〜５００ｇ、更に好ましくは２５〜２５０ｇの範囲で選ばれる。
【００４９】
本発明の除草剤組成物において、ジシクロノンの施用量については特に限定されるものではないが、有用植物が生育する領域、例えば農地１ヘクタール当たり、通常、０．２５〜１２５０ｇの範囲で選ばれる。
【００５０】
本発明の除草剤組成物は、必要に応じ、農薬製剤に通常用いられる添加成分を含有することができる。この添加成分としては、固体担体又は液体担体等の担体、界面活性剤、結合剤、粘着付与剤、増粘剤、着色剤、拡展剤、展着剤、凍結防止剤、固結防止剤、崩壊剤、分解防止剤等が挙げられる。その他必要に応じ、防腐剤や、植物片等を添加成分として用いてもよい。これらの添加成分は単独で用いてもよいし、又、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００５１】
上記添加成分について説明する。固体担体としては、例えば石英、クレー、カオリナイト、ピロフィライト、セリサイト、タルク、ベントナイト、酸性白土、アタパルジャイト、ゼオライト、珪藻土等の天然鉱物質類；炭酸カルシウム、硫酸アンモニウム、硫酸ナトリウム、塩化カリウム等の無機塩類；合成ケイ酸、合成ケイ酸塩、デンプン、セルロース、植物粉末等の有機固体担体；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニリデン等のプラスチック担体等が挙げられる。
【００５２】
液体担体としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール等の一価アルコール類や、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、グリセリン等の多価アルコール類のようなアルコール類；プロピレン系グリコールエーテル等の多価アルコール系化合物類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；エチルエーテル、ジオキサン、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類；ノルマルパラフィン、ナフテン、イソパラフィン、ケロシン、鉱油等の脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、ソルベントナフサ、アルキルナフタレン等の芳香族炭化水素類；ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類；酢酸エチル、ジイソプロピルフタレート、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、アジピン酸ジメチル等のエステル類、γ‐ブチロラクトン等のラクトン類；ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ‐アルキルピロリジノン等のアミド類；アセトニトリル等のニトリル類；ジメチルスルホキシド等の硫黄化合物類；大豆油、ナタネ油、綿実油、ヒマシ油等の植物油；水等を挙げることができる。
【００５３】
界面活性剤としては、例えばソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン樹脂酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸ジエステル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンジアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルホルマリン縮合物、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックポリマー、アルキルポリオキシエチレンポリプロピレンブロックポリマーエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、ポリオキシエチレン脂肪酸アミド、ポリオキシエチレン脂肪酸ビスフェニルエーテル、ポリアルキレンベンジルフェニルエーテル、ポリオキシアルキレンスチリルフェニルエーテル、アセチレンジオール、ポリオキシアルキレン付加アセチレンジオール、ポリオキシエチレンエーテル型シリコーン、エステル型シリコーン、フッ素系界面活性剤、ポリオキシエチレンひまし油、ポリオキシエチレン硬化ひまし油等の非イオン性界面活性剤；アルキル硫酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、リグニンスルホン酸塩、アルキルスルホコハク酸塩、ナフタレンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸のホルマリン縮合物の塩、アルキルナフタレンスルホン酸のホルマリン縮合物の塩、脂肪酸塩、ポリカルボン酸塩、Ｎ‐メチル‐脂肪酸サルコシネート、樹脂酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸塩等のアニオン性界面活性剤；ラウリルアミン塩酸塩、ステアリルアミン塩酸塩、オレイルアミン塩酸塩、ステアリルアミン酢酸塩、ステアリルアミノプロピルアミン酢酸塩、アルキルトリメチルアンモニウムクロライド、アルキルジメチルベンザルコニウムクロライド等のアルキルアミン塩等のカチオン界面活性剤；アミノ酸型又はベタイン型等の両性界面活性剤等が挙げられる。
【００５４】
又、結合剤や粘着付与剤としては、例えばカルボキシメチルセルロースやその塩、デキストリン、水溶性デンプン、キサンタンガム、グアーガム、蔗糖、ポリビニルピロリドン、アラビアゴム、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセテート、ポリアクリル酸ナトリウム、平均分子量６０００〜２００００のポリエチレングリコール、平均分子量１０万〜５００万のポリエチレンオキサイド、燐脂質（例えばセファリン，レシチン等）等が挙げられる。
【００５５】
増粘剤としては、例えばキサンタンガム、グアーガム、ウェランガム、カルボキシメチルセルロース、ポリビニルピロリドン、カルボキシビニルポリマー、アクリル系ポリマー、デンプン系化合物及び水溶性多糖類のような水溶性高分子；高純度ベントナイト、フュームドシリカ（ｆｕｍｅｄ  ｓｉｌｉｃａ，ホワイトカーボン）のような無機微粉等が挙げられる。
【００５６】
着色剤としては、例えば酸化鉄、酸化チタン、プルシアンブルーのような無機顔料；アリザリン染料、アゾ染料、金属フタロシアニン染料のような有機染料等が挙げられる。
【００５７】
拡展剤としては、例えばシリコーン系界面活性剤、セルロース粉末、デキストリン、加工デンプン、ポリアミノカルボン酸キレート化合物、架橋ポリビニルピロリドン、マレイン酸とスチレン類の共重合体、（メタ）アクリル酸系共重合体、多価アルコールからなるポリマーとジカルボン酸無水物とのハーフエステル、ポリスチレンスルホン酸の水溶性塩等が挙げられる。
【００５８】
展着剤としては、例えばパラフィン、テルペン、ポリアミド樹脂、ポリアクリル酸塩、ポリオキシエチレン、ワックス、ポリビニルアルキルエーテル、アルキルフェノールホルマリン縮合物、合成樹脂エマルション等が挙げられる。
【００５９】
凍結防止剤としては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン等の多価アルコール類等が挙げられる。
【００６０】
固結防止剤としては、例えばデンプン、アルギン酸、マンノース、ガラクトース等の多糖類、ポリビニルピロリドン、フュームドシリカ（ｆｕｍｅｄ  ｓｉｌｉｃａ，ホワイトカーボン）、エステルガム、石油樹脂等が挙げられる。
【００６１】
崩壊剤としては、例えばトリポリリン酸ソーダ、ヘキサメタリン酸ソーダ、ステアリン酸金属塩、セルロース粉末、デキストリン、メタクリル酸エステル系の共重合体、ポリビニルピロリドン、ポリアミノカルボン酸キレート化合物、スルホン化スチレン・イソブチレン・無水マレイン酸共重合体、デンプン・ポリアクリロニトリルグラフト共重合体等が挙げられる。
【００６２】
分解防止剤としては、例えばゼオライト、生石灰、酸化マグネシウム等の乾燥剤、サリチル酸系、ベンゾフェノン系等の紫外線吸収剤等が挙げられる。
【００６３】
防腐剤としては、例えばソルビン酸カリウム、１，２‐ベンズチアゾリン‐３‐オン等が挙げられる。
【００６４】
植物片としては、例えばおがくず、ヤシガラ、トウモロコシ穂軸、タバコ茎等が挙げられる。
【００６５】
本発明の除草剤組成物に上記添加成分を含有させる場合、その含有割合は、重量基準で、担体では通常５〜９５％、好ましくは２０〜９０％、界面活性剤では通常０．１％〜３０％、好ましくは０．５〜１０％、その他の添加剤では０．１〜３０％、好ましくは０．５〜１０％の範囲で選ばれる。
【００６６】
本発明の除草剤組成物にピロキサスルホン以外の除草活性成分を含有させる場合、その施用量は該除草活性成分に依る所が大きく、特に限定されるものではないが、有用植物が生育する領域、例えば農地１ヘクタール当たり、通常０．５〜５０００ｇの範囲で選ばれる。
【００６７】
本発明の除草剤組成物は、水和剤、フロアブル剤、乳剤、粒剤、油剤、顆粒水和剤、乳懸濁剤、ジャンボ剤、サスポエマルション、マイクロカプセル等の任意の剤型に製剤化して使用される。
【００６８】
又、本発明の除草剤組成物は、上記任意の製剤を水溶性フィルムで包装した形態にしてもよく、この形態で施用すると、省力化に資し、又、安全性を高めることができる。
【００６９】
本発明の除草剤組成物は茎葉施用、土壌施用又は水面施用等により使用することができる。有効成分の配合割合については必要に応じて適宜選ばれるが、粉剤又は粒剤等とする場合は、ピロキサスルホンとして通常０．０１〜１０％（重量）、好ましくは０．０５〜５％（重量）の範囲から適宜選ぶのがよい。乳剤及び水和剤等とする場合は１〜５０％（重量）、好ましくは５〜３０％（重量）の範囲から適宜選ぶのがよい。又、フロアブル剤等とする場合は１〜４０％（重量）、好ましくは５〜３０％（重量）の範囲から適宜選ぶのがよい。
【００７０】
本発明の除草剤組成物の施用量は、使用される化合物の種類、対象雑草、発生傾向、環境条件並びに使用する剤型等によって変わるが、粉剤及び粒剤等のようにそのまま使用する場合は、除草剤組成物として、有用植物が生育する領域、例えば農地１ヘクタール当り通常０．５〜５０ｋｇ、好ましくは１０〜４０ｋｇの範囲から適宜選ぶのがよい。又、乳剤、水和剤及びフロアブル剤等とする場合のように液状で使用する場合は、散布液中の除草剤組成物として０．１〜５０，０００ｐｐｍ、好ましくは１０〜１０，０００ｐｐｍの範囲から適宜選ぶのがよい。
【００７１】
本発明の除草剤組成物は、雑草の発生前、出芽期及び／又は生育期までの任意の時期に施用して、雑草防除と有用植物への薬害軽減とを共に発現させることができる。
【００７２】
一方、本発明の除草剤組成物による有用植物への薬害を軽減しつつ雑草を防除する方法においては、ピロキサスルホンとジシクロノンを同時に施用してもよいし、又、連続して或いは一定の期間をあけて施用してもよい。ここで一定の期間をあけて施用とは、ピロキサスルホンによる対象作物の薬害が顕現しないうちに、ピロキサスルホンの施用から一定の期間をあけてジシクロノンを施用することを意味する。日数をあけて施用する場合は、様々な条件によって異なるが、例えば１日〜４０日程度の間隔をおいて施用してもよい。
【００７３】
又、同時施用については、レディミックスの形態で適用することができ、例えばあらかじめ製剤化された本発明の除草剤組成物を用いてもよいし、ピロキサスルホンとジシクロノンを別個に用意し、使用時に混合される現場調合物の形態で、即ちタンクミックスの形態で適用することもできる。
【００７４】
又、本発明の除草剤組成物は、少なくとも一種の他の農薬活性成分、例えば他の病害防除剤成分、殺虫剤成分、殺ダニ剤成分、殺線虫剤成分、協力剤成分、誘引剤成分、忌避剤成分、除草剤成分、薬害軽減剤成分、微生物農薬成分、植物成長調節剤成分や、肥料、土壌改良剤等と製剤化、混合又は併用してもよい。
【００７５】
他の農薬活性成分や肥料と併用する場合、それぞれの単独成分の製剤を施用時に混合して用いることもできる。更に、それぞれの単独成分の製剤各々を逐次的に用いても良いし、或いは日数をあけて施用しても良い。日数をあけて施用する場合は、使用する他の成分によって異なるが、例えば１日〜４０日程度の間隔をおいて施用してもよい。
【００７６】
以下に本発明の除草剤組成物と混合又は併用してもよい他の農薬活性成分のうち、公知の除草剤又は植物生長調節剤を例示するが、これらの例に限定されるものではない。
【００７７】
〔除草剤〕
Ａ１．アセチルＣｏＡカルボキシラーゼ（ＡＣＣａｓｅ）阻害型除草剤
（Ａ１−１）アリールオキシフェノキシプロピオン酸系化合物：クロジナホップ（ｃｌｏｄｉｎａｆｏｐ−ｐｒｏｐａｒｇｙｌ）、シハロホップブチル（ｃｙｈａｌｏｆｏｐ−ｂｕｔｙｌ）、ジクロホップメチル（ｄｉｃｌｏｆｏｐ−ｍｅｔｈｙｌ）、ジクロホップ−Ｐ−メチル（ｄｉｃｌｏｆｏｐ−Ｐ−ｍｅｔｈｙｌ）、フェノキサプロップ−Ｐ−エチル（ｆｅｎｏｘａｐｒｏｐ−Ｐ−ｅｔｈｙｌ）、フルアジホップ（ｆｌｕａｚｉｆｏｐ−ｂｕｔｙｌ）、フルアジホップ−（ｆｌｕａｚｉｆｏｐ−Ｐ−ｂｕｔｙｌ）、ハロキシホップ（ｈａｌｏｘｙｆｏｐ）、ハロキシホップエトティル（ｈａｌｏｘｙｆｏｐ−ｅｔｏｔｙｌ）、ハロキシホップ−Ｐ（ｈａｌｏｘｙｆｏｐ−Ｐ）、メタミホップ（ｍｅｔａｍｉｆｏｐ）、プロパキザホップ（ｐｒｏｐａｑｕｉｚａｆｏｐ）、キザロホップ（ｑｕｉｚａｌｏｆｏｐ−ｅｔｈｙｌ）、キザロホップ−Ｐ−エチル（ｑｕｉｚａｌｏｆｏｐ−Ｐ−ｅｔｈｙｌ）、キザロホップ−Ｐ−テフリル（ｑｕｉｚａｌｏｆｏｐ−Ｐ−ｔｅｆｕｒｙｌ）、フェンチアプロップエチル（ｆｅｎｔｈｉａｐｒｏｐ−ｅｔｈｙｌ）
（Ａ１−２）シクロヘキサンジオン系化合物：アロキシジム（ａｌｌｏｘｙｄｉｍ）、ブトロキシジム（ｂｕｔｒｏｘｙｄｉｍ）、クレトジム（ｃｌｅｔｈｏｄｉｍ）、シクロキシジム（ｃｙｃｌｏｘｙｄｉｍ）、プロホキシジム（ｐｒｏｆｏｘｙｄｉｍ）、セトキシジム（ｓｅｔｈｏｘｙｄｉｍ）、テプラロキシジム（ｔｅｐｒａｌｏｘｙｄｉｍ）、トラルコキシジム（ｔｒａｌｋｏｘｙｄｉｍ）
（Ａ１−３）フェニルピラゾリン系化合物：アミノピラリド（ａｍｉｎｏｐｙｒａｌｉｄ）、ピノキサデン（ｐｉｎｏｘａｄｅｎ）
Ｂ．アセト乳酸合成酵素（ＡＬＳ）阻害型除草剤
（Ｂ−１）イミダゾリノン系化合物：イマザメタベンズ（ｉｍａｚａｍｅｔｈａｂｅｎｚ−ｍｅｔｈｙｌ）、イマザモックス（ｉｍａｚａｍｏｘ）、イマザピク（ｉｍａｚａｐｉｃ）（アミン等との塩を含む）、イマザピル（ｉｍａｚａｐｙｒ）（イソプロピルアミン等の塩を含む）、イマザキン（ｉｍａｚａｑｕｉｎ）、イマゼタピル（ｉｍａｚｅｔｈａｐｙｒ）。
（Ｂ−２）ピリミジニルオキシ安息香酸系化合物：ビスピリバックナトリウム塩（ｂｉｓｐｙｒｉｂａｃ−ｓｏｄｉｕｍ）、ピリベンゾキシム（ｐｙｒｉｂｅｎｚｏｘｉｍ）、ピリフタリド（ｐｙｒｉｆｔａｌｉｄ）、ピリミノバックメチル（ｐｙｒｉｍｉｎｏｂａｃ−ｍｅｔｈｙｌ）、ピリチオバックナトリウム塩（ｐｙｒｉｔｈｉｏｂａｃ−ｓｏｄｉｕｍ）、ピリミスルファン（ｐｙｒｉｍｉｓｕｌｆａｎ）
（Ｂ−３）スルホニルアミノカルボニルトリアゾリノン系化合物：フルカルバゾンナトリウム塩（ｆｌｕｃａｒｂａｚｏｎｅ−ｓｏｄｉｕｍ）、チエンカルバゾン（ｔｈｉｅｎｃａｒｂａｚｏｎｅ）（ナトリウム塩、メチルエステル等を含む）、プロポキシカルバゾンナトリウム塩（ｐｒｏｐｏｘｙｃａｒｂａｚｏｎｅ−ｓｏｄｉｕｍ）、プロカルバゾンナトリウム塩（ｐｒｏｃａｒｂａｚｏｎｅ−ｓｏｄｉｕｍ）
（Ｂ−４）スルホニルウレア系化合物：アミドスルフロン（ａｍｉｄｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、アジムスルフロン（ａｚｉｍｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ベンスルフロンメチル（ｂｅｎｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、クロリムロンエチル（ｃｈｌｏｒｉｍｕｒｏｎ−ｅｔｈｙｌ）、クロルスルフロン（ｃｈｌｏｒｓｕｌｆｕｒｏｎ）、シノスルフロン（ｃｉｎｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、シクロスルファムロン（ｃｙｃｌｏｓｕｌｆａｍｕｒｏｎ）、エタメトスルフロンメチル（ｅｔｈａｍｅｔｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、エトキシスルフロン（ｅｔｈｏｘｙｓｕｌｆｕｒｏｎ）、フラザスルフロン（ｆｌａｚａｓｕｌｆｕｒｏｎ）、フルピルスルフロン（ｆｌｕｐｙｒｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ−ｓｏｄｉｕｍ）、フォラムスルフロン（ｆｏｒａｍｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ハロスルフロンメチル（ｈａｌｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、イマゾスルフロン（ｉｍａｚｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ヨードスルフロンメチルナトリウム塩（ｉｏｄｏｓｕｌｆｕｌｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ−ｓｏｄｉｕｍ）、メソスフロンメチル（ｍｅｓｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、メトスルフロンメチル（ｍｅｔｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、ニコスルフロン（ｎｉｃｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、オキサスルフロン（ｏｘａｓｕｌｆｕｒｏｎ）、プリミスルフロン（ｐｒｉｍｉｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、プロスルフロン（ｐｒｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ピラゾスルフロンエチル（ｐｙｒａｚｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｅｔｈｙｌ）、リムスルフロン（ｒｉｍｓｕｌｆｕｒｏｎ）、スルホメツロンメチル（ｓｕｌｆｏｍｅｔｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、スルフォスルフロン（ｓｕｌｆｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、チフェンスルフロンメチル（ｔｈｉｆｅｎｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、トリアスルフロン（ｔｒｉａｓｕｌｆｕｒｏｎ）、トリベニュロンメチル（ｔｒｉｂｅｎｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、トリフロキシスルフロンナトリウム塩（ｔｒｉｆｌｏｘｙｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｓｏｄｉｕｍ）、トリフルスルフロンメチル（ｔｒｉｆｌｕｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、トリトスルフロン（ｔｒｉｔｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、オルトスルファムロン（ｏｒｔｈｏｓｕｌｆａｍｕｒｏｎ）、プロピリスルフロン（ｐｒｏｐｙｒｉｓｕｌｆｕｒｏｎ）、メタゾスルフロン（ｍｅｔａｚｏｓｕｋｆｕｒｏｎ）、フルセトスルフロン（ｆｌｕｃｅｔｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）
（Ｂ−５）トリアゾロピリミジン系化合物：クロランスラムメチル（ｃｌｏｒａｎｓｕｌａｍ−ｍｅｔｈｙｉ）、ジクロスラム（ｄｉｃｌｏｓｕｌａｍ）、フロラスラム（ｆｌｏｒａｓｕｌａｍ）、フルメツラム（ｆｌｕｍｅｔｓｕｌａｍ）、メトスラム（ｍｅｔｏｓｕｌａｍ）、ペノキススラム（ｐｅｎｏｘｓｕｌａｍ）、ピロクススラム（ｐｙｒｏｘｓｕｌａｍ）
Ｃ１．光化学系ＩＩ（Ｐｈｏｔｏｓｙｓｔｅｍ  ＩＩ）での光合成阻害除草剤１
（Ｃ１−１）フェニルカルバマート系除化合物：デスメディファム（ｄｅｓｍｅｄｉｐｈａｍ）、フェンメディファム（ｐｈｅｎｍｅｄｉｐｈａｍ）
（Ｃ１−２）ピリダジノン系化合物：クロリダゾン（ｃｈｌｏｒｉｄａｚｏｎ）、ブロムピラゾン（ｂｒｏｍｐｙｒａｚｏｎ）
（Ｃ１−３）トリアジン系化合物：アメトリン（ａｍｅｔｒｙｎ）、アトラジン（ａｔｒａｚｉｎｅ）、シアナジン（ｃｙａｎａｚｉｎｅ）、デスメトリン（ｄｅｓｍｅｔｒｙｎｅ）、ジメタメトリン（ｄｉｍｅｔｈａｍｅｔｒｙｎ）、エグリナジン（ｅｇｌｉｎａｚｉｎｅ−ｅｔｈｙｌ）、プロメトン（ｐｒｏｍｅｔｏｎ）、プロメトリン（ｐｒｏｍｅｔｒｙｎ）、プロパジン（ｐｒｏｐａｚｉｎｅ）、シマジン（ｓｉｍａｚｉｎｅ）、シメトリン（ｓｉｍｅｔｒｙｎ）、テルブメトン（ｔｅｒｂｕｍｅｔｏｎ）、テルブチラジン（ｔｅｒｂｕｔｈｙｌａｚｉｎｅ）、テルブトリン（ｔｅｒｂｕｔｒｙｎ）、トリエタジン（ｔｒｉｅｔａｚｉｎｅ）
（Ｃ１−４）トリアジノン系化合物：メタミトロン（ｍｅｔａｍｉｔｒｏｎ）、メトリブジン（ｍｅｔｒｉｂｕｚｉｎ）
（Ｃ１−５）トリアゾリノン系化合物：アミカルバゾン（ａｍｉｃａｒｂａｚｏｎｅ）
（Ｃ１−６）ウラシル系化合物：ブロマシル（ｂｒｏｍａｃｉｌ）、レナシル（ｌｅｎａｃｉｌ）、ターバシル（ｔｅｒｂａｃｉｌ）
Ｃ２．光化学系ＩＩ（Ｐｈｏｔｏｓｙｓｔｅｍ  ＩＩ）での光合成阻害除草剤２
（Ｃ２−１）アミド系化合物：ペンタノクロール（ｐｅｎｔａｎｏｃｈｌｏｒ）、プロパニル（ｐｒｏｐａｎｉｌ）
（Ｃ２−２）尿素系化合物：クロルブロムロン（ｃｈｌｏｒｂｒｏｍｕｒｏｎ）、クロロトルロン（ｃｈｌｏｒｏｔｏｌｕｒｏｎ）、クロロクスロン（ｃｈｌｏｒｏｘｕｒｏｎ）、ジメフロン（ｄｉｍｅｆｕｒｏｎ）、ジウロン（ｄｉｕｒｏｎ）、エチジムロン（ｅｔｈｉｄｉｍｕｒｏｎ）、フェニュロン（ｆｅｎｕｒｏｎ）、フルオメツロン（ｆｌｕｏｍｅｔｕｒｏｎ）、イソプロツロン（ｉｓｏｐｒｏｔｕｒｏｎ）、イソウロン（ｉｓｏｕｒｏｎ）、リニュロン（ｌｉｎｕｒｏｎ）、メタベンズチアズロン（ｍｅｔｈａｂｅｎｚｔｈｉａｚｕｒｏｎ）、メトブロムロン（ｍｅｔｏｂｒｏｍｕｒｏｎ）、メトキスロン（ｍｅｔｏｘｕｒｏｎ）、モノリニュロン（ｍｏｎｏｌｉｎｕｒｏｎ）、ネブロン（ｎｅｂｕｒｏｎ）、シデュロン（ｓｉｄｕｒｏｎ）、テブチウロン（ｔｅｂｕｔｈｉｕｒｏｎ）、メトベンズロン（ｍｅｔｏｂｅｎｚｕｒｏｎ）
Ｃ３．光化学系ＩＩ（Ｐｈｏｔｏｓｙｓｔｅｍ  ＩＩ）での光合成阻害除草剤３
（Ｃ３−１）ベンゾチアジアゾン系化合物：ベンタゾン（ｂｅｎｔａｚｏｎｅ）
（Ｃ３−２）ニトリル系化合物：ブロモフェノキシム（ｂｒｏｍｏｆｅｎｏｘｉｍ）、ブロモキシニル（ｂｒｏｍｏｘｙｎｉｌ）（酪酸、オクタン酸又はヘプタン酸等のエステル体を含む）、アイオキシニル（ｉｏｘｙｎｉｌ）
（Ｃ３−３）フェニルピラジン系除草性化合物：ピリダフォル（ｐｙｒｉｄａｆｏｌ）、ピリデート（ｐｙｒｉｄａｔｅ）
Ｄ．光化学系Ｉからのラジカル生成型除草性剤
（Ｄ−１）ビピリジウム系化合物：ジクワット（ｄｉｑｕａｔ）、パラコート（ｐａｒａｑｕａｔ  ｄｉｃｈｌｏｒｉｄｅ）
Ｅ．プロトポルフィノリーゲンオキシダーゼ（ＰＰＯ）阻害型除草剤
（Ｅ−１）ジフェニルエーテル系化合物：アシフルオルフェン（ａｃｉｆｌｕｏｒｆｅｎ−ｓｏｄｉｕｍ）、ビフェノックス（ｂｉｆｅｎｏｘ）、クロメトキシフェン（ｃｈｌｏｍｅｔｈｏｘｙｆｅｎ）、エトキシフェン（ｅｔｈｏｘｙｆｅｎ−ｅｔｈｙｌ）、フルオログリコフェン（ｆｌｕｏｒｏｇｌｙｃｏｆｅｎ−ｅｔｈｙｌ）、ホメサフェン（ｆｏｍｅｓａｆｅｎ）、ラクトフェン（ｌａｃｔｏｆｅｎ）、オキシフルオルフェン（ｏｘｙｆｌｕｏｒｆｅｎ）
（Ｅ−２）Ｎ−フェニルフタルイミド系化合物：シニドンエチル（ｃｉｎｉｄｏｎ−ｅｔｈｙｌ）、フルミクロラックペンチル（ｆｌｕｍｉｃｌｏｒａｃ−ｐｅｎｔｙｌ）、フルミオキサジン（ｆｌｕｍｉｏｘａｚｉｎ）、クロルフタリム（ｃｈｌｏｒｐｈｔｈａｌｉｍ）
（Ｅ−３）オキシジアゾール系化合物：オキサジアルギル（ｏｘａｄｉａｒｇｙｌ）、オキサジアゾン（ｏｘａｄｉａｚｏｎ）
（Ｅ−４）オキサゾリジンジオン系化合物：ペントキサゾン（ｐｅｎｔｏｘａｚｏｎｅ）
（Ｅ−５）フェニルピラゾール系化合物：フルアゾレート（ｆｌｕａｚｏｌａｔｅ）、ピラフルフェンエチル（ｐｙｒａｆｌｕｆｅｎ−ｅｔｈｙｌ）
（Ｅ−６）ピリミジンジオン系化合物：ベンズフェンジゾン（ｂｅｎｚｆｅｎｄｉｚｏｎｅ）、ブタフェナシル（ｂｕｔａｆｅｎａｃｉｌ）、サフルフェナシル（ｓａｆｌｕｆｅｎａｃｉｌ）
（Ｅ−７）チアジアゾール系化合物：フルチアセットメチル（ｆｌｕｔｈｉａｃｅｔ−ｍｅｔｈｙｌ）、チジアジミン（ｔｈｉｄｉａｚｉｍｉｎ）
（Ｅ−８）トリアゾリノン系化合物：アザフェニジン（ａｚａｆｅｎｉｄｉｎ）、カルフェントラゾンエチル（ｃａｒｆｅｎｔｒａｚｏｎｅ−ｅｔｈｙｌ）、スルフェントラゾン（ｓｕｌｆｅｎｔｒａｚｏｎｅ）、ベンカルバゾン（ｂｅｎｃａｒｂａｚｏｎｅ）
（Ｅ−９）その他の化合物：フルフェンピルエチル（ｆｌｕｆｅｎｐｙｒ−ｅｔｈｙｌ）、プロフルアゾール（ｐｒｏｆｌｕａｚｏｌ）、ピラクロニル（ｐｙｒａｃｌｏｎｉｌ）、ＳＹＰ−２９８（コード番号）、ＳＹＰ−３００（コード番号）
Ｆ１．フィトエンデサチュラーゼ（ＰＤＳ）阻害剤除草剤
（Ｆ１−１）ピリダジノン系化合物：ノルフルラゾン（ｎｏｒｆｌｕｒａｚｏｎ）
（Ｆ１−２）ピリミジンカルボキサミド系化合物：ジフルフェニカン（ｄｉｆｌｕｆｅｎｉｃａｎ）、ピコリナフェン（ｐｉｃｏｌｉｎａｆｅｎ）
（Ｆ１−３）その他の化合物：ベフルブタミド（ｂｅｆｌｕｂｕｔａｍｉｄ）、フルリドン（ｆｌｕｒｉｄｏｎｅ）、フルロクロリドン（ｆｌｕｒｏｃｈｌｏｒｉｄｏｎｅ）、フルルタモン（ｆｌｕｒｔａｍｏｎｅ）
Ｆ２．４−ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼ（ＨＰＰＤ）阻害型除草剤
（Ｆ２−１）カリステモン系化合物：メソトリオン（ｍｅｓｏｔｒｉｏｎｅ）。
（Ｆ２−２）イソキサゾール系化合物：ピラスルホトール（ｐｙｒａｓｕｌｆｏｔｏｌｅ）、イソキサフルトール（ｉｓｏｘａｆｌｕｔｏｌｅ）、イソキサクロルトール（ｉｓｏｘａｃｈｌｏｒｔｏｌｅ）
（Ｆ２−３）ピラゾール系化合物：ベンゾフェナップ（ｂｅｎｚｏｆｅｎａｐ）、ピラゾリネート（ｐｙｒａｚｏｌｙｎａｔｅ）、ピラゾキシフェン（ｐｙｒａｚｏｘｙｆｅｎ）
（Ｆ２−４）トリケトン系化合物：スルコトリオン（ｓｕｌｃｏｔｒｉｏｎｅ）、テフリルトリオン（ｔｅｆｕｒｙｌｔｒｉｏｎ）、テンボトリオン（ｔｅｍｂｏｔｒｉｏｎｅ）、ピラスルホトール（ｐｙｒａｓｕｌｆｏｔｏｌｅ）、トプラメゾン（ｔｏｐｒａｍｅｚｏｎｅ）、ビシクロピロン（ｂｉｃｙｃｌｏｐｙｒｏｎｅ）
Ｆ３．カロチノイド生合成阻害剤（ターゲット未知）除草剤
（Ｆ３−１）ジフェニルエーテル系化合物：アクロニフェン（ａｃｌｏｎｉｆｅｎ）
（Ｆ３−２）イソキサゾリジノン系化合物：クロマゾン（ｃｌｏｍａｚｏｎｅ）
（Ｆ３−３）トリアゾール系化合物：アミトロール（ａｍｉｔｒｏｌｅ）
Ｇ．ＥＰＳＰシンターゼ合成阻害（芳香族アミノ酸生合成阻害）型除草剤
（Ｇ−１）グリシン系化合物：グリホサート（ｇｌｙｐｈｏｓａｔｅ）（ナトリウム、アミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ジメチルアミン又はトリメシウム等の塩を含む）
Ｈ．グルタミン合成阻害剤除草剤
（Ｈ−１）ホスフィン酸系化合物：ビラナホス（ｂｉｌａｎａｆｏｓ）、グルホシネート（ｇｌｕｆｏｓｉｎａｔｅ）（アミン又はナトリウム等の塩を含む）
Ｉ．ジヒドロプテロエート（ＤＨＰ）阻害剤除草剤
（Ｉ−１）カルバマート系化合物：アシュラム（ａｓｕｌａｍ）
Ｋ１．微小管の集合阻害型除草性剤
（Ｋ１−１）ベンズアミド系化合物：プロピザミド（ｐｒｏｐｙｚａｍｉｄｅ）、テブタム（ｔｅｂｕｔａｍ）
（Ｋ１−２）安息香酸系化合物：クロルタルジメチル（ｃｈｌｏｒｔｈａｌ−ｄｉｍｅｔｈｙｌ）
（Ｋ１−３）ジニトロアニリン系化合物：ベンフルラリン（ｂｅｎｆｌｕｒａｌｉｎ）、ブトラリン（ｂｕｔｒａｌｉｎ）、ジニトラミン（ｄｉｎｉｔｒａｍｉｎｅ）、エタルフルラリン（ｅｔｈａｌｆｌｕｒａｌｉｎ）、フルクロラリン（ｆｌｕｃｈｌｏｒａｌｉｎ）、オリザリン（ｏｒｙｚａｌｉｎ）、ペンジメタリン（ｐｅｎｄｉｍｅｔｈａｌｉｎ）、プロジアミン（ｐｒｏｄｉａｍｉｎｅ）、トリフルラリン（ｔｒｉｆｌｕｒａｌｉｎ）
（Ｋ１−４）ホスホロアミデート系化合物：アミプロホスメチル（ａｍｉｐｒｏｆｏｓ−ｍｅｔｈｙｌ）、ブタミホス（ｂｕｔａｍｉｆｏｓ）
（Ｋ１−５）ピリジン系化合物：ジチオピル（ｄｉｔｈｉｏｐｙｒ）、チアゾピル（ｔｈｉａｚｏｐｙｒ）
Ｋ２．有糸分裂／微小管組織形成阻害型除草剤
（Ｋ２−１）カルバマート系化合物：カルベタミド（ｃａｒｂｅｔａｍｉｄｅ）、クロルプロファム（ｃｈｌｏｒｐｒｏｐｈａｍ）、プロファム（ｐｒｏｐｈａｍ）、スエップ（ｓｗｅｐ）、カルブチレート（ｋａｒｂｕｔｉｌａｔｅ）
Ｋ３．超長鎖脂肪酸伸長酵素（ＶＬＣＦＡ）阻害型除草剤
（Ｋ３−１）アセトアミド系化合物：ジフェナミド（ｄｉｐｈｅｎａｍｉｄ）、ナプロパミド（ｎａｐｒｏｐａｍｉｄｅ）、ナプロアニリド（ｎａｐｒｏａｎｉｌｉｄｅ）
（Ｋ３−２）クロロアセトアミド系化合物：アセトクロール（ａｃｅｔｏｃｈｌｏｒ）、アラクロール（ａｌａｃｈｌｏｒ）、ブタクロール（ｂｕｔａｃｈｌｏｒ）、ブテナクロール（ｂｕｔｅｎａｃｈｌｏｒ）、ジエタチル（ｄｉｅｔｈａｔｙｌ−ｅｔｈｙｌ）、ジメタクロール（ｄｉｍｅｔｈａｃｈｌｏｒ）、ジメテナミド（ｄｉｍｅｔｈｅｎａｍｉｄ）、ジメテナミド−Ｐ（ｄｉｍｅｔｈｅｎａｍｉｄ−Ｐ）、メタザクロール（ｍｅｔａｚａｃｈｌｏｒ）、メトラクロール（ｍｅｔｏｌａｃｈｌｏｒ）、ペトキサミド（ｐｅｔｈｏｘａｍｉｄ）、プレチラクロール（ｐｒｅｔｉｌａｃｈｌｏｒ）、プロパクロール（ｐｒｏｐａｃｈｌｏｒ）、プロピソクロール（ｐｒｏｐｉｓｏｃｈｌｏｒ）、Ｓ−メトラクロール（Ｓ−ｍｅｔｏｌａｃｈｌｏｒ）、テニルクロール（ｔｈｅｎｙｌｃｈｌｏｒ）
（Ｋ３−３）オキシアセトアミド系化合物：フルフェナセット（ｆｌｕｆｅｎａｃｅｔ  ）、メフェナセット（ｍｅｆｅｎａｃｅｔ）
（Ｋ３−４）テトラゾリノン系化合物：フェントラザミド（ｆｅｎｔｒａｚａｍｉｄｅ）
（Ｋ３−５）その他の化合物：アニロホス（ａｎｉｌｏｆｏｓ）、ブロモブチド（ｂｒｏｍｏｂｕｔｉｄｅ）、カフェンストロール（ｃａｆｅｎｓｔｒｏｌｅ）、インダノファン（ｉｎｄａｎｏｆａｎ）、ピペロホス（ｐｉｐｅｒｏｐｈｏｓ）、フェノキサスルホン（ｆｅｎｏｘａｓｕｌｆｏｎｅ）、イプフェンカルバゾン（ｉｐｆｅｎｃａｒｂａｚｏｎｅ）
Ｌ．セルロース合成阻害剤除草剤
（Ｌ−１）ベンズアミド系化合物：イソキサベン（ｉｓｏｘａｂｅｎ）
（Ｌ−２）ニトリル系化合物：ジクロベニル（ｄｉｃｈｌｏｂｅｎｉｌ）、クロルチアミド（ｃｈｌｏｒｔｈｉａｍｉｄ）
（Ｌ−３）トリアゾロカルボキサミド系化合物：フルポキサム（ｆｌｕｐｏｘａｍｅ）
Ｍ．アンカップラー（細胞膜破裂）型除草剤
（Ｍ−１）ジニトロフェノール系化合物：ジノテルブ（ｄｉｎｏｔｅｒｂ）、ＤＮＯＣ（アミン又はナトリウム等の塩を含む）
Ｎ．脂質生合成（ＡＣＣａｓｅ阻害以外）阻害型除草剤
（Ｎ−１）ベンゾフラン系化合物：ベンフレセート（ｂｅｎｆｕｒｅｓａｔｅ）、エトフメセート（ｅｔｈｏｆｕｍｅｓａｔｅ）
（Ｎ−２）ハロゲン化カルボン酸系化合物：ダラポン（ｄａｌａｐｏｎ）、フルプロパネート（ｆｌｕｐｒｏｐａｎａｔｅ）、ＴＣＡ（ナトリウム、カルシウム又はアンモニア等の塩を含む）
（Ｎ−３）ホスホロジチオエート系化合物：ベンスリド（ｂｅｎｓｕｌｉｄｅ）
（Ｎ−４）チオカルバマート系化合物：ブチレート（ｂｕｔｙｌａｔｅ）、シクロエート（ｃｙｃｌｏａｔｅ）、ジメピペレート（ｄｉｍｅｐｉｐｅｒａｔｅ）、ＥＰＴＣ、エスプロカルブ（ｅｓｐｒｏｃａｒｂ）、モリネート（ｍｏｌｉｎａｔｅ）、オルベンカルブ（ｏｒｂｅｎｃａｒｂ）、ペブレート（ｐｅｂｕｌａｔｅ）、プロスルホカルブ（ｐｒｏｓｕｌｆｏｃａｒｂ）、チオベンカルブ（ｔｈｉｏｂｅｎｃａｒｂ）、チオカルバジル（ｔｉｏｃａｒｂａｚｉｌ）、トリアレート（ｔｒｉ−ａｌｌａｔｅ）、バーナレート（ｖｅｒｎｏｌａｔｅ）
Ｏ．合成オーキシン型除草剤
（Ｏ−１）安息香酸系化合物：クロランベン（ｃｈｌｏｒａｍｂｅｎ）、２，３，６−ＴＢＡ、ジカンバ（ｄｉｃａｍｂａ）（アミン、ジエチルアミン、イソプロピルアミン、ジグリコールアミン、ナトリウム又はリチウム等の塩を含む）
（Ｏ−２）フェノキシカルボン酸系化合物：２，４，５‐Ｔ、２，４−Ｄ（アミン、ジエチルアミン、トリエタノールアミン、イソプロピルアミン、ナトリウム又はリチウム等の塩を含む）、２，４−ＤＢ、クロメプロップ（ｃｌｏｍｅｐｒｏｐ）、ジクロルプロップ（ｄｉｃｈｌｏｒｐｒｏｐ）、ジクロルプロップ−Ｐ（ｄｉｃｈｌｏｒｐｒｏｐ−Ｐ）、ＭＣＰＡ、ＭＣＰＡ−チオエチル（ＭＣＰＡ−ｔｈｉｏｅｔｈｙｌ）、ＭＣＰＢ（ナトリウム塩、エチルエステル等を含む）、メコプロップ（ｍｅｃｏｐｒｏｐ）（ナトリウム、カリウム、イソプロピルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミン等の塩を含む）、メコプロップ−Ｐ−カリウム塩（ｍｅｃｏｐｒｏｐ−Ｐ）
（Ｏ−３）ピリジンカルボン酸系化合物：クロピラリド（ｃｌｏｐｙｒａｌｉｄ）、フルロキシピル（ｆｌｕｒｏｘｙｐｙｒ）、ピクロラム（ｐｉｃｌｏｒａｍ）、トリクロピル（ｔｒｉｃｌｏｐｙｒ）、トリクロピルブトティル（ｔｒｉｃｌｏｐｙｒ−ｂｕｔｏｔｙｌ）
（Ｏ−４）キノリンカルボン酸系化合物：キンクロラック（ｑｕｉｎｃｌｏｒａｃ）、キンメラック（ｑｕｉｎｍｅｒａｃ）
（Ｏ−５）その他の化合物：ベナゾリン（ｂｅｎａｚｏｌｉｎ）
Ｐ．オーキシン輸送阻害型除草剤
（Ｐ−１）フタラマート（Ｐｈｔｈａｌａｍａｔｅｓ）系化合物：ナプタラム（ｎａｐｔａｌａｍ）（ナトリウム等との塩を含む）
（Ｐ−２）セミカルバゾン系化合物：ジフルフェンゾピル（ｄｉｆｌｕｆｅｎｚｏｐｙｒ）
Ｚ．作用性未知の除草剤
フラムプロップ−Ｍ（ｆｌａｍｐｒｏｐ−Ｍ）（メチル、エチル、イソプロピルエステルを含む）、フラムプロップ（ｆｌａｍｐｒｏｐ）（メチル、エチル、イソプロピルエステルを含む）、クロルフルレノール（ｃｈｌｏｒｆｌｕｒｅｎｏｌ−ｍｅｔｈｙｌ）、シンメチリン（ｃｉｎｍｅｔｈｙｌｉｎ）、クミルロン（ｃｕｍｙｌｕｒｏｎ）、ダイムロン（ｄａｉｍｕｒｏｎ）、メチルダイムロン（ｍｅｔｈｙｌｄｙｍｕｒｏｎ）、ジフェンゾコート（ｄｉｆｅｎｚｏｑｕａｔ）、エトベンザニド（ｅｔｏｂｅｎｚａｎｉｄ）、ホサミン（ｆｏｓａｍｉｎｅ）、ピリブチカルブ（ｐｙｒｉｂｕｔｉｃａｒｂ）、オキサジクロメホン（ｏｘａｚｉｃｌｏｍｅｆｏｎｅ）、アクロレイン（ａｃｒｏｌｅｉｎ）、ＡＥ−Ｆ−１５０９４４（コード番号）、アミノシクロピラクロル（ａｍｉｎｏｃｙｃｌｏｐｙｒａｃｈｌｏｒ）、シアナミド（ｃｙａｎａｍｉｄｅ）、ｈｅｐｔａｍａｌｏｘｙｌｏｇｌｕｃａｎ（ヘプタマロキシログルカン）、インダジフラム（ｉｎｄａｚｉｆｌａｍ）、トリアジフラム（ｔｒｉａｚｉｆｌａｍ）、キノクラミン（ｑｕｉｎｏｃｌａｍｉｎｅ）、エンドタール二ナトリウム塩（ｅｎｄｏｔｈａｌ−ｄｉｓｏｄｉｕｍ）、フェニソファム（ｐｈｅｎｉｓｏｐｈａｍ）
【００７８】
〔植物生長調節化合物剤〕
１−メチルシクロプロペン（１−ｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｐｒｏｐｅｎｅ）、１−ナフチルアセトアミド（１−ｎａｐｈｔｈｙｌａｃｅｔａｍｉｄｅ）、２，６−ジイソプロピルナフタレン（２，６−ｄｉｉｓｏｐｒｏｐｙｌｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅ）、４−ＣＰＡ、ベンジルアミノプリン（ｂｅｎｚｙｌａｍｉｎｏｐｕｒｉｎｅ）、アンシミドール（ａｎｃｙｍｉｄｏｌ）、アビグリシン（ａｖｉｇｌｙｃｉｎｅ）、カルボネ（ｃａｒｖｏｎｅ）、クロルメコート（ｃｈｌｏｒｍｅｑｕａｔ）、クロプロップ（ｃｌｏｐｒｏｐ）、クロキシホナック（ｃｌｏｘｙｆｏｎａｃ）、クロキシホナックカリウム塩（ｃｌｏｘｙｆｏｎａｃ−ｐｏｔａｓｓｉｕｍ）、シクラニリド（ｃｙｃｌａｎｉｌｉｄｅ）、サイトカイニン（ｃｙｔｏｋｉｎｉｎｓ）、ダミノジット（ｄａｍｉｎｏｄｉｄｅ）、ジケグラック（ｄｉｋｅｇｕｌａｃ）、ジメチピン（ｄｉｍｅｔｈｉｐｉｎ）、エテホン（ｅｔｈｅｐｈｏｎ）、エチクロゼート（ｅｔｈｙｃｈｌｏｚａｔｅ）、フルメトラリン（ｆｌｕｍｅｔｒａｌｉｎ）、フルレノール（ｆｌｕｒｅｎｏｌ）、フルルプリミドール（ｆｌｕｒｐｒｉｍｉｄｏｌ）、ホルクロルフェニュロン（ｆｏｒｃｈｌｏｒｆｅｎｕｒｏｎ）、ジベレリン（ｇｉｂｂｅｒｅｌｌｉｃ  ａｃｉｄ）、イナベンフィド（ｉｎａｂｅｎｆｉｄｅ）、インドール酢酸（ｉｎｄｏｌ  ａｃｅｔｉｃ  ａｃｉｄ）、インドール酪酸（ｉｎｄｏｌ  ｂｕｔｙｒｉｃ  ａｃｉｄ）、マレイン酸ヒドラジド（ｍａｌｅｉｃ  ｈｙｄｒａｚｉｄｅ）、メフルイジド（ｍｅｆｌｕｉｄｉｄｅ）、メピコートクロリド（ｍｅｐｉｑｕａｔ  ｃｈｌｏｒｉｄｅ）、デシルアルコール（ｎ−ｄｅｃａｎｏｌ）、パクロブトラゾール（ｐａｃｌｏｂｕｔｒａｚｏｌ）、プロヘキサジオンカルシウム塩（ｐｒｏｈｅｘａｄｉｏｎｅ−ｃａｌｃｉｕｍ）、プロヒドロジャスモン（ｐｒｏｈｙｄｒｏｊａｓｍｏｎ）、シントフェン（ｓｉｎｔｏｆｅｎ）、チジアズロン（ｔｈｉｄｉａｚｕｒｏｎ）、トリアコンタノール（ｔｒｉａｃｏｎｔａｎｏｌ）、トリネキサパックエチル（ｔｒｉｎｅｘａｐａｃ−ｅｔｈｙｌ）、ウニコナゾール（ｕｎｉｃｏｎａｚｏｌｅ）、ウニコナゾール−Ｐ（ｕｎｉｃｏｎａｚｏｌｅ−Ｐ）
【実施例】
【００７９】
次に、実施例及び比較例を用いて本発明を実施するための最良の形態を説明するが、本発明はこれらのみに限定されるべきものではない。
【００８０】
試験例１
実施例１
底面に穴を開け、ろ紙を敷いた１００ｍＬ容プラスチックカップに畑土壌を６０ｇ充填し、Ｐｉｏｎｅｅｒ  ３２Ｋ６１品種のトウモロコシ種子を播種して、その上に畑土壌を３０ｇ覆土した。表層の面積は２５ｃｍ２となった。ピロキサスルホンの２００μｇ（８００ｇ／ｈａに相当）を水で希釈し、前記カップの土壌表面に均一に滴下処理した。次に、ジシクロノンの２００μｇ（８００ｇ／ｈａに相当）を水で希釈し、前記カップの土壌表面に均一に滴下処理した。このカップを、グロースチャンバー内で、２５℃恒温、明期：１６時間、暗期：８時間の条件で、適宜給水しながらトウモロコシを生育させた。処理１０日後に、トウモロコシの草丈の長さを測定した。
【００８１】
実施例２
ジシクロノンの処理量を２０μｇ（８０ｇ／ｈａに相当）としたこと以外は前記実施例１と同様にして、トウモロコシの草丈の長さを測定した。
【００８２】
比較例１
ジシクロノンを処理しなかったこと以外は前記実施例１と同様にして、トウモロコシの草丈の長さを測定した。
【００８３】
尚、以下の記載において、「無処理区」とは、ピロキサスルホンもジシクロノンも処理しない条件で、同様にトウモロコシを生育させた作物区分を意味する。
【００８４】
【表１】
2012025679.tif 000002
【００８５】
試験例２
実施例３
Ｇｏｌｄａｓｔｅ品種のトウモロコシ種子を使用したこと以外は前記実施例１と同様にして、トウモロコシの草丈の長さを測定した。
【００８６】
実施例４
ジシクロノンの処理量を２０μｇ（８０ｇ／ｈａに相当）としたこと以外は前記実施例３と同様にして、トウモロコシの草丈の長さを測定した。
【００８７】
比較例２
ジシクロノンを処理しなかったこと以外は前記実施例３と同様にして、トウモロコシの草丈の長さを測定した。
【００８８】
【表２】
2012025679.tif 000003
【００８９】
上記に明らかなように、ピロキサスルホンだけを処理した比較例１及び２においては、トウモロコシの草丈が無処理区と比べて短くなり、生育抑制の薬害症状が認められた。一方、ピロキサスルホンとジシクロノンを併用処理した実施例１〜４では、トウモロコシの草丈は無処理区と同程度となり、ジシクロノンによるピロキサスルホンの薬害軽減効果が示された。
【００９０】
製剤例
以下、本発明の除草剤組成物の各種製剤についてその例を示す。尚、以下の記載において、「部」は「重量部」を意味する。
【００９１】
実施例５
ピロキサスルホン１０部、ジシクロノン１０部、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル２部、アルキルナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩２部、ホワイトカーボン１６部、珪藻土１６部及びクレー４４部を、衝撃式粉砕機を用いて混合粉砕することにより、ピロキサスルホン及びジシクロノンを含有する水和剤を得た。
【００９２】
実施例６
ピロキサスルホン５０部、ジシクロノン５部、リグニンスルホン酸ナトリウム５部、アルキルナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩５部、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル２部、珪藻土２０部及びクレー１３部を、衝撃式粉砕機を用いて混合粉砕し、適当量の水を加えて混練し、押し出し造粒機を用いて目開き０．８ｍｍのスクリーンより押し出し成型し、流動層乾燥機を用いて品温６０℃にて乾燥し、＃２０メッシュと＃３２メッシュの篩を用いて篩分することにより、ピロキサスルホン及びジシクロノンを含有する顆粒水和剤を得た。
【００９３】
実施例７
ピロキサスルホン２０部、ジシクロノン２部、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル５部、アルキルスルホコハク酸ナトリウム２部、プロピレングリコール１０部、キサンタンガム０．２部、ジメチルポリシロキサン０．１部及び水６０．７部を、高速攪拌機を用いて混合し、湿式粉砕機を用いてガラス製ビーズを粉砕媒体として粉砕することにより、ピロキサスルホン及びジシクロノンを含有するフロアブルを得た。
【００９４】
実施例８
ピロキサスルホン２部、ジシクロノン０．２部、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル８部、アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム２部、Ｎ−メチル−２−ピロリドン２０部及びアルキルベンゼン６７．８部を、高速攪拌機を用いて混合溶解し、ピロキサスルホン及びジシクロノンを含有する乳剤を得た。
【００９５】
実施例９
ピロキサスルホン０．５部、チオベンカルブ３０部、プロメトリン４部、ジシクロノン０．５部、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル８部、アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム２部、Ｎ−メチル−２−ピロリドン１０部及びアルキルベンゼン４５部を、高速攪拌機を用いて混合溶解し、ピロキサスルホン、チオベンカルブ、プロメトリン及びジシクロノンを含有する乳剤を得た。
【００９６】
実施例１０
ピロキサスルホン０．５部、チオベンカルブ３０部、リニュロン６部、ジシクロノン０．５部、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル８部、アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム２部、Ｎ−メチル−２−ピロリドン１０部及びアルキルベンゼン４３部を、高速攪拌機を用いて混合溶解し、ピロキサスルホン、チオベンカルブ、リニュロン及びジシクロノンを含有する乳剤を得た。
【００９７】
実施例１１
ピロキサスルホン２．５部、ジシクロノン２．５部、流動パラフィン１部、ホワイトカーボン２部及びクレー９２部を、衝撃式粉砕機を用いて混合粉砕することにより、ピロキサスルホン及びジシクロノンを含有する粉剤を得た。
【００９８】
実施例１２
ピロキサスルホン２部、ジシクロノン０．２部及びクレー０．８部を、衝撃式粉砕機を用いて混合粉砕し、得られた粉砕物３部、流動パラフィン１部、ホワイトカーボン１部及び珪砂９５部を混合し、ピロキサスルホン及びジシクロノンを含有する微粒剤を得た。
【００９９】
施用例
次に、本発明の除草剤組成物による作物の薬害を軽減しつつ雑草を防除する方法についてその例を示す。
【０１００】
実施例１３
前記実施例５で製造したピロキサスルホン及びジシクロノンを含有する水和剤を、トウモロコシが生育する畑地へ施用した。
【０１０１】
実施例１４
ピロキサスルホン５０部、リグニンスルホン酸ナトリウム５部、アルキルナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩５部、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル２部、珪藻土２０部及びクレー１８部を、衝撃式粉砕機を用いて混合粉砕し、適当量の水を加えて混練し、押し出し造粒機を用いて目開き０．８ｍｍのスクリーンより押し出し成型し、流動層乾燥機を用いて品温６０℃にて乾燥し、＃２０メッシュと＃３２メッシュの篩を用いて篩分することにより、ピロキサスルホンを含有する顆粒水和剤を得た。別に、ジシクロノン１０部、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル２部、アルキルナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩２部、ホワイトカーボン１６部、珪藻土１６部及びクレー５４部を、衝撃式粉砕機を用いて混合粉砕することにより、ジシクロノンを含有する顆粒水和剤を得た。この顆粒水和剤と水和剤をトウモロコシが生育する畑地へ同時に施用した。
【０１０２】
実施例１５
前記実施例１４で製造したピロキサスルホンを含有する顆粒水和剤を、トウモロコシが生育する畑地へ施用し、３日後、前記実施例１４で製造したジシクロノンを含有する顆粒水和剤を同じ畑地へ施用した。
【０１０３】
実施例１６
前記実施例１４で製造したジシクロノンを含有する顆粒水和剤を、トウモロコシが生育する畑地へ施用し、７日後、前記実施例１４で製造したピロキサスルホンを含有する顆粒水和剤を同じ畑地へ施用した。
【０１０４】
実施例１３〜１６の畑地では、いずれも雑草が十分に防除された状態が保たれた。一方、有用植物であるトウモロコシへの薬害は認められなかった。