(57)【要約】【課題】現状の設備から改造無しで、ウエハによるウエハ載置台の汚染や損傷を回避しつつ、ウエハとウエハ載置台との間での良好な熱伝導を確保することができるウエハ載置機構及びウエハ載置ステージ、並びに、このようなウエハ載置ステージを用いたレジスト形成装置を得る。【解決手段】ウエハの処理を行う際に該ウエハを支持するウエハ載置ステージ１００ａにおいて、ウエハを支持するための載置ステージ本体１１１と、該載置ステージ本体上に、該載置ステージ本体の表面に密着するよう、該載置ステージ本体に着脱自在に設けられ、該ウエハを載置するためのスペーサ部材１１２とを備えた。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウエハを載置するためのウエハ載置台と、該ウエハと該ウエハ載置台との間に配置されるスペーサ部材とを有するウエハ載置機構であって、
該ウエハ載置台を、その表面に該スペーサ部材を位置決めするための係合突起を形成した構造とし、
該スペーサ部材を、該ウエハ載置台の係合突起と係合する係合孔を有し、かつウエハ載置台の表面と密着する構造とし、
該ウエハ載置台上に該スペーサ部材を、該ウエハ載置台の係合突起に該スペーサ部材の係合孔を係合させて着脱自在に配置した、ウエハ載置機構。
【請求項２】
請求項１に記載のウエハ載置機構において、
該ウエハ載置台に形成した部品挿通孔、及び該スペーサ部材に形成した部品挿通孔を貫通するよう配置され、該スペーサ部材上で、前記ウエハを昇降させる昇降ピンと、
該昇降ピンを昇降させる昇降駆動機構とを有する、ウエハ載置機構。
【請求項３】
請求項２に記載のウエハ載置機構において、
前記スペーサ部材は、該スペーサ部材上に前記ウエハが載置されたとき、該スペーサ部材と該ウエハとの間から空気が該スペーサ部材の外部に逃げるよう、該スペーサ部材の表面に空気排出溝を形成したものであるウエハ載置機構。
【請求項４】
請求項３に記載のウエハ載置機構において、
前記スペーサ部材に形成された空気排出溝は、
該スペーサ部材の中心に対して同心円状に形成された複数の環状溝と、
該複数の環状溝と交差するよう、該スペーサ部材の中心を通る複数の直線状溝とを含む、ウエハ載置機構。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれか１つに記載されたウエハ載置機構において、
前記スペーサ部材の構成材料は、ＳｉＣあるいはＡｌ２Ｏ３である、ウエハ載置機構。
【請求項６】
ウエハの処理を行う際に該ウエハを支持するウエハ載置ステージであって、
該ウエハを支持するためのステージ本体と、
該載置ステージ本体上に、該載置ステージ本体の表面に密着するよう、該載置ステージ本体に着脱自在に設けられ、該ウエハを載置するためのスペーサ部材とを備えたウエハ載置ステージ。
【請求項７】
請求項６に記載のウエハ載置ステージにおいて、
前記載置ステージ本体は、前記ウエハを加熱するウエハ加熱部あるいは該ウエハを冷却するウエハ冷却部の少なくとも一方を有する、ウエハ載置ステージ。
【請求項８】
請求項７に記載のウエハ載置ステージにおいて、
前記載置ステージ本体は、前記ウエハを加熱するホットプレートとして機能するよう、前記ウエハ加熱部を有するものである、ウエハ載置ステージ。
【請求項９】
請求項７に記載のウエハ載置ステージにおいて、
前記載置ステージ本体は、前記ウエハを冷却するクーリングプレートとして機能するよう、前記ウエハ冷却部を備えたものである、ウエハ載置ステージ。
【請求項１０】
ウエハの表面上にレジスト膜を形成するレジスト形成装置であって、
該ウエハの表面にレジスト材料を塗布するレジスト塗布装置と、
該ウエハの表面に塗布されたレジスト材料を加熱により乾燥させるレジスト乾燥装置と、
該加熱されたウエハを冷却するウエハ冷却装置とを備え、
該レジスト乾燥装置あるいは該ウエハ冷却装置の少なくとも一方は、
該ウエハの処理を行う際にウエハを支持するウエハ載置ステージとして、請求項６に記載のウエハ載置ステージを備えている、レジスト形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウエハ載置機構、ウエハ載置ステージ、及びレジスト形成装置に関し、特に、ウエハの処理を行う際にウエハを載置するステージの構造に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、半導体装置の製造工程などでは、半導体ウエハの処理を行う際には、薄い円板状のウエハをウエハ載置台上に載置し、ウエハ載置台上に保持されたウエハに対して各種の処理を施している。
【０００３】
例えば、ウエハ表面に形成した半導体膜や絶縁膜を選択的なエッチングによりパターニングする場合など、エッチングマスクとして所定の平面パターンを有するレジスト膜を形成するが、このレジスト膜の形成工程では、レジストの塗布、塗布したレジストの加熱による乾燥、乾燥したレジストの冷却、さらに冷却したレジスト膜の露光現像といった一連の処理が行われる。
【０００４】
ここで、レジストの乾燥のための加熱、あるいは乾燥したレジストの冷却などの処理は、ウエハをホットプレートやクーリングプレートなどのウエハ載置台上に載置してウエハの温度を所望の温度にする。
【０００５】
ところで、近年、シリコンウエハの他に、発光ダイオード（ＬＥＤ）の製造等でサファイア基板が用いられるようになってきているが、このサファイア基板は、シリコン基板に比べて熱容量が大きい。
【０００６】
そこで、ウエハの昇温あるいは降温を短時間で行うため、ウエハをウエハ載置台上に載置する方法が工夫されている。
【０００７】
図４は、例えばホットプレート上にウエハを載置する方法を説明する図である。
【０００８】
一般的な方法として、図４（ａ）に示すように、ホットプレート２００上にウエハWｆを直接載置する方法がある。
【０００９】
この方法では、ウエハとホットプレートとの間での熱伝導は良好なものとなり、ウエハの昇温あるいは降温を短時間で行うことができる。
【００１０】
しかしながら、このようにウエハをホットプレート上に直接載置する方法では、ウエハと接触するホットプレート表面が汚染されたり傷つけられたりするという問題があり、ホットプレートのその損傷に起因する頻繁な交換はランニングコストの増大を招くことにもなる。
【００１１】
そこで、図４（ｂ）に示すように、ウエハＷｆをポットプレート２００上に支持突起２０１により０．１ｍｍ〜０．２ｍｍ程度の隙間ができるよう若干浮かせて載置する方法も考えられるが、この場合、ホットプレート表面がウエハと直接接触することはないので、ホットプレート表面がウエアにより汚染されたり傷つけられたりすることはないものの、ウエハＷｆとポットプレート２００との間に隙間ができるため、ウエハとホットプレートとの間での熱伝導性が劣化することとなる。
【００１２】
また、特許文献１では、このようにウエハとホットプレートとの間での良好な熱伝導の実現と、ホットプレートの汚染や損傷の回避といった課題を解決したものとして、図４（ｃ）に示すように、ウエハＷｆをウエハ載置トレイ１１に収容してホットプレート２００上に載置する方法が提案されている。
【００１３】
図５は、特許文献１に開示の基板載置トレイを説明する図であり、図５（ａ）はその表面の構造を示し、図５（ｂ）は、図１のＡ−Ａ’線断面の構造を示している。
【００１４】
図５に示す基板載置トレイ１０は、略円板状の外形を有する台座１１を有している。この台座１１は、例えば、カーボン、シリコン、炭化珪素、アルミニウム、酸化アルミニウムなどの材料を主成分としたものが用いられる。これらは、耐熱性、切削加工性、熱伝導効率の面で優れている。
【００１５】
この台座１１の上面には、ウエハ（以下、基板とも言う。）Ｗｆを収容するための基板載置用凹部１３が形成されており、該凹部１３の側面１２の一部は、基板Ｗｆの位置合わせマーク（つまりオリフラ部）との位置合わせ部１４となっている。
【００１６】
さらに、この基板載置用凹部１３の底面は、基板を載置する平坦な載置面１５となっており、この載置面１５には、更に複数の凹状穴部１６が設けられている。凹状穴部１６の各々は、上記ウエハＷｆの非接触とすべき複数の領域である機能素子領域と対応するように配置されている。
【００１７】
この特許文献１に開示されているように、ウエハをウエハ載置トレイに収容してホットプレート上などに載置するようにすることで、ホットプレートがウエハにより傷つけられるといった課題を解決でき、また、ホットプレートとウエハとの間に空隙ができて熱伝導性が劣化するといった課題は、上記のようなウエハ載置トレイを熱伝導性に優れた材料で構成することで解消できる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１８】
【特許文献１】特開２００４−３４２８３４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１９】
上述した特許文献１に開示のように、ウエハＷｆをウエハ載置トレイ１１に収容してホットプレート上などに載置する方法では、ウエハとウエハ載置トレイとを一体にしてウエハに対して成膜などの処理を行うので、ウエハとウエハ載置トレーとの密着度を高く保持してウエハ温度の均一化を図ることできるが、トレイは、ウエハの表面での素子領域の配置パターンによって、また、ウエハサイズによっても交換の必要が生ずる。
【００２０】
また、ウェハをウエハ載置台上に直接配置して処理していたウエハ処理装置では、上記のようなウエハ載置トレイを用いることで、トレイサイズに合わせて設備のサイズアップを行う必要が生ずる。
【００２１】
本発明は、上記のような問題点を解決するためになされたものであり、現状の設備から改造無しで、ウエハによるウエハ載置台の汚染や損傷を回避しつつ、ウエハとウエハ載置台との間での良好な熱伝導を確保することができるウエハ載置機構及びウエハ載置ステージ、並びに、このようなウエハ載置ステージを用いたレジスト形成装置を得ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２２】
本発明に係るウエハ載置機構は、ウエハを載置するためのウエハ載置台と、該ウエハと該ウエハ載置台との間に配置されるスペーサ部材とを有するウエハ載置機構であって、該ウエハ載置台を、その表面に該スペーサ部材を位置決めするための係合突起を形成した構造とし、該スペーサ部材を、該ウエハ載置台の係合突起と係合する係合孔を有し、かつウエハ載置台の表面と密着する構造とし、該ウエハ載置台上に該スペーサ部材を、該ウエハ載置台の係合突起に該スペーサ部材の係合孔を係合させて着脱自在に配置したものであり、そのことにより上記目的が達成される。
【００２３】
本発明は、上記ウエハ載置機構において、該ウエハ載置台に形成した部品挿通孔、及び該スペーサ部材に形成した部品挿通孔を貫通するよう配置され、該スペーサ部材上で、前記ウエハを昇降させる昇降ピンと、該昇降ピンを昇降させる昇降駆動機構とを有することが好ましい。
【００２４】
本発明は、上記ウエハ載置機構において、前記スペーサ部材は、該スペーサ部材上に前記ウエハが載置されたとき、該スペーサ部材と該ウエハとの間から空気が該スペーサ部材の外部に逃げるよう、該スペーサ部材の表面に空気排出溝を形成したものであることが好ましい。
【００２５】
本発明は、上記ウエハ載置機構において、前記スペーサ部材に形成された空気排出溝は、該スペーサ部材の中心に対して同心円状に形成された複数の環状溝と、該複数の環状溝と交差するよう、該スペーサ部材の中心を通る複数の直線状溝とを含むことが好ましい。
【００２６】
本発明は、上記ウエハ載置機構において、前記スペーサ部材の構成材料は、ＳｉＣあるいはＡｌ２Ｏ３であることが好ましい。
【００２７】
本発明に係るウエハ載置ステージは、ウエハの処理を行う際に該ウエハを支持するウエハ載置ステージであって、該ウエハを支持するためのステージ本体と、該載置ステージ本体上に、該載置ステージ本体の表面に密着するよう、該載置ステージ本体に着脱自在に設けられ、該ウエハを載置するためのスペーサ部材とを備えたものであり、そのことにより上記目的が達成される。
【００２８】
本発明は、上記ウエハ載置ステージにおいて、前記ステージ本体は、前記ウエハを加熱するウエハ加熱部あるいは該ウエハを冷却するウエハ冷却部の少なくとも一方を有することが好ましい。
【００２９】
本発明は、上記ウエハ載置ステージにおいて、前記ステージ本体は、前記ウエハを加熱するホットプレートとして機能するよう、前記ウエハ加熱部を有するものであることが好ましい。
【００３０】
本発明は、上記ウエハ載置ステージにおいて、前記ステージ本体は、前記ウエハを冷却するクーリングプレートとして機能するよう、前記ウエハ冷却部を備えたものであることが好ましい。
【００３１】
本発明に係るレジスト形成装置は、ウエハの表面上にレジスト膜を形成するレジスト形成装置であって、該ウエハの表面にレジスト材料を塗布するレジスト塗布装置と、該ウエハの表面に塗布されたレジスト材料を加熱により乾燥させるレジスト乾燥装置と、該加熱されたウエハを冷却するウエハ冷却装置とを備え、該レジスト乾燥装置あるいは該ウエハ冷却装置の少なくとも一方は、該ウエハの処理を行う際にウエハを支持するウエハ載置ステージとして、上述した本発明に係るウエハ載置ステージを備えており、そのことにより上記目的が達成される。
【００３２】
次に作用について説明する。
【００３３】
本発明においては、ウエハを支持するためのステージ本体と、該載置ステージ本体上に、該載置ステージ本体の表面に密着するよう、該載置ステージ本体に着脱自在に設けられ、該ウエハを載置するためのスペーサ部材とを備えたので、現状の設備から改造無しで、ウエハによるウエハ載置台の汚染や損傷を回避しつつ、ウエハとウエハ載置台との間での良好な熱伝導を確保することができる。
【００３４】
本発明においては、前記スペーサ部材を、該スペーサ部材上に前記ウエハが載置されたとき、該スペーサ部材と該ウエハとの間から空気が該スペーサ部材の外部に逃げるよう、該スペーサ部材の表面に空気排出溝を形成した構造としているので、ウエハをスペーサ部材上に載置するとき、該スペーサ部材の表面に形成されている空気排出溝を通って、該スペーサ部材と該ウエハとの間から空気が該スペーサ部材の外部に排出される。このため、ウエハはスペーサ部材の所定の位置に載置されることとなる。
【発明の効果】
【００３５】
以上のように、本発明によれば、ウエハを支持するためのステージ本体と、該載置ステージ本体上に、該載置ステージ本体の表面に密着するよう、該載置ステージ本体に着脱自在に設けられ、該ウエハを載置するためのスペーサ部材とを備えたので、現状の設備から改造無しで、ウエハによるウエハ載置台の汚染や損傷を回避しつつ、ウエハとウエハ載置台との間での良好な熱伝導を確保することができるウエハ載置機構及びウエハ載置ステージ、並びに、このようなウエハ載置ステージを用いたレジスト塗布装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】図１は、本発明の実施形態１によるレジスト形成装置を説明する図であり、該レジスト形成装置の全体構成を、レジスト膜の露光装置とともに概念的に示している。
【図２】図２は、本発明の実施形態１によるウエハ載置ステージを説明する図であり、図２（ａ）は、その構成を示す斜視図であり、図２（ｂ）は、該ウエハ載置ステージの本体の一例としてのホットプレートを示し、図２（ｃ）は、該ウエハ載置ステージの本体の一例としてのクーリングプレートを示し、図２（ｄ）は、スペーサ部材の構造を示している。
【図３】図３は、本発明の実施形態１によるウエハ載置ステージの動作（図３（ａ）〜図３（ｄ））を説明する図である。
【図４】図４は、ウエハを例えばホットプレート上に載置する従来の方法を説明する図であり、図４（ａ）は、ウエハを直接ホットプレート上に載置する方法、図４（ｂ）は、ウエハをホットプレート上に支持突起により若干浮かせて載置する方法、図４（ｃ）は、ウエハをウエハ載置トレイに収容してホットプレート上に載置する方法を示している。
【図５】図５は、特許文献１に開示の基板載置トレイを説明する図であり、図５（ａ）はその表面の構造を示し、図５（ｂ）は、図５のＡ−Ａ’線断面の構造を示している。
【発明を実施するための形態】
【００３７】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。
【００３８】
（実施形態１）
図１は本発明の実施形態１によるレジスト形成装置を概念的に説明するための模式図である。
【００３９】
この実施形態１のレジスト形成装置１は、ウエハの表面上にレジスト膜を形成するレジスト形成装置である。
【００４０】
つまり、このレジスト形成装置１は、該ウエハの表面にレジスト材料を塗布するレジスト塗布装置１１０と、該ウエハの表面に塗布されたレジスト材料を加熱により乾燥させるレジスト乾燥装置１２０と、該加熱されたウエハを冷却するウエハ冷却装置１３０とを備えている。
【００４１】
また、このレジスト形成装置１では、レジスト塗布装置１１０、レジスト乾燥装置１２０、及びウエハ冷却装置１３０は、この順に配列されており、この配列に沿って、ウエハを搬送する搬送系１５０が設けられている。この搬送系１５０は、上記各装置１１０、１２０、１３０の配列に沿って配置されたガイドレール１５１と、該ガイドレール上を摺動する摺動ブロック１５２と、該摺動ブロックに取り付けられ、ウエハを搬送する搬送アーム１５３とを有している。ここで、上記摺動ブロック１５２は、上記搬送アームを回転可能にかつ押出し及び引込み可能に保持している。
【００４２】
また、このレジスト形成装置１のウエハ冷却装置１３０に対向する位置には、露光装置１４０が配置されている。
【００４３】
また、本実施形態１のレジスト形成装置１では、該レジスト乾燥装置１２０及び該ウエハ冷却装置１３０はそれぞれ、該ウエハの処理を行う際にウエハを支持するウエハ載置ステージを備えている。
【００４４】
図２は、本発明の実施形態１によるウエハ載置ステージを説明する図であり、図２（ａ）は、その構成を示す斜視図であり、図２（ｂ）は、該ウエハ載置ステージの本体の一例としてのホットプレートを示し、図２（ｃ）は、該ウエハ載置ステージの本体の一例としてのクーリングプレートを示している。
【００４５】
この実施形態のウエハ載置ステージ１００ａは、該ウエハを支持するためのステージ本体（以下、ウエハ載置台ともいう。）１１１と、該載置ステージ本体１１１上に、該載置ステージ本体１１１の表面に密着するよう、該載置ステージ本体１１１に着脱自在に設けられ、該ウエハ（図示せず）を載置するためのスペーサ部材１１２とを有している。
【００４６】
ここで、スペーサ部材１１２の構成材料は、ＳｉＣあるいはＡｌ２Ｏ３である。また、ウエハＷｆは、例えばサファイアウエハである。但し、ウエハの構成材料及びスペーサの構成部材は上記のものに限定されるものではない。
【００４７】
ウエハ載置台１１１は、その表面に該スペーサ部材１１２を位置決めするための係合突起１１１ｆを形成した構造になっている。また、該スペーサ部材１１２は、該ウエハ載置台１１１の係合突起１１１ｆと係合する係合孔１１２ｂを有し、かつウエハ載置台の表面と密着する構造となっている。このスペーサ部材１１２は、該ウエハ載置台１１１上に、該ウエハ載置台１１１の係合突起１１１ｆに該スペーサ部材１１２の係合孔１１２ｂを係合させて着脱自在に配置されている。
【００４８】
また、ウエハ載置台１１１及び該スペーサ部材１１２には部品挿通孔１１２ｃが形成されており、この部品挿通孔１１２ｃには、該スペーサ部材１１２上で前記ウエハを昇降させる昇降ピン１１３ａがスライド可能に配置されている。この昇降ピン１１３ａは、ウエハ載置台１１１の下面側に配置された昇降駆動機構１１３により昇降するよう構成されている。
【００４９】
また、前記スペーサ部材１１２は、該スペーサ部材１１２上にウエハＷｆが載置されたとき（図３参照）、該スペーサ部材１１２と該ウエハＷｆとの間から空気が該スペーサ部材１１２の外部に逃げるよう、該スペーサ部材の表面に空気排出溝１１２ａを形成したものである。
【００５０】
具体的には、前記スペーサ部材１１２に形成された空気排出溝１１２ａは、該スペーサ部材の中心に対して同心円状に形成された複数の環状溝１１２ａ１と、該複数の環状溝と交差するよう、該スペーサ部材の中心を通る複数の直線状溝１１２ａ２とから構成されている。
【００５１】
また、スペーサ部材１１２は、図３（ｃ）に示すように、昇降ピン１１１ａが上昇してウエハＷｆを上端位置まで持ち上げた状態における、ウエハＷｆの下面からウエハ載置台（載置スペーサ本体）１１１の表面までの距離ａから、搬送アームの侵入マージンｂを差し引いた厚さ（ａ−ｂ）より薄い厚みになるよう加工されている。
【００５２】
そして、レジスト乾燥装置１２０では、該ウエハ載置ステージを構成する載置ステージ本体１１１ａは、前記ウエハを加熱するホットプレートとして機能するよう、ウエハ加熱部１１１ｃを有している（図２（ｂ））。この加熱部１１１ｃには、一般的には電熱ヒータなどが用いられる。このヒータ１１１ｃによりステージ本体部（ホットプレート）１１１ｂの温度は、通常１３０℃程度になるように制御され、これによりこのステージ本体上に載置されたウエハは加熱され、ウエハ表面に塗布されたレジスト材料は乾燥することとなる。
【００５３】
また、ウエハ冷却装置１３０では、該ウエハ載置ステージを構成する載置ステージ本体１１１ｂは、ウエハを冷却するクーリングプレートとして機能するよう、ウエハ冷却部１１１ｄを備えている（図２（ｃ））。このウエハ冷却部１１１ｄには、これに接続された配管１１１ｅを介して温度調整された恒温水が供給され、この恒温水によりステージ本体部（クーリングプレート）１１１ｂの温度は例えば室温（２３℃〜２４℃）になるように制御され、これによりこのステージ本体上に載置されたウエハは冷却されることとなる。
【００５４】
なお、この実施形態１のレジスト形成装置１では、図２（ａ）に示すウエハ載置ステージ１１０ａを用いているが、レジスト乾燥装置１２０及びウエハ冷却装置１３０の少なくとも１つに、図２（ａ）に示す本実施形態のウエハ載置ステージを用いることにより、その装置では、現状の設備から改造無しで、ウエハによるウエハ載置台の汚染や損傷を回避しつつ、ウエハとウエハ載置台との間での良好な熱伝導を確保することができるという効果が得られる。
【００５５】
次に、動作について説明する。
【００５６】
図３は、本発明の実施形態１によるウエハ載置ステージの動作（図３（ａ）〜図３（ｄ））を説明する図である。
【００５７】
まず、本実施形態によるレジスト形成装置１は、ウエハに対して選択的なイオン注入のためのイオン注入マスクとして、所定の平面パターンを有するレジスト膜を形成したり、ウエハに対する選択的なエッチングを行うためのエッチングマスクとして所定の平面パターンを有するレジスト膜を形成したりするのに用いられる。
【００５８】
例えば、ウエハ上に形成した絶縁層を選択的にエッチングするためのレジスト膜を形成する場合、本レジスト塗布装置１の搬送アーム１５３により、図示しない成膜装置からこのレジスト塗布装置１にウエハが搬入されると、該ウエハＷｆは搬送アーム１５３によりレジスト塗布装置１１０に搬入される。
【００５９】
ここで、レジスト塗布装置１１０では、ウエハの表面にレジスト材料が塗布され、レジスト材料が塗布されたウエハが搬送アーム１５３によりウエハ乾燥装置１２０に搬入される。ウエハ乾燥装置１２０では、ウエハ載置ステージ１００ａ上に配置されたウエハが、ホットプレートとしての載置ステージ本体１１１ａにより１３０℃程度まで加熱され、ウエハに塗布されたレジスト材料の乾燥が行われる。なお、乾燥温度は１３０℃に限るものではなく、レジスト材料の塗布条件などによっては、２５０℃程度の高い温度で乾燥が行われる場合もある。
【００６０】
ここでの乾燥が完了すると、ウエハはさらに搬送アーム１５３によりウエハ乾燥装置１２０からウエハ冷却装置１３０に搬送される。ウエハ冷却装置１３０では、ウエハ載置ステージ１００ａ上に配置されたウエハが、クーリングプレートとしての載置ステージ本体１１１ｂにより冷却される。室温まで冷却されたウエハは、さらに搬送アーム１５３により、このレジスト形成装置１に隣接して配置されている露光装置１４０に搬送され、レジスト膜の露光が行われる。なお、露光されたレジスト膜は、現像装置（図示せず）により現像されて所定の平面パターンを有するエッチングマスクが形成される。
【００６１】
以下、各装置１１０、１２０、及び１３０にて、搬送アームにより搬入されたウエハがウエハ載置ステージ１００ａ上に載置される動作について、図２（ａ）、図３（ａ）〜（ｄ）を用いて説明する。なお、ウエハを載置ステージ上に載置する動作はいずれの装置においても同様である。
【００６２】
まず、載置ステージ本体（ウエハ載置台）１１１上には、スペーサ部材１１２が、該ウエハ載置台の係合突起１１１ｆに該スペーサ部材の係合孔１１２ｂを係合させて配置されており、また、ウエハを昇降させる昇降ピン１１３ａは、ウエハ載置台１１１に形成した部品挿通孔１１２ｃ内に没入した状態となっている。
【００６３】
この状態で、図３（ｄ）に示すように、ウエハＷｆが搬送アーム１５３により該ウエハ載置ステージ１００ａ上に搬入されると、昇降駆動機構１１３が該昇降ピン１１３ａを上昇させて、図３（ｃ）に示すように、搬送アーム１５３上のウエハＷｆを該搬送アーム１５３上からさらに上方に持ち上げる。その後、搬送アーム１５３は、該ウエハ載置ステージ１００ａ上から退避すると、昇降駆動機構１１３が該昇降ピン１１３ａを下降させて、図３（ａ）に示すように、ウエハＷｆをスペーサ部材１１２上に載置する。
【００６４】
このとき、該スペーサ部材１１２の表面に形成されている空気排出溝１１２ａを通って、該スペーサ部材と該ウエハとの間から空気が該スペーサ部材の外部に排出される。このため、ウエハはスペーサ部材の所定の位置に載置されることとなる（図３（ｂ））。
【００６５】
このようにウエハがウエハ載置ステージ１００ａ上に載置されると、載置ステージ本体１１１（ここではホットプレート１１１ａ）によりウエハが加熱されることとなり、ウエハの絶縁膜上に塗布されたレジスト材料の乾燥が行われる。
【００６６】
そして、レジスト材料の乾燥が完了すると、昇降駆動機構１１３が該昇降ピン１１３ａを上昇させてウエハＷｆを持ち上げ、このように、スペーサ部材１１２とウエハＷｆとの間に間隙ができた状態で、この間隙に搬送アーム１５３が挿入される（図３（ｃ））。
【００６７】
次に、昇降駆動機構１１３が該昇降ピン１１３ａを下降させることにより、ウエハが搬送アーム１５３上に載ると、該搬送アーム１５３は可動ブロック１５２とともにウエハ冷却装置１２０まで移動し、この装置１２０に乾燥のために加熱されたウエハを搬入する。
その後、上記と同様な昇降ピンと搬送アームの動きにより、このウエハがウエハ載置ステージ１００ａ上に載置されると、載置ステージ本体１１１（ここではクーリングプレート１１１ｂ）によりウエハの冷却が行われ、冷却が完了すると、ウエハは、搬送アーム１５３により、レジスト形成装置１に隣接する露光装置１４０に搬送される。
【００６８】
次に作用効果について説明する。
【００６９】
本実施形態では、ホットプレート１１１ａやクーリングプレート１１１ｂ上に交換容易なスペーサ部材１１２を配置しているので、ウエハの加熱冷却をそれぞれホットプレートやクーリングプレートで効率的に行い、かつ、汚染や傷がスペーサ部材に入った時にはスペーサ部材の交換により対応することができる。
【００７０】
また、ホットプレート１１１ａやクーリングプレート１１１ｂとウエハとが直接触れないため、プレートに傷が入りにくく、しかも、プレートにはウエハがスペーサ部材を介して全面で密着しているため、熱伝導によりウエハの加熱及び冷却が可能となる。
【００７１】
このように、本実施形態１では、ウエハの処理を行う際に該ウエハを支持するウエハ載置ステージ１００ａにおいて、ウエハを支持するための載置ステージ本体（ウエハ載置台）１１１と、該載置ステージ本体上に、該載置ステージ本体の表面に密着するよう、該載置ステージ本体に着脱自在に設けられ、該ウエハを載置するためのスペーサ部材１１２とを備えたので、現状の設備から改造無しで、ウエハによるウエハ載置台の汚染や損傷を回避しつつ、ウエハとウエハ載置台との間での良好な熱伝導を確保することができる。
【００７２】
なお、前記載置ステージ本体は、前記ウエハを加熱するウエハ加熱部あるいは該ウエハを冷却するウエハ冷却部の少なくとも一方を有することが好ましい。
【００７３】
以上のように、本発明の好ましい実施形態を用いて本発明を例示してきたが、本発明は、この実施形態に限定して解釈されるべきものではない。本発明は、特許請求の範囲によってのみその範囲が解釈されるべきであることが理解される。当業者は、本発明の具体的な好ましい実施形態の記載から、本発明の記載および技術常識に基づいて等価な範囲を実施することができることが理解される。本明細書において引用した特許、特許出願および文献は、その内容自体が具体的に本明細書に記載されているのと同様にその内容が本明細書に対する参考として援用されるべきであることが理解される。
【産業上の利用可能性】
【００７４】
本発明は、ウエハ載置機構、ウエハ載置ステージ、及びレジスト形成装置の分野において、特に、ウエハの処理を行う際にウエハを載置する構造を改良したものであり、現状の設備から改造無しで、ウエハによるウエハ載置台の汚染や損傷を回避しつつ、ウエハとウエハ載置台との間での良好な熱伝導を確保することができるウエハ載置機構及びウエハ載置ステージ、並びに、このようなウエハ載置ステージを用いたレジスト形成装置を提供することができるものである。
【符号の説明】
【００７５】
１  レジスト形成装置
１００ａ  ウエハ載置ステージ
１１０  レジスト塗布装置
１１１  載置ステージ本体（ウエハ載置台）
１１１ａ  載置ステージ本体（ホットプレート）
１１１ｂ  載置ステージ本体（クーリングプレート）
１１１ｃ  ウエハ加熱部
１１１ｄ  ウエハ冷却部
１１１ｅ  配管
１１１ｆ  係合突起
１１２  スペーサ部材
１１２ａ  空気排出溝
１１２ａ１  環状溝
１１２ａ２  直線状溝
１１２ｂ  係合孔
１１２ｃ  部品挿通孔
１１３  昇降駆動機構
１１３ａ  昇降ピン
１２０  レジスト乾燥装置
１３０  ウエハ冷却装置
１４０  露光装置
１５０  搬送系
１５１  ガイドレール
１５２  摺動ブロック
１５３  搬送アーム
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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