(57)【要約】      （修正有）【課題】低コストで、に第三元素を添加しない、低酸素ＭｏＣｒターゲット材を製造する方法およびＭｏＣｒターゲット材を提供すること。【解決手段】Ｃｒを０．５〜５０原子％含有し残部Ｍｏおよび不可避的不純物からなるＭｏＣｒターゲット材の製造方法であって、（１）Ｍｏ焼結体を平均粒径２０〜５００μｍに粉砕してＭｏ粉末を作製する工程と、（２）該Ｍｏ粉末を還元性雰囲気中で熱処理して還元処理Ｍｏ粉末を作製する工程と、（３）平均粒径２０〜５００μｍのＣｒ原料粉末を準備する工程と、（４）前記還元処理Ｍｏ粉末と前記Ｃｒ原料粉末とを混合した混合粉末を作製する工程と、（５）該混合粉末を加圧焼結してＭｏＣｒ焼結体を作製する工程とを有するＭｏＣｒターゲット材の製造方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｃｒを０．５〜５０原子％含有し残部Ｍｏおよび不可避的不純物からなるＭｏＣｒターゲット材の製造方法であって、
（１）Ｍｏ焼結体を平均粒径２０〜５００μｍに粉砕してＭｏ粉末を作製する工程と、
（２）該Ｍｏ粉末を還元性雰囲気中で熱処理して還元処理Ｍｏ粉末を作製する工程と、
（３）平均粒径２０〜５００μｍのＣｒ原料粉末を準備する工程と、
（４）前記還元処理Ｍｏ粉末と前記Ｃｒ原料粉末とを混合した混合粉末を作製する工程と、
（５）該混合粉末を加圧焼結してＭｏＣｒ焼結体を作製する工程と、
を有することを特徴とするＭｏＣｒターゲット材の製造方法。
【請求項２】
前記混合粉末に、還元処理Ｍｏ粉末の平均粒径よりも小さく且つ平均粒径５〜１００μｍのＭｏ原料粉末をさらに混合して作製した混合粉末を加圧焼結することを特徴とする請求項１に記載のＭｏＣｒターゲット材の製造方法。
【請求項３】
加圧焼結を焼結温度８００〜１８００℃、圧力１０〜２００ＭＰａで１〜１０時間行うことを特徴とする請求項１または請求項２に記載のＭｏＣｒターゲット材の製造方法。
【請求項４】
Ｃｒを０．５〜５０原子％含有し残部Ｍｏおよび不可避的不純物からなるＭｏＣｒターゲット材であって、Ｃｒ粒周囲に酸素濃化相が連続して存在しないことを特徴とするＭｏＣｒターゲット材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スパッタリング等の物理蒸着技術に用いられるＭｏＣｒターゲット材の製造方法およびこれにより得られるＭｏＣｒターゲット材に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
現在、平面表示装置の一種である液晶ディスプレイ等の薄膜電極および薄膜配線等には、電気抵抗の小さいＭｏ等の高融点金属膜が広く利用されている。そして、これら薄膜電極および薄膜配線等には、薄膜形成の製造工程中での、耐熱性、耐食性の要求があるため、例えば、Ｃｒ、Ｗ、Ｎｂ等を添加したＭｏ合金の適用が進んでいる。
【０００３】
上記のＭｏ合金を配線として形成する方法としては、同一組成のターゲット材をスパッタリングによって形成する方法が一般的に利用されている。そして、Ｍｏ合金のターゲット材に関しては、成分構成やターゲット材に含まれる不純物の低減等に関して様々な提案がなされている。
【０００４】
ターゲット材に含まれる不純物の中で特に問題となるものとして酸素が挙げられる。特にＭｏＣｒターゲット材においては、酸素値が高い場合、ＣｒはＭｏよりも酸素との親和力が強いため、ミクロ組織においてＣｒ中に酸素濃化相が形成される。この酸素濃化相は他の箇所と比較してスパッタレートが遅いため、そこにノジュールとよばれる小さな突起が形成され、これが起因となりパーティクルやスプラッシュ等の問題が多発する場合がある。また、薄膜の電気抵抗が高くなるという問題も発生する。これらの事象からＭｏＣｒターゲット材は酸素含有量を低くする必要がある。
【０００５】
上記問題点を解決するため、所定の粒径を有するＣｒ原料粉末を固形化したものと、真空中で電子ビーム溶解あるいは不活性ガス雰囲気中でアーク溶解等によって得られるＭｏ溶解品を用いることによって低酸素のＭｏＣｒターゲットを製造する方法が提案されている。（特許文献１）
【０００６】
一方、別の方法として、炭素を脱酸素剤として添加することによって酸素含有量を低減させる方法が提案されている。（特許文献２）
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平１０−１６８５６４号公報
【特許文献２】特開２００２−１９４５３６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
特許文献１に開示されるＭｏＣｒターゲットの製造方法は、先ず粒径の大きいＣｒ原料粉末を熱間静水圧プレスによって固形化し、一方Ｍｏは真空中で電子ビーム溶解あるいは不活性ガス雰囲気中でアーク溶解等によって溶解して、それぞれ低酸素なバルク体を作製する。次いで作製したＣｒとＭｏそれぞれのバルク体を機械加工して、所定形状のターゲットおよびチップとし、これらを狙いの合金組成となるような面積比で配置するという製造方法である。また、特許文献１には、上記で作製したＣｒバルク体とＭｏバルク体を交互に多数枚重ね合わせ、引き続いてホットプレスによってこれらを圧着し複合体を得るという製造方法も提案されている。このような製造方法は、複雑且つ高コストであるため経済的に不利である。
【０００９】
また、特許文献２に開示されるＭｏＣｒターゲット材の製造方法は、脱酸素剤として炭素を添加するため、ＭｏＣｒターゲット中に添加した炭素が残留する場合があり、この残留炭素を起因としたノジュールによりパーティクルやスプラッシュが誘発されるおそれがある。
【００１０】
本発明の目的は、上記課題に鑑み、単純且つ低コストで、さらに第三元素を添加しない方法で低酸素なＭｏＣｒターゲット材を製造する方法およびＭｏＣｒターゲット材を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
すなわち本発明は、
Ｃｒを０．５〜５０原子％含有し残部Ｍｏおよび不可避的不純物からなるＭｏＣｒターゲット材の製造方法であって、
（１）Ｍｏ焼結体を平均粒径２０〜５００μｍに粉砕してＭｏ粉末を作製する工程と、
（２）該Ｍｏ粉末を還元性雰囲気中で熱処理して還元処理Ｍｏ粉末を作製する工程と、
（３）平均粒径２０〜５００μｍのＣｒ原料粉末を準備する工程と、
（４）前記還元処理Ｍｏ粉末と前記Ｃｒ原料粉末とを混合した混合粉末を作製する工程と、
（５）該混合粉末を加圧焼結してＭｏＣｒ焼結体を作製する工程と、
を有するＭｏＣｒターゲット材の製造方法である。
【００１２】
本発明においては、前記混合粉末に、還元処理Ｍｏ粉末の平均粒径よりも小さく且つ平均粒径５〜１００μｍのＭｏ原料粉末をさらに混合してもよい。
また、本発明における加圧焼結は、焼結温度８００〜１８００℃、圧力１０〜２００ＭＰａで１〜１０時間行うことが好ましい。
また、本発明のＭｏＣｒターゲット材は、Ｃｒを０．５〜５０原子％含有し残部Ｍｏおよび不可避的不純物からなるＭｏＣｒターゲット材であって、Ｃｒ粒周囲に酸素濃化相が連続して存在しないＭｏＣｒターゲット材である。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、パーティクルやスプラッシュが誘発されるおそれの少ない低酸素のＭｏＣｒターゲットを単純な工程でかつ低コストで提供できるため、その工業的価値は極めて大きい。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明例１で作製したターゲット材の断面のミクロ組織および元素分布を示す図面代用写真である。（ａ）は光学顕微鏡によって撮影されたミクロ組織写真である。（ｂ）〜（ｄ）は（ａ）と同一視野においてエネルギー分散型Ｘ線分析装置によって撮影された元素分布を示す写真であり、（ｂ）はＭｏ、（ｃ）はＣｒ、（ｄ）は酸素の分布をそれぞれ示している。
【図２】本発明例２で作製したターゲット材の断面のミクロ組織および元素分布を示す図面代用写真である。（ａ）〜（ｄ）の記号の意味は図１と同一である。
【図３】本発明例３で作製したターゲット材の断面のミクロ組織および元素分布を示す図面代用写真である。（ａ）〜（ｄ）の記号の意味は図１と同一である。
【図４】本発明例４で作製したターゲット材の断面のミクロ組織および元素分布を示す図面代用写真である。（ａ）〜（ｄ）の記号の意味は図１と同一である。
【図５】本発明例５で作製したターゲット材の断面のミクロ組織および元素分布を示す図面代用写真である。（ａ）〜（ｄ）の記号の意味は図１と同一である。
【図６】比較例１で作製したターゲット材の断面のミクロ組織および元素分布を示す図面代用写真である。（ａ）〜（ｄ）の記号の意味は図１と同一である。
【図７】比較例２で作製したターゲット材の断面のミクロ組織および元素分布を示す図面代用写真である。（ａ）〜（ｄ）の記号の意味は図１と同一である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
本発明における最大の特徴は、ＭｏＣｒターゲット材のミクロ組織に存在するＣｒ粒周囲の酸素濃化相を低減するために、焼結前のＭｏ粉末中の酸素含有量を極力低減する方法を採用した点にある。
【００１６】
本発明者は、Ｍｏ粉末とＣｒ粉末を混合し焼結する際に、焼結容器内に多量に含まれる酸素が、酸素との親和力がＭｏよりも高いＣｒ粒付近に移動し、Ｃｒ粒周囲に酸素濃化相を形成して固定されることを確認した。そして、このＣｒ粒周囲に形成される酸素濃化相が、パーティクルやスプラッシュ等の発生の原因であると考えた。
【００１７】
そこで、本発明者は、ＭｏＣｒターゲット材の製造にあたり、Ｃｒ粒周囲に形成される酸素濃化相を低減するために鋭意検討した結果、以下の工程を有する製造方法を確立した。以下に本発明に係る製造方法を工程ごとに説明する。
【００１８】
（１）Ｍｏ焼結体を粉砕して平均粒径２０〜５００μｍのＭｏ粉末を作製する工程
本発明においては、先ずＭｏ焼結体を準備する。これは、例えば三酸化Ｍｏを還元したＭｏ原料粉末を一度焼結体とした後に平均粒径２０〜５００μｍに粉砕してＭｏ粉末を作製することで、市販される化学製法によって製造される微細なＭｏ原料粉末に比べて、表面積が小さくなりＭｏ粉末表面に存在する酸素量を低減することが可能となるためである。なお、Ｍｏ原料粉末を焼結して得られる焼結体は、相対密度８０％以上であることが好ましい。焼結手段としては、Ｍｏ焼結体の酸素含有量を３００質量ｐｐｍ以下に低減するために、真空脱気した焼結雰囲気でホットプレス、熱間静水圧プレス等の加圧焼結を実施することが望ましい。また、還元性雰囲気中での常圧焼結も望ましい。
そして、Ｍｏ焼結体を粉砕してＭｏ粉末を作製する。これは、Ｍｏ中にＣｒが微細に分散したＭｏＣｒ焼結体を作製するため、Ｃｒ原料粉末と十分に混合が可能な粉末形状に再度戻す必要があるためである。本発明では、例えばボールミル、インパクトミル、ジョークラッシャー等の機械的作用により粉砕することで平均粒径２０〜５００μｍのＭｏ粉末にする。
また、平均粒径２０〜５００μｍに調整するのは、２０μｍ未満にまで小さくしようとすると、コストが著しく増加するとともに、生成時にＭｏ粉末の酸化が進みすぎるためである。一方、５００μｍを越えると、粉末３重点ポアの発生頻度が高くなり、ＭｏＣｒ焼結体の高密度化が達成できにくくなるためである。
【００１９】
（２）Ｍｏ粉末を還元性雰囲気中で熱処理して還元処理Ｍｏ粉末を作製する工程
次に、Ｍｏ粉末を還元性雰囲気中で熱処理して還元処理Ｍｏ粉末を作製する。
Ｍｏ焼結体の状態で酸素含有量が３００質量ｐｐｍ以下であったものを粉砕すると、その後のハンドリングや保管等の時間経過により、Ｍｏ粉末の表面に酸素が吸着される。そのため、本発明では、Ｍｏ粉末表面に存在する酸素を除去するために、Ｍｏ粉末を還元性雰囲気で熱処理をする。本発明での還元性雰囲気としては、例えば水素雰囲気や減圧雰囲気等が利用可能である。また、還元性雰囲気中での熱処理の温度条件としては、概ね５００〜１５００℃とすることが望ましい。それは、５００℃未満では酸素低減効果が極めて小さいためである。一方、１５００℃を超えると粉砕したＭｏ粉末同士の接触部分が拡散結合を開始するため、再度の粉砕が必要な場合があるためである。
この熱処理により、本発明は、粉砕後に５００質量ｐｐｍ以上であったＭｏ粉末の酸素含有量を、１００質量ｐｐｍ以下に低減することが可能となる。
【００２０】
（３）平均粒径２０〜５００μｍのＣｒ原料粉末を準備する工程
本発明で適用できるＣｒ原料粉末としては、純度９９％以上で、平均粒径２０〜５００μｍのＣｒ粉末を使用することができる。ここでＣｒ原料粉末の平均粒径をＭｏ粉末と同じく２０〜５００μｍとするのは、Ｍｏ粉末とＣｒ原料粉末との粒径差が大き過ぎると、焼結体組織にムラが発生しやすくなり、ターゲットで均一なスパッタリングが行えなくなるためである。
また、本発明で適用するＣｒ原料粉末の酸素含有量は、４００質量ｐｐｍ以下であることが好ましい。これにより、混合粉末の酸素含有量を低く抑えることができ、ＭｏＣｒターゲット材中のＣｒ粒周囲に形成される酸素濃化相を低減させることが可能となる。
【００２１】
（４）還元処理Ｍｏ粉末とＣｒ原料粉末とを混合した混合粉末を作製する工程
次に、熱処理された還元処理Ｍｏ粉末とＣｒ原料粉末とを混合した混合粉末を加圧焼結してＭｏＣｒ焼結体を作製する。
ＭｏにＣｒを添加するのは、薄膜にしたときの耐食性を向上させるためであり、Ｃｒ含有量が０．５原子％未満であると十分な耐食性が得られない。一方、Ｃｒの含有量を５０原子％より多くすると、電気抵抗が高くなり過ぎる。よってＣｒ含有量は、０．５〜５０原子％とする。
本発明では、還元処理Ｍｏ粉末とＣｒ原料粉末とをＶ型混合機やクロスロータリー混合機等で混合することで均一な混合粉末を得ることができる。粉末の混合は還元性雰囲気中で行うことが好ましい。
また、本発明では、還元処理Ｍｏ粉末とＣｒ原料粉末との混合粉末に、還元処理Ｍｏ粉末の平均粒径よりも小さく且つ平均粒径５〜１００μｍのＭｏ原料粉末をさらに混合することが好ましい。これにより焼結性が増し、焼結体密度を向上させることができる。このとき、Ｍｏ原料粉末の酸素含有量は、７００質量ｐｐｍ以下が好ましい。また、Ｍｏ原料粉末は、Ｍｏ粉末の全量に対して５０％以下の範囲で添加することが好ましい。
【００２２】
（５）混合粉末を加圧焼結してＭｏＣｒ焼結体を作製する工程
混合粉末の加圧焼結には、熱間静水圧プレスやホットプレスが適用可能であり、焼結温度１０００〜１８００℃、圧力１０〜２００ＭＰａで１〜１０時間行うことが好ましい。
これらの条件の選択は、加圧焼結設備に依存する。例えば熱間静水圧プレスでは、低温高圧の条件が適用しやすく、ホットプレスでは高温低圧の条件が適用しやすい。
なお、焼結温度が１０００℃未満では、焼結が進みにくく現実的ではなく、１８００℃を超えると、耐え得る装置が限られること、焼結体の組織における結晶成長が著しくなって均一微細な組織が得にくい場合がある。
また、圧力は、１０ＭＰａ以下では焼結が進みにくく現実的ではなく、２００ＭＰａを超えると耐え得る装置が限られるという問題がある。
また、焼結時間は、１時間以下では焼結を十分に進行させるのが難しく、１０時間を超えると製造効率において避ける方がよい。
【００２３】
なお、熱間静水圧プレスやホットプレスで加圧焼結をする際には、混合粉末を加圧容器や加圧用ダイスに充填した後に、加熱しながら減圧脱気をすることが望ましい。減圧脱気は、加熱温度１００〜６００℃の範囲で、１ｋＰａよりも低い減圧を行うことが望ましい。これは、得られる焼結体の酸素含有量をより低減することが可能となるためである。
【実施例】
【００２４】
以下に、本発明の実施例について説明する。
先ず、三酸化Ｍｏを還元した市販の平均粒径が６μｍのＭｏ原料粉末（酸素含有量５２３質量ｐｐｍ）を軟鋼製加圧容器に充填した。充填後、加圧容器に脱気口を有する上蓋を溶接した後に４５０℃の温度下で１０Ｐａまで真空脱気し、熱間静水圧プレスで加圧焼結しＭｏ焼結体を得た。なお、熱間静水圧プレスは、１２５０℃、１４７ＭＰａの条件下で５時間保持した。このとき、Ｍｏ焼結体の相対密度は、９９．１％であった。
得られたＭｏ焼結体から軟鋼製加圧容器を剥がしたのち、インパクトミルで粉砕し分級することで、平均粒径１００μｍと２００μｍのＭｏ粉末をそれぞれ得た。得られた各Ｍｏ粉末は、水素気流中にて１２００℃で２時間保持する熱処理を施して酸素を低減する処理を行い、還元処理Ｍｏ粉末を得た。このとき、還元処理Ｍｏ粉末の酸素含有量は、平均粒径１００μｍの還元処理Ｍｏ粉末が７２質量ｐｐｍ、平均粒径２００μｍの還元処理Ｍｏ粉末が５５質量ｐｐｍであった。
【００２５】
続いて、上記で得られた各還元処理Ｍｏ粉末と各Ｃｒ原料粉末とを表１に示す割合で配合し、配合された還元処理Ｍｏ粉末とＣｒ原料粉末とを原子％で９７％Ｍｏ−３％Ｃｒとなるように配合した後、クロスロータリー混合機で混合し、これを軟鋼製加圧容器に充填した後、該加圧容器に脱気口を有する上蓋を溶接した。このとき、平均粒径６５μｍのＣｒ粉末の酸素含有量は２６１質量ｐｐｍ、平均粒径１４０μｍのＣｒ粉末の酸素含有量は１３４質量ｐｐｍであった。
次いで、上記加圧容器を４５０℃の温度下で１０Ｐａまで真空脱気し、温度１２５０℃、圧力１４７ＭＰａの条件下で５時間保持する熱間静水圧プレス処理によって、本発明例１〜本発明例４に係るＭｏＣｒ焼結体を得た。
【００２６】
また、上記で得られた平均粒径１００μｍの還元処理Ｍｏ粉末と三酸化Ｍｏを還元した市販の平均粒径６μｍのＭｏ原料粉末（酸素含有量５８６質量ｐｐｍ）とを表１に示す割合で配合し、クロスロータリー混合機を用いて混合した。次いで、この混合Ｍｏ粉末と平均粒径６５μｍのＣｒ原料粉末（酸素含有量２６１質量ｐｐｍ）を、原子％で９７％Ｍｏ−３％Ｃｒとなるように配合した後、クロスロータリー混合機で混合し、これを軟鋼製加圧容器に充填した後、該加圧容器に脱気口を有する上蓋を溶接した。次いで、上記加圧容器を４５０℃の温度下で１０Ｐａまで真空脱気し、温度１２５０℃、圧力１４７ＭＰａの条件下で５時間保持する熱間静水圧プレス処理によって、本発明例５に係るＭｏＣｒ焼結体を得た。
【００２７】
比較例として、三酸化Ｍｏを還元した市販の平均粒径６μｍのＭｏ原料粉末（酸素含有量５８６質量ｐｐｍ）と平均粒径６５μｍのＣｒ原料粉末（酸素含有量２６１質量ｐｐｍ）を、原子％で９７％Ｍｏ−３％Ｃｒとなるように配合した後、クロスロータリー混合機で混合し、これを軟鋼製加圧容器に充填した後、該加圧容器に脱気口を有する上蓋を溶接した。次いで、上記加圧容器を４５０℃の温度下で１０Ｐａまで真空脱気し、温度１２５０℃、圧力１４７ＭＰａの条件下で５時間保持する熱間静水圧プレス処理によって、比較例１に係るＭｏＣｒ焼結体を得た。
【００２８】
また、別の比較例として、三酸化Ｍｏを還元した市販の平均粒径６μｍのＭｏ原料粉末（酸素含有量５８６質量ｐｐｍ）と市販の平均粒径３μｍのＭｏ原料粉末（酸素含有量１１０２質量ｐｐｍ）とを表１に示す割合で配合し、クロスロータリー混合機で混合した。次いで、この混合Ｍｏ粉末と平均粒径６５μｍのＣｒ原料粉末（酸素含有量２６１質量ｐｐｍ）を、原子％で９７％Ｍｏ−３％Ｃｒとなるように配合した後、クロスロータリー混合機で混合し、これを軟鋼製加圧容器に充填した後、該加圧容器に脱気口を有する上蓋を溶接した。次いで、上記加圧容器を４５０℃の温度下で１０Ｐａまで真空脱気し、温度１２５０℃、圧力１４７ＭＰａの条件下で５時間保持する熱間静水圧プレス処理によって、比較例２に係るＭｏＣｒ焼結体を得た。
【００２９】
【表１】
2012237056.tif 000002
【００３０】
上記で得た各ＭｏＣｒ焼結体から機械加工により試験片を採取し、酸素含有量を不活性ガス融解赤外線吸収法により測定した。また、焼結体密度をアルキメデス法により測定した。その結果を表２に示す。
表２に示すように、本発明例１〜本発明例５は、いずれも還元処理Ｍｏ粉末を使用することで、ＭｏＣｒ焼結体の酸素値が低くなることがわかる。また、焼結体密度においては、混合粉末にさらにＭｏ原料粉末を混合した本発明例５の焼結体で高密度になっていることがわかる。
【００３１】
【表２】
2012237056.tif 000003
【００３２】
上記で得た各焼結体の光学顕微鏡によって観察したミクロ組織、エネルギー分散型Ｘ線分析装置（ＥＤＸ）によって観察したＭｏ、Ｃｒ、酸素の元素分布をそれぞれ図１〜図７に示す。なお、各図の（ａ）が光学顕微鏡によるミクロ組織を示す図面代用写真、（ｂ）が同一視野におけるＭｏの元素分布を黒色で示す図面代用写真、（ｃ）が同一視野におけるＣｒの元素分布を灰色で示す図面代用写真、（ｄ）が同一視野における酸素の元素分布を白色で示す図面代用写真である。
これらの結果から、本発明の製造方法で得た焼結体では、Ｃｒ粒周囲に酸素濃化相［（ｄ）に示す白色部］が殆んど存在しないことがわかる。一方、比較例１においては、Ｃｒ粒周囲の少なくとも一部に酸素濃化相が連続して存在していることがわかる。また、比較例２においては、Ｃｒ粒周囲の全周にわたって酸素濃化相が連続して存在していることがわかる。
【００３３】
上記で作製した各ターゲット材をＤＣマグネトロンスパッタ装置（キャノンアネルバ株式会社製  型式：Ｃ３０１０）のチャンバ内に配置し、チャンバ内を２．０×１０−５Ｐａ以下となるまで減圧した後、Ａｒガス圧０．６Ｐａ、投入電力１５００Ｗの条件にて１２０秒ずつ放電試験を行った。このとき、０．１秒ごとの印加電圧の変化を記録し、印加電圧差の絶対値が統計的管理基準として異常値の監視に利用される、中央値（平均値）に標準偏差の３倍を加えた値以上となった回数を異常放電が発生した回数として測定した。
ターゲット材から発生するパーティクルの量と異常放電の回数の間には強い正の相関があるため、異常放電の回数を測定することでスパッタリングの際に発生するパーティクルの多少を評価することが可能である。上記の方法によって異常放電の回数を測定し、試料比較例２を基準（１００％）として、得た異常放電発生比率の結果を表３に示す。
表３に示すように、本発明の製造方法によれば、従来の製造方法に比べてＭｏＣｒターゲット材中の酸素含有量を大幅に低減でき、パーティクルの発生量を抑制する効果があることが確認できた。
【００３４】
【表３】
2012237056.tif 000004
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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