(57)【要約】 【課題】  短時間で適切な照明設計を行う。【解決手段】  露光条件決定プログラムは、照明瞳を複数の領域に分割する第一ステップと、前記複数の領域の各々について、第１照明形状からの輝度変化と、輝度を変化させた場合の転写パターンの像性能評価量の変化との関係を示す像性能応答を算出する第二ステップと、前記像性能応答を用いて、前記像性能評価量が所定の範囲内となるような各領域の輝度変化量を求める第三ステップと、前記輝度変化量を前記第１照明形状に加えて第２照明形状を求める第四ステップと、前記第一〜第四ステップを、計算条件パラメータを変更して複数回実行して複数の第２照明形状を求め、前記複数の第２照明形状のいずれか１つを前記露光装置に設定する照明形状として選択するステップと、をコンピュータに実行させる。【選択図】  図１
2012169483.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光装置の照明形状を含む露光条件を決定するプログラムであって、
照明瞳を複数の領域に分割する第一ステップと、
前記複数の領域の各々について、第１照明形状からの輝度変化と、輝度を変化させた場合の転写パターンの像性能評価量の変化との関係を示す像性能応答を算出する第二ステップと、
前記像性能応答を用いて、前記像性能評価量が所定の範囲内となるような各領域の輝度変化量を求める第三ステップと、
前記輝度変化量を前記第１照明形状に加えて第２照明形状を求める第四ステップと、
前記第一ステップから第四ステップまでを、計算条件パラメータを変更して複数回実行し、各計算条件パラメータに対応する複数の第２照明形状を求め、前記第１照明形状との差分に基づいて、前記複数の第２照明形状のうちのいずれか１つを、前記露光装置に設定する照明形状として選択するステップと、
をコンピュータに実行させ、
前記像性能評価量として、露光量余裕度、焦点深度、パターン種類ごとの目標寸法、前記露光装置の投影レンズ収差に対する転写パターンの寸法変化の敏感度、補助パターン転写特性、マスク寸法誤差拡大因子、適正露光量の少なくともいずれか１つを用いることを特徴とする露光条件決定プログラム。
【請求項２】
露光装置の照明形状を含む露光条件を決定するプログラムであって、
照明瞳を複数の領域に分割する第一ステップと、
前記複数の領域の各々について、第１照明形状からの輝度変化と、輝度を変化させた場合の転写パターンの像性能評価量の変化との関係を示す像性能応答を算出する第二ステップと、
前記像性能応答を用いて、前記像性能評価量が所定の範囲内となるような各領域の輝度変化量を求める第三ステップと、
前記輝度変化量を前記第１照明形状に加えて第２照明形状を求める第四ステップと、
前記第一ステップから第四ステップまでを、計算条件パラメータを変更して複数回実行し、各計算条件パラメータに対応する複数の第２照明形状を求め、前記複数の第２照明形状のうち、前記第１照明形状との差分が最も小さい第２照明形状を前記露光装置に設定する照明形状として選択するステップと、
をコンピュータに実行させることを特徴とする露光条件決定プログラム。
【請求項３】
前記第１照明形状との差分に基づいて、前記複数の第２照明形状から、前記露光装置に設定する照明形状を選択することを特徴とする請求項２に記載の露光条件決定プログラム。
【請求項４】
所定の像性能との差に基づいて、前記複数の第２照明形状から、前記露光装置に設定する照明形状を選択することを特徴とする請求項２又は３に記載の露光条件決定プログラム。
【請求項５】
前記計算条件パラメータは、前記第１照明形状の変更、前記照明瞳の分割方式、前記像性能応答の計算方法の少なくともいずれか１つであることを特徴とする、請求項２乃至４のいずれかに記載の露光条件決定プログラム。
【請求項６】
前記照明瞳を複数の領域に分割するステップでは、前記照明瞳を直交格子状に分割し、
前記計算条件パラメータの変更は、前記照明瞳の分割ピッチ及び／又は分割位置の変更であることを特徴とする請求項２乃至４のいずれかに記載の露光条件決定プログラム。
【請求項７】
露光装置の照明形状を含む露光条件を決定するプログラムであって、
照明瞳を複数の領域に分割するステップと、
前記複数の領域の各々について、第１照明形状からの輝度変化と、輝度を変化させた場合の転写パターンの像性能評価量の変化との関係を示す像性能応答を算出するステップと、
前記像性能応答を用いて、前記像性能評価量が所定の範囲内となるような各領域の輝度変化量を求めるステップと、
前記輝度変化量を前記第１照明形状に加えて、前記露光装置に設定する第２照明形状を求めるステップと、
をコンピュータに実行させ、
前記像性能評価量は、前記第１照明形状との差分を示す照明変化指標を含むことを特徴とする露光条件決定プログラム。
【請求項８】
前記像性能評価量として、露光量余裕度、焦点深度、パターン種類ごとの目標寸法、前記露光装置の投影レンズ収差に対する転写パターンの寸法変化の敏感度、補助パターン転写特性、マスク寸法誤差拡大因子、適正露光量の少なくともいずれか１つを用いることを特徴とする請求項２乃至７のいずれかに記載の露光条件決定プログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、露光条件決定プログラムに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、照明形状を変更できる露光装置が知られており、半導体集積回路の製造における露光工程では、あらかじめ定められた照明形状を変形して、使用するマスクやプロセス条件に対して最適な照明形状を設計することが求められる。例えば、半導体集積回路に含まれる複数の転写パターンのうち重要なパターンについて、寸法及びプロセス誤差余裕度が所望の値となるように、露光シミュレーションにより照明形状を設計していた。このような手法では、シミュレーションで考慮されていない転写パターンについて十分な転写性能が得られていないことが判明すると、転写性能が十分でなかった転写パターンを計算条件に組み込んで、再度、照明形状が設計されていた。
【０００３】
しかし、考慮する転写パターンの数が増えると、照明設計に要する時間が長くなるという問題があった。また、半導体集積回路に含まれる全ての転写パターンを考慮して照明形状を設計することは、膨大な計算量を必要とするため、現実的でない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００２−２６１００４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、短時間で適切な照明設計を行うことができる露光条件決定プログラムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本実施形態によれば、露光条件決定プログラムは、照明瞳を複数の領域に分割する第一ステップと、前記複数の領域の各々について、第１照明形状からの輝度変化と、輝度を変化させた場合の転写パターンの像性能評価量の変化との関係を示す像性能応答を算出する第二ステップと、前記像性能応答を用いて、前記像性能評価量が所定の範囲内となるような各領域の輝度変化量を求める第三ステップと、前記輝度変化量を前記第１照明形状に加えて第２照明形状を求める第四ステップと、前記第一〜第四ステップを、計算条件パラメータを変更して複数回実行して複数の第２照明形状を求め、前記複数の第２照明形状のいずれか１つを前記露光装置に設定する照明形状として選択するステップと、をコンピュータに実行させる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る露光条件決定装置のハードウェア構成図である。
【図２】露光装置の一例を示す図である。
【図３】同第１の実施形態に係る露光条件決定プログラムを実行することで実現される機能ブロック図である。
【図４】同第１の実施形態に係る露光条件決定方法を説明するフローチャートである。
【図５】照明瞳の分割例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
【０００９】
（第１の実施形態）図１に本発明の第１の実施形態に係る露光条件決定装置のハードウェア構成を示す。露光条件決定装置１００は、ＣＰＵ（中央演算処理装置）１１０、ディスク装置１２０、メインメモリ１３０、及び入出力部１４０を備える。露光条件決定装置１００の各部はバス１５０を介して接続されている。露光条件決定装置１００は、図２に示す露光装置２００の照明形状が可変な光源２１０について、露光処理時に使用するマスク２２０のパターンに適した照明形状を決定する。
【００１０】
図１に示すディスク装置１２０は、ＣＰＵ１１０により実行される露光条件決定プログラムを格納する。さらに、ディスク装置１２０は、マスクパターン（マスク２２０のパターン）、マスクパターンに対応した光源２１０の初期照明形状、及び基板２３０上のレジスト２４０に転写される転写パターンについての情報を格納している。ディスク装置１２０は例えばハードディスクである。なお、露光条件決定プログラムは、ディスク装置１２０でなく、ＲＯＭや磁気テープ（共に図示せず）に格納されていてもよい。
【００１１】
ＣＰＵ１１０は、ディスク装置１２０内の露光条件決定プログラムをメインメモリ１３０にロードして、露光条件決定プログラムを実行する。このとき、ディスク装置１２０内の初期照明形状、マスクパターン、及び転写パターンをメインメモリ１３０にロードするようにしてもよい。
【００１２】
図３に、ＣＰＵ１１０が露光条件決定プログラムを実行することで実現される機能ブロック図を示す。露光条件決定プログラムの実行により、分割部１１１、ベクトル計算部１１２、像性能判定部１１３、及び選択部１１４が実現される。
【００１３】
分割部１１１、ベクトル計算部１１２、像性能判定部１１３、及び選択部１１４において実行される処理を、図４に示すフローチャートと共に説明する。
【００１４】
（ステップＳ１０１）分割部１１１が光源２１０の照明瞳を複数の微小領域に分割する。例えば、分割部１１１は、図５（ａ）に示すように、照明瞳を直交格子状に分割する。
【００１５】
（ステップＳ１０２）ベクトル計算部１１２が、考慮する転写パターンの像性能を評価する指標となる像性能評価量をＭ種類（Ｍは１以上の整数）選択する。像性能評価量は、例えば、露光量余裕度（ＥＬ）、焦点深度（ＤＯＦ）、パターン種類ごとの目標寸法（ＣＤ）、投影レンズ収差に対する寸法変化の敏感度（Zernike sensitivity：ＺＳ）、補助パターン転写特性（Sraf Printability Factor：ＳＰＦ）、マスク寸法誤差拡大因子（ＭＥＥＦ）、適正露光量（Ｅｏｐ）である。ここで、ＣＤ、ＺＳ、ＳＰＦ、ＭＥＥＦは、考慮する転写パターンのそれぞれに対して定義される量である。ＥＬ及びＤＯＦは、考慮する転写パターンのそれぞれに対して定義してもよいし、複数ないし全部の転写パターンに共通する量（共通ＥＬ、共通ＤＯＦ）として定義してもよい。またＥｏｐは、転写パターンの種類（数）に関係なく、1つの値が定められる。
【００１６】
そして、ベクトル計算部１１２は、露光シミュレーションにより、ステップＳ１０１で分割されたＮ個（Ｎは２以上の整数）の微小領域の各々について、像性能応答ｓｍｎを計算する。像性能応答ｓｍｎは、第ｎ番目（ｎは１≦ｎ≦Ｎを満たす整数）の微小領域の初期照明からの輝度変化ΔＩｎと、第ｍ番目（ｍは１≦ｍ≦Ｍを満たす整数）の像性能評価量ΔＩＰｍの変化との関係を示し、以下の数式１から求めることができる。
【数１】
2012169483.tif 000003
【００１７】
ここでＩＰｍは第ｍ番目の像性能評価量、Ｉｎは照明瞳の第ｎ番目の微小領域の輝度を示す。
2012169483.tif 000004
は近似を表し、ここでは厳密な意味での微分値の代わりに、差分値を使うとしている。
【００１８】
ベクトル計算部１１２は、第１番目から第N番目までの照明微小領域の各々について、第１番目から第M番目までの像性能評価量による像性能応答ｓｍｎを計算する。この計算により求められる像性能応答ｓｍｎは、以下の数式２のような行列Ｓで表すことができ、これを感度行列Ｓと呼ぶ。
【数２】
2012169483.tif 000005
【００１９】
（ステップＳ１０３）照明微小領域の輝度の変化と、像性能評価量の変化との関係は以下の数式３で表すことができる。
【数３】
2012169483.tif 000006
【００２０】
ここで、εｍは、像性能評価量の変化量ΔＩＰｍを輝度変化ΔＩｎと像性能応答ｓｍｎとの線型結合で近似したときの、変化量ΔＩＰｍの真の値と近似値との差（フィッティング残差）である。数式３は、以下の数式４のように書き換えることができる。
【数４】
2012169483.tif 000007
【００２１】
数式４におけるベクトルｙを像性能変化ベクトル、ベクトルｘを照明輝度変化ベクトル、ベクトルεを残差ベクトルと呼ぶことにする。また、初期状態におけるコスト関数Ｒを、以下の数式５のように定義する。
【数５】
2012169483.tif 000008
【００２２】
現状の像性能評価量が目標値と一致していればベクトルｙの要素はすべて０となり、コスト関数Ｒも０となる。現状の像性能評価量と目標値との差が大きい程、Ｒは大きな値をとる。
【００２３】
ベクトル計算部１１２は、像性能評価量とその目標値との差ΔＩＰ１〜ΔＩＰＭを所望の範囲内の値にするための輝度変化量ΔＩ１〜ΔＩＮの組み合わせを、最小二乗法を用いて求める。すなわち、数式４の像性能変化ベクトルｙに、ΔＩＰ１〜ΔＩＰＭの所望値からなるベクトルＹを代入したときに、残差ベクトルεの大きさを最小化する照明輝度変化ベクトルＸを求める。このような照明輝度変化ベクトルＸは以下の数式６で与えられる。
【数６】
2012169483.tif 000009
【００２４】
ここでＳｔ は行列Ｓの転置行列を表す。数式６の数値計算を実行する手法として、例えば、特異値分解法がある。得られたベクトルＸは、Ｍ次元の空間内でコスト関数Ｒの大きさを最も速く最小化する方向を表すことから、最急降下ベクトルと呼ぶ。
【００２５】
（ステップＳ１０４）ベクトル計算部１１２が、初期照明形状に対して、ステップＳ１０３で求めた最急降下ベクトルＸの定数倍を加え、コスト関数Ｒの変化を調べていく。すなわち、以下の数式７において、係数αを変えて照明形状Ｉを生成し、係数αを変えた複数の照明形状Iに対するコスト関数Ｒを計算する。
【数７】
2012169483.tif 000010
【００２６】
ここでＩ０は初期照明形状である。ベクトル計算部１１２は、例えば０≦α≦１の範囲において所定値刻みでαを変化させて照明形状Ｉを求め、コスト関数Ｒを計算する。αの探索範囲は、０≦α≦１が適当であるが、その外側まで広げても良い。この探索手法はＭ次元空間内で定義される直線上を探索するためラインサーチと呼ばれる。
【００２７】
ベクトル計算部１１２は、コスト関数Ｒが最小になる係数αを求め、そのときの照明形状Iを「改善照明」とする。
【００２８】
（ステップＳ１０５）像性能判定部１１３が、ステップＳ１０４で求められた改善照明のもとで、像性能が所望のものとなるか否かを判定する。例えば、像性能判定部１１３は、コスト関数Ｒが所定の閾値未満であるか否かを判定したり、個々の像性能評価量を計算し、すべての像性能評価量が所定の基準を満たしているか否かを判定したりする。
【００２９】
改善照明のもとで、像性能が所望のものとなる場合は、改善照明を最適化照明候補としてメインメモリ１３０に格納し、ステップＳ１０６へ進む。
【００３０】
一方、像性能が所望のものに到達しない場合はステップＳ１０２に戻り、ステップＳ１０４で求めた改善照明を初期照明に置き換えた上で、ステップＳ１０２〜Ｓ１０４の処理を再度実施する。ステップＳ１０３における最急降下ベクトルの算出と、ステップＳ１０４におけるラインサーチとを繰り返し実施する手法は、非線型の最適化問題を解く「最適勾配法（ＯＧＭ）」として知られている。
【００３１】
像性能変化ΔＩＰｍと輝度変化ΔＩｎとの関係が線型ではなく、２次以上の高次依存成分や、他の微小領域の輝度（ΔＩＰｍ＋１等）の影響を受ける交互作用等の影響により、最急降下ベクトルＸの変化では像性能が所望のものにならない場合がある。このような場合においても、本実施形態のように、ステップＳ１０２〜Ｓ１０４の処理を繰り返して、線型近似に基づく最適化の繰り返し計算を行うことで、最適化を行うことが出来る。
【００３２】
（ステップＳ１０６）メインメモリ１３０に格納されている最適化照明候補がｋ個（ｋは２以上の整数）未満の場合はステップＳ１０７へ進み、ｋ個であればステップＳ１０８へ進む。
【００３３】
（ステップＳ１０７）ステップS１０１〜Ｓ１０６における、１つないし複数の計算条件パラメータを変更し、ステップＳ１０１〜Ｓ１０６の処理を再度実施する。例えば、計算条件パラメータの変更として、分割部１１１における分割方式を変更してもよい。分割部１１１が、図５（ｂ）に示すような、図５（ａ）とは分割ピッチの異なる分割を行うようにする。分割方式の変更は、分割ピッチの変更だけでなく、分割位置の変更や、分割形状の変更でもよい。計算条件パラメータの別の例として、初期照明の形状を変更して第二の初期照明を作成し、ステップＳ１０２以降の計算で使用してもよい。所期照明の形状の変更は、手動で任意の形状に変更してもよいし、あるいはすでにステップＳ１０６で求めた最適化照明候補を選択してもよい。計算条件パラメータの別の例として、ステップＳ１０２における輝度変化ΔＩｎの大きさを変えてもよい。
【００３４】
ステップＳ１０１では、異なる分割方式で照明瞳が微小領域に分割される。分割方式の変更により、ステップＳ１０５で得られる最適化照明候補も変化する。
【００３５】
このようにして、ステップＳ１０１における分割方式が互いに異なるｋ個の最適化照明候補が得られる。
【００３６】
（ステップＳ１０８）選択部１１４が、メインメモリ１３０に格納されているｋ個の最適化照明候補の中から、初期照明との差異が最も小さいものを最適化照明として選択する。初期照明との差異を小さくすることで、露光シミュレーションにおいて考慮されていない転写パターンの像性能の劣化を抑えることができるためである。
【００３７】
例えば、選択部１１４は、初期照明と最適化照明候補との差分をとり、そのＲＭＳ（二乗平均平方根）を照明変化指標として算出する。そして、選択部１１４は、照明変化指標が最小となる最適化照明候補を最適化照明として選択する。
【００３８】
ここで、照明変化指標は、初期照明と最適化照明候補との差分のＲＭＳに限定されず、例えば、初期照明と最適化照明候補との間の輝度の相関係数（Ｃ）の線型変換量（１−Ｃなど）を用いてもよい。
【００３９】
選択部１１４により選択された最適化照明が露光装置２００の光源２１０に設定されて、露光処理が行われる。このような露光処理により、転写パターンの寸法精度及び形状の忠実度を向上させることができる。
【００４０】
このように、本実施形態によれば、露光シミュレーションにおいて考慮する転写パターンの数を増やすことがないため、比較的少ない計算回数で、短時間に、基板上に転写されるパターンの像性能を所望のものとするための照明形状の調節量を得ることが出来る。
【００４１】
従って、開発段階において、良好な寸法精度が得られる照明形状を短時間で設計でき、また、量産段階において、転写パターンの寸法精度及び形状の忠実度を短時間で向上できるため、量産のリードタイムを短縮できる。
【００４２】
また、量産段階において、露光装置間の転写性能差を抑制するための露光装置調整量を短時間で決定でき、かつ、像性能の経時変化を補正するための露光装置調整量を短時間で決定できるため、露光装置の停止時間を最小限にして、半導体デバイスの生産性を向上させることができる。
【００４３】
上記実施形態では、異なる種類の像性能評価量が同列に評価されることになるので、標準化したＩＰｍを使用することが望ましい。標準化ＩＰｍはＩＰｍ変化量／許容誤差で表すことができ、例えば、ＩＰｍがある転写パターンの露光量余裕度であって、ＩＰｍ変化量が１％、許容誤差が±０．２％である場合、標準化ＩＰｍは１／０．２＝５となる。
【００４４】
（第２の実施形態）上記第１の実施形態では、ステップＳ１０１における分割方式を変えて、複数の最適化照明候補を求め、その中から照明変化指標が最小のものを選択して最適化照明を求めていたが、照明変化指標を像性能評価量ＩＰｍとして予め考慮しておいてもよい。照明変化指標が大きくなると、コスト関数Ｒも増加する。
【００４５】
この場合、ステップＳ１０１における分割方式を変える必要はなく、１つの分割方式から求めた最適化照明候補をそのまま最適化照明とする。本実施形態では、ステップＳ１０５で求められる改善照明（最適化照明候補）は、照明変化指標が小さく抑えられたものとなるためである。本実施形態に係る露光条件決定方法のフローチャートは、図４に示すフローチャートのステップＳ１０６〜Ｓ１０８を省略したものに相当する。
【００４６】
なお、ステップＳ１０８において、初期照明との差異が同程度に小さい照明候補が複数得られる場合がある。その場合は、例えば、像性能が所望値に近い照明候補（所望状態との差が小さいもの）を選択することができる。
【００４７】
（第１及び第２の実施形態の第１変形例）上記第１及び第２の実施形態では、初期値の周りで最急降下ベクトルを探索し、その方向に沿って適切な解をさがす、いわゆる「勾配法」を用いた最適化の例を説明したが、これとは異なる最適化の方法を用いて、コスト関数Ｒが低減する状態を探索することが可能である。例えば遺伝的アルゴリズム、またはシミュレーテッド・アニーリング法に代表される、発見的最適化法を適用することができる。
【００４８】
遺伝的アルゴリズムとは、設計パラメータセットを「遺伝子」に見立て、初期状態から出発して、組み換え・突然変異などの操作を行って新たな遺伝子を生成するステップと、得られた遺伝子の中からコスト関数が小さい遺伝子を選択するステップと、を繰り返すことによって最適解を得る手法である。
【００４９】
シミュレーテッド・アニーリング法とは初期状態に対して乱数を用いて変化を発生させコスト関数を計算するステップと、新たな状態と元の状態の間でコスト関数の値を比較し、コスト関数の差に依存して定まる遷移確率に従って新たな状態を選択するステップと、を繰り返して最適解を得る手法である。
【００５０】
（第１及び第２の実施形態の第２変形例）図４に示すフローチャートのステップＳ１０４とステップＳ１０５との間に、マスクパターンの変形を行う工程を加えても良い。ピッチや形状の異なる複数種類の転写パターンの寸法を同時に所望の値にするためにマスク寸法を調節する手法としてＯＰＣ（Optical Proximity Correction：光近接効果補正）技術が知られており、このＯＰＣを用いる。
【００５１】
ステップＳ１０４において照明形状の変形によりピッチや形状の異なる複数種類の転写パターンの寸法も所望に修正されることが望ましいが、他の像性能の改善との両立の制約により、必ずしも十分な寸法補正ができない場合がある。このような場合に、ＯＰＣを行うことによって、転写パターンの寸法精度をさらに高めることが出来る。
【００５２】
上述した露光条件決定プログラムは、フレキシブルディスクやＣＤ−ＲＯＭ等の記録媒体に収納し、コンピュータに読み込ませて実行させてもよい。記録媒体は、磁気ディスクや光ディスク等の着脱可能なものに限定されず、ハードディスク装置やメモリなどの固定型の記録媒体でもよい。
【００５３】
また、露光条件決定プログラムを、インターネット等の通信回線（無線通信も含む）を介して頒布してもよい。さらに、同プログラムを暗号化したり、変調をかけたり、圧縮した状態で、インターネット等の有線回線や無線回線を介して、あるいは記録媒体に収納して頒布してもよい。
【００５４】
なお、本発明は上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。
【符号の説明】
【００５５】
１００  露光条件決定装置
１１０  ＣＰＵ
１１１  分割部
１１２  ベクトル計算部
１１３  像性能判定部
１１４  選択部
１２０  ディスク装置
１３０  メインメモリ
１４０  入出力部
２００  露光装置
２１０  光源
２２０  マスク
２３０  基板
２４０  レジストパターン
【図１】
2012169483.tif 000011
【図２】
2012169483.tif 000012
【図３】
2012169483.tif 000013
【図４】
2012169483.tif 000014
【図５】
2012169483.tif 000015