(57)【要約】【課題】チップＬＥＤの生産性、低コストの特徴を生かしたまま、高電力、高光出力のＬＥＤを提供する。【解決手段】少なくとも1個以上の半導体チップが搭載されたチップＬＥＤにおいて、  前記半導体チップのうち少なくとも1個は発光素子であり、  裏面に裏面金属層を備えている実装基板に表面側から前記裏面側に向けて凹部が形成されていると共に、当該凹部の底面および内壁面に金属層が形成されており、  前記発光素子は前記凹部の底面に形成されている前記金属層にダイボンドされていると共に、前記実装基板の表面に形成されている配線パターンにワイヤボンドされ、  前記凹部の底面に形成されている金属層は前記実装基板の裏面に形成されている裏面金属層と電気的に導通していて、前記裏面金属層が、前記発光素子で発生した熱が放熱される放熱経路を構成することを特徴とするチップＬＥＤ。【選択図】図３
2012169432.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも1個以上の半導体チップが搭載されたチップＬＥＤにおいて、
前記半導体チップのうち少なくとも1個は発光素子であり、
裏面に裏面金属層を備えている実装基板に表面側から前記裏面側に向けて凹部が形成されていると共に、当該凹部の底面および内壁面に金属層が形成されており、
前記発光素子は前記凹部の底面に形成されている前記金属層にダイボンドされていると共に、前記実装基板の表面に形成されている配線パターンにワイヤボンドされ、
前記凹部の底面に形成されている金属層は前記実装基板の裏面に形成されている裏面金属層と電気的に導通していて、前記裏面金属層が、前記発光素子で発生した熱が放熱される放熱経路を構成することを特徴とするチップＬＥＤ。
【請求項２】
前記凹部の深さが前記発光素子の厚さより大きい
ことを特徴とする請求項１記載のチップＬＥＤ。
【請求項３】
蛍光体を含むシリコーン樹脂で前記凹部を埋め、その外部をエポキシ樹脂で覆った
ことを特徴とする請求項１又は２記載のチップＬＥＤ。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項記載のチップＬＥＤをハンダ付けによってメタル基板に搭載する際に、前記裏面金属層が当該メタル基板のメタル部に同時にハンダ付けされていることを特徴とするＬＥＤモジュール。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はＬＥＤ等の発光ダイオードに関し、特に、ガラスエポキシ基板を実装基板としたチップＬＥＤに関する。
【背景技術】
【０００２】
チップＬＥＤは生産性に優れており、かつ安価に作れるＬＥＤであって、従来から小電力の表示素子として主に使用されていた。この場合、チップＬＥＤに流れる電流は２０ｍＡ程度であることがほとんどであった。
【０００３】
近年、液晶バックライトや照明用にＬＥＤが用いられることが多くなっている。しかし、液晶テレビのバックライトや照明用のＬＥＤは比較的大きな電流を流すため、従来のチップＬＥＤは、これらの用途にほとんど使用されていなかった。これは、比較的大きな電流が流れた場合、従来のチップＬＥＤはパッケージの熱抵抗が大きいために発熱して高温になり、発光効率が悪くなる、樹脂が変色する、寿命が短くなる等の問題があったためである。
【０００４】
また、液晶バックライトや照明用は白色発光が主で、ほとんどの場合、青色発光素子を、蛍光体を含む樹脂で覆い白色発光させている。そこで、このような用途には、リードフレームに反射ケースをインジェクションモールドしたＰＬＣＣ型のパッケージやセラミックパッケージが一般的に使用され、量産性に優れた安価なチップＬＥＤ型のパッケージは放熱性が悪い等の理由で使用されていなかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開昭６２−１１２３３３号公報
【特許文献２】特許第２９２７２７９号公報
【特許文献３】特許第３９００１４４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
図１を用いて従来の一般的なチップＬＥＤを説明する。
【０００７】
両面（表面と裏面）に銅箔をラミネートしたガラスエポキシ製の基板材１４にスルーホールをドリルで穴あけ加工し、無電解で銅をメッキし、パターン形成後、さらに電解或いは無電解で銅＋Ｎｉ＋Ａｕ、あるいは、銅＋Ｎｉ＋Ａｇのめっきを施して配線パターン９を形成して実装基板２が準備されている。
【０００８】
発光素子１（以後、ＬＥＤチップという）は配線パターン９上に銀ペースト（図中では不図示）でダイボンドされ、金線１０で配線パターン９にワイヤボンドされた後、エポキシ樹脂８でトランスファーモールドされる。
【０００９】
このような従来のチップＬＥＤの構造の場合、ＬＥＤチップ１で発生した熱はほとんどが銅箔（銅＋Ｎｉ＋Ａｕ、あるいは、銅＋Ｎｉ＋Ａｇのめっき）からなる配線パターン９を通して放熱される。しかし、使用されている銅箔は、メッキ層を含めても、通常３６μｍと薄いので、放熱効率はあまりよくない。
【００１０】
また、青色発光チップに蛍光体を混ぜたエポキシ樹脂で封止し白色系発光のチップＬＥＤを作る場合、短波長の光でエポキシ樹脂が黄変し、光出力が低下する問題がある。
【００１１】
光出力が小さいものでは、劣化も少ないので、あまり問題にならないが、光出力を大きくすると劣化が極めて早くなるという問題がある。
【００１２】
エポキシ樹脂で封止する前にチップ１の表面をシリコーン樹脂で覆うことで対策する方法もあるが、従来のチップＬＥＤの構造で実施するとシリコーン樹脂が流れて広がり、エポキシ樹脂の接着力を阻害するので、チップＬＥＤにおいては、あまり使用されていなかった。
【００１３】
この発明は、上述した従来のチップＬＥＤの問題を解決し、液晶テレビのバックライトや照明用に使用できるチップＬＥＤを提供することを目的にしている。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
請求項１記載の発明は、
少なくとも1個以上の半導体チップが搭載されたチップＬＥＤにおいて、
前記半導体チップのうち少なくとも1個は発光素子であり、
裏面に裏面金属層を備えている実装基板に表面側から前記裏面側に向けて凹部が形成されていると共に、当該凹部の底面および内壁面に金属層が形成されており、
前記発光素子は前記凹部の底面に形成されている前記金属層にダイボンドされていると共に、前記実装基板の表面に形成されている配線パターンにワイヤボンドされ、
前記凹部の底面に形成されている金属層は前記実装基板の裏面に形成されている裏面金属層と電気的に導通していて、前記裏面金属層が、前記発光素子で発生した熱が放熱される放熱経路を構成することを特徴とするチップＬＥＤ
である。
【００１５】
請求項２記載の発明は、
前記凹部の深さが前記発光素子の厚さより大きい
ことを特徴とする請求項１記載のチップＬＥＤ
である。
【００１６】
請求項３記載の発明は、
蛍光体を含むシリコーン樹脂で前記凹部を埋め、その外部をエポキシ樹脂で覆った
ことを特徴とする請求項１又は２記載のチップＬＥＤ
である。
【００１７】
請求項４記載の発明は、
請求項１〜３のいずれか一項記載のチップＬＥＤをハンダ付けによってメタル基板に搭載する際に、前記裏面金属層が当該メタル基板のメタル部に同時にハンダ付けされていることを特徴とするＬＥＤモジュール
である。
【発明の効果】
【００１８】
この発明によれば、液晶テレビのバックライトや照明用に使用できるチップＬＥＤを提供することができる。
【００１９】
この発明によれば、チップＬＥＤの生産性、低コストの特徴を生かしたまま、高電力、高光出力のＬＥＤを提供することができる。
【００２０】
この発明によれば、放熱性がよく、温度サイクルに対して強い高信頼性のＬＥＤモジュールを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】従来のチップＬＥＤの略式構造図であって、(ａ)は模式断面図、（ｂ）は封止樹脂部を略した略式平面図（以後「略式平面図」という）。
【図２】（ａ）〜（ｅ）は、本発明に使用する実装基板の加工工程の概略を説明するフロー図。
【図３】本発明のチップＬＥＤの略式構造図であって、(ａ)は模式断面図、（ｂ）は略式平面図。
【図４】本発明のチップＬＥＤを回路基板にハンダ付けした本発明のＬＥＤモジュールの模式断面図。
【図５】楕円形凹部に長方形チップを使用した場合の本発明のチップＬＥＤの略式平面図。
【図６】楕円形凹部に２個のチップを使用した場合の本発明のチップＬＥＤの略式平面図。
【図７】四角形凹部に四角チップを使用した場合の本発明のチップＬＥＤの略式平面図。
【図８】青色と赤色の２個のチップを２つの凹部に実装した場合の本発明のチップＬＥＤの略式平面図。
【図９】１チップに直列に複数個のダイオードを形成し、レーザカットでＶｆを調整できるようにした本発明のチップＬＥＤの回路図。
【図１０】従来のチップＬＥＤの構造の場合の放熱の具体的計算用略図。
【図１１】従来のチップＬＥＤの構造における熱の流れを示す図。
【図１２】本発明のチップＬＥＤの構造における熱の流れを示す図。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、添付図面を参照して本発明の好ましい実施形態を説明する。
【００２３】
図２（ａ）に示すごとく、両面（表面と裏面）に銅箔をラミネートしたガラスエポキシ製の基板材１４を用いる。基板材１４の裏面側に配備されている裏面金属層６に到達する凹部３を表面側から形成する（図２（ｃ））。
【００２４】
凹部３の底面及び内壁面に金属層５を形成する（図２（ｅ））。金属層５は、例えば、メッキによって形成する。
【００２５】
チップＬＥＤはスルーホール１１も必要なので、スルーホール１１と凹部３の底面及び内壁面に金属層５を同時に形成するのが効率的である（図２（ｅ））。
【００２６】
メッキ後、写真食刻法などによってパターンを形成したものをチップＬＥＤ用の実装基板２として使用する。
【００２７】
凹部３の底面に形成されている金属層５にＬＥＤチップ１を銀ペーストでダイボンドする（図３（ａ））。実装基板２の表面に形成されている配線パターンにワイヤボンドした後、樹脂封止を行って、図３（ａ）、（ｂ）図示の本発明のチップＬＥＤとする。
【００２８】
図３（ａ）、（ｂ）図示の本発明のチップＬＥＤの裏面金属層６を、回路基板１２にハンダ付けして本発明のチップＬＥＤを回路基板１２に実装すると、図４のごとく、ＬＥＤチップ１がダイボンドされた金属層５及び、金属層５の裏面側に位置する裏面金属層６が放熱用に利用される。すなわち、裏面金属層６が、ＬＥＤチップ１で発生した熱が放熱される放熱経路を構成する。これによって、ＬＥＤチップ１で発生した熱が主に裏面金属層６を通して放熱される点に本発明の特徴がある。このような本発明のチップＬＥＤによれば、従来に比べ数十倍の放熱効果を得ることができる。
【００２９】
また、青色チップを使用する場合に発生する樹脂の黄変の問題も凹部３を設けたことにより、当該凹部３に短波長で変色し難いシリコーン樹脂７を充填することが可能になり、これにより樹脂の黄変問題も大幅に改善することが可能になる。
【００３０】
以下、添付図面を参照して本発明の好ましい実施例を説明するが本発明は上述した好ましい実施の形態及び、以下の実施例に限られるものではなく、特許請求の範囲の記載から把握される技術的範囲において種々に変更可能である。
【実施例】
【００３１】
従来のチップＬＥＤと同じように、両面（表面と裏面）に銅箔をラミネートしたガラスエポキシ製の基板材１４を用いる（図２（ａ））。
【００３２】
ＬＥＤチップ１を搭載する側の面（表側の面）の銅箔１３をフォトエッチングにより開口する(図２（ｂ）)。
【００３３】
次に、開口して露出したガラスエポキシ製の基板材１４を、銅箔１３をマスクにしてレーザー加工で削り、凹部３を形成する(図２（ｃ）)。
【００３４】
凹部３はＬＥＤの光の反射を考え、凹部３の深さはＬＥＤチップ１の厚みより大きく、且つ開口部に向かって広がるように傾斜を設けた形状にすることが望ましい。
【００３５】
また、凹部３の底面４は基板材１４の裏面の銅箔、すなわち、裏面金属層６に達していることが重要である。
【００３６】
プラズマ処理で凹部３の底面４の裏面金属層６の表面側（図中、上側）をクリーニングした後、必要に応じて裏面金属層６の表側（図中、上側）の面の平滑処理を行う。凹部３の底面4は裏面金属層６を形成している電解銅箔の凹凸面なので、この凹凸がダイボンド時、問題になることがあるためである。このような時、キリンス処理等の銅表面の平滑処理を施せばよい。
【００３７】
次に、ドリル加工でスルーホール１１用の孔を形成し（図２（ｄ））、銅の無電解メッキによりスルーホール１１の側面と、凹部３の底面４及び傾斜面に形成されている内壁面１５にメッキが施される。
【００３８】
上述したように凹部３はＬＥＤの光の反射を考慮することが望ましいので、内壁面１５にメッキにより形成される金属層５は光の反射率が良い金属で形成することが望ましい。
【００３９】
例えば、凹部３の傾斜面に形成されている内壁面１５の表面を銀メッキ仕上げにすれば青色などの短波長に対する反射率がよくなり、光の取り出し効率を改善できる。
【００４０】
その後、フォトエッチングでパターンを形成し、銅＋Ｎｉ＋Ａuまたは銅＋Ｎｉ＋Ａｇメッキを施す。
【００４１】
こうにして、図２（ｅ）に示す、本発明に使用する実装基板２が完成する。
【００４２】
なお、Ａｇメッキは青色光に対する光の反射率がよいので、発光効率の点でメッキ表面はＡｕよりＡｇの方がよい。ただしＡｇはマイグレーションを起こし易いのと、硫化ガスと反応し黒く変色して、反射率が著しく低下するので、この点の考慮が必要になる。
【００４３】
マイグレーションに関しては、必要に応じて銀メッキ時にＰｄを少量添加することで改善可能である。使用前の硫化に関しては、梱包をドライ窒素ガス封入したアルミパック梱包とすることで改善できる。使用後の硫化に関しては、封止樹脂にガス透過率の低いエポキシ樹脂を使用することにより改善できる。
【００４４】
また、Ａｇの変わりにＡｌを使用することも可能である。Ａｌは蒸着でつけるので、スパッタリングを用いることができる。この場合、前記のＣｕ−Ｎｉ−Ａｕの換わりにＣｕ−Ｎｉメッキ後、Ａｌ蒸着を行うか、或いはＣｕメッキ後、Ｔｉ−Ａｌ蒸着を行うようにすることができる。
【００４５】
上述したように凹部３をレーザー加工で形成することにより、凹部３の形状は様々なものにすることができる。例えば、図３は、平面視で円状の凹部３に正方形のＬＥＤチップ1を搭載したものである。図５は、平面視で楕円状の凹部３に長方形のＬＥＤチップ１を搭載し、図６は、平面視で楕円状の凹部３に正方形のＬＥＤチップ１を２個搭載したものである。また、小型にするために、図７のごとく、ＬＥＤチップ１と同じ平面視で四角の凹部３にすることも可能である。
【００４６】
図８は青色のＬＥＤチップ１に蛍光体を載せたものと、赤色のＬＥＤチップ１´を載せた２in１パッケージのチップＬＥＤの例である。暖色系照明の場合、従来、青色チップに黄色と赤の蛍光体を載せているが、赤の蛍光体は価格が高く、また効率があまり良くない。赤の蛍光体の換わりに、図８図示のように、赤色のＬＥＤチップを使用した方が発光効率よくなる。すなわち、青色のＬＥＤチップ１は蛍光体で覆い、赤色のＬＥＤチップ１´は蛍光体で覆わない構造にしたものが図８に例示したものである。
【００４７】
この場合、青色のＬＥＤチップに黄色蛍光体で白色系にして、さらに赤色のＬＥＤチップで暖色系にする方法と、青色のＬＥＤチップに緑の蛍光体を載せ、更に、赤色のＬＥＤチップで、白色系、或いは暖色系にする方法がある。
【００４８】
このように青色と赤色の２チップを使用すれば、各々に流す電流を変化させることにより、照明の色温度を変えることが可能になります。
【００４９】
なお、赤色を凹部のない部分に組み立てることも可能であるが、凹部に組み立てることにより、放熱性が良くなり赤色チップの温度上昇を抑えることが出来る。
【００５０】
赤色は青色に比べ、高温での発光効率が悪くなるので、色バランスが崩れやすい問題があった。本発明によれば、赤色の温度上昇を抑えることにより、この点も改善可能である。
【００５１】
図３〜図８に応用例を示したが、必要に応じて、静電気対策としてツェナーダイオードチップをチップＬＥＤ内に実装することが当然に可能である。
【００５２】
照明は１００Ｖや２００ＶのＡＣ電源で使われる。ＬＥＤの順方向電圧（以後、Ｖｆという）は、青色で約３Ｖ、赤色で約２Ｖである。電力効率を上げるためにはＬＥＤを直列に並べＶｆを大きくする必要がある。
【００５３】
１つのチップ内に沢山のダイオードを形成すればＶｆをあげることが出来る。例えば、台湾Epistar社製ＨＶ−ＬＥＤはこのように１チップ内に沢山のＬＥＤを直列に形成して、Ｖｆが４５Ｖの製品を作っている。
【００５４】
このようにすれば小さいスペースでＬＥＤ照明の光源部分が作ることができる。
【００５５】
また、ＩｎＧａＮ系の青色チップはどうしてもＶｆのバラツキが大きくなるが、例えば１チップ４５Ｖ品の場合、１４個のダイオードを直列につないだものである。１４個も直列につなぐとＶｆのバラツキは大きくなる。Ｖｆの差が大きいと流れる電流も変わり、明るさにもバラツキが生じる。
【００５６】
このような問題を緩和するため、例えば図９に示すごとく、予め１個のダイオードの両端を配線１７でショートさせ、電気的テスト時に必要に応じて、ショートした配線１７をレーザートリミング等によりカットし、Ｖｆを１ダイオード分上げて、バラツキを調整することが出来る。
【００５７】
本発明のチップＬＥＤは液晶テレビや照明に使用される。図４に示すごとく、ハンダ１９を介して、回路基板１２にハンダ付けされる。なお、回路基板には、一般的に、アルミニウムまたは銅をベースとしたメタル基板１８が使用される。
【００５８】
ハンダ付けはハンダペーストを使用したリフロー法によって行われるが、本発明のチップＬＥＤをハンダ付けによってメタル基板１８に搭載する際に、ＬＥＤチップの裏面金属層６も同時に当該メタル基板１８のメタル部にハンダ付けすれば非常に放熱性の良いＬＥＤモジュールが完成する。
【００５９】
さらに、本発明のチップＬＥＤにおけるガラスエポキシ基板の熱膨張係数は１４〜１６×１０−６であって、メタル基板１８が銅の場合、その熱膨張係数は１６．８×１０−６、アルミニウムの場合、その熱膨張係数は２３×１０−６である。そこで、本発明のチップＬＥＤとメタル基板１８の熱膨張係数の差は小さく、上述した構造からなる本発明のＬＥＤモジュールは、温度サイクルに対し強い高信頼性のものとなる。
【００６０】
以下、本発明のチップＬＥＤの良好な放熱効率について、図１に図示した、従来のチップＬＥＤ３２１５タイプと比較して説明する。
【００６１】
前記で３２１５は外形サイズを示す。これを、図１０を用いて説明する。図１０は図１（ｂ）を略して、寸法等を付加したものである。
【００６２】
配線パターン９の寸法を図１０に示すようにした場合、ＬＥＤチップ１での発熱はほとんど配線パターン９を形成している銅箔を通して放熱される。ＬＥＤチップ1は銅箔からなる配線パターン９、封止用のエポキシ樹脂８と、ガラスエポキシ製の基板材１４に囲まれているが、熱伝導率の比較をすると銅＝３９８Ｗ／ｍｋ、樹脂がエポキシの場合０．２１Ｗ／ｍｋ、ガラスエポキシが０．４２Ｗ／ｍｋであることから、実際、図１１の矢印ごとく、熱は、銅箔からなる配線パターン９を伝わってほとんど放熱される。
【００６３】
簡易的に発熱源の中心をＬＥＤチップ１の中心（Ｙ−Ｙ´線）とし、封止樹脂、ガラスエポキシの放熱を無視して計算すると以下のようになる。
【００６４】
メッキ層を含む銅箔（配線パターン９）の膜厚：３６μｍ、０．５ｍｍ２のＬＥＤチップ１を使用し、１Ｗの電力を流した場合、ハンダ付け部ｂ点の温度とＬＥＤチップ１の温度との差はａ＋ｂ＝９８．７℃になる。
【００６５】
ＬＥＤチップ１の中心とａ点の温度差＝｛１．０×１０−３／（３６×１０−６×１．０×１０−３）｝×１／３９８＝６９．８℃
ａ点とｂ点の温度差＝｛０．６×１０−３／（３６×１０−６×１．５×１０−３）｝×１／３９８＝２７．９℃
本発明のチップＬＥＤは、従来と同様、熱は銅箔（配線パターン９）を通して流れる。裏面金属層６を形成する銅箔の厚みが１８μｍ、追加したメッキ厚が１８μｍとした場合、全体の銅箔の厚さは従来と同様に３６μｍになる。
【００６６】
本発明のチップＬＥＤにおいては、図１２の矢印のごとく熱はダイボンドした銅箔の真下を通して流れるので、ＬＥＤチップの中心とハンダ付け部ｃ点の温度差は次のようになる。
【００６７】
チップ中心とｃ点の温度差＝｛３６×１０−６／（０．５×０．５×１０−６）｝×１／３９８＝０．３６℃
周囲温度が２５℃とすると従来品はＬＥＤチップの温度は９７．７＋２５＝１２２．７℃、本発明の構造は２５＋０．３６＝約２６℃となる。
【００６８】
チップ温度はＬＥＤの寿命や発光効率に大きな影響を与える。また発光波長も変化するので、ＴＶ用のバックライト光源用途では大きな問題となる。またチップの接合温度の最大値は１２０℃前後で規定されているので、従来品では１Ｗの電力は流せないという結論になる。
【００６９】
以上は概算であるが、本発明の効果は明らかである。
【００７０】
実際のＬＥＤチップの発熱は接合で発熱し、銀ペースト→銀または金メッキ層→ニッケルメッキ層→銅メッキ層→銅箔を伝わって流れるが、ここでの温度上昇は３℃以下であり、微少である。また、前述したようにガラスエポキシおよび封止樹脂を通しての放熱も微々たるものであるので、ここでは省略した。
【００７１】
（白色ＬＥＤへの適用）
白色ＬＥＤは青色発光素子を、蛍光体を含む樹脂で覆い白色を出しているのが一般的である（参考：特許文献２）。
【００７２】
従来から、通常、ＬＥＤの封止樹脂にはエポキシ樹脂が用いられている。エポキシ樹脂は青色の短波長の光で劣化し変色することで寿命が短くなる。そこで、一般的に、変色し難いシリコーン樹脂でＬＥＤチップの表面をまず覆っている。
【００７３】
しかし、従来のチップＬＥＤの構造では、ＬＥＤチップを予めシリコーン樹脂で覆おうとすると、シリコーン樹脂が流れて広がってしまい使用困難であった。
【００７４】
そこで、従来は、蛍光体をエポキシ樹脂中に混ぜて使用していたが、青色の短波長光による樹脂変色を避けるため、小電力低光度のＬＥＤにしか適用できなかった(参考：特許文献３)。
【００７５】
本発明のチップＬＥＤでは、図３に示すごとく、凹部３に蛍光体を混ぜたシリコーン樹脂７を充填してＬＥＤチップ１を覆うことが出来る。更に、エポキシ樹脂８でトランスファーモールドできる。そこで、チップ表面の樹脂変色の問題を改善できる。
【００７６】
凹部３の金属層５の表面を銀メッキ仕上げにすれば青色などの短波長に対する反射率がよくなりで、光の取り出し効率を改善できる。
【００７７】
また、エポキシ樹脂８とシリコーン樹脂７の二重樹脂封止により信頼性の優れたものになる。すなわち、エポキシ樹脂８は吸湿するが透湿せず、シリコーン樹脂７は透湿するが吸湿しないというそれぞれの欠点が補完され、特徴が生かさる。
【００７８】
上述したように、銀メッキは硫黄と反応し、硫化銀という黒色の物質に変化し、光度を大幅に減少させる問題があるが、シリコーン樹脂のみで封止した場合、シリコーン樹脂はガスを通すので硫化ガスが入り問題を起こす可能性がある。これに対して、エポキシ樹脂との二重封止であればエポキシ樹脂がガスを通さないので、この問題を改善できる。
【符号の説明】
【００７９】
１    発光素子（ＬＥＤチップ）
２    実装基板
３    凹部
４    凹部の底面
５    金属層
６    裏面金属層
７    シリコーン樹脂
８    エポキシ樹脂
９    配線パターン
１０  金線
１１  スルーホール
１２  回路基板
１３  銅箔
１４  基板材
１５  凹部の傾斜している内壁面
１８  メタル基板
１９  ハンダ
【図１】
2012169432.tif 000003
【図２】
2012169432.tif 000004
【図３】
2012169432.tif 000005
【図４】
2012169432.tif 000006
【図５】
2012169432.tif 000007
【図６】
2012169432.tif 000008
【図７】
2012169432.tif 000009
【図８】
2012169432.tif 000010
【図９】
2012169432.tif 000011
【図１０】
2012169432.tif 000012
【図１１】
2012169432.tif 000013
【図１２】
2012169432.tif 000014
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月8日(2011.6.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも1個以上の半導体チップが搭載されたチップＬＥＤにおいて、
前記半導体チップのうち少なくとも1個は発光素子であり、
裏面に銅箔からなる裏面金属層を備えているガラスエポキシ樹脂製の実装基板に表面側から前記裏面側に向けて前記発光素子の厚さより深さが大きく、前記銅箔からなる裏面金属層に到達する凹部が形成されていると共に、当該凹部の底面および内壁面に銀メッキ仕上げされた金属層が形成されており、
前記発光素子は前記凹部の底面に形成されている前記金属層にダイボンドされていると共に、前記実装基板の表面に形成されている配線パターンにワイヤボンドされ、
蛍光体を含むシリコーン樹脂で前記凹部を埋め、その外部をエポキシ樹脂で覆い、
前記凹部の底面に形成されている前記金属層は前記実装基板の裏面に形成されている前記銅箔からなる裏面金属層と電気的に導通していて、前記裏面金属層が、前記発光素子で発生した熱が放熱される放熱経路を構成することを特徴とするチップＬＥＤ。
【請求項２】
請求項１記載のチップＬＥＤをハンダ付けによってメタル基板に搭載する際に、前記裏面金属層が当該メタル基板のメタル部に同時にハンダ付けされていることを特徴とするＬＥＤモジュール。
【手続補正書】
【提出日】平成23年10月19日(2011.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも1個以上の半導体チップが搭載されたチップＬＥＤにおいて、
前記半導体チップのうち少なくとも1個は青色の発光素子であり、
裏面に銅箔からなる裏面金属層を備えているガラスエポキシ樹脂製の実装基板に表面側から前記裏面側に向けて前記青色の発光素子の厚さより深さが大きく、前記銅箔からなる裏面金属層に到達する凹部が形成されていると共に、当該凹部の底面および内壁面に銀メッキ仕上げされた金属層が形成されており、
前記青色の発光素子は前記凹部の底面に形成されている前記金属層にダイボンドされていると共に、前記実装基板の表面に形成されている配線パターンにワイヤボンドされ、
蛍光体を含むシリコーン樹脂で前記凹部を埋め、その外部をエポキシ樹脂で覆い、
前記凹部の底面に形成されている前記金属層は前記実装基板の裏面に形成されている前記銅箔からなる裏面金属層と電気的に導通していて、前記裏面金属層が、前記青色の発光素子で発生した熱が放熱される放熱経路を構成することを特徴とするチップＬＥＤ。
【請求項２】
請求項１記載のチップＬＥＤをハンダ付けによってメタル基板に搭載する際に、前記裏面金属層が当該メタル基板のメタル部に同時にハンダ付けされていることを特徴とするＬＥＤモジュール。