(57)【要約】      （修正有）【課題】所定の試料を比色分析するのに適した、小型の分析試料保持装置及び試料分析装置を提供する。【解決手段】回折格子Ｇ１０１に侵入した分析光ｒ５は、回折格子Ｇ１０１によって分光され、分光された分析光ｒ６として、第１基材部１０１の表面Ｐ１０１に形成される分析光導出部Ａ１０１に向かって垂直に進行する。このように、生体試料分析チップの内部に回折格子Ｇ１０１を配置することによって、生体試料分析チップに投光する前に、白色光から所定波長の分析光を分光する必要がない。また、分析の項目に対応する所定波長の分析光を発光する光源を複数用意しておく必要もない。よって、分析装置を小型にすることができる。【選択図】図４
2012202881.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
分析光を用いて試料を分析する際に用いる分析試料保持装置であって、
前記分析試料保持装置は、
外部から内部に前記分析光を導入する分析光導入部、
前記内部から前記外部に前記分析光を導出する分析光導出部、
前記試料を保持する試料保持路であって、前記分析試料保持装置の前記内部に形成される試料保持路、
を有し
前記試料保持路は、
前記分析光導入部から導入された前記分析光を前記試料保持路に沿う方向に反射する導入反射部、
前記試料保持路を通過してきた前記分析光を前記分析光導出部の方向へ反射する導出反射部、
前記分析光を分光する分光部であって、前記導出反射部によって前記分析光導出部の方向へ反射された前記分析光を分光した後、前記分析光導出部へ導出する分光部、
を有すること、
を特徴とする分析試料保持装置。
【請求項２】
分析光を用いて試料を分析する際に用いる分析試料保持装置であって、
前記分析試料保持装置は、
第１基材部及び第２基材部を有し、
前記第１基材部は、
前記内部から前記外部に前記分析光を導出する分析光導出部であって、第１表面に配置される分析光導出部、
前記試料を保持する第１試料保持路であって、前記第１表面とは対向して位置する第２表面から内部に向かって凹状に形成される第１試料保持路、
を有し、
前記第２基材部は、
外部から内部に前記分析光を導入する分析光導入部であって、第３表面に配置される分析光導入部、
前記試料を保持する第２試料保持路であって、前記第３表面とは対向して位置する第４表面から内部に向かって凹状に形成される第２試料保持路、
を有し、
前記第１試料保持路は、
前記分析光導入部から導入された前記分析光を前記第１試料保持路に沿う方向に反射する第１反射部、
前記第１試料保持路に沿って進行してきた前記分析光を前記第２試料保持路の方向へ反射する第２反射部、
を有し、
前記第２試料保持路は、
前記第１試料保持路の方向から進行してきた前記分析光を前記第２試料保持路に沿う方向へ反射する第３反射部、
前記第２試料保持路に沿って進行してきた前記分析光を前記分析光導出部へ反射する第４反射部、
を有し、
前記第１基材部及び前記第２基材部は、
前記第２表面と前記第４表面とが対向するように配置され、前記第１試料保持路と前記第２試料保持路とが連続した試料保持路を形成し、
前記第１試料保持路は、
前記分析光を分光する分光部であって、前記導出反射部によって前記分析光導出部の方向へ反射された前記分析光を分光した後、前記分析光導出部へ導出する分光部、
を有すること、
を特徴とする分析試料保持装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に係る分析試料保持装置において、
前記分光部は、
回折格子であること、
を特徴とする分析試料保持装置。
【請求項４】
請求項１〜請求項３に係る分析試料保持装置のいずれかにおいて、
前記試料保持路は、
前記分析光から点光源を生成するための開口部を有すること、
を特徴とする分析試料保持装置。
【請求項５】
請求項１〜請求項４に係る分析試料保持装置のいずれかを用いて、前記分析試料保持装置に保持されている試料を分析する試料分析装置であって、
前記試料分析装置は、
前記分析試料保持装置に対して分析光を投光する分析光投光部、
前記分析試料保持装置から導出された分析光を受光する受光部、
を有し、
前記分析光投光部は、
前記分析光を投光する光源部、
前記光源部から投光された前記分析光を前記分析試料保持装置の前記分析光導入部へ反射する反射部、
を有すること、
を特徴とする試料分析装置。
【請求項６】
請求項５に係る試料分析装置において、
前記反射部は、
複数のマイクロプリズムが一体として形成されたものであること、
を特徴とする試料分析装置。
【請求項７】
請求項５又は請求項６に係る試料分析装置において、
前記光源部は、
白色光を投光すること、
を特徴とする試料分析装置。
【請求項８】
請求項５〜請求項７に係る試料分析装置のいずれかにおいて、
前記光源部は、
点光源であること、
を特徴とする試料分析装置。
【請求項９】
請求項５〜請求項８に係る試料分析装置のいずれかにおいて、
前記光源部は、
１つの光源を有すること、
を特徴とする試料分析装置。
【請求項１０】
請求項５〜請求項９に係る試料分析装置のいずれかにおいて、
前記光源部は、
複数の光源を有すること、
を特徴とする試料分析装置。
【請求項１１】
請求項５〜請求項９に係る試料分析装置のいずれかにおいて、
前記光源部は、
所定の波長を有する光を投光する複数の光源を有すること、
を特徴とする試料分析装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、所定の試料を分析する際に用いる分析試料保持装置及び試料分析装置に関し、特に、比色分析により分析するものに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の分析試料保持装置の一つである検体分析装置について、図１８を用いて説明する。図１８に示すように、検体分析装置では、光源ランプ１からの測定光２４はミラーＡ２、スリット３を介しグレーティング４に照射され分光される。グレーティング４は、パルスモータにより回され、分析に必要な波長を任意に選択できる。グレーティング４より分光された測定光２４がスリット３を介しミラーＢ５に照射されハーフミラー６に照射され、セル用検知器１６側と、リファレンス用検知器１７側に分光される。測定光による測定は、セル用検知器１６とリファレンス用検知器１７との比較により行う。比色分析部１００は、検体の分析が分光光度計測により行なわれる。電解質分析部２００は、検体の分析が電解質分析により計測される。これにより、分光光度計を用いた検体分析と、電解質分析の検体分析を行なうことができる。
【０００３】
比色分析部１００は、保温ブロック７、保温セル８、フローセル９、ペルチェ素子Ａ（熱源）１０、蓋体５０を有する。保温ブロック７は、銅を含む熱伝導性の良好な金属材料で形成されている。保温ブロック７は保温セル８が嵌め込まれる保温セル収納窪７０、フローセル９が嵌め込まれるフローセル収納窪７１を有する。保温セル８を保温セル収納窪７０に、フローセル９をフローセル収納窪７１に収納し、蓋体５０を保温ブロック７に取り付け、ネジ７２をすることにより、保温セル８とフローセル９は、保温ブロック７の内部に収納保持される。フローセル９は石英で形成され、検体を流通する検体流通孔７３が貫通するように形成されている。フローセル９には、検体流通孔７３に交差するように測定光が透過される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００７−６４８７９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
前述の検体分析装置には、以下に示すような改善すべき点がある。検体分析装置は、フローセル９に分析に適切な測定光２４を投光するために、ミラーＡ２、スリット３、グレーティング４、ミラーＢ５、ハーフミラー６といった構成を必要とする。このため、検体分析装置を小型化できない、という改善すべき点がある。
【０００６】
そこで、本発明は、安価な分析試料保持装置の提供を目的とする。また、本発明は、小型の分析装置の提供を目的とする。
【発明の効果】
【０００７】
本発明における課題を解決するための手段及び発明の効果を以下に示す。
【０００８】
本発明に係る分析試料保持装置は、分析光を用いて試料を分析する際に用いる分析試料保持装置であって、前記分析試料保持装置は、外部から内部に前記分析光を導入する分析光導入部、前記内部から前記外部に前記分析光を導出する分析光導出部、前記試料を保持する試料保持路であって、前記分析試料保持装置の前記内部に形成される試料保持路、有し、前記試料保持路は、前記分析光導入部から導入された前記分析光を前記試料保持路に沿う方向に反射する導入反射部、前記試料保持路を通過してきた前記分析光を前記分析光導出部の方向へ反射する導出反射部、前記分析光を分光する分光部であって、前記導出反射部によって前記分析光導出部の方向へ反射された前記分析光を分光した後、前記分析光導出部へ導出する分光部、を有すること、を特徴とする。
【０００９】
これにより、分析試料保持装置が分光部を有するので、分析試料保持装置を分析するための試料分析装置に分析光を投光するための複雑な光学系を配置する必要がない。したがって、資料分析装置の構成を簡略化すると共に、小型化することができる。
【００１０】
本発明に係る分析試料保持装置は、分析光を用いて試料を分析する際に用いる分析試料保持装置であって、前記分析試料保持装置は、第１基材部及び第２基材部を有し、前記第１基材部は、前記内部から前記外部に前記分析光を導出する分析光導出部であって、第１表面に配置される分析光導出部、前記試料を保持する第１試料保持路であって、前記第１表面とは対向して位置する第２表面から内部に向かって凹状に形成される第１試料保持路、
【００１１】
を有し、前記第２基材部は、外部から内部に前記分析光を導入する分析光導入部であって、第３表面に配置される分析光導入部、前記試料を保持する第２試料保持路であって、前記第３表面とは対向して位置する第４表面から内部に向かって凹状に形成される第２試料保持路、を有し、前記第１試料保持路は、前記分析光導入部から導入された前記分析光を前記第１試料保持路に沿う方向に反射する第１反射部、前記第１試料保持路に沿って進行してきた前記分析光を前記第２試料保持路の方向へ反射する第２反射部、を有し、前記第２試料保持路は、前記第１試料保持路の方向から進行してきた前記分析光を前記第２試料保持路に沿う方向へ反射する第３反射部、前記第２試料保持路に沿って進行してきた前記分析光を前記分析光導出部へ反射する第４反射部、を有し、前記第１基材部及び前記第２基材部は、前記第２表面と前記第４表面とが対向するように配置され、前記第１試料保持路と前記第２試料保持路とが連続した試料保持路を形成し、前記第１試料保持路は、前記分析光を分光する分光部であって、前記導出反射部によって前記分析光導出部の方向へ反射された前記分析光を分光した後、前記分析光導出部へ導出する分光部、を有すること、を特徴とする。
【００１２】
これにより、第１反射部〜第４反射部を有する分析試料保持装置が分光部を有するので、分析試料保持装置を分析するための試料分析装置に分析光を投光するための複雑な光学系を配置する必要がない。したがって、第１反射部〜第４反射部を有する分析試料保持装置を分析するための資料分析装置の構成を簡略化すると共に、小型化することができる。
【００１３】
本発明に係る分析試料保持装置では、前記分光部は、回折格子であること、を特徴とする。これにより、簡易な構成で分析光を分光することができる。また、簡単に分析光を分光することができる。
【００１４】
本発明に係る分析試料保持装置では、前記試料保持路は、前記分析光から点光源を生成するための開口部を有すること、を特徴とする。これにより、効率よく分析光を分光することができる。
【００１５】
本発明に係る試料分析装置のいずれかを用いて、前記分析試料保持装置に保持されている試料を分析する試料分析装置であって、前記試料分析装置は、前記分析試料保持装置に対して分析光を投光する分析光投光部、前記分析試料保持装置から導出された分析光を受光する受光部、を有し、前記分析光投光部は、前記分析光を投光する光源部、前記光源部から投光された前記分析光を前記分析試料保持装置の前記分析光導入部へ反射する反射部、を有すること、を特徴とする。
【００１６】
これにより、分光部を有する分析試料保持装置を分析するための試料分析装置に所定の分析光を投光するための複雑な光学系を配置する必要がない。したがって、資料分析装置の構成を簡略化すると共に、小型化することができる。
【００１７】
本発明に係る試料分析装置では、前記反射部は、複数のマイクロプリズムが一体として形成されたものであること、を特徴とする。
【００１８】
これにより、容易に分析光を面状光とすることができる。
【００１９】
本発明に係る試料分析装置では、前記光源部は、白色光を投光すること、を特徴とする。これにより、白色光を分光し、分光された所定波長の分析光を分析することによって、複数の分析項目に対応することができる。
【００２０】
本発明に係る試料分析装置では、前記光源部は、点光源であること、を特徴とする。これにより、試料分析装置を簡単な構成にできる。
【００２１】
本発明に係る試料分析装置では、前記光源部は、１つの光源を有すること、を特徴とする。これにより、試料分析装置を簡単な構成にできる。
【００２２】
本発明に係る試料分析装置では、前記光源部は、複数の光源を有すること、を特徴とする。これにより、分析光の照度を高めることができるので、効率よく分析することができる。
【００２３】
本発明に係る試料分析装置では、前記光源部は、所定の波長を有する光を投光する複数の光源を有すること、を特徴とする。これにより、分析項目に対応する所定波長の分析光を用いることができるので、複数の分析項目に対応することができる。
【００２４】
ここで、各請求項における構成要素と実施例における構成要素との対応関係を示す。分析試料保持装置は生体試料分析チップ１００に対応する。
【００２５】
分析光導入部は分析光導入開口Ａ１０５に、分析光導出部は分析光導出部Ａ１０１に、試料保持路は試料保持路Ｒ１００に、導入反射部は第１反射面Ｍ１０１に、導出反射部は第４反射面Ｍ１０４に、分光部は回折格子Ｇ１０１に、それぞれ対応する。
【００２６】
第１基材部は第１基材部１０１又は第１基材部モデルｍ１０１に、第２基材部は第２基材部１０３又は第２基材部モデルｍ１０３に、それぞれ対応する。
【００２７】
分析光導出部は分析光導出部Ａ１０１に、第１表面は第１基材部１０１の表面Ｐ１０１に、第１試料保持路は第１試料保持路Ｒ１０１又は第１空間ｒ１０１に、第２表面は第１基材部１０１の表面Ｐ１０２に、それぞれ対応する。
【００２８】
分析光導入部は分析光導入開口Ａ１０５に、第３表面は第２基材部１０３の表面Ｐ１０３に、第２試料保持路は第２試料保持路Ｒ１０３又は第２空間ｒ１０３に、第４表面は第２基材部１０３の表面Ｐ１０４に、それぞれ対応する。
【００２９】
第１反射部は第１反射面Ｍ１０１又は第１傾斜面ｓ１０１に、第２反射部は第２反射面Ｍ１０２又は第２傾斜面ｓ１０２に、第３反射部は第３反射面Ｍ１０３又は第３傾斜面ｓ１０３に、第４反射部は第４反射面Ｍ１０４又は第４傾斜面ｓ１０４に、それぞれ対応する。また、試料は血液に対応する。
【００３０】
開口部はスリットＳ１０４の円孔Ｈ１０４に対応する。
【００３１】
試料分析装置は分析装置１５０に、分析光投光部は投光部１５１に、受光部は受光部１５３に、それぞれ対応する。
【００３２】
光源部はＬＥＤ１６１、２６１、３６１〜３６７に、反射部はプリズムアレイ１６５に、それぞれ対応する。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】本発明に係る分析試料保持装置の一実施形態である生体試料分析チップ１００の斜視図である。
【図２】生体試料分析チップ１００の図１のＸＸ面における断面図である。
【図３】第４反射面Ｍ１０４のスリットＳ１０４を示す図である。
【図４】生体試料分析チップ１００における分析光の光路を示す図である。
【図５】分析装置１５０の概要構成を示す図である。
【図６】生体試料分析チップ１００の製造方法を示す図である。
【図７】生体試料分析チップ１００の製造方法を示す図である。
【図８】生体試料分析チップ１００の製造方法を示す図である。
【図９】生体試料分析チップ１００の製造方法を示す図である。
【図１０】生体試料分析チップ１００の製造方法を示す図である。
【図１１】生体試料分析チップ１００の製造方法を示す図である。
【図１２】分析試料保持装置の他の実施例を示す図である。
【図１３】分析試料保持装置の他の実施例を示す図である。
【図１４】分析装置の他の実施例を示す図である。
【図１５】分析試料保持装置の他の実施例を示す図である。
【図１６】分析試料保持装置の他の実施例を示す図である。
【図１７】分析試料保持装置の他の実施例を示す図である。
【図１８】従来の分析試料保持装置の一例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００３４】
以下、本発明の実施例について、図面を参照しながら詳細に説明していく。
【実施例１】
【００３５】
第１  構成
１．生体試料保持分析チップ１００の構成
本発明に係る分析試料保持装置の一実施例である生体試料分析チップ１００は、比色分析を用いた血液分析を行う際に用いるディスポーザブル・チップである。生体試料分析チップ１００を用いた血液の比色分析では、生体試料としての血液を混合した試薬を生体試料分析チップ１００の内部に蓄積し、蓄積した試薬に対して外部から内部に導入した分析光を透過させ、分析光の特定波長の光の透過率から試薬の発色度合いを定量化したうえで、血液の状態、ひいては人の健康状態を判断する。
【００３６】
生体試料分析チップ１００の構成について図１を用いて説明する。図１は斜め上方から見た生体試料分析チップ１００の斜視図を示している。生体試料分析チップ１００は、平面四角形、縦横の長さ３０ｍｍ、厚さ２００μｍの板形状を有している。なお、生体試料分析チップ１００の大きさについては、使用者が扱いやすい大きさであれば、例示のものに限定されない。
【００３７】
生体試料分析チップ１００は、第１基材部１０１、第２基材部１０３及びノイズカットマスク１０５を有している。第１基材部１０１、第２基材部１０３及びノイズカットマスク１０５は、下層からこの順番で配置されている。第１基材部１０１及び第２基材部１０３は、透明なポリマー物質、例えばポリカーボネイト、により形成されている。
【００３８】
また、ノイズカットマスク１０５は、クロム（Ｃｒ）、アルミニウム（Ａｌ）等の金属膜より形成されている。なお、ノイズカットマスク１０５は、スクリーン印刷により形成したカーボン膜等により形成してもよい。
【００３９】
生体試料分析チップ１００は、内部に並列に配置された複数の試料保持路Ｒ１００を有している。生体試料分析チップ１００に複数の試料保持路Ｒ１００を配置することによって、複数の分析項目について同時に分析することが可能となる。
【００４０】
試料保持路Ｒ１００は、第１反射面Ｍ１０１、第２反射面Ｍ１０２、第３反射面Ｍ１０３、及び第４反射面Ｍ１０４を有している。第１反射面Ｍ１０１〜第４反射面Ｍ１０４は、それぞれ、鏡面に加工されている。
【００４１】
ノイズカットマスク１０５は、外部から投光された分析光を選択的に内部に取り込むための分析光導入開口Ａ１０５を有している。これにより、外部から投光された分析光のうち分析に必要なもののみを内部に取り込むことができる。
【００４２】
なお、図１においては、複数配置される試料保持路Ｒ１００のうちの一つについてのみ番号を付している。
【００４３】
次に、図１におけるＸＸ断面を示す図２を用いて、生体試料分析チップ１００の内部を詳細に説明する。
【００４４】
生体試料分析チップ１００は、内部に試料保持路Ｒ１００を有している。試料保持路Ｒ１００は、生体試料及び生体試料を分析するための試薬を生体試料分析チップ１００の内部に保持するための空間である。
【００４５】
試料保持路Ｒ１００は、第１試料保持路Ｒ１０１、第２試料保持路Ｒ１０３を有している。
【００４６】
第１試料保持路Ｒ１０１は、第１基材部１０１の表面Ｐ１０２から内部に向かって凹状に形成されている。第１試料保持路Ｒ１０１は、上底が下底よりも長い台形の断面を有している。第１試料保持路Ｒ１０１の一の端部には、第１反射面Ｍ１０１が、他の一の端部には第２反射面Ｍ１０２が形成されている。
【００４７】
第１反射面Ｍ１０１及び第２反射面Ｍ１０２には、鏡面加工が施されている。これにより、分析光を効率よく反射することができる。また、第１反射面Ｍ１０１は、垂直上方から入射してきた分析光を、第１試料保持路Ｒ１０１に沿うように水平方向へ反射する。第２反射面Ｍ１０２は、水平方向から入射してきた分析光を、第２試料保持路が存在する垂直上方へ反射する。
【００４８】
また、第１試料保持路Ｒ１０１の底部には回折格子Ｇ１０１が形成されている。回折格子Ｇ１０１は、第２試料保持路Ｒ１０３の第４反射面に対向する位置に配置される。これにより、回折格子Ｇ１０１は、生体試料分析チップ１００の内部を通過してきた分析光を分光して、外部に導出することができる。
【００４９】
第２試料保持路Ｒ１０３は、第２基材部１０３の表面Ｐ１０４から内部に向かって凹状に形成される。第２試料保持路Ｒ１０３は、三角形状の断面を有している。第２試料保持路Ｒ１０３の一の端部には、第３反射面Ｍ１０３が、他の一の端部には第４反射面Ｍ１０４が形成されている。第２試料保持路Ｒ１０３の第３反射面Ｍ１０３は、第１試料保持路Ｒ１０１の第２反射面Ｍ１０２に対向する位置に形成される。
【００５０】
第３反射面Ｍ１０３及び第４反射面Ｍ１０４には、鏡面加工が施されている。これにより、分析光を効率よく反射することができる。また、第３反射面Ｍ１０３は、第１試料保持路Ｒ１０１が存在する垂直下方から入射してきた分析光を、第２試料保持路Ｒ１０３に沿うように水平方向へ反射する。第４反射面Ｍ１０４は、第２試料保持路Ｒ１０３に沿って水平方向から入射してきた分析光を垂直下方へ反射する。
【００５１】
なお、第４反射面Ｍ１０４によって垂直下方へ反射された分析光は、第１基材部１０１の表面Ｐ１０１に形成される分析光導出部Ａ１０１を介して、生体試料分析チップ１００の外部へ導出される。
【００５２】
さらに、第４反射面Ｍ１０４上にはスリットＳ１０４が形成されている。第４反射面Ｍ１０４の第３反射面Ｍ１０３側から見た平面図を図３に示す。スリットＳ１０４は中央に小さい円孔Ｈ１０４を有している。スリットＳ１０４の円孔Ｈ１０４以外の領域では、分析光は通過できない。円孔Ｈ１０４を通過した分析光は、スリットＳ１０４の直下に配置されている第４反射面Ｍ１０４によって反射され、回折格子Ｇ１０１へと進行する。
【００５３】
試料保持路Ｒ１００は、第１基材部１０１の表面Ｐ１０２と第２基材部１０３の表面Ｐ１０４とが対向するように接合され、第１試料保持路Ｒ１０１と第２試料保持路Ｒ１０３とが連続することにより形成された空間である。
【００５４】
分析光導入開口Ａ１０５は、ノイズカットマスク１０５に対して垂直に入射した分析光のうち、分析に必要なものを生体試料分析チップ１００の内部に導入するための開口である。分析光導入開口Ａ１０５は、導入した分析光が第１基材部１０１の第１反射面Ｍ１０１に到達する位置に、つまり第１反射面Ｍ１０１の上方に形成される。
【００５５】
なお、第２基材部１０３には、試料保持部Ｒ１０５が形成される。試料保持部Ｒ１０５は、所定量の血液及び試薬を蓄積する。試料保持部Ｒ１０５は、ノイズカットマスク１０５に形成される分析光導入開口Ａ１０５に接続する。
【００５６】
生体試料分析チップ１００では、ノイズカットマスク１０５側から導入した分析光を、第１基材部１０１側へ導出する。これにより、分析光を投光するための光源部と、分析光の色度合いを定量化するためのセンサ部とを、生体試料分析チップ１００を挟んだ異なる位置に配置することができる。よって、光源部及びセンサ部を配置するにあたり、両者の干渉を考慮する必要がないので、自由に分析装置を設計することができる。
【００５７】
図４を用いて、第１反射面Ｍ１０１〜第４反射面Ｍ１０４を用いた分析光の光路について説明する。
【００５８】
ノイズカットマスク１０５の表面Ｓ１０５に対して垂直に入射した分析光ｒ０は、ノイズカットマスク１０５に形成される分析光導入開口Ａ１０５から、第２基材部Ｒ１０３の表面Ｐ１０３に形成される分析光導入部Ａ１０４を介して、生体試料分析チップ１００の内部に導入され、分析光ｒ１として、第１反射面Ｍ１０１に到達する。分析光ｒ１は、第１反射面Ｍ１０１によって反射され、分析光ｒ２として、第１試料保持路Ｒ１０１に沿って生体試料分析チップ１００の内部を水平に進行する。分析光ｒ２は、第２反射面Ｍ１０２によって反射され、分析光ｒ３として、第２試料保持路Ｒ１０３の方向に向かって垂直に進行する。分析光ｒ３、第３射面Ｍ１０３よって反射され、分析光ｒ４して、第２試料法事路Ｒ１０３に沿って生体試料分析チップ１００の内部を第４反射面Ｍ１０４の方向に向かって水平に進行する。分析光ｒ４は、第４反射面Ｍ１０４によって反射され、分析光ｒ５として、回折格子Ｇ１０１へ進入する。
【００５９】
回折格子Ｇ１０１に侵入した分析光ｒ５は、回折格子Ｇ１０１によって分光され、分光された分析光ｒ６として、第１基材部１０１の表面Ｐ１０１に形成される分析光導出部Ａ１０１に向かって垂直に進行する。
【００６０】
このように、生体試料分析チップ１００の内部に回折格子Ｇ１０１を配置することによって、生体試料分析チップ１００に投光する前に、白色光から所定波長の分析光を分光する必要がない。また、分析の項目に対応する所定波長の分析光を発光する光源を複数用意しておく必要もない。よって、従来の分析装置に比して分析等１５０を小型にすることができる。
【００６１】
また、分析光を生体試料分析チップ１００の内部において複数回反射させることによって、分析光ｒ２、分析光ｒ３、分析光ｒ４、分析光ｒ５の試料保持路Ｒ１００の内部の進行長さによって、最低限、比色分析に必要とされる量の分析光を吸収できる長さ（最低限長さ）を確保することが可能となる。
【００６２】
また、分析光を生体試料分析チップ１００の厚さ方向に反射させることによって、試料保持路Ｒ１００の幅を拡幅することなく、試料内部を通過する分析光の通過距離を延長することができる。これにより、複数の試料保持路Ｒ１００を並列に配置し、分析項目を複数にしつつ、生体試料分析チップ１００を小型化することができる。
【００６３】
２．分析装置の構成
次に、生体試料分析チップ１００に対応する分析装置１５０の構成の概略について図５を用いて説明する。ここで、図５Ａは分析装置１５０の簡易構成を、図５Ｂは投光部１５１の上面図を、それぞれ示している。図５Ａに示すように、分析装置１５０は、分析光を投光する投光部１５１、生体試料分析チップ１００から導出された分析光を受光する受光部１５３、及びチップ配置部１５５を有している。投光部１５１は、生体試料分析チップ１００に投光するための分析光を生成し、生体試料分析チップ１００の分析光導入開口Ａ１０５へ分析光を投光する。受光部１５３は、回折格子Ｇ１０１によって分光され、外部に導出された分析光を受光する。受光部１５３は、フォトダイオードを有しており、分光された分析光の色、強度を検出する。
【００６４】
チップ配置部１５５は、投光部１５１と受光部１５３の間に位置する。つまり、投光部１５１及び受光部１５３は、チップ配置部１５５を挟んで、上下に分離して配置される。チップ配置部１５５には、生体試料分析チップ１００が配置される。
【００６５】
以下において、投光部１５１の構成について説明する。投光部１５１は、分析光の光源となる発光ダイオード１６１（以下、ＬＥＤ１６１：LED/Light Emitting Diode）及び面状光生成部１６３を有している。ＬＥＤ１６１は、面状光生成部１６３の一端部に一つ配置される。したがって、一つのＬＥＤ１６１から投光された分析光が、プリズムアレイ１６５に投光される。ＬＥＤ１６１は、分析光として白色光を発光する。分析装置１５０で使用する生体試料分析チップ１００は内部に回折格子Ｇ１０１を有している。このため、生体試料分析チップ１００に投光する前に、白色光から所定波長の分析光を分光する必要がない。また、分析の項目に対応する所定波長の分析光を発光する光源を複数用意しておく必要もない。よって、従来の分析装置に比して分析等１５０を小型にすることができる。このような分析装置の小型化は、生体試料分析チップの小型化と相まって、分析装置の可搬性を向上させ、いつでもどこでも分析を行うことを可能とする。
【００６６】
面状光生成部１６３は、ガラスによって形成されている。また、面状光生成部１６３は、チップ配置部１５５に生体試料分析チップ１００を配置したときの分析光導入開口Ａ１０５に対応する位置にプリズムアレイ１６５を有している。
【００６７】
プリズムアレイ１６５は、ＬＥＤ１６１から投光された分析光を分析光導入開口Ａ１０５の方向へ反射する。また、図５Ｂに示すように、プリズムアレイ１６５は、複数のプリズムＰＲが平面上に一体として配置されるものである。よって、ＬＥＤ１６１から投光された分析光は、面状光となって、分析光導入開口Ａ１０５の方向へ反射される。分析光を面状光とすることによって、分析光を均一に、分析光導入開口Ａ１０５を介して、生体試料分析チップ１００の内部へ投稿することができる。
【００６８】
プリズムアレイ１６５は、面状光発生部１６３を構成するガラスをプリズム状に彫りこむことによって形成される。例えば、シリコンウェハ等にフォトリソグラフィやエッチング等の半導体加工技術を用いてマイクロサイズのプリズム状のアレイパターンを形成する。プリズム状のアレイパターンを形成したシリコンウェハを金型として、ガラスを用いてプリズムアレイ１６５を有する面状光生成部１６３を生成する。また、ナノ加工機などの切削ＮＣ加工技術を用いて、プリズムアレイの凹型の構造を掘り込むようにしてもよい。
【００６９】
第２  生体試料分析チップ１００の製造方法
生体試料分析チップ１００の製造方法について図６〜図１１を用いて説明する。本実施例における生体試料分析チップ１００の製造方法は、ポリカーボネイトを用いて生体試料分析チップ１００を製造するものである。ポリカーボネイトは安価な材料であり、また、ナノインプリントにより大量に製造することができる。よって、本実施例における生体試料分析チップ１００の製造方法は、生体試料分析チップ１００を安価に製造することを可能とする。
【００７０】
本実施例における生体試料分析チップ１００の製造方法は、モデル製造プロセス、金型製造プロセス、及び製品製造プロセスによって構成される。モデル製造プロセスでは、第１基材部１０１の鋳型を形成するための第１基材部モデル及び第２基材部１０３の鋳型を形成するための第２基材部モデルを製造する。金型製造プロセスでは、第１基材部モデル及び第２基材部モデルを用いて、第１基材部１０１及び第２基材部１０３をナノインプリントにより製造するための第１基材部金型及び第２基材部金型を製造する。製品製造プロセスでは、第１基材部金型及び第２基材部金型を用いて、第１基材部１０１及び第２基材部１０３を製造し、両者を接合することによって生体試料分析チップ１００を製造する。
【００７１】
以下において、各プロセスを説明する。
【００７２】
１．モデル製造プロセス
まず、生体試料分析チップ１００を形成するための第１基材部モデルｍ１０１の形成について説明する。
【００７３】
図６Ａに示すように、酸化炉においてシリコン（Ｓｉ）層Ｌ１０１上に酸化膜（ＳｉＯ２）によるマスク層Ｌ１０３を形成する。マスク層Ｌ１０３上にフォトレジストを塗布してレジスト層を形成した後、リソグラフィによりレジスト層に所定のパターンを形成する。
【００７４】
その後、エッチングにより、レジスト層に形成したパターンをマスク層Ｌ１０３に形成する。この際、図６Ｂに示すように、マスク層Ｌ１０３に第１開口ａ１０３を形成する。図７に示すように、第１開口ａ１０３は、横長の長方形形状を有している。
【００７５】
図６に戻って、マスク層Ｌ１０３をマスクとして異方性エッチングを施す。これにより、図６Ｃに示すように、シリコン層Ｌ１０１の表面ｐ１０２から内部に向かって凹状に形成された第１空間ｒ１０１を形成する。第１空間ｒ１０１では、一の端部に第１傾斜面ｓ１０１、他の一の端部に第２傾斜面ｓ１０２が形成される。第１傾斜面ｓ１０１及び第２傾斜面ｓ１０２は、シリコン層Ｌ１０１の上側からみて、内側に傾斜するように形成される。
【００７６】
このように、端部に第１傾斜面ｓ１０１及び第２傾斜面ｓ１０２を有し、表面ｐ１０２から内部に向かって狭小となる第１空間ｒ１０１を、異方性エッチングを用いて容易に形成することができる。なお、第１傾斜面ｓ１０１、第２傾斜面ｓ１０２の水平方向に対する傾斜角度α、βについては、異方性エッチングの際に使用する界面活性剤の添加濃度によって調整することができる。
【００７７】
次に、図６Ｄに示すように、マスク層Ｌ１０３を除去する。さらに、図６Ｅに示すように、異方性エッチングを用いて、シリコン層Ｌ１０１を所定の形状・大きさとすることによって、第１基材部モデルｍ１０１を形成する。
【００７８】
次に、生体試料分析チップ１００を形成するための第２基材部モデルｍ１０３の形成について説明する。第２基材部モデルｍ１０３の製造方法は、第１基材部モデルｍ１０１の製造法と同様である。ただし、第２試料保持路ｒ１０３を形成するに先立って形成する開口である第２開口ａ３０３の形状が第１基材部モデルｍ１０１の第１開口ａ１０３とは異なる。
【００７９】
図８Ａに示すように、酸化炉においてシリコン（Ｓｉ）層Ｌ３０１上に酸化膜（ＳｉＯ２）によるマスク層Ｌ３０３を形成する。マスク層Ｌ３０３上にフォトレジストを塗布してレジスト層を形成した後、リソグラフィによりレジスト層に所定のパターンを形成する。
【００８０】
その後、エッチングにより、レジスト層に形成したパターンをマスク層Ｌ３０３に形成する。この際、図８Ｂに示すように、マスク層Ｌ３０３に第２開口ａ３０３及び第３開口ａ３０５を形成する。図９に示すように、第２開口ａ３０３は、長方形形状であるが、水平方向の長さが第１開口ａ１０３よりも短い長方形形状を有している。第３開口ａ３０５についても同様である。
【００８１】
図８に戻って、マスク層Ｌ３０３をマスクとして異方性エッチングを施す。これにより、図８Ｃに示すように、シリコン層Ｌ３０３の表面ｐ１０４から内部に向かって凹状に形成される第２空間ｒ１０３を形成する。第２空間ｒ１０３は、一の端部に第３傾斜面ｓ１０３、他の一の端部に第４傾斜面ｓ１０４を有する。第３傾斜面ｓ１０３及び第４傾斜面ｓ１０４は、シリコン層Ｌ３０１の上面からみて、内側に傾斜するように形成される。このように、端部に第３傾斜面ｓ１０３及び第４傾斜面ｓ１０４有し、表面ｐ１０３から内部に向かって狭小となる第２空間ｒ１０２を、異方性エッチングを用いて容易に形成することができる。なお、第３傾斜面ｓ１０３、第４傾斜面ｓ１０４の水平方向に対する傾斜角度γ、δについては、異方性エッチングの際に使用する界面活性剤の添加濃度によって調整することができる。
【００８２】
第２空間ｒ１０３の形成と同様に、異方性エッチングにより、第３空間ｒ１０５を形成する。
【００８３】
次に、図８Ｄに示すように、マスク層Ｌ３０３を除去する。さらに、図８Ｅに示すように、異方性エッチングを用いて、シリコン層Ｌ３０１を所定の形状・大きさとすることによって、第２基材部モデルｍ１０３を形成する。
【００８４】
２．金型製造プロセス
次に、第１基材部モデルｍ１０1及び第２基材部モデルｍ１０３から、ナノインプリントに用いる金型を製造する金型製造部プロセスについて説明する。図１０Ａに示すように、第１基材部モデルｍ１０１に対して、ニッケルメッキを用いた電鋳技術を用いることによって、第１基材部鋳型Ｃ１０１を成形する。
【００８５】
次に、図１０Ｂに示すように、第１基材部鋳型Ｃ１０１の所定の位置に回折格子用の型ＣＧ１０１（以下、回折格子用型ＣＧ１０１）を形成し、第１基材部鋳型Ｃ２０１を形成する。ここで、回折格子用型Ｇ１０１の加工については、ナノ精度の加工機を用いることによって、第１基材部鋳型Ｃ１０１に直接的に回折格子用型Ｇ１０１を構成する凹凸を形成する。
【００８６】
次に、図１０Ｃに示すように、第２基材部モデルｍ１０３に対して、ニッケルメッキを用いた電鋳技術を用いることによって、第２基材部鋳型Ｃ１０３を成形する。
【００８７】
なお、ニッケルメッキを用いた電鋳技術については、一般的に用いられている電鋳技術を用いればよい。電鋳技術を用いることによって、第１基材部モデルｍ１０１における第１空間ｒ１０１、第１傾斜面ｓ１０１、第２傾斜面ｓ１０２を、精度良く、第１基材部１０１の第１試料保持路Ｒ１０１、第１傾斜面Ｓ１０１、第２傾斜面Ｓ１０２に、それぞれ再現することができる。第２基材部モデルｍ１０３における第２空間ｒ１０３、第３傾斜面ｓ１０３、第４傾斜面ｓ１０４、第３空間ｒ１０５についても同様に、精度良く、第２基材部１０３の第２試料保持路Ｒ１０３、第３傾斜面Ｓ１０３、第４傾斜面Ｓ１０４、試料保持部Ｒ１０５に、それぞれ再現することができる。
【００８８】
３．製品製造プロセス
次に、成形した第１基材部鋳型Ｃ２０１及び第２基材部鋳型Ｃ１０３を用いて生体試料分析チップ１００を製造する製品製造プロセスについて説明する。図１０Ｄに示すように、ポリカーボネイトを材料として、第１基材部鋳型Ｃ２０１を用いたナノインプリントにより第１基材部１０１を成形する。同様に、ポリカーボネイトを材料として、第２基材部鋳型Ｃ１０３を用いたナノインプリントにより第２基材部１０３を成形する。
【００８９】
図１１Ａに示すように、第１基材部１０１を成形した後、第１傾斜面Ｓ１０１、第２傾斜面Ｓ１０２に対して銀メッキ加工により鏡面加工を施し、それぞれ、第１反射面Ｍ１０１、第２反射面Ｍ１０２を形成する。これにより、分析光を効率よく反射させることができる。同様に、第２基材部１０３を成形した後、第３反射面Ｍ１０３、第４反射面Ｍ１０４を形成する。
【００９０】
図１１Ｂに示すように、第１反射面Ｍ１０１〜第４反射面Ｍ１０４を形成した後、第１基材部１０１の表面Ｐ１０２と第２基材部１０３の表面Ｐ１０４とが対向するように、第１基材部１０１及び第２基材部１０３を接合する。このとき、第１基材部１０１の第２傾斜面Ｍ１０２と、第２基材部１０３の第３傾斜面Ｍ１０３とが対向して位置するようにする。なお、接合に際しては、ポリカーボネイトを接合する際に一般的に用いられる接合技術を用いる。
【００９１】
その後、図１１Ｃに示すように、第２基材部１０３上にノイズカットマスク１０５を形成する。なお、ノイズカットマスク１０５は、薄板に貫通孔を加工したステンシルマスクを第２基材部１０３上に貼り付けて固定した後、その上から蒸着或いはスパッタにより所定の金属を成膜することによって形成する。これにより、ステンシルマスクの貫通孔部分のみに成膜することができる。なお、ノイズカットマスク１０５の形成については、スクリーン印刷やグラビア印刷を用いて、分析光導入開口Ａ１０５以外の領域に成膜するようにしてもよい。
【００９２】
このように、生体試料分析チップ１００を、第１試料保持路Ｒ１０１を有する第１基材部１０１と第２試料保持路Ｒ１０３を有する第２基材部１０３とに分割し、第１基材部１０１に端部に反射面を有し、第１基材部１０１に表面Ｐ１０２から内部に向かって狭小となる第１試料保持路Ｒ１０１を、第２基材部１０３に表面Ｐ１０４から内部に向かって狭小となる第２試料保持路Ｒ１０２を、それぞれ形成するようにしている。これにより、第１基材部鋳型Ｃ１０１及び第２基材部鋳型Ｃ１０３から第１基材部１０１、第２基材部１０３を取り出すことが可能となる。つまり、第１基材部鋳型Ｃ１０１及び第２基材部鋳型Ｃ１０３を用いて第１基材部１０１、第２基材部１０３を成型することが可能となる。よって、生体試料分析チップ１００を大量に、かつ、安価に製造することが可能となる。
【００９３】
また、生体試料分析チップ１００の内部に回折格子Ｇ１０１を形成するにあたって、第１基材部鋳型Ｃ１０１に回折格子用型ＣＧ１０１を加工している。開設格子用型ＣＧ１０１は容易に加工できるので、容易に開設格子用型ＣＧ１０１を有する第１基材部鋳型Ｃ２０１を形成することができる。
【００９４】
また、生体試料分析チップ１００を製造するにあたって、樹脂であるポリカーボネイトを用いるため、より安価に生体試料分析チップ１００を製造することが可能となる。
【００９５】
［その他の実施例］
（１）  生体試料  ：  前述の実施例１においては、生体試料として血液を用いたが、比色分析を用いて所定の分析を行えるものであれば、例示のものに限定されない。
【００９６】
（２）  ポリカーボネイト  ：  前述の実施例１においては、生体試料分析チップ１００の材料としてポリカーボネイトを用いたが、第１反射面Ｍ１０１〜第４反射面Ｍ１０４を形成することができ、分析光による比色分析に用いることができる材料であれば例示のものに限定されない。例えば、シクロオレフィンポリマー、ポリエチレンテレフタレート、ＰＭＭＡ（ポリメタクリル酸メチル樹脂）等であってもよい。
【００９７】
（３）  鋳型を用いた製造  ：  前述の実施例１においては、第１基材部鋳型Ｃ１０１及び第２基材部用鋳型Ｃ１０３を用いて、ナノインプリントにより第１基材部１０１及び第２基材部１０３を形成するとしたが、第１基材部鋳型Ｃ１０１及び第２基材部用鋳型Ｃ１０３を用いて第１基材部１０１及び第２基材部１０３を形成できるものであれば、例示のものに限定されない。例えば、射出成型、圧空成型、真空成型、ホットエンボッシング等を用いて形成するようにしてもよい。
【００９８】
（４）  第２試料保持路Ｒ１０３の形状  ：  前述の実施例１においては、第２試料保持路Ｒ１０３は、断面三角形状としたが、第３反射面Ｍ１０３及び第４反射面Ｍ１０４を有するものであれば、例示のものに限定されない。例えば、図１２に示すように、第１試料保持路Ｒ１０１と同様に、断面台形形状としてもよい。これにより、試料を通過する分析光の距離さらに延長することができる。なお、回折格子Ｇ１０１は、試料保持路Ｒ１０１の底面、第４反射面Ｍ１０４に対向する位置に配置する。
【００９９】
（５）  第１基材部モデルｍ１０１、第２基材部モデルｍ１０３  ：  前述の実施例１においては、第１基材部モデルｍ１０１及び第２基材部モデルｍ１０３を第１基材部鋳型Ｃ１０１、第２基材部鋳型Ｃ１０３を製造するためのモデルとして用いたが、第１基材部モデルｍ１０１、第２基材部モデルｍ１０３を接合して生体試料分析チップを製造するようにしてもよい。この場合、第１傾斜面ｓ１０１〜第４傾斜面ｓ１０４に鏡面加工を施すようにすればよい。
【０１００】
（６）  生体試料分析チップ１００の構成  ：  前述の実施例１においては、２つの機材部である第１基材部１０１、第２基材部１０３を接合することによって生体試料分析チップ１００を製造するとしたが、３つ以上の機材部を接合するようにしてもよい。例えば、図１３に示すように、第１基材部１０１、第２基材部１０３、及び第３基材部１１１を接合するようにしてもよい。この場合、第３基材部１１１に第３試料保持路Ｒ１１１及び第４試料保持路Ｒ１１３を形成するようにすればよい。なお、第３試料保持路Ｒ１１１は、第２反射面Ｍ１０２によって反射された分析光が第３反射面Ｍ１０３に進行できる位置に配置する。同様に、第４試料保持路Ｒ１１３は、第４反射面Ｍ１０４によって反射された分析光が分析光導出部Ａ１０１に進行できる位置に配置する。なお、回折格子Ｇ１０１は、試料保持路Ｒ１０１の底面、第４反射面Ｍ１０４に対向する位置に配置する。
【０１０１】
（７）分析装置１５０の投光部１５１における光源：前述の実施例１においては、分析装置１５０の投光部１５１には白色光を投光するＬＥＤ１６１が一つ、光源として配置されていたが、分析光を投光できるものであれば、例示のものに限定されない。例えば、図１６Ａに示すように、生体試料分析チップ１００が有する試料保持路Ｒ１００の数に対応して白色光を投光するＬＥＤ２６１を配置するようにしてもよい。図１４Ａにおいては、４つの試料保持路Ｒ１００に対して、４つのＬＥＤ２６１が配置されている。
【０１０２】
また、前述の実施例１においては、白色光を投光するＬＥＤ１６１を分析光の光源としたが、複数の分析項目に対応して複数の波長を含む分析光であれば、例示のものに限定されない。例えば、図１４Ｂに示すように、異なる波長を有する分析光をそれぞれ投光するＬＥＤ３６１〜ＬＥＤ３６７を配置し、投光することによって分析光を生成するようにしてもよい。
【０１０３】
（８）スリットＳ１０４  ：  前述の実施例１においては、スリットＳ１０４を第４反射面Ｍ１０４上に配置するとしたが、例示のものに限定されない。例えば、第２反射面Ｍ１０２、第３反射面Ｍ１０３上に配置するようにしてもよい。
【０１０４】
（９）生体試料分析チップ１００の構成：前述の実施例１においては、第１反射面Ｍ１０１〜第４反射面Ｍ１０４を有する生体試料分析チップ１００に回折格子Ｇ１０１を形成するとしたが、分析光導入部から導入された前記分析光を試料保持路に沿う方向に反射する導入反射部、試料保持路を通過してきた分析光を前記分析光導出部の方向へ反射する導出反射部を有する生体試料分析チップであれば、例示のものに限定されない。例えば、第１反射面Ｍ１０１及び第４反射面Ｍ１０４の２つの反射面のみを有するものであってもよい。
【０１０５】
（１０）空気孔  ：  前述の実施例１において、さらに、生体試料を試料保持路Ｒ１００に流入させやすくするために大気開放用の空気孔ＡＨを形成するようにしてもよい。図１５に空気孔ＡＨを形成した生体試料分析チップを示す。図１５Ａは、図２と同様に、生体試料分析チップ１００の試料保持路Ｒ１００における断面を示している。図１２Ｂ、図１５Ｄは図１５Ａにおける図２Ａの生体試料分析チップ１００のＰ−Ｐ断面を、図１５Ｃ、図１５Ｅは図２Ａの生体試料分析チップ１００の平面図の一部を、図１５Ｆ、図１５Ｈは図１５Ａにおける図２Ａの生体試料分析チップ１００の左側面図を、図１５Ｇ、図１５Ｉは図２Ａの生体試料分析チップ１００の底面図の一部を、それぞれ示している。
【０１０６】
図１５Ｂ、図１５Ｃは、第２基材部１０３に、第２基材部１０３からノイズカットマスク１０５に向かう空気孔ＡＨを形成した状態を示している。図１５Ｄ、図１５Ｅは、第１基材部１０１に、第１基材部１０１の底面に向かう空気孔ＡＨを形成した状態を示している。図１５Ｆ、図１５Ｇは、第２基材部１０３に、第２基材部１０３から左側面に向かう空気孔ＡＨを形成した状態を示している。図１５Ｈ、図１５Ｉは、第１基材部１０１に、第１基材部１０１の側面に向かう空気孔ＡＨを形成した状態を示している。ここで、空気孔の形成については、試料保持路Ｒ１００に生体試料を導入し易くするものであれば、例示のものに限定されない。
【０１０７】
なお、空気孔ＡＨの形成にあたっては、例えば、第１基材部１０１を形成した後（図８Ｃ参照）、形成した第１基材部１０１に対してＣＯ２レーザやＹＡＧレーザによって孔形成加工を施したり、所定の金型により空気孔ＡＨの打ち抜き加工を施したりすればよい。
【０１０８】
（１１）回折格子Ｇ１０１の位置：前述の実施例１においては、回折格子Ｇ１０１は生体試料分析チップ１００内部の第１試料保持路Ｒ１０１に配置されたが、分析光を分光できる位置であれば、例示のものに限定されない。例えば、図１６に示すように、生体試料分析チップ１００の第１基材部１０１の下面Ｐ１０１に回折格子Ｇ１０１を形成するようにしてもよい。この場合、回折格子Ｇ１０１と生体試料とが互いに接触することを防止することができる。よって、回折格子Ｇ１０１の目詰まり等、不具合の発生を防止することができる。
【０１０９】
（１２）分光手段：前述の実施例１においては、回折格子Ｇ１０１によって分析光を分光するとしたが、分析光を分光できるものであれば、例示のものに限定されない。例えば、回折格子Ｇ１０１に代えてプリズムを形成してもよい。この場合、図１７Ａに示すように、生体試料分析チップ１００の第１基材部１０１の第１試料保持路Ｒ１０１の下面の第４反射面Ｍ１０４に対向する領域にプリズムＰＲ１を形成するようにしてもよい。この場合、第１基材部１０１の第１試料保持路Ｒ１０１の下面のうち、第４反射面Ｍ１０４に対向する領域を所定の傾斜面とする。同様に、図１７Ｂに示すように、第１基材部１０１の下面Ｐ１０１の第４反射面Ｍ１０４に対向する領域にプリズムＰＲ３を形成するようにしてもよい。
【０１１０】
さらに、図１７Ｃに示すように、第１基材部１０１の下面Ｐ１０１の第４反射面Ｍ１０４に対向する領域に、回折格子（グレーティング）及びプリズムの機能が一体となったグリズムＧＲを形成するようにしてもよい。
【産業上の利用可能性】
【０１１１】
本発明に係る分析試料保持装置は、例えば、血液を比色分析によって分析する際に用いるディスポーザブル・チップとして用いることができる。また、本発明に係る分析装置は、例えば、血液を比色分析によって分析する際に用いるディスポーザブル・チップを分析対象とする分析装置として用いることができる。
【符号の説明】
【０１１２】
１００・・・・・生体試料分析チップ
Ｒ１００・・・・試料保持路
１０１・・・・・第１基材部
Ｍ１０１・・・第１反射面
Ｍ１０２・・・第２反射面
Ｒ１０１・・・第１試料保持路
Ａ１０１・・・分析光導出部
Ｐ１０１・・・表面
Ｐ１０２・・・表面
１０３・・・・・第２基材部
Ｍ１０３・・・第３反射面
Ｍ１０４・・・第４反射面
Ｒ１０３・・・第２試料保持路
Ａ１０４・・・分析光導入部
Ｐ１０３・・・表面
Ｐ１０４・・・表面
Ｇ１０１・・・・回折格子
１５０・・・・・分析装置
１５１・・・・・投光部
１６１・・・・光源部
１６３・・・・面状光生成部
１６５・・・・プリズムアレイ
１５３・・・・・受光部
１０５・・・・・ノイズカットマスク
Ａ１０５・・・分析光導入開口
Ｃ１０１・・・・第１基材部鋳型
Ｃ２０１・・・・第１基材部鋳型
Ｃ１０３・・・・第２基材部鋳型
ｍ１０１・・・・・第１基材部モデル
ｓ１０１・・・第１傾斜面
ｓ１０２・・・第２傾斜面
ｒ１０１・・・第１空間
ｍ１０３・・・・第２基材部モデル
ｓ１０３・・・第３反射面
ｓ１０４・・・第４反射面
ｒ１０３・・・第２空間
【図１】
2012202881.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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