(57)【要約】【課題】複数の受光素子により大画面化を図りつつ、信頼性を向上させることができる放射線検出器を提供する。【解決手段】本発明に係る放射線検出器１は、放射線の入射面５ａ及び出射面５ｂを有するフレキシブル性の支持基板５と、出射面５ｂに結晶成長させられた複数の柱状結晶Ｈからなり、放射線の入射によって光を生じさせるシンチレータ層６と、シンチレータ層６を覆うと共に、複数の柱状結晶Ｈの間に充填される防湿性保護層７と、シンチレータ層６と対向するように並べられ、シンチレータ層６で生じた光を検出する受光素子８Ａ〜８Ｄと、を備える。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射線の入射面及び出射面を有するフレキシブル基体と、
前記出射面に結晶成長させられた複数の柱状体からなり、前記放射線の入射によって光を生じさせるシンチレータ層と、
前記シンチレータ層を覆うと共に、前記複数の柱状体の間に充填される防湿性保護層と、
前記シンチレータ層と対向するように並べられ、前記シンチレータ層で生じた光を検出する複数の受光素子と、
を備えることを特徴とする放射線検出器。
【請求項２】
前記フレキシブル基体は、高分子フィルムからなることを特徴とする請求項１に記載の放射線検出器。
【請求項３】
前記フレキシブル基体は、矩形板状の四隅が直線でカットされてなることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の放射線検出器。
【請求項４】
前記複数の受光素子に対して前記シンチレータ層と反対側に配置され、前記複数の受光素子を支持する基台を更に備えたことを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれか一項に記載の放射線検出器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、放射線の検出に利用される放射線検出器に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、放射線検出器として、放射線を光に変換するシンチレータ層を支持する支持基板に高分子フィルムを採用したものが知られている（例えば、特許文献１参照）。この特許文献１に記載された放射線フラットパネルディテクターは、高分子フィルムからなる支持基板と、支持基板上に形成された柱状結晶からなるシンチレータ層と、基板及びシンチレータ層を包み込む防湿性保護フィルムと、シンチレータ層に対して支持基板と反対側に配置され、シンチレータ層で生じた光を受光面で検出する受光素子と、を備えている。また、支持基板として樹脂製の基板を採用した放射線検出器が知られている（例えば、特許文献２参照）。
【０００３】
更に、放射線検出器として、検出器を大画面化するため複数の受光素子をタイル状に並べて配置した放射線検出器が知られている（例えば、特許文献３〜６参照）。また、シンチレータ層を形成する柱状結晶の間に保護膜が充填された放射線検出器が知られている（例えば、特許文献７参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】国際公開ＷＯ２００８／０１８２７７号パンフレット
【特許文献２】特開２００４―６１１１５号公報
【特許文献３】特開２０００―１３１４４４号公報
【特許文献４】特開平９―２５７９４３号公報
【特許文献５】特開平９―２６０６２６号公報
【特許文献６】特開２００１―７４８４６号公報
【特許文献７】特開２０００―０９８４７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、特許文献１に記載の放射線フラットパネルディテクターでは、フレキシブル性を有する高分子フィルムを支持基板として採用しているため、支持基板及びシンチレータ層を受光素子の受光面の形状に合うように変形させることが可能となる。この放射線フラットパネルディテクターでは、支持基板及びシンチレータ層を変形させることで、シンチレータ層と受光面との間隔を均一化し、放射線検出に係る解像度の向上を図っている。
【０００６】
しかしながら、この放射線フラットパネルディテクターにおいては、受光面側の形状変化が大きい場合、柔軟性に乏しいシンチレータ層が小さな角度で曲がることとなり、剥がれやすくなったり結晶が折れたりする等の不具合が生じるおそれがあった。特に、複数の受光素子をタイル状に並べて配置した場合において、隣り合う受光素子間に段差等があると、段差に沿った無理な変形がシンチレータ層に加えられ、結晶の破損等の不具合が生じることがあった。このような不具合は放射線検出器の信頼性の低下を招いてしまう。
【０００７】
そこで、本発明は、複数の受光素子を用いることで大画面化を図りつつ、信頼性を向上させることができる放射線検出器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するため、本発明に係る放射線検出器は、放射線の入射面及び出射面を有するフレキシブル基体と、出射面に結晶成長させられた複数の柱状体からなり、放射線の入射によって光を生じさせるシンチレータ層と、シンチレータ層を覆うと共に、複数の柱状体の間に充填される防湿性保護層と、シンチレータ層と対向するように並べられ、シンチレータ層で生じた光を検出する複数の受光素子と、を備えることを特徴とする。
【０００９】
本発明に係る放射線検出器によれば、複数の受光素子を用いているので、一つの受光素子を用いる場合と比べて、少ないコストで大画面化を実現することができる。しかも、この放射線検出器によれば、シンチレータ層を支持する部材として柔軟性のあるフレキシブル基体を採用しているので、隣り合う受光素子の間に段差がある場合でも、フレキシブル基体及びシンチレータ層を段差に追従して変形させることができる。これにより、段差の影響を抑えて受光素子及びシンチレータ層の間隔を均一化することができるので、放射線検出器の解像度の向上を図ることができる。更に、この放射線検出器では、シンチレータ層の柱状体の間に防湿性保護層が充填されているので、防湿性保護層が柱状体の間に充填されていない場合と比べて、シンチレータ層の曲げ変形に対する強度を向上させることができる。従って、この放射線検出器によれば、シンチレータ層の曲げ変形に対する強度を向上させることで、変形によるシンチレータ層６の破損等の不具合の発生を避けることできるので、放射線検出器の信頼性の向上を図ることができる。
【００１０】
本発明に係る放射線検出器においては、フレキシブル基体は高分子フィルムからなることが好ましい。
本発明に係る放射線検出器によれば、シンチレータ層を支持するための適切な強度及び柔軟性を有するフレキシブル基体を容易に製造することができる。また、他の材料と比べて設計変更も比較的容易である。
【００１１】
また、本発明に係る放射線検出器においては、フレキシブル基体は矩形板状の四隅が直線でカットされてなることが好ましい。
本発明に係る放射線検出器によれば、矩形板状のフレキシブル基体と比べて、曲げ変形による隅部のシワの発生を少なくすることができる。その結果、フレキシブル基体のシワの発生でシンチレータ層に歪み等の不具合が生じることを避けることができるので、放射線検出器の信頼性の向上を図ることができる。
【００１２】
また、本発明に係る放射線検出器においては、複数の受光素子に対してシンチレータ層と反対側に配置され、複数の受光素子を支持する基台を更に備えることが好ましい。
本発明に係る放射線検出器によれば、基台により複数の受光素子を確実に支持することができるので、放射線検出器の耐久性の向上を図ることができる。また、このことは、外部からの衝撃を受けた際に受光素子の位置関係にずれが生じて放射線検出器の性能が低下する可能性を低減させるので、放射線検出器の信頼性の向上に寄与する。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、複数の受光素子を用いることで大画面化を図りつつ、放射線検出器の信頼性の向上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明に係る放射線検出器の一実施形態を示す断面図である。
【図２】図１の放射線検出器を示す平面図である。
【図３】受光素子間の段差に対するシンチレータパネルの変形状態を示す拡大断面図である。
【図４】シンチレータパネルの外縁部の変形状態を示す拡大断面図である。
【図５】光検出部を示す平面図である。
【図６】シンチレータ層形成工程を説明するための断面図である。
【図７】シンチレータ層形成工程を説明するための斜視図である。
【図８】保護膜形成工程を説明するための断面図である。
【図９】接着工程を説明するための断面図である。
【図１０】変形工程を説明するための断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明の好適な実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、各図において同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する説明を省略する。また、各図面における寸法、形状、構成要素間の大小関係は実際のものとは必ずしも同一ではない。
【００１６】
図１及び図２に示されるように、本実施形態に係る放射線検出器１は、Ｘ線等の放射線を検出するためのものであり、例えばＰＥＴ［Positron  Emission  Tomography］装置やＣＴ［Computed  Tomography］装置に用いられる。放射線検出器１は、シンチレータパネル２、光検出部３、及び接着剤層４を備えている。
【００１７】
シンチレータパネル２は、Ｘ線等の放射線を光に変換するパネルである。シンチレータパネル２は、支持基板５、シンチレータ層６、及び防湿性保護層７を備えている。支持基板５は、例えば高分子フィルムからなるフレキシブル性を有する基板である。支持基板５を構成する高分子としては、例えばポリイミドがある。また、支持基板５は、Ｘ線等の放射線を透過させる放射線透過基板である。支持基板５は、放射線が入射する入射面５ａと入射した放射線が出射される出射面５ｂとを有している。
【００１８】
支持基板５は、矩形板状の四隅が直線でカットされてなる部材である。支持基板５は、シンチレータ層６を覆う薄皿形状に成形されている。すなわち、支持基板５の外周側には、出射面５ｂ側に傾斜する外縁部５ｃと外縁部５ｃの外側にフランジ状に設けられた対向端部５ｄとが形成されている。外縁部５ｃは、シンチレータ層６の側面６ｃに至っている。対向端部５ｄは、支持基板５の板厚方向で光検出部３と対向するように形成されている。
【００１９】
また、支持基板５は、８つの側面Ｓ１〜Ｓ８を有している。これらの側面Ｓ１〜Ｓ８は、矩形板状の四隅が直線でカットされることで形成される。第１の側面Ｓ１及び第２の側面Ｓ２は、互いに略平行な面である。また、第３の側面Ｓ３は、第１の側面Ｓ１に略直交する面である。第４の側面Ｓ４は、第１の側面Ｓ１に略直交すると共に第３の側面Ｓ３と略平行な面である。また、第５の側面Ｓ５は、第１の側面Ｓ１及び第３の側面Ｓ３を繋ぐ平面である。同様に、第６の側面Ｓ６は、第１の側面Ｓ１及び第４の側面Ｓ４を繋ぐ平面であり、第７の側面Ｓ７は、第２の側面Ｓ２及び第３の側面Ｓ３を繋ぐ平面である。第８の側面Ｓ８は、第２の側面Ｓ２及び第４の側面Ｓ４を繋ぐ平面である。
【００２０】
第１の側面Ｓ１〜第４の側面Ｓ４は、略同一の面積を有している。また、第５の側面Ｓ５〜第８の側面Ｓ８も、略同一の面積を有している。第１の側面Ｓ１〜第４の側面Ｓ４の面積は、第５の側面Ｓ５〜第８の側面Ｓ８の面積より大きい。支持基板５は、特許請求の範囲に記載のフレキシブル基体に相当する。
【００２１】
シンチレータ層６は、例えばＴｌ（タリウム）をドープしたＣｓＩ（ヨウ化セシウム）の柱状結晶Ｈから構成されている（図３及び図４参照）。シンチレータ層６は、蒸着法により支持基板５の出射面５ｂに複数の柱状結晶Ｈを成長させることで形成される。柱状結晶Ｈは、特許請求の範囲に記載の柱状体に相当する。
【００２２】
シンチレータ層６は、略四角錐台の形状をなしている。略四角錐台形状のシンチレータ層６は、互いに略平行な入射面６ａ及び出射面６ｂと、側面６ｃとを有している。シンチレータ層６の厚さは、２００μｍ程度である。
【００２３】
入射面６ａは、支持基板５を透過した放射線が入射する面である。入射面６ａは、支持基板５の出射面５ｂに沿って形成されている。出射面６ｂは、放射線の入射によってシンチレータ層６内で生じた光が出射される面である。出射面６ｂは、入射面６ａと反対側に形成されている。出射面６ｂは、入射面６ａよりも広い面積を有している。
【００２４】
側面６ｃは、入射面６ａ及び出射面６ｂに対して傾斜した面である（図４参照）。側面６ｃは、入射面６ａから出射面６ｂに向かうほど外側に傾斜する。また、側面６ｃは、支持基板５の外縁部５ｃによって覆われている。側面６ｃには、支持基板５を透過した放射線が入射する。
【００２５】
防湿性保護層７は、シンチレータ層６に水分が侵入することを防ぐための保護膜である。防湿性保護層７は、例えばポリパラキシリレンから形成されている。防湿性保護層７は、支持基板５及びシンチレータ層６の外側を覆っている。支持基板５及びシンチレータ層６は、防湿性保護層７によって密封されている。また、防湿性保護層７は、シンチレータ層６を構成する複数の柱状結晶Ｈの間に充填されている。換言すると、防湿性保護層７は、先端側から柱状結晶Ｈの間に入り込み、柱状結晶Ｈの根本（すなわち出射面５ｂ）まで至っている。防湿性保護層７は、柱状結晶Ｈのそれぞれを包み込んでいる。支持基板５及びシンチレータ層６は、防湿性保護層７で密封された状態でフレキシブル性を有している。すなわち、シンチレータパネル２はフレキシブル性を有している。
【００２６】
図１、図３〜図５に示されるように、光検出部３は、シンチレータ層６の出射面６ｂから出射した光を検出するイメージセンサである。光検出部３は、４つの受光素子８Ａ〜８Ｄ、マウント基板９、及び接着部１０を有している。
【００２７】
受光素子８Ａ〜８Ｄは、フォトダイオード等からなる光電変換素子である。受光素子８Ａ〜８Ｄは、矩形板状をなしている。受光素子８Ａ〜８Ｄは、受光面Ｒに入射した光を電気エネルギーに変換する。受光素子８Ａ〜８Ｄは、外部機器と電気的に接続するためのボンディングパッド部Ｐを有している。ボンディングパッド部Ｐは、複数のボンディングパッドから構成されている。受光素子８Ａ〜８Ｄは、ボンディングパッド部Ｐを通じて光電変換で生じた電気エネルギーを外部に出力する。
【００２８】
マウント基板９は、ガラス等の絶縁性素材からなる板状部材である。マウント基板９は、受光素子８Ａ〜８Ｄに対してシンチレータパネル２と反対側に配置されている。マウント基板９は、受光素子８Ａ〜８Ｄを支持する平面である支持面９ａを有している。マウント基板９は、シンチレータ層６と対向するように受光素子８Ａ〜８Ｄを支持する。マウント基板９は、特許請求の範囲に記載の基台に相当する。
【００２９】
受光素子８Ａ〜８Ｄは、マウント基板９の支持面９ａ上にタイリングされている。すなわち、受光素子８Ａ〜８Ｄは支持面９ａ上でタイル状に並べられている。受光素子８Ａ〜８Ｄは、各々の受光面Ｒが繋ぎ目部Ｃを挟んで大面積の受光面を形成するように配置されている。受光素子８Ａ〜８Ｄは、二つの辺が他の受光素子と隣接するように配置されている。受光素子８Ａ〜８Ｄは、支持面９ａ上で受光面Ｒがシンチレータ層６の出射面６ｂと対向するように配置されている。このように受光素子８Ａ〜８Ｄをタイリングした場合、受光素子８Ａ〜８Ｄの繋ぎ目部Ｃには、数十μｍ程度の段差が形成される場合がある（図３参照）。
【００３０】
マウント基板９の支持面９ａと受光素子８Ａ〜８Ｄとは、接着部１０によって接着固定されている。接着部１０は、樹脂製の接着剤からなり、支持面９ａ上に所定間隔で複数設けられている。
【００３１】
接着剤層４は、シンチレータパネル２と光検出部３とを接着する層である。接着剤層４は、例えば低透湿性樹脂製の接着剤から構成されている。接着剤層４は、防湿性保護層７を介してシンチレータ層６の出射面６ｂと接着している。また、接着剤層４は、防湿性保護層７を介して支持基板５の対向端部５ｄと接着している（図４参照）。接着剤層４は、防湿性保護層７を介して支持基板５及びシンチレータ層６と接着すると共に光検出部３の受光素子８Ａ〜８Ｄと接着することにより、光検出部３に対してシンチレータパネル２を接着固定している。
【００３２】
次に、本実施形態に係る放射線検出器１の製造方法について図６〜図１０を参照して説明する。
【００３３】
図６、支持基板５上にシンチレータ層６を形成するシンチレータ形成工程を説明するための図である。図７は、矩形板状の支持基板５の四隅をカットするカット工程を説明するための図である。図８は、防湿性保護層７を形成する保護膜形成工程を説明するための図である。図９は、光検出部３に対して支持基板５及びシンチレータ層６を接着する接着工程を説明するための図である。図１０（ａ）及び図１０（ｂ）は、支持基板５及びシンチレータ層６を変形させる変形工程を説明するための図である。具体的には、図１０（ａ）は、変形工程開始時のシンチレータパネル２の状態を示している。図１０（ｂ）は、変形工程終了時のシンチレータパネル２の状態を示している。
【００３４】
まず、図６に示すシンチレータ層形成工程において、支持基板５の出射面５ｂ上にシンチレータ層６を形成する。シンチレータ層形成工程においては、高分子フィルムからなる支持基板５を十分な剛性を持つ補強板に固定する。この段階では、支持基板５は矩形板状をなしている。その後、補強板と共に支持基板５を回転させた状態で、出射面５ｂ上にＴｌをドープしたＣｓＩを蒸着させることでシンチレータ層６が形成される。
【００３５】
シンチレータ層形成工程で形成されたシンチレータ層６は、出射面６ｂから入射面６ａに向かって末広がりの略四角錘台の形状をなしている。この段階のシンチレータ層６は、入射面６ａの面積の方が出射面６ｂの面積よりも大きく、側面６ｄの傾斜状態が図１の側面６ｃと異なる。側面６ｄは、出射面６ｂから入射面６ａに向かうほど外側に突出する。
【００３６】
その後、図７に示すカット工程において、矩形板状の支持基板５の四隅がカットされる。このカット工程により、支持基板５は矩形板状の四隅が直線でカットされてなる形状となり、支持基板５に８つの側面Ｓ１〜Ｓ８が形成される。なお、支持基板５は矩形板状の四隅が直線でカットされてなるとの表現は、形成前の形状が矩形板状である支持基板に限定する表現ではなく、形成前の形状がいかなるものであっても形成後の形状が矩形板状の四隅が直線でカットされてなるものであればこの表現に含まれる。
【００３７】
次に、図８に示す保護膜形成工程において、防湿性保護層７を形成する。保護膜形成工程では、シンチレータ層６が形成された支持基板５をＣＶＤ［Chemical  Vapor  Deposition］装置の蒸着室に入れる。そして、ポリパラキシリレンの原料を昇華させて得た蒸気中に支持基板５を露出させるＣＶＤ法により、支持基板５及びシンチレータ層６の外側を覆う防湿性保護層７を形成する。支持基板５及びシンチレータ層６は、防湿性保護層７に覆われた状態で十分なフレキシブル性を有している。この保護膜形成工程により、フレキシブル性を有するシンチレータパネル２が形成される。
【００３８】
続いて、図９に示す接着工程において、シンチレータパネル２を光検出部３に対して接着する。接着工程では、まず光検出部３の受光素子８Ａ〜８Ｄの表面に接着剤層４を形成する。接着剤層４の形成後、シンチレータ層６の出射面６ｂと受光素子８Ａ〜８Ｄの受光面Ｒとが対向するように、シンチレータパネル２を光検出部３に接着する。
【００３９】
その後、図１０（ａ）及び図１０（ｂ）に示す変形工程において、シンチレータパネル２を受光素子８Ａ〜８Ｄの表面に沿うように変形させる。この変形工程では、フレキシブル性を有する支持基板５及びシンチレータ層６を光検出部３に向けて加圧することにより変形させる。支持基板５及びシンチレータ層６は、加圧により図１０（ａ）に示す状態から図１０（ｂ）に示す状態に変形する。シンチレータ層６は、受光素子８Ａ〜８Ｄに密着するように変形する。
【００４０】
具体的には、シンチレータ層６では、側面６ｄが受光素子８Ａ〜８Ｄの受光面Ｒに押しつけられ、出射面６ｂと同一の面へと変形する。同時に、シンチレータ層６の入射面６ａの一部が変形して、側面６ｃが形成される。一方、支持基板５は、シンチレータ層６の変形に伴って、図１０（ａ）に示す平板形状から図１０（ｂ）に示す略浅皿状に変形する。この変形により、支持基板５の外周側に、外縁部５ｃ及び対向端部５ｄが形成される。
【００４１】
以上説明した各工程の実行後、接着剤層４を硬化させ、所定の仕上げ処理を施すことで図１に示す放射線検出器１が得られる。
【００４２】
続いて、本実施形態に係る放射線検出器１の作用効果について説明する。
【００４３】
本実施形態に係る放射線検出器１によれば、複数の受光素子８Ａ〜８Ｄを用いているので、一つの受光素子を用いる場合と比べて、少ないコストで大画面化を容易に実現することができる。しかも、この放射線検出器１によれば、シンチレータ層６を支持する支持基板５がフレキシブル性を有しているので、隣り合う受光素子８Ａ〜８Ｄの間に段差がある場合でも、支持基板５及びシンチレータ層６を段差に追従して変形させることができる。これにより、段差の影響を抑えて受光素子８Ａ〜８Ｄ及びシンチレータ層６の間隔を均一化することができるので、放射線検出器１の解像度の向上を図ることができる。
【００４４】
更に、この放射線検出器１では、シンチレータ層６の柱状体Ｈの間に防湿性保護層７が充填されているので、防湿性保護層７が柱状結晶Ｈの間に充填されていない場合と比べて、シンチレータ層６の曲げ変形に対する強度を向上させることができる。すなわち、シンチレータ層６が曲げ変形した場合であっても、防湿性保護層７が柱状結晶Ｈの間に充填されているので、柱状結晶Ｈ同士が接触して破損することを防ぐことができる。従って、この放射線検出器１によれば、シンチレータ層６の曲げ変形に対する強度を向上させることで、変形によるシンチレータ層６の破損等の不具合の発生を避けることできるので、放射線検出器１の信頼性の向上を図ることができる。
【００４５】
また、この放射線検出器１によれば、高分子フィルムを支持基板５として採用しているので、シンチレータ層６を支持するための適切な強度及び柔軟性を有する支持基板５を容易に製造することができる。また、他の材料と比べて設計変更も比較的容易である。
【００４６】
更に、この放射線検出器１では、矩形板状の四隅が直線でカットされてなる構成の支持基板５を採用しているので、矩形板状の支持基板を用いる場合と比べて、曲げ変形による隅部のシワの発生を少なくすることができる。その結果、支持基板５のシワの発生でシンチレータ層６に歪み等の不具合が生じることを避けることができるので、放射線検出器１の信頼性の向上を図ることができる。また、矩形板状の支持基板５の四隅をカットするだけで容易に成形することができる。
【００４７】
また、この放射線検出器１では、マウント基板９を備えることにより受光素子８Ａ〜８Ｄを確実に支持することができるので、放射線検出器１の耐久性の向上が図られる。また、このことは、外部からの衝撃を受けた際に受光素子８Ａ〜８Ｄの位置関係にずれが生じて放射線検出器１の性能が低下する可能性を低減させるので、放射線検出器１の信頼性の向上に寄与する。
【００４８】
本発明は、上述した実施形態に限定されるものではない。
【００４９】
例えば、シンチレータパネル２は、支持基板５及びシンチレータ層６の端部が一致する辺であるクリティカルエッジを有していても良い。クリティカルエッジは、例えば支持基板５の対向端部５ｄをカットすることで形成することができる。このように、カット等によりクリティカルエッジを形成することでシンチレータパネル２のサイズ選択の自由度を高めることができる。また、サイズの調整が容易になるので、同一サイズの製品の量産性向上が図られる。なお、クリティカルエッジは、複数形成しても良く、全ての辺をクリティカルエッジとしても良い。
【００５０】
また、支持基板５は高分子フィルム以外から構成されていても良い。また、マウント基板９を必ずしも備える必要はなく、例えば受光素子間は簡素な連結部材等により支持されている態様であっても良い。更に、受光素子の数は、４つに限られず、２個以上であれば良い。また、受光素子の配置も本実施形態のものに限られない。
【００５１】
また、シンチレータパネル２の形態も本実施形態のものに限られない。例えば、シンチレータパネル２は、複数の防湿性保護膜を備えていても良く、支持基板５側に光を反射する光反射層や光を吸収する光吸収層を備えていても良い。
【符号の説明】
【００５２】
１…放射線検出器  ２…シンチレータパネル  ３…光検出部  ４…接着剤層  ５…支持基板（フレキシブル基体）  ５ａ…入射面  ５ｂ…出射面  ５ｃ…外縁部  ５ｄ…対向端部  ６…シンチレータ層  ６ａ…入射面  ６ｂ…出射面  ６ｃ…側面  ６ｄ…側面  ７…防湿性保護層  ８Ａ-８Ｄ…受光素子  ９…マウント基板（基台）  ９ａ…支持面  １０…接着部  Ｈ…柱状結晶（柱状体）  Ｓ１-Ｓ８…側面  
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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