(57)【要約】【課題】  電解用アノード鋳造のターンテーブルでアノード鋳型の十分な温度管理を行ない、適切にアノード鋳型を冷却することにより、アノード鋳型の寿命を延ばし、所定の形状の電解用アノードを効率よく鋳造できるようにする。【解決手段】  剥取機１１により電解用アノードを剥ぎ取ったアノード鋳型２に離型剤散布部１２で離型剤を散布する前に表面温度計２１によりアノード鋳型２の温度を測定し、規定温度よりも高い温度のアノード鋳型２を上記検出処理部２２により検出しておき、次回の電解用アノード鋳造プロセスにおいて上記規定温度よりも高い温度のアノード鋳型２に電解用アノードを剥取機１１により剥ぎ取った直後に鋳型冷却部２３において散水冷却を行なうことにより、上記アノード鋳型２を規定温度まで確実に冷却し、ターンテーブル１上の各アノード鋳型２を個別に温度管理を行なう。【選択図】  図１
2012236206.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ターンテーブル上に複数のアノード鋳型を載置し、ターンテーブルを回転しつつ、溶融粗金属をアノード鋳型に鋳込む鋳込み工程と、上記アノード鋳型に鋳込まれた溶融粗金属を冷却する冷却工程と、上記冷却工程で冷却されたアノード鋳型から電解用アノードを剥ぎ取る剥取り工程と、上記電解用アノードが剥ぎ取られたアノード鋳型に離型剤を散布する離型剤散布工程を有する電解用アノード鋳造プロセスにしたがって電解用アノードを繰り返し鋳造する電解用アノード鋳造装置において、
剥取り工程で電解用アノードが剥ぎ取られたアノード鋳型に離型剤散布工程で離型剤を散布する前に上記アノード鋳型の表面温度を測定する測定手段と、
上記測定手段による測定結果に基づいて、規定温度よりも高い温度のアノード鋳型を検出する検出手段と、
上記検出手段による検出結果に基づいて、次回の電解用アノード鋳造プロセスにおいて上記規定温度よりも高い温度のアノード鋳型に鋳込み工程で鋳込んだ電解用アノードを剥取り工程で剥ぎ取った直後に、規定温度まで上記アノード鋳型の散水冷却を行なう冷却手段と
を備えることを特徴とする電解用アノード鋳造装置。
【請求項２】
上記規定温度を１５０〜１８０℃とし、アノード鋳型の表面温度が、鋳込み工程における溶融粗銅の鋳込み時に１１００〜１２００℃程度まで上昇し、冷却工程において冷却されることにより６５０℃程度まで降下し、さらに、剥取り工程において３５０℃程度まで降下した時点で電解用アノードがアノード鋳型から剥ぎ取られることにより離型剤散布工程の開始時点で１５０〜１８０℃となる温度変化を繰り返す温度プロファイルで、上記電解用アノード鋳造プロセスにしたがって電解用アノードを鋳造することを特徴とする請求項１記載の電解用アノード鋳造装置。
【請求項３】
ターンテーブル上に複数のアノード鋳型を載置し、ターンテーブルを回転しつつ、溶融粗金属をアノード鋳型に鋳込む鋳込み工程と、上記アノード鋳型に鋳込まれた溶融粗金属を冷却する冷却工程と、上記冷却工程で冷却されたアノード鋳型から電解用アノードを剥ぎ取る剥取り工程と、上記電解用アノードが剥ぎ取られたアノード鋳型に離型剤を散布する離型剤散布工程を有する電解用アノード鋳造プロセスにしたがって電解用アノードを繰り返し鋳造する電解用アノード鋳造装置におけるアノード鋳型の温度制御方法であって、
剥取り工程で電解用アノードが剥ぎ取られたアノード鋳型に離型剤散布工程で離型剤を散布する前に上記アノード鋳型の表面温度を測定する測定ステップと、
上記測定ステップにおける測定結果に基づいて、規定温度よりも高い温度のアノード鋳型を検出する検出ステップと、
上記検出ステップにおける検出結果に基づいて、次回の電解用アノード鋳造プロセスにおいて上記規定温度よりも高い温度のアノード鋳型に鋳込み工程で鋳込んだ電解用アノードを剥取り工程で剥ぎ取った直後に、規定温度まで上記アノード鋳型の散水冷却を行なう冷却ステップと
を有することを特徴とするアノード鋳型の温度制御方法。
【請求項４】
アノード鋳型の表面温度が、鋳込み工程における溶融粗銅の鋳込み時に１１００〜１２００℃程度まで上昇し、冷却工程において冷却されることにより６５０℃程度まで降下し、さらに、剥取り工程において３５０℃程度まで降下した時点で電解用アノードがアノード鋳型から剥ぎ取られることにより離型剤散布工程の開始時点で１５０〜１８０℃となる温度変化を繰り返す温度プロファイルで、上記電解用アノード鋳造プロセスにしたがって電解用アノードを鋳造する電解用アノード鋳造装置におけるアノード鋳型の温度制御方法であって、
上記規定温度を１５０〜１８０℃としたことを特徴とする請求項３記載のアノード鋳型の温度制御方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、銅製錬に代表される非鉄製錬プロセスにおける電解精製工程で使用される電解用アノードを鋳造する電解用アノード鋳造装置、及び、そのアノード鋳型の温度制御方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、例えば銅やニッケルなどの有価金属を含有する硫化精鉱のような非鉄金属原料から銅やニッケルといった有価金属を得るための非鉄製錬プロセスでは、原料を熔解し、酸素が溶け込んだ又は酸化した目的金属を作る酸化工程において、濃縮した目的金属を含む溶融状態にあるマットとスラグとに比重分離し、マットを次の還元工程において還元して粗金属とする。そして、得られた粗金属は、次の鋳造工程において電解用アノードの形状に鋳造され、電解精製工程で電解製錬が行なわれることにより、さらに純度の高い目的金属に仕上げられる。また、比重分離されたスラグは、水砕工程に装入され、砂あるいは砂利状に粉砕され、水砕スラグが製造される。水砕スラグは、コンクリート細骨材、ケーソン中詰め材として販売されている。
【０００３】
例えば、非鉄金属製錬の一例である銅製錬においては、銅製錬炉（熔錬炉）で銅原料を９８％程度の粗銅（熔体）にして、この粗銅をアノード形状に鋳造し、電解精製により純度の高い電気銅に仕上げられて製品となる。
【０００４】
電解精製工程では、ほぼ方形状のアノードとカソードが電解槽中に交互に装入され、電解製錬が行なわれる。アノードから溶け出した銅はカソード上に電着し、その後、電解製錬の終了したカソードは電解槽から引き上げられ、洗浄され、所定の枚数に結束され、製品として保管される。なお、製品形状や電解槽サイズにも関連するが、アノード及びカソードのサイズは、１０００ｍｍ〜１４００ｍｍ程度の方形に収まるサイズであるのが一般的である。
【０００５】
従来、銅製錬プロセスにおける電解精製工程で使用される電解用アノードは、ターンテーブル上に複数のアノード鋳型を載置し、ターンテーブルを間欠的に回転しつつ鋳込、冷却、剥取を行なう図７に示すような構成の銅アノード鋳造装置１００により鋳造されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００６】
この銅アノード鋳造装置１００は、ターンテーブル１の上に複数個のアノード鋳型２を載置して、これを矢印Ａの方向に間欠的に回転しつつ、鋳込、冷却、剥取を順次行なうように構成されている。
【０００７】
この銅アノード鋳造装置１００では、ターンテーブル１上に複数のアノード鋳型２が載置され、上記ターンテーブル１の回転によりアノード鋳型２が連続的に搬送される。
【０００８】
転炉で生産される粗銅は、脱硫、脱酸等の精製処理を行なうための精製炉４において精製されて、タップ樋１９、連絡樋５、溜樋６を介して計量樋３に供給される。
【０００９】
溶融粗銅鋳込み位置において、精製炉４から溜樋６に送られた溶融粗銅を、計量樋３によって一定量ずつのアノード鋳型２の中に傾注して鋳込み、冷却フード７内の冷却水散布配管８より冷却水を散布することによって鋳込まれた電解用アノード１５の冷却を行ない、鋳型冷却散水配管８ａより、ショルダー側を押し上げられた電解用アノード１５の下のアノード鋳型２に冷却水を散水しアノード鋳型２の冷却が行なわれる。冷却水散布配管８および鋳型冷却散水配管８ａには、制御弁９が設けられている。
【００１０】
上記冷却フード７内で冷却された電解用アノード１５は、アノード鋳型２に設けられた図示しない押し上げピンによって、そのショルダー部側が押し上げられる。
【００１１】
電解用アノード１５のショルダー部に溶湯が良好に行き渡らなかった際に生ずる不良アノードは、不良アノード剥取機１０により取り除かれる。そして、鋳造された電解用アノード１５は、剥取機１１によりショルダー部が引掛けられてアノード鋳型２から剥ぎ取られる。
【００１２】
電解用アノード１５をアノード鋳型２から剥ぎ取った後、アノード鋳型２には掃除作業が施されて、粉状、フレーク状の鋳屑、酸化銅、粘土などの鋳造残渣が除去され、離型剤散布部１２において、次の鋳込みを行なうための離型剤としての粘土水が散布され、充分に水分を蒸発させてから、溶融粗銅鋳込み位置まで回送され、新たな溶融銅が鋳込まれる。
【００１３】
銅アノード鋳造装置１００全体の運転、制御、監視を運転室１３において行なっている。
【００１４】
なお、上記アノード鋳型２は、図８に示すように、鋳造する電解用アノード１５の平滑な面を備えた厚みのある平板のアノード本体に対応する鋳込み面２０１、上記アノード本体の電解槽への懸架、及び、電解用の配線への接続のための２つの耳に対応する耳部（鋳込み面）２０２と、これらの外周に存在する外枠部２０３と、鋳込み面２０１の上方側に設けられた押上げピン用孔２０４とを備える。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１５】
【特許文献１】特開平７−３２０９０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
ところで、電解精製工程では、電解槽中に垂直に吊り下げられた状態で、電解用アノードとカソードとの間の距離すなわち極間距離が、向かい合う電解用アノードとカソードのどの部分においても等しく調整されていれば、局部的な電気抵抗の低下やショートを防止でき、安定的な操業が可能となるので、上記極間距離を等しくするために、電解用アノードの厚みが均一であり、その表面が平滑であり、かつ電解用アノードの外縁部に鋳張りや膨らみがない形状に鋳造する必要がある。
【００１７】
アノード鋳型の歪みは、鋳造を繰り返すことにより、徐々に大きくなる。大きくなったアノード鋳型の歪みにより、電解用アノード厚みが不均一となる程度も大きくなり、電解精製工程において局部的な電気抵抗の低下やショートが発生しやすくなるという操業上の問題が生ずる。
【００１８】
上述の如くターンテーブル１上に複数のアノード鋳型２を載置し、ターンテーブル１を間欠的に回転しつつ鋳込、冷却、剥取を行なう従来の銅アノード鋳造装置１００では、アノード鋳型２の表面温度が、溶融粗銅の鋳込み時における１１００〜１２００℃から、電解用アノード１５の剥ぎ取り後の離型剤散布時における１５０℃〜１８０℃まで変動する温度サイクルを繰り返すことにより安定的した操業状態となる温度プロファイルで歪みの発生が最小となるように鋳型の設計はなされる。通常、離型剤散布開始時には、離型剤が硫酸バリウムの場合には１５０℃程度に降下し、また、離型剤が粘土場合に１８０℃程度に降下していることを想定している。しかしながら、例えば離型剤散布時におけるアノード鋳型２の表面温度が低すぎると離型剤の水分が鋳込までに蒸発しきれず、鋳込み時に水分が突発的に蒸発し、沸きあがって、電解用アノード１５の外縁部、角部に膨れや鋳張りを生じさせるなどトラブルの虞がある。また、離型剤散布時におけるアノード鋳型２の表面温度が高すぎると蓄熱によりアノード鋳型２の変形や破損の虞がある。したがって、上記温度プロファイルを維持するように温度管理を行なう必要がある。また、温度管理が不十分だとアノード鋳型２の歪みは進行する。通常、図８に示すように対角線（Ａ，Ｂ）方向及び縦（Ａ，Ｂ）方向のゲージ測定で８ｍｍを越える歪みが発生したアノード鋳型２は、交換される。
【００１９】
従来、銅アノード鋳造装置１００における温度管理は、具体的には電解用アノード１５の冷却によって行ない、熱くなり過ぎたところを冷やすようにしているが、順番に回ってくるターンテーブル１上の鋳造中の電解用アノード１５の色やアノード剥ぎ取り後に散布される離型剤の乾き具合を作業員が目視で確認して、熱くなり過ぎた部分を見極める経験に頼る作業であり、バラツキが大きいという問題があった。
【００２０】
そこで、上述の如き従来の問題点に鑑み、本発明の目的は、電解用アノード鋳造装置のターンテーブルでアノード鋳型の十分な温度管理を行ない、適切にアノード鋳型を冷却することにより、アノード鋳型の寿命を延ばし、所定の形状の電解用アノードを効率よく鋳造できるようにした電解用アノード鋳造装置、及び、そのアノード鋳型の温度制御方法を提供することにある。
【００２１】
本発明の他の目的、本発明によって得られる具体的な利点は、以下に説明される実施の形態の説明から一層明らかにされる。
【課題を解決するための手段】
【００２２】
本発明では、上記課題を解決するために、ターンテーブル上に複数のアノード鋳型を載置し、ターンテーブルを回転しつつ鋳込、冷却、剥取を行なう電解用アノード鋳造装置において、電解用アノードを剥ぎ取ったアノード鋳型に離型剤を散布する前にアノード鋳型の温度を測定することにより、規定温度よりも高い温度のアノード鋳型を検出しておき、次回の電解用アノード鋳造プロセスにおいて上記規定温度よりも高い温度のアノード鋳型に鋳込んだ電解用アノードを剥ぎ取った直後に散水冷却を行なうことにより規定温度まで確実に冷却し、ターンテーブル上の各アノード鋳型を個別に温度管理を行なう。
【００２３】
すなわち、本発明は、ターンテーブル上に複数のアノード鋳型を載置し、ターンテーブルを回転しつつ、溶融粗金属をアノード鋳型に鋳込む鋳込み工程と、上記アノード鋳型に鋳込まれた溶融粗金属を冷却する冷却工程と、上記冷却工程で冷却されたアノード鋳型から電解用アノードを剥ぎ取る剥取り工程と、上記電解用アノードが剥ぎ取られたアノード鋳型に離型剤を散布する離型剤散布工程を有する電解用アノード鋳造プロセスにしたがって電解用アノードを繰り返し鋳造する電解用アノード鋳造装置において、剥取り工程で電解用アノードが剥ぎ取られたアノード鋳型に離型剤散布工程で離型剤を散布する前に上記アノード鋳型の表面温度を測定する測定手段と、上記測定手段による測定結果に基づいて、規定温度よりも高い温度のアノード鋳型を検出する検出手段と、上記検出手段による検出結果に基づいて、次回の電解用アノード鋳造プロセスにおいて上記規定温度よりも高い温度のアノード鋳型に鋳込み工程で鋳込んだ電解用アノードを剥取り工程で剥ぎ取った直後に、規定温度まで上記アノード鋳型の散水冷却を行なう冷却手段とを備えることを特徴とする。
【００２４】
また、本発明は、ターンテーブル上に複数のアノード鋳型を載置し、ターンテーブルを回転しつつ、溶融粗金属をアノード鋳型に鋳込む鋳込み工程と、上記アノード鋳型に鋳込まれた溶融粗金属を冷却する冷却工程と、上記冷却工程で冷却されたアノード鋳型から電解用アノードを剥ぎ取る剥取り工程と、上記電解用アノードが剥ぎ取られたアノード鋳型に離型剤を散布する離型剤散布工程を有する電解用アノード鋳造プロセスにしたがって電解用アノードを繰り返し鋳造する電解用アノード鋳造装置におけるアノード鋳型の温度制御方法であって、 剥取り工程で電解用アノードが剥ぎ取られたアノード鋳型に離型剤散布工程で離型剤を散布する前に上記アノード鋳型の表面温度を測定する測定ステップと、上記測定ステップにおける測定結果に基づいて、規定温度よりも高い温度のアノード鋳型を検出する検出ステップと、上記検出ステップにおける検出結果に基づいて、次回の電解用アノード鋳造プロセスにおいて上記規定温度よりも高い温度のアノード鋳型に鋳込み工程で鋳込んだ電解用アノードを剥取り工程で剥ぎ取った直後に、規定温度まで上記アノード鋳型の散水冷却を行なう冷却ステップとを有することを特徴とする。
【００２５】
本発明では、例えば、上記規定温度を１５０〜１８０℃とし、電解用アノード鋳造装置は、アノード鋳型の表面温度が、鋳込み工程における溶融粗銅の鋳込み時に１１００〜１２００℃程度まで上昇し、冷却工程において冷却されることにより６５０℃程度まで降下し、さらに、剥取り工程において３５０℃程度まで降下した時点で電解用アノードがアノード鋳型から剥ぎ取られることにより離型剤散布工程の開始時点で１５０〜１８０℃となる温度変化を繰り返す温度プロファイルで、上記電解用アノード鋳造プロセスにしたがって電解用アノードを鋳造するものとすることができる。
【発明の効果】
【００２６】
本発明では、ターンテーブル上に複数のアノード鋳型を載置し、ターンテーブルを回転しつつ、溶融粗金属をアノード鋳型に鋳込む鋳込み工程と、上記アノード鋳型に鋳込まれた溶融粗金属を冷却する冷却工程と、上記冷却工程で冷却されたアノード鋳型から電解用アノードを剥ぎ取る剥取り工程と、上記電解用アノードが剥ぎ取られたアノード鋳型に離型剤を散布する離型剤散布工程を有する電解用アノード鋳造プロセスにしたがって電解用アノードを繰り返し鋳造する電解用アノード鋳造装置において、剥取り工程で電解用アノードを剥ぎ取ったアノード鋳型に離型剤散布工程で離型剤を散布する前にアノード鋳型の温度を測定することにより、規定温度よりも高い温度のアノード鋳型を検出しておき、次回の電解用アノード鋳造プロセスにおいて上記規定温度よりも高い温度のアノード鋳型に鋳込み工程で鋳込んだ電解用アノードを剥取り工程で剥ぎ取った直後に散水冷却を行なうことにより上記規定温度まで確実に冷却し、ターンテーブル上の各アノード鋳型を個別に温度管理を行なうことができる。
【００２７】
したがって、本発明によれば、電解用アノード鋳造のターンテーブルでアノード鋳型の十分な温度管理を行ない、適切にアノード鋳型を冷却することにより、アノード鋳型の寿命を延ばし、所定の形状の電解用アノードを効率よく鋳造できるようにした電解用アノード鋳造装置、及び、そのアノード鋳型の温度制御方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明に係る電解用アノード鋳造装置の構成例を模式的に示す平面図である。
【図２】上記電解用アノード鋳造装置において実行される電解用アノード鋳造プロセスを示すフローチャートである。
【図３】上記電解用アノード鋳造装置において実行される鋳型温度制御プロセスを示すフローチャートである。
【図４】上記電解用アノード鋳造装置における安定的した操業状態における温度プロファイルを示す図である
【図５】アノード鋳型の温度履歴の実測結果を示す図である。
【図６】鋳造回数と鋳型歪との関係を実測した結果を示す図である。
【図７】従来の電解用アノード鋳造装置の構成例を模式的に示す平面図である。
【図８】アノード鋳型の歪みの測定方法を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。
【００３０】
本発明は、例えば図１に示すような構成の電解用アノード鋳造装置２０に適用される。
【００３１】
なお、この電解用アノード鋳造装置２０は、図７に示した従来の銅アノード鋳造装置１００を改良したものであって、従来装置と実質上同一の構成要素については、図１中に同一の参照符号を付して、その詳細な説明を省略する。
【００３２】
この電解用アノード鋳造装置２０は、離型剤散布部１２の入口位置でアノード鋳型２の温度を測定する非接触式温度計、例えば熱放射の表面温度計２１と、上記表面温度計２１による測定結果に基づいて、規定温度よりも高い温度のアノード鋳型２を検出する検出処理部２２と、上記検出処理部２２による検出結果に基づいて、剥取機１１の出口位置でアノード鋳型２を冷却する鋳型冷却部２３を備える。
【００３３】
そして、この電解用アノード鋳造装置２０は、ターンテーブル１の上に複数個のアノード鋳型２を載置して、これを矢印Ａの方向に間欠的に回転しつつ、図２のフローチャートに示す鋳造プロセスにしたがって、鋳込、冷却、剥取を順次行なうとともに、図３のフローチャートに示す鋳型温度制御プロセスにしたがって、上記ターンテーブル１上の複数個のアノード鋳型２の温度を個別に制御するように構成されている。
【００３４】
すなわち、この電解用アノード鋳造装置２０では、転炉で生産される溶融粗銅が、脱硫、脱酸等の精製処理を行なうための精製炉４において精製されて、タップ樋１９、連絡樋５、溜樋６を介して計量樋３に供給される。そして、精製された溶融粗銅を、溶融粗銅鋳込み位置において、精製された溶融粗銅を上記計量樋３によって一定量ずつアノード鋳型２の中に傾注することにより鋳込む（鋳込み工程Ｓ１）。
【００３５】
次に、上記鋳込み工程Ｓ１でアノード鋳型２に鋳込まれた溶融粗銅に冷却フード７内の冷却水散布配管８より冷却水を散布することによって、電解用アノード１５を冷却し、また、ショルダー側を押し上げられた電解用アノード１５の下のアノード鋳型２に鋳型冷却散水配管８ａより冷却水を散水することによって、アノード鋳型２を冷却する（冷却工程Ｓ２）。
【００３６】
次に、上記冷却工程Ｓ２において冷却フード７内で冷却された電解用アノード１５は、アノード鋳型２に設けられた図示しない押し上げピンによって、そのショルダー部側が押し上げられる。なお、電解用アノード１５のショルダー部に溶湯が良好に行き渡らなかった際に生ずる不良アノードは、不良アノード剥取機１０により取り除かれる。そして、鋳造された電解用アノード１５は、剥取機１１によりショルダー部が引掛けられてアノード鋳型２から剥ぎ取られる（剥取り工程Ｓ３）。
【００３７】
次に、上記剥取り工程Ｓ３において電解用アノード１５が剥ぎ取られたアノード鋳型２には、掃除作業が施されて、粉状、フレーク状の鋳屑、酸化銅、粘土などの鋳造残渣が除去され、離型剤散布部１２において、次の鋳込みを行なうための離型剤としての硫酸バリウムあるいは粘土水を散布する（離型剤散布工程Ｓ４）。
【００３８】
そして、上記離型剤散布工程Ｓ４において離型剤が散布されたアノード鋳型２は、充分に水分を蒸発させてから、溶融粗銅鋳込み位置まで回送され、新たな溶融粗銅が鋳込まれる。
【００３９】
この電解用アノード鋳造装置２０では、図２のフローチャートに示した電解用アノード鋳造プロセスにしたがって、鋳込み工程Ｓ１、冷却工程Ｓ２、剥取工程Ｓ３、離型剤散布工程４により、電解用アノード１５を繰り返し鋳造している。その際の安定的した操業状態における温度プロファイルを図４に示すように、アノード鋳型２の表面温度は、鋳込み工程Ｓ１における溶融粗銅の鋳込み時に１１００〜１２００℃程度まで上昇し、冷却工程Ｓ２において冷却されることにより６５０℃程度まで降下する。そして、上記アノード鋳型２の表面温度は、剥取り工程Ｓ３において３５０℃程度まで降下した時点で電解用アノード１５がアノード鋳型２から剥ぎ取られることにより、離型剤散布工程Ｓ４の開始時点で１５０〜１８０℃となる温度変化を繰り返す。上記離型剤散布工程Ｓ４の開始時点でアノード鋳型２の表面温度は離型剤が硫酸バリウムの場合に１５０℃程度に降下し、離型剤が粘土場合に１８０℃程度に降下する。
【００４０】
ここで、図４中に破線で示すように、離型剤散布時におけるアノード鋳型２の表面温度が上記１５０〜１８０℃よりも高い状態が発生した場合、上記鋳造プロセスを繰り返すことにより、蓄熱によりアノード鋳型２の変形や破損の虞がある。そこで、この電解用アノード鋳造装置２０では、上記図２のフローチャートに示す鋳造プロセスにしたがって電解用アノード１５を繰り返し鋳造するとともに、図３のフローチャートに示す鋳型温度制御プロセスにしたがって、上記ターンテーブル１上の複数個のアノード鋳型２の温度を個別に制御するようにしている。
【００４１】
すなわち、この電解用アノード鋳造装置２０において、上記表面温度計２１は、電解用アノード１５を剥ぎ取ったアノード鋳型２に離型剤を散布する前にアノード鋳型２の温度を測定する測定手段として機能する。
【００４２】
また、上記検出処理部２２は、上記測定手段すなわち上記表面温度計２１による測定結果に基づいて、規定温度よりも高い温度のアノード鋳型２を検出する検出手段として機能する。
【００４３】
さらに、上記鋳型冷却部２３は、上記検出手段すなわち検出処理部２２による検出結果に基づいて、次回の電解用アノード鋳造プロセスにおいて上記規定温度よりも高い温度のアノード鋳型２に鋳込んだ電解用アノード１５を剥ぎ取った直後に、規定温度まで上記アノード鋳型２の散水冷却を行なう冷却手段として機能する。
【００４４】
そして、この電解用アノード鋳造装置２０では、上記鋳造プロセスにしたがって電解用アノード１５を繰り返し鋳造する安定的した操業状態における温度プロファイルにおける上記離型剤散布時のアノード鋳型２の表面温度、すなわち、上記１５０〜１８０℃を規定温度とし、上記剥取り工程Ｓ３において電解用アノード１５を剥ぎ取ったアノード鋳型２に離型剤を散布する前にアノード鋳型２の温度を上記表面温度計２１により測定する。そして、その測定結果に基づいて、上記規定温度よりも高い温度のアノード鋳型２を上記検出処理部２２により検出し、その検出結果に基づいて、次回の電解用アノード鋳造プロセスにおける剥取り工程Ｓ３において上記規定温度よりも高い温度のアノード鋳型２に鋳込んだ電解用アノード１５を剥ぎ取った直後に、上記鋳型冷却部２３において規定温度まで上記アノード鋳型２の散水冷却を行なうことにより、ターンテーブル１の上に載置されている複数個のアノード鋳型２の温度を個別に制御する。
【００４５】
具体的には、この電解用アノード鋳造装置２０における鋳型温度制御プロセスでは、図３のフローチャートに示すように、先ず、上記剥取り工程Ｓ３において電解用アノード１５が剥ぎ取られたアノード鋳型２が前回の鋳造プロセスにおいて上記規定温度よりも高い温度のアノード鋳型２であると検出された高温鋳型であるか否を上記検出処理部２２により判定する（第１の判定ステップＳ１１）。
【００４６】
上記第１の判定ステップＳ１１における判定結果が「ＹＥＳ」、すなわち、高温鋳型である場合には、上記検出処理部２２により上記鋳型冷却部２３の鋳型冷却散水配管２８に設けられた制御弁２９を開いて所定時間経過後に閉じる制御を行ない、所定量の冷却水を上記アノード鋳型２に散布することによって、上記規定温度まで上記高温鋳型を冷却する（冷却ステップＳ１２）。
【００４７】
また、上記判定ステップＳ１１における判定結果が「ＮＯ」、すなわち、高温鋳型でない場合には、上記検出処理部２２は、上記制御弁２９を閉じたままとする。
【００４８】
次に、離型剤を散布する前のアノード鋳型２の表面温度を上記表面温度計２１により測定する（測定ステップＳ１３）。
【００４９】
次に、上記測定ステップＳ１３における測定結果が上記規定温度よりも高いか否かを上記検出処理部２２により判定する（第２の判定ステップＳ１４）。
【００５０】
上記第２の判定ステップＳ１４における判定結果が「ＹＥＳ」、すなわち、上記表面温度計２１により測定された表面温度が上記規定温度より高いアノード鋳型２である場合には、上記検出処理部２２により、そのアノード鋳型２を次回の電解用アノード鋳造プロセスにおいて上記第１の判定ステップＳ１１で判定結果が「ＹＥＳ」となる高温鋳型として検出し、記憶する（検出ステップＳ１５）。
【００５１】
そして、上記第１の判定ステップＳ１１に戻って、次のアノード鋳型２について温度制御を行なう。
【００５２】
また、上記第２の判定ステップＳ１４における判定結果が「ＮＯ」、すなわち、上記表面温度計２１により測定された表面温度が上記規定温度のアノード鋳型２である場合には、そのまま上記第１の判定ステップＳ１１に戻って、次のアノード鋳型２について温度制御を行なう。
【００５３】
この電解用アノード鋳造装置２０では、アノード鋳型２の表面温度が、鋳込み工程Ｓ１における溶融粗銅の鋳込み時に１１００〜１２００℃程度まで上昇し、冷却工程Ｓ２において冷却されることにより６５０℃程度まで降下し、さらに、剥取り工程Ｓ３において３５０℃程度まで降下した時点で電解用アノード１５がアノード鋳型２から剥ぎ取られることにより離型剤散布工程Ｓ４の開始時点で１５０〜１８０℃となる温度変化を繰り返す温度プロファイルを採用した。そして、上記温度プロファイルで、上記電解用アノード鋳造プロセスにしたがって電解用アノード１５を鋳造し、上記規定温度を１５０〜１８０℃として上記鋳型温度制御プロセスにしたがって、ターンテーブル１上の各アノード鋳型２を個別に温度管理を行なったところ、アノード鋳型２の交換率が従来の約１／１０に大幅に減少し、アノード鋳型２の寿命を大幅に延長することができた。
【００５４】
ここで、上記電解用アノード鋳造装置２０において、ターンテーブル１上に１８枚のアノード鋳型２が載置され、上記ターンテーブル１は、１２〜１３秒で１ブロックを間欠的に回転移動され、かつ一定位置に１２〜１３秒停止されるというサイクルで運転され、１８サイクルで１回転されるものとし、鋳型表面温度が設定値（例えば１５０℃）よりも高いアノード鋳型２には、上記冷却ステップＳ１２おいて、移動中の１２〜１３秒および停止中の１２〜１３秒間の合計２４〜２６秒間連続的に冷却水を散布して上記アノード鋳型２を設定温度まで冷却するようにした場合の、アノード鋳型２の温度履歴の実測結果を図５の（Ａ）に示す。また、上記冷却ステップＳ１２の処理を行わない、従来の電解用アノード鋳造装置１００におけるアノード鋳型２の温度履歴の実測結果を図５の（Ｂ）に示す。
【００５５】
図５の（Ａ）、（Ｂ）は本発明による温度制御を採用した上記電解用アノード鋳造装置２０、及び、本発明による温度制御を採用前の従来の上記電解用アノード鋳造装置１００、それぞれ２台についてアノード鋳型２の温度履歴の実測したものである。
【００５６】
図５の（Ａ）は温度設定値を１５０℃にした場合であるが、本発明による温度制御を採用した上記電解用アノード鋳造装置２０では、アノード鋳型２の表面温度が設定値以下に管理されている。
【００５７】
また、上記電解用アノード鋳造装置２０及び従来の電解用アノード鋳造装置１００における鋳造回数と鋳型歪との関係を実測して得られた関連図を図６に示す。
【００５８】
上述の如く鋳型表面温度を管理するようにした上記電解用アノード鋳造装置２０では、従来の電解用アノード鋳造装置１００の場合と比較して、アノード鋳型２の歪進行速度が遅くなっている。その結果、同一期間内における鋳型交換枚数は、従来の電解用アノード鋳造装置１００では８／１４（０．５７）であったの対して、上記電解用アノード鋳造装置２０では、２／３２（０．０６）となり、約１０分の１に大幅に減少し、従って、寿命も大幅に延長することができた。
【００５９】
上述の如く、この電解用アノード鋳造装置２０では、図３のフローチャートに示す鋳型温度制御プロセスにしたがって、剥取り工程Ｓ３で剥取機１１により電解用アノード１５を剥ぎ取ったアノード鋳型２に離型剤散布工程Ｓ４で離型剤散布部１２において離型剤を散布する前に表面温度計２１によりアノード鋳型２の温度を測定する（測定ステップＳ１３）。そして、規定温度よりも高い温度のアノード鋳型２を上記検出処理部２２により検出しておき（検出ステップＳ１５）、次回の電解用アノード鋳造プロセスにおいて上記規定温度よりも高い温度のアノード鋳型２に鋳込み工程Ｓ１で鋳込んだ電解用アノード１５を剥取り工程Ｓ３で剥取機１１により剥ぎ取った直後に鋳型冷却部２３において散水冷却を行なうことにより（冷却ステップＳ１２）、上記アノード鋳型２を規定温度まで確実に冷却する。したがって、ターンテーブル１上の各アノード鋳型２を個別に温度管理を行なうことができ、適切にアノード鋳型２を冷却することにより、アノード鋳型２の寿命を延ばし、所定の形状の電解用アノードを効率よく鋳造することができる。
【符号の説明】
【００６０】
１  ターンテーブル、２  アノード鋳型、３  計量樋、４  精製炉、５  連絡樋、６  溜樋、７  冷却フード、８  冷却水散布配管、８ａ、２８  鋳型冷却散水配管、９、２９  制御弁、１０  不良アノード剥取機、１１  剥取機、１２  粘土水散布部、１３  運転室、１５  電解用アノード、１９  タップ樋、２０  電解用アノード鋳造装置、２１  表面温度計、２２  検出処理部、２３  鋳型冷却部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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