(57)【要約】【課題】本発明は研磨パッドの全面に研磨用液を安定供給することを課題とする。【解決手段】研磨用液供給装置１００は、研磨用液を貯留する液貯留部１１０と、液貯留部１１０に研磨用液を補給する液補給部１２０と、両面研磨装置２００の上定盤２０１と下定盤２０２との間に研磨用液を供給する複数の液供給チューブ１３０とを有する。液貯留部１１０は、環状に形成された多重溝１４０と、多重溝１４０を支持する支持部材１６０とを有する。多重溝１４０は、内側溝部材１４２と、外側溝部材１４４とが同心円状に配されている。内側溝部材１４２及び外側溝部材１４４は、複数の液供給チューブ１３０を通して上定盤２０１に保持された上側研磨パッド３３０に連通される。【選択図】図１
2012106319.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上定盤及び下定盤に保持された研磨パッド及び前記研磨パッドにより研磨される被研磨体に、研磨用液を供給する研磨用液供給装置において、
前記上定盤の上方に支持され、環状に形成された多重溝を有する液貯留部と、
前記多重溝の各溝内の夫々に前記研磨用液を補給する液補給部と、
前記多重溝の各溝の底部の夫々と前記研磨パッドとの間を連通する複数の液供給チューブと、
を備えたことを特徴とする研磨用液供給装置。
【請求項２】
前記多重溝は、異なる半径を有する複数の溝部材が同心円状に配置されている請求項１に記載の研磨用液供給装置。
【請求項３】
前記複数の溝部材は、前記上定盤に固定された環状の支持部材に着脱可能に取り付けられている請求項２に記載の研磨用液供給装置。
【請求項４】
前記各溝部材は、底部に前記支持部材を貫通し、前記複数の液供給チューブが接続される複数の接続口が周方向の所定間隔毎の複数箇所に設けられている請求項２又は３の何れかに記載の研磨用液供給装置。
【請求項５】
前記各溝部材は、周方向に延在する複数の円弧状部からなり、前記円弧状部の各端部が分離可能に結合されている請求項２〜４の何れかに記載の研磨用液供給装置。
【請求項６】
前記液供給チューブは、
前記多重溝の底部に接続された第１の端部と、
前記研磨パッドの研磨面に接続された第２の端部と、
を有する請求項１又は４に記載の研磨用液供給装置。
【請求項７】
前記被研磨体は、磁気記録媒体用ガラス基板である請求項１に記載の研磨用液供給装置。
【請求項８】
上定盤及び下定盤に保持された研磨パッド及び前記研磨パッドにより研磨される被研磨体に、研磨用液を供給する研磨方法において、
前記上定盤の上部に支持され環状に形成された多重溝に前記研磨用液を貯留し、
前記多重溝の底部と前記研磨パッドとの間を連通する複数の液供給チューブを介して前記研磨パッド及び前記被研磨体に前記研磨用液を供給することを特徴とする研磨方法。
【請求項９】
上定盤及び下定盤に保持された研磨パッド及び前記研磨パッドにより研磨される被研磨体に、研磨用液を供給するガラス基板の製造方法において、
前記上定盤の上部に支持され環状に形成された多重溝に前記研磨用液を貯留し、
前記多重溝の底部と前記研磨パッドとの間を連通する複数の液供給チューブを介して前記研磨パッド及び前記ガラス基板に前記研磨用液を供給することを特徴とするガラス基板の製造方法。
【請求項１０】
上定盤の上方に支持された多重溝に貯留された研磨用液が、前記多重溝の各底部の夫々に接続された複数の液供給チューブを介して前記上定盤に保持された研磨パッドに供給された状態で、前記研磨パッドにより研磨されることを特徴とするガラス基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は研磨パッド及び被研磨体に研磨用液を供給しながら被研磨体を研磨する研磨用液供給装置及び研磨方法及びガラス基板の製造方法及びガラス基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、ガラス基板等からなる被研磨体の上下面（主面）を研磨する研磨装置においては、研磨パッド及び被供給体の研磨面に液状の研磨剤（スラリー）を供給しながら被研磨体の研磨を行っている（例えば、特許文献１、２参照）。
【０００３】
特許文献１に記載された研磨剤供給装置では、上定盤の上方に支持された環状の流路部材に研磨剤を供給し、流路部材と研磨パッドとの間がチューブにより接続されている。また、上定盤と下定盤との間に載置される被研磨体の数を増やして研磨効率を上げる場合は、研磨パッドの外径が大きくなり、その分流路部材の半径方向の幅寸法が大きくなる。
【０００４】
また、特許文献２には、上記流路部材と研磨パッドとの間を連通するチューブに流量調節バルブを設けた研磨剤供給装置の構成が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００１−８８０２０号公報
【特許文献２】特許第４１６３４８５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記特許文献１のものは、上定盤と共に流路部材が回転する際に遠心力の作用によりスラリーが流路部材の外側に寄せられてしまい、特に流路部材の半径方向の幅寸法が大きくなると、研磨パッドの内周側へのスラリー供給量が減少し、研磨パッドの内周側と外周側で研磨速度が異なり、被研磨体の品質が低下する、研磨効率が低下するという問題があった。
【０００７】
また、特許文献２のものは、各チューブに配された複数の流量調節バルブの弁開度を制御することで、スラリー供給量が不足することを防止できるものの、複数の流量調節バルブを配した構成が複雑になると共に、各流量調節バルブを制御する制御装置による制御システムも必要であるので、装置全体が大掛かりになり、装置管理や装置制御が複雑となり、コストも高価になるという問題があった。
【０００８】
そこで、本発明は上記事情に鑑み、上記課題を解決した研磨用液供給装置及び研磨方法及びガラス基板の製造方法及びガラス基板の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するため、本発明は以下のような手段を有する。
（１）本発明は、上定盤及び下定盤に保持された研磨パッド及び前記研磨パッドにより研磨される被研磨体に、研磨用液を供給する研磨用液供給装置において、
前記上定盤の上方に支持され、環状に形成された多重溝を有する液貯留部と、
前記多重溝の各溝内の夫々に前記研磨用液を補給する液補給部と、
前記多重溝の各溝の底部の夫々と前記研磨パッドとの間を連通する複数の液供給チューブと、
を備えたことを特徴とする。
（２）本発明の前記多重溝は、異なる半径を有する複数の溝部材が同心円状に配置される。
（３）本発明の前記複数の溝部材は、前記上定盤に固定された環状の支持部材に着脱可能に取り付けられる。
（４）本発明の前記各溝部材は、底部に前記支持部材を貫通し、前記複数の液供給チューブが接続される複数の接続口が周方向の所定間隔毎の複数箇所に設けられる。
（５）本発明の前記各溝部材は、周方向に延在する複数の円弧状部からなり、前記円弧状部の各端部が分離可能に結合される。
（６）本発明の前記液供給チューブは、
前記多重溝の底部に接続された第１の端部と、
前記研磨パッドの研磨面に接続された第２の端部と、
を有する。
（７）本発明の前記被研磨体は、磁気記録媒体用ガラス基板である。
（８）本発明の上定盤及び下定盤に保持された研磨パッド及び前記研磨パッドにより研磨される被研磨体に、研磨用液を供給する研磨方法において、
前記上定盤の上部に支持され環状に形成された多重溝に前記研磨用液を貯留し、
前記多重溝の底部と前記研磨パッドとの間を連通する複数の液供給チューブを介して前記研磨パッド及び前記被研磨体に前記研磨用液を供給することを特徴とする。
（９）本発明は、上定盤及び下定盤に保持された研磨パッド及び前記研磨パッドにより研磨される被研磨体に、研磨用液を供給するガラス基板の製造方法において、
前記上定盤の上部に支持され環状に形成された多重溝に前記研磨用液を貯留し、
前記多重溝の底部と前記研磨パッドとの間を連通する複数の液供給チューブを介して前記研磨パッド及び前記ガラス基板に前記研磨用液を供給することを特徴とする。
（１０）本発明は、上定盤の上方に支持された多重溝に貯留された研磨用液が、前記多重溝の各底部の夫々に接続された複数の液供給チューブを介して前記上定盤に保持された研磨パッドに供給された状態で、前記研磨パッドにより研磨されることを特徴とするガラス基板である。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、上定盤の上方で環状に形成された多重溝を有する液貯留部の各溝内の夫々に研磨用液を補給し、多重溝の各溝の底部の夫々と研磨パッドとの間を複数の液供給チューブで連通するため、比較的簡単な構成で多重溝の各溝内に補給された研磨用液を均等に研磨パッドに供給でき、研磨パッドの内周側も外周側と同じように研磨用液が安定供給されて複数の被研磨体の内周側、外周側の位置に拘わらず研磨効率を高められる。また、研磨中の被研磨体や研磨装置の状況に応じて、研磨パッドの内周側、外周側への研磨用液の供給量を夫々制御することもできる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明による研磨用液供給装置の一実施例を示す概略構成図である。
【図２】多重溝を拡大して示す縦断面図である。
【図３】多重溝の構成を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、図面を参照して本発明を実施するための形態について説明する。
【実施例１】
【００１３】
〔研磨用液供給装置１００の構成〕
図１は本発明による研磨用液供給装置の一実施例を示す概略構成図である。図２は多重溝を拡大して示す縦断面図である。
【００１４】
図１に示されるように、研磨用液供給装置１００は、砥粒を含有する研磨液又はクーラント液（以下「研磨用液」と称する）を貯留する液貯留部１１０と、液貯留部１１０に研磨用液を補給する液補給部１２０と、両面研磨装置２００の上定盤２０１の上側研磨パッド３３０に研磨用液を供給する複数の液供給チューブ１３０とを有する。
【００１５】
図１及び図２に示されるように、液貯留部１１０は、環状に形成された多重溝１４０と、多重溝１４０を支持する支持部材１６０とを有する。本実施の形態において、多重溝１４０は、内側（小径側）に配された内側溝部材１４２と、外側（大径側）に配された外側溝部材１４４とが同心円状に配されている。また、内側溝部材１４２及び外側溝部材１４４は、支持部材１６０に着脱可能に固定されており、当該支持部材１６０を介して上定盤２０１の上方に支持されている。
【００１６】
さらに、内側溝部材１４２及び外側溝部材１４４は、各溝の底部に複数の液供給チューブ１３０が接続される複数の接続口１４８、１４９（図２を参照）が周方向の所定間隔毎の複数箇所に設けられている。本実施の形態では、研磨工程時に上側研磨パッド３３０が回転駆動されても内側溝部材１４２、外側溝部材１４４に供給された研磨用液は、内側溝部材１４２と外側溝部材１４４とで設定した量へと独立に制御でき、回転による遠心力が作用しても、外周側に研磨用液が多く供給されてしまうことがなく、所望量の研磨用液を内周側に供給することができ、研磨効率の低下を抑制できる。そのため、研磨用液供給装置１００は、従来（特許文献２参照）のような複数の流量調節バルブや各流量調節バルブを制御する制御システムが不要であるので、構成が簡略化され、装置管理や装置制御も簡易となり、コストも安価にできる。
【００１７】
尚、本実施の形態では、多重溝１４０に２本の内側溝部材１４２及び外側溝部材１４４が同心円状に配された構成を一例としているが、これに限らず、２本以上の溝部材が同心円状に配される構成としても良い。
【００１８】
支持部材１６０は、両面研磨装置２００の支持機構２０７に固定されている。また、支持部材１６０は、内側溝部材１４２及び外側溝部材１４４を支持する環状凹部１６２と、環状凹部１６２を支持機構２０７の上側ベース２０７ｃに固定する複数の固定部１６４とを有する。本実施の形態では、環状凹部１６２の半径方向の幅が内側溝部材１４２及び外側溝部材１４４の各幅の合計より若干大きい寸法に形成されている。また、環状凹部１６２の半径方向の幅を大きくすることで３本あるいは４本の溝部材を同心円状に配置できる。
【００１９】
液補給部１２０は、研磨用液の貯蔵タンク１２１と、貯蔵タンク１２１に連通された供給管路１２２と、供給管路１２２に配されたポンプ１２３，開閉弁１２４−１と、開閉弁１２４−１の吐出口と多重溝１４０の内側溝部材１４２、外側溝部材１４４との間に配された分岐管路１２５、１２６と、それぞれの分岐管路１２５、１２６に配置される流量調節弁１２４−２、１２４−３とを有する。
【００２０】
図１において、分岐管路１２５、１２６の先端に設けられた吐出ノズル１２５ａ、１２６ａが２箇所に配置されているように示してあるが、周方向の複数箇所（例えば、４〜８箇所程度）に設けてある。そのため、分岐管路１２５、１２６の先端に設けられた各吐出ノズル１２５ａ、１２６ａより、ポンプ１２３が送液した研磨用液を内側溝部材１４２、外側溝部材１４４の全周に一定流量で安定供給できる。
【００２１】
よって、研磨工程時に上側研磨パッド３３０が回転駆動されても内側溝部材１４２、外側溝部材１４４のそれぞれに供給された研磨用液は、半径方向に移動せず、回転による遠心力が作用しても内周側での研磨用液の不足及び研磨効率の低下を抑制できる。
【００２２】
また、両面研磨装置２００の下定盤２０２の内周及び外周の下方には、使用された研磨用液を回収する環状の回収通路１５０（図１中破線で示す）が設けられている。回収通路１５０に回収された研磨用液は、ドレン管路１５２を通過して貯蔵タンク１２１に戻される。
【００２３】
複数の液供給チューブ１３０は、内側溝部材１４２、外側溝部材１４４の接続口１４８、１４９に接続された第１の端部１３２と、上定盤２０１の上面から貫通して上側研磨パッド３３０の開口に接続された第２の端部１３４とを有する。また、内側溝部材１４２の接続口１４８の数は、外側溝部材１４４の接続口１４９よりも多く設けられている。従って、内側溝部材１４２に接続される複数の液供給チューブ１３０の本数は、外側溝部材１４４に接続される本数よりも多い。これにより、内側領域における各チューブ１３０の間隔が狭くなるように設定されているので、上側研磨パッド３３０の内周側に供給される研磨用液が供給不足になることが防止される。
【００２４】
従って、貯蔵タンク１２１の研磨用液は、ポンプ１２３により送液され、供給管路１２２及び開閉弁１２４−１、分岐管路１２５、１２６及び流量調節弁１２４−２、１２４−３を通して各吐出ノズル１２５ａ、１２６ａより内側溝部材１４２、外側溝部材１４４に供給される。
【００２５】
そして、内側溝部材１４２、外側溝部材１４４は、夫々複数の液供給チューブ１３０により上側研磨パッド３３０の内周側、外周側に接続されているため、内側溝部材１４２に供給された研磨用液は、上側研磨パッド３３０及びガラス基板の内周側に供給され、外側溝部材１４４に供給された研磨用液は、上側研磨パッド３３０及びガラス基板の外周側に供給される。
【００２６】
このように、研磨用液供給装置１００では、内側溝部材１４２、外側溝部材１４４に供給された研磨用液が、複数の液供給チューブ１３０を通して研磨パッド３３０及びガラス基板の全面に安定的に供給される。そのため、両面研磨装置２００による研磨工程において、研磨パッド３３０、３４０の研磨面に十分な研磨用液が常に供給されるため、研磨効率が高められる。また、研磨中の被研磨体や研磨装置の状況に応じて、流量調節弁１２４−２、１２４−３を操作することにより研磨パッドの内周側、外周側への研磨用液の供給量を夫々所望の量に制御することもできる。
【００２７】
上記のように構成された研磨用液供給装置１００では、ポンプ１２３及び開閉弁１２４−１が、両面研磨装置２００の上定盤２０１の回転駆動と連動して研磨用液を供給又は停止する構成としても良いし、あるいは、専用のスタートスイッチ及び停止スイッチを設けて、作業者が各スイッチを両面研磨装置２００の研磨動作の開始、終了に合わせて個別にスイッチ操作するようにしても良い。
〔両面研磨装置２００の構成〕
ここで、両面研磨装置２００の構成について説明する。
【００２８】
図１に示されるように、両面研磨装置２００は、複数のガラス基板Ｗの上主平面及び下主平面を同時に研磨するように構成されており、基台２２０と、上定盤２０１と、下定盤２０２と、昇降機構２０８とを有する。基台２２０の上部には、下定盤２０２が回転可能に支持されており、基台２２０の内部には、上定盤２０１を駆動する定盤駆動モータが取り付けられている。
【００２９】
上定盤２０１は、下定盤２０２の上方に対向配置され、キャリア３１０に保持された複数のガラス基板の上主平面を研磨する上側研磨パッド３３０を有する。また、下定盤２０２は、キャリア３１０に保持された複数のガラス基板の下主平面を研磨する下側研磨パッド３４０を有する。
【００３０】
昇降機構２０８は、基台２２０の上方に起立する門型のフレーム２０６により支持されており、ガラス基板交換時に上定盤２０１を上昇させる昇降用シリンダ装置２０９を有する。昇降用シリンダ装置２０９は、フレーム２０６の中央に取り付けられている。昇降用シリンダ装置２０９のピストンロッド２５４は、下方に延在しており、その下端部には上定盤２０１を支持する支持機構２０７が連結されている。
【００３１】
支持機構２０７は、下方に延在する支柱２０７ａと、上定盤２０１の上面に固定された固定ベース２０７ｂとを有する。固定ベース２０７ｂには、定盤駆動モータの回転軸２０５に設けられた凹部２６２ａに結合されるロック機構２６０が設けられている。
【００３２】
ロック機構２６０は、凹部２６２ａに結合されるロックピン２８１と、ロックピン２８１を固定ベース２０７ｂに連結する軸２８２とを有する。
【００３３】
上定盤２０１は、昇降用シリンダ装置２０９のピストンロッド２５４の昇動作によりガラス基板交換時に上昇し、研磨時には降下する。また、昇降機構２０８の昇降用シリンダ装置２０９、及び定盤駆動モータは、制御部２１０により制御される。
【００３４】
また、両面研磨装置２００では、昇降用シリンダ装置２０９を作動させてピストンロッド２５４を降下させると、上定盤２０１の上側研磨パッド３３０を被研磨体であるガラス基板の上面に当接させる。そして、ロック機構２６０のロックピン２８１を、回転軸２０５の凹部２６２ａに係合させた後、駆動モータにより上定盤２０１及び下定盤２０２を回転させて上記キャリア３１０に保持された各ガラス基板の上主平面、下主平面を同時に研磨する。
【００３５】
このように、上定盤２０１及び下定盤２０２を回転駆動させる際は、上定盤２０１の上方に固定された研磨用液供給装置１００の液貯留部１１０も回転することになる。一方、研磨用液供給装置１００では、内側溝部材１４２、外側溝部材１４４からなる多重溝１４０に所望量の研磨用液を制御して供給しているので、複数の液供給チューブ１３０を通して上側研磨パッド３３０の全面（内周側及び外周側）に所望量の研磨用液を安定的に供給することが可能になる。
〔内側溝部材１４２、外側溝部材１４４の構成〕
図３は多重溝１４０の構成を示す平面図である。図３に示されるように、支持部材１６０の環状凹部１６２には、径の異なる内側溝部材１４２、外側溝部材１４４が同心円状に配され、ネジなどの締結部材により固定されている。内側溝部材１４２は、周方向に延在する複数の円弧状部材１４２Ａ、１４２Ｂが分割可能に結合されており、円弧状部材１４２Ａ、１４２Ｂの両端を結合部１４２Ｃ、１４２Ｄで結合させている。また、外側溝部材１４４も同様に、周方向に延在する複数の円弧状部材１４４Ａ、１４４Ｂが分割可能に結合されており、円弧状部材１４４Ａ、１４４Ｂの両端を結合部１４４Ｃ、１４４Ｄで結合させている。
【００３６】
このように内側溝部材１４２及び外側溝部材１４４は、各円弧状部材１４２Ａ、１４２Ｂ及び円弧状部材１４４Ａ、１４４Ｂに分割して支持部材１６０より外すことができる。そのため、内側溝部材１４２及び外側溝部材１４４を定期的に清掃する際は、各円弧状部材１４２Ａ、１４２Ｂ及び円弧状部材１４４Ａ、１４４Ｂを一つずつ外して洗浄できるので、内側溝部材１４２及び外側溝部材１４４の取付け、取り外し作業及び洗浄作業が容易に行える。よって、内側溝部材１４２及び外側溝部材１４４の洗浄作業における作業時間を短縮できる。
【００３７】
尚、本実施の形態では、内側溝部材１４２及び外側溝部材１４４を１８０度間隔で２分割する場合について説明したが、これに限らず、例えば、内側溝部材１４２及び外側溝部材１４４を１２０度間隔で３分割、あるいは内側溝部材１４２及び外側溝部材１４４を９０度間隔で４分割する構成としても良い。
【００３８】
さらに、内側溝部材１４２の各接続口１４８は、外側溝部材１４４の各接続口１４９よりも周方向の間隔を狭くして設置数を増やしてある。これにより、上側研磨パッド３３０の内周側にも研磨用液を安定的に供給できる。
〔磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法について〕
一般に、磁気記録媒体用ガラス基板及び磁気ディスクの製造工程は、以下の工程を含む。（工程１）フロート法、フュージョン法またはプレス成形法で成形されたガラス素基板を、中央部に円孔を有する円盤形状に加工した後、内周側面と外周側面を面取り加工する。
（工程２）ガラス基板の側面部と面取り部を端面研磨する。
（工程３）内側溝部材１４２及び外側溝部材１４４から複数の液供給チューブ１３０を通して研磨用液を供給しながらガラス基板の上下主平面を同時に研磨する。研磨工程は、１次研磨のみでもよく、１次研磨と２次研磨を行ってもよく、２次研磨の後に３次研磨を行ってもよい。
（工程４）ガラス基板を精密洗浄して乾燥し、磁気ディスク用ガラス基板を得る。
（工程５）磁気記録媒体用ガラス基板の上に磁性層などの薄膜を形成し、磁気ディスクを製造する。
【００３９】
上記磁気記録媒体用ガラス基板及び磁気ディスクの製造工程において、（工程２）端面研磨工程の前後のうち少なくとも一方で主平面のラップ（例えば、遊離砥粒ラップ、固定砥粒ラップなど）を実施してもよく、各工程間にガラス基板の洗浄（工程間洗浄）やガラス基板表面のエッチング（工程間エッチング）を実施してもよい。なお、主平面のラップ（例えば、遊離砥粒ラップ、固定砥粒ラップなど）は広義の主平面の研磨である。
【００４０】
さらに、磁気記録媒体用ガラス基板に高い機械的強度が求められる場合、ガラス基板の表層に強化層を形成する強化工程（例えば、化学強化工程）を研磨工程前、または研磨工程後、あるいは研磨工程間で実施してもよい。
【００４１】
本発明において、磁気記録媒体用ガラス基板は、アモルファスガラスでもよく、結晶化ガラスでもよく、ガラス基板の表層に強化層を有する強化ガラス（例えば、化学強化ガラス）でもよい。また、本発明のガラス基板のガラス素基板は、フロート法で造られたものでもよく、フュージョン法で造られたものでもよく、プレス成形法で造られたものでもよい。
【００４２】
本発明は、両面研磨装置を用いてガラス基板の主平面を研磨する工程に関し、磁気記録媒体用ガラス基板の研磨に係るものである。本発明は、ガラス基板の主平面を研磨する工程で適用でき、主平面のラップ（例えば、遊離砥粒ラップ、固定砥粒ラップなど）、１次研磨、２次研磨、３次研磨などの研磨工程に適用できる。
【産業上の利用可能性】
【００４３】
上記実施の形態では、両面研磨装置２００に研磨用液を安定的に供給する場合を一例として挙げたが、これ以外の研磨装置にも適用できるのは言うまでもない。
【００４４】
また、上記実施の形態では、多重溝１４０に２本の溝部材を同心円状に配置した場合について説明したが、これに限らず、上定盤２０１、下定盤２０２の直径に応じて３本以上の溝部材を配置しても良いのは勿論である。
【００４５】
また、本発明が適用できるガラス基板としては、磁気記録媒体用、フォトマスク用、液晶や有機ＥＬ等のディスプレイ用、光ピックアップ素子や光学フィルタ等の光学部品用などのガラス基板が具体的なものとして挙げられる。
【符号の説明】
【００４６】
１００  研磨用液供給装置
１１０  液貯留部
１２０  液補給部
１２１  貯蔵タンク
１２２  供給管路
１２３  ポンプ
１２４−１  開閉弁
１２４−２、１２４−３  流量調節弁
１２５、１２６  分岐管路
１２５ａ、１２６ａ  吐出ノズル
１３０  液供給チューブ
１３２  第１の端部
１３４  第２の端部
１４０  多重溝
１４２  内側溝部材
１４２Ａ、１４２Ｂ、１４４Ａ、１４４Ｂ  円弧状部材
１４２Ｃ、１４２Ｄ、１４４Ｃ、１４４Ｄ  結合部
１４４  外側溝部材
１４８、１４９  接続口
１５０  回収通路
１５２  ドレン管路
１６０  支持部材
１６２  環状凹部
１６４  固定部
２００  両面研磨装置
２０１  上定盤
２０２  下定盤
２０５  回転軸
２０６  フレーム
２０７  支持機構
２０７ａ  支柱
２０７ｂ  固定ベース
２０７ｃ  上側ベース
２０８  昇降機構
２０９  昇降用シリンダ装置
２１０  制御部
２５４  ピストンロッド
２６０  ロック機構
２６２ａ  凹部
２８１  ロックピン
２８２  軸
３１０  キャリア
３３０  上側研磨パッド
３４０  下側研磨パッド
【図１】
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【図２】
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【図３】
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