(57)【要約】【課題】スクリーン基材の反射側の面と裏面との接触抵抗を低減する反射型スクリーンおよび反射型スクリーンの製造方法を提供する。【解決手段】反射型スクリーン２は、投射光を反射する第１面（基材表面２１Ａ）と、第１面（基材表面２１Ａ）の反対面となる第２面（基材裏面２１Ｂ）とを有すると共に、可撓性を有するシート状の基材（スクリーン基材２１）を備え、第２面（基材裏面２１Ｂ）には、凹凸状の形状（凹凸面２２）が形成されている。また、凹凸状の形状（凹凸面２２）は、一様に形成されている。更に、凹凸状の形状（凹凸面２２）は、シボ形状で構成されている。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
投射光を反射する反射型スクリーンであって、
前記投射光を反射する第１面と、当該第１面の反対面となる第２面とを有すると共に、可撓性を有するシート状の基材を備え、
前記第２面には、凹凸状の形状が形成されていることを特徴とする反射型スクリーン。
【請求項２】
請求項１に記載の反射型スクリーンであって、
前記凹凸状の形状は、一様に形成されていることを特徴とする反射型スクリーン。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の反射型スクリーンであって、
前記凹凸状の形状は、シボ形状で構成されていることを特徴とする反射型スクリーン。
【請求項４】
投射光を反射する反射型スクリーンの製造方法であって、
前記投射光を反射する第１面と、当該第１面の反対面となる第２面とを有すると共に、可撓性を有するシート状の基材に対し、前記第２面に、凹凸状の形状を形成する凹凸形状形成工程を備えていることを特徴とする反射型スクリーンの製造方法。
【請求項５】
請求項４に記載の反射型スクリーンの製造方法であって、
前記凹凸形状形成工程は、前記凹凸状の形状を転写する転写工程を備えていることを特徴とする反射型スクリーンの製造方法。
【請求項６】
請求項５に記載の反射型スクリーンの製造方法であって、
前記転写工程は、前記凹凸状の形状に形成された型を加熱して前記基材に押し付ける工程を含み、
前記型は、耐熱性を有する合成樹脂部材で形成されていることを特徴とする反射型スクリーンの製造方法。
【請求項７】
請求項６に記載の反射型スクリーンの製造方法であって、
前記合成樹脂部材は、シート状またはロール状に形成されていることを特徴とする反射型スクリーンの製造方法。
【請求項８】
請求項５〜請求項７のいずれか一項に記載の反射型スクリーンの製造方法であって、
前記第１面に複数の凹部または複数の凸部を有するように前記基材を変形させる基材変形工程を備え、
前記転写工程は、前記基材変形工程と併せて行われることを特徴とする反射型スクリーンの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射型スクリーンおよび反射型スクリーンの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、プロジェクター等の投射型表示装置から出力された投射光を反射して画像を表示する反射型スクリーンが知られている。この反射型スクリーンは、シート状の合成樹脂製の基材が用いられ、投射光を反射する面（反射面）には、複数の半球状のパターンが形成されたものがある。なお、投射光を反射する反射面とは逆側（反対側）の面（裏面）は、一般的には何も加工されず平坦な基材面が露出している。
【０００３】
なお、特許文献１では、反射型スクリーンの製造方法に関して、観察面に複数の凹部または凸部が形成された基材（スクリーン基板）に、観察面に対して斜めからアルミニウム等の材料を蒸着させ、凹部または凸部の表面の一部に反射膜を形成させることが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−１５１９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、スクリーン基材の裏面が平坦面の場合、巻取り式の反射型スクリーンにおいて、反射型スクリーンを巻き取った場合、反射型スクリーンの反射面に形成される半球状の突起と裏面の平坦面が接触するため、接触抵抗が大きくなる。そのため、スクリーン基材の展張時や収納時にロール回転を行うことで、半球状の突起と平坦面が剥離と接触を繰り返すことにより、基材に静電気が帯電しやすくなるという課題がある。静電気が反射型スクリーンに帯電することにより、反射面に塵埃等が付着して汚染され、反射面の反射率が低下するという課題がある。また、接触抵抗が大きいため、反射面の半球状の突起をつぶすことや、半球状の突起に選択的に形成される反射膜を損傷するという課題がある。
従って、スクリーン基材の反射面と裏面との接触抵抗を低減する反射型スクリーンおよび反射型スクリーンの製造方法が要望されていた。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上述した課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
【０００７】
（適用例１）本適用例に係る反射型スクリーンは、投射光を反射する反射型スクリーンであって、投射光を反射する第１面と、第１面の反対面となる第２面とを有すると共に、可撓性を有するシート状の基材を備え、第２面には、凹凸状の形状が形成されていることを特徴とする。
【０００８】
このような反射型スクリーンによれば、第１面の反対面となる第２面（いわゆる第１面の裏面）に凹凸状の形状が形成されていることにより、反射型スクリーンを巻き取って収納した場合、投射光を反射する第１面と、第２面の凹凸状の形状とが接触する。従って、従来のように、第２面が平坦面ではないため、第１面との接触面積を低減できることで、接触抵抗を低減させることができる。
【０００９】
（適用例２）上記適用例に係る反射型スクリーンにおいて、凹凸状の形状は、一様に形成されていることが好ましい。
【００１０】
このような反射型スクリーンによれば、適用例１の効果に加えて、第２面の凹凸状の形状が一様に形成されるため、第２面の見栄えを向上させることができる。
【００１１】
（適用例３）上記適用例に係る反射型スクリーンにおいて、凹凸状の形状は、シボ形状で構成されていることが好ましい。
【００１２】
このような反射型スクリーンによれば、第２面の凹凸状の形状がシボ形状で構成されているため、第２面の質感を向上させることができる。
【００１３】
（適用例４）本適用例に係る反射型スクリーンの製造方法は、投射光を反射する第１面と、第１面の反対面となる第２面とを有すると共に、可撓性を有するシート状の基材に対し、第２面に、凹凸状の形状を形成する凹凸形状形成工程を備えていることを特徴とする。
【００１４】
このような反射型スクリーンの製造方法によれば、凹凸形状形成工程により、第２面に凹凸状の形状を形成する。これにより、反射型スクリーンを巻き取って収納した場合、投射光を反射する第１面に、第２面に形成した凹凸状の形状を接触させることができる。従って、従来のように、第２面が平坦面ではないため、第１面と第２面との接触面積を低減できることで、接触抵抗を低減する反射型スクリーンを製造することができる。
【００１５】
（適用例５）上記適用例に係る反射型スクリーンの製造方法において、凹凸形状形成工程は、凹凸状の形状を転写する転写工程を備えていることが好ましい。
【００１６】
このような反射型スクリーンの製造方法によれば、転写工程により凹凸状の形状を転写することで、第２面に凹凸状の形状を容易に形成することができる。
【００１７】
（適用例６）上記適用例に係る反射型スクリーンの製造方法において、転写工程は、凹凸状の形状に形成された型を加熱して基材に押し付ける工程を含み、型は、耐熱性を有する合成樹脂部材で形成されていることが好ましい。
【００１８】
このような反射型スクリーンの製造方法によれば、耐熱性を有する合成樹脂部材を型として転写工程を行う。なお、従来、転写工程において、スクリーン基材の基材表面に、例えば凹状または凸状の形状を形成させる金属型を使用した場合、基材裏面が溶融して緩衝部材と密着するため、緩衝部材と基材裏面との間に密着防止部材として、耐熱性を有する合成樹脂部材を使用していた。これに対して、この耐熱性を有する合成樹脂部材に、例えば凹凸状の形状を形成し、型として用いて転写工程を行うことにより、従来の密着防止部材としての機能を有することができる。これにより、金属型を使用しない効率的な型構造の実現と、型の簡易化を図ることができる。
【００１９】
（適用例７）上記適用例に係る反射型スクリーンの製造方法において、合成樹脂部材は、シート状またはロール状に形成されていることが好ましい。
【００２０】
このような反射型スクリーンの製造方法によれば、転写工程において、シート状の合成樹脂部材を用いるか、ロール状の合成樹脂部材を用いるか適宜選択することができることで、選択の自由度を向上させることができる。
【００２１】
（適用例８）上記適用例に係る反射型スクリーンの製造方法において、第１面に複数の凹部または複数の凸部を有するように基材を変形させる基材変形工程を備え、転写工程は、基材変形工程と併せて行われることが好ましい。
【００２２】
このような反射型スクリーンの製造方法によれば、基材変形工程と転写工程とを併せて行うことで、反射型スクリーンの製造の効率化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】第１実施形態に係る反射型スクリーン装置が設置された状態を示す模式図。
【図２】反射型スクリーンの製造工程を示す模式図。
【図３】凹凸形状形成工程と基材変形工程とを示す模式図。
【図４】反射膜形成工程を示す模式図。
【図５】第２実施形態に係る凹凸形状形成工程と基材変形工程とを示す模式図。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、実施形態を図面に基づいて説明する。
（第１実施形態）
【００２５】
図１は、第１実施形態に係る反射型スクリーン装置１が設置された状態を示す模式図である。図１を参照して、本実施形態の反射型スクリーン装置１の概構成と動作に関して簡略に説明する。
【００２６】
本実施形態の反射型スクリーン装置１は、床面Ｆ等に載置するタイプの装置である。反射型スクリーン装置１は、直方体状の箱型に形成される筺体３の内部から上方（床面Ｆに対して略垂直な方向）に向かって反射型スクリーン２が繰り出される。そして、反射型スクリーン２は、床面Ｆに対して起立して使用可能な状態となる。なお、反射型スクリーン２は、反射型スクリーン装置１の近傍で机上面Ｄ（又は床面Ｆ）等に載置されたプロジェクターＰＪから射出された投射光Ｌｐを観察者側に反射する。
【００２７】
図１を含む以降の図面では、各構成要素を図面上で認識できる程度の大きさとするため、各構成要素の寸法や比率を実際のものとは適宜異ならせて示している。また、図１を含む以降の図面では、説明の便宜上、ＸＹＺ直交座標系で記載する。ＸＹＺ直交座標系は、床面Ｆに対して垂直方向をＹ方向（起立した状態の反射型スクリーン２の床面Ｆ側を−Ｙ方向）とする。また、起立した反射型スクリーン２のスクリーン基材２１面に平行で、Ｙ方向に直交する方向をＸ方向（起立した状態の反射型スクリーン２の反射面と正対した場合の右方向を＋Ｘ方向）とする。また、Ｙ方向及びＸ方向に直交する方向をＺ方向（起立した状態の反射型スクリーン２の反射面と正対する方向を＋Ｚ方向）とする。また、重力方向を基準として、重力方向を下方向、逆方向を上方向とする。
【００２８】
反射型スクリーン装置１は、図１に示すように、反射型スクリーン２と筺体３を備えている。筺体３の内部には、パンタグラフ機構部（図示省略）が伸縮自在に設置されている。このパンタグラフ機構部の上端部に反射型スクリーン２の上端部が固定されている。また、反射型スクリーン２の下端部は、筺体３内部に設置されるばね式の巻き取り機構部（図示省略）に固定されて巻き取られている。
【００２９】
巻き取り機構部は、反射型スクリーン２の幅方向（Ｘ方向）の長さと同等の長さの巻き取り軸（図示省略）を備えて構成されている。巻き取り軸は、常に巻き取る方向に引張り力を付与するバネ部材（図示省略）を有している。従って、反射型スクリーン２は、使用時や、引き出し時及び巻き取り時において、常に突っ張る状態となり、弛みを低減させている。
【００３０】
本実施形態のパンタグラフ機構部は、モーター（図示省略）により伸縮動作（昇降動作）を行う。パンタグラフ機構部が動作し、上方（＋Ｙ方向）に伸びる動作に対応して、反射型スクリーン２は、巻き取り機構部から繰り出される。また、逆に、パンタグラフ機構部が動作し、下方（−Ｙ方向）に縮む動作に対応して、反射型スクリーン２は、巻き取り機構部（巻き取り軸）に巻き取られ、筺体３内部に収容される。
【００３１】
図２は、反射型スクリーン２の製造工程１００を示す模式図であり、図２（ａ）は、凹凸形状形成工程１１０と基材変形工程１２０とを示す模式図であり、図２（ｂ）は、反射膜形成工程１３０を示す模式図である。図２を参照して、反射型スクリーン２の製造工程１００を説明する。
【００３２】
反射型スクリーン２は、可撓性を有するシート状の基材（以降、スクリーン基材２１と称す）を用いている。スクリーン基材２１は、本実施形態では、黒色の塩化ビニル樹脂で形成されている。黒色としているのは、不要な入射光を吸収させることができるためである。
【００３３】
なお、図２に示す製造工程１００は、長さ数百ｍのスクリーン基材がロール状に巻かれた状態で行われる、いわゆるロール・ツー・ロール方式により実施される。従って、本実施形態のスクリーン基材２１は、反射型スクリーン装置１として反射型スクリーン２（スクリーン基材２１）が起立した場合の左右方向が長尺状に繋がって形成される。図２は、工程毎に実施された結果を、要部の断面として拡大して示している。
【００３４】
製造工程１００は、凹凸形状形成工程１１０と基材変形工程１２０と反射膜形成工程１３０とを備えている。また、製造工程１００は、本実施形態では、凹凸形状形成工程１１０と基材変形工程１２０は、後述するエンボス加工装置２００を用いて、略同時に併せて行われる。その後、反射膜形成工程１３０が行われる。なお、各工程には、図示省略する搬送装置が備えられ、ロール状に巻かれたスクリーン基材２１を、１枚分のスクリーン基材２１の長さ毎に、順次引き出し、また、順次巻き取ることで加工が行われる。
【００３５】
図２（ａ）に示すように、凹凸形状形成工程１１０は、スクリーン基材２１の第２面としての基材裏面２１Ｂに凹凸形状の面（凹凸面２２）を形成する工程である。凹凸形状形成工程１１０は、本実施形態では、転写工程（以降、凹凸面転写工程１１１と称す）を含んで構成されている。また、凹凸面転写工程１１１は、加熱しながら型を押し付ける転写装置として、エンボス加工装置２００を用いて実施される。凹凸面２２は、基材裏面２１Ｂの略全領域に渡って一様に形成される。また、本実施形態の凹凸面２２は、いわゆるシボ形状で構成されている。また、シボ形状として、本実施形態では梨地模様を用いている。なお、シボ形状として、梨地模様の他、網目模様等を用いてもよい。
【００３６】
一方、基材変形工程１２０は、スクリーン基材２１の第１面としての基材表（おもて）面２１Ａを変形させる工程である。基材変形工程１２０は、本実施形態では、転写工程を含んで構成されている。本実施形態では、この転写工程（以降、凹面転写工程１２１と称す）により、基材表面２１Ａを変形させ、複数の凹部２３を形成している。また、凹面転写工程１２１は、凹凸面転写工程１１１と同様に、エンボス加工装置２００を用いて実施される。
【００３７】
図３は、凹凸形状形成工程１１０と基材変形工程１２０とを示す模式図であり、図３（ａ）は、エンボス加工装置２００の構成を示す概断面図であり、図３（ｂ）は、エンボス加工装置２００が動作した状態を示す概断面図である。図３を参照して、エンボス加工装置２００の構成と動作を説明することで、凹凸形状形成工程１１０と基材変形工程１２０とにおける転写工程（凹凸面転写工程１１１、凹面転写工程１２１）を説明する。
【００３８】
エンボス加工装置２００は、平面状の型で構成されている。エンボス加工装置２００は、形成させる形状とは逆形状に形成された型を加熱しながら、スクリーン基材２１を上下方向から高圧力で押し付け、スクリーン基材２１を型形状に沿わせて熱変形（転写）させて、必要な形状を形成させる装置である。
【００３９】
図３（ａ）に示すように、エンボス加工装置２００は、スクリーン基材２１の下側に、下側金型ベース２２０と、下側金型ベース２２０の上部には凸状に形成された凸部２２１Ａを有する金型２２１とを備えて構成される。また、エンボス加工装置２００は、スクリーン基材２１の上側に、上側金型ベース２１０を備えて構成される。上側金型ベース２１０のスクリーン基材２１側は、平面を有して形成されている。
【００４０】
また、エンボス加工装置２００は、上側金型ベース２１０とスクリーン基材２１との間に、凹凸形状に形成された凹凸部２１１Ａを有する凹凸型２１１を備えて構成される。凹凸型２１１は、本実施形態では合成樹脂部材で構成されている。また、合成樹脂部材として、本実施形態では、耐熱性を有するシート状のテフロン（登録商標）樹脂を用いている。
【００４１】
また、エンボス加工装置２００は、上側金型ベース２１０と凹凸型２１１との間に、転写する際にスクリーン基材２１に圧力を均等にかけるための緩衝部材２１２を備えている。緩衝部材２１２として、本実施形態ではフェルト部材を用いている。
【００４２】
なお、本実施形態の凹凸型２１１は、エンボス加工装置２００が動作した際、基材裏面２１Ｂ側の溶融による緩衝部材２１２との密着を防止する密着防止部材としての機能も有している。
【００４３】
凹凸形状形成工程１１０と基材変形工程１２０を行う場合、最初に、エンボス加工装置２００に対して、ロール状のスクリーン基材２１を引き出してセットする。詳細には、図３（ａ）に示すように、スクリーン基材２１の基材表面２１Ａが金型２２１に相対し、基材裏面２１Ｂが凹凸型２１１に相対するようにセットする。そして、エンボス加工装置２００を動作させる。この場合、下側金型ベース２２０と上側金型ベース２１０は加熱されている。エンボス加工装置２００が動作する場合、下側金型ベース２２０は固定されており、上側金型ベース２１０が下降することで、スクリーン基材２１を押し付ける。
【００４４】
図３（ｂ）に示すように、エンボス加工装置２００が、スクリーン基材２１を、下側金型ベース２２０と上側金型ベース２１０とで押し付けることにより、凹凸面転写工程１１１と凹面転写工程１２１が略同時に行われる。これにより、基材裏面２１Ｂは、凹凸型２１１の凹凸部２１１Ａに沿って熱変形して転写される。これにより、図２（ａ）に示すように凹凸面２２が形成される。また、基材表面２１Ａは、金型２２１の凸部２２１Ａに沿って熱変形して転写される。これにより、図２（ａ）に示すように凹部２３が形成される。
【００４５】
凹部２３は、基材表面２１Ａの略全領域に渡って形成される。凹部２３は、例えば、Ｘ方向において、反射型スクリーン２のＸ方向の中心線上（図示省略）の所定の位置を中心とする円弧状に配列し、Ｙ方向において、この中心を同心とする同心円状に配列するように形成される。本実施形態の凹部２３は、略半球状となるように形成される。なお、凹部２３の配置はこれに限らず、実使用時の反射型スクリーン２とプロジェクターＰＪとの位置関係などに合わせて、適宜変更してもよい。
【００４６】
なお、凹凸形状形成工程１１０と基材変形工程１２０は、ロール・ツー・ロール方式で、引き出された１枚分のスクリーン基材２１の長さ毎に、連続的に凹凸面２２と凹部２３を形成する。
【００４７】
図２に戻り、凹凸形状形成工程１１０と基材変形工程１２０が終了した場合、次工程の反射膜形成工程１３０に移行する。図２（ｂ）に示すように、反射膜形成工程１３０は、凹部２３の内面２３Ａに選択的に反射膜２４を形成する工程である。なお、反射膜形成工程１３０は、本実施形態では、蒸着工程１３１を含んで構成されている。本実施形態では、この蒸着工程１３１により、内面２３Ａにアルミニウムの膜を選択的に形成している。
【００４８】
図４は、反射膜形成工程１３０を示す模式図である。図４を参照して、反射膜形成工程１３０における蒸着工程１３１に関して説明する。
【００４９】
蒸着工程１３１は、ロール状に巻き取られたスクリーン基材２１を、基材表面２１Ａが蒸着源Ｓの上方に相対して、傾斜するように引き出し、先端を巻き取り側のロール部材に取り付ける。なお、基材表面２１Ａは、スクリーン基材２１の上部側が下部側に比べて、蒸着源Ｓから離れる状態に取り付けられる。また、蒸着源Ｓは、反射型スクリーン２のＸ方向の中心線上（図示省略）で、スクリーン基材２１の下部側に設置される。なお、スクリーン基材２１の上部側とは、反射型スクリーン２が起立した場合の上部側をいう。
【００５０】
蒸着工程１３１は、詳細には、反射膜２４を形成する際、基材表面２１Ａに対して斜めに投射光Ｌｐを射出するプロジェクターＰＪの位置を仮想光源位置Ｐとして予め想定しておく。そして、基材表面２１Ａの各凹部２３に対する蒸着材料の蒸着の角度θｓが、基材表面２１Ａの各凹部２３に対する仮想光源位置Ｐからの投射光Ｌｐの入射角度θｐと等しいか、それよりも小さくなるように蒸着源Ｓを配置して、投射光Ｌｐの入射方向から各凹部２３に蒸着材料を蒸着させる。
【００５１】
蒸着工程１３１を行うことにより、凹部２３の内面２３Ａの投射光Ｌｐが照射される部分に、凹状の反射膜２４が形成される。なお、このように、斜め方向から蒸着を行い、反射膜２４を選択的に形成することで、蒸着源Ｓを中心にして、基材表面２１Ａの各凹部２３に放射状で部分的に反射膜２４が形成される。そして、反射膜２４の膜厚は、蒸着源Ｓから離れるに従って徐々に薄く形成される。なお、反射膜２４を蒸着法により形成することで、スプレーコート方法、印刷方法などにより反射膜を形成するよりも、薄く高品位な反射膜２４を形成することができる。
【００５２】
なお、反射膜形成工程１３０も、ロール・ツー・ロール方式で、引き出された１枚分のスクリーン基材２１の長さ毎に、連続的に反射膜２４を形成する。上述した製造工程１００で製造されたスクリーン基材２１（反射型スクリーン２）は、以降の工程において、所定の長さで個々に切り分けられ、本実施形態の反射型スクリーン２及び反射型スクリーン装置１として組み立てられる。
【００５３】
なお、上述した製造工程１００により、形成された反射型スクリーン２が、反射型スクリーン装置１として組み立てられた場合、プロジェクターＰＪから投射された投射光Ｌｐは、反射型スクリーン２の反射膜２４により、効率的に観察者側に反射される。また、反射型スクリーン２に、蛍光灯等からの不要な外光が入射した場合には、反射膜２４以外の凹部２３に吸収されるため、観察者側には反射させ難くできる。また、反射型スクリーン２は、基材裏面２１Ｂに凹凸面２２が形成されているため、反射型スクリーン２の背面側から入射する外光に対して乱反射させることで、遮光性を向上させることができる。これにより、反射型スクリーン２のコントラスト性能を向上させる。
【００５４】
また、上述した製造工程１００により、形成された反射型スクリーン２が、反射型スクリーン装置１として組み立てられた場合、反射型スクリーン２が筺体３内部に収容される際には、スクリーン基材２１の基材表面２１Ａに形成された凹部２３（及び反射膜２４）は、基材裏面２１Ｂに形成された凹凸面２２と重なる状態で、巻き取り機構部（巻き取り軸）に巻き取られる。また、巻き取り機構部から反射型スクリーン２が繰り出される際には、基材表面２１Ａの凹部２３と基材裏面２１Ｂの凹凸面２２とが剥離される状態で展張される。
【００５５】
上述した第１実施形態によれば、以下の効果が得られる。
本実施形態の反射型スクリーン２によれば、基材裏面２１Ｂに凹凸面２２を有しているため、反射型スクリーン２の収納時に、基材表面２１Ａの凹部２３と基材裏面２１Ｂの凹凸面２２とが重なって巻き取られても、従来のように基材裏面が平坦面であった場合に比較して、凹部２３との接触面積を低減できる。そのため、凹部２３と凹凸面２２とが剥離される状態で展張された場合に、従来のように基材裏面が平坦面であった場合に比較して、接触抵抗を低減することができ、接触抵抗による静電気がスクリーン基材２１に帯電し難くなり、静電気の発生を抑制することができる。
また、静電気の発生を抑制することができるため、反射膜２４を含む凹部２３に塵埃等が付着して汚染されることを低減でき、反射膜２４の反射率の低下を防止することができる。
【００５６】
本実施形態の反射型スクリーン２によれば、基材裏面２１Ｂに凹凸面２２を有しているため、基材表面２１Ａの凹部２３との接触抵抗を低減できることにより、凹部２３をつぶすことや、反射膜２４を損傷することを防止することができる。
【００５７】
本実施形態の反射型スクリーン２によれば、凹凸面２２は、一様に形成され、また、シボ形状（梨地）で構成されている。これにより、第２面としての基材裏面２１Ｂの質感を向上させることができ、見栄えを向上させることができる。
【００５８】
本実施形態の反射型スクリーン２の製造方法によれば、第２面としての基材裏面２１Ｂに、凹凸面２２を形成する凹凸形状形成工程１１０を備えている。これにより、反射型スクリーン２を巻き取って収納する場合、投射光を反射する基材表面２１Ａに、基材裏面２１Ｂに形成した凹凸面２２を接触させることができる。従って、従来の平坦な基材裏面と異なり、基材裏面２１Ｂが平坦面ではないため、基材表面２１Ａと基材裏面２１Ｂとの接触面積を低減できることにより、接触抵抗を低減する反射型スクリーン２を製造することができる。
【００５９】
本実施形態の反射型スクリーン２の製造方法によれば、凹凸形状形成工程１１０は、凹凸状の形状（凹凸部２１１Ａ）を転写する転写工程（凹凸面転写工程１１１）を備えている。この凹凸面転写工程１１１により凹凸部２１１Ａを転写することで、基材裏面２１Ｂに容易で効率的に凹凸面２２を形成することができる。
【００６０】
本実施形態の反射型スクリーン２の製造方法によれば、凹凸面転写工程１１１において、耐熱性を有するシート状のテフロン樹脂を型として転写工程を行っている。従来、転写工程において、スクリーン基材の基材表面に例えば凹状の形状を形成させる金属型を使用した場合、基材裏面が溶融して緩衝部材と密着するため、緩衝部材と基材裏面との間に密着防止部材として、耐熱性を有する合成樹脂部材を使用していた。これに対して、この耐熱性を有するテフロン樹脂を凹凸型２１１として用いて凹凸面転写工程１１１を行うことにより、従来の密着防止部材としての機能を有すると共に、型として使用することができるため、効率的な型構造の実現と、型の簡易化を図ることができる。
【００６１】
本実施形態の反射型スクリーン２の製造方法によれば、凹凸形状形成工程１１０の凹凸面転写工程１１１と、基材変形工程１２０の凹面転写工程１２１とが略同時に併せて行われる。これにより、反射型スクリーン２の製造の効率化を図ることができる。
（第２実施形態）
【００６２】
図５は、第２実施形態に係る凹凸形状形成工程１５０と基材変形工程１６０とを示す模式図である。図５を参照して、本実施形態の凹凸形状形成工程１５０と基材変形工程１６０とにおける転写工程（凹凸面転写工程１５１と凹面転写工程１６１）を説明する。
【００６３】
本実施形態の反射型スクリーン２は、第１実施形態の反射型スクリーン２と比較して、製造方法が異なっている。詳細には、第１実施形態の転写工程（凹凸面転写工程１１１、凹面転写工程１２１）は平面状の型で構成されるエンボス加工装置２００を用いていた。これに対して、本実施形態の転写工程（凹凸面転写工程１５１、凹面転写工程１６１）は、ロール状の型で構成されるエンボス加工装置３００を用いて行うことが異なる。その他は、第１実施形態と同様である。同様の構成には同様の符号を付記している。
【００６４】
なお、本実施形態の凹凸形状形成工程１５０（凹凸面転写工程１５１）と、基材変形工程１６０（凹面転写工程１６１）は、第１実施形態の凹凸形状形成工程１１０（凹凸面転写工程１１１）と、基材変形工程１２０（凹面転写工程１２１）にそれぞれ対応している。また、凹凸形状形成工程１５０と基材変形工程１６０は、エンボス加工装置３００を用いることで、第１実施形態と同様に略同時に併せて行われる。また、凹凸形状形成工程１５０と基材変形工程１６０は、第１実施形態と同様に、ロール状に巻かれたスクリーン基材２１を、１枚分のスクリーン基材２１の長さ毎に、順次引き出し、また、順次巻き取ることで加工が行われる。
【００６５】
図５に示すように、エンボス加工装置３００は、円柱状の受けローラー３１０と円柱状のエンボスローラー３２０とを有して構成されている。また、受けローラー３１０とエンボスローラー３２０は、互いに対向して配置され、それぞれ中心軸を中心に回転自在に保持されている。
【００６６】
受けローラー３１０は、受けローラー本体３１１の外周面に、凹凸部３１２Ａが形成された凹凸型３１２が設置されている。なお、この凹凸型３１２は、第１実施形態と同様に、耐熱性を有するロール状のテフロン樹脂またはシリコンゴムで形成され、その表面に、凹凸部３１２Ａとしてのシボ形状（本実施形態では梨地）が一様に形成されている。また、エンボスローラー３２０は、エンボスローラー本体３２１の外周面に、凸部３２１Ａが形成された金型で構成されている。
【００６７】
凹凸形状形成工程１５０と基材変形工程１６０は、このように構成されるエンボス加工装置３００に対し、加熱されたスクリーン基材２１をエンボスローラー３２０と受けローラー３１０との間に上方から下方に向けた状態で挟持させて実施される。詳細には、基材表面２１Ａにエンボスローラー３２０を当接させ、基材裏面２１Ｂに受けローラー３１０を当接させて挟持させる。
【００６８】
そして、エンボスローラー３２０が回転することにより、基材表面２１Ａに凸部３２１Ａを押圧して、凸部３２１Ａの形状を転写させる。これにより、基材表面２１Ａに凹部２３が形成される。また、受けローラー３１０が回転することにより、基材裏面２１Ｂに凹凸部３１２Ａを押圧して、凹凸部３１２Ａの形状を転写させる。これにより、基材裏面２１Ｂに凹凸面２２が形成される。
【００６９】
上述したエンボス加工装置３００により、凹凸形状形成工程１５０と基材変形工程１６０を実施した後は、第１実施形態と同様の、反射膜形成工程１３０に移行する。
【００７０】
上述した第２実施形態によれば、第１実施形態での効果を同様に奏することができる他、以下の効果が得られる。
【００７１】
本実施形態の反射型スクリーン２によれば、第１実施形態での転写工程（凹凸面転写工程１１１、凹面転写工程１２１）では、平面状の型で構成されるエンボス加工装置２００を用いていたが、第２実施形態での転写工程（凹凸面転写工程１５１、凹面転写工程１６１）では、ロール状の型で構成されるエンボス加工装置３００を用いて行っている。これにより、転写工程を行う際のエンボス加工装置２００，３００の選択の自由度を向上させる。
【００７２】
なお、上述した実施形態に限定されず、その要旨を逸脱しない範囲において種々の変更や改良等を加えて実施することが可能である。変形例を以下に述べる。
【００７３】
前記第１実施形態の反射型スクリーン２は、スクリーン基材２１の基材表面２１Ａに複数の凹部２３を形成させているが、複数の凸部を形成させることでもよい。凸部の形成は、基材変形工程において、エンボス加工装置２００の金型２２１を、凹部を有する金型に交換して行うことで実現できる。また、その後、この転写された複数の凸部に対して、第１実施形態と同様に反射膜を選択的に形成させることでよい。また、前記第２実施形態のエンボス加工装置３００において、凸部３２１Ａを有するエンボスローラー３２０を、凹部を有するエンボスローラーに交換して行うことで、基材表面２１Ａに複数の凸部を形成させることができる。
【００７４】
前記第１実施形態の反射型スクリーン２において、凹凸型２１１は、耐熱性を有するシート状のテフロン樹脂を用いている。しかし、耐熱性を有するシート状のシリコン樹脂を用いてもよい。これは、第２実施形態においても同様に、耐熱性を有するロール状のシリコン樹脂を用いてもよい。また、耐熱性を有する合成樹脂部材であればよい。
【００７５】
前記第１、第２実施形態の反射型スクリーン２において、基材裏面２１Ｂに形成される凹凸面２２は、基材裏面２１Ｂの略全領域に渡って一様に形成され、また、シボ形状で構成されている。そして、シボ形状として梨地模様を用いている。しかし、これに限定されず、凹凸面２２は、スクリーン基材２１の基材表面２１Ａに凹凸形状が影響を与えない範囲で、様々な模様を用いることができる。例えば、革や木目等の模様を用いてもよい。また、画像データを利用した模様等でもよい。また、会社や商品等のロゴマークを模様として用いることでもよく、会社や商品等のイメージを使用者に印象づけることができる効果も奏する。
【００７６】
前記第１、第２実施形態の反射型スクリーン２において、凹凸形状形成工程１１０と基材変形工程１２０とは、エンボス加工装置２００を用いて同時に行われている。しかし、これに限られず、別々に行われてもよい。
【００７７】
前記第１、第２実施形態の反射型スクリーン２は、製造工程１００において、各工程に搬送装置が備えられ、ロール状に巻かれたスクリーン基材を、１枚分のスクリーン基材２１の長さ毎に、順次引き出し、また、順次巻き取ることで加工が行われている。しかし、１枚分のスクリーン基材２１の長さに切断したものを用いて各工程を行ってもよい。
【００７８】
前記第１、第２実施形態の反射型スクリーン２は、基材表面２１Ａ（投射光Ｌｐの入射側）に複数の凹部２３を形成し、複数の凹部２３に選択的に反射膜２４を形成している。しかし、投射光Ｌｐの入射側は、これに限られず、入射光を反射させるために様々に形成されていてもよい。例えば、スクリーンの基材に白色の塗料を塗布したものや、基材の表面にレンチキュラーレンズの凹凸を形成したものや、基材の表面にアルミ箔を貼着してマットフィルム等の被膜を設けたものや、基材の表面に細かいガラス粉末（ビーズ）を塗布したもの等でもよい。
【００７９】
前記第１、第２実施形態の反射型スクリーン装置１は、電動で、反射型スクリーン２を伸縮する。しかし、これに限られず、筒状の部材に反射型スクリーンを手動で巻き取るタイプの反射型スクリーン装置であってもよい。
【００８０】
前記第１、第２実施形態の反射型スクリーン２において、凹部２３は、中心線上の所定の位置を中心として円弧状に配列されている。しかし、これに限られず、Ｙ方向、Ｘ方向に直線状に配列するように形成してもよい。
【００８１】
前記第１、第２実施形態の反射型スクリーン２において、凹部２３のピッチや深さ等は、製造のしやすさや反射効率等を考慮して適宜設定することができる。
【００８２】
前記第１、第２実施形態の反射型スクリーン装置１において、反射型スクリーン２は、巻き取り機構部（巻き取り軸）に巻き取られて収容される。しかし、これに限られず、ジャバラ方式で折り畳むように収容されてもよい。
【００８３】
前記第１、第２実施形態の反射型スクリーン装置１は、床面Ｆに載置するタイプである。しかし、これに限られず、壁面に固定されてもよい。また、机や台等に固定されてもよい。
【００８４】
前記第１、第２実施形態の反射型スクリーン装置１は、床面Ｆに載置して、筺体３の内部から上方（床面Ｆに対して略垂直な方向）に向かって反射型スクリーン２が繰り出される。しかし、これに限られず、天井や天井に近い壁面などに固定して、筺体の内部から、床面に向かって下方向に反射型スクリーンが繰り出されることでもよい。
【符号の説明】
【００８５】
１…反射型スクリーン装置、２…反射型スクリーン、２１…スクリーン基材、２１Ａ…基材表面、２１Ｂ…基材裏面、２２…凹凸面、２３…凹部、２４…反射膜、１００…製造工程、１１０…凹凸形状形成工程、１１１…凹凸面転写工程、１２０…基材変形工程、１２１…凹面転写工程、１５０…凹凸形状形成工程、１５１…凹凸面転写工程、１６０…基材変形工程、１６１…凹面転写工程、２００…エンボス加工装置、２１１…凹凸型、２１１Ａ…凹凸部、３００…エンボス加工装置、３１０…受けローラー、３１２…凹凸型、３１２Ａ…凹凸部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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