(57)【要約】【課題】電気絶縁性、潤滑性、可とう性、及び密着性などに優れた電線又はケーブル、並びにそれらの製造方法を提供する。【解決手段】ケーブル１は、導体２の外周に絶縁層４を形成し、絶縁層４の外周にシース層５を形成し、シース層５の外周にイオンを注入してミキシング層７を形成し、ミキシング層７の外周にダイヤモンドライクカーボンを含む炭素層６を形成して構成されている。炭素層６は、ミキシング層７のイオンを核として独立した柱状膜を成長させた柱状膜の集合体からなる。【選択図】図２
2012084258.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導体の外周に絶縁層を形成し、前記絶縁層の外周にミキシング層を形成し、前記ミキシング層の外周にダイヤモンドライクカーボンを含む炭素層を最外層として形成したことを特徴とする電線。
【請求項２】
導体の外周に絶縁層を形成し、前記絶縁層の外周にシース層を形成し、前記シース層の外周にミキシング層を形成し、前記ミキシング層の外周にダイヤモンドライクカーボンを含む炭素層を最外層として形成したことを特徴とするケーブル。
【請求項３】
前記炭素層が、それぞれ独立した柱状膜の集合体であることを特徴とする請求項１又は２記載の電線又はケーブル。
【請求項４】
導体の外周に絶縁被覆材料からなる絶縁層を形成する工程と、
前記絶縁層の外周にイオンを注入してミキシング層を形成する工程と、
前記ミキシング層のイオンを核としてそれぞれ独立した柱状膜を成長させ、これらの柱状膜の集合体からなる炭素層を最外層として形成する工程と、
を含むことを特徴とする電線の製造方法。
【請求項５】
導体の外周に絶縁被覆材料からなる絶縁層を形成する工程と、
前記絶縁層の外周にシース層を形成する工程と、
前記シース層の外周にイオンを注入してミキシング層を形成する工程と、
前記ミキシング層のイオンを核としてそれぞれ独立した柱状膜を成長させ、これらの柱状膜の集合体からなる炭素層を最外層として形成する工程と、
を含むことを特徴とするケーブルの製造方法。
【請求項６】
前記イオンが、Ｓｉ、Ｈ、Ｎ、Ｆ、Ｃ、Ｃｒ、Ｔｉを少なくとも１種以上含むことを特徴とする請求項４又は５記載の電線又はケーブルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、送配電や制御用の配線などに使用される電線又はケーブル、並びにそれらの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
通常、電線又はケーブルは、ゴムや樹脂を主原料とした電気絶縁性材料からなる被覆材により被覆されている。この被覆材を構成するゴムや樹脂は摩擦抵抗が大きいため、被覆材同士の接触、機器内のフレームや電線を通す電線管などの他物品との接触によって配線することが困難であり、それらとの接触による摩擦によって被覆材を摩耗してしまうことがある。
【０００３】
特に、被覆材にゴムを使用した可動用ケーブル（キャブタイヤケーブル）においては、接続した装置の動きに連動して移動させた際に、ゴムの摩擦抵抗が大きいため、被覆材同士の接触、あるいはプーリーやリールなどの他物品との接触により、被覆材の外表面がこすれ、ケーブル全体がうねり、被覆材にキンクや座屈を発生することで耐久性を失い、ケーブル断線にいたることがある。
【０００４】
上記問題点を解消するため、従来では、摩擦抵抗を下げる目的で、滑性の高いグリースやシリコーン油をゴムや樹脂からなる被覆材に添加もしくは塗布したり（特許文献１参照。）、タルクやシリコーンパウダーといった粉を被覆材に塗布したり（特許文献２参照。）、あるいはシリコーン系のグラフトもしくは変性ポリマーを被覆材に添加したりしている（特許文献３参照。）。
【０００５】
しかしながら、油の添加や塗布、又はパウダーの塗布は、油やパウダーがゴムや樹脂の表面からなくなると効力を失い、滑性の高いポリマーの添加は、ゴムや樹脂との相溶性等の面から、満足する滑性や機械特性を得ることができないという問題を有している。
【０００６】
一方、電線本体を覆う絶縁性カバー（被覆材）の外表面に炭素層（ＤＬＣ）を形成した電線が提案されている（特許文献４参照。）。しかしながら、一般的なＤＬＣを用いると、ゴムや樹脂の可とう性を落とし、且つ、ゴムや樹脂との剥離も起こり易い。このＤＬＣでは、表面電気抵抗が低いという不具合もあり、ゴムや樹脂を被覆材として使用するのには問題点があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００１−３１９０３号公報
【特許文献２】特開２００３−７１４４号公報
【特許文献３】特開２００８−２１８０６１号公報
【特許文献４】特開平９−３２０３５２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、電気絶縁性、潤滑性、可とう性、及び密着性などに優れた電線又はケーブル、並びにそれらの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
［１］本発明は、導体の外周に絶縁層を形成し、前記絶縁層の外周にミキシング層を形成し、前記ミキシング層の外周にダイヤモンドライクカーボンを含む炭素層を最外層として形成したことを特徴とする電線にある。
【００１０】
［２］本発明は更に、導体の外周に絶縁層を形成し、前記絶縁層の外周にシース層を形成し、前記シース層の外周にミキシング層を形成し、前記ミキシング層の外周にダイヤモンドライクカーボンを含む炭素層を最外層として形成したことを特徴とするケーブルにある。
【００１１】
［３］上記［１］又は［２］記載の発明にあって、前記炭素層が、それぞれ独立した柱状膜の集合体であることを特徴とする。
【００１２】
［４］本発明は更に、導体の外周に絶縁被覆材料からなる絶縁層を形成する工程と、前記絶縁層の外周にイオンを注入してミキシング層を形成する工程と、前記ミキシング層のイオンを核としてそれぞれ独立した柱状膜を成長させ、これらの柱状膜の集合体からなる炭素層を最外層として形成する工程とを含むことを特徴とする電線の製造方法を提供する。
【００１３】
［５］本発明は更に、導体の外周に絶縁被覆材料からなる絶縁層を形成する工程と、前記絶縁層の外周にシース層を形成する工程と、前記シース層の外周にイオンを注入してミキシング層を形成する工程と、前記ミキシング層のイオンを核としてそれぞれ独立した柱状膜を成長させ、これらの柱状膜の集合体からなる炭素層を最外層として形成する工程とを含むことを特徴とするケーブルの製造方法を提供する。
【００１４】
［６］上記［４］又は［５］記載の発明にあって、前記イオンが、Ｓｉ、Ｈ、Ｎ、Ｆ、Ｃ、Ｃｒ、Ｔｉを少なくとも１種以上含むことを特徴とする。
【００１５】
ここで、電線とは、導体を絶縁体で被覆した長尺体で、その外周にシース層を有しないものをいい、ケーブルとは、絶縁電線（導体を絶縁体で被覆した長尺体）の外周にシース層を有するものをいう。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、摩擦抵抗が小さくなり、電線同士又はケーブル同士の接触、もしくは他物品との接触によるうねりが発生し難くなるため、断線を防止することが可能となる。炭素層の密着性が強いため、耐久性があり、表面抵抗が高く、電気絶縁性にも優れた電線又はケーブルが得られる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の典型的な実施の形態に係るキャブタイヤケーブルの断面構造を模式的に示す説明図である。
【図２】キャブタイヤケーブルにおけるシース層の外表面側の断面構造を拡大して概念的に示す説明図である。
【図３】本発明の典型的な実施の形態に係る電線の断面構造を模式的に示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明の好適な実施の形態を添付図面に基づいて具体的に説明する。
【００１９】
（ケーブルの構成）
図１において、全体を示す符号１は、この実施の形態に係る典型的なキャブタイヤケーブル（以下、単に「ケーブル」という。）を示している。このケーブル１は、円形断面形状をなす三本の絶縁電線２，２，２と、これらの絶縁電線２の外周にゴム又は樹脂を押出被覆、あるいは押出被覆及び加硫して形成されたシース層５と、そのシース層５の外周を被覆する炭素層６とにより多心構造とされている。
【００２０】
撚合絶縁電線８は、図１に示すように、三本の絶縁電線２を撚り合わせて形成されており、撚り線で構成される銅製の導体３と、この銅導体３の周囲にゴム又は樹脂を押出被覆、あるいは押出被覆及び加硫して形成された絶縁被覆材料からなる絶縁層（絶縁体）４とを有している。
【００２１】
図示例によるケーブル１の被覆材料であるゴム又は樹脂は、特に限定されるものではなく、一般的に用いられる材質と同一の材質であってもよい。
【００２２】
ゴムとしては、天然ゴム、ブチルゴム、ハロゲン化ブチルゴム、エチレンプロピレンゴム、クロロプレンゴム、スチレンブタジエンゴム、ニトリルゴム、クロロスルフォン化ポリエチレン、塩素化ポリエチレン、エピクロロビドリンゴム、アクリルゴム、シリコーンゴム、フッ素ゴム、ウレタンゴムなどが挙げられ、架橋又は加硫の有無は問わない。
【００２３】
一方、樹脂としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリブチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリアミド、アクリル樹脂、ＡＢＳ、ＡＣＳ、ＡＥＳ、ＡＳＡ、ポリアセタール、フッ素樹脂、エチレン酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、エチレン酢酸ビニル塩化ビニル共重合体、エチレン・アクリル酸エステル共重合体、ポリビニルアルコール、シリコーン樹脂、スチレン共重合体、セルロースプラスチック、ポリ乳酸、ニトリル樹脂、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルスルフォン、ポリエチレンオキサイド、ポリスルフォン、ポリビニルアセタール、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンサルファイド、ポリベンゾイミダゾール、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタンなどが挙げられ、架橋の有無は問わない。
【００２４】
これらのゴム又は樹脂のいずれかを１種又は２種以上含有するものをケーブルの被覆材料として用いることができる。使用目的に応じて、ゴム又は樹脂に通常使用されるような配合剤を添加しても構わない。その一例としては、酸化防止剤、紫外線吸収剤、難燃剤、滑剤、架橋助剤、補強剤、充填剤、プロセス油、可塑剤、ワックス、シランカップリング剤、着色剤、加工助剤などが挙げられる。
【００２５】
（炭素層の構成）
上記のように構成されたケーブル１は、シース層５の外周を被覆する炭素層６（最外層）に特徴部を有している。従って、この実施の形態であるケーブル１の材質、形状及び構造などは特に限定されるものではない。この実施の形態に係る特徴部となる炭素層６の構造は、図２に示すように、シース層５の外周に高いエネルギー（５ｋｅＶ〜３０ｋｅＶ）でミキシング層７となるイオンを注入し、プラズマ法（数十ｅＶ〜１ｋｅＶ）で柱状にＤＬＣ（Diamond Like Carbon、ダイヤモンドライクカーボン）６ａを成長させた柱状膜の集合体に形成されている。
【００２６】
図示例にあっては、炭素層６の代表的な一例として、柱状のＤＬＣ６ａを例示している。このＤＬＣ６ａは、ＤＬＣ同士、もしくは他物品との摩擦抵抗が小さい。そのため、シース層５の外周にＤＬＣ６ａを被覆したケーブル１においては、ケーブル同士の接触や他物品との接触によるうねりやこすれを防止することが可能となり、ケーブル１の耐久性を高めるとともに、ケーブル１の断線を防止することができるようになる。
【００２７】
ＤＬＣ６ａに含まれる水素濃度や層厚を調整することで、電気絶縁性及び可とう性に優れた炭素層６を得ることができる。ＤＬＣ６ａ中の水素濃度が高いと、可とう性には優れるが、電気絶縁性に劣る炭素層６となり、好ましくない。これとは反対に、ＤＬＣ６ａ中の水素濃度が低いと、電気絶縁性には優れるが、可とう性に劣る炭素層６となるので好ましくない。ＤＬＣ６ａ中の水素濃度としては、３０〜４０％程度が特に望ましく、十分な電気絶縁性が得られる。ＤＬＣ６ａの厚さとしては、１μｍ以下が望ましい。ＤＬＣ６ａの厚さが１μｍ以下であれば、可とう性を保持することができるとともに、良好な密着性が得られる。
【００２８】
ところで、ゴム又は樹脂とＤＬＣとは、互いに硬度が異なる。そのため、ＤＬＣは、ケーブルを曲げたときケーブルの被覆材料であるゴム又は樹脂の変形に追従できずに剥がれてしまったり、ゴム又は樹脂からブリードアウトしてくる油によりゴム又は樹脂との密着性が阻害されたりする。
【００２９】
この実施の形態に係るＤＬＣ６ａとしては、連続的でない形状に形成されることが肝要である。このＤＬＣ６ａとしては、図示例のような独立した複数の柱状膜に形成されることが好適である。ゴム又は樹脂の変形に追従できるような亀裂をもつＤＬＣ６ａを成長させることで、ケーブル１を曲げても、ＤＬＣ６ａはシース層５の外周から剥がれ落ちづらくなるので好ましい。
【００３０】
この柱状に独立した形態の柱状膜の大きさ（上面において２点間を直線で結んだ場合における当該直線の長さの最大値）は、特に規定されるものではないが、０．０１μｍ程度以上５０μｍ程度以下が好適である。この柱状膜が大きくなり過ぎると、ゴム又は樹脂を変形させた際に、シース層５の外周から剥がれ落ち易くなり、柱状膜が小さくなり過ぎると、独立したＤＬＣ６ａを成長させることが困難となるので好ましくない。
【００３１】
（ケーブルの製造方法）
上記実施の形態に係るケーブル１は、銅導体３の外周に絶縁体４を被覆形成し、絶縁体４の外周にシース層５を被覆形成する工程を経て、この実施の形態に係る特徴部である炭素層６を形成する工程により製造される。この炭素層形成工程においては、シース層５にイオンを注入してミキシング層７を形成し、そのミキシング層７のイオンを核として、それぞれ独立したＤＬＣ６ａを成長させ、これらのＤＬＣ６ａの集合体からなる炭素層６を形成する。
【００３２】
このＤＬＣ６ａとしては、ＤＬＣ６ａをシース層５の外周に成膜する前に、シース層５の表面にＳｉ、Ｈ、Ｎ、Ｆ、Ｃ、Ｃｒ、Ｔｉなどの各種イオンを少なくとも１種注入して、シース層５を構成するゴム又は樹脂とイオンとの混合層となるミキシング層７を形成し、そのミキシング層７のイオンを核にＤＬＣ６ａを成長させることが肝要である。これにより、ゴム又は樹脂とＤＬＣ６ａとの密着性を向上させることができる。ミキシング層７のイオンとしては、Ｓｉ、Ｃｒ、あるいはＴｉイオンが特に望ましい。
【００３３】
以上のように構成されたＤＬＣ６ａは、ケーブル１の被覆材料の表面全体を覆っていても、被覆材料のうち一部表面を覆っていてもよい。その一部表面としては、例えばケーブル同士の接触部分や他物品との接触部分などが挙げられる。また、ＤＬＣ６ａは、例えば縦縞状、横縞状、螺旋状、又はドット状などのＤＬＣ膜に形成されてもよい。なお、ケーブル１において、絶縁体４とシース層５と間に低摩擦抵抗が求められる場合は、シース層５の外周にかかわらず、絶縁体４の外周にＤＬＣ６ａを形成してもよい。
【００３４】
（効果）
上記実施の形態に係るケーブル１によると、次の効果が得られる。
【００３５】
（１）被覆材料の外周に潤滑性の高い炭素層６を有しており、その炭素層６の表面抵抗は高く、電気絶縁性に優れたケーブル１が得られる。
（２）炭素層６は、摩擦抵抗が小さく、潤滑性にも優れているため、ケーブル同士の接触、又は他物品との接触によりケーブル１がこすれてうねることがなく、ケーブル断線を防止することができる。
（３）炭素層６の摩擦抵抗が小さいため配線もしやすく、可とう性にも優れているため曲げやすい。
（４）炭素層６の密着性が強いため、ケーブル１に屈曲や捻回などの動きを与えても、剥離することはない。
（５）ガス、水道、空気、自動車部品用の各種のホースやチューブの被覆材料に適用することができる。
【００３６】
（電線の製造方法）
図３を参照すると、図１に示す絶縁電線２の外周に炭素層６を被覆した電線構造が例示されている。なお、図３において上記実施の形態と実質的に同じ部材には同一の部材名と符号を付している。
【００３７】
図３に示す電線構造は、銅導体３の外周に絶縁体４を被覆形成する工程と炭素層６を形成する工程とにより製造される。この炭素層形成工程においては、絶縁体４の外周にイオンを注入してミキシング層７を形成し、そのミキシング層７のイオンを核として、それぞれ独立したＤＬＣ６ａを成長させ、これらのＤＬＣ６ａの集合体からなる炭素層６を形成する。この電線構造にあっても、上記ケーブル１と同様の効果が得られることは勿論である。
【実施例】
【００３８】
以下に、本発明の更に具体的な実施の形態として、実施例及び比較例を挙げて、図１及び図２、並びに表１〜３を参照しながら、ケーブルについて詳細に説明する。なお、この実施例にあっては、ケーブルの典型的な一例を挙げており、本発明は、これらの実施例に限定されるものではないことは勿論である。
【００３９】
［実施例１］
（絶縁電線の作製）
下記の表１に、実施例１及び２に係るケーブル１の絶縁体材料、シース材料及び配合量（重量部）を示す。この実施例１に係る絶縁電線２は、次のように作製した。先ず、表１に示す絶縁体材料をバンバリミキサで混練し、押出機を用いて、導体断面積２ｍｍ２の銅導体３上に絶縁体４を温度１００℃において押出成形した。その後、絶縁体４を有する銅導体３にスチームにより同時架橋して、図１に示す絶縁電線２を得た。
【００４０】
（ケーブルの作製）
次に、表１に示すシース材料Ｉをバンバリミキサで混練した。その混練した材料を、作製した絶縁電線２を３本撚り合わせた撚合絶縁電線８上に温度９０℃において押出成形した。その後、シース層５を有する撚合絶縁電線８にスチームにより同時架橋してケーブルを得た。
【００４１】
（ＤＬＣの成膜）
このＤＬＣ６ａは、プラズマＣＶＤ（Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition）法で成膜した。先ず、製作したケーブルを真空度１０−３Ｐａのチャンバー内に入れ、Ａｒプラズマ（０．５〜５．０ｋｅＶ）でケーブルの表面を洗浄した。その後、ＳｉプラズマでＳｉイオン（５〜３０ｋｅＶ）を注入し、ミキシング層７を形成した。次に、Ｃプラズマ（数十ｅＶ〜１ｋｅＶ）でシース層５の外周に柱状にＤＬＣ６ａを成長させた。ＤＬＣ６ａ中の水素濃度は、原料の炭化水素ガスの濃度を調整することで調整した。以上より、図２に示すミキシング層７及び炭素層６を有するケーブル１を作製した。
【００４２】
［実施例２］
この実施例２においては、上記実施例１におけるシース材料Ｉを下記の表１に示すシース材料ＩＩに変更した以外は、上記実施例１と同様の製法により、図２に示すミキシング層７及び炭素層６を有するケーブル１を作製した。
【００４３】
［比較例１］
この比較例１においては、上記実施例１におけるＡｒプラズマによる洗浄、Ｓｉイオンの注入によるミキシング層の形成、及びＤＬＣの形成を除いて、上記実施例１と同様の製法によりケーブルを作製した。
【００４４】
［比較例２］
この比較例２においては、上記実施例２におけるシース材料ＩＩを用い、上記実施例１におけるＡｒプラズマによる洗浄、Ｓｉイオンの注入によるミキシング層の形成、及びＤＬＣの形成を除いて、上記実施例１と同様の製法によりケーブルを作製した。
【００４５】
［比較例３］
この比較例３においては、ＤＬＣ６ａ中の水素濃度を上記実施例１より低く調整した以外は、上記実施例１と同様の製法によりケーブルを作製した。
【００４６】
［比較例４］
この比較例４においては、ＤＬＣ６ａ中の水素濃度を上記実施例１より高く調整した以外は、上記実施例１と同様の製法によりケーブルを作製した。
【００４７】
［比較例５］
この比較例５においては、上記実施例１におけるＳｉイオンを注入することなく、シース層５の外周に、亀裂をもたない柱状以外の形状にＤＬＣを成長させることで、ケーブルを作製した。
【００４８】
（評価結果）
上記実施例１及び２で作製されたケーブルと、比較例１〜５で作製されたケーブルとのそれぞれの特性を評価した。
【００４９】
（電気絶縁性評価結果）
実施例１及び２、並びに比較例１〜５に使用したシース材料を、バンバリミキサを用いて混練した後、オープンロール混練機を用いて再度混練した。次に、電熱プレス機を用い、成形温度１８０℃の条件で、厚さ１ｍｍのシート状に成形して架橋した。その後、同一条件でＤＬＣを成長させた（以下、「シート状試料」という。）。次に、ＪＩＳ  Ｋ６２７１に示される方法で、体積抵抗率及び表面抵抗率を測定した。そして、１０１０Ω・ｃｍ以上を合格とした。その評価結果を下記の表２及び３にまとめて示す。
【００５０】
（摩擦抵抗（潤滑性）評価結果）
上記電気絶縁性評価のために厚さ１ｍｍのシート状試料と同じ試料を作製した。次に、ヘイドン摩擦試験機を用いて、相手材がＳＵＳ３０４の場合と相手材が同じ材料の場合の動摩擦係数を測定した。そして、動摩擦係数が０．４以下のものを合格とした。その評価結果を下記の表２及び３にまとめて示す。
【００５１】
（密着性評価結果）
上記電気絶縁性評価のために厚さ１ｍｍのシート状試料と同じ試料を作製した。次に、ＤＬＣに１ｍｍ角の碁盤目状の切り目を１００個付けた後、その碁盤目状の切り目が付いたＤＬＣ面上にスコッチテープ（スリーエム社製）を貼り付け、５００ｍｍ／ｍｉｎの速度でテープを一気に剥がし、シート状試料上に残存している碁盤目状のＤＬＣの個数を測定した。そして、ＤＬＣの碁盤目の個数が８０個以上残っていれば、シース層に対する密着性に優れると判定して合格とした。その評価結果を下記の表２及び３にまとめて示す。
【００５２】
次いで、ケーブル捻回試験を専用の試験機を用いて実施した。ケーブル捻回試験は、次に示す要領で実施した。
【００５３】
有効長さ３ｍのケーブルを垂直に試験装置に取り付け、その下端に荷重９８Ｎの重りをぶら下げた。このケーブルを、１５回／分の速さで±３６０度に１０万回程、回転させた。その試験後、ケーブルを水平な場所に放置し、ＤＬＣの剥離状態を目視で確認した。そして、ＤＬＣが剥離していないケーブルを合格とした。その評価結果を下記の表２及び３にまとめて示す。
【００５４】
（独立したＤＬＣの大きさ）
作製したシート状試料の表面を、走査型電子顕微鏡を用いて観察し、目視により確認した。その評価結果を下記の表２及び３にまとめて示す。
【００５５】
（ＤＬＣ中の水素濃度の測定）
ＤＬＣ中の水素濃度は、ＥＲＤＡ法（前方反跳分析法）により測定した。その評価結果を下記の表２及び３にまとめて示す。
【００５６】
下記の表２から明らかなように、実施例１及び２は、初期の目的とする電気絶縁性、潤滑性、密着性などの全ての特性において良好であった。ミキシング層７のイオンを核に柱状に成長させたＤＬＣ６ａの表面は、柱状膜に亀裂が入ったような構造であり、そのＤＬＣ６ａ中の水素濃度、及び大きさは、初期の目的とする規定範囲内にあり、電気絶縁性、密着性及び可とう性に優れた炭素層６が得られることが分かった。
【００５７】
下記の表３から明らかなように、ＤＬＣを有していない比較例１及び２においては、摩擦抵抗が上記実施例１及び２より大きかった。比較例３では、ＤＬＣ中の水素濃度が上記実施例１及び２より低いため、ＤＬＣが硬く、ゴム又は樹脂との硬度の違いにより密着性が不十分であった。比較例４では、ＤＬＣ中の水素濃度が上記実施例１及び２より高く、電気絶縁性が不合格であった。比較例５にあっては、ミキシング層の形成がなく、ＤＬＣが独立した形状を有していないため、密着性が不十分であった。
【００５８】
上記実施例１及び２では、ケーブルの被覆材料にミキシング層、及びＤＬＣ膜を設けた一例を例示したが、図３に示すように、電線の被覆材料にもミキシング層、及びＤＬＣ膜を適用することができることは勿論である。以下に、実施例３を挙げて、図３に示す電線について説明する。
【００５９】
［実施例３］
（電線の作製）
この実施例３に係る電線は、次のように作製した。先ず、表１に示す絶縁体材料をバンバリミキサで混練し、押出機を用いて、導体断面積２ｍｍ２の銅導体３上に絶縁体４を温度１００℃において押出成形した。その後、絶縁体４を有する銅導体３にスチームにより同時架橋して、図３に示す絶縁電線２を得た。
【００６０】
次に、絶縁電線２を真空度１０−３Ｐａのチャンバー内に入れ、Ａｒプラズマ（０．５〜５．０ｋｅＶ）でケーブルの表面を洗浄した。その後、ＳｉプラズマでＳｉイオン（５〜３０ｋｅＶ）を注入し、ミキシング層７を形成した。次に、Ｃプラズマ（数十ｅＶ〜１ｋｅＶ）で絶縁電線２の外周に柱状にＤＬＣ６ａを成長させた。ＤＬＣ６ａ中の水素濃度は、原料の炭化水素ガスの濃度を調整することで調整した。以上より、図３に示す電線構造を作製した。
【００６１】
この実施例３を評価したところ、この実施例３にあっても、上記実施例１及び２と同様の評価結果が得られた。初期の目的とする電気絶縁性、潤滑性、密着性などの全ての特性において良好であることが分かった。
【００６２】
以上の説明から理解できるように、本発明は、上記実施の形態、実施例、変形例及び図示例に特に限定されるものではなく、各請求項に記載した範囲内で様々に設計変更が可能である。
【００６３】
【表１】
2012084258.tif 000003
【００６４】
【表２】
2012084258.tif 000004
【００６５】
【表３】
2012084258.tif 000005
【符号の説明】
【００６６】
１      ケーブル
２      絶縁電線
３      導体
４      絶縁層（絶縁体）
５      シース層
６      炭素層
６ａ    ＤＬＣ
７      ミキシング層
８      撚合電線
【図１】
2012084258.tif 000006
【図２】
2012084258.tif 000007
【図３】
2012084258.tif 000008