(57)【要約】【課題】耐摩耗性に優れ、視覚効果が顕著であるマークを有する電子装置用ハウジング及びその製造方法を提供すること。【解決手段】本発明に係る電子装置用ハウジングは、プラスチックからなる基体と、前記基体の外面に形成されるベース層と、前記ベース層の上面に形成される金属色真空蒸着層と、前記金属色真空蒸着層及び前記金属色真空蒸着層に被覆されていない前記ベース層の上面に被覆される透明表面層と、を備える。前記金属色真空蒸着層によって、前記電子装置用ハウジングの外面にはマークが形成される。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラスチックからなる基体と、
前記基体の外面に形成されるベース層と、
前記ベース層の上面に形成される金属色真空蒸着層と、
前記金属色真空蒸着層、及び前記金属色真空蒸着層に被覆されていない前記ベース層の上面に被覆される透明表面層と、を備え、
前記金属色真空蒸着層によって、前記電子装置用ハウジングの外面にはマークが形成されることを特徴とする電子装置用ハウジング。
【請求項２】
前記金属色真空蒸着層は、導電しない不連続の膜であることを特徴とする請求項１に記載の電子装置用ハウジング。
【請求項３】
前記ベース層及び前記透明表面層は、全て紫外線硬化性塗料であり、且つ両者の厚さが全て６〜１２μｍであることを特徴とする請求項１又は２に記載の電子装置用ハウジング。
【請求項４】
プラスチックからなる基体を用意するステップと、
前記基体の外面にベース層を形成するステップと、
前記ベース層に金属色真空蒸着層を被覆するステップと、
前記金属色真空蒸着層におけるマークを形成しようとする位置に、所要のマークの形状に合致するストリッピング保護層を塗布するステップと、
化学腐食法を用いて前記ストリッピング保護層に被覆されるエリア以外の前記金属色真空蒸着層を除去して、前記プラスチックからなる基体の表面に所望のマークを形成するステップと、
前記ストリッピング保護層が被覆されている前記金属色真空蒸着層と前記金属色真空蒸着層が被覆されていない前記ベース層との上面に透明表面層を形成するステップと、
を備えることを特徴とする電子装置用ハウジングの製造方法。
【請求項５】
前記ストリッピング保護層は、酸及びアルカリに耐える塗料或いはインクである化学耐腐食性に優れる材料からなることを特徴とする請求項４に記載の電子装置用ハウジングの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子装置用ハウジング及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来の技術において、電子装置用ハウジングの外面の目立つ箇所に、商標、モデル或いは特別な図案／符号を設けることによって、人目を惹くか又は広告宣伝の役割を果たす。例えば、携帯電話の表示パネルの上方のマークは、できるだけ印象的及び美しく設計されて、メーカーの実力及び製品の品質を示し、消費者の注目を惹く。
【０００３】
しかし、電子装置全体に対して、その外面のマークが小さく見え、且つ前記マークは一般的にペンキ吹き付け或いは印刷インクによって形成されるので、耐摩耗性が低く、摩損され易い。また、ペイント及びインクからなるマークの光沢度が不十分であるため、金属質感に欠けて、消費者に対する魅力が低い。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、上記の問題点を解消するためのもので、耐摩耗性に優れ、視覚効果が顕著であるマークを有する電子装置用ハウジング及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記の目的を達成するために、本発明に係る電子装置用ハウジングは、プラスチックからなる基体と、前記基体の外面に形成されるベース層と、前記ベース層の上面に形成される金属色真空蒸着層と、前記金属色真空蒸着層及び前記金属色真空蒸着層に被覆されていない前記ベース層の上面に被覆される透明表面層と、を備える。前記金属色真空蒸着層によって、前記電子装置用ハウジングの外面にはマークが形成される。
【０００６】
また、上記の目的を達成するために、本発明に係る電子装置用ハウジングの製造方法は、プラスチックからなる基体を用意するステップと、前記基体の外面にベース層を形成するステップと、前記ベース層に金属色真空蒸着層を被覆するステップと、前記金属色真空蒸着層におけるマークを形成しようとする位置に、所要のマークの形状に合致するストリッピング保護層を塗布するステップと、化学腐食法を用いて前記ストリッピング保護層に被覆されるエリア以外の前記金属色真空蒸着層を除去して、前記プラスチック基体の表面に所望のマークを形成するステップと、前記ストリッピング保護層が被覆されている前記金属色真空蒸着層と前記金属色真空蒸着層が被覆されていない前記ベース層との上面に透明表面層を形成するステップと、を備える。
【発明の効果】
【０００７】
従来の技術と比較して、本発明の方法により得られた電子装置用ハウジングの外面の図案或いは符号等のマークは、金属色を有する真空蒸着膜からなるので、光沢度が高く且つ金属質感を有するため、視覚効果が顕著であり、優れた耐摩耗性を有する。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の実施形態に係る電子装置用ハウジングの断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
図１に示したように、本発明の実施形態に係る電子装置用ハウジング１０は、基体１１、ベース層１３、金属色真空蒸着層１５及び透明表面層１７を備える。前記金属色真空蒸着層１５によって、前記電子装置用ハウジング１０の外面に図案或いは符号等のマークが形成される。
【００１０】
前記基体１１は、プラスチックからなる。前記ベース層１３は、前記基体１１の外面１１０に被覆されて、前記金属色真空蒸着層１５の付着力を増加させるために用いられる。前記ベース層１３の厚さは、約６〜１２μｍである。
【００１１】
前記金属色真空蒸着層１５は、前記ベース層１３の上面に形成される。前記電子装置用ハウジング１０を採用した電子装置の無線周波数の送受信機能を妨げないために、前記金属色真空蒸着層１５は導電性を有しない不連続の膜であり、且つ金属の外観効果を備える。好ましくは、前記金属色真空蒸着層１５の色は、明るい白色である。これにより、前記金属色真空蒸着層１５により前記電子装置用ハウジング１０の表面に形成された図案或いは符号等のマークを、鮮明に見ることができる。
【００１２】
前記透明表面層１７は、前記金属色真空蒸着層１５と、前記金属色真空蒸着層１５により被覆されていない前記ベース層１３との上面に被覆される。前記透明表面層１７は、前記金属色真空蒸着層１５が摩損されないように保護し、その厚さが約６〜１２μｍである。
【００１３】
前記ベース層１３及び前記透明表面層１７は、紫外線（ＵＶ）硬化性塗料或いは熱硬化性塗料とすることができる。本実施形態におけるベース層１３及び透明表面層１７は、全て紫外線硬化性塗料である。
【００１４】
本発明の電子装置用ハウジング１０の製造方法は、主に以下のステップを備える。
【００１５】
ステップ１では、プラスチック基体１１を用意して、このプラスチック基体１１をきれいに洗浄する。
【００１６】
ステップ２では、ペンキ吹き付け或いは浸漬する方法によって、前記プラスチック基体１１の外面１１０にベース層１３を形成する。
【００１７】
ステップ３では、真空蒸着法或いはスパッタリング法によって前記ベース層１３の上面に金属色真空蒸着層１５を形成する。前記金属色真空蒸着層１５は、前記ベース層１３の全面或いは前記ベース層１３の局所的なエリアに被覆される。
【００１８】
ステップ４では、前記金属色真空蒸着層１５におけるマークを形成しようとする位置に、所要の図案の形状に合致するストリッピング（ｓｔｒｉｐｐｉｎｇ）保護層を塗布する。前記ストリッピング保護層は、酸及びアルカリに耐える塗料或いはポリアミドインク等の化学耐腐食性に優れる材料からなる。
【００１９】
ステップ５では、化学腐食法を用いて、前記ストリッピング保護層に被覆されるエリア以外の前記金属色真空蒸着層１５を除去して、前記プラスチック基体１１の表面に、所望の金属質感を有する図案或いは符号等のマークを形成する。上記の化学腐食法には、水酸化ナトリウム等のアルカリ性の腐食液或いは塩酸等の酸性の腐食液を採用することができる。
【００２０】
ステップ６では、前記ストリッピング保護層が被覆されている前記金属色真空蒸着層１５と、前記金属色真空蒸着層１５が被覆されていない前記ベース層１３との上面に透明表面層１７を形成する。
【００２１】
本発明の製造方法により得られた電子装置用ハウジング１０の外面の図案或いは符号等のマークは、金属色を有する真空蒸着膜からなるので、光沢度が高く且つ金属質感を有するため、視覚効果が顕著であり、優れた耐摩耗性を有する。
【００２２】
以上、本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明は前記実施形態に制限されるものではなく、本発明の範囲内で種々の変形又は修正が可能であり、該変形又は修正もまた、本発明の特許請求の範囲内に含まれるものであることは、いうまでもない。
【符号の説明】
【００２３】
１０              電子装置用ハウジング
１１              プラスチック基体
１３              ベース層
１５              金属色真空蒸着層
１７              透明表面層
１１０            外面
【図１】
2012084876.tif 000003