(57)【要約】【課題】コストを抑制するとともに電磁波遮蔽性能を向上したＰＤＰを提供することを目的としている。【解決手段】表示電極２４が配置された前面板２０とデータ電極３２が配置された背面板３０とを表示電極２４とデータ電極３２が格子状に交差するように対向させ、表示電極２４とデータ電極３２との交差部分を囲むように、前面板２０と背面板３０との空間を仕切る隔壁３４が配置されたＰＤＰ１０に対して、表示電極２４の投影位置２４ａに沿う第１金属パターン線４１ａと、縦隔壁の投影位置３４ａに沿う第２金属パターン線４１ｂとを含む電磁波遮蔽層４１を透明基板４０に配置して形成したフィルタ４２を取り付けた構成である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマディスプレイパネルに配置され、基板に電磁波遮蔽層が形成されたプラズマディスプレイパネル用フィルタであって、
前記プラズマディスプレイパネルは、表示電極が配置された前面板とデータ電極が配置された背面板とを前記表示電極と前記データ電極が格子状に交差するように対向させ、前記前面板と前記背面板との間の空間を仕切るように前記データ電極に沿った縦隔壁を有する隔壁が配置されており、
前記基板には、前記表示電極の投影位置に沿って第１金属パターン線を配置し、前記縦隔壁の投影位置に沿って第２金属パターン線を配置し、
前記第１金属パターン線と前記第２金属パターン線によって前記電磁波遮蔽層を形成した
プラズマディスプレイパネル用フィルタ。
【請求項２】
前記基板には、隣接する前記表示電極間に形成される非発光領域部の投影位置に沿って第３金属パターン線を配置した
請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル用フィルタ。
【請求項３】
前記前面板には、第１のアライメント用マークが形成されており、
前記第１のアライメント用マークと対になる第２のアライメント用マークを前記基板に形成した
請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル用フィルタ。
【請求項４】
請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル用フィルタを前記プラズマディスプレイパネルの前面側に配置したプラズマディスプレイ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
ここに開示された技術は、電磁波を遮蔽する電磁波遮蔽層を備えたプラズマディスプレイパネル用フィルタおよびそれを用いたプラズマディスプレイ装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
以下、従来のプラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰという）について説明する。従来の代表的なＰＤＰとしては交流面放電型ＰＤＰが挙げられる。図３に示すように、このＰＤＰ１には、対向配置された前面板２と背面板３との間に多数の放電セルが形成されている。
【０００３】
前面板２は、ガラス製の前面ガラス板２ａと、走査電極４ａと維持電極４ｂとからなる表示電極４と、それらを覆う誘電体層２ｂおよび保護層２ｃとを有している。
【０００４】
背面板３は、ガラス製の背面ガラス板３ａと、データ電極５と、それを覆う誘電体層３ｂを有している。
【０００５】
隔壁６と、蛍光体層７とを有している。
【０００６】
そして、前面板２と背面板３は、表示電極４とデータ電極５とが立体交差するように対向配置されており、周囲が封着され密封されている。この表示電極４とデータ電極５とが立体交差する部分には放電セルが形成されている。この放電セルは、隔壁６で仕切られており、内部の放電空間には放電ガスが封入されている。
【０００７】
このように構成されたＰＤＰ１の各放電セル内でガス放電を発生させ、赤、緑、青各色の蛍光体層７を励起発光させてカラー表示を行っている。
【０００８】
このようなＰＤＰ１では、蛍光体層７の励起発光時に電磁波が発生しているが、この電磁波は各種精密機器や計器やデジタル機器類に対して障害を発生させる恐れがある。そのため、電磁波の規制が厳しくなってきている。
【０００９】
電磁波の規制については、例えばＶＣＣＩ（Ｖｏｌｕｎｔａｒｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌ  Ｃｏｕｎｃｉｌ  ｆｏｒ  Ｉｎｔｅｒｆｅｒｅｎｃｅ  ｂｙ  ｄａｔａ  ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ  ｅｑｕｉｐｍｅｎｔ  ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ  ｏｆｆｉｃｅ  ｍａｃｈｉｎｅ）による規制がある。
【００１０】
したがって、図３に示すような、光透過性の電磁波遮蔽層８を貼り付けたプラズマディスプレイパネル用フィルタ９（以下、フィルタという）をＰＤＰ１の前面板２に取り付けている。このフィルタは、ガラスやプラスチックなどの透明基板を含み、電磁波遮蔽層８はこの透明基板９ａに貼り付けられている。また、電磁波遮蔽層８は、複数の金属パターン線８ａを網目状に交差させ配置して形成したものである。なお、この電磁波遮蔽層８の金属パターン線８ａは、モアレ縞の発生を防止するために、放電セル座標に対して１０〜４５度のバイアス角度を設けて配置されている（例えば、特許文献１参照）。
【００１１】
また、電磁波遮蔽層８の製造方法としては、以下のような方法が知られている。例えば、銀ペーストなどの金属インキを用い凹版オフセット印刷法によりパターン化された金属インキ層をブランケットに形成したのち、ブランケット上の金属インキ層を透明基板または透明シート上に転写して、電磁波遮蔽層８を製造する方法がある（例えば、特許文献２参照）。また、スクリーン印刷法により導電性材料から成るパターンを基板上に形成したのち、該パターンをメッキ加工によって所定厚の金属層にして電磁波遮蔽用層８を製造する方法がある（例えは、特許文献３参照）。また、基板に貼り付けた金属箔をフォトリソグラフィ法によりエッチングして電磁波遮蔽用層８を形成する方法がある（例えば、特許文献４参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１２】
【特許文献１】特開２００８−３０４５７５号公報
【特許文献２】特開２００９−１１９７１０号公報
【特許文献３】特開２００２−３８０９５号公報
【特許文献４】特開２０００−９８９１２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
従来の電磁波遮蔽層８の金属パターン線８ａは、モアレ縞の発生を防止するために、放電セル座標に対して２〜４５度のバイアス角度を設けて配置されていた。したがって、電磁波遮蔽層８の金属パターン線８ａが放電セルの開口部を横断することになるため、放電セルで発光した光の取り出し効率が低下しやすい。光透過率を上げるためには、電磁波遮蔽層８の金属パターン線８ａの線幅を細くして格子の開口率を高くすればよいが、金属パターン線８ａの線幅を細くした場合は、抵抗が上昇して電磁波遮蔽性能を低下させる。
【００１４】
また、電磁波遮蔽層８の金属パターン線８ａのバイアス角度は、ＰＤＰ１の製作後に、金属パターン線８ａの設計と目視確認検証とを繰り返し行って決定する必要がある。したがって、金属パターン線８ａの設計とＰＤＰ１の設計とを同時に行うことができないため、コストの低減を図れない。
【００１５】
ここに開示された技術は上記問題を解決し、コストを抑制するとともに電磁波遮蔽性能を向上したＰＤＰを提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
上記目的を達成するためにここに開示された技術は、プラズマディスプレイパネルに配置され、基板に電磁波遮蔽層が形成されたプラズマディスプレイパネル用フィルタであって、前記プラズマディスプレイパネルは、表示電極が配置された前面板とデータ電極が配置された背面板とを前記表示電極と前記データ電極が格子状に交差するように対向させ、前記前面板と前記背面板との間の空間を仕切るように前記データ電極に沿った縦隔壁を有する隔壁が配置されており、前記基板には、前記表示電極の投影位置に沿って第１金属パターン線を配置し、前記縦隔壁の投影位置に沿って第２金属パターン線を配置し、前記第１金属パターン線と前記第２金属パターン線によって前記電磁波遮蔽層を形成した構成である。
【００１７】
上記目的を達成するためにここに開示された技術は、プラズマディスプレイパネル用フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面側に配置したプラズマディスプレイ装置であって、前記プラズマディスプレイパネル用フィルタは、前記プラズマディスプレイパネルに配置され、基板に電磁波遮蔽層が形成されており、前記プラズマディスプレイパネルは、表示電極が配置された前面板とデータ電極が配置された背面板とを前記表示電極と前記データ電極が格子状に交差するように対向させ、前記前面板と前記背面板との間の空間を仕切るように前記データ電極に沿った縦隔壁を有する隔壁が配置されており、前記基板には、前記表示電極の投影位置に沿って第１金属パターン線を配置し、前記縦隔壁の投影位置に沿って第２金属パターン線を配置し、前記第１金属パターン線と前記第２金属パターン線によって前記電磁波遮蔽層を形成した構成である。
【発明の効果】
【００１８】
ここに開示された技術によれば、基板には、表示電極の投影位置に沿って第１金属パターン線を配置し、縦隔壁の投影位置に第２金属パターン線を配置し、第１金属パターン線と第２金属パターン線で電磁波遮蔽層を形成している。すなわち、電磁波遮蔽層を形成する第１金属パターン線や第２金属パターン線が放電セルを横断しないので、光透過率の向上が図れる。
【００１９】
また、第１金属パターン線の線幅を表示電極の幅まで太くでき、第２金属パターン線の線幅を隔壁の幅まで太くできるので、電磁波遮蔽層の低抵抗化を図ることができる。
【００２０】
したがって、電磁波遮蔽性能の高いＰＤＰを実現することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】一実施の形態におけるフィルタの分解斜視図
【図２】同フィルタとＰＤＰの取り付け状態を説明するための分解斜視図
【図３】従来のフィルタとＰＤＰとの分解斜視図
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、一実施の形態におけるＰＤＰについて図面を参照しながら説明する。
【００２３】
図１〜図３において、ＰＤＰ１０は、対向配置された前面板２０と背面板３０との間に多数の放電セル３６が形成されている。
【００２４】
前面板２０には、ガラス製の前面ガラス板２１と、走査電極２２と維持電極２３とからなる表示電極２４と、それらを覆う誘電体層２６および保護層２７が配置されている。
【００２５】
背面板３０には、ガラス製の背面ガラス板３１と、データ電極３２と、それを覆う誘電体層３３と、隔壁３４と、蛍光体層３５が配置されている。
【００２６】
そして、前面板２０と背面板３０は、表示電極２４とデータ電極３２とが格子状に立体交差するように対向配置されており、周囲が封着され密封されている。この表示電極２４とデータ電極３２とが立体交差する交差部分には放電セル３６が形成されている。この放電セル３６は、隔壁３４で仕切られており、内部の放電空間には放電ガスが封入されている。隔壁３４は、隣接するデータ電極３２の間の位置に設けられデータ電極３２に平行な縦隔壁と、隣接する表示電極２４の間の位置に設けられ縦隔壁に平行な横隔壁とから構成されており、誘電体層３３上に形成されている。蛍光体層３５は、隔壁３４の側面と誘電体層３３上に形成されている。なお、隔壁３４が縦隔壁のみで構成されていてもよい。このとき、前面板２０には図１に示すような縦隔壁の投影位置３４ａが投影される。
【００２７】
このように構成されたＰＤＰ１０の各放電セル３６内でガス放電を発生させ、赤、緑、青各色の蛍光層３５を励起発光させてカラー表示を行っている。
【００２８】
このように形成されたＰＤＰ１０には、ガラスやプラスチックフィルムなどの透明基板４０に電磁波遮蔽層４１が形成されたフィルタ４２を取り付けている。
【００２９】
また、ＰＤＰ１０とフィルタ４２とを適切に取り付けるために、前面板２０には第１アライメント用マーク２８が形成されており、透明基板４０には第２アライメント用マーク４３が形成されている。そして、ＰＤＰ１０とフィルタ４２との取り付けの際は、これら第１アライメント用マーク２８と第２アライメント用マーク４３とを重なるように、ＰＤＰ１０とフィルタ４２とを接着層を介して貼り付けている。このアライメント用マークによって、フィルタ４２をＰＤＰ１０の所望の位置に正確に配置できる。
【００３０】
尚、電磁波遮蔽層４１は、透明基板４０の表面（前面板２０と対向しない側）または裏面（前面板２０と対向する側）のいずれの面に配置してもよい。
【００３１】
つぎに、電磁波遮蔽層４１について詳細に説明する。
【００３２】
電磁波遮蔽層４１は、透明基板４０の表面に配置されている。透明基板４０には、表示電極２４の投影位置２４ａに沿って第１金属パターン線４１ａを配置し、縦隔壁の投影位置３４ａに沿って第２金属パターン線４１ｂを配置している。この第１金属パターン線４１ａと第２金属パターン線４１ｂは、互いに直交した格子形状に形成されており、これら第１金属パターン線４１ａと第２金属パターン線４１ｂによって電磁波遮蔽層４１が形成される。なお、電磁波遮蔽層４１は、光反射を抑制するために黒色化されている。
【００３３】
つぎに、電磁波遮蔽層４１の製造方法について説明する。
【００３４】
まず、市販の感光性導電性ペースト１００重量部に黒顔料を１０重量部添加した黒の感光性導電性ペーストを用意する。つぎに、スクリーン印刷法によって黒の感光性導電性ペーストを透明基板４０上に塗布して乾燥した後、第１金属線パターン４１ａや第２金属線パターン４１ｂを形成するための露光マスクを介して露光する。このとき、第２アライメント用マーク４３を同時に露光しておくことによって、第２アライメント用マーク４３が形成されたフィルタ４２が得られる。
【００３５】
そして、現像後に焼結することによって、前面板２０に電磁波遮蔽層４１を形成する。なお、電磁波遮蔽層４１の形成方法は、上述した形成方法に限らず、例えばグラビア印刷法などの周知の形成方法で形成してもよい。また、電磁波遮蔽層４１は、前面板２０の作製工程で形成してもよいが、前面板２０に形成した電磁波遮蔽層４１が搬送中に損傷する恐れがあるため、ＰＤＰ本体の作製完了後に形成するのが望ましい。
【００３６】
本実施形態によれば、透明基板４０には、表示電極２４の投影位置２４ａに沿って第１金属パターン線４１ａを配置し、縦隔壁の投影位置３４ａに第２金属パターン線４１ｂを配置し、第１金属パターン線４１ａと第２金属パターン線４１ｂで電磁波遮蔽層４１を形成している。すなわち、電磁波遮蔽層４１を形成する第１金属パターン線４１ａや第２金属パターン線４１ｂが放電セル３６を横断しないので、光透過率の向上が図れる。
【００３７】
また、第１金属パターン線４１ａの線幅を表示電極２４の幅まで太くでき、第２金属パターン線４１ｂの線幅を隔壁３４の幅まで太くできるので、電磁波遮蔽層４１の低抵抗化を図ることができる。
【００３８】
したがって、電磁波遮蔽性能の高いＰＤＰ１０を実現することが可能となる。
【００３９】
さらに、前面板２０には、第１アライメント用マーク２８が形成されており、第１アライメント用マーク２８と対になる第２アライメント用マーク４３が透明基板４０に形成されているので、フィルタ４２を前面板２０に高精度かつ簡単に接着することが可能となる。したがって、フィルタ４２の製造歩留まりが向上するため製造コストの低減が図れる。
【００４０】
なお、本実施形態では、第１金属パターン線４１ａと第２金属パターン線４１ｂを形成して電磁波遮蔽層４１を形成したが、透明基板４０において、隣接する表示電極２４間に形成される非発光領域部の投影位置に沿って第３金属パターン線（図示せず）を配置して電磁波遮蔽層４１を形成してもよい。この第３金属パターン線も光反射を抑制するために黒色化されている。この構成によれば、第３金属パターン線がブラックストライプの機能を兼ねることができる。一般に、光反射を抑制するために、前面板２０には隣接する表示電極２４の間にブラックストライプを形成することがあるが、上記構成によれば、第３金属パターン線がブラックストライプの機能を兼ねるので、ＰＤＰ１０の構成が簡素化されて製造コストの低減が図れる。
【００４１】
また、第１金属線パターン４１ａと第２金属線パターン４１ｂと第３金属線パターンのいずれかによって形成される電磁波遮蔽層４１の格子の開口率は、放電セル３６で発光した光の取り出し光量を大きくするために８０％以上であることが望ましく、９０％以上がより好ましい。例えば、格子の間隔を２００μｍ、格子の線幅を１０μｍ以下にすることによって、開口率を９０％の格子にすることができる。特に、電磁波遮蔽性能を上げるためには、電磁波遮蔽層４１のシート抵抗値は、０．３Ω／□以下が望ましく、０．１Ω／□以下がより好ましい。
【００４２】
また、第１金属パターン線４１ａや第２金属パターン線４１ｂや第３金属パターン線４１ｃをすべての表示電極２４の投影位置２４ａやすべての縦隔壁の投影位置３４ａに配置するかどうかは求められる性能に応じて決めればよい。また、第１金属パターン線４１ａや第２金属パターン線４１ｂや第３金属パターン線４１ｃの線幅も求められる性能に応じて決めればよい。
【００４３】
また、上述したプラズマディスプレイ用パネルをＰＤＰ１０の前面側に配置すれば、本実施形態における効果を生じるプラズマディスプレイ装置を提供できる。
【産業上の利用可能性】
【００４４】
ここに開示された技術によれば、電磁波遮蔽性能を向上できるので、ＰＤＰの製造に有用である。
【符号の説明】
【００４５】
１０    ＰＤＰ
２０    前面板
２１    前面ガラス板
２２    走査電極
２３    維持電極
２４    表示電極
２４ａ      投影位置
２５    ブラックストライプ
２８    第１アライメント用マーク
３０    背面板
３１    背面ガラス板
３４    隔壁
３４ａ    縦隔壁の投影位置
３５    蛍光体層
３６    放電セル
４０    透明基板
４１    電磁波遮蔽層
４１ａ    第１金属パターン線
４１ｂ    第２金属パターン線
４２    フィルタ
４３    第２アライメント用マーク
【図１】
2012084772.tif 000003
【図２】
2012084772.tif 000004
【図３】
2012084772.tif 000005