(57)【要約】【課題】カラーフィルタ製造ラインにおいて、装置トラブル等によって基板の流動の乱れが生じた場合に、素早くラインタクトを自動制御することが可能なラインタクト制御システムを提供する。【解決手段】複数の装置によって構成されるカラーフィルタ基板の製造ラインのラインタクトを制御するシステムであって、前記製造ラインを構成する各装置から処理タクト情報を収集し管理する工程内システムと、前記工程内システムによって収集された装置情報を管理するデータ管理用データベースと、データ管理用データベースより装置の実処理タクトとベースタクト情報を取得し、装置のベースタクト制御の有無の判別及びベースタクトの変更の指示等を行うことによってラインタクトを制御する制御ＰＣと、を備えたことを特徴とするラインタクト制御システム。【選択図】図１０
2012128158.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の装置によって構成されるカラーフィルタ基板の製造ラインのラインタクトを制御するシステムであって、
前記製造ラインを構成する各装置から処理タクト情報を収集し管理する工程内システムと、
前記工程内システムによって収集された装置情報を管理するデータ管理用データベースと、
データ管理用データベースより装置の実処理タクトとベースタクト情報を取得し、装置のベースタクト制御の有無の判別及びベースタクトの変更の指示等を行うことによってラインタクトを制御する制御ＰＣと、を備えたことを特徴とするラインタクト制御システム。
【請求項２】
前記データ管理用データベースは、
前記製造ラインを構成する各装置を一以上のゾーンに区切り、少なくとも各ゾーンの基準タクトやゾーン内のタクト情報を含むゾーン定義テーブルと、
少なくとも各装置からのアラーム発生有無と、現在、装置に設定されているタクトを示す装置ベースタクトと、律速装置の有無を表示する律速装置情報と、報告されたタクト時間を示す実処理タクト情報を含む装置情報テーブルと、
少なくとも各装置の変更されたベースタクト値を格納するベースタクト設定判別テーブルと、で構成されていることを特徴とする請求項１記載のラインタクト制御システム。
【請求項３】
前記制御ＰＣは、装置情報テーブルよりゾーン内の装置から得られた前記実処理タクト情報と予め前記装置に設定された処理タクトである装置ベースタクト情報を取得し、その差Ａを求め、Ａが予め設定されたタクト変動閾値Ｍを超えた場合には、ベースタクト設定判定テーブルの変更ベースタクト値情報に実処理ベースタクトの値を書き込み、更に、実処理ベースタクトの値を書き込む場合は、各ゾーン毎に律速装置の判別を行い、前記書き込み対象の装置が属する自ゾーンが、他のゾーンよりも律速していた場合に自ゾーン内の該当装置の装置情報テーブルの律速装置情報を「有」に書き換え、請求項２に記載のラインタクト制御システムを用いることを特徴とするラインタクト制御方法。
【請求項４】
前記制御ＰＣは、ゾーン定義テーブルより基準ラインタクト情報とゾーンタクト情報を取得し、その差Ｂを求め、Ｂが予め設定された処理タクト閾値Ｔｈを超えた場合には、ゾーン定義テーブルのゾーンタクト情報を基準ラインタクト値に書き換え、更に、装置情報テーブル内の律速装置情報が「有」でアラーム発生有無情報が「無」の場合は、律速装置情報を「無」に変更することを特徴とする請求項３に記載のラインタクト制御方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶表示装置に用いられるカラーフィルタガラス基板（以下、基板）を製造するカラーフィルタ製造ラインのラインタクトを制御するシステムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
図１にガラス基板の一例としてカラー液晶表示装置に用いられるカラーフィルタ基板の一例を断面で示す。カラーフィルタ１は、ガラス基板２上にブラックマトリックス（以下、ＢＭ）３、レッドＲの着色画素（以下、Ｒ画素）４−１、グリーンＧの着色画素（以下、Ｇ画素）４−２、ブルーＢの着色画素（以下、Ｂ画素）４−３、透明電極５、及びフォトスペーサー（Ｐｈｏｔｏ  Ｓｐａｃｅｒ）（以下、ＰＳ）６、バーテイカルアライメント（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）（以下、ＶＡ）７が順次形成されたものである。
【０００３】
上記構造のカラーフィルタの製造方法は、フォトリソグラフィー法、印刷法、インクジェット法を用いることが知られているが、図２は一般的に用いられているフォトリソグラフィー法の工程を示すフロー図である。カラーフィルタは、先ず、ガラス基板上にＢＭを形成処理する工程（Ｃ１）、ガラス基板を洗浄処理する工程（Ｃ２）、着色フォトレジストを塗布および予備乾燥処理する工程（Ｃ３）、着色フォトレジストを乾燥、硬化処理するプリベーク工程（Ｃ４）、露光処理する工程（Ｃ５）、現像処理する工程（Ｃ６）、着色フォトレジストを硬化処理する工程（Ｃ７）、透明電極を成膜処理する工程（Ｃ８）、ＰＳ、ＶＡを形成処理する工程（Ｃ９）がこの順に行われ製造される。
【０００４】
例えば、Ｒ画素、Ｇ画素、Ｂ画素の順に画素が形成される場合には、カラーフィルタ用ガラス基板を洗浄処理する工程（Ｃ２）から、着色フォトレジストを硬化処理する工程間（Ｃ７）ではレッドＲ、グリーンＧ、ブルーＢの順に着色フォトレジストを変更して３回繰り返されてＲ画素、Ｇ画素、Ｂ画素が形成される。
【０００５】
図３にカラーフィルタ製造ラインの一例を示す。図３に示される製造ライン１１はある特定の１色（例えばＲ画素）の着色パターンを形成するためのもので、ストッカ装置１２と、ストッカ装置からラインに投入する搬入装置１３と、洗浄装置１４と、塗布装置１５と、露光装置１６と、現像装置１７と、ベーク装置１８と、基板をストッカ装置に搬出する搬出装置１９とを備えている。また、塗布装置１５の後には着色フォトレジストの膜厚や塗布ムラを検査する検査装置２７が設けられ、現像装置１７の後には異物やパターンの欠けを検査する検査装置２８が設けられている。上記各工程の処理を行う装置や検査装置は搬送装置（１）２１から搬送装置（６）２６によって接続されている。更に、Ｒ画素、Ｇ画素、Ｂ画素の３色の画素が形成された後に、搬送装置（６）２６の外に設けられた検査装置２９や修正装置３０によって検査や修正が行われ、その後搬出装置１９を経てストッカ装置１２に搬出される。尚、搬入装置１３からストッカ装置１２へ空のカセットが回収され、また、ストッカ装置１２は、空のカセットを搬出装置１９に供給する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−１０９９６８号公報
【特許文献２】特開２００９−７３３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上記図３に示すカラーフィルタ製造ラインでは、例えば塗布装置１５から露光装置１６までの間では、塗布されたフォトレジストの特性からあるプロセス処理中の状態で一定時間以上留まっていると品質的に問題が起こる場合がある。そのため、装置上で基板滞留が起きないように、製造ライン全体で基板の流動を制御する必要がある。製造ライン内の基板は装置間を移動しながら、アンローダと呼ばれる装置まで流動を行ない下流工程に搬送される。製造ラインは基板の滞留を避けるため、ライン全体である一定のラインタクト（ラインタクト：基板が処理される周期、即ち搬出装置１９から搬出される基板が１０分で２枚の場合は、ラインタクトは５分となる）で、流動制御を行っている。各装置では、ラインタクトを維持するように、装置個々のタクト（以下、ベースタクト）が設定されており、常にベースタクトの間隔で、装置は基板を下流の装置へ受け渡す。ベースタクトは、ほとんどの装置で設定変更が可能で、装置はベースタクト通りの時間で基板を搬送するために搬送速度を調整している。
【０００８】
上記ベースタクトは、基本的には設定変更は行なわないが、例えば装置にトラブルが発生した場合には、基板のプロセス処理時間が長くかかり、その結果ベースタクトの設定変更を行なう場合がある。また、それに併せて、ラインタクトを変更し基板の流動を調整している。
【０００９】
上記装置のいずれかにトラブルが発生した場合には基板の流動が乱れ、基板が滞留するため、ベースタクトの変更やラインタクトの変更をオペレータが行っている。しかしながら、基板滞留の発見が遅れたり、ベースタクトの変更やラインタクトの変更を行うための時間を要するため、その結果、基板の品質が低下したり、製造ラインの生産効率が低下するといった問題がある。
【００１０】
また、オペレータによる装置個々のベースタクト設定変更の際には、設定ミスが発生する問題がある。また、装置のトラブルは、アラーム等でオペレータが把握し、比較的早期に対応できる場合があるが、装置不備や、部品の劣化などによる基板の流動の乱れに対しては、気づくのが遅れたり、遅れた時点で調整を行なっているため、すでにその時点で品質に悪影響を及ぼしていることもある。
【００１１】
また、図４に示すように装置の高性能化により、一つの装置で複数の工程の基板を処理することが出来るカラーフィルタ製造ラインが広く用いられている。図４のカラーフィルタ製造ライン３１は、フォトリソグラフィ法によって基板上に複数色の着色パターンを形成するためのものであり、２色以上の着色パターン形成を平行して行うことが出来るように、各工程毎に２台または３台の処理装置が並列に設けられている。図４における矢印は、各装置間の接続関係と基板の搬送方向を表している。
【００１２】
図４のカラーフィルタ製造ライン３１は、ストッカ装置３２と、搬入装置（１）３３ａ及び搬入装置（２）３３ｂと、洗浄装置（１）３４ａ及び洗浄装置（２）３４ｂと、塗布装置（１）３５ａ及び塗布装置（２）３５ｂと、露光装置（１）３６ａ〜露光装置（３）３６ｃと、現像装置（１）３７ａ〜現像装置（３）３７ｃと、ベーク装置（１）３８ａ〜ベーク装置（３）３８ｃと、搬出装置（１）３９ａ〜搬出装置（３）３９ｃと、を備えており、前記各装置間には搬送装置（１１）４１〜搬送装置（１６）４６で接続されている。また、塗布装置（１）３５ａ及び塗布装置（２）３５ｂの下流と、現像装置（１）３７ａ〜現像装置（３）３７ｃの下流には、検査装置４７及び検査装置４８が設けられている。更に搬送装置（１６）４６の外側には検査装置４９及び修正装置５０が接続されている。このように図４に示すカラーフィルタ製造ラインは、分岐や合流が多数存在し、装置数が多い複雑なライン構成となっている。
【００１３】
図３に示すライン構成が簡単で装置数の少ないラインでは、ラインタクトの変更はライ
ン内に属する全ての装置のベースタクトを一括で変更することによって行うことが可能であるが、図４に示す複雑なライン構成の場合には下流の装置でタクトの遅れを一時的に吸収できることもあるが、ラインタクトの一括変更を行う場合には、基板の流動の乱れを防ぐためにはラインタクトを最低速の装置に合わせるため、ライン効率がきわめて低下してしまう。
【００１４】
また、図５に示すように各処理装置間のタクトの違いを吸収するために、バッファ５１〜５５を設けた製造ラインが採用されている。しかしながら図５に示される製造ラインにおいても装置のトラブルによる基板の流動の乱れを吸収するものではなく、装置トラブルがあった場合の流動の乱れを解決するものではない。
【００１５】
そこで本発明は上記問題に鑑みてカラーフィルタ製造ラインにおいて、装置トラブル等によって基板の流動の乱れが生じた場合に、素早くラインタクトを自動制御することが可能なラインタクト制御システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
そこで本発明の請求項１に係る発明は、複数の装置によって構成されるカラーフィルタ基板の製造ラインのラインタクトを制御するシステムであって、
前記製造ラインを構成する各装置から処理タクトを含む情報を収集し管理する工程内システムと、
前記工程内システムによって収集された装置情報を管理するデータ管理用データベースと、
データ管理用データベースより装置の実処理タクトとベースタクト情報を取得し、装置のベースタクト制御の有無の判別及びベースタクトの変更の指示等を行うことによってラインタクトを制御する制御ＰＣと、を備えたことを特徴とするラインタクト制御システムである。
【００１７】
本発明の請求項２に係る発明は、前記データ管理用データベースは、
前記製造ラインを構成する各装置を一以上のゾーンに区切り、少なくとも各ゾーンの基準タクトやゾーン内のタクト情報を含むゾーン定義テーブルと、
少なくとも各装置からのアラーム発生有無と、現在、装置に設定されているタクトを示す装置ベースタクトと、律速装置の有無を表示する律速装置情報と、報告されたタクト時間を示す実処理タクト情報を含む装置情報テーブルと、
少なくとも各装置の変更されたベースタクト値を格納するベースタクト設定判別テーブルと、で構成されていることを特徴とする請求項１記載のラインタクト制御システムである。
【００１８】
本発明の請求項３に係る発明は、前記制御ＰＣは、装置情報テーブルよりゾーン内の装置から得られた前記実処理タクト情報と予め前記装置に設定された処理タクトである装置ベースタクト情報を取得し、その差Ａを求め、Ａが予め設定されたタクト変動閾値Ｍを超えた場合には、ベースタクト設定判定テーブルの変更ベースタクト値情報に実処理ベースタクトの値を書き込み、更に、実処理ベースタクトの値を書き込む場合は、各ゾーン毎に律速装置の判別を行い、前記書き込み対象の装置が属する自ゾーンが、他のゾーンよりも律速していた場合に自ゾーン内の該当装置の装置情報テーブルの律速装置情報を「有」に書き換え、請求項２に記載のラインタクト制御システムを用いることを特徴とするラインタクト制御方法である。
【００１９】
本発明の請求項４に係る発明は、前記制御ＰＣは、ゾーン定義テーブルより基準ラインタクト情報とゾーンタクト情報を取得し、その差Ｂを求め、Ｂが予め設定された処理タクト閾値Ｔｈを超えた場合には、ゾーン定義テーブルのゾーンタクト情報を基準ラインタク
ト値に書き換え、更に、装置情報テーブル内の律速装置情報が「有」でアラーム発生有無情報が「無」の場合は、律速装置情報を「無」に変更することを特徴とする請求項３に記載のラインタクト制御方法である。
【発明の効果】
【００２０】
本発明のラインタクト制御システムによれば、装置トラブル等によって基板の流動の乱れが生じた場合でも、ラインタクトを自動で制御することができ、その結果、ラインタクトの設定に要していたオペレータの負荷を軽減したり、基板の滞留による品質の劣化や不良基板の発生を抑制したり、更にラインの稼働率を向上することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】カラーフィルタ基板の一例を断面で示す図。
【図２】一般的に用いられているフォトリソグラフィー法によるカラーフィルタ層の製造工程を示すフロー図。
【図３】カラーフィルタ製造ラインの一例を示す図。
【図４】一つの装置で複数の工程の基板を処理することが出来るカラーフィルタ製造ラインを示す図。
【図５】バッファを設けた製造ラインを示す図。
【図６】本発明に係るラインタクト制御システムの構成の一例を示す。
【図７】本発明に係るラインタクト制御システムが適用されるカラーフィルタ製造ラインの一例を示す図。
【図８】本発明に係るラインタクト制御システムのゾーン設定の一例を示す図。
【図９】本発明に係るラインタクト制御システムの装置のベースタクト変更の例を示す図
【図１０】本発明に係るラインタクト制御システムのゾーン（ベース）タクトを増加する場合の判別フローを示す図。
【図１１】本発明に係るラインタクト制御システムのラインタクト（ゾーンタクト）を短縮する場合の判別フローを示す図。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、図面を参照して本発明に係るラインタクト制御システムを実施するための形態を説明する。
【００２３】
図６は本発明に係るラインタクト制御システム１００の構成の一例を示す。ラインタクト制御システム１００は、複数の、工程内にある搬送装置１０１−１、検査装置１０１−２、プロセス装置１０１−３等で構成される装置群１０１の各装置を管理する工程内システム１０２と、工程内システム１０２によって収集された各装置の実際の処理タクトを指す実処理タクト情報を管理するデータ管理用データベース（以下、ＤＢ）１０３と、データ管理用ＤＢ１０３より装置の実処理タクト情報を取得し、ラインに対してベースタクト制御の有無の判別及びベースタクトの変更の指示等を行う制御ＰＣ１０４と、を備えている。
【００２４】
前記装置群１０１と工程内システム１０２とデータ管理用ＤＢ１０３と制御ＰＣ１０４はイーサネット（登録商標）により構築されたローカルエリアネットワーク（ＬＡＮ）を介して接続され、ＴＣＰ／ＩＰやＵＤＰ／ＩＰといった通信規格により各装置、工程内システム、ＤＢ、制御ＰＣ間のデータの送受信が行われる。
【００２５】
装置群１０１は、ラインを構成する複数の工程内にある搬送装置１０１−１、検査装置１０１−２、プロセス装置１０１−３等で構成され、実処理タクト情報を工程内システムに対して報告する（矢印１００ａ）。装置群１０１内の各装置は、予め設定されたベースタクトに基づいて基板の流動を行う。
【００２６】
工程内システム１０２は、装置の実処理タクト情報を収集し、データ管理用ＤＢ１０３に報告する（矢印１００ｂ）。また、装置群１０１内の各装置に対して、ベースタクト設定の変更の指示をする（矢印１００ｃ）。
【００２７】
制御ＰＣ１０４は、データ管理用ＤＢ１０３より、装置の実処理タクト情報を取得し（矢印１００ｄ）、ラインを構成する装置群１０１の各装置のベースタクト制御の有無（ベースタクトの変更を行うか否か）の判別を行う。ベースタクトの変更の必要があると判別した場合は、対象工程の工程内システムに対して、変更するベースタクト時間の指示を出す（矢印１０１ｅ）。
【００２８】
図７に本発明に係るラインタクト制御システムが適用されるカラーフィルタ製造ラインの一例を示す。カラーフィルタ製造ラインで基板は、先ず１色目の着色画素形成のために、搬入装置（ＬＤ）でラインに投入された後、一連の工程に設けられた、搬送装置→洗浄装置→搬送装置→コート装置→搬送装置→検査装置→搬送装置→露光装置→搬送装置→現像装置→搬送装置→ベーク装置→搬送装置→搬送装置を経て、更に次の着色画素形成のために再び最上流工程の搬送装置に送られ前記一連の工程を経て、更に３色目の着色画素形成が行われた後、検査装置→搬入装置を経て、最終的に搬出装置（ＵＬＤ）によって搬出される。また、基板は搬送途中で抜取検査のために適宜抜取られる。
【００２９】
本発明に係るラインタクト制御システムが適用されるカラーフィルタ製造ラインを示す図７では、便宜上、ゾーンを５つに分割しそれぞれのゾーンのタクトをゾーンタクト１、ゾーンタクト２、ゾーンタクト３、ゾーンタクト４、ゾーンタクト５とし、製造ライン全体のタクトをラインタクトと呼ぶ。
【００３０】
データ管理用ＤＢ１０３内では、工程毎に各装置の必要な情報をテーブル管理している。データ管理用ＤＢ１０３では、次に示す３つのテーブル、即ちゾーン定義テーブルと装置情報テーブルとベースタクト設定判別テーブルを有しており、各処理工程に属する装置毎のタクトの情報を管理する。
【００３１】
ゾーン定義テーブルを表１に示す。ゾーン定義テーブルは、ライン内に属する装置をあるゾーンごとに区切り、そのゾーン情報を管理するテーブルで、工程を示す固有のＩＤである工程ＩＤと、工程に付けられたゾーン番号と、正常時ラインタクトを示す基準ラインタクトと、ゾーン内のタクトを示すゾーンタクトと、ゾーンに属する装置を示す固有のＩＤである装置ＩＤ（１）〜（Ｎ）を含んでいる。本発明の実施の形態では、ゾーン定義テーブルは１から５までの５つのテーブルが用意される。
【００３２】
【表１】
2012128158.tif 000003
【００３３】
図８はゾーン設定の一例を示す図で、ゾーンの区切りは例えば、図８（ａ）は分岐のない装置の括りで区切られた場合で、図８（ｂ）は同一工程で分岐している場合や抜き取り検査等で分岐し合流するような場合の例を示す。
【００３４】
ゾーンタクトについて説明する。ゾーンタクトは装置のベースタクトの変更を行う際に使用するパラメータであって、ラインに属する装置を、あるゾーンごとに区切り、このゾーン内に属する装置の中で律速している装置のベースタクトをゾーンタクトとする。基本的に正常流動時にはゾーン内のタクトとラインタクトは、同じである。但し、異常等が発生し各ゾーン間でゾーンタクトが異なる場合は、タクトが最大（即ち、処理時間が一番長い）のゾーンタクトをラインタクトとする。
【００３５】
装置情報テーブルを表２に示す。装置情報テーブルは、１つの装置に対して１つのテーブルが用意され、装置の属する工程を示す固有なＩＤである工程ＩＤと、装置を示す固有のＩＤである装置ＩＤと、工程内の装置に付された装置Ｎｏと、装置の名称と、装置が属する所属ゾーン番号と、現在、装置からのアラームの有無を示す装置アラーム発生有無と、現在、装置に設定されているタクト（秒）を示す装置ベースタクトと、律速装置の有無を表示する律速装置情報と、最新の報告されたタクト時間を示す実処理タクト１と、１つ前に報告されたタクト時間を示す実処理タクト２と、更に２つ前に報告されたタクト時間を示す実処理タクト３と、同様に実処理タクト４〜実処理タクトＮを含んでいる。この場合Ｎは限定されるものではなく例えば１０程度で良い。
【００３６】
【表２】
2012128158.tif 000004
【００３７】
ベースタクト設定判別テーブルを表３に示す。ベースタクト設定判別テーブルは、１つの装置に対して１つのテーブルが用意され、工程を示す固有のＩＤである工程ＩＤと、装置を示す固有のＩＤである装置ＩＤと、工程内の装置に付された装置Ｎｏと、装置の名称と、装置が属する所属ゾーン番号と、タクト設定判別で決定したタクトを示す変更タクト値を含んでいる。
【００３８】
【表３】
2012128158.tif 000005
【００３９】
制御ＰＣは、データ管理用ＤＢ内のテーブル情報を利用し、後で述べる判別条件に基づいて、装置のベースタクトの変更の判別、変更の通知を行う。
【００４０】
ベースタクト変更通知について説明する。ライン内のラインタクトの制御は、ゾーン毎に分けて、そのゾーンに属する装置に対してベースタクトの変更を行う。
【００４１】
ゾーン内のベースタクトの変更は次に示す２つのパターンがある。
１．１つ目のパターンは、自ゾーン内装置が律速していた場合であって、ゾーン毎に、後で述べる律速装置の判別を行い、ベースタクトの設定の変更の通知は、ゾーンに属する装置だけに行い、ゾーンに属する装置のベースタクトをそのゾーンのゾーンタクトとし、ゾーン定義テーブルのゾーンタクトの情報を書き換える。
２．２つ目のパターンは、他のゾーンタクトの律速により基板が滞留した場合であって、ベースタクトの変更は、律速しているゾーン内に属する装置のみに変更を行う。他のゾーンが、律速しているために、自ゾーン内で、滞留を起こす危険がある。この場合、当然、自ゾーン内の装置の実処理タクトに影響が発生する。この場合にも自ゾーン内の装置に対して、ベースタクトの変更を行う。この場合は、ゾーンに属する装置のベースタクトをそのゾーンのゾーンタクトとし、ゾーン定義テーブルのゾーンタクトの情報を書き換える。
【００４２】
判別条件について説明する。各ゾーンのゾーンタクトは、そのゾーンに属する装置のベースタクトと同じである。ゾーンタクトは、ゾーン内の律速装置の実処理タクトを求め、ゾーン内の律速装置の実処理タクトとゾーンタクトを比較してゾーンタクトを決定し、変更する場合は、ゾーン内の全装置に次に述べるベースタクトの変更を通知する。
【００４３】
ゾーンタクトの変更方法を説明する。ゾーンタクト設定の判別を行う場合は、ゾーンタクト決定のための情報となる各装置の実処理タクトの算出を行う。制御ＰＣは、ゾーン定義テーブルより取得したゾーンタクトの間隔で（ゾーンタクトの時間毎に）装置情報テーブルを確認する。条件を満たした装置があった場合、ゾーンタクトの決定を行う。
【００４４】
ゾーンタクトの変更は、次に示す２パターンの場合に行われる。
１．ゾーン内のベースタクトが遅くなる（言い換えれば、ゾーン内のベースタクト時間が
長くなる）場合であって、この場合にはゾーンタクトを増加するように変更する。その結果、ラインタクトは変更され基準ラインタクトより遅くなる。
２．ゾーン内のベースタクトが速くなる（言い換えればゾーン内のベースタクト時間が短くなる）場合であって、この場合にはゾーンタクトを短縮するように変更する。その結果、遅くなっていたラインタクトが変更され、基準タクトに戻される。
【００４５】
図９に装置のベースタクト変更の例を示す。図９の破線１１０で囲まれた部分は、上記１．ゾーン内のベースタクトが遅くなる場合であって、ゾーンタクトを増加するように変更する。制御ＰＣはライン内のゾーン毎にゾーンタクトの間隔で装置情報テーブルの情報を参照する。設定された条件を満たす場合に装置に対してベースタクトが遅くなるように変更の指示を発動する。この確認をゾーン毎に行う。また、図９の破線１１１で囲まれた部分は、上記２．ゾーン（ベース）タクトが早くなる（ゾーン（ベース）タクト時間が短くなる）場合であって、ゾーンタクトを短縮するように変更する。制御ＰＣは、ライン内のゾーン毎にゾーンタクトの間隔で装置情報テーブルの情報を参照する。設定された条件を満たす場合に装置に対してベースタクトが速くなるように変更の指示を発動する。
【００４６】
ゾーンタクト変更の判別（変更するか否かの判別）について説明する。装置情報テーブル内の実処理タクトと現在設定されているベースタクトの差（これをＡとする）が実処理タクト１から実処理タクトＮまでの全ての実処理タクトに対してタクト変動閾値Ｍ秒以上の場合を条件として、ゾーンタクト変更を行う。この場合のＮは、参照基板枚数パラメータであって何枚前の基板の情報まで参照するかを示し、一方、Ｍはタクト変動閾値であって、現在のタクトよりどのくらい変化した場合にＮＧと判断するかの閾値を示す。
【００４７】
条件式は、
タクト変動閾値Ｍ＜実処理タクト１−ベースタクト
であって、
条件式を満たした場合には、制御ＰＣは最新の実処理タクト、即ち、実処理タクト１をベースタクト設定判別テーブルの該当装置ＩＤの変更タクト値に書き込み、ゾーンタクト決定を行う。条件式を満たさなかった場合には変更処理は行なわれない。
【００４８】
律速の起因の判別（律速となっている装置の判別）について説明する。律速の起因としては、自ゾーン内の装置そのものが何らかの異常で実処理タクトが遅くなった場合や、自ゾーンのひとつ後の次ゾーンのゾーンタクトが遅いために滞留律速している場合があり、どの起因によるものかの判別を行う。
【００４９】
自ゾーンの装置起因の場合は、装置情報テーブルの該当装置ＩＤの律速装置情報を「有」に書き換える。この律速装置情報は、ゾーンタクト（ラインタクト）を正常な状態に戻すかどうかの判別パラメータとして用いる。また、律速装置情報が「有」の場合でも、新たに現在のゾーンタクトより遅い設定に変更になる場合や、他のゾーン起因でゾーンタクトが変更になった場合には、律速装置情報を「無」に書き換える。これは、律速装置情報を「有」の装置をライン内に一つとするためである。
【００５０】
図１０にゾーン（ベース）タクトを増加する場合の判別フローを示す。この場合は、装置のベースタクトが遅くなっている場合で、ゾーンタクトを遅くして基板の滞留が無いようにラインタクトを制御する。開始（Ｅ１）後、ゾーンタクト周期毎に前回のチエックからゾーンタクト分時間が経過しているか否かをチエックし（Ｅ２）、経過していない場合（Ｅ２のＮＯ）はゾーンタクト分待機する（Ｅ１９）。
【００５１】
一方、ゾーンタクト分時間が経過している場合（Ｅ２のＹＥＳ）は、制御ＰＣに登録されている参照基板枚数パラメータＮとタクト変動閾値Ｍを取得（Ｅ３）した後、装置数を
初期化（ｉ＝０）（Ｅ４）し、ゾーン定義テーブルより装置ＩＤを取得し、装置数ｎを算出する（Ｅ５）。
【００５２】
次に参照基板枚数Ｎを初期化（Ｎ１＝０）（Ｅ６）し、参照基板枚数パラメータＮをカウントアップ（Ｎ１＝Ｎ１＋１）（Ｅ７）した後、装置ＩＤを基に装置情報テーブルよりベースタクトＴと、実処理タクトＮ１の情報Ｔｓｍｐを取得し（Ｅ８）、装置情報テーブルより取得した時間との差Ａとタクト変動閾値Ｍを比較する（Ｅ９）。（Ｔｓｍｐ−Ｔ）即ちＡがタクト変動閾値Ｍより小さい場合（Ｅ９のＮＯ）は、ステップ（Ｅ１２）へ移行する。
【００５３】
一方、（Ｔｓｍｐ−Ｔ）がタクト変動閾値Ｍより大きい場合は（Ｅ９のＹＥＳ）、確認枚数のチェック（Ｅ１０）へ移行する。
【００５４】
ステップ（Ｅ１０）では参照枚数分確認したかをチェックする。参照枚数分確認していない場合（Ｅ１０のＮＯ）は、ステップ（Ｅ７）へ移行する。
【００５５】
一方、参照枚数分確認した場合（Ｅ１０のＹＥＳ）は、装置情報テーブルの実処理タクト１の情報を同じ装置ＩＤのベースタクト設定判別テーブルの変更タクト値に書き込む（Ｅ１１）。
【００５６】
次に、ゾーン内装置数をカウントアップ（ｉ＝ｉ＋１）する（Ｅ１２）。更にゾーンに属する全装置が確認済みかのチェックを行う（Ｅ１３）。全装置の確認が済んでいない場合（Ｅ１３のＮＯ）は、ステップ（Ｅ５）に移行する。
【００５７】
一方、ゾーンに属する全装置が確認済みの場合（Ｅ１３のＹＥＳ）は、次にベースタクト設定判別テーブルの情報の変更があったかを確認（Ｅ１４）し、変更が無かった場合（Ｅ１４のＮＯ）にはステップ（Ｅ２）に移行する。変更があった場合（Ｅ１４のＹＥＳ）には、律速の起因を判別するために１つ後のゾーン番号のゾーンタクトを確認する（Ｅ１５）。
【００５８】
自ゾーンタクトと次ゾーンタクトを比較し、自ゾーンタクトが次ゾーンタクトより大きい場合は（Ｅ１６のＹＥＳ）、該当の装置ＩＤの装置情報テーブル内の律速装置を「有」とし（Ｅ１７）、ゾーンタクト決定の処理（即ち、装置情報テーブルの装置ベースタクトを設定）（Ｅ１８）を行い、再びステップ（Ｅ２）に移行し、上記フローを繰り返し行う。
【００５９】
一方、自ゾーンタクトが次ゾーンタクトより小さい場合（Ｅ１６のＮＯ）は、ステップ（Ｅ１８）に移行しゾーンタクト決定の処理（即ち、装置情報テーブルの装置ベースタクトを設定し）（Ｅ１８）、再びステップ（Ｅ２）に移行し、上記フローを繰り返し行う。
【００６０】
このようにして、どこかのゾーンタクトが基準のラインタクトより遅くなった場合には律速になっているゾーンのゾーンタクトに全てのゾーンタクトを合わせることによってラインタクトを遅いラインタクトに制御することが出来る。
【００６１】
ゾーン（ベース）タクトが早くなる（ゾーン（ベース）タクト時間が短くなる）場合について説明する。通常通り問題がなく生産している場合は、最適なラインタクト（ゾーンタクト）の設定となっている。実処理タクトが乱れ、ラインタクトが遅くなっている場合は、何らかの問題により装置からアラームが発生している。この場合には、アラームの発生原因を確認することによって問題がクリアにされアラームがなくなるため、ラインタクトを通常の設定に戻しても問題がない。
【００６２】
設定の変更には、装置情報テーブルの律速装置「有」の装置を対象とする。設定変更の確認は、基準ラインタクトとゾーンタクトが異なる場合に行う。各ゾーンで、装置情報テーブルの律速装置「有」の装置を検索する。律速装置「有」の場合、アラーム情報の有無を確認する。
【００６３】
確認の結果、
（１）「アラーム有」の場合には未だに問題ありと判断し、次回、再び確認を行う。
（２）「アラーム無」の場合には基準ラインタクトにゾーンタクトを変更する。
また、変更した場合、制御ＰＣは他のゾーン番号のゾーンに対して基準ラインタクトへの変更を指示する。律速装置「無」の場合には、変更や指示処理は無い。
【００６４】
図１１にラインタクト（ゾーンタクト）を短縮する場合の判別フローを示す。この判別フローは、上記に示したラインタクトを遅くした後に、速いタクトに改善した場合であって、ラインタクトを基準ラインタクトに戻すフローである。開始（Ｓ１）後、ラインタクト間隔毎に、前回のチエックからゾーンタクト分時間が経過しているか否かをチエック（Ｓ２）し、ゾーンタクト分時間が経過していない場合は（Ｓ２のＮＯ）、ステップ（Ｓ１４）に移行し、ゾーンタクト分待機する。
【００６５】
一方、ゾーンタクト分時間が経過している場合（Ｓ２のＹＥＳ）は、ゾーン定義テーブルより現在のゾーンタクトＴｃｒｔと基準ラインタクトＴｔｇｔを取得する。この場合、５つのゾーン定義テーブルのどのテーブルから開始しても良く、その順序は限定されるものではない。また、予め設定されている処理タクト閾値Ｔｈを取得（Ｓ３）した後、現在のラインタクトＴｃｒｔと基準ラインタクトＴｔｇｔの比較を行う（Ｓ４）。現在のラインタクトＴｃｒｔは、変動する値であるため、処理タクト閾値Ｔｈを設け、基準ラインタクトＴｔｇｔと現在のラインタクトＴｃｒｔの差Ｂが処理タクト閾値Ｔｈを越えていない場合（Ｓ４のＹＥＳ）は、現在のラインタクトＴｃｒｔは良好であるとし、ラインタクトの変更は行われず、ステップ（Ｓ１４）に移行する。
【００６６】
一方、ステップ（Ｓ４）で基準ラインタクトＴｔｇｔと現在のラインタクトＴｃｒｔの差Ｂが処理タクト閾値Ｔｈを越えていた場合（Ｓ４のＮＯ）は、現在のラインタクトＴｃｒｔは良好と言えず、ステップ（Ｓ５）に移行する。ステップ（Ｓ５）では、装置数を初期化（ｉ＝０）し、ゾーン定義テーブルの装置ＩＤ情報より装置数ｎを算出する（Ｓ５）。装置Ｎｏ．ｉをカウントアップ（ｉ＝ｉ＋１）し（Ｓ６）、次に装置Ｎｏ．ｉを基に装置情報テーブル内の律速装置情報をチェックし（Ｓ７）、律速装置「無」の場合（Ｓ７のＮＯ）には、問題のない装置であるため次の装置の検索を行うステップ（Ｓ６）に移行する。
【００６７】
一方、律速装置「有」の場合（Ｓ７のＹＥＳ）には、装置情報テーブル内の装置アラーム発生情報の有無をチェック（Ｓ８）する。アラーム発生情報が「有」の場合（Ｓ８のＹＥＳ）、未だに問題ありと判断し、ステップ（Ｓ２）に移行し次のラインタクト後のチェックを行う。
【００６８】
一方、アラーム情報が「無」の場合（Ｓ８のＮＯ）は、問題が解決したと判断し、ゾーンタクトを変更するため次にゾーン内の装置に基準ラインタクトを通知し（Ｓ９）、ゾーン定義テーブルのゾーンタクト情報を変更し（Ｓ１０）、更にすべてのゾーンのタクトを基準タクトに戻すために他のゾーン内の装置に対しても基準ラインタクトを通知（Ｓ１１）し、他のゾーン内の装置に対してもゾーン定義テーブルのゾーンタクト情報を変更し（Ｓ１２）、その後、装置情報テーブル内の律速装置情報を「無」に変更（Ｓ１３）した後、再びステップ（Ｓ２）に移行し、上記フローを繰り返し行う。
【００６９】
一旦、基準ラインタクトより遅くなったラインタクトで動作しているラインが、何らかの理由で律速装置のタクトが改善した場合には、ラインタクトを基準ラインタクトに戻すことが望ましいが、上記のように各ゾーンのゾーンタクトを監視しながら、さらに律速装置情報の有無を確認することによって、ゾーンタクトが早くなった場合には、基準ラインタクトで動作することが出来る。
【００７０】
このようにして、どこかのゾーンの装置のトラブルによってゾーンタクトが基準のラインタクトより遅くなった場合には全てのゾーンタクトを律速になっているゾーンのゾーンタクトに合わせ、逆に、律速になっている装置のトラブルが解消してゾーンタクトが速くなった場合には、全てのゾーンタクトを基準ラインタクトに制御することが出来る。
【００７１】
以上のように本発明によるラインタクト制御システム及びラインタクト制御方法によれば、装置トラブル等によって基板の流動の乱れが生じた場合、従来オペレータによって行っていたラインタクト変更を自動的に行うことが出来、その結果、ラインタクトの設定に要していたオペレータの負荷を軽減したり、基板の滞留による品質の劣化や不良基板の発生を抑制したり、更にラインの稼働率を向上することが可能となる。
【符号の説明】
【００７２】
１・・・カラーフィルタ
２・・・ガラス基板
３・・・ブラックマトリックス
４−１・・・レッドＲの着色画素
４−２・・・グリーンＧの着色画素
４−３・・・ブルーＢの着色画素
５・・・透明電極
６・・・フォトスペーサー
７・・・バーテイカルアライメント
１１・・・カラーフィルタ製造ライン
１２・・・ストッカ装置
１３・・・搬入装置
１４・・・洗浄装置
１５・・・塗布装置
１６・・・露光装置
１７・・・現像装置
１８・・・ベーク装置
１９・・・搬出装置
２１〜２６・・・搬送装置（１）〜搬送装置（６）
２７、２８、２９・・・検査装置
３０・・・修正装置
３１・・・カラーフィルタ製造ライン
３２・・・ストッカ装置
３３ａ、３３ｂ・・・搬入装置（１）及び搬入装置（２）
３４ａ、３４ｂ・・・洗浄装置（１）及び洗浄装置（２）
３５ａ、３５ｂ・・・塗布装置（１）及び塗布装置（２）
３６ａ〜３６ｃ・・・露光装置（１）〜露光装置（３）
３７ａ〜３７ｃ・・・現像装置（１）〜現像装置（３）
３８ａ〜３８ｃ・・・ベーク装置（１）〜ベーク装置（３）
３９ａ〜３９ｃ・・・搬出装置（１）〜搬出装置（３）
４１〜４６・・・搬送装置（１１）〜搬送装置（１６）
４７、４８、４９・・・検査装置
５０・・・修正装置
５１〜５５・・・バッファ
１００・・・ラインタクト制御システム
１０１・・・装置群
１０１−１・・・搬送装置
１０１−２・・・検査装置
１０１−３・・・プロセス装置
１０２・・・工程内システム
１０３・・・データ管理用データベース
１０４・・・制御ＰＣ
１００ａ・・・実処理タクト情報を工程内システムに対して報告する向きを示す矢印
１００ｂ・・・装置の実処理タクト情報をデータ管理用ＤＢに報告する向きを示す矢印
１００ｃ・・・ベースタクト設定の変更の指示をする方向を示す矢印
１１０・・・ゾーンタクトを増加する場合を示す破線で囲まれた部分
１１１・・・ゾーンタクトを短縮する場合を示す破線で囲まれた部分
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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