(57)【要約】【課題】コストを抑制するとともに電磁波遮蔽性能を向上したＰＤＰを提供することを目的としている。【解決手段】表示電極２４が配置された前面板２０とデータ電極３２が配置された背面板３０とを表示電極２４とデータ電極３２が格子状に交差するように対向させ、前面板２０と背面板３０との間の空間を仕切るようにデータ電極３２に沿った縦隔壁３４ａを有する隔壁３４が配置されたプラズマディスプレイパネルであって、前面板２０には、背面板３０と対向していない外側面であって、表示電極２４の投影位置に沿って第１金属パターン線４０ａを配置し、背面板３０と対向していない外側面であって、隔壁３４の投影位置に第２金属パターン線４０ｂを配置し、第１金属パターン線４０ａと第２金属パターン線４０ｂで形成される電磁波遮蔽層４０を設けた構成である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示電極が配置された前面板とデータ電極が配置された背面板とを前記表示電極と前記データ電極が格子状に交差するように対向させ、前記前面板と前記背面板との間の空間を仕切るように前記データ電極に沿った縦隔壁を有する隔壁が配置されたプラズマディスプレイパネルであって、
前記前面板には、
前記背面板と対向していない外側面であって、前記表示電極の投影位置に沿って第１金属パターン線を配置し、
前記背面板と対向していない外側面であって、前記縦隔壁の投影位置に第２金属パターン線を配置し、
前記第１金属パターン線と前記第２金属パターン線で形成される電磁波遮蔽層を設けた
プラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
前記前面板には、前記背面板と対向していない外側面であって、隣接する前記表示電極間の非発光領域部の投影位置に第３金属パターン線を配置した
請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電磁波遮蔽層を備えたプラズマディスプレイパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
以下、従来のプラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰという）について説明する。従来の代表的なＰＤＰとしては交流面放電型ＰＤＰが挙げられる。図６に示すように、このＰＤＰ１には、対向配置された前面板２と背面板３との間に多数の放電セルが形成されている。
【０００３】
前面板２は、ガラス製の前面ガラス板２ａと、走査電極４ａと維持電極４ｂとからなる表示電極４と、それらを覆う誘電体層２ｂおよび保護層２ｃとを有している。
【０００４】
背面板３は、ガラス製の背面板３ａと、データ電極５と、それを覆う誘電体層３ｂと、隔壁６と、蛍光体層７とを有している。
【０００５】
そして、前面板２と背面板３は、表示電極４とデータ電極５とが立体交差するように対向配置されており、周囲が封着され密封されている。この表示電極４とデータ電極５とが立体交差する部分には放電セルが形成されている。この放電セルは、隔壁６で仕切られており、内部の放電空間には放電ガスが封入されている。
【０００６】
このように構成されたＰＤＰの各放電セル内でガス放電を発生させ、赤、緑、青各色の蛍光体層７を励起発光させてカラー表示を行っている。
【０００７】
このようなＰＤＰ１では、蛍光体層７の励起発光時に電磁波が発生しているが、この電磁波は各種精密機器や計器やデジタル機器類に対して障害を発生させる恐れがある。そのため、電磁波の規制が厳しくなってきている。
【０００８】
電磁波の規制については、例えばＶＣＣＩ（Ｖｏｌｕｎｔａｒｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌ  Ｃｏｕｎｃｉｌ  ｆｏｒ  Ｉｎｔｅｒｆｅｒｅｎｃｅ  ｂｙ  ｄａｔａ  ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ  ｅｑｕｉｐｍｅｎｔ  ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ  ｏｆｆｉｃｅ  ｍａｃｈｉｎｅ）による規制がある。したがって、図６に示すように、ＰＤＰ１には光透過性の電磁波遮蔽層８を形成している。この電磁波遮蔽層８は、複数の金属パターン線８ａを網目状に交差させて配置したものである。
【０００９】
この電磁波遮蔽層８を前面板２に直接貼り付けたり、前面フィルターを構成するガラスまたはプラスチックなどの透明基板に貼り付けたりすることによって、電磁波規制を遵守できるように遮蔽している。なお、この電磁波遮蔽層８の金属パターン線８ａは、モアレ縞の発生を防止するために、放電セル座標に対して１０〜４５度のバイアス角度を設けて配置されている。
【００１０】
また、前面板２には、背面板３と対向する内側面であって、隣接する表示電極４の間に光反射を抑制するためにブラックストライプ９が配置されている。さらに、走査電極４ａおよび維持電極４ｂには、光反射を抑制するために黒色層４ｃを別途設けていた。
【００１１】
この電磁波遮蔽層８の製造方法としては次のような方法がある。
【００１２】
まず、透明基板または透明シート上にパターン化された金属層を設ける方法として、グラビア印刷による転写を用いた方法（例えば、特許文献１参照）や、スクリーン印刷を用いて導電性材料をパターン印刷し、所定の厚みに加工する方法（例えは、特許文献２参照）や、フォトリソグラフィ法にて金属箔をエッチングして、各種の微細線パターンを形成するエッチング方法（例えば、特許文献３参照）等が挙げられる。
【００１３】
上記のいずれの工法においても、画面を明るくするとともにモアレ縞の欠点を出さないようにするためには、電磁波遮蔽層８を形成する金属パターン線８ａは、その線幅を細くして、線の間隔を狭くした方がよい。
【００１４】
ＰＤＰ１に用いる電磁波遮蔽層８の場合、その性質上一定の光透過性が必要とされるため、金属パターン線８ａの間隔を狭くすればするほど、金属パターン線８ａの線幅を細くする必要が生じる。ＰＤＰ１に用いる電磁波遮蔽層８においては、開口率８０％以上であることが好ましく、９０％以上がより望ましい。開口率が９０％を有する４方格子状メッシュを作製する際には、メッシュの間隔と線幅の関係については、間隔を２００μｍとした場合は線幅を１０μｍ以下とする必要がある。
【００１５】
また、上記いずれの工法においても、電磁波遮蔽性能を上げるために、電磁波遮蔽層８のシート抵抗値は低い方が好ましい。さらに、電磁波遮蔽層８は視認者側に設置される関係で反射を抑制する必要があり黒色化されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１６】
【特許文献１】特開２００９−１１９７１０号公報
【特許文献２】特開２００２−３８０９５号公報
【特許文献３】特開２０００−９８９１２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１７】
従来の電磁波遮蔽層８の金属パターン線８ａは、モアレ縞の発生を防止するために、放電セル座標に対して１０〜４５度のバイアス角度を設けて配置されていた。したがって、電磁波遮蔽層８の金属パターン線８ａが放電セルの開口部を横断することになるため、放電セルで発光した光の取り出し効率が低下しやすい。光透過率を上げるためには、電磁波遮蔽層８の金属パターン線８ａの線幅を細くして格子の開口率を高くすればよいが、金属パターン線８ａの線幅を細くした場合は、抵抗が上昇して電磁波遮蔽性能を低下させる。
【００１８】
また、電磁波遮蔽層８の金属パターン線８ａのバイアス角度は、ＰＤＰ１の製作後に、金属パターン線８ａの設計と目視確認検証とを繰り返し行って決定する必要がある。したがって、金属パターン線８ａの設計とＰＤＰ１の設計とを同時に行うことができないため、コストの低減を図れない。
【００１９】
ここに開示された技術は上記問題を解決し、コストを抑制するとともに電磁波遮蔽性能を向上したＰＤＰを提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００２０】
上記目的を達成するためにここに開示された技術は、表示電極が配置された前面板とデータ電極が配置された背面板とを前記表示電極と前記データ電極が格子状に交差するように対向させ、前記前面板と前記背面板との間の空間を仕切るように前記データ電極に沿った縦隔壁を有する隔壁が配置されたプラズマディスプレイパネルであって、前記前面板には、前記背面板と対向していない外側面であって、前記表示電極の投影位置に沿って第１金属パターン線を配置し、前記背面板と対向していない外側面であって、前記縦隔壁の投影位置に第２金属パターン線を配置し、前記第１金属パターン線と前記第２金属パターン線で形成される電磁波遮蔽層を設けた構成である。
【発明の効果】
【００２１】
ここに開示された技術によれば、前面板には、背面板と対向していない外側面であって、表示電極の投影位置に沿って第１金属パターン線を配置し、背面板と対向していない外側面であって、縦隔壁の投影位置に第２金属パターン線を配置し、第１金属パターン線と第２金属パターン線で形成される電磁波遮蔽層を設けている。すなわち、電磁波遮蔽層を形成する第１金属パターン線や第２金属パターン線が放電セルを横断しないので、光透過率の向上が図れる。
【００２２】
また、第１金属パターン線の線幅を表示電極の幅まで太くでき、第２金属パターン線の線幅を隔壁の幅まで太くできるので、電磁波遮蔽層の低抵抗化を図ることができる。
【００２３】
したがって、電磁遮蔽性能の高いＰＤＰを実現することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】一実施の形態におけるＰＤＰの分解斜視図
【図２】同ＰＤＰの斜視図
【図３】同ＰＤＰにおける表示電極と電磁波遮蔽層が配置された前面板の断面図
【図４】同ＰＤＰにおける表示電極と電磁波遮蔽層が配置された他の前面板の断面図
【図５】同ＰＤＰにおける表示電極と電磁波遮蔽層が配置された他の前面板の断面図
【図６】従来のＰＤＰの分解斜視図
【図７】従来のＰＤＰの表示電極と電磁波遮蔽層が配置された前面板の断面図
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、一実施の形態におけるＰＤＰについて図面を参照しながら説明する。
【００２６】
図１〜図３において、ＰＤＰ１０は、対向配置された前面板２０と背面板３０との間に多数の放電セル３６が形成されている。
【００２７】
前面板２０には、ガラス製の前面ガラス板２１と、走査電極２３と維持電極２２とからなる表示電極２４と、それらを覆う誘電体層２６と、保護層２７が配置されている。
【００２８】
背面板３０には、ガラス製の背面ガラス板３１と、データ電極３２と、それを覆う誘電体層３３と、隔壁３４と、蛍光体層３５が配置されている。
【００２９】
そして、前面板２０と背面板３０は、表示電極２４とデータ電極３２とが格子状に立体交差するように対向配置されており、周囲が封着され密封されている。この表示電極２４とデータ電極３２とが立体交差する部分には放電セル３６が形成されている。この放電セル３６は、隔壁３４で仕切られており、内部の放電空間には放電ガスが封入されている。
【００３０】
隔壁３４は、隣接するデータ電極３２の間の位置に設けられデータ電極３２に平行な縦隔壁３４ａと、隣接する表示電極２４の間の位置に設けられ縦隔壁３４ａに平行な横隔壁３４ｂとから構成されており、誘電体層３３上に形成されている。蛍光体層３５は、隔壁３４の側面と誘電体層３３上に形成されている。なお、隔壁３４が縦隔壁３４ａのみで構成されていてもよい。
【００３１】
このように構成されたＰＤＰ１０の各放電セル３６内でガス放電を発生させ、赤、緑、青各色の蛍光体層３５を励起発光させてカラー表示を行っている。
【００３２】
また、前面板２０には、背面板３０と対向していない外側面（視認可能な視認側面）であって、表示電極２４の投影位置に沿って第１金属パターン線４０ａを配置し、背面板３０と対向していない外側面（視認可能な視認側面）であって、隔壁３４の頂部の投影位置に沿って第２金属パターン線４０ｂを配置している。これら第１金属パターン線４０ａと第２金属パターン線４０ｂによって電磁波遮蔽層４０が形成される。なお、電磁波遮蔽層４０は、光反射を抑制するために黒色化されている。
【００３３】
また、前面板２０には、背面板３０と対向する内側面であって、隣接する表示電極２４の間にブラックストライプ２５が配置されている。
【００３４】
図３において、表示電極２４は、維持電極２２と走査電極２３から形成されている。維持電極２２は、前面板２０に配置されたブリッジ電極２２ｂとブリッジ電極２２ｂに配置された導電層２２１ｄから形成され、走査電極２３は、前面板２０に配置されたブリッジ電極２３ｂとブリッジ電極２３ｂに配置された導電層２３１ｄから形成されている。
【００３５】
つぎに、電磁波遮蔽層４０の製造方法について説明する。
【００３６】
まず、市販の感光性導電性ペースト１００重量部に黒顔料を１０重量部添加した黒の感光性導電性ペーストを用意する。つぎに、スクリーン印刷法によって黒の感光性導電性ペーストを前面板２０上に塗布して乾燥した後、第１金属パターン線４０ａや第２金属パターン線４０ｂや第３金属パターン線４０ｃを形成するための露光マスクを介して露光する。
【００３７】
そして、現像後に焼結することによって、前面板２０に電磁波遮蔽層４０を形成する。なお、電磁波遮蔽層４０の形成方法は、上述した形成方法に限らず、例えばグラビア印刷法などの周知の形成方法で形成してもよい。また、電磁波遮蔽層４０は、前面板２０の作製工程で形成してもよいが、前面板２０に形成した電磁波遮蔽層４０が搬送中に損傷する恐れがあるため、ＰＤＰ本体の作製完了後に形成するのが望ましい。
【００３８】
本実施形態によれば、前面板２０には、背面板３０と対向していない外側面であって、表示電極２４の投影位置に沿って第１金属パターン線４０ａを配置し、背面板３０と対向していない外側面であって、縦隔壁３４ａの投影位置に第２金属パターン線４０ｂを配置し、第１金属パターン線４０ａと第２金属パターン線４０ｂで形成される電磁波遮蔽層４０を設けている。すなわち、電磁波遮蔽層４０を形成する第１金属パターン線４０ａや第２金属パターン線４０ｂが放電セル３６を横断しないので、光透過率の向上が図れる。
【００３９】
また、第１金属パターン線４０ａの線幅を表示電極２４の幅まで太くできる。すなわち、維持電極２２のブリッジ電極２２ｂまたは導電層２２１ｄの幅まで太くでき、走査電極２３のブリッジ電極２３ｂまたは導電層２３１ｄの幅まで太くできる。さらに、第２金属パターン線４０ｂの線幅を縦隔壁３４ａの頂部の幅まで太くできるので、電磁波遮蔽層４０の低抵抗化を図ることができる。したがって、電磁遮蔽性能の高いＰＤＰ１０を実現することが可能となる。
【００４０】
また、従来のように電磁波遮蔽層８を形成する金属パターン線８ａのバイアス角度の設計が不要になる。すなわち、本実施形態では、電磁波遮蔽層４０の設計とＰＤＰ１０の本体の設計を同時に行うことができ、ＰＤＰ１０の設計開発コストの低減が図れる。特に、従来では、図６に示すように、金属パターン線８ａがバイアス角度をもって形成されていたので、図７に示すように、走査電極４ａおよび維持電極４ｂの光反射を防止するために、走査電極４ａおよび維持電極４ｂには、それぞれブリッジ電極４ｄと導電層４ｅとの間に黒色層４ｃを別途設ける必要があった。すなわち、ブリッジ電極４ｄが透明電極であり、導電層４ｅが銀を主成分とする電極であって銀色または白色であるため、黒色層４ｃを設けなければ外光が導電層４ｅで反射されてしまうからである。しかし、本実施形態では、第１金属パターン線４０ａおよび第２金属パターン線４０ｂが黒色化されているので、このような黒色層４ｃを設ける必要がない。よって、構成が簡素化されるので、ＰＤＰ１０の製造コストの低減も図れる。
【００４１】
なお、本実施形態では、第１金属パターン線４０ａと第２金属パターン線４０ｂを形成して電磁波遮蔽層４０を形成したが、図４に示すように、前面板２０において、背面板３０と対向していない外側面であって、隣接する表示電極２４の間の非発光領域部の投影位置に第３金属パターン線４０ｃを配置して電磁波遮蔽層４０を形成してもよい。この第３金属パターン線４０ｃは光反射を抑制するために黒色化されている。この構成によれば、第３金属パターン線４０ｃが図３におけるブラックストライプ２５の機能を兼ねるので、ＰＤＰ１０の構成が簡素化されて製造コストの低減が図れる。
【００４２】
また、第１金属パターン線４０ａと第２金属パターン線４０ｂと第３金属パターン線４０ｃで形成される電磁波遮蔽層４０の格子の開口率は、放電セル３６で発光した光の取り出し光量を大きくするために８０％以上であることが望ましく、９０％以上がより好ましい。例えば、格子の間隔を２００μｍ、格子の線幅を１０μｍ以下にすることによって、開口率を９０％の格子にすることができる。特に、電磁遮蔽性能を上げるためには、電磁波遮蔽層４０のシート抵抗値は、０．３Ω／□以下が望ましく、０．１Ω／□以下がより好ましい。
【００４３】
また、図５に示すように、ブリッジ電極２２ｂを挟むようにバス電極として導電層２２１ｄと導電層２２２ｄを配置して維持電極２２を形成し、ブリッジ電極２３ｂを挟むようにバス電極として導電層２３１ｄと導電層２３２ｄを配置して走査電極２３を形成してもよい。
【００４４】
この場合、前面板２０には、背面板３０と対向していない外側面であって、導電層２２１ｄと導電層２２２ｄの投影位置に沿って第１金属パターン線４０ａが配置されるとともに、導電層２３１ｄと導電層２３２ｄの投影位置に沿って第１金属パターン線４０ａが配置される。また、第２金属パターン線４０ｂは、図１や図２に示すように、縦隔壁３４ａの頂部の投影位置に沿って前面板２０に配置すればよい。
【００４５】
また、第１金属パターン線４０ａや第２金属パターン線４０ｂや第３金属パターン線４０ｃをすべての表示電極２４や隔壁３４の投影位置に配置するかどうかは求められる性能に応じて決めればよい。
【産業上の利用可能性】
【００４６】
ここに開示された技術によれば、電磁波遮蔽を向上することができるので、ＰＤＰの製造に有用である。
【符号の説明】
【００４７】
２０    前面板
２１    前面ガラス板
２２    維持電極
２２ｂ    ブリッジ電極
２３    走査電極
２３ｂ    ブリッジ電極
２４    表示電極
２５    ブラックストライプ
３０    背面板
３１    背面ガラス板
３４    隔壁
３４ａ    縦隔壁
３４ｂ    横隔壁
３５    蛍光体層
３６    放電セル
２２１ｄ、２２２ｄ、２３１ｄ、２３２ｄ    導電層
４０    電磁波遮蔽層
４０ａ    第１金属パターン線
４０ｂ    第２金属パターン線
４０ｃ    第３金属パターン線
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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