(57)【要約】      （修正有）【課題】液浸空間を良好に形成できる液浸部材を提供する。【解決手段】液浸部材３は、液浸露光装置内において、光学部材、及び光学部材と物体との間の液体を通過する露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される。液浸部材３は、物体上の液体の少なくとも一部を回収する回収口１８を有する第１部材１８と、回収口１８から回収された液体が流れる回収流路１９と、回収流路１９の液体を排出するための第１排出口２１と回収流路１９の気体を排出するための第２排出口２２とを有し、回収流路１９の液体と気体とを分離して排出する排出部と、回収流路１９の液体が第２排出口に接触することを抑制する抑制部１０と、を備える。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液浸露光装置内において、光学部材、及び前記光学部材と物体との間の液体を通過する露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される液浸部材であって、
前記物体上の液体の少なくとも一部を回収する回収口を有する第１部材と、
前記回収口から回収された前記液体が流れる回収流路と、
前記回収流路の液体を排出するための第１排出口と前記回収流路の気体を排出するための第２排出口とを有し、前記回収流路の液体と気体とを分離して排出する排出部と、
前記回収流路の液体が前記第２排出口に接触することを抑制する抑制部と、を備える液浸部材。
【請求項２】
液浸露光装置内において、光学部材、及び前記光学部材と物体との間の液体を通過する露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される液浸部材であって、
前記物体上の液体の少なくとも一部を回収する回収口を有する第１部材と、
前記回収口から回収された前記液体が流れる回収流路と、
第１排出口と第２排出口とを有し、前記第１排出口は前記第２排出口よりも気体の流入が抑制され、前記第２排出口は前記第１排出口よりも液体の流入が抑制された排出部と、
前記回収流路の液体が前記第２排出口に接触することを抑制する抑制部と、を備える液浸部材。
【請求項３】
前記回収流路に気体空間と液体空間とが形成され、
前記気体空間に前記第２排出口が配置されるように、前記抑制部によって前記液体空間の界面が調整される請求項１又は２記載の液浸部材。
【請求項４】
前記抑制部は、前記第２排出口の周囲の少なくとも一部に配置される突起を含む請求項１〜３のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項５】
前記突起の表面の少なくとも一部は、液体に対して撥液性である請求項４記載の液浸部材。
【請求項６】
前記抑制部は、前記第２排出口の周囲の少なくとも一部に配置され、表面が液体に対して撥液性の撥液部を含む請求項１〜５のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項７】
前記抑制部は、前記第２排出口の周囲の少なくとも一部に配置され、表面が液体に対して撥液性の撥液部と、前記第２排出口に対して前記撥液部の外側に配置され、表面が液体に対して親液性の親液部とを含む請求項１〜５のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項８】
前記抑制部は、前記第２排出口の周囲の少なくとも一部に気体を供給する給気口を含む請求項１〜７のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項９】
液浸露光装置内において、光学部材、及び前記光学部材と物体との間の液体を通過する露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される液浸部材であって、
前記物体上の液体の少なくとも一部を回収する回収口を有する第１部材と、
前記回収口から回収された前記液体が流れる回収流路と、
前記回収流路に面し、実質的に前記回収流路の液体のみを回収する第１排出口と、
前記回収流路に面し、実質的に前記回収流路の気体のみを回収する第２排出口と、
前記第２排出口の周囲の少なくとも一部に配置された突起と、を備える液浸部材。
【請求項１０】
前記突起の表面の少なくとも一部は、液体に対して撥液性である請求項９記載の液浸部材。
【請求項１１】
前記回収流路内において前記第２排出口の周囲の少なくとも一部に配置され、表面が前記液体に対して撥液性の撥液部を有し、
前記撥液部は、前記第２排出口と前記突起との間に配置される請求項９又は１０記載の液浸部材。
【請求項１２】
前記第２排出口に対して前記突起の外側に配置され、表面が前記液体に対して撥液性の撥液部を有する請求項９又は１０記載の液浸部材。
【請求項１３】
前記液浸露光装置内において、前記第２排出口は、前記光路に対する放射方向に関して、前記突起の外側に配置される請求項９〜１２のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項１４】
前記突起は、前記光路に対する放射方向に関して、前記回収口と前記第２排出口との間に配置される請求項９〜１３のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項１５】
前記第２排出口は、下方を向き、
前記突起は、前記第２排出口の周囲の少なくとも一部において下方に突出する請求項９〜１４のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項１６】
前記突起は、前記第２排出口の周囲の少なくとも一部において下方に延びる第１側面と、前記第１側面の下端部と結ばれる一端部を有し、前記第２排出口に対して外側に延びる下面とを含む請求項１５記載の液浸部材。
【請求項１７】
前記第１側面と前記下面とがなす角度は、９０度以下である請求項１６記載の液浸部材。
【請求項１８】
前記第１側面は、前記光路とほぼ平行である請求項１６又は１７記載の液浸部材。
【請求項１９】
前記突起は、前記下面の他端部と結ばれる下端部を有する第２側面を有する請求項１６〜１８のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項２０】
前記回収流路に気体空間と液体空間とが形成され、
前記気体空間に第２排出口が配置される請求項９〜１９のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項２１】
前記気体空間に前記第２排出口が配置されるように、前記突起が前記回収流路内に設けられる請求項２０記載の液浸部材。
【請求項２２】
前記気体空間に前記第２排出口が配置されるように、前記突起によって前記液体空間の界面が調整される請求項２１記載の液浸部材。
【請求項２３】
前記突起の先端は、前記第２排出口よりも低い位置に配置されている請求項９〜２２のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項２４】
液浸露光装置内において、光学部材、及び前記光学部材と物体との間の液体を通過する露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される液浸部材であって、
前記物体上の液体の少なくとも一部を回収する回収口を有する第１部材と、
前記回収口から回収された前記液体が流れる回収流路と、
前記回収流路に面し、実質的に前記回収流路の液体のみを回収する第１排出口と、
前記回収流路に面し、実質的に前記回収流路の気体のみを回収する第２排出口と、
前記第２排出口の周囲の少なくとも一部に配置され、表面が液体に対して撥液性の撥液部と、を備える液浸部材。
【請求項２５】
前記回収流路は、前記撥液部に隣接し、前記液体に対して前記撥液部よりも親液性の内面を有し、
前記撥液部は、前記親液性の内面と前記第２排出口との間に配置される請求項２４記載の液浸部材。
【請求項２６】
前記第２排出口に対して前記撥液部の外側に配置され、表面が液体に対して親液性の親液部をさらに備える請求項２４記載の液浸部材。
【請求項２７】
前記回収流路に気体空間と液体空間とが形成され、
前記気体空間に前記第２排出口が配置される請求項２４〜２６のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項２８】
前記気体空間に前記第２排出口が配置されるように、前記撥液部が前記回収流路内に設けられている請求項２７記載の液浸部材。
【請求項２９】
前記気体空間に前記第２排出口が配置されるように、前記撥液部によって前記液体空間の界面が調整される請求項２８記載の液浸部材。
【請求項３０】
液浸露光装置内において、光学部材、及び前記光学部材と物体との間の液体を通過する露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される液浸部材であって、
前記物体上の液体の少なくとも一部を回収する回収口を有する第１部材と、
前記回収口から回収された前記液体が流れる回収流路と、
前記回収流路に面し、実質的に前記回収流路の液体のみを回収する第１排出口と、
前記回収流路に面し、実質的に前記回収流路の気体のみを回収する第２排出口と、
前記第２排出口の周囲の少なくとも一部に気体を供給する給気口と、を備える液浸部材。
【請求項３１】
前記回収流路に気体空間と液体空間とが形成され、
前記気体空間に前記第２排出口が配置される請求項３０記載の液浸部材。
【請求項３２】
前記第２排出口に液体が接触しないように、前記給気口から気体が供給される請求項３１記載の液浸部材。
【請求項３３】
前記第２排出口は、前記光路に対する放射方向に関して前記回収口の外側に配置される請求項１〜３２のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項３４】
前記第２排出口は、前記光路に対する放射方向に関して前記回収口の内側に配置される請求項１〜３２のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項３５】
前記第１排出口は、前記光路に対する放射方向に関して前記第２排出口の外側に配置される請求項１〜３４のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項３６】
前記第１排出口は、前記光路に対する放射方向に関して前記第２排出口の内側に配置される請求項１〜３４のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項３７】
前記第１部材は、前記物体が対向可能な第１面、前記回収流路に面する第２面、及び前記第１面と前記第２面とを結ぶ複数の孔を有する多孔部材を含み、
前記回収口は、前記第１面側の前記孔の端部に配置される請求項１〜３６のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項３８】
前記回収流路に面する第３面、前記第３面と異なる方向を向く第４面、及び前記第３面と前記第４面とを結ぶ複数の孔を有する第２部材を備え、
前記第１排出口の少なくとも一部は前記第２部材の孔を含む請求項１〜３７のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項３９】
前記第１排出口からの気体排出が抑制されるように、前記回収流路と前記第４面が面する空間との圧力差が調整される請求項３８記載の液浸部材。
【請求項４０】
前記第２部材の表面の少なくとも一部は、前記液体に対して親液性である請求項３８又は３９記載の液浸部材。
【請求項４１】
前記第２部材は、第１部分と、前記第１部分より高い位置に配置され、前記第１部分よりも多くの液体を回収可能な第２部分と、を含む請求項３８〜４０のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項４２】
前記第２部分は、前記第１部分よりも前記第１部材から離れて配置されている請求項４１記載の液浸部材。
【請求項４３】
前記第２部分は、前記第３面における単位面積当たりの液体回収能力が、前記第１部分よりも高い請求項４１又は４２に記載の液浸部材。
【請求項４４】
前記第２部分は、前記第３面における単位面積当たりの前記孔の割合が、前記第１部分よりも大きい請求項４１〜４３のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項４５】
前記第２部分の前記孔の寸法が、前記第１部分の前記孔の寸法よりも大きい請求項４１〜４４のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項４６】
前記第２部分の前記孔の数が、前記第１部分の前記孔の数よりも多い請求項４１〜４５のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項４７】
前記第２部分の前記第３面の水平面に対する角度が、前記第１部分の前記第３面の水平面に対する角度よりも小さい請求項４１〜４６のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項４８】
前記第３面の少なくとも一部は、水平面と非平行である請求項３８〜４７のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項４９】
前記第３面は、水平面と第１角度をなす領域と、前記第１角度と異なる第２角度をなす領域とを含む請求項４８記載の液浸部材。
【請求項５０】
前記第３面の少なくとも一部が、曲面である請求項３８〜４９のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項５１】
前記第３面の少なくとも一部が窪んでいる請求項３８〜５０のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項５２】
前記第２部材は、多孔部材を含む請求項３８〜５１のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項５３】
前記回収流路に面する第５面、前記第５面と異なる方向を向く第６面、及び前記第５面と前記第６面とを結ぶ複数の孔を有する第３部材を備え、
前記第２排出口の少なくとも一部は前記第３部材の前記孔を含む請求項１〜５２のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項５４】
前記第２排出口からの液体排出が抑制されるように、前記回収流路と前記第６面が面する空間との圧力差が調整される請求項５３記載の液浸部材。
【請求項５５】
前記第３部材の表面の少なくとも一部は、前記液体に対して撥液性である請求項５３又は５４記載の液浸部材。
【請求項５６】
前記第３部材は、前記複数の孔を有する多孔部材を含む請求項５３〜５５のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項５７】
前記第２排出口の少なくとも一部が、前記回収口と対向する請求項１〜５６のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項５８】
前記第１排出口の少なくとも一部が、前記回収口と対向する請求項１〜５７のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項５９】
前記第１排出口は、前記第２排出口よりも下方に配置される請求項１〜５８のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項６０】
前記第１排出口及び前記第２排出口の少なくとも一方は、上方を向く請求項１〜５９のいずれか一項記載の液浸部材。
【請求項６１】
液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置であって、
請求項１〜６０のいずれか一項記載の液浸部材を備える液浸露光装置。
【請求項６２】
請求項６１記載の液浸露光装置を用いて基板を露光することと、
露光された前記基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【請求項６３】
露光光を射出可能な光学部材と基板との間の前記露光光の光路が液体で満たされるように液浸空間を形成し、前記液体を介して前記露光光で前記基板を露光する液浸露光装置で用いられる液体回収方法であって、
前記基板上の液体の少なくとも一部を第１部材の回収口から回収することと、
前記回収流路の液体と気体とを分離して排出する排出部の第１排出口から、前記回収流路の液体を排出することと、
前記排出部の第２排出口から、前記回収流路の気体を排出することと、
前記回収流路の液体が前記第２排出口に接触することを抑制することと、を含む液体回収方法。
【請求項６４】
露光光を射出可能な光学部材と基板との間の前記露光光の光路が液体で満たされるように液浸空間を形成し、前記液体を介して前記露光光で前記基板を露光する液浸露光装置で用いられる液体回収方法であって、
前記基板上の液体の少なくとも一部を第１部材の回収口から回収することと、
前記回収流路の液体と気体とを分離して排出する排出部の第１排出口及び第２排出口のうち、前記第２排出口よりも気体の流入が抑制された前記第１排出口から、前記回収流路の液体を排出することと、
前記第１排出口よりも液体の流入が抑制された前記第２排出口から、前記回収流路の気体を排出することと、
前記回収流路の液体が前記第２排出口に接触することを抑制することと、を含む液体回収方法。
【請求項６５】
露光光を射出可能な光学部材と基板との間の前記露光光の光路が液体で満たされるように液浸空間を形成し、前記液体を介して前記露光光で前記基板を露光する液浸露光装置で用いられる液体回収方法であって、
前記基板上の液体の少なくとも一部を第１部材の回収口から回収することと、
前記回収口から回収された前記液体が流れる回収流路に面する第１排出口から、実質的に前記回収流路の液体のみを排出することと、
前記回収流路に面する第２排出口の周囲の少なくとも一部に突起が配置された状態で、前記第２排出口から、実質的に前記回収流路の気体のみを排出することと、を含む液体回収方法。
【請求項６６】
露光光を射出可能な光学部材と基板との間の前記露光光の光路が液体で満たされるように液浸空間を形成し、前記液体を介して前記露光光で前記基板を露光する液浸露光装置で用いられる液体回収方法であって、
前記基板上の液体の少なくとも一部を第１部材の回収口から回収することと、
前記回収口から回収された前記液体が流れる回収流路に面する第１排出口から、実質的に前記回収流路の液体のみを排出することと、
前記回収流路に面する第２排出口の周囲の少なくとも一部に表面が液体に対して撥液性の撥液部が配置された状態で、前記第２排出口から、実質的に前記回収流路の気体のみを排出することと、を含む液体回収方法。
【請求項６７】
露光光を射出可能な光学部材と基板との間の前記露光光の光路が液体で満たされるように液浸空間を形成し、前記液体を介して前記露光光で前記基板を露光する液浸露光装置で用いられる液体回収方法であって、
前記基板上の液体の少なくとも一部を第１部材の回収口から回収することと、
前記回収口から回収された前記液体が流れる回収流路に面する第１排出口から、実質的に前記回収流路の液体のみを排出することと、
前記回収流路に面する第２排出口から、実質的に前記回収流路の気体のみを排出することと、
前記第２排出口の周囲の少なくとも一部に給気口から気体を供給することと、を含む液体回収方法。
【請求項６８】
請求項６３〜６７のいずれか一項記載の液体回収方法を用いて基板に照射される露光光の光路を液体で満たすことと、
前記液体を介して前記露光光で基板を露光することと、
露光された前記基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【請求項６９】
コンピュータに、液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
前記露光光を射出可能な光学部材と前記基板との間の前記露光光の光路が前記液体で満たされるように液浸空間を形成することと、
前記液浸空間の液体を介して前記露光光で前記基板を露光することと、
前記基板上の液体の少なくとも一部を第１部材の回収口から回収することと、
前記回収流路の液体と気体とを分離して排出する排出部の第１排出口から、前記回収流路の液体を排出することと、
前記排出部の第２排出口から、前記回収流路の気体を排出することと、
前記回収流路の液体が前記第２排出口に接触することを抑制することと、を実行させるプログラム。
【請求項７０】
コンピュータに、液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
前記露光光を射出可能な光学部材と前記基板との間の前記露光光の光路が前記液体で満たされるように液浸空間を形成することと、
前記液浸空間の液体を介して前記露光光で前記基板を露光することと、
前記基板上の液体の少なくとも一部を第１部材の回収口から回収することと、
前記回収流路の液体と気体とを分離して排出する排出部の第１排出口及び第２排出口のうち、前記第２排出口よりも気体の流入が抑制された前記第１排出口から、前記回収流路の液体を排出することと、
前記第１排出口よりも液体の流入が抑制された前記第２排出口から、前記回収流路の気体を排出することと、
前記回収流路の液体が前記第２排出口に接触することを抑制することと、を実行させるプログラム。
【請求項７１】
コンピュータに、液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
前記露光光を射出可能な光学部材と前記基板との間の前記露光光の光路が前記液体で満たされるように液浸空間を形成することと、
前記液浸空間の液体を介して前記露光光で前記基板を露光することと、
前記基板上の液体の少なくとも一部を第１部材の回収口から回収することと、
前記回収口から回収された前記液体が流れる回収流路に面する第１排出口から、実質的に前記回収流路の液体のみを排出することと、
前記回収流路に面する第２排出口の周囲の少なくとも一部に突起が配置された状態で、前記第２排出口から、実質的に前記回収流路の気体のみを排出することと、を実行させるプログラム。
【請求項７２】
コンピュータに、液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
前記露光光を射出可能な光学部材と前記基板との間の前記露光光の光路が前記液体で満たされるように液浸空間を形成することと、
前記液浸空間の液体を介して前記露光光で前記基板を露光することと、
前記基板上の液体の少なくとも一部を第１部材の回収口から回収することと、
前記回収口から回収された前記液体が流れる回収流路に面する第１排出口から、実質的に前記回収流路の液体のみを排出することと、
前記回収流路に面する第２排出口の周囲の少なくとも一部に表面が液体に対して撥液性の撥液部が配置された状態で、前記第２排出口から、実質的に前記回収流路の気体のみを排出することと、を実行させるプログラム。
【請求項７３】
コンピュータに、液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
前記露光光を射出可能な光学部材と前記基板との間の前記露光光の光路が前記液体で満たされるように液浸空間を形成することと、
前記液浸空間の液体を介して前記露光光で前記基板を露光することと、
前記基板上の液体の少なくとも一部を第１部材の回収口から回収することと、
前記回収口から回収された前記液体が流れる回収流路に面する第１排出口から、実質的に前記回収流路の液体のみを排出することと、
前記回収流路に面する第２排出口から、実質的に前記回収流路の気体のみを排出することと、
前記第２排出口の周囲の少なくとも一部に給気口から気体を供給することと、を実行させるプログラム。
【請求項７４】
請求項６９〜７３のいずれか一項記載のプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液浸部材、液浸露光装置、液体回収方法、デバイス製造方法、プログラム、及び記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
フォトリソグラフィ工程で用いられる露光装置において、例えば下記特許文献に開示されているような、液浸空間の液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】米国特許出願公開第２００９／００４６２６１号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
液浸露光装置において、例えば液浸空間を所望の状態に形成できないと、露光不良が発生する可能性がある。その結果、不良デバイスが発生する可能性がある。
【０００５】
本発明の態様は、液浸空間を良好に形成できる液浸部材を提供することを目的とする。また本発明の態様は、露光不良の発生を抑制できる液浸露光装置及び液体回収方法を提供することを目的とする。また本発明の態様は、不良デバイスの発生を抑制できるデバイス製造方法、プログラム、及び記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の第１の態様に従えば、液浸露光装置内において、光学部材、及び光学部材と物体との間の液体を通過する露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される液浸部材であって、物体上の液体の少なくとも一部を回収する回収口を有する第１部材と、回収口から回収された液体が流れる回収流路と、回収流路の液体を排出するための第１排出口と回収流路の気体を排出するための第２排出口とを有し、回収流路の液体と気体とを分離して排出する排出部と、回収流路の液体が第２排出口に接触することを抑制する抑制部と、を備える液浸部材が提供される。
【０００７】
本発明の第２の態様に従えば、液浸露光装置内において、光学部材、及び光学部材と物体との間の液体を通過する露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される液浸部材であって、物体上の液体の少なくとも一部を回収する回収口を有する第１部材と、回収口から回収された液体が流れる回収流路と、第１排出口と第２排出口とを有し、第１排出口は第２排出口よりも気体の流入が抑制され、第２排出口は第１排出口よりも液体の流入が抑制された排出部と、回収流路の液体が第２排出口に接触することを抑制する抑制部と、を備える液浸部材が提供される。
【０００８】
本発明の第３の態様に従えば、液浸露光装置内において、光学部材、及び光学部材と物体との間の液体を通過する露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される液浸部材であって、物体上の液体の少なくとも一部を回収する回収口を有する第１部材と、回収口から回収された液体が流れる回収流路と、回収流路に面し、実質的に回収流路の液体のみを回収する第１排出口と、回収流路に面し、実質的に回収流路の気体のみを回収する第２排出口と、第２排出口の周囲の少なくとも一部に配置された突起と、を備える液浸部材が提供される。
【０００９】
本発明の第４の態様に従えば、液浸露光装置内において、光学部材、及び光学部材と物体との間の液体を通過する露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される液浸部材であって、物体上の液体の少なくとも一部を回収する回収口を有する第１部材と、回収口から回収された液体が流れる回収流路と、回収流路に面し、実質的に回収流路の液体のみを回収する第１排出口と、回収流路に面し、実質的に回収流路の気体のみを回収する第２排出口と、第２排出口の周囲の少なくとも一部に配置され、表面が液体に対して撥液性の撥液部と、を備える液浸部材が提供される。
【００１０】
本発明の第５の態様に従えば、液浸露光装置内において、光学部材、及び光学部材と物体との間の液体を通過する露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される液浸部材であって、物体上の液体の少なくとも一部を回収する回収口を有する第１部材と、回収口から回収された液体が流れる回収流路と、回収流路に面し、実質的に回収流路の液体のみを回収する第１排出口と、回収流路に面し、実質的に回収流路の気体のみを回収する第２排出口と、第２排出口の周囲の少なくとも一部に気体を供給する給気口と、を備える液浸部材が提供される。
【００１１】
本発明の第６の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置であって、第１〜第５のいずれか一つの態様の液浸部材を備える液浸露光装置が提供される。
【００１２】
本発明の第７の態様に従えば、第６の態様の液浸露光装置を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。
【００１３】
本発明の第８の態様に従えば、露光光を射出可能な光学部材と基板との間の露光光の光路が液体で満たされるように液浸空間を形成し、液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置で用いられる液体回収方法であって、基板上の液体の少なくとも一部を第１部材の回収口から回収することと、回収流路の液体と気体とを分離して排出する排出部の第１排出口から、回収流路の液体を排出することと、排出部の第２排出口から、回収流路の気体を排出することと、回収流路の液体が第２排出口に接触することを抑制することと、を含む液体回収方法が提供される。
【００１４】
本発明の第９の態様に従えば、露光光を射出可能な光学部材と基板との間の露光光の光路が液体で満たされるように液浸空間を形成し、液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置で用いられる液体回収方法であって、基板上の液体の少なくとも一部を第１部材の回収口から回収することと、回収流路の液体と気体とを分離して排出する排出部の第１排出口及び第２排出口のうち、第２排出口よりも気体の流入が抑制された第１排出口から、回収流路の液体を排出することと、第１排出口よりも液体の流入が抑制された第２排出口から、回収流路の気体を排出することと、回収流路の液体が第２排出口に接触することを抑制することと、を含む液体回収方法が提供される。
【００１５】
本発明の第１０の態様に従えば、露光光を射出可能な光学部材と基板との間の露光光の光路が液体で満たされるように液浸空間を形成し、液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置で用いられる液体回収方法であって、基板上の液体の少なくとも一部を第１部材の回収口から回収することと、回収口から回収された液体が流れる回収流路に面する第１排出口から、実質的に回収流路の液体のみを排出することと、回収流路に面する第２排出口の周囲の少なくとも一部に突起が配置された状態で、第２排出口から、実質的に回収流路の気体のみを排出することと、を含む液体回収方法が提供される。
【００１６】
本発明の第１１の態様に従えば、露光光を射出可能な光学部材と基板との間の露光光の光路が液体で満たされるように液浸空間を形成し、液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置で用いられる液体回収方法であって、基板上の液体の少なくとも一部を第１部材の回収口から回収することと、回収口から回収された液体が流れる回収流路に面する第１排出口から、実質的に回収流路の液体のみを排出することと、回収流路に面する第２排出口の周囲の少なくとも一部に表面が液体に対して撥液性の撥液部が配置された状態で、第２排出口から、実質的に回収流路の気体のみを排出することと、を含む液体回収方法が提供される。
【００１７】
本発明の第１２の態様に従えば、露光光を射出可能な光学部材と基板との間の露光光の光路が液体で満たされるように液浸空間を形成し、液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置で用いられる液体回収方法であって、基板上の液体の少なくとも一部を第１部材の回収口から回収することと、回収口から回収された液体が流れる回収流路に面する第１排出口から、実質的に回収流路の液体のみを排出することと、回収流路に面する第２排出口から、実質的に回収流路の気体のみを排出することと、第２排出口の周囲の少なくとも一部に給気口から気体を供給することと、を含む液体回収方法が提供される。
【００１８】
本発明の第１３の態様に従えば、第８〜第１２のいずれか一つの態様の液体回収方法を用いて基板に照射される露光光の光路を液体で満たすことと、液体を介して露光光で基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。
【００１９】
本発明の第１４の態様に従えば、コンピュータに、液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、露光光を射出可能な光学部材と基板との間の露光光の光路が液体で満たされるように液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して露光光で基板を露光することと、基板上の液体の少なくとも一部を第１部材の回収口から回収することと、回収流路の液体と気体とを分離して排出する排出部の第１排出口から、回収流路の液体を排出することと、排出部の第２排出口から、回収流路の気体を排出することと、回収流路の液体が第２排出口に接触することを抑制することと、を実行させるプログラムが提供される。
【００２０】
本発明の第１５の態様に従えば、コンピュータに、液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、露光光を射出可能な光学部材と基板との間の露光光の光路が液体で満たされるように液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して露光光で基板を露光することと、基板上の液体の少なくとも一部を第１部材の回収口から回収することと、回収流路の液体と気体とを分離して排出する排出部の第１排出口及び第２排出口のうち、第２排出口よりも気体の流入が抑制された第１排出口から、回収流路の液体を排出することと、第１排出口よりも液体の流入が抑制された第２排出口から、回収流路の気体を排出することと、回収流路の液体が第２排出口に接触することを抑制することと、を実行させるプログラムが提供される。
【００２１】
本発明の第１６の態様に従えば、コンピュータに、液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、露光光を射出可能な光学部材と基板との間の露光光の光路が液体で満たされるように液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して露光光で基板を露光することと、基板上の液体の少なくとも一部を第１部材の回収口から回収することと、回収口から回収された液体が流れる回収流路に面する第１排出口から、実質的に回収流路の液体のみを排出することと、回収流路に面する第２排出口の周囲の少なくとも一部に突起が配置された状態で、第２排出口から、実質的に回収流路の気体のみを排出することと、を実行させるプログラムが提供される。
【００２２】
本発明の第１７の態様に従えば、コンピュータに、液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、露光光を射出可能な光学部材と基板との間の露光光の光路が液体で満たされるように液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して露光光で基板を露光することと、基板上の液体の少なくとも一部を第１部材の回収口から回収することと、回収口から回収された液体が流れる回収流路に面する第１排出口から、実質的に回収流路の液体のみを排出することと、回収流路に面する第２排出口の周囲の少なくとも一部に表面が液体に対して撥液性の撥液部が配置された状態で、第２排出口から、実質的に回収流路の気体のみを排出することと、を実行させるプログラムが提供される。
【００２３】
本発明の第１８の態様に従えば、コンピュータに、液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、露光光を射出可能な光学部材と基板との間の露光光の光路が液体で満たされるように液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して露光光で基板を露光することと、基板上の液体の少なくとも一部を第１部材の回収口から回収することと、回収口から回収された液体が流れる回収流路に面する第１排出口から、実質的に回収流路の液体のみを排出することと、回収流路に面する第２排出口から、実質的に回収流路の気体のみを排出することと、第２排出口の周囲の少なくとも一部に給気口から気体を供給することと、を実行させるプログラムが提供される。
【００２４】
本発明の第１９の態様に従えば、第１４〜第１８のいずれか一つの態様のプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体が提供される。
【発明の効果】
【００２５】
本発明の態様によれば、液浸空間を良好に形成できる。また本発明の態様によれば、露光不良の発生を抑制でき、不良デバイスの発生を抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】第１実施形態に係る露光装置の一例を示す概略構成図である。
【図２】第１実施形態に係る液浸部材の一例を示す側断面図である。
【図３】第１実施形態に係る液浸部材を上方から見た図である。
【図４】第１実施形態に係る液浸部材を下方から見た図である。
【図５】第１実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。
【図６】第１実施形態に係る第２部分が流体を回収する状態の一例を示す模式図である。
【図７】第１実施形態に係る第１部分が流体を回収する状態の一例を示す模式図である。
【図８】（Ａ）は第１実施形態に係る第１部分が流体を回収する状態の一例を示す模式図であり、（Ｂ）は第１実施形態に係る第２部分が流体を回収する状態の一例を示す模式図である。
【図９】第２実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。
【図１０】第３実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。
【図１１】第４実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。
【図１２】第５実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。
【図１３】第６実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。
【図１４】（Ａ）は第７実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図であり、（Ｂ）は第７実施形態に係る液浸部材を上方から見た図である。
【図１５】第８実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。
【図１６】第８実施形態に係る第２排出口が気体を排出する状態の一例を示す模式図である。
【図１７】第９実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。
【図１８】第１０実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。
【図１９】第１１実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。
【図２０】第１１実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。
【図２１】第１２実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。
【図２２】第１２実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。
【図２３】第１２実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。
【図２４】第１３実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。
【図２５】第１４実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。
【図２６】第１５実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。
【図２７】（Ａ）は第１５実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図であり、（Ｂ）は第１５実施形態に係る液浸部材の一例を示す拡大図である。
【図２８】（Ａ）は第１５実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図であり、（Ｂ）は第１５実施形態に係る液浸部材の一例を示す拡大図である。
【図２９】（Ａ）は第１５実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図であり、（Ｂ）は第１５実施形態に係る液浸部材の一例を示す拡大図である。
【図３０】第１５実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。
【図３１】第１５実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。
【図３２】第１６実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。
【図３３】第１７実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。
【図３４】第１７実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。
【図３５】第１７実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。
【図３６】第１７実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。
【図３７】マイクロデバイスの製造工程の一例を説明するためのフローチャートである。
【図３８】第１実施形態に係る第１排出口から液体が排出される状態の一例を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されない。以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部の位置関係について説明する。水平面内の所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれと直交する方向（すなわち鉛直方向）をＺ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。
【００２８】
＜第１実施形態＞
第１実施形態について説明する。図１は、第１実施形態に係る露光装置ＥＸの一例を示す概略構成図である。本実施形態の露光装置ＥＸは、液体ＬＱを介して露光光ＥＬで基板Ｐを露光する液浸露光装置である。本実施形態においては、露光光ＥＬの光路Ｋの少なくとも一部が液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳが形成される。液浸空間ＬＳは、液体ＬＱで満たされた部分（空間、領域）である。基板Ｐは、液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して露光光ＥＬで露光される。本実施形態においては、液体ＬＱとして、水（純水）を用いる。
【００２９】
図１において、露光装置ＥＸは、マスクＭを保持して移動可能なマスクステージ１と、基板Ｐを保持して移動可能な基板ステージ２と、マスクＭを露光光ＥＬで照明する照明系ＩＬと、露光光ＥＬで照明されたマスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する投影光学系ＰＬと、基板Ｐに照射される露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように基板Ｐとの間で液体ＬＱを保持して液浸空間ＬＳを形成する液浸部材３と、露光装置ＥＸ全体の動作を制御する制御装置４と、制御装置４に接続され、露光に関する各種の情報を記憶する記憶装置５とを備えている。記憶装置５は、例えばＲＡＭ等のメモリ、ハードディスク、ＣＤ−ＲＯＭ等の記録媒体を含む。記憶装置５には、コンピュータシステムを制御するオペレーティングシステム（ＯＳ）がインストールされ、露光装置ＥＸを制御するためのプログラムが記憶されている。
【００３０】
また、露光装置ＥＸは、少なくとも投影光学系ＰＬ、液浸部材３、及び基板ステージ２が配置される内部空間ＣＳを形成するチャンバ装置ＣＨを備えている。チャンバ装置ＣＨは、内部空間ＣＳの環境（温度、湿度、圧力、及びクリーン度）を制御する環境制御装置を有する。
【００３１】
マスクＭは、基板Ｐに投影されるデバイスパターンが形成されたレチクルを含む。マスクＭは、例えばガラス板等の透明板と、その透明板上にクロム等の遮光材料を用いて形成されたパターンとを有する透過型マスクを含む。なお、マスクＭとして、反射型マスクを用いることもできる。
【００３２】
基板Ｐは、デバイスを製造するための基板である。基板Ｐは、例えば半導体ウエハ等の基材と、その基材上に形成された感光膜とを含む。感光膜は、感光材（フォトレジスト）の膜である。また、基板Ｐが、感光膜に加えて別の膜を含んでもよい。例えば、基板Ｐが、反射防止膜を含んでもよいし、感光膜を保護する保護膜（トップコート膜）を含んでもよい。
【００３３】
照明系ＩＬは、所定の照明領域ＩＲに露光光ＥＬを照射する。照明領域ＩＲは、照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。照明系ＩＬは、照明領域ＩＲに配置されたマスクＭの少なくとも一部を均一な照度分布の露光光ＥＬで照明する。照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬとして、例えば水銀ランプから射出される輝線（ｇ線、ｈ線、ｉ線）及びＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光（ＤＵＶ光）、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）、及びＦ２レーザ光（波長１５７ｎｍ）等の真空紫外光（ＶＵＶ光）等が用いられる。本実施形態においては、露光光ＥＬとして、紫外光（真空紫外光）であるＡｒＦエキシマレーザ光を用いる。
【００３４】
マスクステージ１は、マスクＭを保持した状態で、照明領域ＩＲを含むベース部材６のガイド面６Ｇ上を移動可能である。マスクステージ１は、例えば米国特許第６４５２２９２号に開示されているような平面モータを含む駆動システムの作動により移動する。平面モータは、マスクステージ１に配置された可動子と、ベース部材６に配置された固定子とを有する。本実施形態においては、マスクステージ１は、駆動システムの作動により、ガイド面６Ｇ上において、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能である。
【００３５】
投影光学系ＰＬは、所定の投影領域ＰＲに露光光ＥＬを照射する。投影領域ＰＲは、投影光学系ＰＬから射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。投影光学系ＰＬは、投影領域ＰＲに配置された基板Ｐの少なくとも一部に、マスクＭのパターンの像を所定の投影倍率で投影する。本実施形態の投影光学系ＰＬは、その投影倍率が例えば１／４、１／５、又は１／８等の縮小系である。なお、投影光学系ＰＬは等倍系及び拡大系のいずれでもよい。本実施形態においては、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸは、Ｚ軸と平行である。また、投影光学系ＰＬは、反射光学素子を含まない屈折系、屈折光学素子を含まない反射系、反射光学素子と屈折光学素子とを含む反射屈折系のいずれであってもよい。また、投影光学系ＰＬは、倒立像と正立像とのいずれを形成してもよい。
【００３６】
投影光学系ＰＬは、投影光学系ＰＬの像面に向けて露光光ＥＬを射出する射出面７を有する。射出面７は、投影光学系ＰＬの複数の光学素子のうち、投影光学系ＰＬの像面に最も近い終端光学素子８に配置されている。投影領域ＰＲは、射出面７から射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。本実施形態において、射出面７は、−Ｚ方向を向いており、ＸＹ平面と平行である。なお、−Ｚ方向を向いている射出面７は、凸面であってもよいし、凹面であってもよい。終端光学素子８の光軸は、Ｚ軸と平行である。本実施形態において、射出面７から射出される露光光ＥＬは、−Ｚ方向に進行する。
【００３７】
基板ステージ２は、基板Ｐを保持した状態で、投影領域ＰＲを含むベース部材９のガイド面９Ｇ上を移動可能である。基板ステージ２は、例えば米国特許第６４５２２９２号に開示されているような平面モータを含む駆動システムの作動により移動する。平面モータは、基板ステージ２に配置された可動子と、ベース部材９に配置された固定子とを有する。本実施形態においては、基板ステージ２は、駆動システムの作動により、ガイド面９Ｇ上において、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能である。なお、基板ステージ２を移動させる駆動システムは、平面モータでなくてもよい。例えば、駆動システムがリニアモータを含んでもよい。
【００３８】
基板ステージ２は、基板Ｐをリリース可能に保持する基板保持部１０を有する。基板保持部１０は、基板Ｐの表面が＋Ｚ方向を向くように基板Ｐを保持する。本実施形態において、基板保持部１０に保持された基板Ｐの表面と、その基板Ｐの周囲に配置される基板ステージ２の上面１１とは、同一平面内に配置される（面一である）。上面１１は、平坦である。本実施形態において、基板保持部１０に保持された基板Ｐの表面、及び基板ステージ２の上面１１は、ＸＹ平面とほぼ平行である。
【００３９】
なお、基板保持部１０に保持された基板Ｐの表面と基板ステージ２の上面１１とが同一平面内に配置されてなくてもよいし、基板Ｐの表面及び上面１１の少なくとも一方がＸＹ平面と非平行でもよい。また、上面１１は平坦でなくてもよい。例えば、上面１１が曲面を含んでもよい。
【００４０】
また、本実施形態において、基板ステージ２は、例えば米国特許出願公開第２００７／０１７７１２５号、及び米国特許出願公開第２００８／００４９２０９号等に開示されているような、カバー部材Ｔをリリース可能に保持するカバー部材保持部１２を有する。本実施形態において、基板ステージ２の上面１１は、カバー部材保持部１２に保持されたカバー部材Ｔの上面を含む。
【００４１】
なお、カバー部材Ｔがリリース可能でなくてもよい。その場合、カバー部材保持部１２は省略可能である。また、基板ステージ２の上面１１が、基板ステージ２に搭載されているセンサ、計測部材等の表面を含んでもよい。
【００４２】
本実施形態において、マスクステージ１及び基板ステージ２の位置が、レーザ干渉計ユニット１３Ａ、１３Ｂを含む干渉計システム１３によって計測される。レーザ干渉計ユニット１３Ａは、マスクステージ１に配置された計測ミラーを用いてマスクステージ１の位置を計測可能である。レーザ干渉計ユニット１３Ｂは、基板ステージ２に配置された計測ミラーを用いて基板ステージ２の位置を計測可能である。基板Ｐの露光処理を実行するとき、あるいは所定の計測処理を実行するとき、制御装置４は、干渉計システム１３の計測結果に基づいて、マスクステージ１（マスクＭ）及び基板ステージ２（基板Ｐ）の位置制御を実行する。
【００４３】
本実施形態の露光装置ＥＸは、マスクＭと基板Ｐとを所定の走査方向に同期移動しつつ、マスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する走査型露光装置（所謂スキャニングステッパ）である。本実施形態においては、基板Ｐの走査方向（同期移動方向）をＹ軸方向とし、マスクＭの走査方向（同期移動方向）もＹ軸方向とする。制御装置４は、基板Ｐを投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲに対してＹ軸方向に移動するとともに、その基板ＰのＹ軸方向への移動と同期して、照明系ＩＬの照明領域ＩＲに対してマスクＭをＹ軸方向に移動しつつ、投影光学系ＰＬと基板Ｐ上の液浸空間ＬＳの液体ＬＱとを介して基板Ｐに露光光ＥＬを照射する。
【００４４】
液浸部材３は、投影領域ＰＲに照射される露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳを形成する。液浸部材３は、終端光学素子８と、終端光学素子８の射出面７から射出される露光光ＥＬが照射可能な位置に配置される物体との間の露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように、物体との間で液体ＬＱを保持して液浸空間ＬＳを形成する。
【００４５】
本実施形態において、射出面７から射出される露光光ＥＬが照射可能な位置は、投影領域ＰＲを含む。また、射出面７から射出される露光光ＥＬが照射可能な位置は、物体が射出面７と対向する位置を含む。本実施形態において、射出面７と対向する位置に配置可能な物体、換言すれば、投影領域ＰＲに配置可能な物体は、基板ステージ２、及び基板ステージ２（基板保持部１０）に保持された基板Ｐの少なくとも一方を含む。基板Ｐの露光において、液浸部材３は、基板Ｐに照射される露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように基板Ｐとの間で液体ＬＱを保持して液浸空間ＬＳを形成する。
【００４６】
本実施形態において、液浸部材３は、終端光学素子８、及び終端光学素子８と投影領域ＰＲに配置される物体との間の液体ＬＱを通過する露光光ＥＬの光路Ｋの周囲の少なくとも一部に配置される。本実施形態において、液浸部材３は、環状の部材である。本実施形態において、液浸部材３の一部は、終端光学素子８の周囲に配置され、液浸部材３の一部は、終端光学素子８と物体との間の露光光ＥＬの光路Ｋの周囲に配置される。液浸空間ＬＳは、終端光学素子８と投影領域ＰＲに配置される物体との間の露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように形成される。
【００４７】
なお、液浸部材３は、環状の部材でなくてもよい。例えば液浸部材３が終端光学素子８及び光路Ｋの周囲の一部に配置されていてもよい。また、液浸部材３が、終端光学素子８の周囲の少なくとも一部に配置されていなくてもよい。例えば、液浸部材３が、射出面７と物体との間の光路Ｋの周囲の少なくとも一部に配置され、終端光学素子８の周囲に配置されていなくてもよい。また、液浸部材３が、射出面７と物体との間の光路Ｋの周囲の少なくとも一部に配置されていなくてもよい。例えば、液浸部材３が、終端光学素子８の周囲の少なくとも一部に配置され、射出面７と物体との間の光路Ｋの周囲に配置されていなくてもよい。
【００４８】
液浸部材３は、投影領域ＰＲに配置される物体の表面（上面）が対向可能な下面１４を有する。液浸部材３の下面１４は、物体の表面との間で液体ＬＱを保持することができる。本実施形態において、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの一部は、終端光学素子８と、その終端光学素子８の射出面７に対向するように配置された物体との間に保持される。また、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの一部は、液浸部材３と、その液浸部材３の下面１４に対向するように配置された物体との間に保持される。一方側の射出面７及び下面１４と、他方側の物体の表面（上面）との間に液体ＬＱが保持されることによって、終端光学素子８と物体との間の露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳが形成される。
【００４９】
本実施形態においては、基板Ｐに露光光ＥＬが照射されているとき、投影領域ＰＲを含む基板Ｐの表面の一部の領域が液体ＬＱで覆われるように液浸空間ＬＳが形成される。液体ＬＱの界面（メニスカス、エッジ）ＬＧの少なくとも一部は、液浸部材３の下面１４と基板Ｐの表面との間に形成される。すなわち、本実施形態の露光装置ＥＸは、局所液浸方式を採用する。液浸空間ＬＳの外側（界面ＬＧの外側）は、気体空間ＧＳである。
【００５０】
図２は、本実施形態に係る液浸部材３の一例を示す側断面図、図３は、液浸部材３を上側（＋Ｚ側）から見た図、図４は、液浸部材３を下側（−Ｚ側）から見た図、図５は、図２の一部を拡大した図である。図２〜図５を用いる以下の説明においては、投影領域ＰＲに基板Ｐが配置される場合を例にして説明するが、上述のように、例えば基板ステージ２（カバー部材Ｔ）を配置することもできる。
【００５１】
本実施形態において、液浸部材３は、少なくとも一部が射出面７に対向するように配置されるプレート部３１と、少なくとも一部が終端光学素子８の側面８Ｆに対向するように配置される本体部３２と、流路形成部材３３とを含む。本実施形態において、プレート部３１と本体部３２とは一体である。本実施形態において、流路形成部材３３は、プレート部３１及び本体部３２と異なる。本実施形態において、流路形成部材３３は、本体部３２に支持されている。なお、流路形成部材３３と、プレート部３１及び本体部３２とが一体でもよい。
【００５２】
なお、側面８Ｆは、射出面７の周囲に配置されている。本実施形態において、側面８Ｆは、光路Ｋに対する放射方向に関して、外側に向かって上方に傾斜している。なお、光路Ｋに対する放射方向は、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに対する放射方向を含み、Ｚ軸と垂直な方向を含む。
【００５３】
液浸部材３は、射出面７が面する位置に開口１５を有する。射出面７から射出された露光光ＥＬは、開口１５を通過して基板Ｐに照射可能である。本実施形態において、プレート部３１は、射出面７の少なくとも一部と対向する上面１６Ａと、基板Ｐの表面が対向可能な下面１６Ｂとを有する。開口１５は、上面１６Ａと下面１６Ｂとを結ぶように形成される孔を含む。上面１６Ａは、開口１５の上端の周囲に配置され、下面１６Ｂは、開口１５の下端の周囲に配置される。
【００５４】
本実施形態において、上面１６Ａは、平坦である。上面１６Ａは、ＸＹ平面とほぼ平行である。なお、上面１６Ａの少なくとも一部が、ＸＹ平面に対して傾斜していてもよいし、曲面を含んでもよい。本実施形態において、下面１６Ｂは、平坦である。下面１６Ｂは、ＸＹ平面とほぼ平行である。なお、下面１６Ｂの少なくとも一部が、ＸＹ平面に対して傾斜していてもよいし、曲面を含んでもよい。下面１６Ｂは、基板Ｐの表面との間で液体ＬＱを保持する。
【００５５】
図４に示すように、本実施形態において、下面１６Ｂの外形は、八角形である。なお、下面１６Ｂの外形が、例えば四角形、六角形等、任意の多角形でもよい。また、下面１６Ｂの外形が、円形、楕円形等でもよい。
【００５６】
液浸部材３は、液体ＬＱを供給可能な供給口１７と、液体ＬＱを回収可能な回収口１８と、回収口１８から回収された液体ＬＱが流れる回収流路１９と、回収流路１９の液体ＬＱと気体Ｇとを分離して排出する排出部２０とを備えている。
【００５７】
供給口１７は、光路Ｋに液体ＬＱを供給可能である。本実施形態において、供給口１７は、基板Ｐの露光の少なくとも一部において、光路Ｋに液体ＬＱを供給する。供給口１７は、光路Ｋの近傍において、その光路Ｋに面するように配置される。本実施形態において、供給口１７は、射出面７と上面１６Ａとの間の空間ＳＲに液体ＬＱを供給する。供給口１７から空間ＳＲに供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、光路Ｋに供給されるとともに、開口１５を介して、基板Ｐ上に供給される。なお、供給口１７の少なくとも一つの少なくとも一部が側面８Ｆに面していてもよい。
【００５８】
液浸部材３は、供給口１７に接続される供給流路２９を備えている。供給流路２９の少なくとも一部は、液浸部材３の内部に形成されている。本実施形態において、供給口１７は、供給流路２９の一端に形成された開口を含む。供給流路２９の他端は、供給管３４Ｐが形成する流路３４を介して液体供給装置３５と接続される。
【００５９】
液体供給装置３５は、クリーンで温度調整された液体ＬＱを送出可能である。液体供給装置３５から送出された液体ＬＱは、流路３４及び供給流路２９を介して供給口１７に供給される。供給口１７は、供給流路２９からの液体ＬＱを光路Ｋ（空間ＳＲ）に供給する。
【００６０】
回収口１８は、基板Ｐ上（物体上）の液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能である。回収口１８は、基板Ｐの露光において、基板Ｐ上の液体ＬＱの少なくとも一部を回収する。回収口１８は、−Ｚ方向を向いている。基板Ｐの露光の少なくとも一部において、基板Ｐの表面は、回収口１８に面する。
【００６１】
本実施形態において、液浸部材３は、回収口１８を有する第１部材２８を備えている。第１部材２８は、第１面２８Ｂ、第１面２８Ｂと異なる方向を向く第２面２８Ａ、及び第１面２８Ｂと第２面２８Ａとを結ぶ複数の孔２８Ｈを有する。本実施形態において、回収口１８は、第１部材２８の孔２８Ｈを含む。本実施形態において、第１部材２８は、複数の孔(openingsあるいはpores)２８Ｈを有する多孔部材である。なお、第１部材２８が、網目状に多数の小さい孔が形成された多孔部材であるメッシュフィルタでもよい。すなわち、第１部材２８は、液体ＬＱを回収可能な孔を有する各種部材を適用できる。
【００６２】
回収流路１９の少なくとも一部は、液浸部材３の内部に形成されている。本実施形態において、回収流路１９の下端に開口３２Ｋが形成されている。開口３２Ｋは、下面１６Ｂの周囲の少なくとも一部に配置される。開口３２Ｋは、本体部３２の下端に形成されている。開口３２Ｋは、下方（−Ｚ方向）を向く。本実施形態において、第１部材２８は、開口３２Ｋに配置されている。回収流路１９は、本体部３２と第１部材２８との間の空間を含む。
【００６３】
第１部材２８は、光路Ｋ（下面１６Ｂ）の周囲の少なくとも一部に配置される。本実施形態において、第１部材２８は、光路Ｋの周囲に配置される。なお、環状の第１部材２８が光路Ｋ（下面１６Ｂ）の周囲に配置されていてもよいし、複数の第１部材２８が、光路Ｋ（下面１６Ｂ）の周囲において、離散的に配置されてもよい。
【００６４】
本実施形態において、第１部材２８は、プレート状の部材である。第１面２８Ｂは、第１部材２８の一方の面であり、第２面２８Ａは、第１部材２８の他方の面である。本実施形態において、第１面２８Ｂは、液浸部材３の下側（−Ｚ方向側）の空間ＳＰに面している。空間ＳＰは、例えば、液浸部材３の下面１４と液浸部材３の下面１４に対向する物体（基板Ｐ等）の表面との間の空間を含む。液浸部材３の下面１４に対向する物体（基板Ｐ等）上に液浸空間ＬＳが形成されている場合、空間ＳＰは、液浸空間（液体空間）ＬＳと気体空間ＧＳとを含む。本実施形態において、第１部材２８は、第１面２８Ｂが空間ＳＰに面し、第２面２８Ａが回収流路１９に面するように開口３２Ｋに配置される。本実施形態において、第１面２８Ｂと第２面２８Ａとは、ほぼ平行である。第１部材２８は、第２面２８Ａが＋Ｚ方向を向き、第１面２８Ｂが第２面２８Ａの反対方向（−Ｚ方向）を向くように開口３２Ｋに配置される。また、本実施形態において、第１部材２８は、第１面２８Ｂ及び第２面２８ＡとＸＹ平面とがほぼ平行となるように、開口３２Ｋに配置される。
【００６５】
以下の説明において、第１面２８Ｂを適宜、下面２８Ｂ、と称し、第２面２８Ａを適宜、上面２８Ａ、と称する。
【００６６】
なお、第１部材２８は、プレート状でなくてもよい。また、下面２８Ｂと上面２８Ａとが非平行でもよい。また、下面２８Ｂの少なくとも一部がＸＹ平面に対して傾斜していてもよいし、曲面を含んでもよい。また、上面２８Ａの少なくとも一部がＸＹ平面に対して傾斜していてもよいし、曲面を含んでもよい。
【００６７】
孔２８Ｈは、下面２８Ｂと上面２８Ａとを結ぶように形成される。流体（気体Ｇ及び液体ＬＱの少なくとも一方を含む）は、第１部材２８の孔２８Ｈを流通可能である。本実施形態において、回収口１８は、下面２８Ｂ側の孔２８Ｈの下端の開口を含む。孔２８Ｈの下端の周囲に下面２８Ｂが配置され、孔２８Ｈの上端の周囲に上面２８Ａが配置される。
【００６８】
回収流路１９は、第１部材２８の孔２８Ｈ（回収口１８）に接続されている。第１部材２８は、孔２８Ｈ（回収口１８）から、下面２８Ｂと対向する基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱの少なくとも一部を回収する。第１部材２８の孔２８Ｈから回収された液体ＬＱは、回収流路１９を流れる。
【００６９】
本実施形態において、液浸部材３の下面１４は、下面１６Ｂ及び下面２８Ｂを含む。本実施形態において、下面２８Ｂは、下面１６Ｂの周囲の少なくとも一部に配置される。本実施形態において、下面１６Ｂの周囲に環状の下面２８Ｂが配置される。なお、複数の下面２８Ｂが、下面１６Ｂ（光路Ｋ）の周囲に離散的に配置されてもよい。
【００７０】
本実施形態において、第１部材２８は、第１部分２８１と、第２部分２８２とを含む。本実施形態において、第２部分２８２は、光路Ｋに対する放射方向に関して、第１部分２８１の外側に配置される。本実施形態において、第２部分２８２は、第１部分２８１よりも、空間ＳＰから回収流路１９への孔２８Ｈを介した気体Ｇの流入が抑制されている。
【００７１】
本実施形態において、第２部分２８２は、孔２８Ｈを介した空間ＳＰから回収流路１９への気体Ｇの流入抵抗が、第１部分２８１よりも大きい。
【００７２】
第１部分２８１及び第２部分２８２は、それぞれ複数の孔２８Ｈを有する。例えば、空間ＳＰに液浸空間ＬＳが形成されている状態において、第１部分２８１の複数の孔２８Ｈのうち、一部の孔２８Ｈは、液浸空間ＬＳの液体ＬＱと接触し、一部の孔２８Ｈは、液浸空間ＬＳの液体ＬＱと接触しない可能性がある。また、第２部分２８２の複数の孔２８Ｈのうち、一部の孔２８Ｈは、液浸空間ＬＳの液体ＬＱと接触する可能性があり、一部の孔２８Ｈは、液浸空間ＬＳの液体ＬＱと接触しない可能性がある。
【００７３】
本実施形態において、第１部分２８１は、空間ＳＰの液体ＬＱ（基板Ｐ上の液体ＬＱ）と接触している孔２８Ｈから液体ＬＱを回収流路１９に回収可能である。また、第１部分２８１は、液体ＬＱと接触していない孔２８Ｈから回収流路１９に気体Ｇを吸い込む。
【００７４】
すなわち、第１部分２８１は、液浸空間ＬＳに面している孔２８Ｈから液浸空間ＬＳの液体ＬＱを回収流路１９に回収可能であり、液浸空間ＬＳの外側の気体空間ＧＳに面している孔２８Ｈから回収流路１９に気体Ｇを吸い込む。
【００７５】
換言すれば、第１部分２８１は、液浸空間ＬＳに面している孔２８Ｈから液浸空間ＬＳの液体ＬＱを回収流路１９に回収可能であり、液浸空間ＬＳに面していない孔２８Ｈから回収流路１９に気体Ｇを吸い込む。
【００７６】
すなわち、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの界面ＬＧが、第１部分２８１と基板Ｐとの間に存在する場合において、第１部分２８１は、液体ＬＱを気体Ｇとともに回収流路１９に回収する。なお、界面ＬＧにおいて、液浸空間ＬＳと気体空間ＧＳとに面している孔２８Ｈから液体ＬＱと気体Ｇの両方を吸い込んでもよい。
【００７７】
第２部分２８２は、空間ＳＰの液体ＬＱ（基板Ｐ上の液体ＬＱ）と接触している孔２８Ｈから液体ＬＱを回収流路１９に回収可能である。また、第２部分２８２は、液体ＬＱと接触していない孔２８Ｈから回収流路１９への気体Ｇの流入が抑制される。
【００７８】
すなわち、第２部分２８２は、液浸空間ＬＳに面している孔２８Ｈから液浸空間ＬＳの液体ＬＱを回収流路１９に回収可能であり、液浸空間ＬＳの外側の気体空間ＧＳに面している孔２８Ｈから回収流路１９への気体Ｇの流入が抑制される。
【００７９】
本実施形態において、第２部分２８２は、実質的に液体ＬＱのみを回収流路１９に回収し、気体Ｇは回収流路１９に回収しない。
【００８０】
図６は、第１部材２８の第２部分２８２の一部を拡大した断面図であって、第２部分２８２が液体ＬＱのみを回収している状態の一例を説明するための模式図である。
【００８１】
図６において、空間ＳＰ（気体空間ＧＳ）の圧力Ｐａと回収流路１９の圧力Ｐｂとには差がある。本実施形態においては、回収流路１９の圧力Ｐｂは、空間ＳＰの圧力Ｐａよりも低い。第１部材２８を介して基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱを回収しているときに、第２部分２８２の孔２８Ｈｂから基板Ｐ上の液体ＬＱが回収流路１９に回収され、第２部分２８２の孔２８Ｈａから回収流路１９への気体Ｇの流入が抑制される。
【００８２】
図６において、第２部分２８２の下面２８Ｂと基板Ｐの表面との間の空間ＳＰには、液浸空間（液体空間）ＬＳと気体空間ＧＳとが形成されている。図６において、第２部分２８２の孔２８Ｈａの下端が面する空間は、気体空間ＧＳであり、第２部分２８２の孔２８Ｈｂの下端が面する空間は、液浸空間（液体空間）ＬＳである。また、図６において、第２部分２８２の上側には、回収流路１９の液体ＬＱ（液体空間）が存在する。
【００８３】
本実施形態においては、液体ＬＱと接触している第２部分２８２の孔２８Ｈｂから基板Ｐ上の液体ＬＱが回収流路１９に回収され、液体ＬＱと接触していない第２部分２８２の孔２８Ｈａから回収流路１９への気体Ｇの流入が抑制される。
【００８４】
図６においては、孔２８Ｈａの下端が面する気体空間ＧＳの圧力（下面２８Ｂ側の圧力）をＰａ、第１部材２８の上側の回収流路（液体空間）１９の圧力（上面２８Ａ側の圧力）をＰｂ、孔２８Ｈａ、２８Ｈｂの寸法（孔径、直径）をｄ２、第２部分２８２の孔２８Ｈの表面（内面）における液体ＬＱの接触角をθ２、液体ＬＱの表面張力をγとして、
（４×γ×ｃｏｓθ２）／ｄ２  ≧  （Ｐｂ−Ｐａ）  …（１）
の条件が満足する。なお、上記（１）式においては、説明を簡単にするために第１部材２８の上側の液体ＬＱの静水圧は考慮してない。
【００８５】
なお、本実施形態において、第２部分２８２の孔２８Ｈの寸法ｄ２とは、上面２８Ａと下面２８Ｂとの間における孔２８Ｈの寸法の最小値をいう。なお、寸法ｄ２は、上面２８Ａと下面２８Ｂとの間における孔２８Ｈの寸法の最小値でなくてもよく、例えば平均値でもよいし、最大値でもよい。
【００８６】
この場合において、第２部分２８２の孔２８Ｈの表面における液体ＬＱの接触角θ２は、
θ２  ≦  ９０°  …（２）
の条件を満足するとよい。
【００８７】
上記条件が成立する場合、第１部材２８の孔２８Ｈａの下側（空間ＳＰ）に気体空間ＧＳが形成された場合でも、第１部材２８の下側の気体空間ＧＳの気体Ｇが孔２８Ｈａを介して第１部材２８の上側の回収流路（液体空間）１９に移動（流入）することが抑制される。すなわち、第２部分２８２の孔２８Ｈの寸法（孔径、直径）ｄ２、第２部分２８２の孔２８Ｈの表面における液体ＬＱの接触角（親液性）θ２、液体ＬＱの表面張力γ、及び圧力Ｐａ、Ｐｂが上記条件を満足すれば、液体ＬＱと気体Ｇとの界面が孔２８Ｈａの内側に維持され、第２部分２８２の孔２８Ｈａを介して空間ＳＰから回収流路１９へ気体Ｇが流入することが抑制される。一方、孔２８Ｈｂの下側（空間ＳＰ側）には液浸空間（液体空間）ＬＳが形成されているので、孔２８Ｈｂを介して液体ＬＱのみが回収される。
【００８８】
本実施形態においては、第２部分２８２の孔２８Ｈの全てにおいて、上記条件が満たされ、第２部分２８２の孔２８Ｈから実質的に液体ＬＱのみが回収される。
【００８９】
以下の説明において、多孔部材の孔（例えば、第１部材２８の孔２８Ｈ）を介して液体ＬＱのみが回収される状態を適宜、液体選択回収状態、と称し、多孔部材の孔を介して液体ＬＱのみが回収される条件を適宜、液体選択回収条件、と称する。
【００９０】
図７は、第１部材２８の第１部分２８１の一部を拡大した断面図であって、第１部分２８１が液体ＬＱ及び気体Ｇを回収している状態の一例を説明するための模式図である。
【００９１】
図７においては、空間ＳＰ（気体空間ＧＳ）の圧力Ｐａと回収流路１９の圧力Ｐｂとには差がある。本実施形態においては、回収流路１９の圧力Ｐｂは、空間ＳＰの圧力Ｐａよりも低く、第１部材２８を介して基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱが回収されているときに、第１部分２８１の孔２８Ｈｃから回収流路１９に気体Ｇが吸い込まれる。
【００９２】
図７においては、空間ＳＰには、液浸空間（液体空間）ＬＳと気体空間ＧＳとが形成されている。図７において、第１部分２８１の孔２８Ｈｃの下端が面する空間は、気体空間ＧＳであり、第１部分２８１の孔２８Ｈｄの下端が面する空間は、液浸空間（液体空間）ＬＳである。また、図７において第１部分２８１の上側には、回収流路１９の液体ＬＱ（液体空間）が存在する。
【００９３】
本実施形態においては、液体ＬＱと接触している第１部分２８１の孔２８Ｈｄから基板Ｐ上の液体ＬＱが回収流路１９に回収され、液体ＬＱと接触していない第１部分２８１の孔２８Ｈｃから気体Ｇが回収流路１９に吸い込まれる。
【００９４】
本実施形態においては、第１部分２８１と第２部分２８２とは、孔２８Ｈの寸法（孔径、直径）、または孔２８Ｈの表面（内面）における液体ＬＱの接触角θ１、またはその両方が異なっている。空間ＳＰ（気体空間ＧＳ）の圧力Ｐａと回収流路１９の圧力Ｐｂとの差により、液体ＬＱと接触している第１部分２８１の孔２８Ｈｄから基板Ｐ上の液体ＬＱが回収流路１９に回収され、液体ＬＱと接触していない第１部分２８１の孔２８Ｈｃから気体Ｇが回収流路１９に吸い込まれる。
【００９５】
なお、本実施形態において、第１部分２８１の孔２８Ｈの寸法ｄ１とは、上面２８Ａと下面２８Ｂとの間における孔２８Ｈの寸法の最小値をいう。なお、寸法ｄ１は、上面２８Ａと下面２８Ｂとの間における孔２８Ｈの寸法の最小値でなくてもよく、例えば平均値でもよいし、最大値でもよい。
【００９６】
本実施形態においては、第２部分２８２の孔２８Ｈの表面は、第１部分２８１の孔２８Ｈの表面よりも液体ＬＱに対して親液性である。すなわち、第２部分２８２の孔２８Ｈの表面（内面）における液体ＬＱの接触角θ２は、第１部分２８１の孔２８Ｈの表面（内面）における液体ＬＱの接触角θ１よりも小さい。これにより、第１部分２８１から液体ＬＱが気体Ｇとともに実質的に回収され、第２部分２８２からは、気体Ｇの回収流路１９への流入を抑制しつつ、液体ＬＱが回収される。
【００９７】
本実施形態において、第２部分２８２の孔２８Ｈの表面における液体ＬＱの接触角θ２は、９０度よりも小さい。例えば、第２部分２８２の孔２８Ｈの表面における液体ＬＱの接触角θ２は、５０度以下でもよいし、４０度以下でもよいし、３０度以下でもよいし、２０度以下でもよい。
【００９８】
なお、第１部分２８１の孔２８Ｈの寸法ｄ１と第２部分２８２の孔２８Ｈの寸法ｄ２とが異なっていてもよい。例えば、第２部分２８２の孔２８Ｈの寸法ｄ２を、第１部分２８１の孔２８Ｈの寸法ｄ１よりも小さくすることによって、第１部分２８１から液体ＬＱが気体Ｇとともに回収され、第２部分２８２からは、気体Ｇの回収流路１９への流入を抑制しつつ、液体ＬＱが実質的に回収される。
【００９９】
また、例えば図８Ａ及び図８Ｂに示すように、第１部分２８１と第２部分２８２とで、ＹＺ平面における孔２８Ｈの断面形状が異なっていてもよい。例えば、第２部分２８２の孔２８Ｈの内面における液体ＬＱの接触角が、第１部分２８１の孔２８Ｈの内面における液体ＬＱの接触角より実質的に大きくなるように、第１部分２８１の孔２８Ｈの内面の傾斜角と第２部分２８２の孔２８Ｈの内面の傾斜角とが異なってもよい。なお、孔２８Ｈの傾斜角とは、Ｚ軸に対する傾斜角をいう。なお、孔２８Ｈの傾斜角が、基板Ｐ（物体）の表面とほぼ平行なＸＹ平面に対する傾斜角を含む概念でもよい。
【０１００】
図８Ａは、第１部分２８１の孔２８Ｈの一例を示す模式図、図８Ｂは、第２部分２８２の孔２８Ｈの一例を示す模式図である。図８Ａ及び図８Ｂに示すように、例えば、第１部分２８１の孔２８Ｈが、下面２８Ｂから上面２８Ａに向かって拡がるように形成され、第２部分２８２の孔２８Ｈが、上面２８Ａから下面２８Ｂに向かって拡がるように形成されていてもよい。孔２８Ｈの内面の傾斜角に応じて、孔２８Ｈの内面における液体ＬＱの接触角が実質的に変化する。したがって、第２部分２８２の孔２８Ｈを介した空間ＳＰから回収流路１９への気体Ｇの流入が、第１部分２８１の孔２８Ｈを介した空間ＳＰから回収流路１９への気体Ｇの流入よりも抑制されるように、孔２８Ｈの内面の傾斜角を決めてもよい。図８Ａ及び図８Ｂに示す例では、第１部分２８１から液体ＬＱが気体Ｇとともに回収され、第２部分２８２からは、気体Ｇの回収流路１９への流入を抑制しつつ、液体ＬＱが実質的に回収される。
【０１０１】
また、本実施形態において、第１部分２８１は、下面２８Ｂにおける単位面積当たりの液体回収能力が、第２部分２８２よりも高くてもよい。この場合、第１部分２８１の孔２８Ｈを介して空間ＳＰから回収流路１９へ流れる液体ＬＱの量は、第２部分２８２の孔２８Ｈを介して空間ＳＰから回収流路１９へ流れる液体ＬＱの量よりも多くてもよい。
【０１０２】
次に、図２〜図５を参照して、排出部２０について説明する。排出部２０は、回収流路１９に面し、回収流路１９から液体ＬＱを排出するための第１排出口２１と、回収流路１９に面し、回収流路１９から気体Ｇを排出するための第２排出口２２とを有する。
【０１０３】
本実施形態において、第１排出口２１は、回収口１８よりも上方（＋Ｚ方向）において回収流路１９に面するように配置されている。第２排出口２２は、回収口１８よりも上方（＋Ｚ方向）において回収流路１９に面するように配置されている。
【０１０４】
本実施形態において、第１排出口２１及び第２排出口２２の少なくとも一方は、下方（−Ｚ方向）を向いている。本実施形態において、第１排出口２１及び第２排出口２２のそれぞれが、下方を向いている。
【０１０５】
本実施形態において、第１排出口２１は、光路Ｋに対する放射方向に関して第２排出口２２の外側に配置される。すなわち、本実施形態においては、第１排出口２１は、第２排出口２２よりも光路Ｋから遠い。
【０１０６】
本実施形態において、第１排出口２１の少なくとも一つの少なくとも一部が、第１部材２８の第２部分２８２の上面２８Ａと対向する。本実施形態において、第１排出口２１の全部が、第２部分２８２の上面２８Ａと対向する。第１部材２８と対向する第１排出口２１は、回収口１８と対向する。
【０１０７】
本実施形態において、第２排出口２２の少なくとも一つの少なくとも一部が、第１部材２８の第２部分２８２の上面２８Ａと対向する。本実施形態において、第２排出口２２の全部が、第２部分２８２の上面２８Ａと対向する。第１部材２８と対向する第２排出口２２は、回収口１８と対向する。
【０１０８】
本実施形態において、第１排出口２１は、第２排出口２２よりも下方に配置される。
【０１０９】
また、本実施形態において、第２排出口２２は、第１排出口２１より、第１部材２８の上面２８Ａから離れて配置されている。
【０１１０】
また、本実施形態において、第２部分２８２の少なくとも一部が、光路Ｋに対する放射方向に関して、第１排出口２１及び第２排出口２２の外側に配置される。すなわち、本実施形態においては、第２部分２８２の少なくとも一部は、第１排出口２１及び第２排出口２２よりも光路Ｋから遠い。図５に示す例では、第２部分２８２の外縁が、光路Ｋに対する放射方向に関して、第１排出口２１及び第２排出口２２の外側に配置されている。
【０１１１】
また、本実施形態において、第１部材２８の第１部分２８１の少なくとも一部が、光路Ｋに対する放射方向に関して、第１排出口２１及び第２排出口２２の内側に配置されている。すなわち、本実施形態においては、第１部分２８１の少なくとも一部は、第１排出口２１及び第２排出口２２よりも光路Ｋに近い。図５に示す例では、第１部分２８１のほぼ全部が、光路Ｋに対する放射方向に関して、第１排出口２１及び第２排出口２２の内側に配置されている。
【０１１２】
上述のように、第１部材２８（第１部分２８１）は、空間ＳＰから回収流路１９へ液体ＬＱを気体Ｇとともに回収する。基板Ｐと第１部材２８との間の空間ＳＰの液体ＬＱ及び気体Ｇは、第１部材２８を介して、回収流路１９へ流れる。図２及び図５に示すように、回収流路１９において気体空間と液体空間とが形成される。第１排出口２１は、回収流路１９の液体ＬＱを排出し、第２排出口２２は、回収流路１９の気体Ｇを排出する。
【０１１３】
本実施形態において、第１排出口２１は、第２排出口２２よりも気体Ｇの流入が抑制されている。第２排出口２２は、第１排出口２１よりも液体ＬＱの流入が抑制されている。本実施形態においては、第１排出口２１から排出される流体中の液体ＬＱの割合が、第２排出口２２から排出される流体中の液体ＬＱの割合よりも多い。本実施形態においては、第１排出口２１から排出される流体中の気体Ｇの割合が、第２排出口２２から排出される流体中の気体Ｇの割合より少ない。
【０１１４】
本実施形態において、第１排出口２１は、実質的に回収流路１９から液体ＬＱのみを排出する。第２排出口２２は、実質的に回収流路１９から気体Ｇのみを排出する。
【０１１５】
本実施形態において、液浸部材３は、第１排出口２１を有する第２部材２７を備えている。第２部材２７は、回収流路１９に面する第３面２７Ｂ、第３面２７Ｂと異なる方向を向く第４面２７Ａ、及び第３面２７Ｂと第４面２７Ａとを結ぶ複数の孔２７Ｈを有する。本実施形態において、第１排出口２１は、第２部材２７の孔２７Ｈを含む。本実施形態において、第２部材２７は、複数の孔２７Ｈを有する多孔部材である。なお、第２部材２７が、網目状に多数の小さい孔が形成された多孔部材であるメッシュフィルタでもよい。すなわち、第２部材２７は、気体Ｇの流入を抑制可能な孔を有する各種部材を適用できる。
【０１１６】
本実施形態において、流路形成部材３３の下端に、開口３３Ｋが形成されている。開口３３Ｋは、下方（−Ｚ方向）を向く。本実施形態において、第２部材２７は、開口３３Ｋに配置される。
【０１１７】
本実施形態において、第２部材２７は、プレート状の部材である。第３面２７Ｂは、第２部材２７の一方の面であり、第４面２７Ａは、第２部材２７の他方の面である。本実施形態において、第２部材２７は、第３面２７Ｂが回収流路１９に面し、第４面２７Ａが流路形成部材３３の流路３０に面するように開口３３Ｋに配置される。本実施形態において、第３面２７Ｂと第４面２７Ａとは、ほぼ平行である。第２部材２７は、第４面２７Ａが＋Ｚ方向を向き、第３面２７Ｂが第４面２７Ａの反対方向（−Ｚ方向）を向くように開口３３Ｋに配置される。また、本実施形態において、第２部材２７は、第３面２７Ｂ及び第４面２７ＡとＸＹ平面とがほぼ平行となるように、開口３３Ｋに配置される。
【０１１８】
以下の説明において、第３面２７Ｂを適宜、下面２７Ｂ、と称し、第４面２７Ａを適宜、上面２７Ａ、と称する。
【０１１９】
なお、第２部材２７は、プレート状の部材でなくてもよい。また、下面２７Ｂと上面２７Ａとが非平行でもよい。また、下面２７Ｂの少なくとも一部がＸＹ平面に対して傾斜していてもよいし、曲面を含んでもよい。また、上面２７Ａの少なくとも一部がＸＹ平面に対して傾斜していてもよいし、曲面を含んでもよい。
【０１２０】
孔２７Ｈは、下面２７Ｂと上面２７Ａとを結ぶように配置される。流体（液体ＬＱ及び気体Ｇの少なくとも一方を含む）は、第２部材２７の孔２７Ｈを流通可能である。本実施形態において、第１排出口２１は、下面２７Ｂ側の孔２７Ｈの下端に配置される。換言すれば、第１排出口２１は、孔２７Ｈの下端の開口である。孔２７Ｈの下端の周囲に下面２７Ｂが配置され、孔２７Ｈの上端の周囲に上面２７Ａが配置される。
【０１２１】
流路３０は、第２部材２７の孔２７Ｈ（第１排出口２１）に接続されている。第２部材２７は、孔２７Ｈ（第１排出口２１）から、回収流路１９の液体ＬＱの少なくとも一部を排出する。第２部材２７の孔２７Ｈから排出された液体ＬＱは、流路３０を流れる。
【０１２２】
本実施形態においては、第１排出口２１からの気体Ｇの排出が抑制されるように、下面２７Ｂが面する回収流路１９と、上面２７Ａが面する流路（空間）３０との圧力差が調整される。
【０１２３】
本実施形態において、第２部材２７は、実質的に液体ＬＱのみを流路３０に排出し、気体Ｇを流路３０に排出しない。
【０１２４】
本実施形態においては、第１部材２８を介して基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱを回収しているときに、第２部材２７の孔２７Ｈから回収流路１９の液体ＬＱが流路３０に排出され、第２部材２７の孔２７Ｈから流路３０への気体Ｇの流入が抑制されるように、第２部材２７の下面２７Ｂが面する回収流路１９の圧力Ｐｂと、上面２７Ａが面する流路３０の圧力Ｐｃとの差が調整される。
【０１２５】
本実施形態においては、液体ＬＱと接触している第２部材２７の孔２７Ｈｂから回収流路１９の液体ＬＱが流路３０に回収され、液体ＬＱと接触していない第２部材２７の孔２７Ｈａから流路３０への気体Ｇの流入が抑制されるように、回収流路１９の圧力Ｐｂと流路３０の圧力Ｐｃとの差が定められる。
【０１２６】
本実施形態においては、第２部材２７の孔２７Ｈを介した液体ＬＱの回収条件（排出条件）が、図６等を参照して説明したような液体選択回収条件を満足する。すなわち、図３８に示すように、第２部材２７の孔２７Ｈの寸法（孔径、直径）ｄ３、第２部材２７の孔２７Ｈの表面における液体ＬＱの接触角（親液性）θ３、液体ＬＱの表面張力γ、下面２７Ｂが面する回収流路１９の圧力Ｐｂ、及び上面２７Ａが面する流路３０の圧力Ｐｃが、液体選択回収条件を満たすことによって、液体ＬＱと気体Ｇとの界面が孔２７Ｈの内側に維持され、第２部材２７の孔２７Ｈを介して回収流路１９から流路３０へ気体Ｇが流入することが抑制される。これにより、第２部材２７（第１排出口２１）は、実質的に液体ＬＱのみを排出することができる。
【０１２７】
なお、本実施形態において、第２部材２７の孔２７Ｈの寸法ｄ３とは、上面２７Ａと下面２７Ｂとの間における孔２７Ｈの寸法の最小値をいう。なお、寸法ｄ３は、上面２７Ａと下面２７Ｂとの間における孔２７Ｈの寸法の最小値でなくてもよく、例えば平均値でもよいし、最大値でもよい。
【０１２８】
本実施形態においては、第２部材２７の孔２７Ｈを介した液体ＬＱの回収条件（排出条件）が液体選択回収条件になるように、回収流路１９の圧力Ｐｂと流路３０の圧力Ｐｃとの差が調整される。圧力Ｐｃは、圧力Ｐｂよりも低い。すなわち、第２部材２７の孔２７Ｈから回収流路１９の液体ＬＱが流路３０に排出され、第２部材２７の孔２７Ｈから流路３０への気体Ｇの流入が抑制されるように、回収流路１９の圧力Ｐｂと流路３０の圧力Ｐｃとの差が定められる。圧力Ｐｂ、またはＰｃ、またはその両方が調整されることによって、第２部材２７の孔２７Ｈから実質的に液体ＬＱのみが流路３０に排出され、気体Ｇは流路３０に排出されない。
【０１２９】
本実施形態においては、第２部材２７の表面の少なくとも一部は、液体ＬＱに対して親液性である。本実施形態において、少なくとも第２部材２７の孔２７Ｈの表面（内面）は、液体ＬＱに対して親液性である。本実施形態において、液体ＬＱに対する孔２７Ｈの表面の接触角は、９０度よりも小さい。なお、液体ＬＱに対する孔２７Ｈの表面の接触角が、５０度以下でもよいし、４０度以下でもよいし、３０度以下でもよいし、２０度以下でもよい。
【０１３０】
本実施形態において、液浸部材３は、回収流路１９内に配置され、回収流路１９の液体ＬＱが第２排出口２２に接触することを抑制する抑制部４０を備えている。抑制部４０は、回収流路１９の気体空間に第２排出口２２が配置されるように、回収流路１９に設けられている。すなわち、抑制部４０は、回収流路１９内において、第２排出口２２の周囲空間が気体空間となるように、回収流路１９に設けられている。例えば、抑制部４０は、第２排出口２２に液体ＬＱが接触しないように、回収流路１９の液体空間の界面（表面）が調整される。これにより、気体空間に配置される第２排出口２２は、実質的に回収流路１９から気体Ｇのみを排出する。
【０１３１】
本実施形態において、抑制部４０は、第２排出口２２の周囲の少なくとも一部に配置される突起４１を含む。突起４１は、回収流路１９の気体空間に第２排出口２２が配置されるように、回収流路１９内に設けられている。回収流路１９の気体空間に第２排出口２２が配置されるように、突起４１によって回収流路１９の液体空間の界面の動きが制限される。すなわち、突起４１は、回収流路１９の液体空間の界面の第２排出口２２への接近を抑制する。
【０１３２】
また、本実施形態において、抑制部４０は、回収流路１９内において第２排出口２２の周囲の少なくとも一部に配置され、表面が液体ＬＱに対して撥液性の撥液部４２を含む。撥液部４２は、第２排出口２２と回収流路１９の液体ＬＱとの接触を抑制する。撥液部４２は、回収流路１９の気体空間に第２排出口２２が配置されるように、回収流路１９内に設けられている。回収流路１９において、第２排出口２２の周囲空間が気体空間となるように、撥液部４２によって回収流路１９の液体空間の界面の第２排出口２２への接近が抑制される。
【０１３３】
本実施形態において、第２排出口２２は、光路Ｋに対する放射方向に関して、突起４１の外側に配置される。すなわち、第２排出口２２は、突起４１よりも光路Ｋから遠い。また、撥液部４２の少なくとも一部は、第２排出口２２と突起４１との間に配置される。
【０１３４】
本実施形態において、突起４１は、光路Ｋに対する放射方向に関して、回収口１８の少なくとも一部と第２排出口２２との間に配置される。本実施形態においては、突起４１は、光路Ｋに対する放射方向に関して、第１部分２８１の回収口１８と第２排出口２２との間に配置される。
【０１３５】
突起４１は、第２排出口２２の周囲の少なくとも一部において、下方に突出する。本実施形態において、突起４１は、回収流路１９の内面の少なくとも一部によって形成される。本実施形態において、突起４１の表面は、第２排出口２２の周囲の少なくとも一部において下方に延びる側面４１Ｓと、側面４１Ｓの下端部から、第２排出口２２に対して内側に光路Ｋに近づくように延びる下面４１Ｋとを含む。側面４１Ｓは、光路Ｋに対する放射方向に関して外側を向く。側面４１Ｓは、光路Ｋとほぼ平行である。側面４１Ｓは、Ｚ軸とほぼ平行である。なお、側面４１Ｓは、Ｚ軸と平行でなくてもよい。下面４１Ｋは、−Ｚ方向を向く。本実施形態において、下面４１Ｋは、ＸＹ平面とほぼ平行である。側面４１Ｓ及び下面４１Ｋは、回収流路１９の内面の一部である。本実施形態において、下面４１Ｋと側面４１Ｓとがなす角度は、ほぼ９０度である。なお、下面４１Ｋと側面４１Ｓとがなす角度が、９０度より小さくてもよいし、９０度より大きくてもよい。本実施形態において、突起４１の先端（下端）は、第２排出口２２よりも低い位置に配置される。
【０１３６】
本実施形態において、回収流路１９の内面のうち、突起４１を形成する下面４１Ｋ及び側面４１Ｓは、液体ＬＱに対して親液性である。本実施形態において、親液性の下面４１Ｋ及び側面４１Ｓは、撥液部４２に隣接する。撥液部４２の少なくとも一部は、親液性の下面４１Ｋ及び側面４１Ｓと第２排出口２２との間に配置される。
【０１３７】
本実施形態において、親液性の回収流路１９の内面（下面４１Ｋ及び側面４１Ｓ）における液体ＬＱの接触角は、９０度より小さい。撥液部４２の表面における液体ＬＱの接触角は、９０度以上である。本実施形態において、撥液部４２の表面における液体ＬＱの接触角は、例えば１００度以上でもよいし、１１０度以上でもよい。
【０１３８】
本実施形態において、撥液部４２は、液体ＬＱに対して撥液性の膜Ｆｒによって形成されている。膜Ｆｒを形成する材料は、フッ素を含むフッ素系材料である。本実施形態において、膜Ｆｒは、ＰＦＡ（Tetra fluoro ethylene-perfluoro alkylvinyl ether copolymer）の膜である。なお、膜Ｆｒが、ＰＴＦＥ（Poly tetra fluoro ethylene）、ＰＥＥＫ（polyetheretherketone）、テフロン（登録商標）等の膜でもよい。また、膜Ｆｒが、旭硝子社製「サイトップ（商標）」、あるいは３Ｍ社製「Ｎｏｖｅｃ ＥＧＣ（商標）」でもよい。
【０１３９】
なお、抑制部４０が撥液部４２を有していなくてもよい。
【０１４０】
本実施形態において、第１排出口２１及び第２排出口２２は、光路Ｋの周囲の少なくとも一部に配置される。図３に示すように、本実施形態において、第１排出口２１を有する第２部材２７は、光路Ｋの周囲において所定間隔で複数配置される。本実施形態において、第２部材２７は、光路Ｋの周囲において４箇所に配置される。第２排出口２２は、光路Ｋの周囲において所定間隔で複数配置される。なお、第１排出口２１の数と第２排出口２２の数が同じであってもよい。なお、第１排出口２１、または第２排出口２２、またはその両方が光路Ｋの周囲に連続的に設けられていてもよい。
【０１４１】
図２に示すように、第１排出口２１は、流路３０、及び排出管２３Ｐが形成する流路２３を介して第１排出装置２４に接続されている。第２排出口２２は、本体部３２の内部に形成されている流路３６、及び排出管２５Ｐが形成する流路２５を介して第２排出装置２６に接続されている。第１、第２排出装置２４、２６は、例えば真空システムを含み、流体（気体Ｇ及び液体ＬＱの少なくとも一方を含む）を吸引可能である。
【０１４２】
本実施形態においては、第１排出装置２４が作動することによって、第１排出口２１からの排出動作が実行される。また、本実施形態においては、第２排出装置２６が作動することによって、第２排出口２２からの排出動作が実行される。
【０１４３】
本実施形態においては、第１排出装置２４が、第２部材２７の上面２７Ａが面する流路３０の圧力Ｐｃを調整可能である。また、第２排出装置２６が、第２部材２７の下面２７Ｂ、及び第１部材２８の上面２８Ａが面する回収流路１９の圧力Ｐｂを調整可能である。また、内部空間ＣＳは、空間ＳＰを含み、チャンバ装置ＣＨが、第１部材２８の下面２８Ｂが面する空間ＳＰの圧力Ｐａを調整可能である。制御装置４は、チャンバ装置ＣＨ及び第２排出装置２６の少なくとも一方を用いて、第１部材２８の第１部分２８１が空間ＳＰの液体ＬＱを気体Ｇとともに回収し、第２部分２８２が、気体Ｇの流入を抑制しつつ、液体ＬＱを回収するように、圧力Ｐａ、または圧力Ｐｂ、またはその両方を調整する。また、制御装置４は、第１排出装置２４及び第２排出装置２６の少なくとも一方を用いて、第２部材２７が、気体Ｇの流入を抑制しつつ、回収流路１９の液体ＬＱを排出するように、圧力Ｐｂ、または圧力Ｐｃ、またはその両方を設定する。なお、第２排出装置２６が圧力Ｐｂを調整できなくてもよい。
【０１４４】
なお、露光装置ＥＸが、第１排出装置２４及び第２排出装置２６の少なくとも一方を備えていてもよい。なお、第１排出装置２４及び第２排出装置２６の少なくとも一方が、露光装置ＥＸに対する外部装置でもよい。なお、第１排出装置２４及び第２排出装置２６の少なくとも一方が、露光装置ＥＸが設置される工場の設備でもよい。
【０１４５】
本実施形態において、液浸部材３の表面の少なくとも一部は、アモルファスカーボン膜の表面を含む。アモルファスカーボン膜は、テトラヘドラルアモルファスカーボン膜を含む。本実施形態において、液浸部材３の表面の少なくとも一部は、テトラヘドラルアモルファスカーボン膜の表面を含む。本実施形態においては、基板Ｐの露光において液浸空間ＬＳの液体ＬＱと接触する液浸部材３の表面の少なくとも一部が、アモルファスカーボン膜（テトラヘドラルアモルファスカーボン膜）の表面を含む。本実施形態において、プレート部３１及び本体部３２の基材は、チタンを含み、アモルファスカーボン膜は、そのチタンを含む基材の表面に形成される。本実施形態において、第１部材２８及び第２部材２７の基材は、チタンを含み、アモルファスカーボン膜は、そのチタンを含む基材の表面に形成されている。
【０１４６】
なお、プレート部３１、本体部３２、第１部材２８、及び第２部材２７の少なくとも一つを含む液浸部材３の基材が、ステンレス、アルミニウム等の金属を含んでもよいし、セラミックスを含んでもよい。
【０１４７】
なお、例えばＣＶＤ法（化学気相成長法）を用いて、基材にアモルファスカーボン膜が形成されてもよいし、ＰＶＤ法（物理気相成長法）等を用いて、基材にアモルファスカーボン膜が形成されてもよい。
【０１４８】
なお、液浸部材３の表面の少なくとも一部が、アモルファスカーボン膜の表面を含んでいなくてもよい。
【０１４９】
次に、上述の構成を有する露光装置ＥＸを用いて基板Ｐを露光する方法について説明する。露光前の基板Ｐが基板保持部１０に搬入（ロード）された後、終端光学素子８及び液浸部材３と基板Ｐとの間に液浸空間ＬＳを形成するために、制御装置４は、射出面７及び下面１４に、基板ステージ２に保持されている基板Ｐを対向させる。射出面７及び下面１４に基板Ｐが対向されている状態で、供給口１７から液体ＬＱが供給されることによって、終端光学素子８と基板Ｐとの間の露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳが形成される。
【０１５０】
本実施形態においては、供給口１７からの液体ＬＱの供給と並行して、回収口１８からの液体ＬＱの回収が実行されることによって、一方側の終端光学素子８及び液浸部材３と、他方側の基板Ｐ（物体）との間に液体ＬＱで液浸空間ＬＳが形成される。
【０１５１】
なお、本実施形態においては、終端光学素子８及び液浸部材３に対向している物体（基板Ｐ）がほぼ静止している状態において、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの界面ＬＧが第１部分２８１と物体との間に配置されるように、液浸空間ＬＳの寸法（大きさ）が定められる。制御装置４は、物体がほぼ静止している状態において、界面ＬＧが第１部分２８１と物体との間に形成されるように、供給口１７からの単位時間当たりの液体ＬＱ供給量、及び回収口１８からの単位時間当たりの液体ＬＱ回収量を制御する。
【０１５２】
なお、物体がほぼ静止している状態において、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの界面ＬＧが第２部分２８２と物体との間に配置されてもよい。
【０１５３】
制御装置４は、基板Ｐの露光処理を開始する。制御装置４は、照明系ＩＬにより露光光ＥＬで照明されたマスクＭからの露光光ＥＬを投影光学系ＰＬ及び液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して基板Ｐに照射する。これにより、基板Ｐは、液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して射出面７からの露光光ＥＬで露光され、マスクＭのパターンの像が基板Ｐに投影される。
【０１５４】
回収口１８から液体ＬＱを回収する際、制御装置４は、第２排出装置２６を作動して、第２排出口２２から回収流路１９の気体Ｇを排出する。これにより、回収流路１９の圧力が低下する。本実施形態において、制御装置４は、回収流路１９の圧力Ｐｂが、空間ＳＰの圧力Ｐａよりも低くなるように、第２排出装置２６を制御する。圧力Ｐｂが圧力Ｐａよりも低くなることによって、第１部材２８の第１部分２８１及び第２部分２８２の少なくとも一方の孔２８Ｈから、基板Ｐ上の液体ＬＱの少なくとも一部が回収流路１９に回収される。また、孔２８Ｈから、空間ＳＰの気体Ｇの少なくとも一部が回収流路１９に回収される。回収流路１９の液体ＬＱと気体Ｇとは、排出部２０から分離されて排出される。
【０１５５】
本実施形態においては、第２排出口２２の周囲の少なくとも一部に、突起４１及び撥液部４２を含む抑制部４０が配置された状態で、第２排出口２２の排出動作が実行される。抑制部４０によって回収流路１９の液体ＬＱが第２排出口２２に接触することが抑制されつつ、第２排出口２２から回収流路１９の気体Ｇが排出される。
【０１５６】
本実施形態においては、回収流路１９において液体ＬＱが第２排出口２２に接触せず、第１排出口２１に接触するように、回収流路１９で液体ＬＱ及び気体Ｇが流れる。本実施形態においては、第１部材２８の孔２８Ｈから回収流路１９に回収された液体ＬＱが第２排出口２２に接触せずに第１排出口２１に向かって流れるように、第１排出口２１、第２排出口２２、回収口１８等の各配置、回収流路１９の内面の形状、回収流路１９の内面の液体ＬＱに対する特性（例えば接触角）、回収流路１９に面している部材の表面の形状、及び回収流路１９に面している部材の表面の液体ＬＱに対する特性（例えば接触角）等が定められている。
【０１５７】
本実施形態においては、第１部材２８の第１部分２８１から液体ＬＱが気体Ｇとともに回収流路１９に回収され、第２部分２８２からは、気体Ｇの流入を抑えつつ、液体ＬＱが回収流路１９に回収される。
【０１５８】
回収流路１９の圧力Ｐｂが、液浸部材３と基板Ｐとの間の空間ＳＰの圧力Ｐａよりも低下することによって、基板Ｐ上の液体ＬＱは、回収口１８（第１部材２８）を介して回収流路１９に流入する。すなわち、第１部材２８の上面２８Ａと下面２８Ｂとの間に圧力差を発生させることによって、基板Ｐ上の液体ＬＱが、回収口１８（第１部材２８）を介して回収流路１９に流入する。
【０１５９】
また、制御装置４は、第１排出口２１から回収流路１９の液体ＬＱを排出するために、第１排出装置２４を作動する。第１排出装置２４が作動することによって、流路３０の圧力が低下する。本実施形態において、制御装置４は、流路３０の圧力Ｐｃが、回収流路１９の圧力Ｐｂよりも低くなるように、第１排出装置２４を制御する。
【０１６０】
制御装置４は、第２部材２７から液体ＬＱのみが流路３０に排出されるように、第１排出装置２４を制御して、流路３０の圧力Ｐｃを制御する。
【０１６１】
流路３０の圧力Ｐｃが、回収流路１９の圧力Ｐｂよりも低くすることによって、回収流路１９の液体ＬＱは、第１排出口２１（第２部材２７）を介して流路３０に流入する。すなわち、第２部材２７の上面２７Ａと下面２７Ｂとの間に圧力差を発生させることによって、回収流路１９の液体ＬＱが、第１排出口２１（第２部材２７）を介して流路３０に流入する。
【０１６２】
第１排出口２１は、回収口１８からの液体ＬＱの回収において、回収流路１９の液体ＬＱを排出し続ける。第２排出口２２は、回収口１８からの液体ＬＱを回収するために、回収流路１９の気体Ｇを排出し続ける。
【０１６３】
第２排出口２２は、回収流路１９の気体Ｇのみを排出するため、回収流路１９の圧力Ｐｂが大きく変動することが抑制される。すなわち、第２排出装置２６と回収流路１９の上部の気体空間との間に連続的な気体の流路が確保され、第２排出口２２が回収流路１９の気体Ｇを排出し続けることによって、回収流路１９の圧力Ｐｂがほぼ一定となる。回収流路１９の圧力Ｐｂがほぼ一定であるため、基板Ｐ上（液浸空間ＬＳ）から回収口１８が回収する単位時間当たりの液体ＬＱ回収量の変動が抑制される。
【０１６４】
本実施形態においては、供給口１７は、液浸空間ＬＳを形成するために、単位時間当たり所定量の液体ＬＱを供給する。本実施形態において、供給口１７は、ほぼ一定量の液体ＬＱを供給し続ける。また、回収口１８は、単位時間当たり所定量の液体ＬＱを回収する。本実施形態において、回収口１８は、ほぼ一定量の液体ＬＱを回収し続ける。したがって、液浸空間ＬＳの大きさの変動が抑制される。
【０１６５】
本実施形態において、回収口１８から回収流路１９に回収された液体ＬＱは、回収流路１９の内面の少なくとも一部に接触しながら、第１排出口２１（第２部材２７）に向かって流れる。第１排出口２１（第２部材２７）に接触した回収流路１９の液体ＬＱは、その第１排出口２１から排出される。例えば、第１部分２８１の孔２８Ｈから回収された液体ＬＱは、第１部材２８の上面２８Ａ上を第１排出口２１（第２部材２７）に向かって流れる。第１排出口２１は、回収流路１９から第２排出口２２への気体Ｇの流入が維持されるように、回収流路１９から液体ＬＱを排出する。制御装置４は、第２排出口２２から気体Ｇが排出され続け、第１排出口２１から液体ＬＱが排出されるように、第１排出装置２４及び第２排出装置２６の少なくとも一方を制御する。
【０１６６】
本実施形態において、第１部材２８を介して基板Ｐ上の液体ＬＱを回収しているときに、少なくとも第２部分２８２の上面２８Ａは、回収流路１９の液体ＬＱで覆われる。図２及び図５に示すように、本実施形態においては、回収流路１９において、第１部材２８の上面２８Ａのほぼ全部の領域が、回収流路１９の液体ＬＱで覆われる。すなわち、回収流路１９において、上面２８Ａのほぼ全部と液体ＬＱとが接触する。これにより、第２部分２８２の孔２８Ｈの大部分で液体選択回収条件が満たされ、第２部分２８２から実質的に液体ＬＱのみが回収される。
【０１６７】
本実施形態においては、第１部材２８の第１部分２８１で、液体ＬＱを気体Ｇとともに回収しており、液浸空間ＬＳの界面ＬＧ付近で液体ＬＱの流れが淀むことが抑制される。したがって、第１部材２８の汚染（パーティクルの付着）、及び第１部材２８からのパーティクルの落下を抑制できる。すなわち、本実施形態においては、第１部分２８１は、液体ＬＱを気体Ｇとともに回収するため、第１部材２８（第１部分２８１）に異物が付着することが抑制される。例えば、気体Ｇとともに回収される液体ＬＱは、第１部分２８１の表面の近傍において高速で流れる。これにより、その液体ＬＱの流れによって、第１部分２８１に異物が付着することを抑制できる。また、第１部分２８１の表面に異物が付着した場合にも、その液体ＬＱの流れによって、第１部分２８１の表面から異物を除去することができ、その除去された異物を液体ＬＱとともに回収流路１９に回収することができる。また、第２部分２８２では、空間ＳＰから回収流路１９への気体Ｇの流入が抑制されているので、気体空間ＧＳに面している第１部分２８１の孔２８Ｈからの気体Ｇの流入を安定的に維持することができる。これにより、露光不良の発生を抑制しつつ、液浸空間ＬＳを所望の状態に形成することができる。
【０１６８】
なお、上述したように、本実施形態においては、第１部材２８の表面を含む液浸部材３の表面の少なくとも一部は、アモルファスカーボン膜の表面を含む。したがって、基板Ｐから発生した異物が液浸部材３の表面に付着することが抑制される。
【０１６９】
以上説明したように、本実施形態によれば、回収流路１９の液体ＬＱが第２排出口２２に接触することを抑制する突起４１及び撥液部４２を含む抑制部４０が回収流路１９に配置されているため、第２排出口２２からの液体ＬＱの排出が抑制され、回収流路１９から気体Ｇが安定的に排出される。本実施形態においては、突起４１及び撥液部４２を含む抑制部４０が第２排出口２２の周囲の少なくとも一部に配置された状態で、第２排出口２２からの排出動作が実行されるため、回収口１８から回収流路１９に流入した液体ＬＱと第２排出口２２との接触が抑制される。本実施形態においては、第２排出口２２から実質的に回収流路１９の気体Ｇのみが排出され、液体ＬＱは第１排出口２１から排出されるため、第２排出装置２６と回収流路１９の上部の気体空間（回収流路１９の第２排出口２２近傍の気体空間）との間に連続的な気体の流路が確保される。したがって、第２排出口２２は回収流路１９の気体Ｇを排出し続けることができる。これにより、回収流路１９（気体空間）の圧力をほぼ一定にすることができ、所望の液浸空間ＬＳを形成することができる。したがって、露光不良の発生を抑制でき、不良デバイスの発生を抑制できる。
【０１７０】
なお、本実施形態においては、第２部分２８２は液体ＬＱのみを回収し、気体Ｇは回収しないこととしたが、気体空間ＧＳに面している第２部分２８２の孔２８Ｈから回収流路１９への気体Ｇの流入が完全に抑制されなくてもよい。すなわち、気体空間ＧＳに面している第２部分２８２の孔２８Ｈから気体Ｇが回収流路１９に流入してもよい。
【０１７１】
なお、第１部材２８を介して基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱを回収しているときに、第２部分２８２の孔２８Ｈのすべてが回収流路１９内の液体ＬＱで覆われていてもよいし、一部だけが覆われていてもよい。
【０１７２】
また、第２部分２８２の孔２８Ｈの一部だけで、上述の液体選択回収条件を満足してもよいし、第２部分２８２の孔２８Ｈの全てが上述の液体選択回収条件を満足しなくてもよい。
【０１７３】
＜第２実施形態＞
次に、第２実施形態について説明する。図９は、第２実施形態に係る液浸部材３０８の一例を示す図である。液浸部材３０８は、回収流路１９の液体ＬＱが第２排出口２２に接触することを抑制する抑制部４０１を備えている。抑制部４０１は、突起４１１と、第２排出口２２の周囲に配置される撥液部４２１とを備えている。
【０１７４】
本実施形態において、突起４１１の表面の少なくとも一部は、液体ＬＱに対して撥液性である。突起４１１の表面は、側面４１１Ｓと下面４１１Ｋを含む。本実施形態において、突起４１１の下面４１１Ｋ及び側面４１１Ｓは、撥液性の膜Ｆｒで形成されている。なお、側面４１１Ｓの一部（例えば突起４１１の先端近傍）だけが撥液性の膜Ｆｒで形成されてもよい。また、突起４１１の先端から光路Ｋに向かって延びる下面４１１Ｋの一部だけが撥液性の膜Ｆｒで形成されていてもよい。また、側面４１１Ｓと、下面４１１Ｋのどちらか一方だけが撥液性の膜Ｆｒで形成されてもよい。
【０１７５】
なお、側面４１１Ｓと下面４１１Ｋを含む回収流路１９の内面の全体が撥液性の膜Ｆｒで形成されてもよい。
【０１７６】
本実施形態に係る抑制部４０１が設けられた回収流路１９においても、第２排出口２２に液体ＬＱが接触することが抑制される。
【０１７７】
＜第３実施形態＞
次に、第３実施形態について説明する。図１０は、第３実施形態に係る液浸部材３０９の一例を示す図である。液浸部材３０９は、突起４１２及び撥液部４２２を含む抑制部４０２を備えている。撥液部４２２は、第２排出口２２の周囲に配置されている。突起４１２は、下面４１２Ｋ及び側面４１２Ｓによって形成される。
【０１７８】
本実施形態においては、突起４１２の先端（下端）から光路Ｋに向かって延びる下面４１２Ｋが斜面を含む。本実施形態においては、下面４１２Ｋの少なくとも一部が光路Ｋに向かって、かつ上方に向かって傾斜している。本実施形態においては、突起４１２の先端から光路に向かって、かつ上方に向かって傾斜した下面４１２Ｋが延びている。図１０において、下面４１２Ｋと側面４１２Ｓとがなす角度は、９０度よりも小さい（鋭角である）。本実施形態においては、下面４１２Ｋの斜面が曲面を含む。すなわち、本実施形態においては、下面４１２Ｋの斜面が、光路Ｋに向かって、かつ上方に向かって延びる曲面を含む。なお、下面４１２Ｋの斜面が、光路Ｋに向かって、かつ上方に向かって延びる平面であってもよい。
【０１７９】
本実施形態において、側面４１２Ｓは、Ｚ軸と平行であってもよいし、平行でなくてもよい。また、本実施形態において、側面４１２Ｓ、及び下面４１２Ｋ（斜面）は、撥液性の膜Ｆｒの表面を含むが、側面４１２Ｓ、及び下面４１２Ｋ（斜面）の少なくともいずれか一方が、撥液性の膜Ｆｒの表面を含まなくてもよい。
【０１８０】
本実施形態の回収流路１９においても、第２排出口２２に液体ＬＱが接触することが抑制される。
【０１８１】
＜第４実施形態＞
次に、第４実施形態について説明する。図１１は、第４実施形態に係る液浸部材３１０の一例を示す図である。液浸部材３１０は、突起４１３及び撥液部４２３を含む抑制部４０３を備えている。
【０１８２】
本実施形態において、突起４１３は、第２排出口２２の周囲の少なくとも一部において下方に延びる側面４１３Ｓと、側面４１３Ｓの下端部と結ばれる一端部を有し、第２排出口２２に対して光路Ｋに向かって延びる下面４１３Ｋと、下面４１３Ｋの他端部と結ばれる下端部を有する側面４１３Ｔとを有する。
【０１８３】
側面４１３Ｓは、光路Ｋに対する放射方向に関して外側を向き、側面４１３Ｔは、内側を向く。側面４１３Ｓ及び側面４１３Ｔのそれぞれは、光路Ｋ（Ｚ軸）とほぼ平行である。下面４１３Ｋは、−Ｚ方向を向く。下面４１３Ｋは、ＸＹ平面とほぼ平行である。なお、側面４１３Ｓ及び側面４１３Ｔの少なくとも一方がＺ軸に対して傾斜していてもよい。なお、下面４１３Ｋが、ＸＹ平面に対して傾斜していてもよい。
【０１８４】
また、本実施形態においては、側面４１３Ｓ、下面４１３Ｋ、及び側面４１３Ｔが、撥液性の膜Ｆｒの表面を含むが、側面４１３Ｓ、下面４１３Ｋ、及び側面４１３Ｔの少なくともいずれか一つが撥液性の膜Ｆｒの表面を含まなくてもよい。
【０１８５】
本実施形態の回収流路１９においても、第２排出口２２に液体ＬＱが接触することが抑制される。
【０１８６】
＜第５実施形態＞
次に、第５実施形態について説明する。図１２は、第５実施形態に係る液浸部材３１１の一例を示す図である。液浸部材３１１は、突起４１４及び撥液部４２４を含む抑制部４０４を備えている。
【０１８７】
本実施形態において、抑制部４０４は、第２排出口２２の周囲の少なくとも一部に気体Ｇを供給する給気口６０を有する。給気口６０は、第２排出口２２の周囲の少なくとも一部に配置される。図１２に示す例では、給気口６０は、側面４１４Ｓに配置されている。給気口６０は、第２排出口２２の周囲の少なくとも一部に気体Ｇを吹き付けることができる。制御装置４は、例えば第２排出口２２からの気体Ｇの排出動作と並行して、第２排出口２２の周囲の少なくとも一部に対する給気口６０からの気体Ｇの供給動作を実行することができる。給気口６０は、第２排出口２２に液体ＬＱが接触しないように、気体Ｇを供給する。例えば、回収流路１９の液体ＬＱの少なくとも一部（例えば液体ＬＱの滴）が、第２排出口２２に近づいても、給気口６０から供給される気体Ｇの流れによって、その液体ＬＱを第２排出口２２から離すことができる。また、第２排出口２２の近傍に液体ＬＱが存在していても、給気口６０から供給される気体Ｇによって、その液体ＬＱを吹き飛ばすことができる。なお、第２排出口２２からの気体Ｇの排出動作が実行されていないときに、給気口６０からの気体Ｇの供給動作が実行されてもよい。
【０１８８】
また、本実施形態においては、側面４１４Ｓ、および下面４１４Ｋが、撥液性の膜Ｆｒの表面を含むが、側面４１４Ｓ、及び下面４１４Ｋの少なくともいずれか一つが撥液性の膜Ｆｒの表面を含まなくてもよい。
【０１８９】
＜第６実施形態＞
次に、第６実施形態について説明する。図１３は、第６実施形態に係る液浸部材３１２の一例を示す図である。液浸部材３１２は、撥液部４２５を含む抑制部４０５を備えている。本実施形態において、抑制部４０５は、突起を備えていない。
【０１９０】
撥液部４２５は、表面が液体ＬＱに対して撥液性である。撥液部４２５は、第２排出口２２の周囲の少なくとも一部に配置され、回収流路１９の液体ＬＱが第２排出口２２に接触することを抑制する。回収流路１９の親液性の内面１９Ｋは、撥液部４２５に隣接する。回収流路１９の内面１９Ｋは、液体ＬＱに対して撥液部４２５よりも親液性である。撥液部４２５は、親液性の内面１９Ｋと第２排出口２２との間に配置されている。
【０１９１】
すなわち、本実施形態の抑制部４０５は、第２排出口２２の周囲の少なくとも一部に配置され、表面が液体ＬＱに対して撥液性の撥液部４２５と、第２排出口２２に対して撥液部４２５の外側に配置され、表面が液体ＬＱに対して親液性の親液部（内面１９Ｋ）とを含む。
【０１９２】
本実施形態においても、第２排出口２２に回収流路１９の液体ＬＱが接触することを抑制できる。
【０１９３】
＜第７実施形態＞
次に、第７実施形態について説明する。図１４Ａ及び図１４Ｂは、第７実施形態に係る液浸部材３１３の一例を示す図である。図１４Ａは、液浸部材３１３の一部を示す側断面図、図１４Ｂは、液浸部材３１３を上方から見た平面図である。
【０１９４】
液浸部材３１３は、凸部４１６と撥液部４２６を含む抑制部４０６とを備えている。凸部４１６は、回収流路１９において、下方に突出する。第２排出口２２は、下方に突出する凸部４１６の先端に配置される。
【０１９５】
凸部４１６は、下方を向く回収流路１９の内面１９Ｋよりも下方に配置される下面４１６Ｋと、下面４１６Ｋの周囲に配置される斜面４１６Ｓとを有する。下面４１６Ｋは、ほぼ平坦である。下面４１６Ｋは、ＸＹ平面とほぼ平行である。なお、下面４１６Ｋの少なくとも一部が、ＸＹ平面に対して傾斜していてもよい。第２排出口２２は、下面４１６Ｋのほぼ中央に配置され、撥液部４２６は、下面４１６Ｋにおいて、第２排出口２２の周囲に設けられている。斜面４１６Ｓは、第２排出口２２に対して外側に向かって上方に傾斜している。
【０１９６】
図１４Ｂに示すように、凸部４１６は、光路Ｋの周囲に複数配置される。第２排出口２２は、複数の凸部４１６のそれぞれに配置される。
【０１９７】
本実施形態においても、第２排出口２２に回収流路１９の液体ＬＱが接触することを抑制できる。
【０１９８】
＜第８実施形態＞
次に、第８実施形態について説明する。図１５は、第８実施形態に係る液浸部材３１４の一部を示す側断面図である。本実施形態は、図９を参照して説明した第２実施形態の変形例である。図１５において、液浸部材３１４は、回収流路１９に面する第５面７０Ｂ、第５面７０Ｂと異なる方向を向く第６面７０Ａ、及び第５面７０Ｂと第６面７０Ａとを結ぶ複数の孔７０Ｈを有する第３部材７０を備えている。本実施形態において、回収流路１９の気体Ｇを排出するための第２排出口２２は、第３部材７０の孔７０Ｈを含む。第３部材７０は、複数の孔７０Ｈを有する多孔部材である。なお、第３部材７０が、メッシュフィルタでもよい。
【０１９９】
本実施形態において、第３部材７０は、流路３６０の下端の開口３６０Ｋに配置される。本実施形態において、第３部材７０は、プレート状の部材である。第５面７０Ｂは、第３部材７０の一方の面であり、第６面７０Ａは、第３部材７０の他方の面である。本実施形態において、第３部材７０は、第５面７０Ｂが回収流路１９に面し、第６面７０Ａが流路３６０に面するように開口３６０Ｋに配置される。本実施形態において、第５面７０Ｂと第６面７０Ａとは、ほぼ平行である。第３部材７０は、第６面７０Ａが＋Ｚ方向を向き、第５面７０Ｂが第６面７０Ａの反対方向（−Ｚ方向）を向くように開口３６０Ｋに配置される。また、本実施形態において、第３部材７０は、第５面７０Ｂ及び第６面７０ＡとＸＹ平面とがほぼ平行となるように、開口３６０Ｋに配置される。
【０２００】
以下の説明において、第５面７０Ｂを適宜、下面７０Ｂ、と称し、第６面７０Ａを適宜、上面７０Ａ、と称する。
【０２０１】
なお、下面７０Ｂと上面７０Ａとが非平行でもよい。また、下面７０Ｂの少なくとも一部がＸＹ平面に対して傾斜していてもよいし、曲面を含んでもよい。また、上面７０Ａの少なくとも一部がＸＹ平面に対して傾斜していてもよいし、曲面を含んでもよい。
【０２０２】
孔７０Ｈは、下面７０Ｂと上面７０Ａとを結ぶように配置される。流体（気体Ｇ及び液体ＬＱの少なくとも一方を含む）は、第３部材７０の孔７０Ｈを流通可能である。本実施形態において、第２排出口２２は、下面７０Ｂ側の孔７０Ｈの下端の開口を含む。孔７０Ｈの下端の周囲に下面７０Ｂが配置され、孔７０Ｈの上端の周囲に上面７０Ａが配置される。
【０２０３】
流路３６０は、第３部材７０の孔７０Ｈ（第２排出口２２）に接続されている。第３部材７０は、孔７０Ｈ（第２排出口２２）から、下面７０Ｂが面する回収流路１９の気体Ｇを排出する。第３部材７０の孔７０Ｈから排出された気体Ｇは、流路３６０を流れる。
【０２０４】
本実施形態においては、第２排出口２２からの液体排出が抑制されるように、下面７０Ｂが面する回収流路１９と上面７０Ａが面する流路３６０（空間）との圧力差が調整される。
【０２０５】
本実施形態においては、第３部材７０の孔７０Ｈから実質的に気体Ｇのみが排出されるように、上面７０Ａ側の空間（流路３６０）と下面７０Ｂ側の空間（回収流路１９）との圧力差が調整される。
【０２０６】
以下、図１６を参照しながら、第２排出口２２（孔７０Ｈ）による気体排出動作の原理について説明する。図１６は、第２排出口２２の一部を拡大した断面図であって、第２排出口２２を介して行われる気体排出動作を説明するための模式図である。
【０２０７】
図１６において、第３部材７０の下面７０Ｂが面する回収流路１９には、気体空間及び液体空間が形成されている。図１６において、第３部材７０の孔７０Ｈａの下端が面する空間は、気体空間であり、第３部材７０の孔７０Ｈｂの下端が面する空間は、液体空間である。また、第３部材７０の上側には、流路３６０が形成されている。
【０２０８】
孔７０Ｈｂの下端が面する液体空間の圧力（下面７０Ｂ側の圧力）をＰｂ、第３部材７０の上側の流路（気体空間）３６０の圧力（上面７０Ａ側の圧力）をＰｄ、孔７０Ｈａ、７０Ｈｂの寸法（孔径、直径）をｄ４、第３部材７０（孔７０Ｈの内面）における液体ＬＱの接触角をθ４、液体ＬＱの表面張力をγとした場合、
（４×γ×ｃｏｓθ４）／ｄ４  ＜  （Ｐｄ−Ｐｂ）  …（３）
の条件が満足されるように調整される。
【０２０９】
この場合において、第３部材７０（孔７０Ｈの内面）における液体ＬＱの接触角θ４は、
θ４  ＞  ９０°  …（４）
の条件を満足する。
【０２１０】
上記条件が成立する場合、孔７０Ｈｂの下側（回収流路１９側）に液体空間が形成された場合でも、第３部材７０の下側の液体空間の液体ＬＱが孔７０Ｈｂを介して第３部材７０の上側の流路３６０に移動（流入）することが抑制される。すなわち、上記条件を満足するように、第３部材７０の寸法ｄ４、第３部材７０の表面における液体ＬＱの接触角θ４、液体ＬＱの表面張力γ、及び圧力Ｐｂ、Ｐｄを調整することにより、液体ＬＱと気体Ｇとの界面を孔７０Ｈｂの内側に維持することができ、孔７０Ｈｂを介して液体空間から流路３６０へ液体ＬＱが流入することが抑制される。本実施形態においても、突起と撥液部を有する抑制部４０７が形成されており、孔７０Ｈａの下側（回収流路１９側）には気体空間が形成されているので、実質的に孔７０Ｈａを介して気体Ｇのみを排出することができる。
【０２１１】
本実施形態において、第３部材７０の表面の少なくとも一部は、液体ＬＱに対して撥液性である。本実施形態において、接触角θ４は、９０度以上である。接触角θ４は、１００度以上でもよいし、１１０度以上でもよい。
【０２１２】
このように、本実施形態では、第３部材７０の上側の流路（気体空間）３６０と下側の回収流路１９（液体空間）との圧力差（上面７０Ａ側と下面７０Ｂ側との圧力差）を、上記条件を満足するように制御することで、第３部材７０の孔７０Ｈから実質的に気体Ｇのみを排出する。これにより、回収流路１９からの気体Ｇ排出を安定的に継続することができる。
【０２１３】
＜第９実施形態＞
次に、第９実施形態について説明する。図１７は、第９実施形態に係る液浸部材３１５の一部を示す側断面図である。本実施形態も、図９を参照して説明した第２実施形態の変形例である。図１７において、液浸部材３１５は、上面２８８Ａと、下面２８８Ｂと、上面２８８Ａと下面２８８Ｂとを結ぶ複数の孔２８８Ｈとを有する第１部材２８８を備える。回収口１８は、孔２８８Ｈを含む。
【０２１４】
本実施形態において、上面２８８Ａは、少なくとも一部がＸＹ平面（水平面）に対して光路Ｋに対する放射方向に傾斜して配置される。図１７に示す例においては、上面２８８Ａの全部が、水平面に対して光路Ｋに対する放射方向に傾斜して配置される。上面２８８Ａは、光路Ｋに近い部分が光路Ｋから遠い部分よりも高くなるように傾斜して配置される。なお、上面２８８Ａの一部が、光路Ｋに近い部分が光路Ｋから遠い部分よりも低くなるように傾斜して配置されてもよい。
【０２１５】
本実施形態において、下面２８８Ｂは、少なくとも一部がＸＹ平面（水平面）に対して光路Ｋに対する放射方向に傾斜して配置される。図１７に示す例においては、下面２８８Ｂの全部が、水平面に対して光路Ｋに対する放射方向に傾斜して配置される。下面２８８Ｂは、光路Ｋに近い部分が光路Ｋから遠い部分よりも高くなるように傾斜して配置される。なお、下面２８８Ｂの一部が、光路Ｋに近い部分が光路Ｋから遠い部分よりも低くなるように傾斜して配置されてもよい。
【０２１６】
これにより、回収流路１９において、第１部分２８１８から回収された液体ＬＱは、光路Ｋに対する放射方向に関して第１部分２８１８よりも外側に配置されている第１排出口２１に円滑に導かれる。
【０２１７】
なお、本実施形態において、上面２８８Ａと下面２８８Ｂのいずれか一方のみが上述のように傾斜していてもよい。
【０２１８】
また、図１７において、回収流路１９を形成する内面は、第１部材２８８の上面２８８Ａと対向する下面１９８Ｋを有する。下面１９８Ｋの少なくとも一部は、ＸＹ平面（水平面）に対して光路Ｋの放射方向に傾斜して配置される。図１７に示す例では、下面１９８Ｋは、光路Ｋに近い部分が光路Ｋから遠い部分よりも低くなるように傾斜している。これにより、回収流路１９において、気体Ｇの上方への流れが促進され、気体Ｇは、下面１９８Ｋよりも上方、且つ、下面１９８Ｋよりも光路Ｋから遠い位置に配置に配置された第２排出口２２から円滑に排出される。したがって、回収流路１９において、液体ＬＱと気体Ｇとの分離が促進され、第２排出口２２と液体ＬＱとの接触が抑制される。
【０２１９】
なお、下面１９８Ｋの少なくとも一部が、光路Ｋに近い部分が光路Ｋから遠い部分よりも高くなるように傾斜してもよい。
【０２２０】
＜第１０実施形態＞
次に、第１０実施形態について説明する。図１８は、第１０実施形態に係る液浸部材３１６の一部を示す側断面図である。液浸部材３１６は、液体ＬＱを排出する第１排出口２１と、気体Ｇを排出する第２排出口２２とを有する。第１排出口２１は、光路Ｋに対する放射方向に関して第２排出口２２の内側に配置される。本実施形態に係る液浸部材３１６においても、回収流路１９の液体ＬＱと第２排出口２２との接触が抑制され、第２排出口２２からの液体ＬＱの排出が抑制される。
【０２２１】
＜第１１実施形態＞
次に、第１１実施形態について説明する。図１９は、第１１実施形態に係る液浸部材３１７の一部を示す側断面図である。上述の第１〜第１０実施形態においては、第１排出口２１が、第１部材（２８等）の上面（２８Ａ等）と対向することとした。第１１実施形態に係る液浸部材３１７においては、第１排出口２１が、第１部材２８の上面２８Ａと対向していない。
【０２２２】
図１９において、第１排出口２１は、回収流路１９の内面１９Ｕと対向する。内面１９Ｕは、平坦である。本実施形態においても、第１排出口２１は、回収流路１９の液体ＬＱを排出し、第２排出口２２は、回収流路１９の気体Ｇを排出することができる。図１９に示す液浸部材３１７の第１排出口２１は、光路Ｋに対する放射方向に関して第２排出口２２の外側に配置されている。第１排出口２１は、光路Ｋに対する放射方向に関して、回収口１８（第１部材２８）の外側に配置される。
【０２２３】
なお、図１９の実施形態において、第２排出口２２も第１部材（２８等）の上面（２８Ａ等）と対向していなくてもよい。この場合、第１０実施形態のように、光路Ｋに対する放射方向に関して第１排出口２１の外側に第２排出口２２が配置されていてもよい。
【０２２４】
図２０に示す液浸部材３１８のように、第１排出口２１の一部が、第１部材２８の上面２８Ａと対向してもよい。図２０に示す液浸部材３１８の第１排出口２１は、光路Ｋに対する放射方向に関して第２排出口２２の内側に配置されている。図２０においては、第２排出口２２は内面１９Ｕと対向している。第２排出口２２は、光路Ｋに対する放射方向に関して、回収口１８（第１部材２８）の外側に配置される。図２０に示す実施形態において、光路Ｋに対する放射方向に関して第１排出口２１の内側に第２排出口２２が配置されていてもよい。すなわち、第２排出口２２が第１排出口２１よりも光路Ｋに近くてもよい。
【０２２５】
＜第１２実施形態＞
次に、第１２実施形態について説明する。上述の各実施形態においては、第１排出口２１及び第２排出口２２が、光路Ｋに対する放射方向に関して回収口１８の少なくとも一部の外側に配置されることとした。第１２実施形態の特徴的な部分は、第１排出口２１及び第２排出口２２の少なくとも一方が、光路Ｋに対する放射方向に関して回収口１８（第１部材２８）の内側に配置される点にある。すなわち、本実施形態においては、第１排出口２１及び第２排出口２２の少なくとも一方が、回収口１８（第１部材２８）よりも光路Ｋに近い。
【０２２６】
図２１は、本実施形態に係る液浸部材３１９の一部を示す側断面図である。図２１において、液浸部材３１９の第１排出口２１及び第２排出口２２は、光路Ｋに対する放射方向に関して回収口１８（第１部材２８）の内側に配置されている。液浸部材３１９の第１排出口２１は、光路Ｋに対する放射方向に関して第２排出口２２の外側に配置されている。第１排出口２１及び第２排出口２２は、回収流路１９の内面１９Ｕと対向する。
【０２２７】
なお、図２１において、第１排出口２１が第１部材２８の上面２８Ａと対向していてもよい。この場合、第１排出口２１は、第１部材２８の第１部分２８１の上面２８Ａと対向してもよいし、第２部分２８２の上面２８Ａと対向してもよい。
【０２２８】
図２２は、本実施形態に係る液浸部材３２０の一部を示す側断面図である。図２２において、液浸部材３２０の第１排出口２１及び第２排出口２２は、光路Ｋに対する放射方向に関して回収口１８（第１部材２８）の内側に配置されている。本実施形態においては、液浸部材３２０の第１排出口２１は、光路Ｋに対する放射方向に関して第２排出口２２の内側に配置されている。なお、図２２において、第２排出口２２が第１部材２８の上面２８Ａと対向してもよい。この場合、第２排出口２２は、第１部材２８の第１部分２８１の上面２８Ａと対向してもよいし、第２部分２８２の上面２８Ａと対向してもよい。
【０２２９】
また、図２３に示す液浸部材３２１のように、複数の第１排出口２１の一部が第１部材２８の上面２８Ａと対向し、一部が上面２８Ａと対向しないように配置されてもよい。なお、図２３に示す例においては、第２排出口２２は、第１部材２８（第２部分２８２）の上面２８Ａと対向しているが、上面２８Ａと対向していなくてもよい。この場合、光路Ｋに放射方向に関して、第２排出口２２の内側に第１排出口２１を配置してもよい。
【０２３０】
また、複数の第２排出口２２の一部が第１部材２８の上面２８Ａと対向し、一部が上面２８Ａと対向しないように配置されてもよい。この場合、第１排出口２１は、第１部材２８（第２部分２８２）の上面２８Ａと対向してもよいし、上面２８Ａと対向していなくてもよい。また、光路Ｋに放射方向に関して、第２排出口２２の内側に第１排出口２１を配置してもよいし、第２排出口２２の外側に第１排出口２１を配置してもよい。
【０２３１】
＜第１３実施形態＞
次に、第１３実施形態について説明する。図２４は、第１３実施形態に係る液浸部材３２２の一部を示す側断面図である。液浸部材３２２は、−Ｚ方向（下方）を向いていない第１排出口２１Ｕを備えている。本実施形態において、液浸部材３２２の第１排出口２１Ｕは、上方を向いている。第１排出口２１Ｕは、第１部材２８Ｕに配置される。第１排出口２１Ｕは、上述の第１排出口２１と同様に、気体Ｇの流入を抑制しつつ、液体ＬＱを回収する。図２４において、第２排出口２２は、下方を向いている。
【０２３２】
なお、複数の第１排出口２１Ｕの少なくとも一つの少なくとも一部が、光路Ｋに対する放射方向に関して、内側を向くように配置されていてもよい。また、第１排出口２１Ｕの少なくとも一つの少なくとも一部が光路Ｋに対する放射方向に関して外側を向くように配置されていてもよい。また、複数の第１排出口２１Ｕの一部が向いている方向と、他の一部が向いている方向が異なっていてもよい。例えば、複数の第１排出口２１Ｕの一部が下方を向き、他の一部が上方を向いていてもよい。あるいは複数の第１排出口２１Ｕの一部が光路Ｋに対する放射方向に関して内側を向き、他の一部が光路Ｋに対する放射方向に関して外側を向いてもよい。
【０２３３】
なお、上述の各実施形態において、第２排出口２２は下方を向いていることとしたが、第２排出口２２が、下方を向いていなくてもよい。例えば、第２排出口２２が上方を向いていてもよいし、光路Ｋに対する放射方向に関して、内側を向いていてもよいし、光路Ｋに対する放射方向に関して外側を向いていてもよい。また、複数の第２排出口２２の一部が向いている方向と、他の一部が向いている方向が異なっていてもよい。
【０２３４】
＜第１４実施形態＞
次に、第１４実施形態について説明する。図２５は、第１４実施形態に係る液浸部材３２３の一部を示す側断面図である。液浸部材３２３は、回収流路１９に液体ＬＱを供給可能な供給口８０を備えている。回収流路１９に液体ＬＱを供給する供給口８０は、光路Ｋに液体ＬＱを供給する供給口１７と異なる。本実施形態において、供給口８０は、光路Ｋの周囲に複数配置される。
【０２３５】
供給口８０は、光路Ｋに対する放射方向に関して、第１排出口２１の外側に配置されている。供給口８０は、第１排出口２１の近傍に配置されている。供給口８０は、第１排出口２１よりも上方に配置されている。
【０２３６】
なお、供給口８０が、第２排出口２２の近傍に配置されてもよい。なお、供給口８０が、第１排出口２１よりも下方に配置されてもよい。
【０２３７】
供給口８０から回収流路１９に供給される液体ＬＱによって、液浸部材３２３の少なくとも一部の温度を調整してもよいし、液浸部材３２３の少なくとも一部の温度変動を抑制するようにしてもよい。回収口１８から液体ＬＱを気体Ｇとともに回収する場合、液体ＬＱの気化に起因する、液浸部材３２３の少なくとも一部の温度変動を、供給口８０から回収流路１９に供給される液体ＬＱによって抑制してもよい。また、供給口８０から回収流路１９に液体ＬＱを供給することによって、回収流路１９内の圧力（例えば気体空間の圧力）等を調整してもよい。また、供給口８０から回収流路１９に液体ＬＱを供給することによって、回収流路１９に存在する異物を除去してもよい。例えば、供給口８０から回収流路１９に供給される液体ＬＱによって、回収流路１９における液体ＬＱの流れを調整して、回収流路１９に存在する異物を、第１排出口２１及び第２排出口２２の少なくとも一方に導いてもよい。
【０２３８】
また、供給口８０から回収流路１９に液体ＬＱを供給することによって、回収流路１９における液体ＬＱの流れを調整してもよい。例えば、回収流路１９において回収口１８から回収された液体ＬＱの流れが遅い空間（淀み空間）の近傍に供給口８０を設けて、その淀み空間に供給口８０からの液体ＬＱを供給して、回収流路１９における液体ＬＱの流れを調整してもよいし、その淀み空間から異物を除去してもよい。また、供給口８０から供給される液体ＬＱの流速（単位時間当たりの液体ＬＱの供給量）を調整することによって、回収流路１９における液体ＬＱの流れを調整してもよい。
【０２３９】
また、回収流路１９に、回収口１８から回収された液体ＬＱが流れる空間（液体空間）と、回収口１８から回収された液体ＬＱが流れない空間（気体空間）とが存在する場合、供給口８０からの液体ＬＱを、気体空間に供給するようにしてもよい。
【０２４０】
また、供給口８０から供給される液体ＬＱの温度が、供給口１７から供給される液体ＬＱの温度と異なってもよい。例えば、供給口８０から供給される液体ＬＱの温度が、供給口１７から供給される液体ＬＱの温度よりも高くてもよいし、低くてもよい。例えば、上述のように液体ＬＱの気化によって、液浸部材３２３の少なくとも一部の温度が低下する場合、供給口８０から供給される液体ＬＱの温度を、供給口１７から供給される液体ＬＱの温度よりも高くしてもよい。
【０２４１】
また、供給口８０から供給される液体ＬＱの温度が、回収口１８から回収される液体ＬＱの温度（回収口１８から回収流路１９に流入する液体ＬＱの温度）と異なってもよい。例えば、供給口８０から供給される液体ＬＱの温度が、回収口１８から回収される液体ＬＱの温度よりも高くてもよいし、低くてもよい。
【０２４２】
また、供給口８０から供給される液体ＬＱの温度を調整して、液浸部材３２３の温度を調整してもよい。
【０２４３】
また、供給口８０から供給される液体ＬＱの種類が、供給口１７から供給される液体ＬＱの種類（物性）と異なってもよい。
【０２４４】
また、供給口８０とは異なる気体供給口（不図示）から、回収流路１９に気体Ｇを供給してもよい。気体供給口から回収流路１９に気体Ｇを供給することによって、液浸部材３２３の少なくとも一部を温度調整したり、あるいは液浸部材３２３の少なくとも一部の温度変動を抑制したりしてもよい。また、気体供給口から回収流路１９に気体Ｇを供給することによって、回収流路１９内の圧力（気体空間の圧力）を調整したり、回収流路１９内の液体ＬＱの流れを調整したりしてもよい。また、気体供給口からの気体Ｇの供給を、供給口８０からの液体ＬＱの供給と並行して行ってもよいし、気体供給口からの気体Ｇの供給と、供給口８０からの液体ＬＱの供給とを並行して行わなくてもよい。
【０２４５】
＜第１５実施形態＞
次に、第１５実施形態について説明する。図２６は、第１５実施形態に係る液浸部材３２４の一部を示す側断面図、図２７Ａ及び図２７Ｂは、第１５実施形態に係る第２部材２７０の一例を示す拡大図である。図２７Ａは、第２部材２７０近傍の側断面図、図２７Ｂは、第２部材２７０を下面２７０Ｂ側から見た図である。
【０２４６】
図２６、図２７Ａ及び図２７Ｂにおいて、第２部材２７０は、第３部分２７０１と、第３部分２７０１より高い位置に配置され、第３部分２７０１よりも多くの液体ＬＱを排出可能な第４部分２７０２とを有する。回収流路１９の液体ＬＱは、第３部分２７０１の第１排出口２１及び第４部分２７０２の第１排出口２１の少なくとも一方から排出される。
【０２４７】
第４部分２７０２は、第２部材２７０の下面２７０Ｂにおける単位面積当たりの液体排出能力が、第３部分２７０１よりも高い。図２７Ｂに示すように、第４部分２７０２は、下面２７０Ｂにおける単位面積当たりの第１排出口２１（孔２７０Ｈ）の割合が、第３部分２７０１よりも大きい。また、第４部分２７０２の第１排出口２１（孔２７０Ｈ）の数が、第３部分２７０１の第１排出口２１（孔２７０Ｈ）の数よりも多い。
【０２４８】
第４部分２７０２は、第３部分２７０１よりも第１部材２８の上面２８Ａから離れて配置されている。本実施形態において、第４部分２７０２は、第３部分２７０１よりも光路Ｋに近い。本実施形態において、第２部材２７０の下面２７０Ｂの少なくとも一部は、ＸＹ平面（水平面）に対して非平行である。上面２７０Ａは、下面２７０Ｂと異なる方向を向く。本実施形態において、上面２７０Ａは、下面２７０Ｂの反対方向を向く。本実施形態において、第２部材２７０の上面２７０Ａ及び下面２７０Ｂは、光路Ｋに対する放射方向に関して、下方に傾斜する斜面である。なお、第４部分２７０２が、第３部分２７０１よりも光路Ｋから遠くてもよい。
【０２４９】
第２部材２７０が第３部分２７０１と第４部分２７０２とを含むことにより、例えば回収流路１９において液体空間の表面の高さ（水位、液位）が変化しても、第２部材２７０は、回収流路１９において液体空間の液体ＬＱに接触することができる。したがって、第２部材２７０は、第３部分２７０１の第１排出口２１及び第４部分２７０２の第１排出口２１の少なくとも一方を介して、回収流路１９の液体ＬＱを常に排出し続けることができる。これにより、例えば流路３０の圧力が変動を抑制される。
【０２５０】
回収流路１９において、液体空間の表面（水位、液位）の高さが第１の高さであり、液体空間の液体ＬＱが第４部分２７０２に接触せず第３部分２７０１に接触する場合、その液体ＬＱは、第３部分２７０１から排出される。一方、回収流路１９において、液体空間の表面の高さが第１の高さより高い第２の高さであり、液体空間の液体ＬＱが第３部分２７０１及び第４部分２７０２の両方に接触する場合、その液体ＬＱは、第３部分２７０１及び第４部分２７０２から排出される。第４部分２７０２は、第３部分２７０１よりも多くの液体ＬＱを排出可能であるため、回収流路１９において液体空間の表面の高さが高くなると、第２部材２７０を介した液体排出量は増大する。一方、液体空間の表面の高さが低くなると、第２部材２７０を介した液体ＬＱ排出量は減少する。したがって、回収流路１９における液体空間の表面の高さの変動を抑制することができる。これにより、第２部材２７０は、第３部分２７０１の第１排出口２１及び第４部分２７０２の第１排出口２１の少なくとも一方を介して、回収流路１９の液体ＬＱを常に排出し続けることができる。これにより、例えば流路３０の圧力が変動を抑制される。
【０２５１】
図２８Ａ及び図２８Ｂに示す第２部材２７１は、第３部分２７１１と、第３部分２７１１よりも高い位置に配置され、第３部分２７１１よりも多くの液体ＬＱを排出可能な第４部分２７１２とを含む。第２部材２７１の第３部分２７１１における隣り合う孔２７１Ｈの間隔は、第４部分２７１２における隣り合う孔２７１Ｈの間隔よりも大きい。第４部分２７１２は、下面２７１Ｂにおける単位面積当たりの第１排出口２１（孔２７１Ｈ）の割合が、第３部分２７１１よりも大きい。また、第４部分２７１２の第１排出口２１（孔２７１Ｈ）の数は、第３部分２７１１の第１排出口２１（孔２７１Ｈ）の数よりも多い。
【０２５２】
図２９Ａ及び図２９Ｂに示す第２部材２７２は、第３部分２７２１と、第３部分２７２１よりも高い位置に配置され、第３部分２７２１よりも多くの液体ＬＱを排出可能な第４部分２７２２とを含む。第２部材２７２の第４部分２７２２の孔２７２Ｈの寸法が、第３部分２７２１の孔２７２Ｈの寸法よりも大きい。図２９Ａ及び図２９Ｂに示す例において、第４部分２７２２は、下面２７２Ｂにおける単位面積当たりの第１排出口２１（孔２７２Ｈ）の割合が、第３部分２７２１よりも大きい。
【０２５３】
図３０に示す第２部材２７３は、第３部分２７３１と、第３部分２７３１よりも高い位置に配置され、第３部分２７３１よりも多くの液体ＬＱを排出可能な第４部分２７３２とを含む。図３０において、下面２７３Ｂの少なくとも一部は、窪んでいる。図３０に示す例では、下面２７３Ｂの少なくとも一部は、曲面である。
【０２５４】
回収流路１９において、液体空間の表面（水位、液位）の高さが第１の高さであり、液体空間の液体ＬＱが第４部分２７３２に接触せず第３部分２７３１に接触する場合、その液体ＬＱは、第３部分２７３１から排出される。一方、液体空間の表面の高さが第１の高さより高い第２の高さであり、液体空間の液体ＬＱが第３部分２７３１及び第４部分２７３２の両方に接触する場合、その液体ＬＱは、第３部分２７３１及び第４部分２７３２から排出される。下面２７３Ｂは、窪んだ曲面であるため、液体空間の表面の高さが高くなると、液体ＬＱと下面２７３Ｂとの接触面積が大きくなり、第２部材２７３を介した液体排出量は増大する。一方、液体空間の表面の高さが低くなると、液体ＬＱと下面２７３Ｂとの接触面積が小さくなり、第２部材２７３を介した液体ＬＱ排出量は減少する。したがって、図３０に示す第２部材２７３においても、回収流路１９における液体空間の表面の高さの変動を抑制することができる。これにより、例えば流路３０の圧力の変動が抑制される。
【０２５５】
図３１に示す第２部材２７４は、第３部分２７４１と、第３部分２７４１よりも高い位置に配置され、第３部分２７４１よりも多くの液体ＬＱを排出可能な第４部分２７４２とを含む。図３１において、下面２７４Ｂの少なくとも一部は、窪んでいる。図３１に示す例では、下面２７４Ｂは、水平面と第１角度をなす領域と、第１角度と異なる第２角度をなす領域とを含む。本実施形態において、第３部分２７４１が、第１角度をなす領域を有し、第４部分２７４２が、第２角度をなす領域を有する。本実施形態においては、第４部分２７４２の下面２７４Ｂの水平面に対する角度が、第３部分２７４１の下面２７４Ｂの水平面に対する角度よりも小さい。
【０２５６】
図３１に示す第２部材２７４においても、回収流路１９の液体空間の表面の高さが高くなると、液体ＬＱと下面２７４Ｂとの接触面積は大きくなる。一方、液体空間の表面の高さが低くなると、液体ＬＱと下面２７４Ｂとの接触面積は小さくなる。したがって、図３１に示す第２部材２７４においても、回収流路１９における液体空間の表面の高さの変動を抑制することができる。これにより、例えば流路３０の圧力の変動が抑制される。
【０２５７】
なお、図２６〜図３１を参照して説明した各実施形態においては、第１排出口２１の少なくとも一部が、光路Ｋの放射方向に関して内側を向くような傾斜面に配置されているが、光路Ｋの放射方向に関して外側を向くような傾斜面に設けられていてもよいし、第１排出口２１の少なくとも一つの少なくとも一部が、Ｚ軸と平行な面に設けられていてもよい。
【０２５８】
また、図２６〜図３１を参照して説明した各実施形態においては、第２部材（２７０等）が、単位面積当たりの液体排出能力が異なる第３部分（２７０１等）と第４部分（２７０２等）とを含んでいるが、第２部材（２７０等）の単位面積当たりの液体排出能力が均一であってもよい。この場合も、例えば流路３０の圧力の変動が抑制される。
【０２５９】
＜第１６実施形態＞
次に、第１６実施形態について説明する。図３２は、第１６実施形態に係る液浸部材３２５の一部を示す側断面図である。図３２において、液浸部材３２５は、第２排出口２２に結ばれる傾斜した流路３６Ｓを有する。流路３６Ｓの下端に第２排出口２２が配置される。流路３６Ｓは、第２排出口２２から光路Ｋに対する放射方向に関して内側に向かって、かつ上方に向かって延びる。これにより、第２排出口２２から流路３６Ｓへ液体ＬＱが流入することが抑制される。
【０２６０】
＜第１７実施形態＞
次に、第１７実施形態について説明する。図３３は、第１７実施形態に係る液浸部材３２６の一部を示す側断面図である。図３３において、液浸部材３２６は、第１部材（多孔部材）を備えていない。液浸部材３２６の回収口１８０は、本体部３２の下端に形成された開口を含む。
【０２６１】
液浸部材３２６の第１排出口２１及び第２排出口２２は、光路Ｋに対する放射方向に関して回収口１８０の外側に配置されている。第１排出口２１は、光路Ｋに対する放射方向に関して第２排出口２２の外側に配置されている。
【０２６２】
図３４に示す液浸部材３２７の第１排出口２１及び第２排出口２２は、光路Ｋに対する放射方向に関して回収口１８０の外側に配置されている。第１排出口２１は、光路Ｋに対する放射方向に関して第２排出口２２の内側に配置されている。
【０２６３】
図３５に示す液浸部材３２８の第１排出口２１及び第２排出口２２は、光路Ｋに対する放射方向に関して回収口１８０の内側に配置されている。第１排出口２１は、光路Ｋに対する放射方向に関して第２排出口２２の外側に配置されている。
【０２６４】
図３６に示す液浸部材３２９の第１排出口２１及び第２排出口２２は、光路Ｋに対する放射方向に関して回収口１８０の内側に配置されている。第１排出口２１は、光路Ｋに対する放射方向に関して第２排出口２２の内側に配置されている。
なお、上述の各実施形態においては、第１部分（２８１等）から回収流路１９への気体の流入が抑制されてもよい。すなわち、第１部分（２８１等）からも実質的に液体ＬＱのみが回収流路１９に流入してもよい。第１部分（２８１等）および第２部分（２８２等）のいずれもが、実質的に液体ＬＱのみを回収するようにする場合には、排出口２２からの気体の吸引を停止してもよいし、あるいは第２排出口２２を設けなくてもよい。
【０２６５】
なお、上述の各実施形態において、「光路Ｋに対する放射方向」は、投影領域ＰＲ近傍における投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに対する放射方向とみなしてもよい。
【０２６６】
なお、上述したように、制御装置４は、ＣＰＵ等を含むコンピュータシステムを含む。また、制御装置４は、コンピュータシステムと外部装置との通信を実行可能なインターフェースを含む。記憶装置５は、例えばＲＡＭ等のメモリ、ハードディスク、ＣＤ−ＲＯＭ等の記録媒体を含む。記憶装置５には、コンピュータシステムを制御するオペレーティングシステム（ＯＳ）がインストールされ、露光装置ＥＸを制御するためのプログラムが記憶されている。
【０２６７】
なお、制御装置４に、入力信号を入力可能な入力装置が接続されていてもよい。入力装置は、キーボード、マウス等の入力機器、あるいは外部装置からのデータを入力可能な通信装置等を含む。また、液晶表示ディスプレイ等の表示装置が設けられていてもよい。
【０２６８】
記憶装置５に記録されているプログラムを含む各種情報は、制御装置（コンピュータシステム）４が読み取り可能である。記憶装置５には、制御装置４に、液体ＬＱを介して露光光ＥＬで基板Ｐを露光する露光装置ＥＸの制御を実行させるプログラムが記録されている。
【０２６９】
記憶装置５に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置４に、露光光を射出可能な終端光学素子と基板との間の露光光の光路が液体で満たされるように液浸空間を形成する処理と、液浸空間の液体を介して露光光で基板を露光する処理と、基板上の液体の少なくとも一部を第１部材の回収口から回収する処理と、回収流路の液体と気体とを分離して排出する排出部の第１排出口から、回収流路の液体を排出する処理と、排出部の第２排出口から、回収流路の気体を排出する処理と、回収流路の液体が第２排出口に接触することを抑制する処理と、を実行させてもよい。
【０２７０】
また、記憶装置５に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置４に、露光光を射出可能な終端光学素子と基板との間の露光光の光路が液体で満たされるように液浸空間を形成する処理と、液浸空間の液体を介して露光光で基板を露光する処理と、基板上の液体の少なくとも一部を第１部材の回収口から回収する処理と、回収流路の液体と気体とを分離して排出する排出部の第１排出口及び第２排出口のうち、第２排出口よりも気体の流入が抑制された第１排出口から、回収流路の液体を排出する処理と、第１排出口よりも液体の流入が抑制された第２排出口から、回収流路の気体を排出する処理と、回収流路の液体が第２排出口に接触することを抑制する処理と、を実行させてもよい。
【０２７１】
また、記憶装置５に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置４に、露光光を射出可能な終端光学素子と基板との間の露光光の光路が液体で満たされるように液浸空間を形成する処理と、液浸空間の液体を介して露光光で基板を露光する処理と、基板上の液体の少なくとも一部を第１部材の回収口から回収する処理と、回収口から回収された液体が流れる回収流路に面する第１排出口から、実質的に回収流路の液体のみを排出する処理と、回収流路に面する第２排出口の周囲の少なくとも一部に突起が配置された状態で、第２排出口から、実質的に回収流路の気体のみを排出する処理と、を実行させてもよい。
【０２７２】
また、記憶装置５に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置４に、露光光を射出可能な終端光学素子と基板との間の露光光の光路が液体で満たされるように液浸空間を形成する処理と、液浸空間の液体を介して露光光で基板を露光する処理と、基板上の液体の少なくとも一部を第１部材の回収口から回収する処理と、回収口から回収された液体が流れる回収流路に面する第１排出口から、実質的に回収流路の液体のみを排出する処理と、回収流路に面する第２排出口の周囲の少なくとも一部に表面が液体に対して撥液性の撥液部が配置された状態で、第２排出口から、実質的に回収流路の気体のみを排出する処理と、を実行させてもよい。
【０２７３】
また、記憶装置５に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置４に、露光光を射出可能な終端光学素子と基板との間の露光光の光路が液体で満たされるように液浸空間を形成する処理と、液浸空間の液体を介して露光光で基板を露光する処理と、基板上の液体の少なくとも一部を第１部材の回収口から回収する処理と、回収口から回収された液体が流れる回収流路に面する第１排出口から、実質的に回収流路の液体のみを排出する処理と、回収流路に面する第２排出口から、実質的に回収流路の気体のみを排出する処理と、第２排出口の周囲の少なくとも一部に給気口から気体を供給する処理と、を実行させてもよい。
【０２７４】
記憶装置５に記憶されているプログラムが制御装置４に読み込まれることにより、基板ステージ２、液浸部材３、液体供給装置３５、第１排出装置２４、及び第２排出装置２６等、露光装置ＥＸの各種の装置が協働して、液浸空間ＬＳが形成された状態で、基板Ｐの液浸露光等、各種の処理を実行する。
【０２７５】
なお、上述の各実施形態においては、投影光学系ＰＬの終端光学素子８の射出側（像面側）の光路Ｋが液体ＬＱで満たされているが、投影光学系ＰＬが、例えば国際公開第２００４／０１９１２８号に開示されているような、終端光学素子８の入射側（物体面側）の光路Ｋも液体ＬＱで満たされる投影光学系でもよい。
【０２７６】
なお、上述の各実施形態においては、液体ＬＱが水であることとしたが、水以外の液体でもよい。液体ＬＱは、露光光ＥＬに対して透過性であり、露光光ＥＬに対して高い屈折率を有し、投影光学系ＰＬあるいは基板Ｐの表面を形成する感光材（フォトレジスト）等の膜に対して安定なものが好ましい。例えば、液体ＬＱが、ハイドロフロロエーテル（ＨＦＥ）、過フッ化ポリエーテル（ＰＦＰＥ）、フォンブリン（登録商標）オイル等のフッ素系液体でもよい。また、液体ＬＱが、種々の流体、例えば、超臨界流体でもよい。
【０２７７】
なお、上述の各実施形態においては、基板Ｐが、半導体デバイス製造用の半導体ウエハを含むこととしたが、例えばディスプレイデバイス用のガラス基板、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）等を含んでもよい。
【０２７８】
なお、上述の各実施形態においては、露光装置ＥＸが、マスクＭと基板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキャニングステッパ）であることとしたが、例えばマスクＭと基板Ｐとを静止した状態でマスクＭのパターンを一括露光し、基板Ｐを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパ）でもよい。
【０２７９】
また、露光装置ＥＸが、ステップ・アンド・リピート方式の露光において、第１パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系ＰＬを用いて第１パターンの縮小像を基板Ｐ上に転写した後、第２パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系ＰＬを用いて第２パターンの縮小像を、転写された第１パターンと部分的に重ねて基板Ｐ上に一括露光する露光装置（スティッチ方式の一括露光装置）でもよい。また、スティッチ方式の露光装置が、基板Ｐ上で少なくとも２つのパターンを部分的に重ねて転写し、基板Ｐを順次移動させるステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置でもよい。
【０２８０】
また、露光装置ＥＸが、例えば米国特許第６６１１３１６号に開示されているような、２つのマスクのパターンを、投影光学系を介して基板Ｐ上で合成し、１回の走査露光によって基板Ｐ上の１つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置でもよい。また、露光装置ＥＸが、プロキシミティ方式の露光装置、ミラープロジェクション・アライナー等でもよい。
【０２８１】
また、露光装置ＥＸが、例えば米国特許第６３４１００７号、米国特許第６２０８４０７号、及び米国特許第６２６２７９６号等に開示されているような、複数の基板ステージを備えたツインステージ型の露光装置でもよい。例えば、露光装置ＥＸが２つの基板ステージを備えている場合、射出面７と対向するように配置可能な物体は、一方の基板ステージ、その一方の基板ステージの基板保持部に保持された基板、他方の基板ステージ、及びその他方の基板ステージの基板保持部に保持された基板の少なくとも一つを含む。
【０２８２】
また、露光装置ＥＸが、例えば米国特許第６８９７９６３号、及び米国特許出願公開第２００７／０１２７００６号等に開示されているような、基板を保持する基板ステージと、基準マークが形成された基準部材及び／又は各種の光電センサを搭載し、露光対象の基板を保持しない計測ステージとを備えた露光装置でもよい。この場合、射出面７と対向するように配置可能な物体は、基板ステージ、その基板ステージの基板保持部に保持された基板、及び計測ステージの少なくとも一つを含む。また、露光装置ＥＸが、複数の基板ステージと計測ステージとを備えた露光装置でもよい。
【０２８３】
露光装置ＥＸが、基板Ｐに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置でもよいし、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置でもよいし、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）、マイクロマシン、ＭＥＭＳ、ＤＮＡチップ、あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置でもよい。
【０２８４】
なお、上述の各実施形態においては、干渉計システム１３を用いて各ステージの位置情報を計測することとしたが、例えば各ステージに設けられるスケール（回折格子）を検出するエンコーダシステムを用いてもよいし、干渉計システムとエンコーダシステムを併用してもよい。
【０２８５】
なお、上述の実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスクＭを用いたが、このマスクに代えて、例えば米国特許第６７７８２５７号に開示されているような、露光すべきパターンの電子データに基づいて透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する可変成形マスク（電子マスク、アクティブマスク、あるいはイメージジェネレータとも呼ばれる）を用いてもよい。また、非発光型画像表示素子を備える可変成形マスクに代えて、自発光型画像表示素子を含むパターン形成装置を備えるようにしてもよい。
【０２８６】
上述の各実施形態においては、露光装置ＥＸが投影光学系ＰＬを備えることとしたが、投影光学系ＰＬを用いない露光装置及び露光方法に、上述の各実施形態で説明した構成要素を適用してもよい。例えば、レンズ等の光学部材と基板Ｐとの間に液浸空間ＬＳを形成し、その光学部材を介して、基板Ｐに露光光ＥＬを照射する露光装置及び露光方法に、上述の各実施形態で説明した構成要素を適用してもよい。
【０２８７】
また、露光装置ＥＸが、例えば国際公開第２００１／０３５１６８号に開示されているような、干渉縞を基板Ｐ上に形成することによって基板Ｐ上にライン・アンド・スペースパターンを露光する露光装置（リソグラフィシステム）でもよい。
【０２８８】
上述の実施形態の露光装置ＥＸは、上述の各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置ＥＸへの組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置ＥＸへの組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程がある。各種サブシステムの露光装置ＥＸへの組み立て工程が終了した後、総合調整が行われ、露光装置ＥＸ全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置ＥＸの製造は温度及びクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【０２８９】
半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図３７に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスクＭ（レチクル）を製作するステップ２０２、デバイスの基材である基板Ｐを製造するステップ２０３、上述の実施形態に従って、マスクＭのパターンからの露光光ＥＬで基板Ｐを露光すること、及び露光された基板Ｐを現像することを含む基板処理（露光処理）を含む基板処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。
【０２９０】
なお、上述の各実施形態の要件は、適宜組み合わせることができる。また、一部の構成要素を用いない場合もある。また、法令で許容される限りにおいて、上述の各実施形態及び変形例で引用した露光装置ＥＸ等に関する全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。
【符号の説明】
【０２９１】
２…基板ステージ、３…液浸部材、４…制御装置、５…記憶装置、７…射出面、８…終端光学素子、１７…供給口、１８…回収口、１９…回収流路、２０…排出部、２１…第１排出口、２２…第２排出口、２７…第２部材、２７Ａ…上面、２７Ｂ…下面、２７Ｈ…孔、２８…第１部材、２８Ａ…上面、２８Ｂ…下面、４０…抑制部、４１…突起、４２…撥液部、６０…給気口、７０…第３部材、７０Ａ…上面、７０Ｂ…下面、７０Ｈ…孔、８０…供給口、ＥＬ…露光光、ＥＸ…露光装置、ＩＬ…照明系、Ｋ…光路、ＬＱ…液体、ＬＳ…液浸空間、Ｐ…基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６】
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【図３７】
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【図３８】
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