(57)【要約】      （修正有）【課題】駆動時の光線透過率が高く、表示不良が発生することのないフリンジ・フィールド・スイッチング・モードの液晶表示素子を提供する。【解決手段】液晶表示素子は、一対の基板に液晶層が挟持されてなり、前記一対の基板のうちの１枚の前記液晶層側の面にはコモン電極、絶縁層、信号電極および液晶配向膜がこの順で形成されており、前記液晶層がポジ型液晶からなり、そして前記液晶配向膜のプレチルト角が０．２°以下である。【選択図】図３
2012215834.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板に液晶層が挟持されてなり、
前記一対の基板のうちの１枚の前記液晶層側の面にはコモン電極、絶縁層、信号電極および液晶配向膜がこの順で形成されており、
前記液晶層がポジ型液晶からなり、そして
前記液晶配向膜のプレチルト角が０．２°以下であることを特徴とする、フリンジ・フィールド・スイッチング・モードの液晶表示素子。
【請求項２】
前記信号電極が複数の櫛歯を有する櫛状電極であり、前記櫛状電極の櫛歯のそれぞれが直線状または「くの字」状の形状を有する、請求項１に記載の液晶表示素子。
【請求項３】
前記液晶配向膜が、ポリアミック酸、ポリアミック酸のイミド化重合体、アクリル系樹脂およびポリオルガノシロキサンよりなる群から選択される少なくとも１種の有機高分子からなるものである、請求項１または２に記載の液晶表示素子。
【請求項４】
前記液晶配向膜が、
テトラカルボン酸二無水物と、フルオレン構造を有するジアミンおよび９，１０−ジヒドロアントラセン構造を有するジアミンよりなる群から選択される少なくとも１種を含むジアミンと、を反応させて得られるポリアミック酸、ならびに
前記ポリアミック酸のイミド化重合体
よりなる群から選択される少なくとも１種を含む有機高分子からなるものである、請求項３に記載の液晶表示素子。
【請求項５】
テトラカルボン酸二無水物と、フルオレン構造を有するジアミンおよび９，１０−ジヒドロアントラセン構造を有するジアミンよりなる群から選択される少なくとも１種を含むジアミンと、を反応させて得られるポリアミック酸、ならびに
前記ポリアミック酸のイミド化重合体
よりなる群から選択される少なくとも１種を含む有機高分子を含有し、そして
フリンジ・フィールド・スイッチング・モードの液晶表示素子における液晶配向膜を形成するために使用されることを特徴とする、液晶配向剤。
【請求項６】
コモン電極、絶縁層および信号電極がこの順で形成された基板の前記信号電極上に、
テトラカルボン酸二無水物と、フルオレン構造を有するジアミンおよび９，１０−ジヒドロアントラセン構造を有するジアミンよりなる群から選択される少なくとも１種を含むジアミンと、を反応させて得られるポリアミック酸、ならびに
前記ポリアミック酸のイミド化重合体
よりなる群から選択される少なくとも１種を含む有機高分子を含有する液晶配向剤を塗布して塗膜を形成し、次いで該塗膜を加熱する工程を経ることを特徴とする、液晶配向膜の形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フリンジ・フィールド・スイッチング・モード（Ｆｒｉｎｇｅ  Ｆｉｅｌｄ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ  Ｍｏｄｅ、以下、「ＦＦＳモード」ともいう。）の液晶表示素子に関する。より詳しくは、駆動時の光線透過率が高く、表示不良が発生することのないＦＦＳモードの液晶表示素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示素子の表示モードとしては、従来から、ＴＮモード（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ  Ｍｏｄｅ）、ＳＴＮモード（Ｓｕｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ  Ｍｏｄｅ）、ＶＡモード（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ  Ｍｏｄｅ）などの、それぞれが電極を有する基板の２枚からなる一対の基板間に液晶を挟持して基板面に対して垂直方向に電界を発生させることにより液晶を駆動する、いわゆる縦電界方式のものが知られている。これらの縦電界方式の液晶表示素子は、視野角が狭いという問題点を有する。縦電界方式を維持しつつ視野角の問題点を改善したものとしては、ＭＶＡモード（Ｍｕｌｔｉ−Ｄｏｍａｉｎ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ  Ｍｏｄｅ）が提案されている。
これらとは別に、横縦電界方式の液晶表示素子としてＩＰＳモード（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ  Ｍｏｄｅ）の液晶表示素子が提案されている（特許文献１〜３および非特許文献１）。このＩＰＳモードの液晶表示素子は、液晶層を挟持する一対の基板のうちの片方にのみ、それぞれが櫛型の形状を有する一対の電極を形成し、基板面に対して水平方向に電界を発生させて液晶を駆動する方式である。横電界方式の液晶表示素子は、液晶分子が基板と平行な方向にのみ電界応答するため、液晶分子の長軸方向の屈折率変化が問題とならず、視角を変えた場合でも、観察者に視認されるコントラストおよび表示色の濃淡の変化が少なく、従って視角によらず高品位な表示が可能となる。しかし、ＩＰＳモードの液晶表示素子は、電極上（櫛型電極の櫛歯の上部）においては液晶が電界応答しないため、縦電界方式の液晶表示素子と比べて開口率が低いという問題がある。
【０００３】
ＩＰＳモードの視野角特性を維持しつつ、開口率の問題を解決する方式として、ＦＦＳモードの液晶表示素子が提案されている（特許文献４〜６）。このＦＦＳモードは、液晶層を挟持する一対の基板のうちの片方にのみ、コモン電極、絶縁層および信号電極をこの順で形成した構造を有し、一対の電極が、いわば積層されて構成されている。ここで信号電極は、例えば一定の間隙を介して整列した櫛歯の複数を有する櫛状電極であることができる。そして、これらの電極間に電圧を印加すると、コモン電極のうちの上方に櫛歯が存在しない領域と、櫛歯との間に、液晶層を通過するアーチ状の電界が発生し、これにより液晶を駆動するものである。従ってＦＦＳモードでは、信号電極の上であっても液晶が電界応答するため、ＩＰＳモードにおける開口率の問題は解決される。
しかしＦＦＳモードでは、駆動時における光線透過率が低くなる現象が生ずることによる表示不良が発生する場合があり、解決が求められている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】米国特許第５９２８７３３号明細書
【特許文献２】特開昭５６−９１２７７号公報
【特許文献３】特開２００８−４６１８４号公報
【特許文献４】特開２００７−２６４２３１号公報
【特許文献５】特開２００８−５１８４６号公報
【特許文献６】特開２００９−１１６３３４号公報
【非特許文献】
【０００５】
【非特許文献１】“Ｌｉｑ．  Ｃｒｙｓｔ．”，  ｖｏｌ．  ２２，  ｐ３７９（１９９６）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、ＦＦＳモードにおける上記の問題点を解決することを目的とするものである。すなわち本発明は、駆動時の光線透過率が高く、表示不良が発生することのないＦＦＳモードの液晶表示素子を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、ＦＦＳモードの駆動時における光線透過率の低下現象が、信号電極近傍の液晶配向膜界面における液晶分子のリバースプレチルト不良に起因することを突き止め、このような問題が発生しない液晶表示素子に到達した。すなわち本発明の上記目的および利点は、
一対の基板に液晶層が挟持されてなり、
前記一対の基板のうちの１枚の前記液晶層側の面にはコモン電極、絶縁層、信号電極および液晶配向膜がこの順で形成されており、
前記液晶層がポジ型液晶からなり、そして
前記液晶配向膜のプレチルト角が０．２°以下であることを特徴とする、ＦＦＳモードの液晶表示素子によって達成される。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によると、駆動時の光線透過率が高く、表示不良が発生することのないＦＦＳモードの液晶表示素子が提供される。
本発明の液晶表示素子は、視野角が広いとともに表示品位に極めて優れ、表示不良の発生が抑制されたものであるから、例えば液晶テレビジョン、携帯情報端末などに好適に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の液晶表示素子における信号電極の一例を説明するための概略図。
【図２】本発明の液晶表示素子における信号電極の別の一例を説明するための概略図。
【図３】実施例および比較例で製造した液晶表示素子の構造を示す断面図。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明の液晶表示素子は、ＦＦＳモードの液晶表示素子である。
本発明の液晶表示素子は、一対の基板の間に液晶層が挟持されてなる。ここで使用される基板としては、例えばフロートガラス、ソーダガラスなどのガラス；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリ（脂環式オレフィン）、ポリ（脂環式オレフィン）の水素添加物などのプラスチックからなる透明基板などを用いることができる。基板の厚さとしては、０．３〜２ｍｍとすることが好ましく、０．５〜１ｍｍとすることがより好ましい。
本発明の液晶表示素子における一対の基板のうちの１枚の液晶層側の面にはコモン電極、絶縁層、信号電極および液晶配向膜がこの順で形成されている。
上記コモン電極としては、例えば酸化スズ（ＳｎＯ２）からなるＮＥＳＡ膜（米国ＰＰＧ社登録商標）、酸化インジウム−酸化スズ（Ｉｎ２Ｏ３−ＳｎＯ２）からなるＩＴＯ膜などを用いることができる。このコモン電極の形状としては、基板の一面に形成されたパターンを有さない、いわゆる「ベタ膜」であることができ、あるいは任意のパターンを有するパターン状電極であってもよい。コモン電極の厚さとしては、１０〜２００ｎｍとすることが好ましく,２０〜１００ｎｍとすることがより好ましい。コモン電極は、基板上に公知の方法、例えばスパッタ法などによって形成することができる。
上記絶縁層としては、例えば窒化ケイ素などからなるものであることができる。絶縁層の厚さとしては、１００〜１，０００ｎｍとすることが好ましく,１５０〜７５０ｎｍとすることがより好ましい。絶縁層は、コモン電極上に公知の方法、例えば化学気相蒸着法などによって形成することができる。
上記信号電極は、上記のコモン電極と同様の材料からなることができる。信号電極は、例えば複数の櫛歯を有する櫛状電極であることができる。この櫛状電極の櫛歯のそれぞれは、例えば直線状、「くの字」状などの形状を有することができる。
【００１１】
以下に、貼付の図を参照して、本発明の液晶表示素子における信号電極の好ましい形状について説明する。図１および２に、櫛状電極の櫛歯の形状の例を示した。
図１の信号電極は、共通の背部１から発する櫛歯２の複数を有する櫛状の信号電極である。図１の信号電極の櫛歯２は直線状の形状を有する。櫛歯２それぞれの幅ａと、隣接する２つの櫛歯２の間の距離ｂとの比ａ／ｂは、好ましくは０．１〜５であり、より好ましくは０．５〜２である。本発明の液晶表示素子は、櫛歯２の上であっても液晶が電界応答し得るから、比ａ／ｂの値を過度に小さくしなくとも、高い開口率の画面を表示することができる。ａおよびｂそれぞれの値は、画面の大きさおよび画素の精細度によって適宜に設定されるべきであるが、例えば１〜２０μｍとすることができ、さらに５〜１０μｍとすることができる。背部１から櫛歯２が発する部分の角度ωは、例えば７０〜１１０°とすることができ、７５〜１０５°とすることが好ましい。
櫛歯２の長さＬおよび数は、表示面積、画素数などに応じて適宜に設定されるべきである。
【００１２】
図２の信号電極は、図１の信号電極と略同様であるが、背部１から発する櫛歯２が「くの字」状の形状を有する点で異なる。図２の信号電極における櫛歯２は、背部１から少し右側に向かって発しており、長さＬの途中でその方向を少し左側に変えており、全体で「くの字」状の形状を有する。背部１から櫛歯２が発する部分の角度θはおよび長さＬの途中で方向を変える部分の角度δは、それぞれ以下のとおりである。
角度θが好ましくは９０〜１１０°、より好ましくは９２〜１０５°であって、且つ角度δが好ましくは１６０〜１８０°、より好ましくは１６５〜１７８°であり、ただし角度θが９０°であって角度δが１８０°であることはないか；あるいは
角度θが好ましくは７０〜９０°、より好ましくは７５〜８８°であって、且つ角度δが好ましくは１８０〜２００°、より好ましくは１８２〜１９５°であり、ただし角度θが９０°であって角度δが１８０°であることはない。
図２の信号電極における櫛歯２が長さＬの途中で方向を変える位置は、長さＬの４０〜６０％の部分とすることができ、４５〜５５％の部分とすることが好ましい。
図２の信号電極におけるａ、ｂおよびＬの値ならびに櫛歯２の数は、図１の場合と同様である。
このような櫛状のパターンを有する信号電極を形成するには、例えばパターンなしの電極膜を形成した後にフォト・エッチングによりパターンを形成する方法、信号電極を形成する際に所望のパターンを有するマスクを用いる方法などによることができる。
【００１３】
本発明の液晶表示素子における液晶配向膜は、これを後述のポジ型液晶に適用した場合のプレチルト角が０．２°以下である。ここで、プレチルト角が０．２°以下であるとは、この液晶配向膜によってポジ型液晶の分子が実質的に膜面に平行に配向することをいい、液晶配向膜形成面の凹凸などに起因する不可避的な液晶分子の少しの傾きは許容されるとの趣旨である。このプレチルト角は、好ましくは０．１°以下であり、より好ましくは０．０５°以下であり、最も好ましくは０°である。
このような低いプレチルト角を示す液晶配向膜は、例えばポリアミック酸、ポリアミック酸のイミド化重合体、アクリル系樹脂およびポリオルガノシロキサンよりなる群から選択される少なくとも１種の有機高分子からなるものであることができる。本発明における液晶配向膜としては、ポリアミック酸、およびポリアミック酸のイミド化重合体よりなる群から選択される少なくとも１種を含む有機高分子からなる液晶配向膜であることが好ましい。このような液層配向膜は、基板上に上記の好ましい有機高分子を含有する液晶配向剤を塗布して塗膜を形成し、次いで該塗膜を加熱する工程を経ることにより、形成することができる。
以下、本発明における好ましい液晶配向膜を形成するための液晶配向剤について説明する。
【００１４】
上記ポリアミック酸は、テトラカルボン酸二無水物とジアミンとを反応させることにより得ることができる。このポリアミアック酸を脱水閉環することにより、上記イミド化重合体を得ることができる。
上記テトラカルボン酸二無水物としては、例えば脂肪族テトラカルボン酸二無水物、脂環式テトラカルボン酸二無水物、芳香族テトラカルボン酸二無水物などを挙げることができる。これらの具体例としては、脂肪族テトラカルボン酸二無水物として、例えばブタンテトラカルボン酸二無水物などを；
脂環式テトラカルボン酸二無水物として、例えば１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−８−メチル−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン、３−オキサビシクロ［３．２．１］オクタン−２，４−ジオン−６−スピロ−３’−（テトラヒドロフラン−２’，５’−ジオン）、５−（２，５−ジオキソテトラヒドロ−３−フラニル）−３−メチル−３−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸無水物、３，５，６−トリカルボキシ−２−カルボキシメチルノルボルナン−２：３，５：６−二無水物、２，４，６，８−テトラカルボキシビシクロ［３．３．０］オクタン−２：４，６：８−二無水物、４，９−ジオキサトリシクロ［５．３．１．０２，６］ウンデカン−３，５，８，１０−テトラオンなどを；
芳香族テトラカルボン酸二無水物として、例えばピロメリット酸二無水物などを、それぞれ挙げることができる。
【００１５】
上記ポリアミック酸を合成するために用いられるテトラカルボン酸二無水物としては、これらのうち、脂環式テトラカルボン酸二無水物を含むものであることが好ましく、さらに、２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物および１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物よりなる群から選択される少なくとも１種を含むものであることが好ましい。
上記ポリアミック酸を合成するために用いられるテトラカルボン酸二無水物としては、２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物および１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物よりなる群から選択される少なくとも１種を、全テトラカルボン酸二無水物に対して、１０モル％以上含むものであることが好ましく、２０モル％以上含むものであることがより好ましく、２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物および１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物よりなる群から選択される少なくとも１種のみからなるものであることが、最も好ましい。
【００１６】
上記ジアミンとしては、例えばフルオレン構造を有するジアミン、９，１０−ジヒドロアントラセン構造を有するジアミン、脂肪族ジアミン、脂環式ジアミン、芳香族ジアミン、ジアミノオルガノシロキサンなどを挙げることができる。
上記フルオレン構造を有するジアミンとしては、例えば２，７−ジアミノフルオレン、下記式（１）で表される化合物などを；
９，１０−ジヒドロアントラセン構造を有するジアミンとしては、例えば下記式（２）で表される化合物などを、それぞれ挙げることができる。
【００１７】
【化１】
2012215834.tif 000003
【００１８】
（式（１）および（２）中のＲ１は、それぞれ、単結合、フェニレン基、基−Ｐｈ−Ｏ−（ただし、Ｐｈはフェニレン基であり、結合の方向は問わない。）であり； 
Ｒ２は、それぞれ、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシル基またはハロゲン原子であり；
ａは、それぞれ、０〜４の整数であり；そして
複数のａおよび複数のＲ１ならびに存在する場合には複数のＲ２は、それぞれ同一であっても相違していてもよい。）
上記式（１）で表される化合物としては、例えば下記式（１−１）〜（１−３）のそれぞれで表される化合物などを；
上記式（２）で表される化合物としては、例えば（２−１）〜（２−３）のそれぞれで表される化合物などを、それぞれ挙げることができる。
【００１９】
【化２】
2012215834.tif 000004
【００２０】
【化３】
2012215834.tif 000005
【００２１】
上記以外のジアミンとしては、脂肪族ジアミンとして、例えば１，１−メタキシリレンジアミン、１，３−プロパンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミンなどを；
脂環式ジアミンとして、例えば１，４−ジアミノシクロヘキサン、４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルアミン）、１，３−ビス（アミノメチル）シクロヘキサンなどを；
芳香族ジアミンとして、例えばｐ−フェニレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルスルフィド、１，５−ジアミノナフタレン、２，２’−ジメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、４，４’−ジアミノ−２，２’−ビス（トリフルオロメチル）ビフェニル、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、４，４’−（ｐ−フェニレンジイソプロピリデン）ビスアニリン、４，４’−（ｍ−フェニレンジイソプロピリデン）ビスアニリン、４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニル、２，６−ジアミノピリジン、３，４−ジアミノピリジン、２，４−ジアミノピリミジン、３，６−ジアミノアクリジン、３，６−ジアミノカルバゾール、Ｎ−メチル−３，６−ジアミノカルバゾール、Ｎ−エチル−３，６−ジアミノカルバゾール、Ｎ−フェニル−３，６−ジアミノカルバゾール、１，４−ビス−（４−アミノフェニル）−ピペラジン、３，５−ジアミノ安息香酸、１，１−ビス（４−（（アミノフェニル）メチル）フェニル）−４−ブチルシクロヘキサン、１，１−ビス（４−（（アミノフェニル）メチル）フェニル）−４−ヘプチルシクロヘキサン、１，１−ビス（４−（（アミノフェノキシ）メチル）フェニル）−４−ヘプチルシクロヘキサン、１，１−ビス（４−（（アミノフェニル）メチル）フェニル）−４−（４−ヘプチルシクロヘキシル）シクロヘキサン、ならびにフルオレン構造を有するジアミンおよび９，１０−ジヒドロアントラセン構造を有するジアミンなどを；
ジアミノオルガノシロキサンとして、例えば１，３−ビス（３−アミノプロピル）−テトラメチルジシロキサンなどを、それぞれ挙げることができる。
【００２２】
上記ジアミンとしては、フルオレン構造を有するジアミンおよび９，１０−ジヒドロアントラセン構造を有するジアミンよりなる群から選択される少なくとも１種を含むものであることが好ましい。上記ジアミンにおけるフルオレン構造を有するジアミンおよび９，１０−ジヒドロアントラセン構造を有するジアミンよりなる群から選択される少なくとも１種の割合としては、全ジアミンに対して、５０モル％以上とすることが好ましく、７０モル％以上とすることがより好ましく、特に９０モル％以上とすることが好ましい。もっとも好ましくは、ジアミンとして、フルオレン構造を有するジアミンおよび９，１０−ジヒドロアントラセン構造を有するジアミンよりなる群から選択される少なくとも１種のみを使用することである。
【００２３】
また、ポリアミアック酸およびそのイミド化重合体の原料としてのテトラカルボン酸二無水物およびジアミンは、それぞれ、ステロイド骨格を有する基、（アルキル）ビシクロへキシル基、（アルキル）ビフェニル基、（アルキル）シクロヘキシルフェニル基、炭素数４以上のアルキル基、炭素数２以上のフルオロアルキル基、シアノ基およびフッ素原子のいずれも有さないものであることが好ましい。
ポリアミック酸を合成するにあたっては、テトラカルボン酸二無水物とジアミンとの使用割合を、ジアミンのアミノ基１当量に対して、テトラカルボン酸二無水物の酸無水物基が０．２〜２当量となる割合とすることが好ましく、さらに好ましくは０．３〜１．２当量となる割合である。
ポリアミック酸の合成反応は、好ましくは有機溶媒中において、好ましくは−２０℃〜１５０℃、より好ましくは０〜１００℃において、好ましくは０．１〜２４時間、より好ましくは０．５〜１２時間行われる。
ここで、有機溶媒としては、例えば非プロトン性極性溶媒、フェノールおよびその誘導体、アルコール、ケトン、エステル、エーテル、ハロゲン化炭化水素、炭化水素などを挙げることができる。有機溶媒の具体例としては、例えばＮ−メチルピロリドン、γ−ブチロラクトン、ブチルセロソルブ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルイミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホルトリアミドなどを挙げることができ、これらのうちから選択される１種以上を好ましく使用することができる。
【００２４】
上記の如くして得られるポリアミック酸を脱水閉環してイミド化することにより、ポリアミック酸のイミド化重合体を得ることができる。
ポリアミック酸の脱水閉環は、好ましくはポリアミック酸を加熱する方法により、またはポリアミック酸を有機溶媒に溶解した溶液中に脱水剤および脱水閉環触媒を添加し必要に応じて加熱する方法により行われる。このうち、後者の方法によることが好ましい。
上記ポリアミック酸の溶液中に脱水剤および脱水閉環触媒を添加する方法において、脱水剤としては、例えば無水酢酸、無水プロピオン酸、無水トリフルオロ酢酸などの酸無水物を用いることができる。脱水剤の使用割合は、ポリアミック酸のアミック酸構造の１モルに対して０．０１〜２０モルとすることが好ましい。脱水閉環触媒としては、例えばピリジン、コリジン、ルチジン、トリエチルアミンなどの３級アミンを用いることができる。脱水閉環触媒の使用割合は、使用する脱水剤１モルに対して０．０１〜１０モルとすることが好ましい。
脱水閉環反応に用いられる有機溶媒としては、ポリアミック酸の合成に用いられるものとして例示した有機溶媒を挙げることができる。
脱水閉環反応の反応温度は好ましくは０〜１８０℃であり、より好ましくは１０〜１５０℃である。反応時間は好ましくは１．０〜１２０時間であり、より好ましくは２．０〜３０時間である。
【００２５】
本発明における液晶配向剤は、上記のようなポリアミック酸、およびポリアミック酸のイミド化重合体よりなる群から選択される少なくとも１種を含む有機高分子を含有するものであることが好ましく、
テトラカルボン酸二無水物と、フルオレン構造を有するジアミンおよび９，１０−ジヒドロアントラセン構造を有するジアミンよりなる群から選択される少なくとも１種を含むジアミンと、を反応させて得られるポリアミック酸、ならびに前記ポリアミック酸のイミド化重合体よりなる群から選択される少なくとも１種（以下、「特定重合体」ともいう。）を含む有機高分子を含有するものであることがより好ましい。
有機重合体が特定重合体以外の他の重合体を含有する場合、他の重合体としては、例えば特定重合体以外のポリアミック酸、該ポリアミック酸のイミド化重合体およびポリオルガノシロキサンよりなる群から選択される少なくとも１種であることが好ましい。
本発明における液晶配向剤における特定重合体の含有割合としては、液晶配向剤中の有機高分子の全量に対して、好ましくは５０重量％以上であり、より好ましくは８０重量％以上であり、さらに好ましくは１００重量％である。
【００２６】
本発明における液晶配向剤は、上記の如き有機高分子を適当な溶媒に溶解した溶液として調製されることが好ましい。上記溶媒としては、例えば非プロトン性極性溶媒、フェノールおよびその誘導体、アルコール、ケトン、エステル、エーテル、ハロゲン化炭化水素、炭化水素などから選択される少なくとも１種を使用することができ、特に好ましくはＮ−メチルピロリドン、ブチルセロソルブ、γ−ブチロラクトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルイミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、テトラメチル尿素およびヘキサメチルホスホルトリアミドよりなる群から選択される１種以上を使用することが好ましい。
液晶配向剤における有機高分子の含有割合としては、１〜１０重量％とすることが好ましく、１．５〜９重量％とすることがより好ましい。
【００２７】
本発明の液晶表示素子における液晶配向膜を形成するには、
コモン電極、絶縁層および信号電極がこの順で形成された基板の信号電極上に、
上記の如き液晶配向剤を塗布して塗膜を形成し、次いで該塗膜を加熱する工程を経る方法によることができる。ここで、液晶配向剤の塗膜を基板の「信号電極上に」形成するとは、必ずしもその字義通りの意味に解釈するべきではない。例えば上記信号電極が複数の櫛歯を有する櫛状電極である場合には、櫛歯と隣接する他の櫛歯との間隙には絶縁層が露出しているから、上記の文言にかかわらず、液晶配向膜が信号電極上に形成されている領域と絶縁層上に形成されている領域とからなる場合を包含することは、当業者には自明であろう。
基板の信号電極上に液晶配向剤を塗布する方法としては、例えばロールコーター法、スピンナー法、印刷法、インクジェット法などの適宜の塗布方法を挙げることができる。
形成された塗膜は、好ましくは予備加熱（プレベーク）し、次いで焼成（ポストベーク）することにより有機膜とすることができる。プレベーク条件は、例えば４０〜１２０℃において０．１〜５分であり、ポストベーク条件は、好ましくは１２０〜３００℃、より好ましくは１５０〜２５０℃において、好ましくは５〜２００分、より好ましくは１０〜１００分である。
ポストベーク後の有機膜の膜厚は、好ましくは０．００１〜１μｍであり、より好ましくは０．００５〜０．５μｍである。
液晶配向剤の塗布に際しては、信号電極または絶縁層と、形成される液晶配向膜との接着性をさらに良好にするために、信号電極および絶縁層上に、予め官能性シラン化合物、チタネート化合物などを塗布して加熱する前処理を施しておいてもよい。
このようにして形成された液晶配向膜に、公知の方法によりラビング処理を施してもよいが、本発明の効果を最大限に発揮するためには、ラビング処理は行わないことが好ましい。
【００２８】
本発明の液晶表示素子は、上記のようにしてコモン電極、絶縁層、信号電極および液晶配向膜がこの順で形成された基板と、これらの電極などを有さない基板（対向基板）とを一対として用い、該一対の基板間に液晶層が挟持されて構成される。ここで、コモン電極などが形成された基板は、これらが形成された面の側が液晶層に向くように使用される。
対向基板は、液晶配向膜を有していても有していなくともよい。対向基板上に液晶配向膜を形成するには、基板としてコモン電極などが形成されていないものを用いるほかは、上述したところと同様にして行うことができる。対向基板は、液晶配向膜を有していることが好ましい。
本発明の液晶表示素子における液晶層は、ポジ型液晶からなる。このポジ型液晶としては、棒状のポジ型液晶が好ましい。
液晶層の厚さ（信号電極と対向基板との距離）は、３〜１０μｍとすることが好ましい。
【００２９】
このような液晶表示素子を製造するには、例えば以下の２つの方法が挙げられる。
第一の方法は、先ず一対の基板を間隙（セルギャップ）を介して対向配置し、２枚の基板の周辺部をシール剤を用いて貼り合わせる。このとき、基板上に液晶配向膜などが形成されている基板の場合、その面が対向配置の内側を向くようにする。そして、基板表面およびシール剤により区画されたセルギャップ内にポジ型液晶を注入充填した後、注入孔を封止する方法であり、これにより、液晶表示素子を製造することができる。
第二の方法は、一対の基板のうちの一方の基板上（基板上に液晶配向膜などが形成されている基板の場合にはその面）の所定の場所に例えば紫外光硬化性のシール材を塗布し、さらに基板面（または液晶配向膜の面）上の所定の数箇所にポジ型液晶を滴下した後、他方の基板を（基板上に液晶配向膜などが形成されている基板の場合にはその面が下方となるように）貼り合わせるとともにポジ型液晶を基板の全面に押し広げ、次いで透明基板の全面に紫外光を照射してシール剤を硬化することにより、液晶表示素子を製造することができる。
そして、上記一対の基板の各外側表面に、好ましくは偏光板を貼り合わせる。
上記シール剤としては、例えばスペーサーとしての酸化アルミニウム球および硬化剤を含有するエポキシ樹脂などを用いることができる。
一対の基板の各外側表面に貼付される偏光板としては、ポリビニルアルコールを延伸配向させながらヨウ素を吸収させた「Ｈ膜」と呼ばれる偏光膜を酢酸セルロース保護膜で挟んだ偏光板、またはＨ膜そのものからなる偏光板などを挙げることができる。
本発明の液晶表示素子のうち、上記で説明した以外の事項については、先行技術文献に記載されたところと同様の態様、またはこれに当業者に自明のもしくは通常の想像力を発揮した結果による変更を加えた態様とすることができる。
【実施例】
【００３０】
合成例１
２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物４４．８３ｇ（０．２０モル）および上記式（１−１）で表される化合物６９．６９ｇ（０．２０モル）をγ−ブチロラクトン５６５ｇに溶解し、６０℃において６時間反応を行った。
得られた反応溶液を大過剰のメタノールに注いで反応生成物を沈澱させた後、沈殿物を回収してメチルアルコールで洗浄し、減圧下４０℃において１５時間乾燥することにより、ポリアミック酸１１２．３ｇを得た。このポリアミック酸の対数粘度（ηｌｎ）は１．２２ｄｌ／ｇであった
上記で得られたポリアミック酸のうちの４０．０ｇをγ−ブチロラクトン８００ｇに溶解した溶液に、ピリジン３５．２ｇおよび無水酢酸２７．６ｇを添加して、１１０℃において４時間脱水閉環反応（イミド化反応）を行った。次いで、上記ポリアミック酸の場合と同様にして、反応生成物の沈殿・分離・洗浄・乾燥を行うことにより、イミド化重合体（ＰＩ−１）３８．５ｇを得た。このイミド化重合体（ＰＩ−１）の対数粘度（ηｌｎ）は１．２３ｄｌ／ｇであった。
【００３１】
合成例２
上記合成例１において、上記式（１−１）で表される化合物に代えて上記式（１−２）で表される化合物７５．２９ｇ（０．２０モル）を使用したほかは合成例１と同様にして、対数粘度（ηｌｎ）が１．０８ｄｌ／ｇであるポリアミック酸１０７．８ｇを得た。
次いで、上記ポリアミック酸のうちの４０．０ｇを使用したほかは合成例１と同様に脱水閉環反応を行うことにより、イミド化重合体（ＰＩ−２）３７．５ｇを得た。このイミド化重合体（ＰＩ−２）の対数粘度（ηｌｎ）は１．１３ｄｌ／ｇであった。
合成例３
上記合成例１において、上記式（１−１）で表される化合物に代えて上記式（１−２）であらわされる化合物６０．２３ｇ（０．１６モル）およびｐ−フェニレンジアミン４．３２ｇ（０．０４モル）を使用したほかは合成例１と同様にして、対数粘度１．１５ｄｌ／ｇであるポリアミック酸１０７．２ｇを得た。
次いで、上記ポリアミック酸のうち４０．０ｇを使用したほかは合成例１と同様に脱水閉環反応を行うことにより、イミド化重合体（ＰＩ−３）３８．０ｇを得た。このイミド化重合体（ＰＩ−３）の対数粘度は１．１７ｄｌ／ｇであった。
【００３２】
比較合成例１
上記合成例１において、上記式（１−１）で表される化合物に代えて、ｐ−フェニレンジアミン１０．８ｇ（０．１０モル）および３，５−ジアミノ安息香酸３−コレスタニル５２．３ｇ（０．１０モル）を使用したほかは合成例１と同様にして、対数粘度（ηｌｎ）が１．２３ｄｌ／ｇであるポリアミック酸１０５．７ｇを得た。
次いで、上記ポリアミック酸のうちの４０．０ｇを使用したほかは合成例１と同様に脱水閉環反応を行うことにより、イミド化重合体（ｐｉ−１）３８．０ｇを得た。このイミド化重合体（ｒｐｉ−１）の対数粘度（ηｌｎ）は１．３４ｄｌ／ｇであった。
比較合成例２
上記合成例１において、上記式（１−１）で表される化合物に代えてｐ−フェニレンジアミン２０．１６ｇ（０．２０モル）を使用したほかは合成例１と同様にして、対数粘度１．２５ｄｌ／ｇであるポリアミック酸６３．７ｇを得た。
次いで、上記ポリアミック酸のうち４０．０ｇを使用したほかは合成例１と同様に脱水閉環反応を行うことにより、イミド化重合体（ｒｐｉ−２）３７．８ｇを得た。このイミド化重合体（ｒｐｉ−２）の対数粘度は１．２８ｄｌ／ｇであった。
【００３３】
実施例
以下の実施例において、本発明の液晶表示素子を製造してその動作確認を行った。
図３に、実施例および比較例で製造した液晶表示素子の構造を説明するための断面図を示した。この液晶表示素子は、コモン電極、絶縁層、信号電極および液晶配向膜がこの順で形成された基板と、液晶配向膜のみが形成された対向基板と、に液晶層が挟持されてなる。
この液晶表示素子の信号電極は、直線状の櫛歯を有する櫛状電極である。コモン電極はパターンを有さない「ベタ膜」である。
この液晶表示素子は、基板の外側両面に、それぞれ偏光板（図示せず）が配置されており、図３における下側の基板の下方にバックライト（図示せず）を配置して、これと組み合わせて使用される。
【００３４】
実施例１
＜液晶配向剤の調製＞
有機高分子として上記合成例１で得たイミド化重合体（ＰＩ−１）を、Ｎ−メチルピロリドン５０重量部およびブチルセロソルブ５０重量部からなる混合溶媒に溶解し、重合体濃度３重量％の溶液とした。この溶液を孔径０．２μｍのフィルターでろ過することにより、液晶配向剤を調製した。
＜液晶配向膜の形成＞
コモン電極、絶縁層および信号電極がこの順で形成された基板の電極等形成面、ならびにこれらが形成されていない対向基板の片面に、それぞれ、スピンナーを用いて上記の液晶配向剤を塗布して塗膜を形成し、該塗膜を８０℃において１分間プレベークし、次いで２００℃において１時間ポストベークを行うことにより、平均膜厚６００Åの液晶配向膜を形成した。
＜液晶表示素子の製造＞
上記のようにしてそれぞれ液晶配向膜が形成された一対の基板を、液晶配向膜面が相対するように厚さ１０μｍのスペーサーを介して対向配置した後、液晶注入口を残して側面をシールした。液晶注入口から、棒状のポジ型液晶を注入した後、液晶注入口を封止した。
次いで、両基板の外側面にそれぞれ偏光板を貼付することにより、ＦＦＳモードの液晶表示素子を製造した。ここで、２枚の偏光板は、その偏光方向が互いに直交し、且つ信号電極の有する櫛歯の方向と平行または垂直となるように貼付した。
＜液晶表示素子の動作確認＞
上記で製造した液晶表示素子につき、電圧無印加時の可視光線透過率と、コモン電極と信号電極との間に交流５Ｖの電圧を印加したときの可視光線透過率とを測定した。結果は表１に示した。
さらに、駆動時における信号電極の櫛歯近傍の光漏れの有無を目視で調べたところ、光漏れは観察されず、リバースプレチルト不良が起こっていないことが推測された。
【００３５】
実施例２および３ならびに比較例１および２
上記実施例１の＜液晶配向剤の調製＞において、有機高分子として表１に記載したものをそれぞれ使用したほかは、実施例１と同様にして液晶配向剤を調製し、これを用いて液晶表示素子を製造して動作確認を行った。
結果は表１に示した。
【００３６】
【表１】
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【図１】
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【図２】
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【図３】
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