(57)【要約】      （修正有）【課題】液晶装置等の電気光学装置において、明るく高品質な画像を表示する。【解決手段】電気光学装置は、複数の画素からなる表示領域に入射する光を変調して出射する。電気光学装置は、電気光学物質５０と、光の入射側に配置されており、複数の画素の各々に対応して設けられた第１の集光レンズ２１０と、光の出射側に配置されており、複数の画素の各々に対応して設けられた第２の集光レンズ２２０とを備える。第１の集光レンズの集光度は、第２の集光レンズの集光度よりも大きく、第１の集光レンズと電気光学物質との距離は、第２の集光レンズと電気光学物質との距離よりも小さい。【選択図】図５
2012141343.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画素からなる表示領域に入射する光を変調して出射する電気光学装置であって、
電気光学物質と、
前記光の入射側に配置されており、前記複数の画素の各々に対応して設けられた第１の集光レンズと、
前記光の出射側に配置されており、前記複数の画素の各々に対応して設けられた第２の集光レンズと
を備え、
前記第１の集光レンズの集光度は、前記第２の集光レンズの集光度よりも大きく、
前記第１の集光レンズと前記電気光学物質との距離は、前記第２の集光レンズと前記電気光学物質との距離よりも小さい
ことを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記第１の集光レンズのレンズ有効径は、前記第２の集光レンズのレンズ有効径よりも大きいことを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記電気光学物質を挟持する一対の基板を備え、
前記第１の集光レンズは、前記一対の基板のうち、前記光の入射側の基板に内装されており、
前記第２の集光レンズは、前記一対の基板のうち、前記光の出射側の基板に内装されている
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の電気光学装置。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか一項に記載の電気光学装置を具備してなることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば液晶表示装置等の電気光学装置、及び該電気光学装置を備えた、例えば液晶プロジェクター等の電子機器の技術分野に関する。
【背景技術】
【０００２】
この種の電気光学装置として、例えば複数の画素の各々に対応するマイクロレンズを用いて、表示に用いられる光の利用効率を高めようとするものがある。例えば特許文献１では、光の入射側の基板及び出射側の基板に夫々マイクロレンズを設けるという技術が開示されている。
【０００３】
上述した光の入射側及び出射側にマイクロレンズを設けた電気光学装置では、入射側のマイクロレンズで集光された光が、出射側のマイクロレンズにおいて発散されてしまうという問題が起こり得る。このため、例えば特許文献２では、光の入射側のマイクロレンズの焦点距離を、出射側のマイクロレンズの焦点距離より大きくするという技術が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特許第４２０７５９９号公報
【特許文献２】特許第２５５２３８９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上述した特許文献２では、光の入射側及び出射側に設けられた２つのマイクロレンズの焦点距離については言及しているものの、互いの位置関係が具体的に記載されていない。このため、仮に２つのマイクロレンズの焦点距離を適切に調整したとしても、出射側のマイクロレンズにおける光の発散を抑制することができないおそれがある。即ち、特許文献２に係る技術には、表示画像の品質を必ずしも高めることができないという技術的問題点がある。
【０００６】
本発明は、例えば上述した問題点に鑑みなされたものであり、明るく高品質な画像を表示することが可能な電気光学装置及び電子機器を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の電気光学装置は上記課題を解決するために、複数の画素からなる表示領域に入射する光を変調して出射する電気光学装置であって、電気光学物質と、前記光の入射側に配置されており、前記複数の画素の各々に対応して設けられた第１の集光レンズと、前記光の出射側に配置されており、前記複数の画素の各々に対応して設けられた第２の集光レンズとを備え、前記第１の集光レンズの集光度は、前記第２の集光レンズの集光度よりも大きく、前記第１の集光レンズと前記電気光学物質との距離は、前記第２の集光レンズと前記電気光学物質との距離よりも小さい。
【０００８】
本発明の電気光学装置によれば、その動作時には、先ず複数の画素からなる表示領域に対して、例えば白色光源等から照射される光が入射される。表示領域に入射した光は、複数の画素の各々において、例えば液晶等の電気光学物質を透過し、該電気光学物質の状態に応じて変調される。このため、表示領域から出射した光を用いて画像を表示することができる。
【０００９】
電気光学物質は、例えば画素電極や画素トランジスター等の各種電極や配線を有する素子基板、及び対向電極を有する対向基板である一対の基板間に挟持されている。電気光学物質から見て光の入射側には、複数の画素の各々に対応して設けられた第１の集光レンズが配置されている。また、電気光学物質から見て光の出射側には、複数の画素の各々に対応して設けられた第２の集光レンズが配置されている。尚、第１の集光レンズ及び第２の集光レンズは、上述した一対の基板に内装されていてもよいし、一対の基板とは別体として設けられていてもよい。
【００１０】
ここで特に、第１の集光レンズの集光度は、第２の集光レンズの集光度よりも大きくなるように設定されている。尚、ここでの「集光度」とは、入射した光を一点に集める度合いを意味しており、大きい方が、焦点における光束が小さくなる。また、第１の集光レンズと電気光学物質との距離は、第２の集光レンズと電気光学物質との距離よりも小さくなるよう設定されている。即ち、第１の集光レンズは、第２の集光レンズと比べて、電気光学物質に近い位置に配置されている。
【００１１】
上述した構成によれば、装置に入射された光は、先ず第１の集光レンズによって集光されることになる。第１の集光レンズは、第２の集光レンズと比べて集光度が高く、電気光学物質との距離も近いため、入射する光を複数の画素の各々に対して適切に集光することができる。よって、例えば各画素を規定するブラックマトリクス等によって光が遮断されてしまうことを抑制でき、光の利用効率を高めることができる。
【００１２】
第１の集光レンズによって集光された光は、電気光学物質を通過した後、第２の集光レンズによって集光される。第２の集光レンズは、第１の集光レンズと比べて集光度が低く、電気光学物質との距離も遠いため、第１の集光レンズで集光された後に発散する光を好適に集光し、画像を投影するための投影レンズ等に対して出射させることができる。第２の集光レンズによれば、例えば投影レンズのＦ値等から外れないような光を出射させることができるため、光の利用効率を更に高めることができる。
【００１３】
ここで仮に、第１の集光レンズ及び第２の集光レンズが、互いに同じ条件（即ち、集光度が同じで、電気光学物質からの距離も同じ状態）で設けられているとする。この場合、第２集光レンズに入射する光は完全な平行光ばかりではないので、第２集光レンズによって十分に集光できない、或いは発散されてしまうおそれがある。このように発散されてしまった光は、投影レンズのＦ値等から外れてしまい、結果的に画像の明るさを低下させてしまう原因となる。
【００１４】
しかるに本発明では、上述したように、第１の集光レンズの集光度が、第２の集光レンズの集光度よりも大きくなるように設定されており、第１の集光レンズと電気光学物質との距離が、第２の集光レンズと電気光学物質との距離よりも小さくなるよう設定されている。従って、第１の集光レンズ及び第２の集光レンズにおいて適切な集光を実現することができ、装置に入射される光の利用効率を効果的に高めることができる。
【００１５】
尚、本発明は、例えばＬＥＤ（Light Emitting Diode）光源のように、照射される光の角度分布が広い光源を用いる場合に、その効果が顕著に発揮される。
【００１６】
以上説明したように、本発明の電気光学装置によれば、明るく高品質な画像を表示させることが可能である。
【００１７】
本発明の電気光学装置の一態様では、前記第１の集光レンズのレンズ有効径は、前記第２の集光レンズのレンズ有効径よりも大きい。
【００１８】
この態様によれば、第１の集光レンズの集光度を、第２の集光レンズの集光度よりも大きくすることが容易である。具体的には、第１の集光レンズ及び第２の集光レンズの形状を互いに異なるものとするのではなく、レンズ有効径を調整することで、集光度の違う２つのレンズを実現できる。従って、製造プロセスを高度複雑化させることなく、明るく高品質な画像表示を実現することが可能となる。
【００１９】
本発明の電気光学装置の他の態様では、前記電気光学物質を挟持する一対の基板を備え、前記第１の集光レンズは、前記一対の基板のうち、前記光の入射側の基板に内装されており、前記第２の集光レンズは、前記一対の基板のうち、前記光の出射側の基板に内装されている。
【００２０】
この態様によれば、第１の集光レンズ及び第２の集光レンズが、電気光学物質を挟持する一対の基板に内装されているため、第１の集光レンズ及び第２の集光レンズと、電気光学物質或いは一対の基板上の各部材との位置調整が極めて容易となる。従って、製造プロセスを高度複雑化させることなく、明るく高品質な画像表示を実現することが可能となる。
【００２１】
本発明の電子機器は上記課題を解決するために、上述した本発明の電気光学装置（但し、その各種態様も含む）を備える。
【００２２】
本発明の電子機器によれば、上述した本発明に係る電気光学装置を具備してなるので、高品質な表示を行うことが可能な、投射型表示装置、テレビ、携帯電話、電子手帳、ワードプロセッサー、ビューファインダー型又はモニター直視型のビデオテープレコーダー、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルなどの各種電子機器を実現できる。また、本発明の電子機器として、例えば電子ペーパーなどの電気泳動装置等も実現することも可能である。
【００２３】
本発明の作用及び他の利得は次に説明する発明を実施するための形態から明らかにされる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】実施形態に係る電気光学装置の全体構成を示す平面図である。
【図２】図１のＨ−Ｈ´線断面図である。
【図３】実施形態に係る電気光学装置の複数の画素における各種素子、配線等の等価回路図である。
【図４】マイクロレンズの配置位置を示す側面図である。
【図５】マイクロレンズから出射する光が投射レンズに入射する様子を概念的に示す拡大側面図（その１）である。
【図６】マイクロレンズから出射する光が投射レンズに入射する様子を概念的に示す拡大側面図（その２）である。
【図７】比較例に係るマイクロレンズの構成を示す拡大側面図である。
【図８】電気光学装置を適用した電子機器の一例たるプロジェクターの構成を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下では、本発明の実施形態について図を参照しつつ説明する。
【００２６】
＜電気光学装置＞
本実施形態に係る電気光学装置について図１から図７を参照して説明する。尚、以下の実施形態では、本発明の電気光学装置の一例として駆動回路内蔵型のＴＦＴ（Thin Film Transistor）アクティブマトリクス駆動方式の液晶装置を挙げて説明する。
【００２７】
＜第１実施形態＞
先ず、本実施形態に係る電気光学装置の全体構成について、図１及び図２を参照して説明する。ここに図１は、本実施形態に係る電気光学装置の全体構成を示す平面図であり、図２は、図１のＨ−Ｈ´線断面図である。
【００２８】
図１及び図２において、本実施形態に係る電気光学装置では、本発明の「一対の基板」の一例ダルＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とが対向配置されている。ＴＦＴアレイ基板１０は、例えば石英基板、ガラス基板等の透明基板や、シリコン基板等である。対向基板２０は、例えば石英基板、ガラス基板等の透明基板である。ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間には、本発明の「電気光学物質」の一例である液晶層５０が封入されている。液晶層５０は、例えば一種又は数種類のネマティック液晶を混合した液晶からなり、一対の配向膜間で所定の配向状態をとる。
【００２９】
ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とは、複数の画素がマトリクス状に設けられた画像表示領域１０ａの周囲に位置するシール領域に設けられたシール材５２により、相互に接着されている。
【００３０】
シール材５２は、両基板を貼り合わせるための、例えば紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂等からなり、製造プロセスにおいてＴＦＴアレイ基板１０上に塗布された後、紫外線照射、加熱等により硬化させられたものである。シール材５２中には、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間隔（即ち、基板間ギャップ）を所定値とするためのグラスファイバー或いはガラスビーズ等のギャップ材が散布されている。尚、ギャップ材を、シール材５２に混入されるものに加えて若しくは代えて、画像表示領域１０ａ又は画像表示領域１０ａの周辺に位置する周辺領域に、配置するようにしてもよい。
【００３１】
シール材５２が配置されたシール領域の内側に並行して、画像表示領域１０ａの額縁領域を規定する遮光性の額縁遮光膜５３が、対向基板２０側に設けられている。尚、このような額縁遮光膜５３の一部又は全部は、ＴＦＴアレイ基板１０側に内蔵遮光膜として設けられてもよい。
【００３２】
周辺領域のうち、シール材５２が配置されたシール領域の外側に位置する領域には、データ線駆動回路１０１及び外部回路接続端子１０２がＴＦＴアレイ基板１０の一辺に沿って設けられている。走査線駆動回路１０４は、この一辺に隣接する２辺に沿い、且つ、額縁遮光膜５３に覆われるようにして設けられている。更に、このように画像表示領域１０ａの両側に設けられた二つの走査線駆動回路１０４間をつなぐため、ＴＦＴアレイ基板１０の残る一辺に沿い、且つ、額縁遮光膜５３に覆われるようにして複数の配線１０５が設けられている。
【００３３】
ＴＦＴアレイ基板１０上における対向基板２０の４つのコーナー部に対向する領域には、両基板間を上下導通材で接続するための上下導通端子１０６が配置されている。これらにより、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間で電気的な導通をとることができる。
【００３４】
図２において、ＴＦＴアレイ基板１０上には、駆動素子である画素スイッチング用のＴＦＴや走査線、データ線等の配線が作り込まれた積層構造が形成される。この積層構造の詳細な構成については図２では図示を省略してあるが、この積層構造の上に、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明材料からなる画素電極９ａが、画素毎に所定のパターンで島状に形成されている。
【００３５】
画素電極９ａは、対向電極２１に対向するように、ＴＦＴアレイ基板１０上の画像表示領域１０ａに形成されている。ＴＦＴアレイ基板１０における液晶層５０の面する側の表面、即ち画素電極９ａ上には、配向膜１６が画素電極９ａを覆うように形成されている。
【００３６】
対向基板２０におけるＴＦＴアレイ基板１０との対向面上には、遮光膜２３が形成されている。遮光膜２３は、例えば対向基板２０における対向面上に平面的に見て、格子状に形成されている。対向基板２０において、遮光膜２３によって非開口領域が規定され、遮光膜２３によって区切られた領域が、例えばプロジェクター用のランプや直視用のバックライトから出射された光を透過させる開口領域となる。尚、遮光膜２３をストライプ状に形成し、該遮光膜２３と、ＴＦＴアレイ基板１０側に設けられたデータ線等の各種構成要素とによって、非開口領域を規定するようにしてもよい。
【００３７】
遮光膜２３上には、ＩＴＯ等の透明材料からなる対向電極２１が複数の画素電極９ａと対向するように形成されている。また遮光膜２３上には、画像表示領域１０ａにおいてカラー表示を行うために、開口領域及び非開口領域の一部を含む領域に、図２には図示しないカラーフィルターが形成されるようにしてもよい。対向基板２０の対向面上における、対向電極２１上には、配向膜２２が形成されている。
【００３８】
尚、図１及び図２に示したＴＦＴアレイ基板１０上には、上述したデータ線駆動回路１０１、走査線駆動回路１０４等の駆動回路に加えて、画像信号線上の画像信号をサンプリングしてデータ線に供給するサンプリング回路、複数のデータ線に所定電圧レベルのプリチャージ信号を画像信号に先行して各々供給するプリチャージ回路、製造途中や出荷時の当該電気光学装置の品質、欠陥等を検査するための検査回路等を形成してもよい。
【００３９】
また、ここでの図示は省略しているが、本実施形態に係る電気光学装置には、上述した各部材に加えて入射した光を集光するためのマイクロレンズが設けられる。このマイクロレンズの構成については、後に詳述する。
【００４０】
次に、本実施形態に係る電気光学装置の画素部の電気的な構成について、図３を参照して説明する。ここに図３は、本実施形態に係る電気光学装置の画像表示領域を構成するマトリクス状に形成された複数の画素における各種素子、配線等の等価回路図である。
【００４１】
図３において、画像表示領域１０ａを構成するマトリクス状に形成された複数の画素の各々には、画素電極９ａ及びＴＦＴ３０が形成されている。ＴＦＴ３０は、画素電極９ａに電気的に接続されており、本実施形態に係る電気光学装置の動作時に画素電極９ａをスイッチング制御する。画像信号が供給されるデータ線６ａは、ＴＦＴ３０のソースに電気的に接続されている。データ線６ａに書き込む画像信号Ｓ１、Ｓ２、・・・、Ｓｎは、この順に線順次に供給しても構わないし、相隣接する複数のデータ線６ａ同士に対して、グループ毎に供給するようにしてもよい。
【００４２】
ＴＦＴ３０のゲートには、走査線３ａが電気的に接続されており、本実施形態に係る電気光学装置は、所定のタイミングで、走査線３ａにパルス的に走査信号Ｇ１、Ｇ２、・・・、Ｇｍを、この順に線順次で印加するように構成されている。画素電極９ａは、ＴＦＴ３０のドレインに電気的に接続されており、スイッチング素子であるＴＦＴ３０を一定期間だけそのスイッチを閉じることにより、データ線６ａから供給される画像信号Ｓ１、Ｓ２、・・・、Ｓｎが所定のタイミングで書き込まれる。画素電極９ａを介して電気光学物質の一例としての液晶に書き込まれた所定レベルの画像信号Ｓ１、Ｓ２、・・・、Ｓｎは、対向基板に形成された対向電極との間で一定期間保持される。
【００４３】
液晶層５０（図２参照）を構成する液晶は、印加される電圧レベルにより分子集合の配向や秩序が変化することにより、光を変調し、階調表示を可能とする。例えば、ノーマリーホワイトモードであれば、各画素の単位で印加された電圧に応じて入射光に対する透過率が減少し、ノーマリーブラックモードであれば、各画素の単位で印加された電圧に応じて入射光に対する透過率が増加され、全体として電気光学装置からは画像信号に応じたコントラストをもつ光が出射される。
【００４４】
ここで保持された画像信号がリークすることを防ぐために、画素電極９ａと対向電極２１（図２参照）との間に形成される液晶容量と並列に蓄積容量７０が付加されている。蓄積容量７０は、画像信号の供給に応じて各画素電極９ａの電位を一時的に保持する保持容量として機能する容量素子である。蓄積容量７０の一方の電極は、画素電極９ａと並列してＴＦＴ３０のドレインに電気的に接続され、他方の電極は、定電位となるように、電位固定の容量線３００に電気的に接続されている。蓄積容量７０によれば、画素電極９ａにおける電位保持特性が向上し、コントラスト向上やフリッカーの低減といった表示特性の向上が可能となる。
【００４５】
次に、本実施形態に係る電気光学装置に設けられるマイクロレンズについて、図４から図６を参照して詳細に説明する。ここに図４は、マイクロレンズの配置位置を示す側面図である。また図５及び図６は夫々、マイクロレンズから出射する光が投射レンズに入射する様子を概念的に示す拡大側面図である。尚、図４以降の図では、装置を構成する部材のうち説明に必要なもののみを示し、他の部材の図示を適宜省略している。
【００４６】
図４において、本実施形態に係る電気光学装置は、対向基板２０（即ち、光の入射側の基板）に、本発明の「第１の集光レンズ」の一例である第１マイクロレンズ２１０が設けられている。またＴＦＴ基板１０（即ち、光の出射側の基板）に、本発明の「第２の集光レンズ」の一例である第２マイクロレンズ２２０が設けられている。第１マイクロレンズ２１０及び第２マイクロレンズ２２０は夫々、画素毎に対応するように設けられ、第１マイクロレンズ２１０及び第２マイクロレンズ２２０は夫々、マイクロレンズアレイ板を構成している。
【００４７】
このように、各マイクロレンズ２１０，２２０が、電気光学装置の各画素に対応するように、当該マイクロレンズアレイ板を配置すれば、画素の開口領域に対応して配置された第１マイクロレンズ２１０で光源光束を分割すると共に分割した光束をそれぞれ集光し、光束径を細くした状態とすることができるので、そのままでは各画素の非開口領域に向かって進行する筈の光を、各第１マイクロレンズ２１０によって各画素の開口領域内に導くことが可能となる。また、各画素から出射する光は、第２マイクロレンズ２２０によって、投射レンズ１１１４のＦ値から外れないような光にして出射させることができ、光の利用効率を更に高めることができる。
【００４８】
第１マイクロレンズ２１０及び第２マイクロレンズ２２０は、例えば対向基板２０及びＴＦＴ基板１０をレンズの形状にパターニングすると共に、屈折率の異なる部材を重ね合わせることにより形成されている。
【００４９】
尚、第１マイクロレンズ２１０及び第２マイクロレンズ２２０は、図のように対向基板２０及びＴＦＴ基板１０に内装されるのではなく、対向基板２０及びＴＦＴ基板１０とは別体として（例えば、マイクロレンズ基板として）設けられていても構わない。
【００５０】
図５において、第１マイクロレンズ２１０の集光度は、第２マイクロレンズ２２０の集光度よりも大きくなるよう設定されている。具体的には、第１マイクロレンズ２１０の曲率が、第２マイクロレンズ２２０の曲率よりも大きくされている。また、第１マイクロレンズ２１０と液晶層５０との距離ｎは、第２マイクロレンズ２２０と液晶層５０との距離ｍよりも小さくなるよう設定されている。
【００５１】
上述した構成によれば、装置に入射された光源光は、先ず第１マイクロレンズ２１０によって集光されることになる。第１マイクロレンズ２１０は、第２マイクロレンズ２２０と比べて集光度が高く、液晶層５０との距離も近いため、入射する光源光を複数の画素の各々に対して適切に集光することができる。よって、例えば各画素を規定するブラックマトリクス等によって光が遮断されてしまうことを抑制でき、光の利用効率を高めることができる。
【００５２】
第１マイクロレンズ２１０によって集光された光は、液晶層５０を通過した後、第２マイクロレンズ２２０によって集光される。第２マイクロレンズ２２０は、第１マイクロレンズ２１０と比べて集光度が低く、液晶層５０との距離も遠いため、第１マイクロレンズ２１０で集光された後に発散する光を好適に集光し、画像を投射するための投射レンズ１１１４に対して出射させることができる。第２マイクロレンズ２２０によれば、投射レンズ１１１４のＦ値から外れないような光を出射させることができるため、光の利用効率を更に高めることができる。
【００５３】
図６において、第１マイクロレンズ２１０及び第２マイクロレンズ２２０の有効径を互いに異なるものとすることによっても、上述した集光度の違いは実現できる。具体的には、第１マイクロレンズ２１０の有効径ｒ１は、第２マイクロレンズ２２０の有効径ｒ２よりも大きくなるよう設定されている。このようにすれば、レンズ形状を変化させずとも集光度の違いを実現できるため、製造プロセスの高度複雑化を抑制することができる。
【００５４】
次に、本実施形態に係るマイクロレンズの作用効果について、図７に示す比較例を参照して、より詳細に説明する。ここに図７は、比較例に係るマイクロレンズから出射する光が投射レンズに入射する様子を概念的に示す拡大側面図である。
【００５５】
図７において、比較例に係る電気光学装置では、第１マイクロレンズ２１０の集光度と、第２マイクロレンズ２２０の集光度が互いに同じになるように設定されている。また、第１マイクロレンズ２１０及び液晶層５０間の距離ｎと、第２マイクロレンズ２２０及び液晶層５０間の距離ｍとが互いに同じになるように設定されている。即ち、第１マイクロレンズ２１０及び第２マイクロレンズ２２０は、互いに同じ条件で光の入射側及び出射側に夫々配置されている。
【００５６】
比較例に係る電気光学装置によれば、装置に入射された光源光は、先ず第１マイクロレンズ２１０によって集光されることになる。そして集光された光は、液晶層５０を通過した後、第２マイクロレンズ２２０に入射される。しかしながら、比較例に係る第２マイクロレンズ２２０は、第１マイクロレンズ２１０と同条件とされているため、平行光以外の光を適切に集光することができない、或いは逆に発散させてしまうおそれがある。この場合、第２マイクロレンズ２２０から出射された光は、投射レンズ１１１４のＦ値の範囲内とならず、結果的に画像の明るさを低下させてしまう原因となる。
【００５７】
これに対し、本実施形態に係る電気光学装置では、上述したように、第１マイクロレンズ２１０の集光度が、第２マイクロレンズ２２０の集光度よりも大きくなるよう設定されている。また、第１マイクロレンズ２１０と液晶層５０との距離ｎが、第２マイクロレンズ２２０と液晶層５０との距離ｍよりも小さくなるよう設定されている。従って、第１のマイクロレンズ２１０及び第２マイクロレンズ２２０において適切な集光を実現することができ、装置に入射される光の利用効率を効果的に高めることができる。
【００５８】
以上説明したように、本実施形態に係る電気光学装置によれば、明るく高品質な画像を表示させることが可能である。
【００５９】
＜電子機器＞
次に、上述した電気光学装置である液晶装置を各種の電子機器に適用する場合について説明する。ここに図８は、プロジェクターの構成例を示す平面図である。以下では、この液晶装置をライトバルブとして用いたプロジェクターについて説明する。
【００６０】
図８に示されるように、プロジェクター１１００内部には、ハロゲンランプ等の白色光源からなるランプユニット１１０２が設けられている。このランプユニット１１０２から射出された投射光は、ライトガイド１１０４内に配置された４枚のミラー１１０６及び２枚のダイクロイックミラー１１０８によってＲＧＢの３原色に分離され、各原色に対応するライトバルブとしての液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂ及び１１１０Ｇに入射される。
【００６１】
液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂ及び１１１０Ｇの構成は、上述した液晶装置と同等であり、画像信号処理回路から供給されるＲ、Ｇ、Ｂの原色信号でそれぞれ駆動されるものである。そして、これらの液晶パネルによって変調された光は、ダイクロイックプリズム１１１２に３方向から入射される。このダイクロイックプリズム１１１２においては、Ｒ及びＢの光が９０度に屈折する一方、Ｇの光が直進する。従って、各色の画像が合成される結果、投射レンズ１１１４を介して、スクリーン等にカラー画像が投写されることとなる。
【００６２】
ここで、各液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂ及び１１１０Ｇによる表示像について着目すると、液晶パネル１１１０Ｇによる表示像は、液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂによる表示像に対して左右反転することが必要となる。
【００６３】
尚、液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂ及び１１１０Ｇには、ダイクロイックミラー１１０８によって、Ｒ、Ｇ、Ｂの各原色に対応する光が入射するので、カラーフィルターを設ける必要はない。
【００６４】
尚、図８を参照して説明した電子機器の他にも、モバイル型のパーソナルコンピュータや、携帯電話、液晶テレビや、ビューファインダー型、モニター直視型のビデオテープレコーダー、カーナビゲーション装置、ページャー、電子手帳、電卓、ワードプロセッサー、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた装置等が挙げられる。そして、これらの各種電子機器に適用可能なのは言うまでもない。
【００６５】
また、本発明は上述の各実施形態で説明した液晶装置以外にも反射型液晶装置（ＬＣＯＳ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ、ＳＥＤ）、有機ＥＬディスプレイ、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）、電気泳動装置等にも適用可能である。
【００６６】
本発明は、上述した実施形態に限られるものではなく、特許請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う電気光学装置、及び該電気光学装置を備えた電子機器もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。
【符号の説明】
【００６７】
３ａ…走査線、６ａ…データ線、９ａ…画素電極、１０…ＴＦＴアレイ基板、１０ａ…画像表示領域、２０…対向基板、３０…ＴＦＴ、５０…液晶層、７０…蓄積容量、１０１…データ線駆動回路、１０２…外部回路接続端子、１０４…走査線駆動回路、２１０…第１マイクロレンズ、２２０…第２マイクロレンズ、１１１４…投射レンズ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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