(57)【要約】【課題】ハードコート層を設けない場合でも耐摩耗性および低反り性に優れた光透過層を有する光記録媒体、このような光透過層を形成するに好適な光記録媒体用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を提供する。【解決手段】ラジカル重合性化合物と光重合開始剤を含む光記録媒体用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物であって、該組成物の硬化物のＮｉｅｌｓｅｎの式により算出される架橋点間分子量が８００以下であり、かつ該硬化物の２５℃における貯蔵弾性率が５０〜６００ＭＰａの範囲内である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ラジカル重合性化合物と光重合開始剤を含む光記録媒体用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物であって、
該組成物をガラス板上に硬化後膜厚が１００μｍとなるように製膜し、該膜に空気中で紫外線をエネルギー量１５００ｍＪ／ｃｍ2照射することにより得られる硬化物の、Ｎｉｅｌｓｅｎの式により算出される架橋点間分子量が８００以下であり、かつ
該硬化物の２５℃における貯蔵弾性率が５０〜６００ＭＰａの範囲内である、
光記録媒体用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。
【請求項２】
前記ラジカル重合性化合物として、
（Ａ）成分：ウレタン（メタ）アクリレート、
（Ｂ）成分：１分子内に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有し、ウレタン基を有さない化合物、および、
（Ｃ）成分：１分子内に１個もしくは２個の（メタ）アクリロイル基を有し、ウレタン基を有さない化合物
を含む請求項１に記載の光記録媒体用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。
【請求項３】
前記（Ａ）成分が、ジイソシアネート化合物、数平均分子量５００以上２０００以下の多価アルコールおよび水酸基含有（メタ）アクリレートから合成されるウレタン（メタ）アクリレートである請求項２に記載の光記録媒体用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。
【請求項４】
前記ラジカル重合性化合物中の、（Ａ）成分の割合が３０質量％〜８０質量％、（Ｂ）成分の割合が３〜２０質量％、（Ｃ）成分の割合が１０〜６０質量％である請求項２または３に記載の光記録媒体用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。
【請求項５】
ラジカル重合性化合物１００質量部に対して、光重合開始剤を１〜２０質量部含む請求項１〜４のいずれかに記載の光記録媒体用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の光記録媒体用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の硬化物からなる層を有する光記録媒体。
【請求項７】
前記硬化物からなる層が光透過層の最表層である請求項６に記載の光記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えばブルーレイディスクとして用いられる再生専用光ディスク、記録型光ディスク等の光記録媒体に関する。また、光記録媒体の光透過層を形成するために用いることができる光記録媒体用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、情報記録媒体の分野では高密度化に関して様々な研究が進められている。デジタルハイビジョン放送が広まるにつれ、大容量の光記録媒体への需要が高まっており、例えば、ブルーレイディスクのような大容量光ディスクが実用化され、普及期をむかえている。
【０００３】
ブルーレイディスクは、表面に情報記録面が形成された支持基体の情報記録面上に光透過層を有している。この光透過層の形成方法としては、液状の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物をスピンコート法により塗布した後、活性エネルギー線の照射により硬化させて光透過層を形成する方法が開発されている。
【０００４】
上記高密度光ディスクの光透過層の耐摩耗性を向上させるために、光透過層のレーザー光入射側に設けるハードコート層としてシリカ微粒子を配合した樹脂組成物が開発されている（特許文献１）。
【０００５】
一方、光ディスクの製造工程を減らす目的で、ハードコート層を設けない光透過層を形成するための組成物が提案されている（特許文献２）。しかしながら、特許文献２に記載の組成物から形成した光透過層の場合、耐摩耗性が不良となることがあり、低温で反りが生じることがあった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００２−２３４９０６号公報
【特許文献２】特開２００９−２６４３２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は上記問題点を解決するためになされたものであり、ハードコート層を設けない場合でも、耐摩耗性および低反り性に優れた光透過層を有する光記録媒体を提供することを目的としている。
【０００８】
また本発明の別の目的は、このような光記録媒体の光透過層を形成するに好適な光記録媒体用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
そこで本発明者らは上記課題を解決するため鋭意検討した結果、硬化物の架橋点間分子量および２５℃における貯蔵弾性率を特定の範囲内に調整することにより、耐摩耗性および低温環境下（例えば５℃）での低反り性（以下、低温低反り性と呼ぶ）を両立させることを見出した。
【００１０】
第１の態様において本発明は、
ラジカル重合性化合物と光重合開始剤を含む光記録媒体用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物であって、
該組成物をガラス板上に硬化後膜厚が１００μｍとなるように製膜し、該膜に空気中で紫外線をエネルギー量１５００ｍＪ／ｃｍ2照射することにより得られる硬化物の、Ｎｉｅｌｓｅｎの式により算出される架橋点間分子量が８００以下であり、かつ
該硬化物の２５℃における貯蔵弾性率が５０〜６００ＭＰａの範囲内である、
光記録媒体用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物に関する。
【００１１】
第２の態様において本発明は、
前記ラジカル重合性化合物として、
（Ａ）成分：ウレタン（メタ）アクリレート、
（Ｂ）成分：１分子内に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有し、ウレタン基を有さない化合物、
（Ｃ）成分：１分子内に１個もしくは２個の（メタ）アクリロイル基を有し、ウレタン基を有さない化合物
を含む、第１の態様に記載の光記録媒体用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物に関する。
【００１２】
第３の態様において本発明は、
前記（Ａ）成分が、ジイソシアネート化合物、数平均分子量５００以上２０００以下の多価アルコールおよび水酸基含有（メタ）アクリレートから合成されるウレタン（メタ）アクリレートである第２の態様に記載の光記録媒体用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。
【００１３】
第４の態様において本発明は、
前記ラジカル重合性化合物中の、（Ａ）成分の割合が３０質量％〜８０質量％、（Ｂ）成分の割合が３〜２０質量％、（Ｃ）成分の割合が１０〜６０質量％である第２または第３の態様に記載の光記録媒体用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物に関する。
【００１４】
第５の態様において本発明は、ラジカル重合性化合物１００質量部に対して、光重合開始剤を１〜２０質量部含む第１〜第４の態様のいずれかに記載の光記録媒体用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物に関する。
【００１５】
第６の態様において本発明は、第１〜第５の態様のいずれかに記載の光記録媒体用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の硬化物からなる層を有する光記録媒体に関する。
【００１６】
第７の態様において本発明は、第６の態様に記載の光記録媒体において、前記硬化物からなる層が光透過層の最表層である光記録媒体に関する。
【発明の効果】
【００１７】
本発明により、ハードコート層を設けない場合でも、耐摩耗性および低反り性に優れた光透過層を有する光記録媒体が提供される。
【００１８】
また本発明により、このような光記録媒体の光透過層を形成するに好適な光記録媒体用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物が提供される。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
本発明において、光記録媒体用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物（以下場合により「硬化性組成物」とも呼ぶ）はラジカル重合性化合物と光重合開始剤を含む。ここで、ラジカル重合性化合物とは、ラジカルにより重合反応を起こす化合物である。
【００２０】
そして、光記録媒体用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を前記の条件で硬化させた硬化物のＮｉｅｌｓｅｎの式から算出される架橋点間分子量が８００以下であり、かつ２５℃における貯蔵弾性率が５０〜６００ＭＰａの範囲内である。前記架橋点間分子量および前記貯蔵弾性率がこの範囲であると、硬化物の耐摩耗性が良好である。貯蔵弾性率が１００〜４００ＭＰａの範囲内であると、硬化物の耐摩耗性がさらに良くなる。
【００２１】
また、２５℃における貯蔵弾性率が６００ＭＰａ以下であると硬化物の低温低反り性が良好であり、４００ＭＰａ以下であると、低温低反り性がさらに良くなる。
【００２２】
前記架橋点間分子量が８００以下であり、かつ前記貯蔵弾性率が５０〜６００ＭＰａの範囲内であるようにするためには、例えば、多量の柔軟な成分を少量の多官能成分により架橋させる方法が挙げられる。柔軟な成分としては、硬化物の２５℃における貯蔵弾性率が４００ＭＰａ以下の化合物が好ましく、２００ＭＰａ以下のものがより好ましい。好ましい柔軟な成分としては、例えば、後述する（Ａ）成分および（Ｃ）成分が挙げられる。多官能成分とは、１分子内に２個以上の反応点を有する化合物である。多官能成分としては、１分子内の反応点の多い化合物ほど架橋点間分子量を効率的に下げることができるので好ましく、このような成分としては、後述する（Ｂ）成分が挙げられる。これらの成分の添加量を調整することにより、２５℃における貯蔵弾性率を５０〜６００ＭＰａの範囲内にすることが出来る。
【００２３】
なお、Ｎｉｅｌｓｅｎの式は以下の通りである。
［Ｎｉｅｌｓｅｎの式］
Ｍｃ＝２９３×ρ／（ｌｏｇ10（１０7×Ｅ’／３）−７．０）
Ｍｃ：架橋点間分子量、
ρ  ：密度［ｇ／ｃｍ3］、
Ｅ’：２０〜２００℃の測定範囲における粘弾性測定における貯蔵弾性率の最小値［ＭＰａ］。
【００２４】
本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物としては、硬化速度の観点から、（メタ）アクリレート化合物を主成分とするラジカル硬化型樹脂組成物が好ましい。
【００２５】
（メタ）アクリレート化合物は、特に限定されず、例えば、「ＵＶ・ＥＢ硬化ハンドブック−原料編」（１９８５年、高分子刊行会）などに記載されている。尚、本発明において、「（メタ）アクリ」は「アクリ」又は「メタクリ」を示す。
【００２６】
活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の構成としては、ウレタン（メタ）アクリレート｛（Ａ）成分｝、１分子内に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有し、ウレタン基を有さない化合物｛（Ｂ）成分｝、１分子内に１個もしくは２個の（メタ）アクリロイル基を有し、ウレタン基を有さない化合物｛（Ｃ）成分｝、光重合開始剤｛（Ｄ）成分｝を含むことが好ましい。
【００２７】
・（Ａ）成分
（Ａ）成分はウレタン（メタ）アクリレートである。
【００２８】
（Ａ）成分は分子内に（メタ）アクリロイル基とウレタン基を有する化合物であり、硬化物の貯蔵弾性率を小さくし、低反り性を向上させる成分である。（Ａ）成分の具体例としては、イソホロンジイソシアネート、ビス（４−イソシアナトシクロヘキシル）メタン、１，２−水添キシリレンジイソシアネート、１，４−水添キシリレンジイソシアネート、水添テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネート、２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等のジイソシアネート化合物と、ポリプロピレングリコール類、ポリテトラメチレングリコール、ポリラクトンポリオール類、ポリカーボネートジオール類、テトラヒドロフラン−ネオペンチルグリコール共重合体類、Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−４−ヒドロキシブタナミドのようなアミドジオール類等の多価アルコールと、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート及び４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等の水酸基含有（メタ）アクリレートとから合成される化合物が挙げられる。硬化物の２５℃における貯蔵弾性率を低くする観点から、多価アルコールの数平均分子量は５００以上であることが好ましい。また、硬化物の架橋点間分子量を低くする観点から、多価アルコールの数平均分子量は２０００以下であることが好ましい。なお、２種以上の多価アルコールを使用する場合の多価アルコールの数平均分子量は、それぞれの多価アルコールの数平均分子量とモル比の積の和とする。
【００２９】
硬化直後の低反り性（以下、初期反り性と呼ぶ）、低温低反り性および耐摩耗性を両立するためには、（Ａ）成分１分子中の（メタ）アクリロイル基の数は２個が好ましい。
【００３０】
（Ａ）成分の使用割合は、ラジカル重合性化合物中（すなわちラジカル重合性化合物全体を１００質量％としたとき）、３０〜８０質量％の範囲内が好ましい。下限値は４０質量％以上がより好ましく、上限値は７０質量％以下がより好ましい。（Ａ）成分の量が３０質量％以上の場合、硬化物の初期低反り性および低温低反り性が良くなる。また、８０質量％以下の場合、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の粘度が低くなり、塗装作業性が良くなる。
【００３１】
・（Ｂ）成分
（Ｂ）成分は、１分子内に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有し、ウレタン基を有さない化合物である。
【００３２】
（Ｂ）成分は、硬化物の架橋点間分子量を小さくさせることにより、耐摩耗性を向上させる成分である。１分子内に有する（メタ）アクリロイル基は、耐摩耗性の観点から４個以上が好ましい。一方、低反り性の観点から、６個以下が好ましい。（Ｂ）成分の具体例としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリスエトキシレーテッドトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、エトキシレーテッドペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、エトキシレーテッドペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート及びカプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートが挙げられる。耐摩耗性の観点から、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートが特に好ましい。
【００３３】
（Ｂ）成分の使用割合は、ラジカル重合性化合物中、３〜２０質量％の範囲内が好ましい。下限値は５質量％以上がより好ましい。上限値は１０質量％以下がより好ましい。（Ｂ）成分の量が３質量％以上の場合、硬化物の耐摩耗性が良くなる。また、２０質量％以下の場合、硬化物の初期反り性が良くなる。
【００３４】
・（Ｃ）成分
（Ｃ）成分は、１分子内に１個もしくは２個の（メタ）アクリロイル基を有し、ウレタン基を有さない化合物である。
【００３５】
（Ｃ）成分は、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の粘度を下げる希釈成分であり、さらに硬化物の貯蔵弾性率を下げることにより低温低反り性を向上させる成分である。（Ｃ）成分の具体例としては、以下のものが挙げられる。
【００３６】
１分子内に２個の（メタ）アクリロイル基を有する化合物として、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ビス（２−アクリロイルオキシエチル）−２−ヒドロキシエチルイソシアヌレート、ジ（メタ）アクリロイルポリエトキシレーテッドビスフェノールＡ、ジ（メタ）アクリロイルポリプロポキシレーテッドビスフェノールＡ、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレンングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【００３７】
一方、１分子内に１個の（メタ）アクリロイル基を有する化合物として、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、２−エチル−ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチル−２−メチル−１，３−ジオキソラン−４−イル−メチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性リン酸（メタ）アクリレート、フェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェニルジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００３８】
２５℃における貯蔵弾性率を低くする観点から、ジ（メタ）アクリロイルポリエトキシレーテッドビスフェノールＡ、ジ（メタ）アクリロイルポリプロポキシレーテッドビスフェノールＡ、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェニルジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェニルオキシエチル（メタ）アクリレートのようなアルキレンオキサイドにより変性された化合物が好ましい。
【００３９】
一方、希釈性の観点から、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレートが好ましく。低温低反り性の観点から、ラウリル（メタ）アクリレート、フェニルジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェニルオキシエチル（メタ）アクリレートが好ましい。
【００４０】
（Ｃ）成分の使用割合は、ラジカル重合性化合物中、１０〜６０質量％の範囲内が好ましい。下限値は２０質量％以上がより好ましく、上限値は５０質量％以下がより好ましい。（Ｃ）成分の量が１０質量％以上の場合、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の粘度が低くなり、塗装作業性が良くなる。また、硬化物の低温低反り性が良くなる。一方、６０質量％以下の場合、硬化物の耐摩耗性が良くなる。
【００４１】
・（Ｄ）成分
（Ｄ）成分は光重合開始剤であり、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を活性エネルギー照射により効率よく硬化させるための成分である。（Ｄ）成分の具体例としては、ベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン、メチルオルトベンゾイルベンゾエイト、４−フェニルベンゾフェノン、ｔ−ブチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、オリゴ｛２−ヒドロキシ−２−メチル−１−［４−（１−メチルビニル）フェニル］プロパノン｝、ベンジルジメチルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、２−メチル−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルホリノ−１−プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１、ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド、２−ヒドロキシ−１−｛４−〔４−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオニル）ベンジル〕フェニル｝−２−メチルプロパン−１−オン及びメチルベンゾイルホルメートが挙げられる。
【００４２】
これらの中で、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の硬化性及び硬化物の難黄変性の観点から、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン及び１−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトンが好ましい。
【００４３】
本発明において、（Ｄ）成分の使用割合は、硬化性組成物の空気雰囲気中での硬化性の観点から、ラジカル重合性化合物の合計１００質量部に対し、１〜２０質量部の範囲内が好ましい。下限値は３質量部以上がより好ましく、上限値は１０質量部以下がより好ましい。（Ｄ）成分の量が１質量部以上の場合、硬化性が良くなる。また、２０質量部以下の場合、硬化物が黄変しにくい。
【００４４】
・その他
本発明においては、本発明の特性が損なわれない範囲で、硬化性組成物中に、例えば、（Ａ）〜（Ｃ）成分以外のラジカル重合性化合物、防汚剤、スリップ剤、密着付与剤、熱重合開始剤、酸化防止剤や光安定剤、光増感剤、熱可塑性樹脂、レベリング剤、紫外線吸収剤、重合禁止剤、無機フィラー、有機フィラー及び表面有機化処理した無機フィラー等の公知の添加剤を適宜配合することができる。なお、これらの添加剤には（メタ）アクリロイル基を有するシリコーン類、リン酸エステル類が含まれるが、本発明において、これらの化合物は（メタ）アクリロイル基を含むものであっても（Ａ）〜（Ｃ）成分に含めないものとする。
【００４５】
特に、硬化性組成物が、防汚剤およびスリップ剤を含むことが好ましい。
【００４６】
防汚剤としては、硬化性組成物がシリコーンもしくはフッ素系界面活性剤を含むことが好ましい。
【００４７】
一方、耐摩耗性の観点から硬化性組成物がスリップ剤を含むことが好ましい。
【００４８】
防汚性およびスリップ性の両方の効果を有することから、硬化性組成物がシリコーン系界面活性剤を含むことが特に好ましい。一般的なシリコーン系界面活性剤は下記式（１）で表される。式（１）においてｘは正の整数を表し、スリップ性の観点から、ｘは４５〜２３０の範囲内が好ましい。また、他の樹脂成分との相溶性を高めるために、有機変性されているものが好ましく、有機官能基としては、アルキル基、エチレンオキサイド基、プロピレンオキサイド基、アラルキル基、ポリエステル基、（メタ）アクリロイル基、カルボキシル基、ヒドロキシル基などが挙げられる。
【００４９】
【化１】
2012252748.tif 000002
【００５０】
硬化性組成物は、ダストやゲル物等の異物の存在による読み取り又は書き込みエラーを防止するために、５μｍ以上、好ましくは１μｍ以上の異物を除去できるろ過フィルターを用いてろ過することが好ましい。
【００５１】
ろ過フィルターの素材としては、例えば、セルロース、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリテトラフルオロエチレン及びナイロンが挙げられる。
【００５２】
光記録媒体は支持基体上に情報記録面を有し、この情報記録面上に光透過層を有する構造を具備することができる。また、この光透過層を通して記録光又は再生光が入射して、情報記録面に情報を記録したり、情報記録面の情報を読み出したりできる。
【００５３】
光記録媒体に使用される支持基体としては、例えば、金属、ガラス、セラミックス、紙、木材、プラスチック及びこれらの複合材料が挙げられる。特に、従来の光ディスク製造プロセスを利用できる点で、メチルメタクリレート系樹脂、ポリエステル、ポリ乳酸、ポリカーボネート、アモルファスポリオレフィン等の熱可塑性樹脂が好適である。
【００５４】
情報記録面の材料としては特に限定されず、読み取り専用型媒体、相変化型記録媒体、ピット形成タイプ記録媒体、光磁気記録媒体等に適用可能な材料を必要に応じて使用することができる。例えば、金、銀、銀・Ｐｄ・Ｃｕ合金、銀・Ｉｎ・Ｔｅ・Ｓｂ合金、銀・Ｉｎ・Ｔｅ・Ｓｂ・Ｇｅ合金、アルミニウム、Ａｌ・Ｔｉ合金、Ｇｅ・Ｓｂ・Ｔｅ合金、Ｇｅ・Ｓｎ・Ｓｂ・Ｔｅ合金、Ｓｂ・Ｔｅ合金、Ｔｂ・Ｆｅ・Ｃｏ合金及び色素が使用可能である。
【００５５】
情報記録面の少なくとも一方の側に、情報記録面の保護やレーザー光の反射率を変化させるといった光学的効果を目的として、ＳｉＮ、ＺｎＳ、ＳｉＯ2等の誘電体層を設けることができる。
【００５６】
光透過層は前述の硬化性組成物の硬化物からなることができる。光透過層の厚みは０．５〜３００μｍが好ましい。光透過層の厚みは１〜２００μｍがより好ましく、１．５〜１５０μｍがさらに好ましい。また、情報記録面上への記録及び再生のために４００ｎｍ程度のレーザー光に対する透明性を有していることが好ましい。光透過層に気泡が存在しても読み取り又は書き込みエラーの原因となるため、硬化性組成物は予め真空、超音波振動若しくは遠心回転条件下、又はその組み合わせの条件下において、脱気を行うことが好ましい。
【００５７】
本発明の硬化性組成物は活性エネルギー線を照射することにより硬化させることができる。
【００５８】
活性エネルギー線としては、例えば、α線、β線、γ線、Ｘ線、紫外線及び可視光線が挙げられる。作業性および硬化性の観点から紫外線が特に好ましい。紫外線を照射する光源としては、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンフラッシュランプ、ＬＥＤランプなどが挙げられる。活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の硬化性および硬化物の耐摩耗性の観点から、高圧水銀灯およびメタルハライドランプが特に好ましい。
【００５９】
活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は、例えば、支持基体上に形成された情報記録面の上に、スピンコート法、スプレーコート法、ブラシコート法等の公知の塗工方法で塗工される。この塗膜の厚みとしては、硬化後に１０〜３００μｍの厚みになるようにすることが好ましい。また、５０〜１５０μｍの厚みにすることがより好ましい。
【００６０】
上記で得られた被膜は、活性エネルギー線により硬化され、情報記録面上に硬化性組成物の硬化物からなる光透過層が形成され、光記録媒体が得られる。
【００６１】
上記の被膜に活性エネルギー線を照射する雰囲気としては、空気中又は窒素、アルゴン等の不活性ガス中のいずれでもよいが、製造コストの点で空気中が好ましい。
【００６２】
本発明によれば、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の硬化物が耐摩耗性に優れるため、記録媒体の最表層として使用することができ、従来の光透過層の外側に更にハードコート層を設ける場合に比べ生産性に優れる。ただし、さらに防汚性および耐摩耗性を向上させる目的で、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の硬化物上にさらにハードコート層を設けても良い。
【実施例】
【００６３】
実施例における評価項目及びその評価方法を以下に示す。
【００６４】
（１）貯蔵弾性率、架橋点間分子量
ガラス板上に、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物をベーカーアプリケーター（Ｍｏｄｅｌ：ＳＣ−８３１０、上島製作所（株）製）を用いて、硬化後膜厚が１００μｍとなるように製膜し、空気中で、高圧水銀灯により紫外線をエネルギー量１５００ｍＪ／ｃｍ2（（株）オーク製作所製ＵＶ−３５１ＳＮ型（商品名）にて測定）照射し、硬化物を得た。この硬化物をガラス板から剥がし、粘弾性アナライザー（ＲＳＡ−ＩＩ（商品名）、ティー・エー・インスツルメント製）用いて、２０℃〜２００℃の温度範囲の粘弾性測定を行い、２５℃における貯蔵弾性率、貯蔵弾性率の最小値を測定した（周波数１１ｒａｄ／秒、昇温速度３℃／分）。
【００６５】
また、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を内径２７ｍｍ、深さ６ｍｍのポリエチレン製容器中に、すりきりまで充填し、空気中で、高圧水銀灯により紫外線をエネルギー量３０００ｍＪ／ｃｍ2（（株）オーク製作所製ＵＶ−３５１ＳＮ型（商品名）にて測定）照射し、硬化物を得た。得られた硬化物をポリエチレン製容器から取り出し、ＪＩＳ−Ｋ６２５８に準拠した自動比重測定装置（ＳＧＭ−７（商品名）、メトラー・トレド製）を用い、硬化物の２５℃における密度を測定した。
【００６６】
これらの測定値（２０℃〜２００℃の測定範囲における貯蔵弾性率の最小値、２５℃における密度）をＮｉｅｌｓｅｎの式に代入し、架橋点間分子量を算出した。貯蔵弾性率および架橋点間分子量の判定基準は以下の通りである。
・貯蔵弾性率（２５℃）
◎：貯蔵弾性率（２５℃）が１００ＭＰａ以上、４００ＭＰａ以下。
○：貯蔵弾性率（２５℃）が５０ＭＰａ以上、１００ＭＰａ未満、もしくは４００ＭＰａを超えるが６００ＭＰａ以下。
×：貯蔵弾性率（２５℃）が５０ＭＰａ未満、もしくは６００ＭＰａ以上
・架橋点間分子量
○：架橋点間分子量が８００以下。
×：架橋点間分子量が８００を超える。
【００６７】
（２）粘度（単位：ｍＰａ・ｓ）
硬化性組成物の粘度をＥ型粘度計「ＴＶＥ−２０」（商品名。東機産業（株）製）にて２５℃で測定した。
【００６８】
（３）耐摩耗性
ＢＤ−Ｒ／ＲＥ  Ｄｉｓｃ  Ｔｅｓｔｅｒ  「ＢＤＴ−２０３」（商品名。エキスパートマグネティックス（株）製）を用いて、書込み速度２倍速にて信号を記録した。
【００６９】
ＪＩＳ  Ｋ７２０４「摩耗輪によるプラスチック摩耗試験」に準拠し、ＲＯＴＡＲＹ  ＡＢＲＡＳＩＯＮ  ＴＥＳＴＥＲ（商品名。（株）東洋精機製）を使用し、摩耗輪ＣＳ−１０Ｆ、２．５Ｎ（２５０ｇｆ）荷重にて５回転摩耗した。圧縮空気にて、摩耗輪の削りカスを除去した後、ディスクの電気特性（Ｊｉｔｔｅｒ値）を測定し、耐摩耗性の判定を行った。耐摩耗性の判定基準は次の通りである。
◎：Ｊｉｔｔｅｒ値＝８．０未満。
○：Ｊｉｔｔｅｒ値＝８．０以上１０．０未満。
×：Ｊｉｔｔｅｒ値＝１０．０以上。
【００７０】
（４）低反り性
（ａ）初期反り性
ＩＯＰＣ  ｂｌｕ  Ｔｉｌｔ−ｓｃａｎｎｅｒ（商品名。ｄｒ．ｓｃｈｗａｂ  ＩｎｓｐｅｃｔｉｏｎＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙ  ＧｍｂＨ製）を用い、２３℃、相対湿度５０％環境下にて測定した反り角（以下「初期反り角」と呼ぶ）を測定した。尚、反り角とは、光記録媒体の中心から４８ｍｍ位置におけるＲａｄｉａｌ  Ｔｉｌｔを意味する。初期反り性の判定基準は以下の通りである。
◎：初期反り角の絶対値が０．４０°以内。
○：初期反り角の絶対値が０．４０°を超えるが、０．６０°以内。
×：初期反り角の絶対値が０．６０°を超える。
【００７１】
（ｂ）低温低反り性
上記（ａ）にて初期反り角を測定した試料を、５℃、相対湿度５０％環境下で１時間静置した後、上記ＩＯＰＣ  ｂｌｕ  Ｔｉｌｔ−ｓｃａｎｎｅｒを用い、５℃、相対湿度５０％下にて反り角を測定した。
低温反り変化量＝（ここで測定した反り角）−（上記（ａ）で測定した初期反り角）
とし、判定基準は以下の通りである。
◎：低温反り変化量の絶対値が０．４０°以内。
○：低温反り変化量の絶対値が０．４０°を超えるが、０．６０°以内。
×：低温反り変化量の絶対値が０．６０°を超える。
【００７２】
［合成例１］（ウレタンアクリレートＵＡ１（成分Ａ）の製造）
５リットルの４つ口フラスコに、イソシアネート化合物として、２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート／２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートの質量比が６０／４０の混合物（商品名：ＶＥＳＴＡＮＡＴ  ＴＭＤＩ、デグサ製）１．５ｍｏｌ（３１５ｇ）及び反応触媒としてジブチル錫ジオクテート３００ｐｐｍ（０．２７ｇ）を仕込んでウォーターバスでフラスコ内温が６０℃になるように加熱した。次いで、フラスコ内温を７０℃に保ち、得られた混合物を撹拌しながら、この混合物中に、多価アルコールとしてポリテトラメチレングリコール（商品名：ＰＴＧ−８５０ＳＮ、保土ヶ谷化学（株）製、数平均分子量８５０）０．４ｍｏｌ（３４０ｇ）及びＮ−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−４−ヒドロキシブタナミド（数平均分子量１６５）０．１ｍｏｌ（１６．５ｇ）の均一溶液を、４０℃に保温した状態で側管付きの滴下ロートを用いて４時間の等速滴下で加え、更に、同温度で２時間攪拌して反応させた。その後、フラスコ内温を７５℃に上げ、フラスコ内温を７５℃に保ちながら、２−ヒドロキシエチルアクリレート２ｍｏｌ（２３２ｇ）を、滴下ロートを用いて２時間の等速滴下で加え、更に、フラスコ内温を７５℃に保ちながら、４時間攪拌してウレタンアクリレート（ウレタンアクリレートＵＡ１という）を得た。なお、使用した２種類の多価アルコールの数平均分子量は７１３であった。
【００７３】
［合成例２］
イソシアネート化合物として、イソホロンジイソシアネート１ｍｏｌ（２２２ｇ）、多価アルコールとしてポリテトラメチレングリコール（商品名：ＰＴＧ−８５０ＳＮ、保土ヶ谷化学（株）製、数平均分子量８５０）０．３ｍｏｌ（２５５ｇ）及びＮ−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−４−ヒドロキシブタナミド（数平均分子量１６５）０．２ｍｏｌ（３３ｇ）を用いたことと、２−ヒドロキシルエチルアクリレートの添加量を１ｍｏｌ（１１６ｇ）としたこと以外は、合成例１と同様にしてウレタンアクリレート（ウレタンアクリレートＵＡ２という）を得た。なお、使用した２種類の多価アルコールの数平均分子量は５７６であった。
【００７４】
［合成例３］
イソシアネート化合物として、イソホロンジイソシアネート１ｍｏｌ（２２２ｇ）、多価アルコールとして、ポリカプロラクトングリコール（商品名：プラクセル２０５、ダイセル化学工業（株）製、質量平均分子量５３０）０．４ｍｏｌ（２１２ｇ）、及びＮ−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−４−ヒドロキシブタナミド（数平均分子量１６５）０．１ｍｏｌ（１６．５ｇ）を用いたことと、２−ヒドロキシエチルアクリレートの添加量を１ｍｏｌ（１１６ｇ）としたこと以外は、合成例１と同様にして、ウレタンアクリレート（ウレタンアクリレートＵＡ３という）を製造した。なお、使用した２種類の多価アルコールの数平均分子量は４５７であった。
【００７５】
［実施例１］
表１に示す配合割合（質量部）で各原料を配合し、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を調製した。
【００７６】
情報記録層を有するポリカーボネート樹脂製光ディスク基板（直径１２ｃｍ、板厚１．１ｍｍ、反り角０度）の情報記録層上に、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を、空気中、雰囲気温度２３℃、相対湿度５０％の環境下、スピンコーターを用いて塗工した。さらに、塗工面の上方より、高圧水銀灯を用いて、積算光量１５００ｍＪ／ｃｍ2のエネルギー量（ＵＶ光量計、ＵＶ−３５１ＳＮ型、（株）オーク製作所製にて測定）で紫外線を照射、塗膜を硬化させて、平均膜厚が１００μｍの硬化物層を有する評価用試料（光ディスク）を得た。評価結果を表１に示す。
【００７７】
［実施例２〜１０及び比較例１］
表１に示す配合割合（質量部）で各原料を配合し、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を調製し、実施例１と同様に評価用試料を作製した。評価結果を表１に示す。
【００７８】
比較例１記載の組成物は、（Ａ）〜（Ｄ）成分を含んでいるものの、硬化物の２５℃における貯蔵弾性率が６００ＭＰａを超え、さらに架橋点間分子量が８００を超えているため、耐摩耗性および低温低反り性が不良である。
【００７９】
【表１】
2012252748.tif 000003
【００８０】
表１中の略号は、以下の化合物を示す。
・（Ａ）成分
ＵＡ１：合成例１で得たウレタンアクリレートＵＡ１
ＵＡ２：合成例２で得たウレタンアクリレートＵＡ２
ＵＡ３：合成例３で得たウレタンアクリレートＵＡ３
・（Ｂ）成分
ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（商品名：ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）
ＴＭＰＴＡ：トリメチロールプロパントリアクリレート（商品名：カヤラッドＴＭＰＴＡ、日本化薬（株）製
ＴＡＩＣ：トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート（商品名：アロニックスＭ−３１５、東亞合成（株）製
・（Ｃ）成分
ＰＰＧＤＡ：ポリプロピレングリコールジアクリレート（商品名：ＡＰＧ−７００、新中村化学（株）製）
ＮＰＧＤＡ：ネオペンチルグリコールジアクリレート（商品名：カヤラッドＮＰＧＤＡ、日本化薬（株）製）
ＬＡ：ラウリルアクリレート（商品名：ＬＡ、大阪有機化学工業（株）製）
ＴＨＦＡ：テトラヒドロフルフリルアクリレート（商品名：ビスコート＃１５０、大阪有機化学工業（株）製
ＦＡ５１２：ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート（商品名：ファンクリルＦＡ−５１２ＡＳ、日立化成工業（株）製
ＭＥＤＡ：２−エチル−２−メチル−１，３−ジオキソラン−４−イル−メチルアクリレート（商品名：ＭＥＤＯＬ−１０、大阪有機化学工業（株）製
・（Ｄ）成分
ＨＣＰＫ：１−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン（イルガキュア１８４、ＢＡＳＦジャパン（株）製
・スリップ剤
ＢＹＫ−３３３：シリコーン系スリップ剤（商品名：ＢＹＫ−３３３、ビックケミー・ジャパン（株）製
・金属への密着付与剤
ＡＰＭＡ：２−メタクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート（商品名：カヤマーＰＭ−２、日本化薬（株）製