(57)【要約】【課題】貯蔵物の鮮度低下を長期間に亘って抑制する冷蔵庫を提供することを目的とする。【解決手段】食品を保存する貯蔵空間を有する冷蔵庫において、高電圧をかけてミストを発生させる静電霧化装置と、前記静電霧化装置で発生したミストに紫外線領域の波長を含む光を照射する光源と、前記静電霧化装置のミストの発生方向に送風する送風手段とを備えており、前記貯蔵空間のエチレン又は臭気成分を分解又は除菌することを特徴とする。【選択図】  図３
2012021654.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
食品を保存する貯蔵空間を有する冷蔵庫において、高電圧をかけてミストを発生させる静電霧化装置と、前記静電霧化装置で発生したミストに紫外線領域の波長を含む光を照射する光源と、前記静電霧化装置のミストの発生方向に送風する送風手段とを備え、前記貯蔵空間のエチレン又は臭気成分を分解又は除菌することを特徴とする冷蔵庫。
【請求項２】
前記貯蔵空間の水分を溜める貯水手段と、該貯水手段から前記静電霧化装置内の保水体に水を送る水導入路と、を設けたことを特徴とする、請求項１記載の冷蔵庫。
【請求項３】
前記送風手段は、１.０ｍ／ｓから２.５ｍ／ｓの風速で送風することを特徴とする、請求項１記載の冷蔵庫。
【請求項４】
前記送風手段と前記静電霧化装置との間に冷気流路を備え、該冷気流路に前記光源を設けたことを特徴とする、請求項１記載の冷蔵庫。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、冷蔵庫に関する。
【背景技術】
【０００２】
本技術分野の背景技術として、特許第４３３２１０７号公報（特許文献１）がある。特許文献１には、表面に水を粒状に保持可能な保水面に形成した保水体に水を供給し、該保水面を水滴で濡れた状態に保持する保水工程と、該保水面に付着させた前記水滴に対し、１０mm以内の至近距離から波長が２５４ｎｍの紫外線を、近傍を１０℃〜４０℃の温度域に制御しつつ照射して、該照射紫外線のエネルギーで前記水滴にＯＨラジカルを生成させる照射工程と、該ＯＨラジカルを含む前記水滴を保持している前記保水面に対してエチレンガスを含む気体を通風させて前記ＯＨラジカルに該エチレンガスを接触させる反応工程と、から成り、上記各工程により前記ＯＨラジカルに前記エチレンガスを接触反応させてエタンと水に改質できるようにしたことを特徴とする紫外線によるエチレンガスの改質方法が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第４３３２１０７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１においては、保水体表面を撥水性にすることで水と紫外線の接触機会を増やし、ＯＨラジカルの発生量を増加させる工夫をしている。しかし、保水体の表面に存在する水分しか紫外線が照射されないため、ＯＨラジカルの発生効率が低下する。
【０００５】
また、保水体表面に風を通過させることで不安定なＯＨラジカルとエチレンの接触機会を増加させる工夫をしているが、風路を狭くすると風速が上昇し、接触効率が低下する。その結果、家庭用冷蔵庫における実使用状態を考慮すると、貯蔵物の鮮度維持機能は限定的となる。
【０００６】
そこで本発明は、貯蔵物の鮮度低下を長期間に亘って抑制する冷蔵庫を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するため、例えば特許請求の範囲に記載の構成を採用する。本発明は上記課題を解決する手段を複数含んでいるが、その一例を挙げるならば、食品を保存する貯蔵空間を有する冷蔵庫において、高電圧をかけてミストを発生させる静電霧化装置と、前記静電霧化装置で発生したミストに紫外線領域の波長を含む光を照射する光源と、前記静電霧化装置のミストの発生方向に送風する送風手段とを備え、前記貯蔵空間のエチレン又は臭気成分を分解又は除菌することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の冷蔵庫によれば、貯蔵物の鮮度低下を長期間に亘って抑制する冷蔵庫を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の一実施形態に係る冷蔵庫の正面図。
【図２】図１の冷蔵庫の縦断面図。
【図３】図２の野菜室の拡大図。
【図４】図２の静電霧化装置の構成図。
【図５】図４の変形例の静電霧化装置の構成図。
【図６】保水手段の違いによるエチレン残存率測定結果を示す図。
【図７】送風手段の風向を変えた時のエチレン残存率測定結果を示す図。
【図８】送風手段の風速を変えた時のエチレン残存率測定結果を示す図。
【図９】送風手段の風速を変えた時のエチレン残存率測定結果を示す図。
【図１０】水の補給頻度を変えた時のエチレン残存率測定結果を示す図。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明の冷蔵庫の実施形態について図を用いて説明する。
【００１１】
まず、図１及び図２を参照しながら冷蔵庫全体に関して説明する。図１は本実施形態の冷蔵庫の正面図、図２は図１の冷蔵庫の中央縦断面図である。
【００１２】
冷蔵庫本体１は、図２に示すように、鋼板製の外箱１１と樹脂製の内箱１２との間にウレタン発泡断熱材１３及び真空断熱材（図示せず）を有して構成され、上から冷蔵室２，冷凍室３，４，野菜室５の順に複数の貯蔵室を有している。換言すれば、最上段に冷蔵室２が、最下段に野菜室５が、それぞれ区画して配置されており、冷蔵室２と野菜室５との間には、これらの両室と断熱的に仕切られた冷凍室３，４が配設されている。冷蔵室２及び野菜室５は冷蔵温度帯の貯蔵室であり、冷凍室３，４は、０℃以下の冷凍温度帯（例えば、約−２０℃〜−１８℃の温度帯）の貯蔵室である。なお、冷凍室３は製氷室３ａと急冷凍室３ｂとに左右に区画されている。これらの貯蔵室は、仕切り壁３４，３５，３６により区画されている。すなわち、冷蔵室２と冷凍室３は仕切り壁３４で断熱的に区画されている。また、冷凍室４と野菜室５は仕切り壁３５で断熱的に区画されている。また、冷凍室３と冷凍室４は仕切り壁３６で区画されている。なお、冷凍室３と冷凍室４は同じ温度帯なので、冷凍室３と冷凍室４を冷気が流れる構成であってもよく、必ずしも断熱的に区画する必要はない。
【００１３】
冷蔵庫本体１の前面には、図１に示すように、各貯蔵室の前面開口を閉塞する扉がそれぞれ設けられている。冷蔵室扉６，６は、冷蔵室２の前面開口を開閉する回転式の扉である。製氷室扉７，急冷凍室扉８，冷凍室扉９及び野菜室扉１０は、それぞれ製氷室３ａ，急冷凍室３ｂ，冷凍室４及び野菜室５の前面開口をそれぞれ開閉する引き出し式扉である。なお、冷蔵室扉６，６は観音開き式のフレンチ扉で構成されている。製氷室３ａ，急冷凍室３ｂ，冷凍室４及び野菜室５は、引き出し扉とともに貯蔵室内の容器がそれぞれ引き出される。
【００１４】
冷蔵庫本体１には、冷凍サイクルが設置されている。この冷凍サイクルは、圧縮機１４、凝縮器（図示せず）、キャピラリチューブ（図示せず）及び蒸発器１５、そして再び圧縮機１４の順に冷媒配管で接続して構成されている。圧縮機１４及び凝縮器は、冷蔵庫本体１の背面下部に設けられた機械室に設置されている。蒸発器１５は、冷凍室３，４の後方に設けられた蒸発器室に設置され、この蒸発器室における蒸発器１５の上方に送風ファン１６が設置されている。
【００１５】
蒸発器１５によって熱交換した冷気は、送風ファン１６によって冷蔵室２，製氷室３ａ，急冷凍室３ｂ，冷凍室４及び野菜室５の各貯蔵室へと送られる。具体的には、送風ファン１６によって送られる冷気は、開閉可能なダンパー装置を介して、その一部が冷蔵室２及び野菜室５の冷蔵温度帯の貯蔵室へと送られ、他の一部が製氷室３ａ，急冷凍室３ｂ及び冷凍室４の冷凍温度帯の貯蔵室へと送られる。つまり、前記開閉可能なダンパー装置は、冷却室からの冷気を前記冷蔵温度帯の貯蔵室への冷蔵吐出口と前記冷凍温度帯の貯蔵室への冷凍吐出口の一方若しくは両方に選択可能に流通させる選択手段である。
【００１６】
送風ファン１６によって冷蔵室２，製氷室３ａ，急冷凍室３ｂ，冷凍室４及び野菜室５の各貯蔵室へと送られる冷気は、各貯蔵室を冷却した後、冷気戻り通路を通って蒸発器室へと戻される。このように、本実施形態の冷蔵庫は冷気の循環構造を有しており、各貯蔵室を適切な温度に維持する。
【００１７】
冷蔵室２内には、透明な板で構成される複数段の棚１７〜２０が取り外し可能に設置されている。最下段の棚２０は、内箱１２の背面及び両側面に接するように設置され、その下方空間である最下段空間２１を上方空間と区画している。また、冷蔵室扉６，６の貯蔵室側には、複数段の扉ポケット２５〜２７が設置され、これらの扉ポケット２５〜２７は冷蔵室扉６，６が閉じられた状態で冷蔵室２内に突出するように設けられている。
【００１８】
次に、冷蔵室２の最下段空間２１における機器の配置に関して説明する。最下段空間２１には、室内を減圧して食品の鮮度保持及び長期保存するための減圧貯蔵室２４が設置されている。減圧貯蔵室２４は、冷蔵室２の横幅より狭い横幅を有し、冷蔵室２の側面に隣接して配置する。なお、減圧貯蔵室２４に代えてチルド温度帯（冷蔵庫の規格であるＪＩＳ  ９６０７では、０℃付近）の貯蔵空間を形成してもよい。
【００１９】
なお、減圧貯蔵室２４は右側の冷蔵室扉６の最下段の扉ポケット２７の後方に位置することとなる。
【００２０】
冷蔵室２の背面には、送風ファン１６から供給された冷気を通す通路を形成する背面パネル３０が設けられている。背面パネル３０には、冷蔵室２に冷気を供給する冷蔵室冷却用の冷気吐出口（第１の冷気吐出口）と、冷蔵室２の最下段空間２１に冷気を供給する減圧貯蔵室冷却用の冷気吐出口（第２の冷気吐出口）と、冷気戻り口とが設けられている。冷気戻り口は減圧貯蔵室２４の背面後方で冷蔵室２の側面に近い側に位置して設けられている。
【００２１】
次に、野菜室の構造について、図３を用いて説明する。野菜室５は、野菜室容器１３６の上部に上部カバー１３７を設置しており、貯蔵空間を密閉するような構造となっている。貯蔵空間を密閉すると、野菜室５上部には結露が生じる。そのため、冷気吹き出し口に近い位置には、結露収集手段１４６を設ける。結露収集手段１４６で収集した結露水は、結露収集手段１４６の下部に設置した貯水手段１４５に溜める構造となっている。
【００２２】
また、図示はしていないが、野菜室５内に収納する生鮮貯蔵物（水分の多い野菜等）が少ない場合には、結露の量が少なくなり、ミストを発生させるための水が不足する可能性がある。そこで、貯水手段１４５に給水を行う構造としてもよい。また、結露収集手段１４６は、野菜室容器１３６よりも熱伝導率の高い金属板又は金属メッキ板を設置することによって、積極的に結露水を集めることが可能となる。さらに、金属板をフィン形状にすることにより、冷気と金属部分の接触面積が増加するため、より多くの結露水を集めることができる。
【００２３】
次に、ＯＨラジカル発生装置について説明する。野菜室５は、水分の多い野菜等の生鮮貯蔵物を、生のまま保存することが多い貯蔵室である。そのため、臭気成分や菌類が発生しやすい。さらに、野菜自体からは老化促進ガスであるエチレンが放出される。このエチレンガスは、同じ野菜室に保存されている食材の劣化を促進するおそれがある。そのため、エチレンガス，臭気成分及び菌を低減，除去する必要がある。
【００２４】
エチレンガス，臭気成分及び菌の発生源を分解，変性する方法としては、活性炭に吸着させる方法や光触媒を作用させる方法，プラズマ放電等で発生させたオゾンを作用させる方法等がある。また、水から得たＯＨラジカルを作用させてエチレンガス，臭気成分及び菌類を除去する方法は、分解，変性の効果が高い。
【００２５】
その反面、ＯＨラジカルは発生後すぐに活性を失い、エチレンを分解する力が無くなってしまう。そのため、エチレン分解能力を高めるためには、ＯＨラジカル発生量及びエチレンとＯＨラジカルの接触機会を増加させることが必要となる。
【００２６】
そこで、本実施例では、貯水手段１４５に溜まった水が水導入路１４４を通り、保水体１４３に供給される。保水体１４３には保水材を設け、蓄積した水が蒸発し、ミスト発生量が減少することを防止する構造となっている。
【００２７】
蓄積した水をミストとして放出するため、高電圧発生装置１４７から霧化電極１４１に高電圧を印加することによって、霧化電極１４１から微細なミストが発生する。霧化電極１４１の上部には、紫外線を照射する光源１３９を設け、ミストに紫外線を照射することでＯＨラジカルを発生させる。また、発生したＯＨラジカルとエチレンや臭気成分，菌類を反応させるため、送風手段１３８によってミスト発生方向に強制対流を発生させる。
【００２８】
さらに、送風の効果を高めるために、霧化電極１４１と送風手段１３８の間には、冷気流路１４０を設ける。冷気流路１４０には、エチレンや臭気成分，菌類を含む野菜室５内の空気が循環する。エチレンや臭気成分，菌類は、冷気流路１４０内でＯＨラジカルと接触して反応することによって除去される仕組みとなっている。
【００２９】
次に、光源１３９から照射する紫外線の波長は、以下の理由により、３１６〜４００ナノメートル（ｎｍ）とする。酸素分子は、波長が２００ナノメートル〜２４０ナノメートルの光を吸収してオゾンとなる。また、オゾンが発生するとオゾン独特のにおいが発生するため、好ましくない。また、波長３１５ナノメートル以下の光は、例えば野菜等の貯蔵物の組織を破壊する原因となる。従って、本実施形態ではオゾンを発生せずに安全であり、ＯＨラジカル４４生成に有効に活用できる紫外線の波長として、３１６〜４００ナノメートル（ｎｍ）の紫外線の範囲とした。
【００３０】
また、光源１３９と霧化電極１４１の間の距離は、霧化電極１４１に紫外線が届く２０mm以内とする。
【００３１】
以下に、高電圧をかけてミストを発生させる静電霧化装置の一例を示す。図３及び図４において、高電圧を霧化電極１４１及びイオン電極１４２に印加して、微細なミスト及びイオンを発生させる。
【００３２】
図３の高電圧発生装置１４７と、導電体に霧化接続部１２６で吸水時に電気的に接触する霧化電極１４１及びイオン電極１４２と、霧化電極１４１に水を供給する保水体１４３等で構成される。高電圧発生装置１４７で発生させた−３ｋＶ〜−６ｋＶの高電圧を、霧化電極１４１及びイオン電極１４２に印加し、保水体１４３から供給した水分を、霧化電極１４１先端から微細粒にして且つ帯電させ放出する。また、イオン電極１４２からイオンを放出させる。図４の装置において、ミストとイオンを同時に発生させることによって、イオン風と呼ばれる風が発生する。この風によってミストが運ばれ、光源１３９の紫外線との反応性が高くなり、ＯＨラジカルの発生量を増加させることができる。さらに、イオンは活性の高い物質であるため、ミストが活性化した状態となり、ＯＨラジカルが発生しやすい条件となる。
【００３３】
次に、図５は、図４の変形例の静電霧化装置である。図５では、貯水部に間隔を設けて互いに対向した位置にイオン化傾向の異なる２つの電極を配置し、第１の電極と第２の電極を短絡する短絡部を設け、除菌ユニットを組み込んだ静電霧化装置である。静電霧化装置は、主に霧化部１５８，電圧印加部１５５，外郭ケース１５６を有する構成である。
【００３４】
外郭ケース１５６には、噴霧口１５２と、噴霧口１５２を設けた面と直交する外郭ケース１５６の下面に、外郭ケース１５６内への冷気供給口１５１が設けられている。霧化部１５８と電圧印加部１５５は、外郭ケース１５６内部に収納している。このように、霧化電極１５３よりも下方側の外郭ケース１５６に、冷気供給口１５１が備えられている。
【００３５】
霧化部１５８は、ミストを噴霧する霧化先端部を有する霧化電極１５３が設置されている。霧化電極１５３は、アルミニウムやステンレス等の良熱伝導部材である冷却ピン１５７に固定されている。また、冷気供給口１５１から霧化電極１５３の霧化先端部までの最短距離ｄ１に対して、冷気供給口１５１から噴霧口１５２までの最短距離ｄ２の方が短くなる。
【００３６】
このため、冷気供給口１５１から外郭ケース１５６内へ流入した冷気のうち、一部は霧化電極１５３周辺へと流れ込み結露を促進する。また、その他の冷気は霧化電極１５３側を通らずに、噴霧口１５２へショートカットして最も通気抵抗の少ない風路を通る。このショートカットした冷気流れによって、外郭ケース１５６内に積極的に空気の流れが発生する。これにより、外郭ケース１５６内に水分が溜まることなく、流れる冷気と共に循環させることが可能となる。
【００３７】
冷却ピン１５７は、外郭ケース１５６に固定されており、冷却ピン１５７自体は外郭ケース１５６から突出して構成されている。また、霧化電極１５３に対向している位置で、貯蔵室側には、ドーナツ円盤状の対向電極１５４が設けられている。対向電極１５４は、霧化電極１５３の先端と一定距離を保つように取り付けられ、その延長上に噴霧口１５２が構成されている。
【００３８】
さらに、霧化部１５８の近傍には、電圧印加部１５５が設けられている。高電圧を発生する電圧印加部１５５の負電位側は霧化電極１５３と、正電位側は対向電極１５４とそれぞれ電気的に接続されている。電圧印加部１５５は、冷蔵庫の制御部又は静電霧化装置からの入力信号で高圧のＯＮ／ＯＦＦを行う。
【００３９】
次に、図５の静電霧化装置の動作方法について説明する。外郭ケース１５６に設けた冷気供給口１５１から入った空気中の水分は結露して、この結露水が霧化部１５８でミストになった上で噴霧口１５２から噴霧される。すなわち、外郭ケース１５６に空気の出入り口が形成される。そのため、貯蔵室内の空気対流の影響によって、霧化電極１５３周囲まで空気流れが発生する。また、貯蔵室内の野菜等からの蒸散によって、比較的高湿状態の空気が冷気供給口１５１から霧化電極１５３側に効率よく安定的に供給される。
【００４０】
また、冷気供給口１５１を貯蔵室底面側である外郭ケース１５６の下面部分に設けているため、外郭ケース１５６内で結露して貯まった結露水は、冷気供給口１５１より外郭ケース１５６外へと排出することができる。すなわち、冷気供給口１５１が水抜きとしての機能も果たし、水垢の発生を抑制できる。また、冷気供給口１５１から外郭ケース１５６の外部へと排出されるので、電圧印加部１５５への水浸入を防止できる。
【００４１】
さらに、本実施の形態において、発生する微細ミストの粒子径は数ｎｍ〜数十ｎｍと極めて小さい。また、微細ミストが噴霧口１５２付近に付着して、菌類の繁殖を防止することが可能であり、水垢も防止できる。また、高電圧を印加することで、霧化電極１４１そのものも除菌される。
【００４２】
このように、野菜室５内の水蒸気から容易に、かつ確実に霧化電極１５３に結露させることができ、簡易な構成でミスト噴霧を行うことができる。また、霧化電極１５３と電圧印加部１５５を外郭ケース１５６内に収納することで、使用者の手が霧化電極１５３や電圧印加部１５５へ触れることを防止するので、貯蔵室内で高電圧を印加しても使用者の安全性を確保しながら微細ミストを噴霧することができる。
【００４３】
また、水滴が付着した霧化電極１５３に負電圧側、対向電極１５４を正電圧側として、電圧印加部１５５により、この電極間に高電圧（例えば４〜１０ｋＶ）を印加させる。このとき、電極間でコロナ放電が起こり、霧化電極１５３の先端の水滴が、静電エネルギーにより微細化される。さらに、液滴が帯電しているため、レイリー分裂により数ｎｍレベルの目視できない電荷をもったナノレベルの微細ミストと、それに付随してオゾンやＯＨラジカルなどが発生する。電極間に印加する電圧は、４〜１０ｋＶと非常に高電圧であるが、そのときの放電電流値は数μＡレベルであり、入力としては０.５〜１.５Ｗと非常に低入力である。
【００４４】
霧化電極１５３から微細ミストが噴霧されるとき、イオン風が発生する。このときも噴霧口１５２と別個に設けた冷気供給口１５１より、新たに高湿な空気が霧化電極１５３部に流入するため、連続して噴霧することができる。
【００４５】
また、発生した微細ミストは、非常に小さい微粒子のため拡散性が高く、多くのミストからＯＨラジカルが発生し、エチレンや臭気成分，菌類との反応性が高くなる。
【００４６】
また、噴霧される微細ミストは高圧放電で生成されるため、マイナスの電荷を帯びている。そのため、反応性が高い状態となっており、紫外線を照射した際、ＯＨラジカルが発生しやすい。これにより、エチレン，臭気成分及び菌類の除去効果が高まる。
【００４７】
次に、ＯＨラジカルの最適発生条件について説明する。まず、図６を参照しながら保水方法の最適条件について説明する。図６は、密閉した野菜室に見立てた４０Ｌの試験容器内に、３０ppmのエチレンを封入した状態で、ＯＨラジカル発生装置を運転した場合のエチレン残存率の経時変化を測定した結果である。なお、３０ppmのエチレン量は、試験容器内にリンゴを１週間保存したときに発生する量と同等である。
【００４８】
図６において、符号１５９は、表面に水を粒状に保持可能な保水面（撥水面）を形成した保水体に、紫外線を照射したときのエチレン残存率の変化を示す。符号１６０は、超音波により発生させたミストに、紫外線を照射したときのエチレン残存率の変化を示す。符号１６１は、図３又は図４に示す装置で発生させた微細ミストに、紫外線を照射したときのエチレン残存率を示す。
【００４９】
図６の符号１５９の場合、保水面から蒸発する水分しか紫外線のエネルギーを授受できない。そのため、ＯＨラジカルの発生効率が悪く、エチレン除去効果が低い。また、符号１６０の場合、ミスト径が大きいため、紫外線のエネルギーがミストに伝わりにくく、エチレン除去効果が低い。一方、符号１６１は、ミスト径が小さく、水分量も十分あるため、エチレン除去効果が高くなる。従って、高電圧をかけて発生させた微細なミストに紫外線を照射する条件が望ましいことがわかる。
【００５０】
次に、図７を参照しながら、送風を行う風向の最適な条件について説明する。実験条件は、図５の場合と基本的に同様であり、ＯＨラジカル発生装置を備えた試験容器内に、エチレンを３０ppm封入して、エチレン残存率の経時変化を測定した。
【００５１】
図７において、符号１６２は、ミストの発生方向と反対方向に送風を行ったときのエチレン残存率の変化を示す。符号１６３は、ミストの発生方向に送風を行ったときのエチレン残存率の変化を示す。
【００５２】
図７から、ミスト発生方向に送風を行うとエチレン除去効果が高いが、ミスト発生方向に逆らって送風を行うとエチレン除去効果が低くなることがわかる。そのため、送風はミスト発生方向と同様の方向に行うのが望ましい。
【００５３】
次に、図８を参照しながら、最適な送風手段の風速について説明する。実験条件は、図６及び図７の場合と基本的に同様であり、ＯＨラジカル発生装置を備えた試験容器内に、エチレンを３０ppm封入して、エチレン残存率の経時変化を測定した。
【００５４】
図８において、符号１６４は、風速０.８ｍ／ｓで送風を行ったときのエチレン残存率の変化を示す。符号１６５は、風速１.５ｍ／ｓで送風を行ったときのエチレン残存率の変化を示す。符号１６６は、風速２.５ｍ／ｓで送風を行ったときのエチレン残存率の変化を示す。
【００５５】
図８から、風速が高いほどエチレンとＯＨラジカルの接触機会が増加するため、風速とエチレン除去効果は比例すると考えられる。一方、野菜室内で風を循環させる場合、風速を高くするほど野菜室内に保存している野菜の水分を奪うことになる。そのため、風速を遅くするか、野菜室全体に風を循環させないよう独立の風路を設けることが望ましい。
【００５６】
そこで、図９を参照しながら、さらに最適な風速について検討する。図９における実験条件は、密閉した野菜室に設置したファンの風速を、０ｍ／ｓ，１.０ｍ／ｓ，１.５ｍ／ｓ，２.５ｍ／ｓ，３.０ｍ／ｓの５段階に設定し、ほうれん草を４日間保存したときの水分蒸散率をそれぞれ測定した。
【００５７】
図９において、符号１６７は、風速０ｍ／ｓとした場合の水分蒸散率の変化を示す。符号１６８は、風速１.０ｍ／ｓとした場合の水分蒸散率の変化を示す。符号１６９は、風速１.５ｍ／ｓとした場合の水分蒸散率の変化を示す。符号１７０は、風速２.５ｍ／ｓとした場合の水分蒸散率の変化を示す。符号１７１は、風速３.０ｍ／ｓとした場合の水分蒸散率の変化を示す。符号１７２は、従来の野菜室にほうれん草を保存したときの水分蒸散率の変化を示す。
【００５８】
図８から、風速が早くなるに従って、ほうれん草の水分蒸散量が増加することがわかる。符号１６７の場合、すなわち、風が循環しない密閉野菜室では、２.５％程度の蒸散量である。一方、符号１７１の場合、風速３.０ｍ／ｓとなり、９.６％程度の蒸散量となる。また、符号１７２に示す、従来の野菜室におけるほうれん草の水分蒸散率は７.６％である。そのため、従来の野菜室よりも水分蒸散率が小さい条件を、実使用に適用可能と判断する。その結果、風速は１.０ｍ／ｓから２.５ｍ／ｓまでの範囲とすることが望ましい。
【００５９】
次に、図１０を参照しながら、水を補給するタイミングの最適条件について説明する。実験条件は、図６〜図８の場合と基本的に同様であり、ＯＨラジカル発生装置を備えた試験容器内に、エチレンを３０ppm封入して、エチレン残存率の経時変化を測定した。なお、実験前に静電霧化装置の貯水手段には満水となるまで水をいれておき、給水量は１回につき２ｍｌ、測定時間は３時間とした。
【００６０】
図９において、符号１７３は、測定時間の間（３時間）給水をせずにミストを発生させたときのエチレン残存率の変化を示す。符号１７４は、１時間に１度給水を行い、ミストを発生させたときのエチレン残存率の変化を示す。符号１７５は、３０分に１度給水を行い、ミストを発生させたときのエチレン残存率の変化を示す。
【００６１】
図９から、貯水手段に水を入れておいても、３時間給水を行わない場合（符号１７３）、９０分程度でエチレンの減少が見られなくなった。また、１時間に１度給水を行った場合（符号１７４）、２時間経過後はエチレン除去効果が低下した。一方、３０分に１度給水を行った場合（符号１７５）、エチレン除去効果が低下することなかった。これより、少なくとも３０分に１度、２ｍｌずつ給水を行うことが望ましい。
【００６２】
なお、本実施例においては、野菜室内で生じた結露を収集して静電霧化装置に供給することを想定しているが、野菜室内に収納している野菜が少ない場合は、３０分に１度２ｍｌの結露を収集することが困難であることも考えられる。そのため、貯水手段に水を入れる給水手段を設けることが望ましい。
【００６３】
また、送風手段から静電霧化装置の間（冷気流路内）に、エチレン，悪臭成分若しくは菌類を担持させる手段を備える。これにより、ＯＨラジカルとの接触機会を増加させることができ、エチレン，悪臭成分若しくは菌類の除去効果を高めることができる。
【００６４】
本発明は以上説明した構成を有するものであり、以下の効果を有する。すなわち、冷蔵庫内の野菜室において、静電霧化装置（ミスト発生装置）で発生した微細ミストに、紫外線領域を含む光を照射してＯＨラジカルを発生させる。これにより、ＯＨラジカルの拡散を促進し、野菜から発生するエチレンや臭気成分，菌類との接触効率を増加させ、除去効果を高めることができる。よって、冷蔵庫内に保存している食品の劣化を抑制することができる。
【００６５】
なお、本発明は上記した実施例に限定されるものではなく、様々な変形例が含まれる。例えば、上記した実施例は本発明をわかりやすく説明するために詳細に説明したものであり、必ずしも説明した全ての構成を備えるものに限定されるものではない。また、実施例の構成の一部を置き換えることが可能であり、また、追加することも可能である。
【符号の説明】
【００６６】
１  冷蔵庫本体
２  冷蔵室
３  冷凍室
３ａ  製氷室
３ｂ  急冷凍室
４  冷凍室
５  野菜室
３４〜３６  仕切り壁
１３６  野菜室容器
１３７  上部カバー
１３８  送風手段（ファン）
１３９  光源
１４０  冷気流路
１４１，１５３  霧化電極
１４２  イオン電極
１４３  保水体
１４４  水導入路
１４５  貯水手段
１４６  結露収集手段
１４７  高電圧発生装置
１５１  冷気供給口
１５２  噴霧口
１５４  対向電極
１５５  電圧印加部
１５６  外郭ケース
１５７  冷却ピン
１５８  霧化部
１５９  表面に水を粒状に保持可能な保水面（撥水面）を形成した保水体に、紫外線を照射したときのエチレン残存率の変化を示す。
１６０  超音波によりミストを発生させる装置に、紫外線を照射したときのエチレン残存率の変化を示す。
１６１  図３又は図４に示す装置で発生させた微細ミストに、紫外線を照射したときのエチレン残存率を示す。
１６２  ミストの発生方向と反対方向で送風を行ったときのエチレン残存率の変化を示す。
１６３  ミストの発生方向に送風を行ったときのエチレン残存率の変化を示す。
１６４  風速０.８ｍ／ｓで送風を行ったときのエチレン残存率の変化を示す。
１６５  風速１.５ｍ／ｓで送風を行ったときのエチレン残存率の変化を示す。
１６６  風速２.５ｍ／ｓで送風を行ったときのエチレン残存率の変化を示す。
１６７  風速０ｍ／ｓとした場合の水分蒸散率の変化を示す。
１６８  風速１.０ｍ／ｓとした場合の水分蒸散率の変化を示す。
１６９  風速１.５ｍ／ｓとした場合の水分蒸散率の変化を示す。
１７０  風速２.５ｍ／ｓとした場合の水分蒸散率の変化を示す。
１７１  風速３.０ｍ／ｓとした場合の水分蒸散率の変化を示す。
１７２  従来の野菜室に４日間ほうれん草を保存したときの水分蒸散率の変化を示す。
１７３  測定時間の間（３時間）給水をせずにミストを発生させたときのエチレン残存率の変化を示す。
１７４  １時間に１度給水を行い、ミストを発生させたときのエチレン残存率の変化を示す。
１７５  ３０分に１度給水を行い、ミストを発生させたときのエチレン残存率の変化を示す。
【図１】
2012021654.tif 000003
【図２】
2012021654.tif 000004
【図３】
2012021654.tif 000005
【図４】
2012021654.tif 000006
【図５】
2012021654.tif 000007
【図６】
2012021654.tif 000008
【図７】
2012021654.tif 000009
【図８】
2012021654.tif 000010
【図９】
2012021654.tif 000011
【図１０】
2012021654.tif 000012