(57)【要約】【課題】処理時間を短縮し、スループットを向上させ、早期に装置を立ち上げることができる可撓性フィルム処理装置を提供する。【解決手段】可撓性フィルム処理装置は、可撓性フィルムを移動する供給ロール及び巻取りロールと、前記供給ロールと前記巻取りロールの間に設けられ、前記可撓性フィルムを処理する処理室と、前記供給ロールと前記処理室の間に設けられた第一の真空室と、前記処理室と前記巻取りロールの間に設けられた第二の真空室と、を有する。【選択図】図１
2012252854.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可撓性フィルムを移動する供給ロール及び巻取りロールと、
前記供給ロールと前記巻取りロールの間に設けられ、前記可撓性フィルムを処理する処理室と、
前記供給ロールと前記処理室の間に設けられた第一の真空室と、
前記処理室と前記巻取りロールの間に設けられた第二の真空室と
を有する可撓性フィルム処理装置。
【請求項２】
前記第一の真空室は、前記供給ロールとの間及び前記処理室との間にそれぞれゲートバルブを有する請求項１記載の可撓性フィルム処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、可撓性フィルムを処理する可撓性フィルム処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
可撓性フィルムを処理する装置として、処理室の中に巻取りロールと供給ロールと処理空間を有し、各ロールを回転させることでフィルムが処理空間を経由し、その空間の雰囲気でフィルムを処理するものが知られている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０００−２７２０４４号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
１巻分の処理が終了してフィルムを交換する際は、処理空間を大気開放して交換作業を行う必要がある。
【０００５】
しかしながら、処理空間を大気開放すると、大気中の水分等がチャンバ内壁に付着してしまうという問題がある。また、水分が付着した状態で処理空間を真空にする場合、十分な真空度を得ることが出来ず、さらには、付着した水分と副生成物が反応し、パーティクルが発生するおそれがある。
【０００６】
すなわち、処理過程において、処理空間の水分を除去する必要がある。ここで、３００ｍｍ基板を処理する半導体製造装置では、処理空間が大きいことから、通常１から２日、水分除去に時間を要しているが、半導体基板より大きい可撓性フィルムを処理する装置の場合、半導体製造装置と同じか、それ以上の水分除去の時間を要することが考えられる。
【０００７】
本発明の目的は、ロールを交換した場合においても、処理時間を短縮し、スループットを向上させ、早期に装置を立ち上げることができる可撓性フィルム処理装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一態様によれば、可撓性フィルムを移動する供給ロール及び巻取りロールと、前記供給ロールと前記巻取りロールの間に設けられ、前記可撓性フィルムを処理する処理室と、前記供給ロールと前記処理室の間に設けられた第一の真空室と、前記処理室と前記巻取りロールの間に設けられた第二の真空室と、を有する可撓性フィルム処理装置が提供される。
【発明の効果】
【０００９】
この可撓性フィルム処理装置によれば、ロールを交換した場合においても、処理時間を短縮し、スループットを向上させ、早期に装置を立ち上げることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る可撓性フィルム処理装置全体を示す側面図である。
【図２】本発明の第１の実施形態に係る可撓性フィルム処理装置のローダ部周辺を示す（ａ）は側面図、（ｂ）は上面図である。
【図３】本発明の第１の実施形態に係る可撓性フィルム処理装置の処理室周辺を示す側面図である。
【図４】本発明の第１の実施形態に係る可撓性フィルム処理装置に用いられるプラズマ生成装置を説明するための側面断面図である。
【図５】本発明の第１の実施形態に係る可撓性フィルム処理装置のアンローダ部周辺を示す側面図である。
【図６】本発明の第１の実施形態に係る可撓性フィルム処理装置に用いられるローラ対を示す平面図である。
【図７】本発明の第１の実施形態に係る可撓性フィルム処理装置に用いられるローラ対の他の適用例を示し、（ａ）は２対のローラ対、（ｂ）はフィルム搬送路上面に２つ、下面に１つのローラ、（ｃ）はフィルム搬送路上面に１つ、下面に２つのローラを用いる例を示す平面図である。
【図８】本発明の第１の実施形態に係る可撓性フィルム処理装置に用いられるローダ部の他の適用例を示す側面図である。
【図９】本発明の第２の実施形態に係る可撓性フィルム処理装置の一部を示す側面図である。
【図１０】本発明の第３の実施形態に係る可撓性フィルム処理装置の一部を示す側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明に係る第１の実施形態を図面に即して説明する。
【００１２】
図１には、本発明の第１の実施形態に係る可撓性フィルム処理装置１０の全体側面図が示されている。
本実施形態において、本発明に係る可撓性フィルム処理装置１０は、筺体１２を備えている。筺体１２は矩形筒形状に形成されており、筒中空部が可撓性フィルム１５（以下、フィルム１５とする）を処理する処理室（プロセスチャンバ）１４を形成している。
【００１３】
筺体１２のフィルム搬送路２９上流にはゲートバルブ１６ａを介してローダ部１８が連結され、ローダ部１８は第１の真空室であるローダ室２０を形成している。また、フィルム搬送路２９下流にはゲートバルブ１６ｂを介してアンローダ部２２が連結され、アンローダ部２２は第２の真空室であるアンローダ室２４を形成している。すなわち、処理室１４を中心に、その前後にフィルム１５の真空室であるローダ室２０（第一の真空室）とアンローダ室２４（第二の真空室）を隣接している。
【００１４】
また、ローダ部１８のフィルム搬送路２９上流にはゲートバルブ１６ｃを介して供給ロール２６が配置され、アンローダ部２２のフィルム搬送路２９下流にはゲートバルブ１６ｄを介して巻取りロール２８が配置されている。
【００１５】
すなわち、供給ロール２６、ローダ部１８、筺体１２、アンローダ部２２及び巻取りロール２８の間にそれぞれゲートバルブ１６ａ〜１６ｄを設けることにより、ローダ室２０、処理室１４及びアンローダ室２４がそれぞれ真空に維持されている。
【００１６】
また、ローダ部１８、筺体１２、アンローダ部２２には、それぞれ後述するガス供給部と排気部が設けられている。
ローダ部１８の下方には、ガス排気口３６ａが形成されている。このガス排気口３６ａにガス排気管３６ｂが接続され、このガス排気管３６ｂに、上流側から順に、圧力調整バルブ３６ｃと、排気装置としての真空ポンプ３６ｄが設けられ、この圧力調整バルブ３６ｃの開度を調整することで、ローダ室２０内の圧力が所定の値に調整される。
また、筺体１２の下方には、ガス排気口３７ａが形成されている。このガス排気口３７ａにガス排気管３７ｂが接続され、このガス排気管３７ｂに、上流側から順に、圧力調整バルブ３７ｃと、排気装置としての真空ポンプ３７ｄが設けられ、この圧力調整バルブ３７ｃの開度を調整することで、処理室１４内の圧力が所定の値に調整される。
また、アンローダ部２２の下方には、ガス排気口３８ａが形成されている。このガス排気口３８ａにガス排気管３８ｂが接続され、このガス排気管３８ｂに、上流側から順に、圧力調整バルブ３８ｃと、排気装置としての真空ポンプ３８ｄが設けられ、この圧力調整バルブ３８ｃの開度を調整することで、アンローダ室２４内の圧力が所定の値に調整される。
【００１７】
ガス排気口３６ａ、ガス排気管３６ｂ、圧力調整バルブ３６ｃ及び真空ポンプ３６ｄとから排気部３６が構成される。
ガス排気口３７ａ、ガス排気管３７ｂ、圧力調整バルブ３７ｃ及び真空ポンプ３７ｄとから排気部３７が構成される。
ガス排気口３８ａ、ガス排気管３８ｂ、圧力調整バルブ３８ｃ及び真空ポンプ３８ｄとから排気部３８が構成される。
【００１８】
次に、本実施形態に係る可撓性フィルム処理装置１０全体の動作について説明する。
各構成の動作は、制御部１１４により制御される。
【００１９】
フィルム１５が供給ロール２６からフィルム搬送路２９へ供給され、ゲートバルブ１６ｃを介してローダ室２０へ搬送される。ここで、ローダ室２０は、１処理分以上の長さのフィルムを保管することができる。
【００２０】
ローダ室２０に搬送されたフィルム１５は、ゲートバルブ１６ａを介して処理室１４へ搬送される。このとき、ローダ室２０内は、予めガス供給のバルブと圧力調整バルブ３６ｃの開度を調整することにより処理室１４と同圧の雰囲気とされている。
【００２１】
処理室１４に搬送されたフィルム１５は、後述する処理がなされ、ゲートバルブ１６ｂを介してアンローダ室２４へ搬送される。ここで、アンローダ室２４は、１処理分以上の長さのフィルムを保管することができる。このとき、アンローダ室２４内は、予めガス供給のバルブと圧力調整バルブ３８ｃの開度を調整することにより処理室１４と同圧の雰囲気とされている。
【００２２】
すなわち、処理室１４を中心に、その前後にゲートバルブ１６を介して大気と真空を入れ替える真空室（ローダ室２０、アンローダ室２４）を設けることで、処理室１４内を真空に維持することができる。
【００２３】
アンローダ室２４に搬送されたフィルム１５は、ゲートバルブ１６ｄを介して巻取りロール２８により巻き取られる。
【００２４】
次に、ローダ部１８について詳述する。
図２には、本実施形態に係る可撓性フィルム処理装置１０のローダ部１８周辺の（ａ）は側面図、（ｂ）は上面図が示されている。
【００２５】
供給ロール２６とゲートバルブ１６ｃの間のフィルム搬送路２９には、上流側から上ガイド３０ａと下ガイド３０ｂがフィルム搬送路２９に対して対向して設けられ、この上ガイド３０ａ、下ガイド３０ｂの下流には、ローラ３２ａとローラ３２ｂがフィルム搬送路２９に対して対向して設けられている。すなわち、供給ロール２６から供給されたフィルム１５が上下ガイド３０ａ、３０ｂ間からローラ３２ａ、３２ｂ間に導かれ、さらに、ゲートバルブ１６ｃ内のフィルム搬送路２９に略水平に導かれるようになっている。
【００２６】
ローダ部１８のゲートバルブ１６ｃ側の側壁には、入口４０が開設されており、入口４０と対向するゲートバルブ１６ａ側の側壁には、出口４２が開設されている。
【００２７】
入口４０と出口４２の間には、上流側から上ガイド４４ａと下ガイド４４ｂがフィルム搬送路２９に対して対向して設けられている。
【００２８】
上ガイド４４ａ、下ガイド４４ｂの下流には、ローラ４６ａとローラ４６ｂがフィルム搬送路２９に対して対向して設けられ、フィルム搬送路２９は、供給ロール２６からローラ４６ａ、４６ｂ間までは略水平に形成されている。
【００２９】
ローラ４６ａ、４６ｂの下流には、供給ロール２６から前記略水平に形成されたフィルム搬送路２９を垂直方向下方に可動するローラ４８ａとローラ４８ｂがフィルム搬送路２９に対して対向して設けられている。
【００３０】
ローラ４８ａ、４８ｂの下流には、ローラ４６ａ、４６ｂと略水平方向に配置されたローラ５０ａとローラ５０ｂがフィルム搬送路２９に対して対向して設けられている。
【００３１】
ローラ５０ａ、５０ｂの下流側には、上ガイド５２ａと下ガイド５２ｂがフィルム搬送路２９に対して対向して設けられて、フィルム搬送路２９は出口４２に接続されている。
【００３２】
すなわち、ローダ室２０内の略中央に配置されたローラ対４８ａ、４８ｂが供給ロール２６と略水平方向から略垂直方向下に移動されることにより、供給ロール２６から略水平に形成されたフィルム搬送路２９が、ローラ対４６ａ、４６ｂを通過して略垂直方向下方に変形され、ローラ対４８ａ、４８ｂを最下点として通過して略垂直方向上方に変形されて、ローラ対５０ａ、５０ｂを通過して略水平方向に変形されて、ローダ室２０から排出され、ゲートバルブ１６ａへ搬送され、これにより、１処理分以上の長さのフィルムをローダ室２０内に保管することができる。
【００３３】
ローダ部１８の天井壁には、パージガスをローダ室２０内に供給するパージガス供給口３４ａが開設されている。また、ローダ部１８の下側面には、ローダ室２０内のガスを排気するガス排気口３６ａが形成されており、このガス排気口３６ａはガス排気管３６ｂに接続されている。
【００３４】
パージガス供給口３４ａにはパージガス供給管３４ｂの一端が接続されている。パージガス供給管３４ｂには、上流から順に、パージガス供給源３４ｅ、パージガスの流量を調整する流量制御装置３４ｄ、ガス流路を開閉するバルブ３４ｃが設けられている。バルブ３４ｃを開閉することで、パージガス供給管３４ｂからローダ室２０内にパージガスが供給され、又は供給停止される。
【００３５】
パージガス供給口３４ａとパージガス供給管３４ｂとバルブ３４ｃと流量制御装置３４ｄとパージガス供給源３４ｅとから、パージガス供給部３４が構成される。流量制御装置３４ｄとバルブ３４ｃは、制御部１１４と電気的に接続されており、制御部１１４により制御される。
【００３６】
次に、ローダ部１８の動作について詳述する。
各構成の動作は、制御部１１４により制御される。
【００３７】
ローラ３２ａ、４６ａ、４８ａはフィルム１５を軽く抑え、ローラ５０ａはフィルム１５を固定するものである。
【００３８】
まず、ローラ対４８を図２の破線で示されている上方の位置（供給ロール２６から略水平の位置）に配置させる。このとき、ゲートバルブ１６ｃは開かれ、ゲートバルブ１６ａは閉められる。ここで、ゲートバルブ１６ｃ、１６ａを閉めた状態からゲートバルブ１６ｃを開く場合には、圧力調整バルブ３６ｃを閉め、パージガスである例えばＮ2（窒素）ガスをスローリークさせ、塵埃の巻上げを防止する。
【００３９】
次に、供給ロール２６からフィルム１５の先端をはがし、上下ガイド３０にセットし、供給ロール２６を回転させる。
【００４０】
フィルム１５の先端がローラ対３２に達すると、ローラ３２ｂ、４６ｂ、４８ｂ、５０ｂが供給ロール２６の回転に同期して回転を始める。
【００４１】
フィルム１５の先端がゲートバルブ１６ａに達すると、供給ロール２６とローラ３２ｂ、４６ｂ、４８ｂ、５０ｂは回転を停止する。
【００４２】
次に、供給ロール２６とローラ４８ｂは同期して回転し、同時に、ローラ対４８が一定の速度で下降する。
【００４３】
次に、ゲートバルブ１６ｃが閉められ、ローダ室２０内の圧力を圧力調整バルブ３６ｃを調整することにより、処理室１４内と同圧力にする。
【００４４】
次に、ゲートバルブ１６ａが開かれる。
【００４５】
次に、処理室１４について詳述する。
図３には、本実施形態に係る可撓性フィルム処理装置１０の処理室１４周辺が示されている。
【００４６】
処理室１４を構成する筺体１２のゲートバルブ１６ａ側の側壁には、入口４９が開設されており、入口４９と対向するゲートバルブ１６ｂ側の側壁には、出口５１が開設されている。
【００４７】
入口４９と出口５１の間には、上流側からローラ５３ａとローラ５３ｂがフィルム搬送路２９に対して対向して設けられている。
【００４８】
ローラ５３ａ、５３ｂの下流には、処理台５２が設けられている。
【００４９】
処理台５２の下流には、ローラ５４ａとローラ５４ｂがフィルム搬送路２９に対して対向して設けられ、フィルム搬送路２９は出口５１に接続されている。
【００５０】
筺体１２の天井壁には、パージガスを処理室１４内に供給するパージガス供給口５６ａと処理ガスを処理室１４内に供給する処理ガス供給口５８ａが開設されている。
【００５１】
パージガス供給口５６ａにはパージガス供給管５６ｂの一端が接続されている。パージガス供給管５６ｂには、上流から順に、パージガス供給源５６ｅ、パージガスの流量を調整する流量制御装置５６ｄ、ガス流路を開閉するバルブ５６ｃが設けられている。バルブ５６ｃを開閉することで、パージガス供給管５６ｂから処理室１４内にパージガスが供給され、又は供給停止される。
【００５２】
パージガス供給口５６ａとパージガス供給管５６ｂとバルブ５６ｃと流量制御装置５６ｄとパージガス供給源５６ｅとから、パージガス供給部５６が構成される。流量制御装置５６ｄとバルブ５６ｃは、制御部１１４と電気的に接続されており、制御部１１４により制御される。
【００５３】
処理ガス供給口５８ａには処理ガス供給管５８ｂの一端が接続されている。処理ガス供給管５８ｂには、上流から順に、処理ガス供給源５８ｅ、処理ガスの流量を調整する流量制御装置５８ｄ、ガス流路を開閉するバルブ５８ｃが設けられている。バルブ５８ｃを開閉することで、処理ガス供給管５８ｂから処理室１４内に処理ガスが供給され、又は供給停止される。
【００５４】
処理ガス供給口５８ａと処理ガス供給管５８ｂとバルブ５８ｃと流量制御装置５８ｄと処理ガス供給源５８ｅとから、処理ガス供給部５８が構成される。流量制御装置５８ｄとバルブ５８ｃは、制御部１１４と電気的に接続されており、制御部１１４により制御される。
【００５５】
処理ガス供給部５８は処理台５２の上方に略水平に配設されたガスノズル６０に接続されている。ガスノズル６０には不図示の複数のガス供給孔６２が形成されている。
【００５６】
すなわち、処理ガス供給源５８ｅから供給された処理ガスは、流量制御装置５８ｄ、バルブ５８ｃ、処理ガス供給口５８ａ、ガスノズル６０及び複数のガス供給孔６２を介して処理室１４へ供給される。
【００５７】
筺体１２の下壁には、処理室１４内のガスを排気するガス排気口３７ａが形成されており、このガス排気口３７ａには上述したガス排気管３７ｂに接続されるように設けられている。
【００５８】
筺体１２の上壁には、プラズマを生成するプラズマ生成装置６４が設けられている。
図４には、本実施形態に係る可撓性フィルム処理装置に用いられるプラズマ生成装置６４の側面断面図が示されている。
図４に示されているように、本実施形態に係るプラズマ生成装置６４は、絶縁材料が用いられて正方形枠形状に形成されたブラケット６６を備えている。ブラケット６６は筐体１２の天井壁に建て込まれて固定されており、ブラケット６６の枠内にはホルダ６８が嵌め込まれている。
【００５９】
ホルダ６８は、石英（ＳｉＯ2）等の誘電体が用いられて正方形板形状に形成されている。ホルダ６８の上面には、フィルム１５の搬送方向と直交する方向に、複数条の細い長方形の長溝６８ａが等しいピッチをもって整列されて、一定深さに没設されている。
【００６０】
プラズマ生成装置６４は一対の電極としてのくし型電極対７０を備えており、くし型電極対７０はアノード電極７２及びカソード電極７４を複数組（図示例では４組）備えている。アノード電極７２及びカソード電極７４は細長い長方形平板形状にそれぞれ形成されており、隣り合う長溝６８ａ、６８ａにそれぞれ収納されている。すなわち、各電極７２、７４はフィルム１５の搬送方向と直行するように設けられている。
プラズマ７６は、各電極７２、７４の間であって、これらの電極７２、７４の延伸方向に生成される。
【００６１】
各電極７２、７４をフィルム１５の搬送方向に対して直行方向に配置させることで、生成されたプラズマ７６がフィルム１５の表面を走査する。従って、フィルム１５上に均一にプラズマ７６を晒すことができる。
【００６２】
長溝６８ａ、６８ａにそれぞれ収納されたアノード電極７２及びカソード電極７４は、長溝６８ａの底壁６８ｂによって処理室１４から分離されている。
このように、くし型電極対７０と処理室１４との間に誘電体製のホルダ６８が設けられるため、電極７２、７４がプラズマ７６によって削られて生成される金属片による金属汚染を防止することができる。
【００６３】
プラズマ生成装置６４には高周波電源７８が接続されており、高周波電源７８は整合器８０及び絶縁トランス８２を介して、くし型電極対７０に接続されている。すなわち、高周波電源７８は、整合器８０を介して絶縁トランス８２の一次側に接続されており、絶縁トランス８２の二次側にはくし型電極対７０が接続されている。くし型電極対７０の複数組のアノード電極７２及びカソード電極７４は、絶縁トランス８２に並列に接続されている。
【００６４】
なお、プラズマ生成装置６４、高周波電源７８、整合器８０、絶縁トランス８２をプラズマ生成部と呼ぶ。
【００６５】
次に、処理室１４内の動作について詳述する。
各構成の動作は、制御部１１４により制御される。
【００６６】
ローラ５３ａ、５４ａはフィルム１５を軽く抑えるものである。
【００６７】
まず、処理室１４内を圧力調整バルブ３７ｃを調整して予め所望の圧力とする。所望の圧力となったら、ゲートバルブ１６ａは開かれ、ゲートバルブ１６ｂは閉められる。
【００６８】
次に、ローラ４８ｂ、５０ｂ、５３ｂ、５４ｂが同回転数で回転し、これに同期してローラ対４８は上昇する。
【００６９】
フィルム１５の先端がローラ対５４に達すると、ローラ４８ｂ、５０ｂ、５３ｂ、５４ｂの回転は停止し、ローラ対４８の上昇は停止する。
【００７０】
次に、バルブ５８ｃが開かれ、処理室１４内に処理ガスが供給されるとともに、プラズマが生成されて処理室内をプラズマ状態とする。
【００７１】
バルブ５８ｃが閉じられて処理ガスの供給が終了され、バルブ５６ｃが開かれて、処理室１４内に例えばＮ2（窒素）ガスのパージガスが供給されると共に、圧力調整バルブ３７ｃを調整することにより、処理室１４内の処理ガスをパージガスで押し出すと共に真空排気する。
【００７２】
次に、ゲートバルブ１６ａが閉められ、ゲートバルブ１６ｂが開かれる。
【００７３】
このように、フィルム１５が順次搬入され、プラズマ生成装置６４の下でプラズマ処理される。
【００７４】
次に、アンローダ部２２について詳述する。
図５には、本実施形態に係る可撓性フィルム処理装置１０のアンローダ部２２周辺の側面図が示されている。
【００７５】
アンローダ部２２のゲートバルブ１６ｂ側の側壁には、入口８６が開設されており、入口８６と対向するゲートバルブ１６ｄ側の側壁には、出口８８が開設されている。
【００７６】
入口８６と出口８８の間には、上流側から上ガイド９０ａと下ガイド９０ｂがフィルム搬送路２９に対して対向して設けられている。
【００７７】
上ガイド９０ａ、下ガイド９０ｂの下流には、ローラ９２ａとローラ９２ｂがフィルム搬送路２９に対して対向して設けられている。
【００７８】
ローラ９２ａ、９２ｂの下流には、処理室１４内から前記略水平に形成されたフィルム搬送路２９を垂直方向下方に可動するローラ９４ａとローラ９４ｂがフィルム搬送路２９に対して対向して設けられている。
【００７９】
ローラ９４ａ、９４ｂの下流には、ローラ９２ａ、９２ｂと略水平方向に配置されたローラ９６ａとローラ９６ｂがフィルム搬送路２９に対して対向して設けられている。
【００８０】
ローラ９６ａ、９６ｂの下流には、上ガイド９８ａと下ガイド９８ｂがフィルム搬送路２９に対して対向して設けられて、フィルム搬送路２９は出口８８に接続されている。
【００８１】
すなわち、アンローダ室２４内の略中央に配置されたローラ対９４ａ、９４ｂが処理室１４から略水平に搬送されたフィルム搬送路２９を略垂直方向下に移動させることにより、処理室１４から略水平に搬送されたフィルム搬送路２９が、ローラ対９２ａ、９２ｂを通過して略垂直方向下方に変形され、ローラ対９４ａ、９４ｂを最下点として通過して略垂直方向上方に変形されて、ローラ対９６ａ、９６ｂを通過して略水平方向に変形されて、アンローダ室２４から排出され、ゲートバルブ１６ｄへ搬送され、これにより、１処理分以上の長さのフィルムをアンローダ室２４内に保管することができる。
【００８２】
アンローダ部２２の天井壁には、パージガスをアンローダ室２４内に供給するパージガス供給口８４ａが開設されている。また、アンローダ部２２の下側面には、アンローダ室２４内のガスを排気するガス排気口３８ａが形成されており、このガス排気口３８ａは上述したガス排気管３８ｂに接続される。
【００８３】
パージガス供給口８４ａにはパージガス供給管８４ｂの一端が接続されている。パージガス供給管８４ｂには、上流から順に、パージガス供給源８４ｅ、パージガスの流量を調整する流量制御装置８４ｄ、ガス流路を開閉するバルブ８４ｃが設けられている。バルブ８４ｃを開閉することで、パージガス供給管８４ｂからアンローダ室２４内にパージガスが供給され、又は供給停止される。
【００８４】
パージガス供給口８４ａとパージガス供給管８４ｂとバルブ８４ｃと流量制御装置８４ｄとパージガス供給源８４ｅとから、パージガス供給部８４が構成される。流量制御装置８４ｄとバルブ８４ｃは、制御部１１４と電気的に接続されており、制御部１１４により制御される。
【００８５】
次に、アンローダ部２２の動作について詳述する。
各構成の動作は、制御部１１４により制御される。
【００８６】
ローラ９２ａ、９４ａ、９７ａはフィルム１５を軽く抑え、ローラ９６ａはフィルム１５を固定するものである。
【００８７】
まず、ゲートバルブ１６ｂは開かれ、ゲートバルブ１６ｄは閉められる。ここで、ゲートバルブ１６ｂ、１６ｄを閉めた状態からゲートバルブ１６ｂを開く場合には、圧力調整バルブ３８ｃを閉め、パージガスである例えばＮ2（窒素）ガスをスローリークさせ、塵埃の巻上げを防止する。これにより、アンローダ室２４内から処理室１４内へパーティクルが侵入することが防止される。
【００８８】
次に、ローラ９２ｂ、９４ｂ、９６ｂが同回転数で回転し、これに同期してローラ対９４は下降する。
【００８９】
フィルム１５の先端が巻取りロール２８に達するとフィルム１５は巻取りロール２８に巻き取られる。
【００９０】
上述したローダ部１８からアンローダ部２２の動作を少なくとも２回以上繰り返す。
【００９１】
なお、本実施形態においては、処理ガスを電極によってプラズマ状態とする例について詳述したが、これに限らず、蒸発源やプラズマ放出源を用いてもよい。
【００９２】
また、本実施形態においては、図６に示されるように、フィルム１５をフィルム１５の搬送方向に対して略垂直に配置された１対のローラを複数用いて搬送する例（図６においては例えばローラ対３２について図示）について詳述したが、これに限らず、図７（ａ）に示されるようにフィルム１５の搬送方向に対して略垂直に配置された２対のローラを複数用いる場合や、図７（ｂ）に示されるようにフィルム１５の搬送方向に対して略垂直にフィルム搬送路２９の上面に２つのローラ、下面に１つのローラを複数用いる場合や、図７（ｃ）に示されるようにフィルム１５の搬送方向に対して略垂直にフィルム搬送路２９上面に１つのローラ、下面に２つのローラを複数用いる場合や、これらを組み合わせて用いる場合にも適用できる。
【００９３】
次に、本発明の実施形態に係る可撓性フィルム処理装置１０に用いられるローダ部１８の他の適用例について詳述する。
図８には、本発明の実施形態に係る可撓性フィルム処理装置１０に用いられるローダ部１８の側面図が示されている。
【００９４】
上述の実施形態においては、ローダ室２０の略中央に配置されたローラ対４８が略水平方向から略垂直方向下へ移動する例について詳述したが、図８に示されているように、ローダ室２０の略中央に配置されたローラ対４８を略水平方向から略垂直方向上へ移動させてもよい。これによっても１処理分以上の長さのフィルムをローダ室２０内に保管することができ、さらにフィルム裏面に傷をつけることを防止できる。また、同様に、アンローダ室２４の略中央に配置されたローラ対９４を略水平方向から略垂直方向上へ移動させてもよい。これによっても１処理分以上の長さのフィルムをアンローダ室２４内に保管することができ、さらにフィルム裏面に傷をつけることを防止できる。
【００９５】
次に、第２の実施形態に係る可撓性フィルム処理装置について詳述する。
図９には、本発明の第２の実施形態に係る可撓性フィルム処理装置１００の全体側面図が示されている。ここで、本発明の第２の実施形態においては上述した第１の実施形態同様、ローダ室、処理室及びアンローダ室に、それぞれガス供給部、排気部が接続されているが、説明の便宜上省略している。
以下、本発明の第１の実施形態に係る可撓性フィルム処理装置１０と異なる点のみ説明する。
【００９６】
第２の実施形態に係る可撓性フィルム処理装置１００においては、処理室１４を形成する筺体１２のフィルム搬送路２９の上流側に、第１のローダ部１８ａと第２のローダ部１８ｂの２つの真空室が設けられている。すなわち、供給ロール２６にはゲートバルブ１６ｃを介して第１のローダ部１８ａが連結され、第１のローダ部１８ａにはゲートバルブ１６ｅを介して第２のローダ部１８ｂが連結され、第２のローダ部１８ｂにはゲートバルブ１６ａを介して筺体１２が連結されている。そして、筺体１２にはゲートバルブ１６ｂを介して不図示のアンローダ部２２が連結されて、アンローダ部２２の下流側にはゲートバルブ１６ｄを介して巻取りロール２８が配置されている。
【００９７】
ここで、第１のローダ部１８ａは第１のローダ室２０ａを形成し、第２のローダ部１８ｂは第２のローダ室２０ｂを形成し、筺体１２は処理室１４を形成し、アンローダ部２２はアンローダ室２４を形成している。
【００９８】
すなわち、供給ロール２６、第１のローダ室２０ａ、第２のローダ室２０ｂ、処理室１４、アンローダ室２４及び巻取りロール２８間にそれぞれゲートバルブ１６ａ〜１６ｅが設けられることにより、第１のローダ室２０ａ、第２のローダ室２０ｂ、処理室１４及びアンローダ室２４がそれぞれ真空に維持されている。
【００９９】
したがって、供給ロール２６から供給されたフィルム１５は、ゲートバルブ１６ｃ、第１のローダ室２０ａ、ゲートバルブ１６ｅ、第２のローダ室２０ｂ、ゲートバルブ１６ａ、処理室１４、ゲートバルブ１６ｂ、アンローダ室２４及びゲートバルブ１６ｄ内に配置されたフィルム搬送路２９を搬送されて、巻取りロール２８で巻き取られる。
【０１００】
すなわち、第２の実施形態による可撓性フィルム処理装置１００によれば、処理室１４の上流側の真空室であるローダ室２０を複数設けることにより、短い処理時間でより真空度を高めることができる。また、搬送律束が少なくなり、処理能力が向上する。
【０１０１】
次に、第３の実施形態に係る可撓性フィルム処理装置について詳述する。
図１０には、本発明の第３の実施形態に係る可撓性フィルム処理装置１１０の全体側面図が示されている。ここで、本発明の第３の実施形態においても上述した第１の実施形態同様、ローダ室、処理室及びアンローダ室に、それぞれガス供給部、排気部が接続されているが、説明の便宜上省略している。
【０１０２】
第３の実施形態に係る可撓性フィルム処理装置１１０においては、第１の筺体１２ａと第２の筺体１２ｂの２つの筺体を設け、第１の処理室１４ａと第２の処理室１４ｂの２つの処理室を形成する。第１の筺体１２ａと第２の筺体１２ｂはゲートバルブ１６ｆを介して連結されている。すなわち、供給ロール２６にはゲートバルブ１６ｃを介してローダ部１８が連結され、ローダ部１８にはゲートバルブ１６ａを介して第１の筺体１２ａが連結されている。そして、第１の筺体１２ａにはゲートバルブ１６ｆを介して第２の筺体１２ｂが連結され、第２の筺体１２ｂにはゲートバルブ１６ｂを介してアンローダ部２２が連結されて、アンローダ部２２はゲートバルブ１６ｄを介して巻取りロール２８が配置されている。
【０１０３】
ここで、ローダ部１８はローダ室２０を形成し、第１の筺体１２ａは第１の処理室１４ａを形成し、第２の筺体１２ｂは第２の処理室１４ｂを形成し、アンローダ部２２はアンローダ室２４を形成している。
【０１０４】
すなわち、供給ロール２６、ローダ室２０、第１の処理室１４ａ、第２の処理室１４ｂ、アンローダ室２４及び巻取りロール２８間にそれぞれゲートバルブ１６ａ〜１６ｄ及び１６ｆがそれぞれ設けられることにより、ローダ室２０、第１の処理室１４ａ、第２の処理室１４ｂ及びアンローダ室２４がそれぞれ真空に維持されている。
【０１０５】
また、第１の筺体１２ａの上壁には、上述したプラズマ生成装置６４と第１の処理ガスを第１の処理室１４ａ内へ供給する第１の処理ガス供給管５８ｂが設けられ、第１の処理室１４ａ内においては、フィルム１５に第１の処理ガスが供給されてプラズマ処理がなされる。
【０１０６】
また、第２の筺体１２ｂの上壁には、加熱装置であるヒータ１１２と第２の処理ガスを第２の処理室１４ｂ内へ供給する第２の処理ガス供給管５９ｂが設けられ、第２の処理室１４ｂ内においては、第１の処理室１４ａ内にてプラズマ処理されたフィルム１５に第２の処理ガスを供給して加熱することにより改質処理がなされる。
【０１０７】
したがって、供給ロール２６から供給されたフィルム１５は、ゲートバルブ１６ｃ、ローダ室２０、ゲートバルブ１６ａ、第１の処理室１４ａ、ゲートバルブ１６ｆ、第２の処理室１４ｂ、ゲートバルブ１６ｂ、アンローダ室２４及びゲートバルブ１６ｄ内に配置されたフィルム搬送路２９を搬送されて、巻取りロール２８で巻き取られる。
【０１０８】
以上、第３の実施形態による可撓性フィルム処理装置１１０によれば、プラズマ処理をする第１の処理室１４ａと熱処理をする第２の処理室１４ｂをゲートバルブ１６ｆを介して連結させて設けることで、フィルム１５をプラズマ処理した後、改質処理して、スループットを向上させることができる。すなわち、処理の異なる処理室を２つ設けることで、連続処理をしてスループットを向上させることができる。
【０１０９】
なお、第３の実施形態においては、プラズマ処理をした後に、熱処理をして改質処理する例について詳述したが、これに限らず、第１の処理室１４ａに第１の処理ガス供給管５８ｂにより第１の処理ガスを供給して第１層を成膜し、第２の処理室１４ｂに第２の処理ガス供給管５９ｂにより第２の処理ガスを供給することにより第１層の表面に第２層を成膜して積層膜を形成する例についても適用できる。
【０１１０】
また、第１の処理室１４ａにおける処理が第２の処理室１４ｂに影響する恐れがある場合には、第１の処理室１４ａと第２の処理室１４ｂの間にローダ部１８を設け、各処理室の雰囲気を隔離するようにしてもよい。
【０１１１】
本実施形態においても、他の実施形態と同様にスループットを向上させることができる。
【０１１２】
以上、本発明によれば、処理室１４の外に供給ロール２６及び巻取りロール２８が設けられるので、処理室１４を大気開放する必要がない。したがって、早期に装置を立ち上げることが可能となる。また、処理室１４の前後に１処理分以上の長さのフィルムを保管できる真空室（ローダ室２０、アンローダ室２４）を配置することで、この真空室において大気と真空を入れ替え、処理室１４内の真空状態を維持することが可能となる。
【０１１３】
なお、本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々に変更が可能であることはいうまでもない。
【０１１４】
［本発明の好ましい態様］
以下に、本発明の好ましい態様について付記する。
【０１１５】
本発明の一態様によれば、可撓性フィルムを移動する供給ロール及び巻取りロールと、前記供給ロールと前記巻取りロールの間に設けられ、前記可撓性フィルムを処理する処理室と、前記供給ロールと前記処理室の間に設けられた第一の真空室と、前記処理室と前記巻取りロールの間に設けられた第二の真空室と、を有する可撓性フィルム処理装置が提供される。
【０１１６】
好ましくは、前記第一の真空室は、前記供給ロールとの間及び前記処理室との間にそれぞれゲートバルブを有する。
【０１１７】
好ましくは、前記第一の真空室は、前記処理室で処理する長さ分のフィルムを保管できる。
【０１１８】
好ましくは、前記第一の真空室は、上下に移動可能なロールを有する。
【符号の説明】
【０１１９】
１０、１００、１１０    可撓性フィルム処理装置
１２    筐体
１４    処理室
１５    可撓性フィルム
１６    ゲートバルブ
１８    ローダ部
２０    ローダ室
２２    アンローダ部
２４    アンローダ室
２６    供給ロール
２８    巻取りロール
２９    フィルム搬送路
３６，３７，３８    排気部
３６ａ，３７ａ，３８ａ  ガス排気口
３６ｂ，３７，３８ｂ  ガス排気管
３６ｃ，３７ｃ，３８ｃ  圧力調整バルブ
３６ｄ，３７ｄ，３８ｄ  真空ポンプ
３４、５６、８４  パージガス供給部
５８    処理ガス供給部
６４    プラズマ生成装置
１１４  制御部
【図１】
2012252854.tif 000003
【図２】
2012252854.tif 000004
【図３】
2012252854.tif 000005
【図４】
2012252854.tif 000006
【図５】
2012252854.tif 000007
【図６】
2012252854.tif 000008
【図７】
2012252854.tif 000009
【図８】
2012252854.tif 000010
【図９】
2012252854.tif 000011
【図１０】
2012252854.tif 000012