(57)【要約】      （修正有）【課題】帯状の基板に表示素子を効率的に製造することができる露光装置を提供する。【解決手段】マスクＭに形成されたパターンＰｍを基板Ｓに転写する露光装置ＥＸであって、マスクＭを照明する照明装置ＩＵと、基板Ｓに対してパターンＰｍの拡大像を投影する投影装置ＰＵと、マスクＭを保持する第一円筒面３１を有し、第一円筒面３１の周方向に回転するマスク保持部４０と、基板を搬送する第二円筒面３２を有し、マスク保持部４０と同一の回転軸Ｃを中心として第二円筒面３２の周方向に回転する基板搬送部５０とを備える。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクに形成されたパターンを基板に転写する露光装置であって、
前記マスクを保持する第一円筒面を有し、前記第一円筒面の周方向に回転するマスク保持部と、
前記基板を搬送する第二円筒面を有し、前記マスク保持部と同一の回転軸を中心として前記第二円筒面の周方向に回転する基板搬送部と
を備える露光装置。
【請求項２】
前記マスク保持部は、前記パターンが前記第一円筒面に沿うように前記マスクを保持し、
前記基板搬送部は、前記基板が前記第二円筒面に沿うように前記基板を支持する
請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記マスク保持部及び前記基板搬送部は、一体的に設けられている
請求項１又は請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記マスク保持部及び前記基板搬送部は、前記回転軸の軸方向にずれた位置に配置されている
請求項１から請求項３のうちいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項５】
前記マスク保持部及び前記基板搬送部のうち少なくとも一方は、複数設けられている
請求項１から請求項４のうちいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項６】
前記マスク保持部及び前記基板搬送部は、前記回転軸の軸方向に交互に配置されている
請求項５に記載の露光装置。
【請求項７】
前記マスク保持部及び前記基板搬送部は、前記回転軸を中心軸とする一の円筒部材に設けられている
請求項１から請求項６のうちいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項８】
前記パターンを前記基板に転写する光学系を更に備え、
前記光学系の少なくとも一部は、前記円筒部材の内側に配置されている
請求項７に記載の露光装置。
【請求項９】
前記マスク保持部は、複数設けられ、
複数の前記マスク保持部に保持される前記マスクには、異なるパターンが形成され、
前記光学系は、異なる前記パターン同士が前記基板上に接続された状態で転写されるように配置されている
請求項８に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記円筒部材を回転させる回転駆動部を更に備え、
前記回転駆動部は、前記円筒部材のうち前記回転軸の軸方向の端部に駆動力を作用させる
請求項７から請求項９のうちいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１１】
前記回転駆動部は、移動子及び固定子を有するリニアモータ機構を有し、
前記移動子は、前記円筒部材の前記端部に設けられており、
前記固定子は、前記円筒部材の前記端部に対向する位置に設けられている
請求項１０に記載の露光装置。
【請求項１２】
前記回転軸が鉛直方向に沿うように前記円筒部材を保持する保持部を更に備える
請求項７から請求項１１のうちいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１３】
前記マスク保持部は、前記マスクを前記第一円筒面の周方向に移動させるマスク移動部を有する
請求項１から請求項１２のうちいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１４】
前記基板搬送部に掛けられる前記基板について前記回転軸の軸方向における位置を調整する調整部を更に備える
請求項１から請求項１３のうちいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１５】
前記調整部は、前記基板搬送部へ前記基板を案内する案内ローラーと、前記案内ローラーの傾きを調整する傾斜調整部と、を有する
請求項１４に記載の露光装置。
【請求項１６】
前記調整部は、前記基板の位置を検出する検出部を有する
請求項１４又は請求項１５に記載の露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ディスプレイ装置などの表示装置を構成する表示素子として、例えば液晶表示素子、有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）素子が知られている。現在、これらの表示素子では、各画素に対応して基板表面に薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor：ＴＦＴ）を形成する能動的素子（アクティブデバイス）が主流となってきている。
【０００３】
近年では、可撓性を有する基板（例えばフィルム部材など）上に表示素子を形成する技術が提案されている。このような技術として、例えばロール・トゥ・ロール方式（以下、単に「ロール方式」と表記する）と呼ばれる手法が知られている（例えば、特許文献１参照）。ロール方式では、基板供給側の供給用ローラーに巻かれた帯状の基板を送り出すと共に送り出された基板を基板回収側の回収用ローラーで巻き取りながら基板を搬送する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】国際公開第２００８／１２９８１９号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、表示装置では表示画面の大型化が期待されており、上記のようなロール方式においても、帯状の基板に大型の表示素子を効率的に製造可能とする技術が要望されている。
【０００６】
そこで、本発明の態様は、帯状の基板に表示素子を効率的に製造することができる露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の態様に従えば、マスクに形成されたパターンを基板に転写する露光装置であって、マスクを保持する第一円筒面を有し、第一円筒面の周方向に回転するマスク保持部と、基板を搬送する第二円筒面を有し、マスク保持部と同一の回転軸を中心として第二円筒面の周方向に回転する基板搬送部とを備える露光装置が提供される。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の態様によれば、帯状の基板に表示素子を効率的に製造することができる露光装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の第一実施形態に係る基板処理装置の構成を示す図である。
【図２】本実施形態に係る露光装置の構成を示す模式図である。
【図３】本実施形態に係る露光装置の一部の構成を示す図である。
【図４】本実施形態に係る露光装置の一部の構成を示す図である。
【図５】本発明の第二実施形態に係る基板処理装置の構成を示す図である。
【図６】本実施形態に係る露光装置の他の構成を示す図である。
【図７】本実施形態に係る露光装置の他の構成を示す図である。
【図８】本実施形態に係る露光装置の他の構成を示す図である。
【図９】本実施形態に係る露光装置の他の構成を示す図である。
【図１０】本実施形態に係る露光装置の他の構成を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、図面を参照して、本実施の形態を説明する。  
［第一実施形態］  
図１は、第一実施形態に係る基板処理装置１００の構成を示す模式図である。  
図１に示すように、基板処理装置１００は、帯状の基板（例えば、帯状のフィルム部材）Ｓを供給する基板供給部２と、基板Ｓの表面（被処理面）Ｓａに対して処理を行う基板処理部３と、基板Ｓを回収する基板回収部４と、これらの各部を制御する制御部ＣＯＮＴと、を有している。
【００１１】
基板処理部３は、基板供給部２から基板Ｓが送り出されてから、基板回収部４によって基板Ｓが回収されるまでの間に、基板Ｓの表面に各種処理を実行するための基板処理装置１００を備える。この基板処理装置１００は、基板Ｓ上に例えば有機ＥＬ素子、液晶表示素子等の表示素子（電子デバイス）を形成する場合に用いることができる。
【００１２】
なお、本実施形態では、図１に示すようにＸＹＺ座標系を設定し、以下では適宜このＸＹＺ座標系を用いて説明を行う。ＸＹＺ座標系は、例えば、水平面に沿ってＸ軸及びＹ軸が設定され、鉛直方向に沿って上向きにＺ軸が設定される。また、基板処理装置１００は、全体としてＸ軸に沿って、そのマイナス側（−側）からプラス側（＋側）へ基板Ｓを搬送する。その際、帯状の基板Ｓの幅方向（短尺方向）は、Ｙ軸方向に設定される。
【００１３】
基板処理装置１００において処理対象となる基板Ｓとしては、例えば樹脂フィルムやステンレス鋼などの箔（フォイル）を用いることができる。例えば、樹脂フィルムは、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエステル樹脂、エチレンビニル共重合体樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、セルロース樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、酢酸ビニル樹脂、などの材料を用いることができる。
【００１４】
基板Ｓは、例えば２００℃程度の熱を受けても寸法が変わらないように熱膨張係数が小さい方が好ましい。例えば、無機フィラーを樹脂フィルムに混合して熱膨張係数を小さくすることができる。無機フィラーの例としては、酸化チタン、酸化亜鉛、アルミナ、酸化ケイ素などが挙げられる。
【００１５】
基板Ｓの幅方向（短尺方向）の寸法は例えば１ｍ〜２ｍ程度に形成されており、長さ方向（長尺方向）の寸法は例えば１０ｍ以上に形成されている。勿論、この寸法は一例に過ぎず、これに限られることは無い。例えば基板ＳのＹ方向の寸法が５０ｃｍ以下であっても構わないし、２ｍ以上であっても構わない。また、基板ＳのＸ方向の寸法が１０ｍ以下であっても構わない。
【００１６】
基板Ｓは、可撓性を有するように形成されている。ここで可撓性とは、基板に自重程度の力を加えても線断したり破断したりすることはなく、該基板を撓めることが可能な性質をいう。また、自重程度の力によって屈曲する性質も可撓性に含まれる。また、上記可撓性は、該基板の材質、大きさ、厚さ、又は温度などの環境、等に応じて変わる。なお、基板Ｓとしては、１枚の帯状の基板を用いても構わないが、複数の単位基板を接続して帯状に形成される構成としても構わない。
【００１７】
基板供給部２は、例えばロール状に巻かれた基板Ｓを基板処理部３へ送り出して供給する。この場合、基板供給部２には、基板Ｓを巻きつける軸部や当該軸部を回転させる回転駆動装置などが設けられる。この他、例えばロール状に巻かれた状態の基板Ｓを覆うカバー部などが設けられた構成であっても構わない。なお、基板供給部２は、ロール状に巻かれた基板Ｓを送り出す機構に限定されず、帯状の基板Ｓをその長さ方向に順次送り出す機構を含むものであればよい。
【００１８】
基板回収部４は、基板処理部３が備える基板処理装置１００を通過した基板Ｓを例えばロール状に巻きとって回収する。基板回収部４には、基板供給部２と同様に、基板Ｓを巻きつけるための軸部や当該軸部を回転させる回転駆動源、回収した基板Ｓを覆うカバー部などが設けられている。なお、基板処理部３において基板Ｓがパネル状に切断される場合などには例えば基板Ｓを重ねた状態に回収するなど、ロール状に巻いた状態とは異なる状態で基板Ｓを回収する構成であっても構わない。
【００１９】
基板処理部３は、基板供給部２から供給される基板Ｓを基板回収部４へ搬送すると共に、搬送の過程で基板Ｓの被処理面Ｓａに対して処理を行う。基板処理部３は、処理装置１０及び搬送装置２０を有している。
【００２０】
処理装置１０は、基板Ｓの被処理面Ｓａに対して例えば有機ＥＬ素子を形成するための各種装置を有している。このような装置としては、例えば被処理面Ｓａ上に隔壁を形成するための隔壁形成装置、電極を形成するための電極形成装置、発光層を形成するための発光層形成装置などが挙げられる。
【００２１】
より具体的には、液滴塗布装置（例えばインクジェット型塗布装置など）、成膜装置（例えば鍍金装置、蒸着装置、スパッタリング装置）、露光装置、現像装置、表面改質装置、洗浄装置などが挙げられる。これらの各装置は、基板Ｓの搬送経路に沿って適宜設けられる。本実施形態では、処理装置１０として露光装置ＥＸが設けられた場合を例に挙げて説明する。
【００２２】
図２は、露光装置ＥＸの構成を示す図である。  
図２に示すように、露光装置ＥＸは、マスクＭに形成されたパターンＰｍの像を基板Ｓに投影する装置である。露光装置ＥＸは、図２に示すように、マスクＭを照明する照明装置ＩＵと、基板Ｓに対してパターンＰｍの拡大像を投影する投影装置ＰＵと、マスクＭを保持すると共に基板Ｓを搬送するドラム装置ＤＲとを有している。
【００２３】
照明装置ＩＵは、マスクＭに露光光ＥＬＩを照明する。照明装置ＩＵは、光源装置２１と、照射光学系２２とを有している。光源装置２１から射出される露光光ＥＬＩは、照射光学系２２を介してマスクＭ上のスリット状の領域に照射される。なお、照射光学系２２は、図２において簡略化して示されているが、実際には、露光光ＥＬＩを導光する複数の光学素子を含んでいる。
【００２４】
ドラム装置ＤＲは、回転ドラム（円筒部材）３０及び駆動装置ＡＣＭを有している。回転ドラム３０は、円筒状に形成されており、中心軸Ｃを中心として軸周りに回転可能に設けられている。回転ドラム３０の外周面３０ａの一部には、それぞれ中心軸Ｃを中心とする第一円筒面３１及び第二円筒面３２が形成されている。第一円筒面３１及び第二円筒面３２は、中心軸Ｃの軸方向に並んで形成されている。第一円筒面３１及び第二円筒面３２は、同一の径を有するように形成されている。回転ドラム３０が中心軸Ｃを中心として軸周りに回転する場合、第一円筒面３１及び第二円筒面３２は、当該中心軸Ｃを中心として外周方向に回転することになる。
【００２５】
回転ドラム３０には、マスク保持部４０が設けられている。マスク保持部４０は、回転ドラム３０の第一円筒面３１を含んでいる。マスクＭとしては、例えばシート状に形成された透過型マスクが用いられる。マスクＭは、パターンＰｍが第一円筒面３１に沿って配置されるように、当該マスクＭを保持する。マスクＭは、パターンＰｍが形成されたパターン面を内側に向けて保持される。このため、パターンＰｍは、実質的に第一円筒面３１に一致する面上に配置されることになる。
【００２６】
第一円筒面３１には、貫通部３１ａ及び貫通部３１ｂが形成されている。貫通部３１ａは、マスクＭが保持される領域内に形成されている。すなわち、マスクＭは、貫通部３１ａを塞ぐように保持されている。貫通部３１ａは、マスクＭを透過した露光光ＥＬＩを通過させる。貫通部３１ｂは、中心軸Ｃを挟んで貫通部３１ａと対称な位置に形成されている。貫通部３１ｂは、貫通部３１ａを通過した露光光ＥＬＩを通過させ、回転ドラム３０の外部に露光光ＥＬＩ射出する。
【００２７】
回転ドラム３０には、基板搬送部５０が設けられている。基板搬送部５０は、回転ドラム３０の第二円筒面３２を含んでいる。基板搬送部５０は、基板Ｓが第二円筒面３２に沿って搬送されるように当該基板Ｓを支持する。基板Ｓは、被処理面Ｓａが第二円筒面３２の外側に向けられている。基板搬送部５０は、回転ドラム３０の回転速度と基板Ｓの搬送速度とが等しくなるように調整する調整部５１を有している。調整部５１としては、例えば基板Ｓを第二円筒面３２に吸着させる吸着部などが挙げられる。
【００２８】
上記のマスク保持部４０及び基板搬送部５０は、一の回転ドラム３０に設けられている。このため、マスク保持部４０及び基板搬送部５０は、一体的に設けられている。また、マスク保持部４０及び基板搬送部５０は、回転ドラム３０のうち中心軸Ｃの軸方向に並んで配置されている。このため、マスク保持部４０及び基板搬送部５０は、中心軸Ｃの軸方向にずれた位置に配置されている。
【００２９】
投影装置ＰＵは、投影光学系ＰＬを有している。投影光学系ＰＬは、マスクＭを透過した露光光ＥＬＩを基板Ｓに投影する。投影光学系ＰＬは、リレー系８１、レンズ系８２、ミラー８３、絞り８４、ミラー８５及びレンズ系８６を有している。リレー系８１は、回転ドラム３０の内部に設けられている。リレー系８１は、マスクＭを透過し貫通部３１ａから回転ドラム３０の内部に入射された露光光ＥＬＩを貫通部３１ｂへと等倍で中継する。リレー系８１は、不図示の固定機構を介して、外部に固定されている。
【００３０】
レンズ系８２、ミラー８３、絞り８４、ミラー８５及びレンズ系８６は、回転ドラム３０の外部に射出された露光光ＥＬＩを基板Ｓへ導光する。なお、本実施形態では、投影光学系ＰＬは等倍となっている。
【００３１】
駆動装置ＡＣＴは、制御部ＣＯＮＴからの制御信号に基づいて回転ドラム３０の回転速度を調整し、これによってマスクＭ及び基板Ｓの搬送速度を調整する。本実施形態では、マスクＭは第一円筒面３１に沿って回転し、基板Ｓは第二円筒面３２に沿って移動する。第一円筒面３１及び第二円筒面３２は同径であるため、等しい移動速度となる。
【００３２】
図３及び図４は、駆動装置ＡＣＴの構成を示す図である。図３は、回転ドラム３０を＋Ｘ方向に見たときの図である。図４は、回転ドラム３０を−Ｙ方向に見たときの図である。
【００３３】
図３及び図４に示すように、駆動装置ＡＣＴは、リニアモータ機構６０を有している。リニアモータ機構６０は、移動子６１及び固定子６２を有している。移動子６１は、回転ドラム３０に設けられた磁石部６３を有している。磁石部６３は、回転ドラム３０のうち中心軸Ｃの軸方向の両端部に設けられている。磁石部６３は、回転ドラム３０の周方向に沿って並んで配置されている。
【００３４】
固定子６２は、回転ドラム３０のうち中心軸方向の端部に対向する位置に設けられている。固定子６２は、不図示の固定機構によって位置が固定されている。固定子６２は、回転ドラム３０との対向面側にコイル部６４を有している。制御部ＣＯＮＴは、コイル部６４に対して供給する電流を調整可能である。
【００３５】
移動子６１の磁石部６３と、固定子６２のコイル部６４との間の磁力の作用により、回転ドラム３０が回転するようになっている。このように、駆動装置ＡＣＴは、回転ドラム３０のうち中心軸Ｃの端部に対して駆動力を作用させる構成となっている。
【００３６】
なお、回転ドラム３０の内部には、リレー系Ｐ１を固定する固定機構７１と、当該固定機構７１及び回転ドラム３０を支持する支持機構７２と、が設けられている。支持機構７２は、外部の固定機構などに固定されている。支持機構７２と回転ドラム３０との間には、ベアリング部７３が設けられている。回転ドラム３０は、当該ベアリング部７３を介して、回転可能に支持されている。の内周面３０ｂに支持されている。このため、回転ドラム３０が回転可能となるように、リレー系Ｐ１が固定された構成となっている。
【００３７】
上記のように構成された基板処理装置１００は、制御部ＣＯＮＴの制御により、ロール方式によって有機ＥＬ素子、液晶表示素子などの表示素子（電子デバイス）を製造する。以下、上記構成の基板処理装置１００を用いて表示素子を製造する工程を説明する。
【００３８】
まず、不図示のローラーに巻き付けられた帯状の基板Ｓを基板供給部２に取り付ける。制御部ＣＯＮＴは、この状態から基板供給部２から当該基板Ｓが送り出されるように、不図示のローラーを回転させる。そして、基板処理部３を通過した当該基板Ｓを基板回収部４に設けられた不図示のローラーで巻き取らせる。この基板供給部２及び基板回収部４を制御することによって、基板Ｓの被処理面Ｓａを基板処理部３に対して連続的に搬送することができる。
【００３９】
制御部ＣＯＮＴは、基板Ｓが基板供給部２から送り出されてから基板回収部４で巻き取られるまでの間に、基板処理部３の搬送装置２０によって基板Ｓを当該基板処理部３内で適宜搬送させつつ、処理装置１０によって表示素子の構成要素を基板Ｓ上に順次形成させる。この工程の中で、露光装置ＥＸによって処理を行う場合、まずマスク保持部４０にマスクＭを取り付ける。また、基板Ｓが回転ドラム３０の基板搬送部５０に巻き掛けられた状態とする。
【００４０】
次に、制御部ＣＯＮＴは、駆動装置ＡＣＴによって回転ドラム３０を回転させつつ、光源装置２１から露光光ＥＬＩを射出させる。回転ドラム３０の回転により、マスクＭは当該回転ドラム３０と一体的に回転方向に移動する。また、回転ドラム３０の回転により、基板Ｓは回転ドラム３０と一体的に回転方向に移動する。このとき、制御部ＣＯＮＴは、調整部５１を用いることにより、回転ドラム３０の回転速度（ひいてはマスクＭの移動速度）と基板Ｓの移動速度とが等しくなるように制御しても構わない。
【００４１】
光源装置２１から射出された露光光ＥＬＩは、照射光学系２２を介して、移動するマスクＭ上に照射される。当該露光光ＥＬＩは、マスクＭ及び貫通部３１ａを順に透過し、回転ドラム３０の内部に設けられたリレー系８１に入射する。リレー系８１に入射した露光光ＥＬＩは、貫通部３１ｂから射出され、レンズ系Ｐ２、ミラーＰ３、絞りＰ４、ミラー８５及びレンズ系８６を介して、移動する基板Ｓの被処理面Ｓａに投影される。なお、投影光学系ＰＬは、等倍系であるため、パターンＰｍの等倍像が基板Ｓの被処理面Ｓａに投影されることになる。
【００４２】
回転ドラム３０が回転し、マスクＭのパターンＰｍの全面に露光光ＥＬＩが照射されることにより、当該露光光ＥＬＩの等倍の投影像が基板Ｓの被処理面Ｓａに投影される。これにより、基板Ｓの被処理面Ｓａには、パターンＰｍの露光パターンが形成されることになる。
【００４３】
以上のように、本実施形態によれば、マスクＭに形成されたパターンＰｍを帯状の基板Ｓに転写する露光装置ＥＸであって、マスクＭを保持する第一円筒面３１を有し、第一円筒面３１の周方向に回転するマスク保持部４０と、基板Ｓを搬送する第二円筒面３２を有し、マスク保持部４０と同一の回転軸である中心軸Ｃを中心として第二円筒面３２の周方向に回転する基板搬送部５０とを備えるので、パターンＰｍの像を帯状の基板Ｓに効率的に露光することができる。これにより、帯状の基板Ｓに表示素子を効率的に製造することができる露光装置ＥＸを提供することができる。
【００４４】
［第二実施形態］  
次に、本発明の第二実施形態を説明する。  
図５は、本実施形態に係る露光装置ＥＸ２の構成を示す図である。本実施形態に係る露光装置ＥＸ２は、回転ドラム３０の中心軸Ｃの軸方向にマスク保持部４０が複数設けられており（４０Ａ及び４０Ｂ）、複数のマスク保持部４０ごとに異なるマスク（Ｍ１及びＭ２）を保持する構成となっている。
【００４５】
図５に示すように、回転ドラム３０の外周面３０ａの一部には、それぞれ中心軸Ｃを中心とする第一円筒面３１、第二円筒面３２及び第三円筒面３３が形成されている。第一円筒面３１、第二円筒面３２及び第三円筒面３３は、中心軸Ｃの軸方向に並んで形成されている。第一円筒面３１、第二円筒面３２及び第三円筒面３３は、同一の径を有するように形成されている。回転ドラム３０が中心軸Ｃを中心として軸周りに回転する場合、第一円筒面３１、第二円筒面３２及び第三円筒面３３は、当該中心軸Ｃを中心として外周方向に回転することになる。
【００４６】
回転ドラム３０には、マスク保持部４０と、基板搬送部５０とが設けられている。マスク保持部４０は、マスク保持部４０Ａ及びマスク保持部４０Ｂを有している。マスク保持部４０Ａは、回転ドラム３０の第一円筒面３１を含んでいる。マスク保持部４０Ａは、パターンＰｍ１が形成されたマスクＭ１を保持する。マスクＭ１としては、例えばシート状に形成された透過型マスクが用いられる。マスク保持部４０Ｂは、回転ドラム３０の第三円筒面３３を含んでいる。マスク保持部４０Ｂは、パターンＰｍ２が形成されたマスクＭ２を保持する。マスクＭ２としては、例えばシート状に形成された透過型マスクが用いられる。
【００４７】
マスク保持部４０Ａ及びマスク保持部４０Ｂは、中心軸Ｃの軸方向に基板搬送部５０を挟んで設けられている。すなわち、中心軸Ｃの軸方向において、マスク保持部４０Ａ、基板搬送部５０及びマスク保持部４０Ｂが順に並んでいる。このように、マスク保持部４０と基板搬送部５０とが中心軸Ｃの軸方向に交互に配置されている。
【００４８】
第一円筒面３１には、貫通部３１ａ及び貫通部３１ｂが形成されている。貫通部３１ａは、マスクＭ１が保持される領域内に形成されている。すなわち、マスクＭ１は、貫通部３１ａを塞ぐように保持されている。貫通部３１ａは、図５中＋Ｘ側に配置されている。貫通部３１ａは、マスクＭ１を透過した露光光ＥＬＡを通過させる。貫通部３１ｂは、中心軸Ｃを挟んで貫通部３１ａと対称な位置に形成されている。貫通部３１ｂは、貫通部３１ａを通過した露光光ＥＬＡを通過させ、回転ドラム３０の外部に露光光ＥＬＡを射出する。
【００４９】
第三円筒面３３には、貫通部３３ａ及び貫通部３３ｂが形成されている。貫通部３３ａは、マスクＭ２が保持される領域内に形成されている。すなわち、マスクＭ２は、貫通部３３ａを塞ぐように保持されている。貫通部３３ａは、図５中−Ｘ側に配置されている。したがって、マスクＭ２は、回転ドラム３０のうちマスクＭ１とはＸ方向の反対側の面に保持されている。貫通部３３ａは、マスクＭ２を透過した露光光ＥＬＢを通過させる。貫通部３３ｂは、中心軸Ｃを挟んで貫通部３３ａと対称な位置に形成されている。貫通部３３ｂは、貫通部３３ａを通過した露光光ＥＬＢを通過させ、回転ドラム３０の外部に露光光ＥＬＢを射出する。
【００５０】
マスクＭ１及びＭ２は、各貫通部３１ａ及び３３ａについて１枚ずつ保持されている。マスクＭ１及びＭ２は、中心軸Ｃの軸方向につなぎ合わせた場合に全体として所望のパターンＰｍが形成されるように、それぞれパターンＰｍ１及びＰｍ２が形成されている。換言すると、マスクＭ１及びＭ２のそれぞれに形成されているパターンＰｍ１及びＰｍ２を中心軸Ｃの軸方向所定方向につなぎ合わせることでパターンＰｍが構成される。
【００５１】
照明装置ＩＵは、光源装置２１Ａ及び２１Ｂと、照明光学系２２Ａ及び２２Ｂとを有する。光源装置２１Ａ及び照明光学系２２Ａは、マスクＭ１に露光光ＥＬＡを照明する。光源装置２１Ｂ及び照明光学系２２Ｂは、マスクＭ２に露光光ＥＬＢを照明する。なお、露光光ＥＬＡがマスクＭ１に入射する方向は、露光光ＥＬＢがマスクＭ２に入射する方向に対して９０°傾いている。
【００５２】
投影装置ＰＵは、投影光学系ＰＬ１及びＰＬ２を有している。投影光学系ＰＬ１は、マスクＭ１を透過した露光光ＥＬＡを基板Ｓの投影領域ＰＡ１に投影する。投影領域ＰＡ１は、基板Ｓの被処理面ＳａのうちＹ方向の中央部から−Ｙ側の端部までの領域に亘ってスリット状に形成されている。投影光学系ＰＬ１は、リレー系８１Ａ、レンズ系８２Ａ、ミラー８３Ａ、絞り８４Ａ、ミラー８５Ａ及びレンズ系８６Ａを有している。リレー系８１Ａは、回転ドラム３０の内部に設けられている。リレー系８１Ａは、マスクＭ１を透過し貫通部３１ａから回転ドラム３０の内部に入射された露光光ＥＬＡを貫通部３１ｂへと等倍で中継する。リレー系８１Ａは、不図示の固定機構を介して、外部に固定されている。
【００５３】
投影光学系ＰＬ２は、マスクＭ２を透過した露光光ＥＬＢを基板Ｓの投影領域ＰＡ２に投影する。投影領域ＰＡ２は、基板Ｓの被処理面ＳａのうちＹ方向の中央部から＋Ｙ側の端部までの領域に亘ってスリット状に形成されている。投影光学系ＰＬ２は、リレー系８１Ｂ、レンズ系８２Ｂ、ミラー８３Ｂ、絞り８４Ｂ、ミラー８５Ｂ及びレンズ系８６Ｂを有している。リレー系８１Ｂは、回転ドラム３０の内部に設けられている。リレー系８１Ｂは、マスクＭ２を透過し貫通部３３ａから回転ドラム３０の内部に入射された露光光ＥＬＢを貫通部３３ｂへと等倍で中継する。リレー系８１Ｂは、不図示の固定機構を介して、外部に固定されている。
【００５４】
次に、上記のように構成された露光装置ＥＸ２の露光動作を説明する。露光動作に当たり、予めマスクＭ１及びマスクＭ２を回転ドラム３０に装着した状態とし、基板Ｓが基板搬送部５０に巻きかけられた状態としておく。この状態から、制御部ＣＯＮＴは、まず、回転ドラム３０を図５の矢印の方向に回転させつつ、光源装置２１Ａ及び照明光学系２２Ａを介してマスクＭ１のパターンＰｍ１に対して露光光ＥＬＡを照射させる。
【００５５】
マスクＭ１を透過した露光光ＥＬＡは、貫通部３１ａ、リレー系８１Ａ、貫通部３１ｂ、レンズ系８２Ａ、ミラー８３Ａ、絞り８４Ａ、ミラー８５Ａ及びレンズ系８６Ａを経て、基板Ｓの投影領域ＰＡ１に投影される。なお、当該基板Ｓの投影領域ＰＡ１に投影される像は、パターンＰｍ１の等倍像である。露光光ＥＬＡの投影により、基板Ｓのうち−Ｙ側半分の領域には、パターンＰｍ１に対応する露光パターンが形成される。
【００５６】
マスクＭ１に対して露光光ＥＬＡの照射が開始されてから、回転ドラム３０が９０°回転された時点で、制御部ＣＯＮＴは、光源装置２１Ｂ及び照明光学系２２Ｂを介してマスクＭ２のパターンＰｍ２に対して露光光ＥＬＢを照射させる。
【００５７】
マスクＭ２を透過した露光光ＥＬＢは、貫通部３３ａ、リレー系８１Ｂ、貫通部３３ｂ、レンズ系８２Ｂ、ミラー８３Ｂ、絞り８４Ｂ、ミラー８５Ｂ及びレンズ系８６Ｂを経て、基板Ｓの投影領域ＰＡ２に投影される。なお、当該基板Ｓの投影領域ＰＡ２に投影される像は、パターンＰｍ２の等倍像である。露光光ＥＬＢの投影により、基板Ｓのうち＋Ｙ側の半分の領域に、パターンＰｍ２に対応する露光パターンが、上記のパターンＰｍ２に対応する露光パターンに接続されるように形成される。
【００５８】
以上のように、本実施形態では、回転ドラム３０の中心軸Ｃの軸方向にマスク保持部４０が複数設けられており（４０Ａ及び４０Ｂ）、複数のマスク保持部４０ごとに異なるマスク（Ｍ１及びＭ２）を保持する構成となっているため、パターンＰｍの像を帯状の基板Ｓに分割して効率的に露光することができる。これにより、帯状の基板Ｓに表示素子を効率的に製造することができる。
【００５９】
本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えることができる。  
例えば、上記第一実施形態では、マスク保持部４０と基板搬送部５０とが１つずつ配置された回転ドラム３０が１つ用いられた構成を例に挙げて説明したが、これに限られることは無い。
【００６０】
例えば、図６に示すように、複数、ここでは２つの回転ドラム３０Ａ及び回転ドラム３０Ｂを当該中心軸Ｃの軸方向に並んで配置させる構成としても構わない。この構成においては、回転ドラム３０Ａと回転ドラム３０ＢとがＹ方向に連結され、複数の回転ドラム３０は、駆動装置ＡＣＴによって一体的に回転可能となっているが、これに限られることは無い。例えば、回転ドラム３０Ａと回転ドラム３０Ｂとが中心軸Ｃの軸方向に離れて配置された構成であっても構わない。
【００６１】
また、各回転ドラム３０Ａ及び３０Ｂに対しては、上記実施形態と同様に、投影光学系ＰＬＡ（リレー系８１Ａ、レンズ系８２Ａ、ミラー８３Ａ、ミラー８５Ａ、レンズ系８６Ａ）及びＰＬＢ（リレー系８１Ｂ、レンズ系８２Ｂ、ミラー８３Ｂ、ミラー８５Ｂ、レンズ系８６Ｂ）が設けられている。
【００６２】
また、＋Ｙ側の基板搬送部５０Ａを通過した基板Ｓは、搬送ローラーＲ１〜Ｒ４によって−Ｙ側の基板搬送部５０Ｂに搬送されるようになっている。このため、基板Ｓに対して連続して露光処理を行うことができる。なお、搬送ローラーＲ１〜Ｒ４の位置を調整することにより、基板搬送部５０Ａから基板搬送部５０Ｂまでの基板Ｓの搬送距離を調整することができる。このため、基板搬送部５０Ａにおいて形成される露光パターン、及び、基板搬送部５０Ｂにおいて形成される露光パターン、の基板Ｓ上の配置を調整することができる。例えば、各露光パターンが基板Ｓの搬送方向に交互に並ぶように露光処理を行うことも可能であるし、同一の露光パターンを重ねて形成するように露光処理を行うことも可能である。
【００６３】
また、＋Ｙ側のマスク保持部４０Ａに保持されたマスクＭＡのパターンＰｍＡと、−Ｙ側のマスク保持部４０Ｂに保持されたマスクＭＢのパターンＰｍＢとが異なるパターンであっても構わない。この場合、搬送ローラーＲ１〜Ｒ４の位置を調整することにより、例えば図７に示すように、マスクＭＡのパターンＰｍＡに対応する露光パターンＸＡと、マスクＭＢのパターンＰｍＢに対応する露光パターンＸＢとが、基板Ｓの搬送方向に交互に並んで形成されるように露光処理を行うことができる。
【００６４】
また、図８及び図９に示すように、回転ドラム３０の中心軸Ｃが鉛直方向に沿って配置された構成であっても構わない。  
図８及び図９に示すように、露光装置ＥＸは、回転ドラム３０を保持する保持部３５を有している。保持部３５は、回転ドラム３０の鉛直方向の下側において回転ドラム３０を回転可能に保持している。回転ドラム３０は、駆動装置ＡＣＴにより、図８において反時計回りの方向に回転する。
【００６５】
中心軸Ｃが鉛直方向に沿うように回転ドラム３０を配置した場合、基板Ｓが鉛直方向の下側にずれるのを防ぐ必要がある。この場合の構成として、例えば基板Ｓの搬送経路において回転ドラム３０の上流側にエアターンバー９１、傾斜ローラー９２が設けられている。
【００６６】
傾斜ローラー９２は、図９に示すように、鉛直方向に対して傾斜可能に設けられた案内部材９２ａと、案内部材９２ａを傾斜させた状態で保持する保持部９２ｂとを有している。案内部材９２ａの傾斜角度は、制御部ＣＯＮＴによって制御可能である。この構成においては、エアターンバー９１を介して搬送された基板Ｓの傾きを、傾斜ローラー９２によって調整することができる。
【００６７】
なお、図８及び図９に示すように、回転ドラム３０に掛けられた基板Ｓのうち鉛直方向の上端及び下端の位置を検出する検出部９５が設けられた構成であっても構わない。この構成においては、検出部９５の検出結果に応じて制御部ＣＯＮＴが傾斜ローラー９２の傾斜角度を調整することにより、基板Ｓの傾きを調整することができる。
【００６８】
また、図１０に示すように、回転ドラム３０のマスク保持部４０にマスクＭを移動させることが可能な移動機構４１が設けられた構成であっても構わない。この場合、第一円筒面３１の周方向に沿った溝部４２が形成されており、移動機構４１は当該溝部４２に沿って移動可能となっている。また、移動機構４１は、マスクＭを吸着する不図示の吸着部を有している。このため、マスクＭを吸着した状態で第一円筒面３１の周方向に移動することで、マスクＭの位置を調整することができる。
【符号の説明】
【００６９】
ＥＸ…露光装置  Ｍ、Ｍ１、Ｍ２、ＭＡ、ＭＢ…マスク  Ｐｍ、Ｐｍ１、Ｐｍ２、ＰｍＡ、ＰｍＢ…パターン  ＤＲ…ドラム装置  ＥＬＩ、ＥＬＡ、ＥＬＢ…露光光  ＡＣＭ…駆動装置  Ｃ…中心軸  ＰＬ…投影光学系  ＡＣＴ…駆動装置  Ｒ１〜Ｒ４…搬送ローラー  ＸＡ、ＸＢ…露光パターン  ２１…光源装置  ２２…照射光学系  ３０、３０Ａ、３０Ｂ…回転ドラム  ３０ａ…外周面  ３０ｂ…内周面  ３１…第一円筒面  ３２…第二円筒面  ３３…第三円筒面  ３５…保持部  ４０…マスク保持部  ４１…移動機構  ５０…基板搬送部  ５１…調整部  ６０…リニアモータ機構  ６１…移動子  ６２…固定子  ９２…傾斜ローラー  ９２ａ…案内部材  ９２ｂ…保持部  ９５…検出部  Ｓ…基板  ＣＯＮＴ…制御部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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