(57)【要約】【課題】  塗布液の使用量の削減及び構成の簡素化を図る。【解決手段】  被塗布物に塗布される塗布液が貯留された貯液槽と、貯液槽に貯留された塗布液に浸漬されて膜が張られる開口部を有する環状の膜形成体とを備え、膜形成体が被塗布物に対して相対的に移動され、膜が張られた開口部に被塗布物が挿通されて被塗布物の表面に塗布液が塗布されるようにした。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被塗布物に塗布される塗布液が貯留された貯液槽と、
前記貯液槽に貯留された前記塗布液に浸漬されて膜が張られる開口部を有する環状の膜形成体とを備え、
前記膜形成体が前記被塗布物に対して相対的に移動され、前記膜が張られた前記開口部に前記被塗布物が挿通されて前記被塗布物の表面に前記塗布液が塗布されるようにした
塗布装置。
【請求項２】
前記膜形成体に、環状に形成された外環部と、環状に形成され前記開口部を有し前記外環部の内周縁から突出された内環部とを設け、
前記内環部の先端縁は前記外環部の内周縁より下側に位置された
請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
前記内環部は前記外環部の内周縁から前記開口部に近付くに従って前記外環部に対して傾斜され、
前記内環部の内周縁が前記外環部の内周縁の内側に位置された
請求項２に記載の塗布装置。
【請求項４】
前記被塗布物の下端部と前記膜形成体の少なくとも前記開口部とが前記貯液槽に貯留された前記塗布液に浸漬された状態において前記膜形成体の移動が開始されるようにした
請求項１に記載の塗布装置。
【請求項５】
前記被塗布物の前記膜形成体が移動する方向における端部に、前記膜形成体が移動する方向において先細りの形状に形成された液垂防止体が取り付けられた
請求項１に記載の塗布装置。
【請求項６】
前記膜形成体が前記被塗布物に対して往復される
請求項１に記載の塗布装置。
【請求項７】
前記膜形成体に、前記塗布液を貯留する貯液部と前記貯液部に貯留された前記塗布液を前記開口部に送出する送出部とが設けられ、
前記塗布液を前記貯液部に供給する液供給機構が設けられた
請求項１に記載の塗布装置。
【請求項８】
前記送出部が前記開口部に近付くに従って下方へ変位するように傾斜された
請求項７に記載の塗布装置。
【請求項９】
前記貯液部に貯留された前記塗布液が前記送出部から毛細管現象によって前記開口部に送出されるようにした
請求項７に記載の塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本技術は塗布装置についての技術分野に関する。詳しくは、塗布液による膜が張られた開口部を有する膜形成体によって被塗布物の表面に塗布液を塗布するようにして塗布液の使用量の削減等を図る技術分野に関する。
【背景技術】
【０００２】
円筒状の基材や平板状の基板等の被塗布物における表面に塗布液を塗布して塗膜（薄膜）を形成する塗布装置がある。このような塗布装置として、浸漬方式を用いて被塗布物に対して塗布液の塗布が行われるものがある。
【０００３】
浸漬方式を用いた塗布装置においては、浸漬槽に貯留された塗布液に被塗布物の全体を浸漬し浸漬槽に対して相対的に被塗布物を引き上げることにより被塗布物の表面に塗膜を形成する。
【０００４】
このような浸漬方式を用いた塗布装置においては、被塗布物の全体が塗布液に浸漬されるため、多量の塗布液を必要とし、また、浸漬槽の高さが被塗布物の高さ以上必要となり装置が大型化してしまう。
【０００５】
そこで、塗布装置として、底部に被塗布物が貫通される貫通孔が形成され内部に塗布液を貯留する浸漬槽と、被塗布物と浸漬槽の隙間からの塗布液の漏れを防止するためのシール材等とが設けられたものがある（例えば、特許文献１及び特許文献２参照）。
【０００６】
このような塗布装置においては、浸漬槽に形成された貫通孔に被塗布物を挿通し被塗布物の外周面にシール材を接触させた状態で被塗布物を引き上げるか又は浸漬槽を引き下げる。被塗布物又は浸漬槽が移動されるときに、被塗布物の外周面に上側から下側へ順に塗布液が塗布されて塗膜が形成され感光体等が成形される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開昭６１−２００４４号公報
【特許文献２】特開２００９−１８２６８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところが、特許文献１及び特許文献２に記載された塗布装置にあっては、浸漬槽を被塗布物に対して移動させて浸漬槽に貯留された塗布液を被塗布物の外周面に順次塗布していくため、浸漬槽に被塗布物の外周面の全体に塗布するための十分な塗布液を貯留又は供給部から供給する必要がある。従って、塗布液の使用量が多く成形コストが高いと言う問題があり、特に、塗布液が高価な場合には成形コストの高騰を来たしてしまう。
【０００９】
また、特許文献１及び特許文献２に記載された塗布装置にあっては、浸漬槽の底部に形成された貫通孔に被塗布物が挿通されて被塗布物が相対的に引き上げられるため、被塗布物と浸漬槽の隙間からの塗布液の漏れを防止する構成が必要となり、浸漬槽等が複雑な構成となる。
【００１０】
そこで、本技術塗布装置は、上記した問題点を克服し、塗布液の使用量の削減及び構成の簡素化を図ることを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
塗布装置は、上記した課題を解決するために、被塗布物に塗布される塗布液が貯留された貯液槽と、前記貯液槽に貯留された前記塗布液に浸漬されて膜が張られる開口部を有する環状の膜形成体とを備え、前記膜形成体が前記被塗布物に対して相対的に移動され、前記膜が張られた前記開口部に前記被塗布物が挿通されて前記被塗布物の表面に前記塗布液が塗布されるようにしたものである。
【００１２】
従って、塗布装置にあっては、開口部を有する環状の膜形成体が被塗布物に対して相対的に移動され、塗布液の膜が張られた開口部に被塗布物が挿通されて被塗布物の表面に塗布液が塗布される。
【００１３】
上記した塗布装置においては、前記膜形成体に、環状に形成された外環部と、環状に形成され前記開口部を有し前記外環部の内周縁から突出された内環部とを設け、前記内環部の先端縁は前記外環部の内周縁より下側に位置されることが望ましい。
【００１４】
環状に形成された外環部の内周縁から突出され開口部を有する内環部の先端縁が外環部の内周縁より下側に位置されることにより、内環部が外環部より塗布液に浸漬され易い。
【００１５】
上記した塗布装置においては、前記内環部は前記外環部の内周縁から前記開口部に近付くに従って前記外環部に対して傾斜され、前記内環部の内周縁が前記外環部の内周縁の内側に位置されることが望ましい。
【００１６】
内環部は外環部の内周縁から開口部に近付くに従って外環部に対して傾斜され内環部の内周縁が外環部の内周縁の内側に位置されることにより、外環部の内周縁と被塗布物の隙間が内環部の内周縁と被塗布物の隙間より大きくされる。
【００１７】
上記した塗布装置においては、前記被塗布物の下端部と前記膜形成体の少なくとも前記開口部とが前記貯液槽に貯留された前記塗布液に浸漬された状態において前記膜形成体の移動が開始されるようにすることが望ましい。
【００１８】
被塗布物の下端部と膜形成体の少なくとも開口部とが貯液槽に貯留された塗布液に浸漬された状態において膜形成体の移動が開始されるようにすることより、被塗布物の外周面と膜形成体の内周縁との間に膜が形成される。
【００１９】
上記した塗布装置においては、前記被塗布物の前記膜形成体が移動する方向における端部に、前記膜形成体が移動する方向において先細りの形状に形成された液垂防止体が取り付けられることが望ましい。
【００２０】
被塗布物の膜形成体が移動する方向における端部に、膜形成体が移動する方向において先細りの形状に形成された液垂防止体が取り付けられることにより、膜が破れた場合において液垂防止体の表面に塗布液の液垂れが生じる。
【００２１】
上記した塗布装置においては、前記膜形成体が前記被塗布物に対して往復されることが望ましい。
【００２２】
膜形成体が被塗布物に対して往復されることにより、被塗布物に対して塗布液が重ねて塗布される。
【００２３】
上記した塗布装置においては、前記膜形成体に、前記塗布液を貯留する貯液部と前記貯液部に貯留された前記塗布液を前記開口部に送出する送出部とが設けられ、前記塗布液を前記貯液部に供給する液供給機構が設けられることが望ましい。
【００２４】
膜形成体に塗布液を貯留する貯液部と貯液部に貯留された塗布液を開口部に送出する送出部とを設け、塗布液を貯液部に供給する液供給機構を設けることにより、膜形成体の開口部に張られた膜に塗布液が供給される。
【００２５】
上記した塗布装置においては、前記送出部が前記開口部に近付くに従って下方へ変位するように傾斜されることが望ましい。
【００２６】
送出部が開口部に近付くに従って下方へ変位するように傾斜されることにより、塗布液が送出部から開口部に向けて重力によって送出される。
【００２７】
上記した塗布装置においては、前記貯液部に貯留された前記塗布液が前記送出部から毛細管現象によって前記開口部に送出されるようにすることが望ましい。
【００２８】
貯液部に貯留された塗布液が送出部から毛細管現象によって開口部に送出されるようにすることにより、塗布液が送出部から開口部に送出されるための専用の供給機構を必要としない。
【発明の効果】
【００２９】
本技術塗布装置は、被塗布物に塗布される塗布液が貯留された貯液槽と、前記貯液槽に貯留された前記塗布液に浸漬されて膜が張られる開口部を有する環状の膜形成体とを備え、前記膜形成体が前記被塗布物に対して相対的に移動され、前記膜が張られた前記開口部に前記被塗布物が挿通されて前記被塗布物の表面に前記塗布液が塗布されるようにした。
【００３０】
従って、膜形成体の開口部に張られる膜によって被塗布物の表面に塗布液が塗布されるので、塗布液の使用量の削減を図ることができる。
【００３１】
また、膜形成体からの塗布液の液漏れを生じることがないので、液漏れを防止する機構を設ける必要がなく、装置の構成の簡素化を図ることができる。
【００３２】
請求項２に記載した技術にあっては、前記膜形成体に、環状に形成された外環部と、環状に形成され前記開口部を有し前記外環部の内周縁から突出された内環部とを設け、前記内環部の先端縁は前記外環部の内周縁より下側に位置されている。
【００３３】
従って、膜形成体が水平方向に対して傾いた状態になった場合においても、外環部の内周縁が塗布液に浸され難く、膜形成体の開口部に膜を確実に張ることができる。
【００３４】
請求項３に記載した技術にあっては、前記内環部は前記外環部の内周縁から前記開口部に近付くに従って前記外環部に対して傾斜され、前記内環部の内周縁が前記外環部の内周縁の内側に位置されている。
【００３５】
従って、外環部の内周縁と被塗布物の隙間が内環部の内周縁と被塗布物の隙間より大きいので、膜形成体が上方へ移動されていくときに内環部の内周縁以外の部分及び外環部の内周縁の被塗布物に対する接触を防止することができる。
【００３６】
請求項４に記載した技術にあっては、前記被塗布物の下端部と前記膜形成体の少なくとも前記開口部とが前記貯液槽に貯留された前記塗布液に浸漬された状態において前記膜形成体の移動が開始されるようにしている。
【００３７】
従って、被塗布物の外周面と膜形成体の内周縁との間に膜が形成されるので、膜の面積が小さくなり塗布液の使用量を削減することができる。
【００３８】
請求項５に記載した技術にあっては、前記被塗布物の前記膜形成体が移動する方向における端部に、前記膜形成体が移動する方向において先細りの形状に形成された液垂防止体が取り付けられている。
【００３９】
従って、膜が破裂した場合に液垂防止体の表面に塗布液の液垂れが生じるので、被塗布物の外周面に対する塗布液の液垂れを防止することができ、被塗布物に対する塗膜の良好な形成状態を確保することができる。
【００４０】
請求項６に記載した技術にあっては、前記膜形成体が前記被塗布物に対して往復される。
【００４１】
従って、被塗布物に対して重ねて塗布液を塗布することができ、被塗布物の外周面に形成される塗膜の膜厚を調整することができる。
【００４２】
請求項７に記載した技術にあっては、前記膜形成体に、前記塗布液を貯留する貯液部と前記貯液部に貯留された前記塗布液を前記開口部に送出する送出部とが設けられ、前記塗布液を前記貯液部に供給する液供給機構が設けられている。
【００４３】
従って、塗布液が液供給機構から貯液部や送出部を介して開口部に供給されるので、膜形成体の開口部に張られている膜の液切れによる破裂を防止することができ、長い被塗布物に対しても塗布液を塗布することができる。
【００４４】
請求項８に記載した技術にあっては、前記送出部が前記開口部に近付くに従って下方へ変位するように傾斜されている。
【００４５】
従って、塗布液が重力によって開口部へ向けて流動され易くなるので、開口部に張られる膜に塗布液を容易に供給することができる。
【００４６】
請求項９に記載した技術にあっては、前記貯液部に貯留された前記塗布液が前記送出部から毛細管現象によって前記開口部に送出されるようにしている。
【００４７】
従って、塗布液が送出部から開口部に送出されるための専用の供給機構を必要としないので、構成の簡素化を図ることができる。
【発明を実施するための形態】
【００４８】
以下に、本技術塗布装置の実施の形態について添付図面を参照して説明する（図１乃至図１９参照）。
【００４９】
以下に示した最良の形態は、本技術塗布装置を円筒形状又は円柱形状の基材である被塗布物に塗布を行う塗布装置に適用したものである。
【００５０】
なお、本技術塗布装置の適用範囲は円筒形状又は円柱形状の基材である被塗布物に塗布を行う塗布装置に限られることはない。本技術塗布装置は、球形や平板状等の各種の形状に形成された被塗布物に対して塗布を行う各種の塗布装置に広く適用することができる。
【００５１】
以下の説明にあっては、例として、軸方向が上下方向を向く向きで被塗布物が配置され、被塗布物の左側に昇降ユニットが配置された状態で方向を示す。但し、以下に示す方向は説明の便宜上のものであり、本技術の実施に関しては、これらの方向に限定されることはない。
【００５２】
［塗布装置の構成］
塗布装置１は、図１に示すように、塗布液１００が貯留される貯液槽２と上下方向へ移動される膜形成体３と膜形成体３を上下方向へ移動させる昇降ユニット４とを備えている。
【００５３】
貯液槽２は底面部２ａと底面部２ａの外周部から上方へ突出された周面部２ｂとを有している。
【００５４】
貯液槽２には塗布液１００が貯留されている。塗布液１００としては、例えば、フォトレジスト等の感光性材料や塗料等が用いられ、これらの材料は表面張力が小さく一定の粘性を有している。
【００５５】
貯液槽２の上側には被塗布物２００が配置される。被塗布物２００は、例えば、電子写真方式用の感光体ドラムを形成するための円筒形状又は円柱形状の基材である。被塗布物２００は軸方向が上下方向になる向きで、例えば、図示しない保持機構によって保持される。
【００５６】
被塗布物２００の上面には上方へ行くに従って先細りの形状に形成された液垂防止体５が取り付けられている。液垂防止体５は、後述するように、被塗布物２００への塗布液１００の塗布が完了されるときに被塗布物２００に対する塗布液１００の液垂れを防止する機能を有する。
【００５７】
膜形成体３は上下方向を向く平板状で円環状に形成された外環部６と外環部６の内周縁の全周から突出された内環部７とから成る（図２及び図３参照）。
【００５８】
外環部６にはネジ溝が切られた固定用ネジ穴６ａ、６ａが形成されている。
【００５９】
内環部７は環状に形成され、外環部６の内周縁から下方へ行くに従って内側に変位するように傾斜されている。従って、内環部７の内周縁（先端縁）は外環部６の内周縁より下側に位置されている。内環部７は厚さが上側に位置する外周縁から下側に位置する内周縁へ行くに従って徐々に薄くなるように形成されている。内環部７の内径は被塗布物２００の外径より大きくされ、例えば、被塗布物２００の外径より１ｍｍ乃至２ｍｍ大きくされている。
【００６０】
内環部７の内周縁は開口部７ａとして形成されている。開口部７ａには塗布液１００の膜１００ａが張られる。膜１００ａは膜形成体３が貯液槽２に貯留された塗布液１００に浸漬された後に引き上げられることにより張られる。膜１００ａは塗布液１００が一定の範囲内、即ち、小さい表面張力を有しているため開口部７ａに張られることが可能とされている。また、膜１００ａは塗布液１００が一定の粘性を有しているため厚みが厚くされ破裂し難い状態とされている。
【００６１】
なお、上記したように、膜形成体３は内環部７が下方へ行くに従って厚みが薄くされ内周縁の厚みが薄く形成されている。従って、開口部７ａに膜１００ａを容易に形成することが可能とされている。
【００６２】
昇降ユニット４は、図1に示すように、設置面３００に設置された台座８と、台座８から上方へ延びる支柱９と、支柱９に上下方向へ移動自在に支持された移動体１０と、移動体１０を移動させる図示しない駆動機構と、移動体１０の移動速度や移動方向等を制御する図示しないコントローラーとを有している。
【００６３】
移動体１０は、支柱９に支持された移動部１１と、移動部１１の上端部から右方へ突出された突出部１２と、突出部１２の右端部から下方へ突出された腕部１３と、腕部１３の下端部に設けられた取付部１４とから成る。
【００６４】
取付部１４にはネジ挿通孔１４ａ、１４ａが形成されている。
【００６５】
膜形成体３は外環部６が移動体１０の取付部１４の下側に位置され、取付部１４に形成されたネジ挿通孔１４ａ、１４ａにそれぞれ挿通されたネジ１５、１５が外環部６に形成された固定用ネジ穴６ａ、６ａに螺合されることにより移動体１０に固定される。従って、膜形成体３は移動体１０の移動に伴って上下方向へ移動される。
【００６６】
［塗布装置の動作］
以下に、塗布装置１の動作について説明する（図４乃至図１３参照）。
【００６７】
被塗布物２００に塗布液１００が塗布される前の初期状態においては、貯液槽２の内部において膜形成体３の開口部７ａが塗布液１００に浸漬された状態で配置されている（図４参照）。このとき、膜形成体３の開口部７ａが上下方向を向いた状態とされ、外環部６は内環部７より上側に位置されている。
【００６８】
先ず、被塗布物２００が貯液槽２に貯留された塗布液１００の上方において保持機構によって保持された状態とされる（図５参照）。このとき、被塗布物２００の中心軸と膜形成体３の開口部７ａの中心軸とが一致された状態とされる。
【００６９】
次に、昇降ユニット４の移動体１０に固定された膜形成体３が昇降ユニット４によって上方（被塗布物２００の軸方向）へ移動され、塗布液１００の液面の上側に位置される（図６参照）。
【００７０】
膜形成体３の上方への移動により膜形成体３の開口部７ａが塗布液１００に浸漬された状態から塗布液１００の液面の上側に位置されると、開口部７ａに塗布液１００の膜１００ａが張られる（図７参照）。
【００７１】
上記したように、内環部７の内周縁（先端縁）は外環部６の内周縁より下側に位置されている。従って、自重や移動体１０に対する固定状態等によって膜形成体３が水平方向に対して傾いた状態になった場合においても、外環部６の内周縁が塗布液１００に浸され難く、膜形成体３の開口部７ａに膜１００ａを確実に張ることができる。
【００７２】
次いで、膜形成体３が上方へ移動され、被塗布物２００の下面より上側へ移動されていく（図８参照）。このとき、内環部７の内周縁と被塗布物２００の外面との間には一定の隙間、例えば、１ｍｍ乃至２ｍｍの隙間が生じている。
【００７３】
膜形成体３が被塗布物２００の下面より上側へ移動されていくと、膜形成体３の開口部７ａに張られた膜１００ａの一部が被塗布物２００の下面から外周面の下端部に亘って貼り付けられ塗膜１０１が形成される（図９参照）。
【００７４】
なお、膜形成体３が被塗布物２００の下面より上側へ移動され被塗布物２００の下面から外周面の下端部に亘って膜１００ａが貼り付けられるときに、被塗布物２００の下端部の形状や膜１００ａの強度によっては膜１００ａに破れが生じる可能性がある。
【００７５】
そこで、このような膜１００ａの破れの可能性がある場合には、被塗布物２００の下端部を膜形成体３の開口部７ａと共に塗布液１００に浸漬させ、この状態で膜形成体３の上方への移動を開始するようにしてもよい。
【００７６】
また、被塗布物２００の下端部を膜形成体３の開口部７ａと共に塗布液１００に浸漬させた状態で膜形成体３の上方への移動を開始することにより、膜形成体３が塗布液１００の液面より上方へ移動されたときに被塗布物２００の外周面と膜形成体３の内周縁との間に膜１００ａが形成される。
【００７７】
従って、膜１００ａの面積が小さくなり塗布液１００の使用量を削減することができる。
【００７８】
続いて、膜形成体３が昇降ユニット４のコントローラーにより制御されて低速度、例えば、０．１ｍｍ／ｓで上方へ移動されていく（図１０参照）。このとき、内環部７の内周縁と被塗布物２００の隙間は一定とされる。
【００７９】
膜形成体３が上方へ移動されていくと、膜１００ａの外周部が膜形成体３の移動に伴って上方へ移動されていくため、被塗布物２００の外周面に下側から上側へ順に膜１００ａが貼り付けられて塗膜１０１が形成されていく。
【００８０】
上記したように、塗布装置１にあっては、膜形成体３が昇降ユニット４によって低速度で上方へ移動されていくので、膜形成体３の開口部７ａに張られた膜１００ａに過大な外力が付与されず、膜１００ａの破れを防止することができる。
【００８１】
また、上記したように、内環部７は外環部６の内周縁から開口部７ａに近付くに従って外環部６に対して傾斜され、内環部７の内周縁が外環部６の内周縁の内側に位置されている。従って、膜１００ａが形成される内環部７の内周縁が被塗布物２００に最も接近して位置されており、膜１００ａが形成されない内環部７の内周縁以外の部分及び外環部６の被塗布物２００に対する接触を防止することができる。
【００８２】
引き続いて、膜形成体３が上方へ移動され、被塗布物２００の上面に取り付けられた液垂防止体５より上側の位置において移動が停止される（図１１参照）。
【００８３】
膜形成体３の移動が停止される直前においては、膜１００ａが液垂防止体５の少なくとも一部に張り付けられて塗膜１０１が形成される。このとき、膜１００ａが破れた場合においても液垂防止体５の表面に塗布液１００の液垂れが生じる（図１２参照）。
【００８４】
従って、被塗布物２００の外周面に対する塗布液１００の液垂れを防止することができ、被塗布物２００に対する塗膜１０１の良好な形成状態を確保することができる。
【００８５】
なお、上記には、被塗布物２００の上面に液垂防止体５が取り付けられている例を示したが、被塗布物２００の外周面に対する塗布液１００の液垂れを防止する構成は液垂防止体５以外の他の構成であってもよい。例えば、液垂防止体５に代えて、被塗布物２００の上端部を上方へ行くに従って先細りの形状に形成することも可能である。
【００８６】
上記したように、膜形成体３が液垂防止体５より上側の位置まで移動されることにより、被塗布物２００の外周面の全体に塗膜１０１が形成される。
【００８７】
上記した塗布装置１においては、膜形成体３の移動量が被塗布物２００の軸方向（上下方向）における長さと略同じにされている。従って、膜形成体３の移動量が被塗布物２００の大きさに対して大幅に大きくなることがなく、その分、塗布装置１の小型化を図ることができる。
【００８８】
次いで、被塗布物２００に対して乾燥等の処理を行う。
【００８９】
続いて、膜形成体３が昇降ユニット４により下方へ移動され、貯液槽２の内部に開口部７ａが塗布液１００に浸漬された状態で位置される（図１３参照）。即ち、膜形成体３は初期状態に戻る。
【００９０】
引き続いて、上記した塗布装置１の動作が必要に応じて繰り返される。即ち、膜形成体３が被塗布物２００に対して往復される。
【００９１】
従って、塗布装置１においては、被塗布物２００に対して重ねて塗布液１００を塗布して、被塗布物２００の外周面に形成される塗膜１０１の膜厚を調整することができる。
【００９２】
なお、上記には、被塗布物２００として円筒形状又は円柱形状の基材が用いられた例を示したが、被塗布物２００は円筒形状又は円柱形状の基材に限られることはなく、被塗布物２００として球形状、シリコンウェハやガラスウェハ等の平板形状等の各種の形状のものが用いられていてもよい。
【００９３】
以下に、球形状の基材が被塗布物２００Ａとして用いられたときの塗布装置１の動作の一例について説明する（図１４乃至図１７参照）。
【００９４】
被塗布物２００Ａに塗布液１００が塗布される前の状態においては、貯液槽２の内部において、膜形成体３の開口部７ａが塗布液１００に浸漬された状態で配置され、被塗布物２００Ａは下端部が塗布液１００にされた状態で配置されている（図１４参照）。このとき、被塗布物２００Ａの上下方向の中心軸と膜形成体３の開口部７ａの中心軸とが一致された状態とされる。
【００９５】
次に、膜形成体３の開口部７ａと被塗布物２００Ａの下端部が共に塗布液１００に浸漬された状態から昇降ユニット４の移動体１０に取り付けられた膜形成体３が昇降ユニット４によって上方（開口部７ａの軸方向）へ移動され始める（図１５参照）。
【００９６】
なお、被塗布物２００Ａが塗布液１００の上側に位置された状態において膜形成体３が上方へ移動され始めてもよい。
【００９７】
膜形成体３の上方への移動が開始されると、膜形成体３の開口部７ａにおいて膜形成体３と被塗布物２００Ａの間に膜１００ａが張られ、膜形成体３の開口部７ａに張られた膜１００ａの一部が被塗布物２００Ａの塗布液１００に浸漬されていない下端部の外周面に貼り付けられ塗膜１０１が形成される。
【００９８】
次いで、膜形成体３が昇降ユニット４のコントローラーにより移動速度が制御されて上方へ移動されていく（図１６参照）。
【００９９】
膜形成体３が上方へ移動されていくと、被塗布物２００Ａの外周面に下側から上側へ順に膜１００ａが貼り付けられて塗膜１０１が形成されていく。
【０１００】
続いて、膜形成体３が上方へ移動され、被塗布物２００Ａより上側の位置において移動が停止される（図１７参照）。
【０１０１】
膜形成体３が被塗布物２００Ａより上側の位置まで移動されることにより、被塗布物２００Ａの外周面の全体に塗膜１０１が形成される。
【０１０２】
また、以下に、平板形状の基材が被塗布物２００Ｂとして用いられたときの構成等について説明する（図１８参照）。
【０１０３】
被塗布物２００Ｂは、例えば、長手方向が垂直方向となる向きで配置されている。
【０１０４】
被塗布物２００Ｂに対しては膜形成体３Ａが用いられ、膜形成体３Ａは外環部６Ａと内環部７Ａが、以下のように、被塗布物２００Ｂの形状に応じて形成されている。
【０１０５】
膜形成体３Ａは上下方向を向く平板状で矩形の環状に形成された外環部６Ａと外環部６Ａの内周縁の全周から突出された内環部７Ａとから成る。
【０１０６】
内環部７Ａは外環部６Ａの内周縁から下方へ行くに従って内側に変位するように傾斜されている。内環部７Ａの先端縁（内周縁）は矩形に形成されている。
【０１０７】
内環部７Ａの内周縁は開口部７ａとして形成されている。開口部７ａは被塗布物２００Ｂの水平断面形状より一回り大きくされている。即ち、内環部７Ａの開口部７ａには被塗布物２００Ｂが挿通可能とされている。
【０１０８】
被塗布物２００Ｂに塗布液１００が塗布される前の状態においては、膜形成体３Ａの開口部７ａが塗布液１００に浸漬され、被塗布物２００Ｂが開口部７ａに挿通可能な位置に配置される。次に、膜形成体３Ａの上方（開口部７ａの軸方向）への移動が開始され、膜形成体３Ａが、開口部７ａに被塗布物２００Ｂが挿通された状態で上方へ移動されていく。次いで、膜形成体３Ａが上方へ移動されて被塗布物２００Ｂの上端部より上側の位置において移動が停止される。
【０１０９】
従って、膜形成体３Ａが塗布物２００Ｂの下端側から上端側まで移動されることにより、平板状の被塗布物２００Ｂにおける外周面の全体に塗膜１０１が形成される。
【０１１０】
［塗布装置の変形例］
以下に、塗布装置の変形例について説明する（図１９参照）。
【０１１１】
なお、以下に示す変形例に係る塗布装置は、上記した塗布装置１と比較して、膜形成体の構成と他の一部の構成のみが相違するので、塗布装置１と比較して異なる部分についてのみ詳細に説明をし、その他の部分については塗布装置１における同様の部分に付した符号を付して説明は省略する。
【０１１２】
［変形例に係る塗布装置の構成］
変形例に係る塗布装置１Ａによって塗膜１０１が形成される被塗布物２００Ｃとしては、例えば、軸方向における長さの長い円筒形状の基材が用いられる。
【０１１３】
膜形成体３Ｂは、図１９に示すように、軸方向が上下方向とされ環状に形成されたベース面部２０とベース面部２０の内周部を除く部分から上方へ突出された貯液部２１とベース面部２０の内周部から下方へ突出された送出部２２とを有している。
【０１１４】
ベース面部２０は内周縁が円形状に形成され、内径が被塗布物２００Ｃの外径より大きくされ、内部に流路２０ａを有している。
【０１１５】
貯液部２１には上方に開口された凹部が形成され、この凹部が貯液空間２１ａとして形成されている。貯液空間２１ａはベース面部２０の流路２０ａに連通されている。
【０１１６】
送出部２２は内部に液送出路２２ａを有している。液送出路２２ａは下方へ行くに従って内方へ変位するように傾斜され、上端が流路２０ａに連通され下端が送出部２２の内側に存在する空間に連通されている。送出部２２の下縁は塗布液１００の膜１００ａが張られる開口部２２ｂとして形成されている。従って、液送出路２２ａは開口部２２ｂに近付くに従って下方へ変位するように傾斜されている。
【０１１７】
貯液空間２１ａ、流路２０ａ及び液送出路２２ａは膜形成体３Ｂの内部おいて順に連通されている。貯液空間２１ａは流路２０ａ及び液送出路２２ａに対して大きな容積を有している。流路２０ａ及び液送出路２２ａは幅の細い空間に形成されている。
【０１１８】
貯液部２１の貯液空間２１ａには後述する液供給機構によって塗布液１００が供給され、供給された塗布液１００が流路２０ａを介して液送出路２２ａに流動され液送出路２２ａから膜１００ａを形成するために送出される。
【０１１９】
送出部２２の液送出路２２ａは、上記したように、開口部２２ｂに近付くに従って下方へ変位するように傾斜されているため、塗布液１００が重力によって開口部２２ｂへ向けて流動され易く、開口部２２ｂに張られる膜１００ａに塗布液１００を容易に送出することができる。
【０１２０】
また、送出部２２の液送出路２２ａは、上記したように、貯液空間２１ａに対して幅の細い空間に形成されている。従って、塗布液１００が毛細管現象によって送出部２２から開口部２２ｂへ向けて流動され易く、開口部２２ｂに張られる膜１００ａに塗布液１００を確実に送出することができる。また、開口部２２ｂに塗布液１００を送出するためのポンプ等の構成が不要となり、構成の簡素化を図ることができる。
【０１２１】
塗布装置１Ａには貯液部２１に塗布液１００を供給するための液供給機構２３が設けられている。液供給機構２３は、塗布液１００を貯留する貯留タンク２４と、貯留タンク２４から貯液部２１への塗布液１００の流路として機能する送出管２５と、塗布液１００を貯留タンク２４から貯液部２１へ向けて送るポンプ２６とを有している。
【０１２２】
［変形例に係る塗布装置の動作］
上記した塗布装置１Ａにおいては、開口部２２ｂに膜１００ａが張られた状態で膜形成体３Ｂが所定の位置に固定され、被塗布物２００Ｃがその中心軸と開口部２２ｂの中心軸とが一致された状態で膜形成体３Ｂの開口部２２ｂに挿通されて下方へ移動されていく。このとき、塗布液１００が液供給機構２３から貯液部２１に供給され、貯液部２１に貯留された塗布液１００が送出部２２により開口部２２ｂに順次供給される。
【０１２３】
従って、膜形成体３Ｂの開口部２２ｂに張られている膜１００ａの液切れによる破れが防止され、被塗布物２００Ｃに対して連続して塗布液１００を塗布することができ、軸方向における長さの長い被塗布物２００Ｃに塗膜１０１を形成することができる。
【０１２４】
なお、上記には、送出部２２から塗布液１００が毛細管現象や重力によって開口部２２ｂに送出される例を示したが、送出部２２からの塗布液１００の開口部２２ｂへの送出は毛細管現象や重力による例に限られることはない。例えば、貯液部２１に貯留された塗布液１００がポンプ等を用いた圧力によって開口部２２ｂに送出されるようにしてもよい。
【０１２５】
また、上記には、液供給機構２３は貯留タンク２４、送出管２５及びポンプ２６を有する例を示したが液供給機構は貯留タンク２４、送出管２５及びポンプ２６を有する例に限られることはない。液供給機構は貯液部２１に塗布液１００を供給する機能を有していればよく、例えば、ポンプ２６を設けることなく重力により塗布液１００を送出するようにしてもよい。
【０１２６】
また、上記には、被塗布物２００Ｃとして軸方向における長さの長い円筒形状の基材が用いられた例を示したが、被塗布物は長い円筒形状の基材に限られることはなく、被塗布物２００Ｃとして長い平板形状等の各種の形状のものが用いられていてもよい。
【０１２７】
［まとめ］
以上に記載した通り、塗布装置１、１Ａにあっては、開口部７ａ、２２ｂを有する環状の膜形成体３、３Ａ、３Ｂが被塗布物２００、２００Ａ、２００Ｂ、２００Ｃに対して相対的に移動され、塗布液１００の膜１００ａが張られた開口部７ａ、２２ｂに被塗布物２００、２００Ａ、２００Ｂ、２００Ｃが挿通されて被塗布物２００、２００Ａ、２００Ｂ、２００Ｃの表面に塗布液１００が塗布される。
【０１２８】
従って、開口部７ａ、２２ｂに張られた塗布液１００の膜１００ａによって被塗布物２００、２００Ａ、２００Ｂ、２００Ｃの表面に塗膜１０１が形成されるので、塗布液１００の使用量が少なくて済み、塗布液１００の使用量を削減することができる。
【０１２９】
また、塗布装置１、１Ａにあっては、膜形成体３、３Ａ、３Ｂの開口部７ａ、２２ｂに張られる膜１００ａによって被塗布物２００、２００Ａ、２００Ｂ、２００Ｃの表面に塗膜１０１を形成するため、膜形成体３、３Ａ、３Ｂからの塗布液１００の液漏れを生じることがない。従って、塗布装置１、１Ａに液漏れを防止する機構を設ける必要がなく、塗布装置１、１Ａの構成の簡素化を図ることができる。
【０１３０】
［本技術］
なお、本技術は以下のような構成とすることができる。
【０１３１】
（１）被塗布物に塗布される塗布液が貯留された貯液槽と、前記貯液槽に貯留された前記塗布液に浸漬されて膜が張られる開口部を有する環状の膜形成体とを備え、前記膜形成体が前記被塗布物に対して相対的に移動され、前記膜が張られた前記開口部に前記被塗布物が挿通されて前記被塗布物の表面に前記塗布液が塗布されるようにした塗布装置。
【０１３２】
（２）前記膜形成体に、環状に形成された外環部と、環状に形成され前記開口部を有し前記外環部の内周縁から突出された内環部とを設け、前記内環部の先端縁は前記外環部の内周縁より下側に位置された前記（１）に記載の塗布装置。
【０１３３】
（３）前記内環部は前記外環部の内周縁から前記開口部に近付くに従って前記外環部に対して傾斜され、前記内環部の内周縁が前記外環部の内周縁の内側に位置された前記（２）に記載の塗布装置。
【０１３４】
（４）前記被塗布物の下端部と前記膜形成体の少なくとも前記開口部とが前記貯液槽に貯留された前記塗布液に浸漬された状態において前記膜形成体の移動が開始されるようにした前記（１）から前記（３）の何れかに記載の塗布装置。
【０１３５】
（５）前記被塗布物の前記膜形成体が移動する方向における端部に、前記膜形成体が移動する方向において先細りの形状に形成された液垂防止体が取り付けられた前記（１）から前記（４）の何れかに記載の塗布装置。
【０１３６】
（６）前記膜形成体が前記被塗布物に対して往復される前記（１）から前記（５）の何れかに記載の塗布装置。
【０１３７】
（７）前記膜形成体に、前記塗布液を貯留する貯液部と前記貯液部に貯留された前記塗布液を前記開口部に送出する送出部とが設けられ、前記塗布液を前記貯液部に供給する液供給機構が設けられた前記（１）に記載の塗布装置。
【０１３８】
（８）前記送出部が前記開口部に近付くに従って下方へ変位するように傾斜された前記（７）に記載の塗布装置。
【０１３９】
（９）前記貯液部に貯留された前記塗布液が前記送出部から毛細管現象によって前記開口部に送出されるようにした前記（７）又は前記（８）に記載の塗布装置。
【０１４０】
上記した最良の形態において示した各部の具体的な形状及び構造は、何れも本技術を実施する際の具体化のほんの一例を示したものにすぎず、これらによって本技術の技術的範囲が限定的に解釈されることがあってはならないものである。
【図面の簡単な説明】
【０１４１】
【図１】図２乃至図１９と共に本技術塗布装置の実施の形態を示すものであり、本図は、一部を断面にして示す塗布装置の概略側面図である。
【図２】膜形成体の概略断面図である。
【図３】膜形成体の概略平面図である。
【図４】図５乃至図１３と共に円筒形状又は円柱形状の被塗布物に塗布液が塗布されるときの塗布装置の動作を示すものであり、本図は、被塗布物に塗布液が塗布される前の初期状態を一部を断面にして示す概略側面図である。
【図５】被塗布物が塗布液の上方において保持された状態を一部を断面にして示す概略側面図である。
【図６】膜形成体の移動が開始され、塗布液の液面の上側に位置される状態を一部を断面にして示す概略側面図である。
【図７】膜形成体の開口部に塗布液の膜が張られた状態を示す概略底面図である。
【図８】膜形成体が被塗布物の下面より上側に移動された状態を一部を断面にして示す概略側面図である。
【図９】塗布液の膜の一部が被塗布物の下面に貼り付けられ塗膜が形成された状態を示す概略底面図である。
【図１０】膜形成体が低速で上方へ移動されていく状態を一部を断面にして示す概略側面図である。
【図１１】被塗布物に対する１度目の塗布液の塗布が完了された状態を一部を断面にして示す概略側面図である。
【図１２】液垂防止体に液垂れが生じている状態を一部を断面にして示す概略側面図である。
【図１３】膜形成体が下方へ移動され初期状態に戻った状態を一部を断面にして示す概略側面図である。
【図１４】図１５乃至図１７と共に球形状の被塗布物に塗布液が塗布されるときの塗布装置の動作を示すものであり、本図は、被塗布物に塗布液が塗布される前の状態を一部を断面にして示す概略側面図である。
【図１５】膜形成体の移動が開始された状態を一部を断面にして示す概略側面図である。
【図１６】膜形成体が上方へ移動されていく状態を一部を断面にして示す概略側面図である。
【図１７】被塗布物に対する塗布液の塗布が完了された状態を一部を断面にして示す概略側面図である。
【図１８】平板状の被塗布物に塗布液が塗布される状態を示す概略斜視図である。
【図１９】変形例に係る塗布装置を一部を断面にして示す概略側面図である。
【符号の説明】
【０１４２】
１…塗布装置、２…貯液槽、３…膜形成体、５…液垂防止体、６…外環部、７…内環部、７ａ…開口部、１００…塗布液、１００ａ…膜、２００…被塗布物、２００Ａ…被塗布物、２００Ｂ…被塗布物、３Ａ…膜形成体、６Ａ…外環部、７Ａ…内環部、１Ａ…塗布装置、３Ｂ…膜形成体、２２ｂ…開口部、２１…貯液部、２２…送出部、２３…液供給機構、２００Ｃ…被塗布物
【図１】
2012206059.tif 000003
【図２】
2012206059.tif 000004
【図３】
2012206059.tif 000005
【図４】
2012206059.tif 000006
【図５】
2012206059.tif 000007
【図６】
2012206059.tif 000008
【図７】
2012206059.tif 000009
【図８】
2012206059.tif 000010
【図９】
2012206059.tif 000011
【図１０】
2012206059.tif 000012
【図１１】
2012206059.tif 000013
【図１２】
2012206059.tif 000014
【図１３】
2012206059.tif 000015
【図１４】
2012206059.tif 000016
【図１５】
2012206059.tif 000017
【図１６】
2012206059.tif 000018
【図１７】
2012206059.tif 000019
【図１８】
2012206059.tif 000020
【図１９】
2012206059.tif 000021