(57)【要約】【課題】プラズマディスプレイパネルを製造するために用いる縦形現像装置において、基板に塗布される現像液のムラを低減した現像装置および現像方法を提供することを目的としている。【解決手段】現像液を噴霧する現像室１７と、基板２２を洗浄する洗浄室１９と、現像室に現像液を供給する現像液供給系統と、予め感光性材料が配され所定のパターンに露光照射処理を施された基板２２を現像室１７から次の洗浄室１９に搬送する搬送ベルト２１とを備えた現像装置において、現像室１７から洗浄室１９にて基板表裏全体が水洗いされ、基板２２に付着した現像液や現像時に剥離した樹脂成分等を基板表面から洗い流しており、搬送方向に配列するｎ個のエアカット１８ａ・・・１８ｎのノズル幅をＷ１＞Ｗ２・・・＞Ｗｎにして、基板２２の現像液を除去する構成である。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被現像物に現像液を噴霧する工程と、前記被現像物の現像を行う工程を備えた現像方法であって、
搬送方向に配列するｎ個のエアカットのノズル幅をＷ１＞Ｗ２・・・＞Ｗｎにして、現像液を除去することを特徴とする現像方法。
【請求項２】
電極および蛍光体層および隔壁が配置されたプラズマディスプレイパネルを備え、
前記電極および前記蛍光体層および前記隔壁の少なくとも一つが請求項１に記載の現像方法を用いて形成されたプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
被現像物に現像液を噴霧する現像液噴霧手段と現像液除去手段を備えた現像装置であって、前記現像液除去手段は、搬送方向に配列するｎ個のエアカットのノズル幅をＷ１＞Ｗ２・・・＞Ｗｎにして、現像液を除去することを特徴とする現像装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
ここに開示された技術は、感光性材料を現像する現像装置および現像方法およびその現像方法を用いたプラズマディスプレイパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰという）は、高精細化および大画面化の実現が可能であることから、１００インチ以上の薄型テレビとして製品化されている。
【０００３】
ＰＤＰは、前面板と背面板を対向配置して形成されている。前面板は、フロート法等により製造された硼硅酸ナトリウム系ガラスからなるガラス基板と、その一方の主面上に形成されたストライプ状の透明電極とバス電極とで構成される表示電極と、この表示電極を覆ってコンデンサとしての働きをする誘電体層と、この誘電体層上に形成された酸化マグネシウム（ＭｇＯ）からなる保護層とで構成されている。
【０００４】
一方、背面板は、ガラス基板と、その一方の主面上に形成されたストライプ状のアドレス電極と、アドレス電極を覆う下地誘電体層と、下地誘電体層上に形成された隔壁と、各隔壁間に形成された赤色、緑色、青色それぞれに発光する蛍光体層とで構成されている。
【０００５】
前面板と背面板とは、その電極形成面側を対向させて気密封着している。隔壁によって仕切られた放電空間に、Ｎｅ−Ｘｅの放電ガスが４００Ｔｏｒｒ〜６００Ｔｏｒｒの圧力で封入されている。表示電極に映像信号電圧を選択的に印加することによって放電させ、その放電によって発生した紫外線が各色蛍光体層を励起して赤色、緑色、青色の発光をさせる。その結果、カラー画像表示が実現される。
【０００６】
表示電極のバス電極材料として、アルミニウム（Ａｌ）やクロム（Ｃｒ）／銅（Ｃｕ）／クロム（Ｃｒ）を用いる場合は、半導体プロセスを用いて成膜する。よって、このバス電極は高精度で形成されるが、成膜時は真空装置が必要となるので装置コストが高い。
【０００７】
そこで、特別な真空装置を用いずに、印刷法やロールコート法等を用いて、銀（Ａｇ）粉末を用いた電極ペーストを塗布し、バス電極を形成する場合も多い。銀（Ａｇ）粉末を用いた電極ペーストには、固形成分として導電剤の銀（Ａｇ）粉末や接着のためのガラスフリットや媒体成分としてセルロース樹脂やテルペン系溶剤が含まれている。
【０００８】
また、画面のコントラスト向上のために、表示面側に黒色の電極ペーストで黒層を形成し、その上に導電性の電極ペーストで白層を形成している。
【０００９】
従来からＰＤＰ等の表示デバイスにおける電極や蛍光体層や隔壁等の諸要素パターンを形成する際は、フォトリソグラフィ法やリフトオフ法が広く用いられている。
【００１０】
この方法を電極形成に用いた場合は次のようになる。
【００１１】
まず、ガラス基板上にＡｇ感光性ペースト（Ａｇ、ポリマー、モノマー、および重合開始剤等が混合されたもの）を印刷等により塗布してＡｇ感光性ペースト層を形成する。
【００１２】
次に、このように形成したＡｇ感光性ペースト層から溶剤を消失させるために乾燥処理を施す。
【００１３】
次に、フォトマスクを介して紫外線を照射して、Ａｇ感光性ペースト層に露光部と未露光部とを形成する。この露光部が後にバス電極のパターンとなるものである。
【００１４】
次に、所定濃度の現像液（例えば濃度０．５ｗｔ％の炭酸ナトリウム水溶液等）を噴霧して現像処理を行い、ガラス基板上に露光部を定着させる。なお、このように露光した箇所が顕像化されるのをネガ型というが、未露光部分を顕像化させるポジ型であっても構わない。通常、電極形成をする場合は、ネガ型が主流である。
【００１５】
次に、焼成処理を行なうことによって電極を完成させる。
【００１６】
上記の現像工程においては、例えば、図３に示すような現像装置が広く用いられる。この現像装置は、一般に縦形現像装置と呼ばれる。現像液の噴霧を行なう現像室１７と、基板２２を洗浄する洗浄室１９と、現像室１７に現像液を供給する現像液供給系統と、予め感光性材料が配され所定のパターンに露光照射処理を経た基板２２を現像室１７から次の洗浄室１９に現像後の基板２２を搬送する搬送ベルト２１とを備えている。
【００１７】
搬送ベルト２１によって、基板２２が現像室１７に搬送されてくると、搬送室内において垂直姿勢を維持させたまま搬送させながら現像液を噴霧する。
【００１８】
次に、搬送ベルト２１によって、現像室１７から洗浄室１９にて、基板２２の表裏全体が水洗いされて、基板２２に付着した現像液や現像時に剥離した樹脂成分等を基板２２から洗い流す。
【００１９】
このとき、搬送方向に配列するｎ個のエアカット１８ａ・・・１８ｎのノズル幅（Ｗ１〜Ｗｎ）をすべて同じ幅にしている。そして、エアカット１８ａ・・・１８ｎを用いて、基板２２の現像液を除去する。
【００２０】
このようにプラズマディスプレイパネルを製造する際に現像装置を用いる技術については、例えば、特許文献１に開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００２１】
【特許文献１】特開２００８−２９３８６７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００２２】
縦形現像装置では、被現像物である感光性材料が配置された基板２２は垂直に近い状態に立てられる。この姿勢で現像液を噴霧すると、現像液は、重力の影響を受けて、感光性材料層の表面に沿って上側から下側に流れる。現像室外へ搬送された基板２２では、現像液が重力方向に落下し、基板２２に現像液のムラが発生する。その現像液のムラによって電極の外観ムラが発生してしまう。
【００２３】
近年、ＰＤＰは従来のＮＴＳＣ方式に比べて走査線数が２倍以上となるフルハイビジョンへの高精細化が進んでいる。高精細化が進むと、特に、この現像ムラによる影響が大きくなる。その結果、外観ムラの度合いも大きくなる。
【００２４】
ここに開示された技術は上記問題を解決し、縦形現像装置であっても、現像液のムラを低減した現像装置および現像方法およびその現像方法を用いたプラズマディスプレイパネルを提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００２５】
上記目的を達成するためにここに開示された技術は以下の構成を有する。
【００２６】
ここに開示された現像方法は、被現像物に現像液を噴霧する工程と、前記被現像物の現像を行う工程を備えた現像方法であって、搬送方向に配列するｎ個のエアカットのノズル幅をＷ１＞Ｗ２・・・＞Ｗｎにして、現像液を除去することを特徴とする構成である。
【００２７】
また、ここに開示されたプラズマディスプレイパネルは、電極および蛍光体層および隔壁が配置されたプラズマディスプレイパネルを備え、前記電極および前記蛍光体層および前記隔壁の少なくとも一つが、被現像物に現像液を噴霧する工程と、前記被現像物の現像を行う工程を備えた現像方法であって、搬送方向に配列するｎ個のエアカットのノズル幅をＷ１＞Ｗ２・・・＞Ｗｎにして、現像液を除去することを特徴とする現像方法を用いて形成された構成である。
【００２８】
また、ここに開示された現像装置は、被現像物に現像液を噴霧する現像液噴霧手段と現像液除去手段を備えた現像装置であって、前記現像液除去手段は、搬送方向に配列するｎ個のエアカットのノズル幅をＷ１＞Ｗ２・・・＞Ｗｎにして、現像液を除去することを特徴とする構成である。
【発明の効果】
【００２９】
ここに開示された技術によれば、はじめにノズル幅の広いエアカットで現像液が除去されるので、現像液によるノズルの詰まりを防止できる。結果として、現像液のムラが抑制されて外観ムラも解消される。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】一実施の形態におけるＰＤＰの概略構成を示す断面斜視図
【図２】同ＰＤＰの前面板の断面図
【図３】一般的な現像装置の概略構成を示す断面図
【発明を実施するための形態】
【００３１】
以下、一実施の形態におけるＰＤＰについて図面を用いて説明する。
【００３２】
図１に示すように、ＰＤＰ１は、互いに対向配置した前面板２と背面板１０を備えている。前面板２と背面板１０の外周部はガラスフリット等からなる封着材によって気密封着されている。封着されたＰＤＰ１の内部の放電空間１６には、ＮｅおよびＸｅ等の放電ガスが４００Ｔｏｒｒ〜６００Ｔｏｒｒの圧力で封入されている。
【００３３】
前面板２の前面ガラス基板３上には、走査電極４および維持電極５よりなる一対のストライプ状の表示電極６と遮光層７が互いに平行にそれぞれ複数列配置されている。前面ガラス基板３上には表示電極６と遮光層７とを覆うようにコンデンサとしての働きをする誘電体層８が形成され、さらにその表面には酸化マグネシウム（ＭｇＯ）等からなる保護層９が形成されている。
【００３４】
また、背面板１０の背面ガラス基板１１上には、前面板２の走査電極４および維持電極５と直交する方向に、複数のストライプ状のアドレス電極１２が互いに平行に配置され、これを下地誘電体層１３が被覆している。さらに、アドレス電極１２間の下地誘電体層１３上には放電空間１６を区切る所定の高さの隔壁１４が形成されている。隔壁１４間の溝にはアドレス電極１２毎に、紫外線によって赤色や青色や緑色にそれぞれ発光する蛍光体層１５が順次塗布して形成されている。そして、放電空間１６の表示電極６とアドレス電極１２との交差部が単位発光領域である放電セルとして動作する。
【００３５】
図２は、一実施の形態におけるＰＤＰの前面板の断面図である。
【００３６】
図２において、前面板２は図１の前面板２に対して上下が反転している。図２に示すように、フロート法等により製造された前面ガラス基板３に、走査電極４と維持電極５よりなる表示電極６と遮光層７がパターン形成されている。走査電極４と維持電極５はそれぞれスズ（Ｓｎ）添加酸化インジウム（ＩＴＯ）や酸化スズ（ＳｎＯ2）やアルミ（Ａｌ）添加酸化亜鉛（ＺｎＯ）からなる透明電極４ａ、５ａと、透明電極４ａ、５ａ上に形成された金属バス電極４ｂ、５ｂとにより構成されている。金属バス電極４ｂ、５ｂは透明電極４ａ、５ａの長手方向に導電性を付与する目的として用いられ、銀（Ａｇ）材料を主成分とする導電性材料によって形成されている。さらに、金属バス電極４ｂ、５ｂは黒色の黒色電極４１ｂ、５１ｂと白色の白色電極４２ｂ、５２ｂとで構成されている。
【００３７】
誘電体層８は、前面ガラス基板３上に形成されたこれらの透明電極４ａ、５ａと金属バス電極４ｂ、５ｂと遮光層７を覆って設けた第１誘電体層８１と、第１誘電体層８１上に形成された第２誘電体層８２の少なくとも２層構成とし、さらに第２誘電体層８２上に保護層９を形成している。
【００３８】
次に、ＰＤＰの製造方法について説明する。
【００３９】
まず、前面ガラス基板３上に、走査電極４および維持電極５と遮光層７とを形成する。これらの透明電極４ａ、５ａと金属バス電極４ｂ、５ｂは、フォトリソグラフィ法等を用いてパターニングして形成される。透明電極４ａ、５ａは薄膜プロセス等を用いて形成され、金属バス電極４ｂ、５ｂは導電性黒色粒子あるいは銀（Ａｇ）材料を含むペーストを所望の温度で焼成して固化している。
【００４０】
また、遮光層７も同様に、黒色材料を含むペーストをスクリーン印刷する方法や黒色材料をガラス基板の全面に形成した後、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングし、焼成することにより形成される。
【００４１】
具体的な金属バス電極４ｂ、５ｂの形成手順は、以下に示す手順が一般的である。
【００４２】
前面ガラス基板３上に黒色材料を含んだペーストを印刷し乾燥させた後、フォトリソグラフィ法でパターンニングして、遮光層７を形成する。さらに、顔料を含んだペーストと導電性粒子を含んだペーストをそれぞれ印刷して、乾燥させる。この印刷と乾燥を必要に応じて繰り返す。その後、フォトリソグラフィ法で、パターニングして黒色の黒色電極４１ｂ、５１ｂと白色の白色電極４２ｂ、５２ｂからなる金属バス電極４ｂ、５ｂを形成する。ここで、画像表示時のコントラストを向上させるために、黒色電極４１ｂ、５１ｂは、白色電極４２ｂ、５２ｂより下層に形成する。
【００４３】
なお、本実施の形態では、金属バス電極４ｂ、５ｂの黒色電極４１ｂ、５１ｂと遮光層７を同一材料とし、同一プロセスにて製造する手順を用いている。
【００４４】
次に、走査電極４、維持電極５および遮光層７を覆うように前面ガラス基板３上に誘電体ペーストをダイコート法等により塗布して誘電体ペースト層（誘電体ガラス層）を形成する。
【００４５】
誘電体ペーストを塗布した後、所定の時間放置することによって、塗布された誘電体ペーストの表面がレベリングされて平坦な表面になる。
【００４６】
その後、誘電体ペースト層を焼成固化することにより、走査電極４、維持電極５および遮光層７を覆う誘電体層８が形成される。
【００４７】
なお、一実施の形態では、少なくともこれらの誘電体ペーストの塗布工程を繰り返すことによって、第１誘電体層８１と第２誘電体層８２よりなる２層構成の誘電体層８を形成している。ここで用いる誘電体ペーストは粉末の誘電体ガラス、バインダーおよび溶剤を含む塗料である。
【００４８】
次に、誘電体層８上に酸化マグネシウム（ＭｇＯ）からなる保護層９を真空蒸着法により形成する。
【００４９】
以上の工程により、前面ガラス基板３上に所定の構成部材が形成された前面板２が完成する。
【００５０】
一方、背面板１０は次のようにして形成される。
【００５１】
まず、背面ガラス基板１１上に、銀（Ａｇ）材料を含むペーストをスクリーン印刷する方法や、金属膜を全面に形成した後、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングする方法等によりアドレス電極１２用の構成物となる材料層を形成し、それを所望の温度で焼成することによりアドレス電極１２を形成する。
【００５２】
次に、アドレス電極１２が形成された背面ガラス基板１１上にダイコート法等によりアドレス電極１２を覆うように誘電体ペーストを塗布して誘電体ペースト層を形成する。その後、誘電体ペースト層を焼成することにより下地誘電体層１３を形成する。なお、誘電体ペーストは粉末の誘電体ガラスとバインダーおよび溶剤を含んだ塗料である。
【００５３】
次に、下地誘電体層１３上に隔壁材料を含む隔壁形成用ペーストを塗布して所定の形状にパターニングして隔壁材料層を形成する。その後、焼成することにより隔壁１４を形成する。ここで、下地誘電体層１３上に塗布した隔壁用ペーストをパターニングする方法としては、フォトリソグラフィ法やサンドブラスト法を用いることができる。
【００５４】
次に、隣接する隔壁１４間の下地誘電体層１３上および隔壁１４の側面に、蛍光体材料を含む蛍光体ペーストを塗布して焼成することにより蛍光体層１５を形成する。
【００５５】
以上の工程により、背面ガラス基板１１上に所定の構成部材が形成された背面板１０が完成する。
【００５６】
このようにして、所定の構成部材を備えた前面板２と背面板１０とを走査電極４とアドレス電極１２とが直交するように対向配置する。そして、その周囲をガラスフリットで封着し、放電空間１６にＮｅ、Ｘｅ等を含む放電ガスを封入することにより、ＰＤＰ１が完成する。
【００５７】
ここで、前面ガラス基板３や背面ガラス基板１１上に、アドレス電極１２等のＰＤＰ１の構成材料を形成するための現像装置および現像方法について説明する。
【００５８】
現像装置は、図３に示す一般的な現像装置の一部を改良している。
【００５９】
具体的には、以下の通りである。
【００６０】
図３における現像装置は、現像液を噴霧する現像室１７と、基板２２を洗浄する洗浄室１９と、現像室１７に現像液を供給する現像液供給系統と、予め感光性材料が配され所定のパターンに露光照射処理を経た基板２２を現像室１７から次の洗浄室１９に現像後の基板２２を搬送する搬送ベルト２１とを備えている。
【００６１】
基板２２の表面には予め露光照射され面状に配置された感光性材料層に向けて現像液を噴霧する。現像液としては、炭酸ナトリウム水溶液等のアルカリ水溶液を用いることができる。
【００６２】
搬送ベルト２１によって、基板２２が現像室１７内に搬送されてきたとき、搬送室内において垂直姿勢を維持させたまま搬送させながら現像液を噴霧する。
【００６３】
次に、搬送ベルト２１によって、現像室１７から洗浄室１９にて基板２２の表裏全体が水洗いされて、基板２２に付着した現像液や現像時に剥離した樹脂成分等を基板２２から洗い流す。最後に、エアナイフ２０で処理する。
【００６４】
このとき、搬送方向に配列するｎ個のエアカット１８ａ・・・１８ｎのノズル幅をＷ１＞Ｗ２・・・＞Ｗｎにしている。そして、このエアカット１８ａ・・・１８ｎを用いて、基板２２の現像液を除去する。
【００６５】
このようにすれば、はじめにノズル幅の広いエアカット１８ａによって現像液が除去されるので、現像液のムラを抑制できる。その結果、外観ムラの発生も抑制できる。
【産業上の利用可能性】
【００６６】
ここに開示された技術によれば、現像液のムラを抑制して外観ムラを抑制できるので、画像表示品位の高いＰＤＰを製造するために有用である。
【符号の説明】
【００６７】
１    ＰＤＰ
２    前面板
３    前面ガラス基板
４    走査電極
５    維持電極
６    表示電極
７    遮光層
８    誘電体層
９    保護層
１０    背面板
１１    背面ガラス基板
１２    アドレス電極
１３    下地誘電体層
１４    隔壁
１５    蛍光体層
１６    放電空間
１７    現像室
１８ａ、１８ｂ・・・１８ｎ    エアカット
１９    洗浄室
２０    エアナイフ
２１    搬送ベルト
２２    基板
４ａ，５ａ    透明電極
４ｂ，５ｂ    金属バス電極
４１ｂ，５１ｂ    黒色電極
４２ｂ，５２ｂ    白色電極
８１    第１誘電体層
８２    第２誘電体層
【図１】
2012038793.tif 000003
【図２】
2012038793.tif 000004
【図３】
2012038793.tif 000005