(57)【要約】【課題】均一に形成でき、液体吐出特性を長期間一定に維持することができる液体噴射ヘッド、液体噴射ヘッドの製造方法及び液体噴射装置を提供する。【解決手段】シリコンからなり、液体を噴射するノズル２１に連通する圧力発生室１２が形成された流路形成基板１０を具備し、前記流路形成基板の、前記圧力発生室が形成され前記液体の流路となる面に、金属シリサイドからなる保護膜が設けられている。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
シリコンからなり、液体を噴射するノズルに連通する圧力発生室が形成された流路形成基板を具備し、
前記流路形成基板の、前記圧力発生室が形成され前記液体の流路となる面に、金属シリサイドからなる保護膜が設けられていることを特徴とする液体噴射ヘッド。
【請求項２】
請求項１に記載の液体噴射ヘッドにおいて、
前記金属シリサイドは、ニッケル、タングステン、チタン及びコバルトからなる群から選択される少なくとも一種の金属のシリサイドであることを特徴とする液体噴射ヘッド。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の液体噴射ヘッドにおいて、
前記流路形成基板に設けられ、弾性を有し、一部が前記圧力発生室の一部を画成する振動板を備え、
前記振動板の少なくとも前記圧力発生室の一部を画成する側が酸化シリコンであり、前記弾性膜の前記圧力発生室の一部を画成する領域に前記金属シリサイドが設けられていないことを特徴とする液体噴射ヘッド。
【請求項４】
シリコンからなる部材に、液体を噴射するノズルに連通する圧力発生室を含む前記液体の流路を形成する流路形成工程と、
前記部材の前記流路を形成した面に金属層を形成させる金属層形成工程と、
前記金属層を除去して、前記部材の前記流路に金属シリサイドからなる保護膜を設ける保護膜形成工程と、
を具備することを特徴とする液体噴射ヘッドの製造方法。
【請求項５】
請求項４に記載の液体噴射ヘッドの製造方法において、
前記金属シリサイドは、ニッケル、タングステン、チタン及びコバルトのうち少なくとも何れか一種の金属のシリサイドであることを特徴とする液体噴射ヘッドの製造方法。
【請求項６】
請求項４または請求項５に記載の液体噴射ヘッドの製造方法において、
前記金属層形成工程の後、且つ金属層の除去の前に、熱処理を行う熱処理工程を含むことを特徴とする液体噴射ヘッドの製造方法。
【請求項７】
請求項４〜６の何れか一項に記載の液体噴射ヘッドの製造方法において、
前記金属層形成工程の前に、前記保護膜を形成する前記部材の面に形成されているシリコンの自然酸化膜を除去する自然酸化膜除去工程を含むことを特徴とする液体噴射ヘッドの製造方法。
【請求項８】
請求項１〜３の何れか一項に記載の液体噴射ヘッドを具備することを特徴とする液体噴射装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ノズルから液体を噴射する液体噴射ヘッド、液体噴射ヘッドの製造方法及び液体噴射装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液体噴射装置としては、例えば、圧電素子や発熱素子によりインク滴吐出のための圧力を発生させる複数の圧力発生室と、各圧力発生室にインクを供給する共通のリザーバーと、各圧力発生室に連通するノズルとを備えたインクジェット式記録ヘッドを具備するインクジェット式記録装置があり、このインクジェット式記録装置では、印字信号に対応するノズルと連通した圧力発生室内のインクに吐出エネルギーを印加してノズルからインク滴を吐出させる。
【０００３】
このような従来のインクジェット式記録ヘッドは、一般的に、インクキャビティー（圧力発生室）がシリコン基板に形成され、インクキャビティーの一方面を構成する振動板はシリコン酸化膜で形成されている。このため、アルカリ性のインクを用いると、インクによってシリコン基板が除々に溶解されて各圧力発生室の幅が経時的に変化してしまう。そして、このことが、圧電素子の駆動によって圧力発生室内に付与される圧力を変化させる原因となり、インク吐出特性が除々に低下してしまうという問題がある。このため、インクキャビティー内に親水性及び耐アルカリ性を備えた膜、例えば、ニッケル酸化膜やシリコン酸化膜等を設け、インクによるシリコン基板等の溶解を防止したものがある（例えば、特許文献１参照）。また、さらに、アルカリ性インクに対する耐エッチング性を向上させたものとして五酸化タンタル膜からなる保護膜を設けたものが提案されている（例えば、特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平１０−２６４３８３号公報
【特許文献２】特開２００４−２６２２２５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上述した構造においては、圧力発生室の内壁の全体に均一に成膜するのが困難であり、また、振動板にも保護膜が形成されてしまうため、変位特性が低下してしまうという問題がある。また、シリコンの熱酸化膜を保護膜とすることも考えられるが、アクチュエーターを形成した後であれば、良好な保護膜とするためには１０００℃以上の温度が必要であり、実際には使用することができない。
【０００６】
なお、このような問題は、インクを吐出するインクジェット式記録ヘッドだけでなく、勿論、インク以外のアルカリ性の液体を噴射する他の液体噴射ヘッドにおいても、同様に存在する。
【０００７】
本発明は、このような事情に鑑み、均一に形成でき、液体吐出特性を長期間一定に維持することができる液体噴射ヘッド、液体噴射ヘッドの製造方法及び液体噴射装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記課題を解決する本発明の態様は、シリコンからなり、液体を噴射するノズルに連通する圧力発生室が形成された流路形成基板を具備し、前記流路形成基板の、前記圧力発生室が形成され前記液体の流路となる面に、金属シリサイドからなる保護膜が設けられていることを特徴とする液体噴射ヘッドにある。
かかる態様では、シリコンとの反応により形成された金属シリサイドからなる保護膜を設けたので、前記圧力発生室のシリコンからなる内壁表面のみに設けることができ、変位特性を良好に維持したまま、耐アルカリ性に優れ、吐出特性を長期間一定に維持することができる液体噴射ヘッドを提供できる。
【０００９】
ここで、前記金属シリサイドが、ニッケル、タングステン、チタン及びコバルトからなる群から選択される少なくとも一種の金属のシリサイドであるのが好ましい。これによれば、耐アルカリ性が良好で、耐酸性にも優れた金属シリサイドが形成できる。
【００１０】
また、前記流路形成基板に設けられ、弾性を有し、一部が前記圧力発生室の一部を画成する振動板を備え、前記振動板の少なくとも前記圧力発生室の一部を画成する側が酸化シリコンであり、前記弾性膜の前記圧力発生室の一部を画成する領域に前記金属シリサイドが設けられていないのが好ましい。これによれば、酸化シリコン膜には金属シリサイドが形成されないので、振動板には保護膜が設けられず、また、耐アルカリ性が良好であるので、吐出特性を長期間一定に維持することができる液体噴射ヘッドを提供できる。
【００１１】
本発明の他の態様は、シリコンからなる部材に、液体を噴射するノズルに連通する圧力発生室を含む前記液体の流路を形成する流路形成工程と、前記部材の前記流路を形成した面に金属層を形成させる金属層形成工程と、前記金属層を除去して、前記部材の前記流路に金属シリサイドからなる保護膜を設ける保護膜形成工程と、を具備することを特徴とする液体噴射ヘッドの製造方法にある。
かかる態様では、流路を形成した面にシリコンとの反応により形成された金属シリサイドからなる保護膜を設けることができ、耐アルカリ性、耐久性に優れた液体噴射ヘッドを製造することができる。
【００１２】
ここで、前記金属シリサイドが、ニッケル、タングステン、チタン及びコバルトからなる群から選択される少なくとも一種の金属のシリサイドであるのが好ましい。これによれば、耐アルカリ性が良好で、耐酸性にも優れた金属シリサイドが形成できるので、金属除去を酸を用いて行うことができる。
【００１３】
また、前記金属層形成工程の後、且つ金属層の除去の前に、熱処理を行う熱処理工程を含むのが好ましい。これによれば、金属シリサイドがより確実に形成できる。
【００１４】
また、前記金属層形成工程の前に、前記保護膜を形成する前記部材の面に形成されているシリコンの自然酸化膜を除去する自然酸化膜除去工程を含むのが好ましい。これによれば、金属シリサイドの形成をより確実に行うことができる。
【００１５】
本発明の他の態様は、上記態様の液体噴射ヘッドを具備することを特徴とする液体噴射装置にある。これによれば、変位特性を良好に維持したまま、耐アルカリ性に優れ、吐出特性を長期間一定に維持することができる液体噴射ヘッドを具備し、信頼性及び耐久性を向上した液体噴射装置が実現される。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】実施形態１に係る記録ヘッドの概略構成を示す分解斜視図である。
【図２】実施形態１に係る記録ヘッドの平面図及び断面図である。
【図３】実施形態１に係る記録ヘッドの製造方法を示す断面図である。
【図４】実施形態１に係る記録ヘッドの製造方法を示す断面図である。
【図５】実施形態１に係る記録ヘッドの製造方法を示す断面図である。
【図６】実施形態１に係る記録ヘッドの製造方法を示す断面図である。
【図７】実施形態１に係る記録ヘッドの製造方法を示す断面図である。
【図８】実施形態１に係る記録ヘッドの製造方法を示す断面図である。
【図９】実施形態１に係る記録ヘッドの製造方法を示す断面図である。
【図１０】本発明の実施の形態に係るインクジェット式記録装置の概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下に本発明を実施形態に基づいて詳細に説明する。
（実施形態１）
図１は、本発明の実施形態１に係る液体噴射ヘッドの一例であるインクジェット式記録ヘッドの概略構成を示す分解斜視図であり、図２は、図１の平面図及びそのＡ−Ａ′線断面図である。本実施形態において、流路形成基板１０は、シリコン単結晶基板からなり、その一方の面には二酸化シリコンからなる弾性膜５０が形成されている。
【００１８】
流路形成基板１０には、隔壁１１で区画された複数の圧力発生室１２が並設されている（並設方向又は第１の方向という）。また、流路形成基板１０の圧力発生室１２の並設方向とは交差する方向（第２の方向という）の外側の領域には連通部１３が形成され、連通部１３と各圧力発生室１２とが、各圧力発生室１２毎に設けられたインク供給路１４及び連通路１５を介して連通されている。連通部１３は、後述する保護基板のリザーバー部３１と連通して各圧力発生室１２の共通のインク室となるリザーバーの一部を構成する。インク供給路１４は、圧力発生室１２よりも狭い幅で形成されており、連通部１３から圧力発生室１２に流入するインクの流路抵抗を一定に保持している。なお、本実施形態では、流路の幅を片側から絞ることでインク供給路１４を形成したが、流路の幅を両側から絞ることでインク供給路を形成してもよい。また、流路の幅を絞るのではなく、厚さ方向から絞ることでインク供給路を形成してもよい。
【００１９】
なお、本実施形態では、流路形成基板１０には、圧力発生室１２、連通部１３、インク供給路１４及び連通路１５からなる液体流路が設けられていることになる。
【００２０】
また、流路形成基板１０のノズル面側には、各圧力発生室１２のインク供給路１４とは反対側の端部近傍に連通するノズル２１が穿設されたノズルプレート２０が、接着剤や熱溶着フィルム等によって固着されている。なお、ノズルプレート２０は、例えば、ガラスセラミックス、シリコン単結晶基板、ステンレス鋼等からなる。
【００２１】
ここで、流路形成基板１０の圧力発生室１２の弾性膜５０が一部を画成する領域以外の内壁表面には、金属シリサイドからなり耐インク性を有する保護膜１６が設けられている。例えば、本実施形態では、ニッケルシリサイドからなる保護膜１６が、流路形成基板１０の弾性膜５０以外のインクに接触するシリコンからなる全ての表面に設けられている。具体的には、圧力発生室１２内の隔壁１１及び弾性膜５０の表面に保護膜１６が設けられると共に、各圧力発生室１２に連通するインク供給路１４及び連通部１３のインク流路の内壁表面にも保護膜１６が設けられている。なお、保護膜１６は、ニッケルシリサイドに限定されるものではなく、金属シリサイドとなるものであれば特に限定されない。ただし、耐酸性が良好で、金属膜を酸からなるエッチング液で選択的に除去できる金属シリサイドを用いるのが好ましく、このような金属シリサイドを形成する金属としては、ニッケルの他、タングステン、チタン、コバルトなどを挙げることができる。
【００２２】
一方、このような流路形成基板１０のノズル面とは反対側には、上述したように弾性膜５０が形成され、この弾性膜５０上には、二酸化ジルコニウムからなる絶縁体膜５５が形成されている。さらに、この絶縁体膜５５上には、第１電極６０と、圧電体層７０と、第２電極８０とが、後述するプロセスで積層形成されて、圧電素子３００を構成している。ここで、圧電素子３００は、第１電極６０、圧電体層７０及び第２電極８０を含む部分をいう。一般的には、圧電素子３００の何れか一方の電極を共通電極とし、他方の電極及び圧電体層７０を各圧力発生室１２毎にパターニングして構成する。本実施形態では、第１電極６０を圧電素子３００の共通電極とし、第２電極８０を圧電素子３００の個別電極としているが、駆動回路や配線の都合でこれを逆にしても支障はない。また、ここでは、圧電素子３００と当該圧電素子３００の駆動により変位が生じる振動板とを合わせてアクチュエーター装置と称する。なお、上述した例では、弾性膜５０、絶縁体膜５５及び第１電極６０が振動板として作用するが、勿論これに限定されるものではなく、例えば、弾性膜５０及び絶縁体膜５５を設けずに、第１電極６０のみが振動板として作用するようにしてもよい。また、圧電素子３００自体が実質的に振動板を兼ねるようにしてもよい。
【００２３】
圧電体層７０は、第１電極６０上に形成される電気機械変換作用を示す圧電材料、特に圧電材料の中でも一般式がＡＢＯ３で表現されるペロブスカイト型結晶構造（Ａサイトは任意の金属元素、Ｂサイトは任意の金属元素）を有し、金属としてＰｂ、Ｚｒ、及びＴｉを含む強誘電体材料からなる。圧電体層７０としては、例えば、チタン酸ジルコン酸鉛（ＰＺＴ）等の強誘電体材料や、これに酸化ニオブ、酸化ニッケル又は酸化マグネシウム等の金属酸化物を添加したもの等が好適である。具体的には、チタン酸ジルコン酸鉛（Ｐｂ（Ｚｒ，Ｔｉ）Ｏ３）、ジルコン酸チタン酸鉛ランタン（（Ｐｂ，Ｌａ）（Ｚｒ，Ｔｉ）Ｏ３）又は、マグネシウムニオブ酸ジルコニウムチタン酸鉛（Ｐｂ（Ｚｒ，Ｔｉ）（Ｍｇ，Ｎｂ）Ｏ３）等を用いることができる。
【００２４】
また、圧電素子３００の個別電極である各第２電極８０には、インク供給路１４側の端部近傍から引き出され、絶縁体膜５５上にまで延設される、例えば、金（Ａｕ）等からなるリード電極９０が接続されている。
【００２５】
このような圧電素子３００が形成された流路形成基板１０上、すなわち、第１電極６０、絶縁体膜５５及びリード電極９０上には、リザーバー１００の少なくとも一部を構成するリザーバー部３１を有する保護基板３０が接着剤３５を介して接合されている。このリザーバー部３１は、本実施形態では、保護基板３０を厚さ方向に貫通して圧力発生室１２の並設方向に亘って形成されており、上述のように流路形成基板１０の連通部１３と連通されて各圧力発生室１２の共通のインク室となるリザーバー１００を構成している。また、流路形成基板１０の連通部１３を圧力発生室１２毎に複数に分割して、リザーバー部３１のみをリザーバーとしてもよい。さらに、例えば、流路形成基板１０に圧力発生室１２のみを設け、流路形成基板１０と保護基板３０との間に介在する部材（例えば、弾性膜５０、絶縁体膜５５等）にリザーバーと各圧力発生室１２とを連通するインク供給路１４を設けるようにしてもよい。
【００２６】
また、保護基板３０の圧電素子３００に対向する領域には、圧電素子３００の運動を阻害しない程度の空間を有する圧電素子保持部３２が設けられている。圧電素子保持部３２は、圧電素子３００の運動を阻害しない程度の空間を有していればよく、当該空間は密封されていても、密封されていなくてもよい。
【００２７】
このような保護基板３０としては、流路形成基板１０の熱膨張率と略同一の材料、例えば、ガラス、セラミック材料等を用いることが好ましく、本実施形態では、流路形成基板１０と同一材料のシリコン単結晶基板を用いて形成した。
【００２８】
また、保護基板３０には、保護基板３０を厚さ方向に貫通する貫通孔３３が設けられている。そして、各圧電素子３００から引き出されたリード電極９０の端部近傍は、貫通孔３３内に露出するように設けられている。
【００２９】
また、保護基板３０上には、並設された圧電素子３００を駆動するための駆動回路１２０が固定されている。この駆動回路１２０としては、例えば、回路基板や半導体集積回路（ＩＣ）等を用いることができる。そして、駆動回路１２０とリード電極９０とは、ボンディングワイヤー等の導電性ワイヤーからなる接続配線１２１を介して電気的に接続されている。
【００３０】
また、このような保護基板３０上には、封止膜４１及び固定板４２とからなるコンプライアンス基板４０が接合されている。ここで、封止膜４１は、剛性が低く可撓性を有する材料からなり、この封止膜４１によってリザーバー部３１の一方面が封止されている。また、固定板４２は、比較的硬質の材料で形成されている。この固定板４２のリザーバー１００に対向する領域は、厚さ方向に完全に除去された開口部４３となっているため、リザーバー１００の一方面は可撓性を有する封止膜４１のみで封止されている。
【００３１】
このような本実施形態のインクジェット式記録ヘッドでは、図示しない外部のインク供給手段と接続したインク導入口からインクを取り込み、リザーバー１００からノズル２１に至るまで内部をインクで満たした後、駆動回路１２０からの記録信号に従い、圧力発生室１２に対応するそれぞれの第１電極６０と第２電極８０との間に電圧を印加し、弾性膜５０、絶縁体膜５５、第１電極６０及び圧電体層７０をたわみ変形させることにより、各圧力発生室１２内の圧力が高まりノズル２１からインク滴が吐出する。
【００３２】
以下、このようなインクジェット式記録ヘッドの製造方法について、図３〜図８を参照して説明する。なお、図３〜図８は、本発明の実施形態に係る液体噴射ヘッドの一例であるインクジェット式記録ヘッドの製造方法を示す圧力発生室の第２の方向の断面図である。
【００３３】
まず、図３（ａ）に示すように、シリコンウェハーであり流路形成基板１０が複数一体的に形成される流路形成基板用ウェハー１１０の表面に弾性膜５０を構成する酸化膜５１を形成する。
【００３４】
そして、図３（ｂ）に示すように、弾性膜５０（酸化膜５１）上に、弾性膜５０とは異なる材料の酸化膜、本実施形態では酸化ジルコニウムからなる絶縁体膜５５を形成する。
【００３５】
次いで、図３（ｃ）に示すように、絶縁体膜５５上の全面に第１電極６０を形成すると共に、所定形状にパターニングする。この第１電極６０の材料は、特に限定されないが、圧電体層７０としてチタン酸ジルコン酸鉛（ＰＺＴ）を用いる場合には、酸化鉛の拡散による導電性の変化が少ない材料であることが望ましい。このため、第１電極６０の材料としては白金、イリジウム等が好適に用いられる。また、第１電極６０は、例えば、スパッタリング法やＰＶＤ法（物理蒸着法）などにより形成することができる。
【００３６】
次に、チタン酸ジルコン酸鉛（ＰＺＴ）からなる圧電体層７０を形成する。ここで、本実施形態では、いわゆるゾル−ゲル法を用いて圧電体層７０を形成している。なお、圧電体層７０の製造方法は、ゾル−ゲル法に限定されず、ＭＯＤ（Ｍｅｔａｌ−Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｄｅｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎ）法を用いてもよい。
【００３７】
圧電体層７０の具体的な作成手順を説明する。まず、図４（ａ）に示すように、第１電極６０上に圧電体膜の組成液７１を塗布する。
【００３８】
次いで、圧電体膜の組成液７１を熱処理することで、図４（ｂ）に示す非晶質の圧電体前駆体膜７２を形成する前駆体膜形成工程を行う。次に、乾燥した圧電体前駆体膜７２を所定温度に加熱して一定時間保持することによって脱脂する。次に、図４（ｃ）に示すように、圧電体前駆体膜７２を所定温度に加熱して一定時間保持することによって結晶化させ、圧電体膜７３を形成する。
【００３９】
次に、図５（ａ）に示すように、第１電極６０上に１層目の圧電体膜７３を形成した段階で、第１電極６０及び１層目の圧電体膜７３をそれらの側面が傾斜するように同時にパターニングする。次に、図５（ｂ）に示すように、１層目の圧電体膜７３上を含む流路形成基板用ウェハー１１０上に、上述した塗布工程、乾燥工程、脱脂工程及び焼成工程を順次繰り返し行うことにより、複数層の圧電体膜７３が形成される。
【００４０】
次に、図６（ａ）に示すように、複数層の圧電体膜７３からなる圧電体層７０上に亘って、例えば、イリジウム（Ｉｒ）からなる第２電極８０を形成する。そして、図６（ｂ）に示すように、圧電体層７０及び第２電極８０を、各圧力発生室１２に対向する領域にパターニングして圧電素子３００を形成する。圧電体層７０及び第２電極８０のパターニング方法としては、例えば、反応性イオンエッチングやイオンミリング等のドライエッチングが挙げられる。
【００４１】
次に、リード電極９０を形成する。具体的には、図６（ｃ）に示すように、流路形成基板用ウェハー１１０の全面に亘って、例えば、金（Ａｕ）等からなるリード電極９０を形成後、例えば、レジスト等からなるマスクパターン（図示なし）を介して各圧電素子３００毎にパターニングすることで形成される。
【００４２】
次に、図７（ａ）に示すように、流路形成基板用ウェハー１１０の圧電素子３００側に、シリコンウェハーであり複数の保護基板３０となる保護基板用ウェハー１３０を接合する。そして、図７（ｂ）に示すように、流路形成基板用ウェハー１１０を所定の厚さにする。
【００４３】
次いで、図８（ａ）に示すように、流路形成基板用ウェハー１１０にマスク膜５２を新たに形成し、所定形状にパターニングする。そして、図８（ｂ）に示すように、流路形成基板用ウェハー１１０をマスク膜５２を介してＫＯＨ等のアルカリ溶液を用いた異方性エッチング（ウェットエッチング）することにより、圧電素子３００に対応する圧力発生室１２、連通部１３、インク供給路１４及び連通路１５等を形成する。
【００４４】
次いで、図９（ａ）に示すように、マスク膜５２を燐酸等のウェットエッチングやプラズマエッチングにて除去した後、流路形成基板用ウェハー１１０の圧力発生室１２、連通部１３、インク供給路１４及び連通路１５等を形成した側に、保護膜１６である金属シリサイドを形成する金属からなる金属膜１７を成膜する。本実施形態では、ニッケルからなる金属膜１７をスパッタリングやＣＶＤ法などにより成膜する。この金属膜１７は、５〜１０ｎｍ程度の膜厚で形成すれば十分であり、圧力発生室１２内の弾性膜５０の表面にも成膜される。
【００４５】
このように金属膜１７を成膜すると、図９（ｂ）に示すように、連通部１３、インク供給路１４及び連通路１５を含む圧力発生室１２内のシリコン表面並びにマスク膜５２が除去された領域のシリコン表面に成膜された金属膜１７の金属がシリコン内に拡散して金属シリサイド、本実施形態ではニッケルシリサイド１８が形成される。このニッケルシリサイド１８は、成膜した初期に１〜２ｎｍ程度の厚さで形成され、それでも保護膜１６として十分に機能するが、例えば、熱処理工程として、１００℃〜４００℃の温度でアニールすることにより、金属の拡散をより確実に行うことができ、十分に厚いニッケルシリサイド１８を形成することができる。なお、何れにしても、ニッケルシリサイド１８などの金属シリサイドは、成膜される膜などと比較して、均一の厚さに形成される。
【００４６】
ここで、金属膜１７を成膜する際に、シリコン表面に自然酸化膜が形成されている場合があるが、このまま金属膜１７を成膜しても、金属シリサイドが形成される。勿論、自然酸化膜除去工程として、金属膜１７を形成する前に、自然酸化膜を除去して、金属シリサイドの形成をより確実に行うようにしてもよい。
【００４７】
また、金属膜１７の形成は、マスク膜５２を除去せずに行ってもよく、この場合には、マスク膜５２が形成された領域には、ニッケルシリサイド１８は形成されない。
【００４８】
次に、図９（ｃ）に示すように、金属膜１７を、例えば、塩酸やフッ酸などの酸性のエッチング液でエッチングして、耐酸性が強いニッケルシリサイド１８のみを残して金属膜１７を除去し、保護膜１６とする。また、この金属膜１７のエッチングにより、弾性膜５０上に堆積した金属膜１７も除去され、酸化シリコンからなる弾性膜５０にはニッケルシリサイドは形成されない。なお、ニッケルシリサイドは、金からなる配線上にも形成されない。
【００４９】
その後は、流路形成基板用ウェハー１１０及び保護基板用ウェハー１３０の外周縁部の不要部分を、例えば、ダイシング等により切断することによって除去する。そして、流路形成基板用ウェハー１１０の保護基板用ウェハー１３０とは反対側の面にノズル２１が穿設されたノズルプレート２０を接合すると共に、保護基板用ウェハー１３０にコンプライアンス基板４０を接合し、流路形成基板用ウェハー１１０等を図１に示すような一つのチップサイズの流路形成基板１０等に分割することによって、本実施形態のインクジェット式記録ヘッドとする。
【００５０】
以上説明したように、本実施形態に係るインクジェット式記録ヘッドの製造方法では、圧力発生室１２の弾性膜５０を除いた内部の壁面に金属シリサイドからなる保護膜１６を設けたので、すなわち、変位の低下などの影響が生じる弾性膜５０には保護膜１６を設けることなく、圧力発生室１２の内壁に選択的に保護膜１６を設けることができるので、変位特性を良好に維持したまま、耐アルカリ性に優れ、吐出特性を長期間一定に維持することができるインクジェット式記録ヘッドを製造することができる。
【００５１】
（他の実施形態）
以上、本発明の一実施形態を説明したが、本発明の基本的な構成は上述したものに限定されるものではない。
【００５２】
例えば、弾性膜５０は酸化シリコンとしたが、窒化シリコンなど、あるいは、シリコン以外の酸化物、窒化物であってもよく、さらには、樹脂膜などであっても、金属シリサイドが形成されないので、上述した方法と同様に、弾性膜以外の部位に金属シリサイドからなる保護膜を形成することができる。
【００５３】
さらに、上述した実施形態１では、連通部１３、インク供給路１４及び連通路１５を含む圧力発生室１２に保護膜１６を設けたが、インクと接触するリザーバー部３１の内壁にも同様に金属シリサイドからなる保護膜を形成することができ、かかる保護膜を形成してもよいことはいうまでもない。
【００５４】
また、上述した実施形態では、流路形成基板１０として、シリコン単結晶基板を例示したが、特にこれに限定されず、例えば、結晶面方位が（１００）面、（１１０）面等のシリコン単結晶基板を用いるようにしてもよく、また、ＳＯＩ基板等の材料を用いるようにしてもよい。
【００５５】
また、これら各実施形態のインクジェット式記録ヘッドは、インクカートリッジ等と連通するインク流路を具備する記録ヘッドユニットの一部を構成して、インクジェット式記録装置に搭載される。図１０は、そのインクジェット式記録装置の一例を示す概略図である。
【００５６】
図１０に示すインクジェット式記録装置において、インクジェット式記録ヘッドを有する記録ヘッドユニット１Ａ及び１Ｂは、インク供給手段を構成するカートリッジ２Ａ及び２Ｂが着脱可能に設けられ、この記録ヘッドユニット１Ａ及び１Ｂを搭載したキャリッジ３は、装置本体４に取り付けられたキャリッジ軸５に軸方向移動自在に設けられている。この記録ヘッドユニット１Ａ及び１Ｂは、例えば、それぞれブラックインク組成物及びカラーインク組成物を吐出するものとしている。
【００５７】
そして、駆動モーター６の駆動力が図示しない複数の歯車およびタイミングベルト７を介してキャリッジ３に伝達されることで、記録ヘッドユニット１Ａ及び１Ｂを搭載したキャリッジ３はキャリッジ軸５に沿って移動される。一方、装置本体４にはキャリッジ軸５に沿ってプラテン８が設けられており、図示しない給紙ローラーなどにより給紙された紙等の記録媒体である記録シートＳがプラテン８に巻き掛けられて搬送されるようになっている。
【００５８】
また、上述したインクジェット式記録装置では、インクジェット式記録ヘッド１（ヘッドユニット１Ａ、１Ｂ）がキャリッジ３に搭載されて主走査方向に移動するものを例示したが、特にこれに限定されず、例えば、インクジェット式記録ヘッド１が固定されて、紙等の記録シートＳを副走査方向に移動させるだけで印刷を行う、所謂ライン式記録装置にも本発明を適用することができる。
【００５９】
なお、上述した例では、液体噴射ヘッドの一例としてインクジェット式記録ヘッドを挙げて説明したが、本発明は広く液体噴射ヘッド全般を対象としたものであり、インク以外の液体を噴射する液体噴射ヘッドにも勿論適用することができる。その他の液体噴射ヘッドとしては、例えば、プリンター等の画像記録装置に用いられる各種の記録ヘッド、液晶ディスプレイ等のカラーフィルターの製造に用いられる色材噴射ヘッド、有機ＥＬディスプレイ、ＦＥＤ（電界放出ディスプレイ）等の電極形成に用いられる電極材料噴射ヘッド、バイオｃｈｉｐ製造に用いられる生体有機物噴射ヘッド等が挙げられる。
【符号の説明】
【００６０】
１  インクジェット式記録ヘッド（液体噴射ヘッド）、  １０  流路形成基板、  １２  圧力発生室、  １３  連通部、  １４  インク供給路、  １５  連通路、  １６  保護膜、  ２０  ノズルプレート、  ２１  ノズル、  ３０  保護基板（結晶基板）、  ３１  リザーバー部、  ４０  コンプライアンス基板、  ５０  弾性膜、  ５５  絶縁体膜、  ６０  第１電極、  ７０  圧電体層、  ８０  第２電極、  ９０  リード電極、  １００  リザーバー、  １２０  駆動回路、  ３００  圧電素子
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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