(57)【要約】【課題】生産性が高いモールドシートの製造方法を提供する。【解決手段】複数のエンボスパターンが形成された転写面を有する転写シートを準備し、転写シートの転写面上に、シリコーン組成物を含有する未硬化層を形成する。未硬化層が形成された転写シートを巻き取りロール１０５に巻き取る。未硬化層が巻き取られた巻き取りロール１０５を熱キュア装置２００で熱処理する。このとき、未硬化層が熱硬化してモールドシートが製造される。【選択図】図６
2012020541.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のエンボスパターンが形成された転写面を有する転写シートを準備する工程と、
前記転写面上に、シリコーン組成物を含有する未硬化層を形成する工程と、
前記未硬化層が形成された転写シートをロールに巻き取る工程と、
前記ロールに巻き取られた前記未硬化層を熱硬化してモールドシートを形成する工程とを備える、モールドシートの製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載のモールドシートの製造方法であって、
前記モールドシートを形成する工程では、前記ロールを熱処理装置に装入して前記未硬化層を熱硬化する、モールドシートの製造方法。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載のモールドシートの製造方法であってさらに、
前記モールドシートを形成した後、前記転写フィルムから前記モールドシートを取り外す工程を備える、モールドシートの製造方法。
【請求項４】
請求項１〜請求項３に記載のモールドシートの製造方法であって、
前記モールドシートは、
基材フィルムと、
前記基材フィルム上に形成され、前記未硬化層が熱硬化してなるエンボス層とを備え、
前記モールドシートの製造方法はさらに、
基材フィルムを前記未硬化層に貼付する工程を備え、
前記巻き取る工程では、前記基材フィルム及び前記未硬化層を前記転写シートとともに前記ロールに巻き取ることを特徴とする、モールドシートの製造方法。
【請求項５】
請求項４に記載のモールドシートの製造方法であって、
前記基材フィルムはさらに、表面に形成される接着層を備え、
前記基材フィルムを前記未硬化層上に貼付する工程では、前記接着層を前記未硬化層に接触する、モールドシートの製造方法。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載のモールドシートの製造方法であって、
前記未硬化層を形成する工程では、前記シリコーン組成物と、溶剤とを含有する塗布液を前記転写面上に塗布して前記未硬化層を形成する、モールドシートの製造方法。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載のモールドシートの製造方法であって、
前記未硬化層は、白金触媒を含有し、
前記転写シートはさらに、前記転写面に形成された金属薄膜を備える、モールドシートの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、モールドシートの製造方法に関し、さらに詳しくは、複数のエンボスパターンを有するモールドシートの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
微細パターンの転写技術として、ソフトリソグラフィが提案されている。ソフトリソグラフィでは、表面にエンボスパターンを有する樹脂モールド（スタンプともいう）を用いてパターン転写を行う。より具体的には、樹脂モールドのエンボスパターンにインクを塗布する。インクが塗布されたエンボスパターンを基板に接触させてパターン転写を行う。
【０００３】
特開２００９−２９２１５０号公報（特許文献１）は、有機モールドの製造方法が開示される。具体的には、平板状のマスタモールドのパターン面上に樹脂組成物がコーティングされる。次に、活性エネルギ線を樹脂組成物に照射して樹脂組成物を硬化し、有機モールドを形成する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９―２９２１５０号公報
【特許文献２】特開２００８−３４６８６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１に開示される有機モールドの製造方法は、平板状のマスタモールドを用いたバッチ処理である。そのため、モールドの生産性が低い。
【０００６】
本発明の目的は、生産性が高いモールドシートの製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段及び効果】
【０００７】
本発明によるモールドシートの製造方法は、複数のエンボスパターンが形成された転写面を有する転写シートを準備する工程と、転写面上に、シリコーン組成物を含有する未硬化層を形成する工程と、未硬化層が形成された転写シートをロールに巻き取る工程と、ロールに巻き取られた未硬化層を熱硬化してモールドシートを形成する工程とを備える。
【０００８】
本発明によるモールドシートの製造方法では、モールドシートを製造するための型として、転写シートを利用する。そして、転写シート上に未硬化層を連続的に形成する。そのため、バッチ処理による製造と比較して、生産性が向上する。
【０００９】
好ましくは、モールドシートを形成する工程では、ロールを熱処理装置内に装入して未硬化層を熱硬化する。
【００１０】
付加反応型のシリコーン組成物は、硬化に時間がかかる。そのため、ロールに巻き取る前に未硬化層を熱硬化すれば、生産性が低下する。本発明によるモールドシートの製造方法では、未硬化層が形成された転写シートをロールに巻き取るまでの工程を連続的に行い、その後、未硬化層が巻き取られたロールを熱処理装置で熱処理することにより、生産性が向上する。
【００１１】
好ましくは、モールドシートは、基材フィルムと、基材フィルム上に形成され、未硬化層が熱硬化してなるエンボス層とを備える。モールドシートの製造方法はさらに、基材フィルムを未硬化層上に配置する工程を備え、巻き取る工程では、基材フィルム及び未硬化層を転写シートとともにロールに巻き取る。
【００１２】
この場合、モールドシートは、シリコーン組成物からなるエンボス層と、基材フィルムとを備えるため、モールドシートを転写シートから取り外しやすい。
【００１３】
好ましくは、基材フィルムはさらに、表面に形成される接着層を備える。基材フィルムを未硬化層上に配置する工程では、接着層を未硬化層に接触する。
【００１４】
この場合、エンボス層が基材フィルムにより強く結合する。
【００１５】
好ましくは、未硬化層を形成する工程では、シリコーン組成物と、溶剤とを含有する塗布液を転写面上に塗布して未硬化層を形成する。
【００１６】
この場合、転写シートのエンボスパターンが精度よく未硬化層に転写される。
【００１７】
好ましくは、未硬化層は、白金触媒を含有する。転写シートはさらに、転写面に形成された金属薄膜を備える。
【００１８】
この場合、転写シートの素材に起因して未硬化層の付加反応が停滞するのを抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の実施の形態によるモールドシートの断面図である。
【図２】本実施の形態によるモールドシートの製造方法に利用される転写シートの断面図である。
【図３】図２に示す転写シート上に未硬化層を形成する工程の説明図である。
【図４】図３に示す未硬化層上に基材フィルムを貼付する工程の説明図である。
【図５】図４に示す中間シートを巻き取る巻き取りロールの側面図である。
【図６】図５に示す巻き取りロールを熱処理する熱キュア装置の模式図である。
【図７】図４に示す中間シートの製造装置の模式図である。
【図８】図４に示す中間シートの製造工程を示すフロー図である。
【図９】図８の製造工程により製造された中間シートを用いてモールドシートを製造する工程を示すフロー図である。
【図１０】図９中のモールドシートを取り外す工程の説明図である。
【図１１】中間シートと、金属薄膜が形成された転写シートとの断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、図面を参照し、本発明の実施の形態を詳しく説明する。図中同一又は相当部分には同一符号を付してその説明は繰り返さない。
【００２１】
［モールドシートの構成］
本実施の形態によるモールドシートは、たとえば、ソフトリソグラフィに用いられる。図１は、モールドシート１の断面図である。図１を参照して、モールドシート１は、シート状又はフィルム状である。モールドシート１は、基材フィルム１１と、エンボス層１３とを備える。基材フィルム１１は、表面に接着層１２を備える。
【００２２】
基材フィルム１１は、可撓性及び耐熱性を有する樹脂からなる。基材フィルム１１の樹脂はたとえば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）や、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアミドイミド（ＰＡＩ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、シクロオレフィン樹脂（ＣＯＰ）等である。
【００２３】
エンボス層１３は、基材フィルム１１上に形成される。より具体的には、エンボス層１３は、基材フィルム１１の接着層１２上に形成される。エンボス層１３は、表面１３１を有する。表面１３１には、エンボスパターンが形成される。エンボスパターンは、複数の凸部１３１Ａを有する。凸部１３１Ａの高さＬ１は、１０ｎｍ〜５００μｍである。高さＬ１は以下の方法により求められる。任意の２０個の凸部１３１Ａの高さを測定し、測定された２０個の凸部１３１Ａの高さの平均を、エンボスパターンの高さＬ１と定義する。
【００２４】
エンボス層１３は、付加反応型である。より具体的には、エンボス層１３は、シリコーン組成物で構成される。シリコーン組成物は、熱により硬化する付加反応型である。付加反応型のシリコーン組成物は周知の組成物である。付加反応型のシリコーン組成物はたとえば、アルケニル基を含有するポリオルガノシロキサンと、ヒドロシリル基を含有するポリオルガノシロキサン（ポリオルガノハイドロジェンシロキサン）と白金触媒とを含有する。ポリオルガノシロキサンはたとえば、ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）である。シリコーン組成物は、上記化合物以外の他の周知の材料を一部含有してもよい。
【００２５】
エンボス層１３は、有機高分子との親和性が低いため、優れた離型性を有する。そのため、エンボス層１３は、モールドとしての使用に適する。エンボス層１３はさらに、耐熱性や自己粘着性、柔軟性に優れる。
【００２６】
上述のとおり、基材フィルム１１の表面には接着層１２が形成される。つまり、接着層１２は、基材フィルム１１の表面とエンボス層１３との間に配置される。接着層１２の下面は基材フィルム１１の表面と接触し、上面はエンボス層１３と接触する。接着層１２は、エンボス層１３の基材フィルム１１に対する接着性を向上する。要するに、エンボス層１３は、接着層１２により、基材フィルム１１に強く結合する。
【００２７】
接着層１２はたとえば、シランカップリング剤である。シランカップリング剤は、加水分解基と有機官能基とを有し、基材フィルム１１と、エンボス層１３とを強固に結合する。接着層１２の厚さＬ２は、１ｎｍ〜１０００ｎｍであり、好ましくは、５０ｎｍ〜５００ｎｍである。
【００２８】
以上の構成を有するモールドシート１は、種々の分野に利用可能である。たとえば、モールドシート１は、ソフトリソグラフィに利用される。上述のとおり、エンボス層１３は優れた離型性を有する。エンボス層１３のエンボスパターンにインクを塗布し、エンボスパターンを基板に接触すれば、接触した部分のインクはエンボス層１３から容易に離れ、基板に転写される。したがって、モールドシート１は、ソフトリソグラフィでの利用に適する。
【００２９】
モールドシート１はさらに、マイクロレンズアレイやプリズムシート、レンチキュラレンズシートといった種々の光学シートを製造するための型としても利用可能である。
【００３０】
図１に示す基材フィルム１１は、接着層１２を備える。しかしながら、基材フィルム１１は、表面に接触層１２を備えなくてもよい。つまり、本実施の形態によるモールドシート１は接着層１２を備えなくてもよい。
【００３１】
さらに、モールドシート１は、基材フィルム１１を備えなくてもよい。要するに、モールドシート１は、エンボス層１３のみからなるフィルムであってもよい。
【００３２】
［モールドシート１の製造方法の概要］
本実施の形態によるモールドシート１は、以下の製造方法により製造される。初めに、ロールツーロール法により、未硬化のシリコーン組成物からなる未硬化層が形成された基材フィルム１１を製造する。以下、未硬化層と、基材フィルム１１とを備えるシートを、「中間シート」という。中間シートは以下の方法で製造される。
【００３３】
初めに、図２に示すフィルム状の転写シート１５を準備する。転写シート１５は、エンボスパターンが形成された転写面１５１を有する。転写面１５１のエンボスパターンは、モールドシート１のエンボス層１３の表面１３１に形成されるエンボスパターンに対応する。したがって、転写面１５１は、複数の凸部１５１Ａを有し、凸部１５１Ａの高さは、凸部１３１Ａと同様に１０ｎｍ〜５００μｍである。
【００３４】
転写シート１５は、要するに、モールドシート１用の「モールド」である。転写シート１５は可撓性を有する周知の樹脂で構成される。転写シート１５の素材となる樹脂は、たとえば、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアクリル酸エステル系樹脂、脂環式ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリエーテルスルホン酸系樹脂、トリアセチルセルロース系樹脂等の樹脂である。凸部１５１Ａは、紫外線硬化樹脂により形成されてもよい。転写シート１５は周知の製造方法により製造される。転写シート１５はたとえば、ロール版を用いたロールツーロール法により製造される。
【００３５】
上述の転写シート１５を準備した後、図３に示すように、転写シート１５の転写面１５１上に未硬化のシリコーン組成物からなる未硬化層３００を形成する。未硬化層３００を形成した後、図４に示すとおり、未硬化層３００上に基材フィルム１１を配置する。このとき、基材フィルム１１の表面に形成された接着層１２を未硬化層３００と接触する。以上の工程により、基材フィルム１１と未硬化層３００とを備える中間シート３５０を製造する。中間シート３５０を製造するまでの工程は、ロールツーロール法により実施される。そのため、中間シート３５０は連続的に製造される。したがって、中間シート３５０の生産性は高い。
【００３６】
続いて、図５に示すとおり、製造された中間シート３５０を転写シート１５とともに、巻き取りロール１０５に巻き取る。つまり、基材フィルム１１及び未硬化層３００を転写シート１５とともに巻き取りロール１０５に巻き取る。巻き取られた中間シート３５０の未硬化層３００は硬化していない。しかしながら、未硬化層３００は粘性を有する。そのため、未硬化層３００は、転写シート１５と基材フィルム１１とに挟まれたまま、維持される。
【００３７】
未硬化層３００は硬化していないため、図６に示すように、中間シート３５０を備える巻き取りロール１０５を、熱処理装置（熱キュア装置）２００に装入し、加熱する。加熱により、中間シート３５０内の未硬化層３００が熱硬化し、エンボス層１３が形成される。以上の工程により、モールドシート１が製造される。
【００３８】
上述の製造方法では、ロールツーロール法により中間シート３５０を連続的に製造する。未硬化層３００を構成するシリコーン組成物は、熱硬化するが、硬化に時間がかかる。たとえば、雰囲気温度が１００℃である場合、未硬化層３００が完全に熱硬化してエンボス層１３になるのに必要な時間は１時間以上である。雰囲気温度が１５０℃である場合、熱硬化に必要な時間は１５分以上である。
【００３９】
ロールツーロール法による連続製造ライン内で、未硬化層を熱硬化すれば、熱硬化に時間がかかる。そのため、生産性が向上しにくい。そこで、本実施の形態によるモールドシート１の製造方法では、連続製造ライン上では、中間シート３５０までを製造し、オフラインで中間シート３５０を熱硬化してモールドシート１を製造する。これにより、熱硬化による生産の低下を抑制でき、生産性が向上する。したがって、後のソフトリソグラフィ工程での生産性を格段に高めることができる。以下、モールドシート１の製造方法の詳細を説明する。
【００４０】
［モールドシートの製造方法の詳細］
上述のとおり、モールドシートの製造方法は、（１）中間シート３５０を連続的に製造する工程と、（２）製造された中間シート３５０を熱処理装置内で加熱してモールドシート１を製造する工程とを備える。
【００４１】
［中間シートの製造工程］
図７は、上述の中間シート３５０を連続的に製造する製造装置１００の構成図である。図８は中間シート３５０の製造工程を示すフロー図である。図７を参照して、製造装置１００は、供給ロール１０１及び１０４と、塗布装置１０２と、乾燥装置１０３と、巻き取りロール１０５と、一対のニップロール１０６と、搬送ロール１０７とを備える。
【００４２】
図７及び図８を参照して、初めに、図２に示す転写シート１５を準備する（Ｓ１）。供給ロール１０１には、転写シート１５が巻かれている。供給ロール１０１は、転写シート１５を巻き取りロール１０５に送り出す。
【００４３】
続いて、図３に示すように、転写シート１５上に未硬化層３００を形成する（Ｓ２）。塗布装置１０２は、供給ロール１０１と巻き取りロール１０５との間に配置される。塗布装置１０２はたとえば、ダイコータやグラビアコータ、ナイフコータである。塗布装置１０２は、未硬化のシリコーン組成物からなる塗布液を、転写シート１５の転写面１５１上に塗布して未硬化層３００を形成する。
【００４４】
続いて、乾燥装置１０３により、未硬化層３００を乾燥する（Ｓ３）。乾燥装置１０３は、塗布装置１０２と、巻き取りロール１０５との間に配置される。未硬化層３００を形成する塗布液は、シリコーン組成物とともに、周知の溶剤を含有してもよい。溶剤はたとえば、トルエンやキシレン、ベンゼンである。溶剤を含有することにより、塗布液の粘性は低下する。そのため、塗布液は塗布しやすくなる。さらに、転写面１５１に形成されたエンボスパターンの凹凸に塗布液が充填されやすくなる。その結果、エンボスパターンの転写の精度が向上し、モールドシート１のエンボス層１３のエンボスパターンの寸法精度が向上する。ステップＳ３では、乾燥装置１０３により、未硬化層３００が含有する溶剤を揮発する。
【００４５】
続いて、中間シート３５０を製造する（Ｓ４）。供給ロール１０４には、基材フィルム１１が巻かれる。本例では、供給ロール１０４に巻かれた基材フィルム１１の表面には既に、接着層１２が形成されている。基材フィルム１１の表面に接着層１２を形成する方法は以下のとおりである。供給ロール１０１に巻き取られる前の基材フィルム１１上に、ダイコータ等により、接着層１２の原料となる塗布液を塗布し、接着層１２を形成する。接着層１２が形成された後、基材フィルム１１は供給ロール１０１に巻き取られる。
【００４６】
供給ロール１０４は、基材フィルム１１を巻き取りロール１０５方向に送り出す。一対のニップロール１０６は、乾燥装置１０３を通過した未硬化層３００上に基材フィルム１１を貼付する。このとき、基材フィルム１１の接着層１２が未硬化層３００と接触する。以上の工程により、図４に示すとおり、基材フィルム１１と、未硬化層３００とを備えた中間シート３５０が製造される。
【００４７】
転写シート１５上に形成された中間シート３５０をニップロール１０６及び搬送ロール１０７により、巻き取りロール１０５に搬送する。巻き取りロール１０５は、図５に示すように、中間シート３５０を転写シート１５とともに巻き取る（Ｓ５）。以上の工程により、中間シート３５０を製造し、巻き取りロール１０５に巻き取る。
【００４８】
［中間シートを利用したモールドシートの製造工程］
図９は、中間シート３５０からモールドシート１を製造する工程を示すフロー図である。参照して、中間シート３５０が巻き取られた巻き取りロール１０５を、製造装置１００から取り外す。そして、図６に示すように、中間シート３５０を備えた巻き取りロール１０５を、熱処理装置２００に装入する。このとき、複数の巻き取りロールを熱処理装置２００に装入するのが好ましい。生産性が向上するためである。装入後、熱処理装置２００は巻き取りロールを加熱（キュア）する（Ｓ６）。好ましい加熱温度は、室温（２５℃）〜１５０℃である。上述のとおり、加熱温度が低ければ、未硬化層３００が熱硬化してエンボス層１３となるまでに時間がかかる。しかしながら、熱処理装置２００は、製造装置１００とは別個の製造ラインに配置される。そのため、熱処理装置２００で加熱時間が長くても、中間シート３５０の生産性は低下しない。このように、本実施の形態によるモールドシート１の製造方法では、未硬化層３００を熱硬化する工程を、中間シート３５０の連続製造工程と別個に実施する。そのため、モールドシート１の生産性を向上できる。
【００４９】
熱処理装置２００での加熱により、未硬化層３００は熱硬化してエンボス層１３が形成される。以上の工程により、モールドシート１が製造される。
【００５０】
モールドシート１を製造後、モールドシート１を備える巻き取りロール１０５を熱処理装置２００から取り出す。巻き取りロール１０５から、モールドシート１が付着した転写シート１５を送り出す。そして、図１０に示すように、送り出された転写シート１５からモールドシート１を取り外す（Ｓ７）。このとき、エンボス層１３は、接着層１２により基材フィルム１１と強固に結合している。そのため、モールドシート１は転写シート１５から剥がしやすい。
【００５１】
以上のとおり、本実施の形態によるモールドシート１の製造方法では、中間シート３５０を製造する工程（中間シート製造工程：図８）と、中間シート３５０を熱硬化してモールドシート１を製造する工程（熱硬化工程：図９）とを、それぞれ別個に実施する。そのため、熱硬化工程は、中間シート製造工程の生産性を低下しない。中間シート製造工程では、ロールツーロール法により、中間シート３５０を連続的に生産できる。熱硬化工程では、熱硬化に時間がかかるものの、中間シート３５０を備える複数の巻き取りロール１０５を一度に（バッチ処理により）熱処理できる。従って、モールドシート１の生産性を向上できる。
【００５２】
［第２の実施の形態］
上述の実施の形態では、モールドシート１は、基材フィルム１１を備える。しかしながら、上述のとおり、モールドシート１は、基材フィルム１１を備えなくてもよい。つまり、モールドシート１は、エンボス層１３で構成されてもよい。
【００５３】
この場合、図８中のステップＳ４の工程が省略される。そのため、巻き取りロールに巻き取られるとき、未硬化層３００は、転写シート１５に挟まれる。
【００５４】
このように、モールドシートが基材フィルム１１を備えなくても、上述の方法によりモールドシートを製造できる。
【００５５】
［第３の実施の形態］
上述の実施の形態によるモールドシート１の製造方法では、転写面１５１上に未硬化層３００が形成される。未硬化層３００を構成するシリコーン組成物は、白金触媒を含有する。白金触媒はたとえば、塩化第２白金、塩化白金酸、塩化白金酸とオレフィン類との錯体、白金ビスアセトアセテート等である。白金触媒は、シリコーン組成物の付加反応を促進する。しかしながら、転写シート１５の素材となる樹脂が、ウレタンや燐、硫黄、アミン等を含有する場合、これらの化合物及び元素が、白金触媒の触媒機能を低下する可能性がある。
【００５６】
そこで、図１１に示すとおり、転写シート１５は、転写面１５１に金属薄膜１６を備えてもよい。金属薄膜１６はたとえば、チタンやアルミニウム等の金属や合金、金属酸化物で構成され、蒸着法により、転写面１５１上に形成される。この場合、図１１に示すとおり、未硬化層３００は金属薄膜１６上に形成され、転写シート１５本体と直接接触しない。そのため、仮に、転写シート１５が白金触媒の触媒作用を低下する化合物又は元素を含有していても、未硬化層３００は、これらの化合物及び元素の影響を受けない。
【００５７】
［第４の実施の形態］
上述の実施の形態によるモールドシート１の製造方法では、供給ロール１０１が転写シート１５を送り出し、供給ロール１０４が基材フィルム１１を送り出す。第４の実施の形態では、供給ロール１０１が基材フィルム１１を送り出し、供給ロール１０４が転写シート１５を送り出す。この場合、供給ロール１０１から送り出された基材フィルム１１上に未硬化層３００が形成される。
本実施の形態では、図７に示す乾燥装置１０３が省略されてもよい。本実施の形態による製造方法では、ニップロール１０６は、未硬化層３００上に転写シート１５を貼付する。このとき、未硬化層３００が転写シート１５の転写面１５１に形成されたエンボスパターンの凹凸と接触する。以上の工程により、中間シート３５０が製造され、巻き取りロール１０５に巻き取られる。その後、第１の実施の形態によるモールドシート１の製造方法と同様にして、中間シート３５０からモールドシート１が製造される。
未硬化層３００を形成する塗布液は、溶剤を含有してもよい。この場合、塗布液の粘度が調整により塗布しやすい。
【００５８】
［その他の実施の形態］
本実施の形態によるモールドシート１の製造方法では、接着層１２が基材フィルム１１の表面に形成されている。しかしながら、上述のとおり、基材フィルム１１は、接着層１２を備えなくてもよい。この場合、未硬化層３００は、基材フィルム１１の表面に直接貼付される。
【実施例】
【００５９】
上述の実施の形態に開示した製造方法により、モールドシートを製造した。初めに、接着層を備える基材フィルムを製造した。具体的には、東洋紡績株式会社製のＰＥＴフィルム（商品名Ａ４３００、厚さ１００μｍ）を準備した。株式会社康井精機製のマイクログアコータを利用して、準備されたＰＥＴフィルム上に、接着層（東レダウコーニング株式会社製  商品名１２００ＯＳ）を形成した。以上の工程により、基材フィルムを製造した。
【００６０】
次に、転写シートを以下の方法で製造した。ＰＥＴフィルム（東洋紡績株式会社製  商品名Ａ４３００  厚さ１００μｍ）上に紫外線硬化樹脂（大日精化工業株式会社製  商品名  ＥＸＦ−０１Ｂ）を塗布し、ロール版に押し当てながら紫外線照射を照射した。以上の工程により、紫外線硬化樹脂を硬化して転写シートを製造した。
【００６１】
未硬化層１３を形成する塗布液を準備した。塗布液は、シリコーン組成物からなり、シリコーン組成物は、ＰＤＭＳプレポリマであった。ＰＤＭＳプレポリマは、８７重量％のシリコーンエラストマ（商品名Sylgard 184：東レダウコーニング株式会社製）と、８．７重量％の触媒と、ジメチルポリシロキサン（商品名 ＳＨ２００ＦＲＵＩＤ２０ＣＳ）とを含有した。
【００６２】
上述の塗布液をナイフコータを用いて転写フィルム上に１５ｍ／ｍｉｎの速度で塗布し、未硬化層を形成した。形成された未硬化層上に基材フィルムを貼付し、中間シートを製造した。製造された中間シートを転写シートとともに、巻き取りロールに巻き取った。
【００６３】
中間シートを含む巻き取りロールを熱処理装置に装入し、６５℃で７５時間加熱した。以上の工程によりモールドシートを製造した。本実施例では、１５ｍ／ｍｉｎの速度で中間シートを製造できるため、生産性が高かった。
【００６４】
［比較例］
モールドシートをロールツーロール法に基づいて製造した。基材フィルムとしてＰＥＮフィルム（帝人株式会社製  商品名Ｑ５１）を用いた。ダイコータを用いて、ＰＥＮフィルム上に塗布液を塗布して接着層を形成した。塗布液として、東レダウコーニング株式会社製の商品「１２００ＯＳ」を用いた。接着層が形成された後、ＰＥＮフィルムを供給ロールに巻き取った。
【００６５】
続いて、供給ロールからＰＥＮフィルムを送り出し、マイクログラビアコータを用いて、ＰＥＮフィルム上に未硬化層を形成した。未硬化層を構成するシリコーン組成物は、上記実施例と同じとした。未硬化層を、１００℃に加熱されたロール版に押し当てた。このとき、未硬化層は、ロール版によりエンボスパターンを転写されながら熱硬化してエンボス層を形成した。
【００６６】
以上の工程により、ロールツーロール法によりモールドシートが製造された。しかしながら、未硬化層をロール版に接触している間に熱硬化させる必要があるため、未硬化層の搬送速度は０．１ｍ／ｍｉｎ以下であった。そのため、生産性が低かった。
【００６７】
以上、本発明の実施の形態を説明したが、上述した実施の形態は本発明を実施するための例示に過ぎない。よって、本発明は上述した実施の形態に限定されることなく、その趣旨を逸脱しない範囲内で上述した実施の形態を適宜変形して実施することが可能である。
【符号の説明】
【００６８】
１  モールドシート
１１  基材フィルム
１２  接着層
１３  エンボス層
１５  転写フィルム
１６  金属薄膜
１５１  転写面
１００  製造装置
２００  熱処理装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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