(57)【要約】【課題】  フォトマスク用ガラス基板等の表面の品質及び収納ケースの内部に異物が存在するかを容易に検査することができる収納ケースを提供する。【解決手段】  フォトマスク用基板１７を収納する収納ケース１１は、蓋１２とケース本体１３とから主に構成されている。蓋１２とケース本体１３とは金属材料からなる。蓋１２がケース本体１３に接合されると、収納ケース１１の内部に基板収容室５１が形成される。基板収容室５１を画成する内面５２，５３には黒色皮膜が形成されている。【選択図】  図２
2012063702.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フォトマスク用基板又はフォトマスクブランクを収納する収納ケースであって、
金属材料から形成された蓋部材と、
金属材料から形成され、前記蓋部材が接合されることにより前記収納ケースの内部に基板収容室が形成されるケース本体とを備え、
前記基板収容室を画成する内面に黒色皮膜が形成されているフォトマスク用基板またはフォトマスクブランクを収納する収納ケース。
【請求項２】
前記金属材料は、ステンレス鋼、酸化アルミニウム、アルミニウム合金のうちの少なくとも１つからなる請求項１記載のフォトマスク用基板またはフォトマスクブランクを収納する収納ケース。
【請求項３】
前記黒色皮膜は、ブラックアルマイト処理又は黒色クロメート処理により形成されている請求項１又は２記載のフォトマスク用基板またはフォトマスクブランクを収納する収納ケース。
【請求項４】
前記黒色皮膜は、３８０〜７８０ｎｍの波長の光に対して、４％以下の光の反射率を有する請求項１〜３のいずれか一項に記載のフォトマスク用基板またはフォトマスクブランクを収納する収納ケース。
【請求項５】
前記蓋部材と前記ケース本体の外周に、それぞれ、フレームが設けられている請求項１〜４のいずれか一項に記載のフォトマスク用基板またはフォトマスクブランクを収納する収納ケース。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フォトリソグラフィに用いられるフォトマスク用基板またはフォトマスクブランクを収納する収納ケースに関する。
【背景技術】
【０００２】
フォトリソグラフィで用いられる露光装置、例えば、半導体露光装置では、ウエハに配線パターンを露光するために、フォトマスクが用いられる。半導体デバイス等の高集積化が進むにつれて、フォトマスクの配線パターンもより一層の微細化が求められている。合成石英ガラスが主に用いられるフォトマスク用基板に、クロムが主に用いられる遮光材料からなる遮光膜を成膜して、フォトマスクブランクに加工する。そして、フォトマスクブランクの上にフォトレジスト材料が塗布される。次いで、露光のための配線パターンがフォトリソグラフィにより形成されて、フォトマスクが製造される。フォトマスク用ブランクを製造するための成膜プロセスとフォトマスクの配線パターンを形成するプロセスとは、フォトマスク用基板の製造現場とは異なる場所で行われる。それゆえに、フォトマスク用基板またはフォトマスクブランクを保管及び運搬する必要が生じる。そのような保管及び運搬には、専用の収納ケースが使用される。このような収納ケースの内部に異物が存在すると、フォトマスク用基板またはフォトマスクブランクの表面に異物が付着して汚染されることが起こり得る。
【０００３】
ここで、異物とは、収納ケースの一部と材料とが擦れて生じる微粒子や、収納ケースの外部から侵入する埃のような微粒子などである。これらの異物の大きさは、概ね０．３から５０μｍ程度である。
【０００４】
このため、フォトマスク用基板またはフォトマスクブランクを収納した収納ケースを保管している間や収納ケースを搬送している間に、収納ケースの内部に存在する異物がそれらの表面に付着することを防ぐために、フォトマスク用基板またはフォトマスクブランクを収納する前に、フォトマスク用基板またはフォトマスクブランクを供給する供給元は、収納ケースの内部に異物が混入することがないことを検査する。検査後、フォトマスク用基板またはフォトマスクブランクが収納ケースに収容されて、収納ケースごと前述の製造現場等の供給先に搬送される。収納ケースを受け取った供給先は、フォトマスク用基板またはフォトマスクブランクの品質を確認するために、収納ケースからフォトマスク用基板またはフォトマスクブランクを取り出して、その表面に傷がないことを検査する。供給元における検査では、暗室内で、収納ケースの内部を構成する部材に光を照射して、反射される光に基づいて収納ケースの内部に異物がないかを確認する。
【０００５】
ところで、フォトマスク用基板またはフォトマスクブランクを保管する収納ケースの内部に化学成分がある場合には、フォトマスク用基板またはフォトマスクブランクは、その化学成分を吸着することがある。このような化学成分の吸着によって、フォトマスク用基板またはフォトマスクブランクの表面が汚染される。このような汚染された表面に、後の工程で形成される遮光膜やレジスト膜には厚みムラが生じる可能性がある。
【０００６】
このような化学成分の吸着を防ぐ手段として、下記特許文献１〜４に開示されているように、活性炭等の吸着材を含むフィルターを装着したケースやそのようなフィルターの機構をケースに設けることが提案されている。これらによれば、ケース内外の気圧差を解消し、輸送時に生じる気圧差による外部環境から、ケース内部の基板等が汚染されることを防ぐことが可能である。しかしながら、ケースの材料からアウトガスがケースの内部に発生する。このアウトガスは化学成分であるので、フォトマスク用基板またはフォトマスクブランクは、そのアウトガスを吸着する可能性がある。
【０００７】
一方で、特許文献５で開示されているように、収納ケースの材質として金属を使用することが提案されている。この文献では、収納ケースの材質として金属を使用しているので、収納ケースの材料を起因とするアウトガスが生じない。従って、フォトマスク用基板またはフォトマスクブランクにアウトガスによる化学成分が吸着されることが防止される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００４−１５３２２１号公報
【特許文献２】特開２００４−１７９４４９号公報
【特許文献３】特開２００４−１９３２７２号公報
【特許文献４】特開２００９−０５５００５号公報
【特許文献５】特開２００９−１７９５３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、従来技術に開示されている収納ケースの材質は金属であるため、収納ケースの内部は金属光沢を有する。フォトマスク用基板またはフォトマスクブランクを収納ケースに入れる前の収納ケース内部の異物を検出する作業において、この収納ケースの内部を構成する蓋及びケース本体の内面に光を照射しても、これらの内面の金属光沢により反射される光と異物により散乱される光とを識別することが難しい。このため、収納ケース内に存在する異物を検出することが困難である。ひいては、収納ケース内から異物を完全に取り除くことが難しくなる。
【００１０】
本発明は上記の従来技術の問題点を解消し、フォトマスク用ガラス基板またはフォトマスクブランクの表面の品質及び収納ケースの内部に異物が存在するかを容易に検査することができるフォトマスク用ガラス基板またはフォトマスクブランク用の収納ケースを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明に従えば、金属材料から形成された蓋部材と、金属材料から形成され、前記蓋部材が接合されることにより前記収納ケースの内部に基板収容室が形成されるケース本体とを備え、前記基板収容室を画成する内面に黒色皮膜が形成されているフォトマスク用基板またはフォトマスクブランクを収納する収納ケースが提供される。
【発明の効果】
【００１２】
本発明に従えば、フォトマスク用基板またはフォトマスクブランクを収納する収納ケースは、金属材料から形成された蓋部材と、金属材料から形成され、前記蓋部材が接合されることにより前記収納ケースの内部に基板収容室が形成されるケース本体とを備えており、フォトマスク用基板又はフォトマスクブランクが収納される基板収容室を画成する、ケース本体と蓋部材との内面には、黒色皮膜が形成されているので、これらの内面には金属光沢が生じにくい。収納ケースの内部検査作業において、ケース本体と蓋部材との内面に光が照射されることによって反射される光のうち、金属光沢に起因する光が生じにくくなる。このため、そのような光は異物の散乱によると容易に識別することができる。ひいては、収納ケース内から異物を取り除くことが容易となる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の実施形態の収納ケースを示す斜視図である。
【図２】図１に示される収納ケースのII−II線断面図である。
【図３】本発明の実施形態の収納ケースを示す側面図である。
【図４】本発明の実施形態の収納ケースが搬送されている状態を示す説明図である。
【図５】本発明の実施例１及び参考例の収納ケースの内面に照射された光の波長と収納ケースの内面による光の反射率との関係を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下に、本発明の実施形態のフォトマスク用基板またはフォトマスクブランクを収納する収納ケースの構造を図面を参照して説明する。以下の説明では、フォトマスク用基板を収納する場合を説明する。
【００１５】
図１に示すように、収納ケース１１は、蓋（蓋部材）１２とケース本体１３とから主に構成されており、蓋１２とケース本体１３とはそれぞれ金属材料からなる。ケース本体１３は長方形の平板形状をしている。ケース本体１３の上面１４の端部分には、ケース本体１３を周回している溝１５が形成されている。この溝１５に、弾性体であるＯ−リング１６が装着されている。ケース本体１３の上面１４には、フォトマスク用基板１７を支持する複数の支持部材２１，２２がそれぞれ４個ずつ設けられている。フォトマスク用基板１７がこれらの支持部材２１，２２の上に置かれる。
【００１６】
支持部材２１は、直方体状のベースであり、フォトマスク用基板１７の表面を傷つけないよう、その上面は平坦である。支持部材２１は、ケース本体１３の上面１４の４つの頂点近傍にそれぞれ配置されている。支持部材２２は、直方体状のベースではあるが、上面が平坦な平坦部２８と、平坦部２８から円柱状に突出し、かつ、先端３０が屈曲して鍵状の形状を有する鍵部２９とからなる。鍵部２９は、この鍵部２９が設けられている平坦部２８を中心として平坦部２８と平行な面内で回転方向６１，６２に回転自在に、平坦部２８に取り付けられている。支持部材２２は、上面１４を形成している４つの側辺の中央に相当する上面１４の側端近傍にそれぞれ配置されている。ケース本体１３の上面１４上で、支持部材２１の高さと支持部材２２の平坦部２８の高さとは略同一である。
【００１７】
図１及び図２に示すように、フォトマスク用基板１７が支持部材２１の上面と支持部材２２の平坦部２８に設置され、次に、全ての支持部材２２の、鍵部２９の先端３０を回転方向６１に回転して、この先端３０をフォトマスク用基板１７の上方に配置する。このようにして、フォトマスク用基板１７が平坦部２８と先端３０との間に挟まれることによって、フォトマスク用基板１７が支持部材２２の平坦部２８から離れることが規制されて、フォトマスク用基板１７の位置が支持部材２１の上面と支持部材２２との平坦部２８に固定される。なお、図２では、説明のため、後述する蓋フレーム２４とケースフレーム２５等の図示を省略している。
【００１８】
支持部材２１，２２は、アウトガスを極力発生しにくい素材からなる。加えて、Ｏ−リング１６も、アウトガスを極力発生しにくい素材からなる。具体的には、Ｏ−リング１６や支持部材２１，２２は、ポリテトラフルオロエチレンやテトラフルオロエチレンなどのフッ素系樹脂あるいは、ポリオレフィン系エラストマー（例えば、オレフィン系樹脂（ＰＰやＰＥ等）のマトリクスにオレフィン系ゴム（ＥＰＲ）を分散させたもの）やポリエステル系エラストマー（例えば、ポリエステルのマトリクスにゴムを分散させたもの）から形成される。一般に、フッ素系樹脂の摩擦係数は小さいので、フォトマスク用基板１７の表面に対して摩擦が生じにくい。
【００１９】
フォトマスク用基板１７は四角板の形状を有しており、３３０ｍｍ×４５０ｍｍ〜１６８０ｍｍ×１７２０ｍｍの寸法を有している。フォトマスク用基板１７の厚みは、例えば、５ｍｍ〜１７ｍｍである。収納ケース１１はこれらのサイズに適した大きさを有する。フォトマスク用基板１７は、例えば、石英ガラスから主に構成されており、酸化チタン等の添加物を加えられた石英ガラスも用いることができるが、特に限定されない。支持部材２２の鍵部２９及び先端３０は、このような寸法のフォトマスク用基板１７を保持することができるように、支持部材２２に形成されている。
【００２０】
蓋１２は、下面（図１の下側）が開放しており、かつ、内部空間が中空である直方体状をしている。蓋１２は、ケース本体１３の上面１４及びフォトマスク用基板１７を覆うように、ケース本体１３に取り外し可能に取り付けられる。図２に示すように、蓋１２の下端面には蓋１２を周回するように突出部２３が形成されている。この突出部２３がケース本体１３の溝１５に嵌る。このようにして、蓋１２はケース本体１３に装着（接合）されて、フォトマスク用基板１７が収納される基板収容室５１が収納ケース１１の内部に形成され、基板収容室５１は、蓋１２の内面５２とケース本体１３の内面５３により画成されている。
【００２１】
図２及び図３に示すように、蓋１２及びケース本体１３が金属からなるので、基板収容室５１からは、フォトマスク用基板１７が吸収するようなアウトガスが発生することはない。このため、アウトガスの吸収が原因となる、フォトマスク用基板１７に形成される遮光膜やレジスト膜には厚みムラが生じることを防ぐことができる。
【００２２】
基板収容室５１を画成する蓋１２の内面５２及びケース本体１３の内面５３上には、黒色皮膜処理がなされている。このため、内面５２，５３には金属光沢が生じにくい。これにより、ケース本体１３の上面１４（内面５３）と蓋１２の内部空間とに異物があるか否かを確認する検査において、内面５２，５３に光が照射されても、内面５２，５３によって反射される光が抑えられるので、反射される光が異物の散乱によるものと特定しやすい。このため、蓋１２の内部空間及びケース本体１３の上面１４に存在する異物を容易に発見して取りだすことができる。
【００２３】
蓋１２及びケース本体１３の金属材料は、ステンレス鋼、酸化アルミニウム、アルミニウム合金のうちの少なくとも１つからなることが好ましい。蓋１２及びケース本体１３がこれらの材料からなれば、収納ケース１１の軽量化を図ることができる。
【００２４】
内面５２，５３上に施される黒色皮膜処理は、ブラックアルマイト処理、黒色クロメート処理のうちの少なくとも１つからなることが好ましい。ブラックアルマイト処理、黒色クロメート処理によれば、ケース内部を検査する時に、ケース内面からの反射を十分抑え、パーティクル等の異物による散乱光がより検出しやすくなる。
【００２５】
内面５２，５３に形成されている黒色皮膜は、波長が３８０〜７８０ｎｍである光を照射したときには、その黒色皮膜からの光の反射率が４％以下であること、すなわち、黒色皮膜は３８０〜７８０ｎｍの波長の光に対して、４％以下の光の反射率を有することが好ましい。このような特性を有する黒色皮膜であると、ハロゲン光のような広範囲の波長帯を有する光源であっても低い反射率を示すため、ケース内面からの反射をより一層に抑えることが可能となり、異物による散乱光をより検出しやすくする。このような波長の光に対して、黒色皮膜からの光の反射率が４％以下である場合には、作業者は、反射された光を、異物による散乱に起因するものと認識し易くなる。
【００２６】
蓋１２の上部側面とケース本体１３の下部側面とには、蓋フレーム２４とケースフレーム２５とがそれぞれ取り付けられている。すなわち、蓋フレーム２４とケースフレーム２５とは蓋１２とケース本体１３の外周にそれぞれ取り付けられている。蓋１２の高さ方向の中間部分には、中間フレーム２６が取り付けられている。蓋フレーム２４は、直方体状の棒材３１，３２，３３と梁３４，３５、平板状の補強部材３６とが複数組み合わされて、形成されている。複数の棒材３１は、蓋１２の４つの側面を接触して取り囲むように蓋１２の上部側端に配置されて、蓋１２の枠を形成している。更には、複数の棒材３２が、枠状の棒材３１の外側を周回するように配置されている。ケースフレーム２５と中間フレーム２６とは、蓋フレーム２４と概ね同様の構造を有している。
【００２７】
蓋フレーム２４全体の剛性を強めるために、棒材３１の一部が外周の棒材３２に連結されている。更には、外周の棒材３２と枠状の棒材３１とは、複数の棒材３３によってそれぞれ接合されている。加えて、対向する２つの棒材３１をそれぞれ接合する梁３４，３５が各棒材３１の中心に取り付けられており、更には、梁３４，３５は外周の棒材３２にも延在して、外周の棒材３２にも取り付けられている。各棒材３１，３２，３３及び各梁３４，３５が交差する交差部分には、交差部分の各接合を補強する三角形の平板状の補強部材３６が適宜設けられている。蓋１２の上面の頂点に対応する蓋フレーム２４の各位置に配置されている補強部材３６には、蓋フレーム２４を蓋１２に接合する螺子３７が設けられており、この螺子３７によって蓋フレーム２４が蓋１２の側面上部に固定されている。対向する２つの棒材３２の一端には車輪３８が設けられている。
【００２８】
ケースフレーム２５は、蓋フレーム２４と同様の構造を有しており、蓋フレーム２４が蓋１２に固定される方法と同様にして、ケースフレーム２５は、ケース本体１３の下面に固定されている。ケースフレーム２５の外周の棒材のうち対向する２つの棒材の一端には、移動用の車輪３９が設けられている。
【００２９】
中間フレーム２６は、梁３４，３５と補強部材３６と車輪３８とが設けられていない以外は、蓋フレーム２４と概ね同様の構造を有している。中間フレーム２６は、図示しない螺子等で、蓋１２の高さ方向の中間部分に取り付けられている。
【００３０】
図１及び図３に示すように、蓋フレーム２４の外周の棒材３２の４つの頂点部分４１には、貫通穴４２が設けられている。蓋フレーム２４の４つの頂点部分４１に相当する、ケースフレーム２５と中間フレーム２６との頂点部分にも貫通穴４３，４４が設けられている。蓋１２をケース本体１３に取り付けた後には、これらの貫通穴４２，４３，４４を貫通するように、４つの円柱状の固定部材４５が取り付けられる。この固定部材４５によって、蓋フレーム２４とケースフレーム２５と中間フレーム２６との各々の相対的な位置が決められる。
【００３１】
図３に示すように、複数のクランプ４６は、蓋フレーム２４の上面とケースフレーム２５の下面とに接触しつつ、蓋フレーム２４とケースフレーム２５との、収納ケース１１の反対側へ突き出している４つの固定部材４５の各突出部分に取り付けられる。蓋フレーム２４の上面とケースフレーム２５の下面とに接触しているクランプ４６の上下部分が、蓋フレーム２４とケースフレーム２５とが互いに近づく接近方向６３，６４に向かうように、各クランプ４６が付勢する。これにより、蓋フレーム２４とケースフレーム２５とに力が接近方向６３，６４へ加えられて、蓋１２の突出部２３がケース本体１３の溝１５に更に嵌りこみ、Ｏ−リング１６が、突出部２３と溝１５とに密着する。このようにして、収納ケース１１のフォトマスク用基板１７を収容する基板収容室５１が密閉される。
【００３２】
蓋フレーム２４、ケースフレーム２５、中間フレーム２６、固定部材４５、クランプ４６は、それらの剛性を保つために金属材料から構成されている。金属材料としては、具体的には、ステンレス鋼、酸化アルミニウム、アルミニウム合金が挙げられるが、これらに限られない。フレームの剛性が保たれるのであれば、有機材料からこれらを構成してもよい。蓋１２及びケース本体１３の外周に設けられている蓋フレーム２４、ケースフレーム２５、中間フレーム２６によって、収納ケース１１全体の剛性が増す。
【００３３】
以下に、フォトマスク用基板を収納して、収納ケースの内部を検査し、収納ケースを搬送する場合における、本発明の収納ケースの作用を図面を参照して説明する。
【００３４】
図１に示すように、フォトマスク用基板１７を収納ケース１１に収容しようとする作業者は、クリーンルーム内の暗室で、ケース本体１３の内面５３に光を照射して、ケース本体１３の上面１４に異物が存在していないことを確認する（図２参照）。内面５３上には黒色皮膜処理がなされているので、光の散乱は、異物によるものと考えることができる。次いで、作業者は、支持部材２１の上面と支持部材２２の平坦部２８とにフォトマスク用基板１７を設置し、鍵部２９の先端３０を、回転方向６１に回転させる。こうして、４つの支持部材２２において、先端３０と平坦部２８との間にフォトマスク用基板１７が挟まれて、フォトマスク用基板１７が、支持部材２１の上面と支持部材２２との平坦部２８とに固定される。
【００３５】
次に、作業者は、クリーンルーム内の暗室で、蓋１２の内面５２に光を照射して、蓋１２の内部に異物が存在していないことを確認する（図２参照）。内面５２は黒色皮膜処理されているので、光の反射は、異物の散乱によるものと考えることができる。蓋１２の内部に異物がないことが確認されたら、蓋１２の突出部２３をケース本体１３の溝１５に嵌るようにして、ケース本体１３に蓋１２を装着して、基板収容室５１を形成する。
【００３６】
次いで、図１及び図３に示すように、作業者は、蓋フレーム２４とケースフレーム２５と中間フレーム２６の貫通穴４２，４３，４４を貫通するように、４つの円柱状の固定部材４５を取り付ける。そして、図３に示すように、蓋フレーム２４の上面とケースフレーム２５の下面とに接触させつつ、蓋フレーム２４とケースフレーム２５との、収納ケース１１の反対側へ突き出している各固定部材４５の突出部分にクランプ４６を取り付ける。クランプ４６の付勢によって、蓋１２とケース本体１３とは、互いに接近する接近方向６３，６４に力が加えられて、収納ケース１１のフォトマスク用基板１７を収容する基板収容室５１が密閉される。それから、図４に示すように、車輪３８，３９（図１参照）が取り付けられている部分を下向きとして、収納ケース１１全体を縦向きにする。そして、平板状のフォトマスク用基板１７が、いわゆる立てられた状態で収納ケース１１は供給先に向けて搬送される。
【００３７】
収納ケース１１を受け取った供給先は、まず、クリーンルームの暗室内で、クランプ４６を固定部材４５から取り除く。次に貫通穴４２，４３，４４からこの固定部材４５を取り除く。そして、ケース本体１３から蓋１２を取り外す。次いで、支持部材２２の鍵部２９の先端３０を回転方向６２に回転して、フォトマスク用基板１７を取り出す。取り出されたフォトマスク用基板１７の表面上に異物が付着していなかったかを検査する。
【００３８】
上記の実施態様では、蓋１２の内面５２及びケース本体１３の内面５３上に黒色皮膜処理が施されているが、本願発明は、これに限られず、基板収容室５１へアウトガスが発生することなくかつ金属光沢を抑えることができるのであれば、内面５２，５３には、例えば、有機材料からなる黒色塗膜を形成してもよい。支持部材２１，２２及びＯ−リングの色は特に制限されないが、黒色にしてもよい。こうすることで異物の発見が一層容易となる。
【００３９】
上記の実施態様では、フォトマスク用基板を収納ケースに収納する場合を説明してきたが、フォトマスクブランクも同様に収納することが可能である。
【実施例】
【００４０】
［実施例１］
短辺が８５０ｍｍ、長辺が１２００ｍｍ、厚みが１０ｍｍのサイズを有する合成石英ガラスからなるフォトマスク用基板を研磨し、洗浄し、それから、外観検査を行った。次に、このサイズに適した、図１に示した構造を有する収納ケース１１を用意した。
【００４１】
収納ケース１１の蓋１２及びケース本体１３の材質としてアルミニウムを用いた。蓋１２及びケース本体１３には、全体的にブラックアルマイト処理を施した。支持部材２１，２２の材質にはポリテトラフルオロエチレンを用いた。Ｏ−リング１６の材質にはシリコンゴムを用いた。
【００４２】
クリーンルーム内の暗室で、高輝度ハロゲン投光機を用いて、収納ケース１１の基板収容室５１に面する、蓋１２の内面５２とケース本体１３の内面５３とに光を照射して、その散乱光の有無により、基板収容室５１を構成する蓋１２の内部中とケース本体１３の上面１４に異物がないことを目視で確認した後、この収納ケース１１に、フォトマスク用基板１７を収納した。この収納作業もクリーンルーム内で行った。
【００４３】
＜評価１＞
フォトマスク用基板１７を収納する前に、収納ケース１１の内部に存在する１μｍ以上の大きさの異物の個数を予め目視で測定した。それから、フォトマスク用基板１７を収納ケース１１に収納した。次に、収納ケース１１の外側を帯電防止フィルムで梱包し、アウターケースに入れて、梱包した収納ケース１１を８時間倉庫で一時保管後、４ｔトラックで一般道を、外気の温度が約０℃の下で１２時間走行することで、収納ケース１１を振動させた。次いで、クリーンルーム内で収納ケース１１からフォトマスク用基板１７を取り出し、フォトマスク用基板１７の表面上に付着する１μｍ以上の大きさの異物の個数を目視で測定した。これらの作業を４回繰り返した。
【００４４】
収納ケースを運搬して振動する前後で異物の個数の増加数を確認した。４回の試行から、増加した異物の個数は平均して４個であった。
【００４５】
＜評価２＞
上記のように作製した収納ケースの光学特性を調査するために、光の波長を変化させながら光を収納ケースの内面に照射して、その光の反射特性を測定した。収納ケースの内面に照射した光の波長と、収納ケースの内面による光の反射率との関係を図５に示す。図５における横軸は光の波長（ｎｍ）を、縦軸は反射率（％）を示す。
【００４６】
図５における「実施例１」と付された反射特性より、光の波長領域が３００ｎｍ以上では、特に３８０〜７８０ｎｍにおいて、収納ケースの内面による光の反射率は、概ね４％以下に抑えられていることがわかった。
【００４７】
［比較例１］
実施例１と同様に製造したフォトマスク用基板を収納する収納ケースの蓋及びケース本体の材質として、皮膜処理がなされていないポリアクリロニトリルからなる収納ケースを用意した。ケース本体は黒色であり、蓋は赤色を呈しているがいずれもポリアクリルニトリル製であった。上記のような色を有する蓋とケース本体が樹脂製である収納ケースを用いていること、及び、蓋とケース本体には皮膜処理がなされていないこと以外は、実施例１と同様にしてフォトマスク用基板の収納を行った。
【００４８】
＜評価１＞
実施例１と同様にして、比較例１の収納ケースに対して評価１を行った。その結果、増加した異物の個数は平均して４個であり、実施例１と概ね同程度であった。
【００４９】
［比較例２］
収納ケースの蓋及びケース本体に表面加工が施されていない無垢のアルミニウムからなる収納ケースを用いたこと以外は実施例１と同様にしてフォトマスク用基板を収納ケースに収納した。
【００５０】
＜評価１＞
実施例１と同様にして、比較例２の収納ケースに対して評価１を行った。その結果、増加した異物の個数は平均して２００個であり、実施例１と比べ非常に多かった。
【００５１】
［参考例］
比較例１で用いた収納ケースの蓋（赤色）について、実施例１と同様な評価２を行った。光学特性を調査するために、光の波長を変化させながら光を蓋の内面に照射して、その光の反射特性を測定した。この蓋の内面に照射した光の波長と、光の反射率との関係を図５に示す。図５に、「参考例」と付された蓋の内面の反射率特性曲線を示す。光の波長が３００〜５５０ｎｍの範囲において、蓋の内面による光の反射率は、概ね４％前後であり、光の波長が５８０ｎｍを超えてから、光の反射率は急激に増加して、５％以上であることが分かる。
【００５２】
比較例１では、ケース本体の材質が樹脂であるため、高輝度ハロゲン投光機を用いて蓋及びケース本体の内部に光を照射しても、その反射光の有無により、収納前の収納ケース内部に異物がなきことを確認することは容易であったと考えられる。但し、蓋及びケース本体の材質が樹脂であるため、ケースを形成する樹脂からの何らかのアウトガス成分によってフォトマスク用基板が汚染され、濡れ性が悪化し、そのフォトマスク用基板に遮光膜を成膜するとしても、その遮光膜には、成膜ムラが生じる可能性が高い。
【００５３】
比較例２では、蓋及びケース本体の材質が、表面が加工されていない無垢のアルミニウムであるため、蓋及びケース本体の内部に光を照射すると、蓋及びケース本体の表面に反射される光と異物によって散乱される光とを識別することが容易ではない。このため、実施例１の収納ケースに比べて、評価における収納前の異物の検出能力が劣ったと考えられる。その結果、ケース内に異物が多数残ってしまったため、搬送中にフォトマスク用基板の表面に付着したことが原因であると考えられる。
【００５４】
参考例では、蓋の表面（内面）が赤色であるため、光の波長領域（赤色領域）によっては反射率が高くなっている。
【００５５】
実施例１では、黒色皮膜処理が表面に施されている金属からなる蓋及びケース本体から構成される収納ケースは黒色皮膜処理されているので、基板収容室に面する、蓋とケース本体の基板収容室面に光を照射しても、ケースそのものがその光を反射しにくい。このため、検査において、ケース内部に照射することによって反射される光は、異物によって散乱した光であることとなり、基板収容室にある異物の存在を容易に検出できることがわかる。図５から、実施例１では、光の波長領域が３００ｎｍ以上の場合においては、収納ケースの内面による光の反射率は、概ね４％以下に抑えられており、その波長に関わらず、低い反射率を維持しており、参考例における赤色である蓋の表面に比べて、黒色皮膜処理された内面を有する収納ケースの方が、異物の識別性が高くなることが予測される。
【符号の説明】
【００５６】
１１                収納ケース
１２                蓋
１３                ケース本体
１７                フォトマスク用基板
５１                基板収容室
５２，５３          内面
【図１】
2012063702.tif 000003
【図２】
2012063702.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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