(57)【要約】【課題】ＲｔｏＲのように連続的に真空蒸着による成膜を行う真空蒸着装置において、装置の低コスト化および小型化を図ると共に、蒸着室と隣接する室との間の不純ガスによる汚染を防止する。【解決手段】蒸着室と隣接する室とを隔離するシールユニットとして、蒸着室に搬入される基材に巻き掛かる入口シールロールと、蒸着室から搬出される基材に巻き掛かる出口シールロールと、両シールロールの間に配置されるセンターシールロールとの、３本のシールロールからなるシールユニットを用いることにより、前記課題を解決する。【選択図】図１
2012072422.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
長尺な基材を長手方向に搬送しつつ真空蒸着によって前記基材に成膜を行う蒸着室と、
前記基材を成膜室に搬送し、かつ、成膜室から搬出するための開口を有する隔壁によって、前記蒸着室と分離される隣室と、
前記蒸着室を所定の真空度にする第１の真空排気手段、および、前記隣室を所定の真空度にする第２の真空排気手段と、
前記隣室から蒸着室に前記基材を搬送し、蒸着済みの基材を前記蒸着室から隣室に搬送する基材搬送手段と、
前記開口において前記隣室と蒸着室とを隔離する、互いに非接触な、入口シールロール、出口シールロール、および、センターシールロールを有するシールユニットとを有し、
かつ、前記シールユニットにおいて、前記入口シールロールは、前記隣室から蒸着室に搬入される基材が巻き掛かるように、前記開口の壁部に隣接して、この壁部と蒸着室に搬入される基材との間に配置され、前記出口シールロールは、前記蒸着室から隣室に搬出される基材が巻き掛かるように、前記開口の壁部に隣接して、この壁部と蒸着室から搬出される基材との間に配置され、さらに、前記センターシールロールは、前記入口シールロールと出口シールロールとの間に配置され、基材の搬送方向に回転することを特徴とする真空蒸着装置。
【請求項２】
前記センターシールロールは、前記基材に接触しないように配置される請求項１に記載の真空蒸着装置。
【請求項３】
前記センターシールロールは、前記隣室から蒸着室に搬入される基材、および、前記蒸着室から隣室に搬出される基材が巻き掛かる位置に配置される請求項１に記載の真空蒸着装置。
【請求項４】
前記入口シールロールとセンターシールロールとの間隙、および、前記出口シールロールとセンターシールロールとの間隙が、２０００μｍ以下である請求項１〜３のいずれかに記載の真空蒸着装置。
【請求項５】
前記入口シールロールと開口壁部との間隙、および、前記出口シールロールと開口壁部との間隙が、２０００μｍ以下である請求項１〜４のいずれかに記載の真空蒸着装置。
【請求項６】
前記成膜室は、円筒状のドラムの周面に前記基材を巻き掛けて搬送しつつ、前記基材への蒸着を行う請求項１〜５のいずれかに記載の真空蒸着装置。
【請求項７】
前記開口の前記入口シールロールと対面する壁部が、前記入口シールロールの一部が挿入可能な曲面となっている請求項１〜６のいずれかに記載の真空蒸着装置。
【請求項８】
前記開口の前記出口シールロールと対面する壁部が、前記出口シールロールの一部が挿入可能な曲面となっている請求項１〜７のいずれかに記載の真空蒸着装置。
【請求項９】
前記隣室が、前記基材をロール状に巻回した基材ロールから前記基材を送り出し、前記蒸着室で成膜された基材を、再度、ロール状に巻回する、基材の巻出し／巻取り室である請求項１〜８のいずれかに記載の真空蒸着装置。
【請求項１０】
前記隣室が、前記蒸着室と、前記蒸着室における成膜の上下流の工程を行う室とを隔離する隔離室である請求項１〜８のいずれかに記載の真空蒸着装置。
【請求項１１】
前記隣室が、真空蒸着とは異なる処理を前記基材に行う処理室である請求項１〜８のいずれかに記載の真空蒸着装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、長尺な基材を長手方向に搬送しつつ、真空蒸着によって基材に成膜を行う真空蒸着装置の技術分野に属し、詳しくは、装置を簡略化して、蒸着室と隣室とにおける不純ガスの混入を防止できる真空蒸着装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ガスバリアフィルムの製造や太陽電池用バックシート等の製造に、真空蒸着が利用されている。また、真空蒸着によって、効率良く成膜を行うことができる装置として、いわゆるロール・ツー・ロール(Roll to Roll  以下、ＲｔｏＲともいう)による成膜を行なう装置が知られている。
ＲｔｏＲによる装置は、長尺な基材（基板）をロール状に巻回してなる基材ロールを用い、この基材ロールから基材を引き出して、長手方向に搬送しつつ成膜を行い、成膜を終了した基材を、再度、ロール状に巻回するものである。
ＲｔｏＲによれば、長尺な基材に連続的に成膜を行うことができるので、非常に効率よく、ガスバリアフィルム等の製品を製造することができる。
【０００３】
ここで、ＲｔｏＲのように、長尺な基材を連続的に搬送しつつ成膜を行う装置において、真空蒸着を行う場合には、蒸着室で発生したガスが、蒸着室の上下流（基材搬送方向の上下流）の室（空間）に混入するのを、防止する必要がある。また、上下流の室で発生したガスが、蒸着室に混入することも、防止する必要がある（以下、このようなガスを『不純ガス』と称する）。
すなわち、基材の通過経路を確保しつつ、蒸着室と、隣接する室と略気密に隔離し、不純ガスの混入を防止する必要がある。
【０００４】
そのためには、蒸着室と上下流の室とを隔離する隔壁に形成される、基材通過用の開口（スリット）を、基材が通過可能な最小サイズにするのが好ましい。
しかしながら、開口のサイズ（幅および長さ）を小さくすると、搬送される基材のバタツキ等によって、基材が開口（隔壁）に接触して、基材が損傷してしまう可能性が有るので、ある程度の余裕を設ける必要がある。そのため、スリットのサイズを検討するだけでは、蒸着室と隣室とにおける不純ガスの混入を十分に防ぐことは、困難である。
【０００５】
このような問題点を解決する方法として、隣接する室を隔離するために、基材が通過する隔壁の開口を気密に閉塞（シール）する、シールロールが知られている。
例えば、特許文献１には、２本のシールロールを、微小な間隙を設けて、基材の搬送方向に異なる位置で、かつ、基材が両シールロールに所定の巻き掛かり角（抱き角）で巻き掛かるように配置することにより、隣室への不純ガスの混入を防止した装置が記載されている。また、両シールロールの間隙以外からの不純ガスの混入を防止するために、両シールロールは、基材の非接触側で微小な間隙を有してシールロールを覆うケーシング（覆い体）に覆われている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００３−２７２３４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
このようなシールロールを利用することにより、基材が通過するスリットを十分に余裕の有るサイズにすると共に、蒸着室から隣室への（隣室から蒸着室への）不純ガスの混入も、大幅に抑止するすることができる。
【０００８】
しかしながら、従来のシールロールを用いる隣接する室の隔離方法では、蒸着室への基材搬入部と、蒸着室からの基材搬出部とで、個別に２本のシールロールを有するユニット（シールユニット）を設ける必要がある。また、特許文献１に示される装置のように、２本のシールロールを基材搬送方向の異なる位置に配置する構成では、ロール間以外からの不純ガスの混入を防止するために、個々のシールロール毎に、ロールを覆うケーシングを設ける必要が有る。
そのため、シールユニットのコストが高くなってしまう、基材入口および出口の両者にシールユニットを設けるためのスペースが必要であり、装置が大型化してしまう等の問題がある。
【０００９】
本発明の目的は、前記従来技術の問題点を解決することにあり、蒸着室への基材入口および出口の個々にシールユニットを設ける必要がなく、また、より好適に隣室への不純ガスの混入を防止できる真空蒸着装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
前記目的を達成するために、本発明の真空蒸着装置は、長尺な基材を長手方向に搬送しつつ真空蒸着によって前記基材に成膜を行う蒸着室と、前記基材を成膜室に搬送し、かつ、成膜室から搬出するための開口を有する隔壁によって、前記蒸着室と分離される隣室と、前記蒸着室を所定の真空度にする第１の真空排気手段、および、前記隣室を所定の真空度にする第２の真空排気手段と、前記隣室から蒸着室に前記基材を搬送し、蒸着済みの基材を前記蒸着室から隣室に搬送する基材搬送手段と、前記開口において前記隣室と蒸着室とを隔離する、互いに非接触な、入口シールロール、出口シールロール、および、センターシールロールを有するシールユニットとを有し、かつ、前記シールユニットにおいて、前記入口シールロールは、前記隣室から蒸着室に搬入される基材が巻き掛かるように、前記開口の壁部に隣接して、この壁部と蒸着室に搬入される基材との間に配置され、前記出口シールロールは、前記蒸着室から隣室に搬出される基材が巻き掛かるように、前記開口の壁部に隣接して、この壁部と蒸着室から搬出される基材との間に配置され、さらに、前記センターシールロールは、前記入口シールロールと出口シールロールとの間に配置され、基材の搬送方向に回転することを特徴とする真空蒸着装置を提供する。
【００１１】
このような本発明の真空蒸着装置において、前記センターシールロールは、前記基材に接触しないように配置されるのが好ましく、もしくは、前記センターシールロールは、前記隣室から蒸着室に搬入される基材、および、前記蒸着室から隣室に搬出される基材が巻き掛かる位置に配置されるのが好ましい。
また、前記入口シールロールとセンターシールロールとの間隙、および、前記出口シールロールとセンターシールロールとの間隙が、２０００μｍ以下であるのが好ましく、また、前記入口シールロールと開口壁部との間隙、および、前記出口シールロールと開口壁部との間隙が、２０００μｍ以下であるのが好ましく、また、前記成膜室は、円筒状のドラムの周面に前記基材を巻き掛けて搬送しつつ、前記基材への蒸着を行うのが好ましく、また、前記開口の前記入口シールロールと対面する壁部が、前記入口シールロールの一部が挿入可能な曲面となっているのが好ましく、さらに、前記開口の前記出口シールロールと対面する壁部が、前記出口シールロールの一部が挿入可能な曲面となっているのが好ましい。
さらに、前記隣室が、前記基材をロール状に巻回した基材ロールから前記基材を送り出し、前記蒸着室で成膜された基材を、再度、ロール状に巻回する、基材の巻出し／巻取り室であるのが好ましく、もしくは、前記隣室が、前記蒸着室と、前記蒸着室における成膜の上下流の工程を行う室とを隔離する隔離室であるのが好ましく、もしくは、前記隣室が、真空蒸着とは異なる処理を前記基材に行う処理室であるのが好ましい。
【発明の効果】
【００１２】
このような本発明の真空蒸着装置は、蒸着室と、蒸着室に基材を搬送し、かつ、成膜済みの基材を蒸着室から搬入される隣室とを隔離（分離）するシールユニットを、蒸着室への入口搬送経路と、蒸着室からの出口搬送経路との個々に設ける必要がなく、１つのシールユニットで蒸着室と隣室とを隔離できる。しかも、基材も、成膜室と隣室とにおける不純ガスの混入を防止する隔離手段の一部として作用させることができる。
【００１３】
そのため、本発明においては、１つのシールユニットで蒸着室と隣室を分離できるので、真空蒸着装置のコストを低減できると共に、装置サイズも小型化できる。
さらに、基材も隔離手段として作用させることができるので、不純ガスの混入も、より、好適に防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の真空蒸着装置の一例を概念的に示す図である。
【図２】本発明の真空蒸着装置の別の例を概念的に示す図である。
【図３】本発明の真空蒸着装置の別の例を概念的に示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明の真空蒸着装置について、添付の図面に示される好適実施例を基に、詳細に説明する。
【００１６】
図１に、本発明の真空蒸着装置の一例を概念的に示す。
図１に示す真空蒸着装置１０は、蒸着室１２と、巻出し／巻取り室１４と、隔壁１８と、シールユニット２０とを有して構成される。なお、蒸着室１２および巻出し／巻取り室１４は、公知の真空チャンバで構成される。
【００１７】
このような真空蒸着装置１０（以下、蒸着装置１０とする）は、長尺なシート状（ウエブ状）の基材（基板）Ｚをロール状に巻回してなる基材ロール２０から基材を送り出し、長手方向に搬送しつつ基材Ｚに真空蒸着によって成膜を行い、成膜済みの基材Ｚを、再度、巻取り軸２６によってロール状に巻き取る、前述のロール・ツー・ロール(Roll to Roll  以下、ＲｔｏＲともいう)によって、基材Ｚに連続的に成膜を行う装置である。
【００１８】
巻出し／巻取り室１４（以下、巻出し室１４とする）は、基材ロール２４から基材Ｚを送り出して蒸着室１２に搬送し、蒸着室１２で成膜された基材Ｚを蒸着室１２から搬入されて、ロール状に巻き取る室で、巻取り軸２６と、回転軸３０と、真空排気手段３２とを有して構成される。
【００１９】
回転軸３０は、基材ロール２４を軸支する回転軸である。
基材Ｚは、回転軸３０に装填された基材ロール２４から引き出され、蒸着室１２に搬送されて、後述するドラム３６の所定領域に巻き掛けられて長手方向に搬送されつつ、真空蒸着によって成膜を行われ、再度、巻出し室１４に搬送されて、巻取り軸２６によって、ロール状に巻回される。
【００２０】
真空排気手段３２は、巻取り室１４内を排気して、成膜中、巻取り室１４内の圧力を所定の圧力にするものである。
図示例の蒸着装置１０において、真空排気手段３２は、成膜中、巻取り室１４内の圧力を、蒸着室１２内の圧力（すなわち成膜圧力）よりも、若干、高い圧力にする。これにより、蒸着室１２で発生したガスや成膜材料蒸気（以下、不純ガスとする）が、巻取り室１４に混入して、基材Ｚや巻取り室１４内を汚染することを、より好適に防止できる。この点に関しては、蒸着室１２の隣室が、後述する隔離室である場合も同様である。
また、巻取り室１４（および／または、後述する隔離室などの蒸着室１２以外の室）には、不純ガスを冷却して捕捉（トラップ）する機構を設けてもよい。
【００２１】
真空排気手段３２には、特に限定はなく、ターボポンプ、メカニカルブースターポンプ、ドライポンプ、ロータリーポンプなどの真空ポンプ、クライオコイル等の補助手段、さらには、到達真空度や排気量の調整手段等を利用する、真空蒸着装置やスパッタリング装置などの真空成膜装置に用いられている公知の排気手段が、各種、利用可能である。
この点に関しては、後述する真空排気手段４２および８６も同様である。
【００２２】
なお、本発明において、蒸着室１２の隣室は、基材ロール２４から蒸着室１２に基材Ｚを送り出し、かつ、成膜済みの基材Ｚを蒸着室１２から搬入されてロール状に巻き取る、巻出し室１４に限定はされず、蒸着室１２に隣接して、蒸着室１２に基材Ｚを搬送し、蒸着室１２から成膜済みの基材Ｚが搬入される室であれば、各種の室が利用可能である。
【００２３】
例えば、本発明の真空蒸着装置が、『第１工程→真空蒸着工程→第３工程』のように、長手方向に基材Ｚを搬送しつつ、基材Ｚに複数の処理を連続的に行う生産設備に組み込まれている場合には、隣室は、蒸着室１２と、蒸着室１２の基材搬送方向の上下流において基材Ｚに処理を行う室とを隔離する、基材Ｚが通過するだけの隔離室であってもよい。
あるいは、隣室は、加熱処理やプラズマ処理等の基材Ｚの前処理を行う前処理室、プラズマＣＶＤによる成膜を行う成膜室、スパッタリングによる成膜を行う成膜室のように、基材Ｚに真空蒸着以外の処理を行う処理室であってもよい。
【００２４】
蒸着室１２は、真空蒸着によって基材Ｚに成膜を行う室であって、ドラム３６と、蒸発源４０と、真空排気手段４２とを有する。
ドラム３６は、基材Ｚを周面の所定領域に巻き掛けて成膜位置に保持しつつ、長手方向に搬送する、円筒状の物である。また、ドラム３６は、冷却手段等、基材Ｚの温度調整手段を内蔵してもよい。
【００２５】
なお、本発明において、基材Ｚを成膜位置に保ちつつ長手方向に搬送する搬送手段は、図示例のドラム３６に限定はされず、例えば、成膜位置を基材搬送方向に挟んで配置される２つのニップローラ対など、各種の搬送手段が利用可能である。
しかしながら、基材Ｚを安定して成膜位置に保持しつつ長手方向に搬送可能である等の点で、図示例のようなドラム３６は、好適に利用される。
【００２６】
蒸発源４０は、成膜材料を収容して加熱／蒸発させる、真空蒸着装置で用いられる公知の蒸発源（ルツボ）である。
なお、本発明の蒸着装置１０において、成膜材料の加熱手段には、特に限定はなく、抵抗加熱、電子線加熱、誘導加熱等、真空蒸着で利用されている公知の加熱手段が、全て利用可能である。
真空排気手段４２は、成膜中、蒸着室１２内を所定の圧力（成膜圧力）に減圧するものである。
【００２７】
図示例の蒸着装置１０において、蒸着室１２と巻出し室１４（成膜空間と基材の送り出し／巻取り空間）とは、隔壁１８によって隔離（分離）される。
蒸着室１２と巻出し室１４とを隔離する隔壁１８には、巻出し室１４から蒸着室１２に搬送される基材Ｚ、および、成膜されて蒸着室１２から巻出し室１４に搬送される基材Ｚが通過する、基材の出入り口となる開口１８ａが形成される。
【００２８】
隔壁１８の開口１８ａには、開口１８ａを略気密に閉塞して、蒸着室１２から巻取り室１４に不純ガスが混入することを防止する、シールユニット２０が配置される。
本発明において、シールユニット２０は、入口シールロール５０、出口シールロール５２、および、センターシールロール５４の３本のシールロール（シールローラ）から構成される。
【００２９】
入口シールロール５０（以下、入口ロール５０とする）は、開口１８ａの壁面（蒸着室１２に搬入される基材側の壁面）に隣接して、隔壁１８と巻取り室１４から蒸着室１２に搬送される基材Ｚとの間に配置され、蒸着室１２に搬送される基材Ｚを巻き掛けて、ドラム３６（次の搬送手段）に案内するロールである。
また、出口シールロール５２（以下、出口ロール５２とする）は、開口１８ａの壁面（蒸着室１２から搬出される基材側の壁面）に隣接して、隔壁１８と蒸着室１２から巻取り室１４に搬送される基材Ｚとの間に配置され、巻取り室１４に搬送される基材Ｚを巻き掛けて、巻取り軸２６に案内するロールである。
さらに、センターシールロール５４（以下、センターロール５４とする）は、入口ロール５０と出口ロール５２との間に配置され、基材Ｚの搬送方向に回転（自転）するロールである。なお、図示例の成膜装置１０においては、基材Ｚは、センターロール５４には接触しない。
【００３０】
入口ロール５０とセンターロール５４、および、出口ロール５２とセンターロール５４とは、互いに僅かな間隙を有して配置される、互いに非接触なローラである。
すなわち、シールユニット２０は、蒸着室１２に搬入される基材Ｚに巻き掛かる入口ロール５０、同搬出される基材Ｚに巻き掛かる出口ロール５２、および、両者の間に配置されるセンターロール５４という、互いに非接触な３本のシールロールによって、基材Ｚの出入口である隔壁１８の開口１８ａを略気密に閉塞する。これにより、１つのシールユニット２０によって、基材Ｚの出入り口を略気密に閉塞して、蒸着室１２と巻取り室１４とを隔離し、不純ガスが、開口１８ａを経て蒸着室１２から巻出し室１４に混入することを防止している。
また、センターロール５４を基材Ｚの搬送方向に回転（好ましくは基材Ｚの搬送速度と同速度）することにより、本来は非接触である基材Ｚがセンターロール５４に接触しても、基材Ｚが損傷することを防止できる。
【００３１】
なお、３本のシールロール（あるいはさらにドラム３６）は、公知のシールロールと同様に、幅方向（ロールの軸線方向）の端部は、真空チャンバや隔壁の内壁面とロール端部との間隙を、可能な範囲で狭くして、ロール端部からの不純ガスの混入を防止している。
【００３２】
ここで、蒸着室１２内で、最も不純ガスが多量に存在するのは、蒸発源４０が存在する空間であり、すなわち、巻出し室１４から搬入され、ドラム３６に巻き掛けられて、巻出し室１４に搬出される基材Ｚの外側の領域１２ａである。言い換えれば、蒸着室１２内で、最も不純ガスが多量に存在するのは、巻出し室１２から搬入され、搬送経路を折り返されて、巻出し室１２に搬出される基材Ｚが形成するループの外側の領域１２ａである。
すなわち、この領域１２ａの不純ガスが、巻出し室１４に混入することを、より確実に防止できれば、不純ガスによる巻出し室１４内の汚染を、より好適に防止できる。
【００３３】
これに対し、本発明においては、入口ロール５０に、蒸着室１２に搬送される基材Ｚが巻き掛けられ、出口ロール５２に、蒸着室１２から排出される基材Ｚが巻き掛けられる。
このような構成を有することにより、図１に示されるように、開口１８ａの入口ロール５０と出口ロール５２との間に、入口ロール５０と基材Ｚ（その折り返しによるループ）と出口ロール５２とからなる壁を形成できる。
そのため、最も不純ガスの多い領域１２ａから、入口ロール５０とセンターロール５４との間、および、出口ロール５２とセンターロール５４との間を抜けて、巻出し室１４に混入しようとする不純ガスを、基材Ｚによって遮蔽することができる。すなわち、基材Ｚを、不純ガスの混入を防止する隔壁として作用させることができ、より好適に、不純ガスの混入を防止できる。
【００３４】
以上の説明から明らかなように、本発明の真空蒸着装置においては、３本のシールロールからなるシールユニット２０を用いることにより、隔壁の基材が通過する開口（スリット）を、１つのシールユニット２０で略閉塞することができる。
そのため、２本のシールロールからなるシールユニットを用い、基材の入口（蒸着室への搬入側搬送経路）と、出口（同搬出側搬送経路）との個々にシールユニットを設けていた従来のＲｔｏＲの真空蒸着装置（成膜装置）に比して、装置構成を簡素化および小型化、コストダウンを図ることができる。
また、従来のシールユニットでは、全てのシールロールの基材非接触側を微小な間隙を設けてケーシングや隔壁などで覆う必要が有るが、本発明においては、入口ロール５０と出口ロール５２の２本のみを覆えば良いので、この点でも、装置の簡素化および小型化、コストダウンを図ることができる。
しかも、不純ガスの混入を防止する隔壁として、基材Ｚも作用させることができるので、より好適に、不純ガスの混入を防止できる。
【００３５】
従って、本発明によれば、ＲｔｏＲによる真空蒸着装置において、蒸着室から隣室への不純ガスの混入を、より好適に防止できると共に、装置サイズの小型化や低コスト化を図ることができる。
【００３６】
本発明において、入口ロール５０とセンターロール５４との間隙、および、出口ロール５２とセンターロール５４との間隙には、特に限定はなく、各種の真空成膜装置に利用される、公知のシールロール同士の間隙と同様でよい。
本発明者の検討によれば、入口ロール５０とセンターロール５４との間隙、および、出口ロール５２とセンターロール５４との間隙は２０００μｍ以下とするのが好ましい。入口ロール５０および出口ロール５２と、センターロール５４との間隙が２０００μｍ以下であれば、基材Ｚが薄い場合であっても、巻出し室１４への不純ガスの混入を、好適に防止することができる。
【００３７】
特に、入口ロール５０に巻き掛かった基材Ｚとセンターロール５４との間隙、および、出口ロール５２に巻き掛かった基材Ｚとセンターロール５４との間隙を、４５〜３００μｍとすることにより、巻出し室１４への不純ガスの混入を、より好適に防止できると共に、センターロール５４と基材Ｚとの不要な接触も好適に防止でき、より好ましい。
従って、用いる基材Ｚの厚さに応じて、前記各ロールに巻き掛かった基材Ｚとセンターロール５４との間隙４５〜３００μｍを達成できるように、入口ロール５０とセンターロール５４との間隙、および、出口ロール５２とセンターロール５４との間隙を設定するのが、より好ましい。
ここで、本発明において用いる基材Ｚは、厚さが５〜３００μｍ程度のものが好適に例示される。従って、前記各ロールに巻き掛かった基材Ｚとセンターロール５４との好ましい間隙を考慮すると、入口ロール５０とセンターロール５４との間隙、および、出口ロール５２とセンターロール５４との間隙は、５０〜６００μｍとするのが、より好ましい。
両間隙を、この範囲とすることにより、上記範囲の様々な厚さの基材Ｚに対応して、前記各ロールに巻き掛かった基材Ｚとセンターロール５４との間隙を４５〜３００μｍとすることができる。
さらに、必要に応じて、公知の方法で、入口ロール５０とセンターロール５４との間隙、および、出口ロール５２とセンターロール５４との間隙を、調整可能にしてもよい。
【００３８】
図示例の蒸着装置１０において、隔壁１８の、開口１８ａの入口ロール５０および出口ロール５２に対面する壁面（内壁面）は、好ましい態様として、両シールロールと中心を一致して、かつ、両シールロールよりも若干径が大きい、シールロールが挿入可能な曲面となっている。
このような構成を有することにより、入口ロール５０および出口ロール５２と、開口壁面との間隙を不純ガスが通過して、巻出し室１４に混入することを、より好適に防止することができる。
【００３９】
また、入口ロール５０および出口ロール５２と開口１８ａの壁面との間隙からの、巻出し室１４への不純ガスの混入を、より好適に防止するために、入口ロール５０および出口ロール５２と、開口１８ａの壁面との間隙は、２０００μｍ以下、特に、２００μｍ以下とするのが好ましい。
なお、基材Ｚの幅方向の端部と、蒸着装置１０の内壁面との間隔には、特に限定はないが、２０００μｍ以下とするのが好ましい。基材Ｚの端部と蒸着装置１０の内壁面との間隔を、この範囲とすることにより、基材Ｚの端部と蒸着装置１０の内壁面との間から抜けて、蒸着室１２から巻出し室１４に混入する不純ガスを、大幅に低減することができる。すなわち、この構成によれば、不純ガスの混入を防止する隔壁としての基材Ｚの作用を、より好適に発現させることができ、好ましい。
【００４０】
ここで、蒸着室１２と、その上下流の室とを隔離する、前述のような隔離室は、蒸着室１２と巻取り室１４との間に設けてもよい。
図２に、その一例を示す。図２に示す（真空）蒸着装置８０は、装置の内壁面からドラム３６の周面の直近（例えば、巻き掛かった基板Ｚとの間隔が４５〜３００μｍ）まで延在して、隔壁８２を設けることにより、シールユニット２０と隔壁８２との間に隔離室８４を形成している。また、図示例においては、隔離室８４にも真空排気手段８６を配置し、他の室とは独立して圧力を調整可能にしている。
なお、このような隔離室８４（蒸着室１２と巻取り室１４との間以外の隔離室も含む）は、複数段で設けてもよい。
このような隔離室８４を有することにより、蒸着室１２の不純ガスが巻出し室１４に混入することを、より確実に防止できる。
【００４１】
ここで、このような隔離室８４を有する場合には、隔離室８４の圧力を、蒸着室１２の圧力よりも高くするのが好ましい。このような構成を有することにより、巻取り室１４への不純ガスの混入を、より、好適に防止できる。
なお、隔離室８４の圧力は、巻取り室１４よりも高くても低くてもよい。
【００４２】
図１および図２に示される蒸着装置１０は、センターロール５４が、基材Ｚに接触しない構成を有するが、本発明は、これに限定はされず、基材Ｚが、シールユニットのセンターロールに巻き掛かる構成を有するものでもよい。
図３に、その一例を示す。なお、図３に示す真空蒸着装置は、シールユニットが異なる以外は、図１に示す蒸着装置１０と同じ構成を有しているので、以下の説明は、異なる部位を主に行う。
【００４３】
図３に示す真空蒸着装置６０は、隔壁１８の開口１８ａを略気密に閉塞するシールユニット６２を有する。
このシールユニット６２は、巻出し室１４から蒸着室１２に搬送される基材Ｚに巻き掛かる先と同様の入口シールロール６４（以下、入口ロール６４とする）と、蒸着室１２から巻出し室１４に搬送される基材Ｚに巻き掛かる先と同様の出口シールロール６８（以下、出口ロール６８とする）とを有する。
【００４４】
また、入口ロール６４と出口ロール６８との間には、センターシールロール７０（以下、センターロール７０とする）が配置される。
ここで、図３に示す蒸着装置６０のシールユニット６２においては、センターロール７０は、入口ロール６４に案内されてドラム３６に搬送される基材Ｚ、および、ドラム３６から出口ロール６８に搬送される基材Ｚに、接触する位置に配置される。
図示例においては、このような構成を有することにより、より好適に、巻出し室１４への不純ガスの混入を防止することができる。
【００４５】
前述のように、蒸着室１２内で、最も不純ガスが多量に存在するのは、巻出し室１４から搬入され、ドラム３６に巻き掛けられて、巻出し室１４に搬出される基材Ｚの外側の領域１２ａ（基材ループの外側の領域１２ａ）である。
基材Ｚが遮蔽部材のように作用するので、この基材ループの内側の領域１２ｂは、領域１２ａに比して、不純ガスの量は、遥かに少ない。
しかしながら、領域１２ｂにも不純ガスは存在し、此処の不純ガスが巻出し室に混入すれば、やはり、巻出し室１４は汚染される。
【００４６】
これに対し、図３に示すシールユニット６２のように、センターロール７０も基材Ｚに接触する構成を有することにより、この領域１２ｂにも、基材Ｚ（その折り返しによるループ）とセンターロール７０とからなる壁を形成できる。
このような構成を有することにより、領域１２ｂから、入口ロール５０とセンターロール５４との間、および、出口ロール５２とセンターロール５４との間を抜けて、巻出し室１４に混入しようとする不純ガスを、基材Ｚとセンターロール７０とによって遮蔽することができる。
【００４７】
従って、図３に示すように、センターロール７０も基材Ｚに接触するシールユニット６２によれば、不純ガスの多い領域１２ａからの混入のみならず、領域１２ｂから巻出し室１４への不純ガスの混入も防止することができ、より好適に、巻出し室１４への不純ガスの混入を防止できる。
【００４８】
しかしながら、その反面、図３に示すような、センターロール７０も基材Ｚに接触するシールユニット６２では、加熱等に起因する基材Ｚの伸縮等が生じた場合には、蒸着室１２への入り側と出側とで、基材Ｚの搬送に若干の速度差が生じ、これによって、基材Ｚが損傷する可能性もある。
これに対し、センターロール５４が基材Ｚに接触しない図１に示すシールユニット２０では、領域１２ｂから、入口ロール５０および出口ロール５２と、センターロール５４との間を抜ける巻出し室１４への不純ガスの混入を防止する能力は、やや劣る。しかしながら、シールユニット２０でも、入口ロール５０および出口ロール５２（基板）と、センターロール５４との間を狭くすることで、十分なシール性を確保することができる。さらに、シールユニット２０では、上述のような、センターロール５４による基材Ｚの損傷の可能性は、極めて低く、さらに、基板Ｚの搬送上の不都合が生じる可能性も非常に低い。
【００４９】
従って、いずれの構成を採用するかは、製品に要求される特性（不純ガスによる汚染防止と基材Ｚの損傷防止の何れが重要か）、不純ガスの発生量、シールユニット２０（シールロール）による不純ガスの混入防止性能等に応じて、適宜、設定すればよい。
【００５０】
以上、本発明の真空蒸着装置について詳細に説明したが、本発明は、上記実施例に限定はされず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変更を行ってもよいのは、もちろんである。
例えば、図１〜図３に示される例では、シールユニットを構成する３本のシールロールは、同じ径を有するものであるが、本発明は、これに限定はされず、例えば、センターシールロールのみ、大きな径を有する構成のように、１本のみ、他の２本のシールロールと異なる径を有してもよく、あるいは、３本共に、互いに径の異なるシールロールであってもよい。
【産業上の利用可能性】
【００５１】
本発明は、ガスバリアフィルムや太陽電池用バックシートなど、各種の機能性フィルムの製造等に用いられる真空蒸着装置に、好適に利用可能である。
【符号の説明】
【００５２】
１０，６０，８０  （真空）蒸着装置
１２  蒸着室
１４  巻出し（／巻取り）室１４
１８，８２  隔壁
１８ａ  開口
２０，６２  シールユニット
２４  基材ロール
２６  巻取り軸
３０  回転軸
３２，４２，８６  真空排気手段
３６  ドラム
４０  蒸発源
５０，６４  入口（シール）ロール
５２，６８  出口（シール）ロール
５４，７０  センター（シール）ロール
８４  隔離室
【図１】
2012072422.tif 000003
【図２】
2012072422.tif 000004
【図３】
2012072422.tif 000005