(57)【要約】【課題】  小さい凹凸のある表面であっても磁気研磨処理ができる研磨バイトを提供すること【解決手段】  研磨バイト１１は、磁石から構成される。表面処理の対象面に対向する先端面１１ｄを備えた先端部１１ｂと、本体１１ａとの間に中間部１１ｆを設ける。先端部は、先端先細り状のテーパ面を有し、中間部は、研磨バイトの回転軸との開き角度であるテーパ角度Ｔ２が、先端部のテーパ面のテーパ角度Ｔ１よりも大きくした。【選択図】        図２３
2012206207.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気作用により表面処理を行うための研磨バイトであり、
磁石から構成され、
前記表面処理の対象面に対向する先端面を備えた先端部と、本体との間に中間部を設け、
前記先端部は、先端先細り状のテーパ面を有し、
前記中間部は、研磨バイトの回転軸との開き角度であるテーパ角度が、前記先端部のテーパ面のテーパ角度よりも大きい部位を有することを特徴とする研磨バイト。
【請求項２】
前記中間部は、軸方向で前記テーパ角度が異なる部位を備えたことを特徴とする請求項１に記載の研磨バイト。
【請求項３】
前記異なるテーパ角度は、前記先端部側を大きくしたことを特徴とする請求項２に記載の研磨バイト。
【請求項４】
磁気作用により表面処理を行うための研磨バイトであり、
磁石から構成され、
前記表面処理の対象面に対向する先端面を備えた先端部と、本体との間に中間部を設け、
前記先端部は、先端先細り状に形成され、
前記中間部は、半球或いは楕円半球の一部を含む形状からなることを特徴とする研磨バイト。
【請求項５】
前記中間部と前記先端部の境界に段差を設けていることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の研磨バイト。
【請求項６】
磁気作用により表面処理を行うための研磨バイトであり、
磁石から構成され、
前記表面処理の対象面に対向する先端面を備えた先端部の形状が、研磨バイトの回転軸との開き角度であるテーパ角度を２２度以上とした先端先細り状に形成したことを特徴とする研磨バイト。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁界の作用により連動して流動する磁気研磨液（ペースト材料）を用いて、金属材料や樹脂材料等の処理対象物の表面を処理する表面処理装置に用いられる磁気研磨バイトに関し、より具体的には処理対象が、精密機械部品や金型や樹脂製品などの複雑な凹凸形状を有する複雑形状体の表面に適する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
各種の材料の表面を研磨したり、鏡面仕上げしたりするための技術の一つとして、いわゆる磁気研磨法と呼ばれる技術がある。この磁気研磨法は、磁性流体（ＭＦ：Ｍａｇｎｅｔｉｃ Ｆｌｕｉｄ）や磁気粘性流体（ＭＲＦ：Ｍａｇｎｅｔｏ Ｒｈｅｏｌｏｇｉｃａｌ Ｆｌｕｉｄ）を研磨粒子と混合させ、磁界により混合液を運動させることで研磨を行っている。
【０００３】
研磨バイトには永久磁石を備えて磁界発生源とし、その研磨バイトの周りに磁気研磨液（ペースト材料）を付着させると、磁気吸引力によりＭＦやＭＲＦ中の強磁性粒子（例えば、鉄粒子），マグネタイト粒子が、多数凝集して磁気クラスタを形成する。この磁気クラスタは、磁束に沿うので研磨対象に対立して針状に多数が立ち並ぶ態様を採る。よって、磁気研磨液が研磨バイトに付着して磁気ブラシとなる。
【０００４】
磁気ブラシあるいは研磨対象が回転動作することにより、両者間の相対運動により磁気ブラシが研磨対象の表面を接触した状態で移動する。その結果、研磨対象の表面の凹凸は研磨粒子を伴う磁気ブラシが研磨し、より平滑な表面を得ることができ、非接触の流体研磨が行える。
【０００５】
この種の磁気研磨法を実施するための磁気研磨装置としては、例えば特許文献１等に開示されている。すなわち磁気研磨装置は、図１に示すように、磁界発生源（永久磁石２ａ）を有する磁気研磨バイト２を備え、研磨対象１はｙ軸ステージ３に固定し、その研磨対象１に対して磁気研磨バイト２が非接触に対面する配置とし、研磨対象１との間にペースト材料（磁気研磨液４）を存在させる。そして磁気研磨バイト２にはこれと連係させた駆動手段５を起動することにより所定の運動動作を行わせ、そしてｙ軸ステージ３を起動することにより研磨対象１にはｙ軸について所定の運動動作を行わせ、磁気研磨液４に生成した磁気クラスタにより流体研磨を行うようになっている。
【０００６】
研磨バイト２は、先端に永久磁石２ａ設けて磁界の発生源としている。図から明らかなように、研磨対象１の表面が平坦なこともあり、研磨バイト２の先端は平坦面となる。さらに実際には、円柱形状から構成される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００８−２４８２０５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
この種の磁気研磨装置は、研磨バイト２（永久磁石２ａ）と研磨対象１の表面との間には、一定の空間ギャップを設け、当該空間ギャップ内に介在させた磁気研磨液を用いて表面処理をする。この空間ギャップが広がりすぎると、磁束密度が低下し磁気研磨ができなくなる。
【０００９】
一方、研磨対象が精密機械部品や金型や樹脂製品などの複雑な凹凸形状を有する複雑形状体の場合、表面の各所に小さい窪みや突起がある。従って、仮に研磨バイト２の研磨対象に対向する先端面の寸法・形状が大きいと、当該先端面が窪み内に入り込んだり、突起の立ち上がり部分に接近させたりすることができない。そのため、空間ギャップが広くなり十分な磁気研磨ができなくなる。
【００１０】
また、空間ギャップをある程度の距離以内に抑えるため、研磨バイト２が窪み内に入り込むことができるように、研磨バイト２の寸法形状を小さくすることが考えられる。しかし、磁気研磨バイト２に使用する磁石（主にネオジウム）の表面磁束は、磁石表面の外形（円柱形の場合直径）が小さく、また軸方向の長さが短くなるにつれて磁束密度が低下する。更に、空間ギャップが増すことに伴う磁束密度の低下は、小径のものほど著しい傾向にある。そして経験値より、磁束密度が３００ｍＴ以下になると磁気研磨処理の効果が期待できないことが分かっている。従って、磁気研磨バイト２を小径化するのも限界がある。
【００１１】
小さい凹凸のある表面であっても研磨等の表面処理ができるようにしたいという課題がある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上述した課題を解決するため、本発明の研磨バイトは、（１）磁気作用により表面処理を行うための研磨バイトであり、磁石から構成され、前記表面処理の対象面に対向する先端面を備えた先端部と、本体との間に中間部を設け、前記先端部は、先端先細り状のテーパ面を有し、前記中間部は、研磨バイトの回転軸との開き角度であるテーパ角度が、前記先端部のテーパ面のテーパ角度よりも大きい部位を有するようにした。
【００１３】
先端部を先端先細り状にすることで、先端面を小さくすることができる。よって、研磨等の表面処理の対称面の形状が小さい凹凸があったとしても、奥まで入り込むことができ先端面と処理対象の表面との空間ギャップを一定の距離以内に抑えることができる。そして、中間部にテーパ角度の大きい部位を備えることで、磁石の量も確保でき、研磨バイトの磁束密度も十分確保でき、適切な表面処理が行える。なお、中間部のテーパ角度の大きい部位であるが、実施形態では中間部の全長に渡り大きくしたが、一部を小さくしても良い。
【００１４】
（２）前記中間部は、軸方向で前記テーパ角度が異なる部位を備えるとよい。このようにすると、各部のテーパ角度を適切に設定することで、先端面の寸法を小さくしつつ磁束密度を大きくすることができる。
【００１５】
（３）前記異なるテーパ角度は、前記先端部側を大きくすると良い。このようにすると、中間部の容積を大きくすることができ、磁束密度を大きくすることができる。
【００１６】
（４）磁気作用により表面処理を行うための研磨バイトであり、磁石から構成され、前記表面処理の対象面に対向する先端面を備えた先端部と、本体との間に中間部を設け、前記先端部は、先端先細り状に形成され、前記中間部は、半球或いは楕円半球の一部を含む形状から構成しても良い。この発明は第４実施形態で実現されている。
【００１７】
（５）前記中間部と前記先端部の境界に段差を設けてもよい。実施形態では、テーパ角度が９０度としたものに対応する。また、上記の（４）で記載する半球・楕円半球の先端側に平坦面を形成し、その中央等に先端部を設けるものも良い。
【００１８】
（６）磁気作用により表面処理を行うための研磨バイトであり、磁石から構成され、前記表面処理の対象面に対向する先端面を備えた先端部の形状が、研磨バイトの回転軸との開き角度であるテーパ角度を２２度以上とした先端先細り状に形成するとよい。この発明は、第１実施形態により実現される。この発明では、簡単な構成で先端面の寸法を小さくしつつ（例えば直径４ｍｍさらには２ｍｍ以下）、その先端の磁束密度を大きくすることができる。
【発明の効果】
【００１９】
上記の各発明は、いずれも磁石からなる研磨バイトの先端面を小さくしつつ、先端の磁束密度が研磨処理等の可能な大きさ（例えば３００ｍＴ以上）が得られ、小さい凹凸のある表面であっても研磨等の表面処理ができるという共通の課題を解決することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】従来の磁気研磨装置の一例を示す図である。
【図２】本発明に係る研磨バイトの第１実施形態を示す図である。
【図３】作用を説明する図である。
【図４】解析条件を説明する図である。
【図５】解析条件を示す図である。
【図６】解析結果を示す図である。
【図７】解析結果を示す図である。
【図８】解析結果を示す図である。
【図９】磁石先端の空間磁束密度と空間ギャップの関係を示すグラフである。
【図１０】解析条件を示す図である。
【図１１】解析結果を示す図である。
【図１２】解析結果を示す図である。
【図１３】磁石先端の空間磁束密度と空間ギャップの関係を示すグラフである。
【図１４】実験に用いた研磨対象物を示す図である。
【図１５】実験条件を示す図である。
【図１６】実験結果を示す図である。
【図１７】実験結果を示す図である。
【図１８】実験結果を示す図である。
【図１９】実験結果を示す図である。
【図２０】実験結果を示す図である。
【図２１】実験結果を示す図である。
【図２２】実験結果を示す図である。
【図２３】第２実施形態を示す図である。
【図２４】実験条件を示す図である。
【図２５】実験結果を示す図である。
【図２６】実験結果を示す図である。
【図２７】実験結果を示す図である。
【図２８】磁石先端の空間磁束密度と空間ギャップの関係を示すグラフである。
【図２９】第３実施形態を示す図である。
【図３０】実験条件を示す図である。
【図３１】実験結果を示す図である。
【図３２】実験結果を示す図である。
【図３３】実験結果を示す図である。
【図３４】磁石先端の空間磁束密度と空間ギャップの関係を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
［第１実施形態］
図２は本発明に係る研磨バイト１０の第１実施形態を示す図である。実際の磁気研磨装置に適用する場合、図１に示す研磨バイト２と差し替えて使用することができる。すなわち、研磨バイトの構成以外は、基本的に従来からある磁気研磨装置を用いて、表面処理を行うことができる。
【００２２】
図２に示すように、研磨バイト１０は、その全体を磁石で形成する。使用する磁石は、ネオジウム磁石とした。ここで用いるネオジウム磁石は、
残留磁束密度（Ｂｒ）：１３００ｍＴ，
保磁力（ＨＣＢ）：９７９ｋＡ／ｍ，
保磁力（ＨＣＪ）＞１６７１ｋＡ／ｍ，
最大エネルギー積（ＢＨ）max  ３２６ｋｊ／ｍ＾３
の特性のものとした。もちろんこれ以外のものでも良い。
【００２３】
そして、研磨バイト１０の本体１０ａは円柱形であり、研磨対象に対向する先端側１０ｂを先細り状のテーパ面にしている。これにより、本体１０ａの直径に比べて、先端面１０ｄの直径は十分小さくできる。従って、図３に示すように、研磨対象２０の表面に凹部２０ａがある場合でも、研磨バイト１０の先端部１０ｂは凹部２０ａ内に入り込むことができ、先端面１０ｄと凹部２０ａの処理面(表面)との空間ギャップを適切の範囲内に抑えることができる。さらに、先端部１０ｂの上方部位は徐々に大きくなり、さらにその上に径の大きい本体１０ａを設けたので研磨バイト１０の全体のボリュームは確保でき、磁束密度も十分なものとなる。
【００２４】
そして、先端部１０ｂのテーパ角度（回転軸Ｐとの開き角度）Ｔであるが、検証結果より２２度以上とした。これは、２２度未満となると、先端部１０ｂが細くなり、研磨バイト１０の長さを同じにした場合、本体１０ａの直径も短くなるため、研磨バイト１０全体のボリュームが少なくなり、十分な磁束密度を確保できなくなるためである。
【００２５】
［検証結果］
本発明の効果を実証するため以下の解析を行った。図４に示すように、上方の円柱部分の本体１０ａの直径をＡ、先端面１０ｄの直径をＢ、本体１０ａの長さをＣ、研磨バイト１０の全長をＬとし、磁化方向を回転軸に沿った方向とし、Ｌを固定でＡ，Ｂ，Ｃをパラメータとして振り、解析を行った。具体的な解析条件は、図５に示す通りである。また、研磨バイトを構成する磁石は、上述した条件のネオジウム磁石とした。解析パターン１は、外径がφ２の棒状の磁石であり、解析パターン２は最大外径φ１４から最小外径φ２へ序々に細くなるもの、解析パターン３は最大外径φ１４から最小外径φ１へ序々に細くなるものである。
【００２６】
図６〜図８は、解析パターン１〜３のそれぞれの空間磁束密度のみをカラー表示したものである。図中右端に、空間磁束の大きさに対する色見本をインジケータとして示している。図では、０から０．４Ｔ（４００ｍＴ）までを表現している。つまり、空間磁束密度が０の青色から始まり、空間密度が高くなるにつれて、緑色→黄色と徐々に色相が変化し、空間密度が最上位の０．４Ｔでは赤色となる。このインジケータの１メモリは、０．０４Ｔである。赤から黄色の範囲（３００ｍＴ以上）は、研磨に有効な磁場が得られている領域を意味する。
また、図９は、各解析パターン１〜３について、磁石先端（細い方）の空間磁束密度と空間ギャップの関係を示している。
【００２７】
これらの解析結果から、磁気研磨効果が期待できる３００ｍＴ以上得られる空間ギャップは、比較例である解析パターン１は０．５ｍｍ、本発明品の１つである解析パターン２は約１．４ｍｍ（１．４２ｍｍ）となり、空間磁束密度において約２．８倍の差が生じることが確認できた。
【００２８】
更に、解析パターン３における３００ｍＴ以上が得られる空間ギャップは約１ｍｍ（０．９４ｍｍ）となる。解析パターン３は、解析パターン１よりも先端部の外形が半分にしているにもかかわらず、空間ギャップは約２倍高くなることが確認できた。このように先端を細くすることで、さらに微小な凹凸の表面を持つ研磨対象にも表面処理できる。
【００２９】
次に、回転軸Ｐを基準とし磁石のテーパ角度Ｔを変化させた場合について評価を行った。図１０に示すように、上述した解析パターン３を基本とし、円柱部分の長さＣをパラメータとして振ることでテーパ角度を変えた。つまり、上面の直径Ａ，先端面の直径Ｂ，全長Ｌは固定としている。基準とした解析パターン３の角度Ｔは２３．５度である。これに対し、解析パターン４の角度Ｔは１８度、解析パターン５の角度Ｔは２９度である。
【００３０】
図１１，図１２は、解析パターン４，５のそれぞれの空間磁束密度のみをカラー表示したものである。解析パターン３については、図８に示している。この空間磁束密度のカラー表示において、研磨に有効な磁場（３００ｍＴ以上）が得られている赤から黄色の範囲は、図１１では上面側には比較的広い範囲に現れているが、肝心の研磨対象に対向する先端側は狭い範囲となる。
【００３１】
このことは、図１０に示す各解析パターン３〜５について、磁石先端（細い方）の空間磁束密度と空間ギャップの関係を見ても明らかである。すなわち、角度Ｔが最も狭い解析パターン４は、研磨可能となる３００ｍＴ以上が得られる空間ギャップは約０．６ｍｍと狭く、比較例とした解析パターン１ともあまり変わらない。これに対し、角度Ｔが最も広い解析パターン５では、研磨可能となる３００ｍＴ以上が得られる空間ギャップは約１．５ｍｍとなる。
【００３２】
このように、磁石が小径であっても、角度Ｔを適宜設定することで高い磁束密度が得られ、研磨可能となる。本実施形態では、磁石の先端外径がφ４以下の小径であっても有効な磁束密度が得られる小径の研磨バイトを提供することができる。
【００３３】
上記の構成の研磨バイトを実際に磁気研磨装置に装着し、サンプルとなる研磨対象物に対して研磨処理をし、その効果を確認した。図１４は、研磨対象物の外形状を示している。図示するように、この研磨対象物は、平面が正方形（２０ｍｍ×２０ｍｍ）で厚さが５ｍｍの平板で、その上面に、直径が６ｍｍ，テーパ角度が３０度，穴深さが２ｍｍで底面とテーパ間がＲ０．５のフィレットなる寸法の穴部を形成した。この平板の材質は銅材である。
この研磨対象物の穴部の底面に対し、下記の研磨条件で内側から外へスパイラルしながら行い５分間研磨した。
回転数  ２０００ｒｐｍ
移動スピード  １００ｍｍ／ｍｉｎ
研磨ギャップ  ０．５ｍｍ
磁気研磨ペースト  １．５ｇ（ＦＤＫ製磁気研磨ペーストMPL-AL3LBOD）
【００３４】
使用する研磨バイトの種類（条件Ａ〜Ｅ）を変え、同種のサンプルに対して上記の研磨を行い、研磨前（初期）の粗さと研磨後の粗さを測定し、研磨が行えているかを評価した。係る表面の粗さ測定は、測定器として「カラー３Ｄレーザ顕微鏡」（VK-8700 キーエンス社製）を用い、測定項目としてＲａ（算術平均粗さ），Ｒｙ（最大高さ），Ｒｚ（十点平均粗さ）を求めた。また、線粗さはJIS1994規格に従い、水平距離1418.901μｍでカットオフなしで測定した。
【００３５】
図１５は、研磨試験を行う研磨バイトの条件Ａ〜Ｅを示している。図において、Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｌ，Ｔは、図４中の各符号に対応する部位の寸法である。すなわち、条件ＡからＥは、磁石の特性を評価した際の解析パターン１〜５にそれぞれ対応する。各条件で特定される研磨バイトを用い、上述した研磨条件に従ってサンプルの穴部を研磨した。研磨前の初期状態並びに各条件による研磨後の表面粗さの測定項目（Ｒａ，Ｒｙ，Ｒｚ）は、図１６に示すようになった。また、研磨前の初期状態並びにそれぞれの条件における表面粗さの測定結果は、図１７〜図２２に示す通りである。
【００３６】
図から明らかなように、研磨前の初期粗さは、Ｒａ＝１．０１８，Ｒｙ＝１４．６６０，Ｒｚ＝１１．３０１となる。そして、磁石形状が円柱タイプの条件Ａでは、Ｒａ＝０．９６７，Ｒｙ＝１５．１２４，Ｒｚ＝１１．２８０となり、５分程度の研磨では、研磨ができないことが確認できる。このことは、図９に示すグラフより、空間ギャップ（研磨ギャップに相当）０．５ｍｍ時の条件Ａに相当する磁束密度が２９６ｍＴであり、３００ｍＴを若干下回っている。解析結果からも研磨効果は期待できない事が裏づけできる。
【００３７】
これに対し、条件Ｂは条件Ａの研磨バイトと先端径が同じであるが、テーパ角度（回転軸との開き角度）を２２度と広くした。その結果、先端径が同一の場合、テーパで絞った条件Ｂの方が条件Ａと比較し十分な研磨効果があることが確認できる。
【００３８】
また条件Ｃ、条件Ｄ及び条件Ｅは、先端径を更にφ２からφ１へ細くし、テーパ角度を１８度（条件Ｄ），２３．５度（条件Ｃ），２９度（条件Ｅ）と変えて比較したものである。テーパ角度を広げた条件Ｃ、条件Ｅに於いては、先端径が更に小径になったとしても条件Ｂと同等の研磨効果が得られた。得に条件Ｅは、Ｒｙ（最大差高さ）・Ｒｚ（十点平均粗さ）値から最も平滑に仕上がったことが分かる。
【００３９】
条件Ｅは、研磨対象物の底面にアプローチするため、研磨対象物のテーパ角度３０度にあわせ２９度に設定したものである。従って、係る研磨対象物による干渉による形状制限がない場合、それ以上のテーパ角度に設定することが可能であり、その場合はさらに十分な磁束密度が得られ良好な研磨効果が期待できる。
これに対し、テーパ角度が１８度と狭い条件Ｄは、Ｒａ＝０．９２１，Ｒｙ＝１６．４００，Ｒｚ＝１１．３４８となり、条件Ａと同様に研磨できないことが確認できた。
【００４０】
よって、いずれの条件も、空間磁束密度の解析結果と同じ傾向となり、テーパ角度が２２度以上にすることで、研磨バイトの先端面１０ｄの直径を小さくしても研磨が可能なことが確認できた。
【００４１】
［第２実施形態］
図２３は、本発明の第２実施形態を示している。本実施形態の研磨バイト１１は、円柱状の本体１１ａの先端に連続して形成する先細り状の先端の形状を２段階にテーパ角度を変化されている。つまり、研磨対象物に対向する先端面１１ｄを有する先端部１１ｂと、その先端部１１ｂと本体１１ａとの間に位置する中間部１１ｆを備える。先端部１１ｂのテーパ角度Ｔ１と、中間部１１ｆのテーパ角度Ｔ２は、Ｔ１＜Ｔ２としている。つまり、先端に行くほどとがった形状となる。
【００４２】
第１実施形態のように先端部１０ｂのテーパ角度Ｔが１つの場合、良好な研磨効果を発揮するためにはその角度は２２度以上にする必要があったが、本実施形態のように２段階にテーパ角度を変化させた場合、先端部１１ｂのテーパ角度Ｔ１は、２２度未満に狭くしても良い。その結果、より狭い・小さい凹凸の表面形状備えたものでも、先端部１１ｂが入り込んで先端面１１ｄが研磨対象の表面と所望のギャップ以内に近づけることができ、研磨が可能となる。
【００４３】
［検証結果］
本発明の効果を実証するため以下の解析を行った。図２４に示すように、上方の円柱部分の本体１１ａの直径をＡ、先端面１１ｄの直径をＢ、本体１１ａの長さをＣ、中間部１１ｆの長さをＤ、研磨バイト１１の全長をＬとし、磁化方向を回転軸に沿った方向とし、Ａ，Ｂ，Ｌ，Ｔ１を固定でＣ，Ｄをパラメータとして振り、解析を行った。Ｃ，Ｄを振ることで、Ｔ２の角度を変えるようにした。研磨バイトを構成する磁石は、上述した条件のネオジウム磁石とした。
【００４４】
具体的な解析条件は、図２４に示す通りである。解析パターン５をベースとし、先端部１１ｂのテーパ角度Ｔ１を１４度に統一し、解析パターン６はＴ２＝３７度、解析パターン７はＴ２＝６３．５度、解析パターン８はＴ２＝９０度となるように徐々にＴ２を広角へ変化させた。
【００４５】
図２５〜図２７は、解析パターン６〜８のそれぞれの空間磁束密度のみをカラー表示したものである。また、図２８は、磁石先端の空間磁束密度と空間ギャップの関係を示すグラフである。図２５〜図２７を見ると明らかなように、先端面はもちろん先端部の周囲にも比較的広い範囲で、３００ｍＴを超える領域が形成される。このことは、図２８を見ても明らかであり、空間ギャップが０．５ｍｍではいずれも４００ｍＴを超えており、１．０ｍｍ程度までは３００ｍＴ以上となっている。これにより、Ｔ２角度が広角にシフトするほど、先端の磁束密度が上がる傾向を示す。よって、研磨対象物の穴深さが浅く干渉がないものは、Ｔ２テーパ角度がより鈍角になる６３．５度（解析パターン７）や９０度（解析パターン８）など極端ものを用いると良い。
【００４６】
なお、Ｔ２＝９０度は、中間部１１ｆの先端側が１８０度平面となり、その平面の中央に突起状の先端部１１ｂが配置された形態となる。この場合、中間部１１ｆの部分は円柱形であり、本体１１ａと同一径となる。このように、中間部１１ｆの先端の外周囲と、先端部１１ｂの外周囲は不連続となり、段差を生じているものでもよい。
【００４７】
［第３実施形態他］
図２８は、本発明の第３実施形態を示している。本実施形態の研磨バイト１２は、円柱状の本体１２ａの先端に連続して形成する先細り状の先端の形状を３段階にテーパ角度を変化されている。つまり、先端側は、研磨対象物に対向する先端面１２ｄを有する先端部１２ｂと、その先端部１２ｂと本体１２ａとの間に位置する第１中間部１２ｆ-1，第２中間部１２ｆ-2を備える。
【００４８】
先端部１２ｂのテーパ角度Ｔ１と、第１中間部１２ｆ-1のテーパ角度Ｔ２と、第２中間部１２ｆ-2のテーパ角度Ｔ３の関係であるが、Ｔ１は、先端部１２ｂが研磨対象物に対向してその先端面１２ｄと研磨対象物との間の空間ギャップを短く設定することから小さく設定して(Ｔ１＜Ｔ２，Ｔ１＜Ｔ３)、先端部１２ｂの形状を細い突起とする。一方、Ｔ２とＴ３関係はその大小関係は任意である。つまり、Ｔ１＜Ｔ２＜Ｔ３として徐々に細くなるようにしてもよいし、Ｔ２＞Ｔ３として先端側を膨らませるような形状としても良い。特に、Ｔ２＞Ｔ３とすると、中間部の長さが同じでＴ２，Ｔ３の一方を同じにした場合、中間部における磁石の存在量が大きくなるので、磁束密度も大きくなるので好ましい。このように３段階にテーパ角度（Ｔ１／Ｔ２／Ｔ３）を変化させることで、干渉の影響を受けにくい研磨バイトが可能となる。
【００４９】
また、Ｔ１＜Ｔ２，Ｔ２＞Ｔ３の条件を満たすＴ２の角度範囲は任意であり、Ｔ２を９０度にすることもできる。この場合、第１中間部１２ｆ-1の先端側が１８０度平面となり、その平面の中央に突起状の先端部１２ｂが配置された形態となり、第１中間部１２ｆ-1の長さは実質的に０となる。このように、中間部の先端の外周囲と、先端部１２ｂの外周囲は不連続（先端部１２ｂの上端の直径ｂ＜中間部の先端の直径）となり、段差を生じているものでもよい。
【００５０】
また、本実施形態では、３段階としたが４段階以上にさらに細かく分けても良い。そして、多段階に拡張して段数を無数にすると、先端部１２ｂと本体１２ａの間の中間部の側面は、連続した曲面となる。つまり、半球，半楕円球或いはその一部となり、係る構成を採っても良い。この連続した曲面を備えるものが第４実施形態となる。この第４実施形態は、第２実施形態の中間部１１ｆの形状を円錐台から半球，半楕円球或いはその一部に変えたものととらえても良い。
【００５１】
［検証結果］
本発明の効果を実証するため以下の解析を行った。図２９に示すように、上方の円柱部分の本体１２ａの直径をＡ、先端面１２ｄの直径をＢ、本体１２ａの長さをＣ、中間部（第１中間部１２ｆ-1，第２中間部１２ｆ-2の合計）の長さをＤ、研磨バイト１０の全長をＬとし、磁化方向を回転軸に沿った方向とし、各パラメータを適宜の値に設定した。研磨バイトを構成する磁石は、上述した条件のネオジウム磁石とした。
【００５２】
具体的な解析条件は、図３０に示す通りである。ここでは、Ａ，Ｂ，Ｌ，Ｔ１を固定にした。解析パターン９は、第３実施形態の典型的な一例であり、Ｔ２＞Ｔ３とし、本体１２ａ，中間部（第１中間部１２ｆ-1，第２中間部１２ｆ-2），先端部１２ｂの外周面が連続している。解析パターン１０は、Ｔ２＝９０度として、中間部の先端を平坦面にし、先端部１２ｂとの接続部分で段差を形成したものである。解析パターン１１は、第４実施形態の典型的な一例であり、中間部を半球状（Ｒ７フィレット（φ１４の半球））にしたものである。
【００５３】
図３１〜図３３は、解析パターン９〜１１のそれぞれの空間磁束密度のみをカラー表示したものである。また、図３４は、磁石先端の空間磁束密度と空間ギャップの関係を示すグラフである。図から明らかなように、いずれの解析パターンも、先端面はもちろん先端部の周囲にも比較的広い範囲で、３００ｍＴを超える領域が形成される。このことは、図３４を見ても明らかであり、空間ギャップが０．５ｍｍではいずれも５００ｍＴを超えており、１．２５ｍｍ程度までは３００ｍＴ以上となっている。
【００５４】
［産業上の利用可能性］
本発明は、複雑形状物の磨き研磨用途として磁気研磨が使用される場合の専用磁気研磨バイトに好ましく利用できる。具体的な用途としては、金型製作時の最終表面仕上げでの磨き用途や意匠デザイン製品の外観を良くするための磨き分野として有効である。特に、平面に数ミリの凹状の段差がある底面を効率よく磨き処理が可能な研磨バイト（研磨ツール）を入れることが可能となり複雑な形状の磨き手段としても有効である。研磨には、通常の研磨はもちろん、鏡面仕上げや研削などの各種の表面処理を含む。
【符号の説明】
【００５５】
１０  研磨バイト
１０ａ  本体
１０ｂ  先端部
１１  研磨バイト
１１ａ  本体
１１ｂ  先端部
１１ｆ  中間部
１２  研磨バイト
１２ａ  本体
１２ｂ  先端部
１２ｆ-1  第１中間部
１２ｆ-2  第２中間部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図１０】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２９】
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【図３０】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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