(57)【要約】【課題】微細な部品の接着をおこなうＭＥＭＳデバイスを製造する工程などにおいて、高精度の制御や印刷技術を用いることなく、数十μｍ程度の微細な接着領域に、塗布量を一定に保ち接着剤を塗布する方法を提供する。【解決手段】基材面と当該基材面に接着剤が塗布される塗布面を有する基材に対し、接着剤溜まりが形成された膜を有する塗布基材と、塗布面に塗布された接着剤を転着する転着面を有する転着基材と、接着剤溜まりに溜められた接着剤が転写される被接着基材とを備え、塗布面に前記接着剤を塗布する塗布工程と、塗布された接着剤に転着面を接触し、塗布面に塗布された接着剤を転着面に転着する転着工程と、接着剤溜まりに溜められた接着剤を被接着基材に転写をする接着剤転写工程とを備る。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材面と当該基材面に接着剤が塗布される塗布面を有する基材に対し、接着剤溜まりが形成された膜を有する塗布基材と、
前記塗布面に塗布された前記接着剤を転着する転着面を有する転着基材と、
前記接着剤溜まりに溜められた前記接着剤が転写される被接着基材とを備え、
前記塗布面に前記接着剤を塗布する塗布工程と、
塗布された前記接着剤に前記転着面を接触し、前記塗布面に塗布された前記接着剤を前記転着面に転着する転着工程と、
前記接着剤溜まりに溜められた前記接着剤を前記被接着基材に転写をする接着剤転写工程とを備ることを特徴とする接着剤転写方法。
【請求項２】
請求項１に記載の接着剤転写方法であって、
前記塗布面に形成する前記膜は、撥液性を有することを特徴とする接着剤転写方法。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の接着剤転写方法であって、
前記転着基材は、前記接着剤溜まりに対応して対向する撥液性を有する凸部を備えることを特徴とする接着剤転写方法。
【請求項４】
請求項１から請求項３に記載の接着剤転写方法であって、
前記塗布面に塗布された前記接着剤に前記転着面を相対して接触させ、前記塗布面と、前記転着面とを前記塗布面に対向して垂直方向に引き離し、前記接着剤を前記転着基材に転着させることを特徴とする接着剤転写方法。
【請求項５】
請求項１から請求項３に記載の接着剤転写方法であって、
前記塗布面に塗布された前記接着剤に前記転着面を接触させ、前記塗布面と前記転着面とを前記塗布面に相対して水平方向に引き離し前記接着剤を前記転着基材に転着させることを特徴とする接着剤転写方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、微細な部品の接着を行なう接着剤を被接着基材に転写する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、接着剤を被接着基材に塗布する方法として、ディスペンス方式やスクリーン印刷方式が知られている。ディスペンス方式は、接着剤を空気などで加圧し、ノズルとなる小穴から接着剤を押出して塗布する方式である。またスクリーン印刷方式は、ステンレス鋼製の薄板などに、接着剤を塗布する部分にあわせて網目もしくは８０μｍ程度の小穴を複数有するスクリーン版を形成し、スキージなどで接着剤をスクリーン版の網目もしくは小穴から押出し印刷することによって接着剤を塗布する方式である。
【０００３】
特許文献１では、フィルム状基材に感圧性接着剤と、結晶性可塑剤とを主成分とする接着剤層を有する粘着剤シートのフィルム状基材側を、所望のパターンに応じて過熱し、加熱部分に応じた接着剤パターンを被転写体面に形成することによる接着剤パターン（塗布）形成方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平５−２２９２７０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、ディスペンス方式では、接着剤を押出す加圧力によって押出される接着剤の量が変動することから、一定の幅に塗布することが困難であるという課題があった。またスクリーン印刷方式では、接着剤を印刷によって塗布し、印刷面からスクリーン版を剥がす時に、印刷によって塗布した接着剤がスクリーン版に密着し、接着剤の剥がれが生じることから接着剤の塗布量と、塗布幅を一定に保つことが困難であるという課題があった。いずれの方式も、高精度の加圧力制御や高精度の印刷技術を用いても数十ミクロン程度の幅や点に塗布することが容易でないという課題もあった。特許文献１では、上述する課題については触れられていない。
【０００６】
このため微細な部品の接着をおこなうＭＥＭＳデバイスを製造する工程などにおいて、高精度の制御や印刷技術を用いることなく、数十μｍ程度の微細な接着領域に、塗布量を一定に保ち接着剤を塗布する方法が要望されていた。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、上述した課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
【０００８】
（適用例１）本適用例に係る接着剤転写方法は、基材面と当該基材面に接着剤が塗布される塗布面を有する基材に対し、接着剤溜まりが形成された膜を有する塗布基材と、塗布面に塗布された接着剤を転着する転着面を有する転着基材と、接着剤溜まりに溜められた接着剤が転写される被接着基材とを備え、塗布面に接着剤を塗布する塗布工程と、塗布された接着剤に転着面を接触し、塗布面に塗布された接着剤を転着面に転着する転着工程と、接着剤溜まりに溜められた接着剤を被接着基材に転写をする接着剤転写工程とを備ることを特徴とする。
【０００９】
このような接着剤転写方法によれば、膜と、膜を剥離し形成した接着剤溜まりとを有する塗布面に接着剤を塗布し、塗布面に塗布された接着剤を転着基材に転着することで、接着剤溜まりに接着剤を溜め、当該接着剤を被接着基材に転写することができる。従って、所望の接着剤を塗布する形状に応じて塗布面に形成した膜を剥離し、形成された接着剤溜まりに溜められた接着剤を被接着基材に転写することができる。
【００１０】
（適用例２）上記適用例に係る接着剤転写方法において、塗布面に形成する膜は撥液性を有することが好ましい。
【００１１】
このような接着剤転写方法によれば、塗布面に形成する膜は撥液性を有し、接着剤と分子間結合力が弱い膜を形成することで、塗布される接着剤が膜上で撥液し、転着工程によって膜上に塗布された接着剤を容易に転着基材に転着することができる。
【００１２】
（適用例３）上記適用例に係る接着剤転写方法において、転着基材に接着剤溜まりに対応して対向する撥液性を有する凸部を備えることが好ましい。
【００１３】
このような接着剤転写方法によれば、転着基材に形成される凸部が撥液性を有することで、接着剤溜まり溜められた接着剤が、転着基材に転着される量を少量に抑制することができる。
【００１４】
（適用例４）上記適用例に係る接着剤転写方法において、塗布面に塗布された接着剤に転着面を相対して接触させ、塗布面と転着面とを対向して垂直方向に引き離し接着剤を転着基材に転着させることが好ましい。
【００１５】
このような接着剤転写方法によれば、塗布された接着剤に転着面を接触させ、塗布面と、転着面とを塗布面に対して垂直方向に引き離すことで、接着剤溜まりに溜められた接着剤を残置し、塗布面の膜上に塗布された接着剤を転着基材に転着することができる。
【００１６】
（適用例５）上記適用例に係る接着剤転写方法において、塗布面に塗布された接着剤に転着面を接触させ、塗布面と転着面とを塗布面に相対して水平方向に引き離し接着剤を転着基材に転着させることが好ましい。
【００１７】
このような接着剤転写方法によれば、接着剤の粘度にかかわらず転着面に転着された接着剤が、当該接着剤に生じる重力によって転着面から剥がれ、撥液膜上に接着剤が残留することを抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】第１実施形態に係る接着剤転写方法の塗布工程を示す模式図。
【図２】第１実施形態に係る接着剤転写方法の転着工程及び接着剤転写工程を示す模式図。
【図３】第１実施形態に係る接着剤転写方法の接着工程を示す模式図。
【図４】第２実施形態に係る接着剤転写方法の転着工程を示す模式図。
【図５】第３実施形態に係る接着剤転写方法の転着工程を示す模式図。
【図６】第３実施形態に係る接着剤転写方法の接着剤転写工程を示す模式図。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、実施形態を図面に基づいて説明する。なお、以下に示す各図においては、各構成要素を図面上で認識され得る程度の大きさとするため、各構成要素の寸法や比率を実際の構成要素とは適宜に異ならせて記載をしている。
【００２０】
（第１実施形態）
図１は、接着剤転写方法の塗布工程と、塗布基材１０との構成を示す模式図である。図２は、接着剤転写方法の転着工程及び接着剤転写工程と、転着基材２０及び被接着基材３０との構成を示す模式図である。また図３は、接着剤転写方法の接着工程を示す模式図である。図１から図３を用いて接着剤転写方法の構成と、工程とについて説明する。
【００２１】
本実施形態の接着剤転写方法を実施する構成は、接着剤１が塗布される塗布面１１を有する塗布基材面１０ａに、撥液性を有する膜１０１（以下、「撥液膜」と称する。）を形成し、当該撥液膜１０１を剥離して接着剤溜まり１２を形成して有する塗布基材１０を備える。また、塗布面１１に塗布された接着剤１を転着させる転着面２０ａを有する転着基材２０を備える。さらに、接着剤溜まり１２に溜められた接着剤１が転写される被接着面３０ａを有する被接着基材３０と、被接着基材３０と接着される被接着基材３１とを備える。
【００２２】
本実施形態の接着剤転写方法の工程は、接着剤１を塗布面１１に塗布する塗布工程と、塗布面１１に塗布された接着剤１を転着面２０ａに転着する転着工程と、塗布面１１に塗布された接着剤１を被接着面３０ａに転写する接着剤転写工程とを備える。さらに、接着剤１が転写された被接着面３０ａ有する被接着基材３０と、被接着基材３１とを接着する接着工程を備える。
【００２３】
図１（ａ）は、接着剤１が塗布される塗布面１１を有する塗布基材１０を示す模式図である。塗布基材１０は塗布基材面１０ａと、塗布される接着剤１との間で親和性（分子間結合力）を有する基材を用いている。本実施形態では板状のシリコン基板を塗布基材１０として用いている。
【００２４】
図１（ｂ）は、塗布基材面１０ａ上に撥液膜１０１が形成された状態を示す模式図である。形成される撥液膜１０１は、接着剤１と分子間結合力の低い極性基であるパーフルオロカーボンなどを有する自己組織化単分子膜をシランカップリング剤溶液に塗布基材面１０ａを浸漬し形成する。
【００２５】
図１（ｃ）は、塗布基材面１０ａに撥液膜１０１が形成され、撥液膜１０１の一部が剥離され、接着剤溜まり１２が形成された状態を示す模式図である。接着剤溜まり１２は、塗布基材面１０ａが現われるまで撥液膜１０１を剥離し、形成される。よって、撥液膜１０１の厚み（膜厚）の凹状の接着剤溜まり１２が形成される。さらに、塗布基材面１０ａは、接着剤１との相互で分子間結合力を有するため接着剤１を弾くことなく溜めることができる。本実施形態の撥液膜１０１の剥離は、撥液膜１０１にレーザー光を照射し、レーザー光が照射された領域の撥液膜１０１を剥離する方法を用いている。よって、所望する接着剤１を転写する形状を光の拡散が少ないレーザー光を用いて描画することから、微細な領域の撥液膜１０１を剥離することが可能である。
【００２６】
図１（ｄ）は塗布工程によって、塗布面１１に接着剤１が塗布された状態を示す模式図である。塗布面１１に接着剤１を塗布する塗布工程は、塗布面１１に接着剤１を流動させ、スキージ（不図示）などで接着剤１を薄く引き伸ばし塗布する。なお、接着剤１の相互に生じる分子間結合力と比べて、接着剤１と、撥液膜１０１との相互に生じる分子間結合力が弱い場合、接着剤１は撥液膜１０１の表面で撥液する。本実施形態では、接着剤１の相互に生じる分子間結合力が、接着剤１と、撥液膜１０１との相互に生じる分子間結合力と比べて弱い接着剤１を用いている場合を説明する。
【００２７】
図２（ｅ）は転着工程によって、転着面２０ａを塗布基材１０に塗布された接着剤１に、接触させた状態を示す模式図である。また図２（ｆ）は、転着工程によって塗布面１１に塗布された接着剤１を転着面２０ａに転着させた状態を示す模式図である。塗布面１１に塗布された接着剤１を転着面２０ａに転着する転着工程は、接着剤１が塗布された塗布面１１に、転着基材２０の転着面２０ａを相対して接触させる。次に、転着基材２０と、塗布基材１０とを塗布面１１と対向する垂直方向に引き離すことで、撥液膜１０１上に塗布されている接着剤１を転着面２０ａに転着する。なお、転着基材２０は転着される接着剤１との間で分子間結合力を有する基材を用いている。本実施形態では、板状のシリコン基板を転着基材２０として用いている。
【００２８】
撥液膜１０１上に塗布された接着剤１の転着は、撥液膜１０１と、接着剤１との相互に生じる分子間結合力と比べて、転着面２０ａと、接着剤１との相互に生じる分子間結合力が同等または強い場合、撥液膜１０１に塗布された接着剤１は転着面２０ａに転着する。また、接着剤溜まり１２に接着剤１を溜めることから、転着面２０ａと、接着剤１との相互に生じる分子間結合力と比べて、塗布基材面１０ａと、接着剤１との間に生じる分子間結合力は同等以上の強さである。
【００２９】
図２（ｇ）は、接着剤転写工程によって塗布面１１に被接着基材３０の被接着面３０ａを接触させた状態を示す模式図である。また図２（ｈ）は、接着剤転写工程によって塗布面１１に塗布された接着剤１を被接着面３０ａに転写させた状態を示す模式図である。塗布面１１に塗布された接着剤１を被接着面３０ａに転写する接着剤転写工程は、塗布面１１に塗布され、接着剤溜まり１２に溜められた接着剤１に被接着面３０ａを接触させる。次に、被接着基材３０と、塗布基材１０とを塗布面１１に対向する垂直方向に引き離し、接着剤溜まり１２に溜められている接着剤１を被接着面３０ａに転写する。
【００３０】
図３（ｉ）は、接着剤転写工程によって接着剤１が転写された被接着面３０ａと、当該被接着面３０ａと接着工程によって接着される被接着基材３１とを示す模式図である。また図３（ｊ）は、接着工程によって、接着剤１が転写された被接着面３０ａと、被接着基材３１とが密着し、接着された状態を示す模式図である。被接着面３０ａに塗布された接着剤１を被接着基材３１と接着は、接着剤１が転写された被接着面３０ａと、接着をおこなう被接着基材３１とを相対して密着させ接着する。
【００３１】
上述した第１実施形態によれば、以下の効果が得られる。
本実施形態の接着剤転写方法は、塗布工程によって撥液膜１０１と、撥液膜１０１を剥離し形成した接着剤溜まり１２とを有する塗布面１１に接着剤１を塗布することで、撥液膜１０１が剥離され凹状となった接着剤溜まり１２に接着剤１を溜めることができる。また、塗布された接着剤１を転着する転着面２０ａを有する転着基材２０を備えることで、塗布された接着剤１を転着工程によって転着面２０ａに転着し、撥液膜１０１上に塗布された接着剤１を転着面２０ａに転着させることができる。このことによって、撥液膜１０１をレーザー光の照射等によって剥離し形成された微細な接着剤溜まり１２に接着剤１を溜め塗布基材１０に接着剤１を塗布することができる。
【００３２】
本実施形態の接着剤転写方法は、塗布工程と、転着工程とによって接着剤溜まり１２に溜められた接着剤１を、接着剤転写工程によって被接着基材３０に転写することで、微細な塗布幅および点に対し接着剤１を転写することができる。従って、接着剤１を転写および塗布に際し、高度な印刷技術や加圧制御を用いることなく数十μｍ程度の幅や点に接着剤１を転写によって塗布する接着剤転写方法が実現できる。
【００３３】
本実施形態の接着剤転写方法は、塗布基材面１０ａに撥水性を有する撥液膜１０１を形成することで、接着剤１と分子間結合力の弱い撥液膜１０１面を形成することができる。このことによって、撥液膜１０１は接着剤１を弾くことができ、塗布される接着剤１を撥液し、転着工程によって撥液膜１０１上に塗布された接着剤１を容易に転着基材２０に転着することができる。
【００３４】
本実施形態の接着剤転写方法は、塗布された接着剤１に転着面２０ａを接触させ、塗布面１１と、転着面２０ａとを塗布面１１に対して垂直方向に引き離す。このことによって、撥液膜１０１上に塗布された接着剤１を転着面２０ａ転着し、接着剤溜まり１２に溜められた接着剤１を塗布基材面１０ａに残置することができる。
【００３５】
（第２実施形態）
図４は本実施形態に係る転着工程を示す模式図である。図４を参照して本実施形態の接着剤転写方法の構成と、工程とを説明する。本実施形態は転着工程において、塗布面１１に塗布された接着剤１に転着面２０ａを接触し、転着基材２０を塗布面１１に対して水平に移動させ接着剤１を転着面２０ａに転着させる点が前述の第１実施形態と異なっている。その他、第１実施形態と同様であるため、同様の構成および工程は同様の符号を付して説明は簡略または省略とする。
【００３６】
本実施形態の接着剤転写方法を実施する構成は、第１実施形態と同様に塗布基材面１０ａに撥液膜１０１を形成し、当該撥液膜１０１の一部を剥離し、形成する接着剤溜まり１２を有する塗布面１１を備える。また、転着基材２０は、撥液膜１０１上に塗布された接着剤１を転着する転着面２０ａを備える。
【００３７】
本実施形態の接着剤転写方法の工程は、第１実施形態と同様に接着剤１を塗布する塗布工程と、接着剤１を転着基材２０に転着する転着工程と、塗布基材１０に塗布された接着剤１を被接着基材３０に転写する接着剤転写工程とを備える。また、接着剤１が転写された被接着基材３０と、被接着基材３１とを接着する接着工程を備える。
【００３８】
以下、第１実施形態と相違する転着工程について説明する。
図４（ａ）は転着工程によって、転着面２０ａを塗布面１１に塗布された接着剤１に接触させ、塗布面１１に対して転着基材２０を水平に移動させ接着剤１を転着させる状態を示す模式図である。また図４（ｂ）は、転着基材２０が塗布面１１に対して水平に移動し、接着剤１を転着させた状態を示す模式図である。
【００３９】
本実施形態の転着工程は、塗布面１１に塗布された接着剤１に第１実施形態と同様の転着基材２０の転着面２０ａを接触させる。転着面２０ａの接触は、塗布基材１０の塗布面１１に塗布された接着剤１が表面張力によって転着面２０ａに吸着される程度に接触させる。次に転着基材２０を塗布面１１に対して水平移動させることで、転着面２０ａに接着剤１が表面張力によって吸着し掃引され、撥液膜１０１上に塗布された接着剤１の転着を行う。その他は、第１実施形態と同様であるため説明を省略する。
【００４０】
上述した第２実施形態によれば、以下の効果が得られる。
本実施形態の接着剤転写方法は、塗布面１１に塗布された接着剤１に転着面２０ａを接触させ、塗布面１１と、転着面２０ａとを塗布面１１に相対して水平方向に引き離すことで転着面２０ａに接着剤１が吸着し掃引することで接着剤１の転着をすることができる。このことによって、第１実施形態の転着工程の様に塗布面１１と、転着面２０ａとを垂直方向に引き離すと接着剤１の粘度によって接着剤１が転着面２０ａから剥がれ落液する場合においても、本実施形態では転着基材２０から接着剤１が剥がれることなく転着することができる。また、撥液膜１０１上に接着に不要な接着剤１を残留させることを抑制することがでる。
【００４１】
（第３実施形態）
図５は、本実施形態に係る転着工程を示す模式図である。また図６は、本実施形態に係る接着剤転写工程を示す模式図である。図５と、図６とを参照して本実施形態の接着剤転写方法の構成と、工程とを説明する。本実施形態は、塗布基材面１０ａに形成される接着剤溜まり１２に対応して対向する凸部２３を塗布基材面１０ａに相対する転着面２０ａに備えている点が、前述の第１実施形態と異なっている。その他、第１実施形態と同様であるため、同様の構成および工程は、同様の符号を付して説明は簡略または省略とする。
【００４２】
本実施形態の接着剤転写方法を実施する構成は、第１実施形態と同様に、接着剤１が塗布される塗布基材１０は、塗布基材面１０ａに撥液膜１０１形成し、当該撥液膜１０１の一部を剥離し形成する接着剤溜まり１２を有する塗布面１１を備える。また、転着基材２０は、接着剤１を転着させる転着面２０ａ上に撥液膜１０１を形成し、当該撥液膜１０１の一部を剥離し、撥液膜１０１からなる凸部２３を形成し備える。
【００４３】
本実施形態の接着剤転写方法の工程は、第１実施形態と同様に接着剤１を塗布する塗布工程と、接着剤１を転着基材２０に転着する転着工程と、塗布基材１０に塗布された接着剤１を被接着基材３０に転写する接着剤転写工程とを備える。また、接着剤１が転写された被接着基材３０と、被接着基材３１とを接着する接着工程を備える。
【００４４】
以下、第１実施形態と相違する転着基材２０の構成と、当該転着基材２０を用いる転着工程とについて説明する。
図５（ａ）は、塗布工程によって塗布面１１に接着剤１が塗布され、転着工程を開始する状態を示す模式図である。図５（ａ）に示すように転着面２０ａは、塗布基材１０に形成された接着剤溜まり１２に対応して対向する凸部２３を備える。凸部２３の形成は、接着剤溜まり１２の形成と同様に、撥液膜１０１を転着面２０ａに形成し、塗布基材１０に形成された接着剤溜まり１２に対応して対向する当該撥液膜１０１を剥離することで、撥液膜１０１からなる凸部２３を形成する。なお転着面２０ａに形成した撥液膜１０１の剥離は、塗布基材面１０ａに形成した撥液膜１０１の剥離と同様にレーザー光を照射する方法などによっておこなう。
【００４５】
図５（ｂ）は、転着工程によって塗布面１１に塗布された接着剤１に、転着面２０ａを接触させた状態を示す模式図である。また図５（ｃ）は、塗布面１１と、転着面２０ａとが引き離され転着面２０ａに接着剤１が転着された状態を示す模式図である。転着工程による接着剤１の転着は、塗布面１１に塗布された接着剤１に転着面２０ａを接触させる。転着面２０ａの接触は、凸部２３の表面が塗布された接着剤１の表面張力で転着面２０ａに吸着される程度に、塗布面１１と、転着面２０ａとを相対して接触させる。
【００４６】
次に、塗布基材１０と、転着基材２０とを塗布面１１に対して対向する垂直方向に引き離すことで、転着面２０ａに接着剤１の転着し、接着剤溜まり１２に接着剤１を貯留する。撥液膜１０１からなる凸部２３は接着剤溜まり１２に対応して対向する転着面２０ａに形成されているため、転着面２０ａが接着剤１に接触している際に接着剤１を撥液し、接着剤溜まり１２に塗布されていた接着剤１に転着を抑制する。すなわち、接着剤溜まり１２により多くの接着剤１を貯留する。このとき凸部２３（撥液膜１０１）と、接着剤１との相互に生じる分子間結合力は、転着面２０ａと、接着剤１との相互に生じる分子間結合力と比べて弱い。よって、第１実施形態と比べて接着剤溜まり１２に多くの接着剤１を転着する。
【００４７】
図６（ｄ）は、接着剤溜まり１２に溜められた接着剤１を被接着基材３０に転写する接着剤転写工程を示す模式図である。被接着基材３０に接着剤１を転写する接着剤転写工程は、塗布面１１と、被接着面３０ａとを相対して配置する。次に図６（ｅ）は、被接着面３０ａと、塗布面１１とを接触させ接着剤溜まり１２に溜められた接着剤１を転写させる状態を示す模式図である。被接着面３０ａと、塗布面１１との接触は、接着剤溜まり１２に溜められた接着剤１が被接着面３０ａに表面張力によって吸着し転写する程度に接触させる。
【００４８】
図６（ｆ）は、接着剤転写工程によって被接着基材３０に接着剤１が転写された状態を示す模式図である。被接着基材３０は、接触していた塗布基材１０と対向する垂直方向に引き剥がすことで被接着面３０ａに接着剤１が転写される。図示は省略するが、接着剤１が転写された被接着基材３０は第１実施形態で説明をした接着工程と同様に、所望の被接着基材３１と接着される。
【００４９】
上述した第３実施形態によれば、以下の効果が得られる。
本実施形態の接着剤転写方法は、転着面２０ａに接着剤溜まり１２に対応して対向する撥液膜１０１からなる凸部２３を有することで、接着剤溜まり１２に溜められた接着剤１が転着面２０ａに転着されることを抑制することができる。このことによって、接着剤溜まり１２に多くの接着剤１を溜めることができ、接着剤の表面張力によって隆起した部分に被接着面３０ａを接触させることで微細な幅および点状の接着剤を転写するこができる。また、接触させる圧力を変えることで転写する接着剤１の幅と、点とを制御することができる。さらに、凸部２３となる撥液膜１０１の厚みを変えることで接着剤溜まり１２に溜められる接着剤１の量を容易に制御することができる。
【００５０】
なお、上述した実施形態に限定されず、その要旨を逸脱しない範囲において種々の変更や改良等を加えて実施することが可能である。変形例を以下に述べる。
【００５１】
（変形例１）前記実施形態の塗布基材１０および転着基材２０は、板状のシリコン基板で構成されている。しかし、これに限定されずに、接着剤１と親和性（分子間結合力）有する基材であれば良く、形状は、円筒形状を有する塗布基材１０および転着基材２０でも良い。
（変形例２）前記実施形態の撥液膜１０１を剥離して接着剤溜まり１２を形成する方法は、レーザー光を撥液膜１０１に照射し、撥液膜１０１を分解することで形成している。しかし、これに限定されずに、フォトリソグラフィーによって撥液膜１０１上に接着剤溜まりとなる領域をパターンニングし、エッチングなどで撥液膜１０１を剥離して形成しても良い。
【符号の説明】
【００５２】
１…接着剤、１０…塗布基材、１０ａ…塗布基材面、１１…塗布面、２０…転着基材、２０ａ…転着面、２３…凸部、３０…被接着基材、３０ａ…被接着面、３１…被接着基材、１０１…撥液膜。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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