(57)【要約】【課題】より安定したブルー相を示す液晶層を有する信頼性の高い液晶表示装置、及びその作製方法を提供する。【解決手段】シール材によって固着された第１の基板及び第２の基板との間に、重合性モノマー及びブルー相を示す液晶組成物を含む液晶層を挟持し、遮光体を用いてシール材及び液晶層の一部を覆い、遮光体をマスクとして、液晶層に対して第１の光照射処理を行うことで、重合性モノマーを重合させて第１の領域を形成し、遮光体を除去した後、液晶層に対して第２の光照射処理を行うことで、第１の領域よりも重合性モノマーの重合度が低い第２の領域を形成する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
シール材によって固着された第１の基板及び第２の基板との間に、重合性モノマー及びブルー相を示す液晶組成物を含む液晶層を挟持し、
遮光体を用いて前記シール材及び前記液晶層の一部を覆い、
前記遮光体をマスクとして、前記液晶層に対して第１の光照射処理を行うことで、前記重合性モノマーを重合させて第１の領域を形成し、
前記遮光体を除去した後、前記液晶層に対して第２の光照射処理を行うことで、前記第１の領域よりも前記重合性モノマーの重合度が低い第２の領域を形成することを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
【請求項２】
シール材によって固着された第１の基板及び第２の基板との間に、重合性モノマー及びブルー相を示す液晶組成物を含む液晶層を挟持し、
遮光体を用いて前記シール材及び前記液晶層の一部を覆い、
前記遮光体をマスクとして、前記液晶層に対して第１の光照射処理を行うことで、前記重合性モノマーを重合させて第１の領域を形成し、
前記遮光体を除去した後、前記シール材及び前記液晶層に対して第２の光照射処理を行うことで、前記第１の領域よりも前記重合性モノマーの重合度が低い第２の領域を形成するとともに、前記シール材を硬化させることを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
【請求項３】
シール材によって固着された第１の基板及び第２の基板との間に、重合性モノマー及びブルー相を示す液晶組成物を含む液晶層を挟持し、
第１の遮光体を用いて前記シール材及び前記液晶層の一部を覆い、
前記第１の遮光体をマスクとして、前記液晶層に対して第１の光照射処理を行うことで、前記重合性モノマーを重合させて第１の領域を形成し、
前記第１の遮光体を除去した後、第２の遮光体を用いて前記第１の領域を覆い、
前記第２の遮光体をマスクとして、前記液晶層に対して第２の光照射処理を行うことで、前記第１の領域よりも前記重合性モノマーの重合度が低い第２の領域を形成することを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
【請求項４】
第１の基板又は第２の基板の周縁部に遮光体を形成し、
シール材によって固着された前記第１の基板及び前記第２の基板との間に、重合性モノマー及びブルー相を示す液晶組成物を含む液晶層を挟持し、
前記液晶層に対して、前記遮光体が形成された前記第１の基板又は前記第２の基板側から第１の光照射処理を行うことで、重合性モノマーを重合させて第１の領域を形成し、
前記シール材及び前記液晶層に対して前記遮光体が形成されていない前記第１の基板又は前記第２の基板側から第２の光照射処理を行うことで、前記第１の領域よりも重合性モノマーの重合度が低い第２の領域を形成する液晶表示装置の作製方法。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一において、
前記シール材は、紫外線硬化樹脂、又は光及び熱併用硬化型樹脂を有する樹脂を用いることを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
【請求項６】
請求項５において、
前記紫外線硬化樹脂、又は光及び熱併用硬化型樹脂として、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、アミン樹脂のいずれか一又は複数を用いることを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一において、
前記第１の領域に表示領域を形成することを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
液晶表示装置の作製方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
薄型、軽量化を図った表示装置（所謂フラットパネルディスプレイ）には液晶素子を有する液晶表示装置、自発光素子を有する発光装置、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）などが競合し、開発されている。
【０００３】
液晶表示装置においては、液晶分子の応答速度の高速化が求められている。液晶の表示モードは種々あるが、中でも高速応答可能な液晶モードとしてＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ  Ｂｅｎｄ）モード、ブルー相を示す液晶を用いるモードがあげられる。
【０００４】
特に、ブルー相を示す液晶を使用するモードは配向膜が不要であり、かつ広視野角化が得られるので、実用化に向けてより研究が行われている（例えば、特許文献１参照）。特許文献１は、ブルー相が発現する温度範囲を広げるために、液晶に高分子安定化処理を行う報告である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】国際公開第０５／０９０５２０号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
高分子安定化処理は、ブルー相を示す液晶組成物に重合性モノマーを添加した液晶層に、光や熱を与えることによって重合性モノマーを重合させブルー相を安定化させる処理である。しかし、大型化が進む基板面内で均一に重合性モノマーを重合することは困難である。また、重合性モノマーの重合の際、硬化収縮に伴う歪みにより内部応力が生じる。重合性モノマーの重合が不均一に行われることにより、また、液晶層に内部応力が生じることによって、液晶組成物の配向状態も不均一となり、安定したブルー相を形成できなくなってしまう。これにより、液晶表示装置の表示品位及び信頼性が低下するという問題が生じる。
【０００７】
従って、より安定したブルー相を示す液晶層を有する信頼性の高い液晶表示装置、及びその作製方法を提供することを目的の一とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一態様は、シール材によって固着された第１の基板及び第２の基板との間に、重合性モノマー及びブルー相を示す液晶組成物を含む液晶層を挟持し、遮光体を用いてシール材及び液晶層の一部を覆い、遮光体をマスクとして、液晶層に対して第１の光照射処理を行うことで、重合性モノマーを重合させて第１の領域を形成し、遮光体を除去した後、液晶層に対して第２の光照射処理を行うことで、第１の領域よりも重合性モノマーの重合度が低い第２の領域を形成する液晶表示装置の作製方法である。なお、ブルー相を示す液晶組成物は、ブルー相を示す液晶材料と、カイラル剤とを含む。
【０００９】
また、本発明の一態様は、シール材によって固着された第１の基板及び第２の基板との間に、重合性モノマー及びブルー相を示す液晶組成物を含む液晶層を挟持し、遮光体を用いてシール材及び液晶層の一部を覆い、遮光体をマスクとして、液晶層に対して第１の光照射処理を行うことで、重合性モノマーを重合させて第１の領域を形成し、遮光体を除去した後、シール材及び液晶層に対して第２の光照射処理を行うことで、第１の領域よりも重合性モノマーの重合度が低い第２の領域を形成するとともに、シール材を硬化させる液晶表示装置の作製方法である。
【００１０】
また、本発明の一態様は、シール材によって固着された第１の基板及び第２の基板との間に、重合性モノマー及びブルー相を示す液晶組成物を含む液晶層を挟持し、第１の遮光体を用いてシール材及び液晶層の一部を覆い、第１の遮光体をマスクとして、液晶層に対して第１の光照射処理を行うことで、重合性モノマーを重合させて第１の領域を形成し、第１の遮光体を除去した後、第２の遮光体を用いて第１の領域を覆い、第２の遮光体をマスクとして、液晶層に対して第２の光照射処理を行うことで、第１の領域よりも重合性モノマーの重合度が低い第２の領域を形成する液晶表示装置の作製方法である。
【００１１】
また、本発明の一態様は、第１の基板又は第２の基板の周縁部に遮光体を形成し、シール材によって固着された第１の基板及び第２の基板との間に、重合性モノマー及びブルー相を示す液晶組成物を含む液晶層を挟持し、液晶層に対して遮光体が形成された第１の基板又は第２の基板側から第１の光照射処理を行うことで、重合性モノマーを重合させて第１の領域を形成し、シール材及び液晶層に対して遮光体が形成されていない第１の基板又は第２の基板側から第２の光照射処理を行うことで、第１の領域よりも重合性モノマーの重合度が低い第２の領域を形成する液晶表示装置の作製方法である。なお、第１の基板又は第２の基板の周縁部とは、シール材及び液晶層の一部（シール材近傍）の領域である。
【００１２】
また、上記構成において、シール材は、紫外線硬化樹脂、又は光及び熱併用硬化型樹脂を用いることができる。紫外線硬化樹脂、又は光及び熱併用硬化型樹脂を用いることにより、第２の光照射処理を行うことで、第１の領域よりも重合性モノマーの重合度が低い第２の領域を形成するとともに、シール材を硬化させることができる。また、紫外線硬化性を有する樹脂からなるシール材として、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、アミン樹脂を用いることができ、光及び熱併用硬化型樹脂からなるシール材として、アクリル系樹脂とエポキシ系樹脂を混合した樹脂を用いることができる。なお、可視光硬化性又は熱硬化性の樹脂を用いてもよい。
【００１３】
また、上記構成において、液晶層の第１の領域に液晶表示装置の表示領域を形成することが好ましい。
【００１４】
なお、第１、第２として付される序数詞は便宜上用いるものであり、工程順又は積層順を示すものではない。また、本明細書において発明を特定するための事項として固有の名称を示すものではない。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の一態様により、安定したブルー相を示す液晶層を有する信頼性の高い液晶表示装置を作製することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】液晶表示装置を説明する図。
【図２】液晶表示装置の作製方法を説明する図。
【図３】液晶表示装置の作製方法を説明する図。
【図４】液晶表示装置の作製方法を説明する図。
【図５】液晶表示装置の作製方法を説明する図。
【図６】液晶表示装置の作製方法を説明する図。
【図７】液晶表示装置の作製方法を説明する図。
【図８】液晶表示装置を説明する図。
【図９】液晶表示モジュールを説明する図。
【図１０】電子機器を説明する図。
【図１１】電子機器を説明する図。
【図１２】液晶表示装置の作製方法を説明する図。
【図１３】液晶表示装置の外観写真。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
実施の形態について、図面を用いて詳細に説明する。但し、以下の説明に限定されず、趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び詳細を様々に変更し得ることは当業者であれば容易に理解される。従って、以下に示す実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。なお、以下に説明する構成において、同一部分又は同様な機能を有する部分には同一の符号を異なる図面間で共通して用い、その繰り返しの説明は省略する。
【００１８】
（実施の形態１）
本発明の一態様に係る液晶表示装置について、図１乃至図３を参照して説明する。
【００１９】
図１（Ａ）は液晶表示装置の平面図であり、図１（Ｂ）は、図１（Ａ）における線Ｙ−Ｚの断面図である。
【００２０】
本発明の一態様に係る液晶表示装置は、第１の基板１００と第２の基板１０１（図１（Ａ）においては図示せず）は、シール材１０３で固着（接着）され、第１の基板１００と第２の基板１０１の間には液晶層１１０が配置されている。また、シール材１０３は液晶層１１０を囲むように形成されている。液晶層１１０には、重合性モノマー及びブルー相を示す液晶組成物が含まれている。また、液晶層１１０は、第１の領域１０８及び第２の領域１０９を有する。
【００２１】
次に、本発明の一態様に係る液晶表示装置の作製方法について、図２及び図３を参照して説明する。
【００２２】
図２（Ａ２）、（Ｂ２）、及び（Ｃ２）、並びに図３（Ａ２）及び（Ｂ２）は液晶表示装置の平面図であり、図２（Ａ１）、（Ｂ１）、及び（Ｃ１）並びに図３（Ａ１）及び（Ｂ１）は、図２（Ａ２）、（Ｂ２）、及び（Ｃ２）、並びに図３（Ａ２）及び（Ｂ２）における線Ｙ−Ｚの断面図である。
【００２３】
第１の基板１００と第２の基板１０１とがシール材１０３によって固着され、第１の基板１００と第２の基板１０１との間に液晶層１１０が配置されている（図２（Ａ１）及びＡ２）参照）。シール材１０３は液晶層１１０を囲むように形成されている。液晶層１１０には、重合性モノマー及びブルー相を示す液晶組成物が含まれている。ブルー相を示す液晶組成物は、高速応答が可能であるため、液晶表示装置の高性能化が可能になる。
【００２４】
第１の基板１００、第２の基板１０１には、バリウムホウケイ酸ガラスやアルミノホウケイ酸ガラスなどのガラス基板、石英基板、並びにプラスチック基板などの可撓性基板を用いることができる。
【００２５】
シール材１０３としては、代表的には可視光硬化性、紫外線硬化性、熱硬化性の樹脂、または光及び熱併用硬化型樹脂を用いるのが好ましい。可視光硬化性、紫外線硬化性、熱硬化性の樹脂として、代表的には、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、アミン樹脂などを用いることができる。光及び熱併用硬化樹脂としては、アクリル系樹脂とエポキシ系樹脂を混合した樹脂を用いることができる。また、シール材１０３は、スクリーン印刷法、ディスペンサ法（滴下法）またはインクジェット法を用いて第１の基板１００または第２の基板１０１上に塗布する。なお、シール材１０３に、第１の基板１００及び第２の基板１０１の間隔を保つためのフィラー（直径１μｍ〜２４μｍ）や、光（代表的には紫外線）重合開始剤、熱硬化剤、カップリング剤等を含んでもよい。
【００２６】
液晶層１１０は、ディスペンサ法（滴下法）や、第１の基板１００と第２の基板１０１とを貼り合わせてから毛細管注入法や真空注入法を用いて注入する注入法を用いて形成することができる。
【００２７】
ブルー相を示す液晶組成物は、ブルー相を示す液晶材料及びカイラル剤を含む。
【００２８】
ブルー相を示す液晶材料として、サーモトロピック液晶、低分子液晶、高分子液晶、強誘電液晶、反強誘電液晶等を用いることができる。
【００２９】
カイラル剤は、ブルー相を示す液晶分子の捩れを誘起し、ブルー相を示す液晶分子を螺旋構造に配向させブルー相を発現させるために用いる。例えば、液晶層１１０に含まれるブルー相を示す液晶材料に対して数重量％以上のカイラル剤を混合させて液晶層１１０に用いればよい。また、カイラル剤は、不斉中心を有する化合物であり、ブルー相を示す液晶材料に対する相溶性が良く、かつ捩れ力の強い化合物を用いる。また、カイラル剤は光学活性体であり、光学純度が高いほど好ましく９９％以上が最も好ましい。
【００３０】
ブルー相は捩れ力の強い液晶材料で発現し、二重ねじれ構造を有する。該液晶材料は、条件により、コレステリック相、コレステリックブルー相、等方相等を示す。
【００３１】
ブルー相であるコレステリックブルー相は、低温側からブルー相Ｉ、ブルー相ＩＩ、ブルー相ＩＩＩと３種類の構造を示す。ブルー相であるコレステリックブルー相は光学的に等方性であるが、ブルー相Ｉは体心立方、ブルー相ＩＩは単純立方、ブルー相ＩＩＩは等方性の対称性を有する。ブルー相Ｉ及びブルー相ＩＩは、紫外〜可視光領域にブラッグ回折を示す。
【００３２】
ブルー相は、二重ねじれ構造を持つ三次元の分子配列と、その内部に共存する線欠陥から形成される。ブルー相を示す液晶組成物は光学的変調作用を有し、電圧無印加時には光学的に等方性であるが、電圧印加によって液晶組成物の配向秩序が変化して光学的に異方性となる。ブルー相は電圧無印加時には光学的に等方であるため視野角依存性がなく、配向膜を形成しなくとも良いため、表示画像の質の向上及びコスト削減が可能である。
【００３３】
ブルー相は、二重ねじれ構造を持つ三次元の分子配列の内部に存在する線欠陥により、相の熱力学的安定性が低下するため、ブルー相の発現温度範囲は極めて狭く、１℃程度である。このような温度範囲を改善するために、ブルー相を示す液晶材料に重合性モノマーを添加し、高分子安定化処理を行う。重合性モノマーとしては、熱により重合が進行する熱重合性（熱硬化性）モノマー、光により重合が進行する光重合性（光硬化性）モノマー、又は熱及び光により重合が進行する重合性モノマーを用いることができる。また、ブルー相を示す液晶材料に重合開始剤を添加してもよい。
【００３４】
重合性モノマーは、アクリレート、メタクリレートなどの単官能モノマーでもよく、ジアクリレート、トリアクリレート、ジメタクリレート、トリメタクリレートなどの多官能モノマーでもよく、これらを混合させたものでもよい。また、液晶性のものでも非液晶性のものでもよく、両者を混合させてもよい。
【００３５】
重合開始剤は、光照射によってラジカルを発生させるラジカル重合開始剤でもよく、酸を発生させる酸発生剤でもよく、塩基を発生させる塩基発生剤でもよい。
【００３６】
なお、高分子安定化処理により重合が進行した重合性モノマーは、液晶層にポリマーとして含まれる。
【００３７】
例えば、上記ブルー相を示す液晶組成物に、重合性モノマー、及び光重合開始剤を添加し、重合性モノマー、及び光重合開始剤が反応する波長の光を照射することで、高分子安定化処理を行うことができる。重合性モノマーとして、代表的には紫外線重合性モノマーを用いることができる。重合性モノマーとして紫外線重合性モノマーを用いる場合、液晶組成物に紫外線を照射すればよい。
【００３８】
高分子安定化処理は、等方相を示す温度で液晶層に光照射して行ってもよいし、温度制御してブルー相を発現した液晶層に光照射して行ってもよい。高分子安定化処理の一例としては、液晶層１１０を等方相まで加熱した後、徐々に降温させてブルー相に相転移させ、ブルー相が発現する温度を保持した状態で光を照射することにより行う。また、他の一例としては、液晶層１１０を加熱して等方相に相転移させた後、ブルー相と等方相間の相転移温度から＋１０℃以内、好ましくは＋５℃以内状態（等方相を発現した状態）で光を照射することにより行う。なお、ブルー相を発現させなくとも、ブルー相と等方相間の相転移温度から＋１０℃以内、好ましくは＋５℃以内状態（等方相を発現した状態）で光を照射して高分子安定化処理を行ってもよい。なお、ブルー相と等方相間の相転移温度とは、昇温時にブルー相から等方相に転移する温度又は降温時に等方相からブルー相に相転移する温度をいう。
【００３９】
ブルー相が発現する温度（またはブルー相を発現させる温度）を保持した状態で液晶層１１０に光を照射すると、重合性モノマーが重合することにより、ブルー相を示す液晶組成物の配向状態が維持される。これにより、ブルー相の状態が安定化され、ブルー相として液晶層１１０に用いることができる温度範囲を大幅に改善（例えば、温度範囲が４０℃以上）することができる。
【００４０】
ここで、液晶層のうちの第１の領域１０６が液晶表示装置の表示領域となるため、重合性モノマーの重合は、第１の領域１０６において均一に行われることが好ましい。重合性モノマーの重合が不均一であると、ブルー相を示す液晶組成物の配向状態も不均一となり、安定したブルー相を形成できなくなってしまう。また、液晶層１１０に含まれる重合性モノマーは、重合の際に硬化収縮するため、液晶層１１０には歪みに伴う内部応力が生じる。このような内部応力は、重合性モノマーの重合度が高まるとより顕著となる。また、重合の度合いによっても内部応力の大きさは変化する。このような内部応力が液晶層１１０に生じることによって、ブルー相を示す液晶組成物の配向状態は不均一となり、安定したブルー相を形成できなくなってしまう。また、シール材１０３近傍においては、歪みによる内部応力の影響を受けやすいため、ブルー相を示す液晶組成物の配向状態は不均一となりやすい。これにより、表示領域の表示品位が低下し、液晶表示装置の信頼性が低下するという問題が生じる。
【００４１】
そこで、本実施の形態では、液晶層１１０に対する光照射処理を２段階にすることにより高分子安定化処理を行う。第１の光照射処理は、遮光体１１１を用いてシール材１０３及び液晶層１１０の一部（シール材１０３近傍）を覆い、遮光体１１１をマスクとして、シール材１０３及び液晶層１１０の一部（シール材１０３近傍）を遮光して、液晶層１１０に対して選択的に光を照射する。第１の光照射処理の際、液晶層１１０において、遮光体１１１によって覆われていない領域を第１の領域１０６とし、遮光体１１１によって覆われた領域を第２の領域１０７とする。
【００４２】
遮光体１１１は、光１０４を反射もしくは吸収し、液晶層１１０（第２の領域）へ光１０４が照射されるのを遮断する。遮光体１１１は、シール材１０３及び液晶層１１０のシール材１０３近傍を覆うように設けることが好ましい。図２（Ｂ１）及び（Ｂ２）では、遮光体１１１は、第２の基板１０１上に設ける場合を示す。遮光体１１１は、遮光性を有する材料（例えば、金属材料）を用いた遮光部材を用いて覆ってもよいし、遮光性を有する材料（例えば、金属材料やレジストマスクなど）を用いて第２の基板１０１上に成膜してもよい。また、遮光体１１１は、第１の基板１００とシール材１０３との間、または第２の基板１０１とシール材１０３との間に設けることもできる。その場合は、第１の基板１００又は第２の基板１０１の周縁部に、遮光性を有する材料を用いて遮光体１１１を形成した後に、重合性モノマー及びブルー相を示す液晶組成物を含む液晶層を挟持して第１の基板１００と第２の基板１０１とをシール材によって固着すればよい。なお、第１の基板又は第２の基板の周縁部とは、シール材及び液晶層の一部（シール材近傍）の領域である。
【００４３】
第１の光照射処理は、液晶層１１０の第１の領域１０６に対して、全面に光を照射して行ってもよいし、線状に加工された光を一方向に走査させながら照射して行ってもよい。図２（Ｂ１）及び（Ｂ２）では、液晶層１１０に線状に加工された光１０４を矢印１０５の方向に走査させながら照射することで、光が照射された第１の領域１０６から、重合性モノマーの重合が進行する様子を示している。また、第１の光照射処理は、シール材１０３及び液晶層１１０の一部が遮光され、液晶層１１０に選択的に光が照射されるため、遮光体１１１によって覆われた第２の領域１０７は、重合性モノマーの重合が開始されない。なお、第１の光照射処理の際、第１の領域１０６は、重合性モノマーの重合が終了していてもよいし、終了していなくてもよい。
【００４４】
第１の領域１０６の重合性モノマーが重合し、遮光体１１１が除去された状態を、図２（Ｃ１）及び（Ｃ２）に示す。
【００４５】
遮光体１１１によって覆われていない液晶層１１０の第１の領域１０６は、重合性モノマーの重合が進行すると、硬化収縮に伴う歪みにより内部応力が生じる。これに対し、遮光体１１１で覆われた液晶層１１０の第２の領域１０７は、重合性モノマーの重合が開始されないため、流動性を有する液状のままである。これにより、第１の領域１０６において、硬化収縮に伴う歪みにより内部応力が生じたとしても、流動性を有する第２の領域により、速やかに緩和させることができる。
【００４６】
第１の光照射処理の際、遮光体１１１によって覆われた液晶層１１０の第２の領域１０７は、光が照射されていないため重合が開始されておらず流動性を有している。このため、流動性を有する液晶層１１０の第２の領域１０７が、重合性モノマーが重合された液晶層１１０の第１の領域１０６に浸食することで、液晶層１１０の第１の領域１０６に含まれるブルー相を示す液晶組成物の配向を乱すおそれがある。
【００４７】
したがって、液晶層１１０全面に対して第２の光照射処理を行うことが好ましい。第２の光照射処理は、第１の光照射処理の後、遮光体１１１を除去した後に、液晶層１１０全面に対して行えばよい。第２の光照射処理は、液晶層１１０に対して、全面に光を照射して行ってもよいし、線状に加工された光を一方向に走査させながら照射してもよい。図３（Ａ１）及び（Ａ２）では、液晶層１１０に線状に加工された光１０４を矢印１０５の方向に走査させながら照射することで、光が照射された第２の領域１０９及び第１の領域１０８から、重合性モノマーの重合が進行する様子を示している。第２の光照射処理が行われることにより、第１の領域１０６は、重合性モノマーの重合度がさらに高められた第１の領域１０８となり、第２の領域１０７は、重合性モノマーの重合が行われた第２の領域１０９となる。これにより、第１の光照射処理の際、遮光体１１１に覆われ光が照射されなかった第２の領域１０７に対しても重合性モノマーの重合が進行させることができる。第２の光照射処理により、第１の領域１０６において、重合性モノマーの重合が終了することが好ましい。なお、第２の領域１０７は、重合性モノマーの重合が終了していてもよいし、終了していなくてもよい。
【００４８】
なお、第１の基板１００とシール材１０３との間、又は第２の基板１０１とシール材１０３との間に、遮光性を有する材料を用いて遮光体１１１が形成されている場合は、遮光体１１１が形成されている基板側から第１の光照射処理を行い、第２の光照射処理は遮光体１１１が形成されていない基板側から行うことが好ましい。
【００４９】
第２の光照射処理が終了し、液晶層１１０の高分子安定化処理が終了した状態を、図３（Ｂ１）及び（Ｂ２）に示す。
【００５０】
以上説明したように、第１の光照射処理の際、第１の領域１０６において、重合性モノマーの硬化収縮に伴う歪みにより内部応力が生じたとしても、第１の領域１０６の周囲に流動性を有する第２の領域１０７が存在することで、第１の領域１０６に生じた内部応力を速やかに緩和させることができる。また、第２の光照射処理の際、第２の領域１０７の重合性モノマーを重合させることで、第２の光照射処理後の第２の領域１０９の液晶材料が第１の領域１０８の液晶材料に浸食することを抑制することができる。これにより、第２の光照射処理後の第１の領域１０８におけるブルー相を示す液晶組成物の配向乱れを抑制することができる。以上により、第１の領域１０８において、ブルー相を示す液晶組成物の配向が均一化された安定なブルー相を形成することができる。また、光照射処理手段及び液晶層を相対的に走査させながら光照射処理を行うことにより、大型基板の処理に対応することができ、ブルー相を示す液晶組成物の配向が均一化された安定なブルー相を形成することができる。
【００５１】
安定なブルー相が形成された第１の領域１０８に、表示領域（画素領域）を形成し、第２の領域１０９に、表示に寄与しない駆動回路領域や、筐体による遮蔽領域とすることにより、表示領域の表示品位が向上し、信頼性が向上した液晶表示装置を作製することができる。
【００５２】
なお、本実施の形態では、第２の光照射処理の際、液晶層１１０全面に対して光を照射する場合について説明したが、本発明の一態様はこれに限定されない。例えば、第２の光照射処理において、第１の領域１０６に対して遮光性を有する遮光体で覆い、該遮光体をマスクとして、第２の領域１０７に光を照射してもよい。これによっても、第１の領域１０８の重合性モノマーの重合度よりも低い重合度の第２の領域１０９を形成することができる。また、光照射処理の条件を適宜変更することで、第１の領域１０８と第２の領域１０９の重合性モノマーの重合度を同程度とすることも可能である。なお、第１の領域１０６に対して遮光性を有する遮光体で覆う場合には、第１の光照射処理の際、第１の領域１０６の高分子安定化処理が終了していることが好ましい。すなわち、第１の領域１０６がブルー相として液晶層１１０に用いることができる温度範囲が拡大される程度まで重合性モノマーの重合が進行していることが好ましい。また、遮光体は、第２の光照射処理の終了後、除去すればよい。
【００５３】
ブルー相を示す液晶組成物を含む液晶層１１０には、例えば、ブルー相を示す液晶材料として、ＪＣ−１０４１ＸＸ（チッソ株式会社製）と４−シアノ−４’−ペンチルビフェニルの混合物を用いることができ、カイラル剤としては、ＺＬＩ−４５７２（メルク株式会社製）を用いることができ、重合性モノマーは、２−エチルヘキシルアクリレート、ＲＭ２５７（メルク株式会社製）、トリメチロールプロパントリアクリレートを用いることができ、光重合開始剤としては２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノンを用いることができる。
【００５４】
第１の光照射処理及び第２の光照射処理に用いる光照射手段として、ＵＶランプ等を用いることができる。
【００５５】
さらに、シール材１０３として、紫外線硬化樹脂又は光及び熱併用硬化型樹脂を用いることにより、第２の光照射処理の際、第２の領域１０７の重合性モノマーを重合させるとともに、シール材１０３を硬化させることができる。以下、図４を参照して説明する。
【００５６】
第１の光照射処理が終了し、遮光体１１１を除去した液晶層１１０の上面図及び断面図を、図４（Ａ１）及び（Ａ２）に示す。図４（Ａ１）及び図４（Ａ２）に示すように、液晶層１１０には、第１の領域１０６及び第２の領域１０７が形成されている。
【００５７】
次に、第２の光照射処理を行うことにより、第１の領域１０６及び第２の領域１０７は、重合性モノマーの重合が行われるとともに、シール材１０３は硬化され、シール材１２３となる（図４（Ｂ１）及び（Ｂ２）参照）。なお、図４（Ｂ１）及び（Ｂ２）においては、第２の光照射処理を線状に加工された光を一方向に走査させながら照射して行う場合について示すが、本発明の一態様はこれに限定されない。液晶層１１０全面に対して光を照射して行ってもよい。なお、シール材１０３として、光及び熱併用硬化型樹脂を用いた場合には、第２の光照射処理の後、熱処理を行うことが好ましい。
【００５８】
第２の領域１０７の重合性モノマーを重合させるとともに、シール材１０３を硬化させることができるため、液晶表示装置の作製工程の簡略化を図ることができる（図４（Ｃ１）及び（Ｃ２）参照）。
【００５９】
また、第１の光照射処理及び第２の光照射処理において、光を線状に加工して照射する場合、線状の光照射領域は、複数の光源を線状に配列させて形成してもよいし、光源より照射された光を光学系で加工して形成してもよい。また、液晶層に照射する光照射領域の形状は、線状の他、矩形、円形、楕円形などを用いてもよい。また、光はランプ光源からのランプ光、レーザ光源からのレーザ光などを用いることができる。重合性モノマーの重合反応が生じる波長の光及びエネルギーを適宜選択すればよい。例えば、重合性モノマーとして紫外線（光）硬化樹脂（ＵＶ硬化樹脂）を用いる場合、光照射処理として紫外線（光）を照射すればよい。
【００６０】
光照射処理手段及び液晶層を相対的に走査させながら光照射処理を行うことにより、大型基板の処理にも対応でき、均一で安定なブルー相を形成できる。
【００６１】
また、図１乃至図４では図示しないが、偏光板、位相差板、反射防止膜などの光学フィルムなどは適宜設ける。例えば、偏光板及び位相差板による円偏光を用いてもよい。また、光源としてバックライト、サイドライトなどを用いてもよい。
【００６２】
本明細書等において、液晶表示装置は光源の光を透過することによって表示を行う透過型の液晶表示装置（又は半透過型の液晶表示装置）の場合、少なくとも画素領域において光を透過させる必要がある。よって光が透過する画素領域に存在する第１の基板、第２の基板、他絶縁膜、導電膜などの薄膜はすべて可視光の波長領域の光に対して透光性とする。
【００６３】
以上のように、安定したブルー相を示す液晶層を有する信頼性の高い液晶表示装置を作製することができる。
【００６４】
（実施の形態２）
本実施の形態では、実施の形態１において、大型の基板に複数の液晶表示装置を作製する例（所謂多面取り）、について図５及び図６を参照して説明する。従って、他は実施の形態１と同様に行うことができ、実施の形態１と同一部分又は同様な機能を有する部分、及び工程の繰り返しの説明は省略する。
【００６５】
大型基板を用いて複数の液晶表示装置を作製する場合、その分断工程は、高分子安定化処理の前か、偏光板を設ける前に行うことができる。分断工程による液晶層への影響（分断工程時にかかる力などによる液晶組成物の配向乱れなど）を考慮すると、第１の基板と第２の基板とを貼り合わせた後、高分子安定化処理の前が好ましい。
【００６６】
図５に、複数の液晶層に対して、第１の光照射処理が行われている様子を示す。図５（Ａ）は液晶表示装置の平面図であり、図５（Ｂ）は、図５（Ａ）における線Ｖ１−Ｘ１の断面図、図５（Ｃ）は、図５（Ａ）における線Ｖ２−Ｘ２の断面図である。
【００６７】
図５（Ａ）において、固着（接着）された第１の基板２００と第２の基板２０１との間には、４つの液晶層２１０ａ、２１０ｂ、２１０ｃ、２１０ｄが挟持され、それぞれシール材２０３ａ、２０３ｂ、２０３ｃ、２０３ｄで周囲を囲まれて配置されている。液晶層２１０ａ、２１０ｂ、２１０ｃ、２１０ｄは、重合性モノマー及びブルー相を示す液晶組成物を含む液晶層である。
【００６８】
図５（Ａ）は遮光体２１１を用い、かつ光２０４を矢印２０５の方向に走査して複数の液晶層２１０ａ、２１０ｂ、２１０ｃ、２１０ｄに選択的に重合性モノマーの重合を行う様子を示している。これにより、重合性モノマーの重合が行われた第１の領域２０６ａ、２０６ｂ、２０６ｃ、２０６ｄと、重合性モノマーの重合が行われていない第２の領域２０７ａ、２０７ｂ、２０７ｃ、２０７ｄを形成することができる。
【００６９】
図５（Ｂ）は、光２０４の走査方向である矢印２０５と平行な面における断面図である。液晶層２１０ａ、２１０ｃにおいて、遮光体２１１によって遮光されず、光２０４に照射された領域は重合反応が進み、第１の領域２０６ａ、２０６ｃが形成されている。一方、遮光体２１１に覆われ、光２０４が遮光される、又は光２０４が走査されていない領域は、光照射処理されず、第２の領域２０７ａ、２０７ｃが形成されている。液晶層２１０ｃにおいて、第１の領域２０６ｃとシール材２０３ｃとの間に第２の領域２０７ｃが形成され、同様に液晶層２１０ａにおいて、第１の領域２０６ａとシール材２０３ａとの間に第２の領域２０７ａが形成されている。
【００７０】
図５（Ｃ）は、光２０４の走査方向である矢印２０５と垂直な面における断面図である。液晶層２１０ａ、２１０ｂにおいて、遮光体２１１に遮光されず、光２０４が照射された領域は重合反応が進み、第１の領域２０６ａ、２０６ｂが形成されている。一方、遮光体２１１に覆われ、光２０４が遮光される領域は、光照射処理されず、第２の領域２０７ａ、２０７ｂが形成されている。液晶層２１０ａにおいて、第１の領域２０６ａとシール材２０３ａとの間に第２の領域２０７ａが形成され、同様に液晶層２１０ｂにおいて、第１の領域２０６ｂとシール材２０３ｂとの間に第２の領域２０７ｂが形成されている。
【００７１】
このように、基板の辺方向に長く形成した線状の光２０４と遮光体２１１を組み合わせることで、一度に複数の液晶層を高分子安定化処理できるため、生産性を向上させることができる。また、大型基板であっても光照射手段と基板を相対的に走査して光照射処理を行うので、大型な露光装置などを用いないでよい。
【００７２】
本実施の形態では、図５（Ｃ）に示すように液晶層２１０ａ、２１０ｂにおいて第２の領域２０７ａ、２０７ｂを、遮光体２１１を用いて形成する例を示すが、光２０４の照射領域が第２の領域２０７ａ、２０７ｂまで及ばないように形状を制御して、第２の領域２０７ａ、２０７ｂを形成してもよい。
【００７３】
図６に、複数の液晶層に対して、第２の光照射処理が行われている様子を示す。図６（Ａ）は液晶表示装置の平面図であり、図６（Ｂ）は、図６（Ａ）における線Ｖ１−Ｘ１の断面図、図６（Ｃ）は、図６（Ａ）における線Ｖ２−Ｘ２の断面図である。
【００７４】
図６（Ｂ）は、光２０４の走査方向である矢印２０５と平行な面における断面図である。液晶層２１０ａ、２１０ｃにおいて、光２０４が照射された領域は重合反応が進み、第２の領域２０９ａ、２０９ｃ、及び第１の領域２０８ａ、２０８ｃが形成されている。第１の領域２０８ａ、２０８ｃは、第２の光照射処理によって、重合性モノマーの重合がより高められた領域であり、第２の領域２０９ａ、２０９ｃは、第２の光照射処理によって、重合が開始された領域である。
【００７５】
また、図６（Ｃ）は、光２０４の走査方向である矢印２０５と垂直な面における断面図である。液晶層２１０ａ、２１０ｂにおいて、光２０４が照射された領域は、重合反応が進み、第１の領域２０８ａ、２０８ｂ、及び第２の領域２０９ａ、２０９ｂが形成される。
【００７６】
第１の光照射処理及び第２の光照射処理において、線状に加工された光を一方向に走査させながら照射することにより、大型基板であっても均一に重合性モノマーを重合させることができる。これにより、複数の液晶表示装置を作製することができるため、生産性が向上する。
【００７７】
なお、大型基板の場合、基板がたわんで反ってしまう場合がある。この場合、基板を縦置きとして、光を走査させれば均一な光照射処理を行うことができる。
【００７８】
光照射処理手段及び液晶層を相対的に走査させながら光照射処理を行うため、大型基板の処理にも対応でき、均一で安定なブルー相を形成できる。
【００７９】
以上のように、安定したブルー相を示す液晶層を有する信頼性の高い液晶表示装置を作製することができる。また、作製時の歩留まりも向上する。
【００８０】
（実施の形態３）
本実施の形態では、実施の形態１又は２において適用することのできる光照射方法の他の例を図７に示す。従って、他は実施の形態１又は２と同様に行うことができ、実施の形態１又は２と同一部分又は同様な機能を有する部分、及び工程の繰り返しの説明は省略する。なお、図７において遮光体を図示しないが、第１の光照射処理を行う場合には、遮光体を用いて行えばよい。
【００８１】
図７（Ａ）乃至（Ｃ）に液晶層１１０に選択的に光照射処理を行う例を示す。
【００８２】
図７（Ａ）で示すように、光照射処理は、照射手段を複数設けて、液晶層の片面のみでなく、両面（第１の基板側からも第２の基板側からも）から液晶層に照射してもよい。液晶層１１０は、第２の基板１０１側から照射される光１０４ａと、第１の基板１００側から照射される光１０４ｂによって光照射処理される。図７（Ａ）は光１０４ａ及び光１０４ｂは液晶層１１０において同領域を照射する例を示すが、異なる領域を照射してもよい。
【００８３】
また、異なるエネルギーを与える複数の光を用い、複数の光のうち液晶層に与えるエネルギーが小さい光から先に液晶層に照射してもよい。図７（Ｂ）において、光１０４ｃと光１０４ｄとは与えるエネルギーが異なる光であり、光１０４ｄの方が光１０４ｃよりもエネルギーが小さい。光１０４ｄによって照射された領域１１２に対して光１０４ｃを照射し、第１の領域１０６を形成する。重合させる重合性モノマーを複数種用いる場合、このように照射する光のエネルギーやタイミングを制御すると重合の速度も制御することができ、より均一に安定化処理を行うことが可能となる。
【００８４】
光照射処理は液晶層表面に対して斜めに照射してもよい。図７（Ｃ）において、液晶層１１０に照射される光１０４ｅは、液晶層１１０表面に対して斜めに入射しているため、照射領域に与えるエネルギーに差を有している。よって図７（Ｂ）と同様に重合性モノマーの重合の速度を制御することができる。
【００８５】
以上のように、光照射条件（照射のタイミング、光のエネルギー、照射時間）などを制御することで、より均一に液晶層に高分子安定化を行うことができる。
【００８６】
第１の光照射処理及び第２の光照射処理は、図７（Ａ）乃至（Ｃ）に示す方法を適宜組み合わせて行うことができる。
【００８７】
以上のように、第１の光照射処理及び第２の光照射処理を行うことによって、安定したブルー相を示す液晶層を有する信頼性の高い液晶表示装置を作製することができる。また、作製時の歩留まりも向上する。
【００８８】
本実施の形態は、他の実施の形態に記載した構成と適宜組み合わせて実施することが可能である。
【００８９】
（実施の形態４）
本明細書に開示する発明は、パッシブマトリクス型の液晶表示装置でもアクティブマトリクス型の液晶表示装置にも適用することができる。
【００９０】
薄膜トランジスタを作製し、該薄膜トランジスタを画素部、さらには駆動回路に用いて表示機能を有する液晶表示装置を作製することができる。また、薄膜トランジスタを含む駆動回路の一部または全体を、画素部と同じ基板上に一体形成し、システムオンパネルを形成することができる。
【００９１】
液晶表示装置は表示素子として液晶素子（液晶表示素子ともいう）を含む。
【００９２】
また、液晶表示装置は、表示素子が封止された状態にあるパネルと、該パネルにコントローラを含むＩＣ等を実装した状態にあるモジュールとを含む。さらに、該液晶表示装置を作製する過程における、表示素子が完成する前の一形態に相当する素子基板に関し、該素子基板は、電流を表示素子に供給するための手段を複数の各画素に備える。素子基板は、具体的には、表示素子の画素電極のみが形成された状態であっても良いし、画素電極となる導電膜を成膜した後であって、エッチングして画素電極を形成する前の状態であっても良いし、あらゆる形態があてはまる。
【００９３】
なお、本明細書中における液晶表示装置とは、画像表示デバイス、表示デバイス、もしくは光源（照明装置含む）を指す。また、コネクター、例えばＦＰＣ（Ｆｌｅｘｉｂｌｅ  ｐｒｉｎｔｅｄ  ｃｉｒｃｕｉｔ）もしくはＴＡＢ（Ｔａｐｅ  Ａｕｔｏｍａｔｅｄ  Ｂｏｎｄｉｎｇ）テープもしくはＴＣＰ（Ｔａｐｅ  Ｃａｒｒｉｅｒ  Ｐａｃｋａｇｅ）が取り付けられたモジュール、ＴＡＢテープやＴＣＰの先にプリント配線板が設けられたモジュール、または表示素子にＣＯＧ（Ｃｈｉｐ  Ｏｎ  Ｇｌａｓｓ）方式によりＩＣ（集積回路）が直接実装されたモジュールも全て液晶表示装置に含むものとする。
【００９４】
液晶表示装置の一形態に相当する液晶表示パネルの外観及び断面について、図８を用いて説明する。図８（Ａ１）（Ａ２）は、第１の基板４００１上に形成された薄膜トランジスタ４０１０、４０１１、及び液晶素子４０１３を、第２の基板４００６との間にシール材４００５によって封止した、パネルの上面図であり、図８（Ｂ）は、図８（Ａ１）（Ａ２）のＭ−Ｎにおける断面図に相当する。
【００９５】
第１の基板４００１上に設けられた画素部４００２と、走査線駆動回路４００４とを囲むようにして、シール材４００５が設けられている。また画素部４００２と、走査線駆動回路４００４の上に第２の基板４００６が設けられている。よって画素部４００２と、走査線駆動回路４００４とは、第１の基板４００１とシール材４００５と第２の基板４００６とによって、液晶層４００７と共に封止されている。
【００９６】
また、図８（Ａ１）は第１の基板４００１上のシール材４００５によって囲まれている領域とは異なる領域に、別途用意された基板上に単結晶半導体膜又は多結晶半導体膜で形成された信号線駆動回路４００３が実装されている。なお、図８（Ａ２）は信号線駆動回路の一部を第１の基板４００１上に設けられた薄膜トランジスタで形成する例であり、第１の基板４００１上に信号線駆動回路４００３ｂが形成され、かつ別途用意された基板上に単結晶半導体膜又は多結晶半導体膜で形成された信号線駆動回路４００３ａが実装されている。
【００９７】
液晶層４００７において、画素部４００２は、高分子安定化処理として光照射処理を行うことにより、重合性モノマーの重合が行われた第１の領域４００８（図１に示す第１の領域１０８に相当）であり、走査線駆動回路４００４、信号線駆動回路４００３ｂは、第２の領域４００９（図１に示す第２の領域１０９）である。安定なブルー相が形成された第１の領域４００８を表示領域とすることにより、表示品位が向上した液晶表示装置を提供することができる。また、シール材４００５近傍の表示に寄与しない駆動回路上に形成される領域を第２の領域４００９とするので、シール材近傍においてブルー相を示す液晶組成物の配向が乱れたとしても表示領域には影響しないため、好ましい。
【００９８】
なお、別途形成した駆動回路の接続方法は、特に限定されるものではなく、ＣＯＧ方法、ワイヤボンディング方法、或いはＴＡＢ方法などを用いることができる。図８（Ａ１）は、ＣＯＧ方法により信号線駆動回路４００３を実装する例であり、図８（Ａ２）は、ＴＡＢ方法により信号線駆動回路４００３ａを実装する例である。
【００９９】
また第１の基板４００１上に設けられた画素部４００２と、走査線駆動回路４００４は、薄膜トランジスタを複数有しており、図８（Ｂ）では、画素部４００２に含まれる薄膜トランジスタ４０１０と、走査線駆動回路４００４に含まれる薄膜トランジスタ４０１１とを例示している。薄膜トランジスタ４０１０、４０１１上には絶縁層４０２０、層間膜４０２１が設けられている。
【０１００】
薄膜トランジスタ４０１０、４０１１は、特に限定されず様々な薄膜トランジスタを適用することができる。本実施の形態では、薄膜トランジスタ４０１０、４０１１はｎチャネル型薄膜トランジスタである。
【０１０１】
また、第１の基板４００１側に画素電極層４０３０及び共通電極層４０３１が設けられ、画素電極層４０３０は、薄膜トランジスタ４０１０と電気的に接続されている。液晶素子４０１３は、画素電極層４０３０、共通電極層４０３１、及び液晶層４００７を含む。なお、第１の基板４００１、第２の基板４００６の外側にはそれぞれ偏光板４０３２、４０３３が設けられている。
【０１０２】
ブルー相を示す液晶層を有する液晶表示装置において、基板に概略平行（すなわち水平な方向）な電界を生じさせて、基板と平行な面内でブルー相を示す液晶分子を動かして、階調を制御する方式を用いることができる。このような方式として、本実施の形態では、図８に示すようなＩＰＳモードで用いる電極構成を適用する例である。
【０１０３】
なお、第１の基板４００１、第２の基板４００６としては、透光性を有するガラス、プラスチックなどを用いることができる。プラスチックとしては、ＦＲＰ（Ｆｉｂｅｒｇｌａｓｓ−Ｒｅｉｎｆｏｒｃｅｄ  Ｐｌａｓｔｉｃｓ）板、ＰＶＦ（ポリビニルフルオライド）フィルム、ポリエステルフィルムまたはアクリル樹脂フィルムを用いることができる。また、アルミニウムホイルをＰＶＦフィルムやポリエステルフィルムで挟んだ構造のシートを用いることもできる。
【０１０４】
また、４０３５は絶縁膜を選択的にエッチングすることで得られる柱状のスペーサであり、液晶層４００７の膜厚（セルギャップ）を制御するために設けられている。なお球状のスペーサを用いていても良い。なお、液晶層４００７を用いる液晶表示装置は、液晶層４００７の膜厚（セルギャップ）を４μｍ以上２０μｍ程度とすることが好ましい。
【０１０５】
なお図８は透過型液晶表示装置の例であるが、半透過型液晶表示装置でも適用できる。
【０１０６】
また、図８の液晶表示装置では、基板の外側（視認側）に偏光板を設ける例を示すが、偏光板は基板の内側に設けてもよい。偏光板の材料や作製工程条件によって適宜設定すればよい。また、ブラックマトリクスとして機能する遮光層を設けてもよい。
【０１０７】
層間膜４０２１は、有彩色の透光性樹脂層であり、カラーフィルタ層として機能する。また、層間膜４０２１の一部を遮光層としてもよい。図８においては、薄膜トランジスタ４０１０、４０１１上方を覆うように遮光層４０３４が第２の基板４００６側に設けられている。遮光層４０３４は、高分子安定化処理である光照射処理において、第２の領域４００９の遮光体として機能する他、さらに液晶表示装置のコントラスト向上や薄膜トランジスタの安定化の効果を高めることができる。第２の基板４００６に遮光層４０３４を設ける場合、第１の光照射処理は第２の基板４００６側から光を照射し、第２の光照射処理は第１の基板４００１側から光を照射すればよい。
【０１０８】
薄膜トランジスタの保護膜として機能する絶縁層４０２０で覆う構成としてもよいが、特に限定されない。
【０１０９】
なお、保護膜は、大気中に浮遊する有機物や金属物、水蒸気などの汚染不純物の侵入を防ぐためのものであり、緻密な膜が好ましい。保護膜は、スパッタ法を用いて、酸化珪素膜、窒化珪素膜、酸化窒化珪素膜、窒化酸化珪素膜、酸化アルミニウム膜、窒化アルミニウム膜、酸化窒化アルミニウム膜、又は窒化酸化アルミニウム膜の単層、又は積層で形成すればよい。
【０１１０】
また、保護膜を形成した後に、半導体層に熱処理（３００℃〜４００℃）を行ってもよい。
【０１１１】
また、平坦化絶縁膜として透光性の絶縁層をさらに形成する場合、ポリイミド、アクリル、ベンゾシクロブテン、ポリアミド、エポキシ等の、耐熱性を有する有機材料を用いることができる。また上記有機材料の他に、低誘電率材料（ｌｏｗ−ｋ材料）、シロキサン系樹脂、ＰＳＧ（リンガラス）、ＢＰＳＧ（リンボロンガラス）等を用いることができる。なお、これらの材料で形成される絶縁膜を複数積層させることで、絶縁層を形成してもよい。
【０１１２】
積層する絶縁層の形成法は、特に限定されず、その材料に応じて、スパッタ法、ＳＯＧ法、スピンコート、ディップ、スプレー塗布、液滴吐出法（インクジェット法、スクリーン印刷、オフセット印刷等）、ドクターナイフ、ロールコーター、カーテンコーター、ナイフコーター等を用いることができる。絶縁層を材料液を用いて形成する場合、ベークする工程で同時に、半導体層に熱処理（２００℃〜４００℃）を行ってもよい。絶縁層の焼成工程と半導体層の熱処理を兼ねることで効率よく液晶表示装置を作製することが可能となる。
【０１１３】
液晶層４００７に、電圧を印加する電極層（画素電極層４０３０、共通電極層４０３１など）においては、透光性を有する導電材料が好ましいが、電極層のパターンによっては、金属膜などの非透光性材料を用いてもよい。
【０１１４】
透光性を有する導電材料として、インジウム錫酸化物、酸化インジウムに酸化亜鉛（ＺｎＯ）を混合した導電材料、酸化インジウムに酸化珪素（ＳｉＯ２）を混合した導電材料、有機インジウム、有機スズ、酸化タングステンを含むインジウム酸化物、酸化タングステンを含むインジウム亜鉛酸化物、酸化チタンを含むインジウム酸化物、酸化チタンを含むインジウム錫酸化物などが挙げられる。また、その他の導電材料として、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ハフニウム（Ｈｆ）、バナジウム（Ｖ）、ニオブ（Ｎｂ）、タンタル（Ｔａ）、クロム（Ｃｒ）、コバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）、チタン（Ｔｉ）、白金（Ｐｔ）、アルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）等の金属、又はその合金、若しくはその金属窒化物から一つ、又は複数種を用いることができる。
【０１１５】
また、電極層として、導電性高分子（導電性ポリマーともいう）を含む導電性組成物を用いて形成することができる。導電性組成物を用いて形成した画素電極は、シート抵抗が１００００Ω／□以下、波長５５０ｎｍにおける透光率が７０％以上であることが好ましい。また、導電性組成物に含まれる導電性高分子の抵抗率が０．１Ω・ｃｍ以下であることが好ましい。
【０１１６】
導電性高分子としては、いわゆるπ電子共役系導電性高分子を用いることができる。例えば、ポリアニリンまたはその誘導体、ポリピロールまたはその誘導体、ポリチオフェンまたはその誘導体、若しくはこれらの２種以上の共重合体などがあげられる。
【０１１７】
また別途形成された信号線駆動回路４００３と、走査線駆動回路４００４または画素部４００２に与えられる各種信号及び電位は、ＦＰＣ４０１８から供給されている。
【０１１８】
また、薄膜トランジスタは静電気などにより破壊されやすいため、ゲート線またはソース線に対して、駆動回路保護用の保護回路を同一基板上に設けることが好ましい。保護回路は、非線形素子を用いて構成することが好ましい。
【０１１９】
図８では、接続端子電極４０１５が、画素電極層４０３０と同じ導電膜から形成され、端子電極４０１６は、薄膜トランジスタ４０１０、４０１１のソース電極層及びドレイン電極層と同じ導電膜で形成されている。
【０１２０】
接続端子電極４０１５は、ＦＰＣ４０１８が有する端子と、異方性導電膜４０１９を介して電気的に接続されている。
【０１２１】
また、図８（Ａ１）においては、信号線駆動回路４００３を別途形成し、基板４００１に実装している例を示し、また、図８（Ａ２）においては、信号線駆動回路４００３ａを別途形成し、ＦＰＣ４０１８に実装している例を示しているが、この構成に限定されない。走査線駆動回路を別途形成して実装しても良いし、信号線駆動回路の一部または走査線駆動回路の一部のみを別途形成して実装しても良い。
【０１２２】
図９は、本明細書に開示する液晶表示装置として液晶表示モジュールを構成する一例を示している。
【０１２３】
図９は液晶表示モジュールの一例であり、素子基板２６００と対向基板２６０１がシール材２６０２により固着され、その間にＴＦＴ等を含む素子層２６０３、液晶層を含む表示素子２６０４、カラーフィルタとして機能する着色層２６０５、偏光板２６０６が設けられ表示領域に形成している有彩色の透光性樹脂層である着色層２６０５はカラー表示を行う場合に必要であり、ＲＧＢ方式の場合は、赤、緑、青の各色に対応した着色層が各画素に対応して設けられている。素子基板２６００と対向基板２６０１の外側には偏光板２６０６、偏光板２６０７、拡散板２６１３が配設されている。光源は冷陰極管２６１０と反射板２６１１により構成され、回路基板２６１２は、フレキシブル配線基板２６０９により素子基板２６００の配線回路部２６０８と接続され、コントロール回路や電源回路などの外部回路が組みこまれている。また、光源として、白色のダイオードを用いてもよい。また偏光板と、液晶層との間に位相差板を有した状態で積層してもよい。
【０１２４】
以上の工程により、液晶表示装置として信頼性の高い液晶表示パネルを作製することができる。
【０１２５】
本実施の形態は、他の実施の形態に記載した構成と適宜組み合わせて実施することが可能である。
【０１２６】
（実施の形態５）
本明細書で開示する液晶表示装置が有する薄膜トランジスタの半導体層に用いられる半導体材料は特に限定されない。薄膜トランジスタの半導体層に用いることのできる材料の例を説明する。
【０１２７】
半導体素子が有する半導体層を形成する材料は、シランやゲルマンに代表される半導体材料ガスを用いて気相成長法やスパッタリング法で作製される非晶質（アモルファス、以下「ＡＳ」ともいう。）半導体、該非晶質半導体を光エネルギーや熱エネルギーを利用して結晶化させた多結晶半導体、或いは微結晶（セミアモルファス若しくはマイクロクリスタルとも呼ばれる。以下「ＳＡＳ」ともいう。）半導体などを用いることができる。半導体層はスパッタ法、ＬＰＣＶＤ法、またはプラズマＣＶＤ法等により成膜することができる。
【０１２８】
微結晶半導体膜は、ギブスの自由エネルギーを考慮すれば非晶質と単結晶の中間的な準安定状態に属するものである。すなわち、自由エネルギー的に安定な第３の状態を有する半導体であって、短距離秩序を持ち格子歪みを有する。柱状または針状結晶が基板表面に対して法線方向に成長している。微結晶半導体の代表例である微結晶シリコンは、そのラマンスペクトルが単結晶シリコンを示す５２０ｃｍ−１よりも低波数側に、シフトしている。即ち、単結晶シリコンを示す５２０ｃｍ−１とアモルファスシリコンを示す４８０ｃｍ−１の間に微結晶シリコンのラマンスペクトルのピークがある。また、未結合手（ダングリングボンド）を終端するため水素またはハロゲンを少なくとも１原子％またはそれ以上含ませている。さらに、ヘリウム、アルゴン、クリプトン、ネオンなどの希ガス元素を含ませて格子歪みをさらに助長させることで、安定性が増し良好な微結晶半導体膜が得られる。
【０１２９】
この微結晶半導体膜は、周波数が数十ＭＨｚ〜数百ＭＨｚの高周波プラズマＣＶＤ法、または周波数が１ＧＨｚ以上のマイクロ波プラズマＣＶＤ装置により形成することができる。代表的には、ＳｉＨ４、Ｓｉ２Ｈ６、ＳｉＨ２Ｃｌ２、ＳｉＨＣｌ３、ＳｉＣｌ４、ＳｉＦ４などの水素化珪素を水素で希釈して形成することができる。また、水素化珪素及び水素に加え、ヘリウム、アルゴン、クリプトン、ネオンから選ばれた一種または複数種の希ガス元素で希釈して微結晶半導体膜を形成することができる。これらのときの水素化珪素に対して水素の流量比を５倍以上２００倍以下、好ましくは５０倍以上１５０倍以下、更に好ましくは１００倍とする。
【０１３０】
アモルファス半導体としては、代表的には水素化アモルファスシリコン、結晶性半導体としては代表的にはポリシリコンなどがあげられる。ポリシリコン（多結晶シリコン）には、８００℃以上のプロセス温度を経て形成されるポリシリコンを主材料として用いた所謂高温ポリシリコンや、６００℃以下のプロセス温度で形成されるポリシリコンを主材料として用いた所謂低温ポリシリコン、また結晶化を促進する元素などを用いて、非晶質シリコンを結晶化させたポリシリコンなどを含んでいる。もちろん、前述したように、微結晶半導体又は半導体層の一部に結晶相を含む半導体を用いることもできる。
【０１３１】
また、半導体の材料としてはシリコン（Ｓｉ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）などの単体のほかＧａＡｓ、ＩｎＰ、ＳｉＣ、ＺｎＳｅ、ＧａＮ、ＳｉＧｅなどのような化合物半導体も用いることができる。
【０１３２】
半導体層に、結晶性半導体膜を用いる場合、その結晶性半導体膜の作製方法は、種々の方法（レーザ結晶化法、熱結晶化法、またはニッケルなどの結晶化を助長する元素を用いた熱結晶化法等）を用いれば良い。また、ＳＡＳである微結晶半導体をレーザ照射して結晶化し、結晶性を高めることもできる。結晶化を助長する元素を導入しない場合は、非晶質珪素膜にレーザ光を照射する前に、窒素雰囲気下５００℃で１時間加熱することによって非晶質珪素膜の含有水素濃度を１×１０２０ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以下にまで放出させる。これは水素を多く含んだ非晶質珪素膜にレーザ光を照射すると非晶質珪素膜が破壊されてしまうからである。
【０１３３】
非晶質半導体層への金属元素の導入の仕方としては、当該金属元素を非晶質半導体膜の表面又はその内部に存在させ得る手法であれば特に限定はなく、例えばスパッタ法、ＣＶＤ法、プラズマ処理法（プラズマＣＶＤ法も含む）、吸着法、金属塩の溶液を塗布する方法を使用することができる。このうち溶液を用いる方法は簡便であり、金属元素の濃度調整が容易であるという点で有用である。また、このとき非晶質半導体膜の表面の濡れ性を改善し、非晶質半導体膜の表面全体に水溶液を行き渡らせるため、酸素雰囲気中でのＵＶ光の照射、熱酸化法、ヒドロキシラジカルを含むオゾン水又は過酸化水素による処理等により、酸化膜を成膜することが望ましい。
【０１３４】
また、非晶質半導体膜を結晶化し、結晶性半導体膜を形成する結晶化工程で、非晶質半導体膜に結晶化を促進する元素（触媒元素、金属元素とも示す）を添加し、熱処理（５５０℃〜７５０℃で３分〜２４時間）により結晶化を行ってもよい。結晶化を助長（促進）する元素としては、鉄（Ｆｅ）、ニッケル（Ｎｉ）、コバルト（Ｃｏ）、ルテニウム（Ｒｕ）、ロジウム（Ｒｈ）、パラジウム（Ｐｄ）、オスミウム（Ｏｓ）、イリジウム（Ｉｒ）、白金（Ｐｔ）、銅（Ｃｕ）及び金（Ａｕ）から選ばれた一種又は複数種類を用いることができる。
【０１３５】
結晶化を助長する元素を結晶性半導体膜から除去、又は軽減するため、結晶性半導体膜に接して、不純物元素を含む半導体膜を形成し、ゲッタリングシンクとして機能させる。不純物元素としては、ｎ型を付与する不純物元素、ｐ型を付与する不純物元素や希ガス元素などを用いることができ、例えばリン（Ｐ）、窒素（Ｎ）、ヒ素（Ａｓ）、アンチモン（Ｓｂ）、ビスマス（Ｂｉ）、ボロン（Ｂ）、ヘリウム（Ｈｅ）、ネオン（Ｎｅ）、アルゴン（Ａｒ）、クリプトン（Ｋｒ）、キセノン（Ｘｅ）から選ばれた一種または複数種を用いることができる。結晶化を促進する元素を含む結晶性半導体膜に、希ガス元素を含む半導体膜を形成し、熱処理（５５０℃〜７５０℃で３分〜２４時間）を行う。結晶性半導体膜中に含まれる結晶化を促進する元素は、希ガス元素を含む半導体膜中に移動し、結晶性半導体膜中の結晶化を促進する元素は除去、又は軽減される。その後、ゲッタリングシンクとなった希ガス元素を含む半導体膜を除去する。
【０１３６】
非晶質半導体膜の結晶化は、熱処理とレーザ光照射による結晶化を組み合わせてもよく、熱処理やレーザ光照射を単独で、複数回行っても良い。
【０１３７】
また、結晶性半導体膜を、直接基板にプラズマ法により形成しても良い。また、プラズマ法を用いて、結晶性半導体膜を選択的に基板に形成してもよい。
【０１３８】
また半導体層に、酸化物半導体を用いてもよい。例えば、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ２）なども用いることができる。ＺｎＯを半導体層に用いる場合、ゲート絶縁層をＹ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、それらの積層などを用い、ゲート電極層、ソース電極層、ドレイン電極層としては、ＩＴＯ、Ａｕ、Ｔｉなどを用いることができる。また、ＺｎＯにＩｎやＧａなどを添加することもできる。
【０１３９】
酸化物半導体としてＩｎＭＯ３（ＺｎＯ）ｍ（ｍ＞０）で表記される薄膜を用いることができる。なお、Ｍは、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、ニッケル（Ｎｉ）、マンガン（Ｍｎ）及びコバルト（Ｃｏ）から選ばれた一の金属元素又は複数の金属元素を示す。例えばＭとして、Ｇａの場合があることの他、ＧａとＮｉ又はＧａとＦｅなど、Ｇａ以外の上記金属元素が含まれる場合がある。また、上記酸化物半導体において、Ｍとして含まれる金属元素の他に、不純物元素としてＦｅ、Ｎｉその他の遷移金属元素、又は該遷移金属の酸化物が含まれているものがある。例えば、酸化物半導体層としてＩｎ−Ｇａ−Ｚｎ−Ｏ系非単結晶膜を用いることができる。
【０１４０】
酸化物半導体層（ＩｎＭＯ３（ＺｎＯ）ｍ（ｍ＞０）膜）としてＩｎ−Ｇａ−Ｚｎ−Ｏ系非単結晶膜のかわりに、Ｍを他の金属元素とするＩｎＭＯ３（ＺｎＯ）ｍ（ｍ＞０）膜を用いてもよい。
【０１４１】
本実施の形態は、他の実施の形態に記載した構成と適宜組み合わせて実施することが可能である。
【０１４２】
（実施の形態６）
本明細書に開示する液晶表示装置は、さまざまな電子機器（遊技機も含む）に適用することができる。電子機器としては、例えば、テレビジョン装置（テレビ、またはテレビジョン受信機ともいう）、コンピュータ用などのモニタ、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、デジタルフォトフレーム、携帯電話機（携帯電話、携帯電話装置ともいう）、携帯型ゲーム機、携帯情報端末、音響再生装置、パチンコ機などの大型ゲーム機などが挙げられる。
【０１４３】
図１０（Ａ）は電子書籍（Ｅ−ｂｏｏｋともいう）であり、筐体９６３０、表示部９６３１、操作キー９６３２、太陽電池９６３３、充放電制御回路９６３４を有することができる。図１０（Ａ）に示した電子書籍は、様々な情報（静止画、動画、テキスト画像など）を表示する機能、カレンダー、日付又は時刻などを表示部に表示する機能、表示部に表示した情報を操作又は編集する機能、様々なソフトウェア（プログラム）によって処理を制御する機能、等を有することができる。なお。図１０（Ａ）では充放電制御回路９６３４の一例としてバッテリー９６３５、ＤＣＤＣコンバータ（以下、コンバータと略記）９６３６を有する構成について示している。先の実施の形態で示した液晶表示装置を表示部９６３１に適用することにより、表示品位が高く、信頼性の高い電子書籍とすることができる。
【０１４４】
図１０（Ａ）に示す構成とすることにより、表示部９６３１として半透過型、又は反射型の液晶表示装置を用いる場合、比較的明るい状況下での使用も予想され、太陽電池９６３３による発電、及びバッテリー９６３５での充電を効率よく行うことができ、好適である。なお太陽電池９６３３は、筐体９６３０の空きスペース（表面や裏面）に適宜設けることができるため、効率的なバッテリー９６３５の充電を行う構成とすることができるため好適である。なおバッテリー９６３５としては、リチウムイオン電池を用いると、小型化を図れる等の利点がある。
【０１４５】
また図１０（Ａ）に示す充放電制御回路９６３４の構成、及び動作について図１０（Ｂ）にブロック図を示し説明する。図１０（Ｂ）には、太陽電池９６３３、バッテリー９６３５、コンバータ９６３６、コンバータ９６３７、スイッチＳＷ１乃至ＳＷ３、表示部９６３１について示しており、バッテリー９６３５、コンバータ９６３６、コンバータ９６３７、スイッチＳＷ１乃至ＳＷ３が充放電制御回路９６３４に対応する箇所となる。
【０１４６】
まず外光により太陽電池９６３３により発電がされる場合の動作の例について説明する。太陽電池で発電した電力は、バッテリー９６３５を充電するための電圧となるようコンバータ９６３６で昇圧または降圧がなされる。そして、表示部９６３１の動作に太陽電池９６３３からの電力が用いられる際にはスイッチＳＷ１をオンにし、コンバータ９６３７で表示部９６３１に必要な電圧に昇圧または降圧をすることとなる。また、表示部９６３１での表示を行わない際には、ＳＷ１をオフにし、ＳＷ２をオンにしてバッテリー９６３５の充電を行う構成とすればよい。
【０１４７】
次いで外光により太陽電池９６３３により発電がされない場合の動作の例について説明する。バッテリー９６３５に蓄電された電力は、スイッチＳＷ３をオンにすることでコンバータ９６３７により昇圧または降圧がなされる。そして、表示部９６３１の動作にバッテリー９６３５からの電力が用いられることとなる。
【０１４８】
なお太陽電池９６３３については、充電手段の一例として示したが、他の手段によるバッテリー９６３５の充電を行う構成であってもよい。また他の充電手段を組み合わせて行う構成としてもよい。
【０１４９】
図１１（Ａ）は、ノート型のパーソナルコンピュータであり、本体３００１、筐体３００２、表示部３００３、キーボード３００４などによって構成されている。先の実施の形態で示した液晶表示装置を表示部３００３に適用することにより、表示品位が高く、信頼性の高いノート型のパーソナルコンピュータとすることができる。
【０１５０】
図１１（Ｂ）は、携帯情報端末（ＰＤＡ）であり、本体３０２１には表示部３０２３と、外部インターフェイス３０２５と、操作ボタン３０２４等が設けられている。また操作用の付属品としてスタイラス３０２２がある。先の実施の形態で示した液晶表示装置を表示部３０２３に適用することにより、表示品位が高く、信頼性の高い携帯情報端末（ＰＤＡ）とすることができる。
【０１５１】
図１１（Ｃ）は、電子書籍であり、筐体２７０１および筐体２７０３の２つの筐体で構成されている。筐体２７０１および筐体２７０３は、軸部２７１１により一体とされており、該軸部２７１１を軸として開閉動作を行うことができる。このような構成により、紙の書籍のような動作を行うことが可能となる。
【０１５２】
筐体２７０１には表示部２７０５が組み込まれ、筐体２７０３には表示部２７０７が組み込まれている。表示部２７０５および表示部２７０７は、続き画面を表示する構成としてもよいし、異なる画面を表示する構成としてもよい。異なる画面を表示する構成とすることで、例えば右側の表示部（図１１（Ｃ）では表示部２７０５）に文章を表示し、左側の表示部（図１１（Ｃ）では表示部２７０７）に画像を表示することができる。先の実施の形態で示した液晶表示装置を表示部２７０５、表示部２７０７に適用することにより、表示品位が高く、信頼性の高い電子書籍とすることができる。
【０１５３】
また、図１１（Ｃ）では、筐体２７０１に操作部などを備えた例を示している。例えば、筐体２７０１において、電源２７２１、操作キー２７２３、スピーカー２７２５などを備えている。操作キー２７２３により、頁を送ることができる。なお、筐体の表示部と同一面にキーボードやポインティングデバイスなどを備える構成としてもよい。また、筐体の裏面や側面に、外部接続用端子（イヤホン端子、ＵＳＢ端子など）、記録媒体挿入部などを備える構成としてもよい。さらに、電子書籍は、電子辞書としての機能を持たせた構成としてもよい。
【０１５４】
また、電子書籍は、無線で情報を送受信できる構成としてもよい。無線により、電子書籍サーバから、所望の書籍データなどを購入し、ダウンロードする構成とすることも可能である。
【０１５５】
図１１（Ｄ）は、携帯電話であり、筐体２８００及び筐体２８０１の二つの筐体で構成されている。筐体２８０１には、表示パネル２８０２、スピーカー２８０３、マイクロフォン２８０４、ポインティングデバイス２８０６、カメラ用レンズ２８０７、外部接続端子２８０８などを備えている。また、筐体２８００には、携帯型情報端末の充電を行う太陽電池セル２８１０、外部メモリスロット２８１１などを備えている。また、アンテナは筐体２８０１内部に内蔵されている。先の実施の形態で示した液晶表示装置を表示パネル２８０２に適用することにより、表示品位が高く、信頼性の高い携帯電話とすることができる。
【０１５６】
また、表示パネル２８０２はタッチパネルを備えており、図１１（Ｄ）には映像表示されている複数の操作キー２８０５を点線で示している。なお、太陽電池セル２８１０で出力される電圧を各回路に必要な電圧に昇圧するための昇圧回路も実装している。
【０１５７】
表示パネル２８０２は、使用形態に応じて表示の方向が適宜変化する。また、表示パネル２８０２と同一面上にカメラ用レンズ２８０７を備えているため、テレビ電話が可能である。スピーカー２８０３及びマイクロフォン２８０４は音声通話に限らず、テレビ電話、録音、再生などが可能である。さらに、筐体２８００と筐体２８０１は、スライドし、図１１（Ｄ）のように展開している状態から重なり合った状態とすることができ、携帯に適した小型化が可能である。
【０１５８】
外部接続端子２８０８はＡＣアダプタ及びＵＳＢケーブルなどの各種ケーブルと接続可能であり、充電及びパーソナルコンピュータなどとのデータ通信が可能である。また、外部メモリスロット２８１１に記録媒体を挿入し、より大量のデータ保存及び移動に対応できる。
【０１５９】
また、上記機能に加えて、赤外線通信機能、テレビ受信機能などを備えたものであってもよい。
【０１６０】
図１１（Ｅ）は、デジタルビデオカメラであり、本体３０５１、表示部（Ａ）３０５７、接眼部３０５３、操作スイッチ３０５４、表示部（Ｂ）３０５５、バッテリー３０５６などによって構成されている。先の実施の形態で示した液晶表示装置を表示部（Ａ）３０５７、表示部（Ｂ）３０５５に適用することにより、表示品位が高く、信頼性の高いデジタルビデオカメラとすることができる。
【０１６１】
図１１（Ｆ）は、テレビジョン装置であり、筐体９６０１に表示部９６０３などによって構成されている。表示部９６０３により、映像を表示することが可能である。また、ここでは、スタンド９６０５により筐体９６０１を支持した構成を示している。先の実施の形態で示した液晶表示装置を表示部９６０３に適用することにより、表示品位が高く、信頼性の高いテレビジョン装置とすることができる。
【０１６２】
テレビジョン装置の操作は、筐体９６０１が備える操作スイッチや、別体のリモコン操作機により行うことができる。また、リモコン操作機に、当該リモコン操作機から出力する情報を表示する表示部を設ける構成としてもよい。
【０１６３】
なお、テレビジョン装置は、受信機やモデムなどを備えた構成とする。受信機により一般のテレビ放送の受信を行うことができ、さらにモデムを介して有線または無線による通信ネットワークに接続することにより、一方向（送信者から受信者）または双方向（送信者と受信者間、あるいは受信者間同士など）の情報通信を行うことも可能である。
【０１６４】
本実施の形態は、他の実施の形態に記載した構成と適宜組み合わせて実施することが可能である。
【実施例】
【０１６５】
本実施例では、本発明の一態様に係る液晶表示装置の作製方法によって、液晶表示装置を作製した場合について説明する。
【０１６６】
まず、本実施例試料１の作製方法について説明する。
【０１６７】
まず、５インチのガラス基板５００（コーニング社製：ＥＡＧＬＥＸＧ）上に、直径４μｍのスペーサを散布した後、光及び熱併用硬化型のシール材５０３を形成した（図１２（Ａ）参照）。光及び熱併用硬化型のシール材５０３は、縦４ｃｍ×横３ｃｍの長方形状に形成した。
【０１６８】
光及び熱併用硬化型のシール材５０３としては、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、紫外線重合開始剤、熱硬化剤及びカップリング剤を有し、粘度が３００Ｐａ・ｓｅｃ（２５℃）の樹脂を用いて形成した。
【０１６９】
次に、ガラス基板５００上のシール材５０３の内側に液晶材料５１２を滴下した（図１２（Ｂ）参照）。液晶材料５１２として、ブルー相を示す液晶材料を８４．９ｗｔ％、カイラル剤を６．９ｗｔ％、重合性モノマーとしてメタクリル酸ドデシル（（ＤＭｅＡｃ）（略称）（東京化成工業株式会社製））を４．０ｗｔ％、及びＲＭ２５７（メルク株式会社製）を４．０ｗｔ％、重合開始剤としてＤＭＰＡＰ（略称）（東京化成工業株式会社製）を０．２ｗｔ％用いた。
【０１７０】
この際、液晶材料５１２の温度を等方相である７０℃とし、シール材５０３の内側に約１４ｍｇの量の液晶材料を滴下した。
【０１７１】
次に、ガラス基板５００にガラス基板５０１（コーニング社製：ＥＡＧＬＥＸＧ）を貼り合わせた。ここでは、ガラス基板５０１をチャンバー内の上側に静電チャックで固定し、液晶材料５１２が滴下されたガラス基板５００をチャンバー内の下側に設置した後、チャンバー内を１００Ｐａまで減圧してガラス基板５００とガラス基板５０１を貼り合わせた。その後、チャンバーを大気開放した。
【０１７２】
この時点で、ガラス基板５００とガラス基板５０１の間隔は４μｍ程度であり、液晶材料５１２がシール材５０３内の９割程度まで広がり、液晶層５１０が形成された（図１２（Ｃ）参照）。
【０１７３】
次に、シール材５０３及びシール材５０３近傍の液晶層５１０を覆うように、遮光性を有する遮光体５１１を設けた（図１２（Ｄ）参照）。
【０１７４】
次に、液晶層５１０を７０℃まで加熱し、液晶層５１０をシール材５０３内全面に広げた後、５０℃から−１℃／ｍｉｎで降温させ、等方相からブルー相へ相転移して、ブルー相が全面に広がった３６℃で温度を保持して、第１の光照射処理として、３６５ｎｍを主波長とする紫外線（１．５ｍＷ／ｃｍ２）を３０分照射した。（図１２（Ｅ）参照）。また、第１の光照射処理によって、液晶層５１０において、重合性モノマーが重合した領域として第１の領域５０６が形成され、遮光体５１１によって覆われていた第２の領域５０７が形成された。
【０１７５】
次に、遮光体５１１を除去し、シール材５０３及び液晶層５１０全域に、第２の光照射処理として、３６５ｎｍを主波長とする紫外線（１．５ｍＷ／ｃｍ２）を３０分照射した。第２の光照射処理によって、第１の領域５０６は重合性が高められた第１の領域５０８となり、第２の領域５０７は、重合性モノマーが重合した第２の領域５０９となった。また、シール材５０３は、光が照射されたことによって硬化した。
【０１７６】
次に、熱処理を行うことにより、光及び熱併用硬化型のシール材５０３の本硬化を行った。その結果、本硬化したシール材５２３が得られた。その後、ガラス基板５００とガラス基板５０１を分断し、分断したパネルにＦＰＣ等を設けることにより液晶表示装置（実施例試料１）を作製した。
【０１７７】
次に、比較例試料１の作製方法について説明する。
【０１７８】
比較例試料１は、図１２（Ｄ）において、遮光体５１１を用いず、シール材５０３及び液晶層５１０全域に、光照射処理として、３６５ｎｍを主波長とする紫外線（１．５ｍＷ／ｃｍ２）を３０分照射し、２回目の光照射処理を行わなかったこと以外は、実施例試料１と同様に作製した。
【０１７９】
図１３は、ＦＰＣ貼り付け直後の外観写真である。図１３（Ａ）は実施例試料１の外観写真であり、図１３（Ｂ）は比較例試料１の外観写真である。
【０１８０】
図１３（Ｂ）に示すように、シール材５０３及び液晶層５１０全域に一度だけ光照射処理を行った比較例試料１は、液晶層全体に液晶組成物の配向乱れに起因する表示欠陥が確認された。これに対し、図１３（Ａ）に示すように、２段階の光照射処理を行った実施例試料１は、液晶組成物の配向乱れに起因する表示欠陥は確認されなかった。
【０１８１】
以上により、本発明の一態様に係る作製方法を用いることで、表示品位が向上し、信頼性の向上した液晶表示装置が作製できることが示された。
【符号の説明】
【０１８２】
１００    基板
１０１    基板
１０３    シール材
１０４    光
１０４ａ  光
１０４ｂ  光
１０４ｃ  光
１０４ｄ  光
１０４ｅ  光
１０５    矢印
１０６    第１の領域
１０７    第２の領域
１０８    第１の領域
１０９    第２の領域
１１０    液晶層
１１１    遮光体
１１２    領域
１２３    シール材
２００    基板
２０１    基板
２０３ａ    シール材
２０３ｂ    シール材
２０３ｃ    シール材
２０３ｄ    シール材
２０４    光
２０５    矢印
２０６ａ    第１の領域
２０６ｂ    第１の領域
２０６ｃ    第１の領域
２０６ｄ    第１の領域
２０７ａ    第２の領域
２０７ｂ    第２の領域
２０７ｃ    第２の領域
２０７ｄ    第２の領域
２０８ａ    第１の領域
２０８ｂ    第１の領域
２０８ｃ    第１の領域
２０９ａ    第２の領域
２０９ｂ    第２の領域
２０９ｃ    第２の領域
２１０ａ    液晶層
２１０ｂ    液晶層
２１０ｃ    液晶層
２１０ｄ    液晶層
２１１    遮光体
５００    ガラス基板
５０１    ガラス基板
５０３    シール材
５０６    第１の領域
５０７    第２の領域
５０８    第１の領域
５０９    第２の領域
５１０    液晶層
５１１    遮光体
５１２    液晶材料
５２３    シール材
２６００    素子基板
２６０１    対向基板
２６０２    シール材
２６０３    素子層
２６０４    表示素子
２６０５    着色層
２６０６    偏光板
２６０７    偏光板
２６０８    配線回路部
２６０９    フレキシブル配線基板
２６１０    冷陰極管
２６１１    反射板
２６１２    回路基板
２６１３    拡散板
２７０１    筐体
２７０３    筐体
２７０５    表示部
２７０７    表示部
２７１１    軸部
２７２１    電源
２７２３    操作キー
２７２５    スピーカー
２８００    筐体
２８０１    筐体
２８０２    表示パネル
２８０３    スピーカー
２８０４    マイクロフォン
２８０５    操作キー
２８０６    ポインティングデバイス
２８０７    カメラ用レンズ
２８０８    外部接続端子
２８１０    太陽電池セル
２８１１    外部メモリスロット
３００１    本体
３００２    筐体
３００３    表示部
３００４    キーボード
３０２１    本体
３０２２    スタイラス
３０２３    表示部
３０２４    操作ボタン
３０２５    外部インターフェイス
３０５１    本体
３０５３    接眼部
３０５４    操作スイッチ
３０５５    表示部（Ｂ）
３０５６    バッテリー
３０５７    表示部（Ａ）
４００１    基板
４００２    画素部
４００３    信号線駆動回路
４００３ａ    信号線駆動回路
４００３ｂ    信号線駆動回路
４００４    走査線駆動回路
４００５    シール材
４００６    基板
４００７    液晶層
４００８    第１の領域
４００９    第２の領域
４０１０    薄膜トランジスタ
４０１１    薄膜トランジスタ
４０１３    液晶素子
４０１５    接続端子電極
４０１６    端子電極
４０１８    ＦＰＣ
４０１９    異方性導電膜
４０２０    絶縁層
４０２１    層間膜
４０３０    画素電極層
４０３１    共通電極層
４０３２    偏光板
４０３４    遮光層
９６０１    筐体
９６０３    表示部
９６０５    スタンド
９６３０    筐体
９６３１    表示部
９６３２    操作キー
９６３３    太陽電池
９６３４    充放電制御回路
９６３５    バッテリー
９６３６    コンバータ
９６３７    コンバータ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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