(57)【要約】【課題】クリア感を維持しつつハードコート層の干渉ムラを抑え、粘着加工直後から粘着特性を得られるディスプレイ用光学フィルタを提供する。【解決手段】透明基材フィルムとメッシュ状の電磁波遮蔽層とハードコート層とジイモニウム塩化合物を含む近赤外線吸収性粘着層とを備える。ハードコート層は、活性エネルギー線硬化型樹脂７５〜９９質量部、光重合開始剤０．５〜１０質量部、金属酸化物粒子０．５〜２０質量部含み、厚み８〜１４μｍ、Ｒａ０．０８〜０．１２μｍである。電磁波遮蔽層の厚みは２〜８μｍである。近赤外線吸収性粘着層は、変性（メタ）アクリル系重合体８０〜９５質量部、重合性不飽和基を有するカルボン酸成分５〜２０質量部、ジイモニウム塩化合物１．０〜２．５質量部、光重合開始剤０．５〜１．０質量部、シラン化合物１．０〜２．０質量部含み、紫外線により硬化させてなる。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材フィルムの一方の面に形成されたメッシュ状の電磁波遮蔽層と、該電磁波遮蔽層の上に積層されたハードコート層と、前記透明基材フィルムの他方の面に積層された、下記一般式（１）で表されるジイモニウム塩化合物を含む近赤外線吸収性粘着層とを備えるディスプレイ用光学フィルタであって、
前記ハードコート層が、活性エネルギー線硬化型樹脂（ａ１）と光重合開始剤（ａ２）と金属酸化物粒子（ａ３）との合計を１００質量部としたとき、
ａ１：活性エネルギー線硬化型樹脂を７５〜９９質量部
ａ２：光重合開始剤を０．５〜１０質量部
ａ３：金属酸化物粒子を０．５〜２０質量部
含み、
該ハードコート層の厚みが８μｍ〜１４μｍ、表面粗さ（Ｒａ）が０．０８μｍ〜０．１２μｍであり、
前記電磁波遮蔽層の厚みが２μｍ〜８μｍであり、
前記近赤外線吸収性粘着層が、変性（メタ）アクリル系重合体（ｂ１）と重合性不飽和基を有するカルボン酸成分（ｂ２）との合計を１００質量部としたとき、
ｂ１：変性（メタ）アクリル系重合体を８０〜９９質量部
ｂ２：重合性不飽和基を有するカルボン酸成分を１〜２０質量部
含み、さらに
ｃ１：前記ジイモニウム塩化合物を１．０〜２．５質量部
ｃ２：光重合開始剤を０．５〜１．０質量部
ｃ３：シラン化合物を１．０〜２．０質量部
含み、
紫外線により近赤外線吸収性粘着層を硬化させてなることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ。
【化１】
2012133092.tif 000006
（一般式（１）において、Ｘはヘキサフルオロアンチモン酸イオン又はヘキサフルオロリン酸イオンであり、Ｒ１〜Ｒ８は、炭素数４〜９の環状アルキル基を有するアルキレン基、またはアルコキシ基を有するアルキレン基を表わす。）
【請求項２】
前記赤外線吸収性粘着層を介してガラス板が貼合されている、請求項１に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えばプラズマディスプレイパネル等の電子ディスプレイパネルのハードコート機能、電磁波遮蔽機能、近赤外線吸収機能を有するディスプレイ用光学フィルタに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年の高度情報化社会において、電子ディスプレイ等の光エレクトロニクス機器はテレビジョンやパーソナルコンピュータのモニター用等として著しい進歩を遂げ、広く普及している。中でもプラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと称す）は電子ディスプレイパネルの大型化や薄型化に伴って注目を浴びているが、動作原理上発せられる近赤外線や、電磁波によってリモートコントロール機器等の周辺機器の誤動作を引き起こしたり、人体に悪影響を及ぼすといった問題がある。また、薄型化や軽量化のためには種々の機能の複合化や部材点数の削減をしなければならないという問題もある。
【０００３】
これらの問題を解決する手段の一つとして、透明基材フィルムの一方の面に形成した金属メッシュ状の電磁波遮蔽層の上に、ハードコート層や反射防止層を付与し、透明基材フィルムの他方の面に近赤外線吸収層や粘着層を付与した光学フィルタが知られている（特許文献１）。一方、特定のジイモニウム塩化合物を含む近赤外線吸収層と粘着層とを複合化した近赤外線吸収性粘着層を備える光学フィルタも提案されている（特許文献２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−１３９８３９号公報
【特許文献２】特開２０１０−１８７７３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、特許文献１のような光学フィルタは、ハードコート層の光の干渉により、干渉ムラが悪いという問題があった。また、特許文献２では所望の粘着特性を得るために約７日間のエイジングが必要な熱硬化系の粘着剤を使用しているため、粘着加工直後に所望の粘着特性を得ることができないという問題があった。
【０００６】
そこで、本発明は上記課題を解決するものであって、その目的とするところは、クリア感を維持しつつ、ハードコート層の干渉ムラを抑え、粘着加工直後であっても所望の粘着特性を得ることができるとともに、耐久性能の良好なディスプレイ用光学フィルタを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記の目的を達成するために、第１の発明は、透明基材フィルムの一方の面に形成されたメッシュ状の電磁波遮蔽層と、該電磁波遮蔽層の上に積層されたハードコート層と、前記透明基材フィルムの他方の面に積層された、下記一般式（１）で表されるジイモニウム塩化合物を含む近赤外線吸収性粘着層とを備えるディスプレイ用光学フィルタであって、前記ハードコート層が、活性エネルギー線硬化型樹脂（ａ１）と光重合開始剤（ａ２）と金属酸化物粒子（ａ３）との合計を１００質量部としたとき、ａ１：活性エネルギー線硬化型樹脂を７５〜９９質量部、ａ２：光重合開始剤を０．５〜１０質量部、ａ３：金属酸化物粒子を０．５〜２０質量部含み、該ハードコート層の厚みが８μｍ〜１４μｍ、表面粗さ（Ｒａ）が０．０８μｍ〜０．１２μｍであり、前記電磁波遮蔽層の厚みが２μｍ〜８μｍであり、前記近赤外線吸収性粘着層が、変性（メタ）アクリル系重合体（ｂ１）と重合性不飽和基を有するカルボン酸成分（ｂ２）との合計を１００質量部としたとき、ｂ１：変性（メタ）アクリル系重合体を８０〜９９質量部、ｂ２：重合性不飽和基を有するカルボン酸成分を１〜２０質量部含み、さらにｃ１：前記ジイモニウム塩化合物を１．０〜２．５質量部、ｃ２：光重合開始剤を０．５〜１．０質量部、ｃ３：シラン化合物を１．０〜２．０質量部含み、紫外線により近赤外線吸収性粘着層を硬化させてなることを特徴とする。
【化１】
2012133092.tif 000002
（一般式（１）において、Ｘはヘキサフルオロアンチモン酸イオン又はヘキサフルオロリン酸イオンであり、Ｒ１〜Ｒ８は、炭素数４〜９の環状アルキル基を有するアルキレン基、またはアルコキシ基を有するアルキレン基を表わす。）
【０００８】
第２の発明は、第１の発明のディスプレイ用光学フィルタの前記赤外線吸収性粘着層を介してガラス板が貼合されている、ディスプレイ用光学フィルタである。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の光学フィルタによれば、ハードコート層や電磁波遮蔽層を上記構成とすることで、ハードコート層のクリア感を維持しつつ、干渉ムラを抑制することができる。また、近赤外線吸収性粘着層は紫外線を照射することにより硬化可能であるため、近赤外線吸収性粘着層の形成後にエイジングを行うことなく粘着加工直後から所望の粘着特性を得ることができる。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明を具体化した実施形態について詳細に説明する。本発明の光学フィルタは、透明基材フィルムの一方の面に形成された電磁波遮蔽層と、該電磁波遮蔽層の上に積層されたハードコート層と、前記透明基材フィルムの他方の面に積層された近赤外線吸収性粘着層とを備えて成る。
【００１１】
＜透明基材フィルム＞
透明基材フィルムは、各層を積層するための透明なフィルム状の基材であって、透明性を有している限り特に制限されないが、光の反射を抑えるため屈折率（ｎ）が１．５５〜１．７０の範囲内のものが好ましい。このような透明基材フィルムを形成する材料としては、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ、ｎ＝１．６５）等のポリエステル、ポリカーボネート（ＰＣ、ｎ＝１．５９）、ポリアリレート（ＰＡＲ、ｎ＝１．６０）及びポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ、ｎ＝１．６５）等が好ましい。これらのうち、ポリエステルフィルム特にポリエチレンテレフタレートフィルムが成形の容易性で好ましい。
【００１２】
透明基材フィルムの厚みは、好ましくは２５〜４００μｍ、さらに好ましくは５０〜２００μｍである。透明基材フィルムの厚みが２５μｍより薄い場合や４００μｍより厚い場合には、近赤外線遮蔽フィルムの製造時及び使用時における取り扱い性が低下して好ましくない。なお、透明基材フィルムには、各種の添加剤が含有されていてもよい。そのような添加剤として例えば、紫外線吸収剤、帯電防止剤、安定剤、可塑剤、滑剤、難燃剤等が挙げられる。
【００１３】
＜電磁波遮蔽層＞
電磁波遮蔽層は、透明基材フィルムの一方の面に導電性金属をメッシュ状に形成してなり、ＰＤＰから発せられる電磁波を遮蔽する機能と、ハードコート層を介して光学フィルタの表面に凹凸をつけて干渉ムラを抑える機能を持つ層である。電磁波遮蔽層は、例えば、（１）銀ペーストインキを所定のメッシュパターンにスクリーン印刷し、これを焼成したもの、（２）パラジウム等の触媒を含有するペーストを所定のメッシュパターンに印刷した後、このメッシュパターンに銅等の金属をめっきしたもの、（３）蒸着法、スパッタ法等により銀、アルミニウム等の導電性物質をメッシュパターンに形成したもの、（４）銅等の金属めっき層にエッチングを施してメッシュパターンとしたもの、（５）銅等の金属箔にエッチングを施してメッシュパターンとしたもの、（６）繊維の表面に金属をめっきしたメッシュパターンを透明基材フィルム上に貼り付けたもの等を用いることができる。
【００１４】
電磁波遮蔽層のシート（表面）抵抗は、１Ω/□以下が好ましく、特に好ましくは０．１Ω/□以下である。シート抵抗が低いほど電磁波に対する遮蔽性が高く好ましいが、製造上０．０１Ω/□程度が下限である。
【００１５】
電磁波遮蔽層からなるメッシュのピッチは、５０〜５００μｍの範囲が好ましく、２００〜４００ｎｍの範囲がより好ましい。メッシュのピッチが５０μｍ未満の場合、透過率が低下する傾向にあり、５００μｍを超える場合、導電性が低下する傾向があり好ましくない。
【００１６】
メッシュの線幅は、１〜５０μｍの範囲が好ましく、５〜３０μｍの範囲がより好ましい。メッシュの線幅が１μｍ未満の場合、電磁波に対する遮蔽性が低下する傾向にある。一方、線幅が５０μｍを超える場合、ディスプレイ用光学フィルタの透過率が低下する傾向にある。
【００１７】
メッシュの開口率は６０％以上が好ましく、７０％以上がより好ましく、８０％以上が特に好ましい。メッシュの開口率が高いほど透過率が高く好ましいが、製造上９８％程度が上限である。
【００１８】
メッシュの厚みは２μｍ〜８μｍが好ましく、３μｍ〜７μｍの範囲がより好ましい。メッシュの厚みが２μｍ未満の場合、十分な電磁波に対する遮蔽性が得られず、且つ、ハードコート層の凹凸（表面粗さ）が得られないため干渉ムラを抑えられない。８μｍを超える場合、ハードコート層の凹凸（表面粗さ）が大きくなり過ぎて光学フィルタのクリア感が損なわれるため好ましくない。
【００１９】
＜ハードコート層＞
ハードコート層はＰＤＰの視認側最表面に位置し、傷防止のための層である。ハードコート層は活性エネルギー線硬化型樹脂（ａ１）と光重合開始剤（ａ２）と金属酸化物粒子（ａ３）とを含む。ハードコート層の厚みは８μｍ〜１４μｍであり、９μｍ〜１２μｍが好ましい。ハードコート層の厚みが８μｍ〜１４μｍであれば、ハードコート層の表面すなわち光学フィルタの表面が、電磁波遮蔽層の凹凸の影響を受けた適切な表面粗さとなる。ハードコート層の厚みが８μｍ未満の場合、メッシュ（電磁波遮蔽層）の凹凸に追随してハードコート層の表面粗さが大きくなり過ぎ、光学フィルタのクリア感が損なわれる。一方、ハードコート層の厚みが１４μｍを超える場合、クリア感の高いハードコート層が得られるが、メッシュの凹凸の影響が小さくハードコート層の表面粗さが小さくなり過ぎて干渉ムラが強くなるため好ましくない。
【００２０】
ハードコート層の表面粗さＲａは０．０８μｍ〜０．１２μｍであり、好ましくは、０．０９μｍ〜０．１１μｍである。表面粗さＲａが０．０８μｍ未満の場合、ハードコート層の干渉ムラが強くなり、ハードコート層の表面粗さＲａが０．１２μｍを超える場合、ハードコート層のクリア感が損なわれるため好ましくない。なお、本発明における表面粗さＲａとは、ＪＩＳ  Ｂ０６０１−１９９４で規定される算術平均粗さを意味する。
【００２１】
ハードコート層は、活性エネルギー線硬化型樹脂（ａ１）と光重合開始剤（ａ２）と金属酸化物粒子（ａ３）とを含む重合性バインダー塗布液を塗布硬化して形成される。重合性バインダー塗布液の粘度は、２０℃において１０〜３０ｍＰａ・ｓであることが好ましく、より好ましくは、１２〜２０ｍＰａ・ｓである。粘度が１０ｍＰａ・ｓより低い場合、クリア感の高いハードコート層が得られる一方、干渉ムラが強くなるため好ましくない。粘度が３０ｍＰａ・ｓを超える場合、格子状のメッシュに追随した凹凸が大きくなり過ぎ、クリア感がなくなるため好ましくない。
【００２２】
重合性バインダー塗布液の固形分濃度は、２０〜８０質量％の範囲が好ましく、３０〜７０質量％の範囲がより好ましく、特に４０〜５０質量％の範囲が好ましい。ここで、重合性バインダー塗布液中の固形分としては、溶剤以外の活性エネルギー線硬化型樹脂（ａ１）、光重合開始剤（ａ２）、及び金属酸化物粒子（ａ３）のほか、その他の添加剤等を含む。重合性バインダー塗布液の粘度調整や塗布後の表面レベリングのために、反応を阻害しない限り、溶剤を含有させても良い。該溶剤としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、２−ブタノール、イソブタノール等のアルコール系溶媒、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒等が挙げられる。
【００２３】
また、本発明の効果を損なわない範囲において、その他の成分を重合性バインダー塗布液中にさらに添加することができる。そのようなその他の成分としては、例えば重合体、重合開始剤、重合禁止剤、酸化防止剤、帯電防止材、分散剤、消泡剤、界面活性剤、光安定剤及びレベリング剤等の添加剤が挙げられる。
【００２４】
重合性バインダー塗布液の塗布方法は特に制限されず、ロールコート法、コイルバー法、ダイコート法等、一般的なウェットコート法が採用される。ハードコート層は、塗布された重合性バインダー塗膜に対して、紫外線、電子線等の活性エネルギー線の照射や、必要に応じてさらに加熱することで硬化させて形成される。
【００２５】
＜ａ１：活性エネルギー線硬化樹脂＞
活性エネルギー線硬化樹脂は、紫外線や電子線のような活性エネルギー線を照射することにより硬化反応を生じる樹脂であり、その種類は特に制限されない。具体的には、例えば単官能（メタ）アクリレート（ここで、本明細書では（メタ）アクリレートとは、アクリレートとメタクリレートの双方を含む総称を意味する。）、多官能（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００２６】
活性エネルギー線硬化性多官能アクリレートとしては特に制限されず、例えばジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ビス（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）ヘキサン等の多官能アルコールのアクリル誘導体や、ポリエチレングリコールジアクリレート及びポリウレタンアクリレート等が好ましい。
【００２７】
単官能（メタ）アクリレートとしては特に制限されず、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、t−ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ベンジルアクリレート等が好ましい。これら活性エネルギー線硬化樹脂は一種のみを単独で使用してもよいし、二種以上を混合することもできる。
【００２８】
活性エネルギー線硬化型樹脂（ａ１）の含有量は、活性エネルギー線硬化型樹脂（ａ１）と光重合開始剤（ａ２）と金属酸化物粒子（ａ３）との合計を１００質量部としたとき、７５〜９９質量部含み、好ましくは８０〜９５質量部含むことが好ましい。活性エネルギー線硬化型樹脂（ａ１）の含有量が７５質量部未満の場合、ハードコート層のクリア感が損なわれる。一方、活性エネルギー線硬化型樹脂（ａ１）の含有量が９９質量部を超える場合、十分に硬化することができないため好ましくない。
【００２９】
＜ａ２：光重合開始剤＞
光重合開始剤（ａ２）としては、活性エネルギー線照射による重合開始能を有するものであれば何れでもよい。例えば、１−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフェリノプロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン等のアセトフェノン系重合開始剤、ベンゾイン、２，２−ジメトキシ１，２−ジフェニルエタン−１−オン等のベンゾイン系重合開始剤、ベンゾフェノン、［４−（メチルフェニルチオ）フェニル］フェニルメタノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン系重合開始剤、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン等のチオキサントン系重合開始剤等が挙げられる。これらの光重合開始剤は一種のみ単独又は二種以上の混合物として用いることができる。
【００３０】
光重合開始剤（ａ２）の含有量は、活性エネルギー線硬化型樹脂（ａ１）と光重合開始剤（ａ２）と金属酸化物粒子（ａ３）との合計を１００質量部としたとき、０．５〜１０質量部含み、好ましくは１〜７質量部含むことが好ましい。光重合開始剤（ａ２）の含有量が０．５質量部未満の場合、十分に硬化を促進することができない。一方、光重合開始剤（ａ２）の含有量が１０質量部を超える場合、未反応の光重合開始剤が存在し、塗膜強度が弱くなるため好ましくない。
【００３１】
＜ａ３：金属酸化物粒子＞
金属酸化物粒子は、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化インジウム、五酸化アンチモン、アンチモンドープ酸化錫、リンドープ酸化錫、錫ドープ酸化インジウム、シリカ等が挙げられる。金属酸化物粒子の平均粒子径は２ｎｍ〜１０００ｎｍが好ましく、より好ましくは３ｎｍ〜３００ｎｍ、さらに好ましくは５ｎｍ〜１００ｎｍである。平均粒子径が２ｎｍ未満の場合、粒子自体が凝集やすくなる。その結果、凝集した樹脂被覆金属酸化物粒子が得られ、ハードコート層の透明性、強度、基材との密着性等が不充分となる。一方、平均粒子径が１０００ｎｍを超える場合も、ハードコート層の透明性、強度、基材との密着性等が不充分となるため好ましくない。本発明における金属酸化物粒子の平均粒子径は、ｎａｎｏｔｒａｃＵＰＡ−ＥＸ１５０〔日機装（株）製の粒度分布測定機〕を用いて動的光散乱理論／周波数マトリックス解析法（ＦＦＴ法）により測定した。
【００３２】
金属酸化物粒子の存在も、ハードコート層の表面粗さに影響する。金属酸化物粒子（ａ３）の含有量は、活性エネルギー線硬化型樹脂（ａ１）と光重合開始剤（ａ２）と金属酸化物粒子（ａ３）との合計を１００質量部としたとき、０．５〜２０質量部含み、好ましくは１〜１５質量部含むことが好ましい。金属酸化物粒子（ａ３）の含有量が０．５質量部未満の場合、ハードコート層の表面粗さが小さくなり干渉ムラが強くなる傾向にある。一方、金属酸化物粒子（ａ３）の含有量が２０質量部を超える場合、ハードコート層の表面粗さが大きくなり過ぎクリア感が損なわれる傾向があるため好ましくない。
【００３３】
＜近赤外線吸収性粘着層＞
近赤外線吸収性粘着層は、近赤外線吸収機能と粘着機能とを併せ持った機能層である。近赤外線吸収性粘着層は、変性（メタ）アクリル系重合体（ｂ１）、重合性不飽和基を有するカルボン酸成分（ｂ２）、ジイモニウム塩化合物（ｃ１）、光重合開始剤（ｃ２）、及びシラン化合物（ｃ３）を含み、紫外線の照射により硬化して形成される。
【００３４】
近赤外線吸収性粘着層の厚みは１０〜３０μｍが好ましく、１５〜２５μｍがさらに好ましい。１０μｍ未満であると、近赤外線吸収性粘着層を介して貼合する際に接着性が劣るため好ましくない。一方、３０μｍより厚いとハンドリング性が悪くなるため好ましくない。
【００３５】
近赤外線吸収性粘着層を透明基材上に設ける方法としては、近赤外線吸収性粘着剤をウェットコート法により塗布する方法であれば特に制限されず、例えばグラビアコート法、スピンコート法、ダイコート法等の従来公知の塗工方法を採用することができる。近赤外線吸収性粘着層には本発明の効果を損なわない範囲において、例えば、紫外線吸収剤、色補正色素、酸化防止剤等のその他の成分を有していても良い。
【００３６】
＜ｂ１：変性（メタ）アクリル系重合体＞
変性（メタ）アクリル系重合体（ｂ１）は、（メタ）アクリル系モノマーの繰り返し単位を含んでなる。（メタ）アクリル系モノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸の他、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ペンチル（メタ）アクリレート、イソペンチル（メタ）アクリレート、ｎ−へキシル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、２−エチルへキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート類；２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等の水酸基含有（メタ）アクリレート類；（メタ）アクリル酸アンモニウム、（メタ）アクリル酸ナトリウム、（メタ）アクリル酸カリウム等の（メタ）アクリル酸塩類；（メタ）アクリルアミド等の（メタ）アクリルアミド類；等が挙げられるが、中でもエチルアクリレート、ブチルアクリレートまたは２−エチルヘキシルアクリレート由来の繰り返し単位を含むものが好ましく、エチルアクリレートまたはブチルアクリレート由来の繰り返し単位を含むものが更に好ましく、エチルアクリレート由来の繰り返し単位を含むものが特に好ましい。これらの繰り返し単位を含ませることによって、良好な粘着性能を発揮させることが可能となるからである。
【００３７】
また、変性（メタ）アクリル系重合体（ｂ１）は、主鎖が１種の（メタ）アクリル系モノマー単位のみを含む単独重合体であってもよいし、２種以上の（メタ）アクリル系モノマー単位を含む共重合体であってもよいが、粘着剤組成物とした際に、その塗膜（粘着剤層）の物性を精密に調整することが容易であるという理由から、２種以上の（メタ）アクリル系モノマー単位を含む共重合体であることが好ましい。また、変性（メタ）アクリル系重合体（ｂ１）の主鎖は好ましくは５０質量％以上、さらに好ましくは７５質量％以上、最も好ましくは全てが（メタ）アクリルモノマー単位によって構成されていることが最も好ましい。（メタ）アクリル系モノマー単位の含有率が５０質量％未満であると、色補正粘着組成物の粘着性能が低下する傾向があるため好ましくない。
【００３８】
また、変性（メタ）アクリル系重合体（ｂ１）は、側鎖に（メタ）アクリロイル骨格を含む官能基を有するものである。これにより、紫外線照射によってその重合体同士が架橋されるため、紫外線硬化性が発現されるとともに、粘着剤層を剥離した際に被着体への糊残りが少なく被着体を汚染し難いという好ましい効果が発揮される。
【００３９】
（メタ）アクリロイル系官能基の好ましい含有量は、主鎖の構造、重量平均分子量、ガラス転移温度、粘着物性等によっても異なるが、変性（メタ）アクリル系重合体（ｂ１）１００ｇ当たり０．１〜１００ｍｍｏｌであることが好ましく、０．３〜５０ｍｍｏｌであることが更に好ましく、１〜４０ｍｍｏｌであることが特に好ましい。例えば、重量平均分子量が３００，０００程度の変性（メタ）アクリル系重合体（ｂ１）であれば、（メタ）アクリロイル系官能基を重合体１分子当たり０．３３〜３３０個有しているものが好ましく、１．０〜１６５個有しているものが更に好ましく、３．３〜１３２個有しているものが特に好ましい。この含有量が０．１ｍｍｏｌ／１００ｇより少ない場合には、（メタ）アクリロイル系官能基による変性効果（具体的には、紫外線硬化性、高耐候性、被着体への糊残りが少ない等の効果）が十分に得られなくなるおそれがある。その一方、１００ｍｍｏｌ／１００ｇより多い場合には、重合体組成等によっても異なるが、高粘度とそれに伴う塗工不良を招く傾向がある。
【００４０】
変性（メタ）アクリル系重合体（ｂ１）の重量平均分子量（Ｍｗ）は、２００，０００〜１，０００，０００であり、３００，０００〜８００，０００であることが好ましい。重量平均分子量を２００，０００〜１，０００，０００の範囲内に設定することにより、光重合開始剤との混和性が良好で且つ均一な組成物となって粘着剤層が良好な粘着特性とその持続性を発現することができると共に、被着体への糊残りが少なく被着体を汚染し難くなる。重量平均分子量が２００，０００を下回る場合には、粘着剤層を形成した際に被着体への糊残りが増加し、被着体を汚染する結果を招く。その一方、１，０００，０００を上回る場合には光重合開始剤との混和性が不良となって粘着剤層の良好な粘着特性を発揮することができなくなる。なお、本明細書において「重量平均分子量（Ｍｗ）」というときは、ＧＰＣ−ＬＳ法（Ｇｅｌ  Ｐｅｒｍｅａｔｉｏｎ  Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ−Ｌｉｇｈｔ  Ｓｃａｔｔｅｒｉｎｇ  Ｍｅｔｈｏｄ：ＧＰＣ−光散乱法）で測定されたポリスチレン換算の重量平均分子量を意味するものとする。
【００４１】
変性（メタ）アクリル系重合体（ｂ１）のガラス転移温度は、−５５〜０℃である。ガラス転移温度をこの範囲内に設定することによって、粘着剤組成物を調製した際に良好な粘着性能を発現することができる。ガラス転移温度が０℃より高くなると、粘着剤組成物を調製した際に粘着強度が低下する傾向を示す。一方、−５５℃より低くなると、粘着剤組成物を調製した際に被着体への糊残りが増加し、被着体を汚染する傾向がある。なお、本明細書において「ガラス転移温度」というときは、ＪＩＳ  Ｋ７１２１（プラスチックの転移温度測定方法）に準拠して測定されたガラス転移温度を意味するものとする。
【００４２】
変性（メタ）アクリル系重合体（ｂ１）の製造方法は特に限定されず、例えば基本骨格となる（メタ）アクリル系重合体に対して化学修飾によって（メタ）アクリロイル系官能基を導入する方法（化学修飾法）等の従来公知の方法を用いることができる。
【００４３】
変性（メタ）アクリル系重合体（ｂ１）の好ましい含有量は、変性（メタ）アクリル系重合体（ｂ１）の構造、光重合開始剤（ｃ２）の種類、被着体の種類、要求される粘着特性等によっても異なるが、変性（メタ）アクリル系重合体（ｂ１）と重合性不飽和基を有するカルボン酸成分（ｂ２）との合計を１００質量部とした場合に８０〜９９質量部であり、８５〜９８質量部であることが好ましく、９０〜９７質量部であることが特に好ましい。この含有量が８０質量部より少ないと、粘着剤層の粘着力が低下する傾向がある。一方、９９質量部より多いと、重合性不飽和基を有するカルボン酸（ｂ２）成分その他のモノマーを用いる際にそれらの単量体との混和性が低下する傾向がある。なお、粘着剤組成物を構成する各成分の含有量は、固形分に基づくものである。
【００４４】
＜ｂ２：重合性不飽和基を有するカルボン酸＞
重合性不飽和基を有するカルボン酸（ｂ２）とは、重合性二重結合または重合性三重結合を有するカルボン酸を意味する。重合性不飽和基を有するカルボン酸モノマーを含有させることにより、被着体に対する密着性が向上するとともに、熱架橋剤を使用しなくとも（粘着物性の発現に養生が不要）、耐熱・耐湿熱条件下においても粘着特性が低下し難い粘着剤組成物を得ることができる（無養生性）。具体的には、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、グルタコン酸、イタコン酸、アクリルアミドＮ−グリコール酸、ケイ皮酸等を挙げることができる。
【００４５】
重合性不飽和基を有するカルボン酸（ｂ２）の好ましい含有量は、変性（メタ）アクリル系重合体（ｂ１）の構造、光重合開始剤（ｃ２）の種類、被着体の種類、要求される粘着特性等によって異なるが、変性（メタ）アクリル系重合体（ｂ１）と重合性不飽和基を有するカルボン酸（ｂ２）の合計を１００質量部とした場合に１〜２０質量部であり、２〜１５質量部であることが好ましく、３〜１０質量部であることが特に好ましい。この含有量が１質量部未満であると、粘着剤層の粘着耐久性が低下する傾向がある一方、２０質量部を超えると、再剥離時の糊残りが多くなる傾向がある。また、光学特性に大きな影響を与えない範囲であれば、重合性不飽和基を有するカルボン酸（ｂ２）以外の重合性不飽和基を有する化合物を加えてもよい。
【００４６】
＜ｃ１：ジイモニウム塩化合物＞
本実施形態におけるジイモニウム塩化合物（ｃ１）は近赤外線吸収色素であり、下記一般式（１）で表される。
【化２】
2012133092.tif 000003
【００４７】
一般式（１）において、Ｘはヘキサフルオロアンチモン酸イオン又はヘキサフルオロリン酸イオンである。これらは耐熱性能と耐湿熱性能を高められるので好ましい。また、一般式（１）において、Ｒ１〜Ｒ８は、炭素数４〜９の環状アルキル基を有するアルキレン基、またはアルコキシ基を有するアルキレン基であり、それぞれ同一であっても異なっていても良く、置換基を有していても良い。これらは微粒子状態を形成しやすくして耐熱性能を向上させることができる点で好ましい。このような環状アルキル基を有するアルキレン基としては、例えばシクロペンチルメチル基、シクロヘキシルメチル基、シクロペンチルエチル基、シクロヘキシルエチル基、シクロヘキシルプロピル基、ベンジル基、フェニルプロピル基等が挙げられるが、これらの中では耐熱性能を向上させられる点でシクロヘキシルメチル基とシクロヘキシルエチル基が好ましい。一方、アルコキシ基を有するアルキレン基としては、例えばｎ−プロピルオキシメチル基、ｎ−プロピルオキシエチル基、イソプロピルオキシメチル基、イソプロピルオキシエチル基、ｓｅｃ−ブトキシメチル基、ｓｅｃ−ブトキシエチル基、ｓｅｃ‐ブトキシプロピル基、ｔｅｒｔ−ブトキシメチル基、ｔｅｒｔ−ブトキシエチル基、ｔｅｒｔ‐ブトキシプロピル基等が挙げられるが、これらの中では耐熱性能の観点からイソプロピルオキシメチル基、イソプロピルオキシエチル基が好ましい。
【００４８】
本実施形態におけるジイモニウム塩化合物（ｃ１）としては、ビス（ヘキサフルオロリン酸）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス［ｐ−ジ（シクロアルキル）アルキルアミノフェニル］−ｐ−フェニレンジアミンとビス（ヘキサフルオロアンチモン酸）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス［ｐ−ジ（アルコキシアルキル）アルキルアミノフェニル］−ｐ−フェニレンジアミンが合成の容易性や耐久性能を高めることができる点で好ましい。
【００４９】
ビス（ヘキサフルオロリン酸）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス［ｐ−ジ（シクロアルキル）アルキルアミノフェニル］−ｐ−フェニレンジアミンの具体例としては、例えばビス（ヘキサフルオロリン酸）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス［ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル］−ｐ−フェニレンジアミン、ビス（ヘキサフルオロリン酸）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス［ｐ−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル］−ｐ−フェニレンジアミン、ビス（ヘキサフルオロリン酸）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス［ｐ−ジ（シクロヘキシルエチル）アミノフェニル］−ｐ−フェニレンジアミン等が挙げられるが、これらの中ではビス（ヘキサフルオロリン酸）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス［ｐ−ジ（シクロヘキシルエチル）アミノフェニル］−ｐ−フェニレンジアミンが耐久性能を最も高めることができるため好ましい。
【００５０】
一方、ビス（ヘキサフルオロアンチモン酸）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス［ｐ−ジ（アルコキシアルキル）アルキルアミノフェニル］−ｐ−フェニレンジアミンの具体例としては、例えばビス（ヘキサフルオロアンチモン酸）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス［ｐ−ジ（イソプロピルオキシエチル）アミノフェニル］−ｐ−フェニレンジアミン、ビス（ヘキサフルオロアンチモン酸）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス［ｐ−ジ（イソプロピルオキシメチル）アミノフェニル］−ｐ−フェニレンジアミン、ビス（ヘキサフルオロアンチモン酸）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス［ｐ−ジ（ｔｅｒｔ‐ブトキシメチル）アミノフェニル］−ｐ−フェニレンジアミン等が挙げられる。これらの中ではビス（ヘキサフルオロアンチモン酸）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス［ｐ−ジ（イソプロピルオキシエチル）アミノフェニル］−ｐ−フェニレンジアミンが耐久性能を最も向上させることができるため好ましい。
【００５１】
本実施形態においてはジイモニウム塩化合物（ｃ１）を粘着層中において微粒子分散状態で存在させることが好ましい。これにより耐久性能を格段に高めることができる。このジイモニウム塩化合物（ｃ１）は、平均粒子径が０．００１〜０．１μｍの微粒子分散状態で存在し、平均粒子径が０．００５〜０．０３０μｍの微粒子分散状態で存在することが好ましい。平均粒子径が０．１μｍを超えると光の散乱により白ボケを生ずるため不適当であり、平均粒子径が０．００１μｍ未満であると溶解により耐久性能を十分に発現することができないという弊害がある。尚、ここでの平均粒子径とは、ｎａｎｏｔｒａｃＵＰＡ−ＥＸ１５０〔日機装（株）製の粒度分布測定機〕を用いて動的光散乱理論／周波数マトリックス解析法（ＦＦＴ法）により測定した値のことをいう。
【００５２】
ジイモニウム塩化合物（ｃ１）の分散方法は特に限定されず、従来公知の分散方法を用いることができる。例えば、有機溶剤にジイモニウム塩化合物を少量ずつ撹拌しながら添加してゆき、ガラスビーズを加えてペイントシェイカーで物理的に粉砕する方法が挙げられるが、これに限定されるものではない。
【００５３】
ジイモニウム塩化合物（ｃ１）の含有量は、粘着層を構成する成分の合計（ｂ１＋ｂ２）１００質量部に対して１．０〜２．５質量部である。該近赤外線吸収色素の含有量が１．０〜２．５質量部であれば実用上近赤外線吸収能と可視光線の透過率が良好な近赤外線吸収性粘着剤を得ることができる。近赤外線吸収色素の含有量が１．０質量部より少ない場合には近赤外線吸収能を十分に発揮することができないため不適当であり、含有量が２．５質量部より多い場合には近赤外線吸収性粘着剤の粘着性能が低下する等の傾向を示すという弊害がある。
【００５４】
＜ｃ２：光重合開始剤＞
光重合開始剤（ｃ２）としては、ハードコート層用の光重合開始剤（ａ２）と同様に、紫外線照射による重合開始能を有するものであれば何れでもよい。光重合開始剤（ｃ２）の好ましい含有量は、変性（メタ）アクリル系重合体（ｂ１）の構造、光重合開始剤（ｃ２）の種類、被着体の種類、要求される粘着特性等によって異なるが、前記粘着層を構成する成分の合計（ｂ１＋ｂ２）１００質量部に対して０．５〜１．０質量部であり、０．５〜０．８質量部であることが好ましく、０．５〜０．７質量部であることが特に好ましい。この含有量が０．５質量部より少ないと、光重合開始剤（ｃ２）としての作用が十分に発揮されなくなるおそれがある。一方、１．０質量部より多いと、光重合開始剤（ｃ２）の残留により色素の退色を招き、色補正の性能が低下する傾向がある。
【００５５】
＜ｃ３：シラン化合物＞
シラン化合物（ｃ３）を配合することにより、ガラス等の被着体との接合用途において良好な粘着性を発揮させることができる。また、シラン化合物を含有することにより、重合性不飽和基含有カルボン酸（ｂ２）の量が少ない場合でも、耐熱・耐湿熱条件下においても粘着特性が低下し難い粘着組成物を得ることができる。
【００５６】
シラン化合物（ｃ３）としては、一般的に「シランカップリング剤」と称されているものを広く用いることができる。具体的な化合物としては、アルキルアルコキシシラン等を挙げることができる。プラズマディスプレイの前面板等、ガラス基材に対する密着性を向上させるという理由から、グリシドキシ基、メタクリロキシ基、アクリロキシ基等の官能基を有するシランカップリング剤を用いることが好ましい。例えば、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン〔信越化学工業(株)の商品名：ＫＢＭ−４０３等〕、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、およびβ−（３，４−エポキシシクロへキシル）エチルトリメトキシシラン等を挙げることができる。これらのシランカップリング剤は、一種を単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００５７】
シラン化合物（ｃ３）の含有量は、変性（メタ）アクリル系重合体（ｂ１）の重合体の構造、被着体の種類、要求される粘着特性等によっても異なるが、粘着層を構成する成分の合計（ｂ１＋ｂ２）１００質量部に対して、１.０〜２.０質量部である。この含有量が１.０質量部未満であると、ガラス等の被着体との接合用途において粘着性が不十分となる場合がある。一方、２．０質量部を超えると、再剥離時に糊残りが発生するおそれがある。前記の効果をより確実に得るためには、シラン化合物（ｃ３）の含有量を１．２〜１．５質量部とすることが好ましい。
【００５８】
このような構成の光学フィルタは、近赤外線吸収性粘着層を介して直接ＰＤＰ等へ貼着することができる。また、近赤外線吸収性粘着層を介してガラス板を貼合した光学フィルタとしたうえで、ＰＤＰ等へ組み込むこともできる。
【実施例】
【００５９】
以下に実施例及び比較例を挙げて前記実施形態を更に具体的に説明する。
＜変性（メタ）アクリル系重合体ｂ１−１の調製＞
２Ｌフラスコにアクリル系共重合体〔根上工業（株）製の商品名：パラクロンＡＷ４５００Ｈ、固形分濃度４０％／トルエン、ブチルアクリレート単位、エチルアクリレート単位、メチルメタクリレート単位、ヒドロキシブチルアクリレート単位、及びヒドロキシエチルアクリレート単位を含む。重量平均分子量は３３０，０００、ガラス転移温度は−８℃。水酸基含有量はアクリル系共重合体１００質量部当たり１５ｍｍｏｌ（アクリル系共重合体１分子当たり５０個）。〕５８６質量部、酢酸エチル８９０質量部、反応触媒としてジブチル錫ラウレート０．３質量部を加え、撹拌しながら４０℃に加熱した。続いて、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート（昭和電工（株）製の商品名：カレンズＭＯＩ）１．８質量部を酢酸エチル１２０質量部に溶解し、前記フラスコ内の温度を４０℃に保持しながら滴下した。滴下終了後、反応液の滴定分析によりイソシアネート基の消失を確認するまで４０℃で５時間反応を継続することにより変性（メタ）アクリル系重合体ｂ１−１を得た（重量平均分子量は３３１，０００、ガラス転移温度は−８℃）。
【００６０】
＜アクリル樹脂組成物ｂ１−２の調製＞
ｎ‐ブチルアクリレート９５．０質量部、アクリル酸４．５質量部、２‐ヒドロキシエチルメタクリレート１・０質量部、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）０．４質量部、酢酸エチル９０質量部、トルエン６０質量部を混合し、窒素雰囲気下で混合物を６５℃に加温して１０時間重合反応を行い、アクリル樹脂組成物ｂ１−２を調製した。
【００６１】
（実施例１）
二軸延伸ポリエステルフィルム〔東洋紡績(株)の商品名：Ａ４３００〕のフィルムの表面に銅のパターンが線幅２０μｍ、ピッチ２５０μｍ、厚み５μｍの銅メッキのメッシュ状パターンを形成し、亜鉛-ニッケル合金メッキにて表面を被覆してメッシュ状の電磁波遮蔽層を得た。メッシュ状の電磁波遮蔽層の表面に６官能ウレタンアクリレート〔日本合成化学（株）製ＵＶ−７６００Ｂ〕９３質量部と、光重合開始剤〔チバスペシャルティケミカルズ（株）製、イルガキュア９０７（I−９０７）〕３質量部と、アンチモンドープ酸化錫微粒子（平均粒子径：０．０２μｍ）４質量部と、イソプロピルアルコール２０００質量部とを混合した重合性バインダー塗布液を乾燥膜厚が８μｍになるようにバーコーターで塗布し、乾燥後、窒素雰囲気下で４００ｍＪ／ｃｍ２の出力にて紫外線を照射して硬化させて、ハードコート層を得た。次に、変性（メタ）アクリル系重合体ｂ１−１を固形分換算で８５．０質量部、アクリル酸〔大阪有機化学工業(株)の商品名：９８％アクリル酸〕１５．０質量部、光重合開始剤〔チバスペシャルティケミカルズ(株)の商品名：イルガキュア８１９（Ｉ−８１９）〕０．７質量部、３‐イソシアネートプロピルトリエトキシシラン〔信越化学工業(株)の商品名：ＫＢＥ‐９００７〕１．５質量部、ビス（ヘキサフルオロアンチモン酸）‐Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’‐テトラキス［ｐ‐ジ（イソプロピルオキシエチル）アミノフェニル］‐ｐ‐フェニレンジアミンのトルエン分散液（固形分濃度５質量％、平均粒子径０．０１５μｍ）４３．０質量部（固形分換算で２．２質量部）、テトラアザポルフィリン化合物〔山本化成（株）の商品名：ＰＤ‐３２０〕０．１８質量部、及び固形分濃度が２７質量％となるようにメチルエチルケトン（ＭＥＫ）を加え攪拌した。これをセパレートフィルム〔東洋紡績(株)の商品名：Ｅ７００２〕にアプリケーターにより乾燥膜厚が１５μｍとなるように塗布後、６５℃で２分間乾燥した。高圧水銀ランプにより８０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して近赤外線吸収性粘着層を形成した。そして、ポリエステルフィルムの裏面に近赤外線吸収性粘着層を貼合して、実施例１の光学フィルタを得た。
【００６２】
（実施例２）
厚み６μｍの銅メッキのメッシュ状パターンを形成し、６官能ウレタンアクリレート〔日本合成化学（株）製ＵＶ−７６００Ｂ〕９０質量部と、光重合開始剤〔チバスペシャルティケミカルズ（株）製、イルガキュア９０７〕３質量部と、アンチモンドープ酸化錫微粒子（平均粒子径：０．０２μｍ）７質量部と、イソプロピルアルコール２０００質量部とを混合した重合性バインダー塗布液を乾燥膜厚が１０μｍとなるように塗布した以外は、実施例１と同様にしてハードコート層を得た。また、変性（メタ）アクリル系重合体ｂ１−１を固形分換算で９３．０質量部、アクリル酸〔大阪有機化学工業(株)の商品名：９８％アクリル酸〕７．０質量部、光重合開始剤〔ＢＡＳＦ(株)の商品名：ルシリンＴＰＯ〕０．５質量部、３‐グリシドキシプロピルトリメトキシシラン〔信越化学工業(株)の商品名：ＫＢＭ‐４０３〕１．２質量部、ビス（ヘキサフルオロリン酸）‐Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’‐テトラキス［ｐ‐ジ（シクロヘキシルエチル）アミノフェニル］‐ｐ‐フェニレンジアミンのトルエン分散液（固形分濃度５質量％、平均粒子径０．０１２μｍ）４０．０質量部（固形分換算で２．０質量部）、テトラアザポルフィリン化合物〔山田化学工業（株）の商品名：ＴＡＰ‐２〕０．３４質量部とした以外は実施例１と同様にして近赤外線吸収性粘着層を得た。
【００６３】
（実施例３）
厚み６μｍの銅メッキのメッシュ状パターンを形成し、６官能ウレタンアクリレート〔日本合成化学（株）製ＵＶ−７６００Ｂ〕８７質量部と、光重合開始剤〔チバスペシャルティケミカルズ（株）製、イルガキュア１８４（Ｉ−１８４）〕３質量部と、アンチモンドープ酸化錫微粒子（平均粒子径：０．０２μｍ）１０質量部と、イソプロピルアルコール２０００質量部とを混合した重合性バインダー塗布液を乾燥膜厚が１２μｍとなるように塗布した以外は、実施例１と同様にしてハードコート層を得た。次に、変性（メタ）アクリル系重合体ｂ１−１を固形分換算で９０．０質量部、アクリル酸〔大阪有機化学工業(株)の商品名：９８％アクリル酸〕１０．０質量部、光重合開始剤〔ＢＡＳＦ(株)の商品名：ルシリンＴＰＯ〕０．５質量部、３‐グリシドキシプロピルトリメトキシシラン〔信越化学工業(株)の商品名：ＫＢＭ‐４０３〕１．０質量部、ビス（ヘキサフルオロリン酸）‐Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’‐テトラキス［ｐ‐ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル］‐ｐ‐フェニレンジアミンのトルエン分散液（固形分濃度５質量％、平均粒子径０．０１２μｍ）２６．０質量部（固形分換算で１．３質量部）、テトラアザポルフィリン化合物〔山田化学工業（株）の商品名：ＴＡＰ‐２〕０．２１質量部、及び固形分濃度が２７質量％となるようにＭＥＫを加え攪拌した。これをセパレートフィルム〔東洋紡績(株)の商品名：Ｅ７００２〕にアプリケーターにより乾燥膜厚が２５μｍとなるように塗布後、６５℃で２分間乾燥した。高圧水銀ランプにより１６０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して近赤外線吸収性粘着層を得た。そして、基材フィルムの裏面に近赤外線吸収性粘着層を貼合して、実施例３の光学フィルタを得た。
【００６４】
（実施例４）
厚み５μｍの銅メッキのメッシュ状パターンを形成し、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート９０質量部と、光重合開始剤〔チバスペシャルティケミカルズ（株）製、イルガキュア１８４〕３質量部と、アンチモン酸亜鉛微粒子（平均粒子径：０．０４μｍ）７質量部と、メチルエチルケトン２０００質量部とを混合した重合性バインダー塗布液を乾燥膜厚が１１μｍとなるように塗布してハードコート層を得た以外は、実施例１と同様にして実施例４の光学フィルタを得た。
【００６５】
（実施例５）
厚み３μｍの銅メッキのメッシュ状パターンを形成し、６官能ウレタンアクリレート〔日本合成化学（株）製ＵＶ−７６００Ｂ〕３７質量部と、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート５０質量部と、光重合開始剤〔チバスペシャルティケミカルズ（株）製、イルガキュア９０７〕３質量部と、アンチモン酸亜鉛微粒子（平均粒子径：０．０４μｍ）１０質量部と、メチルエチルケトン２０００質量部とを混合した重合性バインダー塗布液を乾燥膜厚が８μｍとなるように塗布してハードコート層を得た以外は、実施例２と同様にして実施例５の光学フィルタを得た。
【００６６】
（実施例６）
厚み５μｍの銅メッキのメッシュ状パターンを形成し、６官能ウレタンアクリレート〔日本合成化学（株）製ＵＶ−７６００Ｂ〕７０質量部と、ビスフェノールＡタイプエポキシアクリレート（ダイセル・サイテック（株） 製の製品名：ＥＢＥＣＲＹＬ６００）２０質量部と、光重合開始剤〔チバスペシャルティケミカルズ（株）製、イルガキュア９０７〕３質量部と、アンチモン酸亜鉛微粒子（平均粒子径：０．０４μｍ）７質量部と、メチルエチルケトン２０００質量部とを混合した重合性バインダー塗布液を乾燥膜厚が１０μｍとなるように塗布してハードコート層を得た以外は、実施例３と同様にして実施例６の光学フィルタを得た。
【００６７】
（比較例１）
６官能ウレタンアクリレート〔日本合成化学（株）製ＵＶ−７６００Ｂ〕９７質量部と、光重合開始剤〔チバスペシャルティケミカルズ（株）製、イルガキュア９０７〕３質量部と、イソプロピルアルコール２０００質量部とを混合し、金属酸化物粒子を含有しない重合性バインダー塗布液を使用した以外は、実施例２と同様にしてハードコート層及び電磁波遮蔽層を得た。また、アクリル酸の代わりにテトラヒドロフルフリルアクリレート〔大阪有機化学工業(株)の商品名：ビスコート＃１５０〕１０．０質量部、４‐ヒドロキシブチルアクリレート〔日本化成(株)の商品名：４ＨＢＡ〕５．０質量部を使用した以外は実施例１と同様にして近赤外線吸収性粘着層を得た。
【００６８】
（比較例２）
６官能ウレタンアクリレート〔日本合成化学（株）製ＵＶ−７６００Ｂ〕６７質量部と、光重合開始剤〔チバスペシャルティケミカルズ（株）製、イルガキュア９０７〕３質量部と、アンチモンドープ酸化錫微粒子（平均粒子径：０．０２μｍ）３０質量部と、イソプロピルアルコール２０００質量部とを混合した重合性バインダー塗布液を使用した以外は、実施例１と同様にして乾燥膜厚９μｍのハードコート層と膜厚８μｍの電磁波遮蔽層を得た。また、光重合開始剤量を１．２質量部へ変更した以外は実施例２と同様にして近赤外線吸収性粘着層を得た。
【００６９】
（比較例３）
ハードコート層の乾燥膜厚を４μｍとした以外は、実施例１と同様にしてハードコート層及び電磁波遮蔽層を得た。また、シラン化合物を使用しなかった以外は実施例２と同様にして近赤外線吸収性粘着層を得た。
【００７０】
（比較例４）
ハードコート層の乾燥膜厚を１５μｍとした以外は、実施例１と同様にしてハードコート層及び電磁波遮蔽層を得た。また、ビス（ヘキサフルオロリン酸）‐Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’‐テトラキス［ｐ‐ジ（シクロヘキシルエチル）アミノフェニル］‐ｐ‐フェニレンジアミンの代わりにビス［ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸］‐Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’‐テトラキス［ｐ‐ジ（ｎ‐ブチル）アミノフェニル］‐ｐ‐フェニレンジアミン２．１質量部を使用した以外は実施例２と同様にして近赤外線吸収性粘着層を得た。
【００７１】
（比較例５）
メッシュの厚みを２μｍとした以外は、実施例２と同様にしてハードコート層を得た。また、アクリル樹脂組成物ｂ１−２を固形分換算で１００質量部、ポリイソシアネート〔日本ポリウレタン(株)の商品名：コロネートＬ〕１．０質量部、ビス（ヘキサフルオロアンチモン酸）‐Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’‐テトラキス［ｐ‐ジ（イソプロピルオキシ）アミノフェニル］‐ｐ‐フェニレンジアミンのトルエン分散液（固形分濃度５質量％、平均粒子径０．０１２μｍ）２５．５質量部（固形分換算で１．３質量部）、テトラアザポルフィリン化合物〔山田化学工業(株)の商品名：ＴＡＰ‐２〕０．２０質量部、及び固形分濃度が２３質量％となるようにトルエンを加え攪拌した。これをセパレートフィルム〔東洋紡績(株)の商品名：Ｅ７００２〕にアプリケーターにより乾燥膜厚が２５μｍとなるように塗布後、９０℃で２分間乾燥して近赤外線吸収性粘着層を得た。そして、基材フィルムの裏面に近赤外線吸収性粘着層を貼合して、比較例５の光学フィルタを得た。
【００７２】
（比較例６）
メッシュの厚みを１０μｍとした以外は、実施例２と同様にしてハードコート層を得た。また、ビス（ヘキサフルオロリン酸）‐Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’‐テトラキス［ｐ‐ジ（シクロヘキシルエチル）アミノフェニル］‐ｐ‐フェニレンジアミンのトルエン分散液（固形分濃度５質量％、平均粒子径０．０１２μｍ）２５．５質量部（固形分換算で１．３質量部）、テトラアザポルフィリン化合物〔山本化成(株)の商品名：ＰＤ‐３２０〕０．１１質量部とした以外は比較例５と同様にして近赤外線吸収性粘着層を得た。
【００７３】
上記各実施例の構成を表１に、上記各比較例の構成を表２にまとめて示す。なお、ハードコート層及びメッシュの厚みは、作製したサンプルを透明基材フィルムに対して垂直に精密切断し、収束イオンビーム装置で断面加工した。得られた断面を直行方向から高分解能型走査電子顕微鏡〔日立ハイテクノロジーズ社製の商品名：Ｓ‐４８００〕を用い、加速電圧１．５ｋＶで観察し、ハードコート層及びメッシュの厚みを計測した。また、ハードコート層の表面粗さ（Ｒａ）は、表面粗さ測定器〔(株)小坂研究所製の商品名：Ｓｕｒｆｃｏｒｄｅｒ  ＳＥ５００〕を用い、走査範囲４ｍｍ、走査速度０．２ｍｍ／ｓの条件で、ＪＩＳ  Ｂ０６０１−１９９４規定に準拠して表面粗さ（Ｒａ）を測定した。
【００７４】
そのうえで、得られた各実施例及び比較例の光学フィルタについて、ハードコート層の外観と近赤外線吸収性粘着層の剥離力及び糊残りについて評価した。その評価結果も表１、２に示す。なお、各評価は次のようにして行った。
【００７５】
＜ハードコート層の外観評価＞
ハードコート層の干渉ムラの評価は、作製したサンプルを大きさ２１０×２９７ｍｍ、厚み５ｍｍのガラス板に貼合し、その裏面に黒粘着層を施したフィルムを貼合して三波長光源下で目視観察した。干渉ムラが見えない場合を○、干渉ムラが弱く見える場合を△、ムラが強く見える場合を×とした。
【００７６】
ハードコート層のクリア感の評価は、作製したサンプルを大きさ２１０×２９７ｍｍ、厚み５ｍｍのガラス板に貼合し、蛍光灯（２０００  １ｘ）を５度の角度から映し、―５度からー４５度の角度から蛍光灯の輪郭を目視観察した。蛍光灯の輪郭がぼけない場合を○、蛍光灯の輪郭がぼける場合を△、蛍光灯の輪郭が非常にぼける場合を×とした。
【００７７】
＜近赤外線吸収性粘着層の剥離力及び糊残り評価＞
近赤外線吸収性粘着層の剥離力と糊残りの評価は、１８０°ピール力試験（ＪＩＳ ０２３７‐１９８０）における剥離力と糊残りの有無を評価した。
【００７８】
＜近赤外線吸収性粘着層の耐久性能＞
近赤外線吸収性粘着層の耐久性能の評価は、分光光度計〔日本分光(株)の商品名：Ｖ５７０〕を用いて耐熱性試験（８０℃×５００時間）及び耐湿熱性試験（６０℃×９５％ＲＨ×５００時間）後の波長９００ｎｍにおける透過率の変化量を測定し評価した。変化量が３％未満の場合には○、３％以上５％未満の場合には△、５％以上の場合には×とした。
【００７９】
【表１】
2012133092.tif 000004
【００８０】
【表２】
2012133092.tif 000005
【００８１】
表１に示したとおり、実施例１〜６の光学フィルタは、ハードコート層のクリア感があり且つ干渉ムラも良好であり、エイジング無しでも良好な粘着特性を示した。更には信頼性試験における光学特性も良好であった。一方、表２に示したとおり、比較例１の光学フィルタはハードコート層にアンチモンドープ酸化錫を含まないため、塗膜のクリア感はあるものの、干渉ムラが悪かった。また、近赤外線吸収性粘着層に重合性不飽和基を有するカルボン酸を使用していないため粘着加工直後の粘着特性が良好ではなかった。
【００８２】
比較例２の光学フィルタはハードコート層にアンチモンドープ酸化錫を多く含むため、塗膜のクリア感が得られなかった。また、近赤外線吸収性粘着層の光重合開始剤量の影響で、信頼性試験における光学特性が良好ではなかった。比較例３の光学フィルタはハードコート層の厚みがメッシュの厚みよりも小さいため、塗膜のクリア感が得られなかった。また、近赤外線吸収性粘着層のシラン化合物がない影響で、信頼性試験における光学特性が良好ではなかった。比較例４の光学フィルタはハードコート層の厚みが大きいため、塗膜のクリア感はあるものの、干渉ムラが強かった。また、近赤外線吸収性粘着層のジイモニウム塩化合物の影響で、信頼性試験における光学特性が良好ではなかった。比較例５及び比較例６の光学フィルタはメッシュの厚みの影響でハードコート層の外観が良好ではなかった。また、近赤外線吸収性粘着層は、熱硬化系の粘着剤を使用したためエイジング無しでは粘着層の凝集力が高まりきらず糊残りが発生する結果となった。