(57)【要約】【課題】高コントラストの高分子強誘電性液晶を用いた液晶表示素子の製造方法及び液晶表示素子を得る。【解決手段】互いに対向する第１基板および第２基板と、前記第１基板および第２基板の各対向面にそれぞれ形成され、ラビング法によって配向処理された第１配向膜および第２配向膜と、前記第１配向膜が形成された前記第１基板と前記第２配向膜が形成された前記第２基板との間に、高分子強誘電性液晶を含む液晶材料が封入されて形成された液晶層とを備え、前記第１配向膜および第２配向膜は、窒素雰囲気中または大気雰囲気中で焼成温度を２３０℃〜３５０℃の範囲で焼成された。【選択図】図１
2012108248.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに対向する第１基板および第２基板の各対向面に、ラビング法によって配向処理された第１配向膜および第２配向膜をそれぞれ形成する配向膜形成ステップと、
前記第１配向膜が形成された前記第１基板と前記第２配向膜が形成された前記第２基板との間に、高分子強誘電性液晶を含む液晶材料を封入して液晶層を形成する液晶層形成ステップと
を備え、
前記配向膜形成ステップは、窒素雰囲気中または大気雰囲気中で前記第１及び第２配向膜の焼成温度を２３０℃〜３５０℃の範囲で焼成する
ことを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の液晶表示素子の製造方法において、
前記液晶層形成ステップの後に、周波数５０〜７５Ｈｚ、ＩＳＯ温度より急冷により電界印加処理を行うステップをさらに備える
ことを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
【請求項３】
請求項２に記載の液晶表示素子の製造方法において、
前記温度降温勾配を、１０℃／ｍｉｎとする
ことを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
【請求項４】
請求項１から３までのいずれか１項に記載の液晶表示素子の製造方法において、
前記液晶材料は、前記高分子強誘電性液晶のみである
ことを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
【請求項５】
請求項１から３までのいずれか１項に記載の液晶表示素子の製造方法において、
前記液晶材料は、前記高分子強誘電性液晶と低分子液晶との混合物である
ことを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
【請求項６】
互いに対向する第１基板および第２基板と、
前記第１基板および第２基板の各対向面にそれぞれ形成され、ラビング法によって配向処理された第１配向膜および第２配向膜と、
前記第１配向膜が形成された前記第１基板と前記第２配向膜が形成された前記第２基板との間に、高分子強誘電性液晶を含む液晶材料が封入されて形成された液晶層と
を備え、
前記第１配向膜および第２配向膜は、窒素雰囲気中または大気雰囲気中で焼成温度を２３０℃〜３５０℃の範囲で焼成された
ことを特徴とする液晶表示素子。
【請求項７】
請求項６に記載の液晶表示素子において、
前記液晶材料は、前記高分子強誘電性液晶のみである
ことを特徴とする液晶表示素子。
【請求項８】
請求項６に記載の液晶表示素子において、
前記液晶材料は、前記高分子強誘電性液晶と低分子液晶との混合物である
ことを特徴とする液晶表示素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、液晶材料として高分子強誘電性液晶を用いた液晶表示素子の製造方法及び液晶表示素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、軽量、薄型および低消費電力の映像表示素子として、液晶表示素子が実用化され、広く普及している。実用化された一般的な液晶表示素子の殆ど全ては、ネマティック液晶を用いた液晶表示素子と言っても過言ではない。
【０００３】
ネマティック液晶を用いた液晶表示素子は、互いに対向する２枚の基板と、それぞれの基板の対向する面に形成された透明電極と、それぞれの基板の透明電極上に形成され、ラビング法によって配向処理された配向膜と、基板間に注入されたネマティック液晶からなる液晶層とを有している。
【０００４】
ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）およびＶＡ（Ｖｉｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）等、ネマティック液晶を用いた多数のＬＣＤモードが現在実用化されているが、ネマティック液晶を用いた液晶表示素子は、連続階調表示は可能であるものの、原理的に双安定性（メモリ性）を有しない。
【０００５】
また、ネマティック液晶を用いた液晶表示素子は、配向均一性が高く、そのため高いコントラストを実現することができる。また、ネマティック液晶を配向させるのに、ラビング法によって配向処理された配向膜を用いること、すなわちラビング法を適用することができる。一方、ネマティック液晶を用いた液晶表示素子は、家庭用テレビ等に適用可能（動画応答可能）な応答速度を実現することはできるものの、ネマティック液晶の原理から考えて、１ｍｓを切るような高速応答化への対応は容易なことではない。
【０００６】
そこで、液晶表示素子の応答速度を向上させるために、ネマティック液晶の代わりに低分子強誘電性液晶を用いた表面安定化（ＳＳ−ＦＬＣ：Ｓｕｒｆａｃｅ  Ｓｔａｂｉｌｉｚｅｄ−Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）モードの液晶表示素子が提案されている。低分子強誘電性液晶を用いたＳＳ−ＦＬＣモードの液晶表示素子は、液晶層のネマティック液晶が、低分子強誘電性液晶に置き換えられた構造を有している。
【０００７】
低分子強誘電性液晶を用いたＳＳ−ＦＬＣモードの液晶表示素子は、ネマティック液晶を用いた液晶表示素子と比べて応答速度を向上させることはできるものの、原理的に双安定性を有するので、単純に連続階調表示を行うことはできない。低分子強誘電性液晶を用いたＳＳ−ＦＬＣモードの液晶表示素子において連続階調表示を行うには、面積階調、ドメイン階調、フレーム階調等の技術を適用する必要があり（例えば、特許文献１参照）、構造が複雑になったり、コストが高くなったりするという問題が生じる。
【０００８】
また、低分子強誘電性液晶を用いたＳＳ−ＦＬＣモードの液晶表示素子は、低分子強誘電性液晶が層構造をとるので、ネマティック液晶を用いた液晶表示素子と比べて配向安定性が低下する。また、均一な配向を得ることが難しく、ネマティック液晶を用いた液晶表示素子に比べ、コントラストが低下する。なお、低分子強誘電性液晶を配向させるのに、ラビング法によって配向処理された配向膜を用いること、すなわちラビング法を適用することができる。
【０００９】
また、低分子強誘電性液晶を用いたＳＳ−ＦＬＣモードの液晶表示素子の双安定性を犠牲にして、連続階調表示を行うＨ−Ｖ（Ｈａｌｆ−Ｖ）モード、Ｖモードの液晶表示素子が提案されている（例えば、特許文献２参照）。この低分子強誘電性液晶を用いたＨ−Ｖモード、Ｖモードの液晶表示素子は、ネマティック液晶を用いた液晶表示素子の高速応答版を目指したものである。
【００１０】
低分子強誘電性液晶を用いたＨ−Ｖモード、Ｖモードの液晶表示素子は、ネマティック液晶を用いた液晶表示素子と比べて応答速度を向上させることができる。また、低分子強誘電性液晶を用いたＨ−Ｖモード、Ｖモードの液晶表示素子は、双安定性を犠牲にして連続階調表示を行う。
【００１１】
また、低分子強誘電性液晶を用いたＨ−Ｖモード、Ｖモードの液晶表示素子は、低分子強誘電性液晶が層構造をとるので、ネマティック液晶を用いた液晶表示素子と比べて配向安定性が低下する。また、均一な配向を得ることが難しく、ネマティック液晶を用いた液晶表示素子に比べ、コントラストが低下する。なお、低分子強誘電性液晶を配向させるのに、ラビング法によって配向処理された配向膜を用いること、すなわちラビング法を適用することができる。
【００１２】
また、低分子強誘電性液晶を用いたＳＳ−ＦＬＣモードの液晶表示素子において、配向安定性を向上させるために、高分子強誘電性液晶を用いたＳＳ−ＦＬＣモードの液晶表示素子が提案されている（例えば、特許文献３〜７参照）。
【００１３】
高分子強誘電性液晶を用いたＳＳ−ＦＬＣモードの液晶表示素子は、互いに対向する２枚の基板と、それぞれの基板の対向する面に形成された透明電極と、基板間に注入された高分子強誘電性液晶により形成された液晶層とを有している。ここで、液晶層は、基板間に電圧を印加しつつ、基板にせん断応力をかけて高分子強誘電性液晶を配向させるせん断法（ズリ法）によって配向処理されている。
【００１４】
高分子強誘電性液晶を用いたＳＳ−ＦＬＣモードの液晶表示素子は、ネマティック液晶を用いた液晶表示素子と同等の応答速度を実現できるものの、分子量が大きく、粘度が高いので、低分子強誘電性液晶を用いた液晶表示素子よりも応答速度は遅くなる。また、高分子強誘電性液晶を用いたＳＳ−ＦＬＣモードの液晶表示素子は、原理的に双安定性を有するので、単純に連続階調表示を行うことはできず、連続階調表示を行うには、上述した面積階調、ドメイン階調、フレーム階調等の技術を適用する必要がある。この場合には、構造が複雑になったり、コストが高くなったりするという問題がある。
【００１５】
また、高分子強誘電性液晶を用いたＳＳ−ＦＬＣモードの液晶表示素子は、高分子強誘電性液晶が層構造をとるので、ネマティック液晶を用いた液晶表示素子と比べて配向安定性は低いが、分子量が大きいので、低分子強誘電性液晶を用いた液晶表示素子よりも配向安定性は高くなる。また、高分子強誘電性液晶が層構造をとり、均一な配向を得ることが困難なので、ネマティック液晶を用いた液晶表示素子ほどのコントラストを得ることはできない。また、分子量が大きいので、ラビング法で均一配向を得ることが難しく、工程が複雑なせん断法（ズリ法）によって配向処理されている。
【００１６】
なお、上述した従来のネマティック液晶を用いた液晶表示素子、低分子強誘電性液晶を用いた液晶表示素子（ＳＳ−ＦＬＣモード、Ｈ−Ｖモード、Ｖモード）および高分子強誘電性液晶を用いた液晶表示素子（ＳＳ−ＦＬＣ（せん断法））の何れも、連続階調表示を行いつつ、電圧がオフになった場合に、その階調状態を保持（メモリ）する連続階調メモリ性は有していない。
【００１７】
連続階調表示が可能な液晶表示素子（例えば、ネマティック液晶、Ｈ-Ｖモード、Ｖモード）における配向角度（電圧印加によって配向角度が変化する）とポテンシャルとの関係（ポテンシャルカーブ）は、配向膜へのラビング法による配向処理の影響を強く受け決定される。
【００１８】
また、双安定性を有する低分子強誘電性液晶または高分子強誘電性液晶を用いたＳＳ−ＦＬＣモードの液晶表示素子では、電圧の印加によって、液晶分子が双安定位置に移動する。低分子強誘電性液晶または高分子強誘電性液晶を用いたＳＳ−ＦＬＣモードにおける配向角度とポテンシャルとの関係から、従来の液晶表示素子の原理では、中間階調で階調状態をメモリすることはできない。
【００１９】
そのため、従来の液晶表示素子では、連続階調表示を行いつつ、電圧がオフになった場合に、その階調状態を保持（メモリ）する連続階調メモリ性を実現することができないという問題があった。そこで、ドメイン階調を適用して連続階調メモリ性を実現することが提案されている（例えば、非特許文献１参照）。
【００２０】
このような点に鑑み、この発明の出願人は、一般的に普及しているネマティック液晶を用いた液晶表示素子と同等の表示特性を有しながらも、連続階調表示が可能で、かつ連続階調メモリ性を実現することができる液晶表示素子を既に提案している。これは、互いに対向する両基板間に封入される液晶材料として、高分子強誘電性液晶を含むものである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００２１】
【特許文献１】特開昭６２−１３１２２５号公報
【特許文献２】特開２００４−８６１１６号公報
【特許文献３】特開昭５６−１０７２１６号公報
【特許文献４】特開平２−２４０１９２号公報
【特許文献５】特開平２−２７１３２６号公報
【特許文献６】特開平３−４２６２２号公報
【特許文献７】特開平６−２８１９６６号公報
【非特許文献】
【００２２】
【非特許文献１】Ｈｉｄｅｏ  Ｆｕｊｉｋａｋｅ  ｅｔ  ａｌ，“Ｐｏｌｙｍｅｒ−Ｓｔａｂｉｌｉｚｅｄ  Ｆｅｒｒｏｅｌｅｔｒｉｃ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｅｖｉｃｅｓ  ｗｉｔｈ  Ｇｒａｙｓｃａｌｅ  Ｍｅｍｏｒｙ”，Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ，Ｖｏｌ．３６，ｐｐ．６４４９−６４５４，１９９７
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００２３】
しかしながら、互いに対向する両基板間に封入される液晶材料として、高分子強誘電性液晶を含んで構成される強誘電性液晶では、ＴＮ方式やＩＰＳ方式の液晶パネルに比べて液晶分子のコントラストが劣る。
【００２４】
また、強誘電性液晶は層構造を取るため液晶分子の向きを一方向に揃えるのが難しく、均一配向が得にくい。その為、黒表示時の漏れ光が多く、コントラストの向上が難しい。
【００２５】
この発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり高コントラストの高分子強誘電性液晶を用いた液晶表示素子の製造方法及び液晶表示素子を得ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２６】
この発明に係る液晶表示素子の製造方法は、互いに対向する第１基板および第２基板の各対向面に、ラビング法によって配向処理された第１配向膜および第２配向膜をそれぞれ形成する配向膜形成ステップと、前記第１配向膜が形成された前記第１基板と前記第２配向膜が形成された前記第２基板との間に、高分子強誘電性液晶を含む液晶材料を封入して液晶層を形成する液晶層形成ステップとを備え、前記配向膜形成ステップは、窒素雰囲気中または大気雰囲気中で前記第１及び第２配向膜の焼成温度を２３０℃〜３５０℃の範囲で焼成することを特徴とする
【００２７】
また、この発明に係る液晶表示素子は、互いに対向する第１基板および第２基板と、前記第１基板および第２基板の各対向面にそれぞれ形成され、ラビング法によって配向処理された第１配向膜および第２配向膜と、前記第１配向膜が形成された前記第１基板と前記第２配向膜が形成された前記第２基板との間に、高分子強誘電性液晶を含む液晶材料が封入されて形成された液晶層とを備え、前記第１配向膜および第２配向膜は、窒素雰囲気中または大気雰囲気中で焼成温度を２３０℃〜３５０℃の範囲で焼成されたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００２８】
この発明によれば、配向膜の焼成温度としては、２３０℃〜３５０℃の範囲で焼成することにより、十分高いコントラストを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】この発明の実施の形態１に係る液晶表示素子の構成を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３０】
以下、この発明に係る液晶表示素子の製造方法の好適な実施の形態につき図面を用いて説明するが、各図において同一、または相当する部分については、同一符号を付して説明する。
【００３１】
実施の形態１．
図１は、この発明の実施の形態１に係る液晶表示素子の構成を示す断面図である。
図１において、この液晶表示素子は、第１基板１、第２基板２、第１透明電極３、第２透明電極４、第１配向膜５、第２配向膜６、液晶層７およびシール材８を備えている。
【００３２】
互いに対向する第１基板１および第２基板２は、それぞれガラス基板であり、液晶層７は、第１基板１と第２基板２との間に、高分子強誘電性液晶を含む液晶材料が封入されて形成されている。ここで、液晶材料は、高分子強誘電性液晶または高分子強誘電体液晶と低分子液晶との混合物である。第１基板１には、第１基板１の液晶層７とは反対側に設けられて光源として機能するバックライト（図示せず）からの光が入射する。
【００３３】
第１透明電極３は、第１基板１の第２基板２と対向する面に形成されている。第２透明電極４は、第２基板２の第１基板１と対向する面に形成されている。第１透明電極３および第２透明電極４は、それぞれ画素電極および対向電極を構成し、第１基板１および第２基板２に対して垂直方向の電界を発生させる。
【００３４】
第１配向膜５は、第１基板１の第１透明電極３上に形成され、ラビング法によって配向処理されている。第２配向膜６は、第２基板２の第２透明電極４上に形成され、ラビング法によって配向処理されている。液晶層７の垂線方向がラビング方向に向くように配向する。
【００３５】
次に、この発明の実施の形態１に係る液晶表示素子の製造手順について説明する。
まず、第１基板１にスパッタリング法等を用いて第１透明電極３およびＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ、図示せず）を形成する。また、第２基板２にカラーフィルタ（図示せず）を貼り付けるとともに、カラーフィルタ上に第２透明電極４を形成する。
【００３６】
続いて、第１基板１および第２基板２を洗浄した後、第１基板１の第１透明電極３およびＴＦＴ上、並びに第２基板２の第２透明電極４上に、配向膜としてそれぞれポリイミド（ＲＮ１１９９Ａ：日産化学工業（株）製）を塗布する。このポリイミドは、透明電極の付いた基板上にスピンコートし１０００Åの膜厚とした。
【００３７】
次に、ポリイミドを塗布した第１基板１および第２基板２に対しプリベーク処理およびメインキュア処理を施し、その後、窒素雰囲気または大気雰囲気中で焼成温度を２３０℃〜３５０℃の範囲で３０分間焼成し、ラビング法によって配向処理を行って、第１配向膜５および第２配向膜６を形成する。
【００３８】
表１は、窒素雰囲気中で焼成したときの配向膜焼成温度とコントラストの関係を示すものである。ここで、コントラストは、白表示時の明るさ／黒表示時の明るさで与えられる。
【００３９】
【表１】
2012108248.tif 000003
【００４０】
表１に示すように、焼成温度が２３０℃以下の例えば１５０℃ではコントラストが低く、３５０℃を超えた３６０℃では配向膜が分解してしまう。このようなことから、十分高いコントラストを得る配向膜の焼成温度としては、２３０℃〜３５０℃の範囲が最も好ましい。
【００４１】
続いて、第１基板１および第２基板２を洗浄した後、第１基板１の周辺部にシール材を塗布し、第１基板１と第２基板２とを貼り合わせる。次に、接着された第１基板１と第２基板２との間に、次の化学式で示される高分子強誘電性液晶と、低分子液晶とを混合した液晶材料を注入して封止し、アニール処理を経て液晶層７を形成する。ここで、高分子強誘電性液晶と低分子液晶とを混合するのは、液晶材料の粘度を下げて応答速度を向上させるとともに、動作可能な温度範囲を広げるためである。このとき、液晶材料を高分子強誘電性液晶のみとしてもよい。
【００４２】
【化１】
2012108248.tif 000004
【００４３】
なお、接着された第１基板１と第２基板２との間に液晶材料を注入する代わりに、第１基板１と第２基板２とを接着する前に、シール材が塗布された第１基板１上に液晶材料を滴下してもよい。液晶材料を滴下することにより、液晶の充填時間を短縮することができる。
【００４４】
続いて、液晶層７が形成された液晶表示素子に対して、電圧を印加しながら周波数５０〜７５Ｈｚ、ＩＳＯ温度より室温まで急冷するエージング処理（電界印加処理）を行い、強誘電性液晶を何れかの双安定位置に配向させる。このとき、降温勾配を１０℃／ｍｉｎとする。このように所定の降温勾配に基づいて電界印加処理を行うことにより、高分子強誘電性液晶の特別な配向処理は不要となる。
【００４５】
なお、上述したように、従来の高分子強誘電性液晶を用いたＳＳ−ＦＬＣモードの液晶表示素子では、エージングの際に、液晶表示素子に電圧を印加しながらせん断応力をかけて高分子強誘電性液晶を配向させるという複雑な工程が必要であったが、この発明の実施の形態１に係る液晶表示素子では、その必要はない。
【符号の説明】
【００４６】
１  第１基板、２  第２基板、３  第１透明電極、４  第２透明電極、５  第１配向膜、６  第２配向膜、７  液晶層、８  シール材。
【図１】
2012108248.tif 000005