(57)【要約】      （修正有）【課題】比較的高粘度でありながら、脱泡性に優れる光硬化性組成物を基材の貼り合わせ接着に用いた画像表示装置の製造方法。【解決手段】（ａ）一般式（１）：−ＯＣ（Ｏ）Ｃ（Ｒ１）＝ＣＨ２（１）（式中、Ｒ１は水素原子又は炭素数１〜２０の有機基を表わす）で表わされる基を１分子あたり平均して１個以上有する、（メタ）アクリル系重合体および／またはオキシアルキレン系重合体を含有する、２５℃の環境下で粘度が１，０００〜２０，０００mPa・sである光硬化性組成物を画像表示部の貼り合わせに用い、製造プロセスに真空工程を含む画像表示装置の製造方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）一般式（１）：
−ＯＣ（Ｏ）Ｃ（Ｒ１）＝ＣＨ２  （１）
（式中、Ｒ１は水素原子又は炭素数１〜２０の有機基を表わす）
で表わされる基を１分子あたり平均して１個以上有する、（メタ）アクリル系重合体および／またはオキシアルキレン系重合体を含有する、２５℃の環境下で粘度が１，０００〜２０，０００mPa・sである光硬化性組成物を画像表示部の貼り合わせに用い、製造プロセスに真空工程を含む画像表示装置の製造方法。
【請求項２】
光硬化性組成物が
（ｂ）一般式（２）：
−［Ｓｉ（Ｒ２）２−ｂ（Ｙ）ｂＯ］ｍ−Ｓｉ（Ｒ３）３−ａ（Ｙ）ａ
（式中、Ｒ２およびＲ３は、同一若しくは異なって、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜２０のアラルキル基、または（Ｒ′）３ＳｉＯ−で表されるトリオルガノシロキシ基を示す（式中、Ｒ′は炭素数１〜２０の１価の炭化水素基を示す。複数のＲ′は同一であってもよく又は異なっていてもよい）。Ｒ２またはＲ３がそれぞれ２個以上存在するとき、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。Ｙは水酸基または加水分解性基を示す。Ｙが２個以上存在するとき、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。ａは０、１、２または３を示す。ｂは０、１、または２を示す。ｍは０〜１９の整数を示す。ただし、ａ＋ｍｂ≧１であることを満足する。）
で表わされる基を１分子あたり平均して１個以上有する、（メタ）アクリル系重合体および／またはオキシアルキレン系重合体をさらに含有することを特徴とする請求項1に記載の画像表示装置の製造方法。
【請求項３】
真空工程が、組成物を基材上に塗布する前に、真空脱泡を行ってから基材へ塗布および接着を行うことを特徴とする、請求項１、２にいずれかに記載の画像表示装置の製造方法。
【請求項４】
真空工程が、組成物を基材の片面または両面に塗布した後、２枚の基材を真空チャンバに入れ、チャンバ内を１０２Ｐａ以下の真空状態にしてから貼り合わせを行うことを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の画像表示装置の製造方法。
【請求項５】
（ａ）成分および（ｂ）成分の重合体の分子量分布が１．８未満である、請求項１〜４のいずれかに記載の画像表示装置の製造方法。
【請求項６】
光硬化性組成物が
（ｃ）一般式（３）：
−ＯＣ（Ｏ）Ｃ（Ｒ４）＝ＣＨ２  （３）
（式中、Ｒ４は水素原子又は炭素数１〜２０の有機基を表わす）
で表わされる基を１個以上有する、分子量５００以下である化合物を１〜５０重量％含有することを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の画像表示装置の製造方法。
【請求項７】
光硬化性組成物が光重合開始剤を含むことを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の画像表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は比較的高粘度でありながら、脱泡性に優れる光硬化性組成物を基材の貼り合わせに用いた画像表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、タッチパネルディスプレイなどの画像表示装置のモジュール部、またはタッチパネル電極基板部と最上部の透明カバー（ＰＥＴフィルム、強化ガラス、アクリル板等）との間には、従来エアギャップを設けることで、外からの衝撃で、カバーが割れた場合でも、モジュールに影響が出ないような構造（エアギャップ構造）になっている。また、近年、一部ではディスプレイの視認性向上と耐衝撃性の実現を目的に、光重合性官能基を有するウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ブタジエン（メタ）アクリレートなどをバインダーポリマーとする光（ＵＶ）で硬化可能な光学弾性樹脂光硬化性組成物が用いられはじめている。（特許文献１、２）
これらの組成物は通常、シリンジもしくは専用のボトル・缶などの容器に充填され、ディスペンサーなどにより基材に塗工される。シリンジへの充填においては、製造時に脱泡された組成物がシリンジに充填され、プランジャによって空間部が生じないようなパッケージとして使用されるが、ボトルや缶などの容器に充填される場合は充填後も容器上部に空間が生じる場合が多く、仮に製造直後に脱泡を行ったとしても輸送時・装置への充填時など組成物の製造後から実際の塗工作業までの間に再度気泡が混入する可能性が非常に高いため、使用前に組成物の脱泡を再度必要とする場合がある。
【０００３】
また、画像表示装置の貼り合わせのプロセスにおいて、真空プロセスを用いる技術も従来から検討されており（特許文献３）、この方法では貼り合わせプロセスにおいても気泡が発生しない、もしくは即座に消泡されることが望まれる。
【０００４】
消泡性を良くする簡単な方法の１つとしては、組成物の粘度を下げることが考えられる。手段の１つとしては組成物に反応性（メタ）アクリルモノマーなどを使用することが考えられるが、これらを過剰に使用すると硬化時の体積収縮が非常に大きくなる。体積収縮が生じるとパネルに内部応力が生じセルギャップの面内均一性が失われ、表示ムラなどの悪影響が生じる（特許文献４）ため、過剰な添加は好ましくないと考えられる。また、粘度が低すぎるとディスペンス時の液ダレ、塗布したパターンの崩壊などプロセス面でも悪い影響が出ることが予測される。
【０００５】
したがってある程度高い粘度を有しつつも高い消泡性を併せ持つ組成物が求められる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−０７７８８７号公報
【特許文献２】特開２００５−０５５６４１号公報
【特許文献３】特開２０１０−２８２０９９号公報
【特許文献４】特開２００９−１８６９６３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、２５℃における粘度が１０００ｍＰａ・ｓ以上の組成物を使用し、その組成物が真空脱泡や真空雰囲気での貼り合わせなど、真空工程で使用される画像表示装置の製造方法の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上述の現状に鑑み、本発明者らが鋭意検討した結果、（メタ）アクリル系重合体、オキシアルキレン系重合体を主成分として含む化合物を必須成分とする光硬化性組成物を使用することで画像表示装置を効率よく製造できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００９】
すなわち本発明は、（ａ）一般式（１）：
−ＯＣ（Ｏ）Ｃ（Ｒ１）＝ＣＨ２  （１）
（式中、Ｒ１は水素原子又は炭素数１〜２０の有機基を表わす）
で表わされる基を１分子あたり平均して１個以上有する、（メタ）アクリル系重合体および／またはオキシアルキレン系重合体を含有する、２５℃の環境下で粘度が１，０００〜２０，０００mPa・s以上である光硬化性組成物を画像表示部の貼り合わせに用い、製造プロセスに真空工程を含む画像表示装置の製造方法に関する。
【００１０】
光硬化性組成物が
（ｂ）一般式（２）：
−［Ｓｉ（Ｒ２）２−ｂ（Ｙ）ｂＯ］ｍ−Ｓｉ（Ｒ３）３−ａ（Ｙ）ａ
（式中、Ｒ２およびＲ３は、同一若しくは異なって、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜２０のアラルキル基、または（Ｒ′）３ＳｉＯ−で表されるトリオルガノシロキシ基を示す（式中、Ｒ′は炭素数１〜２０の１価の炭化水素基を示す。複数のＲ′は同一であってもよく又は異なっていてもよい）。Ｒ２またはＲ３がそれぞれ２個以上存在するとき、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。Ｙは水酸基または加水分解性基を示す。Ｙが２個以上存在するとき、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。ａは０、１、２または３を示す。ｂは０、１、または２を示す。ｍは０〜１９の整数を示す。ただし、ａ＋ｍｂ≧１であることを満足する。）
で表わされる基を１分子あたり平均して１個以上有する（メタ）アクリル系重合体、および／またはオキシアルキレン系重合体をさらに含有することが好ましい。
【００１１】
真空工程が、組成物を基材上に塗布する前に、真空脱泡を行ってから基材へ塗布および接着を行うことが好ましい。
【００１２】
真空工程が、組成物を基材の片面または両面に塗布した後、２枚の基材を真空チャンバに入れ、チャンバ内を１０２Ｐａ以下の真空状態にしてから貼り合わせを行うことが好ましい。
【００１３】
（ａ）成分および（ｂ）成分の重合体の分子量分布が１．８未満であることが好ましい。
【００１４】
光硬化性組成物が
（ｃ）一般式（３）：
−ＯＣ（Ｏ）Ｃ（Ｒ４）＝ＣＨ２  （３）
（式中、Ｒ４は水素原子又は炭素数１〜２０の有機基を表わす）
で表わされる基を１個以上有する、分子量５００以下である化合物を１〜５０重量％含有することが好ましい。
【００１５】
光硬化性組成物が光重合開始剤を含むことが好ましい。
【発明の効果】
【００１６】
本発明に用いられる光硬化性組成物は、同程度の粘度である他の重合体を使用した組成物と比較してより速やかに脱泡されるため、画像表示装置の製造効率が向上する。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】組成物の脱泡および送液、塗布を行うための装置の模式的な側面図。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明について詳述する。
【００１９】
＜＜（ａ）成分および（ｂ）成分＞＞
（ａ）成分は、一般式（１）：
−ＯＣ（Ｏ）Ｃ（Ｒ１）＝ＣＨ２  （１）
（式中、Ｒ１は水素原子又は炭素数１〜２０の有機基を表わす）
で表わされる基を有する、（メタ）アクリル系重合体および／またはオキシアルキレン系重合体である。
（ｂ）成分は、
（ｂ）一般式（２）：
−［Ｓｉ（Ｒ２）２−ｂ（Ｙ）ｂＯ］ｍ−Ｓｉ（Ｒ３）３−ａ（Ｙ）ａ
（式中、Ｒ２およびＲ３は、同一若しくは異なって、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜２０のアラルキル基、または（Ｒ′）３ＳｉＯ−で表されるトリオルガノシロキシ基を示す（式中、Ｒ′は炭素数１〜２０の１価の炭化水素基を示す。複数のＲ′は同一であってもよく又は異なっていてもよい）。Ｒ２またはＲ３がそれぞれ２個以上存在するとき、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。Ｙは水酸基または加水分解性基を示す。Ｙが２個以上存在するとき、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。ａは０、１、２または３を示す。ｂは０、１、または２を示す。ｍは０〜１９の整数を示す。ただし、ａ＋ｍｂ≧１であることを満足する。）
で表わされる基を有する、（メタ）アクリル系重合体および／またはオキシアルキレン系重合体である。
【００２０】
（ａ）成分における（１）式および（ｂ）成分における（２）式の構造は、架橋点間分子量を均一かつ大きく（好ましくは５００〜１０００００）にすることで良好なゴム弾性が得られるという観点から、各重合体の分子末端に存在することが好ましい。
【００２１】
（１）式中のＲ１は、水素原子または炭素数１〜２０の有機基を表わす。前記炭素数１〜２０の炭化水素基としては、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜２０のアラルキル基、ニトリル基などがあげられ、これらは水酸基などの置換基を有していてもよい。
【００２２】
前記炭素数１〜２０のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基など、炭素数６〜２０のアリール基としては、例えばフェニル基、ナフチル基など、炭素数７〜２０のアラルキル基としては、例えばベンジル基、フェニルエチル基などがあげられる。
Ｒａの具体例としては、例えば−Ｈ、−ＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ３、−（ＣＨ２）nＣＨ３（ｎは２〜１９の整数を表わす）、−Ｃ６Ｈ５、−ＣＨ２ＯＨ、−ＣＮなどがあげられ、好ましくは−Ｈ、−ＣＨ３である。
【００２３】
（ｂ）成分におけるＹの加水分解性基としては、たとえば、水素原子、アルコキシ基、アシルオキシ基、ケトキシメート基、アミノ基、アミド基、アミノオキシ基、メルカプト基、アルケニルオキシ基などの一般に使用されている基があげられる。これらのうちでは、アルコキシ基、アミド基、アミノオキシ基が好ましいが、加水分解性がマイルドで取り扱い易いという点から、アルコキシ基がとくに好ましい。
【００２４】
（ａ）成分および（ｂ）成分の主鎖を構成するための原料に特に限定はなく、各種のものを用いることができる。例示するならば（メタ）アクリル系重合体に関しては、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ペンチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ｎ−ヘプチル、（メタ）アクリル酸ｎ−オクチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ノニル、（メタ）アクリル酸デシル、（メタ）アクリル酸ドデシル、（メタ）アクリル酸フェニル、（メタ）アクリル酸トルイル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸−２−メトキシエチル、（メタ）アクリル酸３−メトキシブチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸ステアリル、（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸２−アミノエチル、γ−（メタクリロイルオキシ）プロピルトリメトキシシラン、（メタ）アクリル酸のエチレンオキサイド付加物、（メタ）アクリル酸トリフルオロメチルメチル、（メタ）アクリル酸２−トリフルオロメチルエチル、（メタ）アクリル酸２−パーフルオロエチルエチル、（メタ）アクリル酸２−パーフルオロエチル−２−パーフルオロブチルエチル、（メタ）アクリル酸２−パーフルオロエチル、（メタ）アクリル酸パーフルオロメチル、（メタ）アクリル酸ジパーフルオロメチルメチル、（メタ）アクリル酸２−パーフルオロメチル−２−パーフルオロエチルエチル、（メタ）アクリル酸２−パーフルオロヘキシルエチル、（メタ）アクリル酸２−パーフルオロデシルエチル、（メタ）アクリル酸２−パーフルオロヘキサデシルエチルなどの（メタ）アクリル系モノマーを用いることができる。これらは、単独で用いてもよく、複数を組み合わせて用いてもよい。オキシアルキレン系重合体に関しては、ポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキサイド、ポリブチレンオキサイド、ポリフェニレンオキサイド等を用いることができ、これらについても単独で用いてもよく、複数を組み合わせて用いてもよい。またこれらの中では特にポリオキシアルキレンであることが好ましい。
【００２５】
（ａ）成分および（ｂ）成分の分子量分布（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定した重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）の比）には、特に限定はないが、好ましくは１．８未満、より好ましくは１．７以下、さらに好ましくは１．６以下、特に好ましくは１．５以下、特別に好ましくは１．４以下、最も好ましくは１．３以下である。
【００２６】
なお、本発明におけるＧＰＣ測定の際には、通常は、クロロホルムまたはテトラヒドロフランを移動相として、ポリスチレンゲルカラムを使用し、分子量の値はポリスチレン換算値で求めている。
【００２７】
（ａ）成分および（ｂ）成分の数平均分子量の下限は、好ましくは５００、より好ましくは３，０００であり、上限は、好ましくは１００，０００、より好ましくは４０，０００である。分子量が５００未満であると、重合体の本来の特性が発現されにくくなる傾向があり、１００，０００をこえると、ハンドリングが困難になりやすい傾向がある。
【００２８】
上記重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）の比（Ｍｗ／Ｍｎ）の値が１．８未満であることが好ましい。
【００２９】
＜＜（ａ）成分および（ｂ）成分の製造方法＞＞
＜重合方法＞
（ａ）成分および（ｂ）成分の製法については特に限定はないが、（メタ）アクリル系重合体は一般にラジカル重合によって製造される。ラジカル重合の中でも、リビングラジカル重合あるいは連鎖移動剤を用いたラジカル重合によって製造されるのが好ましく、特に前者が好ましい。
【００３０】
（ａ）成分および（ｂ）成分の（メタ）アクリル系重合体の製造に用いられるラジカル重合法は、重合開始剤としてアゾ系化合物、過酸化物などを用いて、特定の官能基を有するモノマーと（メタ）アクリル系モノマーとを単に共重合させる「一般的なラジカル重合法」と、末端などの制御された位置に特定の官能基を導入することが可能な「制御ラジカル重合法」に分類することができる。
【００３１】
「一般的なラジカル重合法」は簡便な方法であるが、この方法では特定の官能基を有するモノマーは確率的にしか重合体中に導入されないので、官能化率の高い重合体を得ようとした場合には、このモノマーをかなり大量に使う必要があり、逆に少量の使用ではこの特定の官能基が導入されない重合体の割合が大きくなるという問題がある。また、フリーラジカル重合であるため、分子量分布が広く粘度の高い重合体しか得られないという問題もある。
【００３２】
「制御ラジカル重合法」は、さらに、特定の官能基を有する連鎖移動剤を用いて重合を行なうことにより末端に官能基を有する系重合体が得られる「連鎖移動剤法」と、重合生長末端が停止反応などを起こさずに生長することによりほぼ設計どおりの分子量の重合体が得られる「リビングラジカル重合法」とに、分類することができる。「連鎖移動剤法」は、官能化率の高い重合体を得ることが可能であるが、開始剤に対してかなり大量の特定の官能基を有する連鎖移動剤が必要であり、処理も含めて経済面で問題がある。また、前記の「一般的なラジカル重合法」と同様、フリーラジカル重合であるため分子量分布が広く、粘度の高い重合体しか得られないという問題もある。これらの重合法とは異なり、「リビングラジカル重合法」は、重合速度が高く、ラジカル同士のカップリングなどによる停止反応が起こりやすいため制御が難しいとされるラジカル重合でありながら、停止反応が起こりにくく、分子量分布の狭い（Ｍｗ／Ｍｎが１．１〜１．５程度）重合体が得られるとともに、モノマーと開始剤の仕込み比によって分子量を自由にコントロールすることができる。「リビングラジカル重合法」は、分子量分布が狭く、粘度が低い重合体を得ることができる上に、特定の官能基を有するモノマーを重合体のほぼ任意の位置に導入することができるため、前記特定の官能基を有するビニル系重合体の製造方法としてはより好ましいものである。その例としては、例えばジャーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサイエティー（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．）、１９９４年、１１６巻、７９４３頁に示されるようなコバルトポルフィリン錯体を用いるもの、マクロモレキュルズ（Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ）、１９９４年、２７巻、７２２８頁に示されるようなニトロキシド化合物などのラジカル捕捉剤を用いるもの、有機ハロゲン化物などを開始剤とし遷移金属錯体を触媒とする「原子移動ラジカル重合」（Ａｔｏｍ  Ｔｒａｎｓｆｅｒ  Ｒａｄｉｃａｌ  Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ：ＡＴＲＰ）などがあげられる。リビングラジカル重合法の中でも、有機ハロゲン化物あるいはハロゲン化スルホニル化合物などを開始剤、遷移金属錯体を触媒としてビニル系モノマーを重合するＡＴＲＰは、前記のリビングラジカル重合法の特徴に加えて、官能基変換反応に比較的有利なハロゲンなどを末端に有し、開始剤や触媒の設計の自由度が大きいことから、特定の官能基を有するビニル系重合体の製造方法としては、さらに好ましい。
【００３３】
前記ＡＴＲＰとしては、例えばＭａｔｙｊａｓｚｅｗｓｋｉら、ジャーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサイエティー（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．）１９９５年、１１７巻、５６１４頁、マクロモレキュルズ（Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ）１９９５年、２８巻、７９０１頁、サイエンス（Ｓｃｉｅｎｃｅ）１９９６年、２７２巻、８６６頁、ＷＯ９６／３０４２１号パンフレット，ＷＯ９７／１８２４７号パンフレットあるいはＳａｗａｍｏｔｏら、マクロモレキュルズ（Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ）１９９５年、２８巻、１７２１頁などに記載の方法があげられる。
【００３４】
また、オキシアルキレン系重合体についても特に限定はないが、例えばＫＯＨのようなアルカリ触媒による重合法、たとえば特開昭６１−２１５６２３号公報に示される有機アルミニウム化合物とポルフィリンとを反応させて得られる錯体のような遷移金属化合物−ポルフィリン錯体触媒による重合法、たとえば特公昭４６−２７２５０号公報および特公昭５９−１５３３６号公報などに示される複合金属シアン化物錯体触媒による重合法、セシウム触媒による重合法、ホスファゼン触媒による重合法等があげられる。中でも、高分子量でかつ着色の少ない重合体が容易に得られる点からは、複合金属シアン化物錯体触媒による重合法が好ましい。
【００３５】
この他、オキシアルキレン系重合体の主鎖骨格は、水酸基末端オキシアルキレン重合体を塩基性化合物、例えばＫＯＨ、ＮａＯＨ、ＫＯＣＨ３、ＮａＯＣＨ３等の存在下、２官能以上のハロゲン化アルキル、例えばＣＨ２Ｃｌ２、ＣＨ２Ｂｒ２等による鎖延長等によっても得ることができる。
【００３６】
さらに、上記オキシアルキレン系重合体の主鎖骨格中にはオキシアルキレン系重合体の特性を大きく損なわない範囲でウレタン結合成分等の他の成分を含んでいてもよい。
【００３７】
＜炭素−炭素二重結合基の導入方法＞
（１）式のような重合性の炭素−炭素二重結合を（メタ）アクリル系重合体へ導入する方法としては、公知の方法を利用することができる。例えば、特開２００４−２０３９３２号公報段落［００８０］〜［００９１］記載の方法が挙げられる。これらの方法以外としては、水酸基末端を有する（メタ）アクリル系重合体にイソシアネート基および（１）式のような重合性の炭素−炭素二重結合を有するモノマーを反応させる方法があり、例えば２‐（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネートなどを用いる方法が挙げられる。
【００３８】
オキシアルキレン重合体への重合性の炭素−炭素二重結合を導入する方法としては、特に限定がないが例えば以下の方法がある。１．水酸基末端を有するポリオキシアルキレンに（１）式を有する酸クロライド化合物を反応させる方法。２．水酸基末端を有するポリオキシアルキレンにイソシアネート基および（１）式のような重合性の炭素−炭素二重結合を有するモノマー、例えば２‐（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネートなどを反応させる方法。３．水酸基末端を有するポリオキシアルキレンに多官能性のイソシアナートおよび水酸基を含有するビニルモノマーを反応させる方法。４．ヒドロシリル化可能な二重結合末端（例えばアリル基末端）ポリオキシアルキレンに多官能タイプのヒドロシリル化合物を反応させ、更にアリル（メタ）アクリレート等のヒドロシリル化可能な化合物を反応させる方法など。これらのうち反応の簡便性の点で２．〜４．のいずれかの方法が好ましく、反応の安定性の点で２．もしくは３．の方法がより好ましい。
【００３９】
＜架橋性シリル基の導入方法（（ｂ）成分の合成方法）＞
（メタ）アクリル系重合体へ架橋性シリル基を導入する方法としては特に限定がないが、例えば特開２００４−２１０８５８号公報段落[１０２]〜[１１２] 記載の方法が挙げられる。これらの方法の中でも制御がより容易である点から、架橋性シリル基を持つヒドロシラン化合物によるヒドロシリル化反応により、末端アルケニル基を有する重合体のアルケニル基を架橋性シリル基に変換する方法により製造されたものであることが好ましい。
【００４０】
オキシアルキレン重合体へ架橋性シリル基を導入する方法としては特に限定がないが、例えば以下の方法がある。
【００４１】
１．水酸基などの官能基を有するオキシアルキレン系重合体にオレフィン基を導入した後に、一般式（４）で表されるヒドロシリル化合物を反応させる方法。
一般式（４）：ＨＳｉ（Ｙ）ａ（Ｒ３）３‐ａ 
（式中Ｒ３、Ｙ、ａは一般式（２）に同じ）
ここでオレフィン基を導入する方法としては、不飽和基及び水酸基と反応しうる官能基を併有する化合物をオキシアルキレン系重合体の水酸基に反応させて、エーテル結合、エステル結合、ウレタン結合、カーボネート結合などにより結合させる方法、あるいはアルキレンオキシドを重合する際に、アリルグリシジルエーテルなどのオレフィン基含有エポキシ化合物を添加して共重合させることによりオレフィン基を導入する方法などが挙げられる。
【００４２】
２．イソシアネート化合物と反応しうる官能基を有するオキシアルキレン系重合体に一般式（５）で表される化合物を反応させる方法。
一般式（５）：（Ｒ３）２‐ａ（Ｘ）ａＳｉ−Ｒ５−ＮＣＯ 
（式中Ｒ３、Ｘ、ａは前記に同じ。Ｒ５は炭素数１〜１７の２価の炭化水素基を表す。）
【００４３】
３．イソシアネート化合物と反応しうる官能基を有するオキシアルキレン系重合体にトリレンジイソシアネートなどのポリイソシアネート化合物を反応させてイソシアネート基を導入した後、該イソシアネート基に一般式（６）で表されるケイ素化合物のＷ基を反応させる方法。
一般式（６）：（Ｒ３）２‐ａ（Ｘ）ａＳｉ−Ｒ５−Ｗ
（式中Ｒ３、Ｒ５、Ｘ、ａは前記に同じ。Ｗは水酸基、カルボキシル基、メルカプト基およびアミノ基（１級または２級）から選ばれた活性水素含有基。）
【００４４】
４．オレフィン基が導入可能な官能基を有するオキシアルキレン系重合体にオレフィン基を導入し、そのオレフィン基と、Ｗがメルカプト基である一般式（６）で表されるケイ素化合物を反応させる方法。
これらの中では導入収率と導入方法の簡便さから、１．または２．の方法が好ましく、粘度等の樹脂物性の点で１．の方法がより好ましい。
【００４５】
＜＜粘度＞＞
ストークスの式によると、ｖ＝Ｄｐ２（ρｐ−ρｆ）ｇ／η（式中、ｖ；粒子の沈降（上昇）速度、Ｄｐ；粒子径、ρｐ；粒子密度、ρｆ；流体密度、ｇ；重力加速度、η；流体粘度を表す。）で、脱泡における気泡を粒子とみなすとｖは気泡の上昇速度と考えられる。するとこの速度は流体粘度に反比例するため、粘度が低いほど脱泡は容易であるといえる。しかし、粘度が低すぎると上述のとおり反応性希釈モノマーを大量に必要とする可能性が高いため好ましくなく、またそうでなくともディスペンサーのニードルからの液だれや、組成物を塗布したパターンが流動して崩れる、貼り合わせ後端面から液が流れ出る、などといった現象が起こるので、１０００ｍＰａ・ｓ以上であることが好ましい。
【００４６】
本発明において粘度の上限に限定はないが、粘度が高すぎるとディスペンス速度が低下する上、貼り合わせ後の樹脂の展開速度も落ちるので２０，０００ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましく、さらには１０，０００ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましい。
【００４７】
＜＜（ｃ）成分＞＞
（ｃ）成分は、
一般式（３）：
−ＯＣ（Ｏ）Ｃ（Ｒ４）＝ＣＨ２  （３）
（式中、Ｒ４は水素原子又は炭素数１〜２０の有機基を表わす）
で表される基を分子末端に１個以上有する化合物、である。
【００４８】
（３）の構造を1個以上有する化合物であれば、特に限定はないが、例えば、単官能（メタ）アクリレート類、多官能（メタ）アクリレート類などが挙げられる。単官能（メタ）アクリレートとしては、（メタ）アクリル酸、エチル（メタ）アクリレート、１−メトキシエチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート  、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェニルポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エピクロロヒドリン変性ブチル（メタ）アクリレート、エピクロロヒドリン変性フェノキシ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性フタル酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性コハク酸（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、モルホリノ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、トリメトキシシリル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【００４９】
多官能アクリレートとしては、１、３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレ−ト、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エピクロロヒドリン変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＳジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジアクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ステアリン酸変性ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルジアクリレート、エチレンオキサイド変性ジシクロペンテニルジ（メタ）アクリレート、ジ（メタ）アクリロイルイソシアヌレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００５０】
（ｃ）成分としては、これらの化合物を単独で用いても良いし、複数を用いることも可能である。
【００５１】
（ｃ）成分は１〜５０重量％用いることが好ましい。１重量％未満だと、硬化後の基材に対する接着力が確保できないため好ましくなく、５０重量％を超えると体積収縮率が大きくなるため好ましくない。さらには、５〜４０重量％であればより好ましい。
【００５２】
＜＜光硬化性組成物＞＞
＜光重合開始剤＞
本発明に用いられる光硬化性組成物には、特に限定されないが、速く硬化させたり、充分な性状の硬化物を得たりするために光重合開始剤を使用することが好ましい。
【００５３】
光重合開始剤としては、特に限定はないが、光重合開始剤としては、光ラジカル開始剤、光アニオン開始剤、近赤外光重合開始剤等が挙げられ、光ラジカル開始剤、光アニオン開始剤が好ましく、光ラジカル開始剤が特に好ましい。
【００５４】
光ラジカル開始剤としては、例えば、アセトフェノン、プロピオフェノン、ベンゾフェノン、キサントール、フルオレイン、ベンズアルデヒド、アンスラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−メチルアセトフェノン、４−メチルアセトフェノン、３−ペンチルアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、４−メトキシアセトフェノン、３−ブロモアセトフェノン、４−アリルアセトフェノン、ｐ−ジアセチルベンゼン、３−メトキシベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４−クロロ−４’−ベンジルベンゾフェノン、３−クロロキサントーン、３，９−ジクロロキサントーン、３−クロロ−８−ノニルキサントーン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ケトン、ベンジルメトキシケタール、２−クロロチオキサントーン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、ジベンゾイル等が挙げられる。
【００５５】
これらのうち、α−ヒドロキシケトン化合物（例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン等）、フェニルケトン誘導体（例えば、アセトフェノン、プロピオフェノン、ベンゾフェノン、３−メチルアセトフェノン、４−メチルアセトフェノン、３−ペンチルアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、４−メトキシアセトフェノン、３−ブロモアセトフェノン、４−アリルアセトフェノン、３−メトキシベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４−クロロ−４’−ベンジルベンゾフェノン、ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ケトン等）が好ましい。
【００５６】
光アニオン開始剤としては、例えば、１，１０−ジアミノデカン、４，４’−トリメチレンジピペラジン、カルバメート類及びその誘導体、コバルト−アミン錯体類、アミノオキシイミノ類、アンモニウムボレート類等が挙げられる。
【００５７】
近赤外光重合開始剤としては、近赤外光吸収性陽イオン染料等を使用しても構わない。近赤外光吸収性陽イオン染料としては、６５０〜１５００ｎｍの領域の光エネルギーで励起する、例えば特開平３−１１１４０２号公報、特開平５−１９４６１９号公報等に開示されている近赤外光吸収性陽イオン染料−ボレート陰イオン錯体等を用いるのが好ましく、ホウ素系増感剤を併用することがさらに好ましい。
【００５８】
これらの光重合開始剤は、単独、又は２種以上混合して用いても、他の化合物と組み合わせて用いてもよい。
【００５９】
他の化合物との組み合わせとしては、具体的には、ジエタノールメチルアミン、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアミンとの組み合わせ、さらにこれにジフェニルヨードニウムクロリド等のヨードニウム塩を組み合わせたもの、メチレンブルー等の色素及びアミンと組み合わせたもの等が挙げられる。
【００６０】
なお、前記光重合開始剤を使用する場合、必要により、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ベンゾキノン、パラターシャリーブチルカテコール等の重合禁止剤類を添加することもできる。
【００６１】
光重合開始剤を使用する場合、その添加量は特に制限はないが、硬化性と貯蔵安定性の点から、（ａ）成分１００重量部に対して、０．００１〜１０重量部が好ましい。より好ましくは０．０１〜１０重量部であり、さらに好ましくは０．１〜１０重量部である。
【００６２】
＜硬化触媒＞
本発明において、硬化触媒を使用することが可能である。本発明の（ｂ）成分のような加水分解性のアルコキシシリル基を平均して少なくとも一個有する化合物は、従来公知の各種縮合触媒（硬化触媒、「硬化剤」と言うこともある）の存在下、あるいは非存在下にシロキサン結合を形成することにより架橋、硬化する。硬化物の性状としては、重合体の分子量と主鎖骨格に応じて、ゴム状のものから樹脂状のものまで幅広く作製することができる。
【００６３】
本発明に用いられる光硬化性組成物には、架橋性アルコキシシリル基を有する重合体に用いる従来公知の各種縮合触媒を用いても構わないが、有機金属、酸触媒、酸・塩基触媒が好ましく、有機錫触媒、リン酸、リン酸・アミン系触媒がより好ましい。
【００６４】
＜有機金属系触媒＞
有機金属触媒としては、例えば、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジエチルヘキサノエート、ジブチル錫ジオクテート、ジブチル錫ジメチルマレート、ジブチル錫ジエチルマレート、ジブチル錫ジブチルマレート、ジブチル錫ジイソオクチルマレート、ジブチル錫ジトリデシルマレート、ジブチル錫ジベンジルマレート、ジブチル錫マレエート、ジオクチル錫ジアセテート、ジオクチル錫ジステアレート、ジオクチル錫ジラウレート、ジオクチル錫ジエチルマレート、ジオクチル錫ジイソオクチルマレート等のジアルキル錫ジカルボキシレート類、例えば、ジブチル錫ジメトキシド、ジブチル錫ジフェノキシド等のジアルキル錫アルコキサイド類、例えば、ジブチル錫ジアセチルアセトナート、ジブチル錫ジエチルアセトアセテートなどのジアルキル錫の分子内配位性誘導体類、例えば、ジブチル錫オキサイドやジオクチル錫オキサイド等のジアルキル錫オキサイドと例えば、ジオクチルフタレート、ジイソデシルフタレート、メチルマレエート等のエステル化合物との反応物、ジアルキル錫オキサイド、カルボン酸およびアルコール化合物を反応させて得られる錫化合物、例えば、ジブチル錫ビストリエトキシシリケート、ジオクチル錫ビストリエトキシシリケート等のジアルキル錫オキサイドとシリケート化合物との反応物、およびこれらジアルキル錫化合物のオキシ誘導体（スタノキサン化合物）等の４価の錫化合物類；例えば、オクチル酸錫、ナフテン酸錫、ステアリン酸錫、フェルザチック酸錫等の２価の錫化合物類、あるいはこれらと後述のラウリルアミン等のアミン系化合物との反応物および混合物；例えば、モノブチル錫トリスオクトエートやモノブチル錫トリイソプロポキシド等のモノブチル錫化合物やモノオクチル錫化合物等のモノアルキル錫類；、例えば、テトラブチルチタネート、テトラプロピルチタネート、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、イソプロポキシチタンビス（エチルアセトアセテート）等のチタン酸エステル類；アルミニウムトリスアセチルアセトナート、アルミニウムトリスエチルアセトアセテート、ジ−イソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート等の有機アルミニウム化合物類；カルボン酸ビスマス、カルボン酸鉄、カルボン酸チタニウム、カルボン酸鉛、カルボン酸バナジウム、カルボン酸ジルコニウム、カルボン酸カルシウム、カルボン酸カリウム、カルボン酸バリウム、カルボン酸マンガン、カルボン酸セリウム、カルボン酸ニッケル、カルボン酸コバルト、カルボン酸亜鉛、カルボン酸アルミニウム等のカルボン酸（２−エチルヘキサン酸、ネオデカン酸、バーサチック酸、オレイン酸、ナフテン酸等）金属塩、ラウリルアミン等のアミン系化合物との反応物および混合物；ジルコニウムテトラアセチルアセトナート、ジルコニウムトリブトキシアセチルアセトナート、ジブトキシジルコニウムジアセチルアセトナート、ジルコニウムアセチルアセトナートビス（エチルアセトアセテート）、チタンテトラアセチルアセトナート等のキレート化合物類；メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ブチルアミン、アミルアミン、ヘキシルアミン、オクチルアミン、２−エチルヘキシルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ラウリルアミン、ペンタデシルアミン、セチルアミン、ステアリルアミン、シクロヘキシルアミン等の脂肪族第一アミン類；ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジブチルアミン、ジアミルアミン、ジオクチルアミン、ジ（２−エチルヘキシル）アミン、ジデシルアミン、ジラウリルアミン、ジセチルアミン、ジステアリルアミン、メチルステアリルアミン、エチルステアリルアミン、ブチルステアリルアミン等の脂肪族第二アミン類；トリアミルアミン、トリヘキシルアミン、トリオクチルアミン等の脂肪族第三アミン類；トリアリルアミン、オレイルアミン、などの脂肪族不飽和アミン類；ラウリルアニリン、ステアリルアニリン、トリフェニルアミン等の芳香族アミン類；および、その他のアミン類として、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、オレイルアミン、シクロヘキシルアミン、ベンジルアミン、ジエチルアミノプロピルアミン、キシリレンジアミン、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、トリエチレンジアミン、グアニジン、ジフェニルグアニジン、２，４，６−トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール、モルホリン、Ｎ−メチルモルホリン、２−エチル−４−メチルイミダゾール、１，８−ジアザビシクロ（５，４，０）ウンデセン−７（ＤＢＵ）等のアミン系化合物、あるいはこれらのアミン系化合物のカルボン酸等との塩；ラウリルアミンとオクチル酸錫の反応物あるいは混合物のようなアミン系化合物と有機錫化合物との反応物および混合物；過剰のポリアミンと多塩基酸とから得られる低分子量ポリアミド樹脂；過剰のポリアミンとエポキシ化合物との反応生成物；γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）アミノプロピルメチルジエトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）アミノプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−ベンジル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−ビニルベンジル−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン等を挙げることができる。また、これらを変性した誘導体である、アミノ変性シリルポリマー、シリル化アミノポリマー、不飽和アミノシラン錯体、フェニルアミノ長鎖アルキルシラン、アミノシリル化シリコーン等のアミノ基を有するシランカップリング剤；等のシラノール縮合触媒、さらにはフェルザチック酸等の脂肪酸や有機酸性リン酸エステル化合物等他の酸性触媒、塩基性触媒等の公知のシラノール縮合触媒等が例示できる。
【００６５】
これらの触媒は、単独で使用してもよく、２種以上併用してもよい。
【００６６】
＜酸系触媒＞
酸系触媒としては、スルホン酸系、カルボン酸系、リン酸系、硝酸系、フッ酸系触媒等がある。硬化活性と貯蔵安定性のバランスの点でスルホン酸系、リン酸系、カルボン酸系が好ましい。具体的な例示としては、スルホン酸系としては、硫酸、パラトルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸等がある。
【００６７】
カルボン酸の具体例としては、アクリル酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、バーサチック酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、琥珀酸、これらの無水物が挙げられる。
【００６８】
リン酸系しては、リン酸、有機リン酸エステル等がある。より具体的には  酸性触媒の有機酸性リン酸エステル化合物としては、（ＣＨ３Ｏ）２−Ｐ（＝Ｏ）（−ＯＨ）、（ＣＨ３Ｏ）−Ｐ（＝Ｏ）（−ＯＨ）２、（Ｃ２Ｈ５Ｏ）２−Ｐ（＝Ｏ）（−ＯＨ）、（Ｃ２Ｈ５Ｏ）−Ｐ（＝Ｏ）（−ＯＨ）２、（Ｃ３Ｈ７Ｏ）２−Ｐ（＝Ｏ）（−ＯＨ）、（Ｃ３Ｈ７Ｏ）−Ｐ（＝Ｏ）（−ＯＨ）２、（Ｃ４Ｈ９Ｏ）２−Ｐ（＝Ｏ）（−ＯＨ）、（Ｃ４Ｈ９Ｏ）−Ｐ（＝Ｏ）（−ＯＨ）２、（Ｃ８Ｈ１７Ｏ）２−Ｐ（＝Ｏ）（−ＯＨ）、（Ｃ８Ｈ１７Ｏ）−Ｐ（＝Ｏ）（−ＯＨ）２、（Ｃ１０Ｈ２１Ｏ）２−Ｐ（＝Ｏ）（−ＯＨ）、（Ｃ１０Ｈ２１Ｏ）−Ｐ（＝Ｏ）（−ＯＨ）２、（Ｃ１３Ｈ２７Ｏ）２−Ｐ（＝Ｏ）（−ＯＨ）、（Ｃ１３Ｈ２７Ｏ）−Ｐ（＝Ｏ）（−ＯＨ）２、（Ｃ１６Ｈ３３Ｏ）２−Ｐ（＝Ｏ）（−ＯＨ）、（Ｃ１６Ｈ３３Ｏ）−Ｐ（＝Ｏ）（−ＯＨ）２、（ＨＯ−Ｃ６Ｈ１２Ｏ）２−Ｐ（＝Ｏ）（−ＯＨ）、（ＨＯ−Ｃ６Ｈ１２Ｏ）−Ｐ（＝Ｏ）（−ＯＨ）２、（ＨＯ−Ｃ８Ｈ１６Ｏ）−Ｐ（＝Ｏ）（−ＯＨ）、（ＨＯ−Ｃ８Ｈ１６Ｏ）−Ｐ（＝Ｏ）（−ＯＨ）２、［（ＣＨ２ＯＨ）（ＣＨＯＨ）Ｏ］２−Ｐ（＝Ｏ）（−ＯＨ）、［（ＣＨ２ＯＨ）（ＣＨＯＨ）Ｏ］−Ｐ（＝Ｏ）（−ＯＨ）２、［（ＣＨ２ＯＨ）（ＣＨＯＨ）Ｃ２Ｈ４Ｏ］２−Ｐ（＝Ｏ）（−ＯＨ）、［（ＣＨ２ＯＨ）（ＣＨＯＨ）Ｃ２Ｈ４Ｏ］−Ｐ（＝Ｏ）（−ＯＨ）２などがあげられるが、例示物質に限定されるものではない。
【００６９】
＜酸・塩基触媒＞
酸・塩基触媒としては、前述の酸系触媒と、後述アミン化合物の組み合わせ
（アミン化合物）
アミン化合物としては、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ブチルアミン、アミルアミン、ヘキシルアミン、オクチルアミン、２−エチルヘキシルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ラウリルアミン、ペンタデシルアミン、セチルアミン、ステアリルアミン、シクロヘキシルアミン等の脂肪族第一アミン類；ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジブチルアミン、ジアミルアミン、ジオクチルアミン、ジ（２−エチルヘキシル）アミン、ジデシルアミン、ジラウリルアミン、ジセチルアミン、ジステアリルアミン、メチルステアリルアミン、エチルステアリルアミン、ブチルステアリルアミン等の脂肪族第二アミン類；トリアミルアミン、トリヘキシルアミン、トリオクチルアミン等の脂肪族第三アミン類；トリアリルアミン、オレイルアミン、などの脂肪族不飽和アミン類；ラウリルアニリン、ステアリルアニリン、トリフェニルアミン等の芳香族アミン類；および、その他のアミン類として、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、オレイルアミン、シクロヘキシルアミン、ベンジルアミン、ジエチルアミノプロピルアミン、キシリレンジアミン、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、トリエチレンジアミン、グアニジン、ジフェニルグアニジン、２，４，６−トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール、モルホリン、Ｎ−メチルモルホリン、２−エチル−４−メチルイミダゾール、１，８−ジアザビシクロ（５，４，０）ウンデセン−７（ＤＢＵ）等のアミン系化合物、ポリアミン化合物、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）アミノプロピルメチルジエトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）アミノプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−ベンジル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−ビニルベンジル−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン等を挙げることができる。また、これらを変性した誘導体である、アミノ変性シリルポリマー、シリル化アミノポリマー、不飽和アミノシラン錯体、フェニルアミノ長鎖アルキルシラン、アミノシリル化シリコーン等のアミノ基を有するシランカップリング剤等のアミノ基を有するアミノシラン系化合物；等が挙げられるが、例示物質に限定されるものではない。また、アミノシラン系化合物の中では、メトキシ基、エトキシ基等が加水分解速度の点から好ましい。加水分解性基の個数は、２個以上、特に３個以上が好ましい。これらのアミン化合物は、１種類のみで使用しても良いし、２種類以上混合使用しても良い。
【００７０】
上記酸・塩基系触媒は、添加する場合、事前に硬化触媒と混合、反応させても構わないし、後から混合しても構わない。事前に混合、反応させておくと、触媒活性がより高くなり、速硬化性を実現できる場合がある。
また、酸とアミンの当量比（モル比）としては、酸／アミンで０．１〜５０である。硬化性、ポットライフ、貯蔵安定性の点で、０．３〜４０が好ましく、０．５〜３０が好ましい。
【００７１】
また、本発明に用いられる光硬化性組成物においては、縮合触媒の活性をより高めるために、アミン系化合物と同様に、上記のアミノ基を有するシランカップリング剤を助触媒として使用することも可能である。このアミノ基含有シランカップリング剤は、加水分解性基が結合したケイ素原子を含む基（以下加水分解性シリル基という）及びアミノ基を有する化合物であり、この加水分解性基として既に例示した基を挙げることができるが、メトキシ基、エトキシ基等が加水分解速度の点から好ましい。加水分解性基の個数は、２個以上、特に３個以上が好ましい。
これらの触媒を添加する場合の配合量は、加水分解性シリル基を平均して少なくとも一個有する化合物（ｂ）１００重量部に対して０．０１〜５０重量部程度が好ましく、更に０．１〜２０重量部がより好ましい。アミン化合物の配合量が０．０１重量部未満であると硬化速度が遅くなる場合があり、また硬化反応が充分に進行し難くなる場合がある。一方、アミン化合物の配合量が５０重量部を越えると、ポットライフが短くなり過ぎる場合があり、作業性の点から好ましくない。
【００７２】
更に、アミノ基やシラノール基をもたないケイ素化合物を助触媒として添加しても構わない。これらのケイ素化合物としては、限定はされないが、フェニルトリメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、フェニルジメチルメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、トリフェニルメトキシシラン等が好ましい。特に、ジフェニルジメトキシシランやジフェニルジエトキシシランは、低コストであり、入手が容易であるために最も好ましい。
【００７３】
このケイ素化合物の配合量は、加水分解性シリル基を平均して少なくとも一個有する化合物（ｂ）１００部に対して０．０１〜２０部程度が好ましく、０．１〜１０部が更に好ましい。ケイ素化合物の配合量がこの範囲を下回ると硬化反応を加速する効果が小さくなる場合がある。一方、ケイ素化合物の配合量がこの範囲を上回ると、硬化物の硬度や引張強度が低下することがある。
【００７４】
なお、硬化触媒・硬化剤の種類や添加量は目的や用途に応じて本発明の硬化性や機械物性等を制御することが可能である。また、架橋性シリル基を有する重合体のシリル基の反応性によっても硬化触媒・硬化剤の種類や添加量を変えることが可能であり、反応性が高い場合は０．０１〜１部の少量の範囲で充分硬化させることが可能である。
【００７５】
硬化触媒・硬化剤の種類や添加量は、例えば、本発明の加水分解性シリル基を平均して少なくとも一個有する化合物（ｂ）の加水分解性シリル基、一般式（１０１）中のＹの種類とａの数によって選択することが可能であり、目的や用途に応じて本発明の硬化性や機械物性等を制御することが可能である。Ｙがアルコキシ基である場合、炭素数の少ない方が反応性が高く、またａが大きい方が反応性が高いため少量で充分硬化させることが可能である。
【００７６】
＜＜添加剤＞＞
本発明に用いられる光硬化性組成物においては、目的とする物性に応じて、各種の配合剤を添加しても構わない。例えば、金属石鹸、充填材、微小中空粒子、酸化防止剤、可塑剤、光安定剤、接着性付与剤、シランカップリング剤、溶剤、難燃剤、老化防止剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、オゾン劣化防止剤、リン系過酸化物分解剤、滑剤、顔料、発泡剤、などがあげられる。これらの各種添加剤は単独で用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。
【００７７】
＜＜画像表示装置の製造方法＞＞  本発明の画像表示装置は、任意の方法で製造することができる。製造に関しては、大きく分けて、脱泡、塗布、貼り合わせ、硬化の４ステップがある。
【００７８】
まず脱泡について説明する。図１の６の容器に４，３を順に取り付けて密閉状態にし、光硬化性組成物を１より６に投入する。３、４、６の素材については特に限定はないが、減圧および加圧への耐久性の観点からステンレス製であることが好ましい。次に光硬化性組成物を脱泡するために、７に真空ポンプなどの減圧装置を接続し、容器内を減圧させる。この際、一気に低真空状態（１０２Ｐａ前後）に到達させると激しく発泡し、７，８のライン内に組成物が混入するため、段階を踏んで減圧を行うことが好ましい。したがって真空ラインの中間にニードルバルブやボールバルブ、三方コックなどの真空度を調節できる設備を導入することが好ましい。また、５の攪拌羽根を回転させれば脱泡が促進されるので、必要に応じて使用してもよい。ただし、回転が速すぎると系内の気体が樹脂に噛み込み、むしろ気泡が発生してしまう可能性があるので１〜１００ｒｐｍ程度の速度で攪拌するのが好ましい。脱泡を行った後、容器内を常圧に戻し、さらに８より加圧空気を送り容器内を加圧状態にする。このときの圧力は組成物の粘度や吐出量・速度に応じて任意に設定可能で、０．１〜０．４ＭＰａであることが好ましい。これにより組成物は９によって１１のディスペンスバルブに送られる。
【００７９】
塗布に関しては、ディスペンス法や印刷法などが考えられ、ディスペンス法を用いる場合は、例えば図１に模式的に示す設備で実施することができる。１０にはエアー供給ラインが接続され、ディスペンスシステムにより吐出量をコントロールしながら組成物を１２の基板上に塗布することが可能である。このディスペンスシステムは市販のものを使用することが可能で、例えばＰｅｒｆｏｒｍｓシリーズ、Ｕｌｔｉｍｓシリーズ（ＥＦＤ社製）、ＳｕｐｅｒΣシリーズ、ＭＬ−８０８シリーズ（以上、武蔵エンジニアリング社製）、ＡＣＣＵＲＡシリーズ（岩下エンジニアリング社製）、ＤＰＳ−８００シリーズ（エース技研社製）、ＴＯＭシリーズ（トミタエンジニアリング社製）などが挙げられる。そして貼り合わせプロセスおよび展開プロセスにおいて気泡が混入しないよう、塗布するにあたっては任意の塗布パターンを描くことが可能であるが、例えば特開２００９‐１８６９５９に挙げられている塗布パターンが好ましい。
【００８０】
貼り合わせの方法としては、２枚を重ね合わせた後、上方の基材の自重で組成物を基材一面に展開する方法や、重ね合わせた後任意の方法で貼り合わせた基材に荷重を与えて展開速度を上げる方法が好ましい。また、貼り合わせる直前に基材を真空チャンバなどの真空系に投入し、その系で貼り合わせる方法も好ましい。この方法を用いると、貼り合わせ時に気泡が混入してもその気泡の気圧は真空系の気圧と同等であるため、基材が常圧雰囲気に戻されるときに気泡は一気に収縮し、目視では確認できないレベルにまで小さくなるか、組成物中に溶解する。したがって塗布パターンの自由度が向上し、より多様な塗布プロセスを導入することが可能である。この際の真空度は、１０−１〜１０２Ｐａであることが好ましい。１０−１Ｐａ未満だと減圧に時間を要しタクトタイムが伸びるので好ましくなく、１０２Ｐａより大きいと減圧が不十分で気泡が完全に見えなくならない場合があるので好ましくない。また、基材にフレキシビリティがある場合はラミネート法を用いて貼り合わせることも可能である。
【００８１】
硬化については、まず光源としては高圧水銀ランプやメタルハライドランプなどのＵＶ光源を用いた方法が一般的であるが、基材の種類や使用環境に応じて、近紫外ＬＥＤ光源やキセノンランプ、ハロゲンランプ、紫外線レーザーなど任意の光源を用いることが可能である。照射方法としては、コンベア上に貼り合わせ基材を乗せてランプに照射し連続的に製造したり、照射用チャンバーに基材を入れてバッチ式で製造したりすることができる。また（ｂ）成分および硬化触媒を使用することで組成物を塗布する際に取り込まれる水分および、貼り合わせ部周囲から取り込まれる水分によって縮合硬化させることが可能である。
【００８２】
上記製造方法を用いて、画像表示装置における画像表示部の貼り合わせを行うことができ、具体的には液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）・有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイ・プラズマディスプレイ・電子ペーパーなど画像表示パネルモジュールとそれを保護するためのカバーボードとの貼り合せ、抵抗膜式タッチパネル用電極基板または静電容量式タッチパネル用電極基板とそれを保護するためのカバーボードとの貼り合せ、もしくは画像表示パネルモジュールと各種タッチパネル用電極基板との貼り合せなどが可能である。  カバーボードの素材に特に制限はないが、ある程度の加工性、強度を有し、かつ画像を鮮明に認識する観点から無色透明である素材であることが好ましい。例えば、ガラス、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）などが挙げられる。これらの中でも、特にガラス、ＰＭＭＡが透明性の観点から好ましい。
【００８３】
＜＜用途＞＞  本発明の製造方法を用いて製造される画像表示装置の用途に特に限定はないが、例えば、テレビ、カーナビゲーションシステム、ＰＤＡ、携帯電話、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、デジタルフォトフレーム、電子広告板（デジタルサイネージ）、携帯ゲーム機、音楽再生装置、パソコン、電子書籍（電子ペーパー）用端末装置などのディスプレイ部分に使用することができる。
【実施例】
【００８４】
以下に、具体的な実施例を挙げて本発明をより詳細に説明するが、本発明は、下記実施例に限定されるものではない。
【００８５】
また、下記実施例中、「数平均分子量」及び「分子量分布（重量平均分子量と数平均分子量の比）」は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いた標準ポリスチレン換算法により算出した。ただし、ＧＰＣカラムとしてポリスチレン架橋ゲルを充填したもの（ｓｈｏｄｅｘ  ＧＰＣ  Ｋ−８０４およびＫ-８０２.５；昭和電工（株）製）、ＧＰＣ溶媒としてクロロホルムを用いた。
【００８６】
下記実施例中、「平均末端（メタ）アクリロイル基数」は、「重合体１分子当たりに導入された（メタ）アクリロイル基数」であり、１Ｈ−ＮＭＲ分析及びＧＰＣにより求められた数平均分子量より算出した。
（ただし、１Ｈ−ＮＭＲはＢｒｕｋｅｒ社製ＡＳＸ−４００を使用し、溶媒として重クロロホルムを用いて２３℃にて測定した。）
なお、下記実施例及び比較例中の「部」及び「％」は、それぞれ「重量部」及び「重量％」を表す。
【００８７】
（製造例１、２）：（ａ）成分（アクリル系重合体）の製造
各原料の使用量を表１に示す。
（１）重合工程
アクリル酸エステル（予め混合されたアクリル酸エステル）を脱酸素した。攪拌機付ステンレス製反応容器の内部を脱酸素し、臭化第一銅、全アクリル酸エステルの一部（表１では初期仕込みモノマーとして記載）を仕込み、加熱攪拌した。アセトニトリル（表１では重合用アセトニトリルと記載）、開始剤としてジエチル２，５−ジブロモアジペート（ＤＢＡＥ）または２−ブロモブチル酸エチルを添加、混合し、混合液の温度を約８０℃に調節した段階でペンタメチルジエチレントリアミン（以下、トリアミンと略す）を添加し、重合反応を開始した。残りのアクリル酸エステル（表１では追加モノマーとして記載）を逐次添加し、重合反応を進めた。重合途中、適宜トリアミンを追加し、重合速度を調整した。重合時に使用したトリアミンの総量を重合用トリアミンとして表１に示す。重合が進行すると重合熱により内温が上昇するので内温を約８０℃〜約９０℃に調整しながら重合を進行させた。
（２）酸素処理工程
モノマー転化率（重合反応率）が約９５％以上の時点で反応容器気相部に酸素‐窒素混合ガスを導入した。内温を約８０℃〜約９０℃に保ちながらしながら反応液を数時間加熱攪拌して反応液中の重合触媒と酸素を接触させた。アセトニトリル及び未反応のモノマーを減圧脱揮して除去し、重合体を含有する濃縮物を得た。濃縮物は著しく着色していた。
（３）第一粗精製
酢酸ブチルを重合体の希釈溶媒として使用した。重合体１００ｋｇに対して１００〜１５０ｋｇ程度の酢酸ブチルで（２）の濃縮物を希釈し、ろ過助剤（ラジオライトＲ９００、昭和化学工業製）および／または吸着剤（キョーワード７００ＳＥＮ、キョーワード５００ＳＨ）を添加した。反応容器気相部に酸素‐窒素混合ガスを導入した後、約８０℃で数時間加熱攪拌した。不溶な触媒成分をろ過除去した。ろ液は重合触媒残渣によって着色および若干の濁りを有していた。
（４）第二粗精製
ろ液を攪拌機付ステンレス製反応容器に仕込み、吸着剤（キョーワード７００ＳＥＮ、キョーワード５００ＳＨ）を添加した。気相部に酸素−窒素混合ガスを導入して約１００℃で数時間加熱攪拌した後、吸着剤等の不溶成分をろ過除去した。ろ液はほとんど無色透明な清澄液であった。ろ液を濃縮し、ほぼ無色透明の重合体を得た。
（５）（メタ）アクリロイル基導入工程
重合体１００ｋｇをＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）約１００ｋｇに溶解し、アクリル酸カリウム（末端Ｂｒ基に対して約２モル当量）、熱安定剤（Ｈ−ＴＥＭＰＯ：４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−ｎ−オキシル）、吸着剤（キョーワード７００ＳＥＮ）、を添加し、約７０℃で数時間加熱攪拌した。ＤＭＡＣを減圧留去し、重合体濃縮物を重合体１００ｋｇに対して約１００ｋｇのトルエンで希釈し、ろ過助剤を添加して固形分をろ別し、ろ液を濃縮し、末端にアクリロイル基を有する重合体［Ｐ１］、［Ｐ２］を得た。得られた重合体の１分子あたりに導入されたアクリロイル基数、数平均分子量、分子量分布を併せて表１に示す。
【００８８】
（製造例３）：（ｂ）成分（アクリル系重合体）の製造
（１）重合工程
製造例１および２の（１）〜（４）の工程に準ずる。
（２）ジエン反応工程
上記濃縮物に１，７−オクタジエン（以下ジエン若しくはオクタジエンと略す）、アセトニトリル（表１ではジエン反応用アセトニトリルと記載）を添加し、トリアミン（表１ではジエン反応用トリアミンと記載）を追加した。内温を約８０℃〜約９０℃に調節しながら数時間加熱攪拌させて、重合体末端にオクタジエンを反応させた。アセトニトリル及び未反応のオクタジエンを減圧脱揮して除去し、末端にアルケニル基を有する重合体を含有する濃縮物を得た。
（３）粗精製工程
上記濃縮物をトルエンで希釈し、ろ過助剤、吸着剤（キョーワード７００ＳＥＮ：協和化学工業（株）製）、ハイドロタルサイト（キョーワード５００ＳＨ：協和化学工業（株）
製）を添加し、８０〜１００℃程度に加熱攪拌した後、固形成分をろ別した。ろ液を濃縮し、重合体粗精製物を得た。
（４）高温加熱処理・吸着精製工程
重合体粗精製物、熱安定剤（スミライザーＧＳ：住友化学（株）製）、吸着剤（キョーワード７００ＳＥＮ、キョーワード５００ＳＨ）を添加し、減圧脱揮、加熱攪拌しながら昇温し、約１７０℃〜約２００℃の高温状態で数時間程度加熱攪拌、減圧脱揮を行った。吸着剤（キョーワード７００ＳＥＮ、キョーワード５００ＳＨ）、を追加し、重合体に対して約１０重量部のトルエンを添加し、約１７０℃〜約２００℃の高温状態で更に数時間程度加熱攪拌した。
処理液を更にトルエンで希釈し、吸着剤をろ別した。ろ液を濃縮し、両末端にアルケニル基を有する重合体を得た。
（５）シリル化工程
上記方法により得られた重合体、メチルジメトキシシラン（ＤＭＳ）、オルト蟻酸メチル（ＭＯＦ）、白金触媒［ビス（１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン）白金錯体触媒のイソプロパノール溶液：以下白金触媒という］を所定量混合し、約１００℃に加熱攪拌した。１時間程度加熱攪拌後、未反応のＤＭＳ等の揮発分を減圧留去し、両末端にメトキシシリル基を有する重合体［Ｐ３］を得た。得られた重合体の１分子あたりに導入されたシリル基数、分子量、分子量分布を併せて表２に示す。
【００８９】
【表１】
2012185313.tif 000002
【００９０】
【表２】
2012185313.tif 000003
【００９１】
（製造例４）：（ｂ）成分（オキシアルキレン系重合体）の製造
ポリプロピレングリコールを開始剤とし亜鉛ヘキサシアノコバルテートグライム錯体触媒にてプロピレンオキシドを重合し、数平均分子量約２８，５００（送液システムとして東ソー製ＨＬＣ−８１２０ＧＰＣを用い、カラムは東ソー製ＴＳＫ−ＧＥＬ  Ｈタイプを用い、溶媒はＴＨＦを用いて測定したポリスチレン換算分子量）のポリプロピレンオキシド（Ｐ−１）を得た。このヒドロキシ基末端ポリプロピレンオキシド（Ｐ−１）のヒドロキシ基に対して１．２倍当量のＮａＯＭｅのメタノール溶液を添加してメタノールを留去し、更に塩化アリルを添加して末端の水酸基をアリル基に変換した。得られた未精製のアリル末端ポリプロピレンオキシド１００重量部に対し、ｎ−ヘキサン３００重量部と、水３００重量部を混合攪拌した後、遠心分離により水を除去し、得られたヘキサン溶液に更に水３００重量部を混合攪拌し、再度遠心分離により水を除去した後、ヘキサンを減圧脱揮により除去した。以上により、末端がアリル基である数平均分子量約２８，５００の２官能ポリプロピレンオキシド（Ｐ−２）を得た。得られたアリル基末端ポリプロピレンオキシド（Ｐ−２）１００重量部に対し、触媒として白金含量３ｗｔ％の白金ビニルシロキサン錯体イソプロパノール溶液とトリエトキシシラン１．４重量部を添加し、９０℃で２時間反応させ、トリエトキシシリル基末端ポリプロピレンオキシド（Ｐ−３）を得た。１Ｈ−ＮＭＲ（日本電子製ＪＮＭ−ＬＡ４００を用いて、ＣＤＣｌ３溶媒中で測定）の結果、末端のトリエトキシシリル基は１分子あたり平均して約１．６個であった。次いで、メタノール１５部と０．５ｗｔ％の塩化水素−メタノール溶液を添加し、７０℃で２時間反応させた後、エポキシ化大豆油を添加して７０℃で２時間中和処理を行った。その後、９０℃で１時間減圧脱気を行い、メトキシ交換率約９５％のトリメトキシシリル基末端ポリプロピレンオキシド［Ｐ４］を得た。
【００９２】
（実施例１）
表３に示す配合比で原料をポリプロピレン製の容器に入れ、遊星式攪拌脱泡機（ＡＲＥ−３１０、シンキー製）で充分に攪拌・脱泡を行い、目的の組成物を得た。その後組成物を２５℃にしてから、１０ｍｍ×２０ｍｍ、厚さ２ｍｍのガラス製攪拌翼を２枚有する攪拌棒を用いて攪拌し、意図的に発泡させた。このとき攪拌羽根は、その上端が液面に来る位置に設置した。攪拌速度は７００ｒｐｍ、攪拌時間は１分とした。攪拌が終了したら即座にその発泡した組成物３０ｍＬを内径２８ｍｍのメスシリンダーに入れて、そのメスシリンダーを真空容器に投入した。攪拌終了から数えて５分後、真空ポンプ（ＤＳ−２０ＩＩ、佐藤真空製）の電源を入れ、真空脱泡を行った。
【００９３】
【表３】
2012185313.tif 000004
【００９４】
ＴＥＡ−１０００：ポリブタジエンアクリレート、日本曹達製
ＥＢＥＣＲＹＬ８４０２：ウレタンアクリレート、ダイセル・サイテック製
ＩＢＸＡ：イソボロニルアクリレート、大阪有機化学製
ＴＨＦ-Ａ：テトラヒドロフルフリルアクリレート、共栄社化学製
Ｄａｒｏｃｕｒ １１７３：１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン、ＢＡＳＦ製
Ａ１７１：トリメトキシビニルシラン、モメンティブ製
Ａ１８７：３−グリシジルプロピルトリメトキシシラン、モメンティブ製
＃９１８：ジブチル錫オキサイドとフタル酸ジオクチルの反応物、三共有機合成製
【００９５】
（実施例２〜５、比較例１，２）
実施例１と同様の方法で配合を実施し、各種評価を行った。
＜測定方法＞
（粘度）ＢＬ型粘度計（東機産業製）を用いて測定した。ローターはＮｏ．４を用い、回転数６０ｒｐｍで測定した。
【００９６】
（液比重および硬化収縮率）ＪＩＳＫ００６１より、組成物の液比重および組成物を６０００ｍＪ/ｃｍ２の紫外線を照射して硬化させた硬化物の比重を測定した。ＵＶ光源にはＵＶ照射装置（ライトハンマー６；Ｆｕｓｉｏｎ  ＵＶ  ｓｙｓｔｅｍ  Ｊａｐａｎ社製）を使用した。硬化収縮率は、硬化収縮率（％）＝（硬化物比重−液比重）／硬化物比重×１００で計算した。
【００９７】
（脱泡時間および吹き上がり体積）真空ポンプの電源を入れた時間を開始時間とし、３０秒ごとにメスシリンダー内の樹脂の様子を観察して、目視でまったく泡が確認されなくなるまでに要する時間を脱泡時間とした。また、真空脱泡を行うと容器内の気圧が下がって、発泡した気泡の体積増加により組成物が気泡を巻き込んでメスシリンダー内にて吹き上げられるが、このときに吹き上がってきた組成物液面の最高到達点の体積の読みを吹き上がり体積とした。
【００９８】
実施例に関して、脱泡時間、吹き上がり体積共に比較例に比べて低く、より効率的に脱泡を行えるので、製造時間を短縮することが可能である。
【００９９】
（実施例６）
実施例１の要領で脱泡された組成物をディスペンサーによって強化ガラス上に塗布し、フラットパネルディスプレイ表示モジュールに用いるＴＡＣフィルム（偏光フィルム；セルローストリアセチル製）を積層させたガラスとの間で、膜厚２００μｍになる様に貼り合せた。次に先ほどのＵＶ照射装置を用いて、ガラス側から積算光量３０００ｍＪ／ｃｍ２の照射をすることにより組成物が硬化し、ガラスとＴＡＣフィルムの貼り合わせパネルを得た。この貼り合わせ品は非常に強く接着しており、同様の方法で実際のフラットパネルディスプレイ表示モジュールの貼り合わせに用いて良好な貼り合わせ特性を得ることができる。
【符号の説明】
【０１００】
１  漏斗
２  安全弁
３  クランプ
４  ふた
５  攪拌羽根
６  密閉容器
７  真空ライン
８  加圧ライン
９  送液用チューブ
１０  ディスペンサー用エアー供給ライン
１１  ディスペンスバルブ
１２  基板
１３  ステージ
【図１】
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