(57)【要約】      （修正有）【課題】同期信号の基準クロックとデータパターンのクロックの差に起因する磁気記録装置における読み書きエラーの発生を抑制する。【解決手段】複数のトラックが同心円状に形成されるように、データ部２１とサーボ部とが基板上に形成され、磁気記録媒体又はワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤において、データパターンが、所定のクロックに応じた間隔でドット状に形成された部分であり、各々のトラックにおいて少なくとも前記データ部のデータパターンの形態が１ドットごとに径方向及び周方向に分離されており、サーボパターンの少なくとも一部には、基準クロックを生じさせる同期信号生成部２２１ａが形成されており、各々のトラック内において、前記データパターンのクロックが、前記同期信号生成部のパターンの基準クロックの自然数倍である。【選択図】図１
2012109000.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のトラックが同心円状に形成されるように、データ部とサーボ部とが基板上に形成され、磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤において、
前記データ部は、磁気記録媒体において情報の記録を行うためのデータ領域の基となるデータパターンが、所定のクロックに応じた間隔でドット状に形成された部分であり、
各々のトラックにおいて少なくとも前記データ部のデータパターンの形態が１ドットごとに径方向及び周方向に分離されており、
前記サーボ部は、磁気記録媒体においてトラック位置及び／又はパターン位置を特定するためのサーボ領域の基となるサーボパターンが形成された部分であり、
前記サーボパターンの少なくとも一部には、基準クロックを生じさせる同期信号生成部
が形成されており、
各々のトラック内において、前記データパターンのクロックが、前記同期信号生成部のパターンの基準クロックの自然数倍であることを特徴とする原盤。
【請求項２】
前記データパターンのクロックと前記同期信号生成部のパターンの基準クロックとが一致しており、
各々のトラック内にて前記サーボ部から前記データ部へと移行する場合において、前記同期信号生成部により同期信号が発生してから前記データ部の末端に至るまで、前記基準クロックに応じた間隔でドット状のパターンが形成されていることを特徴とする請求項１に記載の原盤。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の原盤からインプリントにより製造されたことを特徴とするワーキングモールド。
【請求項４】
複数のトラックが同心円状に形成されるように、データ部とサーボ部とが基板上に形成され、磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤の製造方法において、
前記データ部は、磁気記録媒体において情報の記録を行うためのデータ領域の基となるデータパターンが、基準クロックに応じた間隔でドット状に形成された部分であり、
各々のトラックにおいて少なくとも前記データ部のデータパターンの形態が１ドットごとに径方向及び周方向に分離されており、
前記サーボ部は、磁気記録媒体においてトラック位置及び／又はパターン位置を特定するためのサーボ領域の基となるサーボパターンが形成された部分であり、
前記サーボパターンの少なくとも一部には、基準クロックを生じさせる同期信号生成部が形成されており、
各々のトラック内において、前記データパターンのクロックを、前記同期信号生成部の基準クロックの自然数倍とすることを特徴とする原盤の製造方法。
【請求項５】
請求項４に記載の製造方法により製造された原盤からインプリントによりワーキングモールドを製造することを特徴とするワーキングモールドの製造方法。
【請求項６】
磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤を製造するための電子ビーム露光装置において、
一主面上に感光膜が形成された基板を保持しつつ当該基板を回転させる回転手段と、
前記回転手段の駆動を制御する回転制御手段と、
前記基板を保持しつつ、前記基板の主面上における電子ビームの照射位置を当該基板に対して相対的に移動させる移動手段と、
磁気記録媒体においてトラック位置及び／又はパターン位置を特定するためのサーボ領域の基となるサーボパターンに対応した形状の露光を、前記基板上のサーボ部に対して電子ビームを照射することによって行い、且つ、磁気記録媒体において情報の記録を行うためのデータ領域の基となるデータパターンに対応したドット状の露光を、複数のトラックが同心円状に形成され且つ１ドットごとに径方向及び周方向に分離されるように、所定のクロックに応じた間隔で前記基板上のデータ部に対して行う露光手段と、
を備え、
前記露光手段により、前記サーボパターンの少なくとも一部として、基準クロックを生じさせる同期信号生成部となる形状の露光を行い、
各々のトラック内において、前記データパターンのクロックを、前記同期信号生成部のパターンの基準クロックの自然数倍とすることを特徴とする電子ビーム露光装置。
【請求項７】
前記露光手段による電子ビームの照射は、前記移動手段によって線速一定に行うことを特徴とする請求項６に記載の電子ビーム露光装置。
【請求項８】
前記露光手段から照射される電子ビームを偏光する電子ビーム偏光手段を更に備え、
前記電子ビーム偏光手段により、
前記データパターンのクロックが、前記同期信号生成部のパターンの基準クロックの自然数倍となる部分に電子ビームを照射することを特徴とする請求項６又は７に記載の電子ビーム露光装置。
【請求項９】
前記データパターンのクロックと前記同期信号生成部のパターンの基準クロックとが一致しており、
各々のトラック内にて前記サーボ部から前記データ部へと移行する場合において、前記同期信号生成部により同期信号が発生してから前記データ部の末端に至るまでに存在するドット状のパターンは、前記基準クロックに応じた間隔で形成されていることを特徴とする請求項６ないし８のいずれかに記載の電子ビーム露光装置。
【請求項１０】
磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤を製造するための電子ビーム露光方法において、
一主面上に感光膜が形成された基板を保持しつつ、前記基板の主面上における電子ビームの照射位置を当該基板に対して相対的に移動させる移動工程と、
磁気記録媒体においてトラック位置及び／又はパターン位置を特定するためのサーボ領域の基となるサーボパターンに対応した形状の露光を、前記基板上のサーボ部に対して電子ビームを照射することによって行い、且つ、磁気記録媒体において情報の記録を行うためのデータ領域の基となるデータパターンに対応したドット状の露光を、複数のトラックが同心円状に形成され且つ１ドットごとに径方向及び周方向に分離されるように、所定のクロックに応じた間隔で前記基板上のデータ部に対して行う露光工程と、
を備え、
前記露光工程において、
前記サーボパターンの少なくとも一部として、基準クロックを生じさせる同期信号生成部となる形状の露光を行い、
各々のトラック内において、前記データパターンのクロックを、前記同期信号生成部のパターンの基準クロックの自然数倍とすることを特徴とする電子ビーム露光方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、原盤及びその製造方法、ワーキングモールド及びその製造方法、電子ビーム露光装置、並びに電子ビーム露光方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ハードディスク駆動装置などの磁気記録再生装置（以降、磁気記録装置と言う）に用いられる媒体の一つとして、パターンドメディア方式の磁気記録媒体が知られている。
【０００３】
近年、この磁気記録媒体におけるパターンを形成する手法として、「インプリント法」が用いられている。インプリント法は、スタンパと呼ばれる元型のモールドに凹凸のパターンを形成しておき、この凹凸パターンの凹凸を反転させた反転パターンを、スタンパからの転写によって磁気記録媒体や別のワーキングモールドに形成する手法である。その場合、元型となるモールドには、フォトリソグラフィ法を利用して凹凸のパターンを形成するのが一般的である。
【０００４】
フォトリソグラフィ法では、モールドの基（素材）になる基板に対して、「レジスト膜の形成」、「レジスト膜の露光」及び「レジスト膜の現像」を順に行うことによってレジストパターンを形成する。このうち、レジスト膜の露光には、電子ビーム描画装置が用いられている。電子ビーム描画装置は、基板上に形成されたレジスト膜に電子ビームを照射することにより、レジスト膜を露光する装置である。
【０００５】
上述のようにレジスト膜への電子ビーム照射によって所定パターン形状の露光（即ちパターン描画）を終えたら、このパターン描画によって露光されたレジスト膜を現像することにより、基板上にレジストパターンを形成する。更に、このレジストパターンをマスクに用いて基板をエッチングすることにより、上記のパターンが形成されたモールドを得る。
【０００６】
このように形成されたモールド（所謂「原盤」、「マスターモールド」とも言う）により磁気記録媒体を作製することもできるし、この原盤からワーキングモールドを作製し、このワーキングモールドにより磁気記録媒体を作製することもできる。
なお、ここでいう「ワーキングモールド」とは、インプリント法により原盤の凹凸を転写して凹凸を反転させる工程を一回又は複数回行って凹凸を形成した複製物である。また、本明細書におけるワーキングモールドは、上記複製物の中でも特に、最終製品である磁気記録媒体にパターンを転写するモールドのことを主として指すものとする。もちろんこのワーキングモールドは、最終製品である磁気記録媒体にパターンを転写するモールドを作製するためのモールドについても含む。
【０００７】
なお、インプリント用モールド構造体を用いて磁気記録媒体を製造する技術として、特許文献１に記載の技術が知られている。具体的には、通常、データアドレスマークは磁気ヘッドにより書かれるところ、データアドレスマークに対応する凹凸パターンを、インプリント用モールド構造体の溝部に形成しておくという技術である。この構成により、インプリントにより形成された磁気記録媒体において、熱揺らぎや欠陥に起因する、読み出し不良・書き込み時の位置ズレ不良を回避することができる。
【０００８】
また、ドット状のパターンを有する磁気記録媒体をインプリント用のスタンパから製造することも知られている（例えば、特許文献２参照）。この特許文献２には、データ領域の磁性ドットが配置される中心線を軸に、周方向に異なる個数の磁性ドットで微小位置検出部を構成し、磁化反転を抑制することにより、安定したサーボパターンを維持する技術が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００９−２４５５３４号公報
【特許文献２】特開２０１０−４００９９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
近年、このパターンドメディアが有するパターンサイズは、ますます微細化されてきている。この微細化により、磁気記録媒体におけるデータの読み書き等において以下の不具合が発生することが、本発明者らの手により発見されている。
この不具合について、図１を用い、ドット状のパターン（以降、単にドットとも言う）を形成した場合を想定して具体的に説明する。
なお、バツ印（×）は、原盤の同期信号生成部に形成されたパターンのパターン中心であり、白丸（○）は、原盤のデータ部における実際の位置に形成されたドットパターンであり、黒丸（●）は、検出器によりドットが実際に検出されることになってしまう位置である。
【００１１】
図１（ａ）に示すように、例えばドット状の凸部（磁性部）が磁気記録媒体上に、設計通りに形成されていたとする。設計通りにパターンが形成されていれば、通常だとエラーは起こらないはずである。
【００１２】
しかしながら、磁気記録装置を用いた場合、同期信号生成部２２１ａにて生成された同期信号と同じ周期（クロック）にて、データ部２１を認識することになる。逆に言うと、磁気記録媒体においてはこの同期信号に応じた部分しか読み書きを行うことができない。つまり、図１（ｂ）に示すように、データ部２１における最初のドットＡから２５ｎｍ間隔（即ち同期信号のクロック）で配置されたドットパターンの周期配置（破線部分）に対応する部分においてでしか、磁気記録媒体の読み書きを行うことができない。
【００１３】
なお、本実施形態における「クロック」とは、サーボ部からデータ部２１へと進む方向（即ちトラック進行方向）において一定周期で形成されたデータパターンまたはサーボパターンの周期のことである。図１（ｂ）（ｃ）の場合、同期信号生成部２２１ａのクロックは距離に換算すると２５ｎｍである。
本実施形態においては、データパターンにおける周期を単に「クロック」とも呼ぶこととする。また、最終的に磁気記録媒体が作製された後に、磁気記録媒体における同期信号生成部２２１ａに対応する部分から得られる情報により生成される同期信号の周期、即ち同期信号の基となるサーボパターンの周期を「基準クロック」と呼ぶ。
【００１４】
一方、上述のように仮に設計通りにパターンが形成したとしても、図１（ｂ）に示す破線部分に、実際にはデータ部２１におけるドット（○）が存在するというわけではない。
図１（ｂ）に示す破線部分に、ドットの中心点が存在しないと以下の不具合が発生する。
【００１５】
つまり、この磁気記録媒体の読み書きの際、同期信号生成部２２１ａにて生成された基準クロックと、同期信号検出部２２１ｂにてデータパターンの検出を開始後の、データ部２１におけるドットパターン配置のクロックと一致していない。これに起因して、磁気記録装置がドットの位置を正確に認識できない可能性が生じる（図１（ｂ）と（ｃ）の「ズレ」参照）。
【００１６】
具体例で説明すると、図１（ｂ）のドットＡの中心は、記録媒体上の読み書き可能な部分（破線部分）、即ち基準クロック上に存在するため、問題なく読み書きできる。
その一方で、それに隣接するドットＢの中心点が、図１（ｂ）に示す破線部分に存在していない。この場合、ドットＢが本来読み書きを行いたかった部分ではなく、同期信号のクロックに応じて離間した隣のドットＢ’の部分で読み書きを行ってしまうという現象が起こる。
【００１７】
このように、磁気記録媒体上にアナログ的にパターンを形成したにもかかわらず、その読み書きや検査段階ではデジタル的認識を行うため、データが丸められ量子化誤差が生じる。その結果、位置ズレが発生してしまう。以降、この位置ズレのことを「データ転び」又は単に「転び」とも言う。
【００１８】
なお、ドット状パターンを用いた磁気記録媒体の場合、読み書き等の位置ズレにおいては、ドット径の１０％程度が許容範囲であると考えられている。現在、電子ビーム露光を用いて、ドット径が１２．５ｎｍ程度のパターン形成が必要とされている。そのため、１．２５ｎｍ程度の位置ズレしか許容できない。それにもかかわらず、先ほど例示した図１（ｃ）に示すように、隣接するドットＢとドットＣとで互いに近づく方向であるドットＢ’とＣ’にデータが転んでしまうと、図１の同期信号生成部２２１ａの基準クロックが２５ｎｍであることから鑑みて、ドットＢとＢ’のとの間では基準クロックの約１／４の位置ズレ（約６ｎｍ）、そしてドットＣとＣ’との間では基準クロックの約半分の位置ズレ（約１２ｎｍ）が発生し、データ部２１の位置ズレは少なくとも合計１８ｎｍ以上になってしまい、読み書きの際のエラーの発生確率が極めて高くなってしまう。
【００１９】
この不具合は、単に磁性記録媒体の読み書きエラーを発生させるのみならず、原盤又はワーキングモールドを製造するモールド製造工程から出荷工程に至るまでにおいて深刻な事態を招くおそれがある。例えば、設計通りのパターンを有する原盤又はワーキングモールドが作製できたとしても、まず、同期信号の基準クロックの関係で、上述のようなエラーが生じるおそれがある。その上、上述のように磁気記録媒体を作製するに至る最終段階でエラーが生じるおそれもある。そもそも、設計通りに微細パターンを形成したにも関わらず、その後の磁気記録媒体の段階でエラーが発生するため、製品としての磁気記録媒体の歩留まりが低下するどころか、このエラーの原因究明のために多くの時間や労力を費やさなければならず、場合によっては基となるモールドを含めて全ての工程を再検討し、作製し直さなければならないおそれすらある。
【００２０】
本発明の主たる目的は、同期信号の基準クロックとデータパターンのクロックの差に起因する磁気記録装置における読み書きエラーの発生を抑制する原盤及びその製造方法、ワーキングモールド及びその製造方法、電子ビーム露光装置、並びに電子ビーム露光方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２１】
上述の通り、本発明者らは、同期信号生成部２２１ａにて生成された同期信号の周期が、データ部２１におけるドットパターン配置の周期と一致していないことにより、「データの転び」が磁気記録媒体の製造工程全体において重大な影響を及ぼすという知見を得た。この知見を基に、本発明者らはまず、磁気記録装置のマスタークロックを高くすることによりこの課題を解決する手段について検討した。
【００２２】
しかし、磁気記録装置のマスタークロックは有限である上、マスタークロックを高くした磁気記録装置は著しく高額となる。それに加え、磁気記録媒体が搭載されるハードディスク回路では低コストの回路設計が求められているという事情もある。この事情に反して高額な装置を用いると、磁気記録媒体そのものに価格を上乗せすることになる。そのため、上述の手段はコスト面で難がある。  
【００２３】
そこで本発明者らは、同期信号生成部２２１ａにて生成される同期信号の基準クロックを、原盤の作製段階から予め考慮に入れておく、という知見を得た。
具体的には、同期信号検出部２２１ｂにてデータパターンの検出を開始してからのデータパターンのクロックが、前記同期信号生成部２２１ａのパターンの基準クロックの自然数倍とする。そして、データ転びの発生を抑制すべく、図１（ｂ）（ｃ）に示すような破線部分に必ずデータパターンが配置されるよう原盤を最初から作製しておく、という手段を想到した。この手段によって、原盤作製後に用いる装置において発生するエラーを予め抑制することが、原盤作製の段階において保証できることを、本発明者らは見出した。
【００２４】
この知見に基づいて成された本発明の態様は、以下の通りである。
本発明の第１の態様は、
複数のトラックが同心円状に形成されるように、データ部とサーボ部とが基板上に形成され、磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤において、
前記データ部は、磁気記録媒体において情報の記録を行うためのデータ領域の基となるデータパターンが、所定のクロックに応じた間隔でドット状に形成された部分であり、
各々のトラックにおいて少なくとも前記データ部のデータパターンの形態が１ドットごとに径方向及び周方向に分離されており、
前記サーボ部は、磁気記録媒体においてトラック位置及び／又はパターン位置を特定するためのサーボ領域の基となるサーボパターンが形成された部分であり、
前記サーボパターンの少なくとも一部には、基準クロックを生じさせる同期信号生成部が形成されており、
各々のトラック内において、前記データパターンのクロックが、前記同期信号生成部のパターンの基準クロックの自然数倍であることを特徴とする原盤である。
本発明の第２の態様は、第１の態様に記載の態様であって、
前記データパターンのクロックと前記同期信号生成部のパターンの基準クロックとが一致しており、
各々のトラック内にて前記サーボ部から前記データ部へと移行する場合において、前記同期信号生成部により同期信号が発生してから前記データ部の末端に至るまで、前記基準クロックに応じた間隔でドット状のパターンが形成されていることを特徴とする。
本発明の第３の態様は、第１又は第２の態様に記載の原盤からインプリントにより製造されたことを特徴とするワーキングモールドである。
本発明の第４の態様は、
複数のトラックが同心円状に形成されるように、データ部とサーボ部とが基板上に形成され、磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤の製造方法において、
前記データ部は、磁気記録媒体において情報の記録を行うためのデータ領域の基となるデータパターンが、基準クロックに応じた間隔でドット状に形成された部分であり、
各々のトラックにおいて少なくとも前記データ部のデータパターンの形態が１ドットごとに径方向及び周方向に分離されており、
前記サーボ部は、磁気記録媒体においてトラック位置及び／又はパターン位置を特定するためのサーボ領域の基となるサーボパターンが形成された部分であり、
前記サーボパターンの少なくとも一部には、基準クロックを生じさせる同期信号生成部が形成されており、
各々のトラック内において、前記データパターンのクロックを、前記同期信号生成部の基準クロックの自然数倍とすることを特徴とする原盤の製造方法である。
本発明の第５の態様は、第４の態様に記載の製造方法により製造された原盤からインプリントによりワーキングモールドを製造することを特徴とするワーキングモールドの製造方法である。
本発明の第６の態様は、
磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤を製造するための電子ビーム露光装置において、
一主面上に感光膜が形成された基板を保持しつつ当該基板を回転させる回転手段と、
前記回転手段の駆動を制御する回転制御手段と、
前記基板を保持しつつ、前記基板の主面上における電子ビームの照射位置を当該基板に対して相対的に移動させる移動手段と、
磁気記録媒体においてトラック位置及び／又はパターン位置を特定するためのサーボ領域の基となるサーボパターンに対応した形状の露光を、前記基板上のサーボ部に対して電子ビームを照射することによって行い、且つ、磁気記録媒体において情報の記録を行うための前記データ領域の基となるデータパターンに対応したドット状の露光を、複数のトラックが同心円状に形成され且つ１ドットごとに径方向及び周方向に分離されるように、所定のクロックに応じた間隔で前記基板上のデータ部に対して行う露光手段と、
を備え、
前記露光手段により、前記サーボパターンの少なくとも一部として、基準クロックを生じさせる同期信号生成部となる形状の露光を行い、
各々のトラック内において、前記データパターンのクロックを、前記同期信号生成部のパターンの基準クロックの自然数倍とすることを特徴とする電子ビーム露光装置である。
本発明の第７の態様は、第６の態様に記載の態様であって、
前記露光手段による電子ビームの照射は、前記移動手段によって線速一定に行うことを特徴とする。
本発明の第８の態様は、第６又は第７の態様に記載の態様であって、
前記露光手段から照射される電子ビームを偏光する電子ビーム偏光手段を更に備え、
前記電子ビーム偏光手段により、
前記データパターンのクロックが、前記同期信号生成部のパターンの基準クロックの自然数倍となる部分に電子ビームを照射することを特徴とする。
本発明の第９の態様は、第６ないし第８のいずれかの態様に記載の態様であって、
前記データパターンのクロックと前記同期信号生成部のパターンの基準クロックとが一致しており、
各々のトラック内にて前記サーボ部から前記データ部へと移行する場合において、前記同期信号生成部により同期信号が発生してから前記データ部の末端に至るまでに存在するドット状のパターンは、前記基準クロックに応じた間隔で形成されていることを特徴とする。
本発明の第１０の態様は、
磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤を製造するための電子ビーム露光方法において、
一主面上に感光膜が形成された基板を保持しつつ、前記基板の主面上における電子ビームの照射位置を当該基板に対して相対的に移動させる移動工程と、
磁気記録媒体においてトラック位置及び／又はパターン位置を特定するためのサーボ領域の基となるサーボパターンに対応した形状の露光を、前記基板上のサーボ部に対して電子ビームを照射することによって行い、且つ、磁気記録媒体において情報の記録を行うためのデータ領域の基となるデータパターンに対応したドット状の露光を、複数のトラックが同心円状に形成され且つ１ドットごとに径方向及び周方向に分離されるように、所定のクロックに応じた間隔で前記基板上のデータ部に対して行う露光工程と、
を備え、
前記露光工程において、
前記サーボパターンの少なくとも一部として、基準クロックを生じさせる同期信号生成部となる形状の露光を行い、
各々のトラック内において、前記データパターンのクロックを、前記同期信号生成部のパターンの基準クロックの自然数倍とすることを特徴とする電子ビーム露光方法である。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、同期信号の基準クロックとデータパターンのクロックの差に起因する
磁気記録装置における読み書きエラーの発生を抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本実施形態におけるデータ転びの様子を示す概略図である。（ａ）は、設計通りに基板上に形成されたパターンを示す図である。バツ印（×）は、原盤の同期信号生成部に形成されたパターンのパターン中心である。白丸（○）は、原盤のデータ部における実際の位置に形成されたドットパターンである。（ｂ）は、同期信号の基準クロックごとの区切り（破線）を入れた場合のドット状のパターンを示す図である。（ｃ）は、同期信号の基準クロックごとの区切り（破線）を入れた上で、検出器によりドットが実際に検出されることになってしまう位置（黒丸（●））を示す図である。
【図２】露光の対象となる基板の構造の一例を示す図である。
【図３】本実施形態における基板を示す図であり、その基板におけるデータ部及びサーボ部、そしてデータパターンを示す図である。
【図４】本発明の実施の形態に係る電子ビーム露光装置の構成例を示す概略図である。
【図５】電子ビーム露光時の様子を示す図である。
【図６】変形例におけるパターン配置を示す概略図である。バツ印（×）は、原盤の同期信号生成部に形成されたパターンのパターン中心である。黒丸（●）は、原盤のデータ部におけるドットパターンである。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しつつ詳細に説明する。
本実施形態においては、次の順序で説明を行う。
１．原盤（基板）の構造
ａ）原盤上のサーボ部
ｂ）原盤上のデータ部
２．電子ビーム露光装置の基本構成（機構系の構成、制御系の構成）
３．電子ビーム露光装置の基本動作
４．電子ビーム露光装置の制御方法（電子ビーム露光方法を含む）
５．実施の形態による効果
６．変形例
【００２８】
＜１．原盤（基板）の構造＞
図２は、露光の対象となる基板４の構造の一例を示すもので、図中（Ａ）は平面図、（Ｂ）は側断面図を示している。
【００２９】
本実施形態において、基板４は、複数のトラックを有する磁気記録媒体を製造するため、又は複数のトラックを有する磁気記録媒体の製造に用いられるワーキングモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤となる基板である。その材質について言えば、本実施形態においては、石英ガラス基板を用いて構成されるものである。また、基板４の平面形状は円形（即ち円盤状）になっている。基板４の一方の主面（上面）には、感光膜の一例としてのレジスト膜１８を形成してある。本実施形態においては、レジスト膜１８は、ポジ型レジストを使用する。
【００３０】
ポジ型レジストを用いた場合、電子ビームの照射によって露光された部分が、その後の現像処理によって溶解除去されることになる。ポジ型レジストは、一般的にネガ型レジストに比べて、電子ビームに対する感度が高く、得られる解像度も高いため、これを用いてレジスト膜１８を形成（成膜）した方が好ましいが、ネガ型レジストを用いても構わない。本実施形態においては、ポジ型レジストを用いてレジスト膜１８を形成してあるものとする。
【００３１】
基板４は、レジスト膜１８が形成されている領域（成膜領域）のほぼ全部を露光の対象にしても良いし、当該領域の一部を露光の対象にしても良い。ここでは一例として、基板４の物理的な中心Ｃｐを基準にして、そこから基板４の半径方向に長さＬｒ１までの円形領域Ｅ０を除いて、当該円形領域Ｅ０よりも外側の領域をレジスト膜１８の有効領域（露光対象領域）１９に設定している。
【００３２】
ここで記述するレジスト膜１８の有効領域１９とは、電子ビーム露光後に行われる現象処理によってレジストのパターンが形成される領域をいう。このため、レジスト膜１８の有効領域は、たとえば、電子ビーム露光とその後の現像処理によって得られたパターンに基づくディスク原盤を用いて、ディスク状の記録媒体を製造する場合に、当該記録媒体のディスク面に転写される領域に対応する領域（製品の品質維持に必要な領域）となる。
【００３３】
そして、この有効領域１９には、図３に示すように、データ部２１と、前記データ部２１に隣接するサーボ部２２とが形成される。このサーボ部２２とデータ部２１とは同心円状の各トラック内において、交互に配置されている。
なお、前記データ部２１は、磁気記録媒体において情報の記録を行うためのデータ領域の基となるデータパターン２１’が形成された部分である。
また、前記サーボ部２２は、磁気記録媒体においてトラック位置及び／又はパターン位置を特定するためのサーボ領域の基となるサーボパターン２２’が形成された部分である。
そして、本実施形態においては、データパターン２１’もサーボパターン２２’も凹凸によりパターンが形成されている場合について述べる。
【００３４】
なお、以降、パターンが存在する部分に関して原盤又はワーキングモールド上に設けられたものは「部」という単語を使用し、例えば「データ部」「サーボ部」、という。
一方、この原盤又はワーキングモールドにより将来的に形成される磁気記録媒体におけるパターンが存在する部分については「領域」という単語を使用し、例えば「データ領域」「サーボ領域」、と言うことにする。
上記内容を端的に言えば、本実施形態の原盤に設けられたデータ部２１及びサーボ部２２の凹凸パターンが、インプリントにより磁気記録媒体に転写され、磁気記録媒体におけるデータ領域及びサーボ領域となる。
【００３５】
以下、原盤におけるデータ部２１及びサーボ部２２について、サーボ部２２→データ部２１という順に説明する。その際、基板を円形とする関係上、図３に記載されているような、複数のトラックが同心円状に形成される場合について説明する。なお、以下の説明では、最終的に作製される磁気記録媒体における、原盤上の各部に該当する領域の機能を中心に、原盤上の各部について説明する。
【００３６】
ａ）原盤上のサーボ部
同心円状の各トラック内での円周方向において、前記サーボ部２２においては、プリアンブル部２２１、アドレス部２２２、及びバースト部２２３が、この配置順で構成されている。
【００３７】
（プリアンブル部）
前記プリアンブル部２２１は、磁気記録媒体において、再生信号のクロックを同期させるための情報が記録されることになる部分である。そしてこのプリアンブル部２２１は、同期信号生成部２２１ａと、同期信号検出部２２１ｂを更に具備している。
【００３８】
同期信号生成部２２１ａは、サーボ情報を呼び出す前に、信号アンプの増幅率を調整して振幅を一定にする働き、及びＡ／Ｄ変換（Ａｎａｌｏｇ  ｔｏ  Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｃｏｎｖｅｒｔｅｒ）クロック信号のサンプリングタイミングを生成する働きを有する。同期信号生成部２２１ａは、媒体の内周から外周までの全てあるいは一部の範囲で、径方向に連続して形成されており、周方向に一定の間隔で形成されている。
【００３９】
なお、本実施形態においては、同期信号生成部２２１ａにおけるこの「周方向に一定の間隔」を有するパターンの周期（図３の符号Ｘ）を「基準クロック」とし、この基準クロックを、後述するデータ部２１のパターン周期形成の際の基準にする。具体的には、データパターン２１’のクロックが、同期信号生成部２２１ａのパターンの基準クロックの自然数倍となるようにする。
図３に示すように、本実施形態においては、データパターン２１’のクロックが、同期信号生成部２２１ａのパターンの基準クロックの等倍、即ちパターン周期を同期信号生成部２２１ａと同様、Ｘとしている。
【００４０】
このように、本実施形態においては、検出器を用いた時に機能を発揮する同期信号の基準クロックを予め考慮に入れ、データパターン２１’のクロックが、同期信号生成部２２１ａのパターンの基準クロックの等倍となるように、ドットを形成しておく。こうすることにより、「データ転び」を抑制することができる。
なお、等倍以外の自然数倍の場合についての内容やその他の詳細は、後のｂ）原盤上のデータ部、の項で詳述する。
【００４１】
なお、ここで挙げた「検出器」は、前記磁気記録媒体製造中ないし製造後に用いられる検出器であって、前記磁気記録媒体のサーボ領域におけるサーボ信号及びデータ領域における情報を検出する検出器である。この検出器としては、例えば磁気記録再生装置、場合によっては検査装置などが挙げられる。
【００４２】
次に、同期信号検出部２２１ｂは、サーボ情報の開始を示す特徴的なパターンである。同期信号検出部２２１ｂは、原盤の内周から外周までの全てあるいは一部の範囲で、径方向に連続して形成されている。そして、周方向に同期信号生成部２２１ａに比べて長いドット長の部分を有している。この部分が、最終的に磁気記録媒体において、単一の磁性部又は数ドット長の既定符号を生成する複数の磁性部となる。
【００４３】
以上の同期信号生成部２２１ａ及び同期信号検出部２２１ｂは、本実施形態の原盤において、一つの特徴となる部分である。同期信号生成部２２１ａが、最終的に磁気記録媒体において磁性部となり、同期信号となる「基準クロック」（即ち、形成されるパターンが有する所定の周期）を生成することになる。更には、同期信号検出部２２１ｂが、各々のトラックのサーボ部２２からデータ部２１に向かう方向において、データパターン２１’の検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターン２２’となる。
【００４４】
（アドレス部）
アドレス部２２２は、サーボフレーム毎のトラック番号及びセクタ番号を示すＩＤパターンである。磁気記録装置において、磁気ヘッドの位置するトラック位置を示す。
【００４５】
アドレス部２２２は、セクタ番号を示す周方向位置では、媒体の内周から外周までの全てあるいは一部の範囲で、径方向に連続して形成されている。
なお、原盤のアドレス部２２２を転写された磁気記録媒体において、トラック番号の上位桁を示す周方向位置では、媒体の内周から外周までの全てあるいは一部の範囲で、アドレス部２２２に対応するパターンが径方向に連続している。一方、トラック番号の下位桁を示す周方向位置では、媒体の径方向に断続的となる磁性体が形成されている。
【００４６】
（バースト部）
バースト部２２３は、シリンダアドレスのオントラック状態からのオフトラック量を検出するための磁気記録媒体におけるオフトラック検出用領域に対応する基板上部分である。
【００４７】
バースト部２２３が磁気記録媒体に転写されると、この領域によって、磁気記録装置において、磁気ヘッドの位置のトラック中心からのずれ情報が検出される。磁気記録媒体においてバースト部２２３に対応する領域が、周方向に、特定の形状及び配列からなる磁性パターンを有し、それぞれの磁性パターンは、媒体の径方向に、トラック毎に、等間隔に配置されている。
【００４８】
なお、同心円状の各トラック内での円周方向におけるこれらの配置順はこの順番に限られない。ただ、上述の通り、磁気記録媒体におけるプリアンブル部２２１にて同期信号を生成・制御し、アドレス部２２２にて磁気記録装置における磁気ヘッドの位置するトラック位置を認識し、バースト部２２３にて磁気ヘッドのトラック中心からのズレ情報を記録するという役割を担っていることから、この順番が好ましい。
【００４９】
ｂ）原盤上のデータ部
本実施形態においては、前記サーボ部２２に隣接するようにデータ部２１が形成されている。更に詳しく言うと、円周方向において、バースト部２２３の後に、データ部２１が形成されている。このデータ部２１は、最終的に磁気記録媒体においてユーザデータを書き込み可能な領域となり、検出器の磁気ヘッドによってそれが可能となる。
【００５０】
また、データ部２１におけるデータパターン２１’としては、ドットパターンである必要がある。本実施形態においては平面視円形からなるドットパターンの場合について述べる。
【００５１】
なお、ドットパターンならば、ドットの略中心位置を基準に設定することができるという利点がある。
つまり、検出器において正確に認識可能な地点にドットの略中心があれば、その地点にて最もドットを認識しやすくなる。
【００５２】
なお、本実施形態における「ドットの略中心」とは、「検出器によって本来認識されるべき地点でドットが認識される程度、ドット中心に近いドット内の部分」のことである。
【００５３】
各々のトラックにおいて少なくとも前記データ部２１のデータパターン２１’の形態は、１ドットごとに径方向及び周方向に分離されている。最終的な磁気記録媒体においては、データ領域は、磁気ヘッドによってユーザデータの書き込み可能な磁性帯を有する複数のトラックが設けられ、隣接するトラック間にはユーザデータの書き込み不能な非磁性帯が設けられている。即ち、磁気記録媒体は、磁性帯が非磁性帯によって物理的に分離されたディスクリートトラック型の記録媒体となっている。
【００５４】
そして、本実施形態の原盤における大きな特徴は、データパターン２１’のクロックが、前記同期信号生成部２２１ａのパターンの基準クロックの自然数倍であることである。
【００５５】
先にも述べたように、磁気記録媒体の読み書きの際、同期信号生成部２２１ａにて生成された同期信号のクロックが、データ部２１におけるドットパターン配置のクロックと一致していないことがある。これに起因して、磁気記録装置がドットの位置をずらして認識してしまうおそれが発生する。具体的には、ドットＡの中心点が読み書き可能な部分に存在していたとしても、それに隣接するドットＢの中心点が、図１に示す破線部分に存在しない場合が出てくる。
この場合、本来読み書きを行いたかった部分ではなく、同期信号に応じて離間した隣の破線部分で読み書きを行ってしまうという現象が起こる。
つまり、アナログ的にパターンを形成したにもかかわらず、読み書きや検査段階でのデジタル的認識を行うことにより位置ズレが発生してしまい、所謂「データ転び」が発生するおそれがある。
【００５６】
ところが、本実施形態のように、同期信号生成部２２１ａで生成される同期信号のクロックを、磁気記録媒体作製前の原盤段階において既に考慮に入れてドットを配置することにより、データ転びの発生を抑制することができる。例示するならば、クロックが２５ｎｍの同期信号を生成する場合、図１（ｂ）〜（ｄ）に示すように、データパターン２１’において最初に認識されるドットＡからトラック進行方向において２５ｎｍ、５０ｎｍ、１００ｎｍ、１２５ｎｍ・・・の地点しかパターンを認識できない。
そこで、この同期信号を予め考慮に入れ、１０ｎｍや２０ｎｍの地点にはドット略中心を配置せず、２５ｎｍ、５０ｎｍ、１００ｎｍの地点にドット略中心を配置している（図１（ｄ））。これはデータパターン２１’のクロックを基準クロックの等倍とした場合である。この場合、基準クロックとデータパターン２１’のクロックとが完全同一となるので、露光の際の制御も行いやすくなる。その結果、データ転びを更に確実に抑制できる。
【００５７】
それ以外にも、図６（ａ）に示すように、基準クロックの自然数倍（例えば２倍）したものをデータパターン２１’のクロックとすることも考えられる。データパターン２１’のクロックを基準クロックの自然数倍にしておけば、図１（ｂ）（ｃ）に示す破線部分に必ずデータパターン２１’を配置することができ、図１（ｂ）から（ｃ）に至るようなデータ転びの発生を抑制することができる。
本実施形態の特徴は、上記の設定を、原盤の作製段階において行うことにある。
【００５８】
そして、上述の条件においては、データパターン２１’の検出を開始するタイミング合わせの基準となる同期信号検出部２２１ｂをスタート地点として、データパターン２１’のクロックを、同期信号生成部２２１ａのパターンの基準クロックの自然数倍としている。こうすることにより、上述の例示が如く、データ転びが起きないようなドット配置とすることができる。
【００５９】
なお、上記「自然数倍」の上限値についてであるが、１つのトラックにおけるデータ部
２１の幅（同心円状トラックの場合はデータ部２１の周長）に応じて、所定の情報を記録
できる程度の数のドットを形成できる程度の倍数ならば良い。
【００６０】
（その他の部分）
上記以外の部分としては、データパターン２１’とサーボパターン２２’との間に、半径方向につながった略放射状の凸パターンからなる緩衝パターン等を設けることも考えられるが、本実施形態の効果を損なわない限り特に制限はなく、目的に応じて上記以外の部分を適宜選択することができる。
【００６１】
（トラック変化によるパターン周期の変化）
上述の通り、同心円状トラックにおいて、１つのトラック内においては、上記の条件を満たすことにより、最終的に磁気記録媒体でデータ転びを抑制することができる。ところが、同心円状に複数のトラックを形成する場合、外周又は内周側のトラックは円周長が変化する。そして、ドット状のパターンを作製する場合、データパターン２１’におけるドット略中心の位置のクロックを、各トラックにおいて同期信号生成部２２１ａのパターンの基準クロックの自然数倍とする。
この際、上記の条件を満たすように、同期信号生成部２２１ａやデータパターン２１’が形成されている部分以外の部分（例えばデータ部２１とサーボ部２２との間）にて、ドットの個数を調整しても良い。
【００６２】
以上が、本実施形態に係る原盤の構成についての説明である。
以下、この原盤を作製するのに用いられる電子ビーム露光装置について説明する。
【００６３】
＜２．電子ビーム露光装置の基本構成＞
図４は、本発明の実施の形態に係る電子ビーム露光装置の構成例を示す概略図である。図示した電子ビーム露光装置１は、大きくは、電子ビームを発生する電子ビーム発生部２と、この電子ビーム発生部２で発生させた電子ビームを制御する電子ビーム制御系３と、露光の対象となる基板４を支持するステージ機構５と、このステージ機構５の駆動を制御するステージ制御系６とを備えている。
【００６４】
なお、本実施形態においては、電子ビーム発生部２と電子ビーム制御系３とを合わせて「露光手段」としている。この露光手段によって、電子ビームを照射して、前記サーボ領域の基となるサーボパターン２２’に対応した形状の露光を前記基板上のサーボ部２２に行い、且つ、前記データ領域の基となるデータパターン２１’に対応した形状の露光を前記基板上のデータ部２１に行うことになる。
【００６５】
また、ステージ機構５とステージ制御系６と合わせて「移動手段」としている。この移動手段によって、一主面上に感光膜が形成された基板を保持しつつ、基板４の主面上における電子ビームの照射位置を当該基板４に対して相対的に移動させることになる。
【００６６】
なお、本実施形態においてはｒ−θ系の回転ステージを用いるため、ステージ機構５は「移動手段」（ｒ方向に移動可能）と「回転手段」（θ方向に回転可能）とを兼ねている。また、ステージ制御系６は、電子ビームの照射位置を被照射体となる基板４に対して相対的に移動させる機能を有する。これに加え、ステージ制御系６は、この「回転手段」の駆動を制御する「回転制御手段」である。
【００６７】
更に、本実施形態に係る電子ビーム露光装置は、上記の構成に対して所望の動作をさせるべく、所望の数値や動作パターン、同期信号生成部２２１ａの基準クロックのようなデータを入力するインターフェイス２０を加えた構成となっている。
以下、このインターフェイス２０に入力されたデータに応じて動作させる各部の構成についてまずは説明する。
【００６８】
（電子ビーム発生部）
電子ビーム発生部２は、電子ビームの発生源となる電子銃７を用いて構成してある。電子銃７は、ステージ機構５に支持された基板４と対向する状態に配置してある。電子銃７は、電子ビームを下向きに発生するものとなっている。
なお、電子ビームを基板４に照射する際の照射形状は、本実施形態においては平面視円形としている。つまり、線状のパターンを形成する際には、ステージ機構５により基板４を回転させながら基板４上のレジストに電子ビームを照射し続け、線状の露光を行う。そして、円形ドット形状に露光する場合は、瞬間的に電子ビームを照射する。
【００６９】
（電子ビーム制御系）
電子ビーム制御系３は、たとえば、図示のように収束レンズ８と、ブランキング電極９と、ブランキングアパーチャ１０と、対物レンズ１１と、偏向器１２とを有している。
【００７０】
収束レンズ８は、電子銃７から出射された電子ビームを収束させるものである。収束レンズ８は、電子銃７から基板４に至る電子ビームの軌道上において、電子銃７とブランキング電極９との間に配置してある。
【００７１】
ブランキング電極９は、電子ビームを基板４への照射を制御するものである。ブランキング電極９に電圧を印加（即ちＯＮ）し、その電界によって電子ビームの軌道を制御することによって、ブランキングアパーチャ１０で遮る。一方、電子ビームを基板４に電子ビームを照射する場合は、ブランキング電極９をＯＦＦにする。ブランキング電極９は、電子銃７から基板４に至る電子ビームの軌道上において、収束レンズ８とブランキングアパーチャ１０との間に配置してある。
【００７２】
ブランキングアパーチャ１０は、電子ビーム露光に際して、不要な電子ビーム成分を遮断する機能を果たすものである。ブランキングアパーチャ１０は、不要な電子ビーム成分を遮断し、かつ必要な電子ビーム成分を通過させるための開口部１３を一体に有している。ブランキングアパーチャ１０は、電子銃７から基板４に至る電子ビームの軌道上において、ブランキング電極９と対物レンズ１１（偏向器１２）との間に配置してある。
【００７３】
対物レンズ１１は、ブランキングアパーチャ１０の開口部１３を通過した電子ビームの焦点を基板４に合わせるものである。対物レンズ１１は、電子銃７から基板４に至る電子ビームの軌道上において、ブランキングアパーチャ１０とステージ機構５との間に配置してある。
【００７４】
偏向器１２は、ブランキングアパーチャ１０の開口部１３を通過した電子ビームの軌道を偏向させ、所望の位置に電子ビームを照射させるものである。
なお、本実施形態においては、電子ビーム制御系の内、少なくともブランキング電極９を含む部分であって、電子ビームを偏向させることに関係する部分が「電子ビーム偏向手段」となる。
なお、上記説明は電子ビーム露光装置の主要部分のみを説明しており、実際には上記以外にも複数のアパーチャや収束レンズ、ダイナミックフォーカスレンズ等（図示せず）が具備されている。
【００７５】
（ステージ機構）
ステージ機構５は、回転ステージ１４と、直動ステージ１５とを用いて構成してある。回転ステージ１４及び直動ステージ１５は、前述したｒ−θ系のステージを構成している。
【００７６】
回転ステージ１４は、基板４を水平に保持するとともに、保持した基板４を回転させるものである。回転ステージ１４は、たとえば、図示しないスピンドルモータ等の駆動源を用いて回転する仕組みになっている。回転ステージ１４は、基板４を保持しつつ当該基板４を回転させる回転手段の一例として設けてある。
なお、本実施形態においては、この回転ステージ１４が「回転手段」となる。
【００７７】
直動ステージ１５は、水平面に平行な一軸方向（以下、「水平方向」と記す）に直線的に移動するものである。直動ステージ１５は、回転ステージ１４及びこれに保持した基板４と一体になって水平（ｒ）方向に移動する。直動ステージ１５は、回転ステージ１４で保持した基板４を、この基板４の半径方向と平行な方向に移動させる移動手段の一例として設けてある。
【００７８】
（ステージ制御系）
ステージ制御系６は、回転ステージ１４を制御する回転ステージ制御部１６と、直動ステージ１５を制御する直動ステージ制御部１７とを有している。
【００７９】
回転ステージ制御部１６は、回転ステージ１４の駆動を制御するものである。更に詳述すると、回転ステージ制御部１６は、たとえば、回転ステージ１４の回転・停止といった基本的な動作に加えて、回転ステージ１４の回転数及び回転方向の制御を行う。ここで記述する回転ステージ１４の回転数は、通常単位時間当たりの回転数（単位；ｒｐｍ）で表されるものである。回転ステージ１４は、回転ステージ１４の回転方向の現在位置（回転位相）を、たとえば、電子ビーム露光装置１が備える図示しない回転位置検知センサを用いて認識する。
なお、本実施形態においては、この回転ステージ制御部１６が「回転制御手段」となる。
【００８０】
直動ステージ制御部１７は、直動ステージ１５の駆動を制御するものである。更に詳述すると、直動ステージ制御部１７は、たとえば、直動ステージ１５の移動・停止といった基本的な動作に加えて、直動ステージ１５の移動速度及び移動方向の制御を行う。回転ステージ制御部１６は、直動ステージ１５の移動方向の現在位置を、たとえば、電子ビーム露光装置１が備える図示しない移動位置検知センサを用いて認識する。
【００８１】
＜３．電子ビーム露光装置の基本動作＞
次に、本発明の実施の形態に係る電子ビーム露光装置１の基本動作について説明する。
【００８２】
まず、回転ステージ１４の上に基板４を載せて固定する。このとき、回転ステージ１４の回転中心と基板４の物理的な中心Ｃｐとが一致するように、基板４を位置決めする。また、レジスト膜１８が上を向くように（レジスト膜１８が電子銃７と対向するように）基板４を水平に配置する。
【００８３】
次に、必要に応じて、予め設定されたイニシャライズ処理（たとえば、回転ステージ１４の回転方向の基準位置を検知するための処理や、直動ステージ１５の移動方向の基準位置を検知するための処理など）を行う。各々の基準位置は、たとえば、前述した回転位置検出センサ及び移動位置検知センサを用いて検知されるものである。
【００８４】
次に、回転ステージ１４に保持した基板４を予め決められた初期位置に配置し、そこで回転ステージ１４の駆動により基板４を回転させる。そして、基板４の回転数が予め決められた値で安定したら、予め決められたタイミングで電子ビーム露光を開始する。そのときの様子を図５に示す。
【００８５】
電子ビーム露光においては、電子銃７から出射した電子ビームを収束レンズ８で収束させるとともに、収束された電子ビームの進行をブランキング電極９で制御して、ブランキングアパーチャ１０の開口部１３に電子ビームを通す。更に、ブランキングアパーチャ１０を通過した電子ビームのビーム径を対物レンズ１１で焦点を合わせるとともに、その電子ビームの向きを偏向器１２で制御する。
【００８６】
これにより、基板４上に形成してあるレジスト膜１８は、回転ステージ１４の回転駆動によって同心円状に露光される。また、直動ステージ１５の駆動によって基板４を水平方向に移動（微動）し、この移動にあわせて同心円状の露光を基板４の１回転ごとに繰り返すことにより、レジスト膜１８の有効領域１９全体が露光される。ただし、基板４が１回転する間に行われる同心円状の露光では、所望するピットパターンにあわせて電子ビームの照射のオンオフを切り替えるように制御する。この切り替えはブランキング電極９を用いて行う。
【００８７】
なお、本実施形態においては、サーボ部２２の一部においては線状のパターンが形成されるように電子ビームを基板４に露光する。そして、サーボ部２２の他の部分及びデータ部２１においては円形状のドットからなるパターンが形成されるように電子ビームを基板４に露光する。
【００８８】
＜４．電子ビーム露光装置の制御方法（電子ビーム露光方法を含む）＞
次に、本発明の実施の形態に係る電子ビーム露光方法を含めて、電子ビーム露光装置１の制御方法を説明する。
【００８９】
電子ビーム露光は、上述のインターフェイス２０に入力されたデータに基づき、前述したとおり回転ステージ１４の駆動により基板４を回転させながら行う。このとき、回転ステージ制御部１６は、たとえば露光ビームの線速が一定になるように回転ステージ１４の駆動を制御する。線速一定とすることにより、パターンの認識開始部分からの距離の制御を行いやすい。その結果、より確実にデータ転びが抑制された原盤を作製することができる。
【００９０】
ここで、同期信号生成部２２１ａにて生成される予定の同期信号の基準クロックがインターフェイス２０に入力される。そして、本実施形態においては、インターフェイス２０に入力された基準クロックが、電子ビームを発生する電子ビーム発生部２と、この電子ビーム発生部２で発生させた電子ビームを制御する電子ビーム制御系３と、露光の対象となる基板４を支持するステージ機構５と、このステージ機構５の駆動を制御するステージ制御系６とに伝達される。言い換えるなら、同期信号の基準クロックは、露光手段、移動手段、回転手段、回転制御手段へと伝達される。
【００９１】
同期信号の基準クロックが各構成に伝達された上で、この数値を考慮に入れつつ、上述の条件に対応する露光を行う。
即ち、各々のトラック内において、前記データパターン２１’のクロックを、前記同期信号生成部２２１ａのパターンの基準クロックの自然数倍とするように、前記移動手段により前記基板４を移動させながら前記露光手段による露光を行う。
【００９２】
この際、本実施形態ではポジ型レジストを用いていることから、電子ビーム偏向手段（ブランキング電極９）を利用して、以下のような露光を行っても良い。即ち、同期信号の基準クロックは、電子ビーム制御系を介して電子ビーム偏向手段にも伝達する。そして、上述の２つの条件を満たす場所におけるレジストに対し電子ビームが露光されるよう、ブランキング電極をＯＦＦにする。それ以外の場所においてはブランキング電極９をＯＮとし、レジストに電子ビームが露光されないようにしても良い。
【００９３】
なお、上述のようにレジストに対して電子ビームを露光した後は、公知の手段を用いて凹凸からなるデータ部２１及びサーボ部２２を有する原盤を製造することができる。かいつまんで言うと、レジストへの露光後、現像を行い、所定のパターン形状となったレジストパターンを得る。このレジストパターンをマスクにして、レジストの下部の導電層又は直接基板４をエッチングする。導電層を設けている場合は、最終的にこの導電層にも所定のパターンを形成し、最後に基板４へとパターン転写する。そして、レジストパターン（それに加え導電層）を除去し、データパターン２１’を有するデータ部２１、及びサーボパターン２２’を有するサーボ部２２を備えた原盤を得る。
【００９４】
＜５．実施の形態による効果＞
本実施形態では、各々のトラック内において、データパターンのクロックを、同期信号生成部のパターンの基準クロックの自然数倍とする。そして、このデータパターンの配置においては、原盤の作製段階から既に、同期信号の基準クロックを考慮に入れて原盤上のパターンを作製している。
【００９５】
これにより、検出器による位置検出の際、同期信号の基準クロックとデータパターンのクロックの差に起因するエラーの発生を抑制できる。更には、磁気記録媒体に対して用いられる磁気記録装置のマスタークロックを高くせずとも、データ転びの発生を抑制することができる。また、相対線速度を遅くすることなく、データ転びの発生を抑制することができる。
その結果、製品としての磁気記録媒体の歩留まりを向上させることができ、同期信号の基準クロックに起因するエラーのために無駄な時間や労力を費やす必要もなくなる。
【００９６】
＜６．変形例＞
なお、本発明の技術的範囲は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、発明の構成要件やその組み合わせによって得られる特定の効果を導き出せる範囲において、種々の変更や改良を加えた形態も含む。
【００９７】
まず、基板４の形状であるが、円形基板以外であっても良く、例えば矩形基板や多角形基板、更には半円形状の基板であっても良い。その基板上に、複数の同心円状のトラックを設けるならばどのような形状の基板でも構わない。
【００９８】
次に、データパターンについてであるが、本実施形態においては、原盤又はワーキングモールドの凹凸パターン一つ一つが、そのままデータ領域におけるデータパターンに対応する場合について述べた。その一方で、本実施形態の変形例として、凹凸パターン一つ一つはデータパターンにならずとも、複数の凹凸パターンによって初めてデータパターンとなる場合（即ちデータパターンの基礎となるパターン）も挙げられる。
具体的には、ドット状のパターンを形成する場合、４個のドットを１組としてデータパターンとするように、原盤又はワーキングモールドを形成しても良い。つまりこの場合、１個のドットが素パターンとなり、４個のドットによってデータパターンが形成されても良い。つまり、ここで言う「データパターン」には、データパターンそのものに加え、データパターンの基礎となるパターンも含まれる。
【００９９】
また、本実施形態においては円形のドットにより形成されたパターンについて述べたが、矩形のドットによりパターンが形成されても良い。
【０１００】
なお、本実施形態においては、データパターン２１’がドットにより形成され、同期信号生成部２２１ａはライン・アンド・スペース、即ち線状パターンにより形成された場合について述べたが、データパターン２１’以外の部分のパターンは、これらの形状、又はこれら以外の形状のパターンであっても良い。
更に、ドット形状のパターンと線状パターンとを混合させたサーボ部２２を形成しても良い。
【０１０１】
次に、本実施形態だと、同心円状の各トラック内での円周方向において、サーボ部２２においては、プリアンブル部２２１、アドレス部２２２、及びバースト部２２３が、この配置順で構成されている。その一方で、検出器において正常に検出できるのならば、サーボ部２２はこの順番の配置でなくとも良い。
【０１０２】
また、これらの部分のうち、少なくともプリアンブル部２２１の同期信号生成部２２１ａさえあれば良い。本実施形態においては、この同期信号生成部２２１ａのおかげで、同期信号の基準クロックの自然数倍のクロックでデータパターン２１’を形成できるためである。
【０１０３】
なお、同期信号検出部２２１ｂについてであるが、機能的な面では、本実施形態における同期信号検出部２２１ｂは、データパターン２１’の検出を開始するタイミング合わせを行っている。一方、変形例として同期信号検出部２２１ｂを設けない場合も考えられる。例えば、図６（ｂ）に示すように、磁気記録媒体において同期信号生成部２２１ａに対応する部分のデータ読み込みが行われた後、線速一定で所定時間後にデータ領域の読み込みを開始するような配置で、基板４に対して露光を行うよう、露光装置を制御しても良い。
【０１０４】
更に、本実施形態においては同期信号生成部２２１ａと同期信号検出部２２１ｂとをひとまとまりにしてプリアンブル部２２１を設けているが、両者を分離してプリアンブル部２２１を形成しても良い。つまり図１に示すように、データパターン直前に同期信号検出部２２１ｂを配置しても良く、各トラック内での円周方向において、同期信号生成部２２１ａ→アドレス部２２２→バースト部２２３→同期信号検出部２２１ｂ→データパターン２１’、という順番としても良い。
【０１０５】
また、同期信号検出部２２１ｂとデータ部２１（データ部２１において最初に読み込まれるドット）との間の距離Ｙであるが、図６（ｃ）のように基準クロックと同じにしても良いし、図６（ｄ）のようにそれよりも小さい距離であっても良い。逆に、距離Ｙは基準クロックよりも自然数倍以外の倍率で大きくても良い。この場合、上述のように、線速一定で所定時間後に、データ領域の読み込みを開始するような配置で、基板４に対して露光を行うことになる。
【０１０６】
結局のところ、データパターン２１’の検出開始以後のクロックが、同期信号生成部２２１ａのパターンの基準クロックの自然数倍であれば、データ部２１及びサーボ部２２内、そして両者間は、どのような配置関係を有していても構わない。
【０１０７】
なお、本実施形態で記載したように、同期信号検出部２２１ｂとデータ部２１との間にアドレス部２２２やバースト部２２３を設けても勿論良いし、データパターン２１’の検出を開始するタイミング合わせを行う部分をバースト部２２３が兼ねても良い。
【０１０８】
次に、本実施形態においてはポジ型レジストを用いた場合について述べたが、ネガ型レジストを用いても良い。ネガ型レジストを用いた場合は、電子ビームの照射によって露光された部分が、現像後も除去されずに残ることになる。つまり、原盤となる基板上には、ドット状のレジスト層が形成されることとなり、ひいては基板には円柱状のドットが形成されることになる。
【０１０９】
また、最終的に作製される磁気記録媒体の構成（磁性体及び非磁性体）に合わせて、この円柱状のドットが形成された原盤から直接、磁気記録媒体を作製しても良い。また、パターンを一度反転させるためにこの原盤からワーキングモールドを作製し、このワーキングモールドから磁気記録媒体を作製しても良い。
【０１１０】
次に、本実施形態においては、インターフェイス２０に入力された基準クロックを、露光手段、移動手段、回転手段、回転制御手段へと伝達した。その一方で、上述の条件を満たして基板４上に露光が行えるのならば、これらの内の一部にのみ、基準クロックを伝達しても良い。例えば、露光手段（特に電子ビーム偏向手段）にのみ基準クロックを伝達し、移動手段、回転手段及び回転制御手段においては一定動作を行わせる、という露光装置も考えられる。この場合、電子ビーム偏向手段のみに基準クロックを伝達すれば良いので、装置の簡略化を図ることができ、ひいては製造コストの減少をもたらすことができる。
【０１１１】
また、本実施形態のようにインターフェイス２０を介し基準クロックを入力せず、別途、基準クロックを直接入力する手段を設けても良い。
【０１１２】
また、電子ビームの露光の順番であるが、基板４の半径方向において、電子ビーム露光は、基板４の内周側から外周側に向けて行っても良いし、逆に、基板４の外周側から内周側に向けて行っても良い。つまり、本発明を実施するにあたって、レジスト膜１８の有効領域１９に対する電子ビーム露光の順序は任意に変更可能である。
【０１１３】
更に、この移動手段は、電子ビーム発生部２及び電子ビーム制御系３を移動させるものであっても良い。すなわち、基板４の一主面上で電子ビームの照射位置を基板４の半径方向と平行な方向に移動させる移動手段としては、基板４側を移動させるものでも良いし、電子ビーム側を移動させるものでも良いし、それら両方を移動させるものでも良い。また、電子ビームの移動は、電子ビームを偏向して行うものでも良い。
【０１１４】
また、上記実施の形態で採用した電子ビーム露光装置及び電子ビーム露光方法は、それぞれ、ＤＴＲ技術に用いられる基板（ディスク原盤、スタンパ原盤など）の製造装置及び製造方法として適用することが可能であり、更に当該製造装置及び製造方法を本発明の一つの態様として抽出することも可能である。
【符号の説明】
【０１１５】
１        電子ビーム露光装置
２        電子ビーム発生部
３        電子ビーム制御系
４        基板
５        ステージ機構
６        ステージ制御系
７        電子銃
８        収束レンズ
９        ブランキング電極
１０      ブランキングアパーチャ
１１      対物レンズ
１２      偏向器
１３      開口部
１４      回転ステージ
１５      直動ステージ
１６      回転ステージ制御部
１７      直動ステージ制御部
１８      レジスト膜
１９      レジスト膜の有効領域
２０      インターフェイス
２１      データ部
２１’    データパターン
２２      サーボ部
２２’    サーボパターン
２２１    プリアンブル部
２２１ａ  同期信号生成部
２２１ｂ  同期信号検出部
２２２    アドレス部
２２３    バースト部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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