(57)【要約】【課題】高断熱性を維持したままで日射透過性を向上できる透明積層フィルムと、これを用いた複層ガラスを提供する。【解決手段】透明高分子フィルム１２の少なくとも一方面に、金属酸化物薄膜と金属薄膜とが交互に積層されてなる透明積層部１４を有する透明積層フィルム１０において、透明積層部１４の最外膜は高屈折率の金属酸化物薄膜であり、この最外膜に接して低屈折率層１６が設けられている。また、この透明積層フィルム１０を２枚のガラス板間に配置した複層ガラスとする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明高分子フィルムの少なくとも一方面に、金属酸化物薄膜と金属薄膜とが交互に積層されてなる透明積層部を有する透明積層フィルムにおいて、
前記透明積層部の最外膜は、高屈折率の金属酸化物薄膜であり、
前記最外膜に接して低屈折率層が設けられていることを特徴とする透明積層フィルム。
【請求項２】
前記低屈折率層の屈折率は、１．４５以下であることを特徴とする請求項１に記載の透明積層フィルム。
【請求項３】
前記低屈折率層の厚みは、３０〜１００ｎｍの範囲内であることを特徴とする請求項１または２に記載の透明積層フィルム。
【請求項４】
前記低屈折率層は、中空構造を有する微粒子がバインダに配合された材料により形成されていることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の透明積層フィルム。
【請求項５】
前記低屈折率層のバインダは、アクリル樹脂であることを特徴とする請求項４に記載の透明積層フィルム。
【請求項６】
前記低屈折率層は、フッ素樹脂またはフッ化マグネシウムを含む材料により形成されていることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の透明積層フィルム。
【請求項７】
前記透明積層部および該透明積層部の最外膜に接する低屈折率層は、前記透明高分子フィルムの両面に設けられていることを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の透明積層フィルム。
【請求項８】
請求項１から７のいずれか１項に記載の透明積層フィルムをガラス板間に配置してなることを特徴とする複層ガラス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明積層フィルムおよび複層ガラスに関し、さらに詳しくは、ビルや住宅等の複層の窓ガラスに対して好適に用いられる透明積層フィルムおよびこれを用いた複層ガラスに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、フィルム面に各種の光学機能性薄膜を積層した光学機能性フィルムが知られている。このような光学機能性フィルムは、それぞれの目的に応じて用いられる。
【０００３】
例えば冬場においては、暖房費を節減するなどの目的で、ビル・一般住宅などの建築物や自動車・鉄道などの車両の窓ガラスに断熱性フィルムが用いられることがある。この場合、窓ガラスに用いられることから、断熱性フィルムには透明性が求められる。このため、この種の断熱性フィルムとしては、フィルム面に、金属酸化物薄膜と金属薄膜とが交互に積層された構成を有するものが知られている。
【０００４】
例えば特許文献１には、主に酸化チタンを含む金属酸化物薄膜と、主に銀を含む金属薄膜とが交互に積層された構成の断熱性フィルムが開示されている。
【０００５】
また、窓ガラスに断熱性フィルムを用いるだけでなく、窓ガラス自体にも断熱性を持たせることが行われている。このような断熱性の窓に用いられるものとしては、複層ガラス（ペアガラス）が知られている。複層ガラスは、例えばガラス間の中空層の厚みにより断熱性を向上させることができる。
【０００６】
そして、このような複層ガラスに断熱性フィルムを用いることで、窓ガラスの断熱性をさらに向上させることができる。このように複層ガラスに断熱性フィルムを用いて窓ガラスの断熱性を向上させることは、特許文献２に開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特公昭６２−２５０９６号公報
【特許文献２】特公昭６２−５３６７４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、従来の断熱性フィルムにおいて、金属薄膜は、遠赤外反射性を有する一方で近赤外反射性も有するため、日射反射性が高い。このため、断熱性を付与できる一方で冬場の日中の太陽光エネルギーをも反射してしまい、日射による日中の室内の温度上昇を抑制してしまうという問題があった。冬場、特に寒冷地においては、日射熱を取り込むことが暖房費の節減につながることから、日射透過性を向上させることが求められる。
【０００９】
本発明が解決しようとする課題は、高断熱性を維持したままで日射透過性を向上できる透明積層フィルムと、これを用いた複層ガラスを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するため本発明に係る透明積層フィルムは、透明高分子フィルムの少なくとも一方面に、金属酸化物薄膜と金属薄膜とが交互に積層されてなる透明積層部を有する透明積層フィルムにおいて、前記透明積層部の最外膜は、高屈折率の金属酸化物薄膜であり、前記最外膜に接して低屈折率層が設けられていることを要旨とするものである。
【００１１】
ここで、上記低屈折率層の屈折率は、１．４５以下であることが好ましい。また、上記低屈折率層の厚みは、３０〜１００ｎｍの範囲内であることが好ましい。また、上記低屈折率層は、中空構造を有する微粒子がバインダに配合された材料により形成されていることが好ましい。この際、上記低屈折率層のバインダは、アクリル樹脂であることが好ましい。また、上記低屈折率層は、フッ素樹脂またはフッ化マグネシウムを含む材料により形成されていても良い。また、上記透明積層部および該透明積層部の最外膜に接する低屈折率層は、上記透明高分子フィルムの両面に設けられていることが好ましい。
【００１２】
そして、本発明に係る複層ガラスは、上記の透明積層フィルムをガラス間に配置してなることを要旨とするものである。
【発明の効果】
【００１３】
本発明に係る透明積層フィルムによれば、高屈折率の金属酸化物薄膜よりなる透明積層部の最外膜に接して低屈折率層が設けられていることから、透明積層部の最外膜の高屈折率層とこれに接する低屈折率層との間の屈折率の差を利用して、近赤外の反射成分を打ち消し合うことができる。これにより、日射反射性を低減し、日射透過性を向上できる。この際、金属薄膜の厚みを維持したまま日射透過性を向上できるため、高断熱性を維持したまま日射透過性を向上できる。
【００１４】
ここで、上記低屈折率層の屈折率が１．４５以下であると、確実に上記効果を奏する。そして、上記低屈折率層の厚みが３０〜１００ｎｍの範囲内であると、日射透過率を高める効果に特に優れる。そして、上記低屈折率層が中空構造を有する微粒子がバインダに配合された材料により形成されていると、低屈折率にしやすい。また、上記低屈折率層は、フッ素樹脂またはフッ化マグネシウムを含む材料により形成されていても、低屈折率にしやすい。そして、上記低屈折率層のバインダがアクリル樹脂であると、さらに耐擦傷性を高めることができる。また、上記透明積層部および該透明積層部の最外膜に接する低屈折率層が上記透明高分子フィルムの両面に設けられていると、より一層、日射透過性を向上できる。
【００１５】
そして、本発明に係る複層ガラスによれば、上記の透明積層フィルムをガラス間に配置してなることから、断熱性と日射透過性に優れる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本実施形態に係る透明積層フィルムを模式的に示した図である。
【図２】本実施形態に係る他の透明積層フィルムを模式的に示した図である。
【図３】本実施形態に係る複層ガラスを模式的に示した図である。
【図４】実施例の透明積層フィルムと比較例の透明積層フィルムの透過率および反射率を示したグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
本実施形態に係る透明積層フィルム（以下、「本積層フィルム」ということがある。）について詳細に説明する。
【００１８】
１．本積層フィルム
図１は、本積層フィルムを模式的に示したものである。図１に示すように、本積層フィルム１０は、透明高分子フィルム１２の両面に、透明積層部１４と、低屈折率層１６とがこの順で積層されたもので構成されている。
【００１９】
透明高分子フィルムの材料としては、具体的には、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリスチレン、ポリイミド、ポリアミド、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、トリアセチルセルロース、ポリウレタン、シクロオレフィンポリマー等の高分子材料を例示することができる。これらは１種または２種以上含まれていても良い。また、２種以上の透明高分子を積層して用いることもできる。これらのうち、とりわけ、透明性、耐久性、加工性等に優れるなどの観点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、シクロオレフィンポリマー等を好適なものとして例示することができる。
【００２０】
透明高分子フィルムの厚みの下限値は、加工時にしわが入り難い、破断し難いなどの観点から、好ましくは、１５μｍ以上、より好ましくは、２５μｍ以上であると良い。一方、透明高分子フィルムの厚みの上限値は、巻回容易性、経済性などの観点から、好ましくは、５００μｍ以下、より好ましくは、２５０μｍ以下であると良い。
【００２１】
透明積層部は、金属酸化物薄膜（以下、「ＭＯ」と略表記することがある。）と金属薄膜（以下、「Ｍ」と略表記することがある。）とを少なくとも含んでいる。金属薄膜（Ｍ）の何れか一方面または両面には、さらに、バリア薄膜（以下、「Ｂ」と略表記することがある。）が形成されていても良い。金属薄膜（Ｍ）を構成する元素が金属酸化物薄膜（ＭＯ）中に拡散するのを抑制しやすく、耐久性の向上に寄与できるからである。
【００２２】
透明積層部の基本構造は、金属酸化物薄膜（ＭＯ）と金属薄膜（Ｍ）とが交互に積層された積層構造である。本積層フィルムでは、透明積層部の最外膜を、高屈折率の金属酸化物薄膜（ＭＯ）にしている。この場合、金属酸化物薄膜中に含まれることがある水酸基等の官能基と、後述する低屈折率層のバインダ（例えばアクリル樹脂など）とが反応すると、透明積層部と低屈折率層との密着性が高まり、密着性向上に有利となる。
【００２３】
透明積層部は、可視光透過性、遠赤外線反射性、低コスト性などの観点から、３層積層構造が好ましい。具体的には、ＭＯ（１層目）│Ｂ／Ｍ／Ｂ（２層目）│ＭＯ（３層目）、ＭＯ（１層目）│Ｂ／Ｍ（２層目）│ＭＯ（３層目）、ＭＯ（１層目）│Ｍ／Ｂ（２層目）│ＭＯ（３層目）、ＭＯ（１層目）│Ｍ（２層目）│ＭＯ（３層目）、Ｍ（１層目）│ＭＯ（２層目）│Ｍ（３層目）、Ｂ／Ｍ／Ｂ（１層目）│ＭＯ（２層目）│Ｂ／Ｍ／Ｂ（３層目）、Ｍ／Ｂ（１層目）│ＭＯ（２層目）│Ｂ／Ｍ／Ｂ（３層目）、Ｂ／Ｍ／Ｂ（１層目）│ＭＯ（２層目）│Ｂ／Ｍ（３層目）、Ｍ／Ｂ（１層目）│ＭＯ（２層目）│Ｂ／Ｍ（３層目）、Ｂ／Ｍ／Ｂ（１層目）│ＭＯ（２層目）│Ｍ（３層目）、Ｍ（１層目）│ＭＯ（２層目）│Ｂ／Ｍ／Ｂ（３層目）、Ｍ／Ｂ（１層目）│ＭＯ（２層目）│Ｍ（３層目）、Ｍ（１層目）│ＭＯ（２層目）│Ｂ／Ｍ（３層目）等の３層積層構造を好適な構造として例示することができる。
【００２４】
なお、透明積層部の積層数は、透明積層部を支持する透明高分子フィルム側から数える。バリア薄膜（Ｂ）は金属薄膜（Ｍ）に付随する薄膜であるためバリア薄膜（Ｂ）を含めた金属薄膜（Ｍ）を１層、金属酸化物薄膜（ＭＯ）を１層として数える。「│」は層の区切りを意味し、「／」は金属薄膜（Ｍ）にバリア薄膜（Ｂ）が付随していることを意味する。２以上の金属酸化物薄膜（ＭＯ）、バリア薄膜（Ｂ）を有する場合、膜質、膜厚等は同じであっても異なっていても良い。
【００２５】
低屈折率層は、高屈折率の金属酸化物薄膜よりなる透明積層部の最外膜に接して設けられている。低屈折率層は、可視光領域において優れた光透過性を有し、透明性を有する。低屈折率層は、６３３ｎｍの光に対する屈折率が１．４５以下であることが好ましい。
【００２６】
低屈折率層の厚みは、例えば２０〜１００ｎｍの範囲内で選択できる。好ましくは、３０〜７０ｎｍの範囲内である。この範囲内であると、日射透過率を高める効果に特に優れる。低屈折率層の厚みが３０ｎｍ未満あるいは１００ｎｍ超では、日射透過率が低下しやすい。
【００２７】
低屈折率層は、低屈折率の材料により形成される。このような材料としては、低屈折率のフィラーがバインダに配合された材料や、低屈折率のフッ素系材料などを挙げることができる。フッ素系材料としては、フッ素樹脂、フッ化マグネシウムを挙げることができる。
【００２８】
低屈折率のフィラーとしては、中空構造を有する微粒子を挙げることができる。微粒子の材質としては、特に限定されるものではないが、材質面からも低屈折率にできる、透明性に優れるなどの点で、シリカ（ＳｉＯ２）を挙げることができる。
【００２９】
低屈折率のフィラーとともに用いるバインダとしては、特に限定されるものではないが、耐擦傷性に優れる、耐候性に優れるなどの点で、アクリル樹脂が好ましい。アクリル樹脂としては、アクリル・ウレタン樹脂、シリコンアクリル樹脂、アクリル・メラミン樹脂などを例示することができる。また、アクリル樹脂は、耐擦傷性に優れるなどの点で、硬化物とすることが好ましい。
【００３０】
低屈折率層は、例えば、材料を適当な溶剤に希釈し、塗工法を用いて透明積層部の上に層状にコーティングした後、必要に応じて、熱や光、水など、材料に応じた適当な硬化手段により硬化させることにより形成することができる。
【００３１】
以下、本積層フィルムの透明積層部を構成する金属酸化物薄膜（ＭＯ）、金属薄膜（Ｍ）、バリア薄膜（Ｂ）について詳細に説明する。
【００３２】
＜金属酸化物薄膜＞
本積層フィルムにおいて、金属酸化物薄膜は、可視光領域において透明性を有し、主として高屈折率層として機能しうるものである。ここで、高屈折率とは、６３３ｎｍの光に対する屈折率が１．７以上ある場合をいう。
【００３３】
上記金属酸化物としては、具体的には、例えば、チタンの酸化物、亜鉛の酸化物、インジウムの酸化物、スズの酸化物、インジウムとスズとの酸化物、マグネシウムの酸化物、アルミニウムの酸化物、ジルコニウムの酸化物、ニオブの酸化物、セリウムの酸化物などを例示することができる。これらは１種または２種以上含まれていても良い。また、これら金属酸化物は、２種以上の金属酸化物が複合した複酸化物であっても良い。
【００３４】
上記金属酸化物としては、とりわけ、可視光に対する屈折率が比較的大きいなどの観点から、酸化チタン（ＴｉＯ２）、ＩＴＯ、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ２）などを好適なものとして例示することができる。これらは１種または２種以上含まれていても良い。
【００３５】
ここで、金属酸化物薄膜は、主として上述した金属酸化物より構成されているが、金属酸化物以外にも、有機分を含有していても良い。有機分を含有することで、本積層フィルムの柔軟性をより向上させることができるためである。この種の有機分としては、具体的には、例えば、ゾル−ゲル法の出発原料に由来する成分等、金属酸化物薄膜の形成材料に由来する成分などを例示することができる。
【００３６】
上記有機分としては、より具体的には、例えば、上述した金属酸化物を構成する金属の金属アルコキシド、金属アシレート、金属キレートなどといった有機金属化合物（その分解物なども含む）や、上記有機金属化合物と反応して紫外線吸収性のキレートを形成する有機化合物（後述する）等の各種添加剤などを例示することができる。これらは１種または２種以上含まれていても良い。
【００３７】
金属酸化物薄膜中に含まれる有機分の含有量の下限値は、柔軟性を付与しやすいなどの観点から、好ましくは、３質量％以上、より好ましくは、５質量％以上、さらに好ましくは、７質量％以上であると良い。一方、金属酸化物薄膜中に含まれる有機分の含有量の上限値は、高屈折率を確保しやすくなる、耐溶剤性を確保しやすくなるなどの観点から、好ましくは、３０質量％以下、より好ましくは、２５質量％以下、さらに好ましくは、２０質量％以下であると良い。
【００３８】
なお、上記有機分の含有量は、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）などを用いて調べることができる。また、上記有機分の種類は、赤外分光法（ＩＲ）（赤外吸収分析）などを用いて調べることができる。
【００３９】
金属酸化物薄膜の膜厚の下限値は、可視光透過性、反射色などの観点から、好ましくは、５ｎｍ以上、より好ましくは、１０ｎｍ以上、さらに好ましくは、２０ｎｍ以上であると良い。一方、金属酸化物薄膜の膜厚の上限値は、可視光透過性、反射色、膜の密着性などの観点から、好ましくは、８０ｎｍ以下、より好ましくは、７５ｎｍ以下、さらに好ましくは、７０ｎｍ以下であると良い。
【００４０】
以上のような構成を有する金属酸化物薄膜は、気相法、液相法の何れでも形成することができる。液相法は、気相法と比較して、真空引きしたり、大電力を使用したりする必要がない。そのため、その分、コスト的に有利であり、生産性にも優れているので好適である。
【００４１】
上記液相法としては、有機分を残存させやすいなどの観点から、ゾル−ゲル法を好適に利用することができる。
【００４２】
上記ゾル−ゲル法としては、より具体的には、例えば、金属酸化物を構成する金属の有機金属化合物を含有するコーティング液を薄膜状にコーティングし、これを必要に応じて乾燥させ、金属酸化物薄膜の前駆体薄膜を形成した後、この前駆体薄膜中の有機金属化合物を加水分解・縮合反応させ、有機金属化合物を構成する金属の酸化物を合成するなどの方法を例示することができる。これによれば、金属酸化物を主成分として含み、有機分を含有する金属酸化物薄膜を形成することができる。以下、上記方法について詳細に説明する。
【００４３】
上記コーティング液は、上記有機金属化合物を適当な溶媒に溶解して調製することができる。この際、有機金属化合物としては、具体的には、例えば、チタン、亜鉛、インジウム、スズ、マグネシウム、アルミニウム、ジルコニウム、ニオブ、セリウム、シリコン、ハフニウム、鉛などの金属の有機化合物などを例示することができる。これらは１種または２種以上含まれていても良い。
【００４４】
上記有機金属化合物としては、具体的には、例えば、上記金属の金属アルコキシド、金属アシレート、金属キレートなどを例示することができる。好ましくは、空気中での安定性などの観点から、金属キレートであると良い。
【００４５】
上記有機金属化合物としては、とりわけ、高屈折率を有する金属酸化物になり得る金属の有機化合物を好適に用いることができる。このような有機金属化合物としては、例えば、有機チタン化合物などを例示することができる。
【００４６】
上記有機チタン化合物としては、具体的には、例えば、テトラ−ｎ−ブトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラ−ｉ−プロポキシチタン、テトラメトキシチタンなどのＭ−Ｏ−Ｒ結合（Ｒはアルキル基を示し、Ｍはチタン原子を示す）を有するチタンのアルコキシドや、イソプロポキシチタンステアレートなどのＭ−Ｏ−ＣＯ−Ｒ結合（Ｒはアルキル基を示し、Ｍはチタン原子を示す）を有するチタンのアシレートや、ジイソプロポキシチタンビスアセチルアセトナート、ジヒドロキシビスラクタトチタン、ジイソプロポキシビストリエタノールアミナトチタン、ジイソプロポキシビスエチルアセトアセタトチタンなどのチタンのキレートなどを例示することができる。これらは１種または２種以上混合されていても良い。また、これらは単量体、多量体の何れであっても良い。
【００４７】
上記コーティング液中に占める有機金属化合物の含有量は、塗膜の膜厚均一性や一回に塗工できる膜厚などの観点から、好ましくは、１〜２０質量％、より好ましくは、３〜１５質量％、さらに好ましくは、５〜１０質量％の範囲内にあると良い。
【００４８】
また、上記有機金属化合物を溶解させる溶媒としては、具体的には、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘプタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類、酢酸エチルなどの有機酸エステル、アセトニトリル、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのシクロエーテル類、ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどの酸アミド類、ヘキサンなどの炭化水素類、トルエンなどの芳香族類などを例示することができる。これらは１種または２種以上混合されていても良い。
【００４９】
この際、上記溶媒量は、上記有機金属化合物の固形分重量に対して、塗膜の膜厚均一性や一回に塗工できる膜厚などの観点から、好ましくは、５〜１００倍量、より好ましくは、７〜３０倍量、さらに好ましくは、１０〜２０倍量の範囲内であると良い。
【００５０】
上記溶媒量が１００倍量より多くなると、一回のコーティングで形成できる膜厚が薄くなり、所望の膜厚を得るために多数回のコーティングが必要となる傾向が見られる。一方、５倍量より少なくなると、膜厚が厚くなり過ぎ、有機金属化合物の加水分解・縮合反応が十分に進行し難くなる傾向が見られる。したがって、上記溶媒量は、これらを考慮して選択すると良い。
【００５１】
上記コーティング液の調製は、例えば、所定割合となるように秤量した有機金属化合物と、適当な量の溶媒と、必要に応じて添加される他の成分とを、攪拌機などの撹拌手段により所定時間撹拌・混合するなどの方法により調製することができる。この場合、各成分の混合は、１度に混合しても良いし、複数回に分けて混合しても良い。
【００５２】
また、上記コーティング液のコーティング法としては、均一なコーティングが行いやすいなどの観点から、マイクログラビア法、グラビア法、リバースロールコート法、ダイコート法、ナイフコート法、ディップコート法、スピンコート法、バーコート法など、各種のウェットコーティング法を好適なものとして例示することができる。これらは適宜選択して用いることができ、１種または２種以上併用しても良い。
【００５３】
また、コーティングされたコーティング液を乾燥する場合、公知の乾燥装置などを用いて乾燥させれば良く、この際、乾燥条件としては、具体的には、例えば、８０℃〜１２０℃の温度範囲、０．５分〜５分の乾燥時間などを例示することができる。
【００５４】
また、前駆体薄膜中の有機金属化合物を加水分解・縮合反応させる手段としては、具体的には、例えば、紫外線、電子線、Ｘ線等の光エネルギーの照射、加熱など、各種の手段を例示することができる。これらは１種または２種以上組み合わせて用いても良い。これらのうち、好ましくは、光エネルギーの照射、とりわけ、紫外線照射を好適に用いることができる。他の手段と比較した場合、低温、短時間で金属酸化物を生成できるし、熱劣化など、熱による負荷を透明高分子フィルムに与え難いからである（とりわけ、紫外線照射の場合は、比較的簡易な設備で済む利点がある。）。また、有機分として、有機金属化合物（その分解物なども含む）などを残存させやすい利点もあるからである。
【００５５】
さらには、ゾルゲル硬化時に光エネルギーを用いるゾル−ゲル法を採用した場合には、スパッタ等により形成した金属酸化物薄膜に比べ、粗な金属酸化物薄膜とすることができる。
【００５６】
この際、用いる紫外線照射機としては、具体的には、例えば、水銀ランプ、キセノンランプ、重水素ランプ、エキシマランプ、メタルハライドランプなどを例示することができる。これらは１種または２種以上組み合わせて用いても良い。
【００５７】
また、照射する光エネルギーの光量は、前駆体薄膜を主に形成している有機金属化合物の種類、前駆体薄膜の厚みなどを考慮して種々調節することができる。もっとも、照射する光エネルギーの光量が過度に小さすぎると、金属酸化物薄膜の高屈折率化を図り難くなる。一方、照射する光エネルギーの光量が過度に大きすぎると、光エネルギーの照射の際に生じる熱により透明高分子フィルムが変形することがある。したがって、これらに留意すると良い。
【００５８】
照射する光エネルギーが紫外線である場合、その光量は、金属酸化物薄膜の屈折率、透明高分子フィルムが受けるダメージなどの観点から、測定波長３００〜３９０ｎｍのとき、好ましくは、３００〜８０００ｍＪ／ｃｍ２、より好ましくは、５００〜５０００ｍＪ／ｃｍ２の範囲内であると良い。
【００５９】
なお、前駆体薄膜中の有機金属化合物を加水分解・縮合反応させる手段として、光エネルギーの照射を用いる場合、上述したコーティング液中に、有機金属化合物と反応して光吸収性（例えば、紫外線吸収性）のキレートを形成する有機化合物等の添加剤を添加しておくと良い。出発溶液であるコーティング液中に上記添加剤が添加されている場合には、予め光吸収性キレートが形成されたところに光エネルギーの照射がなされるので、比較的低温下において金属酸化物薄膜の高屈折率化を図り得やすくなるからである。
【００６０】
上記添加剤としては、具体的には、例えば、βジケトン類、アルコキシアルコール類、アルカノールアミン類などの添加剤を例示することができる。より具体的には、上記βジケトン類としては、例えば、アセチルアセトン、ベンゾイルアセトン、アセト酢酸エチル、アセト酢酸メチル、マロン酸ジエチルなどを例示することができる。上記アルコキシアルコール類としては、例えば、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−メトキシ−２−プロパノールなどを例示することができる。上記アルカノールアミン類としては、例えば、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどを例示することができる。これらは１種または２種以上混合されていても良い。
【００６１】
これらのうち、とりわけ、βジケトン類が好ましく、中でもアセチルアセトンを最も好適に用いることができる。
【００６２】
また、上記添加剤の配合割合としては、屈折率の上がりやすさ、塗膜状態での安定性などの観点から、上記有機金属化合物における金属原子１モルに対して、好ましくは、０．１〜２倍モル、より好ましくは、０．５〜１．５倍モルの範囲内にあると良い。
【００６３】
＜金属薄膜＞
本積層フィルムにおいて、金属薄膜は、遠赤外線を反射する金属（合金含む）より形成されている。
【００６４】
上記金属としては、具体的には、例えば、銀、金、白金、銅、アルミニウム、クロム、チタン、亜鉛、スズ、ニッケル、コバルト、ニオブ、タンタル、タングステン、ジルコニウム、鉛、パラジウム、インジウムなどの金属や、これら金属の合金などを例示することができる。これらは１種または２種以上含まれていても良い。
【００６５】
上記金属としては、積層時の可視光透過性、遠赤外線反射性等に優れるなどの観点から、銀または銀合金が好ましい。より好ましくは、熱、光、水蒸気などの環境に対する耐久性が向上するなどの観点から、銀を主成分とし、銅、ビスマス、金、パラジウム、白金、チタンなどの金属元素を少なくとも１種以上含んだ銀合金であると良い。さらに好ましくは、銅を含む銀合金（Ａｇ−Ｃｕ系合金）、ビスマスを含む銀合金（Ａｇ−Ｂｉ系合金）、チタンを含む銀合金（Ａｇ−Ｔｉ系合金）等であると良い。銀の拡散抑制効果が大きい、コスト的に有利であるなどの利点があるからである。
【００６６】
銅を含む銀合金を用いる場合、銀、銅以外にも、例えば、銀の凝集・拡散抑制効果に悪影響を与えない範囲内であれば、他の元素、不可避不純物を含有していても良い。
【００６７】
上記他の元素としては、具体的には、例えば、Ｍｇ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｌｉ、Ｃｄ、Ｈｇ、ＡｓなどのＡｇに固溶可能な元素；Ｂｅ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｂｉ、Ｇｅ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｓｉ、Ｔｌ、Ｐｂなど、Ａｇ−Ｃｕ系合金中に単相として析出可能な元素；Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎａ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｓｃ、Ｐｒ、Ｅｕ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｓ、Ｓｅ、ＴｅなどのＡｇとの金属間化合物を析出可能な元素などを例示することができる。これらは１種または２種以上含有されていても良い。
【００６８】
銅を含む銀合金を用いる場合、銅の含有量の下限値は、添加効果を得る観点から、好ましくは、１原子％以上、より好ましくは、２原子％以上、さらに好ましくは、３原子％以上であると良い。一方、銅の含有量の上限値は、高透明性を確保しやすくなる、スパッタターゲットが作製しやすい等の製造性などの観点から、好ましくは、２０原子％以下、より好ましくは、１０原子％以下、さらに好ましくは、５原子％以下であると良い。
【００６９】
また、ビスマスを含む銀合金を用いる場合、銀、ビスマス以外にも、例えば、銀の凝集・拡散抑制効果に悪影響を与えない範囲内であれば、他の元素、不可避不純物を含有していても良い。
【００７０】
上記他の元素としては、具体的には、例えば、Ｍｇ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｌｉ、Ｃｄ、Ｈｇ、ＡｓなどのＡｇに固溶可能な元素；Ｂｅ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｃｕ、Ｇｅ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｓｉ、Ｔｌ、Ｐｂなど、Ａｇ−Ｂｉ系合金中に単相として析出可能な元素；Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎａ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｓｃ、Ｐｒ、Ｅｕ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｓ、Ｓｅ、ＴｅなどのＡｇとの金属間化合物を析出可能な元素などを例示することができる。これらは１種または２種以上含有されていても良い。
【００７１】
ビスマスを含む銀合金を用いる場合、ビスマスの含有量の下限値は、添加効果を得る観点から、好ましくは、０．０１原子％以上、より好ましくは、０．０５原子％以上、さらに好ましくは、０．１原子％以上であると良い。一方、ビスマスの含有量の上限値は、スパッタターゲットが作製しやすい等の製造性などの観点から、好ましくは、５原子％以下、より好ましくは、２原子％以下、さらに好ましくは、１原子％以下であると良い。
【００７２】
また、チタンを含む銀合金を用いる場合、銀、チタン以外にも、例えば、銀の凝集・拡散抑制効果に悪影響を与えない範囲内であれば、他の元素、不可避不純物を含有していても良い。
【００７３】
上記他の元素としては、具体的には、例えば、Ｍｇ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｌｉ、Ｃｄ、Ｈｇ、ＡｓなどのＡｇに固溶可能な元素；Ｂｅ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｃｕ、Ｇｅ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｓｉ、Ｔｌ、Ｐｂ、Ｂｉなど、Ａｇ−Ｔｉ系合金中に単相として析出可能な元素；Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎａ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｓｃ、Ｐｒ、Ｅｕ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｓ、Ｓｅ、ＴｅなどのＡｇとの金属間化合物を析出可能な元素などを例示することができる。これらは１種または２種以上含有されていても良い。
【００７４】
チタンを含む銀合金を用いる場合、チタンの含有量の下限値は、添加効果を得る観点から、好ましくは、０．０１原子％以上、より好ましくは、０．０５原子％以上、さらに好ましくは、０．１原子％以上であると良い。一方、チタンの含有量の上限値は、膜にした場合、完全な固溶体が得られやすくなるなどの観点から、好ましくは、２原子％以下、より好ましくは、１．７５原子％以下、さらに好ましくは、１．５原子％以下であると良い。
【００７５】
なお、上記銅、ビスマス、チタン等の副元素割合は、ＩＣＰ分析法を用いて測定することができる。また、上記金属薄膜を構成する金属（合金含む）は、部分的に酸化されていても良い。
【００７６】
金属薄膜の膜厚の下限値は、遠赤外線反射性、耐久性などの観点から、好ましくは、３ｎｍ以上、より好ましくは、５ｎｍ以上、さらに好ましくは、７ｎｍ以上であると良い。一方、金属薄膜の膜厚の上限値は、可視光透過性、経済性などの観点から、好ましくは、３０ｎｍ以下、より好ましくは、２０ｎｍ以下、さらに好ましくは、１５ｎｍ以下であると良い。
【００７７】
ここで、金属薄膜を形成する方法としては、具体的には、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、ＭＢＥ法、レーザーアブレーションなどといった物理的気相成長法（ＰＶＤ）、熱ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法などといった化学的気相成長法（ＣＶＤ）などの気相法などを例示することができる。金属薄膜は、これらのうち何れか１つの方法を用いて形成されていても良いし、あるいは、２つ以上の方法を用いて形成されていても良い。
【００７８】
これら方法のうち、緻密な膜質が得られる、膜厚制御が比較的容易であるなどの観点から、好ましくは、ＤＣマグネトロンスパッタリング法、ＲＦマグネトロンスパッタリング法などのスパッタリング法を好適に用いることができる。
【００７９】
なお、金属薄膜は、後述する後酸化等を受けて、本願における金属薄膜の機能を損なわない範囲内で酸化されていても良い。
【００８０】
＜バリア薄膜＞
本積層フィルムにおいて、バリア薄膜は、主として、金属薄膜を構成する元素が、金属酸化物薄膜中へ拡散するのを抑制するバリア的な機能を有している。また、金属酸化物薄膜と金属薄膜との間に介在することで、両者の密着性の向上にも寄与しうる。
【００８１】
なお、バリア薄膜は、上記拡散を抑制できれば、浮島状など、不連続な部分があっても良い。
【００８２】
バリア薄膜を構成する金属酸化物としては、具体的には、例えば、チタンの酸化物、亜鉛の酸化物、インジウムの酸化物、スズの酸化物、インジウムとスズとの酸化物、マグネシウムの酸化物、アルミニウムの酸化物、ジルコニウムの酸化物、ニオブの酸化物、セリウムの酸化物などを例示することができる。これらは１種または２種以上含まれていても良い。また、これら金属酸化物は、２種以上の金属酸化物が複合した複酸化物であっても良い。なお、バリア薄膜は、上記金属酸化物以外に不可避不純物などを含んでいても良い。
【００８３】
ここで、バリア薄膜としては、金属薄膜を構成する金属の拡散抑制効果に優れる、密着性に優れるなどの観点から、金属酸化物薄膜中に含まれる金属の酸化物より主に構成されていると良い。
【００８４】
より具体的には、例えば、金属酸化物薄膜としてＴｉＯ２薄膜を選択した場合、バリア薄膜は、ＴｉＯ２薄膜中に含まれる金属であるＴｉの酸化物より主に構成されるチタン酸化物薄膜であると良い。
【００８５】
また、バリア薄膜がチタン酸化物薄膜である場合、当該バリア薄膜は、当初からチタン酸化物として形成された薄膜であっても良いし、金属Ｔｉ薄膜が後酸化されて形成された薄膜、または、部分酸化されたチタン酸化物薄膜が後酸化されて形成された薄膜等であっても良い。
【００８６】
バリア薄膜は、金属酸化物薄膜と同じように主に金属酸化物から構成されるが、金属酸化物薄膜よりも膜厚が薄く設定される。これは、金属薄膜を構成する金属の拡散は、原子レベルで生じるので、屈折率を十分確保するのに必要な膜厚まで厚くする必要性が低いからである。また、薄く形成することで、その分、成膜コストが安価になり、本積層フィルムの製造コストの低減にも寄与することができる。
【００８７】
バリア薄膜の膜厚の下限値は、バリア性を確保しやすくなるなどの観点から、好ましくは、０．５ｎｍ以上、より好ましくは、０．８ｎｍ以上、さらに好ましくは、１．０ｎｍ以上であると良い。一方、バリア薄膜の膜厚の上限値は、可視光透過性などの観点から、好ましくは、１０ｎｍ以下、より好ましくは、８ｎｍ以下、さらに好ましくは、５ｎｍ以下であると良い。
【００８８】
バリア薄膜が主にチタン酸化物より構成される場合、チタン酸化物における酸素に対するチタンの原子モル比Ｔｉ／Ｏの下限値は、バリア性などの観点から、１．０／４．０以上、より好ましくは、１．０／３．８以上、さらに好ましくは、１．０／３．５以上、さらにより好ましくは、１．０／３．０以上、最も好ましくは、１．０／２．８以上であると良い。
【００８９】
バリア薄膜が主にチタン酸化物より構成される場合、チタン酸化物における酸素に対するチタンの原子モル比Ｔｉ／Ｏの上限値は、可視光透過性などの観点から、好ましくは、１．０／０．５以下、より好ましくは、１．０／０．７以下、さらに好ましくは、１．０／１．０以下、さらにより好ましくは、１．０／１．２以下、最も好ましくは、１．０／１．５以下であると良い。
【００９０】
上記Ｔｉ／Ｏ比は、当該薄膜の組成から算出することができる。当該薄膜の組成分析方法としては、極めて薄い薄膜の組成を比較的正確に分析することが可能な観点から、エネルギー分散型蛍光Ｘ線分析（ＥＤＸ）を好適に用いることができる。
【００９１】
具体的な組成分析方法について説明すると、先ず、超薄切片法（ミクロトーム）などを用いて、分析対象となる当該薄膜を含む積層構造の断面方向の厚みが１００ｎｍ以下の試験片を作製する。次いで、断面方向から積層構造と当該薄膜の位置を、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）により確認する。次いで、ＥＤＸ装置の電子銃から電子線を放出させ、分析対象となる当該薄膜の膜厚中央部近傍に入射させる。試験片表面から入射した電子は、ある深さまで入り込み、各種の電子線やＸ線を発生させる。この際の特性Ｘ線を検出して分析することで、当該薄膜の構成元素分析を行うことができる。
【００９２】
本積層フィルムにおいて、バリア薄膜は、緻密な膜を形成できる、数ｎｍ〜数十ｎｍ程度の薄膜を均一な膜厚で形成できるなどの観点から、気相法を好適に利用することができる。
【００９３】
上記気相法としては、具体的には、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、ＭＢＥ法、レーザーアブレーションなどといった物理的気相成長法（ＰＶＤ）、熱ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法などといった化学的気相成長法（ＣＶＤ）などを例示することができる。上記気相法としては、真空蒸着法などと比較して膜界面の密着性に優れる、膜厚制御が容易であるなどの観点から、ＤＣマグネトロンスパッタリング法、ＲＦマグネトロンスパッタリング法などのスパッタリング法を好適に用いることができる。
【００９４】
なお、上記積層構造中に含まれうる各バリア層は、これら気相法のうち何れか１つの方法を利用して形成されていても良いし、あるいは、２つ以上の方法を利用して形成されていても良い。
【００９５】
また、上記バリア薄膜は、上述した気相法を利用し、当初から金属酸化物薄膜として成膜しても良いし、あるいは、一旦、金属薄膜や部分酸化された金属酸化物層を成膜した後、これを事後的に酸化して形成することも可能である。なお、部分酸化された金属酸化物薄膜とは、さらに酸化される余地がある金属酸化物薄膜を指す。
【００９６】
当初から金属酸化物薄膜として成膜する場合、具体的には、例えば、スパッタリングガスとしてのアルゴン、ネオンなどの不活性ガスに、さらに反応性ガスとして酸素を含むガスを混合し、金属と酸素とを反応させながら薄膜を形成すれば良い（反応性スパッタリング法）。反応性スパッタリング法を用いて、例えば、上記Ｔｉ／Ｏ比を有するチタン酸化物薄膜を得る場合、雰囲気中の酸素濃度（不活性ガスに対する酸素を含むガスの体積割合）は、上述した膜厚範囲を考慮して最適な割合を適宜選択すれば良い。
【００９７】
一方、金属薄膜や部分酸化された金属酸化物薄膜を成膜した後、これを事後的に後酸化する場合、具体的には、透明積層部付フィルムを形成した後、応力緩和層、保護層を形成する前または後に、透明積層部中の金属薄膜や部分酸化された金属酸化物薄膜を後酸化させる等すれば良い。なお、金属薄膜の成膜には、スパッタリング法等を、部分酸化された金属酸化物薄膜の成膜には、上述した反応性スパッタリング法等を用いれば良い。
【００９８】
また、後酸化手法としては、加熱処理、加圧処理、化学処理、自然酸化等を例示することができる。これら後酸化手法のうち、比較的簡単かつ確実に後酸化を行うことができるなどの観点から、加熱処理が好ましい。上記加熱処理としては、例えば、透明積層フィルムを加熱炉等の加熱雰囲気中に存在させる方法、温水中に浸漬する方法、マイクロ波加熱する方法や、透明積層部中の金属薄膜や部分酸化された金属酸化物薄膜等を通電加熱する方法などを例示することができる。これらは１または２以上組み合わせて行っても良い。
【００９９】
上記加熱処理時の加熱条件としては、具体的には、例えば、好ましくは、３０℃〜６０℃、より好ましくは、３２℃〜５７℃、さらに好ましくは、３５℃〜５５℃の加熱温度、加熱雰囲気中に存在させる場合、好ましくは、５日間以上、より好ましくは、１０日間以上、さらに好ましくは、１５日間以上の加熱時間から選択すると良い。上記加熱条件の範囲内であれば、後酸化効果が良好だからである。
【０１００】
また、上記加熱処理時の加熱雰囲気は、大気中、高酸素雰囲気中、高湿度雰囲気中など酸素や水分の存在する雰囲気が好ましい。特に好ましくは、製造性、低コスト化等の観点から、大気中であると良い。
【０１０１】
透明積層部中に上述した後酸化薄膜を含んでいる場合には、後酸化時に、金属酸化物層中に含まれていた水分や酸素が消費されているため、太陽光が当たっても金属酸化物薄膜が化学反応し難くなる。具体的には、例えば、金属酸化物薄膜がゾル−ゲル法により形成されている場合、後酸化時に、金属酸化物薄膜中に含まれていた水分や酸素が消費されているため、金属酸化物薄膜中に残存していたゾル−ゲル法による出発原料（金属アルコキシド等）と水分（吸着水等）・酸素等とが、太陽光によってゾルゲル硬化反応し難くなる。そのため、透明積層部の形成時における硬化収縮等の体積変化によって生じる内部応力を緩和することが可能となり、透明積層部と透明高分子フィルムとの間の界面剥離等を抑制しやすくなる等、太陽光に対する耐久性を向上させやすくなる。
【０１０２】
本積層フィルムは、透明高分子フィルムの両面のうちの一方面に、透明積層部が設けられたものであっても良い。図２は、このような他の実施形態の本積層フィルムを模式的に示したものである。図２に示すように、本積層フィルム２０は、透明高分子フィルム１２の両面のうちの一方面に、透明積層部１４と、低屈折率層１６とがこの順で積層されたもので構成されている。
【０１０３】
以上の構成の本積層フィルムによれば、高屈折率の金属酸化物薄膜よりなる透明積層部の最外膜に接して低屈折率層が設けられていることから、透明積層部の最外膜の高屈折率層とこれに接する低屈折率層との間の屈折率の差を利用して、近赤外の反射成分を打ち消し合うことができる。これにより、日射反射性を低減し、日射透過性を向上できる。
【０１０４】
この際、金属薄膜の厚みを薄くすれば、金属薄膜での日射反射性を低下させてフィルム全体の日射反射性も低下できるが、この場合には、遠赤外の反射性も低下し、断熱性も低下する。このため、本積層フィルムでは、断熱性を維持するため、金属薄膜の厚みを維持する。そして、本積層フィルムによれば、金属薄膜の厚みを維持したままでも日射透過性を向上できるため、高断熱性を維持したまま日射透過性を向上できる。
【０１０５】
また、図１に示す本積層フィルム１０のように、上記透明積層部および該透明積層部の最外膜に接する低屈折率層が上記透明高分子フィルムの両面に設けられている場合には、より一層、日射透過性を向上できる。
【０１０６】
２．本積層フィルムの製造方法
本積層フィルムは、例えば、以下のようにして製造することができる。透明高分子フィルムの一方面上に、所定の積層構造となるように各薄膜を上述した薄膜形成手法によって順次積み上げて透明積層部を形成する。その後、必要に応じて、後酸化等の熱処理を行う。その後、透明積層部の表面に、所定の塗工膜を形成するとともに、必要に応じて、形成した塗工膜に対して硬化処理を行い、低屈折率層を形成する。
【０１０７】
透明高分子フィルムの片面のみに透明積層部および低屈折率層を設ける場合には、基本的には、以上により本積層フィルムを得ることができる。一方、透明高分子フィルムの両面に透明積層部および低屈折率層を設ける場合には、透明高分子フィルムの他方面上にも、透明高分子フィルムの一方面上に行った処理と同様の処理を行う。これにより、本積層フィルムを得ることができる。
【０１０８】
３．本複層ガラス
上記本積層フィルムは、透明・断熱性フィルムとして、ビル・一般住宅などの建築物や自動車・鉄道などの車両の窓ガラスに適用できる。特に、複層ガラス（ペアガラス）を用いた窓ガラスに好適である。
【０１０９】
本発明に係る複層ガラス（本複層ガラス）は、上記本積層フィルムを用いたものである。図３は、本複層ガラスを模式的に示したものであり、図３（ａ）は、本積層フィルム１０を適用した例であり、図３（ｂ）は、本積層フィルム２０を適用した例である。
【０１１０】
図３（ａ）に示す本複層ガラス３０は、中空層３２が形成されるように間隔をあけて並べられた２枚のガラス板３４，３４と、この中空層３２が密封されるように２枚のガラス板３４，３４の周縁部をシールするシール材３６と、２枚のガラス板３４，３４の間にガラス板３４，３４から離れてガラス板３４，３４と平行に配置された本積層フィルム１０と、本積層フィルム１０の周縁部に配置されて本積層フィルム１０を両面から挟さみ支持するスペーサ３８とを備えている。
【０１１１】
図３（ａ）に示す本複層ガラス３０は、基本的に中空層３２を有することで断熱性が高められている。本複層ガラス３０においては、さらに２枚のガラス板３４，３４の間に本積層フィルム１０を有するため、断熱性がさらに高められている。そして、本積層フィルム１０を用いたことで、本複層ガラス３０は、熱貫流率が１．０Ｗ／ｍ２Ｋ以下の高断熱性、日射熱取得率が５６％以上の高日射透過性を有する。なお、中空層３２は、アルゴンガスや空気などのガスが充填されていても良いし、真空状態にされていても良い。
【０１１２】
図３（ｂ）に示す本複層ガラス４０は、本積層フィルム１０に代えて本積層フィルム２０を用いた点が異なる。これ以外の構成については図３（ａ）に示す本複層ガラス３０と同様の構成であるため、説明を省略する。
【０１１３】
本複層ガラスにおいては、透明性を表す指標となる可視光透過率は、６０％以上であることが好ましい。より好ましくは６５％以上である。また、日射熱取得率は、５６％以上であることが好ましい。より好ましくは５８％以上である。また、断熱性を表す指標となる熱貫流率は、１．５Ｗ／ｍ２Ｋ以下であることが好ましい。より好ましくは１．０Ｗ／ｍ２Ｋ以下である。
【実施例】
【０１１４】
以下、実施例および比較例を用いて本発明を詳細に説明する。
【０１１５】
１．透明積層フィルムの作製
＜実施例１＞
透明高分子フィルムの両面に、概略以下の３層積層構造からなる透明積層部と、この透明積層部に接する低屈折率層と、が積層された構成の実施例１の透明積層フィルムを作製した。
【０１１６】
（透明積層部の構成）
透明積層部は、ゾル−ゲル法及びＵＶ照射によるＴｉＯ２薄膜（１層目）│チタン酸化物薄膜／Ａｇ−Ｃｕ合金薄膜／チタン酸化物薄膜（２層目）│ゾル−ゲル法及びＵＶ照射によるＴｉＯ２薄膜（３層目）が順に積層されてなる構成である。なお、チタン酸化物薄膜は、金属Ｔｉ薄膜が熱酸化されて形成されたものであり、これがバリア薄膜に該当する。このチタン酸化物薄膜は、Ａｇ−Ｃｕ合金薄膜に付随する薄膜として、Ａｇ−Ｃｕ合金薄膜に含めて積層数を数えている。
【０１１７】
以下、具体的な作製手順を示す。
【０１１８】
（コーティング液の調製）
先ず、ゾル−ゲル法によるＴｉＯ２薄膜の形成に使用するコーティング液を調製した。すなわち、チタンアルコキシドとして、テトラ−ｎ−ブトキシチタン４量体（日本曹達（株）製、「Ｂ４」）と、紫外線吸収性のキレートを形成する添加剤として、アセチルアセトンとを、ｎ−ブタノールとイソプロピルアルコールとの混合溶媒に配合し、これを攪拌機を用いて１０分間混合することにより、コーティング液を調製した。この際、テトラ−ｎ−ブトキシチタン４量体／アセチルアセトン／ｎ−ブタノール／イソプロピルアルコールの配合は、それぞれ６．７５質量％／３．３８質量％／５９．８７質量％／３０．００質量％とした。
【０１１９】
（透明積層部の形成）
透明高分子フィルムとして、易接着層が両面に形成された厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績（株）製、「コスモシャイン（登録商標）Ａ４３００」）（以下、「ＰＥＴフィルム」という。）を用い、このＰＥＴフィルムの一方面に、１層目として、ＴｉＯ２薄膜を以下の手順により成膜した。
【０１２０】
すなわち、ＰＥＴフィルムのＰＥＴ面側に、マイクログラビアコーターを用いて、所定の溝容積のグラビアロールで上記コーティング液を連続的に塗工した。次いで、インラインの乾燥炉を用いて、塗工膜を１００℃で８０秒間乾燥させ、ＴｉＯ２薄膜の前駆体膜を形成した。次いで、インラインの紫外線照射機〔高圧水銀ランプ（１６０Ｗ／ｃｍ）〕を用いて、上記塗工時と同線速で、上記前駆体膜に対して連続的に紫外線を１．５秒間照射した。これによりＰＥＴフィルム上に、ゾルゲル硬化時に紫外線エネルギーを用いるゾル−ゲル法（以下、「（ゾルゲル＋ＵＶ）」と省略することがある。）によるＴｉＯ２薄膜（１層目）を成膜した。
【０１２１】
次に、１層目の上に、２層目を構成する各薄膜を成膜した。すなわち、ＤＣマグネトロンスパッタ装置を用い、１層目のＴｉＯ２薄膜上に、下側の金属Ｔｉ薄膜をスパッタリングにより成膜した。次いで、この下側の金属Ｔｉ薄膜上に、Ａｇ−Ｃｕ合金薄膜をスパッタリングにより成膜した。次いで、このＡｇ−Ｃｕ合金薄膜上に、上側の金属Ｔｉ薄膜をスパッタリングにより成膜した。
【０１２２】
この際、上側および下側の金属Ｔｉ薄膜の成膜条件は、Ｔｉターゲット（純度４Ｎ）、真空到達圧：５×１０−６（Ｔｏｒｒ）、不活性ガス：Ａｒ、ガス圧：２．５×１０−３（Ｔｏｒｒ）、投入電力：１．５（ｋＷ）、成膜時間：１．１秒とした。
【０１２３】
また、Ａｇ−Ｃｕ合金薄膜の成膜条件は、Ａｇ−Ｃｕ合金ターゲット（Ｃｕ含有量：４原子％）、真空到達圧：５×１０−６（Ｔｏｒｒ）、不活性ガス：Ａｒ、ガス圧：２．５×１０−３（Ｔｏｒｒ）、投入電力：１．５（ｋＷ）、成膜時間：１．１秒とした。
【０１２４】
次に、３層目として、２層目の上に、（ゾルゲル＋ＵＶ）によるＴｉＯ２薄膜を成膜した。ここでは、１層目に準じた成膜手順を１回行うことにより、所定の膜厚とした。
【０１２５】
次に、得られた透明積層部付きフィルムを、加熱炉内にて、大気中、４０℃で３００時間加熱処理することにより、積層構造中に含まれる金属Ｔｉ薄膜を熱酸化させ、チタン酸化物薄膜とした。
【０１２６】
（低屈折率層の形成）
中空構造を有するシリカ粒子（以下、中空シリカという）がアクリル樹脂に配合されてなる低屈折率の材料（日揮触媒化成社製、「ＥＬＣＯＭ  ＴＱ−１０１２ＳＩＣ」）を濃度１．５％となるようにイソプロピルアルコール／メチルイソブチルケトン／イソプロピルグリコール＝８５／７．５／７．５（質量比）の混合溶媒で希釈し、塗液を調製した。次に、上記透明積層部付きフィルムの透明積層部の表面に、調製した塗液を塗工し、１００℃で２分間乾燥し、さらに４００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射した。これにより、透明積層部の表面に、中空シリカとアクリル樹脂（硬化物）よりなる低屈折率層を形成した。
【０１２７】
ＰＥＴフィルムの他方面についても同様に、透明積層部および低屈折率層を形成した。
【０１２８】
実施例１に係る透明積層フィルムの透明高分子フィルムと透明積層部の詳細な層構成を表１に示す。
【０１２９】
【表１】
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【０１３０】
透明積層部のＴｉＯ２薄膜の屈折率（測定波長は６３３ｎｍ）を、ＦｉｌｍＴｅｋ３０００（Scientific Computing International社製）により測定した。
【０１３１】
また、透明積層部の各薄膜の膜厚を、上記電界放出型電子顕微鏡（ＨＲＴＥＭ）（日本電子（株）製、「ＪＥＭ２００１Ｆ」）による試験片の断面観察から測定した。
【０１３２】
また、ＴｉＯ２薄膜中に含まれる有機分の含有量を、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）により測定した。
【０１３３】
また、金属Ｔｉ薄膜を熱酸化させて形成したチタン酸化物薄膜についてＥＤＸ分析を行い、Ｔｉ／Ｏ比を次のようにして求めた。
【０１３４】
すなわち、透明積層部付きフィルムをミクロトーム（ＬＫＢ（株）製、「ウルトロームＶ２０８８」）により切り出し、分析対象となるチタン酸化物薄膜（バリア薄膜）を含む積層構造の断面方向の厚みが１００ｎｍ以下の試験片を作製した。作製した試験片の断面を、電界放出型電子顕微鏡（ＨＲＴＥＭ）（日本電子（株）製、「ＪＥＭ２００１Ｆ」）により確認した。そして、ＥＤＸ装置（分解能１３３ｅＶ以下）（日本電子（株）製、「ＪＥＤ−２３００Ｔ」）を用い、この装置の電子銃から電子線を放出させ、分析対象となるチタン酸化物薄膜（バリア薄膜）の膜厚中央部近傍に入射させ、発生した特性Ｘ線を検出して分析することにより、チタン酸化物薄膜（バリア薄膜）の構成元素分析を行った。
【０１３５】
また、合金薄膜中の副元素（Ｃｕ）含有量を次のようにして求めた。すなわち、各成膜条件において、別途、ガラス基板上にＡｇ−Ｃｕ合金薄膜を形成した試験片を作製し、この試験片を６％ＨＮＯ３溶液に浸漬し、２０分間超音波による溶出を行った後、得られた試料液を用いて、ＩＣＰ分析法の濃縮法により測定した。
【０１３６】
なお、低屈折率層の厚み、屈折率は、エリプソメータ（溝尻光学工業所社製「ＤＨＡ−ＸＡＺＩＲ」）で測定した。
【０１３７】
＜実施例２〜４＞
低屈折率層の厚みを表２に記載の厚みとした以外は実施例１と同様にして、実施例２〜４に係る透明積層フィルムを作製した。
【０１３８】
＜比較例１＞
低屈折率層を形成しなかった以外は実施例１と同様にして、比較例１に係る透明積層フィルムを作製した。
【０１３９】
２．透明積層フィルムおよび複層ガラスの特性
各透明積層フィルムについて、以下の方法にしたがって、可視光透過率、日射透過率、日射反射率、修正放射率を求めた。
【０１４０】
（可視光透過率）
ＪＩＳ  Ｒ３１０６に準拠し、分光光度計（島津製作所（株）製、「ＵＶ３１００」）を用いて、波長３００〜１０００ｎｍの透過スペクトルを測定し、可視光透過率を計算することにより求めた。
【０１４１】
（日射透過率、日射反射率）
ＪＩＳ  Ｒ３１０６に準拠し、分光光度計（島津製作所（株）製、「ＵＶ３１００」）を用い、波長３００〜２５００ｎｍの透過スペクトル、反射スペクトルを測定することにより日射透過率、日射反射率を計算した。
【０１４２】
（修正放射率）
ＪＩＳ  Ｒ３１０６に準拠し、フィルム面の垂直放射率を測定した後、ＪＩＳ  Ｒ３１０７に記載されている係数で補正することにより、修正放射率を算出した。
【０１４３】
次いで、各透明積層フィルムについて求めた各値をもとに、ＪＩＳ  Ｒ３１０６に基づいて、各透明積層フィルムを２枚のガラス板間に内装した複層ガラスについて、可視光透過率、日射透過率、日射反射率、日射熱取得率を算出した。また、各透明積層フィルムについて求めた各値をもとに、ＪＩＳ  Ｒ３１０７およびＪＩＳ  Ｒ３１０６に基づいて、各透明積層フィルムをガラス板間に内装した複層ガラスについて、熱貫流率を算出した。
【０１４４】
表２には、透明高分子フィルムの両面に透明積層部および低屈折率層を有する透明積層フィルムについて、低屈折率層の概略構成と評価結果とをまとめて示す。また、図４に、実施例１〜４の透明積層フィルムと、比較例１の透明積層フィルムの透過率および反射率を表したグラフを示す。
【０１４５】
【表２】
2012161925.tif 000004
【０１４６】
図４をみれば、比較例１の透過スペクトルと比べて、実施例１〜４の透過スペクトルは、４００〜８００ｎｍ付近にある極大部位が広がっていることがわかる。すなわち、図４をみれば、比較例１と比べて、実施例１〜４は、日射透過率が向上していることがわかる。また、実施例同士の比較では、低屈折率層の厚みが最も厚い実施例４になると、透過スペクトルの波形が崩れる傾向にあることがわかる。すなわち、実施例４は、他の実施例１〜３よりもやや日射透過性に劣ることがわかる。
【０１４７】
実際に、表２をみれば、比較例１と比べて、実施例１〜４は、熱貫流率を維持しつつ、日射透過率が向上していることがわかる。すなわち、実施例１〜４によれば、比較例１と比べて、高断熱性を維持したままで日射透過性を向上できることが確認できる。また、実施例４は、他の実施例１〜３よりもやや日射透過性に劣ることが確認できる。
【０１４８】
以上、本発明の実施形態・実施例について説明したが、本発明は上記実施形態・実施例に何ら限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で種々の改変が可能である。
【符号の説明】
【０１４９】
１０  透明積層フィルム
１２  透明高分子フィルム
１４  透明積層部
１６  低屈折率層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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