(57)【要約】【課題】セルを確実に封口するのに有用なマスクを設計することが可能な封口用マスク設計プログラム及び封口用マスク設計方法を提供する。【解決手段】ハニカム構造体７０の端部に開口したセル７０ａを封口するために、セル７０ａに対応したマスク孔１７０ａが形成された封口用マスク１７０を設計する封口用マスク設計プログラムは、ハニカム構造体７０の端部の画像に基づいて封口するセル７０ａの位置を検出する工程と、セル７０ａの位置に基づいて封口用マスク１７０のマスク孔１７０ａの位置を決定する工程とを情報処理装置３０に実行させる。設計する封口用マスク１７０が封口するハニカム構造体７０の実際の画像に基づいてマスク孔１７０ａの位置が決定されることになり、ハニカム構造体７０のセル７０ａとの位置合わせを容易に行うことができ、セル７０ａを確実に封口するのに有用なマスク１７０を設計できる。【選択図】図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ハニカム構造体の端部に開口した複数の貫通孔であるセルを封口するために、前記セルに対応した貫通孔であるマスク孔が形成された封口用マスクを設計するための封口用マスク設計プログラムであって、
設計する前記封口用マスクが封口する前記ハニカム構造体の前記端部の画像に基づいて、封口する前記セルそれぞれの位置を検出するセル位置検出工程と、
前記セル位置検出工程で検出された前記セルそれぞれの位置に基づいて、設計する前記封口用マスクの前記マスク孔の位置を決定するマスク孔位置決定工程と、
を情報処理装置に実行させる封口用マスク設計プログラム。
【請求項２】
設計する前記封口用マスクが封口する前記ハニカム構造体の前記端部の画像に基づいて、設計する前記封口用マスクの前記マスク孔の大きさを決定するマスク孔サイズ決定工程をさらに前記情報処理装置に実行させる、請求項１に記載の封口用マスク設計プログラム。
【請求項３】
前記マスク孔サイズ決定工程では、設計する前記封口用マスクが封口する前記ハニカム構造体の前記端部の画像に基づいて、封口する前記セルそれぞれの大きさを検出し、封口する前記セルそれぞれの大きさよりも設計する前記封口用マスクの前記マスク孔それぞれの大きさが小さくなるように前記マスク孔の大きさを決定する前記マスク孔サイズ決定工程を前記情報処理装置に実行させる、請求項２に記載の封口用マスク設計プログラム。
【請求項４】
前記セル位置検出工程では、設計する前記封口用マスクが封口する前記ハニカム構造体の前記端部の画像に基づいて、封口する前記セルそれぞれの中心位置を検出する前記セル位置検出工程を前記情報処理装置に実行させ、
前記マスク孔位置決定工程では、前記セル位置検出工程で検出された前記セルそれぞれの中心位置と、設計する前記封口用マスクの前記マスク孔それぞれの中心位置とが一致するように、設計する前記封口用マスクの前記マスク孔の位置を決定する前記マスク孔位置決定工程を前記情報処理装置に実行させる、請求項１〜３のいずれか１項に記載の封口用マスク設計プログラム。
【請求項５】
ハニカム構造体の端部に開口した複数の貫通孔であるセルを封口するために、前記セルに対応した貫通孔であるマスク孔が形成された封口用マスクを設計する封口用マスク設計方法であって、
設計する前記封口用マスクが封口する前記ハニカム構造体の前記端部の画像に基づいて、封口する前記セルそれぞれの位置を検出するセル位置検出工程と、
前記セル位置検出工程で検出された前記セルそれぞれの位置に基づいて、設計する前記封口用マスクの前記マスク孔の位置を決定するマスク孔位置決定工程と、
を含む封口用マスク設計方法。
【請求項６】
設計する前記封口用マスクが封口する前記ハニカム構造体の前記端部の画像に基づいて、設計する前記封口用マスクの前記マスク孔の大きさを決定するマスク孔サイズ決定工程をさらに含む、請求項５に記載の封口用マスク設計方法。
【請求項７】
前記マスク孔サイズ決定工程では、設計する前記封口用マスクが封口する前記ハニカム構造体の前記端部の画像に基づいて、封口する前記セルそれぞれの大きさを検出し、封口する前記セルそれぞれの大きさよりも設計する前記封口用マスクの前記マスク孔それぞれの大きさが小さくなるように前記マスク孔の大きさを決定する、請求項６に記載の封口用マスク設計方法。
【請求項８】
前記セル位置検出工程では、設計する前記封口用マスクが封口する前記ハニカム構造体の前記端部の画像に基づいて、封口する前記セルそれぞれの中心位置を検出し、
前記マスク孔位置決定工程では、前記セル位置検出工程で検出された前記セルそれぞれの中心位置と、設計する前記封口用マスクの前記マスク孔それぞれの中心位置とが一致するように、設計する前記封口用マスクの前記マスク孔の位置を決定する、請求項５〜７のいずれか１項に記載の封口用マスク設計方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、封口用マスク設計プログラム及び封口用マスク設計方法に関し、特にハニカム構造体の端部に開口した複数の貫通孔であるセルを封口するために、セルに対応した貫通孔であるマスク孔が形成された封口用マスクを設計するための封口用マスク設計プログラム及び封口用マスク設計方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、ハニカムフィルタ構造体が、ＤＰＦ（Diesel  particulate  filter）用等として広く知られている。このハニカムフィルタ構造体は、多数の貫通孔からなるセル構造の一部のセルの一端側を封口材で封じると共に、残りのセルの他端側を封口材で封じた構造を有する。
【０００３】
ハニカム構造体の多数のセルのうち、所定のセルを封口するのにマスクが使用される。このような用途のマスクとして２つのタイプがある。一方は封口すべきセルに対応する箇所に予め貫通孔が設けられているタイプである。他方は貫通孔が予め設けられていないタイプであり、ハニカム構造体の端面に貼り付けた後に封口すべきセルに対応する箇所にレーザー等で貫通孔を設けるものである。下記特許文献１，２には、マスクを用いてハニカム構造体を封口する方法が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００４−２９０７６６号公報
【特許文献２】特開２００８−１３２７４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、予め貫通孔が設けられているタイプのマスクは、ハニカム構造体との位置合わせが必要である。特に、ハニカム構造体がＤＰＦのように、乾燥工程や焼成工程を経て製造される焼結体焼成前のグリーン成形体の場合、製造プロセスにおけるハニカム構造体の収縮や変形により、マスクの貫通孔と封口すべきセルとの位置合わせがより一層困難になる。ＤＰＦは、狭いセルピッチ（例えば０．８〜２．５ｍｍ程度）を有するものもあり、ハニカム構造体の端面の一部についてはマスクの貫通孔を適切に配置できても、他の部分ではずれが生じる場合もある。
【０００６】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、ハニカム構造体の端面との位置合わせを容易に行うことができ、所定のセルを確実に封口するのに有用なマスクを設計することが可能な封口用マスク設計プログラム及び封口用マスク設計方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、ハニカム構造体の端部に開口した複数の貫通孔であるセルを封口するために、セルに対応した貫通孔であるマスク孔が形成された封口用マスクを設計するための封口用マスク設計プログラムであって、設計する封口用マスクが封口するハニカム構造体の端部の画像に基づいて、封口するセルそれぞれの位置を検出するセル位置検出工程と、セル位置検出工程で検出されたセルそれぞれの位置に基づいて、設計する封口用マスクのマスク孔の位置を決定するマスク孔位置決定工程とを情報処理装置に実行させる封口用マスク設計プログラムである。
【０００８】
この構成によれば、ハニカム構造体の端部に開口した複数の貫通孔であるセルを封口するために、セルに対応した貫通孔であるマスク孔が形成された封口用マスクを設計するための封口用マスク設計プログラムは、設計する封口用マスクが封口するハニカム構造体の端部の画像に基づいて、封口するセルそれぞれの位置を検出するセル位置検出工程と、セル位置検出工程で検出されたセルそれぞれの位置に基づいて、設計する封口用マスクのマスク孔の位置を決定するマスク孔位置決定工程とを情報処理装置に実行させる。このため、設計する封口用マスクが封口するハニカム構造体の実際の画像に基づいて、マスク孔の位置が決定されることになり、ハニカム構造体のセルそれぞれとの位置合わせを容易に行うことができ、所定のセルを確実に封口するのに有用なマスクを設計することができる。
【０００９】
この場合、設計する封口用マスクが封口するハニカム構造体の端部の画像に基づいて、設計する封口用マスクのマスク孔の大きさを決定するマスク孔サイズ決定工程をさらに情報処理装置に実行させることが好適である。
【００１０】
この構成によれば、封口用マスク設計プログラムは、設計する封口用マスクが封口するハニカム構造体の端部の画像に基づいて、設計する封口用マスクのマスク孔の大きさを決定するマスク孔サイズ決定工程をさらに情報処理装置に実行させる。このため、設計する封口用マスクが封口するハニカム構造体の実際の画像に基づいて、マスク孔の大きさが決定されることになり、所定のセルを確実に封口するのに有用なマスクを設計することができる。
【００１１】
この場合、マスク孔サイズ決定工程では、設計する封口用マスクが封口するハニカム構造体の端部の画像に基づいて、封口するセルそれぞれの大きさを検出し、封口するセルそれぞれの大きさよりも設計する封口用マスクのマスク孔それぞれの大きさが小さくなるようにマスク孔の大きさを決定するマスク孔サイズ決定工程を情報処理装置に実行させることが好適である。
【００１２】
この構成によれば、マスク孔サイズ決定工程では、設計する封口用マスクが封口するハニカム構造体の端部の画像に基づいて、封口するセルそれぞれの大きさを検出し、封口するセルそれぞれの大きさよりも設計する封口用マスクのマスク孔それぞれの大きさが小さくなるようにマスク孔の大きさを決定するマスク孔サイズ決定工程を情報処理装置に実行させる。このため、設計する封口用マスクのマスク孔は、封口する実際のハニカム構造体のセルの大きさに対して封口することに適した大きさに正確に設計することが可能となる。
【００１３】
また、セル位置検出工程では、設計する封口用マスクが封口するハニカム構造体の端部の画像に基づいて、封口するセルそれぞれの中心位置を検出するセル位置検出工程を情報処理装置に実行させ、マスク孔位置決定工程では、セル位置検出工程で検出されたセルそれぞれの中心位置と、設計する封口用マスクのマスク孔それぞれの中心位置とが一致するように、設計する封口用マスクのマスク孔の位置を決定するマスク孔位置決定工程を情報処理装置に実行させることが好適である。
【００１４】
この構成によれば、セル位置検出工程では、設計する封口用マスクが封口するハニカム構造体の端部の画像に基づいて、封口するセルそれぞれの中心位置を検出するセル位置検出工程を情報処理装置に実行させ、マスク孔位置決定工程では、セル位置検出工程で検出されたセルそれぞれの中心位置と、設計する封口用マスクのマスク孔それぞれの中心位置とが一致するように、設計する封口用マスクのマスク孔の位置を決定するマスク孔位置決定工程を情報処理装置に実行させる。セルの中心位置とマスク孔の中心位置とが一致していることにより、セル同士の間隔やセルそれぞれの大きさが不均一であったとしても、マスク孔の大きさを適切に設計することにより、セルを確実に封口することができるマスクを設計することができる。
【００１５】
また、本発明は、ハニカム構造体の端部に開口した複数の貫通孔であるセルを封口するために、セルに対応した貫通孔であるマスク孔が形成された封口用マスクを設計する封口用マスク設計方法であって、設計する封口用マスクが封口するハニカム構造体の端部の画像に基づいて、封口するセルそれぞれの位置を検出するセル位置検出工程と、セル位置検出工程で検出されたセルそれぞれの位置に基づいて、設計する封口用マスクのマスク孔の位置を決定するマスク孔位置決定工程とを含む封口用マスク設計方法である。
【００１６】
この場合、設計する封口用マスクが封口するハニカム構造体の端部の画像に基づいて、設計する封口用マスクのマスク孔の大きさを決定するマスク孔サイズ決定工程をさらに含むことが好適である。
【００１７】
この場合、マスク孔サイズ決定工程では、設計する封口用マスクが封口するハニカム構造体の端部の画像に基づいて、封口するセルそれぞれの大きさを検出し、封口するセルそれぞれの大きさよりも設計する封口用マスクのマスク孔それぞれの大きさが小さくなるようにマスク孔の大きさを決定することが好適である。
【００１８】
また、セル位置検出工程では、設計する封口用マスクが封口するハニカム構造体の端部の画像に基づいて、封口するセルそれぞれの中心位置を検出し、マスク孔位置決定工程では、セル位置検出工程で検出されたセルそれぞれの中心位置と、設計する封口用マスクのマスク孔それぞれの中心位置とが一致するように、設計する封口用マスクのマスク孔の位置を決定することが好適である。
【発明の効果】
【００１９】
本発明の封口用マスク設計プログラム及び封口用マスク設計方法によれば、所定のセルを確実に封口するのに有用なマスクを設計することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の実施形態に係る封口用マスクの設計方法が実行される情報処理装置のハードウェア構成を示す図である。
【図２】本発明の実施形態に係る封口用マスクの設計方法の概略を示すフローチャートである。
【図３】（ａ）はハニカム構造体の斜視図であり、（ｂ）は（ａ）の部分拡大図である。
【図４】（ａ）は封口用マスクの斜視図であり、（ｂ）は（ａ）の部分拡大図である。
【図５】（ａ）は封口装置を示す断面図であり、（ｂ）は封口装置の動作を示す（ａ）に続く断面図である。
【図６】本発明の実施形態に係る封口用マスクの設計プログラムが情報処理装置に実行させる処理を示すフローチャートである。
【図７】封口用マスクのグレースケール画像を示す図である。
【図８】図７の画像においてワークの中心に十字線を表示した状態を示す図である。
【図９】図８の画像においてパターンに合わせて貫通孔の白抜きを行なった状態を示す図である。
【図１０】図９の画像において各セルの中心座標を検出した状態を示す図である。
【図１１】図１０の画像の貫通孔について、（ａ）はサイズが大き過ぎるセルを貼り付けた状態を示す図であり、（ｂ）は適正なサイズのセルを貼り付けた状態を示す図である。
【図１２】図１０の画像の各貫通孔について、適正なサイズのセルを貼り付けた状態を示す図である。
【図１３】設計された封口用マスクの画像を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、図面を参照して本発明の実施形態に係る封口用マスク設計プログラム及び封口用マスク設計方法を説明する。
【００２２】
本実施形態に係る封口用マスク設計方法は、ＤＰＦ用等のハニカム構造体の端部に開口した複数の貫通孔であるセルを封口するために、予めセルに対応した貫通孔であるマスク孔が形成された封口用マスクを設計するものであって、ワークステーションやＰＣ（Personal  Computer）等の情報処理装置により実行される。情報処理装置３０としては、例えば、図１に示すようなハードウェア構成のものが用いられる。図１に示すように、情報処理装置３０は、中央処理装置（Central  Processing  Unit：ＣＰＵ）３１と、プログラムやデータを格納するためのハードディスク装置３２と、主メモリ３３と、キーボードやマウス等の入力装置３４と、ＣＲＴ（Cathode  Ray  Tube）等の表示装置３５と、磁気テープやＲＯＭ等の記録媒体３７を読み取る読取装置３６とを含んで構成されている。
【００２３】
ハードディスク装置３２、主メモリ３３、入力装置３４、表示装置３５、及び読取装置３６は、何れも中央処理装置３１に接続されている。この情報処理装置３０では、プログラムを格納した記録媒体３７が読取装置３６に装着され、記録媒体３７からプログラムが読み出されてハードディスク装置３２に格納される。続いて、ハードディスク装置３２に格納されたプログラムが、中央処理装置３１により主メモリ３３上に展開して実行されて、本実施形態に係る封口用マスク設計方法が実行される。なお、本実施形態に係る封口用マスク設計方法は、上記のようにプログラムによるものでなく装置のみで実行されるものであってもよい。また、以下に述べる一連の処理全てが情報処理装置にて実行されるとしてもよいし、一連の処理のうちの一部が情報処理装置にて実行されるとしてもよい。
【００２４】
以下、図２のフローチャートを用いて、本実施形態に係る封口用マスク設計方法の概略について説明する。本実施形態では、ワークとなるＤＰＦ用等のハニカム構造体についてセルが開口している端部を撮影して、端部のスキャン画像を取得する。本実施形態の封口用マスク設計プログラムは、情報処理装置３０にハニカム構造体のスキャン画像を読み込ませる（Ｓ１０）。
【００２５】
本実施形態でワークとなる一例のハニカム構造体７０は、図３の（ａ）に示すように、多数の貫通孔（セル）７０ａが略平行に配置された円柱体である。貫通孔７０ａの断面形状は、図３の（ｂ）に示すように正方形である。これらの複数の貫通孔７０ａは、ハニカム構造体７０において、端面から見て、正方形配置、すなわち、貫通孔７０ａの中心軸が、正方形の頂点にそれぞれ位置するように配置されている。貫通孔７０ａの断面の正方形のサイズは、例えば、一辺０．８〜２．５ｍｍとすることができる。
【００２６】
また、ハニカム構造体７０の貫通孔７０ａが延びる方向の長さは特に限定されないが、例えば、４０〜３５０ｍｍとすることができる。また、ハニカム構造体７０の外径も特に限定されないが、例えば、１０〜３２０ｍｍとすることできる。
【００２７】
ハニカム構造体７０の材料は特に限定されないが、高温耐性の観点から、セラミクス材料が好ましい。例えば、アルミナ、シリカ、ムライト、コーディエライト、ガラス、チタン酸アルミニウム等の酸化物、シリコンカーバイド、窒化珪素、金属等が挙げられる。なお、チタン酸アルミニウムは、さらに、マグネシウム及びケイ素の少なくともいずれかを含むことができる。このような、ハニカム構造体７０は通常多孔質である。
【００２８】
また、ハニカム構造体７０は、後で焼成することにより上述のようなセラミック材料となるグリーン成形体（未焼成成形体）であってもよい。グリーン成形体は、セラミクス原料である無機化合物源粉末、メチルセルロース等の有機バインダ及び必要に応じて添加される添加剤を含む。
【００２９】
例えば、チタン酸アルミニウムのグリーン成形体の場合、無機化合物源粉末は、αアルミナ粉等のアルミニウム源粉末、及びアナターゼ型やルチル型のチタニア粉末等のチタニウム源粉末を含み、必要に応じて、さらに、マグネシア粉末やマグネシアスピネル粉末等のマグネシウム源粉末及び酸化ケイ素粉末やガラスフリット等のケイ素源粉末の少なくともいずれかを含むことができる。
【００３０】
有機バインダとしては、メチルセルロース、カルボキシルメチルセルロース、ヒドロキシアルキルメチルセルロース、ナトリウムカルボキシルメチルセルロースなどのセルロース類；ポリビニルアルコールなどのアルコール類；リグニンスルホン酸塩を例示できる。添加物としては、例えば、造孔剤、潤滑剤および可塑剤、分散剤、溶媒が挙げられる。
【００３１】
図２に戻り、本実施形態の封口用マスク設計プログラムは、情報処理装置３０に以下に詳述する封口用マスク設計方法を実行させる（Ｓ２０）。本実施形態の封口用マスク設計プログラムは、情報処理装置３０に設計した封口用マスクの加工図面を出力させる（Ｓ３０）。
【００３２】
図４の（ａ）に、本実施形態の封口用マスク設計方法による設計に基づき製造されるマスク１７０の一例を示す。マスク１７０は、円形の板状部材であり、厚み方向に伸びる多数の貫通孔（マスク孔）１７０ａを有する。貫通孔１７０ａの断面形状は、図４の（ｂ）に示すように、ハニカム構造体７０の貫通孔７０ａ（図３の（ｂ）参照）に対応する正方形である。これらの複数の貫通孔１７０ａは、図４の（ｂ）に示すように、千鳥配置されており、各貫通孔１７０ａは、図３の（ｂ）の正方配置された複数の貫通孔７０ａのうち、互いに上下左右に隣接しない関係にある複数の貫通孔７０ａのみに対向して配置される。なお、マスク１７０の貫通孔１７０ａの位置決めを容易にすべく、マスク１７０には、オリエンテーションフラット１７０ｂが形成されていてもよい。マスク１７０は、例えば、金属から製造されたメタルマスクとすることができる。
【００３３】
以上のようなマスク１７０を用いて図５（ａ）（ｂ）に示すような封口装置２００を用いて、ハニカム構造体７０のセル７０ａの封口が行なわれる。図５（ａ）に示すように、本実施形態に係る封口装置２００は、主として、本体部２１０、弾性板２２０、ポンプ２５０を備える。
【００３４】
本体部２１０は、金属（例えばステンレス）やポリマー材料（例えば繊維強化プラスチック等の）等から形成された剛性部材である。本体部２１０には、凹部２１０ｄが形成され、凹部２１０ｄの内面には、多孔質部材２１０ｐが貼り付けられている。
【００３５】
弾性板２２０は、凹部２１０ｄの開口面を覆うように、本体部２１０の上に配置されている。弾性板２２０は、弾性を有し、容易に変形しうる。弾性板２２０としては、ゴム板が好ましい。
【００３６】
弾性板２２０は、リング部材２２５により本体部２１０に固定されている。リング部材２２５は、本体部２１０の凹部２１０ｄに対応する位置に開口２２５ａを有し、これにより環状形状をなしている。そして、リング部材２２５は、弾性板２２０における中央部（凹部２１０ｄとの対向部）が露出するように弾性板２２０上に配置されている。
【００３７】
本体部２１０は、さらに、凹部２１０ｄの底面の多孔質部材２１０ｐに連通する連通路２１０ｅを有している。連通路２１０ｅにはポンプ２５０が接続されている。
【００３８】
ポンプ２５０は、シリンダ２５１、及び、シリンダ２５１内に配置されたピストン２５３を備える。ピストン２５３には、ピストン２５３を軸方向に往復移動させるモータ２５５が接続されている。
【００３９】
弾性板２２０と、ピストン２５３と、の間には、本体部２１０、連通路２１０ｅ及びシリンダ２５１により形成される閉鎖空間Ｖが形成され、閉鎖空間Ｖ内には、液体等の流体ＦＬが充填されている。
【００４０】
そして、ピストン２５３を移動させることにより、本体部２１０の凹部２１０ｄ内から流体ＦＬを排出して弾性板２２０を凹部２１０ｄの内面に密着させて弾性板２２０による凹部２２０ｄを形成することができ（図５の（ａ）の状態）、また、凹部２１０ｄ内に流体ＦＬを供給することに弾性板２２０を凹部２１０ｄの底部から引き離すこと（図５の（ｂ）の状態）が出来る。
【００４１】
そして、予め、図５の（ａ）のように、ピストン２５３を下げることにより、弾性板２２０による凹部２２０ｄを形成し、この凹部２２０ｄ内に上述のようにして製造した封口ペーストＰを貯留しておく。
【００４２】
ハニカム構造体７０の封口時には、本体部２１０の凹部２１０ｄ上に、封口用マスク１７０が配置される。封口用マスク１７０のマスク孔１７０ａは、セラミクスハニカム構造体７０のセル７０ａの内、封口すべき孔のみに対向するようにハニカム構造体７０に対して、上述のオリエンテーションフラットｂにより位置決めされる。
【００４３】
続いて、図５の（ｂ）に示すように、ポンプ２５０のピストン２５３を上方に移動させることにより、凹部２１０ｄ内に流体ＦＬを供給し、これによって、弾性板２２０をマスク１７０に向かって移動させる。これにより、封口材Ｐがマスク１７０の貫通孔１７０ａを介して、セラミクスハニカム構造体７０の一部の貫通孔７０ａ内に供給され、封口部７２が形成される。
【００４４】
続いて、図示は省略するが、ピストン２５３をさらに上昇させ弾性板２２０と本体部２１０との間にさらに流体ＦＬを供給し、弾性板２２０を上方向に凸状に変形させ、セラミクスハニカム構造体７０及びマスク１７０を、弾性板２２０から引き離す。そして、必要に応じて、図示しない反転装置によりハニカム構造体の向きを上下反転させ、同様により、ハニカム構造体７０を他の封口部２００に載置し、セラミクスハニカム構造体７０の他の面に対して同様の封口を行うことができる。そして、封口されたセラミクスハニカム構造体を乾燥、焼成することにより、セラミクスハニカムフィルタを製造することが出来る。このようなセラミクスハニカムフィルタは、例えば、ＤＰＦとして用いることができる。
【００４５】
以下、本実施形態の封口用マスク設計プログラム及び封口用マスク設計方法における処理について詳述する。図６に示すように、本実施形態の封口用マスク設計プログラムは、情報処理装置３０に設計するマスク１７０が封口するハニカム構造体７０の端面のスキャン画像を読み込ませる（Ｓ２０１）。この場合のスキャン画像は、例えば４００ｄｐｉ（dot  per  inch）程度のグレースケール画像とすることができる。
【００４６】
図６及び図７に示すように、封口用マスク設計プログラムは、情報処理装置３０に、ハニカム構造体７０の端面のスキャン画像であるワーク画像７００について、ＸＹ座標等の基準を設定させる（Ｓ２０２）。これにより、ワーク画像７００における貫通孔（セル）７００ａの位置がＸＹ座標により特定される。封口用マスク設計プログラムは、情報処理装置３０に処理範囲を調整させ、ワーク画像７００に写っているハニカム構造体７０以外の箇所を処理範囲外として黒マスクをかけさせる（Ｓ２０３）。封口用マスク設計プログラムは、情報処理装置３０に、ワーク画像７００の黒及び白の２値化画像を生成させる（Ｓ２０４）。以上のＳ２０１〜Ｓ２０４の処理により、ワーク画像７００の二値化処理が完了する。
【００４７】
図６及び図８に示すように、封口用マスク設計プログラムは、情報処理装置３０に、ハニカム構造体７０のワーク画像７００の中心に十字線Ｃｏを表示させる（Ｓ２０５）。封口用マスク設計プログラムは、情報処理装置３０に、ワーク画像７００中の貫通孔７００ａごとにＩＤ番号を付与させ、貫通孔７００ａのラベリングをさせる（Ｓ２０６）。
【００４８】
図６及び図９に示すように、封口用マスク設計プログラムは、情報処理装置３０に、設計するマスク１７０のマスク孔１７０ａのパターンに応じて、ワーク画像７００中の貫通孔７００ａの内で封口の対象とならない貫通孔７００ａを白抜きさせる（Ｓ２０７）。封口用マスク設計プログラムは、情報処理装置３０に、ノイズ等の影響により、意図せずに白抜きされて塗りつぶしのセルとなっている貫通孔７００ａを修正させる（Ｓ２０８）。
【００４９】
図６及び図１０に示すように、封口用マスク設計プログラムは、情報処理装置３０に、ワーク画像７００中の貫通孔７００ａの内で、白抜きされて塗りつぶしとなっていないセルである貫通孔７００ａの中心座標を検出させ、当該中心座標に十字線Ｃｃを表示させる（Ｓ２０９）。
【００５０】
封口用マスク設計プログラムは、情報処理装置３０に、ワーク画像７００中の中心座標を検出した貫通孔７００ａについて、貫通孔７００ａの中心座標とセル１７００ａの中心とを合わせつつ所定サイズのセル１７００ａを貼り付けさせる（Ｓ２１０）。封口用マスク設計プログラムは、情報処理装置３０に、セル１７００ａとワーク画像７００の貫通孔７００ａとのサイズの適合状態を判断させ、セル１７００ａのサイズを調整させる（Ｓ２１１）。
【００５１】
図１０に示すように、本実施形態の封口用マスク設計プログラムにおいては、設計するマスク１７０について規格化された複数のサイズのセル１７００ａが用意されている。本実施形態においては、設計するマスク１７０のマスク孔１７０ａを介して封口材Ｐを封口するハニカム構造体７０のセル７０ａに注入するため、ワーク画像７００の貫通孔７００ａのサイズよりも、設計するマスク１７０のマスク孔１７０ａのサイズが小さい必要がある。
【００５２】
現実に製造されるハニカム構造体７０のセル７０ａの大きさにはバラツキがあるため、封口用マスク設計プログラムは、情報処理装置３０に、セル１７００ａとワーク画像７００の貫通孔７００ａとのサイズの適合状態を貫通孔７００ａそれぞれについて判断させる。図１１（ａ）に示すように、ワーク画像７００の貫通孔７００ａよりも設計するマスク１７０のセル１７００ａが大きい場合は不適である。一方、図１１（ｂ）に示すように、ワーク画像７００の貫通孔７００ａよりも設計するマスク１７０のセル１７００ａが小さい場合は適合していると判定される。図６及び図１２に示すように、封口用マスク設計プログラムは、情報処理装置３０に、上記処理をワーク画像７００の貫通孔７００ａそれぞれ全てについて実行させる。
【００５３】
なお、封口用マスク設計プログラムは、情報処理装置３０に、規格化された複数のサイズのセル１７００ａの内で、ワーク画像７００中の貫通孔７００ａそれぞれ全てよりも小さい共通のサイズのセル１７００ａを設計するマスク１７０のマスク孔１７０ａと設定させることができる。この場合、実際のマスク１７０の製造が容易となる。また、封口用マスク設計プログラムは、情報処理装置３０に、規格化された複数のサイズのセル１７００ａの内で、貫通孔７００ａそれぞれよりもサイズが小さくなるセル１７００ａの内で最大のサイズのセル１７００ａをワーク画像７００中の貫通孔７００ａごとに設定させることができる。この場合、実際のハニカム構造体７０のセル７０ａとマスク１７０のマスク孔１７０ａとの適合状態が良好となる。
【００５４】
以上のＳ２０５〜Ｓ２１１の処理により、図１３に示すような所定の封口パターンによりセル１７００ａが設けられた封口用マスク設計画像１７００が得られ、設計の本処理が完成する。封口用マスク設計プログラムは、情報処理装置３０に、後処理として、設計された封口用マスク設計画像１７００、封口するセル７０ａ及びワークであるハニカム構造体７０に関する情報及びそれらのＣＳＶ（Comma  Separated  Values）ファイルを出力させる（Ｓ２１２）。
【００５５】
本実施形態によれば、ハニカム構造体７０の端部に開口した複数の貫通孔であるセル７０ａを封口するために、セル７０ａに対応した貫通孔であるマスク孔１７０ａが形成された封口用マスク１７０を設計するための封口用マスク設計プログラムは、設計する封口用マスク１７０が封口するハニカム構造体７０の端部の画像に基づいて、封口するセル７０ａそれぞれの位置を検出する工程と、検出されたセル７０ａそれぞれの位置に基づいて、設計する封口用マスク１７０のマスク孔１７０ａの位置を決定する工程とを情報処理装置３０に実行させる。このため、設計する封口用マスク１７０が封口するハニカム構造体７０の実際の画像に基づいて、マスク孔１７０ａの位置が決定されることになり、ハニカム構造体７０のセル７０ａそれぞれとの位置合わせを容易に行うことができ、所定のセル７０ａを確実に封口するのに有用なマスク１７０を設計することができる。
【００５６】
また、本実施形態によれば、封口用マスク設計プログラムは、設計する封口用マスク１７０が封口するハニカム構造体７０の端部の画像に基づいて、設計する封口用マスク１７０のマスク孔１７０ａの大きさを決定する工程をさらに情報処理装置３０に実行させる。このため、設計する封口用マスク１７０が封口するハニカム構造体７０の実際の画像に基づいて、マスク孔１７０ａの大きさが決定されることになり、所定のセル７０ａを確実に封口するのに有用なマスク１７０を設計することができる。
【００５７】
また、本実施形態によれば、設計する封口用マスク１７０が封口するハニカム構造体７０の端部の画像に基づいて、封口するセル７０ａそれぞれの大きさを検出し、封口するセル７０ａそれぞれの大きさよりも設計する封口用マスク１７０のマスク孔１７０ａそれぞれの大きさが小さくなるようにマスク孔１７０ａの大きさを決定する工程を情報処理装置３０に実行させる。このため、設計する封口用マスク１７０のマスク孔１７０ａは、封口する実際のハニカム構造体７０のセル７０ａの大きさに対して封口することに適した大きさに正確に設計することが可能となる。
【００５８】
また、本実施形態によれば、設計する封口用マスク１７０が封口するハニカム構造体７０の端部の画像に基づいて、封口するセル７０ａそれぞれの中心位置を検出する工程を情報処理装置３０に実行させ、検出されたセル７０ａそれぞれの中心位置と、設計する封口用マスク１７０のマスク孔１７０ａそれぞれの中心位置とが一致するように、設計する封口用マスク１７０のマスク孔１７０ａの位置を決定する工程を情報処理装置３０に実行させる。セル７０ａの中心位置とマスク孔１７０ａの中心位置とが一致していることにより、セル７０ａ同士の間隔やセル７０ａそれぞれの大きさが不均一であったとしても、マスク孔１７０ａの大きさを適切に設計することにより、セル７０ａを確実に封口することができるマスク１７０を設計することができる。
【００５９】
尚、本発明は、上記した実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。
【符号の説明】
【００６０】
３０…情報処理装置、３１…中央処理装置、３２…ハードディスク装置、３３…主メモリ、３４…入力装置、３５…表示装置、３６…読取装置、３７…記録媒体、７０…ハニカム構造体、７０ａ…貫通孔、１７０…封口用マスク、１７０ａ…貫通孔、１７０ｂ…マーク、２００…封口装置、２１０…本体部、２１０ｄ…凹部、２１０ｅ…連通路、２１０ｐ…多孔質部材、２２０…弾性板、２２５…リング部材、２２５ａ…開口、２５０…ポンプ、２５１…シリンダ、２５３…ピストン、２５５…モータ、７００…ワーク画像、７００ａ…貫通孔、１７００…封口用マスク設計画像、１７００ａ…セル。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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