(57)【要約】【課題】過酷な環境下で長期間用いられた場合であっても、ミラー面に歪みが発生しにくく、正反射率の低下を抑制することである。つまり、耐久性に優れ、太陽光に対して良好な正反射率を有する太陽熱発電用反射板、その製造方法及び太陽熱発電用反射装置を提供することにある。【解決手段】曲げ剛性が４００Ｎ・ｃｍ２以上である硬質透明樹脂基板と、フィルム基材上に設けられた銀反射層を片面に有する反射フィルムとが積層された太陽熱発電用反射板であって、前記反射フィルムが銀反射層面側で接着層を介して硬質透明樹脂基板と積層された太陽熱発電用反射板であることを特徴とする太陽熱発電用反射板。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
曲げ剛性が４００Ｎ・ｃｍ２以上である硬質透明樹脂基板と、フィルム基材上に設けられた銀反射層を片面に有する反射フィルムとが積層された太陽熱発電用反射板であって、前記反射フィルムが銀反射層面側で接着層を介して硬質透明樹脂基板と積層された太陽熱発電用反射板であることを特徴とする太陽熱発電用反射板。
【請求項２】
前記硬質透明樹脂基板の厚みが０．５ｍｍ以上２０ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の太陽熱発電用反射板。
【請求項３】
前記硬質透明樹脂基板がポリカーボネート樹脂からなることを特徴とする請求項１又は２に記載の太陽熱発電用反射板。
【請求項４】
前記接着層がポリウレタン系樹脂を含有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の太陽熱発電用反射板。
【請求項５】
前記フィルム基材上に設けられた銀反射層を片面に有する反射フィルムの銀反射層の表面に、銀保護層を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の太陽熱発電用反射板。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の太陽熱発電用反射板を用いることを特徴とする太陽熱発電用反射装置。
【請求項７】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の太陽熱発電用反射板を製造する製造方法であって、前記銀反射層を銀蒸着によって形成することを特徴とする太陽熱発電用反射板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、耐久性に優れ、太陽光に対して良好な正反射率を有する太陽熱発電用反射板、その製造方法及び太陽熱発電用反射装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、石油、天然ガス等の化石燃料エネルギーに代わる代替エネルギーとしては現在、石炭エネルギー、バイオマスエネルギー、核エネルギー、並びに風力エネルギー及び太陽エネルギー等の自然エネルギーが検討されているが、化石燃料の代替エネルギーとして最も安定しており、かつ量の多い自然エネルギーは、太陽エネルギーであると考えられる。
【０００３】
しかしながら、太陽エネルギーは非常に有力な代替エネルギーであるものの、これを活用する観点からは、（１）太陽エネルギーのエネルギー密度が低いこと、並びに（２）太陽エネルギーの貯蔵及び移送が困難であることが、問題となると考えられる。
【０００４】
これに対して、太陽エネルギーのエネルギー密度が低いという問題は、巨大な反射装置で太陽エネルギーを集めることによって解決することが提案されている。
【０００５】
反射装置は、太陽熱による紫外線や熱、風雨、砂嵐等に晒されるため、従来、ガラス製ミラーが用いられてきた。ガラス製ミラーは環境に対する耐久性が高い反面、高価であったり、柔軟性に欠け、輸送時に破損したり、重いために、ミラーを設置する架台の強度を持たせるために、プラントの建設費がかさむといった問題があった。又、ガラス製ミラーでは曲面形状化に対しても制約があった。
【０００６】
一方、三次元加工が可能なミラーとして樹脂製鏡面ミラーシートが考えられてきた（例えば、特許文献１参照）。
【０００７】
又、太陽熱を集光する目的において、高い反射率を得るという観点では、金属層を、一般的に用いられているアルミニウムの反射層に比較して、可視光領域の反射率の高い銀で構成することが好ましい。しかしながら、銀を用いた樹脂製反射シートは軽量且つ安全で製造コストを抑え設置することが可能ではあるが、耐候性に劣り、紫外線・酸素・水蒸気・硫黄等で劣化しやすいという問題がある。この問題に対し、特許文献２においては、ＵＶ（紫外線）遮蔽アクリルフィルムを備えているミラーフィルムの技術が提案されている。しかしながら、これらのミラーシート、ミラーフィルムを太陽熱発電用反射装置として屋外使用を想定した過酷な環境下で長期間の耐久性試験を行ったところ、ミラー面に歪みが生じて正反射率が低下するといった不具合が発生していた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００５−５９３８２号公報
【特許文献２】特表２００９−５２０１７４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は、過酷な環境下で長期間用いられた場合であっても、ミラー面に歪みが発生しにくく、正反射率の低下を抑制することである。つまり、耐久性に優れ、太陽光に対して良好な正反射率を有する太陽熱発電用反射板、その製造方法及び太陽熱発電用反射装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の上記目的は、以下の構成により達成される。
【００１１】
１．曲げ剛性が４００Ｎ・ｃｍ２以上である硬質透明樹脂基板と、フィルム基材上に設けられた銀反射層を片面に有する反射フィルムとが積層された太陽熱発電用反射板であって、前記反射フィルムが銀反射層面側で接着層を介して硬質透明樹脂基板と積層された太陽熱発電用反射板であることを特徴とする太陽熱発電用反射板。
【００１２】
２．前記硬質透明樹脂基板の厚みが０．５ｍｍ以上２０ｍｍ以下であることを特徴とする前記１に記載の太陽熱発電用反射板。
【００１３】
３．前記硬質透明樹脂基板がポリカーボネート樹脂からなることを特徴とする前記１又は２に記載の太陽熱発電用反射板。
【００１４】
４．前記接着層がポリウレタン系樹脂を含有することを特徴とする前記１〜３のいずれか１項に記載の太陽熱発電用反射板。
【００１５】
５．前記フィルム基材上に設けられた銀反射層を片面に有する反射フィルムの銀反射層の表面に、銀保護層を有することを特徴とする前記１〜４のいずれか１項に記載の太陽熱発電用反射板。
【００１６】
６．前記１〜５のいずれか１項に記載の太陽熱発電用反射板を用いることを特徴とする太陽熱発電用反射装置。
【００１７】
７．前記１〜５のいずれか一項に記載の太陽熱発電用反射板を製造する製造方法であって、前記銀反射層を銀蒸着によって形成することを特徴とする太陽熱発電用反射板の製造方法。
【発明の効果】
【００１８】
本発明により、太陽熱発電用反射装置として過酷な環境下で長期間用いられた場合であっても、正反射率の低下を抑制することが可能である。つまり、軽量且つ安全で、製造コストを抑え設置することができ、しかも耐久性に優れ、太陽光に対して良好な正反射率を有する太陽熱発電用反射板、及びその製造方法を提供することができた。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の太陽熱発電用反射板の基本的な構成の一例を示す模式的断面図である。
【図２】本発明の太陽熱発電用反射装置の一例を示す模式的断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
本発明者は、上記課題に鑑み鋭意検討を行った結果、従来技術（例えば特許文献１又は２の技術）で提案されている熱圧着により製造した鏡面ミラーシート又は軟質のフィルム同士を積層したフィルムを用いた太陽熱発電用反射フィルムを屋外使用を想定した過酷な環境下で長期間の耐久性試験を行ったところ、ミラー面に歪みが生じて正反射率が低下するといった不具合が生じることが分かった。原因について調べると、層界面での残留応力、フィルム単体での熱変形力、層界面が複数存在する等の理由からミラー面に歪みが発生したものと推定し、鋭意検討を行った結果、曲げ剛性が４００Ｎ・ｃｍ２以上である硬質透明樹脂基板と、フィルム基材上に設けられた銀反射層を片面に有する反射フィルムとが積層された太陽熱発電用反射板であって、前記反射フィルムが銀反射層面側で接着層を介して硬質透明樹脂基板と積層された太陽熱発電用反射板であることを特徴とする太陽熱発電用反射板によって、屋外使用を想定した過酷な環境下で長期間の耐久性試験を行った場合でも正反射率の低下を抑制することが可能であることを見出した。これは硬質透明樹脂基板と軟質な反射フィルムとの組み合わせにより層界面での残留応力が抑制され、更には接着層が応力緩和層として機能したこと、又軟質なフィルム同士の界面が存在しなかったことが要因として推定される。
【００２１】
上記技術により、軽量且つ安全で、製造コストを抑え設置することができ、しかも耐久性に優れ、太陽光に対して良好な正反射率を有する太陽熱発電用反射板、及びその製造方法を見出し、本発明に至った次第である。
【００２２】
以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細に説明をする。
【００２３】
〔太陽熱発電用反射板の構成〕
本発明の構成を図で説明する。図１は本発明の太陽熱発電用反射板の基本的な構成の一例を示す模式的断面図である。本発明の太陽熱発電用反射板は、硬質透明樹脂基板１０と、フィルム基材５０上に設けられた銀反射層４０を片面に有する反射フィルムの銀反射層面側とが接着層２０を介して積層されている。図２は本発明の太陽熱発電用反射装置の一例を示す模式的断面図である。太陽熱発電用反射板の前述した基本的な構成に加えて銀保護層３０が積層された太陽熱発電用反射板を、銀反射層を有する側と反対側のフィルム基材面に塗設された粘着層６０を介して、保持部材７０に貼りつけて形成されている。そのほかに、バリア層、傷防止層等の特別な機能層を太陽熱反射板の構成層として設けることも好ましい態様である。又、銀反射層を片面に有する反射フィルム、接着層、銀保護層、バリア層、及び傷防止層等に、後述する銀の腐食防止剤、後述する酸化防止剤、紫外線吸収剤、及び光安定剤等が含有されていてもよい。
【００２４】
（硬質透明樹脂基板）
本発明に用いる硬質透明基板は曲げ剛性が４００Ｎ・ｃｍ２以上である。４００Ｎ・ｃｍ２より低い軟質の樹脂基板の場合、本発明の効果が得られない。好ましくは硬質透明基板の曲げ剛性が８００Ｎ・ｃｍ２が以上であり、更に好ましくは１５００Ｎ・ｃｍ２が以上である。上限は、特に限定されないが、それ以上実用上の効果が向上しないにも関わらず、取り扱い性が難しくなったり、高価格になる等の理由から５×１０８Ｎ・ｃｍ２である。
【００２５】
曲げ剛性の測定は、「合板の日本農林規格」（日農林水産省告示第１７５１号、平成２０年１２月２日）におけるコンクリート型枠用合板の規格の曲げ剛性試験に準じて測定を行いヤング係数と断面ニ次モーメントとの積から算出することができる。また、本発明においては比較的厚い樹脂基板を用いるため、光透過率が低いと正反射率が低下し好ましくない。本発明において透明樹脂とは、波長３８０ｎｍ〜７００ｎｍの平均透過率が７５％以上である透明樹脂である。好ましくは平均透過率が８５％以上である。平均透過率の測定は公知の方法で測定できる。
【００２６】
本発明の硬質透明樹脂基板に用いる樹脂としては、ガラス転移温度（Ｔｇ）が７０〜５００℃であることが好ましい。
【００２７】
このような硬質透明樹脂としては例えば、ノルボルネン系樹脂等の環状オレフィン系樹脂、ポリアリレート樹脂（ＰＡＲ）、ポリサルホン樹脂（ＰＳＦ）、ポリエーテルサルホン樹脂（ＰＥＳ）、ポリパラフェニレン樹脂（ＰＰＰ）、ポリアリーレンエーテルフォスフィンオキシド樹脂（ＰＥＰＯ）、ポリイミド樹脂（ＰＰＩ）、ポリエーテルイミド樹脂（ＰＥＩ）、ポリアミドイミド樹脂（ＰＡＩ）、アクリル系樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）樹脂、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）樹脂、有機−無機ナノハイブリッド材料を挙げることができる。硬質透明樹脂基板の樹脂として特に好ましくは、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ノルボルネン系樹脂が好ましい。中でも硬度、透明性、価格、安全性等の点からポリカーボネート（ＰＣ）樹脂が最も好ましい。
【００２８】
硬質透明樹脂基板の厚みは、基板の曲げ剛性を満足するものであれば、特に制限はないが、曲げ剛性、透明性、重さ、取り扱い易さ、価格、及び実用性等を考慮すると０．５ｍｍ以上２０ｍｍ以下が好ましい。本発明における硬質透明樹脂基板は、略一定の厚みを有してもよいし、少なくとも２種の厚みを有していてもよい。又、硬質透明樹脂基板の厚みは、部分的、段階的又は連続的に変化したもの、いずれでもかまわない。
【００２９】
硬質透明樹脂基板の製造方法としては、厚みの均一な硬質透明樹脂基板は、前記の硬質透明樹脂を用いてキャスト法、押出し成形法等の任意の方法で成形することができる。
【００３０】
厚みの異なる硬質透明樹脂基板の製造方法としては、例えば、下記（ｉ）〜（iv）をあげることができる。
【００３１】
（ｉ）積層部分を有する硬質透明樹脂基板
前記の製造方法で作成した厚みの均一な硬質透明樹脂基板上の任意の場所に、任意の面積で厚みの均一な硬質透明樹脂基板を１つ以上積層することにより、基板の厚みが異なる部位を部分的又は段階的に有する硬質透明樹脂基板を製造する。
【００３２】
（ii）射出成型により形成される硬質透明樹脂基板
厚みの異なる部位を任意の場所に、任意の面積で有する形状に合わせた金型を用いて、射出成形により、厚みが異なる部位を部分的、段階的又は連続的に有する硬質透明樹脂基板を製造する。
【００３３】
（iii）ホットプレス法により形成される硬質透明樹脂基板
前記厚みの均一な硬質透明樹脂基板をホットプレス等の方法にて、任意の厚みとなるよう制御した後、公知の打ち抜きの方法により厚みの異なる部位を部分的、段階的又は連続的に有する硬質透明樹脂基板を製造する。
【００３４】
（iv）ロール押圧法により形成される硬質透明樹脂基板
前記硬質透明樹脂基板を押出し成型する際に、非平滑面を有するロールを押圧することにより、任意の厚みが得られるよう制御した後、公知の打ち抜きの方法により厚みの異なる部位を部分的、段階的又は連続的に有する硬質透明樹脂基板を製造する。
【００３５】
特に、金型を準備し、所定の形状を得る前記製造方法（iii）を用いて作成すると、基板の薄肉化が容易になり、生産量の調整、硬質透明樹脂基板のデザイン変更等への順応性が高く、かつ工程数が少ないため、生産性、歩留を向上させることができるため好ましい。
【００３６】
好ましい硬質透明樹脂基板の樹脂として、下記にその詳細を記載する。
【００３７】
（アクリル系樹脂）
アクリル系樹脂の好ましい具体例としては、メタクリル酸メチル系樹脂を挙げることができる。メタクリル酸メチル系樹脂とは、メタクリル酸メチル単位を５０質量％以上含む重合体である。メタクリル酸メチル単位の含有量は、好ましくは７０質量％以上であり、１００質量％であってもよい。メタクリル酸メチル単位が１００質量％の重合体は、メタクリル酸メチルを単独で重合させて得られるメタクリル酸メチル単独重合体である。
【００３８】
このメタクリル酸メチル系樹脂は、通常、メタクリル酸メチルを主成分とする単官能単量体及び必要に応じて使用される多官能単量体を、ラジカル重合開始剤及び必要に応じて使用される連鎖移動剤の共存下に重合することにより得ることができる。
【００３９】
メタクリル酸メチルと共重合し得る単官能単量体としては、特に限定されるものではないが、例えば、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸２−エチルヘキシル、及びメタクリル酸２−ヒドロキシエチル等のメタクリル酸メチル以外のメタクリル酸エステル類；アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸フェニル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸２−エチルヘキシル、及びアクリル酸２−ヒドロキシエチル等のアクリル酸エステル類；２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル、３−（ヒドロキシエチル）アクリル酸メチル、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸エチル、及び２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸ブチル等のヒドロキシアクリル酸エステル類；メタクリル酸及びアクリル酸等の不飽和酸類；クロロスチレン及びブロモスチレン等のハロゲン化スチレン類；ビニルトルエン及びα−メチルスチレン等の置換スチレン類；アクリロニトリル及びメタクリロニトリル等の不飽和ニトリル類；無水マレイン酸及び無水シトラコン酸等の不飽和酸無水物類；並びにフェニルマレイミド及びシクロヘキシルマレイミド等の不飽和イミド類等を挙げることができる。このような単量体は、それぞれ単独で用いられてもよいし、２種以上を組み合わせて用いられてもよい。
【００４０】
メタクリル酸メチルと共重合し得る多官能単量体としては、特に限定されるものではないが、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ノナエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、及びテトラデカエチレングリコール（メタ）アクリレート等のエチレングリコール又はそのオリゴマーの両末端水酸基をアクリル酸又はメタクリル酸でエステル化したもの；プロピレングリコール又はそのオリゴマーの両末端水酸基をアクリル酸又はメタクリル酸でエステル化したもの；ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、及びブタンジオールジ（メタ）アクリレート等の２価アルコールの水酸基をアクリル酸又はメタクリル酸でエステル化したもの；ビスフェノールＡ、ビスフェノールＡのアルキレンオキサイド付加物、又はこれらのハロゲン置換体の両末端水酸基をアクリル酸又はメタクリル酸でエステル化したもの；トリメチロールプロパン及びペンタエリスリトール等の多価アルコールをアクリル酸又はメタクリル酸でエステル化したもの、並びにこれら末端水酸基にグリシジルアクリレート又はグリシジルメタクリレートのエポキシ基を開環付加させたもの；コハク酸、アジピン酸、テレフタル酸、フタル酸、これらのハロゲン置換体等の二塩基酸、及びこれらのアルキレンオキサイド付加物等にグリシジルアクリレート又はグリシジルメタクリレートのエポキシ基を開環付加させたもの；アリール（メタ）アクリレート、及びジビニルベンゼン等のジアリール化合物等が挙げられる。中でも、エチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、及びネオペンチルグリコールジメタクリレートが好ましく用いられる。
【００４１】
本発明で好ましく用いられるメタクリル酸メチル系樹脂は、該樹脂が有する官能基間の反応を行うことによって変成された変性メタクリル酸メチル系樹脂であってもよい。その反応としては、例えば、アクリル酸メチルのメチルエステル基と２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチルの水酸基との高分子鎖内脱メタノール縮合反応、及び、アクリル酸のカルボキシル基と２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチルの水酸基との高分子鎖内脱水縮合反応等が挙げられる。
【００４２】
メタクリル酸メチル系樹脂は、市販品を容易に入手することが可能であり、例えば、各々商品名で、「スミペックス」（住友化学株式会社製）、「アクリペット」、「アクリライト」、「アクリプレン」（三菱レイヨン株式会社製）、「デルペット」、「デラグラス」（旭化成株式会社製）、「パラペット」（株式会社クラレ製）、「パラグラス」、「コモグラス」（株式会社クラレ製）及び「アクリビュア」（株式会社日本触媒製）等が挙げられる。
【００４３】
又、アクリル系樹脂には、他の樹脂（例えばセルロースエステル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、アクリル樹脂、ポリアミド、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリエステル、ポリスルホン、ポリフェニレンオキサイド、ポリアセタール、ポリイミド、ポリエーテルイミド等）、熱硬化性樹脂（例えばフェノール樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂等）の一種以上を更に含有させることができ、又後述する酸化防止剤、紫外線吸収剤、及び光安定剤や、高級脂肪酸や酸エステル系及び酸アミド系、更に高級アルコール等の滑剤及び可塑剤、モンタン酸及びその塩、そのエステル、そのハーフエステル、ステアリルアルコール、ステアラミド及びエチレンワックス等の離型剤、亜リン酸塩、次亜リン酸塩等の着色防止剤、ハロゲン系難燃剤、リン系やシリコーン系の非ハロゲン系難燃剤、核剤、アミン系、スルホン酸系、ポリエーテル系等の帯電防止剤、顔料等の着色剤、アクリル弾性体粒子等の添加剤を任意に含有させてもよい。但し、適用する用途が要求する特性に照らし、その添加剤保有の色が熱可塑性重合体に悪影響を及ぼさず、かつ透明性が低下しない範囲で添加する必要がある。
【００４４】
本発明においてアクリル弾性体粒子或いはその他の添加剤等の任意成分を配合する方法には、特に制限はなく、アクリル樹脂とその他の任意成分を予めブレンドした後、通常２００〜３５０℃において、一軸又は二軸押出機により均一に溶融混練する方法が好ましく用いられる。
【００４５】
（ポリカーボネート系樹脂）
ポリカーボネート系樹脂は、通常、二価フェノールとホスゲン又はジフェニルカーボネート類等のカーボネート前駆体とを界面重縮合法、又は溶融エステル交換法で反応させて得られるものであり、二価フェノールとしてビスフェノールＡを用いた芳香族ポリカーボネート樹脂が一般的である。この他、カーボネートプレポリマーを固相エステル交換法により重合させたもの、又は環状カーボネート化合物を開環重合させたもの等も挙げられる。
【００４６】
二価フェノールとしては、透明樹脂としての性能を損なうものでなければ特に限定されるものではないが、例えば、ビスフェノールＡ（２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン）の他にも、ハイドロキノン、レゾルシノール、４，４′−ジヒドロキシジフェニル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス｛（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチル）フェニル｝メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−４−イソプロピルシクロヘキサン、２，２−ビス｛（４−ヒドロキシ−３−メチル）フェニル｝プロパン、２，２−ビス｛（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチル）フェニル｝プロパン、２，２−ビス｛（４−ヒドロキシ−３，５−ジブロモ）フェニル｝プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３−メチルブタン、２，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−２−メチルブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−４−メチルペンタン、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス｛（４−ヒドロキシ−３−メチル）フェニル｝フルオレン、９，９−ビス｛（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチル）フェニル｝フルオレン、９，９−ビス｛（４−ヒドロキシ−３，５−ジブロモ）フェニル｝フルオレン、α，α′−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−ｏ−ジイソプロピルベンゼン、α，α′−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−ｍ−ジイソプロピルベンゼン、α，α′−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−ｐ−ジイソプロピルベンゼン、４，４′−ジヒドロキシジフェニルスルホン、４，４′−ジヒドロキシジフェニルケトン、及び４，４′−ジヒドロキシジフェニルエーテル等が挙げられ、これらは単独又は２種以上を混合して使用することができる。
【００４７】
又、分子量を適切な範囲に調整したり、高分子鎖の水酸基末端を封止したりするために、一価フェノール化合物が併用されてもよい。この一価フェノールとしては、末端封止剤として機能する化合物であれば特に限定されるものではないが、例えば、フェノール、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、及び１−フェニル−１−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン等が挙げられる。
【００４８】
又、必要に応じて、２−（２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチル−５−（２−カルボキシエチル））フェニルベンゾトリアゾール等のＵＶ吸収性を有する化合物を末端封止剤として用いることもできる。
【００４９】
ポリカーボネート系樹脂は、市販品を容易に入手することが可能であり、例えば、各々商品名で、「レキサン」（ＳＡＢＩＣイノベーティブプラスチックス社製）、「マクロロン」、「アペック」（以上、バイエル  マテリアルサイエンス社製）、「ユーピロン」、「ノバックス」（以上、三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社製）、「パンライト」（帝人化成株式会社製）、「カリバー」（ダウケミカル社製）、「ＳＤポリカ」（住友ダウ株式会社製）、及び「タフロン」（出光興産株式会社製）等が挙げられる。
【００５０】
（ノルボルネン系樹脂）
ノルボルネン系樹脂としては、例えば、シクロペンタジエンとオレフィン類とからディールス・アルダー反応によって得られるノルボルネン又はその誘導体をモノマーとして開環メタセシス重合を行い、それに続く水添によって得られる樹脂；ジシクロペンタジエンとオレフィン類又はメタクリル酸エステル類とからディールス・アルダー反応によって得られるテトラシクロドデセン又はその誘導体をモノマーとして開環メタセシス重合を行い、それに続く水添よって得られる樹脂；ノルボルネン、テトラシクロドデセン、それらの誘導体類、又はその他の環状オレフィンモノマーを同様に開環メタセシス共重合を行い、それに続く水添によって得られる樹脂；並びに、ノルボルネン、テトラシクロドデセン、それらの誘導体、及びビニル基を有する芳香族化合物等を付加重合により共重合させて得られる樹脂等が挙げられる。
【００５１】
このような環状オレフィン系樹脂は、市販品を容易に入手することが可能であり、例えば、各々商品名で、「トパス」（Ｔｏｐａｓ  Ａｄｖａｎｃｅｄ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ  ＧｍｂＨ製）、「アートン」（ＪＳＲ株式会社製）、「ゼオノア」、「ゼオネックス」（以上、日本ゼオン株式会社製）、及び「アペル」（三井化学株式会社製）等が挙げられる。
【００５２】
（銀反射層）
本発明の太陽熱発電用反射板は、フィルム基材上に設けられた銀反射層を片面に有する反射フィルムが銀反射層面側で接着層を介して硬質透明樹脂基板と積層されている。銀反射層面とは太陽光が入射する側の反射面をいう。
【００５３】
本発明のフィルム基材上に設けられた銀反射層の形成法としては、湿式法及び乾式法のどちらも使用することができる。湿式法とは、めっき法の総称であり、溶液から金属を析出させ膜を形成する方法である。具体例をあげるとすれば、銀鏡反応等がある。一方、乾式法とは、真空成膜法の総称であり、具体的に例示すると抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法等がある。とりわけ、本発明には連続的に成膜するロールトゥーロール方式が可能な蒸着法が好ましく用いられる。すなわち、本発明の銀反射層を片面に有する反射フィルムの製造方法としては、銀反射層を銀蒸着によって形成する製造方法が好ましい。
【００５４】
フィルム基材上に設けられた銀反射層の厚さは、反射率等の観点から、１０〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは３０〜１５０ｎｍである。
【００５５】
（フィルム基材）
本発明の銀反射層を片面に有する反射フィルムのフィルム基材としては、従来公知の種々の樹脂フィルムを用いることができる。例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系フィルム、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム等のセルロースエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム等のアクリル系フィルム等を挙げることができる。中でも、ポリエステル系フィルム、セルロースエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、及びノルボルネン系樹脂フィルムが好ましい。
【００５６】
特にポリエステル系フィルム、セルロースエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルムをフィルム基材として用いることが好ましく、溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。
【００５７】
前記フィルム基材の製造に際しては、必要ならば、公知の添加剤、例えば、可塑剤、帯電防止剤、滑剤、後述する酸化防止剤、紫外線吸収剤及び光安定剤等を任意に添加し、混練して製膜化してもよい。
【００５８】
前記フィルム基材には、本発明の効果を妨げない限り、機能層を片面、又は両面に積層することができる。積層される機能層としては、例えば、導電層、ハードコート層、平滑化層、易滑化層、ブロッキング防止層、及び易接着層等が挙げられる。
【００５９】
前記フィルム基材の厚さは、１０〜３００μｍが好ましく、より好ましくは２０〜２００μｍである。
【００６０】
なお、前記フィルム基材は延伸したフィルムでもよく、延伸方法としては、例えば、１軸延伸、逐次２軸延伸、同時２軸延伸等で行うことができ、それに用いる延伸装置としては、例えば、２本ロール式１軸延伸機、テンター式横延伸機、テンター式或いはチューブラー式２軸延伸機等を使用して延伸することができる。
【００６１】
特に好ましいフィルムの種類としてはポリエチレンテレフタレートフィルムが挙げられるが、下記にその詳細を記載する。
【００６２】
（ポリエチレンテレフタレートフィルム）
本発明で好ましく用いられるポリエチレンテレフタレートフィルムとは、一種以上のポリエチレンテレフタレート系樹脂を溶融押出によって製膜し、横延伸してなる一層以上の一軸延伸フィルム、又は、製膜後引き続いて縦延伸し、次いで横延伸してなる一層以上の二軸延伸フィルムである。
【００６３】
ポリエチレンテレフタレート系樹脂とは、繰り返し単位の８０ｍｏｌ％以上がエチレンテレフタレートで構成される樹脂を意味し、他のジカルボン酸成分とジオール成分を含んでいてもよい。他のジカルボン酸成分としては、特に限定されるものでないが、例えば、イソフタル酸、ｐ−β−オキシエトキシ安息香酸、４，４′−ジカルボキシジフェニール、４，４′−ジカルボキシベンゾフェノン、ビス（４−カルボキシフェニル）エタン、アジピン酸、セバシン酸、及び１，４−ジカルボキシシクロヘキサン等が挙げられる。他のジオール成分としては、特に限定されるものではないが、プロピレングリコール、ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、シクロヘキサンジオール、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、及びポリテトラメチレングリコール等が挙げられる。これらの他のジカルボン酸成分や他のジオール成分は、必要により２種類以上を組み合わせて使用することができる。又、ｐ−オキシ安息香酸等のオキシカルボン酸を併用することもできる。又、他の共重合成分として、少量のアミド結合、ウレタン結合、エーテル結合、及びカーボネート結合等を含有するジカルボン酸成分、又はジオール成分が用いられてもよい。
【００６４】
ポリエチレンテレフタレート系樹脂の分子量は、フェノール／テトラクロロエタン＝５０／５０（質量比）の混合溶媒に樹脂を溶解し、３０℃で測定した極限粘度で表したとき、通常、０．４５〜１．０ｄＬ／ｇ、好ましくは０．５０〜１．０ｄＬ／ｇ、更に好ましくは０．５２〜０．８０ｄＬ／ｇの範囲である。
【００６５】
又、ポリエチレンテレフタレート系樹脂は、必要に応じて添加剤を含有することができる。添加剤としては、例えば、滑剤、ブロッキング防止剤、熱安定剤、帯電防止剤、耐衝撃性改良剤、及び後述する酸化防止剤、紫外線吸収剤、及び光安定剤等が挙げられる。その添加量は、光学物性に悪影響を与えない範囲にとどめることが好ましい。
【００６６】
ポリエチレンテレフタレート系樹脂は、このような添加剤の配合のため、及び後記するフィルム成形のため、通常、押出機によって造粒されたペレット形状で用いられる。ペレットの大きさや形状は、特に制限されるものではないが、通常、高さ、直径ともに５ｍｍ以下の円柱状、球状、又は扁平球状である。このようにして得られるポリエチレンテレフタレート系樹脂は、フィルム状に成形し、延伸処理することにより、透明で均質な機械的強度の高いポリエチレンテレフタレートフィルムとすることができる。その製造方法としては、特に限定されるものではないが、例えば、次に記載する方法が採用される。
【００６７】
まず、乾燥させたポリエチレンテレフタレート樹脂からなるペレットを溶融押出装置に供給し、融点以上に加熱し溶融する。次に、溶融した樹脂をダイから押し出し、回転冷却ドラム上でガラス転移温度以下の温度になるように急冷固化し、実質的に非晶状態の未延伸フィルムを得る。この溶融温度は、用いるポリエチレンテレフタレート系樹脂の融点や押出機に応じて定められるものであり、特に制限するものではないが、通常、２５０〜３５０℃である。
【００６８】
又、フィルムの平面性を向上させるためには、フィルムと回転冷却ドラムとの密着性を高めることが好ましく、静電印加密着法又は液体塗布密着法が好ましく採用される。静電印加密着法とは、通常、フィルムの上面側にフィルムの流れと直交する方向に線状電極を張り、その電極に約５〜１０ｋＶの直流電圧を印加することによりフィルムに静電荷を与え、回転冷却ドラムとフィルムとの密着性を向上させる方法である。又、液体塗布密着法とは、回転冷却ドラム表面の全体又は一部（例えばフィルム両端部と接触する部分のみ）に液体を均一に塗布することにより、回転冷却ドラムとフィルムとの密着性を向上させる方法である。必要に応じ両者を併用してもよい。用いるポリエチレンテレフタレート系樹脂は、必要に応じ２種以上の樹脂構造や組成の異なる樹脂を混合してもよい。例えば、ブロッキング防止剤としての粒状フィラー、又は帯電防止剤等の配合されたペレットと、無配合のペレットとを混合して用いること等が挙げられる。
【００６９】
又、押し出すフィルムの積層数は、必要に応じ２層以上にしてもよい。例えば、ブロッキング防止剤としての粒状フィラーを配合したペレットと無配合のペレットを用意し、異なる押出機から同一のダイへ供給して「フィラー配合／無配合／フィラー配合」の２種３層からなるフィルムを押し出すこと等が挙げられる。
【００７０】
上記未延伸フィルムは、ガラス転移温度以上の温度において、通常、まず押出方向へ縦延伸される。延伸温度は、通常、７０〜１５０℃であり、８０〜１３０℃が好ましく、９０〜１２０℃がより好ましい。又、延伸倍率は、１．１倍以上６倍以下が好ましい。この延伸は一回で終えることも、必要に応じて複数回に分けて行うこともできる。通常、複数回の延伸を行う場合でも、合計の延伸倍率は前記の範囲であることが好ましい。
【００７１】
こうして得られる縦延伸フィルムは、この後、熱処理を行うことができる。次いで、必要により弛緩処理を行うこともできる。この熱処理温度は、通常、１５０〜２５０℃であり、１８０〜２４５℃が好ましく、２００〜２３０℃がより好ましい。又、熱処理時間は、通常、１〜６００秒間であり、１〜３００秒間が好ましく、１〜６０秒間がより好ましい。
【００７２】
一軸延伸及び二軸延伸フィルムを得る場合、通常、縦延伸処理の後に、もしくは必要に応じて熱処理又は弛緩処理を経た後に、テンターによって横延伸が行われる。この延伸温度は、通常、７０〜１５０℃であり、８０〜１３０℃が好ましく、９０〜１２０℃がより好ましい。又、延伸倍率は、１．１倍以上６倍以下が好ましい。
【００７３】
本発明に好ましく用いられる延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムには、本発明の効果を妨げない限り、機能層を片面、又は両面に積層することができる。積層される機能層には、例えば、導電層、ハードコート層、平滑化層、易滑化層、ブロッキング防止層、及び易接着層等が挙げられる。中でも、この延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムは易接着層が積層されていることが好ましい。
【００７４】
易接着層を構成する成分は、特に限定されるものではないが、例えば、極性基を骨格に有し比較的低分子量で低ガラス転移温度である、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、又はアクリル系樹脂等が挙げられる。又、必要に応じて架橋剤、有機又は無機フィラー、界面活性剤、及び滑剤等を含有することができる。
【００７５】
前記機能層を延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムに形成する方法は、特に限定されるものではないが、例えば、すべての延伸工程が終了したフィルムに形成する方法、ポリエチレンテレフタレート系樹脂を延伸している工程中、例えば縦延伸と横延伸工程の間に形成する方法等が採用される。中でも、生産性の観点からは、ポリエチレンテレフタレート系樹脂を縦延伸した後に形成し、引き続き横延伸する方法が好ましく採用される。
【００７６】
こうして得られる延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムは、市販品を容易に入手することが可能であり、例えば、それぞれ商品名で、「ダイアホイル」、「ホスタファン」、「フュージョン」（以上、三菱樹脂株式会社製）、「テイジンテトロンフィルム」、「メリネックス」、「マイラー」、「テフレックス」、（以上、帝人デュポンフィルム株式会社製）、「東洋紡エステルフィルム」、「東洋紡エスペットフィルム」、「コスモシャイン」、「クリスパー」（以上、東洋紡績株式会社製）、「ルミラー」（東レフィルム加工株式会社製）、「エンブロン」、「エンブレット」（ユニチカ株式会社製）、「スカイロール」（エス・ケー・シー社製）、「コーフィル」（株式会社高合製）、「瑞通ポリエステルフィルム」（株式会社瑞通製）、及び「太閤ポリエステルフィルム」（フタムラ化学株式会社製）等が挙げられる。この中でも、生産性や廉価性の観点から、本発明には二軸延伸品が好ましく用いられる。
【００７７】
（接着層）
本発明では、硬質透明樹脂基板と銀反射層を片面に有する反射フィルムとの間に接着層を有する。接着層は、透明樹脂基板と銀反射層を片面に有する反射フィルムとの接着性を高める機能があるものであれば特に限定はないが、樹脂からなることが好ましい。また、この接着層は銀反射層上に更に形成された銀保護層及び／又はバリア層と透明樹脂基板との接着性を高めるために使用することができる。樹脂からなることが好ましい。
【００７８】
接着層に使用するバインダーとしての樹脂は、接着性、耐候性、透明性、及び平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独又はこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性、接着性の点からポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂又はメラミン系樹脂が好ましく、更にイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。特に好ましくはポリウレタン系樹脂を含有することである。
【００７９】
接着層の厚さは、接着性、平滑性、反射材の反射率等の観点から、０．０１〜３０μｍが好ましく、より好ましくは０．１〜１５μｍである。
【００８０】
接着層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。
【００８１】
又、接着層には、その目的に応じて、後述する銀の腐食防止剤、後述する酸化防止剤、紫外線吸収剤、及び光安定剤等を含有させてもよい。
【００８２】
接着層には市販の接着剤を使用できるが、接着性、耐候性、透明性、及び平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はない。
【００８３】
硬質透明樹脂基板と銀反射層を片面に有する反射フィルムとを接着層を介して積層する方法としては、包装材料を製造するときに使用する積層方法と同様な方法で行うことができる。例えば、ドライラミネーション（無溶剤型、ワックスホットメルト型等も含む）、ウェットラミネーション、押し出しラミネーション、インフレーションラミネート法等の方法で行うことができる。上記の積層に際しては、例えば、有機チタン系アンカーコート剤、イソシアネート系アンカーコート剤（ウレタン系）、ポリエチレンイミン系アンカーコート剤等のラミネート用アンカーコート剤、或いはポリウレタン系接着剤、ポリエステル系接着剤、エポキシ系接着剤、ポリ酢酸ビニル系接着剤、ポリ塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体系接着剤、ポリアクリル系接着剤等の溶融型接着剤、ポリ酢酸ビニルエマルジョン、ポリアクリル系樹脂エマルジョン等のエマルジョン系接着剤、紫外線或いは電子線硬化型接着剤等の各種の接着剤を使用することができる。なお、本発明においては、樹脂のフィルムがそれ自身で熱溶融等によって自己接着するものである場合には、上記のような接着剤を使用することなく積層してラミネートシートを製造することができ、この場合には、それ自身を接着剤としてみなしてもよい。又、本発明においては、積層する前に、フィルムの面に、予め、例えば、コロナ処理、オゾン処理等の公知の前処理を施すこともできる。貼合に際しては、工業用プラスチックフィルム（南智幸、小坂田篤著  ＣＴＩ加工技術研究会発行  １９９１年）等に記載のドライラミネート、無溶剤ラミネート、ウェットラミネート等の方法を用いることもできる。
【００８４】
積層方法は枚葉式で製造するのが好ましく、平滑性に優れた硬質透明樹脂基板上で工程操作を実施するので、全工程を通じて平滑性が保持され、仕上がりの品質のバラツキがなく、歩留まりも飛躍的に向上する。又硬質透明樹脂基材板上で枚葉式で製造できるので、非常にコンパクトな設備での製造が可能となる。従って、製造スペースや付帯設備スペースを小さくすることができ、電力、薬液等の省資源化が可能となり、リードタイムの短縮化も可能となる。
【００８５】
（銀保護層）
本発明の太陽熱反射板は、フィルム基材上に設けられた銀反射層を片面に有する反射フィルムの銀反射層の表面に、銀保護層を有することが好ましい。
【００８６】
銀保護層は、前記硬質透明樹脂基板に積層するまでの間、フィルム基材上に形成された銀反射層の保護のために使用されるものであり、透明のコーティングであることが好ましい。保護層の形成のために使用されるコーティング液は、特に制限する必要はない。即ち、本発明の目的に符合すれば、公知のいかなるものを使用してもよいが、塗布又はコーティングされた後、塗膜の透明度が８０％以上で、耐熱性、耐候性、耐食性及び耐塩水性等に優れているものが好ましい。
【００８７】
本発明に好ましく用いられる銀保護層は、銀反射層に隣接し、好ましくは後述する銀腐食防止剤を含み、銀の腐食劣化を防ぐとともに、銀反射層の傷防止及び、銀保護層の外側に形成されるバリア層や傷防止層との接着力向上に寄与するものである。
【００８８】
銀保護層に使用するバインダーとしての樹脂は、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂等の単独又はこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂が好ましく、更にイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。イソシアネートは、ＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）系、ＸＤＩ（キシレンジイソシアネート）系、ＭＤＩ（メチレンジイソシアネート）系、ＨＭＤＩ（ヘキサメチレンジイソシアネート）系等の従来から使用されてきた各種イソシアネートの１種又は２種以上混合したものが使用可能である。又、上記熱硬化型樹脂に、更にシランカップリング剤を混合すれば、耐候性がより向上するので好ましい。中でもアミノ基を有するシランカップリング剤を混合すれば、耐候性の点からより好ましい。
【００８９】
銀保護層の厚さは、密着性、耐候性等の観点から、０．１〜２０μｍが好ましく、より好ましくは１〜１０μｍである。
【００９０】
銀保護層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。
【００９１】
又、銀保護層には、後述する銀腐食防止剤、後述する酸化防止剤、後述する光安定剤、後述する紫外線吸収剤を使用するのが好ましく、例えば、ＢＡＳＦ社のＴＩＮＵＶＩＮシリーズ、ＩＲＧＡＮＯＸシリーズ及びＣｈｉｍａｓｓｏｒｂシリーズ等を使用することができる。
【００９２】
（銀腐食防止剤）
本発明の太陽熱反射板は構成層のうち少なくともいずれか一層に、銀腐食防止剤を含有することが好ましい。ここで、「腐食」とは、銀がそれをとり囲む環境物質によって、化学的又は電気化学的に浸食されるか若しくは材質的に劣化する現象をいう（ＪＩＳ  Ｚ０１０３−２００４参照）。
【００９３】
前記腐食防止剤は銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤または酸化防止剤を含有している態様であることが好ましい。
【００９４】
なお、腐食防止剤の含有量は、使用する化合物によって最適量は異なるが、一般的には、０．１〜１．０／ｍ２の範囲内であることが好ましい。
【００９５】
（銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤〉
銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤としては、アミン類及びその誘導体、ピロール環を有する化合物、トリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、チアゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物、銅キレート化合物類、チオ尿素類、メルカプト基を有する化合物、ナフタレン系の化合物の少なくとも一種又はこれらの混合物から選ばれることが好ましい。
【００９６】
アミン類及びその誘導体としては、エチルアミン、ラウリルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、Ｏ−トルイジン、ジフェニルアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、２Ｎ−ジメチルエタノールアミン、２−アミノ−２−メチル−１，３−プロパンジオール、アセトアミド、アクリルアミド、ベンズアミド、ｐ−エトキシクリソイジン、ジシクロヘキシルアンモニウムナイトライト、ジシクロヘキシルアンモニウムサリシレート、モノエタノールアミンベンゾエート、ジシクロヘキシルアンモニウムベンゾエート、ジイソプロピルアンモニウムベンゾエート、ジイソプロピルアンモニウムナイトライト、シクロヘキシルアミンカーバメイト、ニトロナフタレンアンモニウムナイトライト、シクロヘキシルアミンベンゾエート、ジシクロヘキシルアンモニウムシクロヘキサンカルボキシレート、シクロヘキシルアミンシクロヘキサンカルボキシレート、ジシクロヘキシルアンモニウムアクリレート、シクロヘキシルアミンアクリレート等、或いはこれらの混合物が挙げられる。
【００９７】
ピロール環を有する物としては、Ｎ−ブチル−２，５−ジメチルピロール、Ｎ−フェニル−２，５−ジメチルピロール、Ｎ−フェニル−３−ホルミル−２，５−ジメチルピロール、Ｎ−フェニル−３，４−ジホルミル−２，５−ジメチルピロール等、或いはこれらの混合物が挙げられる。
【００９８】
トリアゾール環を有する化合物としては、１，２，３−トリアゾール、１，２，４−トリアゾール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、３−ヒドロキシ−１，２，４−トリアゾール、３−メチル−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、４−メチル−１，２，３−トリアゾール、ベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール、４，５，６，７−テトラハイドロトリアゾール、３−アミノ−１，２，４−トリアゾール、３−アミノ−５−メチル−１，２，４−トリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−４−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール等、或いはこれらの混合物が挙げられる。
【００９９】
ピラゾール環を有する化合物としては、ピラゾール、ピラゾリン、ピラゾロン、ピラゾリジン、ピラゾリドン、３，５−ジメチルピラゾール、３−メチル−５−ヒドロキシピラゾール、４−アミノピラゾール等、或いはこれらの混合物が挙げられる。
【０１００】
チアゾール環を有する化合物としては、チアゾール、チアゾリン、チアゾロン、チアゾリジン、チアゾリドン、イソチアゾール、ベンゾチアゾール、２−Ｎ，Ｎ−ジエチルチオベンゾチアゾール、Ｐ−ジメチルアミノベンザルロダニン、２−メルカプトベンゾチアゾール等、或いはこれらの混合物が挙げられる。
【０１０１】
イミダゾール環を有する化合物としては、イミダゾール、ヒスチジン、２−ヘプタデシルイミダゾール、２−メチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、２−ウンデシルイミダゾール、１−ベンジル−２−メチルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−フェニルイミダゾール、１−シアノエチル−２−エチル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−ウンデシルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−５−ヒドロメチルイミダゾール、２−フェニル−４，５−ジヒドロキシメチルイミダゾール、４−ホルミルイミダゾール、２−メチル−４−ホルミルイミダゾール、２−フェニル−４−ホルミルイミダゾール、４−メチル−５−ホルミルイミダゾール、２−エチル−４−メチル−５−ホルミルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−４−ホルミルイミダゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール等、或いはこれらの混合物が挙げられる。
【０１０２】
インダゾール環を有する化合物としては、４−クロロインダゾール、４−ニトロインダゾール、５−ニトロインダゾール、４−クロロ−５−ニトロインダゾール等、或いはこれらの混合物が挙げられる。
【０１０３】
銅キレート化合物類としては、アセチルアセトン銅、エチレンジアミン銅、フタロシアニン銅、エチレンジアミンテトラアセテート銅、ヒドロキシキノリン銅等、或いはこれらの混合物が挙げられる。
【０１０４】
チオ尿素類としては、チオ尿素、グアニルチオ尿素等、或いはこれらの混合物が挙げられる。
【０１０５】
メルカプト基を有する化合物としては、すでに上記に記載した材料も加えれば、メルカプト酢酸、チオフェノール、１，２−エタンジオール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、グリコールジメルカプトアセテート、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ブタンジオールビスチオグリコール、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート、トリエチレングリコールジメルカプタン等、或いはこれらの混合物が挙げられる。
【０１０６】
ナフタレン系としては、チオナリド等が挙げられる。
【０１０７】
本発明に用いられる銀反射層の腐食防止剤としては、後述する紫外線吸収剤として機能する化合物を兼用して用いることもできる。
【０１０８】
（酸化防止剤）
本発明の太陽熱反射板は構成層のうち少なくともいずれか一層に、酸化防止剤を含有することが好ましい。好ましく用いられる酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、チオール系酸化防止剤及びホスファイト系酸化防止剤を挙げることができる。
【０１０９】
フェノール系酸化防止剤としては、例えば、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、２，２′−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、テトラキス−〔メチレン−３−（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、４，４′−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４′−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，３，５−トリス（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４′−ヒドロキシベンジル）−Ｓ−トリアジン−２，４，６−（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）トリオン、ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、トリエチレングリコールビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、３，９−ビス［１，１−ジ−メチル−２−〔β−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］−２，４，８，１０−テトラオキオキサスピロ〔５，５〕ウンデカン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン等が挙げられる。特に、フェノール系酸化防止剤としては、分子量が５５０以上のものが好ましい。
【０１１０】
チオール系酸化防止剤としては、例えば、ジステアリル−３，３′−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−（β−ラウリル−チオプロピオネート）等を挙げられる。
【０１１１】
ホスファイト系酸化防止剤としては、例えば、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ジ（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス−（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）−ペンタエリスリトールジホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）４，４′−ビフェニレン−ジホスホナイト、２，２′−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト等が挙げられる。
【０１１２】
（光安定剤）
本発明の太陽熱反射板は構成層のうち少なくともいずれか一層に、光安定剤を含有することが好ましい。本発明に好ましく用いられるヒンダードアミン系の光安定剤としては、例えば、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロネート、１−メチル−８−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−セバケート、１−［２−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］−４−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ベンゾイルオキシ−２，２、６，６−テトラメチルピペリジン、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタン−テトラカルボキシレート、トリエチレンジアミン、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４，５］デカン−２，４−ジオン等が挙げられる。
【０１１３】
その他ニッケル系紫外線安定剤として、〔２，２′−チオビス（４−ｔ−オクチルフェノレート）〕−２−エチルヘキシルアミンニッケル（II）、ニッケルコンプレックス−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル・リン酸モノエチレート、ニッケル・ジブチル−ジチオカーバメート等も使用することが可能である。
【０１１４】
特にヒンダードアミン系の光安定剤としては、３級のアミンのみを含有するヒンダードアミン系の光安定剤が好ましく、具体的には、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロネート、又は１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノール／トリデシルアルコールと１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸との縮合物が好ましい。
【０１１５】
（紫外線吸収剤）
本発明の太陽熱反射板は構成層のうち少なくともいずれか一層に、紫外線吸収剤を含有することが好ましい。本発明に好ましく用いられる紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチル酸フェニル系、又はトリアジン系の化合物等が挙げられる。
【０１１６】
ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、２，４−ジヒドロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクタデシロキシ−ベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４，４′−ジメトキシ−ベンゾフェノン、２，２′，４，４′−テトラヒドロキシ−ベンゾフェノン等が挙げられる。
【０１１７】
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、２−（２′−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール等が挙げられる。
【０１１８】
サリチル酸フェニル系紫外線吸収剤としては、フェニルサルチレート、２−４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等が挙げられる。ヒンダードアミン系紫外線吸収剤としては、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート等が挙げられる。
【０１１９】
トリアジン系紫外線吸収剤としては、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−エトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−（２−ヒドロキシ−４−プロポキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン等が挙げられる。
【０１２０】
紫外線吸収剤としては、上記以外に紫外線の保有するエネルギーを、分子内で振動エネルギーに変換し、その振動エネルギーを、熱エネルギー等として放出する機能を有する化合物が含まれる。更に、酸化防止剤或いは着色剤等との併用で効果を発現するものも併用することができる。但し、上記の紫外線吸収剤を使用する場合は、紫外線吸収剤の光吸収波長が、光重合開始剤の有効波長と重ならないものを選択する必要がある。
【０１２１】
通常の紫外線防止剤を使用する場合は、可視光でラジカルを発生する光重合開始剤を使用することが有効である。
【０１２２】
紫外線吸収剤の使用量は、０．１〜２０質量％、好ましくは１〜１５質量％、更に好ましくは３〜１０質量％である。
【０１２３】
（バリア層）
本発明の太陽熱反射板は、バリア層を有することが好ましい。
【０１２４】
バリア層は、湿度の変動、特に高湿度による樹脂基材及び当該樹脂基材で保護される各種機能素子等の劣化を防止するためのものであるが、特別の機能・用途を持たせたものであってもよく、上記特徴を維持する限りにおいて、種々の態様のバリア層を設けることができる。本発明においては、前記銀反射層よりも光源側にバリア層を設けることが好ましい。
【０１２５】
バリア層の防湿性としては、４０℃、９０％ＲＨにおける水蒸気透過度が、１００ｇ／ｍ２・ｄａｙ／μｍ以下、好ましくは５０ｇ／ｍ２・ｄａｙ／μｍ以下、更に好ましくは２０ｇ／ｍ２・ｄａｙ／μｍ以下となるように当該バリア層の防湿性を調整することが好ましい。又、酸素透過度としては、測定温度２３℃、湿度９０％ＲＨの条件下で、０．６ｃｍ３／ｍ２／ｄａｙ／ａｔｍ以下（１ａｔｍは、１．０１３２５×１０５Ｐａである）であることが好ましい。
【０１２６】
バリア層に関しては、その形成方法において特に制約は無いが、無機酸化物膜のセラミック前駆体を塗布した後に、塗布膜を加熱及び／又は紫外線照射により、無機酸化物膜を形成する方法が好ましく用いられる。
【０１２７】
（セラミック前駆体）
バリア層は、加熱により無機酸化物膜を形成するセラミック前駆体を塗布した後に、一般的な加熱方法が適用して形成することできるが、局所的加熱により形成することが好ましい。当該セラミック前駆体は、ゾル状の有機金属化合物又はポリシラザンが好ましい。
【０１２８】
（有機金属化合物）
有機金属化合物は、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、リチウム（Ｌｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、チタン（Ｔｉ）、タンタル（Ｔａ）、亜鉛（Ｚｎ）、バリウム（Ｂａ）、インジウム（Ｉｎ）、スズ（Ｓｎ）、ランタン（Ｌａ）、イットリウム（Ｙ）、及びニオブ（Ｎｂ）のうちの少なくとも一つの元素を含有することが好ましい。特に、当該有機金属化合物が、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、リチウム（Ｌｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、チタン（Ｔｉ）、亜鉛（Ｚｎ）、及びバリウム（Ｂａ）のうちの少なくとも一つの元素を含有することが好ましい。更に、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、及びリチウム（Ｌｉ）のうちの少なくとも一つの元素を含有することが好ましい。
【０１２９】
有機金属化合物としては、加水分解が可能なものであればよく、特に限定されるものではないが、好ましい有機金属化合物としては、金属アルコキシドが挙げられる。
【０１３０】
前記金属アルコキシドは、下記一般式（Ｉ）で表される。
【０１３１】
一般式（Ｉ）：ＭＲ２ｍ（ＯＲ１）（ｎ−ｍ）
前記一般式（Ｉ）において、Ｍは、酸化数ｎの金属を表す。Ｒ１及びＲ２は、各々独立にアルキル基を表す。ｍは、０〜（ｎ−１）の整数を表す。Ｒ１及びＲ２は、同一でもよく、異なっていてもよい。Ｒ１及びＲ２としては、炭素原子４個以下のアルキル基が好ましく、例えば、メチル基ＣＨ３（以下、Ｍｅで表す。）、エチル基Ｃ２Ｈ５（以下、Ｅｔで表す）、プロピル基Ｃ３Ｈ７（以下、Ｐｒで表す。）、イソプロピル基ｉ−Ｃ３Ｈ７（以下、ｉ−Ｐｒで表す。）、ブチル基Ｃ４Ｈ９（以下、Ｂｕで表す）、イソブチル基ｉ−Ｃ４Ｈ９（以下、ｉ−Ｂｕで表す）等の低級アルキル基がより好ましい。
【０１３２】
前記一般式（Ｉ）で表される金属アルコキシドとしては、例えば、リチウムエトキシドＬｉＯＥｔ、ニオブエトキシドＮｂ（ＯＥｔ）５、マグネシウムイソプロポキシドＭｇ（ＯＰｒ−ｉ）２、アルミニウムイソプロポキシドＡｌ（ＯＰｒ−ｉ）３、亜鉛プロポキシドＺｎ（ＯＰｒ）２、テトラエトキシシランＳｉ（ＯＥｔ）４、チタンイソプロポキシドＴｉ（ＯＰｒ−ｉ）４、バリウムエトキシドＢａ（ＯＥｔ）２、バリウムイソプロポキシドＢａ（ＯＰｒ−ｉ）２、トリエトキシボランＢ（ＯＥｔ）３、ジルコニウムプロポキシドＺｎ（ＯＰｒ）４、ランタンプロポキシドＬａ（ＯＰｒ）３、イットリウムプロポキシドＹ（ＯＰｒ）３、鉛イソプロポキシドＰｂ（ＯＰｒ−ｉ）２等が好適に挙げられる。これらの金属アルコキシドは何れも市販品があり、容易に入手することができる。又、金属アルコキシドは、部分的に加水分解して得られる低縮合物も市販されており、これを原料として使用することも可能である。
【０１３３】
（無機酸化物）
無機酸化物は、前記有機金属化合物を原料とするゾルから局所的加熱により形成されたものであることが好ましい。従って、有機金属化合物に含有されているケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、チタン（Ｔｉ）、タンタル（Ｔａ）、亜鉛（Ｚｎ）、バリウム（Ｂａ）、インジウム（Ｉｎ）、スズ（Ｓｎ）、ニオブ（Ｎｂ）等の元素の酸化物であることが好ましい。
【０１３４】
例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム等である。これらのうち、好ましくは、酸化ケイ素である。
【０１３５】
有機金属化合物から無機酸化物を形成する方法としては、いわゆるゾル−ゲル法及びポリシラザンを塗布する方法を用いることが好ましい。
【０１３６】
（ゾル−ゲル法）
ここで、「ゾル−ゲル法」とは、有機金属化合物を加水分解すること等により、水酸化物のゾルを得て、脱水処理してゲルとし、更にこのゲルを加熱処理することで、ある一定の形状（フィルム状、粒子状、繊維状等）の金属酸化物ガラスを調製する方法をいう。異なる複数のゾル溶液を混合する方法、他の金属イオンを添加する方法等により、多成分系の金属酸化物ガラスを得ることも可能である。
【０１３７】
具体的には、下記工程を有するゾル−ゲル法で、無機酸化物を製造することが好ましい。
【０１３８】
すなわち、少なくとも水及び有機溶媒を含有する反応液中で、ホウ素イオン存在下にてハロゲンイオンを触媒として、ｐＨを４．５〜５．０に調整しながら、有機金属化合物を加水分解及び脱水縮合して反応生成物を得る工程、及び該反応生成物を２００℃以下の温度で加熱してガラス化する工程、を有するゾル−ゲル法により製造されてなることが、高温熱処理による微細孔の発生や膜の劣化等が発生しないという観点から、特に好ましい。
【０１３９】
前記ゾル−ゲル法において、原料として用いられる有機金属化合物としては、加水分解が可能なものであればよく、特に限定されるものではないが、好ましい有機金属化合物としては、前記金属アルコキシドが挙げられる。
【０１４０】
上記ゾル−ゲル法において、前記有機金属化合物は、そのまま反応に用いてもよいが、反応の制御を容易にするため溶媒で希釈して用いることが好ましい。希釈用溶媒は、前記有機金属化合物を溶解することができ、かつ水と均一に混合することができるものであればよい。そのような希釈用溶媒としては、脂肪族の低級アルコール、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、及びそれらの混合物が好適に挙げられる。又、ブタノールとセロソルブとブチルセロソルブの混合溶媒、或いはキシロールとセロソルブアセテートとメチルイソブチルケトンとシクロヘキサンの混合溶媒等を使用することもできる。
【０１４１】
前記有機金属化合物において、金属がＣａ、Ｍｇ、Ａｌ等である場合には、反応液中の水と反応して水酸化物を生成したり、炭酸イオンＣＯ３２−が存在すると炭酸塩を生成して沈殿を生ずるため、反応液に隠蔽剤としてトリエタノールアミンのアルコール溶液を添加することが好ましい。溶媒に混合溶解するときの前記有機金属化合物の濃度としては、７０質量％以下が好ましく、５〜７０質量％の範囲に希釈して使用することがより好ましい。
【０１４２】
前記ゾル−ゲル法において用いられる反応液は、少なくとも水及び有機溶媒を含有する。前記有機溶媒としては、水及び酸、アルカリと均一な溶液をつくるものであればよく、通常、前記有機金属化合物の希釈に用いる脂肪族の低級アルコール類と同様のものが好適に挙げられる。前記脂肪族の低級アルコール類の中でも、メタノール、エタノールより、炭素数の多いプロパノール、イソプロパノール、ブタノール、及びイソブタノールが好ましい。これは、生成する金属酸化物ガラスの膜の成長が安定であるためである。前記反応液において、水の割合としては、水の濃度として０．２〜５０ｍｏｌ／Ｌの範囲が好ましい。
【０１４３】
前記ゾル−ゲル法においては、前記反応液中において、ホウ素イオンの存在下にて、ハロゲンイオンを触媒として、有機金属化合物を加水分解する。前記ホウ素イオンＢ３＋を与える化合物としては、トリアルコキシボランＢ（ＯＲ）３が好適に挙げられる。その中でも、トリエトキシボランＢ（ＯＥｔ）３がより好ましい。又、前記反応液中のＢ３＋イオン濃度としては、１．０〜１０．０ｍｏｌ／Ｌの範囲が好ましい。
【０１４４】
前記ハロゲンイオンとしては、フッ素イオン及び／又は塩素イオンが好適に挙げられる。即ち、フッ素イオン単独、塩素イオン単独でもよく、これらの混合物でもよい。用いる化合物としては、上記反応液中でフッ素イオン及び／又は塩素イオンを生ずるものであればよく、例えば、フッ素イオン源として、フッ化水素アンモニウムＮＨ４ＨＦ・ＨＦ、フッ化ナトリウムＮａＦ等が好適に挙げられ、塩素イオン源として、塩化アンモニウムＮＨ４Ｃｌ等が好適に挙げられる。
【０１４５】
前記反応液中の前記ハロゲンイオンの濃度としては、製造しようとする無機マトリックスを有する無機組成物からなるフィルムの膜厚や、その他の条件によって異なるが、一般的には、触媒を含む前記反応液の合計質量に対して、０．００１〜２ｍｏｌ／ｋｇ、特に０．００２〜０．３ｍｏｌ／ｋｇの範囲が好ましい。ハロゲンイオンの濃度が０．００１ｍｏｌ／ｋｇより低いと、有機金属化合物の加水分解が十分に進行し難くなり、膜の形成が困難となる。又ハロゲンイオンの濃度が２ｍｏｌ／ｋｇを超えると、生成する無機マトリックス（金属酸化物ガラス）が不均一になり易いため、いずれも好ましくない。
【０１４６】
なお、反応時に使用したホウ素に関しては、得られる無機マトリックスの設計組成中にＢ２Ｏ３成分として含有させる場合は、その含有量に応じた有機ホウ素化合物の計算量を添加したまま生成物とすればよく、又ホウ素を除去したいときは、成膜後、溶媒としてのメタノールの存在下、又はメタノールに浸漬して加熱すればホウ素はホウ素メチルエステルとして蒸発させて除去することができる。
【０１４７】
前記有機金属化合物を、加水分解及び脱水縮合して反応生成物を得る工程においては、通常所定量の前記有機金属化合物を所定量の水及び有機溶媒を含有する混合溶媒に混合溶解した主剤溶液、並びに所定量の前記ハロゲンイオンを含有する所定量の反応液を、所定の比で混合し十分に攪拌して均一な反応溶液とした後、酸又はアルカリで反応溶液のｐＨを希望の値に調整し、数時間熟成することにより進行させて反応生成物を得る。前記ホウ素化合物は、主剤溶液又は反応液に予め所定量を混合溶解しておく。又、アルコキシボランを用いる場合は、他の有機金属化合物と共に主剤溶液に溶解するのが有利である。
【０１４８】
前記反応溶液のｐＨは、目的によって選択され、無機マトリックス（金属酸化物ガラス）を有する無機組成物からなる膜（フィルム）の形成を目的とするときは、例えば、塩酸等の酸を用いてｐＨを４．５〜５の範囲に調整して熟成するのが好ましい。この場合は、例えば、指示薬としてメチルレッドとブロモクレゾールグリーンとを混合したもの等を用いると便利である。
【０１４９】
なお、前記ゾル−ゲル法においては、同一成分の同一濃度の主剤溶液、及び反応液（Ｂ３＋及びハロゲンイオンを含む。）を所定のｐＨに調整しながら、逐次同一割合で追加添加することにより簡単に継続して、反応生成物を製造することもできる。なお、前記反応溶液の濃度は±５０質量％の範囲で、水（酸又はアルカリを含む。）の濃度は、±３０質量％の範囲で、及びハロゲンイオンの濃度は±３０質量％の範囲で変化させることができる。
【０１５０】
次に、前工程で得られた反応生成物（熟成後の反応溶液）を、２００℃以下の温度に加熱して乾燥しガラス化させる。加熱にあたって、特に５０〜７０℃の温度区間を注意して徐々に昇温して、予備乾燥（溶媒揮散）工程を経た後更に昇温することが好ましい。この乾燥は、膜形成の場合、無孔化膜とするために重要である。予備乾燥工程後、加熱し乾燥する温度としては、７０〜１５０℃が好ましく、８０〜１３０℃がより好ましい。
【０１５１】
（ポリシラザンを塗布する方法）
バリア層は、加熱により無機酸化物膜を形成するセラミック前駆体を塗布した後に、塗布膜の局所的加熱により形成された無機酸化物を含有することも好ましい。
【０１５２】
セラミック前駆体が、ポリシラザンを含有する場合は、下記一般式（II）で表されるポリシラザン及び有機溶剤中に必要に応じて触媒を含む溶液で樹脂基材を被覆し、そして、この溶剤を蒸発させて除去し、それによって樹脂基材上に０．０５〜３．０μｍの層厚を有するポリシラザン層を残し、そして、水蒸気を含む雰囲気中で酸素、活性酸素、場合によっては、及び窒素の存在下に、上記のポリシラザン層を、局所的加熱することによって、当該樹脂基材上にガラス様の透明な被膜を形成する方法を採用することが好ましい。
【０１５３】
一般式（II）：−（ＳｉＲ１１（Ｒ１２）−ＮＲ１３）ｎ１１−
式中、Ｒ１１、Ｒ１２、及びＲ１３は、同一か又は異なり、互いに独立して、水素或いは置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基又は（トリアルコキシシリル）アルキル基、好ましくは水素、メチル、エチル、プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、フェニル、ビニル又は３−（トリエトキシシリル）プロピル、３−（トリメトキシシリルプロピル）からなる群から選択される基を表し、この際、ｎ１１は整数であり、そしてｎ１１は、当該ポリシラザンが１５０〜１５０，０００ｇ／モルの数平均分子量を有するように定められる。
【０１５４】
触媒としては、好ましくは、塩基性触媒、特にＮ，Ｎ−ジエチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、トリエチルアミン、３−モルホリノプロピルアミン又はＮ−複素環式化合物が使用される。触媒濃度は、ポリシラザンを基準にして通常０．１〜１０モル％、好ましくは０．５〜７モル％の範囲である。
【０１５５】
好ましい態様の一つでは、Ｒ１１、Ｒ１２、及びＲ１３の全てが水素原子であるパーヒドロポリシラザンを含む溶液が使用される。
【０１５６】
更に別の好ましい態様の一つでは、本発明によるコーティングは、一般式（III）の少なくとも一種のポリシラザンを含む。
【０１５７】
一般式（III）：−（ＳｉＲ２１Ｒ２２−ＮＲ２３）ｎ２１−（ＳｉＲ２４Ｒ２５−ＮＲ２６）ｐ２１−
式中、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５及びＲ２６は、互いに独立して、水素或いは置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基又は（トリアルコキシシリル）アルキル基を表し、この際、ｎ２１及びｐ２１は整数であり、そしてｎ２１は、当該ポリシラザンが１５０〜１５０，０００ｇ／モルの数平均分子量を有するように定められる。
【０１５８】
特に好ましいものは、Ｒ２１、Ｒ２３及びＲ２６が水素を表し、そしてＲ２２、Ｒ２４及びＲ２５がメチルを表す化合物、Ｒ２１、Ｒ２３及びＲ２６が水素を表し、そしてＲ２２、Ｒ２４がメチルを表し、そしてＲ２５がビニルを表す化合物、Ｒ２１、Ｒ２３、Ｒ２４及びＲ２６が水素を表し、そしてＲ２２及びＲ２５がメチルを表す化合物である。
【０１５９】
又、一般式（IV）の少なくとも一種のポリシラザンを含む溶液も同様に好ましい。
【０１６０】
一般式（IV）：−（ＳｉＲ３１Ｒ３２−ＮＲ３３）ｎ３１−（ＳｉＲ３４Ｒ３５−ＮＲ３６）ｐ３１−（ＳｉＲ３７Ｒ３８−ＮＲ３９）ｑ３１−
式中、Ｒ３１、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ３５、Ｒ３６、Ｒ３７、Ｒ３８及びＲ３９は、互いに独立して、水素或いは置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基又は（トリアルコキシシリル）アルキル基を表し、この際、ｎ３１、ｐ３１及びｑ３１は整数であり、そしてｎ３１は、当該ポリシラザンが１５０〜１５０，０００ｇ／モルの数平均分子量を有するように定められる。
【０１６１】
特に好ましいものは、Ｒ３１、Ｒ３３及びＲ３６が水素を表し、そしてＲ３２、Ｒ３４、Ｒ３５及びＲ３８がメチルを表し、Ｒ３９が（トリエトキシシリル）プロピルを表し、そしてＲ３７がアルキル又は水素を表す化合物である。
【０１６２】
溶剤中のポリシラザンの割合は、一般的には、ポリシラザン１〜８０質量％、好ましくは５〜５０質量％、特に好ましくは１０〜４０質量％である。
【０１６３】
溶剤としては、特に、水及び反応性基（例えばヒドロキシル基又はアミン基）を含まずそしてポリシラザンに対して不活性の有機系で好ましくは非プロトン性の溶剤が好適である。これは、例えば、脂肪族又は芳香族炭化水素、ハロゲン炭化水素、エステル、例えば酢酸エチル又は酢酸ブチル、ケトン、例えばアセトン又はメチルエチルケトン、エーテル、例えばテトラヒドロフラン又はジブチルエーテル、並びにモノ−及びポリアルキレングリコールジアルキルエーテル（ジグライム類）又はこれらの溶剤からなる混合物である。
【０１６４】
上記ポリシラザン溶液の追加の成分は、塗料の製造に慣用されているもののような更に別のバインダーであることができる。これは、例えば、セルロースエーテル及びセルロースエステル、例えばエチルセルロース、ニトロセルロース、セルロースアセテート又はセルロースアセトブチレート、天然樹脂、例えばゴムもしくはロジン樹脂、又は合成樹脂、例えば重合樹脂もしくは縮合樹脂、例えばアミノプラスト、特に尿素樹脂及びメラミンホルムアルデヒド樹脂、アルキド樹脂、アクリル樹脂、ポリエステルもしくは変性ポリエステル、エポキシド、ポリイソシアネートもしくはブロック化ポリイソシアネート、又はポリシロキサンである。
【０１６５】
ポリシラザン調合物の更に別の成分は、例えば、調合物の粘度、下地の濡れ、成膜性、潤滑作用又は排気性に影響を与える添加剤、或いは無機ナノ粒子、例えばＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＺｎＯ、ＺｒＯ２又はＡｌ２Ｏ３であることができる。
【０１６６】
ポリシラザンを用いることによって、亀裂及び孔が無いためにガスに対する高いバリア作用に優れる緻密なガラス様の層を製造することができる。
【０１６７】
形成される被膜の厚さは、１００ｎｍ〜２μｍの範囲内にすることが好ましい。
【０１６８】
（傷防止層）
本発明においては、太陽熱発電用反射板の最外層として、傷防止層を設けることが好ましい。
【０１６９】
傷防止層は、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、有機シリケート化合物、シリコーン系樹脂等で構成することができる。特に、硬度と耐久性等の点で、シリコーン系樹脂やアクリル系樹脂が好ましい。更に、硬化性、可撓性及び生産性の点で、活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂、又は熱硬化型のアクリル系樹脂からなるものが好ましい。
【０１７０】
活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂又は熱硬化型のアクリル系樹脂とは、重合硬化成分として多官能アクリレート、アクリルオリゴマー或いは反応性希釈剤を含む組成物である。その他に必要に応じて光開始剤、光増感剤、熱重合開始剤或いは改質剤等を含有しているものを用いてもよい。
【０１７１】
アクリルオリゴマーとは、アクリル系樹脂骨格に反応性のアクリル基が結合されたものを始めとして、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレート等であり、又、メラミンやイソシアヌール酸等の剛直な骨格にアクリル基を結合したもの等も用いられ得る。
【０１７２】
又、反応性希釈剤とは、塗工剤の媒体として塗工工程での溶剤の機能を担うと共に、それ自体が一官能性或いは多官能性のアクリルオリゴマーと反応する基を有し、塗膜の共重合成分となるものである。
【０１７３】
市販されている多官能アクリル系硬化塗料としては、三菱レイヨン社；（商品名“ダイヤビーム”シリーズ等）、長瀬産業社；（商品名“デナコール”シリーズ等）、新中村化学社；（商品名“ＮＫエステル”シリーズ等）、ＤＩＣ社；（商品名“ＵＮＩＤＩＣ”シリーズ等）、東亞合成化学社；（商品名“アロニックス”シリーズ等）、日油社；（商品名“ブレンマー”シリーズ等）、日本化薬社；（商品名“ＫＡＹＡＲＡＤ”シリーズ等）、共栄社化学社；（商品名“ライトエステル”シリーズ、“ライトアクリレート”シリーズ等）等の製品を利用することができる。
【０１７４】
本発明において、傷防止層中には、本発明の効果が損なわれない範囲で、更に各種の添加剤を必要に応じて配合することができる。例えば、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤等の安定剤、界面活性剤、レベリング剤及び帯電防止剤等を用いることができる。
【０１７５】
レベリング剤は、特に、傷防止層を塗工する際、表面凹凸低減に効果的である。レベリング剤としては、例えば、シリコーン系レベリング剤として、ジメチルポリシロキサン−ポリオキシアルキレン共重合体（例えば、東レダウコーニング社製ＳＨ１９０）が好適である。
【０１７６】
（太陽熱発電用反射板全体の厚さ）
本発明に係る太陽熱発電用反射板全体の厚さは、たわみ防止、正反射率、取り扱い性等の観点から、０．２〜３０ｍｍが好ましく、更に好ましくは０．５〜２０ｍｍである。
【０１７７】
（太陽熱発電用反射装置）
本発明の太陽熱発電用反射板は、太陽光を集光する目的において、好ましく使用できる。本発明の太陽熱発電用反射板単体で太陽熱発電用反射装置として用いることもできるが、より好ましくは、太陽熱発電用反射板を銀反射層を有する側と反対側のフィルム基材面に塗設された粘着層を介して、保持部材に貼りつけて形成されたものであることが好ましい。特に金属基材上に、貼り付けて形成されたものであることが好ましい。
【０１７８】
太陽熱発電用反射装置として用いる場合、反射装置の形状を樋状（半円筒状）として、半円の中心部分に内部に流体を有する筒状部材を設け、筒状部材に太陽光を集光させることで内部の流体を加熱し、その熱エネルギーを変換して発電する形態が一形態として挙げられる。又、平板状の反射装置を複数個所に設置し、それぞれの反射装置で反射された太陽光を一枚の反射鏡（中央反射鏡）に集光させて、反射鏡により反射して得られた熱エネルギーを発電部で変換することで発電する形態も一形態として挙げられる。特に後者の形態においては、用いられる反射装置に高い正反射率が求められる為、本発明の太陽熱発電用反射装置が特に好適に用いられる。
【０１７９】
（粘着層）
粘着層としては、特に制限されず、例えばドライラミネート剤、ウエットラミネート剤、粘着剤、ヒートシール剤、ホットメルト剤等のいずれもが用いられる。
【０１８０】
好ましくは粘着剤が挙げられ、主成分となる樹脂としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ニトリルゴム等が用いられる。中でも好ましい粘着剤としてはアクリル系が挙げられる。具体的には、（メタ）アクリル酸エステルを主成分とし、更に少量の、官能基を有する（メタ）アクリルモノマーを含有するアクリル系単量体組成物を重合開始剤の存在下ラジカル重合してなる、ガラス転移温度（Ｔｇ）が０℃以下のアクリル系樹脂と、架橋剤とを含有するアクリル系粘着剤が挙げられる。ここで、アクリル系樹脂の主成分となる（メタ）アクリル酸エステルは、下記式：
ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ１Ｎ）ＣＯＯＲ２Ｎ
で表すことができ、式中、Ｒ１Ｎは水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２Ｎは炭素数１〜１４のアルキル基、又はアラルキル基を表し、Ｒ２Ｎのアルキル基の水素原子、又はアラルキル基の水素原子は、炭素数１〜１０のアルコキシ基によって置換されていてもよい。
【０１８１】
又、官能基を有する（メタ）アクリルモノマーは、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基等の極性官能基と、一つのオレフィン性二重結合（通常は（メタ）アクリロイル基）を分子内に含有する単量体が好ましい。
【０１８２】
アクリル系樹脂の主成分となる（メタ）アクリル酸エステルの具体例を挙げれば、例えば、Ｒ１ＮがＨであり、Ｒ２Ｎがｎ−ブチル基であるアクリル酸ブチルや、Ｒ１ＮがＨであり、Ｒ２Ｎが２−エチルヘキシル基であるアクリル酸２−エチルヘキシル等がある。又、官能基を有する（メタ）アクリルモノマーの具体例を挙げれば、例えば、水酸基を有するものとして、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル；カルボキシル基を有するものとして、アクリル酸等がある。更にこのアクリル系樹脂の製造にあたっては、分子内に複数の（メタ）アクリロイル基を有するモノマーを少量共重合させることもでき、その例として、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【０１８３】
アクリル系樹脂の製造にあたり、上記の（メタ）アクリル酸エステル及び官能基を有する（メタ）アクリルモノマーは、それぞれ一種類のみが用いられてもよいし、複数種類が併用されてもよい。又、（メタ）アクリル酸エステルと官能基を有する（メタ）アクリルモノマーとの共重合体であるアクリル系樹脂を複数種類組み合わせたり、当該共重合体であるアクリル系樹脂に、他のアクリル系樹脂、例えば官能基を有しない（メタ）アクリルモノマーの単独又は共重合体からなるアクリル系樹脂を配合したりして、アクリル系樹脂組成物としたものを粘着剤の樹脂成分として用いることもできる。
【０１８４】
アクリル系粘着剤に配合される架橋剤は、イソシアネート系化合物、エポキシ系化合物、金属キレート系化合物、アジリジン系化合物等であることができる。イソシアネート系化合物は、分子内にイソシアナト基（−ＮＣＯ）を少なくとも２個有する化合物それ自体のほか、それをポリオール等に反応させたアダクト体、その２量体、３量体等の形で用いることができる。架橋剤の具体例を挙げれば、ジイソシアネート系化合物として、ヘキサメチレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体、トリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体等があり、それぞれ酢酸エチル等の有機溶剤に溶かした溶液として用いることが多い。これらの架橋剤は、それぞれ単独で用いてもよいし、複数種類を組み合わせて用いてもよい。
【０１８５】
アクリル系粘着剤に含有されるアクリル系樹脂の重量平均分子量は、ゲルパーミエイションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いた標準ポリスチレン換算で、６０万〜２００万が好ましい。
【０１８６】
上記アクリル系樹脂は、酢酸エチル等の有機溶剤に溶解され、更に架橋剤が加えられることにより、アクリル系粘着剤溶液が得られる。又、必要に応じて、シランカップリング剤、耐候安定剤、タッキファイヤー、可塑剤、軟化剤、顔料、及び無機フィラーの一種又は二種以上、更には有機ビーズ等の光拡散性微粒子を含有させることができる。
【０１８７】
ラミネート方法は特に制限されず、例えばロール式で連続的に行うのが経済性及び生産性の点から好ましい。
【０１８８】
粘着層の厚さは、粘着効果、乾燥速度等の観点から、通常１〜５０μｍの範囲であることが好ましい。
【０１８９】
こうして得られるアクリル系粘着剤溶液は、通常、剥離フィルムの上に塗工され、６０〜１２０℃で０．５〜１０分間程度加熱して有機溶媒が留去されて、粘着剤層とされる。次いで、この粘着剤層に、前記太陽熱発電用反射板を貼合した後、例えば、温度２３℃、湿度６５％の雰囲気下、５〜２０日程度熟成させ、架橋剤を十分反応させる。
【０１９０】
上記のようなアクリル系粘着剤の原料は、市販品を容易に入手することが可能であり、例えば、各種アクリルモノマー（株式会社日本触媒製、東亞合成株式会社製）、重合開始剤である２，２′−アゾビスイソブチロニトリル等（大塚科学株式会社製、株式会社日本ファインケム製）、架橋剤であるヘキサメチレンジイソシアネート、及びそのトリメチロールプロパンアダクト体、トリレンジイソシアネート、及びそのトリメチロールプロパンアダクト体等（三井化学ポリウレタン株式会社製、住化バイエルウレタン株式会社製）が挙げられる。
【０１９１】
（保持部材）
本発明の太陽熱発電用反射装置において、太陽熱発電用反射板を保持する部材としては金属支持体を用いることが好ましく、例えば、鋼板、銅板、アルミニウム板、アルミニウムめっき鋼板、アルミニウム系合金めっき鋼板、銅めっき鋼板、錫めっき鋼板、クロムめっき鋼板、ステンレス鋼板等熱伝導率の高い金属材料を用いることができる。本発明においては、特に、耐食性の良好なめっき鋼板、ステンレス鋼板、アルミニウム板等にすることが好ましい。
【実施例】
【０１９２】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」あるいは「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量％」を表す。
【０１９３】
〔太陽熱発電用反射板の作製〕
（太陽熱発電用反射板（ＰＡ−１）の作製）
銀反射層の基材フィルムとして、ポリエチレンテレフタレート樹脂を２８０℃にてＴダイ押出機で溶融押し出しして未延伸フィルムを製造し、次に該フィルムを延伸温度１２０℃で長手方向に３．０倍延伸後、幅方向に３．５倍延伸し、厚さ３０μｍの２軸延伸ポリエステルフィルムを製造した。該ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、ポリエステル樹脂（ポリエスター  ＳＰ−１８１、日本合成化学社製）、メラミン樹脂（スーパーベッカミンＪ−８２０、ＤＩＣ社製）、ＴＤＩ系イソシアネート（２，４−トリレンジイソシアネート）、ＨＤＭＩ系イソシアネート（１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート）を固形分比率で２０：１：１：２に、固形分濃度１０質量％となるようにトルエン中に混合した塗布液を、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ１．０μｍの易接着層を形成した。更に易接着層上に、銀反射層として、真空蒸着法により厚さ８０ｎｍの銀反射層を形成し、次に銀保護層として前記銀反射層上に、ポリエステル樹脂（ポリエスター  ＳＰ−１８１、日本合成化学社製）とＴＤＩ系イソシアネートを樹脂固形分比率で１０：２に、固形分濃度２０質量％となるようにトルエン中に混合した塗布液を、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ３．０μｍの銀保護層を形成し、銀反射層を片面に有する反射フィルムを作製した。
【０１９４】
次に、硬質透明樹脂基板として、メタクリル樹脂（ガラス転移温度１０５℃）１００部、更に配合剤として、紫外線吸収剤（Ｔｉｎｕｖｉｎ２３４、ＢＡＳＦ社製）１．４部、酸化防止剤（アデカスタブＡＯ−５０、ＡＤＥＫＡ社製）０．１部、及び、光安定剤（ＬＡ−６７、ＡＤＥＫＡ社製）０．３部を、ヘンシェルミキサーを用いて混合した。この混合物を２４０℃にて二軸押出機で溶融混錬して樹脂組成物のペレットにした後、２４０℃にてＴダイ押出機で溶融押し出しして厚さ０．３ｍｍ、幅１ｍ、長さ１ｍの板状基板を製造した。
【０１９５】
次いで、幅１ｍ、長さ１ｍの前記銀反射層を有する反射フィルムと前記硬質透明樹脂基板とを銀反射層を挟む形で、ポリウレタン系樹脂からなる接着層（セイカボンドＵ−５８６、硬化剤ＵＤ−Ｃ、大日精化社製、厚み５μｍ）を介して枚葉式により積層し、この積層体を加圧ローラのニップに供給して貼り合わせることにより、本発明の太陽熱発電用反射板（ＰＡ−１）を作製した。
【０１９６】
（太陽熱発電用反射板（ＰＡ−２）の作製）
太陽熱発電用反射板（ＰＡ−１）の作製において、硬質透明樹脂基板として、厚さのみ０．５ｍｍに変えたメタクリル樹脂からなる板状基板を使用したこと以外は、太陽熱発電用反射板（ＰＡ−１）の作製と同様にして、本発明の太陽熱発電用反射板（ＰＡ−２）を作製した。
【０１９７】
（太陽熱発電用反射板（ＰＡ−３）の作製）
太陽熱発電用反射板（ＰＡ−１）の作製において、硬質透明樹脂基板として、厚さのみ５ｍｍに変えたメタクリル樹脂からなる板状基板を使用したこと以外は、太陽熱発電用反射板（ＰＡ−１）の作製と同様にして、本発明の太陽熱発電用反射板（ＰＡ−３）を作製した。
【０１９８】
（太陽熱発電用反射板（ＰＡ−４）の作製）
太陽熱発電用反射板（ＰＡ−１）の作製において、硬質透明樹脂基板として、ポリカーボネート樹脂（ガラス転移温度１６０℃）のペレットを使用し、更に配合剤として紫外線吸収剤（Ｔｉｎｕｖｉｎ２３４、ＢＡＳＦ社製）１．４部、酸化防止剤（アデカスタブＡＯ−５０、ＡＤＥＫＡ社製）０．１部、及び、光安定剤（ＬＡ−６７、ＡＤＥＫＡ社製）０．３部も同様に添加し、溶融温度を２７０℃にし、厚さを０．３ｍｍにした以外は、太陽熱発電用反射板（ＰＡ−１）の作製と同様にして、本発明の太陽熱発電用反射板（ＰＡ−４）を作製した。
【０１９９】
（太陽熱発電用反射板（ＰＡ−５）の作製）
太陽熱発電用反射板（ＰＡ−４）の作製において、硬質透明樹脂基板として、厚さのみ０．５ｍｍに変えたポリカーボネート樹脂からなる板状基板を使用したこと以外は、太陽熱発電用反射板（ＰＡ−４）の作製と同様にして、本発明の太陽熱発電用反射板（ＰＡ−５）を作製した。
【０２００】
（太陽熱発電用反射板（ＰＡ−６）の作製）
太陽熱発電用反射板（ＰＡ−４）の作製において、硬質透明樹脂基板として、厚さのみ５ｍｍに変えたポリカーボネート樹脂からなる板状基板を使用したこと以外は、太陽熱発電用反射板（ＰＡ−４）の作製と同様にして、本発明の太陽熱発電用反射板（ＰＡ−６）を作製した。
【０２０１】
（太陽熱発電用反射板（ＰＡ−７）の作製）
太陽熱発電用反射板（ＰＡ−４）の作製において、硬質透明樹脂基板として、厚さのみ１０ｍｍに変えたポリカーボネート樹脂からなる板状基板を使用したこと以外は、太陽熱発電用反射板（ＰＡ−４）の作製と同様にして、本発明の太陽熱発電用反射板（ＰＡ−７）を作製した。
【０２０２】
（太陽熱発電用反射板（ＰＡ−８）の作製）
太陽熱発電用反射板（ＰＡ−４）の作製において、硬質透明樹脂基板として、厚さのみ２０ｍｍに変えたポリカーボネート樹脂からなる板状基板を使用したこと以外は、太陽熱発電用反射板（ＰＡ−４）の作製と同様にして、本発明の太陽熱発電用反射板（ＰＡ−８）を作製した。
【０２０３】
（太陽熱発電用反射板（ＰＡ−９）の作製）
太陽熱発電用反射板（ＰＡ−１）の作製において、硬質透明樹脂基板として、ノルボルネン系樹脂（ＺＥＯＮＯＲ１４２０、日本ゼオン社製、ガラス転移温度１３５℃）のペレットを使用し、溶融温度を２４０℃にし、厚さ０．３ｍｍにした以外は、太陽熱発電用反射板（ＰＡ−１）の作製と同様にして、本発明の太陽熱発電用反射板（ＰＡ−９）を作製した。
【０２０４】
（太陽熱発電用反射板（ＰＡ−１０）の作製）
太陽熱発電用反射板（ＰＡ−９）の作製において、硬質透明樹脂基板として、厚さのみ０．５ｍｍに変えたノルボルネン系樹脂からなる板状基板を使用したこと以外は、太陽熱発電用反射板（ＰＡ−９）の作製と同様にして、本発明の太陽熱発電用反射板（ＰＡ−１０）を作製した。
【０２０５】
（太陽熱発電用反射板（ＰＡ−１１）の作製）
太陽熱発電用反射板（ＰＡ−９）の作製において、硬質透明樹脂基板として、厚さのみ５ｍｍに変えたノルボルネン系樹脂からなる板状基板を使用したこと以外は、太陽熱発電用反射板（ＰＡ−９）の作製と同様にして、本発明の太陽熱発電用反射板（ＰＡ−１１）を作製した。
【０２０６】
（太陽熱発電用反射板（ＰＡ−１２）の作製）
太陽熱発電用反射板（ＰＡ−６）の作製において、銀保護層に腐食防止剤としてブタンジオールビスチオグリコレートを塗布後に０．５ｇ／ｍ２となるよう調整した量を添加したこと以外は同様にして、本発明の太陽熱発電用反射板（ＰＡ−１２）を作製した。
【０２０７】
（太陽熱発電用反射板（ＰＡ−１３）の作製）
太陽熱発電用反射板（ＰＡ−６）の作製において、銀保護層の上に、下記真空蒸着プロセスにより、厚さ１００ｎｍの酸化ケイ素のバリア層を形成した以外は同様にして、本発明の太陽熱発電用反射板（ＰＡ−１３）を作製した。
【０２０８】
（真空蒸着法によるバリア層）
真空蒸着装置を用い、チャンバーの到達真空度が３．０×１０−５ｔｏｒｒ（４．０×１０−３Ｐａ）になるまで排気した後、酸素ガスをコーティングドラムの近傍に、チャンバー内の圧力を３．０×１０−４ｔｏｒｒ（４．０×１０−２Ｐａ）に保って導入し、蒸発源の一酸化ケイ素をピアス型電子銃により、約１０ｋＷの電力で加熱して蒸着させ、コーティングドラム上を１２０ｍ／ｍｉｎの速度で走行するポリエステルフィルム上に、厚さが１００ｎｍの酸化ケイ素のバリア層を形成した。
【０２０９】
（太陽熱発電用反射板（ＰＡ−１４）の作製）
太陽熱発電用反射板（ＰＡ−１２）の作製において、硬質透明樹脂基板として積層したポリカーボネート樹脂からなる基板の最上面（銀反射層を有するフィルムと貼合した面とは反対側）に下記傷防止層（ハードコート層）を塗布したこと以外は同様にして、本発明の太陽熱発電用反射板（ＰＡ−１４）を作製した。
【０２１０】
（傷防止層）
塗布液として下記組成の傷防止層用塗布液を調製し、前記ポリカーボネート樹脂からなる基板の最上面に、硬化後の膜厚が５μｍとなるようにマイクログラビアコーターを用いて塗布し、溶剤を蒸発乾燥後、高圧水銀灯を用いて０．２Ｊ／ｃｍ２の紫外線照射により硬化させハードコート層を作製した。
【０２１１】
〈傷防止層用塗布液〉
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                          ７０質量部
トリメチロールプロパントリアクリレート                            ３０質量部
光反応開始剤（イルガキュア１８４、ＢＡＳＦ社製）                    ４質量部
酢酸エチル                                                      １５０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                          １５０質量部
シリコーン化合物（ＢＹＫ−３０７、ビックケミージャパン社製）    ０．４質量部
紫外線吸収剤（チヌビン４００、ＢＡＳＦ社製）                        ５質量部
（太陽熱発電用反射板（ＰＡ−１５）の作製）
太陽熱発電用反射板（ＰＡ−５）の作製において、銀反射層上に銀保護層を形成しなかったこと以外は、太陽熱発電用反射板（ＰＡ−５）の作製と同様にして、本発明の太陽熱発電用反射板（ＰＡ−１５）を作製した。
【０２１２】
（太陽熱発電用反射板（ＰＡ−１６）の作製）
太陽熱発電用反射板（ＰＡ−６）の作製において、銀反射層上に銀保護層を形成しなかったこと以外は、太陽熱発電用反射板（ＰＡ−６）の作製と同様にして、本発明の太陽熱発電用反射板（ＰＡ−１６）を作製した。
【０２１３】
（太陽熱発電用反射板（ＰＡ−１７）の作製）
太陽熱発電用反射板（ＰＡ−５）の作製において、接着層をポリエステル系樹脂からなる接着層（ＴＭ−５５０  東洋モートン社製、厚み５μｍ）にしたこと以外は、太陽熱発電用反射板（ＰＡ−５）の作製と同様にして、本発明の太陽熱発電用反射フィルム（ＰＡ−１７）を作製した。
【０２１４】
（太陽熱発電用反射フィルム（ＰＡ−１８）の作製）
太陽熱発電用反射板（ＰＡ−５）の作製において、接着層をアクリル系樹脂からなる接着層（Ｙ−６２０  セメダイン社製、厚み５μｍ）にしたこと以外は、太陽熱発電用反射板（ＰＡ−５）の作製と同様にして、太陽熱発電用反射フィルム（ＰＡ−１８）を作製した。
【０２１５】
なお、以上用いた硬質透明樹脂基板の、波長３８０ｎｍ〜７００ｎｍの平均透過率はすべて８５％以上であった。
【０２１６】
（比較の太陽熱発電用反射板（ＨＰＡ−１）の作製）
特開２００５−５９３８２号公報の実施例１と同様にして、厚さ１．０ｍｍのＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）シートと、厚さ０．０５ｍｍの金属化シート上にアルミニウムを蒸着したシートを熱圧着で積層し、比較の太陽熱発電用反射板（ＨＰＡ−１）を作製した。
【０２１７】
（比較の太陽熱発電用反射フィルム（ＨＰＡ−２）の作製）
特表２００９−５２０１７４号公報の図１の構成と同様にして、下層から０．０２５ｍｍの感圧接着剤層、銀層、０．０２５ｍｍのポリエステルフィルム層、ポリウレタン系接着剤層、０．０７５ｍｍのＵＶ遮蔽アクリルフィルム層の構成で積層された比較の太陽熱発電用反射フィルム（ＨＰＡ−２）を作製した。
【０２１８】
（比較の太陽熱発電用反射フィルム（ＨＰＡ−３）の作製）
太陽熱発電用反射板（ＰＡ−１）の比較として、太陽熱発電用反射板（ＰＡ−１）の作製において、硬質透明樹脂基板の代わりに、厚さ０．２ｍｍの軟質のアクリル樹脂フィルムを製造し、使用したこと以外は、太陽熱発電用反射板（ＰＡ−１）の作製と同様にして、比較の太陽熱発電用反射フィルム（ＨＰＡ−３）を作製した。
【０２１９】
（比較の太陽熱発電用反射フィルム（ＨＰＡ−４）の作製）
太陽熱発電用反射板（ＰＡ−１）の比較として、太陽熱発電用反射板（ＰＡ−４）の作製において、硬質透明樹脂基板の代わりに、厚さ０．２ｍｍの軟質のポリカーボネート樹脂フィルムを製造し、使用したこと以外は、太陽熱発電用反射板（ＰＡ−４）の作製と同様にして、比較の太陽熱発電用反射フィルム（ＨＰＡ−４）を作製した。
【０２２０】
（比較の太陽熱発電用反射フィルム（ＨＰＡ−５）の作製）
太陽熱発電用反射板（ＰＡ−１）の比較として、太陽熱発電用反射板（ＰＡ−９）の作製において、硬質透明樹脂基板の代わりに、厚さ０．２ｍｍの軟質のノルボルネン系樹脂フィルムを製造し、使用したこと以外は、太陽熱発電用反射板（ＰＡ−９）の作製と同様にして、比較の太陽熱発電用反射フィルム（ＨＰＡ−５）を作製した。
【０２２１】
〔太陽熱発電用反射装置の作製〕
（太陽熱発電用反射装置１〜１８、Ｈ１〜Ｈ５の作製）
シリコン系剥離シートにアクリル系粘着剤（ＢＰＳ−５２９６、硬化剤ＢＸＸ４７７３  東洋インキ社製）を乾燥後の厚さが２５μｍとなるように塗布した後、１００℃で２分間乾燥後、この粘着層シートを前記、作製した太陽熱発電用反射板（ＰＡ−１）〜（ＰＡ−１８）、比較の太陽熱発電用反射板又はフィルム（ＨＰＡ−１）〜（ＨＰＡ−５）の各々について、太陽熱発電用反射板のポリエチレンテレフタレートフィルム側の面（銀反射層と反対側）に貼合し、粘着層を形成した。これを、厚さ０．１ｍｍ、幅１ｍ、長さ１ｍのアルミ板の保持部材と前記作製した太陽熱発電用反射板又はフィルムの粘着層を介して貼り合せて、それぞれ太陽熱発電用反射装置１〜１８、比較の太陽熱発電用反射装置Ｈ１〜Ｈ５を作製した。
【０２２２】
〔太陽熱発電用反射装置の評価〕
上記作製した太陽熱発電用反射板、及び比較の太陽熱発電用反射フィルム、及び太陽熱発電用反射装置について、下記の方法により、曲げ剛性、初期正反射率、及び耐候性、耐光性、耐久試験後の反射面の歪み、耐塩水性、及び鉛筆硬度の評価を行った。
【０２２３】
（曲げ剛性）
アルミ板に貼り合わせる前の太陽熱発電用反射板、及び比較の太陽熱発電用反射フィルムについて「合板の日本農林規格」におけるコンクリート型枠用合板の規格の曲げ剛性試験に準じて測定を行いヤング係数と断面ニ次モーメントとの積から曲げ剛性の値を算出した。
【０２２４】
（初期正反射率）
島津製作所社製の分光光度計「ＵＶ２６５」に、積分球反射付属装置を取り付けたものを改造し、反射面の法線に対して、入射光の入射角を５度となるように調整し、反射角５度の初期正反射率を測定した。評価は、３５０ｎｍから７００ｎｍまでの平均反射率として測定した。
【０２２５】
（耐候性）
耐候性の強制劣化条件として８５℃、８５％ＲＨの条件で１５００時間放置後の正反射率を、上記初期正反射率測定と同様の方法により測定し、強制劣化前の正反射率と強制劣化後の正反射率から、強制劣化による正反射率の低下率を算出し、耐候性を下記基準で評価した。
【０２２６】
５：正反射率の低下率が５％未満
４：正反射率の低下率が５％以上１０％未満
３：正反射率の低下率が１０％以上１５％未満
２：正反射率の低下率が１５％以上２０％未満
１：正反射率の低下率が２０％以上
（耐光性）
岩崎電気製アイスーパーＵＶテスターを用いて、６０℃、６０％ＲＨの条件で３００時間紫外線照射を行った後、上記方法により正反射率を測定し、紫外線照射前後における正反射率の低下率を算出し、耐光性を下記基準で評価した。
【０２２７】
５：正反射率の低下率が５％未満
４：正反射率の低下率が５％以上１０％未満
３：正反射率の低下率が１０％以上１５％未満
２：正反射率の低下率が１５％以上２０％未満
１：正反射率の低下率が２０％以上
（耐久試験後の反射面の歪み）
前記、耐候性試験後、及び耐光性試験後の各サンプルを用いて、約６０度の角度で映り込ませた蛍光灯像の歪みを目視観察して、反射面の歪みを下記基準で評価した。
【０２２８】
５：両試験後のサンプルには、いずれも歪みは認められなかった
４：両試験後のいずれか一方のサンプルで若干の歪みが認められた
３：両試験後のサンプルには、いずれも若干の歪みが認められた
２：両試験後のいずれか一方のサンプルで明らかな歪み認められた
１：両試験後のサンプルには、いずれも明らかな歪みが認められた
（耐塩水性）
温度２５℃で塩水（ｐＨ；５．６〜７．０）を２時間噴霧して、６０℃で２４時間放置することを１サイクルとし、１０サイクル行って耐塩水性を下記の基準で評価した。
【０２２９】
５：正反射率の低下率が５％未満
４：正反射率の低下率が５％以上１０％未満
３：正反射率の低下率が１０％以上１５％未満
２：正反射率の低下率が１５％以上２０％未満
１：正反射率の低下率が２０％以上
（鉛筆硬度）
ＪＩＳ−Ｋ５４００に基づいて、各サンプルの４５度傾斜、１ｋｇ荷重における鉛筆硬度を測定した。
【０２３０】
以上の評価結果を試料の主な構成と共に表１に示す。なお、表中曲げ剛性は、太陽熱発電用反射装置に用いた太陽熱反射板の測定値を表す。また、銀保護層の○は銀保護層が設けられたことを示し、−は銀保護層または接着層が設けられていないことを示す。
【０２３１】
【表１】
2012108221.tif 000002
【０２３２】
表１から明らかなように、本発明の太陽熱発電用反射板を用いた太陽熱発電用反射装置の各種特性は、比較例に対して優れていることが分かる。すなわち、比較例において、過酷な環境下で長期間試験された場合、耐候性、耐光性及び耐塩水性が大幅に低下しているのに対し、本発明では、良好であり、優れた耐久性があることが分かった。更に耐候性、又は耐光性に改良効果がある層又は添加剤が含有された場合、非常に優れた耐久性を示すことが分かった。つまり本発明では、軽量且つ安全で、製造コストを抑えて設置することができ、しかも耐久性に優れ、太陽光に対して良好な正反射率を有する太陽熱発電用反射板、その製造方法及びその太陽熱発電用反射板を用いた太陽熱発電用反射装置を提供できることが分かった。
【符号の説明】
【０２３３】
１０  硬質透明樹脂基板
２０  接着層
３０  銀保護層
４０  銀反射層
５０  フィルム基材
６０  粘着層
７０  保持部材
８０  太陽光
【図１】
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【図２】
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