(57)【要約】【課題】導体チップを搭載する基板の結晶欠陥を抑制すると共に、製造時間を短縮した半導体装置の製造方法を提供すること。【解決手段】本実施形態に係る半導体装置１０１（その製造方法）では、基板（例えば第１半導体チップ１０）上に第１絶縁膜１４を形成する工程と、第１絶縁膜１４に開口部１４Ｂを形成する工程と、第１絶縁膜１４の開口部内に第２半導体チップ１２を搭載する工程と、第２半導体チップ１２上と第１絶縁膜１４上とに跨いで、第２絶縁膜１６を形成する工程と、を経た後、この状態で、第２絶縁膜１６上に、配線構造２６を形成する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に第１絶縁膜を形成する工程と、
前記第１絶縁膜に開口部を形成する工程と、
前記第１絶縁膜の前記開口部内に半導体チップを搭載する工程と、
前記半導体チップ上と前記第１絶縁膜上とに跨いで、第２絶縁膜を形成する工程と、
前記第２絶縁膜上に、前記半導体チップと電気的に接続される配線構造を形成する工程と、
を少なくとも有する半導体装置の製造方法。
【請求項２】
前記第１絶縁膜に開口部を形成する工程において、前記開口部の大きさが前記半導体チップのチップサイズよりも大きくなるように、前記開口部を形成し、
前記第２絶縁膜を形成する工程において、第１絶縁膜の開口部を構成する壁面と前記半導体チップの側面との間隙に埋まり込ませるようにして、第２絶縁膜を形成する請求項１に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項３】
前記開口部を形成する工程が、前記基板の表面が露出するように、前記第１絶縁膜に開口部を形成する工程である請求項１又は２に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項４】
前記配線構造を形成する工程が、前記基板の半導体チップが搭載された面側を重力方向に向けた状態で、めっき処理により、前記第２絶縁膜上に配線を形成する工程を含む請求項１〜３のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項５】
前記第１絶縁膜及び第２絶縁膜が、感光性のポリイミド樹脂膜である請求項１〜４のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項６】
基板と、
前記基板上に設けられた第１絶縁膜であって、開口部を有する第１絶縁膜と、
前記第１絶縁膜の前記開口部内に搭載された半導体チップと、
前記半導体チップ上と前記第１絶縁膜上とに跨いで設けられた第２絶縁膜と、
前記第２絶縁膜上に設けられ、前記半導体チップと電気的に接続される配線構造と、
を少なくとも備える半導体装置。
【請求項７】
前記第１絶縁膜の開口部の大きさが、前記半導体チップのチップサイズよりも大きく、
前記第２絶縁膜が、前記第１絶縁膜の開口部を構成する壁面と前記半導体チップの側面との間隙に埋まり込んで設けられている請求項６に記載の半導体装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体装置の製造方法、及び半導体装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、例えば、マルチチップＷＣＳＰ（Ｗａｆｅｒ  Ｌｅｖｅｌ  Ｃｈｉｐ  Ｓｉｚｅ  Ｐａｃｋａｇｅ）等と呼ばれる半導体装置は、基板に半導体チップを固定した後、配線構造を形成して、作製している。
【０００３】
この基板に対する半導体チップの固定方法としては、フィルムによって半導体チップを貼り付けて固定する方法が知られている（特許文献１〜４等参照）。
また、他の固定方法としては、基板をエッチングした後、フィルムによって半導体チップを貼り付けて固定する方法も知られている（特許文献５等参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００７−１０３７１４号公報
【特許文献２】特開２００７−１０３７１５号公報
【特許文献３】特開２００７−１０３７１６号公報
【特許文献４】特開２００７−１０３７１４号公報
【特許文献５】特開２００４−１８６４９７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、従来の半導体チップの固定方法では、フィルムによる貼り付けにより半導体チップを基板に固定していることから、長時間の熱処理が必要である上、フィルムを半導体チップ毎に貼り合わせる必要があり、製造時間の多大な増加を招いているのが現状である。
また、半導体チップを基板に固定する際に、基板にエッチングを施すと、さらなる製造時間の増加と共に、基板の結晶欠陥を招く可能性が高くなってしまう。
【０００６】
そこで、半発明の課題は、半導体チップを搭載する基板の結晶欠陥を抑制すると共に、製造時間を短縮した半導体装置の製造方法を提供することである。
また、本発明の課題は、半導体チップを搭載する基板の結晶欠陥が抑制された半導体装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題は、以下の手段により解決される。即ち、
本発明の半導体装置の製造方法は、
基板上に第１絶縁膜を形成する工程と、
前記第１絶縁膜に開口部を形成する工程と、
前記第１絶縁膜の前記開口部内に半導体チップを搭載する工程と、
前記半導体チップ上と前記第１絶縁膜上とに跨いで、第２絶縁膜を形成する工程と、
前記第２絶縁膜上に、前記半導体チップと電気的に接続される配線構造を形成する工程と、
を少なくとも有する半導体装置の製造方法である８。
【０００８】
本発明の半導体装置は、
基板と、
前記基板上に設けられた第１絶縁膜であって、開口部を有する第１絶縁膜と、
前記第１絶縁膜の前記開口部内に搭載された半導体チップと、
前記半導体チップ上と前記第１絶縁膜上とに跨いで設けられた第２絶縁膜と、
前記第２絶縁膜上に設けられ、前記半導体チップと電気的に接続される配線構造と、
を少なくとも備える半導体装置である。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、導体チップを搭載する基板の結晶欠陥を抑制すると共に、製造時間を短縮した半導体装置の製造方法を提供することができる。
本発明によれば、半導体チップを搭載する基板の結晶欠陥が抑制された半導体装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本実施形態に係る半導体装置を示す概略断面図である。
【図２】本実施形態に係る半導体装置の製造方法を示す工程図である。
【図３】本実施形態に係る半導体装置の製造方法を示す工程図である。
【図４】本実施形態に係る半導体装置の製造方法において、第１絶縁膜の開口部内に半導体チップを搭載した様子を示す平面図である。
【図５】本実施形態に係る半導体装置の製造方法において、配線を形成するためのめっき処理を行う様子を示す模式図である。
【図６】他の本実施形態に係る半導体装置を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明の一例である実施形態について図面を参照しつつ説明する。
【００１２】
図１は、本実施形態に係る半導体装置を示す概略断面図である。
【００１３】
本実施形態に係る半導体装置１０１は、例えば、図１に示すように、第１半導体チップ１０と、第１半導体チップ１０上に搭載される第２半導体チップ１２と、を備えている。
第１半導体チップ１０は、例えば、集積回路（図示せず）が設けられており、これと電気的に接続されるパッド電極１０Ａが主面に設けられている。そして、第１半導体チップ１０の主面には、例えば、パッド電極１０Ａが露出するように、保護膜（不図示）が設けられている。
第２半導体チップ１２も、同様に、例えば、集積回路（図示せず）が設けられており、これと電気的に接続されるパッド電極１２Ａが主面に設けられている。そして、第２半導体チップ１２の主面には、例えば、パッド電極１２Ａが露出するように、保護膜（不図示）が設けられている。
【００１４】
そして、本実施形態に係る半導体装置１０１は、第１半導体チップ１０と、第１半導体チップ１０上に設けられた第１絶縁膜１４であって、開口部１４Ｂを有する第１絶縁膜１４と、第１絶縁膜１４の開口部１４Ｂ内に搭載された第２半導体チップ１２と、第２半導体チップ１２上及び第１絶縁膜１４上に跨いで設けられた第２絶縁膜１６と、を備えている。
第１絶縁膜１４の開口部１４Ｂは、その開口の大きさが搭載する第２半導体チップ１２のチップサイズよりも大きく設けられている。そして、第２絶縁膜１６は、第１絶縁膜１４の開口部１４Ｂを構成する壁面と第２半導体チップ１２の側面との間隙に埋まり込ませるようにして設けられている。
【００１５】
第２絶縁膜１６上には、第１半導体チップ１０と共に、第２半導体チップ１２と電気的に接続する配線構造２６を備えている。
配線構造２６は、第１絶縁膜１４及び第２絶縁膜１６に設けられたコンタクトホール１４Ａを通じて、第１半導体チップ１０のパッド電極１０Ａと電気的に接続される配線１８Ａと、配線１８Ａの一部上に設けられ、配線１８Ａの一部と電気的な接続されるポスト電極２０Ａと、を有してる。
また、配線構造２６は、第２絶縁膜１６に設けられたコンタクトホール１６Ａを通じて、第２半導体チップ１２のパッド電極１２Ａと電気的に接続される配線１８Ｂと、配線１８Ｂの一部上に設けられ、配線１８Ｂの一部と電気的な接続されるポスト電極２０Ｂと、を有してる。
そして、配線１８Ａ及び配線１８Ｂは、第２絶縁膜１６と層間絶縁膜２２との間に介在して設けられている。ポスト電極２０Ａ及びポスト電極２０Ｂは、層間絶縁膜２２に覆われつつ、頂面が層間絶縁膜２２から露出するようにして設けられている。
【００１６】
配線構造２６（その配線）には、電気的に接続された外部接続端子２４Ａ及び外部接続端子２４Ｂが設けられている。
具体的には、外部接続端子２４Ａは、例えば、配線構造２６のポスト電極２０Ａの頂面上に設けられている。これにより、外部接続端子２４Ａは、配線構造２６の配線１８Ａ及びポスト電極２０Ａを通じて、第１半導体チップ１０のパッド電極１０Ａと電気的な接続が図られている。
一方、外部接続端子２４Ｂは、例えば、配線構造２６のポスト電極２０Ｂの頂面上に設けられている。これにより、外部接続端子２４Ｂは、配線構造２６の配線１８Ｂ及びポスト電極２０Ｂを通じて、第２半導体チップ１２のパッド電極１２Ａと電気的な接続が図られている。
【００１７】
以下、本実施形態に係る半導体装置１０１の詳細と共に、本実施形態に係る半導体装置１０１の製造方法について説明する。
図２〜図３は、本実施形態に係る半導体装置の製造方法を示す工程図である。
【００１８】
本実施形態に係る半導体装置１０１の製造方法では、まず、図２（Ａ）に示すように、個片化により第１半導体チップ１０となるように、複数の第１半導体チップ毎にパッド電極１０Ａや集積回路等が集積されたウエハ１０Ｂを準備する。
【００１９】
次に、図２（Ｂ）に示すように、ウエハ１０Ｂ上に第１絶縁膜１４を形成する。
具体的には、例えば、第１絶縁膜１４の材料種に応じて、スピンコート法、印刷法、ＣＶＤ（化学気相成長）法、スパッタリング法等を利用して、第１絶縁膜１４をウエハ１０Ｂ上に形成する。
【００２０】
第１絶縁膜１４としては、樹脂膜（例えばポリイミド樹脂、シリコーン変性ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、ＢＣＢ樹脂、ＰＢＯ樹脂等）、無機膜（例えば、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜）のいずれでもよいが、成膜容易性、加工性（開口形成容易性）の観点から、感光性の樹脂膜であることがよい。
特に、汎用性、加工性の観点から、第１絶縁膜１４としては、ポリイミド樹脂膜（特に、感光性のポリイミド樹脂膜）であることがよい。
【００２１】
第１絶縁膜１４は、第２半導体チップ１２の厚み同等に形成してもよいし、第２半導体チップ１２よりも薄くても、厚く形成してもよい。本実施形態では、第１絶縁膜１４を、第２半導体チップ１２の厚みと同等の厚みで形成した形態を示している。
なお、第１絶縁膜１４は、第２半導体チップ１２のハンドリング性（後述する第１絶縁膜１４の開口部１４Ｂ内に第２半導体チップ１２を搭載するときの搬送性）の観点から、第２半導体チップ１２よりも薄く形成することがよい。
【００２２】
次に、図２（Ｃ）に示すように、第１絶縁膜１４に開口部１４Ｂを形成する。
具体的には、例えば、第１絶縁膜１４の材料種に応じて、リソグラフィー法、ドライエッチング法を利用して、第１絶縁膜１４に開口部１４Ｂを形成する。
【００２３】
開口部１４Ｂは、例えば、第２半導体チップ１２と同形状（第２半導体チップ１２主面側からみた形状が同形状）で、第２半導体チップ１２の大きさ（チップサイズ）よりも一回り大きくして、第１絶縁膜１４に形成する（図４参照）。
そして、開口部１４Ｂは、例えば、ウエハ１０Ｂ（第１半導体チップ１０）の表面を露出するようにして、つまり、第１絶縁膜１４を貫通し、ウエハ１０Ｂ（第１半導体チップ１０）の表面に到達するようにしてするようにして形成する。
【００２４】
なお、開口部１４Ｂは、第１絶縁膜１４を貫通して形成する形態を示すが、非貫通の開口部であってもよい。つまり、開口部１４Ｂは、ウエハ１０Ｂ（第１半導体チップ１０）の表面（主面）が露出しないように、第１絶縁膜１４に凹部状に設けてもよい。この場合の開口部１４Ｂの深さも、第２半導体チップ１２の厚みと同等であってもよいし、第２半導体チップ１２の厚みよりも浅くても、深くてもよい。
但し、開口部１４Ｂは、第２半導体チップ１２のハンドリング性（後述する第１絶縁膜１４の開口部１４Ｂ内に第２半導体チップ１２を搭載するときの搬送性）の観点から、第２半導体チップ１２よりも浅く形成することがよい。
【００２５】
次に、図２（Ｄ）に示すように、第１絶縁膜１４の開口部１４Ｂ内に第２半導体チップ１２を搭載する。
具体的には、例えば、パッド電極１２Ａが設けられた主面とは反対側の面をウエハ１０Ｂ（第１半導体チップ１０）と対向するようにして、第１絶縁膜１４の開口部１４Ｂ内に第２半導体チップ１２を搭載する（図４参照）。
【００２６】
次に、図３（Ｅ）に示すように、第２半導体チップ１２上と第１絶縁膜１４上とに跨いで、第２絶縁膜１６を形成する。
具体的には、例えば、第２絶縁膜１６の材料種に応じて、スピンコート法、印刷法、ＣＶＤ（化学気相成長）法、スパッタリング法等を利用して、第２絶縁膜１６を形成する。
【００２７】
第２絶縁膜１６は、例えば、第２半導体チップ１２及び第１絶縁膜１４を覆うと共に、第１絶縁膜１４の開口部１４Ｂを構成する壁面と第２半導体チップ１２の側面との間隙に埋め込まれるようにして形成する。
【００２８】
第２絶縁膜１６としては、樹脂膜（例えばポリイミド樹脂、シリコーン変性ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、ＢＣＢ樹脂、ＰＢＯ樹脂等）、無機膜（例えば、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜）のいずれでもよいが、成膜容易性、加工性（開口形成容易性）の観点から、感光性の樹脂膜であることがよい。
特に、汎用性、加工性の観点から、第２絶縁膜１６としては、ポリイミド樹脂膜（特に、感光性のポリイミド樹脂膜）であることがよい。
【００２９】
次に、図３（Ｆ）に示すように、第２絶縁膜上に、第１半導体チップ１０と共に、第２半導体チップ１２と電気的に接続する配線構造２６を形成する。
【００３０】
具体的には、例えば、まず、第１絶縁膜１４及び第２絶縁膜１６の材料種に応じて、フォリソグラフィー法、ドライエッチング法を利用して、第１半導体チップ１０のパッド電極１０Ａと電気的な接続を図るためのコンタクトを取るコンタクトホール１４Ａを第１絶縁膜１４及び第２絶縁膜１６に形成する。
同様に、例えば、フォリソグラフィー法、ドライエッチング法を利用して、第２半導体チップ１２のパッド電極１２Ａと電気的な接続を図るためのコンタクトを取るコンタクトホール１６Ａを第２絶縁膜１６に形成する。
【００３１】
次に、例えば、めっき法を利用して、コンタクトホール１４Ａを埋め込むようにして、ウエハ１０Ｂ（第１半導体チップ１０）のパッド電極１０Ａと電気的な接続を図りつつ、第１絶縁膜１４上に配線１８Ａ（例えばタングステン（Ｗ）、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）等の層）を形成する。
同様に、例えば、めっき法を利用して、コンタクトホール１６Ａを埋め込むようにして、第２半導体チップ１２のパッド電極１２Ａと電気的な接続を図りつつ、第２絶縁膜１６上に配線１８Ｂ（例えばタングステン（Ｗ）、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）等の層）を形成する。
なお、配線１８Ａ及び配線１８Ｂは、各コンタクトホールを完全に埋め込む必要はなく、各コンタクトホールの底部で各パッド電極との電気的接続が図れるように形成すればよい。
【００３２】
ここで、配線１８Ａ及び配線１８Ｂは、例えば、ウエハ１０Ｂ（第１半導体チップ１０）の第２半導体チップ１２が搭載された面側を重力方向に向けた状態で、めっき処理により形成する。
つまり、配線１８Ａ及び配線１８Ｂは、例えば、ウエハ１０Ｂ（第１半導体チップ１０）の第２半導体チップ１２が搭載された面側を重力方向に向けた状態で、ウエハ１０Ｂ（第１半導体チップ１０）に形成した第１絶縁膜１４及び第２絶縁膜１６をめっき液２８に浸して、めっき処理を行って形成する（図５参照）。
なお、本めっき処理は、ウエハ１０Ｂ（第１半導体チップ１０）の第２半導体チップ１２が搭載された面側を重力方向と反対方向（上方）に向けた状態で行ってもよい。
【００３３】
なお、図示しないが、第２絶縁膜１６上の少なくとも配線１８Ａ及び配線１８Ｂ形成領域、各コンタクトホールを構成する壁面、及び当該各コンタクトホールから露出する各パッド電極には、めっき処理前に、スパッタリング法等を利用して、配線１８Ａ及び配線１８Ｂのめっき成長を促進するためのシード膜（例えばＴｉ／Ｎ膜、Ｔｉ／Ｃｕ膜等）を形成することがよい。
【００３４】
次に、例えば、めっき法、スパッタリング法等を利用して、配線１８Ａの一部と電気的な接続を図りつつ、ポスト電極２０Ａ（例えばタングステン（Ｗ）、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）等で構成された柱状電極）を形成する。
同様に、例えば、めっき法、スパッタリング法等を利用して、配線１８Ｂの一部と電気的な接続を図りつつ、ポスト電極２０Ｂ（例えばタングステン（Ｗ）、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）等で構成された柱状電極）を形成する。
【００３５】
次に、例えば、層間絶縁膜２２の材料種に応じて、スピンコート法、印刷法、ＣＶＤ（化学気相成長）法、スパッタリング法等を利用して、第２絶縁膜１６上に、配線１８Ａ及び配線１８Ｂとポスト電極２０Ａ及びポスト電極２０Ｂを覆うようにして、層間絶縁膜２２を形成する。そして、必要に応じて、ポスト電極２０Ａ及びポスト電極２０Ｂの頂面が露出するように、層間絶縁膜２２の表面に対して切削処理を施す。
【００３６】
このようにして、配線１８Ａ、配線１８Ｂ、ポスト電極２０Ａ、ポスト電極２０Ｂ、層間絶縁膜２２を順次形成して、配線構造２６を第２絶縁膜１６上に形成する。
なお、配線構造２６は、これら構造に限られず、多層配線構造等の周知の配線構造であってもよい。
【００３７】
次に、図３（Ｇ）に示すように、例えば、配線構造２６上に外部接続端子２４Ａ及び外部接続端子２４Ｂを形成する。
具体的には、ハンダボール、ハンダペーストの半田付けにより、配線構造２６のポスト電極２０Ａ及びポスト電極２０Ｂの頂面（層間絶縁膜２２から露出した面）に、それぞれ外部接続端子２４Ａ及び外部接続端子２４Ｂを形成する。これにより、配線構造２６の配線及びポスト電極を通じて、各半導体チップとの電気的な接続が図られる。
【００３８】
その後、例えば、必要に応じて、バックグラインダーによりウエハ１０Ｂを薄膜化した後、ダイシングにより個片化を行う。
【００３９】
以上の構成を経て、本実施形態に係る半導体装置１０１が製造される。
【００４０】
以上説明した本実施形態に係る半導体装置１０１（その製造方法）では、半導体チップ（本実施形態では第２半導体チップ１２）を搭載する基板としてのウエハ１０Ｂ（第１半導体チップ１０）上に第１絶縁膜１４を形成する工程と、第１絶縁膜１４に開口部１４Ｂを形成する工程と、第１絶縁膜１４の開口部内に第２半導体チップ１２を搭載する工程と、第２半導体チップ１２上と第１絶縁膜１４上とに跨いで、第２絶縁膜１６を形成する工程と、を経る作製されることにより、ウエハ１０Ｂ（第１半導体チップ１０）上に設けられた第１絶縁膜１４の開口部１４Ｂ内に第２半導体チップ１２が搭載された状態で、第２絶縁膜１６により固定化されている。
そして、この状態で、第２絶縁膜１６上に、配線構造２６を形成している。
このため、第２半導体チップ１２は、粘着フィルムを使用したり、ウエハ１０Ｂ（第１半導体チップ１０）をエッチングすることなく、ウエハ１０Ｂ（第１半導体チップ１０）に固定化することができる。
【００４１】
よって、本実施形態に係る半導体装置１０１（その製造方法）では、半導体チップ（本実施形態では第２半導体チップ１２）を搭載する基板（本実施形態では第１半導体チップ１０）の結晶欠陥を抑制すると共に、製造時間を短縮して、半導体装置１０１が得られる。
特に、第１半導体チップ１０上に第２半導体チップ１２が搭載されたＷＣＳＰを製造するにあたって、第２半導体チップ１２を第１半導体チップ１０に搭載する際の位置合わせ部を製造工程の大幅な増加を伴うことなくなる。
また、得られる半導体装置１０１は、第１半導体チップ１０に対してエッチングが施されていないことから、半導体チップを搭載する第１半導体チップ１０の結晶欠陥が抑制されている。これは、第２半導体チップ１２を粘着フィルムを使用したり、ウエハ１０Ｂ（第１半導体チップ１０）のエッチングを行うと、ウエハ１０Ｂ（第１半導体チップ１０）に負荷があっかり、結晶欠陥が発生する確率が上昇するが、本実施形態では、これら処理を行わず、ウエハ１０Ｂ（第１半導体チップ１０）に負荷がかかり難いためである。
【００４２】
本実施形態に係る半導体装置１０１（その製造方法）では、第１絶縁膜１４の開口部１４Ｂを第２半導体チップ１２のチップサイズよりも大きく形成し、第１絶縁膜１４の開口部１４Ｂを構成する壁面と第２半導体チップ１２の側面との間隙に埋まり込ませるようにして、第２絶縁膜１６を形成している。
【００４３】
本実施形態に係る半導体装置１０１（その製造方法）では、第１半導体チップ１０の表面が露出するように、第１絶縁膜１４に開口部１４Ｂを形成している。
このため、第２半導体チップ１２は、平面性に優れた第１半導体チップ１０の表面上に搭載されることから、第１半導体チップ１０の表面に対して、傾きなく第２半導体チップ１２が搭載され、接続不良等の不具合の発生が抑制される。
また、第１絶縁膜１４を必要以上に厚膜化する必要ななくなるという利点もある。
【００４４】
本実施形態に係る半導体装置１０１（その製造方法）では、配線構造２６を形成する際、例えば、第１半導体チップ１０の第２半導体チップ１２が搭載された面側を重力方向に向けた状態で、配線１８Ａ及び配線１８Ｂをめっき処理により形成している。
本状態でめっき処理を行っても、第２半導体チップ１２は第２絶縁膜１６により固定化されていることから、第２半導体チップ１２の落下、位置ズレが生じない。
また、第２半導体チップ１２は第２絶縁膜１６により固定化されていると、本めっき処理の他、例えば、第２絶縁膜１６にコンタクトホール１６Ａを形成する際、コンタクトホール１６Ａと第２半導体チップ１２（そのパッド電極１２Ａ）とのズレが生じることを抑制したり、第２絶縁膜１６形成後のウエハ１０Ｂ（第１半導体チップ１０）を搬送する際、その物理的衝撃等による第２半導体チップ１２の位置ズレの発生も抑制できる。
【００４５】
本実施形態に係る半導体装置１０１（その製造方法）において、第１絶縁膜１４及び第２絶縁膜１６として、感光性のポリイミド樹脂膜を適用すると、ポリイミド樹脂膜が汎用性、加工性が高いことから、低コスト化と共に、第１絶縁膜１４の開口部１４Ｂや第２絶縁膜１６のコンタクトホール１６Ａの形成精度が向上される。例えば、第１絶縁膜１４の開口部１４Ｂの形成精度が高くなれば、第２半導体チップ１２の搭載精度も高まることとなる。
【００４６】
なお、本実施形態に係る半導体装置１０１（その製造方法）では、第１半導体チップ１０の表面が露出するように、第１絶縁膜１４に開口部１４Ｂを形成している形態を説明したが、これに限られず、例えば、図６に示すように、第１半導体チップ１０の表面が露出しないように、第１絶縁膜１４に開口部１４Ｂを形成した形態（つまり、開口部１４Ｂを第１絶縁膜１４を貫通しないように形成した形態）であってもよい。
本形態の場合、第１絶縁膜１４として樹脂膜（特に、粘着性を有する樹脂膜：例えば、感光性のポリイミド樹脂膜等）を適用すれば、開口部１４Ｂ底面が粘着性を有する樹脂面で構成されることから、第１絶縁膜１４の開口部１４Ｂ内に第２半導体チップ１２を搭載したとき、開口部１４Ｂの底面との密着性が向上し、第２半導体チップ１２の位置ズレが抑制される。
【００４７】
また、本実施形態に係る半導体装置１０１（その製造方法）では、第２半導体チップ１２を搭載する基板として、第１半導体チップ１０を採用した形態を説明したが、これに限られず、本基板は、例えば、集積回路等が設けられていない半導体基板（例えばシリコン基板等）や、その他、金属基板であってもよい。
【００４８】
また、本実施形態は、限定的に解釈されるものではなく、本発明の要件を満足する範囲内で実現可能であることは、言うまでもない。
【符号の説明】
【００４９】
１０   第１半導体チップ
１０Ａ パッド電極
１０Ｂ ウエハ
１２   第２半導体チップ
１２Ａ パッド電極
１４   第１絶縁膜
１４Ａ コンタクトホール
１４Ｂ 開口部
１６   第２絶縁膜
１６Ａ コンタクトホール
１８Ａ、１８Ｂ       配線
２０Ａ、２０Ｂ       ポスト電極
２２   層間絶縁膜
２４Ａ、２４Ｂ       外部接続端子
２６   配線構造
２８   めっき液
１０１ 半導体装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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