(57)【要約】【課題】サーボ層と記録再生層を備える光記録媒体において、基板の反りや変形を抑制しながらも、記録再生層の層数を増やす。【解決手段】光記録媒体１０において、基板１２の一方の面にトラッキング制御用の凹凸又は溝を有するサーボ層１８を形成し、このサーボ層１８側に対して、トラッキング制御用の凹凸を有しない第１記録再生層１４を予め積層し又は事後的に形成し、この基板１２のサーボ層１８と反対側にトラッキング制御用の凹凸を有しない第２記録再生層３４を予め積層し又は事後的に形成する。第１、第２記録再生層１４、３４は、共にサーボ層１８を利用してトラッキング制御を行いながら情報が記録される。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板の一方の面に形成され、トラッキング制御用の凹凸又は溝を有するサーボ層と、
前記基板の前記サーボ層側に予め積層され又は事後的に形成され、トラッキング制御用の凹凸を有しない第１記録再生層と、
前記基板の前記サーボ層と反対側に予め積層され又は事後的に形成され、トラッキング制御用の凹凸を有しない第２記録再生層と、を有し、
前記第１記録再生層及び前記第２記録再生層は、前記サーボ層を利用してトラッキング制御を行いながら情報が記録されることを特徴とする光記録媒体。
【請求項２】
前記基板は、光透過性材料によって構成されることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体。
【請求項３】
予め積層される前記第１記録再生層と前記サーボ層の間には第１バッファ層が積層されると共に、予め積層される前記第２記録再生層と前記基板との間には第２バッファ層が積層され、
前記第１バッファ層と前記第２バッファ層の厚みが、略同じであることを特徴とする、
請求項１又は２に記載の光記録媒体。
【請求項４】
前記サーボ層に照射されるトラッキング用ビームの波長における前記基板の屈折率は、前記第２バッファ層の屈折率より高いことを特徴とする、
請求項３に記載の光記録媒体。
【請求項５】
前記サーボ層に照射されるトラッキング用ビームの波長における前記基板の屈折率は、前記第１バッファ層の屈折率より高いことを特徴とする、
請求項３又は４に記載の光記録媒体。
【請求項６】
前記第１記録再生層と前記第２記録再生層は、前記基板の厚み方向の中心を基準に対称となる位置に予め積層又は事後的に形成されることを特徴とする、
請求項１乃至５のいずれかに記載の光記録媒体。
【請求項７】
前記第１記録再生層及び前記第２記録再生層は、それぞれ複数備えることを特徴とする、
請求項１乃至６のいずれかに記載の光記録媒体。
【請求項８】
前記基板から最も遠い前記第１記録再生層の外側に第１カバー層が積層されると共に、前記基板から最も遠い前記第２記録再生層の外側に第２カバー層が積層され、
前記第２カバー層の厚みと比較して、前記第１カバー層の厚みが、前記基板の厚さ分だけ大きく設定されていることを特徴とする、
請求項１乃至７のいずれかに記載の光記録媒体。
【請求項９】
前記第１又は第２記録再生層に照射される記録再生用ビームと比較して、前記サーボ層の照射されるトラッキング用ビームが長い波長に設定されており、
前記トラッキング用ビームを照射した場合の前記サーボ層の反射率は、仮に前記記録再生用ビームを前記サーボ層に照射した場合の反射率と比較して大きいことを特徴とする、
請求項１乃至８のいずれかに記載の光記録媒体。
【請求項１０】
前記基板の厚さが１０μｍ〜６００μｍであることを特徴とする、
請求項１乃至９のいずれかに記載の光記録媒体。
【請求項１１】
光透過性材料によって構成される基板の一方の面に対して、トラッキング制御用の凹凸又は溝を有するサーボ層を形成するステップと、
前記基板の前記サーボ層側に配置される第１バッファ層と、前記基板の前記サーボ層と反対側に配置される第２バッファ層を、同時に積層するステップと、
前記第１バッファ層側に配置されるトラッキング制御用の凹凸を有しない平面構造の第１記録再生層と、前記第２バッファ層側に配置されるトラッキング制御用の凹凸を有しない平面構造の第２記録再生層を、同時に積層するステップと、
を有することを特徴とする光記録媒体の製造方法。
【請求項１２】
前記第１記録再生層側に配置される第１カバー層と、前記第２記録再生層側に配置される第２カバー層を、別々に積層するステップを有することを特徴とする、
請求項１１記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項１３】
請求項１乃至１０のいずれかに記載の光記録媒体に情報を記録する光記録方法であって、
前記サーボ層にトラッキング用ビームを照射してトラッキング制御を行いながら、前記第１記録再生層に記録用ビームを照射して情報を記録するステップと、
前記サーボ層にトラッキング用ビームを照射してトラッキング制御を行いながら、前記第２記録再生層に記録用ビームを照射して情報を記録するステップと、
を有することを特徴とする光記録媒体の光記録方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複数の記録再生層を有する光記録媒体及びその製造方法、この光記録媒体に対する光記録方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ディジタル動画コンテンツの視聴や、ディジタルデータの記録のために、ＣＤ−ＤＡ、ＣＤ−ＲＯＭ、ＣＤ−Ｒ、ＣＤ−ＲＷ、ＤＶＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ＋／−ＲＷ、ＤＶＤ−ＲＡＭ、Ｂｌｕ−ｒａｙ  Ｄｉｓｃ（ＢＤ）などの光記録媒体が広く利用されている。この中でも、次世代型ＤＶＤ規格の一つとされるＢＤは、記録再生に用いるレーザー光の波長を４０５ｎｍと短くし、対物レンズの開口数を０．８５に設定している。ＢＤ規格に対応した光記録媒体側は、０．３２μｍのピッチでトラックが形成される。このようにすることで、光記録媒体の１つの記録再生層に対して２５ＧＢ以上の記録再生を可能にしている。
【０００３】
ところで、動画やデータの容量は今後益々増大することが予想される。従って、光記録媒体における記録再生層を多層化することで光記録媒体の容量を増大させる方法が検討されている。ＢＤ規格の光記録媒体では、６層〜８層の記録再生層を設けることで、２００ＧＢもの超大容量を実現する技術も報告されている（非特許文献１、２参照）。
【０００４】
一方、光記録媒体において記録再生層を多層化する場合、各記録再生層に対してグルーブ／ランド等のトラッキング制御用の凹凸を形成しようとすると、媒体構成が複雑となり、偏芯調整などの作業が困難になることが懸念される。また、記録再生層を設けるごとに凸凹を形成するための母型となるスタンパが必要となり、多層化すればするほど、このスタンパを使う回数が増え製造コストが増大する。
【０００５】
そこで近年、光記録媒体において、凹凸や溝を有するサーボ層と、凹凸や溝を有しない記録再生層を別々に設けるようにし、トラッキング制御専用のビームを用いてサーボ層からトラッキング信号を得ながら、記録再生専用のビームによって記録再生層に情報を記録する技術が提案されている（特許文献１、２参照）。
【０００６】
また、２層同時読み取りを目的として、凹凸や溝を有する記録層と、凹凸や溝を有しない記録層を交互に積層する技術も提案されている（特許文献３参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００８−９７６９３号公報
【特許文献２】特開２００８−９７６９４号公報
【特許文献３】国際公開ＷＯ２００８／０９９７０８
【非特許文献】
【０００８】
【非特許文献１】I. Ichimura et. al., Appl. Opt, 45, 1974-1803 (2006)
【非特許文献２】K. Mishima et. al., Proc. of SPIE, 6282, 62820I (2006)
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかし、特許文献３の技術では、記録再生層の層数を増大させると、凹凸や溝を有する記録層の層数が増大するので、結局、媒体構成が複雑となり、偏芯調整などの作業が困難になるという問題があった。
【００１０】
また、特許文献１、２の技術では、光記録媒体の製造時において、記録再生層とスペーサ層を交互に積層していく工程を経るため、これらの成膜時の内部応力が光記録媒体の一方の面に片寄る。この結果、光記録媒体に大きな反りや歪みが生じやすいという問題があった。特に、記録再生層の層数が増大させると、内部応力の蓄積量が増大し、光記録媒体の変形量も大きくなる。光記録媒体が変形すると、トラッキング用のビームスポットと、記録再生用のビームスポットがずれてしまい、トラッキング特性が著しく低下するという問題があった。
【００１１】
このことから分かるように、特許文献１、２の技術のような、サーボ層と記録再生層を分離させた光記録媒体は、その反りや変形量を一層小さくすることが要求される。反りや変形量を小さくするために、ガラス基板などの超剛性体を用いることも考えられるが、製造コストの増大を招いてしまう。
【００１２】
本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであり、サーボ層と記録再生層を有する光記録媒体に対して、反りや変形を抑制しながらも、効率的に記録再生を行うことが可能な光記録媒体等を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者らの鋭意研究によって、上記目的は以下の手段によって達成される。
【００１４】
即ち、上記目的を達成する本発明は、基板と、前記基板の一方の面に形成され、トラッキング制御用の凹凸又は溝を有するサーボ層と、前記基板の前記サーボ層側に予め積層され又は事後的に形成され、トラッキング制御用の凹凸を有しない第１記録再生層と、前記基板の前記サーボ層と反対側に予め積層され又は事後的に形成され、トラッキング制御用の凹凸を有しない第２記録再生層と、を有し、前記第１記録再生層及び前記第２記録再生層は、前記サーボ層を利用してトラッキング制御を行いながら情報が記録されることを特徴とする光記録媒体である。
【００１５】
上記目的を達成する上記光記録媒体の前記基板は、光透過性材料によって構成されることを特徴とする。
【００１６】
上記目的を達成する上記光記録媒体は、予め積層される前記第１記録再生層と前記サーボ層の間には第１バッファ層が積層されると共に、予め積層される前記第２記録再生層と前記基板との間には第２バッファ層が積層され、前記第１バッファ層と前記第２バッファ層の厚みが、略同じであることを特徴とする。
【００１７】
上記目的を達成する上記光記録媒体は、前記サーボ層に照射されるトラッキング用ビームの波長における前記基板の屈折率が、前記第２バッファ層の屈折率より高いことを特徴とする。
【００１８】
上記目的を達成する上記光記録媒体は、前記サーボ層に照射されるトラッキング用ビームの波長における前記基板の屈折率が、前記第１バッファ層の屈折率より高いことを特徴とする。
【００１９】
上記目的を達成する上記光記録媒体の前記第１記録再生層と前記第２記録再生層は、前記基板の厚み方向の中心を基準に対称となる位置に予め積層又は事後的に形成されることを特徴とする。
【００２０】
上記目的を達成する上記光記録媒体は、前記第１記録再生層及び前記第２記録再生層をそれぞれ複数備えることを特徴とする。
【００２１】
上記目的を達成する上記光記録媒体は、前記基板から最も遠い前記第１記録再生層の外側に第１カバー層が積層されると共に、前記基板から最も遠い前記第２記録再生層の外側に第２カバー層が積層され、前記第２カバー層の厚みと比較して、前記第１カバー層の厚みが、前記基板の厚さ分だけ大きく設定されていることを特徴とする。
【００２２】
上記目的を達成する上記光記録媒体は、前記第１又は第２記録再生層に照射される記録再生用ビームと比較して、前記サーボ層の照射されるトラッキング用ビームが長い波長に設定されており、前記トラッキング用ビームを照射した場合の前記サーボ層の反射率は、仮に前記記録再生用ビームを前記サーボ層に照射した場合の反射率と比較して大きいことを特徴とする。
【００２３】
上記目的を達成する上記光記録媒体は、前記基板の厚さが１０μｍ〜６００μｍであることを特徴とする。
【００２４】
上記目的を達成する本発明は、光透過性材料によって構成される基板の一方の面に対して、トラッキング制御用の凹凸又は溝を有するサーボ層を形成するステップと、前記基板の前記サーボ層側に配置される第１バッファ層と、前記基板の前記サーボ層と反対側に配置される第２バッファ層を、同時に積層するステップと、前記第１バッファ層側に配置されるトラッキング制御用の凹凸を有しない平面構造の第１記録再生層と、前記第２バッファ層側に配置されるトラッキング制御用の凹凸を有しない平面構造の第２記録再生層を、同時に積層するステップと、を有することを特徴とする光記録媒体の製造方法である。
【００２５】
上記目的を達成する上記製造方法は、前記第１記録再生層側に配置される第１カバー層と、前記第２記録再生層側に配置される第２カバー層を、別々に積層するステップを有することを特徴とする。
【００２６】
上記目的を達成する本発明は、上記光記録媒体に情報を記録する光記録方法であって、前記サーボ層にトラッキング用ビームを照射してトラッキング制御を行いながら、前記第１記録再生層に記録用ビームを照射して情報を記録するステップと、前記サーボ層にトラッキング用ビームを照射してトラッキング制御を行いながら、前記第２記録再生層に記録用ビームを照射して情報を記録するステップと、を有することを特徴とする光記録媒体の光記録方法である。
【発明の効果】
【００２７】
本発明によれば、サーボ層と記録再生層を有する光記録媒体に対して、反りや変形を抑制しながらも、効率的に記録再生を行うことが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明の実施形態に係る光記録媒体の光記録再生を実現する光ピックアップの全体構成を示すブロック図である。
【図２】同光ピックアップの内部構成の例を示すブロック図である。
【図３】同光ピックアップの内部構成の例を示すブロック図である。
【図４】同光記録媒体の積層構造を示す断面図である。
【図５Ａ】同光記録媒体の製造手順を示す断面図である。
【図５Ｂ】同光記録媒体の製造手順を示す断面図である。
【図５Ｃ】同光記録媒体の製造手順を示す断面図である。
【図５Ｄ】同光記録媒体の製造手順を示す断面図である。
【図６Ａ】同光記録媒体に対する光記録再生方法の記録手順を拡大して示す断面図である。
【図６Ｂ】同光記録媒体に対する光記録再生方法の記録手順を拡大して示す断面図である。
【図６Ｃ】同光記録媒体に対する光記録再生方法の記録手順を拡大して示す断面図である。
【図６Ｄ】同光記録媒体に対する光記録再生方法の記録手順を拡大して示す断面図である。
【図７】本実施形態の光記録媒体の他の積層構造例を示す断面図である。
【図８】本実施形態の光記録媒体の他の積層構造例を示す断面図である。
【図９】本実施形態の光記録媒体の他の積層構造例を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
以下、本発明の実施の形態を添付図面を参照して説明する。
【００３０】
図１には、本発明の実施形態に係る光記録媒体１０と、この光記録媒体１０の記録再生に用いられる第１、第２光ピックアップ９０Ａ、９０Ｂの構成が示されている。第１光ピックアップ９０Ａは、光記録媒体１０の一方の第１表面１０Ａ側からビームを照射する。第２光ピックアップ９０Ｂは、光記録媒体１０の他方の第２表面３０Ａ側からビームを照射する。なお、第１、第２光ピックアップ９０Ａ、９０Ｂの内部構成は略同じである。従って、第１光ピックアップ９０Ａの部品については、図中又は文章中の各符号の末尾にＡを付し、第２光ピックアップ９０Ｂの部品については、図中又は文章中の符号の末尾にＢを付し、それ以外は同じ符号にする。また、ここでは第１光ピックアップ９０Ａの内部構成を詳細に説明することで、第２光ピックアップ９０Ｂの説明を省略する。
【００３１】
図２に示されるように、第１光ピックアップ９０Ａは、記録再生用光学系１００Ａと、トラッキング用光学系２００Ａを備える。記録再生用光学系１００Ａは、光記録媒体１０の第１記録再生層群１４に対して記録・再生を行う光学系となる。トラッキング用光学系２００Ａは、記録再生用光学系１００Ａを利用して第１記録再生層群１４に情報を記録する際に、サーボ層１８を利用してトラッキング制御を行う光学系となる。
【００３２】
記録再生用光学系１００Ａの光源１０１Ａから出射された発散性の記録再生用のビーム１７０Ａは、球面収差補正手段１９３Ａを備えたコリメートレンズ１５３Ａを透過し、偏光ビームスプリッタ１５２Ａに入射する。なお、ビーム１７０Ａは青色波長３８０〜４５０ｎｍ（ここでは４０５ｎｍ）となっている。偏光ビームスプリッタ１５２Ａに入射したビーム１７０Ａは、この偏光ビームスプリッタ１５２Ａを透過して、更に４分の１波長板１５４Ａの透過によって円偏光に変換された後、トラッキング用光学系２００Ａのビームスプリッタ２６０Ａに入射する。このビームスプリッタ２６０Ａは、透過率が大きく、且つ反射率が小さく設定されている。具体的に反射率に対する透過率の比率が１０倍又はそれ以上に設定される。従って、ビーム１７０Ａはビームスプリッタ２６０Ａを透過して、対物レンズ１５６Ａで収束ビームに変換される。このビーム１７０Ａは、光記録媒体１０の内部に形成された、記録再生対象となる第１第１記録再生層群１４又はサーボ層１８のいずれかに集光される。
【００３３】
対物レンズ１５６Ａの開口はアパーチャ１５５Ａで制限され、開口数ＮＡを０．７０〜０．９０（ここでは０．８５）としている。例えば、第１記録再生層群１４で反射されたビーム１７０Ａは、対物レンズ１５６Ａ、ビームスプリッタ２６０Ａ、及び４分の１波長板１５４Ａを透過して往路とは９０度異なる直線偏光に変換された後、偏光ビームスプリッタ１５２Ａで反射される。
【００３４】
偏光ビームスプリッタ１５２Ａで反射されたビーム１７０Ａは、集光レンズ１５９Ａを透過して収束光に変換され、シリンドリカルレンズ１５７Ａを経て、光検出器１３２Ａに入射する。ビーム１７０Ａには、シリンドリカルレンズ１５７Ａを透過する際、非点収差が付与される。
【００３５】
光検出器１３２Ａは、図示しない４つの受光部を有し、それぞれ受光した光量に応じた電流信号を出力する。これら電流信号から、非点収差法によるフォーカス誤差（以下ＦＥとする）信号、ＤＰＤ（位相差）法によるトラッキング誤差（以下ＴＥとする）信号、光記録媒体１０に記録された情報の再生信号等が生成される。ＦＥ信号およびＴＥ信号は、所望のレベルに増幅および位相補償が行われた後、アクチュエータ１９１Ａおよび１９２Ａにフィードバック供給されて、フォーカス制御およびトラッキング制御がなされる。なお、記録再生用光学系１００Ａによるトラッキング制御は再生時のみ利用される。
【００３６】
トラッキング用光学系２００Ａの光源２０１Ａから出射された、赤色波長６３０〜６８０ｎｍ（ここでは６５０ｎｍ）となる発散性のトラッキング制御用のビーム２７０Ａは、球面収差補正手段２９３Ａを備えたコリメートレンズ２５３Ａを透過し、偏光ビームスプリッタ２５２Ａに入射する。偏光ビームスプリッタ２５２Ａに入射したビーム２７０Ａは、偏光ビームスプリッタ２５２Ａを透過して、更に４分の１波長板２５４Ａを透過して円偏光に変換された後、ビームスプリッタ２６０Ａで反射される。このビーム２７０Ａは更に対物レンズ１５６Ａで収束ビームに変換されて、光記録媒体１０の内部に形成されたサーボ層１８に集光される。サーボ層１８で反射されたビーム２７０Ａは、対物レンズ１５６Ａを透過してビームスプリッタ２６０Ａで反射し、４分の１波長板２５４Ａにおいて往路とは９０度異なる直線偏光に変換された後、偏光ビームスプリッタ２５２Ａで更に反射される。偏光ビームスプリッタ２５２Ａで反射されたビーム２７０Ａは、集光レンズ２５９Ａを透過して収束光に変換され、シリンドリカルレンズ２５７Ａを経て、光検出器２３２Ａに入射する。ビーム２７０Ａには、シリンドリカルレンズ２５７Ａを透過する際、非点収差が付与される。
【００３７】
光検出器２３２Ａは、図示しない４つの受光部を有し、それぞれ受光した光量に応じた電流信号を出力する。これら電流信号から、ＤＰＤ（位相差）法によるトラッキング誤差（ＴＥ）信号が生成される。なお、サーボ層１８にも情報が記録されている場合は、この電流信号から再生信号を生成してもよい。この光検出器２３２Ａ側では、フォーカス誤差（ＦＥ）信号を生成する必要はないが、勿論、フォーカス誤差（ＦＥ）信号を生成しても良い。
【００３８】
なお、既に述べたように、ビームスプリッタ２６０Ａは、透過率が大きく且つ反射率が小さく設定されている。従って、記録再生用光学系１００Ａの光源１０１Ａから出射され、第１記録再生層群１４のいずれかで反射した戻り光の一部は、ビームスプリッタ２６０Ａで反射してトラッキング用光学系２００Ａ側に進む。反対に、トラッキング用光学系２００Ａの光源２０１Ａから出射され、サーボ層１８で反射した戻り光の大部分は、ビームスプリッタ２６０Ａを透過して記録再生用光学系１００Ａ側に進む可能性がある。記録再生用光学系１００Ａとトラッキング用光学系２００Ａにおいて、両者の戻り光が混合する場合であっても、記録再生用光学系１００Ａとトラッキング用光学系２００Ａは、光記録媒体１０内において互いに異なる焦点位置となるため、各ビーム１７０Ａ、２７０Ａの拡がり角度が異なる。従って、特に図示しない一定形状のスリットやアパーチャを用いてビーム１７０Ａ、２７０Ａの一方のみを抽出してから、各光検出器１３２Ａ、２３２Ａに入射させることで、混合による影響を除去する。もちろん、波長選択性を有するフィルタによってビーム１７０Ａ、２７０Ａを分離しても良い。
【００３９】
とりわけ、記録再生用光学系１００Ａにおけるビーム１７０Ａの光記録媒体１０内の焦点位置と、トラッキング用光学系２００Ａのビーム２７０Ａの光記録媒体１０内の焦点位置の差が、常に一定の範囲内に収まるようにすると、上述のスリットやアパーチャを簡潔な構造にできるので、より簡便にビームの分離が可能となる。焦点距離の差を安定させるためには、記録再生用のビーム１７０Ａの焦点位置と、サーボ用のビーム２７０Ａの焦点位置が近い方が、誤差が小さくなるので好ましいと言える。
【００４０】
記録再生用光学系１００Ａによる第１記録再生層群１４への情報の記録時は、トラッキング用光学系２００ＡのＴＥ信号について、所望のレベルに増幅および位相補償が行われた後、アクチュエータ１９１Ａおよび１９２Ａにフィードバック供給されてトラッキング制御がなされる。この結果、トラッキング用光学系２００Ａのトラッキング制御に基づいて、記録再生用光学系１００Ａが第１記録再生層群１４に情報を記録するようになっている。なお、本実施形態では、第１記録再生層群１４に記録済みの情報を再生する際は、第１記録再生層群１４上の記録マークを利用して記録再生用光学系１００Ａが独自にトラッキング制御するようにしている。一方、トラッキング用光学系２００Ａのトラッキング制御を利用しながら再生することも勿論可能である。
【００４１】
第２記録再生層群３４への記録再生は、第２光ピックアップ９０Ｂで行われる。図３に示されるように、第２光ピックアップの記録再生用光学系１００Ｂによって、第２記録再生層群３４へ情報の記録する際は、トラッキング用光学系２００Ｂをサーボ層１８に照射することで得られるＴＥ信号を用いる。このＴＥ信号によって、記録再生用光学系１００Ｂをトラッキング制御しながら第２記録再生層群３４に情報を記録する。
【００４２】
図４には、本実施形態の光記録媒体１０の断面構造が拡大して示されている。
【００４３】
光記録媒体１０は、外径が約１２０ｍｍ、厚みが約１．２ｍｍの円盤形状となっている。この光記録媒体１０は、第１表面１０Ａ側から順番に、第１カバー層１１、第１記録再生層群１４及び第１中間層群１６、第１バッファ層１７、サーボ層１８、支持基板１２、第２バッファ層３７、第２記録再生層群３４及び第２中間層群３６、第２カバー層３１、第２表面３０Ａを備えて構成される。
【００４４】
第１記録再生層群１４は、ここではＬ０〜Ｌ５記録再生層１４Ａ〜１４Ｆを備えて構成されており、それぞれに情報を記録できる構造となっている。このＬ０〜Ｌ５記録再生層１４Ａ〜１４Ｆは、トラッキング制御用の凹凸や溝を有しない平面構造となっており、記録再生用光学系１００から高エネルギーとなる記録用のビーム１７０が照射されると、記録マークが形成される。なお、この第１記録再生層群１４の種類として、情報の追記が出来るが書き換えが出来ない追記型記録再生層と、情報の書換が可能な書換型記録再生層がある。
【００４５】
支持基板１２は、光記録媒体に求められる厚み（約１．２ｍｍ）を確保するための、厚さが１００μｍ〜１２００μｍ、好ましくは１００μｍ〜７００μｍの範囲内となる円盤形状の基板である。具体的に本実施形態では、支持基板１２の厚さを５００μｍに設定し、直径を１２０ｍｍに設定している。支持基板１２における第１表面１０Ａ側には、その中心部近傍から外縁部に向けてランド１８Ａおよびグルーブ１８Ｂが螺旋状に形成される。このランド１８Ａおよびグルーブ１８Ｂが、トラッキング制御用の凹凸（溝）となる。この支持基板１２における上記凹凸が将来のサーボ層１８となる。
【００４６】
なお、支持基板１２の材料としては種々の材料を用いることが可能であり、例えば、ガラス、セラミックス、樹脂を利用できる。これらのうち成型の容易性の観点から樹脂が好ましい。樹脂としてはポリカーボネイト樹脂、オレフィン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、シリコーン樹脂、フッ素系樹脂、ＡＢＳ樹脂、ウレタン樹脂等が挙げられる。これらの中でも、加工性などの点からポリカーボネイト樹脂やオレフィン樹脂が特に好ましい。
【００４７】
支持基板１２の上に形成されるサーボ層１８は、支持基板１２の表面に直接的に形成されるトラッキング制御用の凹凸（グルーブおよびランド）と、その上に成膜される反射性の層で構成される。特に本実施形態では、反射性の層としてＡｌ、Ａｇ等の金属膜を形成し、単純な光反射膜として機能させている。なお、反射機能に加えて情報を記録可能な記録膜を設ける場合は、後述する記録再生層１４Ａ〜１４Ｆと略同じ膜構成としてもよい。
【００４８】
サーボ層１８における隣接するランド１８Ａ同士又はグルーブ１８Ｂ同士のピッチＰ１は、ここでは０．７４μｍ未満に設定される。具体的にピッチＰ１は０．６μｍ〜０．７μｍの範囲内に設定することが望ましく、より好ましくは０．６４μｍ近傍に設定される。一方で、記録マークのトラックピッチＰ２は、ランド１８Ａ及びグルーブ１８ＢのピッチＰ１の半分（１／２）に設定される。即ち、記録マーク間のトラックピッチＰ２は、０．３７μｍ未満に設定され、望ましくは０．２６μｍ〜０．３５μｍの範囲内に設定され、より好ましくは０．３２μｍ近傍に設定される。結果、記録マーク間のトラックピッチＰ２は、ＢＤ規格との互換性のある０．３２μｍ前後となる。
【００４９】
サーボ層１８のランド１８Ａ同士／グルーブ１８Ｂ同士のピッチＰ１（０．６４μｍ前後）は、比較的長い赤色波長領域のビーム２７０Ａ、２７０Ｂで十分なトラッキングができる大きさとなる。本実施形態では、ランド１８Ａとグルーブ１８Ｂの双方を利用してトラッキングを行う。結果、サーボ層１８のピッチＰ１に対して、記録マークのトラックピッチＰ２は、その半分の０．３２μｍ前後となる。このように、ランド１８Ａとグルーブ１８Ｂをそれぞれ利用してトラッキング制御することで、サーボ層１８のピッチＰ２を小さくしなくても、記録再生層群１４の記録マークのトラックピッチＰ２を小さくできる。
【００５０】
なお、本実施形態では、このサーボ層１８によって、第１光ピックアップ９０Ａのトラッキング用光学系２００Ａのビーム２７０Ａと、第２光ピックアップ９０Ｂのトラッキング用光学系２００Ｂのビーム２７０Ｂの双方をガイドする。
【００５１】
第１バッファ層１７は、光透過性のアクリル系の紫外線硬化型樹脂により構成されており、膜厚が２３８μｍに設定されている。
【００５２】
第１バッファ層１７の第１表面１０Ａ側に積層される第１記録再生層群１４（Ｌ０〜Ｌ５記録再生層１４Ａ〜１４Ｆ）は、それぞれ、追記型記録膜の両外側に誘電体膜を積層した３層構造となっている（図示省略）。なお、このＬ０〜Ｌ５記録再生層１４Ａ〜１４Ｆは、第１光ピックアップ９０Ａの記録再生用光学系１００Ａにおける青色波長領域（短い波長）のビーム１７０Ａに対して光反射率・吸収率・透過率等が最適化されている。
【００５３】
各記録再生層の誘電体膜は、追記型記録膜を保護するという基本機能に加えて、記録マークの形成前後における光学特性の差を拡大させる役割も果たす。
【００５４】
なお、ビーム１７０Ａを照射した場合に、この誘電体膜に吸収されるエネルギーが大きいと記録感度が低下しやすい。従って、これを防止するためには、これらの誘電体膜の材料として、３８０ｎｍ〜４５０ｎｍ（特に４０５ｎｍ）の波長領域において低い吸収係数（ｋ）を有する材料を選択することが好ましい。なお、本実施の形態においては、誘電体膜の材料としてＴｉＯ２を用いている。
【００５５】
誘電体膜に挟まれる追記型記録膜は不可逆的な記録マークが形成される膜であり、記録マークが形成された部分とそれ以外の部分（ブランク領域）は、ビーム１７０Ａに対する反射率が大きく異なる。この結果、データの記録・再生を行うことができる。
【００５６】
追記型記録膜は、Ｂｉ及びＯを含む材料を主成分として形成される。この追記型記録膜は、無機反応膜として機能し、レーザー光の熱による化学的又は物理的な変化で反射率が大きく異なるようになっている。具体的な材料としては、Ｂｉ−Ｏを主成分とするか、又は、Ｂｉ−Ｍ−Ｏ（ただしＭは、Ｍｇ、Ｃａ、Ｙ、Ｄｙ、Ｃｅ、Ｔｂ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｓｃ、Ｌａ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｇｄ、Ｈｏ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｇａ、Ｐｂの中から選択される少なくとも１種の元素）を主成分とすることが好ましい。なお、本実施形態では、追記型記録膜の材料として、Ｂｉ−Ｇｅ−Ｏを用いている。
【００５７】
なお、ここではＬ０〜Ｌ５記録再生層１４Ａ〜１４Ｆにおいて追記型記録膜を採用する場合を示したが、繰り返し記録が可能な相変化記録膜を採用することも可能である。この場合の相変化記録膜は、ＳｂＴｅＧｅを主成分とすることが好ましい。
【００５８】
第１中間層群１６は、第１表面１０Ａから遠い側から順番にＬ０〜Ｌ４中間層１６Ａ〜１６Ｅを有しており、Ｌ０〜Ｌ５記録再生層１４Ａ〜１４Ｆの間に積層される。各中間層１６Ａ〜１６Ｅは、アクリル系またはエポキシ系の紫外線硬化型樹脂によって構成される。このＬ０〜Ｌ４中間層１６Ａ〜１６Ｅの膜厚は、積層数を増大させるためには２０μｍ以下に設定することが好ましく、Ｌ０中間層１６Ａが１６μｍ、Ｌ１中間層１６Ｂが１２μｍ、Ｌ２中間層１６Ｃが１６μｍ、Ｌ３中間層１６Ｄが１２μｍ、Ｌ４中間層１６Ｅが１６μｍとなる。つまり、２種類の膜厚（１６μｍ、１２μｍ）の中間層が交互に積層されている。この結果、Ｌ０〜Ｌ５記録再生層１４Ａ〜１４Ｆの層間距離として、光入射面側から順番に第１距離（１６μｍ）と、この第１距離と異なる第２距離（１２μｍ）が交互に設定されることになる。また、第１距離と第２距離の差は４μｍに設定される。このようにすると、層間クロストークが低減される。勿論、全ての中間層群１６の膜厚を同じに設定しても良い。
【００５９】
第１カバー層１１は、第１中間層群１６と同様に光透過性のアクリル系の紫外線硬化型樹脂により構成されており、４０μｍの膜厚に設定されている。
【００６０】
支持基板１２における第２表面３０Ａ側に形成される第２バッファ層３７は、光透過性のアクリル系の紫外線硬化型樹脂により構成されており、膜厚が２３８μｍに設定されている。更に、トラッキング用のビーム２７０Ｂの波長条件における第２バッファ層３７の屈折率は、同波長における支持基板１２の屈折率より低く設定されている。このようにすることで、第２バッファ層３７側から入射したトラッキング用のビーム２７０Ｂが、支持基板１２を透過してサーボ層１８に到達しやすくなる。なお、本実施形態では、トラッキング用の２７０Ａの波長条件における第１バッファ層１７の屈折率は、同波長における支持基板１２の屈折率より低く設定されている。このようにすることで、第２バッファ層３７と第１バッファ層１７の材料を共通化することが可能となり、後述する成膜プロセスを共通化することが可能となる。
【００６１】
また、第１、第２バッファ層１７、３７は、ビームの波長が短いほど光吸収量が大きくなる材料が選択されている。このようにすることで、青色波長のビーム１７０Ａ、１７０Ｂの光吸収量が大きく、赤色波長のビーム２７０Ａ、２７０Ｂの吸収量が小さくなる。結果、第１、第２バッファ層１７、３７は、青色波長のビーム１７０Ａ、１７０Ｂがサーボ層１８に到達してしまう光量を抑制することができるので、再生時の信号ノイズを低減できる。一方、第１、第２バッファ層１７、３７は、赤色波長のビーム２７０Ａ、２７０Ｂを積極的に透過することで、トラッキング信号の光量を増大させる。
【００６２】
第２バッファ層３７の第２表面３０Ａ側に積層される第２記録再生層群３４（Ｌ０〜Ｌ５記録再生層３４Ａ〜３４Ｆ）は、それぞれ、追記型記録膜の両外側に誘電体膜を積層した３層構造となっている（図示省略）。なお、このＬ０〜Ｌ５記録再生層３４Ａ〜３４Ｆは、第２光ピックアップ９０Ｂの記録再生用光学系１００Ｂにおける青色波長領域（短い波長）のビーム１７０Ｂに対して光反射率・吸収率・透過率等が最適化されている。
【００６３】
第２中間層群３６は、第２表面３０Ａから遠い側から順番にＬ０〜Ｌ４中間層３６Ａ〜３６Ｅを有しており、Ｌ０〜Ｌ５記録再生層３４Ａ〜３４Ｆの間に積層される。各中間層３６Ａ〜３６Ｅは、アクリル系またはエポキシ系の紫外線硬化型樹脂によって構成される。この中間層３６Ａ〜３６Ｅの膜厚は、積層数を増大させるためには２０μｍ以下に設定することが好ましく、Ｌ０中間層３６Ａが１６μｍ、Ｌ１中間層３６Ｂが１２μｍ、Ｌ２中間層３６Ｃが１６μｍ、Ｌ３中間層３６Ｄが１２μｍ、Ｌ４中間層３６Ｅが１６μｍとなる。つまり、２種類の膜厚（１６μｍ、１２μｍ）の中間層が交互に積層されている。この結果、Ｌ０〜Ｌ５記録再生層３４Ａ〜３４Ｆの層間距離として、第２表面３０Ａ側から順番に第１距離（１６μｍ）と、この第１距離と異なる第２距離（１２μｍ）が交互に設定されることになる。また、第１距離と第２距離の差は４μｍに設定される。このようにすると、層間クロストークが低減される。勿論、全ての第２中間層群３６の膜厚を同じに設定しても良い。
【００６４】
なお、第２記録再生層群３４、第２中間層群３６の材料などは、第１記録再生層群１４及び第１中間層群１６と同じであるので、説明は省略する。
【００６５】
第２カバー層３１は、第２中間層群３６と同様に光透過性のアクリル系の紫外線硬化型樹脂により構成されており、４０μｍの膜厚に設定されている。
【００６６】
上記のように構成される結果、光記録媒体１０における支持基板１２と第１バッファ層１７との境界（サーボ層１８）は、第１表面１０Ａから３５０μｍの距離に位置する。また、第１記録再生層群１４の中で第１表面１０Ａから最も遠いＬ０記録再生層１４Ａは、第１表面１０Ａから１１２μｍの距離に位置しており、Ｌ１記録再生層１４Ｂは第１表面１０Ａから９６μｍ、Ｌ２記録再生層１４Ｃは第１表面１０Ａから８４μｍ、Ｌ３記録再生層１４Ｄは第１表面１０Ａから６８μｍ、Ｌ４記録再生層１４Ｅは第１表面１０Ａから５６μｍ、そして、第１表面１０Ａに最も近いＬ５記録再生層１４Ｆは、第１表面１０Ａから４０μｍの距離に位置する。また、第１記録再生層群１４の全体的な厚み（Ｌ０記録再生層１４Ａ〜Ｌ５記録再生層１４Ｆ間の距離）は７２μｍとなる。
【００６７】
また、第２記録再生層群３４の中で第２表面３０Ａから最も遠いＬ０記録再生層３４Ａは、第２表面３０Ａから１１２μｍの距離に位置しており、Ｌ１記録再生層３４Ｂは第２表面３０Ａから９６μｍ、Ｌ２記録再生層３４Ｃは第２表面３０Ａから８４μｍ、Ｌ３記録再生層３４Ｄは第２表面３０Ａから６８μｍ、Ｌ４記録再生層３４Ｅは第２表面３０Ａから５６μｍ、そして、第２表面３０Ａに最も近いＬ５記録再生層３４Ｆは、第２表面３０Ａから４０μｍの距離に位置する。また、第２記録再生層群３４の全体的な厚み（Ｌ０記録再生層３４Ａ〜Ｌ５記録再生層３４Ｆ間の距離）は７２μｍとなる。
【００６８】
即ち、この光記録媒体１０は、サーボ層１８が非対称に配置されることを除けば、厚さ方向に対称構造となっている。結果、光記録媒体１０を製造時に生じる内部応力が、厚さ方向に対称に発生することから、反りや変形を小さくすることが可能になる。特に、支持基板１２を７００μｍ以下、ここでは１００μｍまで薄くしても、光記録媒体１０の反りや変形量を抑制することが可能となる。
【００６９】
次に、本実施形態の光記録媒体１０の製造方法について説明する。
【００７０】
図５Ａに示されるように、まず、金属スタンパを用いたポリカーボネイト樹脂の射出成型法により、片面のみにグルーブおよびランドが形成された支持基板１２を作製する。射出成形の型を利用して、この支持基板１２には、第１記録再生層群１４及び第２記録再生層群３４のアドレス情報、記録再生パワー等を含む記録条件、各記録再生層の位置又は層間距離など、媒体製造時に予め保持させておくべき基本情報がプリフォーマットされる。具体的には、ランド１８Ａ又はグルーブ１８Ｂのウォブルを利用して、基本情報がプリフォームされる。なお、支持基板１２の作製は射出成型法に限られず、２Ｐ法や他の方法によって作製しても構わない。
【００７１】
その後、支持基板１２におけるグルーブ及びランドが設けられた側の表面にサーボ層１８を形成する。サーボ層１８は、トラッキング用光学系２００Ａの光源に対して反射性のある膜（例えばＡｌやＡｇ等の金属膜）をスパッタリング法などによって形成する。
【００７２】
次に、図５Ｂに示されるように、このサーボ層１８が形成された支持基板１２の両面に、第１バッファ層１７及び第２バッファ層３７を同時形成する。例えば、粘度調整されたアクリル系またはエポキシ系の紫外線硬化型樹脂をスピンコート法等により支持基板１２の両面に皮膜化し、これに対して紫外線を照射して硬化することにより、第１、第２バッファ層１７、３７を形成する。なお、紫外線硬化性樹脂の代わりに、光透過性樹脂からなる光透過性シートを接着剤や粘着剤等を用いて支持基板１２の両面に貼り付けて、第１、第２バッファ層１７、３７とすることもできる。他にもスプレー、ＤＩＰ法などによって支持基板１２の両面に第１、第２バッファ層１７、３７を形成することもできる。
【００７３】
次に、図５Ｃに示されるように、第１バッファ層１７と第２バッファ層３７のそれぞれの上に、第１記録再生層群１４のＬ０記録再生層１４Ａと、第２記録再生層群３４のＬ０記録再生層３４Ａを同時に形成する。具体的には、誘電体膜、追記型記録膜、誘電体膜の順に気相成長法を用いて形成する。中でもスパッタリング法を用いることが好ましい。その後、第１記録再生層群１４のＬ０記録再生層１４Ａの上に、第１中間層群１６のＬ０中間層１６Ａを形成し、第２記録再生層群３４のＬ０記録再生層３４Ａの上に第２中間層群３６のＬ０中間層３６Ａを形成する。これらの形成も同時に行われる。なお、Ｌ０中間層１６Ａ、３４Ａは、例えば、粘度調整された紫外線硬化型樹脂をスピンコート法等により皮膜し、その後、この紫外線硬化性樹脂に紫外線を照射して硬化することにより形成する。この手順を繰り返すことで、第１バッファ層１７側には第１記録再生層群１４及び第１中間層群１６が交互に積層され、第２バッファ層３７側には第２記録再生層群３４及び第２中間層群３６が交互に積層されていく。
【００７４】
第１記録再生層群１４のＬ５記録再生層１４Ｆの形成と、第２記録再生層群３４のＬ５記録再生層３４Ｆの形成まで完成したら、図５Ｄに示されるように、その上に第１及び第２カバー層１１、３１を同時に形成してこの光記録媒体１０が完成する。この第１、第２カバー層１１、３１は、例えば、粘度調整されたアクリル系またはエポキシ系の紫外線硬化型樹脂をスピンコート法等により皮膜化し、これに対して紫外線を照射して硬化することにより形成する。なお、本実施形態では上記製造方法を説明したが、本発明は上記製造方法に特に限定されるものではなく、他の製造技術を採用することもできる。
【００７５】
次に、図６を参照して、光ピックアップ９０を用いて、本実施形態の光記録媒体１０に情報を記録再生する方法について説明する。
【００７６】
＜第１記録再生層群への記録＞
【００７７】
支持基板１２のサーボ層１８側に隣接する第１記録再生層群１４のＬ０記録再生層１４Ａに情報を記録する場合、まず、第１光ピックアップ９０Ａのトラッキング用光学系２００Ａの赤色波長領域のビーム２７０Ａをサーボ層１８に照射してトラッキングを行う。具体的には、図６Ａ、Ｂに示されるように、サーボ層１８におけるグルーブ１８Ｂ及びランド１８Ａに対して、ビーム２７０Ａのスポットを照射してトラッキングを行う。この作業と同時に、第１光ピックアップ９０Ａの記録再生用光学系１００Ａの青色波長領域の記録用ビーム１７０ＡをＬ０記録再生層１４Ａに照射する。
【００７８】
その結果、グルーブ１８Ｂ及びランド１８Ａの双方をトラッキングしながら、このグルーブ１８Ｂ及びランド１８Ａに沿って、Ｌ０記録再生層１４Ａに情報が記録される。結果、Ｌ０記録再生層１４Ａに形成される記録マークのトラックピッチＰ２は、グルーブ１８Ｂ間又はランド１８Ａ間のピッチＰ１の半分になる。なお、サーボ層１８には、光記録媒体１０に関する基本仕様や、第１記録再生層群１４の積層枚数に関する情報が、記録ピットやＢＣＡ（バーストカッティングエリア）に予め記録されており、赤色波長領域のビーム２７０Ａによって、トラッキング制御の開始前に常に読み出すようになっている。光記録媒体に関する基本情報としては、サーボ層１８の位置、各記録再生層の位置、記録再生層群の層間距離に関するルールを含むようになっている。
【００７９】
Ｌ０記録再生層１４Ａに対して、必要な情報の記録が完了した後は、今回の追記情報（記録に関するアドレス情報、コンテンツ情報等）を、このＬ０記録再生層１４Ａの一部に予め確保される管理領域に記録しておく。
【００８０】
その後、Ｌ０記録再生層１４Ａに対する情報の記録を再開する場合は、先ず、Ｌ０記録再生層１４Ａの管理領域を再生して、前回の記録が完了した位置を確認し、その位置から記録を継続する。このようにして、Ｌ０記録再生層１４Ａにおけるデータ領域の全てに対して情報の記録が完了するまで、記録作業を継続していく。Ｌ０記録再生層１４Ａのデータ領域への記録が終わったら、Ｌ１記録再生層１４Ｂのデータ領域への記録を開始する。なお、Ｌ１記録再生層１４Ｂに対して、必要な情報の記録が完了した後は、今回の追記情報（記録に関するアドレス情報、コンテンツ情報等）を、先ほどのＬ０記録再生層１４Ａの管理領域に記録しておく。
【００８１】
＜第２記録再生層群への記録＞
【００８２】
支持基板１２のサーボ層１８と反対側に配置される第２記録再生層群３４のＬ０記録再生層３４Ａに情報を記録する場合、まず、第２光ピックアップ９０Ｂのトラッキング用光学系２００Ｂの赤色波長領域のビーム２７０Ｂを、この支持基板１２を透過しながらサーボ層１８に照射してトラッキングを行う。具体的には、図６Ｃ、図６Ｄに示されるように、サーボ層１８におけるグルーブ１８Ｂ及びランド１８Ａに対して、ビーム２７０Ｂのスポットを照射してトラッキングを行う。この作業と同時に、第２光ピックアップ９０Ｂの記録再生用光学系１００Ｂの青色波長領域の記録用ビーム１７０ＢをＬ０記録再生層３４Ａに照射する。
【００８３】
その結果、ランド１８Ａ及びグルーブ１８Ｂの双方をトラッキングしながら、このランド１８Ａ及びグルーブ１８Ｂに沿って、Ｌ０記録再生層３４Ａに情報が記録される。結果、Ｌ０記録再生層３４Ａに形成される記録マークのトラックピッチＰ２は、ランド１８Ａ間又はグルーブ１８Ｂ間のピッチＰ１の半分となる。既に述べたように、サーボ層１８には、光記録媒体１０に関する基本仕様や、第１記録再生層群１４の積層枚数に関する情報が、記録ピットやＢＣＡ（バーストカッティングエリア）に予め記録されておいる。従って、赤色波長領域のビーム２７０Ｂによって、トラッキング制御の開始前にこれらの情報を常に読み出す。
【００８４】
Ｌ０記録再生層３４Ａに対して、必要な情報の記録が完了した後は、今回の追記情報（記録に関するアドレス情報、コンテンツ情報等）を、このＬ０記録再生層３４Ａの一部に予め確保される管理領域に記録しておく。
【００８５】
その後、Ｌ０記録再生層３４Ａに対する情報の記録を再開する場合は、先ず、Ｌ０記録再生層２４Ａの管理領域を再生して、前回の記録が完了した位置を確認し、その位置から記録を継続する。このようにして、Ｌ０記録再生層３４Ａにおけるデータ領域の全てに対して情報の記録が完了するまで、記録作業を継続していく。Ｌ０記録再生層３４Ａのデータ領域への記録が終わったら、Ｌ１記録再生層３４Ｂのデータ領域への記録を開始する。なお、Ｌ２記録再生層３４Ｂに対して、必要な情報の記録が完了した後は、今回の追記情報（記録に関するアドレス情報、コンテンツ情報等）を、先ほどのＬ０記録再生層３４Ａの管理領域に記録しておく。
【００８６】
なお、ここではＬ０記録再生層１４Ａ、３４Ａにおいて、管理領域を確保する場合を例示したが、他の記録再生層を利用することも可能である。また、サーボ層１８が記録膜を備える場合には、このサーボ層１８に管理領域を確保し、そこに追記情報を記録しておくことが好ましい。この記録は、トラッキング制御を行っているビーム２７０Ａ、２７Ｂを利用すれば良い。管理情報をサーボ層１８に集約させることで、第１記録再生層群１４と第２記録再生層群３４の双方の管理情報を同時に把握することも可能になる。
【００８７】
以上、本実施形態の光記録媒体１０によれば、支持基板１２の一方の面のみにサーボ層１８が形成され、更に、この支持基板１２の両面に第１記録再生層群１４と第２記録再生層群３４が配置されている。結果、第１、第２記録再生層群１４、３４を形成する際の内部応力が、支持基板１２の両側に分散されるので、光記録媒体１０の反りや変形を抑制することができる。なお、このように内部応力を分散させることにより、支持基板１２の厚さを１００μｍ〜１０００μｍの範囲内に設定しても、光記録媒体１０の反りを抑制することが可能となる。
【００８８】
この際、支持基板１２の両側にトラッキング用の凹凸を形成しようとすると、この支持基板１２の製造工程自体が複雑化し、支持基板１２の精度が悪化しやすくなる。そこで本実施形態では、トラッキング用の凹凸を支持基板１２の片面側に形成し、支持基板１２の製造を簡潔化することで精度を高めている。また、サーボ層１８を両側の第１、第２記録再生層群１４、３４で共用するようにしているので、第１、第２記録再生層群１４、３４の各記録再生層に対して、トラッキング用の凹凸を形成する必要が無くなる。結果、光記録媒体１０の形状精度を一層高めることが可能となる。支持基板１２の両側に第１記録再生層群１４と第２記録再生層群３４を配置しているので、記録容量を増大させることも可能になる。
【００８９】
更に本光記録媒体１０では、この支持基板１２を光透過性材料によって構成する。結果、第２光ピックアップ９０Ｂのビーム２７０Ｂを、支持基板１２を透過させながらサーボ層１８に照射することができる。なお、この支持基板１２を、光を通さない材料で構成する場合は、第１光ピックアップ９０Ａのビーム２７０Ａの戻り光を利用して、第２光ピックアップ９０Ｂのトラッキング制御を行うことも可能である。
【００９０】
更にこの光記録媒体１０では、第１バッファ層１７と第２バッファ層３７の厚みが、略同じに設定されている。結果、第１、第２バッファ層１７、３７の形成工程中の支持基板１２の反りを抑制することができる。これは、支持基板１２を薄くしたり、剛性の低い材料で構成したりできることを意味する。
【００９１】
また光記録媒体１０の第１記録再生層群１４と第２記録再生層群３４は、支持基板１２の中心を基準として、厚み方向に対称位置に積層されている。従って、第１、第２記録再生層群１４、３４に生じる内部応力も対称になるので、光記録媒体１０の反りを抑制できることになる。
【００９２】
特に本実施形態では、光記録媒体１０を製作する際に、第１バッファ層１７と第２バッファ層３７、第１記録再生層群１４と第２記録再生層群３４、第１中間層群１６と第２中間層群３６を、両側の面において同時に形成する。結果、紫外線硬化時の発生する内部応力が、支持基板１２の両側に均等に作用するので、光記録媒体１０の反りを一層低減できることになる。
【００９３】
この光記録媒体１０では、トラッキング用の２７０Ｂの波長条件における支持基板１２の屈折率が、同波長における第２バッファ層３７の屈折率より高く設定されている。このようにすることで、第２バッファ層３７側から入射したトラッキング用のビーム２７０Ｂの集光点が、支持基板１２を透過してサーボ層１８に到達しやすくなる。結果、第２光ピックアップ９０Ｂのトラッキング制御を確実に行うことが出来るようになる。
【００９４】
更に光記録媒体１０では、トラッキング用の赤色波長のビーム２７０Ａ、２７０Ｂを照射した場合のサーボ層１８の反射率は、仮に記録再生用のビーム１７０Ａ、１７０Ｂをサーボ層１８に照射した場合の反射率と比較して大きく設定されている。具体的にこれを実現する為に、第１、第２バッファ層１７、３７に関して、ビームの波長が短いほど光吸収量が大きくなる材料が選択されている。このようにすると、青色波長となる記録再生用のビーム１７０Ａ、１７０Ｂが、仮にサーボ層１８側に入射しても、第１、第２バッファ層１７、３７で吸収され易いのでサーボ層１８に到達する光量（サーボ層１８からの反射光量）を抑制できる。一方、赤色波長となるトラッキング用のビーム２７０Ａ、２７０Ｂは、第１、第２バッファ層１７、３７を積極的に透過できるので、サーボ層１８に到達する光量（サーボ層１８からの反射光量）を増大させることができる。結果、再生信号の品質を高めると同時に、安定したトラッキング制御を実現できる。
【００９５】
なお、本実施形態では、第１、第２バッファ層１７、３７において、赤色波長と青色波長で光吸収率が異なる特性を付与し、結果的に、サーボ層１８の反射率が、トラッキング用ビームと記録再生用ビームで異なるようにしたが、本発明はこれに限定されない。例えば、サーボ層１８に形成される反射膜自体に、波長によって反射率が異なるような波長選択特性を付与するようにしても良い。また、第１、第２バッファ層１７、３７とは別に、光透過率や吸収率の波長選択特性を有するフィルタ層を別途形成するようにしても良い。
【００９６】
更に、従来のように複数のサーボ層を光記録媒体内に形成すると、どのサーボ層を利用してどの記録再生層を記録するか等の取り決めが複雑となり、記録再生制御が混乱しやすい。そこで本実施形態のように、一つのサーボ層１８を、第１記録再生層群１４と第２記録再生層群３４で共用すると、記録再生制御が簡潔化されるので、記録再生エラーを低減する事も可能になる。
【００９７】
なお、上記実施形態では、第１カバー層１１と第２カバー層３１の厚さを同じにする場合を例示したが、本発明はこれに限定されない。例えば図７に示される光記録媒体１０のように、第１カバー層１１と第２カバー層３１の厚みを異ならせることも好ましい。具体的には、第２カバー層３１の厚みと比較して、第１カバー層１１の厚みを支持基板１２の厚さ分だけ大きく設定する。このようにすることで、サーボ層１８が、光記録媒体１０の厚さ方向の中心に配置することになる。結果、第１光ピックアップ９０Ａと第２光ピックアップ９０Ｂにおいて、トラッキング用光学系２００Ａ、２００Ｂの焦点距離を一致させることが可能となる。なお、この光記録媒体１０を製作する際は、厚さの異なる第１カバー層１１と第２カバー層３１を別々に積層することが好ましい。これらを同時に積層しなくても、支持基板１２や第１、第２バッファ層１７、３７、第１記録再生層群１４及び第１中間層群１６、第２記録再生層群３４及び第２中間層群３６によって、既にある程度の剛性が確保されているので、光記録媒体１０の反りや変形が十分に抑制される。
【００９８】
また、図８に示される光記録媒体１０のように、第１、第２バッファ層１７、３７の厚みを変えたり、第１、第２記録再生層群１４、３４の層間距離や積層数を変えたりすることで、結果としてサーボ層１８を、厚さ方向の中心に位置させることも可能である。
【００９９】
また、第１カバー層１１と第２カバー層３１の屈折率をそれぞれ変えたり、第１、第２記録再生層群１４、３４の層間の屈折率を変えたりすることで、結果としてサーボ層１８を、厚さ方向の光学距離としての中心に位置させることも可能である。
【０１００】
更に上記実施形態では、第１、第２記録再生層群１４、３４の各記録再生層として、予め記録膜が成膜されている場合に限って示したが、本発明はこれに限定されない。例えば図９に示される光記録媒体１０のように、将来の第１、第２記録再生層群となり得る場所の全体を、所定の厚みを有する第１、第２バルク層１３、３３とすることができる。この第１、第２バルク層１３、３３に記録用ビーム１７０Ａ、１７０Ｂが照射されると、ビームスポットの焦点部分のみが状態変化をおこして記録マークが形成される。即ち、本発明における光記録媒体は、ビームが照射される記録再生層が予め形成されたものに限られず、平面領域に記録マークが随時形成され、この記録マークの集合体として、第１、第２記録再生層群１４、３４が事後的に多層構成される場合も含んでいる。光記録媒体１０にバルク層１３、３３の構造を採用することにより、バルク層１３、３３の範囲内であれば、記録再生層の位置を自由に設定できる。例えば、図９に示されるように、第１バルク層１３と第２バルク層３３の厚さや配置が互いに異なっていても、第１、第２記録再生層群１４、３４の第１、第２表面１０Ａ、３０Ａからの距離を、互いに一致させることもできる。
【０１０１】
なお、ここでは第１、第２バルク層１３、３３を採用する際に、カバー層を省略する構造を例示したが、この他にもバッファ層を省略することもできる。
【０１０２】
なお、本実施形態では、トラッキング用のビーム２７０Ａ、２７０Ｂの波長と、記録再生用のビーム１７０Ａ、１７０Ｂの波長が赤色と青色で異なる場合を示したが、本発明はこれに限定されず、トラッキング用と記録再生用の間で同じ波長領域のビームを採用しても良い。
【０１０３】
また本実施形態では、記録再生層群において、２種類の層間距離（１６μｍ、１２μｍ）を交互に設定する場合を示したが、本発明はこれに限定されず、３種類以上の層間距離を組み合わせても良い。勿論、全て同じ膜厚に設定しても良い。
【産業上の利用可能性】
【０１０４】
本発明の光記録媒体等は、サーボ層と記録再生層を有する各種光記録媒体に適用することができる。
【符号の説明】
【０１０５】
１０              光記録媒体
１１              第１カバー層
１２              支持基板
１４              第１記録再生層群
１６              第１中間層群
１７              第１バッファ層
１８              サーボ層
３１              第２カバー層
３４              第２記録再生層群
３６              第２中間層群
３７              第２バッファ層
９０Ａ            第１光ピックアップ
９０Ｂ            第２光ピックアップ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図５Ｃ】
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【図５Ｄ】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図６Ｃ】
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【図６Ｄ】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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