(57)【要約】【課題】開口率、発光効率及び寿命を向上させた発光装置を提供する。【解決手段】基板１０と、基板１０上にある複数の多面構造体１１と、基板１０上に設けられる複数の画素２０と、から構成され、画素２０が、互いに発光色が異なる３種類の発光素子部（２１Ｒ、２１Ｇ、２１Ｂ）を有し、前記発光素子部が、第一電極と第二電極と、前記第一電極と前記第二電極との間に配置される発光層と、を有し、前記発光素子部が、基板１０上に設けられる多面構造体１１の傾斜面上に設けられ、多面構造体１１が、コーナーキューブであることを特徴とする、発光装置１。【選択図】図１
2012124083.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板上にある複数の多面構造体と、
前記基板上に設けられる複数の画素と、から構成され、
前記画素が、互いに発光色が異なる３種類の発光素子部を有し、
前記発光素子部が、第一電極と、第二電極と、前記第一電極と前記第二電極との間に配置される発光層と、を有し、
前記発光素子部が、前記多面構造体の傾斜面上に設けられ、
前記多面構造体が、コーナーキューブであることを特徴とする、発光装置。
【請求項２】
前記画素がデルタ配列で前記基板上に配列されていることを特徴とする、請求項１に記載の発光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、発光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、有機ＥＬ素子と称する。）は、実用化に向けての研究が活発に行われている。有機ＥＬ素子は、例えば、ガラス基板等の基板上に電極材料や有機材料を蒸着させるという方法で製造される。ここでシャドウマスクを用いると、複数種類の色（例えば、３色）の有機ＥＬ素子を所定の位置に選択的に形成することができるので、いわゆるパターニングが可能となる。しかしシャドウマスクの精度及び熱膨張の観点から、通常のシャドウマスクを用いたパターン化成膜技術は大型の表示装置を製造する際に適用するのが困難である。
【０００３】
そこでシャドウマスクを用いないで有機ＥＬ素子を製造する方法が検討されている。例えば、特許文献１には、厚く形成した素子分離膜をシャドウマスクとして利用してパターン化された有機ＥＬ素子を製造する方法及びこの方法によって製造された発光装置が提案されている。また、非特許文献１には、シャドウマスクを用いないで有機ＥＬ素子を製造する方法として、三角錐や四角錐の立体構造物の各傾斜面（角錐面）上に発光色が異なる有機ＥＬ素子を形成する方法が提案されている。また非特許文献１には、３色の異なる塗布型プロセスにて作製したポリマー有機ＥＬ素子を張り合わせた三角錐形状の発光装置及びこの装置の発光状態も開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０００−１５５５３８号公報
【非特許文献】
【０００５】
【非特許文献１】Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．，Ｖｏｌ．７７，Ｎｏ．７，ｐ９３６−９３８
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１にて提案されている発光装置は、厚く形成した素子分離膜によって開口率が小さいという問題が生じていた。また非特許文献１には、画素単位における発光装置のコンセプトは開示されているが、実際に発光装置を作製する上で重要となる画素配列等といったディスプレイを作製する上での実質的な課題については何ら言及されていない。
【０００７】
本発明は、上記課題を解決するためになされるものであり、その目的は、開口率、発光効率及び寿命を向上させた発光装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の発光装置は、基板と、
前記基板上にある複数の多面構造体と、
前記基板上に設けられる複数の画素と、から構成され、
前記画素が、互いに発光色が異なる３種類の発光素子部を有し、
前記発光素子部が、第一電極と第二電極と、前記第一電極と前記第二電極との間に配置される発光層と、を有し、
前記発光素子部が、前記多面構造体の傾斜面上に設けられ、
前記多面構造体が、コーナーキューブであることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、開口率、発光効率及び寿命を向上させた発光装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の発光装置における実施形態の例を示す概略図であり、（ａ）は発光装置の平面図であり、（ｂ）は、（ａ）の発光装置を構成する画素の平面図である。
【図２】図１の発光装置の構成部材である基板を作製するプロセスを示す断面模式図である。
【図３】図２に示されるプロセスで作製した基板から発光装置を作製するプロセスを示す断面模式図である。
【図４】（ａ）は、実験例１で作製した多面構造体付基板を示す模式図であり、（ｂ）は、基板上に設置される立体構造を示す模式図である。
【図５】実験例１における真空蒸着の具体的方法を示す模式図である。
【図６】実験例２で作製された発光装置を構成する発光素子部を示す断面概略図である。
【図７】実験例２で作製した発光装置の概略図である。
【図８】実験例２で作製した発光装置から出力された、単色発光スペクトル及び全色発光スペクトルを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明の発光装置は、基板と、この基板上にある複数の多面構造体と、この基板上にある複数の画素と、から構成される。ここで発光装置を構成する画素は、互いに発光色が異なる３種類の発光素子部を有している。そして画素に含まれる発光素子部は、第一電極と第二電極と、前記第一電極と前記第二電極との間に配置される発光層と、を有する。尚、第一電極と発光層との間及び発光層と第二電極との間のいずれかにおいて、介在層を適宜設けてもよい。具体的には、ホール注入層、ホール輸送層、電子輸送層、電子注入層等を介在層として設けてもよい。
【００１２】
本発明においては、発光素子部が、基板上に設けられる多面構造体の傾斜面上に設けられている。本発明において、多面構造体とは、コーナーキューブである。
【００１３】
以下、図面を参照しながら、本発明の発光装置の実施形態について説明する。
【００１４】
図１は、本発明の発光装置における実施形態の例を示す概略図であり、（ａ）は発光装置の平面図であり、（ｂ）は、（ａ）の発光装置を構成する画素の平面図である。
【００１５】
図１の発光装置１は、基板１０と、基板１０上にある多面構造体１１と、基板１０上に設けられる画素２０と、からなる。ここで多面構造体１１は、図１（ｂ）に示されるように、コーナーキューブ型の構造体である。一方、画素２０は、３種類の発光素子部（２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂ）を有している。ここで各発光素子部（２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂ）は、画素２０の土台となるコーナーキューブ型の多面構造体１１の傾斜面の面上に設けられている。
【００１６】
ただし、図１の発光装置１は、あくまでも本発明の実施形態の一例を示すものであり、本発明はこれに限定されるものではない。本発明の発光装置は、コーナーキューブ型の多面構造体１１の傾斜面の面上に発光素子部（２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂ）が設けられていればよいので、このコーナーキューブ構造の上部が、頭頂部が無い平面あるいは曲面となっていてもあっても構わない。
【００１７】
ところでコーナーキューブ型の多面構造体１１は、傾斜面を３面有している。このことから、３面ある傾斜面の各面にそれぞれ色が異なる発光素子部、例えば、Ｒ発光素子部、Ｇ発光素子部、Ｂ発光素子部を設けることが可能である。また当該傾斜面にそれぞれ異なる種類の材料を成膜することも可能である。ここでコーナーキューブ構造の３つの傾斜面にそれぞれ異なる材料を成膜するためには、ある１つの傾斜面に対してのみ成膜され、残りの２つの傾斜面には成膜されないように、成膜源をあらかじめ傾けて構築するのが望ましい。具体的には、成膜方向を傾斜面の傾きに対して垂直になるように成膜源をあらかじめ傾けて構築するのが望ましい。
【００１８】
一方、発光装置の開口率を上げる要素の１つとして、基板上の設けられる画素の配列方法（画素の配列の仕方）がある。この場合、画素間の間隔をなるべくつめるように画素を配列するのが望ましい。ここで、コーナーキューブ型の画素を、ストライプ配列で配列するのは物理的に可能ではある。しかし互いに隣接し、かつ画素の土台となる多面構造体が遮蔽体（蒸着材料の蒸気を遮蔽するもの）として機能してしまい、当該構造体の所望の傾斜面上に選択的に成膜ができない。あるいは、１つの面上に２以上の蒸着膜が重複することにより混色が発生する。これを避けるためには、隣り合う画素の間隔（画素間ピッチ）を大きくする必要があるが、画素間ピッチの拡大により画素間の間隔が開き、その結果発光装置の開口率が小さくなる。このことから、発光効率・寿命が低下する問題がある。
【００１９】
そこで図１（ｂ）で示される画素２０の土台となる多面構造体１１を、図１（ａ）で示されるようにデルタ配列で基板１０上に配列する。そうすると、隙間なく画素を配列できると共に、この多面構造体１１が遮蔽体として機能することなく混色が発生しないので好ましい。
【００２０】
多面構造体がコーナーキューブである場合、上述したように、この多面構造体をデルタ配列で配列することにより、隙間なく多面構造体を配置することができる。また多面構造体をコーナーキューブにすると、成膜方向を傾斜面の傾きに対して垂直になるように成膜源をあらかじめ傾けて構築することにより、多面構造体自体が遮蔽体になることがなく、また混色の問題が起こらない。このように、画素の土台となる多面構造体をコーナーキューブにすることにより、発光装置の開口率が向上すると共に、３種類の発光素子部を高精細かつ容易に形成することができる。
【００２１】
また、コーナーキューブ構造は、再帰性反射構造であることから、外光反射の防止が期待される。
【００２２】
本発明の発光装置において、基板の材質は特に問わない。有機材料からなる基板であってもよいし、無機材料からなる基板であってもよい。ここで有機材料からなる基板を採用する場合、例えば、厚さが薄いプラスチックフィルムを基板として本発明の発光装置をフレキシブルな発光装置とすることができる。また無機材料からなる基板を採用する場合、例えば、ガラス基板を採用することができる。
【００２３】
本発明の発光装置においては、基板が発光素子部から出力された光を透過させる部材か否かは特に問われない。例えば、光を透過させる部材を基板として採用して、基板側から光を取り出す形式にしてもよい。あるいはガラス等の光透過部材に単位素子を駆動するためのＴＦＴ等のスイッチング素子や他の部材を設けた結果として、それ自体が実質的に光を透過しない部材となっている基板も採用することができる。
【００２４】
本発明の発光装置は、多面構造体を形成する傾斜面上に設けられる発光素子部を個別に駆動させるための発光素子部の数に対応する数のスイッチング素子が備えられている。ここでスイッチング素子として、例えば、ＴＦＴを採用することができる。尚、本発明の発光装置は、駆動形式がアクティブマトリクス形式であることが好ましいが、単純マトリクス駆動形式であってもよい。
【００２５】
本発明の発光装置を構成する発光素子部に含まれる有機化合物層は、発光層のみの単層構成であってもよいし、発光層に他の機能層を組み合わせてなる積層構成であってもよい。また各発光素子部において、有機化合物層の層構成がそれぞれ異なっていてもよいし、共通する層においてその層の組成を各発光素子部ごとに異なるものにしてもよい。
【００２６】
また、本発明は、主に、発光素子部が有機ＥＬ素子である発光装置について説明しているが、発光材料としては有機材料でもよいし、無機材料でもよい。従って、発光材料として、一般的なＬＥＤ材料や、無機ＥＬ材料、あるいはクアンタムドット材料等でもよい。
【００２７】
本発明の発光装置において、画素を構成する発光素子部の発光色の組み合わせは、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）及び青色（Ｂ）からなる光の３原色であってもよいし、その他の組み合わせであってもよい。また、異なる種類の材料でも良い。また、成膜方法としては、限定されるものではないが、指向性がある成膜方法が好ましく、蒸着、スパッタ、ＣＶＤ等が望ましい。
【００２８】
本発明の発光装置は、具体的には、パソコン等のディスプレイやテレビジョンや電車内の広告用表示装置や自動車内に取り付けられるカーナビゲーション装置等の部材として使用される。ここで本発明の発光装置を画像表示装置として利用する場合は、例えば、自動車の運転席の表示部や携帯電話の表示部に用いられる。またこの画像表示装置をレーザープリンタや複写機等の電子写真方式の画像形成装置の操作パネル部分として利用してもよい。あるいはスチルカメラやビデオカメラ等の撮像装置の表示部として利用してもよい。
【００２９】
次に、本発明の発光装置、例えば、図１の発光装置１の製造方法の具体例について述べる。
【００３０】
（多面構造体を有する基板の作製）
図２は、図１の発光装置の構成部材である基板を作製するプロセスを示す断面模式図である。
【００３１】
図１の発光装置１の製造する際には、まず始めに、表面に電極１２が形成された基板１０を用意する、もしくは基板１０上の所定の位置に電極１２を形成する（図２（ａ））。そしてこの基板１０上の所定の領域に、コーナーキューブ形状の多面構造体１１を作製する。ここで多面構造体１１を作製する方法は特に限定されるものではない。例えば、モールドプロセスや、フォトリソグラフィ、ナノインプリント等のいずれの方法を採用することができる。
【００３２】
以下、モールドプロセスを用いた方法を具体例として説明する。まず、所望の立体形状（コーナーキューブ形状）にするためのマスター基板をダイアモンドツール等で作製する。作製されるマスター基板は、ＣｕやＮｉ等の金属製であることが望ましい。ここで形成される多面構造体１１の配列がデルタ配列になるように、マスター基板には所定のパターニングが施されているのが望ましい。次に、基板１０上に層間絶縁膜１３を塗布した（図２（ｂ））後、先程作製したマスター基板を、層間絶縁膜１３が塗布された基板１０に対してプレスすることで、層間絶縁膜１３の成形を行う。次に、ＵＶ露光等により層間絶縁膜１３を硬化させた後、マスター基板と基板１０とを剥離することにより、基板１０上の所望の位置にコーナーキューブ形状の多面構造体１１が形成される（図２（ｃ））。
【００３３】
以上述べたプロセスにおいて、層間絶縁膜１３の構成材料としてＵＶ硬化樹脂が挙げられるが、本発明はこれに限定されるものではない。ただし発光素子部から出力される光の進行方向が基板側（ボトムエミッション型）の発光装置を作製する場合には、層間絶縁膜１３の構成材料として透明樹脂を使用することが望ましい。もちろん層間絶縁膜１３の構成材料は、樹脂等の有機材料である必然性は無く、塗布型プロセスで膜を形成することが可能であるならば、例えば、ＳｉＯ等の無機材料を使用してもよい。また、フォトリソグラフィ法により多面構造体１２を作製する場合は、層間絶縁膜１３を塗布型プロセスで成膜する必要が無いため、ドライプロセスによって成膜される材料を使用しても構わない。層間絶縁膜１３をドライプロセスで成膜する場合、層間絶縁膜１３の構成材料としては、ＣＶＤ法やスパッタ法等で成膜したＳｉＯ，ＳｉＮ，ＳｉＮＯ等のＳｉ化合物であることが望ましい。
【００３４】
次に、作製した多面構造体１１上に、発光素子部（２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂ）の構成部材である第１電極２２を作製する。第１電極２２の構成材料は、発光素子部の発光が基板１０側から出力されるボトムエミッション型の発光装置と、発光素子部の発光が基板１０とは反対側から出力されるトップエミッション型の発光装置と、においてそれぞれ異なる。
【００３５】
例えば、ボトムエミッション型の発光装置の場合は、第１電極２２の構成材料は、透明導電材料又は半透明導電材料であることが望ましい。透明導電材料として、具体的には、インジウム化合物であるＩＴＯ，ＩＺＯ等が挙げられる。一方、半透明導電材料として、具体的には、Ａｇや、Ａｇとその他の金属からなる合金、Ａｌ等のその他の金属を、光透過性を有する程度の膜厚で成膜した薄膜が望ましい。もちろん第１電極２２は、インジウム化合物からなる透明導電膜と金属等からなる金属薄膜とからなる積層型電極にしてもよい。
【００３６】
実際に第１電極２２を形成する際には、まず第１電極２２となる電極薄膜を形成し（図２（ｄ））、次いでフォトリソグラフィによるパターン形成プロセスを行う（図２（ｅ））。これにより、所望の形状の第１電極２２が多面構造体１１の傾斜面上に形成される。
【００３７】
次に、第１電極２２の端部を覆い絶縁するための層間絶縁膜１４を形成する（図２（ｆ）、（ｇ））。本発明において、層間絶縁膜１４もまた、その構成材料は特に限定されるものではないが、樹脂等の有機材料でもよいし、無機材料でもよい。無機材料を使用する場合は、例えば、塗布型プロセスで形成可能な無機材料、例えば、ＳｉＯ等が使用される。また、フォトリソグラフィ法により層間絶縁膜１４を形成・加工する場合は、塗布型プロセスで層間絶縁膜１４を成膜する必要が無いため、ドライプロセスによって成膜される材料を使用しても構わない。層間絶縁膜１４をドライプロセスで成膜する場合、層間絶縁膜１４の構成材料としては、ＣＶＤ法やスパッタ法等で成膜したＳｉＯ，ＳｉＮ，ＳｉＮＯ等のＳｉ化合物であることが望ましい。層間絶縁膜１４も、層間絶縁膜１３と同様に、フォトリソグラフィ等により所望の形状にパターン形成される。本実施形態では、図２（ｆ）及び（ｇ）に示されるように層間絶縁膜１４を形成しているが、発光素子間で生じ得るショート等の問題が生じなければ、層間絶縁膜１４を形成するプロセスを省略しても構わない。以上のプロセスにより、コーナーキューブ形状の多面構造体１１が設けられている基板１０を作製することができる。
【００３８】
（発光装置の作製）
次に、上記プロセスにより作製したコーナーキューブ形状の多面構造体１１が設けられている基板１０から発光装置を作製するプロセスについて図面を参照しながら説明する。図３は、図２に示されるプロセスで作製した基板から発光装置を作製するプロセスを示す断面模式図である。
【００３９】
まず作製したコーナーキューブ形状の多面構造体１１が設けられている基板１０（図３（ａ））の画素面（多面構造体１１の傾斜面）に対して、真空蒸着により、発光材料等からなる膜を成膜する。まず、第１の機能層２３である正孔注入層を成膜する（図３（ｂ））。ここで正孔注入層を、赤色、緑色、青色の各画素に共通する層として成膜する場合は、基板面が蒸着源と平行になるように設置した上で上記真空蒸着を行う。
【００４０】
次に、緑色発光層２４ｇを成膜する（図３（ｃ））。緑色発光層２４ｇは、各画素の所定の位置でパターン形成する。このことから、緑色発光層２４ｇを成膜する際には、その成膜面に対して蒸着源が平行になるように配置する必要がある。例えば、多面構造体１１の傾斜面と基板の面とでなす角（画素角）が４５°の場合、蒸着面から垂直に伸ばした垂線を軸として、この軸上の立体角ωに蒸着される質量をｍ0とし、この軸から角度θだけ傾いた方向の立体角ωに蒸着される質量をｍφとする。ここで蒸着分子の有効蒸着角度を画素角に対して４５°、水平方向に対して５°とした場合、蒸着角をα＝０°，３０°，４５°，６０°，７０°と設定した場合の蒸着角度分布は下記式で示される。
【００４１】
【数１】
2012124083.tif 000003
【００４２】
上記式を利用して蒸着角度分布を計算すると、蒸着角（α）が６５°の時に蒸着される材料の収率が最大となることがわかる。従って、画素面に対して蒸着源を６５°傾斜させて蒸着することが望ましい。ただし画素面に対して蒸着源が相対的に６５°傾斜していればよいので、画素面に対して蒸着源を傾けてもよいし、蒸着源に対して基板を傾けてもよい。ただし、大型の基板で成膜する際には、基板を傾けるのは困難であるし、蒸着装置も大きくする必要性がある。係る場合では、好ましくは、蒸着源の方を傾ける。尚、正孔輸送層等の発光層以外の機能層についても各画素ごとにパターン形成する必要がある場合には、緑色発光層２４ｇと同様の方法で基板あるいは蒸着源を傾斜させて蒸着を行ってもよい。
【００４３】
次に、赤色発光層２４ｒ、青色発光層（不図示）も緑色発光層２４ｇと同様に成膜する（図３（ｄ））。赤色発光層３２ｒ、青色発光層（不図示）も緑色発光層２４ｇと同様にそれぞれの画素面に対して蒸着源を６５°傾斜させて蒸着することが望ましい。
【００４４】
次に、第２の機能層２５である電子輸送層を成膜する（図３（ｅ））。ここで電子輸送層を、赤色、緑色、青色の各画素に共通する層として成膜する場合は、基板面が蒸着源と平行になるように設置した上で上記真空蒸着を行う。また電子輸送層を各画素ごとにパターン形成する必要がある場合には、緑色発光層２４ｇと同様の方法で基板あるいは蒸着源を傾斜させて蒸着を行ってもよい。
【００４５】
次に、電子注入層（不図示）、第２電極２６を順次形成する（図３（ｆ））。電子注入層（不図示）や第２電極２６を成膜する際には、上述した方法を利用して薄膜を成膜することができる。
【００４６】
本発明の発光装置は、最後に、不活性ガス雰囲気中のグローブボックスにて、乾燥剤を入れた封止ガラス（不図示）とガラス基板の成膜面とをエポキシ樹脂接着剤を用いて封止する。もちろん、封止材料としては、ドライプロセスによって成膜される無機材料でもかまわない。例えば、ドライプロセスで形成される材料としては、ＣＶＤやスパッタ等で成膜したＳｉＯ，ＳｉＮ，ＳｉＮＯ等のＳｉ化合物であることが望ましい。このようにして、第１の実施形態の発光装置、即ち、コーナーキューブ形状の多面構造体上に発光素子部が設けられる発光装置を作製することができる。
【００４７】
［実験例１］
本実験例は、コーナーキューブ形状の多面構造体が設けられている基板の蒸着実験に関する実験例である。
【００４８】
（１）多面構造体付基板の作製
コーナーキューブ形状の立体構造を作製し、この立体構造をガラス製のマザー基板であるガラス基板（縦８５ｍｍ×横１００ｍｍ×厚さ０．７ｍｍ）上に設置して、多面構造体付基板を作製した。図４（ａ）は、本実験例で作製した多面構造体付基板を示す模式図であり、（ｂ）は、基板上に設置される立体構造を示す模式図である。尚、図４（ａ）に示される多面構造体付基板は、基板３０上に、６個のコーナーキューブ形状の立体構造３１がデルタ配列で配列されている。
【００４９】
本実験例で作製されるコーナーキューブ形状の立体構造は、まずガラス基板（基板３２、縦２０ｍｍ×横２０ｍｍ×厚さ０．７ｍｍ）を３枚用意した。次に、用意したガラス基板（基板３２）を、図４（ｂ）に示されるように３枚を辺で合わせた後、基板３２同士が合わさっている辺にエポキシ樹脂接着剤を塗布・硬化させることで、コーナーキューブ形状の立体構造を６個作製した。次に、この立体構造を、図４（ａ）に示されるように、マザー基板に対してデルタ配列になるようにピッチを調整した。次に、この立体構造の基板との接地点にエポキシ樹脂接着剤を塗布して樹脂を硬化させた。このようにして、多面構造体がコーナーキューブである基板（多面構造体付基板）を作製した。
【００５０】
（２）発光材料の蒸着
得られた多面構造体付基板を用いて、３面の傾斜面に対して、３種の異なる色の発光材料をそれぞれ蒸着した。図５は、本実験例における真空蒸着の具体的方法を示す模式図である。
【００５１】
本実験例においては、まず多面構造体付基板を真空蒸着機（ＶＰＣ１１００）に設置した。その際、図５に示されるように、蒸着したい面３１ａが蒸着源４０に対して平行になるように、多面構造体付基板を蒸着源の法線上、かつ当該基板の傾斜角を約６０°に設置した。次に、３種の発光材料、即ち、赤色発光材料（ＲＤ−３）、緑色発光材料（Ｌ８）、青色発光材料（ＢＦ０１）を順次蒸着した。まず、赤色発光材料からなる薄膜を成膜した。このとき当該薄膜の膜厚を３０ｎｍとし、成膜速度を１．０Å／ｓとした。次に、多面構造体のもう一方の面が蒸着源に対して平行になるように多面構造体付基板を移動させると共に、この多面構造体付基板を蒸着源の法線上、かつ多面構造体付基板の傾斜角を約６０°となるように設置した。次に、多面構造体付基板の所定の面に緑色発光材料を蒸着した。尚、緑色発光材料を蒸着する際の条件（膜厚、成膜速度）は、赤色発光材料のときと同じである。次に、多面構造体の傾斜面のうち未だに薄膜が形成されていない面が蒸着源に対して平行になるように多面構造体付基板を移動させると共に、この多面構造体付基板を蒸着源の法線上、かつ三角錐画素基板の傾斜角を約６０°として設置した。多面構造体付基板の所定の面に青色発光材料を蒸着した。尚、青色発光材料を蒸着する際の条件（膜厚、成膜速度）は、赤色発光材料のときと同じである。このようにして、多面構造体付基板が有する３面の傾斜面に対して、３種の異なる色の発光材料をそれぞれ蒸着した。
【００５２】
（３）蒸着膜の評価
３面の傾斜面に対して、３種の異なる色の発光材料がそれぞれ蒸着されている多面構造体付基板の蒸着膜の状態、例えば、蒸着膜のつきまわり、混色の有無を評価するため、目視による確認とＵＶ照射による目視評価をした。ここで目視による蒸着膜の評価を行ったところ、各傾斜面に蒸着されている蒸着膜について蒸着膜のつきまわり及び混色がないことを確認した。またＵＶ照射下による目視評価を行ったところ、ＵＶ照射を行わないで目視したときの評価と同様に、蒸着膜のつきまわり及び混色がないことを確認した。
【００５３】
［実験例２］コーナーキューブ型発光装置
本実験例は、本発明の発光装置を構成する画素の発光状態をシミュレートするために作成された発光装置に関するものであって、具体的には、コーナーキューブ状にＲＧＢのそれぞれの発光素子を配したコーナーキューブ型発光装置の実験例である。以下に、本実験例で使用した材料の一部を示す。
【００５４】
【化１】
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【００５５】
（１）発光素子部の作製
図６は、本実験例で作製された発光装置を構成する発光素子部を示す断面概略図である。図６の発光素子部５０は、基板５１上に、第１電極５２、有機化合物層５３、第２電極５４が順次設けられている。
【００５６】
（１−１）第１電極の作製
まずスパッタリング法により、ガラス基板（基板５１）上に、ＩｎＺｎＯを成膜し、第１電極５２を形成した。このとき第１電極５２の膜厚を４０ｎｍとした。
【００５７】
（１−２）有機化合物層の作製
次に、真空蒸着法により、第１電極５２上に青色発光素子部を構成する有機化合物層５３を形成した。まず化合物２を成膜して第１正孔輸送層を形成した。このとき第１正孔輸送層の膜厚を９０ｎｍとした。次に、化合物３を成膜して第２正孔輸送層を形成した。このとき第２正孔輸送層の膜厚を１０ｎｍとした。次に、化合物４と化合物５とを共蒸着して発光層を形成した。このとき発光層の膜厚を３５ｎｍとし、成膜速度をそれぞれ０．９８Å／ｓ（化合物４）、０．０２Å／ｓ（化合物５）と設定した。次に、化合物１を成膜して電子輸送層を形成した。このとき電子輸送層の膜厚を６０ｎｍとした。次に、ＬｉＦを成膜して電子注入層を形成した。このとき電子注入層の膜厚を０．５ｎｍとした。
【００５８】
次に、別の第１電極付基板を使用して、真空蒸着法により、第１電極５２上に緑色発光素子部を構成する有機化合物層５３を形成した。本実験例において、緑色発光素子部を構成する有機化合物層５３を形成する際には、基本的には、上述した青色発光素子部を構成する有機化合物層５３の形成方法を採用した。ただし、この際に、第２正孔輸送層の成膜を省略し、発光層を形成する際に化合物６と化合物７とを使用し、発光層の膜厚を３０ｎｍとし、成膜速度をそれぞれ０．９８Å／ｓ（化合物６）、０．０２Å／ｓ（化合物７）にして共蒸着した。
【００５９】
次に、別の第１電極付基板を使用して、真空蒸着法により、第１電極５２上に赤色発光素子部を構成する有機化合物層５３を形成した。本実験例において、赤色発光素子部を構成する有機化合物層５３を形成する際には、基本的には、上述した青色発光素子部を構成する有機化合物層５３の形成方法を採用した。ただし、この際に、第２正孔輸送層の成膜を省略し、発光層を形成する際に化合物８、化合物９及び化合物１０を使用し、発光層の膜厚を３０ｎｍとした。また、化合物８、化合物９及び化合物１０の共蒸着を行う際に、成膜速度をそれぞれ０．６８Å／ｓ（化合物８）、０．０２Å／ｓ（化合物９）、０．３０Å／ｓ（化合物１０）とした。
【００６０】
（１−３）第２電極の作製
次に、真空蒸着法により、電子注入層上に、Ａｌを成膜して第２電極５４を形成した。このとき第２電極５４の膜厚を２００ｎｍとし、成膜速度を１．０Å／ｓとした。最後に、窒素雰囲気中のグローブボックス内にて、乾燥剤を入れた封止ガラス（不図示）とガラス基板の成膜面とをエポキシ樹脂接着剤を用いて接着して各色の発光素子部をそれぞれ封止した。
【００６１】
（２）発光装置の作製
得られた各色（赤色、緑色、青色）の発光素子部について、それぞれの辺を合わせた後、合わせた辺についてエポキシ樹脂接着剤を塗布・硬化させ、コーナーキューブ型の立体構造を作製した。図７は、本実験例で作製した発光装置の概略図である。図７の発光装置６０は、赤色発光素子部５０ｒ、緑色発光素子部５０ｇ及び青色発光素子部５０ｂを有している。次に、発光面の屈折率をガラスと同等程度とするため、屈折率が１．５であるＰＤＭＳ（Ｐｏｌｙｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｏｘａｎｅ）をコーナーキューブ構造の内部に充填した。このようにして、コーナーキューブ状に赤色、緑色、青色のそれぞれの発光素子を配したコーナーキューブ画素素子を作製した。
【００６２】
（３）発光装置の評価
得られた発光装置を評価するため、各色（赤色、緑色、青色）の発光面からそれぞれ出力される単色発光スペクトルと、全発光素子部を駆動させたときの全色発光スペクトルとを測定した。
【００６３】
図８は、本実験例で作製した発光装置から出力された、単色発光スペクトル及び全色発光スペクトルを示す図である。各発光素子部を個別に駆動して単色発光させることにより、各色（赤色、緑色、青色）の発光スペクトルを確認した。また、全発光素子部を駆動させたときにおいても、各色の発光スペクトルを確認した。さらに、全発光素子部を駆動させたときに出力される光の色度はＣＩＥｘｙ色度座標で（０．３１，０．２７）であり、白色を呈することを確認した。
【符号の説明】
【００６４】
１：発光装置、１０（３０、３２、５１）：基板、１１：多面構造体、２０：画素、２１Ｒ（２１Ｇ、２１Ｂ）：発光素子部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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