(57)【要約】【課題】大型化あるいは部品点数の増加を招くことなく、安定した光束を射出することができる光源装置を提供する。【解決手段】  複数の発光部が２次元配列されている面発光レーザアレイを含み、回路基板１９に実装されている光源１１と、該光源１１からの光束の一部をモニタ用光束として反射するビームスプリッタ１２と、該ビームスプリッタ１２で反射されたモニタ用光束の光路上に配置され、該モニタ用光束を受光する受光素子１８と、ビームスプリッタ１２を透過した走査用光束の光路上に配置され、該走査用光束をカップリングするカップリングレンズ１３とを備えている。そして、ビームスプリッタ１２は、分離面として、受光素子１８に向けて反射されるモニタ用光束に対してパワーを有する曲面を備え、該分離面の接平面は、光源１１における光束の射出方向に直交する面に対して傾斜している。【選択図】図３
2012048080.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
面発光レーザと；
前記面発光レーザから射出された光束の光路上に配置され、該光束の一部を反射し、その反射される光束に対してパワーを有する分離面を含む分離光学素子と；
前記分離光学素子で反射された光束の光路上に配置され、該光束を受光する受光素子と；を備える光源装置。
【請求項２】
前記分離光学素子の前記分離面は、前記面発光レーザにおける光束の射出方向に直交する面に対して傾斜していることを特徴とする請求項１に記載の光源装置。
【請求項３】
前記分離光学素子は、厚さが不均一であることを特徴とする請求項１又は２に記載の光源装置。
【請求項４】
前記分離光学素子は、厚さが均一であることを特徴とする請求項１又は２に記載の光源装置。
【請求項５】
前記分離光学素子は、入射側の面及び射出側の面がいずれも凹面であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の光源装置。
【請求項６】
前記分離光学素子は、入射側の面及び射出側の面の一方が凹面であり、他方が平面であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の光源装置。
【請求項７】
前記分離光学素子の前記分離面は、入射側の面であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の光源装置。
【請求項８】
前記分離光学素子の前記分離面は、前記面発光レーザ及び前記受光素子を含む第１の平面の断面での曲率の絶対値が、前記第１の平面に直交する第２の平面の断面での曲率の絶対値よりも小さいことを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の光源装置。
【請求項９】
面発光レーザは複数の発光部を有し、
前記複数の発光部から射出され前記分離光学素子で反射された複数の光束は、それぞれ前記受光素子の後方に集光位置を有することを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の光源装置。
【請求項１０】
前記複数の発光部から射出され前記分離光学素子で反射された複数の光束は、それぞれの主光線が、前記受光素子の近傍で交差することを特徴とする請求項９に記載の光源装置。
【請求項１１】
面発光レーザは複数の発光部を有し、
前記複数の発光部から射出され前記分離光学素子で反射された複数の光束は、それぞれ発散状態で前記受光素子に到達することを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の光源装置。
【請求項１２】
前記複数の発光部から射出され前記分離光学素子で反射された複数の光束は、それぞれの主光線が、前記受光素子の近傍に集まることを特徴とする請求項１１に記載の光源装置。
【請求項１３】
前記分離光学素子の前記分離面は、断面形状が楕円の一部を含むことを特徴とする請求項１〜１２のいずれか一項に記載の光源装置。
【請求項１４】
前記分離光学素子は、中空の回転楕円体の一部を含むことを特徴とする請求項１３に記載の光源装置。
【請求項１５】
前記分離光学素子を保持する保持部材を有し、
前記面発光レーザにおける光束の射出方向である第１の方向、前記面発光レーザ及び前記受光素子が含まれる面内で前記第１の方向に直交する第２の方向、前記第１の方向及び第２の方向のいずれにも直交する第３の方向に関して、
前記分離光学素子は、前記保持部材に対して、前記第２の方向及び前記第３の方向の少なくとも一方について、端部の位置が規定されていないことを特徴とする請求項１〜１４のいずれか一項に記載の光源装置。
【請求項１６】
前記分離光学素子は、前記分離面側が前記保持部材に接着されていることを特徴とする請求項１５に記載の光源装置。
【請求項１７】
前記分離光学素子は、前記保持部材に突き当てられ、前記分離面の曲率が所望の曲率となるように変形された状態で保持されていることを特徴とする請求項１５又は１６に記載の光源装置。
【請求項１８】
前記分離光学素子を透過した光束の光路上に配置されたカップリング光学系を備え、
前記分離光学素子は、前記分離面とは別の面が、前記カップリング光学系での収差を補正することを特徴とする請求項１〜１７のいずれか一項に記載の光源装置。
【請求項１９】
前記分離光学素子は、樹脂製であることを特徴とする請求項１〜１８のいずれか一項に記載の光源装置。
【請求項２０】
光束により被走査面を主走査方向に走査する光走査装置であって、
請求項１〜１９のいずれか一項に記載の光源装置と；
前記光源装置から射出された光束を偏向する光偏向器と；
前記光偏向器で偏向された光束を前記被走査面上に集光する走査光学系と；を備える光走査装置。
【請求項２１】
前記光源装置から射出された光束を整形する開口部材を備え、
該開口部材の開口部は、前記主走査方向の長さと前記主走査方向に直交する副走査方向の長さとが異なり、
前記光源装置における面発光レーザから受光素子に向かう方向は、前記開口部における長さの短い方向と略一致していることを特徴とする請求項２０に記載の光走査装置。
【請求項２２】
少なくとも１つの像担持体と；
前記少なくとも１つの像担持体を画像情報に応じて変調された光束により走査する請求項２０又は２１に記載の光走査装置と；を備える画像形成装置。
【請求項２３】
前記画像情報は、多色のカラー画像情報であることを特徴とする請求項２２に記載の画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光源装置、光走査装置及び画像形成装置に係り、更に詳しくは、面発光レーザを有する光源装置、該光源装置を有する光走査装置、及び該光走査装置を備える画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
光プリンタ装置、デジタル複写機、及び光プロッタ等の画像形成装置に用いられている光走査装置は、画像情報に応じて変調された光により被走査面を走査し、被走査面上に画像情報に応じた潜像を形成している。
【０００３】
光源としては一般に半導体レーザが用いられており、従来は基板に対して平行な方向に光を射出する端面発光型の半導体レーザ（以下では、「端面発光レーザ」ともいう）がその主流であったが、近年、垂直共振器型の面発光レーザ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ｃａｖｉｔｙ  Ｓｕｒｆａｃｅ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｌａｓｅｒ；以下では「ＶＣＳＥＬ」ともいう）が登場してきた。ＶＣＳＥＬは、端面発光レーザに比べて、（１）低価格、（２）低消費電力、（３）小型で高性能、（４）２次元集積化が容易、という特徴を有している。
【０００４】
画像形成装置では、光源の光出力が変動すると出力画像に濃度変動を生じる。そこで、従来の端面発光レーザを用いた光走査装置では、端面発光レーザから後方に射出される光をモニタし、光出力の変動を抑制するＡＰＣ（Ａｕｔｏ  Ｐｏｗｅｒ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌ）を行っていた。しかしながら、面発光レーザではその構造上、後方への射出光が生じないため、面発光レーザを用いた光走査装置では、従来のＡＰＣとは異なる光量制御が必要となる。そこで、面発光レーザを用いた場合の光量制御方法として、面発光レーザから射出された光束の一部を、ビームスプリッタやハーフミラー等の光学素子を用いて分岐させて光検出器に導き、その光検出器の出力に基づいてＡＰＣを行うという方法が考えられた（例えば、特許文献１〜特許文献４参照）。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１〜特許文献４に開示されている装置では、大型化あるいは部品点数の増加を招くという不都合があった。
【０００６】
本発明は、かかる事情の下になされたもので、その第１の目的は、大型化あるいは部品点数の増加を招くことなく、安定した光束を射出することができる光源装置を提供することにある。
【０００７】
また、本発明の第２の目的は、大型化あるいは高コスト化を招くことなく、安定した光走査を行うことができる光走査装置を提供することにある。
【０００８】
また、本発明の第３の目的は、大型化あるいは高コスト化を招くことなく、高品質の画像を形成することができる画像形成装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、第１の観点からすると、面発光レーザと；前記面発光レーザから射出された光束の光路上に配置され、該光束の一部を反射し、その反射される光束に対してパワーを有する分離面を含む分離光学素子と；前記分離光学素子で反射された光束の光路上に配置され、該光束を受光する受光素子と；を備える光源装置である。
【００１０】
これによれば、大型化あるいは部品点数の増加を招くことなく、安定した光束を射出することができる。
【００１１】
本発明は、第２の観点からすると、光束により被走査面を主走査方向に走査する光走査装置であって、本発明の光源装置と；前記光源装置から射出された光束を偏向する光偏向器と；前記光偏向器で偏向された光束を前記被走査面上に集光する走査光学系と；を備える光走査装置である。
【００１２】
これによれば、大型化あるいは高コスト化を招くことなく、安定した光走査を行うことができる。
【００１３】
本発明は、第３の観点からすると、少なくとも１つの像担持体と；前記少なくとも１つの像担持体を画像情報に応じて変調された光束により走査する本発明の光走査装置と；を備える画像形成装置である。
【００１４】
これによれば、本発明の光走査装置を備えているため、結果として、大型化あるいは高コスト化を招くことなく、高品質の画像を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の一実施形態に係るレーザプリンタの概略構成を説明するための図である。
【図２】図１における光走査装置を説明するための図である。
【図３】図２における光源装置を説明するための図である。
【図４】光源に含まれる２次元アレイを説明するための図である。
【図５】パッケージ部材を説明するための図である。
【図６】光源制御装置の構成を説明するためのブロック図である。
【図７】ビームスプリッタの傾斜を説明するための図である。
【図８】図８（Ａ）〜図８（Ｄ）は、それぞれビームスプリッタ１２ａ〜１２ｄを説明するための図である。
【図９】ビームスプリッタ１２ａを透過した光束の光路を説明するための図である。
【図１０】ビームスプリッタ１２ｄを透過した光束の光路を説明するための図である。
【図１１】ビームスプリッタにおける入射側の面の形状を説明するための図である。
【図１２】第１の数値例における３つの主光線の光路を説明するための図である。
【図１３】選択された５つの発光部を説明するための図である。
【図１４】第１の数値例における受光素子での各光束の主光線の受光位置を説明するための図である。
【図１５】第１の数値例における主走査対応方向に関する受光素子近傍での各ビームスポット径を説明するための図である。
【図１６】第１の数値例における副走査対応方向に関する受光素子近傍での各ビームスポット径を説明するための図である。
【図１７】光源装置の変形例１を説明するための図である。
【図１８】図１８（Ａ）及び図１８（Ｂ）は、それぞれビームスプリッタで反射された光束の集光点が受光素子の後方に位置するときを説明するための図である。
【図１９】図１９（Ａ）及び図１９（Ｂ）は、それぞれビームスプリッタで反射された光束の集光点が受光素子の受光面の前方に位置するときを説明するための図である。
【図２０】第１の数値例における受光素子での各ビームスポットを説明するための図である。
【図２１】第２の数値例における受光素子での各光束の主光線の受光位置を説明するための図である。
【図２２】第２の数値例における主走査対応方向に関する受光素子近傍での各ビームスポット径を説明するための図である。
【図２３】第２の数値例における副走査対応方向に関する受光素子近傍での各ビームスポット径を説明するための図である。
【図２４】第２の数値例における受光素子での各ビームスポットを説明するための図である。
【図２５】図２５（Ａ）及び図２５（Ｂ）は、それぞれビームスプリッタで反射された光束が発散光束であるときを説明するための図である。
【図２６】光源装置の変形例２を説明するための図である。
【図２７】光源装置の変形例３を説明するための図である。
【図２８】温度上昇によるビームスプリッタの形状変化を説明するための図（その１）である。
【図２９】温度上昇によるビームスプリッタの形状変化を説明するための図（その２）である。
【図３０】光源装置の変形例４を説明するための図である。
【図３１】温度上昇によるビームスプリッタの形状変化を説明するための図（その３）である。
【図３２】温度上昇によるビームスプリッタの形状変化を説明するための図（その４）である。
【図３３】ビームスプリッタの形状誤差の影響を説明するための図である。
【図３４】ビームスプリッタの曲率の調整を説明するための図である。
【図３５】カラープリンタの概略構成を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明の一実施形態を図１〜図３４に基づいて説明する。図１には、本発明の一実施形態に係る画像形成装置としてのレーザプリンタ１０００の概略構成が示されている。
【００１７】
このレーザプリンタ１０００は、光走査装置１０１０、感光体ドラム１０３０、帯電チャージャ１０３１、現像ローラ１０３２、転写チャージャ１０３３、除電ユニット１０３４、クリーニングユニット１０３５、トナーカートリッジ１０３６、給紙コロ１０３７、給紙トレイ１０３８、レジストローラ対１０３９、定着ローラ１０４１、排紙ローラ１０４２、排紙トレイ１０４３、通信制御装置１０５０、及び上記各部を統括的に制御するプリンタ制御装置１０６０などを備えている。なお、これらは、プリンタ筐体１０４４の中の所定位置に収容されている。
【００１８】
通信制御装置１０５０は、ネットワークなどを介した上位装置（例えばパソコン）との双方向の通信を制御する。
【００１９】
感光体ドラム１０３０は、円柱状の部材であり、その表面には感光層が形成されている。すなわち、感光体ドラム１０３０の表面が被走査面である。そして、感光体ドラム１０３０は、図１における矢印方向に回転するようになっている。
【００２０】
帯電チャージャ１０３１、現像ローラ１０３２、転写チャージャ１０３３、除電ユニット１０３４及びクリーニングユニット１０３５は、それぞれ感光体ドラム１０３０の表面近傍に配置されている。そして、感光体ドラム１０３０の回転方向に沿って、帯電チャージャ１０３１→現像ローラ１０３２→転写チャージャ１０３３→除電ユニット１０３４→クリーニングユニット１０３５の順に配置されている。
【００２１】
帯電チャージャ１０３１は、感光体ドラム１０３０の表面を均一に帯電させる。
【００２２】
光走査装置１０１０は、帯電チャージャ１０３１で帯電された感光体ドラム１０３０の表面に、上位装置からの画像情報に基づいて変調された光束を照射する。これにより、感光体ドラム１０３０の表面に、画像情報に対応した潜像が形成される。ここで形成された潜像は、感光体ドラム１０３０の回転に伴って現像ローラ１０３２の方向に移動する。なお、この光走査装置１０１０の構成については後述する。
【００２３】
トナーカートリッジ１０３６にはトナーが格納されており、該トナーは現像ローラ１０３２に供給される。
【００２４】
現像ローラ１０３２は、感光体ドラム１０３０の表面に形成された潜像にトナーカートリッジ１０３６から供給されたトナーを付着させて画像情報を顕像化させる。ここでトナーが付着した像（以下では、便宜上「トナー像」ともいう）は、感光体ドラム１０３０の回転に伴って転写チャージャ１０３３の方向に移動する。
【００２５】
給紙トレイ１０３８には記録紙１０４０が格納されている。この給紙トレイ１０３８の近傍には給紙コロ１０３７が配置されており、該給紙コロ１０３７は、記録紙１０４０を給紙トレイ１０３８から１枚ずつ取り出し、レジストローラ対１０３９に搬送する。該レジストローラ対１０３９は、給紙コロ１０３７によって取り出された記録紙１０４０を一旦保持するとともに、該記録紙１０４０を感光体ドラム１０３０の回転に合わせて感光体ドラム１０３０と転写チャージャ１０３３との間隙に向けて送り出す。
【００２６】
転写チャージャ１０３３には、感光体ドラム１０３０の表面上のトナーを電気的に記録紙１０４０に引きつけるために、トナーとは逆極性の電圧が印加されている。この電圧により、感光体ドラム１０３０の表面のトナー像が記録紙１０４０に転写される。ここで転写された記録紙１０４０は、定着ローラ１０４１に送られる。
【００２７】
定着ローラ１０４１では、熱と圧力とが記録紙１０４０に加えられ、これによってトナーが記録紙１０４０上に定着される。ここで定着された記録紙１０４０は、排紙ローラ１０４２を介して排紙トレイ１０４３に送られ、排紙トレイ１０４３上に順次スタックされる。
【００２８】
除電ユニット１０３４は、感光体ドラム１０３０の表面を除電する。
【００２９】
クリーニングユニット１０３５は、感光体ドラム１０３０の表面に残ったトナー（残留トナー）を除去する。残留トナーが除去された感光体ドラム１０３０の表面は、再度帯電チャージャ１０３１に対向する位置に戻る。
【００３０】
次に、前記光走査装置１０１０の構成について説明する。
【００３１】
この光走査装置１０１０は、一例として図２に示されるように、光源装置１０、シリンドリカルレンズ３１、ポリゴンミラー３３、偏向器側走査レンズ３５、像面側走査レンズ３６、２つの光検知用ミラー（３７ａ、３７ｂ）、及び２つの光検知センサ（３８ａ、３８ｂ）などを備えている。そして、これらは、不図示のハウジングの中の所定位置に組み付けられている。
【００３２】
なお、以下では、便宜上、主走査方向に対応する方向を「主走査対応方向」と略述し、副走査方向に対応する方向を「副走査対応方向」と略述する。
【００３３】
光源装置１０は、一例として図３に示されるように、光源１１、ビームスプリッタ１２、カップリングレンズ１３、開口板１４、受光素子１８、及び光源制御装置２２を有している。そして、光源１１、受光素子１８及び光源制御装置２２は、同一の回路基板１９上にそれぞれ実装されている。
【００３４】
なお、本明細書では、ＸＹＺ３次元直交座標系において、光源装置１０からポリゴンミラー３３に向かう光束の進行方向を「Ｘ軸方向」、ポリゴンミラー３３の回転軸方向を「Ｚ軸方向」とする。なお、本明細書では、「光束の進行方向」とは、該光束における最も光強度の強い光線の進行方向をいう。
【００３５】
光源１１は、一例として図４に示されるように、４０個の発光部が２次元的に配列されて１つの基板上に形成された２次元アレイを有している。ここでは、主走査対応方向については２７０μｍ、副走査対応方向については３３９μｍの範囲内に４０個の発光部が集約されている。
【００３６】
これら４０個の発光部は、すべての発光部を副走査対応方向（ここでは、Ｚ軸方向と同じ）に伸びる仮想線上に正射影したときに、隣り合う２つの発光部の発光部間隔が等間隔となるように配置されている。なお、本明細書では、「発光部間隔」とは２つの発光部の中心間距離をいう。
【００３７】
各発光部は、発振波長が７８０ｎｍ帯の垂直共振器型の面発光レーザである。すなわち、２次元アレイは、４０個の発光部を有する面発光レーザアレイである。
【００３８】
光源１１は、一例として図５に示されるように、パッケージ部材に保持されている。なお、図３及び図５では、煩雑さを避けるため、光源１１とパッケージ部材とを繋ぐボンディングワイヤの図示は省略している。
【００３９】
パッケージ部材は、ＣＬＣＣ（Ｃｅｒａｍｉｃ  ｌｅａｄｅｄ  ｃｈｉｐ  ｃａｒｒｉｅｒ）と呼ばれるフラットパッケージであり、セラミックと金属配線の多層構造となっている。
【００４０】
パッケージ部材は、その＋Ｘ側には、周囲が壁で囲まれている空間領域を有している。光源１１は、該空間領域の底面のほぼ中央にＡｕＳｎ等の半田材を用いてダイボンドされている。そして、該空間領域を密閉するようにカバーガラスがエポキシ樹脂系接着剤で接合されている。これによって、光源１１を保護している。
【００４１】
図３に戻り、ビームスプリッタ１２は、光源１１から射出された光束の光路上に配置され、該光束の一部を反射し、残りを透過させる。すなわち、反射光と透過光とに分離する。ここでの分離の割合は、光源の出力、光走査装置の構成、被走査面の光感度、及び受光素子の受光感度などに応じて設定される。
【００４２】
ここでは、ビームスプリッタ１２は、光源１１から射出された光束が入射する面が分離面である。また、該分離面は、反射される光束に対してパワーを有する曲面である。
【００４３】
ビームスプリッタ１２は、反射／透過特性（分離特性）が入射光の偏光状態に依存しない無偏光ビームスプリッタであっても良いし、反射／透過特性（分離特性）が入射光の偏光状態に依存する偏光ビームスプリッタであっても良い。但し、複数の発光部間に偏光方向のばらつきがある場合や、偏光方向の経時変化を考慮する必要がある場合には、無偏光ビームスプリッタを用いるのが好ましい。
【００４４】
ビームスプリッタ１２は、ガラスによって作成することもできるが、樹脂製とすることで生産性が向上し、低コストとなる。ビームスプリッタ１２で反射された光束に対する高品位の結像特性は不要である。そのため、ビームスプリッタ１２における分離面の形状精度や、環境温度に対する安定性は、低くても良い。
【００４５】
カップリングレンズ１３は、ビームスプリッタ１２を透過した光束の光路上に配置され、該光束を略平行光束とする。
【００４６】
開口板１４は、開口部を有し、カップリングレンズ１３を介した光束を整形する。該開口部を通過した光束が、光源装置１０から射出される光束である。なお、開口部は、主走査対応方向（Ｙ軸方向）の幅よりも副走査対応方向（Ｚ軸方向）の幅の方が狭くなるように設定されている。
【００４７】
受光素子１８は、ビームスプリッタ１２で反射された光束の光路上に配置され、該光束を受光する。受光素子１８は、受光光量に応じた信号を光源制御装置２２に出力する。
【００４８】
なお、以下では、ビームスプリッタ１２で反射された光束を「モニタ用光束」ともいい、ビームスプリッタ１２を透過した光束を「走査用光束」ともいう。
【００４９】
図２に戻り、シリンドリカルレンズ３１は、光源装置１０の開口板１４の開口部を通過した光束、すなわち、光源装置１０から射出された光束を、ポリゴンミラー３３の偏向反射面近傍にＺ軸方向に関して結像する。
【００５０】
光源１１とポリゴンミラー３３との間の光路上に配置される光学系は、偏向器前光学系とも呼ばれている。本実施形態では、偏向器前光学系は、ビームスプリッタ１２とカップリングレンズ１３と開口板１４とシリンドリカルレンズ３１とから構成されている。
【００５１】
ポリゴンミラー３３は、一例として内接円の半径が２５ｍｍの６面鏡を有し、各鏡がそれぞれ偏向反射面となる。このポリゴンミラー３３は、Ｚ軸方向に平行な軸（回転軸）の周りを等速回転しながら、シリンドリカルレンズ３１からの光束を偏向する。
【００５２】
偏向器側走査レンズ３５は、ポリゴンミラー３３で偏向された光束の光路上に配置されている。
【００５３】
像面側走査レンズ３６は、偏向器側走査レンズ３５を介した光束の光路上に配置されている。そして、この像面側走査レンズ３６を介した光束が感光体ドラム１０３０の表面に照射され、光スポットが形成される。この光スポットは、ポリゴンミラー３３の回転に伴って感光体ドラム１０３０の長手方向に移動する。すなわち、感光体ドラム１０３０上を走査する。このときの光スポットの移動方向が「主走査方向」である。また、感光体ドラム１０３０の回転方向が「副走査方向」である。
【００５４】
ポリゴンミラー３３と感光体ドラム１０３０との間の光路上に配置される光学系は、走査光学系とも呼ばれている。本実施形態では、走査光学系は、偏向器側走査レンズ３５と像面側走査レンズ３６とから構成されている。なお、偏向器側走査レンズ３５と像面側走査レンズ３６の間の光路上、及び像面側走査レンズ３６と感光体ドラム１０３０の間の光路上の少なくとも一方に、少なくとも１つの折り返しミラーが配置されても良い。
【００５５】
図２に戻り、光検知センサ３８ａには、ポリゴンミラー３３で偏向され、走査光学系を介した光束のうち書き込み開始前の光束の一部が、光検知用ミラー３７ａを介して入射する。また、光検知センサ３８ｂには、ポリゴンミラー３３で偏向され、走査光学系を介した光束のうち書き込み終了後の光束の一部が、光検知用ミラー３７ｂを介して入射する。
【００５６】
各光検知センサはいずれも、受光量に応じた信号（光電変換信号）を出力する。
【００５７】
光源制御装置２２は、一例として図６に示されるように、画素クロック生成回路２１５、画像処理回路２１６、書込制御回路２１９、及び光源駆動回路２２１などを有している。なお、図６における矢印は、代表的な信号や情報の流れを示すものであり、各ブロックの接続関係の全てを表すものではない。
【００５８】
画素クロック生成回路２１５は、光検知センサ３８ａの出力信号と光検知センサ３８ｂの出力信号とから、各光検知センサの間を光束が走査するのに要した時間を求め、その時間に予め設定されている数のパルスが収まるように周波数を設定し、該周波数の画素クロック信号ＰＣＬＫを生成する。ここで生成された画素クロック信号ＰＣＬＫは、画像処理回路２１６及び書込制御回路２１９に供給される。また、光検知センサ３８ａの出力信号は、同期信号として書込制御回路２１９に出力される。
【００５９】
画像処理回路２１６は、プリンタ制御装置１０６０を介して上位装置から受信した画像情報をラスター展開するとともに、所定の中間調処理などを行った後、画素クロック信号ＰＣＬＫを基準とした各画素の階調を表す画像データを発光部毎に作成する。そして、画像処理回路２１６は、光検知センサ３８ａの出力信号に基づいて書き込み開始タイミングを検出すると、画素クロック信号ＰＣＬＫに同期して画像データを書込制御回路２１９に出力する。
【００６０】
書込制御回路２１９は、画像処理回路２１６からの画像データ、画素クロック生成回路２１５からの画素クロック信号ＰＣＬＫ及び同期信号に基づいてパルス変調信号を生成する。また、書込制御回路２１９は、所定のタイミングで、受光素子１８の出力信号に基づいて、光源装置１０の開口板１４の開口部を通過する光束の光量が所望の値となるように、各発光部の駆動電流を補正する。すなわち、ＡＰＣ（Ａｕｔｏ  Ｐｏｗｅｒ  Ｃｏｎｔｒｏｌ）を行う。
【００６１】
光源駆動回路２２１は、書込制御回路２１９からのパルス変調信号に基づいて２次元アレイの各発光部を駆動する。
【００６２】
光源装置１０では、カップリングレンズ１３がビームスプリッタ１２の後段に配置されることから、（１）受光素子１８に入射する光束の位置を調整するために、ビームスプリッタ１２の位置を調整する、（２）カップリングレンズ１３の光源１１に対する位置を調整する、ことが個別に可能となる。
【００６３】
光源装置１０の小型化のためには、ビームスプリッタ１２から受光素子１８までの光路長を極力短くすることが望ましい。そのため、ビームスプリッタ１２は、光源１１の近くに配置されることとなる。そして、上記（１）の調整は、光量の検出精度を向上させるための調整であり、上記（２）の調整は、走査光学系の光学特性を安定させるための調整である。なお、ビームスプリッタ１２が樹脂製のとき、上記（２）の調整によって、ビームスプリッタ１２の形状誤差や形状の温度依存性の影響が増加するが、ビームスプリッタ１２を配置した後に上記（２）の調整を行うことにより、走査用光束へのビームスプリッタ１２の上記影響を抑制することが可能である。すなわち、従来の調整工程と大きく異なることはない。
【００６４】
本実施形態では、ビームスプリッタ１２を透過した光を走査光学系へ、反射された光を受光素子１８へ導く構成としている。その理由は、１つは光源装置１０の小型化のためであり、もう１つは、ビームスプリッタ１２に形状誤差がある場合、反射された光のほうが、透過した光よりも光学特性の劣化が大きいからである。走査光学系では、最終的に小径のビームスポットに集束させて高精度な光書込を行う必要があるため、劣化が大きい反射光を用いることはできない。一方、光量検出のための光束は、受光素子に入射させればよく、結像特性に対する要求する精度は、走査用光束よりも小さい。
【００６５】
そこで、ビームスプリッタ１２として、安価であるが寸法精度や安定性に劣る樹脂製のビームスプリッタを用いることが可能となる。
【００６６】
ビームスプリッタにおける分離面の反射機能は、誘電体多層膜や金属膜のコーティングによって得ることができる。また、反射機能を有する樹脂をガラス基板に貼り付ける構成としても良い。
【００６７】
さらに、ビームスプリッタ１２は、入射側の面における光束の入射位置での法線が、Ｘ軸方向に対してＺ軸方向に傾斜している（図７参照）。この場合は、光源１１への戻り光が抑制され、光源１１の出力が不安定になるのを防止することができる。なお、該入射位置における法線に直交する平面は「接平面」と呼ばれている。
【００６８】
ところで、上記傾斜によって、ビームスプリッタ１２を透過した光束は、波面収差が劣化するが、開口板１４の開口部の幅が主走査対応方向（Ｙ軸方向）よりも副走査対応方向（Ｚ軸方向）の方が狭いため、開口部を通過した光束への影響は小さい。なお、仮に、開口板１４の開口部の幅が副走査対応方向（Ｚ軸方向）よりも主走査対応方向（Ｙ軸方向）の方が狭い場合には、上記法線は、Ｘ軸方向に対してＹ軸方向に傾斜させるのが好ましい。
【００６９】
ビームスプリッタ１２の形状としては、種々のものが考えられる。図８（Ａ）には、入射側の面が凹面で射出側の面が凸面であり、透過光束に対してもパワーを有するもの（ビームスプリッタ１２ａという）が示され、図８（Ｂ）には、入射側の面が凹面で射出側の面が凹面のもの（ビームスプリッタ１２ｂという）が示され、図８（Ｃ）には、入射側の面が凹面で射出側の面が平面のもの（ビームスプリッタ１２ｃという）が示され、図８（Ｄ）には、入射側の面が凹面で射出側の面が凸面であり、透過光束に対してパワーをもたないもの（ビームスプリッタ１２ｄという）が示されている。
【００７０】
ビームスプリッタ１２ｂでは、射出側の面で反射される光は発散する。これにより、多重反射での干渉による光量検知精度の劣化、あるいは書き込み時の光量のばらつき（特開平０７−１９８４７６号公報参照）を大きく低減することができる。
【００７１】
ビームスプリッタ１２ｃでは、射出側の面が平面であるため、加工が容易となる。また、本実施形態では、ビームスプリッタ１２は、発散光束中に配置されるため、射出側の面が平面であっても、上記多重反射での干渉は低減する。そのため、発光部間の光量の誤差が許容範囲内であれば、ビームスプリッタ１２ｃを用いることにより、低コスト化を図ることができる。
【００７２】
ビームスプリッタ１２ａを用いたときの透過光束の光路が図９に示され、ビームスプリッタ１２ｄを用いたときの透過光束の光路が図１０に示されている。
【００７３】
ビームスプリッタ１２ａを用いたとき、透過光束は、該ビームスプリッタがないときよりも、ビームスプリッタ１２ａの屈折率及び厚さで決まる量だけＺ軸方向にシフトしてビームスプリッタ１２ａから射出される。また、ビームスプリッタ１２ａは、透過光束に対して正のパワーを持つように設定されており、透過光束の発散状態は、ビームスプリッタがないときよりも集束気味になる。
【００７４】
ビームスプリッタ１２ｄを用いたとき、ビームスプリッタ１２ａと同様に、透過光束は、ビームスプリッタがないときよりも、ビームスプリッタ１２ｄの屈折率及び厚さで決まる量だけＺ軸方向にシフトしてビームスプリッタ１２ｄから射出される。但し、ビームスプリッタ１２ｄは、透過光束に対してパワーをほとんど持たないように設定されているため、透過光束の発散状態は、該ビームスプリッタがないときとほぼ同じである。
【００７５】
ところで、ビームスプリッタは、透過光束に対してパワーをほとんど持たないように設定されていても、環境温度の変化に伴う熱膨張・収縮によってパワーがわずかにつくことが考えられる。このとき、ビームスプリッタ１２ａのように始めからパワーを有する場合に比べて、ビームスプリッタ１２ｄの場合は、ビームウエスト位置のずれが小さいため、感光体ドラム表面での光スポットの特性への影響が小さい。また、ビームスプリッタ１２ｄは、シート状の部材を湾曲させたような厚さが一様な形状であっても良く、肉厚を均一にすることで加工が容易になる。
【００７６】
ビームスプリッタの反射面（分離面）である入射側の面（以下では、便宜上「面Ａ」ともいう）の形状について図１１を用いて説明する。
【００７７】
ここでは、入射光と反射光が含まれる平面はＸＺ平面である。そして、入射位置を含むＸＺ断面における面Ａの曲率をＣｚｘ、入射位置を含むＸＹ断面における面Ａの曲率をＣｘｙとする。このとき、|Ｃｚｘ|＜|Ｃｘｙ|となるよう設定されている。
【００７８】
仮に、面Ａが球面であって、|Ｃｚｘ|＝|Ｃｘｙ|であると、光束が面Ａで反射されたときに受ける集光パワーは、ＺＸ断面内及びＸＹ断面内で互いに異なることとなる。そこで、反射光束に対して、主走査対応方向における集束作用よりも、副走査対応方向における集束作用が強くなる。その結果、主走査対応方向と副走査対応方向とでは集束位置が異なり、受光素子１８上ではどちらか一方が集束できない。つまり、面Ａの形状は、球面などの回転対称形であることは好ましくない。
【００７９】
そこで、本実施形態では、|Ｃｚｘ|＜|Ｃｘｙ|とすることで、主走査対応方向での集光位置と副走査対応方向での集束位置との差を小さくし、反射光束がより良好に受光素子１８上で集束できるようにしている。
【００８０】
次に、面Ａの形状について具体的に説明する。なお、光源１１から面Ａまでの距離は２０ｍｍ、面Ａから受光素子１８までの距離は４０ｍｍである。
【００８１】
《数値例１》
面Ａは、ＸＺ断面形状及びＸＹ断面形状がいずれも円弧形状のアナモフィック面である。そして、Ｃｘｚ＝３２．３６×１０−３（ｍｍ−１）、Ｃｘｙ＝４３．１０×１０−３（ｍｍ−１）、すなわち、１／Ｃｘｚ＝３０．９ｍｍ、１／Ｃｘｙ＝２３．２ｍｍである。
【００８２】
図１２には、光源１１の３つの発光部から射出され、面Ａで反射された３つの光束の主光線（主光線１〜３）の光路が示されている。面Ａで反射された主光線１〜３は、受光素子１８に到達する前に交差する。
【００８３】
また、光源１１における複数の発光部のうち、図１３に示される５つの発光部（◆発光部、■発光部、●発光部、▲発光部、×発光部）を選択し、該５つの発光部から射出され、図１４に示されるように受光素子１８で受光された５つの光束（ｂｍ１〜ｂｍ５）のビームスポット径（ピーク強度の１／ｅ２）が図１５及び図１６に示されている。なお、図１４では、主光線の受光位置が示されている。また、図１５は、主走査対応方向におけるビームスポット径であり、図１６は、副走査対応方向におけるビームスポット径である。図１５及び図１６では、横軸（デフォーカス量）の原点が受光素子１８の受光面位置である。そして、図１３〜図１６における同一シンボルは対応関係にあることを意味している。
【００８４】
この場合は、５つの光束は受光素子１８の受光面上に略集束されており、光源１１と受光素子１８の受光面が共役関係にある。
【００８５】
主走査対応方向に関して、ビームウエスト径は８０〜１６０μｍ程度であり、±１ｍｍの範囲でデフォーカスするとビームスポット径は５００μｍ程度となる。副走査対応方向に関して、ビームウエスト径は１１０〜１３０μｍ程度であり、±１ｍｍの範囲でデフォーカスするとビームスポット径は２５０μｍ程度となる。
【００８６】
このように、光源１１の複数の発光部から射出され、面Ａで反射された複数の光束の主光線が、受光素子１８に到達する前に交差するように設定することで、全ての光束が受光素子１８の受光面に入射することができ、受光素子１８での検知効率が向上する。そこで、面Ａでの反射率を低く、透過率を高く設定し、走査用光束の光量を大きくすることができる。
【００８７】
また、図１２に示されるように、受光素子１８の受光面に対して光線が斜めに入射するため、受光素子１８の受光面で反射した光は光源１１に戻らない。
【００８８】
但し、図１７に示される光源装置の変形例１のように、ビームスプリッタ１２で反射された光が略垂直に受光素子１８の受光面に入射する場合は、戻り光の影響を低減するために、上記共役関係をある程度崩し、デフォーカス量が１〜５mm程度の位置をビームウエストの位置とするのが好ましい（図１８（Ａ）及び図１８（Ｂ）参照）。
【００８９】
なお、デフォーカス量がマイナス側の位置をビームウエストの位置とすると、図１９（Ａ）及び図１９（Ｂ）に示されるように、複数の光束における主光線間の距離が広がるので、受光素子１８の受光面の面積を大きくする必要がある。
【００９０】
なお、変形例１は、受光素子１８が光源１０とは異なる回路基板に実装されている点に特徴を有している。
【００９１】
ところで、図１４に示されるように、受光素子１８の受光面上では、主走査対応方向については１２００μｍ、副走査対応方向については７００μｍの範囲内に、複数の発光部から射出され面Ａで反射された複数の光束の各主光線が集められる。受光素子１８の受光面上では、各主光線の受光位置が互いに離れているため（図２０参照）、一部の主光線が受光素子１８の受光面に入射しないことがあると、複数の光束における光束間で光量検知精度が異なり、走査用光束における光量のばらつきが発生する。そこで、受光素子１８の受光面における有効範囲は、ビームスポット径、取り付け誤差及び位置の変動を考慮して、主走査対応方向については２．０ｍｍ、副走査対応方向については１．５ｍｍ程度以上であることが好ましい。
【００９２】
但し、受光素子は、有効範囲の面積が大きいほど高価になり、また応答性能も低下するため、調整によって取付位置の誤差を低減し、可能な限り有効範囲の小さい受光素子を用いることが好ましい。
【００９３】
《数値例２》
面Ａは、ＸＺ断面形状及びＸＹ断面形状がいずれも円弧形状のアナモフィック面である。そして、Ｃｘｚ＝１０．８１×１０−３（ｍｍ−１）、Ｃｘｙ＝１４。２７×１０−３（ｍｍ−１）、すなわち、１／Ｃｘｚ＝９２．５ｍｍ、１／Ｃｘｙ＝７０．１ｍｍである。
【００９４】
この場合、面Ａで反射された上記３つの主光線（主光線１〜３）は、受光素子１８の受光面上に集まることとなる（図２５（Ｂ）参照）。
【００９５】
光源１１における複数の発光部のうち、図１３に示される５つの発光部（◆発光部、■発光部、●発光部、▲発光部、×発光部）を選択し、該５つの発光部から射出され、図２１に示されるように受光素子１８で受光された５つの光束（ｂｍ１〜ｂｍ５）のビームスポット径（ピーク強度の１／ｅ２）が図２２及び図２３に示されている。なお、図２１では、主光線の受光位置が示されている。また、図２２は、主走査対応方向におけるビームスポット径であり、図２３は、副走査対応方向におけるビームスポット径である。図２２及び図２３では、横軸（デフォーカス量）の原点が受光素子１８の受光面位置である。そして、図１３、図２１〜図２３における同一シンボルは対応関係にあることを意味している。
【００９６】
図２１に示されるように、受光素子１８の受光面上では、主走査対応方向については５μｍ、副走査対応方向については５μｍの範囲内に、複数の発光部から射出され面Ａで反射された複数の光束の各主光線が集められる。すなわち、各ビームスポットの中心が略一致する。
【００９７】
面Ａで反射された複数の光束は弱発散状態で受光素子１８の受光面に到達し、該受光面の全面を照射する。各光束のビームスポット径は、２×１ｍｍ程度であり、受光面の有効範囲を超えているが、受光素子１８の受光面上では各ビームスポットの中心が略一致するため（図２４参照）、複数の光束間で光量検知精度は略等しくなる。
【００９８】
画像形成装置では一般的に、トナー濃度の検出結果に基づいて光源の光量調整を行っているため、ＡＰＣでは、光量の絶対値については問題にならない。すなわち、受光素子１８を用いた光量検出では、複数の光束間の相対差の検出が行えれば良い。
【００９９】
面Ａで反射された光束の光路が、図２５（Ａ）に示されている。光源１１からの射出された直後の光束の発散状態に比べて、面Ａで反射された光束は、発散が弱くなっており、受光素子１８の受光面に到達する光量を増やすことができる。
【０１００】
光源装置１０の変形例２が、図２６に示されている。この変形例２では、ビームスプリッタ１２は、保持部材２５に接着剤で接着されている。そして、保持部材２５は、パケージ部材に取り付けられている。この場合は、ビームスプリッタ１２がカバーガラスの役割を兼ねている。すなわち、前述したカバーガラスが不要となり、部品点数を削減することができる。
【０１０１】
ビームスプリッタ１２の面Ａは、ＸＺ断面の形状が、光源１１近傍及び受光素子１８近傍をそれぞれ焦点とする楕円の一部である。楕円は、焦点からでた光線が反射して他方の焦点に到達するという幾何学的性質を持つため、受光素子１８の受光面上、もしくはその近傍で光束を集光することが可能になる。ビームスプリッタ１２が樹脂成形品であれば、面Ａの形状を回転楕円体の一部とすることも容易に可能である。
【０１０２】
光源装置１０の変形例３が、図２７に示されている。この変形例３では、ビームスプリッタ１２及びカップリングレンズ１３は、保持部材２５に接着剤で接着されている。そして、保持部材２５は、パケージ部材に取り付けられている。
【０１０３】
また、保持部材２５には、ビームスプリッタ１２で反射され受光素子１８に向かう光束の光路となる貫通孔が形成されている。
【０１０４】
ところで、ビームスプリッタ１２が樹脂成形品である場合には、温度変化による形状変化が問題となる。図２８及び図２９には、温度上昇によるビームスプリッタ１２の形状変化が模式図的に示されている。図２８は、Ｚ軸方向に関して、ビームスプリッタ１２の自由膨張を阻害するものがない場合であり、図２９は、ビームスプリッタ１２の−Ｚ方向への自由膨張が阻害される場合である。図２９の場合には、ビームスプリッタ１２の形状変化が＋Ｚ側に大きく出てしまう、あるいは、−Ｚ側が歪むように変形してしまうという不都合がある。図２８の場合には、温度上昇によってビームスプリッタ１２の形状が変化しても、面Ａの曲率の変化を小さくすることができる。すなわち、受光素子１８の受光面におけるビームスポット位置の変化を小さくし、光量検知精度の低下を抑制することができる。なお、主走査対応方向（Ｙ軸方向）についても同様に、自由膨張の阻害が少ないほうが好ましい。
【０１０５】
光源装置１０の変形例４が、図３０に示されている。この変形例４では、ビームスプリッタ１２の面Ａ側が保持部材２５に接着剤で接着されている点に特徴を有している。
【０１０６】
図３１及び図３２には、温度上昇によるビームスプリッタ１２の形状変化が模式図的に示されている。図３１は、ビームスプリッタ１２の面Ａ側が保持部材２５に接着されている場合であり、図３２は、ビームスプリッタ１２の射出側が保持部材２５に接着されている場合である。
【０１０７】
図３２の場合は、面Ａの位置が変化し、結像位置がずれてしまう。一方、図３１の場合は、面Ａの位置はほとんど変化しないため、図３１のほうが好ましい。なお、面Ａを射出側に設けても同様である。但し、面Ａを射出側に設ける場合には、反射光束もビームスプリッタ１２の内部を通過し、肉厚変化の影響を受けるため、面Ａは入射側に設けるのが好ましい。
【０１０８】
ところで、所定の形状に成形されたビームスプリッタ１２を用いる場合に、ビームスプリッタ１２の形状誤差により、面Ａで反射された光束の集光点が、設計上の位置からずれるおそれがある（図３３参照）。
【０１０９】
そこで、一例として図３４に示されるように、わずかに押圧力を加えることでビームスプリッタ１２を変形させ、面Ａの曲率を調整して保持させるようにしても良い。
【０１１０】
また、ビームスプリッタ１２を加工が容易な平板状にした上で、取り付時に図３４に示されるように、入射側の面が所望の曲率となるよう変形しても良い。そして、調整する際、曲率が大きくなるように調整しても良いし、曲率が小さくなるように調整しても良い。また、加工誤差を考慮した値だけ設計値よりも形状を一方向に変形させた形状とし、調整する方向が該一方向のみになるようにしても良い。
【０１１１】
但し、ビームスプリッタ１２に力を加えたまま保持することで、部品の劣化や組立工程の複雑化、装置の複雑化が問題となる場合もある。そのときには、あらかじめ所定の曲率をもたせていても接着剤層の厚み分だけＸ軸方向の位置調整ができるので、曲率を調整せずに位置調整だけで集光点を調整することも可能である。
【０１１２】
以上説明したように、本実施形態に係る光源装置１０によると、複数の発光部が２次元配列されている面発光レーザアレイを含み、回路基板１９に実装されている光源１１と、該光源１１からの光束の一部をモニタ用光束として反射するビームスプリッタ１２と、該ビームスプリッタ１２で反射されたモニタ用光束の光路上に配置され、該モニタ用光束を受光する受光素子１８と、ビームスプリッタ１２を透過した走査用光束の光路上に配置され、該走査用光束をカップリングするカップリングレンズ１３とを備えている。
【０１１３】
そして、ビームスプリッタ１２は、分離面として、受光素子１８に向けて反射されるモニタ用光束に対してパワーを有する曲面を備え、該分離面の接平面は、光源１１における光束の射出方向に直交する面に対して傾斜している。
【０１１４】
この場合には、大型化あるいは部品点数の増加を招くことなく、安定した光束を射出することができる。
【０１１５】
また、本実施形態に係る光走査装置１０１０によると、光源装置１０を有しているため、大型化あるいは高コスト化を招くことなく、感光体ドラム１０３０の表面を安定して光走査を行うことができる。
【０１１６】
また、光源１１が複数の発光部を有しているため、同時に複数の走査が可能となり、画像形成の高速化を図ることができる。
【０１１７】
そして、本実施形態に係るレーザプリンタ１０００によると、光走査装置１０１０を備えているため、大型化あるいは高コスト化を招くことなく、高品質の画像を安定して形成することが可能である。
【０１１８】
また、光源１１が複数の発光部を有しているため、画像の高密度化を図ることができる。
【０１１９】
なお、上記実施形態において、前記ビームスプリッタ１２における分離面の機能が、微細構造によって得られても良い。そして、この場合には、該分離面が略平面であっても良い。要するに、分離面が、反射される光束に対してパワーを有していれば良い。
【０１２０】
また、上記実施形態では、ビームスプリッタ１２における分離面が、入射側の面である場合について説明したが、これに限らず、射出側の面であっても良い。
【０１２１】
また、上記実施形態では、２次元アレイが４０個の発光部を有する場合について説明したが、これに限定されるものではない。
【０１２２】
また、上記実施形態では、光源１１が２次元アレイを有する場合について説明したが、これに限定されるものではない。例えば、光源１１が前記２次元アレイに代えて、複数の発光部が一列に配置されている１次元アレイを有していても良い。また、光源１１が前記２次元アレイに代えて、１つの発光部を有していても良い。
【０１２３】
また、上記実施形態では、開口板１４が光源装置に含まれる場合について説明したが、これに限らず、開口板１４が光源装置とは別に設けられても良い。
【０１２４】
また、上記実施形態では、画像形成装置としてレーザプリンタ１０００の場合について説明したが、これに限定されるものではない。要するに、光走査装置１０１０を備えた画像形成装置であれば良い。
【０１２５】
例えば、レーザ光によって発色する媒体（例えば、用紙）に直接、レーザ光を照射する画像形成装置であっても良い。
【０１２６】
また、像担持体として銀塩フィルムを用いた画像形成装置であっても良い。この場合には、光走査により銀塩フィルム上に潜像が形成され、この潜像は通常の銀塩写真プロセスにおける現像処理と同等の処理で可視化することができる。そして、通常の銀塩写真プロセスにおける焼付け処理と同等の処理で印画紙に転写することができる。このような画像形成装置は光製版装置や、ＣＴスキャン画像等を描画する光描画装置として実施できる。
【０１２７】
また、例えば、図３５に示されるように、複数の感光体ドラムを備えるカラープリンタ２０００であっても良い。
【０１２８】
このカラープリンタ２０００は、４色（ブラック、シアン、マゼンタ、イエロー）を重ね合わせてフルカラーの画像を形成するタンデム方式の多色カラープリンタであり、ブラック用の「感光体ドラムＫ１、帯電装置Ｋ２、現像装置Ｋ４、クリーニングユニットＫ５、及び転写装置Ｋ６」と、シアン用の「感光体ドラムＣ１、帯電装置Ｃ２、現像装置Ｃ４、クリーニングユニットＣ５、及び転写装置Ｃ６」と、マゼンタ用の「感光体ドラムＭ１、帯電装置Ｍ２、現像装置Ｍ４、クリーニングユニットＭ５、及び転写装置Ｍ６」と、イエロー用の「感光体ドラムＹ１、帯電装置Ｙ２、現像装置Ｙ４、クリーニングユニットＹ５、及び転写装置Ｙ６」と、光走査装置２０１０と、転写ベルト２０８０と、定着ユニット２０３０などを備えている。
【０１２９】
各感光体ドラムは、図３５中の矢印の方向に回転し、各感光体ドラムの周囲には、回転方向に沿って、帯電装置、現像装置、転写装置、クリーニングユニットがそれぞれ配置されている。
【０１３０】
各帯電装置は、対応する感光体ドラムの表面を均一に帯電する。この帯電装置によって帯電された各感光体ドラム表面に光走査装置２０１０により光走査が行われ、各感光体ドラムに潜像が形成される。
【０１３１】
そして、対応する現像装置により各感光体ドラム表面にトナー像が形成される。さらに、対応する転写装置により、転写ベルト２０８０上の記録紙に各色のトナー像が順次転写され、最終的に定着ユニット２０３０により記録紙に画像が定着される。
【０１３２】
光走査装置２０１０は、前記光源装置１０と同様な光源装置を色毎に有している。従って、前記光走査装置１０１０と同様な効果を得ることができる。
【０１３３】
そして、カラープリンタ２０００は、前記レーザプリンタ１０００と同様な効果を得ることができる。
【０１３４】
なお、タンデム方式の多色カラープリンタでは、機械精度等で各色の色ずれが発生する場合があるが、点灯させる発光部を選択することで各色の色ずれの補正精度を高めることができる。
【０１３５】
また、このカラープリンタ２０００において、光走査装置を１色毎に設けても良いし、２色毎に設けても良い。
【０１３６】
また、前記光源装置１０は、光走査装置以外の光学機器にも適用することができる。
【産業上の利用可能性】
【０１３７】
以上説明したように、本発明の光源装置によれば、大型化あるいは部品点数の増加を招くことなく、安定した光束を射出するのに適している。また、本発明の光走査装置によれば、大型化あるいは高コスト化を招くことなく、安定した光走査を行うのに適している。また、本発明の画像形成装置によれば、大型化あるいは高コスト化を招くことなく、高品質の画像を安定して形成するのに適している。
【符号の説明】
【０１３８】
１０…光源装置、１１…光源、１２…ビームスプリッタ（分離光学素子）、１３…カップリングレンズ（カップリング光学系）、１４…開口板（開口部材）、１８…受光素子、１９…回路基板、３３…ポリゴンミラー（光偏向器）、３５…偏向器側走査レンズ（走査光学系の一部）、３６…像面側走査レンズ（走査光学系の一部）、１０００…レーザプリンタ（画像形成装置）、１０１０…光走査装置、１０３０…感光体ドラム（像担持体）、２０００…カラープリンタ（画像形成装置）、２０１０…光走査装置、Ｋ１，Ｃ１，Ｍ１，Ｙ１…感光体ドラム（像担持体）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０１３９】
【特許文献１】特開平０７−１９８４７６号公報
【特許文献２】特開２００６−２５９０９８号公報
【特許文献３】特開２００２−０４０３５０号公報
【特許文献４】特開２００９−０６５０６４号公報
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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