(57)【要約】【課題】スリット間隙が異なるダイスに変更することなく、膜厚が異なる光学フィルムを簡便に連続的に製造でき、しかも膜厚が比較的薄い光学フィルムを製造する場合であっても、膜厚ムラの発生を長期にわたって十分に防止できる光学フィルムの製造方法を提供すること。【解決手段】流延用ドープ２０をダイス２から、連続的に走行する支持体１の上に２００〜７２０ｇ／ｍ２で吐出して支持体上に流延膜を形成した後、該流延膜から溶媒の蒸発を行い、流延膜をフィルムとして支持体から剥離する光学フィルムの製造方法であって、少なくとも高分子材料が溶媒に溶解されてなる初期ドープ２１と、該初期ドープよりも高分子材料濃度が低い希釈用ドープ２２とを、光学フィルムの最終膜厚ｈｄ（μｍ）と流延用ドープの高分子材料濃度ｘ（重量％）とが下記式を満たすように混合して流延用ドープ２０を調製することを特徴とする光学フィルムの製造方法；２０≦ｈｄ≦１００；１５０≦ｈｄ÷（ｘ／１００）≦６００。【選択図】図１
2012056127.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流延用ドープをダイスから、連続的に走行する支持体の上に２００〜７２０ｇ／ｍ２で吐出して支持体上に流延膜を形成した後、該流延膜から溶媒の蒸発を行い、流延膜をフィルムとして支持体から剥離する光学フィルムの製造方法であって、
少なくとも高分子材料が溶媒に溶解されてなる初期ドープと、該初期ドープよりも高分子材料濃度が低い希釈用ドープとを、光学フィルムの最終膜厚ｈｄ（μｍ）と流延用ドープの高分子材料濃度ｘ（重量％）とが下記式を満たすように混合して流延用ドープを調製することを特徴とする光学フィルムの製造方法；
２０≦ｈｄ≦１００      （１）
１５０≦ｈｄ÷（ｘ／１００）≦６００      （２）
【請求項２】
光学フィルムの所望の最終膜厚に応じて流延用ドープの高分子材料濃度を調整することにより膜厚の異なる光学フィルムを連続的に製造する請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項３】
膜厚が比較的厚い光学フィルムを連続的に製造した後、引き続いて連続的に膜厚が比較的薄い光学フィルムを製造するか、または膜厚が比較的薄い光学フィルムを連続的に製造した後、引き続いて連続的に膜厚が比較的薄い光学フィルムを製造する請求項１または２に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項４】
溶媒として良溶媒および貧溶媒を用い、初期ドープの貧溶媒含有率が５〜１５重量％であり、希釈用ドープの貧溶媒含有率が１６〜２０重量％であり、初期ドープの貧溶媒含有率が希釈用ドープの貧溶媒含有率よりも小さい請求項１〜３のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項５】
希釈用ドープと初期ドープとの混合が、配管による搬送時において配管同士を連結して配管内で添加・混合を連続的に行うインライン法により達成される請求項１〜４のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項６】
支持体の走行速度が６０〜１５０ｍ／分である請求項１〜５のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項７】
膜厚偏差が０．２〜０．８μｍであり、かつ、泡の含有個数が３個／１００ｍ以下である光学フィルムを得る請求項１〜６のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項８】
膜厚偏差の劣化度が０．０２μｍ／日以下で光学フィルムを得る請求項１〜７のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載の方法によって製造された光学フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光学フィルムの製造方法および該方法によって製造された光学フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
溶液流延製膜法では、少なくとも高分子材料を溶媒に溶解してなるドープ（溶液）を、連続的に走行する支持体の上に、ダイスから吐出して、支持体上に流延膜を形成する。このとき、ダイスのスリット（吐出口）と支持体との間に形成されるドープの流れを流延ビードという。その後、溶媒の蒸発を行い、流延膜をフィルムとして支持体から剥離する（特許文献１）。また近年では光学フィルムの薄膜化が求められており、ドープ吐出量を低減することによって、薄膜フィルムを得る傾向があった。特に、光学フィルムの連続的製造時において、膜厚が比較的厚い光学フィルムを製造した後、膜厚が比較的薄い光学フィルムを製造する場合、ドープ吐出量を低減することによって、薄膜フィルムを得ていた。
【０００３】
しかしながら、上記溶液流延製膜法において薄膜化を目的としてドープ吐出量を低減すると、流延ビードが支持体の振動や乾燥風などの外乱により振動し易くなるため、光学フィルムに膜厚ムラが発生した。また上記溶液流延製膜法では、膜厚が異なる光学フィルムを製造する場合、吐出用スリットの間隙が異なるダイスに変更する必要があったため、交換作業が繁雑であり、連続的に製造することができなかった。
【０００４】
そこで、流延膜の膜厚ムラを矯正するために、厚み矯正ローラで流延膜を押し付ける技術が開示されている（特許文献２）。しかしながら、そのような技術では、矯正ローラが汚れると、フィルムには当該汚れに起因する痕跡が残るため、膜厚ムラを長期わたって十分に防止することはできなかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特許第４２８４４３４号
【特許文献２】特開２００８−１２８３９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、スリット間隙が異なるダイスに変更することなく、膜厚が異なる光学フィルムを簡便に連続的に製造でき、しかも膜厚が比較的薄い光学フィルムを製造する場合であっても、膜厚ムラの発生を長期にわたって十分に防止できる光学フィルムの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、流延用ドープをダイスから、連続的に走行する支持体の上に２００〜７２０ｇ／ｍ２で吐出して支持体上に流延膜を形成した後、該流延膜から溶媒の蒸発を行い、流延膜をフィルムとして支持体から剥離する光学フィルムの製造方法であって、
少なくとも高分子材料が溶媒に溶解されてなる初期ドープと、該初期ドープよりも高分子材料濃度が低い希釈用ドープとを、光学フィルムの最終膜厚ｈｄ（μｍ）と流延用ドープの高分子材料濃度ｘ（重量％）とが下記式を満たすように混合して流延用ドープを調製することを特徴とする光学フィルムの製造方法；
２０≦ｈｄ≦１００      （１）
１５０≦ｈｄ÷（ｘ／１００）≦６００      （２）
に関する。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、スリット間隙が異なるダイスに変更することなく、膜厚が異なる光学フィルムを簡便に連続的に製造できる。しかも、所定のドープ吐出量は維持されるので、膜厚が比較的薄い光学フィルムを製造する場合であっても、膜厚ムラの発生を長期にわたって十分に防止できる。さらには泡の含有を十分に防止できる。特に膜厚が比較的薄い光学フィルムを製造する場合は、流延用ドープの高分子材料濃度が比較的小さく設定されるので、泡の含有個数がより一層有効に低減される。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明に係る光学フィルムの製造方法の一実施形態を示す模式図である。
【図２】図１における流延工程におけるダイス近傍の拡大模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明に係る光学フィルムの製造方法は、溶液流延製膜法に基づくものであり、すなわち少なくとも高分子材料を溶媒に溶解してなる流延用ドープ（溶液）をダイスから、連続的に走行する支持体の上に吐出して、支持体上に流延膜を形成する。このとき、ダイスのスリット（吐出口）と支持体との間に形成されるドープの流れを流延ビードという。支持体上に流延膜を形成した後は、当該流延膜からの溶媒の蒸発を行い、流延膜をフィルムとして支持体から剥離する。本発明においてフィルムを剥離した後は、特に制限されるものではなく、例えば、延伸工程、乾燥工程および巻き取り工程からなる群から選択された１以上の工程を任意の順序で実施してよい。例えば、延伸工程、乾燥工程および巻き取り工程を順次、実施してもよいし、または図１に示すように第１乾燥工程７、延伸工程８、第２乾燥工程９および巻き取り工程１０を順次、実施してもよい。図１においてフィルムは支持体１からの剥離後、左から右への方向で連続的に走行し、光学フィルムが連続生産される。以下、図１〜図２を用いて、各工程について詳しく説明する。本明細書中、幅方向とは支持体またはフィルムの幅方向を意味するものとし、支持体表面上において支持体走行方向と直交する方向である。走行方向とは支持体の走行方向を意味するものとする。図１〜図２において共通する記号は特記しない限り同じ部材を示すものである。図１は本発明に係る光学フィルムの製造方法の一実施形態を示す模式図である。図２は、図１における流延工程におけるダイス近傍の拡大模式図である。
【００１１】
本発明に係る光学フィルムの製造方法は、光学フィルムを連続的に製造するものであり、スリット（吐出口）の間隙が異なるダイスに変更することなしに、所定のドープ吐出量を維持しつつも、光学フィルムの所望の膜厚に応じて流延用ドープの高分子材料濃度を調整することにより、膜厚の異なる光学フィルムを連続的に製造する。例えば、膜厚が比較的厚い光学フィルムを連続的に製造した後、ダイスの変更なしに、所定のドープ吐出量を維持しつつも、流延用ドープの高分子材料濃度を低減することにより、引き続いて連続的に膜厚が比較的薄い光学フィルムを製造する。また例えば、膜厚が比較的薄い光学フィルムを連続的に製造した後、ダイスの変更なしに、所定のドープ吐出量を維持しつつも、流延用ドープの高分子材料濃度を増大することにより、引き続いて連続的に膜厚が比較的薄い光学フィルムを製造する。
【００１２】
本発明においては特に、膜厚が比較的厚い光学フィルムを連続的に製造した後、引き続いて連続的に膜厚が比較的薄い光学フィルムを製造することが好ましい。膜厚が比較的厚い光学フィルムを連続的に製造した後、膜厚が比較的薄い光学フィルムを製造する場合、従来はドープ吐出量を低減して薄膜化を達成していたので、ダイスの変更を要した。しかも流延ビードが振動し易くなり、外乱による膜厚ムラの発生が顕著であった。本発明においてはそのような場合であっても、ダイスの変更なしに、薄膜化の達成と膜厚ムラの防止とを十分に両立できるためである。
【００１３】
（混合工程）
本工程では、光学フィルムの所望の最終膜厚に応じて、支持体１の上に吐出される流延用ドープ２０を、初期ドープ２１と該初期ドープよりも高分子材料濃度が低い希釈用ドープ２２とを混合して調製する。このとき、初期ドープと希釈用ドープとは、光学フィルムの最終膜厚ｈｄ（μｍ）と流延用ドープの高分子材料濃度ｘ（重量％）とが下記式；
２０≦ｈｄ≦１００      （１）
１５０≦ｈｄ÷（ｘ／１００）≦６００      （２）
を満たすように混合する。すなわち後述する所定のドープ吐出量を維持しつつも、光学フィルムの所望の最終膜厚に応じて流延用ドープの高分子材料濃度を調整する。例えば、膜厚が比較的厚い光学フィルムを連続的に製造した後、引き続いて連続的に膜厚が比較的薄い光学フィルムを製造する場合は、所定のドープ吐出量を維持しつつも、流延用ドープの高分子材料濃度を比較的低く設定する。また例えば、膜厚が比較的薄い光学フィルムを連続的に製造した後、引き続いて連続的に膜厚が比較的薄い光学フィルムを製造する場合は、所定のドープ吐出量を維持しつつも、流延用ドープの高分子材料濃度を比較的高く設定する。また例えば、上記場合の操作を組み合わせて行う。これにより、スリット間隙の異なるダイスに変更することなく、流延用ドープの高分子材料濃度を調整するだけで、膜厚の異なる光学フィルムを簡便に連続的に製造できる。しかも、所定のドープ吐出量は維持されるので、膜厚が比較的薄い光学フィルムを得る場合であっても、膜厚ムラを長期にわたって十分に防止できる。特に膜厚が比較的薄い光学フィルムを製造する場合は、流延用ドープの高分子材料濃度が比較的小さく設定されるので、泡の含有個数がより一層有効に低減される。
【００１４】
流延用ドープ２０の高分子材料濃度は、初期ドープ２１と希釈用ドープ２２との混合割合を調整することによって制御できる。希釈用ドープ２２の高分子材料濃度は初期ドープ２１の高分子材料濃度よりも低いので、希釈用ドープの混合割合を増大させると、流延用ドープ２０の高分子材料濃度は低減される。一方で、初期ドープ２１の混合割合を増大させると、流延用ドープ２０の高分子材料濃度は増大する。
【００１５】
式（１）および式（２）において、最終膜厚ｈｄは、流延膜をフィルムとして支持体から剥離し、そのまま乾燥を十分に行ったときに得られるフィルムの所望の膜厚である。具体的には、本発明のように流延工程、溶媒蒸発工程および剥離工程を行った後、８０℃以上で３分間以上乾燥させたときのフィルムの膜厚を測定することによって検証可能である。
【００１６】
本明細書中、膜厚は、厚み測定器（ＦＩＬＭ  ＴＨＩＣＫＮＥＳＳ  ＴＥＳＴＥＲ  ＫＧ６０ＩＢ；Ａｎｒｉｔｓｕ社製）を用いて、フィルムの幅方向および走行方向について任意の１００点で測定された値の平均値を用いている。
【００１７】
最終膜厚ｈｄが小さすぎると、乾燥収縮が過度に起こり、収縮によって膜厚ムラが発生するので、膜厚ムラを十分に防止できない。最終膜厚ｈｄが大きすぎると、フィルム表面と内部で乾燥不均一となり、内部の残留溶媒による表面の皮膜再溶解が発生し膜厚ムラとなってしまう。
【００１８】
式（２）において、流延用ドープの高分子材料濃度ｘ（重量％）は支持体上に吐出・流延されるドープにおける高分子材料の濃度である。流延用ドープの高分子材料濃度ｘは、一定膜厚の光学フィルムを連続的に製造する時において固定的に設定されるが、それまで製造されていた光学フィルムとは膜厚の異なる光学フィルムの製造を開始するタイミングにおいて当該光学フィルムの所望の最終膜厚に応じて変更される条件である。
【００１９】
流延用ドープ２０の高分子材料濃度ｘは通常、７〜３５重量％であり、好ましくは１０〜３０重量％である。流延用ドープの高分子材料濃度ｘを調整することによって、光学フィルムの膜厚を制御できる。濃度ｘが大きいほど、光学フィルムの膜厚は厚くなり、濃度ｘが小さいほど、膜厚は薄くなる。例えば、支持体への流延用ドープ吐出量が後述の範囲内であって、流延用ドープの高分子材料濃度ｘが上記範囲内で調整されるとき、光学フィルムの最終膜厚は上記式（１）の範囲内で制御できる。
【００２０】
流延用ドープ２０の高分子材料濃度ｘは、流延用ドープ全量に対する高分子材料の含有割合で表すものとする。
【００２１】
「ｈｄ÷（ｘ／１００）」について、小さすぎると、泡の含有個数を十分に低減できない。大きすぎると、収縮が過度に起こり、収縮による膜厚ムラが発生するので、膜厚ムラを十分に防止できない。
【００２２】
本発明において具体的には、膜厚が比較的厚い光学フィルムＡを連続的に製造した後、引き続いて連続的に膜厚が比較的薄い光学フィルムＢを製造する場合、膜厚が比較的薄い光学フィルムＢを連続的に製造した後、引き続いて連続的に膜厚が比較的厚い光学フィルムＡを製造する場合、および上記場合の操作を組み合わせて行う場合のいずれの場合においても、光学フィルムＡ，Ｂそれぞれの製造時に、光学フィルムの最終膜厚ｈｄ（μｍ）と流延用ドープの高分子材料濃度ｘ（重量％）とが満たすべき好ましい式は以下の通りである。
【００２３】
膜厚が比較的厚い光学フィルムＡの製造時において光学フィルムの最終膜厚ｈｄＡ（μｍ）と流延用ドープの高分子材料濃度ｘＡ（重量％）とが満たすべき式は以下の式；
６０≦ｈｄＡ≦１００      （１Ａ）
１５０≦ｈｄＡ÷（ｘＡ／１００）≦６００      （２Ａ）
１０≦ｘＡ≦６０      （３Ａ）
が好ましく、以下の式；
６０≦ｈｄＡ≦９０      （１Ａ'）
１５０≦ｈｄＡ÷（ｘＡ／１００）≦５５０      （２Ａ'）
１０≦ｘＡ≦５４      （３Ａ'）
がより好ましい。
【００２４】
膜厚が比較的薄い光学フィルムＢの製造時において光学フィルムの最終膜厚ｈｄＢ（μｍ）と流延用ドープの高分子材料濃度ｘＢ（重量％）とが満たすべき式は以下の式；
２０≦ｈｄＢ＜６０      （１Ｂ）
１５０≦ｈｄＢ÷（ｘＢ／１００）≦６００      （２Ｂ）
３．３≦ｘＢ≦４０      （３Ｂ）
０＜ｈｄＡ−ｈｄＢ≦８０      （４Ｂ）
が好ましく、以下の式；
３５≦ｈｄＢ≦６０      （１Ｂ'）
２００≦ｈｄＢ÷（ｘＢ／１００）≦６００      （２Ｂ'）
５．８≦ｘＢ≦３０      （３Ｂ'）
０＜ｈｄＡ−ｈｄＢ≦６５      （４Ｂ'）
がより好ましい。
【００２５】
流延用ドープ２０は、少なくとも高分子材料が溶媒に溶解されてなるものであり、通常はさらに可塑剤、紫外線吸収剤、マット剤、酸化防止剤などの添加剤が溶解または分散されてよい。
【００２６】
流延用ドープ２０に含有される高分子材料は特に制限されず、光学フィルムの分野で公知の高分子材料が使用可能であり、特にセルロースエステル系樹脂が好ましく使用される。
【００２７】
セルロースエステル系樹脂は、セルロースに対して、酢酸、プロピオン酸またはそれらの無水物もしくはそれらの混合物を常法により反応させて得られるセルロースエステルである。具体的には、例えば、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースモノアセテート、セルロースアセテートプロピオネート等があげられ、透明性、コスト、接着性の観点からセルローストリアセテートが好ましい。上記反応に使用されるセルロースとしては、例えば、リンターパルプ、ウッドパルプ及びケナフパルプから選ばれるパルプに由来するセルロースが挙げられる。
【００２８】
セルロースエステル系樹脂は、アセチル基及びプロピオニル基の総置換度が２．３０〜３．００であることが好ましい。
【００２９】
セルロースエステル系樹脂のアシル基及びプロピオニル基の置換度の測定方法としては、ＡＳＴＭのＤ−８１７−９１に準じて実施することができる。
【００３０】
セルロースエステル系樹脂の分子量は、重量平均分子量として７０，０００〜３００，０００の範囲が、フィルムに成形した場合の機械的強度が強く好ましく、更に、８０，０００〜２００，０００がより好ましい。通常、セルロースエステル系樹脂は反応後の水洗等の処理後において、フレーク状となり、その形状で使用されるが、粒子サイズとしては、平均粒径として０．０５〜２．０ｍｍの範囲とすることが、より溶解性を早める観点から好ましい。
【００３１】
流延用ドープ２０に含有される溶媒は少なくとも良溶媒が使用され、好ましくは良溶媒と貧溶媒が併用される。良溶媒は、高分子材料に対して良好な溶解性を有する有機溶媒であり、例えば、２０℃において１ｍＬあたり０．１ｍｇ以上の高分子材料を溶解し得る有機溶剤である。セルロースエステル系樹脂の良溶媒の具体例として、例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、ギ酸エチル、アセトン、シクロヘキサノン、アセト酢酸メチル、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、４−メチル−１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−ヘキサフルオロ−１−プロパノール、１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、ニトロエタン、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、塩化メチレン、ブロモプロパン等を挙げることができる。好ましい良溶媒は、酢酸メチル、アセトン、塩化メチレンまたはそれらの混合液である。
【００３２】
貧溶媒は、高分子材料に対してあまり溶解性を有さない有機溶媒であり、例えば、２０℃において１ｍＬあたり０．０５ｍｇ以上の高分子材料を溶解し得ない有機溶剤である。セルロースエステル系樹脂の貧溶媒の具体例として、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−ブタノール等の低級アルコール、シクロヘキサン、アセトン、シクロヘキサノン等を挙げることができる。好ましい貧溶媒は、メタノール、エタノール、ｎ−ブタノール、シクロヘキサン、アセトン、シクロヘキサノンまたはそれらの混合液である。
【００３３】
流延用ドープ２０において良溶剤と貧溶剤の混合比率の好ましい範囲は、それらの合計比率を１００重量％として表したとき、良溶剤が８０〜９５重量％であり、貧溶剤が５〜２０重量％である。
【００３４】
可塑剤としては特に限定されず、光学フィルムの分野で使用される公知の可塑剤が使用できる。可塑剤として、例えば、リン酸エステル化合物、フタル酸エステル化合物、グリコール酸エステル化合物等が使用可能である。リン酸エステル化合物の具体例としては、例えば、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等が挙げられる。フタル酸エステル化合物の具体例としては、例えば、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート等が挙げられる。グリコール酸エステル化合物の具体例としては、例えば、トリアセチン、トリブチリン、ブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等が挙げられる。
【００３５】
流延用ドープ２０における可塑剤の濃度は固形分全量に対して２０重量％以下とすることが、耐久性に優れるため好ましい。リン酸エステル化合物の比率は少ない方がさらに好ましく、特には、フタル酸エステル化合物やグリコール酸エステル化合物だけを使用することが好ましい。可塑剤の濃度は固形分全量に対して１〜２０重量％が好ましく、特に８〜１３重量％が好ましい。可塑剤は、２種類以上を併用して用いてもよく、その場合、それらの合計濃度が上記範囲内であればよい。固形分とは、フィルムになったとき、フィルム中に残る成分である。
【００３６】
紫外線吸収剤としては、特に制限されず、光学フィルムの分野で使用される公知の紫外線吸収剤が使用できる。紫外線吸収剤は、液晶の劣化防止の観点より、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の点より波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が可及的に少ないものが好ましく用いられる。特に、波長３７０ｎｍでの透過率が１０％以下であることが必要となり、好ましくは５％以下、より好ましくは２％以下である。本発明において、使用し得る紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等を挙げることができるが、着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。ベンゾトリアゾール系の市販の紫外線吸収剤として、例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製のチヌビン１０９、チヌビン１７１、チヌビン３２６、チヌビン３２７、チヌビン３２８等を好ましく用いることができるが、これらには限定されない。紫外線吸収剤は、２種以上用いてもよい。
【００３７】
流延用ドープ２０における紫外線吸収剤の濃度は通常、固形分全量に対して０〜１０重量％あり、好ましくは０．１〜５重量％である。紫外線吸収剤は、２種類以上を併用して用いてもよく、その場合、それらの合計濃度が上記範囲内であればよい。
【００３８】
マット剤としては、例えば、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等の無機微粒子や架橋高分子微粒子が使用できる。中でも、二酸化ケイ素がフィルムのヘイズ（失透性）を小さくできるので好ましい。マット剤の平均粒径としては、大きい方がマット効果は大きく、逆に平均粒径の小さい方は透明性に優れるため、好ましい微粒子の一次粒子の平均粒径として５〜５０ｎｍで、より好ましくは７〜２０ｎｍである。マット剤は、微粒子の一次粒子の形態を有していてもよいし、または２以上の微粒子が凝集してなる２次粒子の形態を有していても良い。
【００３９】
流延用ドープ２０におけるマット剤の濃度は固形分全量に対して０．０５〜０．５０重量％、特に０．０８〜０．３５重量％が好ましい。マット剤は、２種類以上を併用して用いてもよく、その場合、それらの合計濃度が上記範囲内であればよい。
【００４０】
二酸化ケイ素のような微粒子では、有機物により表面処理されている場合が多いが、このようなものはフィルムのヘイズを低下できるため好ましい。表面処理で好ましい有機物としては、例えば、ハロシラン類、アルコキシシラン類、シラザン、シロキサン等が挙げられる。
【００４１】
マット剤は市販品として入手可能である。二酸化ケイ素の微粒子としては、例えば、日本アエロジル（株）製のＡＥＲＯＳＩＬ ２００、２００Ｖ、３００、Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ２０２、Ｒ８１２，ＯＸ５０、ＴＴ６００等を挙げることができ、好ましくはＡＥＲＯＳＩＬ２００Ｖ、Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ２０２、Ｒ８１２である。これらのマット剤は２種以上併用してもよい。
【００４２】
酸化防止剤は特に制限されず、光学フィルムの分野で使用される公知の酸化防止剤が使用できる。酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系の化合物が好ましく用いられ、例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、
トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２，２−チオ−ジエチレンビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ′−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレイト等を挙げることができる。特に、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕が好ましい。また例えば、Ｎ，Ｎ′−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル〕ヒドラジン等のヒドラジン系の金属不活性剤やトリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスファイト等のリン系加工安定剤を併用してもよい。
【００４３】
流延用ドープ２０における酸化防止剤の濃度は通常、固形分全量に対して０〜１．０重量％であり、好ましくは０〜１００ｐｐｍである。酸化防止剤は、２種類以上を併用して用いてもよく、その場合、それらの合計濃度が上記範囲内であればよい。
【００４４】
流延用ドープ２０の調製の際の初期ドープ２１と希釈用ドープ２２との混合方法は、当該混合が連続的に行われる限り特に制限されず、例えば、インライン法が挙げられる。
インライン法は、配管による搬送時において配管同士を連結して配管内で添加・混合を連続的に行う方法である。
【００４５】
初期ドープ２１と希釈用ドープ２２とをインライン法で混合する場合、具体的には、例えば図１に示すように混合を行う。詳しくは、初期ドープ２１の収容槽２１０からダイス２まで配設された配管２１１に、希釈用ドープ２２の収容槽２２０から配設された配管２２１を連結させる。このとき、ポンプ（図示せず）によって、初期ドープ２１および希釈用ドープ２２を連続的に搬送すると、配管２１１における配管２２１との連結点以降においてそれらの混合が連続的に行われる。図１の配管２１１は、配管２２１と連結されてから、ダイス２に到達するまでの間に、スタチックミキサー（図示せず）が連結されていることが好ましい。
【００４６】
初期ドープ２１と希釈用ドープ２２との混合割合は、それらの混合によって得られた流延用ドープ２０が所定の組成を有する限り特に制限されない。それらの混合割合は、初期ドープ２１のポンプ（図示せず）出力と希釈用ドープ２２のポンプ（図示せず）出力を調整することによって制御できる。
【００４７】
初期ドープ２１および希釈用ドープ２２の組成は、それらの混合によって得られた流延用ドープ２０が上記した組成を有する限り特に制限されないが、膜厚が異なる光学フィルムを連続的に製造する観点から、希釈用ドープの高分子材料濃度を初期ドープの高分子材料濃度よりも低く設定する。初期ドープ２１の高分子材料濃度は好ましくは１０〜３６重量％、より好ましくは１５〜３０重量％である。希釈用ドープ２２の高分子材料濃度は好ましくは３〜２０重量％、より好ましくは５〜１８重量％である。
【００４８】
初期ドープ２１および希釈用ドープ２２の高分子材料濃度は、各ドープにおいてドープ全量に対する高分子材料の含有割合で表すものとする。
【００４９】
希釈用ドープの高分子材料濃度は初期ドープよりも低いので、初期ドープの貧溶媒含有率は通常、希釈用ドープの貧溶媒含有率よりも小さい。初期ドープ２１の貧溶媒含有率は好ましくは５〜１５重量％、より好ましくは８〜１５重量％である。希釈用ドープの貧溶媒含有率は好ましくは１６〜２０重量％、より好ましくは１８〜２０重量％である。
【００５０】
貧溶媒含有率は、各ドープにおいて含有される全溶媒に対する貧溶媒の含有割合で表すものとする。
【００５１】
初期ドープ２１および希釈用ドープ２２のいずれのドープも少なくとも高分子材料が溶媒に溶解されてなり、通常はそれぞれ独立してさらに可塑剤、紫外線吸収剤、マット剤、酸化防止剤などの添加剤が溶解または分散されてよい。
【００５２】
初期ドープ２１および希釈用ドープ２２に含有される高分子材料、溶媒および添加剤は、流延用ドープ２０に含有され得る材料と同様のものが使用可能である。
【００５３】
初期ドープ２１および希釈用ドープ２２における各種添加剤の濃度は通常、以下の通りである。添加剤の濃度は、各ドープにおいて固形分全量に対する当該添加剤の含有割合で表すものとする。
【００５４】
初期ドープ２１の可塑剤濃度は通常、８〜２２重量％であり、好ましくは１０〜１８重量％である。
初期ドープ２１の紫外線吸収剤濃度は通常、０〜４重量％であり、好ましくは０〜１重量％である。
初期ドープ２１のマット剤濃度は通常、０〜０．４重量％であり、好ましくは０〜０．１重量％である。
初期ドープ２１の酸化防止剤濃度は通常、０〜１．２重量％であり、好ましくは３０ｐｐｍ〜１．０重量％である。
【００５５】
希釈用ドープ２２の可塑剤濃度は通常、０〜１３重量％であり、好ましくは３〜１０重量％である。
希釈用ドープ２２の紫外線吸収剤濃度は通常、０〜１１重量％であり、好ましくは０〜５重量％である。
希釈用ドープ２２のマット剤濃度は通常、０〜０．６重量％であり、好ましくは０．１〜０．４重量％である。
希釈用ドープ２２の酸化防止剤濃度は通常、０〜３０ｐｐｍであり、好ましくは０〜１０ｐｐｍである。
【００５６】
初期ドープ２１および希釈用ドープ２２の構成材料は以下に示す組み合わせが好ましい。
組み合わせＡ；
初期ドープ２１＝溶媒＋高分子材料＋可塑剤＋マット剤＋紫外線吸収剤
希釈用ドープ２２＝溶媒＋高分子材料
【００５７】
組み合わせＢ；
初期ドープ２１＝溶媒＋高分子材料＋可塑剤
希釈用ドープ２２＝溶媒＋高分子材料＋紫外線吸収剤＋マット剤
【００５８】
組み合わせＣ；
初期ドープ２１＝溶媒＋高分子材料＋可塑剤＋酸化防止剤
希釈用ドープ２２＝溶媒＋高分子材料＋マット剤＋紫外線吸収剤
【００５９】
初期ドープ２１および希釈用ドープ２２の調製方法としては、所定の溶媒に対して所定の高分子材料および添加剤をそれぞれ所定の量で添加し、加熱・混合する方法を採用すればよい。好ましくは、特に添加剤は、使用される溶媒のうち当該添加剤がよく溶解／分散する溶媒に予め溶解／分散させ、得られた溶液／分散液を、高分子材料の溶液に添加・混合する方法を採用する。
【００６０】
（流延工程）
本工程では、連続的に走行する支持体１の上に、流延用ドープ２０を、ダイス２の下部に配設されたスリット（吐出口）２３から吐出して、ダイス２のスリット２３と支持体１との間に流延ビード２０１を形成するとともに、支持体１上に流延膜２０２を形成する。
【００６１】
ダイス２からの流延用ドープ２０の吐出量は２００〜７２０ｇ／ｍ２であり、好ましくは４００〜６５０ｇ／ｍ２である。本発明において膜厚が異なる光学フィルムを連続的に製造する場合であっても、ダイス２の吐出量は上記範囲内で略一定の値に維持される。当該吐出量が少なすぎると、流延ビードが振動および風などの外乱の影響を受けやすくなるので、膜厚ムラを十分に防止できない。当該吐出量が多すぎると、収縮が過度に起こり、収縮による膜厚ムラが発生するので、膜厚ムラを十分に防止できない。
【００６２】
支持体１は、無限移送する無端のものが好ましく使用され、表面が鏡面となっているものがより好ましい。支持体は金属からなっているものが好ましく使用され、具体例として、例えば、ステンレスベルト、ステンレス鋼ベルトあるいは回転する金属ドラム等が挙げられる。
【００６３】
支持体１の走行速度は特に制限されないが、通常は６０ｍ／分以上であり、好ましくは６０〜１５０ｍ／分、特に８０〜１２０ｍ／分である。支持体の走行速度は、高速であるほど、同伴ガスが発生し易くなり、外乱による膜厚ムラの発生が顕著になるが、本発明では上記のような高速であっても、膜厚ムラの発生を十分に抑制できる。
支持体の走行速度は、支持体外表面の移動速度である。
【００６４】
支持体１の表面温度は特に制限されないが、通常は２０℃以上、特に２０〜３０℃であり、好ましくは２０〜２５℃である。
【００６５】
ダイス２は、幅方向に対する垂直断面において、吐出口に向かうに従い次第に細くなる形状を有している。ダイス２は通常、具体的には、下部の走行方向で下流側と上流側とにテーパー面を有し、当該テーパー面の間に吐出口２３がスリット形状で形成されている。ダイス２は金属からなっているものが好ましく使用され、具体例として、例えば、ステンレス、チタン等が挙げられる。本発明において、膜厚が異なる光学フィルムを製造するとき、スリット間隙の異なるダイスに変更する必要はない。
【００６６】
ダイス２は加圧ダイを用いることが好ましい。加圧ダイには、コートハンガーダイやＴダイ等が挙げられるが、何れも好ましく用いられる。本発明において膜厚が異なる光学フィルムを連続的に製造する場合であっても、ダイス２の吐出量は上記範囲内で略一定の値に維持されるので、加圧ダイを用いる場合、押し出し圧力、せん断速度等の条件もまた略一定の値に維持される。
【００６７】
（溶媒蒸発工程）
溶媒蒸発工程は、支持体１上で実施され、流延膜を支持体１上で加熱し、溶媒を蒸発させる予備乾燥工程である。溶媒を蒸発させるには、例えば、図１に示すように、乾燥機３，４により流延膜側及び支持体裏側から加熱風を吹かせる方法、支持体の裏面から加熱液体により伝熱させる方法、輻射熱により表裏から伝熱する方法等を挙げることができる。それらを適宜選択して組み合わせる方法も好ましい。流延膜の膜厚が薄ければ乾燥が早い。支持体の表面温度は全体が同じでも、位置によって異なっていてもよい。加熱風の温度は１０〜８０℃が好ましい。
【００６８】
溶媒蒸発工程においては、流延膜の剥離、ならびに剥離後の搬送性の観点から、残留溶媒量が３０〜１５０重量％になるまで、流延膜を乾燥することが好ましい。
【００６９】
本明細書中、残留溶媒量は下記の式で表すことができる。
残留溶媒量（重量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００
ここで、Ｍは流延膜（フィルム）の所定の時点での重量、ＮはＭのものを１１０℃で３時間乾燥させた時の重量である。特に溶媒蒸発工程において達成された残留溶媒量を算出するときのＭは剥離工程直前の流延膜の重量である。
【００７０】
（剥離工程）
剥離工程は、支持体上で有機溶媒を蒸発させた流延膜を、支持体が一周する前にフィルムとして支持体から剥離する工程である。支持体からの流延膜の剥離を助けるロール５を剥離ロールという。
【００７１】
剥離されたフィルムは、延伸工程８等の他の工程に直接送られてもよいし、または図１に示すように所望の残留溶媒量を達成するまで第１乾燥工程７に送られた後で、延伸工程８に送られてもよい。本発明においては、延伸工程での安定搬送の観点から、剥離工程後、フィルムは、第１乾燥工程７および延伸工程８に順次、送られることが好ましい。
【００７２】
（第１乾燥工程）
第１乾燥工程７は、フィルムを加熱し、溶媒をさらに蒸発させる乾燥工程である。乾燥手段は特に制限されず、例えば、熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等を用いることができる。簡便さの観点からは、例えば図１に示すように、千鳥状に配置したロール７１でフィルムを搬送しながら、熱風等で乾燥を行うことが好ましい。乾燥温度は残留溶媒量、搬送における伸縮率、等を考慮して、３０〜１００℃の範囲が好ましい。
【００７３】
（延伸工程）
延伸工程は、フィルムを加熱下で少なくとも幅方向に延伸して保持する工程であり、図１中、８で示される。
【００７４】
延伸工程では、通常、延伸・保持した後、緩和が行われ、すなわち本工程は、フィルムを幅手方向に延伸する延伸段階、フィルムを延伸状態で保持する保持段階およびフィルムを幅手方向に緩和する緩和段階をこれらの順序で実施する。
【００７５】
延伸段階では、加熱下でフィルムに幅手方向または幅手方向および搬送方向の両方向に張力を付与し、フィルムの延伸を行う。延伸方法は特に制限されず、従来からフィルムの製造方法の分野で公知の延伸方法を採用できる。幅手方向の延伸方法としては、例えば、ピンテンター法、クリップテンター法等が挙げられる。搬送方向の延伸方法としては、例えば、上流側と下流側とで搬送用駆動ロールの周速を異ならせる方法や、搬送張力を異ならせる方法等が挙げられる。
【００７６】
保持段階では、延伸段階で達成された延伸倍率での延伸を、延伸段階における延伸温度で保持する。
【００７７】
緩和段階では、延伸段階における延伸を保持段階で保持した後、延伸のための張力を解除することによって、延伸を緩和する。緩和は延伸段階における延伸温度以下で行えばよい。
【００７８】
（第２乾燥工程）
第２乾燥工程９は、延伸されたフィルムを加熱し、溶媒をさらに蒸発させる乾燥工程である。乾燥手段は特に制限されず、例えば、熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等を用いることができる。簡便さの観点からは、例えば図１に示すように、千鳥状に配置したロール９１でフィルムを搬送しながら、熱風等で乾燥を行うことが好ましい。乾燥温度は残留溶媒量、搬送における伸縮率、等を考慮して、４０〜１５０℃の範囲が好ましい。
【００７９】
第２乾燥工程においては、残留溶媒量が０．５重量％以下になるまで、フィルムを乾燥することが好ましい。特に第２乾燥工程において達成される残留溶媒量を算出するときのＭは第２乾燥工程直後のフィルムの重量である。
【００８０】
（巻き取り工程）
巻き取り工程１０は得られたフィルムを巻き取って室温まで冷却する工程である。巻き取り機１０１は、一般的に使用されているものでよく、例えば、定テンション法、定トルク法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法などの巻き取り方法で巻き取ることができる。
【００８１】
光学フィルムの厚さは特に制限されず、例えば、２０〜２００μｍ、特に３０〜１００μｍであることが好ましい。
【００８２】
上述した溶媒蒸発工程から巻き取り工程までの各工程は、空気雰囲気下であってもよいし、窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気下であってもよい。また、各工程、特に乾燥工程や延伸工程は、雰囲気における溶媒の爆発限界濃度を考慮して実施する。
【００８３】
（光学フィルム）
本発明において製造された光学フィルムは、膜厚偏差ｋｘが０．２〜０．８μｍ、好ましくは０．２〜０．５μｍであり、かつ、泡の含有個数が３個／１００ｍ以下、好ましくは０〜１個／１００ｍ以下である。
【００８４】
本明細書中、膜厚偏差ｋｘは膜厚ムラ発生の程度を示すひとつのパラメータであり、以下の方法によって測定された値を用いている。
所定膜厚の光学フィルムの製造開始から搬送方向長さで１００ｍ近傍の領域（±１０ｍの領域）について、光学フィルムの膜厚を、ＦＩＬＭ  ＴＨＩＣＫＮＥＳＳ  ＴＥＳＴＥＲ  ＫＧ６０ＩＢ（Ａｎｒｉｔｓｕ社製）によって測定する。詳しくは、当該旅域のフィルムの幅方向および走行方向について任意の１００点で膜厚ｔの測定を行う。測定値のうち、最小値ｔＡおよび最大値ｔＢについて、以下の式に基づいて膜厚偏差ｋｘを求める。
膜厚偏差ｋｘ（μｍ）＝ｔＢ−ｔＡ
【００８５】
泡の含有個数ｒは以下の方法によって測定された値を用いている。
光学フィルムの任意の搬送方向長さｙ（ｍ）（ｙ≧１０００ｍ）について泡の個数ｚを目視により測定し、以下の式に基づいて算出する。
泡の含有個数ｒ（個／１００ｍ）＝（ｚ／ｙ）×１００
【００８６】
本発明において製造された光学フィルムはさらに、膜厚偏差の劣化度が０．０２μｍ／日以下、好ましくは０．０１μｍ／日以下である。
【００８７】
膜厚偏差の劣化度は製造開始から１日間で劣化した標準偏差の値）であり、１日間で搬送方向長さ約２０００ｍの光学フィルムを製造するものと仮定したときの値である。具体的には以下の方法によって測定された値を用いている。
所定膜厚の光学フィルムの製造開始から搬送方向長さで２０００ｍ近傍の領域（±１０ｍの領域）についての標準偏差を求めること以外、上記標準偏差ｋｘと同様の方法により、標準偏差ｋｙを求める。標準偏差ｋｘと標準偏差ｋｙから、以下の式に基づいて劣化度を求める。
劣化度＝ｋｙ−ｋｘ
【００８８】
特に膜厚が比較的厚い光学フィルムＡを連続的に製造した後、引き続いて連続的に膜厚が比較的薄い光学フィルムＢを製造する場合、膜厚が比較的薄い光学フィルムＢを連続的に製造した後、引き続いて連続的に膜厚が比較的薄い光学フィルムＡを製造する場合、および上記場合の操作を組み合わせて行う場合において、光学フィルムＡおよび光学フィルムＢのいずれの光学フィルムについても、前記した膜厚偏差および泡の含有個数を満たす。しかも光学フィルムＡおよび光学フィルムＢのいずれの光学フィルムも、前記した前記した膜厚偏差の劣化度を満たす。
【００８９】
（用途）
本発明において製造された光学フィルムは、特に、液晶画像表示装置等の表示装置に有用である。詳しくは、本発明において製造された光学フィルムは、例えば、偏光フィルム用保護フィルム、位相差フィルム、防眩フィルム、無反射フィルムとして有用であり、特に偏光フィルム用保護フィルム、位相差フィルムとして好ましく用いられる。
【実施例】
【００９０】
以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００９１】
＜実施例１＞
（初期ドープの調製）
下記の素材を密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全に溶解、濾過し、初期ドープ２１を調製した。
セルロースアセテートプロピオネート（アセチル基置換度＋プロピオニル基置換度＝２．４５）（Ｍｎ＝６００００、Ｍｗ＝１８００００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．００）
２２重量部
トリフェニルフォスフェート                                      １．２重量部
エチルフタリルエチルグリコレート                                １．２重量部
メチレンクロライド（良溶媒）                                      ９０重量部
エタノール（貧溶媒）                                              １０重量部
チヌビン１０９（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）          ０．１重量部
チヌビン１７１（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）          ０．１重量部
アエロジル９７２Ｖ（日本アエロジル（株）製）                  ０．０４重量部
【００９２】
（希釈用ドープの調製）
下記の素材を密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全に溶解、濾過し、希釈用ドープ２２を調製した。
セルロースアセテートプロピオネート（アセチル基置換度＋プロピオニル基置換度＝２．４５）（Ｍｎ＝６００００、Ｍｗ＝１８００００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．００）
８重量部
メチレンクロライド（良溶媒）                                      ７０重量部
エタノール（貧溶媒）                                              ３０重量部
【００９３】
（セルロースエステルフィルムの製造）
上記ドープおよび図１に記載の製造装置を用いて、膜厚の異なる２種類の光学フィルムを連続的に製造した。最初に製造した光学フィルムを「光学フィルムＰ」、次に製造した光学フィルムを「光学フィルムＱ」と呼ぶものとする。なお、図１の装置では延伸工程８および第２乾燥工程９は省略し、第１乾燥工程を行ったフィルムを巻き取り工程１０で巻き取った。
【００９４】
詳しくは、まず、初期ドープ２１を配管２１１を経てダイス２に供給するとき、希釈用ドープ２２を配管２２１によってインライン法により添加・混合し、流延用ドープ２０を調製した（混合工程）。このときの、初期ドープ２１と希釈用ドープ２２との混合割合、および流延用ドープ２０の高分子材料濃度ｘｐを表に示す。次いで、１００ｍ／分で連続的に走行するステンレスベルト製支持体１の上に、流延用ドープ２０（３０℃）を、ダイス２の下部に配設された吐出口２３から吐出して、ダイス２と支持体１との間に流延ビード２０１を形成するとともに、支持体１上に流延膜２０２を形成した（流延工程）。このときの、流延用ドープ２０の吐出量を表に示す。流延を行った後は、フィルム側の乾燥機４からは４５℃の風を１０ｍ／秒の風速で送り、ステンレスベルト側の乾燥機３からは４０℃の風を１０ｍ／秒で送り、流延膜を乾燥した（溶媒蒸発工程）。乾燥した流延膜を剥離ロール５にて剥離した（剥離工程）。剥離工程直前における流延膜中の残留溶媒量は８０重量％であった。剥離したフィルムを乾燥工程７に導入して、８０℃で３分間乾燥した（第１乾燥工程）。乾燥工程７ではロール７１を千鳥状に配置した装置を用いた。その後、巻き取り工程１０で、フィルムを巻取り機１０１で巻き取り、最終的に２０℃に冷却して、光学フィルムＰを約２０００ｍ長で得た。光学フィルムＰの膜厚ｈｄｐを表に示す。
【００９５】
上記所定の長さでの光学フィルムＰの製造が完了するタイミングで、初期ドープ２１と希釈用ドープ２２との混合割合を表に記載の比率に変更することによって、光学フィルムＰの製造に引き続いて連続的に光学フィルムＱを製造した。光学フィルムＱの製造方法は、各種条件を表に示すように設定したこと以外、光学フィルムＰの製造方法と同様であった。
光学フィルムＱの製造時における、初期ドープ２１と希釈用ドープ２２との混合割合、および流延用ドープ２０の高分子材料濃度ｘｑ、流延用ドープ２０の吐出量、および光学フィルムＱの膜厚ｈｄｑを表に示す。
【００９６】
＜実施例２〜５／比較例１〜４＞
各種条件を表に示すように設定したこと以外、実施例１と同様の方法により、光学フィルムＰおよび光学フィルムＱを連続的に製造した。
比較例１〜４では、所定の条件で光学フィルムＰのみの製造を行った。
【００９７】
【表１】
2012056127.tif 000003
【００９８】
＜評価＞
光学フィルムＰおよび光学フィルムＱを、以下の項目について評価した。
【００９９】
（膜厚ムラ）
前記した方法により膜厚偏差ｋｘを求め、当該値に基づいて評価した。
◎；ｋｘ≦０．４μｍ（最良）；
○；０．４μｍ＜ｋｘ≦０．８μｍ（良）；
×；０．８μｍ＜ｋｘ≦１．５μｍ（不可；実用上問題あり）；
××；１．５μｍ＜ｋｘ（不可；実用上問題あり）。
【０１００】
（泡の含有個数）
前記した方法により泡の含有個数ｒを求め、当該値に基づいて評価した。
◎；ｒ≦１個／１００ｍ（最良）；
○；１個／１００ｍ＜ｒ≦３個／１００ｍ（良）；
×；３個／１００ｍ＜ｒ≦５個／１００ｍ（不可；実用上問題あり）；
××；５個／１００ｍ＜ｒ（不可；実用上問題あり）。
【０１０１】
（膜厚偏差の劣化度）
前記した方法により標準偏差ｋｘと標準偏差ｋｙを求め、当該値に基づいて評価した。
◎；ｋｙ−ｋｘ≦０．０１μｍ（最良）；
○；０．０１μｍ＜ｋｙ−ｋｘ≦０．０２μｍ（良）；
×；０．０２μｍ＜ｋｙ−ｋｘ≦０．０４μｍ（不可；実用上問題あり）；
××；０．０４μｍ＜ｋｙ−ｋｘ（不可；実用上問題あり）。
【０１０２】
【表２】
2012056127.tif 000004
【産業上の利用可能性】
【０１０３】
本発明に係る方法によって製造された光学フィルムは、例えば、偏光フィルム用保護フィルム、位相差フィルム、防眩フィルム、無反射フィルム、等としての使用に特に適している。
【符号の説明】
【０１０４】
１：支持体
２：ダイス
３：乾燥機
４：乾燥機
５：剥離ロール
７：乾燥工程
８：延伸工程
９：乾燥工程
１０：巻き取り工程
２０：流延用ドープ
２１：初期ドープ
２３：吐出口
２０１：流延ビード
２０２：流延膜
２１０：２２０：収容槽
２１１：２２１：配管
【図１】
2012056127.tif 000005
【図２】
2012056127.tif 000006