(57)【要約】【課題】両面表示できタッチ入力機能を備えつつも、表示品質を落とさず且つ部品点数を低減することができる表示媒体および表示装置を提供する。【解決手段】表示媒体１０は主表示パネル５１、タッチパネル５３、副表示パネル５２を厚み方向に重ねた構造を有する。主表示パネル５１は、共通電極２６が形成されたフィルム基板２５と、多数の帯電粒子４１，４２が収容されたマイクロカプセル４０を含む表示層４３と、減光板２４と、画素電極２２が形成された主体基板２１とを含む。タッチパネル５３は、検出電極２３が形成された上記主体基板２１と、検出電極３１が形成されたフィルム基板３０とを含む。副表示パネル５２は、共通電極３３が形成されたフィルム基板３２と、上記マイクロカプセル４０を含む表示層４４と、フィルム基板３２との間に表示層４４を保持する上記フィルム基板３０と、上記主体基板２１の画素電極２２とを含む。【選択図】図２
2012118163.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過性を有する基板の一方の面側に電極が形成されてなる第１基板と、
光透過性を有する基板の一方の面側に電極が形成され、その一方の面が、前記第１基板の一方の面に対向して配置される第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に配置され、それぞれに対向する第３基板と、
前記第１基板と前記第３基板との間に配置され、多数の帯電粒子を含む第１の層と、
前記第２基板と前記第３基板との間に配置され、多数の帯電粒子を含む第２の層と、
前記第３基板の一方の面側に形成される複数の画素電極と、
前記第３基板の他方の面側に形成され、前記第１基板の他方の面および前記第２基板の他方の面の少なくとも一方に接触または近接する物体の位置を電気的に検出するための検出電極と、
を備えることを特徴とする表示媒体。
【請求項２】
可撓性を有する基板の一方の面側に電極が形成され、その一方の面が、前記検出電極との間に所定の間隙をもって対向した状態で、前記検出電極と前記第２の層との間に配置される第４基板をさらに備え、
前記第２基板が、可撓性を有し、前記第３基板の他方の面側に配置される基板であることを特徴とする請求項１に記載の表示媒体。
【請求項３】
前記第１基板の他方の面および前記第２基板の他方の面の少なくとも一方側に配置され、前記第１基板の他方の面または前記第２基板の他方の面への物体の接触または近接を検知する第１検知手段をさらに備え、
前記第１基板および前記第３基板が、可撓性を有する基板であることを特徴とする請求項２に記載の表示媒体。
【請求項４】
前記第１基板の他方の面および前記第２基板の他方の面の少なくとも一方側に配置され、前記第１基板の他方の面または前記第２基板の他方の面への物体の接触または近接を検知する第１検知手段と、
前記第３基板の他方の面側に形成され、前記検出電極と電気的に接続すると共に、前記検出電極への前記接触位置を検知するための第２検知手段と、
をさらに備える請求項１に記載の表示媒体と、
前記表示媒体の前記第２検知手段に接続され、前記第２検知手段により検知される前記接触位置を特定する演算を行う演算手段と、
を備えることを特徴とする表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、両面に画像等を表示可能な表示媒体および表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、電気泳動現象を利用して文字や画像等を表示することができる表示媒体が知られている。この表示媒体は、少なくとも一方が透明な２枚の表示基板の間に、多数の帯電粒子を含む層を配置した構造を有する。表示基板に設けられた電極間への電圧の印加によって電界を生じさせ、帯電粒子が表示基板間で電界に応じて移動することによって、表示媒体の表示画面に画像等が表示される。このような表示媒体を２つ重ねて両面が表示画面となるようにすることで、両面にそれぞれ異なる画像等を表示できるようにした表示媒体も知られている。
【０００３】
また、表示基板にタッチパネルを一体に設けた表示媒体が知られている（例えば特許文献１参照）。タッチパネルは指等の物体が接触または近接する位置を電気的に検出する。通常、操作の都合上タッチパネルは表示画面側に配置されるが、特許文献１では、可撓性を有する表示基板を用い、タッチパネルを表示画面とは反対側の裏面側に配置することで、表示媒体の視認性を高めている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００７−３２２５８７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１に記載の表示媒体を２つ重ねて両面に画像等を表示できるようにした表示媒体を作製すると、表示媒体を構成する部品の点数が増えてしまう。また、タッチパネルの制御装置や画像表示のための制御装置もそれぞれ２つずつ必要となるため、両面表示が可能な表示媒体の製造コストが高くなってしまうという問題があった。
【０００６】
本発明は、上記の問題点を解決するためになされたものであり、両面表示できタッチ入力機能を備えつつも、表示品質を落とさず且つ部品点数を低減することができる表示媒体および表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の第１態様によれば、光透過性を有する基板の一方の面側に電極が形成されてなる第１基板と、光透過性を有する基板の一方の面側に電極が形成され、その一方の面が、前記第１基板の一方の面に対向して配置される第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に配置され、それぞれに対向する第３基板と、前記第１基板と前記第３基板との間に配置され、多数の帯電粒子を含む第１の層と、前記第２基板と前記第３基板との間に配置され、多数の帯電粒子を含む第２の層と、前記第３基板の一方の面側に形成される複数の画素電極と、前記第３基板の他方の面側に形成され、前記第１基板の他方の面および前記第２基板の他方の面の少なくとも一方に接触または近接する物体の位置を電気的に検出するための検出電極と、を備える表示媒体が提供される。
【０００８】
第１態様の表示媒体では、第１基板を介して第１の層にて形成される画像等を見ることができ、第２基板を介して第２の層にて形成される画像等を見ることができるだけでなく、さらに、検出電極を備えることによって、画像等の表示画面に接触または近接する指等の物体の位置を検出する機能を得ることができる。この検出電極は、第１の層と第２の層との間に配置されるので、第１の層や第２の層に形成される画像等の第１基板や第２基板を介した表示が検出電極によって妨げられることがない。よって、表示媒体の両面において表示品質の高い鮮明な画像等を表示することができる。また、第１の層の表示に応じて指等により行われる操作の入力（タッチ入力）の検出と、第２の層の表示に応じて行われるタッチ入力の検出とを、１つの検出電極で共用して行うことができる。よって、第１の層の表示向けの検出電極と、第２の層の表示向けの検出電極とをそれぞれ設けた場合と比べ、表示媒体を構成する部品点数を減らすことができる。さらに、検出電極が１つであるので、検出電極の駆動のための回路も１つあれば足り、部品点数を削減でき、また消費電力を低減できる。また、第１の層に形成される画像等と第２の層に形成される画像等とを、第３基板の一方の面側の画素電極の駆動によって形成することができる構成であるので、画素電極の駆動のための回路を、第１の層用と第２の層用とにそれぞれ設けなくとも共用することができ、部品点数を削減でき、また消費電力を低減できる。
【０００９】
第１態様の表示媒体は、可撓性を有する基板の一方の面側に電極が形成され、その一方の面が、前記検出電極との間に所定の間隙をもって対向した状態で、前記検出電極と前記第２の層との間に配置される第４基板をさらに備えてもよい。第１態様において、前記第２基板が、可撓性を有し、前記第３基板の他方の面側に配置される基板であってもよい。第４基板が撓み、第４基板の電極が第３基板の検出電極と導通することによって指等の接触位置の検出を行う、いわゆる抵抗膜方式を採用することで、接触位置の検出精度の高いタッチ入力の機能を提供することができる。また、タッチ入力は、可撓性を有する第２基板側から行えばよく、第１基板は可撓性を有する必要がない。よって、第１基板にガラス等からなる基板を用いることができるので、表示媒体の強度を高めることができる。
【００１０】
第１態様の表示媒体は、前記第１基板の他方の面および前記第２基板の他方の面の少なくとも一方側に配置され、前記第１基板の他方の面または前記第２基板の他方の面への物体の接触または近接を検知する第１検知手段をさらに備えてもよい。第１態様において、前記第１基板および前記第３基板が、可撓性を有する基板であってもよい。第１検知手段を備えることにより、第１基板側からタッチ入力が行われた場合と、第２基板側からタッチ入力が行われた場合とを判別することができる。すなわち、タッチ入力を、表示媒体の両面からそれぞれ行うことができるので、利便性が高い。
【００１１】
本発明の第２態様によれば、前記第１基板の他方の面および前記第２基板の他方の面の少なくとも一方側に配置され、前記第１基板の他方の面または前記第２基板の他方の面への物体の接触または近接を検知する第１検知手段と、前記第３基板の他方の面側に形成され、前記検出電極と電気的に接続すると共に、前記検出電極への前記接触位置を検知するための第２検知手段と、をさらに備える第１態様の表示媒体と、前記表示媒体の前記第２検知手段に接続され、前記第２検知手段により検知される前記接触位置を特定する演算を行う演算手段と、を備える表示装置が提供される。検出電極に対するタッチ入力を第２検知手段によって検出する、いわゆる表面型静電容量方式を採用することで、表示媒体が機械的な動作を行うことがないため、耐久性が向上する。また、第１検知手段を備えることにより、第１基板側からタッチ入力が行われた場合と、第２基板側からタッチ入力が行われた場合とを判別することができる。すなわち、タッチ入力を、表示媒体の両面からそれぞれ行うことができるので、利便性が高い。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】表示装置１の概略的な構成を示す正面図である。
【図２】図１の一点鎖線Ａ−Ａにおいて矢視方向にみた表示媒体１０の断面図である。
【図３】表示装置１の電気的な構成を示すブロック図である。
【図４】表示制御プログラムのフローチャートである。
【図５】表示装置１０１の表示媒体１１０の断面図である。
【図６】図５の一点鎖線Ｂ−Ｂにおいて矢視方向にみた表示媒体１１０の断面図である。
【図７】表示装置２０１の表示媒体２１０の断面図である。
【図８】第３の実施形態における表示制御プログラムのＳ２２１を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明の第１の実施形態にかかる表示装置１について、図面を参照して説明する。以下に参照する図面は、本発明が採用し得る技術的特徴を説明するために用いられるものである。図面に記載されている装置の構成、各種処理のフローチャート等は、それのみに限定する趣旨ではなく、単なる説明例である。
【００１４】
図１に示す、表示装置１は、内蔵する表示媒体１０によって、文書や画像などを表示画面３に表示することができる薄板状の装置である。図１には図示されないが、表示装置１の裏面（図１における紙面裏側の面）にも表示画面４（図２参照）が設けられている。すなわち、表示装置１は筐体２の両面に表示画面３，４を有し、それぞれ独立に文書や画像等を表示することができるものであり、例えば電子看板などの用途に使用することができる。なお、以下では便宜上、表示媒体１０の表示画面３を、表示装置１の主面とし、表示媒体１０の表示画面４を、表示装置１の裏面として説明する。
【００１５】
表示装置１は、筐体２内に、後述する表示媒体１０、制御基板７およびバッテリ８を収容する。表示媒体１０とバッテリ８は、フレキシブルプリント基板（ＦＰＣ）６によって、それぞれ制御基板７と電気的に接続されている。また、制御基板７上には電源スイッチなどを含む複数の操作ボタン５が設けられ、筐体２の外部から操作可能に配置されている。なお、表示装置１はバッテリ８を内蔵せず、表示媒体１０や制御基板７には外部電源から電力が供給されてもよい。あるいは外部電源からの電力の供給とバッテリ８からの電力供給とが併用されてもよい。
【００１６】
次に、図１，図２を参照し、表示媒体１０の構造について説明する。表示媒体１０は、公知の電気泳動型の表示素子によって画像等を表示可能な媒体である。図２に示すように、表示媒体１０は略矩形の部材を層状に重ねて構成され、板状に形成される。第１の実施形態の表示媒体１０は、保護フィルム２７、主表示パネル５１、タッチパネル５３、副表示パネル５２、および保護フィルム３４を、この順に、厚み方向に重ねた構造を有する。なお、便宜上、以下の説明において、表示媒体１０を構成する各部材（表示媒体１０自身を含む）の表示画面３側の面を主面とし、表示画面４側の面を裏面とする。
【００１７】
まず、主表示パネル５１について説明する。主表示パネル５１は、表示媒体１０の主面（表示画面３）に画像等を表示するためのパネル状の構造体である。主表示パネル５１は、共通電極２６が形成されたフィルム基板２５と、多数の帯電粒子４１，４２が収容されたマイクロカプセル４０を含む表示層４３と、減光板２４と、画素電極２２が形成された主体基板２１とを含んで構成される。
【００１８】
主体基板２１は、金属あるいはポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のプラスチックフィルムからなり可撓性を有する基板である。主体基板２１の主面（表示画面３側の面）には、画素電極２２が形成されている。画素電極２２は、表示画面３，４に表示する画像等の画素ごとに図示しない薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）と電極板とを配置し、マトリクス配線によって結線したものである。画素電極２２の個々のＴＦＴは公知のアクティブマトリクス方式によって駆動され、画素ごとの電極板に電圧が印加されて、後述する共通電極２６，３３との間に電界を生ずる。
【００１９】
主体基板２１の画素電極２２が形成された側の面（主面）に対向してフィルム基板２５が配置されている。フィルム基板２５は、第１の実施形態ではＰＥＴからなるフィルム状の基板であり、光透過性および可撓性を有する。フィルム基板２５の主体基板２１側の面（裏面）には、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）を一面に蒸着させた共通電極２６が形成されている。すなわち共通電極２６は、表示媒体１０の厚み方向において主体基板２１の個々の画素電極２２と向き合うように配置されている。両電極間には、表示層４３および減光板２４が設けられている。
【００２０】
減光板２４は、所定量の染料または顔料が添加されたポリエステルフィルムからなる板体で、自身を透過する光を減光あるいは遮る。減光板２４は、画素電極２２上（表示画面３側）に配置され、画素電極２２が形成された領域（表示画面３における画像等の表示領域９）の全体を覆う。減光板２４は、表示画面３側から入射する外部からの光によって、画素電極２２においてＴＦＴのリーク電流が発生するのを抑制する。また、減光板２４は、表示画面３または４側から入射して各層を透過する光によって、表示画面４または３に表示される画像等が見えにくくなるのを防ぐ効果も奏する。
【００２１】
表示層４３は、多数の帯電粒子４１，４２を収容する多数のマイクロカプセル４０をポリマーバインダ（図示外）中に含んで形成される層である。表示層４３は、主体基板２１の画素電極２２と、フィルム基板２５の共通電極２６との間に介在される。なお、第１の実施形態では、表示層４３と画素電極２２との間にさらに、上記の減光板２４が介在されている。個々のマイクロカプセル４０は、内部に、帯電粒子４１，４２を炭化水素ベースの流体中に分散させた状態で収容している。帯電粒子４１は正に帯電された黒色の粒子であり、帯電粒子４２は負に帯電された白色の粒子である（帯電の正負は逆でもよい）。詳細は後述するが、個々の画素電極２２と共通電極２６との間に生ずる電界の向きに応じて、帯電粒子４１，４２がそれぞれマイクロカプセル４０内で移動（泳動）することによって、表示画面３に画像等が表示される。
【００２２】
次に、タッチパネル５３について説明する。タッチパネル５３は、指等の物体が接触（または近接）する位置を電気的に検出するためのパネル状の構造体である。タッチパネル５３は、検出電極２３が形成された主体基板２１と、検出電極３１が形成されたフィルム基板３０とを含んで構成される。
【００２３】
主体基板２１については上述した通りであり、検出電極２３は、主体基板２１の裏面（表示画面４側の面）に、ＩＴＯが蒸着して形成されている。フィルム基板３０は、主表示パネル５１のフィルム基板２５と同様、ＰＥＴからなるフィルム状の基板であり、可撓性を有する。フィルム基板３０は、主体基板２１よりも表示画面４側において、主体基板２１とは離間した状態で、主体基板２１に対向して配置されている。フィルム基板３０の主体基板２１側の面（主面）にも、ＩＴＯを一面に蒸着させてなる検出電極３１が形成されている。主体基板２１の検出電極２３と、フィルム基板３０の検出電極３１との間には所定の間隙が確保されている。主体基板２１やフィルム基板３０に外部からの押圧力が加わらなければ、検出電極２３と検出電極３１とは、互いに非接触の状態に維持される。タッチパネル５３は、外部からの押圧力で主体基板２１やフィルム基板３０が局所的に撓むことにで、検出電極２３と検出電極３１とが接触（電気的に接続）した位置を、公知の抵抗膜方式を用いて検出するものである。
【００２４】
次に、副表示パネル５２について説明する。副表示パネル５２は、主表示パネル５１と同様、表示媒体１０の裏面（表示画面４）に画像等を表示するためのパネル状の構造体である。副表示パネル５２は、共通電極３３が形成されたフィルム基板３２と、上記したマイクロカプセル４０を含む表示層４４と、フィルム基板３２との間に表示層４４を保持する上記のフィルム基板３０と、主体基板２１に形成された上記の画素電極２２とを含んで構成される。
【００２５】
フィルム基板３２は、主表示パネル５１のフィルム基板２５と同様にＰＥＴからなるフィルム状の基板であり、光透過性および可撓性を有する。共通電極３３は、フィルム基板３２の主体基板２１側の面（主面）に、ＩＴＯの蒸着によって形成されている。表示層４４は、表示層４３と同様の構成であり、フィルム基板３０，３２間において、ポリマーバインダ（図示外）中に多数の帯電粒子４１，４２を収容する多数のマイクロカプセル４０を含んで形成される層である。表示層４４のマイクロカプセル４０は、主体基板２１の画素電極２２とフィルム基板３２の共通電極３３との間にタッチパネル５３を介して配置されており、画素電極２２と共通電極３３との間で電界が生ずることによって、表示画面４に画像等が表示される。
【００２６】
このように、主表示パネル５１、副表示パネル５２およびタッチパネル５３を構成する各基板や部材は層状に配置され、接着剤等で互いに接合されている。主体基板２１は、表示媒体１０を構成する他の基板等と比べ、面方向に大きく形成されている。他の基板等よりも面方向に突出する部分の主体基板２１の主面（表示画面３側の面）と、主表示パネル５１の側面とに沿って、シリコンモールド３５が、その側面を一周して形成されている。フィルム基板２５の主面（表示画面３側の面）は、シリコンモールド３５ごと、保護フィルム２７によって覆われて保護されている。保護フィルム２７は、ＰＥＴからなる光透過性のプラスチックフィルムであり、可撓性を有する。同様に、他の基板等よりも面方向に突出する部分の主体基板２１の裏面（表示画面４側の面）と、タッチパネル５３および副表示パネル５２の側面とに沿って、シリコンモールド３６が、その側面を一周して形成されている。フィルム基板３２の裏面（表示画面４側の面）も、保護フィルム３４によって、シリコンモールド３６ごと覆われて保護されている。保護フィルム３４も同様に、ＰＥＴからなる光透過性および可撓性を有するプラスチックフィルムからなる。
【００２７】
また、保護フィルム２７の主面（表示画面３）には、表示画面３への指等の接触（あるいは近接）を検出する接触センサとして、赤外線発光部１１および赤外線受光部１２（図１参照）が設けられている。図１，図２に示すように、赤外線発光部１１および赤外線受光部１２は、表示画面３における画像等の表示領域９と厚み方向において重ならないように、表示領域９の外周に沿って設けられている。図１に示すように、赤外線発光部１１は、矩形の表示領域９の２辺にそれぞれ設けられ、各辺にそれぞれ対向する辺に、赤外線受光部１２が設けられている。接触センサはタッチパネル５３の駆動中に駆動され、赤外線発光部１１から発せられる赤外線が赤外線受光部１２によって受光されており、指等によって赤外線の受光が遮られると、指等の表示画面３への接触が検出される。すなわち、タッチパネル５３において指等による操作の入力（タッチ入力）があった場合において、接触センサによる検出があれば、表示画面３に指等が接触したものと判断され、接触センサによる検出がなければ、表示画面４に指等が接触したものと判断される。
【００２８】
次に、表示装置１の電気的な構成について、図３を参照して説明する。図３に示すように、表示装置１は、制御基板７に表示装置１の制御等を司るＣＰＵ６０を搭載する。ＣＰＵ６０は、ＲＯＭ６１、ＲＡＭ６２およびフラッシュメモリ６３と電気的に接続され、それぞれの記憶領域にアクセスできる。ＲＯＭ６１は、ＣＰＵ６０が実行する基本プログラムを記憶する読出し専用の記憶装置である。後述する表示制御プログラムも、ＲＯＭ６１の所定の記憶エリアに記憶されている。ＲＡＭ６２は、データを一時的に記憶する読み書き可能な記憶装置である。フラッシュメモリ６３は読み書き可能な不揮発性の記憶装置であり、表示装置１の表示画面３，４に表示する文字や画像等のデータなどが記憶される。
【００２９】
制御基板７にはさらに、入出力インタフェイス６４、タッチパネル（ＴＰ）コントローラ７１、電圧生成回路７２、電気泳動ディスプレイ（ＥＰＤ）コントローラ７３が設けられ、ＣＰＵ６０に接続されている。  入出力インタフェイス６４は、例えばＵＳＢやＢｌｕｅｔｏｏｔｈ（登録商標）などの通信用インタフェイスであり、表示装置１の表示画面３，４に表示する文字や画像等のデータなどの入出力に用いられる。
【００３０】
電圧生成回路７２は、バッテリ８の供給する電力から、主表示パネル５１、副表示パネル５２およびタッチパネル５３に印加する電圧を生成する。第１の実施形態では、後述する表示制御プログラムに従い、主表示パネル５１、副表示パネル５２およびタッチパネル５３への電圧の印加が択一的に行われる。
【００３１】
ＴＰコントローラ７１は、タッチパネル５３の検出電極２３と検出電極３１との接触位置（つまりは指等の接触位置）を検出する。位置検出は、電圧生成回路７２が検出電極２３および検出電極３１の平面における対辺間に所定の電圧（例えば５Ｖ）を印加し、ＴＰコントローラ７１において、両者の接触位置における分圧値を検出することによって行われる。ＴＰコントローラ７１は、検出した分圧値をＡ／Ｄ変換してＣＰＵ６０に出力する。また、ＴＰコントローラ７１は、検出電極２３と検出電極３１との間が導通状態（以下、「"ＰＥＮ  ＤＯＷＮ"の状態」ともいう。）にあるか、絶縁状態（以下、「"ＰＥＮ  ＵＰ"の状態」ともいう。）にあるかを報せる信号（便宜上、それぞれ、ＰＥＮ＿ＤＯＷＮ信号、ＰＥＮ＿ＵＰ信号とする。）をＣＰＵ６０に出力する。
【００３２】
なお、電圧生成回路７２が検出電極２３，３１に印加する電圧がＣＰＵ６０の駆動電圧（例えば５Ｖ）であれば、検出電極２３，３１によって検出される分圧値をＣＰＵ６０のポートに直接入力してもよい。この場合、ＣＰＵ６０のポートが持つＡ／Ｄ変換機能を用いてＣＰＵ６０が直接、分圧値を取得することで、ＣＰＵ６０がＴＰコントローラ７１として機能してもよい。
【００３３】
ＥＰＤコントローラ７３は、主表示パネル５１および副表示パネル５２に画像等を表示するため、個々の画素電極２２に印加する電圧の制御を行う。第１の実施形態では、主表示パネル５１および副表示パネル５２への画像の表示が、上記のタッチパネル５３の駆動も含めて、独立して（択一的に）行われる。また、ＣＰＵ６０には、上記した操作ボタン５と接触センサ（赤外線発光部１１および赤外線受光部１２）が接続されている。
【００３４】
次に、主表示パネル５１および副表示パネル５２における画像等の形成の際の動作について、図２を参照して簡単に説明する。なお、主表示パネル５１および副表示パネル５２における画像等の形成方法は同一であるため、以下では、主表示パネル５１の場合について説明する。主表示パネル５１における画像等の形成は、公知の電気泳動方式によってなされる。画像形成時には、共通電極２６を基準電位として、個々の画素電極２２のＴＦＴがＥＰＤコントローラ７３によって制御されることで、正または負の電圧が電圧生成回路７２から印加される。これにより、個々の画素電極２２と共通電極２６との電極間に、それぞれ、印加電圧の正負に応じた向きの電界が生ずる。
【００３５】
画素電極２２と共通電極２６との間に配置されたマイクロカプセル４０内の帯電粒子４１，４２は、上記したように、それぞれ正または負に帯電されている。ゆえに、電界の向きに応じて、帯電粒子４１，４２のそれぞれが、マイクロカプセル４０内で、画素電極２２側あるいは共通電極２６側に移動する。例えば、ある画素電極２２に、共通電極２６に比べて高い電圧がかけられた場合、正に帯電された黒色の帯電粒子４１は共通電極２６側に移動し、負に帯電された白色の帯電粒子４２は画素電極２２側に移動する。表示画面３側から見た場合に、画素電極２２側の白色の帯電粒子４２が共通電極２６側の黒色の帯電粒子４１に遮られ、表示画面３における、その画素電極２２付近の表示色は黒色となる。画素電極２２に、共通電極２６に比べて低い電圧がかけられた場合は、表示画面３における、その画素電極２２付近の表示色は白色となる。このように、各画素電極２２に対して印加される電圧が制御されることによって、表示画面３に画像等が表示される。マイクロカプセル４０内における帯電粒子４１，４２の位置は、画素電極２２と共通電極２６との間への電圧の印加が停止されても保持されるため、表示画面３における画像等の表示状態は、そのまま維持される。
【００３６】
次に、ＴＰコントローラ７１によるタッチパネル５３における接触位置の位置検出の際の動作について説明する。表示画面３に指等が接触すると、保護フィルム２７、フィルム基板２５、表示層４３、および主体基板２１が、接触位置において厚み方向に撓む。すると、検出電極２３と検出電極３１とが接触位置において導通する。あるいは、表示画面４に指等が接触した場合も、保護フィルム３４、フィルム基板３２、表示層４４、およびフィルム基板３０が、接触位置において厚み方向に撓み、検出電極２３と検出電極３１とが接触位置において導通する。
【００３７】
タッチパネル５３では、電圧生成回路７２によって、検出電極２３の平面における第１の軸方向の両端の対辺間に、所定の電圧（例えば５Ｖ）が印加される。ＴＰコントローラ７１では、検出電極３１の電位が求められることで、検出電極３１と検出電極２３との導通位置（すなわち指等の接触位置）における第１の軸方向（例えば表示画面３，４の縦方向）の分圧値が検出される。検出された第１の軸方向における分圧値はＡ／Ｄ変換され、ＴＰコントローラ７１からＣＰＵ６０に入力される。
【００３８】
次いで、タッチパネル５３では、電圧生成回路７２によって、検出電極２３の平面において、第１の軸方向に直交する第２の軸方向の両端の対辺間に所定の電圧が印加される。ＴＰコントローラ７１では、検出電極３１の電位が求められることで、上記同様、第２の軸方向（例えば表示画面３，４の横方向）の分圧値が検出される。検出された第２の軸方向の分圧値がＡ／Ｄ変換され、ＴＰコントローラ７１からＣＰＵ６０に入力される。ＣＰＵ６０は、ＴＰコントローラ７１によって検出された、上記２軸の分圧値（あるいは分圧比）に基づいて、検出電極２３と検出電極３１との平面方向における導通位置（すなわち指等の接触位置）の座標を求めることができる。
【００３９】
次に、第１の実施形態の表示装置１において行われる処理の流れについて、図４の表示制御プログラムのフローチャートを参照して説明する。以下に説明する表示制御プログラムは、表示装置１の電源が投入されると、ＣＰＵ６０の起動時のシーケンスに従い、図示しない他のプログラムとともに、ＣＰＵ６０によって実行される。他のプログラムとしては、例えば、表示装置１の全体の駆動を管理するメインプログラムや、画面の書き換えに関する画像処理を行うプログラムなどが挙げられる。なお、表示制御プログラムの実行中に一時的に生成されるデータやフラグ等は、ＲＡＭ６２に確保されるデータ処理用の記憶エリアに一時的に記憶される。以下、フローチャートの各ステップを「Ｓ」と略記する。
【００４０】
表示装置１の電源が投入され、図４に示す、表示制御プログラムが実行されると、ＴＰコントローラ７１を作動状態（ＯＮの状態）に切り換える信号が出力される（Ｓ１０）。ＴＰコントローラ７１は、検出電極２３または検出電極３１の分圧値を検出可能な状態で待機する。また、表示装置１の起動時には、図示しない他のプログラムによって、電圧生成回路７２やＴＰコントローラ７１、ＥＰＤコントローラ７３など、制御基板７に搭載された回路等の動作チェックが行われる。Ｓ１１では、電圧生成回路７２の動作チェックが完了するのを待機する（Ｓ１１：ＮＯ）。
【００４１】
電圧生成回路７２の動作チェックが完了して、上記他のプログラムから電圧生成命令を受けたら（Ｓ１１：ＹＥＳ）、ＣＰＵ６０は、電圧生成回路７２に、タッチパネル５３に印加する電圧（例えば５Ｖ）を生成する指示信号を出力する（Ｓ１２）。電圧生成回路７２では、上記したように、タッチパネル５３の検出電極２３の対辺間に印加する５Ｖの電圧が生成される。次にＣＰＵ６０は、ＴＰコントローラ７１に、ＴＰコントローラ７１の駆動を有効とするＥＮ＿ＯＮ命令を出力する（Ｓ１３）。このとき、接触センサ（赤外線発光部１１および赤外線受光部１２）も通電され、駆動状態となる。
【００４２】
タッチパネル５３に指等が接触しておらず、検出電極２３と検出電極３１とが絶縁状態にあるうちは、ＴＰコントローラ７１からＰＥＮ＿ＵＰ信号が出力され、ＣＰＵ６０は待機する（Ｓ１５：ＮＯ）。タッチパネル５３に指等が接触し、検出電極２３と検出電極３１とが導通状態（ＰＥＮ  ＤＯＷＮ）になると、ＴＰコントローラ７１は、導通状態を報せるＰＥＮ＿ＤＯＷＮ信号をＣＰＵ６０に出力する。また、ＴＰコントローラ７１は、指等の接触位置（検出電極２３と検出電極３１との導通位置）の検出を開始する。ＴＰコントローラ７１は、電圧生成回路７２と協働し、検出電極２３の第１の軸方向に５Ｖの電圧が印加されたら、検出電極３１の電位を第１の軸方向における分圧値として取得し、バッファに保持する。さらにＴＰコントローラ７１は、電圧生成回路７２と協働し、検出電極３１の第２の軸方向に５Ｖの電圧が印加されたら、検出電極２３の電位を第２の軸方向における分圧値として取得し、バッファに保持する。ＴＰコントローラ７１は、バッファに保持された第１の軸方向および第２の軸方向におけるそれぞれの分圧値をＡ／Ｄ変換し、ＣＰＵ６０に出力する。ＣＰＵ６０は、ＴＰコントローラ７１からＰＥＮ＿ＤＯＷＮ信号を受信すると、Ｓ１６に進む（Ｓ１５：ＹＥＳ）。さらに、ＣＰＵ６０は、ＴＰコントローラ７１から受信した分圧値をＲＡＭ６２に記憶する。
【００４３】
以後、ＴＰコントローラ７１は、第１の軸方向および第２の軸方向における分圧値の取得を繰返し行う。取得される分圧値は、バッファに上書き保持される。また、タッチパネル５３に接触した指等が接触状態（検出電極２３と検出電極３１とが導通状態）に維持されていれば、ＴＰコントローラ７１からは、ＰＥＮ＿ＤＯＷＮ信号が継続して出力される。ＣＰＵ６０は、ＴＰコントローラ７１からＰＥＮ＿ＤＯＷＮ信号を受信する間は待機する（Ｓ１６：ＮＯ）。なお、待機中に、接触センサ（赤外線発光部１１および赤外線受光部１２）によって、表示画面３への指等の接触が検出された場合には、接触があったことを示すフラグ（以下では便宜上、「接触フラグ」と呼ぶ。）が立てられ、ＲＡＭ６２に記憶される。
【００４４】
タッチパネル５３から指等が離れ、検出電極２３と検出電極３１とが絶縁状態（ＰＥＮ  ＵＰ）になると、ＴＰコントローラ７１は、ＰＥＮ＿ＵＰ信号をＣＰＵ６０に出力する。また、ＴＰコントローラ７１は、バッファに保持された最新の第１の軸方向および第２の軸方向におけるそれぞれの分圧値をＡ／Ｄ変換してＣＰＵ６０に出力して、指等の接触位置（導通位置）の検出を終了する。ＣＰＵ６０は、ＴＰコントローラ７１からＰＥＮ＿ＵＰ信号を受信すると、Ｓ１７に進む（Ｓ１６：ＹＥＳ）。また、ＣＰＵ６０は、ＴＰコントローラ７１から受信した分圧値をＲＡＭ６２に記憶する。ＣＰＵ６０は、ＰＥＮ  ＤＯＷＮの状態からＰＥＮ  ＵＰの状態になったときの第１の軸方向および第２の軸方向の分圧値に基づいて、検出電極２３と検出電極３１との平面方向における導通位置（指等の接触位置）の座標を求める（Ｓ１７）。なお、接触位置の座標の演算は、ＴＰコントローラ７１に図示しないマイクロコンピュータを搭載して行ってもよく、ＣＰＵ６０は、ＴＰコントローラ７１が求めた接触位置の座標をＳ１７において取得してもよい。
【００４５】
ここで、接触フラグが成立している場合には、指等による操作の入力（タッチ入力）が表示画面３側で行われ、接触フラグが非成立の場合には、タッチ入力が表示画面４側で行われたものと判断される。ＣＰＵ６０は、Ｓ１７で求めた座標と、接触フラグの状態とに基づいて、入力操作が有効であるか否かを確認する。例えば、主表示パネル５１（表示画面３）に、操作のためのアイコン等が表示される。タッチパネル５３が操作され、ＰＥＮ＿ＤＯＷＮ信号およびＰＥＮ＿ＤＯＷＮ信号が受信された場合に、接触フラグが成立していなければ、タッチ入力が表示画面４側でなされたものと判断される。また、接触フラグが成立している場合でも、Ｓ１７で求めた座標が、主表示パネル５１（表示画面３）に表示されたアイコンが占める座標領域の範囲内になければ、タッチ入力がアイコンの座標領域に対してなされたものではないと判断される。このような場合、入力操作は無効と判断され（Ｓ１８：ＮＯ）、Ｓ１５に戻る。
【００４６】
一方、Ｓ１８において、ＣＰＵ６０は、接触センサの検出結果に応じて成立する上記接触フラグの状態と、Ｓ１７で求めた座標とに基づいて、入力操作が有効であると判断した場合には（Ｓ１８：ＹＥＳ）、Ｓ２０に進む。Ｓ２０において、ＣＰＵ６０は、ＴＰコントローラ７１に、ＴＰコントローラ７１の駆動を無効とするＥＮ＿ＯＦＦ命令を出力する（Ｓ２０）。さらにＣＰＵ６０は、電圧生成回路７２に、タッチパネル５３に印加する電圧の生成を停止する指示信号を出力する。また、接触センサ（赤外線発光部１１および赤外線受光部１２）の通電も停止され、非駆動状態となる。
【００４７】
Ｓ２１に進み、接触フラグが成立していれば、ＣＰＵ６０は、主表示パネル５１（表示画面３）の表示内容の書き換えを行うため、Ｓ２２〜Ｓ２６の処理を実行する（Ｓ２１：ＹＥＳ）。ＣＰＵ６０は、まず、電圧生成回路７２に、主表示パネル５１に印加する電圧（例えば±２０Ｖ）を生成する指示信号を出力する（Ｓ２２）。電圧生成回路７２では、上記したように、主表示パネル５１の画素電極２２と共通電極２６との間に印加する±２０Ｖの電圧（Ｖｃｏｍ１電圧）が生成される。次にＣＰＵ６０は、ＥＰＤコントローラ７３に、ＥＰＤコントローラ７３の駆動を有効とするＥＮ＿ＯＮ命令を出力する（Ｓ２３）。
【００４８】
ＣＰＵ６０は、図示しない、画像処理を行うプログラムへ向けて、表示画面３に表示する画像等の書き換えを指示する命令（ＥＰＤ１表示書換命令）を出力する（Ｓ２５）。ＥＰＤ１表示書換命令は、例えば、画像処理を行うプログラムと表示制御プログラムとの間で共用される所定のフラグを成立させればよい。画像処理を行うプログラムにおいて、ＣＰＵ６０は、ＥＰＤ１表示書換命令を受信したら、ＥＰＤコントローラ７３を制御することによって、個々の画素電極２２のＴＦＴを制御する。これにより、共通電極２６を基準電位として、電圧生成回路７２によって生成されたＶｃｏｍ１電圧が個々の画素電極２２に印加され、画素電極２２の電位が＋２０Ｖまたは−２０Ｖに制御される。上記したように、マイクロカプセル４０内の帯電粒子４１，４２が、電界の向きに応じてマイクロカプセル４０内で画素電極２２側あるいは共通電極２６側に移動することによって、表示画面３の画像等の書き換えが行われる。
【００４９】
表示画面３の画像等の書き換えが終了したら、ＣＰＵ６０は、ＥＰＤコントローラ７３に、ＥＰＤコントローラ７３の駆動を無効とするＥＮ＿ＯＦＦ命令を出力する（Ｓ２６）。さらにＣＰＵ６０は、電圧生成回路７２に、主表示パネル５１に印加する電圧の生成を停止する指示信号を出力する。そしてＳ１２に戻り、Ｓ１２〜Ｓ２０の処理を行うことによって、タッチパネル５３による入力操作の検出が行われる。
【００５０】
一方、Ｓ２１において、接触フラグが非成立であれば、ＣＰＵ６０は、副表示パネル５２（表示画面４）の表示内容の書き換えを行うため、Ｓ３２〜Ｓ３６の処理を実行する（Ｓ２１：ＮＯ）。なお、Ｓ３２〜Ｓ３６では、処理対象を副表示パネル５２として、上記Ｓ２２〜Ｓ２６と同様の処理が行われるので、以下の説明は簡易化して行う。ＣＰＵ６０は、電圧生成回路７２に、副表示パネル５２に印加する電圧（Ｖｃｏｍ２電圧）を生成する指示信号を出力し（Ｓ３２）、次いでＥＰＤコントローラ７３にＥＮ＿ＯＮ命令を出力する（Ｓ３３）。ＣＰＵ６０は上記の画像処理を行うプログラム（図示外）へ向けて、上記同様、表示画面４に表示する画像等の書き換えを指示する命令（ＥＰＤ２表示書換命令）を出力する（Ｓ３５）。そして上記同様に表示画面４に表示する画像等の書き換えが終了したら、ＣＰＵ６０は、ＥＰＤコントローラ７３にＥＮ＿ＯＦＦ命令を出力し（Ｓ３６）、さらに電圧生成回路７２に、副表示パネル５２に印加する電圧の生成を停止する指示信号を出力する。そしてＳ１２に戻る。
【００５１】
以上説明したように、第１の実施形態の表示装置１は、表示媒体１０の両面に画像等を表示することができる。すなわち、表示媒体１０の主面（表示画面３）側ではフィルム基板２５を介して表示層４３にて形成される画像等を見ることができ、裏面（表示画面４）側ではフィルム基板３２を介して表示層４４にて形成される画像等を見ることができる。さらに、検出電極２３を備えることによって、表示画面３，４に接触（または近接）する指等の物体の位置を検出する機能を得ることができる。この検出電極２３は、表示層４３と表示層４４との間に配置されるので、表示層４３や表示層４４に形成される画像等のフィルム基板２５やフィルム基板３２を介した表示が検出電極２３によって妨げられることがない。よって、表示媒体１０の両面において、表示品質の高い鮮明な画像等を表示することができる。
【００５２】
また、表示層４３の表示（表示画面３への画像等の表示）に応じて行われるタッチ入力の検出と、表示層４４の表示（表示画面４への画像等の表示）に応じて行われるタッチ入力の検出とを、１つの検出電極２３で共用して行うことができる。よって、表示層４３の表示向けの検出電極と、表示層４４の表示向けの検出電極とをそれぞれ設けた場合と比べ、表示媒体１０を構成する部品点数を減らすことができる。さらに、検出電極２３が１つであるので、検出電極２３の駆動のための回路（電圧生成回路７２およびＴＰコントローラ７１）も１つあれば足り、部品点数を削減でき、また消費電力を低減できる。
【００５３】
また、表示層４３に形成される画像等と表示層４４に形成される画像等とを、主体基板２１の画素電極２２の駆動によって形成することができる。よって、画素電極２２の駆動のための回路（電圧生成回路７２およびＥＰＤコントローラ７３）を、表示層４３用と表示層４４用とにそれぞれ設けなくとも共用することができ、部品点数を削減でき、また消費電力を低減できる。さらに、接触センサ（赤外線発光部１１および赤外線受光部１２）を備えることにより、フィルム基板２５側（表示画面３側）からタッチ入力が行われた場合と、フィルム基板３２側（表示画面４側）からタッチ入力が行われた場合とを判別することができる。すなわち、タッチ入力を、表示媒体１０の両面からそれぞれ行うことができるので、利便性が高い。
【００５４】
そして、表示媒体１０は、フィルム基板３０が撓み、フィルム基板３０の検出電極３１が主体基板２１の検出電極２３と導通することによって指等の接触位置の検出を行う、いわゆる抵抗膜方式を採用することで、接触位置の検出精度の高いタッチ入力の機能を安価に提供することができる。
【００５５】
次に、本発明の第２の実施形態にかかる表示装置１０１について説明する。表示装置１０１は、図５に示す、表示媒体１１０に、表面型静電容量方式を用いて接触等の検出を行うタッチパネル１５３を搭載したものである。したがって、表示装置１０１のその他の構成は第１の実施形態の表示装置１と同様であり、以下では、表示媒体１１０について説明する。表示媒体１１０のタッチパネル１５３は、ガラスからなり可撓性を有さない主体基板１２１と、主体基板１２１の裏面（表示画面４側の面）にＩＴＯを蒸着させて形成され、導電膜として機能する検出電極１２３とを有する。図６に示すように、検出電極１２３の平面の四隅には、検出電極１２３に指等が接触または近接した位置を検出するための検出電極１２５が設けられている。４つの検出電極１２５はＴＰコントローラ７１（図３参照）に接続されており、ＴＰコントローラ７１は、それぞれの検出電極１２５を流れる電流の大きさを検出してＡ／Ｄ変換する。
【００５６】
表面型静電容量方式のタッチパネル１５３による接触位置の検出は公知であるので、以下に、検出方法について簡単に説明する。表面全体に一様な電界が形成された検出電極１２３（導電膜）に指等が接触または近接すると、静電結合により検出電極１２３と指等との間の静電容量が変化する。これにより、四隅の検出電極１２５それぞれを流れる電流に変化が生ずる。検出電極１２５を流れる電流変化の大きさは、検出電極１２３上における指等の接触位置と検出電極１２５との距離に反比例する。よってＴＰコントローラ７１は、四隅の検出電極１２５における電流の大きさの比を求めることで、各検出電極１２５と接触位置との距離比を求める。そしてＴＰコントローラ７１は、表示領域９の大きさに基づいて、距離比を満たす接触位置の座標を公知の演算式を用いて算出し、ＣＰＵ６０に出力する。なお、接触位置の座標の演算は、ＴＰコントローラ７１に図示しないマイクロコンピュータを搭載して行えばよく、ＣＰＵ６０は、ＴＰコントローラ７１が求めた接触位置の座標をＳ１７において取得すればよい。また、ＴＰコントローラ７１は、検出電極１２５を流れる電流の大きさを検出してＡ／Ｄ変換し、接触位置の座標の演算は、ＣＰＵ６０が行うようにしてもよい。
【００５７】
表示媒体１１０の主表示パネル１５１および副表示パネル１５２は、主体基板１２１としてガラスからなり可撓性を有さない基板を使用している点以外は第１の実施形態と同様であるため、説明を省略する。また、表示装置１０１の構造および表示制御に関する動作についても、第１の実施形態の表示装置１と同様であり、説明を省略する。なお、保護フィルム２７，３４およびフィルム基板２５，３２は、第１の実施の形態では可撓性を有するものを用いたが、第２の実施形態においては可撓性を有さなくともよく、例えばガラス等を用いて形成してもよい。
【００５８】
以上説明したように、第２の実施形態の表示装置１０１は、検出電極１２３に対するタッチ入力を検出電極１２５によって検出する、いわゆる表面型静電容量方式を採用することで、表示媒体１１０が機械的な動作を行うことがないため、長寿命を実現できる。また、接触センサ（赤外線発光部１１および赤外線受光部１２）を備えることにより、フィルム基板２５側からタッチ入力が行われた場合と、フィルム基板３２側からタッチ入力が行われた場合とを判別することができる。すなわち、タッチ入力を、表示媒体１１０の両面からそれぞれ行うことができるので、利便性が高い。
【００５９】
次に、本発明の第３の実施形態にかかる表示装置２０１について説明する。図７に示す、第３の実施形態の表示装置２０１の表示媒体２１０は、第１の実施形態の表示媒体１０の構成と略同様である。異なる点は、表示媒体２１０の主体基板２２１として、第２の実施形態と同様のガラスからなり可撓性を有さない基板を用いた点と、接触センサ（赤外線発光部１１および赤外線受光部１２）を有さない点である。すなわち、表示媒体２１０のタッチパネル２５３は、表示画面４側において指等の接触を検出可能とし、表示画面３側においては指等の接触の検出を行わない。
【００６０】
このような構成の表示媒体２１０を有する表示装置２０１の構造および電気的な構成は、図１や図３において、接触センサ（赤外線発光部１１および赤外線受光部１２）を有さない点以外は、第１の実施形態の表示装置１と同様であり、説明を省略する。また、表示装置２０１における表示制御に関する動作は、第１の実施形態と同様の表示制御プログラム（図４参照）に従って行われるが、接触センサに関する処理（Ｓ１３、Ｓ２０における接触センサの通電制御）は行われない。また、Ｓ２１の判断処理の代わりに、図８に示す、Ｓ２２１の判断処理が行われ、タッチパネル２５３におけるタッチ入力に基づく処理の分岐が行われる。
【００６１】
例えば、図示しない画像処理を行うプログラムによって、副表示パネル２５２（表示画面４）に、表示装置２０１の操作のためのアイコン等が表示される。図４に示す、Ｓ１２〜Ｓ２０の処理によって、タッチパネル２５３によって表示画面４への指等の接触位置が検出される。次に図８に示す、Ｓ２２１に進み、タッチパネル２５３によって検出された接触位置に対応するアイコン（タッチ入力により指示されたアイコン）に定義づけられた処理が、主表示パネル２５１（表示画面３）側に表示する画像等の書き換えを含むものであれば（Ｓ２２１：ＹＥＳ）、図４のＳ２２に進む。そして、第１の実施形態と同様にＳ２２〜Ｓ２６の処理が行われることによって、表示画面３に表示する画像等が書き換えられて、Ｓ１２に戻り、タッチパネル２５３によるタッチ入力の検出が行われる。一方、図８のＳ２２１で、タッチ入力により指示されたアイコンに定義づけられた処理が、副表示パネル２５２（表示画面４）側に表示する画像等の書き換えを含むものであれば（Ｓ２２１：ＮＯ）、図４のＳ３２に進む。同様にＳ３２〜Ｓ３６の処理が行われることによって、表示画面４に表示する画像等が書き換えられて、Ｓ１２に戻り、タッチパネル２５３によるタッチ入力の検出が行われる。
【００６２】
以上説明したように、第３の実施形態の表示装置２０１は、表示画面４側から行われるタッチ入力を検出できるが、表示画面３側からは、タッチ入力が検出されない。すなわち、表示画面３側に配置される基板等は、可撓性を有する必要がない。よって、ガラス等からなる基板を用いることができるので、表示媒体２１０の強度を高めることができる。また、接触センサを用いないので、部品点数を削減することができる。
【００６３】
なお、上記の各実施形態に示される表示装置および表示媒体の構成は例示であり、本発明は各種の変形が可能なことは言うまでもない。接触センサ（赤外線発光部１１および赤外線受光部１２）は、第１，第２の実施形態では表示媒体１０，１１０の主面側（表示画面３側）に設けたが、裏面側（表示画面４側）に設けてもよい。また、接触センサとしては、赤外線式によるものに限らず、超音波式のものを用いてもよいし、あるいはダイヤフラム等を例えば主面側に設けて指等の接触圧による歪みを検知するようにしてもよい。
【００６４】
タッチパネル５３，１５３，２５３による接触位置の検出方式の例として、第１〜第３の実施形態では、抵抗膜方式や表面型静電容量方式を例に挙げたが、その他の公知の検出方式を採用してもよい。例えば、投影型静電容量方式、マトリクス型抵抗膜方式、超音波方式、赤外線方式、電磁誘導方式などが挙げられる。
【００６５】
主体基板２１，１２１，２２１やフィルム基板３０は、光透過性を有さずともよい。第１〜第３の実施形態において、表示装置１０，１１０，２１０が搭載される表示装置１，１０１，２０１の例としては、電子広告等の表示に用いられる電子看板や、電子書籍等の表示に用いられる電子ペーパーなどを挙げることができる。
【００６６】
また、第３の実施形態において、図７に示す表示媒体２１０のフィルム基板２５は、第１の実施形態と同様のＰＥＴからなり光透過性および可撓性を有するフィルム状の基板であるが、可撓性については有さずともよく、例えばガラスからなり光透過性を有する基板を用いてもよい。
【００６７】
また、第２の実施形態において、主体基板１２１に形成した検出電極１２３の材料としてＩＴＯを例に挙げたが、酸化亜鉛や酸化錫など、抵抗率のより高い材料を用いて検出電極１２３を形成してもよい。また、第１〜第３の実施形態において、ＴＰコントローラ７１は、ＰＥＮ＿ＤＯＷＮ信号を出力してからＰＥＮ＿ＵＰ信号を出力するまでの間、定期的に、検出電極２３の電位（分圧値）を取得してバッファに保持し、さらにＡ／Ｄ変換してＣＰＵ６０に出力したが、ＣＰＵ６０に出力するのはＰＥＮ＿ＵＰ信号を出力する際に一度行うだけとしてもよい。
【００６８】
なお、上記実施形態においては、フィルム基板２５が「第１基板」に相当し、フィルム基板３２が「第２基板」に相当する。主体基板２１，１２１，２２１が「第３基板」に相当する。表示層４３が「第１の層」に相当し、表示層４４が「第２の層」に相当する。フィルム基板３０が「第４基板」に相当する。接触センサ（赤外線発光部１１および赤外線受光部１２）が「第１検知手段」に相当する。検出電極１２５が「第２検知手段」に相当する。第２の実施形態におけるＴＰコントローラ７１が「演算手段」に相当する。
【符号の説明】
【００６９】
１，１０１，２０１  表示装置
３，４  表示画面
１０，１１０，２１０  表示媒体
１１    赤外線発光部
１２    赤外線受光部
２１，１２１，２２１  主体基板
２２    画素電極
２３，３１，１２３，１２５  検出電極
２５，３０，３２  フィルム基板
２６，３３  共通電極
４１，４２  帯電粒子
４３，４４  表示層
５１，１５１，２５１  主表示パネル
５２，１５２，２５２  副表示パネル
５３，１５３，２５３  タッチパネル
６０    ＣＰＵ
７１    ＴＰコントローラ
【図１】
2012118163.tif 000003
【図２】
2012118163.tif 000004
【図３】
2012118163.tif 000005
【図４】
2012118163.tif 000006
【図５】
2012118163.tif 000007
【図６】
2012118163.tif 000008
【図７】
2012118163.tif 000009
【図８】
2012118163.tif 000010