(57)【要約】【課題】本発明は、電荷輸送性構造を有する重合性化合物を含む架橋性樹脂が架橋されている保護層が表面に形成されている感光体を用いて、高湿環境下で繰り返し画像を形成しても、画像ボケの発生を抑制することが可能な潤滑剤、画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供することを目的とする。【解決手段】感光体に付与して用いられる潤滑剤は、潤滑性物質と、一般式2012133111.tif 000023（式中、Ｘ及びＹは、それぞれ独立に、置換基により置換されていてもよいアリール基であり、ｎ及びｍは、それぞれ独立に、１又は２である。）で表される化合物を含む。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
感光体に付与して用いられる潤滑剤であって、
潤滑性物質と、一般式
【化１】
2012133111.tif 000022
（式中、Ｘ及びＹは、それぞれ独立に、置換基により置換されていてもよいアリール基であり、ｎ及びｍは、それぞれ独立に、１又は２である。）
で表される化合物を含むことを特徴とする潤滑剤。
【請求項２】
前記潤滑性物質は、脂肪酸の金属塩を含むことを特徴とする請求項１に記載の潤滑剤。
【請求項３】
前記脂肪酸は、ステアリン酸、パルミチン酸、ミリスチン酸及びオレイン酸からなる群より選択される一種以上であり、
前記金属は、亜鉛、アルミニウム、カルシウム、マグネシウム、鉄及びリチウムの群からなる群より選択される一種以上であることを特徴とする請求項２に記載の潤滑剤。
【請求項４】
前記一般式（１）で表される化合物の含有量が０．１質量％以上４０質量％以下であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の潤滑剤。
【請求項５】
固体であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の潤滑剤。
【請求項６】
感光体と、前記感光体を帯電させる帯電手段と、該帯電した感光体に露光して静電潜像を形成する露光手段と、該感光体に形成された静電潜像をトナーで現像してトナー像を形成する現像手段と、該感光体に形成されたトナー像を記録媒体に転写させる転写手段と、該トナー像が転写された感光体に残留したトナーを除去するクリーニングブレードを有する画像形成装置であって、
請求項１乃至５のいずれか一項に記載の潤滑剤を前記感光体に付与する潤滑剤付与手段をさらに有することを特徴とする画像形成装置。
【請求項７】
前記感光体は、電荷輸送性構造を有する重合性化合物を含む架橋性樹脂が架橋されている保護層が表面に形成されていることを特徴とする請求項６に記載の画像形成装置。
【請求項８】
前記帯電手段は、コロナ帯電器を有することを特徴とする請求項６又は７に記載の画像形成装置。
【請求項９】
感光体と、トナー像が転写された感光体に残留したトナーを除去するクリーニングブレードと、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の潤滑剤を前記感光体に付与する潤滑剤付与手段を一体に支持し、画像形成装置の本体に着脱可能であることを特徴とするプロセスカートリッジ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、潤滑剤、画像形成装置及びプロセスカートリッジに関する。
【背景技術】
【０００２】
電子写真プロセスを用いた画像形成装置においては、有機感光体に対して、帯電工程、露光工程、現像工程及び転写工程を経て、画像が形成される。このとき、有機感光体を帯電させる際に生じる放電生成物や転写されずに残留したトナーが、有機感光体に存在することがある。このため、転写工程後に、有機感光体をクリーニングして、放電生成物やトナーを除去する。
【０００３】
有機感光体をクリーニングする際には、安価で、機構が簡単であり、クリーニング性に優れるため、一般に、クリーニングブレードが用いられている。
【０００４】
しかしながら、クリーニングブレードと有機感光体の表面との摩擦が大きいため、クリーニングブレードが磨耗したり、有機感光体の表面が磨耗したりして、クリーニングブレード及び有機感光体の寿命が短くなるという問題がある。
【０００５】
そこで、特許文献１には、電子写真感光体上の潜像を現像剤により現像し、現像により顕像化されたトナー像を記録材に転写後、感光体上に残留するトナーをクリーニングブレードを用いてクリーニングを行う工程を有する画像形成方法として、電子写真感光体が導電性支持体上に感光層及び保護層を有し、電子写真感光体の表面が原子間力顕微鏡を用いて測定した５μｍ四方の平均面粗さ（Ｒａ）が１．５ｎｍ以上０．１μｍ以下であり、電子写真感光体表面に脂肪酸金属塩を供給しながら画像形成を行う構成が開示されている。
【０００６】
しかしながら、高湿環境下で繰り返し画像を形成すると、画像ボケが発生するという問題がある。
【０００７】
そこで、特許文献２には、脂肪酸金属塩と、ヒンダードフェノール化合物又はヒンダードアミン化合物と併用することが開示されている。
【０００８】
しかしながら、電荷輸送性構造を有する重合性化合物を含む架橋性樹脂が架橋されている保護層が表面に形成されている感光体を用いて、高湿環境下で繰り返し画像を形成すると、画像ボケが発生するという問題がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、従来技術が有する問題に鑑み、電荷輸送性構造を有する重合性化合物を含む架橋性樹脂が架橋されている保護層が表面に形成されている感光体を用いて、高湿環境下で繰り返し画像を形成しても、画像ボケの発生を抑制することが可能な潤滑剤、画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
請求項１に記載の発明は、感光体に付与して用いられる潤滑剤であって、潤滑性物質と、一般式
【００１１】
【化１】
2012133111.tif 000002
（式中、Ｘ及びＹは、それぞれ独立に、置換基により置換されていてもよいアリール基であり、ｎ及びｍは、それぞれ独立に、１又は２である。）
で表される化合物を含むことを特徴とする。
【００１２】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の潤滑剤において、前記潤滑性物質は、脂肪酸の金属塩を含むことを特徴とする。
【００１３】
請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の潤滑剤において、前記脂肪酸は、ステアリン酸、パルミチン酸、ミリスチン酸及びオレイン酸からなる群より選択される一種以上であり、前記金属は、亜鉛、アルミニウム、カルシウム、マグネシウム、鉄及びリチウムの群からなる群より選択される一種以上であることを特徴とする。
【００１４】
請求項４に記載の発明は、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の潤滑剤において、前記一般式（１）で表される化合物の含有量が０．１質量％以上４０質量％以下であることを特徴とする。
【００１５】
請求項５に記載の発明は、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の潤滑剤において、固体であることを特徴とする。
【００１６】
請求項６に記載の発明は、感光体と、前記感光体を帯電させる帯電手段と、該帯電した感光体に露光して静電潜像を形成する露光手段と、該感光体に形成された静電潜像をトナーで現像してトナー像を形成する現像手段と、該感光体に形成されたトナー像を記録媒体に転写させる転写手段と、該トナー像が転写された感光体に残留したトナーを除去するクリーニングブレードを有する画像形成装置であって、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の潤滑剤を前記感光体に付与する潤滑剤付与手段をさらに有することを特徴とする。
【００１７】
請求項７に記載の発明は、請求項６に記載の画像形成装置において、前記感光体は、電荷輸送性構造を有する重合性化合物を含む架橋性樹脂が架橋されている保護層が表面に形成されていることを特徴とする。
【００１８】
請求項８に記載の発明は、請求項６又は７に記載の画像形成装置において、前記帯電手段は、コロナ帯電器を有することを特徴とする。
【００１９】
請求項９に記載の発明は、プロセスカートリッジにおいて、感光体と、トナー像が転写された感光体に残留したトナーを除去するクリーニングブレードと、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の潤滑剤を前記感光体に付与する潤滑剤付与手段を一体に支持し、画像形成装置の本体に着脱可能であることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、電荷輸送性構造を有する重合性化合物を含む架橋性樹脂が架橋されている保護層が表面に形成されている感光体を用いて、高湿環境下で繰り返し画像を形成しても、画像ボケの発生を抑制することが可能な潤滑剤、画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の潤滑剤が付与される感光体の層構成の一例を示す断面図である。
【図２】図１の感光体の層構成の変形例を示す断面図である。
【図３】図２の感光体の層構成の変形例を示す断面図である。
【図４】図３の感光体の層構成の変形例を示す断面図である。
【図５】本発明の画像形成装置の一例を示す図である。
【図６】図５のクリーニングブラシ及びクリーニングブレードを示す図である。
【図７】本発明の画像形成装置の他の例を示す図である。
【図８】本発明のプロセスカートリッジの一例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
次に、本発明を実施するための形態を図面と共に説明する。
【００２３】
本発明の潤滑剤は、感光体に付与して用いられる潤滑剤であって、潤滑性物質と、一般式（１）で表される化合物を含む。
【００２４】
本発明の潤滑剤が感光体の表面に付与されると、クリーニングブレードと感光体の表面との間の摩擦を長期間に亘って低減すると共に、高湿環境下における画像ボケの発生を抑制することができる。
【００２５】
本発明の潤滑剤は、固体である必要はなく、液体、粉体、半練り状であっても、感光体の表面に付与することができる。
【００２６】
潤滑性物質としては、特に限定されないが、脂肪酸の金属塩、カルナウバワックス等の天然ワックス、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素系樹脂、メラミンシアヌレート、窒化ホウ素等が挙げられる。但し、供給安定性や取り扱いの容易さの点から、潤滑性物質は、固体であることが好ましい。
【００２７】
ここで、潤滑性物質は、脂肪酸の金属塩を含むことが好ましい。脂肪酸の金属塩のうち、脂肪酸は、ステアリン酸、パルミチン酸、ミリスチン酸及びオレイン酸からなる群より選択される一種以上であり、金属は、亜鉛、アルミニウム、カルシウム、マグネシウム、鉄及びリチウムからなる群より選択される一種以上であることが好ましい。このような脂肪酸の金属塩は、脂肪酸が直鎖状のアルキル基を有するため、層間の滑りが発生しやすく、潤滑性に優れる。また、このような脂肪酸の金属塩は、耐候性に優れる。
【００２８】
このような脂肪酸の金属塩は、通常、７０〜１５０℃で融解する。このため、脂肪酸の金属塩を溶融させた状態で、一般式（１）で表される化合物を溶解又は分散させた後、任意の金型に流し込んで冷却することにより、固体の潤滑剤が得られる。
【００２９】
一般式（１）で表される化合物としては、特に限定されないが、潤滑性物質との相溶性、感光体への付与、画像ボケの発生を考慮すると、化学式（１−１）〜（１−５）で表わされる化合物が好ましい。
【００３０】
【化２】
2012133111.tif 000003
【００３１】
【化３】
2012133111.tif 000004
本発明の潤滑剤中の一般式（１）で表される化合物の含有量は、０．１〜４０質量％であることが好ましく、１〜３０質量％がさらに好ましい。本発明の潤滑剤中の一般式（１）で表される化合物の含有量が０．１質量％未満であると、高湿環境下で繰り返し画像を形成すると、画像ボケが発生することがあり、４０質量％を超えると、潤滑剤中の湿潤性物質の含有量が不足して、クリーニングブレードと感光体の表面との間の摩擦が大きくなって、クリーニングブレード及び感光体の寿命が短くなることがある。
【００３２】
以下、本発明の潤滑剤が付与される感光体について詳細に説明する。
【００３３】
感光体としては、導電性支持体上に感光層が形成されていれば、特に限定されないが、光吸収波長域の広さ及び吸収量の大きさ等の光学特性、高感度、安定な帯電特性等の電気的特性、材料の選択範囲の広さ、製造の容易さ、低コストの点から、有機感光体が好ましい。中でも、耐磨耗性の点から、表面に保護層が形成されている有機感光体が好ましい。
【００３４】
図１に、本発明の潤滑剤が付与される感光体の層構成の一例を示す。感光体１０Ａは、導電性支持体１１上に感光層１２が形成されている。このとき、導電性支持体１１と感光層１２の間に下引き層が形成されていてもよいし、感光層１２上に保護層が形成されていてもよい。
【００３５】
図２に、本発明の潤滑剤が付与される感光体の層構成の他の例を示す。感光体１０Ｂは、電荷発生層１２ａ及び電荷輸送層１２ｂが順次積層されている感光層１２が形成されている以外は、感光体１０Ａと同一の構成である。このとき、電荷発生層１２ａ及び電荷輸送層１２ｂが積層される順序が逆であってもよい。
【００３６】
図３に、本発明の潤滑剤が付与される感光体の層構成の他の例を示す。感光体１０Ｃは、導電性支持体１１及び電荷発生層１２ａの間に下引き層１３が形成されている以外は、感光体１０Ｂと同一の構成である。
【００３７】
図４に、本発明の潤滑剤が付与される感光体の層構成の他の例を示す。感光体１０Ｄは、電荷輸送層１２ｂ上に保護層１４が形成されている以外は、感光体１０Ｃと同一の構成である。
【００３８】
保護層１４（図４参照）は、架橋性樹脂を架橋することにより形成することができる。
【００３９】
架橋性樹脂としては、特に限定されないが、ウレタン樹脂の前駆体、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂等が挙げられる。中でも、静電特性の点から、架橋性樹脂は、電荷輸送性構造を有する重合性化合物を含むことが好ましい。例えば、架橋性樹脂として、水酸基を有する電荷輸送物質とイソシアネート基を有する化合物を架橋させることにより、ウレタン樹脂を含む保護層１４が形成される。
【００４０】
水酸基を有する電荷輸送物質としては、特に限定されないが、化学式（２−１）〜（２−１８）で表わされる化合物が挙げられる。
【００４１】
【化４】
2012133111.tif 000005
【００４２】
【化５】
2012133111.tif 000006
【００４３】
【化６】
2012133111.tif 000007
【００４４】
【化７】
2012133111.tif 000008
【００４５】
【化８】
2012133111.tif 000009
【００４６】
【化９】
2012133111.tif 000010
水酸基を有する電荷輸送性物質は、例えば、特許第３５４００５６号公報等に開示されている合成方法を用いて合成することができる。
【００４７】
架橋性樹脂は、耐摩耗性、静電特性の点から、電荷輸送性構造を有さない３官能以上のラジカル重合性化合物と電荷輸送構造を有する１官能のラジカル重合性化合物を含むことが好ましい。
【００４８】
電荷輸送構造を有する１官能のラジカル重合性化合物の代わりに、電荷輸送物質を用いると、電荷輸送物質が析出したり、白濁したりして、耐摩耗性が低下したり、静電特性が低下したりすることがある。
【００４９】
また、電荷輸送構造を有する１官能のラジカル重合性化合物の代わりに、電荷輸送構造を有する２官能以上のラジカル重合性化合物を用いると、電荷輸送性構造が嵩高いため、保護層１４中に歪みが発生して、内部応力が大きくなり、キャリア付着等によりクラックや傷が発生したり、静電特性が低下したりすることがある。
【００５０】
電荷輸送性を有さない３官能以上のラジカル重合性化合物とは、トリアリールアミン、ヒドラゾン、ピラゾリン、カルバゾール等の正孔輸送性構造又は縮合多環キノン、ジフェノキノン、シアノ基、ニトロ基等の電子吸引性基により置換されている芳香族環等の電子輸送性構造を有しておらず、ラジカル重合性基を３個以上有する化合物を意味する。ラジカル重合性基とは、炭素−炭素二重結合を有し、ラジカル重合することが可能な基を意味する。なお、電荷輸送性を有さない３官能以上のラジカル重合性化合物が有する３個以上のラジカル重合性基は、同一であってもよいし、異なっていてもよい。
【００５１】
ラジカル重合性基としては、特に限定されないが、１−置換エチレン基、１，１−置換エチレン基等が挙げられる。
【００５２】
１−置換エチレン官能基としては、一般式
ＣＨ２＝ＣＨ−Ｘ１−
（式中、Ｘ１は、置換基により置換されていてもよいアリーレン基、置換基により置換されていてもよいアルケニレン基、カルボニル基、カルボニルオキシ基、一般式
−ＣＯＮ（Ｒ１）−
（式中、Ｒ１は、水素原子、アルキル基、アラルキル基又はアリール基である。）
で表される基又はチオ基である。）
で表される基が挙げられる。
【００５３】
Ｘ１におけるアリーレン基としては、フェニレン基、ナフチレン基等が挙げられる。また、Ｘ１におけるアルケニレン基としては、ビニレン基等が挙げられる。
【００５４】
Ｒ１におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基等が挙げられる。また、Ｒ１におけるアラルキル基としては、ベンジル基、ナフチルメチル基、フェネチル基等が挙げられる。さらに、Ｒ１におけるアリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
【００５５】
１−置換エチレン官能基の具体例としては、ビニル基、スチリル基、２−メチル−１，３−ブタジエニル基、ビニルカルボニル基、アクリロイルオキシ基、アクリロイルアミド基、ビニルチオ基等が挙げられる。
【００５６】
１，１−置換エチレン基としては、一般式
ＣＨ２＝Ｃ（Ｙ）−Ｘ２−
（式中、Ｘ２は、上記Ｘ１に記載されている基、単結合又はアルキレン基であり、Ｙは、置換基により置換されていてもよいアルキル基、置換基により置換されていてもよいアラルキル基、置換基により置換されていてもよいアリール基、ハロゲン基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基、一般式
−ＣＯＯＲ２
（式中、Ｒ２は、水素原子、置換基により置換されていてもよいアルキル基、置換基により置換されていてもよいアラルキル基、又は、置換基により置換されていてもよいアリール基である。）
で表される基、又は、一般式
−ＣＯＮＲ３Ｒ４
（Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、置換基により置換されていてもよいアルキル基、置換基により置換されていてもよいアラルキル基、又は、置換基により置換されていてもよいアリール基である。）
で表される基である。）
で表される基である。ただし、Ｙがシアノ基又はアリール基であるか、Ｘ２がカルボニルオキシ基、アルケニレン基又はアリーレン基である。）
で表される基が挙げられる。
【００５７】
Ｙ、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基等が挙げられる。また、Ｙ、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４におけるアラルキル基としては、ベンジル基、ナフチルメチル基、フェネチル基等が挙げられる。さらに、Ｙ、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４におけるアリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。また、Ｙにおけるアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基等が挙げられる。
【００５８】
１，１−置換エチレン基の具体例としては、α−クロロアクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、α−シアノエチレン基、α−シアノアクリロイルオキシ基、α−シアノエチレンフェニレン基等が挙げられる。
【００５９】
なお、Ｘ１、Ｘ２、Ｙ、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４における置換基としては、ハロゲン基、ニトロ基、シアノ基、メチル基、エチル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基等のアリールオキシ基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基等が挙げられる。
【００６０】
電荷輸送性を有さない３官能以上のラジカル重合性化合物は、アクリロイルオキシ基及び／又はメタクリロイルオキシ基を有することが好ましい。
【００６１】
アクリロイルオキシ基を３個以上有し、電荷輸送性を有さない化合物は、水酸基を３個以上有する化合物と、アクリル酸（塩）、アクリル酸ハライド、アクリル酸エステルを、エステル化反応又はエステル交換反応させることにより合成することができる。また、メタクリロイルオキシ基を３個以上有し、電荷輸送性を有さない化合物も同様にして合成することができる。
【００６２】
電荷輸送性を有さない３官能以上のラジカル重合性化合物としては、特に限定されないが、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ＨＰＡ変性トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）、グリセロールトリアクリレート、ＥＣＨ変性グリセロールトリアクリレート、ＥＯ変性グリセロールトリアクリレート、ＰＯ変性グリセロールトリアクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジメチロールプロパンテトラアクリレート（ＤＴＭＰＴＡ）、ペンタエリスリトールエトキシテトラアクリレート、ＥＯ変性リン酸トリアクリレート、２，２，５，５，−テトラヒドロキシメチルシクロペンタノンテトラアクリレート等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【００６３】
なお、ＥＯ変性及びＰＯ変性は、それぞれエチレンオキシ変性及びプロピレンオキシ変性を意味する。
【００６４】
電荷輸送性を有さない３官能以上のラジカル重合性化合物は、ラジカル重合性基数に対する分子量の比が２５０以下であることが好ましい。また、ラジカル重合性基数に対する分子量の比が２５０を超えると、耐摩耗性が低下することがある。
【００６５】
保護層１４中の電荷輸送性を有さない３官能以上のラジカル重合性化合物の含有量は、通常、２０〜８０質量％であり、３５〜６５質量％が好ましい。保護層１４中の電荷輸送性を有さない３官能以上のラジカル重合性化合物の含有量が２０質量％未満であると、耐摩耗性が低下することがあり、８０質量％を超えると、保護層１４中の電荷輸送構造を有する１官能のラジカル重合性化合物の含有量が低下して、静電特性が低下することがある。
【００６６】
電荷輸送性構造を有する一官能のラジカル重合性化合物とは、トリアリールアミン、ヒドラゾン、ピラゾリン、カルバゾール等の正孔輸送性構造、又は、縮合多環キノン、ジフェノキノン、シアノ基、ニトロ基等の電子吸引性基を有する芳香族環等の電子輸送構造を有し、ラジカル重合性基を１個有する化合物を意味する。ラジカル重合性基は、電荷輸送性を有さない３官能以上のラジカル重合性化合物が有するラジカル重合性基と同様であり、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基が好ましい。
【００６７】
電荷輸送性構造を有する一官能のラジカル重合性化合物は、静電特性の点から、トリアリールアミン構造を有することが好ましく、一般式
【００６８】
【化１０】
2012133111.tif 000011
（式中、Ｒ１は、水素原子、ハロゲン基、置換基により置換されていてもよいアルキル基、置換基により置換されていてもよいアラルキル基、置換基により置換されていてもよいアリール基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基、一般式
−ＣＯＯＲ２
（式中、Ｒ２は、水素原子、置換基により置換されていてもよいアルキル基、置換基により置換されていてもよいアラルキル基又は置換基により置換されていてもよいアリール基である。）
で表される基、ハロカルボニル基、又は、一般式
−ＣＯＮＲ３Ｒ４
（式中、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン基、置換基により置換されていてもよいアルキル基、置換基により置換されていてもよいアラルキル基又は置換基により置換されていてもよいアリール基である。）
で表される基であり、Ａｒ１は、置換基により置換されていてもよい二価の芳香族基であり、Ａｒ２及びＡｒ３は、それぞれ独立に、置換基により置換されていてもよい一価の芳香族基であり、Ｘは、単結合又は一般式
−Ｙ−Ａｒ４−
（式中、Ｙは、単結合、置換基により置換されていてもよいアルキレン基、置換基により置換されていてもよいシクロアルキレン基、置換基により置換されていてもよいアルキレンオキシ基、オキシ基、チオ基又はビニレン基であり、Ａｒ４は、置換基により置換されていてもよい二価の芳香族基である。）
で表される基であり、Ｚは、置換基により置換されていてもよいアルキレン基、置換基により置換されていてもよいアルキレンオキシ基、アルキレンオキシカルボニル基であり、ｎは、０〜３の整数である。）
で表される化合物がさらに好ましい。
【００６９】
Ｒ１におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられる。また、Ｒ１におけるアラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基が挙げられる。さらに、Ｒ１におけるアリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。また、Ｒ１におけるアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等が挙げられる。
【００７０】
Ｒ１における置換基としては、ハロゲン基、ニトロ基、シアノ基、メチル基、エチル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基等のアリールオキシ基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基等が挙げられる。
【００７１】
Ｒ１は、水素原子又はメチル基であることが好ましい。
【００７２】
Ａｒ２及びＡｒ３における一価の芳香族基としては、一価の縮合多環式炭化水素基、一価の非縮合環式炭化水素基、一価の複素環基等が挙げられる。
【００７３】
一価の縮合多環式炭化水素基としては、ペンタニル基、インデニル基、ナフチル基、アズレニル基、ヘプタレニル基、ビフェニレニル基、ａｓ−インダセニル基、ｓ−インダセニル基、フルオレニル基、アセナフチレニル基、プレイアデニル基、アセナフテニル基、フェナレニル基、フェナントリル基、アントリル基、フルオランテニル基、アセフェナントリレニル基、アセアントリレニル基、トリフェニレル基、ピレニル基、クリセニル基、ナフタセニル基等が挙げられる。一価の縮合多環式炭化水素基は、環を構成する炭素数が１８個以下であることが好ましい。
【００７４】
一価の非縮合環式炭化水素基としては、ベンゼン、ジフェニルエーテル、ポリエチレンジフェニルエーテル、ジフェニルチオエーテル、ジフェニルスルホン等の単環式炭化水素化合物由来の基、ビフェニル、ポリフェニル、ジフェニルアルカン、ジフェニルアルケン、ジフェニルアルキン、トリフェニルメタン、ジスチリルベンゼン、１，１−ジフェニルシクロアルカン、ポリフェニルアルカン、ポリフェニルアルケン等の非縮合多環式炭化水素化合物由来の基、９，９−ジフェニルフルオレン等の環集合炭化水素化合物由来の基等が挙げられる。
【００７５】
複素環基としては、カルバゾール、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、オキサジアゾール、チアジアゾール等の複素環芳香族化合物由来の基等が挙げられる。
【００７６】
Ａｒ２及びＡｒ３における置換基を以下に示す。
【００７７】
〔１〕ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基
〔２〕アルキル基
アルキル基の炭素数は、通常、１〜１２であり、１〜８が好ましく、１〜４がさらに好ましい。アルキル基は、フルオロ基、水酸基、シアノ基、炭素数が１〜４のアルコキシ基、フェニル基、又は、ハロゲン基、炭素数が１〜４のアルキル基若しくは炭素数が１〜４のアルコキシ基により置換されているフェニル基により置換されていてもよい。
【００７８】
アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−プロピル基、トリフルオロメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−エトキシエチル基、２−シアノエチル基、２−メトキシエチル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチルベンジル基、４−フェニルベンジル基等が挙げられる。
【００７９】
〔３〕アルコキシ基
アルコキシ基におけるアルキル基は、〔２〕におけるアルキル基と同様である。
【００８０】
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、イソブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、ベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
【００８１】
〔４〕アリールオキシ基
アリールオキシ基におけるアリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。アリールオキシ基は、炭素数が１〜４のアルコキシ基、炭素数が１〜４のアルキル基又はハロゲン基により置換されていてもよい。
【００８２】
アリールオキシ基としては、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、４−メトキシフェノキシ基、４−メチルフェノキシ基等が挙げられる。
【００８３】
〔５〕アルキルメルカプト基又はアリールメルカプト基
アルキルメルカプト基としては、メチルチオ基、エチルチオ基等が挙げられる。また、アリールメルカプト基としては、フェニルチオ基、ｐ−メチルフェニルチオ基等が挙げられる。
【００８４】
〔６〕置換基により置換されていてもよいアミノ基
置換基により置換されていてもよいアミノ基は、一般式
−ＮＲ１Ｒ２
［式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、〔２〕におけるアルキル基又はアリール基であり、Ｒ１及びＲ２は、共同で環を形成してもよい。］
で表される。
【００８５】
Ｒ１及びＲ２におけるアリール基としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基等が挙げられ、アリール基は、炭素数が１〜４のアルコキシ基、炭素数が１〜４のアルキル基又はハロゲン基により置換されていてもよい。
【００８６】
置換基により置換されていてもよいアミノ基としては、アミノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジトリルアミノ基、ジベンジルアミノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基、ピロリジノ基等が挙げられる。
【００８７】
〔７〕アルキレンジオキシ基又はアルキレンジチオ基
アルキレンジオキシ基としては、メチレンジオキシ基等が挙げられる。また、アルキレンジチオ基としては、メチレンジチオ基等が挙げられる。
【００８８】
〔８〕その他
置換基により置換されていてもよいスチリル基、置換基により置換されていてもよいβ−フェニルスチリル基、ジフェニルアミノフェニル基、ジトリルアミノフェニル基等が挙げられる。
【００８９】
Ａｒ１及びＡｒ４における二価の芳香族基としては、Ａｒ２及びＡｒ３における一価の芳香族基から誘導される基が挙げられる。
【００９０】
Ｙにおけるアルキレン基の炭素数は、通常、１〜１２であり、１〜８が好ましく、１〜４がさらに好ましい。アルキレン基は、フルオロ基、水酸基、シアノ基、炭素数が１〜４のアルコキシ基、フェニル基、又は、ハロゲン基、炭素数が１〜４のアルキル基若しくは炭素数が１〜４のアルコキシ基により置換されているフェニル基により置換されていてもよい。
【００９１】
アルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、ｎ−ブチレン基、イソプロピレン基、ｔ−ブチレン基、ｓ−ブチレン基、ｎ−プロピレン基、トリフルオロメチレン基、２−ヒドロキエチレン基、２−エトキシエチレン基、２−シアノエチレン基、２−メトキシエチレン基、ベンジリデン基、フェニルエチレン基、４−クロロフェニルエチレン基、４−メチルフェニルエチレン基、４−ビフェニルエチレン基等が挙げられる。
【００９２】
Ｙにおけるシクロアルキレン基の炭素数は、通常、５〜７である。シクロアルキレン基は、フルオロ基、水酸基、炭素数が１〜４のアルキル基、又は、炭素数が１〜４のアルコキシ基により置換されていてもよい。
【００９３】
シクロアルキレン基としては、シクロヘキシリデン基、シクロへキシレン基、３，３−ジメチルシクロヘキシリデン基等が挙げられる。
【００９４】
Ｙにおけるアルキレンオキシ基としては、化学式
−ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−
で表される基、化学式
−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−
で表される基、一般式
−（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｎＯ−
（式中、ｎは１〜４の整数である。）
で表される基、化学式
−（ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２）ｍＯ−
（式中、ｍは１〜４の整数である。）
で表される基等が挙げられる。
【００９５】
アルキレンオキシ基は、ヒドロキシル基、メチル基、エチル基等の置換基により置換されていてもよい。
【００９６】
Ｙにおけるビニレン基としては、一般式
−（Ｃ（Ｒ１）＝ＣＨ）ｎ−
（式中、Ｒ１は、水素原子、アルキル基（前述の〔２〕におけるアルキル基と同様）、又は、二価の芳香族基（前述のＡｒ２及びＡｒ３における二価の芳香族基と同じ）であり、ｎは１又は２である。）
で表される基、一般式
−Ｃ（Ｒ２）＝ＣＨ−（ＣＨ＝ＣＨ）ｍ−
（式中、Ｒ２は、水素原子、アルキル基（前述の〔２〕におけるアルキル基と同様）、又は、二価の芳香族基（前述のＡｒ２及びＡｒ３における二価の芳香族基と同じ）であり、ｍは１〜３の整数である。）
で表される基等が挙げられる。
【００９７】
Ｚにおけるアルキレン基は、Ｙにおけるアルキレン基と同様である。
【００９８】
Ｚにおけるアルキレンオキシ基は、Ｙにおけるアルキレンオキシ基と同様である。
【００９９】
Ｚにおけるアルキレンオキシカルボニル基としては、カプロラクトン変性基が挙げられる。
【０１００】
電荷輸送性構造を有する一官能のラジカル重合性化合物は、一般式
【０１０１】
【化１１】
2012133111.tif 000012
（式中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基であり、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立に、置換基により置換されていてもよい炭素数１〜６のアルキル基であり、Ｚは、単結合、メチレン基、エチレン基、化学式
−ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−
で表される基、化学式
−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２Ｏ−
で表される基、又は、化学式
【０１０２】
【化１２】
2012133111.tif 000013
で表される基であり、ｏ、ｐ及びｑは、それぞれ独立に、０又は１であり、ｓ及びｔは、それぞれ独立に、０〜３の整数である。）
で表される化合物であることが好ましい。
【０１０３】
Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立に、メチル基又はエチル基であることが好ましい。
【０１０４】
保護層１４中の電荷輸送性構造を有する一官能のラジカル重合性化合物の含有量は、通常、２０〜８０質量％であり、３５〜６５質量％が好ましい。保護層１４中の電荷輸送性構造を有する一官能のラジカル重合性化合物の含有量が２０質量％未満であると、静電特性が低下することがあり、８０質量％を超えると、電荷輸送性構造を有さない３官能以上のラジカル重合性化合物の含有量が低下して、耐摩耗性が低下することがある。
【０１０５】
架橋性樹脂は、電荷輸送性構造を有さない１官能のラジカル重合性化合物、電荷輸送性構造を有さない２官能のラジカル重合性化合物及び／又はラジカル重合性オリゴマーをさらに含んでいてもよい。
【０１０６】
電荷輸送性構造を有さない１官能のラジカル重合性化合物としては、２−エチルヘキシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、２−エチルヘキシルカルビトールアクリレート、３−メトキシブチルアクリレート、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、イソアミルアクリレート、イソブチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、フェノキシテトラエチレングリコールアクリレート、セチルアクリレート、イソステアリルアクリレート、ステアリルアクリレート、スチレンモノマー等が挙げられる。
【０１０７】
電荷輸送性構造を有さない２官能のラジカル重合性化合物としては、１，３−ブタンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＦジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート等が挙げられる。
【０１０８】
ラジカル重合性オリゴマーとしては、エポキシアクリレート系オリゴマー、ウレタンアクリレート系オリゴマー、ポリエステルアクリレート系オリゴマー等が挙げられる。
【０１０９】
電荷輸送性構造を有さない１官能のラジカル重合性化合物、電荷輸送性構造を有さない２官能のラジカル重合性化合物及びラジカル重合性オリゴマーの添加量は、耐摩耗性の点から、通常、電荷輸送性構造を有さない３官能以上のラジカル重合性化合物に対して、５０質量％以下であり、３０質量％以下が好ましい。
【０１１０】
電荷輸送性構造を有さない３官能以上のラジカル重合性化合物と電荷輸送構造を有する１官能のラジカル重合性化合物を含む架橋性樹脂を架橋する際には、重合開始剤を用いてもよい。
【０１１１】
熱重合開始剤としては、２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジヒドロパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（パーオキシベンゾイル）ヘキシン−３、ジ−ｔ−ブチルベルオキサイド、ｔ−ブチルヒドロベルオキサイド、クメンヒドロベルオキサイド、ラウロイルパーオキサイド等の過酸化物系開始剤、アゾビスイソブチルニトリル、アゾビスシクロヘキサンカルボニトリル、アゾビスイソ酪酸メチル、アゾビスイソブチルアミジン塩酸塩、４，４'−アゾビス−４−シアノ吉草酸等のアゾ系開始剤が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【０１１２】
光重合開始剤としては、ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−メチル−２−モルフォリノ（４−メチルチオフェニル）プロパン−１−オン、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム等のアセトフェノン系又はケタール系光重合開始剤、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のベンゾインエーテル系光重合開始剤、ベンゾフェノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、２−ベンゾイルナフタレン、４−ベンゾイルビフェニル、４−ベンゾイルフェニールエーテル、アクリル化ベンゾフェノン、１，４−ベンゾイルベンゼン等のベンゾフェノン系光重合開始剤、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン等のチオキサントン系光重合開始剤等が挙げられ、二種以上併用してもよい。これら以外の光重合開始剤としては、エチルアントラキノン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニルエトキシホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，４−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、メチルフェニルグリオキシエステル、９，１０−フェナントレン、アクリジン系化合物、トリアジン系化合物、イミダゾール系化合物等が挙げられる。
【０１１３】
また、電荷輸送性構造を有さない３官能以上のラジカル重合性化合物と電荷輸送構造を有する１官能のラジカル重合性化合物を含む架橋性樹脂を架橋する際には、光重合促進効果を有する化合物を単独又は光重合開始剤と併用して用いることもできる。
【０１１４】
光重合促進効果を有する化合物としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸（２−ジメチルアミノ）エチル、４，４'−ジメチルアミノベンゾフェノン等が挙げられる。
【０１１５】
重合開始剤の添加量は、架橋性樹脂に対して、０．５〜４０質量％であり、１〜２０質量％が好ましい。
【０１１６】
保護層１４は、架橋性樹脂を架橋せずに、架橋性を有さないバインダー樹脂をさらに含んでいてもよい。バインダー樹脂としては、ポリカーボネート、ポリエステル、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニリデン、シリコーン樹脂、ポリビニルカルバゾール、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリアクリレート、ポリアクリルアミド、フェノキシ樹脂等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【０１１７】
保護層１４は、架橋性樹脂を含む塗布液を塗布することにより形成することができる。塗布液は、可塑剤、レベリング剤、電荷輸送物質等をさらに含んでいてもよい。
【０１１８】
可塑剤としては、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート等が挙げられる。
【０１１９】
可塑剤の添加量は、通常、塗布液の固形分に対して、通常、２０質量％以下であり、１０質量％以下が好ましい。
【０１２０】
レベリング剤としては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル等のシリコーンオイル、側鎖にパーフルオロアルキル基を有するポリマー又はオリゴマー等が挙げられる。
【０１２１】
レベリング剤の添加量は、通常、塗布液の固形分に対して、３質量％以下である。
【０１２２】
塗布液は、溶媒をさらに含んでいてもよい。
【０１２３】
溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、プロピルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ系溶媒等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【０１２４】
塗布液を塗布する方法としては、浸漬塗布法、スプレーコート法、ビードコート法、リングコート法等が挙げられる。
【０１２５】
架橋性樹脂を架橋する際には、光を照射することが好ましい。光源としては、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等の紫外光を照射する光源を用いることができるが、可視光を照射する光源を用いることもできる。また、光を照射する時の架橋性樹脂を含む塗膜の表面の温度は２０〜１７０℃であることが好ましい。塗膜の表面の温度は、熱媒体を用いて制御することが好ましい。
【０１２６】
次に、電荷輸送性構造を有さない３官能以上のラジカル重合性化合物として、アクリロイルオキシ基を３個有する化合物を用い、電荷輸送性構造を有する１官能のラジカル重合性化合物として、アクリロイルオキシ基を１個有するトリアリールアミン化合物を用いる場合の保護層１４の形成方法を例示する。
【０１２７】
アクリロイルオキシ基を３個有する化合物に対するアクリロイルオキシ基を１個有するトリアリールアミン化合物の質量比は、通常、３／７〜７／３である。また、アクリロイルオキシ基を３個有する化合物及びアクリロイルオキシ基を１個有するトリアリールアミン化合物の総質量に対して、３〜２０％の重合開始剤を添加すると共に、溶媒を添加して、塗布液を調製する。
【０１２８】
保護層１４が形成される電荷輸送層１２ｂにおいて、電荷輸送物質として、トリアリールアミン系ドナー、バインダー樹脂として、ポリカーボネートが用いられており、スプレーコート法を用いて保護層１４を形成する場合、塗布液の溶媒としては、テトラヒドロフラン、２−ブタノン、酢酸エチル等が挙げられる。また、溶媒の添加量は、アクリロイルオキシ基を３個有する化合物及びアクリロイルオキシ基を１個有するトリアリールアミン化合物の総質量に対して、３〜１０倍である。
【０１２９】
アルミシリンダー等の導電性支持体１１上に、下引き層１３、電荷発生層１２ａ、電荷輸送層１２ｂを順次積層した後、スプレーコート法を用いて塗布液を塗布し、指触乾燥を経て、光を照射して架橋性樹脂を架橋する。
【０１３０】
メタルハライドランプを用いて紫外光を照射する場合、照度は５０〜１０００ｍＷ／ｃｍ２であることが好ましい。例えば、照度が７００ｍＷ／ｃｍ２である場合、ドラムを回転させながら、紫外光を全ての面に均一に２分間程度照射する。このとき、熱媒体を用いて、塗膜の表面の温度が高くならないように制御する。架橋性樹脂を架橋した後、塗膜に残留した溶媒を低減するため、１００〜１５０℃で１０〜３０分間加熱して、感光体１０Ｄが得られる。
【０１３１】
なお、架橋樹脂の架橋を促進するために、加熱する時や紫外光を照射する時の雰囲気の酸素濃度を低くすることが好ましい。これにより、酸素によるラジカル重合の阻害を低減できるため、架橋密度が高い保護層１４を形成することができる。
【０１３２】
また、窒素で置換して酸素濃度を低下させた雰囲気下で、スプレーコート法を用いて塗布液を塗布したり、指触乾燥したりすることも有効である。
【０１３３】
保護層１４の厚さは、通常、１〜３０μｍであり、２〜２０μｍが好ましく、４〜１５μｍがさらに好ましい。保護層１４の厚さが１μｍ未満であると、耐磨耗性が低下することがあり、３０μｍを超えると、静電特性が低下することがある。
【０１３４】
保護層１４は、フィラーをさらに含むことが好ましい。これにより、耐摩耗性を向上させることができる。さらに、保護層１４の表面に微細な凹凸が形成されるため、感光体１０に潤滑剤が付与されやすくなる。
【０１３５】
有機フィラーを構成する材料としては、特に限定されないが、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素樹脂、シリコーン樹脂、アモルファスカーボン等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【０１３６】
無機フィラーを構成する材料としては、特に限定されないが、銅、スズ、アルミニウム、インジウム等の金属、酸化ケイ素、酸化スズ、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化ビスマス等の金属酸化物、チタン酸カリウム等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【０１３７】
フィラーは、硬度の点から、無機フィラーであることが好ましく、フィラーを構成する材料は、静電特性の点から、金属酸化物が好ましく、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタンがさらに好ましい。このとき、無機フィラーとして、コロイダルシリカ、コロイダルアルミナ等を用いることができる。
【０１３８】
フィラーの平均一次粒径は、０．０１〜０．５μｍであることが好ましい。フィラーの平均一次粒径が０．０１μｍ未満であると、耐摩耗性が低下することがあり、０．５μｍを超えると、保護層１４の光の透過率が低下することがある。
【０１３９】
保護層１４中のフィラーの含有量は、通常、５〜５０質量％であり、５〜３０質量％が好ましい。保護層１４中のフィラーの含有量が５質量％未満であると、耐摩耗性が低下することがあり、３０質量％を超えると、静電特性が低下したり、保護層１４の光の透過率が低下したりすることがある。
【０１４０】
フィラーは、表面処理剤により表面処理されていてもよい。これにより、保護層１４中のフィラーの分散性を向上させることができる。
【０１４１】
表面処理剤としては、特に限定されないが、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、ジルコアルミネート系カップリング剤、高級脂肪酸、酸化アルミニウム、二酸化チタン、二酸化ジルコニウム、シリコーン樹脂、ステアリン酸アルミニウム等が挙げられ、二種以上併用してもよい。また、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、ジルコアルミネート系カップリング剤、高級脂肪酸と、シランカップリング剤とを併用してもよい。
【０１４２】
表面処理剤により表面処理されている量は、通常、フィラーに対して、３〜３０質量％であり、５〜２０質量％が好ましい。表面処理剤により表面処理されている量が、フィラーに対して、３質量％未満であると、保護層１４中のフィラーの分散性を向上させることができないことがあり、３０質量％を超えると、静電特性が低下することがある。
【０１４３】
電荷発生層１２ａ（図２〜４参照）は、電荷発生物質を含み、バインダー樹脂をさらに含んでいてもよい。
【０１４４】
電荷発生物質としては、特に限定されないが、結晶セレン、アモルファスセレン、セレン−テルル化合物、セレン−テルル−ハロゲン化合物、セレン−ヒ素化合物等の無機材料、金属フタロシアニン、無金属フタロシアニン等のフタロシアニン系顔料、アズレニウム塩顔料、スクエアリック酸メチン顔料、カルバゾール骨格を有するアゾ顔料、トリフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジベンゾチオフェン骨格を有するアゾ顔料、フルオレノン骨格を有するアゾ顔料、オキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料、ビススチルベン骨格を有するアゾ顔料、ジスチリルオキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料、ジスチリルカルバゾール骨格を有するアゾ顔料、ペリレン系顔料、アントラキノン系又は多環キノン系顔料、キノンイミン系顔料、ジフェニルメタン又はトリフェニルメタン系顔料、ベンゾキノン又はナフトキノン系顔料、シアニン及びアゾメチン系顔料、インジゴイド系顔料、ビスベンズイミダゾール系顔料等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【０１４５】
電荷発生層１２ａに含まれるバインダー樹脂としては、特に限定されないが、ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリケトン、ポリカーボネート、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルケトン、ポリスチレン、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）、ポリアクリルアミド等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【０１４６】
電荷発生層１２ａは、電荷輸送物質をさらに含んでいてもよい。また、電荷発生層１２ａは、高分子電荷輸送物質をさらに含んでいてもよい。
【０１４７】
電荷発生層１２ａを形成する方法としては、グロー放電重合法、真空蒸着法、ＣＶＤ法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、イオンプレーティング法、加速イオンインジェクション法等の真空薄膜作製法、浸漬塗布法、スプレーコート法、ビードコート法等のキャスティング法等が挙げられる。
【０１４８】
キャスティング法を用いて電荷発生層１２ａを形成する際に用いられる塗布液に含まれる溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、シクロヘキサノン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロプロパン、トリクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエタン、テトラヒドロフラン、ジオキソラン、ジオキサン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチルスルホキシド、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、プロピルセロソルブ等が挙げられ、二種以上併用してもよい。中でも、塗膜の乾燥性の点で、沸点が４０〜８０℃のテトラヒドロフラン、メチルエチルケトン、ジクロロメタン、メタノール、エタノールが好ましい。
【０１４９】
塗布液は、溶媒中に電荷発生物質を溶解又は分散させることにより調製することができる。
【０１５０】
溶媒中に電荷発生物質を溶解又は分散させる方法としては、ボールミル、ビーズミル、サンドミル、振動ミル等の分散メディアを用いる方法、高速液衝突分散方法等が挙げられる。
【０１５１】
電荷発生層１２ａの厚さは、通常、０．０１〜５μｍであり、０．０５〜２μｍが好ましい。
【０１５２】
電荷輸送層１２ｂ（図２〜４参照）は、電荷輸送物質及びバインダー樹脂を含む。
【０１５３】
正孔輸送物質としては、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、トリフェニルアミン誘導体、９−（ｐ−ジエチルアミノスチリルアントラセン）、１，１−ビス−（４−ジベンジルアミノフェニル）プロパン、スチリルアントラセン、スチリルピラゾリン、フェニルヒドラゾン類、α−フェニルスチルベン誘導体、チアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、フェナジン誘導体、アクリジン誘導体、ベンゾフラン誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、チオフェン誘導体等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【０１５４】
高分子電荷輸送物質を以下に示す。
（ａ）カルバゾール環を有する重合体
例えば、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、特開昭５０−８２０５６号公報、特開昭５４−９６３２号公報、特開昭５４−１１７３７号公報、特開平４−１７５３３７号公報、特開平４−１８３７１９号公報、特開平６−２３４８４１号公報に記載の化合物等が例示される。
（ｂ）ヒドラゾン構造を有する重合体
例えば、特開昭５７−７８４０２号公報、特開昭６１−２０９５３号公報、特開昭６１−２９６３５８号公報、特開平１−１３４４５６号公報、特開平１−１７９１６４号公報、特開平３−１８０８５１号公報、特開平３−１８０８５２号公報、特開平３−５０５５５号公報、特開平５−３１０９０４号公報、特開平６−２３４８４０号公報に記載の化合物等が例示される。
（ｃ）ポリシリレン重合体
例えば、特開昭６３−２８５５５２号公報、特開平１−８８４６１号公報、特開平４−２６４１３０号公報、特開平４−２６４１３１号公報、特開平４−２６４１３２号公報、特開平４−２６４１３３号公報、特開平４−２８９８６７号公報に記載の化合物等が例示される。
（ｄ）トリアリールアミン構造を有する重合体
例えば、Ｎ，Ｎ−ビス（４−メチルフェニル）−４−アミノポリスチレン、特開平１−１３４４５７号公報、特開平２−２８２２６４号公報、特開平２−３０４４５６号公報、特開平４−１３３０６５号公報、特開平４−１３３０６６号公報、特開平５−４０３５０号公報、特開平５−２０２１３５号公報に記載の化合物等が例示される。
（ｅ）その他の重合体
例えば、ニトロピレンのホルムアルデヒド縮重合体、特開昭５１−７３８８８号公報、特開昭５６−１５０７４９号公報、特開平６−２３４８３６号公報、特開平６−２３４８３７号公報に記載の化合物等が例示される。
【０１５５】
これら以外の高分子電荷輸送物質としては、トリアリールアミン構造を有するポリカーボネート、トリアリールアミン構造を有するポリウレタン、トリアリールアミン構造を有するポリエステル、トリアリールアミン構造を有するポリエーテル等が挙げられる。
【０１５６】
このような高分子電荷輸送物質としては、特開昭６４−１７２８号公報、特開昭６４−１３０６１号公報、特開昭６４−１９０４９号公報、特開平４−１１６２７号公報、特開平４−２２５０１４号公報、特開平４−２３０７６７号公報、特開平４−３２０４２０号公報、特開平５−２３２７２７号公報、特開平７−５６３７４号公報、特開平９−１２７７１３号公報、特開平９−２２２７４０号公報、特開平９−２６５１９７号公報、特開平９−２１１８７７号公報、特開平９−３０４９５６号公報等に開示されている電子供与性基を有する重合体が挙げられる。
【０１５７】
また、電子供与性基を有する重合体は、公知の単量体との共重合体、ブロック重合体、グラフト重合体、スターポリマー等であってもよい。さらに、電子供与性基を有する重合体は、特開平３−１０９４０６号公報に開示されている電子供与性基を有する架橋重合体であってもよい。
【０１５８】
電子輸送物質としては、特に限定されないが、トリニトロフルオレノン、フルオレニリデンメタン誘導体等のフルオレン系化合物、ジフェノキノン、アントラキノン誘導体等のキノン系化合物等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【０１５９】
電荷輸送層１２ｂに含まれるバインダー樹脂としては、ポリカーボネート、ポリエステル、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリスチレン、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、ポリ塩化ビニリデン、アルキッド樹脂、シリコーン樹脂、ポリビニルカルバゾール、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリアクリレート、ポリアクリルアミド、フェノキシ樹脂等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【０１６０】
なお、図２、３における電荷輸送層１２ｂは、架橋性を有するバインダー樹脂と架橋性を有する電荷輸送物質を架橋させて形成してもよい。
【０１６１】
電荷輸送層１２ｂは、電荷輸送物質及びバインダー樹脂を溶媒中に溶解又は分散させた塗布液を電荷発生層１２ａ上に塗布することにより形成することができる。
【０１６２】
電荷輸送層１２ｂは、可塑剤、酸化防止剤、レベリング剤等をさらに含んでいてもよい。
【０１６３】
電荷輸送層１２ｂの厚さは、通常、５〜１００μｍであり、１２００ｄｐｉ以上の高画質化を達成するためには、５〜３０μｍが好ましい。
【０１６４】
感光層１２（図１参照）は、電荷発生物質、電荷輸送物質及びバインダー樹脂を含む。
【０１６５】
感光層１２は、電荷発生物質、電荷輸送物質及びバインダー樹脂を溶媒に溶解又は分散させた塗布液を塗布することにより形成することができる。
【０１６６】
感光層１２は、可塑剤をさらに含んでいてもよい。
【０１６７】
感光層１２の厚さは、通常、５〜１００μｍであり、５〜５０μｍが好ましい。感光層１２の厚さが５μｍ未満であると、帯電性が低下することがあり、１００μｍを超えると、感度が低下することがある。
【０１６８】
導電性支持体１１（図１〜４参照）を構成する材料としては、Ａｌ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ａｕ等の金属又は合金が挙げられる。また、導電性支持体１１は、Ａｌ、Ａｇ、Ａｕ等の金属又は酸化インジウム（ＩＩＩ）、酸化スズ（ＩＶ）等の金属酸化物の導電性薄膜が形成されている、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリイミド、ガラス等の絶縁性支持体、カーボンブラック、グラファイト、Ａｌ、Ｃｕ、Ｎｉ等の金属、導電性ガラス等の導電性粒子が分散している樹脂製の支持体、導電処理がされている紙等であってもよい。
【０１６９】
導電性支持体１１の形状としては、板状、ドラム状、ベルト状等が挙げられる。中でも、剛性の点から、ドラム状が好ましい。
【０１７０】
下引き層１３（図３、４参照）は、樹脂を含む。このとき、下引き層１３上に、電荷発生層１２ａ又は感光層１２を形成する際に、塗布液が塗布されることを考慮すると、下引き層１３は、耐溶解性に優れる樹脂を含むことが好ましい。
【０１７１】
このような樹脂としては、ポリビニルアルコール、カゼイン、ポリアクリル酸ナトリウム等の水溶性樹脂、共重合ナイロン、メトキシメチル化ナイロン等のアルコール可溶性樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、アルキッド−メラミン樹脂、エポキシ樹脂等、三次元網目構造を形成する硬化型樹脂等が挙げられる。
【０１７２】
下引き層１３は、酸化チタン、シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化インジウム等の金属酸化物、金属硫化物、金属窒化物等の粉末をさらに含んでいてもよい。
【０１７３】
下引き層１３は、溶媒中に樹脂を溶解又は分散させた塗布液を塗布することにより形成することができる。
【０１７４】
下引き層１３は、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、クロムカップリング剤等を用いて、ゾル−ゲル法により形成されている金属酸化物、陽極酸化により形成されている酸化アルミニウム、ポリパラキシリレン（パリレン）、真空薄膜作製法により形成されている酸化スズ（ＩＶ）、二酸化チタン、ＩＴＯ、酸化セリウム等であってもよい。
【０１７５】
下引き層１３の厚さは、通常、０．１〜１０μｍであり、１〜５μｍが好ましい。
【０１７６】
本発明の画像形成装置としては、トナー像が転写された感光体に残留したトナーを除去するクリーニングブレードと、本発明の潤滑剤を感光体に付与する潤滑剤付与手段を有していれば、特に限定されない。
【０１７７】
なお、クリーニングブレード及び潤滑剤付与手段としては、特に限定されず、公知のクリーニングブレード及び潤滑剤付与手段を用いることができる。
【０１７８】
図５に、本発明の画像形成装置の一例を示す。画像形成装置１００Ａにおいて、感光体１０は、ドラム状であり、図中、反時計回りに回転駆動される。
【０１７９】
以下、画像形成装置１００Ａを用いて、画像を形成する方法について説明する。まず、除電ランプ１０１により感光体１０の表面を除電した後、帯電器１０２により感光体１０の表面を帯電させる。次に、露光器（不図示）により、感光体１０の表面に露光光Ｌが照射され、静電潜像が形成された後、現像器１０３により、静電潜像がトナーで現像され、トナー像が形成される。さらに、転写前帯電器１０４により、感光体１０の表面に形成されたトナー像を帯電させた後、転写帯電器１０６により、レジストローラ１０５から供給された記録紙Ｐにトナー像が転写される。次に、分離帯電器１０７により、トナー像が転写された記録紙Ｐを帯電させた後、分離爪１０８により、記録紙Ｐが感光体１０から分離される。一方、クリーニング前帯電器１０９により、感光体１０の表面に残留したトナーを帯電させた後、クリーニングブラシ１１０により、感光体１０の表面に残留したトナーが除去されると共に、感光体１０の表面に潤滑剤が塗布される。次に、クリーニングブレード１１１により、感光体１０の表面に残留したトナーが除去されると共に、感光体１０の表面に塗布された潤滑剤の量が均一化される。
【０１８０】
図６に、クリーニングブラシ１１０及びクリーニングブレード１１１を示す。クリーニングブラシ１１０に棒状固体潤滑剤１１０ａが押し当てられているため、クリーニングブラシ１１０が回転することにより潤滑剤が掻き取られる。その結果、クリーニングブラシ１１０に付着した潤滑剤が感光体１０の表面に塗布される。このため、クリーニングブレード１１１と感光体の表面の摩擦を長期間に亘って低減することができる。
【０１８１】
なお、クリーニングユニットとは独立した潤滑剤塗布ユニットを設置してもよい。この場合、潤滑剤塗布ユニットは、感光体１０が回転する向きに対して、クリーニングユニットの下流側に設置することが好ましい。また、潤滑剤塗布ユニットを複数設置して、複数の潤滑剤塗布ユニットを同時又は順次作用させることにより、潤滑剤の塗布効率を向上させたり、消費量を制御したりすることができる。
【０１８２】
除電ランプ１０１、露光器（不図示）の光源としては、蛍光灯、タングステンランプ、ハロゲンランプ、水銀灯、ナトリウム灯、発光ダイオード（ＬＥＤ）、半導体レーザー（ＬＤ）、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）等を用いることができる。このとき、所望の波長域の光のみを照射するために、シャープカットフィルター、バンドパスフィルター、近赤外カットフィルター、ダイクロイックフィルター、干渉フィルター、色温度変換フィルター等を用いてもよい。
【０１８３】
帯電器１０２、転写前帯電器１０４、転写帯電器１０６、分離帯電器１０７、クリーニング前帯電器１０９としては、コロトロン、スコロトロン、固体帯電器（ソリッド・ステート・チャージャー）、帯電ローラ等を用いることができる。
【０１８４】
潤滑剤塗布ブラシ１１０としては、特に限定されないが、ファーブラシ、マグファーブラシ等を用いることができる。
【０１８５】
クリーニングブレード１１１を構成する材料としては、特に限定されないが、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、ウレタンエラストマー、シリコーンエラストマー、フッ素エラストマー等が挙げられる。中でも、耐摩耗性、耐オゾン性、耐汚染性の点から、ウレタンエラストマーが好ましい。
【０１８６】
クリーニングブレード１１１は、硬度（ＪＩＳ−Ａ）が６５〜８５度であることが好ましい。また、クリーニングブレード１１１は、厚さが０．８〜３．０ｍｍであり、突き出し量が３〜１５ｍｍであることが好ましい。
【０１８７】
トナーとしては、公知のトナー、即ち、結着樹脂及び着色剤を含む母体粒子及び外添剤を有するトナーを用いることができる。このとき、母体粒子は、離型剤、帯電制御剤等をさらに含んでいてもよい。
【０１８８】
なお、高湿環境下で、電荷輸送性構造を有する重合性化合物を含む架橋性樹脂が架橋されている保護層１４が表面に形成されている感光体１０Ｄの表面に、潤滑剤として、脂肪酸の金属塩を塗布しながら、繰り返し画像を形成すると、画像ボケが発生する。
【０１８９】
この理由は明らかではないが、帯電器からの放電により劣化した脂肪酸の金属塩と、空気中の水分、さらに帯電器からの放電により生成する放電生成物が結合して、保護層１４の表面が低抵抗化し、静電潜像が流れてしまうためであると考えられる。また、劣化した脂肪酸の金属塩が保護層１４から除去されにくいためであると考えられる。
【０１９０】
ここで、脂肪酸の金属塩と、ヒンダードフェノール又はヒンダードアミンを併用しても、電荷輸送性構造を有する重合性化合物を含む架橋性樹脂が架橋されている保護層１４が表面に形成されている感光体１０Ｄを用いて、高湿環境下で繰り返し画像を形成すると、画像ボケが発生する。これは、帯電器からの放電により劣化したヒンダードフェノール又はヒンダードアミンと、空気中の水分、さらに放電生成物が結合する可能性が考えられる。
【０１９１】
図７に、本発明の画像形成装置の他の例を示す。画像形成装置１００Ｂにおいて、感光体１０は、ベルト状であり、駆動ローラ１２１、従動ローラ１２２及び１２３により、張架されており、駆動ローラ１２１により、図中、時計回りに回転駆動される。
【０１９２】
以下、画像形成装置１００Ｂを用いて、画像を形成する方法について説明する。まず、除電ランプ１０１によりドラム状の感光体１０の表面を除電した後、帯電器１０２により感光体１０の表面を帯電させる。次に、露光器（不図示）により、感光体１０の表面に露光光Ｌが照射され、静電潜像が形成された後、現像器１０３により、静電潜像がトナーで現像され、トナー像が形成される。さらに、転写帯電器１０６により、記録紙（不図示）にトナー像が転写された後、クリーニングブラシ１１０により、感光体１０の表面に残留したトナーが除去されると共に、感光体１０の表面に潤滑剤が塗布される。次に、クリーニングブレード１１１により、感光体１０の表面に残留したトナーが除去されると共に、感光体１０の表面に塗布された潤滑剤の量が均一化される。さらに、クリーニングブラシ１２４により、感光体１０の表面に残留したトナーが除去される。
【０１９３】
なお、クリーニングブラシ１２４は、クリーニングブラシ１１０と同一の構成である。
【０１９４】
本発明のプロセスカートリッジは、感光体と、トナー像が転写された感光体に残留したトナーを除去するクリーニングブレードと、本発明の潤滑剤を感光体に付与する潤滑剤付与手段を一体に支持し、画像形成装置の本体に着脱可能である。
【０１９５】
なお、クリーニングブレード及び潤滑剤付与手段としては、特に限定されず、公知のクリーニングブレード及び潤滑剤付与手段を用いることができる。
【０１９６】
図８に、本発明のプロセスカートリッジの一例を示す。プロセスカートリッジ２００は、感光体１０、帯電器１０２、現像器１０４、クリーニングブラシ１１０及びクリーニングブレード１１１一体に支持し、画像形成装置の本体に着脱可能である。このとき、クリーニングブラシ１１０は、感光体１０の表面に残留したトナーを除去すると共に、感光体１０の表面に潤滑剤を塗布する。また、クリーニングブレード１１１は、感光体１０の表面に残留したトナーを除去すると共に、感光体１０の表面に塗布された潤滑剤の量を均一化する。
【実施例】
【０１９７】
次に、実施例によって本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は実施例に限定されない。なお、部は、質量部を意味する。
【０１９８】
［実施例１］
まず、ステアリン酸亜鉛８５部及び化学式（１−１）で表される化合物１５部を、１４０℃で攪拌しながら溶融させ、溶融液を得た。次に、１４０℃で予熱した幅８ｍｍ×深さ８ｍｍ×長さ５００ｍｍのキャビティを有するアルミ製の金型のキャビティ内に、溶融液を注入した後、予熱した断熱蓋を金型の上部に設置した。さらに、金型の温度が５０℃になるまで放冷し、金型から成形品を取り出した。成形品を幅８ｍｍ×厚さ８ｍｍ×長さ３８０ｍｍの形状に加工し、ＲＩＣＯＨ  Ｐｒｏ  Ｃ９００に搭載することが可能な棒状固体潤滑剤１１０ａを得た。
【０１９９】
［実施例２］
化学式（１−１）で表される化合物の代わりに、化学式（１−２）で表される化合物を用いた以外は、実施例１と同様にして、棒状固体潤滑剤１１０ａを得た。
【０２００】
［実施例３］
化学式（１−１）で表される化合物の代わりに、化学式（１−３）で表される化合物を用いた以外は、実施例１と同様にして、棒状固体潤滑剤１１０ａを得た。
【０２０１】
［実施例４］
化学式（１−１）で表される化合物の代わりに、化学式（１−４）で表される化合物を用いた以外は、実施例１と同様にして、棒状固体潤滑剤１１０ａを得た。
【０２０２】
［実施例５］
化学式（１−１）で表される化合物の代わりに、化学式（１−５）で表される化合物を用いた以外は、実施例１と同様にして、棒状固体潤滑剤１１０ａを得た。
【０２０３】
［実施例６］
ステアリン酸亜鉛及び化学式（１−１）で表される化合物の添加量を、それぞれ９８部及び２部にした以外は、実施例１と同様にして、棒状固体潤滑剤１１０ａを得た。
【０２０４】
［実施例７］
ステアリン酸亜鉛及び化学式（１−１）で表される化合物の添加量を、それぞれ７５部及び２５部にした以外は、実施例１と同様にして、棒状固体潤滑剤１１０ａを得た。
【０２０５】
［実施例８］
ステアリン酸亜鉛及び化学式（１−１）で表される化合物の添加量を、それぞれ６０部及び４０部にした以外は、実施例１と同様にして、棒状固体潤滑剤１１０ａを得た。
【０２０６】
［実施例９］
ステアリン酸亜鉛の代わりに、ステアリン酸カルシウムを用いた以外は、実施例２と同様にして、棒状固体潤滑剤１１０ａを得た。
【０２０７】
［実施例１０］
ステアリン酸亜鉛の代わりに、ステアリン酸アルミニウムを用いた以外は、実施例２と同様にして、棒状固体潤滑剤１１０ａを得た。
【０２０８】
［実施例１１］
ステアリン酸亜鉛の代わりに、ステアリン酸リチウムを用いた以外は、実施例２と同様にして、棒状固体潤滑剤１１０ａを得た。
【０２０９】
［実施例１２］
ステアリン酸亜鉛の代わりに、ステアリン酸マグネシウムを用いた以外は、実施例２と同様にして、棒状固体潤滑剤１１０ａを得た。
【０２１０】
［実施例１３］
ステアリン酸亜鉛の代わりに、パルミチン酸亜鉛を用いた以外は、実施例２と同様にして、棒状固体潤滑剤１１０ａを得た。
【０２１１】
［実施例１４］
ステアリン酸亜鉛の代わりに、ステアリン酸亜鉛とステアリン酸鉄の質量比４：１の混合物を用いた以外は、実施例１と同様にして、棒状固体潤滑剤１１０ａを得た。
【０２１２】
［実施例１５］
ステアリン酸亜鉛の代わりに、ステアリン酸亜鉛とパルミチン酸亜鉛の質量比１：１の混合物を用いた以外は、実施例１と同様にして、棒状固体潤滑剤１１０ａを得た。
【０２１３】
［実施例１６］
ステアリン酸亜鉛の代わりに、ステアリン酸亜鉛とミリスチン酸亜鉛の質量比３：２の混合物を用いた以外は、実施例１と同様にして、棒状固体潤滑剤１１０ａを得た。
【０２１４】
［実施例１７］
ステアリン酸亜鉛の代わりに、ステアリン酸亜鉛とオレイン酸亜鉛の質量比９：１の混合物を用いた以外は、実施例１と同様にして、棒状固体潤滑剤１１０ａを得た。
【０２１５】
［比較例１］
化学式（１−１）で表される化合物を添加しなかった以外は、実施例１と同様にして、棒状固体潤滑剤を得た。
【０２１６】
［比較例２］
化学式（１−１）で表される化合物の代わりに、ヒンダードフェノールのサノールＬＳ−２６２６（三共社製）を用いた以外は、実施例１と同様にして、棒状固体潤滑剤を得た。
【０２１７】
［比較例３］
化学式（１−１）で表される化合物の代わりに、ヒンダードアミンのサノールＬＳ−７４４（三共社製）を用いた以外は、実施例１と同様にして、棒状固体潤滑剤を得た。
【０２１８】
［比較例４］
化学式（１−１）で表される化合物の代わりに、ヒンダードフェノールのＩＲＧＡＮＯＸ−ＭＤ１０２４（チバスペシャリティケミカルズ社製）を用いた以外は、実施例１と同様にして、棒状固体潤滑剤を得た。
【０２１９】
表１に、棒状固体潤滑剤の特性を示す。
【０２２０】
【表１】
2012133111.tif 000014
［感光体１の作製］
アルキッド樹脂ベッコゾール１３０７−６０−ＥＬ（ＤＩＣ社製）６部、メラミン樹脂スーパーベッカミンＧ−８２１−６０（大日本インキ化学工業社製）４部、酸化チタンＣＲ−ＥＬ（石原産業社製）４０部及びメチルエチルケトン５０部からなる下引き層用塗布液を調製した。
【０２２１】
浸漬塗布法を用いて、外径が１００ｍｍ、長さが３８０ｍｍのアルミニウム製の導電性支持体１１上に下引き層用塗布液を塗布した後、１３０℃で２０分間乾燥し、厚さが３．５μｍの下引き層１３を形成した。
【０２２２】
Ｙ型チタニルフタロシアニン６部、ブチラール樹脂ＢＸ−１（積水化学工業社製）４部及び２−ブタノン２００部からなる電荷発生層用塗布液を調製した。
【０２２３】
浸漬塗布法を用いて、下引き層１３上に電荷発生層用塗布液を塗布した後、９０℃で２０分間乾燥し、厚さが０．２μｍの電荷発生層１２ａを形成した。
【０２２４】
ビスフェノールＺ型ポリカーボネート１０部、化学式
【０２２５】
【化１３】
2012133111.tif 000015
で表される電荷輸送物質１０部及びテトラヒドロフラン８０部からなる電荷輸送層用塗布液を調製した。
【０２２６】
浸漬塗布法を用いて、電荷発生層１２ａ上に電荷輸送層用塗布液を塗布した後、１３５℃で２０分間乾燥し、厚さが２２μｍの電荷輸送層１２ｂを形成した。
【０２２７】
分子量が２９６のトリメチロールプロパントリアクリレートＫＡＹＡＲＡＤ  ＴＭＰＴＡ（日本化薬社製）１０部、化学式
【０２２８】
【化１４】
2012133111.tif 000016
で表される化合物（Ａ）１０部、光重合開始剤イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）１部、紫外線硬化型レベリング剤の１質量％テトラヒドロフラン溶液ＢＹＫ−ＵＶ３５７０（ビックケミー社製）５部及びテトラヒドロフラン１００部からなる保護層用塗布液を調製した。
【０２２９】
窒素気流中、スプレーコート法を用いて、電荷輸送層１２ｂ上に保護層用塗布液を塗布した後、１０分間放置して指触乾燥した。次に、酸素濃度が２％以下となるように窒素ガスで置換した紫外光照射ブース内で、ランプ電力が１６０Ｗ／ｃｍのメタルハライドランプを用いて、照射距離１２０ｍｍ、照度７００ｍＷ／ｃｍ２、照射時間６０秒間の条件で、紫外光を照射した後、１３０℃で２０分間乾燥し、厚さが８μｍの保護層１３を形成し、感光体１を得た。
【０２３０】
フルカラープリンタＲＩＣＯＨ  Ｐｒｏ  Ｃ９００（リコー社製）に搭載されている潤滑剤塗布ユニット用の金属製の支持体に、実施例１〜１７又は比較例１〜４の棒状固体潤滑剤を両面テープで接着させた改造機のブラックステーションに感光体１を搭載し、画像ボケ、耐摩耗性、耐キズ性を評価した。
【０２３１】
＜画像ボケ＞
２７℃、８５％ＲＨの高湿環境下、画像面積率が５％であるブラック単色のテストチャートを５０００枚連続出力した後、フルカラープリンタの電源を切った。次に、２７℃、８５％ＲＨの高湿環境下、２４時間放置した後、フルカラープリンタの電源を入れ、１２００ｄｐｉ  ２ｂｙ２のブラック単色の全面ハーフトーン画像を出力し、画像ボケによるカスレの有無を評価した。なお、画像ボケが発生しない場合を◎、帯電器の直下に僅かに画像ボケが発生したが、実用上、ほとんど問題のないレベルである場合を○、帯電器の直下及びその周辺に僅かに画像ボケが発生したが、実用上許容できるレベルである場合を△、ほぼ全面に画像ボケが発生し、許容できないレベルである場合を×として、判定した。
【０２３２】
＜耐摩耗性＞
２５℃、５０％ＲＨの環境下、画像面積率が１５％であるブラック単色のテストチャートを１０万枚連続出力するランニングの前後の感光層の厚さを、渦電流式膜厚計フィッシャースコープＭＭＳ（フィッシャー社製）を用いて測定し、感光層の摩耗量を算出した。なお、感光層の厚さは、感光体の任意の主走査方向（ドラム軸方向）に、一方の端部からの距離が５０ｍｍである位置から、１０ｍｍ間隔で、３３０ｍｍである位置まで測定した値の平均値である。
【０２３３】
なお、感光層の磨耗量が少ない程、潤滑剤の塗布性が良好であると考えられる。
【０２３４】
＜耐キズ性＞
耐摩耗性を評価した後の感光体の表面の副走査方向（ドラム周方向）のスジ状のキズの有無を目視で観察した。
【０２３５】
なお、感光体の表面のスジ状のキズが少ない程、潤滑剤の塗布性が良好であると考えられる。
【０２３６】
表２に、画像ボケ、耐摩耗性、耐キズ性の評価結果を示す。
【０２３７】
【表２】
2012133111.tif 000017
表２から、実施例１〜１７の棒状固体潤滑剤１１０ａ及び感光体１を用いて、高湿環境下で繰り返し画像を形成しても、画像ボケの発生を抑制できることがわかる。また、耐摩耗性や耐キズ性も、実使用上問題とはならないレベルを維持していることがわかる。
【０２３８】
これに対して、比較例１〜４の棒状固体潤滑剤を用いて、高湿環境下で繰り返し画像を形成すると、画像ボケが発生した。
【０２３９】
［感光体２の作製］
分子量が２９６のトリメチロールプロパントリアクリレートＫＡＹＡＲＡＤ  ＴＭＰＴＡ（日本化薬社製）の代わりに、分子量が１２６３のジペンタエリスリトールカプロラクトン変性ヘキサアクリレートＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＣＡ−６０（日本化薬社製）を用いて、保護層用塗布液を調製した以外は、感光体１と同様にして、感光体２を得た。
【０２４０】
［感光体３の作製］
分子量が２９６のトリメチロールプロパントリアクリレートＫＡＹＡＲＡＤ  ＴＭＰＴＡ（日本化薬社製）の代わりに、分子量が１９４７のジペンタエリスリトールカプロラクトン変性ヘキサアクリレートＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＣＡ−１２０（日本化薬社製）を用いて、保護層用塗布液を調製した以外は、感光体１と同様にして、感光体３を得た。
【０２４１】
［感光体４の作製］
化合物（Ａ）の代わりに、化学式
【０２４２】
【化１５】
2012133111.tif 000018
で表される化合物を用いて、保護層用塗布液を調製した以外は、感光体１と同様にして、感光体４を得た。
【０２４３】
［感光体５の作製］
化合物（Ａ）の代わりに、化学式
【０２４４】
【化１６】
2012133111.tif 000019
で表される化合物を用いて、保護層用塗布液を調製した以外は、感光体１と同様にして、感光体５を得た。
【０２４５】
［感光体６の作製］
化合物（Ａ）の代わりに、化学式
【０２４６】
【化１７】
2012133111.tif 000020
で表される化合物を用いて、保護層用塗布液を調製した以外は、感光体１と同様にして、感光体６を得た。
【０２４７】
［感光体７の作製］
感光体１と同様にして、導電性支持体１１上に、下引き層１３、電荷発生層１２ａ及び電荷輸送層１２ｂを順次積層した。
【０２４８】
平均一次粒径が０．３μｍのアルミナＡＡ−０３（住友化学工業社製）３部、不飽和ポリカルボン酸ポリマーＢＹＫ−Ｐ１０４（ＢＹＫケミー製）０．０６部、分子量が２９６のトリメチロールプロパントリアクリレートＳＲ−３５１（サートマー社製）５部、分子量が１９４７のジペンタエリスリトールカプロラクトン変性ヘキサアクリレートＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＣＡ−１２０（日本化薬社製）５部、化合物（Ａ）１０部、光重合開始剤イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）及びテトラヒドロフラン１００部からなる保護層用塗布液を調製した。
【０２４９】
窒素気流中、スプレーコート法を用いて、電荷輸送層１２ｂ上に保護層用塗布液を塗布した後、１分間放置して自然乾燥した。次に、酸素濃度が２％以下となるように窒素ガスで置換した紫外光照射ブース内で、ランプ電力が１６０Ｗ／ｃｍのメタルハライドランプを用いて、照射距離１２０ｍｍ、照度５００ｍＷ／ｃｍ２、照射時間４５秒間の条件で、紫外光を照射した後、１３０℃で２０分間乾燥し、厚さが４μｍの保護層１３を形成し、感光体７を得た。
【０２５０】
［感光体８の作製］
平均一次粒径が０．３μｍのアルミナＡＡ−０３（住友化学工業社製）の代わりに、平均一次粒径が０．１μｍのシリカＫＭＰＸ１００（信越化学工業社製）を用いて、保護層用塗布液を調製した以外は、感光体７と同様にして、感光体８を得た。
【０２５１】
［感光体９の作製］
平均一次粒径が０．３μｍのアルミナＡＡ−０３（住友化学工業社製）の代わりに、平均一次粒径が０．２５μｍの酸化チタンＣＲ−９７（石原産業社製）を用いて、保護層用塗布液を調製した以外は、感光体７と同様にして、感光体９を得た。
【０２５２】
［感光体１０の作製］
感光体１と同様にして、導電性支持体１１上に、下引き層１３、電荷発生層１２ａ及び電荷輸送層１２ｂを順次積層した。
【０２５３】
平均一次粒径が０．３μｍのアルミナＡＡ−０３（住友化学工業社製）３部、不飽和ポリカルボン酸ポリマーＢＹＫ−Ｐ１０４（ＢＹＫケミー製）０．０６部、ポリカーボネートＺポリカ（帝人化成社製）１０部、ジブチルヒドロキシトルエン０．０６部、酸化防止剤サノールＬＳ−２６２６（三共社製）０．２部、テトラヒドロフラン２３０部及びシクロヘキサノン７０部からなる保護層用塗布液を調製した。
【０２５４】
スプレーコート法を用いて、電荷輸送層１２ｂ上に保護層用塗布液を塗布した後、１５０℃で２０分間乾燥し、厚さが５μｍの保護層１３を形成し、感光体１０を得た。
【０２５５】
［感光体１１の作製］
感光体１と同様にして、導電性支持体１１上に、下引き層１３、電荷発生層１２ａ及び電荷輸送層１２ｂを順次積層した。
【０２５６】
固形分が４１質量％のポリオールＬＺＲ−１７０（藤倉化成社製）２０部、化学式（２−９）で表される化合物２０部、固形分が７５質量％のポリイソシアネートのコロネートＬ（日本ポリウレタン工業社製）、シリコーンオイルの１質量％テトラヒドロフラン溶液ＫＦ５０−１００ＣＳ（信越化学工業社製）５部、シクロヘキサノン５０部及びテトラヒドロフラン２００部からなる保護層用塗布液を調製した。
【０２５７】
スプレーコート法を用いて、電荷輸送層１２ｂ上に保護層用塗布液を塗布した後、１分間自然乾燥し、１５０℃で３０分間加熱して、厚さが５μｍの保護層１３を形成し、感光体１１を得た。
【０２５８】
フルカラープリンタＲＩＣＯＨ  Ｐｒｏ  Ｃ９００（リコー社製）に搭載されている潤滑剤塗布ユニット用の金属製の支持体に、実施例１の棒状固体潤滑剤１１０ａを両面テープで接着させた改造機のブラックステーションに感光体２〜１１を搭載し、画像ボケ、耐摩耗性、耐キズ性を評価した。
【０２５９】
表３に、画像ボケ、耐摩耗性、耐キズ性の評価結果を示す。
【０２６０】
【表３】
2012133111.tif 000021
表３から、実施例１の棒状固体潤滑剤１１０ａ及び感光体２〜１１を用いて、高湿環境下で繰り返し画像を形成しても、画像ボケの発生を抑制できることがわかる。また、耐摩耗性や耐キズ性も、実使用上問題とはならないレベルを維持していることがわかる。
【符号の説明】
【０２６１】
１０    感光体
１００Ａ、１００Ｂ    画像形成装置
１０２    帯電器
１０３    現像器
１０６    転写帯電器
１１０    クリーニングブラシ
１１０ａ    棒状固体潤滑剤
１１１    クリーニングブレード
Ｌ    露光光
Ｐ    記録紙
【先行技術文献】
【特許文献】
【０２６２】
【特許文献１】特開２００１−２６５０４０号公報
【特許文献２】特開２００４−２５８１７７号公報
【図１】
2012133111.tif 000024
【図２】
2012133111.tif 000025
【図３】
2012133111.tif 000026
【図４】
2012133111.tif 000027
【図５】
2012133111.tif 000028
【図６】
2012133111.tif 000029
【図７】
2012133111.tif 000030
【図８】
2012133111.tif 000031