(57)【要約】【課題】シンプルな構成により、放電電極と対向電極との間隔を正確に設定可能にし、安定した製膜品質を得るとともに、製膜処理を施す基板の生産性を向上させる。【解決手段】製膜装置１（真空処理装置）は、真空チャンバ２と、真空チャンバ２の内部に設けられた放電電極面４ｂを有する放電電極４と、真空チャンバ２の内部に設けられて、放電電極面４ｂとの間に所定の電極面間隔Ｃを介して平行に対向する対向電極面５ｂを有する対向電極５と、対向電極５を駆動して電極面間隔Ｃを変更する電極駆動機構１５と、電極面間隔Ｃを決定するとともに、真空チャンバ２内の真空状態を維持しながら真空チャンバ２の外部から電極面間隔Ｃの設定を調整可能な電極面間隔調整装置２８とを備えている。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空チャンバと、
前記真空チャンバの内部に設けられて、放電電極面を有する放電電極と、
前記真空チャンバの内部に設けられて、前記放電電極面との間に所定の電極面間隔を介して平行に対向する対向電極面を有する対向電極と、
前記放電電極および前記対向電極の少なくとも一方を駆動して前記電極面間隔を変更する電極駆動手段と、
前記電極面間隔を決定するとともに、前記真空チャンバ内の真空状態を維持しながら前記真空チャンバの外部から前記電極面間隔の設定を調整可能な電極面間隔調整手段と、
を備えてなることを特徴とする真空処理装置。
【請求項２】
前記放電電極および前記対向電極は、その一方が固定電極とされ、他方が前記電極駆動手段に駆動される可動電極とされるとともに、
前記電極面間隔調整手段は、
前記固定電極または前記可動電極の一方の電極側に設けられて他方の電極に対して接近および離間する方向に移動可能であり、前記他方の電極を突き当てることにより前記電極面間隔を決定するストッパ部材と、前記真空チャンバの外部から前記ストッパ部材を前記他方の電極に対して接近および離間する方向に移動させるストッパ部材移動機構と、
を備えて構成されていることを特徴とする請求項１に記載の真空処理装置。
【請求項３】
前記放電電極および前記対向電極は、その一方が固定電極とされ、他方が前記電極駆動手段に駆動される可動電極とされるとともに、
前記固定電極または前記可動電極の一方の電極の対向する面の背面側を覆い、他方の電極に対して接近および離間する方向に移動するカバー部材を有し、
前記電極面間隔調整手段は、
前記カバー部材と、
該カバー部材に設けられて前記他方の電極を突き当てることにより前記電極面間隔を決定するストッパ部材と、
前記カバー部材を前記ストッパ部材と共に前記他方の電極に対して接近および離間する方向に移動させるカバー部材移動手段と、
を備えて構成されていることを特徴とする請求項１に記載の真空処理装置。
【請求項４】
高周波電源により前記放電電極から前記対向電極に放電された電流を、前記対向電極から前記高周波電源のアース側に流す接点部材を有し、この接点部材は、前記ストッパ部材と共に前記一方の電極側に設けられて前記他方の電極側に対して接近および離間する方向に移動可能であり、且つ前記ストッパ部材の位置に拘わらず前記電極面間隔においては、前記他方の電極に圧接されるように設けられたことを特徴とする請求項２または３に記載の真空処理装置。
【請求項５】
前記可動電極の縁部に、前記可動電極の移動方向に沿う接触面を形成し、前記接点部材を前記ストッパ部材側に設け、この接点部材を前記接触面に圧接させたことを特徴とする請求項４に記載の真空処理装置。
【請求項６】
前記電極面間隔を前記真空チャンバの外部から測定可能な間隔測定手段を有することを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載の真空処理装置。
【請求項７】
前記間隔測定手段は、
前記真空チャンバの外部に設けた基準点に第１のレーザ距離計と第２のレーザ距離計を設け、
前記第１のレーザ距離計から前記放電電極に設けた第１の反射板に向けて直角にレーザ光を照射して前記第１のレーザ距離計から前記放電電極までの距離を計測するとともに、
前記第２のレーザ距離計から前記対向電極に設けた第２の反射板に向けて直角にレーザ光を照射して前記第２のレーザ距離計から前記対向電極までの距離を計測し、
前記第１のレーザ距離計から前記放電電極までの距離と、前記第２のレーザ距離計から前記対向電極までの距離を比較演算することによって前記電極面間隔を割り出すようにした構成であることを特徴とする請求項６に記載の真空処理装置。
【請求項８】
前記間隔測定手段は、
前記真空チャンバの外部にレーザ光照射器を設置し、
前記レーザ光照射器のレーザ光は、前記放電電極面と前記対向電極面の面方向に直交し、且つ前記電極面間隔よりも幅が広いシート状であって、前記放電電極面と前記対向電極面との間に照射され、
前記放電電極面と前記対向電極面の間を通り抜けた前記レーザ光の幅を測定することによって前記電極面間隔を割り出すようにした構成であることを特徴とする請求項６に記載の真空処理装置。
【請求項９】
請求項１から８のいずれかに記載の真空処理装置を用いて、
前記電極駆動手段により前記放電電極および前記対向電極の少なくとも一方を駆動して前記電極面間隔を変更するとともに、
前記電極面間隔調整手段により前記真空チャンバ内の真空状態を維持しながら前記真空チャンバの外部から前記電極面間隔の設定を調整することを特徴とする真空処理装置の電極面間隔調整方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空処理装置に関し、特に、真空チャンバの内部に対向配置された放電電極と対向電極との間で放電させ、基板に製膜処理等を行う真空処理装置およびその電極面間隔調整方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、半導体、電子部品、太陽電池等の生産工程において、基板に薄膜形成処理を行う真空処理装置（製膜装置）として、プラズマ放電を利用して基板に製膜処理を行うプラズマＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）装置が利用されている。このような真空処理装置は、開閉可能に構成された真空チャンバの内部に、平坦な放電電極と対向電極とが所定の間隔を介して平行に設置され、製膜処理を施す基板が、例えば対向電極に密着するように設置される。そして、真空チャンバ内部が真空状態に真空排気にされた後、真空チャンバの内部に製膜用の原料ガスが供給され、この状態で放電電極と対向電極との間でプラズマ放電が行われることにより、基板の製膜処理が施される。
【０００３】
このような真空処理装置においては、プラズマを安定して発生させて、基板への製膜の品質を向上させるために、放電電極と対向電極との間隔を、電極面積の全域に亘って正確に均一化することが要求されている。このような要求に対応するものとして、例えば特許文献１に示される真空処理装置が提案されている。これは、放電電極（固定電極）にブロック状、棒状等の基板電極距離保持部を設け、対向電極（可動電極）が放電電極に接近した際に、対向電極を基板電極距離保持部に突き当てることによって、放電電極と対向電極との間隔を均一化し、基板に対して安定した製膜処理を行って製品品質を向上し、生産性を向上させるようにしたものである。また、基板電極距離保持部をネジ状に構成することにより、その突出量を変化させて、放電電極と対向電極との間隔を変更し、多様な製膜処理に対応することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−１５３３７８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１に開示されているものは、次のような点で上記要求を十分満たしているとはいえない。
即ち、製膜処理を施す基板の大きさが１ｍ四方を越える場合には、対向電極をサーボモータやステップモータで制御しながら放電電極に対して位置決めしても、各構成部材の熱膨張変形のために、対向電極の全面が放電電極に対して求める位置に精度高く停止することには限界がある。
【０００６】
また、大型の真空処理装置においては、放電電極と対向電極との間隔の設定は、真空チャンバを開放した状態で行う必要があり、そのためには真空処理装置の稼動を停止させ、完全に冷却させた後で真空チャンバのメンテナンス扉等を開いて大気に開放しなければならない。このため、真空処理装置の稼働率が大きく低下することはもちろん、真空チャンバの内部が外気に晒された際に、空気中の水蒸気成分他が放電電極、対向電極を始めとする各部に付着し、これを放置して真空処理装置を再稼動させると製膜の品質に変動を来たす虞がある。このため、再稼動させる前に加熱状態で真空排気処理を行なって水分や付着物質を除去するベーキングと呼ばれる作業に長い時間を費やす必要があり、これによって更に真空処理装置の稼働率が低下するという問題があった。
【０００７】
さらに、真空処理装置における製膜回数が増えていくと、放電電極および対向電極を始めとする製膜室内の各部品類に製膜成分が付着して堆積し、これによって放電電極と対向電極との間のプラズマ空間を形成させるための間隔が不均一に変化し、製膜品質および製膜性能に影響が生じる。しかし、上記のように真空チャンバを大気に開放すると、再稼動させるのに多大な手間と時間が掛かるため、放電電極と対向電極との間隔を一度設定して真空処理を開始し始めてしまうと、容易に放電電極と対向電極との間隔を変更することができない。したがって、性能歩留りの低下、メンテナンスインターバルが短い等の課題があった。
【０００８】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたもので、シンプルな構成により、放電電極と対向電極との間の電極面間隔を正確に設定でき、安定した製膜品質を得るとともに、製膜処理を施す基板の生産性を向上させることのできる真空処理装置およびその電極面間隔調整方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために、本発明は以下の手段を採用する。
即ち、本発明に係る真空処理装置の第１の態様は、真空チャンバと、前記真空チャンバの内部に設けられて、放電電極面を有する放電電極と、前記真空チャンバの内部に設けられて、前記放電電極面との間に所定の電極面間隔を介して平行に対向する対向電極面を有する対向電極と、前記放電電極および前記対向電極の少なくとも一方を駆動して前記電極面間隔を変更する電極駆動手段と、前記電極面間隔を決定するとともに、前記真空チャンバ内の真空状態を維持しながら前記真空チャンバの外部から前記電極面間隔の設定を調整可能な電極面間隔調整手段と、を備えてなることを特徴とする。
【００１０】
上記構成によれば、放電電極または対向電極の少なくとも一方が電極駆動手段に駆動されることにより、放電電極面と対向電極面との間の電極面間隔が変更される。この電極面間隔は、電極面間隔調整手段によって決定され、電極面間隔調整手段は、真空チャンバの外部から電極面間隔の設定を調整可能である。このため、例えば製膜処理を施す基板の大きさが１ｍ四方を越えるような大型の真空処理装置である場合においても、この真空処理装置の放電電極の周辺を構成する各部材の一部が熱膨張変形等を起こして電極面間隔が変更されても、電極面間隔調整手段を調整することによって電極面間隔を正確に設定し、安定した製膜品質を得ることができる。
【００１１】
しかも、電極面間隔調整手段は、真空チャンバの外部から電極面間隔の設定を調整可能であるため、電極面間隔の設定を調整する際に真空チャンバを開放する必要がない。したがって、真空処理装置の稼働を停止させたり、真空処理装置の内部が外気に晒されたことによる加熱処理を行ったりしなくてもよく、これによって真空処理装置の稼働率が低下することを防止し、製膜処理を施す基板の生産性を向上させることができる。
【００１２】
また、本発明に係る真空処理装置の第２の態様は、前記第１の態様において、前記放電電極および前記対向電極は、その一方が固定電極とされ、他方が前記電極駆動手段に駆動される可動電極とされるとともに、前記電極面間隔調整手段は、前記固定電極または前記可動電極の一方の電極側に設けられて他方の電極に対して接近および離間する方向に移動可能であり、前記他方の電極を突き当てることにより前記電極面間隔を決定するストッパ部材と、前記真空チャンバの外部から前記ストッパ部材を前記他方の電極に対して接近および離間する方向に移動させるストッパ部材移動機構と、を備えて構成されていることを特徴とする。
【００１３】
上記構成によれば、一方の電極側に設けられたストッパ部材が、ストッパ部材移動機構の作用により、他方の電極側に対して接近および離間する方向に移動する。このため、真空チャンバの外部からストッパ部材の位置、即ち一方の電極と他方の電極との間の電極面間隔を設定することができる。そして、ストッパ部材に他方の電極を突き当てて位置決めすることにより、一方の電極と他方の電極との間の電極面間隔を正確に設定して両電極間における放電を安定させ、良好な製膜品質を得ることができる。
【００１４】
また、本発明に係る真空処理装置の第３の態様は、前記第１の態様において、前記放電電極および前記対向電極は、その一方が固定電極とされ、他方が前記電極駆動手段に駆動される可動電極とされるとともに、前記固定電極または前記可動電極の一方の電極の対向する面の背面側を覆い、他方の電極に対して接近および離間する方向に移動するカバー部材を有し、前記電極面間隔調整手段は、前記カバー部材と、該カバー部材に設けられて前記他方の電極を突き当てることにより前記電極面間隔を決定するストッパ部材と、前記カバー部材を前記ストッパ部材と共に前記他方の電極に対して接近および離間する方向に移動させるカバー部材移動手段と、を備えて構成されていることを特徴とする。
【００１５】
上記構成によれば、製膜を行う真空処理装置に標準的に装備されるカバー部材を、そのままストッパ部材の取付部として活用することができるため、非常にシンプルな構成によって真空チャンバの外部からストッパ部材を可動できるようにし、このストッパ部材に他方の電極を突き当てて位置決めし、一方の電極と他方の電極との間の電極面間隔を正確に設定して放電を安定させ、良好な製膜品質を得ることができる。
【００１６】
また、本発明に係る真空処理装置の第４の態様は、前記第２または第３の態様において、高周波電源により前記放電電極から前記対向電極に放電された電流を、前記対向電極から前記高周波電源のアース側に流す接点部材を有し、この接点部材は、前記ストッパ部材と共に前記一方の電極側に設けられて前記他方の電極側に対して接近および離間する方向に移動可能であり、且つ前記ストッパ部材の位置に拘わらず前記電極面間隔においては、前記他方の電極に圧接されるように設けられたことを特徴とする。
【００１７】
上記構成によれば、ストッパ部材と共に一方の電極に設けられた接点部材が、常に他方の電極に圧接されるため、一方の電極と他方の電極との間の間隔に拘わらず、常に接点部材を他方の電極に確実に電気的に導通するよう接触させることができる。このため、放電された電流が接点部材を経由して確実にアース側に流れることができ、これにより電極間における放電を安定させて基板に対して安定した製膜処理を行い、製品品質を向上させて、生産性を高めることができる。
【００１８】
また、本発明に係る真空処理装置の第５の態様は、前記第４の態様において、前記可動電極の縁部に、前記可動電極の移動方向に沿う接触面を形成し、前記接点部材を前記ストッパ部材側に設け、この接点部材を前記接触面に圧接させたことを特徴とする。
【００１９】
上記構成によれば、固定電極と可動電極の相対位置に拘わらず、ストッパ部材側に設けられた接点部材が、可動電極側に設けられた接触面に常に一定の圧力で圧接されて電気的に導通するため、放電された電流が接点部材を経由して確実にアース電位側に還流することができ、これにより電極間における放電を安定させて基板に対して安定した製膜処理を行い、製品品質を向上させて、生産性を高めることができる。
【００２０】
また、本発明に係る真空処理装置の第６の態様は、前記第１から第５のいずれかの態様において、前記電極面間隔を前記真空チャンバの外部から測定可能な間隔測定手段を有することを特徴とする。
【００２１】
上記構成によれば、真空チャンバの外部から電極面間隔を測定可能になるため、電極面間隔を正確に把握して的確な設定を行い、両電極間における放電を安定させて良好な製膜品質を得ることができる。
【００２２】
また、本発明に係る真空処理装置の第７の態様は、前記第６の態様において、前記間隔測定手段は、前記真空チャンバの外部に設けた基準点に第１のレーザ距離計と第２のレーザ距離計を設け、前記第１のレーザ距離計から前記放電電極に設けた第１の反射板に向けて直角にレーザ光を照射して前記第１のレーザ距離計から前記放電電極までの距離を計測するとともに、前記第２のレーザ距離計から前記対向電極に設けた第２の反射板に向けて直角にレーザ光を照射して前記第２のレーザ距離計から前記対向電極までの距離を計測し、前記第１のレーザ距離計から前記放電電極までの距離と、前記第２のレーザ距離計から前記対向電極までの距離を比較演算することによって前記電極面間隔を割り出すようにした構成であることを特徴とする。
【００２３】
上記構成によれば、放電電極と対向電極との間の正確な電極面間隔を把握することができる。即ち、真空処理装置を構成する各部材が熱膨張変形したり、製膜の回数が増えていくうちに各構成部材に製膜成分が付着して堆積し、放電電極または対向電極の表面位置の寸法が変化し、放電電極と対向電極との間のプラズマ空間を形成させるための間隔が不均一に変化したりしても、常に放電電極面と対向電極面との間の実際の間隔を測定することができる。このため、電極面間隔を正確に設定して放電を安定させ、良好な製膜品質を得ることができる。
【００２４】
また、本発明に係る真空処理装置の第８の態様は、前記第６の態様において、前記間隔測定手段は、前記真空チャンバの外部にレーザ光照射器を設置し、前記レーザ光照射器のレーザ光は、前記放電電極面と前記対向電極面の面方向に直交し、且つ前記電極面間隔よりも幅が広いシート状であって、前記放電電極面と前記対向電極面との間に照射され、前記放電電極面と前記対向電極面の間を通り抜けた前記レーザ光の幅を測定することによって前記電極面間隔を割り出すようにした構成であることを特徴とする。
【００２５】
上記構成によれば、第７の態様と同じく、放電電極と対向電極との間の正確な電極面間隔を把握し、電極面間隔を正確に設定して放電を安定させ、良好な製膜品質を得ることができる。この第８の態様によれば、第７の態様に比べて簡素な構成にすることができる。
【００２６】
また、本発明に係る真空処理装置の電極面間隔調整方法は、前記第１から第８のいずれかの態様の真空処理装置を用いて、前記電極駆動手段により前記放電電極および前記対向電極の少なくとも一方を駆動して前記電極面間隔を変更するとともに、前記電極面間隔調整手段により前記真空チャンバ内の真空状態を維持しながら前記真空チャンバの外部から前記電極面間隔の設定を調整することを特徴とする。
【００２７】
この電極面間隔調整方法によれば、真空チャンバの外部から電極面間隔の設定を調整することができるため、電極面間隔の設定を調整する際に真空チャンバを開放する必要がない。したがって、真空処理装置の稼働を停止させたり、真空処理装置の内部が外気に晒されたことによる加熱処理を行ったりしなくてもよく、これによって真空処理装置の稼働率が低下することを防止し、製膜処理を施す基板の生産性を向上させることができる。
【発明の効果】
【００２８】
以上のように、本発明に係る真空処理装置によれば、シンプルな構成により、放電電極と対向電極との間隔を正確に設定し、これにより基板に対して安定した放電処理を行い、製膜品質を高めるとともに、製膜処理を施す基板の生産性を向上させることができる。
また、本発明に係る真空処理装置の電極面間隔調整方法によれば、真空処理装置の稼働を停止させずに電極面間隔の設定を調整可能にし、製膜処理を施す基板の生産性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】本発明に係る真空処理装置としての製膜装置の概略構成を説明する模式的な斜視図である。
【図２】本発明に係る製膜装置の第１実施形態を示す縦断面図である。
【図３】本発明に係る製膜装置の第２実施形態を示す縦断面図である。
【図４】本発明に係る製膜装置の第３実施形態を示す縦断面図である。
【図５】本発明に係る製膜装置の第４実施形態を示す縦断面図である。
【図６】間隔測定手段の第１実施形態を示す縦断面図である。
【図７】間隔測定手段の第２実施形態を示す縦断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３０】
以下に、本発明の複数の実施形態について、図１〜図７を参照しながら説明する。本実施形態においては、本発明を、一辺が１ｍを越える大面積な基板Ｓに対して、アモルファス太陽電池や微結晶太陽電池等に用いられる非晶質シリコン、微結晶シリコン等の結晶質シリコン、窒化シリコン等からなる膜の製膜処理をプラズマＣＶＤ法によって行うことが可能な、製膜装置（真空処理装置）に適用した場合について説明する。
【００３１】
〔製膜装置の第１実施形態〕
まず、本発明に係る製膜装置の第１実施形態を、図１と図２に基づいて説明する。図１は、製膜装置の概略構成を説明する模式的な斜視図であり、図２は図１に示す製膜装置の要部を示す縦断面図である。
【００３２】
この製膜装置１は、開閉可能な箱状に構成された真空チャンバ２の内部に形成された製膜室３に、放電電極４と対向電極５とが互いに対向するように水平に設置された横型のものである。そして、放電電極４と対向電極５との間に基板Ｓが搬入され、後述する製膜工程において基板Ｓの一面に微結晶シリコン層等の薄膜が製膜形成される。図１において、Ｘ方向は製膜装置１の幅方向、Ｙ方向は同じく奥行き方向、Ｚ方向は高さ方向となっている。なお、基板Ｓを鉛直、もしくは急角度に保持して製膜処理を施す縦型のものとしてもよい。
【００３３】
真空チャンバ２は真空容器であり、上面板７と底面板８とを有し、その周囲が側面板９によって囲まれている。図２にも示すように、上面板７の下面に固着されてＸ方向に離間して互いに平行に対向する一対の電極支持板１１が設けられ、この電極支持板１１の間に架設される形で放電電極４が支持されている。放電電極４は、例えばＸ方向に延在する複数の電極棒４ａ（図１参照）がＹ方向に平行に配列されることによって矩形に構成されている。放電電極４は、そのＺ方向の位置が固定された固定電極であり、その下面が平坦な放電電極面４ｂとなっている。
【００３４】
一方、対向電極５は、非磁性材料からなる導電性の板であり、放電電極４の外形寸法よりも一回り大きい矩形の平板形状を有し、放電電極４の下方に平行に配置されている。対向電極５の上面には基板Ｓを載置するための一段高い基板テーブル５ａが形成され、この基板テーブル５ａの上面が平坦な対向電極面５ｂとなっており、この対向電極面５ｂと、放電電極４の放電電極面４ｂとの間に所定の電極面間隔Ｃ（図２参照）が設定される。基板Ｓは、対向電極面５ｂの上に載置され、図示しない固定手段によって基板テーブル５ａに固定される。
【００３５】
対向電極５は、そのＺ方向の位置を変更することのできる可動電極であり、電極駆動機構１５（電極駆動手段）に駆動されてＺ方向に移動し、これによって放電電極４との間の電極面間隔Ｃが変更される。電極駆動機構１５は、例えば対向電極５の四隅を下方から支持する４本の支持ロッド１６と、これらの支持ロッド１６をＺ方向に駆動するラック・アンド・ピニオン機構１７と、図示しないサーボモータ等により構成されているが、他の機構に置き換えてもよい。なお、支持ロッド１６が真空チャンバ２の底面板８を貫通する部分にはＯリング等を用いた真空シール部材１８が設けられて真空チャンバ２内部の真空度が損なわれないようにされている。
対向電極５の四隅を下方から支持する４本の支持ロッド１６は、図示しないサーボモータを所定の制御量を駆動させることで、支持ロッド１６をＺ方向に所定距離駆動し、対向電極５のＺ方向の位置を所定の位置へ移動させる。
【００３６】
さらに、真空チャンバ２の上面板７と放電電極４との間に防着板２１（カバー部材）が設けられている。この防着板２１は、例えばＸ方向に延びる複数の防着板支持部材２２を介して電極支持板１１に固定され、電気的に真空チャンバ２の上面板７と導通されて、図示しない高周波電源のアース電位側へ接地されている。この防着板２１が放電電極４を上方から覆うことにより、後述する製膜工程において、製膜を行うための材料ガスの流れが整流されるとともに、プラズマの広がる範囲が抑えられ、膜が形成される範囲が制限される。
【００３７】
放電電極４を構成する各電極棒４ａは、その両端部から電極支持部材２４が延びており、この電極支持部材２４が防着板２１と電極支持板１１とを貫通し、絶縁支持部品２５を介して電極支持板１１に対し絶縁された状態で固定されている。電極支持部材２４の内部には、放電電極４に高周波電源（非図示）から高周波電力を供給するための同軸ケーブル（非図示）が配設されている。
【００３８】
さらに、この製膜装置１には、電極面間隔調整装置２８（電極面間隔調整手段）が設けられている。この電極面間隔調整装置２８は、放電電極４の放電電極面４ｂと対向電極５の対向電極面５ｂとの間の電極面間隔Ｃを決定するとともに、この電極面間隔Ｃを真空チャンバ２の外部から調整できる機構であって、ストッパ部材２９と、ストッパ部材移動機構３０とを備えて構成されている。なお、図１には主要構造がわかり易くするためにストッパ部材２９のみが示されていて他は省略してある。ストッパ部材２９は、例えば固定電極である放電電極４側の電極支持板１１付近の所定の部材に６箇所設けられており、可動電極である対向電極５を突き当てることにより確実に電極面間隔Ｃを決定する部材であり、メカニカルストッパの機能を有する。
即ち、支持ロッド１６を所定の距離だけ駆動して、対向電極５の位置を所定の位置へ移動させるにあたり、ストッパ部材２９に接触した位置を原点となるように、駆動用サーボモータへ若干の溜り量駆動分を追加させることで、ストッパ部材２９に押し付けて停止するように制御する。
【００３９】
ストッパ部材２９の材料としては、非磁性材料の金属製の部材でも良いが、対向電極５の周縁領域での電位分布への影響をより低減させるには、絶縁性材料の方が好ましい。例えば、耐電圧性が高くてフッ素ラジカルの腐食環境に耐久性のあるアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）を材料としたセラミック等が望ましいが、ジルコニア、炭化ケイ素、窒化アルミニウムを材料とするセラミックで形成してもよい。また、プラズマ雰囲気への電位影響が少なくなるように小さいサイズを選定した金属製部材としてもよい。金属製とする場合は、非磁性材料が望ましく、ステンレス鋼（例えば、ＳＵＳ３０４）あるいはセルフクリーニングを行う場合は耐フッ素ラジカル性からニッケル合金（例えば、インコネル）、アルミニウム、アルミニウム合金の使用が好ましい。さらに、耐熱性を持つポリイミド系等の樹脂を用いてもよい。
【００４０】
図２に示すように、ストッパ部材移動機構３０は、例えば電極支持板１１の端面に設けられてＺ方向に延びるガイドレール３１と、このガイドレール３１にガイドされながらＺ方向に移動できるブロック状のストッパブラケット３２とを備えており、ストッパブラケット３２をＺ方向に貫通する形でストッパ部材２９が螺合されている。したがって、ストッパ部材２９はストッパブラケット３２と共にガイドレール３１に沿ってＺ方向（対向電極５側に対して接近および離間する方向）に移動可能である。また、ストッパ部材２９は周囲にネジ構造があり、ストッパ部材２９を捩ることによって、ストッパ部材２９の位置をストッパブラケット３２に対してＺ方向に微調整することができる。このため、放電電極面４ｂと対向電極面５ｂが全面に亘って均一な電極面間距離Ｃを保てるように、ストッパ部材２９の初期位置を適切な位置とすることが可能である。
【００４１】
さらに、ストッパ部材移動機構３０は、ストッパブラケット３２に固定されてＸ方向に沿って放電電極４から離れる方向に延びる取付板３３と、直進棒３４と、サーボモータ３５を備えている。直進棒３４はＺ方向に沿って延びており、その下端部が取付板３３の上面にガタつきが無いように連結され、ここから上方に延びて真空チャンバ２の上面板７を貫通して外部に延出している。この外部に延出した部分にはラックギヤ３６が形成され、上面板７の上面に取り付けられたサーボモータ３５のピニオンギヤ３７がラックギヤ３６に噛合している。なお、直進棒３４が真空チャンバ２の上面板７を貫通する部分にはＯリング等を用いた真空シール部材３８が設けられて真空チャンバ２内部の真空度が保たれる。
【００４２】
サーボモータ３５が作動すると、直進棒３４がＺ方向に進退し、同時に取付板３３とストッパブラケット３２とストッパ部材２９がＺ方向に移動する。このストッパ部材移動機構３０は、ストッパ部材２９の数に合わせて複数設けられており、各々のストッパ部材移動機構３０を個別に制御可能になっている。なお、必要に応じて、これら複数のストッパ部材移動機構３０を一斉に同期させて動作させてもよい。
【００４３】
上記のようにストッパ部材２９をＺ方向に移動させることにより、対向電極５が放電電極４に近付くことができる位置、つまり電極面間隔Ｃが決定される。そして、この電極面間隔Ｃは、電極面間隔調整装置２８にストッパ部材２９の位置をＺ方向に移動させることによって、真空チャンバ２の外部から調整可能である。このように真空チャンバ２の外部から電極面間隔Ｃを調整する時には、第４実施形態の次に説明する間隔測定装置（間隔測定手段）により、真空チャンバ２の外部から電極面間隔Ｃを測定しながら間隔調整を行う。
【００４４】
ところで、製膜装置１には、放電電極４から対向電極５に放電された電流を、対向電極５から高周波電力のアース（接地）電位側に流す接点機構４１が設けられている。この接点機構４１は、２つの接点部材４２，４３を有している。接点部材４２，４３は、例えばベリリウム銅合金等からなる板金材料を湾曲させて、その弾性を利用して接地側部材に圧接させる円弧状板バネ接触子である。その支持構造としては、まず、放電電極４に対して絶縁され、且つアース電位側に電気的に接地されている防着板２１に、高さ調整支持機構４５を介して水平板状の接点部材保持板４６が設けられている。そして、この接点部材保持板４６の下面に接点部材４２が下方に凸となるように固定されて電気的に接続して導通され、この接点部材４２が対向電極５に圧接されている。
【００４５】
また、放電電極４の絶縁支持部品２５の下部には接地プレート４８が設けられ、この接地プレート４８が、放電電極４に高周波電力を供給するための同軸ケーブル（非図示）のアースシールド（アース接地）に電気的に接続して導通されている。そして、接地プレート４８の下面に接点部材４３が下方に凸となるように固定されて電気的に接続して導通され、この接点部材４３が接点部材保持板４６の上面に圧接されている。このため、放電電極４から対向電極５に放電された電流が、対向電極５→接点部材４２→接点部材保持板４６→接点部材４３→接地プレート４８→同軸ケーブルのアースシールドの順に流れてアース側に還流される。
【００４６】
放電電極４と対向電極５との間の電極面間隔Ｃを変更する時において、接点部材４２，４３の接触圧力が不均等にならないように、初期調整段階で高さ調整支持機構４５を操作して接点部材保持板４６の高さを調整し、接点部材４２，４３の接触圧力が均等になるようにする。
【００４７】
以上のように構成された製膜装置１を用いて、基板Ｓに製膜処理を施す製膜工程を実施する。真空チャンバ２には基板Ｓを真空雰囲気下で待機できるロード室（非図示）などがゲート弁などによる基板搬入部分（非図示）を介して連結されている。製膜工程を実施される場合には、真空チャンバ２に設けたゲート弁などによる基板搬入部分（非図示）を開放し、電極駆動機構１５を動作させて対向電極５を下降させ、放電電極面４ｂと対向電極面５ｂとの間に充分な間隔を形成した後に、対向電極５の基板テーブル５ａ上に基板Ｓを載置する。そして、然るべく固定手段（非図示）により基板Ｓを基板テーブル５ａに固定した後、電極駆動機構１５を動作させて対向電極５がストッパ部材２９に突き当たるまで対向電極５を上昇させる。ストッパ部材２９の位置は、基板Ｓの諸元および製膜の種類等、諸々の条件に応じて予め目標値付近に設定しておく。そして、真空チャンバ２に設けたゲート弁などによる基板搬入部分（非図示）を閉じる。
【００４８】
次に、真空ポンプ等により、真空チャンバ２の内部を所定の真空度、例えば、１０−６Ｐａまで真空排気する。そして、図示しない原料ガス供給部より、真空チャンバ２内に所定の原料ガス、例えばＳｉＨ４＋Ｈ２を供給する。この真空引きおよび原料ガスの供給に前後して、図示しない間隔測定装置により真空チャンバ２の外部から電極面間隔Ｃを測定し、電極面間隔Ｃが目標値から乖離するようであれば、電極面間隔調整装置２８によって電極面間隔Ｃを調整する。この調整は真空チャンバ２を開放することなく、真空チャンバ２の真空度を維持したままで外部から行うことができる。
【００４９】
次に、放電電極４に所定の高周波電力を供給する。これにより、放電電極４と対向電極５との間で放電が起こると同時に、両電極４，５間に原料ガスであるＳｉＨ４＋Ｈ２のプラズマが発生し、基板Ｓ上にシリコン薄膜が製膜される。この時、放電電極４と対向電極５は、その各々の内部に設けられた図示しない熱媒体流通管に熱媒体が流通されることで温度変化を抑制しながら所定の適温となるように制御される。なお、放電電極４を覆うように設けられた防着板２１により、製膜成分が真空チャンバ２の内部の不必要な部分に付着することが防止される。
【００５０】
そして、所定の時間に亘ってプラズマ放電が行われ、基板Ｓへの製膜処理が完了したら、真空チャンバ２の内部を所定の真空度、例えば、１０−６Ｐａまで真空排気する。真空チャンバ２に設けたゲート弁などによる基板搬入部分（非図示）を開放し、電極駆動機構１５を動作させて対向電極５を下降させ、基板Ｓを真空チャンバ２の外部に搬出する。
【００５１】
この製膜装置１によれば、対向電極５が電極駆動機構１５に駆動されることにより、放電電極面４ｂと対向電極面５ｂとの間の電極面間隔Ｃが変更される。この電極面間隔Ｃの大きさは、電極面間隔調整装置２８によって真空チャンバ２の外部から調整可能である。このため、例えば製膜装置１が１ｍ四方を越す大きな基板Ｓを収容できる大型のものであり、しかもこの製膜装置１を構成する各部材の一部が熱膨張変形等を起こして電極面間隔Ｃが変更されたような場合であっても、電極面間隔調整装置２８を調整することによって電極面間隔Ｃを常に目標値に正確に設定し、安定した製膜品質を得ることができる。
【００５２】
しかも、このように電極面間隔調整装置２８が真空チャンバ２の外部から電極面間隔Ｃを調整できる構造であるため、電極面間隔Ｃの設定を調整する際に真空チャンバ２を大気状態に開放する必要がない。したがって、製膜装置１の稼働を長時間停止させたり、製膜装置１の内部が外気中の水分に晒されたことによる加熱処理を行ったりしなくてもよく、これによって製膜装置１の稼働率が低下することを防止し、製膜処理を施す基板Ｓの生産性を飛躍的に向上させることができる。
【００５３】
〔製膜装置の第２実施形態〕
次に、本発明に係る製膜装置の第２実施形態を、図３に基づいて説明する。
図３は、本発明の第２実施形態に係る製膜装置５１の要部を示す縦断面図である。この製膜装置５１は、その接点機構５２以外の構成については、第１実施形態の製膜装置１と同一であるため、同一構成を有する各部には同一符号を付して説明を省略する。
【００５４】
接点機構５２は、２つの接点部材４２，４３を有している。これらの接点部材４２，４３の材質や形状等は第１実施形態の場合と同様である。また、接点部材４２が取り付けられる接点部材保持板４６も第１実施形態と同様である。接点機構５２は、さらにストッパ部材移動機構３０のストッパブラケット３２に固定されてＸ方向に沿って放電電極４に近付く方向に延びる接点支持板５３と、この接点支持板５３の自由端部を、例えば防着板２１に対してＺ方向にスライド自在に支持するスライドガイド機構５４とを備えており、スライドガイド機構５４の下端部に接点部材保持板４６が固定されている。そして、接点部材保持板４６の下面に接点部材４２が下方に凸となるように固定されて電気的に接続して導通され、この接点部材４２が対向電極５に圧接されている。
【００５５】
また、放電電極４の絶縁支持部品２５の下部に接地プレート４８が設けられ、この接地プレート４８が図示しない同軸ケーブルのアースシールドに電気的に接続され、接地プレート４８の下面に接点部材４３が下方に凸となるように固定されて電気的に接続して導通されている点は第１実施形態と同様であり、接点部材４３が接点部材保持板４６の上面に圧接されている。このため、放電電極４から対向電極５に放電された電流が、対向電極５→接点部材４２→接点部材保持板４６→接点部材４３→接地プレート４８→同軸ケーブルのアースシールドの順に流れて高周波電源のアース電位側に還流される。
【００５６】
この接点機構５２において、接点部材４２は、ストッパ部材２９と共に放電電極４側に設けられて対向電極５側に対して接近および離間する方向（Ｚ方向）に移動可能であり、ストッパ部材２９の位置に拘わらず、対向電極５に対して一定の距離にある。このため、電極面間隔調整装置２８によってストッパ部材２９の位置がＺ方向に移動しても、ストッパ部材２９に追従して接点部材保持板４６も移動し、これによって接点部材４２が常に一定の圧力で対向電極５に圧接される。
【００５７】
このように、接点部材４２がストッパ部材２９の上下動に追従して移動し、対向電極５に対する相対間隔が変化しないため、放電電極４と対向電極５との間の間隔（電極面間隔Ｃ）に拘わらず、常に接点部材４２を対向電極５に確実に接触させて電気的に導通させることができる。このため、放電された電流が接点部材４２を経由して確実にアース電位側に流れることができる。したがって、放電電極４と対向電極５との間における放電を安定させて基板Ｓに対して安定した製膜処理を行い、製品品質を向上させて、生産性を高めることができる。
しかも、接点部材４２の伸縮量が小さくなるので接点部材４２を小型化することができ、コストダウンを図ることができる。また、接点部材４２の伸縮量を第１実施形態と同様なものにすれば、ストッパ部材２９の可動範囲を広げることができ、電極面間隔Ｃの選択可能範囲が広くなり好ましい。
【００５８】
〔製膜装置の第３実施形態〕
次に、本発明に係る製膜装置の第３実施形態を、図４に基づいて説明する。
図４は、本発明の第３実施形態に係る製膜装置６１の要部を示す縦断面図である。この製膜装置６１は、その防着板２１（カバー部材）の支持構造と、電極面間隔調整装置６２（電極面間隔調整手段）以外の構成については、第１実施形態の製膜装置１と同一であるため、同一構成を有する各部には同一符号を付して説明を省略する。
【００５９】
この製膜装置６１における防着板２１は、第１実施形態の製膜装置１と同様に、固定電極である放電電極４を覆うように設けられ、電気的に高周波電源のアース電位に接地されているが、第１実施形態と異なり、防着板２１は対向電極５に対して接近および離間する方向（Ｚ方向）に移動することができる。即ち、防着板２１は複数の防着板支持部材２２とスライド保持機構６３を介し、電極支持板１１に対してＺ方向にスライド自在に保持されている。
【００６０】
電極面間隔調整装置６２は、第１実施形態の場合と同じく、放電電極４の放電電極面４ｂと対向電極５の対向電極面５ｂとの間の電極面間隔Ｃを決定するとともに、この電極面間隔Ｃを真空チャンバ２の外部から調整できる機構である。電極面間隔調整装置６２は、防着板２１と、防着板２１に設けられたストッパ部材６４と、防着板２１をストッパ部材６４と共にＺ方向に移動させる防着板移動機構６５（カバー部材移動手段）とを備えて構成されている。ストッパ部材６４は、防着板２１に設けられた、例えばブロック状のストッパブラケット６６をＺ方向に貫通する形で螺合されており、防着板２１と共にＺ方向に移動可能である。また、ストッパ部材６４を捩ることによって、ストッパ部材６４の位置を防着板２１に対してＺ方向に微調整することができる。このストッパ部材６４に、Ｚ方向に可動する対向電極５が突き当たることにより、電極面間隔Ｃが決定される。
【００６１】
一方、防着板移動機構６５は、直進棒６７と、サーボモータ６８を備えている。直進棒６７はＺ方向に沿って延びており、その下端部が防着板２１の上面にガタが無いように連結され、ここから上方に延びて真空チャンバ２の上面板７を貫通して外部に延出している。この外部に延出した部分にはラックギヤ６９が形成され、上面板７の上面に取り付けられたサーボモータ６８のピニオンギヤ７０がラックギヤ６９に噛合している。なお、直進棒６７が真空チャンバ２の上面板７を貫通する部分にはＯリング等を用いた真空シール部材７１が設けられて真空チャンバ２内部の真空度が保たれる。
【００６２】
サーボモータ６８が作動すると、直進棒６７がＺ方向に進退し、同時に防着板２１とストッパブラケット６６とストッパ部材６４がＺ方向に移動する。ストッパ部材６４がＺ方向に移動することによって電極面間隔Ｃが調整される点は第１実施形態と同様である。防着板移動機構６５は、ストッパ部材６４の数に合わせて複数設けられており、各々の防着板移動機構６５を個別に制御可能になっている。なお、必要に応じて、これら複数の防着板移動機構６５を一斉に同期させて動作させてもよい。
【００６３】
この第３実施形態の製膜装置６１によれば、プラズマ処理により製膜を行う製膜装置に標準的に装備されるカバー部材である防着板２１を、そのままストッパ部材６４の取付部として活用することができる。このため、非常にシンプルな構成によって真空チャンバ２の外部からストッパ部材６４を可動できるようにし、このストッパ部材６４に対向電極５を突き当てて位置決めし、放電電極４と対向電極５との間の電極面間隔Ｃを正確に設定して放電を安定させ、良好な製膜品質を得ることができる。
【００６４】
〔製膜装置の第４実施形態〕
次に、本発明に係る製膜装置の第４実施形態を、図５に基づいて説明する。
図５は、本発明の第４実施形態に係る製膜装置８１の要部を示す縦断面図である。この製膜装置８１は、その接点機構８２以外の構成については、第３実施形態の製膜装置６１（図４参照）と同一であるため、同一構成を有する各部には同一符号を付して説明を省略する。
【００６５】
接点機構８２は、第１実施形態の製膜装置１と同様な２つの接点部材４２，４３を有している。その支持構造としては、まず、放電電極４に対して絶縁され、且つ電気的に接地されている防着板２１に、高さ調整支持機構４５を介して接点部材保持板８５が設けられている。この接点部材保持板８５は、図２中に示す通り略Ｌ字形をなし、対向電極５に平行する水平板部８５ａと、この水平板部８５ａの自由端から鉛直下に延びる垂直板部８５ｂとを有している。そして、この垂直板部８５ｂの内側面に接点部材４２が対向電極５に向って凸となるように固定されて電気的に接続されて導通している。一方、対向電極５の縁部には、対向電極５の移動方向（Ｚ方向）に沿う接触面５ｃが形成されており、この接触面５ｃに接点部材４２が圧接されている。
【００６６】
また、放電電極４の絶縁支持部品２５の下部に接地プレート４８が設けられ、この接地プレート４８が、放電電極４に電力を供給するための同軸ケーブルのアースシールド（非図示）に電気的に接続されている。そして、接地プレート４８の下面に接点部材４３が下方に凸となるように固定されて電気的に接続され、この接点部材４３が接点部材保持板８５の水平板部８５ａの上面に圧接されている。このため、放電電極４から対向電極５に放電された電流が、対向電極５（接触面５ｃ）→接点部材４２→接点部材保持板８５→接点部材４３→接地プレート４８→同軸ケーブルのアースシールドの順に流れて高周波電源のアース電位側に還流される。
【００６７】
対向電極５の高さが変更される場合、または防着板２１およびストッパ部材６４の高さが変更される場合には、対向電極５と接点部材保持板８５との間の相対位置がＺ方向に変化するが、対向電極５の接触面５ｃと接点部材保持板８５の垂直板部８５ｂとの間の距離は変化しない。このため、接点部材４２が接触面５ｃに圧接される圧力は一定であり、接点部材４２の変形量が変化することもない。
【００６８】
この第４実施形態の製膜装置８１によれば、放電電極４と対向電極５の相対位置に拘わらず、固定電極である放電電極４側に設けられた接点部材４２が、可動電極である対向電極５側に設けられた接触面５ｃに常に一定の圧力で圧接される。このため、放電電極４から対向電極５に放電された電流が接点部材４２を経由して確実にアース側に還流することができる。したがって、放電電極４と対向電極５の間における放電を安定させ、基板Ｓに対して安定した製膜処理を行い、製品品質を向上させるとともに生産性を高めることができる。また、接点部材４２を、大きな変形量を必要としない廉価版にしてコストダウンを図ることができる。また、ストッパ部材６４の可動範囲を広げることができ、電極面間隔Ｃの選択可能範囲が広くなり好ましい。
【００６９】
ところで、上記第１〜第４実施形態における製膜装置１，５１，６１，８１は、前述したように、真空チャンバ２の外部から電極面間隔Ｃを測定することができる間隔測定装置（間隔測定手段）を備えている。この間隔測定装置の２つの実施形態について、以下に説明する。
【００７０】
〔間隔測定装置の第１実施形態〕
図６は、間隔測定装置の第１実施形態を示す縦断面図である。この間隔測定装置９１は次のように構成されている。
【００７１】
まず、真空チャンバ２の外部上方に基準点９２が設けられる。この基準点９２は、固定電極である放電電極４に対して不動であることが望ましい。基準点９２には第１のレーザ距離計９３と第２のレーザ距離計９４が設けられている。
【００７２】
第１のレーザ距離計９３は、真空チャンバ２の上面板７に設けられた第１の透過窓９６を経て、放電電極４の上面に設けられた第１の反射板９７に向かって直角にレーザ光Ｌ１を照射し、第１の反射板９７で反射されたレーザ光Ｌ２を捕捉することによって、第１のレーザ距離計９３から放電電極４までの距離Ｄ１を計測する。この距離データはＣＰＵ９８等の制御手段に入力される。
【００７３】
また、第２のレーザ距離計９４は、真空チャンバ２の上面板７に設けられた第２の透過窓９９を経て、対向電極５の上面に設けられた第２の反射板１０１に向かって直角にレーザ光Ｌ３を照射し、第２の反射板１０１で反射されたレーザ光Ｌ４を捕捉することによって、第２のレーザ距離計９４から対向電極５までの距離Ｄ２を計測する。この距離データもＣＰＵ９８に入力される。
【００７４】
そして、ＣＰＵ９８により、第１のレーザ距離計９３から放電電極４までの距離Ｄ１と、第２のレーザ距離計９４から対向電極５までの距離Ｄ２とが比較演算され、放電電極４の放電電極面４ｂと対向電極５の対向電極面５ｂとの間の距離、即ち電極面間隔Ｃが割り出されて表示される。
【００７５】
上記のように構成された間隔測定装置９１によれば、真空チャンバ２の外部から電極面間隔Ｃを測定できるため、製膜装置の熱膨張等に起因する寸法変化に影響されることなく、実際の電極面間隔Ｃを正確に把握することができる。したがって、電極面間隔Ｃが目標値に対して乖離している場合には、前記実施形態の電極面間隔調整装置２８，６２を操作することにより、電極面間隔Ｃを正確に設定することができる。このため、放電電極４と対向電極５との間における放電を安定させ、基板Ｓに対して良好な製膜品質を付与することができる。
【００７６】
また、放電電極４と対向電極５との間の正確な電極面間隔Ｃをリアルタイムで把握することができるため、製膜装置を構成する各部材が熱膨張変形しても、常に放電電極面４ｂと対向電極面５ｂとの間の実際の間隔を測定することができる。このため、電極面間隔Ｃを正確に設定して放電を安定させ、良好な製膜品質を得ることができる。なお、ＣＰＵ９８と電極面間隔調整装置２８，６２を連動させて、電極面間隔Ｃが目標値に対して乖離している場合には自動的に補正するように制御してもよい。
【００７７】
〔間隔測定装置の第２実施形態〕
図７は、間隔測定装置の第２実施形態を示す縦断面図である。間隔測定装置１０５は次のように構成されている。
【００７８】
まず、真空チャンバ２の外部側方にレーザ光照射器１０６が設置されている。また、真空チャンバ２の一方の側面板９に第１の透過窓１０７が設けられ、他方の側面板９に第２の透過窓１０８が設けられている。さらに、レーザ光照射器１０６と第１の透過窓１０７との間に一対の円筒レンズ１１１，１１２が対向して設置され、第２の透過窓１０８の外部にレーザ光投影板１１３が設置されている。
【００７９】
レーザ光照射器１０６から照射されたレーザ光Ｌ５は、円筒レンズ１１１，１１２を通過することによって、放電電極面４ｂと対向電極面５ｂの面方向に直交し、電極面間隔Ｃよりも幅が広いシート状に変換されるようになっている。そして、この縦方向のシート状に変換されたレーザ光Ｌ５が放電電極面４ｂと対向電極面５ｂの間を通過して、レーザ光投影板１１３に投影された幅を測定することにより、放電電極４の放電電極面４ｂと対向電極５の対向電極面５ｂとの間の正確な電極面間隔Ｃを割り出すことができる。
【００８０】
上記のように構成された間隔測定装置１０５によれば、放電電極４と対向電極５との間の電極面間隔Ｃを正確に把握し、これに基づいて電極面間隔Ｃを目標値に整合させ、放電を安定させて良好な製膜品質を得ることができる。しかも、放電電極面４ｂと対向電極面５ｂに付着した製膜成分が厚くなった場合に、それを検出することができる。なお、この間隔測定装置１０５は、第１実施形態の間隔測定装置９１に比べて簡素な構成にすることができる。
【００８１】
ところで、上記の間隔測定装置１０５では、一条のレーザ光Ｌ５のみによって電極面間隔Ｃを測定しているが、より多くのレーザ光を放電電極４と対向電極５との間に照射してもよい。その場合には、複数のレーザ光を平行に照射する、もしくは交差させて照射する、あるいは斜めに照射する、といった照射方法を採ることによって、放電電極４や対向電極５の機械的な歪み等を検知することもできる。
【００８２】
なお、本発明は上記の各実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において適宜変更することができる。例えば、製膜装置の構成は、第１〜第４の構成を組み合わせる等してもよい。また、上記各実施形態では、放電電極４が固定電極、対向電極５が可動電極とされているが、この関係は逆であってもよい。さらに、上記各実施形態では、電極面間隔調整装置２８，６２（電極面間隔調整）が、固定電極（放電電極４）側に設けられているが、可動電極（対向電極５）側に設けてもよい。
【符号の説明】
【００８３】
１  製膜装置
２  真空チャンバ
４  放電電極（固定電極）
４ｂ  放電電極面
５  対向電極（可動電極）
５ｂ  対向電極面
５ｃ  接触面
１５  電極駆動機構（電極駆動手段）
２１  防着板（カバー部材）
２８，６２  電極面間隔調整装置（電極面間隔調整手段)
２９，６４  ストッパ部材
３０  ストッパ部材移動機構
４２，４３  接点部材
６５  防着板移動機構（カバー部材移動手段）
９１，１０５  間隔測定装置（間隔測定手段）
９２  基準点
９３  第１のレーザ距離計
９４  第２のレーザ距離計
９７  第１の反射板
９８  ＣＰＵ（制御手段）
１０１  第２の反射板
１０６  レーザ光照射器
１１１，１１２  円筒レンズ
１１３  レーザ光投影板
Ｃ  電極面間隔
Ｌ１〜Ｌ５  レーザ光
Ｓ  基板
【図１】
2012234951.tif 000003
【図２】
2012234951.tif 000004
【図３】
2012234951.tif 000005
【図４】
2012234951.tif 000006
【図５】
2012234951.tif 000007
【図６】
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【図７】
2012234951.tif 000009