(57)【要約】【課題】アノードを加工することなく、アノードを適切な状態で支持することが可能なインシュレータを提供する。【解決手段】アノード２０の一方の耳部２６ａの支持面１２６ａに対してＺ軸方向（鉛直方向）下側から接触してアノードの自重を支持するアノード接触支持部５２が、アノード２０の自重を支持した状態で、支持面１２６ａのＸＹ面（水平面）に対する角度を、支持面１２６ａのＸ’Ｙ’面に対する傾斜角と同一の角度に維持する。これにより、アノード接触支持部５２は、アノードの自重を支持した状態で、アノードを鉛直方向に平行な状態で維持することができる。【選択図】図７
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１方向及び当該第１方向に垂直な第２方向に広がる平板状のアノード本体と、前記アノード本体の前記第１方向一側の端部近傍それぞれから前記第２方向一側及び他側に突出し、前記第１方向他側の支持面が前記第１方向に垂直な面に対して傾斜している一対の耳部と、を有するアノードを支持するインシュレータであって、
前記一方の耳部の前記支持面に対して鉛直方向下側から接触して前記アノードの自重を支持する接触支持部を備え、
前記接触支持部は、前記アノードの自重を支持した状態で、前記支持面の水平面に対する角度を、前記支持面の前記第１方向に垂直な面に対する傾斜角と同一又は所定誤差範囲に維持することを特徴とするインシュレータ。
【請求項２】
前記接触支持部は、前記支持面の前記第１方向に垂直な面に対する傾斜角と同一の角度だけ前記水平面から傾いた、前記支持面に接触する接触面を有することを特徴とする請求項１に記載のインシュレータ。
【請求項３】
前記接触支持部は、前記接触面上において前記一方の耳部を所定位置に位置決めをする位置決め部を有することを特徴とする請求項２に記載のインシュレータ。
【請求項４】
アノード及びカソードが交互に懸架される少なくとも一対の槽壁を有する電解槽本体と、
前記槽壁の前記アノード及び前記カソードが懸架される面に設けられる導体と、
前記導体に対してオーバラップした状態で設けられる請求項１〜３のいずれか一項に記載のインシュレータと、を備える電解槽。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本件は、インシュレータ及び電解槽に関する。
【背景技術】
【０００２】
銅や鉛などの電解精錬設備においては、電解槽と、電解槽内の電解液中に交互に平行になるように浸漬される陽極板（アノード）及び陰極板（カソード）と、が用いられる。
【０００３】
アノードは、平板状のアノード本体と、アノード本体の上端部近傍において、左右に突出した一対の耳部とを有しており、当該耳部にて、電解槽の一対の槽壁に懸架される。また、カソードは、一対の広い面を有する平板状のカソード本体と、カソード本体の上端部に設けられた陰極支持用竿（クロスバー）とを有しており、当該クロスバーにて、一対の槽壁に懸架される。この場合、アノードの一方の耳部と槽壁との間には、電極板受け台としてのインシュレータが介在しており、アノードの他方の耳部と槽壁との間には、共通導体（ブスバー）が介在している。（例えば、特許文献１、２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平８−４１６７５号公報
【特許文献２】特開２００２−１２９９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、アノードは、金属（銅など）を鋳造して製造することが多い。この場合、アノードを鋳造用の型から取り外しやすくするために、アノードのうち、上記一対の広い面以外の部分を、当該広い面に対して非垂直な面とする設計手法がとられている。このため、鋳造後のアノードにおいては、耳部の下面（槽壁と対向する面）が、上記一対の広い面に垂直な面からやや傾斜した状態となっている。
【０００６】
このような形状の耳部を、インシュレータを介して支持すると、アノードが傾いた状態となる可能性が高い。この場合、アノードの一部とカソードとの距離が、必要以上に接近してしまうため、アノードとカソードが短絡（ショート）を起こし、電解電流が短絡部分に集中してしまう可能性がある。また、これにより電流効率が低下したり、ノジュール（こぶ）等が発生することで、カソードの外観形状の悪化や、スライムの巻き込み等による不純物増加が生じたりするおそれがある。
【０００７】
なお、アノードの傾きを修正するための方法としては、アノード鋳造後に、耳部を変形させたり（耳曲げ）、耳部の下面を研磨したりする方法もある。しかるに、当該方法では、手間と多額の投資を必要とする。
【０００８】
本発明は上記の課題に鑑みてなされたものであり、アノードを加工することなく、アノードを適切な状態で支持することが可能なインシュレータを提供することを目的とする。また、本発明は、電解精錬を効率良く行うことが可能な電解槽を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明のインシュレータは、第１方向及び当該第１方向に垂直な第２方向に広がる平板状のアノード本体と、前記アノード本体の前記第１方向一側の端部近傍それぞれから前記第２方向一側及び他側に突出し、前記第１方向他側の支持面が前記第１方向に垂直な面に対して傾斜している一対の耳部と、を有するアノードを支持するインシュレータであって、前記一方の耳部の前記支持面に対して鉛直方向下側から接触して前記アノードの自重を支持する接触支持部を備え、前記接触支持部が、前記アノードの自重を支持した状態で、前記支持面の水平面に対する角度を、前記支持面の前記第１方向に垂直な面に対する傾斜角と同一又は所定誤差範囲に維持するインシュレータである。
【００１０】
これによれば、一方の耳部の支持面に対して鉛直方向下側から接触してアノードの自重を支持する接触支持部が、アノードの自重を支持した状態で、支持面の水平面に対する角度を、支持面の第１方向に垂直な面に対する傾斜角と同一又は所定誤差範囲に維持する。これにより、接触支持部は、アノードの自重を支持した状態で、アノード本体の第１方向及び第２方向に広がる面を鉛直方向に略平行な状態で維持することができる。したがって、本発明のインシュレータによれば、アノードに対して加工を施すなどすることなく、アノードを適切な状態で支持することが可能となる。
【００１１】
この場合において、前記接触支持部は、前記支持面の前記第１方向に垂直な面に対する傾斜角と同一の角度だけ前記水平面から傾いた、前記支持面に接触する接触面を有することとすることができる。かかる場合には、接触支持部に傾斜した接触面を設ける、という簡易な方法で、アノードを適切な状態で支持することができる。
【００１２】
この場合、前記接触支持部は、前記接触面上において前記一方の耳部を所定位置に位置決めをする位置決め部を有することとしてもよい。かかる場合には、アノードを正確に位置決めすることができる。
【００１３】
本発明の電解槽は、アノード及びカソードが交互に懸架される少なくとも一対の槽壁を有する電解槽本体と、前記槽壁の前記アノード及び前記カソードが懸架される面に設けられる導体と、前記導体に対してオーバラップした状態で設けられる本発明のインシュレータと、を備えている。
【００１４】
これによれば、アノードを適切な状態で支持することができる、本発明のインシュレータを備えているので、アノードとカソードとの間の短絡（ショート）の発生を抑制することができ、これにより、電解精錬を効率良く行うことが可能となる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明のインシュレータは、アノードを加工することなく、アノードを適切な状態で支持することができるという効果を奏する。また、本発明の電解槽は、電解精錬を効率良く行うことができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】一実施形態に係る電解槽の構成を示す斜視図である。
【図２】図２（ａ）は、アノードを平板の一つの広い面側から見た状態を示す図であり、図２（ｂ）は、図２（ａ）のＤ−Ｄ線断面図である。
【図３】電解槽の側壁１０ｂの上端面の平面図である。
【図４】図４（ａ）は、図３のＥ−Ｅ線断面図であり、図４（ｂ）は、図３のＦ−Ｆ線断面図である
【図５】側壁１０ｂの上端面にアノード及びカソードが設けられた状態を示す図である。
【図６】アノードが、側壁１０ａと側壁１０ｂとの間に懸架された状態を示す図である。
【図７】アノードがインシュレータに支持されたときの、耳部の支持面とアノード接触支持部の接触面との関係を示す図である。
【図８】図８（ａ）は、従来のインシュレータで、アノードを支持した状態（比較例）を示す図であり、図８（ｂ）は、耳部を−Ｘ方向に曲げる加工を施した状態を示す図であり、図８（ｃ）は、耳部の下面に切削加工を施した状態を示す図である。
【図９】銅電解精錬における電流効率を作業日ごとにプロットしたグラフである。
【図１０】図１０（ａ）は、側壁１０ａの変形例を示す図であり、図１０（ｂ）は、側壁１０ｚの変形例を示す図であり、
【図１１】図１１（ａ）、図１１（ｂ）は、アノード接触支持部の変形例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、一実施形態の銅の電解精錬装置について、図１〜図１０に基づいて詳細に説明する。図１には、電解精錬装置の一部である電解槽１００が斜視図にて示されている。なお、以下においては、図１の紙面上側をＺ軸方向（鉛直方向）とし、Ｚ軸に垂直な方向をＸ軸方向、Ｘ軸及びＺ軸に垂直な方向をＹ軸方向として説明する。
【００１８】
電解槽１００は、図１に示すように＋Ｚ方向に向かって開放された空間を有する直方体状の槽である電解槽本体９０を有する。電解槽本体９０は、Ｘ方向に延びる槽壁としての側壁１０ａ，１０ｂ，１０ｃ…を有しており、２つの側壁（例えば、側壁１０ａ、１０ｂ）により挟まれた空間それぞれには電解液（硫酸銅溶液）が満たされている。また、２つの側壁（例えば、側壁１０ａ、１０ｂ）の間には、平板状の陽極板（以下、アノードと呼ぶ）２０と、平板状の陰極板（以下、カソードと呼ぶ）３０が、交互に平行になるように懸架されている。これらアノード２０とカソード３０は、当該懸架状態で、電解液に浸漬されている。なお、図示は省略しているが、電解槽１００の＋Ｚ側（上方）には、アノード２０やカソード３０を搬送するための搬送装置が設けられる。
【００１９】
図２（ａ）には、アノード２０を板厚方向（図１のＸ軸方向に相当）から見た状態が示され、図２（ｂ）には、図２（ａ）のＤ−Ｄ線断面図が示されている。なお、図２（ａ）、図２（ｂ）では、アノード２０の板厚方向をＸ’軸方向、これに垂直な方向をＹ’軸方向（第２方向）及びＺ’軸方向（第１方向）としている。
【００２０】
これら図２（ａ）、図２（ｂ）に示すように、アノード２０は、Ｘ’軸方向及びＹ’軸方向に広がる２つの面２２ａ，２２ｂを有するアノード本体２４と、アノード本体２４の＋Ｚ’側の端部から＋Ｙ’方向及び−Ｙ’方向にそれぞれ突出した状態の一対の耳部２６ａ，２６ｂと、を有している。アノード２０は、粗銅を鋳造することで製造される。この場合、鋳造に用いる型からアノード２０を取り外しやすくするため、図２（ｂ）に示すように、アノード本体の−Ｚ’側の面２２ｃや、耳部２６ａ，２６ｂの−Ｚ’側の面１２６ａ，１２６ｂなどは、Ｘ’Ｙ’面に対してわずかに傾斜した状態となっている。例えば、耳部２６ａ，２６ｂの−Ｚ側の面１２６ａ，１２６ｂは、Ｘ’Ｙ’面に対して、約３°傾斜しているものとする。なお、耳部２６ａの−Ｚ’側の面１２６ａは、後述するインシュレータ５０に支持される面であるので、「支持面１２６ａ」とも呼ぶものとする。
【００２１】
図１に戻り、カソード３０は、平板状のカソード本体３２と、当該カソード本体３２の上端部に設けられた、カソード本体３２を吊り下げ支持する支持用竿（クロスバー）３４と、を有する。カソード本体３２やクロスバー３４の材料としてはステンレス、純銅、チタンなどが用いられる。
【００２２】
次に、電解槽本体９０の側壁１０ａ〜１０ｃの上端面の構造について図３に基づいて説明する。図３には、電解槽本体９０の側壁１０ｂの上端面の平面図が示されている。この図３に示すように、側壁１０ｂの上端面には、Ｘ軸方向に延びる共通導体（ブスバー）４２が、不図示の塩化ビニル板を間に介在させた状態で設けられている。また、当該共通導体４２にオーバラップした状態で、Ｘ軸方向に延びるインシュレータ５０が設けられている。なお、図３では、図示の便宜上、共通導体４２にハッチングを付して示している（図５、図１０も同様）。
【００２３】
インシュレータ５０は、耐酸材を材料とする。例えば、インシュレータ５０としては、ＰＰＳ樹脂や、ＰＢＴ樹脂（テイジン株式会社製、商品名Ｃ７０３０）の射出成型により製造することができる。インシュレータ５０は、図３に示すように、接触支持部としての複数のアノード接触支持部５２と、複数のクロスバー接触支持部５４とを有する。アノード接触支持部５２は、Ｘ方向に沿って等間隔で一列に配置され、クロスバー接触支持部５４も、Ｘ方向に沿って等間隔で一列に配置されている。アノード接触支持部５２の列は、クロスバー接触支持部５４の列の−Ｙ側に位置している。
【００２４】
アノード接触支持部５２は、図３のＥ−Ｅ線断面図である図４（ａ）に示すように、ＸＹ面に対して傾斜した接触面５２ａと、接触面５２ａの＋Ｘ側において＋Ｚ方向に突出した位置決め部５２ｂと、を有している。接触面５２ａのＸＹ面に対する傾斜角は、前述した耳部２６ａの支持面１２６ａのＸ’Ｙ’面に対する傾斜角（例えば約３°）と一致している。位置決め部５２ｂは、支持面１２６ａの最下端から所定量（例えば、６．５ｍｍ程度）突出した状態となっている。
【００２５】
クロスバー接触支持部５４は、図３のＦ−Ｆ線断面図である図４（ｂ）に示すように、ＸＹ面と平行な接触面５４ａを有する。
【００２６】
なお、電解槽本体９０のその他の側壁（１０ａ，１０ｃ…）についても、上記側壁１０ｂと同様の構成を有しているものとする。
【００２７】
図５には、側壁１０ｂの上端面にアノード２０及びカソード３０が設けられた状態が示されている。この図５に示すように、側壁１０ｂのＹ軸方向中心よりも−Ｙ側に位置しているアノード２０は、耳部２６ａ（支持面１２６ａ）において、アノード接触支持部５２により下側から支持される。なお、耳部２６ａは、共通導体４２には接触していない。一方、側壁１０ｂのＹ軸方向中心よりも＋Ｙ側に位置しているアノード２０は、耳部２６ｂ（−Ｚ面１２６ｂ）において、共通導体４２に接触した状態とされ、この状態で、側壁１０ｂに支持されている。
【００２８】
すなわち、図６に模式的に示すように、１つのアノード２０に着目すれば、側壁１０ａと側壁１０ｂとの間に懸架された状態では、一方の耳部２６ａがインシュレータ５０に接触しており、他方の耳部２６ｂが共通導体４２に接触した状態となっている。
【００２９】
ここで、上述のように、アノード接触支持部５２の接触面５２ａのＸＹ面に対する傾斜角は、前述したアノード２０の耳部２６ａの支持面１２６ａのＸ’Ｙ’面に対する傾斜角（例えば約３°）と一致している。したがって、アノード２０が側壁１０ａと側壁１０ｂとの間に懸架された状態では、耳部２６ａの支持面１２６ａとアノード接触支持部５２の接触面５２ａとが、図７に示すように接触するため、アノード２０を図７の姿勢で維持することができる。すなわち、アノード２０の座標系（Ｘ’Ｙ’Ｚ’系）のＺ’軸を鉛直方向（Ｚ軸）と一致させた状態で維持することができる。また、アノード接触支持部５２には、位置決め部５２ｂが設けられているので、アノード２０の耳部２６ａを接触面５２ａで支持した状態で、耳部２６ａのＸ位置を所定位置に位置決めすることができる。なお、位置決め部５２ｂは、アノード２０の耳部２６ａを接触面５２ａで支持した状態で、耳部２６ａが接触面５２ａに沿って移動するのを制止する機能、すなわち、アノード２０のＸ軸方向に関する位置ずれを抑制する機能も有している。
【００３０】
図５に戻り、側壁１０ｂのＹ軸方向中心よりも＋Ｙ側に位置しているカソード３０は、クロスバー３４の−Ｙ端部において、カソード接触支持部５４により下側から支持される。なお、クロスバー３４の−Ｙ端部は、共通導体４２には接触していない。一方、側壁１０ｂのＹ軸方向中心よりも−Ｙ側に位置しているカソード３０は、クロスバー３４の＋Ｙ端部において、共通導体４２に接触した状態とされ、この状態で、側壁１０ｂに支持されている。すなわち、１つのカソード３０に着目すれば、クロスバー３４の＋Ｙ端部が共通導体４２に接触し、クロスバー３４の−Ｙ端部がインシュレータ５０のクロスバー接触支持部５４に接触した状態で、一対の側壁（例えば側壁１０ａ，１０ｂ）により支持されていることになる。なお、クロスバー３４は、前述のようにステンレス、純銅、チタンなどを材料としているため、高精度な加工が可能である。このため、クロスバー接触支持部５４の接触面５４ａを図４（ｂ）のようにＸＹ面に平行な面とすることで、カソード３０を、Ｚ軸に平行な適切な状態（姿勢）で維持することができる。
【００３１】
上記のように構成される電解槽１００では、共通導体４２に直流電流を流すことで、一対の側壁のうちの一方に設けられた共通導体４２、アノード２０、電解液（硫酸銅溶液）、カソード３０、一対の側壁のうちの他方に設けられた共通導体４２の順に直流電流が流れる。これにより、アノード２０中の銅分が溶解して、カソード３０に移行し、カソード本体３２の表面に純銅が析出するようになっている。
【００３２】
以上、詳細に説明したように、本実施形態によると、アノード２０の一方の耳部２６ａの支持面１２６ａに対してＺ軸方向（鉛直方向）下側から接触してアノードの自重を支持するアノード接触支持部５２が、アノード２０の自重を支持した状態で、支持面１２６ａのＸＹ面（水平面）に対する角度を、支持面１２６ａのＸ’Ｙ’面に対する傾斜角と同一の角度に維持する。これにより、アノード接触支持部５２は、アノード２０の自重を支持した状態で、アノード２０（面２２ａ，２２ｂ）を鉛直方向に平行な状態で維持することができる。
【００３３】
ここで、図８（ａ）に基づいて、比較例としての従来のインシュレータ５１について説明する。この図８（ａ）に示すように、従来のインシュレータ５１のアノード接触支持部５２’では、接触面５２ａ’がＸＹ面と平行とされている。このようなインシュレータ５１を用いた場合、アノード２０を破線の状態で維持しようとしても、支点Ｆを中心にアノード２０が回り（実線の状態になり）、重心Ｇが＋Ｘ方向にずれ、アノード２０の下端部がａ（例えば、４０ｍｍ）だけ＋Ｘ方向にずれてしまう。このため、従来においては、アノード２０とカソード３０との間隔を一定に保つことができず、アノードとカソードが短絡（ショート）を起こし、電解電流が短絡部分に集中する現象が生じるおそれがあった。これに対し、本実施形態のような構成を採用した場合には、上記のように、アノード２０を鉛直方向に平行な状態で維持することができるので、アノードとカソードが適切に配列されるとともに、短絡（ショート）の発生を抑制することが可能となる。
【００３４】
図９には、銅電解精錬における電流効率（すなわち、実電着量/理論電着量）をカソード引揚げ日ごとにプロットしたグラフが示さている。この図９では、一点鎖線で示す１月１０日から約１ヶ月間かけて従来のインシュレータから本実施形態のインシュレータ５０に順次変更を行った。このグラフからは、本実施形態のインシュレータ５０を導入した日以降、電流効率が安定し、完全変更後には、９０％から１００％の間で推移したことが分かる。このように、本実施形態のインシュレータ５０を用いることで、電流効率を安定して高く維持することができることが、実際の装置においても実証されている。
【００３５】
なお、アノード２０の支点Ｆを中心とした回転は、図８（ｂ）、図８（ｃ）に示すように、重心ＧのＸ軸方向位置と支点ＦのＸ軸方向位置とを一致させることでも、抑制することは可能である。ここで、図８（ｂ）では、支点Ｆを−Ｘ方向にずらすために耳部２６ａを−Ｘ方向に曲げる加工を施し、図８（ｃ）では、支点Ｆを−Ｘ方向にずらすために、耳部２６ａの下面（支持面）１２６ａに切削加工を施している。しかしながら、このように耳部２６ａの曲げ加工や切削加工を行う場合には、手間がかかるとともに、多額の設備投資を必要とするおそれがある。この点、本実施形態では、インシュレータの変更、すなわち、インシュレータを射出成型する際に用いる金型を変更するのみでよいので、コスト的にも作業工数的にも有利である。
【００３６】
また、本実施形態では、アノード接触支持部５２に、耳部２６ａの支持面１２６ａのＸ’Ｙ’面に対する傾斜角と同一の角度だけＸＹ面（水平面）から傾斜させた接触面５２ａを設けることとしていることから、傾斜した接触面を用意するという簡易な方法で、アノード２０を適切な状態で支持することが可能である。
【００３７】
また、本実施形態では、アノード接触支持部５２に、アノード２０を接触面５２ａ上の所定Ｘ位置に位置決めする位置決め部５２ｂが設けられているので、アノード２０をＸ軸方向に関して正確に位置決めすることができる。
【００３８】
また、本実施形態の電解槽１００では、アノード２０を適切な状態で支持することが可能なインシュレータ５０を備えているので、アノード２０とカソード３０との間の短絡（ショート）の発生を抑制することができ、これにより、電解精錬を効率良く行うことが可能である。
【００３９】
なお、上記実施形態では、全ての側壁１０ａ、１０ｂ、１０ｃ、…の上端面が、図３の側壁１０ｂと同様の構成である場合について説明したが、これに限られるものではない。例えば、−Ｙ側の端部に位置する側壁１０ａや、＋Ｙ側の端部に位置する側壁（１０ｚとする）は、１列のアノード２０及びカソード３０を支持するのみなので、その他の側壁よりも簡略化してもよい。例えば、側壁１０ａにおいては、図１０（ａ）に示すように、クロスバー接触支持部５４のみを有する（アノード接触支持部５２を有さない）インシュレータ５０’を設けることとしてもよい。また、側壁１０ｚにおいては、図１０（ｂ）に示すように、アノード接触支持部５２のみを有する（クロスバー接触支持部５４を有さない）インシュレータ５０”を設けることとしてもよい。
【００４０】
なお、上記実施形態では、アノード接触支持部５２が、ＸＹ面（水平面）に対して傾斜した接触面５２ａを有する場合について説明したが、これに限られるものではない。すなわち、アノード接触支持部５２は、アノード２０の自重を支持した状態で、支持面１２６ａのＸＹ面（水平面）に対する角度を、支持面１２６ａのＸ’Ｙ’面に対する傾斜角と同一の角度に維持することができればよい。例えば、ＸＹ面（水平面）に対して傾斜する接触面５２ａに代えて、従来の接触面５２ａ’（図８（ａ）参照）に、図１１（ａ）に示すような、Ｙ軸方向に延びるＸＺ断面が円形の凸部５６を設けることとしてもよい。また、接触面５２ａに代えて、図１１（ｂ）に示すような階段状の段部５８を採用することとしてもよい。
【００４１】
なお、上記実施形態では、アノード接触支持部５２が、アノード２０の自重を支持した状態で、支持面１２６ａのＸＹ面（水平面）に対する角度を、支持面１２６ａのＸ’Ｙ’面に対する傾斜角と同一の角度に維持する場合について説明した。しかしながら、これに限られるものではなく、支持面１２６ａのＸＹ面（水平面）に対する角度は、支持面１２６ａのＸ’Ｙ’面に対する傾斜角と異なる（所定誤差範囲）こととしてもよい。この場合の「所定誤差範囲」とは、アノード２０の面２２ａ，２２ｂが鉛直方向に対して多少傾いていても、短絡（ショート）する可能性が低い範囲を意味する。
【００４２】
なお、上記実施形態では、本発明の電解槽を銅精錬に用いる場合について説明したが、これに限らず、鉛の精錬に用いることとしてもよい。
【００４３】
上述した実施形態は本発明の好適な実施の例である。但し、これに限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変形実施可能である。
【符号の説明】
【００４４】
１０ａ，１０ｂ，１０ｃ  側壁（槽壁）
２０  アノード
２４  アノード本体
２６ａ、２６ｂ  耳部
３０  カソード
４２  共通導体（導体）
５０  インシュレータ
５２  アノード接触支持部（接触支持部）
５２ａ  接触面
５２ｂ  位置決め部
９０  電解槽本体
１００  電解槽
１２６ａ  支持面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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