(57)【要約】【課題】固体撮像素子において、各色のカラーフィルタの特性をその厚さにより調整し、しかも各色に応じてその厚みを調整したカラーフィルタをその表面が平坦になるよう平坦化膜上に配置することができ、これにより、厚みの異なるカラーフィルタ上に平坦化膜を形成する必要がなくなり、感度低下を回避しつつ、カラー表示特性を所望の特性とすることができる。【解決手段】基板上に配列された複数のカラーフィルタ１１１及び１１２を備えた固体撮像素子１００において、該複数のカラーフィルタ１１１は、それぞれの色に応じた膜厚を有し、該基板上の、該カラーフィルタの下地部分となる平坦化膜１３０は、該配列された複数のカラーフィルタの表面が全面に渡って平坦な面となるよう、その表面に各カラーフィルタの膜厚に応じた段差を形成した構造としている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に配列された複数のカラーフィルタを備えた固体撮像素子であって、
該複数のカラーフィルタは、それぞれの色に応じた膜厚を有し、
該基板上の、該カラーフィルタが形成される下地部分は、該配列された複数のカラーフィルタの表面が全面に渡って平坦な面となるよう、該下地部分の表面に段差を形成した構造を有する、固体撮像素子。
【請求項２】
請求項１に記載の固体撮像素子において、
前記複数のカラーフィルタは、赤色フィルタ、緑色フィルタ、青色フィルタを含んでいる、固体撮像素子。
【請求項３】
請求項１に記載の固体撮像素子において、
前記複数のカラーフィルタは、
前記基板上の下地部分に塗布された感光性カラーレジストをパターニングして形成したものである、固体撮像素子。
【請求項４】
請求項１に記載の固体撮像素子において、
前記基板上に配列された複数の画素を構成する複数の受光素子を含む受光素子部と、
該受光素子部上に形成された平坦化膜とを有し、
該平坦化膜は、その上に前記複数のカラーフィルタが形成された下地部分となっている、固体撮像素子。
【請求項５】
請求項１に記載の固体撮像素子において、
前記複数のカラーフィルタのそれぞれの上に直に配置されたマイクロレンズを有する、固体撮像素子。
【請求項６】
基板上に配列された複数のカラーフィルタを有し、該カラーフィルタの膜厚をそれぞれの色に応じた膜厚とした構造の固体撮像素子を製造する方法であって、
該基板上に、該カラーフィルタの下地となる下地層を形成するステップと、
該下地層上に該カラーフィルタを形成するステップとを含み、
該下地層を形成するステップでは、
該下地層の表面に、該厚みの異なる複数のカラーフィルタの表面が全面に渡って平坦な面となるよう、該それぞれの色のカラーフィルタの厚さに応じた段差を形成する、固体撮像素子の製造方法。
【請求項７】
請求項６に記載の固体撮像素子の製造方法において、
前記下地層を形成するステップは、
前記基板上に、複数の画素を構成する複数の受光素子を含む受光素子部を形成した後、該受光素子部上に平坦化膜を形成するステップと、
該平坦化膜を、その表面に段差が形成されるよう加工するステップとを含む、固体撮像素子の製造方法。
【請求項８】
請求項７に記載の固体撮像素子の製造方法において、
前記平坦化膜は、感光性材料で構成されており、
前記平坦化膜を加工するステップでは、
前記受光素子部上に形成した該感光性材料の膜を露光して現像することにより、該平坦化膜を形成する、固体撮像素子の製造方法。
【請求項９】
請求項８に記載の固体撮像素子の製造方法において、
前記感光性材料膜の露光には、グレースケールマスクを用いる、固体撮像素子の製造方法。
【請求項１０】
請求項８に記載の固体撮像素子の製造方法において、
前記平坦化膜は、透明絶縁材料で構成されており、
前記平坦化膜を加工するステップでは、
前記受光素子部上に形成した該透明絶縁材料の膜をフォトマスクを用いて選択的にエッチングすることにより、該平坦化膜を形成する、固体撮像素子の製造方法。
【請求項１１】
被写体の撮像を行う撮像部を備えた電子情報機器であって、
該撮像部は、請求項１に記載の固体撮像装置を有する電子情報機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、固体撮像素子及びその製造方法、並びに電子情報機器に関し、より詳細には、ＣＭＯＳセンサーやＣＣＤセンサー等の固体撮像素子内のカラーフィルターおよびマイクロレンズの構造に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
図６は従来の固体撮像素子を説明する図であり、その断面構造を模式的に示している。
【０００３】
この固体撮像素子２００は、シリコンなどの半導体基板２０１上に配列された複数の画素を構成する複数の受光素子を含む受光素子部２０２と、該受光素子部２０２上に形成された第１の平坦化膜２０３ａと、該第１の平坦化膜２０３ａ上に前記各画素に対応するようカラーフィルタを配置したカラーフィルタ部２１０とを有している。ここで、カラーフィルタ部２１０は、グリーンフィルタ２１１、レッドフィルタ２１２、及びブルーフィルタ（図示せず）とを有している。
【０００４】
また、固体撮像素子２００は、該カラーフィルタ部２１０上に形成された第２の平坦化膜２０３ｂと、この第２の平坦化膜２０３ｂ上に、各カラーフィルタ（つまり、画素）に対応するよう配置されたマイクロレンズ２２０とを有している。
【０００５】
ここで、各色のカラーフィルタは、それぞれの色に応じた厚さを有しており、図６に示されるように、レッドフィルタ２１２はグリーンフィルタ２１１より厚くなっている。
【０００６】
また、前記各カラーフィルタ上には、その表面を平坦にするための第２の平坦化膜２０３ｂが形成されており、該第２の平坦化膜２０３ｂ上には、マイクロレンズ２２０が各カラーフィルタに対応するよう配置されている。
【０００７】
この従来の固体撮像素子２００のように、カラーフィルタとして、原色系フィルターを用いる場合、多くはグリーン（Ｇ）・レッド（Ｒ）・ブルー（Ｂ）の３色のフィルタを使用するが、これらのカラーフィルタを形成する際、各々のフィルターはそれぞれの工程で形成される。
【０００８】
図３（ａ）は、ＲＧＢカラーフィルター部における各色のフィルタのレイアウトを模式的に示した上面図である。
【０００９】
ここでは、ＲＧＢカラーフィルター部２１０では、グリーンフィルタ２１１を構成するフィルタ層は複数の開口部を有しており、それぞれの開口部には、レッドフィルタ２１２及びブルーフィルタ２１３が配置されている。
【００１０】
次に、このＲＧＢフィルターを形成する方法の代表例について説明する。
【００１１】
まず、グリーンフィルター２１１を平坦化膜２０３ａ（図６参照）にフォトリソグラフィによって形成する。図３（ｂ）は、この状態のグリーンフィルター２１１のパターンを模式的に示している。このグリーンフィルター２１１には、後の工程で形成されるレッド（Ｒ）およびブルー（Ｂ）のフィルターが置かれる位置にスペース（開口部）Ｋ及びＬが形成される。なお、領域Ｍはグリーンフィルタとして機能する部分である。
【００１２】
次に、図４（ａ）に示すパターンを有するレッドフィルター（Ｒ）２１２が、前記グリーンフィルタ２１１のスペースＫを埋めるよう形成される。さらに、図４（ｂ）に示すパターンを有するブルーフィルター（Ｂ）２１３が、グリーンフィルター２１１のスペースＬを埋めるように形成される。これにより、図３（ａ）に示すＲＧＢフィルター部２１０が完成する。
【００１３】
これらのＲＧＢフィルター部は一般的に、それぞれの分光特性をそれぞれのフィルター膜厚で調整するために、基板表面から各フィルタの表面までの高さが不揃いとなる。
【００１４】
更に、これらの各色のフィルター（図６では、グリーンフィルタ２１１及びレッドフィルタ２１２）上にマイクロレンズ２２０を形成するのであるが、このマイクロレンズ２２０の下面から基板表面までの距離Ｆが一定となるような構造とするために、カラーフィルター上に、第２の平坦化膜２０３ｂを形成する必要がある。また、マイクロレンズの下地層の表面に段差がある場合、マイクロレンズ材料は均一な厚さ塗布されるため、その表面の凹部では、凸部に比べて、マイクロレンズの高さが高くなってしまい、集光特性にバラツキが生じてしまうという点からも、カラーフィルター上に、第２の平坦化膜２０３ｂを形成する必要がある。
【００１５】
この第２の平坦化膜２０３ｂは一般的には、アクリル系の材料を塗布することで成膜する、あるいは、同様の材料を厚く塗布してできた膜をエッチバックする（つまり、全面的にドライエッチで薄くしてならす）ことにより形成する。
【００１６】
こうして平坦化された第２の平坦化膜２０３ｂ上に、マイクロレンズ用レジストを塗布し、露光・現像、及び必要に応じてメルトすることによりマイクロレンズ２２０が形成される。
【００１７】
なお、特許文献１には、図６で説明したような固体撮像素子が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１８】
【特許文献１】特開２０００−１５６４８５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１９】
しかしながら、上記従来の固体撮像素子では、このマイクロレンズ２２０の下面から基板表面までの距離Ｆ、さらにはマイクロレンズ自体の高さＨを揃えるため、第２の平坦化膜２０３ｂを形成する必要がある。
【００２０】
このとき、この第２の平坦化膜２０３ｂが存在すること、及び、基板とマイクロレンズとの距離Ｆが長くなることから、基板に届く光量の減衰が生じ、固体撮像素子の感度低下につながるという問題がある。
【００２１】
本発明は、上記のような問題点を解決するためになされたもので、感度低下を回避しつつ、各色のカラーフィルタの特性をその厚さにより調整した固体撮像素子、及びその製造方法、並びにこのような固体撮像素子を搭載した電子情報機器を得ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２２】
本発明に係る固体撮像素子は、基板上に配列された複数のカラーフィルタを備えた固体撮像素子であって、該複数のカラーフィルタは、それぞれの色に応じた膜厚を有し、該基板上の、該カラーフィルタが形成される下地部分は、該配列された複数のカラーフィルタの表面が全面に渡って平坦な面となるよう、該下地部分の表面に段差を形成した構造を有するものであり、そのことにより上記目的が達成される。
【００２３】
本発明は、上記固体撮像素子において、前記複数のカラーフィルタは、赤色フィルタ、緑色フィルタ、青色フィルタを含んでいることが好ましい。
【００２４】
本発明は、上記固体撮像素子において、前記複数のカラーフィルタは、前記基板上の下地部分に塗布された感光性カラーレジストをパターニングして形成したものであることが好ましい。
【００２５】
本発明は、上記固体撮像素子において、前記基板上に配列された複数の画素を構成する複数の受光素子を含む受光素子部と、該受光素子部上に形成された平坦化膜とを有し、該平坦化膜は、その上に前記複数のカラーフィルタが形成された下地部分となっていることが好ましい。
【００２６】
本発明は、上記固体撮像素子において、前記複数のカラーフィルタのそれぞれの上に直に配置されたマイクロレンズを有することが好ましい。
【００２７】
本発明に係る固体撮像素子の製造方法は、基板上に配列された複数のカラーフィルタを有し、該カラーフィルタの膜厚をそれぞれの色に応じた膜厚とした構造の固体撮像素子を製造する方法であって、該基板上に、該カラーフィルタの下地となる下地層を形成するステップと、該下地層上に該カラーフィルタを形成するステップとを含み、該下地層を形成するステップでは、該下地層の表面に、該厚みの異なる複数のカラーフィルタの表面が全面に渡って平坦な面となるよう、該それぞれの色のカラーフィルタの厚さに応じた段差を形成することが好ましい。
【００２８】
本発明は、上記固体撮像素子の製造方法において、前記下地層を形成するステップは、前記基板上に、複数の画素を構成する複数の受光素子を含む受光素子部を形成した後、該受光素子部上に平坦化膜を形成するステップと、該平坦化膜を、その表面に段差が形成されるよう加工するステップとを含むことが好ましい。
【００２９】
本発明は、上記固体撮像素子の製造方法において、前記平坦化膜は、感光性材料で構成されており、前記平坦化膜を加工するステップでは、前記受光素子部上に形成した該感光性材料の膜を露光して現像することにより、該平坦化膜を形成することが好ましい。
【００３０】
本発明は、上記固体撮像素子の製造方法において、前記感光性材料膜の露光には、グレースケールマスクを用いることが好ましい。
【００３１】
本発明は、上記固体撮像素子の製造方法において、前記平坦化膜は、透明絶縁材料で構成されており、前記平坦化膜を加工するステップでは、前記受光素子部上に形成した該透明絶縁材料の膜をフォトマスクを用いて選択的にエッチングすることにより、該平坦化膜を形成することが好ましい。
【００３２】
本発明に係る電子情報機器は、被写体の撮像を行う撮像部を備えた電子情報機器であって、該撮像部は、上述した本発明に係る固体撮像装置を有するものであり、そのことにより上記目的が達成される。
【００３３】
次に作用について説明する。
【００３４】
本発明においては、基板上に配列された複数のカラーフィルタを備えた固体撮像素子において、該複数のカラーフィルタは、それぞれの色に応じた膜厚を有し、該基板上の、該カラーフィルタの下地部分となる平坦化膜は、該配列された複数のカラーフィルタの表面が全面に渡って平坦な面となるよう、その表面に各カラーフィルタの膜厚に応じた段差を形成した構造としているので、カラーフィルタの表面は平坦となり、該カラーフィルタ上に平坦化膜を形成する必要がなくなる。
【００３５】
このため、本発明では、マイクロレンズを各色のカラーフィルタ上に直に配置することができ、マイクロレンズの底面から基板の表面までの距離を短縮することができ、これによりマイクロレンズから受光素子部にいたる経路での光の減衰を低減することができる。
【００３６】
また、本発明では、カラーフィルタ上にマイクロレンズを直に配置しても、カラーフィルタの表面は平坦になっているため、マイクロレンズの高さがカラーフィルタの厚みにより変化することはなく、マイクロレンズの形状も均一なものとすることができる。
【００３７】
また、平坦化膜として感光性材料膜を用い、この感光性材料膜をグレースケールマスクを用いて露光することにより、所望の光量を得るために微小遮光パターンの密度を適正に設定することによって、平坦化膜、つまり感光性材料膜の、各カラーフィルタの厚みに応じた複数の凹部の形状及び深さを所望のものとすることができる。
【発明の効果】
【００３８】
以上のように、本発明によれば、感度低下を回避しつつ、各色のカラーフィルタの特性をその厚さにより調整した固体撮像素子、及びその製造方法、並びにこのような固体撮像素子を搭載した電子情報機器を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】図１は本発明の実施形態１による固体撮像素子を説明する図であり、その断面構造を模式的に示している。
【図２】図２は、本発明の実施形態１による固体撮像素子における平坦化膜を形成する第１の方法を説明する図であり、図２（ａ）、（ｄ）、（ｇ）は平面図であり、図２（ｂ）及び（ｃ）は、図２（ａ）のＡ−Ａ線断面及びＢ−Ｂ線断面の構造を示し、図２（ｅ）及び（ｆ）は、図２（ｄ）のＡ−Ａ線断面及びＢ−Ｂ線断面の構造を示し、図２（ｈ）及び（ｉ）は、図２（ｇ）のＡ−Ａ線断面及びＢ−Ｂ線断面の構造を示している。
【図３】図３は、従来の固体撮像素子におけるＲＧＢカラーフィルター部を説明する図であり、図３（ａ）は、各色のフィルタのレイアウトを模式的に示し、図３（ｂ）は、グリーンフィルターのパターンを模式的に示している。
【図４】図４は、従来の固体撮像素子におけるＲＧＢカラーフィルター部を説明する図であり、図４（ａ）はレッドフィルターのパターンを示し、図４（ｂ）はブルーフィルタのパターンを示している。
【図５】図５は、本発明の実施形態１による固体撮像素子における平坦化膜を形成する第２の方法を説明する図であり、図５（ａ）は、この方法で用いるグレースケールマスクの断面構造を示し、図５（ｂ）は、グレースケールマスクの遮光パターンを示している。
【図６】図６は従来の固体撮像素子を説明する図であり、その断面構造を模式的に示している。
【図７】図７は、本発明の実施形態２として、上記実施形態１の固体撮像装置を撮像部に用いた電子情報機器の概略構成例を示すブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【００４０】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。
【００４１】
（実施形態１）
図１は、本発明の実施形態１による固体撮像素子を説明する図であり、その断面構造を模式的に示している。
【００４２】
本発明の実施形態１による固体撮像素子１００は、シリコンなどの半導体基板１０１と、該半導体基板上に複数のカラーフィルタを配列してなるカラーフィルタ部１１０とを備えている。
【００４３】
ここで、カラーフィルタ部を構成する複数のカラーフィルタは、それぞれの色、つまりグリーン、レッド、ブルーに応じた膜厚を有している。また、該基板１０１上の、該カラーフィルタが形成される下地部分（平坦化膜）は、該配列された複数のカラーフィルタの表面が全面に渡って平坦な面となるよう、該下地部分の表面に段差を形成した構造を有している。
【００４４】
つまり、前記複数のカラーフィルタは、グリーンフィルタ１１１、レッドフィルタ１１２、ブルーフィルタ（図示せず）を含んでいる。また、これらの複数のカラーフィルタは、前記基板上の下地部分に塗布された感光性カラーレジストをパターニングして形成したものである。
【００４５】
また、上記固体撮像素子１００は、該基板上に配列された複数の画素（図示せず）を構成する複数の受光素子を含む受光素子部１０２と、該受光素子部上に形成された平坦化膜１０３とを有し、該平坦化膜１０３は、その上に複数のカラーフィルタが形成された下地部分となっている。
【００４６】
そして、複数のカラーフィルタのそれぞれの上にはマイクロレンズ１２０が直に配置されている。
【００４７】
次に、本実施形態の固体撮像素子を製造する方法について説明する。
【００４８】
この実施形態の固体撮像素子の製造方法は、基板上に配列された複数のカラーフィルタを有し、該カラーフィルタの膜厚をそれぞれの色に応じた膜厚とした構造の固体撮像素子を製造するものである。
【００４９】
まず、シリコンなどの半導体基板１０１上に、複数の画素を構成する複数の受光素子を含む受光素子部１０２を形成した後、該受光素子部１０２上に平坦化膜１０３を形成し、その後、該平坦化膜１０３上にカラーフィルタ１１１及び１１２を形成する。この際、平坦化膜１０３の表面には、厚みの異なる複数のカラーフィルタ１１１及び１１２の表面が全面に渡って平坦な面となるよう、該それぞれの色のカラーフィルタ１１１及び１１２の厚さに応じた段差を形成する。
【００５０】
その後、各カラーフィルタ上に対応するようマイクロレンズ１２０を形成する。
【００５１】
以下、上記平坦化膜を形成する第１の方法について具体的に説明する。
【００５２】
例えば、図２（ａ）〜（ｃ）に示すように、基板１０１上に形成した受光素子部１０２の上に平坦化膜１０３を形成し、該平坦化膜１０３を、開口Ｒ１ａを有するレジストマスクＲ１を用いて選択的にエッチングして、該平坦化膜１０３の表面に、レッドフィルタ１１２を配置するための段差部（凹部）１０３ｂを形成する。このときのエッチング量は、レッドフィルタ１１２の厚みに応じて調整される。
【００５３】
ここで、図２（ｂ）及び（ｃ）は、図２（ａ）のＡ−Ａ線断面、及びＢ−Ｂ線断面を示している。
【００５４】
次に、上記レジスト膜Ｒ１を除去した後、図２（ｄ）〜（ｆ）に示すように、開口Ｒ２ａを有するレジストマスクＲ２を用いて選択的にエッチングして、該平坦化膜１０３の表面に、ブルーフィルタ（図示せず）を配置するための段差部（凹部）１０３ａを形成する。このときのエッチング量は、ブルーフィルタの厚みに応じて調整される。
【００５５】
ここで、図２（ｅ）及び（ｆ）は、図２（ｄ）のＡ−Ａ線断面、及びＢ−Ｂ線断面を示している。
【００５６】
その後、上記レジストマスクＲ２を除去した状態を、図２（ｇ）〜図２（ｉ）に示している。ここで、図２（ｈ）及び（ｉ）は、図２（ｇ）のＡ−Ａ線断面、及びＢ−Ｂ線断面を示している。
【００５７】
なお、ここでは、グリーンフィルタの厚みを基準にしているため、グリーンフィルタの配置部分では平坦化膜はエッチングしない。
【００５８】
次に、上記平坦化膜を形成する第２の方法について具体的に説明する。
【００５９】
図５は、この第２の方法を説明する図であり、図５（ａ）は、この方法で用いるグレースケールマスクの断面構造を示し、図５（ｂ）は、グレースケールマスクの遮光パターンを示している。
【００６０】
この第２の方法で平坦化膜１０３に掘り込み形状を形成する原理は以下のとおりである。
【００６１】
つまり、図５に示すフォトマスクＭは、露光装置の光源からの露光光Ｓを完全に透過することを目的とした透過領域（図示せず）、露光光を完全に遮光することを目的とした遮光領域Ｍｕ、および半透過領域Ｍｔで構成されている。半透過領域Ｍｔでの透過率Ｔは、０％＜透過率Ｔ＜１００％を満たす。また、この半透過領域Ｍｔは、グレースケールマスクとして得ることが可能である。
【００６２】
本実施形態では、該フォトマスクＭの、平坦化膜の掘り込み形状とするべき部分に対応する領域は半透過領域Ｍｔとなっている。
【００６３】
図５（ｂ）には、グレースケールマスクを使用する場合のマスクパターンの模式図を示す。
【００６４】
このマスクにおいては、所望の光量を得るために微小遮光パターン（図では小さい黒四角部）の密度を適正に設定することによって所望の掘り込み深さとする形状を形成することができる。
【００６５】
また、このマスクを用いることにより、平坦化膜には、深さの異なる凹部（段差部）を複数同時に形成することが可能となる。
【００６６】
また、本実施形態では、使用される平坦化膜１０３を構成するレジスト材料としては、掘り込み深さの制御性を向上させるために、露光量の変化に応じて現像後のレジスト残膜量の変化がリニアな特性のものが望ましい。
【００６７】
次に本実施形態の効果について説明する。
【００６８】
マイクロレンズ１２０の下面の高さを揃えるためには、色の異なるカラーフィルタを複数配列しているカラーフィルター部１１０で、その上面が平坦になるようにできればよい。その方法としては、各色のフィルターの間で高さが不揃いとなっていることによる段差分を、カラーフィルタの下地である平坦化膜１０３を、カラーフィルタ１１１、１１２の厚みに応じて掘り込むことで高さを揃える方法が考えられる。
【００６９】
この方法を実現するための課題としては、所望の掘り込み量を精度良く形成することである。特に、平坦化膜の材料に感光性のものを使用することが考えられる。この場合、使用される感光性材料は、露光エネルギーに対して現像膜減り量がリニアな現像レートを持つものが望ましい。例えば、グレースケールレンズで使用しているレンズ材料ならば所望の形状を得ることができる。
【００７０】
このように本実施形態では、基板上に配列された複数のカラーフィルタ１１１及び１１２を備えた固体撮像素子１００において、該複数のカラーフィルタは、それぞれの色に応じた膜厚を有し、該基板上の、該カラーフィルタの下地部分となる平坦化膜１３０は、該配列された複数のカラーフィルタの表面が全面に渡って平坦な面となるよう、その表面に各カラーフィルタの膜厚に応じた段差を形成した構造としているので、カラーフィルタの表面は平坦となり、該カラーフィルタ上に平坦化膜を形成する必要がなくなる。
【００７１】
このため、本実施形態では、マイクロレンズ１２０を各色のカラーフィルタ上に直に配置することができ、マイクロレンズの底面から基板の表面までの距離Ｆを短縮することができ、これによりマイクロレンズから受光素子部にいたる経路での光の減衰を低減することができる。
【００７２】
また、本実施形態では、カラーフィルタ１１１及び１１２上にマイクロレンズ１２０を直に配置しても、カラーフィルタの表面は平坦になっているため、マイクロレンズの高さＨ’がカラーフィルタの厚みにより変化することはなく、マイクロレンズの形状も均一なものとすることができる。
【００７３】
また、平坦化膜１０３として感光性材料膜を用い、この感光性材料膜をグレースケールマスクを用いて露光することにより、所望の光量を得るために微小遮光パターン（図では小さい黒四角部）の密度を適正に設定することによって、１回の露光現像処理により、平坦化膜、つまり感光性材料膜の、各カラーフィルタの厚みに応じた複数の凹部の形状及び深さを所望のものとすることができる。
【００７４】
このように本実施形態の固体撮像素子１００では、各色のカラーフィルタの特性をその厚さにより調整し、しかも各色に応じてその厚みを調整したカラーフィルタをその表面が平坦になるよう平坦化膜上に配置することができ、これにより、厚みの異なるカラーフィルタ上に平坦化膜を形成する必要がなくなり、感度低下を回避しつつ、カラー表示特性を所望の特性とすることができる。
【００７５】
さらに、上記実施形態１では、特に説明しなかったが、上記実施形態１の固体撮像素子を撮像部に用いた、例えばデジタルビデオカメラ、デジタルスチルカメラなどのデジタルカメラや、画像入力カメラ、スキャナ、ファクシミリ、カメラ付き携帯電話装置などの、画像入力デバイスを有した電子情報機器について以下簡単に説明する。
（実施形態２）
図７は、本発明の実施形態２として、実施形態１の固体撮像素子を撮像部に用いた電子情報機器の概略構成例を示すブロック図である。
【００７６】
図７に示す本発明の実施形態２による電子情報機器９０は、本発明の上記実施形態１の固体撮像素子を、被写体の撮影を行う撮像部９１として備えたものであり、このような撮像部による撮影により得られた高品位な画像データを記録用に所定の信号処理した後にデータ記録する記録メディアなどのメモリ部９２と、この画像データを表示用に所定の信号処理した後に液晶表示画面などの表示画面上に表示する液晶表示装置などの表示部９３と、この画像データを通信用に所定の信号処理をした後に通信処理する送受信装置などの通信部９４と、この画像データを印刷（印字）して出力（プリントアウト）する画像出力部９５とのうちの少なくともいずれかを有している。
【００７７】
以上のように、本発明の好ましい実施形態を用いて本発明を例示してきたが、本発明は、この実施形態に限定して解釈されるべきものではない。本発明は、特許請求の範囲によってのみその範囲が解釈されるべきであることが理解される。当業者は、本発明の具体的な好ましい実施形態の記載から、本発明の記載および技術常識に基づいて等価な範囲を実施することができることが理解される。本明細書において引用した特許、特許出願および文献は、その内容自体が具体的に本明細書に記載されているのと同様にその内容が本明細書に対する参考として援用されるべきであることが理解される。
【産業上の利用可能性】
【００７８】
本発明は、固体撮像素子及びその製造方法、並びに電子情報機器の分野において、感度低下を回避しつつ、各色のカラーフィルタの特性をその厚さにより調整した固体撮像素子、及びその製造方法、並びにこのような固体撮像素子を搭載した電子情報機器を得ることができる。
【符号の説明】
【００７９】
９０  電子情報機器
９１  撮像部
９２  メモリ部
９３  表示手段
９４  通信手段
９５  画像出力手段
１００  固体撮像素子
１０１  半導体基板
１０２  受光素子部
１０３  平坦化膜  
１０３ａ  １０３ｂ  段差部（凹部）
１１０  カラーフィルタ部
１１１  グリーンフィルタ
１１２  レッドフィルタ
１２０  マイクロレンズ
Ｍ  フォトマスク
Ｍｕ  遮光領域、Ｍｔ  半透過領域
Ｒ１、Ｒ２  レジストマスク
Ｒ１ａ、Ｒ２ａ  開口
Ｓ  露光光
【図１】
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【図２】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図３】
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