(57)【要約】【課題】異なる４色以上のストライプ状配列の着色層をブラックマトリクス間隙を埋めるように繰り返し平面配置した着色画素と、複数の着色層を積層した微小パターンを規則的に平面配置した固定スペーサと、を有する液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法において、前記固定スペーサの高さを安定して形成する製造方法を提供する。【解決手段】固定スペーサ５０を配置するブラックマトリクス２上にオーバーラップする特定の着色層を積層ＰＳ下地色６１とし、積層ＰＳ下地色とは異なる色で積層ＰＳ下地色の着色画素パターン上に積層配置して固定スペーサを構成する他の複数色を積層ＰＳ構成色６３、６４とし、積層ＰＳ下地色と積層ＰＳ構成色とを除く着色画素パターンの残余の色を積層ＰＳ外部色６２とする場合に、積層ＰＳ外部色を積層ＰＳ構成色の形成より以前に形成する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板上に、ブラックマトリクスと、異なる４色以上のストライプ状配列の着色層をブラックマトリクス間隙を埋めるように繰り返し平面配置した着色画素と、複数の着色層を積層した微小パターンを規則的に平面配置した液晶セル形成用の固定スペーサと、を有するフォトリソグラフィー法による液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法であって、固定スペーサを配置するブラックマトリクス上にオーバーラップする特定の着色層を積層ＰＳ下地色とし、積層ＰＳ下地色とは異なる色で積層ＰＳ下地色の着色画素パターン上に積層配置して固定スペーサを構成する他の複数色を積層ＰＳ構成色とし、積層ＰＳ下地色と積層ＰＳ構成色とを除く着色画素パターンの残余の色を積層ＰＳ外部色とする場合に、積層ＰＳ外部色を積層ＰＳ構成色の形成より以前に形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項２】
着色画素が前記積層ＰＳ下地色と隣り合う２色の内に、前記積層ＰＳ外部色が含まれることを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項３】
前記異なる色のストライプ状配列が、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）、黄色（Ｙ）の４色からなり、前記積層ＰＳ構成色が前記４色中の２色からなることを特徴とする請求項１または２に記載のカラーフィルタの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法に関するものであり、特に液晶セル形成に積層タイプの固定スペーサを使用する場合の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、平面型ディスプレイ装置が多く使われるようになってきており、中でもＬＣＤ（液晶表示装置）は、特にカラーフィルタによって色表示を行う多色カラータイプがテレビ、モニタ、携帯端末等の表示パネルに利用が進んでいる。多色カラー化のために一般にマイクロセル構造のカラーフィルタが多用され、カラーフィルタは液晶表示パネルの表示品質を決める上で重要な役割を担っている。
【０００３】
ＬＣＤ（液晶表示装置）は少なくとも一枚を光透過性とする一対の基板間に液晶を封入してなるセル構造を有し、前述の多色カラー表示の場合には、光透過性の基板のセル内面にカラーフィルタが形成される。カラーフィルタ１０の一般的構成は、図２に示すように、透明基板１の片側（液晶セルの内面となる側）に遮光性のブラックマトリックス２と、ブラックマトリックス２の隙間を規則的に満たすとともにブラックマトリックス２にオーバーラップするカラーフィルタ画素毎の着色画素パターン３１、３２、３３の繰り返し配列が正確な位置合わせで形成される。上記の着色画素パターンは、フォトリソグラフィー法等により、異なる３色で塗り分けられることが多い。一般に、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の３原色を基本として、各色の着色層のストライプ状配列がブラックマトリクス間隙を埋めるように繰り返し平面配置される着色画素を有するカラーフィルタが最も一般的である。
【０００４】
また、液晶表示方式により、例えばＴＮ（ねじれネマティック）タイプのアクティブマトリクス駆動の場合は、ブラックマトリックス２と着色画素パターン３１、３２、３３の繰り返し配列を覆うように透明電極層４を形成する。従来は、カラーフィルタとして、ここまでの構成物を指していたが、さらに近年は特に液晶セルの大型化、狭ギャップ化に伴って、セルギャップ制御用に従来はセル化工程で散布していたビーズスペーサに代わり、フォトスペーサ、ポストスペーサなどとも呼ばれる、感光性樹脂により選択的に形成される複数の固定スペーサ（ＰＳ部と略称する。以下同様）５を規則的に配することが多い。
【０００５】
ＰＳ部５は、着色画素パターン上に封入される液晶の配向表示に大きな影響を与えないように、ブラックマトリックス２に重なる位置に、通常は微小な同形状の離散的パターンを選択的に決めた規則的な配置で形成し、液晶セルギャップを保持する機能を有するものである。セルギャップの保持をセル内外の圧力差の元でも弾力的に行うために、ＰＳ部のサイズや配置間隔と構成する材料の弾性特性を適宜設計している。また、ＰＳ部５は上述のようにカラーフィルタ側に設けることが一般的であるが、カラーフィルタ側にはＰＳ部を設けずに、液晶を封入して液晶セル構造を構成する一方の基板のカラーフィルタとは対向側の他方の基板であるＴＦＴ等の画素電極基板のセル内面にＰＳ部を設けることもできる。
【０００６】
前記ＰＳ部５を形成するにあたり、着色画素パターン形成後に、固定スペーサ用の専用の材料で複数の孤立パターンを別個の工程で作製することは一般に行われており、上記のように材料の弾性特性を最適化する上で優れた面もあるが、フォトリソグラフィー法を繰り返す回数を増すために製造工程が長くなり、製品を高品質に低コストで供給する上で不利になることもある。そのため、材料特性上許容できる範囲内であれば、着色層の形成工程と同時に、着色画素以外に設ける各色の積層パターンをＰＳ部として形成することによ
り、全体の製造工程を短縮する方法も試みられている。即ち、着色画素パターンとＰＳ部とを一括して同時に実現することができる（特許文献１、特許文献２を参照）。この場合は当然、ＰＳ部をＴＦＴ等の画素電極基板上に設けるのではなく、カラーフィルタ上に設けることになる。なお、カラーフィルタ上にＰＳ部を着色層の積層パターンで形成する場合に、前記透明電極層４が積層ＰＳ部の上を覆って液晶セルの対向基板側と電気的な短絡状態を生じることを避けるために、部分的に透明電極層を形成しないための工夫を適宜行うが、詳細な説明は省略し、以後の説明では、透明電極層の工程については除外して説明する。
【０００７】
従来のような３色の着色パターンを有するカラーフィルタにおいて、ブラックマトリックス上に色層を重ねてＰＳ部を形成する積層タイプの固定スペーサを形成する場合には、ブラックマトリックス上のＰＳ部を形成する位置に予めオーバーラップすることを予定していた特定の色を１色目に形成することは当然である。前記オーバーラップ領域に固定スペーサを積層して構成する他の２色の入色順については、２通りの順序の中から品質保持や製造工程の都合等を考慮して選択し、着色画素パターンを形成すると同時にＰＳ部の積層パターンとなる微小パターンを順次形成すれば良いので、２色目、３色目の入色順を特に規定すべき一般的な理由はない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平９−４３５９２号公報
【特許文献２】特開平１１−３４４７００号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
カラーフィルタの着色画素パターンは、上述のように３色の繰り返し配列で形成されることが多かったが、カラーフィルタのさらなる色再現領域の拡大と明度向上を図り、美しく明るいＬＣＤの画像を提供する目的で、近年、４色またはそれ以上の色数を用いる試みも多い。具体的には、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の３原色に加えて、黄色（Ｙ）を用いる４色の着色画素パターンの例は実用性が高い。
【００１０】
前記４色の着色画素パターンを繰り返すカラーフィルタにおいて、ブラックマトリックス上に色層を重ねてＰＳ部を形成する積層タイプの固定スペーサの場合には、ブラックマトリックス上のＰＳ部を形成する位置に予めオーバーラップすることを予定していた特定の色を１色目に形成することがまず考えられる。他の３色の内、２色を、ブラックマトリックスと上記特定の色の１色目とのオーバーラップ領域上に積層するとすれば、上記２色が前記特定の色より後であることは言うまでもないが、上記２色間の入色順について、特に規定すべき一般的な理由はない。しかし、積層ＰＳ部の構成に関わらないその他の１色の入色順によって、前記積層形成するＰＳ部の高さに影響を与えることがある。即ち、積層ＰＳ部の構成に関わらないその他の１色を最後に形成するような入色順の場合に、積層形成するＰＳ部の高さが低い方向にばらつき易いことが判明した。
【００１１】
本発明は、前記の問題点に鑑みて提案するものであり、本発明が解決しようとする課題は、透明基板上に、ブラックマトリクスと、異なる４色以上のストライプ状配列の着色層をブラックマトリクス間隙を埋めるように繰り返し平面配置した着色画素と、複数の着色層を積層した微小パターンを規則的に平面配置した液晶セル形成用の固定スペーサと、を有するフォトリソグラフィー法による液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法において、前記固定スペーサの高さを安定して形成するためのカラーフィルタの製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記の課題を解決するための手段として、請求項１に記載の発明は、透明基板上に、ブラックマトリクスと、異なる４色以上のストライプ状配列の着色層をブラックマトリクス間隙を埋めるように繰り返し平面配置した着色画素と、複数の着色層を積層した微小パターンを規則的に平面配置した液晶セル形成用の固定スペーサと、を有するフォトリソグラフィー法による液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法であって、固定スペーサを配置するブラックマトリクス上にオーバーラップする特定の着色層を積層ＰＳ下地色とし、積層ＰＳ下地色とは異なる色で積層ＰＳ下地色の着色画素パターン上に積層配置して固定スペーサを構成する他の複数色を積層ＰＳ構成色とし、積層ＰＳ下地色と積層ＰＳ構成色とを除く着色画素パターンの残余の色を積層ＰＳ外部色とする場合に、積層ＰＳ外部色を積層ＰＳ構成色の形成より以前に形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。
【００１３】
また、請求項２に記載の発明は、着色画素が前記積層ＰＳ下地色と隣り合う２色の内に、前記積層ＰＳ外部色が含まれることを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法である。
【００１４】
また、請求項３に記載の発明は、前記異なる色のストライプ状配列が、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）、黄色（Ｙ）の４色からなり、前記積層ＰＳ構成色が前記４色中の２色からなることを特徴とする請求項１または２に記載のカラーフィルタの製造方法である。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、異なる４色以上のストライプ状配列の着色層を繰り返し平面配置した着色画素と、複数の着色層を積層した微小パターンを規則的に平面配置した固定スペーサと、を有する液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法において、製造工程を長くしないで、前記着色画素と前記固定スペーサとを一括して形成でき、しかも固定スペーサの高さを安定して形成でき、製品を高品質に低コストで供給することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明により形成したカラーフィルタの一例を説明するための断面模式図である。
【図２】従来のカラーフィルタの代表例を説明するための断面模式図である。
【図３】本発明の製造工程を（ａ）〜（ｆ）の工程順に説明するための断面模式図である。
【図４】本発明の製造工程とは異なる工程順で製造する場合の断面模式図である。
【図５】底部と凸部の境界段差を有する下地にフォトリソグラフィ法で樹脂パターンを形成する場合の膜厚の傾向を２つのモデルで説明するための断面模式図であって、（１ａ）、（２ａ）は樹脂を塗布した工程、（１ｂ）、（２ｂ）は樹脂パターンを形成した工程を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、図面に従って、本発明を実施するための形態について説明する。
【００１８】
図１は、本発明により形成したカラーフィルタの一例を説明するための断面模式図である。カラーフィルタ１１は、透明基板１の片面にブラックマトリクス２がパターン形成され、異なる４色のストライプ状配列の着色層をブラックマトリクス間隙を埋めるように繰り返し平面配置した着色画素パターン６１、６２、６３、６４がブラックマトリクスの線幅方向のパターン端部をオーバーラップするように形成される。
【００１９】
さらに、複数の着色層を積層した微小パターンを規則的に平面配置した液晶セル形成用の固定スペーサ５０が、ブラックマトリクスとその上にオーバーラップした積層ＰＳ下地色と名付ける特定の色の着色画素パターン６１の辺縁部に乗り上げる形に形成される。積層タイプの固定スペーサ５０を構成する色を積層ＰＳ構成色と名付けると、積層ＰＳ構成色は積層ＰＳ下地色とは異なる２色からなり、一つの色で積層ＰＳ構成色（１）の着色画素パターン６３と積層ＰＳ構成パターン（下層）５３との２種類のパターンを形成しており、他の一つの色で積層ＰＳ構成色（２）の着色画素パターン６４と積層ＰＳ構成パターン（上層）５４との２種類のパターンを形成している。また、異なる４色の内、積層ＰＳ下地色と積層ＰＳ構成色とを除く着色画素パターンの残余の色を積層ＰＳ外部色と名付けると、積層ＰＳ外部色は積層ＰＳ外部色の着色画素パターン６２を形成している。
【００２０】
本発明は、上述の例に限定されず、異なる４色以上の着色画素を有するカラーフィルタが、前記４色以上の中の異なる複数色の積層タイプの固定スペーサを有する構造を形成する方法を提案するものであるが、実用的に特に有効な上述の例で説明するために、前記異なる色のストライプ状配列が４色からなり、前記積層ＰＳ構成色が前記４色中の２色からなる例について示す。
【００２１】
具体的な製造方法として、一般的に利用されているフォトリソグラフィー法による製造方法を用いることができる。即ち、ブラックマトリクスおよび着色画素パターン、ならびに積層ＰＳ構成パターンのいずれも、感光性着色樹脂の塗布、パターン露光、現像、ベイクの基本的プロセスの繰り返しにより製造できる。一般に感光性着色樹脂として、アクリル等の透明樹脂に各種着色顔料成分を適度に微細化して混ぜ、光重合開始剤を加えて光硬化性を与えると共に、溶剤成分によりプロセス適性を調整して用いることができる。
【００２２】
図３は、本発明の製造工程を（ａ）〜（ｆ）の工程順に説明するための断面模式図である。（ａ）透明基板１の片面に黒色顔料を用いてフォトリソグラフィー法で形成したブラックマトリクス２のパターン間隙を埋めるように繰り返し平面配置する着色画素３の１色目として、後に積層タイプの固定スペーサを載せることになるブラックマトリクスとのオーバーラップにかかる位置に、積層ＰＳ下地色の着色画素パターン６１をフォトリソグラフィー法で形成する。この場合、ブラックマトリクス２との位置合わせを高精度で行うことが重要であり、他の入色工程でも同様であるが、ブラックマトリクス上への着色画素のオーバーラップ量は、ブラックマトリクス線幅の半分以下とする。また、後に形成する積層ＰＳ構成パターン（下層）５３のサイズ以上のオーバーラップ部分が必要であるが、固定スペーサを形成する領域はブラックマトリクスの通常の線幅部分とは限定されず、液晶セル構造形成時に対向基板の遮光部に対応させる予定のブラックマトリクス上の拡幅部分も採用できるので、本図面では示せない大きなサイズのオーバーラップ部分を局部的に設けることも可能である。
【００２３】
具体的に、異なる色のストライプ状配列が、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）、黄色（Ｙ）の４色からなる例においては、黄色顔料を用いて、積層ＰＳ下地色の着色画素パターン６１を形成することができる。感光性樹脂としてアクリル系樹脂に光重合開始剤を加えて用いることは、他の色と同様に可能である。
【００２４】
次に、（ｂ）前記積層ＰＳ外部色の着色画素パターン６２として、前記積層ＰＳ下地色の着色画素パターン６１と隣接する位置に、例えば赤色顔料を用いて、着色画素３の２色目のフォトリソグラフィー工程を行う。この場合、ブラックマトリクス上への着色画素のオーバーラップ量は、１色目と同様とすることが望ましい。従って、図示していないが、ブラックマトリクス上で線幅の両側から着色画素パターンのオーバーラップ部分が被さり、線幅の中央に沿ってブラックマトリクスが露出する部分がある程度生じることもある。
【００２５】
次に、（ｃ）積層ＰＳ構成色（１）の塗布層６３３を塗布し、（ｄ）積層ＰＳ構成色（１）の着色画素パターン６３と積層ＰＳ構成パターン（下層）５３との２種類のパターンを一括して形成する。積層ＰＳ構成色（１）の着色画素パターン６３と積層ＰＳ構成パターン（下層）５３として、例えば緑色顔料を用いて、着色画素３の３色目のフォトリソグラフィー工程を行う。
【００２６】
さらに、（ｅ）積層ＰＳ構成色（２）の塗布層６４４を塗布し、（ｆ）積層ＰＳ構成色（２）の着色画素パターン６４と積層ＰＳ構成パターン（上層）５４との２種類のパターンを一括して形成する。積層ＰＳ構成色（２）の着色画素パターン６４と積層ＰＳ構成パターン（上層）５４として、例えば青色顔料を用いて、着色画素３の４色目のフォトリソグラフィー工程を行う。
【００２７】
本発明は、上述のように、積層ＰＳ外部色を積層ＰＳ構成色の形成より以前に形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。また、特に、積層ＰＳ外部色の着色画素が、前記積層ＰＳ下地色と隣り合う２色の内に含まれることを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。
【００２８】
一方、図４には、本発明の製造工程とは異なる入色順の（ａ）〜（ｆ）の工程順に製造する場合の断面模式図を比較のために示す。図３の例に示した工程と大きく異なる点は、積層ＰＳ外部色の着色画素パターン６２の形成を、積層ＰＳ構成色の着色画素パターン６３、６４と積層ＰＳ構成パターン５３、５４をそれぞれ一括形成した後に行うことである。積層ＰＳ外部色を積層ＰＳ構成色の形成より後の工程で行う入色順とする図４に示す例の場合には、積層ＰＳ外部色を積層ＰＳ構成色の形成より以前に形成することを特徴とする本発明の図３に示した例の場合と較べて、後述のように、積層形成する固定スペーサの高さが低い方向にばらつき易く、安定した高さに形成できない。
【００２９】
（ａ）透明基板１の片面に黒色顔料を用いてフォトリソグラフィー法で形成したブラックマトリクス２のパターン間隙を埋めるように繰り返し平面配置する着色画素３の１色目として、後に積層タイプの固定スペーサを載せることになるブラックマトリクスとのオーバーラップにかかる位置に、積層ＰＳ下地色の着色画素パターン６１をフォトリソグラフィー法で形成する。この場合、ブラックマトリクス２との位置合わせを高精度で行うことが重要であり、他の入色工程でも同様であるが、ブラックマトリクス上への着色画素のオーバーラップ量は、ブラックマトリクス線幅の半分以下とする。また、後に形成する積層ＰＳ構成パターン（下層）５３のサイズ以上のオーバーラップ部分が必要であるが、固定スペーサを形成する領域はブラックマトリクスの通常の線幅部分とは限定されず、液晶セル構造形成時に対向基板の遮光部に対応させる予定のブラックマトリクス上の拡幅部分も採用できるので、本図面では示せない大きなサイズのオーバーラップ部分を局部的に設けることも可能である。
【００３０】
具体的に、異なる色のストライプ状配列が、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）、黄色（Ｙ）の４色からなる例においては、黄色顔料を用いて、積層ＰＳ下地色の着色画素パターン６１を形成することができる。感光性樹脂としてアクリル系樹脂に光重合開始剤を加えて用いることは、他の色と同様に可能である。
【００３１】
次に、（ｂ）積層ＰＳ構成色（１）の塗布層６３３を塗布し、（ｃ）積層ＰＳ構成色（１）の着色画素パターン６３と積層ＰＳ構成パターン（下層）５３との２種類のパターンを一括して形成する。積層ＰＳ構成色（１）の着色画素パターン６３と積層ＰＳ構成パターン（下層）５３として、例えば緑色顔料を用いて、着色画素３の２色目のフォトリソグラフィー工程を行う。
【００３２】
次に、（ｄ）積層ＰＳ構成色（２）の塗布層６４４を塗布し、（ｅ）積層ＰＳ構成色（２）の着色画素パターン６４と積層ＰＳ構成パターン（上層）５４との２種類のパターンを一括して形成する。積層ＰＳ構成色（２）の着色画素パターン６４と積層ＰＳ構成パターン（上層）５４として、例えば青色顔料を用いて、着色画素３の３色目のフォトリソグラフィー工程を行う。
【００３３】
さらに、（ｆ）前記積層ＰＳ外部色の着色画素パターン６２として、前記積層ＰＳ下地色の着色画素パターン６１と隣接する位置に、例えば赤色顔料を用いて、着色画素３の４色目のフォトリソグラフィー工程を行う。
【００３４】
上記２例の製造工程順の差異の意味を明確にするために、２つのモデルを用いて、底部と凸部の境界段差を有する下地にフォトリソグラフィ法で樹脂パターンを塗布形成する一般的な場合の膜厚の傾向を説明する。図５の断面模式図の（１ａ）、（２ａ）は樹脂を塗布した工程、（１ｂ）、（２ｂ）は樹脂パターンを形成した工程を示す。
【００３５】
（１ａ）に示す工程中の下地２４は、底部Ａと凸部Ｂとが、図のような関係で形成されており、凸部の高さＣを有する段差部分を乗り越えるように樹脂塗布層２５を形成する。塗布される樹脂の流動性により、また、具体的な塗布方法や塗布条件により、樹脂塗布層の断面形状は変化するが、一般的に下地の段差部分の縁端上の樹脂塗布層の断面形状は、曲線状の傾斜がなだらかになる。上記の樹脂塗布層に対して、フォトリソグラフィー法によりパターン形成し、（１ｂ）に示すように、下地の段差部分の縁端位置と図のような関係の位置に、底部上の形成パターン２６と凸部上の微小形成パターン２７を作ることができる。
【００３６】
（２ａ）に示す工程中の下地２４’は、底部Ａと凸部Ｂとが、（１ａ）とは異なる関係で形成されており、凸部の高さＣを有する段差部分を乗り越えるように樹脂塗布層２５’を形成する。塗布される樹脂の流動性により、また、具体的な塗布方法や塗布条件により、樹脂塗布層の断面形状は変化するが、一般的に下地の段差部分の縁端上の樹脂塗布層の断面形状は、曲線状の傾斜がなだらかになる。上記の樹脂塗布層に対して、フォトリソグラフィー法によりパターン形成し、（２ｂ）に示すように、下地の段差部分の縁端位置と図のような関係の位置に、底部上の形成パターン２６’と凸部上の微小形成パターン２７’を作ることができる。この時、凸部上の微小形成パターン２７’は、（１ｂ）に示した凸部上の微小形成パターン２７の断面形状とは異なり、下地の段差部分の縁端上の樹脂塗布層の断面形状の影響をそのまま受けて、曲線状の傾斜を有する傾向が顕著となるため、微小形成パターン２７’全体としては高さが低い方向にばらつき易く、安定した高さに形成できない。
【００３７】
前述の図３（ｃ）〜（ｄ）、（ｅ）〜（ｆ）に示した積層ＰＳ構成パターン５３、５４の形成工程は、積層ＰＳ外部色の着色画素パターン６２が事前に形成されているため、図５のモデルにおける下地の段差部分の縁端に相当する部分が積層ＰＳ構成パターン位置から離れた状態での工程が可能となり、図５（１ｂ）の凸部上の微小形成パターン２７と同様に、パターンの断面高さを高く保つ方向に安定した高さを保持することができる。これに対して、前述の図４（ｂ）〜（ｃ）、（ｄ）〜（ｅ）に示した積層ＰＳ構成パターン５３、５４の形成工程は、積層ＰＳ外部色の着色画素パターン６２が事前に形成されていないため、図５のモデルにおける下地の段差部分の縁端に相当する部分が積層ＰＳ構成パターン位置に接近した状態での工程を余儀なくされ、図５（２ｂ）の凸部上の微小形成パターン２７’と同様に、パターンの断面高さを低い方向にばらつかせて、安定した高さを形成できない。
【符号の説明】
【００３８】
１・・・透明基板
２・・・ブラックマトリクス
３・・・着色画素
４・・・透明電極層
５・・・固定スペーサ（ＰＳ部）
１０、１１・・・カラーフィルタ
２４、２４’・・・工程中の下地
２５、２５’・・・樹脂塗布層
２６、２６’・・・底部上の形成パターン
２７、２７’・・・凸部上の微小形成パターン
３１、３２、３３・・・着色画素パターン
５０・・・固定スペーサ（積層タイプ）
５３・・・積層ＰＳ構成パターン（下層）
５４・・・積層ＰＳ構成パターン（上層）
６１・・・積層ＰＳ下地色の着色画素パターン
６２・・・積層ＰＳ外部色の着色画素パターン
６３・・・積層ＰＳ構成色（１）の着色画素パターン
６４・・・積層ＰＳ構成色（２）の着色画素パターン
６３３・・・積層ＰＳ構成色（１）の塗布層
６４４・・・積層ＰＳ構成色（２）の塗布層
Ａ・・・下地の底部
Ｂ・・・下地の凸部
Ｃ・・・凸部の高さ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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