(57)【要約】【課題】  ケース内の異物がケース内部に収納されている基板に付着することを防止する。【解決手段】  収納ケース１１は、蓋１２とケース本体１３とから主に構成されている。ケース本体１３は上部が開放されている。蓋１２は、ケース本体１３の上部を覆うようにケース本体１３に取り付けられる。ケース本体１３の内部の空間は、異物捕集室２２と基板収容室２３とに仕切部材２１よって仕切られている。フォトマスク用基板が基板収容室２３に収納される。基板収容室２３側に面する第１表面２４から異物捕集室２２側に面する第２表面２６を連通する、仕切部材２１を貫通する複数の貫通孔２７が仕切部材２１に形成されている。これらの貫通孔２７を通じて、基板収容室２３から異物捕集室２２へ異物は重力により移動する。異物捕集室２２に存在する異物は重力に反して基板収容室２３へ戻ることはない。【選択図】  図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
フォトマスク用基板及びフォトマスクブランクの収納ケースであって、
蓋部材と、
前記フォトマスク用基板又はフォトマスクブランクが収納されるケース本体と、
前記ケース本体の内部の空間を、基板収容室と、該基板収容室の下方に位置して前記基板収容室の異物を捕集する異物捕集室とに仕切る仕切部材と、
前記基板収容室に設けられ、フォトマスク用基板又はフォトマスクブランクを支持する支持部材とを備え、
前記仕切部材は、前記基板収容室の異物が、前記仕切部材を通じて前記異物捕集室に移動可能であるとともに、前記異物捕集室から前記基板収容室へ前記異物が移動することを防止する構造を有するフォトマスク用基板及びフォトマスクブランクの収納ケース。
【請求項２】
前記基板収容室に面する前記仕切部材の第１表面と前記異物捕集室に面する前記仕切部材の第２表面とを連通して前記仕切部材を貫通する複数の貫通孔が前記仕切部材に形成されている請求項１に記載のフォトマスク用基板及びフォトマスクブランクの収納ケース。
【請求項３】
前記貫通孔により区画される前記第１表面上の第１開口が、前記貫通孔により区画される前記第２表面上の第２開口より大きい請求項２に記載のフォトマスク用基板及びフォトマスクブランクの収納ケース。
【請求項４】
前記第１表面から前記第２表面に向けて前記貫通孔は先細って形成されている請求項２または３に記載のフォトマスク用基板及びフォトマスクブランクの収納ケース。
【請求項５】
前記貫通孔が、前記第２表面へ向かって前記第１表面に直交する直交方向に対して傾斜して形成されている請求項２または３に記載のフォトマスク用基板及びフォトマスクブランクの収納ケース。
【請求項６】
前記支持部材と前記仕切部材とが一体的に成型されている請求項１ないし５のいずれか一項に記載のフォトマスク用基板及びフォトマスクブランクの収納ケース。
【請求項７】
断面がＬ字型の複数の平板が格子状に平行に並べられて仕切部材が構成されている請求項１に記載のフォトマスク用基板及びフォトマスクブランクの収納ケース。
【請求項８】
前記Ｌ字型の平板は、短辺部、長辺部、及び該短辺部と該長辺部を接続する頂部を有し、該頂部が前記基板収容室側を向き、且つ、該短辺部と該長辺部とが、前記異物捕集室から前記基板収容室への方向に対して傾斜するように、前記Ｌ字型の平板が配置されている請求項７に記載のフォトマスク用基板及びフォトマスクブランクの収納ケース。
【請求項９】
前記仕切部材は、複数の貫通孔を有する２枚の第１及び第２平板から形成されており、第１及び第２平板の貫通孔が互いにオフセットされている請求項１に記載のフォトマスク用基板及びフォトマスクブランクの収納ケース。
【請求項１０】
前記仕切部材は、
前記収納ケースの第１内壁に第１側端が取り付けられる第１平板と、
前記第１内壁に対向する前記収納ケースの第２内壁に第１側端が取り付けられる第２平板とを備えており、
前記第１平板の前記第１側端の反対側の第２側端は、収納ケースの底面に向かって傾斜して延在しており、前記第２平板の前記第１側端の反対側の第２側端は、前記収納ケースの底面に向かって傾斜して延在しており、
前記第１平板の前記第２側端は、前記第２平板と非接触で前記第２平板の下方に延在して、第１平板と第２平板との間に隙間が形成されている請求項１に記載のフォトマスク用基板及びフォトマスクブランクの収納ケース。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フォトリソグラフィに用いられるフォトマスク用基板またはフォトマスクブランクを収納する収納ケースに関する。
【背景技術】
【０００２】
フォトリソグラフィで用いられる露光装置、例えば、半導体露光装置では、ウエハに配線パターンを露光するために、フォトマスクが用いられる。半導体デバイス等の高集積化が進むにつれて、フォトマスクの配線パターンもより一層の微細化が求められている。合成石英ガラスが主に用いられるフォトマスク用基板に、クロムが主に用いられる遮光材料からなる遮光膜を成膜して、フォトマスクブランクに加工する。そして、フォトマスクブランクの上にフォトレジスト材料が塗布される。次いで、露光のための配線パターンがフォトリソグラフィにより形成されて、フォトマスクが製造される。フォトマスク用ブランクを製造するための成膜プロセスとフォトマスクの配線パターンを形成するプロセスとは、フォトマスク用基板の製造現場とは異なる場所で行われる。それゆえに、フォトマスク用基板またはフォトマスクブランクを保管及び運搬する必要が生じる。そのような保管及び運搬には、専用の収納ケースが使用される。ところが、このような収納ケースの内部に異物が存在すると、フォトマスク用基板またはフォトマスクブランクの表面に異物が付着して汚染されることが起こり得る。
【０００３】
ここで、異物とは、収納ケースの一部と材料とが擦れて生じる微粒子や、収納ケースの外部から侵入する埃のように微粒子などである。これらの異物の大きさは、概ね３００μｍ程度である。
【０００４】
従って、収納ケースにフォトマスク用基板またはフォトマスクブランクを収納する前にそれらの表面が清浄であっても、これらを収納した収納ケースを保管している間や収納ケースを搬送している間に、収納ケースの内部に存在する異物がそれらの表面に付着する可能性がある。そのような異物が付着したフォトマスク用基板またはフォトマスクブランクをそのまま用いると最終製品であるフォトマスクの品質が低下する。このため、それらを成膜又はパターニングプロセスに供するに際して、洗浄プロセスが搬送先で必要となる。加えて、異物が付着したフォトマスク用基板またはフォトマスクブランクを搬送先が受けとる場合に、収納ケースに収納される前にフォトマスク用基板またはフォトマスクブランクの表面にその異物が付着したものなのかそれとも収納ケースの収納後に付着したものであるかが不明である。このため、異物の侵入元を特定することが困難である。
【０００５】
上述のような問題を解消するために、表面に異物が付着しないようにフォトマスク用基板またはフォトマスクブランクの表面を清浄に保管する必要がある。このような保管のための手段の一つとして、下記特許文献１は、ファンヒータとエアフィルターとが設けられた収納ケースを開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特表２００４−５３１０６４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、このような収納ケースには、収納ケース内の粒子除去手段、ガス状不純物除去手段、空気調整手段、電源部品を含む運転制御手段などの各種機構が必要であり、収納ケースの構造は複雑となるとともに製造コストが高くなる。加えて、従来の収納ケースでは、ケース開梱時でのケース内部とケース外部との圧力差や輸送の際の振動により、ケース内の異物が、フォトマスク用基板またはフォトマスクブランクに付着し易いという問題があった。
【０００８】
本発明は上記の従来技術の問題点を解消し、構造が簡単で、収納ケース内部に異物が存在していてもフォトマスク用基板またはフォトマスクブランクに付着することを抑止することができるフォトマスク用基板またはフォトマスクブランク用の収納ケースを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明のフォトマスク用基板及びフォトマスクブランクの収納ケースは、蓋部材と、フォトマスク用基板又はフォトマスクブランクが収納されるケース本体と、前記ケース本体の内部の空間を、基板収容室と、該基板収容室の下方に位置して前記基板収容室の異物を捕集する異物捕集室とに仕切る仕切部材と、前記基板収容室に設けられて、フォトマスク用基板又はフォトマスクブランクを支持する支持部材とを備え、前記仕切部材は、前記基板収容室の異物が、前記仕切部材を通じて前記異物捕集室に移動可能であるとともに、前記異物捕集室から前記基板収容室へ前記異物が移動することを防止する構造を有する。
【発明の効果】
【００１０】
本発明のフォトマスク用基板及びフォトマスクブランクの収納ケースは、ケース本体の内部の空間を、基板収容室と異物捕集室とに仕切る仕切部材が、基板収容室に存在する異物を、仕切部材を通じて異物捕集室に移動可能とし、かつ、異物捕集室から基板収容室へ異物が移動することを防止する構造を有しているので、フォトマスク用基板又はフォトマスクブランクを収納ケースで保管又は搬送する場合であっても、基板収容室に収容されているフォトマスク用基板等に異物が付着することを防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の第１実施形態の収納ケースを示す斜視図である。
【図２】図１に示される収納ケースのII−II線断面図である。
【図３】図１に示される収納ケースのIII−III線断面図である。
【図４】本発明の第１実施形態の仕切部材を示す正面図である。
【図５】本発明の第２実施形態の仕切部材を示す正面図である。
【図６】図５に示される仕切部材のVI−VI線断面図である。
【図７】本発明の第２実施形態の変形形態の仕切部材の厚み方向に沿う断面図である。
【図８】本発明の第３実施形態の仕切部材の厚み方向に沿う断面図である。
【図９】本発明の第４実施形態の仕切部材を示す収納ケースの側面断面図である。
【図１０】本発明の第５実施形態の仕切部材を示す収納ケースの部分断面図である。
【図１１】図１０に示される収納ケースのＤ面の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
＜第１実施形態＞
以下に、本発明のフォトマスク用基板またはフォトマスクブランクを収納する収納ケースの構造を図面を参照して説明する。以下の説明では、フォトマスク用基板を収納する場合を説明する。
【００１３】
図１に示すように、収納ケース１１は、蓋（蓋部材）１２とケース本体１３とから主に構成されている。ケース本体１３は扁平な直方体形状をしており、上部が開放されている。ケース本体１３の内部空間１９（図３参照）には、フォトマスク用基板１４が収納される。蓋１２は、ケース本体１３の上部を覆うようにケース本体１３に取り外し可能に取り付けられる。蓋１２の下端とケース本体１３の上端近傍とには、互いの係合を可能とする係合部１５が設けられ、それぞれの係合部には蓋１２の下端外周及びケース本体１３の上端近傍の外周から外側へ突出する鍔部１６ａ，１６ｂが、蓋１２及びケース本体１３を周回している。
【００１４】
図２に示すように、鍔部１６ｂの上面と鍔部１６ａの下面とが接合することでケース本体１３の内部空間１９が密閉される。鍔部１６ａの下面の中央部には溝が形成されてケース本体１３を周回している。この溝には、弾性体であるＯ−リング１７が装着されている。蓋１２とケース本体１３とが係合されるときには、Ｏ−リング１７が、鍔部１６ａの下面と鍔部１６ｂの上面とに密着する。蓋１２とケース本体１３とが係合されたときには、鍔部１６ａ，１６ｂのそれぞれの側面１８ａ，１８ｂは面一となるように鍔部１６ａと鍔部１６ｂとが形成されている。面一となった側面１８ａ，１８ｂを覆うようにテープで固定することで、蓋１２とケース本体１３の係合を確実に固定することができる。更には、このテープによって、ケース本体１３の内部空間の密閉性がより確実に保たれる。
【００１５】
図２及び図３に示すように、ケース本体１３の内部空間１９は、その空間１９を仕切る仕切部材２１によって、異物捕集室２２と基板収容室２３とに仕切られている。基板収容室２３に面する仕切部材２１の第１表面２４（上面）及び基板収容室２３を画成するケース本体１３の内側壁２８には、フォトマスク用基板１４を支持する支持部材２５ａ，２５ｂ，２５ｃ，２５ｄが設けられている。
【００１６】
フォトマスク用基板１４は四角板の形状を有している。例えば、３３０ｍｍ×４５０ｍｍ〜１２２０ｍｍ×１４００ｍｍで示される寸法のフォトマスク用基板１４がケース本体１３に収容される。フォトマスク用基板１４の厚みは、例えば、５μｍ〜１３μｍである。収納ケース１１はこれらのサイズに適した大きさを有する。フォトマスク用基板１４は、例えば、石英ガラスから主に構成されており、酸化チタン等の添加物を加えられた石英ガラスも用いることができるが、特に限定されない。
【００１７】
図２から図４に示すように、支持部材２５ａ，２５ｂ，２５ｃ，２５ｄは、それぞれ直方体状のベースであり、その上面には、長手方向に溝２９が形成されており、フォトマスク用基板１４の下端の一部が、支持部材２５ｃ，２５ｄの溝２９に嵌め込まれる。ケース本体１３の内側壁に設けられている支持部材２５ａ，２５ｂは、その長手方向が仕切部材２１の第１表面２４からケース本体１３の上部に向かう方向に延在するように配置されている。支持部材２５ａ，２５ｂの溝２９にフォトマスク用基板１４の対向する両側端の一部が嵌め込まれる。
【００１８】
支持部材２５ａ，２５ｂ，２５ｃ，２５ｄは、アウトガスを極力発生しにくい素材からなる。具体的には、支持部材２５ａ，２５ｂ，２５ｃ，２５ｄは、ポリテトラフルオロエチレンやテトラフルオロエチレンなどのフッ素系樹脂から形成される。一般に、フッ素系樹脂の摩擦係数は小さいので、フォトマスク用基板１４の端部分に対して摩擦が生じにくい。
【００１９】
図３及び図４に示すように、ケース本体１３の内部空間１９は、平板状の仕切部材２１によって、基板収容室２３と、この基板収容室２３の下方に位置する異物捕集室２２とに仕切られている。第１表面２４と第２表面２６とを連通して仕切部材２１を貫通する複数の貫通長孔２７（貫通溝又は貫通孔）がこの仕切部材２１に形成されている。この複数の貫通長孔２７は、第１表面２４と第２表面２６上では長方形状の第１、第２開口２７ａ，２７ｂとして現れており、仕切部材２１の長手方向に沿って格子状に形成されている。これらの貫通長孔２７は仕切部材２１に均一に分散して形成されている。貫通長孔２７の大きさは異物が通過する大きさ程度である。仕切部材２１は、複数の板部材（貫通長孔２７を画成している部分）が所定間隔（貫通長孔２７の幅）を隔てて互いに平行に且つケース本体１３の高さ方向に傾斜して配列しているとみることもできる。なお、本実施形態では、貫通長孔２７の第１表面２４及び第２表面２６上の第１、第２開口２７ａ，２７ｂは長方形であるが、この形状に限られず、円形または楕円形としてもよい。
【００２０】
この仕切部材２１の貫通長孔２７を通じて、基板収容室２３に存在する異物が、異物捕集室２２に浮遊して移動するか、重力によって落下することができる。そして、異物捕集室２２は基板収容室２３の下部に配置されているので、重力に反して、異物捕集室２２から基板収容室２３へ異物が戻ることが防止される。すなわち、この仕切り部材２１は、基板収容室２３の異物が、仕切部材２１を通じて異物捕集室２２に移動可能であるとともに、異物捕集室２２から基板収容室２３へ異物が移動することを防止する構造を有している。
【００２１】
第１表面２４上の第１開口２７ａを第２表面２６上の第２開口２７ｂより大きくしてもよい。第１開口２７ａの面積は第２開口２７ｂの面積より大きいので、基板収容室２３に存在する異物は、異物捕集室２２へより移動しやすく、一方で、異物捕集室２２に一旦落下した異物は、異物捕集室２２から基板収容室２３へ戻ることが一層有効に防止される。
【００２２】
第２表面２６へ向かって第１表面２４に直交する直交方向３１に対して、貫通長孔２７が傾斜して形成されている。基板収容室２３から異物捕集室２２に落下した後の異物が、例えば、収納ケースの運搬による衝撃等によって直交方向３１に対して逆方向に移動しようとしても、貫通長孔２７が直交方向３１に対して傾斜しているので、貫通長孔２７を構成する壁に異物がぶつかり、異物が基板収容室２３に戻ることが防止される。傾斜する角度は、異物の戻りを有効に防止する観点から、直交方向３１に対して３０から６０°の範囲となることが好ましい。
【００２３】
仕切部材２１は、アウトガスを発生しないあるいはアウトガスを極力発生しにくい素材からなることが好ましい。具体的には、仕切部材２１を金属から構成する。あるいは、ポリテトラフルオロエチレンやテトラフルオロエチレンに代表されるフッ化樹脂から、仕切部材を構成してもよい。また、フッ化樹脂によって、支持部材と仕切部材とを一体的に成型してもよい。仕切部材をフッ化樹脂からなるようにすれば、仕切部材の表面は摩擦係数が極めて小さいので、仕切部材の表面に接触する異物は容易に異物捕集室に落下する。
【００２４】
以下に、フォトマスク用基板を収納する場合における、本発明のフォトマスク用基板を収納する収納ケースの作用を図面を参照して説明する。
【００２５】
図１及び図２に示すように、フォトマスク用基板１４を収納ケースに収容しようとする作業者は、支持部材２５ａ，２５ｂの溝２９にフォトマスク用基板１４の対向する両側端を挿入しつつ、ケース本体１３の上部から第１表面２４に向かってフォトマスク用基板１４を基板収容室２３にスライドさせる。スライド移動の最後に、第１表面２４に設けられている支持部材２５ｃ，２５ｄの溝２９にフォトマスク用基板１４の下端が嵌め込まれる。このようにして、フォトマスク用基板１４を立てた状態で固定して、基板収容室２３に収納することができる。
【００２６】
フォトマスク用基板１４の両側端が支持部材２５ａ，２５ｂの溝２９に嵌め込まれて、フォトマスク用基板１４がスライド移動されると、フォトマスク用基板１４の端部分が支持部材２５ａ，２５ｂ，２５ｃ，２５ｄと摩擦する。支持部材２５ａ，２５ｂ，２５ｃ，２５ｄを構成するフッ化樹脂の摩擦係数は小さいが、そうであっても、この摩擦によって、支持部材２５ａ，２５ｂ，２５ｃ，２５ｄが摩耗して、異物が生じることがある。
【００２７】
前述のような摩擦により生じる異物に加えて、本体ケース１３と蓋１２との密着が何らかの原因で完全ではない場合がある。加えて、作業者が、フォトマスク用基板１４を収納ケース１１に入れる作業をしている間に、基板収容室２３に異物が混入する可能性もある。このような場合には、フォトマスク用基板１４が収納ケース１１に収納された後に、これらの異物は基板収容室２３に存在することになる。この結果、例えば、収納ケース１１を保管又は運搬している間に、フォトマスク用基板１４の表面に異物が付着する可能性が生じる。
【００２８】
図２及び図３に示すような配置で、収納ケース１１を保管している間に、基板収容室２３に存在する異物は、重力により、基板収容室２３から異物捕集室２２へ貫通孔２７を通じて移動する、且つ、異物捕集室２２に捕集された異物は重力に逆らって基板収容室２３へ戻り難い。たとえ、運搬等により収納ケース１１が振動して異物捕集室２２の異物が基板収容室２３に戻ろうとする力が作用したとしても、貫通孔２７が傾斜しているので、貫通孔２７を構成する壁に異物がぶつかり、異物が基板収容室２３に戻ることが防止される。このようにして、基板収容室２３の空間は清浄に保たれる。
【００２９】
＜第２実施形態＞
本発明の収納ケースの第２実施形態を図５及び図６に基づいて説明するが、第１実施形態と共通する構造及び作用についてはその説明を省略する。この実施形態では、第１実施形態の収納ケース１１における仕切部材２１に代えて、図５に示すように、円形状の複数の貫通孔３２が第１表面３４に形成された仕切部材３３を用いる。図６に示すように、貫通孔３２により第１表面３４（上面）上に円形の第１開口３２ａが区画され、第２表面３５上で円形の第２開口３２ｂが区画される。第１開口３２ａは、仕切部材３３の第１表面３４に均一に分散して形成されている。異物捕集室２２に捕集された異物は、貫通孔３２を通らないと、基板収容室２３には戻れないため、この実施形態の仕切部材３３もまた異物の基板収容室２３への戻り防止作用を有する。
【００３０】
図６に示すように、第１開口３２ａの直径（大きさ）ｄ１は第２表面３５上の第２開口３２ｂの直径ｄ２より大きい。このようにすれば、基板収容室２３に面する第１表面３４上の第１開口３２ａの面積は第２表面３５の第２開口３２ｂの面積より大きいので、基板収容室２３に存在する異物は、異物捕集室２２へより移動しやすく、一方で、異物捕集室２２に一旦落下した異物は、異物捕集室２２から基板収容室２３へ戻ることが一層有効に防止される。特に、図６に示すように、第１表面３４から第２表面３５に向けて貫通孔３２を徐々に先細くなるようにすることで、基板収容室２３から異物捕集室２２への異物の移動（落下）が容易となる。なお、第１開口３２ａの直径は第２開口３２ｂの直径と同一であってもよい。
【００３１】
図６に示す仕切部材３３の変形形態として、図７に示すように、収納ケースの長手方向あるいは短手方向に沿った位置に応じて、貫通孔３７の第１表面３６上の第１開口３７ａの直径を変更した仕切部材１３３を構成してもよい。例えば、支持部材２５ｃ，２５ｄの近くの第１開口３７ａの直径ｄ３が大きくなるようにして、支持部材２５ｃ，２５ｄから離れた部分の貫通孔３８の第１開口３８ａの直径ｄ４をその直径ｄ３より小さくするように、貫通孔が設けられる位置に応じて、第１表面３６上の第１開口３７ａ，３８ａの直径を変更してもよい。このようにすれば、支持部材２５ｃ，２５ｄ近傍等の基板収容室２３の特定の位置に存在する異物をより効率的に異物捕集室２２へ捕集することが可能となる。なお、貫通孔が設けられる位置に応じて、第２表面上の第２開口３７ｂ，３８ｂの直径を変更してもよい。また、上記の実施形態及び変形形態の場合には、貫通孔３２（３７，３８）の第１表面３４（３６）上あるいは第２表面３５上の第１、第２開口３２ａ，３２ｂ（３７ａ，３７ｂ及び３８ａ，３８ｂ）は円形状であるが、この形状に限られず、四角形でも楕円形でもよい。開口の形状が円形以外の場合には、特に仕切部材の長手方向における開口の長さによって、開口の大きさを定めてもよい。
【００３２】
＜第３実施形態＞
本発明の収納ケースの第３実施形態を図８に基づいて説明するが、第１実施形態と共通する構造及び作用についてはその説明を省略する。この実施形態では、第１実施形態の収納ケース１１における仕切部材２１に代えて、図８に示すように、２枚の第１，２平板３９，４０とを組み合わせて、仕切部材２３３を構成してもよい。第１及び第２表面７３，７４に直交する直交方向７５に沿って、各平板部材３９，４０を貫通する複数の貫通孔７１，７２（貫通溝）がそれぞれの平板３９，４０に形成されている。貫通孔７１，７２は、第１表面７３及び第２表面７４上では長方形状であり、第１，２平板部材３９，４０の長手方向に沿って格子状に形成されている。第１表面７３の上方から視て、貫通孔７１と貫通孔７２とがずれるように、第１、２平板３９，４０の長手方向に沿って第１平板３９と第２平板４０とがオフセットされて配置されている。加えて、第１平板３９と第２平板４０との間に空間７６が形成されるように、第１平板３９と、第２平板４０とが間隔を隔てて平行に配置されている。本実施形態では、貫通孔７１，７２を第１表面７３及び第２表面７４上で長方形であるが、この形状に限られず、図５に示すように、貫通孔７１，７２を円形状としてもよい。
【００３３】
基板収容室２３の異物が第１平板３９に形成されている貫通孔７１に重力によって侵入してから、異物が空間７６に移動する。そして、空間７６の異物は、重力によって第２平板４０に形成されている貫通孔７２に侵入して、異物捕集室２２に移動する。異物捕集室２２に一旦入った異物が、例えば、収納ケース１１の運搬による衝撃等によって、貫通孔７２から基板収容室２３に移動しようとしても、その異物は、第２平板４０又は第１平板３９の表面にぶつかり、異物は基板収容室２３に戻ることが防止される。
【００３４】
＜第４実施形態＞
本発明の収納ケースの第４実施形態を図９に基づいて説明するが、第１実施形態と共通する構造及び作用についてはその説明を省略する。この実施形態では、第１実施形態の収納ケース１１における仕切部材２１に代えて、図９に示すように、断面がＬ字型の複数のＬ型平板４４を格子状に平行に並べて、仕切部材４５を構成してもよい。複数のＬ型平板４４を、収納ケースの長手方向に横切った格子状に配置する。Ｌ型平板４４は、短辺部４４ａと長辺部４４ｂと、それらを接続する頂部４１とを有しており、頂部４１の反対側の側端となる長辺部４４ｂの側端を第１谷部４２とし、頂部４１の反対側の側端となる短辺部４４ａの側端を第２谷部４３とする。この頂部４１が、異物捕集室２２から基板収容室２３への方向に向くようにＬ型平板４４が配置されており、加えて、異物捕集室２２から基板収容室２３への方向に対して、短辺部４４ａと長辺部４４ｂとが傾斜するように、Ｌ型平板４４が配置されている。仕切部材４５の頂部４１を仮想的につないで形成される第１想像面ＩＳ１が第１表面２４に相当する。仕切部材の第１谷部４２を仮想的につないで形成される第２想像面ＩＳ２が第２表面２６に相当する。仕切部材の第２谷部４３をつないで仮想的に形成される想像面を第３想像面ＩＳ３とする。
【００３５】
貫通孔４６は、第２想像面ＩＳ２へ向かって第１想像面ＩＳ１に直交する直交方向４７に対して傾斜して形成されており、かつ、この直交方向４７に沿って第１想像面ＩＳ１から第３想像面ＩＳ３まで、貫通孔４６が徐々に先細くなっている。これにより、基板収容室２３側から視た貫通孔４６の断面積は、第３想像面ＩＳ３における貫通孔４６の断面積より常に大きい。このため、異物は、基板収容室２３から第３想像面ＩＳ３まで移動しやすい。
【００３６】
貫通孔４６を形成するＬ型平板４４の面は、第１想像面ＩＳ１から第３想像面ＩＳ３に向かって第１想像面ＩＳ１に直交する直交方向４７に対して傾斜している。このため、例えば、収納ケースの運搬による衝撃等によって、異物捕集室２２にある異物がこの直交方向４７に対して逆方向に移動しようとしても、貫通孔４６を形成する異物捕集室２２側のＬ型平板４４の面に異物がぶつかり、異物が基板収容室２３に戻ることは防止される。また、第３想像面ＩＳ３上の貫通孔４６の断面積が、第１想像面ＩＳ１から第２想像面ＩＳ２のうちの貫通孔４６の断面積と比較して最小となっており、第３想像面ＩＳ３から第２想像面ＩＳ２までの間においては、貫通孔４６の各想像面に平行な断面積は、第３想像面ＩＳ３上の貫通孔４６の断面積より常に大きい。このため、第２想像面ＩＳ２と第３想像面ＩＳ３との間で、仮に、異物が、異物捕集室２２から基板収容室２３へ向かおうとする場合であっても、頂部４１を構成するＬ型平板４４の異物捕集室２２側の面に異物が向かい、Ｌ型平板４４の面に異物がぶつかることになる。このため、異物は、異物捕集室２２から基板収容室２３へより戻りにくい。
【００３７】
＜第５実施形態＞
本発明の収納ケースの第５実施形態を図１０及び図１１に基づいて説明するが、第１実施形態と共通する構造及び作用についてはその説明を省略する。この実施形態では、第１実施形態の収納ケース１１における仕切部材２１に代えて、図１０及び図１１に示すような仕切部材６０を用いる。仕切部材６０は、第１平板５１と第２平板５６を有する。第１平板５１の長手方向に沿う第１側端５２が、収納ケース５４の長手方向に沿う第１内壁５３に取り付けられており、収納ケース５４の底面に向けて第１側端５２の反対側の第２側端５５は、収納ケース５４の底面に向かって傾斜して延在するように、第１平板５１が収納ケース５４に設けられている。一方、第１内壁５３に対向する第２内壁５８に、第２平板５６の長手方向に沿う第１側端５７が取り付けられており、第２平板５６の第１側端５７の反対側の第２側端５９は、収納ケースの底面に向かって傾斜して延在するように、第２平板５６が収納ケース５４に設けられている。
【００３８】
収納ケース５４の短手方向の中央部分に、支持板６３が長手方向に沿って設けられている。その支持板６３に、支持部材２５ｃ，２５ｄが設けられている。図１に示される第１実施形態と同様に、ケース本体６４の内側壁には、図示しない支持部材２５ａ，２５ｂが設けられている。これらの支持部材２５ａ，２５ｂ，２５ｃ，２５ｄによって、フォトマスク用基板は基板収容室６１に固定して収納される。
【００３９】
図１１に示すように、第１平板５１の第２側端５５は、第２平板５６と接触することなく第２平板５６の下方に延在して、第１平板５１と第２平板５６との間に隙間６５が形成されている。この隙間６５によって、基板収容室６１と異物捕集室６２とは空間的に繋がっている。第１平板５１及び第２平板５２とが共に傾斜しているので、第１平板５１及び第２平板５２の表面にある異物は隙間６５に向かう。加えて、基板収容室６１の異物はこの隙間６５から異物捕集室６２に移動可能である。異物捕集室６２に移動した異物は重力に反して、基板収容室６１に戻ることが防止される。
【００４０】
更には、収納ケース５４を横向きに倒したときには、異物捕集室６２の異物は、第１平板５１とあるいは第２平板５６と、異物捕集室６２の内壁との間に位置する異物捕集室６２の空間６６ａ，６６ｂに移動しやすくなり、異物捕集室６２に捕集された異物は基板収容室６１に戻りにくい。従って、収納ケース５４を開梱する時に、作業者が収納ケース５４を横倒しにしても、フォトマスク用基板１４が汚染されることが防止される。
【００４１】
上記の実施形態では、フォトマスク用基板を収納ケースに収納する場合を説明してきたが、フォトマスクブランクも同様に収納することが可能である。
【符号の説明】
【００４２】
１１                収納ケース
１２                蓋
１３                ケース本体
１４                フォトマスク用基板
２１                仕切部材
２２                異物捕集室
２３                基板収容室
２４                第１表面
２５ａ，２５ｂ，２５ｃ，２５ｄ  支持部材
２６                第２表面
２７                貫通長孔
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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