(57)【要約】      （修正有）【課題】被研磨物保持材に対するドレッシング時間の短縮、被研磨物へのスクラッチ抑制、薄肉基板における反り精度、板厚精度及び使用寿命を向上させた経済的にも有利な被研磨物保持材を提供する。【解決手段】金属板、繊維強化プラスチック板、プラスチック板の何れかの板状材料４の基層からなる両面に、熱硬化性接着剤を介して、液晶ポリマーフィルム１層を接合してなる被研磨物保持材、または、複数枚の熱硬化性樹脂を含浸させたガラス長繊維基材２（プリプレグ）の両面に液晶ポリマーフィルム１層を積層してなる被研磨物保持材。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属板、繊維強化プラスチック板、プラスチック板の何れかの板状材料からなる基層または熱硬化性樹脂を含浸させた複数枚のガラス長繊維基材からなる基層とその両面に積層したフィルム層とからなる被研磨物保持材であって、前記フィルム層が厚さ２５〜１５０μｍの液晶ポリマーフィルムからなることを特徴とする被研磨物保持材。
【請求項２】
前記板状材料からなる基層とその両面に積層したフィルム層とからなる被研磨物保持材であって、基層とフィルム層が熱硬化性接着剤で接合されてなることを特徴とする請求項１記載の被研磨物保持材。
【請求項３】
前記熱硬化性樹脂を含浸させた複数枚のガラス長繊維基材からなる基層とその両面に積層したフィルム層とからなることを特徴とする請求項１記載の被研磨物保持材。
【請求項４】
太陽ギアと、外周に前記太陽ギアと噛み合うギアと被研磨物が嵌め込まれる貫通孔とを有する被研磨物保持材であって、自転しつつ前記太陽ギアの周りを公転する遊星運動が可能な被研磨物保持材と、前記被研磨物保持材の前記ギアと噛み合うインターナルギアと、前記貫通孔に嵌め込まれ、前記被研磨物保持材の遊星運動により回転する被研磨物を研磨する研磨器と、を備えた研磨装置であって、前記被研磨物保持材は請求項１から３のいずれかに記載の被研磨物保持材で形成されている、研磨装置。
【請求項５】
請求項４に記載の研磨装置を用いた被研磨物の研磨方法であって、前記被研磨物を前記貫通孔に嵌め込み、かつ、前記被研磨物保持材を遊星運動させた状態において、被研磨物を前記研磨器で研磨する、被研磨物の研磨方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、シリコンウエハ、ハードディスクなどの被研磨物を回転研磨する研磨工程において、前記被研磨物を保持するための被研磨物保持材、この被研磨物保持材を用いた研磨装置及び被研磨物の研磨方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
シリコンウエハ、ハードディスクなどの製造工程には、これらの表面を研磨する工程があり、この研磨工程では、シリコンウエハ、ハードディスクなどの被研磨物を保持するための被研磨物保持材が用いられている。この被研磨物保持材は、駆動用のギアを周囲に形成した円板に、被研磨物保持用の貫通孔を１個又は複数個あけた構造を有する。前記貫通孔に被研磨物を嵌め込んで研磨装置に装着し、被研磨物保持材を平面で駆動させることにより被研磨物の研磨が行われる。
従来、被研磨物保持材として、電気絶縁用積層板を加工したものが用いられていた。この電気絶縁用積層板は、熱硬化性樹脂を含浸、乾燥させたシ一卜状基材（プリプレグ）の層を加熱加圧成形したものである。電気絶縁用積層板としては、例えば、綿布基材フェノ−ル樹脂積層板、ガラス繊維織布基材エポキシ樹脂積層板、ガラス繊維不織布基材エポキシ樹脂積層板、ガラス繊維織布基材とガラス繊維不織布基材を複合したコンポジットエポキシ樹脂積層板などがある。この中で、綿布基材フェノール樹脂積層板とガラス繊維織布基材エポキシ樹脂積層板が、被研磨物保持材として多用されている。
【０００３】
被研磨物保持材に要求される特性は、耐摩耗性，板厚精度，反り特性などである。また、近年、研磨物に要求される品質や性能が高くなるに伴い、被研磨物におけるスクラッチ（研磨傷）の発生が抑制された被研磨物保持材が求められている。従来、被研磨物保持材に使用されている積層板は、本来、電気絶縁用であるため、被研磨物保持材に要求される特性、特に研磨物におけるスクラッチ発生の抑制の点で不充分であった。
これらの改善のため、被研磨物にスクラッチを発生させない被研磨物保持材を形成する材料として、アラミド系繊維、特に高強度であるパラ系アラミド繊維が採用されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
有機繊維であるアラミド繊維は、ガラス繊維等の無機繊維と比較すると硬度が低い。このため、アラミド繊維基材で構成した被研磨物保持材を用いると、ガラス繊維基材等の無機繊維基材で構成した被研磨物保持材を用いた場合よりも、被研磨物に対するスクラッチの深さが浅いので、得られた研磨物が不良となる割合が減少する。しかしながら、近年、被研磨物保持材に対するさらなる耐摩耗性の向上が求められている。また、基板の薄肉化に伴って、被研磨物保持材に対する、反りや板厚精度のよい被研磨物保持材が求められている。
【０００５】
その様な改善のために高強度繊維であるポリアリレート繊維を基材として用いるものが提案されている（例えば、特許文献２〜５）。
また、プリプレグとして機械的強度がガラス繊維等に比べ比較的弱い有機繊維を使用しながらも、その表面にフィルム層を積層した構造で、スクラッチ発生抑制、機械的強度維持を目的とした提案もされている（例えば、特許文献６）。
さらに、被研磨物保持材に対しては、ドレッシング処理時間の短縮化という課題が挙げられる。ドレッシングとは、被研磨物保持材を使用する前に表面の樹脂皮膜を除去し、繊維面等を露出させる処理である。ところが、被研磨物保持材成形後の表面樹脂層の厚さがばらつくため、ドレスアップ（ドレッシング終了）後に表面に露出している繊維と熱硬化性樹脂の面積比率が一定ではなくなることがあり、それらを回避するために、研磨レートを調整しなければならない。実工程では、過剰にドレッシングして繊維基材を表面に露出させているため、これが工程での処理時間の増大につながっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平１１―３０９６６７号公報
【特許文献２】特開平１０−１４６７５４号公報
【特許文献３】特開２００１−３８６０９号公報
【特許文献４】特開２００３−６２７４９号公報
【特許文献５】特開２００４−１１４２０８号公報
【特許文献６】特開２００２−５９３６２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は上記事情に鑑みなされたもので、被研磨物保持材のドレッシング時間短縮、スクラッチ発生抑制、反り精度、板厚精度及び使用寿命の向上等機械的特性向上を含めた経済的に有利な被研磨物保持材、それを用いた研磨装置及び製造方法を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果、厚さが２５〜１５０μｍの液晶ポリマーフィルム層を、板状材料または熱硬化性樹脂を含浸させた複数枚のガラス長繊維基材からなる基層の両面に積層してなる被研磨物保持材により、前記目的が達成されることを見出した。本発明はかかる知見に基づいて完成したものである。
すなわち、本発明は、以下の被研磨保持材、それら被研磨物保持材を用いた研磨装置及び研磨物の製造方法を提供するものである。
（１）金属板、繊維強化プラスチック板、プラスチック板の何れかの板状材料からなる基層または熱硬化性樹脂を含浸させた複数枚のガラス長繊維からなる基層とその両面に積層したフィルム層とからなる被研磨物保持材であって、前記フィルム層の厚さが２５〜１５０μｍの液晶ポリマーフィルムからなることを特徴とする被研磨物保持材。
（２）前記板状材料からなる基層とその両面に積層したフィルム層とからなる被研磨物保持材であって、基層とフィルム層が熱硬化性接着剤で接合されてなることを特徴とする上記（１）記載の被研磨物保持材。
（３）前記熱硬化性樹脂を含浸させた複数枚のガラス長繊維からなる基層とその両面に積層したフィルム層とからなることを特徴とする上記（１）記載の被研磨物保持材。
（４）太陽ギアと、外周に前記太陽ギアと噛合複数ギアと被研磨物が嵌め込まれる貫通孔とを有する被研磨物保持材であって、自転しつつ前記太陽ギアの周りを公転する遊星運動が可能な被研磨物保持材と、前記被研磨物保持材の前記噛合複数ギアと噛み合うインターナルギアと、前記貫通孔に嵌め込まれ、前記被研磨物保持材の遊星運動により回転する被研磨物を研磨する研磨器と、を備えた研磨装置であって、前記被研磨物保持材は（１）から（３）のいずれかに記載の被研磨物保持材で形成されている、研磨装置。
（５）上記（４）に記載の研磨装置を用いた被研磨物の研磨方法であって、前記被研磨物を前記貫通孔に嵌め込み、かつ、前記被研磨物保持材を遊星運動させた状態において、被研磨物を前記研磨器で研磨する、被研磨物の研磨方法。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、被研磨物保持材の基層の両面に液晶ポリマーからなるフィルム層を積層しているため、反りが低減され、板厚精度が良好で、かつドレッシング時間の短縮が可能となる。また、研磨物の製造に際して本発明の被研磨物保持材を用いると、繊維基材等が表面に露出していないため被研磨物におけるスクラッチ発生が抑制され、研磨物の製造歩留まりが向上し、かつ使用寿命が長くなることから、トータルでの研磨物のコストが低く抑えられる等経済的に有利な被研磨物保持材を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の被研磨物保持材の断面構成を模式的に示す断面図である。
【図２】本発明の被研磨物保持材及び従来品のドレスアップを模式的に示す断面図である。
【図３】本発明の被研磨物保持材の研磨器への装着を示す平面図である。
【図４】本発明の被研磨物保持材の研磨器への装着を示す正面図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
本発明の被研磨物保持材は、金属板、繊維強化プラスチック板、プラスチック板の何れかの板状材料からなる基層または熱硬化性樹脂を含浸させた複数枚のガラス長繊維基材からなる基層とその両面に積層したフィルム層とからなる被研磨物保持材であって、前記フィルム層が厚さ２５〜１５０μｍの液晶ポリマーフィルムからなる。
液晶ポリマーは、熱溶融時に液晶性を示し、分子構造により全芳香族系と半芳香族系にわけることができる。本発明で使用する液晶ポリマーフィルム（成形品）としては、全芳香族ポリエステルフィルムが好ましく、基本的に剛性、強度、耐熱性、成形性にすぐれ、しかも金属並みに低い線膨張係数であり、ポリイミドの２０分の１以下という低吸水性を特徴としている。上記に該当する全芳香族液晶ポリエステルフィルムとして、ベクスター（商品名、クラレ株式会社製）、バイアック（商品名、ジャパンゴアテックス株式会社製）等の市販品が挙げられる。これらを使用することにより、研磨レートが均一で、反り精度、板厚精度及び使用寿命が向上した被研磨物保持材が得られる。
【００１２】
前記液晶ポリマーフィルムの厚みは、これを使用する被研磨物の種類や研磨条件に応じて適宜選択され、通常２５〜１５０μｍ、好ましくは３５〜１２０μｍ、特に好ましくは５０〜１００μｍである。当該厚みが２５μｍ以上であると、被研磨物保持材の反りが抑制されかつ使用寿命がより長くなる。当該厚みが１５０μｍ以下であると、フィルム材料にかかるコストをより低く抑えることができ好ましい。また、総板厚に対する前記液晶ポリマーフィルムの占める厚みを５０％以下に抑えると、保持材全体としての機械的強度をより強く維持できるため好ましい。
【００１３】
前記液晶ポリマーフィルムには、板状材料、または熱硬化性樹脂を含浸させたガラス長繊維との密着性を向上させるため表面処理を施してもよい。かかる表面処理方法は特に限定されないが、例えば、コロナ処理、プラズマ処理、紫外線処理、フレーム処理、化学処理、プライマー処理などを挙げることができる。
【００１４】
本発明の研磨物保持材は、図１（Ａ）に示すように、金属板、繊維強化プラスチック板、プラスチック板などの板状材料４からなる基層の両面に、好ましくは熱硬化性接着剤３を介し、前記液晶ポリマーフィルム１を積層して一体に加熱加圧成形して得られる。熱硬化性接着剤は接着シートとしても良いし、また前記液晶ポリマーフィルムの接着面側に公知の方法により塗布し、乾燥させることにより得られる。
【００１５】
前記液晶ポリマーフィルム上への熱硬化性接着剤の塗布は、具体的には、バーコート法、ナイフコー卜法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法等の公知の塗布方法により行うことができ、塗布後、乾燥処理し、半硬化状態とすることにより接着層が得られる。
【００１６】
本発明に使用する熱硬化性接着剤としては、特に限定されないが、（Ａ）エポキシ樹脂、（Ｂ）エポキシ樹脂硬化剤、（Ｃ）硬化促進剤、（Ｄ）エラストマ−及び（Ｅ）無機充填剤からなるものが好ましい。
【００１７】
（Ａ）成分のエポキシ樹脂としては、１分子中に２以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂が使用できる。具体的には、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、グリシジルエーテル型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、またはビフェニル骨格を含有する多官能エポキシ樹脂の何れか、もしくは、これらエポキシ樹脂を２種以上混合したものを使用できる。
【００１８】
（Ｂ）成分の硬化剤としては、ジシアンジアミド、芳香族ジアミンなどのアミン系硬化剤及びフェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、トリアジン変性フェノールノボラック樹脂、ビフェニル骨格含有フェノールノボラック樹脂等のフェノール系硬化剤等を使用できる。
【００１９】
（Ｃ）成分の硬化促進剤としては、２−エチル−４−メチルイミダゾール、１−ベンジル−２−メチルイミダゾール等のイミダゾール化合物及び三フッ化ホウ素アミン錯体、トリフェニルホスフィン等を使用できる。
【００２０】
（Ｄ）成分のエラストマーとしては、アクリルゴム、アクリロニトリルブタジエンゴム、カルボキシル基含有アクリロニトリルブタジエンゴム等の各種合成ゴム、ゴム変性の高分子量化合物、高分子量エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、変性ポリイミド、変性ポリアミドイミド、ポリビニルアセタール等の何れか、もしくは、これらを２種以上混合したものを使用できる。
【００２１】
（Ｅ）成分の無機充填剤としては、公知のものを特に制限なく使用できる。具体的には、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、酸化ケイ素及びアルミナ等が使用できる。
【００２２】
本発明の板状材料としては、金属板、繊維強化プラスチック板、プラスチック板などが用いられ、具体的には金属板としてチタンやステンレス鋼の板、繊維強化プラスチック板としてガラスエポキシ板などのＦＲＰ板、プラスチック板としてエンジニアリングプラスチックやスーパーエンジニアリングプラスチックの板などが挙げられる。
前記板状材料の厚さはシリコンウエハ、ハードディスクなど被研磨物の種類や研磨条件により適宜調整される。
【００２３】
本発明の研磨物保持材は、図１（Ａ）に示すように、板状材料４からなる基層に、熱硬化性接着剤３が付いた液晶ポリマーからなるフィルム層１を両面に配置し、２枚の鏡面板で挟み込み、熱プレスにより、温度が１５０〜２００℃、好ましくは１５０〜１７０℃、圧力が５〜５０ＭＰａ、好ましくは１５〜３５ＭＰａ、またプレス保持時間が９０〜１５０分間、加熱加圧して一体に成形して得られる。
【００２４】
また、本発明の研磨物保持材は、図１（Ｂ）に示すように、熱硬化性樹脂を含浸させたガラス長繊維基材（プリプレグ）２を複数枚重ね合わせて、さらに前記フィルム層１を両面に配置し、鏡面板に挟み込み、プレス熱盤間で加熱加圧成形しても良い。
【００２５】
ガラス長繊維に含浸する熱硬化性樹脂については特に限定されないが、前記接着剤組成物と同様に（Ａ）エポキシ樹脂、（Ｂ）エポキシ樹脂硬化剤、（Ｃ）硬化促進剤、および（Ｄ）エラストマーからなるものが好ましい。
前記被研磨物保持材の成形は通常、熱プレスにより、温度が１７０〜２００℃、圧力が５〜５０ＭＰａ、プレス保持時間が９０〜１５０分間、加熱加圧して行われる。熱硬化性樹脂を含浸させたガラス長繊維の使用枚数はシリコンウエハ、ハードディスクなど被研磨物の種類や研磨条件により適宜調整される。
【００２６】
本発明の被研磨物保持材の厚みは、これを使用する被研磨物の種類や研磨条件に応じて適宜選択され、通常０．３〜２．０ｍｍ程度、好ましくは０．４〜１．０ｍｍである。本発明の被研磨物保持材は、シリコンウエハやハードディスクなどを研磨する工程において好適に使用される。被研磨物保持材の形態としては、キャリアディスクなどが挙げられるが、加工可能であれば、特に制限されるものではない。
【００２７】
本発明の研磨装置は、図３に例示するように、太陽ギア１１と、外周に前記太陽ギア１１と噛合複数ギア８と被研磨物１０が嵌め込まれる貫通孔９とを有する被研磨物保持材であって、前記被研磨物保持材が自転しつつ前記太陽ギア１１の周りを公転する遊星運動が可能な被研磨物保持材と、前記被研磨物保持材の前記噛合複数ギア８と噛み合うインターナルギア１２と、前記貫通孔９に嵌め込まれ、前記被研磨物保持材の遊星運動により回転する被研磨物１０を研磨する研磨器と、を備えた研磨装置であって、前記被研磨物保持材は前記（１）から（３）のいずれかに記載の被研磨物保持材で形成されている、研磨装置である。
さらに、該研磨装置の構成主要部である、図４に例示する研磨器にあっては、上下に対向する回転盤１４、１５を配置し、それら回転盤１４、１５の対向するそれぞれの面に研磨布１６、１７が貼られており、この研磨布１６、１７には図示しないが、研磨剤が供給される構成となっている。太陽ギア１１は、回転盤１５の上部中心に配置され、インターナルギア１２は回転盤１４、１５の外周側全周にわたり設けられ、固定用リング枠１３で固定されている。
被研磨物１０の研磨にあっては、まず、回転盤１４と回転盤１５との距離を十分にとり、キャリアディスク７の貫通孔９に被研磨物１０を嵌め込み、キャリアディスクを研磨器に装着する。次に、回転盤１４を垂直に下降させ、研磨布１６、１７の面を被研磨物１０の表面に近接、接触させる。つづいて、研磨布１６、１７に研磨剤を含むスラリー状物質等を外部から供給しながら、太陽ギア１１を回転させることにより遊星運動を開始させ、同時に回転盤１４、１５を互いに逆方向に回転させて、所定の研磨を行う。
本発明はさらに、上記に記載の研磨装置を用いた被研磨物の研磨方法であって、前記被研磨物１０を前記貫通孔９に嵌め込み、かつ、前記被研磨物保持材を遊星運動させた状態において、被研磨物１０を前記研磨器で研磨する、被研磨物の研磨方法をも提供する。
【００２８】
本発明の被研磨物保持材は、ドレスアップして使用に供される。図２は矢印の左側にドレスアップ前、右側にドレスアップ後の断面（被研磨物保持材の片側表面層ならびに接着層、基層の一部）を模式的に表したものである。本発明の被研磨物保持材は図２（１）（基層がプリプレグ）及び（２）（基層が板状材料）に示すように、表面から研磨によりドレッシング（（１）の右側及び（２）の右側）されるが、液晶ポリマーフィルム層で被覆されているため平滑で均一な表面が得られており、ドレッシングは短時間（少量）でよい。これに対して、図２（３）及び（４）に示すように、表面にフィルム層の積層はなくプリプレグのみからなる従来品は、表面樹脂層を除去して繊維基材を露出（（３）の右側）させる必要がある。ところが、表面樹脂層の厚さが異なると、繊維基材が表面に露出するまでの時間に差が出てしまう。例えば、図２（３）のように樹脂表面層と繊維基材までの距離が図２（４）に比べ短い場合、図２（３）の被研磨物保持材に合わせて短時間（少量）でドレスアップ条件を設定すると、図２（４）のように距離が長い場合、繊維基材が表面に露出してないため、研磨レートが早くなったり、被研磨物保持材が薄くなってしまうおそれがある。
【実施例】
【００２９】
次に、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によってなんら限定されるものではない。
【００３０】
実施例１、２及び比較例１、２に係る積層板を作製するにあたり、プリプレグ用熱硬化性樹脂組成物１及びフィルム層接着用熱硬化性樹脂組成物２の調製を行った。
〔樹脂組成物１（プリプレグ用）〕
熱硬化性樹脂としてビスフェノールＡ型エポキシ樹脂のエピコー卜１００１（油化シェルエポキシ株式会社製、商品名）７０質量部及びクレゾールノボラックエポキシ樹脂のＹＤＣＮ−７０４Ｐ（東都化成株式会社製、商品名）２５質量部、硬化剤としてジシアンジアミド３質量部及び２Ｅ４ＭＺ（四国化成工業株式会社製、２−エチル−４−メチルイミダゾール）０．０７質量部、カルボキシル基含有アクリロニトリルブタジエンゴムとしてニポール１０７２（日本ゼオン社製  商品名、ニトリル含量２７）５部からなる混合物に、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルを加えて固形分５５質量％の樹脂組成物１を調製した。
【００３１】
〔樹脂組成物２（フィルム層接着用）〕
カルボキシル基含有アクリロニトリルブタジエンゴムとしてニポール１０７２（日本ゼオン社製  商品名、ニトリル含量２７）２００部、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂としてエピコート１００１（油化シェル社製  商品名、エポキシ当量４７０）３２０部、クレゾールノボラックエポキシ樹脂としてＹＤＣＮ−７０３Ｐ（東都化成社製  商品名、エポキシ当量２１０）１４７部、フェノールノボラック樹脂としてＢＲＧ５５８（昭和高分子社製  商品名、水酸基価１０６）１４６部、フェノキシホスファゼンオリゴマーとしてＳＰＢ―１００（大塚化学社製  商品名、燐含有率１３％）６５質量部、ポリリン酸メラミンとしてＰＨＯＳＭＥＬ２００（日産化学社製  商品名、燐含有率１２％）１６３部、劣化防止剤として２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール（川口化学社製）１部、水酸化アルミニウムとしてＨ−４２Ｉ（昭和電工社製  商品名）１００部、及び硬化促進剤として２−エチル−４−メチルイミダゾール０．５部からなる混合物に、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭ）及びメチルエチルケトン（混合質量比３０：７０）を加えて、固形分４０％の樹脂組成物２を調製した。
【００３２】
[実施例１]
前記樹脂組成物１を、汎用のＥガラスの長繊維からなるＡ２１１６／ＡＳ４５０（商品名、旭シェーベル社製、目付１０６g／ｍ2、厚さ０．１ｍｍの平織り織布）に塗布し、含浸及び乾燥による半硬化を行い、質量比率４３％のプリプレグＡを得た。
前記プリプレグＡ６枚からなる基層に、該基層両面に厚さ１００μｍの芳香族液晶ポリエステルフィルムであるベクスター（商品名、クラレ株式会社製）を積層、２枚の鏡面板で挟持し、熱盤間に１０セット仕込み、昇温速度２．０℃／分、硬化温度１７５℃、時間６０分、圧力３．０ＭＰａの条件下で加熱加圧成形を行い、積層板１を得た。
【００３３】
[実施例２]
厚さ１００μｍの芳香族液晶ポリエステルフィルムであるベクスター（商品名、クラレ株式会社製）の片側の面に、前記樹脂組成物２を乾燥後の厚さが１０μｍとなるようにロールコーターで塗布し、加熱乾燥し、接着剤付きフィルム層を形成した。
【００３４】
板状材料である厚さ０．６０ｍｍのガラスエポキシ基板ＴＬＢ−５５１（商品名、京セラケミカル社製）からなる基層の両面に前記接着剤付きフィルム層を積層し、２枚の鏡面板で挟持し、実施例１と同様にして積層板２を得た。
【００３５】
[比較例１]
ポリアリレート短繊維「ベクトラン  ＨＴタイプ」（クラレ社製）を用いた目付６２g／ｍ2の不織布に前記樹脂組成物１を塗布し、含浸及び乾燥による半硬化を行い、樹脂分が質量比率６０％のプリプレグＢを得た。
プリプレグＡ６枚からなる基層の両面にプリプレグＢを１枚ずつ配置し、計８枚のプリブレグを、２枚の鏡面板で挟持し、実施例１と同様にして積層板３を得た。
【００３６】
[比較例２]
前記プリプレグＡを８枚重ね合せ、２枚の鏡面板で挟持し、実施例１と同様にして積層板４を得た。
【００３７】
実施例１、２及び比較例１、２で得られた積層板１〜４をルーターマシンにて外形加工し、１２Ｂ〔ＤＰ（ダイヤメトラルピッチ）１２、歯数１３４、外径２８７．８６ｍｍ〕の外周形状と、５０ｍｍφの孔１２個を形成することによって、被研磨物保持材（キャリアディスク）を作製した。なお、上記１２Ｂとは、歯車用語であって「１２インチ区分のサイズの、Ｂ仕様区分」を意味する。
【００３８】
上記実施例及び比較例で得られた積層板１〜４から作製したキャリアディスクの特性を、以下に示す方法により評価した。結果を表１に示す。
（１）反り
キャリアディスクを平盤に平置きしてその浮き上がり値を測定した。
（２）板厚精度
同一キャリアディスクの２０点の板厚を測定し、最大値と最小値の差を算出した。
（３）傷発生率（研磨試験）
キャリアディスクで保持された厚さ０．８ｍｍのアルミニウムウエハを１０サイクル研磨した後、アルミニウムウエハの表面状態を観察し、傷発生率を算出した。
（４）使用寿命
キャリアディスクのギア部の摩耗の程度で評価した。すなわち、使用可能な摩耗程度における使用可能なバッチ数を調べ、比較例２における使用可能なバッチ数を１００としたときの指数で表した。
【００３９】
【表１】
2012139803.tif 000003
【産業上の利用可能性】
【００４０】
研磨物の製造に際して本発明の被研磨物保持材を用いると、被研磨物におけるスクラッチが低減され、研磨物の製造歩留まりが向上し、さらにドレッシング時間の短縮、被研磨物保持材の長寿命化が達成されるため、トータルで研磨物のコスト低減にもつながる。本発明の被研磨物保持材は、シリコンウエハやハードディスクなどを研磨する工程において、キャリアディスクなどの形態で好適に使用される。
【符号の説明】
【００４１】
１    液晶ポリマーフィルム
２    熱硬化性樹脂を含浸した繊維基材
３    接着剤層
４    板状材料
５    繊維基材
６    ドレスアップによって削り取られる部分
７    研磨用キャリアディスク（被研磨物保持材）
８    噛合複数ギア
９    貫通孔
１０  被研磨物
１１  太陽ギア
１２  インターナルギア
１３  固定用リング枠
１４  上部回転盤
１５  下部回転盤
１６  下部研磨布
１７  上部研磨布
【図１】
2012139803.tif 000004
【図２】
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【図３】
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【図４】
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