(57)【要約】【課題】大型の基板であっても、安定して搬送することができ、同時に、搬送する基板の下方に充分なスペースを確保することができる搬送機構を提供することにある。  さらに、係る搬送機構によって基板を安定に搬送しながら効率良く真空処理を行いうる真空処理装置を提供することにある。【解決手段】駆動軸に回転運動を付与する駆動系と、駆動軸に該駆動軸の中央に最も径が大きいコロを有するローラーとを具備し、ローラーに接触する金属ベルトを、駆動系でローラーを回転させることにより進行させて、金属ベルト上の被搬送物を順次移送させることを特徴とする搬送機構であり、及びそれを備えた真空処理装置である。【選択図】図1
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
駆動軸に回転運動を付与する駆動系と、前記駆動軸に該駆動軸の中央に最も径が大きいコロを有するローラーとを具備し、前記ローラーに接触する金属ベルトを、前記駆動系で前記ローラーを回転させることにより進行させて、前記金属ベルト上の被搬送物を順次移送させることを特徴とする搬送機構。
【請求項２】
複数のプロセスチャンバを有し、前記プロセスチャンバに被搬送物を搬送するための搬送機構を備えた真空処理装置であって、前記搬送機構として、請求項１に記載の搬送機構を少なくとも１台備えていることを特徴とする真空処理装置。
【請求項３】
前記金属ベルトに対して被搬送物が載置される側と反対側に、加熱又は冷却の独立したユニットが配置されることを特徴とする真空処理装置。
【請求項４】
被搬送物が、少なくとも一辺が１ｍを超えるガラス基板であることを特徴とする請求項２又は３に記載の真空処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶パネルの製造工程等で使用される、被搬送物としてガラス基板のような大型基板の搬送にも対応した搬送機構、及び、該搬送機構を用いた真空処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、例えば、液晶パネルの成膜処理を行う真空処理装置において、ガラスのような大型基板を水平にした状態で搬送する（以下、水平搬送という）ために、特許文献１，２に開示されたような搬送機構が提案されている。
【０００３】
特許文献１には、基板の搬送方向に配列した複数のローラーシャフトに複数の幅の細いローラーを適当な間隔で配置した搬送機構が開示されている。
【０００４】
また、特許文献２には、基板の大型化に伴い、基板にダメージを与えず安定的に搬送を行うことを主眼とした機構として、予め撓んだシャフトにローラーを具備した搬送ローラーを備えた搬送機構が開示されている。
【０００５】
上記のとおり、大型基板を安定的に搬送させることは、基板へのダメージを抑制することになり、装置の安定稼動に寄与するものである。また、最近の成膜プロセスの多様化とその性能の安定化に対する要望に呼応するために、成膜処理時における、例えば、加熱や冷却性能の制御を容易にする機構を基板搬送の近傍に設置できる真空処理装置を提供することが必要であった。
【０００６】
特に、基板を水平搬送する場合に、搬送される基板の下部（真空処理装置の底面上）にそれらの機構が設置できる真空処理装置を提供することは、成膜プロセスの多様化とその性能の安定化において重要なことである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００４−３３８８９３号公報
【特許文献２】特開２００４−３５２４２７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
特許文献１，２に開示された真空処理装置においては、搬送する基板の下部にローラーシャフトやそれに具備される複数のローラーを支持するための軸受けや支持部が必要となる。
【０００９】
その理由は、基板の幅方向において、ローラーが基板に均等に接して、基板を前方に均等に押し出す必要があるためである。基板の自重による垂れ下がりや加熱雰囲気による撓み量増加などにより、ローラーが基板に均等に接していない場合には、基板を押し出す力が該幅方向において不均一になるため、搬送方向が歪んだり、結果として基板自体にダメージを与える恐れがある。
【００１０】
また、上記した軸受けや支持部は、搬送方向に直交する方向（幅方向）の中央付近の装置底部に設置されるため、係る位置に加熱や冷却機構を独立したユニット形式で設置しようとすると、スペースに制約を受けることになる。そのため、幅方向の中央付近に充分なスペースを確保することができる搬送機構が望まれていた。
【００１１】
本発明の課題は、大型の基板であっても、安定して搬送することができる搬送機構を提供することにある。また、同時に、搬送する基板の下方に充分なスペースを確保することができる搬送機構を提供することにある。
【００１２】
本発明においては、さらに、係る搬送機構によって基板を安定に搬送しながら効率良く真空処理を行いうる真空処理装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明の第１は、駆動軸に回転運動を付与する駆動系と、前記駆動軸に該駆動軸の中央に最も径が大きいコロを有するローラーとを具備し、前記ローラーに接触する金属ベルトを、前記駆動系で前記ローラーを回転させることにより進行させて、前記金属ベルト上の被搬送物を順次移送させることを特徴とする搬送機構である。
【００１４】
本発明の第２は、複数のプロセスチャンバを有し、前記プロセスチャンバに被搬送物を搬送するための搬送機構を備えた真空処理装置であって、前記搬送機構として、前記本発明の搬送機構を少なくとも１台備えていることを特徴とする真空処理装置である。
【００１５】
本発明の第３は、前記金属ベルトに対して前記被搬送物が載置される側と反対側に、加熱又は冷却の独立したユニットが配置されることを特徴とする真空処理装置である。
【００１６】
本発明の第４は、前記被搬送物が、少なくとも一辺が１ｍを超えるガラス基板であることを特徴とする真空処理装置である。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の搬送機構においては、金属ベルトを使用して大型のガラス基板等の被搬送物の撓みに合わせて金属ベルトの中央部が凸形状になるように搬送するため、金属ベルトと被搬送物の密着性が向上し、被搬送物の幅方向において均等に被搬送物を押し出すことができ、大型の基板であっても安定して被搬送物を搬送することができる。
【００１８】
また、金属ベルトを支えるローラーは、少なくとも両端で支持して十分な張力と搬送速度が得られればよく、従来のローラーのような、ローラーの幅方向中央部で下方からローラーを支える軸受けや支持部を設ける必要がない。
【００１９】
そのため、該ワイヤーの下方において充分なスペースを確保することができ、真空処理装置において、被搬送物の下方に加熱や冷却パネル等を設置することができる。さらに、金属ベルトと被搬送物との密着性が向上するため温度分布の均一性を改善することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明に係る搬送機構を用いた真空処理装置の側面図である。
【図２】本発明に係る搬送機構を用いた真空処理装置を上から見た平面図である。
【図３】本発明に係る搬送機構の駆動ローラーの断面図である。
【図４】本発明に係る搬送機構のフリーローラーの断面図である。
【図５】本発明の真空処理装置の一実施形態であるインライン型の真空処理装置の概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
本発明の搬送機構は、電子デバイスを製造するための真空処理装置に好ましく適用されるが、本発明において電子デバイスとは、電子技術を利用した装置全般を指す。例えば、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の各種表示用素子、太陽電池等である。
【００２２】
図１は、本発明の搬送機構の一実施形態を用いた真空処理装置の概略構成を示す正面図である。また、図２は係る搬送機構を用いた真空処理装置を上から見た平面図である。尚、図１においては、便宜上、図２に示した一部の部材を省略している。
【００２３】
本発明の搬送機構は、被搬送物として、一辺が１ｍ以上のガラス基板の搬送に適しており、例えば、Ｇ５（１１００ｍｍ×１３００ｍｍ）対応のガラス基板である。
【００２４】
図１、図２において、符号６は係る被搬送物である基板であり、本例においては、係る基板６を金属ベルト１の上に載置して、直接、金属ベルト１を前方に押し出して搬送する駆動ローラー２と、該駆動ローラー２のガイド用としてフリーローラー３から構成される。
【００２５】
駆動ローラー２は、駆動軸５に取り付けられており、駆動軸５の先には、不図示のモータ等の駆動系が配置されている。それにより、駆動ローラー２に接する金属ベルト１は基板６を搬送する。
【００２６】
一方、フリーローラー３は、基板６を載置した金属ベルト１の搬送時の受け渡しをスムーズにさせるため、駆動系は持たずに駆動ローラー２の前後に配置する。
【００２７】
また、符号１２は、補助ローラー１２であり、補助ローラー１２で金属ベルト１の両端部分を押さえ込むことができ、金属ベルト１の走行を安定させて基板６の搬送方向を安定させるための部材である。なお、金属ベルト１にテンションを与えるためのテンションローラー４が配置されていてもよい。
【００２８】
さらに、金属ベルト１をはさんで上部には上部ヒータ７、下部には下部ヒータ８を配置することで、基板６の表裏の温度差を制御することができる構成にしてもかまわない。
【００２９】
図３により本発明に係る駆動ローラー２と、図４によりフリーローラー３について詳細に説明する。
【００３０】
図３は、駆動ローラー２の断面図（図２図示のA-A断面）であり、図４は、駆動ローラー２と同様の方向から見たフリーローラー３の断面図である。
【００３１】
図３及び図４に示されるように、駆動ローラー２及びフリーローラー３は、駆動軸５に複数個のリング状コロ１１が配置している。
尚、図４においては、便宜上、図３に示した一部の符号を省略している。
【００３２】
本発明に係る搬送機構が有する駆動ローラー２は、図３に示されるように、駆動軸５の中央部分９に配置されるリング状コロ１１の外径が、駆動軸５の両端部分１０に配置されるリング状コロ１１の外径より大きく、金属ベルト１の巾方向の中心位置に該当する駆動軸５に配置されるリング状コロ１１の外径を最も大きいものにすることを特徴としている。
【００３３】
この場合、最も大きい外径を有するリング状コロ１１は１つのときでも、複数個のときでもかまわない。
また、この場合、中央部分９と両端部分１０で外径における回転速度が異なるため、中央部分９のリング状コロ１１は駆動軸５と連結し、両端部分１０のリング状コロ１１は軸受（不図示）等で駆動軸５に対してフリーになるようにし、分割した構造としている。
【００３４】
このように、金属ベルト１の中央部分９が膨らんだ凸形状にすることで、その位置に載置した基板６も自重や熱膨張の影響で撓み、凸形状に撓んだ基板６との密着性は向上する。
【００３５】
さらに、基板６の大きさや板厚、または材質によって、撓ませる量が異なるが、リング状コロ１１の組み合わせを変えることで、基板６の撓みに最適な凸形状を作り出すことも可能である。
なお、補助ローラー１２は、両端部分１０のテーパー形状に合わせるように傾斜がついている。金属ベルト１の厚みを薄くすることで、補助ローラー１２が金属ベルト１を押さえ込むことができ、金属ベルト１はローラー形状に沿って凸形状となる。
【００３６】
係る構成の搬送機構により、不図示の駆動系が駆動ローラー２の駆動軸５を回転させると、駆動軸５に連結したリング状コロ１１が金属ベルト１に順次接触することにより、金属ベルト１上に載せられた基板６は駆動軸５の回転方向の前方に搬送する。
【００３７】
一方、上述のとおり、フリーローラー３は、基板６を載置した金属ベルト１の搬送時の受け渡しをスムーズにさせるために、駆動系は持たずに駆動ローラー２の前後に配置されるものであり、図４のように、一実施例として、本発明に係る搬送機構が有する駆動ローラー２と構造的な特徴を合わせてもかまわない。
【００３８】
次に、本発明の真空処理装置について説明する。
【００３９】
本発明の真空処理装置は、複数のプロセスチャンバと、該チャンバに順次基板を搬送するための搬送機構を備えており、係る搬送機構として、前記した本発明の搬送機構を少なくとも１台備えていることを特徴とする。
【００４０】
図５は、本発明の搬送機構を備えた真空処理装置の一例の構成を示す斜視図である。図中、符号３０はそれぞれプロセスチャンバ（プロセスチャンバとしてカソード３１を搭載したスパッタチャンバを含む）であり、紙面手前側から奥側に向かって、本発明の搬送機構で基板２０を搬送しながら各チャンバ内において所定の処理を行う。
【００４１】
図６に示すように、本発明の搬送機構を備えた真空処理装置においては、チャンバ３０内において、幅方向中央部に従来のようなローラーを支持するための軸受けや支持部等を設ける必要がない。そのため、充分なスペースが確保され、所望の装置、部材を設置することができる。
【００４２】
よって、電子デバイスの成膜プロセス上、基板の加熱や冷却が必要な場合において、基板の上方だけでなく、下方にも温度調整パネル４０を載置することができ、効率良く成膜プロセスを行うことができる。
【００４３】
以上の実施形態で説明された構成、形状、大きさおよび配置関係については本発明が理解・実施できる程度に概略的に示したものにすぎない。従って本発明は、説明された実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に示される技術的思想の範囲を逸脱しない限り様々な形態に変更することができる。
【符号の説明】
【００４４】
１  金属ベルト
２  駆動ローラー
３  フリーローラー
４  テンションローラー
５  駆動軸
６、２０  基板
７  上部ヒータ
８  下部ヒータ
９  中央部分
１０  両端部分
１１  リング状コロ
１２  補助ローラー
３０  プロセスチャンバ
３１  カソード
【図１】
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【図２】
2012121715.tif 000004
【図３】
2012121715.tif 000005
【図４】
2012121715.tif 000006
【図５】
2012121715.tif 000007