(57)【要約】【課題】ミストと光による刺激とで施術部を効率よく施術可能とした美容装置を提供する。【解決手段】ミストを生成するミスト生成部５，７と、ミストを施術部に向かって噴出するミスト吐出口１４ａ，１４ｂと、ミスト生成部からミスト吐出口にミストを移送するミスト案内管１６と、施術部に光を照射する光源部１５ａ，１５ｂとを備えた美容装置において、複数のミスト吐出口１４ａ，１４ｂと、ミスト案内管１６に介在され、ミスト吐出口１４ａ，１４ｂの中からいずれか一つを選択してミストを供給する切り替え手段１７とを備えた。【選択図】図１０
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ミストを生成するミスト生成部と、
前記ミストを施術部に向かって噴出するミスト吐出口と、
前記ミスト生成部から前記ミスト吐出口に前記ミストを移送するミスト案内管と、
前記施術部に光を照射する光源部と
を備えた美容装置において、
複数の前記ミスト吐出口と、
前記ミスト案内管に介在され、前記ミスト吐出口の中からいずれか一つを選択して前記ミストを供給する切り替え手段と
を備えたことを特徴とする美容装置。
【請求項２】
請求項１に記載の美容装置において、
前記各ミスト吐出口の近傍にそれぞれ設けられた前記光源部と、
前記切り替え手段を制御して前記ミストを噴出するミスト吐出口を順次変更するとともに、選択された前記ミスト吐出口の近傍に位置する前記光源部以外の光源部を選択して動作させる制御部と
を備えたことを特徴とする美容装置。
【請求項３】
請求項２に記載の美容装置において、
前記制御部は、ミスト量を調整する複数のモードで前記ミスト生成部を制御することを特徴とする美容装置。
【請求項４】
請求項２又は３に記載の美容装置において、
前記制御部は、前記光源部から照射される光照射量を調整する複数のモードで前記光源部を制御することを特徴とする美容装置。
【請求項５】
請求項２乃至４のいずれか１項に記載の美容装置において、
前記制御部は、非選択状態から選択状態に移行するミスト吐出口の近傍に位置する光源部を、あらかじめ設定された時間の経過後に非選択とすることを特徴とする美容装置。
【請求項６】
複数のミスト吐出口の中からミストを噴出するミスト吐出口を順次変更するとともに、複数の光源部の中から、選択された前記ミスト吐出口の近傍に位置する光源部以外の光源部を選択して動作させることを特徴とする美容装置の制御方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、ミストと光による刺激とで肌面のスキンケアを行うようにした美容装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、水等の液体をミスト化して使用者の肌面等の施術部に向けて噴霧するとともに、施術部に光を照射して、施術部に張りや潤いを与える美容装置が提案されている。
特許文献１には、皮膚の水分量を検出した水分量データに基づいて光源部からの光出力を制御するようにした美容器具が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００９−２８２７５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記のような美容装置では、ミスト吐出口から吐出されるミストと、照射光とが干渉すると、照射光がミストにより散乱して、施術部に充分な照射光が届かないという問題点がある。
【０００５】
また、特許文献１に開示された美容器具の制御部では、ミストの吐出量の制御は、一つのミスト吐出口からミストを吐出するか否かを選択する構成である。従って、施術部が広範囲であっても、固定された一方向に吐出されるミストの吐出を制御する構成であるため、広範囲の施術部を一様に施術することが困難である。
【０００６】
この発明の目的は、ミストと光による刺激とで施術部を効率よく施術可能とした美容装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明の美容装置は、ミストを生成するミスト生成部と、前記ミストを施術部に向かって噴出するミスト吐出口と、前記ミスト生成部から前記ミスト吐出口に前記ミストを移送するミスト案内管と、前記施術部に光を照射する光源部と
を備えた美容装置において、複数の前記ミスト吐出口と、前記ミスト案内管に介在され、前記ミスト吐出口の中からいずれか一つを選択して前記ミストを供給する切り替え手段とを備えることを特徴とする。
【０００８】
また、上記構成において、前記各ミスト吐出口の近傍にそれぞれ設けられた前記光源部と、前記切り替え手段を制御して前記ミストを噴出するミスト吐出口を順次変更するとともに、選択された前記ミスト吐出口の近傍に位置する前記光源部以外の光源部を選択して動作させる制御部とを備えることが好ましい。
【０００９】
また、上記構成において、前記制御部は、ミスト量を調整する複数のモードで前記ミスト生成部を制御することが好ましい。
また、上記構成において、前記制御部は、前記光源部から照射される光照射量を調整する複数のモードで前記光源部を制御することが好ましい。
【００１０】
また、上記構成において、前記制御部は、非選択状態から選択状態に移行するミスト吐出口の近傍に位置する光源部を、あらかじめ設定された時間の経過後に非選択とすることが好ましい。
【００１１】
また、本発明の美容装置の制御方法は、複数のミスト吐出口の中からミストを噴出するミスト吐出口を順次変更するとともに、複数の光源部の中から、選択された前記ミスト吐出口の近傍に位置する光源部以外の光源部を選択して動作させることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、ミストと光による刺激とで施術部を効率よく施術可能とした美容装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】第一の実施形態の美容装置を示す概略図である。
【図２】第一の実施形態の美容装置を示す概略図である。
【図３】第一の実施形態の美容装置の動作を示すフローチャートである。
【図４】第二の実施形態の美容装置の動作を示すフローチャートである。
【図５】第三の実施形態の美容装置の動作を示すフローチャートである。
【図６】第四の実施形態の美容装置の動作を示すフローチャートである。
【図７】第五の実施形態の美容装置を示す概略図である。
【図８】第五の実施形態の美容装置の動作を示すフローチャートである。
【図９】第六の実施形態の美容装置を示す概略図である。
【図１０】第六の実施形態の美容装置を示す概略図である。
【図１１】第六の実施形態の美容装置の動作を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
（第一の実施形態）
この実施形態の美容装置は、この発明の基本となる機能を備えたものであり、光照射部と、ミスト生成部とを備え、照射光とミストとの干渉による照射光の散乱を低減する機能を備えている。その具体的構成を説明すると、図１及び図２に示すように、臼状の外形を備えた本体１の上面一側にタンク収容部２が開口され、そのタンク収容部２に給水タンク３が着脱可能に収容されている。また、給水タンク３は本体１の上面とほぼ面一となるように前記タンク収容部２に収容される。
【００１５】
前記タンク収容部２に収容された給水タンク３の下端部には給水管４の一端が接続され、その給水管４の他端は前記本体１内の中央下部に配設されるボイラ室５の下部に接続されている。そして、給水タンク３からボイラ室５にミスト溶液６が供給されるようになっている。
【００１６】
前記ボイラ室５の内側面にはヒーター７が取着され、前記本体１内においてボイラ室５の側方には基板上に制御回路及びタイマー等を搭載した制御部８が配設されている。そして、制御部８によりヒーター７及び後記光源部１１の動作が制御され、ヒーター７が作動すると、ボイラ室５内のミスト溶液６が加熱されてミストが生成される。ヒーター７の作動は、強、弱の２段階のモードで制御され、弱モードではミストの生成量が少なくなる。
【００１７】
前記ボイラ室５の上部にはミスト案内管９の一端が接続されている。ミスト案内管９は前記本体１の上面に開口されるミスト吐出口１０に接続されされている。そして、ボイラ室５内で生成されたミストは、ミスト案内管９を経て、ミスト吐出口１０から噴出されるようになっている。
【００１８】
また、前記ミスト吐出口１０は、前記本体１の上面において、使用者の肌面（施術部）に向かってミストを噴出する角度に開口されている。
前記本体１の上面において、前記ミスト吐出口１０に隣接する位置には、光源部１１が設けられている。光源部１１は、前記ミスト吐出口１０の開口方向と同方向に光を照射するように配設され、その動作は前記制御部８により制御される。また、前記ミスト吐出口１０は、前記光源部１１より顔等の施術部に近くなるように、光源部１１よりミスト吐出方向に突出している。
【００１９】
前記本体１の上面には電源スイッチ１２が配設されている。前記制御部８は、電源スイッチ１４のオン操作に基づいて、前記ヒーター７及び光源部１１のオン・オフ動作等を制御する。
【００２０】
次に、上記のように構成された美容装置の作用を図３に従って説明する。
電源が投入されると（ステップ１）、制御部８の動作によりタイマーのカウントアップが開始されるとともに（ステップ２）、光源部１１がオンされて、施術部への光の照射が開始される（ステップ３）。
【００２１】
次いで、ヒーター７が弱モードで作動して（ステップ４）、ボイラ室５で少量のミストが生成される。そして、使用者がミスト吐出口１０の近傍に肌面を晒すと、ミスト吐出口１０から噴出されるミストが肌面に供給される。
【００２２】
タイマーのカウント時間Ｔがあらかじめ設定された時間Ｔ１を超えるまでヒーター７が弱モードで動作し（ステップ５）、カウント時間ＴがＴ１を越えると、光源部１１がオフされる（ステップ６）。
【００２３】
次いで、ヒーター７が強モードでの動作に切り替えられる（ステップ７）。すると、ボイラ室５で生成されるミストの生成量が増大し、そのミストが施術部に噴出される。そして、タイマーのカウント時間Ｔがあらかじめ設定された時間Ｔ２を越えると、光源がオンされて施術部への光の照射が再開され（ステップ９）、電源スイッチ１２がオフされるまでこの状態が維持される。
【００２４】
また、光源部１１の照射モードに、強、弱の２段階のモードを設定し、ステップ６で光源部１１を強モードから弱モードに切り替えるようにしてもよい。
上記のような美容装置では、次に示す効果を得ることができる。
（１）施術開始時にはヒーター７を弱モードで動作させながら光源部１１で施術部を照射することができる。従って、施術開始時にはミストの噴出を制限して、ミストによる照射光の散乱を防止することができるので、施術部を充分に照射して活性化することができる。
（２）所定時間ミストの噴出を制限した後は、光の照射を停止し、ミストの噴出量を増大させることにより、施術部に充分な水分量を供給することができる。そして、十分な水分量を供給した後に光源部１１をオンさせて、施術部を照射することができる。従って、施術部に十分な照射光とミストを供給して、張りや潤いを与えることができる。
（第二の実施形態）
図４は、第二の実施形態を示す。この実施形態の制御部８は、ヒーター７を強、弱の２モードで制御することに代えて、光源部１１を、強、弱の二段階のモードで制御する機能を備えている。その他の構成は、前記第一の実施形態と同様であり、以下にその作用を説明する。
【００２５】
電源が投入されると（ステップ１１）、制御部８の動作によりタイマーのカウントアップが開始されるとともに（ステップ１２）、ヒーター７がオンされてミスト吐出口１０からのミストの吐出が開始される（ステップ１３）。そして、光源部１１がオンされて、施術部への光の照射が開始される（ステップ１４）。ステップ１４において、光源部１１は強モードで光を照射する。
【００２６】
そして、タイマーのカウント時間Ｔがあらかじめ設定された時間Ｔ１を超えるまで光源部１１が強モードで動作し（ステップ１５）、カウント時間ＴがＴ１を越えると、ヒーター７がオフされて、ミストの吐出が停止される（ステップ１６）。
【００２７】
次いで、光源部１１が弱モードで動作して（ステップ１７）、施術部に弱い光が照射される。
次いで、タイマーのカウント時間Ｔがあらかじめ設定された時間Ｔ２を越えると（ステップ１８）、ヒーター７がオンされて施術部へのミストの噴出が再開され（ステップ１９）、電源スイッチ１２がオフされるまでこの状態が維持される。
【００２８】
この実施形態の美容装置では、次に示す効果を得ることができる。
（１）施術開始時にはヒーター７を動作させながら光源部１１を強モードで動作させて施術部を照射することができる。従って、施術開始時にはミストによる照射光の散乱が発生しても、施術部を充分に照射して活性化することができる。
（２）施術開始から所定時間の間、光源部１１を強モードで動作させた後、ヒーター７をオフさせ、光源部１１を弱モードで動作させることにより、施術部に充分な光を照射することができる。そして、施術部を十分に活性化した後に、ヒーター７をオンさせて施術部にミストを供給することができる。従って、施術部に十分な照射光とミストを供給して、張りや潤いを与えることができる。
（第三の実施形態）
図５は、第三の実施形態を示す。この実施形態の制御部８は、ヒーター７と光源部１１を、交互に動作させる機能を備えている。その他の構成は、前記第一の実施形態と同様であり、以下にその作用を説明する。
【００２９】
電源が投入されると（ステップ２１）、制御部８の動作によりタイマーのカウントアップが開始されるとともに（ステップ２２）、ヒーター７がオンされてミスト吐出口１０からのミストの吐出が開始される（ステップ２３）。
【００３０】
そして、タイマーのカウント時間Ｔがあらかじめ設定された時間Ｔ１を超えると、ヒーター７がオフされて、ミストの吐出が停止される（ステップ２４，２５）。
次いで、光源部１１がオンされて施術部への光の照射が開始され（ステップ２６）、タイマーのカウント時間Ｔがあらかじめ設定された時間Ｔ２を越えると、光源部１１がオフされる（ステップ２７，２８）。
【００３１】
そして、ヒーター７がオンされて施術部へのミストの噴出が再開され（ステップ２９）、この後は電源スイッチ１２がオフされるまでヒーター７と光源部１１が所定時間毎に交互にオンされる（ステップ３０）。
【００３２】
この実施形態の美容装置では、次に示す効果を得ることができる。
（１）ヒーター７と光源部１１を交互にオンさせて、施術部へのミストの吐出と光の照射を交互に行うことができる。従って、ミストによる照射光の散乱を防止して、施術部を充分に照射して活性化することができる。
（２）施術部に十分な照射光とミストを供給して、張りや潤いを与えることができる。
（第四の実施形態）
図６は、第四の実施形態を示す。この実施形態の制御部８は、ヒーター７と光源部１１がオンされるタイミングをずらして動作させる機能を備えている。その他の構成は、前記第一の実施形態と同様であり、以下にその作用を説明する。
【００３３】
電源が投入されると（ステップ３１）、制御部８の動作によりタイマーのカウントアップが開始されるとともに（ステップ３２）、ヒーター７がオンされてミスト吐出口１０からのミストの吐出が開始される（ステップ３３）。
【００３４】
そして、タイマーのカウント時間Ｔがあらかじめ設定された時間Ｔ１を超えると、光源部１１がオンされる（ステップ３５）。すると、施術部にはミストが供給されるとともに、光が照射される。
【００３５】
次いで、タイマーのカウント時間Ｔがあらかじめ設定された時間Ｔ２を超えると（ステップ３６）、ヒーター７がオフされてミストの供給が停止される（ステップ３７）。
次いで、タイマーのカウント時間Ｔがあらかじめ設定された時間Ｔ３を超えると（ステップ３８）、光源部１１がオフされる（ステップ３９）。この後、ヒーター７がオンされてミストの供給が再開され、電源スイッチ１２がオフされるまで、ステップ３４〜３９と同等の動作が繰り返される（ステップ４０）。
【００３６】
この実施形態の美容装置では、次に示す効果を得ることができる。
（１）ヒーター７と光源部１１を、タイミングをずらしてオンさせて、施術部へのミストの吐出と光の照射とを、タイミングをずらして行うことができる。従って、ミストによる照射光の散乱を低減して、施術部を充分に照射して活性化することができる。
（２）施術部に十分な照射光とミストを供給して、張りや潤いを与えることができる。
（第五の実施形態）
図７及び図８は、第五の実施形態を示す。この実施形態は、図７に示すように、ミスト案内管９に開閉弁１３を介在させたものであり、その他の機械的構成は、前記第一の実施形態と同様である。第一の実施形態と同一構成部分は、同一符号を付して説明する。
【００３７】
前記開閉弁１３は、制御部８によりその開閉動作が制御され、ヒーター７がオフされるとき閉じられ、ヒーター７のオン動作に先立って開かれる。開閉弁１３が閉じられると、ボイラ室５からミスト吐出口１０へのミストの供給が直ちに停止される。
【００３８】
次に、上記のように構成された美容装置の作用を図８に従って説明する。
電源が投入されると（ステップ４１）、制御部８の動作によりタイマーのカウントアップが開始されるとともに（ステップ４２）、ヒーター７がオンされてミスト吐出口１０からのミストの吐出が開始される（ステップ４３）。このとき、開閉弁１３は開かれている。
【００３９】
そして、タイマーのカウント時間Ｔがあらかじめ設定された時間Ｔ１を超えると、ヒーター７がオフされて、ミストの吐出が停止される（ステップ４４，４５）。
次いで、開閉弁１３が閉じられ（ステップ４６）、光源部１１がオンされて施術部への光の照射が開始される（ステップ４７）。そして、タイマーのカウント時間Ｔがあらかじめ設定された時間Ｔ２を越えると（ステップ４８）、開閉弁１３が開かれ（ステップ４９）、光源部１１がオフされる（ステップ５０）。
【００４０】
そして、ヒーター７がオンされて施術部へのミストの噴出が再開され、この後は電源スイッチ１２がオフされるまでヒーター７と光源部１１が所定時間毎に交互にオンされる（ステップ５１）。
【００４１】
この実施形態の美容装置では、第三の実施形態で得られた効果に加えて、次に示す効果を得ることができる。
（１）ヒーター７をオフさせて、ミストの吐出を停止するとき、開閉弁１３が閉じられて、ボイラ室５からミスト吐出口１０へのミストの移送が完全に遮断される。従って、ヒーター７を停止させるとき、ミスト吐出口１０からのミストの吐出を直ちに停止させることができる。
（第六の実施形態）
図９〜図１１は、第六の実施形態を示す。この実施形態は、ミスト吐出口及び光源部を複数設けたこと以外の機械的構成は、第一の実施形態と同様である。第一の実施形態と同一構成部分は、同一符号を付して説明する。
【００４２】
図９に示すように、本体１の上面にはミストを並行に噴出可能とした２つの第一及び第二のミスト吐出口１４ａ，１４ｂが横方向に並設されている。各ミスト吐出口１４ａ，１４ｂの下方には、ミスト吐出口１４ａ，１４ｂと並行に光を照射可能とした第一及び第二の光源部１５ａ，１５ｂがそれぞれ配設されている。前記ミスト吐出口１４ａ，１４ｂの間隔は、顔を施術部としたとき、顔の左右部分にミストを吐出するように、３〜１０ｃｍの間隔が確保されている。
【００４３】
図１０に示すように、ボイラ室５から前記ミスト吐出口１４ａ，１４ｂにミストを移送するミスト案内管１６は、ボイラ室５とミスト吐出口１４ａ，１４ｂとの間で分岐して、前記第一及び第二のミスト吐出口１４ａ，１４ｂにそれぞれ接続されている。
【００４４】
前記ミスト案内管１６の分岐部には切り替え弁１７が設けられている。そして、切り替え弁１７は前記制御部８により制御されて、ボイラ室５で生成されたミストを前記第一及び第二のミスト吐出口１４ａ，１４ｂのいずれかに供給するように切り替えられる。
【００４５】
前記第一及び第二の光源部１５ａ，１５ｂは、制御部８によりいずれか一方ずつ交互にオンされる。そして、第一のミスト吐出口１４ａからミストが吐出されるとき、第一のミスト吐出口１４ａから離れて位置する第二の光源部１５ｂのみがオンされる。また、第二のミスト吐出口１４ｂからミストが吐出されるとき、第二のミスト吐出口１４ｂの近傍に位置しない第一の光源部１５ａのみがオンされるように制御される。
【００４６】
次に、上記のように構成された美容装置の作用を図１１に従って説明する。
電源が投入されると（ステップ６１）、制御部８の動作によりタイマーのカウントアップが開始される（ステップ６２）。
【００４７】
次いで、切り替え弁１７が制御されて、例えば第一のミスト吐出口１４ａがボイラ室５と連通（オン）されるとともに、第二のミスト吐出口１４ｂがボイラ室５と遮断（オフ）される（ステップ６３）。
【００４８】
次いで、ヒーター７がオンされて第一のミスト吐出口１４ａからのミストの吐出が開始され（ステップ６４）、第一の光源部１５ａがオフされるとともに、第二の光源部１５ｂがオンされる（ステップ６５）。
【００４９】
そして、タイマーのカウント時間Ｔがあらかじめ設定された時間Ｔ１を超えると、切り替え弁１７が制御されて、第一のミスト吐出口１４ａがボイラ室５と遮断されるとともに、第二のミスト吐出口１４ｂがボイラ室５と連通される（ステップ６７）。
【００５０】
次いで、第一の光源部１５ａがオンされるとともに、第二の光源部１５ｂがオフされ（ステップ６８）、この後は電源スイッチ１２がオフされるまで所定時間毎に、切り替え弁１７の切り替えと第一及び第二の光源部１５ａ，１５ｂの切り替えが繰り返される（ステップ６９）。
【００５１】
この実施形態の美容装置では、次に示す効果を得ることができる。
（１）第一のミスト吐出口１４ａからミストを噴出するとき、第二の光源部１５ｂのみをオンさせ、第二のミスト吐出口１４ｂからミストを噴出するとき、第一の光源部１５ａのみをオンさせる。従って、施術部へのミストの吐出と光の照射を、第一及び第二のミスト吐出口１４ａ，１４ｂと第一及び第二の光源部１５ａ，１５ｂとで互い違いに行うことができるので、ミストによる光の散乱を低減して、施術部を充分に照射して活性化することができる。
（２）第一及び第二のミスト吐出口１４ａ，１４ｂと、第一及び第二の光源部１５ａ，１５ｂにより、例えば顔面の左右を広範囲に施術することができる。
（３）施術部に十分な照射光とミストを供給して、張りや潤いを与えることができる。
【００５２】
上記実施形態は、以下の態様で実施してもよい。
・第五の実施形態において、ミストの吐出を停止させるとき、ボイラ室５の内圧が高くならない範囲で、ヒーター７を停止させず、開閉弁１３の制御のみで対応してもよい。
・第六の実施形態に、第一の実施形態のヒーターの強弱モード制御、第二の実施形態の光源部の強弱モード制御、第四の実施形態のヒーターと光源部をオンさせるタイミングをずらすような制御等を組み合わせてもよい。
・上記各実施形態において、ミストはボイラ室で生成される温ミストの他、超音波ミスト、ベンチュリーミスト等を使用してもよい。
【符号の説明】
【００５３】
５…ミスト生成部（ボイラ室）、７…ミスト生成部（ヒーター）、８…制御部、１４ａ，１４ｂ…ミスト吐出口、１１，１５ａ，１５ｂ…光源部、１６…ミスト案内管、１７…切り替え手段（切り替え弁）。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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