(57)【要約】【課題】電子透かしを導入した構造表示体の生産性又は意匠性の向上。【解決手段】  少なくとも近赤外線の一部の帯域を吸収する構造吸収素子（２）により形成した網点電子透かしを構造表示体画像（１）中の少なくとも一部に導入したことを特徴とする構造表示体。赤外線光源と、光散乱素子及び検出素子を有し光散乱素子を介して検出素子で画像を読み取る画像読み取り装置と、読み取った画像から電子透かし情報を解析する情報処理装置と、解析した情報を出力する出力装置を具備した前記構造表示体から電子透かし情報を読み取ることを特徴とする電子透かし読み取り装置。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも近赤外線の一部の帯域を吸収する構造吸収素子により形成した網点電子透かしを構造表示体画像中の少なくとも一部に導入したことを特徴とする構造表示体。
【請求項２】
赤外線光源と、光散乱素子及び検出素子を有し光散乱素子を介して検出素子で画像を読み取る画像読み取り装置と、読み取った画像から電子透かし情報を解析する情報処理装置と、解析した情報を出力する出力装置とを具備した請求項１に記載の構造表示体から電子透かし情報を読み取ることを特徴とする電子透かし読み取り装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、構造表示体及び電子透かし読み取り装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、ホログラム、回折格子又は光散乱素子などの凹凸構造を有する光学素子を作るために、光により硬化する材料からなる領域を基材上に設け、この領域に、凹凸構造を有する版を押圧すると同時に光を照射して、この領域を硬化させ、この領域から、この版を離すことが行われている（例えば特許文献１又は２参照）。
【０００３】
ところで、従来、ホログラム、回折格子又は光散乱素子などの凹凸構造を有する光学素子により画像（以後、構造表示体画像とも云う）を表示する構造表示体に電子透かしを導入することは、基材と凹凸構造形成層との間に、カーボンブラックインキによるオフセット印刷又はグラビア印刷で、この電子透かしを導入することで行っている。
【０００４】
図１に電子透かしの導入例を示す。図１の例では、（Ａ）に示す縦横同一間隔のドットを、（Ｂ）のように、ずらして情報を埋め込むことにより電子透かしを導入したものである。
【０００５】
また、従来、構造表示体は、一般的に反射層として金属（特にアルミ）層が形成されることが多く、このような鏡面構造或いは回折構造で、前記のような電子透かしを導入すると、正反射では、構造表示体全体が明るく、電子透かしを読み取り装置で容易に読み取れるのに、正反射以外の反射では、構造表示体全体が暗くなって、電子透かしを読み取り装置で読み取るのが困難になってしまう。そこで、従来、電子透かしの読み取り安定化のため、構造表示体として光散乱素子（指向性光散乱素子や光散乱素子）のみを用いていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平１−２３８６７９号公報
【特許文献２】特開２００９−２４４３４８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
このように、従来、電子透かしを導入するにあたり、印刷工程が必要であるために。生産効率が悪いという問題があった。
【０００８】
また、従来、電子透かしの読み取り安定性を実現するため、構造表示体は指向性光散乱素子や光散乱素子に限られるために、デザインに制約が生じ、意匠性が悪いという問題があった。
【０００９】
本発明は斯かる背景技術に鑑みてなされたもので、電子透かしを導入した構造表示体の生産性又は意匠性の向上を課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明において上記課題を解決するために、まず請求項１の発明では、少なくとも近赤外線の一部の帯域を吸収する構造吸収素子により形成した網点電子透かしを構造表示体画
像中の少なくとも一部に導入したことを特徴とする構造表示体としたものである。
【００１１】
また請求項２の発明では、赤外線光源と、光散乱素子及び検出素子を有し光散乱素子を介して検出素子で画像を読み取る画像読み取り装置と、読み取った画像から電子透かし情報を解析する情報処理装置と、解析した情報を出力する出力装置とを具備した請求項１に記載の構造表示体から電子透かし情報を読み取ることを特徴とする電子透かし読み取り装置としたものである。
【発明の効果】
【００１２】
請求項１に係わる発明は、少なくとも近赤外線の一部の帯域を吸収する構造吸収素子による電子透かし導入により、構造表示体画像と同時に加工することができ、生産効率が向上するという効果がある。
【００１３】
請求項２に係わる発明は、読み取り装置に光散乱素子を導入することにより、鏡面構造および回折構造上での電子透かし読み取り安定性が向上し、構造表示体のデザインの制約が低減し、意匠性が向上するという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】従来の電子透かしの導入例を説明する図であって、（Ａ）は、縦横同一間隔でドットが並んでいる画像であり、（Ｂ）は、ドットをずらして情報を埋め込むことにより電子透かしを導入した画像である。
【図２】本発明の構造表示体の一例を可視光の正反射で視認したときに見える画像を示す図。
【図３】本発明の構造表示体の一例の構造吸収素子をなすクロスグレーティングの拡大平面図。
【図４】本発明の構造表示体の一例における凹凸構造の横方向の拡大断面図。
【図５】本発明の構造表示体の一例における凹凸構造の縦方向の拡大断面図。
【図６】本発明の構造表示体の一例を近赤外光の正反射で視認したときに見える画像を示す図。
【図７】本発明の構造表示体の一例を近赤外光の正反射以外の反射で視認したときに見える画像を示す図。
【図８】本発明の構造表示体の一例を近赤外光の正反射及び正反射以外の反射で本発発明の読み取り装置にて読み取った画像を示す図。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下に、本発明を実施するための形態を説明する。
【００１６】
まず、本発明の構造表示体は、少なくとも近赤外線の一部の帯域を吸収する構造吸収素子により形成した網点電子透かしを構造表示体画像中の少なくとも一部に導入したものである。
【００１７】
網点電子透かしは、構造吸収素子を網点として、任意の網点画像に情報を埋め込んだもので、図１に示すように、縦横同一間隔のドットをずらして情報を埋め込むものに限られない。
【００１８】
構造吸収素子としては、例えば、クロスグレーティングが挙げられる。
【００１９】
クロスグレーティングの空間周波数は、近赤外線の波長に調整して、１，０００本／ｍｍ以上にするのが望ましい。
【００２０】
クロスグレーティングの深さは、近赤外線の吸収を上げるために、１００ｎｍ以上にするのが望ましい。
【００２１】
図２に、本発明の構造表示体の一例を可視光の正反射で視認したときに見える画像を示す。
【００２２】
図２に示す画像は、ホログラム１と、構造吸収素子としてクロスグレーティング２とを含んでおり、クロスグレーティング２により網点電子透かしが形成されている。
【００２３】
図３に、クロスグレーティング２を拡大した画像を示す。図３に示すように、クロスグレーティング２は、縦横の格子パターンからなる回折格子である。
【００２４】
本発明の構造表示体の一例を、図２に示す横方向で切断したときの凹凸構造の拡大例を図４に、図２に示す縦方向で切断したときの凹凸構造の拡大例を図５に示す。
【００２５】
図４及び図５から明らかなように、本発明の構造表示体の一例を構成する凹凸構造は、縦の格子パターンからなる回折格子であるホログラム１と、上述の縦横の格子パターンからなる回折格子であるクロスグレーティング２とを含んである。
【００２６】
このような、構造表示体画像を表示する光学素子と、構造表示体画像に導入した網点電子透かしを形成する構造吸収素子とを含む凹凸構造は、単一の工程で作ることができるので、構造表示体画像に電子透かしを導入するのに印刷工程は不要になり、生産効率が向上する。
【００２７】
また図５から明らかなように、ホログラム１の空間周波数は、クロスグレーティング２の空間周波数よりも小さく、可視光に調整してあるので、本発明の構造表示体の一例を近赤外光の正反射で視認すると、図６に示すように、ホログラム１が目立たなくなる一方で、クロスグレーティング２により形成した網点電子透かしは明確に確認できる。
【００２８】
しかしながら、本発明の構造表示体の一例を近赤外光の正反射以外の反射で視認すると、図７に示すように、この構造表示体全体が暗くなり、クロスグレーティング２により形成した網点電子透かしを確認することは困難になる。
【００２９】
そこで、本発明の電子透かし読み取り装置は、赤外線光源と、光散乱素子及び検出素子を有し光散乱素子を介して検出素子で画像を読み取る画像読み取り装置と、読み取った画像から電子透かし情報を解析する情報処理装置と、解析した情報を出力する出力装置とを具備する。
【００３０】
画像取り込み装置は、光散乱素子を介して検出素子で画像を読み取るので、本発明の構造表示体の一例を、正反射で読み取っても、正反射以外の反射で読み取っても、図８に示すような画像が得られ、ホログラム１が目立たなくなる一方で、クロスグレーティング２により形成した網点電子透かしは明確に確認できるようになる。
【００３１】
このように、本発明の電子透かし読み取り装置は、構造表示体の正反射と正反射以外の反射での変化を低減し、読み取り安定性を向上させることにより、鏡面構造や回折構造上
の電子透かしを読めるようにし、構造表示体のデザイン制約を無くすことにより意匠性を向上させる。
【００３２】
以下に、本発明の構造表示体の製造例を説明する。
【００３３】
まず、以下の（１）〜（４）の手順で、版を作成する。
【００３４】
（１）電子透かしを導入した回折構造表示体画像の描画データを作成する。
（２）ＥＢ（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｂｅａｍ）レジスト上に（１）で作成したデータをＥＢで描画する。
（３）前記レジストを現像し、回折構造を作成する。
（４）ニッケルスパッタで回折構造の表面にニッケルを蒸着し、これを電極としてニッケルメッキを行い、ニッケルメッキ層を形成して回折構造の表面から剥離することにより版を作成する。
【００３５】
次に、作成した版を用いて、以下の（５）〜（８）の手順で、回折構造転写箔を作成する。
【００３６】
（５）＃１９のＰＥＴ（Ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ  Ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ）基材上に、アクリル樹脂からなる剥離層、未硬化のＵＶ（Ｕｌｔｒａ  Ｖｉｏｌｅｔ）硬化型樹脂層をグラビアコーティング法で、それそれ１μｍ塗布し、原反を作成する。
（６）作成した版を１００℃の温度と１ＭＰａの圧力で未硬化のＵＶ硬化型樹脂層に押圧すると同時に紫外線照射することにより硬化させて回折構造を形成して前記原反にエンボスする。
（７）エンボス原反のＵＶ硬化型樹脂からなる回折構造形成層にアルミ蒸着を５０ｎｍの厚さで形成する。
（８）アクリル系樹脂からなる接着剤をグラビアコーティング法で、アルミ蒸着面に２μｍの厚さで塗布し、回折構造転写箔を作成する。
【００３７】
最後に、回折構造転写箔の接着剤側を１５０℃の温度と１０ＭＰａの圧力で被転写用紙に押し付け接着後、基材を剥離し、回折構造転写箔を被転写用紙に転写する。
【符号の説明】
【００３８】
１…ホログラム
２…クロスグレーティング
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図１】
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【図２】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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