(57)【要約】【課題】本発明は、容易に形成することが可能であり、画素電極の断線が生じにくく、高品質なカラーフィルタ付ＴＦＴ基板、これを用いた液晶表示装置、および上記カラーフィルタ付ＴＦＴ基板を、容易な工程で高いスループットで製造することができ、製造コストを削減することが可能なカラーフィルタ付ＴＦＴ基板の製造方法を提供することを主目的とする。【解決手段】基板と、上記基板上に形成された複数のＴＦＴ素子と、上記基板上に形成された複数色の画素部と、上記画素部上に形成された画素電極と、上記画素部間に配置され、上記ＴＦＴ素子のドレイン電極と上記画素電極とを接続するためのコンタクトホールとを有し、上記コンタクトホール内には、上記ドレイン電極および上記画素電極の間に導電材料が配置されていることを特徴とするカラーフィルタ付ＴＦＴ基板を提供することにより、上記目的を達成する。【選択図】図１
2012098619.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、前記基板上に形成された複数のＴＦＴ素子と、前記基板上に形成された複数色の画素部と、前記画素部上に形成された画素電極と、前記画素部間に配置され、前記ＴＦＴ素子のドレイン電極と前記画素電極とを接続するためのコンタクトホールとを有し、
前記コンタクトホール内には、前記ドレイン電極および前記画素電極を接続する導電材料が配置されていることを特徴とするカラーフィルタ付ＴＦＴ基板。
【請求項２】
前記導電材料が導電性ペーストであることを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板。
【請求項３】
前記コンタクトホールの形状が、逆テーパー形状であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板。
【請求項４】
前記画素部および前記コンタクトホールを区画する隔壁を有し、少なくとも1色の画素部がインクジェット方式で形成されたものであることを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれかの請求項に記載のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板。
【請求項５】
基板、前記基板上に形成された複数のＴＦＴ素子、前記基板上に形成された複数色の画素部、前記画素部上に形成された画素電極、および前記画素部間に配置され、前記ＴＦＴ素子のドレイン電極と前記画素電極とを接続するためのコンタクトホールを有し、前記コンタクトホール内には、前記ドレイン電極および前記画素電極を接続する導電材料が配置されているカラーフィルタ付ＴＦＴ基板と、
共通電極を有する共通電極基板と、
前記カラーフィルタ付ＴＦＴ基板および前記共通電極基板の間に設けられた液晶層と、
を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項６】
複数のＴＦＴ素子が形成された基板上に、画素部を形成し、かつ、前記ＴＦＴ素子のドレイン電極上にコンタクトホールを形成する画素部形成工程と、
前記コンタクトホール内に、導電材料をインクジェット方式を用いて配置する導電材料配置工程と、
前記画素部上に画素電極を形成し、かつ、前記コンタクトホール内、もしくは前記コンタクトホール上に前記導電材料と接するように前記画素電極を形成する画素電極形成工程と
を有することを特徴とするカラーフィルタ付ＴＦＴ基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、容易に形成することができ、画素電極の断線等が生じにくい高品質なカラーフィルタ付ＴＦＴ基板、これを用いた液晶表示装置、および上記カラーフィルタ付ＴＦＴ基板の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
薄膜トランジスタ（以下、薄膜トランジスタをＴＦＴと称する場合がある。）等のアクティブ素子を用いたアクティブマトリックス型液晶表示装置は、薄型、軽量、高画質等の特長から、表示装置として広く採用されている。アクティブマトリックス型液晶表示装置では、ＴＦＴ素子および画素電極が形成された薄膜トランジスタ基板（以下、薄膜トランジスタ基板をＴＦＴ基板と称する場合がある。）と、ＴＦＴ基板に対向して配置される共通電極基板との間に液晶を挟持し、ＴＦＴ基板の画素電極と共通電極基板の共通電極との間に電圧を印加して液晶を駆動し、入射光を変調、出射することで画像を形成する。
【０００３】
ここで、上記ＴＦＴ基板は、例えば、基板上にゲート線およびゲート線に接続するゲート電極が形成され、ゲート線およびゲート電極を覆うようにゲート絶縁層が形成され、ゲート絶縁層上に半導体層が形成され、ゲート線と交差するようにソース線が形成され、半導体層上にソース線に接続するソース電極およびドレイン電極が形成され、ドレイン電極に接続する画素電極が形成された層構成を有し、上記ゲート電極、半導体層、ソース電極、およびドレイン電極をＴＦＴ素子として用いるものである。
【０００４】
また、上述したＴＦＴ基板上にカラーフィルタが形成されたカラーフィルタ付ＴＦＴ基板が提案されている（例えば特許文献１）。具体的には、図９（ａ）に示すように、ＴＦＴ素子２上に遮光部６’が形成され、ＴＦＴ素子２および画素電極４の間に複数色の画素部３（図９（ａ）においては、緑色画素部３Ｇ、青色画素部３Ｂ、赤色画素部３Ｒ）が形成されたものである。また、カラーフィルタ付ＴＦＴ基板１０’は、各々のＴＦＴ素子２のドレイン電極２５上に、ＴＦＴ素子のドレイン電極２５と画素電極４とを接続するためのコンタクトホールｃを有するものである。なお、ＴＦＴ素子２については、後述する図１で説明するので、ここでの記載は省略する。
【０００５】
上記カラーフィルタ付ＴＦＴ基板において、上記遮光部は、上記ＴＦＴ基板の表面段差による液晶層の液晶の配向不良によって生じる光漏れを防止するとともに、上記画素部を区画するために形成されるものである。上記カラーフィルタ付ＴＦＴ基板においては、上記ＴＦＴ素子が形成されている領域にのみ、上記遮光部を形成することが可能であることから、画素部の開口率を高くすることができるので、上記カラーフィルタＴＦＴ基板を用いた液晶表示装置においては、高輝度な画像表示を行うことが可能となる。
【０００６】
ここで、上記カラーフィルタ付ＴＦＴ基板の製造工程において、上記コンタクトホールは、通常、上記ＴＦＴ基板上に、画素部形成用塗工液を塗布して画素部形成用層を形成し、画素部のパターンおよびコンタクトホールのパターンが形成されたフォトマスクを用いて露光した後、現像することにより形成されるものである。上記の方法によって形成されたコンタクトホールｃは、図９（ａ）に示すように、基板１側の開口幅と画素電極４側の開口幅が同等である形状（以下、垂直形状と称して説明する場合がある。）を有する場合や、画素部３を厚膜に形成する場合には、図９（ｂ）に示すように、基板１側の開口幅が画素電極４側の開口幅よりも大きいテーパー形状(以下、逆テーパー形状と称して説明する場合がある。)を有する場合が多く、上記形状のコンタクトホールｃを有するカラーフィルタ付ＴＦＴ基板１０’においては、コンタクトホールｃの壁面に画素電極４を十分な厚みで形成することが困難であり、また画素電極４が形成されない部分が生じてしまう場合もあるため、画素電極４が断線してしまうおそれがある等の問題があった。
【０００７】
上記問題に対して、特許文献２では、上述したように、画素部形成用層を露光・現像して画素部およびコンタクトホールを形成した後に、上記画素部およびコンタクトホールが形成されたＴＦＴ基板に熱処理を施すことによって、上記逆テーパー形状のコンタクトホールを、図９（ｃ）に示すように、基板１側の開口幅が画素電極４側の開口幅よりも小さいテーパー形状(以下、順テーパー形状と称して説明する場合がある。)を有するコンタクトホールｃに整形し、コンタクトホールｃの壁面においても、画素電極４を十分な厚みで形成することを可能とすることで、画素電極の断線を防止することが開示されている。
【０００８】
しかしながら、上記の方法を用いた場合であっても、上記コンタクトホールの形状を十分に制御できない場合があり、上記画素電極の断線を十分に防止することが困難であるといった問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開平１１−２３７６２１号公報
【特許文献２】特開２００３−１６７１１５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、容易に形成することが可能であり、画素電極の断線が生じにくく、高品質なカラーフィルタ付ＴＦＴ基板、これを用いた液晶表示装置、および上記カラーフィルタ付ＴＦＴ基板を容易に製造することが可能なカラーフィルタ付ＴＦＴ基板の製造方法を提供することを主目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者らは、上記課題を解決するため、上記画素電極の断線を防止する方法として、上記コンタクトホールの形状を制御する方法以外の新たな方法を用いることを検討した。
ここで、上記コンタクトホールは、上記画素電極および上記ＴＦＴ素子のドレイン電極を接続するために設けられるものであるが、上記画素電極の断線は、上記コンタクトホールを設けることにより、上記画素電極を形成する前のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板の上記コンタクトホール部分の表面が平坦なものとならず、上記コンタクトホールの壁面において形成される画素電極の厚みを十分なものとすることができなかったり、画素電極が形成されない部分を生じてしまうことによって発生するものである。本発明者らは、上記の点に着目し、鋭意検討した結果、上記コンタクトホール内に導電材料を設置して、画素電極形成前のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板の上記コンタクトホール部分の表面の段差を小さくすることによって、上記コンタクトホール内、もしくは、上記コンタクトホール上に形成される画素電極についても十分な厚みで形成することができることを見出し、本発明を完成させるに至ったのである。
【００１２】
すなわち、本発明は、基板と、上記基板上に形成された複数のＴＦＴ素子と、上記基板上に形成された複数色の画素部と、上記画素部上に形成された画素電極と、上記画素部間に配置され、上記ＴＦＴ素子のドレイン電極と上記画素電極とを接続するためのコンタクトホールとを有し、上記コンタクトホール内には、上記ドレイン電極および上記画素電極を接続する導電材料が配置されていることを特徴とするカラーフィルタ付ＴＦＴ基板を提供する。
【００１３】
本発明によれば、上記コンタクトホール内に上記導電材料が配置されていることから、上記画素電極形成前のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板の上記コンタクトホール部分の表面の段差を小さなものとすることができるので、上記画素部上に形成される画素電極と上記コンタクトホール内、もしくは、上記コンタクトホール上に形成される画素電極についても十分な厚みで形成することが可能となることから、上記コンタクトホールの壁面での上記画素電極の断線を防止することが可能となる。また、上記コンタクトホール内に上記導電材料を配置させることによって上記画素電極の断線を防止することが可能であることから、従来行われていたコンタクトホールの形状を制御する方法に比べて、容易な製造工程で上記画素電極の断線を生じないカラーフィルタ付ＴＦＴ基板を得ることが可能となる。
【００１４】
本発明においては、上記導電材料が導電性ペーストであることが好ましい。上記導電材料が導電性ペーストであることにより、上記コンタクトホール内に上記導電材料をインクジェット方式等を用いて容易に配置することが可能となる。
【００１５】
本発明においては、上記コンタクトホールの形状が、逆テーパー形状であることが好ましい。上記コンタクトホールの形状が画素電極の断線を引き起こしやすい逆テーパー形状であっても、上記導電材料を配置することにより、画素電極の断線を防止することが可能となる。
【００１６】
本発明においては、上記画素部および上記コンタクトホールを区画する隔壁を有し、少なくとも1色の画素部がインクジェット方式で形成されたものであってもよい。上記画素部をインクジェット方式を用いて形成することにより、上記複数色の画素部をフォトリソグラフィー方式を用いて形成する場合に比べて、上記カラーフィルタ付ＴＦＴ基板を少ない製造工程で製造することが可能となることから、コスト的に有利なカラーフィルタ付ＴＦＴ基板とすることができる。
【００１７】
本発明は、基板、上記基板上に形成された複数のＴＦＴ素子、上記基板上に形成された複数色の画素部、上記画素部上に形成された画素電極、および上記画素部間に配置され、上記ＴＦＴ素子のドレイン電極と上記画素電極とを接続するためのコンタクトホールを有し、上記コンタクトホール内には、上記ドレイン電極および上記画素電極の間に導電材料が配置されているカラーフィルタ付ＴＦＴ基板と、共通電極を有する共通電極基板と、上記カラーフィルタ付ＴＦＴ基板および共通電極基板の間に設けられた液晶層と、を有することを特徴とする液晶表示装置を提供する。
【００１８】
本発明によれば、上記カラーフィルタ付ＴＦＴ基板を有することにより、上記画素電極の断線が生じにくく、高品質な液晶表示装置とすることが可能となる。
【００１９】
本発明は、複数のＴＦＴ素子が形成された基板上に、画素部を形成し、かつ、上記ＴＦＴ素子のドレイン電極上にコンタクトホールを形成する画素部形成工程と、上記コンタクトホール内に、導電材料をインクジェット方式を用いて配置する導電材料配置工程と、上記画素部上に画素電極を形成し、かつ、上記コンタクトホール内、もしくは上記コンタクトホール上に上記導電材料と接するように上記画素電極を形成する画素電極形成工程とを有することを特徴とするカラーフィルタ付ＴＦＴ基板の製造方法を提供する。
【００２０】
本発明によれば、上記導電材料配置工程を有することにより、コンタクトホール内に導電材料を配置して、上記画素電極形成前のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板の上記コンタクトホール部分の表面の段差を小さなものとすることができることから、上記コンタクトホール内、もしくは、上記コンタクトホール上に十分な厚みで画素電極を形成することが可能となり、画素電極の断線のない高品質なカラーフィルタ付ＴＦＴ基板を製造することが可能となる。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、上記コンタクトホール内の画素電極および上記ＴＦＴ素子のドレイン電極を接続する導電材料が配置されていることから、上記画素電極形成前のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板の上記コンタクトホール部分の表面の段差を小さなものとすることが可能となり、上記コンタクトホール内、もしくは上記コンタクトホール上に形成される画素電極についても十分な膜厚で形成することが可能となることから、上記画素電極の断線の発生を抑制することが可能となるといった作用効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板の一例を示す概略断面図である。
【図２】本発明のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板の他の一例を示す概略平面図である。
【図３】本発明のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板の他の一例を示す概略断面図である。
【図４】本発明のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板の他の一例を示す概略断面図である。
【図５】本発明のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板の他の一例を示す概略平面図である。
【図６】本発明のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板の他の一例を示す概略断面図である。
【図７】本発明の液晶表示装置の一例を示す概略断面図である。
【図８】本発明のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板の製造方法の一例を示す工程図である。
【図９】従来のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板の一例を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、本発明のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板、液晶表示装置、およびカラーフィルタ付ＴＦＴ基板の製造方法について説明する。
【００２４】
Ａ．カラーフィルタ付ＴＦＴ基板
本発明のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板は、基板と、上記基板上に形成された複数のＴＦＴ素子と、上記基板上に形成された複数色の画素部と、上記画素部上に形成された画素電極と、上記画素部間に配置され、上記ＴＦＴ素子のドレイン電極と上記画素電極とを接続するためのコンタクトホールとを有し、上記コンタクトホール内には、上記ドレイン電極および上記画素電極を接続する導電材料が配置されていることを特徴とするものである。
【００２５】
ここで、本発明における「画素部」とは、本発明のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板を液晶表示装置に用いた際に、画像表示に寄与する領域を指す。
【００２６】
また、本発明における「画素部間」とは、本発明のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板を液晶表示装置に用いた際に、画像表示に寄与しない領域を指す。また、通常、上記画素部間には、ＴＦＴ素子、コンタクトホール、隔壁等が存在する。
【００２７】
また、本発明における「コンタクトホール内」とは、ドレイン電極上およびコンタクトホールの壁面を指すものである。
【００２８】
ここで、従来から、カラーフィルタ付ＴＦＴ基板の製造工程においては、上記コンタクトホールは、画素部をフォトリソグラフィー方式によって形成する際に、上記画素部とともにパターニングを行うことで形成が行われていた。しかしながら、通常のフォトリソグラフィー方式を用いて形成されるコンタクトホールｃは、図９（ａ）に示すように、垂直形状を有する場合や、画素部４を厚膜に形成する場合には、図９（ｂ）に示すように、逆テーパー形状を有する場合が多く、上記形状のコンタクトホールｃを有するカラーフィルタ付ＴＦＴ基板１０’においては、コンタクトホールｃの壁面に形成される画素電極４の厚みを十分なものとすることが困難であったり、画素電極４が形成されない領域が生じる等の問題があり、これによって、画素電極４が断線するおそれがあるといった問題があった。
【００２９】
上記問題に対しては、例えば、通常のフォトリソグラフィー方式を用いて、画素部およびコンタクトホールを形成した後、上記画素部およびコンタクトホールを有するＴＦＴ基板を加熱することによって、上記コンタクトホールを画素電極の断線が生じにくい、順テーパー形状を有するものへと整形する方法が用いられているが、上記の方法においては、上記コンタクトホールの形状を十分に制御することは困難であるため、十分に画素電極の断線を防止することは困難であるといった問題があった。
そこで、本発明者らは、上記課題を解決するため、上記画素電極の断線を防止する方法として、上記コンタクトホールの形状を制御する方法以外の新たな方法を用いることを検討した。
ここで、上記コンタクトホールは、上記画素電極および上記ＴＦＴ素子のドレイン電極を接続するために設けられるものであるが、上記画素電極の断線は、上記コンタクトホールを設けることにより、上記画素電極を形成する前のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板のコンタクトホール部分の表面が平坦なものとならず、上記コンタクトホールの壁面において形成される画素電極の厚みを十分なものとすることができなかったり、画素電極が形成されない部分を生じてしまうことによって発生するものである。本発明者らは、上記の点に着目し、鋭意検討した結果、上記コンタクトホール内に導電材料を設置して、画素電極形成前のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板の上記コンタクトホール部分の表面の段差を小さくすることによって、上記コンタクトホール内、もしくは、上記コンタクトホール上に形成される画素電極についても十分な厚みで形成することができることを見出し、本発明を完成させるに至ったのである。
【００３０】
本発明は、従来からのコンタクトホールの形状を制御することによる画素電極の断線の防止方法とは異なる方法、すなわち、上記コンタクトホールに上記導電材料を配置することで、上記画素電極形成前のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板の上記コンタクトホール部分の表面の段差を小さくすることにより、上記コンタクトホール内、もしくは上記コンタクトホール上に形成される上記画素電極の厚みを十分なものとする方法を見出した点に大きな特徴を有するものである。
本発明によれば、上記コンタクトホール内に上記導電材料が配置されていることから、画素電極形成前のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板の上記コンタクトホール部分の表面の段差を小さくすることが可能となるので、上記コンタクトホール内、もしくは上記コンタクトホール上に上記画素電極を十分な厚みで形成することが可能となることから、上記画素電極の断線を防止することが可能となる。
【００３１】
また、本発明においては、上記コンタクトホール内に上記導電材料を配置することによって、上記画素電極の断線を防止することが可能であることから、従来用いられていたコンタクトホールの形状を制御する方法に比べて、容易な製造工程で断線のない高品質なカラーフィルタ付ＴＦＴ基板を得ることが可能となる。
【００３２】
本発明のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板は、画素部の形成方法により２つの態様に分けて考えることができる。上記２つの態様としては、具体的には、複数の画素部のうち少なくとも1色の画素部がインクジェット方式を用いて形成される態様（以下、第1態様とする。）と、複数の画素部の全てがフォトリソグラフィー方式を用いて形成される態様（以下、第２態様とする。）との２つの態様を挙げることができる。
以下、各態様についてそれぞれ説明する。
【００３３】
１．第１態様のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板
まず、本発明のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板の第１態様について説明する。
本態様のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板は、複数の画素部のうち少なくとも1色の画素部がインクジェット方式を用いて形成されたものである。
【００３４】
本態様のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板について図を用いて説明する。
図１は、本態様のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板の一例を示す概略断面図である。図１に示すように、本態様のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板１０は、基板１と、基板１上に形成された複数のＴＦＴ素子２と、ＴＦＴ素子２上に形成され、少なくとも１色がインクジェット方式で形成された複数色の画素部３(図１では、緑色画素部３Ｇ、青色画素部３Ｂ、および赤色画素部３Ｒ)と、画素部３上に形成された画素電極４と、画素部３間に形成され、ＴＦＴ素子２のドレイン電極２５と画素電極４とを接続するためのコンタクトホールｃとを有するものである。また、図１に示すように、上記コンタクトホールｃ内には、ドレイン電極２５と画素電極４とを接続する導電材料５が配置されている。また、通常、画素部３およびコンタクトホールｃは隔壁６（図１においては、画素部用隔壁６ａおよびコンタクトホール用隔壁６ｂ）によって区画されている。なお、図１においては、隔壁６が樹脂製遮光部用組成物からなる場合について示している。
また、本態様におけるＴＦＴ素子２は、通常、ゲート電極２１と、ゲート電極２１上に形成されたゲート絶縁膜２２と、ゲート絶縁膜２２上に形成された半導体層２３と、半導体層２３上に所定の間隔をあけて対向するように形成されたソース電極２４およびドレイン電極２５とを有するものである。
【００３５】
本態様においては、上記複数の画素部のうち、少なくとも１色の画素部がインクジェット方式で形成されることから、上記画素部を形成する前には、予め画素部およびコンタクトホールを区画するための隔壁を形成する必要がある。上記隔壁は、通常、着色樹脂材料を用いて、フォトリソグラフィー方式によって形成されるものであることから、上記隔壁によって区画されたコンタクトホールの形状は、フォトリソグラフィー方式を用いて画素部とともに形成されたコンタクトホールの形状と同様に、垂直形状や逆テーパー形状を有する場合が多い。よって、本態様においても、上記コンタクトホール内に上記樹脂材料を配置することによって、上記画素電極の断線を効果的に防止することが可能となる。
【００３６】
また、本態様においては、上記複数色の画素部をインクジェット方式を用いて形成することが可能となることから、上記複数色の画素部をフォトリソグラフィー方式を用いて形成する場合に比べて製造工程を少なくすることができるので、コスト的に有利なカラーフィルタ付ＴＦＴ基板を製造することが可能となる。
以下、本態様のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板に用いられる各構成について説明する。
【００３７】
（１）導電材料
本態様に用いられる導電材料は、上記コンタクトホール内の上記画素電極およびドレイン電極を接続するために配置されるものである。
【００３８】
上記導電材料としては、導電性を有し、上記画素電極およびドレイン電極を接続することができるものであれば、特に限定されるものではないが、導電性ペーストであることが好ましく、インクジェット方式を用いて上記コンタクトホール内に配置することが可能な導電性ペーストであることがより好ましい。上記導電材料をインクジェット方式を用いて上記コンタクトホール内に配置することにより、本態様のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板をより容易な工程で製造することが可能となるからである。
【００３９】
上記導電性ペーストとしては、上記コンタクトホール内に配置可能で、上記画素電極およびドレイン電極を接続することができるものであれば、特に限定されるものではなく、具体的には、導電性高分子化合物や、樹脂材料に導電性を有する無機材料を分散させたもの等を用いることができる。
【００４０】
上記導電性ペーストが導電性高分子化合物である場合、上記導電性高分子化合物としては、具体的には、ポリチオフェン、ポリパラフェニレン、ポリアニリン、ポリパラフェニレンビニル等を用いることができる。
【００４１】
また、上記導電性ペーストが、樹脂材料に導電性を有する無機材料を分散させたものである場合は、上記導電性を有する無機材料としては、カーボン、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ等を挙げることができ、本態様においては、導電率の点でＡｇ、Ｃｕ等を用いることがより好ましい。
【００４２】
また、上記樹脂材料としては、具体的には、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂等を用いることができる。
【００４３】
本態様における上記導電材料の配置方法としては、上記導電材料を配置することにより、上記画素電極の断線を防止することができる方法であれば特に限定されるものではない。本態様においては、上記画素電極形成前のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板のコンタクトホール部分の表面の段差がより小さなものとなるように、上記導電材料を配置することが好ましい。
【００４４】
このような導電材料の配置方法としては、具体的には、上記画素電極形成前のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板のコンタクトホール部分の表面が、上記コンタクトホールの周辺に対して凹部となるように配置してもよいし、上記コンタクトホールの周辺に対して凸部となるように配置してもよいし、上記コンタクトホールの周辺と同等となるように配置してもよい。本態様においては、特に、上記画素電極形成前のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板のコンタクトホール部分の表面が、上記コンタクトホールの周辺と同等となるように、上記導電材料を配置することがより好ましい。これにより、上記画素電極の断線を好適に防止することが可能となるからである。
【００４５】
上記導電材料の厚みとしては、上記コンタクトホール内に形成されることにより、画素電極の断線を抑制することができる程度の厚みであれば特に限定されない。
【００４６】
具体的には、上記画素部上に形成される画素電極の厚みを１としたときに、上記コンタクトホールを区画する隔壁表面から上記導電材料表面までの距離（上記カラーフィルタ付ＴＦＴ基板のコンタクトホール部分の表面の段差）が、０〜５の範囲内、なかでも１〜４の範囲内、特に１〜３の範囲内となるように、上記導電材料の厚みを調整することが好ましい。上記画素電極の厚みに対して、上記カラーフィルタ付ＴＦＴ基板のコンタクトホール部分の表面の段差を上記数値範囲のものとすることにより、上記コンタクトホール内、もしくはコンタクトホール上に形成される画素電極の断線を好適に防止することが可能となるからである。
【００４７】
ここで、「上記コンタクトホールを区画する隔壁表面から上記導電材料表面までの距離」とは、上記基板のＴＦＴ素子側表面から上記コンタクトホールを区画する隔壁表面までの距離と、上記基板のＴＦＴ素子側表面から上記導電材料表面までの距離との差の絶対値を指すものである。なお、上記隔壁については、後述する「（７）その他の構成」の項で説明するので、ここでの説明は省略する。
【００４８】
本発明においては、上記コンタクトホールを区画する隔壁表面から上記導電材料表面までの距離が、０μｍ〜１．０μｍの範囲内、なかでも０．２μｍ〜０．８μｍの範囲内、特に０．２μｍ〜０．６μｍの範囲内となるように、上記導電材料の厚みを調整することが好ましい。上記コンタクトホールを区画する隔壁表面から上記導電材料表面までの距離が、上記範囲に満たない場合、もしくは上記範囲を超える場合は、上記コンタクトホール内に上記導電材料を配置した場合であっても、上記コンタクトホール内、もしくは上記コンタクトホール上に形成される画素電極の断線を防止することが困難となる可能性があるからである。
【００４９】
（２）コンタクトホール
本態様に用いられるコンタクトホールは、上記画素部間に形成され、上記ＴＦＴ素子のドレイン電極と上記画素電極とを接続するために設けられるものである。また、本態様においては、上記コンタクトホールは、通常、後述する隔壁によって区画されているものである。
【００５０】
上記コンタクトホールの平面視上の形状としては、上記ＴＦＴ素子のドレイン電極および画素電極を接続させることが可能な面積を確保することが可能な形状であれば特に限定されず、上記画素部のパターンにより適宜選択されるものであり、例えば、円形状、楕円形状、多角形状等を挙げることができる。
【００５１】
本態様において、上記画素部のパターンがストライプ型である場合は、上述したコンタクトホールの平面視上の形状のなかでも四角形状が好ましく、より好ましくは、図２（ａ）、（ｂ）に示すように、画素部３の短辺方向に平行な辺ｔ１の長さが、画素部３の長辺方向に平行な辺ｔ２の長さよりも長くなるように形成されている四角形状である。なお、図２（ａ）は、本態様のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板の他の例を示す概略平面図であり、画素部３間が、隔壁６が形成されている領域と、一点鎖線で囲まれた画素部用組成物からなる層を有する領域Ｕとからなる例について示している。また、図２（ｂ）は図２（ａ）において点線で囲まれたＡ部分の拡大図である。また、図２においては、画素電極４および基板１については省略して示している。なお、図２において説明していない符号については、図１と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
【００５２】
ここで、通常、上記画素部の短辺方向には、各画素部に対応するＴＦＴ素子が形成されているものである。上記コンタクトホールは、上記画素電極およびＴＦＴ素子のドレイン電極が接続するように形成される必要があることから、上記コンタクトホールにおいては、上記画素部の短辺方向に平行な辺の長さについては、ある程度の長さが必要となる。一方、上記画素部の長辺方向に平行な辺の長さについては、上記画素電極およびＴＦＴ素子のドレイン電極が接続するようにコンタクトホールを形成することが可能であれば、特に限定されないことから、上記画素部の長辺方向に平行な辺の長さを短くすることにより、上記コンタクトホールを小さくすることが可能となる。これにより、本態様のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板を用いて、より高精細な画像表示を行うことが可能となる。
また、コンタクトホールの平面視上の形状を図２（ａ）、（ｂ）に示すような四角形状とした場合は、上述した他の形状に比べて、コンタクトホールを小さく形成した場合もドレイン電極および画素電極を接続させるために必要な面積を確保しやすくなるからである。
【００５３】
また、上記コンタクトホールの断面形状としては、上記ＴＦＴ素子のドレイン電極および画素電極を接続することが可能な断面形状であれば特に限定されるものではない。例えば、図１に示すような逆テーパー形状であってもよいし、図３（ａ）に示すような垂直形状であってもよいし、図３（ｂ）に示すような順テーパー形状であってもよい。本態様においては、なかでも、上記垂直形状や上記逆テーパー形状であることが好ましく、上記逆テーパー形状であることが特に好ましい。
本態様においては、コンタクトホールの形状が断線を起こしやすい逆テーパー形状であっても、上述した導電材料が配置されていることにより、画素電極の断線を防止することが可能となることから、上述した導電材料を配置することによる作用効果を大きく発揮することが可能となる。
なお、図３（ａ）、（ｂ）は、本態様のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板の他の一例を示す概略断面図であり、説明していない符号については、図１と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
【００５４】
本態様に用いられるコンタクトホールの大きさとしては、上記画素電極およびＴＦＴ素子のドレイン電極を接続することが可能な大きさであれば特に限定されず、本態様のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板の大きさに合わせて適宜選択されるものである。
【００５５】
上記コンタクトホールの形成位置としては、上記画素部間であって、上記画素電極およびＴＦＴ素子のドレイン電極を接続させることが可能となるように、少なくとも上記ドレイン電極上に形成される位置であれば、特に限定されず、本態様に用いられるＴＦＴ素子の形成位置により適宜選択されるものである。
【００５６】
（３）画素部
本態様に用いられる画素部は、上記基板上に形成され、少なくとも１色がインクジェット方式で形成されたものである。また、本態様における画素部は、本態様のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板を液晶表示装置に用いた際に、画像表示に寄与する領域を指す。
また、通常、赤色画素部、緑色画素部、および青色画素部を有するものであるが、上記３色以外の画素部を有していてもよい。
【００５７】
本態様に用いられる画素部のパターンとしては、本態様のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板を用いて表示装置を組み立てた際に、画像表示を行うことができるものであれば特に限定されるものではなく、一般的なカラーフィルタに用いられる画素部のパターンと同様とすることができ、具体的には、ストライプ型、モザイク型、トライアングル型、４画素配置型等の公知の配列とすることができる。また、画素部面積は任意に設定することができる。
【００５８】
上記画素部の厚みとしては、上記カラーフィルタ付ＴＦＴ基板を用いて良好な画像表示を行うことができる程度の厚みであれば特に限定されるものではなく、一般的なカラーフィルタに用いられる画素部の厚みと同様とすることができる。
【００５９】
上記画素部の材料としては、一般的なカラーフィルタの画素部に用いられる画素部用組成物と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。なお、本態様においては、少なくとも１色の画素部の材料は、一般的なカラーフィルタにおいてインクジェット方式を用いて形成される画素部に用いられるものと同様である。
【００６０】
また、本態様においては、複数色の画素部のうち、少なくとも１色の画素部がインクジェット方式で形成されたものであれば、特に限定されるものではないが、すべての画素部がインクジェット方式で形成されていることがより好ましい。これにより、本態様のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板を製造する製造工程を少ないものとすることができることから、製造コストを削減することが可能となる。
【００６１】
また、本態様においては、複数色の画素部のうち、いずれか１色の画素部をフォトリソグラフィー方式を用いて形成し、残りの画素部についてはインクジェット方式を用いて形成することも好ましい。上記１色の画素部をフォトリソグラフィー方式を用いて形成することにより、上記１色の画素部と同時に、上記画素部およびコンタクトホールを区画する隔壁を形成することが可能となるからである。なお、上記隔壁については、後述する「（７）その他の構成」の項で説明するので、ここでの説明は省略する。
【００６２】
（４）ＴＦＴ素子
本態様におけるＴＦＴ素子は、後述する基板上に複数設けられるものである。
【００６３】
ＴＦＴ素子は、図１に例示するように、ゲート電極２１と、ゲート電極２１上に形成されたゲート絶縁膜２２と、ゲート絶縁膜２２上に形成された半導体層２３と、半導体層２３上に所定の間隔をあけて対向するように形成されたソース電極２４およびドレイン電極２５とを有しており、画素電極４はドレイン電極２５と接続されている。
ＴＦＴ素子としては、特に限定されるものではなく、用いられる液晶表示装置の種類に応じて適宜選択され、例えば、ａ−Ｓｉ  ＴＦＴ構造を有するものであってよく、ｐ−Ｓｉ  ＴＦＴ構造を有するものであってもよい。ａ−Ｓｉ  ＴＦＴ構造を有するＴＦＴ素子の場合、正スタガ型（トップゲート構造）および逆スタガ型（ボトムゲート構造）のいずれであってもよい。また、逆スタガ型の場合、チャネルエッチ型およびチャネルプロテクト型のいずれであってもよい。一方、ｐ−Ｓｉ  ＴＦＴ構造を有するＴＦＴ素子の場合、プレーナ型およびスタガ型のいずれであってもよい。
【００６４】
（５）画素電極
本態様に用いられる画素電極は、上記画素部上にパターン状に形成され、かつ、上記コンタクトホール内で上記ＴＦＴ素子と接続するように形成されるものである。
【００６５】
画素電極は、一般に液晶表示素子の画素電極として用いられているものであれば特に限定されるものではなく、例えば、酸化インジウム、酸化錫、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム錫（ＩＺＯ）等が好ましく用いられる。
【００６６】
（６）基板
本態様に用いられる基板は、一般に液晶表示素子の基板として用いられるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、ガラス板、プラスチック板などが好ましく挙げられる。
【００６７】
（７）その他の構成
本態様のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板は上述した導電材料、コンタクトホール、画素部、ＴＦＴ素子、画素電極、および基板を有するものであれば特に限定されるものではなく、他にも必要な部材を適宜選択して追加することが可能である。
本態様においては、通常は、画素部間には画素部を区画する隔壁が形成される。以下、隔壁について説明する。
【００６８】
（ａ）隔壁
本態様に用いられる隔壁は、上記コンタクトホールと上記画素部とをそれぞれ区画するために形成されるものである。なお、上記画素部を区画する隔壁は、通常、遮光部として用いられるものである。遮光部については、後述する「（ｂ）遮光部」の項で説明するため、ここでの説明は省略する。
【００６９】
上記隔壁としては、上記コンタクトホールおよび画素部を区画することができるものであれば特に限定されず、上記コンタクトホールを区画する隔壁と、上記画素部を区画する隔壁とが同一の着色樹脂材料からなるものであってもよいし、異なる着色樹脂材料からなるものであってもよいが、上記コンタクトホールを区画する隔壁と、上記画素部を区画する隔壁とが同一の着色樹脂材料からなるものであることがより好ましい。上記コンタクトホールを区画する隔壁と上記画素部を区画する隔壁とを同時に形成することができることから、製造工程を容易にすることができるからである。
【００７０】
上記隔壁に用いられる着色樹脂材料としては、インクジェット方式を用いて画素部を形成した場合に、隣接する画素部同士の混色や、コンタクトホール内に画素部形成用塗工液が流れ込むことを防止することが可能な隔壁を形成することができるものであれば、特に限定されるものではなく、具体的には、樹脂製遮光部用組成物や、上記複数色の画素部のうち、いずれか１色の画素部と同一の画素部用組成物を挙げることができる。
【００７１】
本態様においては、上記画素部を区画する隔壁を遮光部としても用いることから、図１に示すように、上記着色樹脂材料として遮光性の高い樹脂製遮光部用組成物を用いて隔壁６を形成した場合は、上記ＴＦＴ素子からの光漏れをより効果的に抑制することができるので、高輝度な画像表示を行うことが可能なカラーフィルタ付ＴＦＴ基板とすることが可能となる。
【００７２】
一方、上記着色樹脂材料として上記画素部用組成物を用いる場合は、図４に示すように、上記１色の画素部と上記隔壁とに同一の画素部用組成物を用いることにより、上記隔壁を形成するための着色樹脂材料を別途用いる必要がなくなることから、製造コストを削減することが可能となる。また、上記カラーフィルタ付ＴＦＴ基板および共通電極基板を貼り合わせる際に用いられるアライメントマークを認識しやすくなることから、上記カラーフィルタ付ＴＦＴ基板を用いて、液晶表示装置をより容易に製造することが可能となる。
なお、図４は、本態様のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板の他の一例を示す概略断面図であり、青色画素部３Ｂと、隔壁６とが同一の青色画素部用組成物からなる例について示している。なお、図４において説明していない符号については、図１と同様とすることができるのでここでの説明は省略する。
【００７３】
上記着色樹脂材料については、用いられるカラーフィルタ付ＴＦＴ基板の用途等により適宜選択される。
【００７４】
以下、本態様に用いられる隔壁について、隔壁の形態と着色樹脂材料とに分けて説明する。
【００７５】
（ｉ）隔壁の形態
本態様における隔壁の形態としては、上記コンタクトホールと上記画素部とを区画することができるものであれば、特に限定されるものではない。このような隔壁の形態としては、具体的には、図５に示すように、コンタクトホールｃと画素部３とを区画する隔壁６が一体で形成されている態様（以下、Ａの態様とする。）と、上述した図２で示したように、コンタクトホールｃと画素部３とを区画する隔壁６が別体（図２においては、画素部用隔壁６ａおよびコンタクトホール用隔壁６ｂ）で形成されている態様（以下、Ｂの態様とする。）との２つの態様に分けて考えることができる。なお、図５は、本態様のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板の他の一例を示す概略平面図であり、画素部３間が、隔壁６が形成されている領域からなる例について示している。説明していない符号については、図１と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
【００７６】
(Ａの態様)
本態様の隔壁は、コンタクトホールと画素部とを区画する隔壁が一体で形成されているものである。
【００７７】
本態様の隔壁の高さとしては、本態様のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板の製造時において、少なくとも１色の画素部をインクジェット方式により形成する場合に、上記画素部を区画する隔壁により区画された所定の画素部形成領域に塗布された画素部形成用塗工液が他の画素部形成領域に流れ込んで画素部形成用塗工液同士の混色が生じることを防止することができ、かつ、上記画素部形成用塗工液が、上記コンタクトホール内へ流れ込んで、上記コンタクトホールを塞ぐことを防止することが可能な高さであれば、特に限定されるものではないが、２．０μｍ〜５．０μｍの範囲内、なかでも２．０μｍ〜４．０μｍの範囲内、特に２．５μｍ〜３．５μｍの範囲内であることが好ましい。上記隔壁の高さが上記範囲に満たない場合は、上記隔壁を設けた場合であっても、インクジェット方式を用いて上記画素部を形成した場合には、所定の画素部形成領域に塗布された上記画素部形成用塗工液が、他の画素部形成領域やコンタクトホール内に流れ込むことを防止することが困難となるおそれがあるからである。また、上記隔壁の高さが上記範囲を超える場合は、上記カラーフィルタ付ＴＦＴ基板を薄膜に形成することが困難となることから、近年要望が高まっている薄膜の液晶表示装置を提供することが困難となるからである。
【００７８】
本態様の隔壁の線幅としては、インクジェット方式を用いて上記画素部を形成した場合に、上記画素部形成用塗工液同士の混色を防止することが可能な程度の線幅であれば特に限定されるものではないが、４μｍ〜３０μｍの範囲内、なかでも４μｍ〜２０μｍの範囲内、特に４μｍ〜１０μｍの範囲内であることが好ましい。上記線幅が上記範囲に満たない場合は、上記隔壁を形成した場合であっても、上記画素部用形成用塗工液同士の混色を防止することが困難となるおそれがあるからであり、上記線幅が上記範囲を超える場合は、上記画素部の開口率が低くなるため、本態様のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板を液晶表示装置に用いた際に、高輝度な画像表示を行うことが困難となるおそれがあるからである。
なお、本態様の「隔壁の線幅」とは、図５（ｂ）に示すように画素部３間の最短距離ｘを指すものである。また、図５（ｂ）は、図５(ａ)のＢ部分の拡大図を示している。
【００７９】
本態様の隔壁における上記画素部と上記コンタクトホールとの間の距離としては、上記画素部をインクジェット方式を用いて形成した場合に、上記画素部形成用塗工液がコンタクトホール内部へと流れ込むことを防止することができる程度の距離であれば特に限定されるものではないが、４μｍ〜３０μｍの範囲内、なかでも４μｍ〜２０μｍの範囲内、特に４μｍ〜１０μｍの範囲内であることが好ましい。上記画素部と上記コンタクトホールとの間の距離が上記範囲に満たない場合は、上記隔壁を形成した場合であっても、上記画素部形成用塗工液がコンタクトホール内に流れ込むことを防止することが困難となる可能性があるからであり、上記画素部と上記コンタクトホールとの間の距離が上記範囲を超える場合は、上記画素部の開口率が低下することから、本態様のカラーフィルタＴＦＴ基板を液晶表示装置に用いた際に、高輝度な画像表示を行うことが困難となるおそれがあるからである。
なお、本態様の隔壁における「上記画素部と上記コンタクトホールとの間の距離」とは、図５（ｂ）に示すように、画素部３の端部からコンタクトホールｃの端部までの最短距離ｙを指すものである。
【００８０】
上記隔壁の形成方法としては、後述する樹脂製遮光部用組成物を用いて、複数のＴＦＴ素子が形成された基板上に、コンタクトホールおよび画素部を区画する隔壁を所定のパターン状に形成することが可能な方法であれば特に限定されるものではなく、一般的なカラーフィルタを形成する際に用いられる樹脂製部材の形成方法と同様とすることができる。具体的には、フォトリソグラフィー方式を挙げることができる。
【００８１】
（Ｂの態様）
本態様の隔壁は、コンタクトホールと画素部とを区画する隔壁が別体で形成されているものである。以下、コンタクトホールを区画する隔壁をコンタクトホール用隔壁、画素部を区画する隔壁を画素部用隔壁と称して説明する場合がある。
【００８２】
本態様におけるコンタクトホール用隔壁の高さとしては、上記画素部をインクジェット方式で形成した際に、画素部形成用塗工液がコンタクトホール内に流れ込むことを防止することができる高さであれば特に限定されるものではなく、上述した「Ａの態様」の項で説明した隔壁の高さと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
【００８３】
本態様におけるコンタクトホール用隔壁の線幅としては、上記画素部をインクジェット方式で形成した際に、画素部形成用塗工液がコンタクトホール内に流れ込むことを防止することができる線幅であれば特に限定されるものではなく、上述した「Ａの態様」の項で説明した上記コンタクトホールと上記画素部との間の距離と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
なお、本態様におけるコンタクトホール用隔壁の線幅とは、図２（ｂ）に示すように、コンタクトホール用隔壁６ｂの一方の端部から他方までの端部の最短距離ｚを指すものである。
【００８４】
次に、本態様における画素部用隔壁について説明する。本態様に用いられる画素部用隔壁の高さ、および線幅については、上述した「Ａの態様」の項で説明した隔壁の高さおよび線幅と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
【００８５】
本態様の隔壁の形成方法については、「Ａの態様」の項で説明した隔壁の形成方法と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
【００８６】
(隔壁の形態)
本態様における隔壁の形態としては、上述したＡの態様とＢの態様とのうち、特にＡの態様であることが好ましい。上記コンタクトホールと上記画素部とを区画する隔壁が一体で形成されていることにより、上記隔壁をより容易に形成することが可能となるため、スループットを向上させることが可能となることから、本態様のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板をより低コストで得ることができるからである。
【００８７】
（ｉｉ）着色樹脂材料
次に、本態様における隔壁に用いられる着色樹脂材料について説明する。上記着色樹脂材料としては、具体的には、上記樹脂製遮光部用組成物と、複数色の画素部のうちいずれか１色の画素部と同一の画素部用組成物とを挙げることができる。以下、それぞれについて説明する。
【００８８】
（樹脂製遮光部用組成物）
本態様に用いられる樹脂製遮光部用組成物について説明する。
本態様に用いられる樹脂製遮光部用組成物としては、上述した隔壁を形成することが可能なものであれば特に限定されるものではなく、一般的なカラーフィルタの樹脂製遮光部に用いられるものと同様とすることができ、通常、樹脂および遮光材料を有するものである。
【００８９】
上記樹脂としては、一般的なカラーフィルタの樹脂製遮光部の形成に一般的に用いられる樹脂を使用することができ、撥液性を有し、上記画素部形成用塗工液の接触角が大きい撥液性樹脂であっても良く、親液性を有し、画素部形成用塗工液の接触角が小さい親液性樹脂であっても良いが、入手容易であることから、通常、親液性樹脂が用いられる。
【００９０】
上記親液性樹脂としては、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−塩化ビニル共重合体、エチレン−ビニル共重合体、ポリスチレン、アクリロニトリル−スチレン共重合体、ＡＢＳ樹脂、ポリメタクリル酸樹脂、エチレン−メタクリル酸樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、塩素化塩化ビニル、ポリビニルアルコール、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン１２、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、ポリビニルブチラール、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアミック酸樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂等を用いることができる。
【００９１】
上記遮光材料としては、一般的なカラーフィルタの樹脂製隔壁に用いられる材料を使用することができ、例えば、カーボン微粒子、金属酸化物、無機顔料、有機顔料等の遮光性粒子等を挙げることができる。
【００９２】
上記遮光部用組成物としては、上述した樹脂および遮光材料の他にも、必要に応じて光重合開始剤、増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、および難燃剤等を含むものであっても良い。
【００９３】
（画素部用組成物）
本態様における隔壁に用いられる画素部用組成物について説明する。
上記画素部用組成物は、上述した複数色の画素部のうち、いずれか１色の画素部に用いられるものであり、通常、フォトリソグラフィー方式により画素部を形成する際に用いられるものである。また、本態様において、上記画素部用組成物を用いて隔壁が形成される場合には、上記１色の画素部と同時に形成されるものである。
【００９４】
本態様において、上記隔壁に用いられる画素部用組成物としては、上述した複数色の画素部のうち、いずれか１色の画素部に用いられるものであれば特に限定されるものではなく、赤色画素部用組成物、青色画素部用組成物、または緑色画素部用組成物のいずれであっても用いることができる。本態様においては、なかでも、赤色画素部用組成物または青色画素部用組成物であることが好ましい。上述したように、本態様においては、通常、画素部を区画する隔壁が遮光部として用いられるものである。赤色画素部または青色画素部は、緑色画素部に比べて視感度が低く、暗く見えることから、上記ＴＦＴ素子からの光漏れ等を好適に防止することが可能となる。また、本態様においては、特に、青色画素部用組成物を用いることが好ましい。上記青色画素部用組成物を用いて、上記隔壁を形成することにより、本態様のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板を用いた画像表示は、全体的に青みがかったブルー系の画像表示となる。一般的に、上記ブルー系の画像表示は、全体的に赤みがかったレッド系の画像表示に比べて好まれることから、本態様においては、青色画素部用組成物を用いて画素部用隔壁およびコンタクトホール用隔壁を形成することが好ましい。
【００９５】
なお、上記画素部用組成物としては、後述する「２．第２態様のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板」の項で説明する画素部に用いられるものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
【００９６】
（ｉｉｉ）隔壁
本態様に用いられる隔壁は、上記画素部をインクジェット方式を用いて形成した場合に、上記画素部形成用塗工液の混色や、上記コンタクトホール内に上記画素部形成用塗工液が流れ込むことを防止することが可能なものであれば特に限定されるものではない。本態様においてはなかでも、上記隔壁が撥液性を有するものであることが好ましい。上記隔壁が撥液性を有することにより、上記画素部形成用塗工液の混色やコンタクトホール内に上記画素部形成用塗工液が流れ込むことを好適に防止することが可能となるからである。
【００９７】
ここで、本態様における「撥液性」とは、本態様において、後述する複数色の画素部の形成に用いられる画素部形成用塗工液との接触角が大きいことを意味するものである。
【００９８】
このような隔壁の撥液性としては、上記画素部形成用塗工液の種類等に応じて適宜設定されるものであるが、上記撥液性を有する隔壁と上記画素部形成用塗工液との接触角が、上記基板上の上記画素部形成領域と上記画素部形成用塗工液との接触角よりも高いものであれば特に限定されるものではない。なかでも本態様においては、表面張力が２８ｍＮ／ｍの液体との接触角が、２０°以上となる程度であることが好ましく、なかでも４０°以上となる程度であることが好ましく、特に５０°以上となる程度であることが好ましい。上記範囲であることにより、上記基板上に上記画素部形成用塗工液を塗布して画素部を形成した場合に、上記画素部形成用塗工液が、隣接する画素部形成領域およびコンタクトホール内に流れ込むおそれの少ないものとすることができる。よって、画素部の混色防止を図ることができるからである。
なお、表面張力が２８ｍＮ／ｍの液体としては、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート（ＢＣＡ）を例示することができる。
また、上記接触角は、接触角測定器（例えば協和界面科学（株）製ＣＡ−Ｚ型）を用いて測定（マイクロシリンジから液滴を滴下して３０秒後）することにより得ることができる。
【００９９】
上記隔壁に撥液性を付与する方法としては、上記隔壁の全表面が撥液性を有するようにすることができる方法であれば特に限定されるものではなく、具体的には、上述した着色樹脂材料に撥液剤を含有させる方法と、上述した着色樹脂材料を用いて形成された隔壁に、撥液化処理を施して撥液化させる方法とを挙げることができる。
【０１００】
なお、本態様においては、上記隔壁が、上述した１色の画素部と同一の画素部用組成物からなる場合は、上記隔壁と同時に形成される１色の画素部についても撥液性を有するものとなる。
【０１０１】
上記撥液剤を含有する方法において用いられる撥液剤としては、画素部の形成に用いられる画素部形成用塗工液に対する撥液性を備えるものであれば良く、例えば、フッ素含有基と親水基または親油基とを有するモノマーまたはオリゴマー、フッ素含有高分子化合物、および、フッ素含有物質の微粒子等を挙げることができる。
【０１０２】
ここで、上記フッ素含有高分子化合物としては、例えば、ポリテトラフルオロエチレン、パーフルオロエチレンプロピレン樹脂、パーフルオロアルコキシ樹脂等を挙げることができる。
また、上記フッ素含有物質の微粒子としては、例えば、ポリフッ化ビニリデン、フルオロオレフィンビニルエーテル系共重合体、３フッ化エチレン−フッ化ビニリデン共重合体等からなる微粒子を挙げることができる。
さらに、上記フッ素含有基と親水基または親油基とを有するモノマーまたはオリゴマーとしては、例えば、下記一般式（１）〜（６）で表される化合物を例示することができる。
【０１０３】
【化１】
2012098619.tif 000003
【０１０４】
ここで、上記一般式（１）〜（６）において、ＲｆおよびＲｆ’はフルオロアルキル基、ＲおよびＲ’はアルキレン基を表し、ＲｆとＲｆ’また、ＲとＲ’は同一でも異なっていても良い。また、Ｘ、Ｘ’およびＹは、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＣＯＮＲ''−、−ＯＣＯＮＲ''−、−ＳＯ２ＮＲ''−、−ＳＯ２−、−ＳＯ２Ｏ−、−Ｏ−、−ＮＲ''−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＯＳＯ２Ｏ−、−ＯＰＯ（ＯＨ）Ｏ−のうちのいずれかを表し、Ｘ、Ｘ´尾よびＹは同一でも異なっていても良い。Ｚは、−ＳＯ３Ｈ、−ＣＯＯＨ、−ＯＨ、−ＮＨ２、−ＳＯ２ＮＨ２、−ＣＯＮＨ２、−ＳＯ３−ＮＨ４＋、−ＣＯＯ−ＮＨ４＋、また、Ｒ''は、アルキル基または水素を表し、Ｒ’’’はアルキル基を表す。
【０１０５】
本態様に用いられる撥液剤としては、上記フッ素含有基と親水基または親油基とを有するモノマーまたはオリゴマー、上記フッ素含有高分子化合物、および、上記フッ素含有物質の微粒子のいずれであっても好適に用いることができるが、なかでも上記フッ素含有基と親水基または親油基とを有するモノマーまたはオリゴマーを用いることが好ましい。
【０１０６】
なお、本態様に用いられる撥液剤は１種類のみであっても良く、または、２種類以上であっても良い。
【０１０７】
本態様に用いられる撥液剤の含有量としては、使用する撥液剤の種類等に応じて、上記樹脂製隔壁に所望の撥液性を付与できる範囲内であれば良いが、上記撥液性遮光材料中に０．００５質量％〜５０質量％の範囲内であることが好ましく、なかでも０．０１質量％〜２５質量％の範囲内であることが好ましい。上記範囲より多いと、十分な強度を有するものとすることができない可能性があるからであり、上記範囲より少ないと、十分な撥液性を発揮することができないおそれがあるからである。
【０１０８】
一方、本態様において、上述した着色樹脂材料を用いて形成された隔壁の表面を撥液性とする撥液化方法としては、上記隔壁の表面が所望の撥液性を有するものとすることができる方法であれば良い。具体的には、フッ素化合物を導入ガスとしたプラズマ照射をするプラズマ照射方法を好ましく用いることができる。
上記プラズマ照射方法では、樹脂を含む親液性隔壁の表面のみを撥液化することができ、上記基板表面の撥液化を抑制することができる。したがって、画素部形成用塗工液を塗布した際に、上記基板表面で、上記画素部形成用塗工液が十分に濡れ広がるものとすることができるからである。
【０１０９】
上記導入ガスに用いられるフッ素化合物としては、例えば、ＣＦ４、ＳＦ６、ＣＨＦ３、Ｃ２Ｆ６、Ｃ３Ｈ８、Ｃ５Ｆ８等を挙げることができる。
【０１１０】
また、上記導入は、上記フッ素ガスと他のガスとが混合されたものであっても良い。他のガスとしては、例えば、窒素、酸素、アルゴン、ヘリウム等を上げることができるが、なかでも窒素を用いることが好ましい。さらに上記他のガスとして窒素を用いる場合、窒素の混合比率は６０％以上であることが好ましい。
【０１１１】
また、上記プラズマ照射を行う方法としては、上記隔壁の表面を撥液化することが可能な方法であれば特に限定されるものではなく、例えば、減圧下でプラズマ照射する方法であっても良く、または、大気圧下でプラズマ照射する方法であっても良い。なかでも、本態様においては特に大気圧下でプラズマ照射を行う方法が好ましい。
【０１１２】
なお、上記プラズマ照射を行った際の、上記隔壁の表面におけるフッ素の存在は、Ｘ線光電子分光分析装置による分析（ＸＰＳ）において、表面より検出される全元素中のフッ素元素の割合を測定することにより確認することができる。また、Ｘ線光電子分光分析装置としては、例えばＶ．Ｇ．Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ社製  ＥＳＣＡＬＡＢ  ２２０ｉ−ＸＬ等を用いることができる。
【０１１３】
（ｂ）遮光部
本態様においては、上記ＴＦＴ素子からの光漏れを防止するために、通常、上記ＴＦＴ素子上に、遮光部を有することが好ましい。
このような遮光部としては、上記ＴＦＴ素子からの光漏れを防止することが可能な程度の遮光性を有するものであれば特に限定されるものではない。
本態様においては、通常、上述した画素部を区画する隔壁が遮光部として用いられる。
【０１１４】
上記遮光部としては、具体的には、樹脂製遮光部用組成物からなるものや、上記画素部用組成物からなるものを挙げることができる。また、上記遮光部の線幅、厚み等については、上述した「（ａ）隔壁」の項で説明した画素部を区画する隔壁と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
【０１１５】
（ｃ）その他の構成
本態様においては、上述した隔壁以外にも、必要な構成を適宜選択して用いることができる。このような部材としては、配向膜、オーバーコート層、柱状スペーサ等を挙げることができる。なお、これらの部材については、一般的なカラーフィルタ付ＴＦＴ基板に用いられるものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
【０１１６】
２．第２態様のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板
次に、本発明のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板の第２態様について説明する。
本態様のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板は、複数の画素部の全てがフォトリソグラフィー方式を用いて形成されたものである。
【０１１７】
本態様のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板について図を用いて説明する。
図６は、本態様のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板の一例を示す概略断面図である。図６に示すように、本態様のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板１０は、基板１と、基板１上に形成された複数のＴＦＴ素子２と、ＴＦＴ素子２上に形成され、全てフォトリソグラフィー方式で形成された複数色の画素部３(図６では、緑色画素部３Ｇ、青色画素部３Ｂ、および赤色画素部３Ｒ)と、画素部３上に形成された画素電極４と、画素部３間に形成され、ＴＦＴ素子２のドレイン電極２５と画素電極４とを接続するためのコンタクトホールｃとを有するものである。また、図６に示すように、コンタクトホールｃ内には、ドレイン電極２５と画素電極４とを接続する導電材料５が配置されている。
本態様においては、通常、画素部３を区画するために遮光部６’が形成されている。なお、図６においては、遮光部６’が樹脂製遮光部用組成物からなる例について示している。また、ＴＦＴ素子２については、図１と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
【０１１８】
以下、本態様のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板に用いられる構成について説明する。なお、本態様に用いられるコンタクトホール、ＴＦＴ素子、画素電極、および基板については、上述した「１．第１態様のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板」の項で説明したものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
【０１１９】
（１）導電材料
本態様に用いられる導電材料は、上記コンタクトホール内に配置されるものであり、上記画素電極およびドレイン電極を接続するものである。
【０１２０】
上記導電材料の厚みとしては、上記コンタクトホール内に形成されることにより、画素電極の断線を抑制することができる程度の厚みであれば特に限定されない。
具体的には、上記画素部上に形成される画素電極の厚みを１としたときに、上記画素部表面から上記導電材料表面（上記カラーフィルタ付ＴＦＴ基板のコンタクトホール部分の表面の段差）までの距離が、０〜５の範囲内、なかでも１〜４の範囲内、特に１〜３の範囲内となるように、上記導電材料の厚みを調整することが好ましい。上記画素電極の厚みに対して、上記カラーフィルタ付ＴＦＴ基板のコンタクトホール部分の表面の段差を上記数値範囲のものとすることにより、上記コンタクトホール内、もしくはコンタクトホール上に形成される画素電極の断線を好適に防止することが可能となるからである。
【０１２１】
ここで、「上記画素部表面から上記導電材料表面までの距離」とは、上記基板のＴＦＴ素子側表面から上記画素部表面までの距離と、上記基板のＴＦＴ素子側表面から上記導電材料表面までの距離との差の絶対値を指すものである。
【０１２２】
本発明においては、上記画素部表面から上記導電材料表面までの距離が、０μｍ〜１．０μｍの範囲内、なかでも０．２μｍ〜０．８μｍの範囲内、特に０．２μｍ〜０．６μｍの範囲内となるように、上記導電材料の厚みを調整することが好ましい。上記画素部表面から上記導電材料表面までの距離が、上記範囲に満たない場合、もしくは上記範囲を超える場合は、上記コンタクトホール内に上記導電材料を配置した場合であっても、上記コンタクトホール内、もしくは上記コンタクトホール上に形成される画素電極の断線を防止することが困難となる可能性があるからである。
【０１２３】
本態様に用いられる導電材料について、上記の点以外については、「１．第１態様のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板」の項で説明したものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
【０１２４】
（２）画素部
本態様に用いられる画素部は、上記基板上に形成されるものであり、複数の画素部が全てフォトリソグラフィー方式で形成されたものである。
【０１２５】
上記画素部に用いられる材料としては、一般的なカラーフィルタ付ＴＦＴ基板の画素部をフォトリソグラフィー方式を用いて形成する際に用いられる画素部用組成物と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
【０１２６】
本態様に用いられる画素部について、上記の点以外は、上述した「１．第１態様のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板」の項で説明したものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
【０１２７】
本態様に用いられる画素部の形成方法については、一般的なカラーフィルタ付ＴＦＴ基板の画素部を形成する際に用いられるフォトリソグラフィー方式と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
【０１２８】
（３）その他の構成
本態様のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板は、上記導電材料、コンタクトホール、画素部、ＴＦＴ素子、画素電極、および基板を有するものであれば特に限定されるものではなく、必要な構成を適宜選択して追加することが可能である。
本態様においては、上記ＴＦＴ素子上に形成される遮光部を有することが好ましい。ここで、本態様においては、上記画素部を全てフォトリソグラフィー方式を用いて形成することから、上述した第１態様のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板において形成される、画素部を区画する隔壁（遮光部）については、必ずしも形成しなければならないものではないが、上記ＴＦＴ素子上に遮光部を形成することにより、本態様のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板を用いて液晶表示装置とする際に、共通電極基板との貼り合わせを容易に行うことが可能となるからである。また、ＴＦＴ素子が形成されている領域のみに遮光部を形成することが可能となることから、上記画素部の開口率を高いものとすることが可能となる。
【０１２９】
上記遮光部については、「１．第１態様のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板」の項で説明した遮光部と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
【０１３０】
なお、上記遮光部が、上記複数の画素部のうち、１色の画素部と同一の画素部用組成物からなるものである場合は、上記遮光部が青色画素部用組成物からなるものであることがより好ましい。この理由については、上述した「１．第１態様のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板」の項において説明した、青色画素部用組成物を用いて隔壁を形成することが好ましい理由と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
【０１３１】
上記遮光部以外のその他の構成についても、「１．第１態様のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板」の項で説明したものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
【０１３２】
Ｂ．液晶表示装置
次に、本発明の液晶表示装置について説明する。
本発明の液晶表示装置は、上述した「Ａ．カラーフィルタ付ＴＦＴ基板」の項で説明したカラーフィルタ付ＴＦＴ基板と、共通電極を有する共通電極基板と、上記カラーフィルタ付ＴＦＴ基板および上記共通電極基板の間に設けられた液晶層とを有することを特徴とするものである。
【０１３３】
本発明の液晶表示装置について図を用いて説明する。図７は、本発明の液晶表示装置の一例を示す概略断面図である。図７に示すように、本発明の液晶表示装置１００は、カラーフィルタ付ＴＦＴ基板１０と、共通電極基板３０と、カラーフィルタ付ＴＦＴ基板１０および共通電極基板３０の間に設けられた液晶層４０とを有するものである。
図７におけるカラーフィルタ付ＴＦＴ基板１０については、図１と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
また、共通電極基板３０は、第２基板３１と、第２基板３１上に形成された共通電極３２とを有するものである。
【０１３４】
本発明によれば、上記カラーフィルタ付ＴＦＴ基板を有することにより、高輝度な画像表示を行うことが可能な液晶表示装置とすることができる。また、上記カラーフィルタ付ＴＦＴ基板を有することから、コスト的にも有利な液晶表示装置とすることができる
以下、本発明の液晶表示装置に用いられる各構成についてそれぞれ説明する。
【０１３５】
１．カラーフィルタ付ＴＦＴ基板
本発明に用いられるカラーフィルタ付ＴＦＴ基板については、「Ａ．カラーフィルタ付ＴＦＴ基板」の項で説明したものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
【０１３６】
２．共通電極基板
本発明に用いられる共通電極基板は、共通電極を有するものである。また、通常、上記共通電極は自己支持性を有する基板上に形成されるものである。
【０１３７】
上記共通電極基板に用いられる基板としては、一般的な液晶表示素子の基板に用いられているものと同様とすることができる。具体的には、「Ａ．カラーフィルタ付ＴＦＴ基板」の項で説明した基板と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
【０１３８】
上記共通電極としては、一般的な液晶表示素子の共通電極に用いられているものと同様とすることができる。具体的には、「Ａ．カラーフィルタ付ＴＦＴ基板」の項で説明した画素電極と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
なお、本発明に用いられる共通電極は、上記基板全面に形成されるものであってもよいし、上記カラーフィルタ付ＴＦＴ基板上に形成された画素部に対向するように、パターン状に形成されているものであってもよい。
【０１３９】
本発明に用いられる共通電極基板は、上記共通電極を有するものであれば特に限定されるものではなく、必要な部材を適宜選択して追加することができる。このような部材としては、上記カラーフィルタ付ＴＦＴ基板と貼り合わせた際にＴＦＴ素子による光漏れを防止するための遮光部を挙げることができる。
【０１４０】
本発明に用いられる共通電極基板は、上記遮光部を有しているものであってもよいし、上記遮光部を有していないものであってもよいが、上記遮光部を有さないものであることがより好ましい。上記共通電極基板が上記遮光部を有さないものである場合には、上記カラーフィルタ付ＴＦＴ基板と上記共通電極基板とを貼り合わせる際のアライメントが不要となることから、容易に液晶表示装置を得ることが可能となるからである。
【０１４１】
３．液晶層
本発明に用いられる液晶層は、上記カラーフィルタ付ＴＦＴ基板および共通電極基板の間に設けられるものである。上記液晶層については、一般的な液晶表示装置に用いられる液晶層と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
【０１４２】
４．その他の構成
本発明の液晶表示装置は、上述したカラーフィルタ付ＴＦＴ基板、共通電極基板、および液晶層を有するものであれば特に限定されるものではなく、必要に応じて、他の構成についても適宜選択して用いることが可能である。このような構成としては、上記液晶表示装置の端部に設けられ、液晶層を封止する封止部材を挙げることができる。上記封止部材については、一般的な液晶表示装置に用いられるものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
【０１４３】
Ｃ．カラーフィルタ付ＴＦＴ基板の製造方法
次に、カラーフィルタ付ＴＦＴ基板の製造方法について説明する。
本発明のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板の製造方法は、複数のＴＦＴ素子が形成された基板上に、画素部を形成し、かつ、上記ＴＦＴ素子のドレイン電極上にコンタクトホールを形成する画素部形成工程と、上記コンタクトホール内、もしくは上記コンタクトホール内に、導電材料をインクジェット方式を用いて配置する導電材料配置工程と、上記画素部上に画素電極を形成し、かつ、上記コンタクトホール内、もしくは上記コンタクトホール上に上記導電材料と接するように上記画素電極を形成する画素電極形成工程とを有することを特徴とするカラーフィルタ付ＴＦＴ基板の製造方法である。
【０１４４】
ここで、本発明のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板の製造方法について、図を用いて説明する。
図８は本発明のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板の製造方法の一例を示す工程図である。本発明のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板の製造方法は、複数のＴＦＴ素子２が形成された基板１上に、画素部を区画する画素部用隔壁６ａと、ＴＦＴ素子２のドレイン電極２５上に、コンタクトホールｃを区画するコンタクトホール用隔壁６ｂとを形成し、ついでインクジェット方式を用いて複数色の画素部３（図８においては、緑色画素部３Ｇ、青色画素部３Ｂ、および赤色画素部３Ｒ）を形成する画素部形成工程（図８（ａ））と、コンタクトホールｃ内に、導電材料５をインクジェット方式を用いて配置する導電材料配置工程（図８（ｂ））と、上記複数色の画素部上に画素電極４を形成し、かつ、コンタクトホールｃ内に導電材料５と接するように画素電極４を形成する画素電極形成工程（図８（ｃ））とを有することを特徴とする製造方法である。なお、ＴＦＴ素子２については、図１と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
【０１４５】
本発明によれば、上記導電材料配置工程を有することにより、コンタクトホール内に導電材料を配置して、上記画素電極形成前のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板の上記コンタクトホール部分の表面の段差を小さなものとすることができることから、均質な画素電極を形成することが可能となり、画素電極の断線のない高品質なカラーフィルタ付ＴＦＴ基板を製造することが可能となる。
以下、本発明のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板の製造方法における各工程についてそれぞれ説明する。
【０１４６】
１．画素部形成工程
本工程は、複数のＴＦＴ素子が形成された基板上に、画素部を形成し、かつ、上記ＴＦＴ素子のドレイン電極上にコンタクトホールを形成する工程である。
【０１４７】
本工程において用いられるＴＦＴ素子および基板については、上述した「Ａ．カラーフィルタ付ＴＦＴ基板」の項で説明したものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
【０１４８】
本発明に用いられる画素部の形成方法としては、上記基板上に所定の厚みを有する画素部を形成することが可能であり、かつ、上記ＴＦＴ素子のドレイン電極上にコンタクトホールを形成することができる方法であれば特に限定されるものではない。
上記画素部の形成方法としては、例えば、画素部およびコンタクトホールを区画する隔壁を予め形成したのち、複数色の画素部を全てインクジェット方式を用いて形成する方法を挙げることができる。また、例えば、複数色の画素部を全てフォトリソグラフィー方式を用いて形成する方法を挙げることができる。また、フォトリソグラフィー方式を用いて１色の画素部と、画素部およびコンタクトホールを区画する隔壁を同時に形成したのち、他の色の画素部についてインクジェット方式を用いて形成する方法を挙げることができる。
また、本発明においては、上述した画素部の形成方法以外にも、一般的なカラーフィルタ付ＴＦＴ基板の製造工程に用いられる画素部の形成方法を用いることができる。
【０１４９】
本工程により形成される画素部については、上述した「Ａ．カラーフィルタ付ＴＦＴ基板」の項で説明したものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
【０１５０】
２．導電材料配置工程
上記コンタクトホール内に、導電材料をインクジェット方式を用いて配置する工程である。
【０１５１】
本発明に用いられる導電材料としては、インクジェット方式を用いてコンタクトホール内に配置可能な導電材料であれば特に限定されるものではなく、通常は、導電性ペーストが用いられる。
【０１５２】
本工程に用いられる導電性ペーストについては、「Ａ．カラーフィルタ付ＴＦＴ基板」の項で説明した導電性ペーストと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
【０１５３】
また、本工程に用いられるインクジェット方式については、一般的な樹脂部材を形成する際に用いられるものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
【０１５４】
本工程により上記コンタクトホール内に配置される導電性材料については、「Ａ．カラーフィルタ付ＴＦＴ基板」の項で説明したものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
【０１５５】
３．画素電極形成工程
本工程は、上記画素部上に画素電極を形成し、かつ、上記コンタクトホール内、もしくはコンタクトホール上に上記導電材料と接するように画素電極を形成する工程である。
【０１５６】
本工程においては、上記基板の上記ＴＦＴ素子側表面から上記画素部表面までの距離と、上記基板の上記ＴＦＴ側表面から上記導電材料表面までの距離とが同等である場合は、上記コンタクトホール上に上記画素電極が形成される。また、上記基板の上記ＴＦＴ素子側表面から上記画素部表面までの距離よりも、上記基板の上記ＴＦＴ側表面から上記導電材料表面までの距離が小さい場合は、上記コンタクトホール内に上記画素電極が形成される。
【０１５７】
本工程に用いられる画素電極の形成方法については、一般的なカラーフィルタ付ＴＦＴ基板の画素電極を形成する際に用いられる方法と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
【０１５８】
また、本工程により形成される画素電極については、「Ａ．カラーフィルタ付ＴＦＴ基板」の項で説明したものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
【０１５９】
４．その他の工程
本発明のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板の製造方法は、上述した画素部形成工程、導電材料配置工程、および画素電極形成工程を有する製造方法であれば特に限定されず、他にも必要な工程を適宜選択して追加することができる。このような工程としては、上記画素部をインクジェット方式で形成する場合において用いられる隔壁を形成する隔壁工程を挙げることができる。上記隔壁形成工程に用いられる隔壁の形成方法については、一般的なフォトリソグラフィー方式等と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
また、本発明においては、上記隔壁形成工程以外にも、上記画素部上にオーバーコート層を形成するオーバーコート層形成工程や、配向膜を形成する配向膜形成工程、柱状スペーサを形成する柱状スペーサ形成工程等を必要に応じて行うことができる。これらの工程については、一般的なカラーフィルタを製造する際に用いられる工程と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
【０１６０】
（５）他のカラーフィルタ付ＴＦＴ基板の製造方法
上述した「Ａ．カラーフィルタ付ＴＦＴ基板」の項で説明したカラーフィルタ付ＴＦＴ基板は、上述したカラーフィルタ付ＴＦＴ基板の製造方法の他にも、例えば以下に示す製造方法を用いても製造することが可能である。
【０１６１】
まず、複数のＴＦＴ素子が形成された基板を準備し、上記ＴＦＴ素子のドレイン電極上にコンタクトホールの形状にあわせた導電材料を配置する。次に、上記画素部をフォトリソグラフィー方式、もしくはインクジェット方式を用いることにより、導電材料上には画素部用組成物が存在しないようにして形成し、次いで、画素部上およびコンタクトホール内、もしくはコンタクトホール上に画素電極を形成する。
【０１６２】
なお、上記画素部をフォトリソグラフィー方式を用いて形成する場合は、導電材料の配置位置に合わせてコンタクトホールが形成されるようにパターニングが行われる。また、画素部を形成する前に、画素部を区画する隔壁を形成してもよい。
【０１６３】
また、上記画素部をインクジェット方式を用いて形成する場合は、画素部を形成する前に画素部を区画する隔壁が形成される。また、上記画素部をインクジェット方式を用いて形成する場合は、上記導電材料が撥液性を有することがより好ましい。これにより、上記導電材料上に画素部用組成物が付着することを容易に防止することが可能となるからである。
【０１６４】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【０１６５】
以下、本発明について実施例を用いて説明する。
複数のＴＦＴ素子を形成したガラス基板上に撥液剤を含有する樹脂製遮光部用組成物（東京応化社製ネガ型レジストCFPR  BK-IJ）をスピンコータで膜厚が２．７μｍになるように塗布した後、この基板をホットプレートで加熱した。次に、所定のパターンを有するフォトマスクを用いＵＶ露光装置にてマスク露光を実施し、続いてアルカリ現像を実施した後に純水で洗浄し、更にオーブンにて２３０℃で３０分間、基板にベークを施すことにより、基板上に２．５μｍの遮光性隔壁が形成された。この隔壁は開口部１４０μｍ×４２０μｍの画素部用隔壁と３０μｍΦの円形状のコンタクトホール用隔壁とを有するものである。
【０１６６】
ついで、隔壁を形成した基板に対し、インクジェットヘッドを用いて画素部形成用塗工液を塗布した。画素部形成用塗工液としては、カラーフィルタ用顔料と熱硬化型樹脂等の画素部用組成物を含有するＲ、Ｇ、Ｂ各色の顔料分散型インキを用い、１つの開口部に所望のカラーフィルタの色が再現できるように着弾させた。
【０１６７】
次いで、ホットプレートを用い１００℃にて１０分間、基板をプリベークした。更にオーブンにて２３０℃で３０分間、基板をベークした。
【０１６８】
続いてＡｇ粒子と熱硬化樹脂等からなる導電材料を用い、コンタクトホール部にインクジェットヘッドを用いて着弾させ、２．３μｍの導電材料層を形成した。
次いで画素電極としてＩＴＯ膜を成膜し、所定のパターン形状にパターニングしてカラーフィルタ付ＴＦＴ基板を得た。
【０１６９】
得られたカラーフィルタ付ＴＦＴ基板と共通電極基板とをセル組みし、液晶表示装置を作製した。得られた液晶表示装置においては、良好な画像表示を行うことができたことから、上記カラーフィルタ付ＴＦＴ基板においては、コンタクトホール内およびコンタクトホール上での画素電極の断線が生じていないものと考えられる。
【符号の説明】
【０１７０】
１  …  基板
２  …  ＴＦＴ素子
３  …  画素部
３Ｒ  …  赤色画素部
３Ｇ  …  緑色画素部
３Ｂ  …  青色画素部
４  …  画素電極
５  …  導電材料
６  …  隔壁
６’  …  遮光部
１０  …  カラーフィルタ付ＴＦＴ基板
３０  …  共通電極基板
３１  …  第２基板
３２  …  共通電極
４０  …  液晶層
１００  …  液晶表示装置
ｃ  …  コンタクトホール
【図１】
2012098619.tif 000004
【図２】
2012098619.tif 000005
【図３】
2012098619.tif 000006
【図４】
2012098619.tif 000007
【図５】
2012098619.tif 000008
【図６】
2012098619.tif 000009
【図７】
2012098619.tif 000010
【図８】
2012098619.tif 000011
【図９】
2012098619.tif 000012