(57)【要約】【課題】歩留まりが高く、磁気ヘッドが安定浮上する高記録密度の磁気記録媒体の製造方法を提供することにある。【解決手段】基板上に、磁性層、保護層、および潤滑層を順次積層し、被転写媒体を形成する工程と、被転写媒体に磁気パターンを転写する工程と、転写した被転写媒体の潤滑層の表面を平坦化する工程とを含み、切削効果のない部材を用いて潤滑層の表面をワイピング処理すること、または潤滑層の表面を加熱処理することにより潤滑層の表面を平坦化する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
１）基板上に、磁性層、保護層、および潤滑層を順次積層し、被転写媒体を形成する工程と、
２）被転写媒体に磁気パターンを転写する工程と、
３）転写した被転写媒体の潤滑層の表面を平坦化する工程と
を含む磁気記録媒体の製造方法であって、
潤滑層の表面を平坦化する手段が、切削効果のない部材を用いて潤滑層の表面をワイピング処理すること、または潤滑層の表面を加熱処理することであることを特徴とする方法。
【請求項２】
切削効果のない部材が、織布または不織布から構成されていることを特徴とする、請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項３】
切削効果のない部材が、フィルム状基材上に微粒子が結合剤で接着されたワイピングフィルムから構成されていることを特徴とする、請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項４】
工程１）と工程２）との間に、被転写媒体の表面平滑性を検査する工程をさらに含むことを特徴とする、請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項５】
被転写媒体の表面平滑性を検査する工程が、グライド試験によって行われることを特徴とする、請求項４に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項６】
工程３）の後に、被転写媒体をバーニッシュ処理する工程をさらに含むことを特徴とする、請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項７】
工程１）において形成された被転写媒体の保護層が、３．０ｎｍ以下の厚みを有することを特徴とする、請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項８】
工程１）において形成された被転写媒体の潤滑層が、１．５ｎｍ以下の厚みを有することを特徴とする、請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項９】
工程１）において形成された被転写媒体が、０．５ｎｍ以下の表面粗さＲａを有することを特徴とする、請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項１０】
請求項１から９のいずれか一項に記載の磁気記録媒体の製造方法を用いて製造される磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気記録媒体の製造方法に関する。特に、ハードディスクドライブなどに用いられる磁気記録媒体の製造方法に関する。また、本発明は、この製造方法を用いて製造される磁気記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、磁気記録媒体への磁気的情報の書き込みは、磁気的な情報が何も書かれていない磁気記録媒体をハードディスクドライブ（以下ＨＤＤと称する）装置に組み込んだ後、ＨＤＤ内で磁気記録媒体上のトラックと呼ばれる一定の幅を持った同心円状の領域に必要な磁気的情報が書き込まれることにより行われている。
【０００３】
また、データの読み書きは、磁気ヘッドが磁気記録媒体上のトラックに沿って動きながら行なわれる。その際、磁気ヘッドは、磁気記録媒体に書かれたサーボ信号と呼ばれる磁気的信号によりトラックとの位置ズレを検出し、トラックから外れないように制御される。
【０００４】
何も書かれていない磁気記録媒体に精密に同心円状にサーボ信号を書き込むために、精密な位置制御機能を有する装置をＨＤＤ１台毎に外部から挿入する方法がある。しかしながら、この方法では、数十万本というトラックに磁気的情報を書き込むためには数時間を要する。さらに、記録密度向上に伴って、より高精度な位置制御装置と、より長時間の書き込み時間が必要とされている。このため、位置制御装置をＨＤＤ毎に外部から挿入する方法は、生産性およびコスト面で大きなデメリットを抱えている。
【０００５】
これに対し、サーボ信号パターンを持つ転写用原盤を磁気記録媒体に密着させ、外部より磁界を印加することにより、そのサーボ信号パターンを磁気記録媒体に瞬時に転写するという磁気転写技術および装置が開発されている。
【０００６】
しかしながら、磁気記録媒体の表面に異常突起が存在する場合には、転写用原盤と磁気記録媒体とを密着させたときに、該突起が陥没してその周囲に新たな突起物が発生し、さらに該突起が砕かれて広範囲に多数の微小突起物が残存する場合がある。これら突起物が磁気記録媒体の表面に存在すると、ＨＤＤ内で磁気ヘッドが突起物に接触してしまい、ヘッドの浮上に悪影響を及ぼす場合がある。
【０００７】
このため、例えば特許文献１のように、磁気転写後に該磁気記録媒体をバーニッシュ処理して突起物を切削除去することが行なわれている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特許第３５８７４６４号公報
【特許文献２】特開平３−２６８２２３号公報
【特許文献３】特開２００２−２２４９６６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ところで、近年、ＨＤＤの記録容量は増大の一途を辿っており、磁気記録媒体の記録密度も高くなるばかりである。そのような高記録密度の媒体に記録するため、磁気ヘッドの浮上量は年々小さくなり、磁気ヘッドと磁気記録媒体の磁性層との間の距離（以下、磁気スペーシングとも称する）を、益々小さくすることが求められている。磁気記録媒体の一例としては、図１（ａ）に示すように、ディスク形状の磁気記録媒体１００が知られており、その構造は、図１（ａ）のＡ−Ａ’断面図である図１（ｂ）に示すように、一般に、基板１０２上に、磁性層１０４、保護層１０６、および潤滑層１０８を順次積層したものである。
【００１０】
このため、磁気スペーシングを小さくする手段としては、磁気記録媒体１００の表面粗さを小さくすることと、磁性層１０４の上に形成される保護層１０６と潤滑層１０８を薄くすることが考えられる。
【００１１】
このように磁気スペーシングを小さくした磁気記録媒体においては、以前は問題とならなかった微小な突起物およびスクラッチがその表面に存在すると、磁気ヘッドの浮上安定性および製品の歩留まりを低下させるなどの問題が起こり、磁気記録媒体表面の平滑性になお一層高いレベルが求められている。
【００１２】
このような状況下、特許文献１に示されるように、磁気転写後に磁気記録媒体をバーニッシュ処理して、媒体表面に存在する突起物を切削除去する方法においては、以下の問題を生じる可能性がある。
【００１３】
バーニッシュ処理としてバーニッシュヘッドを適用する場合には、バーニッシュヘッドと磁気記録媒体との接触が、ある一定の割合で発生してしまい、接触が起こると、媒体表面にスクラッチが生じて、磁気ヘッドの浮上安定性を低下させるおそれがある。
【００１４】
また、バーニッシュ処理としてベースフィルムに酸化アルミニウム砥粒がバインドされたようなバーニッシュテープを用いる場合には、バーニッシュテープの砥粒が脱離して、処理中に脱離した砥粒が引きずられることにより磁気記録媒体の表面にスクラッチを付けて、磁気ヘッドの浮上安定性を低下させるおそれがある。
【００１５】
さらに、磁気転写後にバーニッシュ処理を行うこととは別に、磁気ヘッドの浮上安定性を低下させ得る原因として、磁気転写の工程において、転写用原盤と磁気記録媒体とを密着させた際に、原盤と媒体との間で潤滑層が相互に移着することも挙げられる。この潤滑層の移着により、磁気転写後の磁気記録媒体では潤滑層の表面に凹凸が発生し（潤滑層表面のミクロな不均一化）、磁気ヘッドの浮上安定性に悪影響を与えるおそれがある。
【００１６】
このことは、磁気ヘッドの浮上性に悪影響を及ぼすだけでなく、磁気転写後の上記バーニッシュ処理において、バーニッシュヘッドの浮上およびバーニッシュテープのかかり方にも悪影響を及ぼす可能性がある。すなわち、最近の高記録密度の磁気記録媒体では、従来の磁気記録媒体に比べて、表面の粗さが小さいため、潤滑層が欠如している部分では保護層との摩擦力がより大きくなり、また、保護層自体もより薄くなっていることから、磁気転写の際に生じる潤滑層の表面の凹凸が、磁気転写後の処理であるバーニッシュ処理において磁気記録媒体の表面にスクラッチを生じ易くさせる原因となり得る。
【００１７】
従って、本発明の目的は、磁気転写工程を含む磁気記録媒体の製造方法において、歩留まりが高く、磁気ヘッドが安定浮上する高記録密度の磁気記録媒体を製造する方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
本発明は、１）基板上に、磁性層、保護層、および潤滑層を順次積層し、被転写媒体を形成する工程と、２）被転写媒体に磁気パターンを転写する工程と、３）転写した被転写媒体の潤滑層の表面を平坦化する工程とを含む磁気記録媒体の製造方法であって、潤滑層の表面を平坦化する手段が、切削効果のない部材を用いて潤滑層の表面をワイピング処理すること、または潤滑層の表面を加熱処理することである、方法に関する。
【００１９】
本発明の方法は、切削効果のない部材が、織布または不織布から構成されていることが望ましい。また、切削効果のない部材がフィルム状基材上に微粒子が結合剤で接着されたワイピングフィルムから構成されていることも望ましい。
【００２０】
本発明の方法は、上記の工程１）と工程２）との間に、被転写媒体の表面平滑性を検査する工程をさらに含むことが望ましい。また、被転写媒体の表面平滑性を検査する工程は、グライド試験によって行われることが望ましい。
【００２１】
本発明の方法は、上記の工程３）の後に、被転写媒体をバーニッシュ処理する工程をさらに含むことが望ましい。
【００２２】
本発明の方法は、上記の工程１）において形成された被転写媒体の保護層が、３．０ｎｍ以下の厚みを有することが望ましい。また、上記の工程１）において形成された被転写媒体の潤滑層が、１．５ｎｍ以下の厚みを有することも望ましい。さらに、上記の工程１）において形成された被転写媒体が、０．５ｎｍ以下の表面粗さＲａを有することも望ましい。
【００２３】
本発明は、上記の磁気記録媒体の製造方法を用いて製造される磁気記録媒体を包含する。
【発明の効果】
【００２４】
本発明の製造方法により、表面平滑性に優れた高記録密度の磁気記録媒体を製造することができる。このため、歩留まりが高く、磁気ヘッドが安定浮上する高記録密度の磁気記録媒体を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】磁気記録媒体の一例を示す概略図である。
【図２】本発明の磁気記録媒体の製造工程を説明するための概略図である。
【図３】本発明の表面平滑性を検査する工程で行われるグライド試験を説明する概略図である。
【図４】本発明の転写工程で用いる磁気転写装置の一例を示した模式図である。
【図５】本発明の転写工程で用いるエッジ転写方式を説明するための模式図である。
【図６】被転写媒体に転写された磁気信号を示す概略図である。
【図７】本発明の転写工程で用いるビット転写方式を説明するための模式図である。
【図８】本発明の平坦化工程で、転写した被転写媒体の潤滑層の表面をワイピング処理する方法を示した模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
本発明の磁気記録媒体を製造する方法は、１）基板上に、磁性層、保護層、および潤滑層を順次積層し、被転写媒体を形成する工程と、２）被転写媒体に磁気パターンを転写する工程と、３）転写した被転写媒体の潤滑層の表面を平坦化する工程とを含み、上記の工程３）における潤滑層の表面を平坦化する手段が、切削効果のない部材を用いて潤滑層の表面をワイピング処理すること、または潤滑層の表面を加熱処理することであることを含む。
【００２７】
以下に、図面を参照しながら、本発明の好適な実施形態を詳細に説明する。なお、以下に示す実施形態は、本発明の一例であって、当業者であれば、適宜設計変更が可能である。
【００２８】
図２は、本発明の磁気記録媒体の製造工程を説明するための概略図である。図２（ａ）は、１）基板上に、磁性層、保護層、および潤滑層を順次積層する工程、図２（ｂ）は、２）被転写媒体に磁気パターンを転写する工程、図２（ｃ）は、３）転写した被転写媒体の潤滑層の表面を平坦化する工程において、潤滑層の表面を平坦化する手段が、切削効果のない部材を用いて潤滑層の表面をワイピング処理することである工程、図２（ｄ）は、３）転写した被転写媒体の潤滑層の表面を平坦化する工程において、潤滑層の表面を平坦化する手段が、潤滑層の表面を加熱処理することである工程を示す。
【００２９】
以下に、上記１）〜３）の各工程について詳細に説明する。
【００３０】
１）基板上に、磁性層、保護層、および潤滑層を順次積層し、被転写媒体を形成する工程（図２（ａ））
工程１）は、図２（ａ）に示すように、基板２０２上に、磁性層２０４、保護層２０６、および潤滑層２０８を順次積層し、被転写媒体２００を形成する工程であり、従来の磁気記録媒体の製造において用いられている方法を適用することができる。なお、保護層２０６は、磁気記録媒体上を浮上している磁気ヘッドが何かの不具合で磁気記録媒体に接触した場合に、その衝撃から磁性層２０４を保護するための層である。また、潤滑層２０８は、磁気ヘッドが円滑且つ安定して磁気記録媒体上を浮上するよう設けられた層である。
【００３１】
基板２０２上への磁性層２０４の形成は、スパッタ法、真空蒸着法など当該技術において知られている任意の方法を用いて実施することができる。
【００３２】
保護層２０６は、一般的にＣＶＤ法、スパッタ法、真空蒸着法などを用いて形成することができる。
【００３３】
潤滑層２０８は、液体潤滑剤をディッピング法、スピンコート法などの当該技術において知られている任意の方法を用いて塗布し、乾燥することにより形成することができる。乾燥は、加熱処理により行うことが好ましい。加熱処理により塗布された液体潤滑剤の粘度が下がり、液体潤滑剤で覆われていなかった保護層２０６の表面部分に液体潤滑剤が流動することで、保護層２０６上に液体潤滑剤が均一に分布する。また、加熱処理は、潤滑層２０８と保護層２０６との結合力を強め、潤滑層２０８の層間剥離を防止する効果もある。
【００３４】
なお、これらの各層の形成条件は、使用する材料により相違し、従来の磁気記録媒体の製造方法に対して開示されている条件を適用すればよい。
【００３５】
以下に本工程で用いる各層の材料等を説明する。
【００３６】
（基板）
基板２０２は、磁気記録媒体に従来から用いられているものであれば特に限定されない。例えば、ガラス、アルミニウム、セラミック、プラスチックなどの材料から構成されていてもよい。
【００３７】
（磁性層）
磁性層２０４は、磁気記録媒体に従来から用いられているものであれば特に限定されない。例えば、ＣｏＰｔ、ＣｏＣｒＰｔ、ＣｏＣｒＰｔＢ、ＣｏＣｒＰｔＴａなどの合金材料を用いて形成することができる。また、非磁性酸化物または非磁性窒化物のマトリクス中に磁性結晶粒子が分散されているグラニュラー構造を有する材料を用いて磁性層を形成してもよい。用いることができるグラニュラー構造を有する材料は、ＣｏＰｔ−ＳｉＯ2、ＣｏＣｒＰｔＯ、ＣｏＣｒＰｔ−ＴｉＯ2、ＣｏＣｒＰｔ−ＳｉＯ2、ＣｏＣｒＰｔ−Ａｌ2Ｏ3、ＣｏＰｔ−ＡｌＮ、ＣｏＣｒＰｔ−Ｓｉ3Ｎ4などがあるがこれらに限定されるものではない。
【００３８】
磁性層２０４の厚さは、通常の磁気記録媒体で用いられる厚さを適用することができる。
【００３９】
（保護層）
保護層２０６は、カーボン（ダイヤモンド状カーボン、アモルファスカーボンなど）、あるいは磁気記録媒体の保護層用の材料として知られている種々の薄層材料を用いて形成することができる。
【００４０】
保護層２０６の厚さは、生産性および記録密度向上などの観点から、３．０ｎｍ以下とすることが好ましい。保護層２０６の厚さは、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で断面を観察することにより求めることができる。
【００４１】
（潤滑層）
潤滑層２０８の材料は、磁気記録媒体に通常使用されているものを用いることができる。例えば、パーフルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）系の液体潤滑剤を挙げることができる。
【００４２】
潤滑層２０８の厚さは、生産性および記録密度向上などの観点から、１．５ｎｍ以下とすることが好ましい。潤滑層２０８の厚さは、フーリエ変換赤外分光法（ＦＴ−ＩＲ）で予め潤滑層なしの磁気記録媒体を対象に測定を行ない、次いで潤滑層を有する磁気記録媒体の測定を行ない、両者の値の差分から得ることができる。
【００４３】
被転写媒体２００の表面粗さＲａは、磁気スペーシングを小さくするために、０．５ｎｍ以下とすることが好ましい。被転写媒体２００の表面粗さＲａは、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）で測定することができる。なお、本明細書において、被転写媒体の表面粗さＲａは、被転写媒体の潤滑層側の表面の粗さを意味する。
【００４４】
以上、１）基板上に、磁性層、保護層、および潤滑層を順次積層し、被転写媒体を形成する工程を説明したが、本発明の方法は、この工程後に、被転写媒体の表面平滑性を検査する工程を含んでいてもよい。以下に当該工程を説明する。
［被転写媒体の表面平滑性を検査する工程］
本工程は、被転写媒体の表面平滑性を検査する工程である。すなわち、被転写媒体の潤滑層側の表面上に磁気ヘッドの安定浮上を妨げるような突起物が存在しないか検査する工程である。
【００４５】
被転写媒体の表面平滑性を検査する方法は、従来の方法を適用することができるが、グライド試験を用いてもよい。以下、図３を参照してグライド試験を用いる場合について説明する。
【００４６】
図３（ａ）は、グライド試験装置に被転写媒体２００が設置された模式図を示す。図３（ｂ）は、グライド試験装置により被転写媒体２００の表面平滑性を検査している状態を示す概念図である。図３（ｃ）は、グライド試験装置により検査された被転写媒体２００の表面平滑性を解析した結果を示す概念図である。
【００４７】
被転写媒体の表面平滑性の検査は、図３（ａ）に示すように、潤滑層が最上部になるように被転写媒体２００をグライド試験装置のスピンドル３００に設置し、グライド試験ヘッド３０２を被転写媒体２００の表面に対し所定の浮上量を保持するように配置し、スピンドル３００を回転させ、グライド試験ヘッド３０２により被転写媒体２００の表面に存在する突起物を読み取ることにより行う。グライド試験ヘッド３０２の突起物の読み取りは、図３（ｂ）に示すように、突起物の高さがグライド試験ヘッド３０２の浮上量より高い場合に、グライド試験ヘッド３０２がこの突起物に接触し、発生した衝撃波がグライド試験ヘッド３０２に併設されたセンサ３０６に伝播して信号が出力されることにより行われる。出力される信号はグライド試験装置に接続されたＣＰＵ３０４により解析される。ＣＰＵ３０４での解析結果は、図３（ｃ）に示すように、グライド試験ヘッド３０２と突起物との接触により発生する衝撃波の大きさに基づき出力信号の大きさとして表示される。所定の閾値を超えた大きさの信号が被転写媒体２００の面内から１箇所でも検出されれば、被転写媒体２００は不良品として判断される。
【００４８】
以上、被転写媒体の表面平滑性を検査する工程について説明したが、本明細書において、当該検査工程で行われる試験に合格した被転写媒体を特に「試験済み被転写媒体」とも称する。なお、後続する工程２）および３）においては、試験済み被転写媒体を用いてもよいし、当該検査工程を行わない被転写媒体を用いてもよい。
【００４９】
２）被転写媒体に磁気パターンを転写する工程（図２（ｂ））
工程２）は、上記の工程１）において形成した被転写媒体２００に、磁気パターンを転写する工程であり、従来の磁気記録媒体の製造において用いられている方法を適用することができる。
【００５０】
図２（ｂ）は、工程１）において形成した被転写媒体２００に磁気パターンを転写する様子を示した概略図である。
【００５１】
図２（ｂ）に示すように、被転写媒体２００の潤滑層２０８の表面に、転写用原盤２１４の磁気パターン面を密着させ密着体２０９を形成し、密着体２０９の両外面に磁界発生手段２１２を一定の間隔を保持して配置する。次いで、磁界発生手段２１２を作動させ、磁界を密着体２０９に印加することにより、転写用原盤２１４から被転写媒体２００に磁気パターンを転写することができる。磁気パターンを転写した後、転写用原盤２１４と被転写媒体２００を分離し、転写された被転写媒体を得る。
【００５２】
磁界発生手段２１２は、磁界を適切に発生するものであれば特に制限はないが、例えば、磁石などを用いることができる。
【００５３】
転写用原盤２１４から被転写媒体２００に磁気パターンを転写するために、例えば、図４に示す磁気転写装置を用いることができる。被転写媒体２００の潤滑層面と転写用原盤２１４の磁気パターン面とを密着させた密着体２０９をスピンドル４００に固定し、磁石４０２が取り付けられた駆動部４０４の動作により、磁石４０２を密着体２０９に一定の間隔を保持して配置する。次いで、磁界を発生させて、スピンドル４００を回転することにより、被転写媒体２００の全面に所望の磁気パターンを転写する。その後、転写用原盤２１４と被転写媒体２００とを分離し、転写された被転写媒体を得る。
【００５４】
被転写媒体２００に磁気パターンを転写する方式としては、例えば、エッジ転写方式またはビット転写方式を用いることができる。エッジ転写方式およびビット転写方式を模式的に示したものをそれぞれ図５および図７に示す。
【００５５】
先ず、図５を参照してエッジ転写方式を説明する。
【００５６】
エッジ転写方式は、図５に示されるように、被転写媒体５００と転写用原盤５０２を密着させた密着体５０４に、磁石５０６を用いて磁界を密着面に対して平行となるように印加する。転写用原盤５０２には、転写情報に応じた軟磁性体による微細形状パターン５０６が設けられており、転写用原盤５０２上の微細形状パターンのない部分では漏れ磁束が被転写媒体５００側に進入するので、被転写媒体５００の磁性層が磁化される。これにより、転写用原盤５０２の微細形状パターンに沿って磁気信号が転写され、転写された被転写媒体５０８を得ることができる。なお、図６は、被転写媒体５００に転写された磁気信号を示す概略図である。
【００５７】
次に、図７を参照してビット転写方式を説明する。
【００５８】
ビット転写方式は、図７（ａ）に示されるように、被転写媒体７００を転写する前に被転写媒体７００表面に対し垂直方向に磁界を印加し、予め被転写媒体を一方向（Ｘ方向）に磁化しておく。次いで、図７（ｂ）に示されるように、Ｘ方向に磁化された被転写媒体７００と転写用原盤７０２を密着させた密着体７０４に、Ｘ方向とは逆向きの磁界を密着面に対して垂直な方向（Ｙ方向）に印加する。転写用原盤７０２には軟磁性体による微細形状パターン７０６が設けられており、転写用原盤７０２上に形成された微細形状パターン７０６が存在する部分では多量の磁束が透過するので、被転写媒体７００に対して予め磁化された方向（Ｘ方向）とは反対の方向（Ｙ方向）に磁化される。一方、微細形状パターン７０６が存在しない部分では磁束がわずかしか透過しないため、転写された被転写媒体７０８の磁化された向きは、被転写媒体７００に対して予め磁化された方向（Ｘ方向）のままである。この結果、転写用原盤７０２の微細形状パターン７０６に沿って磁気信号が転写され、転写された被転写媒体７０８を得ることができる。
【００５９】
以上、被転写媒体に磁気パターンを転写する２つの方式を説明したが、両方式に用いる転写用原盤の軟磁性体による微細形状パターンは、軟磁性体が転写用原盤の主表面に対して凸部となるように形成されていてもよいし、あるいは転写用原盤の主表面に対して凹部が形成された中に軟磁性体が埋め込まれるように形成されていてもよい。
【００６０】
次に、工程２）で形成した転写した被転写体媒体の潤滑層の表面を平坦化する工程を説明する。
【００６１】
３）転写した被転写媒体の潤滑層の表面を平坦化する工程（図２（ｃ）（ｄ））
工程３）は、上記の工程２）において転写した被転写媒体の潤滑層の表面を平坦化する工程であり、被転写媒体の潤滑層の表面を平坦化するために、Ａ）切削効果のない部材を用いて潤滑層の表面をワイピング処理するか、またはＢ）転写した被転写媒体の潤滑層の表面を加熱処理する手段を用いる。本明細書で、潤滑層の表面を平坦化するとは、潤滑層を形成する潤滑剤を保護層表面全体にわたり均一に分布させることを意味する。
【００６２】
先ず、図２（ｃ）を参照して、Ａ）切削効果のない部材を用いて潤滑層の表面をワイピング処理する手段を説明する。
【００６３】
Ａ）切削効果のない部材を用いて潤滑層の表面をワイピング処理する手段（図２（ｃ））
図２（ｃ）は、転写した被転写媒体２１０の表面をワイピング処理することを説明するための概略図である。図２（ｃ）で示すように、ワイピング処理は、上記の工程２）で転写した被転写媒体２１０の潤滑層２０９の表面を、ワイピング部材２１８および押圧部材２１６を備えたワイピング装置を用いてワイピングすることにより行われる。
【００６４】
被転写媒体２１０の潤滑層の表面をワイピング処理する方法をより詳細に示したものが図８である。
【００６５】
図８は、転写した被転写媒体２１０を、ワイピング部材８０２、押圧部材８０６、スピンドル８００、ローラー８０４を備えたワイピング装置を用いてワイピング処理する方法を示した模式図であり、図８（ａ）は、転写した被転写媒体２１０をワイピング処理する状態を示した平面図であり、図８（ｂ）は、当該状態を示した側面図である。
【００６６】
図８（ａ）に示すように、転写した被転写媒体２１０をスピンドル８００に固定し、スピンドル８００を所定の速度で回転させる。次いで、転写した被転写媒体２１０の潤滑層の表面にワイピング部材８０２を、押圧部材８０６を介して一定の面圧で押し当て、被転写媒体２１０の潤滑層の表面をワイピングする。被転写媒体２１０の潤滑層表面全体にわたりワイピング処理をするために、潤滑層の表面にワイピング部材８０２を押し当てたまま、押し当て面に対して水平方向にワイピング部材８０２を所定の速度で移動させる。
【００６７】
被転写媒体２１０の潤滑層の表面にワイピング部材８０２を押し当てるには、図８（ｂ）に示すように、潤滑層の表面とワイピング部材８０２の押し当て面とが平行になるように押圧部材８０６を移動させる。
【００６８】
また、ワイピング部材８０２の使用による劣化にともない、ワイピング部材８０２の押し当て面を新たに取り替えるには、ローラー８０４を適宜移動させればよい。
【００６９】
さらに、ワイピングを終了させるには、押圧部材８０６を押し当て面に対して垂直方向に移動させて、ワイピング部材８０２を被転写媒体２１０から引き離す。
【００７０】
スピンドル８００の回転速度は、ワイピング部材８０２を構成する材料等により相違し、被転写媒体２１０の潤滑層とワイピング部材８０２との接触面に摩擦が生じない速度、例えば、３００〜３０００ｒｐｍを適用することが好ましい。
【００７１】
被転写媒体２１０の潤滑層の表面にワイピング部材８０２を押し当てる面圧は、被転写媒体２１０の潤滑層の表面に傷を付けない圧、例えば、５〜１５０ｋＰａを適用することが好ましい。
【００７２】
被転写媒体２１０の潤滑層の表面に押し当てたワイピング部材８０２を移動させる速度は、被転写媒体２１０の潤滑層の表面に傷を付けない速度、例えば、１〜２０ｍｍ／秒を適用することが好ましい。
【００７３】
押圧部材８０６は、潤滑層表面を均一に押圧できるように、ウレタンやゴム等の弾性材料から構成されていることが好ましい。
【００７４】
ワイピング部材８０２は、被転写媒体２１０の潤滑層の表面に傷を付けないために、切削効果のない部材を用いる。
【００７５】
切削効果のない部材は、硬く鋭利な砥粒で切削性のあるバーニッシュテープに対し、接触圧力が小さいという点で、織布または不織布から構成されていることが好ましい。織布または不織布を構成する繊維としては、それ自体が切断されて塵埃を発生させることがないように高い強度を有するナイロンまたはポリエステルの合成繊維を用いることが好ましい。例えば、織布または不織布から構成されている切削効果のない部材として、特許文献２に記載された０．３デニール以下の合成繊維からなる織布を用いることができる。
【００７６】
また、切削効果のない部材は、摩擦力が小さいという観点から、フィルム状基材上に微粒子が結合剤で接着されたワイピングフィルムから構成されていることが好ましい。ワイピングフィルムは、例えば、特許文献３に記載のように、微粒子と結合剤と溶媒とを混合分散して塗布溶液を調製し、この塗布溶液を基材フィルムの表面に塗布し、乾燥させることに製造することができる。
【００７７】
フィルム状基材は、例えば、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル系樹脂、高密度ポリエチレンなどのポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、ポリアクリロニトリル、ポリアミド、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステルを主成分とするアクリル樹脂、ポリアセタール、セルローストリアセテートなどの材料から構成されていてもよい。
【００７８】
微粒子は、例えば、ポリメタクリル酸エステル、ポリスチレン、ポリオレフィン、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂、高密度ポリエチレン樹脂、尿素樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリカーボネートなどの材料から構成されていてもよい。また、球状ガラス、球状セラミックなどの無機材料の微粒子を混合してもよい。但し、微粒子には、酸化アルミニウム、ダイヤモンド、酸化セリウムからなる砥粒が含まれないことが肝要である。
【００７９】
微粒子の形状は、切削効果を持たせないために球状が好ましく、その平均粒径は、０．０１〜１００μｍが好ましく、微粒子の硬度はロックウェル硬度でＭ１０〜Ｍ１３０であることが好ましい。
【００８０】
結合剤は、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂、電子線硬化型樹脂、紫外線硬化型樹脂、可視光線硬化型樹脂などの材料から構成されていてもよい。例えば、ポリエステル、塩化ビニルなどを用いることができる。
【００８１】
以上説明したワイピング処理は、潤滑層の表面に傷を付けることなく、数秒から数十秒という短時間で行なうことができるため、連続的に被転写媒体を処理できるという利点がある。この結果、磁気記録媒体の生産性を向上することができる。
【００８２】
次に、図２（ｄ）を参照して、被転写媒体の潤滑層の表面を平坦化するもう１つの手段である、Ｂ）転写した被転写媒体の潤滑層の表面を加熱処理する手段を説明する。
【００８３】
Ｂ）転写した被転写媒体の潤滑層の表面を加熱処理する手段（図２（ｄ））
図２（ｄ）は、転写した被転写媒体２１０の表面を加熱処理することを説明するための概略図である。図２（ｄ）に示すように、加熱処理は、上記の工程２）で転写した被転写媒体２１０の潤滑層２０９の表面を、加熱装置を用いて加熱することにより行われる。その後、加熱した媒体を所定の条件下で冷却し、磁気記録媒体を得る。
【００８４】
加熱方法は、転写した被転写媒体２１０を所定の温度に設定された加熱装置内に一定時間静置することにより行うことができるが、加熱により転写した被転写媒体２１０の潤滑層２０９が流動して、その表面が平坦化されれば、どのような方法も適用できる。
【００８５】
加熱条件は、転写した被転写媒体２１０を構成する材料等により異なるが、例えば、パーフルオロポリエーテル系の液体潤滑剤を用いた場合には、転写した被転写媒体２１０を５０〜２００℃で、１０分〜２時間加熱装置内に静置することができる。
【００８６】
加熱装置としては、例えば、炉などを適用することができる。
【００８７】
加熱後の冷却条件は、転写した被転写媒体を構成する材料等により異なるが、例えば、パーフルオロポリエーテル系の液体潤滑剤を用いた場合には、転写した被転写媒体２１０を室温で、１０分〜２時間静置することができる。
【００８８】
以上説明した加熱処理は、潤滑層の表面に傷を付けることなく、大量の被転写媒体をまとめて処理できるという利点がある。この結果、磁気記録媒体の生産性を向上することができる。
【００８９】
以上、３）転写した被転写媒体の潤滑層の表面を平坦化する工程を説明したが、この工程後に、被転写媒体をバーニッシュ処理する工程をさらに含んでもよい。以下に当該工程を説明する。
【００９０】
［被転写媒体をバーニッシュ処理する工程］
本工程は、上記の工程３）で潤滑層の表面を平坦化した被転写媒体をバーニッシュ処理することにより、潤滑層の表面に存在する微小の突起物および塵埃を除去する工程である。本工程で行われるバーニッシュ処理には、従来の磁気記録媒体の製造において用いられている方法を適用することができる。
【００９１】
例えば、バーニッシュ処理は、バーニッシュ装置に装着したバーニッシュヘッドまたはバーニッシュテープを用いて潤滑層の表面に存在する微小の突起物および塵埃を除去することができる。
【００９２】
バーニッシュヘッドは、例えば、Ａｌ2Ｏ3−ＴｉＣなどの材料から構成されていてもよい。
【００９３】
バーニッシュテープは、例えば、フィルム状基材上に砥粒が結合剤で接着されたものから構成されていてもよい。また、バーニッシュテープは、従来の方法のように、砥粒と結合剤と溶媒とを混合分散して塗布溶液を調製し、この塗布溶液を基材フィルムの表面に塗布し、乾燥させることにより製造することができる。
【００９４】
フィルム状基材は、例えば、ポリエチレンテレフタレート樹脂などの材料から構成されていてもよい。
【００９５】
砥粒は、例えば、酸化アルミニウム、ダイヤモンド、酸化セリウムなどの材料から構成されていてもよい。
【００９６】
結合剤は、例えば、飽和ポリエステル樹脂などの材料から構成されていてもよい。
【００９７】
以上のバーニッシュ処理工程は、潤滑層の表面を平坦化しない被転写媒体に対して行うと被転写媒体に傷を付けてしまうおそれがあるが、上記の工程３）で潤滑層の表面を平坦化した被転写媒体に対して行われる場合には、被転写媒体に傷を付けることなく媒体上の微小な突起物および塵埃を除去することができる。
【００９８】
以上説明したとおり、本発明の磁気記録媒体の製造方法は、表面平滑性に優れた高記録密度の磁気記録媒体を製造することができる。このため、歩留まりが高く、磁気ヘッドが安定浮上する高記録密度の磁気記録媒体を提供することができる。
【実施例】
【００９９】
以下に、本発明の磁気記録媒体の製造方法を実施例によりさらに詳細に説明する。下記実施例は、例示であり本発明を制限することを意図するものではない。
【０１００】
＜実施例１＞
（被転写媒体の形成）
図２（ａ）に示すように、外径６５ｍｍ、内径２０ｍｍ、厚さ０．６３５ｍｍの円盤状のガラス基板上にＣｏＣｒＰｔ−ＳｉＯ2よりなる磁性層を厚さが約１００ｎｍになるようにスパッタ法で形成した後、カーボンからなる保護層をＣＶＤ法により厚さ２．８ｎｍになるように形成した。次いで、保護層上に液体潤滑剤Ｚ−Ｔｅｔｒａｏｌ（Ｓｏｌｖａｙ  Ｓｏｌｅｘｉｓ社製）を、ディッピング法によって厚さ１．２ｎｍになるように塗布し、乾燥させ、潤滑層を形成し、被転写媒体を得た。保護層の厚さは２．８ｎｍ、潤滑層の厚さは１．２ｎｍであり、被転写媒体の表面粗さＲａは０．３１ｎｍであった。
【０１０１】
（表面平滑性の検査）
図３（ａ）に示すように、被転写媒体を、ヘッド浮上量６．５ｎｍに設定されたグライド試験装置でグライド試験し、この試験に合格した被転写媒体を１００枚用意した。この試験済み被転写媒体を磁気転写用の被転写媒体として用い、１枚ずつ、以下の処理を行なった。
【０１０２】
（磁気転写）
図２（ｂ）に示すように、転写用原盤と被転写媒体とを緊密に密着させて、磁気転写装置を用いて磁気転写した。その後、転写用原盤と被転写媒体を分離し、転写された被転写媒体を得た。
【０１０３】
（潤滑層の表面の平坦化）
次に、図８（ａ）に示すように、転写した被転写媒体をスピンドルに固定し、スピンドルを１０００ｒｐｍの速度で回転させた。次いで、被転写媒体の潤滑層の表面に、ワイピング部材として０．１５デニールのポリエステル繊維からなる織布をゴム材からなる押圧部材を介して１２．７ｋＰａ（０．１３ｋｇｆ／ｃｍ2）の面圧で押し当てた。次いで、押し当て面に対して水平方向にワイピング部材を５秒かけて移動させ、媒体の潤滑層面全体にわたりワイピング処理を行うことで、磁気記録媒体を得た。
【０１０４】
（磁気記録媒体の評価）
製造した磁気記録媒体について、磁気記録媒体特性試験機（日立ハイテクノロジーズ社製）を用いてグライド試験と信号読み書き試験を行なった。
【０１０５】
グライド試験は、グライド試験ヘッドの浮上量を６．５ｎｍに設定して実施した。当該試験においては、磁気記録媒体表面に存在する突起物を検出できなかった場合に、当該媒体を合格品とした。
【０１０６】
各試験に合格した枚数の結果を表１に示す。
＜実施例２＞
本実施例では、実施例１の（潤滑層の表面の平坦化）において、ワイピング部材として、ポリエチレンテレフタレートからなるフィルム状基材上にアクリル樹脂からなる微粒子が飽和ポリエステル樹脂からなる結合剤で接着されたフィルムを用い、２４．５ｋＰａ（０．２５ｋｇｆ／ｃｍ2）の面圧で押し当てることにより磁気記録媒体を製造した。この磁気記録媒体についても、グライド試験と信号読み書き試験を行なった。試験に合格した枚数の結果を表１に示す。
【０１０７】
＜実施例３＞
本実施例では、実施例１の（潤滑層の表面の平坦化）において、転写した被転写媒体にワイピング処理を行う代わりに、被転写媒体を１２０℃の炉内に入れ、３０分間静置し、その後、被転写媒体を炉から取り出し、室温にて３０分間静置することで、磁気記録媒体を得た。この磁気記録媒体についても、グライド試験と信号読み書き試験を行なった。試験に合格した枚数の結果を表１に示す。
【０１０８】
＜実施例４＞
本実施例では、実施例１と同一の条件で被転写媒体の形成し、次いで、グライド試験を実施せずに、形成した被転写媒体１００枚について、１枚ずつ、実施例１と同様に被転写媒体を磁気転写し、ワイピング処理を行った。次いで、ワイピング処理において使用したワイピング部材をバーニッシュ部材に取り替えて、押圧部材を介して、潤滑層の表面にバーニッシュ部材を１２．７ｋＰａ（０．１３ｋｇｆ／ｃｍ2）の面圧で押し当てた。次いで、押し当て面に対して水平方向にワイピング部材を５秒かけて移動させ、媒体の潤滑層面全体にわたりワイピング処理を行うことで、磁気記録媒体を得た。この磁気記録媒体についても、グライド試験と信号読み書き試験を行なった。試験に合格した枚数の結果を表１に示す。
【０１０９】
＜実施例５＞
本実施例では、実施例１と同一の条件で被転写媒体の形成し、次いで、グライド試験を実施せずに、形成した被転写媒体１００枚について、１枚ずつ、実施例１と同様に被転写媒体を磁気転写し、ワイピング処理を行うことで、磁気記録媒体を得た。この磁気記録媒体についても、グライド試験と信号読み書き試験を行なった。試験に合格した枚数の結果を表１に示す。
【０１１０】
＜比較例１＞
本比較例では、実施例１と同一の条件で被転写媒体の形成し、次いで、グライド試験を実施せずに、形成した被転写媒体１００枚について、１枚ずつ、実施例１と同様に被転写媒体を磁気転写した。次いで、転写した被転写媒体をスピンドルに固定し、バーニッシュヘッドの浮上量を６．５ｎｍに設定し、スピンドルを７２００ｒｐｍの速度で回転させ、転写した被転写媒体の潤滑層の表面全体をバーニッシュ処理した。バーニッシュヘッドは、Ａｌ2Ｏ3−ＴｉＣの材料から構成されていた。
【０１１１】
バーニッシュ処理により得た磁気記録媒体について、グライド試験と信号読み書き試験を行なった。試験に合格した枚数の結果を表１に示す。
【０１１２】
＜比較例２＞
本比較例では、比較例１において、バーニッシュヘッドの代わりにバーニッシュテープを用いてバーニッシュ処理を行った。
【０１１３】
バーニッシュテープを用いたバーニッシュ処理は、転写した被転写媒体をスピンドルに固定し、スピンドルを１０００ｒｐｍの速度で回転させ、転写した被転写媒体の潤滑層の表面に、ポリエチレンテレフタレートからなるフィルム状基材上にアクリル樹脂からなる微粒子が飽和ポリエステル樹脂からなる結合剤で接着されたラッピングフィルムを、ゴム材からなる押圧部材を介して１２．７ｋＰａ（０．１３ｋｇｆ／ｃｍ2）の面圧で押し当てることにより行った。また、押し当て面に対して水平方向にラッピングフィルムを５秒かけて移動させ、媒体の潤滑層面全体にわたりバーニッシュ処理を行い、磁気記録媒体を得た。
【０１１４】
この磁気記録媒体について、グライド試験と信号読み書き試験を行なった。試験に合格した枚数の結果を表１に示す。
【０１１５】
＜比較例３＞
本比較例では、実施例１の（潤滑層の表面の平坦化）を行わなかったことを除き、実施例１に記載した方法により磁気記録媒体を製造した。
【０１１６】
この磁気記録媒体について、グライド試験と信号読み書き試験を行なった。試験に合格した枚数の結果を表１に示す。
【０１１７】
＜比較例４＞
本比較例では、比較例２において用いた被転写媒体の代わりに、保護層の厚さが３．２ｎｍ、潤滑層の厚さが１．７ｎｍ、表面粗さＲａが０．５２ｎｍの形状を有する被転写媒体を使用したことを除き、比較例２に記載の方法により、磁気記録媒体を得た。
【０１１８】
この磁気記録媒体についても、グライド試験と信号読み書き試験を行なった。試験に合格した枚数の結果を表１に示す。
【０１１９】
2012043494.tif 000003
【０１２０】
表１に示すように、磁気転写後にワイピング処理または加熱処理を行った実施例１〜５の磁気記録媒体では、従来技術のバーニッシュ処理を行なった比較例１〜２に比べて、最終試験である信号読み書き試験にまで合格した枚数が多かった。
【０１２１】
特に、磁気転写前にグライド試験を行なった実施例１〜３、及び、磁気転写後にワイピング処理をした後にテープバーニッシュ処理をした実施例４は、ワイピング処理のみを行なった実施例５に比べて好ましい結果となった。実施例５の不合格品を解析したところ、磁気ヘッドの浮上に影響を及ぼす大きさの突起物が検出された。このため、磁気転写の前に表面平滑性試験を行なうか、ワイピング処理後にバーニッシュ処理を行うことが好ましい。
【０１２２】
一方、バーニッシュ処理をした比較例１〜２では、その不合格品を解析したところ微小スクラッチが検出されたほか、そのスクラッチに沿ってバリ突起も検出された。バリ突起はグライド試験の合格枚数を低下させる原因となり、スクラッチは信号読み書き試験の合格枚数を低下させる原因になっていることが分かった。
【０１２３】
被転写媒体の潤滑層における表面処理を行なわなかった比較例３では、磁気転写後のグライド試験および信号読み書き試験のパス枚数が少なかった。不合格品を解析した結果、潤滑層の表面に凹凸が見られ、磁気ヘッドが安定して浮上できないために試験に合格できなかったことが分かった。
【０１２４】
比較例２は、比較例４に比べて、試験の合格枚数が少なかった。このことから、表面粗さがより小さく、保護層および潤滑層が薄膜化されて磁気スペーシングがより小さくなってしまう磁気記録媒体に、従来技術を適用すると、歩留まりに悪影響を及ぼしてしまうことは明らかである。したがって、このような表面粗さがより小さく、保護層および潤滑層が薄膜化された磁気記録媒体を製造するには、本発明の方法に用いられる潤滑層の表面を平坦化する手段を適用することが有効であることが分かった。
【０１２５】
次に、本発明の磁気記録媒体の製造方法が、どの程度にまで、表面粗さが小さく、保護層および潤滑層が薄膜化されている磁気記録媒体の製造に有効であるかをより詳細に検討した結果を示す。
【０１２６】
＜実施例６〜１１＞
図２（ａ）に示すように、外径６５ｍｍ、内径２０ｍｍ、厚さ０．６３５ｍｍの円盤状のガラス基板上にＣｏＣｒＰｔ−ＳｉＯ2よりなる磁性層を厚さが約１００ｎｍになるようにスパッタ法で形成した後、カーボンからなる保護層をＣＶＤ法により厚さ２．０ｎｍ〜３．２ｎｍの範囲で形成した。次いで、保護層の上に液体潤滑剤Ｚ−Ｔｅｔｒａｏｌ（Ｓｏｌｖａｙ  Ｓｏｌｅｘｉｓ社製）を、ディッピング法によって厚さ０．７ｎｍ〜１．７ｎｍの範囲で塗布し、乾燥させ、潤滑層を形成し、被転写媒体を得た。被転写媒体の表面粗さＲａは０．２２ｎｍ〜０．５２ｎｍであった。表２に、作製した各サンプルの保護層および潤滑層の厚みと表面粗さＲａを示す。
【０１２７】
次いで、各実施例において被転写媒体のサンプルを１０枚作製し、１枚ずつ、実施例１に記載の（磁気転写）および（潤滑層の表面の平坦化）を行うことで、磁気記録媒体を得た。なお、実施例６〜１１のいずれにおいても磁気転写前のグライド試験は行なわなかった。
【０１２８】
この製造した磁気記録媒体について、実施例１と同様にグライド試験と信号読み書き試験を行なった。合格した枚数の結果を表２に示す。
【０１２９】
＜比較例５〜１８＞
図２（ａ）に示すように、外径６５ｍｍ、内径２０ｍｍ、厚さ０．６３５ｍｍの円盤状のガラス基板上にＣｏＣｒＰｔ−ＳｉＯ2よりなる磁性層を厚さが約１００ｎｍになるようにスパッタ法で形成した後、カーボンからなる保護層をＣＶＤ法により厚さ２．０ｎｍ〜４．０ｎｍの範囲で形成した。次いで、保護層の上に液体潤滑剤Ｚ−Ｔｅｔｒａｏｌ（Ｓｏｌｖａｙ  Ｓｏｌｅｘｉｓ社製）を、ディッピング法によって厚さ０．７ｎｍ〜２．５ｎｍの範囲で塗布し、乾燥させ、潤滑層を形成し、被転写媒体を得た。被転写媒体の表面粗さＲａは０．２２ｎｍ〜０．６０ｎｍであった。表２に、作製した各サンプルの保護層および潤滑層の厚みと表面粗さＲａを示す。
【０１３０】
次いで、各比較例において被転写媒体のサンプルを１０枚作製し、１枚ずつ、比較例２に記載のように、磁気転写およびバーニッシュ処理を行うことで、磁気記録媒体を得た。なお、比較例５〜１８のいずれにおいても磁気転写前のグライド試験は行なわなかった。
【０１３１】
この製造した磁気記録媒体について、実施例１と同様にグライド試験と信号読み書き試験を行なった。合格した枚数の結果を表２に示す。
【０１３２】
2012043494.tif 000004
【０１３３】
表２から分かるように、比較例５〜９で保護膜の厚さを変えた結果、厚さ３．０ｎｍ程度を境に試験に合格する枚数が減少した。また、比較例７及び比較例１０〜１３で潤滑層の厚さを変えた結果、厚さ１．５ｎｍ程度を境に試験に合格する枚数が減少した。さらに、比較例７及び比較例１４〜１８で表面粗さＲａを変えた結果、Ｒａ０．５ｎｍ程度を境に試験に合格する枚数が減少した。
【０１３４】
これに対し、本発明の方法により製造された磁気記録媒体は、実施例６〜７のように保護膜厚さが３．０ｎｍ以下であっても、試験に１０枚とも合格している。また、実施例８〜９のように潤滑層厚さが１．５ｎｍ以下であっても、概ね試験に合格している。さらに、実施例１０〜１１のように表面粗さＲａが０．５以下であっても、概ね試験に合格している。
【０１３５】
このため、本発明は、保護膜厚さが３．０ｎｍ以下、潤滑層厚さが１．５ｎｍ以下、表面粗さＲａが０．５ｎｍ以下である磁気記録媒体の製造において、特に有効であることが分かった。したがって、磁気転写工程を含む磁気記録媒体の製造方法において、表面粗さが小さく、保護層および潤滑層が薄膜化されている磁気記録媒体を製造する際に、本発明の方法を用いることで、表面平滑性に優れた磁気記録媒体を製造することができる。その結果、磁気ヘッドが安定浮上する磁気記録媒体を提供することができる。
【符号の説明】
【０１３６】
２０２    基板
２０４  ２０５  磁性層
２０６  ２０７  保護層
２０８  ２０９  潤滑層
２００  被転写媒体
２１０  転写した被転写媒体
２１８  ８０２  ワイピング部材
【図１】
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【図２】
2012043494.tif 000006
【図３】
2012043494.tif 000007
【図４】
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【図５】
2012043494.tif 000009
【図６】
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【図７】
2012043494.tif 000011
【図８】
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