(57)【要約】【課題】電極パターン、ダミーパターンのメッシュ構造が目立たなくなり、表示情報が視認し易くなり、操作性の向上を図ることができる静電容量型タッチパネルを提供する。【解決手段】平面視で交差する接触感知用の第１電極パターン(66)及び接触感知用の第２電極パターン(36)、並びに、第１電極パターンと第２電極パターンとで囲まれた空間を埋めるダミーパターン(56)で構成され、これら各パターンは、いずれも略一定のピッチ(Px,Py)のメッシュ構造を有している。そして、平面視で互いに向かい合う第１電極パターンとダミーパターンとの間に設けられた第１パターン隙間(71)、並びに、平面視で互いに向かい合う第２電極パターンとダミーパターンとの間に設けられた第２パターン隙間(72)とを具備し、これら第１パターン隙間及び第２パターン隙間の各間隔は、上記ピッチの略１／２倍の長さに設定される。【選択図】図８
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１方向に延びた第１の長パターンの束に対し、平面視でこの第１方向に交差する第２方向に延びた複数の短パターンを導通させて略一定のピッチのメッシュ構造を形成しており、当該第１の長パターンの束が前記第２方向に沿って互いに離間して配置された接触感知用の第１電極パターンと、
前記第２方向に延びた第２の長パターンの束に対し、前記第１方向に延びた複数の短パターンを導通させて前記ピッチと同ピッチのメッシュ構造を形成しており、当該第２の長パターンの束が前記第１方向に沿って互いに離間して配置されるとともに、この第２の長パターンと前記第１の長パターンとを導通させずに前記平面視で互いに交差しても前記ピッチと同ピッチのメッシュ構造を形成できる接触感知用の第２電極パターンと、
前記ピッチと同ピッチのメッシュ構造で形成され、前記第１電極パターンと前記第２電極パターンとで囲まれた空間を埋めるダミーパターンと、
前記平面視で互いに向かい合う前記第１電極パターンと前記ダミーパターンとの間に設けられた第１パターン隙間、並びに、前記平面視で互いに向かい合う前記第２電極パターンと前記ダミーパターンとの間に設けられた第２パターン隙間とを具備し、
これら第１パターン隙間及び第２パターン隙間の各間隔は、前記ピッチの略１／２倍の長さに設定されていることを特徴とする静電容量型タッチパネル。
【請求項２】
請求項１に記載の静電容量型タッチパネルであって、
前記メッシュ構造は、前記第１電極パターンの延在方向や前記第２電極パターンの延在方向に対して平行に配置されることを特徴とする静電容量型タッチパネル。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の静電容量型タッチパネルであって、
前記ダミーパターンの外周縁は連続した線で結ばれており、この外周縁の内側に形成されたメッシュ構成パターンが前記第１パターン隙間や前記第２パターン隙間に突出せず、
前記第１電極パターンの短パターンが前記平面視で前記ダミーパターンの外周縁に対向した前記第１の長パターンで結ばれており、この第１電極パターンの短パターンが前記第１パターン隙間に突出せず、
前記第２電極パターンの短パターンが前記平面視で前記ダミーパターンの外周縁に対向した前記第２の長パターンで結ばれており、この第２電極パターンの短パターンが前記第２パターン隙間に突出しないことを特徴とする静電容量型タッチパネル。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか一項に記載の静電容量型タッチパネルであって、
前記第１電極パターン、前記第２電極パターン、及び前記ダミーパターンの各線幅は、５．０μｍから２０μｍの範囲に設定されることを特徴とする静電容量型タッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、誘電体の接近位置を静電容量の変化に基づいて検出できる静電容量型タッチパネルに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
この種のタッチパネルは電子機器、例えば金融機関の現金自動預け払い機（Ａｕｔｏｍａｔｅｄ  Ｔｅｌｌｅｒ  Ｍａｃｈｉｎｅ：以下、ＡＴＭと称する）に搭載される。
当該ＡＴＭのディスプレイは液晶などで構成された表示ユニットを有し、この表示ユニットには複数の指示画像を表示することができる。
【０００３】
タッチパネルは、タブレット型の入力装置であり、各指示画像の表示を妨げない透明材料や金属薄膜で形成して表示ユニットに載置される。そして、誘電体（利用者の指など）が所定の指示画像を覆うタッチパネルの一部分に触れると、当該指示画像に対応した情報が選択される。これにより、利用者はこの指示画像に対応した情報を入力可能になる（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
より詳しくは、当該タッチパネルは、金属製の細長いラインを透明基板上に複数備えている。
これら金属製の細長いラインは平面視で種々の幾何学模様を構成できるが、例えば四角形の網目状模様の例で説明すれば、細長いラインがＸ軸方向やＹ軸方向にそれぞれ延在して交差しており、メッシュ構造の電極パターンを形成する。
【０００５】
当該メッシュ構造の電極パターンは制御基板に電気的に接続され、この制御基板が誘電体の接近に伴う静電容量の変化を検出すると、タッチパネルのうち誘電体が触れたＸ座標やＹ座標の各データを得ることができる。
一方、タッチパネルが表示ユニットを覆っていることから、メッシュ構造の電極パターンなどが表示ユニットの明るさを低下させる。
【０００６】
具体的には、金属製の細長いラインを薄膜で形成しても、そのメッシュ構造の電極パターンを透明基板に重ねた場合の光の透過率と、網目状模様の開口領域、つまり、透明基板のみの光の透過率とは同じではない。このため、表示ユニットには、この透明基板のみで明るい領域とメッシュ構造の電極パターンを有した暗い領域とが出現するのである。
【０００７】
なお、上記特許文献１には、メッシュ構造の電極パターンを電気的に独立させるために、網目状模様を切断するスリットが設けられており、当該スリット領域も透明基板だけで構成される。
そこで、これら透明基板のみの領域に対してはダミーパターンで埋めることが考えられる（例えば、特許文献２，３参照）。詳しくは、ダミーパターンを金属製の細長いラインと同等の薄膜で形成すれば、そのメッシュ構造の電極パターンを有した領域との明るさの差異をなくすことできる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００６−３４４１６３号公報
【特許文献２】特開２０１０−２９５８号公報
【特許文献３】特開２０１０−９４５６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、仮に、特許文献１のメッシュ構造の電極パターンと特許文献２，３のダミーパターンとを組み合わせてみても、利用者に違和感を与えるという問題が依然として残されている。
詳しくは、透明基板のみの領域をダミーパターンで埋めるに際し、まず、このダミーパターンは、Ｘ，Ｙ軸方向に延びた金属製の細長いラインから離間させる必要がある。それは、細長いラインとダミーパターンとが接すると、周囲の電極パターンよりも太い線として際立つし、また、細長いラインとダミーパターンとが重なると、メッシュ構造の電極パターンを透明基板に重ねた場合の光の透過率よりもさらに大きな透過率になるからである。
【００１０】
そして、これら太い線の状態や大きな透過率の状態を回避すると、ダミーパターンの外側が透明基板のみの領域になる。つまり、互いに向かい合う金属製の細長いラインとダミーパターンとの間には、Ｘ軸方向ではＸ電極とのパターン隙間が、Ｙ軸方向ではＹ電極とのパターン隙間がそれぞれ存在し、これらＸ，Ｙ電極とのパターン隙間が四角形の輪郭を形成する。
【００１１】
すなわち、単にダミーパターンをＸ，Ｙ軸方向に延びた金属製の細長いラインから離間させて配置すると、Ｘ電極とのパターン隙間及びＹ電極とのパターン隙間が連続した空白の帯として浮かび上がり、当該帯状の空白部分の内側に位置するダミーパターンが際立ち初め、また、当該帯状の空白部分の外側に位置するメッシュ構造の電極パターンも際立ち初め、肉眼でも目立つ。
【００１２】
これでは、表示ユニットの情報が、この情報とは無関係のメッシュ構造パターンが目立ち、この情報が利用者に視認し難くなる。
そこで、本発明の目的は、上記課題を解消し、利用者が表示情報を見易くなることにより、操作性の向上を図ることができる静電容量型タッチパネルを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記目的を達成するための第１の発明は、接触感知用の第１電極パターン、接触感知用の第２電極パターン、及びダミーパターンで構成された静電容量型タッチパネルである。
詳しくは、まず、第１電極パターンは、第１方向に延びた第１の長パターンの束に対し、平面視でこの第１方向に交差する第２方向に延びた複数の短パターンを導通させて略一定のピッチのメッシュ構造を形成しており、第１の長パターンの束が第２方向に沿って互いに離間して配置される。
【００１４】
次に、第２電極パターンは、第２方向に延びた第２の長パターンの束に対し、第１方向に延びた複数の短パターンを導通させて上記ピッチと同ピッチのメッシュ構造を形成しており、第２の長パターンの束が第１方向に沿って互いに離間して配置されるとともに、この第２の長パターンと第１の長パターンとを導通させずに平面視で互いに交差しても上記ピッチと同ピッチのメッシュ構造を形成できる。
【００１５】
続いて、ダミーパターンは、上記ピッチと同ピッチのメッシュ構造で形成され、第１電極パターンと第２電極パターンとで囲まれた空間を埋める。
そして、本発明の静電容量型タッチパネルは、平面視で互いに向かい合う第１電極パターンとダミーパターンとの間に設けられた第１パターン隙間、並びに、平面視で互いに向かい合う第２電極パターンとダミーパターンとの間に設けられた第２パターン隙間とを具備し、これら第１パターン隙間及び第２パターン隙間の各間隔は、メッシュ構造のピッチの略１／２倍の長さに設定されている。
【００１６】
第１の発明によれば、タッチパネル用のパターンが、接触感知用の第１電極パターン、接触感知用の第２電極パターン、及びダミーパターンの３種で構成され、いずれもメッシュ構造を有する。
詳しくは、まず、第１電極パターンでは、第１の長パターンの束と複数の短パターンとが導通状態で交差した網目状に形成されている。これら網目状は、いずれも略一定のピッチである。
【００１７】
次に、第２電極パターンでは、第２の長パターンの束と複数の短パターンとが用いられる。これら第２の長パターン及び短パターンが導通状態で交差した網目状に形成されており、これら網目状もまた、第１電極パターンのメッシュ構造と同じピッチである。
さらに、第１の長パターンと第２の長パターンとは導通していないものの、平面視では互いに交差する。したがって、上述した第１電極パターン自体や第２電極パターン自体の他、互いに絶縁状態にある第１電極パターンと第２電極パターンとによっても上記メッシュ構造を形成できる。
【００１８】
一方、第１の長パターンは、その束と束とが第２方向に沿って互いに離れて配置される。これに対し、第２の長パターンは、その束と束とが第１方向に沿って離れて配置される。すなわち、平面視では、第１電極パターンと第１電極パターンとの間であって、第２電極パターンと第２電極パターンとの間には、これら第１電極パターンや第２電極パターンの無い領域が形成される。
【００１９】
そこで、これら隣り合う第１電極パターンの間、かつ、隣り合う第２電極パターンの間の双方に相当する領域はダミーパターンで埋める。
これらダミーパターンは、第１電極パターンや第２電極パターンのメッシュ構造と同じピッチのメッシュ構造であり、タッチパネルを備えた画面のうち、第１電極パターンや第２電極パターンの存在しない空間を目立たなくする機能を有する。
【００２０】
ここで、本発明によれば、第１パターン隙間の間隔及び第２パターン隙間の間隔をメッシュ構造の大きさに関連付けて規定しており、ダミーパターンや、その周囲の第１電極パターン及び第２電極パターン、又は第１，２電極パターンの組み合わせ部分が、従来に比して目立ち難くなる。
より詳しくは、メッシュ構造のピッチの略１／２倍という規則に基づいて第１パターン隙間の間隔や第２パターン隙間の間隔を設定すれば、第１パターン隙間や第２パターン隙間が太い帯状の空白部分として浮かび上がらない。また、第１電極パターンとダミーパターン、或いは第２電極パターンとダミーパターンとで太い線として認識されることもない。
【００２１】
よって、ダミーパターンや、その周囲の第１電極パターン及び第２電極パターン、又は第１，２電極パターンの組み合わせ部分が肉眼で目立ち難くなる。この結果、利用者への違和感を真に無くして操作性の向上を達成でき、その位置情報を速やかに検出することができる。
しかも、第１電極パターン自体や第２電極パターン自体がメッシュ構造を有していれば、汎用の導電材料を利用することができ、安価な静電容量型タッチパネルを提供できる。
【００２２】
さらに、上記メッシュ構造によれば、第１電極パターンや第２電極パターンの信頼性も高くなる。
なぜならば、仮にメッシュ構造に部分的な断線が生じてしまったとしても、メッシュ構造全体でみて導通が維持されていれば、その位置情報の検出が可能になるからである。
【００２３】
第２の発明は、第１の発明の構成において、メッシュ構造は、第１電極パターンの延在方向や第２電極パターンの延在方向に対して平行に配置されることを特徴とする。
第２の発明によれば、第１の発明の作用に加えてさらに、メッシュ構造が第１の長パターンや第２の長パターンと完全に平行、換言すれば、肉眼で検査した場合よりも厳密に精査してメッシュ構造のバイアス角度が０°に設定されることから、第１パターン隙間や第２パターン隙間が帯状の空白部分として全く浮かび上がらない。
【００２４】
第３の発明は、第１や第２の発明の構成において、ダミーパターンの外周縁は連続した線で結ばれており、この外周縁の内側に形成されたメッシュ構成パターンが第１パターン隙間や第２パターン隙間に突出せず、第１電極パターンの短パターンが平面視でダミーパターンの外周縁に対向した第１の長パターンで結ばれており、この第１電極パターンの短パターンが第１パターン隙間に突出せず、第２電極パターンの短パターンが平面視でダミーパターンの外周縁に対向した第２の長パターンで結ばれており、この第２電極パターンの短パターンが第２パターン隙間に突出しないことを特徴とする。
【００２５】
第３の発明によれば、第１や第２の発明の作用に加えてさらに、第１電極パターン、第２電極パターンやダミーパターンは、いずれもいわゆる「閉じた図形」となり、第１パターン隙間及び第２パターン隙間には、第１電極パターンの短パターン、第２電極パターンの短パターン、及びダミーパターンの内側に形成されたメッシュ構成パターンが突出しない。すなわち、メッシュ構造をなす短パターンの終端部分やメッシュ構成パターンの終端部分が解放されない。
【００２６】
よって、各終端部分の寸法バラツキが生じず、これら各終端部分が却って第１パターン隙間や第２パターン隙間を浮かび上がらせることもない。
第４の発明は、第１から第３の発明の構成において、第１電極パターン、第２電極パターン、及びダミーパターンの各線幅は、５．０μｍから２０μｍの範囲（１μｍ＝１．０×１０−６ｍ）に設定されることを特徴とする。
【００２７】
第４の発明によれば、第１から第３の発明の作用に加えてさらに、各パターンの線幅が５．０μｍから２０μｍの範囲に設定されてあれば、微細な線幅を構成でき、メッシュ構造を製造し易く、また、肉眼で目立ち難くなる。詳しくは、この線幅が５．０μｍ未満であると、均一な線幅を形成することが困難になるからである。さらに、パターンの表面抵抗値も約０．１Ω／ｓｑ．よりも高くなって感度低下も招く。一方、この線幅が２０μｍを超えてしまうと、メッシュ構造が非常に際立つのである。
【発明の効果】
【００２８】
本発明によれば、第１パターン隙間の間隔及び第２パターン隙間の間隔をメッシュ構造の大きさに関連付けて規定しており、利用者への違和感を真に無くして操作性の向上を図る静電容量型タッチパネルを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】本実施例に係る静電容量型タッチパネルを組み込んだディスプレイの説明図である。
【図２】図１の静電容量型タッチパネルの平面図である。
【図３】図２のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿う静電容量型タッチパネルの矢視断面図である。
【図４】図２の静電容量型タッチパネルの分解斜視図である。
【図５】図２のＸ電極パターンの説明図である。
【図６】図２のＹ電極パターンの説明図である。
【図７】図２のダミーパターンの説明図である。
【図８】図２の実施例に相当する電極パターンなどの拡大図である。
【図９】比較例１の電極パターンなどの拡大図である。
【図１０】比較例２の電極パターンなどの拡大図である。
【図１１】比較例３の電極パターンなどの拡大図である。
【図１２】比較例４の電極パターンなどの拡大図である。
【発明を実施するための形態】
【００３０】
以下、本発明の好適な実施形態を図面に基づいて説明する。
図１には、本実施例の静電容量型タッチパネル６を備えたディスプレイ２が示されている。このディスプレイ２は、例えば金融機関のＡＴＭに設置にされており、金融機関が当該ＡＴＭを介して利用者に提供できるサービス内容などを表示できる。
【００３１】
このＡＴＭの装置本体は、顔を上げてその前に立った利用者の視界に入る位置に、正面壁（図示しない）を有する。当該正面壁は上下方向に沿って延び、その適宜位置には、通帳や磁気カードの挿入・受け取り口が前方に向けて開口している。また、ＡＴＭの装置本体は、この正面壁の下側が利用者に向けて膨出し、この正面壁に交差する平面壁１を有する。
【００３２】
詳しくは、平面壁１は、その顔を下方に向けた利用者の視界に入る位置であり、この利用者の手の届く位置に設けられている。これら平面壁１と上述した正面壁との交差位置には、紙幣や硬貨の受け取り・投入口（図示しない）が上方に向けて開口している。
そして、ディスプレイ２は平面壁１の略中央位置に設置される（図１）。
【００３３】
本実施例のディスプレイ２はケーシング４を有する。このケーシング４は、上方に向けて開口したカップ状をなし、当該開口の周縁部分が四角形状に形成され、ディスプレイ２の外枠として平面壁１から突出している。
このケーシング４の内部には、静電容量型タッチパネル６や表示ユニット８が収納される。
【００３４】
本実施例の表示ユニット８は、その構造の図示は省略するが、液晶層の表裏をガラス基板や偏光板で挟持した液晶セルや、この液晶セルの裏側に配置されるバックライトを有する。さらに、これら液晶セルやバックライトを駆動制御する制御基板も備えており、上記サービス内容などの複数の指示画像をカラー表示可能である。
【００３５】
例えば図１を、ＡＴＭの前に立った利用者が最初に見る画面として説明すれば、灰色の背景画像１０の内部に、計８個の指示画像１２が青色で表示され、各指示画像１２には「お引き出し」、「お預け入れ」、「お振り込み」、「お振り替え」、「通帳記入・残高照会」、「通帳繰越」、「暗証番号変更」や、「預金取引」の文字等が黒色でそれぞれ表示されている。
【００３６】
ここで、利用者の指が所望の指示画像１２に接近すると、当該指示画像１２の色が反転して選択される。続いて、この選択した指示画像１２に関するサービスの次の画面に進み、具体的な入力が実行される。このように、利用者は、表示ユニット８の表示内容に沿ってＡＴＭを自ら操作すれば、金融機関の窓口を経由することなく、その提供するサービスを受けることができる。
【００３７】
それは、静電容量型タッチパネル６が、利用者の指と表示ユニット８との間に介在しており、この利用者の操作内容を検出しているからである。
本実施例の静電容量型タッチパネル６は、背景画像１０や指示画像１２の表示を妨げない透明材料や薄膜で形成され、図２では明確に示されるように、表示ユニット８の表面に載置されている。
【００３８】
具体的には、静電容量型タッチパネル６は、図１では背景画像１０や指示画像１２の説明を助けるために、これら背景画像１０や指示画像１２の表示を妨げないように示していたが、図２では、この静電容量型タッチパネル６の構造の理解を容易にするべく、後述のＸ電極パターン（第１電極パターン）６６、Ｙ電極パターン（第２電極パターン）３６やダミーパターン５６を濃く、かつ、大きく描いている。つまり、これら図１及び図２は同一のディスプレイ２を描いており、いずれも静電容量型タッチパネル６が表示ユニット８を覆う。
【００３９】
次に、本実施例の静電容量型タッチパネル６は計３枚の透明基板２０，３０，６０を帳合して構成されている。
詳しくは、図２の静電容量型タッチパネル６を切断した図３や、図２の静電容量型タッチパネル６を分解した図４（各パターン３６，５６，６６をより明確に表示するために、これら各パターン３６，５６，６６をやや簡略化して描いている）にも示されるように、まず、上位置の透明基板２０は、例えばＰＥＴフィルムで構成され、ケーシング４の開口の周縁部分よりもやや大きな四角形状で形成されており、表面２１が外部に露出して利用者の指に接触可能に構成される。
【００４０】
このため、透明基板２０は耐久性のある厚さや硬さを有している。
次に、中位置の透明基板３０は透明基板２０と同等の面積を有した四角形状に形成され、この透明基板３０の表面３１が透明基板２０の裏面２２に対峙する（図３）。透明基板３０と透明基板２０とは絶縁性のある透明粘着剤を用いた粘着剤層２４で貼り合わされる。
【００４１】
一方、本実施例の透明基板３０は例えば銅箔ＰＥＴ積層フィルムで構成される。具体的には、厚さ約１２５μｍ（１μｍ＝１．０×１０−６ｍ）のＰＥＴフィルムの上に、絶縁性のある透明接着剤を用いた厚さ約１５μｍの接着剤層３３が塗布され（図３）、その上に薄膜の厚さ約１０μｍの銅箔が重ねられている。後述のように、この銅箔部分がＹ電極パターン３６やダミーパターン５６になる。
【００４２】
続いて、下位置の透明基板６０は透明基板２０，３０と同等の面積を有した四角形状に形成され、この透明基板６０の表面６１が透明基板３０の裏面３２に対峙する（図３）。透明基板６０と透明基板３０とも絶縁性のある透明粘着剤を用いた粘着剤層３４で貼り合わされる。
本実施例の透明基板６０は中位置の透明基板３０と同じく例えば銅箔ＰＥＴ積層フィルムで構成される。
【００４３】
つまり、透明基板６０についても、厚さ約１２５μｍのＰＥＴフィルムの上に、厚さ約１５μｍの接着剤層６３が塗布され（図３）、その上に薄膜の厚さ約１０μｍの銅箔が重ねられており、後述のように、この銅箔部分がＸ電極パターン６６になる。
そして、図３に示した透明基板６０の裏面６２と表示ユニット８の表面とが重ね合わされ、静電容量型タッチパネル６が表示ユニット８を覆っている。
【００４４】
なお、本実施例の透明基板２０，３０，６０は、いずれもＰＥＴフィルムの例で説明したが、絶縁性を有した透明の基板であれば、アクリルやポリカーボネートなどの汎用のプラスチックシートであっても良く、その基板の厚さも、ディスプレイ２の薄型・軽量化や耐久性などを考慮して約１２μｍから約２５０μｍまで種々の仕様を選択可能である。
【００４５】
また、本実施例の透明基板３０，６０には銅箔が用いられているものの、この銅に替えてアルミニウム、銀、ニッケルなどの汎用の導電材料も利用可能である。
ところで、本実施例の各パターン３６，５６，６６は、いずれも導通したメッシュ構造を備えている。
【００４６】
まず、Ｘ電極パターン６６は、図２の一部分を構成する図５に示されるように、Ｘ軸方向（第１方向）に向けて直線状に延び、本実施例では、当該Ｘ軸に直交するＹ軸方向（第２方向）に沿って略一定の間隔で形成されている。
詳しくは、１個のＸ電極パターン６６は、Ｘ軸方向に延びた例えば計３本からなる長い横パターン（第１の長パターン）６７の束を有し、隣接した長い横パターン６７，６７同士は略一定の縦ピッチＰｙ（例えば約３００μｍ）の長さだけ離れて配置されている。
【００４７】
また、これら計３本で１組の長い横パターン６７の束には、Ｙ軸方向に延びた例えば計７本からなる短い縦パターン（短パターン）６８が導通してメッシュ構造を形成する。
より具体的には、隣接した短い縦パターン６８，６８同士は略一定の横ピッチＰｘ（例えば約３００μｍ）の長さだけ離れて配置され、当該メッシュ構造は、四角形の網目状模様が計１２個（Ｘ軸方向に６個、Ｙ軸方向に２個）の集合群で構成される。
【００４８】
図２や図５に示した例で云えば、この計１２個で１組のメッシュ構造の集合群がＸ軸方向に沿って計３組配置されており、隣接したメッシュ構造の集合群同士は横ピッチＰｘの４倍長の間隔で配置されている。
このように、１個のＸ電極パターン６６は、計３本からなる長い横パターン６７の束と計２１本（７本×３組）からなる短い縦パターン６８との組み合わせによって、計３６個（１２個×３組）の網目状模様を備えている。
【００４９】
そして、図２や図５に示した例で云えば、当該Ｘ電極パターン６６がＹ軸方向に沿って計４組配置され、隣接したＸ電極パターン６６，６６同士は縦ピッチＰｙの８倍長の間隔で配置されている。
これら計４組のＸ電極パターン６６は、図２や図５で見た上下方向、換言すれば、平面壁１の前後方向の位置情報を広範囲に亘って検出できる。
【００５０】
本実施例のＸ電極パターン６６は、透明基板６０の銅箔部分をフォトリソグラフィー方式によるエッチング加工して形成される。
具体的には、まず、透明基板６０の銅箔部分に対してフォトレジスト液を均一に塗布する（レジスト塗布工程）。次いで、Ｘ電極パターン６６を得るための所定パターンのマスクを重ね、紫外線を照射して当該パターンを転写し（露光工程）、未感光部分を除去する（現像工程）。
【００５１】
続いて、Ｘ電極パターン６６を形成し（エッチング工程）、最後に、フォトレジスト液を除去すると（レジスト剥離工程）、その線幅が約５．０μｍ〜約２０μｍの範囲内に設定され、パターンの表面抵抗率が約０．１Ω／ｓｑ．よりも小さな値のＸ電極パターン６６を得ることができる。
さらに、当該Ｘ電極パターン６６のメッシュ構造は、約３００μｍのピッチであるために、より長いピッチで構成した場合に比して肉眼で認識され難く、一方、より短いピッチで構成した場合に比してその製造も容易である。しかも、上記製造工程によってバイアス角度が０°、つまり、Ｘ電極パターン６６の延在方向やＹ電極パターン３６の延在方向に対して全く傾斜しない網目状模様を容易に形成可能になる。
【００５２】
次に、Ｙ電極パターン３６は、図２の一部分を構成する図６に示される如く、Ｙ軸方向に向けて直線状に延び、Ｘ軸方向に沿って略一定の間隔で形成されている。
具体的には、１個のＹ電極パターン３６は、Ｙ軸方向に延びた例えば計３本からなる長い縦パターン（第２の長パターン）３７の束を有し、隣接した長い縦パターン３７，３７同士は略一定の横ピッチＰｘの長さだけ離れて配置される。
【００５３】
また、これら計３本で１組の長い縦パターン３７の束には、Ｘ軸方向に延びた例えば計７本からなる短い横パターン（短パターン）３８が導通してメッシュ構造を形成する。
より詳しくは、隣接した短い横パターン３８，３８同士は略一定の縦ピッチＰｙの長さだけ離れて配置され、当該メッシュ構造は、四角形の網目状模様が計１２個（Ｘ軸方向に２個、Ｙ軸方向に６個）の集合群で構成される。
【００５４】
図２や図６に示した例で云えば、この計１２個で１組のメッシュ構造の集合群がＹ軸方向に沿って計３組配置されており、隣接したメッシュ構造の集合群同士は縦ピッチＰｙの４倍長の間隔で配置されている。
このように、１個のＹ電極パターン３６は、計３本からなる長い縦パターン３７の束と計２１本（７本×３組）からなる短い横パターン３８との組み合わせによって、計３６個（１２個×３組）の網目状模様を備えている。
【００５５】
そして、図２や図６に示した例で云えば、当該Ｙ電極パターン３６がＸ軸方向に沿って計４組配置され、隣接したＹ電極パターン３６，３６同士は横ピッチＰｘの８倍長の間隔で配置されている。
これら計４組のＹ電極パターン３６は、図２や図６で見た左右方向、換言すれば、平面壁１の左右方向の位置情報を広範囲に亘って検出できる。
【００５６】
ここで、図６に示す１個のＹ電極パターン３６に注目すると、Ｙ軸方向で隣接したメッシュ構造同士は縦ピッチＰｙの４倍長を空けて配置されている。そして、当該Ｙ軸方向で隣接したメッシュ構造同士の間隔は、図５に示した１個のＸ電極パターン６６のうち、長い横パターン６７，６７同士の間隔（縦ピッチＰｙ）の４倍長に等しいことが分かる。
【００５７】
また、この１個のＸ電極パターン６６に注目すると、Ｘ軸方向で隣接したメッシュ構造同士は横ピッチＰｘの４倍長の間隔を設けて配置される。そして、当該Ｘ軸方向で隣接したメッシュ構造同士の間隔の長さは、図６に示した１個のＹ電極パターン３６のうち、長い縦パターン３７，３７同士の間隔（横ピッチＰｘ）の４倍長に等しい。
【００５８】
そこで、下位置の透明基板６０、中位置の透明基板３０を重ね合わせ（図２の例で云えば上位置の透明基板２０も重ね合わせ）、図５のＸ電極パターン６６のうち上記メッシュ構造を有しない領域（長い横パターン６７のみの部分）と、図６のＹ電極パターン３６のうち上記メッシュ構造を有しない領域（長い縦パターン３７のみの部分）とを平面視で互いに交差させれば、Ｘ電極パターン６６のメッシュ構造、或いはＹ電極パターン３６のメッシュ構造と同じピッチ（横ピッチＰｘ，縦ピッチＰｙ）の網目状模様を形成できる（図２）。
【００５９】
一方、ダミーパターン５６は、図２の一部分を構成する図７に示されるように、Ｘ電極パターン６６及びＹ電極パターン３６で囲まれた空間を埋めている。
それは、上述の如くＸ電極パターン６６とＹ電極パターン３６とを平面視で交差させると、図２の例では、Ｙ軸方向で隣接したＸ電極パターン６６，６６同士が縦ピッチＰｙの８倍長の間隔を空けて配置され、Ｘ軸方向で隣接したＹ電極パターン３６，３６同士も横ピッチＰｘの８倍長の間隔を空けて配置されるので、Ｘ電極パターン６６やＹ電極パターン３６の存在しない大きな空間ができるからである。
【００６０】
より具体的には、当該大きな空間は、横ピッチＰｘや縦ピッチＰｙを基準にすると、この図２の例で云えば、計６４個（Ｘ軸方向に８個、Ｙ軸方向に８個）の網目状模様の集合群に相当し、計９箇所存在している。
ただし、本実施例のダミーパターン５６は、横ピッチＰｘの８倍長の横辺と縦ピッチＰｙの８倍長の縦辺とに設定して上記大きな空間を完全に埋めるものではなく、図２や図７に示される如く、当該大きな空間（Ｘ軸方向に８個、Ｙ軸方向に８個）に対しては、横ピッチＰｘの７倍長の横辺と縦ピッチＰｙの７倍長の縦辺とに設定する。
【００６１】
つまり、図２に示されるように、Ｘ電極パターン６６とダミーパターン５６とは平面視で互いに向かい合っており、これらパターン６６，５６の間にはＸ電極とのパターン隙間（第１パターン隙間）７１が設けられる。
詳しくは、このＸ電極とのパターン隙間７１は、その長手方向がＸ軸に沿うのに対し、その間隔、すなわち、向かい合うＸ電極パターン６６とダミーパターン５６とのＹ軸方向で見た最短距離は、縦ピッチＰｙの約半分の長さ（本実施例では約１５０μｍ）に設定されている。
【００６２】
換言すれば、１個のダミーパターン５６はＹ軸方向では計２箇所のＸ電極とのパターン隙間７１，７１に挟まれており、Ｘ電極とのパターン隙間７１の間隔は、これら計２箇所分を合計して縦ピッチＰｙの１個分の長さにしている。
また、Ｙ電極パターン３６とダミーパターン５６とも平面視で互いに向かい合っており、これらパターン３６，５６の間にはＹ電極とのパターン隙間（第２パターン隙間）７２が設けられる。
【００６３】
詳しくは、このＹ電極とのパターン隙間７２は、その長手方向がＹ軸に沿うが、その間隔、すなわち、向かい合うＹ電極パターン３６とダミーパターン５６とのＸ軸方向で見た最短距離は、横ピッチＰｘの約半分の長さ（本実施例では約１５０μｍ）に設定される。
換言すれば、１個のダミーパターン５６はＸ軸方向でも計２箇所のＹ電極とのパターン隙間７２，７２に挟まれ、Ｙ電極とのパターン隙間７２の間隔は、これら計２箇所分を合計すれば横ピッチＰｘの１個分の長さになる。
【００６４】
しかも、この図２に示される如く、本実施例のＸ電極とのパターン隙間７１には、Ｘ電極パターン６６の短い縦パターン６８が突出しない。つまり、この短い縦パターン６８の両端（Ｙ軸方向に延びた両端）は、いずれも長い横パターン６７に連結される。
また、Ｙ電極とのパターン隙間７２についても同様に、Ｙ電極パターン３６の短い横パターン３８が突出しておらず、この短い横パターン３８の両端（Ｘ軸方向に延びた両端）は、いずれも長い縦パターン３７に連結される。
【００６５】
ところで、本実施例のダミーパターン５６は、横ピッチＰｘの７倍長の横辺と縦ピッチＰｙの７倍長の縦辺とによる外周縁５７を有する（図７）。
また、ダミーパターン５６は内部にメッシュ構成パターン５８を有し、このメッシュ構成パターン５８は、Ｘ電極パターン６６のメッシュ構造、Ｙ電極パターン３６のメッシュ構造、さらにはＸ電極パターン６６とＹ電極パターン３６との交差によるメッシュ構造と同じピッチ（横ピッチＰｘ，縦ピッチＰｙ）の網目状模様を有している。
【００６６】
より具体的には、１個のダミーパターン５６は、四角形の網目状模様が計４９個（Ｘ軸方向に７個、Ｙ軸方向に７個）の集合群で構成される。
さらに、本実施例では、Ｘ電極とのパターン隙間７１やＹ電極とのパターン隙間７２には、メッシュ構成パターン５８が突出しておらず、このメッシュ構成パターン５８の両端（Ｘ軸方向及びＹ軸方向にそれぞれ延びた両端）は、いずれも外周縁５７に連結されている。
【００６７】
なお、図２や図７などで示されたダミーパターン５６は、その構造の理解を助けるために大きく表示している。しかし、１個のダミーパターン５６は、仮に本実施例の寸法（縦ピッチＰｙや横ピッチＰｘ：約３００μｍ）を用いたとしても約２．１ｍｍ×約２．１ｍｍ程度の面積であり、肉眼で確認できるが、図１に示された指先よりも当然に小さな形状である。
【００６８】
また、本実施例のＹ電極パターン３６及びダミーパターン５６も、透明基板３０の銅箔部分をフォトリソグラフィー方式によるエッチング加工して形成されており、Ｘ電極パターン６６の場合と同様に、レジスト塗布工程、露光工程、現像工程、エッチング工程、レジスト剥離工程を経る。これにより、その線幅が約５．０μｍ〜約２０μｍの範囲内であり、パターンの表面抵抗率も約０．１Ω／ｓｑ．よりも小さな値のＹ電極パターン３６やダミーパターン５６が得られる。
【００６９】
さらに、これらＹ電極パターン３６のメッシュ構造や、ダミーパターン５６のメッシュ構造も約３００μｍのピッチであるので、Ｘ電極パターン６６のメッシュ構造と同様に、肉眼で認識され難く、かつ、その製造も容易である。さらにまた、上記製造工程によってバイアス角度が０°、つまり、Ｘ電極パターン６６の延在方向やＹ電極パターン３６の延在方向に対して全く傾斜しない網目状模様を形成可能になる。
【００７０】
なお、本実施例のダミーパターン５６は、Ｙ電極パターン３６と同じ金属で透明基板３０に形成されているが、Ｘ電極パターン６６とともに透明基板６０に形成可能である。また、Ｘ電極パターン６６やＹ電極パターン３６と同色であれば、各パターン６６，３６と異なる金属や非金属で構成されていても良い。
上記構成の静電容量型タッチパネル６では、このダミーパターン５６を除き、上述したＸ電極パターン６６及びＹ電極パターン３６は図示しない制御基板に電気的に接続される。当該制御基板には電源部や検出部が搭載され、この電源部は所定の高周波電圧をＸ電極パターン６６やＹ電極パターン３６に供給している。
【００７１】
ここで、利用者の指が例えば「お引き出し」の指示画像１２に接近すると、当該指示画像１２の上方を覆ったＸ電極パターン６６やＹ電極パターン３６の静電容量が増加する。
次いで、上記検出部は、増加した静電容量に基づいてＸ座標データやＹ座標データを取得し、この取得結果を上述した表示ユニット８の制御基板に向けて出力する。
【００７２】
これにより、表示ユニット８は、当該指示画像１２の色を反転させて選択を確定し、次の例えば暗証番号の入力画面や金額の入力画面に移行する。
ところで、上述した横ピッチＰｘと縦ピッチＰｙとを異なる長さに形成することができる。
詳しくは、本実施例では、横ピッチＰｘや縦ピッチＰｙがいずれも等しい長さ（約３００μｍ）に設定され、上記メッシュ構造は正方形の網目状模様で形成されている。
【００７３】
しかしながら、横ピッチＰｘと縦ピッチＰｙとを違う長さに設定し、メッシュ構造を長方形の網目状模様で形成可能である。そして、この場合には、Ｘ電極とのパターン隙間（第１パターン隙間）７１の間隔はＹ軸方向（第２方向）に沿う縦ピッチＰｙの略１／２倍に設定され、Ｙ電極とのパターン隙間（第２パターン隙間）７２の間隔はＸ軸方向（第１方向）に沿う横ピッチＰｘの略１／２倍に設定される。
【００７４】
一方、上記の本実施例では、Ｘ電極パターン６６やＹ電極パターン３６は、メッシュ構造の無い領域をそれぞれ備え（図５や図６）、これらメッシュ構造の無い領域では、平面視で互いに交差してメッシュ構造を初めて形成しているが、Ｘ電極パターン６６自体やＹ電極パターン３６自体が総てメッシュ構造で形成されていても良い。
【００７５】
そして、この場合にも透明基板６０と透明基板３０とを重ね合わせ、Ｘ電極パターン６６のメッシュ構造とＹ電極パターン３６のメッシュ構造とを絶縁状態で重ねても良い。これらが正確に重なれば、平面視では同じ太さのパターンだけが見えるため、周囲のパターンとの差異が認識されず、利用者に違和感を与えなくなるからである。
【００７６】
以上のように、本実施例によれば、静電容量型タッチパネル６用のパターンが、接触感知用のＸ電極パターン６６、接触感知用のＹ電極パターン３６、及びダミーパターン５６の３種で構成され、いずれもメッシュ構造を有する。
詳しくは、まず、Ｘ電極パターン６６では、例えば３本の長い横パターン６７と例えば７本の短い縦パターン６８とが導通状態で交差した網目状に形成されている。これら網目状は、いずれも略一定のピッチ（横ピッチＰｘ，縦ピッチＰｙ）である。
【００７７】
次に、Ｙ電極パターン３６では、例えば３本の長い縦パターン３７と例えば７本の短い横パターン３８とが用いられる。これら長い縦パターン３７及び短い横パターン３８も導通状態で交差した網目状に形成されており、これら網目状もまたＸ電極パターン６６のメッシュ構造と同じピッチ（横ピッチＰｘ，縦ピッチＰｙ）である。
【００７８】
このように、Ｘ電極パターン６６自体やＹ電極パターン３６自体がメッシュ構造を有していれば、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）などの導電性に特に優れた材料を用いずに、汎用の導電材料（例えば銅、アルミニウム、銀、ニッケルなどの金属）を利用することができ、安価な静電容量型タッチパネル６を提供できる。
【００７９】
さらに、当該メッシュ構造によれば、Ｘ電極パターン６６やＹ電極パターン３６の信頼性も高くなる。
なぜならば、仮にメッシュ構造に部分的な断線が生じてしまったとしても、メッシュ構造全体でみて導通が維持されていれば、その位置情報の検出が可能になるからである。
【００８０】
ここで、本実施例では、上述した長い横パターン６７と長い縦パターン３７とは導通していないものの、平面視では互いに交差する。したがって、上述したＸ電極パターン６６自体やＹ電極パターン３６自体の他、互いに絶縁状態にあるＸ電極パターン６６とＹ電極パターン３６との組み合わせによっても上記メッシュ構造を形成できる。
【００８１】
一方、Ｘ電極パターン６６は、例えば計４組がＹ軸方向に沿って等間隔で配置される。これに対し、Ｙ電極パターン３６は、例えば計４組がＸ軸方向に沿って等間隔で配置される。すなわち、平面視では、Ｘ電極パターン６６とＸ電極パターン６６との間であって、Ｙ電極パターン３６とＹ電極パターン３６との間には、これらＸ電極パターン６６やＹ電極パターン３６の無い領域が形成される。
【００８２】
そこで、これらＸ電極パターン６６及びＹ電極パターン３６の双方で囲まれた領域はダミーパターン５６で埋める。
ダミーパターン５６は、Ｘ電極パターン６６やＹ電極パターン３６のメッシュ構造と同じピッチ（横ピッチＰｘ，縦ピッチＰｙ）のメッシュ構造であり、静電容量型タッチパネル６で覆われた表示ユニット８のうち、Ｘ電極パターン６６やＹ電極パターン３６の存在しない空間を目立たなくする機能を有する。
【００８３】
そして、本実施例によれば、Ｘ電極とのパターン隙間７１の間隔やＹ電極とのパターン隙間７２の間隔を上記メッシュ構造の大きさに関連付けて規定、より具体的には、メッシュ構造のピッチの略１／２倍という規則に基づいてＸ電極とのパターン隙間７１の間隔やＹ電極とのパターン隙間７２の間隔を設定しており、ダミーパターン５６や、その周囲のＸ電極パターン６６及びＹ電極パターン３６、並びにＸ，Ｙ電極パターン６６，３６の組み合わせ部分が従来に比して目立ち難くなる。
【００８４】
この点について詳述すると、図８は本実施例の拡大図であり、図２の一部分を拡大してＸ電極パターン６６、Ｙ電極パターン３６やダミーパターン５６をより明瞭にした図である。
上述のように、Ｘ電極とのパターン隙間７１及びＹ電極とのパターン隙間７２の各間隔は、いずれも横ピッチＰｘや縦ピッチＰｙの５０％の長さ（約１５０μｍ）に設定されている。
【００８５】
そして、表示ユニット８に適用して人間の視覚による評価（「良い」、「やや良い」、「どちらでもない」、「やや悪い」、「悪い」による５段階評価）を行ったところ、１０人中１０人が「良い」と評価した。
その理由について比較例１〜４を挙げて説明する。これら比較例１〜４は図９〜１２にそれぞれ示しており、いずれも図８と同じ倍率の拡大図である。
【００８６】
まず、図９の比較例１は、Ｘ電極とのパターン隙間７１Ａ及びＹ電極とのパターン隙間７２Ａが、いずれも横ピッチＰｘや縦ピッチＰｙの等倍の長さ（約３００μｍ）に設定されている。つまり、１個のダミーパターン５６Ａは、四角形の網目状模様が計３６個（Ｘ軸方向に６個、Ｙ軸方向に６個）の集合群で構成される。
【００８７】
当該比較例１に対する人間の視覚による評価は、１０人中１０人が「悪い」であった。
その理由は、上記ピッチと等倍（１００％）の長さで構成した場合には、Ｘ電極とのパターン隙間７１ＡやＹ電極とのパターン隙間７２Ａが太い帯状の空白部分として浮かび上がるからであった。
【００８８】
一方、この指摘について本実施例を検討すると、図８の本実施例においてもＸ電極とのパターン隙間７１及びＹ電極とのパターン隙間７２による帯状の空白部分は存在する。
しかし、各パターン隙間７１，７２の間隔が１個分のピッチよりも狭く、かつ、この１個分のピッチをダミーパターン５６のＸ軸方向で見た両側（或いはＹ軸方向で見た両側）で等分割しており、当該帯状の空白部分は、比較例１に比して注視しなければ認識できないことが分かる。
【００８９】
このように、本実施例では「半ピッチずらす」点に着目し、Ｘ電極とのパターン隙間７１やＹ電極とのパターン隙間７２を構造的にも切りの良い狭さで設置すれば、上記帯状の空白部分は浮かび上がらず、当該帯状の空白部分の内側に位置するダミーパターン５６や、当該帯状の空白部分の外側に位置するＸ電極パターン６６及びＹ電極パターン３６、並びにＸ，Ｙ電極パターン６６，３６の組み合わせ部分が際立っていない。
【００９０】
次に、図１０の比較例２は、１個のダミーパターン５６Ｂが、四角形の網目状模様が計４９個（Ｘ軸方向に７個、Ｙ軸方向に７個：本実施例と同じ）の集合群で構成される。一方、Ｘ電極とのパターン隙間７１ＢやＹ電極とのパターン隙間７２Ｂが、いずれも横ピッチＰｘや縦ピッチＰｙの４０％の長さ（約１２０μｍ）に設定されている。
【００９１】
当該比較例２に対する人間の視覚による評価は、１０人中１０人が「どちらでもない」であった。
その理由は、上記ピッチの半分（５０％）よりも短くすると、本実施例と同様に、Ｘ電極とのパターン隙間７１ＢやＹ電極とのパターン隙間７２Ｂが太い帯状の空白部分として浮かび上がらない。しかし、Ｘ電極とのパターン隙間７１ＢやＹ電極とのパターン隙間７２Ｂの各間隔が狭くなって、これらパターン隙間７１Ｂ，７２Ｂが潰れる。
【００９２】
これでは、Ｘ電極パターン６６とダミーパターン５６Ｂ、或いはＹ電極パターン３６とダミーパターン５６Ｂとが近付き過ぎて周囲の線よりも太い線として認識され易くなるからであった。
一方、この指摘について図８の本実施例を再び検討すると、Ｘ電極とのパターン隙間７１やＹ電極とのパターン隙間７２が、半ピッチという視覚的にも程好い狭さで設置されており、潰れていないことが分かる。このため、Ｘ電極パターン６６とダミーパターン５６、或いはＹ電極パターン３６とダミーパターン５６とが太い線として認識されない。
【００９３】
続いて、図１１の比較例３は、１個のダミーパターン５６Ｃは、四角形の網目状模様が計３６個（Ｘ軸方向に６個、Ｙ軸方向に６個：比較例１と同じ）の集合群で構成されるものの、Ｘ電極とのパターン隙間７１ＣやＹ電極とのパターン隙間７２Ｃが、いずれも横ピッチＰｘや縦ピッチＰｙの半分の長さ（約１５０μｍ：本実施例と同じ）に設定される。
【００９４】
具体的には、当該比較例３では、上記比較例１の構成に対し、短い縦パターン６８Ｃの終端部分がＸ電極とのパターン隙間７１Ｃに、短い横パターン３８Ｃの終端部分がＹ電極とのパターン隙間７２Ｃにそれぞれ突出する。さらに、メッシュ構成パターン５８Ｃの終端部分も外周縁５７Ｃに収まらず、やはりＸ電極とのパターン隙間７１ＣやＹ電極とのパターン隙間７２Ｃにそれぞれ突出している。
【００９５】
当該比較例３に対する人間の視覚による評価は、１０人中１０人が「悪い」であった。
その理由は、メッシュ構造の一部をなす上記各終端部分が解放されるので、これら終端部分が種々の長さで形成されてしまうし、また、Ｘ電極とのパターン隙間７１ＣやＹ電極とのパターン隙間７２Ｃが、いびつな帯状の空白部分として浮かび上がる。これでは、その内側に位置するダミーパターン５６Ｃは、外周縁５７Ｃが強調されて特に際立ってしまうからであった。
【００９６】
なお、当該いびつな帯状の空白部分は、上記図１０の比較例２にも存在する。詳しくは、上述した比較例２では、メッシュ構造のピッチを統一しつつ、Ｘ電極とのパターン隙間７１ＢやＹ電極とのパターン隙間７２Ｂの各間隔をピッチの４０％の長さに狭めた。そのため、これら各間隔を狭めた側の反対側では、メッシュ構成パターン５８Ｂの終端部分が外周縁５７Ｂに収まらずに解放されているためである。よって、この比較例２も上記比較例３と同様に、終端部分の寸法バラツキや外周縁５７Ｂの強調との短所を有する。
【００９７】
一方、この指摘について図８の本実施例を再び検討すると、Ｘ電極パターン６６、Ｙ電極パターン３６やダミーパターン５６は、いずれもいわゆる「閉じた図形」である。より具体的には、Ｘ電極とのパターン隙間７１及びＹ電極とのパターン隙間７２には、短い縦パターン６８、短い横パターン３８、及びメッシュ構成パターン５８が突出していないことが分かる。
【００９８】
すなわち、メッシュ構造の一部をなす上記各終端部分がいずれも解放されておらず、これら終端部分の寸法バラツキが生じない。よって、これら終端部分が却ってＸ電極とのパターン隙間７１やＹ電極とのパターン隙間７２を浮かび上がらせないし、その内側に位置するダミーパターン５６の外周縁５７も際立たない。
【００９９】
さらに、いわゆる「閉じた図形」をなす本実施例では、仮にエッチング加工の条件（露光時間、エッチング時間など）に変動が生じてもその影響を受けない。したがって、製造し易い静電容量型タッチパネル６になる。
次いで、図１２の比較例４は、Ｘ電極とのパターン隙間７１及びＹ電極とのパターン隙間７２が、いずれも横ピッチＰｘや縦ピッチＰｙの半分の長さ（約１５０μｍ：本実施例と同じ）に設定される。一方、当該比較例４は、Ｘ電極パターン６６Ｄ、Ｙ電極パターン３６Ｄやダミーパターン５６Ｄに形成されたメッシュ構造のバイアス角度が４５°に設定されている。
【０１００】
当該比較例４に対する人間の視覚による評価は、１０人中１０人が「悪い」であった。
その理由は、Ｘ電極とのパターン隙間７１及びＹ電極とのパターン隙間７２の各間隔を上記ピッチの半分の長さに設定しても、Ｘ電極パターン６６Ｄの延在方向やＹ電極パターン３６Ｄの延在方向に対して明らかに傾斜した網目状模様であると、Ｘ電極とのパターン隙間７１やＹ電極とのパターン隙間７２が明らかな帯状の空白部分として浮かび上がるからであった。
【０１０１】
一方、この指摘について図８の本実施例を再び検討すると、メッシュ構造がＸ電極パターン６６やＹ電極パターン３６と完全に平行、換言すれば、肉眼検査よりも厳密に精査してバイアス角度が０°に設定されることから、Ｘ電極とのパターン隙間７１やＹ電極とのパターン隙間７２が帯状の空白部分として全く浮かび上がらないのである。
【０１０２】
このように、本実施例によれば、比較例１〜４との対比からより明らかなように、ダミーパターン５６や、その周囲のＸ電極パターン６６及びＹ電極パターン３６、並びにＸ，Ｙ電極パターン６６，３６の組み合わせ部分が肉眼で目立ち難くなることが分かる。
この結果、利用者への違和感を真に無くして操作性の向上を達成でき、その位置情報を速やかに検出することができる。
【０１０３】
さらに、各パターン６６，３６，５６の線幅が５．０μｍから２０μｍの範囲に設定されてあれば、微細な線幅を構成でき、メッシュ構造を製造し易く、また、肉眼で目立ち難くなる。詳しくは、この線幅が５．０μｍ未満であると、均一な線幅をエッチングによって形成することが困難になるからである。さらに、パターンの表面抵抗値も約０．１Ω／ｓｑ．よりも高くなって感度低下も招く。一方、この線幅が２０μｍを超えてしまうと、メッシュ構造が非常に際立ちかつ光の透過率が落ちるのである。
【０１０４】
また、本実施例の如く、Ｘ電極パターン（第１電極パターン）６６とＹ電極パターン（第２電極パターン）３６とは、互いに異なる透明基板６０，３０に形成され、これら透明基板６０，３０を重ね合わせることにより、導通せずに平面視で互いに交差している。
このように、複数枚の透明基板６０，３０を用いて製造すれば、１枚の透明基板を用いた場合に比して、万一、Ｘ電極パターン（第１電極パターン）６６或いはＹ電極パターン（第２電極パターン）３６の製造を誤っても、その製造を誤った透明基板６０或いは透明基板３０のいずれかのみを改めて製造すれば足りることから、静電容量型タッチパネル６の歩留まり向上に寄与する。
【０１０５】
本発明は、上記実施例に限定されず、特許請求の範囲を逸脱しない範囲で種々の変更を行うことができる。
例えば、上記実施例では、Ｘ電極パターン６６とＹ電極パターン３６及びダミーパターン５６とを２枚の透明基板６０，３０に別個に形成した。しかし、Ｘ電極パターン（第１電極パターン）、Ｙ電極パターン（第２電極パターン）、及びダミーパターンは、同じ透明基板のうち平面視で対峙した別個の面（例えば表面と裏面）に分かれて形成しても良い。
【０１０６】
このように、１枚の透明基板を用いて製造すれば、複数枚の透明基板を重ね合わせた場合に比して、静電容量型タッチパネルの薄型化を達成できる。また、複数枚の透明基板を用いた場合に比して、Ｘ電極パターン（第１電極パターン）、Ｙ電極パターン（第２電極パターン）やダミーパターンの位置合わせが容易になり、静電容量型タッチパネルの製造が容易になる。
【０１０７】
或いは、Ｘ電極パターン（第１電極パターン）、Ｙ電極パターン（第２電極パターン）、及びダミーパターンは、同じ透明基板の同一面（例えば表面）に形成され、これらＸ電極パターン（第１電極パターン）とＹ電極パターン（第２電極パターン）とが絶縁されていても良い。
詳しくは、例えば一方の電極パターンと他方の電極パターンとの交差部分に絶縁層を介在させる、若しくは、一方の電極パターンと他方の電極パターンとの交差部分に中継電極を配置すれば構成可能である。より具体的には、この中継電極は、ブリッジのように一方の電極パターンを跨ぎ、他方の電極パターン同士を接続させるのである。
【０１０８】
そして、１枚の透明基板を用いて製造されるため、複数枚の透明基板を重ね合わせた場合に比して、静電容量型タッチパネルの薄型化を達成できる。
しかも、各電極パターンが同一面に形成されるため、複数枚の透明基板を用いた場合や、同じ透明基板であっても異なる面に分けて形成した場合に比して、Ｘ電極パターン（第１電極パターン）、Ｙ電極パターン（第２電極パターン）やダミーパターンの位置合わせが容易になり、静電容量型タッチパネルの製造が容易になる。
【０１０９】
続いて、上記実施例では、直交するＸ軸とＹ軸の例を挙げて説明したが、本発明は、第１方向と第２方向とが交差すれば良く、必ずしも直交する例だけに限定されない。つまり、三角形や六角形など公知の網目状模様を形成可能である。また、そのメッシュ構造のバイアス角度も０°の例に限定されるものではなく、メッシュ構造が、例えば肉眼で見た場合に、第１の長パターンや第２の長パターンと平行であっても良い。
【０１１０】
最後に、本実施例はＡＴＭに具現化した例で説明されているが、静電容量型タッチパネルを用いた電子機器である限り、本発明は、切符等の自動販売機、タブレット端末、パーソナルコンピューターや、テレビジョン受像機などにも当然に適用可能である。
そして、これら場合にも、上記と同様に操作性の向上を図ることができるとの効果を奏する。
【符号の説明】
【０１１１】
６  静電容量型タッチパネル
２０  透明基板
２４  粘着剤層
３０  透明基板
３４  粘着剤層
３６  Ｙ電極パターン（第２電極パターン）
３７  長い縦パターン（第２の長パターン）
３８  短い横パターン（短パターン）
５６  ダミーパターン
５７  外周縁
５８  メッシュ構成パターン
６０  透明基板
６６  Ｘ電極パターン（第１電極パターン）
６７  長い横パターン（第１の長パターン）
６８  短い縦パターン（短パターン）
７１  Ｘ電極とのパターン隙間（第１パターン隙間）
７２  Ｙ電極とのパターン隙間（第２パターン隙間）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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