(57)【要約】【課題】  水系冷却液による内部腐食を低減することができ、長期にわたって信頼性が高く、冷却性能に優れた熱移動システム、熱移動システムの立上げ方法及び熱移動システムの保全方法を提供する。【解決手段】  熱移動システムは、ベンゾトリアゾール又はその誘導体の含有濃度が１０ｐｐｍ未満である水系冷却液Ｌを収容する循環流路３０と、保護膜Ｆと、を備えている。保護膜Ｆは、水系冷却液Ｌに接触する循環流路３０の少なくとも一部の表面とベンゾトリアゾール又はその誘導体との反応被膜で形成されている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベンゾトリアゾール又はその誘導体の含有濃度が１０ｐｐｍ未満である水系冷却液を収容する循環流路と、
前記水系冷却液に接触する前記循環流路の少なくとも一部の表面を覆い、前記ベンゾトリアゾール又はその誘導体で形成された保護膜と、を備えたことを特徴とする熱移動システム。
【請求項２】
前記循環流路に連通され、外部からの熱が伝導される前記水系冷却液を収容する冷却流路をさらに備え、
前記保護膜は、前記水系冷却液に接触可能な前記冷却流路の少なくとも一部の表面を覆ったことを特徴とする請求項１に記載の熱移動システム。
【請求項３】
前記誘導体は、トリトリアゾール、ナフトトリアゾール、アルキルベンゾトリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、ヒドロキシベンゾトリアゾール、５−メチルベンゾトリアゾール、５，６−ジメチルベンゾトリアゾール・一水和塩、１−メタンスルフォニルベンゾトリアゾール、及び１−（α−クロロアセチル）ベンゾトリアゾールの中の少なくとも１つであることを特徴とする請求項１又は２に記載の熱移動システム。
【請求項４】
前記循環流路に取付けられ、前記水系冷却液を前記冷却流路との間で循環させる循環ポンプをさらに備えたことを特徴とする請求項２に記載の熱移動システム。
【請求項５】
前記循環流路に取付けられ、前記水系冷却液の熱を外部に放出する熱交換器をさらに備えたことを特徴とする請求項４に記載の熱移動システム。
【請求項６】
前記水系冷却液は、グリコール水溶液を主成分とすることを特徴とする請求項５に記載の熱移動システム。
【請求項７】
前記水系冷却液は、純水であることを特徴とする請求項５に記載の熱移動システム。
【請求項８】
前記冷却流路及び循環流路の何れかの内部に設けられたイオン交換樹脂をさらに備えたことを特徴とする請求項７に記載の熱移動システム。
【請求項９】
前記保護膜で覆われている前記循環流路の少なくとも一部の表面は、銅又は銅を主成分とする材料で形成されたことを特徴とする請求項１乃至８の何れか１項に記載の熱移動システム。
【請求項１０】
前記保護膜で覆われている前記循環流路の少なくとも一部の表面は、ベリリウム又はベリリウムを主成分とする材料で形成されたことを特徴とする請求項１乃至８の何れか１項に記載の熱移動システム。
【請求項１１】
Ｘ線を透過する出力窓が一部に形成された真空外囲器と、前記真空外囲器内に設けられ電子を放出する陰極と、前記真空外囲器内に設けられ前記陰極から放出される電子が照射されることによりＸ線を放出する陽極ターゲットと、を有するＸ線管をさらに備え、
前記水系冷却液に伝導される外部からの熱は、前記Ｘ線管から放出される熱の少なくとも一部であることを特徴とする請求項２乃至８の何れか１項に記載の熱移動システム。
【請求項１２】
水系冷却液を収容可能な循環流路を備えた空状態の熱移動システムを用意し、
前記水系冷却液に接触可能な前記循環流路の表面に、ベンゾトリアゾール又はその誘導体を１００ｐｐｍ以上含有する水系媒体を接触させ、上記ベンゾトリアゾール又はその誘導体で前記水系冷却液に接する前記循環流路の少なくとも一部の表面を覆った保護膜を形成し、
前記保護膜を形成した後、前記循環流路に前記ベンゾトリアゾール又はその誘導体の含有濃度が１０ｐｐｍ未満である水系冷却液を収容することを特徴とする熱移動システムの立上げ方法。
【請求項１３】
前記熱移動システムを用意する際、外部からの熱が伝導される前記水系冷却液を収容可能な冷却流路を前記循環流路に連通させ、
前記保護膜を形成する際、前記水系冷却液に接触可能な前記冷却流路及び循環流路の表面に、ベンゾトリアゾール又はその誘導体を１００ｐｐｍ以上含有する水系媒体を接触させ、上記ベンゾトリアゾール又はその誘導体で前記水系冷却液に接する前記冷却流路及び循環流路の少なくとも一部の表面を覆った前記保護膜を形成し、
前記保護膜を形成した後、前記冷却流路及び循環流路に前記ベンゾトリアゾール又はその誘導体の含有濃度が１０ｐｐｍ未満である水系冷却液を収容することを特徴とする請求項１２に記載の熱移動システムの立上げ方法。
【請求項１４】
前記保護膜を形成した後であり、かつ、前記水系冷却液を収容する前に、前記水系冷却液に接触可能な前記循環流路の表面を洗浄することを特徴とする請求項１２に記載の熱移動システムの立上げ方法。
【請求項１５】
前記水系冷却液に接触可能な前記循環流路の表面に前記水系媒体を接触させる際、加熱手段を用いて加熱された環境内で行うことを特徴とする請求項１２乃至１４の何れか１項に記載の熱移動システムの立上げ方法。
【請求項１６】
前記水系冷却液に接触可能な前記循環流路の表面に前記水系媒体を接触させる際、前記循環流路の少なくとも一部を加熱した状態で行うことを特徴とする請求項１５に記載の熱移動システムの立上げ方法。
【請求項１７】
水系冷却液を収容可能な循環流路と、前記水系冷却液に接触可能な前記循環流路の少なくとも一部の表面を覆い、ベンゾトリアゾール又はその誘導体で形成された保護膜と、を備えた熱移動システムを用意し、
前記水系冷却液に接触可能な前記循環流路の表面に、ベンゾトリアゾール又はその誘導体を１００ｐｐｍ以上含有する水系媒体を接触させ、上記ベンゾトリアゾール又はその誘導体で前記水系冷却液に接する前記循環流路の少なくとも一部の表面を覆った保護膜を再び形成し、
前記保護膜を再び形成した後、前記循環流路に前記ベンゾトリアゾール又はその誘導体の含有濃度が１０ｐｐｍ未満である水系冷却液を再び収容することを特徴とする熱移動システムの保全方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、熱移動システム、熱移動システムの立上げ方法及び熱移動システムの保全方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
熱移動システムとしてのＸ線管装置は、陰極及び陽極ターゲットを真空外囲器内に収納した回転陽極型Ｘ線管、回転陽極型Ｘ線管を収納するハウジング、ステータなどを備えている。このような回転陽極型Ｘ線管は、陽極ターゲットなどが発生する熱を放出する場合、これを冷却するための冷却機構を備えている。
【０００３】
冷却機構を備えたＸ線管装置としては、以下のような提案が成されている。  
回転陽極型Ｘ線管及びステータを絶縁油中に浸し、発熱が大きい部分たとえば陽極ターゲット近傍に設けられる反跳電子捕捉体や真空外囲器の一部に設けられた流路に冷却性能に優れた水系冷却液を流して冷却し、この冷却液をこれら流路と熱交換器との間で循環させるＸ線管装置。
【０００４】
Ｘ線管装置では、水系冷却液を使用し、循環冷却機構を備えたＸ線管装置が知られている。循環冷却機構は、専用の熱交換器、循環ポンプ、ホース等を使用している。特に、水系冷却液が高電圧部を冷却する場合には、使用中に水系冷却液の電気伝導度が上昇することを防ぐために、Ｘ線管装置にイオン交換樹脂フィルタが使用されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０００−６５７６６号公報
【特許文献２】特表２００４−５３２５０５号公報
【特許文献３】国際公開第２００５／３８８５３号パンフレット
【特許文献４】実公平１−３２７２０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記のような従来のＸ線管装置では、水系冷却液の流路中の金属が腐食され、以下のような問題が発生する恐れがある。  
例１(銅を主成分とする金属からなる陽極ターゲット支持体内部の冷却流路の腐食問題)：
陽極ターゲット支持体は高熱伝導性が必要とされるため、銅で構成される場合が多い。この陽極ターゲット支持体の内部の冷却流路が腐食して、内面に腐食孔が形成される場合がある。腐食孔の内部では冷却液の流れが阻害されるため、時間の経過とともに腐食孔が深くなり、陽極ターゲット支持体が冷却不足となり、陽極ターゲットの温度が上昇し、結果、Ｘ線管の放電が発生する。
【０００７】
また、陽極ターゲットにも穴が開いて腐食孔と繋がってＸ線管内の真空が保たれなくなるといった不具合が生じてしまう恐れがある。このような不具合発生防止のため、従来は陽極ターゲット支持体の内部の冷却流路内面を金のような腐食し難い貴金属の膜で覆うことが行われている。
【０００８】
しかし、貴金属の膜として比較的低コストである貴金属メッキを採用すると、冷却液の流れによって短時間で膜が摩耗し（メッキが剥がれ）、地肌の銅が露出し、銅の腐食が進行してしまうという問題があった。また、陽極ターゲット支持体の内面に、より厚い貴金属板をろう付けして長寿命化を図る方法もあるが、この場合、高コストとなってしまう。
【０００９】
例２(陽極ターゲットからの反跳電子補足体の内部流路の腐食問題)：  
反跳電子補足体は高熱伝導性が必要とされるため、銅を主成分とする金属から構成される場合が多い。この陽極ターゲット支持体の内部の冷却流路が腐食して、内面に腐食孔が形成されることがある。腐食孔の内部では冷却液の流れが阻害されるため、時間の経過とともに腐食孔が深くなり、反跳電子補足体が冷却不足となり、反跳電子補足体の温度が上昇し、その結果、Ｘ線管の放電が発生する。
【００１０】
また、Ｘ線管内の真空空間と腐食孔とが繋がってＸ線管内の真空が保たれなくなるといった不具合が生じてしまう恐れがある。例１のような貴金属膜を使用する防止策を採用すると、例１で述べた問題と同様の問題が生じることになる。
【００１１】
例３(冷却液の熱交換器部の流路を構成する金属配管の腐食問題)：  
熱交換器部の流路を構成する金属配管は銅を主成分とする金属から構成される場合が多い。冷却液の流路を構成する金属配管の内部が腐食して金属配管に孔が開き、冷却液が外部に漏れ出すことがある。そこで、耐腐食性を向上させるため、銅に代えてステンレス鋼やチタンを使用して流路を構成することにより、上記の腐食の問題を回避することができる。しかしながら、これらの代替え材料は熱伝導率が低いため、熱交換性能が低下してしまい、高い冷却率が求められる場合には採用することができない。
【００１２】
例４(腐食に伴う堆積物によるつまりや気密不良の問題)：  
上記したような各種の循環流路中の銅を主成分とする金属の腐食に伴い、冷却液中に溶け出した銅イオンは金属銅または銅化合物として循環流路の内部に堆積する。これら堆積物により循環流路につまりが生じる結果、冷却液の流量が低下し、Ｘ線管の冷却不足を招く恐れがある。
【００１３】
また、これら堆積物は剥離して移動し易いため、着脱が可能なようなコネクタにより配管がＸ線管に取り付けられている場合には、コネクタの気密シール部に堆積物が介在して気密性が損なわれ、冷却液が漏れる不具合が発生する恐れがある。冷却機構は、このようなコネクタ付き配管がＸ線管との接続に使用される場合が多い。
【００１４】
この発明は以上の点に鑑みなされたもので、その目的は、水系冷却液による内部腐食を低減することができ、長期にわたって信頼性が高く、冷却性能に優れた熱移動システム、熱移動システムの立上げ方法及び熱移動システムの保全方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
一実施形態に係る熱移動システムは、
ベンゾトリアゾール又はその誘導体の含有濃度が１０ｐｐｍ未満である水系冷却液を収容する循環流路と、
前記水系冷却液に接触する前記循環流路の少なくとも一部の表面を覆い、前記ベンゾトリアゾール又はその誘導体で形成された保護膜と、を備えたことを特徴としている。
【００１６】
また、一実施形態に係る熱移動システムの立上げ方法は、
水系冷却液を収容可能な循環流路を備えた空状態の熱移動システムを用意し、
前記水系冷却液に接触可能な前記循環流路の表面に、ベンゾトリアゾール又はその誘導体を１００ｐｐｍ以上含有する水系媒体を接触させ、上記ベンゾトリアゾール又はその誘導体で前記水系冷却液に接する前記循環流路の少なくとも一部の表面を覆った保護膜を形成し、
前記保護膜を形成した後、前記循環流路に前記ベンゾトリアゾール又はその誘導体の含有濃度が１０ｐｐｍ未満である水系冷却液を収容することを特徴としている。
【００１７】
また、一実施形態に係る熱移動システムの保全方法は、
水系冷却液を収容可能な循環流路と、前記水系冷却液に接触可能な前記循環流路の少なくとも一部の表面を覆い、ベンゾトリアゾール又はその誘導体で形成された保護膜と、を備えた熱移動システムを用意し、
前記水系冷却液に接触可能な前記循環流路の表面に、ベンゾトリアゾール又はその誘導体を１００ｐｐｍ以上含有する水系媒体を接触させ、上記ベンゾトリアゾール又はその誘導体で前記水系冷却液に接する前記循環流路の少なくとも一部の表面を覆った保護膜を再び形成し、
前記保護膜を再び形成した後、前記循環流路に前記ベンゾトリアゾール又はその誘導体の含有濃度が１０ｐｐｍ未満である水系冷却液を再び収容することを特徴としている。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】第１の実施形態に係るＸ線管装置を示す概略構成図である。
【図２】図１に示したＸ線管の断面図である。
【図３】図２に示したＸ線管の一部の拡大断面図である。
【図４】第２の実施形態に係るＸ線管装置を示す概略構成図である。
【図５】第３の実施形態に係るＸ線管装置を示す概略構成図である。
【図６】第４の実施形態に係るＸ線管装置を示す概略構成図である。
【図７】第５の実施形態に係るＸ線管装置を示す概略構成図である。
【図８】第６の実施形態に係るＸ線管装置を示す概略構成図である。
【図９】上記Ｘ線管を冷却するための冷却流路の変形例を示す概略図である。
【図１０】上記Ｘ線管を冷却するための冷却流路の他の変形例を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、図面を参照しながら熱移動システム、熱移動システムの立上げ方法及び熱移動システムの保全方法について説明する。特に、熱移動システム、熱移動システムの立上げ方法及び熱移動システムの保全方法としてのＸ線管装置、Ｘ線管装置の立上げ方法及びＸ線管装置の保全方法について詳細に説明する。
【００２０】
始めに、第１の実施形態に係るＸ線管装置、Ｘ線管装置の立上げ方法及びＸ線管装置の保全方法について詳細に説明する。まず、上記Ｘ線管装置の立上げ方法によって立上げられたＸ線管装置の構成について説明する。
【００２１】
図１に示すように、Ｘ線管装置は、Ｘ線管１と、Ｘ線管１の冷却流路３と、水系冷却液Ｌと、水系冷却液Ｌの循環装置５と、継手６とを備えている。この実施形態において、水系冷却液Ｌに外部供給水としての水道水 を利用している。
【００２２】
図２及び図３に示すように、Ｘ線管１は、真空外囲器１５１を備えている。真空外囲器１５１は、真空容器１５２と、陽極ターゲット支持体１５３とを備えている。真空容器１５２は、例えば金属で形成されている。陽極ターゲット支持体１５３は、高電圧絶縁部材で形成されている。陽極ターゲット支持体１５３には陽極ターゲット１５５が取り付けられ、陽極ターゲット支持体１５３は、真空外囲器１５１の一部を形成している。陽極ターゲット支持体１５３は、筒部と、筒部の一端に接続された環部とが一体となって形成されている。
【００２３】
陽極ターゲット１５５は、陽極ターゲット支持体１５３に接合されている。陽極ターゲット１５５は、金属として、例えば銅で形成されている。陽極ターゲット１５５は、凹部１５５ｄを有している。凹部１５５ｄは、溝状に窪めて形成されている。陽極ターゲット１５５は、ターゲット層１５５ａを有している。ターゲット層１５５ａは、例えばタングステン合金で形成されている。
【００２４】
陽極ターゲット１５５及び陰極１５６は、真空外囲器１５１に収納されている。陽極ターゲット１５５及び集束電極１５７には相対的に正の電圧が印加される。陰極１５６には相対的に負の電圧が印加される。ここでは、陽極ターゲット１５５は接地され、陰極１５６には負の高電圧が印加されている。真空外囲器１５１の内部は真空状態である。真空容器１５２の一部には、Ｘ線を透過するＸ線出力窓１５４が気密に設けられている。
【００２５】
陰極１５６は、電子を放出するものである。陽極ターゲット１５５（ターゲット層１５５ａ）は、陰極１５６から放出される電子が照射されることによりＸ線を放出するものである。
【００２６】
また、Ｘ線管１は、管部１６１と、壁部１６２と、を備えている。管部１６１は、高電圧絶縁材で形成されている。管部１６１は、陽極ターゲット支持体１５３の内部に設けられている。管部１６１の一端部は、真空外囲器１５１の外部に延出している。管部１６１は、この内部に水系冷却液Ｌを導入する導入路Ｃ１を形成している。陽極ターゲット支持体１５３及び管部１６１は、これらの間に水系冷却液Ｌを排出するための排出路Ｃ２を形成している。
【００２７】
壁部１６２は、凹部１５５ｄ及び陽極ターゲット支持体１５３で囲まれた領域に設けられている。壁部１６２は、管部１６１の端部の側面を囲むように管部１６１と一体に形成されている。壁部１６２は、凹部１５５ｄ及び陽極ターゲット支持体１５３に隙間を置いて設けられている。陽極ターゲット１５５は、内部に設けられた通路Ｃ３を有している。通路Ｃ３は、導入路Ｃ１及び排出路Ｃ２に繋げられている。
【００２８】
導入路Ｃ１、排出路Ｃ２及び通路Ｃ３は、水系冷却液Ｌが流れるＸ線管１の冷却流路３を形成している。冷却流路３は、外部からの熱が伝導される水系冷却液Ｌを気密に収容している。ここでは、冷却流路３は、陽極ターゲット１５５（Ｘ線管１）から放出される熱の少なくとも一部が伝導される水系冷却液Ｌを気密に収容している。導入路Ｃ１から導入された水系冷却液Ｌは、通路Ｃ３を循環して、排出路Ｃ２から排出される。
【００２９】
静電偏向電極１５８は、陰極１５６から放出される電子の軌道を取り囲むように真空外囲器１５１の内側に設けられている。静電偏向電極１５８は、陰極１５６から放射される電子を偏向させるものである。
【００３０】
循環装置５は、気密性の継手６を介して水系冷却液Ｌを冷却流路３との間で循環させるものである。  
ここでは、継手６は、コネクタ１３及びコネクタ１４を有している。コネクタ１３は上記Ｘ線管１の導入路Ｃ１に気密に接続され、コネクタ１４は上記Ｘ線管１の排出路Ｃ２に気密に接続されている。
【００３１】
循環装置５は、循環流路３０と、流量センサ７０と、第１開閉部としてのバルブ１０１と、第２開閉部としてのバルブ１０２と、を有している。  
循環流路３０は、冷却流路３に継手６を介して連通されている。循環流路３０は、水系冷却液Ｌを収容し、気密性を保持可能である。循環流路３０は、導管２５、導管２６及び導管２７を有している。導管２５はコネクタ１４に気密に接続され、導管２６はコネクタ１３に気密に接続されている。
【００３２】
導管２５、導管２６及び導管２７は、銅、鉄、鉄合金、鋼等の金属で形成されている。水系冷却液Ｌに接する導管２５、導管２６及び導管２７の表面には、金メッキやニッケルメッキ等の金属メッキ、無機材料若しくは有機材料を用いたコーティングなどを施してもよい。この実施形態において、導管２５、導管２６及び導管２７は鉄で形成され、その水系冷却液Ｌに接する表面には、ニッケルメッキが施されている。
【００３３】
導管２５にはバルブ１０１が接続され、導管２７にはバルブ１０２が接続されている。循環流路３０の中は、水系冷却液Ｌ（水道水）が流れる。水系冷却液Ｌを循環流路３０の中を流す場合、バルブ１０１を水系冷却液Ｌが導入可能な開状態とし、バルブ１０２を水系冷却液Ｌが排出可能な開状態とすればよい。これにより、冷却流路３中の水系冷却液ＬにＸ線管１からの熱伝導が続いても、冷却流路３には水系冷却液Ｌを流し続けることができるため、水系冷却液Ｌによる冷却性能を維持することができる。  
流量センサ７０は、導管２６及び導管２７間に気密に接続されている。
【００３４】
水系冷却液Ｌに接する循環流路３０及び冷却流路３の少なくとも一部の表面は、保護膜Ｆで覆われている。この実施形態では、保護膜Ｆは、導管２５、導管２６、導管２７、及び陽極ターゲット１５５の凹部１５５ｄの表面を覆っている。
【００３５】
保護膜Ｆは、ベンゾトリアゾール（ＢＴＡ）又はその誘導体で形成されている。上記誘導体としては、トリトリアゾール（ＴＴＡ）、ナフトトリアゾール（ＮＴＡ）、アルキルベンゾトリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール（ＣＢＴＡ）、ヒドロキシベンゾトリアゾール、５−メチルベンゾトリアゾール（ＭＢＴＡ）、５，６−ジメチルベンゾトリアゾール・一水和塩（ＤＭＢＴＡ）、１−メタンスルフォニルベンゾトリアゾール（ＭＳＢＴＡ）、及び１−（α−クロロアセチル）ベンゾトリアゾール（ＣＡＢＴＡ）の中の少なくとも１つを利用することができる。
【００３６】
上記保護膜Ｆは、循環流路３０及び冷却流路３の金属表面と、ベンゾトリアゾール又はその誘導体との強固な反応被膜である。  
なお、上述したように、水系冷却液Ｌは水道水 であり、水系冷却液Ｌにはベンゾトリアゾール又はその誘導体は含有されていない。  
上記のようにＸ線管装置が構成されている。
【００３７】
次に、上記Ｘ線管装置の立上げ方法について説明する。  
まず、Ｘ線管１と、循環装置５とを備えた空状態のＸ線管装置を用意する。続いて、冷却流路３に、継手６を介して循環流路３０を連通させ、水系冷却液Ｌが導入されていない空状態のＸ線管装置をモジュールに組立てる。
【００３８】
次いで、バルブ１０１及びバルブ１０２に図示しない循環装置を取り付け、バルブ１０１及びバルブ１０２をそれぞれ開状態とし、上記循環装置を用い、冷却流路３及び循環装置５（循環流路３０）に、ベンゾトリアゾール又はその誘導体を１００ｐｐｍ乃至飽和濃度含有する水系媒体を循環させる。そして、上記水系媒体に接触可能な冷却流路３及び循環装置５（循環流路３０）の表面に、上記水系媒体を、一定期間、接触させる。ここで、上記一定期間とは、冷却流路３及び循環装置５（循環流路３０）の表面に保護膜Ｆが形成されるまでの期間である。
【００３９】
これにより、上記水系媒体の中のベンゾトリアゾール又はその誘導体が、冷却流路３及び循環装置５（循環流路３０）の金属表面と反応し、冷却流路３及び循環装置５（循環流路３０）の表面に保護膜Ｆが形成される。
【００４０】
その後、バルブ１０１及びバルブ１０２から上記循環装置を取り外し、冷却流路３及び循環装置５（循環流路３０）から、上記水系媒体を排出する。
【００４１】
続いて、冷却流路３及び循環装置５（循環流路３０）の内部の表面を洗浄する。洗浄する際、水道水 等、ベンゾトリアゾール又はその誘導体を含有しない水系媒体を用いて洗浄する。最後に、バルブ１０１及びバルブ１０２に上記循環装置を取り付け、冷却流路３及び循環装置５（循環流路３０）に水系冷却液Ｌを流すことにより、Ｘ線管装置の立上げが終了する。
【００４２】
次に、使用中（稼動後）のＸ線管装置の保全方法について説明する。  
まず、使用中（稼動後）のＸ線管装置を用意する。ここで用意したＸ線管装置において、水系冷却液Ｌは、予め、排出されている。なお、水系冷却液Ｌが排出されていない場合、Ｘ線管装置から水系冷却液Ｌを排出することになる。
【００４３】
次いで、バルブ１０１及びバルブ１０２に図示しない循環装置を取り付け、バルブ１０１及びバルブ１０２をそれぞれ開状態とし、上記循環装置を用い、冷却流路３及び循環装置５（循環流路３０）に、ベンゾトリアゾール又はその誘導体を１００ｐｐｍ乃至飽和濃度含有する水系媒体を循環させる。そして、上記水系媒体に接触可能な冷却流路３及び循環装置５（循環流路３０）の表面に、上記水系媒体を、一定期間、接触させる。ここで、上記一定期間とは、保護膜Ｆの欠陥部の耐食性を確保するために必要な期間である。
【００４４】
これにより、上記水系媒体の中のベンゾトリアゾール又はその誘導体が、冷却流路３及び循環装置５（循環流路３０）の金属表面と反応し、冷却流路３及び循環装置５（循環流路３０）の表面に保護膜Ｆが再び形成される。すなわち、孔食部等、保護膜Ｆの欠落部に反応被膜が形成される。
【００４５】
その後、バルブ１０１及びバルブ１０２から上記循環装置を取り外し、冷却流路３及び循環装置５（循環流路３０）から、上記水系媒体を排出する。
【００４６】
続いて、冷却流路３及び循環装置５（循環流路３０）の内部の表面を洗浄する。洗浄する際、水道水 等、ベンゾトリアゾール又はその誘導体を含有しない水系媒体を用いて洗浄する。最後に、バルブ１０１及びバルブ１０２に上記循環装置を取り付け、冷却流路３及び循環装置５（循環流路３０）に水系冷却液Ｌを流すことにより、Ｘ線管装置の保全が終了する。上記Ｘ線管装置の保全方法を用いることにより、例えばＸ線管装置の製品寿命を長くすることができる。上記Ｘ線管装置の保全方法は、管球の交換等のＸ線管装置のメンテナンス時に行えばよく、常時行う必要なない。
【００４７】
上記のように構成された第１の実施形態に係るＸ線管装置、Ｘ線管装置の立上げ方法及びＸ線管装置の保全方法によれば、Ｘ線管装置は、Ｘ線管１と、冷却流路３と、循環装置５とを備えている。循環装置５は、循環流路３０を有している。水系冷却液Ｌに接する冷却流路３及び循環装置５（循環流路３０）の金属部分に、ベンゾトリアゾール又はその誘導体で保護膜Ｆが形成されている。
【００４８】
このため、低コストにて循環流路３０及び冷却流路３等の金属部分の腐食を抑制することができる。金属部分が腐食し易い銅を主成分とする材料で形成されている場合であっても、腐食の発生を抑制することができる。すなわち、水系冷却液ＬによるＸ線管装置の内部腐食を低減することができる。冷却流路３（陽極ターゲット１５５）や、循環流路３０に穴が形成される等の腐食によって生じる不良を低減できるため、長期にわたって信頼性が高く、製品寿命の長いＸ線管装置を得ることができる。  
また、腐食を低減できることにより、Ｘ線管装置を再利用することも可能である。  
水系冷却液Ｌは、ベンゾトリアゾール又はその誘導体を含有していないため、導電率の増大等の悪影響を回避することができる。
【００４９】
さらに、水系冷却液Ｌが、ベンゾトリアゾール又はその誘導体を含有していないことにより、冷却液の漏洩等の事故に伴う環境上のリスク発生を防止することができる。またさらに、ベンゾトリアゾール又はその誘導体を含有していない水系冷却液Ｌは有害物ではないため、水系冷却液Ｌを未処理のまま廃棄（廃液）することができる。
【００５０】
どのような防食被膜においても共通することであるが、保護膜Ｆにおいても微小な欠陥部を有するため、この欠陥部を起点として腐食が進行することが予想される。このような腐食が進行する現象は、孔食として知られ、孔食を無くすることは困難である。しかしながら、上述したＸ線管装置の保全方法を用いてベンゾトリアゾール又はその誘導体を含有する水系媒体を金属に接触させる（浸らせる）だけで、欠陥部の耐食性を確保することができるものである。すなわち、孔食部においては反応被膜が形成されるため、孔食部を事後的に修復することができ、更なる孔食の拡大を防止することができる。
【００５１】
水系冷却液Ｌを使用できるため、冷却液が絶縁油である場合に比べて冷却性能に優れたＸ線管装置を得ることができる。  
上記したことから、水系冷却液による内部腐食を低減することができ、長期にわたって信頼性が高く、冷却性能に優れたＸ線管装置、Ｘ線管装置の立上げ方法及びＸ線管装置の保全方法を得ることができる。
【００５２】
次に、第２の実施形態に係るＸ線管装置、Ｘ線管装置の立上げ方法及びＸ線管装置の保全方法について詳細に説明する。この実施形態において、他の構成は上述した第１の実施形態と同一であり、同一の部分には同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。まず、上記Ｘ線管装置の立上げ方法によって立上げられたＸ線管装置の構成について説明する。
【００５３】
図４に示すように、Ｘ線管装置は、Ｘ線管１と、Ｘ線管１の冷却流路３と、水系冷却液Ｌと、水系冷却液Ｌの循環装置５と、継手６とを備えている。この実施形態において、水系冷却液Ｌに純水を利用している。ここでは、陽極ターゲット１５５に高電圧が印加されて、陰極１５６は接地されている。
【００５４】
循環装置５は、気密性の継手６を介して水系冷却液Ｌを冷却流路３との間で循環させるものである。  
ここでは、継手６は、ホース１１、ホース１２、コネクタ１３、コネクタ１４、プラグ１５及びプラグ１６を有している。ホース１１の一端にコネクタ１３が気密に接続され、他端にプラグ１５が気密に接続されている。ホース１２の一端にコネクタ１４が気密に接続され、他端にプラグ１６が気密に接続されている。
【００５５】
循環装置５は、筐体２０と、循環流路３０と、熱交換器６０と、流量センサ７０と、タンク８９ａと、蓋部８９ｂと、循環ポンプ１００と、第１開閉部としてのバルブ１１１と、第２開閉部としてのバルブ１１２と、を有している。
【００５６】
筐体２０には、ソケット２１及びソケット２２が気密に取付けられている。ソケット２１にはプラグ１５が気密に連結されている。ソケット２２にはプラグ１６が気密に連結されている。ソケット２１及びプラグ１５は、着脱可能な連結器としてのカプラ８を形成している。ソケット２２及びプラグ１６は、着脱可能な連結器としてのカプラ９を形成している。
【００５７】
循環流路３０は、冷却流路３に継手６を介して連通されている。循環流路３０は、水系冷却液Ｌを収容し、気密性を保持可能である。循環流路３０は、導管３１、導管３２、導管３３及び導管３５を有している。導管３１はソケット２２に気密に接続され、導管３５はソケット２１に気密に接続されている。
【００５８】
導管３１、導管３２、導管３３及び導管３５は、銅、鉄、鉄合金、鋼等の金属で形成されている。水系冷却液Ｌに接する導管３１、導管３２、導管３３及び導管３５の表面には、金メッキやニッケルメッキ等の金属メッキ、無機材料若しくは有機材料を用いたコーティングなどを施してもよい。この実施形態において、導管３１は銅で形成されている。導管３２、導管３３及び導管３５は鉄で形成され、その水系冷却液Ｌに接する表面には、ニッケルメッキが施されている。
【００５９】
熱交換器６０は、循環流路３０に気密に取付けられ、水系冷却液Ｌの熱を外部に放出するものである。熱交換器６０は、導管３１の一部と導管６１とで形成されている。導管６１の両端は、筐体２０の外側に引き出されている。導管６１の両端には、バルブ１１１及びバルブ１１２が接続されている。ここでは、導管６１の中は、冷却液として水道水が流れる。水道水を導管６１の中を流す場合、バルブ１１１を水道水が導入可能な開状態とし、バルブ１１２を水道水が排出可能な開状態とすればよい。これにより、二次冷却系である導管３１を流れる水系冷却液Ｌの熱が、一次冷却系である導管６１を流れる水道水に伝導され、水系冷却液Ｌは冷却される。  
流量センサ７０は、導管３１及び導管３２間に気密に接続されている。
【００６０】
タンク８９ａには、導管３２及び導管３３が挿入されている。タンク８９ａは、循環流路３０の一部を形成している。タンク８９ａは、水系冷却液Ｌが充満した水系冷却液充満領域８１と、開口部とを有している。蓋部８９ｂは、タンク８９ａの開口部を塞いでいる。
【００６１】
タンク８９ａには、イオン交換樹脂としてのイオン交換樹脂フィルタ８６が設けられている。イオン交換樹脂フィルタ８６は、タンク８９ａの内部に設けられている。イオン交換樹脂フィルタ８６は水系冷却液Ｌ中に浸漬されている。ここでは、イオン交換樹脂フィルタ８６は、導管３３の先端に取付けられている。イオン交換樹脂フィルタ８６は、循環流路３０、Ｘ線管１及び冷却流路３等の金属部分が腐食した場合に生じるイオンの増加を防止して、水系冷却液Ｌの導電率の上昇を抑制するものである。これにより、純水である水系冷却液Ｌの非導電性を維持することができ、Ｘ線管１で生じる放電等の電気的な不良を抑制することができる。
【００６２】
循環ポンプ１００は、循環流路３０に気密に取付けられている。詳しくは、循環ポンプ１００は、導管３３及び導管３５に気密に取付けられている。循環ポンプ１００は、水系冷却液Ｌを循環装置５と冷却流路３との間で循環させるものである。
【００６３】
水系冷却液Ｌに接する循環流路３０及び冷却流路３の少なくとも一部の表面は、保護膜Ｆで覆われている。この実施形態では、保護膜Ｆは、導管３１、導管３２、導管３３、導管３５及び陽極ターゲット１５５の凹部１５５ｄの表面を覆っている。保護膜Ｆは、ベンゾトリアゾール又はその誘導体とこれら表面金属との反応被膜で形成されている。
【００６４】
なお、上述したように、水系冷却液Ｌは純水であり、水系冷却液Ｌにはベンゾトリアゾール又はその誘導体は含有されていない。  
上記のようにＸ線管装置が構成されている。
【００６５】
次に、上記Ｘ線管装置の立上げ方法について説明する。  
まず、Ｘ線管１と、循環装置５とを備えた空状態のＸ線管装置を用意する。ここで、用意したＸ線管装置に、上記イオン交換樹脂フィルタ８６は設けていない。続いて、冷却流路３、継手６及び循環装置５にベンゾトリアゾール又はその誘導体を１００ｐｐｍ乃至飽和濃度含有する水系媒体を導入し、冷却流路３に、継手６を介して循環流路３０を連通させ、上記水系媒体が導入されたＸ線管装置をモジュールに組立てる。
【００６６】
ここでは、冷却流路３、継手６及び循環装置５に上記水系媒体を導入した後、冷却流路３及び循環流路３０を連通させたが、これに限定されるものではなく種々変形可能である。例えば、冷却流路３及び循環流路３０を連通させた後、タンク８９ａに上記水系媒体を導入することにより対応することができる。
【００６７】
次いで、循環ポンプ１００を稼動させ、上記水系媒体を冷却流路３と循環装置５（循環流路３０）との間を循環させる。なお、循環ポンプ１００を稼動させ、上記水系媒体を循環させている間、熱交換器６０は、稼動させなくともよい。そして、上記水系媒体に接触可能な冷却流路３及び循環装置５（循環流路３０）の表面に、上記水系媒体を、一定期間、接触させる。
【００６８】
これにより、上記水系媒体の中のベンゾトリアゾール又はその誘導体が、冷却流路３及び循環装置５（循環流路３０）の金属表面と反応し、冷却流路３及び循環装置５（循環流路３０）の表面に保護膜Ｆが形成される。  
その後、循環装置５から継手６を外すなどして、冷却流路３及び循環装置５（循環流路３０）から、上記水系媒体を排出する。
【００６９】
続いて、冷却流路３及び循環装置５（循環流路３０）の内部の表面を洗浄する。洗浄する際、純水等、ベンゾトリアゾール又はその誘導体を含有しない水系媒体を用いて洗浄する。例えば、冷却流路３、継手６及び循環装置５にベンゾトリアゾール又はその誘導体を含有しない水系媒体を導入した後、冷却流路３及び循環流路３０を連通させ、循環ポンプ１００を稼動させて洗浄することができる。
【００７０】
なお、洗浄した後、冷却流路３及び循環装置５（循環流路３０）内に洗浄に使用した水系媒体が残っている場合、循環装置５から継手６を外すなどして、冷却流路３及び循環装置５（循環流路３０）から、洗浄に使用した水系媒体を排出する。
【００７１】
次いで、Ｘ線管装置にイオン交換樹脂フィルタ８６を設け、冷却流路３、継手６及び循環装置５に水系冷却液Ｌを導入した後、冷却流路３及び循環流路３０を連通させる。  
ここでも、冷却流路３、継手６及び循環装置５に水系冷却液Ｌを導入した後、冷却流路３及び循環流路３０を連通させたが、これに限定されるものではなく種々変形可能である。例えば、冷却流路３及び循環流路３０を連通させた後、タンク８９ａに水系冷却液Ｌを導入することにより対応することができる。  
これにより、Ｘ線管装置の立上げが終了する。
【００７２】
次に、使用中（稼動後）のＸ線管装置の保全方法について説明する。  
まず、使用中（稼動後）のＸ線管装置を用意する。ここで用意したＸ線管装置において、水系冷却液Ｌは、排出されていない。この場合、まず、Ｘ線管装置から水系冷却液Ｌを排出することになる。Ｘ線管装置から水系冷却液Ｌを排出する際、循環装置５から継手６を外すなどして、冷却流路３及び循環装置５（循環流路３０）から、水系冷却液Ｌを排出する。
【００７３】
続いて、Ｘ線管装置からイオン交換樹脂フィルタ８６を取り外した後、冷却流路３、継手６及び循環装置５にベンゾトリアゾール又はその誘導体を１００ｐｐｍ乃至飽和濃度含有する水系媒体を導入し、冷却流路３に、継手６を介して循環流路３０を連通させ、上記水系媒体が導入されたＸ線管装置をモジュールに組立てる。
【００７４】
ここでは、冷却流路３、継手６及び循環装置５に上記水系媒体を導入した後、冷却流路３及び循環流路３０を連通させたが、これに限定されるものではなく種々変形可能である。
【００７５】
次いで、循環ポンプ１００を稼動させ、上記水系媒体を冷却流路３と循環装置５（循環流路３０）との間を循環させる。なお、循環ポンプ１００を稼動させ、上記水系媒体を循環させている間、熱交換器６０は、稼動させなくともよい。そして、上記水系媒体に接触可能な冷却流路３及び循環装置５（循環流路３０）の表面に、上記水系媒体を、一定期間、接触させる。
【００７６】
これにより、上記水系媒体の中のベンゾトリアゾール又はその誘導体が、冷却流路３及び循環装置５（循環流路３０）の金属表面と反応し、冷却流路３及び循環装置５（循環流路３０）の表面に保護膜Ｆが再び形成される。すなわち、孔食部等、保護膜Ｆの欠落部に反応被膜が形成される。  
その後、循環装置５から継手６を外すなどして、冷却流路３及び循環装置５（循環流路３０）から、上記水系媒体を排出する。
【００７７】
続いて、冷却流路３及び循環装置５（循環流路３０）の内部の表面を洗浄する。洗浄する際、純水等、ベンゾトリアゾール又はその誘導体を含有しない水系媒体を用いて洗浄する。例えば、冷却流路３、継手６及び循環装置５にベンゾトリアゾール又はその誘導体を含有しない水系媒体を導入した後、冷却流路３及び循環流路３０を連通させ、循環ポンプ１００を稼動させて洗浄することができる。
【００７８】
なお、洗浄した後、冷却流路３及び循環装置５（循環流路３０）内に洗浄に使用した水系媒体が残っている場合、循環装置５から継手６を外すなどして、冷却流路３及び循環装置５（循環流路３０）から、洗浄に使用した水系媒体を排出する。
【００７９】
次いで、Ｘ線管装置にイオン交換樹脂フィルタ８６を設け、冷却流路３、継手６及び循環装置５に水系冷却液Ｌを導入した後、冷却流路３及び循環流路３０を連通させる。  
ここでも、冷却流路３、継手６及び循環装置５に水系冷却液Ｌを導入した後、冷却流路３及び循環流路３０を連通させたが、これに限定されるものではなく種々変形可能である。  
これにより、Ｘ線管装置の保全が終了する。上記Ｘ線管装置の保全方法を用いることにより、例えばＸ線管装置の製品寿命を長くすることができる。上記Ｘ線管装置の保全方法は、管球の交換等のＸ線管装置のメンテナンス時に行えばよく、常時行う必要なない。
【００８０】
上記のように構成された第２の実施形態に係るＸ線管装置、Ｘ線管装置の立上げ方法及びＸ線管装置の保全方法によれば、Ｘ線管装置は、Ｘ線管１と、冷却流路３と、循環装置５とを備えている。循環装置５は、循環流路３０を有している。水系冷却液Ｌに接する冷却流路３及び循環装置５（循環流路３０）の金属部分に、ベンゾトリアゾール又はその誘導体で保護膜Ｆが形成されている。
【００８１】
これにより、低コストにて循環流路３０及び冷却流路３等の金属部分の腐食を抑制することができる。また、上述したＸ線管装置の保全方法を用いてベンゾトリアゾール又はその誘導体を含有する水系媒体を金属に接触させることで、欠陥部の耐食性を確保することができる。このため、長期にわたって信頼性が高く、製品寿命の長いＸ線管装置を得ることができる。
【００８２】
水系冷却液Ｌを使用できるため、冷却液が絶縁油である場合に比べて冷却性能に優れたＸ線管装置を得ることができる。  
循環装置５は、イオン交換樹脂フィルタ８６を有しているため、水系冷却液Ｌ中の金属イオン等のイオンの増加を防止でき、水系冷却液Ｌの非導電性を一層維持することができる。
【００８３】
水系冷却液Ｌは、ベンゾトリアゾール又はその誘導体を含有していないため、導電率の増大等の悪影響を回避することができる。例えば、高電圧となる金属部分（例えば、陽極ターゲット１５５）の冷却であっても良好に行うことができる。
【００８４】
ここで、水系冷却液Ｌにベンゾトリアゾール又はその誘導体を添加したと仮定すると、イオン化したベンゾトリアゾール又はその誘導体は、イオン交換樹脂フィルタ８６によって除去されてしまう。添加量は、通常１００乃至２００００ｐｐｍの範囲内であるが、これだけのベンゾトリアゾール又はその誘導体がイオン交換樹脂フィルタ８６に取り込まれてしまうと、イオン交換樹脂フィルタ８６としての機能は低下してしまう。また、この場合、水系冷却液Ｌにベンゾトリアゾール又はその誘導体が相当量残存してしまい、水系冷却液Ｌの非導電性が損なわれてしまう。
【００８５】
この実施の形態においては、Ｘ線管装置に保護膜Ｆが形成されているため、イオン交換樹脂フィルタ８６の機能を損なうことなく、ベンゾトリアゾール又はその誘導体による金属の防食作用を利用することができる。
【００８６】
上記したことから、水系冷却液による内部腐食を低減することができ、長期にわたって信頼性が高く、冷却性能に優れたＸ線管装置、Ｘ線管装置の立上げ方法及びＸ線管装置の保全方法を得ることができる。
【００８７】
次に、第３の実施形態に係るＸ線管装置、Ｘ線管装置の立上げ方法及びＸ線管装置の保全方法について詳細に説明する。この実施形態において、他の構成は上述した第２の実施形態と同一であり、同一の部分には同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。また、Ｘ線管装置の立上げ方法及びＸ線管装置の保全方法は、イオン交換樹脂フィルタ８６に関する工程を除いて第２の実施形態と同一であり、その詳細な説明を省略する。
【００８８】
図５に示すように、Ｘ線管装置は、Ｘ線管１と、Ｘ線管１の冷却流路３と、水系冷却液Ｌと、水系冷却液Ｌの循環装置５と、継手６とを備えている。この実施形態において、水系冷却液Ｌにグリコール水溶液を利用している。ここでは、陽極ターゲット１５５は接地され、陰極１５６には負の高電圧が印加されている。
【００８９】
循環装置５は、筐体２０と、循環流路３０と、ベローズ機構としての空盆５０と、熱交換器６０と、流量センサ７０と、循環ポンプ１００と、バルブ１１１と、バルブ１１２と、を有している。
【００９０】
循環流路３０は、導管３１、導管３６及び導管３７を有している。導管３１はソケット２２に気密に接続され、導管３７はソケット２１に気密に接続されている。
【００９１】
導管３１、導管３６及び導管３７は、銅、鉄、鉄合金、鋼等の金属で形成されている。水系冷却液Ｌに接する導管３１、導管３６及び導管３７の表面には、金メッキやニッケルメッキ等の金属メッキ、無機材料若しくは有機材料を用いたコーティングなどを施してもよい。この実施形態において、導管３１は銅で形成されている。導管３６及び導管３７は鉄で形成され、その水系冷却液Ｌに接する表面には、ニッケルメッキが施されている。
【００９２】
空盆５０は、循環流路３０に気密に連通されている。空盆５０は、開口部５１ａを有したケース５１を有している。開口部５１ａは、循環流路３０の導管３１に気密に連通されている。空盆５０は、ケース５１内を開口部５１ａと繋がった第１領域５３及び第２領域５４に区域するベローズ５２を有している。ケース５１は第２領域５４に繋がった開口部も有しているため、第２領域５４は開放されている。
【００９３】
ベローズ５２は、ケース５１に液密に取付けられている。ベローズ５２は伸縮自在である。ここでは、ベローズ５２はゴムで形成されている。ベローズ５２は、水系冷却液Ｌの体積の膨張及び収縮を吸収することができる。  
流量センサ７０は、導管３１及び導管３６間に気密に接続されている。
【００９４】
循環ポンプ１００は、循環流路３０に気密に取付けられている。詳しくは、循環ポンプ１００は、導管３６及び導管３７に気密に取付けられている。循環ポンプ１００は、水系冷却液Ｌを循環装置５と冷却流路３との間で循環させるものである。
【００９５】
水系冷却液Ｌに接する循環流路３０及び冷却流路３の少なくとも一部の表面は、保護膜Ｆで覆われている。この実施形態では、保護膜Ｆは、導管３１、導管３６、導管３７及び陽極ターゲット１５５の凹部１５５ｄの表面を覆っている。保護膜Ｆは、ベンゾトリアゾール又はその誘導体とこれら表面金属との反応被膜で形成されている。
【００９６】
なお、上述したように、水系冷却液Ｌはグリコール水溶液であり、水系冷却液Ｌにはベンゾトリアゾール又はその誘導体は含有されていない。  
上記のようにＸ線管装置が構成されている。
【００９７】
上記のように構成された第３の実施形態に係るＸ線管装置、Ｘ線管装置の立上げ方法及びＸ線管装置の保全方法によれば、Ｘ線管装置は、Ｘ線管１と、冷却流路３と、循環装置５とを備えている。循環装置５は、循環流路３０を有している。水系冷却液Ｌに接する冷却流路３及び循環装置５（循環流路３０）の金属部分に、ベンゾトリアゾール又はその誘導体で保護膜Ｆが形成されている。
【００９８】
これにより、低コストにて循環流路３０及び冷却流路３等の金属部分の腐食を抑制することができる。また、上述したＸ線管装置の保全方法を用いてベンゾトリアゾール又はその誘導体を含有する水系媒体を金属に接触させることで、欠陥部の耐食性を確保することができる。このため、長期にわたって信頼性が高く、製品寿命の長いＸ線管装置を得ることができる。
【００９９】
水系冷却液Ｌは、ベンゾトリアゾール又はその誘導体を含有していないため、導電率の増大等の悪影響を回避することができる。  
水系冷却液Ｌを使用できるため、冷却液が絶縁油である場合に比べて冷却性能に優れたＸ線管装置を得ることができる。
【０１００】
空盆５０は、水系冷却液Ｌの体積の膨張及び収縮を吸収することができる。このため、この冷却流路３、継手６及び循環装置５が密閉系を形成しても、水系冷却液Ｌが膨張した場合の水系冷却液Ｌの漏れや、水系冷却液Ｌが収縮した場合の水系冷却液Ｌへの空気の吸い込みを防止することができる。
【０１０１】
上記したことから、水系冷却液による内部腐食を低減することができ、長期にわたって信頼性が高く、冷却性能に優れたＸ線管装置、Ｘ線管装置の立上げ方法及びＸ線管装置の保全方法を得ることができる。
【０１０２】
次に、第４の実施形態に係るＸ線管装置、Ｘ線管装置の立上げ方法及びＸ線管装置の保全方法について詳細に説明する。この実施形態において、他の構成は上述した第３の実施形態と同一であり、同一の部分には同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。また、Ｘ線管装置の立上げ方法及びＸ線管装置の保全方法は、イオン交換樹脂フィルタ８６に関する工程を除いて第２の実施形態と同一であり、その詳細な説明を省略する。
【０１０３】
図６に示すように、Ｘ線管装置は、Ｘ線管１と、Ｘ線管１の冷却流路３と、水系冷却液Ｌと、水系冷却液Ｌの循環装置５と、継手６とを備えている。この実施形態において、水系冷却液Ｌにグリコール水溶液を利用している。ここでは、陽極ターゲット１５５は接地され、陰極１５６には負の高電圧が印加されている。
【０１０４】
循環装置５は、筐体２０と、循環流路３０と、ベローズ機構としての空盆５０と、熱交換器６０と、流量センサ７０と、循環ポンプ１００と、を有している。  
循環流路３０は、導管４１、導管４２及び導管４３を有している。導管４１はソケット２２に気密に接続され、導管４３はソケット２１に気密に接続されている。
【０１０５】
導管４１、導管４２及び導管４３は、銅、鉄、鉄合金、鋼等の金属で形成されている。水系冷却液Ｌに接する導管４１、導管４２及び導管４３の表面には、金メッキやニッケルメッキ等の金属メッキ、無機材料若しくは有機材料を用いたコーティングなどを施してもよい。この実施形態において、導管４２は銅で形成され、導管４１及び導管４３はステンレス鋼で形成されている。
【０１０６】
空盆５０は、循環流路３０に気密に連通されている。空盆５０の開口部５１ａは、循環流路３０の導管４１に気密に連通されている。  
熱交換器６０は、導管４２の一部とファン６２とで形成されている。導管４２を流れる水系冷却液Ｌはファン６２によって空冷される。  
流量センサ７０は、導管４２及び導管４３間に気密に接続されている。
【０１０７】
循環ポンプ１００は、循環流路３０に気密に取付けられている。詳しくは、循環ポンプ１００は、導管４１及び導管４２に気密に取付けられている。循環ポンプ１００は、水系冷却液Ｌを循環装置５と冷却流路３との間で循環させるものである。
【０１０８】
水系冷却液Ｌに接する循環流路３０及び冷却流路３の少なくとも一部の表面は、保護膜Ｆで覆われている。この実施形態では、保護膜Ｆは、導管４１、導管４２、導管４３及び陽極ターゲット１５５の凹部１５５ｄの表面を覆っている。保護膜Ｆは、ベンゾトリアゾール又はその誘導体とこれら表面金属との反応被膜で形成されている。
【０１０９】
なお、上述したように、水系冷却液Ｌはグリコール水溶液であり、水系冷却液Ｌにはベンゾトリアゾール又はその誘導体は含有されていない。  
上記のようにＸ線管装置が構成されている。
【０１１０】
上記のように構成された第４の実施形態に係るＸ線管装置、Ｘ線管装置の立上げ方法及びＸ線管装置の保全方法によれば、Ｘ線管装置は、Ｘ線管１と、冷却流路３と、循環装置５とを備えている。循環装置５は、循環流路３０を有している。水系冷却液Ｌに接する冷却流路３及び循環装置５（循環流路３０）の金属部分に、ベンゾトリアゾール又はその誘導体で保護膜Ｆが形成されている。熱交換器６０は、ファン６２を用いて水系冷却液Ｌを空冷することができる。  
このため、上述した第３の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【０１１１】
上記したことから、水系冷却液による内部腐食を低減することができ、長期にわたって信頼性が高く、冷却性能に優れたＸ線管装置、Ｘ線管装置の立上げ方法及びＸ線管装置の保全方法を得ることができる。
【０１１２】
次に、第５の実施形態に係るＸ線管装置、Ｘ線管装置の立上げ方法及びＸ線管装置の保全方法について詳細に説明する。この実施形態において、他の構成は上述した第４の実施形態と同一であり、同一の部分には同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。また、Ｘ線管装置の立上げ方法及びＸ線管装置の保全方法は、第２の実施形態と同一であり、その詳細な説明を省略する。
【０１１３】
図７に示すように、Ｘ線管装置は、Ｘ線管１と、Ｘ線管１の冷却流路３と、水系冷却液Ｌと、水系冷却液Ｌの循環装置５と、継手６とを備えている。この実施形態において、水系冷却液Ｌに純水を利用している。ここでは、陽極ターゲット１５５に高電圧が印加されて、陰極１５６は接地されている。
【０１１４】
循環装置５は、筐体２０と、循環流路３０と、ベローズ機構としての空盆５０と、熱交換器６０と、流量センサ７０と、容器としてのタンク８０と、循環ポンプ１００と、を有している。
【０１１５】
循環流路３０は、導管４４、ホース４６、ホース４７、連結器としてのカプラ４８及び連結器としてのカプラ４９をさらに有している。導管４３及びホース４６は、着脱可能な連結器としてのカプラ４８を介して気密に連結されている。導管４４及びホース４７は、着脱可能な連結器としてのカプラ４９を介して気密に連結されている。導管４２は銅で形成され、導管４１、導管４３、導管４４及び導管４６はステンレス鋼で形成されている。
【０１１６】
タンク８０は、循環流路３０に気密に取付けられている。詳しくは、タンク８０は、ホース４６及びホース４７に気密に取付けられている。タンク８０は、水系冷却液Ｌが充満した水系冷却液充満領域８１を有している。タンク８０は、液密に形成されている。
【０１１７】
タンク８０には、イオン交換樹脂としてのイオン交換樹脂フィルタ８６が設けられている。イオン交換樹脂フィルタ８６は、タンク８０の内部に設けられている。イオン交換樹脂フィルタ８６は水系冷却液Ｌ中に浸漬されている。ここでは、イオン交換樹脂フィルタ８６は、ホース４６の先端に取付けられており、循環流路３０、Ｘ線管１及び冷却流路３等の金属部分が腐食した場合に生じる、水系冷却液Ｌの導電率の上昇を抑制することができる。これにより、純水である水系冷却液Ｌの非導電性を維持することができ、Ｘ線管１で生じる放電等の電気的な不良を抑制することができる。
【０１１８】
水系冷却液Ｌに接する循環流路３０及び冷却流路３の少なくとも一部の表面は、保護膜Ｆで覆われている。この実施形態では、保護膜Ｆは、導管４１、導管４２、導管４３、導管４４及び陽極ターゲット１５５の凹部１５５ｄの表面を覆っている。保護膜Ｆは、ベンゾトリアゾール又はその誘導体とこれら表面金属との反応被膜で形成されている。
【０１１９】
なお、上述したように、水系冷却液Ｌは純水であり、水系冷却液Ｌにはベンゾトリアゾール又はその誘導体は含有されていない。  
上記のようにＸ線管装置が構成されている。
【０１２０】
上記のように構成された第５の実施形態に係るＸ線管装置、Ｘ線管装置の立上げ方法及びＸ線管装置の保全方法によれば、Ｘ線管装置は、Ｘ線管１と、冷却流路３と、循環装置５とを備えている。循環装置５は、循環流路３０を有している。水系冷却液Ｌに接する冷却流路３及び循環装置５（循環流路３０）の金属部分に、ベンゾトリアゾール又はその誘導体で保護膜Ｆが形成されている。
【０１２１】
これにより、低コストにて循環流路３０及び冷却流路３等の金属部分の腐食を抑制することができる。また、上述したＸ線管装置の保全方法を用いてベンゾトリアゾール又はその誘導体を含有する水系媒体を金属に接触させることで、欠陥部の耐食性を確保することができる。このため、長期にわたって信頼性が高く、製品寿命の長いＸ線管装置を得ることができる。
【０１２２】
水系冷却液Ｌは、ベンゾトリアゾール又はその誘導体を含有していないため、導電率の増大等の悪影響を回避することができる。例えば、高電圧となる金属部分（例えば、陽極ターゲット１５５）の冷却であっても良好に行うことができる。  
水系冷却液Ｌを使用できるため、冷却液が絶縁油である場合に比べて冷却性能に優れたＸ線管装置を得ることができる。  
循環装置５は、イオン交換樹脂フィルタ８６を有しているため、水系冷却液Ｌ中の金属イオン等のイオンの増加を防止でき、水系冷却液Ｌの非導電性を一層維持することができる。
【０１２３】
上記したことから、水系冷却液による内部腐食を低減することができ、長期にわたって信頼性が高く、冷却性能に優れたＸ線管装置、Ｘ線管装置の立上げ方法及びＸ線管装置の保全方法を得ることができる。
【０１２４】
次に、第６の実施形態に係る熱移動システム、熱移動システムの立上げ方法及び熱移動システムの保全方法について詳細に説明する。ここでは、熱移動システム、熱移動システムの立上げ方法及び熱移動システムの保全方法としての冷却システム、冷却システムの立上げ方法及び冷却システムの保全方法について詳細に説明する。
【０１２５】
図８に示すように、冷却システムは、Ｘ線管１と、Ｘ線管１の冷却流路３と、水系冷却液Ｌと、水系冷却液Ｌの循環装置５と、絶縁油ＩＯと、絶縁油ＩＯの循環装置４００と、継手６とを備えている。この実施形態において、水系冷却液Ｌにグリコール水溶液を利用している。ここでは、陽極ターゲット１５５は接地され、陰極１５６には負の高電圧が印加されている。
【０１２６】
循環装置５は、熱交換器６０が導管３１の一部とファン６２とで形成されている以外、第２の実施形態の循環装置と同様に構成されている。循環装置５は、プラグ１５及びプラグ１６間に気密に接続され、筐体２０の外側に引き出されている導管１７をさらに備えている。導管１７および導管３１は銅で形成されている。導管３２、導管３３及び導管３５はステンレス鋼で形成されている。導管１７は、冷却流路として機能している。この実施形態では、保護膜Ｆは、水系冷却液Ｌに接する導管１７の表面も覆っている。保護膜Ｆは、ベンゾトリアゾール又はその誘導体とその表面金属との反応被膜で形成されている。  
なお、上述したように、水系冷却液Ｌはグリコール水溶液であり、水系冷却液Ｌにはベンゾトリアゾール又はその誘導体は含有されていない。
【０１２７】
循環装置４００は、気密性の継手６を介して絶縁油ＩＯを冷却流路３との間で循環させるものである。  
ここでは、継手６は、ホース１１、ホース１２、コネクタ１３及びコネクタ１４を有している。ホース１１の一端にコネクタ１３が気密に接続され、ホース１２の一端にコネクタ１４が気密に接続されている。コネクタ１３は上記Ｘ線管１の導入路Ｃ１に気密に接続され、コネクタ１４は上記Ｘ線管１の排出路Ｃ２に気密に接続されている。
【０１２８】
循環装置４００は、循環流路４１０と、ベローズ機構としての空盆４２０と、循環ポンプ４３０と、熱交換器４４０と、流量センサ４５０とを有している。  
循環流路４１０は、冷却流路３に継手６を介して連通されている。循環流路４１０は、絶縁油ＩＯを収容し、気密性を保持可能である。循環流路４１０は、導管４１１、導管４１２及び導管４１３を有している。導管４１１は着脱可能な連結器としてのカプラ４１７を介してホース１２に気密に接続され、導管４１３は着脱可能な連結器としてのカプラ４１８を介してホース１１に気密に接続されている。導管４１１、導管４１２及び導管４１３は、銅、鉄、鉄合金、鋼等の金属で形成されている。ここでは、導管４１２は、銅で形成され、導管４１１及び導管４１３は、ステンレス鋼で形成されている。
【０１２９】
空盆４２０は、循環流路４１０に気密に連通されている。空盆４２０は、開口部４２１ａを有したケース４２１を有している。開口部４２１ａは、循環流路４１０の導管４１１に気密に連通されている。空盆４２０は、ケース４２１内を開口部４２１ａと繋がった第１領域４２３及び第２領域４２４に区域するベローズ４２２を有している。ベローズ４２２は、ケース４２１に液密に取付けられている。ベローズ４２２は伸縮自在である。ここでは、ベローズ４２２はゴムで形成されている。ベローズ４２２は、絶縁油ＩＯの体積の膨張及び収縮を吸収することができる。
【０１３０】
熱交換器４４０は、循環流路４１０に気密に取付けられ、絶縁油ＩＯの熱を外部に放出するものである。熱交換器４４０は、導管４１２の一部と導管１７とで形成されている。上述したように、導管１７の中は、水系冷却液Ｌが流れる。これにより、二次冷却系である導管４１２を流れる絶縁油ＩＯの熱が、一次冷却系である導管１７を流れる水系冷却液Ｌに伝導され、絶縁油ＩＯは冷却される。
【０１３１】
循環ポンプ４３０は、循環流路４１０に気密に取付けられている。詳しくは、循環ポンプ４３０は、導管４１１及び導管４１２に気密に取付けられている。循環ポンプ４３０は、絶縁油ＩＯを循環装置４００と冷却流路３との間で循環させるものである。  
流量センサ４５０は、導管４１２及び導管４１３間に気密に接続されている。  
上記のように冷却システムが構成されている。
【０１３２】
次に、上記冷却システムの立上げ方法について説明する。  
まず、循環装置５を備えた空状態の冷却システムを用意する。続いて、導管１７及び循環流路３０（循環装置５）にベンゾトリアゾール又はその誘導体を１００ｐｐｍ乃至飽和濃度含有する水系媒体を導入し、導管１７を循環流路３０に連通させる。
【０１３３】
ここでは、導管１７及び循環流路３０に上記水系媒体を導入した後、導管１７及び循環流路３０を連通させたが、これに限定されるものではなく種々変形可能である。例えば、導管１７及び循環流路３０を連通させた後、タンク８９ａに上記水系媒体を導入することにより対応することができる。
【０１３４】
次いで、循環ポンプ１００を稼動させ、上記水系媒体を導管１７と循環流路３０との間を循環させる。なお、循環ポンプ１００を稼動させ、上記水系媒体を循環させている間、熱交換器６０は、稼動させなくともよい。そして、上記水系媒体に接触可能な導管１７及び循環流路３０の表面に、上記水系媒体を、一定期間、接触させる。
【０１３５】
これにより、上記水系媒体の中のベンゾトリアゾール又はその誘導体が、導管１７及び循環流路３０の金属表面と反応し、冷却流路３及び循環流路３０の表面に保護膜Ｆが形成される。  
その後、循環流路３０から導管１７を外すなどして、導管１７及び循環流路３０から、上記水系媒体を排出する。
【０１３６】
続いて、導管１７及び循環流路３０の内部の表面を洗浄する。洗浄する際、純水等、ベンゾトリアゾール又はその誘導体を含有しない水系媒体を用いて洗浄する。例えば、導管１７及び循環流路３０にベンゾトリアゾール又はその誘導体を含有しない水系媒体を導入した後、導管１７及び循環流路３０を連通させ、循環ポンプ１００を稼動させて洗浄することができる。
【０１３７】
なお、洗浄した後、導管１７及び循環流路３０内に洗浄に使用した水系媒体が残っている場合、循環流路３０から導管１７を外すなどして、導管１７及び循環流路３０から、洗浄に使用した水系媒体を排出する。
【０１３８】
次いで、導管１７及び循環流路３０に水系冷却液Ｌを導入した後、導管１７及び循環流路３０を連通させる。  
ここでも、導管１７及び循環流路３０に水系冷却液Ｌを導入した後、導管１７及び循環流路３０を連通させたが、これに限定されるものではなく種々変形可能である。例えば、導管１７及び循環流路３０を連通させた後、タンク８９ａに水系冷却液Ｌを導入することにより対応することができる。  
その後、Ｘ線管１と、冷却流路３と、循環装置５と、継手６と、循環装置４００とを備えた冷却システムをモジュールに組立てる。これにより、冷却システムの立上げが終了する。
【０１３９】
次に、使用中（稼動後）の冷却システムの保全方法について説明する。  
まず、使用中（稼動後）の冷却システムを用意する。ここで用意した冷却システムにおいて、水系冷却液Ｌは、排出されていない。この場合、まず、導管１７及び循環流路３０から水系冷却液Ｌを排出することになる。導管１７及び循環流路３０から水系冷却液Ｌを排出する際、循環流路３０から導管１７を外すなどして、導管１７及び循環流路３０から、水系冷却液Ｌを排出する。
【０１４０】
続いて、導管１７及び循環流路３０にベンゾトリアゾール又はその誘導体を１００ｐｐｍ乃至飽和濃度含有する水系媒体を導入し、循環流路３０に導管１７を連通させ、上記水系媒体が導入された冷却システムをモジュールに組立てる。
【０１４１】
ここでは、導管１７及び循環流路３０に上記水系媒体を導入した後、導管１７及び循環流路３０を連通させたが、これに限定されるものではなく種々変形可能である。
【０１４２】
次いで、循環ポンプ１００を稼動させ、上記水系媒体を導管１７と、循環流路３０との間を循環させる。なお、循環ポンプ１００を稼動させ、上記水系媒体を循環させている間、熱交換器６０は、稼動させてさせなくてもよい。そして、上記水系媒体に接触可能な導管１７及び循環流路３０の表面に、上記水系媒体を、一定期間、接触させる。
【０１４３】
これにより、上記水系媒体の中のベンゾトリアゾール又はその誘導体が、導管１７及び循環流路３０の金属表面と反応し、導管１７及び循環流路３０の表面に保護膜Ｆが再び形成される。すなわち、孔食部等、保護膜Ｆの欠落部に反応被膜が形成される。  
その後、循環流路３０から導管１７を外すなどして、導管１７及び循環流路３０から、上記水系媒体を排出する。
【０１４４】
続いて、導管１７及び循環流路３０の内部の表面を洗浄する。洗浄する際、純水等、ベンゾトリアゾール又はその誘導体を含有しない水系媒体を用いて洗浄する。例えば、導管１７及び循環流路３０にベンゾトリアゾール又はその誘導体を含有しない水系媒体を導入した後、導管１７及び循環流路３０を連通させ、循環ポンプ１００を稼動させて洗浄することができる。
【０１４５】
なお、洗浄した後、導管１７及び循環流路３０内に洗浄に使用した水系媒体が残っている場合、循環流路３０から導管１７を外すなどして、導管１７及び循環流路３０から、洗浄に使用した水系媒体を排出する。
【０１４６】
次いで、導管１７及び循環流路３０に水系冷却液Ｌを導入した後、導管１７及び循環流路３０を連通させる。  
ここでも、導管１７及び循環流路３０に水系冷却液Ｌを導入した後、導管１７及び循環流路３０を連通させたが、これに限定されるものではなく種々変形可能である。
【０１４７】
これにより、冷却システムの保全が終了する。上記冷却システムの保全方法を用いることにより、例えば冷却システムの製品寿命を長くすることができる。上記冷却システムの保全方法は、管球の交換等の冷却システムのメンテナンス時に行えばよく、常時行う必要なない。
【０１４８】
上記のように構成された第６の実施形態に係る冷却システム、冷却システムの立上げ方法及び冷却システムの保全方法によれば、冷却システムは、Ｘ線管１と、冷却流路３と、循環装置５と、循環装置４００とを備えている。循環装置５は、循環装置４００の絶縁油ＩＯを冷却することにより、Ｘ線管１を間接的に冷却している。
【０１４９】
循環装置５は、循環流路３０を有している。水系冷却液Ｌに接する導管１７及び循環流路３０の金属部分に、ベンゾトリアゾール又はその誘導体で保護膜Ｆが形成されている。
【０１５０】
これにより、低コストにて循環流路３０及び導管１７等の金属部分の腐食を抑制することができる。また、上述した冷却システムの保全方法を用いてベンゾトリアゾール又はその誘導体を含有する水系媒体を金属に接触させることで、欠陥部の耐食性を確保することができる。このため、長期にわたって信頼性が高く、製品寿命の長い冷却システムを得ることができる。
【０１５１】
上記したことから、水系冷却液による内部腐食を低減することができ、長期にわたって信頼性が高く、冷却性能に優れた冷却システム、冷却システムの立上げ方法及び冷却システムの保全方法を得ることができる。
【０１５２】
なお、この発明は上記実施の形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化可能である。また、上記実施の形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。
【０１５３】
例えば、冷却流路３は、陽極ターゲットから放出される熱の少なくとも一部が伝導される水系冷却液Ｌを収容していればよい。このため、図９に示すように、Ｘ線管１がハウジング２に収容され、ハウジング２内が水系冷却液Ｌで満たされている場合、冷却流路３は、Ｘ線管１の内部及びハウジング２内部で形成することができる。また、図１０に示すように、Ｘ線管１が水系冷却液Ｌの取入れ口及び吐出し口を有していない場合、冷却流路３は、ハウジング２内部で形成することができる。
【０１５４】
水系冷却液Ｌと接する循環流路３０、冷却流路３等の金属部分は、銅、黄銅、鉄、鉄合金、鋼等の金属であってもよい。この場合も、ベンゾトリアゾール又はその誘導体が、金属部分の表面と反応するため、保護膜Ｆを形成することができる。
【０１５５】
水系冷却液Ｌと接する循環流路３０、冷却流路３等の金属部分の表面には、金メッキ、ニッケルメッキ等の金属メッキを施してもよい。
【０１５６】
この場合、金属部分の表面には、金属部分より貴となる他の金属によるメッキ（貴金属メッキ）を施すことが好ましい。例えば、銅に金メッキを施したり、鉄にニッケルメッキを施したりすることが挙げられる。上記のように金属メッキを施すことによってもある程度防食を低減することができるが、ピンホールのような微細な欠落部を起点とする孔食が起こるものと予想される。このため、金属メッキを施した場合であっても、ベンゾトリアゾール又はその誘導体が金属メッキのピンホール上に保護膜Ｆを形成することが孔食の防止に有効である。これにより、Ｘ線管装置の製品寿命の長期化を図ることができる。
【０１５７】
水系冷却液Ｌと接する導管６１、タンク８９ａ、ケース５１、タンク８０等が金属で形成されている場合、保護膜Ｆは、導管６１、タンク８９ａ、ケース５１、タンク８０等に形成してもよい。
【０１５８】
循環装置４００が絶縁油ＩＯ以外の冷却媒体を循環させる等、導管４１１、導管４１２及び導管４１３に孔食の恐れがある場合、保護膜Ｆは、導管４１１、導管４１２及び導管４１３等に形成してもよい。
【０１５９】
保護膜Ｆは、少なくとも循環装置５（循環流路３０）に形成されていればよく、これにより、循環装置５の防食を図ることができ、循環装置５の製品寿命の長期化を図ることができる。
【０１６０】
水系冷却液Ｌに接触する循環流路３０、冷却流路３等の金属部分の表面にベンゾトリアゾール又はその誘導体を含有する水系媒体を接触させる際、加熱手段を用いて加熱された環境内で行ってもよい。例えば、水系冷却液Ｌに接触する循環流路３０、冷却流路３等の少なくとも一部を加熱した状態で行ってもよい。この場合、金属部分の表面と、ベンゾトリアゾール又はその誘導体との反応を促進させることができ、保護膜Ｆを効率よく形成することができる。
【０１６１】
循環流路３０、冷却流路３等の金属部分の表面に水系冷却液Ｌを接触させる期間、ベンゾトリアゾール又はその誘導体を含有する水系媒体を循環させなくともよい。すなわち、上記水系媒体の流動性は無くともよい。この場合も、上記保護膜Ｆを良好に形成することができる。
【０１６２】
循環流路３０、冷却流路３等は、水系冷却液Ｌの密閉系を構成しなくともよい。このため、循環流路３０、冷却流路３等は、気密に接続されていなくともよく、液密に接続されていればよい。
【０１６３】
装置の立上げ方法や保全方法において、ベンゾトリアゾール又はその誘導体を含有する水系冷却液を排出した後に洗浄する工程を入れた実施例を述べたが、この洗浄工程は必ずしも必要ではなく、洗浄工程を省いてベンゾトリアゾール又はその誘導体を含有しない水系冷却液を導入しても良い。
【０１６４】
その場合、系内にベンゾトリアゾール又はその誘導体を含有する水系冷却液がわずかに残存するが、ベンゾトリアゾール又はその誘導体を含有しない水系冷却液Ｌを導入した後のベンゾトリアゾール又はその誘導体の含有濃度が１０ｐｐｍ未満であれば、水系冷却液Ｌの導電率を２μＳ／ｃｍ以下の低い値とすることができ、例えば、高電圧となる金属部分（例えば、陽極ターゲット１５５）の冷却であっても良好に行うことができる。
【０１６５】
また、ベンゾトリアゾール又はその誘導体の含有濃度が１０ｐｐｍ未満であれば、イオン交換樹脂フィルタを使用する場合でも、その機能が損なわれる恐れはなく、イオン交換樹脂フィルタによりベンゾトリアゾール又はその誘導体は１ｐｐｍ未満の濃度まで除去される。
【０１６６】
本発明は、上述したＸ線管装置、Ｘ線管装置の立上げ方法及びＸ線管装置の保全方法や、冷却システム、冷却システムの立上げ方法及び冷却システムの保全方法に限定されるものではなく、各種の熱移動システム、熱移動システムの立上げ方法及び熱移動システムの保全方法に適用することができる。
【０１６７】
Ｘ線管装置としては、上述したＸ線管装置の他、固定陽極型Ｘ線管装置や、回転陽極型Ｘ線管装置等、各種のＸ線管装置であってもよく、この場合も本発明を適用可能であることはいうまでもない。
【０１６８】
熱移動システムとしては、上述したＸ線管装置や冷却システムの他、内燃機関の冷却システム、電子計算機等のＬＳＩの冷却システム、暖房システム等であってもよく、この場合も本発明を適用可能である。
【符号の説明】
【０１６９】
１…Ｘ線管、３…冷却流路、５…循環装置、６…継手、２０…筐体、３０…循環流路、１７，２５，２６，２７，３１，３２，３３，３５，３６３７，４１，４２，４３，４４，６１…導管、５０…空盆、６０…熱交換器、６２…ファン、８０，８９ａ…タンク、８６…イオン交換樹脂フィルタ、１００…循環ポンプ、１０１，１０２，１１１，１１２…バルブ、１５１…真空外囲器、１５４…Ｘ線出力窓、１５５…陽極ターゲット、１５６…陰極、４００…循環装置、Ｆ…保護膜、Ｌ…水系冷却液、ＩＯ…絶縁油。
【図１】
2012014954.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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