(57)【要約】【課題】磁気ヘッドの浮上隙間を小さくした場合でも回転機器の構成部品の清浄度を向上し、ＴＡ障害発生の確率を低く保つことのできる回転機器の製造方法を提供する。【解決手段】回転機器の製造方法は、ベース部材に第１切削油剤を供給して軸受孔を加工する第１加工工程４０１と、第１加工工程４０１に連続した工程であって、ベース部材に第２切削油剤を供給してタップ孔を加工する第２加工工程４０３と、軸受孔とタップ孔の少なくとも一方に流体を吹き付けて加工残余物を除去する吹付工程である空気噴射工程４０４および液射工程４０５と、ベース部材を洗浄する洗浄工程４０６と、ベース部材に軸受ユニットと回転体を組み付ける組立工程４０８と、を含む。【選択図】図４
2012050212.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
軸受孔とタップ孔とが形成されるべきベース部材と、前記軸受孔に配設されるべき軸受ユニットと、前記軸受ユニットを介して支持されるべき回転体と、を含む回転機器の製造方法であって、
前記ベース部材に第１切削油剤を供給して前記軸受孔を加工する第１加工工程と、
前記第１加工工程に連続した工程であって、前記ベース部材に第２切削油剤を供給して前記タップ孔を加工する第２加工工程と、
前記軸受孔と前記タップ孔の少なくとも一方に流体を吹き付けて加工残余物を除去する吹付工程と、
前記ベース部材を洗浄する洗浄工程と、
前記ベース部材に前記軸受ユニットと前記回転体を組み付ける組立工程と、
を含むことを特徴とする回転機器の製造方法。
【請求項２】
前記第１加工工程は、前記ベース部材を収納可能な容器に収納して個別搬送しながら前記軸受孔の加工を実行することを特徴とする請求項１に記載の回転機器の製造方法。
【請求項３】
前記第２加工工程は、前記ベース部材を個別搬送しながら前記タップ孔の加工を実行することを特徴とする請求項１または２に記載の回転機器の製造方法。
【請求項４】
前記第２加工工程は、
前記ベース部材の側面に止まり孔形態の第１タップ孔を開穿し、前記第１タップ孔の開穿面とは異なる面に止まり孔形態の第２タップ孔を開穿し、前記第１タップ孔と前記第２タップ孔の一部を連通させる加工を含むことを特徴する請求項１または請求項３記載の回転機器の製造方法。
【請求項５】
前記第２加工工程は、前記第１加工工程における加工後に前記ベース部材に付着した前記第１切削油剤の濡れ状態が所定基準値以上であるうちに実行されることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の回転機器の製造方法。
【請求項６】
前記第１加工工程における加工後に前記ベース部材に付着する前記第１切削油剤の湿潤性と、前記第２加工工程における加工後に前記ベース部材に付着する前記第２切削油剤の湿潤性の少なくとも一方を増加させる加湿工程をさらに含むことを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の回転機器の製造方法。
【請求項７】
前記吹付工程は、複数のノズルにより異なった方向から流体を吹き付けることを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の回転機器の製造方法。
【請求項８】
前記洗浄工程は、搬送手段に所定の間隔で係合させた支持台に前記ベース部材を載置した状態で洗浄を実行することを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の回転機器の製造方法。
【請求項９】
前記洗浄工程は、前記支持台として前記ベース部材を載置した状態で少なくとも前記軸受孔と前記タップ孔のいずれか一方の形成位置を回避した位置に当該支持台の内底面と前記ベース部材の被支持面との間に空間を形成するための架橋部を設けた支持台を用いて洗浄を実行することを特徴とする請求項８記載の回転機器の製造方法。
【請求項１０】
前記第１加工工程と前記第２加工工程と前記吹付工程と前記洗浄工程は、前記ベース部材が連続して個別搬送されながら実行されることを特徴とする請求項１から請求項９のいずれか１項に記載の回転機器の製造方法。
【請求項１１】
請求項１から請求項１０のいずれか１項に記載の回転機器の製造方法を用いて製造した回転機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、回転機器の製造方法及び回転機器、特に回転機器の構成部品の清浄度を向上し製品品質を向上させる技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ＨＤＤなどの回転機器は、流体動圧軸受ユニットを備えることにより回転精度が飛躍的に向上した。それに伴いＨＤＤなどの回転機器は、一層の高密度・大容量化が求められるようになった。例えば磁気的にデータを記録するＨＤＤでは、記録トラックを形成した記録ディスクを高速で回転させておき、磁気ヘッドがその記録トラック上を僅かな浮上隙間を介してトレースしながらデータのリード／ライトを実行する。このようなＨＤＤを高密度・大容量化するためには記録トラックの幅を狭くする必要がある。そして、トラック幅の狭幅化に伴い、磁気ヘッドと記録ディスクとの隙間をさらに狭くする必要が生じている。その浮上隙間はデータのリード／ライト信頼性を考慮すると例えば、１０ｎｍ以下の極狭にしたいという要求がある。
【０００３】
また、高密度化のため、磁気ヘッドに磁気抵抗効果型素子(以下、ＭＲ素子という)が多用されている。その一方で、極狭な浮上隙間でＭＲ素子を用いることにより、サーマルアスペリティ障害（以下、ＴＡ障害という）やヘッドクラッシュ障害の発生が一段と深刻となる。磁気ヘッドの浮上トレース中、ＭＲ素子にディスク表面上の微小な異物が接触することにより発生する運動エネルギーに起因してＭＲ素子に瞬間的な発熱が発生する。ＴＡ障害は、ＭＲ素子が瞬間的に加熱、冷却されることにより、ＭＲ素子の抵抗値が瞬間的に変動し再生信号にノイズとして重畳され、再生信号の読み出し精度の低下を引き起こす障害である。発明者らは、検討の結果、ＴＡ障害は、回転機器に付着していた０．１μｍ〜数μｍ程度の異物（以下、パーティクル「Ｐａｒｔｉｃｌｅ」と総称する）が、振動や空気の流れなどにより、記録ディスク表面に付着することにより発生しているとの知見を得た。
【０００４】
ところで、回転機器は、ベース部材上にスリーブ及びこのスリーブと相対回転可能なシャフトとから成る軸受ユニットと、この軸受ユニットによりベース上で回転自在に支持される回転体を含む組立体で構成されている。そして、回転体の一部であるハブ部材に記録ディスクを載置すると共に、磁気ヘッド及びこの磁気ヘッドの駆動装置と、制御回路、その他必要な部品を組み込んで製造される。
【０００５】
回転機器において、パーティクルを生じる原因の一つとして、ベース部材を機械加工する際に切り粉や切削油剤がベース部材に付着したまま組み立てられることが挙げられる。
【０００６】
ベース部材は軸受ユニットを取り付ける軸受孔と、ベース部材の外壁部にカバーをネジにより取り付けるためのタップ孔、回転機器を他の機器にネジ止めするためのタップ孔等とを有する。このようなベース部材は、軸受孔とタップ孔を設けた後に洗浄して、その後に軸受ユニットと回転体を組み付ける。従来、このような回転機器の製造は、ベース部材に軸受孔を形成する工程と、ベース部材にタップ孔を形成する工程と、ベース部材を洗浄する工程と、ベース部材に軸受ユニットと回転体を組み付ける工程とをそれぞれ独立して実行する、いわゆるバッチ式により実行していた。バッチ式の製造方法は各工程の前後で中間製品を保管することが一般的である。中間製品を保管するとその過程で中間製品に傷や異物が付着することがある。また、軸受孔とタップ孔を形成する工程で切削油剤を用いる場合に中間製品の保管中に乾燥して固化することがある。切削油剤が一旦固化すると、その除去は容易でなく、十分に除去できないままベース部材に残留してパーティクルとなる場合がある。
【０００７】
また、従来、ベース部材は、所定の洗浄液が満たされた洗浄槽で例えば超音波を用いて埃等の異物除去を行う洗浄工程を経てから組み立てられる。洗浄工程は、例えば、ベース部材を数十個単位で洗浄カゴに重ねて入れて洗浄液に漬す、いわゆるバッチ洗浄が主流であった。このような洗浄工程は、小部品を大量生産する場合に多用される手法である。このバッチ洗浄では、洗浄後に洗浄カゴごとベース部材を乾燥し、倉庫などの保管場所に保管する。そして、組立工程では、保管されたベース部材を取り出して組立ラインに供給し、回転機器を組み立てていた（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平７−１２４５２９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
上述したようなベース部材に軸受孔を形成する工程と、ベース部材にタップ孔を形成する工程と、ベース部材を洗浄する工程とをバッチ式に実行する製造方法では、一般に洗浄の清浄度の全体水準が低かった。例えば、回転機器の清浄度は、１ｃｍ２当たりに存在する０．５μｍ以上のパーティクルの数（以下、ＬＰＣという）で評価される。ＬＰＣは、例えば純水２０００ｃｃを満たした槽の中に被検体を浸し、６８ｋＨｚで９８ｗの超音波を１２０秒間照射した後、この純水を例えば米国ＰＭＳ社製ＣＬＳ−７００またはＬＳ２００などの液中パーティクル計数器を用いて存在するパーティクルの数を計数していた。
【００１０】
また、従来のベース部材に軸受孔を形成する工程と、ベース部材にタップ孔を形成する工程と、ベース部材を洗浄する工程とをバッチ式に実行する製造方法では、所望の清浄度を得ようとする場合、洗浄に長時間が必要となり作業効率が悪かった。さらに、洗浄後に倉庫等で保管されている間に空気中に浮遊するパーティクルがベース部材に付着してしまうこともあった。このように、パーティクルが多数ベース部材に残留すると、磁気ヘッドの浮上隙間を小さくした場合にＴＡ障害発生率が高くなり、回転機器の高密度・大容量化の障害となっていた。そのため、組立を開始する前や組立後に例えば、ヘキサン等の溶剤によりパーティクルの拭き取りを行う工程を追加することが考えられるが、製造効率の低下を招くと共に、拭き取り処理ではパーティクルの除去が十分に行えない場合も多かった。
【００１１】
そこで、本発明は上述した課題を解決するためになされたものであり、その目的は、磁気ヘッドの浮上隙間を小さくした場合でも回転機器の構成部品の清浄度を向上し、ＴＡ障害発生の確率を低く保つことのできる技術を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記課題を解決するために、本発明のある態様の回転機器の製造方法は、軸受孔とタップ孔とが形成されるべきベース部材と、軸受孔に配設されるべき軸受ユニットと、軸受ユニットを介して支持されるべき回転体と、を含む回転機器の製造方法であって、ベース部材に第１切削油剤を供給して軸受孔を加工する第１加工工程と、第１加工工程に連続した工程であって、ベース部材に第２切削油剤を供給してタップ孔を加工する第２加工工程と、軸受孔とタップ孔の少なくとも一方に流体を吹き付けて加工残余物を除去する吹付工程と、ベース部材を洗浄する洗浄工程と、ベース部材に軸受ユニットと回転体を組み付ける組立工程と、を含む。
【００１３】
この態様によると、第２加工工程は第１加工工程に連続して実行されるので、第１加工工程でベース部材に供給した第１切削油剤が乾燥して固化する前に第２切削油剤を供給してタップ孔を加工する第２加工工程が実行される。この場合、第１切削油剤および第２切削油剤の乾燥前に吹付工程で切削屑等の加工残留物と共に第１切削油剤および第２切削油剤を除去できる。その結果、ベース部材の清浄度を高めることが可能になり、磁気ヘッドの浮上隙間を小さくした場合でも、ＴＡ障害の発生確率を低くすることができる。
【００１４】
なお、以上の構成要素の任意の組み合わせや、本発明の構成要素や表現を方法、装置、システムなどの間で相互に置換したものもまた、本発明の態様として有効である。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、回転機器の構成部品の清浄度を向上し、磁気ヘッドの浮上隙間を小さくした場合でもＴＡ障害の発生確率を低く保てる回転機器の製造方法が提供できる。また、磁気ヘッドの浮上隙間を小さくした場合でもＴＡ障害の発生確率が低い回転機器が提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本実施形態の製造方法により製造される回転機器の一例であるディスク駆動装置（ＨＤＤ）の内部構成を説明する説明図である。
【図２】図１のディスク駆動装置の記録ディスクを回転駆動する部分を説明する説明図である。
【図３】図２のＭ−Ｎで示すカットラインに沿った断面図である。
【図４】本実施形態の回転機器の製造方法の工程順序を説明する説明図である。
【図５】（ａ）は、本実施形態の回転機器の製造方法においてベース部材に形成される軸受孔およびタップ孔の位置を説明すると共に、ベース部材を収納して搬送する容器を説明する説明図である。（ｂ）は、（ａ）の線分Ｐ−Ｑに沿う断面図であり、ベース部材の止まり孔形態のタップ孔を説明する説明図である。
【図６】本実施形態の回転機器の製造方法における吹付工程を説明する説明図である。
【図７】本実施形態の回転機器の製造方法における洗浄工程および組立工程を説明する説明図である。
【図８】本実施形態の回転機器の製造方法における洗浄工程で使用する搬送装置を説明する説明図である。
【図９】本実施形態の回転機器の製造方法に用いる支持台を説明する説明図である。
【図１０】従来の製造方法で製造した回転機器のＬＰＣを示す説明図である。
【図１１】本実施形態の製造方法で製造した回転機器のＬＰＣを示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明の実施の形態（以下実施形態という）を、図面に基づいて説明する。図１は、本実施形態の製造方法により製造された回転機器１０の一例であるハードディスクドライブ装置（ＨＤＤ）の内部構成を説明する説明図である。なお、図１は、内部構成を露出させるためにカバーを取り外した状態を示している。
【００１８】
ベース部材１２の上面には、ブラシレスモータ１４、アーム軸受部１６、ボイスコイルモータ１８等が載置される。ブラシレスモータ１４は、記録ディスク２０を搭載するためのハブ部材２６を回転軸上に支持し、例えば磁気的にデータを記録可能な記録ディスク２０を回転駆動する。ブラシレスモータ１４は、例えばスピンドルモータとすることができる。ブラシレスモータ１４は、記録ディスク２０を回転駆動する。ブラシレスモータ１４はＵ相、Ｖ相、Ｗ相からなる３相の駆動電流により駆動される。アーム軸受部１６は、スイングアーム２２を可動範囲ＡＢ内でスイング自在に支持する。ボイスコイルモータ１８は外部からの制御データにしたがってスイングアーム２２をスイングさせる。スイングアーム２２の先端には磁気ヘッド２４が取り付けられている。回転機器１０が稼働状態にある場合、磁気ヘッド２４はスイングアーム２２のスイングに伴って記録ディスク２０の表面を僅かな隙間を介して可動範囲ＡＢ内を移動し、データをリード／ライトする。なお、図１において、点Ａは記録ディスク２０の最外周の記録トラックの位置に対応する点であり、点Ｂは記録ディスク２０の最内周の記録トラックの位置に対応する点である。スイングアーム２２は、回転機器１０が停止状態にある場合には記録ディスク２０の脇に設けられる待避位置に移動してもよい。
【００１９】
なお、本実施形態において、記録ディスク２０、スイングアーム２２、磁気ヘッド２４、ボイスコイルモータ１８等のデータをリード／ライトする構造を全て含むものを回転機器と表現する場合もあるし、ＨＤＤと表現する場合もある。また、記録ディスク２０を回転駆動する部分のみを回転機器と表現する場合もある。
【００２０】
図２は、本実施形態の製造方法により製造される回転機器のベース部材に軸受ユニットとハブ部材２６等の回転体部を組み付けたサブアッセンブリ２８の状態を示す断面図である。本実施形態では、このサブアッセンブリ２８に、さらに記録ディスク２０、磁気ヘッド２４、スイングアーム２２、アーム軸受部１６、ボイスコイルモータ１８及び全体を覆うカバーを取り付けてＨＤＤを完成させる。
【００２１】
図３は、図２のＭ−Ｎで示すカットラインに沿った断面図であり、図１の示す回転機器１０の一部を示す断面図である。  
図３に示すように、本実施形態の回転機器１０は、固定体部Ｓと、回転体部Ｒと、ラジアル動圧溝ＲＢ１，ＲＢ２と潤滑材とで構成されるラジアル流体動圧軸受部及びスラスト動圧溝ＳＢ１，ＳＢ２で構成されるスラスト流体動圧軸受部を含む軸受ユニット３０と、これらの流体動圧軸受部を介して固定体部Ｓに対して回転体部Ｒを回転駆動する駆動ユニット３２とにより構成されている。図３は、一例として記録ディスク２０を支持するハブ部材２６とシャフト３４が一体となり回転する、いわゆるシャフト回転型の回転機器１０の構造を示す。なお、回転機器１０を構成する部材は、機能的に固定体部Ｓ、軸受ユニット３０、回転体部Ｒ、駆動ユニット３２で分けられるグループのうち複数のグループに含まれるものがある。例えば、シャフト３４は、回転体部Ｒに含まれると共に軸受ユニット３０にも含まれる。
【００２２】
固定体部Ｓは、ベース部材１２、ステータコア３６、コイル３８、スリーブ４０、カウンタープレート４２を含んで構成されている。ステータコア３６は、ベース部材１２に形成された円筒部１２ａの外壁面に固着されている。スリーブ４０は円筒状の部品であり、金属材料や導電性を有する樹脂材料で形成される。このスリーブ４０の外周面は後述する軸受ユニット３０の外周面を形成している。軸受ユニット３０は、ベース部材１２の円筒部１２ａの内壁面で形成する軸受孔１２ｂに例えば接着剤等で固定されている。スリーブ４０の一方の端部には、円盤状のカウンタープレート４２が固着され、記録ディスク２０等が収納されるベース部材１２の内部側を封止している。
【００２３】
ベース部材１２は、例えば、アルミダイキャストで製作された母材の表面にエポキシ樹脂コーティングを施した後に一部を切削加工するか、アルミ板をプレス加工して形成するか、鉄板をプレス加工後、ニッケルメッキを施して形成することができる。ステータコア３６は、ケイ素鋼板等の磁性板材が複数枚積層された後、表面に電着塗装や粉体塗装等による絶縁コーディングを施して形成される。また、ステータコア３６は、半径方向外方向に突出する複数の突極（図示せず）を有するリング状の部材であり、各突極にはコイル３８が巻回されている。例えば、回転機器１０が３相駆動であれば突極数は９極とされる。なお、コイル３８の巻き線端末は、ベース部材１２の底面に配設されたＦＰＣ（図示せず）上に半田付けされる。
【００２４】
回転体部Ｒは、ハブ部材２６、シャフト３４、フランジ４４、マグネット４６を含んで構成される。ハブ部材２６は、略カップ形状の部材であり、中心孔２６ａと同心の外周円筒部２６ｂと、外周円筒部２６ｂの下端に外延する外延部２６ｃとを有している。そして、外延部２６ｃの内壁面にリング状のマグネット４６を固着している。ハブ部材２６は、ステンレス、アルミニウム、鉄等の金属や、導電性樹脂を型成型や機械加工して形成することができる。マグネット４６は、例えばＮｄ−Ｆｅ−Ｂ（ネオジウム−鉄−ボロン）系の材料で形成され表面には電着塗装やスプレー塗装などによる防錆処理が施されている。本実施形態において、マグネット４６の内周側は例えば１２極に着磁されている。
【００２５】
シャフト３４は、ハブ部材２６に形成された中心孔２６ａに一端が固定され、他端には、円盤状のフランジ４４が固定されている。シャフト３４は例えばステンレスなどの導電性を有する金属で形成することができる。フランジ４４は、金属材料や導電性を有する樹脂材料で形成することができる。スリーブ４０の一端には、フランジ４４を収納するフランジ収納空間部４０ａが形成されている。したがって、スリーブ４０は、フランジ４４が固定されたシャフト３４を円筒内壁面４０ｂ及びフランジ収納空間部４０ａで囲む空間で相対回転を許容しながら支持する。
【００２６】
回転体部Ｒのフランジ４４付きシャフト３４が固定体部Ｓのスリーブ４０の円筒内壁面４０ｂに沿って挿入される。その結果、回転体部Ｒはラジアル動圧溝ＲＢ１，ＲＢ２と潤滑剤で構成されるラジアル流体動圧軸受部及びスラスト動圧溝ＳＢ１、ＳＢ２と潤滑剤で構成されるスラスト流体動圧軸受部を介して固定体部Ｓに回転自在に支持される。駆動ユニット３２は、ステータコア３６とコイル３８とマグネット４６とを含んで構成されている。このとき、ハブ部材２６はステータコア３６及びマグネット４６と共に磁気回路を構成する。したがって、外部に設けられた駆動回路の制御により各コイル３８に順次通電することにより、回転体部Ｒが回転駆動される。
【００２７】
なお、本実施形態のハブ部材２６の外周円筒部２６ｂは、記録ディスク２０の中心穴と係合すると共に、外延部２６ｃが記録ディスク２０を位置決め支持する。記録ディスク２０の上面にはクランパ４８が載せられ、当該クランパ４８がスクリュー５０によってハブ部材２６に固定される。これによって記録ディスク２０がハブ部材２６に一体的に固定され、ハブ部材２６と共に回転可能となる。
【００２８】
次に、軸受ユニット３０について説明する。  
軸受ユニット３０は、シャフト３４、フランジ４４、スリーブ４０及びカウンタープレート４２とを含んで構成されている。スリーブ４０の円筒内壁面４０ｂとそれに対向するシャフト３４の外周面はラジアル空間部を形成している。そいて、スリーブ４０の円筒内壁面４０ｂとシャフト３４の外周面の少なくとも一方にはラジアル方向の支持を行うための動圧を発生するラジアル動圧溝ＲＢ１、ＲＢ２が形成されている。ラジアル動圧溝ＲＢ１はハブ部材２６から近い側に形成され、ラジアル動圧溝ＲＢ２はラジアル動圧溝ＲＢ１よりハブ部材２６に遠い側に形成されている。ラジアル動圧溝ＲＢ１，ＲＢ２は、シャフト３４の軸方向に離隔して配置された例えばヘリングボーン状またはスパイラル状の溝である。これらのラジアル動圧溝ＲＢ１、ＲＢ２の形成空間にはオイル等の潤滑剤５２が充填されている。したがって、シャフト３４が回転することにより潤滑剤５２に圧力の高い部分が生る。その圧力によりシャフト３４を周囲の壁面から離反させて、当該シャフト３４をラジアル方向において実質的に非接触の回転状態とする。
【００２９】
前述したように、シャフト３４の下端には当該シャフト３４と一体的に回転するフランジ４４が固定されている。そして、スリーブ４０の下面の中央部分にはフランジ４４を回転自在に収納するフランジ収納空間部４０ａが形成されている。このフランジ収納空間部４０ａは、一端がカウンタープレート４２により封止され、フランジ収納空間部４０ａ及びそれに続くシャフト３４の収納空間の気密を維持できるようになっている。
【００３０】
フランジ４４とスリーブ４０の軸方向に対向する面の少なくとも一方にスラスト動圧溝ＳＢ１が形成され、フランジ４４とカウンタープレート４２の対向する面の少なくとも一方にはスラスト動圧溝ＳＢ２が形成され、潤滑剤５２と協働してスラスト流体動圧軸受部を形成している。スラスト動圧溝ＳＢ１，ＳＢ２は、例えばスパイラル状またはヘリングボーン状に形成されてポンプインの動圧を発生させる。つまり、固定体部Ｓ側であるスリーブ４０及びカウンタープレート４２に対して回転体部Ｒ側であるフランジ４４が回転することによりポンプインの動圧が発生する。その結果、発生した動圧により固定体部Ｓに対してフランジ４４を含む回転体部Ｒが軸方向に所定の間隙をもって実質的に非接触の状態となり、ハブ部材２６を含む回転体部Ｒが固定体部Ｂに対して非接触状態で支持される。
【００３１】
本実施形態の場合、ラジアル流体動圧軸受部及びスラスト流体動圧軸受部における間隙に充填された潤滑剤５２は互いに共用される。スリーブ４０の開放端側は、スリーブ４０の内周とシャフト３４の外周との隙間が外側に向かって徐々に拡がるようにしたキャピラリーシール部ＴＳを構成している。ラジアル動圧溝ＲＢ１、ＲＢ２、スラスト動圧溝ＳＢ１，ＳＢ２を含む空間、キャピラリーシール部ＴＳの途中までには潤滑剤５２が満たされている。キャピラリーシール部ＴＳは、毛細管現象により潤滑剤５２が充填位置から外部へ漏出することを防止している。
【００３２】
上述のように構成される回転機器１０の製造方法を図４以降の図面に基づいて説明する。  本実施形態の回転機器１０の製造方法は、第１加工工程、第２加工工程、吹付工程、洗浄工程、組立工程を基本工程として構成されている。第１加工工程は、ベース部材１２に第１切削油剤を供給して軸受孔１２ｂを加工する。第２加工工程は、第１加工工程に連続した工程であって、ベース部材１２に第２切削油剤を供給してタップ孔を加工する。吹付工程は、軸受孔１２ｂとタップ孔の少なくとも一方に流体を吹き付けて切削屑や切削油剤等の加工残余物を除去する。洗浄工程は一連の加工が終了したベース部材１２を水洗等で洗浄する。組立工程は、ベース部材１２に軸受ユニット３０と回転体部Ｒを構成するハブ部材２６やシャフト３４等を組み付ける。上述した工程は、基本工程であり、本実施形態においては、図４に示すように、回転機器１０のパーティクルの低減をさらに効果的に行うために種々の工程を付加してもよい。
【００３３】
例えば、ベース部材１２に軸受孔１２ｂを形成する第１加工工程４０１に続いて、この第１加工工程４０１における加工後のベース部材１２に付着している第１切削油剤の湿潤性を増加させる第１加湿工程４０２を設けている。第１切削油剤の湿潤性を増加させることにより後工程での除去作業が容易になる。
【００３４】
第２加工工程４０３で加工されるタップ孔１２ｃ、タップ孔１２ｄ、タップ孔１２ｅ、タップ孔１２ｆが形成されたベース部材１２に高圧の空気を吹き付けて加工残余物を除去する空気噴射工程４０４、さらに高圧の液体を吹き付けて加工残余物を除去する液射工程４０５を設けている。なお、本実施形態では、空気噴射工程４０４と液射工程４０５を併せて吹付工程と称している。また、空気噴射工程４０４と液射工程４０５の実施順序は逆でもよい。第２加工工程４０３と空気噴射工程４０４との間に第２加湿工程を設けてもよい。この場合も第１加湿工程４０２と同様に、第２加工工程４０３で使用された第２切削油剤の除去を次工程で容易にできるようにする点で有効である。
【００３５】
ベース部材１２を洗浄する洗浄工程４０６が終了したら、ベース部材１２の気密性能を検査する気密測定工程４０７を設けてもよい。そして、組立工程４０８において、検査合格したベース部材１２に対して軸受ユニット３０と回転体部Ｒとを組み立てるようにしてもよい。
【００３６】
図４は、ＩＮ側で加工前のベース部材１２が投入され、第１加工工程４０１、第１加湿工程４０２、第２加工工程４０３、（第２加湿工程）、空気噴射工程４０４、液射工程４０５、洗浄工程４０６、気密測定工程４０７、組立工程４０８に搬送される。そして、組立が完了した回転機器１０を組立工程４０８のＯＵＴ側から排出する例を説明する。
【００３７】
図４において、組立工程４０８はクリーンルーム内に配置されている。クリーンルーム内には清浄空気が満たされ、相対的に陽圧に調整されている。前工程である洗浄工程４０６以前の工程は、相対的に負圧に調整されている部屋に設置している。組立工程４０８を陽圧とすることで、洗浄工程４０６以前の工程側でベース部材１２から剥離したパーティクルが空気中に浮遊してしまっている場合でも、組立工程４０８側に進入し難くしている。なお、気密測定工程４０７は、洗浄工程４０６と同じエリアで実施されてもよいし、組立工程４０８と同じエリアで実施されてもよい。
【００３８】
続いて、各工程を詳細に説明する。まず、第１加工工程４０１について説明する。  
ベース部材１２の略中央には軸受ユニット３０を取り付けるための円筒部１２ａが形成され、その内壁面が軸受孔１２ｂとなる。第１加工工程前のベース部材１２の略中央にはアルミダイカストで形成した軸受孔１２ｂに相当する孔が設けられている。第１加工工程４０１では、軸受孔１２ｂに相当する孔の内周側面を切削して所定の精度の軸受孔１２ｂに加工する。第１加工工程４０１には、被加工物であるベース部材１２を搬送する例えばベルトコンベア等の搬送手段が設けられ、第１加工工程４０１内に配置されたフライス盤やマシニングセンター等の加工装置間を順次搬送される。本実施形態では、第１加工工程４０１において、加工精度を良好に保つことを目的として、加工中の摩擦抑制と冷却のためにベース部材１２に第１切削油剤を供給して軸受孔１２ｂの内周面を加工する。例えば、第１切削油剤としては油を溶剤によって水に溶かした水溶性の切削油剤を用いることができる。なお、第１加工工程４０１は、円筒部１２ａの形成（軸受孔１２ｂに相当する孔の形成）および軸受孔１２ｂの仕上げ形成等を併せて行ってもよい。
【００３９】
第１加工工程４０１でベース部材１２に供給された第１切削油剤は、時間の経過とともに揮発成分が蒸発して残留成分の乾燥、固化が生じる。残留した第１切削油剤は固化すると除去するために多くの手間がかかる。また除去しきれないものが残り、パーティクルの原因となる。そこで、本実施形態のように揮発成分の蒸発を抑制するようにして第１加工工程４０１の間、ベース部材１２を搬送してもよい。具体的には、第１加工工程４０１の実施中にベース部材１２を容器５０１に収納して個別に搬送する。図５（ａ）は、本実施形態の回転機器１０の製造方法においてベース部材１２に形成される軸受孔１２ｂおよびタップ孔１２ｃ〜１２ｆの位置を説明すると共に、ベース部材１２を収納して搬送する容器５０１を説明する説明図である。容器５０１は略升形状であり、画成された周囲壁の内側にベース部材１２を収納して第１切削油剤の揮発成分の蒸発を抑える。なお、更に蓋を備えても良い。その場合、実際の加工処理が行われる直前に蓋が開放または除去され、加工の終了後直ちに蓋が閉められるようにすることが望ましい。この結果、第１切削油剤が原因となりパーティクルを軽減または抑制できる。なお、容器５０１は、例えば汎用プラスチックをモールド成形して形成できる。容器５０１の形状を一定に形成しうる点で好ましい。また、搬送手段でベース部材１２を搬送する際に、ベース部材１２が直接搬送手段に接触すると摺動等により微細な傷がついてしまう場合がある。一方、本実施形態のように、ベース部材１２を容器５０１に収納した状態で搬送することによって、このような損傷も排除できる点で容器５０１の利用は望ましい。
【００４０】
また、前述したように第１切削油剤の乾燥の影響を抑えることがパーティクルの低減に有効である。これに対応して、本実施形態に示すように第１加工工程４０１における加工後のベース部材１２に付着する第１切削油剤の湿潤性を増加させる第１加湿工程４０２を設けてもよい。第１加湿工程４０２では、液体を供給して第１切削油剤を濡らすことで乾燥を抑制する。容器５０１の使用と併せて第１加湿工程４０２による加湿を行うことで第１切削油剤の乾燥がより一層抑えられる。
【００４１】
ところで、第１加湿工程４０２で加える液体と第１切削油剤との親和性が低いと、第１切削油剤の乾燥の影響を抑える効果が十分得られない場合がある。これに対応して、第１加湿工程４０２は、ベース部材１２に付着した第１切削油剤に、第１切削油剤と非分離の性質を有する液体をさらに加えて濡らすようにしてもよい。例えば、第１切削油剤が水溶性の場合、第１切削油剤と非分離の性質を有する液体として純水が利用できる。この純水をミストやシャワーとして供給して濡らすことができる。また、第１切削油剤と非分離の性質を有する液体を吹き付けて濡らすようにしてもよい。その結果、第１切削油剤の乾燥が軽減される。
【００４２】
次に第２加工工程４０３について説明する。  
図５（ａ）に示すように、ベース部材１２の外壁部にはカバーをネジにより取り付けるためのタップ孔１２ｃが設けられる。図５（ａ）の場合、例えば７箇所にタップ孔１２ｃが設けられている。また、ベース部材１２の周辺部には回転機器１０をその搭載機器に取り付けるためのタップ孔１２ｅ、１２ｆが設けられる。図５（ａ）の場合、ベース部材１２の一方の側面に２個のタップ孔１２ｅが図示されている。また、符号のみで示すタップ孔１２ｆはベース部材１２の裏面側に形成されている。ベース部材１２において対称の位置にタップ孔１２ｅ、タップ孔１２ｆがそれぞれ２個形成されている。後述するが、タップ孔１２ｆはベース部材１２の下面から上方に向かって止まり孔として設けられ、タップ孔１２ｅはベース部材１２の側面から水平方向の止まり孔として設けられている。また、ベース部材１２の中央部にはアーム軸受部１６やボイスコイルモータ１８等を取り付けるためのタップ孔１２ｄが設けられる。第２加工工程４０３においても第１加工工程４０１と同様に、ベース部材１２は容器５０１に収納された状態でベルトコンベア等の搬送手段により連続的に個別搬送される。なお、図５（ａ）においては、図示を省略しているが、容器５０１は、タップ孔１２ｃ〜タップ孔１２ｆを形成するときに干渉しないようにタップが進入する進入口が形成されている。また、タップ孔１２ｃ〜タップ孔１２ｆの形成位置が容器５０１の構成壁に隠れないようにベース部材１２を容器５０１に支持するようにしてもよい。
【００４３】
図５（ｂ）は、図５（ａ）に示すベース部材１２の線分Ｐ−Ｑに沿う断面図である。回転機器１０を搭載機器に取り付ける際にはタップ孔１２ｅ、１２ｆを用いてネジ締めされる。タップ孔１２ｅ、１２ｆがベース部材１２を貫通して設けられた場合であって、タップ孔１２ｅやタップ孔１２ｆに加工屑等の加工残余物が残っていた場合、ネジ締めの際に加工残余物が回転機器１０の内部に押し出される可能性がある。内部に加工残余物が入り込むとパーティクルとなり性能低下や機能不全の原因になることがある。これに対応して、本実施形態の回転機器１０においては、タップ孔１２ｅ、１２ｆは止まり孔としてもよい。
【００４４】
ところで、単純にタップ孔１２ｅやタップ孔１２ｆを止まり孔形状にしてしまうと、タップ孔１２ｅやタップ孔１２ｆの内部に入り込んだバリや切り粉等の加工残留物の除去が困難になるおそれがある。これに対応して、図５（ｂ）に示すように、ベース部材１２の側面に開穿したタップ孔１２ｅと、ベース部材１２の下面に開穿したタップ孔１２ｆとを止まり孔とすると共に、タップ孔１２ｅとタップ孔１２ｆとを奥の領域で一部が連通するようにしてもよい。この結果、タップ孔の内部に存在する加工残留物は、例えばタップ孔１２ｅ側から圧縮空気を供給することによりタップ孔１２ｆ側から容易に排出できる。
【００４５】
ところで、第２加工工程４０３に投入前のベース部材１２のタップ孔１２ｃ、１２ｄ、１２ｅ、１２ｆに該当する部分にはアルミダイカストで形成した下孔が設けられている。第２加工工程４０３では、ベース部材１２に形成された下孔を加工ガイドとして所定のタップ孔１２ｃ、１２ｄ、１２ｅ、１２ｆを形成する。第２加工工程４０３では、例えばタッピングマシンを用いてタップ孔１２ｃ、１２ｄ、１２ｅ、１２ｆを形成できる。第２加工工程４０３では、加工精度を良好に保つようにベース部材１２に対して第２切削油剤を供給してタップ孔１２ｃ、１２ｄ、１２ｅ、１２ｆを加工してもよい。第２切削油剤は、例えば第１切削油剤と同様に油を溶剤によって水に溶かした水溶性の切削油剤とすることができる。
【００４６】
従来、第１加工工程および第２加工工程のように工程が独立している場合、いわゆるバッチ式で工程設計することが考えられる。このようなバッチ式の場合、被加工品であるベース部材１２は、第１加工工程の後に所定の数量を単位に一時保管され、第２加工工程の開始前に所定の数量を一時保管場所から工程側に搬送する等の作業を行うことが一般的である。ベース部材１２が保管される際には搬送手段による積み替え作業が伴うため、傷を生じる等の課題がある。これに対応して、第２加工工程４０３は、第１加工工程４０１からベース部材１２が個々に搬送されて、所定の加工を行うようにしてもよい。この場合、ベース部材１２は、第１加工工程４０１に続いて容器５０１に個別収納された状態で搬送されることが望ましい。従来のように第１加工工程４０１と第２加工工程４０３との間でベース部材１２が保管されないので、保管時の傷付きやパーティクルの再付着等の問題が回避される。
【００４７】
第１加工工程４０１から第２加工工程４０３に搬送される時間が長いと、第１加工工程４０１でベース部材１２に塗布された第１切削油剤の残留成分が乾燥して固化する可能性が高くなる。これに対応して、第２加工工程４０３は、第１加工工程４０１における加工後にベース部材１２に付着した第１切削油剤が固化する前に実行されるようにしてもよい。つまり、第２加工工程４０３は、第１加工工程４０１でベース部材１２に塗布された第１切削油剤の濡れ状態が所定基準値以上であるうちに実行されるようにすることが望ましい。具体的には、ベース部材１２の表面積のうち濡れ面積が８割を下回らない内に第２加工工程４０３を実行することが望ましい。
【００４８】
第１加工工程４０１から第２加工工程４０３に搬送される時間の条件は、実験により求めることができる。例えば、第２加工工程４０３は、第１加工工程４０１における加工後１０分以内に実行するようにすれば、第１切削油剤の固化が実用上問題とならないことが、発明者の実験により確認されている。より好ましくは、第２加工工程４０３は、第１加工工程４０１における加工後３分以内に実行するようにしてもよい。この場合、第１切削油剤の残留による課題が一層軽減される。
【００４９】
なお、第１加工工程４０１の後に実施する第１加湿工程４０２を設けることにより、ベース部材１２の第１切削油剤の湿潤性の調整が可能になる。その結果、第１加工工程４０１から第２加工工程４０３に搬送される時間の条件に自由度を持たせることが可能になり工程設計のバリエーションを広げることができる。
【００５０】
次に吹付工程の１つである空気噴射工程４０４について説明する。  
第２加工工程４０３でタップ孔１２ｃ〜１２ｆを加工されたベース部材１２は空気噴射工程４０４に搬送される。空気噴射工程４０４では、タップ孔１２ｃ〜１２ｆに対応して配置される噴射ノズルから高圧の空気を噴射してタップ孔１２ｃ〜１２ｆの内部およびその周辺に残留する切り屑やバリ等の加工残留物を吹き飛ばす。第１加工工程４０１や第２加工工程４０３で生じた加工の切り粉やバリが概ね除去できるのでパーティクルの低減に有効である。なお、第２加工工程４０３における加工後にベース部材１２に付着する第２切削油剤の湿潤性を増加させる第２加湿工程を空気噴射工程４０４の前に設けてもよい。この第２加湿工程でも第１加湿工程４０２と同様に、液体を供給して第２切削油剤を濡らすことで乾燥を抑制し、後続する空気噴射工程４０４で噴射される高圧空気による加工残留物の除去を効果的に実現する。第２加湿工程で供給する液体は、第２切削油剤の成分に応じて適宜選択することが望ましいが、第２切削油剤が第１切削油剤と同様に水溶性の場合は純水等が使用できる。
【００５１】
次に図６（ａ）、図６（ｂ）に基づき吹付工程の１つである液射工程４０５について説明する。  
空気噴射工程４０４の後、ベース部材１２は液射工程４０５に搬送される。液射工程４０５では、タップ孔１２ｃ、１２ｄに対応する位置に液射ノズル６０１が配置される。また、タップ孔１２ｅに対応した位置に液射ノズル６０２が配置され、タップ孔１２ｆに対応した位置に液射ノズル６０３が配置されている。各液射ノズル６０１、６０２、６０３から例えば高圧の純水がタップ孔１２ｃ、１２ｄ、１２ｅ、１２ｆに向けて噴射され、第１加工工程４０１や第２加工工程４０３で生じた加工の切り粉やバリ等の加工残留物を排除する。液射工程４０５は、噴射液体の大きな運動エネルギーを利用した効率的な加工残留物の除去が可能であり、パーティクルの低減を効果的かつ高い信頼性で実施できる。
【００５２】
液射ノズル６０１、６０２、６０３とタップ孔１２ｃ、１２ｄ、１２ｅ、１２ｆとの間隔が広いと、噴射する純水の運動エネルギーが低下して、加工残留物の除去効率が低下する場合がある。加工残留物を所望のレベルまで除去できるような液射ノズル６０１、６０２、６０３とタップ孔１２ｃ、１２ｄ、１２ｅ、１２ｆとの間隔は実験により求められる。例えば、液射工程４０５は、液射ノズル６０１、６０２、６０３とタップ孔１２ｃ、１２ｄ、１２ｅ、１２ｆとの間隔が２ｍｍ以下の範囲を維持する様に液射ノズル６０１、６０２、６０３とベース部材１２の少なくともいずれかを移動させて実行するようにしてもよい。このような設定にすることにより、加工残留物が実用上問題とならないレベルまで除去しうることが、発明者の実験により確認されている。
【００５３】
一方で、液射ノズル６０１、６０２、６０３とタップ孔１２ｃ、１２ｄ、１２ｅ、１２ｆとの間隔が狭いと、液射ノズル６０１、６０２、６０３がベース部材１２と接触して傷を付ける可能性が高くなる。これに対応して液射工程４０５は、液射ノズル６０１、６０２、６０３とタップ孔１２ｃ、１２ｄ、１２ｅ、１２ｆとの間隔が０．５ｍｍ以上の範囲を維持するようにしてもよい。液射ノズル６０１、６０２、６０３とベース部材１２との接近限界を定めておくことで両者の接触によるベース部材１２の損傷を排除または軽減できる。
【００５４】
また、液射工程４０５において、ベース部材１２に純水を噴射する時間が短いと加工残留物を十分除去できない場合がある。これに対応して、液射工程４０５は、液射ノズル６０１、６０２、６０３がベース部材１２に純水を噴射する時間は２秒以上として実行するようにしてもよい。このような選定で液射工程４０５を実行することで加工残留物が実用上問題とならないレベルまで除去しうることが、発明者の実験により確認されている。一方、ベース部材１２に純水を吹き付けている時間が長いと作業時間が長くなり、作業効率が低下するおそれがある。これに対応して、液射工程４０５は、液射ノズル６０１、６０２、６０３がベース部材１２に液体を吹き付けている時間は１５秒以下として実行するようにしてもよい。このような設定で液射工程４０５実行することで加工残留物の効率的な除去と作業の効率化の両立が図れる。
【００５５】
上述したような噴射時間内で加工残留物を除去しうるように、本実施形態の回転機器１０の製造方法においては、液射ノズル６０１、６０２、６０３の内径は０．５〜２ｍｍの範囲とし、水圧を０．１ＭＰａ〜０．５ＭＰａの範囲に調整して実行するようにしている。このような設定することにより作業性の低下を抑えながら加工残留物が実用上問題とならないレベルまで除去しうる点を発明者らは実験により確認している。
【００５６】
ところで、液射工程４０５において、ベース部材１２の上下方向に貫通するタップ孔１２ｃ、１２ｄの一方のみから純水を噴射するようにすると、反対側まで加工残留物を除去するために必要な作業時間が長くなり、作業性が低下するおそれがある。そこで、本実施形態の液射工程４０５は、１のタップ孔に対して２以上の液射ノズルを用いて異なった方向から純水を噴射するようにしてもよい。例えば、ベース部材１２の上面と下面のそれぞれに対応する方向に設けた液射ノズルから純水を吹き付けるようにしてもよい。この結果、加工残留物の除去効率を向上できる。また、図６（ｂ）に示すように、止まり孔形式のタップ孔１２ｅと止まり孔形式のタップ孔１２ｆとが一部で連通している場合も、それぞれのタップ孔の開口側に液射ノズルを配置して純水を噴射することにより、加工残留物の排除が良好にできる。なお、このようにタップ孔の両側から純水を噴射する場合、互いの液射ノズルの軸線が同一線上に乗ると、加工残留物の排出効率が低下するおそれがある。そこで互いの液射ノズルの軸線が同一線上に乗らないように配置することが望ましい。
【００５７】
このように、液射工程４０５において、ベース部材１２の上面、下面および側面に設けたタップ穴に残留する加工残留物の効率的に同時除去を行うために、ベース部材１２の上面と下面と側面のそれぞれに対応する異なった３方向に設けた液射ノズルから純水を噴射するようにしてもよい。本実施形態の回転機器１０の製造方法においては、図６（ａ）に示すように、ベース部材１２の上面に９箇所と下面に１３箇所（３箇所は不図示）と、側面に４箇所（３箇所は不図示）の液射ノズル６０１、６０２、６０３から純水を同時に噴射するようにしている。このように液射ノズルを配置することで、効率的な加工残留物の除去ができる。また、別の例では、１つまたは複数の液射ノズルを移動させながら順次タップ孔の加工残留物の除去を行うようにしてもよい。逆に、液射ノズルの位置は固定で、ベース部材１２側を平行移動させたり、回転させたりしながら順次タップ孔の加工残留物の除去を行うようにしてもよい。この場合、液射ノズルの数を削減可能になり液射工程４０５の設備の簡略化が可能になる。
【００５８】
次に洗浄工程４０６について説明する。  
ベース部材１２には、各種無機材料に由来する無機粒子系パーティクルと、各種有機物に由来する炭化水素系パーティクルが複合して付着している可能性がある。したがって、洗浄工程４０６では、それぞれのパーティクルに適した除去方法を採用している。なお、図７は、本実施形態の洗浄工程４０６および組立工程４０８を連続する領域で実施する例を示している。そして、洗浄工程４０６が実行される作業領域１００は、組立工程４０８が実行される作業領域２００と簡易隔壁３００により実質的に分離され、作業領域２００は作業領域１００に対して陽圧になるように調整されている。作業領域１００および作業領域２００は、所定レベル以上のクリーンルームとされることが望ましい。作業領域２００側を陽圧にすることによりパーティクルの排除処理が行われている洗浄工程４０６に存在する可能性のある浮遊パーティクルが後工程である組立工程４０８側に移動することを抑制している。
【００５９】
本実施形態の洗浄工程４０６は、図７に示すように、アルカリ洗浄工程１０４、第１純水洗浄工程１０６、第２純水洗浄工程１０８、スプレー洗浄工程１１０、水切工程１１２、乾燥工程１１４を含んでいる。
【００６０】
前工程と洗浄工程とが存在する場合、それぞれの工程を独立に設けるいわゆるバッチ式の処理を実施する方法が考えられる。その場合、ベース部材を前工程での処理の後に所定の数量を単位として一時的に保管したり、洗浄工程の開始前に所定の数量を一時保管場所から工程側に搬送する等の作業を行うことが一般的である。この場合、ベース部材１２が保管中やその搬送中に傷付いてしまうおそれがある。そこで、洗浄工程４０６は、液射工程４０５と連続して実行するようにしてもよい。このように、液射工程４０５と洗浄工程４０６との間でベース部材１２が一時保管されないようにすることで、保管時の傷付きなどのデメリットが回避される。
【００６１】
ところで、従来の液体を用いた洗浄処理は、ベース部材１２等の構成部品を数十〜数百個単位でカゴなどに重ねて投入し、洗浄槽に漬して一定時間静置して超音波を作用させる場合が多かった。この場合、構成部品材同士の重なる部分では超音波が当たりづらいためパーティクルの除去率が極めて低下する。またカゴの中心領域にある構成部品のパーティクルの除去率も低下する。さらには、洗浄槽中には超音波の強い領域と弱い領域が生じてしまうので、弱い領域に漬された構成部品のパーティクルの除去率が低下し、構成部品ごとに超音波の作用に差が生じてパーティクルの除去ムラが大きかった。このため、全体の洗浄時間を長くする必要があり作業効率が悪かった。さらに多くの構成部品が密集しているので一旦除去されたパーティクルが構成部品近傍に浮遊し続け、構成部品に再付着することもあった。
【００６２】
これに対応して、本実施形態の洗浄工程４０６は、ベース部材１２が所定の間隔で連続搬送されながら洗浄するようにしている。つまりベース部材１２は個々に搬送手段１０２上に載置されて搬送されながら洗浄される。そして、各洗浄槽中を一定方向に移動させながら超音波を作用させている。また、個々のベース部材１２が同じ超音波領域を通過するので、各ベース部材１２に対する超音波の作用の差は殆どなくなり、パーティクルの除去ムラは抑制される。
【００６３】
搬送手段１０２上にベース部材１２を載置したのみで搬送する場合、ベース部材１２が搬送時の振動や水流等により搬送手段１０２上を滑って移動して他のベース部材１２と所定の間隔を維持できない場合が生じる。また、その移動が大きい場合はベース部材１２同士が衝突して傷を生じることがある。そこで、本実施形態の洗浄工程４０６に示すように、搬送手段１０２に所定の間隔で固定された支持台８０１を設け、その支持台８０１にベース部材１２を載置して搬送してもよい。
【００６４】
図８は本実施形態の搬送手段１０２の一例を示している。図８は、搬送手段１０２として平行に設けたループ状のチェーン１０２ａを採用し、矢印Ａ方向に駆動するチェーン１０２ａの間に支持台８０１を所定の間隔で固定している例を示している。つまり、矢印Ａ方向にチェーンが移動することに伴い、支持台８０１に載置されたベース部材１２が搬送される。ベース部材１２は搬送されながらアルカリ洗浄工程１０４、第１純水洗浄工程１０６、第２純水洗浄工程１０８、スプレー洗浄工程１１０、水切工程１１２、乾燥工程１１４を順次実行される。支持台８０１は、例えば汎用プラスチックをモールド成形にて形成できる。この場合、支持台８０１の形状を一定に形成しうる点で好ましい。
【００６５】
図９（ａ）は、ベース部材１２とベース部材１２を載置する支持台８０１の斜視図を示す。この支持台８０１は、ベース部材１２を載置した状態で少なくとも軸受孔１２ｂとタップ孔１２ｃ〜１２ｆのいずれか一方の形成位置を回避した位置に支持台８０１の内底面とベース部材１２の被支持面との間に空間を形成するような架橋部を設けている。具体的には、支持台８０１はベース部材１２を環囲する枠部８０１ａと、枠部８０１ａの内側の離間した複数の点に亘って架設されている架橋部８０１ｂと、を有するように構成してもよい。また、支持台８０１は、ベース部材１２を載置した状態で、ベース部材１２の上面を環囲するように覆う爪部分を設けてベース部材１２が搬送途中に支持台８０１から外れないようにしてもよい。この場合、図７に示すように洗浄工程４０６中で傾斜搬送される場合でもベース部材１２が支持台８０１から脱落することが防止できて搬送信頼性が向上できる。
【００６６】
また、支持台８０１がベース部材１２を載置した状態で、軸受孔１２ｂやタップ孔１２ｃ、タップ孔１２ｄ、タップ孔１２ｆを塞ぐような位置に架橋部８０１ｂが設けられていると、軸受孔１２ｂやタップ孔１２ｃ、１２ｄ、１２ｆの洗浄時間が長くなり作業効率が低下する。そこで、本実施形態の支持台８０１は、ベース部材１２を載置した状態で、少なくとも軸受孔１２ｂとタップ孔１２ｃ、１２ｄ、１２ｆのいずれかを避ける位置に架橋部８０１ｂを設けるようにしてもよい。同様に、ベース部材１２の側面に形成されたタップ孔１２ｅが枠部８０１ａによって塞がれると洗浄効率が低下する。したがって、枠部８０１ａには、タップ孔１２ｅの形成位置を避ける洗浄開口（不図示）を形成すること望ましい。
【００６７】
なお、枠部８０１ａと架橋部８０１ｂで構成される支持台８０１は、経時変化により変形してベース部材１２の載置が困難になることがある。そこで、本実施形態の支持台８０１は、架橋部８０１ｂに直交したり角度を持って交わるような交差部８０１ｃを形成してもよい。この場合、支持台８０１の剛性を容易に向上できて変形を抑えることができる。
【００６８】
ところで、洗浄工程４０６において、支持台８０１の表面の接触角が小さいと洗浄液で濡れ易くなる。つまり水弾きが低下して乾燥時間が長くかかり作業効率が低下するおそれがある。そこで、本実施形態の洗浄工程４０６において、支持台８０１の表面は、接触角が鈍角である材料から形成することが望ましい。この結果、支持台８０１の水弾き性が向上し、載置するベース部材１２からの洗浄液の除去が容易になり、結果としてベース部材１２の乾燥を促進できる。
【００６９】
以下、洗浄工程４０６の具体例について説明する。  
まず、アルカリ洗浄工程１０４は、アルカリイオン水１１６が満たされたアルカリ洗浄槽１１８で、例えば超音波発生器１２０により周波数４０ｋＨｚの超音波を発生してベース部材１２にアルカリ超音波洗浄が実施される。アルカリ洗浄工程では炭化水素系パーティクルの除去を行う。本実施形態においてはアルカリイオン水のｐＨ１０〜ｐＨ１３で溶存空気を２〜５％以下としている。効率よく炭化水素系のパーティクルを除去しうる点で有利である。本実施形態においては、アルカリ洗浄槽１１８内のＩＮ側である端部Ｌにアルカリイオン水１１６を吸い上げるポンプ１２２を設けている。このポンプ１２２で吸い上げられたアルカリイオン水１１６はフィルタ（不図を省略）により浮遊するパーティクル等の異物が捕捉されてアルカリ洗浄槽１１８のＯＵＴ側の端部Ｒに設けられた吐出ノズル１２４から吐出される。この浄化処理によりアルカリ洗浄槽１１８内にはＯＵＴ側からＩＮ側にベース部材１２の搬送方向と逆方向の水流が生じる。したがって、一旦ベース部材１２から除去されたパーティクルはベース部材１２の搬送方向とは逆方向の水流に乗ってベース部材１２付近から遠ざかり、フィルタで捕捉される。その結果、アルカリ超音波洗浄中のパーティクルの再付着の可能性を低くすることができる。また、浄化処理によって常時清浄度の高い洗浄液で効率的なパーティクル除去処理が実行できる。
【００７０】
本実施形態では、アルカリ洗浄工程１０４が終了したベース部材１２は、第１純水洗浄工程１０６を実施する純水１２８が満たされた第１純水洗浄槽１２６に搬送される。第１純水洗浄工程１０６では少なくとも２種類以上の周波数の超音波を用いて純水超音波洗浄を施す。例えば、本実施形態では、第１純水洗浄槽１２６において洗浄開始側より周波数４０ｋＨの超音波を発生する超音波発生器１３０、次に中間の周波数６８ｋＨｚの超音波を発生する超音波発生器１３２、さらに高い周波数１３２ｋＨｚの超音波を発生する超音波発生器１３４が配置している。このように、洗浄終了側の方が高い周波数となる多段の純水超音波洗浄を施すようにしている。洗浄のムラを生じにくい点で有利である。なお、第１純水洗浄工程１０６においても第１純水洗浄槽１２６内のＩＮ側である端部Ｌに純水１２８を吸い上げるポンプ１３６を設けている。このポンプ１３６で吸い上げられた純水１２８はフィルタ（不図示）により浮遊するパーティクル等の異物が捕捉されて第１純水洗浄槽１２６のＯＵＴ側の端部Ｒに設けられた吐出ノズル１３８から吐出される。この場合もアルカリ洗浄槽１１８におけるものと同様な効果が得られる。すなわち、ベース部材１２に対するパーティクルの再付着の抑制と浄化処理による清浄度の向上が可能となり、効率的なパーティクル除去処理が実行できる。
【００７１】
第１純水洗浄工程１０６が終了したベース部材１２は第２純水洗浄工程１０８に搬送される。第２純水洗浄工程１０８では、ベース部材１２に純水の強い噴流をあてて残留したパーティクルを洗浄除去する。一層洗浄のムラを低減しうる点で有利である。第２純水洗浄槽１４０の底部には噴流洗浄ノズル１４２が配置され、この噴流により発生した水流によりベース部材１２に残留したパーティクルを洗浄除去する。このように強い水流を発生させて連続的にベース部材１２の表面に作用力を与えることにより、第１純水洗浄工程１０６の超音波洗浄によって除去し残したパーティクルや第１純水洗浄槽１２６中を移動中に再付着したパーティクルを第２純水洗浄槽１４０の中で再度剥離できる。なお、第２純水洗浄槽１４０のＩＮ側である端部Ｌ及びＯＵＴ側である端部Ｒに純水１２８を吸い上げるポンプ１４４を設けている。これらのポンプ１４４で吸い上げられた純水１２８は、フィルタ（不図示）により浮遊するパーティクル等の異物が捕捉され噴流洗浄ノズル１４２から吐出される。この浄化処理により第２純水洗浄槽１４０内には中央からＩＮ側及びＯＵＴ側に向かう破線矢印で示す水流が生じる。その結果、噴流によってベース部材１２から剥離したパーティクルは、浄化処理による水流に乗ってベース部材１２から遠ざかる方向に移動する。したがって、一旦ベース部材１２から除去されたパーティクルの再付着の可能性を低くすることができる。また、噴流洗浄ノズル１４２からの噴流はパーティクルが除去された清浄な純水１２８となり清浄効率が向上する。
【００７２】
図７の工程図において、第２純水洗浄槽１４０が終了したベース部材１２は、スプレー洗浄工程１１０に搬送される。スプレー洗浄工程１１０では、ベース部材１２の周囲に配置されたスプレーノズル１４６から純水と空気の混合体１４８を吹き付けて吹付洗浄を施す。純水を空気と混合することで純水を細かな粒とし、かつ高速でスプレーすることで大きな運動エネルギーを与えることができる。本実施形態においては、純水粒子の粒径を２０〜８０μｍとし、噴出速度を２０〜８０ｍ／ｓとしたスプレー洗浄工程１１０を施すことにより回転機器１０のＴＡ障害の発生確率について必要な水準を確保できるという実験結果を得た。
【００７３】
スプレー洗浄工程１１０が終了したベース部材１２は、水切工程１１２に搬送される。この水切工程１１２では、エアノズル１５０からクリーンエアー１５２をベース部材１２に吹き付けて水切りする。この水切工程１１２でもベース部材１２を回転させたり揺動させてもよく、さらに効率的な水切りができる。
【００７４】
水切工程１１２が終了したベース部材１２は、乾燥工程１１４に搬送される。乾燥工程１１４では、温風と遠赤外線ヒータ１５４によりベース部材１２全体の乾燥を行う。この乾燥工程１１４でもベース部材１２を回転させたり揺動させてもよく、さらに効率的な乾燥ができる。
【００７５】
第１加工工程４０１と第２加工工程４０３と空気噴射工程４０４と液射工程４０５と洗浄工程４０６とは、いずれかを独立に設けるいわゆるバッチ式の工程で実施する方法が考えられる。しかし、このようなバッチ式の製造方法は各工程の前後で中間製品を保管することが一般的である。中間製品を保管するとその過程で中間製品に傷や異物が付着することがある。そのため、本実施形態のように、第１加工工程４０１、第２加工工程４０３、空気噴射工程４０４、液射工程４０５、洗浄工程４０６においては、ベース部材１２を連続して個別搬送するようにすることが望ましい。
【００７６】
第１加工工程４０１と第２加工工程４０３と空気噴射工程４０４と液射工程４０５と洗浄工程４０６とを連続した直線ライン状に設けると、工程が長くなり工場内での配置が困難になるおそれがある。これに対応して、第１加工工程４０１と第２加工工程４０３と空気噴射工程４０４と液射工程４０５と洗浄工程４０６とは途中で折り返して連続してベース部材１２が個々に搬送されて実行するようにしてもよい。この結果、工場内での配置が容易になる。
【００７７】
次に気密測定工程４０７について説明する。  
乾燥工程１１４が終了したベース部材１２は、気密測定工程４０７へと搬送される。なお、図７においては、浮遊パーティクルが実質的に存在しない作業領域２００側で行われることが望ましいが、工程設計に応じて作業領域１００側で実施されてもよい。  
ベース部材１２は素材や加工の不具合により上面と下面間の気密性が十分に確保できないことがある。そこで、本実施形態の回転機器１０の製造方法においては、洗浄工程４０６と組立工程４０８との間に気密測定工程４０７を設けている。気密測定工程４０７は、例えば、圧力チャンバーを用いて実施できる。ベース部材１２においてハブ部材２６が設けられる側の第１面側を含んで画成した空間に大気圧より高い圧力の気体、例えばヘリウムガスを満たす。そして、所定時間経過する間のその加圧空間の圧力の低下速度を測定することで実施できる。この際、軸受孔１２ｂやタップ孔１２ｄは閉塞部材により塞いでおく。このように、回転機器１０に組立てる前のベース部材１２の段階で、予め定めた低下速度の上限値より低下速度が高い異常品を除去するので、組立後の規格外れ品の数を相対的に少なくできるので、作業効率が向上できる。
【００７８】
次に組立工程４０８について説明する。  
気密測定工程４０７が終了したベース部材１２は、組立工程４０８へと搬送される。組立工程４０８では、洗浄後のベース部材１２に、軸受ユニット３０、固定体部Ｓや回転体部Ｒを構成する部材が組み付けられて、記録ディスク２０を回転駆動する部分のみの状態の回転機器１０が製造される。このとき、組立工程４０８が実施される作業領域２００は陽圧になっているので、外部からのパーティクルの進入が抑制され、清浄度の高い状態で組立作業が実施できる。この後さらに、記録ディスク２０をハブ部材２６に載置し、磁気ヘッド２４、スイングアーム２２、アーム軸受部１６、ボイスコイルモータ１８及び制御回路、その他必要な部材を組み付けて回転機器１０の組立を終了する。このような記録ディスク２０等の最終組み付け作業は、組立工程４０８で行ってよいし、他の所定清浄度のクリーンルーム内で実施してもよい。
【００７９】
組立工程４０８は、図７に示すように洗浄工程４０６と連続して実行されるようにしてもよい。さらに第１加工工程４０１、第２加工工程４０３、吹付工程（空気噴射工程４０４、液射工程４０５）、洗浄工程４０６、組立工程４０８は連続してベース部材１２が個々に搬送されながら実行されるようにしてもよい。さらに、第１加湿工程４０２、第２加湿工程、気密測定工程４０７等も連続してベース部材１２が個々に搬送されながら実行されるようにしてもよい。この結果、ベース部材１２を保管することに起因する課題が軽減される。
【００８０】
なお、図１０は、従来の製造方法で製造されたベース部材上に、軸受ユニット３０と、回転体Ｒとを組み込んだ回転機器で、１平方ｃｍ当たりの０．５μｍ以上のパーティクルの数を示すＬＰＣを表している。被検体数５台の回転機器の清浄度ＬＰＣは５０００個から１００００個の間にバラツキ、安定して８０００個以下とすることが難しいことが分かる。これに対して、図１１は、図４に示す本実施形態の製造方法で製造されたベース部材１２上に軸受ユニット３０と、回転体Ｒ等を組み込んだ回転機器１０のＬＰＣである。この場合、被検体数３台について回転機器は、１平方ｃｍ当たりの０．５μｍ以上のパーティクルの数を示すＬＰＣは概ね２０００個以下に低減されており、バラツキも小さいという結果が得られた。
【００８１】
このように、ＬＰＣが５０００個から１００００個程度である従来の製造方法で得られる回転機器では、個体ごとのパーティクル数のバラツキが大きい。このため回転機器の検査工程でパーティクルを検査する必要があり、パーティクル数の多いものが発見された場合には、そのままでは出荷できない。この場合には例えばパーティクルを拭き取るなど特別のパーティクル除去工程を追加することになり、製造の手間が増大していた。またこの場合に、ＴＡ障害の確率を下げるためにディスクの回転速度を低く抑えて使用するなどの対応をとることがあり、データの読み出しが遅くなることもあった。これに対し、本実施形態の製造方法を用いて製造した回転機器１０は、ＬＰＣを２０００個以下にすることができる。つまり、個体ごとのパーティクル数のバラツキが小さく抑えられる。その結果、特別にパーティクル除去の工程を加える必要がなく、手間が軽減される。また、ディスクの回転速度を低く抑えて使用する必要もなくなり、高性能の回転機器１０を提供できる。
【００８２】
前述した回転機器１０の製造方法において、ベース部材１２の移動速度を調整して洗浄時間を延ばすことで、回転機器１０のＬＰＣを１５００個以下にすることもできる。同様の手段により回転機器のＬＰＣを１０００個以下とすることもできる。このようなＬＰＣの値のコントロールは、ＬＰＣの値のコントロールに必要とされる工数や作業効率とパーティクル除去に必要となる工数や作業効率を比較し、効率が向上するように調整することが望ましい。
【００８３】
上述した実施形態では、回転機器１０の一例としてシャフト回転タイプの回転機器１０を例にとって説明したが、シャフト固定タイプの回転機器等他の構造の回転機器の製造にも適用可能であり、本実施形態と同様な効果を得ることができる。
【００８４】
本発明は、上述の実施例に限定されるものではなく、当業者の知識に基づいて各種の設計変更等の変形を加えることも可能である。各図に示す構成は、一例を説明するためのもので、同様な機能を達成できる構成であれば、適宜変更可能であり、同様な効果を得ることができる。
【００８５】
以上、実施の形態にもとづき本発明を説明したが、実施の形態は、本発明の原理、応用を示しているにすぎないことはいうまでもなく、実施の形態には、請求の範囲に規定された本発明の思想を逸脱しない範囲において、多くの変形例や配置の変更が可能であることはいうまでもない。
【符号の説明】
【００８６】
１０  回転機器、  １２  ベース部材、  １２ｂ  軸受孔、  １２ｃ，１２ｄ，１２ｅ，１２ｆ  タップ孔、  Ｒ  回転体部、  ２０  記録ディスク、  ２６  ハブ部材、  ３０  軸受ユニット、  １０２  搬送手段、  ４０１  第１加工工程、  ４０２  第１加湿工程、  ４０３  第２加工工程、  ４０４  空気噴射工程、  ４０５  液射工程、  ４０６  洗浄工程、  ４０７  気密測定工程、  ４０８  組立工程、  ５０１  容器、  ８０１  支持台、  ８０１ｂ  架橋部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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