(57)【要約】【課題】検査対象物の表面や欠陥の形状に関わらず、欠陥を精度良く検出できるようにする。【解決手段】検査対象物の表面に生成される照射パターンが少なくとも十字形状及びリング形状となる２種類以上のパターン光を発光部６０１から検査対象物の表面に照射する。そして、所定の方向に走査しながら前記検査対象物の表面にパターン光を照射するようにする。一方、撮像部６０２は、照射されたパターン光により生成される照射パターンを含む画像を撮影し、画像処理部６０３は、前記撮影された画像に含まれる照射パターンの形状の変化に基づいて前記検査対象物の表面の欠陥を検出する。【選択図】図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
検査対象物の表面に生成される照射パターンの形状が異なる複数種類の光を所定の方向に走査しながら前記検査対象物の表面に照射する照射手段と、
前記照射手段によって照射された光により生成される照射パターンを含む画像を撮影する撮影手段と、
前記撮影手段によって撮影された画像に含まれる照射パターンの形状の変化に基づいて前記検査対象物の表面の欠陥を検出する検出手段とを有することを特徴とする表面状態検査装置。
【請求項２】
前記照射手段は、少なくとも前記撮影手段の画素の配列と平行な輪郭部分を含む形状の照射パターンを生成する光を照射することを特徴とする請求項１に記載の表面状態検査装置。
【請求項３】
前記照射手段は、少なくとも輪郭部分の任意の点における法線ベクトルの方向が連続的もしくは断続的に異なる形状の照射パターンを生成する光を照射することを特徴とする請求項１または２に記載の表面状態検査装置。
【請求項４】
前記照射手段は、少なくとも、十字形状の照射パターンを生成する光と、リング形状の照射パターンを生成する光とを照射することを特徴とする請求項１または２に記載の表面状態検査装置。
【請求項５】
前記照射手段は、生成される照射パターンがアレイ状に配列されるように複数種類の光を前記検査対象物の表面に照射することを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載の表面状態検査装置。
【請求項６】
前記照射手段は、レーザ光源から光を照射することを特徴とする請求項１〜５の何れか１項に記載の表面状態検査装置。
【請求項７】
前記照射手段は、発振波長の異なる複数のレーザ光源から光を照射することを特徴とする請求項６に記載の表面状態検査装置。
【請求項８】
前記照射手段は、２次元フォトニック結晶面発光レーザを用いた光源から光を照射することを特徴とする請求項６に記載の表面状態検査装置。
【請求項９】
検査対象物の表面に生成される照射パターンの形状が異なる複数種類の光を所定の方向に走査しながら前記検査対象物の表面に照射する照射工程と、
前記照射工程において照射された光により生成される照射パターンを含む画像を撮影する撮影工程と、
前記撮影工程において撮影された画像に含まれる照射パターンの形状の変化に基づいて前記検査対象物の表面の欠陥を検出する検出工程とを有することを特徴とする表面状態検査方法。
【請求項１０】
検査対象物の表面に生成される照射パターンの形状が異なる複数種類の光を所定の方向に走査しながら前記検査対象物の表面に照射する照射工程と、
前記照射工程において照射された光により生成される照射パターンを含む画像を撮影する撮影工程と、
前記撮影工程において撮影された画像に含まれる照射パターンの形状の変化に基づいて前記検査対象物の表面の欠陥を検出する検出工程とをコンピュータに実行させることを特徴とするプログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば検査対象物の表面を光学的に検査するために用いて好適な表面状態検査装置、表面状態検査方法及びプログラムに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、例えば車両の塗装面の表面状態といった各種工業製品の表面の凹凸欠陥を、非接触及び非破壊により光学的に検査する種々な方法が開発されている。例えば特許文献１に記載の技術によれば、まず、検査対象物の表面に対して、明暗の境界が生じるように縞模様の照明を行う。そして、明暗の境界を検査対象物の表面に対して移動させると凹凸欠陥の部分で明暗が反転する現象が生じ、撮像している明暗の画像が変化することにより凹凸欠陥を検出している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００１−３４９７１６号公報
【非特許文献】
【０００４】
【非特許文献１】Ｎａｔｕｒｅ，Ｖｏｌ．４４１，ｐ．９４６，２００６
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記の特許文献１で開示されている技術にあっては、検査対象物の表面に存在する凹凸欠陥の傾斜角度によっては、凹凸欠陥による影が生じず、明暗に反転が生じない場合がある。また、検査対象物の表面が曲面の場合には、明暗の境界線を移動させると、検査表面の湾曲に従って、明暗の境界線も湾曲してしまい、この境界線の湾曲を凹凸欠陥として誤検出してしまう。このように検査表面や凹凸欠陥の形状によって欠陥検出の精度が低下してしまうという問題点がある。
【０００６】
本発明は前述の問題点に鑑み、検査対象物の表面や欠陥の形状に関わらず、欠陥を精度良く検出できるようにすることを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の表面状態検査装置は、検査対象物の表面に生成される照射パターンの形状が異なる複数種類の光を所定の方向に走査しながら前記検査対象物の表面に照射する照射手段と、前記照射手段によって照射された光により生成される照射パターンを含む画像を撮影する撮影手段と、前記撮影手段によって撮影された画像に含まれる照射パターンの形状の変化に基づいて前記検査対象物の表面の欠陥を検出する検出手段とを有することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、検査表面や凹凸欠陥の形状によって欠陥検出の精度が低下してしまうことを防止することができ、欠陥を精度良く検出することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】実施形態における表面状態検査装置の外観構成例を示す斜視図である。
【図２】凸欠陥にパターン光が重なった場合の照射パターンの一例を示す図である。
【図３】線状パターン光による照射パターンの一例を示す図である。
【図４】四角形状及び十字形状の場合の照射パターンの一例を示す図である。
【図５】十字形状及びリング形状の場合の照射パターンの一例を示す図である。
【図６】実施形態に係る表面状態検査装置の機能構成例を示すブロック図である。
【図７】凹凸欠陥の検出処理手順の一例を示すフローチャートである。
【図８】アレイ状に配列された照射パターン及び光源の一例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、図面を参照しながら本発明の実施形態における表面状態検査方法について説明する。
図１は、本実施形態における表面状態検査装置１０の外観構成例を示す斜視図である。
図１において、光源１から検査表面２にパターン光が照射されると、検査表面２に照射パターン６が写し出される。写し出された照射パターン６は、例えばＣＣＤカメラなどのカメラ３により撮影され、カメラ３に接続されたパーソナルコンピュータ（ＰＣ）４によって、画像処理が行われる。
【００１１】
光源１とカメラ３とが取り付けられたローダーあるいはロボットなどの移動装置５を矢印方向に移動させると、照射パターン６が検査表面２をなぞるように移動する。そして、カメラ３により撮影された照射パターン６のパターン形状の変化を、コンピュータ４において判別することにより、検査表面２の凹凸欠陥を検出することができる。
【００１２】
ここで、検査表面２の凹凸欠陥の検出プロセスについて説明する。検査表面２に凹凸欠陥が存在せず平坦の場合、検査表面２を走査しても、照射パターン６の形状は変化せず一定であり、欠陥は検出されない。
【００１３】
図２は、図１に示す表面状態検査装置１０による凸欠陥の照明例を示しており、図２（ａ）は、検査表面２の凸欠陥に、パターン光の一部が重なった場合の照射パターン及び撮像画像の一例を示す図である。また、図２はいずれも、図１に示すように、角度α分左側上方からパターン光を照射して検査表面２に照射パターン６を生成し、照射パターン６を右方向に走査した例を示している。
【００１４】
図２（ａ）及び図２（ｂ）に示すように、検査表面２の垂直方向から傾けてパターン光を照射すると、凸欠陥の高さとパターン光の照射角度とに応じて、照射パターン２２と凸欠陥２１の上部との重なり領域が決定される。したがって、照射パターン２２の撮像画像２３は、元のパターン形状の一部が欠けた形状になる。また、照射パターン２２を凸欠陥２１に対して、右方向に走査していくと、図２（ｃ）〜図２（ｅ）に示すように、検査表面２の平坦部に照射パターンが生成されない領域、すなわち、凸欠陥２１の影領域２４が形成される。この場合によっても、撮像画像２３において元のパターン形状の一部が欠ける形状変化が生じる。このように、照射パターン２２による撮像画像２３の形状変化から、検査表面２上の欠陥を検出することが可能となる。
【００１５】
検査表面２に曲面の形状が含まれている場合は、照射パターン６が検査表面２を走査していくと、検査表面２の湾曲に従って、照射角度α及び光源１から検査表面２に照射される照射パターン６までの光路長ｄが変化する。これにより、光源１からのパターン光が平行光でない場合、光路長ｄの変化に従って、検査表面２に生成される照射パターン６の大きさが変化する。
【００１６】
また、光源１からのパターン光の平行度に依らず、照射角度αによって、パターン光を形成する各光点の光路長が変化するため、パターン光が照射される検査表面２の領域が変化し、照射パターン６の形状が変化する。このように、検査表面２の湾曲に従って、照射パターン６の形状は変化することになる。しかしながら、このような形状変化は、図２に示した微小な凸欠陥２１による照射パターン２２の形状変化とは異なり、照射光の移動に伴って照射パターンの一部が欠けるなど、照射パターンの一部領域における大きな形状変化としては現れない。この照射パターンの形状変化の差異により、検査表面が曲面の場合においても、微小な欠陥を精度よく検出することが可能となる。
【００１７】
なお、本実施形態においては、光源１及びカメラ３を移動させる場合について示した。一方、光源１及びカメラ３を固定して、検査表面２を移動させるようにしてもよい。この場合には、図示されていないが、例えば、ベルトコンベアなどの搬送装置が移動手段となる。また、本実施形態では、カメラ３が照射パターン６に対して、斜め方向に設置されている例について説明した。一方、カメラ３の位置は、照射パターン６に対して斜め方向に限定されるものではなく、照射パターン６のパターン形状変化を撮像することができるのであれば、例えば垂直方向に設置してもよい。
【００１８】
次に、検査表面２の欠陥検出に適した照射光パターンの形状について説明する。
図３は、線状パターン光による照射パターン及び撮像画像の一例を示す図である。ここで、光源とカメラとの位置関係は、図１に示したものと同等とする。
図３（ａ）に示すように、線状の照射パターン３２がカメラ３の画素３４の配列と平行に生成されると、カメラ３によって撮像される照射パターン画像３３は、画素３４の配列において一列に並ぶ。
【００１９】
照射パターン３２が移動して凸欠陥３１に重なると、図３（ｂ）に示すように、照射パターン３２が生成される位置に関して、凸欠陥３１の高さに従ってずれが生じる。また、凸欠陥３１の影となる領域にも照射パターン３２は生成されないため、照射パターン画像３３は、凸欠陥３１が無い場合と比較して、４画素分の変化が生じる。
【００２０】
また、照射パターン３２が、画素３４の配列に対して斜めになっている場合、図３（ｃ）に示すように、画素３４の配列に平行に照射した場合と比較して、より多くの画素３４を用いて、照射パターン画像３３を形成する。この結果、凸欠陥３１による照射パターン画像３３の変化は、図３（ｄ）に示すように３画素分のみとなる。このように、照射パターン３２の輪郭部、すなわち、明暗の境界部は、画素３４の配列に対して平行である方が、照射パターン画像３３の凸欠陥による形状変化がより大きく生じ、欠陥の検出感度を高めることができる。
【００２１】
次に、照射パターンの輪郭部が、撮像するカメラの画素の配列に平行である場合において、検査表面の欠陥検出に適した照射パターンの形状について説明する。
図４は、照射パターンの形状が、四角形状及び十字形状の場合の照明例を示す図である。なお、光源とカメラとの位置関係は、図１に示したものと同等とする。
【００２２】
図４（ａ）は、照射パターン４２の形状が四角形状のときの検査表面２の凸欠陥４１における照明例を示している。凸欠陥４１の一部に照射パターン４２が重なると、前述したように、凸欠陥４１と重なる照射パターン４２の明暗の境界領域、及び凸欠陥４１の影となる領域の部分で、撮像画像４３の形状変化が生じる。一方、照射パターン４２がさらに移動して凸欠陥４１を完全に覆うと、図４（ｂ）に示すように、凸欠陥４１の影となる領域の部分でしか撮像画像４３の形状変化が生じていない。そのため、撮像画像４３全体の形状変化量は減少し、欠陥の検出感度が低下することになる。
【００２３】
一方、照射パターン４２の形状が十字形状の場合、図４（ｃ）及び図４（ｄ）に示すように、照射パターン４２が凸欠陥４１を走査する間に生じる撮像画像４３の累積の形状変化量は、照射パターン４２が四角形状の場合と比較して多くなる。このように、照射パターン４２は、四角形状よりも十字形状の方が欠陥の検出感度を高めることができる。
【００２４】
なお、本実施形態においては、凸欠陥を用いて、検査表面２上の欠陥の検出プロセスについて説明した。しかしながら、本実施形態において検出可能な欠陥は凸欠陥に限定されるものではなく、凹欠陥の場合も同様の検出プロセスにより検出することが可能である。
【００２５】
次に、凹凸欠陥の傾斜角度と、照射光パターンの形状と、検出感度との関係について説明する。図１に示すように、光源１から照射されるパターン光が検査表面２に対して角度αで照射されると、検査表面の凸欠陥の傾斜面と検査表面とのなす角が角度（９０−α）を超える場合に、パターン光が凸欠陥に照射されて凸欠陥による影の領域が生じる。この場合は、図５（ａ）に示した十字形状の照射パターン５２の方が、図５（ｂ）に示した画素の配列に平行でないリング形状の照射パターンよりも欠陥の検出感度を高めることができる。
【００２６】
一方、凸欠陥の傾斜面と検査表面とのなす角が角度（９０−α）以下のときは、パターン光が凸欠陥に照射されても、凸欠陥による影の領域は生じない。図５（ｃ）は、十字形状の照射パターン５２の輪郭部の法線ベクトルと、凸欠陥５１の傾斜面の勾配ベクトルの検査表面２への正射影ベクトルとが、平行または垂直の状態でパターン光が凸欠陥５１に照射されている照明例を示す図である。
【００２７】
図５（ｃ）に示すように、凸欠陥５１の傾斜面の勾配ベクトルの検査表面２への正射影ベクトルと、照射パターン５２の輪郭部分の法線ベクトルとが、平行または垂直な関係にある。このため、照射パターン５２の輪郭部分（この場合、凸欠陥５１に平行な輪郭）が凸欠陥５１と重なっていない場合は、撮像画像５３に形状変化は生じない。すなわち、照射パターン５２の輪郭部分が、凸欠陥５１に照射されている場合のみ、形状変化が生じる。この結果、照射パターン５２が凸欠陥５１を走査する間に生じる撮像画像５３の累積形状変化量は少なく、凸欠陥５１の検出感度は低くなる。
【００２８】
図５（ｄ）は、照射パターン５２がリング形状の場合の凸欠陥５１の照明例を示す図である。
図５（ｄ）に示すように、リング形状の照射パターン５２の輪郭部分の法線ベクトルの方向は、場所によって全て異なる。この場合、照射パターン５２を走査していくと、照射パターン５２の輪郭部の法線ベクトルと、凸欠陥５１の傾斜面の勾配ベクトルの検査表面２への正射影ベクトルとが平行にならない。そのため、凸欠陥５１と重なる照射パターン５２の領域が常に生じる。この結果、照射パターン５２を走査していくと、凸欠陥５１と重なる照射パターン５２の領域において、照射パターン５２の形状が常に変化する。
【００２９】
前述したように、照射パターン５２がリング形状の場合、照射パターン５２の輪郭部がカメラ３の画素の配列と平行になっていないことにより、欠陥の検出感度が低下する。しかしながら、照射パターン５２が凸欠陥５１を走査する間、照射パターン５２の形状変化に不感帯が無いため、走査する間の累積形状変化量は多く、様々な形状や傾斜角度をもつ凸欠陥に対して検出感度を高めることが可能となる。
【００３０】
このように、照射パターン５２は、照射パターン５２の輪郭部分の法線ベクトルの方向が場所によって全て異なる、リング形状あるいはディスク形状であることが好ましいと説明した。しかしながら、照射パターン５２の形状は、リング形状に特に限定されるものではなく、例えば、Ｘ形状、三角形状、六角形状などであってもよい。この場合、照射パターン５２の移動方向と、照射パターン５２の輪郭部分の任意の点における法線ベクトルの方向とが連続的もしくは断続的に異なるように照射パターン５２の向きを調整する。このため、照射パターン５２が凸欠陥５１を走査する間、凸欠陥５１の傾斜面の勾配ベクトルの検査表面への正射影ベクトルと、照射パターン５２の輪郭部の法線ベクトルとが平行にならないように、照射パターン５２が凸欠陥５１に照射される。このように、上述したリング形状の場合と同様に、照射パターン５２の形状変化に不感帯が無いため、凸欠陥に対する検出感度を高めることが可能となる。
【００３１】
また、前述したように、凹欠陥についても、凹欠陥の傾斜面と検査表面２とのなす角が角度（９０＋α）以上のときに、リング形状の照射パターンを用いることにより検出感度を高めることができる。この場合も照射パターンは、リング形状に限定されるものではなく、例えば、Ｘ形状、三角形状、六角形状などであってもよい。
【００３２】
図６は、本実施形態に係る表面状態検査装置１０の機能構成例を示すブロック図である。
図６において、発光部６０１は、パターン光を照射する光源１として機能するものであり、発光部６０１から検査対象物の検査表面２にパターン光が照射されると、検査表面２に照射パターンが生成される。撮像部６０２は、この生成された照射パターンをカメラ３により撮像し、その受光画像を画像処理部６０３に送る。このとき、発光部６０１から照射されるパターン光の検査表面２に対する照射角度は、０°＜α＜９０°の範囲とする。画像処理部６０３は、取り込んだ撮像画像に対して２値化処理などを行い、パターン光の走査に伴って生成される照射パターンの形状変化に基づいて検査対象物の凹凸欠陥部を検出し、その結果を記憶部６０４に記憶する。
【００３３】
記憶部６０４は、照射パターンの形状に関する情報や、検出した凹凸欠陥部の情報を記憶するメモリである。また、アーム制御部６０５は、光源１からパターン光を走査させながら、光源１とカメラ３とが取り付けられた移動装置５が予め定められた速度で図１の矢印方向へ移動するように制御する。制御部６０６は、装置全体の動作を制御する。
【００３４】
また、発光部６０１は、例えば、蛍光灯、白熱灯、発光ダイオードなどからなる照明源と、パターン形状の照射光を形成するための遮光マスクとを有している。遮光マスクは、光を透過するシート、プラスチック板、アクリル板、ガラス板などに、パターン形状の窓部を除いて、光を透過しないシートなどを貼付したもの、あるいは、光を透過しない塗料を塗布したものなどからなる。さらに、照明源の前面に遮光マスクを設置することにより、パターン光を照射する光源１を形成することができる。なお、遮光マスクを用いずに、照明源からパターン光が発光するような構成であってもよい。
【００３５】
なお、本実施形態における照明源は、レーザ光源であってもよい。この場合、レーザはコヒーレント光であるため、光の広がりを抑制でき、光源１と検査表面２との距離が多少変動しても、照射されるパターン光のサイズの変化が小さくなる。これにより、検査表面２の面内方向における欠陥検出の精度が劣化することを抑制することができる。また、照射光強度も大きいため、パターン光の境界部の明暗のコントラストを高めることができ、欠陥検出の感度を向上させることができる。
【００３６】
検査表面２に照射するパターン光のパターン形状は、検出したい凹凸欠陥の形状や大きさが決まっている場合は、検出したい凹凸欠陥に対応するパターンにする。前述したように、凸欠陥の傾斜面と検査表面２とのなす角が角度（９０−α）を超える場合、あるいは、凹欠陥の傾斜面と検査表面２とのなす角が角度（９０＋α）未満である場合は、照射するパターン光は、照射パターンが十字形状となるものが好ましい。
【００３７】
一方、凸欠陥の傾斜面と検査表面２とのなす角が角度（９０−α）以下の場合、あるいは、凹欠陥の傾斜面と検査表面２とのなす角が角度（９０＋α）以上の場合は、照射するパターン光は、照射パターンがリング形状あるいはディスク形状となるものが好ましい。また、ある程度の検出感度を維持して様々な形状の凹凸欠陥の検出をしたい場合も、照射するパターン光は、照射パターンがリング形状あるいはディスク形状となるものが好ましい。
【００３８】
なお、検査表面２に照射するパターン光は１つではなく２つ以上であってもよい。例えば、図８（ａ）に示すように、検査表面２に照射パターン８１がアレイ状に配列するようにパターン光を照射してもよい。このように複数の照射パターン８１を三角格子状に２列に配列させ、矢印方向に移動させることによって、検査表面２の広い範囲に漏れなくパターン光を照射することができ、検査に要する時間を大幅に短縮することが期待できる。
【００３９】
図８（ａ）に示した例では、１種類の照射パターンが複数生成される例を示しているが、この例は、凹凸欠陥の形状がある程度把握している場合、もしくは特定の形状の凹凸欠陥を検出する場合である。一方、検査表面の凹凸欠陥の形状は様々なものが存在し、形状が特定されていない。そこで本実施形態では、２種類以上の照射パターンを用いるようにしている。例えば、図８（ｂ）に示すように、検査表面２に形状の異なる照射パターン８２がアレイ状に配列するようにパターン光を照射する。この場合、リング形状及び十字形状の照射パターン８２を三角格子状に配列し、矢印方向に１周期移動させると、それぞれのパターン光が、移動範囲内に漏れなく照射される。これにより、様々な形状の欠陥に対して、高い検出感度を保ったまま、精度良く検出することが期待できる。なお、照射パターン８２の形状の組み合わせは、他の組み合わせであってもよい。
【００４０】
以上のようなリング形状や十字形状の照射パターンを形成するためには、例えば、２次元フォトニック結晶面発光レーザを用いる。リング形状、十字形状などの照射パターンは、非特許文献１に開示されているような２次元フォトニック結晶の配列方法により形成することができる。すなわち、２次元フォトニック結晶の孔を正方形状に配列すると、リング形状のパターン光を形成することができる。また、２次元フォトニック結晶の孔の正方形状の配列において、十字形状に孔を設けないようにすると、十字形状のパターン光を形成することができる。
【００４１】
また、照射パターンをアレイ状に配列させる場合は、図８（ｃ）に示すように、同一の２次元フォトニック結晶面発光レーザ８３、あるいは、２次元フォトニック結晶の配列の異なる複数種類の２次元フォトニック結晶面発光レーザ８３をアレイ状に配列させる。このように２次元フォトニック結晶面発光レーザ８３から照射パターンを生成することにより、様々な形状の欠陥に対して精度良く検出することができる。また、本実施形態におけるレーザ光源は、１つの発振波長に特に限定されるものではなく、発振波長の異なる複数のレーザ光源を用いてもよい。光源１に発振波長の異なる複数のレーザ光源を用いることにより、検査対象物の材質に起因してパターン光の反射光強度が低下する場合に補完させることができ、欠陥検出精度が劣化することを抑制できる。
【００４２】
図７は、画像処理部６０３等による凹凸欠陥の検出処理手順の一例を示すフローチャートである。
まず、光源１からパターン光を検査表面２に照射することにより処理を開始する。そして、ステップＳ７０１において、アーム制御部６０５は、予め定められた速度で走査するように移動装置５の移動を開始させる。次に、ステップＳ７０２において、撮像部６０２は、検査表面２に写し出された照射パターンを撮像した受光画像をカメラ３から取り込む。
【００４３】
次に、ステップＳ７０３において、画像処理部６０３は、取り込んだ受光画像を２値化処理して照射パターンの輪郭を検出し、得られた照射パターンの形状に関する情報を記憶部６０４に一時記憶する。そして、ステップＳ７０４において、アーム制御部６０５は、１周期として予め設定した移動距離に達したか否かを判断する。この判断の結果、１周期に到達していない場合はステップＳ７０２に戻る。
【００４４】
一方、ステップＳ７０４の判断の結果、１周期に到達した場合は、ステップＳ７０５において、画像処理部６０３は、記憶部６０４に一時記憶した１周期分の照射パターンの形状に関する情報を用いて差分検出を行う。差分検出では、凹凸欠陥部分が存在しない場合の照射パターンの形状と比較して差分を検出する。そして、ステップＳ７０６において、差分検出の結果、照射パターンの形状に差がある差分領域を決定し、差分領域に番号付けを行う。
【００４５】
次に、ステップＳ７０７において、番号付けを行った差分領域に関して、上述したように、照射パターンの形状の一部欠損や局所的な形状変化が生じた領域を凹凸欠陥部分と判定し、パターン光の走査速度から逆算して凹凸欠陥部分の位置を判定する。そして、ステップＳ７０８において、判定した凹凸欠陥部分の位置情報を記憶部６０４に記憶し、処理を終了する。なお、上記の各処理は、パターン光の走査速度に追随する処理速度で行われるため、パターン光の走査を１周期毎に中断することなく、連続的に行われる。
【００４６】
以上のように本実施形態によれば、照射パターンが十字形状に生成されるパターン光と、リング形状に生成されるパターン光とを所定の方向に走査しながら検査表面に照射するようにした。これにより、検査表面や凹凸欠陥の形状によって欠陥検出の精度が低下してしまうことを防止することができ、欠陥を精度良く検出することができる。
【００４７】
（その他の実施形態）
また、本発明は、以下の処理を実行することによっても実現される。即ち、上述した実施形態の機能を実現するソフトウェア（プログラム）を、ネットワーク又は各種記憶媒体を介してシステム或いは装置に供給し、そのシステム或いは装置のコンピュータ（またはＣＰＵやＭＰＵ等）がプログラムを読み出して実行する処理である。
【符号の説明】
【００４８】
６０１  発光部、６０２  撮像部、６０３  画像処理部、６０４  記憶部、６０５  アーム制御部、６０６  制御部
【図１】
2012083211.tif 000003
【図２】
2012083211.tif 000004
【図３】
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【図４】
2012083211.tif 000006
【図５】
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【図６】
2012083211.tif 000008
【図７】
2012083211.tif 000009
【図８】
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