(57)【要約】【課題】本発明は、基板を確実に支持バーから離隔し、基板全面を検査できる基板検査装置及び基板検査方法を提供することである。【解決手段】発明は、所定方向に長い複数の支持バーに設けられた複数の吸着孔からエアを吸引して基板を保持し、検査光を前記基板の表面に走査しながら照射して前記基板の表面又は内部から散乱された散乱光を受光し、前記吸引を停止し、前記基板を前記支持バーから離隔して上昇させて前記所定方向と垂直な方向にシフトし、前記基板の全面を検査する基板検査装置または基板検査方法において、前記基板からの離隔は、前記吸着孔から前記支持バーの前記基板の載置面に設けられた溝にエアを供給することによって行なうことを特徴とする。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を載置し、所定方向に長く、前記基板を吸着する吸着孔を複数有する支持バーを所定間隔に複数具備する検査ステージと、前記基板を昇降させ前記所定方向と垂直な方向にシフトさせる基板シフト機構と、検査光を前記基板に照射し、前記基板の表面又は内部から散乱された散乱光を受光する光学検査部と、前記検査ステージ及び前記光学検査部の両方又は少なくとも一方を前記所定方向に移動させる駆動部とを有するガラス基板検査装置において、
前記支持バーは前記基板の載置面に溝を有し、前記基板検査装置は前記吸着孔からエアを吸引し及び前記吸着孔にエアを供給するエア吸引供給設備を有することを特徴とする基板検査装置。
【請求項２】
前記溝は前記載置面と隣接する隣接面に開口部を有することを特徴とする請求項１に記載の基板検査装置。
【請求項３】
前記溝は前記吸着孔とは別に設けられていることを特徴とする請求項１または２に記載の基板検査装置。
【請求項４】
前記吸着孔は、その側部が前記溝に接続されていることを特徴とする請求項１または２に記載の基板検査装置。
【請求項５】
前記溝は前記所定方向に沿って、前記吸着孔の少なくとも片側に設けられた第1の溝を有することを特徴とする請求項1乃至４のいずれかに記載の基板検査装置。
【請求項６】
前記溝は前記所定方向と垂直方向に複数設けられた第２の溝を有することを特徴とする請求項1乃至５のいずれかに記載の基板検査装置。
【請求項７】
前記吸着孔は所定間隔に設けられ、前記第２の溝は前記吸着孔と同一間隔で設けられていることを特徴とする請求項６に記載の基板検査装置。
【請求項８】
前記基板シフト機構は、複数の前記支持バーの間に設けられ、前記基板を突き上げてシフトするリフト部材を複数有し、前記リフト部材は第２の溝の間隔の所定倍の間隔で設けられていることを特徴とする請求項６に記載の基板検査装置。
【請求項９】
前記載置面を前記支持バーの上面に設けられた複数の突起物で形成し、前記溝は前記突起物で形成される凹部であることを特徴とする請求項１に記載の基板検査装置。
【請求項１０】
所定方向に長い複数の支持バーに設けられた複数の吸着孔からエアを吸引して基板を保持し、検査光を前記基板の表面に走査しながら照射して前記基板の表面又は内部から散乱された散乱光を受光し、前記吸引を停止し、前記基板を前記支持バーから離隔して上昇させて前記所定方向と垂直な方向にシフトし、前記基板の全面を検査する基板検査方法において、
前記基板からの離隔は、前記吸着孔から前記支持バーの前記基板の載置面に設けられた溝にエアを供給することによって行なうことを特徴とする基板検査方法。
【請求項１１】
前記離隔時において、前記エアの供給による基板上昇の速度は前記基板を支持し上昇させるリフト部材の上昇速度より下回らないことを特徴とする請求項１０に記載の基板検査方法。
【請求項１２】
前記離隔時において、前記基板を支持し上昇させるリフト部材の上昇を、前記吸着孔にエアを供給する開始の所定時間後に開始することを特徴とする請求項１０に記載の基板検査方法。
【請求項１３】
前記リフト部材はリフトピンであることを特徴とする請求項１１または１２に記載の基板検査方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示用パネル等の製造に用いられるガラス基板やプラスチック基板等の検査装置及び基板検査方法に係り、特に大型基板の表面の傷や異物を検査するのに好適な基板検査装置及び基板検査方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示用パネルとして用いられる液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）基板やカラーフィルタ基板、プラズマディスプレイパネル用基板、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示パネル用基板等の製造は、フォトリソグラフィー技術によりガラス基板上にパターンを形成して行われる。その際に、ガラス基板の表面や内部に傷や異物等の欠陥が存在すると、パターンが良好に形成されず、不良の原因となる。このため、欠陥検査装置を用いて、ガラス基板の表面の傷や異物等の欠陥の検査が行われている。
【０００３】
この種の検査装置としては、例えば特許文献１に開示されている。特許文献１に開示されている装置は、基板を支持する支持バー(ブロック)のフラットな表面に吸着孔を設け、真空吸着により基板を保持して検査し、その後検査できていない支持バー部分を検査するために、真空吸着を解除し、基板をリフトピンで持ち上げ検査できるようにシフトし、基板の全面検査を実現している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００６-１９４７５５号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、基板と支持バーとは接触しており、装置の振動及びシフト時の上下動の繰り返しにより、支持バーの表面が磨かれ鏡面となってしまう。その結果、基板と支持バーとの密着度が上がり、基板が支持バーに張り付き、基板を支持バーから剥がし難くなる。特に、この傾向は基板の大型化に伴い顕著になる。さらに、基板の薄型化に伴い、リフトピンによる基板破壊の虞が大きくなってきている。
【０００６】
本発明は、このような課題を鑑みてなされたもので、本発明の目的は、基板を確実に支持バーから離隔でき、基板全面を検査できる基板検査装置及び基板検査方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、上記の目的を達成するために、少なくとも下記の特徴を有する。
本発明は、所定方向に長い複数の支持バーに設けられた複数の吸着孔からエアを吸引して基板を保持し、検査光を前記基板の表面に走査しながら照射して前記基板の表面又は内部の異物又は傷から散乱された散乱光を受光し、前記吸引を停止し、前記基板を前記支持バーから離隔して上昇させて前記所定方向と垂直な方向にシフトし、前記基板の全面を検査する基板検査装置または基板検査方法において、前記基板からの離隔は、前記吸着孔から前記支持バーの前記基板の載置面に設けられた溝にエアを供給することによって行なうことを第１の特徴とする。
【０００８】
また、前記溝は前記載置面と隣接する隣接面に開口部を有することを第２の特徴とする。
さらに、前記溝は前記吸着孔とは別に設けられている、または前記吸着孔はその側部が前記溝に接続されていることを第３の特徴とする。
【０００９】
また、前記溝は前記所定方向に沿って前記吸着孔の少なくとも片側に設けられた第1の溝を有することを第４の特徴とする。
さらに、前記溝は前記所定方向と垂直方向に複数設けられた第２の溝を有することを第５の特徴とする。
【００１０】
また、前記吸着孔は所定間隔に設けられ、前記第２の溝は前記吸着孔と同一間隔で設けられていることを第６の特徴とする。
さらに、前記基板シフト機構は、複数の前記支持バーの間に設けられ、前記基板を突き上げてシフトするリフト部材を複数有し、前記リフト部材は第２の溝の間隔の整数倍の間隔で設けられていることを第７の特徴とする。
【００１１】
また、前記離隔時において、前記エアの供給による基板上昇の速度は前記基板を支持し上昇させるリフト部材の上昇速度より下回らないことを第８の特徴とする。
さらに、前記離隔時において、前記基板を支持し上昇させるリフト部材の上昇を、前記吸着孔にエアを供給する開始の所定時間後に開始することを第９の特徴とする。
また、前記載置面を前記支持バーの上面に設けられた複数の突起物で形成し、前記溝は前記突起物で形成される凹部であることを第１０の特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、基板を確実に支持バーから離隔でき、基板全面を検査できる基板検査装置及び基板検査方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の実施形態である基板検査装置の斜視図である。
【図２】図１において矢印Ａ方向から見た本実施形態である基板検査装置の側面図である。
【図３】図１において矢印Ｂ方向から見た本実施形態である基板検査装置の正面図である。
【図４】図４(ａ)は検査ステージの上面の一部の拡大図であり、図４(ｂ)は図４(ａ)に示す支持バーの破線で示した部分の斜視図である。
【図５】本発明の実施形態である支持バーの他の実施例を示す図である。
【図６】本発明の実施形態におけるエア吸引供給設備の構成の一例を示す図である。
【図７】本発明の実施形態における検査時の全体の動作フローを示す図である。
【図８】本発明の実施形態における基板のシフト動作の全体の動作フローを示す図である。
【図９】図７のＳｔｅｐ８に示す基板を搬出状態にする、または図８のＳｔｅｐＳ１１に示す基板をシフト可能状態にする動作フローを示す図である。
【図１０】図８又は図９に示す主要ステップにおける基板、リフトピン及び支持バー等の状態を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本発明の実施形態である基板検査装置１００の全体構成を図１乃至図３に示す。図１は本実施形態である基板検査装置１００の斜視図である。図２は図１において矢印Ａ方向から見た本実施形態である基板検査装置１００の側面図である。図３は図１において矢印Ｂ方向から見た本実施形態である基板検査装置１００の正面図である。
【００１５】
本実施形態である基板検査装置１００は、光学検査部１、検査ステージ１０を有する基板シフト機構２(図２、図３参照)、検査テーブル３、脚部４及び制御部３０を有する。
図１において、光学検査部１は、門型の構造(図３参照)となり、光学ヘッド３台１ａ、１ｂ、１ｃと詳細な検査を行なう光学顕微鏡部１ｄとを有している。また、光学検査部１は、光学検査部Ｘ駆動部２１によってＸ方向に、光学検査部Ｙ駆動部１８によってＹ方向に光学ヘッド１ａ、１ｂ、１ｃ及び光学顕微鏡部１ｄを移動させる。光学検査部Ｘ駆動部２１は紙面右側の検査テーブル３の側部に設けられている。光学検査部Ｘ駆動部２１は、図１に示すようにボールネジ２１ｂ、ボールネジを回転させる光学検査部駆動モータ２１ｍ及び光学検査部１に固定されたナット２１ｎを有する。このナット２１ｎの移動に伴い、光学検査部１の移動台１ｅがリニアガイドレール６上をＸ方向に移動し、光学検査部１全体がＸ方向に移動する。上記の実施例ではボールネジ方式を用いたが、リニアモータ方式を用いてもよい。他の駆動部においても同様である。
【００１６】
一方、光学検査部Ｙ駆動部１８は、図1に示すようにそれぞれの光学ヘッド１ａ、１ｂ、１ｃを独立してＹ方向に移動させる光学ヘッド駆動部１８ａ、１８ｂ(図示せず)、１８ｃを有する。それぞれの構成は基本的には、光学検査部Ｘ駆動部２１と同じ構成を有する。なお、本実施形態は、光学ヘッドを３つ設けた例を示しているが、本発明はこれに限らず、光学ユニットを１つ又は２つ、あるいは４つ以上設けてもよい。
【００１７】
光学顕微鏡部１ｄは、光学ヘッド１ａ等で傷や異物を発見した時に、必要ならばさらに詳細な検査をするためのものであり、光学ヘッド同様にＹ方向に移動させる光学顕微鏡駆動部(図示せず)を有している。
【００１８】
また、検査テーブル３には、検査ステージ１０をＸ方向に移動させる為のリニアガイドレール５が、脚部４にはその駆動手段である検査ステージ駆動部２２が設けられている。検査ステージ駆動部２２は、基本的には光学検査部Ｘ駆動部２１と同じ構成を有し、ステージベース１１に固定されたナット(図示せず)がＸ方向に移動し、検査ステージ１０がリニアガイドレール５上を移動する
図２及び図３において、検査テーブル３は、脚部４によって所定の高さに設置されている。図１において、検査テーブル３の上面には検査ステージ１０が配置されており、検査ステージ１０には基板Ｐが搭載されている。検査ステージ１０は、ステージベース１１及び基板Ｐを載置する支持バー１２を有する。ステージベース１１は１枚の平板であって、その上面には、Ｘ方向に細長い長方体の上面がフラットな支持バー１２が、Ｙ方向に所定の間隔で複数取り付けられている。複数の支持バー１２を所定の間隔で取り付けることにより、支持バー１２間にはＸ方向に細長い凹部が形成される。支持バー１２は、ステージベース１１に取り付けられた後、機械加工によって上面を均一な高さに削られている。
【００１９】
なお、ステージベース１１は、１枚の平板の代わりに、Ｙ方向に長い長方形の板をＸ方向に所定の間隔で複数並べて構成してもよい。また、支持バー１２は、機械加工で支持バー１２間の溝を削ることによって、ステージベース１１と一体に構成してもよい。
【００２０】
上記のように検査ステージ１０を検査ステージ駆動部２２で、光学検査部１を光学検査部Ｘ駆動部２１で互いに逆のＸ方向に移動させ、また、光学ヘッド１ａ、１ｂ、１ｃを光学検査部Ｙ駆動部１８でＹ方向にそれぞれ移動させることより、光学ヘッド１ａ、１ｂ、１ｃを基板Ｐ上で矩形状に走査して、基板表面の傷、異物の検査を行なう。検査は、検査光を基板の表面又は内部に照射し、散乱された散乱光を受光して行なう。このとき、光学ヘッド１ａ、１ｂ、１ｃは基板表面をＹ方向に３分割した範囲をそれぞれが検査する。そこで、光学ヘッド１ａ、１ｂ、１ｃは、最終的には全面検査できるように、３分割に対応して等距離(図１参照)に配置する。また、基板の表面や内部を検査できるのは、図１に示す検査ステージ１２の凹のみである。そのために、一度走査を完了したら、基板を凹部の幅分Ｙ方向にシフトして残りの分を走査し検査する。
【００２１】
以下、本発明の実施形態の特徴である基板シフト機構２の構成及び動作を説明する。まず、図２、図３に加えて図４を用いて基板シフト機構２の構成を説明する。
基板シフト機構２は、図２及び図３に示す昇降ベース８、リフトピン(リフト部材)９及び検査ステージ１０を有する。図４(ａ)は検査ステージ１０の上面の一部の拡大図、図４(ｂ)は図４(ａ)に示す支持バー１２の破線で示した部分の斜視図である。
【００２２】
図２及び図３に示すように、検査テーブル３の下方には、昇降ベース８が配置されており、昇降ベース８にはリフトピン９が複数取り付けられている。また、検査テーブル３には、リフトピン９が通る開口が設けられている。昇降ベース８は、図示しない昇降機構によって図２に示すＺ方向へ移動し、これによりリフトピン９が、検査テーブル３に設けられた開口及び図４(ａ)に示すステージベース１１に設けられた開口１４を通って、上昇及び下降する。また、昇降ベース８は、図示しない移動機構によってＹ方向へ移動し、これによりリフトピン９が、検査テーブル３に設けられた開口内及びステージベース１１に設けられた開口１４内をＹ方向へ移動する。検査できるのは、基板Ｐの表面のうち支持バー１２間の基板Ｐが支持されていない凹部であるから、基板Ｐの支持バー１２で支持されている部分を凹部に移動することによって基板全面を検査できる。
【００２３】
図４(ａ)は、全面検査できるための支持バー１２の幅Ｗ、光学ヘッド１ａ、１ｂ、１ｃからライン状に照射される検査光１ｋの照射幅Ｌ等の関係を示している。照射幅Ｌは、基板の撓みが光学系の被写界深度以下であれば、複数に分割して検査してもよい。検査光１ｋの照射幅Ｌに対し、支持バー１２の中心の間隔は検査光１ｋの２倍（２Ｌ）、支持バー１２の幅ＷはＬより小さく（Ｗ＜Ｌ）構成されている。
【００２４】
図４(ｂ)に示すように、各支持バー１２には、所定の間隔で設けられた複数の吸着孔１３、及び吸着孔１３の周囲に設けられた複数のＸ方向のＸ溝１５ｘと、複数のＹ方向のＹ溝１５ｙとを具備する溝１５が設けられている。Ｘ溝１５ｘ、Ｙ溝１５ｙとも、その両端に開口部１５ａ(Ｘ溝１５ｘの開口部は図示せず)を有する。一方、吸着孔１３は、支持バー１２、ステージベース１１を貫通しており、ステージベース１１の下面で後述する図６に示すエア吸引供給設備２５へ接続されている。
【００２５】
このエア供給吸気設備２５を用いて吸着孔１３からエアを吸引し基板Ｐを真空吸着し支持バー１２に固定する。一方、支持バー１２から基板Ｐを上昇させ離隔させるときは、吸着孔１３にエアを供給し、エアブローする。吸着孔１３から供給されたエアは、エア層となって吸着孔１３から隣接した溝１５に溢れ、溝１５に沿って広がり、基板全体に亘って密着度を低下させる。Ｙ溝１５ｙは、基板全体の密着度を均一に低下させるために、吸着孔１３と同じ間隔で、また吸着孔１３の中間部に設けている。さらに、Ｙ溝１５ｙは、確実に基板を離隔するために、リフトピン９に対して２倍または同間隔(図は２倍の間隔を示す)、即ち、基板の割れを生じさせる負圧を生じさせない間隔で、外周の圧力と等しくまたは略等しくなるような構成とする。さらに、開口部１５ａは、例えば式(１)に示すとなるように溝幅、間隔を可能な限り最適化し、離隔させる力(離隔力)が所定の値以上にならないようにしている。
リフトピンによる押圧力(基板の破壊力を超えない)  ＞  
基板の自重＋ステージ溝部の吸着力(負圧)   (１)
その結果、基板Ｐが支持バー１２に張付くことなく、基板Ｐを確実に支持バー１２から離隔させることができる。
【００２６】
上記の実施例では、支持バー１２の長手方向側部及び端部、即ち上面に隣接した面に開口部１５ａを設けたが、実験的あるいは経験的に得られた所定のエア供給圧によって、安定した離隔力を形成できれば、図５(ａ)に示す斜視図のように、開口部１５ａを設ける必要がない。
【００２７】
また、上記の実施例では、吸着孔１３と溝１５を別に設けたが、溝１５の深さ、幅を調節することによって吸着力と離隔力とを適切な値または可能な限り最適な値とし、図５(ｂ)に示す支持バー１２の上面図のように吸着孔１３の側部が溝１５と接続した状態としてもよい。本例では、エアをいち早く基板全体に分散させることができ、より確実に基板Ｐを支持バー１２から離隔させることができる。
【００２８】
さらに、溝１５の形状も図４(ｂ)に示す形状に限らず、離隔時に基板Ｐが支持バー１２に張付かないような条件を満足できれば、例えば、図５(ｃ)に示すように、“口”字状の形状でもよい。
また、図４(ｄ)に示すように、支持バー１２の上面に設けた複数の円柱１５Ａなどの突起物で載置面を形成し、前記突起物で形成される凹部で溝１５(Ｘ溝１５Ｘ、Ｙ溝１５Ｙ)を形成し、負圧とならないようにしてもよい。
【００２９】
図６は、前述したエア吸引供給設備２５の構成の一例を示す図である。本例では、図６に示すようにエア供給源２５ａ１、エア吸引源２５ａ２を選択し、吸着孔１３に正圧エアを供給(エアブロー)し、基板Ｐを支持バー１２から離隔(浮上)し、吸着孔１３に負圧エアをかけて基板Ｐを支持バー１２に真空吸着させる。なお、２５ｂ１、２５ｂ２は安定してエアを供給、吸引するためのレギレータ、２５ｃ１、２５ｃ２はエア供給源２５ａ１、エア吸引源２５ａ２を選択するそれぞれの系統に設けたソレノイド弁、２５ｄ１は各系統で正常に供給、吸引するための正負圧が得られているかをチェックする圧力スイッチ、２５ｅ１から２５ｅ３は吸着孔１３直前に設けられた空気の逆流を防止するチェック弁、２５ｆは配管系及び３０はこれ等を制御する制御部である。なお、図６では吸着孔１３を３つのみ記載している。
【００３０】
本実施例のエア吸引供給設備２５において、リフトピン９の上昇開始タイミング、上昇速度などの動作に合わせて、正圧エアのエアブローの開始時期、正圧圧力、ブロー時間等を調節することによって確実に基板Ｐを離隔させ、その後、基板をＹ方向にシフトさせることができる。勿論、正圧エアのブローに合わせて、リフトピン９の動作を決めてもよい。
また、供給、吸引するための正負圧の値を基板Ｐの厚さに応じて設定することにより、様々な厚さの基板Ｐに対応できる。
さらに、ソレノイド弁２５ｃ１、２５ｃ２を基板サイズに応じて領域を選択できるように複数設けることによって、検査テーブル３内の基板サイズにおいて様々な基板サイズに対応できる。
【００３１】
最後に、図７乃至図１０を用いて基板Ｐの検査時の動作を説明する。まず、図７は検査時の全体の動作フローを示す。
【００３２】
まず、リフトピン９を上昇させ搬送ロボット等により基板Ｐをリフトピン９上に載せ、その後リフトピンを下降させ基板Ｐを検査ステージ１０に載置する(ステップ１)。次に、メカニカル機構（図視せず）により基板Ｐを押付けアライメントする(ステップ２)。
【００３３】
エア吸引供給設備２５を制御し、基板Ｐを支持バー１２に真空吸着させる(ステップ３)。光学検査部１及び検査ステージを相対移動させ、基板Ｐ上を矩形状に走査し検査する(ステップ４)。次に、基板Ｐを全面検査したかを判断する(ステップ５)。全面検査していなければ、基板シフト機構２により基板をシフトし(ステップ６：サブルーチン１)、ステップ５に戻る。
【００３４】
全面検査していれば、光学検査部１を原点位置に戻し、検査ステージ１０を基板Ｐの搬出位置に移動させ(ステップ７)、基板Ｐの真空吸着を解除し、リフトピン９を上昇させ、基板を搬出状態にする(ステップ８：サブルーチン２)。次に、基板搬出に必要な条件である供排用装置シャッタやレーザを光源として用いた場合にはレーザシャッタの開閉状態及び搬出機構の動作状態の確認をする(ステップ９)。次に、基板Ｐをロボット等により搬出する(ステップ１０)。最後に、全基板Ｐを検査したかを表示装置によるＭＡＰ表示などにより結果を出力し判断し、処理を終了させる(ステップ１１)。
【００３５】
次に、図８乃至及び図１０を用いて本発明の実施形態の特徴の一つである基板Ｐのシフト動作、即ち図７におけるサブルーチン１、２について説明する。図８は基板Ｐのシフト動作の全体フローを示す図であり、図９は図７のＳｔｅｐ８に示す基板を搬出状態にする、または図８のＳｔｅｐＳ１１に示す基板Ｐをシフト可能状態にする、即ち基板を離隔する動作フローを示す図である。また、図１０は図８又は図９に示す主要ステップにおける基板Ｐ、リフトピン９及び支持バー１２等の状態を示す図である。
【００３６】
まず、後述するサブルーチン２で示す図１０(ａ)の状態を経て、図１０(ｂ)の矢印Ｃに示すように、図示しない昇降機構で基板Ｐを支持バー１２から離隔し上昇させてシフト可能状態にする(ＳｔｅｐＳ１１：サブルーチン２)。次に、基板シフト機構２を制御し、図１０(ｃ)の矢印Ｄに示すように、基板をシフトする(ＳｔｅｐＳ１２)。次に、図示しない昇降機構を用いて、図１０(ｃ)の矢印Ｅに示すように、基板Ｐを下降し、支持バー１２に載置する(ＳｔｅｐＳ１３)。載置後は、図１０(ａ)に示す状態からシフト量Ｌだけシフトした状態になる。次に、基板Ｐを支持バー１２に真空吸着する(ＳｔｅｐＳ１４)。基板Ｐの真空吸着の開始は、基板Ｐが支持バー１２に載置される前から実施してもよい。その後、基板Ｐ上を矩形状に走査し検査するために、図７のステップ４に戻る。
【００３７】
図９におけるスブルーチン２は、基板を搬出状態(図７のＳｔｅｐ８)または基板Ｐをシフト可能状態(図８のＳｔｅｐＳ１１)にするために、支持バー１２に真空吸着、保持されている基板を離隔させ、所定の高さまで上昇させる動作フローを示す。
【００３８】
そのために、まず、図１０(ａ)に示すように、基板Ｐが真空吸着された状態を解除する(ＳｔｅｐＳ２１)。次に、図６においてエア供給源２５ａ１を選択し、エアブローを開始する(ＳｔｅｐＳ２２)。その後、所定時間遅れてリフトピン９を上昇させ、最初はエアブローによる基板Ｐの上昇をアシストし、その後は基板を支持させる(ＳｔｅｐＳ２３)。例えば、所定時間として、吸着孔１３から供給されたエアがエア層となって吸着孔１３から隣接した溝１５に溢れ、溝１５に沿って広がりを持つまでの時間を設定する。所定時間は、予め実験的に定めるか、エア供給源２５ａ１の圧力を監視するなどして定める。
【００３９】
最後に、基板Ｐを所定高さまで上昇させたら、リフトピン９の上昇とエアブローを停止する(ＳｔｅｐＳ２４)。
【００４０】
本実施例では、所定時間遅れてリフトピン９を上昇させたが、要は、初期の基板離隔時において、エアブローにより基板Ｐが離隔できるように、リフトピン９の上昇速度がエアブローによる基板の上昇速度を上回らないようにする。つまり、負圧を生じさせない速度とする。従って、所定時間遅らせることなく、前述の関係を満たすようにしてもよい。
【００４１】
また、本実施例では、離隔時における基板Ｐの支持バー１２との接触の影響を確実に避ける為に、基板Ｐの上昇中はエアブローを実施続けた。しかし、基板Ｐが支持バー１２から離れたとき、または支持バー１２の接触の影響が問題ないことを、例えば、実験的に定め、そのときにエアブローを停止してもよい
以上、説明した実施形態によれば、基板を確実に支持バーから離隔でき、基板全面を検査できる基板検査装置及び基板検査方法を提供できる。
【符号の説明】
【００４２】
１：光学検査部                          １ａ、１ｂ、１ｃ：光学ヘッド
１ｄ：光学顕微鏡部                      ２：基板シフト機構
３：検査テーブル                        ４：脚部
５、６：リニアガイドレール              ８：昇降ベース
９：リフトピン(リフト部材)              １０：検査ステージ
１１：ステージベース                    １２：支持バー 
１３：吸着孔                            １４：テージベース１１に設けられた開口
１５：支持バーに設けられた溝            １５ａ：溝の開口部
１５ｘ：Ｘ方向に設けられた溝            １５ｙ：Ｙ方向に設けられた溝
１８：光学検査部Ｙ駆動部                ２１：光学検査部Ｘ駆動部
２２：検査ステージ駆動部                ２５：エア吸引供給設備
３０：制御部                            １００：基板検査装置
Ｌ：検査光の照射幅                      Ｐ：基板
Ｗ：支持バーの幅。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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