(57)【要約】【課題】１枚のマスター情報担体によって繰り返し転写できる合計の回数を大幅に向上させた磁気記録媒体の製造方法を提供する。【解決手段】非磁性基板の上に少なくとも磁性層が形成された磁気記録媒体Ｗと、情報信号に対応する転写パターンが形成されたマスター情報担体Ｍとを重ね合わせた後、マスター情報担体Ｍ側から外部磁界を印加しながら、マスター情報担体Ｍから磁気記録媒体Ｗへと情報信号を磁気転写する工程を含む磁気記録媒体Ｗの製造方法であって、磁気転写を行う際に繰り返し使用可能なマスター情報担体Ｍを用いると共に、このマスター情報担体Ｍと磁気記録媒体Ｗとを重ね合わせる前に、支持体の表面にマイクロビーズを固着させたワイピングテープを用いて、磁気記録媒体の表面を払拭するワイピング工程を設ける。【選択図】図３
2012043490.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁性基板の上に少なくとも磁性層が形成された磁気記録媒体と、情報信号に対応する転写パターンが形成されたマスター情報担体とを重ね合わせた後、前記マスター情報担体側から外部磁界を印加しながら、前記マスター情報担体から前記磁気記録媒体へと情報信号を磁気転写する工程を含む磁気記録媒体の製造方法であって、
前記磁気転写を行う際に繰り返し使用可能なマスター情報担体を用いると共に、このマスター情報担体と磁気記録媒体とを重ね合わせる前に、支持体の表面にマイクロビーズを固着させたワイピングテープを用いて、前記磁気記録媒体の表面を払拭するワイピング工程を設けたことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２】
前記ワイピングテープに潤滑剤を塗布して用いることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項３】
前記ワイピングテープとして、樹脂フィルムからなる支持体の表面に平均粒径が２〜３μｍのアクリル系樹脂からなるマイクロビーズが結着剤により固着されたものを用いることを特徴とする請求項１又は２に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項４】
前記ワイピング工程の前に、布製のワイピングテープを用いて、前記磁気記録媒体の表面を払拭する別のワイピング工程と、支持体の表面に砥粒を固着させたバーニッシュテープを用いて、前記磁気記録媒体の表面を研磨するバーニッシュ工程を設けることを特徴とする請求項１〜３の何れか一項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハードディスク装置（ＨＤＤ）等に用いられる磁気記録媒体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気記録再生装置の一種であるＨＤＤ（ハードディスクドライブ）は、現在その記録密度が年１．５倍以上で増えており、今後もその傾向は続くと言われている。それに伴って、高記録密度化に適した磁気ヘッド及び磁気記録媒体の開発が進められている。そして、最新の磁気記録装置においては、トラック密度が３２０ｋＴＰＩ以上となっている。
【０００３】
このため、高いトラック密度を有する磁気記録媒体では、磁気ヘッドをトラック上で正確に走査するために、磁気ヘッドのトラッキングサーボ技術が重要な役割を果たしている。具体的に、現在のハードディスクドライブでは、ディスクの１周中、一定の角度間隔でトラッキング用のサーボ信号や、アドレス情報信号、再生クロック信号などの情報信号（以下、サーボ信号等という。）が記録されている。そして、磁気ヘッドから一定間隔の時間で再生されるこれらの信号によって、磁気ヘッドの位置を検出しながら、磁気ヘッドが正確にトラック上を走査するように磁気ヘッドの位置を修正する制御が行われている。
【０００４】
したがって、上述したサーボ信号等は、磁気ヘッドが正確にトラック上を走査するための基準信号となることから、これらの信号の書き込みには高い位置決め精度が求められる。このため、従来のハードディスクドライブの製造現場では、高精度の位置検出装置を組み込んだ専用のサーボ信号記録装置（以下、サーボライタという。）を用いて、磁気記録媒体に対するサーボ信号等の書き込みが行われている。また、サーボライタは、その生産性を高めるために、一つのスピンドルに多数枚の磁気記録媒体をチャッキングし、これらの磁気記録媒体に対して同時にサーボ信号等を書き込む構造となっている。
【０００５】
しかしながら、上述したサーボライタによるサーボ信号等の書き込みには、以下の課題が存在する。すなわち、磁気ヘッドを高精度に位置決めしながら多数のトラックに亘って信号を書き込むためには、多くの時間がかかり、更に生産性を上げるためには、多くのサーボライタを同時に稼働させる必要がある。しかしながら、導入するサーボライタの数を増やすと、その維持管理に多額のコストがかかることになる。また、スピンドルを長くして同時にチャッキングできる磁気記録媒体の枚数を増やすと、回転中にブレが生じ易くなり、磁気記録媒体に対する書き込み精度の低下を招くことになる。したがって、１つのスピンドルにチャッキングできる磁気記録媒体の枚数には自ずと限界がある。そして、これらの課題は、磁気記録媒体のトラック密度が向上し、トラック数が多くなるほど深刻なものとなっている。
【０００６】
そこで、磁気記録媒体へのサーボ信号等の書き込みをサーボライタではなく、全てのサーボ信号等に対応する磁気転写パターンが書き込まれたマスター情報担体を用いて、このマスター情報担体に書き込まれた信号を磁気記録媒体に一括して磁気転写する方法が提案されている（例えば、特許文献１を参照。）。
【０００７】
具体的に、この方法では、マスター情報担体と磁気記録媒体とを密着させた状態で、外部から転写用のエネルギーとして磁界を加えながら、マスター情報担体に書き込まれた信号を磁気記録媒体に磁気転写する。これにより、磁気記録媒体に対するサーボ信号等の書き込み作業を短時間で行うことが可能となる。また、このようなマスター情報担体は、繰り返し使用可能となっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平１０−４０５４４号公報
【特許文献２】特開２００１−６１６９号公報
【特許文献３】特開２０００−２０３８８９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ところで、上述した磁気転写を行う場合、磁気記録媒体の表面に異常突起等が存在すると、磁気記録媒体とマスター情報担体とを重ね合わせた際に、この異常突起等の噛み込みによって磁気記録媒体やマスター情報担体の表面に陥没部分が発生し、磁気転写が不完全となるといった問題が発生してしまう。
【００１０】
磁気転写に用いられるマスター情報担体は、非常に高価であるため、磁気記録媒体の製造コストを低減するためには、１枚のマスター情報担体が摩耗等によって破損するまでに転写できる合計の回数（使用回数）を高めることが重要である。
【００１１】
そこで、磁気記録媒体の表面にバーニッシュ処理やワイピング処理を施し、表面の突起物や埃等を除去した後に、この磁気記録媒体にマスター情報担体を重ね合わせて磁気転写を行うことによって、マスター情報担体の使用回数を高めることが提案されている（例えば、特許文献２を参照）。
【００１２】
しかしながら、本発明者らの検討によると、上述した磁気記録媒体の表面に付着した汚染物質をワイピングによって除去する際に、ワイピングテープから糸くずが脱落して磁気記録媒体の表面に付着してしまい、磁気転写が不完全となる状況が発生することが明らかとなった。
【００１３】
この場合、マスター情報担体が摩耗によって破損に至る前に、転写パターンが不完全となる状況が発生してしまうため、１枚のマスター情報担体によって繰り返し転写できる合計回数を商業生産に適用するのに十分な使用回数まで高めることが非常に困難となる。
【００１４】
本発明は、このような従来の事情に鑑みて提案されたものであり、繰り返し使用可能なマスター情報担体を用いて磁気転写を行う場合に、１枚のマスター情報担体によって繰り返し転写できる合計の回数を大幅に向上させた磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討を行った結果、マスター情報担体による磁気転写パターンが不完全となるのは、磁気記録媒体の表面に付着した汚染物質をワイピングによって除去する際に、ワイピングテープから脱落して磁気記録媒体の表面に付着した糸くずなどのダストが原因であることを解明した。
【００１６】
そこで、本発明者らは、マスター情報担体を用いて磁気記録媒体に磁気転写を行う前に、支持体の表面にマイクロビーズを固着させたワイピングテープを用いて、磁気記録媒体の表面を払拭するワイピング工程を設けることによって、上述した糸くずなどのダストの発生を防ぎつつ、磁気記録媒体の表面に付着した汚染物質を適切に除去できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１７】
すなわち、本発明は、以下の手段を提供する。
（１）  非磁性基板の上に少なくとも磁性層が形成された磁気記録媒体と、情報信号に対応する転写パターンが形成されたマスター情報担体とを重ね合わせた後、前記マスター情報担体側から外部磁界を印加しながら、前記マスター情報担体から前記磁気記録媒体へと情報信号を磁気転写するワイピング工程を含む磁気記録媒体の製造方法であって、
前記磁気転写を行う際に繰り返し使用可能なマスター情報担体を用いると共に、このマスター情報担体と磁気記録媒体とを重ね合わせる前に、支持体の表面にマイクロビーズを固着させたワイピングテープを用いて、前記磁気記録媒体の表面を払拭する工程を設けたことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
（２）  前記ワイピングテープに潤滑剤を塗布して用いることを特徴とする前項（１）に記載の磁気記録媒体の製造方法。
（３）  前記ワイピングテープとして、樹脂フィルムからなる支持体の表面に平均粒径が２〜３μｍのアクリル系樹脂からなるマイクロビーズが結着剤により固着されたものを用いることを特徴とする前項（１）又は（２）に記載の磁気記録媒体の製造方法。
（４）  前記ワイピング工程の前に、布製のワイピングテープを用いて、前記磁気記録媒体の表面を払拭する別のワイピング工程と、支持体の表面に砥粒を固着させたバーニッシュテープを用いて、前記磁気記録媒体の表面を研磨するバーニッシュ工程を設けることを特徴とする前項（１）〜（３）の何れか一項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【発明の効果】
【００１８】
以上のように、本発明では、マスター情報担体を用いて磁気記録媒体に磁気転写を行う前に、支持体の表面にマイクロビーズを固着させたワイピングテープを用いて、磁気記録媒体の表面を払拭することで、ワイピングテープからのダストの発生を抑えつつ、磁気記録媒体の表面に付着した汚染物質を適切に除去することが可能である。
【００１９】
したがって、本発明によれば、マスター情報担体と磁気記録媒体とを重ね合わせた際に、磁気記録媒体Ｗの表面に付着した汚染物質がマスター情報担体に転写されるといったことを防止できるため、繰り返し使用可能なマスター情報担体を用いて磁気転写を行う場合に、１枚のマスター情報担体によって繰り返し転写できる合計の回数を飛躍的に高めることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】図１は、本発明のワイピング工程で用いられるワイピングテープの一例を示す断面図である。
【図２】図１は、本発明のワイピング工程で用いられるワイピング装置の一例を示す構成図である。
【図３】図３は、本発明の磁気転写工程を説明するための断面図である。
【図４】図４は、磁気記録媒体の一例を示す断面図である。
【図５】図５は、磁気記録再生装置の一例を示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明を適用した磁気記録媒体の製造方法について、図面を参照して詳細に説明する。なお、以下の説明で用いる図面は、特徴をわかりやすくするために、便宜上特徴となる部分を模式的に示している場合があり、各部の寸法比率などが実際と同じであるとは限らない。
【００２２】
本発明を適用した磁気記録媒体の製造方法は、非磁性基板の上に少なくとも磁性層が形成された磁気記録媒体と、情報信号に対応する転写パターンが形成されたマスター情報担体とを重ね合わせた後、マスター情報担体側から外部磁界を印加しながら、マスター情報担体から磁気記録媒体へと情報信号を磁気転写する磁気転写工程を含むものであって、磁気転写を行う際に繰り返し使用可能なマスター情報担体を用いると共に、磁気転写工程の前に、支持体の表面にマイクロビーズを固着させたワイピングテープを用いて、磁気記録媒体の表面を払拭するワイピング工程を設けたことを特徴とするものである。
【００２３】
（マイクロビーズを用いたワイピング工程）
具体的に、本発明のマイクロビーズを用いたワイピング工程では、例えば図１に示すようなワイピングテープ１が用いられる。このワイピングテープ１は、テープ状を為す支持体２と、この支持体２の一方の表面を覆うように多数のマイクロビーズ３が結着剤４を介して固着されたビーズ層５とを備えている。
【００２４】
支持体２としては、例えばポリエチレンテレフタレートなどの可撓性を有する樹脂フィルムを用いることができる。マイクロビーズ３としては、アクリル系樹脂からなるものを好適に用いることができ、その中でも平均粒径が２〜３μｍのアクリルビーズを用いることが好ましい。
【００２５】
結着剤４としては、マイクロビーズ３を支持体２の表面に担持できるものであればよく、例えば、熱硬化性樹脂や、熱可塑性樹脂、感光性樹脂などを用いることができる。具体的に、熱硬化性樹脂としては、例えば、尿素樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、ウレタン樹脂等を挙げることができる。熱可塑性樹脂としては、例えば、アクリロニトリルブタジエンスチレン（ＡＢＳ）樹脂、ブタジエンスチレン樹脂、ポリブタジエン樹脂、アクリルゴム系ＭＢＳ樹脂等を挙げることができる。感光性樹脂としては、例えば、メタクリル樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂等を挙げることができる。さらに、これら樹脂の１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
【００２６】
そして、本発明のマイクロビーズを用いたワイピング工程では、このようなワイピングテープ１を用いて、円盤状の磁気記録媒体を回転させつつ、この磁気記録媒体の表面に、ワイピングテープ１のマイクロビーズ３が設けられた面（以下、拭き面という。）Ｓを押し当てることにより行われる。これにより、糸くずなどのダストの発生を防ぎつつ、磁気記録媒体の表面に付着した汚染物質等が拭き取られ、磁気記録媒体の表面が清浄化される。
【００２７】
具体的に、本発明のマイクロビーズを用いたワイピング工程では、例えば図２に示すようなワイピング装置２０を用いることができる。このワイピング装置２０は、図２（ａ）に示すように、磁気記録媒体Ｗを回転駆動する媒体回転駆動機構２１と、上記ワイピングテープ１を走行させるテープ走行機構２２と、磁気記録媒体Ｗの表面にワイピングテープ１を押し当てるテープ押当機構２３とを備えている。また、このワイピング装置２０は、上記ワイピングテープ１により磁気記録媒体Ｗの両面を同時に処理するため、磁気記録媒体Ｗを挟んだ両側に、それぞれテープ走行機構２２及びテープ押当機構２３を備えた構成となっている。
【００２８】
媒体回転駆動機構２１は、図示を省略するモータにより回転駆動されるスピンドル２４と、このスピンドル２４の先端に磁気記録媒体Ｗの中心部を保持するチャック部２５とを有し、このチャック部２５を介してスピンドル２４の先端に着脱自在に装着された磁気記録媒体Ｗを回転駆動する。
【００２９】
テープ走行機構２２は、上記媒体回転駆動機構２１により回転駆動される磁気記録媒体Ｗを挟んだ両側において、それぞれ拭き面Ｓが磁気記録媒体Ｗの主面と対向するように配置されたワイピングテープ１を磁気記録媒体Ｗの回転方向ｒとは逆方向Ｒａ，Ｒｂに走行させるものである。
【００３０】
具体的に、このテープ走行機構２２は、図示を省略する供給リール及び巻取リールと、供給リールから供給されたワイピングテープ１を巻取リールで巻き取りながら、これら供給リールと巻取リールとの間でワイピングテープ１を案内する複数のガイドロール２６ａ〜２６ｄとを有している。ワイピングテープ１は、これら複数のガイドロール２６ａ〜２６ｄのうち、ガイドロール２６ａ，２６ｂの間で磁気記録媒体Ｗの主面と平行となり、ガイドロール２６ｂ，２６ｃの間で磁気記録媒体Ｗの主面から離間する方向に略直角に折り曲げられて、ガイドロール２６ｃ，２６ｄの間で再び磁気記録媒体Ｗの主面と平行となるように、各位置に配置されたガイドロール２６ａ〜２６ｄに案内されて走行するようになっている。また、これら複数のガイドロール２６ａ〜２６ｄは、磁気記録媒体Ｗを挟んで対称となる位置に各々配置されている。
【００３１】
テープ押当機構２３は、磁気記録媒体Ｗと対向するワイピングテープ１を拭き面Ｓとは反対側の面（裏面）側から押圧しながら、このワイピングテープ１の拭き面Ｓを磁気記録媒体Ｗの表面に押し当てる（接触させる）ものである。具体的に、このテープ押当機構２３は、上記ガイドロール２６ａ，２６ｂの間を走行するワイピングテープ１と、上記ガイドロール２６ｃ，２６ｄの間を走行するワイピングテープ１との間に、押圧パッド２７が取り付けられた揺動アーム２８を有している。また、この揺動アーム２８は、図示を省略する駆動機構により、磁気記録媒体Ｗと対向する側のワイピングテープ１の裏面に対して接離自在な方向に揺動可能となっている。また、このような押圧パッド２７が取り付けられた揺動アーム２８は、磁気記録媒体Ｗを挟んで対称となる位置に各々配置されている。
【００３２】
押圧パッド２７は、柔軟性を有する樹脂や織布等によって構成されていることが好ましい。また、このような押圧パッド２７の代わりに、ゴム等からなる押圧ローラを揺動アーム２８に取り付けた構成とすることも可能である。
【００３３】
以上のような構造を有するワイピング装置２０を用いた本発明のワイピング工程では、図２（ｂ）に示すように、上記ガイドロール２６ａ，２６ｂの間で走行されるワイピングテープ１の裏面を揺動アーム２８が押圧パッド２７を介して押圧することによって、上記ガイドロール２６ａ，２６ｂの間からワイピングテープ１が磁気記録媒体Ｗと近接する方向に押し出された状態となり、このワイピングテープ１の拭き面Ｓが上記媒体回転機構２１により回転される磁気記録媒体Ｗの表面に押し当てられる。これにより、磁気記録媒体Ｗの表面に付着した汚染物質等がワイピングテープ１により払拭除去されて、磁気記録媒体Ｗの表面が清浄化される。
【００３４】
ここで、本発明のマイクロビーズを用いたワイピング工程では、上述した支持体２の表面にマイクロビーズ３を固着させたワイピングテープ１を用いることによって、磁気記録媒体Ｗの表面を払拭した際に、このワイピングテープ１からの糸くずなどのダストの発生を防ぎつつ、磁気記録媒体Ｗの表面に付着した汚染物質等を適切に除去することが可能である。
【００３５】
また、ワイピングテープ１の拭き面Ｓには、上記図１に示すように、例えば、パーフルオロポリエーテルや、フッ素化アルコール、フッ素化カルボン酸などの潤滑剤６を塗布したものを用いることが可能である。
【００３６】
この場合、磁気記録媒体Ｗの表面からワイピングテープ１に転写された汚染物質を、このワイピングテープ１の拭き面Ｓに確実に保持することができる。また、この潤滑剤６によってワイピングテープ１の磁気記録媒体Ｗの表面に対する動摩擦抵抗を下げることができる。なお、潤滑剤６には、磁気記録媒体Ｗの表面に塗布する潤滑剤として一般的に用いられるものと同じものを使用できるため、この潤滑剤６がワイピングテープ１から磁気記録媒体Ｗの表面に転写されても特に影響はない。また、本発明のマイクロビーズを用いたワイピング工程は、磁気記録媒体Ｗの表面に潤滑剤の塗布する前に行うことが好ましい。
【００３７】
また、本発明のマイクロビーズを用いたワイピング工程の前には、布製のワイピングテープを用いて、磁気記録媒体の表面を払拭する別のワイピング工程と、支持体の表面に砥粒を固着させたバーニッシュテープを用いて、磁気記録媒体の表面を研磨するバーニッシュ工程とを設けることが好ましい。
【００３８】
すなわち、本発明のマイクロビーズを用いたワイピングテープは、布製のワイピングテープに比べて発塵は少ないものの、ダストの補足能力はそれほど高くなく、また、磁気記録媒体の表面に形成した異常突起等を研磨除去する効果は低いため、上記本発明のマイクロビーズを用いたワイピング工程の他に、布製のワイピングテープを用いたワイピング工程と、バーニッシュテープを用いたバーニッシュ工程とを併用することで、磁気記録媒体の表面を更に高い次元の清浄度とし、その後に行われる磁気転写工程の転写回数を飛躍的に高めることが可能となる。
【００３９】
（布製のワイピングテープを用いたワイピング工程）
本発明で併用される布製のワイピングテープを用いたワイピング工程は、上記マイクロビーズを用いたワイピング工程と同様の装置を用いて行うことができる。すなわち、このワイピング工程は、布製のワイピングテープを媒体表面に対して相対走行させつつ、ゴム製のコンタクトロール又はパッドによってワイピングテープの表面を媒体表面に押し当てることにより、媒体表面を軽く拭く工程である。このようなワイピング処理を行うことにより、媒体表面のスパッタダスト等が除去されるので、磁気ヘッドの浮上量をより小さくすることが可能となる。
【００４０】
ここで、布製のワイピングテープとしては、超極細繊維よりなる布帛を帯状にスリットしたワイピングテープや、超極細繊維マルチフィラメント糸の織編物等が用いられる。
【００４１】
また、このようなワイピングテープを用いる磁気記録媒体のワイピング方法は、具体的には、磁気記録媒体を回転させつつ、この磁気記録媒体の磁性層側の面に、ワイピングテープの表面（拭き面）を押し当てることにより行われる。これにより、磁気記録媒体表面のスパッタダスト等が拭き取られ、表面が清浄化する。ここで、ワイピングテープは、供給リールと巻取リールとの間に掛け渡されており、供給リールから順次供給され、巻取リールに順次巻き取られる。そして、この供給リール側から巻取リール側に走行する途中で、ワイピングテープは、拭き面と反対側の面（裏面）がゴム等のバッキングロール又はフェルト等により押圧され、その拭き面が磁気記録媒体の表面に押し当てられる。
【００４２】
（バーニッシュ工程）
本発明で併用されるバーニッシュ工程は、上記マイクロビーズを用いたワイピング工程と同様の装置を用いて行うことができる。すなわち、このバーニッシュ工程は、アルミナ砥粒を塗布した研磨テープ等を用いて行なわれ、この研磨テープをゴム製のコンタクトロールによって媒体表面に押し当てることにより、媒体表面を軽く研磨する工程である。このような処理を行うことにより、媒体表面の異常突起等が除去される。
【００４３】
バーニッシュ工程に用いられるバーニッシュテープとしては、通常ポリエステル製のベースフィルム（支持体）の表面に砥粒を固着させた研磨材層を形成してなるテープを使用できる。研磨材層には、平均粒子径が０．０５μｍ〜５０μｍ程度の、酸化クロム、α−アルミナ、炭化珪素、非磁性酸化鉄、ダイヤモンド、γ−アルミナ、α，γ−アルミナ、熔融アルミナ、コランダム、人造ダイヤモンド等の砥粒が用いられる。そして、このバーニッシュテープを磁気記録媒体の磁性層側の面と接触して摺動させることによって、磁気記録媒体の表面に付着した微小な塵埃が除去されると共に、その表面に存在する異常突起等が研磨・除去されて、その表面が平滑化される。
【００４４】
（磁気転写工程）
磁気転写工程では、上記本発明のマイクロビーズを用いたワイピング工程によって表面が清浄化された磁気記録媒体Ｗに対してサーボ信号等の書き込み作業を磁気転写によって行う。具体的に、この磁気転写工程では、先ず、磁気記録媒体Ｗの信号記録面を初期磁化する。この初期磁化は、面内磁気記録媒体Ｗの場合は、トラック方向の一方向に初期直流磁界を印加することにより行い、垂直磁気記録媒体Ｗの場合は、媒体表面に対して垂直な方向の一方向に初期直流磁界を印加することにより行う。
【００４５】
この初期直流磁界は、永久磁石や電磁石を用いて印加することが可能である。また、永久磁石としては、より安定で磁力の強いＮｄＦｅＢ系の焼結磁石を用いることが好ましい。また、初期直流磁界の印加は、磁気記録媒体Ｗと非接触の状態で行うことが、磁気記録媒体Ｗの表面の清浄性を維持する上で好ましい。
【００４６】
次に、図３に示すように、初期直流磁界の印加を行った後の磁気記録媒体Ｗの信号記録面と、サーボ信号等に対応する転写パターンが形成されたマスター情報担体Ｍの転写面とを接触させた状態で、互いを所定の押圧力で密着させる。そして、この状態で、マスター情報担体Ｍの転写面とは反対側から、磁界生成手段Ｇを用いて、この磁界生成手段Ｇを相対的にトラック方向Ｘに移動させながら転写用の外部磁界を印加する。この転写用の外部磁界は、上記初期直流磁界とは逆方向となる磁界である。これにより、磁気記録媒体Ｗでは、マスター情報担体Ｍの転写パターンと対向する箇所で磁化反転が生じ、サーボ信号等に対応した磁化パターンが磁気転写により書き込まれることになる。
【００４７】
なお、マスター情報担体Ｍについては、公知の方法によって製造することができる。具体的に、このようなマスター情報担体Ｍを製造する際は、先ず、シリコンウェハの表面に電子線レジストをスピンコート法により塗布する。その後、このレジストに対して、電子線露光装置を用いてサーボ信号等に対応させて変調した電子ビームを照射し、レジストの露光・現像を行った後、未露光部分を除去することによって、シリコンウェハ上に、転写パターンに対応したレジストパターンを形成する。なお、転写パターンには、ハードディスクドライブのサーボ信号の他、ハードディスクドライブにおいてサーボ信号を生成するためのプリサーボ信号やセルフサーボ信号などが例示できる。
【００４８】
次に、このレジストパターンをマスクにして、シリコンウェハに対して反応性エッチング処理を行い、レジストでマスクされていない箇所を掘り下げる。このエッチング処理後、シリコンウェハ上に残存するレジストを溶剤で洗浄除去する。その後、シリコンウェハを乾燥させて、マスター情報担体を作製するための原盤を得る。
【００４９】
次に、この原盤上に、Ｎｉからなる導電層をスパッタリング法により１０ｎｍ程度の厚みで形成する。その後、この導電層を形成した原盤を母型として用い、電鋳法により、この原盤上に数ミクロン厚のＮｉ層を形成する。その後、Ｎｉ層を原盤から外し、このＮｉ層の洗浄等を行い、表面に凸部１００ａ及び凹部１００ｂが形成されたＮｉ基材１００を得る。
【００５０】
次に、このＮｉ基材１００の表面に磁性層１０１を形成する。この磁性層１０１については、上記磁気記録媒体Ｗに用いられる磁性層と同じものを使用することができる。なお、Ｎｉ基材１００の表面に形成された磁性層１０１のうち、磁気記録媒体Ｗへの磁気転写に用いられるのは凸部１００ａが形成された部分の磁性層１０１であり、凹部１００ａが形成された部分の磁性層１０１は、磁気記録媒体Ｗと接触しないため、磁気転写に用いられない。
【００５１】
さらに、このＮｉ基材１００の表面には、磁気記録媒体Ｗと同様に保護膜（図示せず。）が形成される。この保護膜は、マスター情報担体Ｍの耐摩耗性を高めるためのものであり、数ｎｍ程度の厚さの硬質炭素膜等が用いられる。
以上の工程を経ることによって、サーボ信号等に対応する転写パターンが形成されたマスター情報担体Ｍを得ることができる。
【００５２】
磁界生成手段Ｇは、電磁石や永久磁石によって構成されるものであり、面内磁気記録媒体の場合は、トラック方向の他方向に転写用の外部磁界を発生させ、垂直磁気記録媒体の場合は、媒体表面に対して垂直な方向の他方向に転写用の外部磁界を発生させる。そして、この磁界生成手段Ｇは、磁気記録媒体Ｗの半径方向において同一方向の外部磁界を発生させながら、磁気記録媒体Ｗの中心にトラック方向Ｘに回転移動させることが可能となっている。
【００５３】
ここで、ハードディスクドライブに内蔵される磁気記録媒体Ｗは、一般的に非磁性基板２００の両面に磁気層２０１が形成されており、また、１台のハードディスクドライブには、複数枚の磁気記録媒体Ｗが内蔵される場合が多い。このため、ハードディスクドライブでは、複数の磁気ヘッドがスタック構造により一体で移動操作されるが、磁気記録媒体Ｗのトッラク幅は益々狭くなっており、１つの磁気記録媒体Ｗの信号記録面に書き込まれたサーボ信号等を用いて、他の信号記録面における磁気ヘッドの位置決めを行うことはヘッドのスタック構造の精度からは困難となっている。
【００５４】
したがって、本発明の磁気転写工程では、磁気記録媒体Ｗの両面に磁気転写によってサーボ信号等を書き込むことが好ましい。具体的には、磁気記録媒体Ｗの両面を一対のマスター情報担体Ｍで挟み込んだ状態とする。そして、この状態で、これらマスター情報担体Ｍの転写面とは反対側から、磁界生成手段Ｇを用いて転写用の外部磁界を印加する。これにより、磁気記録媒体Ｗの両面にサーボ信号等を書き込むことができる。
【００５５】
また、磁性層２０１の保磁力Ｈｃは、通常は３２０ｋＡ／ｍ（約４０００Ｏｅ）以上である。したがって、本発明の磁気転写工程では、この磁性層２０１を初期直流磁化した後、磁気記録媒体の両面をマスター情報担体Ｍで挟み込み、磁気転写できる強度の磁界をマスター情報担体Ｍを介して印加して磁気転写を行うことが好ましい。
【００５６】
磁気転写工程では、上記本発明のマイクロビーズを用いたワイピング工程によって表面が高度に清浄化された磁気記録媒体Ｗに対して磁気転写を行うため、マスター情報担体Ｍと磁気記録媒体Ｗとを重ね合わせた際に、上述した磁気記録媒体Ｗの表面に僅かに残留する金属腐食物等がマスター情報担体Ｍに少しずつ転写されて蓄積されることを防止することが可能である。特に、このような蓄積物がマスター情報担体Ｍの転写面の凹部１００ｂに入り込み、凸部１００ａを浸食しながら、磁気記録媒体Ｗに書き込まれる磁化パターンを劣化させることを防止することが可能である。
【００５７】
したがって、本発明によれば、１枚のマスター情報担体Ｍによって繰り返し転写できる合計の回数を飛躍的に高めることが可能であり、その結果、磁気記録媒体の生産コストを大幅に低減することが可能である。
【００５８】
なお、上記磁気転写工程の後は、得られた磁気記録媒体Ｗに対してグライド検査が行われる。グライド検査とは、磁気記録媒体Ｗの表面に突起物が無いかどうか検査する工程である。すなわち、磁気ヘッドを用いて磁気記録媒体Ｗに対して記録再生を行う際に、磁気記録媒体Ｗの表面に浮上量（媒体と磁気ヘッドの間隔）以上の高さの突起があると、磁気ヘッドが突起に衝突して磁気ヘッドが損傷したり、磁気記録媒体Ｗに欠陥が発生したりする原因となる。グライド検査では、そのような高い突起の有無を検査する。
【００５９】
グライド検査をパスした磁気記録媒体Ｗには、通常ではサーティファイ検査が実施される。サーティファイ検査とは、通常のハードディスクドライブの記録再生と同様に、磁気記録媒体Ｗに対して磁気ヘッドで所定の信号を記録した後、その信号を再生し、得られた再生信号によって磁気記録媒体Ｗの記録不能を検出し、磁気記録媒体Ｗの電気特性や欠陥の有無など媒体の品質を確かめるものである。
【００６０】
本発明を適用して製造された磁気記録媒体Ｗは、サーボ信号等が既に書き込まれているため、従来の方式でのサーティファイ検査とは異なる。すなわち、本発明を適用して製造された磁気記録媒体Ｗでは、この磁気記録媒体Ｗに磁気転写されたサーボ信号等を用いて、磁気ヘッドを特定箇所に位置づけして読み書きを行う形式の検査を行う。
【００６１】
（磁気記録媒体）
次に、本発明を適用して製造される磁気記録媒体Ｗの一例を図４に示す。
この磁気記録媒体Ｗは、図４に示すように、非磁性基板３１上に、スペーサ層３２ｂにより反強磁性結合させた２層の軟磁性層３２ａを含む軟磁性下地層３２と、配向制御層３３と、垂直磁性層３４と、保護層３５と、潤滑剤膜３６とを順次積層した構造を有している。
【００６２】
また、垂直磁性層３４は、下層の磁性層３４ａと、中層の磁性層３４ｂと、上層の磁性層３４ｃとの３層を含み、磁性層３４ａと磁性層３４ｂの間で非磁性層３７ａを、磁性層３４ｂと磁性層３４ｃの間で非磁性層３７ｂを挟み込むことで、これら磁性層３４ａ〜３４ｃと非磁性層３７ａ，３７ｂとが交互に積層された構造を有している。
【００６３】
非磁性基板３１としては、例えば、アルミニウムやアルミニウム合金などの金属材料からなる金属基板を用いてもよく、例えば、ガラスや、セラミック、シリコン、シリコンカーバイド、カーボンなどの非金属材料からなる非金属基板を用いてもよい。また、これら金属基板や非金属基板の表面に、例えばメッキ法やスパッタ法などを用いて、ＮｉＰ層又はＮｉＰ合金層が形成されたものを用いることもできる。
【００６４】
ガラス基板としては、例えば、アモルファスガラスや結晶化ガラスなどを用いることができ、アモルファスガラスとしては、例えば、汎用のソーダライムガラスや、アルミノシリケートガラスなどを用いることができる。また、結晶化ガラスとしては、例えば、リチウム系結晶化ガラスなどを用いることができる。セラミック基板としては、例えば、汎用の酸化アルミニウムや、窒化アルミニウム、窒化珪素などを主成分とする焼結体、又はこれらの繊維強化物などを用いることができる。
【００６５】
非磁性基板３１は、その平均表面粗さ(Ｒａ)が１ｎｍ（１０Å）以下、好ましくは０．５ｎｍ以下であるとことが、磁気ヘッドを低浮上させた高記録密度記録に適している点から好ましい。また、表面の微小うねり(Ｗａ)が０．３ｎｍ以下（より好ましくは０．２５ｎｍ以下。）であることが、磁気ヘッドを低浮上させた高記録密度記録に適している点から好ましい。また、端面のチャンファー部の面取り部と、側面部との少なくとも一方の表面平均粗さ(Ｒａ)が１０ｎｍ以下（より好ましくは９．５ｎｍ以下。）のものを用いることが、磁気ヘッドの飛行安定性にとって好ましい。なお、微少うねり(Ｗａ)は、例えば、表面荒粗さ測定装置Ｐ−１２（ＫＬＭ−Ｔｅｎｃｏｒ社製）を用い、測定範囲８０μｍでの表面平均粗さとして測定することができる。
【００６６】
また、非磁性基板３１は、Ｃｏ又はＦｅが主成分となる軟磁性下地層３２と接することで、表面の吸着ガスや、水分の影響、基板成分の拡散などにより、腐食が進行する可能性がある。この場合、非磁性基板３１と軟磁性下地層３２の間に密着層を設けることが好ましく、これにより、これらを抑制することが可能となる。なお、密着層の材料としては、例えば、Ｃｒ、Ｃｒ合金、Ｔｉ、Ｔｉ合金など適宜選択することが可能である。また、密着層の厚みは２ｎｍ（２０Å）以上であることが好ましい。
【００６７】
軟磁性層３２ａとしては、Ｆｅ：Ｃｏを４０：６０〜７０：３０（原子比）の範囲で含む材料を用いることが好ましい。また、その透磁率や耐食性を高めるために、Ｔａ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｃｒの中から選ばれる何れか１種を１〜８原子％の範囲で含有させることが好ましい。スペーサ層３２ｂとしては、Ｒｕ、Ｒｅ、Ｃｕ等を用いることができるが、この中で特にＲｕを用いることが好ましい。
【００６８】
配向制御層３３は、垂直磁性層３４の結晶粒を微細化して、記録再生特性を改善するためのものである。この配向制御層３３としては、特に限定されるものではないが、ｈｃｐ構造、ｆｃｃ構造、アモルファス構造を有するものを用いることが好ましい。特に、Ｒｕ系合金、Ｎｉ系合金、Ｃｏ系合金、Ｐｔ系合金、Ｃｕ系合金を用いることが好ましい。また、これらの合金を多層化してもよい。例えば、基板側からＮｉ系合金とＲｕ系合金との多層構造、Ｃｏ系合金とＲｕ系合金との多層構造、Ｐｔ系合金とＲｕ系合金との多層構造を採用することが好ましい。
【００６９】
ここで、配向制御層３３の直上にある垂直磁性層３４の初期部には、結晶成長の乱れが生じやすく、これがノイズの原因となる。この場合、配向制御層３３と垂直磁性層３４の間に非磁性下地層３８を設けることが好ましい。この初期部の乱れた部分を非磁性下地層３８で置き換えることで、ノイズの発生を抑制することができる。
【００７０】
非磁性下地層３８としては、Ｃｏを主成分とし、更に酸化物を含んだ材料からなるものを用いることが好ましい。Ｃｒの含有量は、２５原子％以上、５０原子％以下とすることが好ましい。酸化物としては、例えばＣｒ、Ｓｉ、Ｔａ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｃｏなどの酸化物を用いることが好ましく、その中でも特に、ＴｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３、ＳｉＯ２などを好適に用いることができる。酸化物の含有量としては、磁性粒子を構成する、例えばＣｏ、Ｃｒ、Ｐｔ等の合金を１つの化合物として算出したｍｏｌ総量に対して、３ｍｏｌ％以上、１８ｍｏｌ％以下とすることが好ましい。
【００７１】
磁性層３４ａ，３４ｂ，３４ｃとしては、Ｃｏを主成分とし、更に酸化物を含んだ材料を用いることが好ましく、この酸化物としては、例えばＣｒ、Ｓｉ、Ｔａ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｃｏなどの酸化物を用いることが好ましい。その中でも特に、ＴｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３、ＳｉＯ２などを好適に用いることができる。また、下層の磁性層３４ａは、酸化物を２種類以上添加した複合酸化物からなることが好ましい。その中でも特に、Ｃｒ２Ｏ３−ＳｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３−ＴｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３−ＳｉＯ２−ＴｉＯ２などを好適に用いることができる。
【００７２】
磁性層３４ａ，３４ｂ，３４ｃに適した材料としては、例えば、９０（Ｃｏ１４Ｃｒ１８Ｐｔ）−１０（ＳｉＯ２）｛Ｃｒ含有量１４原子％、Ｐｔ含有量１８原子％、残部Ｃｏからなる磁性粒子を１つの化合物として算出したモル濃度が９０ｍｏｌ％、ＳｉＯ２からなる酸化物組成が１０ｍｏｌ％｝、９２（Ｃｏ１０Ｃｒ１６Ｐｔ）−８（ＳｉＯ２）、９４（Ｃｏ８Ｃｒ１４Ｐｔ４Ｎｂ）−６（Ｃｒ２Ｏ３）の他、（ＣｏＣｒＰｔ）−（Ｔａ２Ｏ５）、（ＣｏＣｒＰｔ）−（Ｃｒ２Ｏ３）−（ＴｉＯ２）、（ＣｏＣｒＰｔ）−（Ｃｒ２Ｏ３）−（ＳｉＯ２）、（ＣｏＣｒＰｔ）−（Ｃｒ２Ｏ３）−（ＳｉＯ２）−（ＴｉＯ２）、（ＣｏＣｒＰｔＭｏ）−（ＴｉＯ）、（ＣｏＣｒＰｔＷ）−（ＴｉＯ２）、（ＣｏＣｒＰｔＢ）−（Ａｌ２Ｏ３）、（ＣｏＣｒＰｔＴａＮｄ）−（ＭｇＯ）、（ＣｏＣｒＰｔＢＣｕ）−（Ｙ２Ｏ３）、（ＣｏＣｒＰｔＲｕ）−（ＳｉＯ２）などの組成物を挙げることができる。
【００７３】
また、本発明では、上記垂直磁性層３４を４層以上の磁性層で構成することも可能である。例えば、上記磁性層３４ａ，３４ｂに加えて、グラニュラー構造の磁性層を３層で構成し、その上に、酸化物を含まない磁性層３４ｃを設けた構成とし、また、酸化物を含まない磁性層３４ｃを２層構造として、磁性層３４ａ，３４ｂの上に設けた構成とすることができる。
【００７４】
また、本発明では、垂直磁性層３４を構成する３層以上の磁性層間に非磁性層３７を設けることが好ましい。非磁性層３７を適度な厚みで設けることで、個々の膜の磁化反転が容易になり、磁性粒子全体の磁化反転の分散を小さくすることができる。その結果Ｓ／Ｎ比をより向上させることが可能である。
【００７５】
保護層３５は、垂直磁性層３４の腐食を防ぐと共に、磁気ヘッドが磁気記録媒体Ｗに接触したときに媒体表面の損傷を防ぐためのものである。保護層３５には、従来公知の材料を用いることができ、例えばＣ、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２などを含むものを用いることが可能である。保護層３５の厚みは、１〜１０ｎｍとすることが磁気ヘッドと磁気記録媒体Ｗの距離を小さくできるので高記録密度の点から好ましい。
【００７６】
潤滑剤膜３６としては、例えば、パーフルオロポリエーテル、フッ素化アルコール、フッ素化カルボン酸などの潤滑剤を保護層３５上に塗布することによって形成される。
【００７７】
（磁気記録再生装置）
次に、本発明を適用して製造された磁気記録媒体Ｗを備える磁気記録再生装置（ハードディスクドライブ）の一例を図５に示す。
この磁気記録再生装置は、上記図４に示す本発明を適用して製造された磁気記録媒体７０と、磁気記録媒体７０を回転駆動させる媒体駆動部７１と、磁気記録媒体７０に情報を記録再生する磁気ヘッド７２と、この磁気ヘッド７２を磁気記録媒体７０に対して相対運動させるヘッド駆動部７３と、記録再生信号処理系７４とを備えている。また、記録再生信号処理系７４は、外部から入力されたデータを処理して記録信号を磁気ヘッド７２に送り、磁気ヘッド７２からの再生信号を処理してデータを外部に送ることが可能となっている。また、この磁気記録再生装置が備える磁気ヘッド７２には、再生素子として巨大磁気抵抗効果（ＧＭＲ）を利用したＧＭＲ素子などを有した、より高記録密度に適した磁気ヘッドを用いることができる。
【００７８】
上記磁気記録再生装置によれば、上記磁気記録媒体７０に、本発明を適用して製造された高記録密度、高速書き込み、優れた電磁変換特性の磁気記録媒体Ｗを採用することで、優れたハードディスクドライブとすることが可能である。
【実施例】
【００７９】
以下、実施例により本発明の効果をより明らかなものとする。なお、本発明は、以下の実施例に限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲で適宜変更して実施することができる。
【００８０】
（実施例１）
実施例１では、先ず、洗浄済みのガラス基板（コニカミノルタ社製、外形２．５インチ）をＤＣマグネトロンスパッタ装置（アネルバ社製Ｃ−３０４０）の成膜チャンバ内に収容して、到達真空度１×１０−５Ｐａとなるまで成膜チャンバ内を排気した後、このガラス基板の上に、６０Ｃｒ−４０Ｔｉターゲットを用いて層厚１０ｎｍの密着層を成膜した。また、この密着層の上に、４６Ｆｅ−４６Ｃｏ−５Ｚｒ−３Ｂ｛Ｆｅ含有量４６原子％、Ｃｏ含有量４６原子％、Ｚｒ含有量５原子％、Ｂ含有量３原子％｝のターゲットを用いて１００℃以下の基板温度で、層厚３４ｎｍの軟磁性層を成膜し、この上にＲｕ層を層厚０．７６ｎｍで成膜した後、さらに４６Ｆｅ−４６Ｃｏ−５Ｚｒ−３Ｂの軟磁性層を層厚３４ｎｍ成膜して、これを軟磁性下地層とした。
【００８１】
次に、上記軟磁性下地層の上に、Ｎｉ−６Ｗ｛Ｗ含有量６原子％、残部Ｎｉ｝ターゲット、Ｒｕターゲットを用いて、それぞれ５ｎｍ、２０ｎｍの層厚で順に成膜し、これを配向制御層とした。
【００８２】
次に、配向制御層の上に、多層構造の磁性層として、Ｃｏ１２Ｃｒ１６Ｐｔ−１６ＴｉＯ２（膜厚３ｎｍ）、Ｃｏ５Ｃｒ２２Ｐｔ−４ＳｉＯ２−３Ｃｒ２Ｏ３−２ＴｉＯ２（膜厚３ｎｍ）、Ｒｕ４７．５Ｃｏ（膜厚０．５ｎｍ）、Ｃｏ１５Ｃｒ１６Ｐｔ６Ｂ（膜厚３ｎｍ）を積層した。
次に、ＣＶＤ法により層厚２．５ｎｍの炭素保護層を成膜し、実施例１の磁気記録媒体を得た。
【００８３】
次に、この磁気記録媒体の表面に、ディッピング法によりパーフルオロポリエーテルからなる潤滑剤膜を厚さ１５オングストロームで形成した。
【００８４】
次に、潤滑剤を塗布した磁気記録媒体に対してワイピング処理を施した。ワイピングテープには、ナイロン樹脂とポリエステル樹脂による線径２μｍの剥離型複合繊維を用いた。ワイピング処理は、磁気記録媒体の回転数を３００ｒｐｍ、ワイピングテープの送り速度を１０ｍｍ／秒、ワイピングテープを磁気記録媒体に押し当てる際の押圧力を９８ｍＮ、処理時間を５秒間とした。
【００８５】
次に、ワイピング処理を施した磁気記録媒体に対してバーニッシュ処理を施した。バーニッシュテープには、ポリエチレンテレフタレート製のフィルム上に、平均粒径０．５μｍの結晶成長タイプのアルミナ粒子をエポキシ樹脂で固着したものを用いた。バーニッシュ処理は、磁気記録媒体の回転数を３００ｒｐｍ、研磨テープの送り速度を１０ｍｍ／秒、研磨テープを磁気ディスクに押し当てる際の押圧力を９８ｍＮ、処理時間を５秒間とした。
【００８６】
次に、バーニッシュ処理を施した磁気記録媒体に対してマイクロビーズを用いたワイピング処理を施した。ワイピングテープには、厚さ２０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムからなるテープ状の支持体の表面に、平均粒径３μｍのアクリルビーズを層状に固着したものを使用した。ワイピング処理は、磁気記録媒体の回転数を２００ｒｐｍ、研磨テープの送り速度を１０ｍｍ／秒、研磨テープを磁気ディスクに押し当てる際の押圧力を７０ｍＮ、処理時間を５秒間とした。
【００８７】
次に、マイクロビーズを用いたワイピング加工を施した磁気記録媒体に対して磁気転写によりサーボ信号等を書き込んだ。具体的には、磁気記録媒体の両データ面に対して、ＮｄＦｅＢ系焼結磁石を用いて、磁気記録媒体を貫通する１０ｋＯｅの磁界を加えながら、初期磁化を施した。
【００８８】
そして、初期磁化を施した磁気記録媒体の両面にマスター情報担体を９８ｍＮの圧力で密着させ、このマスター情報担体の裏面から記録磁界を印加した。この記録磁界の強度は４ｋＯｅとし、転写時間は１０秒間とした。
【００８９】
マスター情報担体には、２７１ｋトラック／インチのサーボ信号等の転写パターンが形成されたものを用いた。なお、このマスター情報担体は、そのトラックが幅１２０ｎｍ、そのトラック間隔が６０ｎｍ、転写パターンの段差が４５ｎｍである。このマスター情報担体は、凸部及び凹部を有するＮｉ基材の上に、ＤＣスパッタリング法を用いて、層厚１０ｎｍのＲｕ膜と、磁性層として層厚２０ｎｍの７０Ｃｏ−５Ｃｒ−１５Ｐｔ−１０ＳｉＯ２合金膜と、層厚１５ｎｍの８０Ｃｏ−５Ｃｒ−１５Ｐｔ合金膜とを順次積層した後、その上に、保護層として層厚２０ｎｍのＣＶＤ炭素膜を形成することで作製される。
【００９０】
上記方法で作製された磁気記録媒体のサーボ信号等の再生特性を、リードライトアナライザ（型番：ＲＷＡ１６３２；米国ＧＵＺＩＫ社製）、及び、スピンスタンド（型番：Ｓ１７０１ＭＰ）を用いて測定した。この装置では、磁気記録媒体に記録されたサーボ信号等を読み込み、この信号を用いて磁気ヘッドの位置決めができる。この際、評価用の磁気ヘッドとして、ＴｕＭＲを用いた磁気ヘッドを使用してサーボ信号の読み込み時のＳ／Ｎ比を評価し、Ｓ／Ｎ比が１６．０ｄＢ以下となった場合に磁気転写不良と判断した。
その結果、実施例１では、１２１０００回の磁気転写が可能であった。
【００９１】
（比較例１）
比較例１では、上記マイクロビーズを用いたワイピング工程を行わなかった以外は、実施例１と同じ条件で作製した磁気記録媒体に対して磁気転写を行った。
その結果、比較例１では、２５０００回の磁気転写が可能であった。
【符号の説明】
【００９２】
１…ワイピングテープ  ２…支持体  ３…マイクロビーズ  ４…結着剤  ５…ビーズ層  ６…潤滑剤
２０…ワイピングテープ  ２１…媒体回転駆動機構  ２２…テープ走行機構  ２３…テープ押当機構  ２４…スピンドル  ２５…チャック部  ２６ａ〜２６ｄ…ガイドロール  ２７…押圧パッド  ２８…揺動アーム
３１…非磁性基板  ３２…軟磁性下地層  ３２ａ…軟磁性層  ３２ｂ…スペーサ層  ３３…配向制御層  ３４…垂直磁性層  ３４ａ，３４ｂ，３４ｃ…磁性層  ３５…保護層  ３６…潤滑剤膜  ３７ａ，３７ｂ…非磁性層  ３８…非磁性下地層
７０…磁気記録媒体  ７１…媒体駆動部  ７２…磁気ヘッド  ７３…ヘッド駆動部  ７４…記録再生信号処理系
１００…Ｎｉ基材  １００ａ…凸部  １００ｂ…凹部  １０１…磁性層  ２００…非磁性基板  ２０１…磁性層
Ｗ…磁気記録媒体  Ｍ…マスター情報担体  Ｇ…磁界生成手段
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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