(57)【要約】      （修正有）【課題】現像性が良好で、形成された硬化膜の絶縁性、透明性、耐アルカリ性、基板との密着性に優れた感光性組成物、それを用いた感光性樹脂転写フィルム、樹脂パターン、樹脂パターンの製造方法、液晶表示装置用基板及び液晶表示装置の提供。【解決手段】（Ａ）側鎖に酸性基を有する樹脂と、（Ｂ）ジペンタエリスリトール(メタ)アクリレート（ｂ１）及び一般式（ｂ２）で表される重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、を含み、重合性化合物の総含有量に対する、（ｂ１）の含有率をＷ１、一般式（ｂ２）で表される化合物の含有率をＷ２としたとき、Ｗ１とＷ２とが、下記式（１）及び式（２）に示す関係を満たし、重合性化合物の総含有量に対する、該（Ｃ）光重合開始剤の含有比が、０．６以上５未満である感光性組成物。０．６≦Ｗ２／Ｗ１≦３．０・・・式（１）６３質量％≦Ｗ１＋Ｗ２≦１００質量％・・・式（２）2012078528.tif 000021【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）側鎖に酸性基を有する樹脂と、（Ｂ）下記一般式（ｂ１）で表される重合性化合物及び一般式（ｂ２）で表される重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、を含み、
重合性化合物の総含有量に対する、該一般式（ｂ１）で表される重合性化合物の含有率をＷ１（質量％）、該一般式（ｂ２）で表される重合性化合物の含有率をＷ２（質量％）としたとき、Ｗ１とＷ２とが、下記式（１）及び式（２）に示す関係を満たし、
かつ、重合性化合物の総含有量に対する、該（Ｃ）光重合開始剤の含有比〔（Ｃ）の含有量／重合性化合物の総含有量〕が、０．６以上５未満である感光性組成物。
０．６≦Ｗ２／Ｗ１≦３．０            ・・・・式（１）
６３質量％≦Ｗ１＋Ｗ２≦１００質量％  ・・・・式（２）
【化１】
2012078528.tif 000019
（前記一般式（ｂ１）中、Ｘは、水素原子又はＨ２Ｃ＝Ｃ（Ｒ）−Ｃ（Ｏ）−を表す。複数存在するＸは互いに同じでも異なっていてもよい。但し、分子中のＸのうち、少なくとも４個はＨ２Ｃ＝Ｃ（Ｒ）−Ｃ（Ｏ）−を表す。Ｒは、水素原子又は炭素数１〜４の炭化水素基を表す。）
【化２】
2012078528.tif 000020
（前記一般式（ｂ２）中、Ｘは、水素原子又はＨ２Ｃ＝Ｃ（Ｒ）−Ｃ（Ｏ）−を表す。複数存在するＸは互いに同じでも異なっていてもよい。但し、分子中のＸのうち、少なくとも６個はＨ２Ｃ＝Ｃ（Ｒ）−Ｃ（Ｏ）−を表す。Ｒは、水素原子又は炭素数１〜４の炭化水素基を表す。）
【請求項２】
前記（Ｂ）重合性化合物とは構造の異なる重合性化合物をさらに含む請求項１に記載の感光性組成物。
【請求項３】
含有される重合性化合物の総含有量の、前記（Ａ）樹脂の含有量に対する質量比率〔（重合性化合物の総含有量）／（Ａ）の含有量〕が０．４５〜１．６である請求項１又は請求項２に記載の感光性組成物。
【請求項４】
仮支持体上に、請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の感光性組成物からなる感光性樹脂層を少なくとも有する感光性樹脂転写フィルム。
【請求項５】
前記感光性樹脂層と前記仮支持体の間に、酸素遮断層および熱可塑性樹脂層の少なくとも一方を有する請求項４に記載の感光性樹脂転写フィルム。
【請求項６】
基板上に、請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の感光性組成物を用いて感光性樹脂層を設ける感光性樹脂層形成工程と、感光性樹脂層をパターン露光する露光工程と、露光された感光性樹脂層を現像して、パターン状の樹脂層を形成する現像工程と、現像により得られたパターン状の樹脂層を加熱する加熱工程を含む樹脂パターンの製造方法。
【請求項７】
前記感光性樹脂層形成工程が、前記感光性組成物を基板上に、塗布、乾燥する工程である請求項６に記載の樹脂パターンの製造方法。
【請求項８】
基板上に、請求項４又は請求項５に記載の感光性樹脂転写フィルムを用いて感光性樹脂層を設ける感光性樹脂層形成工程と、感光性樹脂層をパターン露光する露光工程と、露光された感光性樹脂層を現像して、パターン状の樹脂層を形成する現像工程と、現像により得られたパターン状の樹脂層を加熱する加熱工程を含む樹脂パターンの製造方法。
【請求項９】
前記感光性樹脂層形成工程が、前記感光性樹脂転写フィルムが有する感光性樹脂層を基板に接触させ、加熱及び加圧の少なくとも一方を行って、前記仮支持体より前記基板上に感光性樹脂層を転写する工程である請求項８に記載の樹脂パターンの製造方法。
【請求項１０】
前記基板上に設けられた感光性樹脂層の厚みが０．７μｍ〜３．０μｍの範囲である請求項６から請求項９のいずれか１項に記載の樹脂パターンの製造方法。
【請求項１１】
請求項６から請求項１０のいずれか１項に記載の樹脂パターンの製造方法により得られた樹脂パターン。
【請求項１２】
請求項１１に記載の樹脂パターンを備えた液晶表示装置用基板。
【請求項１３】
請求項１２に記載の液晶表示装置用基板を備えた液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、絶縁性、透明性、現像性、耐アルカリ性等の耐性に優れたタッチパネル素子に用いる絶縁層及びオーバーコート層を作製するための感光性組成物、感光性樹脂転写フィルム、樹脂パターン及び樹脂パターンの製造方法、並びに作製された液晶表示装置用基板及び液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶表示装置は、高画質画像を表示する表示装置に広く利用されている。液晶表示装置はカラーフィルタ基板とＴＦＴ基板間に、所定の配向により画像表示を可能とする液晶層が配置されて形成される。カラーフィルタに使用されるブラックマトリクス、画素、オーバーコート層、液晶配向制御用突起、及びスペーサーは、感光性組成物及び感光性樹脂転写フィルムを用いて形成された感光性樹脂層を、パターン露光、アルカリ現像よりパターニングし、さらに、ベークすることで、基体上に形成された樹脂パターンからなる。
【０００３】
近年、銀行ＡＴＭ、切符発券機、携帯端末にみられるようにタッチパネルを搭載した液晶表示装置の需要が拡大している。タッチパネルの方式としては、超音波方式、抵抗膜方式、静電容量方式などが知られているが、耐久性の観点から静電容量方式のタッチパネルの需要がさらに拡大すると見込まれている。
【０００４】
静電容量方式タッチパネル素子は、透明電極パターン間に絶縁層を挟持してコンデンサを形成し、さらにオーバーコート層等でカバーして作製する。その工程中に、溶剤、酸またはアルカリ溶液などによる表示素子の浸漬処理が行なわれ、また、配線電極層形成用のスパッタリングをする際には、表面が局部的に高温に曝される。従って、このような処理によって素子が劣化あるいは損傷することを防止するために、これらの処理に対して耐性を有する透明な絶縁層及びそれに積層させるオーバーコート層が必要とされる。
【０００５】
このような絶縁層及びオーバーコート層は、それらを形成すべき基体、または導電層等隣接層に対して密着性が高いものであること、膜自体が平滑で強靭であること、透明性を有するものであること、耐熱性および耐光性が高く、長期間にわたって着色、黄変、白化などの変質を起こさないものであること、耐水性、耐溶剤性、耐酸性および耐アルカリ性に優れたものであることなどの性能が要求される。
【０００６】
透明な感光性樹脂組成物としては、例えばカラーフィルタ用等の保護膜として、グリシジル基を有する重合体を含む熱硬化性組成物が知られている（例えば、特許文献１、特許文献２参照。）
【０００７】
また、オーバーコート層とその上に配置される柱状スペーサーとを同時に作製するための感光性樹脂組成物が知られている（例えば、特許文献３）。
【０００８】
通常、保護膜、オーバーコート層及び柱状スペーサーは、２００℃以上の温度下、６０分以上の熱焼成工程を経て形成されるが、近年、製造コストの削減やプラスチック基板等、耐熱性に限度のある基板に対応する観点から、熱焼成工程の低温化や短縮化が検討されており、高温のみならず、低温ないしは短時間の熱焼成工程でも従来と変わらない性能を有する感光性樹脂組成物が強く望まれている。
【０００９】
しかしながら上記のような熱硬化性組成物は室温における保存性が充分ではなく、さらに転写材料に応用した場合には、より硬化が進んでしまい、現像性が悪化するという欠点を有していた。
【００１０】
一方、スペーサーに用いられる樹脂組成物として、ジペンタエリスリトールとトリペンタエリスリトールとテトラペンタエリスリトールの混合物と（メタ）アクリル酸の反応物である（メタ）アクリル酸エステル混合物を含有することを特徴とする樹脂組成物が開示されている（例えば、特許文献４参照）。
しかしながら、前記樹脂組成物は主に熱に対する耐熱寸法安定性や、ラビング耐性の改良を主目的としており、面積の小さいドット状のフォトスペーサーに適用した場合には、下層との密着を確保できるものの、面積の大きい保護膜に適用した場合、下層との密着は、十分とは言い難かった。とりわけ、膜厚の薄いものやベーク温度が１５０℃以下の低めのものにおいては、露光時の収縮力を緩和できないため、密着性は実用レベルに達していないのが現状である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開平５−７８４５３号公報
【特許文献２】特開２００１−９１７３２号公報
【特許文献３】特開２００９−１０９７２５号公報
【特許文献４】特開２００２−２１２２３５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであって、その目的は、現像性が良好であり、１５０℃以下の温度域における熱焼成工程によっても、形成された硬化膜の絶縁性、透明性、耐アルカリ性等の耐性、さらには、基板との密着性に優れ、絶縁層やオーバーコート層の形成に有用な感光性組成物、それを用いた感光性樹脂転写フィルムを提供することにある。
本発明のさらなる目的は、前記本発明の感光性組成物を用いた樹脂パターンの製造方法、それにより得られた、透明性、基板との密着性に優れた樹脂パターン、該樹脂パターンを備えた液晶表示装置用基板及び液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記課題は、以下の本発明によって達成される。
即ち、本発明の構成は以下に示すとおりである。
＜１＞    （Ａ）側鎖に酸性基を有する樹脂と、（Ｂ）下記一般式（ｂ１）で表される重合性化合物及び一般式（ｂ２）で表される重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、を含み、
重合性化合物の総含有量に対する、該一般式（ｂ１）で表される重合性化合物の含有率をＷ１（質量％）、該一般式（ｂ２）で表される重合性化合物の含有率をＷ２（質量％）としたとき、Ｗ１とＷ２とが、下記式（１）及び式（２）に示す関係を満たし、
かつ、重合性化合物の総含有量に対する、該（Ｃ）光重合開始剤の含有比〔（Ｃ）の含有量／重合性化合物の総含有量〕が、０．６以上５未満である感光性組成物。
０．６≦Ｗ２／Ｗ１≦３．０            ・・・・式（１）
６３質量％≦Ｗ１＋Ｗ２≦１００質量％  ・・・・式（２）
【００１４】
【化１】
2012078528.tif 000002
【００１５】
（前記一般式（ｂ１）中、Ｘは、水素原子又はＨ２Ｃ＝Ｃ（Ｒ）−Ｃ（Ｏ）−を表す。複数存在するＸは互いに同じでも異なっていてもよい。但し、分子中のＸのうち、少なくとも４個はＨ２Ｃ＝Ｃ（Ｒ）−Ｃ（Ｏ）−を表す。Ｒは、水素原子又は炭素数１〜４の炭化水素基を表す。）
【００１６】
【化２】
2012078528.tif 000003
【００１７】
（前記一般式（ｂ２）中、Ｘは、水素原子又はＨ２Ｃ＝Ｃ（Ｒ）−Ｃ（Ｏ）−を表す。複数存在するＸは互いに同じでも異なっていてもよい。但し、分子中のＸのうち、少なくとも６個はＨ２Ｃ＝Ｃ（Ｒ）−Ｃ（Ｏ）−を表す。Ｒは、水素原子又は炭素数１〜４の炭化水素基を表す。）
＜２＞    前記（Ｂ）重合性化合物とは構造の異なる重合性化合物をさらに含む＜１＞に記載の感光性組成物。
＜３＞  含有される重合性化合物の総含有量の、前記（Ａ）樹脂の含有量に対する質量比率〔（重合性化合物の総含有量）／（Ａ）の含有量〕が０．４５〜１．６である＜１＞又は＜２＞に記載の感光性組成物。
＜４＞  仮支持体上に、＜１＞〜＜３＞のいずれか１つに記載の感光性組成物からなる感光性樹脂層を少なくとも有する感光性樹脂転写フィルムである。
＜５＞  前記感光性樹脂層と前記仮支持体の間に、酸素遮断層および熱可塑性樹脂層の少なくとも一方を設けてなる＜４＞に記載の感光性樹脂転写フィルムである。
【００１８】
＜６＞  基板上に、＜１＞〜＜３＞のいずれか１つに記載の感光性組成物を用いて感光性樹脂層を設ける感光性樹脂層形成工程と、感光性樹脂層をパターン露光する露光工程と、露光された感光性樹脂層を現像して、パターン状の樹脂層を形成する現像工程と、現像により得られたパターン状の樹脂層を加熱する加熱工程を含む樹脂パターンの製造方法である。
＜７＞  前記感光性樹脂層形成工程が、前記感光性組成物を基板上に、塗布、乾燥する工程である＜６＞に記載の樹脂パターンの製造方法である。
＜８＞  基板上に、＜４＞又は＜５＞に記載の感光性樹脂転写フィルムを用いて感光性樹脂層を設ける感光性樹脂層形成工程と、感光性樹脂層をパターン露光する露光工程と、露光された感光性樹脂層を現像して、パターン状の樹脂層を形成する現像工程と、現像により得られたパターン状の樹脂層を加熱する加熱工程を含む樹脂パターンの製造方法である。
＜９＞  前記感光性樹脂層形成工程が、前記感光性樹脂転写フィルムが有する感光性樹脂層を基板に接触させ、加熱及び加圧の少なくとも一方を行って、前記仮支持体より前記基板上に感光性樹脂層を転写する工程である＜８＞に記載の樹脂パターンの製造方法である。
【００１９】
＜１０＞  前記基板上に設けられた感光性樹脂層の厚みが０．７μｍ〜３．０μｍの範囲である＜６＞〜＜９＞のいずれか１つに記載の樹脂パターンの製造方法である。
＜１１＞  ＜６＞〜＜１０＞のいずれか１つに記載の樹脂パターンの製造方法により得られた樹脂パターンである。
＜１２＞  ＜１１＞に記載の樹脂パターンを備えた液晶表示装置用基板である。
＜１３＞  ＜１２＞に記載の液晶表示装置用基板を備えた液晶表示装置である。
本発明は上記構成としたために、従来の高温のみならず１５０℃以下の比較的低温領域によるベークによっても、絶縁性、透明性、耐アルカリ性等の耐性に優れ、タッチパネル素子用絶縁層やオーバーコート層を作製するのに有用な、の感光性組成物、感光性樹脂転写フィルムを提供しうる。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、現像性が良好であり、１５０℃以下の温度域における熱焼成工程によっても、形成された硬化膜の絶縁性、透明性、耐アルカリ性等の耐性、さらには、基板との密着性に優れ、絶縁層やオーバーコート層の形成に有用な感光性組成物、それを用いた感光性樹脂転写フィルムを提供することができる。
また、本発明によれば、前記本発明の感光性組成物を用いることで、樹脂パターンの製造方法、それにより得られた、透明性、基板との密着性に優れた樹脂パターン、該樹脂パターンを備えた液晶表示装置用基板及び液晶表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、本発明の感光性組成物、感光性樹脂転写フィルム、樹脂パターン及び樹脂パターンの製造方法、並びに液晶表示装置用基板及び液晶表示装置について詳細に説明する。
【００２２】
＜感光性組成物＞
本発明の感光性組成物は、（Ａ）側鎖に酸性基を有する樹脂と、（Ｂ）下記一般式（ｂ１）で表される重合性化合物及び一般式（ｂ２）で表される重合性化合物と、（Ｄ）光重合開始剤と、を含み、さらに、所望により、該（Ｂ）重合性化合物とは構造の異なる重合性化合物〔以下、適宜、他の重合性化合物と称する〕を含んでいてもよい。
本発明においては、以下に詳述する特定構造の２種の（Ｂ）重合性化合物を特定の比率で含むこと、所望により含まれる他の重合性化合物と該（Ｂ）重合性化合物の総含有量に対して（Ｃ）光重合開始剤を特定の比率で含むことを特徴とする。
以下、本発明の感光性組成物が含む各成分について順次説明する。
―（Ａ）側鎖に酸性基を有する樹脂―
本発明の感光性組成物は、（Ａ）側鎖に酸性基を有する樹脂〔以下、適宜、（Ａ）特定樹脂と称する〕を含有する。
（Ａ）特定樹脂は、側鎖に酸性基を有するものであれば特に制限はないが、酸性基を有する基：Ｙ（ｙモル％）の他、さらに、側鎖に分岐および／または脂環構造を有する基：Ｘ（ｘモル％）と、エチレン性不飽和基を有する基：Ｚ（ｚモル％）を含有することが好ましく、必要に応じてその他の基（Ｌ）（ｌモル％）を有していてもよい。また、（Ａ）特定樹脂中のひとつの基の中にＸ，Ｙ，及びＺが複数組み合わされていてもよい。
【００２３】
前記酸性基としては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、カルボキシル基、スルホン酸基、スルホンアミド基、リン酸基、フェノール性水酸基等が挙げられる。これらの中でも、現像性、及び硬化膜の耐水性が優れる点から、カルボキシ基、フェノール性水酸基であることが好ましい。
【００２４】
前記（Ａ）特定樹脂の側鎖に酸性基を導入するために用いられる単量体（酸性基を有する単量体）としては、特に制限はなく、スチレン類、（メタ）アクリレート類、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、（メタ）アクリルアミド類などに上記カルボキシル基等の酸性基を導入したものが挙げられ、（メタ）アクリレート類、ビニルエステル類、（メタ）アクリルアミド類に酸性基を導入したものが好ましく、さらに好ましくは（メタ）アクリレート類に酸性基を導入したものである。
なお、本明細書において、「アクリル」及び「メタクリル」の双方或いはいずれかを指す場合、「(メタ)アクリル」と、「アクリレート」及び「メタクリレート」の双方或いはいずれかを指す場合、「(メタ)アクリレート」と、それぞれ表記することがある。
【００２５】
前記酸性基を有する単量体の具体例としては、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、（メタ）アクリル酸、ビニル安息香酸、マレイン酸、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸、イタコン酸、クロトン酸、桂皮酸、ソルビン酸、α−シアノ桂皮酸、アクリル酸ダイマー、水酸基を有する単量体と環状酸無水物との付加反応物、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらは、適宜製造したものを使用してもよいし、市販品を使用してもよい。
【００２６】
前記水酸基を有する単量体と環状酸無水物との付加反応物に用いられる水酸基を有する単量体としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。前記環状酸無水物としては、例えば、無水マレイン酸、無水フタル酸、シクロヘキサンジカルボン酸無水物等が挙げられる。これらの中でも現像性に優れ、低コストである点で（メタ）アクリル酸等が好ましい。
【００２７】
（Ａ）特定樹脂における側鎖に酸性基を有する単量体の導入量は、５〜７０モル％が好ましく、１０〜６０モル％が更に好ましく、２０〜５０モル％が特に好ましい。側鎖に酸性基を有する基が前記範囲内であると、良好な硬化性、現像性が得られる。
【００２８】
また、（Ａ）特定樹脂として好適な酸価は、とりうる分子構造により好ましい範囲は変動するが、一般には２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることが好ましく、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることはより好ましく、７０〜１３０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが特に好ましい。酸価が前記好ましい範囲内であると、良好な絶縁性、透明性、耐水性、耐アルカリ性、耐酸性に優れた絶縁層及びオーバーコート層が得られる。このため、酸価が上記範囲となるように、側鎖に酸性基を有する単量体の使用量を決定すればよい。
【００２９】
また、（Ａ）特定樹脂は、既述のように、さらに、側鎖に「分岐および／または脂環構造を有する基」や、「エチレン性不飽和基」を有していてもよい。
即ち、本発明における（Ａ）特定樹脂は、前記側鎖に分岐および／または脂環構造を有する基：Ｘ（ｘモル％）と、酸性基を有する基：Ｙ（ｙモル％）と、エチレン性不飽和基を有する基：Ｚ（ｚモル％）とをそれぞれ別の共重合単位に有する少なくとも３元共重合以上の共重合体であることが、形成される樹脂パターンの絶縁性、透明性、耐水性、耐アルカリ性、耐酸性現像残渣低減、レチキュレーションの観点から好ましい。具体的には、前記Ｘ，Ｙ，Ｚを構成する各々の単量体を少なくとも１つ共重合させてなる共重合体が好ましい。
【００３０】
以下、「側鎖に分岐および／または脂環構造を有する基」について説明する。
分岐を有する基としては、炭素原子数３〜１２個の分岐状のアルキル基を示し、例えば、ｉ−プロピル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、２−メチルブチル基、イソヘキシル基、２−エチルヘキシル基、２−メチルヘキシル基、ｉ−アミル基、ｔ−アミル基、３−オクチル、ｔ−オクチル等が挙げられる。これらの中でも、ｉ−プロピル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペンチル基等が好ましく、さらにｉ−プロピル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基等が好ましい。
【００３１】
脂環構造を有する基としては、炭素原子数５〜２０個の脂環式炭化水素基を示し、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、アダマンチル基、トリシクロデシル基、ジシクロペンテニル基、ジシクロペンタニル基、トリシクロペンテニル基、及びトリシクロペンタニル基等が挙げられる。これらの中でも、シクロヘキシル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、アダマンチル基、トリシクロデシル基、トリシクロペンテニル基、トリシクロペンタニル基等が好ましく、更にシクロヘキシル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、トリシクロペンテニル基等が好ましい。
【００３２】
前記側鎖に分岐および／または脂環構造を有する基を含有する単量体としては、スチレン類、（メタ）アクリレート類、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、（メタ）アクリルアミド類などが挙げられ、（メタ）アクリレート類、ビニルエステル類、（メタ）アクリルアミド類が好ましく、さらに好ましくは（メタ）アクリレート類である。
【００３３】
前記側鎖に分岐構造を有する基を含有する単量体の具体例としては、（メタ）アクリル酸ｉ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｉ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｓ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｉ−アミル、（メタ）アクリル酸ｔ−アミル、（メタ）アクリル酸ｓｅｃ−ｉｓｏ−アミル、（メタ）アクリル酸２−オクチル、（メタ）アクリル酸３−オクチル、（メタ）アクリル酸ｔ−オクチル等が挙げられ、その中でも、（メタ）
アクリル酸ｉ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｉ−ブチル、メタクリル酸ｔ−ブチル等が好ましく、さらに好ましくは、メタクリル酸ｉ−プロピル、メタクリル酸ｔ−ブチル等である。
【００３４】
次に、前記側鎖に脂環構造を有する基を含有する単量体の具体例としては、炭素原子数５〜２０個の脂環式炭化水素基を有する（メタ）アクリレートである。具体的な例としては、（メタ）アクリル酸（ビシクロ〔２．２．１］ヘプチル−２）、（メタ）アクリル酸−１−アダマンチル、（メタ）アクリル酸−２−アダマンチル、（メタ）アクリル酸−３−メチル−１−アダマンチル、（メタ）アクリル酸−３，５−ジメチル−１−アダマンチル、（メタ）アクリル酸−３−エチルアダマンチル、（メタ）アクリル酸−３−メチル−５−エチル−１−アダマンチル、（メタ）アクリル酸−３，５，８−トリエチル−１−アダマンチル、（メタ）アクリル酸−３，５−ジメチル−８−エチル−１−アダマンチル、（メタ）アクリル酸  ２−メチル−２−アダマンチル、（メタ）アクリル酸  ２−エチル−２−アダマンチル、（メタ）アクリル酸  ３−ヒドロキシ−１−アダマンチル、（メタ）アクリル酸オクタヒドロ−４，７−メンタノインデン−５−イル、（メタ）アクリル酸オクタヒドロ−４，７−メンタノインデン−１−イルメチル、（メタ）アクリル酸−１−メンチル、（メタ）アクリル酸トリシクロデシル、（メタ）アクリル酸−３−ヒドロキシ−２，６，６−トリメチル−ビシクロ〔３．１．１〕ヘプチル、（メタ）アクリル酸−３，７，７−トリメチル−４−ヒドロキシ−ビシクロ〔４．１．０〕ヘプチル、（メタ）アクリル酸（ノル）ボルニル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸フエンチル、（メタ）アクリル酸−２，２，５−トリメチルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、などが挙げられる。
これら（メタ）アクリル酸エステルのなかでも、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸（ノル）ボルニル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸−１−アダマンチル、（メタ）アクリル酸−２−アダマンチル、（メタ）アクリル酸フエンチル、（メタ）アクリル酸１−メンチル、（メタ）アクリル酸トリシクロデシルなどが好ましく、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸（ノル）ボルニル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸−２−アダマンチルが特に好ましい。
【００３５】
前記（Ａ）特定樹脂の前記各成分の共重合組成比については、ガラス転移温度と酸価を勘案して決定され、一概に言えないが、「側鎖に分岐および／または脂環構造を有する基」は１０〜７０モル％が好ましく、１５〜６５モル％が更に好ましく、２０〜６０モル％が特に好ましい。側鎖に分岐および／または脂環構造を有する基が前記範囲内であると、良好な現像性が得られると共に、画像部の現像液耐性も良好である。
【００３６】
前記「エチレン性不飽和基」としては、特に制限はないが、（メタ）アクリロイル基が好ましい。また、エチレン性不飽和基と単量体との連結はエステル基、アミド基、カルバモイル基などの２価の連結基であれば特に制限はない。側鎖にエチレン性不飽和基を導入する方法は公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、酸性基を持つ化合物（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、ビニル安息香酸、マレイン酸、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸、イタコン酸、クロトン酸、桂皮酸、ソルビン酸、α−シアノ桂皮酸等）にエポキシ基を持つ（メタ）アクリレートを付加する方法、ヒドロキシル基を持つ基（例えば、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート等）にイソシアネート基を持つ（メタ）アクリレートを付加した付加する方法、イソシアネート基を持つ基にヒドロキシ基を持つ（メタ）アクリレートを付加する方法などが挙げられる。
【００３７】
その中でも、酸性基を持つ繰り返し単位にエポキシ基を持つ（メタ）アクリレートを付加する方法が最も製造が容易であり、低コストである点で好ましい。
エチレン性不飽和結合及びエポキシ基を有する（メタ）アクリレートとしては、これらを有すれば特に制限はない。
【００３８】
「側鎖にエチレン性不飽和基」を有する繰り返し単位の含有量は１０〜７０モル％が好ましく、２０〜７０モル％が更に好ましく、３０〜７０モル％が特に好ましい。側鎖にエチレン性不飽和基を有する基が前記範囲内であると、現像性及び硬化性も良好である。
【００３９】
（Ａ）特定樹脂には、前記３種の繰り返し単位の他、他の単量体に由来する繰り返し単位を含んでもよい。そのような他の単量体としては、特に制限はなく、例えば分岐および／または脂環構造をもたない（メタ）アクリル酸エステル、スチレン、ビニルエーテル、二塩基酸無水物基、ビニルエステル基、炭化水素アルケニル基等を有する単量体などが挙げられる。
【００４０】
前記ビニルエーテル基としては、特に制限はなく、例えば、ブチルビニルエーテル基などが挙げられる。
前記二塩基酸無水物基としては、特に制限はなく、例えば、無水マレイン酸基、無水イタコン酸基などが挙げられる。
前記ビニルエステル基としては、特に制限はなく、例えば、酢酸ビニル基などが挙げられる。
前記炭化水素アルケニル基としては、特に制限はなく、例えば、ブタジエン基、イソプレン基などが挙げられる。
【００４１】
前記（Ａ）特定樹脂におけるその他の単量体の含有率としては、モル組成比が、０〜３０ｍｏｌ％であることが好ましく、０〜２０ｍｏｌ％であることがより好ましい。
【００４２】
（Ａ）特定樹脂の具体例としては、例えば、特開２００８−１４６０１８公報の段落番号［００５７］〜［００６３］に記載される化合物Ｐ−１〜Ｐ−３５で表される化合物が挙げられる。
【００４３】
前記（Ａ）特定樹脂は、モノマーの（共）重合反応の工程とエチレン性不飽和基を導入する工程の二段階の工程から作られる。  まず、（共）重合反応は種々のモノマーの（共）重合反応によって作られ、特に制限はなく公知のものの中から適宜選択することができる。例えば、重合の活性種については、ラジカル重合、カチオン重合、アニオン重合、配位重合などを適宜選択することができる。これらの中でも合成が容易であり、低コストである点からラジカル重合であることが好ましい。また、重合方法についても特に制限はなく公知のものの中から適宜選択することができる。例えば、バルク重合法、懸濁重合法、乳化重合法、溶液重合法などを適宜選択することができる。これらの中でも、溶液重合法であることがより望ましい。
【００４４】
（Ａ）特定樹脂として好適な前記共重合体の重量平均分子量は、１０，０００〜１０万が好ましく、１２，０００〜６万が更に好ましく、１５，０００〜４．５万が特に好ましい。重量平均分子量が１０，０００未満であると、樹脂の強度が低下し、絶縁層及びオーバーコート層が凝集破壊しやすくなる、また現像速度が速くなりすぎることにより、樹脂パターンが基板から脱落しやすくなる。重量平均分子量が１０万を超えると現像残渣が多くなり好ましくない。
【００４５】
（Ａ）特定樹脂として好適なガラス転移温度（Ｔｇ）は、４０〜１８０℃であることが好ましく、４５〜１４０℃であることはより好ましく、５０〜１３０℃であることが特に好ましい。ガラス転移温度（Ｔｇ）が前記好ましい範囲内であると、良好な絶縁性、透明性、耐水性、耐アルカリ性、耐酸性に優れた絶縁層及びオーバーコート層が得られる。
【００４６】
前記（Ａ）特定樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）が４０〜１８０℃であり、かつ重量平均分子量が１０，０００〜１００，０００であることが良好な絶縁性、透明性、耐水性、耐アルカリ性、耐酸性に優れた絶縁層及びオーバーコート層が得られる点で好ましい。
更に、前記（Ａ）特定樹脂の好ましい例は、好ましい前記分子量、ガラス転移温度（Ｔｇ）、及び酸価のいずれもが前記好ましい範囲にある樹脂であることがより好ましい。
【００４７】
前記（Ａ）特定樹脂の含有量としては、前記感光性組成物全固形分に対して、５〜７０質量％が好ましく、１０〜５０質量％がより好ましい。
なお、ここで固形分とは、感光性組成物において溶剤を除いた他の成分の合計量を指す。
本発明の感光性組成物は、（Ａ）特定樹脂の他に、本発明の効果を損なわない限りにおいて、側鎖に酸性基を有する樹脂以外の樹脂（他の樹脂）を含有してもよい。他の樹脂を含有する場合、その含有量は、（Ａ）特定樹脂の含有量１００質量部に対して３０質量部以下であることが好ましく、効果の観点からは、樹脂として（Ａ）特定樹脂のみを含む態様がより好ましい。
【００４８】
−（Ｂ）一般式（ｂ１）で表される重合性化合物及び一般式（ｂ２）で表される重合性化合物−
本発明の感光性組成物は、以下に示す構造の２種の特定重合性化合物をそれぞれ少なくとも１種含有し、さらに、これらとは構造の異なる（Ｂ−２）他の重合性化合物を含有してもよい。
【００４９】
【化３】
2012078528.tif 000004
【００５０】
（前記一般式（ｂ１）中、Ｘは、水素原子又はＨ２Ｃ＝Ｃ（Ｒ）−Ｃ（Ｏ）−を表す。複数存在するＸは互いに同じでも異なっていてもよい。但し、分子中のＸのうち、少なくとも４個はＨ２Ｃ＝Ｃ（Ｒ）−Ｃ（Ｏ）−を表す。Ｒは、水素原子又は炭素数１〜４の炭化水素基を表す。）
【００５１】
【化４】
2012078528.tif 000005
【００５２】
（前記一般式（ｂ２）中、Ｘは、水素原子又はＨ２Ｃ＝Ｃ（Ｒ）−Ｃ（Ｏ）−を表す。複数存在するＸは互いに同じでも異なっていてもよい。但し、分子中のＸのうち、少なくとも６個はＨ２Ｃ＝Ｃ（Ｒ）−Ｃ（Ｏ）−を表す。Ｒは、水素原子又は炭素数１〜４の炭化水素基を表す。）
【００５３】
ここで、感光性組成物に含まれる重合性化合物の総量に対する、前記一般式（ｂ１）で表される重合性化合物の含有率をＷ１（質量％）、前記一般式（ｂ２）で表される重合性化合物の含有率をＷ２（質量％）としたとき、Ｗ１とＷ２とが、下記式（１）及び式（２）に示す関係を満たすことを要する。含有率Ｗ１及びＷ２が、下記式（１）及び式（２）に示す関係を満たすことにより、絶縁性、透明性、耐水性、耐アルカリ性、耐酸性に優れたタッチパネル素子用絶縁層及びオーバーコート層などの樹脂パターンを提供することができる。
０．６≦Ｗ２／Ｗ１≦３．０            ・・・・式（１）
６３質量％≦Ｗ１＋Ｗ２≦１００質量％  ・・・・式（２）
【００５４】
〔一般式（ｂ１）で表される重合性化合物〕
一般式（ｂ１）で表される重合性化合物における、Ｘは水素原子又はＨ２Ｃ＝Ｃ（Ｒ）−Ｃ（Ｏ）−を表し、重合性化合物一分子中に含まれるＨ２Ｃ＝Ｃ（Ｒ）−Ｃ（Ｏ）−は４個以上である。より好ましくは５個以上であり、最も好ましいのは、５．５個及び６個である。なお、この数は平均値で示す場合があり、例えば、一分子中にＨ２Ｃ＝Ｃ（Ｒ）−Ｃ（Ｏ）−を５個含むものと６個含むものとの等量混合物は、Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｒ）−Ｃ（Ｏ）−を一分子中に５．５含むものとされる。
また、Ｒは水素原子であるか、又は、メチル基など炭素数４以下の低級炭化水素基であり、より好ましくは水素原子又はメチル基など炭素数２以下の低級炭化水素基であり、最も好ましいのは、水素原子又はメチル基である。一分子中に含まれるＨ２Ｃ＝Ｃ（Ｒ）−Ｃ（Ｏ）−におけるＲは、互いに同じでも異なっていてもよいが、合成適性上は同じであることが好ましい。
一般式（ｂ１）で示される重合性化合物としては、具体的にはジペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート及びそれらの混合物が挙げられる。
なかでもジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート及びそれらの混合物がより好ましい。
【００５５】
〔一般式（ｂ２）で表される重合性化合物〕
一般式（ｂ２）で表される重合性化合物における、Ｘは水素原子又はＨ２Ｃ＝Ｃ（Ｒ）−Ｃ（Ｏ）−を表し、重合性化合物一分子中に含まれるＨ２Ｃ＝Ｃ（Ｒ）−Ｃ（Ｏ）−は６個以上である。より好ましくは７個以上であり、最も好ましいのは、７．５個及び８個である。なお、この数は平均値で示す場合があり、例えば、一分子中にＨ２Ｃ＝Ｃ（Ｒ）−Ｃ（Ｏ）−を７個含むものと８個含むものとの等量混合物は、Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｒ）−Ｃ（Ｏ）−を一分子中に７．５含むものとされる。
また、Ｒは水素原子であるか、又は、メチル基など炭素数４以下の低級炭化水素基であり、より好ましくは水素原子又はメチル基など炭素数２以下の低級炭化水素基であり、最も好ましいのは、水素原子又はメチル基である。一分子中に含まれるＨ２Ｃ＝Ｃ（Ｒ）−Ｃ（Ｏ）−におけるＲは、互いに同じでも異なっていてもよいが、合成適性上は同じであることが好ましい。
一般式（ｂ２）で示される重合性化合物としては、具体的にはトリペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタメタクリレート、トリペンタエリスリトールオクタメタクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタアクリレート、トリペンタエリスリトールオクタアクリレート及びそれらの混合物が挙げられる。
なかでも、トリペンタエリスリトールヘプタメタクリレート、トリペンタエリスリトールオクタメタクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタアクリレート、トリペンタエリスリトールオクタアクリレート及びそれらの混合物がより好ましい。
【００５６】
なお、これらのより好ましい組み合わせとしては、（ｂ１）ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートと（ｂ２）トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、（ｂ１）ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートと（ｂ２）トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、（ｂ１）ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートと（ｂ２）トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、（ｂ１）ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートと（ｂ２）トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、（ｂ１）ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートと（ｂ２）トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレートとトリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート混合物、（ｂ１）ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（ｂ２）トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレートとトリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート混合物、（ｂ１）ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートとジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートの混合物と（ｂ２）トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、（ｂ１）ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートとジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートの混合物と（ｂ２）トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート混合物が上げられる。
【００５７】
さらに好ましくは（ｂ１）ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートと（ｂ２）トリペンタエリスリトールオクタアクリレート、（ｂ１）ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートと（ｂ２）トリペンタエリスリトールヘプタアクリレート、（ｂ１）ジペンタエリスリトールペンタアクリレートと（ｂ２）トリペンタエリスリトールオクタアクリレート、（ｂ１）ジペンタエリスリトールペンタアクリレートと（ｂ２）トリペンタエリスリトールヘプタアクリレート、（ｂ１）ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートと（ｂ２）トリペンタエリスリトールヘプタアクリレートとトリペンタエリスリトールオクタアクリレート混合物、（ｂ１）ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ｂ２）トリペンタエリスリトールヘプタアクリレートとトリペンタエリスリトールオクタアクリレート混合物、（ｂ１）ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物と（ｂ２）トリペンタエリスリトールオクタアクリレート、（ｂ１）ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物と（ｂ２）トリペンタエリスリトールヘプタアクリレート混合物が挙げられる。
【００５８】
前記一般式（ｂ１）で表される重合性化合物及び一般式（ｂ２）で表される重合性化合物の、本発明の感光性組成物に含まれる全重合性化合物の含有量に対する含有率を、それぞれＷ１（質量％）及びＷ２（質量％）としたときに、下記式（１）１及び式（２）に示す関係を満たすことが必要である。
０．６≦Ｗ２／Ｗ１≦３．０              ・・・・式（１）
６３質量％≦Ｗ１＋Ｗ２≦１００質量％    ・・・・式（２）
【００５９】
式（２）に示すように、前記一般式（ｂ１）で表される重合性化合物及び一般式（ｂ２）で表される重合性化合物、それぞれの含有率Ｗ１（質量％）及びＷ２（質量％）の合計は、基板との密着力の観点から６３質量％以上１００質量％以下であることを要し、好ましくは６５質量％以上９５質量％、さらに好ましくは７０質量％以上９０質量％以下である。
含有率の合計が６３質量％未満になると、基板との密着力が低下するので好ましくない。また現像性の観点からは含有量の合計は６０質量％以上が好ましい。より好ましくは６３質量％以上、さらに好ましくは７０質量％以上である。６０質量％未満になると、現像時の残渣が悪化するので好ましくない。即ち、上記の二つの性能を満足するためには、６３質量％以上１００質量％以下であることが必要であり、好ましくは６５質量％以上９５質量％、さらに好ましくは７０質量％以上９０質量％以下である。
【００６０】
一方、含有率Ｗ１（質量％）とＷ２（質量％）の好ましい比率〔Ｗ２／Ｗ１〕は０．６以上３．０以下である。好ましくは０．６２以上２．９５以下、さらに好ましくは０．７以上２．６以下である。０．６未満であると露光直後及び現像時における樹脂パターンの、基板密着性が低下し、１５０℃以下のベークにおいても同様に基板の密着が低下する。３．０を超えると現像残渣が悪化して好ましくない。
【００６１】
−（Ｂ−２）他の重合性化合物−
本発明の感光性組成物には、前記一般式（ｂ１）及び一般式（ｂ２）で表される重合性化合物とは構造の異なる他の重合性化合物を含んでもよい。ここで併用できる他の重合性化合物としては、特開２００６−２３６９６号公報の段落番号［００１１］に記載の成分や、特開２００６−６４９２１号公報の段落番号［００４０］〜［００４９］に記載した成分であって、前記前記一般式（ｂ１）及び一般式（ｂ２）で表される重合性化合物に包含されないものが挙げられる。
そのようなモノマーとしては、分子中に少なくとも１個の付加重合可能なエチレン性不飽和基を有し、沸点が常圧で１００℃以上の化合物を挙げることができる。
具体例としては、例えば、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート及びフェノキシエチル（メタ）アクリレートなどの単官能アクリレートや単官能メタクリレート；ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）シアヌレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート；トリメチロールプロパンやグリセリン等の多官能アルコールにエチレンオキシド又はプロピレンオキシドを付加した後（メタ）アクリレート化したもの等の多官能アクリレートや多官能メタクリレートなどが挙げられる。
また、市販品を用いてもよく、例えば、ウレタン（メタ）アクリレートとしては、新中村化学工業株式会社製  Ｕ−６ＨＡ、Ｕ−６ＬＰＡ、ＵＡ−１１００Ｈ、ＵＡ−５３Ｈ、ＵＡ−３３Ｈ、Ｕ−２００ＰＡ、ＵＡ−４２００、ＵＡ−７１００、ＵＡ−３２Ｐ、ＵＡ−７２００（以上、商品名）を挙げることができる。
【００６２】
前記（Ａ）特定樹脂との関係において、感光性組成物に含まれる重合性化合物の総量の、（Ａ）特定樹脂の含有量に対する質量比率〔（重合性化合物の総含有量））／（Ａ）の含有量〕が０．４５〜１．６であることが好ましい。
また、所望により（Ｂ−２）他の重合性化合物を併用する場合の含有量は、本発明の感光性組成物に含まれる重合性化合物の総含有量に対して３０質量％以下の範囲であることが好ましく、２０質量％以下の範囲であることがより好ましい。
感光性組成物をガラス基板等の最終基板に塗布してパターンを形成する場合には、〔（重合性化合物の総含有量：（Ｂ）＋（Ｂ−２））／（Ａ）の含有量〕は、０．５〜１．２であることがより好ましく、０．５５〜０．９であることが特に好ましい。〔（重合性化合物の総含有量）／（Ａ）の含有量〕比が上記範囲において、現像速度が適切に維持され、現像残渣の増加が抑制され、且つ、パターン欠けやパターンの脱落が生じがたく、１５０℃以下でベークした場合においても、形成された樹脂パターンと基板との密着が良好となる。
【００６３】
−（Ｃ）光重合開始剤−
本発明の感光性組成物は、（Ｃ）光重合開始剤を含有する。（Ｃ）光重合開始剤としては、公知の化合物を好適に用いることができ、例えば、トリアジン誘導体、オキサジアゾール誘導体、オキシム系開始剤、アセトフェノン系開始剤、チタノセン系開始剤、アシルフォスフィンオキサイド系開始剤などが好ましく挙げられる。
具体的には、例えば、特開２００６−２３６９６号公報の段落番号［００１２］〜［００２０］に記載の成分や、特開２００６−６４９２１号公報の段落番号［００５０］〜［００５３］に記載の成分が挙げられる。
【００６４】
本発明に使用しうる好ましい（Ｃ）光重合開始剤としては、例えば、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルメチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチル）−３−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン、７−［２−［４−（３−ヒドロキシメチルピペリジノ）−６−ジエチルアミノ］トリアジニルアミノ］−３−フェニルクマリン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒロドキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］−１−ブタノン、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、ビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム、１．２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（０−アセチルオキシム）、オキシフェニル酢酸、２−［２−オキソ−２−フェニルアセトキシエトキシ］エチルエステルとオキシフェニル酢酸、２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチルエステルの混合物等が挙げられる。
【００６５】
なかでも２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルメチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチル）−３−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン、７−［２−［４−（３−ヒドロキシメチルピペリジノ）−６−ジエチルアミノ］トリアジニルアミノ］−３−フェニルクマリン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］−１−ブタノン、１．２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（０−アセチルオキシム）、オキシフェニル酢酸、２−［２−オキソ−２−フェニルアセトキシエトキシ］エチルエステルとオキシフェニル酢酸、２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチルエステルの混合物が特に好ましいが、これに限定されない。
【００６６】
前記（Ｃ）光重合開始剤の含有量としては、重合性化合物の総含有量〔（Ｂ）＋（Ｂ−２）〕に対する比率〔（Ｃ）／（（Ｂ）＋（Ｂ−２））〕が、０．６以上５未満が好ましく、０．７５以上３以下がより好ましい。比率〔（Ｃ）／（Ｂ）＋（Ｂ−２））〕が、上記範囲において、樹脂パターンの脱落、導電層リフトオフ時のアルカリ耐性の低下が抑制され、且つ、現像残渣の悪化や、パターン露光直後の密着の悪化が抑制され、１５０℃以下でベークした際にも、樹脂パターンと基板の密着が良好に維持される。
【００６７】
−その他の成分−
本発明の感光性組成物は、上記（Ａ）〜（Ｄ）成分に加え、本発明の効果を損なわない限りにおいて、その他の成分として公知の添加剤などを目的に応じて用いることができる。そのような化合物としては、例えば、特開２００６−２３６９６号公報の段落番号［００１２］〜［００２０］に記載の成分や、特開２００６−６４９２１号公報の段落番号［００５０］〜［００５３］に記載の成分が挙げられる。
【００６８】
本発明の感光性組成物は、上記構成としたため、現像性が良好であり、形成された樹脂パターンは、基板との密着性、透明性に優れる。
樹脂組成物の使用方法としては、樹脂パターンを形成しようとする支持体、或いは、基板に本発明の感光性組成物を塗布して感光性組成物層を形成する方法が挙げられるが、仮支持体上に本発明の感光性組成物を適用して感光性組成物層を形成してなる感光性樹脂転写フィルムを形成してもよい。
＜感光性樹脂転写フィルム＞
本発明の感光性樹脂転写フィルムは、仮支持体上に、前記本発明の感光性組成物からなる感光性樹脂層を少なくとも有することを特徴とする。
感光性樹脂層の膜厚は、目的に応じて適宜選択されるが、一般的には、後述するように、０．７μｍ〜３．０μｍの範囲であることが好ましい。
【００６９】
感光性樹脂転写フィルムを作製する場合、感光性樹脂層と仮支持体との間には、更に酸素遮断層（以下、「酸素遮断膜」または「中間層」とも言う。）を設けることができる。これにより露光感度をアップすることができる。また、転写性を向上させるためにクッション性を有する熱可塑性樹脂層を設けてもよい。
【００７０】
該感光性転写フィルムを構成する仮支持体、酸素遮断層、熱可塑性樹脂層、その他の層や該感光性転写フィルムの作製方法については、特開２００６−２３６９６号公報の段落番号［００２４］〜［００３０］に記載され、ここに記載の構成及び感光性樹脂転写フィルムの作製方法は、本発明の感光性樹脂転写フィルムの作製に適用される。
【００７１】
＜樹脂パターンの製造方法＞
次に、本発明の樹脂パターンの製造方法について説明する。
本発明の樹脂パターンの製造方法は、基板上に、前記本発明の感光性組成物を用いて感光性樹脂層を設ける感光性樹脂層形成工程と、感光性樹脂層をパターン露光する露光工程と、露光された感光性樹脂層を現像して、パターン状の樹脂層を形成する現像工程と、現像により得られたパターン状の樹脂層を加熱する加熱工程を含む。
【００７２】
本発明の樹脂パターンの製造方法によれば、絶縁性、透明性、現像性、耐アルカリ性等の耐性に優れたタッチパネル素子に用いる絶縁層及びオーバーコート層等の樹脂パターンを容易に製造できる。
【００７３】
［感光性樹脂層形成工程］
本発明の製造方法における感光性樹脂層形成工程は、支持体となる基板上に本発明の感光性組成物を含む感光性樹脂層（以下、単に「感光性樹脂組成物層」とも言う。）を形成する工程である。
【００７４】
この感光性樹脂層は、後述する製造工程を経て、絶縁層及びオーバーコート層等の樹脂パターンを構成する。該樹脂パターンを用いることにより絶縁性、透明性、現像性、耐アルカリ性等の耐性が改善される。
【００７５】
支持体上に感光性樹脂層を形成する方法としては、（ａ）感光性組成物を含む溶液を公知の塗布法により塗布する方法、及び（ｂ）感光性樹脂転写フィルムを用いた転写法によりラミネートする方法が好適に挙げられる。以下、各々について述べる。
【００７６】
（ａ）塗布法
感光性組成物の塗布は、公知の塗布法、例えば、スピンコート法、カーテンコート法、スリットコート法、ディップコート法、エアーナイフコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、あるいは米国特許第２６８１２９４号明細書に記載のポッパーを使用するエクストルージョンコート法等により行なうことができる。
なかでも、特開２００４−８９８５１号公報、特開２００４−１７０４３号公報、特開２００３−１７００９８号公報、特開２００３−１６４７８７号公報、特開２００３−１０７６７号公報、特開２００２−７９１６３号公報、特開２００１−３１０１４７号公報等に記載のスリットノズルあるいはスリットコーターによる方法が好適である。
【００７７】
（ｂ）転写法
転写による場合、感光性樹脂転写フィルムを用いて、仮支持体上に膜状に形成された感光性樹脂層を支持体面に加熱及び／又は加圧したローラー又は平板で圧着又は加熱圧着することによって貼り合せた後、仮支持体の剥離により感光性樹脂組成物層を支持体上に転写する。具体的には、特開平７−１１０５７５号公報、特開平１１−７７９４２号公報、特開２０００−３３４８３６号公報、特開２００２−１４８７９４号公報に記載のラミネーター及びラミネート方法が挙げられ、低異物の観点で、特開平７−１１０５７５号公報に記載の方法を用いるのが好ましい。
【００７８】
（ａ）塗布法、（ｂ）転写法共に感光性樹脂層を塗布形成する場合、その層厚は０．７μｍ〜３．０μｍが好ましく、０．９μｍ〜２μｍがより好ましい。層厚が上記範囲において、感光性樹脂層を形成する際のピンホールの発生、ベーク後の密着の低下、現像残渣の増加が抑制され、適切な現像条件で良好な樹脂パターンが形成される。
【００７９】
−基板−
感光性樹脂層を形成する支持体（基板）としては、例えば、透明基板（例えばガラス基板やプラスチックス基板）、透明導電膜（例えばＩＴＯ膜）付基板、カラーフィルタ付きの基板（カラーフィルタ基板ともいう。）、駆動素子（例えば薄膜トランジスタ［ＴＦＴ］）付駆動基板、などが挙げられる。支持体の厚みとしては、７００〜１２００μｍが一般に好ましい。
【００８０】
［パターニング工程］
本発明におけるパターニング工程は、支持体上に形成された感光性樹脂層をパターン露光する露光工程と、露光後の感光性樹脂層を現像して樹脂パターンを形成する現像工程とを含む。パターニング工程の具体例としては、特開２００６−６４９２１号公報の段落番号［００７１］〜［００７７］に記載の形成例や、特開２００６−２３６９６号公報の段落番号［００４０］〜［００５１］に記載の工程などが、本発明においても好適な例として挙げられる。
【００８１】
［加熱工程]
本発明の樹脂パターンの製造方法においては、上記パターニング工程に引き続き、現像により得られたパターン状の樹脂層を加熱する加熱工程を実施する。
通常、樹脂パターンの強度及び基板との密着性向上のために行われる加熱工程における加熱条件は、２００〜２５０℃の範囲であるが、本発明の樹脂パターンの製造方法においては、前記本発明の感光性樹脂組成物を用いるため、加熱工程における加熱条件を１５０℃以下とした場合、より具体的には、１００〜１５０℃の範囲とした場合でも、加熱による樹脂パターンの変色が抑制され、基板との密着性に優れた樹脂パターンを形成しうる。
さらには
【００８２】
＜タッチパネル素子＞
タッチパネル素子に使用される絶縁層及びそれに積層させるオーバーコート層は、タッチパネル用基板透明基板（例えばガラス基板やプラスチックス基板、薄膜トランジスタ［ＴＦＴ］を裏面に備えた基板）上に第一導電性層パターン（メタル及びＩＴＯ等）を形成し、絶縁層パターンを形成、さらに第二導電性パターンを形成し、コンデンサを形成する。引続きパターニングされたオーバーコート層を形成して作製される。
具体的には下記のように順次形成される。
【００８３】
〜第一導電性層パターン〜
第一導電性層パターン形成方法には次の２種が挙げられる。
一つはエッチングによる導電性層パターンの形成方法である。基板上にメタル層若しくはＩＴＯ層を蒸着等により均一製膜した後、レジスト液若しくはレジスト層を有する転写材料を用いてレジスト層を積層させた。レジスト層を露光、現像してパターンを形成した。さらに酸でエッチングすることで、第一導電性層のパターンを形成することができる。
【００８４】
もう一つはリフトオフによる導電性層パターンの形成方法である。基板上にレジスト液若しくはレジスト層を有する転写材料を用いてレジスト層を積層させた、レジスト層を露光、現像してパターンを形成する。このパターンの形状は逆テーパー上であることが好ましい。この上から、メタル層若しくはＩＴＯ層を蒸着等により均一製膜した後、剥離液により、レジスト層上に蒸着したメタル層若しくはＩＴＯ層をレジスト層ごと剥離させ、同様のパターンを形成することができる。
【００８５】
〜絶縁層パターン〜
絶縁層は第一導電性層パターンを形成した基板に、感光性組成物の直接塗布若しくは、感光転写材料を加熱・圧着して感光性樹脂層を形成した後に、露光・現像・ベークを行い、絶縁層パターンを形成する。
【００８６】
〜第二導電性層パターン〜
第二導電性層パターンは絶縁層パターンを形成した基板に、上記第一導電性層パターンの形成方法と同様にして形成することができる。
【００８７】
〜オーバーコート層〜
オーバーコート層は第二導電性層パターンを形成した基板に、上記絶縁層パターンの形成方法と同様にして形成することができる。
【００８８】
＜液晶表示装置用基板＞
本発明の液晶表示装置用基板は、黒色遮蔽部及び着色部並びにフォトスペーサを備えたものである。フォトスペーサは、支持体上に形成されたブラックマトリクス等の黒色遮光部の上やＴＦＴ等の駆動素子上に形成されることが好ましい。また、ブラックマトリクス等の黒色遮光部やＴＦＴ等の駆動素子とフォトスペーサとの間にＩＴＯ等の透明導電層（透明電極）やポリイミド等の液晶配向膜が存在していてもよい。
【００８９】
例えば、フォトスペーサーが表示用遮光部や駆動素子の上に設けられる場合、該支持体に予め配設された表示用遮光部（ブラックマトリクスなど）やＴＦＴ駆動素子を覆うようにして、例えば感光性樹脂転写フィルムの感光性樹脂層を支持体面にラミネートし、剥離転写して感光性樹脂層を形成した後、これに露光、現像、加熱処理等を施してフォトスペーサーを形成することによって、本発明の液晶表示装置用基板を作製することができる。
【００９０】
＜液晶表示素子＞
前記本発明の液晶表示装置用基板を設けて液晶表示素子を構成することができる。液晶表示素子の１つとして、少なくとも一方が光透過性の一対の支持体（本発明の液晶表示装置用基板を含む。）間に液晶層と液晶駆動手段（単純マトリックス駆動方式及びアクティブマトリックス駆動方式を含む。）を少なくとも備えたものが挙げられる。
【００９１】
この場合、本発明の液晶表示装置用基板は、複数のＲＧＢ画素群を有し、該画素群を構成する各画素が互いにブラックマトリックスで離画されているカラーフィルタ基板として構成できる。このカラーフィルタ基板には、高さ均一で変形回復性に優れたフォトスペーサーが設けられるため、該カラーフィルタ基板を備えた液晶表示素子は、カラーフィルタ基板と対向基板との間にセルギャップムラ（セル厚変動）の発生が抑えられ、色ムラ等の表示ムラの発生を効果的に防止することができる。これにより、作製された液晶表示素子は鮮やかな画像を表示できる。
【００９２】
また、液晶表示素子の別の態様として、少なくとも一方が光透過性の一対の支持体（本発明の液晶表示装置用基板を含む。）間に液晶層と液晶駆動手段とを少なくとも備え、前記液晶駆動手段がアクティブ素子（例えばＴＦＴ）を有し、かつ一対の基板間が高さ均一で変形回復性に優れたフォトスペーサーにより所定幅に規制して構成されたものである。
【００９３】
この場合も、本発明の液晶表示装置用基板は、複数のＲＧＢ画素群を有し、該画素群を構成する各画素が互いにブラックマトリックスで離画されたカラーフィルタ基板として構成されている。
【００９４】
本発明において使用可能な液晶としては、ネマチック液晶、コレステリック液晶、スメクチック液晶、強誘電液晶が挙げられる。
【００９５】
また、前記カラーフィルタ基板の前記画素群は、互いに異なる色を呈する２色の画素からなるものでも、３色の画素、４色以上の画素からなるものであってもよい。例えば３色の場合、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）及び青（Ｂ）の３つの色相で構成される。ＲＧＢ３色の画素群を配置する場合には、モザイク型、トライアングル型等の配置が好ましく、４色以上の画素群を配置する場合にはどのような配置であってもよい。カラーフィルタ基板の作製は、例えば２色以上の画素群を形成した後既述のようにブラックマトリックスを形成してもよいし、逆にブラックマトリックスを形成した後に画素群を形成するようにしてもよい。ＲＧＢ画素の形成については、特開２００４−３４７８３１号公報等を参考にすることができる。
【００９６】
＜液晶表示装置＞
本発明の液晶表示装置は、前記液晶表示装置用基板にタッチパネル素子を設けて構成されたものである。即ち、互いに向き合うように対向配置されたＴＦＴ駆動基板とカラーフィルタ基板間を既述のように、フォトスペーサーでセルギャップを所定幅に規制し、規制された間隙に液晶材料を封入（封入部位を液晶層と称する。）して構成され、液晶層の厚さ（セル厚）が所望の均一厚に保持された液晶表示素子のＴＦＴ駆動基板側にタッチパネル素子を設けて構成される。
【００９７】
ＴＦＴ駆動基板のＴＦＴが設けられた面の反対面に直接、第一導電層パターン、絶縁層パターン、第二導電層パターン、オーバーコート層を順次積層させたタッチパネル素子でもよい。この場合、ＴＦＴ駆動基板とカラーフィルタ基板間に液晶を封入する前の液晶表示装置用基板に、シール材等の耐熱温度以下の温度で作製する必要がある。
【００９８】
液晶表示装置における液晶表示モードとしては、ＳＴＮ型、ＴＮ型、ＧＨ型、ＥＣＢ型、強誘電性液晶、反強誘電性液晶、ＶＡ型、ＩＰＳ型、ＯＣＢ型、ＡＳＭ型、その他種々のものが好適に挙げられる。中でも、本発明の液晶表示装置においては、最も効果的に本発明の効果を奏する観点から、液晶セルのセル厚の変動により表示ムラを起こし易い表示モードが望ましく、セル厚が２〜４μｍであるＶＡ型表示モード、ＩＰＳ型表示モード、ＯＣＢ型表示モードに構成されるのが好ましい。
【００９９】
本発明の液晶表示装置の基本的な構成態様としては、（ａ）薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）等の駆動素子と画素電極（導電層）とが配列形成された駆動側基板と、対向電極（導電層）を備えた対向基板とをフォトスペーサーを介在させて対向配置し、その間隙部に液晶材料を封入して構成したもの、（ｂ）駆動基板と、対向電極（導電層）を備えた対向基板とをフォトスペーサーを介在させて対向配置し、その間隙部に液晶材料を封入して構成したもの、等が挙げられ、本発明の液晶表示装置は、各種液晶表示機器に好適に適用することができる。
【０１００】
液晶表示装置については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田龍男編集、側工業調査会、１９９４年発行）」に記載がある。本発明の液晶表示装置には、本発明の液晶表示素子を備える以外に特に制限はなく、例えば前記「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載された種々の方式の液晶表示装置に構成することができる。中でも特に、カラーＴＦＴ方式の液晶表示装置を構成するのに有効である。カラーＴＦＴ方式の液晶表示装置については、例えば「カラーＴＦＴ液晶ディスプレイ（共立出版（株）、１９９６年発行）」に記載がある。
【０１０１】
本発明の液晶表示装置は、既述の本発明の液晶表示素子を備える以外は、電極基板、偏光フィルム、位相差フィルム、バックライト、スペーサー．視野角補償フィルム、反射防止フィルム、光拡散フィルム、防眩フィルムなどの様々な部材を用いて一般的に構成できる。これら部材については、例えば「’９４液晶ディスプレイ周辺材料・ケミカルズの市場（島健太郎、（株）シーエムシー、１９９４年発行）」、「２００３液晶関連市場の現状と将来展望（下巻）（表良吉、（株）富士キメラ総研、２００３等発行）」に記載されている。
【実施例】
【０１０２】
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「％」及び「部」は質量基準である。
【０１０３】
実施例１〜２８、及び比較例１〜１３（絶縁層パターン及びオーバーコート層：転写法３種逐次現像液系）
（実施例１）
−絶縁層及びオーバーコート層用感光性転写フィルムの作製−
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体（ＰＥＴ仮支持体）上に、下記処方Ａ１からなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布し、１００℃で２分間乾燥させた後さらに１２０℃で１分間乾燥させ、乾燥層厚１５μｍの熱可塑性樹脂層を形成した。ここで、乾燥条件における温度「１００℃」及び「１２０℃」は、いずれも乾燥風の温度である。以下の乾燥条件における温度も同様である。
【０１０４】
〔熱可塑性樹脂層用塗布液の処方Ａ１〕
・メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（＝５５／１１．７／４．５／２８．８［ｍｏｌ比］、重量平均分子量９０，０００）                                            ・・・・５８．４部
・スチレン／アクリル酸共重合体（＝６３／３７［ｍｏｌ比］、重量平均分子量８，０００）                                                          ・・・・・１３６部
・２，２−ビス〔４−（メタクリロキシポリエトキシ）フェニル〕プロパン
・・・・９０．７部
・界面活性剤１（下記構造物１）                                ・・・・・５．４部
・メタノール                                                  ・・・・・１１１部
・１−メトキシ−２−プロパノール                              ・・・・６３．４部
・メチルエチルケトン                                          ・・・・・５３４部
【０１０５】
・界面活性剤１
・下記構造物１                                                ・・・・・・３０％
・メチルエチルケトン                                          ・・・・・・７０％
【０１０６】
【化５】
2012078528.tif 000006
【０１０７】
次に、形成した熱可塑性樹脂層上に、下記処方Ｂからなる中間層用塗布液をし、８０℃で１分間乾燥させた後さらに１２０℃１分乾燥させて、乾燥層厚１．６μｍの中間層を積層した。
【０１０８】
〔中間層用塗布液の処方Ｂ〕
・ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−２０５、鹸化度８８％、（株）クラレ製）
・・・・３．２２部
・ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ  Ｋ−３０、アイエスピー・ジャパン株式会社製）
・・・・１．４９部
・メタノール                                                  ・・・・４２．９部
・蒸留水                                                      ・・・・５２．４部
【０１０９】
次に、形成した中間層上に更に、下記処方１からなる感光性樹脂層用塗布液を塗布した後それぞれ１００℃で２分間乾燥させた後、更に、１２０℃で１分間乾燥させて（乾燥条件Ａ）、乾燥層厚１．３８μｍの透明感光性樹脂層を積層した。
【０１１０】
＜感光性樹脂層用塗布液処方１＞
・１−メトキシ−２−プロピルアセテート                        ・・・・・５９９部
・メチルエチルケトン                                          ・・・・・２３８部
・ソルスパース２００００（Lubrizol製）                      ・・・・１．８８部
・ポリマー４５％溶液（特開２００８−１４６０１８公報の段落番号［００５８］に記載の構造式Ｐ−２５：
重量平均分子量＝３．５万、固形分４５％、１−メトキシ−２−プロピルアセテート１５％、１−メトキシ−２−プロパノール４０％）［（Ａ）特定樹脂］  ・・・・・１１４部
・重合性化合物の混合物：ＤＰＨＡ液（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート：４８％、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート：２８％、１−メトキシ−２−プロピルアセテート：２４％）［（Ｂ）一般式（ｂ１）で表される重合性化合物］・１６．３部
・下記重合性化合物の混合物（ｎ＝１：トリペンタエリスリトールオクタアクリレート含有率８５％、不純物としてｎ＝２及びｎ＝３の合計が１５％）      ・・・２０．５部
［（Ｂ）一般式（ｂ２）で表される重合性化合物］
・ウレタン系モノマー（ＮＫオリゴＵＡ−３２Ｐ  新中村化学（株）製：不揮発分７５％、１−メトキシ−２−プロピルアセテート：２５％）              ・・・・７．７２部
［（Ｂ−２）その他の重合性化合物］
・２，４−ビス−（トリクロロメチル）−６−［４−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチルアミノ）−３−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン            ・・・・１．２７部
［（Ｃ）光重合開始剤］
・２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール
［（Ｃ）光重合開始剤］                                      ・・・０．６３５部
・ハイドロキノンモノメチルエーテル［溶剤］                    ・・・０．０７２部
・メガファックＦ−７８４−Ｆ（ＤＩＣ株式会社製）              ・・・・０．５１部
［界面活性剤］
【０１１１】
【化６】
2012078528.tif 000007
【０１１２】
上記式中、Ｘはすべてアクリロイル基であり、ｎ＝１〜３の混合物である。
【０１１３】
以上のようにして、ＰＥＴ仮支持体／熱可塑性樹脂層／中間層／感光性樹脂組成物層の積層構造に構成した後、感光性樹脂組成物層の表面に更に、カバーフィルムとして厚み１２μｍのポリプロピレン製フィルムを加熱・加圧して貼り付け、絶縁材及びオーバーコート用感光性転写フィルム（１）を得た。ＡＢＳ樹脂３インチ巻き芯に巻きつけ、黒色のポリエチレンフィルム及び透明のポリエチレンフィルムで包装し、２５℃で７日間保管した。
【０１１４】
−スペーサー用感光性転写フィルムの作製−
上記厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体（ＰＥＴ仮支持体）上に、上記処方Ａ１からなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布し、１００℃で２分間乾燥させた後さらに１２０℃で１分間乾燥させ、乾燥層厚１８μｍの熱可塑性樹脂層を形成した。
次に、形成した熱可塑性樹脂層上に、上記処方Ｂからなる中間層用塗布液をし、８０℃で１分間乾燥させた後さらに１２０℃１分乾燥させて、乾燥層厚１．６μｍの中間層を積層した。
【０１１５】
次に、形成した中間層上に更に、下記処方２からなる感光性樹脂層用塗布液を塗布した後それぞれ１００℃で２分間乾燥させた後、更に、１２０℃で１分間乾燥させて（乾燥条件Ａ）、乾燥層厚４．５μｍの感光性樹脂層を積層した。
【０１１６】
＜スペーサー用感光性樹脂層用塗布液＞
・１−メトキシ−２−プロピルアセテート                          ・・・・４５０部
・メチルエチルケトン                                            ・・・・２３３部
・ソルスパース２００００（Ｌｕｂｒｉｚｏｌ製）                  ・・・３．１３部
・ポリマー４５％溶液（特開２００８−１４６０１８公報の段落番号〔００５８〕に記載の構造式Ｐ−２５：重量平均分子量＝３．５万、固形分４５％、１−メトキシ−２−プロピルアセテート１５％、１−メトキシ−２−プロパノール４０％）    ・・・・１８４部
［（Ａ）特定樹脂］
・重合性化合物の混合物Ｂ１−１：ＤＰＨＡ液（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート：３８％、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート：３８％、１−メトキシ−２−プロピルアセテート：２４％）                                  ・・・２６．１部
［（Ｂ）一般式（ｂ１）で表される重合性化合物］
・上記重合性化合物の混合物Ｂ２−１（ｎ＝１：トリペンタエリスリトールオクタアクリレート含有率８５％、不純物としてｎ＝２及びｎ＝３の合計が１５％）・・・３２．９部
［（Ｂ）一般式（ｂ２）で表される重合性化合物］
・ウレタン系モノマー（ＮＫオリゴＵＡ−３２Ｐ  新中村化学（株）製：不揮発分７５％、１−メトキシ−２−プロピルアセテート：２５％）                ・・・１２．４部
［（Ｂ−２）他の重合性化合物］
・２，４−ビス−（トリクロロメチル）−６−［４−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチルアミノ）−３−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン              ・・・２．０３部
［（Ｃ）光重合開始剤］
・２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール［（Ｃ）光重合開始剤］                                        ・・・１．０２部
・ハイドロキノンモノメチルエーテル［溶剤］                      ・・０．１１７部
・メガファックＦ−７８４−Ｆ（ＤＩＣ社製）                      ・・・０．８５部
［界面活性剤］
【０１１７】
以上のようにして、ＰＥＴ仮支持体／熱可塑性樹脂層／中間層／感光性樹脂組成物層の積層構造に構成した後、感光性樹脂組成物層の表面に更に、カバーフィルムとして厚み１２μｍのポリプロピレン製フィルムを加熱・加圧して貼り付け、スペーサー用感光性転写フィルム（１）を得た。ＡＢＳ樹脂３インチ巻き芯に巻きつけ、黒色のポリエチレンフィルム及び透明のポリエチレンフィルムで包装し、２５℃で７日間保管した。
【０１１８】
≪カラーフィルタ基板の作製≫
＜１．感光性濃色組成物の調製＞
−カーボンブラック分散液（Ｋ−１）の調製−
下記処方でカーボンブラック分散液（Ｋ−１）を調製した。
・カーボンブラック（デグッサ社製  カラーブラックＦＷ２）        ・・・２６．７部
・分散剤（楠本化成社製ディスパロンＤＡ７５００  酸価２６  アミン価４０）
・・・・３．３部
・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸（＝７２／２８［ｍｏｌ比］）共重合体（分子量３０，０００、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートの５０質量％溶液）
・・・・１０部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート                ・・・・６０部
【０１１９】
上記各成分を３０００ｒｐｍの条件でホモジナイザーを用いて１時間撹拌した。得られた混合溶液を、０．３ｍｍジルコニアビーズを用いたビーズ分散機（商品名：ディスパーマット、ＧＥＴＺＭＡＮＮ社製）にて８時間微分散処理を施し、カーボンブラック分散液（Ｋ−１）を得た。
【０１２０】
得られたカーボンブラック分散液（Ｋ−１）を用いて、下記表１の処方で感光性濃色組成物塗布液ＣＫ−１を調製した。表１中の数値は質量比を示す。
【０１２１】
【表１】
2012078528.tif 000008
【０１２２】
表１中の各成分の詳細は下記のとおりである。
・樹脂溶液Ｃ−２：ベンジルメタクリレート／メタクリル酸（＝８５／１５ｍｏｌ比）共重合体（Ｍｗ１００００、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートの５０ｗｔ％溶液）
・ＵＶ硬化性樹脂Ｃ−３：商品名サイクロマーＰ  ＡＣＡ−２５０  ダイセル化学工業（株）製〔側鎖に脂環、ＣＯＯＨ基、及びアクリロイル基のあるアクリル系共重合体、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液（固形分：５０質量％）〕
・重合性化合物Ｃ−５：商品名  ＴＯ−１３８２  東亞合成（株）製
（ジペンタエリスリトールペンタアクリレートの末端ＯＨ基の一部をＣＯＯＨ基に置換した５官能のアクリロイル基を有するモノマーが主成分。）
・開始剤Ｃ−７：商品名「ＯＸＥ−０２」  チバ・スペシャルテイ・ケミカルズ社製
・界面活性剤Ｃ−８：商品名「メガファックＲ３０」  ＤＩＣ（株）製
・溶剤：ＰＧＭＥＡ＝プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
ＥＥＰ＝３−エトキシエチルプロピオネート
【０１２３】
＜２．塗布によるブラックマトリクスの形成＞
−感光性濃色組成物層形成工程−
得られた感光性濃色組成物ＣＫ−１を、洗浄したガラス基板（コーニング社製ミレニアム  ０．７ｍｍ厚）にスリットコーター（型番ＨＣ８０００、平田機工株式会社製）を用いて、ポストベーク後の膜厚が１．２μｍとなるようにスリットとガラス基板間の間隔、吐出量を調節して、塗布速度１２０ｍｍ／秒で塗布した。
【０１２４】
−プリベーク工程、露光工程−
次いで、ホットプレートを用いて、９０℃で１２０秒間加熱（プリベーク処理）を行なった後、ミラープロジェクション方式露光機（型番ＭＰＡ−８８００、キヤノン株式会社社製）を用いて、１００ｍＪ／ｃｍ２で露光した。
【０１２５】
−現像工程−
その後、傾斜搬送型の現像装置（型番ＳＫ−２２００Ｇ、大日本スクリーン製造株式会社製、傾斜角５°）で現像した。すなわち、水酸化カリウム系現像液ＣＤＫ−１（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）の１．０％現像液（ＣＤＫ−１を１質量部、純水を９９質量部の希釈した液、２５℃）でシャワー圧を０．２０ＭＰａに設定して、６０秒現像し、純水で洗浄し、現像後のブラックマトリクスを得た。
【０１２６】
−ベーク工程−
次いで２２０℃のクリーンオーブンで４０分間ポストベーク処理し、着色画素形成領域の開口が９０μｍ×２００μｍで、厚みが１．２μｍで、線幅が約２５μｍの格子状パターンであるブラックマトリクスを備えたブラックマトリクス基板を形成した。
Ｘ−Ｒｉｔｅ  ３６１Ｔ（Ｖ）（サカタインクスエンジニアリング（株）製）を用いて、出来上がったブラックマトリクスの光学濃度（ＯＤ）を測定したところ、４．２であった。
【０１２７】
＜３．感光性着色組成物の調製＞
−  ３−１．赤色（Ｒ）用感光性着色組成物塗布液ＣＲ−１の調製  −
下記処方で赤色（Ｒ）用分散液（Ｒ−１）を調製した。
・Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  ２５４（ＳＥＭ観察での平均粒子径４３ｎｍ）・・・１１部
・Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  １７７（ＳＥＭ観察での平均粒子径５８ｎｍ）・・・・４部
・下記分散樹脂Ａ−３の溶液                                          ・・・・５部
・分散剤（商品名：Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６１、ビックケミー社製）
（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートの３０％溶液）  ・・・・３部
・アルカリ可溶性樹脂：ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（＝７５／２５［ｍｏｌ比］共重合体、分子量３０，０００、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液（固形分：５０質量％））                              ・・・・９部
・溶剤Ｂ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート          ・・・６８部
【０１２８】
上記各成分を、３０００ｒｐｍの条件でホモジナイザーを用いて１時間撹拌した。得られた混合溶液を、０．３ｍｍジルコニアビーズを用いてビーズ分散機（商品名：ディスパーマット、ＧＥＴＺＭＡＮＮ社製）にて４時間微分散処理を施し赤色（Ｒ）用分散液（Ｒ−１）を得た。得られた赤色（Ｒ）用分散液（Ｒ−１）中の分散粒子をＳＥＭで観察したところ平均粒子径は３６ｎｍであった。
【０１２９】
得られた赤色（Ｒ）用分散液（Ｒ−１）を用いて、下記処方で赤色（Ｒ）用感光性着色組成物塗布液ＣＲ−１を調製した。
・赤色（Ｒ）用分散液（Ｒ−１）                                  ・・・・１００部
・エポキシ樹脂：（商品名ＥＨＰＥ３１５０  ダイセル化学工業社製  ・・・・・・２部
・重合性化合物：ＤＰＨＡ液（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート：６３％、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート：３７％）                ・・・・・・８部
・重合開始剤：４−（ｏ−ブロモ−ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカルボニルメチル）アミノ−フェニル）−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン    ・・・・・・１部
・重合開始剤：２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−ｍｏｌフォリノフェニル）−ブタノン−１                                                ・・・・・・１部
・重合開始剤：ジエチルチオキサントン                            ・・・・０．５部
・重合禁止剤：ｐ−メトキシフェノール                            ・・０．００１部
・フッ素系界面活性剤（商品名：Ｍｅｇａｆａｃ  Ｒ３０  ＤＩＣ社製）
・・・０．０１部
・ノニオン系界面活性剤（商品名：テトロニックＲ１５０  ＡＤＥＫＡ社製）
・・・・０．２部
・溶剤：プロピレングリコールｎ−ブチルエーテルアセテート        ・・・・・３０部
・溶剤：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート        ・・・・１００部
上記成分を混合撹拌し、赤色（Ｒ）用感光性着色組成物塗布液ＣＲ−１を得た。
【０１３０】
−  ３−２．緑色（Ｇ）用感光性着色組成物塗布液ＣＧ−１の調製  −
下記処方で緑色（Ｇ）用分散液（Ｇ−１）を調製した。
・Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｇｒｅｅｎ  ３６（ＳＥＭ観察での平均粒子径４７ｎｍ）・・１１部
・Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｙｅｌｌｏｗ１５０（ＳＥＭ観察での平均粒子径３９ｎｍ）・・７部
・下記分散樹脂Ａ−３の溶液                                      ・・・・・・５部
・分散剤（商品名：Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６１、ビックケミー社製  ３０％溶液）
・・・・・・３部
・アルカリ可溶性樹脂：ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（＝８５／１５［ｍｏｌ比］共重合体、分子量３０，０００、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液（固形分：５０質量％））                          ・・・・・１１部
・溶剤：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート        ・・・・・７０部
【０１３１】
上記各成分を３０００ｒｐｍの条件でホモジナイザーを用いて１時間撹拌した。得られた混合溶液を、０．３ｍｍジルコニアビーズを用いたビーズ分散機（商品名：ディスパーマット、ＧＥＴＺＭＡＮＮ社製）にて８時間微分散処理を施し、緑色（Ｇ）用分散液（Ｇ−１）を得た。得られた緑色（Ｇ）用分散液（Ｇ−１）中の分散粒子をＳＥＭで観察したところ平均粒子径は３２ｎｍであった。
【０１３２】
得られた緑色（Ｇ）用分散液（Ｇ−１）を用いて、下記処方で緑色（Ｇ）用感光性着色組成物塗布液ＣＧ−１を調製した。
・緑色（Ｇ）用分散液（Ｇ−１）                                  ・・・・１００部
・エポキシ樹脂：（商品名ＥＨＰＥ３１５０  ダイセル化学工業社製）・・・・・・２部
・重合性化合物：ＤＰＨＡ液（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート：６３％、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート：３７％）                ・・・・・・８部
・重合性化合物：ペンタエリスリトールのテトラ（エトキシアクリレート）・・・・２部
・重合開始剤：１，３−ビストリハロメチル−５−ベンゾオキソラントリアジン
・・・・・・２部
・重合開始剤：２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−ｍｏｌフォリノフェニル）−ブタノン−１                                                ・・・・・・１部
・重合開始剤：ジエチルチオキサントン                            ・・・・０．５部
・重合禁止剤：ｐ−メトキシフェノール                            ・・０．００１部
・フッ素系界面活性剤（商品名：Ｍｅｇａｆａｃ  Ｒ０８  ＤＩＣ社製）・・０．０２部
・ノニオン系界面活性剤（商品名：エマルゲンＡ−６０  花王社製）  ・・・・０．５部
・溶剤：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート        ・・・・１２０部
・溶剤：プロピレングリコールｎ−プロピルエーテルアセテート      ・・・・・３０部
上記組成を混合撹拌し、緑色（Ｇ）用感光性着色組成物塗布液ＣＧ−１を得た。
【０１３３】
−  ３−３．青色（Ｂ）用感光性着色組成物塗布液ＣＢ−１の調製  −
下記処方で青色（Ｂ）用分散液（Ｂ−１）を調製した。
・Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｂｌｕｅ  １５：６（ＳＥＭ観察での平均粒子径５５ｎｍ）    
・・・・・１４部
・Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  ２３（ＳＥＭ観察での平均粒子径６１ｎｍ）・・１部
・下記分散樹脂Ａ−３の溶液                                      ・・・・・・５部
・分散剤（商品名：Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６１、ビックケミー社製  ３０％溶液）
・・・・・・３部
・アルカリ可溶性樹脂：ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体
（＝８０／２０［ｍｏｌ比］共重合体、分子量３０，０００、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液（固形分：５０質量％））          ・・・・・・４部
・溶剤：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート        ・・・・・７３部
【０１３４】
上記各成分を、３０００ｒｐｍの条件でホモジナイザーを用いて１時間撹拌した。得られた混合溶液を、０．３ｍｍジルコニアビーズを用いてビーズ分散機（商品名：ディスパーマット、ＧＥＴＺＭＡＮＮ社製）にて４時間微分散処理を施し、青色（Ｂ）用分散液（Ｂ−１）を得た。得られた青色（Ｂ）用分散液（Ｂ−１）中の分散粒子をＳＥＭで観察したところ平均粒子径は３９ｎｍであった。
【０１３５】
得られた青色（Ｂ）用分散液（Ｂ−１）を用いて、下記処方で青色（Ｂ）用感光性着色組成物塗布液ＣＢ−１を調製した。
・青色（Ｂ）用分散液（Ｂ−１）                                  ・・・・１００部
・アルカリ可溶性樹脂：ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（＝８０／２０［ｍｏｌ比］共重合体、分子量３０，０００）、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液（固形分：５０質量％））                        ・・・・・・７部
・エポキシ樹脂：（商品名セロキサイド２０８０  ダイセル化学工業社製）・・・・２部
・ＵＶ硬化性樹脂：（商品名サイクロマーＰ  ＡＣＡ−２５０  ダイセル化学工業社製）
（側鎖に脂環、ＣＯＯＨ基、及びアクリロイル基のあるアクリル系共重合体、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液（固形分：５０質量％）・・・・・４部
・重合性化合物：ＤＰＨＡ液（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート：６３％、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート：３７％）                ・・・・・１２部
・重合開始剤：１−（９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル）−１−（ｏ−アセチルオキシム）エタノン              ・・・・・・３部
・重合禁止剤：  ｐ−メトキシフェノール                          ・・０．００１部
・フッ素系界面活性剤（商品名：Ｍｅｇａｆａｃ  Ｒ０８  ＤＩＣ社製）・・０．０２部
・ノニオン系界面活性剤（商品名：エマルゲンＡ−６０  花王社製）  ・・・・１．０部
・溶剤：３−エトキシプロピオン酸エチル                          ・・・・・２０部
・溶剤：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート        ・・・・１５０部
上記成分を混合撹拌し、青色（Ｂ）用感光性着色組成物塗布液ＣＢ−１を得た。
【０１３６】
＜４．分散樹脂Ａ−３の合成＞
（１．連鎖移動剤Ａ３の合成）
ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）〔ＤＰＭＰ；堺化学工業（株）製〕（下記化合物（３３））７．８３部、及び吸着部位を有し、かつ炭素−炭素二重結合を有する下記化合物（ｍ−６）４．５５部を、プロピレングリコールモノメチルエーテル２８．９０部に溶解させ、窒素気流下、７０℃に加熱した。これに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）〔Ｖ−６５、和光純薬工業（株）製〕０．０４部を加えて３時間加熱した。更に、Ｖ−６５を０．０４部加え、窒素気流下、７０℃で３時間反応させた。室温まで冷却することで、以下に示すメルカプタン化合物（連鎖移動剤Ａ３）の３０％溶液を得た。
【０１３７】
【化７】
2012078528.tif 000009
【０１３８】
（２．分散樹脂Ａ―３の合成）
前記のようにして得られた連鎖移動剤Ａ３の３０％溶液４．９９部、メタクリル酸メチル１９．０部、及びメタクリル酸１．０部、プロピレングリコールモノメチルエーテル４．６６部の混合溶液を、窒素気流下、９０℃に加熱した。この混合溶液を攪拌しながら、２，２’−アゾビスイソ酪酸ジメチル〔Ｖ−６０１、和光純薬工業（株）製〕０．１３９部、プロピレングリコールモノメチルエーテル５．３６部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート９．４０部の混合溶液を２．５時間かけて滴下した。滴下終了してから、９０℃で２．５時間反応させた後、２，２’−アゾビスイソ酪酸ジメチル０．０４６部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４．００部の混合溶液を投入し、更に２時間反応させた。反応液にプロピレングリコールモノメチルエーテル１．５２部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２１．７部を加え、室温まで冷却することで分散樹脂Ａ−３（ポリスチレン換算の重量平均分子量２４０００）の溶液（分散樹脂３０質量％、プロピレングリコールモノメチルエーテル２１質量％、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４９質量％）を得た。
この分散樹脂Ａ−３の酸価は４８ｍｇ／ｇであった。分散樹脂Ａ−３の構造を以下に示す。
【０１３９】
【化８】
2012078528.tif 000010
【０１４０】
＜カラーフィルタの作製＞
−感光性着色組成物層形成工程−
得られた赤色（Ｒ）用感光性着色組成物塗布液ＣＲ−１を、前記ブラックマトリクス基板のブラックマトリクス形成面側に、塗布した。具体的には、感光性濃色組成物層形成の場合と同様に、ポストベーク後の感光性着色組成物層の層厚が約２．１μｍとなるようにスリットとブラックマトリクス基板間の間隔、吐出量を調節して、塗布速度１２０ｍｍ／秒で塗布した。
【０１４１】
−着色層プリベーク工程、着色層露光工程−
次いで、ホットプレートを用いて、１００℃で１２０秒間加熱（プリベーク処理）を行なった後、ミラープロジェクション方式露光機（型番ＭＰＡ−８８００、キヤノン株式会社製）を用いて、９０ｍＪ／ｃｍ２で露光した。
【０１４２】
また、露光パターンと、ブラックマトリクスとの重なり（露光重なり量）が９．０μｍとなるようにマスクパターンと露光機を設定した。
【０１４３】
−着色層現像工程、着色層ベーク工程−
その後、傾斜搬送型の現像装置（型番ＳＫ−２２００Ｇ、大日本スクリーン製造株式会
社製、傾斜角５°）で現像した。すなわち、水酸化カリウム系現像液ＣＤＫ−１（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）の１．０％現像液（ＣＤＫ−１を１質量部、純水を９９質量部の希釈した液、２５℃）でシャワー圧を０．２ＭＰａに設定して、４５秒現像し、純水で洗浄した。次いで２２０℃のクリーンオーブンで３０分間ポストベーク処理し、熱処理済みの赤色画素を形成した。
【０１４４】
次いで、上記感光性着色組成物層形成工程、着色層プリベーク工程、着色層露光工程、着色層現像工程、及び着色層ベーク工程において、赤色（Ｒ）用感光性着色組成物塗布液ＣＲ−１を、緑色（Ｇ）用感光性着色組成物塗布液ＣＧ−１に代えた他は同様にして、緑色画素を形成した。さらにその後、赤色（Ｒ）用感光性着色組成物塗布液ＣＲ−１を、青色（Ｂ）用感光性着色組成物塗布液ＣＢ−１に代えた他は同様にして、青色画素を形成してカラーフィルタを得た。
【０１４５】
上記より得たカラーフィルタのＲ画素、Ｇ画素、及びＢ画素並びにブラックマトリクスの上に更に、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）透明電極を、スパッタリングにより形成した。
【０１４６】
−フォトスペーサーの作製−
黒色のポリエチレンフィルム及び透明のポリエチレンフィルムを剥がして、スペーサー用感光性転写フィルム（１）を取り出し、カバーフィルム上からロータリーカッターを用いて、該カバーフィルム表面から仮支持体の一部に至るまでの深さの切り口をつけた。
次に、テープを用いてカバーフィルムと感光性樹脂層との界面で剥離し、カバーフィルムを除去した。
【０１４７】
露出した感光性樹脂層の表面を、上記で作製したＩＴＯ膜がスパッタ形成され、予め表面温度９０℃に加熱されたカラーフィルタ基板のＩＴＯ膜上に重ね合わせ、ラミネーターＬａｍｉｃＩＩ型〔（株）日立インダストリイズ製〕を用いて、線圧１００Ｎ／ｃｍ、上ロール９０℃、下ロール１２０℃の加圧・加熱条件下で搬送速度２ｍ／分にて貼り合わせた。
【０１４８】
その後、ＰＥＴ仮支持体を熱可塑性樹脂層との界面で剥離除去し、感光性樹脂層を熱可塑性樹脂層及び中間層と共に転写した（層形成工程）。
【０１４９】
次に、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング（株）製）を用いて、スペーサーパターン作製用マスク（画像パターンを有する石英露光マスク）と、該マスクと熱可塑性樹脂層とが向き合うように配置したカラーフィルタ基板とを略平行に垂直に立てた状態で、マスク面と感光性樹脂層の中間層に接する側の表面との間の距離を１００μｍとし、マスクを介して熱可塑性樹脂層側から露光量ｉ線５０ｍＪ／ｃｍ２にてプロキシミティー露光した。
【０１５０】
次に、トリエタノールアミン系現像液（トリエタノールアミン３０％含有、商品名：Ｔ−ＰＤ２（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍（Ｔ−ＰＤ２を１部と純水９部の割合で混合）に希釈した液）を３０℃で６０秒間、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像し、熱可塑性樹脂層と中間層とを除去した。引き続き、このガラス基板の上面にエアを吹きかけて液切りした後、純水をシャワーにより１０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄し、エアを吹きかけて基板上の液だまりを減らした。
【０１５１】
引き続き、炭酸Ｎａ系現像液（０．３８ｍｏｌ／リットルの炭酸水素ナトリウム、０．４７ｍｏｌ／リットルの炭酸ナトリウム、５％のジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アニオン界面活性剤、消泡剤、及び安定剤含有；商品名：Ｔ−ＣＤ１（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈した液）を用いて２７℃で４５秒間、コーン型ノズル圧力０．１５ＭＰａでシャワー現像し、スペーサーのパターン像を得た。
【０１５２】
引き続き、洗浄剤（燐酸塩・珪酸塩・ノニオン界面活性剤・消泡剤・安定剤含有；商品名：Ｔ−ＳＤ３（富士フイルム（株）製））を純水で１０倍に希釈した液を用いて３３℃で２０秒間、コーン型ノズル圧力０．０２ＭＰａにてシャワーで吹きかけ、形成されたパターン像の周辺の残渣除去を行ない、所望のスペーサーパターンを得た。
【０１５３】
次に、スペーサーパターンが設けられたカラーフィルタ基板を、２３０℃下で６０分間加熱処理を行ない（熱処理工程）、フォトスペーサーを作製した。
【０１５４】
以上により、フォトスペーサー付きカラーフィルタ基板を得た。
得られたスペーサーパターンは、直径２０μｍ、平均高さ４．２μｍの円柱状であった。尚、平均高さは、得られたスペーサー２００個のそれぞれについて、三次元表面構造解析顕微鏡（メーカー：ＺＹＧＯ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ、型式：Ｎｅｗ  Ｖｉｅｗ  ５０２２）を用い、ＩＴＯの透明電極形成面からスペーサーの最も高い位置までの高さを測定し、２００個の値の算術平均で算出することにより求めた。
【０１５５】
＜タッチパネル素子の作製（絶縁層パターン及びオーバーコート層：転写法３種逐次現像液系）＞
〜第一導電層パターンの作製〜
洗浄したガラス基板（コーニング社製ミレニアム  ０．７ｍｍ厚）を、２５℃に調整したガラス洗浄剤液をシャワーにより２０秒間吹き付けながらナイロン毛を有する回転ブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液（Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン０．３質量％水溶液、商品名：ＫＢＭ６０３、信越化学工業（株）製）をシャワーにより２０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄した。この基板を基板予備加熱装置で１００℃２分加熱した。
【０１５６】
得られたシランカップリング処理ガラス基板に、特開２００６−３０１１２２公報の段落番号〔０１２１〕に記載の感光性樹脂転写材料Ｋ１のポリプロピレン製カバーフィルム上からロータリーカッターを用いて、該カバーフィルム表面から仮支持体の一部に至るまでの深さの切り口をつけた。
【０１５７】
次に、テープを用いてカバーフィルムと感光性樹脂層との界面で剥離し、カバーフィルムを除去した。除去後に露出した黒色感光層の表面と前記シランカップリング処理ガラス基板の表面とが接するように重ね合わせ、ラミネーター（株式会社日立インダストリイズ製（ＬａｍｉｃＩＩ型））を用いて、前記１００℃で２分間加熱した基板に、ゴムローラー温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分でラミネートした。続いてポリエチレンテレフタレートの仮支持体を、熱可塑性樹脂層との界面で剥離し、仮支持体を除去した。仮支持体を剥離後、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社製）で、基板と第一導電層パターン作製用マスク（画像パターンを有す石英露光マスク）を垂直に立てた状態で、露光マスク面と該黒色感光性樹脂組成物層の間の距離を１００μｍに設定し、露光量ｉ線７０ｍＪ／ｃｍ２でパターン露光した。
【０１５８】
次に、トリエタノールアミン系現像液（トリエタノールアミン３０％含有、商品名：Ｔ−ＰＤ２（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍（Ｔ−ＰＤ２を１部と純水９部の割合で混合）に希釈した液）を３０℃で６０秒間、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像し、熱可塑性樹脂層と中間層とを除去した。引き続き、このガラス基板の上面にエアを吹きかけて液切りした後、純水をシャワーにより１０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄し、エアを吹きかけて基板上の液だまりを減らした。
【０１５９】
引き続き、炭酸Ｎａ系現像液（０．３８ｍｏｌ／リットルの炭酸水素ナトリウム、０．４７ｍｏｌ／リットルの炭酸ナトリウム、５％のジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アニオン界面活性剤、消泡剤、及び安定剤含有；商品名：Ｔ−ＣＤ１（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈した液）を用いて２９℃で３０秒間、コーン型ノズル圧力０．１５ＭＰａでシャワー現像し、スペーサーのパターン像を得た。
【０１６０】
引き続き、洗浄剤（燐酸塩・珪酸塩・ノニオン界面活性剤・消泡剤・安定剤含有；商品名：Ｔ−ＳＤ３（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈した液を用いて３３℃で２０秒間、コーン型ノズル圧力０．０２ＭＰａにてシャワーで吹きかけ、形成されたパターン像の周辺の残渣除去を行ない、純水をシャワーにより１０秒間吹き付け、逆テーパー型の黒色パターンを得た。
【０１６１】
次にスパッタ装置（ＵＬＶＡＣ製ＳＩＨ３０３０を用いて、厚み３６０ÅのＩＴＯスパッタ（ｍａｉｎ電流；２Ａ、ｐｒｅｓｐｕｔｔｅｒ電流；１Ａ、プレヒート温度１００℃、スパッタ温度１００℃、プレヒート時間３０分、Ａｒ流量  ８０  ｓｃｃｍ、Ｏ２流量  ６ｃｃｍ、プレスパッタ時間  ２分、スピード８５０ｍｍ／ｍｉｎ  基板温度１００℃）を行なった。
【０１６２】
室温に３０分放置した後、４０℃の保温された剥離液（２．３８％ＴＭＡＨ水溶液）に４０ｋｚの超音波をかけながら、５分浸漬し、ＩＴＯが蒸着された黒色パターンごと剥離し、純水をシャワーにより１０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄後、上記シランカップリング液（Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン０．３質量％水溶液、商品名：ＫＢＭ６０３、信越化学工業（株）製）をシャワーにより２０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄した。この基板を基板予備加熱装置で１００℃２分加熱した。
【０１６３】
〜絶縁層パターンの作製〜
得られた第二導電層パターンを有する基板に、上記絶縁層用感光性転写フィルム（１）をフォトスペーサーの作製方法と同様にラミネート、露光、現像、ベークして絶縁層パターンを形成した。但し、マスクは絶縁層パターン作製用マスクを使用、プロキシミティ露光量はｉ線４０ｍＪ／ｃｍ２、炭酸Ｎａ系現像液を用いた現像は２５℃５０秒、ベーク条件は１００℃１５分に変更して行なった。
【０１６４】
〜第二導電層パターンの作製〜
上記絶縁層パターンを有する基板に、上記第一導電層パターンの作製方法と同様に第二導電層パターンを形成した。但しマスクは第二導電層パターン作製用マスクに変更して行なった。
【０１６５】
〜オーバーコート層の作製〜
得られた第二導電層パターン付きガラス基板に、上記オーバーコート用感光性転写フィルム（１）を絶縁層の作製方法と同様にラミネート、露光、現像、ベークして絶縁層パターンを形成した。但し、マスクは絶縁層パターン作製用マスクを使用に変更して行なった。
【０１６６】
＜液晶表示装置の作製＞
別途、対向基板として、ガラス基板上にＴＦＴが配設されたＴＦＴ基板を用意し、上記で得られたフォトスペーサー付きカラーフィルタ基板の透明電極形成面側及び対向基板のＴＦＴ形成面側に、それぞれＰＶＡモード用にパターニングを施し、その上に更にポリイミドよりなる配向膜を設けた。
【０１６７】
その後、カラーフィルタの画素群を取り囲むように周囲に設けられたブラックマトリクス外枠に相当する位置に紫外線硬化樹脂のシール剤をディスペンサ方式により塗布し、ＰＶＡモード用液晶を滴下し、対向基板と貼り合わせた後、貼り合わされた基板をＵＶ照射した後、熱処理してシール剤を硬化させた。このようにして得た液晶セルの液晶セルの背面となる側に、（株）サンリッツ製の偏光板ＨＬＣ２−２５１８を貼り付けた。
【０１６８】
次いで、赤色（Ｒ）ＬＥＤとしてＦＲ１１１２Ｈ（スタンレー電気（株）製のチップ型ＬＥＤ）、緑色（Ｇ）ＬＥＤとしてＤＧ１１１２Ｈ（スタンレー電気（株）製のチップ型ＬＥＤ）、青色（Ｂ）ＬＥＤとしてＤＢ１１１２Ｈ（スタンレー電気（株）製のチップ型ＬＥＤ）を用いてサイドライト方式のバックライトを構成し、前記偏光板が設けられた液晶セルの背面となる側に配置した。次に液晶セルの前面に上記タッチパネル素子を配置し、上記偏光板ＨＬＣ２−２５１８を貼り付けて、液晶表示装置とした。
【０１６９】
［評価］
得られた実施例のタッチパネル素子、液晶表示装置について、以下のように性能評価を行った。
−絶縁性−
上記実施例で得られたタッチパネル素子を５０℃９５％ＲＨ下で２００時間保管した後、上記実施例と同様に液晶表示装置を作製し、絶縁性不良による誤動作の回数を評価した。
【０１７０】
＜評価基準＞
○：入力１０００回中誤動作は２回以内であった。
×：入力１０００回中誤動作は３回以上であった。
【０１７１】
−鉛筆硬度−
上記実施例で得られたオーバーコート層をＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４に従い、鉛筆硬度を評価した。実用レベルは３Ｈ以上である。
【０１７２】
−高湿テスト面状−
上記実施例で得られたタッチパネル素子を６０℃９５％ＲＨ下で保存した後、２３℃５５％に３０分調湿した後、オーバーコート層を光学顕微鏡で観察した。実用レベルはＣ以上である。
【０１７３】
＜評価基準＞
Ａ：  ＩＴＯ蒸着部及びＩＴＯリフトオフ部共にオーバーコート層全面に欠陥が全く見られない。
Ｂ：  非表示領域のＩＴＯ蒸着部の矩形状パターンの角の部分のみに微かなシミ状欠陥が見られた。
Ｃ：  表示領域のＩＴＯ蒸着部の矩形状パターンの角の部分のみに微かなシミ状欠陥が見られた。
Ｄ：  矩形状パターンエッジ（４辺）に近傍の基板上にシミ状欠陥が見られた。
Ｅ：  基板全面にシミ状欠陥が見られた。
【０１７４】
−現像残渣−
上記「−絶縁層パターン及びオーバーコート層の作製−」において、プロキシミティー露光後、各実施例の現像条件と同様の方法で現像し、形成した矩形状パターン部分のＳＥＭ観察を行い周辺に残渣が残っているか確認した。実用レベルはＣ以上である。
【０１７５】
＜評価基準＞
Ａ：  残渣がまったく見られない。
Ｂ：  矩形状パターンの角の部分に微かな残渣が見られた。
Ｃ：  矩形状パターンエッジ（４辺）に微かな残渣が見られた。
Ｄ：  矩形状パターンエッジ（４辺）とパターン近傍の基板上に残渣が見られた。
Ｅ：  基板上所々に残渣が確認できた。
【０１７６】
−現像パターン密着−
上記「−絶縁層パターンの作製−」において、プロキシミティー露光後、各実施例の現像条件と同様の方法で現像し、形成した矩形状パターン形成した絶縁層パターン１０００個を光学顕微鏡にてラミネート状態を観察し、現像パターン密着を評価した。実用レベルはＣ以上である。
【０１７７】
＜評価基準＞
Ａ：  絶縁層パターン１０００個中脱落したものが０個であった。
Ｂ：  絶縁層パターン１０００個中脱落したものが１〜３個であった。
Ｃ：  絶縁層パターン１０００個中脱落したものが４又は５個であった。
Ｄ：  絶縁層パターン１０００個中脱落したものが６〜１０個であった。
Ｅ：  絶縁層パターン１０００個中脱落したものが１１個以上であった。
【０１７８】
−アルカリ耐性−
上記のようにして形成した絶縁層パターンを有する基板について、４０℃に加温した２．３８重量％のＴＭＡＨ（テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド）水溶液中に５分浸漬し、予め水槽に溜めておいた純水で２秒洗浄を実施した後、エアーナイフで水分を除き、光学顕微鏡で観察した。
【０１７９】
＜評価基準＞
Ａ：  絶縁層パターン１０００個中脱落したものが０個であった。
Ｂ：  絶縁層パターン１０００個中脱落したものが１〜３個であった。
Ｃ：  絶縁層パターン１０００個中脱落したものが４又は５個であった。
Ｄ：  絶縁層パターン１０００個中脱落したものが６〜２０個であった。
Ｅ：  絶縁層パターン１０００個中脱落したものが２０個以上であった。
【０１８０】
−露光直後密着性の評価−
実施例の絶縁層又はオーバーコート層の作製方法において、パターン露光直後の密着を下記価基準で評価した。実用レベルはＣ以上である。
【０１８１】
＜評価基準＞
Ａ：  ＩＴＯ蒸着部及びＩＴＯリフトオフ部共にオーバーコート層全面に剥離部分が全く見られない。
Ｂ：  非表示領域のＩＴＯリフトオフ部の一部分のみに微かな剥離部分が見られた。
Ｃ：  非表示領域のＩＴＯ蒸着部及びＩＴＯリフトオフ部の一部分のみに微かな剥離部分が見られた。
Ｄ：  表示領域のＩＴＯ蒸着部及びＩＴＯリフトオフ部の一部分のみに微かな剥離部分が見られた。
Ｅ：  硬化収縮により基板から全面剥離した。
【０１８２】
−ベーク後透明性−
洗浄したガラス基板（コーニング社製ミレニアム  ０．７ｍｍ厚）に、実施例の第一導電層パターンの作製に示す方法にて、シランカップリング液で処理した基板を作製した。引続きオーバーコート層作製方法に従い、オーバーコート層を作製した。分光光度計  ＵＶ２１００型（島津製作所製）で４００〜８００ｎｍの透過率を測定し、下記評価基準にしたがって評価した。実用レベルはＣ以上である。
【０１８３】
〈評価基準〉
Ａ：  ４００ｎｍの透過率が９５％以上且つ４００〜８００ｎｍ平均透過率９５％以上
Ｂ：  ４００ｎｍの透過率が９０％以上９５％未満且つ４００〜８００ｎｍ平均透過率９０％以上
Ｃ：  ４００ｎｍの透過率が８５％以上９０％未満４００〜８００ｎｍ平均透過率８５％以上
Ｄ：  ４００ｎｍの透過率が８０％以上８５％未満
Ｅ：  ４００ｎｍの透過率が８０％未満
【０１８４】
〔実施例２〜６〕
実施例１の感光性樹脂層用塗布液処方１において、溶剤組成比、固形分濃度、２種類相互の光重合開始剤比率及び３種類相互の重合性化合物比率を一定に保ったまま、光重合開始剤（Ｃ）／重合性化合物（Ｂ）比を４．９２からそれぞれ３．４８（実施例２）、２．４６（実施例３）、１．２３（実施例４）、０．８７（実施例５）、０．６２（実施例６）になるように処方を変更してタッチパネル搭載液晶表示装置を作成した以外は実施例１と同様に行ない、同様に評価して表２に示す結果を得た。
【０１８５】
〔比較例１及び２〕
実施例１の感光性樹脂層用塗布液処方１において、溶剤組成比、固形分濃度、２種類相互の光重合開始剤比率及び３種類相互の重合性化合物比率を一定に保ったまま、光重合開始剤（Ｃ）／重合性化合物（Ｂ）比を４．９２からそれぞれ５．０（比較例１）及び０．５８質量％（比較例２）になるように処方を変更してタッチパネル搭載液晶表示装置を作成した以外は実施例２と同様に行ない、同様に評価して表２に示す結果を得た。
【０１８６】
〔実施例７〜１０〕
実施例３の感光性樹脂層用塗布液処方３において、重合性化合物（Ｂ）／（Ａ）特定樹脂比、溶剤組成比、固形分濃度を一定に保ったまま、Ｗ２／Ｗ１の値を１．４１からそれぞれ２．７６（実施例７）、２．０４（実施例８）、０．９６（実施例９）０．６０（実施例１０）に変更してタッチパネル搭載液晶表示装置を作成した以外は実施例３と同様に行ない、同様に評価して表２に示す結果を得た。
【０１８７】
〔比較例３及び４〕
実施例３の感光性樹脂層用塗布液処方３において、重合性化合物（Ｂ）／（Ａ）特定樹脂比、溶剤組成比、固形分濃度を一定に保ったまま、Ｗ２／Ｗ１の値を１．４１からそれぞれ３．１６（比較例３）、０．５４（比較例４）に変更してタッチパネル搭載液晶表示装置を作成した以外は実施例３と同様に行ない、表２に示す結果を得た。
なお、以下の表において「粗ＴＰＯＡ」はトリペンタエリスリトールオクタアクリレートを含有する重合性化合物の混合物の含有量を示し、「ＴＰＯＡ（純分）」は本発明に係る（ｂ２）重合性化合物であるトリペンタエリスリトールオクタアクリレートの含有量を示す。また、「ＵＡ−３２Ｐ」は、（Ｂ−２）他の重合性化合物に属する化合物であるウレタン系モノマー（ＮＫオリゴＵＡ−３２Ｐ、新中村化学工業(株）製）の含有量を示す。
【０１８８】
【表２】
2012078528.tif 000011
【０１８９】
〔実施例１１〜１５〕
実施例３の感光性樹脂層用塗布液処方３において、溶剤組成比、固形分濃度及び３種類相互の重合性化合物比率を一定に保ったまま、重合性化合物（Ｂ）／（Ａ）特定樹脂比を０．７５からそれぞれ０．４８（実施例１１）、０．６（実施例１２）、０．９（実施例１３）、１．２（実施例１４）、１．６（実施例１５）になるように処方を変更してタッチパネル搭載液晶表示装置を作成した以外は実施例３と同様に行ない、同様に評価して表２に示す結果を得た。
【０１９０】
〔比較例５及び６〕
実施例３の感光性樹脂層用塗布液処方３において、溶剤組成比、固形分濃度及び３種類相互の重合性化合物比率を一定に保ったまま、重合性化合物（Ｂ）／（Ａ）特定樹脂比を０．７５からそれぞれ０．４４（比較例５）、１．６２（比較例６）になるように処方を変更してタッチパネル搭載液晶表示装置を作成した以外は実施例３と同様に行ない、同様に評価して表３に示す結果を得た。
【０１９１】
〔実施例１６〕
実施例３の感光性樹脂層用塗布液処方３において、ウレタン系モノマー（ＮＫオリゴＵＡ−３２Ｐを除去し、重合性化合物の混合物Ｂ２−１の純度を８５％から９９％に変更し、Ｗ２／Ｗ１の比率、重合性化合物（Ｂ）／（Ａ）特定樹脂比、溶剤組成比、固形分濃度を一定になるよう処方を変更してタッチパネル搭載液晶表示装置を作成した以外は実施例３と同様に行ない、同様に評価して表３に示す結果を得た。
【０１９２】
〔実施例１７〜２０〕
実施例３において、感光性樹脂層用塗布液処方３に用いたウレタン系モノマー（ＮＫオリゴＵＡ−３２Ｐ含有率を表に示すように、０％（実施例１７）、２０％（実施例１８）、２５％（実施例１９）、３０％（実施例２０）に変更し以外は、Ｗ２／Ｗ１の比率、重合性化合物（Ｂ）／（Ａ）特定樹脂比、溶剤組成比、固形分濃度を一定になるようにした以外は実施例３と同様に行ない、同様に評価して表３に示す結果を得た。
【０１９３】
〔比較例７〕
実施例３において、感光性樹脂層用塗布液処方３に用いたウレタン系モノマー（ＮＫオリゴＵＡ−３２Ｐ含有率を表に示すように３２％に変更し以外は、Ｗ２／Ｗ１の比率、重合性化合物（Ｂ）／（Ａ）特定樹脂比、溶剤組成比、固形分濃度を一定になるようにした以外は実施例３と同様に行ない、同様に評価して表３に示す結果を得た。
【０１９４】
【表３】
2012078528.tif 000012
【０１９５】
〔実施例２１〜２４〕
実施例３において感光性樹脂層用の厚みが１．３８μからそれぞれ０．７５μ（実施例２１）、２．２４μ（実施例２２）、２．６μ（実施例２３）、３，０μ（実施例２４）に変更した以外には実施例３と同様に行ない、同様に評価して表４に示す結果を得た。
【０１９６】
〔比較例８及び９〕
実施例３において感光性樹脂層用の厚みが１．３８μからそれぞれ
０．６８μ（比較例８）、３．２μ（比較例９）に変更した以外には実施例３と同様に行ない、同様に評価して表４に示す結果を得た。
【０１９７】
〔実施例２５〜２７〕
実施例３において、感光性樹脂層用塗布液処方３のポリマー溶液として用いた特開２００８−１４６０１８公報  構造式Ｐ−２５で表される化合物の代わりにそれぞれ、特開２００８−１４６０１８公報の段落番号［００６１］に記載の構造式Ｐ−１０で表される化合物（実施例２５）、下記構造物２（実施例２６）、下記構造物３（実施例２７）を、ポリマー固形分が等量になるように添加し、また塗布液固形分が同じになるよう１−メトキシ−２−プロピルアセテートの添加量を調整した以外は実施例３と同様に行ない、同様に評価して表４に示す結果を得た。
【０１９８】
【化９】
2012078528.tif 000013
【０１９９】
【化１０】
2012078528.tif 000014
【０２００】
〔比較例１０〕
実施例３に感光性樹脂層用塗布液処方３において使用した全ての重合性化合物の代わりに、特開２００２−２１２２３５号公報の合成例１のアクリル酸エステル混合物（Ａ−１）（Ｗ１＋Ｗ２＝７９．８、Ｗ２／Ｗ１＝１１．９）を用いた以外は実施例３と同様に行ない、残渣が低下するなど、表４に示すような結果を得た。Ｗ１＋Ｗ２、Ｗ２／Ｗ１はそれぞれ７１．９％及び１１．９であった。
【０２０１】
〔比較例１１〜１３〕
実施例１に用いた感光性樹脂層用塗布液の処方１の代わりに、特開平−５−７８４５３の実施例１記載の保護膜材料用塗布液（比較例１１）、特開２００１−９１７３２の実施例１に記載の組成物Ｖ１（比較例１２）、特開２００９−１０９７２５の実施例１記載のネガ型感光性樹脂（比較例１３）を用いた以外は実施例１と同様に行ない、同様に評価して表４に示すような結果を得た。
【０２０２】
〔実施例２８〜３２〕
実施例３の感光性樹脂層用塗布液の処方３において、光重合開始剤の混合物を合計量は変えずにそれぞれ  ２，４−ビス−（トリクロロメチル）−６−［４−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチルアミノ）−３−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン（実施例２８）、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール（実施例２９）、オキシム系開始剤  ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ  ０１（チバ製：実施例３０）、アセトフェノン系開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ３７９（チバ製：実施例３１）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ９０７（チバ製：実施例３２）単独に置き換えた以外は実施例３と同様に行ない、同様に評価して表４に示す結果を得た。
【０２０３】
【表４】
2012078528.tif 000015
【０２０４】
（実施例３３〜３５、比較例１４〜１７）（絶縁層パターン及びオーバーコート層：転写法１種一回現像液系）
〔実施例３３〕
実施例１の絶縁層パターン及びオーバーコート層の作製において、現像液を３種逐次現像液系から下記現像液Ａを用いた１種一回現像液系に変更し、且つその際の現像条件を３０℃６０秒に変更した以外は実施例１と同様に行ない、同様に評価して表５に示す結果を得た。
【０２０５】
−現像液Ａ−
・トリエタノールアミン系現像液（トリエタノールアミン３０％含有、商品名：Ｔ−ＰＤ２（富士フイルム（株）製）                                      ・・・・１００部
・炭酸Ｎａ系現像液（０．３８ｍｏｌ／リットルの炭酸水素ナトリウム、０．４７ｍｏｌ／リットルの炭酸ナトリウム、５％のジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アニオン界面活性剤、消泡剤、及び安定剤含有；商品名：Ｔ−ＣＤ１（富士フイルム（株）製）
・・・・１４０部
・洗浄剤（燐酸塩・珪酸塩・ノニオン界面活性剤・消泡剤・安定剤含有；商品名：Ｔ−ＳＤ３（富士フイルム（株）製）                                    ・・・・１００部
・純水                                                          ・・・・６６０部
・水酸化カリウム系現像液ＣＤＫ−１（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）                                                          ・・・・・１０部
【０２０６】
〔実施例３４〕
実施例３３において感光性樹脂層用塗布液処方１（光重合開始剤（Ｃ）／重合性化合物（Ｂ）＝４．９２％）の代わりに実施例３で用いた感光性樹脂層用塗布液処方３（光重合開始剤（Ｃ）／重合性化合物（Ｂ）＝  （光重合開始剤（Ｃ）／重合性化合物（Ｂ）＝２．４６％）を用いた以外は実施例３３と同様に行ない、同様に評価して表５に示す結果を得た。
【０２０７】
〔実施例３５〕
実施例３４において現像液Ａから水酸化カリウム系現像液ＣＤＫ−１を除去した幻像液Ｂに変更した以外は実施例３４と同様に行ない、同様に評価して表５に示す結果を得た。
【０２０８】
〔比較例１４〕
実施例３４において感光性樹脂層用塗布液処方３の代わりに、感光性樹脂層用塗布液処方３において使用した全ての重合性化合物の代わりに、特開２００２−２１２２３５号公報の合成例１のアクリル酸エステル混合物（Ａ−１）（Ｗ１＋Ｗ２＝７９．８、Ｗ２／Ｗ１＝１１．９）を用いた以外は実施例３４と同様に行ない、同様に評価して表５に示す結果を得た。
【０２０９】
〔比較例１５〜１７〕
実施例３４において実施例１に用いた感光性樹脂層用塗布液の処方１の代わりに、特開平−５−７８４５３の実施例１記載の保護膜材料用塗布液（比較例１５）、特開２００１−９１７３２の実施例１に記載の組成物Ｖ１（比較例１６）、特開２００９−１０９７２５の実施例１記載のネガ型感光性樹脂（比較例１７）を用いた以外は実施例３４と同様に行ない実験を行ない、同様に評価して表５に示す結果を得た。
【０２１０】
【表５】
2012078528.tif 000016
【０２１１】
（実施例３６〜６７、比較例１８〜３０）
（絶縁層パターン及びオーバーコート層：塗布法）
〔実施例３６〕
実施例１と同様のパターニング工程及び熱処理工程により、カラーフィルタ基板上にフォトスペーサを作製した。
【０２１２】
＜タッチパネル素子の作製（絶縁層パターン及びオーバーコート層：塗布法系＞
〜第一導電層パターンの作製〜
実施例１の第一導電層パターンの作製方法と同様に作製した。
【０２１３】
〜絶縁層パターンの作製〜
得られた第一導電層パターンを有する基板に、感光性樹脂層用塗布液処方１を、スリット状ノズルを有するガラス基板用コーターＭＨ−１６００（エフ・エー・エス・アジア社製）にて、を塗布した。引き続き、真空乾燥機ＶＣＤ（東京応化社製）を用いて３０秒間溶媒の一部を乾燥させて塗布膜の流動性をなくした後、１００℃で３分間プリベークして膜厚１．３８μｍの感光性樹脂組成物層を形成した（層形成工程）。
プロキシミティ露光量をｉ線２５０ｍＪ／ｃｍ２、炭酸Ｎａ系現像液を用いた現像は２５℃６０秒で行なった。以降は実施例１の外は絶縁層パターンの作製と同様に行なった。
【０２１４】
〜第二導電層パターンの作製〜
実施例１の第二導電層パターンの作製方法と同様に作製した。
【０２１５】
〜オーバーコート層の作製〜
得られた第二導電層パターン付きガラス基板に、上記絶縁層パターンの作製方法と同様に塗布、プリベーク露光、現像、ベークして絶縁層パターンを形成した。但し、マスクは絶縁層パターン作製用マスクを使用に変更して行なった。
【０２１６】
＜液晶表示装置の作製＞
実施例１と同様にして液晶表示装置の作製を行ない、実施例１と同様に評価して表６、表７に示す結果を得た。
【０２１７】
〔実施例３７〜６７、比較例１８〜３０〕
実施例３６の感光性樹脂層用塗布液の処方１の代わりに表２〜４に示す実施例２〜２７及び比較例１〜１３で用いた感光性樹脂層用塗布液を用いた以外は実施例３６と同様に行ない、同様に評価して表６及び表７に示す結果を得た。
【０２１８】
【表６】
2012078528.tif 000017
【０２１９】
【表７】
2012078528.tif 000018
【０２２０】
上記結果より、本発明の感光性組成物は、パターン露光後の現像性が良好で、現像残渣も認められず、形成された樹脂パターンは、絶縁性、透明性、耐アルカリ性等の諸特性に優れ、タッチパネル素子に用いる絶縁層及びオーバーコート層を作製するために有用であることがわかる。