(57)【要約】【課題】基板の搬送台を用いることなく簡単な構成で基板のロード／アンロードを行うと共に、露光むらを抑制し、かつ、チャックを軽量化する。【解決手段】チャック１０の表面に、複数の土手１１を設け、複数の土手１１により複数の真空区画１２とチャックの幅に渡る複数の非真空区画１３とを形成する。高さが複数の土手１１より低い複数の細長い基板支持部材３２をチャック１０の幅に渡ってチャック１０の非真空区画１３に配置し、複数の基板支持部材３２の両端をチャック１０の幅より大きな幅を有するフレーム３０に取り付ける。フレーム３０を上昇させ、基板１を複数の基板支持部材３２により支持してチャック１０から持ち上げ、フレーム３０を下降させ、複数の基板支持部材３２により支持された基板１をチャック１０に搭載する。【選択図】図７
2012032498.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダと、前記チャックを移動するステージとを備え、マスクと基板との間に微小なギャップを設けて、マスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置において、
前記チャックは、表面に複数の真空区画と前記チャックの幅に渡る複数の非真空区画とを形成する複数の土手を有し、
前記チャックの幅より大きな幅を有するフレームと、
高さが前記複数の土手より低く、前記チャックの幅に渡って前記チャックの各非真空区画に配置され、両端が前記フレームに取り付けられた複数の細長い基板支持部材と、
前記ステージに取り付けられた昇降機構とを備え、
前記昇降機構により前記フレームを上昇させ、基板を前記複数の基板支持部材により支持して前記チャックから持ち上げ、
前記昇降機構により前記フレームを下降させ、前記複数の基板支持部材により支持された基板を前記チャックに搭載することを特徴とするプロキシミティ露光装置。
【請求項２】
前記複数の基板支持部材から基板を受け取り、また前記複数の基板支持部材に基板を搭載するロボットアームを備えたことを特徴とする請求項１に記載のプロキシミティ露光装置。
【請求項３】
基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダと、チャックを移動するステージとを備え、マスクと基板との間に微小なギャップを設けて、マスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置の基板ロード／アンロード方法であって、
チャックの表面に、複数の土手を設け、複数の土手により複数の真空区画とチャックの幅に渡る複数の非真空区画とを形成し、
高さが複数の土手より低い複数の細長い基板支持部材をチャックの幅に渡ってチャックの各非真空区画に配置し、複数の基板支持部材の両端をチャックの幅より大きな幅を有するフレームに取り付け、
ステージに昇降機構を取り付け、
昇降機構によりフレームを上昇させ、基板を複数の基板支持部材により支持してチャックから持ち上げ、
昇降機構によりフレームを下降させ、複数の基板支持部材により支持された基板をチャックに搭載することを特徴とするプロキシミティ露光装置の基板ロード／アンロード方法。
【請求項４】
ロボットアームを用いて、複数の基板支持部材から基板を受け取り、また複数の基板支持部材に基板を搭載することを特徴とする請求項３に記載のプロキシミティ露光装置の基板ロード／アンロード方法。
【請求項５】
請求項１又は請求項２に記載のプロキシミティ露光装置を用いて基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
【請求項６】
請求項３又は請求項４に記載のプロキシミティ露光装置の基板ロード／アンロード方法を用いて基板をロード／アンロードして、基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶ディスプレイ装置等の表示用パネル基板の製造において、プロキシミティ方式を用いて基板の露光を行うプロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板ロード／アンロード方法、及びそれらを用いた表示用パネル基板の製造方法に係り、特に、大型の基板の露光を行うのに好適なプロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板ロード／アンロード方法、及びそれらを用いた表示用パネル基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示用パネルとして用いられる液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）基板やカラーフィルタ基板、プラズマディスプレイパネル用基板、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示パネル用基板等の製造は、露光装置を用いて、フォトリソグラフィー技術により基板上にパターンを形成して行われる。露光装置としては、レンズ又は鏡を用いてマスクのパターンを基板上に投影するプロジェクション方式と、マスクと基板との間に微小な間隙（プロキシミティギャップ）を設けてマスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ方式とがある。プロキシミティ方式は、プロジェクション方式に比べてパターン解像性能は劣るが、照射光学系の構成が簡単で、かつ処理能力が高く量産用に適している。
【０００３】
プロキシミティ露光装置は、基板を真空吸着して支持するチャックを備え、チャックは、基板の移動及び位置決めを行うステージ上に搭載されている。チャックへの基板のロード及びチャックからの基板のアンロードは、通常、ロボットアームを用いて行われるが、マスクと基板との接触を避けるために、マスクの下の露光位置から離れたロード／アンロード位置で行われる。ロード／アンロード位置で基板をチャックに搭載した後、ステージがマスクの下の露光位置へ移動し、露光位置で基板の位置決めを行う。
【０００４】
従来、ロード／アンロード位置におけるロボットアームとチャックとの間の基板の受け渡しは、チャックに複数の突き上げピンを設け、突き上げピンにより基板をチャックから持ち上げるか、あるいはチャックの表面にロボットアームが入る溝を設け、ロボットアームをチャックの溝に挿入して、行っていた。
【０００５】
従来の突き上げピンを用いる方法は、複数の突き上げピンが所望の高さになる様に各突き上げピンの高さを事前に調整する必要があり、表示用パネルの大画面化に伴って基板が大型化すると、突き上げピンの数が増加し、突き上げピンの高さ調整に手間が掛かるという問題があった。また、基板が大型化するとチャックも大型化し、チャックの中央部に設けた突き上げピンは、チャックの外側から手が届きにくいので、高さ調整が困難であるという問題が生じた。
【０００６】
一方、従来のチャックにロボットアームが入る溝を設ける方法は、チャックの溝の部分と他の吸着部分とで露光光の反射率が異なり、また溝の部分の空間と他の吸着部分とに温度差が生じるため、露光時に露光むらが発生するという問題があった。また、剛性を保つためにチャックの厚さを増す必要があり、チャックが重くなって、移動の高速化の妨げとなり、また位置決め精度が低下するという問題があった。
【０００７】
これに対し、特許文献１には、基板より大きな枠内に複数のワイヤを張って基板の搬送台を構成し、搬送台の枠より小さなチャックに搬送台の複数のワイヤが収納される複数の溝を設け、基板を搭載した搬送台をチャックへ搬送し、搬送台の各ワイヤをチャックの各溝に挿入して、基板をチャックに搭載する技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２０１０−２５９８２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
特許文献１に記載の技術は、基板を搬送台に固定することができないため、基板を搭載した搬送台を移動する際、搬送台上で基板の位置がずれることがある。そして、搬送台上で位置がずれた基板をチャック上の所定の位置へ搭載するためには、搬送台のワイヤを収納するチャックの溝の寸法に余裕を持たせて、溝の幅を大きくする必要がある。しかしながら、ワイヤを収納するチャックの溝の幅を大きくすると、従来のロボットアームが入る溝と同様に、露光時に溝の部分で露光むらが発生する恐れがある。
【００１０】
また、特許文献１に記載の技術は、製造ラインの途中で搬送台をライン内に供給し、また製造ラインの途中で搬送台をラインから回収する必要があり、複数の搬送台を移動、点検及び管理する作業が大変であった。
【００１１】
本発明の課題は、基板の搬送台を用いることなく、簡単な構成で基板のロード／アンロードを行うと共に、露光むらを抑制し、かつ、チャックを軽量化することである。また、さらに、本発明の課題は、高品質な表示用パネル基板を高いスループットで製造することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明のプロキシミティ露光装置は、基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダと、チャックを移動するステージとを備え、マスクと基板との間に微小なギャップを設けて、マスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置において、チャックが、表面に複数の真空区画とチャックの幅に渡る複数の非真空区画とを形成する複数の土手を有し、チャックの幅より大きな幅を有するフレームと、高さが複数の土手より低く、チャックの幅に渡ってチャックの各非真空区画に配置され、両端がフレームに取り付けられた複数の細長い基板支持部材と、ステージに取り付けられた昇降機構とを備え、昇降機構によりフレームを上昇させ、基板を複数の基板支持部材により支持してチャックから持ち上げ、昇降機構によりフレームを下降させ、複数の基板支持部材により支持された基板をチャックに搭載するものである。
【００１３】
また、本発明のプロキシミティ露光装置の基板ロード／アンロード方法は、基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダと、チャックを移動するステージとを備え、マスクと基板との間に微小なギャップを設けて、マスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置の基板ロード／アンロード方法であって、チャックの表面に、複数の土手を設け、複数の土手により複数の真空区画とチャックの幅に渡る複数の非真空区画とを形成し、高さが複数の土手より低い複数の細長い基板支持部材をチャックの幅に渡ってチャックの各非真空区画に配置し、複数の基板支持部材の両端をチャックの幅より大きな幅を有するフレームに取り付け、ステージに昇降機構を取り付け、昇降機構によりフレームを上昇させ、基板を複数の基板支持部材により支持してチャックから持ち上げ、昇降機構によりフレームを下降させ、複数の基板支持部材により支持された基板をチャックに搭載するものである。
【００１４】
複数の基板支持部材の両端をチャックの幅より大きな幅を有するフレームに取り付け、ステージに昇降機構を取り付け、昇降機構によりフレームを上昇させ、基板を複数の基板支持部材により支持してチャックから持ち上げ、昇降機構によりフレームを下降させ、複数の基板支持部材により支持された基板をチャックに搭載するので、特許文献１に記載の様な基板の搬送台を用いることなく、簡単な構成で基板のロード／アンロードが行われる。そして、チャックの表面に、複数の土手を設け、複数の土手により複数の真空区画とチャックの幅に渡る複数の非真空区画とを形成し、高さが複数の土手より低い複数の細長い基板支持部材をチャックの幅に渡ってチャックの各非真空区画に配置するので、従来のチャックにロボットアームが入る溝を設ける方法、及びチャックに搬送台のワイヤを収納する溝を設ける方法に比べて、露光むらが抑制され、かつ、チャックの厚さを薄くして、チャックを軽量化することができる。
【００１５】
さらに、本発明のプロキシミティ露光装置は、複数の基板支持部材から基板を受け取り、また前記複数の基板支持部材に基板を搭載するロボットアームを備えたものである。また、本発明のプロキシミティ露光装置の基板ロード／アンロード方法は、ロボットアームを用いて、複数の基板支持部材から基板を受け取り、また複数の基板支持部材に基板を搭載するものである。ロボットアームを用いて、基板がチャックから容易に搬出され、また基板がチャックへ容易に搬入される。
【００１６】
本発明の表示用パネル基板の製造方法は、上記のいずれかのプロキシミティ露光装置を用いて基板の露光を行い、あるいは、上記のいずれかのプロキシミティ露光装置の基板ロード／アンロード方法を用いて基板をロード／アンロードして、基板の露光を行うものである。露光むらが抑制され、かつ、チャックを軽量化することができるので、チャックの移動が高速で行われ、露光時の基板の位置決めが精度良く行われて、高品質な表示用パネル基板が高いスループットで製造される。
【発明の効果】
【００１７】
本発明のプロキシミティ露光装置及びプロキシミティ露光装置の基板ロード／アンロード方法によれば、複数の基板支持部材の両端をチャックの幅より大きな幅を有するフレームに取り付け、ステージに昇降機構を取り付け、昇降機構によりフレームを上昇させ、基板を複数の基板支持部材により支持してチャックから持ち上げ、昇降機構によりフレームを下降させ、複数の基板支持部材により支持された基板をチャックに搭載することにより、基板の搬送台を用いることなく、簡単な構成で基板のロード／アンロードを行うことができる。そして、チャックの表面に、複数の土手を設け、複数の土手により複数の真空区画とチャックの幅に渡る複数の非真空区画とを形成し、高さが複数の土手より低い複数の細長い基板支持部材をチャックの幅に渡ってチャックの各非真空区画に配置することにより、露光むらを抑制し、かつ、チャックを軽量化することができる。
【００１８】
さらに、本発明のプロキシミティ露光装置及びプロキシミティ露光装置の基板ロード／アンロード方法によれば、ロボットアームを用いて、複数の基板支持部材から基板を受け取り、また複数の基板支持部材に基板を搭載することにより、基板をチャックから容易に搬出し、また基板をチャックへ容易に搬入することができる。
【００１９】
本発明の表示用パネル基板の製造方法によれば、露光むらを抑制し、かつ、チャックを軽量化することができるので、チャックの移動を高速で行い、露光時の基板の位置決めを精度良く行って、高品質な表示用パネル基板を高いスループットで製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の概略構成を示す図である。
【図２】本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の上面図である。
【図３】チャックを露光位置へ移動した状態を示す側面図である。
【図４】チャックの上面図である。
【図５】基板ロード／アンロード機構の上面図である。
【図６】基板ロード／アンロード機構の側面図である。
【図７】基板ロード／アンロード機構の側面図である。
【図８】ロボットアームの上面図である。
【図９】ロボットアームの動作を説明する図である。
【図１０】ロボットアームの動作を説明する図である。
【図１１】液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。
【図１２】液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
図１は、本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の概略構成を示す図である。また、図２は、本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の上面図である。プロキシミティ露光装置は、ベース３、Ｘガイド４、Ｘステージ５、Ｙガイド６、Ｙステージ７、θステージ８、チャック支持台９、チャック１０、マスクホルダ２０、基板ロード／アンロード機構、ステージ駆動回路６０、及び主制御装置７０を含んで構成されている。なお、図２では、ステージ駆動回路６０及び主制御装置７０が省略されている。プロキシミティ露光装置は、これらの他に、基板１をチャック１０へ搬入し、また基板１をチャック１０から搬出する基板搬送ロボット、露光光を照射する照射光学系、装置内の温度管理を行う温度制御ユニット等を備えている。
【００２２】
なお、以下に説明する実施の形態におけるＸＹ方向は例示であって、Ｘ方向とＹ方向とを入れ替えてもよい。
【００２３】
図１及び図２において、チャック１０は、基板１のロード及びアンロードを行うロード／アンロード位置にある。ロード／アンロード位置において、図示しない基板搬送ロボットにより、基板１がチャック１０へ搬入され、また基板１がチャック１０から搬出される。チャック１０への基板１のロード及びチャック１０からの基板１のアンロードは、後述する基板ロード／アンロード機構を用いて行われる。
【００２４】
図３は、チャックを露光位置へ移動した状態を示す側面図である。なお、図３では、ステージ駆動回路６０及び主制御装置７０が省略されている。露光位置の上空には、マスク２を保持するマスクホルダ２０が設置されている。図２において、マスクホルダ２０には、露光光が通過する開口２０ａが設けられており、マスクホルダ２０は、開口２０ａの周囲に設けられた図示しない吸着溝により、マスク２の周辺部を真空吸着して保持する。マスクホルダ２０に保持されたマスク２の上空には、図示しない照射光学系が配置されている。露光時、照射光学系からの露光光がマスク２を透過して基板１へ照射されることにより、マスク２のパターンが基板１の表面に転写され、基板１上にパターンが形成される。
【００２５】
図１及び図３において、チャック１０は、チャック支持台９を介してθステージ８に搭載されており、θステージ８の下にはＹステージ７及びＸステージ５が設けられている。Ｘステージ５は、ベース３に設けられたＸガイド４に搭載され、Ｘガイド４に沿ってＸ方向（図１及び図３の図面横方向）へ移動する。Ｙステージ７は、Ｘステージ５に設けられたＹガイド６に搭載され、Ｙガイド６に沿ってＹ方向（図１及び図３の図面奥行き方向）へ移動する。θステージ８は、Ｙステージ７に搭載され、θ方向へ回転する。チャック支持台９は、θステージ８に搭載され、チャック１０の裏面を複数個所で支持する。Ｘステージ５、Ｙステージ７、及びθステージ８には、ボールねじ及びモータや、リニアモータ等の図示しない駆動機構が設けられており、各駆動機構は、図１のステージ駆動回路６０により駆動される。
【００２６】
Ｘステージ５のＸ方向への移動及びＹステージ７のＹ方向への移動により、チャック１０は、ロード／アンロード位置と露光位置との間を移動される。ロード／アンロード位置において、Ｘステージ５のＸ方向への移動、Ｙステージ７のＹ方向への移動、及びθステージ８のθ方向への回転により、チャック１０に搭載された基板１のプリアライメントが行われる。露光位置において、Ｘステージ５のＸ方向への移動及びＹステージ７のＹ方向への移動により、チャック１０に搭載された基板１のＸＹ方向へのステップ移動が行われる。また、図示しないＺ−チルト機構により、マスクホルダ２０をＺ方向（図３の図面上下方向）へ移動及びチルトすることによって、マスク２と基板１とのギャップ合わせが行われる。そして、Ｘステージ５のＸ方向への移動、Ｙステージ７のＹ方向への移動、及びθステージ８のθ方向への回転により、マスク２と基板１との位置合わせが行われる。図１において、主制御装置７０は、ステージ駆動回路６０を制御して、Ｘステージ５のＸ方向への移動、Ｙステージ７のＹ方向への移動、及びθステージ８のθ方向へ回転を行う。
【００２７】
なお、本実施の形態では、マスクホルダ２０をＺ方向へ移動及びチルトすることにより、マスク２と基板１とのギャップ合わせを行っているが、チャック支持台９にＺ−チルト機構を設けて、チャック１０をＺ方向へ移動及びチルトすることにより、マスク２と基板１とのギャップ合わせを行ってもよい。
【００２８】
以下、本実施の形態によるプロキシミティ露光装置の基板ロード／アンロード方法について説明する。図４は、チャックの上面図である。チャック１０の表面には、図示しない凸部と、複数の土手１１と、図示しない吸着孔とが設けられている。凸部は、直径及び高さが数ｍｍのピン形状であり、チャック１０の表面に所定の間隔で複数設けられている。チャック１０に基板が搭載されたとき、凸部は、基板を複数の点で支持する。このとき、チャック１０の表面の凸部以外の部分と基板との間には、空間が形成される。土手１１は、凸部と同じ高さで所定の幅を有する連続した壁であり、チャック１０の表面の凸部以外の部分と基板との間に形成された空間を複数の真空区画１２に分け、チャック１０の表面に複数の真空区画１２とチャック１０の図面横方向の幅に渡る複数の非真空区画１３とを形成している。土手１１は、チャック１０の表面形状が基板の表面に焼き付けられる裏面転写が発生したときに人間の目で認識され難い様に、直線ではなく不規則な線で構成されている。吸着孔は、各真空区画１２内の凸部以外の部分に所定の間隔で複数設けられ、各真空区画１２の真空引きを行う。
【００２９】
図５は、基板ロード／アンロード機構の上面図である。基板ロード／アンロード機構は、フレーム３０、スタンド３１、基板支持部材３２、フレームベース４０、及び昇降機構を含んで構成されている。フレーム３０は、図５に示す様に四角形の枠を構成しており、チャック１０の下方に配置されている。フレーム３０の枠内部の縦横の寸法のうち、少なくとも図面横方向の寸法（幅）は、チャック１０の図面横方向の寸法（幅）より大きい。なお、本実施の形態では、フレーム３０の枠内部の図面縦方向の寸法も、チャック１０の図面縦方向の寸法より大きくなっているが、チャック１０の真下にフレーム３０の一部を配置する空間がある場合は、フレーム３０の枠内部の図面縦方向の寸法を、チャック１０の図面縦方向の寸法より小さくしてもよい。また、フレーム３０の形状も、四角形の枠に限る必要はない。
【００３０】
フレーム３０の上面には、チャック１０を挟んで、図面左右にスタンド３１が設けられている。基板支持部材３２は、高さがチャック１０の土手１２より低く、チャック１０の幅に渡ってチャック１０の非真空区画１３に配置され、両端がスタンド３１に取り付けられている。基板支持部材３２は、例えば、ワイヤ、合成樹脂製の糸、又はカーボンファイバー等の様に、細長い紐状又は帯状の素材や、鉄やステンレススチール等の材料を薄板状に伸ばした部材から成り、基板１の重量を支える強度を有している。
【００３１】
Ｙステージ７の側面には、フレームベース４０が取り付けられ、フレームベース４０には、昇降機構が設けられている。図６及び図７は、基板ロード／アンロード機構の側面図である。なお、図６及び図７において、フレーム３０及びフレームベース４０は、図５のＡ−Ａ部の断面が示されている。昇降機構は、ガイド４１、モータ４２、軸継手４３、ボールねじ４４ａ、及びナット４４ｂを含んで構成されている。
【００３２】
フレームベース４０の上面には、ガイド４１が取り付けられており、フレーム３０は、ガイド４１に沿って上下に移動可能となっている。フレームベース４０の下面には、モータ４２が設置されており、モータ４２の回転軸には、軸継手４３を介して、ボールねじ４４ａが接続されている。フレーム３０の下面には、ボールねじ４４ａにより移動されるナット４４ｂが取り付けられている。モータ４２を回転すると、ボールねじ４４ａによりナット４４ｂが上下に移動され、フレーム３０が上昇又は下降する。
【００３３】
図６は昇降機構によりフレーム３０を下降させた状態を示し、図７は昇降機構によりフレーム３０を上昇させた状態を示している。図６に示す様に基板１がチャック１０に搭載された状態で、図７に示す様に昇降機構によりフレーム３０を上昇させると、基板支持部材３２がチャック１０の表面から上昇して、基板１をチャック１０から持ち上げる。また、図７に示す様に基板１が基板支持部材３２に支持された状態で、図６に示す様に昇降機構によりフレーム３０を下降させると、基板１がチャック１０に搭載される。
【００３４】
複数の基板支持部材３２の両端をチャック１０の幅より大きな幅を有するフレーム３０に取り付け、Ｙステージ５に昇降機構を取り付け、昇降機構によりフレーム３０を上昇させ、基板１を複数の基板支持部材３２により支持してチャック１０から持ち上げ、昇降機構によりフレーム３０を下降させ、複数の基板支持部材３２により支持された基板１をチャック１０に搭載するので、基板の搬送台を用いることなく、簡単な構成で基板１のロード／アンロードが行われる。そして、チャック１０の表面に、複数の土手１１を設け、複数の土手１１により複数の真空区画１２とチャック１０の幅に渡る複数の非真空区画１３とを形成し、高さが複数の土手１１より低い複数の細長い基板支持部材３２をチャック１０の幅に渡ってチャック１０の各非真空区画１３に配置するので、従来のチャックにロボットアームが入る溝を設ける方法、及びチャックに搬送台のワイヤを収納する溝を設ける方法に比べて、露光むらが抑制され、かつ、チャック１０の厚さを薄くして、チャック１０を軽量化することができる。
【００３５】
本実施の形態では、図７に示す様に昇降機構によりフレーム３０を上昇させた状態で、ロボットアームを用いて、基板支持部材３２から基板１を受け取り、また基板支持部材３２に基板１を搭載する。図８はロボットアームの上面図である。図８に示す様に、ロボットアーム５０は、基板１を支持する複数の基板支持部５１を有する。
【００３６】
図９及び図１０は、ロボットアームの動作を説明する図である。チャック１０から基板１をアンロードする際、ロボットアーム５０は、図９（ａ）に示す様に、各基板支持部５１を、スタンド３１の間から、基板支持部材３２に支持された基板１の下方へ挿入する。そして、ロボットアーム５０は、図９（ｂ）に示す様に、各基板支持部５１を上昇させて、基板支持部材３２から基板１を受け取り、基板１をチャック１０から搬出する。また、チャック１０に基板１をロードする際、ロボットアーム５０は、図１０（ａ）に示す様に、基板１を各基板支持部５１により支持してチャック１０の上空へ搬入する。そして、ロボットアーム５０は、図１０（ｂ）に示す様に、各基板支持部５１を下降させて、基板１を基板支持部材３２に搭載する。ロボットアーム５０を用いて、基板１がチャック１０から容易に搬出され、また基板１がチャック１０へ容易に搬入される。
【００３７】
以上説明した本実施の形態によれば、複数の基板支持部材３２の両端をチャック１０の幅より大きな幅を有するフレーム３０に取り付け、Ｙステージ５に昇降機構を取り付け、昇降機構によりフレーム３０を上昇させ、基板１を複数の基板支持部材３２により支持してチャック１０から持ち上げ、昇降機構によりフレーム３０を下降させ、複数の基板支持部材３２により支持された基板１をチャック１０に搭載することにより、基板の搬送台を用いることなく、簡単な構成で基板１のロード／アンロードを行うことができる。そして、チャック１０の表面に、複数の土手１１を設け、複数の土手１１により複数の真空区画１２とチャックの幅に渡る複数の非真空区画１３とを形成し、高さが複数の土手１１より低い複数の細長い基板支持部材３２をチャック１０の幅に渡ってチャック１０の各非真空区画１３に配置することにより、露光むらを抑制し、かつ、チャック１０を軽量化することができる。
【００３８】
さらに、ロボットアーム５０を用いて、複数の基板支持部材３２から基板１を受け取り、また複数の基板支持部材３２に基板１を搭載することにより、基板１をチャック１０から容易に搬出し、また基板１をチャック１０へ容易に搬入することができる。
【００３９】
本発明のプロキシミティ露光装置を用いて基板の露光を行い、あるいは、本発明のプロキシミティ露光装置の基板ロード／アンロード方法を用いて基板をロード／アンロードして、基板の露光を行うことにより、露光むらを抑制し、かつ、チャックを軽量化することができるので、チャックの移動を高速で行い、露光時の基板の位置決めを精度良く行って、高品質な表示用パネル基板を高いスループットで製造することができる。
【００４０】
例えば、図１１は、液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。薄膜形成工程（ステップ１０１）では、スパッタ法やプラズマ化学気相成長（ＣＶＤ）法等により、基板上に液晶駆動用の透明電極となる導電体膜や絶縁体膜等の薄膜を形成する。レジスト塗布工程（ステップ１０２）では、ロール塗布法等により感光樹脂材料（フォトレジスト）を塗布して、薄膜形成工程（ステップ１０１）で形成した薄膜上にフォトレジスト膜を形成する。露光工程（ステップ１０３）では、プロキシミティ露光装置や投影露光装置等を用いて、マスクのパターンをフォトレジスト膜に転写する。現像工程（ステップ１０４）では、シャワー現像法等により現像液をフォトレジスト膜上に供給して、フォトレジスト膜の不要部分を除去する。エッチング工程（ステップ１０５）では、ウエットエッチングにより、薄膜形成工程（ステップ１０１）で形成した薄膜の内、フォトレジスト膜でマスクされていない部分を除去する。剥離工程（ステップ１０６）では、エッチング工程（ステップ１０５）でのマスクの役目を終えたフォトレジスト膜を、剥離液によって剥離する。これらの各工程の前又は後には、必要に応じて、基板の洗浄／乾燥工程が実施される。これらの工程を数回繰り返して、基板上にＴＦＴアレイが形成される。
【００４１】
また、図１２は、液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。ブラックマトリクス形成工程（ステップ２０１）では、レジスト塗布、露光、現像、エッチング、剥離等の処理により、基板上にブラックマトリクスを形成する。着色パターン形成工程（ステップ２０２）では、染色法、顔料分散法、印刷法、電着法等により、基板上に着色パターンを形成する。この工程を、Ｒ、Ｇ、Ｂの着色パターンについて繰り返す。保護膜形成工程（ステップ２０３）では、着色パターンの上に保護膜を形成し、透明電極膜形成工程（ステップ２０４）では、保護膜の上に透明電極膜を形成する。これらの各工程の前、途中又は後には、必要に応じて、基板の洗浄／乾燥工程が実施される。
【００４２】
図１１に示したＴＦＴ基板の製造工程では、露光工程（ステップ１０３）において、図１２に示したカラーフィルタ基板の製造工程では、ブラックマトリクス形成工程（ステップ２０１）及び着色パターン形成工程（ステップ２０２）の露光処理において、本発明のプロキシミティ露光装置又は本発明のプロキシミティ露光装置の基板ロード／アンロード方法を適用することができる。
【符号の説明】
【００４３】
１  基板
２  マスク
３  ベース
４  Ｘガイド
５  Ｘステージ
６  Ｙガイド
７  Ｙステージ
８  θステージ
９  チャック支持台
１０  チャック
１１  土手
１２  真空区画
１３  非真空区画
２０  マスクホルダ
３０  フレーム
３１  スタンド
３２  基板支持部材
４０  フレームベース
４１  ガイド
４２  モータ
４３  軸継手
４４ａ  ボールねじ
４４ｂ  ナット
５０  ロボットアーム
５１  基板支持部
６０  ステージ駆動回路
７０  主制御装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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